(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１オブジェクトと、
前記第１オブジェクトに対して移動方向に移動可能な第２オブジェクトと、
前記第１オブジェクトと前記第２オブジェクトとの間に配置されたケーブル及び／又は配管のセットと、
前記ケーブル及び／又は配管のセットを誘導するための誘導ドラムであって、前記移動方向に対して垂直に延在する回転軸を中心に回転可能であるとともに前記移動方向に移動可能な誘導ドラムと、
前記第１オブジェクトに対する前記第２オブジェクトの動きによって生じる前記ケーブル及び／又は配管のセットの動きに追従するように、前記誘導ドラムの回転及び前記移動方向における移動を制御するためのドラム位置決めデバイスと、
前記誘導ドラムの前記移動方向の動きを誘導するための誘導構造と、を備えるリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記ケーブル及び／又は配管のセットを保持するためのケーブル及び配管キャリアを更に備え、前記誘導ドラムは、前記ケーブル及び配管キャリアを誘導することによって前記ケーブル及び／又は配管のセットを誘導する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記ドラム位置決めデバイスはドラム支持及びドラム作動システムを備え、前記ドラム支持は、前記誘導構造によって誘導され、前記誘導ドラムを支持し、前記ドラム作動システムは前記ドラム支持を位置決めする、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記ドラム位置決めデバイスは、前記誘導ドラムをその回転軸を中心に回転させるためのモータを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記第２オブジェクトの測定された位置を取得するために前記第２オブジェクトの位置を測定するための測定システム、前記第２オブジェクトを移動させるためのオブジェクト作動システム、及び、前記第２オブジェクトの前記測定された位置に基づいて前記オブジェクト作動システムを駆動するためのオブジェクト制御システムを更に備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記ドラム位置決めデバイスはドラム支持及びドラム作動システムを備え、前記ドラム支持は、前記誘導構造によって誘導され、前記誘導ドラムを支持し、前記ドラム作動システムは前記ドラム支持を位置決めし、前記ドラム位置決めデバイスは、前記第２オブジェクトの前記測定された位置に基づいて前記ドラム作動システムを駆動するためのドラム制御システムを備える、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記ドラム位置決めデバイスは、前記誘導ドラムと前記第２オブジェクトとの間に延在する、前記ケーブル及び／若しくは配管のセットの一部、又は、前記ケーブル及び／若しくは配管のセットを保持するケーブル及び配管キャリアの一部における張力が、ほぼ一定であるように、前記ドラム作動システムを駆動するドラム制御システムを備える、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記第１オブジェクトと第２オブジェクトとの間に配置された他のケーブル及び／又は配管のセットと、
前記他のケーブル及び／又は配管のセットを誘導するための他の誘導ドラムであって、前記移動方向に対して垂直に延在する他の回転軸を中心に回転可能な他の誘導ドラムと、
前記第１オブジェクトに対する前記第２オブジェクトの動きによって生じる前記他のケーブル及び／又は配管のセットの動きに追従するように、前記他の誘導ドラムを位置決めするための他のドラム位置決めデバイスと、をさらに備え、
前記誘導構造は、前記他の誘導ドラムの前記移動方向の動きを誘導する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
パターニングデバイスを支持する支持であって、前記パターニングデバイスはパターンが付与された放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを付与することが可能である、支持と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターンが与えられた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、を更に備え、
前記第２オブジェクトは前記支持又は前記基板テーブルである、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
リソグラフィ装置において第１オブジェクトに対して移動可能な第２オブジェクトを位置決めするための方法であって、
ａ）前記第１オブジェクトと前記第２オブジェクトとの間に配置されたケーブル及び／又は配管のセットを提供するステップと、
ｂ）前記ケーブル及び／又は配管のセットを誘導するための誘導ドラムを提供するステップであって、前記誘導ドラムは、前記移動方向に対して垂直に延在する回転軸を中心に回転可能であるとともに前記移動方向に移動可能である、提供するステップと、
ｃ）前記誘導ドラムの動きを前記移動方向に誘導するための誘導構造を提供するステップと、
ｄ）前記第１オブジェクトに対して前記第２オブジェクトを位置決めするステップと、
ｅ）前記第１オブジェクトに対する前記第２オブジェクトの動きによって生じる前記ケーブル及び／又は配管のセットの動きに追従するように、前記誘導ドラムの回転及び前記移動方向における移動を制御するステップと、を含む、方法。
【請求項１１】
前記第２オブジェクトを位置決めするステップは、前記第２オブジェクトの測定された位置を取得するために、基準構造に対して前記第２オブジェクトの位置を測定するステップを含み、前記第２オブジェクトを位置決めするステップは前記第２オブジェクトの前記測定された位置に基づいて実施される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記誘導ドラムを位置決めするステップは、前記第２オブジェクトの前記測定された位置に基づいて制御されるドラム作動システムによって実施される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１に記載のリソグラフィ装置が使用されるデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１４年４月１６日出願の欧州特許出願第１４１６４９８８．９号の利益を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、リソグラフィ装置、リソグラフィ装置においてオブジェクトを位置決めするための方法、及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所与の方向（「スキャン」方向）と平行或いは逆平行に同期的にスキャンしながら、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナと、を含む。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００４】
リソグラフィ装置は、通常、可動オブジェクト、例えばパターニングデバイスを保持するように構成されたサポート、基板を保持するように構成されたサポート、又は光学素子を保持するサポートを備える。可動オブジェクトに電力を供給するため、駆動信号及び／若しくは測定信号を交換するため、並びに／又は、可動オブジェクトに冷却水を供給するために、可動オブジェクトと「固定世界（fixed world）」との間にケーブル及び／若しくは配管を提供することができる。これらのケーブル及び配管は、通常、可動オブジェクトと、代替的に「ケーブルスラブ」と呼ばれることのある「固定」世界との間に配置構成された、ケーブル及び配管キャリアによって支持されるが、必ずしもその限りではない。こうしたケーブル及び／又は配管のセット或いはケーブル及び配管キャリアは可動オブジェクト及び固定世界で支持され、通常、可動オブジェクトと共に自由に移動できるため、それらの間では支持されない。ケーブル及び／又は配管のセット或いはケーブル及び配管キャリアのたるみを防ぐための手段を講じることができる。その例が、ケーブル及び／又は配管のセット或いはケーブル及び配管キャリアを好ましい形にするための、ケーブル及び／又は配管のセット或いはケーブル及び配管キャリアの両側の２枚のプレートである。
【０００５】
しかしながら、これらのプレートは、可動オブジェクトが相対的に高度に加速する場合、ケーブル及び／若しくは配管のセット、又は、ケーブル及び配管キャリアがケーブル及び／若しくは配管のセット、又は、ケーブル及び配管キャリアの縦軸に対して垂直に移動することを、完全に防ぐことはできない。ケーブル及び／若しくは配管のセット又はケーブル及び配管キャリアのこの動きは、可動オブジェクトの位置精度を低下させる可動オブジェクトに対する妨害力を導入し、更に、ケーブル及び／若しくは配管のセット又はケーブル及び配管キャリアの摩耗を促進させてケーブル及び／若しくは配管のセット又はケーブル及び配管キャリアの寿命を短縮する。
【発明の概要】
【０００６】
したがって、可動オブジェクトの位置精度が向上し、並びに／又は、ケーブル及び／若しくは配管のセット又はケーブル及び配管キャリアの寿命が増加するシステムを提供することが望ましい。
【０００７】
本発明の実施形態に従い、
第１オブジェクトと、
第１オブジェクトに対して移動方向に移動可能な第２オブジェクトと、
第１オブジェクトと第２オブジェクトとの間に配置構成されたケーブル及び／又は配管のセットと、
ケーブル及び／又は配管のセットを誘導するための誘導ドラムであって、移動方向に対して垂直に延在する回転軸を中心に回転可能な誘導ドラムと、
第１オブジェクトに対する第２オブジェクトの動きによって生じるケーブル及び／又は配管のセットの動きに追従するように、誘導ドラムを位置決めするためのドラム位置決めデバイスと、
誘導ドラムの動きを移動方向に誘導するための誘導構造と、を備えるリソグラフィ装置が提供される。
【０００８】
本発明の別の実施形態に従い、
ａ）第１オブジェクトと第２オブジェクトとの間に配置構成されたケーブル及び／又は配管のセットを提供するステップと、
ｂ）ケーブル及び／又は配管のセットを誘導するための誘導ドラムを提供するステップであって、誘導ドラムは、移動方向に対して垂直に延在する回転軸を中心に回転可能である、提供するステップと、
ｃ）誘導ドラムの動きを移動方向に誘導するための誘導構造を提供するステップと、
ｄ）第１オブジェクトに対して第２オブジェクトを位置決めするステップと、
ｅ）第１オブジェクトに対する第２オブジェクトの動きによって生じるケーブル及び／又は配管のセットの動きに追従するように、誘導ドラムを位置決めするステップと、を含む、リソグラフィ装置において第１オブジェクトに対して移動可能な第２オブジェクトを位置決めするための方法が提供される。
【０００９】
本発明の他の実施形態に従い、本発明に従ったリソグラフィ装置が使用されるデバイス製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
対応する参照符号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら以下に本発明の実施形態について説明するが、これは単に例示としてのものに過ぎない。
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に従ったリソグラフィ装置を概略的に示す図である。
【図２】本発明の実施形態に従ったオブジェクト位置決めシステムを概略的に示す図である。
【図３】本発明の別の実施形態に従ったオブジェクト位置決めシステムを概略的に示す図である。
【図４Ａ】図３のオブジェクト位置決めシステムの第２オブジェクトを概略的により詳細に示す図である。
【図４Ｂ】図３のオブジェクト位置決めシステムの誘導ドラムを概略的により詳細に示す図である。
【図４Ｃ】図３のオブジェクト位置決めシステムを制御するための制御方式を概略的に示す図である。
【図５】本発明の他の実施形態に従ったオブジェクト位置決めシステムを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、
放射ビームＢを調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、
パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めするように構成された第１ポジショナＰＭに接続された支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、
基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Ｗを正確に位置決めするように構成された第２ポジショナＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴａ又はＷＴｂと、
パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つ以上のダイを含む）に投影するように構成された投影システムＰＳと、を備える。
【００１３】
照明システムＩＬは、放射を誘導し、整形し、又は制御するための、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光学コンポーネント、或いはそれらの任意の組合せなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。
【００１４】
本明細書で使用する「放射ビーム」という用語は、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ若しくは１２６ｎｍ、又はこれら辺りの波長を有する）及び極端紫外線光（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００１５】
支持構造ＭＴは、パターニングデバイスを支持、すなわちその重量を支えている。支持構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡの向き、リソグラフィ装置の設計、及び、パターニングデバイスＭＡが真空環境内で保持されているか否かなどのその他の条件に応じた形で、パターニングデバイスＭＡを保持する。支持構造ＭＴは、機械式、真空式、静電式又はその他のクランプ技術を用いて、パターニングデバイスＭＡを保持することができる。支持構造ＭＴは、例えば、必要に応じて固定又は可動式にできるフレーム又はテーブルであってもよい。支持構造ＭＴは、パターニングデバイスが例えば投影システムＰＳに対して確実に所望の位置に来るようにしてもよい。
【００１６】
本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板Ｗのターゲット部分Ｃにパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに付与されるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板Ｗのターゲット部分Ｃにおける所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路などのターゲット部分Ｃに生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。
【００１７】
パターニングデバイスＭＡは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスＭＡの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型（ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ）位相シフトマスク、ハーフトーン型（ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ）位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００１８】
本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。
【００１９】
本明細書で示すように、本装置は透過タイプである（例えば透過パターニングデバイスＭＡを使用する）。或いは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射パターニングデバイスを使用する）。
【００２０】
リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブルＷＴ（及び／又は２つ以上の支持構造）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つ以上の他のテーブルを露光に使用している間に１つ以上のテーブルで予備工程を実行することができる。リソグラフィ装置は、投影システムＰＳの特性を測定するためのセンサなどの、測定機器を保持するように配置構成された測定テーブルを備えてよい。実施形態において、測定テーブルは基板を保持することができない。図１の例における２つの基板テーブルＷＴａ及びＷＴｂがこれを例示している。本明細書で開示される発明は、スタンドアロン型で使用可能であるが、特に、シングルステージ又はマルチステージのいずれかの装置の露光前測定ステージにおいて、追加の機能を提供することができる。
【００２１】
リソグラフィ装置は、投影システムＰＳと基板Ｗとの間の空間を充填するように、基板Ｗの少なくとも一部が相対的に高い屈折率を有する液体、例えば水によって覆われるタイプでもよい。リソグラフィ装置内の他の空間、例えばパターニングデバイスＭＡと投影システムＰＳとの間に液浸液を適用することもできる。液浸技法は、投影システムの開口数を増やすための分野では周知である。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムＰＳと基板Ｗとの間に液体が存在するというほどの意味である。
【００２２】
図１を参照すると、照明システムＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源及びリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯから照明システムＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及び照明システムＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２３】
照明システムＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを備えていてもよい。一般に、照明システムＩＬの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ−ｏｕｔｅｒ及びσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調節することができる。また、照明システムＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。照明システムＩＬを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２４】
放射ビームＢは、支持構造ＭＴに保持されたパターニングデバイスＭＡに入射し、パターニングデバイスＭＡによってパターンが付与される。パターニングデバイスＭＡを横断した放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳはビームの焦点を基板Ｗのターゲット部分Ｃに合焦させる。第２ポジショナＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダ、又は容量センサを備える）の助けにより、基板テーブルＷＴａ／ＷＴｂは正確に移動可能であり、例えば異なるターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置決めすることができる。同様に、第１ポジショナＰＭ及び別の位置センサ（図１には明示されていない）を用いて、例えばマスクライブラリから機械的に取り出した後、又はスキャン中に、パターニングデバイスＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めすることができる。一般に、パターニングデバイスＭＡの移動は、第１ポジショナＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールの助けによって実現することができる。ロングストロークモジュールは、制限された精度で長距離にわたってショートストロークモジュールを移動させるように配置構成される。ショートストロークモジュールは、高精度でロングストロークモジュールに対して短距離にわたってパターニングデバイスＭＡを移動させるように配置構成される。同様に、基板テーブルＷＴａ／ＷＴｂの動きは、第２ポジショナＰＷの一部を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを使用して実現することができる。（スキャナとは対照的に）ステッパの場合、支持構造ＭＴはショートストロークアクチュエータのみに接続するか又は固定することができる。パターニングデバイスＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示された基板アライメントマークＰ１、Ｐ２は専用ターゲット部分を占有するが、ターゲット部分Ｃの間の空間に配置してもよい。ターゲット部分Ｃの間の空間に配置されるマークは、スクライブレーンアライメントマークと呼ばれる。同様に、パターニングデバイスＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２をダイ間に配置してもよい。
【００２５】
図示された装置は、以下の３つのモードのうちの少なくとも１つで使用可能である。
第１モードはステップモードである。ステップモードでは、放射ビームに付与されたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される間、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴａ／ＷＴｂは本質的に定常に維持される（すなわち単一静的露光）。次いで、基板テーブルＷＴａ／ＷＴｂがＸ及び／又はＹ方向にシフトされるため、異なるターゲット部分Ｃを露光することができる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズを限定する。
第２モードはスキャンモードである。スキャンモードでは、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影される間、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴａ／ＷＴｂは同期的にスキャンされる（すなわち単一動的露光）。支持構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴａ／ＷＴｂの速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特徴によって決定され得る。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一動的露光におけるターゲット部分Ｃの幅（非スキャニング方向）を限定する一方で、スキャニングモーションの長さがターゲット部分Ｃの高さ（スキャニング方向）を決定する。
第３のモードでは、支持構造ＭＴはプログラマブルパターニングデバイスＭＡを保持しながら本質的に定常に維持され、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影される間、基板テーブルＷＴａ／ＷＴｂは移動又はスキャンされる。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスＭＡは、基板テーブルＷＴａ／ＷＴｂの各動きの後、又はスキャン中の連続する放射パルス間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスＭＡを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。
【００２６】
上述した使用モードの組合せ及び／若しくは変形、又は、全く異なる使用モードも利用することができる。
【００２７】
リソグラフィ装置ＬＡは、２つの基板テーブルＷＴａ及びＷＴｂ、並びに、間で基板テーブルＷＴが交換可能な２つのステーション、すなわち露光ステーション及び測定ステーションを有する、いわゆるデュアルステージタイプである。１つの基板テーブルＷＴ上の１つの基板Ｗが露光ステーションで露光されている間、別の基板Ｗを測定ステーションの他方の基板テーブルＷＴ上に装填することが可能であるため、結果として様々な予備工程を実施することができる。予備工程は、レベルセンサＬＳを使用して基板の表面をマッピングすること、及び、位置合わせセンサＡＳを使用して基板上での基板アライメントマークＰ１、Ｐ２の位置を測定することを含み得る。これにより、装置のスループットを大幅に増加させることができる。位置センサＩＦが測定ステーション並びに露光ステーションにある間に、基板テーブルＷＴの位置を測定できない場合、基板テーブルＷＴの位置を両方のステーションで追跡できるようにするために第２位置センサを提供することができる。リソグラフィ装置は、２つの基板テーブルＷＴａ及びＷＴｂの代わりに１つの基板テーブルＷＴと、投影システムＰＳの特性を測定するためのセンサなどの測定機器を保持するように配置構成された測定テーブルとを備えることができる。
【００２８】
装置は、説明する様々なアクチュエータ及びセンサのすべての動き及び測定を制御する、リソグラフィ装置制御ユニットＬＡＣＵを更に含む。ＬＡＣＵは、装置の動作に関連して望ましい計算を実装するための信号処理及びデータ処理容量も含む。実際に制御ユニットＬＡＣＵは、各々が装置内のサブシステム又はコンポーネントのリアルタイムでのデータ獲得、処理、及び制御を取り扱う、多くのサブユニットのシステムとして実現される。例えば１つの処理サブシステムは、第２ポジショナＰＷのサーボ型制御に専念することができる。別々のユニットが異なるアクチュエータ又は異なる軸を取り扱うことができる。別のユニットが位置センサＩＦの読み取りに専念することができる。装置の全体制御は、これらのサブシステム処理ユニット、オペレータ、及びリソグラフィ製造プロセスに関与する他の装置と通信する、中央処理ユニットによって制御可能である。
【００２９】
上述のように、マスクテーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴａ／ＷＴｂは、基準、例えば投影システムＰＳに対して（正確に）位置決めする必要があり得るリソグラフィ装置内のオブジェクトの例である。位置決め可能なオブジェクトの別の例は、投影レンズ内の光学素子である。
【００３０】
リソグラフィ装置内の基準又は基準構造に対してオブジェクトを位置決めするために、リソグラフィ装置は、以下でより詳細に説明する本発明に従った１つ以上のオブジェクト位置決めシステムを備える。本説明の残りの部分では「オブジェクト」という一般用語を使用するが、適用可能であればこの用語は、支持、基板テーブル、マスクテーブル、光学素子、投影レンズなどに置き換え可能であることが明らかであろう。
【００３１】
本発明に従ったオブジェクト位置決めシステムは図２に概略的に示されており、
本明細書では「固定世界」として機能する、第１オブジェクトＯＢ１、
第１オブジェクトＯＢ１に対して移動方向ＭＤに移動可能な第２オブジェクトＯＢ２、例えば図１に示される基板テーブルＷＴ又はマスクテーブルＭＴ、
第１オブジェクトＯＢ１と第２オブジェクトＯＢ２の間に配置構成された、本実施形態ではケーブル及び誘導キャリアＣＴＣによって保持される、ケーブル及び／又は配管のセットＣＴであって、このケーブル及び／又は配管のセットＣＴは、第２オブジェクトＯＢ２に電力及び／又は冷却流体を提供すること、並びに／或いは、駆動信号及び／又は測定信号を交換することが可能である、
ケーブル及び配管キャリアＣＴＣを誘導するための誘導ドラムＧＤであって、これによりケーブル及び／又は配管のセットＣＴを誘導し、誘導ドラムは、誘導ドラムが回転する（矢印ＲＤで示される）際に中心とすることが可能な移動方向に対して垂直に延在する回転軸ＲＡを定義する車軸ＡＸを含み、この場合、車軸及び回転軸は図の面に対して垂直に延在する、
第１オブジェクトＯＢ１に対する第２オブジェクトＯＢ２の動きによって生じるケーブル及び配管キャリアＣＴＣの動きに追従するように、誘導ドラムＧＤを位置決めするためのスプリングＳＰの形のドラム位置決めデバイス、及び、
誘導ドラムＧＤの動きを本実施形態では車軸ＡＸを誘導することによって、移動方向ＭＤに誘導するための誘導構造ＧＳ、を備える。
【００３２】
ドラム位置決めデバイスは、本実施形態では概略的に、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣに向かって移動方向ＭＤに誘導ドラムを促し、したがってケーブル及び配管キャリアＣＴＣと接触させるために、誘導ドラムＧＤにバイアス力を付加するスプリングＳＰとして示されている。スプリングＳＰは、本実施形態に示されるように、誘導ドラムＧＤの車軸ＡＸと構造Ｓ、例えば第１オブジェクトＯＢ１又は任意の他の構造との間に提供され得る。
【００３３】
実施形態において、第１オブジェクトＯＢ１及び／又は構造Ｓは、第２オブジェクトＯＢ２の位置精度に対する付加力の影響を最小限にするために測定目的で使用される基準構造から切り離された別のフレームであってよい。
【００３４】
誘導ドラムＧＤの存在には、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣが、特に移動方向ＭＤ及び車軸ＡＸに対して垂直な方向Ｄに自由に動かないように、ケーブル及び配管キャリアの自由端を誘導するという利点がある。ドラム位置決めデバイスがバイアス力を付加するため、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣの上部ＵＰの動的挙動は最小化され、その結果第２オブジェクトＯＢ２に対する妨害が最小化される。例えば、図２の第１オブジェクトＯＢ１に対する第２オブジェクトＯＢ２の左への加速中、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣの上部ＵＰの座屈を防ぐことができる。
【００３５】
更に、本実施形態ではスプリングＳＰであるドラム位置決めデバイスは、誘導ドラムＧＤの移動範囲内で誘導ドラムＧＤにほぼ一定の力を付加するように、したがって、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣを介して第２オブジェクトにほぼ一定の力を付加するように構成可能であり、それによって動的妨害を更に最小化することができる。第２オブジェクトＯＢ２に付加されるほぼ一定の力は、動的妨害よりも補償が容易である。
【００３６】
図２のドラム位置決めデバイスＤＰＤは利点を有する受動デバイスであってよく、誘導ドラムＧＤの位置をアクティブに制御することも可能である。これが図３の実施形態に示されている。
【００３７】
図３は、第１オブジェクトＯＢ１と、第１オブジェクトＯＢ１に対して移動方向ＭＤに移動可能な第２オブジェクトＯＢ２と、ケーブル及び／又は配管のセットＣＴを保持するために第１オブジェクトと第２オブジェクトとの間に配置構成されたケーブル及び配管キャリアＣＴＣと、ケーブル及び／又は配管のセットＣＴを誘導する際に用いられるケーブル及び配管キャリアＣＴＣを誘導するための誘導ドラムＧＤと、第１オブジェクトＯＢ１に対する第２オブジェクトＯＢ２の動きによって生じるケーブル及び配管キャリアＣＴＣ、すなわちケーブル及び／又は配管のセットＣＴの動きに追従するように、誘導ドラムＧＤを位置決めするためのドラム位置決めデバイスＤＰＤと、誘導構造ＧＳと、を備える、オブジェクト位置決めシステムを示し、誘導ドラムＧＤは誘導ドラムＧＤが回転する際に中心とすることが可能な回転軸ＲＡを定義する車軸ＡＸを備え、車軸ＡＸは移動方向ＭＤに対して垂直に延在し、誘導構造ＧＳは誘導ドラムＧＤの動きを移動方向ＭＤに誘導するように構成される。
【００３８】
図３の実施形態において、ドラム位置決めデバイスＤＰＤは、誘導ドラムＧＤの車軸ＡＸを支持するドラム支持ＳＴを備え、それによって誘導ドラムＧＤを支持する。ドラム支持ＳＴは誘導構造ＧＳに沿って移動可能に誘導されるため、結果として本実施形態では、誘導構造ＧＳはドラム支持ＳＴを介して間接的に車軸を誘導することになる。ドラム位置決めデバイスＤＰＤは、本明細書では矢印によって概略的に示されるドラム作動システムＳＡを更に備える。ドラム作動システムＳＡは、第１オブジェクトＯＢ１に対する第２オブジェクトＯＢ２の動きによって生じるケーブル及び配管キャリアＣＴＣの動きに追従するように誘導ドラムＧＤを位置決めするために、ドラム支持ＳＴと誘導構造ＧＳとの間に力Ｆを付加するようにドラム支持ＳＴと誘導構造ＧＳとの間で動作可能である。
【００３９】
ドラム位置決めデバイスＤＰＤは、回転軸ＲＡを中心に誘導ドラムＧＤを回転方向ＲＤに回転させるためのモータＭＯを更に備えることができる。これにより、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣと誘導ドラムＧＤとの間でのスリップを防ぐために、誘導ドラムの慣性を補償することができる。これはケーブル及び配管キャリアＣＴＣの動的挙動を更に低減させるだけでなく、ケーブル及び配管キャリア並びにケーブル及び／又は配管のセットＣＴの寿命も増加させる。
【００４０】
第２オブジェクトＯＢ２及び誘導ドラムＧＤの位置を制御するための可能な構成が図４Ａ〜図４Ｃに概略的に示されている。簡潔にするために、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣなどの制御方式の説明に関連しない要素は省略されている。
【００４１】
図４Ａは、第２オブジェクトＯＢ２に対する「固定」世界として機能する第１オブジェクトＯＢ１を示す。第２オブジェクトＯＢ２の位置を測定するために、第１測定システムＭＳ１が提供される。本実施形態では、第１測定システムＭＳ１は、移動方向での第１オブジェクトＯＢ１に対する第２オブジェクトＯＢ２の位置を測定するが、位置は、任意の他の基準構造、例えば第１オブジェクトＯＢ１とは別個の専用測定フレームに対しても測定可能であるため、アクチュエータデバイス及び作動システムによって付加される力によって位置測定が受ける影響は最小限となる。第１測定システムＭＳ１は、移動方向で測定された第２オブジェクトＯＢ２の位置を表す第１測定信号Ｓ１を出力する。
【００４２】
図４Ａは、第２オブジェクトＯＢ２を位置決めするために第２オブジェクトＯＢ２を移動させるように、第２オブジェクトＯＢ２と第１オブジェクトＯＢ１との間に力Ｆ１を付加するためのオブジェクト作動システムＡＳも示している。図４Ｃに示されるように、好ましくはリソグラフィ装置制御ユニットＬＡＣＵの一部として第１制御システムＣＳ１が提供される。第１制御システムＣＳ１は、測定された第２オブジェクトＯＢ２の位置に基づいてオブジェクト作動システムＡＳを駆動するように構成される。第１オブジェクトＯＢ１はフォースフレームであってよいが、別の可動オブジェクトであってもよい。
【００４３】
例えば、本発明は、ロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを備える支持構造で適用可能であり、ロングストロークモジュールはショートストロークモジュールの粗動位置決め用に構成され、ショートストロークモジュールは第２オブジェクトＯＢ２の微動位置決め用に構成される。第１オブジェクトＯＢ１は固定世界であり、第２オブジェクトＯＢ２はロングストロークモジュールであるように、フォースフレームなどの固定世界とロングストロークモジュールとの間にケーブル及び配管キャリアＣＴＣを提供することができる。代替的又は追加的に、ロングストロークモジュールは第１オブジェクトＯＢ１と見なされ、ショートストロークモジュールは第２オブジェクトＯＢ２と見なされるように、ロングストロークモジュールとショートストロークモジュールとの間にケーブル及び配管キャリアＣＴＣを提供することができる。
【００４４】
第１制御システムＣＳ１の実施形態において、第２オブジェクトＯＢ２の望ましい位置を表す第１セットポイントＳ１Ｓを出力する第１セットポイント生成器ＳＧ１が提供される。第１セットポイントＳ１Ｓは第１測定信号Ｓ１と比較される。望ましい位置、すなわち第１セットポイントＳ１Ｓと、実際の位置、すなわち第１測定信号Ｓ１との間の差異が第１コントローラＣ１に入力され、この差異に基づいて第１駆動信号Ｄ１が提供され、第１駆動信号Ｄ１は、作動システムＡＳに付加されると第２オブジェクトＯＢ２を望ましい位置へと促す。
【００４５】
図４Ｂには、ドラム支持ＳＴによって支持される誘導ドラムＧＤが示されている。ドラム支持ＳＴはドラム位置決めデバイスＤＰＤの一部である。ドラム位置決めデバイスＤＰＤは、ドラム支持ＳＴの位置を測定するための第２測定システムＭＳ２を更に備え、それによって移動方向での誘導ドラムＧＤの位置を測定する。本実施形態において、第２測定システムＭＳ２は誘導構造ＧＳに対するドラム支持ＳＴの位置を測定するが、位置は任意の他の基準構造、例えば誘導構造ＧＳとは別個の専用測定フレームに対しても測定可能であるため、アクチュエータデバイス及び作動システムによって付加される力によって位置測定が受ける影響は最小限となる。第２測定システムＭＳ２は、移動方向ＭＤでのドラム支持ＳＴの位置、したがって移動方向ＭＤでの誘導ドラムＧＤの位置を表す第２測定信号Ｓ２を出力する。
【００４６】
図４Ｂは、誘導ドラムＧＤを位置決めするようにドラム支持ＳＴを移動させるために、ドラム支持ＳＴと誘導構造ＧＳとの間に力Ｆを付加するためのドラム作動システムＳＡを更に示す。図４Ｃを参照すると、好ましくはリソグラフィ装置制御ユニットＬＡＣＵの一部として第２制御システムＣＳ２が提供される。誘導ドラムＧＤは第２オブジェクトＯＢ２の動きによって生じるケーブル及び配管キャリアＣＴＣの動きに追従しなければならないため、第２制御システムＣＳ２は、測定されたドラム支持ＳＴの位置に基づき、また測定された第２オブジェクトＯＢ２の位置に基づき、ドラム作動システムＳＡを駆動するように構成される。したがって第２オブジェクトＯＢ２の位置は、第１測定信号Ｓ１の形で第２制御システムＣＳ２に入力される。
【００４７】
第２制御システムＣＳ２の実施形態において、ドラム支持ＳＴの望ましい位置を表す第２セットポイントＳ２Ｓを出力するために、第１測定信号Ｓ１が第２セットポイント生成器ＳＧ２に入力される。第２セットポイントＳ２Ｓは第２測定信号Ｓ２と比較される。望ましい位置、すなわち第２セットポイントＳ２Ｓと、実際の位置、すなわち第２測定信号Ｓ２との間の差異が第２コントローラＣ２に入力され、この差異に基づいて第２駆動信号Ｄ２が提供され、第２駆動信号Ｄ２は作動システムＡＳに付加されるとドラム支持ＳＴを望ましい位置へと促す。
【００４８】
本実施形態において、ドラム位置決めデバイスＤＰＤは誘導ドラムＧＤの角度位置を測定するための第３の測定システムＭＳ３を更に備える。本実施形態において、第３の測定システムＭＳ３はドラム支持ＳＴに対する誘導ドラムＧＤの角度位置を測定するが、角度位置は任意の他の基準構造、例えばドラム支持ＳＴとは別個の専用測定フレームに対しても測定可能である。第３の測定システムＭＳ３は、誘導ドラムＧＤの角度位置を表す第３の測定信号Ｓ３を出力する。
【００４９】
本実施形態において、ドラム支持は、誘導ドラムＧＤの角度配向を設定するために誘導ドラムＧＤを回転させるために、ドラム支持ＳＴと誘導ドラムＧＤとの間にトルクＴを付加するためのモータＭＯを備える。図４Ｃを参照すると、好ましくはリソグラフィ装置制御ユニットＬＡＣＵの一部として第３の制御システムＣＳ３が提供される。第３の制御システムＣＳ３は、測定された誘導ドラムＧＤの角度位置に基づいてモータＭＯを駆動するように構成される。誘導ドラムＧＤは、第２オブジェクトＯＢ２の動きによって生じるケーブル及び配管キャリアＣＴＣの動きに追従しなければならないため、第２オブジェクトＯＢ２の位置は第１測定信号Ｓ１の形で第３の制御システムに入力され得る。追加的又は代替的に、ドラム支持ＳＴの位置は第２測定信号Ｓ２の形で第３の制御システムＭＳ３に入力され得る。これらの可能性は、入力される第２測定信号Ｓ２について破線で示される。
【００５０】
第３の制御システムＣＳ３の実施形態において、誘導ドラムＧＤの望ましい角度位置を表す第３のセットポイントＳ３Ｓを出力するために、第１測定信号Ｓ１が第３のセットポイント生成器ＳＧ３に入力される。第３のセットポイントＳ３Ｓは第３の測定信号Ｓ３と比較される。望ましい角度位置、すなわち第３のセットポイントＳ３Ｓと、実際の角度位置、すなわち第３の測定信号Ｓ３との間の差異が第３のコントローラＣ３に入力され、この差異に基づいて第３の駆動信号Ｄ３が提供され、第３の駆動信号Ｄ３はモータＭＯに付加されると誘導ドラムＧＤを望ましい角度位置へと促す。
【００５１】
ケーブル及び配管キャリアＣＴＣの動的挙動はケーブル及び配管キャリアＣＴＣの静的挙動よりも関連性が深いため、ドラム位置決めデバイスＤＰＤは特定の静的挙動を適用するように構成可能である。例えばドラム位置決めデバイスＤＰＤは、誘導ドラムＧＤと第２オブジェクトＯＢ２との間に延在するケーブル及び配管キャリアＣＴＣの一部においてほぼ一定の張力を付加するように構成され得る。この部分は、図２に示されるケーブル及び配管キャリアＣＴＣの上部ＵＰに対応する。
【００５２】
ほぼ一定の張力を付加することは、ドラム作動システムＳＡがドラム支持ＳＴを位置決めすることによって実装可能であるため、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣの図２の上部ＵＰ及び図２の下部ＬＰの両方にほぼ一定の張力が付加され得る。代替的又は追加的に、ほぼ一定の張力はモータＭＯが誘導ドラムＧＤを回転させることによって実装可能であるため、上部ＵＰ及び下部ＬＰにおけるほぼ一定の張力は異なる場合がある。
【００５３】
ケーブル及び配管キャリアＣＴＣの上部ＵＰにおける非ゼロの張力は、図２において第２オブジェクトの左への加速中に上部ＵＰにおける座屈を防ぐのに役立つため、有利であり得る。
【００５４】
代替の実施形態において、ドラム位置決めデバイスＤＰＤは、誘導ドラムと第２オブジェクトＯＢ２との間に延在するケーブル及び配管キャリアＣＴＣの一部における張力を測定するための張力センサを含む、測定システムを備える。制御システムは、誘導ドラムＧＤを（ドラム支持ＳＴ及びドラム作動システムＳＡを直線的に使用して、及び／又は、ドラム支持に対して誘導ドラムＧＤを回転されるためのモータＭＯを角度的に使用して）位置決めするように構成可能であるため、測定される張力はほぼ一定を維持する。
【００５５】
したがって、ドラム位置決めデバイスＤＰＤは必ずしも測定された位置に基づいて誘導ドラムＧＤの位置を制御する訳ではない。張力測定も同様に十分であり得る。もちろん、位置制御のための基準として張力測定及び位置測定の組み合わせも実施可能である。
【００５６】
図５は、本発明の他の実施形態に従ったオブジェクト位置決めシステムを示す。前述の実施形態との差異は、第１オブジェクトＯＢ１と第２オブジェクトＯＢ２との間に、第１及び第２の２つのケーブル及び配管キャリアＣＴＣ１、ＣＴＣ２が存在することであり、第１オブジェクトＯＢ１は「固定」世界と見なされ、第２オブジェクトＯＢ２は第１オブジェクトＯＢ１に対して移動方向ＭＤに移動可能である。
【００５７】
第１ケーブル及び配管キャリアＣＴＣ１及び第２ケーブル及び配管キャリアＣＴＣ２は、どちらもケーブル及び／又は配管のそれぞれのセットを保持するためのものである。第１ケーブル及び配管キャリアＣＴＣ１は第１誘導ドラムＧＤ１によって誘導され、第２ケーブル及び配管キャリアＣＴＣ２は第２誘導ドラムＧＤ２によって誘導される。第１及び第２誘導ドラムＧＤ１、ＧＤ２の各々は、それぞれの誘導ドラムＧＤ１、ＧＤ２が回転する際に中心とすることが可能な回転軸ＲＡ１、ＲＡ２を定義する、関連付けられた車軸ＡＸ１、ＡＸ２を有する。これらの車軸ＡＸ１、ＡＸ２は、それぞれ第１ドラム支持ＳＴ１及び第２ドラム支持ＳＴ２によって支持され、第１及び第２ドラム支持ＳＴ１、ＳＴ２は誘導構造ＧＳによって移動可能に誘導される。
【００５８】
第１及び第２ケーブル及び配管キャリアＣＴＣ１、ＣＴＣ２は、互いに反対に進む。これにより、第１及び第２誘導ドラムＧＤ１、ＧＤ２を相互に接続し、第１及び第２誘導ドラムにケーブル及び配管キャリアＣＴＣ１、ＣＴＣ２の動きを自動的に追従させることができる。しかしながら本明細書では、第１及び第２誘導ドラムＧＤ１、ＧＤ２が互いに独立に位置決めされ得ることも明示的に述べられている。
【００５９】
図５の実施形態において、第１ドラム支持ＳＴ１と第２ドラム支持ＳＴ２との間の接続は、両方の誘導ドラムＧＤ１、ＧＤ２に対するドラム位置決めデバイスＤＰＤ１／２として機能する。この構成の利点は、移動方向でのドラム支持ＳＴ１、ＳＴ２、すなわち誘導ドラムＧＤ１、ＧＤ２の位置が受動的に制御することができることである。
【００６０】
第１及び第２ケーブル及び配管キャリアＣＴＣ１、ＣＴＣ２に対してほぼ一定の張力を付加するために、第１ドラム支持ＳＴ１と第２ドラム支持ＳＴ２との間の接続はスプリングＳＰの形とすることができる。代替的に、第１ドラム支持ＳＴ１と第２ドラム支持ＳＴ２との間の接続は、剛性であり得（すなわち第１及び第２ドラム支持ＳＴ１、ＳＴ２が単一のドラム支持を形成するように統合される）、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣのうちの少なくとも１つはスプリング様の挙動を伴う部分を備える。
【００６１】
図５は、ケーブル及び配管キャリアＣＴＣ１、ＣＴＣ２をほぼ所定の形状で維持させるための境界プレートＢＰを更に示す。こうした境界プレートＢＰは、追加的又は代替的にケーブル及び配管キャリアＣＴＣ１、ＣＴＣ２の反対側に提供することができる。境界プレートは、ケーブル及び配管キャリア、及び／又はケーブル及び配管キャリアによって保持されるケーブル及び／又は配管のセットの移動範囲を定める。それらは通常、ケーブル及び配管キャリアの近くを通る。境界プレートは、ケーブル及び／又は配管のセットのケーブル又は配管が破損するか又は緩んだ時に、オブジェクト位置決めシステムの他の部分、特に第２オブジェクトＯＢ２を保護する安全手段として更に使用され得る。
【００６２】
したがって実施形態において、オブジェクト位置決めシステムは、ケーブル及び／又は配管キャリアをほぼ所定の形状で維持させるための境界プレートを備える。
【００６３】
ドラム支持ＳＴ１、ＳＴ２は、ドラム支持ＳＴ１、ＳＴ２によって支持されるそれぞれの誘導ドラムＧＤ１、ＧＤ２を回転させるために、それぞれのモータ（図示せず）を備えることが更に可能である。
【００６４】
すべての実施形態について、誘導構造ＧＳ及び第１オブジェクトＯＢ１は、別個であるか又は１つの部分に統合され得ることが明白である。
【００６５】
すべての実施形態は主に水平方向に延在するケーブル及び配管キャリアを示しているが、本発明は垂直方向も含む他の方向にも適用可能であることは明らかである。
【００６６】
オブジェクト位置決めシステムの様々な部分の寸法は、好ましくは摩耗及び寿命に関して最適化される。例えば誘導ドラムの直径は、ケーブル及び配管キャリアによって保持されるケーブル及びホースの少なくとも最小曲げ半径に合致され得る。
【００６７】
図示されたすべての実施形態はケーブル及び配管キャリアを備えるが、ケーブル及び配管キャリアが無い場合、したがって誘導ドラムがケーブル及び／又は配管のセットを直接誘導している場合も、本発明が同様に適用され得ることが当業者には明白である。したがって適用可能であれば、ケーブル及び配管キャリアという用語はケーブル及び／又は配管のセットに置き換えてもよい。
【００６８】
本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板Ｗは、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板Ｗに塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板Ｗは、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板Ｗも指すことができる。
【００６９】
光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスＭＡ内のトポグラフィが基板Ｗ上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組合せを付加することでレジストは硬化する。パターニングデバイスＭＡはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると、内部にパターンが残される。
【００７０】
上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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