(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線周波数皮膚処置のための装置であって、
前記装置の動作側に配置され、ユーザの皮膚に接触するための第１の皮膚接触面を持つ、活性電極であって、前記第１の皮膚接触面は、２ｍｍ以下の最大断面寸法を持つ、活性電極と、
前記装置の前記動作側に配置され、ユーザの皮膚に接触するための第２の皮膚接触面を持つ、リターン電極であって、前記第２の皮膚接触面の面積は、前記第１の皮膚接触面の面積よりも少なくとも５倍大きい、リターン電極と、
前記活性電極と前記リターン電極との間に無線周波数処置電圧を供給し、それにより前記活性電極の下の皮膚領域を加熱するよう構成された無線周波数生成器と、
を有し、前記無線周波数処置電圧は、１００ＭＨｚ乃至３ＧＨｚの範囲内の周波数を持つことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記無線周波数処置電圧の周波数は、５００ＭＨｚ乃至１．５ＧＨｚの範囲内である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第２の皮膚接触面の面積と前記第１の皮膚接触面の面積との比は、１０よりも大きい、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記リターン電極は、前記動作側において前記活性電極を完全に囲む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記第２の皮膚接触面は、環状又は多角形の形状を持つ、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記無線周波数処置電圧は、５０Ｖよりも小さい二乗平均平方根値を持つ、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記装置は、望ましい損傷深さ又は望ましい損傷の深さ対幅比に関連する入力信号を受信し、前記望ましい損傷深さ又は望ましい損傷の深さ対幅比に依存して、前記無線周波数処置電圧の周波数を制御するよう構成された、電子コントローラを有する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記装置は、複数の活性電極及び１つ以上のリターン電極を有する、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記複数の活性電極のそれぞれが、前記リターン電極の１つにより囲まれた、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、皮膚処置のための装置に関し、特に人間の皮膚の無線周波数（ＲＦ）処置に関する。該装置は、特に皮膚の活性化のための、断片的ＲＦ皮膚処置に主に適している。
【背景技術】
【０００２】
無線周波数（ＲＦ）は、皮膚の引き締めのためのプロフェッショナル向け及び家庭用の両方の美容市場において従来用いられている。真皮の皮膚レベルにおける大体積の加熱の能力は、無線周波数技術を、皮膚引き締め及び皮膚の緩みの処置のための標準としている。レーザベースの皮膚処理装置に比べて、ＲＦ皮膚処置装置は、比較的低いコスト価格を持ち、より大きな体積の皮膚の処置、及びより深い皮膚組織の処置を提供することができる。更に、皮膚組織によりＲＦエネルギー散逸は、発色団による光の吸収に依存せず、従って組織の色素沈着がエネルギーの伝達に干渉しない。
【０００３】
皮膚表面における組織へのＲＦエネルギー伝達の基本原理は、交番するＲＦ電流が、皮膚との閉じた回路に供給されることである。皮膚組織のインピーダンスが、加熱の程度に直接に影響を与える。ＲＦ電流は、高い電気伝導率（即ち低い電気抵抗）を持つ皮膚組織を通ってより容易に伝播し、高い電気抵抗（即ち高いインピーダンス及び低い電気伝導率）を持つ皮膚組織は、ＲＦエネルギーをあまり伝導しない。ＲＦエネルギーは、皮膚組織を通る最も電気抵抗が小さい経路をとり、主に分子振動により熱エネルギーとして散逸する。
【０００４】
皮膚の引き締めを超えたＲＦ皮膚処置のための増大する用途は皮膚活性化（rejuvenation）であり、ここでは１つ以上のコンピュータ型の活性電極を用いて皮膚において断片的な熱的損傷が同時に生成される。近年、無線周波数装置を用いて皮膚活性化に対応する種々のプロフェッショナル向け装置が、美容市場において発売されている。皮膚活性化は、均一な皮膚の色調、色素沈着の点の低減、改善された光沢及びきめ、並びに小じわの低減のような、種々の消費者の利点の組み合わせである。当該処置においては、真皮−表皮の接合部、及びことによると真皮の最上部を含む角質層及び表皮を損傷させるために、エネルギーが主に用いられる。従来、皮膚活性化は、水により大きく吸収されるレーザ波長のアブレーション型（ablative）又は非アブレーション型の設定により実行され、ここでアブレーション型処置は、皮膚を気化させて皮膚に中空の柱状部を形成し、非アブレーション型の処置は、皮膚を６５乃至１００℃にまで加熱して細胞の壊死、コラーゲンの変性及び収縮、並びに最終的にコラーゲンの再形成を引き起こす。
【０００５】
断片的な処置の利点は主に、組織の瘢痕化を引き起こさず、比較的早く治癒するのに十分に小さい、微視的な熱的損傷を生成する能力による。文献によれば、断片的な熱的損傷のサイズは、瘢痕化及びその他の副作用（例えば感染症）を防ぐため、０．５ｍｍより小さいべきである。他方、処置は真皮におけるコラーゲンの熱的な変性にも帰着し、真皮の再生及び活性化を引き起こすため、断片的な処置の効率は、微視的な熱的損傷の深さにも依存する。従って、理想的な場合は、断片的な処置が、小さな断面積及び大きな浸透深さを持つ単一の熱的損傷、即ち大きな深さ対幅比を持つ熱的損傷を生成する場合である。
【０００６】
ＲＦ皮膚処置装置の安全性を向上させるため、ごく最近、双極電極構成を有する装置が、家庭用に提案されている。当該装置によれば、非常に小さい活性内側電極と、該内側電極を囲む大きな外側リターン電極との両方が、皮膚と接触し、５０Ｖよりも小さなＲＦ処置電圧が、１ＭＨｚと４０ＭＨｚとの間の周波数で皮膚に印加される。当該ＲＦ処置装置によれば、ＲＦエネルギーの熱的浸透深さは、活性内側電極の直径の約０．５倍であり、実際に、約４００ミクロンの直径を持つ活性内側電極によって、約２００ミクロンの浸透深さを持つ熱的損傷が実現される。
【０００７】
国際特許出願公開WO2012/023129A1は、かなり大きなリターン電極により囲まれた１００乃至２０００ミクロンの範囲の直径を持つ活性電極を持つ、断片的ＲＦ皮膚処置装置を開示している。該装置は、３５０ｋＨｚ乃至１０ＭＨｚの範囲内の周波数で、５０乃至４００ボルトの範囲内のＲＦ処置電圧を印加する。
【０００８】
米国特許出願公開US2014/0249609A1は、表皮皮膚層を通して、下にある真皮及び／又は皮下組織及び下にあるコラーゲン組織に電磁エネルギーを印加し、脂肪分解及びコラーゲンの再形成を引き起こすためのシステムを開示している。該システムは、皮膚と接触することなく、皮膚を通る電磁場を生成する、１つ以上の容量性印加装置を含む。該印加装置は、該印加装置と皮膚との間に離隔距離を設定するための、誘電性又は非導電性の材料からつくられた、スペーサの上に配置される。該印加装置は、双極電極であっても良く、該電極は、二者択一的に、活性及びリターン機能を持つ。該システムは、無線干渉を引き起こすことを回避するため、好適には１３．５６ＭＨｚ、２７．１２ＭＨｚ、４０．６８ＭＨｚ又は２．４５ＧＨｚで電磁場を生成することができる、高周波生成器を有する。
【０００９】
米国特許出願公開US2009/0018628A1は、大きな組織領域に亘って高周波エネルギーを伝達することにより皮膚条件を処置するための装置を開示している。該装置は、ハンドピース、該ハンドピースに着脱可能に結合された処置端、及び該処置端により担持されたエネルギー供給部材を含む。該エネルギー供給部材は、患者の皮膚表面の下の目標組織を処置するための治療効果を与えるため、特に数百ｋＨｚ乃至約６０ＭＨｚの範囲内の、電磁スペクトルの無線周波範囲において動作周波数を持つ高周波電源に電気的に結合される。該装置は更に、該処置端から離れた患者の身体表面に物理的に装着される、該高周波電源の負の電圧極性端子に電気的に結合された、受動リターン電極を有する。
【００１０】
米国特許US6,228,078B1は、患者の外側身体表面の処置のための方法であって、電極端子が該外側身体表面における目標部位に近接して配置され、該外側身体表面の層を除去し、該層の下にある組織内のコラーゲン繊維の収縮を引き起こすのに十分な高周波電気エネルギーが該電極端子に供給される方法を開示している。該電極端子は、該端子及びリターン電極の接触表面に亘って分布させられた電極アレイを有する。該リターン電極と該電極アレイとの間に供給される電圧は、無線周波数レベルであり、典型的には約５ｋＨｚと２０ＭＨｚとの間、より好適には３５０ｋＨｚ以下、最も好適には約１００ｋＨｚと２００ｋＨｚとの間である。
【００１１】
国際特許出願公開WO2012/029065A2は、第１の側面及び第２の側面を持つ基板と、前記基板に配置された複数のＲＦ電極と、を有する、患者の皮膚を処置するための自動装置であって、前記ＲＦ電極は、前記第１の側面から前記皮膚の表面にＲＦ放射を発するよう構成された、前記装置は更に、前記ＲＦ電極に対する電極のパルスを生成するよう構成された少なくとも１つのＲＦ生成器と、前記少なくとも１つのＲＦ生成器に接続された制御ユニットと、を有し、前記制御ユニットは、前記ＲＦ電極の動作を制御するよう構成され、前記制御ユニットは、所定の処置プロトコルに従って前記ＲＦ電極の動作を制御するよう構成され、それにより、所定のパターンに従って所定の時間間隔で前記ＲＦ電極の少なくとも１つを作動又は停止させて、特定の治療効果を得るようにした装置を開示している。該装置は、約１Ｈｚと約１００Ｈｚとの間の所定の周波数で動作する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、比較的低いＲＦ処置電圧を用いて、既知のＲＦ皮膚処置装置に比べて増大した浸透深さを持ち、増大した深さ対幅比を持つ、皮膚組織において非アブレーション型の断片的な熱的損傷を生成する、ＲＦ皮膚処置のための改善された装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
第１の態様によれば、本発明は、ＲＦ皮膚処置のための装置であって、前記装置の動作側に配置され、ユーザの皮膚に接触するための第１の皮膚接触面を持つ、活性電極を有し、前記第１の皮膚接触面は、２ｍｍ以下の最大断面寸法（largest cross-sectional dimension）を持つ装置を提供する。前記装置は更に、前記装置の前記動作側に配置され、ユーザの皮膚に接触するための第２の皮膚接触面を持つ、リターン電極を有し、前記第２の皮膚接触面の面積は、前記第１の皮膚接触面の面積よりも少なくとも５倍大きい。前記装置は更に、前記活性電極と前記リターン電極との間にＲＦ処置電圧を供給し、それにより前記活性電極の下の皮膚領域を加熱するよう構成されたＲＦ生成器を有し、前記ＲＦ処置電圧は、１００ＭＨｚ乃至３ＧＨｚの範囲内の周波数を持つ。
【００１４】
本発明によれば、従来のＲＦ皮膚処置装置に比べて、かなり高い周波数のＲＦ処置電圧が用いられる。当該比較的高い周波数の結果は、双極電極構成の活性小型電極の下の、より深いＲＦエネルギーの熱的浸透深さであり、活性電極の下のより深い熱的損傷に帰着し、改善された、即ちより大きな深さ対幅比に帰着する。
【００１５】
本発明による装置の好適な実施例においては、前記ＲＦ処置電圧の周波数は、５００ＭＨｚ乃至１．５ＧＨｚの範囲内である。シミュレーションは、活性電極の下の断片的な熱的損傷の最適な浸透深さ及び最適な深さ対幅比が、５００ＭＨｚ乃至１．５ＧＨｚの範囲内の周波数を用いることにより達成されることを示している。１ＧＨｚの周波数及び５０ｍｓのパルス継続時間を持つＲＦエネルギーパルスを印加する２００ミクロンの直径を持つ活性電極については、熱的損傷の深さは、１ＭＨｚの周波数を持つ同等のＲＦエネルギーパルスにより実現される熱的損傷の約１．５倍である。
【００１６】
高い周波数のＲＦ処置電圧の利用の更なる利点は、ＲＦエネルギーの皮膚組織における熱への変換の改善された効率であり、皮膚組織における特定の温度を実現するために必要とされるＲＦ処置電圧の減少に帰着する。
【００１７】
本発明による一実施例においては、前記ＲＦ処置電圧は、５０Ｖよりも小さい二乗平均平方根（ＲＭＳ）を持つ。好適な実施例においては、前記ＲＦ処置電圧は、２０Ｖよりも小さい。
【００１８】
本発明による装置の実施例においては、前記活性電極は、前記装置の動作側において前記リターン電極により完全に囲まれる。当該実施例においては、前記活性電極は内側電極と呼ばれ、前記リターン電極は外側電極と呼ばれる。前記内側電極は、環状（即ちリング状）であっても良いし、又はディスク型（即ち満たされた円）であっても良い。前記内側電極は、例えば長方形のような非円形であっても良く、上述したように、２ｍｍ以下の最大断面寸法を持っても良い。以下、「最大断面寸法」なる表現の代わりに、「サイズ」なる語も用いられる。
【００１９】
小さな内側電極と比較的高周波のＲＦ処置電圧との提案される組み合わせは、効果的な皮膚活性化のために十分に深く、皮膚の迅速な回復を可能とするために十分に狭い、内側電極の下における熱的損傷の形成に帰着する。
【００２０】
前記内側電極及び前記外側電極は、処置の間に同時に皮膚に接触するよう構成される。前記内側電極の前記第１の皮膚接触面は、平坦である必要はない。このことは、前記外側電極の前記第２の皮膚接触面にも成り立つ。
【００２１】
本発明による装置の実施例においては、前記リターン電極の前記第２の皮膚接触面の面積と前記活性電極の前記第１の皮膚接触面の面積との比は、１０よりも大きい。本実施例においては、前記リターン電極の下における皮膚領域の望ましくない加熱が更に低減され、又は防止さえされる。
【００２２】
本発明による装置の実施例においては、前記装置は、望ましい損傷深さ又は望ましい損傷の深さ対幅比に関連する入力信号を受信し、前記望ましい損傷深さ又は望ましい損傷の深さ対幅比に依存して、前記ＲＦ処置電圧の周波数を制御するよう構成された、電子コントローラを有する。このようにして、ユーザは、望ましい損傷深さ及び／又は望ましい損傷の深さ対幅比を設定又は制御することが可能となる。
【００２３】
以上に説明された本発明による装置は、皮膚活性化のような、皮膚の処置において用いられることができる。
【００２４】
本発明による装置の更なる好適な実施例、及びその使用は、添付される請求項において与えられる。
【００２５】
本発明のこれらの及び他の態様は、以下の説明において例として記載される実施例及び添付図面を参照しながら説明され明らかとなるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】活性電極及びリターン電極を有する、本発明によるＲＦ皮膚処置のための装置の実施例を模式的に示す。
【図２】本発明によるＲＦ皮膚処置のための装置の他の実施例の模式的な断面図である。
【図３】内側電極が環状の外側電極により完全に囲まれた、図２の装置の電極構成の上面図を示す。
【図４】ＲＦ処置電圧の周波数の関数としての熱的損傷の深さのシミュレーション結果のグラフを示す。
【図５】ＲＦ処置電圧の周波数の関数としての熱的損傷の深さ対幅比のグラフを示す。
【図６】ＲＦ処置電圧の周波数の関数としての電極間に印加されるＲＦ処置電圧のＲＭＳ値のグラフを示す。
【図７】本発明によるＲＦ皮膚処置のための装置の更なる実施例を模式的に示す。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
図面は単に図式的なものであり、定縮尺で描かれていない。図面において、既に説明された要素に対応する要素は、同じ参照番号を持ち得る。
【００２８】
図１は、活性電極１及びリターン電極２を有する、ＲＦ皮膚処置のための装置１００を模式的に示す。装置１００はまた、電子コントローラ２０と、活性電極１及びリターン電極２に電気ケーブル２２によって接続された無線周波数（ＲＦ）生成器２１と、を有する。ＲＦ生成器２１は、ＲＦ信号を生成するための生成モジュールと、ＲＦ信号を増幅するための増幅器と、を有しても良い。電子コントローラ２０は、活性電極１とリターン電極２との間の皮膚インピーダンスを測定するためのインピーダンス検出システムと、該測定されたインピーダンスに基づくフィードバックコントローラと、を有しても良い。電子コントローラ２０は更に、印加されたＲＦ処置電圧、又はＲＦ処置電圧のパルスの印加されるパルス継続時間についてのフィードバック調節器を有しても良い。
【００２９】
図１において、活性電極１及びリターン電極２は、皮膚３０の一部に配置されている。活性電極１の第１の皮膚接触面は比較的小さい。活性電極１の第１の皮膚接触面の最大断面寸法は、２ｍｍ以下である。
【００３０】
活性電極１及びリターン電極２が皮膚３０の一部に配置され、装置１００が起動されると、ＲＦ電流が皮膚３０を通って流れる。ＲＦ電流により、小さな面積の活性電極１の下に皮膚領域における熱的領域１６が生成される。熱的領域１６が十分に長く加熱されると、皮膚組織に小さな熱的損傷が形成される。
【００３１】
本発明によれば、印加されるＲＦ処置電圧の周波数は、１００ＭＨｚ乃至３ＧＨｚの範囲内である。ＲＦ処置電圧の周波数の好適な範囲は、５００ＭＨｚ乃至１．５ＧＨｚである。電極構成及び使用されるＲＦ処置電圧の周波数により、活性電極１のすぐ下に生成される熱的損傷は比較的深く、最適な深さ対幅比を持つ。
【００３２】
本発明は、断片的なＲＦ皮膚処置においては、熱的損傷の熱的浸透深さ及び深さ対幅比が最適となる、ＲＦ処置電圧の周波数の範囲があるという、新たな洞察に基づく。角質層、生表皮及び真皮を含む、皮膚の種々の層のあらゆる熱的及び電気的特性を含む、複雑な皮膚構造について、シミュレーションが実行された。５０ｍｓのパルス継続時間で印加された１ＧＨｚのＲＦ処置電圧の周波数を用いたシミュレーションは、１ＭＨｚの周波数に比べて１．５のファクタだけ熱的損傷の浸透深さの改善を示した。深さ対幅比もまた、先行技術の装置に比べてかなり改善された。
【００３３】
図２は、本発明によるＲＦ皮膚処置のための装置１００の他の実施例の模式的な断面図である。本実施例においては、装置１００は、いずれも装置１００の動作側１５に配置された、活性内側電極１及び環状外側リターン電極２を有する。装置１００はまた、電子コントローラ２０と、内側電極１及び外側電極２に電気ケーブル２２によって接続された無線周波数（ＲＦ）生成器２１と、を有する。図２に示された状況においては、内側電極１及び外側電極２は皮膚表面１０に配置され、皮膚は角質層１１、表皮１２及び真皮１３を有する。電力供給されると、内側電極１及び外側電極２は皮膚内に電気ＲＦ場線５を生成し、皮膚のインピーダンスと組み合わせられた印加されるＲＦ処置電圧のため、熱が皮膚内に蓄積され、それにより、温度が６５℃と１００℃との間の値に達すると、内側電極１のすぐ下に非アブレーション性の熱的損傷６を生成する。電子コントローラ２０は、ＲＦ生成器２１を制御するよう構成される。ＲＦ生成器２１は、５０Ｖよりも低いＲＦ処置電圧を供給しても良い。好適な実施例においては、ＲＦ処置電圧は、２０Ｖよりも低くても良い。
【００３４】
一実施例においては、電子コントローラ２０は、望ましい損傷深さ又は望ましい損傷の深さ対幅比に関連する入力信号を受信し、該望ましい損傷深さ又は望ましい損傷の深さ対幅比に依存して、ＲＦ処置電圧の周波数を制御するよう構成される。該望ましい損傷深さ又は損傷の深さ対幅比は、装置１００に配置されユーザからの入力を処理するよう構成されたインタフェースによってユーザにより設定されても良い。該インタフェースは例えば、該望ましい損傷深さ又は損傷の深さ対幅比についての特定の値を入力するようユーザに指示するようプログラムされた、処理モジュールにより動作させられるタッチ感応画面であっても良い。入力された情報は次いで、例えば装置１００のメモリに保存されたルックアップテーブルを用いて、ＲＦ処置電圧の特定の周波数に変換されても良い。
【００３５】
図３は、図２の装置の電極構成の上面図を示し、ここでは活性内側電極１が、環状の外側リターン電極２により完全に囲まれている。内側電極１は、環状のリターン電極２の中心に位置している。図３に示された、活性内側電極１及び外側リターン電極２の特定の電極構成は、中心対称電極構成と呼ばれる。好適な実施例においては、活性電極１の第１の皮膚接触面は、１ｍｍよりも小さな、好適には２００乃至５００μｍの直径ｄ１を持つ。内側電極１と外側電極２との間の距離は、間隙ｇ１と示される。間隙ｇ１は、内側電極１の外縁における点と、外側電極２の内縁における点と、の間の最小距離として定義される。一実施例においては、間隙ｇ１は０．１ｍｍよりも大きいが、０．２ｍｍより大きくても良い。
【００３６】
複数の損傷を同時に生成するため、装置１００は、複数の活性電極及び１つ以上のリターン電極を有しても良い。該複数の活性電極のそれぞれは、別個に作動させられ、時間的に異なる時点で作動させられても良い。代替としては、全ての活性電極が同時に作動させられても良い。
【００３７】
一実施例においては、該装置は、複数の活性電極を有し、前記複数の活性電極のそれぞれは、１つのリターン電極により完全に囲まれる。該装置は、１つよりも多いリターン電極を持っても良く、これらリターン電極は、互いを境界付けて格子構造を形成しても良く、又はこれらリターン電極は単に電気的に結合されていても良い。リターン電極の格子構造は、ＲＦ生成器からリターン電極まで少ない線しか必要としない。更に、リターン電極の格子構造は、別個のリターン電極を持つ電極構成と比べて、同じ表面積により多くの電極が配置されることを可能とする。
【００３８】
装置１００は、皮膚を活性化するよう、皮膚組織において断片的な熱的損傷を生成するために用いられることができる。比較的低いＲＦ処置電圧（７５Ｖよりも低い）のため、該装置はプロフェッショナルな補助を必要とすることなく、家庭での使用に非常に適している。
【００３９】
数値シミュレーションは、断片的な熱的損傷の最適な浸透深さ及び最適な深さ対幅比は、５００ＭＨｚ乃至１．５ＧＨｚの範囲内のＲＦ処置電圧の周波数に対して達成されることを示している。５０ｍｓのパルス継続時間を持つ１ＧＨｚのＲＦ処置電圧パルス印加する２００ミクロンの直径を持つ活性電極については、熱的損傷の深さは、１ＭＨｚの周波数を持つ同等のＲＦ処置電圧パルスによる熱的損傷の約１．５倍である。いずれの結合ジェルをも用いずに、又は皮膚のインピーダンスに整合するインピーダンスを持つ結合ジェルを用いて、断片的なＲＦ皮膚処置を適用することが更に好適である。
【００４０】
シミュレーションが、異なる状況、即ち（ａ）低伝導率の接触ジェルを介した又はいずれの接触ジェルも用いない皮膚に対するＲＦエネルギーの印加を実際的に示す、乾燥した皮膚に対して、（ｂ）高い電気伝導率を持つ接触ジェルを介した皮膚へのＲＦエネルギーの印加を示す、湿った皮膚に対して、及び（ｃ）いずれの接触ジェルも用いず、リターン電極２が活性電極１から比較的離れて（例えば３ｍｍよりも離れて）配置された、ＲＦエネルギーの印加を実際的に示す、乾燥した皮膚及び単極に対して、実行された。
【００４１】
図４は、約１ＭＨｚの低周波数を含む、ＲＦ処置電圧の周波数の関数としての、熱的損傷の深さのシミュレーション結果のグラフを示す。図５は、ＲＦ処置電圧の周波数の関数としての、熱的損傷の深さ対幅比のグラフを示す。図４及び５に示された結果に基づいて、熱的損傷の比較的深い浸透深さ及び熱的損傷の最適な深さ対幅比を実現するための、ＲＦ処置電圧の周波数の好適な範囲が定義されることができる。周波数の当該好適な範囲は１００ＭＨｚ乃至３ＧＨｚであり、より好適には５００ＭＨｚ乃至１．５ＧＨｚである。更に、いずれの結合ジェルを用いずに、又は皮膚の電気インピーダンスに整合する電気インピーダンスを持つ結合ジェルを用いて、断片的なＲＦ皮膚処置を適用することが好適である。
【００４２】
本発明による周波数範囲の使用の更なる利点は、ＲＦエネルギーの熱エネルギーへのエネルギー変換の改善された効率であり、このことは図６に示されたような望ましい熱的損傷を実現するために必要とされる低減されたＲＦ処置電圧に帰着する。図６から、１００ＭＨｚ乃至３ＧＨｚの範囲内のＲＦ処置電圧の周波数を用いる場合、２０Ｖ（ＲＭＳ値）よりも低いＲＦ処置電圧が利用されることができることが分かる。
【００４３】
図７は、本発明によるＲＦ皮膚処置のための装置７０の更なる実施例を示す。装置７０は、筐体７１、バッテリ７２、及び電子モジュール７３を有する。電子モジュール７３は、センサ、ＲＦ生成器、フィードバックコントローラ、及び関数生成器を含むＰＣＢであっても良い。底部において、装置７０は、活性内側電極７６及び外側リターン電極７７を有する。内側電極７６及び外側電極７７は、以上に説明されたように構成されても良い。装置７０はまた、内側電極７６と外側電極７７との間にＲＦ処置パルスを生成するためユーザにより作動させられることができるボタン７４を有する。装置７０は、細長い形状を持ち、適切な寸法とされた場合に、皮膚に接触させられることができるペンとして用いられることができる。本実施例は、皮膚活性化のための家庭用ハンドヘルド型皮膚処置装置として特に有用である。
【００４４】
本発明による装置においては、リターン電極２の第２の皮膚接触面の面積と活性電極１の第１の皮膚接触面の面積との比は、５より大きい。好適には、該比は１０より大きい。斯かる比により、活性電極１のすぐ下の皮膚領域において熱的損傷の形成が集中し、その一方で、リターン電極の下の皮膚領域の著しい熱的な加熱は引き起こされない。複数の活性電極の使用は、活性電極の下の位置における断片的な熱的損傷の所定のパターンの生成を可能とする。本発明によれば、断片的な熱的損傷を実現するため、活性電極１は、２ｍｍ以下の、好適には２００乃至５００ミクロンの範囲内の、最大断面寸法（例えば直径）を持つ。断片的な処置を実現するため、リターン電極は、活性電極を囲む必要はない。特定の実施例においては、リターン電極は、活性電極を囲むことなく、活性電極に隣接して配置されても良い。活性電極を囲む場合、リターン電極は、活性電極を完全に囲んでも良いし又は部分的に囲んでも良い。活性電極を完全に囲む場合、リターン電極は、例えば環状、又は正方形若しくは長方形のような多角形といった、いずれの形状を持っても良い。
【００４５】
本発明による装置は、皮膚の処置のために用いられることができる。該装置は、皮膚の活性化に特に有用である。
【００４６】
本明細においては、「有する（comprising）」なる語は、記載されたもの以外の要素又はステップの存在を除外するものではなく、要素に先行する「１つの（a又はan）」なる語は、複数の斯かる要素の存在を除外するものではなく、いずれの参照記号も、請求の範囲を限定するものではない。更に、本発明は実施例に限定されるものではなく、以上に説明された又は相互に異なる従属請求項に記載されたそれぞれの及び全ての新規な特徴又は特徴の組み合わせに存する。
【図１】
0006353613.tif 000002
【図２】
0006353613.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0006353613.tif 000008