(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板と、磁気記録層を少なくとも含む磁気記録媒体であって、前記磁気記録層はＬ１０型規則構造を有する規則合金を含み、Ｆｅ、ＰｔおよびＶを含み、Ｐｔ＞Ｆｅの組成を有し、Ｖの含有量が３〜１２ａｔ％であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記磁気記録層は、前記規則合金を含む磁性結晶粒と、非磁性結晶粒界とからなるグラニュラー構造を有し、前記非磁性結晶粒界はＶを含むことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記磁気記録媒体は、シード層をさらに含み、前記シード層がＰｔを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁気記録媒体に関する。特に、本発明は、規則合金を含み、Ｆｅ及びＰｔを成分として含み、更にバナジウム（Ｖ）を含む磁性層を有する垂直磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録の高密度化の要請が著しい。磁気記録の高密度化を実現する技術として、垂直磁気記録方式が採用されている。垂直磁気記録媒体は、非磁性基体と、硬質磁性材料から形成される磁気記録層を少なくとも含む。垂直磁気記録媒体は、任意選択的に、磁気ヘッドが発生する磁束を磁気記録層に集中させる役割を担う軟磁性裏打ち層、磁気記録層の硬質磁性材料を目的の方向に配向させるための下地層、磁気記録層の表面を保護する保護膜などをさらに含んでもよい。
【０００３】
良好な磁気特性を得ることを目的として、グラニュラー磁性材料を用いて垂直磁気記録媒体の磁気記録層を形成することが提案されている。グラニュラー磁性材料は、磁性結晶粒と、磁性結晶粒の周囲を取り囲むように偏析した非磁性体とを含む。グラニュラー磁性材料中の個々の磁性結晶粒は、非磁性体によって磁気的に分離されている。
【０００４】
また、従来、垂直磁気記録媒体用の金属磁性材料として、ＣｏＣｒＰｔをはじめとするＣｏＣｒ系不規則合金磁性層が主に研究されてきた。近年、垂直磁気記録媒体の記録密度のさらなる向上を目的として、磁性層中の磁性結晶粒の粒径を縮小させる必要に迫られている。ここで、磁性結晶粒の粒径の縮小は、記録された磁化の熱安定性を低下させる。そのため、磁性結晶粒の粒径の縮小による熱安定性の低下を補償するために、より高い結晶磁気異方性を有する材料を用いることが求められている。
【０００５】
求められる高い結晶磁気異方性を有する材料として、Ｌ１０系規則合金およびその製造方法が提案されている。これらのＬ１０系規則合金は、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＦｅＰｄ、ＣｏＰｄなどを含む。
【０００６】
上記のような規則合金は、規則性を高めたより良い結晶粒を得ることが困難である。また、グラニュラー磁性材料においては、グラニュラー磁性材料中の個々の磁性結晶粒の分離性を高め、規則性の高いより良い結晶性を実現することも必要とされる。
【０００７】
特開２００３−３１３６５９号公報（特許文献１）は、Ｌ１０型の規則合金の薄膜を形成するためのスパッタターゲットを開示する。このスパッタターゲットとして、特許文献１は、Ｆｅ≧Ｐｔの組成を有するＦｅＰｔＶ系合金を一例として記載している。特許文献１では、スパッタ成膜した磁性合金膜をＬ１０規則相に規則化する際のアニール温度を低下させることで、高い磁気異方性定数（Ｋｕ）や高い保磁力（Ｈｃ）などを有する規則相合金膜を再現性よく得ることを可能にしている。また、特許文献１では、磁気記録媒体は、磁性合金膜を比較的低いアニール温度でＬ１０規則相に規則化することを可能にし、これによって、磁気異方性定数（Ｋｕ）が大きいＬ１０構造の規則相合金膜を記録層として用いた磁気記録媒体の実用性や量産性などを高めている。
【０００８】
特開２００８−０５９７３３号公報（特許文献２）は、高い磁気異方性定数（Ｋｕ）を有する合金と酸化化合物を含む磁気記録媒体、及びそのような磁気記録媒体の磁気記録層を形成するためのスパッタターゲットを開示する。特許文献２では、磁気記録層は、高い磁気異方性定数（Ｋｕ）を有するため、熱安定性を向上すると同時に、この磁気記録層の磁区を著しく小さくできることが開示されている。また、特許文献２のスパッタターゲットは、Ｌ１０型の規則合金の薄膜を形成するためのスパッタターゲットとして、ＦｅＰｔＶ酸化物系合金を一例として記載している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−３１３６５９号公報
【特許文献２】特開２００８−０５９７３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、より優れたＬ１0系規則合金を含む磁気記録層を有する磁気記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、非磁性基板と、磁気記録層を少なくとも含む磁気記録媒体に関し、前記磁気記録層はＬ１０型規則構造を有する規則合金を含み、Ｆｅ、ＰｔおよびＶを含み、Ｐｔ＞Ｆｅの組成を有し、Ｖの含有量が３〜１２ａｔ％であることを特徴とする。
【００１２】
本発明では、前記磁気記録層は、前記規則合金を含む磁性結晶粒と、非磁性結晶粒界とからなるグラニュラー構造を有し、前記非磁性結晶粒界はＶを含むことが好ましい。
【００１３】
更に、本発明の一実施形態では、本発明の磁気記録媒体は、シード層をさらに含み、前記シード層がＰｔを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、磁性結晶粒子間の分離性能を向上させることにより、磁気記録層の保磁力（Ｈｃ）を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の磁気記録媒体の１つの構成例を示す概略断面図である。
【図２】実施例１および比較例１〜２の磁気記録媒体におけるＶ含有量と結晶格子のａ軸およびｃ軸の長さとの関係を示すグラフである。
【図３】実施例１および比較例１〜２の磁気記録媒体におけるＶ含有量と規則度Ｓとの関係を示すグラフである。
【図４】実施例１および比較例１〜２のサンプル１〜６の磁気記録媒体におけるＶ含有量と飽和磁化（Ｍｓ）との関係を示すグラフである。
【図５】実施例１および比較例１〜２のサンプル１〜６の磁気記録媒体におけるＶ含有量と磁気異方性定数Ｋｕとの関係を示すグラフである。
【図６】実施例１および比較例１〜２のサンプル１〜６の磁気記録媒体におけるＶ含有量と保磁力Ｈｃとの関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板と磁気記録層とを含み、前記磁気記録層は、Ｌ１０型規則構造の規則合金を有して形成される。さらに、磁気記録層は、Ｆｅ、ＰｔおよびＶを含み、Ｐｔ＞Ｆｅの組成を有する。
【００１７】
以下に本発明を、図面を参照して説明するが、本発明はこれらに限定されない。本発明の一実施形態では、磁気記録媒体は、図１に示すように、非磁性基板１０、磁気記録層３０、および任意選択的に設けてもよいシード層２０を含むことができる。
【００１８】
非磁性基板１０は、表面が平滑である様々な基板であってよい。非磁性基板には、磁気記録媒体に一般的に用いられる材料を用いることができる。例えば、非磁性基板１０に用いることができる材料として、ＮｉＰメッキを施したＡｌ合金、強化ガラス、結晶化ガラス、あるいはＭｇＯ等を挙げることができる。
【００１９】
磁気記録層３０は、鉄（Ｆｅ）および白金（Ｐｔ）と、バナジウム（Ｖ）とを含む。磁気記録層３０は、規則合金を含み、好ましくは、規則合金は、Ｌ１０型構造を有する。特に好ましいＬ１０型規則合金は、ＦｅＰｔである。
【００２０】
本発明に用いられる規則合金において、ＦｅとＰｔの比は、ａｔ％でＦｅ＜Ｐｔである。好ましくは、規則合金におけるＦｅおよびＰｔの含有量は、Ｌ１０型規則合金が形成されるそれぞれの元素の含有量においてＦｅ（ａｔ％）＜Ｐｔ（ａｔ％）の条件を満たすものである。より好ましくは、ＦｅおよびＰｔの含有量は、Ｆｅ（ａｔ％）＜Ｐｔ（ａｔ％）の条件の下で、Ｆｅが４０〜４５ａｔ％であり、Ｐｔが４５〜５５ａｔ％である。また、磁気記録層におけるＶの含有量は、３〜１２ａｔ％、好ましくは３．５〜１２ａｔ％である。この範囲内の組成比を用いることによって、保磁力（Ｈｃ）を改良できるＬ１０型規則構造の規則合金を得ることができる。
【００２１】
本発明に用いられる磁気記録層中のＶは、好ましくは、０価の酸化状態のＶ、すなわち金属状態のＶである。何らかの理論に拘束されることを意図するものではないが、Ｖは、Ｌ１０型規則合金のＦｅＰｔの外に析出して相分離を高めていると考えられる。本発明では、規則合金は、Ｖ酸化物のようなより高い酸化状態のＶを含まない。
【００２２】
本発明において、規則合金の規則性は、例えば、磁気記録層をＸ線回折法（ＸＲＤ）により測定し、測定値と完全に規則化した際の理論値との比により算出することができる。Ｌ１0型規則合金の場合は、規則合金由来の（００１）および（００２）ピークの積分強度を用いて算出することができる。測定された（００２）ＦｅＰｔピーク積分強度に対する（００１）ＦｅＰｔピーク積分強度の比の値を、完全に規則化した際に理論的に算出される（００２）ピーク積分強度に対する（００１）ピーク積分強度の比で除算し、その平方根をとることで規則度Ｓを得ることができる。
【００２３】
本発明の磁気記録媒体の磁気記録層は、前記規則合金のＦｅＰｔからなる磁性結晶粒と、Ｖを含む非磁性結晶粒界とからなるグラニュラー構造を有することが好ましい。グラニュラー構造において、それぞれの磁性結晶粒は、非磁性結晶粒界によって磁気的に分離される。
【００２４】
本発明では、磁気記録層は、好ましくは、基板の加熱を伴うスパッタ法で形成される。スパッタ法としては、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法などの当該技術分野においてよく知られた一般的方法を挙げることができ、本発明ではこれらの一般的方法を用いることができる。本明細書において、「スパッタ法」の語は、特に断りがない限り上記の一般的方法と同様の意味を有する。磁気記録層を形成する際の基板温度は、４００〜５００℃の範囲内であることが好ましい。この範囲内の基板温度を採用することにより、磁気記録層中のＬ１０型規則合金材料の規則度Ｓを向上させることができる。スパッタ法に用いるターゲットとして、例えば、ＦｅおよびＰｔからなるターゲット、およびＶからなるターゲットの２つのターゲットを用いるスパッタ法を採用することができる。あるいはまた、Ｆｅからなるターゲット、Ｐｔからなるターゲット、およびＶからなるターゲットの３つのターゲットを用いるスパッタ法を採用してもよい。これらの場合、それぞれのターゲットに別個に電力を供給することによって、磁気記録層３０の規則合金中のＦｅ、ＰｔおよびＶの比率を制御することができる。
【００２５】
グラニュラー構造を有する磁気記録層の形成の際には、磁性結晶粒を形成する材料と非磁性結晶粒界を形成する材料を所定の比率で混合したターゲットを用いてもよい。あるいはまた、磁性結晶粒を形成する材料からなるターゲットと、非磁性結晶粒界を形成する材料からなるターゲットとを用いてもよい。前述のように、磁性結晶粒を形成するためのターゲットとして複数のターゲットを用いてもよい。この場合、それぞれのターゲットに別個に電力を供給して、磁気記録層中の磁性結晶粒と非磁性結晶粒界との比率を制御することができる。
【００２６】
本発明において、磁気記録を担う層は、磁気記録層３０単一の層であってよく、あるいは磁気記録層３０に他の層を加えた複数の層の積層体であってもよい。磁気記録を担う層が複数の層から構成される場合、磁気記録層３０に加える層は、キュリー温度（Ｔｃ）制御を目的とする層、磁化反転を調整するためのキャップ層、２つの磁性層間の交換結合を制御するための交換結合制御層、磁気特性を制御するための磁性層、マイクロ波アシスト磁気記録に向けた強磁性共鳴周波数を制御する磁性層などであってもよい。これらの層は、スパッタ法を含む、当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。これらの層は、磁気記録層３０と一体不可分に配置される。磁気記録層３０に他の層を加えた複数の層の積層体を採用する場合には、磁気記録層３０の上、下等の配置に関する説明は、当該積層体の上、下等として理解されたい。
【００２７】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板１０と磁気記録層３０との間に、密着層、ヒートシンク層、軟磁性裏打ち層、下地層、およびシード層２０からなる群から選択される１つまたは複数の層をさらに含んでもよい。また、本発明の磁気記録媒体は、磁気記録層３０の上に保護層をさらに含んでもよい。さらに、本発明の磁気記録媒体は、磁気記録層３０または保護層の上に液体潤滑剤層をさらに含んでもよい。
【００２８】
任意選択的に設けてもよい密着層は、その上に形成される層とその下に形成される層（非磁性基板１０を含む）との密着性を高めるために用いられる。密着層を非磁性基板１０の上面に設ける場合、密着層２０は、前述の非磁性基板１０の材料との密着性が良好な材料を用いて形成することができる。そのような材料として、Ｎｉ、Ｗ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｒｕなどの金属、前述の金属を含む合金を挙げることができる。あるいはまた、非磁性基板１０以外の２つの構成層の間に密着層を形成してもよい。密着層は、単一の層であってもよいし、複数の層の積層構造を有してもよい。
【００２９】
任意選択的に設けてもよい軟磁性裏打ち層は、磁気ヘッドからの磁束を制御して、磁気記録媒体の記録および再生特性を向上させる。軟磁性裏打ち層を形成するための材料として、ＮｉＦｅ合金、センダスト（ＦｅＳｉＡｌ）合金、ＣｏＦｅ合金などの結晶質材料、ＦｅＴａＣ、ＣｏＦｅＮｉ、ＣｏＮｉＰなどの微結晶質材料、ＣｏＺｒＮｂ、ＣｏＴａＺｒなどのＣｏ合金を含む非晶質材料を挙げることができる。軟磁性裏打ち層の膜厚の最適値は、磁気記録に用いる磁気ヘッドの構造および特性に依存する。他の層と連続成膜で軟磁性裏打ち層を形成する場合、生産性との兼ね合いから、軟磁性裏打ち層が１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内（両端を含む）の膜厚を有することが好ましい。
【００３０】
本発明の磁気記録媒体を熱アシスト磁気記録方式において使用する場合、ヒートシンク層を設けてもよい。ヒートシンク層は、熱アシスト磁気記録時に発生する磁気記録層３０の余分な熱を効果的に吸収するための層である。ヒートシンク層は、熱伝導率および比熱容量が高い材料を用いて形成することができる。そのような材料は、Ｃｕ単体、Ａｇ単体、Ａｕ単体、またはそれらを主体とする合金材料を含む。ここで、「主体とする」とは、当該材料の含有量が５０ｗｔ％以上であることをいう。また、強度などの観点から、Ａｌ−Ｓｉ合金、Ｃｕ−Ｂ合金などを用いて、ヒートシンク層を形成することができる。さらに、センダスト（ＦｅＳｉＡｌ）合金、軟磁性のＣｏＦｅ合金などを用いてヒートシンク層を形成することができる。軟磁性材料を用いることによって、ヘッドの発生する垂直方向の磁界を磁気記録層に集中させる機能をヒートシンク層に付与することができ、軟磁性裏打ち層の機能を補完することもできる。ヒートシンク層の膜厚の最適値は、熱アシスト磁気記録時の熱量および熱分布、ならびに磁気記録媒体の層構成および各構成層の厚さによって変化する。他の構成層との連続成膜で形成する場合などは、生産性との兼ね合いから、ヒートシンク層の膜厚は１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。ヒートシンク層は、スパッタ法、真空蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。通常の場合、ヒートシンク層は、スパッタ法を用いて形成される。ヒートシンク層は、磁気記録媒体に求められる特性を考慮して、非磁性基板１０と密着層との間、密着層と下地層との間などに設けることができる。
【００３１】
下地層は、上方に形成されるシード層２０の結晶性および／または結晶配向を制御するための層である。下地層は単層であっても多層であってもよい。下地層は、Ｃｒ金属、または主成分であるＣｒにＭｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｔａ、およびＺｒからなる群から選択される少なくとも１種の金属が添加された合金から形成される非磁性膜であることが好ましい。下地層は、スパッタ法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。
【００３２】
シード層２０の機能は、下地層などのその下にある層と磁気記録層３０との間の密着性を確保すること、上層である磁気記録層３０の磁性結晶粒の粒径および結晶配向を制御することである。シード層２０は非磁性であることが好ましい。加えて、本発明の磁気記録媒体を熱アシスト磁気記録方式において使用する場合には、シード層２０が熱的なバリアとして磁気記録層３０の温度上昇および温度分布を制御することが好ましい。磁気記録層３０の温度上昇および温度分布を制御するために、シード層２０は、熱アシスト記録時の磁気記録層３０の加熱の際に磁気記録層３０の温度を速やかに上昇させる機能と、磁気記録層３０の面内方向の伝熱が起こる前に、深さ方向の伝熱によって磁気記録層３０の熱を下地層などの下層に導く機能とを両立することが好ましい。
【００３３】
上記の機能を達成するために、シード層２０の材料は、磁気記録層３０の材料に合わせて適宜選択される。より具体的には、シード層２０の材料は、磁気記録層の磁性結晶粒の材料に合わせて選択される。たとえば、磁気記録層３０の磁性結晶粒がＬ１0型規則合金で形成される場合、Ｐｔ金属、またはＮａＣｌ型の化合物を用いてシード層を形成することが好ましい。特に、本発明では、Ｐｔを用いてシード層２０を形成することが好ましい。また、複数の層を積層して、シード層２０を形成する場合、上記材料に加えて、ＭｇＯ、ＳｒＴｉＯ3などの酸化物、あるいはＴｉＮなどの窒化物などを用いることもできる。磁気記録層３０の磁性結晶粒の結晶性の向上、および生産性の向上の観点から、シード層２０は、１ｎｍ〜６０ｎｍ、好ましくは１ｎｍ〜２０ｎｍの膜厚を有することが好ましい。シード層２０は、スパッタ法、真空蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。
【００３４】
保護層は、磁気記録媒体の分野で慣用的に使用されている材料を用いて形成することができる。具体的には、Ｐｔなどの非磁性金属、ダイアモンドライクカーボンなどのカーボン系材料、あるいは窒化シリコンなどのシリコン系材料を用いて、保護層を形成することができる。また、保護層は、単層であってもよく、積層構造を有してもよい。積層構造の保護層は、たとえば、特性の異なる２種のカーボン系材料の積層構造、金属とカーボン系材料との積層構造、または金属酸化物膜とカーボン系材料との積層構造であってもよい。保護層は、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。
【００３５】
液体潤滑剤層は、磁気記録媒体の分野で慣用的に使用されている材料を用いて形成することができる。たとえば、パーフルオロポリエーテル系の潤滑剤などを用いることができる。液体潤滑剤層は、たとえば、ディップコート法、スピンコート法などの塗布法を用いて形成することができる。
【実施例】
【００３６】
（実施例１）
平滑な表面を有する（００１）ＭｇＯ単結晶基板（タテホ化学工業株式会社製）を洗浄し、非磁性基板１０を準備した。洗浄後の非磁性基板１０を、スパッタ装置内に導入した。非磁性基板１０を３５０℃に加熱した後に、圧力０．４ＰａのＡｒガス中でＰｔターゲットを用いたＲＦマグネトロンスパッタ法により、膜厚２０ｎｍのＰｔシード層２０を形成した。
【００３７】
次に、シード層２０を形成した非磁性基板１０を３５０℃に加熱した後に、圧力０．６ＰａのＡｒガス中で、ＦｅＰｔターゲットおよび単一元素のＶターゲットを用いる同時ＲＦマグネトロンスパッタ法により、膜厚１０ｎｍのＦｅＰｔＶ磁気記録層３０を形成し、図１に示す構造を有する磁気記録媒体を得た。ここで、ＦｅＰｔターゲットとして、Ｆｅ／Ｐｔ比が４５／５５を用いた。また、ＦｅＰｔターゲットに印加する電力を３００Ｗに固定し、Ｖターゲットに印加する電力を４０〜４５０Ｗに変化させて、磁気記録層３０のＶの含有量を調整した。作製した磁気記録媒体の組成を表１に示した。
【００３８】
（比較例１〜２）
ＦｅＰｔターゲットとして、Ｆｅ／Ｐｔ比が５０／５０（比較例１）及び５４／４６（比較例２）のターゲットを用いた以外、上記実施例１と同様にして、磁気記録媒体を調製した。作製した磁気記録媒体の組成を表２および表３に示した。
【００３９】
（評価）
ＸＲＤにより、得られた磁気記録媒体の磁気記録層３０がＬ１０型規則構造を有することを確認した。また、ＸＲＤにより、Ｌ１０型規則構造の結晶格子のａ軸およびｃ軸の長さ測定した。また、ＸＲＤから規則度Ｓを求めた。
【００４０】
さらに、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）を用いて、得られた磁気記録媒体の飽和磁化（Ｍｓ）を求めた。また、ＶＳＭによりヒステリシス曲線を測定し、保磁力Ｈｃを測定した。また、得られた磁気記録媒体の磁気記録層３０の組成を、ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）により測定した。トルク磁力計により、磁場中においた試料を回転させて試料の各方向には働くトルクを測定し、磁気異方性定数（Ｋｕ）を求めた。
【００４１】
Ｌ１０型規則構造の結晶格子のａ軸およびｃ軸の長さを測定した結果と、規則度Ｓの値を第１〜表３に示す。表１はＦｅ／Ｐｔの比が４５／５５（実施例１）の結果であり、表２はＦｅ／Ｐｔの比が５０／５０（比較例１）の結果であり、表３はＦｅ／Ｐｔの比が５４／４６（比較例２）の結果である。
【００４２】
【表１】
0006354508.tif 000002
【００４３】
【表２】
0006354508.tif 000003
【００４４】
【表３】
0006354508.tif 000004
【００４５】
磁気記録層３０のＶ含有量と、結晶格子のａ軸およびｃ軸の長さとの関係を図２に示す。図２から分かるように、Ｖ含有量が増加しても、結晶格子のａ軸及びｃ軸の両方ともほとんど変化しなかった。このことから、Ｖは、ＦｅＰｔの結晶中には入っていないと推定される。即ち、ＶがＦｅＰｔ外に析出し、Ｖにより粒界が形成され、ＦｅＰｔ磁性結晶粒がＶにより相分離していると考えられる。また、磁気記録層３０のＶ含有量と、規則度Ｓの関係を図３に示す。図３からわかるように、Ｖ含有量が増加しても、規則度Ｓはほぼ一定であった。ＶがＦｅＰｔの結晶中にあれば、規則度Ｓは低下すると考えられる。従って、この規則度Ｓの結果からも、Ｖは、ＦｅＰｔの結晶中には入っていないと考えられる。
【００４６】
次に、上記実施例１及び比較例１〜２の各試料１〜６について、飽和磁化（Ｍｓ）、保磁力（Ｈｃ）および磁気異方性定数（Ｋｕ）の測定結果を、表４（実施例１）、表５（比較例１）および表６（比較例２）に示す。
【００４７】
【表４】
0006354508.tif 000005
【００４８】
【表５】
0006354508.tif 000006
【００４９】
【表６】
0006354508.tif 000007
【００５０】
磁気記録層３０のＶ含有量と、飽和磁化（Ｍｓ）との関係を図４に示した。また、磁気記録層３０のＶ含有量と、磁気異方性定数（Ｋｕ）との関係を図５に示した。更に、磁気記録層３０のＶ含有量と、保磁力（Ｈｃ）との関係を図６に示した。図４及び図５に見られるように、実施例１および比較例１〜２において、Ｖの含有量を増加させても、飽和磁化（Ｍｓ）および磁気異方性定数（Ｋｕ）の増加は見られなかった。これに対し、図６に示されるように、Ｖの含有量を増加させると、実施例１の磁気記録媒体の保磁力（Ｈｃ）が、比較例１〜２の磁気記録媒体の保磁力（Ｈｃ）に比べ有意に増大した。特に、Ｖの添加量が１．８＜Ｖ＜１１．６（ａｔ％）でＨｃが増大した。また、実施例１におけるＦｅＰｔＶの組成がＦｅ４２．８Ｐｔ５１．１Ｖ６．１で、Ｈｃの値が最大値５．９ｋＯｅを示した。
【００５１】
以上の結果から、Ｖは、ＦｅＰｔの規則合金に対して、Ｈｃを増大させる材料であることが分かった。
【００５２】
また、本発明では、Ｖの含有量が増加するに従い、ＭｓおよびＫｕが、共に単調に減少しているにもかかわらず、Ｈｃが増大する。
【００５３】
本発明のような、ＭｓおよびＫｕが減少しているにもかかわらず、Ｈｃが増大する理由は、現時点では不明であるが、以下のように推定することができる。
【００５４】
ＨｃはＫｕとＭｓとの間に次式の関係があるといわれている。
【００５５】
Ｈｃ＝Ａ（２Ｋｕ／Ｍｓ）
（式中、Ａは磁性粒子間の磁気的な分離性能を表す係数である。）
【００５６】
Ｆｅ４５Ｐｔ５５の組成で検証すれば、Ｋｕ／Ｍｓは以下の表７に示すように、実施例１においてほぼ一定である。
【００５７】
【表７】
0006354508.tif 000008
【００５８】
従って、Ｈｃの増加はＡの増加に起因していると考えられる。また、図２及び図３に示した、構造解析の結果を合わせて考えると、次のことが考えられる。
【００５９】
構造解析の結果では、ｃ軸およびａ軸の軸長の変化は少なく、規則度Ｓがほぼ一定であったことから、ＶはＦｅＰｔの結晶中には入っていないと推定できる。即ち、ＶをＦｅＰｔ規則合金に添加することによって、ＦｅＰｔの磁性結晶粒の外にＶの粒界が形成され、磁性結晶粒子間の分離性能が向上し、この結果、Ｈｃが増加したと考えることができる。
【００６０】
また、ＦｅＰｔの組成において、Ｆｅ＜Ｐｔの場合にＨｃが増大する理由は不明であるが、Ｖが粒界に偏析しやすくなって磁性結晶粒の分離性が向上することなどが考えられる。
【００６１】
以上のように、Ｌ１０型規則合金に対するＶの添加が、優れた磁気特性の発現に有効であることが分かる。
【符号の説明】
【００６２】
１０  非磁性基板
２０  シード層
３０  磁気記録層
【図１】
0006354508.tif 000009
【図２】
0006354508.tif 000010
【図３】
0006354508.tif 000011
【図４】
0006354508.tif 000012
【図５】
0006354508.tif 000013
【図６】
0006354508.tif 000014