(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料中の検体の比濁分析決定を行う方法であって、該試料は測定セル内に配置し、前記方法は、
ａ．少なくとも１つの光学ユニットを含む比濁分析システム内に測定セルを配置する工程であって、該光学ユニットは、光ビームを放出するための少なくとも１つの光源と、測定セルを通過した後の光ビームの非散乱部分を遮蔽するためのストッパーと、測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分を受けるための光検出器とを含む工程と、
ｂ．光源によって放出される光ビームがルートに沿って測定セルを通過するように、測定セルを移動させる、および／または光学ユニットを移動させる工程と、
ｃ．光源によって放出される光ビームが測定セルを通って進むルートに沿って、光検出器によって受信される光強度信号を記録する工程と、
ｄ．測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分から生じる光強度信号のみを含む、記録された光強度信号の間隔Ｉの位置を決定する工程であって、ここで、間隔Ｉのサイズは、既定の数の光強度信号によって定まり、採用される比濁分析システムに関する所定のパラメータである工程と、
ｅ．１つの光強度信号に基づいて、または記録された光強度信号の間隔Ｉからの複数の光強度信号に関する平均値に基づいて検体を決定する工程と
を含み、
記録された光強度信号の間隔Ｉの位置は、
ルートに沿って記録された光強度信号の第１および第２の導関数ｆ’（ｘ）およびｆ’’（ｘ）を生成し、
条件ｆ’（ｘ）＜０およびｆ’’（ｘ）＝０で、ルートに沿って第１の位置Ｆｆを決定し、
条件ｆ’（ｘ）＞０およびｆ’’（ｘ）＝０で、ルートに沿って第２の位置Ｆｓを決定し、
式Ｍ＝Ｆｓ＋（Ｆｓ−Ｆｆ）／２を適用することによって、ルートに沿って第３の位置Ｍを決定し、
位置Ｍが間隔Ｉの中心を成すように間隔Ｉを位置決めする
ことで、ルートに沿って記録された光強度信号が評価されることによって確立される
ことを特徴とする前記方法。
【請求項２】
方法工程ｂ）〜ｄ）はｎ回繰り返され、工程ｅ）での検体の決定は、ｎ＋１個の間隔Ｉからのそれぞれ１つの光強度信号の平均値に基づいて、または記録された光強度信号のｎ＋１個の間隔Ｉからの複数の光強度信号のｎ＋１個の平均値からの平均値に基づいて実施される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
方法工程ｂ）〜ｄ）はｎ回繰り返され、工程ｅ）での検体の決定は、時間にわたる、ｎ＋１個の間隔Ｉからのそれぞれ１つの光強度信号の変化に基づいて、または記録された光強度信号のｎ＋１個の間隔Ｉからの複数の光強度信号の平均値の変化に基づいて実施される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも１つの光学ユニットを含む比濁分析システムであって、該光学ユニットは、光ビームを放出するための少なくとも１つの光源と、測定セル用の少なくとも１つのレセプタクル位置と、レセプタクル位置内に配置された測定セルを通過した後の光ビームの非散乱部分を遮蔽するためのストップと、測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分を受信するための光検出器とを含み、ここで、一方としての光源、ストップ、および光検出器と、他方としてのレセプタクル位置とは、互いに対して可動であり、前記比濁分析システムはさらに制御装置を有し、該制御装置は、
ｉ．光源によって放出される光ビームがルートに沿って測定セルを通過するように、測定セルを移動させる、および／または光学ユニットを移動させる方法工程と、
ｉｉ．光源によって放出される光ビームが測定セルを通って進むルートに沿って、光検出器によって受信される光強度信号を記録する方法工程と、
ｉｉｉ．測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分から生じる光強度信号のみを含む、記録された光強度信号の間隔Ｉの位置を決定する方法工程であって、ここで、間隔Ｉのサイズは、既定の数の光強度信号によって定まり、採用される比濁分析システムに関する所定のパラメータである方法工程と、
ｉｖ．１つの光強度信号に基づいて、または記録された光強度信号の間隔Ｉからの複数の光強度信号に関する平均値に基づいて検体を決定する方法工程と
を含む方法を制御し、
ここで、記録された光強度信号の間隔Ｉの位置は、
ルートに沿って記録された光強度信号の第１および第２の導関数ｆ’（ｘ）およびｆ’’（ｘ）を生成し、
条件ｆ’（ｘ）＜０およびｆ’’（ｘ）＝０で、ルートに沿って第１の位置Ｆｆを決定し、
条件ｆ’（ｘ）＞０およびｆ’’（ｘ）＝０で、ルートに沿って第２の位置Ｆｓを決定し、
式Ｍ＝Ｆｓ＋（Ｆｓ−Ｆｆ）／２を適用することによって、ルートに沿って第３の位置Ｍを決定し、
位置Ｍが間隔Ｉの中心を成すように間隔Ｉを位置決めする
ことで、ルートに沿って記録された光強度信号が評価されることによって確立される
ことを特徴とする前記比濁分析システム。
【請求項５】
それぞれ１つの測定セル用の少なくとも２個、好ましくは少なくとも１６個、特に好ましくは少なくとも３２個のレセプタクル位置を含む請求項４に記載の比濁分析システム。
【請求項６】
それぞれ１つの測定セル用の少なくとも２個のレセプタクル位置は、円形経路に沿って配置される請求項５に記載の比濁分析システム。
【請求項７】
光源、ストップ、および光検出器は、測定セル用の少なくとも１つのレセプタクル位置
に対して円形経路に沿って可動である請求項４〜６のいずれか１項に記載の比濁分析システム。
【請求項８】
測定セル用の少なくとも１つのレセプタクル位置は、光源、ストップ、および光検出器に対して可動である請求項４〜６のいずれか１項に記載の比濁分析システム。
【請求項９】
少なくとも１つのレセプタクル位置は、楕円形または円形断面を有する測定セルを受けるのに適している請求項４〜８のいずれか１項に記載の比濁分析システム。
【請求項１０】
請求項４〜９のいずれか１項に記載の比濁分析システムを含む自動分析デバイス。
【請求項１１】
さらに、バルク材料として複数の測定セルを受けるための容器と、測定セルを離隔するための装置と、比濁分析システムの光学ユニットの少なくとも１つのレセプタクル位置内にただ１つの測定セルを位置決めするための装置とを含む請求項１０に記載の自動分析デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検体の比濁分析決定を行う方法、および自動分析デバイス用の比濁分析システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、体液試料または他の生物学的試料の生理学的パラメータを決定するための多くの検出および分析法が、自動分析デバイス、またいわゆる体外診断システムにおいて自動で数多く行われている。
【０００３】
現在の分析デバイスは、試料を使用して複数の検出反応および分析を行うことが可能である。複数の検査を自動で行うことができるように、測定セル、反応容器、および試薬容器の空間的移送のための様々な装置が必要とされ、そのような装置は、例えば、把持器機能を備える移送アーム、輸送ベルトまたは回転可能な輸送ホイール、液体を移送するための装置、例えばピペット装置などである。それらのデバイスは制御ユニットを含み、制御ユニットは、適切なソフトウェアによって、大抵は独立して、所望の分析のための作業工程を計画して実行することが可能である。
【０００４】
自動で動作するそのような分析装置で使用される分析方法の多くは、光学法に基づく。臨床的に重要なパラメータ、例えば検体の濃度または活性の決定は、しばしば、反応容器（測定セルでもよい）内で試料の一部を１つまたはそれ以上のテスト試薬と混合させ、それにより生物学的反応または特定の結合反応を開始させ、試験混合物の光学的または他の物理的特性の測定可能な変化を生じさせることによって行われる。
【０００５】
分光測光法に加えて、比濁分析が、広く使用されている分析プロセスである。例えば、比濁分析は、液体または気体中の微細に分散されたコロイド粒子の濃度を定量的に決定することを可能にする。小さな粒子の懸濁物が光ビーム内に導入される場合、入射する光の一部が吸収され、一次ビームとも呼ばれる別の部分は、散乱されずに懸濁物から出て、さらなる部分は、入射するビームに対して側方に散乱される。比濁分析では、この側方に発出する散乱光が測定される。
【０００６】
比濁分析は、主に、検体、例えば蛋白質の定量または定性検出のために使用され、これらの検体は、特定の結合パートナ（ｂｉｎｄｉｎｇ  ｐａｒｔｎｅｒ）同士の特定の結合反応によって、例えば抗原／抗体結合によって検出可能である。
【０００７】
比濁分析システムは、少なくとも１つの光源と、少なくとも１つの光検出器と、測定セル用の少なくとも１つのレセプタクル位置とを含む。典型的には、光源と光検出器の配置は、試料中の検出対象の高分子、例えば反応混合物中の検体依存反応により生成される粒子凝集体によって散乱される散乱光を測定可能であるように選択される。
【０００８】
様々なセットアップ（ｓｅｔ−ｕｐ）が市販されており、これらは、光源、測定セル用のレセプタクル位置、および光検出器の配置に関して異なる。例えば、１つのセットアップでは、光検出器は、光源によって放出される光ビームに対して側方に配置することができ、光源によって放出される光ビームの方向に対して９０°の角度範囲で散乱光を記録する。これは、この散乱光の強度が比較的低いことがあり、光源によって放出される光ビームの非散乱部分（一次ビームと呼ばれる）による測定に対する影響が比較的小さいので有利である。
【０００９】
別のセットアップでは、光源、レセプタクル位置、および光検出器は、光源によって放出される光ビームの伝播方向の周りの角度範囲内で光検出器が散乱光を記録するように配置することができる。そのような角度範囲では、散乱光の強度が比較的高い。しかし、この幾何形状では、散乱光だけでなく、一次ビームも光検出器に達する。しかし、光の散乱部分のみが測定結果に寄与することが意図されるので、測定結果の最適化のために一次ビームの完全な遮蔽が必要とされる。
【００１０】
通常、光学ストップ（ｏｐｔｉｃａｌ  ｓｔｏｐ）が、一次ビームを遮蔽するために使用される。これらは、細い付属品、例えばワイヤによってビーム経路内に保持され、そのサイズおよび形状に関して、好ましくは一次ビームを完全に遮蔽するように適合され、それにより、可能であれば散乱光のみが検出器に入射する。好ましくは、一次ビーム部分に対する散乱光部分の比は、０．００１未満である。
【００１１】
光学ユニットが測定セルに対して可動である、または測定セルが光学ユニットに対して可動である分析デバイスが、より普及している。これは、１つの光学ユニットを使用することによって複数の試料を実質的に同時に検査することができ、試料スループットをかなり高めるので有利である。
【００１２】
特許文献１が、試料の測光検査のための装置を記載しており、ここで、測定セルは、固定されており円弧状に配置され、一方、光学ユニットは、測定セルの配置に沿って円弧状に移動する。
【００１３】
光学ユニットが測定セルに対して（または逆に測定セルが光学ユニットに対して）移動されるそのような光学システムでは、光ビームは、好ましくはルート（ｒｏｕｔｅ）に沿って測定セルを横切って進み、複数の測定値が記録され、ここで、移動により、それぞれの測定値は、測定セル内の異なる位置からのものである。その結果、比濁分析測定において、第１の立ち下がりエッジ（ｆａｌｌｉｎｇ  ｆｌａｎｋ）と、曲線ベース（ｃｕｒｖｅ  ｂａｓｅ）と、第２の立ち上がりエッジ（ｒｉｓｉｎｇ  ｆｌａｎｋ）とを有する典型的な良い形状の（ｗｅｌｌ−ｓｈａｐｅｄ）曲線（図１参照）が生成される。測定セルが一次ビーム内に入るとき（立ち下がりエッジ）および一次ビームから出るとき（立ち上がりエッジ）、一次ビームの光は、測定セル壁に入射して反射または屈折され、実際に一次ビームを遮蔽するように意図されたストップを越えて、光検出器に案内される。検体を決定するのに重要な領域は、一次ビームの遮蔽が最大限である曲線ベースの領域である。さらに、移動部分の機械的な公差により、同じ試料についての時間的に連続する測定において、測定セル内の散乱体積の位置に関する変化があり、これは、例えば反応動力学的特性（ｒｅａｃｔｉｏｎ  ｋｉｎｅｔｉｃｓ）が記録されることが意図される場合に重要である。
【００１４】
したがって、正確な検体決定を行えるように、さらなる評価のために、測定された光強度信号全体のうち、測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分から生じ、かつ可能であれば一次光部分を有さない光強度信号を選択する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】欧州特許出願公開第２３０９２５１Ａ１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
したがって、本発明の目的は、一方としての光源、ストップ、および光検出器と、他方としてのレセプタクル位置とが互いに対して可動である比濁分析システムの測定品質を改良することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
この目的は、測定セルを通るルートに沿った光ビームの移動中に記録された光強度信号全体のうち、測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分から生じ、かつ一次光ビーム部分を有さない、またはわずかしか有さない光強度信号のみを含む間隔Ｉの位置が自動的に決定されることによって実現される。
【００１８】
したがって、本発明の主題は、測定セル内に位置する試料中の検体の比濁分析決定を行う方法である。この方法は：
ａ．少なくとも１つの光学ユニットを含む比濁分析システム内に測定セルを配置する工程であって、光学ユニットは、光ビームを放出するための少なくとも１つの光源と、測定セルを通過した後の光ビームの非散乱部分を遮蔽するためのストップと、測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分を受けるための光検出器とを含む工程と；
ｂ．光源によって放出される光ビームがルートに沿って測定セルを通過するように、測定セルを移動させる、および／または光学ユニットを移動させる工程と；
ｃ．光源によって放出される光ビームが測定セルを通って進むルートに沿って、光検出器によって受信される光強度信号を記録する工程と；
ｄ．測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分から生じる光強度信号のみを含む、記録された光強度信号の間隔Ｉの位置を決定する工程であって、ここで、間隔Ｉのサイズは、既定の数の光強度信号によって定まり、採用される比濁分析システムに関する所定のパラメータである工程と；
ｅ．１つの光強度信号に基づいて、または記録された光強度信号の間隔Ｉからの複数の光強度信号に関する平均値に基づいて検体を決定する工程と
を含む。
【００１９】
記録された光強度信号の間隔Ｉの位置は、
−  ルートに沿って記録された光強度信号の第１および第２の導関数を生成し、
−  条件ｆ’（ｘ）＜０およびｆ’’（ｘ）＝０で、ルートに沿って第１の位置Ｆｆを決定し、
−  条件ｆ’（ｘ）＞０およびｆ’’（ｘ）＝０で、ルートに沿って第２の位置Ｆｓを決定し、
−  式Ｍ＝Ｆｓ＋（Ｆｓ−Ｆｆ）／２を適用することによって、ルートに沿って第３の位置Ｍを決定し、
−  位置Ｍが間隔Ｉの中心を成すように間隔Ｉを位置決めする
ことで、ルートに沿って記録された光強度信号が評価されることによって確立される。
【００２０】
間隔Ｉのサイズは、既定の数の光強度信号によって定まり、採用される比濁分析システムに関する所定のパラメータである。このパラメータは、測定セルのサイズ、幾何形状、および材料、測定セルを横切って一次ビームが移動される速度、光ビームの非散乱部分を遮蔽するためのストップのサイズ、幾何形状、および配置、通過中に記録される光強度信号の数などに依存する。したがって、所与の比濁分析システムに関して、試料／測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分からのみ生じ、すなわち一次ビームの遮蔽が最大限である光強度信号について、典型的な測定セル内の典型的な試料を測定するときに典型的に得られる連続するそのような光強度信号の数を経験的に求めることができる。採用される比濁分析システムに関する間隔Ｉの特定のサイズを設定するとき、第１に、できるだけ多数の光強度信号が求められる。なぜなら、これは、大きい信号対雑音比をもたらすからである。第２に、間隔Ｉのサイズは、間隔Ｉの開始値も終了値も信号曲線の立ち下がりエッジまたは立ち上がりエッジの領域内にないことが保証される程度まで小さくなるように選択されるべきである。
【００２１】
例として、円弧状に固定して配置される測定セルの周りを回転する光学ユニット（回転速度２Ｈｚ）と、円形断面および約７ｍｍの直径を有するプラスチック測定セルとを含み、約１０００個の測定セルを通る光ビームの通過中に光強度信号が記録される例示的な比濁分析システムにおいて、この比濁分析システムに関して、予備試行で、３００個の光強度信号のサイズを有する間隔Ｉを確立して設定した。
【００２２】
上述したように決定される第１の位置Ｆｆは、良い形状の信号曲線の立ち下がりエッジの偏向点（ｐｏｉｎｔ  ｏｆ  ｉｎｆｌｅｃｔｉｏｎ）に対応する。
【００２３】
上述したように決定される第２の位置Ｆｓは、良い形状の信号曲線の立ち上がりエッジの偏向点に対応する。
【００２４】
この方法の一実施形態では、方法工程ｂ）〜ｄ）は少なくともｎ回繰り返され、工程ｅ）での検体の決定は、ｎ＋１個の間隔Ｉからのそれぞれ１つの光強度信号の平均値に基づいて、または記録された光強度信号のｎ＋１個の間隔Ｉからの複数の光強度信号のｎ＋１個の平均値からの平均値に基づいて実施される。例えば、ｎは、１〜５０の数、好ましくは１０〜２０の数である。同じ試料の複数回の測定が、検体の定量決定の精度を高める。
【００２５】
この方法の別の実施形態では、方法工程ｂ）〜ｄ）は少なくともｎ回繰り返され、工程ｅ）での検体の決定は、時間にわたる、ｎ＋１個の間隔Ｉからのそれぞれ１つの光強度信号の変化に基づいて、または記録された光強度信号のｎ＋１個の間隔Ｉからの複数の光強度信号の平均値の変化に基づいて実施される。例えば、ｎは、１〜１０００の数である。これは、反応動力学的特性を記録することを可能にし、そのパラメータ、例えば最大の傾きや曲線下の面積などを、検体の定量決定のために使用することができる。
【００２６】
「試料」は、決定対象の検体をおそらくは含む組成物を意味するものと理解すべきである。体外診断における従来の試料は、少なくとも血液、血漿、血清、尿、唾液、アルコール、耳析出物、鼻析出物、もしくは他の体液、または液体中に保持される身体組織試料もしくは細胞からなる、またはそれらを含む。特に、用語「試料」はまた、反応混合物も含み、すなわち、実際の試料と１つまたはそれ以上の試薬、例えば抗体をコーティングしたラテックス粒子（ａｎｔｉｂｏｄｙ−ｃｏａｔｅｄ  ｌａｔｅｘ  ｐａｒｔｉｃｌｅ）との混合物を含み、検体の量または活性は、光学特性の変化に基づいて決定することができる。
【００２７】
本発明のさらなる主題は、少なくとも１つの光学ユニットを含む比濁分析システムであって、光学ユニットは、光ビームを放出するための少なくとも１つの光源と、測定セル用の少なくとも１つのレセプタクル位置と、レセプタクル位置内に配置された測定セルを通過した後の光ビームの非散乱部分を遮蔽するためのストップと、測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分を受信するための光検出器とを含み、ここで、一方としての光源、ストップ、および光検出器と、他方としてのレセプタクル位置とが、互いに対して可動である比濁分析システムである。さらに、本発明による比濁分析システムは制御装置を有し、制御装置は：
ｉ．光源によって放出される光ビームがルートに沿って測定セルを通過するように、測定セルを移動させる、および／または光学ユニットを移動させる方法工程と；
ｉｉ．光源によって放出される光ビームが測定セルを通って進むルートに沿って光検出器によって受信される光強度信号を記録する方法工程と；
ｉｉｉ．測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分から生じる光強度信号のみを含む、記録された光強度信号の間隔Ｉの位置を決定する工程であって、ここで、間隔Ｉのサイズは、既定の数の光強度信号によって定まり、採用される比濁分析システムに関する所定のパラメータである方法工程と；
ｉｖ．１つの光強度信号に基づいて、または記録された光強度信号の間隔Ｉからの複数の光強度信号に関する平均値に基づいて検体を決定する方法工程と
を含む方法を制御し、
ここで、記録された光強度信号の間隔Ｉの位置は、
−  ルートに沿って記録された光強度信号の第１および第２の導関数を生成し、
−  条件ｆ’（ｘ）＜０およびｆ’’（ｘ）＝０で、ルートに沿って第１の位置Ｆｆを決定し、
−  条件ｆ’（ｘ）＞０およびｆ’’（ｘ）＝０で、ルートに沿って第２の位置Ｆｓを決定し、
−  式Ｍ＝Ｆｓ＋（Ｆｓ−Ｆｆ）／２を適用することによって、ルートに沿って第３の位置Ｍを決定し、
−  位置Ｍが間隔Ｉの中心を成すように間隔Ｉを位置決めする
ことで、ルートに沿って記録された光強度信号が評価されることによって確立される。
【００２８】
好ましい光源は、レーザダイオードを有する。しかし、同様に、光源が、発光ダイオード（ＬＥＤ）、白熱灯、ガス放電ランプ、またはアークランプであることも企図することができる。有利には、光源は、２００ｎｍ〜１４００ｎｍ、好ましくは３００〜１１００ｎｍの間の波長範囲内の光を放出する。
【００２９】
光検出器は、好ましくはフォトダイオードであり、これは、内部光電効果によって、可視光、いくつかの実施形態ではまたＩＲ光またはＵＶ光を電流または電圧に変換する。このプロセスは信号記録とも呼ばれ、この電流または電圧は光強度信号とも呼ばれる。代替として、光検出器はＣＣＤセンサである。ＣＣＤセンサは、光感受性フォトダイオード（ｌｉｇｈｔ−ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅ）を有する行列またはラインからなる。しかし、同様に、光検出器が、フォトセル、シリコン光検出器、アバランシェ光検出器（ａｖａｌａｎｃｈｅ  ｐｈｏｔｏｄｅｔｅｃｔｏｒ）、または光電子倍増管であることも企図することができる。
【００３０】
一次ビーム、すなわち測定セルを通過した後の光ビームの非散乱部分を遮蔽するためのストップは、一次ビームが吸収および／または反射されるように構成される。
【００３１】
原理的には、本発明による比濁分析システムの光学ユニットは、さらに、フィルタ、レンズ、ミラー、または他の光学素子を有することもできる。
【００３２】
好ましくは、本発明による比濁分析システムは、それぞれ１つの測定セル用の少なくとも２個、好ましくは少なくとも１６個、特に好ましくは少なくとも３２個のレセプタクル位置を有する。
【００３３】
さらに好ましくは、それぞれ１つの測定セル用の少なくとも２個のレセプタクル位置が、円形経路および光源に沿って配置され、ストップおよび光検出器は、それぞれ１つの測定セル用のレセプタクル位置に対して円形経路に沿って可動であり、または測定セル用のレセプタクル位置が、光源、ストップ、および光検出器に対して円形経路に沿って可動である。
【００３４】
好ましくは、少なくとも１つのレセプタクル位置は、楕円形または円形断面を有する測定セルを受けるのに適している。
【００３５】
本発明のさらなる主題は、本発明による比濁分析システムを含む自動分析デバイスである。
【００３６】
好ましい自動分析デバイスは、さらに、バルク材料として複数の測定セルを受けるための容器と、測定セルを離隔するための装置と、比濁分析システムの光学ユニットの少なくとも１つのレセプタクル位置内にただ１つの測定セルを位置決めするための装置とを含む。そのような分析デバイスを用いて、複数の試料において全自動の比濁分析検体決定を行うことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】比濁分析システムで記録された光強度信号曲線の典型的な良い形状のプロファイルの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
図１は、比濁分析システムで記録された光強度信号曲線の典型的な良い形状のプロファイルを概略的に示し、ここで、それぞれ１つの円直径を有する測定セル用の複数のレセプタクル位置が、円弧上に固定配置され、光学ユニット、すなわち光源、ストップ、および光検出器が、レセプタクル位置に沿って円形経路内を移動する。曲線は、光ビームが測定セルを通って進むルート（Ｙ軸）の関数として、測定された光強度（Ｘ軸）を示す。曲線は、１０００個の測定点または光強度信号から構成され、これらは、試料を含む測定セルの１つを通る光ビームのルートに沿った１回の進行中に記録された。例示的に本明細書で述べるシステムにおいて、２つの測定点の間の距離は、１．３３μｍまたは１．０６μｍである。現実には、そのようにして得られる距離は、干渉、雑音、機構の非対称性により、理想的でないように見える。しかし、得られる生データに、曲線を平滑化するための従来のフィルタリングを施すことができる。曲線が、第１の立ち下がりエッジと、曲線ベースと、第２の立ち上がりエッジとを有することを識別することが可能である。検体を決定するのに重要な領域は、一次ビームの遮蔽が最大限である曲線ベースの領域である。本発明による方法を使用して、立ち下がりエッジの偏向点Ｆｆと、立ち上がりエッジの偏向点Ｆｓとが決定される。次いで、点ＦｆとＦｓの間の正確に中心にある点Ｍが求められ、ここで使用される比濁分析システムに関して予め決定されている、測定セルを通過した後の光ビームの散乱部分から生じる光強度信号のみを含む間隔Ｉ（この場合には、３００個の光強度信号／測定点）は、点Ｍが間隔Ｉの中心を成すように位置決めされる。間隔Ｉで得られる光強度信号の評価は、検体の正確な決定を可能にする。
【符号の説明】
【００３９】
Ｆｆ  立ち下がりエッジの偏向点
Ｆｓ  立ち上がりエッジの偏向点
Ｉ  間隔
Ｍ  点
【図１】
0006422414.tif 000002