(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学装置用、特にＥＵＶリソグラフィー装置(1)用の照明系(10)であって、
少なくとも１つの光学素子(13, 14)と、
アクチュエータ装置(17)とを具え、
前記光学素子は、少なくとも１つの光学面、好適には複数の光学面(13a-d, 14a-d)を有し、当該光学面上に、光源(2)からの照明放射(4)を反射させる反射コーティング(18)が塗布され、
前記アクチュエータ装置は、前記少なくとも１つの光学面(13a-d, 14a-d)を、少なくとも２つの角度位置(α1, α2)に位置合わせし、前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2)のそれぞれにおいて、当該光学面に入射する前記照明放射の入射角の大きさ（β1, β2）が異なる照明系において、
前記反射コーティング(18)は、前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2)における、前記反射コーティング(18)の厚さに依存する反射率(Ｒ1, Ｒ2)から求めた平均値(1/2(Ｒ1＋Ｒ2))が最大になるような厚さ(ｄOPT1)を有するか、あるいは、
前記反射コーティング(18)は、前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2)のそれぞれにおける前記反射コーティング(18)の厚さの公差(Δｄ／ｄ)によって生じた前記反射率(Ｒ1, Ｒ2)の最大変化(max(ΔＲ1／Ｒ1, ΔＲ2／Ｒ2)が最小になるような厚さ(ｄOPT2)を有するか、
のいずれかであることを特徴とする照明系。
【請求項２】
前記厚さに依存する反射率(Ｒ1, Ｒ2)から求めた平均値が、前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2)にわたって重み付けした平均値であり、前記角度位置(α1, α2)の前記重み付けは、前記光学素子(13, 14)上の前記光学面(13a-d, 14a-d)の位置に依存することを特徴とする請求項１に記載の照明系。
【請求項３】
前記角度位置のうち２つ(α1, α2)の間の差分角度(|α1−α2|)がいずれも、少なくとも１°であることを特徴とする請求項１または２に記載の照明系。
【請求項４】
前記反射コーティング(18)の前記厚さ(ｄOPT1, ｄOPT2)が、前記光学面(13a-d, 14a-d)上の位置に応じて変化することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の照明系。
【請求項５】
照明放射(4)を発生するための光源(2)をさらに具え、前記照明放射の波長スペクトルが、前記照明系(10)の動作波長(λB)において最大強度を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の照明系。
【請求項６】
前記光学素子がファセットミラー(13, 14)として具体化され、前記光学面(13a-d, 14a-d)が、前記ファセットミラー(13, 14)のファセット素子上に形成されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の照明系。
【請求項７】
光学装置、特に基板(W)を露光するためのＥＵＶリソグラフィー装置(1)であって、請求項１〜６のいずれかに記載の照明系を具えていることを特徴とする光学装置。
【請求項８】
前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2)における、前記光学素子(13)の前記反射コーティング(18)の前記厚さに依存する反射率(Ｒ1, Ｒ2)を、前記光源(2)によって発生され前記光学装置の他の光学素子(12, 14-16, M, 22-24)によってフィルタ処理された波長スペクトル全体にわたって平均することを特徴とする請求項７に記載の光学装置。
【請求項９】
光学装置の、特にＥＵＶリソグラフィー装置(1)用の照明系(10)用の光学素子(13, 14)の光学面(13a-d, 14a-d)の反射コーティング(18)の厚さ(ｄOPT1, ｄOPT2)を最適化する方法であって、
前記反射コーティングの厚さに依存する反射率(Ｒ1, Ｒ2)を、少なくとも２つの角度位置(α1, α2)において測定するステップであって、前記光学面(13a-d, 14a-d)は、前記光源(2)の照射ビーム(4)中で位置合わせすることができ、前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2) のそれぞれにおいて、前記光学面に入射する前記照射ビームの入射角の大きさ（β1, β2）が異なるステップと、
前記反射コーティング(18)の厚さ(ｄOPT1)を、前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2)における前記厚さに依存する反射率(Ｒ1, Ｒ2)から求めた平均値(1/2(Ｒ1+Ｒ2))が最大になるように決定するか、あるいは、
前記反射コーティング(18)の厚さ(ｄOPT2)を、前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2)のそれぞれにおいて前記反射コーティング(18)の製造プロセスに起因する厚さの公差(Δｄ／ｄ)によって生じた前記反射率(Ｒ1, Ｒ2)の最大変化(max(ΔＲ1／Ｒ1, ΔＲ2／Ｒ2)が最小になるように決定するか、
のいずれかを行うステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2)にわたる重み付けを行って前記平均値を求め、前記角度位置(α1, α2)の前記重み付けは、前記光学素子(13, 14)上の前記光学面(13a-d, 14a-d)の位置に依存することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記角度位置のうち２つ(α1, α2)の間の差分角度(|α1−α2|)が、少なくとも１°であることを特徴とする請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記反射コーティング(18)の前記厚さ(ｄOPT1, ｄOPT2)を、前記光学面(13a-d, 14a-d)上の位置に応じて決定することを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記少なくとも２つの角度位置(α1, α2)における前記厚さに依存する反射率(Ｒ1, Ｒ2)を、前記光源(2)によって発生され前記光学装置の他の光学素子(12, 14-16, M, 22-24)によってフィルタ処理された波長スペクトル全体にわたって平均することを特徴とする請求項９〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
照明系(10)、特にＥＵＶリソグラフィー装置(1)の照明系用の光学素子(13, 14)の光学面(13a-d, 14a-d)上に反射コーティング(18)を生成する方法であって、
前記反射コーティング(18)を、前記光学面(13a-d, 14a-d)上に、請求項９〜１３のいずれかに記載の方法により決定した厚さ(ｄOPT1, ｄOPT2)に塗布するステップを具えていることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願のクロスリファレンス
本願は、独国特許出願第１０２０１３２０３３６４．８号、２０１３年２月２８日出願に基づいて優先権を主張し、その全開示を本願の一部と考え、それを参照する形で本願の開示に含める。
【０００２】
発明の背景
本発明は、光学装置用、特にＥＵＶ（extreme ultraviolet：極紫外線）リソグラフィー装置用の照明系に関するものであり、この光学装置は、少なくとも１つの光学素子及びアクチュエータ装置を具え、この光学素子は、少なくとも１つの光学面を有し、複数の光学面を有することが好ましく、これらの光学面上に、光源からの照明放射を反射するコーティングが塗布され、上記アクチュエータ装置は、上記少なくとも１つの光学面を少なくとも２つの角度位置に位置合わせする。本発明は、こうした照明系を有する光学装置、特にＥＵＶリソグラフィー装置、こうした光学装置の光学面の反射コーティングの厚さを最適化する方法、及び厚さを最適化したコーティングを塗布する方法にも関するものである。
【背景技術】
【０００３】
マイクロリソグラフィー反射光学素子（ミラー）、特にＥＵＶ用のものは、反射コーティングを有し、許容可能な反射率を保証するためには、その層設計が、想定される動作波長、及び想定される入射角に、非常に精密に整合しなければならない、というのは、こうしたミラーは、理想的な場合でも、一般に約７０％未満の反射率を有するに過ぎないからである。
【０００４】
光学面上への入射角または入射角分布は、（光源に関連する）ビーム経路への光学面の位置合わせに依存する。投影露光装置の照明系では、複数のファセット素子を有するファセットミラーの形態の光学素子が利用されることが多く、その光学面は、入射ビーム経路に対して異なる角度位置に位置合わせすることができる。その際に、複数の（少なくとも２つの）切り換え位置の間で選択することが一般に可能であり、これらの切り換え位置では、放射が２つ（以上）の異なる角度または（狭い）角度範囲で入射する。ここで、それぞれの位置合わせまたは切り換え位置にとって最適であり、かつ反射率が最大になる反射コーティングの層の厚さは、一般に、異なる角度位置にとって最適ではない。さらに、ＥＵＶミラー用の層またはコーティングの生産が複雑であることが問題であり、このため、製造工程中に得られる層の厚さは、製造中の変動により、意図した所望の層の厚さに厳密には相当しない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】独国特許出願公開第１０２００９０５４８８８号明細書
【特許文献２】米国特許第６６５８０８４号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００９／００４１１８２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
発明の目的
本発明の目的は、反射率に対する製造誤差の影響ができる限り小さい、照明系、光学装置、特にＥＵＶリソグラフィー装置、反射コーティングの厚さを最適化する方法、及び反射コーティングを塗布する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
発明の主題
この目的は、導入部で述べた種類の照明系によって達成され、この証明系では、反射コーティングが、上記少なくとも２つの角度位置におけるコーティングの厚さに依存する反射率から求めた平均値が最大になるような厚さを有するか、あるいは、反射コーティングが、上記角度位置のそれぞれにおける厚さの公差によって生じた反射率の最大変化が最小になるような厚さを有するか、さもなければ、反射コーティングが、上記少なくとも２つの角度位置における当該コーティングの反射率が同じ大きさを有するような厚さを有するか、のいずれかである。
【０００８】
入射する照明放射の異なる入射角または異なる入射角分布に起因して、コーティングの厚さへの依存性が異なる少なくとも２つの（例えば離散的な）切り換え位置または角度位置で動作する光学面の場合、すべての角度位置において許容可能な反射率を保証するように、採用する反射コーティングの厚さの妥協点を見出すことが、一般に必要になる。反射コーティングの適切な厚さを選択するための基準は、製造に依存する厚さの変化または厚さの変動に対する、反射率のできる限り完全な独立性にある。なお、ここでは、サブナノメートル領域での厚さの小変動でさえ、反射率の大幅な変化をもたらすことがある。
【０００９】
上記反射コーティングは、一般に多層コーティングであり、干渉効果によって反射効果を実現する。本願の意味において、最適化すべき反射コーティングの厚さは、反射効果を実現するために基板上に塗布される積層全体の厚さではなく、むしろ、Ｎ個のサブユニットによって形成される厚さを意味するものと理解すべきであり、これらのサブユニットは、周期的または実質的に周期的な順序で配置され、各々が、高い反射率を有する材料製の第１層及び低い反射率を有する第２層を有する。簡単のため、反射コーティングの厚さがｄ＝Ｎ×ｄUによって与えられるという仮定を行い、ここにｄUはそれぞれのサブユニットの厚さを表す。サブユニットの厚さｄUまたは反射コーティングの厚さｄは、コーティング中に存在し、例えば拡散障壁として機能することができる基本層は考慮に入れない。
【００１０】
高い反射率を生成するためには、サブユニットまたはその厚さｄUを、異なるサブユニットにおいて生じる反射が同じ位相で建設（増加）的に重畳されるような寸法にしなければならない。こうした干渉効果への依存が存在するので、ブラック（Bragg）条件を満たすためには、反射サブユニットの個別層の層厚さまたは厚さの合計が、照明放射の想定される入射角（または想定される入射角分布）及び波長（または想定される波長分布）にできる限り厳密に整合しなければならない。コーティングの反射率は、サブユニット（層の対）の数Ｎを増加させることによって任意に増加させることはできず、即ち、反射率は、約６０％または約７０％の値で限界に達する。この場合、サブユニットの数Ｎは、一般に、サブユニットをさらに追加することによって反射率を増加させることがもはや不可能であるような値に選択する。反射率を最適化するために、それぞれのサブユニットの厚さｄU、さもなければそれぞれの反射面のコーティング全体の厚さｄ＝Ｎ×ｄUを、適切な方法で選択することができる。上述した反射コーティングの厚さの選択に関係することは、厚さに依存する反射率が、少なくとも２つの角度位置において既知であり、かつ同じ値（ｄUまたはＮ×ｄU）が想定されることがすべてである。
【００１１】
これに反して、積層全体の厚さは、他の条件（コスト、粗さ、...）に依存するか、あるいは、それぞれの全体厚さを有する積層が、まだ有用である（コーティングの特定の厚さにより、入射する照明放射がもはや出射することができないほど吸収効果が大きい）か否かに依存する。コーティング全体の厚さは、コーティングの層が（例えばスパッタリング等によって）長期間にわたって除去されるほどコーティングの環境が攻撃的である場合に、光学素子の耐用年数にとって十分であるほど大きいように選択することもできる。
【００１２】
その際に、上述した第１の基準によれば、反射コーティングの層の厚さは、（対応する角度位置における）それぞれの入射角にわたって平均した反射率曲線が最適化されるように、即ち、汎関数＜Ｒ(ｄ, ＡＯＩ)＞AOIの最適値が追求されるように選択することができ、ここに、ｄは厚さを表し、ＡＯＩ（angle of incidence：入射角）は、入射角スペクトルを表し、このスペクトルは、光学面の傾斜角度位置が離散している場合には、一般に不連続なプロファイルを有する。汎関数＜Ｒ(ｄ, ＡＯＩ)＞AOIは、個別の切り換え位置または角度位置における反射率の算術平均値を表す。上記２つ以上の角度位置または切り換え位置が、同じ重要度を有するか、あるいは同じ周波数で用いられる場合に、この算術平均値は、一般に、最適化に適した方策に寄与する。
【００１３】
１つの好適例では、厚さに依存する反射率から求めた平均値は、上記少なくとも２つの角度位置にわたって重み付けした平均値であり、これらの角度位置の重み付けは、光学素子上の光学面の位置に依存する。照射ビーム経路中のファセット素子の光学面またはファセットの位置次第では、上記切り換え位置のうち１つを他の切り換え位置よりも頻繁に用いて、照射瞳孔を形成することができる。従って、上記光学面またはファセットが、この切り換え位置において、他の切り換え位置に比べて増加した反射率を有することが有利なことがあり、このことは、上記平均値を決定する際に、より高い重み付けによって考慮に入れることができる。さらに、それぞれのファセットまたは光学面の反射率の変化の露光プロセスに対する影響は、場合によっては、それぞれの切り換え位置において異なることがあり、このため、場合によっては、特定の切り換え位置では、反射率の変化が他の切り換え位置よりも許容されやすいことがあり、このことも、上記平均値を決定する際に、適切な重み付けによって同様に考慮に入れることができる。
【００１４】
それぞれのファセットまたは光学面の位置及びそれぞれの切り換え位置に依存する要因のすべてを、重み付け平均によって考慮に入れることができ、即ち、上記汎関数を求める際に（ファセットに依存する）重み関数ｆ(AOI)を導入し、これにより、汎関数：＜ｆ(AOI)×Ｒ(ｄ, ＡＯＩ)＞に次のことが当てはまる。例として、重み関数ｆ(AOI)は、照明系の動作中に光学面がそれぞれの切り換え位置または角度位置において動作することが想定される時間を考慮に入れることができる。このことは、例えば、照明系がそれぞれの照射モードで動作する時間（他の照射モードでの動作持続時間に対する時間）に依存する。これに加えて、あるいはその代わりに、反射率の変化がシステム全体に比較的小さい影響を与える切り換え位置を、反射率の変化が露光プロセスの誤差に比較的大きい影響を与える切り換え位置よりも小さい重み付けで評価することができる。
【００１５】
この場合、厚さの最適値を見つけることは、対応する汎関数の厚さｄについての微分値が０になる厚さｄOPT1を見つけることに相当する。ちょうど２つの角度位置について、この微分値を、同じ重み付けの場合に（即ち、算術平均値として）決定すれば、最適な厚さｄOPT1における厚さｄについての微分値は、これら２つの切り換え位置において、同じ大きさであるが逆の符号を有する。従って、この場合、製造に依存する層厚さの変動、即ち、最適な厚さｄOPT1からの偏差に対する反射率の感度は、両角度位置について同じである。
【００１６】
製造工程に起因して発生する層厚さの（最大）変動または層厚さの公差は、コーティングを生産する際に既に既知であり、コーティングの厚さは、所定公差によって生じる反射率の変化が、すべての角度位置においてできる限り小さい影響を与えるように選択することができる。このことを実現するために、この層厚さを、反射率の最大または上限の（相対）変化が、できる限り小さいか最小である最適な層厚さｄOPT2として選択することができる。
【００１７】
反射率に対する製造誤差の影響を低減するための他の選択肢は、上記少なくとも２つの角度位置において反射率が同じ大きさを有するようにコーティングの厚さを選択することから成る。こうした厚さを選択する方法は、特に単純であり、厚さの公差に対する反射率の感度の大幅な低減を同様にもたらす。
【００１８】
上述した３つの基準は、一般に、異なる最適な層の厚さをもたらす。コーティングを塗布する前に（最大）製造公差が既知である場合、一般に、第２の基準を用いることが、より有利であることは明らかである。しかし、（例えば、すべての角度位置にわたって平均した入射角についての反射率を最大にすることによって）層の厚さを設定する他の選択肢に比べれば、３つの場合のすべてにおいて、製造中の変動に対する感度の大幅な低減を達成することができる。
【００１９】
１つの好適例では、（一般に離散した）（傾斜）角度位置のうち２つの角度差がいずれも、少なくとも１°であり、少なくとも２°、特に少なくとも３°であることが好ましい。（ハニカム・コンデンサ、例えば瞳孔ファセットミラーの場合に）後続する光学系の照射をできる限りフレキシブルに設定することができるためには、傾斜角の角度位置のできる限り大きな変化が望ましい。上記少なくとも２つの異なる角度位置間で切り換える際には、入射角の大きな変化は不所望であるが、このことは一般に回避することができないか、あるいは、光学素子の光学面の少なくとも一部について、大きな困難を伴って回避することしかできない。上記最適化は、複数の（離散した）角度位置について行うことができ、これらの角度位置は、大きく（少なくとも１°だけ）互いに分離することができる。
【００２０】
上記光学面は、アクチュエータ装置を用いて、異なる角度位置間で移動させることができる。例として、アクチュエータ装置を、圧電アクチュエータの形態に具体化して、上記光学面の傾斜をもたらすことができる。しかし、例えば独国特許出願公開第１０２００９０５４８８８号明細書（特許文献１）に記載された方法で、それぞれのファセット素子を回転軸の周りに回転させることによって、異なる角度位置に設定することもできることは明らかである。しかし、特に（視野）ファセットミラーの場合、一般に、特定の離散した角度位置しか用いることができず、これらの角度位置はアクチュエータ装置によって設定され、これらの角度位置について反射率を最適化しなければならない。一般に、これらの角度位置の間にある中間値については、こうした最適化は必要でない。
【００２１】
一般に、離散した傾斜角度位置には、離散した入射角を割り当てることができる、というのは、離散した入射角の周りの入射角分布は、異なる切り換え位置における（離散した）入射角どうしの差に比べれば、非常に狭いからである。この場合、上述した汎関数＜ｆ(AOI)×Ｒ(ｄ, ＡＯＩ)＞AOIは、異なる傾斜角度位置における厚さに依存する反射率のすべてにわたる合計値となり、これらの異なる傾斜角度位置はいすれも、ちょうど１つの入射角が割り当てられる。しかし、汎関数＜ｆ(AOI)×Ｒ(ｄ, ＡＯＩ) ＞AOIは、必ずしも合計の形式で得られる必要はなく、一般に、複数の区間内で（即ち、特定の入射角範囲について）重み関数ｆ(AOI)が随意的に０になる積分を構成することは明らかである。上述した場合に、重み関数ｆ(AOI)は、（随意的に、各々が重み係数を有する）デルタ関数として表すことができ、このことは、離散した場合（合計を求めること）に相当する。
【００２２】
他の好適例では、反射コーティングの厚さが、光学面上の位置に応じて変化し、正確には、一般に、それぞれの（空間依存性の）入射角、あるいはそれぞれの（空間依存性の）入射角スペクトルに依存する。この場合、離散した入射角は、角度位置または傾斜位置に割り当てず、むしろ、反射コーティングの厚さを、光学面上の位置に応じて最適化し、その結果、こうした位置に応じて変化するコーティングの厚さが設定される。
【００２３】
他の好適例では、照明系が、照明放射を発生するための光源を有し、その波長スペクトルは、照明系の動作波長において最大強度を有する。それぞれの角度位置におけるコーティングの反射率は、一般に、離散した入射角に対して最適化されるが、随意的に、それぞれの角度位置における（狭い）入射角分布全体にわたる最適化もあり得る（上記参照）。コーティングの反射率は、追加的に、光学面上に入射する照明放射の波長に依存する。最も単純な場合には、個別の角度位置における反射率を動作波長について測定することができ、動作波長では、照明放射の強度が最大になる。
【００２４】
他の好適例では、光学素子をファセットミラーとして具体化することができ、このファセットミラーのファセット素子上に光学面を形成する。照明系では、照明系の異なる照射瞳孔（角度分布）を発生するための異なる照明設定、例えばダイポール照明、等を設定するために、ファセットミラーを用いることが多く、これらのファセットミラーのファセット素子を、異なる角度位置間で切り換えることができる。一般に、この場合２つのファセットミラーを利用し、ビーム経路中の第１ファセットミラーのファセット素子の切り換え状態間で切り換えることによって、ビーム経路中の下流にあるファセットミラーのファセット素子への割り当てを、所望の照明設定に応じて切り換えることができる。
【００２５】
他の態様は、光学装置、特に基板を露光するためのＥＵＶリソグラフィー装置に関するものであり、この光学装置は照明系を具え、この照明系は上述したように具体化される。この照明系は、所定の照明視野を照射する働きをし、この照明視野上にマスク（「レチクル」）を配置し、下流の投射レンズを用いて、このマスクを感光性基板上にスケールを低減して結像させる。
【００２６】
１つの好適例では、光学装置の光源によって発生し、この光学装置の他の光学素子によってフィルタ処理された波長スペクトル全体にわたって、少なくとも２つの角度位置において平均化を実行して、光学素子または光学面の反射コーティングの厚さに依存する反射率を測定する。例えばＥＵＶリソグラフィー装置の形態の光学装置では、複数の光学素子が存在し、これらの各々が、入射する照明放射に対してスペクトルフィルタのように作用する。従って、元々比較的広い光源のスペクトルは、それぞれの光学素子上で反射する毎に、より狭くなる。一般に、光学装置から出射する波長分布、即ち、ＥＵＶリソグラフィー装置の場合には、感光性基板またはウェハー上に到達するスペクトル分布が、層の厚さを最適化するために重要である。従って、それぞれの光学素子の層の厚さを最適化するためには、光源の放射スペクトルの分布、及び（最適化すべき光学素子のビーム経路中の上流及び下流にある）他の光学素子のスペクトルフィルタ効果を、共に考慮に入れるべきである。
【００２７】
本発明の他の態様は、光学装置の照明系、特にＥＵＶリソグラフィー装置の照明系用の光学素子の光学面の反射層の厚さを最適化する方法において実現され、この方法は、コーティングの厚さに依存する反射率を、少なくとも２つの角度位置において測定するステップであって、上記光学面は、光源の照射ビーム経路中に位置合わせすることができるステップと、コーティングの厚さを、上記少なくとも２つの角度位置における厚さに依存する反射率から求めた平均値が最大になるように決定するか、あるいは、コーティングの厚さを、コーティングの厚さの公差によって生じる、厚さに依存する反射率の最大変化が、それぞれの角度位置において最小になるように決定するか、さもなければ、コーティングの厚さを、上記少なくとも２つの角度位置において上記反射率が同じ大きさを有するように決定するか、のいずれかを行うステップとを含む。
【００２８】
この方法は、一般に、後続するコーティング手順の前に適用され、コーティング手順中に、コーティングを基板上または光学面上に塗布する。上記方法の第２の代案を実行するためには、生産工程中に発生する厚さの公差が既知であるか、この公差を推定することができる必要がある。
【００２９】
上記方法の１つの変形例では、上記少なくとも２つの角度位置のすべてにわたる重み付けを行って平均値を求め、これらの角度位置の重み付けはいずれも、光学素子上の、最適化すべき光学面の位置（あるいは、それぞれのミラーファセット）に依存する。以上でさらに説明したように、例えば、それぞれの切り換え位置における光学面の動作持続時間の比率、及び／または、それぞれの切り換え位置における反射率の変化の、露光プロセス中の誤差に対する影響を、重み付けのための考慮に入れることができる。
【００３０】
１つの変形例では、角度位置のうち２つの相互間の角度差がいずれも、少なくとも１°であり、少なくとも２°、特に少なくとも３°であることが好ましい。一般に、上述した方法は、複数の離散した角度位置について測定または計算（シミュレーション）した厚さに依存する反射率曲線に基づいて適用される。それぞれの角度位置における照明放射の対応する入射角は、互いにできる限り小さく外れるべきであるが、このことは、一般に、照明系の要求に起因して、例えば設置空間を考慮すれば、すべてのミラーファセットについて実現することはできない。上述した層の厚さの最適化は、入射角が大きくなるほど、あるいは、異なる角度位置における入射角の差が大きくなるほど、さらに重要になる。
【００３１】
１つの変形例では、反射コーティングの厚さを、光学面上の位置に応じて決定する。この場合、反射コーティングの反射率は、光学面上の点毎の適切な厚さの選択によって個別に最適化し、それぞれの位置に存在する入射角スペクトルを考慮に入れて最適化する。このことは、一般に、反射面全体にわたって位置に応じて変化する厚さを有する反射コーティングを生じさせる。
【００３２】
他の変形例では、光学素子の少なくとも１つの光学面の反射コーティングの厚さに依存する反射率を、上記少なくとも２つの角度位置において、光源によって生成され光学装置の他の光学素子によってフィルタ処理された波長スペクトル全体にわたって平均する。光学装置から出射して、例えばＥＵＶリソグラフィー装置の場合はウェハーに到達する波長依存性の強度分布全体にわたって平均をとることによって、層厚さ最適化の精度を増加させることができる。
【００３３】
本発明の最終的な態様は、光学装置の照明系用の、特にＥＵＶリソグラフィー装置の照明系用の光学素子の光学面上に反射コーティングを生成する方法に関するものであり、この方法は、上述した方法により決定した厚さを有するコーティングを上記光学面上に塗布するステップを含む。このコーティングは種々の方法で塗布することができ、代表的なものは、例えばＣＶＤ（chemical vapor deposition：化学気相成長）による、あるいはＰＶＤ（physical vapor deposition：物理気相成長）による、それぞれの層物質の気相からの堆積がある。ここで、このコーティングは、一般に、屈折率が交互する複数の層対を有し、その層の厚さは、動作波長または波長依存性の強度分布に整合し、かつ入射角または入射角スペクトルに整合する。所定の入射角については、個別の層の層厚さの小さな変化、あるいは全体の厚さの小さな変化でも、コーティングの反射率の少なからぬ変化を生じさせることがある。
【００３４】
本発明の他の特徴及び利点は、図面中の各図に基づく、以下の本発明の好適な実施形態の説明、及び特許請求の範囲より明らかになり、これらの図は、本発明にとって不可欠な細部を示す。個々の図は、各々を個別に、単独で実現することができ、あるいは、いくつかは、本発明の変形例では、任意の組合せの形に組み合わせることができる。
【００３５】
図面
好適な実施形態を、概略的な図面中に表現して、以下の記載に置いて説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】２つのファセットミラーを配置した照明系を有するＥＵＶリソグラフィー装置を概略的に例示する図である。
【図２ａ】２つの異なる角度位置にあるファセット素子を概略的に例示する図である。
【図２ｂ】２つの異なる角度位置にあるファセット素子を概略的に例示する図である。
【図３】図２ａ、ｂのファセット素子に塗布した反射コーティングを概略的に例示する図である。
【図４ａ】図２ａ、ｂ中の２つの角度位置、及び他の角度位置について、厚さに依存する反射率曲線を概略的に例示する図である。
【図４ｂ】上記２つの角度位置についての２つの反射率曲線を、図４ａと同様に例示する図である。
【図４ｃ】上記２つの反射率曲線の平均値を形成する他の反射率曲線を、図４ｂと同様に例示する図である。
【図４ｄ】製造に依存する所定の厚さ許容誤差に応じた反射率の相対変化を例示する図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
図１は、ＥＵＶリソグラフィー装置１を概略的に示す。この装置は、ＥＵＶ放射を発生するＥＵＶ光源を有し、このＥＵＶ放射は、５０nm以下の、特に約５nm〜１５nmのＥＵＶ波長範囲内で高いエネルギー密度を有する。例として、ＥＵＶ光源２は、レーザー誘起プラズマを発生するプラズマ光源の形態で、あるいはシンクロトロン放射源として具体化することができる。特に前者の場合、図１に示すように、集光鏡（コレクタミラー）３を用いて、ＥＵＶ光源２からのＥＵＶ放射を集束させて照射ビームを形成し、従って、エネルギー密度をさらに増加させることができる。照射ビーム４は、動作波長λBの周りの狭帯域波長範囲内に集中した波長スペクトルを有し、この動作波長でＥＵＶリソグラフィー装置１が動作する。動作波長λBを選択するために、あるいは上記狭帯域波長範囲を選択するために、単色光分光器（図示せず）を随意的に利用することができる。
【００３８】
照射ビーム４は、照明系１０を用いて、構造化された物体Ｍを照射する働きをし、本例では、照明系１０が５つの光学素子１２〜１６を有する。例として、構造化された物体Ｍは反射マスクとすることができ、この反射マスクは、反射領域、及び無反射領域または少なくとも反射強度がより小さい領域を有して、少なくとも１つの構造を物体Ｍ上に生成する。その代わりに、構造化された物体Ｍが複数のマイクロミラーを有することができ、これらのマイクロミラーは、一次元または多次元配列の形に配置され、随意的に、少なくとも１つの軸線の周りを移動して、ＥＵＶ放射４の入射角をそれぞれのミラー上に設定することができる。
【００３９】
構造化された物体Ｍは、照射ビーム４の一部を反射して投射ビーム５を形成し、投射ビーム５は、構造化された物体Ｍについての情報を伝え、投射レンズ２０内に放射され、追加的な４つのミラー光学素子２１〜２４を有して、構造化された物体Ｍ、あるいはその各部分の像を基板Ｗ上に生成する。基板Ｗ、例えばウェハーは、半導体材料、例えばシリコンを有し、マウント上に配置され、このマウントはウェハーステージＷＳとも称する。
【００４０】
本例の場合、照明系１０内の第２及び第３反射素子１３、１４は、ファセットミラーとして具体化され、マイクロミラーの形態の複数のファセット素子を有し、これらのファセット素子はグリッド（格子状）配置の形に配列されている。図１には、４つのファセット素子を、光学素子１３、１４毎に例示的な様式で示し、これらのファセット素子は、それらの対応する第１及び第２光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄを有する。第１光学素子１３は、視野ラスター素子としても示し、照明系１０内に二次的光源を生成する働きをする。第２光学素子１４は、第１光学素子１３によって生成される二次光源の位置に配置され、瞳孔ラスター素子１４とも称する。
【００４１】
第１光学素子１３のそれぞれの光学面１３ａ〜ｄ上に入射する照射ビーム４の部分ビームは、この光学面上で偏向されて第２光学素子１４の光学面１４ａ〜ｄに至る。第１光学素子１３の光学面１３ａ〜ｄは、長方形にすることができ、例えば２０：１のアスペクト比（ｘ：ｙ）を有することができ、Ｘ方向は図１の描画の平面に直交して延びる。
【００４２】
本例では、第１光学素子１３の第１光学面１３ａ〜１３ｄの各々を、Ｘ方向に平行に延びる軸方向の周りに傾斜させることができる。これに加えて、それぞれの光学面１３ａ〜ｄは、随意的に、Ｘ−Ｚ面（描画の平面）内にある他の軸線の周りに傾斜可能にすることもできる。これは、照射ビーム４が光学面１３ａ〜ｄ上に入射する向きを設定する方法である。特に、この傾斜の結果、第１光学素子１３の光学面１３ａ〜ｄと第２光学素子１４の光学面１４ａ〜ｄとの間の配置を変化させて、照射される物体Ｍの位置に所望の照射分布（照射瞳孔または角度分布）を生成することができる。
【００４３】
所望の照射瞳孔に対応するそれぞれの照射モード（「設定」）を選択するために、例えば、出願人による米国特許第６６５８０８４号明細書（特許文献２）に記載されているように、第１光学素子１３の光学面１３ａ〜ｄと第２光学素子１４の光学面１４ａ〜ｄとの間の配置を選択することができ、この特許文献は、その全文を参照する。どの切り換え位置を光学素子１３の光学面１３ａ〜ｄ用に選択するかに応じて、照射ビーム４のそれぞれの部分ビームを第２光学素子１４の異なる光学面１４ａ〜ｄに指向させて、それぞれの所望の照明設定、例えば環状照明またはダイポール照明を実現する。一般に、光学素子１３の光学面１３ａ〜ｄと光学素子１４の光学面１４ａ〜ｄとの１：１の割り当てを、それぞれの照明モードにおいて、あるいは所定時刻に選択する。しかし、第１光学素子１３の光学面１３ａ〜ｄのうち２つ以上を第２光学素子１４の単一の光学面１４ａ〜ｄに割り当てて、異なる照明モードを設定するような割り当てを、随意的に行うこともできる。この関係の詳細は、出願人による米国特許出願公開第２００９／００４１１８２号明細書（特許文献３）に見出され、その全文を参照する。
【００４４】
図２ａ、ｂに、第１光学素子１３のすべてのファセット素子の代表例として、個別のファセット素子１９を、関連する光学面１３ａ及び割り当てられたアクチュエータ装置１７と共に示し、アクチュエータ装置１７は、ファセット素子１９を照射ビーム経路４中で位置合わせする働きをする。アクチュエータ装置１７は、ファセット素子１９または光学面１３ａを傾斜させるように具体化することができるが、随意的に、例えば出願人による独国特許出願公開第１０２００９０５４８８８号明細書（特許文献１）に例示されているように、このファセット素子を回転軸の周りに回転させる働きをすることもでき、特許文献１はその全文を参照する。アクチュエータ装置１７は、信号線（図示せず）を用いて、中央制御装置（図示せず）との信号接続を行って、それぞれの光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄに割り当てられたアクチュエータ装置１７を、互いに独立して作動させることができる。ここで、数個または全部のアクチュエータ装置１７を同時に、あるいは続けて作動させて、異なる照明設定間で切り換えることができる。
【００４５】
図２ａには、第１ファセットミラー１３のファセット素子１９を、アクチュエータ装置１７を用いて設定された第１の傾斜角度位置α1＝７３°に示し、この位置に、光学面１３ａの表面法線が、入射する照射ビーム４の部分ビームに対する入射角β1＝１７°に配置されている。一方、図２ｂには、ファセット素子１９を第２の傾斜角度位置α2＝７７°に示し、この位置に、光学面１３ａの表面法線が、入射する照射ビーム４の部分ビームに対する入射角β2＝１３°に位置合わせされている。本例では、アクチュエータ装置１７を用いて、光学面１３ａを他のいくつかの傾斜角度位置で動作させることもできることは明らかであり、これらの傾斜角度位置は、図２ａ、ｂに示す２つの角度位置α1、α2間にあり、ファセット素子１９の回転軸または傾斜軸に直交する平面内で測定され、この回転軸または傾斜軸は、図２ａ、ｂ中の描画の平面に直交するように位置合わせされ、光学面１３ａの中心軸を形成する。残りの位置では、アクチュエータ装置１７がファセット素子１９に力を加えず、ファセット素子１９を位置合わせする角度は、例えばα0＝９０°に存在することができる（図２ａ、ｂには図示せず）。
【００４６】
光学素子１３のそれぞれの光学面１３ａ〜ｄ上に入射する照射ビーム４の部分ビームが、光学素子１４の光学面１４ａ〜ｄ上に偏向される（光学面１４ａ〜ｄどうしの間には偏向されない）ことを意図しているので、一般に、第１光学面１３ａ〜ｄの少数の（離散した）角度位置α1, α2, ...αNのみが好都合であり、照明系１０の動作中に上記制御装置を用いて設定される。図２ａ、ｂでは、入射する照明放射４の向きが、両角度位置α1、α2において同一である。しかし、それぞれの切り換え位置にある、第２光学素子１４の光学面１４ａ〜ｄの場合、入射する照明放射４の向き、従って入射角の向きは、特定の照明モードでそれぞれの光学面１４ａ〜ｄに割り当てられた、第１光学素子１３の光学面１３ａ〜ｄのそれぞれの角度位置α1、α2に依存し、当然、最適化中に考慮に入れる必要があることは明らかである。
【００４７】
光学素子１３、１４のそれぞれの光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄ上で照明放射４を反射させるために、これらの光学面上に反射コーティングを塗布し、このことを、図２ａ、ｂのファセット素子１９について、例示的な様式で図３に示す。反射コーティング１８は多層コーティングであり、複数のサブユニット２５を有し、各サブユニット２５は２つの個別層２６、２７を有し、これらの個別層は、異なる屈折率を有する物質から成る。１３．５nmの領域内の波長λBを有するＥＵＶ放射を使用する場合、個別層２６、２７は、通常、モリブデン及びシリコンから成る。動作波長λBに応じて、例えばモリブデンとベリリウム、ルテニウムとベリリウム、あるいはランタンとＢ4Ｃのような他の物質の組合せも、同様に可能である。
【００４８】
個別層２６、２７に加えて、反射コーティングは、拡散を防止するための中間層、及び酸化または腐食を防止するためのキャップ層を含むこともできるが、これらは図３に示さず、厚さの最適化に当たり考慮に入れない。以下の文章では、厳密な意味で、反射コーティング１８全体がＥＵＶ放射の反射を行う場合でも、ファセット素子１９を光学面１３ａと称する。多層コーティング１８が塗布されるファセット素子１９の材料は、金属材料、例えばルテニウムとすることができるが、随意的に、いわゆるゼロ膨張材料、例えばＵＬＥ（Ultra Low Expansion）（登録商標）、Ｚｅｒｏｄｕｒ（登録商標）、等を利用することもできる。
【００４９】
この場合、コーティング１８の個別層の厚さは、コーティング１８が照明放射４に対して最大可能な反射率を有するように、照明放射の波長λB（及びそれぞれの入射角）に整合させることができる。簡略化の目的で、以下では、反射コーティング１８がＮ個のサブユニット２５を有し、サブユニット２５はいずれも、２つの個別層２６、２７を有し、即ちｄ＝Ｎ×ｄUが当てはまり、ここにｄUは、それぞれのサブユニット２５の厚さ（即ち、高屈折率及び低屈折率を有する個別層２６、２７の厚さの合計）を表す。最大反射率は、一般に、サブユニット２５の厚さｄUが、入射角及び使用する波長λB（または使用する波長スペクトル）についてのブラッグ条件を満たす場合に得られる。ここで、入射角は、照明放射４がコーティング１８内、あるいはその個別層２６、２７内を横切る光路長に影響を与え、このため、反射率は入射角にも依存する。
【００５０】
図４ａに、反射率Ｒの、コーティング１８の厚さｄへの依存性を、図２ａ、ｂの第１角度位置α1（第１の反射率曲線Ｒ1）及び第２角度位置α2（第２の反射率曲線Ｒ2）について示す。ここで観測される約７．０５nm〜約７．２nmの厚さの範囲内では、２つの反射率曲線Ｒ1、Ｒ2が、厚さｄへの逆依存性を有し、即ち、第１の反射率曲線Ｒ1は、図示する厚さの区間の下端（約７．０５nm）で最大反射率を有するのに対し、第２の反射率曲線Ｒ2は、図示する厚さの区間の上端（約７．２nm）で最大反射率を有することが明らかにわかる。従って、所定の厚さｄにおけるコーティング１８の反射率Ｒを、角度位置α1、α2の両者について同時に最大にすることはできない。
【００５１】
角度位置α1、α2の両者において、まだ許容可能な反射率Ｒが達成されるようなコーティング１８の厚さを設定するための１つの選択肢は、最初に、厚さに依存する反射率曲線ＲαMを、２つの角度α1、α2の平均値、即ち、本例の場合αM＝1/2(α1＋α2)＝１５°について決定し、反射率曲線ＲαMが最大値を有するようなコーティングの厚さｄO1を選択することから成る。本例では、この最大値は、７．１２４２nmなる厚さｄO1の所にある。
【００５２】
しかし、こうした設定が、反射コーティング１８を光学面１３ａ上に塗布するためのコーティングプロセスにおいて製造に依存する厚さの公差が発生し、これにより、コーティングの厚さが７．１２４２nmの意図した厚さｄO1から外れるのが一般的である場合に、問題が生じる。コーティングプロセス中に、意図した層の厚さｄO1が正確に実現されない場合、このことは、場合によっては、反射率Ｒの大幅な低下をもたらすことがある。図４ａに示す例については、０．１％の厚さの相対誤差Δｄ／ｄO1の場合に、即ち、意図した厚さｄO1からの厚さの比較的小さい偏差が、既に反射率Ｒの大幅な低下をもたらす場合に、反射率の相対変化ΔＲ／Ｒは４％である。
【００５３】
以上でさらに例示したように、コーティング１８の反射率Ｒは、両方の角度位置α1、α2に対して同時に最大にすることはできない。しかし、コーティング１８を塗布する際に製造工程に起因して発生する、意図した厚さまたは相対的な厚さの公差からの偏差が、反射率に対して、あるいは反射率の相対変化に対して、できる限り小さい影響を与えるように、コーティングの厚さを選択すべきである。
【００５４】
最適化された厚さを選択するためのこうした選択肢を、図４ｂに示す。ここでは、コーティング１８の厚さｄO2を選択し、この厚さで、２つの角度位置α1、α2について反射率Ｒ1、Ｒ2が同じ大きさを有し、本例の場合、厚さｄO2は７．１４４４nmであり、この厚さでＲ1＝Ｒ2が成り立つ。この厚さを選択するための、反射率曲線Ｒ1、Ｒ2の交点の選択が、既に、厚さの公差に対する反射率の感度の大幅な低下をもたらす。０．１％の相対的な厚さの公差Δｄ／ｄO2の場合、反射率の相対変化ΔＲ／Ｒは、約２．１２％であるに過ぎない。
【００５５】
以下の文章では、コーティング１８の厚さを選択するための他の２つの選択肢を、図４ｃ及び図４ｄに基づいて説明し、これらの選択肢によって、製造変動の影響をさらに低減することができる。図４ｃに示す、コーティング１８の厚さを選択するための基準では、２つの反射率曲線Ｒ1、Ｒ2から、平均値ＲM＝1/2(Ｒ1＋Ｒ2)を最初に求め、この平均値は図４ｃ中に破線で示す。この厚さに依存する平均値ＲMを最適化し、即ち、反射率曲線ＲMを最大にする厚さｄOPT1を決定する。本例では、ｄOPT1＝７．１５０４nmの場合である。こうしたコーティングの厚さの選択については、０．１％なる所定の厚さの公差Δｄ／ｄの場合、反射率の相対変化ΔＲ／Ｒは、約１．７４％であるに過ぎない。
【００５６】
図４ｄに示す、コーティング１８の厚さを選択するための基準では、所定の厚さｄについて、相対的な厚さの公差Δｄ／ｄを最初に事前決定し、本例では、この値が０．１％である。既知の反射率曲線Ｒ1、Ｒ2を用いて、この厚さの公差Δｄ／ｄに関連する反射率の相対変化ΔＲ1／Ｒ1、ΔＲ2／Ｒ2を、２つの角度位置α1、α2において測定する。その後に、２つの角度位置α1、α2における反射率ΔＲ1／Ｒ1、ΔＲ2／Ｒ2の変化の最大値を構成する曲線の最小値を求め、即ち、max(ΔＲ1／Ｒ1, ΔＲ2／Ｒ2)の値（ΔＲ1／Ｒ1、ΔＲ2／Ｒ2のうち大きい方の値）を最小にするような厚さｄOPT2の値を決定する。本例では、ｄOPT2＝７．１５１２nmが、この基準により決定した厚さとなる。この厚さでは、反射率の相対変化ΔＲ／Ｒは１．７０％であるに過ぎず、従って、図４ｃにより決定した厚さｄOPT1の場合よりもさらに低い。
【００５７】
図４ｄに関連して説明したように、コーティング１８の厚さｄOPT2を設定するためには、（相対）製造公差を知るか、これらの製造公差を測定する必要がある。製造公差は、とりわけ、コーティング１８を塗布するために用いるコーティングプロセスの種類、及び使用するコーティングパラメータに依存する。製造公差が未知である場合、これらの公差を推定することができる。図３では、明瞭にする目的で、意図した厚さからの厚さｄの偏差Δｄを誇張した様式で示していることは明らかである。一般に、測定した反射率の変化は、意図した厚さｄの偏差Δｄに起因し、この偏差は光学面１３ａ全体にわたって一定である。しかし、ここで説明したコーティング１８の厚さの最適化は、随意的に、位置に依存する方法で行うこともでき、即ち、光学面１３ａの点毎に、その点に入射するそれぞれの入射角スペクトルを考慮に入れ、その結果、コーティング１８は、一般に、光学面１３ａ全体にわたって変化する厚さで得られる。
【００５８】
図４ｃに関連して表現した方法及び図４ｄに関連して表現した方法は、共に、当業者がすぐわかる方法で、３つ以上の角度位置α1, α2, ...αN（Ｎ＞２）に一般化することができるが、図４ｂに関連して説明した方法の場合、このことは直ちに可能ではない、というのは、３つ以上の角度位置の場合、一般に、反射率曲線に共通の交点が得られないからである。下流の光学系の、できる限りフレキシブルな照明を可能にするためには、個別の傾斜角α1, α2, ...の差が小さ過ぎなければ有利である。このことは、一般に、これらの角度位置のうちの２つαa、αbの差分の角度|αa−αb|が、少なくとも１°である場合であり、少なくとも２°、特に少なくとも３°であることが好ましい。しかし、異なる角度位置におけるそれぞれの入射角は、互いに異なり過ぎないべきである。異なる角度位置α1, α2, ...における、それぞれの光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄ上への入射角が大きいほど、あるいは入射角どうしの差が大きいほど、上述したコーティング１８の厚さｄの最適化が重要になる。
【００５９】
コーティング１８の、２つの角度位置α1、α2におけるそれぞれの反射率Ｒ1、Ｒ2は、光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄに入射する照明放射４の波長に依存することは明らかである。最も簡単な場合、個別の角度位置α1、α2の反射率は、動作波長λBに対して測定することができ、この動作波長で、照明放射の強度が最大になる。コーティング１８の厚さの意図した値を設定する際の精度を改善するために、すべての入射角ＡＯＩにわたって平均値を求めることもでき、あるいは、照明放射４の波長スペクトル全体にわたって平均値を求めることもでき、即ち、反射率は、＜＜ｆ(AOI)×ｇ(λ)×Ｒ(ｄ, ＡＯＩ, λ)＞AOI＞λとして出る。
【００６０】
この場合、最適化すべき上記汎関数中の重み係数ｇ(λ)は、ＥＵＶリソグラフィー装置１のすべての光学素子１２〜１６、Ｍ、２１〜２４の影響後にウェハーＷ上の目標領域内に到達する波長スペクトルに関係する。従って、重み付けｇ(λ)のために、光源２の波長スペクトル、及び光源２によって供給される照明放射４の、ＥＵＶリソグラフィー装置１のスペクトルフィルタ処理を行うすべての光学素子１２〜１６、Ｍ、２１〜２４上でのスペクトルフィルタ処理を考慮に入れる。
【００６１】
入射角スペクトル全体にわたる重み付けｆ(AOI)は、所定の傾斜角の場合に、入射角スペクトルが離散していないことを確かめて行うことができる。所定の角度位置α1、α2における単一の（離散した）入射角の仮定の下で、すべての入射角ＡＯＩにわたって平均をとる際に、上記汎関数は、それぞれの傾斜角度位置α1、α2における反射率の合計に相当し、随意的に、角度位置α1、α2毎に異なる重み係数を考慮することになる。
【００６２】
重み係数ｆ(AOI)は、一般に、それぞれの光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄ毎に異なり、そして、離散した場合及び連続した場合共に、照明系１０の動作中に、第１の傾斜角α1に割り当てられた入射角または入射角範囲を、第２の傾斜角α2に割り当てられた入射角または入射角半によりも少数回用いることを考慮に入れることができる。重み関数ｆ(AOI)は、コーティング１８の反射率の変化が、ＥＵＶリソグラフィー装置１の露光プロセスにおける誤差に、入射角（及びそれぞれの光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄ）に応じて顕著さが異なる影響を与えることを考慮に入れることもできる。
【００６３】
照明放射４の角度位置または入射角は、一般に、照射ビーム経路中のそれぞれの光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄに依存するので、それぞれの光学素子１３、１４の生産中に、個別に最適化された厚さｄOPT1、ｄOPT2、ｄO2を有するコーティング１８を、個別のファセット素子１９のそれぞれの光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄに塗布することができる。複数のファセット素子１９について、あるいは随意的にこれらのファセット素子のすべてについて、個別の角度位置が同じである場合、同一の厚さｄOPT1、ｄOPT2、ｄO2を有するコーティング１８を、関連する光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄに塗布することができる。この場合、コーティングプロセスは、対応する数のファセット素子１９について、並行して、あるいは同時に生じることができる。
【００６４】
以上でさらに述べたこととは異なり、コーティング１８を、塗布すべき光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄ全体にわたって均一な厚さｄOPT1、ｄOPT2、ｄO2で塗布することは必須ではなく、それぞれの光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄにおけるコーティング１８の厚さの位置に応じた最適化も、随意的にあり得ることは明らかである。こうした位置に応じた最適化は、それぞれの光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄにおける入射角スペクトルが位置に応じて変化し得ることを考慮に入れる。
【００６５】
層の厚さの最適化を、ＥＵＶリソグラフィー装置に関連して説明したが、他の光学装置内の照明系、例えばＵＶ（ultra-violet：紫外線）リソグラフィー用の照明系が、いくつかの異なる（特に離散した）角度位置で動作する光学素子を備えていれば、上述した基準を、他の光学装置内の照明系において、例えばＵＶリソグラフィー用の照明系において有利な方法で用いることもできることは明らかである。また、以上の説明では、単一の傾斜軸に対する角度位置α1、α2のみを考慮した。しかし、アクチュエータ装置１７を用いて、光学面１３ａ〜ｄ、１４ａ〜ｄを他の傾斜軸、例えば第１の傾斜軸に直交する傾斜軸によって傾斜させることもできる場合、厚さを最適化する際に、この追加的な傾斜軸の周りの角度位置も同様に考慮に入れることができることは明らかである。
【図１】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【図４ｄ】
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