(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
チオール−エポキシ樹脂マトリックス中に分散した量子ドットを含み、
前記チオール−エポキシ樹脂が少なくとも１つのポリチオール、及び少なくとも１つのポリエポキシ樹脂から誘導され、それぞれが２以上の官能価を有し、
前記ポリチオールのチオール基の、前記エポキシ樹脂のエポキシ基に対する化学量論モル比が、０．７５：１〜１：０．７５である、組成物。
【請求項２】
前記ポリチオールが、式：Ｒ２（ＳＨ）ｙ［式中、Ｒ２はｙの価数をもつ（ヘテロ）ヒドロカルビル基であり、ｙは２以上である。］で表される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記エポキシ樹脂が、式：
【化１】
0006422598.tif 000011
［式中、Ｒ２０は、（ヘテロ）ヒドロカルビル基であり、ｍは２〜６である。］のグリシジルエーテルである、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記量子ドットが有機配位子で安定化されたコア−シェル型の量子ドットである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記量子ドットがＣｄＳｅ／ＺｎＳ及びＩｎＰ／ＺｎＳから選択される、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
チオール−エポキシマトリックス中の量子ドットの重量比が０．１％〜２０％である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
前記量子ドットが１つ以上の有機配位子によって安定化され、官能化されたシリコーン液体キャリア中に分散されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
第１のバリア層と、
第２のバリア層と、
前記第１のバリア層と前記第２のバリア層との間の量子ドット層と、
を含み、前記量子ドット層が、２０℃を超えるＴｇを有する硬化したチオール−エポキシ樹脂を含むマトリックス中に分散された量子ドットを含み、前記チオール−エポキシ樹脂が少なくとも１つのポリチオール、及び少なくとも１つのポリエポキシ樹脂から誘導され、それぞれが２以上の官能価を有し、前記ポリチオールのチオール基の、前記エポキシ樹脂のエポキシ基に対する化学量論モル比が、０．７５：１〜１：０．７５である、量子ドット物品。
【請求項９】
チオール−エポキシマトリックス中の量子ドットの重量比が０．１％〜２０％である、請求項８に記載の物品。
【請求項１０】
前記バリア層と前記量子ドット層との間に配置されたプライマー層を更に含む、請求項８又は９に記載の物品。
【請求項１１】
請求項８に記載の物品を備える、表示デバイス。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
量子ドット増強フィルム（ＱＤＥＦ）はＬＣＤディスプレイに使用される。赤と緑の量子ドットをＱＤＥＦに使用し、青色ＬＥＤを光源として用いると、色の全スペクトルが得られる。これは、通常のＬＣＤディスプレイよりも全色域に向上をもたらし、ＯＬＥＤ又はＬＥＤディスプレイに比べてエネルギー消費も低くなる利点がある。
【０００２】
量子ドットフィルム物品は、２つのバリア層間に積層されるマトリックス中に分散された量子ドットを含む。蛍光素子として緑と赤の量子ドットの組み合わせを含む量子ドット物品を、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などの表示デバイスに使用すると、全色域の性能向上が可能になる。
【０００３】
量子ドットは非常に劣化しやすいため、量子ドット物品は、物品の性能の劣化を引き起こす水分や酸素の侵入を抑止する優れたバリア特性を有していなければならない。バリア層は、酸素又は水への曝露によって引き起こされる損傷から積層構造の内部領域内の量子ドットを保護するが、物品の切断エッジにより、マトリックス材料が空気に曝露される。これらのエッジ領域内では、マトリックス中に分散された量子ドットの保護は、主にマトリックス自体のバリア特性に依存する。
【０００４】
水及び／又は酸素が量子ドット物品のエッジ領域に入った場合、積層構造の曝露されたエッジ上の又はそれに隣接する量子ドットが劣化する場合があり、最終的には、紫外線又は可視光の照射によって励起されたときに発光することができなくなる場合がある。このような量子ドットの劣化は、「エッジ侵入（edge ingress）」と呼ばれ、フィルム物品の切断エッジの周囲に暗線を引き起こす場合があり、このことが、量子ドット物品が一部を形成するディスプレイの性能に不利益になる場合がある。それゆえ、ＱＤＥＦ中の量子ドットが長期間にわたって安定して劣化から守られるように、より優れたバリア特性を有するマトリックスの需要がある。
【発明の概要】
【０００５】
概して、本開示は、量子ドット物品で使用するためのマトリックス処方物に関する。このマトリックス処方は、エージングをした時でも満足な色安定性を提供しつつ、水分及び／又は酸素の侵入を防ぐものである。１つの実施形態において、本開示は、第１のバリア層；第２のバリア層、及び第１のバリア層と第２のバリア層との間の量子ドット層、とを含むフィルム物品に関する。量子ドット層は、硬化したチオール−エポキシ樹脂を含むマトリックス中に分散された量子ドットを含む。
【０００６】
より具体的には、このチオール−エポキシマトリックスは、それぞれの官能価が２以上である、ポリチオール、及びエポキシ樹脂の硬化した反応生成物である。
【０００７】
チオール−エポキシマトリックスでは、転換した部分のエッジ侵入は、１００＋時間の促進エージング後、１ｍｍを超えないことが観察される。様々な実施形態において、本開示に記載のマトリックス材料により、６５℃及び相対湿度９５％、又は８５℃の条件でのエージング後のエッジ侵入は、０．５ｍｍ未満に限定され、変色が、ＣＩＥ１９３１表色系での初期測定からｘ及びｙの両方で、０．０２以下、又は更には０．００５以下となる。これらのマトリックス処方によって、ディスプレイ用途で使用される量子ドット物品の使用期間を伸ばすことが可能である。
【０００８】
本明細書で使用する場合、
「チオール−エポキシ」はポリチオール及びエポキシ樹脂の反応混合物、又はその硬化した反応生成物を指す。
【０００９】
「アルキル」は、直鎖又は分枝鎖、環式又は非環式、飽和１価炭化水素を意味する。
【００１０】
「アルキレン」は、直鎖又は分枝鎖の不飽和２価炭化水素を意味する。
【００１１】
「アルケニル」は、直鎖又は分枝鎖の不飽和炭化水素を意味する。
【００１２】
「アリール」は、フェニル、及びナフチルなどの１価芳香族を意味する。
【００１３】
「アリーレン」とは、多価の芳香族を意味し、例えば、フェニレン、及びナフタレン等がある。
【００１４】
「アラルキレン」とは、例えばベンジル、及び１−ナフチルエチルなどの、アルキレンにアリール基が結合した上記に定義した基を意味する。
【００１５】
本明細書で使用するとき、「（ヘテロ）ヒドロカルビル」は、ヒドロカルビルアルキル基及びアリール基、並びにヘテロヒドロカルビルヘテロアルキル基及びヘテロアリール基を含み、後者は、エーテル基又はアミノ基等の１つ以上の懸垂型（鎖中）ヘテロ原子を含む。ヘテロヒドロカルビルは、場合によりエステル官能基、アミド官能基、ウレア官能基、ウレタン官能基、及びカーボネート官能基を含む１つ以上のカテナリー（鎖中）官能基からなってもよい。特に指定のない限り、非ポリマー（ヘテロ）ヒドロカルビル基は、典型的には１〜６０個の炭素原子を含有する。本明細書で使用されるようなヘテロヒドロカルビルのいくつかの例としては、上記の「アルキル」、「ヘテロアルキル」、及び「アリール」について記載されたものに加えて、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、４−ジフェニルアミノブチル、２−（２’−フェノキシエトキシ）エチル、３，６−ジオキサヘプチル、３，６−ジオキサヘキシル−６−フェニルが挙げられるが、これらに限定されない。
【００１６】
本明細書で使用する場合、用語「複合粒子」は、典型的にはコア／シェルナノ粒子（好ましくはナノ結晶）の形態のナノ粒子を指し、これは通常の溶解によっては表面から除去されない、任意の関連した有機コーティング又は他の材料をナノ粒子の表面に有している。このような複合粒子は、半導体材料を使用することによって近紫外（ＵＶ）から遠赤外（ＩＲ）の範囲で調整可能な発光を有する「量子ドット」として有用である。
【００１７】
用語「ナノ粒子」は、０．１〜１００ナノメートルの範囲、又は１〜１００ナノメートルの範囲など、０．１〜１０００ナノメートルの範囲の平均粒径を有する粒子を指す。用語「直径」は、略球状粒子の直径を指すだけでなく、構造物の最も小さい軸に沿った長さも指す。平均粒径を測定する適切な方法の例として、走査型トンネル顕微鏡、光散乱法、及び透過型電子顕微鏡が挙げられる。
【００１８】
ナノ粒子の「コア」とは、シェルを適用されていないナノ粒子（好ましくはナノ結晶）、又はコア／シェルナノ粒子の内部を意味すると理解される。ナノ粒子のコアは、一様な組成を有することができる、又はその組成はコア内部の深さに依存して変化してもよい。多くの材料が知られ、コアナノ粒子で使用されており、コアナノ粒子に１つ以上のシェルを適用する多くの方法が当技術分野で知られている。コアはもう１つのシェルとは異なる組成である。一般的に、コアは、コア／シェルナノ粒子のシェルとは異なる化学組成を有する。
【００１９】
本明細書で使用する場合、用語「化学線」は電磁スペクトルの任意の波長領域での放射線を指す。化学線は、一般的に紫外線波長領域、可視光波長領域、赤外線波長領域、又はこれらの組み合わせである。当技術分野で既知の任意の好適なエネルギー源を化学線の発生に使用してよい。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】量子ドットを含む例示的なフィルム物品のエッジ領域の概略側面図である。
【図２】量子ドットフィルムの例示的な製造方法のフロー図である。
【図３】量子ドット物品を備えるディスプレイの実施形態の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本開示は、チオール−エポキシポリマー中に分散された量子ドットを含む新規の組成物を提供する。
【００２２】
本開示は、第１のバリア層と、第２のバリア層と、及び第１のバリア層と第２のバリア層との間の量子ドット層を含み、その量子ドット層が、２０℃を超えるＴｇを有する硬化したチオール−エポキシ樹脂を含むマトリックス中に分散された量子ドットを含む、量子ドットフィルム物品を提供する。
【００２３】
硬化したチオール−エポキシマトリックス又はバインダーは、ポリチオール化合物、及びエポキシ化合物又は樹脂の反応生成物であり、それぞれが２以上の官能価を有する。限定された量のモノエポキシ化合物は、求電子性エポキシ基は開環により求核性水酸基を生成し、この水酸基が追加のエポキシ基と反応することがあるため、官能価は１と理解されるが、エポキシ樹脂は少なくとも２つのエポキシ基を有することが好ましい。
【００２４】
本開示は、第１のバリアフィルムと、第２のバリアフィルムと、及び第１のバリアフィルムと第２のバリアフィルムとの間の量子ドット層を含み、その量子ドット層が、２０℃を超えるＴｇを有する硬化したチオール−エポキシド樹脂を含むマトリックス中に分散された量子ドットを含む、量子ドットフィルム物品を提供する。
【００２５】
チオール−エポキシ樹脂中のポリチオール反応体は、式：
Ｒ２（ＳＨ）ｙ  Ｉ
［式中、Ｒ２はｙの価数をもつ（ヘテロ）ヒドロカルビル基であり、ｙは２以上であり、好ましくは２より大きい。］で表される。ポリチオール中のチオール基は１級でも２級でもよい。式Ｉの化合物は平均官能価が２以上の化合物の混合物を含んでもよい。
【００２６】
Ｒ２は、脂肪族及び芳香族ポリチオールを含む任意の（ヘテロ）ヒドロカルビル基を含む。Ｒ２は、ペンダントヒドロキシル、酸基、エステル基、若しくはシアノ基、懸垂（鎖内）エーテル基、ウレア基、ウレタン基、及びエステル基を含む１つ以上の官能基を場合により更に含んでもよい。
【００２７】
１つの実施形態では、Ｒ２は、１〜３０個の炭素原子を有する非ポリマーの脂肪族、又は脂環式部分を含む。別の実施形態では、Ｒ２はポリマーであり、ポリオキシアルキレン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアクリレート、又はペンダント若しくは末端反応性−ＳＨ基を有するポリシロキサンポリマーを含む。利用できるポリマーの例として、チオール末端ポリエチレン又はポリプロピレン、及びチオール末端ポリ（アルキレンオキシド）が挙げられる。
【００２８】
利用できるポリチオールの具体的な例として、２，３−ジメルカプトー１−プロパノール、２−メルカプトエチルエーテル、２−メルカプトエチルスルフィド、１，６−ヘキサンジチオール、１，８−オクタンジチオール、１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、プロパン−１，２，３−トリチオール、及びチオシアヌル酸が挙げられる。
【００２９】
ポリチオールの別の有用な部類としては、チオグリコール酸、β−メルカプトプロピオン酸、２−メルカプト酪酸又はそのエステルなどのα−又はβ−メルカプトカルボン酸を含むポリオールと末端チオール置換カルボン酸（又はエステル又はアシルハライドなどのこれらの誘導体）とのエステル化により得られるものが挙げられる。
【００３０】
このようにして得られる市販の化合物の有用な例として、エチレングリコールビス（チオグリコレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス３−メルカプトブチリルオキシブタン、トリス［２−３−メルカプトプロピオニルオキシ］エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（メルカプトアセテート）、２，４−ビス（メルカプトメチル）−１，３，５，−トリアジン−２，４−ジチオール、２，３−ジ（２−メルカプトエチル）チオ−１−プロパンチオール、ジメルカプトジエチルスルフィド、及びエトキシ化トリメチルプロパン−トリ（３−メルカプトプロピオネート）が挙げられる。
【００３１】
ポリマーポリチオールの具体的な例として、ポリプロピレン−エーテルグリコール（例えば、Ｐｌｕｒａｃｏｌ（商標）Ｐ２０１（ＢＡＳＦ  Ｗｙａｎｄｏｔｔｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｒｐ．））及び３−メルカプトプロピオン酸からエステル化により作製される、ポリプロピレンエーテルグリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）がある。
【００３２】
有用な可溶性高分子量チオールとしては、Ｍｏｒｔｏｎ  Ｔｈｉｏｋｏｌ  Ｉｎｃ．（Ｔｒｅｎｔｏｎ，ＮＪ）により供給される、ポリエチレングリコールジ（２−メルカプトアセテート）、ＬＰ−３（商標）樹脂、Ｐｒｏｄｕｃｔｓ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  ＆  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｒｐ．（Ｇｌｅｎｄａｌｅ，ＣＡ）により供給される、Ｐｅｒｍａｐｏｌ  Ｐ３（商標）樹脂及び２−メルカプトエチルアミン及びカプロラクタムの付加物などの化合物が挙げられる。
【００３３】
好ましいポリチオールは以下を含む：
【００３４】
【化１】
0006422598.tif 000002
【００３５】
組成物は、エポキシ樹脂を更に含む。好適なエポキシ樹脂は、脂肪族、脂環式、芳香族、又は複素環式であってよいモノマー又はオリゴマーのエポキシ化合物を含む。これらの物質は、一般に、１分子につき１つ以上の重合性エポキシ基を平均で有する。エポキシ樹脂は、１分子につき１．５以上又は２以上の重合性エポキシ基を有するものが好ましい。オリゴマーであるエポキシドは、末端エポキシ基を有する直鎖オリゴマー（例えば、ポリオキシアルキレングリコールのジグリシジルエーテル）、骨格エポキシ単位を有するオリゴマー（例えば、ポリブタジエンポリエポキシド）、又はペンダントエポキシ基を有するオリゴマー（例えば、グリシジルメタクリレートオリゴマー又はコオリゴマー）であってよい。エポキシドは、純粋化合物とすることができ、あるいは１分子につき１個、２個、又はそれ以上のエポキシ基を含有する化合物の混合物とすることができる。これらのエポキシ含有材料は、あらゆる種類の主鎖を有していてもよく、主鎖は硬化に実質的に干渉しないあらゆる好適な置換基を有していてもよい。許容し得る置換基の実例としては、ハロゲン、エステル基、エーテル、スルホネート基、シロキサン基、ニトロ基、及びホスフェート基などが挙げられる。エポキシ含有材料の平均分子量は、約５８ｇ／ｍｏｌｅ〜約１０００ｇ／ｍｏｌｅ以上の範囲で変動し得る。
【００３６】
有用なエポキシ樹脂には、式ＩＶのグリシジルエーテル化合物が含まれる。
【００３７】
【化２】
0006422598.tif 000003
［式中、Ｒ２０はｍの価数をもつ（ヘテロ）ヒドロカルビル基であり、ｍは２以上であり、好ましくは２より大きい。］式ＩＶの化合物は平均官能価が２以上の化合物の混合物を含んでもよい。
【００３８】
Ｒ２０は、脂肪族及び芳香族ポリチオールを含む任意の（ヘテロ）ヒドロカルビル基を含む。Ｒ２０は、ペンダントヒドロキシル、アミド基、エステル基、若しくはシアノ基、懸垂（鎖内）エーテル基、ウレア基、ウレタン基、エステル基、アミド官能基、チオエーテル官能基を含む１つ以上の官能基を場合により更に含んでもよい。
【００３９】
１つの実施形態では、Ｒ２０は、１〜３０個の炭素原子を有する非ポリマーの脂肪族、又は脂環式部分を含む。別の実施形態では、Ｒ２０はポリマーであり、ポリオキシアルキレン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアクリレート、又はペンダント若しくは末端反応性エポキシ基を有するポリシロキサンポリマーを含む。利用できるポリマーの例として、エポキシ末端ポリエチレン又はポリプロピレン、及びエポキシ末端ポリ（アルキレンオキシド）が挙げられる。
【００４０】
エポキシドの例は、多価フェノールをエピクロロヒドリンなどの過剰なクロロヒドリンと反応させて得る多価フェノールのグリシジルエーテル（例えば、２，２−ビス−（２，３−エポキシプロポキシフェニル）−プロパンのジグリシジルエーテル）である。この種のエポキシドの更なる例が、米国特許第３，０１８，２６２号、及びＨａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｅｐｏｘｙ  Ｒｅｓｉｎｓ，Ｌｅｅ  ａｎｄ  Ｎｅｖｉｌｌｅ，ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ  Ｂｏｏｋ  Ｃｏ．（Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ）（１９６７）に記載されている。
【００４１】
多数の市販のエポキシ樹脂もまた使用することができる。特に、容易に入手可能なエポキシドとしては、オクタデシレンオキシド、エピクロロヒドリン、スチレンオキシド、ビニルシクロヘキセンオキシド、グリシドール、グリシジルメタクリレート、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（例えば、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＥＰＯＮ８２８、ＥＰＯＮ８２５、ＥＰＯＮ１００４、及びＥＰＯＮ１００１、並びにＤｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ）からのＤＥＲ２２１、ＤＥＲ３３２、及びＤＥＲ３３４）、ビニルシクロヘキサンジオキシド（例えば、Ｕｎｉｏｎ  ＣａｒｂｉｄｅからのＥＲＬ４２０６）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルー３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、Ｕｎｉｏｎ  ＣａｒｂｉｄｅからのＥＲＬ４２２１、ＣＹＲＡＣＵＲＥ  ＵＶＲ６１１０、及びＣＹＲＡＣＵＲＥ  ＵＶＲ６１０５）、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキセンカルボキシレート（例えば、Ｕｎｉｏｎ  ＣａｒｂｉｄｅからのＥＲＬ４２０１）、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジパート（例えば、ＥＲＬ４２８９）、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル（例えば、ＥＲＬ０４００）、ポリプロピレングリコールから変性された脂肪族エポキシ（例えば、ＥＲＬ４０５０及びＥＲＬ４０５２）、ジペンテン二酸化物（例えば、ＥＲＬ４２６９）、エポキシ化ポリブタジエン（例えば、ＦＭＣ  Ｃｏｒｐ．からのＯＸＩＲＯＮ２００１）、シリコーン樹脂含有エポキシ官能基、臭素化ビスフェノール型エポキシ樹脂などの難燃剤エポキシ樹脂（例えば、ＤＥＲ５８０）、フェノールホルムアルデヒドノボラックの１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル（例えば、Ｄｏｗ  ＣｈｅｍｉｃａｌからのＤＥＮ４３１及びＤＥＮ４３８）、レゾルシノールジグリシジルエーテル（例えば、Ｋｏｐｐｅｒｓ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．からのＫＯＰＯＸＩＴＥ）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジパート（例えば、ＥＲＬ４２９９又はＣＹＲＡＣＵＲＥ  ＵＶＲ６１２８）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５、５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン（例えば、ＥＲＬ−４２３４）、ビニルシクロヘキセンモノオキシド、１，２−エポキシヘキサデカン（例えば、ＣＹＲＡＣＵＲＥ  ＵＶＲ−６２１６）、アルキルＣｓ〜Ｃ１０グリシジルエーテルなどのアルキルグリシジルエーテル（例えば、Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  ＰｒｏｄｕｃｔｓからのＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ７）、アルキルＣ１２〜Ｃ１４グリシジルエーテル（例えば、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｓｐｅｃｉａｌｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ８）、ブチルグリシジルエーテル（例えば、ＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ６１）、クレシルグリシジルエーテル（例えば、ＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ６２）、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル（例えば、ＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ６５）、１，４−ブタンジオールのジグリシジルエー��ルなどの多官能性グリシジルエーテル（例えば、ＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ６７）、ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル（例えば、ＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ６８）、シクロヘキサンジメタノールのジグリシジルエーテル（例えば、ＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ１０７）、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル（例えば、ＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ４４）、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル（例えば、ＨＥＬＯＸＹ４８）、脂肪族ポリオールのポリグリシジルエーテル（例えば、ＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ８４）、ポリグリコールジエポキシド（例えば、ＨＥＬＯＸＹ  ＭＯＤＩＦＩＥＲ３２）、ビスフェノールＦエポキシド（例えば、Ｈｕｎｔｓｍａｎ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  ＭａｔｅｒｉａｌｓからのＥＰＯＮ８６２及びＡｒａｌｄｉｔｅ  ＧＹ−２８１）、及び９，９−ビス［４−（２，３−エポキシプロピル）−フェニルフルオレノン（例えば、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＥＰＯＮ１０７９）が挙げられる。
【００４２】
有用なエポキシ含有材料には、その他に、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−２−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−２−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、及びビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジパートに代表されるエポキシシクロヘキサンカルボキシレートのようなシクロヘキセンオキシド基を含有するものが挙げられる。この性質の有用なエポキシドのより詳細な一覧が、米国特許第３，１１７，０９９号（Ｐｒｏｏｐｓ  ｅｔ  ａｌ．）に詳述されている。
【００４３】
他の有用なエポキシ樹脂は、周知であり、エピクロロヒドリン、アルキレンオキシド（例えば、プロピレンオキシド）、スチレンオキシド、アルケニルオキシド（例えば、ブタジエンオキシド）及びグリシジルエステル（例えば、エチルグリシデート）のようなエポキシドを含有する。更に他の有用なエポキシ樹脂には、Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｃｏｍｐａｎｙから市販される、米国特許第４，２７９，７１７号（Ｅｃｋｂｅｒｇ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されているものなどのエポキシ官能性シリコーンが挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、ケイ素原子の１〜２０ｍｏｌｅ％がエポキシアルキル基（好ましくは、米国特許第５，７５３，３４６号（Ｌｅｉｒ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されているように、エポキシシクロヘキシルエチル）で置換されたポリジメチルシロキサンである。
【００４４】
また、種々のエポキシ含有材料のブレンドを利用することもできる。好適なブレンドは、低分子量エポキシド（例えば、２００ｇ／ｍｏｌｅ未満の重量平均分子量を有するもの）、中間分子量エポキシド（例えば、約２００〜１０００ｇ／ｍｏｌｅの重量平均分子量を有するもの）、及び高分子量エポキシド（例えば、約１０００ｇ／ｍｏｌｅを超える重量平均分子量を有するもの）などのエポキシ含有化合物の２つ以上の重量平均分子量分布を含むことができる。その代わりに又はそれに加えて、エポキシ樹脂は、異なる化学的性質（脂肪族及び芳香族など）又は官能性（極性及び無極性など）を有するエポキシ含有材料のブレンドを含むことができる。
【００４５】
好ましいエポキシ樹脂としては、以下が挙げられる。
【００４６】
【化３】
0006422598.tif 000004
【００４７】
いくつかの好ましい実施形態では、ポリエポキシ及び／又はポリチオール化合物は、オリゴマーであり、一方が過剰の状態でこの２つを反応させることで調整される。あらかじめ反応させてある高分子量チオール−エポキシオリゴマー（エポキシ官能性又はチオール官能性）は、最終の硬化の際に発熱を低減するのに役立つ場合がある。
【００４８】
例えば、式Ｉのポリチオールを式ＩＶのポリエポキシドが過剰の状態で、オリゴマーであるポリエポキシの官能価が少なくとも２になるように反応させてもよい。逆に、式Ｉのポリチオールが過剰の状態で式ＩＩのポリアルケンと、オリゴマーであるポリアルケンの官能価が少なくとも２になるように反応させてもよい。オリゴマーであるポリエポキシド及びポリチオールは以下の式で表されてもよい［式中、下付き文字ｚは２以上である。］。Ｒ２及びＲ２０は、上に定義したとおりである。単純化のために、直鎖状チオール−エポキシポリマーを示している；すなわち、下付き文字ｙ及びｍは２である。理解されるように、Ｒ２基は更に追加のチオール基によって置換されてよく、Ｒ２０基は追加のエポキシ基によって置換されてもよい。下付き文字ｚは少なくとも２である。エポキシドへのチオールのマルコニコフ付加が示してあるが、マルコニコフ又はアンチマルコニコフ付加も想到されると理解される。
【００４９】
【化４】
0006422598.tif 000005
【００５０】
これら成分は、通常、エポキシ基に対して約１：１のモル量のチオール基を＋／−２０％で使用する。ゆえに、ポリチオールのチオール基とエポキシ樹脂のエポキシ基のモル比は、０．７５：１〜１：０．７５、好ましくは０．９：１〜１：０．９であろう。
【００５１】
いくつかの実施形態では、限定された量の（メタ）アクリレートをマトリックスバインダー組成物に使用してもよく、これはマイケル付加反応又はラジカル反応によってポリチオールと硬化される。
【００５２】
有用なメタクリレート化合物は、水及び／又は酸素の侵入を最小にするバリア特性を有する。いくつかの実施形態では、約１００℃を超えるガラス転移温度（Ｔｇ）と高架橋密度を形成できる置換基を有するメタクリレート化合物を用いると、ガス及び水蒸気バリア特性が向上したマトリックスを得ることができる。いくつかの実施形態において、メタクリレート化合物は、多官能性であり、好適な例としては、ＳＲ３４８（エトキシ化（２）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート）、ＳＲ５４０（エトキシ化（４）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート）、ＳＲ４４４（ペンタエリスリトールトリアクリレート）、ＳＲ３５１（トリメタクリルオルプロパントリアクリレート（trimethacrylolpropane triacrylate））、ＳＲ３６８（トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクルレート）、ＳＲ８３３ｓ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）及びＳＲ２３９（１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート）の商品名でＳａｒｔｏｍｅｒ  ＵＳＡ，ＬＬＣ（Ｅｘｔｏｎ，ＰＡ）から入手可能なものが挙げられるが、それらに限定されない。
【００５３】
（メタ）アクリレート化合物は、マトリックス組成物の約０重量％〜約２５重量％、又は約５重量％〜約２５重量％、又は約１０重量％〜約２０重量％を形成する。
【００５４】
チオール−エポキシポリマー組成物が（メタ）アクリレート成分を更に含む実施形態の場合、（メタ）アクリレートの官能基モル当量とエポキシ基のモル当量の和がチオールの当量の＋／−２０％と等しい。
【００５５】
チオール−エポキシ樹脂は、ポリチオールとエポキシ樹脂を好適な比で組み合わせ、塩基、又は酸触媒を用いて硬化して調製してもよい。塩基又は酸触媒は光酸触媒又は光塩基触媒であってよい。
【００５６】
エポキシ−チオール樹脂成分は塩基又は酸触媒を用いて熱硬化させる。この触媒は、光酸発生剤又は光塩基発生剤を含む、光触媒であってもよい。一般的に、量子ドットがアミン配位子で安定化されている場合、エポキシ用アミン触媒が好ましい。同様に、もし量子ドットが酸で安定化されている場合、酸触媒が好ましい。いくつかの実施形態では、量子ドットを安定させるための酸若しくは塩基配位子、又は酸／塩基官能性液体キャリアは、ポリチオール及びエポキシ樹脂の硬化のための触媒として作用してもよい。３級アミンは、好ましい塩基性触媒の１つである。硬化は、硬化温度に加えて、触媒の異なる種類、触媒の量によって制御することができる。
【００５７】
アミン触媒は、チオール（−ＳＨ）のチオレート（−Ｓ−）への脱プロトン化に使用され、このチオレートはエポキシ基と反応して求核性開環重合を起こす。アミン触媒は、環状アミン；３級アミン；２級アミン；置換環状アミジン、置換３級アミン、置換２級アミン；又はこれらの組み合わせからなる群から１つ以上を含むことができる。触媒は、イミダゾール、イミダゾリン、ピロリジン、置換イミダゾール化合物、置換イミダゾリン化合物、１，４，５，６−テトラヒドロピリミジン、置換１，４，５，６−テトラヒドロピリミジン化合物、置換ピロリジン化合物、置換ピぺリジン化合物、及びこれらの組み合わせを１つ以上含むことができる。触媒は、置換されていないピぺリジン、非環状アミジン、又は置換非環状アミジンを含むことができる。本発明の触媒として使用してもよい非環状アミジンの例として、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアルキルアミジン、Ｎ，Ｎ’−ジエチルメチルアミジン等のＮ，Ｎ’−ジアルキルアルキルアミジンを含む。
【００５８】
多官能性（polyfunctional又はmultifunctional）のアミン（例えば、１級及び２級官能性を両方有するジアミン、又は複数の１級の官能性を有するジアミン）は、鎖延長と架橋（すなわち、硬化剤として機能する）を引き起こす。多官能性（polyfunctional）アミン又は他の硬化剤は架橋を引き起こすかもしれないが、量を限定して使用してもよい。
【００５９】
エポキシ樹脂のアミン触媒は、光塩基発生剤から選択してもよい。紫外線に曝露されると、光塩基発生剤は、アミンを放出し、このアミンによって、チオールがエポキシに付加する反応が触媒される。
【００６０】
本発明において有用な光塩基発生剤は、一般的に約３２０〜４２０ｎｍの波長の光に曝露されると塩基を遊離する任意の化合物であるが、他の波長も好適でありうる。好適な光塩基発生剤としては、これらに限定されるものではないが、ベンジルカルバメート、ベンゾインカルバメート、ｏ−カルバモイルヒドロキシアミン、Ｏ−カルバモイルオキシム、芳香族スルホンアミド、α−ラクタム、Ｎ−（２−アリルエテニル）アミド、アリールアジド化合物、Ｎ−アリールホルムアミド、及び４−（オルト−ニトロフェニル）ジヒドロピリジンが挙げられる。
【００６１】
光塩基発生剤は、光照射によって直接的又は間接的にアミンを生成するものであれば特に限定されない。光塩基発生剤としては、例えば、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルヘキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメート、及び下記一般式
（Ｒ５−ＮＲ６）ｘ−Ｒ７
［式中、Ｒ５はベンジルオキシ基及びホルマール基などの光活性基であり、Ｒ６は水素又はアルキル基であり、Ｒ７は多価アルキル又はアリール基であり、ｘは少なくとも１である。］の化合物が挙げられる。この式は、光分解によって遊離するポリアミンが、式（ＨＮＲ６）ｘ−Ｒ７のものであるようなアミン光塩基発生剤を表していることは理解されるであろう。
【００６２】
光塩基発生化合物の調製は当技術分野においては既知である。Ｊ．Ｃａｍｅｒｏｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１３，ｎｏ．１１，４３０３〜４３１３（１９９１）；Ｊ．Ｃａｍｅｒｏｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｍａｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，６４，５５（１９９１）；及びＪ．Ｃａｍｅｒｏｎ，ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５５，５９１９〜５９２２（１９９０），及び米国特許第５，６５０，２６１号（Ｗｉｎｋｅｌ）を参照すること。これらの文献は、参照により本明細書に組み込まれる。
【００６３】
光塩基発生剤は更に、Ｍ．Ｓｈｉｒａｉ  ｅｔ  ａｌ．、光塩基発生剤としての４級アンモニウムジチオカルバメートの光化学反応及びポリ（グリシジルメタクリレート）の光開始される熱架橋におけるその使用、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ  Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｖｏｌ．３９，ｐｐ．１３２９〜１３４１（２００１年）、及びＭ．Ｓｈｉｒａｉ  ｅｔ  ａｌ．、「光酸発生剤及び光塩基発生剤：ポリマー材料の化学的性質及び用途（Ｐｈｏｔｏａｃｉｄ  ａｎｄ  ｐｈｏｔｏｂａｓｅ  ｇｅｎｅｒａｔｏｒｓ：ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ  ｔｏ  ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ  ｍａｔｅｒｉａｌｓ）」、Ｐｒｏｇｒｅｓｓ  ｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，ｖｏｌ．２１，ｐｐ．１〜４５，ＸＰ−００２２９９３９４（１９９６年）に記載されている。
【００６４】
任意の好適なルイス酸触媒、又はブレンステッド酸触媒を用いてエポキシ架橋反応を触媒してよい。好適な酸触媒として、塩酸、硫酸、リン酸などの強無機酸、並びに酢酸、パラ−トルエンスルホン酸、及びシュウ酸などの有機酸が挙げられるが、これらに限定されない。有用な触媒の例として、ＢＦ３アミン錯体、ＳｂＦ６スルホニウム化合物、ビスアレーン鉄錯体などのルイス酸化合物、及びペンタフルオロアンチモン酸錯体などのブレンステッド酸化合物などが挙げられる。
【００６５】
酸触媒は、光酸発生剤（ＰＡＧ）から選択されてよい。光エネルギーを照射すると、イオン光酸発生剤がフラグメント化反応を起こし、ルイス又はブレンステッド酸の１つ以上の分子を放出し、これがペンダントエポキシ基の開環付加を触媒し、架橋を形成する。有用な光酸発生剤は、熱的に安定しており、コポリマーと熱的に誘発された反応を起こすことはなく、架橋性組成物中で容易に溶解又は分散する。光酸発生剤は、既知のものであり、Ｋ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ｏｆ  ＵＶ  ａｎｄ  ＥＢ  Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ  ｆｏｒ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ  ａｎｄ  Ｐａｉｎｔｓ，ｖｏｌ．ＩＩＩ，ＳＩＴＡ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  Ｌｔｄ．，Ｌｏｎｄｏｎ，１９９１を参照することができる。更に、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，４．ｓｕｐ．ｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ  Ｖｏｌｕｍｅ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，ｙｅａｒ，ｐｐ  ２５３〜２５５を参照することもできる。
【００６６】
本発明のイオン光開始剤の陽イオン部分として有用な陽イオンには、例えば、米国特許第４，２５０，３１１号、同第３，７０８，２９６号、同第４，０６９，０５５号、同第４，２１６，２８８号、同第５，０８４，５８６号、同第５，１２４，４１７号、同第５，５５４，６６４号に記述されるもののような有機オニウム陽イオンが含まれるが、これらの記述は参照することにより本明細書に引用され、これには、脂肪族基又は芳香族基ＩＶＡ  ＶＩＩＡ（ＣＡＳバージョン）を中心とするオニウム塩、好ましくは、Ｉ−、Ｓ−、Ｐ−、Ｓｅ−、Ｎ−及びＣ−を中心とするオニウム塩（スルホキソニウム、ヨードニウム、スルホニウム、セレノニウム、ピリジニウム、カルボニウム及びホスホニウムから選択されたもの等）、最も好ましくは、Ｉ−及びＳ−を中心とするオニウム塩（スルホキソニウム、ジアリールヨードニウム、トリアリールスルホニウム、ジアリールアルキルスルホニウム、ジアルキルアリールスルホニウム、及びトリアルキルスルホニウムから選択されたもの等）が含まれる。
【００６７】
イオンＰＡＧにおける対アニオンの性質は、エポキシ基の陽イオン付加重合の率と程度に影響し得る。例えば、一般に使用される求核性アニオンにおける反応性の序列は、−ＳｂＦ６＞−ＡｓＦ６＞−ＰＦ６＞−ＢＦ４となることが、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ，ａｎｄ  Ｒ．Ｎａｒａｙａｎ，Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．，４，６９２，（１９９２）に報告されている。反応性に対するアニオンの影響は、３つの主要な因子に帰する：（１）生じるプロトン又はルイス酸の酸性度、（２）伸長するカチオン性鎖におけるイオン対の分離の度合い、及び（３）フッ化物の分離及びその結果の連鎖停止に対するアニオンの感受性。−Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４も使用することが可能である。
【００６８】
有利なオニウム塩としては、アリールジアゾニウム塩等のジアゾニウム塩；ジアリールヨードニウム塩等のハロニウム塩；トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩；トリアリールセレノニウム塩等のセレノニウム塩；トリアリールスルホキソニウム塩等のスルホキソニウム塩；並びにトリアリールホスホニウム、アルソニウム塩、ピリリウム、及びチオピリリウム塩等の他の様々な種類のオニウム塩が含まれる。
【００６９】
有用なイオン光酸発生剤としては、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート（Ｈａｍｐｆｏｒｄ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｉｎｃ．（Ｓｔｒａｔｆｏｒｄ，ＣＴ）によるＦＰ５０３４（商標））、トリアリールスルホニウム塩の混合物（ジフェニル（４−フェニルチオ）フェニルスホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドヘキサフルオロアンチモナート）（Ｓｙｎａｓｉａ（Ｍｅｔｕｃｈｅｎ，ＮＪ）からＳｙｎａ  ＰＩ−６９７６（商標）として利用可能）、（４−メトキシフェニル）フェニルヨードニウムトリフラート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムカンホルスルホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフェニルボラート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシラート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフラート、（［４−（オクチルオキシ）フェニル］フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート）、（［４−（オクチルオキシ）フェニル］フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート）、（４−イソプロピルフェニル）（４−メチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート（Ｂｌｕｅｓｔａｒ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ（Ｅａｓｔ  Ｂｒｕｎｓｗｉｃｋ，ＮＪ）からＲｈｏｄｏｒｓｉｌ２０７４（商標）として利用可能）、ビス（４−メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ（Ｂａｒｔｌｅｔｔ，ＩＬ）からＯｍｎｉｃａｔ４４０（商標）として利用可能）、４−（２−ヒドロキシ−１−テトラデシクロキシ）フェニル］フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート（Ｃｈｉｔｅｃ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  Ｃｏｒｐ．（Ｔａｉｐｅｉ，Ｔａｉｗａｎ）からＣＴ−５４８（商標）として利用可能）、ジフェニル（４−フェニルチオ）フェニルスホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドビス（ヘキサフルオロホスフェート）、ジフェニル（４−フェニルチオ）フェニルスホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ビス（４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドヘキサフルオロアンチモナート、並びにこれらのトリアリルスルホニウム塩のブレンド（ＰＦ６及びＳｂＦ６塩がそれぞれＳｙｎａ  ＰＩ−６９９２（商標）及びＳｙｎａ  ＰＩ−６９７６（商標）の商品名でＳｙｎａｓｉａ（Ｍｅｔｕｃｈｅｎ，ＮＪ）から利用可能）が挙げられる。
【００７０】
光塩基発生剤又は光酸発生剤を使用することで、塩基の光化学製品製造から残留物が生成され得る。光塩基発生剤は、化学線に曝露されると光分解してポリアミンと残留化合物を生じる。例えば、ジアミンのビス−ベンジルカルバメートは光分解して、ジアミンと、「光塩基発生剤の残留物」としてのフェニルケトンを生じる。オキシムエステルはケトンを生じる。このような残留物は少量で存在し、通常、得られる偏光体の所望の光学特性の妨げとはならない。この残留物は、赤外線、紫外線及びＮＭＲ分光法、ガス若しくは液体クロマトグラフィ、質量分析、又はこれら技術の組み合わせなどの従来の分析技術によって検出され得る。したがって、本発明は、硬化したチオール−エポキシマトリックスコポリマーと、光塩基／酸発生剤からの検出可能な量の残留物とを含んでいてもよい。
【００７１】
一般的に、エポキシ樹脂用の触媒は、エポキシ基と触媒の分子量の総量に基づいて、少なくとも約０．０５重量％、より好ましくは少なくとも約０．１重量％、約０．１重量％〜約５重量％の範囲で、又は、より好ましくは、約０．５重量％〜約２重量％の範囲で使用される。
【００７２】
図１を参照すると、量子ドット物品１０は、第１のバリア層３２と、第２のバリア層３４と、第１のバリア層３２と第２のバリア層３４との間の量子ドット層２０と、を有する。量子ドット層２０は、マトリックス２４中に分散された複数の量子ドット２２を含む。
【００７３】
バリア層３２、３４は、例えば酸素、水、及び水蒸気などの環境にある不純物への曝露から量子ドット２２を保護することが可能な任意の有用な材料で形成することができる。好適なバリア層３２、３４としては、ポリマー、ガラス、及び誘電材料のフィルムが挙げられるが、それらに限定されない。いくつかの実施形態において、バリア層３２、３４の好適な材料としては、例えば、ガラス及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ＰＥＮ、ポリエーテル、又はＰＭＭＡなどのポリマー；酸化ケイ素、酸化チタン、又は酸化アルミニウム等の酸化物（例えば、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＴｉＯ２又はＡｌ２Ｏ３）；及びこれらの好適な組み合わせが挙げられる。バリア層は、入射光及び発光の選択波長に対し、少なくとも９０％、好ましくは少なくとも９５％の透過率を有することが好ましい。
【００７４】
特に、バリアフィルムは種々の構成体から選択することができる。バリアフィルムは、用途により要求される特定のレベルで酸素及び水透過速度を有するように選択される。いくつかの実施形態では、バリアフィルムの水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ）が、３８℃及び相対湿度１００％で約０．００５ｇ／ｍ２／日未満；いくつかの実施形態では、３８℃及び相対湿度１００％で約０．０００５ｇ／ｍ２／日未満；いくつかの実施形態では、３８℃及び相対湿度１００％で約０．００００５ｇ／ｍ２／日未満である。いくつかの実施形態では、バリアフィルムは５０℃及び相対湿度１００％で約０．０５、０．００５、０．０００５、又は０．００００５ｇ／ｍ２／日未満、又は更には８５℃及び相対湿度１００％で約０．００５、０．０００５、０．００００５ｇ／ｍ２／日未満のＷＶＴＲを有する。いくつかの実施形態では、バリアフィルムは、２３℃及び相対湿度９０％で約０．００５ｇ／ｍ２／日未満の酸素透過速度を有し、いくつかの実施形態では、２３℃及び相対湿度９０％で約０．０００５ｇ／ｍ２／日未満；いくつかの実施形態では、２３℃及び相対湿度９０％で約０．００００５ｇ／ｍ２／日未満である。
【００７５】
代表的な有用なバリア層には原子層堆積、熱蒸発、スパッタリング、及び化学気相成長法により作製される無機フィルムが挙げられる。有用なバリアフィルムは、典型的には、可撓性及び透明である。一部の実施形態では、有用なバリアフィルムは、無機／有機物を含む。無機／有機多層を含む可撓性超バリアフィルムは、例えば、米国特許第７，０１８，７１３号（Ｐａｄｉｙａｔｈ  ｅｔ  ａｌ．）で記述されている。このような可撓性超バリアフィルムは、少なくとも１つの第２ポリマー層により隔てられた２つ以上の無機バリア層によりオーバーコートされたポリマーフィルム基材上に配設された第１ポリマー層を有してもよい。いくつかの実施形態では、バリアフィルムは、ポリマーフィルム基材上に配設された第１ポリマー層と第２ポリマー層２２４との間に配置された無機バリア層を１つ含む。
【００７６】
場合により、バリアフィルムは、バリア層上の量子ドット層の接着性のみならずバリア性能を更に向上するために、１つ以上のプライマー層を含む。しかし、チオール−アルケンマトリックスがある場合には、プライマー層は必要ではない。
【００７７】
いくつかの実施形態では、量子ドット物品１０の各バリア層３２、３４は異なった材料や組成の副次層（sub-layers）を少なくとも２層含む。いくつかの実施形態では、そのような多層バリア構成によって、バリア層３２、３４内でピンホール欠陥が一列に並ぶことを、より効果的に低減、又はなくすことができ、マトリックス２４への酸素及び水分の侵入に対してより効果的な防御をすることが可能である。量子ドット物品１０は、任意の好適な材料又はバリア材料の組み合わせ、及び任意の好適な数のバリア層又は副次層を、量子ドット層２０の片側又は両側に有することができる。バリア層及び副次層の材料、厚さ、及び数は、特定の用途に依存し、量子ドット２２のバリア保護及び輝度を最大にする一方で、量子ドット物品１０の厚さを最小にするように好適に選択される。いくつかの実施形態において、各バリア層３２、３４は、それ自体が二重積層フィルムなどの積層フィルムであり、各バリアフィルム層は、ロールツーロール又は積層体製造プロセスにおけるしわを排除するのに十分な厚さである。１つの実例的な実施形態では、バリア層３２、３４はその曝露面上に酸化層を有するポリエステルフィルム（例えば、ＰＥＴ）である。
【００７８】
量子ドット層２０は、量子ドット又は量子ドット材料２２の１つ以上の集団を含むことができる。例示的な量子ドット又は量子ドット材料２２は、青色ＬＥＤからの青原色光のダウンコンバージョンの際に、緑色光及び赤色光を発光し、量子ドットによって二次発光する。赤色光、緑色光、及び青色光のそれぞれの部分は、量子ドット物品１０を組み込んだ表示デバイスによって発光される白色光のための所望の白色点を達成するように調節され得る。量子ドット物品１０に使用される例示的な量子ドット２２としてＺｎＳシェルを有するＣｄＳｅがあるが、これに限定されない。本明細書に記載される量子ドット物品に使用するのに好適な量子ドットとしては、ＣｄＳｅ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳ、ＰｂＳｅ／ＰｂＳ、ＣｄＳｅ／ＣｄＳ、ＣｄＴｅ／ＣｄＳ又はＣｄＴｅ／ＺｎＳを含むコア／シェル発光性ナノ結晶を含まれるが、これらに限定されない。例示的な実施形態において、発光ナノ結晶は、外部配位子のコーティングを有し、ポリマーマトリックス中に分散されている。量子ドット及び量子ドット材料２２は、例えば、Ｎａｎｏｓｙｓ  Ｉｎｃ．（Ｍｉｌｉｐｉｔａｓ，ＣＡ）から市販されている。量子ドット層２０は、任意の有用な量の量子ドット２２を有することができ、いくつかの実施形態において、量子ドット層２０は、量子ドット層２０の総重量に基づいて、０．１重量％〜２０重量％の量子ドットを含むことができる。
【００７９】
いくつかの実施形態では、量子ドットは、追加的に、以下式で表される配位子化合物によって官能化されていてもよい。
Ｒ8−（Ｘ）ｐ      ＶＩＩ
［式中、
Ｒ８はＣ２〜Ｃ３０の炭素原子を有する（ヘテロ）ヒドロカルビル基であり；好ましくは１０〜３０個の炭素原子を有する直鎖若しくは分枝鎖アルキル、又はポリシロキサンであり；
ｐは、少なくとも１であり；好ましくは少なくとも２であり、
Ｘは、電子供与基である。］好ましくは、Ｘはアミノ基、又はチオールである。このような追加の配位子は式Ｉの配位子によって官能化されるときに添加される。一般的に、ナノ粒子１個当たりに多くの配位分子が存在していてもよい。配位子は、量子ドットの被覆を確実にするために、ナノ結晶に対して過剰に存在している。
【００８０】
いくつかの実施形態において、量子ドット材料は、配位子官能化されている、又はされていない、液体キャリア中に分散された量子ドットを含むことができる。例えば、液体キャリアは、アミノシリコーン油などの油を含むことができる。好ましくは、液体キャリアはポリマーマトリックスの透過率と合致するように選択される。量子ドット層を通過する光路長を長くし、量子ドット吸収と効率を向上させるために、液体キャリアとポリマーマトリックスの屈折率の差は、０．０５以上であり、好ましくは０．１以上である。
【００８１】
アミノ置換シリコーン液体キャリア（配位子官能性液体キャリア）は以下の式ＶＩで表される。
【００８２】
【化５】
0006422598.tif 000006
［式中、
Ｒ６は、それぞれ独立して、アルキル又はアリールであり、
ＲＮＨ２は、アミン置換（ヘテロ）ヒドロカルビル基であり、
ｘは１〜２０００、好ましくは３〜１００であり、
ｙは、０であってよく、
ｘ＋ｙは、少なくとも１であり、
Ｒ７はアルキル、アリール又はＲＮＨ２であり、
ここで、アミン官能性シリコーンは少なくとも２つのＲＮＨ２基を有する。］
【００８３】
有用なアミノシリコーン及びその製法は米国特許出願公開第２０１３−０３４５４５８号（Ｆｒｅｅｍａｎ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されており、参照することにより本明細書に組み込まれる。有用なアミン官能性シリコーンは、Ｌｕｂｋｏｗｓｈａ  ｅｔ  ａｌ．による「Ａｍｉｎｏａｌｋｙｌ  Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｚｅｄ  Ｓｉｌｏｘａｎｅｓ，Ｐｏｌｉｍｅｒｙ」，２０１４  ５９，ｐｐ  ７６３〜７６８に記載されている。これらは、Ｇｅｌｅｓｔ  Ｉｎｃ，（Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，ＰＡ）から、又はＤｏｗ  ＣｏｒｎｉｎｇからＸｉａｍｔｅｒ  ＯＦＸ−０４７９、ＯＦＸ−８０４０、ＯＦＸ−８１６６、ＯＦＸ−８２２０、ＯＦＸ−８４１７、ＯＦＸ−８６３０、ＯＦＸ−８８０３、及びＯＦＸ−８８２２を含む、Ｘｉａｍｅｔｅｒ（商標）名で入手可能である。有用なアミン官能性シリコーンは、Ｓｉｌｅｔｅｃｈ．ｃｏｍより商品名Ｓｉｌａｍｉｎｅ（商標）、及びＭｏｍｅｎｔｉｖｅ．ｃｏｍより商品名ＡＳＦ３８３０、ＳＦ４９０１、Ｍａｇｎａｓｏｆｔ、Ｍａｇｎａｓｏｆｔ  ＰｌｕｓＴＳＦ４７０９、Ｂａｙｓｉｌｏｎｅ  ＯＦ−ＴＰ３３０９、ＲＰＳ−１１６、ＸＦ４０−Ｃ３０２９、及びＴＳＦ４７０７としても入手可能である。
【００８４】
特に好ましいアミノシリコーンはＧｅｎｅｓｅｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｏｒｐ（Ｂｕｒｔｏｎ，ＭＵ）から入手可能なＧＰ−９８８であり、これは以下式で表される。
【００８５】
【化６】
0006422598.tif 000007
【００８６】
ＣｄＳｅ系の量子ドットの配位子システムの例として、結合材料と同様の組成の追加材料を有する液状アミノシリコーン型オイルがある。ＩｎＰ系の量子ドットの配位子システムの例として、固形ポリマー（例えば、イソボルニルメタクリレート）を追加材料として有する、又は量子ドットに結合もしているポリマー中にカルボキシレート基を有する、結合した中程度の鎖状カルボン酸種が挙げられる。
【００８７】
いくつかの実施形態では、配位子システムは、侵入（infiltration）の際には液状であるが、その後硬化、重合、又は溶媒除去の際に固形に変換することができる。いくつかの実施形態では、配位子システムは液状のままで、液体キャリア内に分散した量子ドットの液滴を提供し、さらにそれをポリマーマトリックス中に分散してもよい。
【００８８】
いくつかの実施形態では、配位子と液体キャリア（配位子官能性又は非官能性）の量は、無機ナノ粒子を含んだ総量に対して、６０重量％以上であり、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上である。換言すれば、配位子によって安定化した量子ドットは、式ＶＩＩの配位子化合物及び／又は式ＶＩのシリコーンを、安定化した量子ドットの総重量に対して６０重量％以上含んでいる。
【００８９】
１つ以上の実施形態では、量子ドット層２０は、場合により散乱ビーズ又は粒子を含み得る。これらの散乱ビーズ又は粒子は、マトリックス材料２４の屈折率と少なくとも０．０５又は少なくとも０．１の異なる屈折率を有する。これらの散乱ビーズ又は粒子は、例えば、シリコーン、アクリル酸系、及びナイロンなどのポリマー、又はＴｉＯ２、ＳｉＯｘ、及びＡｌＯｘなどの無機材料、並びにそれらの組み合わせを含むことができる。いくつかの実施形態では、量子ドット層２０内の散乱粒子を含むことによって、量子ドット層２０を通過する光路長が長くすることが可能になり、量子ドットの吸収及び効率が向上する。多くの実施形態では、散乱ビーズ又は粒子の平均粒径は、１〜１０マイクロメートル、又は２〜６マイクロメートルの範囲である。多くの実施形態では、量子ドット材料２０は、ヒュームドシリカなどの充填剤を場合により含み得る。
【００９０】
いくつかの好ましい実施形態では、散乱ビーズ又は粒子はＭｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．（Ｃｏｌｕｍｂｕｓ，Ｏｈｉｏ）から入手可能なＴｏｓｐｅａｒｌ（商標）１２０Ａ、１３０Ａ、１４５Ａ及び２０００Ｂ球状シリコーン樹脂（それぞれ２．０、３．０、４．５及び６．０μｍの粒径がある）などの無機ビーズである。他の有用な散乱粒子はＮａｇａｓｅ  Ａｍｅｒｉｃａ又はＳｅｋｉｓｕｉ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから入手可能な有機ビーズである。
【００９１】
本明細書に記載されるチオール−アルケン樹脂から形成された量子ドット層２０のマトリックス２４は、バリア層３２、３４を形成する材料に接着して積層構造を形成し、また、量子ドット２２のための保護マトリックスも形成する。一実施形態において、マトリックス２４は、任意の放射線硬化性メタクリレート化合物を含むチオール−アルケン組成物を硬化して形成される。
【００９２】
図２を参照すると、その他の態様において、本開示は、量子ドットフィルム物品の製造方法１００に関し、その方法は、第１のバリア層上に、量子ドットを含むチオール−アルケン組成物をコーティングすること１０２と、第２のバリア層を量子ドット材料上に設けること１０４と、を含む。いくつかの実施形態では、方法１００は、放射線硬化性チオール−アルケンを重合（すなわち、放射線硬化）させて、部分的に硬化した量子ドット材料１０６を形成し、更にバインダー組成物を重合させて硬化したマトリックス１０８を形成することを含む。いくつかの実施形態では、チオール−アルケン樹脂は１０６において完全に硬化されてもよい。
【００９３】
いくつかの実施形態では、バインダー組成物は熱することによって硬化又は固化させてもよい。他の実施形態において、量子ドット組成物は、例えば紫外（ＵＶ）光などの放射線を適用することによっても硬化又は硬質化し得る。硬化又は固化のステップはＵＶ硬化、加熱又はその両方を含んでいてもよい。いくつかの例示的で限定を意図しない実施形態では、ＵＶ硬化条件として約１０ｍＪ／ｃｍ２〜約４０００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶＡ、より好ましくは約１０ｍＪ／ｃｍ２〜約２００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶＡを適用することを含み得る。加熱及びＵＶ光はまた、バインダー組成物の粘度を増加させるために単独で適用しても、又は組み合わせて適用してもよく、コーティング及びプロセスライン上での取り扱いをより容易にすることが可能である。
【００９４】
量子ドット組成物は一般的に少なくとも２００ｃＰｓ〜最大１５０００ｃＰｓ、好ましくは５００〜１００００ｃＰｓ、及び最も好ましくは１０００〜３０００ｃＰｓの間の粘度を有する。望ましいコーティング可能な粘度は、関連するポリチオール、及びポリアルケンの選択によって達成される。
【００９５】
いくつかの実施形態において、バインダー組成物は、覆いとなるバリアフィルム３２と３４との間への積層後に硬化することができる。したがって、バインダー組成物の粘度増加は、積層直後のコーティング品質を確定する。コーティング又は積層直後に硬化することにより、いくつかの実施形態において、硬化したバインダーは、硬化中に積層体を一緒に保持するために、粘度をバインダー組成物が接着剤として作用する点まで増加させ、硬化中の欠陥を大幅に低減する。いくつかの実施形態において、従来の熱硬化と比較して、バインダーの放射線硬化は、コーティング、硬化、及びウェブのハンドリングにおいてより大幅な制御を可能にする。
【００９６】
少なくとも部分的に硬化した時点で、バインダー組成物は、量子ドット２２のための保護支持マトリックス２４を提供する、ポリマーネットワークを形成する。
【００９７】
エッジ侵入を含む侵入は、水分及び／又は酸素のマトリックス２４中への侵入による量子ドット性能の低下によって定義される。様々な実施形態において、硬化したマトリックス２４中への水分及び酸素のエッジ侵入は、８５℃で１週間後に約１．０ｍｍ未満、又は８５℃で１週間後に約０．７５ｍｍ未満、又は８５℃で１週間後に約０．５ｍｍ未満、又は８５℃で１週間後に約０．２５ｍｍ未満である。様々な実施形態において、マトリックス中への水分及び酸素侵入は、６５℃及び９５％相対湿度で５００時間後に約０．５ｍｍ未満である。
【００９８】
種々の実施形態において、硬化したマトリックスの中への酸素透過は、約８０（ｃｃ．ミル）／（ｍ２．日）未満、又は約５０（ｃｃ．ミル）／（ｍ２．日）未満である。種々の実施形態において、硬化したマトリックスの水蒸気透過速度は、約１５（２０ｇ／ｍ２．ミル．日）未満、又は約１０（２０ｇ／ｍ２．ミル．日）未満でなければならない。
【００９９】
様々な実施形態において、エージング時に観察される変色は、ＣＩＥ１９３１（ｘ，ｙ）色座標系で、８５℃で１週間のエージング期間の後、０．０２未満の変化に限られる。特定の実施形態において、エージング時の変色は、８５℃で１週間のエージング期間の後、０．００５未満である。特定の実施形態においては、マトリックスはＣＩＥ１９３１（ｘ，ｙ）の規定による色シフトｄ（ｘ，ｙ）が、６５℃及び９５％相対湿度で１００時間後で約０．０２未満である。
【０１００】
チオール−エポキシマトリックスは、入射光のスペクトル領域、典型的には４５０±５０ｎｍの領域において、少なくとも８５％の透過率を有し、好ましくは少なくとも９０％、より好ましくは少なくとも９５％の透過率を有する。更に、チオール−エポキシマトリックスは、４５０〜７５０ｎｍの可視光の領域において、少なくとも８５％の平均透過率を有し、好ましくは少なくとも９０％、より好ましくは少なくとも９５％の平均透過率を有する。
【０１０１】
様々な実施形態において、量子ドット層２０の厚さは、約２５〜５００ミクロン、又は一般的に４０〜約２５０ミクロンである。
【０１０２】
チオール−アルケン−エポキシマトリックスのドットの量子効率は、従来のマトリックスシステムの量子効率よりもかなり高くなっており、希釈溶液内でのドットの量子収率に近づくことも可能である。Ｎａｎｏｓｙｓ供給の量子ドットを使用して、浜松（商標）Ｑｕａｎｔａｒｕｓを用いて測定した場合、本量子ドット物品は８５％を超える、好ましくは９０％を超える外部量子効率（ＥＱＥ）を達成することができる。ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｈａｍａｍａｔｓｕ．ｃｏｍ／ｕｓ／ｅｎ／ｐｒｏｄｕｃｔ／ａｌｐｈａ／Ｐ／５０３３／ｉｎｄｅｘ．ｈｔｍｌを参照のこと。
【０１０３】
図３は本明細書に記載される量子ドット物品を備える表示デバイス２００の実施形態の概略図である。この例示は、単に一例として提供され、これに限定されない。表示デバイス２００は、例えば発光ダイオード（ＬＥＤ）などの光源２０４を有するバックライト２０２を備える。光源２０４は発光軸２３５に沿って発光する。光源２０４（例えば、ＬＥＤ光源）は入力側のエッジ２０８を通して、その上に後方反射体２１２を有する中空の光リサイクリングキャビティ２１０内に発光する。後方反射体２１２は、主に正反射性、拡散性、又はそれらの組み合わせであってよく、好ましくは、高反射性である。バックライト２０２は、量子ドット物品２２０を更に備え、その中に量子ドット２２２を分散させた保護マトリックス２２４を有する。保護マトリックス２２４は、ポリマーバリアフィルム２２６、２２８によって両面上で境界され、単層又は多層を有することができる。
【０１０４】
表示デバイス２００はさらに前方反射体２３０を含み、これは多方向リサイクリングフィルム又は層を含む。これらの多方向リサイクリングフィルム又は層は、軸から外れた光をディスプレイの軸に近い方向に変更する表面構造を有する光学フィルムで、これによって表示デバイス内を軸に沿って伝搬する光量を増加させ、観察者が見る像の明るさやコントラストを増大させることができる。前方反射体２３０はまた、偏光子などの他の種類の光学フィルムも有することができる。１つの非限定的な例において、前方反射体２３０は１つ以上のプリズムフィルム２３２及び／又はゲイン・ディフューザを含むことができる。プリズムフィルム２３２においては、プリズムが軸に沿って伸長されていてもよく、この軸は光源２０４の発光軸２３５に平行又は垂直に配向されていてよい。いくつかの実施形態において、プリズムフィルムのプリズム軸は、交差してもよい。前方反射器２３０は、１つ以上の偏光フィルム２３４を更に有することができ、多層光学偏光フィルム、拡散反射偏光フィルムなどを有することができる。前方反射体２３０によって発光された光は液晶（ＬＣ）パネル２８０に入る。バックライティング構造体及びフィルムの数多くの例は、例えば、米国特許第８８４８１３２号（Ｅｐｓｔｅｉｎ  ｅｔ．ａｌ．）に見出すことができる。
【実施例】
【０１０５】
【表１】
0006422598.tif 000008
【０１０６】
方法
熱分析方法
示差走査熱量測定装置Ｑ２００（ＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ（Ｎｅｗ  Ｃａｓｔｌｅ，Ｄｅｌａｗａｒｅ））を用いて熱分析を行った。示差走査熱量測定装置（ＤＳＣ）スキャンは−７５℃〜１５０℃、３℃／ｍｉｎの加熱速度で行った。ガラス転移温度（Ｔｇ）を求めた。
【０１０７】
量子収率（ＱＹ）測定法
全ての量子収率（ＥＱＥ）は絶対ＰＬ量子収率測定装置Ｃ１１３４７（Ｈａｍａｍａｔｓｕ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｄｌｅｓｅｘ，Ｎｅｗ  Ｊｅｒｓｅｙ））を用いて測定した。
【０１０８】
エージング評価法
エージング評価は、下記実施例で用意した切り出したフィルムを８５℃のオーブンに７日間置き、ＥＱＥ及びエッジ侵入を測定してエージング安定性を評価した。
【０１０９】
エッジ侵入測定法
２枚のバリアフィルムの間の硬化したマトリックスのエッジ侵入は、上記のようにエージングした後に拡大鏡の下で定規を用いてマトリックスの切断エッジから測定した。エージング中に酸素及び／又は水分によってエッジの量子ドットが劣化した場合、量子ドットは青色光の下では黒い線を呈し、緑色及び／又は赤色の光を発光しなかった。エッジ侵入の値は、切断エッジからどのくらい深くまで量子ドットが劣化したかを示している。
【０１１０】
Ｓ４−ｐの調製ＢＰＡＤＧＥポリチオールオリゴマー（ＰＳＯ）
１２５ｍＬの褐色ガラス瓶に、１．５０ｇのＢＰＡＤＧＥ（８．８ｅｑ．エポキシ）、８．３７ｇのＳ４−ｐ（６８．５ｅｑ．ＳＨ）及び０．１０ｇの触媒を投入した。混合物を室温で一晩回転させ、高粘度のポリチオールオリゴマーを得た。得られた高粘度のポリチオールに追加のＢＰＡＤＧＥ（１０．１３ｇ、５９．５ｅｑエポキシ）を処方し、下記のＥＸ４のＱＤＥＦマトリックス処方について、−ＳＨとエポキシの当量比が１対１になるようにした。
【０１１１】
Ｓ４−ｐの調製ＢＰＡＤＧＥポリエポキシオリゴマー（ＰＥＯ）
１２５ｍＬの褐色ガラス瓶に、１１．６３ｇのＢＰＡＤＧＥ（６８．３ｅｑ．エポキシ）、１．５ｇのＳ４−ｐ（１２．２７ｅｑ．ＳＨ）及び０．１０ｇの触媒を投入した。混合物を室温で一晩回転させ、高粘度のポリエポキシオリゴマーを得た。得られた高粘度のポリエポキシオリゴマーに追加のＳ４（６．８７ｇ、５６．２ｅｑ  ＳＨ）を処方し、下記のＥＸ９のＱＤＥＦマトリックス処方について、−ＳＨとエポキシの当量比が１対１になるようにした。
【０１１２】
実施例１〜９（ＥＸ１〜ＥＸ−９）及び比較例１（ＣＥ１）
ポリチオールとポリエポキシドを当量比（−ＳＨのエポキシドに対する比）１：１で混合し、１．５ｇの緑色ＱＤ（ＱＤ−１若しくはＱＤ−２）又は緑色ＱＤ（１．２ｇのＱＤ１又はＱＤ２）及び赤色ＱＤ（０．３ｇのＱＤ−３）の混合物並びに触媒（０．０５％、約０．１ｇ）を追加して、コウルズブレードミキサを用いて１４００ｒｐｍのスピードで２分間窒素ボックス中で完全に混合し、約２０ｇのＥＸ１〜ＥＸ９マトリックスコーティング処方を準備した。ここで、ＥＸ３及びＥＸ７はそれぞれＥＸ２及びＥＸ６の繰り返しである。ＥＸ５のマトリックスコーティング処方は、混合物に約５％のＳｉＯ２を添加したこと以外は、他の実施例と同じ方法で調製した。使用した量子ドットと、ポリチオール及びポリエポキシドの種類は表１にまとめたように変更した。
【０１１３】
ＣＥ１はエポキシ−アミン／アクリレートマトリックス中に緑色と赤色の量子ドットを分散した「３Ｍ  ＱＵＡＮＴＵＭ  ＤＯＴ  ＥＮＨＡＮＣＥＭＥＮＴ  ＦＩＬＭ」（５ｍｉｌのＰＥＴフィルムを有する３ＭＱＤＥＦ３６０ｄ  Ｑ３８．２７×３（．２７，．２６））で、ＵＶ及び熱プロセスによって硬化されている。３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓａｉｎｔ  Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）よりＮ１０６０７−００４として入手可能である。
【０１１４】
上記のように調製したＥＸ１〜ＥＸ９処方を２枚の離型フィルム（ＳＩＬＰＨＡＮ  Ｓ  ３６  Ｍ，１Ｒ  １０００３  Ｃｌｅａｒ  １５２  ｍ，Ｓｉｌｉｃｏｎａｔｕｒｅ  Ｓ．Ｐ．Ａ．（Ｃｈｉｃａｇｏ  ＩＬ）より入手）の間に、約１００μｍの厚さになるようにナイフ−コーティングし、１１０℃のオーブンで５分間、熱硬化した。コーティングされ、硬化されたフィルムは離型フィルムを剥がしたのち、上記の熱分析に使用した。
【０１１５】
次いで、上記の調製したＥＸ１〜ＥＸ９処方を２枚の２ミル（５０μｍ）の厚みのプライマー化されたＰＥＴバリアフィルム（ＦＴＢ３−Ｍ−５０，３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）より、商品名「３Ｍ  ＦＴＢ３  ＢＡＲＲＩＥＲ  ＦＩＬＭ」で入手可能）の間に、約１００μｍの厚みでナイフコーティングし、１１０℃のオーブンで５分間熱硬化して硬化した。硬化したフィルムは量子収率の測定、及びエージング評価に使用した。
【０１１６】
得られたマトリックスフィルムについて、コーティング品質、熱分析、量子収率測定、及びエッジ侵入を上記試験方法を用いて評価した。量子収率測定については、準備したサンプル（すなわち、エージング前）及び上記エージング安定性試験を実施した後（すなわち、エージング後）に実施した。
【０１１７】
以下の表２に、準備したサンプルのＴｇ及びＱＹのデータ（ＥＱＥ％、Ａｂｓ％）、及びＥＸ１〜ＥＸ９及びＣＥ１について、エージング後の同じサンプルのＱＹデータ（ＥＱＥ％、Ａｂｓ％、ΔＥＱＥ）及びエッジ侵入の結果をまとめている。
【０１１８】
【表２】
0006422598.tif 000009
【０１１９】
【表３】
0006422598.tif 000010
＊Ｎ／Ａは「測定せず」を意味する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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