(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転要素（２４）と、前記回転要素のピボット（２６）が内部に配置されるベアリング（２８）と、及び前記ベアリングに関連づけられた耐衝撃デバイス（３０、８６）とを有する計時器用ムーブメント（２２、８２）であって、
前記耐衝撃デバイスは、前記回転要素の回転軸（５０）の方向にて、前記ピボットに対する止めを形成する少なくとも１つの受け石（３６、３６Ａ）に圧力を与えることができるように構成している弾性メンバー（３２、８８）を有し、
この耐衝撃デバイスは、衝撃を受けたときにピボットが受け石を押すと、その受け石によって、復原力を前記ピボットに発生させることができるように構成しており、
前記耐衝撃デバイスは、さらに、２つの磁石（４２、４４）と、及びこれらの２つの磁石の間にこれらの磁石の一方と一体化されているように配置されている高透磁性要素（４６）とを有する磁性システム（４０、４０Ａ、４０Ｂ）を有し、
前記第１及び第２の磁石はそれぞれ、前記耐衝撃デバイスの支持体（４８）及び前記弾性メンバーに固定されており、
これによって、衝撃を受けたときに前記弾性メンバーが前記ピボットによって前記受け石に与えられる圧力の下で弾性変形を行うと、前記第１及び第２の磁石の間で、特定の相対距離にわたる相対的運動が行われ、
前記第１及び第２の磁石は、これらの間に、前記高透磁性要素と共同で、前記相対距離の第１の区画において全体的な磁気的引力と、及びこの相対距離の第２の区画において全体的な磁気的斥力とを発生させるように構成しており、
この第２の区画は、前記第１の区画に対応する離間距離よりも大きい前記第１及び第２の磁石の間の離間距離に対応しており、
前記磁性システム及び前記弾性メンバーは、衝撃を受けたときに前記耐衝撃デバイスによって前記ピボットに与えられる合計の力が、前記相対距離の全体において復原力を維持する
ことを特徴とする計時器用ムーブメント。
【請求項２】
前記第１及び第２の磁石及び前記高透磁性要素は、前記回転要素の回転軸（５０）と実質的に平行な方向にて整列しており、
前記第１及び第２の磁石は、この方向にて反対の極性を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の計時器用ムーブメント。
【請求項３】
前記高透磁性要素は、前記第１の磁石の磁化軸と実質的に一致している中心軸を有するプレートによって構成している
ことを特徴とする請求項２に記載の計時器用ムーブメント。
【請求項４】
前記高透磁性要素と、この要素と一体化されている磁石との間の距離は、この磁石の磁化軸に沿った長さの１０分の１よりも小さいか又はこれと実質的に等しい
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の計時器用ムーブメント。
【請求項５】
前記高透磁性要素は、前記第１の磁石に固定される
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
【請求項６】
前記磁性システム及び前記弾性メンバーは、前記耐衝撃デバイスの安定位置において、前記受け石に前記ピボットが与える力が、前記回転要素に作用する重力よりも大きい限界値よりも小さくありつつ、前記弾性メンバーが、受け石又は受け石が固定されるセッティングを保持し、この受け石又はセッティングが、前記支持体又は前記支持体と一体化されている基礎に対して安定的に配置されるように構成している
ことを特徴とする請求項５に記載の計時器用ムーブメント。
【請求項７】
前記弾性メンバー（３２）には、前記耐衝撃デバイスの前記安定位置において予応力を与えられる
ことを特徴とする請求項６に記載の計時器用ムーブメント。
【請求項８】
前記高透磁性要素は、鉄又はコバルトベースの金属性ガラスによって形成されている
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
【請求項９】
前記弾性メンバーは、第１の端及び第２の端を有する板ばね（３２）であり、
前記第１の端は、前記支持体に固定されており、前記第２の端（５８）は、前記第２の磁石を担持しており、
前記受け石は、前記板ばねの一般平面上への射影において、前記第１の端と第２の端の間に位置している
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
【請求項１０】
前記弾性メンバーは、前記受け石又は前記受け石に固定されているセッティングに圧力を与えるように構成している２つのブランチ（８９、９０）を有するリラばね（８８）であり、
前記磁性システムは、第１の磁性システムを定め、
前記耐衝撃デバイスは、さらに、前記磁性システムである第２の磁性システムを有し、
前記２つのブランチはそれぞれ、前記第１及び第２の磁性システムに関連づけられており、前記第１及び第２の磁性システムはそれぞれ、前記第２の磁石に対応する磁石又は前記耐衝撃入出力装置サポートに固定されている前記第１の磁石に対応する磁石を担持しており、これらの磁石どうしは互いに連係する
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
【請求項１１】
前記回転要素は、バランスである
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、計時器用の耐衝撃デバイスに関する。このような耐衝撃デバイスは、一般的に、計時器用ムーブメントの回転要素、特に、バランス、を回転可能にガイドするベアリングに関連づけられている。また、耐衝撃デバイスは、衝撃吸収デバイス、ショックダンパー又はショックアブソーバーとも呼ばれている。本発明は、特に、回転要素が受ける軸方向の衝撃の緩和、及びこのような軸方向の衝撃を受けたときにピボットに支えられるようにされている機械的な応力に関する。
【背景技術】
【０００２】
通常の計時器の耐衝撃デバイスは、耐衝撃デバイスを有するベアリングの少なくとも１つの受け石に支えられ又はこのような受け石に圧力を与えるような弾性メンバーを有する。この受け石は、ピボットのための止めを形成する。このピボットは、回転要素の回転軸の方向にベアリング内へと挿入されるこの耐衝撃デバイスは、衝撃を受けたときにピボットが受け石を押すと、そのピボットに対して復原力をその受け石を通して発生させることができるように構成している。なお、「受け石」とは、ピボットの軸方向の支持面を定める任意の適切な材料で作られた任意の構造を意味することを理解できるであろう。
【０００３】
このような耐衝撃デバイスは、一般的に、機械的なばねを有する。このようなばねの寸法構成は、動作時の機械的安定性と機械的変形に対する弾性的な抵抗との間で最も良好に折衷されるような実際的なルールにしたがって、経験的に定められる。実際に、回転要素に対してそのピボットを損傷させてしまうかもしれない大きな軸方向の（正又は負の）加速を発生させる急激な衝撃に対してショックアブソーバー機能を確保しつつ、小さな衝撃ごとに回転要素の軸方向の運動を発生させないような比較的堅いショックアブソーバーを有することが望ましい。
【０００４】
特に、ばね仕掛けバランスのための伝統的な耐衝撃デバイスである「パラシュート」やリラばね（lyre-spring）は、しきい値を定めるこれらの「パラシュート」やリラばねを形成するばねの予応力のおかげで、衝撃の加速度が比較的大きいときにのみ（ｇを地球の重力加速度として、２００ｇ〜５００ｇの範囲）アクチュエートされるような寸法構成を有する。このしきい値を超えると、ばねが変形して衝撃エネルギーの一部を吸収するようにされている。しかし、使用する金属性の細長材の機械的な衝撃吸収が小さいために、ほとんどのエネルギーがバランスに戻されてしまう。このように、衝撃が比較的小さくても、バランスピボットが局部変形してしまう可能性が高くなる。このような変形は、腕時計のクロノメーターの精度に相当な影響を与えるにもかかわらず、一般的には無視されている。なぜなら、１ｍの衝撃を受けたときの腕時計のクロノメーター的な安定性のための認証されたクロノメーター規格は厳格ではないからである（６０秒／日のずれ）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、衝撃を受けたとき、特に、強い衝撃を受けたときにも、ピボットが損傷してしまう問題に対して解決策を与えるような、少なくとも１つの有効な耐衝撃デバイスを備えた計時器用ムーブメントを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このために、本発明は、請求項１に記載の計時器用ムーブメントに関する。
【０００７】
以下において詳細に説明する本発明の特徴のおかげで、耐衝撃デバイスは、小さな衝撃に対して安定性が良好であることを確実にしつつ、比較的強い衝撃に対して小さな抵抗しか発生させない。実際に、このような本発明に係る耐衝撃デバイスのスチフネスは、受け石の軸方向の変位に実質的に比例する復原力を発生させる機械的なばねのようにふるまわないことを意味する。これとは対照的に、本発明に係る耐衝撃デバイスのスチフネスは、変位がゼロであるときには比較的大きな力を与える。この力は、受け石が運動することができる緩衝トラベルの少なくとも初期の部分にて減衰する。
【０００８】
主な実施形態において、前記第１及び第２の磁石及び前記高透磁性要素は、前記回転要素の回転軸と実質的に平行な方向に整列しており、前記第１及び第２の磁石は、この方向にて反対の極性を有する。
【０００９】
好ましい変種において、前記高透磁性要素は、第１の磁石に固定される。
【００１０】
以下、例として与える添付図面を参照しながら本発明について説明する。なお、これに限定されない。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る耐衝撃デバイスを下方から見た斜視図である。
【図２】図１の耐衝撃デバイスを組み入れている計時器用ムーブメントにおけるこの耐衝撃デバイスを通る部分的な断面図である。
【図３】本発明の耐衝撃デバイスに組み入れられる磁性システムと同様な磁性システムについての側方から見た部分的な断面図である。
【図４】図３の磁性システムにおける強磁性ディスクからの距離に応じて可動磁石に与えられる磁力の全体的なグラフを示している。
【図５】図１の耐衝撃デバイスの板ばねによって回転要素のピボットに与えられる弾性力のグラフと、受け石に対向するように支持されるこのピボットの回転軸方向の変位に応じて耐衝撃デバイスが与える合計の力のグラフを示している。
【図６】本発明の第２の実施形態に係る耐衝撃デバイスの平面図である。
【図７】図６の耐衝撃デバイスを組み入れている計時器用ムーブメントにおける耐衝撃デバイスを通る部分的な断面図である。
【図８】図６及び７の耐衝撃デバイスのリラばねが回転要素のピボットに与える弾性力のグラフと、受け石に対向するように支えられているこのピボットの回転軸方向の変位に応じて耐衝撃デバイスが与える合計の力のグラフを示している。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図１〜５を参照しながら、計時器用ムーブメント２２の第１の実施形態について説明する。この計時器用ムーブメント２２には、回転要素２４と、この回転要素２４のピボット２６が内部に配置されたベアリング２８と、及びこのベアリング２８に関連づけられた耐衝撃デバイス３０とが組み入れられている。
【００１３】
一般的には、耐衝撃デバイス３０は、受け石３６に力を与える弾性メンバー３２を有し、この受け石３６は、回転要素の回転軸の方向のピボット２６用の止めを形成している。この耐衝撃デバイスは、衝撃を受けたときにピボット２６が受け石を押すと、受け石を通してピボット２６に対する復原力を発生させることができるように構成している。本発明によると、耐衝撃デバイスは、さらに、２つの磁石４２、４４と、及びこれらの２つの磁石の間に配置されそれらの一方に固定された高透磁性要素４６とを有する磁性システム４０を有する。これらの２つの磁石４２、４４はそれぞれ、耐衝撃デバイスの支持体４８と、弾性メンバー３２に固定されている。これによって、特に、特定の衝撃を受けたときにピボットが受け石に与える特定の圧力の下で弾性メンバーが瞬間的に弾性変形すると、特定の相対距離Ｄにわたる前記磁石の間の相対的運動が導入される（図３参照）。特に、弾性メンバーと一体化されている磁石４４は、回転要素２４が比較的強い軸方向の衝撃を受けると、双方向の矢によって図２に示した往復運動を行うように構成している。衝撃がなければ、弾性メンバーは、それが担持される磁石と同様に、所定の安定位置にある。なお、この安定位置において、弾性メンバーは、初期に弾性変形されていることに留意すべきである。この場合には、弾性メンバーに予応力が与えられているという。
【００１４】
図３及び４を参照しながら下に示すように、注目すべき非常に有利な形態で、２つの磁石４２及び４４は、これらの間に、高透磁性要素４６と共同で、前記相対距離の第１の区画において全体的な磁気的引力を、そして、この相対距離の第２の区画において全体的な磁気的斥力を、発生させるように構成している。この第２の区画は、第１の区画に対応する離間距離よりも大きいような第１及び第２の磁石４２及び４４の間の離間距離（図３においてＥと記載）に対応している。また、磁性システム４０と弾性メンバー３２は、衝撃を受けたときに耐衝撃デバイスがピボット２６に与える合計の力が、相対距離の全体に対して復原力を維持するように構成している。
【００１５】
第１の実施形態のいくつかの特定の変種には、以下の特徴があり、これはすべて図２に示している。
−  高透磁性要素４６は、支持体４８と一体化されている磁石４２に固定されている。
−  高透磁性要素４６は、磁石４２の磁化軸と実質的に一致している中心軸を有するプレートによって構成している。
−  弾性メンバーが安定位置にあるときに、２つの磁石４２、４４及び高透磁性磁石４６は、回転要素２４の回転軸５０と実質的に平行な方向に整列している。
−  磁石４２及び４４は、整列の方向に沿った方向にて反対の極性を有する。
【００１６】
具体的には、図１及び２に示す変種によると、２つの磁石は円筒状であり、前記プレートは、例えば、強磁性体で作られたディスクの形態である。
【００１７】
以下、図３及び４を参照しながら、磁性システム４０及びその動作について説明する。このために、図３には、磁性システム４０と類似している磁性システム５２を示している。磁性システム５２は、第１の磁石４と、この第１の磁石と一体化されている高透磁性要素６と、及び第１の磁石４と要素６によって形成されるアセンブリーに対して変位の軸に沿って運動可能な第２の磁石８とを有する。上に示すように、要素６は、第１の磁石と第２の磁石の間に、第１の磁石と接するように又は第１の磁石の近くに、配置されている。具体的には、図３に示すように、要素６は、第１の磁石に接合されている。別の変種において、第１の磁石を高透磁性要素に押し込むことができ、この場合、この高透磁性要素は、例えば、第１の磁石を受けるように一端において開いている円筒状のケースの形態である。好ましい変種において、要素６と、この要素６と一体化された磁石４との間の距離は、磁化軸に沿った方向における磁石４の長さの１０分の１よりも小さいか又は実質的に等しい。第１の磁石４及び要素６は、磁性システムの第１の部分を形成しており、第２の磁石８は、このシステムの第２の部分を形成している。要素６は、例えば、カーボン鋼、炭化タングステン、ニッケル、ＦｅＳｉ又はＦｅＮｉ、又はＶａｃｏｚｅｔ（登録商標）（ＣｏＦｅＮｉ）やＶａｃｏｆｌｕｘ（登録商標）（ＣｏＦｅ）のようなコバルトを含有する他の合金によって構成している。好ましい変種において、この高透磁性要素は、鉄又はコバルトベースの金属性ガラスによって構成している。要素６は、飽和磁場ＢS及び透磁率μによって特徴づけられる。磁石４及び８は、例えば、フェライト、ＦｅＣｏ又はＰｔＣｏ、あるいはＮｄＦｅＢやＳｍＣｏのような希土類によって作られている。これらの磁石は、それらの残留磁場Ｂｒ１及びＢｒ２によって特徴づけられる。
【００１８】
高透磁性要素６には、中心軸１０がある。これは、第１の磁石４の磁化軸と、さらに、第２の磁石８の磁化軸と実質的に一致している。磁石４の磁化方向と磁石８の磁化方向は、反対方向である。このようにして、これらの第１及び第２の磁石は、反対の極性を有しており、これらの間に特定の相対距離Ｄにわたる相対運動を行うことができる。図３に示した例において、磁石４は固定されており、磁石８は運動可能であり、これによって、これらの間の相対運動の方向が実質的に中心軸１０に沿っており、この中心軸１０が変位の軸を定める。なお、軸１０は線形であるが、この変種には限定されない。本発明の第１の実施形態の範囲内において、変位の軸は、実質的に円弧状であり、要素４６の中心軸は、実質的にこの曲がった変位の軸の接線方向である。このような場合、第一次近似において、磁性システム４０のふるまいは、磁性システム５２のふるまいと同様である。このことは、本発明の第１の実施形態における場合のように曲率半径が要素４６と磁石４４の間の可能性のある最大距離と比べて大きい場合に一層いえる。図３に示す好ましい変種において、要素６は、中心軸１０に対する直交平面において、この直交平面への射影において、第１の磁石４の寸法よりも大きく、第２の磁石８の寸法よりも大きい寸法を有する。なお、第２の磁石が磁気的引力のトラベルの端において要素６と当接するように動く場合、この第２の磁石は、好ましくは、その表面において、硬化された表面又は硬質材の細かい層を有する。
【００１９】
２つの磁石４及び８は、磁気的反発するように構成しており、高透磁性要素６がない場合に、反発力がこれらの２つの磁石を互いに遠ざけるように動かす傾向がある。しかし、驚くべきことに、これらの２つの磁石の間に要素６がある構成によって、これらの磁石の間の距離が短い場合、全体的な磁気的引力の力がこれらの２つの部分の間で発生するように、磁性システムの第１及び第２の部分の間の磁力の方向が逆転する。図４のグラフにおいては、曲線５４が、２つの磁石の間の離間距離Ｅ、そして、可動磁石８と高透磁性要素６の間の相対距離Ｄに対する、磁性システム５２の第１及び第２の部分の間の磁気的相互作用の力を示している。この相対距離Ｄの第１の区画Ｄ１において、要素６と磁石８が離れるように動くときに要素６に対して磁石８を保持したり要素６の方に磁石８を戻したりする傾向がある磁気的引力が磁石８の全体に与えられる。次に、要素６及び２つの磁石は、第２の磁石８の全体が前記相対距離の第２の区画Ｄ２上において磁気的反発力を受けるように構成している。この第２の区画は、第１及び第２の部分の間の離間距離に、そして、したがって、要素６と磁石８の間の距離Ｄに対応しており、この距離Ｄは相対距離の第１の区画に対応する離間距離よりも大きい。第２の区画は、最大距離Ｄmaxによって制限されている。これは、一般的には、可動磁石の離間距離を制限する止めによって定められる。
【００２０】
全体的な磁力は、これらの部分どうしの間の距離の連続関数であり、これは、距離Ｄinvにおいてゼロ値を有する。したがって、磁石８と要素６の間の距離が距離Ｄinvよりも大きい場合、この磁石は、要素６を離す傾向がある全体的な磁気的斥力を受ける。しかし、要素６と可動磁石８の間の距離が距離Ｄinv未満である場合、磁石８は、全体的な磁気的引力を受ける。これは、磁石８を要素６の近くに動かす傾向があり、抵抗がない場合、磁石８が要素６に接するようにし、そして、磁石８をこの位置に保持する。これは、磁性システム５２の特徴的な機能である。これは、本発明に係る耐衝撃デバイスにおいて良好に用いることができる。反転距離Ｄinvは、磁性システムを形成する３つの磁性部分の幾何学的構成及びそれらの磁気特性によって決まる。
【００２１】
以下、本発明の第１の実施形態に係る耐衝撃デバイス３０及び磁性システム４０の組み入れによって発生するふるまいを詳細に説明する。弾性メンバー３２は、第１の端５６と第２の端５８を有する板ばねによって形成され、この第１の端は、ねじ６０によって支持体４８に固定されており、第２の端は、第２の磁石４４を担持する。好ましい変種によれば、受け石３６は、板ばねの一般平面への射影において、前記第１及び第２の端の間に位置する。ベアリング２８は、支持体４８に形成された開口内にて固定配置された基礎６２を有する。伝統的な形態で、この基礎の中心に穴があり、この穴の中をピボット２６が通る。ここではバランススタッフ（図示せず）である回転要素２４には、支持面７０がある。これは、伝統的な形態で、軸５０に沿った要素の変位を制限する。この支持面は、穴の周部において基礎によって定められる表面に当接して動く。ベアリング２８は、さらに、セッティング６４を有し、このセッティング６４の中に受け石３６が挿入される。図示した変種において、これは磁気ベアリングである。したがって、セッティングは、さらに、磁石６６及び閉じジュエル６８を担持する。また、このセッティングは、耐衝撃デバイスの一部である。このセッティングは、基礎６２と、及び支持体４８に固定された閉じプレート７２とによって形成されているハウジング内に配置されている。これによって、支持面７０が基礎に当接するように動くときに、少なくとも衝撃を受けたときにピボット２６が動く最大の変位に対応する距離の軸方向の運動を行う。短管７４は、セット又は閉じジュエルに対して安定的に配置されるように、板ばね３２に、その端５８の側で固定される。耐衝撃デバイスは、このパイプを介して、受け石と一体化されているアセンブリーに作用する。なお、本発明は、磁気ベアリングに限定されない。したがって、別の変種において、ジュエル穴及び受け石が組み入れられているセッティングを備えた伝統的なベアリングであって、セッティングがピボットに対向している平坦な面を有することができるものがある。
【００２２】
磁性システム及び弾性要素は、耐衝撃デバイスの安定位置において、受け石、又は受け石が固定されるセッティングが、ベアリング支持体又はベアリングの基礎に対向するように安定的に保持されており、受け石に対して当該ピボットが与える力が限界値よりも小さいように構成しており、この力は、好ましくは、回転要素、特に、ばね仕掛けバランス、に作用する重力よりも大きい。特定の変種において、弾性要素は、受け石が、衝撃を受けたときに軸方向に加速する可動要素が与える力の値よりも大きな範囲にわたって不動のままであるように、耐衝撃デバイスの安定位置において予応力を与えられる。
【００２３】
したがって、図５は、受け石、したがって、この受け石に対向するように安定的に配置されるピボット２６、の回転軸５０に沿った変位ＤＰに応じて、板ばね３２が与える弾性力のグラフ７６、及び耐衝撃デバイス３０が与える合計の力のグラフ７８を示している。なお、上記の磁性システム４０の変位ＤＰと距離Ｄの間には、線形的な関係（第一次近似において）がある。既知の手法で、弾性力は、変位ＤＰに比例して変化する。そのグラフは、点線で示したアフィン線７６である。曲線７８に、変位ＤＰに応じて、耐衝撃デバイスによって、受け石を担持するアセンブリーに、したがって、この受け石に対して安定的に配置されるピボット２６に、与えられる合計の力のグラフを示した。この曲線７８は、磁性システム４０が発生させる弾性力と全体的な磁力との和に対応する。耐衝撃デバイスの安定位置に対応する距離ＤＰRと、磁石４４に与えられる全体的な磁力がゼロであるような受け石の位置に対応する距離ＤＰinvとの間の第１の区画ＤＰ１においては、前記合計の力（復原力）が弾性力よりも大きい。次に、距離ＤＰinvと、ベアリングの基礎に形成された穴の周部表面に対してバランススタッフ２４が止められる距離ＤＰmax、の間においては、前記合計の力が弾性力よりも小さい。なぜなら、このとき全体的な磁力が弾性力に抵抗するからである。この弾性力は、回転要素のピボットに与えられる合計の力を減少させる。
【００２４】
曲線７８に示すように、本発明に係る耐衝撃デバイスは、注目すべきようにふるまう。受け石に対向するように安定的に配置されるピボットに与えられる力は、少なくとも、ＤＰinvよりも小さい受け石の変位距離の範囲内において、耐衝撃デバイスの安定状態における距離ＤＰRにおいて最大である。ピボットによって受け石に与えられる力が耐衝撃デバイスの安定位置に対応する最大値を超えて上昇するとすぐに、受け石は、その安定位置から離れ、そして、ピボット２６に与えられる合計の力が比較的急速に減少する。このことによって、受け石の比較的大きな運動と、止め位置への良好な緩衝とが確実になる。図５に示す例において、板ばねは、標準スチフネスに近いスチフネスを有するが、その予応力は、約３０％から４０％の率で標準予応力と比較して減少し、かつ、その安定位置にある耐衝撃デバイスに対して標準的な安定性を与える。
【００２５】
バランスの軸方向の変位及び耐衝撃デバイスの対応する変位に応じた、ピボットに対する合計の力の従属性によって、以下の動作が可能になる（約４０ｍｇの重量を有するバランスと、及び磁性システムの２つの磁石の間の強磁性体によって作られた要素とを備えた変種に対して）。
【００２６】
（１）４００ｇよりも小さい加速衝撃では、耐衝撃デバイスは、合計される磁気的引力及びばねの予応力のおかげで不動のままである。
【００２７】
（２）４００ｇを超える衝撃、具体的には、１０００ｇの衝撃では、ばねによって担持される可動磁石は、強磁性要素から分離し、磁力が急速に減少し、そして、逆となる。この場合、前記ばねが与える弾性力が抵抗するようになる。耐衝撃デバイスの軸方向の運動活性化しきい値の力を超過すると、発生する合計の力は、少なくともピボットのためのほとんどの可能性のある変位にわたって、減少する。なぜなら、耐衝撃デバイスの変形がすぐに非常に大きくなり、バランスが非常に迅速に機械的な止めに達することが可能になるからである。このことによって、バランスの運動エネルギーを吸収し、かつ、緩衝トラベル全体にわたってピボットに与えられる力を制限することが可能になる。
【００２８】
衝撃が終わると、耐衝撃デバイスはその初期位置に戻ることができる。なぜなら、合計の力が、正（復原力）のまま維持され、摩擦力を超えるからである。磁力反転は、可動磁石が強磁性要素の十分に近くに動くと発生し、この磁力反転によって、衝撃を受けた後に機械的ヒステリシス及びベアリングの再度のセンタリングが完全にないことが確実になる。
【００２９】
本発明に係る耐衝撃デバイスの特徴には、以下の利点がある。
【００３０】
−  耐衝撃デバイスは、（伝統的な耐衝撃デバイスと異なり）真のショックアブソーバーのように動作する。
−  予応力を最適化することによって耐衝撃デバイス（これによって、ベアリング安定性が望まれる場合に小さな衝撃に対する動作も）、そして、大きな衝撃を受けたときの減衰応答の大きさを定めることができる。
−  大きな衝撃を受けた後に、耐衝撃デバイスのその所与の安定位置への再度の位置合わせと、セッティングの再度のセンタリング（バランスの回転軸を定める）が、磁気的引力によって確実になる。
−  大きな衝撃を受けたときにバランスピボットに与えられる力が減少する。なぜなら、最大の力が、好ましくは、安定位置にて発生する耐衝撃デバイスの合計の力であるからである。
【００３１】
以下、図６〜８を参照しながら、本発明に係る耐衝撃デバイスの第２の実施形態が組み入れられている計時器用ムーブメント８２について説明する。ベアリングと、及びこれに関連づけられた耐衝撃デバイス８６とは、プレート８４に形成された開口内に配置されている。弾性メンバー８８は、受け石３６Ａに圧力を与えるように構成している２つのブランチ８９及び９０を有するリラばねである。変種の１つ（図示せず）において、２つのブランチは、前記受け石が固定されているセッティングを押す。耐衝撃デバイスは、第１の磁性システム４０Ａ及び第２の磁性システム４０Ｂを有し、これらはそれぞれ、第１の実施形態に関連して説明した磁性システム４０と同様である。したがって、これらの２つの磁性システムの注目すべき動作をここで再び説明しない。
【００３２】
２つの磁性システムはそれぞれ、２つの構造９２及び９４に関連づけられている。これらの構造９２及び９４はそれぞれ、実質的にそれらの正中領域において２つのブランチ８９及び９０に固定されている。これらの２つの構造はそれぞれ、２つの磁石４４Ａ及び４４Ｂを担持しており、これらの磁石４４Ａ及び４４Ｂはそれぞれ、対応する磁性システムの可動磁石を形成している。したがって、２つのブランチ８９及び９０はそれぞれ、第１及び第２の磁性システムと関連づけられており、それぞれが、構造９２及び９４を介して、固定磁石４２Ａ又は４２Ｂと連係している可動磁石４４Ａ又は４４Ｂを担持している。磁性システムはそれぞれ、さらに、高透磁性要素４６Ａ又は４６Ｂを有する。これは、対応する磁性システムの固定磁石と一体化されている。
【００３３】
なお、リラばねの各ブランチ８９及び９０は、その２つの端において、伝統的な手法で、ベアリングの基礎６２Ａの上側リングの角度的に突出している部分によって、軸方向に保持されている。したがって、応力が与えられたときにリラばねが最大の弾性変形を行うのは、前記ブランチの正中領域である。また、各ブランチが、実質的にその中央部にて受け石を押すことには注目すべきである。好ましくは、２つの構造９２及び９４は、リラばねと一体化されており、特に、図に示すように、厚みが大きいことによって、対応するブランチのスチフネスよりも大きなスチフネスを有する。しかし、これに限定されない。しかし、別の変種において、前記構造は、製造を促進するためにリラばねブランチと同じ厚みを有するが、より大きな断面を有する。しかし、別の変種において、可動磁石の担持構造のスチフネスは、ブランチのスチフネスよりも大きくない。なぜなら、大きな衝撃を受けたときに、可動磁石が受け石よりも長いトラベルの運動を行うからである。
【００３４】
このような２つの弾性リラばねブランチによって対称的な形態で関連づけられた２つの磁性システムの構成は、有利である。なぜなら、この構成によって、２つのブランチの同じ弾性変形に対して、各ブランチからの、受け石に対する圧力、又はより一般的には、可動ベアリングアセンブリー９６に対する圧力、が同じになるからである。このようにして、耐衝撃デバイス、特に、受け石３６Ａの均質なふるまいが、軸方向の衝撃を受けたときに、バランスの回転軸に垂直な一般平面内に維持される。
【００３５】
図８は、受け石の軸方向の変位の関数として、リラばねによって受け石に、したがって、受け石に対向するように安定的に配置されるピボット２６に、与えられる弾性力の曲線７６Ａと、及び前記軸方向の変位の関数として、耐衝撃デバイス８６によってピボットに与えられる合計の力の曲線１００とを示している。なお、図示した変種においては、特に、安定位置において耐衝撃デバイスの機械的な予応力がないようにされている。静的な動作範囲（ここで、ゼロである変位ＤＰに対応する安定位置）における耐衝撃デバイスの不動を、この耐衝撃デバイスの特定の最大の静的な力に対して確実にするのは、磁気的引力のみである。したがって、安定位置における磁力の大半によって、耐衝撃デバイスがその動的な動作範囲に入るとすぐに、そして、耐衝撃デバイスがコックされるとすぐに、合計の力を静的な状況の最大の力よりも下に落とすことが可能になる。このことによって、受け石に対して安定的に配置されるピボットに与えられる最大の力が、コックされていない状態の耐衝撃デバイスの最大の力であることを確実にすることが可能になる。したがって、大きな軸方向の衝撃に起因してピボットが急な運動をすると、受ける抵抗がより小さくなって、バランスは、ベアリングの基礎によって形成された止めに遭遇するまで、シフトする。なお、この止めは、バランススタッフ２４の環状の支持面に作用することによって、急激な衝撃を受けたときにバランスピボットを保護することができる。
【００３６】
最後に、リラばねのスチフネス及び２つの磁性システムの寸法構成は、結果として耐衝撃デバイスが与える合計の力が、摩擦力よりも大きい復原力であるように維持され、これによって、可動ベアリングアセンブリー９６に対する静的な状況において発生する最大の力よりも大きな力を発生させる衝撃を受けた後に、耐衝撃デバイスがその初期位置に戻ること及びこの可動組立体の適切な再センタリングが確実になる（計時器用ムーブメントの良好なクロノメトリーを確実にするためには重要な性質である）。
【００３７】
なお、第２の実施形態において、好ましいことに、ばね仕掛けバランスの２つのベアリングは、上記のタイプのショックアブソーバーデバイスを装備している。
【符号の説明】
【００３８】
２２、８２  計時器用ムーブメント
２４  回転要素
２６  ピボット
２８  ベアリング
３０、８６  耐衝撃デバイス
３２、８８  弾性メンバー
３６、３６Ａ  受け石
４０、４０Ａ、４０Ｂ  磁性システム
４２、４４  磁石
４６  高透磁性要素
４８  支持体
５０  回転軸
８８  リラばね
８９、９０  ブランチ
【図１】
0006340114.tif 000002
【図２】
0006340114.tif 000003
【図３】
0006340114.tif 000004
【図４】
0006340114.tif 000005
【図５】
0006340114.tif 000006
【図６】
0006340114.tif 000007
【図７】
0006340114.tif 000008
【図８】
0006340114.tif 000009