(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
足部関節の相対運動を有効的に矯正することで、踵接地の角度及び足底の相対的な圧力を調整するために用いる足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスであって、足部の内側縦アーチ、横アーチ及び外側縦アーチを支持するために用い、前記内側縦アーチ、前記横アーチ及び前記外側縦アーチの曲線にフィットするように形成する立体構成である足底アーチ支持本体と、
踵接地角度を調整するために用い、前記足底アーチ支持本体の後端の少なくとも一方に足部の踵骨に相応する位置に向かって延在する後足運動調整部と、
互いが同時に存在しない内側縦アーチ剛性強化部及び外側縦アーチ剛性強化部と、を包括し、
前記内側縦アーチ剛性強化部は、前記足底アーチ支持本体の表面に設置し、前記足底アーチ支持本体の後端中間部分のみから、相応する足部の内側縦アーチまで延在し、且つ前記外側縦アーチ剛性強化部は、前記足底アーチ支持本体の表面に設置し、前記足底アーチ支持本体の後端中間部分のみから、相応する足部の外側縦アーチまで延在することを特徴とする、足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス。
【請求項２】
前記後足運動調整部は、立方骨に相応する前記足底アーチ支持本体の後端の一方から後方に向かって踵骨まで延在することを特徴とする請求項１に記載の、足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス。
【請求項３】
前記後足運動調整部は、舟状骨に相応する前記足底アーチ支持本体の後端の一方から後方に向かって踵骨まで延在することを特徴とする請求項１に記載の、足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス。
【請求項４】
前記後足運動調整部は、舟状骨に相応する前記足底アーチ支持本体の後端の一方から後方に向かって踵骨まで延在する第一後足運動調整部と、立方骨に相応する前記足底アーチ支持本体の後端の一方から後方に向かって踵骨まで延在する第二後足運動調整部と、を包括することを特徴とする請求項１に記載の、足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス。
【請求項５】
前記後足運動調整部は、フック状になることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の、足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス。
【請求項６】
前記足底アーチ支持本体は、第一中足骨に相応する箇所に中足骨支持部を設けることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の、足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス。
【請求項７】
前記足底アーチ支持本体及び前記後足運動調整部は、プラスチック、ガラス繊維、カーボン繊維混紡或いは金属材質のいずれであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の、足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、人体が動作する際の、足関節の動きを矯正したり、足底圧力を調整したりするために用いる足部の三次元支持及び運動矯正のデバイスに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
２８の骨、１０７の靭帯、３２の筋肉及び５７の関節面を含む足部は、人体を支える土台であって、人体の中で最も複雑な筋骨格系である。その主な関節は、足関節（ａｎｋｌｅ  ｊｏｉｎｔ）、距骨下関節（ｓｕｂｔａｌａｒ  ｊｏｉｎｔ）、横足根関節（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ  ｔａｒｓａｌ  ｊｏｉｎｔ）、中足指節関節（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ  ｊｏｉｎｔ）及び指節間関節（ｉｎｔｅｒｐｈａｌａｎｇｅａｌ  ｊｏｉｎｔ）を包含している。
【０００３】
人体の足部は、足底アーチの高低に基づき、高アーチ足、正常アーチ足、低アーチ足（偏平足）の三つに分けることができる。偏平足の人は、歩行の際、足底アーチが下がることにより、足部が踵接地から立脚中期に至るまでに大きな過回内（ｏｖｅｒ  ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）が引き起こり、推進期に多くの過回外（ｏｖｅｒ  ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）が発生してしまう。このため、踵及び中足骨エリアに一般正常値より大きな足底圧力値がかかっている。通常、正常な時間帯での活動においては、特に何の症状も発生しないが、長期的にみると、アーチが正常な人と比べ、足部に疲労や痛みが発生し易く、しいては足底に病変を引き起こし、且つ膝や脊椎等の関節を損害する恐れがある。偏平足の人からすると、足部が長時間、回内運動（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）を行うことから、足部関節、足関節及び下肢に過大な負担がかかったり、股関節が補償的に過度な内転を行ったりし易く、これにより、膝蓋骨に過度な圧力及び外側に向かう引張力がかかり、膝蓋骨の痛み、慢性的な足部の捻挫、腱炎、足底筋膜炎及び中足骨痛等の傷害を引き起こしてしまう。
【０００４】
歩行する際、身体のバランスと前進の安定性を維持するため、足部とその各関節とは、非常に複雑な相対的な動きを行っている。足部は、歩行の際の安定及び異なる外的環境の適応のため、足部の腱、靭帯及びその他の軟部組織によって足部各関節の動きを調整することで、歩行の際の安定を維持している。人体が歩行或いは走行を行う際、足部と地面との間にある相対的な動きを、ヒールロッカー（ｈｅｅｌ  ｒｏｃｋｅｒ）、アンクルロッカー（ａｎｋｌｅ  ｒｏｃｋｅｒ）、フォアフットロッカー（ｆｏｒｅｆｏｏｔ  ｒｏｃｋｅｒ）の三つの分けることができる。足部が地面に接触する際の反力は、踵接地期（ｈｅｅｌ  ｓｔｒｉｋｅ）、又は初期接地（Ｉｎｉｔｉａｌ  ｃｏｎｔａｃｔ）において、後足部の踵骨上に急速に付勢し、この時の付勢力は、０．０５秒の内に体重の４０％に達し、０．１３秒、即ち荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ  ｒｅｓｐｏｎｓｅ）には体重の１１０％〜１２０％に達している。身体の前方に振り出す動きに伴い、圧力中心（ｃｅｎｔｅｒ  ｏｆ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ）は、後足部から前方に移動し、推進期（ｐｕｓｈ  ｏｆｆ）の際、前足部の付勢力は、体重の１２０％以上に達し、走行の際はさらに付勢している。
【０００５】
中足部の外側は、地面と適度に接触するものの、通常、ここにはあまり付勢せず、このエリアの付勢力は、通常、体重の１０％したかない。中足骨エリアの圧力は、個体間の差に伴って異なり、通常、最も大きな圧力値は、第二中足骨と第三中足骨との間に発生している。高アーチ足は母趾と第一中足骨とに比較的大きな圧力がかかり、偏平足は通常、第一、第二及び第三中足骨と、踵エリアに比較的大きな圧力がかかっている。
【０００６】
高アーチ足の人は、歩行の際、脛骨の内部回転の不足（ｉｎｓｕｆｆｉｃｉｅｎｔ  ｔｉｂｉａｌ  ｉｎｔｅｒｎａｌ  ｒｏｔａｔｉｏｎ）により、足部の回内（ｕｎｄｅｒ  ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）に影響を及ぼし、推進する以前に過度な過回外が発生し、歩行の姿勢が硬くなり、高アーチ足特有の筋骨格の問題を引き起こしている。立脚中後期、即ちアンクルロッカーの足関節は、背屈動作が大きいことから、過度に底屈した中足骨を補うため、推進期のつま先の地面から離れた高さを増加している。高アーチ足は、主に、中足骨痛や足底筋膜炎といった足部に痛みが発生する比率が比較的高く、また、高アーチ足のランナーが受ける衝撃力は、偏平足のランナーより顕著に大きい。
【０００７】
脚部は、大腿骨（ｆｅｍｕｒ）、脛骨（ｔｉｂｉａ）、腓骨（ｆｉｂｕｌａ）及び膝蓋骨（ｐａｔｅｌｌａ）から構成されている。レントゲン撮影による研究において、冠状面で正常な脛骨及び大腿骨骨幹部の挟角を観察すると、その挟角は、およそ６度外反しており、その角度より大きいことを外反膝（Ｘ脚）、その角度より小さいことを内反膝（Ｏ脚）と称し、臨床上、被験者の両膝を前方に向かせて両足の踝同士を揃えるという簡易的な観察方法があり、両膝の間に指が二本以上入ることが可能な幅があった場合、これを内反膝と称し、このようなタイプの下肢は、浮腫み易く、歩行の際、過度な脛骨の外転（ｔｉｂｉａ  ｅｘｔｅｒｎａｌ  ｒｏｔａｔｉｏｎ）及び前足部の過剰な回外（ｆｏｒｅｆｏｏｔ  ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）を伴い、下肢の筋肉群は不正常に作用し、膝の内側や足部の外側の中足骨に痛みを招き、しいては退行性の膝関節炎を引き起こしてしまう。これに対して、両足の踝の間に指が二本以上入ることが可能な幅があった場合、これを外反膝と称し、このようなタイプは、足を踏み出す際に膝と足首とに回内が起こり、長期にわたると、外側関節の不快感や足底筋膜炎となる可能性がある。
【０００８】
このため、このような問題を解決するため、カスタマイズした足矯正器具で接触面積を増加することで、力を均等に分配して足底圧力を低減している。近年、足部構成上の不具合或いはその他の筋骨格系の問題によって引き起こる足部機能の傷害は、足矯正器具が広く用いられることで歩行が修正又は補助されるようになっている。足部の補助器具が下肢の症状を顕著に低減させていることは、１９８３に発表された論文で裏付けられているとおりであって、足部の補助器具は、足底筋膜炎の痛みに対して８０％低減できる効果を有し、怪我をしたランナーの回復を加速させることができる。
【０００９】
足部の補助器具を使用するもう一つの重要な目的は、下肢の生体力学的パフォーマンスをより正常に近付けさせるように、多くの研究は、足部の補助器具が足部の回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）、或いは後足部の活動速度及びその発生時間を低減できることを示している。走行の際、足底アーチパッドは、下肢運動に対して最も大きな影響を有し、立脚期の前半期間において脛骨の内転を２度少なくすることができ、脛骨の軸方向の回転と踵骨の内外反との関係に永久尾を及ぼして脛骨の内外転速度と、脛骨の内転角度をそれぞれお低減し、第一中足骨と内側踵との足底圧力を３０パーセント〜４０％低減することができる。
【００１０】
周知の足底アーチパッドは、主に、パッドを舟状骨の下方に配置することにより隆起した高さによって、高アーチ足或いは偏平足の足底アーチの高さを補い、足部が衝撃力の吸収及び人体重量の分散という作用を行えるようにしている。周知の足底アーチパッドは、偏平足或いは高アーチ足によって引き起こる筋肉痛に対して確かに作用するものの、この方法は、舟状骨の内側の中足部（ｍｉｄｆｏｏｔ）を持ち上げるだけで、中足部、前足部の相対的な動きを改善することしかできず、踵が外反し過ぎる偏平足や回内が不足している高アーチ足に対しては、距骨下関節の運動を有効的に改善することはできない。このため、長期的に周知の足底アーチパッドを使用して運動したとしても、上述した筋骨格系の傷害が発生する恐れがある。
【００１１】
周知技術の不足部分を鑑み、足底アーチ部と踵骨部とを支持するために用い、靴内のスペースをあまり占用せずに、且つ過剰な距骨下の関節の内外反（ｖａｌｇｕｓ，ｖａｒｕｓ）と、足首の回外及び回内運動の角度とを調整することができる足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスを提供し、下肢筋肉の不適切な動きを減少し、歩行或いは走行時の筋肉疲労を改善し、筋骨格の傷害を低減したい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の主要な目的は、上述した周知技術にある不足部分を克服するため、足関節の相対的な運動を有効的に矯正するために用い、足底の相対的な圧力を調整し、不適切な下肢筋肉の作用を低減する足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上述した目的を達成するため、本発明は、足部関節の相対運動を有効的に矯正することで、踵接地の角度及び足底の相対的な圧力を調整するために用いる足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスであって、足部の内側縦アーチ、横アーチ及び外側縦アーチを支持するために用い、前記内側縦アーチ、前記横アーチ及び前記外側縦アーチの曲線にフィットするように形成する立体構成である足底アーチ支持本体と、踵接地角度を調整するために用い、前記足底アーチ支持本体の後端の少なくとも一方に足部の踵骨に相応する位置に向かって延在する後足運動調整部と、を包括している。
【００１４】
本発明に係る実施例において、前記後足運動調整部は、立方骨に相応する前記足底アーチ支持本体の後端の一方から後方に向かって踵骨まで延在している。
【００１５】
本発明に係る実施例において、前記後足運動調整部は、舟状骨に相応する前記足底アーチ支持本体の後端の一方から後方に向かって踵骨まで延在している。
【００１６】
本発明に係る実施例において、前記後足運動調整部は、舟状骨に相応する前記足底アーチ支持本体の後端の一方から後方に向かって踵骨まで延在する第一後足運動調整部と、立方骨に相応する前記足底アーチ支持本体の後端の一方から後方に向かって踵骨まで延在する第二後足運動調整部と、を包括している。
【００１７】
本発明に係る実施例において、前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスは、前記足底アーチ支持本体の表面に設置し、前記足底アーチ支持本体の後端中間部分のみから、相応する足部の内側縦アーチまで延在する内側縦アーチ剛性強化部をさらに包括している。
【００１８】
本発明に係る実施例において、前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスは、前記足底アーチ支持本体の表面に設置し、前記足底アーチ支持本体の後端中間部分のみから、相応する足部の外側縦アーチまで延在する外側縦アーチ剛性強化部をさらに包括している。
【００１９】
本発明に係る実施例において、前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスは、前記足底アーチ支持本体の表面に設置し、前記足底アーチ支持本体の後端中間部分から、前記足底アーチ支持本体の前端中間部分に向かって延在する剛性強化部をさらに包括している。
【００２０】
本発明に係る実施例において、前記後足運動調整部は、フック状になっている。
【００２１】
本発明に係る実施例において、前記足底アーチ支持本体は、第一中足骨に相応する箇所に中足骨支持部を設けている。
【００２２】
本発明に係る実施例において、前記足底アーチ支持本体及び前記後足運動調整部は、プラスチック、ガラス繊維、カーボン繊維混紡或いは金属材質のいずれである。
【発明の効果】
【００２３】
以上のことから、本発明に係る前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスは、以下のような利点を有している。
第一に、人体が歩行を行う際、本発明に係る前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスは、距骨下関節の運動を有効的に矯正することで、過剰な回外及び回内運動の角度を調整することができ、前記後足運動調整部の剛性的な支持により、足関節の過剰する又は不足する回外及び回内角度を正常範囲内に矯正し、足底の各エリアにある相対的な圧力を調整及び分散している。このため、下肢筋肉の不適切な動きが減少し、歩行或いは走行時の筋肉疲労を改善し、筋骨格の傷害を低減している。
第二に、本発明に係る前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスは、運動を行う際、地面反力による衝撃に伴い、周期的に足底アーチの高さを調整して中足部及び前足部の運動を矯正し、異常な足底圧力を低減するとともに、足底アーチのサポートの厚さを増加させないため、靴内のスペースをあまり占用せず、快適な履き心地を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】人体の右足部の足底アーチ及びそれに相応する骨の位置を示す模式図である。
【図２】本発明に係る足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスを示す模式図である。
【図３】偏平足の人に使用した図２にある本発明に係る足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスを示す模式図である。
【図４】本発明に係る足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスの実施例を示す模式図である。
【図５】高アーチ足の人に使用した図４にある本発明に係る足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスを示す模式図である。
【図６】本発明に係る足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスの実施例を示す模式図である。を示す模式図である。
【図７】正常アーチ足の人に使用した図６にある本発明に係る足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明に係る技術的特徴、達成した目的及びその効果について詳細に説明するため、図面を参照しつつ実施例を例示して詳細に説明する。
【００２６】
本発明の主要な目的は、足関節の相対的な運動を有効的に矯正するために用い、踵接地の角度と足底の相対的な圧力とを調整し、不適切な下肢筋肉の作用を低減する足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスを提供することにある。
【００２７】
図１を参照すると、人体の足部は、衝撃力を吸収し且つ人体の重量を分散することが可能な足底アーチ（ｐｌａｎｔａｒ  ａｒｃｈ）１００を有し、前記足底アーチ１００は、足部の第一中足骨、第一楔状骨、舟状骨及び距骨を含む足部内側に沿ってドーム状に形成する内側縦アーチ（ｍｅｄｉａｌ  ａｒｃｈ）１１０と、第一中足骨から第五中足骨の間に形成する横アーチ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ  ａｒｃｈ）１２０と、第五中足骨から踵骨の間に形成する外側縦アーチ（ｌａｔｅｒａｌ  ａｒｃｈ）１３０とを包含している。人が歩行し始めると、前記内側縦アーチ１１０、前記横アーチ１２０及び前記外側縦アーチ１３０は共に衝撃力を吸収して人体の重量を分散し、前記足底アーチ１００の高さが高過ぎると、高アーチ足（ｐｅｓ  ｃａｖｕｓ  ｏｒ  ｈｉｇｈ  ａｒｃｈ）となり、前記足底アーチ１００の高さが低過ぎると、偏平足（ｆｌａｔ  ｆｏｏｔ  ｏｒ  ｌｏｗ  ａｒｃｈ）となり、足底圧力が不正常になっていしまう。
【００２８】
図１及び図２を参照すると、本発明は上述した目的を達成するため、足底アーチ支持本体１０と後足運動調整部２０とを包括する足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス１を提供している。前記足底アーチ支持本体１０は、人体の前記内側縦アーチ１１０、前記横アーチ１２０及び前記外側縦アーチ１３０の曲線に基づいてフィットするように形成する構成であって、前記内側縦アーチ１１０、前記横アーチ１２０及び前記外側縦アーチ１３０を支持するために用いている。前記足底アーチ支持本体１０は、前端１０ａと後端１０ｂとを含み、前記後足運動調整部２０は、前記足底アーチ支持本体１０の前記後端１０ｂの少なくとも一方に足部の踵骨に相応する位置に向かって延在するように形成し、踵接地の角度を調整するために用いて後足部の運動を矯正している。なお、本発明に係る前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス１は、足底アーチパッド９００上に設置することもできる。
【００２９】
前記足底アーチ支持本体１０の前記前端１０ａは、第一中足骨に相応する箇所に第一中足骨の支持として中足骨支持部１１を設け、推進期の前足部の安定性及びつま先にかかる力の低減を足首に提供するために用いている。前記足底アーチ支持本体１０及び前記後足運動調整部２０は、金属、プラスチック、ガラス繊維、カーボン繊維混紡等の支持力を有する化学或いは金属素材とすることができる。
【００３０】
図２を参照すると、前記後足運動調整部２０は、前記足底アーチ支持本体１０の後端１０ｂにおいて、相応する舟状骨側から後方に向かって踵骨まで延在し且つフック状になっており、低アーチ足或いは偏平足タイプの踵接地の角度を調整するために用いている。
【００３１】
人体は、歩行する過程において、足関節が回外（ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）或いは回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）の立体的な動きを段階的に発生させることから、足底アーチの高さが高過ぎたり、低過ぎたりすると、歩行する過程で過剰な回内或いは回外運動が発生し、例えば、高アーチ足タイプは、内反膝を伴っている可能性があり、踵接地の際、過剰な過回外が発生し、荷重応答期の足関節は、回内運動不足（ｕｎｄｅｒ  ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）になっていしまい、偏平足タイプは、外反膝を伴っている可能性があり、踵接地の際、回外運動不足（ｕｎｄｅｒ  ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）になってしまい、荷重応答期の足関節は、回内運動が過剰なってしまう。不足或いは過剰のどちらとも、足底圧力に異常を引き起こし、この影響は、人体に対して多大な傷害をもたらすため、前記後足運動調整部２０は、足部が地面に接触する際に過剰な回内或いは回外の角度を補うことで、人体に対する傷害を防いでいる。
【００３２】
さらにいうと、踵接地の角度は、前記後足運動調整部２０の支持調整を介して足関節の相対的な運動を調整することができ、踏み込みの際、偏平足タイプの足関節は、内側Ｍ（ｍｅｄｉａｌ）に向かって偏移し、過回内（ｏｖｅｒ  ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）を呈することから、前記後足運動調整部２０の剛性により足部を支持して足関節を外側Ｌ（ｌａｔｅｒａｌ）に向けて偏移させ、図３のように、踏み込みの際に足関節を正常な角度に維持し、偏平足の足底の圧力分布を調整している。また、足部が地面に接触した後、前記後足運動調整部２０の剛性の支持を受け、踵は中敷きの柔らかい部位に調整されることから、足関節の接地角度を変化することで、偏平足が人体にもたらす傷害を防いでいる。
【００３３】
図４を参照すると、実施例において、前記後足運動調整部２０は、前記足底アーチ支持本体１０の前記後端１０ｂにある立方骨に相応する一方から後方に向かって踵骨まで延在し且つフック状になり、高アーチ足タイプの足部を支持するために用いている。踏み込みの際、高アーチ足タイプの足関節は、外側Ｌ（ｌａｔｅｒａｌ）に向かって過剰に偏移し、過回外（ｏｖｅｒ  ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）を呈することから、前記後足運動調整部２０の剛性により足部を支持して足関節を内側Ｍ（ｍｅｄｉａｌ）に向けて偏移させ、図５のように、踏み込みの際に足関節を正常な角度に維持し、足関節の相対的な運動を調整している。また、足部が地面に接触した後、前記後足運動調整部２０の剛性の支持を受け、踵は中敷きの柔らかい部位に調整されることから、足関節の回内運動不足を変化することで、高アーチ足が人体にもたらす傷害を防いでいる。
【００３４】
図６を参照すると、もう一つの実施例において、前記後足運動調整部２０は、第一後足運動調整部２００と、第二後足運動調整部２０１とを包括し、前記第一後足運動調整部２００は、舟状骨に相応する前記足底アーチ支持本体１０の一方から後方に向かって踵骨の中間部分付近まで延在し、前記第二後足運動調整部２０１は、立方骨に相応する前記足底アーチ支持本体１０の一方から後方に向かって踵骨の中間部分付近まで延在し、図７のように、正常アーチ足タイプの足部をし図するために用いている。前記第一後足運動調整部２００及び前記第二後足運動調整部２０１は、踵骨中間部分まで延在するとは限定せず、踵骨両側に設け、踵に対して支持を提供するために用いることもできる。踏み込みの際、人体は、重心不安定により足部の接地角度が変化する可能性があるが、前記第一後足運動調整部２００及び前記第二後足運動調整部２０１の支持によって足部を安定させることができる。
【００３５】
また、前記内側縦アーチ１１０、前記横アーチ１２０及び前記外側縦アーチ１３０の曲線にフィットするように形成する前記足底アーチ支持本体１０は、内側縦アーチ剛性強化部１２１を設置することにより足部の動態的運動の安定性を矯正することができ、前記内側縦アーチ剛性強化部１２１は、前記足底アーチ支持本体１０の表面から上方に向かって凸出した凸出体か、或いは前記足底アーチ支持本体１０の表面に結合した固体である。再度、図２を参照すると分かるとおり、偏平足タイプに対する前記前記内側縦アーチ剛性強化部１２１は、前記足底アーチ支持本体１０の表面に設置し、前記足族アーチ支持本体１０の前記後端１０ｂの中間部分のみから、相応する足部の前記内側縦アーチ１１０まで延在するため、足部の内側を支持する剛性は足部の外側より大きくなることから、剛性を増加すると同時に動態時の足部に発生する前記内側縦アーチ１１０の低下具合を低減することができる。
【００３６】
また、再度、図４を参照すると分かるとおり、高アーチ足タイプに対する外側縦アーチ剛性強化部１２２は、前記足底アーチ支持本体１０の前記後端１０ｂの中間部分のみから、相応する足部の前記外側縦アーチ１３０まで延在するため、足部の外側を支持する剛性は足部の内側より大きくなることから、剛性を増加すると同時に動態時の足部に発生する前記外側縦アーチ１３０の低下具合を低減することができる。なお、前記内側縦アーチ剛性強化部１２１と、前記外側縦アーチ剛性強化部１２２とは、互いが同時に存在しない。
【００３７】
また、再度、図６を参照すると分かるとおり、正常アーチ足タイプに対する剛性強化部１２は、前記足底アーチ支持本体１０の前記後端１０ｂの中間部分から前記前端１０ａの中間部分に向かって延在することで、足部中間部分の支持の剛性を増加させることができ、前記足族アーチ支持本体１０は足部の前記内側縦アーチ１１０及び前記外側縦アーチ１３０に相応する厚さはほぼ同一で、その剛性もまたほぼ同一であるため、中間部分の剛性は、内側外側の両方より大きいと同時に、動態時の足部の前記内側縦アーチ１１０及び前記外側縦アーチ１３０の低下具合もほぼ同じである。
【００３８】
さらにいうと、前記足族アーチ支持本体１０の表面にある前記内側縦アーチ剛性強化部１２１及び前記外側縦アーチ剛性強化部１２２は、過回内或いは過回外の足関節を正常な接地角度に調整することができ、前記内側縦アーチ剛性強化部１２１及び前記外側縦アーチ剛性強化部１２２を設置する位置の違いにより、前記足族アーチ支持本体１０表面の剛性の分布を矯正することができることから、対応する足底アーチの低下具合を低減して足底圧力の分布を調整及び矯正している。
【００３９】
人が歩行する際、大体、踵接地期（ｈｅｅｌ  ｓｔｒｉｋｅ）、立脚中期（ｍｉｄ−ｓｔａｎｃｅ）、推進期（ｐｒｏｐｕｌｓｉｏｎ）の三つの歩行周期を呈し、そのうち、立脚中期は、歩行周期全体の約六割の時間を占めているため、立脚中期の安定はとても重要であり、本発明に係る前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス１は、次の立脚中期に安定した歩様を提供するため、第一段階である踵接地期から回内或いは回外の角度を調整することができる。
【００４０】
人が歩様する際、本発明に係る前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス１は、距骨下関節の運動を有効的に矯正することで、過回外或いは過回内運動の角度を調整することができ、前記後足運動調整部２０の剛性的な支持により、足関節の過剰な或いは不足する回内及び回外の角度を正常な範囲内に矯正し、足底の各エリアにある相対的な圧力を調整及び分散している。これにより、下肢筋肉の不適切な動きが減少し、歩行或いは走行時の筋肉疲労を改善し、筋骨格の傷害を低減している。
【００４１】
また、本発明に係る前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス１は、運動を行う際、地面反力による衝撃に伴い、周期的に足底アーチの高さを調整して中足部及び前足部の運動を矯正し、異常な足底圧力を低減するとともに、足底アーチのサポートの厚さを増加させないため、靴内のスペースをあまり占用せず、快適な履き心地を提供することができる。
【００４２】
以上のことから、本発明に係る前記足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイスは、足関節の相対的な運動を有効的に矯正することができ、本発明を介することで、足部は、運動状態下において安定した歩様を呈し、人体の動態を安定させ、運動機能を向上し、一般の人からプロのランナーまでの需要を満たすことができる。
【００４３】
なお、本発明は具体的な実施例で掲示しているものの、上述した具体的な実施例は本発明を限定するものではなく、本発明の精神と範囲を逸脱しないで行った修正や変更は、本発明が請求する範囲に属するものである。
【符号の説明】
【００４４】
１        足部の三次元運動矯正及び足底圧力の分散を備えるデバイス
１０      足底アーチ支持本体
１０ａ    前端
１０ｂ    後端
１００    足底アーチ
１１０    内側縦アーチ
１２０    横アーチ
１３０    外側縦アーチ
１１      中足骨支持部
１２      剛性強化部
１２１    内側縦アーチ剛性強化部
１２２    外側縦アーチ剛性強化部
２０      後足運動調整部
２００    第一後足運動調整部
２０１    第二後足運動調整部
Ｍ        内側
Ｌ        外側
９００    足底アーチパッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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