(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
砥粒として金属酸化物粒子を含む研磨組成物であって、
前記金属酸化物粒子として、粉末Ｘ線回折パターンにおける回折強度が最大となるピーク部分の半値幅が１°未満のものを含み、
さらに、選択比調節剤として、重量平均分子量及び構成単位の異なる水溶性ポリマーを２種類以上含み、該水溶性ポリマーの異なる重量平均分子量の比が１０以上のものを含み、該重量平均分子量の比が１０以上となる２種類以上の水溶性ポリマーがいずれも水溶性ホモポリマーであって、重量平均分子量の低い前記水溶性ホモポリマーの全量と重量平均分子量の高い前記水溶性ホモポリマーの全量との質量比が１：０．１〜１：１１であることを特徴とする研磨組成物。
【請求項２】
前記金属酸化物粒子として、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マンガンのいずれか、あるいはこれらの中の少なくとも２つ以上の混合物、又はこれらの金属酸化物のうち１つ以上を含有する複合酸化物を含むことを特徴とする請求項１に記載の研磨組成物。
【請求項３】
前記水溶性ポリマーとして、ポリカルボン酸又はその塩、ポリスチレンスルホン酸又はその塩、ポリアクリル酸又はその塩、ポリビニルピロリドン、アニオン変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種類以上を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の研磨組成物。
【請求項４】
さらに酸化剤を含むことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の研磨組成物。
【請求項５】
前記酸化剤として、過酸化物と鉄（ＩＩＩ）塩のうち少なくとも１種類以上を含むことを特徴とする請求項４に記載の研磨組成物。
【請求項６】
前記過酸化物として、過硫酸、過ヨウ素酸、過塩素酸、これらの塩、及び過酸化水素からなる群より選ばれる少なくとも１種類以上を含むことを特徴とする請求項５に記載の研磨組成物。
【請求項７】
前記鉄（ＩＩＩ）塩として、硫酸鉄（ＩＩＩ）、硝酸鉄（ＩＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、シュウ酸鉄（ＩＩＩ）、トリス（オキサラト）鉄（ＩＩＩ）カリウム、ヘキサシアノ鉄（ＩＩＩ）アンモニウム、ヘキサシアノ鉄（ＩＩＩ）カリウム、クエン酸鉄（ＩＩＩ）、クエン酸鉄（ＩＩＩ）アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種類以上を含むことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の研磨組成物。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の研磨組成物を用いて半導体基板を研磨することを特徴とする研磨方法。
【請求項９】
前記半導体基板が金属層を含むことを特徴とする請求項８に記載の研磨方法。
【請求項１０】
前記金属層は、タングステン又はタングステン合金であることを特徴とする請求項９に記載の研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨組成物及び研磨方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路の製造技術の向上に伴い半導体素子の高集積化、高速動作が求められるようになると、半導体素子における微細回路の製造工程において要求される半導体基板表面の平坦性はより厳しくなってきており、化学機械研磨（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ：ＣＭＰ）等の研磨が、半導体素子の製造工程に不可欠な技術となっている。
【０００３】
半導体素子の製造工程の１つである配線工程は、絶縁層上に形成された溝に、タングステン、銅、アルミニウムなどの金属材料を埋め込むことで、溝部分に金属層を堆積させる。そして、この金属層の不必要な部分を除去するためにＣＭＰが用いられている。また半導体メモリ素子などではさらなる性能の向上のため、ゲート電極などの素子部分にも金属材料を使用することが検討されおり、この工程においてもＣＭＰが用いられる（特許文献１、２、３、４参照）。
【０００４】
ＣＭＰの原理は、半導体基板を保持しながら、定盤上に貼り付けた研磨パッド上に押し付けつつ、半導体基板と研磨パッドを相対的に運動させる。この際に、砥粒や試薬を含む研磨組成物を研磨パッド上に供給する。これにより、試薬による化学的な反応と、砥粒による機械的な研磨効果が得られ基板表面の凹凸を削り、表面を平坦化することができる。
【０００５】
ＣＭＰ工程において重要な特性は、研磨速度（研磨レート）、及びスクラッチ、埋め込みパターン部分の凹みであるディッシング、配線領域以外の絶縁層部分の膜厚が減少するエロージョンなどの研磨に由来する欠陥である。研磨速度は、半導体製造工程における生産性に関わり、生産性は半導体素子のコストに反映されることから、高い研磨速度を有することが要求される。また、上述のような欠陥は半導体素子の特性ばらつきの原因となり、歩留りや信頼性に影響することから、いかにＣＭＰ工程における欠陥の発生を抑制するかが重要な課題であり、半導体素子の微細化が進むにつれ、より高水準の研磨工程が求められるようになってきた。
【０００６】
特許文献５、６では、エロージョンの抑制のために金属層と絶縁層の研磨速度比で定義される選択比を制御できる研磨組成物が記載されている。しかしながら、選択比を高くすると研磨が進むにつれ、絶縁層に対し金属層が過剰に研磨される状態になりディッシングや絶縁層上のスクラッチの原因になり易い。一方、選択比を低くするとディッシング、スクラッチの発生は抑制することができるが、金属層と絶縁層の研磨速度の差が小さく絶縁層の研磨が進みエロージョンが生じやすくなるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特公平７−７７２１８号公報
【特許文献２】特公平８−２１５５７号公報
【特許文献３】特表２００８−５１５１９０号公報
【特許文献４】特開２０１３−１４５８００号公報
【特許文献５】特許２８１９１９６号公報
【特許文献６】特開２００６−２２８８２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は前述のような問題に鑑みてなされたもので、高研磨レートを維持しつつ、スクラッチ、ディッシング、エロージョン等の研磨由来の欠陥の発生を抑制でき、かつ金属層と絶縁体層の研磨速度の比である選択比を任意に調節することが可能な研磨組成物及びそれを用いた半導体基板の研磨方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明によれば、砥粒として金属酸化物粒子を含む研磨組成物であって、前記金属酸化物粒子として、粉末Ｘ線回折パターンにおける回折強度が最大となるピーク部分の半値幅が１°未満のものを含み、さらに、選択比調節剤として、重量平均分子量が異なる水溶性ポリマーを２種類以上含み、該水溶性ポリマーの異なる重量平均分子量の比が１０以上のものを含むものであることを特徴とする研磨組成物を提供する。
【００１０】
半値幅が１°未満の高結晶性の金属酸化物粒子と、重量平均分子量が異なりその比が１０以上となる２種類以上の水溶性ポリマーを含むことで、研磨速度を高く維持でき、かつ、スクラッチ、ディッシング、エロージョン等の欠陥の発生を抑制でき、さらに、選択比を任意の値に調整することが容易に可能な研磨組成物となる。
【００１１】
このとき、前記金属酸化物粒子として、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マンガンのいずれか、あるいはこれらの中の少なくとも２つ以上の混合物、又はこれらの金属酸化物のうち１つ以上を含有する複合酸化物を含むことができる。
【００１２】
本発明で用いられる金属酸化物粒子としては、これらのようなものを含んだ金属酸化物粒子が好適である。
【００１３】
またこのとき、前記水溶性ポリマーとして、ポリカルボン酸又はその塩、ポリスチレンスルホン酸又はその塩、ポリアクリル酸又はその塩、ポリビニルピロリドン、アニオン変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種類以上を含むことができる。
【００１４】
本発明で用いられる水溶性ポリマーとしては、これらのようなものを含んだ水溶性ポリマーが好適である。
【００１５】
このとき、本発明の研磨組成物は、さらに酸化剤を含むことが好ましい。
【００１６】
酸化剤を含むことで、半導体基板の表面を酸化でき、研磨を効果的に促進することができるものとなる。
【００１７】
また前記酸化剤として、過酸化物と鉄（ＩＩＩ）塩のうち少なくとも１種類以上を含むことが好ましい。
【００１８】
更に、前記過酸化物として、過硫酸、過ヨウ素酸、過塩素酸、これらの塩、及び過酸化水素からなる群より選ばれる少なくとも１種類以上を含むことが好ましい。
【００１９】
更に、前記鉄（ＩＩＩ）塩として、硫酸鉄（ＩＩＩ）、硝酸鉄（ＩＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、シュウ酸鉄（ＩＩＩ）、トリス（オキサラト）鉄（ＩＩＩ）カリウム、ヘキサシアノ鉄（ＩＩＩ）アンモニウム、ヘキサシアノ鉄（ＩＩＩ）カリウム、クエン酸鉄（ＩＩＩ）、クエン酸鉄（ＩＩＩ）アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種類以上を含むことが好ましい。
【００２０】
酸化剤として、これらのようなものを含むことで、半導体基板の表面を適切に酸化でき、研磨をより効果的に促進することができるものとなる。
【００２１】
また本発明では上記目的を達成するために、上記の研磨組成物を用いて半導体基板を研磨することを特徴とする研磨方法を提供する。
【００２２】
上記の研磨組成物を用いれば、研磨速度を高く維持しつつ、スクラッチ、ディッシング、エロージョンが発生し難く、さらに、選択比の調整が容易となる。
【００２３】
また、前記半導体基板が金属層を含むことが好ましい。
本発明は、金属層を含んだ半導体基板の研磨に好適である。
【００２４】
また、前記金属層はタングステン又はタングステン合金であることが好ましい。
本発明は、金属層としてタングステン又はタングステン合金を含んだ半導体基板の研磨に特に好適である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の研磨組成物及びこれを用いた研磨方法であれば、高研磨速度の維持及び研磨由来の欠陥の発生を抑制しつつ、さらに、選択比を任意の値に調整することが容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の研磨方法において使用できる片面研磨装置の一例を示した概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明について実施の形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２８】
まず、本発明の研磨組成物について説明する。
本発明の研磨組成物は、砥粒として、粉末Ｘ線回折パターンにおける回折強度が最大となるピーク部分の半値幅が１°未満である金属酸化物粒子を含有しており、さらに、選択比調節剤として、重量平均分子量が異なる水溶性ポリマーを２種類以上含み、該水溶性ポリマーの異なる重量平均分子量の比が１０以上のものを含むものであることを特徴としている。尚、選択比調節剤とは、研磨速度の比である選択比を調整するものを言い、例えば半導体基板の研磨において、金属層と絶縁層の研磨速度の選択比を、任意の値に調節する役割を果たす物質のことを言う。
【００２９】
本発明のように、半値幅が１°未満である高結晶な金属酸化物粒子を用いると、半値幅が１°以上である金属酸化物粉末を用いた場合と比べて、研磨速度及びスクラッチ、ディッシング等の欠陥の特性が良好となる。詳細なメカニズムは現在のところ不明であるが、金属酸化物粒子の実効的な硬度、あるいは金属酸化物粒子表面と被研磨物表面との化学的な相互作用によるものではないかと考えられる。
【００３０】
本発明の研磨組成物が含有する金属酸化物粒子の半値幅は、例えばＸ線源として波長１．５４１８（Å）である銅のＫα線を用いたθ−２θ法により得られるＸ線パターンから求めることができる。また、半値幅とは、強度が最大となるピークに対し、バックグラウンドを除いたピーク強度の半分の強度となる位置におけるピーク幅を意味する。
【００３１】
また、本発明において、金属酸化物粒子の結晶構造については特に制限されず、半値幅が１°未満であれば単一の結晶相であっても良いし、複数の結晶相を有していても良い。また、金属酸化物粒子は複合酸化物であってもよく、被研磨物や目的に合わせて適宜選択できる。
【００３２】
金属酸化物としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マンガンのいずれか、あるいはこれらの中の少なくとも２個以上の混合物が好適である。また、複合酸化物としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マンガンのうち少なくとも１つの金属酸化物を含有する複合酸化物であることが好適である。この複合酸化物として、例えば、ジルコニア／セリア複合酸化物、アルミナ／セリア複合酸化物、ジルコニア／イットリア複合酸化物、鉄／マンガン複合酸化物が挙げられるが、これらに限定されることはない。
【００３３】
また、金属酸化物粒子は、平均１次粒子径が１０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均１次粒子径が１０ｎｍ以上であれば、十分な研磨速度が得られ、また、４００ｎｍ以下であれば、スクラッチの発生を低減することができる。金属酸化物粒子の粒度分布は、この粒径範囲内である場合には、特に限定されず、目的に合わせ適宜変化させてよい。
【００３４】
金属酸化物粒子の平均１次粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により得られた粒子画像を計測し、粒子１００個以上の定方向最大径、即ちフェレ（Ｆｅｒｅｔ）径の平均値から計算することが好ましい。
【００３５】
また、研磨組成物中の金属酸化物粒子の含有量は０．１質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．３質量％以上３質量％以下であることが特に望ましい。金属酸化物粒子の含有量が０．１質量％以上であれば、充分な研磨速度を得ることができるし、また、１０質量％以下の含有量であれば、スクラッチ等の欠陥の発生を抑制できる
【００３６】
金属酸化物粒子の製造方法は特に限定されず、目的に応じ適宜選択できる。例えば、沈殿法等により生成した金属酸化物の前駆体を熱分解する方法（特開２００６−３２９６６号公報参照）や金属アルコキシドの加水分解によるゾルゲル法（特開２０１３−１８６９０号公報参照）、金属塩化物ガスや金属塩を噴霧し、熱やプラズマ等により分解させる噴霧分解法（特開平６−４０７２６号公報参照）、金属塩溶液を超臨界状態の水中で反応させる水熱合成法（特開２００８−１３７８８４号公報参照）、ターゲット材料にレーザーを照射し瞬間的に蒸発、再凝縮させるレーザーアブレーション法（国際公開第２０１２／１１４９２３号参照）などが挙げられる。更に、高結晶性の金属酸化物粒子の製造方法として、チタンや亜鉛の酸化物等を１０モル濃度以上のアルカリ金属水酸化物水溶液中でＢａ等と反応させる方法（特開２００７−３１１７６号公報参照）や、金属酸化物ゾルと金属塩等を流通式反応装置中で昇温し熱処理する方法（特開２０１２−１５３５８８号公報参照）等が知られている。これらの製造方法や製造条件を目的に合わせ適宜選択することにより、製造する金属酸化物の結晶性を制御できる。
【００３７】
また、本発明の研磨組成物に含まれる水溶性ポリマーは、ポリカルボン酸又はその塩、ポリスチレンスルホン酸又はその塩、ポリアクリル酸又はその塩、ポリビニルピロリドン、アニオン変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種類以上が好適に用いられる。アニオン変性ポリビニルアルコールとしては、カルボキシル基、スルホン酸基、シラノール基等を変性基として有するものが好ましい。アニオン変性ポリビニルアルコール分子中の変性基の量は、目的に応じて適宜調整できる。また、水溶性ポリマーの重合度あるいは分子量は特に限定されず、使用する金属酸化物粒子の種類や粒径、研磨対象物に応じ適宜選択できる。研磨組成物中に含まれている水溶性ポリマーは被研磨表面及び砥粒である金属酸化物粒子表面との相互作用によりエロージョンを抑制することができる。
【００３８】
また、水溶性ポリマーの重合度により、金属酸化物砥粒表面及び研磨対象物表面との相互作用の影響力が変化する。一般的に、重合度が低く重量平均分子量が小さい場合、相互作用は弱く研磨速度を低下させる影響は小さいものの、エロージョン等の欠陥を抑制する効果は弱い。一方、重合度が高く重量平均分子量が大きい場合、相互作用は大きくなり研磨速度を低下させる影響が大きいがエロージョン等の欠陥を抑制する効果は強くなる。これらの効果を組み合わせて利用すること、すなわち、重量平均分子量の異なる水溶性ポリマーを２種類以上組み合わせ、組み合わせる水溶性ポリマーの異なる重量平均分子量の比を１０以上とすることで、研磨速度の低下を抑制しつつエロージョン量等を調整することが可能となる。なお、重量平均分子量の異なる水溶性ポリマーは、同種であっても、異種であってもよく、特に制限されることはない。
【００３９】
また、このような本発明の研磨組成物は、重量平均分子量の異なる水溶性ポリマーの配合比率及びそれぞれの重量平均分子量を、研磨対象の材質、研磨対象に形成されているパターンの幅、パターンの密度等に応じて適宜調整することで、研磨における選択比を任意に調整することができる。
【００４０】
上記説明したように、本発明は、粉末Ｘ線回折パターンにおける回折強度が最大となるピーク部分の半値幅が１°未満である高結晶の金属酸化物粒子から成る砥粒と、重量平均分子量が異なり、該異なる重量平均分子量の比が１０以上である２種類以上の水溶性ポリマーから成る選択比調節剤を組み合わせて用いることで、研磨速度を高く維持でき、かつ、スクラッチ、ディッシング、エロージョンの発生を抑制でき、さらに、選択比の調整が容易に可能な研磨組成物となる。
【００４１】
また本発明の研磨組成物は、さらに酸化剤を含むものであってもよい。そして、この酸化剤は特に限定されないが、過酸化物からなる有機又は無機化合物、或いは鉄（ＩＩＩ）塩のうち少なくとも１種類以上を含むものであることが好ましい。過酸化物としては特に限定されないが、過硫酸、過ヨウ素酸、過塩素酸、これらの塩、及び過酸化水素からなる群より選ばれる少なくとも１種類以上を含むことが好ましい。また、鉄（ＩＩＩ）塩からなる化合物としては特に限定されないが、硫酸鉄（ＩＩＩ）、硝酸鉄（ＩＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、シュウ酸鉄（ＩＩＩ）、トリス（オキサラト）鉄（ＩＩＩ）カリウム、ヘキサシアノ鉄（ＩＩＩ）アンモニウム、ヘキサシアノ鉄（ＩＩＩ）カリウム、クエン酸鉄（ＩＩＩ）、クエン酸鉄（ＩＩＩ）アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種類以上が含まれることが好ましい。
【００４２】
本発明の研磨組成物が、これらのような酸化剤を含むことで、半導体基板の表面を酸化でき、研磨を効果的に促進することができるものとなる。
【００４３】
また、本発明の研磨組成物に、さらに分散剤としてアニオン系ポリマー、カチオン系ポリマーやノニオン系ポリマーを添加してもよい。これらのポリマーの種類、構造、分子量は特に制限されず目的に応じ適宜選択できる。アニオン系ポリマーとしては、ポリカルボン酸、ポリスチレンスルホン酸、カチオン系ポリマーとしては、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキルアミドアミン塩、ノニオン系ポリマーとしては、ソルビタン脂肪酸エステルなどが使用できる。
【００４４】
また、本発明における研磨組成物のｐＨは特に限定されず、研磨対象及び目的に応じ適宜選択できる。例えば、タングステンを含む表面を研磨する場合はｐＨが１以上、６以下であることが好ましい。研磨組成物のｐＨを調整するための手段としては、硝酸、塩酸、硫酸などの無機酸、酢酸、シュウ酸、コハク酸などの有機酸、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴｅｔｒａＭｅｔｈｙｌＡｍｍｏｎｉｕｍ  Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ：ＴＭＡＨ）などの有機塩基を用いることができる。
【００４５】
次に、本発明の研磨組成物を使用した研磨方法について説明する。以下では、半導体基板を片面研磨する場合を例に説明するが、もちろんこれに限定されることはなく、本発明の研磨組成物は両面研磨などにも用いることができる。
【００４６】
片面研磨装置は、例えば、図１に示すように、研磨パッド４が貼り付けられた定盤３と、研磨組成物供給機構５と、研磨ヘッド２等から構成された片面研磨装置１０とすることができる。
このような研磨装置１０では、研磨ヘッド２で半導体基板Ｗを保持し、研磨組成物供給機構５から研磨パッド４上に本発明の研磨組成物１を供給するとともに、定盤３と研磨ヘッド２をそれぞれ回転させて半導体基板Ｗの表面を研磨パッド４に摺接させることにより研磨を行う。
【００４７】
このとき、半導体基板Ｗは金属層を含むものとすることができ、更に金属層がタングステン又はタングステン合金であるものとすることができる。
本発明の研磨方法は被研磨物として金属層を含む表面の研磨に好適であり、特にタングステン、タングステン合金から成る金属層の研磨に対し好適に用いられる。
【００４８】
このような本発明の研磨組成物を用いた研磨方法であれば、研磨速度を高く維持でき、かつ、スクラッチ、ディッシング、エロージョンの発生を抑制できる。更に、使用する研磨組成物の、重量平均分子量の異なる水溶性ポリマーの配合比率及びそれぞれの重量平均分子量を、研磨対象の材質、研磨対象に形成されているパターンの幅、パターンの密度に応じて適宜調整することで、研磨における選択比を任意に調整することができる。
【実施例】
【００４９】
以下、本発明の実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５０】
（実施例１）
本発明の研磨組成物を使用して、半導体基板の研磨を行い、研磨後の半導体基板における、ディッシング量、エロージョン量、研磨速度（研磨レート）、選択比、スクラッチの有無を評価した。
【００５１】
実施例１で使用した研磨組成物は、以下のように製造した。
最初に、結晶構造が単斜晶構造であり、Ｘ線半値幅が０．４１６９°、平均１次粒子径が３５ｎｍである酸化ジルコニウムを、含有量が１．０質量％となるよう純水に分散させた。次に、水溶性ポリマーとして、重量平均分子量が５，０００のポリアクリル酸及び重量平均分子量１００，０００のポリアクリル酸を下記表１の条件１−ａ〜１−ｅに示す濃度でそれぞれ添加した。このように、実施例１では、重量平均分子量の比が２０である同種の水溶性ポリマーを添加し、５種の水溶液を作製した。さらに、これらの水溶液に過酸化水素１．５質量％、硝酸鉄（ＩＩＩ）０．１質量％を添加し混合した。その後、硝酸により溶液のｐＨを２．５に調整した。このようにして、各水溶性ポリマーの濃度が異なる５種類の研磨組成物を製造した。
【００５２】
尚、酸化ジルコニウムの半値幅は（株）リガク製のＲＩＮＴ２５００により、受光スリット幅０．３ｍｍ、管電圧５０ｋＶ、管電流６０ｍＡ、スキャンスピード３°／ｍｉｎ、サンプリング幅０．０２４°の条件にて測定を行った。
【００５３】
【表１】
0006268069.tif 000002
【００５４】
研磨速度及び選択比の評価においては、タングステン膜の研磨における研磨速度、酸化珪素膜の研磨における研磨速度を測定し、これらの研磨速度の比を選択比として求めた。
【００５５】
タングステン膜の研磨では、研磨対象として直径１２インチ（３００ｍｍ）のシリコン基板上に厚さ約１０ｎｍの窒化チタン層を介して約８００ｎｍのタングステン層を堆積したブランケット基板を使用した。そして、上記５種の研磨組成物をそれぞれ使用して研磨し、研磨前後のタングステン膜の厚さ（膜厚）の変化量を時間（ｍｉｎ）で割ることで研磨速度を求めた。膜厚は４探針シート抵抗測定機（ナプソン（株）製  ＲＴ−７０Ｖ）により測定したシート抵抗率から下記の式１により求めた。
ρ＝ρｓ×ｔ  ・・・  （１）
（ここで、ρ：比抵抗（定数）、ρｓ：シート抵抗率、ｔ：膜厚である。）
【００５６】
酸化珪素層の研磨では、研磨対象として直径１２インチ（３００ｍｍ）のシリコン基板上にＨＤＰ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｎｓｉｔｙ  Ｐｌａｓｍａ）酸化珪素膜を約１０００ｎｍ堆積したブランケット基板を使用した。そして、上記５種の研磨組成物をそれぞれ使用して研磨し、研磨前後の酸化珪素膜の厚さの変化量を時間（ｍｉｎ）で割ることで研磨速度を求めた。酸化珪素膜の厚さはエリプソメーター（ＳＥＮＴＥＣＨ社製  ＳＥ８００）により測定した。このようにして求めた、タングステン膜の研磨速度及び酸化珪素膜の研磨速度の比から、選択比（タングステン膜の研磨速度／酸化珪素膜の研磨速度）を算出した。
【００５７】
また、ディッシング量、エロージョン量、スクラッチの有無の評価は以下のように行った。
【００５８】
研磨対象の半導体基板は、１００ｎｍの間隔で幅１００ｎｍ、深さ２００ｎｍの線状の溝に、厚さ約１ｎｍの窒化チタン層を介して厚さ約６００ｎｍのタングステンを堆積し、溝部分を埋めたパターン付き基板とした。そして、上記５種の研磨組成物をそれぞれ使用して研磨し、研磨後のパターン部分を切り出し、断面を電子顕微鏡により観察し、溝のない非パターン領域とタングステン埋め込み部の最も窪んだ部分との差を、ディッシング量として評価した。エロージョンについても同様にパターン部分を切り出し、研磨前後の絶縁体層の膜厚の減少量をエロージョン量として評価した。
【００５９】
スクラッチの有無の評価は、レーザー顕微鏡（レーザーテック（株）製  １ＬＭ２１）により、研磨後のパターン付き基板の表面における、基板中心付近の任意の１０点と基板外周付近の任意の１０点を観察して、スクラッチの有無を確認した。
【００６０】
尚、実施例１において、研磨装置はＰｏｌｉ−７６２（Ｇ＆Ｐ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，  Ｉｎｃ．製）を、研磨パッドはＩＣ１０００（ニッタ・ハース（株）製）を使用した。また、研磨条件は、被研磨基板に加える加重を１９３ｇ／ｃｍ２、定盤回転数を７０ｒｐｍ、研磨ヘッド回転数を７０ｒｐｍ、スラリー（研磨組成物）供給量を１００ｍＬ／ｍｉｎとして片面研磨を行った。
【００６１】
以上のような実施例１、後述する実施例２〜５、及び後述する比較例１〜４のディッシング量、エロージョン量、研磨速度、選択比、スクラッチの有無を表１０、１１に示す。
表１０に示すように、実施例１では、ディッシング量を、表１１に示す比較例と同等又はそれよりも小さく抑えることができ、エロージョン量を比較例よりも小さく抑えることができた。またスクラッチは発生しなかった。研磨速度は、比較例よりも、大幅に大きくなった。また、選択比は、水溶性ポリマーの配合比の変化（表１の各水溶性ポリマーの濃度参照）に対応した変化をしており、このことから、例えばこの実施例１のように、各水溶性ポリマーの添加量などを調整すれば、任意の選択比に調節することが容易であることが分かった。
【００６２】
（実施例２）
研磨組成物に添加する水溶性ポリマーの種類及び重量平均分子量の比を１４に変えたこと以外、実施例１と同様な条件で各半導体基板の研磨を行い、実施例１と同様な方法でディッシング量、エロージョン量、研磨速度、選択比、スクラッチの有無を評価した。
実施例２では、水溶性ポリマーとして、重量平均分子量が５，０００のポリアクリル酸及び重量平均分子量７０，０００のポリスチレンスルホン酸を下記表２の条件２−ａ〜２−ｅに示す濃度でそれぞれ添加した。
【００６３】
【表２】
0006268069.tif 000003
【００６４】
表１０に示すように、実施例２では、ディッシング量を、表１１に示す比較例と同等又はそれよりも小さく抑えることができ、エロージョン量を、比較例よりも小さく抑えることができ、またスクラッチは発生しなかった。研磨速度は、比較例よりも、大幅に大きくなった。また、選択比は、水溶性ポリマーの配合比の変化（表２の各水溶性ポリマーの濃度参照）に対応した変化をしており、このことから、任意の選択比に調節することが容易であることが分かった。
【００６５】
（実施例３）
研磨組成物に添加する金属酸化物粒子を半値幅０．９０５６°のものに変えたこと以外、実施例２と同様な条件で各半導体基板の研磨を行い、実施例２と同様な方法でディッシング量、エロージョン量、研磨速度、選択比、スクラッチの有無を評価した。
実施例３では、金属酸化物粒子として、結晶構造が単斜晶構造、Ｘ線半値幅が０．９０５６°、平均粒子径が４０ｎｍである酸化ジルコニウムを使用した。また、水溶性ポリマーとして、重量平均分子量が５，０００のポリアクリル酸及び重量平均分子量７０，０００のポリスチレンスルホン酸を下記表３の条件３−ａ〜３−ｅに示す濃度でそれぞれ添加した。
【００６６】
【表３】
0006268069.tif 000004
【００６７】
表１０に示すように、ディッシング量、エロージョン量を、後述する比較例と同等又はそれよりも小さく抑えることができ、またスクラッチは発生しなかった。研磨速度は、後述の比較例よりも、大幅に大きくなった。また、選択比は、水溶性ポリマーの配合比の変化（表３の各水溶性ポリマーの濃度参照）に対応した変化をしており、このことから、任意の選択比に調節することが容易であることが分かった。
【００６８】
（実施例４）
研磨組成物に添加する水溶性ポリマーを３種類としたこと以外、実施例１と同様な条件で各半導体基板の研磨を行い、実施例１と同様な方法でディッシング量、エロージョン量、研磨速度、選択比、スクラッチの有無を評価した。
実施例４では、水溶性ポリマーとして、重量平均分子量が５，０００のポリアクリル酸、重量平均分子量が７０，０００のポリスチレンスルホン酸、及び重量平均分子量が１，０００，０００のポリアクリルアミドを、下記表４の条件４−ａ〜４−ｅに示す濃度でそれぞれ添加した。
【００６９】
【表４】
0006268069.tif 000005
【００７０】
表１０に示すように、ディッシング量、エロージョン量を、後述する比較例と同等又はそれよりも小さく抑えることができ、またスクラッチは発生しなかった。研磨速度は、後述の比較例よりも、大幅に大きくなった。また、選択比は、水溶性ポリマーの配合比の変化に対応した変化をしており、このことから、任意の選択比に調節することが容易であることが分かった。
【００７１】
（実施例５）
研磨組成物に添加する水溶性ポリマーの重量平均分子量の比を１０に変えたこと以外、実施例１と同様な条件で各半導体基板の研磨を行い、実施例１と同様な方法でディッシング量、エロージョン量、研磨速度、選択比、スクラッチの有無を評価した。
実施例５では、水溶性ポリマーとして、重量平均分子量が５０００のポリアクリル酸及び重量平均分子量５０，０００のポリビニルピロリドンを下記表５の条件５−ａ〜５−ｅに示す濃度でそれぞれ添加した。このように、実施例５では、重量平均分子量の比が１０である異種の水溶性ポリマーを添加した。
【００７２】
【表５】
0006268069.tif 000006
【００７３】
表１０に示すように、ディッシング量、エロージョン量を、比較例と同等又はそれよりも小さく抑えることができ、またスクラッチは発生しなかった。研磨速度は、後述の比較例よりも、大幅に大きくなった。また、選択比は、水溶性ポリマーの配合比の変化（表５の各水溶性ポリマーの濃度参照）にほぼ対応した変化をしており、このことから、任意の選択比に調節することが容易であることが分かった。
【００７４】
（比較例１）
研磨組成物に添加する金属酸化物粒子を半値幅が０．４９１７°のものに、水溶性ポリマーの重量平均分子量の比を２に変えたこと以外、実施例１と同様な条件で各半導体基板の研磨を行い、実施例１と同様な方法でディッシング量、エロージョン量、研磨速度、選択比、スクラッチの有無を評価した。
比較例１では、最初に、結晶構造が単斜晶構造、Ｘ線半値幅が０．４９１７°、平均粒子径が６１ｎｍである酸化ジルコニウムを１．０質量％となるよう純水に分散させた。次に、水溶性ポリマーとして、重量平均分子量が５０００のポリアクリル酸及び重量平均分子量１０，０００のポリアクリル酸を下記表６の条件６−ａ〜６−ｅに示す濃度でそれぞれ添加した。このように、比較例１では、重量平均分子量の比が２である同種の水溶性ポリマーを添加した。さらに、この水溶液に過酸化水素１．５質量％、硝酸鉄（ＩＩＩ）０．１質量％を添加し混合した。その後、硝酸により溶液のｐＨを２．５に調整した。このようにして、各水溶性ポリマーの濃度が異なる５種類の研磨組成物を製造した。
【００７５】
【表６】
0006268069.tif 000007
【００７６】
その結果、表１１に示すように、ディッシング量は上述の実施例と同等又は増加し、エロージョン量については増加してしまった。研磨速度は、特に、タングステン膜の研磨速度が上述の実施例よりも低下してしまった。また、選択比は、水溶性ポリマーの配合比の変化に関係なく不規則に変化をしており、このことから、水溶性ポリマーの重量平均分子量の比が１０未満であると、任意の選択比に調節することはできないことが分かった。
【００７７】
（比較例２）
研磨組成物に添加する金属酸化物粒子を半値幅が１．８４１３°のものに変えたこと以外、実施例２と同様な条件で各半導体基板の研磨を行い、ディッシング量、エロージョン量、研磨速度、選択比、スクラッチの有無を評価した。
比較例２では、金属酸化物粒子として、結晶構造が単斜晶構造、Ｘ線半値幅が１．８４１３°、平均粒子径が４５ｎｍである酸化ジルコニウムを使用した。また、水溶性ポリマーとして、重量平均分子量が５，０００のポリアクリル酸及び重量平均分子量７０，０００のポリアクリル酸を下記表７の条件７−ａ〜７−ｅに示す濃度でそれぞれ添加した。このように、比較例２では、金属酸化物粒子のＸ線半値幅が１°以上の研磨組成物を使用した。
【００７８】
【表７】
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【００７９】
その結果、表１１に示すように、ディッシング量及びエロージョン量が、大幅に増加し、更に、スクラッチも発生してしまった。このように、金属酸化物粒子の半値幅が１°以上であると、研磨に由来する欠陥が大幅に増えてしまうことが確認された。
【００８０】
（比較例３）
研磨組成物に添加する金属酸化物粒子を半値幅が１．０９５７°のものに変えたこと以外、実施例２と同様な条件で各半導体基板の研磨を行い、実施例２と同様な方法でディッシング量、エロージョン量、研磨速度、選択比、スクラッチの有無を評価した。
添加した金属酸化物粒子は、結晶構造が単斜晶構造、Ｘ線半値幅が１．０９５７°、平均粒子径が６１ｎｍである酸化ジルコニウムを使用した。また、水溶性ポリマーとして、重量平均分子量が５，０００のポリアクリル酸及び重量平均分子量７０，０００のポリスチレンスルホン酸を下記表８の条件８−ａ〜８−ｅに示す濃度でそれぞれ添加した。
【００８１】
【表８】
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【００８２】
その結果、表１１に示すように、ディッシング量及びエロージョン量が増加し、更に、スクラッチも発生してしまった。このように、金属酸化物粒子の半値幅が１°以上であると、研磨に由来する欠陥が実施例に比べ増えてしまうことが確認された。
【００８３】
（比較例４）
使用する研磨組成物における水溶性ポリマーの重量平均分子量の比を９に変えたこと以外、実施例１と同様な条件で各半導体基板の研磨を行い、実施例１と同様な方法でディッシング量、エロージョン量、研磨速度、選択比、スクラッチの有無を評価した。
比較例４では、水溶性ポリマーとして、重量平均分子量が５０００のポリアクリル酸及び重量平均分子量４５，０００のポリアクリル酸を下記表９の条件９−ａ〜９−ｅに示す濃度でそれぞれ添加した。
【００８４】
【表９】
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【００８５】
その結果、表１１に示すように、ディッシング量は上述の実施例と同等又は増加し、エロージョン量は増加してしまった。研磨速度は、タングステン膜の研磨速度が上述の実施例よりも低下してしまった。また、選択比は、水溶性ポリマーの配合比の変化に関係なく不規則に変化をしており、このことから、実施例のように、任意の選択比に調節することはできないことが分かった。
【００８６】
【表１０】
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【００８７】
【表１１】
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【００８８】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【符号の説明】
【００８９】
１…研磨組成物、  ２…研磨ヘッド、  ３…定盤、
４…研磨パッド、  ５…研磨組成物供給機構、
１０…片面研磨装置、
Ｗ…半導体基板。
【図１】
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