(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式 (I):
【化１】
0006288588.tif 000036
の化合物の製造方法であって、
その方法が式 (II):
【化２】
0006288588.tif 000037
の化合物をリチウムジイソプロピルアミドと反応させて第一中間体を得て、
第一中間体を式 (III):
【化３】
0006288588.tif 000038
の化合物と反応させて式 (I)の化合物を得ることを特徴とする前記方法。
［式中、
Ｘは酸素及び硫黄から選ばれ、
R1及びR2は夫々独立にC1-6-アルキル及びフェニルから選ばれ、又は
R1及びR2は結合して５〜６員ヘテロシクロアルキルから選ばれた基を形成してもよく、
R3はt-ブチル又は2,4,6-トリイソプロピルフェニルであり、
R4はＨ、-(C1-C6)アルキル、-(C3-C6)シクロアルキル、ビシクロアルキル、トリシクロアルキル、及びフェニルから選ばれ、上記-(C1-C6)アルキル、-(C3-C6)シクロアルキル、ビシクロアルキル、トリシクロアルキル、及びフェニル基の夫々が１〜３個のR6基により置換されていてもよく、
R5はt-ブチル、フェニル、-C＝C(H)-フェニル、及び-C≡C-フェニルから選ばれ、前記R5基の上記t-ブチル、フェニル、-C＝C(H)-フェニル、及び-C≡C-フェニルの夫々が１〜３個のR6基により置換されていてもよく、又は
R4及びR5は結合してシクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びジヒドロインデニルから選ばれた基を形成してもよく、上記シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びジヒドロインデニル基の夫々が１〜３個のR6基により置換されていてもよく、かつ／又は前記シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びジヒドロインデニル基の夫々が１〜３個のR7基により置換されていてもよい６員スピロシクロアルキルにより更に置換されていてもよく、
夫々のR6は独立にハロ、ヒドロキシル、-(C1-C6)アルキル、及び-O-(C1-C6)アルキルから選ばれ、かつ
夫々のR7は独立にハロ、ヒドロキシル、-(C1-C6)アルキル、及び-O-(C1-C6)アルキルから選ばれる］
【請求項２】
Ｘが硫黄である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
式(II)の化合物がN,N-ジメチルメタンチオアミドである、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
Ｘが酸素である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
式(II)の化合物がジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、イソプロピルホルムアミド、ジフェニルホルムアミド、ピロリジン-1-カルボアルデヒド、及びモルホリン-4-カルボアルデヒドから選ばれる、請求項１又は４記載の方法。
【請求項６】
R3がt-ブチルである、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
R3が2,4,6-トリイソプロピルフェニルである、請求項１から５のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
R4がＨ、-(C1-C6)アルキル、-(C3-C6)シクロアルキル、ビシクロアルキル、トリシクロアルキル、及びフェニルから選ばれ、上記-(C1-C6)アルキル、-(C3-C6)シクロアルキル、ビシクロアルキル、トリシクロアルキル、及びフェニル基の夫々が１〜３個のR6基により置換されていてもよく、かつ
R5がt-ブチル、フェニル、-C＝C(H)-フェニル、及び-C≡C-フェニルから選ばれ、上記R5基の夫々が１〜３個のR6基により置換されていてもよい、請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
R4が水素である、請求項１から８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
R4がt-ブチル、トリフルオロメチル、シクロプロピル、シクロヘキシル、フェニル、及び下記式
【化４】
0006288588.tif 000039
の基から選ばれ、上記R4基の夫々が１〜３個のR6基により置換されていてもよい、請求項１から８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
R4及びR5が結合してシクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びジヒドロインデニルから選ばれた基を形成し、上記シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びジヒドロインデニル基の夫々が１〜３個のR6基により置換されていてもよく、かつ／又は前記シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びジヒドロインデニル基の夫々が１〜３個のR7基により置換されていてもよい６員スピロシクロアルキルにより更に置換されていてもよい、請求項１から７のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
R4及びR5が結合して基:
【化５】
0006288588.tif 000040
を形成する、請求項１から７又は１１のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
式 (27):
【化６】
0006288588.tif 000041
の化合物の製造方法であって、
その方法がN,N-ジエチルホルムアミドを式 (26):
【化７】
0006288588.tif 000042
の化合物の存在下でリチウムジイソプロピルアミドと反応させて式(27)の化合物を得ることを特徴とする前記方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はキラルスルフィンイミンとホルムアルデヒド及びリチウムジイソプロピルアミドの反応によるジアステレオマーのN-スルフィニル α-アミノアミドの製造方法に関する。本発明の方法は高収率及び高いジアステレオ選択性でN-スルフィニル α-アミノアミドを提供する。
【背景技術】
【０００２】
N-スルフィニル α-アミノアミドはストレッカー方法 [例えば、S.Mabic ら著, Tetrahedron 57: 8861-8866 (2001); A.Plant ら著, J.Org.Chem.73: 3714-3724 (2008); F.A.Davisら著, J.Org.Chem.65: 8704-8708 (2000) を参照のこと] により合成でき、これは高度に毒性のシアニド陰イオンの使用を必要とし、しかも得られるアルファ-アミノニトリル中間体が苛酷な条件下で加水分解されて相当するアルファ-アミノアミドを得る必要がある。
ストレッカー方法に従って調製されたニトリルの加水分解は一級アミド (-CONH2)のみを提供するので、ストレッカー方法は一級アミドの合成のみに制限される。
本発明はストレッカー合成の欠点を回避する式 (I)のN-スルフィニル α-アミノアミドの高度にジアシテレオ選択的製造方法を提供する。
ジアルキルホルムアミド（又はジアルキルチオホルムアミド）の脱プロトン化はカルバモイルリチウム（又はチオカルバモイルリチウム）を与えることが知られている。次いでこれらのカルバモイルリチウムがカルボニル求電子試薬と反応し、こうしてカルボニル化合物へのカルバモイル基の導入を可能にし得る（例えば、D.Endersら著, Angew.Chem.Internat.Ed.12:1014-1015 (1973)及びB.Banhidaiら著,Angew.Chem.Internat.Ed.12:836-836(1973)を参照のこと）。
カルバモイルリチウムと求電子試薬としてのスルフィンイミンの反応は報告されていなかった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明者らはカルバモイルリチウムが立体特異的様式でキラルの、立体障害スルフィンイミンと反応してジアステレオマーのN-スルフィニル α-アミノアミドを与えることを見い出し、これらは医薬品を調製するためのキラルビルディングブロックとして有益である。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
その最も広い実施態様（“実施態様１”）において、本発明は式 (I),
【化１】
0006288588.tif 000002
の化合物の製造方法に関するものであり、
その方法は式 (II):
【化２】
0006288588.tif 000003
の化合物をリチウムジイソプロピルアミドと反応させて第一中間体を得、そして
第一中間体を式 (III):
【化３】
0006288588.tif 000004
の鏡像体上純粋な化合物と反応させて式 (I)の化合物を得ることを特徴とし、式中、
【０００５】
Ｘは酸素及び硫黄から選ばれ、
R1及びR2は夫々独立にC1-6-アルキル及びフェニルから選ばれ、又は
R1及びR2は結合してシクロペンチル、シクロヘキシル、及び５〜６員ヘテロシクロアルキルから選ばれた基を形成してもよく、
R3はt-ブチル又は2,4,6-トリイソプロピルフェニルであり、
R4はＨ、C1-6-アルキル、C3-6-シクロアルキル、炭素環、フェニル、及び2,3-ジヒドロベンゾ[b][1,4]ジオキシニルから選ばれ、前記R4基の上記C1-6-アルキル、C3-6-シクロアルキル、炭素環、フェニル及び2,3-ジヒドロベンゾ[b][1,4]ジオキシニルの夫々が必要により１〜３個のR6基により置換されていてもよく、
R5はt-ブチル、フェニル、フェニル-C＝C(R)-、及びフェニル-C≡C-から選ばれ、前記R5基の上記t-ブチル、フェニル、フェニル-C＝C(R)-、及びフェニル-C≡C-の夫々が必要により１〜３個のR6基により置換されていてもよく、又は
R4及びR5は結合してシクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びジヒドロインデニルから選ばれた基を形成してもよく、上記シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びジヒドロインデニル基の夫々が必要により１〜３個のR6基により置換されていてもよく、かつ／又は前記シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びジヒドロインデニル基の夫々が必要により１〜３個のR7基により置換されていてもよい６員スピロシクロアルキルにより更に置換されていてもよく、
夫々のR6は独立にハロ、ヒドロキシル、C1-6-アルキル、及びC1-6-アルキル-O- から選ばれ、かつ
夫々のR7は独立にハロ、ヒドロキシル、C1-6-アルキル、及びC1-6-アルキル-O- から選ばれる。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
略号：
DCM = ジクロロメタン
DMF = ジメチルホルムアミド
LDA = リチウムジイソプロピルアミド
MTBE =メチル tert-ブチルエーテル
THF = テトラヒドロフラン
先に注目されたように、本発明は式(II)のホルムアミド (X=O)又はチオホルムアミド (X=S)を式 (III)のスルフィンイミン化合物の存在下でLDA と反応させることによる式 (I)の化合物の製造方法（以下、“本発明の方法”）に関する。
実施態様 2: 別の実施態様において、本発明はＸが硫黄である、実施態様１に記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
実施態様 3: 別の実施態様において、本発明は式(II)の化合物がN,N-ジメチルメタンチオアミドである、先の実施態様１又は２に記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
【０００７】
実施態様 4: 別の実施態様において、本発明はＸが酸素である、実施態様１に記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
実施態様 5: 別の実施態様において、本発明は式(II)の化合物がジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、イソプロピルホルムアミド、ジフェニルホルムアミド、ピロリジン-1-カルボアルデヒド、及びモルホリン-4-カルボアルデヒドから選ばれる、実施態様１又は４に記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
実施態様 6: 別の実施態様において、本発明はR3がt-ブチルである、実施態様１から５のいずれか一つに記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
実施態様 7: 別の実施態様において、本発明はR3が2,4,6-トリイソプロピルフェニルである、実施態様１から５のいずれか一つに記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
実施態様 8: 別の実施態様において、本発明は
R4がＨ、C1-6-アルキル、C3-6-シクロアルキル、炭素環、及びフェニルから選ばれ、上記C1-6-アルキル、C3-6-シクロアルキル、炭素環、及びフェニルR4基の夫々が必要により１〜３個のR6基により置換されていてもよく、かつ
R5がt-ブチル、フェニル、-C＝C(R)-フェニル、及び-C≡C-フェニルから選ばれ、上記R5基の夫々が必要により１〜３個のR6基により置換されていてもよい、実施態様１から７のいずれか一つに記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
実施態様 9: 別の実施態様において、本発明はR4が水素である、実施態様１から８のいずれか一つに記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
実施態様 10: 別の実施態様において、本発明はR4がt-ブチル、トリフルオロメチル、シクロプロピル、シクロヘキシル、フェニル、及び式 9-A,
【化４】
0006288588.tif 000005
9-A,
の基から選ばれ、上記R4基の夫々が必要により１〜３個のR6基により置換されていてもよい、実施態様１から８のいずれか一つに記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
【０００８】
実施態様 11: 別の実施態様において、本発明はR4及びR5が結合してシクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及びジヒドロインデニルから選ばれた基を形成し、上記シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びジヒドロインデニル基の夫々が必要により１〜３個のR6基により置換されていてもよく、かつ／又は前記シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びジヒドロインデニル基の夫々が必要により１〜３個のR7基により置換されていてもよい６員スピロシクロアルキルにより更に置換されていてもよい、実施態様１から７のいずれか一つに記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
実施態様 12: 別の実施態様において、本発明はR4及びR5が結合して基:
【化５】
0006288588.tif 000006
を形成する、実施態様１から７又は11のいずれか一つに記載された式 (I)の化合物の製造方法に関する。
【０００９】
実施態様 13: 別の実施態様において、本発明は式 (27):
【化６】
0006288588.tif 000007
の化合物の製造方法に関するものであり、
その方法はN,N-ジエチルホルムアミドを式 (26):
【化７】
0006288588.tif 000008
の化合物の存在下でリチウムジイソプロピルアミドと反応させて式(27)の化合物を得ることを特徴とする。
【００１０】
一般定義:
ハロゲン:
用語ハロゲンは一般にフッ素、塩素、臭素及びヨウ素を表す。
アルキル:
単独の、又は別の基と組み合わせての“C1-6-アルキル”という用語は１〜ｎ個のＣ原子を有する非環式、飽和、分枝又は線状炭化水素基を表す。例えば、用語C1-5-アルキルは基H3C-、H3C-CH2-、H3C-CH2-CH2-、H3C-CH(CH3)-、 H3C-CH2-CH2-CH2- 、H3C-CH2-CH(CH3)-、H3C-CH(CH3)-CH2-、H3C-C(CH3)2 、H3C-CH2-CH2-CH2-CH2-、H3C-CH2-CH2-CH(CH3)-、H3C-CH2-CH(CH3)-CH2-、H3C-CH(CH3)-CH2-CH2-、H3C-CH2-C(CH3)2- 、H3C-C(CH3)2-CH2-、H3C-CH(CH3)-CH(CH3)-及びH3C-CH2-CH(CH2CH3)- を含む。
シクロアルキル:
単独の、又は別の基と組み合わせての“C3-6-シクロアルキル”という用語は３〜ｎ個のＣ原子を有する環式、飽和、非分枝炭化水素基を表す。例えば、用語C3-6-シクロアルキルはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルを含む。
炭素環:
単独で、又は別の基と組み合わせて使用される“炭素環”という用語は、３〜14個の炭素原子からなる単環式、二環式又は三環式環構造を意味する。“炭素環”という用語は完全飽和環系及び芳香族環系並びに部分飽和環系を表す。用語“炭素環”は融合系、橋かけ系及びスピロ環系を含む。ビシクロアルキルの非限定例として、ビシクロ [2.2.1]ヘプタン、ビシクロ [2.2.1]ヘプテン、ビシクロ [3.2.1]オクタン、及びビシクロ [3.2.1]オクテン、下記の基が挙げられる。
【００１１】
【化８】
0006288588.tif 000009
【００１２】
複素環:
“複素環”という用語は３〜14個の環原子からなり、Ｎ、Ｏ又はS(O)r （式中、r=０、１又は２）から選ばれた１個以上のヘテロ原子を含む芳香族環系を含む飽和又は不飽和単環式又は多環式環系を意味し、そのヘテロ原子のいずれもが芳香族環の一部ではない。“複素環”という用語は全ての可能な異性体形態を含むことが意図されている。５〜６員ヘテロシクロアルキルの非限定例として、テトラヒドロフラニル、アゼチジニル、ピロリジニル、ピラニル、テトラヒドロピラニル、ジオキサニル、チオモルホリニル、モルホリニル、ピペリジニル、及びピペラジニルが挙げられる。
下記の記号は部分への基Ｒの結合の位置を意味する。
【化９】
0006288588.tif 000010
【００１３】
下記のスキーム１は本発明の方法によるtert-ブタンスルフィンイミンへのホルムアミド (及びチオホルムアミド陰イオン) の付加を示す。
スキーム１
【化１０】
0006288588.tif 000011
【００１４】
本発明の方法において、LDA が式(II)の化合物と反応して第一中間体（カルバモイルリチウム）を生成する（“リチウム化工程”）。典型的には、第一中間体は単離されない。次いで第一中間体が式 (III)の化合物と反応する。一実施態様において、LDA が式 (III)の化合物の不在下で式(II)の化合物と反応させられ、得られる第一中間体が式 (III)の化合物と反応させられる。別の実施態様において、LDA が式 (III)の化合物の存在下で式(II)の化合物と反応させられる。
式(II)の化合物は一般に商業源から入手でき、又は既知の方法（例えば、Gibson, H.W.著Chem.Rev.1969, 69, 673-692） によりつくることができる。
本発明の方法に使用されるLDA は商業上得られてもよく、又は使用の直前にi-Pr2NH とリチウムアルキル、例えば、n-BuLiの反応により生成されてもよい。
リチウム化工程は無水の、非プロトン性溶媒中で行なわれる。この工程を行なうのに適した溶媒の非限定例として、トルエン、THF 、ジエチルエーテル、MTBE及びこれらの混合物が挙げられる。一実施態様において、リチウム化工程がトルエンを含む溶媒中で行なわれる。
先に注目されたように、リチウム化工程が式 (III)の化合物の不在下又は存在下で行なわれてもよい。リチウム化工程中に不在の場合、式 (III)の化合物が続いてカルバモイルリチウムを含む混合物と反応させられる。式 (III)の化合物がリチウム化工程中に不在である場合、式 (III)の化合物が反応カルバモイルリチウム混合物に添加でき、又はカルバモイルリチウム混合物が式 (III)の化合物に添加でき、或いは式 (III)の化合物及びカルバモイルリチウム混合物が同時に一緒に混合し得ることが理解されるであろう。リチウム化工程中に不在の場合、式 (III)の化合物がニートで使用されてもよく、また、式 (III)の化合物がリチウム化工程について上記された無水の、非プロトン性溶媒を含む懸濁液又は溶液の成分であってもよい。
【００１５】
本発明の方法は式 (I)の化合物を得るのに充分な時間及び温度で行なわれる。本発明の方法は典型的には約-78 ℃から溶媒の還流点付近までの温度で行なわれる。一実施態様において、必要により式 (III)の化合物の存在下の、式(II)の化合物とLDA の反応は、約-78 ℃から30℃まで、更に好ましくは-78 ℃から約０℃までの温度で行なわれる。
一実施態様において、本発明の方法は式 (III)の化合物及び式 (I)の化合物のR4が水素である式 (I)の化合物の製造方法に関する。R4が水素である式 (III)の化合物は本明細書中でスルフィニルアルドイミンと称される。式 (III)の化合物がスルフィニルアルドイミンである場合、本発明者らは選択性がLDA 及びスルフィニルアルドイミンの両方の立体的嵩高さに敏感であることを見い出した。例えば、ピバルデヒド誘導イミン１へのDMF 陰イオンの付加は92:8の選択性でtert- ロイシンアミド２を生じた（表１、例１を参照のこと）。一層嵩高のジイソプロピルホルムアミドを使用する場合、得られるアミド３は極めて高い選択性 (>95:5;表１、例２を参照のこと)で得られる。また、DMF 陰イオンと組み合わせての更に嵩高の2,4,6-トリイソプロピルフェニルスルフィンイミン４の使用はまたそれほど立体的に嵩高ではない化合物１で得られる (98:2; 表１、例３を参照のこと) よりも高い選択性 (98:2; 表１、例３を参照のこと)で生成物５を与えた。同様に、スルフィンイミン10へのジエチルホルムアミドの付加は90:10 のジアステレオ選択性（表１、例６を参照のこと）で生成物を与え、一方、更に立体的に嵩高い2,4,6-トリイソプロピルフェニルスルフィンイミン12との同様の反応は一層高い選択性で生成物を生じた (95:5; 表１、例７を参照のこと)。
表1.スルフィニルアルドイミン（R4が水素である場合）へのホルムアルデヒド陰イオン付加a
【００１６】
【表１】
0006288588.tif 000012
0006288588.tif 000013
【００１７】
[a] 典型的な反応条件：１当量のスルフィンイミン、3.1 当量のホルムアミド、３当量のLDA, PhMe, -78 ℃ [b] SiO2によるクロマトグラフィー後の単離収率 [c]粗反応混合物のHPLC又は1H NMR から測定されたジアステレオマーの比 [d] TIPP = 2,4,6-トリイソプロピルフェニル
別の実施態様において、本発明の方法は式 (III)の化合物及び式 (I)の化合物のR4が水素以外の基である式 (I)の化合物の製造方法に関する。R4が水素以外の基である式 (III)の化合物は本明細書中でスルフィニルケトイミンと称される。式 (III)の化合物がスルフィニルケトイミンである場合、出願人は本発明の方法がまた種々のケトイミン基質について高いジアステレオ選択性で進行することを見い出した（表２を参照のこと）。立体的に嵩高いα−四級ケトイミンは高いジアステレオ選択性で反応してα−四級β−四級アミノアミドを生じた（表２中の例8-10及び13）。エノール化可能なケトイミン20は、おそらくLDA の付加についての基質の競合エノール化のために、通常の反応条件下で低い転化率を生じた。しかしながら、tert- ブチルリチウムを使用するカルバモイルリチウムの生成、及びその後のケトイミン20の付加は>90%の転化率、>95:5 のジアステレオ選択性、及び77％の単離収率で生成物21を与えた（例11、表２）。α,β-不飽和ケトイミン22は反応して92:8のジアステレオ選択性で専ら1,2-付加生成物23を生じた（例12、表２）。アルキニルケトイミンはまたN-ホルミルピロリジンと円滑に反応してアミノアミド25を与えた (ジアステレオ選択性=94:6) (例13、表２)。環状ケトイミン26とLDA の反応は良好な収率 (81%) かつ高いジアステレオ選択性 (95:5;例14、表２)で環状生成物27を与えた。
表2. スルフィニルケトイミン (R4が水素以外の基である場合)へのホルムアミド陰イオン付加a
【００１８】
【表２】
0006288588.tif 000014
0006288588.tif 000015
【００１９】
[a] 典型的な反応条件：１当量のスルフィンイミン、3.1 当量のホルムアミド、３当量のLDA, PhMe, -78 ℃ [b] SiO2によるクロマトグラフィー後の単離収率 [c]粗反応混合物のHPLC又は1H NMR から測定されたジアステレオマーの比
先に注目されたように、本発明の方法により生成されたジアステレオマーの化合物は更なる有機化合物のためのビルディングブロックとして利用し得る。例えば、これらの化合物はHeimgartner 及び共同研究者らの操作を使用することによりアミノエステル誘導体に都合良く変換し得た（スキーム２を参照のこと）（また、P.Wipfら著, Helv.Chim.Acta 69: 1153-1162 (1986) を参照のこと）。例えば、HCl による25のスルフィニル基の脱保護及びその後のアミノ基のベンゾイル化がベンズアミド29を生じた。温かいトルエン中の無水HCl への29の暴露が中間体オキサゾロン30への分子内環化に影響し、これはメタノールで開裂されてメチルエステル31を生じた。そのオキサゾロン生成は立体的に嵩高い基質の強いトルペ−インゴールド効果により促進される。
スキーム2.エステルへのアミド基の変換
【００２０】
【化１１】
0006288588.tif 000016
【実施例】
【００２１】
実験部分
一般操作：
反応モニタリングを逆相HPLCにより行なう。反応ジアステレオ選択性を逆相HPLC分析又は1H NMR分析により粗生成物混合物について測定する。
出発物質：
特に記載されない限り、全ての反応体及び試薬を商業源から得、又は既知の操作によりつくる。スルフィンイミンをEllman及び共同研究者らによりこの文献:  Liu, G.ら著; J.Org.Chem.1999, 64, 1278 に記載された一般操作により調製する。
実施例 1: 化合物２の調製
【化１２】
0006288588.tif 000017
【００２２】
LDA 溶液の調製: フラスコにジイソプロピルアミン (2.30 mL, 16.37 ミリモル) 、THF (1 mL) 及びトルエン (5 mL) を仕込む。その溶液を約０℃に冷却し、そのバッチを10℃より下の温度に維持するのに充分な速度でn-BuLi (5.96 mL, 15.85 ミリモル, 2.67 M/ヘキサン) で処理する。得られる溶液を約０℃で約15分間撹拌する。
セパレートフラスコにスルフィンイミン 1 (1.00 g, 5.28 ミリモル) 、N,N-ジメチルホルムアミド (1.23 mL, 15.85 ミリモル) 及びトルエン (10 mL)を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。先に調製されたLDA 溶液を-78 ℃でそのスルフィンイミン溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (15 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。得られる有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が92:8のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物２を無色の油として得、これは放置すると無色の固体に固化する。収量: 998 mg, 72.0%.
【００２３】
実施例 2: 化合物3の調製
【化１３】
0006288588.tif 000018
【００２４】
LDA 溶液の調製: フラスコにジイソプロピルアミン (2.30 mL, 16.37 ミリモル) 、THF (1 mL) 及びトルエン (5 mL) を仕込む。その溶液を約０℃に冷却し、そのバッチを10℃より下の温度に維持するのに充分な速度でn-BuLi (5.96 mL, 15.85 ミリモル, 2.67 M/ヘキサン) で処理する。得られる溶液を約０℃で約15分間撹拌する。
セパレートフラスコにスルフィンイミン 1 (1.00 g, 5.28 ミリモル) 、N,N-ジイソプロピルホルムアミド (2.38 mL, 16.37 ミリモル) 及びトルエン (10 mL)を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。先に調製されたLDA 溶液を-78 ℃でスルフィンイミン溶液に滴下して添加し、約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (15 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が>95:5 のジアステレオマーの比を示す（少量ジアステレオマーは検出されない）。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物３を無色の固体として得る。収量: 1.25 g, 74.3%.
【００２５】
実施例 3: 化合物５の調製
【化１４】
0006288588.tif 000019
【００２６】
LDA 溶液の調製: フラスコにジイソプロピルアミン (0.65 mL, 4.62ミリモル) 、THF (0.5 mL) 及びトルエン (2.5 mL) を仕込み、約０℃に冷却する。そのバッチを10℃より下の温度に維持するのに充分な速度でその溶液をn-BuLi (1.67 mL, 4.47ミリモル, 2.67 M/ヘキサン) で処理する。得られる溶液を約０℃で約15分間撹拌する。
セパレートフラスコにスルフィンイミン 4 (500 mg, 1.49 ミリモル) 、N,N-ジメチルホルムアミド (0.36 mL, 4.62 ミリモル) 及びトルエン (5 mL) を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。先に調製されたLDA 溶液を-78 ℃でスルフィンイミン溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (10 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (20 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物のHPLC分析が92:8のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物５を無色の油として得る。収量: 507 mg, 83.3%.
【００２７】
実施例 4: 化合物７の調製
【化１５】
0006288588.tif 000020
【００２８】
LDA 溶液の調製: フラスコにジイソプロピルアミン (0.94 mL, 6.67ミリモル) 、THF (0.5 mL) 及びトルエン (2.5 mL) を仕込む。その溶液を約０℃に冷却し、そのバッチを10℃より下の温度に維持するのに充分な速度でn-BuLi (2.43 mL, 6.46ミリモル, 2.67 M/ヘキサン) で処理する。得られる溶液を約０℃で約15分間撹拌する。
セパレートフラスコにスルフィンイミン6 (500 mg, 2.15 ミリモル) 、N-ホルミルモルホリン (0.67 mL, 6.67 ミリモル) 及びトルエン (5 mL) を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。先に調製されたLDA 溶液を-78 ℃でスルフィンイミン溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (10 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が93:7のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物７を無色の油として得る。収量: 571 mg, 76.4%.
【００２９】
実施例 5: 化合物９の調製
【化１６】
0006288588.tif 000021
【００３０】
フラスコにスルフィンイミン 8 (500 mg, 1.74 ミリモル) 、N,N-ジフェニルホルムアミド (684 mg, 3.47 ミリモル) 及びTHF (5 mL)を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。商用LDA 溶液 (1.74 mL, 3.47 ミリモル, 2.0 M/THF ／ヘプタン／エチルベンゼン) をスルフィンイミン溶液に-78 ℃で滴下速度で添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (10 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が96:4のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物９を白色の固体として得る。収量: 714 mg, 84.8%.
【００３１】
実施例 6: 化合物11の調製
【化１７】
0006288588.tif 000022
【００３２】
フラスコにスルフィンイミン 10 (500 mg, 1.87 ミリモル) 、N,N-ジエチルホルムアミド (0.644, 5.80 ミリモル) 及びトルエン (5 mL) を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。商用LDA 溶液 (2.90 mL, 5.80 ミリモル, 2.0 M/THF/ヘプタン／エチルベンゼン) を-78 ℃でスルフィンイミン溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (10 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が90:10 のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物11を無色の油として得る。収量: 570 mg, 82.7%.
【００３３】
実施例 7: 化合物13の調製
【化１８】
0006288588.tif 000023
【００３４】
LDA 溶液の調製: フラスコにジイソプロピルアミン (1.20 mL, 8.58ミリモル) 、THF (1 mL) 及びトルエン (5 mL) を仕込む。その溶液を約０℃に冷却する。そのバッチを10℃より下の温度に維持するのに充分な速度でその溶液をn-BuLi (3.11 mL, 8.30ミリモル, 2.67 M/ヘキサン) で処理する。得られる溶液を約０℃で約15分間撹拌する。
セパレートフラスコにスルフィンイミン 12 (1.00 g, 2.77 ミリモル), N,N-ジエチルホルムアミド (0.96 mL, 8.58 ミリモル) 及びトルエン (10 mL)を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。先に調製されたLDA 溶液を-78 ℃でスルフィンイミン溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (15 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が95:5のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物13を無色の油として得、これは放置すると無色の固体に固化する。収量: 1.04 g, 81.3%.
【００３５】
実施例 8: 化合物15の調製
【化１９】
0006288588.tif 000024
【００３６】
LDA 溶液の調製: フラスコにジイソプロピルアミン (2. 67 mL, 19.03 ミリモル) 、THF (1 mL) 及びトルエン (5 mL) を仕込む。その溶液を約０℃に冷却し、そのバッチを10℃より下の温度に維持するのに充分な速度でn-BuLi (7.08 mL, 18.84 ミリモル, 2.67 M/ヘキサン) で処理する。得られる溶液を約０℃で約15分間撹拌する。
セパレートフラスコにスルフィンイミン 14 (500 mg, 1.88 ミリモル), N,N-ジメチルホルムアミド (1.47 mL, 19.03 ミリモル) 及びトルエン (5 mL)を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。先に調製されたLDA 溶液を-78 ℃でスルフィンイミン溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (15 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が>95:5 のジアステレオマーの比を示す（少量のジアステレオマーは検出されない）。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物15を白色の固体として得る。収量: 497 mg, 77.9%.
【００３７】
実施例 9: 化合物17の調製
【化２０】
0006288588.tif 000025
【００３８】
フラスコにスルフィンイミン 16 (500 mg, 1.26 ミリモル) 、N,N-ジエチルホルムアミド (1.30 mL, 11.70 ミリモル) 及びトルエン (5 mL)を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。商用のLDA 溶液 (5.66 mL, 11.32 ミリモル, 2.0 M/THF/ヘプタン/エチルベンゼン) をスルフィンイミン溶液に、その温度を-78 ℃に維持するのに充分な速度で滴下して仕込む。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (15 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が>95:5 のジアステレオマーの比を示す（少量のジアステレオマーは検出されない）。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物17を白色の固体として得る。収量: 472 mg, 75.2%.
【００３９】
実施例 10: 化合物19の調製
【化２１】
0006288588.tif 000026
【００４０】
フラスコにスルフィンイミン 18 (500 mg, 1.46 ミリモル) 、N,N-ジメチルホルムアミド (0.35 mL, 4.52 ミリモル) 及びトルエン (5 mL) を仕込み、ドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。商用のLDA 溶液 (2.12 mL, 4.38 ミリモル, 2.0 M/THF/ヘプタン/エチルベンゼン)を-78 ℃でスルフィンイミン溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (15 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が95:5のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物19を白色の固体として得る。収量: 426 mg, 70.2%.
【００４１】
実施例 11: 化合物21の調製
【化２２】
0006288588.tif 000027
【００４２】
フラスコにN,N-ジイソプロピルホルムアミド (0.58 mL, 4.01 ミリモル) 、THF (20 mL) 、Et2O (20 mL)、及びペンタン (5 mL) を仕込み、ドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。tert- ブチルリチウム溶液 (2.60 mL, 4.41 ミリモル, 1.7 M/ペンタン) を-78 ℃でその溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。THF (5 mL)中のスルフィンイミン 20 (500 mg, 2.01 ミリモル) の溶液を-78 ℃で滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (15 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が>95:5 のジアステレオマーの比を示す（少量のジアステレオマーは検出されない）。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物21を白色の固体として得る。収量: 584 mg, 76.9%.
【００４３】
実施例 12: 化合物23の調製
【化２３】
0006288588.tif 000028
【００４４】
LDA 溶液の調製: フラスコにジイソプロピルアミン (0.70 mL, 4.98ミリモル) 、THF (0.5 mL) 及びトルエン (5 mL) を仕込み、約０℃に冷却する。そのバッチを10℃より下の温度に維持するのに充分な速度でその溶液をn-BuLi (1.81 mL, 4.82ミリモル, 2.67 M/ヘキサン) で処理する。得られる溶液を約０℃で約15分間撹拌する。
セパレートフラスコにスルフィンイミン 22 (500 mg, 1.61 ミリモル) 、N-ホルミルモルホリン (0.50 mL, 4.98 ミリモル) 及びトルエン (5 mL) を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。先に調製されたLDA 溶液を-78 ℃でスルフィンイミン溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (15 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が92:8のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物23を白色の固体として得る。収量: 460 mg, 67.2%.
【００４５】
実施例 13: 化合物25の調製
【化２４】
0006288588.tif 000029
【００４６】
フラスコにスルフィンイミン 24 (500 mg, 1.73 ミリモル) 、N-ホルミルピロリジン (1.00 mL, 10.54 ミリモル) 及びトルエン (5 mL)を仕込み、その混合物をドライアイス／アセトン浴 (-78 ℃) 中で冷却する。商用のLDA 溶液 (5.18 mL, 10.37 ミリモル, 2.0 M/THF/ヘプタン/エチルベンゼン) を-78 ℃でスルフィンイミン溶液に滴下して添加する。その反応混合物を約-78 ℃で約30分間撹拌する。水 (15 mL)を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチル (30 mL)を添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が94:6のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物25を明褐色の油として得る。収量: 491 mg, 73.1%.
【００４７】
実施例 14: 化合物27の調製
【化２５】
0006288588.tif 000030
【００４８】
A.化合物26の調製:
工程 1: 中間体 29aの合成
【化２６】
0006288588.tif 000031
【００４９】
０℃の無水THF (1 L) 中の6-ブロモ-インダン-1-オン (100.00 g, 473.8 ミリモル) の混合物にt-BuOK (58.5 g, 521.2 ミリモル, 1.1当量) を添加し、２分後にその混合物を室温まで温め、更に10分間撹拌し、その後にメタクリル酸メチル (49.8 g, 53.2 mL, 497.5 ミリモル, 1.05 当量) を一度に添加した。２時間後、アクリル酸メチル (49.0 g, 51.2 mL, 568.6 ミリモル, 1.2当量) をその反応混合物に添加した。室温で３時間後に、MeI (101 g, 44.3 mL, 710.7 ミリモル, 1.5当量) をその反応混合物に添加し、それを16時間撹拌した。H2O (1 L) 、続いてLiOH・H2O (79.5 g, 1895.2 ミリモル, 4.0当量) を添加し、その混合物を室温で28時間撹拌した。THF を減圧で除去した。残渣をH2O (1 L) で希釈し、濾過し、濾液が中性になるまでH2O で洗浄した。生成物を洗浄して中間体 29a 50 g を得た。
【００５０】
工程 2: 中間体 29bの合成
【化２７】
0006288588.tif 000032
【００５１】
FeCl3 (6.0 g, 37.0 ミリモル) とトルエン (60 mL) の混合物を０℃に冷却した。次いでTHF (48 mL)中の化合物 29a (11.9 g, 37.0 ミリモル) の混合物をその混合物に添加した。その混合物を０℃で５分間撹拌し、次いで-10 ℃に冷却した。THF (12 mL) 中のt-BuNH2-BH3 (3.5 g, 40.7 ミリモル) の溶液を-10 ℃でその反応混合物に滴下して添加した。その反応混合物を約-10 ℃で30分間撹拌し、6N HCl 水溶液 (10 mL)で反応停止し、約０℃で30分間撹拌し、次いで室温に温めた。その混合物を濃縮してTHF を除去し、トルエン (60 mL)を添加した。水層を除去し、有機相を水 (3 x 60 mL)で洗浄した。有機相を1/2 の容積に濃縮し、50℃に加熱して溶液を得、次いで１時間にわたって０℃に冷却し、１時間にわたって０℃に保った。固体を濾過し、冷 (0 ℃) トルエン (12 mL)で洗浄し、真空で乾燥させて化合物 29b (9.93 g, 83%)を得た。LC-MS:  tR = 2.36 分, MS (ESI) m/z 323.0/325.0 [M+H]+.
【００５２】
工程 3. 中間体 29cの合成
【化２８】
0006288588.tif 000033
【００５３】
化合物 29b (20.0 g, 61.9 ミリモル) とDMF (200 mL) の混合物に０℃でNaH (5.0 g, 123.8 ミリモル, 2.0当量) を添加した。次いでそれを０℃で15分間撹拌し、MeI (17.6 g,123.8 ミリモル, 2.0当量) を０℃で添加した。次いでそれを室温に温め、室温で1.5 時間撹拌した。その混合物をH2O で反応停止し、EtOAc で抽出した。合わせた有機相をH2O 及び食塩水で洗浄し、乾燥させ、濃縮して粗生成物を得、これをシリカゲルでカラムにより精製して (溶離剤: 石油エーテル：酢酸エチル100/1 から5/1 まで)中間体 29c (20 g, 96.2%) を得た。
【００５４】
工程 4. 化合物26の合成
【化２９】
0006288588.tif 000034
【００５５】
乾燥THF (200 ml)中の化合物 34 (20.0 g, 59.3 ミリモル) 及びチタン(IV)エトキシド(108.2 g, 474.4 ミリモル) の混合物を室温で１時間撹拌した。N-tert- ブチルスルフィンアミド (29 g, 237.2 ミリモル) を添加した。得られる混合物を80℃でN2雰囲気下で一夜撹拌した。次いでその反応混合物を冷却し、水 (400 ml) を添加した。その混合物を濾過し、水層を酢酸エチル (3 × 400 mL)で抽出した。分離された有機相を乾燥させ、減圧で濃縮して粗生成物を得た。残渣をシリカゲルによるカラムクロマトグラフィー (石油エーテル：酢酸エチル= 20:1) により精製して中間体 35 (18.4 g, 70.5%) を得た。
【００５６】
B.化合物27の調製
トルエン (80 mL)中のスルフィンイミン 26 (10.0 g, 22.7 ミリモル) 及びN,N-ジエチルホルムアミド (7.0 mL, 62.8 ミリモル) の溶液を-10 ℃に冷却する。次いでLDA 溶液 (30.4 mL, 60.8 ミリモル, THF/ヘプタン/エチルベンゼン中2.0M)を-10 ℃でその反応混合物に滴下して添加する。その混合物を-10 ℃で30分間撹拌し、水 (40 mL) で反応停止し、次いで室温に温める。水層を除去し、有機相を水 (40 mL)で洗浄する。有機相を真空で50-60 ℃で最小容積に濃縮し、ヘプタン (80 mL)で処理する。その混合物を再度真空で50-60℃で最小容積に濃縮し、ヘプタン (60 mL)で処理する。その混合物を室温に冷却し、更に約０℃に冷却し、約１時間にわたって０℃に保つ。固体を濾過し、冷 (0 ℃) ヘプタン (10 mL)で洗浄し、真空で乾燥させて(1r,1'R,3R,4R,5S)-6'-ブロモ-1'-((S)-1,1-ジメチルエチルスルフィンアミド)-N,N-ジエチル-4-メトキシ -3,5-ジメチル-1',3'-ジヒドロスピロ[シクロヘキサン-1,2'-インデン]-1'-カルボキサミド化合物 27 (8.50 g, 76%, 純度98.2質量％, > 99.5% のジアステレオマー純度)を白色の固体として得る。
【００５７】
実施例 15: 化合物28の調製
【化３０】
0006288588.tif 000035
【００５８】
トルエン (12 mL)中のスルフィンイミン 26 (2.0 g, 4.54 ミリモル) 及びN,N-ジメチルチオホルムアミド (0.77 mL, 9.08 ミリモル) の溶液を-10 ℃に冷却する。次いでLDA 溶液 (4.54 mL, 9.08 ミリモル, THF/ヘプタン/エチルベンゼン中2.0M)を-10 ℃でその反応混合物に滴下して添加する。水を添加し、その反応混合物を約25℃に温める。酢酸エチルを添加し、層を分離する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、減圧で蒸留により濃縮して粗生成物を得る。粗生成物の1H NMR分析が96:4のジアステレオマーの比を示す。ヘキサン／酢酸エチルを溶離剤として使用して粗生成物をSiO2によるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製してジアステレオマー上純粋な生成物28を明褐色の油として得る。収量: 2.02 g, 84.0%.