(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
縮小投影露光装置を用いて露光することにより、感光性樹脂材料を含む層に吐出口のパターンを形成する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部である、テレセン測定パターンＡを、マスクを介した露光により前記感光性樹脂材料を含む層に形成する第一の工程と、
前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部である、テレセン測定パターンＢを、マスクを介した露光により前記感光性樹脂材料を含む層に形成する第二の工程と、
を含み、
前記テレセン測定パターンＡおよび前記テレセン測定パターンＢの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記第二の工程において、前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、テレセン測定パターンＢと共に吐出口のパターンを露光により形成する請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記テレセン測定パターンＡおよび前記テレセン測定パターンＢの少なくとも一方が、前記感光性樹脂材料を含む層の第一の面に形成される請求項１又は２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記テレセン測定パターンＡ又は前記テレセン測定パターンＢのフォーカス位置が、前記感光性樹脂材料を含む層の第一の面に設定される請求項３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記テレセン測定パターンＢが、前記テレセン測定パターンＡの内側に形成される請求項１から４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記第一の工程における前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンＡのパターンの重心位置と、前記第二の工程における前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンＢのパターンの重心位置とが一致している請求項１から５のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンＡと前記マスクに形成された前記テレセン測定パターンＢとが相似形である請求項１から６のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記テレセン測定パターンＢの面積が、前記テレセン測定パターンＡの面積の１０〜９０％である請求項１から７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記テレセン測定パターンＡと、前記テレセン測定パターンＡに最も近接する吐出口との最短距離が２０μｍ以上である請求項１から８のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記デフォーカス量が１μｍ以上である請求項１から９のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
複数の液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドの製造方法であって、
請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法により複数の液体吐出ヘッドを製造する工程と、
前記把握された軸外テレセン度が近い液体吐出ヘッドを選別する工程と、
を含むことを特徴とするインクジェットプリントヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体吐出ヘッドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
吐出口から液体を吐出する液体吐出ヘッドとしては、例えばインクを紙等の記録媒体に吐出して記録を行うインクジェット記録ヘッドが挙げられる。液体吐出ヘッドを製造する方法としては、例えば特許文献１に記載された方法が挙げられる。まず、吐出口から液体を吐出させるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を有する基板を用意する。次いで、基板上に光吸収剤を含むポジ型感光性樹脂の層を形成する。そして、ポジ型感光性樹脂の層に対して露光及び現像処理を行い、流路の形状を有する流路パターンを形成する。次いで、該流路パターンを覆うように吐出口形成部材となる感光性を有する層を形成し、該感光性を有する層に対してｉ線（波長３６５ｎｍ）による露光・現像処理を行い、吐出口を形成する。その後、前記流路パターンを除去することにより、流路を形成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１６６４９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前記方法では、吐出口形成部材となる感光性を有する層に対して露光を行う際、縮小投影露光を用いることができる。この場合、本発明者等は、露光エリアの外周近傍に形成された吐出口について、該吐出口より吐出された液体が理想の着弾位置からずれ、その結果、記録（例えば印字）を行った際に記録品位が低下することを見出した。その原因を解析した結果、本発明者等は、縮小投影露光を行う場合、露光エリアの中央部に比べて露光エリアの端部近傍では、主光線の光軸に対する傾きが大きくなることを見出した。そのため、各吐出口を露光する主光線の光軸に対する傾きは、厳密には僅かに異なる。この差が印字品位に影響することを考えると、液体吐出ヘッド内の吐出口を形成するための主光線の光軸に対する傾きを把握することは、印字品位の向上・安定化につながる。
【０００５】
主光線の光軸に対する傾きは、得られた液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドによって実際に印字を行うことで把握できる。しかしながら、この方法では印字が可能な形態までインクジェットプリントヘッドの作製を進める必要がある。もし印字を行った結果、印字品位が規格を外れた場合には、製品として出荷できない懸念がある。そのため、なるべく早い段階で主光線の光軸に対する傾きを把握することが望ましい。
【０００６】
そこで、吐出口形成の際に、主光線の光軸に対する傾きを把握可能なパターン（以下、「テレセン測定パターン」と呼ぶ）を吐出口形成位置の近傍に形成すれば、液体吐出ヘッドの製造の段階で記録への影響を把握することができると考えられる。さらに、各液体吐出ヘッドについて主光線の光軸に対する傾き度合を一定の値でランク分けすることで、インクジェットプリントヘッドの作製にフィードバックをかけることができると考えられる。例えば、複数の液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドにおいて、ランクの近い液体吐出ヘッドを選別し、インクジェットプリントヘッドの製造に用いることで、インクジェットプリントヘッド全体として印字品位の向上、安定化が期待できる。
【０００７】
本発明は、記録を行った際、液体の着弾位置ずれ量を把握することができる液体吐出ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法は、縮小投影露光装置を用いて露光することにより、感光性樹脂材料を含む層に吐出口のパターンを形成する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部である、テレセン測定パターンＡを、マスクを介した露光により形成する第一の工程と、
前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部である、テレセン測定パターンＢを、マスクを介した露光により形成する第二の工程と、
を含み、
前記テレセン測定パターンＡおよび前記テレセン測定パターンＢの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握する。
【０００９】
また、本発明に係るインクジェットプリントヘッドの製造方法は、複数の液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドの製造方法であって、本発明に係る方法により複数の液体吐出ヘッドを製造する工程と、前記把握された軸外テレセン度が近い液体吐出ヘッドを選別する工程と、を含む。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、得られる液体吐出ヘッドの吐出口の傾きを事前に把握できるため、記録を行った際、液体の着弾位置ずれ量を把握することができる液体吐出ヘッドを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る方法により製造される液体吐出ヘッドの一例を示す模式的斜視図である。
【図２】縮小投影露光装置によって縮小投影露光を行う様子を示した模式的断面図である。
【図３】縮小投影露光における光線および吐出口の傾きを示す模式的断面図である。
【図４】テレセン測定パターンの形成方法の一例を示す模式的上面図である。
【図５】テレセン測定パターンの形成方法の一例および軸外テレセン度の測定原理を示す模式的断面図である。
【図６】実施形態１に係るテレセン測定パターンおよび吐出口の形成工程を示す模式的上面図である。
【図７】実施形態２に係るテレセン測定パターンおよび吐出口の形成工程を示す模式的上面図である。
【図８】実施形態３に係るテレセン測定パターンおよび吐出口の形成工程を示す模式的上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法は、縮小投影露光装置を用いて露光することにより、感光性樹脂材料を含む層に吐出口のパターンを形成する工程を含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの一部である、テレセン測定パターンＡを、マスクを介した露光により形成する第一の工程と、前記第一の工程における露光条件からデフォーカスさせて、前記縮小投影露光装置で生じる軸外テレセン度による主光線の傾きを把握可能な測定パターンの他の一部である、テレセン測定パターンＢを、マスクを介した露光により形成する第二の工程と、を含み、前記テレセン測定パターンＡおよび前記テレセン測定パターンＢの相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、軸外テレセン度を把握する。
【００１３】
また、本発明に係るインクジェットプリントヘッドの製造方法は、複数の液体吐出ヘッドを備えるインクジェットプリントヘッドの製造方法であって、本発明に係る方法により複数の液体吐出ヘッドを製造する工程と、前記把握された軸外テレセン度が近い液体吐出ヘッドを選別する工程と、を含む。
【００１４】
前述したように、本発明者等は、縮小投影露光において、光線がマスクに形成された露光パターンを通過する位置が、吐出口から吐出した液体の着弾位置ずれ量に影響を与えることを見出した。以下、この点に関して詳細に説明する。
【００１５】
図２は、縮小投影露光装置によって縮小投影露光を行う様子を示している。縮小投影露光装置は、光源からの光線束２０をマスク２２に向けて照射する照明光学系２１と、マスク２２に形成された透光パターン（露光パターン）を、感光性樹脂材料を含む層に縮小投影する縮小投影光学系２３と、を備える。ここで、照明光学系２１から照射される光線束２０の中心とマスク２２の中心が同軸上にある場合、マスク２２の外周部に照射される光線２６１は、マスク２２の中心に照射される光線２５よりも、液体吐出ヘッド１の表面に対して傾いて入射する。即ち、マスク２２の中心に照射される光線２５が液体吐出ヘッド１の表面に垂直に入射したとしても、マスク２２の外周部に照射される光線２６１は、液体吐出ヘッド１の表面に垂直な方向に対して僅かに傾く。
【００１６】
マスク２２に形成された露光パターンのうち、マスク２２の外周部付近に配置された露光パターンを通過した光線は、所定の傾きをもって液体吐出ヘッド１に投影されるため、液体吐出ヘッド１上の吐出口も傾いて形成されることになる。傾いて形成された吐出口から吐出される液滴は、理想の着弾位置からずれて記録媒体に着弾することになる。本発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法によれば、この理想の着弾位置からのずれを事前に把握することができる。
【００１７】
図１は、本発明に係る方法により製造される液体吐出ヘッドの一例を示す模式図である。図１に示される液体吐出ヘッド１は、液体を吐出するエネルギーを発生させるエネルギー発生素子２が、所定のピッチで２列に並んで形成された基板１０を有する。基板１０には、液体を供給する供給部３が、エネルギー発生素子２の２つの列の間に開口している。基板１０上には、吐出口形成部材９によって、各エネルギー発生素子２に対応した吐出口１１と、供給部３から各吐出口１１に連通する流路（不図示）が形成されている。
【００１８】
このように、吐出口形成部材９は、流路の一部を形成する部材としても機能する。そこで、吐出口形成部材９に含まれる材料には、高い機械的強度、下地との密着性、耐インク性、更には吐出口１１の微細なパターンをパターニングするための解像性が求められる。これらの特性を満足する材料としては、例えばカチオン重合型のエポキシ樹脂が挙げられる。該エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応物、含ブロモビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応物、フェノールノボラック又はｏ−クレゾールノボラックとエピクロルヒドリンとの反応物が挙げられる。該エポキシ樹脂のエポキシ当量は２０００以下であることが好ましく、１０００以下であることがより好ましい。該エポキシ当量が２０００以下であることにより、エポキシ樹脂の硬化反応の際に架橋密度が低下せず、密着性や耐インク性が向上する。
【００１９】
前記エポキシ樹脂を硬化させるための光カチオン重合開始剤としては、光照射により酸を発生する化合物が挙げられる。例えば、芳香族スルフォニウム塩や芳香族ヨードニウム塩が挙げられる。また、必要に応じて、波長増感剤を添加してもよい。波長増感剤としては、例えば（株）ＡＤＥＫＡより市販されているＳＰ−１００（商品名）が挙げられる。
【００２０】
図１に示される液体吐出ヘッド１は、吐出口１１が形成された第一の面が記録媒体の記録面に対向するように配置される。そして、供給部３を介して流路内に充填された液体（例えばインク）に、エネルギー発生素子２によって発生するエネルギーを加えることによって、吐出口１１から液滴を吐出させる。この液滴を記録媒体に付着させることによって記録を行う。
【００２１】
次に、縮小投影露光装置について、再び図２を用いて説明する。露光には、例えば高圧水銀灯から放射される光線のうちｉ線を用いることができる。露光はこれに限られるものではなく、パターニングする部材が感光する波長を有する光であればよい。
【００２２】
ここで、縮小投影光学系では、フォーカス位置をベストフォーカスからデフォーカスさせると、ディストーション（デフォーカスディストーション）が発生することがある。デフォーカスの度合いによってディストーションの大きさは変化する。本発明では、このデフォーカスディストーションの大きさを「軸外テレセン度」と定義する。「テレセン」とは「テレセントリック」の略称であり、テレセントリック性とは光学系の光軸に対する主光線の平行性を表すものである。
【００２３】
軸外テレセン度の絶対値は、光線束の中心の光線に比べて、光線束の外側の光線の方が大きくなる傾向にある。なお、光線束の中心とは、マスクと平行な断面における、光線束の重心を意味する。光線束の中心とマスクの中心が一致している（同軸上にある）場合、マスク２２の中心に照射される光線２５に比べて、マスク２２の外周部に照射される光線２６１の方が、軸外テレセン度の絶対値は大きくなる。マスク２２の中心と縮小投影光学系２３の光軸は基本的に一致しているので、縮小投影光学系２３の光軸との関係でも同様である。軸外テレセン度の影響により、照明光学系２１からマスク２２に照射される光線２０が、液体吐出ヘッド１の表面に垂直な方向に対して傾きをもつことになる。この光線の傾き角をφ１とすると、１μｍデフォーカスさせることによるディストーションによる結像位置の変化は、１０００×ｔａｎφ１（ｎｍ）と示される。通常、結像位置の変化は「ｎｍ」のオーダーとなるので、傾き角φ１は非常に小さい値であり、ｔａｎφ１≒ｓｉｎφ１としても差し支えない。
【００２４】
図３（ａ）に示されるように、傾き角（入射角）φ１の光線２６２が基板上の吐出口形成部材９に照射されると、パターニングされる吐出口の傾き角φ２は、吐出口形成部材９に含まれる感光性樹脂材料の屈折率をｎ、空気の屈折率を１とすると、φ２≒φ１／ｎと示される。
【００２５】
図３（ｂ）に示されるように、傾き角φ２の光線２６３により形成された吐出口１１から吐出される液滴は、吐出口１１の傾き角φ２によって、吐出口形成部材９の表面である第一の面１５に垂直な方向に対して傾いて吐出される。このため、記録媒体１６に着弾した際に、理想の着弾位置Ａからずれて液体が着弾することになる（実際の着弾位置Ｂ）。第一の面１５から記録媒体１６までの距離をＺとした場合、着弾位置のずれ量Ｌは、Ｌ＝Ｚｔａｎφ２となる。
【００２６】
本発明では、例えば以下のように液体吐出ヘッドを作製することができる。まず、吐出口から液体を吐出させるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を有する基板を用意する。次いで、該基板上に光吸収剤を含む感光性樹脂を含む層を形成する。そして、フォトリソグラフィ法により、該感光性樹脂を含む層に対して露光を行い、流路の形状を有するパターンを形成する。次いで、該パターンを覆うように吐出口形成部材となる感光性樹脂材料を含む層を形成する。該感光性樹脂材料は、ネガ型であってもポジ型であっても良い。
【００２７】
次に、透光パターンが形成されたマスクを介して、前記感光性樹脂材料を含む層に対し、上記の縮小投影露光装置を用いて縮小投影露光する。なお、マスクには、感光性樹脂材料を含む層に形成する吐出口パターンに対応する透光パターンが形成されている。ここで、該マスクにテレセン測定パターン用の透光パターンが形成されていてもよく、該マスクとは別のマスクにテレセン測定パターン用の透光パターンが形成され、別途縮小投影露光が行われてもよい。それから、現像処理を行うことにより、マスク上の透光パターンに対応する吐出口パターン、テレセン測定パターンが感光性樹脂材料を含む層に形成される。その後、吐出口を介して前記流路パターンを除去することにより、吐出口形成部材内に流路が形成される。
【００２８】
次に、本発明におけるテレセン測定パターンの製造プロセスの一例について説明する。図４（ａ）〜（ｃ）は、吐出口形成部材９上にテレセン測定パターンを形成する方法の一例を示す模式的上面図である。図４（ａ）に示されるように、吐出口形成部材９の第一の面上にテレセン測定パターン外枠１７となるパターン（以下、「テレセン測定パターンＡ」と示す）を縮小投影露光により形成する。また、便宜上、図４（ａ）に記載の通り、ｘ方向およびｙ方向を設定する。吐出口形成部材９を形成する感光性樹脂材料は、先述の通り、ネガ型であってもポジ型であっても良いが、以降ネガ型の場合を考える。図４（ａ）において、テレセン測定パターン外枠１７で囲まれる領域は未露光領域であり、つまりテレセン測定パターンＡは未露光領域で形成される。次いで、図４（ｂ）に示されるように、テレセン測定パターン内枠１８となるパターン（以下、「テレセン測定パターンＢ」と示す）を、先ほど形成したテレセン測定パターンＡの内側に形成する。図４（ｂ）において、テレセン測定パターン内枠１８で囲まれる領域は露光領域であり、つまりテレセン測定パターンＢは露光領域で形成される。この時、テレセン測定パターンＢはテレセン測定パターンＡを形成したフォーカス値からデフォーカスさせて形成する。マスクに形成されたテレセン測定パターンＢはマスクに形成されたテレセン測定パターンＡと相似形であることが好ましい。また、マスクに形成されたテレセン測定パターンＡの重心位置と、マスクに形成されたテレセン測定パターンＢの重心位置とが一致するようにパターン位置を設定する。但し、軸外テレセンが発生する場合、図４（ｂ）に示されるように表面上は両パターン位置の重心はずれて形成される。この理由については、図５の説明において記載する。その後、図４（ｃ）に示されるように、現像処理を行うことで、テレセン測定パターンＡとテレセン測定パターンＢの間の未露光領域が除去され、テレセン測定パターン１９が形成される。
【００２９】
次に、本発明におけるテレセン測定パターンの製造プロセス、および軸外テレセン度の測定原理について説明する。図５（ａ）〜（ｃ）は感光性樹脂材料を含む層９の第一の面上にテレセン測定パターンを形成する場合の模式的断面図であり、各々が図４（ａ）〜（ｃ）のｘ方向の断面に相当する。縮小投影露光装置の露光が軸外テレセン度を持つ場合、図５（ａ）に示されるように、テレセン測定パターンＡ（未露光領域）は光軸に対してある傾きをもって形成される。この時、外枠パターン端部１７１および外枠パターン中点位置１７２は図５（ａ）のように示される。フォーカス位置１７３は任意に設定可能であるが、ここでは感光性樹脂材料を含む層の第一の面をフォーカス位置１７３（上面基準）とした。次いで、図５（ｂ）に示されるように、テレセン測定パターンＢを形成する。この時、内枠パターン端部１８１および内枠パターン中点位置１８２は図５（ｂ）のように示される。テレセン測定パターンＢの形成においては、テレセン測定パターンＡを形成したフォーカス位置１７３からデフォーカスさせている（デフォーカス位置１８３）。そのため、テレセン測定パターンＡとテレセン測定パターンＢについて、それぞれのフォーカス位置におけるパターンの重心位置は一致する。一方、テレセン測定パターンＡのフォーカス位置１７３における、それぞれのパターンの重心位置は軸外テレセン度による分だけズレが生じる。次いで、図５（ｃ）に示されるように、現像処理を行うことでテレセン測定パターンが形成される。ここで、テレセン測定パターンＡおよびテレセン測定パターンＢの重心位置ずれ量Ｒとデフォーカス量Ｄから、軸外テレセン度が算出される。軸外テレセン度については、先述の図３の考え方を用いることで求められる。具体的には、Ｒ／Ｄが軸外テレセン度となる。重心位置ずれ量Ｒの算出は、例えばテレセン測定パターンＡおよびテレセン測定パターンＢのエッジを検出することによって、その中点から算出できる。エッジの検出方法としては光の反射等を利用した光学的手法を用いることが可能である。なお、図５ではｘ方向の場合を考えたが、ｙ方向についても同様の考え方で軸外テレセン度の測定が可能である。
【００３０】
以下、本発明に係る方法の実施形態を示す。なお、本発明は該実施形態に制限されるものではなく、本発明の思想及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。また、該実施形態ではテレセン測定パターンおよび吐出口の形成に関する工程を示すが、他の工程については前述した工程を適宜適用できる。
【００３１】
（実施形態１）
本発明の実施形態の一つとして、縮小投影露光においてテレセン測定パターンの形成と同時に吐出口のパターンを形成する実施形態を、図６を参照して示す。本実施形態では、テレセン測定パターンおよび吐出口のパターンの形成工程を一部削減できるため、コストを削減でき、また製造タクトを短縮できる利点がある。また、経時変化による露光量及び照度ムラ等の装置のばらつきによる影響等も低減できるため、より正確な軸外テレセン度を把握することが可能である。
【００３２】
まず、図６（ａ）に示されるように、感光性樹脂材料を含む層９の吐出口形成位置の近傍に、テレセン測定パターン外枠１７を構成するテレセン測定パターンＡ  １２を、縮小投影露光装置を用いた露光により形成する。感光性樹脂材料を含む層９の材料としてネガ型感光性樹脂を用いる場合、吐出口を形成する領域は遮光を行う。遮光を行う領域は、吐出口の大きさ、照明条件（開口数、絞り量等）、露光量、感光性樹脂材料を含む層９の感光性等にもよるが、吐出口形成位置を含め、吐出口形成位置の端部から少なくとも１０μｍ以内の領域について遮光を行うことが好ましい。図６（ａ）では吐出口形成位置を含む斜線の領域について遮光を行っている。
【００３３】
テレセン測定パターンＡ  １２の形状としては、特に限定されないが、軸外テレセン度の算出の簡便性を考慮すると、長方形又は円形が好ましい。テレセン測定パターンＡのパターンの大きさとしては、特に限定されず、装置の解像性及び感光性樹脂材料を含む層９の現像性等を考慮して適宜設定することができる。テレセン測定パターンＡのパターンが長方形である場合、例えば、縦の長さは１０μｍ〜５００μｍ、横の長さは１０μｍ〜５００μｍとすることができる。また、テレセン測定パターンＡのパターンが円形である場合、例えば、直径は１０μｍ〜５００μｍとすることができる。
【００３４】
テレセン測定パターンＡ  １２のパターン位置としては、より厳密に吐出口の軸外テレセン度を把握する観点から、吐出口形成位置近傍に配置することが好ましい。即ち、テレセン測定パターンＡ  １２と、テレセン測定パターンＡ  １２に最も近接する吐出口との最短距離が１０００μｍ以下であることが好ましく、２００μｍ以下であることがより好ましい。一方、前述したように吐出口を形成する領域は遮光するため、テレセン測定パターンＡ  １２と、テレセン測定パターンＡ  １２に最も近接する吐出口との最短距離は２０μｍ以上であることが好ましく、５０μｍ以上であることがより好ましい。
【００３５】
次いで、図６（ｂ）に示されるように、縮小投影露光装置を用いた露光により、テレセン測定パターン内枠１８を構成するテレセン測定パターンＢ  １３の形成と同時に、吐出口のパターン１４を形成する。この時、前記工程におけるマスクに形成されたテレセン測定パターンＡ  １２のパターンの重心位置と、本工程におけるマスクに形成されたテレセン測定パターンＢ  １３のパターンの重心位置とが一致するように露光を行う。さらに、テレセン測定パターンＡ  １２を形成したフォーカス位置からデフォーカスさせてパターニングを行う。デフォーカス量は１μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがより好ましい。デフォーカス量が１μｍ以上であることにより、テレセン測定パターンＡ  １２およびテレセン測定パターンＢ  １３のパターンの重心位置ずれ量Ｒが適度に大きくなり、誤差やバラツキの影響を受けにくくなる。デフォーカス量の上限は特に限定されないが、例えば５０μｍ以下とすることができる。
【００３６】
また、フォーカス位置については、テレセン測定パターンＡ  １２又はテレセン測定パターンＢ  １３のフォーカス位置を、感光性樹脂材料を含む層９の第一の面、すなわち表面（上面基準）に設定するのが好ましい。これは、軸外テレセン度を測定する際に、吐出口形成部材の第一の面でパターンエッジを検出して、形成位置ずれ量を求めることができるためである。
【００３７】
また、テレセン測定パターンＡ  １２とテレセン測定パターンＢ  １３により、軸外テレセン度を測定するため、両パターンは露光装置のマスク上において、同じ位置で露光する。例えば、テレセン測定パターンＡ  １２を形成するためのマスクと、吐出口のパターン  １４およびテレセン測定パターンＢ  １３を形成するためのマスクとをそれぞれ用意して、マスクを交換して露光することができる。また、これにより、両者のパターンの重心位置が一致するようにマスクを配置することができ、マスクに形成されたテレセン測定パターンＡ  １２とマスクに形成されたテレセン測定パターンＢ  １３との重心位置を容易に一致させることができる。
【００３８】
テレセン測定パターンＢ  １３は、テレセン測定パターンＡ  １２の内側に形成されることが好ましい。また、マスクに形成されたテレセン測定パターンＢ  １３の形状は、マスクに形成されたテレセン測定パターンＡ  １２の形状と相似形であることが好ましい。テレセン測定パターンＢ  １３の面積は、テレセン測定パターンＡ  １２の面積の１０〜９０％であることが、軸外テレセン度を精度よく算出することができるため好ましい。テレセン測定パターンＢ  １３の面積は、テレセン測定パターンＡ  １２の面積の３０〜７０％であることがより好ましい。
【００３９】
次いで、図６（ｃ）に示されるように、現像処理を行い吐出口１１およびテレセン測定パターン１９を形成する。その後、テレセン測定パターンＡ  １２およびテレセン測定パターンＢ  １３の相対的な形成位置ずれ量とデフォーカス量とから、上述した方法により軸外テレセン度を把握する。
【００４０】
なお、テレセン測定パターン１９は吐出口形成部材の第一の面上に複数形成してもよい。吐出口１１が形成されている方向に沿って、特定の間隔でテレセン測定パターン１９を配置することで、吐出口１１列内の軸外テレセン度の分布傾向を把握することができ、より詳細な着弾位置の予想を行うことができる。テレセン測定パターン１９を複数配置する場合、テレセン測定パターン１９の間隔は任意で設定可能であるが、吐出口１１の形成間隔に合わせて、吐出口１１の形成間隔の整数倍の間隔で配置することが好ましい。
【００４１】
（実施形態２）
本発明の他の実施形態の一つとして、図７に示すように、吐出口のパターン１４を形成する前にテレセン測定パターンＡ  １２およびテレセン測定パターンＢ  １３を形成することもできる。製造における各条件は実施形態１の条件を適宜採用することができる。
【００４２】
（実施形態３）
本発明の他の実施形態の一つとして、図８に示すように、吐出口のパターン１４を形成した後にテレセン測定パターンＡ  １２およびテレセン測定パターンＢ  １３を形成することもできる。製造における各条件は実施形態１の条件を適宜採用することができる。
【符号の説明】
【００４３】
１      液体吐出ヘッド
２      エネルギー発生素子
３      供給部
９      感光性樹脂材料を含む層（吐出口形成部材）
１０    基板
１１    吐出口
１２    テレセン測定パターンＡ
１３    テレセン測定パターンＢ
１４    吐出口のパターン
１５    第一の面
１６    記録媒体
１７    テレセン測定パターン外枠
１７１  外枠パターン端部
１７２  外枠パターン中点位置
１７３  フォーカス位置
１７４  光軸
１７５  主光線
１８    テレセン測定パターン内枠
１８１  内枠パターン端部
１８２  内枠パターン中点位置
１８３  デフォーカス位置
１９    テレセン測定パターン
２０    光線束
２１    照明光学系
２２    マスク
２３    縮小投影光学系
２５    マスクの中心に照射される光線
２６１  マスクの外周部に照射される光線
２６２  傾き角φ１の光線
２６３  傾き角φ２の光線
Ａ      理想の着弾位置
Ｂ      実際の着弾位置
Ｄ      デフォーカス量
Ｌ      着弾位置のずれ量
Ｒ      テレセン測定パターンＡおよびテレセン測定パターンＢの重心位置ずれ量
Ｚ      第一の面から記録媒体までの距離
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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