(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程、即ち、
２つの主要面を有し且つその面の少なくとも１つ上に−ＯＨ官能基を有する基材を提供する工程と、
前記基材の表面上に材料の堆積物を生じる条件下の真空チャンバー内で、−ＯＨ官能基を有する前記基材の１つの面を、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３と称される少なくとも３つの個別の材料及び任意選択で材料Ｍ４に、この順序で逐次暴露する工程と、
を含む光学物品の製造方法であって、
Ｍ１が、
置換シランのＳｉ原子に直接結合された少なくとも１個の官能基Ｘ１であって、Ｓｉ−Ｘ１基が前記基材のＯＨ基との共有結合を形成可能であり、Ｘ１が、ケイ素原子に直接結合された加水分解性基又はＯＨ基である、官能基Ｘ１と、
少なくとも１個のフッ素含有基と、
を含む置換シランであり、
Ｍ２が、
置換シランのケイ素原子に直接結合された少なくとも１個の官能基Ｘ２であって、Ｓｉ−Ｘ２基が前記基材の−ＯＨ基との共有結合及び／又はＭ１との共有結合を形成可能であり、Ｘ２が、加水分解性基又はＯＨ基である、官能基Ｘ２と、
少なくとも１個の疎水基若しくは疎油基、又は少なくとも１個の親水基と、
を含む９００ｇ／ｍｏｌ以下の数平均分子量の置換シランであり、
Ｍ１が、Ｍ２よりも大きい重量平均分子量を有し、Ｍ１とＭ２との重量平均分子量の差が、６００ｇ／ｍｏｌ以上であり、
Ｍ３が金属フッ化物であり、
Ｍ４が非フッ素化金属酸化物又は非フッ素化金属水酸化物である、
光学物品の製造方法。
【請求項２】
材料Ｍ４を堆積させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記基材が、反射防止光学層を含む透明材料である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
堆積物の形成を伴う条件が減圧及び／又は高温の少なくとも１つを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
層の形成を伴う条件が真空下での蒸発を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
Ｘ１及びＸ２が、独立して、ハロゲン原子、−ＮＨ−アルキル基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、イソシアネート基、−ＯＨ基、及びＮＨ2基から選択される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記フッ素含有基が、２価のフルオロアルキル基、フルオロアルケニル基、ポリ（フルオロアルキルエーテル）基、アルキル基、アルケニル基の集合から生じる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
Ｍ１の数平均分子量が、２０００ｇ／ｍｏｌ以上である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
Ｍ１が、次式：
【化１】
0006445455.tif 000018
（式中、ＲFは、ペルフルオロアルキル基を表し、Ｚは、フッ素原子又はトリフルオロメチル基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、それぞれ独立して、０又は１以上の整数を表し、但し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、１以上であり、且つ以上の式に現れる下付き文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅにより括弧でくくられた繰返し単位の順序は、示されたものに限定されるものではなく、Ｙは、水素原子又は１〜４個の炭素原子を含有するアルキル基を表し、Ｘは、水素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表し、Ｒ1は、ヒドロキシル基又は加水分解性置換基を表し、Ｒ2は、水素原子又は１価炭化水素基を表し、ｌは、０、１、又は２を表し、ｍは、１、２、又は３を表し、且つｎ’’は、１以上の整数を表す）
を有する化合物である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
Ｍ１が、一般式（Ａ）又は一般式（Ｂ）及び（Ｃ）：
Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o−（ＣＨ2）p−Ｘ（ＣＨ2）r−Ｓｉ（Ｘ’）3-a（Ｒ１）a  （Ａ）
Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o（ＣＨ2）pＸ（ＣＨ2）r（Ｘ’）2-a（Ｒ１）aＳｉＯ（Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o（ＣＨ2）pＸ（ＣＨ2）r（Ｘ’）1-a（Ｒ１）aＳｉＯ）zＦ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o（ＣＨ2）pＸ（ＣＨ2）r（Ｘ’）2-a（Ｒ１）aＳｉ  （Ｂ）
Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o−（ＣＨ2）p−Ｘ（ＣＨ2）r−（ＣＨ2）t−Ｓｉ（Ｘ’）3-a（Ｒ１）a  ：（Ｃ）
（式中、ｑは、１〜３の整数であり、ｍ、ｎ、及びｏは、独立して、０〜２００の整数であり、ｐは、１又は２であり、Ｘは、Ｏ又は２価有機基であり、ｒは、２〜２０の整数であり、ｔは、１〜１０の整数であり、Ｒ１は、Ｃ１〜２２線状又は分岐状炭化水素基であり、ａは、０〜２の整数であり、Ｘ’は、加水分解性基、又は−ＯＨ基であり、且つｚは、ａが０又は１のとき０〜１０の整数である）
で示される化合物から選択される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
Ｍ２の数平均分子量が８００ｇ／ｍｏｌ以下である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
Ｍ２が、式：
［Ｈ−（ＯＣＨ2−ＣＨ2）a−（ＯＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2）a’−（ＯＣＦ2−ＣＦ2）a’’−（ＯＣＦ2−ＣＦ2−ＣＦ2）a’’’−（ＯＣＨＦ−ＣＨＦ）a’’’’−（ＯＣＨＦ−ＣＨＦ−ＣＨＦ）a’’’’’］wＸ−（ＣＨ2）b−（ＣＦ2）b’−Ｓｉ（Ｒ）3  （Ｄ）
（式中、ａ、ａ’、ａ’’、ａ’’’、ａ’’’’、ａ’’’’’は、０〜２の整数であり、ａ＋ａ’＋ａ’’＋ａ’’’＋ａ’’’’＋ａ’’’’’は、少なくとも１であり、Ｘは、Ｏ又はＮ又はＮＨであり、ｂ及びｂ’は、０〜１０の整数であり、且つｂ＋ｂ’は、１未満にはなりえず、Ｒは、加水分解性基であるか又はＯＨであり、以上の式に現れる下付き文字ａ、ａ’、ａ’’、ａ’’’、ａ’’’’、ａ’’’’’、ｂ、及びｂ’により括弧でくくられた繰返し単位の順序は、示されたものに限定されるものではなく、ｗ＝１又は２（Ｘの価数に依存する））
並びに
Ｆ−（ＣＦ2）c−（ＣＨ2）d−（ＣＦ2）e−（ＣＨ2）f−Ｓｉ（Ｒ）3  （Ｅ）
及び
Ｈ−（ＣＨ2）g−（ＣＦ2）h−（ＣＨ2）i−（ＣＦ2）j−Ｓｉ（Ｒ）3  （Ｆ）
（式中、各ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｌ、ｊは、０〜１０の整数であり、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆの少なくとも１つは、０とは異なり、ｇ、ｈ、ｉ、及びｊの少なくとも１つは、０とは異なり、且つＲは、加水分解性基であるか又はＯＨである）
に対応する非フッ素化又はフッ素化シランの中から選択される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
Ｍ１堆積物が、１００ｎｍ未満の厚さを有する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
Ｍ１＋Ｍ２堆積物が２０ｎｍ未満の厚さを有する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
Ｍ３、又はＭ３及びＭ４が堆積された光学物品の表面上に接着剤プリフォームフィルムを適用する工程を含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記接着剤プリフォームフィルムが感圧接着剤フィルムである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記Ｍ１の数平均分子量が３０００ｇ／ｍｏｌ〜６０００ｇ／ｍｏｌの範囲内である、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
以下の工程、即ち、
１）請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法に従ってトリミングするのに適した光学物品を製造する工程と、
１ａ）任意選択で、Ｍ３、又はＭ３及びＭ４が堆積された光学物品の表面上に接着剤プリフォームフィルムを適用する工程と、
２）前記光学物品をエーコンエレメントにより保持する工程と、
３）前記光学物品をトリミングする工程と、
４）前記光学物品から前記エーコンエレメントを除去する工程と、
５）こうしてトリミングされた光学物品を回収する工程と、
６）存在するならば接着剤プリフォームフィルム、Ｍ３層、及び存在するならばＭ４層を除去する工程と、
を含むことを特徴とする、疎水表面及び／又は撥油表面の性質を有するトリミングされた光学物品の取得方法。
【請求項１９】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法により取得可能な光学物品。
【請求項２０】
少なくとも１５ｍＪ／ｍ2に等しい表面エネルギーを有する、請求項１９に記載の光学物品。
【請求項２１】
請求項１８に記載の方法により取得可能な光学物品。
【請求項２２】
１４ミリジュール／ｍ2以下の表面エネルギーを有する、請求項２１に記載の光学物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、満足すべき縁取り能を呈する防汚性の改良された光学物品、例えば、眼鏡レンズの製造方法に関する。また、本方法により得られる光学物品、特に、レンズに関する。
【０００２】
本発明は、より特定的には、疎水及び／又は疎油表面コーティング等の防汚トップコートを最外層として含む光学物品の製造に関する。
【０００３】
本発明に係る方法は、２つの主要面を有する基材を提供することと、基材の表面上に材料の堆積物を生じる条件下のチャンバー内で基材の１つの面をいくつかの個別の材料に逐次暴露することと、を含む。それらの材料の第１は、ケイ素に直接結合された加水分解性基（例えば、−ＮＨ2基）又はＯＨ基を少なくとも１個含み且つフッ素含有基を少なくとも１個含む高分子量シランから選択され、それらの材料の第２は、ケイ素に直接結合された加水分解性基（例えば、−ＮＨ2基）又はＯＨ基を少なくとも１個含み且つ疎水基及び／又は疎油基を少なくとも１個含む低分子量シランから選択される。
【０００４】
眼鏡レンズは、前記レンズの凸及び凹光学表面の両方のジオメトリーを決定する一連の成形及び／又は表面仕上げ／平滑化操作並びにそれに続く適切な表面処理から得られる。
【０００５】
眼鏡レンズの最終仕上げ工程は、所要の寸法に従って造形し、配置される眼鏡フレーム内にレンズを嵌入させるように、レンズの縁又は外周を機械加工する縁取り操作である。
【０００６】
縁取りは、以上に定義された機械加工工程を行うダイヤモンド砥石車を含む研削機により従来方式で行われる。
【０００７】
そのような操作時、レンズは、軸方向に作用するブロッキング部材によりに保持される。
【０００８】
砥石車に対するレンズの相対運動は、所望の形状を提供するように、一般的にはディジタル方式で、モニターされる。
【０００９】
明らかなように、そのような移動時、レンズを堅固に保持することが絶対に必要である。この目的のために、縁取り操作前、レンズブロッキング工程が行われる。即ち、保持手段又はチャックがレンズの凸表面上に位置決めされる。
【００１０】
チャックとレンズの凸表面との間に、保持パッド、好ましくは両面接着剤が配置される。
【００１１】
そのように装着されたレンズは、以上に挙げた軸方向ブロッキング部材の１つに位置決めされ、次いで、一般的にはエラストマーで作製された当接体を利用して、第２の軸方向ブロッキング部材がレンズの凹表面をクランプする。
【００１２】
機械加工工程時、レンズ上に接線トルク応力が発生するので、レンズ保持手段が十分に効率的でなければ、チャックに対してレンズの回転を生じる恐れがある。
【００１３】
レンズの良好な保持は、主に、保持パッド／レンズの凸表面の境界での良好な接着に依存する。
【００１４】
満足すべき方法で機械加工又は研削を行えるようにするために、レンズ上での接着剤層の一時使用が推奨される。然しながら、たとえ一時的ではあっても、そのような接着促進層は、下に位置する層の性質の変化を引き起こす可能性がある。
【背景技術】
【００１５】
仕上げレンズに追加の又は改良された光学的又は機械的性質を付与するいくつかのコーティングで、眼鏡レンズやレンズブランク等のレンズ基材の少なくとも１つの主要表面を被覆することが、当技術分野で慣例になっている。これらのコーティングは、通常、機能コーティングと称される。
【００１６】
例えば、レンズ基材の表面から始めて、逐次、耐衝撃コーティング（耐衝撃プライマー）、耐摩耗及び／又は耐引掻きコーティング（ハードコート）、並びに反射防止コーティングで、典型的には有機ガラス材料で作製されたレンズ基材の少なくとも１つの主要表面を被覆することが、慣例になっている。
【００１７】
また、最新世代の眼鏡レンズは、ほとんどの場合、強い汚れ傾向、例えば、脂肪堆積物に対する強い汚れ傾向を低減するために、一般的には、反射防止コーティング上、特に、無機材料で作製された反射防止コーティング上に堆積された防汚材料の外層を含む。そのような防汚トップコートは、一般的には、脂肪汚れの付着を防止してその除去がより容易になるようにレンズの表面エネルギーを低減する疎水及び／又は疎油コーティングである。疎水トップコートは、仕上げ光学物品の最外側コーティングを構成する。
【００１８】
そのようなトップコートは、当技術分野で公知であり、通常、フルオロシラン又はフルオロシラザン、即ち、フッ素含有基を有するシリコーン又はシラザンである。トップコートの標準的な材料は、ダイキン工業株式会社により商品化されたペルフルオロポリエーテル部分を含むフッ素系樹脂ＯＰＴＯＯＬ  ＤＳＸ（商標）、信越化学工業株式会社製のＫＹ１３０（商標）、同様に信越化学工業株式会社により商品化されたＫＰ８０１Ｍ（商標）、及びダイキン工業株式会社により商品化されたＡＥＳ４（商標）である。これらのコーティングにより、レンズに少なくとも１００°の水との接触角が付与される。
【００１９】
最も性能のよいトップコート、例えば、Ｏｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）、ＡＥＳ４（商標）、又はＫＹ１３０（商標）、特に、Ｏｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）及びＡＥＳ４（商標）は、それらの表面エネルギーを大幅に減少させる効力を有する。結果として、それによりパッド／凸表面の境界での接着が変化して、特にポリカーボネートレンズでは、縁取り操作が困難になり、その縁取りにより、他の材料と比較してはるかに大きな応力が発生する。
【００２０】
レンズ表面の滑性が高いと、レンズの中心が固定されたレンズチャックからレンズの中心が実質的に変位して、レンズの光学軸及び水平／垂直軸がその真の中心から変位する恐れがある。この現象は、恐らく、視力矯正効果を変化させたり且つ／又はレンズを所望のフレームに挿入できなくしたりするであろう。従って、縁取り操作がうまく行われなかった結果として、レンズの純然たる損失を生じる。
【００２１】
これらの問題を解決するために、レンズの最外層上に一時フィルムを堆積することが有利であることを見いだした。
【００２２】
有効な解決策は、少なくとも１５ｍＪ／ｍ2の表面エネルギーを付与する一時コーティング、特定的には、ＭｇＦ2一時層、例えば、仏国特許第２８２４８２１号明細書に本出願人により開示されたものをレンズの最外層上に堆積することである。この解決策は、防汚トップコートの堆積プロセスのいかんにかかわらず、適用可能である。然しながら、一時ＭｇＦ2層で被覆された外層を有するレンズは、そのような一時層の堆積後４８時間に渡り縁取りを行えないこともある。
【００２３】
本出願人名義の仏国特許第２８５６０５６号明細書では、そのような方法が更に改良された。この明細書には、少なくとも１種の非フッ素化金属酸化物及び／又は少なくとも１種の非フッ素化金属水酸化物の層が上に堆積又は形成された前記ＭｇＦ2一時層で被覆された眼鏡レンズが記載されている。レンズ上に種々の層を堆積した後、追加の層により縁取り操作を非常に迅速に行うことが可能になる。
【００２４】
ＭｇＦ2及びＭｇＯのそのような層は、一時的なものであり、通常、レンズを機械加工した後、例えば、払拭又は濯ぎにより除去されて、使用できる状態になる。
【００２５】
然しながら、ＭｇＦ2及び任意選択のＭｇＯの一時上層を疎水及び／又は疎油コーティング上に堆積した場合、トップコートとも称されるそのような疎水及び／又は疎油コーティングは、一時層を除去した後、ＭｇＦ2及び任意選択のＭｇＯの一時コーティングの堆積に付されなかったトップコートと比較して、性能劣化を呈することが認められた。
【００２６】
特定的には、レンズトップコート層の疎水性及び／又は疎油性は、ＭｇＦ2及び任意選択のＭｇＯのコーティングを除去した後、同一トップコート層を含む元のレンズの性質と比較して、有意な劣化が認められた。
【００２７】
解決策は、トップコート層の厚さを増加させることに依拠し得る。然しながら、トップコート材料が高分子量の複雑な分子であるので、この解決策は、きわめてコストがかかる。
【００２８】
米国特許出願公開第２００９０２５７０２２号明細書には、多層反射防止フィルムに接触した状態で提供される撥水・撥油層が記載されている。撥水・撥油層は、２種の異なるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を原料として使用することにより作製される。
【００２９】
第１及び第２のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、それぞれ、好ましくは１０００〜１００００の平均分子量を有する。
【００３０】
典型的には、ＡＥＳ４（商標）及びＫＹ１３０（商標）（又はＫＹ１６４）が、蒸発により逐次堆積されるか、又はフッ素化溶媒中に混合一体化されて浸漬被覆によりレンズの表面に堆積される。
【００３１】
得られるレンズは、長期間に渡り十分な撥水・撥油性を保持し得ると共に、ケイ素接着剤テープ又は保護フィルムを用いた縁取りプロセスに十分な縁加工性を有し得る。
【００３２】
米国特許出願公開第２０１０／００５３５４７号明細書には、主要表面上に防汚コーティングを有し且つそれに適用された一時層を有する光学物品が記載されている。
【００３３】
防汚コーティングは、一方の末端のみがシラノール基又はその前駆体を含む５５〜８０重量％の過フッ素化化合物、典型的には、Ｏｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）と、鎖の両方の末端が少なくとも１個のシラノール基又はシラノール前駆体を含む線状過フッ素化化合物から選択される４５〜２０重量％の成分、典型的には、ＫＹ１３０（商標）と、を含む重合性組成物の硬化の結果である。
【００３４】
一時層は、ＭｇＦ2層及びその上に堆積されたＭｇＯ層である。
【００３５】
実際には、２／３のＯｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）と１／３のＫＹ１３０（商標）との混合物を蒸発により基材上に堆積させ、そしてＭｇＦ2層及びそれ続いてＭｇＯ層をその上に堆積させる。
【００３６】
ＭｇＦ2／ＭｇＯ層を除去した後、防汚コーティングは、Ｏｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）単独又はＫＹ１３０（商標）単独のいずれかで形成されたコーティングよりも大きい水接触角を呈する。
【００３７】
個別のフッ素含有シラン材料の重畳は、先行技術から公知である。
【００３８】
国際公開第２００７／０７１７００号パンフレットには、有機材料の一時層を提供することにより物品の縁取りを改良する方法が開示されている。少なくとも１個のフッ素含有基を有するシランを含むトップコート層を堆積させ、次いで、低分子量のフッ素化化合物の一時層を堆積させる。
【００３９】
米国特許出願公開第２００７／０１７２６２２号明細書には、２０個超の炭素原子を有するフッ素含有基を少なくとも１個有するシランの層と、その上に適用された２０個以下の炭素原子を有するフッ素含有基を少なくとも１個有するシランを含む透明な除去可能保護層と、を含む特別な層構造を有する眼鏡ガラスが開示されている。第２の層により、ガラスの表面エネルギーが一時的に１５ｍＪ／ｍ2未満の値に調整される。
【００４０】
米国特許第７，４４９，２３３号明細書には、第１の接触角を有する第１の疎水層と、第２の接触角を有する第２の疎水層と、を含む基材が開示されている。第１の疎水層は、第２の疎水層と基材との間に存在し、第１の接触角は、第２の接触角よりも大きい。第１の疎水層は、ペルフルオロポリエーテルケイ素化合物に基づく。第２の疎水層は、ペルフルオロポリエーテルケイ素化合物に基づき得る。第２の疎水層は、一時的なものであり、コーティング付き基材の取扱いが終了した後又はコーティング付き基材の少なくとも一部の処理が終了した後、水若しくはアルコールを用いて又は単純に基材を払拭して、容易に除去可能であり、その後、結合層又は第１の疎水層が、基材上に結合された状態で残る。
【００４１】
本発明に係る方法では、金属フッ化物と任意選択で非フッ素化金属酸化物又は非フッ素化金属水酸化物とに基づく除去可能層を適用する前に、第２のシラン材料の堆積が行われる。実際には、第２のシラン堆積物により第１のシラン堆積物を含む光学物品の性質が永久的に改変されるので、ＭｇＦ2／（任意選択ＭｇＯ）一時層が除去された時、第１の堆積物の性質は、このＭｇＦ2／（任意選択ＭｇＯ）層の一時適用により劣化しなかったという点で、３つの最近の明細書の教示とは異なる。
【００４２】
次の用語、即ち、「ｃｏｍｐｒｉｓｅ（〜を含む）」（並びにｃｏｍｐｒｉｓｅの任意の形態、例えば、「ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ」及び「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ」）、ｈａｖｅ（〜を有する）（並びにｈａｖｅの任意の形態、例えば、「ｈａｓ」及び「ｈａｖｉｎｇ」）、「ｃｏｎｔａｉｎ（〜を含有する）」（並びにｃｏｎｔａｉｎの任意の形態、例えば、「ｃｏｎｔａｉｎｓ」及び「ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ」）、更には「ｉｎｃｌｕｄｅ（〜を含む）」（並びにｉｎｃｌｕｄｅの任意の形態、例えば、「ｉｎｃｌｕｄｅｓ」及び「ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ」）は、オープンエンドの連結動詞である。結果として、１つ以上の工程又は要素を「ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ（含む）」、「ｈａｓ（有する）」、「ｃｏｎｔａｉｎ（含有する）」、又は「ｉｎｃｌｕｄｅｓ（含む）」方法又は方法の工程は、それらの１つ以上の工程又は要素を有するが、それらの１つ以上の工程又は要素のみに限定されるものではない（たとえこの後者の場合が本発明の実現形態に好ましいとしても）。
【００４３】
本発明に係る方法で使用される光学物品は、好ましくは、眼鏡レンズ基材である。「基材」という用語は、種々の性質の１つ以上のコーティングを含むか又は裸であるかに依存して、処理又は未処理のいずれかの有機又は無機のガラス基材を意味する。本明細書では、「レンズ」という用語は、逐次処理、即ち、被覆又は堆積、縁取り等の適用により得られる製品を意味する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００４４】
本発明の目的は、性質の改良された光学物品の製造方法を提供することであった。
【００４５】
より特定的には、本発明の目的は、機械加工及び／又は研削に付される適応性を有する光学物品、特に高表面エネルギー、好ましくは１５ｍＪ／ｍ2以上の表面エネルギーを提供する一時層を含む物品の製造方法を提供することであった。
【００４６】
特定的には、本発明の目的は、疎水及び／又は疎油トップコートを含む光学物品の製造方法を提供すること、並びに光学物品を機械加工及び／又は研削し且つ一時層を除去した後、満足すべき優れた疎水性及び／又は疎油性を得ることであった。
【課題を解決するための手段】
【００４７】
そのような目的は、以下に開示される方法により達成された。
【００４８】
本発明の第１の対象は、以下の工程、即ち、
２つの主要面を有し且つその面の少なくとも１つ上に−ＯＨ官能基を有する基材を提供することと、
基材の表面上に材料の堆積物を生じる条件下の真空チャンバー内で、−ＯＨ官能基を有する基材の１つの面を、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３と称される少なくとも３つの個別の材料及び任意選択で材料Ｍ４に、この順序で逐次暴露することと、
を含む光学物品の製造方法である。但し、
Ｍ１は、
置換シランのＳｉ原子に直接結合された少なくとも１個の官能基Ｘ１であって、Ｓｉ−Ｘ１基が基材の−ＯＨ基との共有結合及び／又はＭ２との共有結合を形成可能である、官能基Ｘ１と、
少なくとも１個のフッ素含有基と、
を含む置換シランであり、
Ｍ２は、
置換シランのケイ素原子に直接結合された少なくとも１個の官能基Ｘ２であって、Ｓｉ−Ｘ２基が基材の−ＯＨ基との共有結合及び／又はＭ１との共有結合を形成可能である、少なくとも１個の官能基Ｘ２と、
少なくとも１個の疎水基若しくは疎油基、又は少なくとも１個の親水基と、
を含む９００ｇ／ｍｏｌ以下の数平均分子量を有する置換シランであり、
Ｍ１は、Ｍ２よりも大きい重量平均分子量を有し、Ｍ１とＭ２との重量平均分子量の差は、６００ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは９００ｇ／ｍｏｌ以上であり、
Ｍ３は、金属フッ化物であり、
任意選択で、他の材料Ｍ４は、Ｍ３材料上に堆積可能であり、それは、欧州特許第１４６７９５５号明細書に開示されるような有機材料又は無機材料であり、好ましくは、他の材料は、ＭｇＯ等の非フッ素化金属酸化物又は非フッ素化金属水酸化物である。
【発明を実施するための形態】
【００４９】
本発明によれば、光学デバイスの製造方法は、少なくとも３つの表面コーティングの逐次適用を含む。「基材の表面上へのそれらの材料の堆積」という用語は、各材料が、事前の堆積工程から得られた基材の最外側コーティング上に堆積されることを意味する。
【００５０】
基材とは、本発明との関連では、減圧、高温、照射、及びパワーから選択される条件下で材料の堆積に付すのに適した２つの主要面を含む材料を意味する。基材は、多孔表面及び非多孔表面を有する材料を含む。それは、ガラス、セラミック、磁器、繊維ガラス、金属等の材料、ポリカーボネート等の熱硬化性物質や熱可塑性物質を含む有機材料、並びにセラミックタイルを含む。本発明に係る方法で基材として使用可能な他の有機材料としては、ポリスチレン及びその混合ポリマー、ポリオレフィン、特定的には、ポリエチレン及びポリプロピレン、ポリアクリル化合物、ポリビニル化合物、例えば、ポリビニルクロリド及びポリビニルアセテート、ポリエステル及びゴム、更にはビスコースで作製されるフィラメント、並びにセルロースエーテル、セルロースエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、例えば、ポリグリコールテレフタレート、及びポリアクリロニトリルが挙げられる。
【００５１】
本発明は、より特定的には、ガラス、特に、レンズ、例えば、眼鏡ガラス又はアイウェアレンズの製造方法に関する。基材は、好ましくは、反射防止光学層を含む透明材料である。然しながら、それはまた、顕微鏡スライド、装飾ガラス片、プラスチックシート、ミラーガラス、セラミックタイル又は大理石タイル、ドア用及び窓用ガラス、スクリーン（テレビ、コンピューター）、ミラー、プリズム、時計ガラス、光学デバイスのレンズ、例えば、双眼鏡レンズ、顕微鏡レンズ、望遠鏡レンズ、カメラレンズ、ビデオレンズの製造用途にも好適である。
【００５２】
本発明に係る方法で好ましく使用されるレンズ又は眼鏡ガラスの好ましい基材は、例えば、ポリチオウレタン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート、ポリアクリレート、若しくはポリジエチレングリコールビスアリルカーボネートで形成される処理若しくは未処理の合成ガラス、又は処理若しくは未処理の無機ガラスであり得る。
【００５３】
そのような基材は、通常、硬質層及び／又は従来の反射防止層を含み、且つ多層構造を含む。そのような硬質層及び反射防止層は、通常、未処理眼鏡ガラスの表面に直接適用されるか、又は基材上にすでに形成されたプライマー耐衝撃層上に適用される。
【００５４】
この場合、Ｍ１材料の少なくとも１つの層であるトップコートとしても知られる疎水性及び疎油性のコーティングはまた、有利には、裸の基材の表面に直接適用されるのではなく、眼鏡ガラスに適用された硬質層又は反射防止層に適用される。そのような単層又は多層の硬質層コーティング及び反射防止コーティングは、当業者に周知であり、適切な材料及びそれらの材料の層厚さを好適には選択することは、先行技術分野で周知である。反射防止コーティングは、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の金属酸化物、及びそれらの組合せを含み得る。反射防止コーティングの厚さは、通常、約０．１ｎｍ〜約１，０００ｎｍである。
【００５５】
本発明に係る方法に付される基材は、その表面に−ＯＨ基を含む。
【００５６】
ＯＨ基が基材の表面に天然で存在しない場合、コロナ処理やプラズマ処理等の当業者に公知の適切な処理により生成可能である。
【００５７】
本発明に係る方法は、材料の堆積物を生じる条件下のチャンバー内又は密閉環境内で基材を特定の材料に逐次暴露することを含む。
【００５８】
層の形成を伴う条件は、減圧、高温、照射、及びパワーの少なくとも１つを含む。
【００５９】
加えられた減圧、高温、照射、及び／又はパワーは、材料の気化又は昇華を引き起こしてチャンバー雰囲気内に導入し、基材表面上で後続の自己集合及び／又は自己重合を引き起こす。有利には、堆積は、基材上に均一に行われる。
【００６０】
好ましくは、減圧及び／又は高温が利用される。更により好ましくは、高温が利用される。
【００６１】
材料の層を形成するために本発明に係る方法で使用可能な技術の一般的な例としては、気相堆積が挙げられる。
【００６２】
好ましい方法は、物理気相堆積、好ましくは真空下での蒸発である。
【００６３】
材料Ｍ３及び任意選択で材料Ｍ４の堆積は、一時的であり、縁取り操作時の保持手段への接着が改良されたコーティング付き基材を提供すると考えられる。そのような接着の改良は、好ましくは１５ｍＪ／ｍ2以上のＭ３又はＭ３／Ｍ４層の表面エネルギーからもたらされる。
【００６４】
縁取りを行った後、Ｍ３又はＭ３／Ｍ４一時層は、先行技術の教示に従って除去され、Ｍ１及びＭ２材料の堆積から生じるトップコートは、光学物品の最終最上層である。
【００６５】
特定の理論に関連付けられるわけではいが、本発明に係る方法は、有利には、Ｍ１分子及び／又は基材表面へのＭ２分子の部分的固着を可能にし得る。
【００６６】
固着とは、共有結合がＭ１材料とＭ２材料の一部分との間及び恐らく基材とＭ２材料の一部分との間に形成されることを意味する。
【００６７】
本発明者らは、本発明に係る光学物品の疎水性及び／又は疎油性を、Ｍ２材料の堆積工程が省略されたという点のみが異なる先行技術の方法から得られたものと比較した。驚くべきことに、本発明に係る方法から得られた物品は、先行技術の方法から得られた物品と比較して、優れた疎水性及び／又は疎油性を有することが観測された。本発明に係る方法により得られた物品のそのような性質は、Ｍ３又はＭ３／Ｍ４処理に付されなかったトップコートのものに匹敵する。
【００６８】
本発明に係る方法は、材料の堆積物を生じる条件下のチャンバー内で基材の１つの面をシランＭ１に暴露することを含む。
【００６９】
置換シランとは、基材の−ＯＨ基との共有結合を形成可能なケイ素原子に結合された少なくとも１個の官能基を含むＳｉ原子を含む分子を意味する。
【００７０】
本発明によれば、Ｍ１は、好ましくは、ケイ素原子に直接結合された少なくとも１個の加水分解性基（例えば、ＮＨ2基）又はＯＨ基を含む置換シランである。
【００７１】
好適な加水分解性基は、当業者に周知である。ケイ素原子に結合されたＸ１及びＸ２加水分解性基の例は、ハロゲン原子、例えば、塩素、−ＮＨ−アルキル基、ジアルキルアミノ基、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ22Ｎ−アルキル基、例えば、−Ｎ（ＣＨ3）2若しくはＮ（Ｃ2Ｈ5）2、アルコキシ基、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ22アルコキシ基、例えば、−ＯＣＨ3若しくはＯＣ2Ｈ5、アシルオキシ基、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ22アシルオキシ基、例えば、−ＯＣＯＣＨ3若しくはＯＣＯＣ2Ｈ5、又はイソシアネート基、好ましくは、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｃ1〜Ｃ22アルキル）2、例えば、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ3）2である。好ましくは、加水分解性基は、アルコキシ基、特に、−ＯＣＨ3又はＯＣ2Ｈ5から選択される基である。他の好ましい変形形態によれば、少なくとも１個の−ＯＨ基又は少なくとも１個の−ＮＨ2基を有するシランを使用することも可能である。
【００７２】
有利には、Ｍ１は、少なくとも１個の置換シリル基−Ｓｉ（Ｒ）3（式中、Ｒは、加水分解性基又はＯＨ基又はＮＨ2基を表す）を含む。
【００７３】
好ましくは、Ｍ１は、少なくとも１個の置換シリル基−Ｓｉ（Ｒ）3（式中、Ｒは、−ＯＣＨ3、−ＯＣ2Ｈ5、−ＯＨ、及びＮＨ2から選択される基を表す）を含む。
【００７４】
少なくとも１個の加水分解性基又はヒドロキシルを有するケイ素原子に基づくそのような置換シランＭ１は、本発明に係る方法で使用した場合、シランＭ１のケイ素原子と、レンズ若しくは眼鏡ガラスの表面又はレンズ若しくは眼鏡ガラスの硬質層若しくは反射防止層の表面と、の間に、それらの表面上のヒドロキシル基を介して、耐久性のある化学結合を生成する。
【００７５】
Ｍ１は、置換シランであり、ケイ素原子に直接結合された少なくとも１個の加水分解性基（例えば、−ＮＨ2基）又はＯＨ基を含む。それは、加水分解性基（例えば、−ＮＨ2基）又は−ＯＨ基が直接結合された１、２、３、４、５個、又はそれ以上のケイ素原子を含み得る。好ましくは、Ｍ１は、少なくとも１個の加水分解性基又はＯＨ基が結合された１又は２個のケイ素原子を含む。
【００７６】
本発明によれば、Ｍ１は、少なくとも１個のフッ素含有基を含む置換シランである。
【００７７】
フッ素含有基は、２価のフルオロアルキル基、フルオロアルケニル基、ポリ（フルオロアルキルエーテル）基、アルキル基、アルケニル基の集合から生じる。この集合はまた、エーテル架橋（−Ｏ−）及びアミノ架橋（ＮＨ−、−Ｎ＝）を含み得る。Ｍ１が１個の置換シリル基のみを含む場合、集合を構成する基の少なくとも１つは１価であり、且つ基の少なくとも１つはケイ素原子に結合される。
【００７８】
２価フルオロアルキル基とは、水素原子の代わりに少なくとも１個のフッ素原子を含む線状、分岐状、又は環状のアルカンジイル基を意味する。好ましくは、フルオロアルキル基は、水素原子の代わりに、５０％以上、更により好ましくは７０％以上、更により好ましくは９０％以上のフッ素原子を含む。好ましい変形形態によれば、２価フルオロアルキル基は、過フッ素化アルキル基である。例えば、フッ素含有基は、−ＣＨＦ−、−ＣＨＦ−ＣＨＦ−、−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＦ2）2−、−ＣＦ2−ＣＨ（ＣＦ2）2−、−ＣＦ2−、−ＣＦ2−ＣＦ2−、−ＣＦ2−ＣＦ2−ＣＦ2−、−ＣＦ2−ＣＦ（ＣＦ2）2−、−（ＣＨＦ）n−、−（ＣＦ2）n−（式中、ｎ＝１、２、３、４、…）等の単位基を含む。
【００７９】
２価フルオロアルケニル基とは、水素原子の代わりに少なくとも１個のフッ素原子を含む線状、分岐状、又は環状のアルケンジイル基を意味する。好ましくは、フルオロアルケニル基は、水素原子の代わりに、５０％以上、更により好ましくは７０％以上、更により好ましくは９０％以上のフッ素原子を含む。好ましい変形形態によれば、２価フルオロアルキル基は、過フッ素化アルケニル基である。
【００８０】
ポリ（フルオロアルキルエーテル）基とは、アルコキシ単位及びフルオロアルコキシ単位の重合から生じる基を意味する。好ましくは、フルオロアルコキシ単位の縮合から生じる。そのような基の例は、−（ＣＨＦ−ＣＨＦ−Ｏ−）ｎ−、−（ＣＨ2−ＣＦ2−Ｏ−）ｎ−、−（ＣＦ2−ＣＦ2−Ｏ−）ｎ−、−（ＣＦ2−ＣＦ2−ＣＦ2−Ｏ−）ｎ−、−（ＣＦ2−ＣＨ（ＣＦ3）−Ｏ−）ｎ−（式中、ｎ＝１、２，３、４、…）、及び任意の類似化合物であり得る。そのような基はまた、ポリアルコキシ単位、例えば、−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−）ｍ−、−（ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−）ｍ−、−（ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3）2−Ｏ−）ｍ−単位（式中、ｍ＝１、２，３、４…）、又は類似単位を有し得る。好ましくは、ポリ（フルオロアルキルエーテル）基は、水素原子の代わりに、５０％以上、更により好ましくは７０％以上、更により好ましくは９０％以上のフッ素原子を含む。
【００８１】
好ましい変形形態によれば、２価ポリ（フルオロアルキルエーテル）基は、ポリ（過フッ素化アルキルエーテル）基である。
【００８２】
アルキル基及びアルケニル基は、線状、分岐状、又は環状であり得る。
【００８３】
好ましくは、Ｍ１のフッ素含有基の鎖長は、Ｍ１の数平均分子量が２０００ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは３０００ｇ／ｍｏｌ以上、より好ましくは３０００ｇ／ｍｏｌ〜６０００ｇ／ｍｏｌになるようなものである。
【００８４】
有利には、それは、４０００ｇ／ｍｏｌ以上、より良好には４０００ｇ／ｍｏｌ〜５０００ｇ／ｍｏｌである。
【００８５】
好ましくは、それは、１．１０5ｇ／ｍｏｌ以下、より好ましく１．１０4ｇ／ｍｏｌ以下である。
【００８６】
好ましくは、Ｍ１のフッ素含有基は、フッ素原子がＭ１の全分子量の少なくとも５０重量％、更により好ましくはＭ１の全分子量の少なくとも６０重量％を占めるようなものである。
【００８７】
一実施形態では、Ｍ１の製造方法は、１分子あたりさまざまな数の置換シリル基とさまざまな性質及び鎖長のフッ素含有基とを有する分子の混合物になるようなものである。シラン官能基の鎖長、フッ素含有率、分子量、及び数の評価は、平均値であると理解しなければならない。
【００８８】
有利には、Ｍ１は、３０００ｇ／ｍｏｌ〜６０００ｇ／ｍｏｌ、更により有利には４０００ｇ／ｍｏｌ〜５０００ｇ／ｍｏｌの数平均分子量の分子の混合物である。
【００８９】
本発明に係る方法は、Ｍ１への事前の暴露から生じた基材の面を材料の堆積物を生じる条件下のチャンバー内で第２の置換シランＭ２に暴露することを更に含む。
【００９０】
本発明によれば、Ｍ２は、ケイ素原子に結合された少なくとも１個の加水分解性基（例えば、−ＮＨ2基）又は少なくとも１個のＯＨ基と、少なくとも１個の疎水基又は疎油基と、を含む９００ｇ／ｍｏｌ以下の数平均分子量の置換シランである。
【００９１】
Ｍ２を構成するシラン基は、Ｍ１材料の構築に使用可能な以上に記載のものと同一の基から選択される。
【００９２】
好ましくは、Ｍ２は、少なくとも１個の置換シリル基−Ｓｉ（Ｒ）3（式中、Ｒは、加水分解性基、例えば、−ＮＨ2基又はＯＨ基を表す）を含む。
【００９３】
好ましくは、Ｍ２は、少なくとも１個の置換シリル基−Ｓｉ（Ｒ）3（式中、Ｒは、−ＯＣＨ3、−ＯＣ2Ｈ5、−ＯＨ、及びＮＨ2から選択される基を表す）を含む。
【００９４】
有利には、Ｍ２は、唯一の置換シリル基−Ｓｉ（Ｒ）3（式中、Ｒは、加水分解性基又はＯＨ基又はＮＨ2基を表す）を含む。
【００９５】
Ｍ２分子の他の部分である疎水基又は疎油基又はヒドロキシ基は、２価のフルオロアルキル基、フルオロアルケニル基、ポリ（フルオロアルキルエーテル）基、アルキル基、アルケニル基の集合から生じるものと定義可能である。
【００９６】
この集合はまた、エーテル架橋（−Ｏ−）及びアミノ架橋（ＮＨ−、−Ｎ＝）を含み得る。Ｍ２が１個の置換シリル基のみを含む場合、集合を構成する基の少なくとも１つは１価であり、且つ基の少なくとも１つはケイ素原子に結合される。
【００９７】
Ｍ２の数平均分子量は、９００ｇ／ｍｏｌ以下、好ましくは８００ｇ／ｍｏｌ以下、更により好ましくは７００ｇ／ｍｏｌ以下、有利には６００ｇ／ｍｏｌ未満である。
【００９８】
化合物Ｍ１及びＭ２の例は、文献から公知であり、それらの製造方法も同様である。
【００９９】
そのような化合物は、従来技術で、例えば、米国特許第４４１０５６３号明細書、欧州特許第０２０３７３０号明細書、欧州特許第７４９０２１号明細書、欧州特許第８４４２６５号明細書及び欧州特許第９３３３７７号明細書、米国特許第６，１８３，８７２号明細書、国際公開第２００６／１０７０８３号パンフレットで、広く開示されている。
【０１００】
フルオロシランの中では、次式：
【化１】
0006445455.tif 000002
（式中、ＲFは、ペルフルオロアルキル基を表し、Ｚは、フッ素原子又はトリフルオロメチル基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、それぞれ独立して、０又は１以上の整数を表し、但し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、１以上であり、且つ以上の式に現れる下付き文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅにより括弧でくくられた繰返し単位の順序は、示されたものに限定されるものではなく、Ｙは、水素原子又は１〜４個の炭素原子を含有するアルキル基を表し、Ｘは、水素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表し、Ｒ1は、ヒドロキシル基、−ＮＨ2基、又は加水分解性置換基を表し、Ｒ2は、水素原子又は１価炭化水素基を表し、ｌは、０、１、又は２を表し、ｍは、１、２、又は３を表し、且つｎ’’は、１以上、好ましくは２以上の整数を表す）
で示される化合物が挙げられ得る。そのような種類の化合物は、化合物Ｍ１として特に好ましい。
【０１０１】
他の好ましい化合物は、米国特許第６，２７７，４８５号明細書に開示されるものである。この明細書に開示されるフッ素化シランは、次式：  
【化２】
0006445455.tif 000003
（式中、ＲFは、１価又は２価のポリフルオロポリエーテル基であり、Ｒ1は、任意選択で１個以上のヘテロ原子又は官能基を含有し、且つ任意選択で、ハロゲン化物原子で置換され、且つ好ましくは２〜１６個の炭素原子を含有する、２価のアルキレン基、アリーレン基、又はそれらの組合せであり、Ｒ2は、低級アルキル基（即ち、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基）であり、Ｙは、ハロゲン化物原子、低級アルコキシ基（即ち、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、好ましくは、メトキシ基又はエトキシ基）、又は低級アシルオキシ基（即ち、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ3（ここで、Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基である））であり、ｘは、０又は１であり、且つｙは、１（ＲFは１価である）又は２（ＲFは２価である）である）
に対応する。好適な化合物は、典型的には、少なくとも約１０００ｇ／ｍｏｌの分子量（数平均）を有する。好ましくは、Ｙは、低級アルコキシ基であり、且つＲFは、ペルフルオロポリエーテル基である。
【０１０２】
他の好ましい化合物は、防汚コーティングの形成に好適なシランのフッ素化化合物、特に、式：
【化３】
0006445455.tif 000004
（式中、Ｒ’Ｆは、直鎖状２価ペルフルオロポリエーテル基であり、Ｒ’は、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘ’は、加水分解性基であり、ａ’は、０〜２の整数であり、ｂ’は、１〜５の整数であり、且つｍ’及びｎ’は、２又は３に等しい整数である）［００２５］
により与えられる化合物を記載する特開２００５−１８７９３６号公報に開示されている。以上の式（２）により与えられるフルオロシラン化合物は、ＫＹ−１３０（商標）という名称で信越化学工業株式会社により市販されている。
【０１０３】
式（２）により与えられるフルオロシラン化合物及びその調製方法はまた、欧州特許第１３００４３３号明細書に記載されている。疎水及び／又は疎油表面コーティングを形成するための他の好ましい組成物は、一般式（Ａ）及び／又は一般式（Ｂ）及び（Ｃ）：
Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o−（ＣＨ2）p−Ｘ（ＣＨ2）r−Ｓｉ（Ｘ’）3-a（Ｒ１）a  （Ａ）
Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o（ＣＨ2）pＸ（ＣＨ2）r（Ｘ’）2-a（Ｒ１）aＳｉＯ（Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o（ＣＨ2）pＸ（ＣＨ2）r（Ｘ’）1-a（Ｒ１）aＳｉＯ）zＦ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o（ＣＨ2）pＸ（ＣＨ2）r（Ｘ’）2-a（Ｒ１）aＳｉ  （Ｂ）
Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o−（ＣＨ2）p−Ｘ（ＣＨ2）r−（ＣＨ2）t−Ｓｉ（Ｘ’）3-a（Ｒ１）a  ：（Ｃ）
（式中、ｑは、１〜３の整数であり、ｍ、ｎ、及びｏは、独立して、０〜２００の整数であり、ｐは、１又は２であり、Ｘは、Ｏ又は２価有機基であり、ｒは、２〜２０の整数であり、ｔは、１〜１０の整数であり、Ｒ１は、Ｃ１〜２２線状又は分岐状炭化水素基であり、ａは、０〜２の整数であり、Ｘ’は、以上に定義された加水分解性基又はＯＨ基又はＮＨ2基であり、且つｚは、ａが０又は１のとき０〜１０の整数である）
により表される有機シリコーン化合物を含有するものである。
【０１０４】
化学式により以上に開示されたような化合物は、本発明に係る方法でＭ１材料として使用可能である。
【０１０５】
特に好ましい材料は、Ｘ’がアルキルアミノであるときの式Ｃに対応する成分を含む材料、特定的には、国際公開第２０１１／０６００４７号パンフレットの実施例４に記載の生成物ＹＹ（これ以降ではＨＤＴＣと記す）である。
【０１０６】
化学式により以上に開示されたような化合物は、分子量が９００ｇ／ｍｏｌ以下であれば、本発明に係る方法でＭ２材料として使用可能である。
【０１０７】
そのほかに、Ｍ２材料は、式：
［Ｈ−（ＯＣＨ2−ＣＨ2）a−（ＯＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2）a’−（ＯＣＦ2−ＣＦ2）a’’−（ＯＣＦ2−ＣＦ2−ＣＦ2）a’’’−（ＯＣＨＦ−ＣＨＦ）a’’’’−（ＯＣＨＦ−ＣＨＦ−ＣＨＦ）a’’’’’］ｗＸ−（ＣＨ2）b−（ＣＦ2）b’−Ｓｉ（Ｒ）3  （Ｄ）
（式中、ａ、ａ’、ａ’’、ａ’’’、ａ’’’’、ａ’’’’’は、０〜２の整数であり、ａ＋ａ’＋ａ’’＋ａ’’’＋ａ’’’’＋ａ’’’’’は、少なくとも１であり、Ｘは、Ｏ又はＮ又はＮＨであり、ｂ及びｂ’は、０〜１０の整数であり、且つｂ＋ｂ’は、１未満にはなりえず、Ｒは、以上に定義されたような加水分解性基であるか又はＯＨ若しくはＮＨ2であり、以上の式に現れる下付き文字ａ、ａ’、ａ’’、ａ’’’、ａ’’’’、ａ’’’’’、ｂ、及びｂ’により括弧でくくられた繰返し単位の順序は、示されたものに限定されるものではなく、ｗ＝１又は２（Ｘの価数に依存する））
に対応するような非フッ素化又はフッ素化シランの中から選択可能である。
【０１０８】
或いは、Ｍ２材料は、式：
Ｆ−（ＣＦ2）c−（ＣＨ2）d−（ＣＦ2）e−（ＣＨ2）f−Ｓｉ（Ｒ）3  （Ｅ）
及び
Ｈ−（ＣＨ2）g−（ＣＦ2）h−（ＣＨ2）i−（ＣＦ2）j−Ｓｉ（Ｒ）3  （Ｆ）
（式中、各ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｌ、ｊは、０〜１０の整数であり、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆの少なくとも１つは、０とは異なり、ｇ、ｈ、ｉ、及びｊの少なくとも１つは、０とは異なり、且つＲは、以上に定義されたような加水分解性基であるか又はＯＨ若しくはＮＨ2である）
に対応するようなフッ素化シランの中から選択可能である。好ましくは、５≦ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ≦１５且つ５≦ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊ≦１５、より好ましくは、５≦ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ≦１２且つ５≦ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊ≦１２。
【０１０９】
Ｍ１材料を含む組成物は、一般的には、個別のフラグメントの縮合から生じる化合物の混合物であり、以上に開示された構造に対応する分子は、組成物の残りの部分と比較して、最も重要な化合物であることが分かっている。好ましくは、Ｍ１材料を含む組成物は、少なくとも３０％（乾物の重量／重量）、より好ましくは少なくとも４０％、更により好ましくは少なくとも５０％、最も好ましくは少なくとも６０％、有利には少なくとも７０％のＭ１材料を含む。
【０１１０】
そのような組成物は、ケイ素原子に結合された少なくとも１個の加水分解性基（例えば、−ＮＨ2基）又はＯＨ基を含むシラン基が欠如した化合物を更に含み得る。好ましくは、そのような化合物は、Ｍ１又はＭ２組成物中では、３０％未満（乾物の重量／重量）、更により好ましくは２５％未満、最も好ましくは２０％未満、有利には１５％未満に制限される。
【０１１１】
そのような特徴は、非常に高品質の防汚コーティングの取得に寄与する。
【０１１２】
光学物品のＭ１層は、防汚トップコートである。この防汚表面コーティングは、光学物品の表面エネルギーを低減する。
【０１１３】
一般的には、疎水及び／また疎油堆積物Ｍ１は、１００ｎｍ未満、好ましくは３０ｎｍ未満、好ましくは１〜２０ｎｍの範囲内、より好ましくは１〜１０ｎｍの範囲内の厚さを有する。
【０１１４】
本発明によれば、疎水及び／又は疎油堆積物Ｍ１＋Ｍ２は、２０ｎｍ未満、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲内、より好ましくは１〜１０ｎｍの範囲内の厚さを有する。
【０１１５】
厚さ値は、エリプソメトリーにより測定可能な物理的厚さ値と理解しなければならない。
【０１１６】
Ｍ１材料の市販の組成物は、ダイキン工業株式会社により商品化された組成物ＯＰＴＯＯＬ  ＤＳＸ（商標）（ペルフルオロプロピレン部分を含むフッ素系樹脂）、ダイキン工業株式会社により商品化された組成物ＡＥＳ４、信越化学工業株式会社により商品化された組成物ＫＹ１３０（商標）である。ＯＰＴＯＯＬ  ＤＳＸ（商標）は、Ｍ１材料に最も好ましいコーティング組成物である。
【０１１７】
Ｍ２材料の市販の組成物は、Ｏｐｔｒｏｎにより商品化された組成物ＯＦ１１０（商標）（フルオロアルキルシラン）若しくはＯＦ２１０（商標）、又はＧｅｌｅｓｔにより商品化されたＧｅｌｅｓｔ１（ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン）である。
【０１１８】
本発明に係る方法は、Ｍ２への暴露から生じた基材の面を材料の層の堆積物を生じる条件下のチャンバー内で金属フッ化物Ｍ３に暴露することを更に含む。
【０１１９】
本発明に係る方法は、任意選択で、Ｍ３への暴露から生じた基材の面を材料の層の堆積物を生じる条件下のチャンバー内で非フッ素化金属酸化物又は非フッ素化金属水酸化物Ｍ４に暴露することを含む。
【０１２０】
一般的には、真空機内で蒸発により、反射防止コーティング、疎水及び／又は撥油コーティング、並びに一時コーティングが適用され、これにより、２工程間でガラスの過度な取扱いを伴うことなく、すべての操作を逐次的に行うことが可能になる。
【０１２１】
有利には、材料Ｍ１〜Ｍ４は、Ｍ１、次いでＭ２、次いでＭ３、次いで任意選択でＭ４の順に、基材の表面に逐次堆積される。
【０１２２】
本発明に係る方法の各工程では、基材は、第１の材料〜第３及び任意選択で第４の材料に暴露される。
【０１２３】
好ましくは、材料は、真空下で加熱により蒸発される。
【０１２４】
第１〜第３及び任意選択で第４の堆積物の各材料の温度は、それらの気化及び基材上への堆積に適した温度にすべきである。
【０１２５】
暴露の持続時間は、制御された層厚さが得られるように計算される。然しながら、各層に指標として与えられる層厚さ値は、プログラムされた暴露時間及び堆積速度に対応する値である。
【０１２６】
基材の表面上への材料Ｍ１及びＭ２の堆積の後、このものは、その表面エネルギーを増加させる一時層の適用に付される。
【０１２７】
金属フッ化物又は金属フッ化物の混合物であるＭ３の層の堆積は、国際公開第０２／０９２５２４号パンフレットに開示されている。
【０１２８】
フッ化物の例としては、フッ化マグネシウムＭｇＦ2、フッ化ランタンＬａＦ3、フッ化アルミニウムＡｌＦ3、又はフッ化セリウムＣｅＦ3、又はそれらの材料の混合物が挙げられ得る。好ましくは、Ｍ３は、ＭｇＦ2に基づく。
【０１２９】
特に推奨される市販の材料は、Ｌｅｙｂｏｌｄ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＰＡＳ０２である。
【０１３０】
非フッ素化金属酸化物又は非フッ素化金属水酸化物Ｍ４の層の堆積は、国際公開第２００４／１１０９４６号パンフレットに開示されている。
【０１３１】
好ましくは、本方法は、一時保護層上への直接真空蒸発を介して少なくとも１種の非フッ素化金属酸化物及び／又は少なくとも１種の非フッ素化金属水酸化物を一時保護層上に堆積させる処理工程を含む。
【０１３２】
好ましくは、金属酸化物は、酸化カルシウム又は酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化プラセオジム、酸化セリウム、又は２種以上のそのような酸化物の混合物の中から選択される。
【０１３３】
好ましくは、金属水酸化物は、水酸化マグネシウムである。
【０１３４】
一時層Ｍ３／Ｍ４は、任意の従来の適切な方法により、好ましくは気相中で、適用され得る。
【０１３５】
好ましい実施形態によれば、Ｍ４はＭｇＯである。好ましくは、本方法は、真空蒸発を介して一時層を堆積させることを含み、形成されるＭ４層は、１〜５ｎｍの範囲内の厚さを有する。
【０１３６】
蒸発ＭｇＯは、例えば、以下のもの、即ち、
・  １〜３ｍｍの範囲内の粒子サイズを有するＭｇＯ顆粒（ＣＥＲＡＣ製のＭ−１１３１を参照されたい）、
・  ３〜６ｍｍの範囲内の粒子サイズを有するＭｇＯ顆粒（ＵＭＩＣＯＲＥ製のＭ−２０１３を参照されたい）、
・  ＭｇＯペレット（ＵＭＩＣＯＲＥ  ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎにより商品化された０４８１２６３を参照されたい）、
からの蒸発により生成可能である。
【０１３７】
Ｍｇ（ＯＨ）2を蒸発させる場合、それは、ＡＬＤＲＩＣＨから有利に入手可能である。
【０１３８】
一般的には、ＭｇＯ堆積は、ＭｇＦ2堆積の後で行われる。従って、２つの個別の層が達成される。必要であれば、ＭｇＦ2の一部分の蒸発に続いてＭｇＯの蒸発を開始して、これを行うことが可能であり、その結果、濃度勾配を生じて、その組成は、純粋ＭｇＦ2から表面の純粋ＭｇＯへと変化する。
【０１３９】
最後に、以上に述べたように、特定の処理工程はまた、ＭｇＦ2一時保護層を外層上に低速堆積させることであり得る。通常、そのようなタイプの堆積は、約０．５ｎｍ／ｓの速度で行われる。本発明によれば、真空蒸発を介する保護層の堆積は、０．５ｎｍ／ｓ未満、好ましくは約０．１ｎｍ／ｓの速度で行われる。
【０１４０】
前述したように、本発明に係る方法で処理されたレンズは、２つの主要面を含み、その１つは、一時ＭｇＦ2保護層で被覆された外層を含む。
【０１４１】
好ましい実施形態によれば、２つの主要面は、ＭｇＦ2一時層で被覆された外層を含む。一般的には、種々の層が堆積される第１の面は、凹面である。
【０１４２】
その場合、そのような面は、第２の面が処理される間、ＭｇＦ2層による保護が可能である。
【０１４３】
両方の主要面が、ＭｇＦ2保護層で被覆された外層を含む場合、本発明に係る特定の処理工程は、好ましくは、各主要面上で行われる。
【０１４４】
鉱物材料で作製されている場合、一時層Ｍ３厚さは、好ましくは５０ｎｍ未満、一般的には１〜５０ｎｍの範囲内、より好ましくは５〜５０ｎｍの範囲内である。
【０１４５】
好ましくは、基材上へのＭ３一時層の堆積は、真空蒸発を介して、０．５ｎｍ／ｓ未満、好ましくは０．３ｎｍ／ｓ以下の速度で行われる。
【０１４６】
一般的に言えば、一時層厚さが薄すぎる場合、表面エネルギーが十分に改変されない危険性がある。一方、一時層厚さが厚すぎる場合、より特定的には本質的に鉱物層の場合、層内に機械的応力を生じる恐れがあるので、予想される性質が損なわれる可能性があることを、本発明者らは見いだした。好ましくは、より特定的にはガラス面の１つの全体に一時保護層を適用した場合、材料は、ある程度の透明度を示すので、フロントフォシメーターを用いてガラス上で従来の度数測定を行うことが可能である。例えば、本発明に従ってトリミングするのに適したガラスは、ＩＳＯ８９８０／３規格に準拠して、好ましくは少なくとも１８％、より好ましくは少なくとも４０％の透過率を示す。
【０１４７】
鉱物の性質を有する以上に挙げた材料の代替物として、国際公開第０３０５７６４１号パンフレットに記載されるように、Ｍ４材料を使用する代わりに、有機材料、特に高分子材料を使用することが可能である。そのような場合、一時層が純鉱物材料で構成される場合よりもかなり厚い厚さで被覆することが可能である。その場合、所要の厚さは、５〜１５０ミクロンの範囲内であり得る。アルキド型樹脂が特に推奨される。
【０１４８】
基材の表面上への材料Ｍ１〜Ｍ４の堆積の後、このものは、慣例的には少なくとも固定工程及び研削工程を含む機械加工操作に付される。そのような工程は、国際公開第２００７／０７１７００号パンフレット、仏国特許第２８２４８２１号明細書、及び仏国特許第２８５６０５６号明細書に詳細に開示されている。
【０１４９】
Ｍ３及び任意選択でＭ４が堆積された光学物品の表面上に接着剤プリフォームフィルムを適用することが可能である。
【０１５０】
プリフォームフィルムとは、前記光学物品の表面に適用される前に形成されたフィルムを意味する。
【０１５１】
好ましくは、接着剤プリフォームフィルムは、感圧接着剤フィルムであり、より好ましくは、プリフォームフィルムは、セルローストリアセテートを含む。
【０１５２】
本発明に係る方法に従ってトリミングするのに適したガラス、特に眼鏡レンズは、最終最上層がＭ１及びＭ２材料の適用から生じた防汚トップコートになるように、以下に説明されるように単に払拭及び／又は濯ぎを行うことにより、最終工程で一時保護層を除去しなければならないことを除いて、完全に従来型のトリミング操作に付すことが可能である。
【０１５３】
従って、本発明はまた、
１）本発明に従ってトリミングするのに適したガラス、好ましくは眼鏡レンズを製造する工程と、
２）前記ガラスをエーコンエレメントにより保持する工程と、
３）前記ガラスをトリミングする工程と、
４）前記ガラスからエーコンエレメントを除去する工程と、
５）こうしてトリミングされたガラスを回収する工程と、
６）ガラスの疎水表面及び／又は撥油表面の性質を回復するようにＭ３及び任意選択でＭ４一時層を除去する工程と、
を含むことを特徴とする、疎水表面及び／又は撥油表面の性質を有するトリミングされたガラスの取得方法に関する。
【０１５４】
上述したように、適正トリミング工程３）は、従来型であり、当業者に公知である。従って、十分詳細には記載しない。
【０１５５】
一時層除去工程は、液体媒体中で又は乾式払拭により又は両方の方法の逐次適用により行われ得る。一時層除去はまた、機械的作用により、好ましくは超音波の使用により、促進され得る。一時層除去工程の終了時、ガラスは、疎水及び／又は撥油コーティングを含む初期のガラスのものと同程度の、更には準同一の光学特性及び表面特性を示す。
【０１５６】
有機材料の一時層は、光学物品の最外層上に堆積される。例えば、光学物品の一時保護表面は、保持パッドの表面に対する親和性の増加を呈するので、縁取りに適したものとなる。
【０１５７】
本発明に係る方法は、有利には、一時層の払拭後、１４ミリジュール／ｍ2以下、より好ましくは１３ｍＪ／ｍ2以下、更により好ましくは１２ｍＪ／ｍ2以下の表面エネルギーを有する最外層で被覆された光学物品をもたらす（表面エネルギーは、次の参照文献：“Ｅｓｔｉｍａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｓｕｒｆａｃｅ  ｆｏｒｃｅ  ｅｎｅｒｇｙ  ｏｆ  ｐｏｌｙｍｅｒｓ”Ｏｗｅｎｓ，Ｄ．Ｋ．；Ｗｅｎｄｔ  Ｒ．Ｇ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．１９６９，１３，１７４１−１７４７に開示されるオーエンズ・ウェント法に従って計算される）。
【０１５８】
光学物品の最外表面上に形成された一時層は、保持目的に十分な表面エネルギー、即ち、少なくとも１２ｍＪ／ｍ2に等しい、好ましくは少なくとも１５ｍＪ／ｍ2に等しい、より好ましくは２０ｍＪ／ｍ2の表面エネルギーを、前記光学物品に付与することが好ましい。明らかに、２つ以上の一時層が存在する場合、前者の表面エネルギーは、一時コーティングの外層の表面エネルギーである。
【実施例】
【０１５９】
実験
１−  材料及び方法：
・  レンズ：
基材上に記載順に被覆された摩耗防止コーティング及び反射防止コーティングを有する有機レンズを作製した。本出願人名義の欧州特許第６１４９５７号明細書の実施例３に対応するポリシロキサンタイプの摩耗防止コーティングを両面上に含むポリカーボネート眼鏡レンズである基材上で堆積を達成した。摩耗防止コーティング上に適用されたＡＲスタックは、次のＺｒＯ2（２７ｎｍ）／ＳｉＯ2（２１ｎｍ）／ＺｒＯ2（８０ｎｍ）／ＳｉＯ2（８１ｎｍ）である。処理レンズは、直径６５ｍｍの丸形レンズであった。
【０１６０】
・  層の堆積：
使用した真空処理機は、電子銃、Ｍａｒｋ２  Ｃｏｍｍｏｎｗｅａｌｔｈタイプのイオン銃、及びジュール効果を有する蒸発源を備えたＢａｌｚｅｒ  ｍａｃｈｉｎｅ製のＢＡＫ７６０である。
【０１６１】
処理対象のレンズを収容するように意図された円形開口を備えたカルーセル上に、凹面が蒸発源及びイオン銃に対向するように、レンズを配置する。２次真空に達するまで、真空引きを行う。次いで、以下に詳述される条件で電子銃又はジュール効果により材料の逐次蒸発を行う。
【０１６２】
Ｍ１の堆積：
両方ともダイキン工業株式会社により商品化されたＯＰＴＯＯＬ  ＤＳＸ（商標）又はＡＥＳ４（商標）の層を以下の条件で堆積させる。
【０１６３】
所与の量のＯＰＴＯＯＬ  ＤＳＸ（商標）又はＡＥＳ４（商標）を直径１８ｍｍの銅カプセル内に配置し、続いて、ジュール効果坩堝（タンタル坩堝）内に配置する。蒸発を介して厚さ１〜５ｎｍの疎水・疎油コーティングを堆積させる。石英スケールを利用して、堆積厚さの設定を行う。
【０１６４】
Ｍ２の堆積：
Ｏｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）又はＡＥＳ４（商標）と同一の条件で（これ以降では「ボートにより」と記す）又は電子ビーム蒸発（ｅビーム）により、Ｏｐｔｒｏｎにより商品化されたＯＦ１１０（商標）若しくはＯＦ２１０（商標）又はＧｅｌｅｓｔにより商品化されたＧｅｌｅｓｔ１の層を堆積させる。
【０１６５】
一時保護層の堆積：
Ｍ３の堆積：
次いで、保護層を蒸発させる。堆積材料は、Ｍｅｒｃｋ  ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎにより販売されている１〜２．５ｎｍの粒子サイズを有する式ＭｇＦ2の化合物である。蒸発は、電子銃を用いて行われる。物理的堆積厚さは、０．５２ｎｍ／ｓに等しい堆積速度で２０ｎｍである。石英スケールを利用して、堆積厚さの設定を行う。続いて、エンクロージャーを再加熱し、処理チャンバーを所定の気圧に設定し直す。次いで、レンズを上下逆さまにして、凸面を処理領域に方向付ける。凹面と同じように（以上の工程の再現）、凸面をＭｇＦ2により処理する。
【０１６６】
Ｍ４の堆積：
次いで、電子銃を用いて、一時ＭｇＦ2層上への直接ＭｇＯ蒸発により、レンズを特定の処理工程に付し、ＭｇＯ層をＭｇＦ2保護層上に直接２ｎｍ厚さで真空蒸発させる（ＵＭＩＣＯＲＥ  ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＭｇＯチップ（参照０４８１２６３）から）。
【０１６７】
表面調製手順：
操作順は以下の通りであった：
イソプロピルアルコール及びＳｅｌｖｙｔ布を用いて一時層を除去した。
【０１６８】
次いで、レンズのコンディショニング（表面調製）を行った。即ち、４５秒間に渡り６０サイクル（１サイクル＝１回前進後退）で３ｋｇの錘を適用し、湿潤ＣＥＭＯＩ（商標）布（水含浸）を用いて払拭した。
【０１６９】
次いで、乾燥Ｃｅｍｏｉ（商標）布を用いてレンズを払拭し、そしてレンズをエアブローした。５分間の待機後、レンズを試験した。
【０１７０】
・  試験：
ｏ  前進角、後退角、ヒステリシス、及びテーブル角の測定：
液滴が転がり落ちるまで固体表面を典型的には０°から９０°まで傾けながら静滴の左右両側で接触角測定を行う傾斜プレート法に従って、前進接触角及び後退接触角及びヒステリシスを測定する。
【０１７１】
表面を傾けると、重力により、斜面下側では接触角が増加し、一方、斜面上側では接触角が減少する。
【０１７２】
最後の有効読み値が読み取られ、通常、前進接触角及び後退接触角を表す。
【０１７３】
それぞれ、これらの接触角は、前進角及び後退角と呼ばれる。それらの差は、接触角ヒステリシスである。
【０１７４】
より特定的には、試験は、プラットフォーム上に位置決めされたレンズ上に２５マイクロリットルの液滴を堆積させることに依拠する。次いで、レンズがさまざまな角度で位置決めされるように、プラットフォームを一定の速度で傾ける。液滴が移動を開始した後、最初の測定を行う。
【０１７５】
測定は、前進角（液滴の前側）、後退角（液滴の後側）、ヒステリシス（前側と後側との差）、及びプラットフォームの角度からなる。
【０１７６】
２−  実施例：
いくつかのレンズを一連の個別の層Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、及びＭ４で処理した。参照例１は、Ｍ２層による処理を含まない。次いで、レンズを表面調製手順に付して試験した。
【０１７７】
それらの層の組成及び厚さを６までの以下の表に与える。実施例では、厚さは、エリプソメトリーにより測定可能な真の物理的厚さである。
【０１７８】
各表に挙げた順に材料を堆積し、最初に挙げた材料が基材上に最初に堆積されたものである。
【０１７９】
比較例１：（参照）
【０１８０】
【表１】
0006445455.tif 000005
【０１８１】
表面調製後、
平均前進角は１１５°であり、
平均後退角は９６°であり、
平均ヒステリシスは１９°であり、
中間速度でのテーブル角は１５．４°であった。
【０１８２】
実施例１：
【０１８３】
【表２】
0006445455.tif 000006
【０１８４】
表面調製後、
平均前進角は１２０°であり、
平均後退角は１０９°であり、
平均ヒステリシスは１１°であり、
テーブル角は７°であった。
【０１８５】
実施例２：
【０１８６】
【表３】
0006445455.tif 000007
【０１８７】
表面調製後、
平均前進角は１２１°であり、
平均後退角は１１０°であり、
平均ヒステリシスは１１°であり、
テーブル角は６°であった。
【０１８８】
実施例３：
【０１８９】
【表４】
0006445455.tif 000008
【０１９０】
表面調製後、
平均前進角は１１９°であり、
平均後退角は１１２°であり、
中間速度での平均ヒステリシスは７°であり、
テーブル角は８°であった。
【０１９１】
実施例４：
【０１９２】
【表５】
0006445455.tif 000009
【０１９３】
表面調製後、
平均前進は１２１°であり、
平均後退角は１０９°であり、
平均ヒステリシスは１２°であり、
テーブル角は９°であった。
【０１９４】
実施例５：
【０１９５】
【表６】
0006445455.tif 000010
【０１９６】
表面調製後、
平均前進角は１２１°であり、
平均後退角は１１１°であり、
中間平均ヒステリシスは１０°であり、
テーブル角は１０°であった。
【０１９７】
実施例６：
【０１９８】
【表７】
0006445455.tif 000011
【０１９９】
表面調製後、
平均前進角は１２１°であり、
平均後退角は１０４°であり、
平均ヒステリシスは１７°であり、
テーブル角は１５°であった。
【０２００】
実施例７：
【０２０１】
【表８】
0006445455.tif 000012
【０２０２】
表面調製後、
平均前進角は１２１°であり、
平均後退角は１１６°であり、
平均ヒステリシスは５°であり、
テーブル角は７°であった。
【０２０３】
実施例８：
【０２０４】
【表９】
0006445455.tif 000013
【０２０５】
表面調製後、
平均前進角は１２２°であり、
平均後退角は１１４°であり、
平均は８°であり、
テーブル角は７°であった。
【０２０６】
比較例２：（参照）
【０２０７】
【表１０】
0006445455.tif 000014
【０２０８】
表面調製後、
平均前進角は１２０°であり、
平均後退角は１１２°であり、
平均ヒステリシスは８°であり、
テーブル角は１２°であった。
【０２０９】
３−  考察
以上に開示された結果から、Ｍ１トップコート層と一時接着改良層Ｍ３／Ｍ４との間に、基材のＯＨ官能基と反応可能なシラン官能基と、小サイズの疎水基と、を含む材料のＭ２材料を堆積させると、処理基材の疎水性及び疎油性が有意に改良されることを観測可能である。
【０２１０】
実施例９及び１０：
接着剤プリフォームフィルムを含む本発明に係るレンズの作製
ハードコート及び反射防止コーティングで被覆されたＥｓｓｉｌｏｒ製のポリカーボネートレンズ−８．００シリンダー＋２．００を以下の堆積に付した。
【０２１１】
実施例９：ＤＳＸ（商標）＋ＯＦ１１０（商標）＋ＭｇＦ２／ＭｇＯ＋フィルム
【０２１２】
【表１１】
0006445455.tif 000015
【０２１３】
寸法３０ｍｍ×３０ｍｍのＴＡＣ−ＰＳＡ（フジタックフィルム８０μｍ／日東電工ＣＳ−９２６１（アクリルＰＳＡ））フィルムをレンズの中央に配置した。被覆及びフィルム適用の１週間後、レンズの最初の縁取りを行った。手順は、シリンダーが９０°に配置されるようにレンズをマーキングすることからなる。レンズを２４ｍｍパッド及びブロッカーでブロッキングし、Ｔｒｉｕｍｐｈ砥石車エッジャーを用いて特定形状に縁取りを行った（Ｃｈａｒｍｏｎｔ）。縁取り後、ホルダー内に配置して、シリンダー軸を再度測定する。シリンダーが９０±２°であれば、縁取り時のリスクは最小であると考えられる。３°超、但し、５°未満であれば、いくらかのリスクの可能性がある。５°超であれば、縁取り時に回転するリスクが高い。試験した５つのレンズでは、すべてが所望の軸の２°以内であり、８９．６°の平均軸値であった。他の一連のレンズを４０°の温度及び８０％の湿度の環境チャンバー内に１ヶ月保持した。同じようにレンズの縁取りを行った。５つのレンズの平均は、９０°であった。
【０２１４】
実施例１０：ＨＤＴＣ＋ＯＦ１１０（商標）＋ＭｇＦ２／ＭｇＯフィルム
【０２１５】
【表１２】
0006445455.tif 000016
【０２１６】
寸法３０ｍｍ×３０ｍｍのＴＡＣ−ＰＳＡフィルムをレンズの中央に配置した。以上の手順を用いた被覆及びフィルム適用の１週間後、レンズの最初の縁取りを行った。縁取り後、シリンダーを測定した。試験した５つのレンズでは、すべてが所望の軸の２°以内であり、８９．２°の平均軸値であった。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［２２］に記載する。
［１］
以下の工程、即ち、
２つの主要面を有し且つその面の少なくとも１つ上に−ＯＨ官能基を有する基材を提供する工程と、
前記基材の表面上に材料の堆積物を生じる条件下の真空チャンバー内で、−ＯＨ官能基を有する前記基材の１つの面を、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３と称される少なくとも３つの個別の材料及び任意選択で材料Ｍ４に、この順序で逐次暴露する工程と、
を含む光学物品の製造方法であって、
Ｍ１が、
置換シランのＳｉ原子に直接結合された少なくとも１個の官能基Ｘ１であって、Ｓｉ−Ｘ１基が前記基材のＯＨ基との共有結合を形成可能であり、Ｘ１が、好ましくは、ケイ素原子に直接結合された加水分解性基（例えば−ＮＨ2基）又はＯＨ基である、官能基Ｘ１と、
少なくとも１個のフッ素含有基と、
を含む置換シランであり、
Ｍ２が、
置換シランのケイ素原子に直接結合された少なくとも１個の官能基Ｘ２であって、Ｓｉ−Ｘ２基が前記基材の−ＯＨ基との共有結合及び／又はＭ１との共有結合を形成可能であり、Ｘ２が、好ましくは、加水分解性基（例えば−ＮＨ2基）又はＯＨ基である、官能基Ｘ２と、
少なくとも１個の疎水基若しくは疎油基、又は少なくとも１個の親水基と、
を含む９００ｇ／ｍｏｌ以下の数平均分子量の置換シランであり、
Ｍ１が、Ｍ２よりも大きい重量平均分子量を有し、Ｍ１とＭ２との重量平均分子量の差が、６００ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは９００ｇ／ｍｏｌ以上であり、
Ｍ３が金属フッ化物である、
光学物品の製造方法。
［２］
Ｍ４堆積物、好ましくは、非フッ素化金属酸化物又は非フッ素化金属水酸化物を含む、項目１に記載の方法。
［３］
前記基材が、反射防止光学層を含む透明材料である、項目１又は２に記載の方法。
［４］
堆積物の形成を伴う条件が減圧及び／又は高温の少なくとも１つを含む、項目１〜３のいずれかに記載の方法。
［５］
層の形成を伴う条件が真空下での蒸発を含む、項目１〜４のいずれかに記載の方法。
［６］
Ｘ１及びＸ２が、独立して、ハロゲン原子、−ＮＨ−アルキル基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、イソシアネート基、−ＯＨ基、及びＮＨ2基から選択される、項目１〜５のいずれかに記載の方法。
［７］
前記フッ素含有基が、２価のフルオロアルキル基、フルオロアルケニル基、ポリ（フルオロアルキルエーテル）基、アルキル基、アルケニル基の集合から生じる、項目１〜６のいずれかに記載の方法。
［８］
Ｍ１の数平均分子量が、２０００ｇ／ｍｏｌ以上であるか、好ましくは３０００ｇ／ｍｏｌ〜６０００ｇ／ｍｏｌの範囲内であるか、より好ましくは４０００ｇ／ｍｏｌ〜５０００ｇ／ｍｏｌに含まれる、項目１〜７のいずれかに記載の方法。
［９］
Ｍ１が、次式：
【化１】
0006445455.tif 000017
（式中、ＲFは、ペルフルオロアルキル基を表し、Ｚは、フッ素原子又はトリフルオロメチル基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、それぞれ独立して、０又は１以上の整数を表し、但し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、１以上であり、且つ以上の式に現れる下付き文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅにより括弧でくくられた繰返し単位の順序は、示されたものに限定されるものではなく、Ｙは、水素原子又は１〜４個の炭素原子を含有するアルキル基を表し、Ｘは、水素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表し、Ｒ1は、ヒドロキシル基、ＮＨ2基、又は加水分解性置換基を表し、Ｒ2は、水素原子又は１価炭化水素基を表し、ｌは、０、１、又は２を表し、ｍは、１、２、又は３を表し、且つｎ’’は、１以上、好ましくは２以上の整数を表す）
で示される化合物が採用される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
［１０］
Ｍ１が、一般式（Ａ）又は一般式（Ｂ）及び（Ｃ）：
Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o−（ＣＨ2）p−Ｘ（ＣＨ2）r−Ｓｉ（Ｘ’）3-a（Ｒ１）a  （Ａ）
Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o（ＣＨ2）pＸ（ＣＨ2）r（Ｘ’）2-a（Ｒ１）aＳｉＯ（Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o（ＣＨ2）pＸ（ＣＨ2）r（Ｘ’）1-a（Ｒ１）aＳｉＯ）zＦ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o（ＣＨ2）pＸ（ＣＨ2）r（Ｘ’）2-a（Ｒ１）aＳｉ  （Ｂ）
Ｆ−（ＣＦ2）q−（ＯＣ3Ｆ6）m−（ＯＣ2Ｆ4）n−（ＯＣＦ2）o−（ＣＨ2）p−Ｘ（ＣＨ2）r−（ＣＨ2）t−Ｓｉ（Ｘ’）3-a（Ｒ１）a  ：（Ｃ）
（式中、ｑは、１〜３の整数であり、ｍ、ｎ、及びｏは、独立して、０〜２００の整数であり、ｐは、１又は２であり、Ｘは、Ｏ又は２価有機基であり、ｒは、２〜２０の整数であり、ｔは、１〜１０の整数であり、Ｒ１は、Ｃ１〜２２線状又は分岐状炭化水素基であり、ａは、０〜２の整数であり、Ｘ’は、加水分解性基、−ＯＨ基、又はＮＨ2基であり、且つｚは、ａが０又は１のとき０〜１０の整数である）
で示される化合物から選択される、項目１〜７のいずれかに記載の方法。
［１１］
Ｍ２の数平均分子量が８００ｇ／ｍｏｌ以下である、項目１〜１０のいずれかに記載の方法。
［１２］
Ｍ２が、式：
［Ｈ−（ＯＣＨ2−ＣＨ2）a−（ＯＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2）a’−（ＯＣＦ2−ＣＦ2）a’’−（ＯＣＦ2−ＣＦ2−ＣＦ2）a’’’−（ＯＣＨＦ−ＣＨＦ）a’’’’−（ＯＣＨＦ−ＣＨＦ−ＣＨＦ）a’’’’’］wＸ−（ＣＨ2）b−（ＣＦ2）b’−Ｓｉ（Ｒ）3  （Ｄ）
（式中、ａ、ａ’、ａ’’、ａ’’’、ａ’’’’、ａ’’’’’は、０〜２の整数であり、ａ＋ａ’＋ａ’’＋ａ’’’＋ａ’’’’＋ａ’’’’’は、少なくとも１であり、Ｘは、Ｏ又はＮ又はＮＨであり、ｂ及びｂ’は、０〜１０の整数であり、且つｂ＋ｂ’は、１未満にはなりえず、Ｒは、以上に定義されたような加水分解性基であるか又はＯＨ若しくはＮＨ2であり、以上の式に現れる下付き文字ａ、ａ’、ａ’’、ａ’’’、ａ’’’’、ａ’’’’’、ｂ、及びｂ’により括弧でくくられた繰返し単位の順序は、示されたものに限定されるものではなく、ｗ＝１又は２（Ｘの価数に依存する））
並びに
Ｆ−（ＣＦ2）c−（ＣＨ2）d−（ＣＦ2）e−（ＣＨ2）f−Ｓｉ（Ｒ）3  （Ｅ）
及び
Ｈ−（ＣＨ2）g−（ＣＦ2）h−（ＣＨ2）i−（ＣＦ2）j−Ｓｉ（Ｒ）3  （Ｆ）
（式中、各ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｌ、ｊは、０〜１０の整数であり、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆの少なくとも１つは、０とは異なり、ｇ、ｈ、ｉ、及びｊの少なくとも１つは、０とは異なり、且つＲは、以上に定義されたような加水分解性基であるか又はＯＨ若しくはＮＨ2である）
に対応する非フッ素化又はフッ素化シランの中から選択される、項目１〜１１のいずれかに記載の方法。
［１３］
Ｍ１堆積物が、１００ｎｍ未満、好ましくは３０ｎｍ未満、より好ましくは１〜１０ｎｍの範囲内の厚さを有する、項目１〜１２のいずれかに記載の方法。
［１４］
Ｍ１＋Ｍ２堆積物が２０ｎｍ未満の厚さを有する、項目１〜１３のいずれかに記載の方法。
［１５］
Ｍ３及び／又はＭ４が堆積された光学物品の表面上に接着剤プリフォームフィルムを適用する工程を含む、項目１〜１４のいずれかに記載の方法。
［１６］
前記プリフォームフィルムが感圧接着剤フィルムである、項目１５に記載の方法。
［１７］
前記プリフォームフィルムがセルローストリアセテートを含む、項目１６に記載の方法。
［１８］
以下の工程、即ち、
１）項目１〜１７のいずれかに記載の方法に従ってトリミングするのに適した光学物品を製造する工程と、
２）前記光学物品をエーコンエレメントにより保持する工程と、
３）前記光学物品をトリミングする工程と、
４）前記光学物品から前記エーコンエレメントを除去する工程と、
５）こうしてトリミングされた光学物品を回収する工程と、
６）存在するならばプリフォームフィルム、Ｍ３、及び任意選択のＭ４層を除去する工程と、
を含むことを特徴とする、疎水表面及び／又は撥油表面の性質を有するトリミングされた光学物品の取得方法。
［１９］
項目１〜１７のいずれかに記載の方法により取得可能な光学物品。
［２０］
少なくとも１５ｍＪ／ｍ2に等しい表面エネルギーを有する、項目１９に記載の光学物品。
［２１］
項目１８に記載の方法により取得可能な光学物品。
［２２］
１４ミリジュール／ｍ2以下、好ましくは１２ミリジュール／ｍ2以下の表面エネルギーを有する、項目２１に記載の光学物品。