(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークの表面に凹状の溝部が形成されており、前記溝部と前記ワークの表面とで形成される溝縁部である角部を有するワークに保護膜を形成する保護膜形成方法において、
前記溝部が形成された前記ワークの表面が鉛直方向上向きの状態で少なくとも前記角部を含む前記ワークの表面に塗布液を塗布する塗布工程と、
当該塗布面が鉛直方向下向きの状態で前記ワークを保持するワーク反転工程と、
少なくとも前記角部に塗布された前記塗布液を乾燥させる乾燥工程と、
をこの順で有しており、さらに、
前記溝縁部以外の部分に塗布液を塗布して乾燥させる縁部外保護膜形成工程を有しており、
前記塗布工程及び前記縁部外保護膜形成工程は、塗布液がインクジェット方式で塗布されることを特徴とする保護膜形成方法。
【請求項２】
前記塗布工程では、少なくとも前記角部の稜線部を含む部分に塗布液の塗布が行われ、前記角部を有するワークに対し、前記角部からワークの表面に亘って連続的に繋がる保護膜が形成されることを特徴とする請求項１に記載の保護膜形成方法。
【請求項３】
前記塗布工程では、前記溝部における溝部内表面から突出して形成される凸状部にも保護材料が塗布されることを特徴とする請求項１又は２に記載の保護膜形成方法。
【請求項４】
前記ワーク反転工程と前記乾燥工程は、同時に行われることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の保護膜形成方法。
【請求項５】
前記塗布工程の前に、前記溝縁部及び前記凸状部以外の部分に塗布液を塗布して乾燥させる縁部外保護膜形成工程が行われることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の保護膜形成方法。
【請求項６】
前記縁部外保護膜形成工程は、前記ワーク反転工程及び乾燥工程の後に行われることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の保護膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークの表面に形成された角部に保護膜を形成する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子、太陽電池等の半導体装置の多くは、その製造工程において部分的に様々な処理が行われる。例えば、エッチング処理は、通常、処理が不要な部分をレジスト膜で覆った後、全体をエッチングすることにより行われる。具体的には、表面に溝部が形成されたワークに対し、溝部内に形成された所定の薄膜に損傷を与えることなく、ワーク表面を次工程の前処理としてエッチングすることがある。このような場合には、溝部に形成された薄膜上に保護膜であるレジスト膜を形成した後エッチング処理が行われる。すなわち、図７に示すように、まず、溝部１０１が形成されたワーク１００の表面１００ａにエッチング処理が不要な部分にレジスト膜１０４を形成する。
【０００３】
具体的には、スピンコータ、スリットコータ等の塗布装置により図７（ａ）に示すワーク１００の表面１００ａ全体にレジスト膜１０４の材料を塗布し、レジスト膜層１０２を形成する（塗布工程。図７（ｂ））。そして、乾燥工程を行ってレジスト膜層１０２を乾燥させた後、フォトリソ工程を行うことにより不要なレジスト膜層１０２を除去する（図７（ｃ））。すなわち、溝部１０１に形成されたレジスト膜層１０２以外の部分を除去することにより、薄膜１０３上に溝部内表面からワーク１００の表面１００ａに亘って連続的に繋がるレジスト膜１０４が部分的に形成される（図７（ｄ））。そして、ワーク１００の表面１００ａに対してエッチング処理を行った後、レジスト膜１０４を除去することにより、薄膜１０３の損傷を抑えてワーク１００の表面１００ａをエッチングすることができる（例えば下記特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−０６４５５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の保護膜（レジスト膜）の形成方法では、形成された保護膜が完全には機能しない場合があるという問題あった。すなわち、薄膜１０３上に溝部内表面からワーク１００の表面１００ａに亘って形成されたレジスト膜１０４は、均一な膜厚で形成するのが困難で、部分的に膜厚の厚い部分、薄い部分が形成される。具体的には、図８に示すように、ワーク１００の表面１００ａに形成された溝部１０１では、ワーク１００の表面１００ａとの境界が稜線となる凸状の角部１０５（溝縁部１０５ａともいう）が形成されているため、塗布されたレジスト膜１０４材料が凸状の稜線部に留まりにくい。そのため、そのまま乾燥されてしまうと、溝縁部１０５ａ（特に稜線部）に形成される保護膜が溝部内表面に比べて薄く形成される。このように保護膜が薄く形成された部分は、他の部分に比べて耐水性や耐酸性が弱くなるため、この溝縁部１０５ａで保護機能が損なわれてしまい、全体として保護膜が機能しない虞があるという問題があった。
【０００６】
また、図９に示すように、稜線部を除く溝縁部１０５ａに保護膜を形成した場合であっても、稜線部を構成する溝部内表面（縁壁部１０６）では、重力の影響により塗布材料が溝部１０１内に流動することにより、保護膜が薄く形成されてしまう。そのため、そのまま乾燥されてしまうと、上記同様、他の部分に比べて耐水性や耐酸性が弱くなり、全体として保護膜が機能しない虞があるという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、ワークの表面に溝部等が形成されていることにより角部を有している場合であっても、角部を含む溝部にほぼ均一な膜厚で保護膜を形成することができ、保護膜下への水分、酸等の侵入を抑えることができる保護膜の形成方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の保護膜形成方法は、ワークの表面に凹状の溝部が形成されており、前記溝部と前記ワークの表面とで形成される溝縁部である角部を有するワークに保護膜を形成する保護膜形成方法において、前記溝部が形成された前記ワークの表面が鉛直方向上向きの状態で少なくとも前記角部を含む前記ワークの表面に塗布液を塗布する塗布工程と、当該塗布面が鉛直方向下向きの状態で前記ワークを保持するワーク反転工程と、少なくとも前記角部に塗布された前記塗布液を乾燥させる乾燥工程と、をこの順で有しており、さらに、前記溝縁部以外の部分に塗布液を塗布して乾燥させる縁部外保護膜形成工程を有しており、前記塗布工程及び前記縁部外保護膜形成工程は、塗布液がインクジェット方式で塗布されることを特徴としている。
【０００９】
上記保護膜形成方法によれば、前記塗布工程において、ワークの表面が鉛直上向きの状態で少なくとも前記角部に保護膜材料を塗布した後、ワーク反転工程において、ワークの表面が鉛直下向きの状態で前記ワークを保持することにより、重力の影響を受けた液状の保護材料を前記角部に集中させることができる。その後、乾燥工程により保護膜材料を乾燥させることにより、角部に十分な膜厚の保護膜を形成することができる。したがって、ワークの表面に角部が形成されている場合に、従来のように、常にワークの表面を鉛直上向きの状態で塗布工程、乾燥工程を経て保護膜を形成する場合に比べて、少なくとも角部には、他の部分と同様にほぼ均一な膜厚で保護膜を形成することができる。
【００１０】
また、前記塗布工程では、少なくとも前記角部の稜線部を含む部分に保護膜材料の塗布が行われ、前記角部を有するワークに対し、前記角部からワークの表面に亘って連続的に繋がる保護膜が形成される構成としてもよい。
【００１１】
この構成によれば、ワーク反転工程において、ワークの表面が鉛直下向きの状態で前記ワークを保持することにより、重力の影響を受けた液状の保護材料を前記角部の先端部分（稜線部）に集中させることができる。その後、乾燥工程により保護膜材料を乾燥させることにより、角部の稜線部に十分な膜厚の保護膜を形成することができる。したがって、ワークの表面に角部が形成されている場合に、従来のように、常にワークの表面を鉛直上向きの状態で塗布工程、乾燥工程を経て保護膜を形成する場合に比べて、少なくとも稜線部を含む角部に他の部分と同様にほぼ均一な膜厚で保護膜を形成することができる。このように角部からワークの表面に亘って連続的に繋がるように形成された保護膜であっても、保護膜下への水分、酸等の侵入を抑えることができる。
【００１３】
また、前記塗布工程では、前記溝部における溝部内表面から突出して形成される凸状部にも保護材料が塗布される構成にしてもよい。
【００１４】
この構成によれば、溝縁部以外に溝部内の表面に凸状部が存在している場合であっても、溝縁部同様に凸状部にほぼ均一な保護膜を形成することができる。
【００１５】
また、前記ワーク反転工程と前記乾燥工程は、同時に行われる構成にしてもよい。
【００１６】
この構成によれば、液状の保護膜材料の流動性が高い場合であっても、塗布済みのワークを反転させたときに保護膜材料が滴り落ちるのを抑えることができる。
【００１７】
また、前記塗布工程の前に、前記溝縁部及び前記凸状部以外の部分に保護膜材料を塗布して乾燥させる縁部外保護膜形成工程が行われる構成にしてもよい。
【００１８】
この構成によれば、縁部外保護膜形成工程を行って溝縁部及び凸状部以外の部分に先に保護膜を形成した後、この先に形成された保護膜の厚みに合わせて溝縁部に保護膜を形成することができるため、保護膜の厚みをほぼ均一にすることが容易になる。すなわち、溝縁部を含む溝部内表面をすべてに保護膜材料を塗布する場合には、ワーク反転工程において所定時間ワークの姿勢を維持することにより溝部内に塗布された液状の保護膜材料を流動させて保護膜材料が溝縁部を含む溝部内表面にほぼ均一に積層されるようにする必要があるが、塗布工程と縁部外保護膜形成工程とを分けて行うことにより、後の工程で形成する保護膜の厚みを先の工程で形成された保護膜の厚みに合わせることができるため、それぞれに形成される膜厚の調整が容易になり、溝部に形成される膜厚をほぼ均一にさせやすくなる。
【００１９】
また、前記縁部外保護膜形成工程は、前記ワーク反転工程及び乾燥工程の後に行われるように構成してもよい。
【００２０】
この構成によれば、上記塗布工程、ワーク反転工程、乾燥工程を経ることにより先に記溝縁部及び前記凸状部にに保護膜を形成した後、縁部外保護膜形成工程により溝縁部及び前記凸状部以外の部分に保護膜を形成することにより、上記同様、塗布工程と縁部外保護膜形成工程とを分けて行うことにより、先の工程で形成された保護膜の厚みに合わせることができるため、それぞれに形成される膜厚の調整が容易になり、溝部に形成される膜厚をほぼ均一にさせやすくなる。
【００２１】
また、前記塗布工程及び前記縁部外保護膜形成工程は、保護膜材料がインクジェット方式で塗布される構成にしてもよい。
【００２２】
この構成によれば、塗布工程及び縁部外保護膜形成工程でインクジェット方式を使用することにより、スリットコータ等の塗布装置を使用する場合に比べてフォトリソ工程等が不要になるとともに保護膜材料の浪費を抑えることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の保護膜形成方法によれば、ワークの表面に溝部等が形成されて角部を有している場合であっても、角部を含む溝部にほぼ均一な膜厚で保護膜を形成することができ、保護膜下への水分、酸等の侵入を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の保護膜形成方法における各処理工程を示すフローチャートである。
【図２】本発明の一実施形態における各工程におけるワークへの保護膜の形成状態を示す図であり、（ａ）は、溝縁部に保護膜材料を塗布した状態を示す図、（ｂ）は、（ａ）におけるワークを反転させた状態を示す図、（ｃ）は、（ｂ）における保護膜材料を乾燥させた状態を示す図、（ｄ）は、溝縁部以外の溝部内表面に保護膜材料を塗布した状態を示す図、（ｅ）は、（ｄ）における保護膜材料を乾燥させた状態を示す図である。
【図３】ワークの一例を示す図である。
【図４】溝縁部（角部）を示す断面図であり、（ａ）は、図３における溝部の溝縁部を示す断面図であり、（ｂ）は、ワークの端部における角部を示す断面図であり、（ｃ）は、溝部内に形成された凸状部を示す断面図である。
【図５】他の実施形態における各工程におけるワークへの保護膜の形成状態を示す図であり、（ａ）は、溝縁部以外の溝部内表面に保護膜材料を塗布した状態を示す図、（ｂ）は、（ａ）における保護膜材料を乾燥させた状態を示す図、（ｃ）は、（ｂ）におけるワークの溝縁部に保護膜材料を塗布した状態を示す図、（ｄ）は、（ｃ）におけるワークを反転させた状態を示す図、（ｅ）は、（ｄ）における保護膜材料を乾燥させた状態を示す図である。
【図６】他の実施形態における縁壁部に形成された保護膜を示す図である。
【図７】従来のフォトリソによる保護膜を形成する方法を示す図である。
【図８】従来法により形成された保護膜を示す図である。
【図９】従来法により形成された別の保護膜を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
次に、本発明の保護膜形成方法に係る実施の形態について説明する。
【００２６】
図１は、本発明の保護膜形成方法における各処理工程を示すフローチャートであり、図２は、本発明の一実施形態における各工程におけるワークへの保護膜の形成状態を示す図である。この図１に示すフローチャートにしたがって各処理工程を行うことにより、ワーク表面上に形成された溝部に膜厚がほぼ均一な保護膜を形成することができる。
【００２７】
ワーク１０は、図３に示すように、平板状の基材に多数のチップ１１が配列されており、チップ１１同士の間には溝部１２が形成されて形成されている。図４（ａ）には、図３の溝部１２の断面が示されている。この溝部１２は、断面形状が凹状に形成されており、ワーク１０の表面１０ａから低い位置に溝底面１２ａが形成されている。この溝底面１２ａからワーク１０の表面１０ａまで連続的に繋がっており、ワーク１０の表面１０ａと溝部１２の縁壁部１２ｂとによって溝縁部２０（角部２）が形成されている。そして、この溝縁部２０は、その先端部分の断面形状が先鋭状の稜線部２１を有している。
【００２８】
本実施形態では、図４（ａ）に示すようにほぼ９０度に形成されている。したがって、ワーク１０上に形成される溝部１２は、溝部１２同士が交差するまで溝縁部２０が一方向に延び、稜線部２１が直線状に形成されている。すなわち、ワーク１０の表面１０ａに形成される溝部１２には、溝底面１２ａの両側に溝縁部２０が形成される。このようなワーク１０の例としては、ウエハに形成されるスクライブ溝、ガードリング溝、太陽電池モジュールに形成された絶縁のための切欠溝等が挙げられる。このようなワーク１０に対し、図１に示す各処理工程を行うことにより、ワーク１０に形成された溝部１２にほぼ均一な厚みで保護膜３０を形成することができる。
【００２９】
なお、溝部１２には、保護膜３０以外の薄膜等が設けられている場合もあるが、この薄膜は省略して説明する。したがって、溝縁部２０、溝部内表面１２ｃに塗布するという場合であって、その位置に薄膜が存在する場合には、溝縁部２０、溝部内表面１２ｃに対応する薄膜上に塗布するという意味である。
【００３０】
また、本発明でいう角部２には、図４（ｂ）に示す形態も含まれる。すなわち、ワーク１０の端部における角部２である。すなわち、ワーク１０の表面１０ａと縁壁部１２ｂとで先鋭状の稜線部２１が形成される角部２であれば本発明の保護膜形成方法が適用できる。
【００３１】
本実施形態における保護膜形成方法では、図１のフローチャートに示すように、塗布工程、ワーク反転工程、乾燥工程、縁部外保護膜形成工程を順次行うことにより、ワーク１０の表面１０ａに形成された溝部１２からワーク１０の表面１０ａに亘って連続的に繋がる保護膜３０が形成される。すなわち、溝底面１２ａから溝縁部２０を経てワーク１０の表面１０ａに亘って、ほぼ均一な膜厚で保護膜３０を形成することができる。
【００３２】
図１における塗布工程Ｓ１は、ワーク１０の表面１０ａの少なくとも溝縁部２０に保護膜材料３０ａを塗布する工程である。この塗布工程Ｓ１では、この溝部１２に対し保護膜３０の材料となる液状の保護膜材料３０ａが塗布される。本実施形態では、稜線部２１を含む溝縁部２０に液状の保護膜材料３０ａが塗布され、一般的なインクジェットタイプの塗布装置により塗布される。すなわち、塗布装置は、塗布液（保護膜材料３０ａ）を吐出する複数のノズルを有しており、このノズルと対象となるワーク１０とを相対的に移動させて、ワーク１０上に微小な保護膜材料３０ａの液滴を吐出する。具体的には、図２（ａ）に示すように、ワーク１０の表面１０ａが鉛直上向きに配置された状態で液滴が吐出される。塗布装置には、ワーク１０上に塗布すべき位置を示すマッピングデータが記憶されており、このマッピングデータに基づいて塗布液が吐出されるようになっている。これにより、ワーク１０上で複数のノズルを走査させることにより、ワーク１０上の溝部１２のすべての溝縁部２０に保護膜材料３０ａが選択的に塗布される。塗布された保護膜材料３０ａは、粘性と表面張力によって稜線部２１を含む溝縁部２０に付着し、液だれ等を生じることなくその位置に留まっている。
【００３３】
なお、塗布装置にはスピンコータ、スリットコータ等の全面を塗布するタイプの塗布装置を用いることも可能である。このスリットコータ等を用いた場合には、溝部１２を含むワーク１０の表面１０ａ全体に保護膜材料３０ａが塗布されるため、不要部分への保護膜材料３０ａの除去にフォトリソ工程が必要になる。したがって、インクジェットタイプの塗布装置の方が、スリットコータ等の全面に塗布する塗布装置を用いる場合に比べて、保護膜材料３０ａが必要な溝縁部２０のみに塗布することができるため、ムダに消費される保護膜材料３０ａを抑えることができ、フォトリソなどの工程も不要になるため、生産効率を向上させることができる。
【００３４】
塗布工程Ｓ１の後、ワーク反転工程Ｓ２が行われる。このワーク反転工程Ｓ２は、ワーク１０の表面１０ａが鉛直下向きの状態でワーク１０を保持する工程である。具体的には、塗布工程Ｓ１終了後、塗布装置から次工程である乾燥工程Ｓ３の乾燥炉まで搬送装置によりワーク１０を移動させる。この搬送装置には、ロボットハンド等が用いられており、塗布工程Ｓ１においてステージ上に載置されたワーク１０を搬送装置に保持させる。ワーク１０を搬送装置に保持させる形態については、特に限定しないが、ロボットハンドに吸着孔を設けて吸着により保持させる形態や、専用治具に固定されたワーク１０をアームで挟んで挟持する形態が挙げられる。そして、搬送装置によりワーク１０が保持された後、図２（ｂ）に示すように、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向下向きになるようにワーク１０を反転させる。すなわち、ワーク１０を吸着させたロボットハンドを上下逆さまに反転させることによりワーク１０の表面１０ａが鉛直方向下向きの状態で保持させる。そして、この姿勢を維持してワーク１０を乾燥炉まで搬送する。
【００３５】
ここで、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向下向きに保持されると、塗布工程Ｓ１において塗布された保護膜材料３０ａは、液状体であるため鉛直方向下向きに流動する。すなわち、塗布工程Ｓ１において、図２（ａ）に示すようにワーク１０の表面１０ａが鉛直上向きの状態で保護膜材料３０ａが溝縁部２０に塗布されると、塗布された保護膜材料３０ａは液状体であるため、保護膜材料３０ａ全体が鉛直方向下向きに流動しようとする。そのため、塗布した時点で溝縁部２０及びその周辺に塗布された保護膜材料３０ａの膜厚はほぼ均一であったとしても表面張力及び重力の影響を受けるため鉛直方向下向きに流動し下方部分の膜厚が厚く形成され、上側に位置する稜線部２１の膜厚は薄くなる。
【００３６】
そこで、ワーク反転工程Ｓ２において、図２（ｂ）に示すように、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向下向きになる姿勢にワーク１０が保持されることにより、今まで上側に位置していた溝縁部２０が下側になることにより、保護膜材料３０ａが稜線部２１に集まるように流動する。塗布された保護膜材料３０ａは、表面張力と重力とが釣り合いを保ちつつ流動する。ここで、溝縁部２０に塗布された保護膜材料３０ａは、保護膜材料３０ａ自身の粘性等を考慮して、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向下向きに保持された場合に表面張力と重力とが釣り合う状態でほぼ均一な膜厚になるように、塗布面積と塗布量とが予め調整されて塗布されている。
【００３７】
なお、本実施形態のワーク反転工程Ｓ２では、搬送中に反転させる形態について説明したが、搬送中は鉛直方向上向きの姿勢で搬送し、次の乾燥工程Ｓ３における乾燥炉に搬入された後、鉛直方向下向きに反転させるようにしてもよい。
【００３８】
乾燥工程Ｓ３は、少なくとも溝縁部２０に塗布された保護膜材料３０ａを乾燥させる工程である。上記塗布工程Ｓ１により、溝縁部２０に保護膜材料３０ａが選択的に塗布されているため、この溝縁部２０に塗布された保護膜材料３０ａの乾燥が行われる。具体的には、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向下向きの姿勢を保った状態で乾燥炉内に搬入される。この乾燥炉は、例えば真空加熱乾燥炉が用いられており、炉内が真空で、かつ、保護膜材料３０ａの蒸発を促す温度に調節される。そして、この状態を所定時間保持することにより、保護膜材料３０ａの乾燥が終了する（図２（ｃ））。
【００３９】
なお、この乾燥工程Ｓ３における乾燥状態は、保護膜材料３０ａが完全に乾燥するまで乾燥させてもよいが、完全に乾燥させるのではなく、塗布された保護膜材料３０ａが落下しない程度に、ある程度流動性を有する仮乾燥状態であってもよい。この仮乾燥状態で終了させることにより、次工程以降に溝縁部２０以外の部分に塗布される保護膜材料３０ａとの混合連結が行われやすくなり、溝部１２に形成される保護膜３０が全体として一体化されやすくなる。
【００４０】
なお、真空加熱乾燥炉は、真空乾燥炉、加熱乾燥炉でもよく、保護膜材料３０ａを乾燥できる乾燥装置であれば特に限定しない。
【００４１】
縁部外保護膜形成工程Ｓ４は、溝部１２における溝縁部２０以外の溝部内表面１２ｃに保護膜材料３０ａを塗布し、乾燥させる工程である。溝部内表面１２ｃは、溝部１２内の表面であり、溝底面１２ａ、縁壁部１２ｂを含むものである。縁部外保護膜形成工程Ｓ４は、上述の塗布工程Ｓ１同様、インクジェットタイプの塗布装置によって保護膜材料３０ａの塗布が行われる。すなわち、乾燥工程Ｓ３においてワーク１０の表面１０ａが鉛直方向下向きのワーク１０を再度反転させてワーク１０の表面１０ａが鉛直方向上向きになるように載置する。そして、マッピングデータに基づいて、ノズルとワーク１０とを相対的に移動させて対象ノズルが溝縁部２０以外の溝部内表面１２ｃ上に位置するときに保護膜材料３０ａが吐出されることにより、塗布工程Ｓ１で塗布した溝縁部２０以外の溝部内表面１２ｃ部分について保護膜材料３０ａが塗布される（図２（ｄ））。
【００４２】
すなわち、溝部内表面１２ｃの保護膜３０の膜厚が溝縁部２０に形成された保護膜３０の膜厚と同じ厚みになるように、保護膜材料３０ａの吐出量が調節されて吐出される。そして、再度、上述の乾燥炉で乾燥される。すなわち、搬送装置によりワーク１０が塗布装置から搬出され、乾燥炉に搬入される。このとき、ワーク１０は反転させることなく、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向上向きにした状態で搬入される。乾燥炉は、上記乾燥工程Ｓ３と同様に、炉内が真空で、かつ、保護膜材料３０ａの蒸発を促す温度に調節されるており、この状態を所定時間保持することにより、保護膜材料３０ａの乾燥が終了する。すなわち、ワーク１０に形成された溝部１２には、溝部１２からワーク１０の表面１０ａに亘ってほぼ均一厚さの保護膜３０が形成される（図２（ｅ））。
【００４３】
このようにして、ワーク１０の表面１０ａに角部２が形成されている場合あっても、塗布工程Ｓ１において、ワーク１０の表面１０ａが鉛直上向きの状態で少なくとも前記角部２に保護膜材料３０ａを塗布した後、ワーク反転工程Ｓ２において、ワーク１０の表面１０ａが鉛直下向きの状態で前記ワーク１０を保持することにより、重力の影響を受けた液状の保護材料を稜線部２１に集中させることができる。その後、乾燥工程Ｓ３により保護膜材料３０ａを乾燥させることにより、角部２の稜線部２１に十分な膜厚の保護膜３０を形成することができる。したがって、ワーク１０の表面１０ａに角部２が形成されている場合に、従来のように、常にワーク１０の表面１０ａを鉛直上向きの状態で塗布工程Ｓ１、乾燥工程Ｓ３を経て保護膜３０を形成する場合に比べて、少なくとも稜線部２１を含む角部２に他の部分と同様にほぼ均一な膜厚で保護膜３０を形成することができる。このように角部２からワーク１０の表面１０ａに亘って連続的に繋がるように形成された保護膜３０であっても、保護膜３０下への水分、酸等の侵入を抑えることができる。
【００４４】
また、上記実施形態では、溝部内表面１２ｃからワーク１０の表面１０ａに繋がる保護膜が形成される例について説明したが、溝部内表面１２ｃのうち、溝部１２の溝底面１２ａから縁壁部１２ｂに繋がる保護膜を形成するものであってもよい。すなわち、上記塗布工程Ｓ１において、ワーク１０の表面１０ａを除き、溝縁部２０の縁壁部１２ｂ（稜線部２１は含んでも含まなくてもよい）に保護膜材料３０ａを塗布する。そして、ワーク反転工程Ｓ２が行われることにより、ワーク１０の表面１０ａが鉛直下向きになる姿勢にワーク１０が保持されることにより、溝縁部２０が鉛直方向下側に位置するため、液状体である保護膜材料３０ａがそれぞれの縁壁部１２ｂのワーク１０の表面１０ａ側に流動する。そして、乾燥工程Ｓ３を経ることにより、溝縁部２０の保護膜材料３０ａが乾燥（仮乾燥を含む）される。その後、縁部外保護膜形成工程Ｓ４が行われることにより、溝部１２の溝底面１２ａから縁壁部１２ｂに繋がるほぼ均一な厚みの保護膜が形成される。すなわち、図６に示すように、ワーク反転工程Ｓ２を経ることにより保護膜材料３０ａが縁壁部１２ｂのワーク１０の表面１０ａ側に流動して乾燥されるため、縁壁部１２ｂには、従来の保護膜３０’（破線部分）に比べて厚みのある保護膜３０（実線部分）を形成することができる。
【００４５】
また、上記実施形態では、角部２について図４（ａ）、図４（ｂ）の様態について説明したが、図４（ｃ）に示すように、溝部内表面１２ｃに突出する凸状部４０が形成されている場合についてもほぼ均一な保護膜３０を形成することができる。すなわち、上記塗布工程Ｓ１において、溝縁部２０と共にこの凸状部４０にも塗布を行うことにより、溝縁部２０の稜線部２１を含む部分、及び、凸状部４０の稜線部２１を含む部分に保護膜材料３０ａを付着させる。このとき、それぞれの保護膜材料３０ａは、一体化していてもよいし、別々に形成されていてもよい。そして、ワーク反転工程Ｓ２において、ワーク１０の表面１０ａが鉛直下向きになる姿勢にワーク１０を保持することにより、溝縁部２０の稜線部２１、及び、凸状部４０の稜線部２１が鉛直方向下側に位置するため、液状体である保護膜材料３０ａがそれぞれの稜線部２１に流動する。そして、乾燥工程Ｓ３を経ることにより、溝縁部２０の稜線部２１を含む保護膜材料３０ａ、及び、凸状部４０の稜線部２１を含む保護膜材料３０ａが乾燥（仮乾燥を含む）される。その後、縁部外保護膜形成工程Ｓ４により、溝縁部２０及び凸状部４０以外の部分に保護膜３０を形成することにより、溝縁部２０と同様に凸状部４０についても稜線部２１において他の部分と同じ厚みの保護膜３０を形成することができる。
【００４６】
また、上記実施形態では、塗布工程Ｓ１により溝縁部２０に保護膜材料３０ａを塗布した後、縁部外保護膜形成工程Ｓ４が行われることにより、溝部１２に保護膜３０を形成する例について説明したが、塗布工程Ｓ１の前に縁部外保護膜形成工程Ｓ４を行って、その後、溝縁部２０への塗布を行う塗布工程Ｓ１を行ってもよい。
【００４７】
具体的には、図５に示すように、まず、縁部外保護膜形成工程Ｓ４により、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向上向きの状態で、溝部１２における溝縁部２０（凸状部４０含む）以外の溝部内表面１２ｃに保護膜材料３０ａの塗布を行う（図５（ａ））。そして、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向上向きの状態のまま乾燥させることにより、溝縁部２０（凸状部４０含む）以外の部分に保護膜３０を形成する（図５（ｂ））。このとき、乾燥状態は、保護膜材料３０ａが完全に乾燥するまで乾燥させてもよいが、完全に乾燥させるのではなく、塗布された保護膜材料３０ａが落下しない程度に、ある程度流動性を有する仮乾燥状態であってもよい。
【００４８】
次に、塗布工程Ｓ１を行う。すなわち、縁部外保護膜形成工程Ｓ４により溝縁部２０以外の部分に保護膜３０が形成されているため、保護膜３０が形成されていない部分、すなわち、稜線部２１を含む溝縁部２０に保護膜材料３０ａを塗布する（図５（ｃ））。塗布された保護膜材料３０ａは、粘性と表面張力によって稜線部２１を含む溝縁部２０に付着し、先に形成された保護膜３０に接触しつつその位置に留まっている。
【００４９】
次に、ワーク反転工程Ｓ２を行う。上述した実施形態と同様に、ワーク１０の搬送中、又は、乾燥炉に入った状態で、ワーク１０の表面１０ａが鉛直下向きの状態でワーク１０を保持する（図５（ｄ））。その後、乾燥工程Ｓ３を経ることにより、ワーク１０に形成された溝部１２には、溝部１２からワーク１０の表面１０ａに亘ってほぼ均一厚さの保護膜３０が形成される。このように、溝部１２の溝縁部２０以外の部分から先に塗布を行うことによっても、ほぼ均一厚さの保護膜３０を形成することができる。
【００５０】
また、上記実施形態では、塗布工程Ｓ１において、稜線部２１を含む溝縁部２０（凸状部４０を含む）にのみ液状体の保護膜材料３０ａを塗布する例について説明したが、溝部１２全体を塗布するものであってもよい。すなわち、塗布工程Ｓ１において、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向上向きになるように保持された状態で、溝縁部２０及び溝部内表面１２ｃを含む溝部１２全体に保護膜材料３０ａを塗布する。塗布された保護膜材料３０ａは、粘性と表面張力によって稜線部２１を含む溝縁部２０及び溝部内表面１２ｃに付着する。
【００５１】
次に、ワーク反転工程Ｓ２を行う。すなわち、ワーク１０の表面１０ａが鉛直方向下向きになるように保持することにより、溝部１２全体に塗布された保護膜材料３０ａが表面張力と重力とがバランスを保ちつつ溝縁部２０の稜線部２１に集まるように流動する。その後、乾燥工程Ｓ３を行うことにより、溝部１２に塗布された保護膜材料３０ａを乾燥させて保護膜３０を形成する。これにより、溝縁部２０においても他の部分とほぼ同じ厚みの保護膜３０を形成することができる。この場合、上述した実施形態に比べて、縁部外保護膜形成工程Ｓ４を省くことができる。ただし、形成される保護膜３０の膜厚の均一性は、塗布された保護膜材料３０ａの流動性に影響を受けるため、塗布工程Ｓ１では、上述した溝縁部２０と、溝縁部２０以外の部分とに分けて保護膜材料３０ａを塗布する形態の方が膜厚の調整は行いやすい。
【００５２】
また、上記実施形態では、ワーク反転工程Ｓ２と乾燥工程Ｓ３とがこの順で行われる例について説明したが、これらの工程が同時に行われるものであってもよい。具体的には、乾燥炉が予め加熱されており、この状態で搬送されたワーク１０を反転させて乾燥炉に搬入する。これにより、ワーク反転工程Ｓ２と乾燥工程Ｓ３とが同時に行われ、反転されたワーク１０が乾燥炉に搬入されるとすぐに溝部１２に塗布された保護膜材料３０ａの乾燥が開始される。そのため、流動性の高い保護膜材料３０ａの使用が可能になる。
【００５３】
また、上記実施形態では、乾燥工程Ｓ３の開始がワーク反転工程Ｓ２と同時、又は、ワーク反転工程Ｓ２の後に開始される例について説明したが、塗布工程Ｓ１が開始される前又は、塗布工程Ｓ１中に開始されるものであってもよい。すなわち、塗布工程Ｓ１におけるワーク１０を載置するステージにヒータを設け、塗布工程Ｓ１が行われる前、又は行っている最中に予備的にステージを加熱させることにより乾燥工程Ｓ３を開始させる。これにより、塗布工程Ｓ１中から保護膜材料３０ａの乾燥が開始されるため、保護膜材料３０ａを塗布した直後に乾燥が開始される。したがって、液滴した場所に保護膜材料３０ａを留まらせる効果が高いため、流動性の高い保護膜材料３０ａを使用することができる。
【符号の説明】
【００５４】
２  角部
１０  ワーク
１０ａ  （ワークの）表面
１２  溝部
１２ｃ  溝部内表面
２０  溝縁部
２１  稜線部
３０  保護膜
３０ａ  保護膜材料
４０  凸状部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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