(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の流体及び第２の流体を備えるエレクトロウェッティングデバイスの製造方法であって、
第１の支持プレートを提供することと、
前記第１の支持プレートに対して傾斜した第２の支持プレートを提供することであって、それにより、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に、前記第１の支持プレートの一部と前記第２の支持プレートの一部との間に形成された圧縮部に向かって狭まっているキャビティを形成する、第２の支持プレートを提供することと、
前記キャビティを前記第２の流体で少なくとも部分的に満たすことであって、それにより、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に第２の流体を分配するための、前記第２の流体の容器を提供する、少なくとも部分的に満たすことと、
前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとを前記圧縮部に向かって移動して、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとをともに近接させることと、
前記圧縮部が前記第２の流体を前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に分配することと、を備える、前記方法。
【請求項２】
前記第１の支持プレートを少なくとも部分的に第１のローラ周りに巻くことと、
前記第２の支持プレートを少なくとも部分的に第２のローラ周りに巻くことであって、前記第２のローラは、少なくとも部分的に前記第１のローラ周りに巻かれた前記第１の支持プレートと少なくとも部分的に前記第２のローラ周りに巻かれた前記第２の支持プレートとで前記圧縮部を提供するように、前記第１のローラから離間するとともに、前記第１のローラに対して配置され、前記第２の支持プレートを巻くことと、
前記第１の支持プレートを前記第１のローラ上で移動させることと、
前記第２の支持プレートを前記第２のローラ上で移動させることであって、それにより、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとを前記圧縮部において互いに向かって動かす、前記第２の支持プレートを移動させることと、を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとを前記圧縮部に向かって移動させることには、分割可能な複数の第１の支持プレートを形成するように前記第１の支持プレートを備える第１の支持プレートのシートと、分割可能な複数の第２の支持プレートを形成するように前記第２の支持プレートを備える第２の支持プレートのシートとの各々を、前記第１の支持プレートのシートと前記第２の支持プレートのシートとの間の第１の距離の第１の位置から、前記圧縮部における、前記第１の支持プレートのシートと前記第２の支持プレートのシートとの間の第２の距離の第２の位置に移動させることが備えられ、前記第１の距離が前記第２の距離よりも大である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとを前記圧縮部に向かって移動した後に、前記圧縮部において、前記第１の支持プレートの一部と前記第２の支持プレートの一部との間に、製造される前記エレクトロウェッティングデバイスの前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間の距離にほぼ等しい距離を設定することを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の支持プレートに対して傾斜した前記第２の支持プレートを提供することは、前記キャビティがほぼＶ状の形態を形成し、前記第１の支持プレートの前記第２の支持プレートに対する第１の角度は、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間の第１の距離の第１の位置において、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間の、前記圧縮部における、第２の位置における前記第１の支持プレートの前記第２の支持プレートに対する第２の角度よりも大である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの前記圧縮部への前記移動の後に、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に、前記第２の流体を前記圧縮部において分配するために、前記第１の支持プレートと第２の支持プレートとを、前記圧縮部を通して移動することを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の支持プレートの表面の一部、及び、前記第１の流体と前記第２の流体との間の界面によって形成されたチャネル内の前記キャビティの一部に、前記第１の流体を提供することと、
前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部を前記チャネルの側部に沿って移動させることにより、前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部上に前記第１の流体を分配することと、を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の支持プレートの前記表面の一部、前記第１の流体と前記第２の流体との間の界面、及び、前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部から離間したさらなる表面によって形成されたチャネル内の前記キャビティの一部に前記第１の流体を提供することであって、前記さらなる表面と前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部とが第２の圧縮部を形成する、前記第１の流体を提供することと、
前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部を前記チャネルの側部に沿って移動させることを備える、前記第１の支持プレートの前記圧縮部に向かっての移動により、前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部上に前記第１の流体を分配することと、を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第２の支持プレートに対して傾斜したさらなる支持プレートを提供することであって、それにより、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間のさらなる圧縮部に向かって狭まっているさらなるキャビティを形成する、さらなる支持プレートを提供することと、
さらなる第２の流体で前記さらなるキャビティを少なくとも部分的に満たすことであって、それにより、前記さらなる第２の流体を前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に分配するための前記さらなる第２の流体のさらなる容器を提供する、さらなるキャビティを少なくとも部分的に満たすことと、
前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとを前記さらなる圧縮部に向かって移動させることと、
前記さらなる圧縮部が前記さらなる第２の流体を前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に分配することと、を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの前記圧縮部に向けての前記移動の間、前記第２の支持プレートの一部が前記圧縮部に到達する前に、前記第２の支持プレートの前記一部の表面上にシーリング材料を分配することと、
前記第１の支持プレートを、前記第２の支持プレートの前記一部の前記表面上に分配されたシーリング材料と接触させることにより、前記圧縮部において、前記第１の支持プレートを前記第２の支持プレートに結合することと、をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
第１の流体及び第２の流体を備える、エレクトロウェッティングデバイスの製造装置であって、
第１の支持プレートを提供するように構成された第１の支持プレート供給システムと、
第２の支持プレートを提供するように構成された第２の支持プレート供給システムであって、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間の圧縮部に向かって狭まっているキャビティを形成するため、及び、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に前記第２の流体を分配するための容器を提供するために、前記第１の支持プレートに対して傾斜した前記第２の支持プレートを提供するように構成された第２の支持プレート供給システムと、を備え、
前記第１の支持プレート供給システムが第１の要素を備え、前記第２の支持プレート供給システムが第２の要素を備え、前記第１の要素と前記第２の要素とは、前記第１の支持プレートが前記第１の要素によって供給され、前記第２の支持プレートが前記第２の要素によって供給される際に、前記圧縮部を提供するように、互いから離間するとともに、互いに対して配置されている、前記装置。
【請求項１２】
前記第１の要素が、第１のローラであって、前記第１の支持プレートを少なくとも部分的に前記第１のローラ周りに巻くための第１のローラを備え、前記第２の要素が、第２のローラであって、前記第２の支持プレートを少なくとも部分的に前記第２のローラ周りに巻くための第２のローラを備え、前記第１のローラが、前記第１の支持プレートを前記圧縮部に向けて移動させるように回転可能であり、前記第２のローラが、前記第２の支持プレートを前記圧縮部に向けて移動させるように回転可能であり、それにより、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとをともに近接させる、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの一方の表面に第１の流体を分配するための前記第１の流体のチャネルを形成するために、前記第１の流体を前記キャビティの一部に供給するための第１の流体供給システムと、
前記第２の流体の前記容器を形成するために、前記第２の流体を前記キャビティの異なる部分に供給するための第２の流体供給システムと、を備えた、請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
チャネルを形成するためのさらなる表面を有するさらなる要素を備える第１の流体供給システムであって、前記第１の支持プレートの表面の一部、前記キャビティに供給された前記第１の流体と前記第２の流体との間の界面、及び、前記さらなる表面の間のチャネルを形成するためのさらなる表面を有するさらなる要素を備える第１の流体供給システムを備え、前記さらなる要素が、前記第１の支持プレートの一部と前記さらなる表面との間に第２の圧縮部を形成するように配置された、請求項１１に記載の装置。
【請求項１５】
前記第２の支持プレートに対してさらなる支持プレートを提供して、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間のさらなる圧縮部に向かって狭まっているさらなるキャビティを形成するように構成され、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間にさらなる第２の流体を分配するためのさらなる容器を提供するためのさらなる支持プレート供給システムを備え、前記さらなる支持プレート供給システムがさらなるローラを備え、前記さらなるローラが前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に前記さらなる第２の流体を分配するために、少なくとも部分的に前記さらなるローラ周りに前記さらなる支持プレートを巻くために前記さらなる支持プレートを前記さらなる圧縮部に向かって移動させるように回転可能である、請求項１１に記載の装置。
【請求項１６】
前記第１の支持プレートを前記圧縮部において前記第２の支持プレートと結合するために、シーリング材料を前記第２の支持プレートの表面上に供給するためのシーリング材料供給システムを備えた、請求項１１に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロウェッティングデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロウェッティングデバイスの既知の製造方法は、最終的に製造されるデバイスのための比較的少量の流体を分配するために大量の液体を必要とし得る。このことは、製造の非効率、たとえば、高価である場合がある流体の使用されなかった量の浪費、及び、分配される流体の高い揮発率に繋がり得る。
【０００３】
エレクトロウェッティングデバイスの製造のためのより効率的な流体の分配方法を提供することが望まれている。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
圧縮部に向かって狭まっている、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間のキャビティを形成することを含む、エレクトロウェッティングデバイスの製造方法。キャビティは、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間に第２の流体を分配するための容器を提供するように、少なくとも部分的に第２の流体で満たされている。
【図面の簡単な説明】
【０００５】
【図１】例示的表示要素の概略図。
【図２】例示的表示要素の平面図。
【図３】エレクトロウェッティングデバイスの製造方法の一部の様々な実施例の１つを示す図。
【図４】エレクトロウェッティングデバイスの製造方法の一部の様々な実施例の１つを示す図。
【図５】エレクトロウェッティングデバイスの製造方法の一部の様々な実施例の１つを示す図。
【図６】エレクトロウェッティングデバイスの製造方法の一部の様々な実施例の１つを示す図。
【図７】エレクトロウェッティングデバイスの製造方法の実施例の流れ図。
【図８】エレクトロウェッティングデバイスの製造方法の実施例の流れ図。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
図１は、複数の映像要素、すなわち表示要素２を含む、エレクトロウェッティング表示デバイス１の実施例の一部の略図化した断面図を示している。表示要素２の１つが図に示されており、エレクトロウェッティングセルと呼ばれる場合もある。表示要素の横方向の範囲は、図中に２つの破線３、４で示されている。表示要素は、第１の支持プレート５及び第２の支持プレート６を備えている。支持プレートは各表示要素の別個の部品である場合があるが、支持プレートは、複数の表示要素によって共通に共有される場合がある。支持プレートは、ガラスまたはポリマ基板６、７を含み得、剛性または可撓性である場合がある。以下に記載する製造の実施例では、基板は十分に可撓性であり、透明であり、たとえば、ポリカーボネート若しくはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、「ポリエステル１２、１３」若しくはポリエステル（エチレンテレフタレート）、または、当業者が理解するような任意の他の適切な材料で形成され得る。
【０００７】
表示デバイスは、表示デバイスによって形成される画像または表示を見ることができる視聴サイド８と、リアサイド９とを有している。図では、この実施例では基板７の表面である第１の支持プレート５の表面によってリアサイド９が規定されている。この実施例では基板６の表面である第２の支持プレート６の表面によって視聴サイドが規定されている。代替的に、他の実施例では、第１の支持プレートの表面により、視聴サイドが規定され得る。表示デバイスは、反射タイプ、透過タイプ、または半透過タイプであってもよい。表示デバイスは、アクティブマトリクス駆動型表示デバイスであってもよい。複数の表示要素はモノクロであってもよい。カラー表示デバイスについては、表示要素はグループ分けされていてもよく、各グループは異なる色を有している。代替的に、個別の表示要素は様々な色を示すことが可能であってもよい。
【０００８】
支持プレート間の各表示要素の空間１０は、第１の流体１１と第２の流体１２との２つの流体で満たされている。第１の流体１１と第２の流体１２との少なくとも一方は液体とすることができる。第２の流体は、第１の流体に対して不混和性である。したがって、第１の流体と第２の流体とは実質的に相互に混合されず、いくつかの実施例では、まったく混合されない。第１の流体と第２の流体との不混和性は、第１及び第２の流体の特性、たとえば、第１及び第２の流体の化学的構成に起因する。第１の流体と第２の流体とは相互に分かれたままである傾向にあり、したがって、一体に混合されて第１の流体と第２の流体との均一な混合物を形成することのない傾向にある。この不混和性に起因して、第１の流体と第２の流体とは、第１の流体の体積と第２の流体の体積との間の境界を規定する界面において相互に接している。この界面または境界は、メニスカスと呼ばれる場合があり、印加される電圧によって第１の流体が狭められた界面５７として、及び、ゼロ電圧が印加された際の界面５５として図１に示されている。実質的に相互に混合されない第１の流体と第２の流体とにより、いくつかの実施例では、第１の流体と第２の流体とがある程度混合され得るが、このことは、第１の流体の体積の大半は第２の流体の体積の大半と混合されていないことから、無視できるものと見なされることが予見される。
【０００９】
第２の流体は電気伝導性であるか極性があり、水、または、塩化カリウムの水溶液などの塩溶液とすることができる。第２の流体は透過性であってもよい。第２の流体は代わりに、色付けされているか、吸収性であってもよい。第１の流体は電気的に不伝導性であり、たとえば、アルカン状のヘキサデカンであってもよく、またはシリコンオイルなどのオイルであってもよい。
【００１０】
第１の流体は、光学スペクトルの少なくとも一部を吸収し得る。第１の流体は、光学スペクトルの一部について透過性とし、カラーフィルタを形成し得る。この目的のために、第１の流体は、色素の粒子または染料の添加によって色づけされている場合がある。代替的には、第１の流体は黒色、すなわち、光学スペクトルのほぼすべての部分を吸収するか、または反射性である。反射性の第１の流体は、可視スペクトル全体を反射して層を白色に見えるようにするか、可視スペクトルの一部を反射して層を色があるものとすることができる。以下に記載する実施例では、第１の流体は黒色であり、したがって、光学スペクトル、たとえば、可視光のスペクトルのほぼすべての部分を吸収する。「実質的に吸収」との用語には、ある程度の変動量が含まれ、したがって、第１の流体はすべての波長を吸収しない場合があるが、可視スペクトルなどの所与のスペクトル内の大半の波長を吸収し、それにより、要素内の第１の流体の機能を実施するようになっている。したがって、第１の流体は、第１の流体に入射する光のほぼすべてを吸収するように構成されている。たとえば、第１の流体は、可視スペクトルであり、第１の流体に入射する光の９０％以上を吸収し得る。支持プレート５は絶縁層１３を含んでいる。絶縁層は透過性または反射性である場合がある。絶縁層１３は、表示要素の壁間に延び得る。第２の流体１２と、絶縁層の下に配置された電極との間の短絡を避けるために、絶縁層の層は、図に示すように、複数の表示要素２にわたってとぎれずに延びている場合がある。絶縁層は、表示要素２の空間１０に面した表面１４を有している。この実施例では、表面１４は疎水性である。絶縁層の厚さは２マイクロメートル未満とすることができ、１マイクロメートル未満であってもよい。
【００１１】
絶縁層は疎水層であってもよい。代替的に、絶縁層は、疎水層１５と、所定の誘電特性のバリア層１６とを有する場合があり、疎水層１５は、図に示すように、空間１０に面している。疎水層は図１に概略的に示されており、テフロン（登録商標）ＡＦ１６００で形成され得る。バリア層１６は、基板の面に垂直な方向に取られた、５０ナノメートルから５００ナノメートルの厚さを有し得、シリコン酸化膜若しくは窒化ケイ素、若しくはそれらのスタック（たとえば、シリコン酸化膜−窒化ケイ素−シリコン酸化膜）などの無機材料、またはポリイミド若しくはパリレンなどの有機材料で形成され得る。
【００１２】
表面１４の疎水特性により、第１の流体１１が優先的に絶縁層１３に接着されるが、この理由は、絶縁層１３の表面に対する第１の流体の湿潤性が、第２の流体１２よりも高いためである。湿潤性は固体表面に対する流体の相対的な親和性に関する。湿潤性は、流体と固体表面との間の接触角によって測定され得る。接触角は、流体−固体間の境界においては流体と固体との間の表面張力の差によって判定される。たとえば、表面張力の差が大きいことが疎水特性を示す場合がある。
【００１３】
各表示要素２は、支持プレート５の一部として第１の電極１７を含んでいる。図示の例では、要素毎にそのような電極１７が１つ存在している。電極１７は、絶縁層１３によって第１及び第２の流体から電気的に絶縁されている。隣接する表示要素の電極は、不伝導層によって分けられている。いくつかの実施例では、絶縁層１３と電極１７との間にさらなる層が配置され得る。電極１７は、任意の所望の形状または形態とすることができる。表示要素の電極１７には、図で概略的に示されている信号ライン１８によって電圧信号が供給される。
【００１４】
支持プレート６は、表示要素の壁間に延びるか、図に示すように、複数の表示要素２にわたって途切れずに延び得る第２の電極１９を含んでいる。電極１９は、導電性の第２の流体１２と電気的に接触しており、すべての表示要素に共通のものである。電極は、たとえば、透過性導電材料のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で形成され得る。第２の信号ライン２０は電極１９に接続されている。代替的に、電極は、支持プレートの境界に配置され得、そこで、電極が第２の流体と電気的に接触している。この電極は、これら電極が第２の流体によって流体的に相互接続され、第２の流体を共有している場合に、すべての要素に共通のものであり、壁によって途絶えていない場合がある。表示要素２は、信号ライン１８と２０との間に印加される電圧Ｖによって制御され得る。信号ライン１８は、基板７の制御ラインのマトリクスに結合され得る。信号ライン２０は、ディスプレイ駆動システムに結合されている。
【００１５】
この実施例での第１の流体１１は、表示要素の断面に沿う壁２１によって１つの表示要素に制限されている。表示要素の断面は任意の形状を有し得る。表示要素がマトリクスの形態で配置されている場合、断面は通常正方形か長方形である。壁が絶縁層１３から突出する構造として示されているが、この壁は代わりに、疎水性、またはより低い疎水性の層などの、第１の流体をはじく支持プレートの表面層であってもよい。壁は、第１の支持プレートから第２の支持プレートに延び得るが、代わりに、図１に示すように、第１の支持プレートから第２の支持プレートに部分的に延び得る。表示要素の範囲は、破線３及び４で示されており、壁２１の中心によって規定されている。表示要素の壁間の表面１４のエリアは、破線２２及び２３で示されており、表示エリア２４と呼ばれる。表示エリア２４上では、表示効果が生じる。表示効果は、上述の印加電圧Ｖの大きさに応じて、第１の流体と第２の流体とが表示エリアによって規定される表面に結びつく範囲に依存する。したがって、印加電圧Ｖの大きさにより、エレクトロウェッティング要素内の第１及び第２の流体の構成が判定される。換言すると、表示効果は、表示要素内の第１及び第２の流体の構成に依存し、この構成は表示要素の電極に印加される電圧の大きさに依存する。表示効果により、表示デバイスを見ているオブザーバのための表示要素の表示状態が生じる。エレクトロウェッティング要素がある流体構成から他の流体構成に切り替わる場合、表示エリアの表面に結びつく第２の流体の範囲は増大するか減少し得、それぞれ、表示エリアの表面に結びつく第１の流体の範囲が減少するか増大する。
【００１６】
図２は、第１の支持プレートの疎水表面１４の平面図で矩形の映像要素のマトリクスを示している。図１の破線３及び４に対応する図２の中心映像要素の範囲は、破線２６によって示されている。線２７は、壁の内側の境界を示している。この線は、表示エリア２３の縁部でもある。
【００１７】
ゼロまたはほぼゼロの電圧が電極１７と電極１９との間に印加される場合、すなわち、エレクトロウェッティング要素がオフの状態にある場合、図１に示すように、第１の流体１１が壁２１間に層を形成する。電圧の印加により、図１または図２の破線の形状２５によって示すように、たとえば壁に対して第１の流体を狭めることになる。印加電圧の大きさに応じて第１の流体の形状が制御可能であることは、ライトバルブとして映像要素を作動し、表示エリア２３にわたって表示効果を提供する。たとえば、流体を切り換えて第２の流体の表示エリアとの結びつきを増大させることにより、要素によって提供される表示効果の明るさを増大させ得る。
【００１８】
この表示効果により、表示デバイスの視聴サイドに向かって見る場合に、オブザーバが見ることになる表示状態が判定される。表示状態は、任意の中間のグレーの状態を伴って黒から白になり得る。カラー・表示デバイスでは、表示状態はカラーをも含み得る。
【００１９】
図３は、エレクトロウェッティング表示デバイスの例示的製造方法の一部を概略的に示している。詳細な説明の明確化のために、製造プロセスにおいて使用される装置は、デバイスを製造するための装置によって提供された方法に関連して記載される。しかし、この記載には、別々の、すなわち、不使用時かつ、デバイスを製造するために組み立てられる表示デバイスの材料及び構成要素が存在しない場合の装置の記載が含まれていることを理解されたい。図７は、本明細書に記載される例示的製造プロセスの各パートを示すフロー図である。
【００２０】
本明細書に記載の実施例に係るエレクトロウェッティングデバイスの製造方法を提供するための装置は、第１の支持プレートを提供するように構成された第１の支持プレート供給システムと、第２の支持プレートを提供するように構成された第２の支持プレート供給システムと、を含んでいる。
【００２１】
記載される実施例では、表示デバイスを製造するための第１の支持プレートと第２の支持プレートとの各々が、互いから離れて提供されており、少なくとも部分的に予め組み立てられている。そのため、本明細書に記載の実施例では、第１の支持プレート供給システムによって供給される支持プレートは、図１を参照して上述した第１の支持プレートであり得、第２の支持プレート供給システムによって供給される支持プレートは、図２を参照して上述した第２の支持プレートであり得る。説明の明確化のために、図３から図６では、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの各々は、プレートを形成する別々に分かれた層を示さずに、単一の層として概略的に示されている。たとえば、第１の支持プレートの壁は示されていないが、第１の支持プレートが以下に記載の装置を通して供給される場合には、第１の支持プレートの壁は存在することを理解されたい。
【００２２】
本明細書に記載の製造のいくつかの実施例について、本方法は、一連のローラを使用する製造プロセスを通しての第１及び第２の支持プレートの供給を伴う「ロールツーロール」技術と呼ばれる場合がある。したがって、製造装置を通して供給される第１の支持プレートと第２の支持プレートとの各々は、プレートの損傷を生じことなくローラによって操作されるために、十分に可撓性である必要がある。したがって、上述のように、そのような実施例における基板は、ロールツーロール技術の間に供給されるために、少なくともローラの一部の周りで曲がるように十分に可撓性である。そのような可撓性は、前述した絶縁層、バリア層、壁材料、及び電極を含む、第１及び第２の支持プレートの他の部分にも適用され、それにより、第１及び第２の支持プレートは、ローラツーローラ技術でローラと協同するために十分に可撓性であるようになっている。しかし、支持プレートの可撓性は、製造されたエレクトロウェッティング表示デバイスがその意図される目的のために十分に剛性であるように適している場合に限定される。したがって、いくつかの実施例では、支持プレートは実質的に剛性である場合があるが、ロールツーロール技術の間に使用される機械的な力にさらされる場合に、ロールツーロール技術におけるその使用のための十分な可撓性を有している。他の実施例では、表示デバイスが可撓性であることが意図されている場合、第１及び第２の支持プレートの剛性は低い場合がある。各実施例では、第１及び第２の支持プレートを形成する材料は、化学的かつ機械的にローラに適合したものであり、それにより、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの各々と、それぞれのローラとの間のスリップが存在しないようになっている。第１の支持プレートと第２の支持プレートとの各々は、供給源、たとえば、第１の支持プレートのロール及び第２の支持プレートのロールからそれぞれ供給され得、または他の実施例では、第１及び第２の支持プレートが少なくとも部分的に製造された場合には、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの各々は、製造プロセスの前のステージから供給され得る。第１の支持プレートの供給と第２の支持プレートの供給とは、それぞれ矢印Ｆ１、Ｆ２によって図３に示されている。
【００２３】
第１の供給システムと第２の供給システムとによってそれぞれ供給された第１の支持プレートと第２の支持プレートとの各々は、複数の第１の支持プレートと複数の第２の支持プレートとのそれぞれのより大きいシートの一部である場合がある。換言すると、第１の支持プレート供給システムによって供給される、別様にフォイルと呼ばれるシートは、表示デバイスの組立ての後に、たとえば技術者に既知である「けがき及び破断」プロセスを使用して、複数の第１の支持プレートに分割可能である場合がある。このことは、第２の支持プレートについても同様に行われ得る。そのようなフォイルの使用により、より効率的な製造プロセスが与えられ、それにより、多くの表示デバイスが継続的かつ効果的に組み立てられ得る。
【００２４】
この実施例では、第１の支持プレート供給システムは第１のローラ３０を含み、第２の支持プレート供給システムは第２のローラ３２を含んでいるが、他の実施例では、第１のローラと第２のローラとのいずれかの代わりに異なる要素、たとえば、少なくとも部分的に湾曲した表面を有する要素が、記載される製造プロセスのために第１の支持プレートと第２の支持プレートとを互いに対して位置決めするように使用され得る。
【００２５】
第１の支持プレートは第１の支持プレートの供給源から渡されて、少なくとも部分的に第１のローラ周りに巻かれている。第２の支持プレートは、第２の支持プレートの供給源から渡された後に、少なくとも部分的に第２のローラ周りに巻かれている。より具体的には、この実施例では、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの各々の外側表面が少なくとも部分的に第１のローラと第２のローラとのそれぞれの周りに巻かれている。第１のローラと第２のローラとは互いから離れており、互いに対して相対的に配置され、それにより、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間にキャビティ３４を規定、すなわち形成するために、第１の支持プレートと第２の支持プレートとが互いに対して角度が付けられている、すなわち、第２の支持プレートが第１の支持プレートに対して角度が付けられているか、またはその逆になっている。キャビティ３４は第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間の圧縮部Ｃに向かって狭まっている。この実施例では、圧縮部は、第１のローラ３０と第２のローラ３２との間の、第１のローラと第２のローラとが互いに最も近い領域、すなわち、ローラ間のキャビティの最も狭い領域に形成されている。この領域は、別様に、ローラ間のニップと呼ばれる場合がある。この実施例における圧縮部は、図３において、Ｃ１と付された矢印とＣ２と付された矢印との間に示されている。この実施例では、キャビティ３４はほぼＶ状である。換言すると、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間のキャビティは、圧縮部に向かってテーパが付けられているか、狭まっている。圧縮部の上の、キャビティ３４の幅広の部分は、圧縮部よりもともに近接していない第１のローラの一部と第２のローラの一部との間に形成されている。ほぼＶ状には、ほぼ平坦な側部を有するキャビティ３４の形状が含まれている。すなわち、いくつかの実施例では、可撓性の第１及び第２の支持プレートが緊張するように引かれつつローラ間に供給される場合にほぼＶ状であり、他の実施例では第１の支持プレート状に平坦ではない壁が存在することにかかわらずほぼＶ状であり、また、他の実施例では、たとえば、キャビティ３４の側部が、第１のローラと第２のローラとの各々の湾曲した表面に起因して湾曲している場合など、キャビティは平坦な側面を有さない場合にほぼＶ状である。たとえば、第２の支持プレートに対する第１の支持プレートの第１の角度は、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間の第１の距離の第１の位置において、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間の第２の位置、圧縮部における、第１の支持プレートの第２の支持プレートに対する第２の角度より大きい場合がある。第１の位置はキャビティの幅広の部分に対応し、第２の位置はキャビティのより狭い部分に対応している。第１の角度が第２の角度より大であることから、第１の支持プレートと第２の支持プレートとは、各実施例では、第２の位置に比べて第１の位置の方が互いに対して平行ではなくなっている。実際、第２の位置、圧縮部において、第１の支持プレートの一部と第２の支持プレートの一部とは、互いに対してほぼ平行であり得る。すなわち、許容可能な製造交差の中で平行である。
【００２６】
表示デバイスを製造するために、キャビティ３４は、少なくとも部分的に第２の流体１２（第２の流体１２は図３に影で示されている）で満たされている。第２の流体は、適切な第２の流体供給システムによってキャビティ内に提供され得る。したがって、キャビティ３４は、第２の流体を第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間に分配するための第２の流体の容器として機能する。換言すると、キャビティ３４は、第２の流体のためのコンテナまたは漏斗として機能し、このコンテナまたは漏斗の側部は第１の支持プレートと第２の支持プレートとで形成されており、このコンテナまたは漏斗から第２の流体が流れ得る。これにより、既知の方法で行われるように、第２の流体を第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間に分配するために、支持プレートを第２の流体のバスに浸すことを必要とすることが避けられる。そのような既知の方法では、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間に分配するのに必要とされるよりも相当に多くの第２の流体が必要とされ、このことは、たとえば、場合によっては高価である流体を大量に必要とし、また、分配されない流体の浪費または汚染、及び、揮発に起因する損失に繋がる、製造プロセスの非効率性に繋がり得る。本明細書の実施例に記載の新規の製造方法では、第１及び第２の支持プレートを使用して第２の流体の容器を形成し、それにより、第２の流体を分配するために第２の流体を第１の支持プレート及び／または第２の支持プレートの両面に提供する必要がなくなっており、これにより、たとえば上述の非効率性の少なくとも１つを低減することにより、より効率的な方法が与えられる。
【００２７】
キャビティ内の第２の流体の体積は、容器を形成するために適切に含まれるように、すべての側が囲まれている必要はないことに留意されたい。実際、実施例では、キャビティを形成するには第１及び第２の支持プレートを使用すれば十分である。たとえば、図３が描かれている面に平行な面に位置するバリアは必要ない。これにもかかわらず、そのような実施例では、キャビティを形成する第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間の距離が、第２の流体をキャビティから流れ出させることになる、表面張力を乗り越える距離を超えていない場合、第２の流体の表面張力に起因して第２の流体がキャビティ内に包含されている。したがって、各実施例では、第１及び第２の支持プレートの外側を囲むガスに面する場合、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間の距離が、第２の流体の毛管長さ特性の範囲内にあり得る。後に説明するように、第１の流体がチャネルを使用して分配され得る。各実施例では、第２の流体をキャビティ内に維持する第２の流体の表面張力に起因して、第２の流体が、チャネル内の第１の流体の体積の周りに第２の流体のバリアをも形成し得、それにより、第１の流体がキャビティから流れ出ることを防止する。
【００２８】
各実施例では、重力を使用して第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間に第２の流体を分配することを補助するために、圧縮部がキャビティ３４の最も低い領域に設けられ得る。実際には、そのような実施例では、圧縮部の上の第２の流体の重量により、圧縮部を通して第２の流体を分配し、流れを補助するために、圧縮部において圧力をかけることが補助され得る。
【００２９】
表示デバイスを製造するために、第１の支持プレートが供給され、したがって、第１のローラ上を移動する。この実施例では、第１のローラ上で第１の支持プレートを移動させつつ、この実施例では時計回り方向である第１の回転方向Ｒ１に第１のローラを回転させることによって補助されている。第２の支持プレートが供給され、したがって、第２のローラ上を移動する。この実施例では、第２のローラ上で第２の支持プレートを移動させつつ、この実施例では第１の回転方向とは逆であり、したがって反時計回り方向である第２の回転方向Ｒ２に第２のローラを回転させることによって補助されている。
【００３０】
第１及び第２のローラの位置決めがされると、この実施例では記載の方向にローラを回転させることで、第１の支持プレートを第１のローラ上で移動させるとともに、第２の支持プレートを第２のローラ上で移動させることにより、第１の支持プレートと第２の支持プレートとを圧縮部に向けて、及び互いに向けて移動させる。換言すると、第１の支持プレートと第２の支持プレートとは、圧縮部において互いに向かって動かされる。他の実施例では、第１及び第２の支持プレートを圧縮部に向かって移動させつつ、第１の支持プレートが第２の支持プレートに向かって移動されるか、またはその逆と見なされ得ることを理解されたい。
【００３１】
圧縮部においては、第１の支持プレートと第２の支持プレートとは、この実施例では、２つの支持プレート間の距離Ｄ１を伴って一体にされる。この距離Ｄ１は、製造された表示デバイスの第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間の距離にほぼ等しく、こうして、プレート間の距離を設定する。したがって、圧縮部を通して供給された後は、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間の距離も、製造された表示デバイスにおける第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間の距離にほぼ等しい。「ほぼ等しい」とのフレーズは、たとえば許容可能な製造交差内での変化、または硬化に起因するシーリング材料の収縮（後に記載する）に起因する製造された表示デバイスの距離からの変化を包含する。この実施例では、距離Ｄ１は、第２の流体が結びついた第２の支持プレートの表面に垂直な方向に取られる。
【００３２】
こうして、圧縮部においては、第１の及び第２の支持プレートが圧縮部に向かって移動し、これにより第１の支持プレートと第２の支持プレートとを相互に近接するように移動させる、すなわち、互いに向かって移動させることの結果として、キャビティ３４内の第２の流体の容器から第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間に第２の流体が分配される。したがって、分配の間、第１及び第２の支持プレートが圧縮部を通って移動し、第２の流体が、容器から圧縮部を通って第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間に供給される。第２の流体が分配されると、いくつかの実施例では、第１及び第２の支持プレートを供給しつつ、圧縮部における分配のための第２の流体の供給を維持するために、適切な第２の流体の供給システムを使用して、第２の流体をさらにキャビティ３４に供給する必要がある場合がある。さらに、第２の流体をさらに供給することは、以下に記載の第１の流体のチャネルを維持するために必要である場合がある。他の実施例では、キャビティ内に提供された第２の流体の体積は、第２の流体の分配の意図される継続時間の間、第２の流体を分配するのに十分であり得る。第２の流体の分配は、各実施例では、第１及び第２のローラの回転速度によって制御され得、したがって、十分かつ適切な第２の流体の流れを確実にするために適切な量が選択され得る。
【００３３】
第１の流体は、第１の支持プレートの表面の少なくとも一部分に分配される。この実施例では、第１の流体は、第１の支持プレートの各表示要素の表示エリアの表面上に分配される。このことは、第１の流体１１の領域として図３に示されている。第１の流体は、図示されていない第１の支持プレートのさらなる表示エリアの表面上に分配されることを理解されたい。これらには、圧縮部に供給されるさらなるシートの表示エリア、また、図の面に対して垂直な面で取られる第１の支持プレートの範囲にわたるさらなる表示エリアも含まれている。表示要素の壁が図３には明確化のために示されていないが、表示要素の壁は、第１の流体１１の領域間に障害物が存在する位置に、図３においてラベル２１で示されている。
【００３４】
第１の流体を分配するために、第１の流体は、たとえば第１の流体の供給システムを使用して、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間のキャビティ３４の一部に提供される。より具体的には、第１の流体は少なくとも部分的に、この実施例では全体的に、第１の支持プレートの表面の部分３８と、第２の流体１２との間に形成されたチャネル３６内に提供される。チャネルは、第２の流体内の長手方向の窪み、溝、トラフ、または長手方向の凹部の形態を有し得る。第１の流体のチャネルは、第１の流体と第２の流体との不混和性に起因して形成され、したがって、第１の流体と第２の流体との間の界面、すなわちメニスカスにより、チャネルの形態が規定、すなわち判定される。十分な体積の第１の流体が、キャビティ３４内の第２の流体の表面上で、第１の支持プレートに隣接して供給されて、第１の流体のチャネルを形成する。したがって、第１の流体のチャネルは、第１の支持プレートの表面上に第１の流体を分配するための第１の流体の容器として機能する。第１の支持プレートの表示エリアが疎水特性を有する場合、第２の流体よりむしろ第１の流体が表示エリアを湿潤させる傾向にある。したがって、この実施例では第１の支持プレートを第１のローラ上で移動させることにより、第１の支持プレートが圧縮部に向かって移動されると、第１の支持プレートの表面の部分３８がチャネル３８の側部に沿って移動され、表示エリアは第１の流体によって湿潤される。第１の支持プレートが圧縮部に向かって移動され続けることから、表示エリアは第１の流体によって覆われたままである。このエリアは、製造された表示デバイスのための第１の流体の分配領域である。図３は、チャネル３８から第１の支持プレートの表面に沿って延びる第１の流体の押し出された領域として形成された第１の流体の領域を示している。壁が表示エリアよりも疎水性がなく、したがって、第２の流体に対してよりも第１の流体に対して湿潤性が低く、たとえば疎水性であることから、第１の流体が表示エリアを湿潤させることが好ましい場合、壁は第１の流体によって覆われていない。第１の流体の分配、たとえば、各表示エリア上に形成された第１の流体の層の厚さは、第１の支持プレートの角度、この実施例では、第１のローラ上で第１の支持プレートを供給する速度である、チャネルの側部に沿って第１の支持プレートの表面の部分３８を移動させる速度、チャネル内の第１の流体の体積、キャビティ内の第２の流体の体積、または、表示エリアに関する第１の流体の湿潤性などの第１の流体の特性の１つまたは複数を制御することによって制御され得る。いくつかの実施例では、第１の流体の供給システムを使用して、第１の支持プレートの表面上に第１の流体を分配する間、チャネル内の第１の流体の供給を維持するために、チャネル内により多くの第１の流体を供給することが必要である場合がある。他の実施例では、チャネル内の第１の流体の体積は、第１の流体を分配する意図される継続時間には十分である場合がある。各実施例では、技術者が理解するように、チャネルの形状は、第１の支持プレートの表面の一部に対するさらなる表面の位置、さらなる表面と、第１の支持プレートの表面の一部との間の空間、第１の流体についてのさらなる表面の湿潤性、第２の流体についてのさらなる表面の湿潤性、提供される第２の流体の体積、提供される第１の流体の体積、第１の流体の表面張力特性、第２の流体の表面張力特性、第１の流体と第２の流体との不混和性の範囲、第１の流体の密度、第２の流体の密度、第１の流体と第２の流体との間の界面形状、さらなる表面の形状、または、第１の支持プレートの表面の一部の、さらなる表面に対する角度の１つまたは複数を制御することの１つまたは複数を使用して制御され得る。
【００３５】
各実施例では、第１の支持プレートの第２の支持プレートとの結合のためのシーリング材料は、第２の支持プレートの一部の表面上に分配され、第２の支持プレートのこの一部が後に、第１及び第２の支持プレートを圧縮部に向かって移動する間に圧縮部に達する。明確化のために、図３ではシーリング材料が示されていないが、シーリング材料を分配するためのシーリング材料分配システム４０が示されている。各実施例におけるシーリング材料は、表示デバイスの周囲をシールするためのシーリング要素を形成するためのものであり、したがって、シーリング材料は、製造された表示デバイスの表示要素のマトリクスを囲むための、たとえば長方形または正方形形状のシールとして形成され得る。したがって、シーリング材料は、第１の支持プレートと第２の支持プレートとを圧縮部で結合させるための適切な形状及び十分な厚さで分配され得る。シーリング材料は、この実施例では、圧縮部の前で分配され、第２の支持プレートの供給により、圧縮部Ｃに向かってシーリング材料を移動する。第１の支持プレートと第２の支持プレートとがともに最も近接する圧縮部Ｃにおいて、第１の支持プレートは、第１の支持プレートを、第２の支持プレートの表面の一部上に分配されるシール材料と接触させることによって第２の支持プレートと結合される。シーリング材料の分配は、第１及び第２のローラの回転の速度と協調するとともに、たとえば表示エリアがなく、表示デバイスに関する表示エリアのマトリクスを囲む第１の支持プレートのシーリング領域（図示せず）を含む、第１の支持プレートの表示エリアのレイアウトに応じて時間が決められ得、それにより、第１の支持プレートが第２の支持プレートと、所望の位置、すなわちシーリング領域において結合されるようになっている。シーリング材料は、距離Ｄ１よりも大である厚みで分配される場合に、圧縮部が、第１及び第２の支持プレートを介してシーリング材料に圧力を印加し、それにより、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間でシーリング材料を圧縮して、シーリング材料の、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの各々への適切な接着性を確実にし、適切なシールを表示デバイスに提供するように、硬化可能かつ成型可能な合成材料として分配され得る。シーリング材料が硬化可能であることから、シーリング材料は、圧縮の後に紫外光で照らされて（図示せず）、シーリング材料を硬化することができ、それにより、シーリング要素を形成する。他の実施例では、シーリング材料は圧力感応性接着剤であってもよい。
【００３６】
シーリング材料が硬化して、シーリング要素を形成した後に、圧縮部を通して支持プレートが供給されていることから、組み立てられた表示デバイスが方向Ｆ３に供給されて、さらに処理され、たとえば、結合した第１及び第２の支持プレートのシートを分割し、個別の表示デバイスを形成する。
【００３７】
図４は、エレクトロウェッティング表示デバイスの製造方法の一部の別の実施例を示している。表示デバイスの製造における装置の特徴及びその役割は、図３を使用して記載した特徴及び役割に類似しており、図４では、同じ参照符号を使用して呼ばれ、対応する記載が適用される。したがって、図４の実施例の、図３の実施例と比較しての差異を記載する。
【００３８】
この図４の実施例では、第１の支持プレートの表示エリア上への第１の流体の分配が、図３とは異なる方式で行われる。この実施例では、さらなる要素によってさらなる表面が提供されている。このさらなる要素は、この実施例では、第１の支持プレート５に対して配置されるとともに第１の支持プレート５から離間して配置されて、この実施例ではＣ３と付された矢印とＣ４と付された矢印との間に第２の圧縮部４４を形成する第３のローラ４２である。第２の圧縮部は、第１の支持プレートが圧縮部Ｃに供給される前の、第１の支持プレートと、第３のローラ４２の表面との間に形成されている。第１のローラ３０と、第１のローラの前に位置する第１の支持プレート供給システムの図示されていない部分との間の第１の支持プレートの張力により、第１の支持プレートの一部の、第３のローラ４２の表面に対する位置が維持され、それにより、第３のローラが第１の支持プレートの表面に最も近接する第２の圧縮部を規定、すなわち形成する。第３のローラ４２は、少なくとも部分的に、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間のキャビティ３４内の第２の流体に浸されるように配置されている。第１の流体は、第１の支持プレートの一部と第３のローラとの間のキャビティ４６内に供給される。チャネル４８は、第１の支持プレートの表面の一部と、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間のキャビティ３４内の第２の流体１２と、第３のローラの表面との間に形成されている。前述のチャネルについては、チャネル４８は、第１おおび第２の流体の不混和性に起因して形成され、したがって、第１の流体と第２の流体との間の境界、すなわちメニスカスにより、チャネル４８の形態が規定、すなわち判定される。チャネルの形態も、第３のローラ４２の表面の位置、したがって、第２の圧縮部４４によって影響を受ける。第１の流体は、第１の支持プレートが第１のローラ３０によって圧縮部Ｃに向かって移動すると、第２の圧縮部４４に沿って、したがって第２の圧縮部４４において、第１の支持プレートの表示エリア上に分配される。より具体的には、チャネル４８を形成する第１の支持プレートの表面の一部がチャネル４８の側部に沿って移動する。第２の圧縮部４４、具体的には、さらなる表面と、第１の支持プレートの表面の一部との間の空間のサイズにより、第１の流体の分配に関する第１の流体の厚さを制御する。この厚さは、この実施例では、第２の圧縮部４８における第１の支持プレートの一部の表面に対して垂直な方向に取られる。たとえば、第２の圧縮部４４により、第１の流体の厚さが低減され、第１の流体によって覆われることになる第１の支持プレートの表面にわたって第１の流体を広げることの助けになる。第１の流体の分配を制御するための、図３を参照して上述した要素はこの実施例においても適切に適用される。
【００３９】
この実施例では、第１の流体５０は、第４のローラ５４を使用して第３のローラ４２の表面５２上に供給される。第４のローラは、第３のローラに対して位置決めされて、第３のローラと第４のローラとの間に第３の圧縮部５６を提供する。第３の圧縮部は、矢印Ｃ５及びＣ６によって示されている。第１の流体は、第３の圧縮部５６において、たとえば第１の流体の供給システムによって提供される。第３の圧縮部により、層を形成するために第３のローラの表面上に供給される第１の流体の量、ひいては、第３のローラと第１の支持プレートとの間のチャネル４８の第３のローラによって提供される第１の流体の量を制御する。第３のローラは、この実施例では、チャネル４８内の第１の流体を提供するために、反時計回り回転方向Ｒ３に回転する。これとともに、この実施例では、第４のローラは、第１の流体の第３のローラ上への提供、すなわち、第４のローラから第３のローラの表面への第１の流体の伝達を制御するために、反対の回転方向Ｒ４、すなわち、この実施例では時計回り方向に回転する。第３のローラは、第１の支持プレートの表面の一部がチャネルの側部に沿って移動する間、回転され得る。チャネルの側部に沿う第１の支持プレートの表面の一部を移動させる速度に対する第３のローラを回転させる速度により、各実施例では、第１の支持プレートの表面の一部上への第１の流体の分配量が制御される。
【００４０】
この図４の実施例では、第２のローラ３２により、図３を使用して記載した第２のローラの機能が実施されるが、この実施例では、より深いキャビティ３４を形成するために、第１のローラよりも直径が大きくなっている。したがって、キャビティ３４は、第２の流体１２で満たされている場合、チャネル４８を形成するために、第３のローラの一部が浸されている。
【００４１】
第１の支持プレートの壁が図示されていないが、第２の圧縮部４４は、第１の支持プレートの壁が、第２の圧縮部４４を通して損傷なしで供給され得るように、サイズが規定されている。したがって、第３のローラは、第１の支持プレートが第２の圧縮部４４を通して供給される際に壁に接触しないように位置決めされ得る。さらに、各実施例では、壁は第１の流体に関して湿潤性が低い場合があり、このことは、チャネル４８からの第１の流体が壁上に堆積されない場合があることを意味している。壁上に塗布され得る第１の流体は、第１の流体のチャネル内にある第１の流体によって壁からすくい取られ、したがって、第１の流体の表示エリア上への適切な堆積のさらなる助けになる。
【００４２】
図５は、エレクトロウェッティング表示デバイスの製造方法の一部の別の実施例を概略的に示している。表示デバイスの製造における装置の特徴及びその役割は、図３を使用して記載した特徴及び役割に類似しており、図５では、同じ参照符号を使用して呼ばれ、対応する記載が適用される。したがって、図５の実施例の図３の実施例と比較しての差異を記載する。
【００４３】
この図５の実施例では、図３の実施例と比較して異なる、さらなる特徴が記載されるが、前述した特徴と同様の点を有する。そのような特徴は添字「ａ」を伴って呼ばれ、前に与えられたのと同様の記載を取るが、ここでは差異を記載する。
【００４４】
この実施例では、第２の支持プレート５８が前述のものとは異なる構成を有し、代わりに、この実施例では第１の支持プレートの構成と同様の構成を有する。さらなる第１の流体がキャビティのさらなる部分、及び、第２の支持プレートの表面の一部６０と第２の流体１２との間に形成されたさらなるチャネル３６ａ内に提供される。さらなる第１の流体は、前述の第１の流体１１と同じ構造を有する場合があるか、または異なっている場合がある。たとえば、チャネル３６を使用して第１の支持プレートの表面上に堆積された第１の流体とは異なる染料で色づけされている。さらなる第１の流体は、さらなる第１の流体を第２の支持プレートの表示エリア上のさらなる第１の流体の領域１１ａとして分配させるために、前述したように、第２の支持プレートを圧縮部Ｃに向かって移動することにより、第２の支持プレートの表面の一部６０上に堆積される。この移動により、第２の支持プレートの表面の一部６０をさらなるチャネル６０の側部に沿って移動させる。
【００４５】
図５の実施例では、矢印Ｆ４で示すように、さらなる支持プレート６２が、たとえば、さらなる支持プレート供給システムから提供される。さらなる支持プレート供給システムは、第２の支持プレートに対して傾斜したさらなる支持プレートを提供して、第２の支持プレート５８とさらなる支持プレート６２との間にさらなるキャビティ６４を規定、すなわち形成するように構成されている。この実施例では、さらなる支持プレートは、第１の支持プレート５と同様の構成を有している。さらなるキャビティは、第２の支持プレート５８の、第２の支持プレートの表示エリアから最も離れた表面との間に形成されている。さらなるキャビティ６４は、矢印Ｃ７と矢印Ｃ８との間に示され、第２の支持プレートと、さらなる支持プレート供給システムのさらなるローラ６８上に提供されたさらなる支持プレートとの間に形成されたさらなる圧縮部６６に向かって狭まっている。さらなるローラ６８は、さらなる圧縮部を形成するために配置されている。さらなるキャビティ６４は少なくとも部分的にさらなる第２の流体１２ａで満たされている。第２の流体１２ａは、前述の第２の流体１２と同じ化学的構造であってもよく、または異なる化学的構造であってもよい。さらなるキャビティ６４内のさらなる第２の流体は、したがって、さらなる第２の流体を第２の支持プレートとさらなる支持プレートとの間に分配するためのさらなる第２の流体のさらなる容器を提供する。
【００４６】
この実施例では、さらなる支持プレート６２は、さらなる要素、この実施例では、さらなる支持プレートが少なくとも部分的に巻かれたさらなるローラ６８上を移動する。さらなるローラ６８は、さらなる第２の流体を第２の圧縮部において分配するために、さらなるローラの回転Ｒ５によって補助されて、さらなる支持プレートをさらなる圧縮部６６に向かって、かつ、第２の支持プレートに向かって移動することにより、第１のローラと同様の方式で機能する。他の実施例では、第２の支持プレートがさらなる支持プレートに向かって移動し得るか、第２の支持プレートとさらなる支持プレートとの両方が互いに向かって移動し得る。
【００４７】
上述の第１の流体と同じか異なる構造であり得るさらなる第１の流体７２は、さらなるキャビティ６４の一部において、かつ、さらなるチャネル７０内で提供される。さらなるチャネル７０は、さらなる支持プレートの表面の一部と、さらなる第２の流体との間に形成されているが、他の実施例では、さらなるチャネルは、第２の流体と、第２の支持プレートの表面の一部との間に形成され得る。さらなるチャネルは、第２の支持プレートとさらなる支持プレートとの内の適切な一方をさらなるチャネルの側部に沿って移動させて、さらなる第１の流体７２の領域をさらなる支持プレートの表示エリアに提供することで、さらなる第１の流体を分配するために、図３を使用して記載したチャネル３６と同様の方式で機能し、その記載はここで適用されるものとする。さらなる第１の流体の供給システムは、さらなる第１の流体のさらなるチャネルを形成及び維持するために、さらなるキャビティの一部にさらなる第１の流体を供給するために使用され得る。さらなるキャビティの一部のさらなる第２の流体の容器は、さらなる第２の流体をさらなるキャビティに供給するために、さらなる第２の流体の供給システム（図示せず）を使用して形成及び維持され得る。さらなるローラは、図４を使用して第１の流体の供給について同様に記載したようにさらなる第１の流体の供給を補助するために使用され得る。
【００４８】
第２の支持プレートとさらなる支持プレートとは、第２及びさらなる支持プレートが圧縮部に向かって移動する間、さらなる構造に達する前に、さらなるシーリング材料をさらなる支持プレートの一部の表面上に分配するために、さらなるシーリング材料分配システム４０ａを使用して、この実施例では、前述の第１の支持プレートと第２の支持プレートとの結合と同様の方式で一体に結合される。この際、第２の支持プレートとさらなる支持プレートとを一体にすることで、第２の支持プレートとさらなる支持プレートとがともに結合される。そうして、第２の支持プレートがさらなるシーリング材料に接している。前述の記載はここで適用されるものとし、それに応じて変更される。
【００４９】
図６は、エレクトロウェッティング表示デバイスの製造方法の一部の異なる実施例を概略的に示している。表示デバイスの製造における装置の特徴及びその役割は、図３を使用して記載した特徴及び役割に類似しており、図６では、同じ参照符号を使用して呼ばれ、対応する記載が適用される。したがって、図６の実施例の、図３の実施例と比較しての差異を記載する。
【００５０】
この実施例では、第１の支持プレートを少なくとも部分的に第１のローラ周りに巻くことで、第１の支持プレート７４が、第１のローラ３０に対し、第１のローラ３０上に供給Ｆ１される。この実施例では、第１の支持プレートは、図３を使用して記載された第２の支持プレートと同様の構成を有している。やはり図３の第２の支持プレートと同様の構成のさらなる支持プレート７６は、適切な供給システムから供給Ｆ４される。この実施例では、さらなる支持プレートは、たとえば、さらなる支持プレートを少なくとも部分的に第２のローラ周りに巻くことにより、第２のローラ３２に対し、第２のローラ３２上に供給される。第２の支持プレート７８は、この実施例では構成が図３を使用して記載した第１の支持プレート５と同様であるが、この実施例では、単一の基板７で、基板７の２つの両側の平行な表面上に形成された電極、バリア層、疎水層、及び壁のスタックをともなって形成され得る。第２の支持プレートは、適切な供給システムを使用して、第１の支持プレート７４と、さらなる支持プレート７６との間に供給Ｆ２される。第１のローラ３０及び第２のローラ３２は、相互に離間して、互いに対して配置されて、矢印Ｃ１及びＣ２によって示すように、第１のローラと第２のローラとの間に圧縮部を形成する。しかし、この実施例では、図３の圧縮部とは対照的に、圧縮部が２つの圧縮部を含んでいる。２つの圧縮部は、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間の圧縮部８０と、さらなる圧縮部と呼ばれる場合がある、第２の支持プレートとさらなる支持プレートとの間の圧縮部８２とである。
【００５１】
第１の支持プレートは第２の支持プレートに対して傾斜し、さらなる支持プレートは第２の支持プレートに対して傾斜して、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間のキャビティ８４と、第２の支持プレートとさらなる支持プレートとの間のキャビティ８６と、をそれぞれ設けている。これらキャビティは、少なくとも部分的に第２の流体で満たされており、このことは、各キャビティ８４、８６についで同じか、異なっている場合がある。前述と同様の方式で、第１のローラを回転させることと、第２のローラを回転させることとにより、第１のローラ上の第１の支持プレートと、第２のローラ上のさらなる支持プレートとをそれぞれ移動させる。やはりこの実施例では、第２の支持プレート７８を適切に供給することで、第１の支持プレートと第２の支持プレートとの少なくとも一方を移動させ、第２の支持プレートとさらなる支持プレートとの少なくとも一方を互いに向かって移動させて、それらを一体にすることにより、第２の流体が、それぞれ第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間と、第２の支持プレートとさらなる支持プレートとの間にある圧縮部８０と圧縮部８２とによって分配される。
【００５２】
第１の流体のチャネル８８、９０は、キャビティ８４、８６の各々に形成されている。チャネル８８とチャネル９０との各々は、各キャビティ内の第２の流体と第２の支持プレートの一部との間のそれぞれ形成されていることを除いて、図３を使用して前述したチャネルに類似している。第１の流体は、第２の支持プレートをチャネル８８、９０の各々の側部に沿って移動させることによって分配される。各チャネルの第１の流体は、キャビティ８４、８６の各々について同じか、異なっている場合がある。上述と同様の第１の流体の分配方法により、第１の流体９２の領域が第２の支持プレートの表示エリア上に形成され得る。
【００５３】
上述の実施形態は例示的実施例として理解されるものとする。図５の実施例は、各々がたとえば別様に色づけされた第１の流体の３つの層を有する表示デバイスの製造方法の実施例であり、一方、図６の実施例は、第１の流体の２つの層を有する表示デバイスの代替的製造方法である。表示デバイスのさらなるタイプが上述の原理を使用して、たとえば、２つの支持プレート間のキャビティを第２の流体の容器として使用して、また、たとえば、第１の流体を分配するために第１の流体のチャネルを使用して、製造可能であることを理解されたい。くつかのそのような実施例では、支持プレートは、上述とは異なる構成を有して使用され得る。たとえば、図１とともに記載した第２の支持プレートよりむしろ、図１とともに上述した第１の支持プレートの構成により類似する構成の支持プレートが使用され得るか、またはその逆である。
【００５４】
図４を使用して記載した実施例では、第３のローラ及び第４のローラが、第１の流体を分配するためのプロセスの一部として使用された。さらなる実施例では、ローラなどの少なくとも表面の使用が、エレクトロウェッティングデバイスの支持プレート上に第１の流体を分配するために、第３のローラ及び、任意選択的に第４のローラを使用する方式で使用され得ることが予見される。いくつかの実施例では、そのような第１の流体の分配技術は、上述の方式で第２の流体を分配することなく使用され得る。換言すると、これら第１の流体の分配方法と第２の流体の分配方法とは、さらなる実施例では、相互に独立して使用され得る。したがって、さらなる実施例では、図８を参照すると、エレクトロウェッティング表示デバイスの製造方法は、第１の支持プレートを提供することと、第１の流体及び第２の流体を提供することと、を含み、第１の流体は、第１の支持プレートの表面の一部と、第１の流体と第２の流体との間の界面と、さらなる表面とによって形成されたチャネル内に少なくとも部分的に提供される。第１の流体は第１の支持プレートの表面の一部に、第１の支持プレートの表面の一部をチャネルの側部に沿って移動させることによって分配される。いくつかのそのような実施例では、上述の実施例のように第２の流体の容器が第１の支持プレートと第２の支持プレートとの間のキャビティ内に提供されているよりむしろ、第２の流体が、バスなどのコンテナによって包含される第２の流体の容器として提供され得、第１の支持プレートは、第２の流体のバスに浸される。いくつかの実施例では、第１の支持プレートの表面の一部と水平面とが、９０度から１７０度の間の角度、または１３５度から１６０度の間の角度の内の１つの角度を形成するように、第１の支持プレートが設けられている。そのようなさらなる実施例のいくつかに応じて、表面を有する第１の支持プレートを提供するように構成された第１の支持プレート供給システムと、第２の流体の容器を提供するためのシステムと、たとえば上述したように、内部に第１の流体が少なくとも部分的に提供されるチャネルを形成するためのさらなる表面と、を備えた装置が使用され得る。上述の実施例で説明したように、第１の支持プレートの表面の一部と、チャネル内の第１の流体と第２の流体との間の界面と、さらなる表面とによってチャネルが形成され得る。そのような実施例における第１の支持プレート供給システムは、第１の支持プレートの表面の一部をチャネルの側部に沿って移動させ、第１の支持プレートの表面の一部上に第１の流体を分配するようにさらに構成されている。
【００５５】
上述の実施例は、エレクトロウェッティング表示デバイスに関する。さらなる実施例が、表示デバイスではないエレクトロウェッティングデバイスを製造するために予見される。
【００５６】
たとえば以下に番号が付された条項によって記載されたような、さらなる実施例が予見される。任意の一実施形態に関して記載されたいずれの特徴も、単一で使用されるか、記載の他の特徴と組み合わせて使用され得、また、任意の他の実施形態、または任意の他の実施形態の任意の組合せの１つまたは複数の特徴と組み合わせても使用され得ることを理解されたい。さらに、上述されない均等形態及び変形形態も、添付の特許請求の範囲の範囲から逸脱することなく採用され得る。
【００５７】
条項
【００５８】
条項１
第１の流体及び第２の流体を含むエレクトロウェッティングデバイスの製造方法であって、
第１の支持プレートを提供することと、
前記第１の支持プレートに対して傾斜した第２の支持プレートを提供することであって、それにより、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に、前記第１の支持プレートの一部と前記第２の支持プレートの一部との間に形成された圧縮部に向かって狭まっているキャビティを形成する、第２の支持プレートを提供することと、
前記キャビティを前記第２の流体で少なくとも部分的に満たすことであって、それにより、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に第２の流体を分配するための、前記第２の流体の容器を提供する、少なくとも部分的に満たすことと、
前記第１及び第２の支持プレートを前記圧縮部に向かって移動して、前記第１の支持プレートと第２の支持プレートとをともに近接させることと、
前記圧縮部が前記第２の流体を前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に分配することと、を含む、前記方法。
【００５９】
条項２
前記第１の支持プレートを少なくとも部分的に第１のローラ周りに巻くことと、
前記第２の支持プレートを少なくとも部分的に第２のローラ周りに巻くことであって、前記第２のローラは、前記圧縮部を提供するように、前記第１のローラから離間するとともに、前記第１のローラに対して配置され、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとは、少なくとも部分的に第１のローラと第２のローラとの周りにそれぞれ巻かれている、前記第２の支持プレートを巻くことと、
前記第１の支持プレートを前記第１のローラ上で移動させることと、
前記第２の支持プレートを前記第２のローラ上で移動させることであって、それにより、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとを前記圧縮部において互いに向かって動かす、前記第２の支持プレートを移動させることと、を含む、条項１に記載の方法。
【００６０】
条項３
前記第１のローラを第１の回転方向に回転させることと、前記第２のローラを第１の回転方向とは反対側の第２の回転方向に回転させることと、を含む、条項２に記載の方法。
【００６１】
条項４
前記第１及び第２の支持プレートを前記圧縮部に向かって移動させることには、複数の第１の支持プレートを形成するように分割可能である第１の支持プレートのシートと、複数の第２の支持プレートを形成するように分割可能である第２の支持プレートのシートとの各々を、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間の第１の距離の第１の位置から、前記圧縮部における、前記第１の支持プレートのシートと前記第２の支持プレートのシートとの間の第２の距離の第２の位置に移動させることが含まれ、前記第１の距離が第前記２の距離よりも大であり、前記第１の支持プレートが前記第１の支持プレートのシートの一部であり、前記第２の支持プレートが前記第２の支持プレートのシートの一部である、条項１に記載の方法。
【００６２】
条項５
前記第１及び第２の支持プレートを前記圧縮部に向かって移動した後に、前記圧縮部において、前記第１の支持プレートの一部と前記第２の支持プレートの一部との間に、製造される前記エレクトロウェッティングデバイスの前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間の距離にほぼ等しい距離に応じて距離を設定することを含む、条項１に記載の方法。
【００６３】
条項６
前記第１の支持プレートに対して傾斜した前記第２の支持プレートを提供することは、それにより、ほぼＶ状の形態の前記キャビティを形成し、前記第１の支持プレートの前記第２の支持プレートに対する第１の角度は、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間の第１の距離の第１の位置において、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間の、前記圧縮部における、第２の位置における前記第１の支持プレートの前記第２の支持プレートに対する第２の角度よりも大である、条項１に記載の方法。
【００６４】
条項７
前記第１及び前記第２のプレートの前記圧縮部への前記移動の後に、前記第１及び第２の支持プレートを、前記圧縮部を通して移動することを含み、前記圧縮部は、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に、前記圧縮部を通して前記第２の流体を分配する、条項１に記載の方法。
【００６５】
条項８
前記第１の支持プレートの表面の一部によって形成されたチャネル内の前記キャビティの一部、及び、前記第１の流体と前記第２の流体との間の界面に、前記第１の流体を提供することと、
前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部を前記のチャネルの側部に沿って移動させることにより、前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部上に前記第１の流体を分配することと、を含む、条項１に記載の方法。
【００６６】
条項９
前記チャネルに対する前記第１の支持プレートの角度、前記チャネル内に提供された前記第１の流体の体積、キャビティ内に提供された前記第２の流体の体積、または、前記第１の支持プレートの表面の一部を前記チャネルの側部に沿って移動させる速度の１つまたは複数を制御することにより、前記第１の支持プレートの表面上に分配された前記第１の流体の層の厚みを制御することを含む、条項８に記載の方法。
【００６７】
条項１０
前記第２の支持プレートの表目の一部と、前記第２の流体との間に形成されたさらなるチャネル内の前記キャビティのさらなる部分にさらなる前記第１の流体を提供することと、
前述の、前記第２の支持プレートを圧縮部に向かって移動させることにより、前記第２の支持プレートの表面の一部上にさらなる第１の流体を分配することであって、前記第２の支持プレートを前記圧縮部に向かって移動させることには、前記第２の支持プレートの表面の一部をさらなるチャネルの側部に沿って移動させることが含まれている、さらなる第１の流体を分配することと、を含む、条項８に記載の方法。
【００６８】
条項１１
第１の支持プレートの前記表面の一部、前記第１の流体と前記第２の流体との間の界面、及び、前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部から離間したさらなる表面によって形成されたチャネル内の前記キャビティの一部に前記第１の流体を提供することであって、前記さらなる表面と前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部とが第２の圧縮部を形成する、第１の流体を提供することと、
前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部を前記チャネルの側部に沿って移動させることを含む、前記第１の支持プレートの前記圧縮部に向かっての前記移動により、前記第１の支持プレートの前記表面の前記一部上に前記第１の流体を分配することと、を含む、条項１に記載の方法。
【００６９】
条項１２
前記さらなる表面が第３のローラの表面であり、本方法が、前記第１の流体をさらなる表面上に提供してさらなる表面上に第１の流体の層を形成することと、前記第１の流体の分配のために、前記第３のローラを回転させて前記チャネル内に第１の流体を提供することと、を含む、条項１１に記載の方法。
【００７０】
条項１３
前記第２の支持プレートに対して傾斜したさらなる支持プレートを提供することであって、それにより、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に形成されたさらなる圧縮部に向かって狭まっているさらなるキャビティを形成する、さらなる支持プレートを提供することと、
さらなる第２の流体で前記さらなるキャビティを少なくとも部分的に満たすことであって、それにより、前記さらなる第２の流体を前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に分配するための前記さらなる第２の流体のさらなる容器を提供する、さらなるキャビティを少なくとも部分的に満たすことと、
前記第２及びさらなる支持プレートを前記さらなる圧縮部に向かって移動させることと、
前記さらなる圧縮部が前記さらなる第２の流体を前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に分配することと、を含む、条項１に記載の方法。
【００７１】
条項１４
さらなる第１の流体を提供することであって、第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの内の１つの表面の一部と、前記さらなる第１の流体と前記さらなる第２の流体との間の界面とによって形成されたさらなるチャネル内の前記さらなるキャビティの一部にさらなる第１の流体を提供することと、
前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの内の少なくとも１つをさらなるチャネルの側部に沿って移動させることにより、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの内の１つの表面の一部上に前記さらなる第１の流体を分配することと、を含む、条項１３に記載の方法。
【００７２】
条項１５
前記第１の支持プレートを少なくとも部分的に第１のローラ周りに巻くことと、
前記さらなる支持プレートを少なくとも部分的に第２のローラ周りに巻くことであって、第２のローラは、圧縮部及びさらなる圧縮部を提供するように、前記第１のローラから離間するとともに、第１のローラに対して配置され、前記第１の支持プレートと前記さらなる支持プレートとは少なくとも部分的に第１のローラと第２のローラとにそれぞれ巻かれている、前記さらなる支持プレートを少なくとも部分的に第２のローラ周りに巻くことと、
前記第１の支持プレートを第１のローラ上で移動させることであって、それにより、第１の支持プレートを圧縮部における前記第２の支持プレートに向かって動かす、前記第１の支持プレートを第１のローラ上で移動させることと、
前記さらなる支持プレートを第２のローラ上で移動させることであって、それにより、さらなる支持プレートを圧縮部における前記第２の支持プレートに向かって動かす、前記さらなる支持プレートを第２のローラ上で移動させることと、を含む、条項１３に記載の方法。
【００７３】
条項１６
前記第１及び第２の支持プレートの前記圧縮部に向けての前記移動の間、前記第２の支持プレートの一部が前記圧縮部に到達する前に、前記第２の支持プレートの前記一部の表面上にシーリング材料を分配することをさらに含み、前記シーリング材料は、前記第１の支持プレートを前記第２の支持プレートに結合するためのものであり、前記方法が、前記第１の支持プレートを、前記第２の支持プレートの前記一部の前記表面上に分配されたシーリング材料と接触させることにより、前記圧縮部において、前記第１の支持プレートを前記第２の支持プレートに結合することをさらに含んでいる、条項１に記載の方法。
【００７４】
条項１７
第２及びさらなる支持プレートの圧縮部に向けての前記移動の間に、さらなる支持プレートの一部がさらなる圧縮部に達する前にさらなる支持プレートの一部の表面上にさらなるシーリング材料を分配することを含み、さらなるシーリング材料は、第２の支持プレートをさらなる支持プレートに結合するためのものであり、本方法が、第２の支持プレートを、さらなる支持プレートの一部の表面上に分配されたさらなるシーリング材料と接触させることにより、さらなる圧縮部において、第２の支持プレートをさらなる支持プレートに結合することをさらに含んでいる、条項１３に記載の方法。
【００７５】
条項１８
第１の流体及び第２の流体を含む、エレクトロウェッティングデバイスの製造装置であって、
第１の支持プレートを提供するように構成された第１の支持プレート供給システムと、
第２の支持プレートを提供するように構成された第２の支持プレート供給システムであって、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間の圧縮部に向かって狭まっているキャビティを形成するため、及び、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの間に前記第２の流体を分配するための容器を提供するために、前記第１の支持プレートに対して傾斜した第２の支持プレートを提供するように構成された第２の支持プレート供給システムと、を備え、
前記第１の支持プレート供給システムが第１の要素を含み、前記第２の支持プレート供給システムが第２の要素を含み、前記第１の要素と前記第２の要素とは、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとが前記第１の要素と前記第２の要素とによってそれぞれ供給される際に、前記圧縮部を提供するように、互いから離間するとともに、互いに対して配置されている、前記装置。
【００７６】
条項１９
前記第１の要素が、第１のローラであって、前記第１の支持プレートを少なくとも部分的に前記第１のローラ周りに巻くための第１のローラを備え、前記第２の要素が、第２のローラであって、前記第２の支持プレートを少なくとも部分的に前記第２のローラ周りに巻くための第２のローラを備え、前記第１のローラが、前記第１の支持プレートを前記圧縮部に向けて移動させるように回転可能であり、前記第２のローラが、前記第２の支持プレートを前記圧縮部に向けて移動させるように回転可能であり、それにより、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとをともに近接させる、条項１８に記載の装置。
【００７７】
条項２０
それぞれ、前記第１の支持プレートと前記第２の支持プレートとの一方の表面に第１の流体を分配するための前記第１の流体のチャネルと、前記第２の流体の前記容器とを形成するために、前記第１の流体を前記キャビティの一部に供給するための第１の流体供給システムと、前記第２の流体を前記キャビティの異なる部分に供給するための第２の流体供給システムと、を備えた、条項１８に記載の装置。
【００７８】
条項２１
チャネルを形成するためのさらなる表面を有するさらなる要素を含む第１の流体供給システムであって、前記第１の支持プレートの前記表面の一部、前記キャビティに供給された前記第１の流体と前記第２の流体との間の界面、及び、前記さらなる表面とともにチャネルを形成するためのさらなる表面を有するさらなる要素を含む第１の流体供給システムを備え、前記さらなる要素が、前記第１の支持プレートの一部と前記さらなる表面との間に第２の圧縮部を形成するように配置された、条項１８に記載の装置。
【００７９】
条項２２
さらなる要素が、第３のローラであって前記チャネル内の第３のローラ上に提供された前記第１の流体を提供するように回転可能である第３のローラである、条項２１に記載の装置。
【００８０】
条項２３
チャネル内の第３のローラによって提供された第１の流体の量を制御するための第３の圧縮部を提供するように、第３のローラに対して配置された第４のローラを備えた、条項２２に記載の装置。
【００８１】
条項２４
前記第２の支持プレートに対してさらなる支持プレートを提供して、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間のさらなる圧縮部に向かって狭まっているさらなるキャビティを形成するように構成され、前記第２の支持プレートとさ前記らなる支持プレートとの間にさらなる第２の流体を分配するための容器を提供するためのさらなる支持プレート供給システムを備え、前記さらなる支持プレート供給システムが、前記第２の支持プレートと前記さらなる支持プレートとの間に前記さらなる第２の流体を分配するために、少なくとも部分的に前記さらなるローラ周りに巻かれた前記さらなる支持プレートをさらなる圧縮部に向かって移動させるように回転可能であるさらなるローラを含んでいる、条項１８に記載の装置。
【００８２】
条項２５
前記さらなる第２の流体の容器、及び、第２の支持プレートとさらなる支持プレートとの少なくとも一方の表面上にさらなる第１の流体を分配するための前記さらなる第１の流体のさらなるチャネルを形成するために、前記さらなるキャビティの一部に前記さらなる第１の流体を供給するためのさらなる第１の流体供給システムと、さらなるキャビティの異なる部分にさらなる第２の流体を供給するためのさらなる第２の流体供給システムと、を備えた、条項２４に記載の装置。
【００８３】
条項２６
第１の支持プレートを前記圧縮部において第２の支持プレートと結合するために、シーリング材料を前記第２の支持プレートの表面上に供給するためのシーリング材料供給システムを備えた、条項１８に記載の装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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