(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
前記磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、２．８ｎｍ以下であり、
前記磁性層は脂肪酸エステルを含み、
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁気テープの磁性層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ１ａｆｔｅｒと、前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁気テープの磁性層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ１ｂｅｆｏｒｅとの差分、Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ、は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下であり、
前記バックコート層は脂肪酸エステルを含み、
前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ２ａｆｔｅｒと、前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ２ｂｅｆｏｒｅとの差分、Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ、は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ。
【請求項２】
前記磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、２．５ｎｍ以下である請求項１に記載の磁気テープ。
【請求項３】
前記バックコート層に含まれる非磁性粉末は、無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である請求項１または２に記載の磁気テープ。
【請求項４】
前記バックコート層に含まれる非磁性粉末全量１００．０質量部に対して無機粉末の占める割合は、５０．０質量部超〜１００．０質量部の範囲である請求項３に記載の磁気テープ。
【請求項５】
前記磁気テープを真空加熱する前に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ５．０ｎｍ以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項６】
前記磁気テープを真空加熱した後に前記磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ５．０ｎｍ以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項７】
前記差分、Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ、は、０．５〜６．０ｎｍの範囲である請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項８】
前記差分、Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ、は、０．５〜５．０ｎｍの範囲である請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の磁気テープの製造方法であって、
前記バックコート層を、
非磁性支持体の一方の表面側に、非磁性粉末、結合剤および脂肪酸エステルを含むバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させることにより塗布層を形成すること、および、
形成した塗布層に振動を加えること、
により形成することを含む、前記磁気テープの製造方法。
【請求項１０】
前記振動は、超音波振動である請求項９に記載の磁気テープの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気テープおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体にはテープ状のものとディスク状のものがあり、データバックアップ等のストレージ用途には、テープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープが主に用いられている。磁気テープへの信号の記録および再生は、通常、磁気テープを収容した磁気テープカートリッジをドライブに装着し、ドライブ内で磁気テープを走行させて磁気テープの磁性層側の表面（以下、単に「磁気テープ表面」とも記載する。）を磁気ヘッド（以下、単に「ヘッド」とも記載する。）と接触させ摺動させることにより行われる。
【０００３】
近年、磁気テープの磁性層側の表面は平滑化（以下、「磁気テープの平滑化」とも記載する。）する傾向にある（例えば特許文献１の段落０００３参照）。磁気テープを平滑化することにより、磁気テープをドライブ内で走行させる際の磁気テープ表面とヘッドとの間の距離を狭小化することができ、これにより電磁変換特性を向上することが可能となるからである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−４３４９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１には、磁気テープの平滑化と優れた走行特性を両立するために、磁気記録媒体（具体的には磁気テープ）の磁性層側の表面における潤滑剤の存在状態を制御することが提案されている（特許文献１の請求項１参照）。走行特性に関して、特許文献１の実施例では、繰り返し走行中の貼り付きおよびテープ傷の発生を評価項目としている（特許文献１の表１１〜１３参照）。即ち、特許文献１は、平滑化した磁気テープにおける貼り付きおよびテープ傷の発生に着目している。
【０００６】
これに対し本発明者らは、電磁変換特性を向上するために平滑化した磁気テープにおいて、
・貼り付きの発生、具体的には繰り返し走行中に磁気テープ表面とヘッドとが貼り付くこと、
・磁気テープの磁性層側の表面の傷（以下、単に「磁気テープ表面の傷」または「傷」と記載する。）の発生、
・ヘッド付着物の発生、具体的には繰り返し走行中に磁気テープ表面が削れて発生した異物（デブリ（ｄｅｂｒｉｓ）とも呼ばれる。）がヘッドに付着すること、
をともに抑制することが望ましいと考えた。詳しくは、次の通りである。
磁気テープを平滑化するほど、走行時に磁気テープの磁性層側の表面とヘッドとが接触する際の摩擦係数が増大する傾向があり、これにより繰り返し走行中に貼り付きおよび傷が発生しやすくなる。かかる貼り付きの発生および傷の発生は、走行安定性を低下させる原因となる。また、ヘッド付着物が発生するとヘッド付着物が磁気テープとヘッドとの間に介在し、走行安定性等を低下させる原因となる。
【０００７】
そこで本発明の目的は、優れた電磁変換特性を示し、かつ繰り返し走行中の磁気テープ表面とヘッドとの貼り付き、磁気テープ表面の傷およびヘッド付着物の発生が抑制された磁気テープを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、以下の磁気テープ：
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、２．８ｎｍ以下であり、
磁性層は脂肪酸エステルを含み、
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープの磁性層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ１ａｆｔｅｒと、磁気テープを真空加熱する前に磁気テープの磁性層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ１ｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下であり、
バックコート層は脂肪酸エステルを含み、
磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ２ａｆｔｅｒと、磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ２ｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ、
を新たに見出した。上記磁気テープは、優れた電磁変換特性を示すことができ、かつ繰り返し走行中の貼り付き、傷およびヘッド付着物の発生を抑制することができる。この点に関する本発明者らによる推察は、後述する。
【０００９】
本発明および本明細書において、磁気テープの「真空加熱」とは、磁気テープを２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の圧力かつ７０〜９０℃の雰囲気温度の環境下に２４時間保持することにより行われる。
【００１０】
本発明および本明細書において、磁気テープの磁性層側の表面またはバックコート層側の表面（以下、「測定対象表面」とも記載する。）において光学干渉法により測定されるスペーシングとは、以下の方法により測定される値とする。
磁気テープと透明な板状部材（例えばガラス板等）を、磁気テープの測定対象表面が透明な板状部材と対向するように重ね合わせた状態で、磁気テープの磁性層側（測定対象表面が磁性層側の表面の場合）またはバックコート層側（測定対象表面がバックコート層側の表面の場合）とは反対側から５．０５×１０４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押圧部材を押しつける。この状態で、透明な板状部材を介して磁気テープの測定対象表面に光を照射し（照射領域：１５００００〜２０００００μｍ２）、磁気テープの測定対象表面からの反射光と透明な板状部材の磁気テープ側表面からの反射光との光路差によって発生する干渉光の強度（例えば干渉縞画像のコントラスト）に基づき、磁気テープの測定対象表面と透明な板状部材表面との間のスペーシング（距離）を求める。ここで照射される光は特に限定されるものではない。照射される光が、複数波長の光を含む白色光のように、比較的広範な波長範囲にわたり発光波長を有する光の場合には、透明な板状部材と反射光を受光する受光部との間に、干渉フィルタ等の特定波長または特定波長域以外の光を選択的にカットする機能を有する部材を配置し、反射光の中の一部の波長または一部の波長域の光を選択的に受光部に入射させる。照射させる光が単一の発光ピークを有する光（いわゆる単色光）の場合には、上記の部材は用いなくてもよい。受光部に入射させる光の波長は、一例として、例えば５００〜７００ｎｍの範囲にあることができるが、特に限定されるものではない。また、透明な板状部材は、この部材を介して磁気テープに光を照射し干渉光が得られる程度に、照射される光を透過する透明性を有する部材であればよい。
以上の測定は、例えばＭｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製  Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ等の市販のテープスペーシングアナライザー（ＴＳＡ；Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて行うことができる。実施例におけるスペーシング測定は、Ｍｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて実施した。
また、本発明および本明細書におけるスペーシング分布の半値全幅とは、上記スペーシングの測定により得られる干渉縞画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのスペーシング（磁気テープの測定対象表面と透明な板状部材の磁気テープ側表面との間の距離）を求め、これをヒストグラムとし、このヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅（Ｆｕｌｌ  Ｗｉｄｔｈ  ａｔ  Ｈａｌｆ  Ｍａｘｉｍｕｍ；  ＦＷＨＭ）である。
また、差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）および差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は、それぞれ、上記３０００００ポイントにおける真空加熱後の最頻値から真空加熱前の最頻値を差し引いた値をいうものとする。
【００１１】
本発明および本明細書における磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａとは、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）により面積４０μｍ×４０μｍの領域で測定される値とする。測定条件の一例としては、下記の測定条件を挙げることができる。後述の実施例に示す中心線平均表面粗さＲａは、下記測定条件下での測定によって求めた値である。
ＡＦＭ（Ｖｅｅｃｏ社Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）で磁気テープの磁性層側の表面の面積４０μｍ×４０μｍの領域を測定する。スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／ｓｅｃ、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとする。
【００１２】
一態様では、上記磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、２．５ｎｍ以下である。
【００１３】
一態様では、バックコート層に含まれる非磁性粉末は、無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である。
【００１４】
一態様では、バックコート層に含まれる非磁性粉末全量１００質量部に対して無機粉末の占める割合は、５０質量部超〜１００質量部の範囲である。
【００１５】
一態様では、上記磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ５．０ｎｍ以下である。
【００１６】
一態様では、上記磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ５．０ｎｍ以下である。
【００１７】
一態様では、上記差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は、０．５〜６．０ｎｍの範囲である。
【００１８】
一態様では、上記差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）は、０．５〜５．０ｎｍの範囲である。
【００１９】
本発明の更なる態様は、上記磁気テープの製造方法であって、
バックコート層を、
非磁性支持体の一方の表面側に、非磁性粉末、結合剤および脂肪酸エステルを含むバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させることにより塗布層を形成すること、および、
形成した塗布層に振動を加えること、
により形成することを含む磁気テープの製造方法、
に関する。
【００２０】
一態様では、上記振動は、超音波振動である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の一態様によれば、優れた電磁変換特性を示すことができ、かつ繰り返し走行中の貼り付き、傷およびヘッド付着物の発生が抑制された磁気テープを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施例で用いた振動付与装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の一態様にかかる磁気テープは、
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、２．８ｎｍ以下であり、
磁性層は脂肪酸エステルを含み、
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープの磁性層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ１ａｆｔｅｒと、磁気テープを真空加熱する前に磁気テープの磁性層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ１ｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下であり、
バックコート層は脂肪酸エステルを含み、
磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（以下、「ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ」ともいう。）は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（以下、「ＦＷＨＭａｆｔｅｒ」ともいう。）は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ
磁気テープを真空加熱した後に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ２ａｆｔｅｒと、磁気テープを真空加熱する前に磁気テープのバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ２ｂｅｆｏｒｅとの差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ、
である。
【００２４】
上記磁気テープについて、本発明者らは下記（１）〜（３）のように推察している。
【００２５】
（１）磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａが２．８ｎｍ以下であることが、磁気テープの平滑化によって電磁変換特性の向上をもたらすと考えられる。
【００２６】
（２）磁気テープをドライブ内で走行させる際、通常、磁気テープ表面（磁性層側の表面）に存在する突起がヘッドと接触（いわゆる真実接触）するのに対し、磁気テープ表面の突起より低い部分（以下、「素地部分」と記載する。）は、ヘッドとは接触しないか接触頻度が低い。上記の光学干渉法により測定されるスペーシングは、この素地部分とヘッドとの距離の指標になる値であると、本発明者らは推察している。ただし磁性層に含まれる潤滑剤が磁気テープ表面に液膜を形成していると、素地部分とヘッドとの間に液膜が存在することにより、液膜の厚み分、スペーシングは狭くなると考えられる。
ところで、潤滑剤は、一般に流体潤滑剤と境界潤滑剤とに大別される。上記磁気テープは、磁性層に、一般に流体潤滑剤として機能し得る成分と言われる脂肪酸エステルを含む。流体潤滑剤は、それ自身が磁気テープ表面（磁性層側の表面）に液膜を形成することにより、磁気テープ表面を保護する役割を果たすことができると考えられる。本発明者らは、磁気テープ表面に脂肪酸エステルの液膜が存在することが、磁気テープ表面を保護し傷の発生を抑制することにつながると考えた。ただし、脂肪酸エステルが磁気テープ表面に過剰に存在すると、脂肪酸エステルにより磁気テープ表面とヘッドとの間にメニスカス（液架橋）が形成されて貼り付きの原因になると本発明者らは推察している。貼り付きの発生は、走行安定性を低下させ、更には、ヘッドとの摺動摩擦増大に起因して磁気テープ表面（磁性層側の表面）が削れてヘッド付着物発生をもたらす場合もあると考えられる。
以上の点に関して本発明者らは、脂肪酸エステルが真空加熱により揮発する性質を有する成分であることに着目し、磁気テープの磁性層側の表面において、真空加熱後（脂肪酸エステルにより形成された液膜が揮発し除去された状態）と真空加熱前（脂肪酸エステルにより形成された液膜が存在している状態）のスペーシングの差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）を、磁気テープ表面（磁性層側の表面）における脂肪酸エステルにより形成される液膜の厚みの指標として採用した。この値が０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下となるように磁気テープ表面に脂肪酸エステルの液膜を存在させることが、貼り付きの発生を抑制しつつ傷の発生を防ぐことにつながると、本発明者らは推察している。
【００２７】
（３）ただし、磁性層側の表面において上記の差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）を０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下とするのみでは、繰り返し走行中の磁気テープ表面とヘッドとの貼り付きおよび磁気テープ表面の傷の発生を抑制し、更にヘッド付着物の発生を抑制するには十分ではないことも、本発明者らの検討の結果、判明した。これは、走行を繰り返す中で、磁気テープ表面（磁性層側の表面）がヘッド等のドライブ構成部材と接触することにより脂肪酸エステルが磁性層側の表面から徐々に失われることに起因すると本発明者らは考えている。
これに対し、上記磁気テープは、バックコート層にも脂肪酸エステルを含み、磁気テープを真空加熱する前および後にバックコート層側の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒが、それぞれ０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ上記差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）が０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。これにより、繰り返し走行中の磁気テープ表面とヘッドとの貼り付き、磁気テープ表面の傷およびヘッド付着物の発生を抑制することが可能になることが、本発明者らの鋭意検討の結果、判明した。
磁気テープがドライブ内で繰り返し走行する際には、通常、磁気テープのリールへの巻き取りと送り出しが繰り返される。リールに巻き取られた状態で磁性層側の表面とバックコート層側の表面が接触する際、バックコート層側の表面に存在する脂肪酸エステルが磁性層側の表面に転写されることにより、バックコート層側の表面から磁性層側の表面へ脂肪酸エステルが供給されると考えられる。このバックコート層からの供給により、上記のように磁性層側の表面から脂肪酸エステルが失われることを補うことができると推察される。本発明者らは、この供給に関して、バックコート層側の表面に適量の脂肪酸エステルの液膜を存在させ、かつ脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきおよびバックコート層自体の表面形状のばらつきを小さくすることにより、バックコート層側の表面と磁性層側の表面とが接触して脂肪酸エステルが磁性層側の表面に転写される際の転写効率を向上することができ、かつ磁性層側の表面に脂肪酸エステルが偏在して転写されることを防ぐことができると（即ち、転写の均一性向上）、推察している。詳細は明らかではないが、適量の脂肪酸エステルを磁性層側の表面に効率よく転写できることが貼り付きおよび傷の発生を抑制することに主に寄与し、転写の均一性を向上できることが、磁性層側の表面が削れてヘッド付着物が発生することを抑制することに主に寄与すると、本発明者らは考えている。
以上の点に関して、バックコート層に含まれる脂肪酸エステルについては、本発明者らは上記と同様に、磁気テープのバックコート層側の表面において、真空加熱後（脂肪酸エステルにより形成された液膜が揮発し除去された状態）と真空加熱前（脂肪酸エステルにより形成された液膜が存在している状態）のスペーシングの差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）を、磁気テープのバックコート層側の表面における脂肪酸エステルにより形成される液膜の厚みの指標と考えている。詳細は明らかではないが、この差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）を０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下とすることが、主に、適量の脂肪酸エステルを磁性層側の表面に効率よく転写できることに寄与すると本発明者らは推察している。
また、上記のバックコート層側の表面において測定されるスペーシング分布の半値全幅は、この値が小さいほど、磁気テープのバックコート層側の表面の各部において測定されるスペーシングの値にばらつきが少ないことを意味する。この点に関し、バックコート層側の表面において測定されるスペーシングの値がばらつく要因は、磁気テープのバックコート層自体の表面形状のばらつき（例えば、バックコート層に含まれる非磁性粉末の分散状態に起因するばらつき）と、脂肪酸エステルにより形成された液膜の厚みのばらつきにあると考えられる。真空加熱前、即ち磁気テープのバックコート層側の表面に脂肪酸エステルの液膜が存在する状態で測定されるスペーシング分布ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅは、バックコート層自体の表面形状のばらつきと脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きいほど大きくなり、中でも脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きく影響すると、本発明者らは推察している。これに対し、真空加熱後、即ち磁気テープのバックコート層側の表面から脂肪酸エステルの液膜が除去された状態で測定されるスペーシング分布ＦＷＨＭａｆｔｅｒは、バックコート層自体の表面形状のばらつきが大きいほど大きくなると本発明者らは考えている。詳細は明らかではないが、差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）が上記範囲であるバックコート層側の表面が、更に真空加熱前および後のスペーシング分布の半値全幅が上記範囲であることが、主に、バックコート層側の表面から磁性層側の表面への脂肪酸エステルの転写の均一性を向上できることに寄与すると、本発明者らは推察している。なお特許文献１にもスペーシングに関する記載があるが、特許文献１には、バックコート層側の表面で測定されるスペーシングの記載も真空加熱前後のスペーシングおよびスペーシング分布に関する記載もスペーシング分布を制御することを示唆する記載もない。
【００２８】
ただし以上は本発明者らによる推察であって、本発明を何ら限定するものではない。
【００２９】
以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。以下において、磁気テープの磁性層側の表面を、磁性層側表面とも記載する。また、磁気テープのバックコート層側の表面を、バックコート層側表面とも記載する。
【００３０】
［磁性層側表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ］
上記磁気テープの磁性層側の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、２．８ｎｍ以下である。これにより、上記磁気テープは、優れた電磁変換特性を示すことができる。電磁変換特性の更なる向上の観点からは、磁性層側Ｒａは、２．５ｎｍ以下であることが好ましく、２．３ｎｍ以下であることが更に好ましく、２．０ｎｍ以下であることが一層好ましい。また、磁性層側Ｒａは、例えば１．２ｎｍ以上であることができる。ただし電磁変換特性向上の観点からは上記中心線平均表面粗さＲａが低いほど好ましいため、上記例示した値を下回ってもよい。
【００３１】
上記中心線平均表面粗さＲａは、公知の方法により制御することができる。例えば、磁性層に含まれる各種粉末（例えば、強磁性粉末、磁性層に任意に含まれ得る非磁性粉末）のサイズ、磁気テープの製造条件等により磁性層側Ｒａは変わり得るため、これらを調整することにより、上記中心線平均表面粗さＲａが２．８ｎｍ以下の磁気テープを得ることができる。
【００３２】
［差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）］
上記磁気テープの磁性層側表面において測定される真空加熱前後のスペーシングの差分（Ｓａｆｔｅｒ−Ｓｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。これにより、貼り付きの発生を抑制しつつ傷の発生を防ぐことができると本発明者らは考えている。傷の発生をより一層抑制する観点から、差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）は、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、０．５ｎｍ以上であることがより好ましく、１．０ｎｍ以上であることが更に好ましい。一方、走行中の磁気テープの磁性層側表面とヘッドとの貼り付きをより一層抑制する観点からは、差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）は、７．０ｎｍ以下であることが好ましく、６．５ｎｍ以下であることがより好ましく、６．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、５．５ｎｍ以下であることが一層好ましく、５．０ｎｍ以下であることがより一層好ましく、４．５ｎｍ以下であることが更に一層好ましい。差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）は、磁性層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によって制御することができる。また、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する磁気テープについては、非磁性層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によっても制御することができる。非磁性層は、脂肪酸エステル等の潤滑剤を保持し磁性層に供給する役割を果たすことができ、非磁性層に含まれる脂肪酸エステルは磁性層側に移行し磁性層に存在し得るからである。
【００３３】
［スペーシング分布ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒ］
上記磁気テープのバックコート層側の表面において測定される真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、および真空加熱後のスペーシング分布ＦＷＨＭａｆｔｅｒは、ともに０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下である。この点に関する本発明者らの推察は、先に記載した通りである。ヘッド付着物の発生をより一層抑制する観点からは、ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒは、９．０ｎｍ以下であることが好ましく、８．０ｎｍ以下であることがより好ましく、７．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、６．０ｎｍ以下であることが一層好ましく、５．０ｎｍ以下であることがより一層好ましい。ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅおよびＦＷＨＭａｆｔｅｒは、例えば１．０ｎｍ以上であることができるが、値が小さいほど好ましいため、上記例示した値を下回ってもよい。
真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅは、主に脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきを低減することにより小さくすることができる。具体的な手段の一例は後述する。一方、真空加熱後のスペーシング分布ＦＷＨＭａｆｔｅｒは、バックコート層側表面の形状のばらつきを低減することにより小さくすることができる。そのためには、バックコート層形成用組成物における非磁性粉末の分散性を向上することが好ましい。分散性は、例えば、バックコート層形成に用いる非磁性粉末の種類および二種以上の非磁性粉末を含む場合にはそれらの混合比等によって調整することができる。具体的な手段の一例は後述する。
【００３４】
［差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）］
上記磁気テープのバックコート層側表面において測定される真空加熱前後のスペーシングの差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。この点に関する本発明者らの推察は、先に記載した通りである。貼り付きおよび傷の発生をより一層抑制する観点からは、差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、０．５ｎｍ以上であることがより好ましく、１．０ｎｍ以上であることが更に好ましい。また、同様の観点から、差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は、７．０ｎｍ以下であることが好ましく、６．５ｎｍ以下であることがより好ましく、６．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、５．５ｎｍ以下であることが一層好ましく、５．０ｎｍ以下であることがより一層好ましい。差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は、バックコート層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によって制御することができる。バックコート層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量を増量するほど差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は大きくなる傾向がある。
【００３５】
次に、上記磁気テープの磁性層、バックコート層、非磁性支持体、および任意に含まれ得る非磁性層について更に説明する。
【００３６】
［磁性層］
＜脂肪酸エステル＞
上記磁気テープは、磁性層に脂肪酸エステルを含む。脂肪酸エステルは、一種のみ含まれていてもよく、二種以上が含まれていてもよい。脂肪酸エステルとしては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等のエステルを挙げることができ、具体例としては、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル（ブチルステアレート）、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
脂肪酸エステル量は、磁性層形成用組成物における脂肪酸エステル含有量として、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０．０質量部であり、好ましくは０．５〜８．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。なお脂肪酸エステルとして二種以上の異なる脂肪酸エステルを使用する場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。この点は、本発明および本明細書において、特記しない限り、他の成分の含有量についても同様とする。
また、上記磁気テープが非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層形成用組成物における脂肪酸エステル含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜８．０質量部である。
【００３７】
＜その他潤滑剤＞
上記磁気テープは、潤滑剤の一種である脂肪酸エステルを含むが、脂肪酸エステル以外の潤滑剤を任意に磁性層および／または非磁性層に含んでいてもよい。なお上記の通り、非磁性層に含まれる潤滑剤は、磁性層側に移行し磁性層に存在し得る。任意に含まれる潤滑剤としては、脂肪酸を挙げることができる。また、脂肪酸アミド等を挙げることもできる。なお脂肪酸エステルは流体潤滑剤として機能することができる成分と言われているのに対し、脂肪酸および脂肪酸アミドは、境界潤滑剤として機能することができる成分と言われている。境界潤滑剤は、粉末（例えば強磁性粉末）の表面に吸着し強固な潤滑膜を形成することで接触摩擦を下げることのできる潤滑剤と考えられる。
脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。なお脂肪酸は、金属塩等の塩の形態で磁性層に含まれていてもよい。
脂肪酸アミドとしては、上記の各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体（エステル、アミド等）については、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合にステアリン酸エステルおよび／またはステアリン酸アミドを使用することは好ましい。
脂肪酸含有量は、磁性層形成用組成物において、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜１０．０質量部であり、より好ましくは０．５〜８．０質量部であり、更に好ましくは１．０〜７．０質量部である。脂肪酸アミド含有量は、磁性層形成用組成物において、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部である。
また、上記磁気テープが非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層形成用組成物における脂肪酸含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜１０．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。非磁性層形成用組成物における脂肪酸アミド含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜１．０質量部である。
【００３８】
＜強磁性粉末＞
磁性層に含まれる強磁性粉末としては、各種磁気記録媒体の磁性層において通常用いられる強磁性粉末を使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末としては、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００３９】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。強磁性六方晶フェライト粉末の平均粒子サイズ（平均板径）は、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１−２２５４１７号公報段落００１２〜００３０、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６、特開２０１２−２０４７２６号公報段落００１３〜００３０を参照できる。
【００４０】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の平均粒子サイズ（平均長軸長）は、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１、特開２００５−２５１３５１号公報段落０００９〜００２３を参照できる。
【００４１】
本発明および本明細書において、特記しない限り、強磁性粉末等の各種粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。
本発明において、強磁性粉末およびその他の粉末についての平均粒子サイズとは、特記しない限り、上記方法により求められる平均粒子サイズをいうものとする。後述の実施例に示す平均粒子サイズの測定は、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行った。なお本発明および本明細書において、粉末とは、複数の粒子の集合を意味する。例えば、強磁性粉末とは、複数の強磁性粒子の集合を意味する。また、複数の粒子の集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤や添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。粒子との語を、粉末を表すために用いることもある。
【００４２】
粒子サイズ測定のために磁気テープから試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。
【００４３】
本発明および本明細書において、特記しない限り、粉末を構成する粒子のサイズ（粒子サイズ）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
【００４４】
また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、特記しない限り、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚みまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、特記しない限り、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚みまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。
【００４５】
磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。上記充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。
【００４６】
＜結合剤＞
上記磁気テープは、磁性層に、強磁性粉末、脂肪酸エステルとともに結合剤を含む。結合剤とは、一種以上の樹脂である。結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、塩化ビニル樹脂である。なおこれらの樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー（共重合体）でもよい。これらの樹脂は、後述する非磁性層やバックコート層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報段落００２８〜００３１を参照できる。また、結合剤は、電子線硬化型樹脂等の放射線硬化型樹脂であってもよい。放射線硬化型樹脂については、特開２０１１−０４８８７８号公報段落００４４〜００４５を参照できる。
また、上記結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤とは、１分子中に少なくとも１つ、好ましくは２つ以上の架橋性官能基を有する化合物である。硬化剤としては、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、磁性層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で使用することができる。
【００４７】
＜添加剤＞
磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、非磁性粉末、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラックなどを挙げることができる。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して使用することができる。
【００４８】
磁性層には、一種または二種以上の非磁性粉末が含まれることが好ましい。非磁性粉末としては、磁性層側表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性粉末（以下、「突起形成剤」と記載する。）を挙げることができる。突起形成剤は、磁気テープの磁性層側表面の摩擦特性制御に寄与し得る成分である。また、磁性層には、研磨剤として機能することができる非磁性粉末（以下、「研磨剤」と記載する。）が含まれてもよい。上記磁気テープの磁性層には、突起形成剤および研磨剤の少なくとも一方が含まれることが好ましく、両方が含まれることが好ましい。
【００４９】
突起形成剤としては、一般に突起形成剤として使用される各種非磁性粉末を用いることができる。これらは、無機物質であっても有機物質であってもよい。一態様では、摩擦特性の均一化の観点からは、突起形成剤の粒度分布は、分布中に複数のピークを有する多分散ではなく、単一ピークを示す単分散であることが好ましい。単分散粒子の入手容易性の点からは、磁性層に含まれる非磁性粉末は無機物質の粉末（無機粉末）であることが好ましい。無機粉末としては、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物の各粉末を挙げることができ、無機酸化物の粉末であることが好ましい。突起形成剤は、より好ましくはコロイド粒子であり、更に好ましくは無機酸化物コロイド粒子である。また、単分散粒子の入手容易性の観点からは、無機酸化物コロイド粒子を構成する無機酸化物は二酸化ケイ素（シリカ）であることが好ましく、無機酸化物コロイド粒子は、コロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）であることがより好ましい。本発明および本明細書において、「コロイド粒子」とは、少なくとも、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエンもしくは酢酸エチル、または上記溶媒の二種以上を任意の混合比で含む混合溶媒の少なくとも１つの有機溶媒１００ｍＬあたり１ｇ添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいうものとする。コロイド粒子については、平均粒子サイズは、特開２０１１−０４８８７８号公報段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められる値とする。また、他の一態様では、突起形成剤は、カーボンブラックであることも好ましい。
【００５０】
突起形成剤の平均粒子サイズは、例えば３０〜３００ｎｍであり、好ましくは４０〜２００ｎｍである。
【００５１】
一方、研磨剤としては、磁性層の研磨剤として通常使用される物質であるアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化ケイ素、ボロンカーバイド（Ｂ４Ｃ）、ＳｉＯ２、ＴｉＣ、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化セリウム、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化鉄、ダイヤモンドの各粉末を挙げることができ、中でもα−アルミナ等のアルミナ粉末および炭化ケイ素粉末が好ましい。また、研磨剤として機能し得る非磁性粉末の平均粒子サイズは、例えば３０〜３００ｎｍの範囲であり、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲である。
【００５２】
また、突起形成剤、研磨剤が、各機能をより良好に発揮することができるという観点から、磁性層における突起形成剤の含有量は、好ましくは強磁性粉末１００．０質量部に対して、１．０〜４．０質量部であり、より好ましくは１．５〜３．５質量部である。一方、研磨剤については、磁性層における含有量は、好ましくは強磁性粉末１００．０質量部に対して１．０〜２０．０質量部であり、より好ましくは３．０〜１５．０質量部であり、更に好ましくは４．０〜１０．０質量部である。
【００５３】
なお、研磨剤を含む磁性層に使用され得る添加剤の一例としては、特開２０１３−１３１２８５号公報段落００１２〜００２２に記載の分散剤を、磁性層形成用組成物における研磨剤の分散性を向上するための分散剤として挙げることができる。研磨剤等の非磁性粉末の磁性層形成用組成物における分散性を向上することは、磁性層側表面において測定される中心線平均表面粗さＲａを小さくするうえで好ましい。
【００５４】
［非磁性層］
次に非磁性層について説明する。上記磁気テープは、非磁性支持体表面に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を有することもできる。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報段落０１４６〜０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０−２４１１３号公報段落００４０〜００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。
【００５５】
非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤量および種類、添加剤量および種類に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。非磁性層に含まれ得る潤滑剤については、先に記載した通りである。
【００５６】
なお、上記磁気テープの非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい
【００５７】
［バックコート層］
上記磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する。かかるバックコート層には、脂肪酸エステルが含まれる。更に、バックコート層には、脂肪酸、脂肪酸アミド等の脂肪酸エステル以外の潤滑剤が含まれていてもよい。バックコート層に含まれる脂肪酸エステル、バックコート層に含まれ得る脂肪酸および脂肪酸アミドの種類については、前述の磁性層に関する記載を参照できる。
脂肪酸エステル量は、バックコート層形成用組成物における脂肪酸エステル含有量として、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜３．０質量部であり、好ましくは０．１〜２．０質量部であり、より好ましくは０．１〜１．０質量部である。
脂肪酸含有量は、バックコート層形成用組成物において、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部であり、更に好ましくは０〜０．５  質量部である。脂肪酸アミド含有量は、バックコート層形成用組成物において、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部である。
【００５８】
バックコート層に含まれる非磁性粉末の種類については、非磁性層に含まれる非磁性粉末に関する上記記載を参照することができる。バックコート層に含まれる非磁性粉末は、好ましくは無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末であることができる。一般に、無機粉末はカーボンブラックに比べてバックコート層形成用組成物における分散性が良好な傾向がある。バックコート層形成用組成物の分散性を高めることは、バックコート層側表面の形状のばらつきを低減することに寄与し得る。したがって、バックコート層側表面の形状のばらつきを低減するほど小さな値になると考えられる真空加熱後のスペーシング分布ＦＷＨＭａｆｔｅｒの調整方法としては、バックコート層に含まれる非磁性粉末の種類および二種以上の非磁性粉末を含む場合にはそれらの混合比を調整することを挙げることができる。例えば、バックコート層の非磁性粉末の主粉末（非磁性粉末の中で、質量基準で最も多く含まれる非磁性粉末）として、無機粉末を用いることは好ましい。バックコート層に含まれる非磁性粉末が無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である場合、非磁性粉末全量１００．０質量部に対して無機粉末の占める割合は、５０．０質量部超〜１００．０質量部の範囲であることが好ましく、６０．０質量部〜１００．０質量部の範囲であることがより好ましく、７０．０質量部〜１００．０質量部の範囲であることが更に好ましく、８０．０質量部〜１００．０質量部の範囲であることが一層好ましい。
【００５９】
非磁性粉末の平均粒子サイズは、例えば１０〜２００ｎｍの範囲であることができる。無機粉末の平均粒子サイズは、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲であり、より好ましくは８０〜１５０ｎｍの範囲である。一方、カーボンブラックの平均粒子サイズは、好ましくは１０〜５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは１５〜３０ｎｍの範囲である。
【００６０】
また、バックコート層形成用組成物における非磁性粉末の分散性は、公知の分散剤の使用、分散条件の強化等によっても高めることができる。
【００６１】
真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅの調整方法の好ましい態様については、後述する。
【００６２】
バックコート層に含まれる結合剤、任意に含まれ得る各種添加剤については、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することができる。
【００６３】
［非磁性支持体］
次に、非磁性支持体について説明する。非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。
【００６４】
［非磁性支持体および各層の厚み］
上記磁気テープにおける非磁性支持体および各層の厚みについては、非磁性支持体の厚みは、例えば３．００〜８０．００μｍの範囲であり、好ましくは３．００〜５０．００μｍの範囲であり、より好ましくは３．００〜１０．００μｍの範囲である。
【００６５】
磁性層の厚みについては、近年求められている高密度記録化の観点からは、磁性層の厚みは１００ｎｍ以下であることが好ましい。磁性層の厚みは、より好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であり、更に好ましくは２０〜９０ｎｍの範囲である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【００６６】
非磁性層の厚みは、例えば０．１０〜１．５０μｍであり、０．１０〜１．００μｍであることが好ましい。
【００６７】
バックコート層の厚みは、０．９０μｍ以下であることが好ましく、０．１０〜０．７０μｍの範囲であることが更に好ましい。
【００６８】
なお磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。
【００６９】
［製造方法］
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層、バックコート層、または任意に設けられる非磁性層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、一般に塗布型磁気記録媒体製造のために使用される各種有機溶媒を挙げることができる。具体的には、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。
【００７０】
磁性層、バックコート層、または任意に設けられる非磁性層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる強磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、脂肪酸エステル、各種添加剤、溶媒などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、結合剤を混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。磁気テープの製造工程では、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については、特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報を参照できる。また、各層形成用組成物を分散させるには、ガラスビーズおよび／またはその他のビーズを用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散ビーズは、粒径（ビーズ径）と充填率を最適化して用いることが好ましい。分散機は公知のものを使用することができる。
【００７１】
＜塗布工程＞
磁性層は、磁性層形成用組成物を非磁性支持体表面に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。バックコート層は、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の磁性層を有する（または磁性層が追って設けられる）側とは反対の表面側に塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６６を参照できる。
【００７２】
＜その他工程＞
磁気テープ製造のためのその他の各種工程については、特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６７〜００７０を参照できる。
【００７３】
＜好ましい製造方法の一態様＞
好ましい製造方法としては、磁気テープのバックコート層側表面における脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性向上のために、バックコート層形成用組成物の塗布層に振動を加える製造方法を挙げることができる。振動を加えることにより、上記塗布層表面の脂肪酸エステルの液膜が流動し、形成されるバックコート層側の表面において脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性が向上すると、本発明者らは推察している。この液膜の厚みの均一性向上は、真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅを０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下の範囲に制御するために好ましいと本発明者らは考えている。
即ち、本発明の一態様は、上記磁気テープの製造方法であって、
上記バックコート層を、
非磁性支持体の一方の表面側に、非磁性粉末、結合剤および脂肪酸エステルを含むバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させることにより塗布層を形成すること、および、
形成した塗布層に振動を加えること、
により形成することを含む磁気テープの製造方法、
に関する。バックコート層形成用組成物の塗布層に振動を加える点以外は、通常の磁気テープの製造工程と同様であり、その詳細は先に記載した通りである。
【００７４】
上記振動を加える手段は特に限定されるものではない。例えば、バックコート層形成用組成物の塗布層が形成された非磁性支持体の上記塗布層とは反対側の面を、振動付与ユニットと接触させることにより、上記塗布層に振動を加えることができる。上記塗布層を形成した非磁性支持体を振動付与ユニットと接触させながら走行させてもよい。上記振動は、例えば超音波振動であることができる。例えば、振動付与ユニットが内部に超音波振動子を備えることにより、このユニットと接触した物品に超音波振動を加えることができる。超音波振動子の振動周波数や強度、振動付与ユニットとの接触時間によって、上記塗布層に加える振動を調整することができる。例えば接触時間は、上記塗布層を形成した非磁性支持体の振動付与ユニットとの接触中の走行速度によって調整することができる。これらの振動付与条件は特に限定されるものではなく、先に記載した真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅを制御できるように設定すればよい。振動付与条件の設定のために実製造前に予備実験を行い、条件を最適化することもできる。
【００７５】
より好ましい製造方法としては、
上記のようにバックコート層を形成した後、非磁性支持体のバックコート層を形成した表面側とは反対の表面に直接磁性層形成用組成物を塗布すること、または、
上記のようにバックコート層を形成した後、非磁性支持体のバックコート層を形成した表面とは反対の表面側に磁性層形成用組成物を非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布すること、
を含む製造方法を挙げることができる。
【００７６】
以上、好ましい製造方法の一態様を説明したが、本発明の一態様にかかる磁気テープは、上記製造方法によって製造されたものに限定されるものではない。
【００７７】
上記磁気テープは、磁気テープカートリッジ内に、この磁気テープカートリッジ内部に回転可能に備えられたリールに巻き取り収容することができる。上記磁気テープを収容した磁気テープカートリッジをドライブにセットし、ドライブ内で磁気テープを走行させて磁気テープへの信号の記録および／または記録された信号の再生（読み取り）を行うことができる。上記磁気テープは、記録された信号を再生する際、優れた電磁変換特性を示すことができ、かつドライブ内での走行中の磁気テープ表面とヘッドとの貼り付き、磁気テープ表面の傷の発生、およびヘッド付着物の発生を抑制することができる。
【実施例】
【００７８】
以下に、本発明を実施例に基づき説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。なお、以下に記載の「部」の表示は、「質量部」を示す。
【００７９】
［実施例１］
＜磁性層形成用組成物＞
（磁性液）
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末：１００．０部
（保磁力Ｈｃ：２１００Ｏｅ（１６８ｋＡ／ｍ）、平均粒子サイズ：２５ｎｍ）
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂：１５．０部
シクロヘキサノン：１５０．０部
メチルエチルケトン：１５０．０部
（研磨剤液）
α−アルミナ（平均粒子サイズ１１０ｎｍ）：９．０部
塩化ビニル共重合体（日本ゼオン製ＭＲ１１０）：０．７部
シクロヘキサノン：２０部
（シリカゾル）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ：１２０ｎｍ）：３．５部
メチルエチルケトン：８．２部
（その他成分）
ブチルステアレート：表１参照
ステアリン酸：表１参照
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート）：２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン：１８０．０部
メチルエチルケトン：１８０．０部
【００８０】
＜非磁性層形成用組成物＞
非磁性無機粉末（α−酸化鉄）：８０．０部
（平均粒子サイズ：１５０ｎｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍ    ｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）比表面積：５２ｍ２／ｇ）
カーボンブラック（平均粒子サイズ２０ｎｍ）：２０．０部
電子線硬化型塩化ビニル共重合体：１３．０部
電子線硬化型ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１４０．０部
メチルエチルケトン：１７０．０部
ブチルステアレート：２．０部
ステアリン酸：１．０部
【００８１】
＜バックコート層形成用組成物＞
無機粉末（α−酸化鉄）：表１参照
（平均粒子サイズ：１５０ｎｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ）
カーボンブラック（平均粒子サイズ２０ｎｍ）：表１参照
塩化ビニル共重合体：１３．０部
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１４０．０部
メチルエチルケトン：１７０．０部
ブチルステアレート：表１参照
ステアリン酸：表１参照
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート）：５．０部
メチルエチルケトン：４００．０部
【００８２】
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層形成用組成物は、以下の方法によって調製した。
上記磁性液をオープンニーダにより混練および希釈処理した後、横型ビーズミル分散機により、粒径０．５ｍｍのジルコニア（ＺｒＯ２）ビーズ（以下、「Ｚｒビーズ」と記載する）を用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パス滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。
研磨剤液は、上記成分を混合した後、粒径１ｍｍのＺｒビーズとともに縦型サンドミル分散機に入れ、ビーズ体積／（研磨剤液体積＋ビーズ体積）が６０％になるように調整し、１８０分間サンドミル分散処理を行い、処理後の液を取り出し、フロー式の超音波分散ろ過装置を用いて、超音波分散ろ過処理を施した。
磁性液、シリカゾルおよび研磨剤液と、その他の成分および仕上げ添加溶媒をディゾルバー攪拌機に導入し、周速１０ｍ／秒で３０分間攪拌した後、フロー式超音波分散機により流量７．５ｋｇ／分でパス回数２０回で処理した後に、孔径０．５μｍのフィルタで５回ろ過して磁性層形成用組成物を調製した。
【００８３】
非磁性層形成用組成物は以下の方法によって調製した。
潤滑剤（ブチルステアレート、ステアリン酸）を除く上記成分をオープンニーダにより混練および希釈処理して、その後、横型ビーズミル分散機により分散処理を実施した。その後、潤滑剤（ブチルステアレート、ステアリン酸）を添加して、ディゾルバー攪拌機にて攪拌および混合処理を施して非磁性層形成用組成物を調製した。
【００８４】
バックコート層形成用組成物は以下の方法によって作製した。
潤滑剤（ブチルステアレート、ステアリン酸）およびポリイソシアネート、メチルエチルケトン（４００．０部）を除く上記成分をオープンニーダにより混練および希釈処理して、その後、横型ビーズミル分散機により分散処理を実施した。その後、潤滑剤（ブチルステアレート、ステアリン酸）およびポリイソシアネート、メチルエチルケトン（４００．０部）を添加して、ディゾルバー攪拌機にて攪拌および混合処理を施し、バックコート層形成用組成物を調製した。
【００８５】
＜磁気テープの作製＞
厚さ６．００μｍのポリエチレンナフタレート支持体の一方の表面上に、乾燥後の厚みが０．５０μｍになるようにバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させ塗布層を形成した。その後、上記塗布層を形成した支持体を、図１に示す振動付与装置に、上記塗布層を形成した表面とは反対側の表面が振動付与ユニットと接するように設置し、上記塗布層を形成した支持体（図１中、符号１）を搬送速度０．５ｍ／ｓｅｃで搬送させて上記塗布層に振動を付与した。図１中、符号２はガイドローラ（符号２は２つのガイドローラの一方に付した）、符号３は振動付与装置（超音波振動子を含む振動付与ユニット）、矢印は搬送方向を示す。上記塗布層を形成した支持体の任意の箇所が振動付与ユニットとの接触を開始してから接触が終了するまでの時間を振動付与時間として、表１に示す。使用した振動付与ユニットは内部に超音波振動子を備えている。超音波振動子の振動周波数および強度を表１に示す値として振動付与を行った。その後、こうしてバックコート層を形成した上記支持体の、バックコート層を形成した表面とは反対側の表面上に、乾燥後の厚さが１．００μｍになるよう非磁性層形成用組成物を塗布、乾燥した後、１２５ｋＶの加速電圧で４０ｋＧｙのエネルギーとなるよう電子線を照射した。その上に乾燥後の厚さが５０ｎｍになるように磁性層形成用組成物を塗布、乾燥させた。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダで速度８０ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、表１に示すカレンダロールの表面温度で表面平滑化処理（カレンダ処理）を行った。なおカレンダ処理条件を強化するほど（例えばカレンダロールの表面温度を高くするほど）、磁性層側表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは小さくなる傾向がある。その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間熱処理を行った。熱処理後、１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性層側表面に押し当たるように取り付けたテープクリーニング装置で磁性層側表面のクリーニングを行い磁気テープを得た。
【００８６】
［実施例２〜１３、比較例１〜１０］
表１に示すように各層形成用組成物の処方および／または製造条件を変更した点以外、実施例１と同様の方法で磁気テープを作製した。振動付与時間は、上記塗布層を形成した支持体の搬送速度を変えることにより調整した。
表１に記載のバックコート層の無機粉末／カーボンブラックの処方率とは、無機粉末とカーボンブラックとの合計含有量１００．０質量部に対する各粉末の質量基準の含有率である。
【００８７】
［磁気テープの物性評価方法］
＜１．中心線平均表面粗さＲａ＞
ＡＦＭ（Ｖｅｅｃｏ社Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）で、磁気テープの磁性層側表面の面積４０μｍ×４０μｍの領域を測定し、中心線平均表面粗さＲａを求めた。スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／ｓｅｃ、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとした。
【００８８】
＜２．光学干渉法により測定される各種物性＞
各実施例、比較例について、測定用試料を２つ準備し、一方をバックコート層側表面において光学干渉法により真空加熱前後のスペーシング分布ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒおよび差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）を測定するための測定用試料として使用した。他方の測定用試料は、磁性層側表面において光学干渉法により差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）を測定するための測定用試料として使用した。
上記各種物性は、以下の方法により測定した。
【００８９】
（２−１．バックコート層側表面における測定）
ＴＳＡ（Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｍｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製））を用いて、以下の方法により、バックコート層側表面において真空加熱前後のスペーシング分布ＦＷＨＭｂｅｆｏｒｅ、ＦＷＨＭａｆｔｅｒを求めた。
磁気テープのバックコート層側表面上に、ＴＳＡに備えられたガラス板を配置した状態で、押圧部材としてＴＳＡに備えられているウレタン製の半球を用いて、この半球を磁気テープの磁性層側表面に、５．０５×１０４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押しつけた。この状態で、ＴＳＡに備えられているストロボスコープから白色光を、ガラス板を通して磁気テープのバックコート層側表面の一定領域（１５００００〜２０００００μｍ２）に照射し、得られる反射光を、干渉フィルタ（波長６３３ｎｍの光を選択的に透過するフィルタ）を通してＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ−Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）で受光することで、この領域の凹凸で生じた干渉縞画像を得た。
この画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのガラス板の磁気テープ側の表面から磁気テープのバックコート層側表面までの距離（スペーシング）を求めこれをヒストグラムとし、ヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅をスペーシング分布の半値全幅とした。
真空加熱は、磁気テープを、２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の真空度の内部雰囲気温度７０〜９０℃の真空定温乾燥機に２４時間保存することにより行った。
差分（Ｓ２ａｆｔｅｒ−Ｓ２ｂｅｆｏｒｅ）は、上記で得た真空加熱後のヒストグラムの最頻値から、真空加熱前のヒストグラムの最頻値を差し引いて算出した。
【００９０】
（２−２．磁性層側表面における測定）
測定対象表面をバックコート層側表面から磁性層側表面に変えた点以外は上記２−１．と同様の方法で真空加熱前後のヒストグラムを求めた。差分（Ｓ１ａｆｔｅｒ−Ｓ１ｂｅｆｏｒｅ）は、こうして得られた真空加熱後のヒストグラムの最頻値から、真空加熱前のヒストグラムの最頻値を差し引いて算出した。
【００９１】
［磁気テープの性能評価方法］
＜１．電磁変換特性（ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ））の評価＞
雰囲気温度２３℃±１℃、相対湿度５０％の環境下にて、上記で作製した磁気テープについて、記録ヘッド（ＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−ｉｎ−ｇａｐ）ヘッド、ギャップ長０．１５μｍ、１．８Ｔ）と再生用ＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ  Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッド（再生トラック幅１μｍ）をループテスターに取り付けて、線記録密度３２５ｋｆｃｉの信号を記録し、その後、再生出力を測定し、再生出力とノイズとの比としてＳＮＲを求めた。比較例９のＳＮＲを０．０ｄＢとした時にＳＮＲが１．０ｄＢ以上であれば、高密度記録化に伴う今後の厳しいニーズに対応し得る性能を有すると評価することができる。
【００９２】
＜２．磁気テープ表面の傷発生の評価＞
磁気テープ表面に傷が存在すると、傷が存在する箇所で局所的に再生信号振幅が低下する現象が確認される。そこで以下の方法により、再生信号振幅の低下の発生頻度に基づき、繰り返し走行中の磁気テープ表面（磁性層側表面）の傷発生の評価を行った。
雰囲気温度４０℃±１℃、相対湿度８０％の環境下にて、ＩＢＭ社製ＬＴＯ（登録商標）Ｇ６（Ｌｉｎｅａｒ  Ｔａｐｅ−Ｏｐｅｎ  Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ  ６）ドライブから取り外した磁気記録再生ヘッド（以下、「ヘッド」と記載する。）をテープ走行系に取り付け、０．６Ｎのテンションをかけながらテープ長２０ｍの磁気テープを、送り出しロールから送り出し、１２ｍ／ｓｅｃで走行させ、巻き取りロールへ巻き取る方法で１００００サイクル繰り返し走行させた。繰り返し走行後の磁気テープをＩＢＭ社製ＬＴＯ  Ｇ６ドライブにて走行させ、記録再生信号出力を外部ＡＤ（Ａｎａｌｏｇ／Ｄｉｇｉｔａｌ）変換装置に取り込み、再生信号振幅が平均（全長での測定値の平均）に対して７０％以上落ち込んだ頻度をカウントした。上記頻度が、テープ単位長さあたり１０個／ｍ以下であれば、高密度記録化に伴う今後の厳しいニーズに対応し得る性能を有すると評価することができる。
【００９３】
＜３．繰り返し走行中の貼り付き発生の評価方法＞
上記２．のヘッドに歪みゲージを取付け、上記２．の条件での走行中に得られる電圧値をモニターし、その電圧値から換算した荷重が１．５Ｎを超えると貼り付きと判断した。１００００サイクル走行の間、貼り付き回数が１回以下であれば、高密度記録化に伴う今後の厳しいニーズに対応し得る性能を有すると評価することができる。
【００９４】
＜４．ヘッド付着物発生の評価方法＞
テープ長を６００ｍに変更した以外は上記２．と同様の条件で、磁気テープをドライブ内で繰り返し走行させた。かかる繰り返し走行中、ヘッドは磁気テープ表面と接触（摺動）する。繰り返し走行後のヘッドの磁気テープ表面との摺動面を光学顕微鏡にて観察し、得られた画像を、グレースケールに変換し、２値化し、次いで黒部分の面積を計算する順に画像処理を行い、黒部分の面積を求めた。こうして求められる黒部分の面積の画像中のヘッドの磁気テープ表面との摺動面の面積に対する割合（面積率）を、ヘッド付着物の発生を評価するための指標とした。算出される面積率が小さいほど、ヘッド付着物が少ないと判断することができる。ヘッド付着物は、磁気テープとヘッドとの間に介在して走行安定性を低下させる原因となり、更には磁気テープ表面とヘッドとの距離を広げることでスペーシングロスをもたらし電磁変換特性を低下させる原因となる場合もある。これに対し、上記方法により求められる面積率が５％以下であれば、ヘッド付着物の発生が少なく、高密度記録化に伴う今後の厳しいニーズに対応し得る性能を有すると評価することができる。
【００９５】
以上の評価結果を、表１に示す。
【００９６】
【表１】
0006427127.tif 000002
【００９７】
表１に示す結果から、実施例の磁気テープは、優れた電磁変換特性を発揮することができ（ＳＮＲが高く）、かつ繰り返し走行中の磁気テープ表面とヘッドとの貼り付き、磁気テープ表面の傷およびヘッド付着物の発生が抑制されていることが確認できる。
【産業上の利用可能性】
【００９８】
本発明は、データバックアップテープ等の高密度記録用磁気テープの技術分野において有用である。
【図１】
0006427127.tif 000003