(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗液を吐出するノズルを複数備えたヘッドと塗布対象物とを相対的に移動させて、前記ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子が並ぶように仮想の２次元マトリックスを前記塗布対象物に重ね合わせ、前記相対移動方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、前記格子列の任意の前記格子の位置に基づく前記塗布対象物上の吐出位置に前記ノズルから塗液を吐出させることにより前記塗布対象物への塗布を行う塗布装置において、
前記格子毎にディレイ情報を記憶する記憶部と、
前記格子の位置と前記ディレイ情報とから塗液を吐出させる前記吐出位置を演算する演算部とを備え、
前記格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で前記吐出位置を制御することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
塗液を吐出するノズルを複数備えたヘッドと塗布対象物とを相対的に移動させて、前記ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子が並ぶように仮想の２次元マトリックスを前記塗布対象物に重ね合わせ、前記相対移動方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、前記格子列の任意の前記格子の位置に基づく前記塗布対象物上の吐出位置に、前記格子毎に記憶部に記憶した塗液吐出数情報に相当する塗液の量を前記ノズルから塗液を吐出させることにより前記塗布対象物への塗布を行う塗布装置において、
前記記憶部の前記塗液吐出数情報にディレイ情報を加えた階調データを前記格子毎に記憶させる手段と、
前記格子の位置と前記ディレイ情報とから塗液を吐出させる前記吐出位置を演算する演算部とを備え、
前記演算部で演算した前記吐出位置に、前記記憶部に記憶されている前記塗液吐出数情報に相当する塗液の量を吐出させるように構成し、
前記格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で前記吐出位置を制御することを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
前記塗布対象物の部分的な歪みを認識する位置認識部をさらに備え、当該認識した歪み量に相当する量を前記ディレイ情報として前記記憶部に記憶することを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
塗液を吐出するノズルを複数備えたヘッドと塗布対象物とを相対的に移動させて、前記ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子が並ぶように仮想の２次元マトリックスを前記塗布対象物に重ね合わせ、前記相対移動方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、前記格子列の任意の前記格子の位置に基づく前記塗布対象物上の吐出位置に前記ノズルから塗液を吐出させることにより前記塗布対象物への塗布を行う塗布方法において、
前記格子毎にディレイ情報を記憶し、前記格子の位置と前記ディレイ情報とから塗液を吐出させる前記吐出位置を演算して、
前記格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で前記吐出位置を制御することを特徴とする塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、板状又はシート状の対象物に塗液を塗布する塗布装置及び塗布方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、有機ＥＬやタッチパネルの基板上に回路を形成するために、インクジェット等のノズルから塗液を吐出して基板に塗布することが行われている。回路を形成するためには、自由に塗布形状が描けることが求められ、ヘッドを移動させながら決められた位置に到達したら、ヘッドに備えたノズルから順次塗液を吐出するように吐出タイミングを制御して回路を形成している。
【０００３】
特開２０１１−２１５１７３号公報には、塗布装置のヘッド位置が熱膨張により変位した場合にその変形量を計測して、各ノズルの吐出位置情報にこの変形量を加味して実際に塗布する位置を補正して設定する構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許文献１：特開２０１１−２１５１７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のビットマップを設定した吐出タイミング制御について、図５を用いて説明する。ヘッド１には６つのノズル１１〜１６が設けられていてヘッド１が相対移動方向に移動しながら各ノズル１１〜１６から塗液を吐出するように構成されている。塗布対象物には、ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子を備えた２次元マトリックス１０２（ビットマップ）が仮想的に重ねられ、ノズル１１〜１６はヘッド１の相対移動に伴い、２次元マトリックス１０２の所定の格子に到達したら塗液を吐出するように構成されている。
【０００６】
この２次元マトリックス１０２の相対移動方向に直交する所定の格子列に、各ノズル１１〜１６から塗液を吐出させるにあたり、図示しない吐出駆動信号生成部が各ノズル１１〜１６に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、所定の格子列の任意の格子の位置に基づく塗布対象物上の吐出位置にノズル１１〜１６から塗液を吐出させることにより塗布対象物への塗布を行う。
そして、２次元マトリックス１０２の設定を変更することにより、格子毎に自由に吐出位置を決めることができ、基板に塗布する形状を自由に決めることができる。
【０００７】
また、図５に示すようにヘッド１は、２次元マトリックス１０２に対して（すなわち塗布対象物に対して）、傾けて相対移動するように構成されている。これは、相対移動方向と直交する方向の格子間隔とノズル間隔を合わせるためであり、異なる格子サイズで塗布することになった場合はこのヘッド１の傾きを変化させてノズル間隔と相対移動方向と直交する方向の格子間隔とを合わせることができる。
【０００８】
このようにヘッドが傾いた状態で、相対移動方向と直交する方向に直線を塗布する場合は、図５に示すノズル１１が所定の格子位置に到達してからノズル１２〜１６が当該格子位置に到達するまでに時間差が生じる。そのため、各ノズル１１〜１６がそれぞれ所定格子位置で塗液を吐出するように、上記時間差に対応する吐出タイミング調整情報をノズル毎に予め設定している。
【０００９】
この吐出タイミング調整情報に対応した時間だけヘッド１が相対移動する分、ノズル１２〜１６がノズル１１に対して吐出タイミングをずらして塗液を吐出することによって、相対移動方向と直交する方向に滑らかな直線として塗液を塗布することができる。
【００１０】
しかしながら、ヘッド１が相対移動方向へ移動しながらの塗布には相対移動方向又は相対移動方向に直交する方向の直線を描画するような塗布だけでなく、相対移動方向に直交する方向から少し角度のついた直線（すなわち、斜め直線）を描画するような塗布もあり、その場合は、図５の●に示すように格子サイズに依存した塗液の塗布となり滑らかな塗液の塗布ができないという問題があった。
【００１１】
また、特許文献１に記載の場合は、ヘッド位置がずれたり、塗布対象物が全体的にずれた場合は塗布位置を補正できるが、例えば塗布対象物である基板がフィルム状である場合など、基板が部分的に歪んでいることがあり、その場合には基板の一部分のみの塗布位置補正ができないため、歪んでいる部分の塗布位置がずれるという問題があった。
【００１２】
本発明は、このような問題を解決して、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかな回路を形成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために本発明は、塗液を吐出するノズルを複数備えたヘッドと塗布対象物とを相対的に移動させて、前記ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子が並ぶように仮想の２次元マトリックスを前記塗布対象物に重ね合わせ、前記相対移動方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、前記格子列の任意の前記格子の位置に基づく前記塗布対象物上の吐出位置に前記ノズルから塗液を吐出させることにより前記塗布対象物への塗布を行う塗布装置において、
前記格子毎にディレイ情報を記憶する記憶部と、
前記格子の位置と前記ディレイ情報とから塗液を吐出させる前記吐出位置を演算する演算部とを備え、
前記格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で前記吐出位置を制御することを特徴とする塗布装置を提供するものである。
【００１４】
この構成により、上記格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で塗布位置を制御することができるため、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかな回路を形成することができる。
【００１５】
また、上記課題を解決するために本発明は、塗液を吐出するノズルを複数備えたヘッドと塗布対象物とを相対的に移動させて、前記ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子が並ぶように仮想の２次元マトリックスを前記塗布対象物に重ね合わせ、前記相対移動方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、前記格子列の任意の前記格子の位置に基づく前記塗布対象物上の吐出位置に、前記格子毎に記憶部に記憶した塗液吐出数情報に相当する塗液の量を前記ノズルから塗液を吐出させることにより前記塗布対象物への塗布を行う塗布装置において、
前記記憶部の前記塗液吐出数情報にディレイ情報を加えた階調データを前記格子毎に記憶させる手段と、
前記格子の位置と前記ディレイ情報とから塗液を吐出させる前記吐出位置を演算する演算部とを備え、
前記演算部で演算した前記吐出位置に、前記記憶部に記憶されている前記塗液吐出数情報に相当する塗液の量を吐出させるように構成し、
前記格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で前記吐出位置を制御することを特徴とする塗布装置を提供するものである。
【００１６】
この構成により、上記格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で吐出位置を制御することができるため、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかな回路を形成することができるとともに、従来から記憶部に記憶している塗液吐出数情報に加えてディレイ情報を記憶させることができて、塗液吐出数情報とディレイ情報とを同時に読み込むことができるため、処理時間を延ばすことなくディレイ情報を記憶した塗布装置を構成することができる。
【００１７】
また、前記塗布対象物の部分的な歪みを認識する位置認識部をさらに備え、当該認識した歪み量に相当する量をディレイ情報として前記記憶部に記憶するように塗布装置を構成してもよい。
【００１８】
この構成により、塗布対象物の部分的なずれ量の認識とそのずれ量分の補正を１台の塗布装置で行うことができるので、コンパクトかつ低コストに装置を構成することができる。
【００１９】
また、上記の課題を解決するために本発明は、塗液を吐出するノズルを複数備えたヘッドと塗布対象物とを相対的に移動させて、前記ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子が並ぶように仮想の２次元マトリックスを前記塗布対象物に重ね合わせ、前記相対移動方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、前記格子列の任意の前記格子の位置に基づく前記塗布対象物上の吐出位置に前記ノズルから塗液を吐出させることにより前記塗布対象物への塗布を行う塗布方法において、
前記格子毎にディレイ情報を記憶し、前記格子の位置と前記ディレイ情報とから塗液を吐出させる前記吐出位置を演算して、
前記格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で前記吐出位置を制御することを特徴とする塗布方法を提供するものである。
【００２０】
この構成により、上記格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で塗布位置を制御することができるため、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかな回路を形成することができる。
【発明の効果】
【００２１】
上記のように、塗液を吐出するノズルを複数備えたヘッドと塗布対象物とを相対的に移動させて、前記ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子が並ぶように仮想の２次元マトリックスを前記塗布対象物に重ね合わせ、前記相対移動方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、前記格子列の任意の前記格子の位置に基づく前記塗布対象物上の吐出位置に前記ノズルから塗液を吐出させることにより前記塗布対象物への塗布を行う塗布装置において、前記格子毎にディレイ情報を記憶する記憶部と、前記格子の位置と前記ディレイ情報とから塗液を吐出させる前記吐出位置を演算する演算部とを備えたことを特徴とする塗布装置により、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかな回路を形成することができる。
【００２２】
また、塗液を吐出するノズルを複数備えたヘッドと塗布対象物とを相対的に移動させて、前記ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子が並ぶように仮想の２次元マトリックスを前記塗布対象物に重ね合わせ、前記相対移動方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、前記格子列の任意の前記格子の位置に基づく前記塗布対象物上の吐出位置に、前記格子毎に記憶部に記憶した塗液吐出数情報に相当する塗液の量を前記ノズルから塗液を吐出させることにより前記塗布対象物への塗布を行う塗布装置において、前記記憶部の前記塗液吐出数情報の一部を置き換えてディレイ情報を記憶させる手段と、前記格子の位置と前記ディレイ情報とから塗液を吐出させる前記吐出位置を演算する演算部とを備え、前記演算部で演算した前記吐出位置に、前記記憶部に記憶されている一部を置き換えられた前記塗液吐出数情報に相当する塗液の量を吐出させるように構成したことを特徴とする塗布装置により、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかな回路を形成することができるとともに、処理時間を延ばすことなくディレイ情報を記憶した塗布装置を構成することができる。
【００２３】
また、塗液を吐出するノズルを複数備えたヘッドと塗布対象物とを相対的に移動させて、前記ヘッドの相対移動方向及びそれと直交する方向に格子が並ぶように仮想の２次元マトリックスを前記塗布対象物に重ね合わせ、前記相対移動方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、前記格子列の任意の前記格子の位置に基づく前記塗布対象物上の吐出位置に前記ノズルから塗液を吐出させることにより前記塗布対象物への塗布を行う塗布方法において、前記格子毎にディレイ情報を記憶し、前記格子の位置と前記ディレイ情報とから塗液を吐出させる前記吐出位置を演算することを特徴とする塗布方法により、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかな回路を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の塗液吐出を説明する図。
【図２】本発明の実施例１における各格子のディレイ情報の階調データを示す図。
【図３】本発明の実施例２の基礎となる各格子の塗液吐出数情報の階調データを示す図。
【図４】本発明の実施例２における各格子の塗液吐出数情報及びディレイ情報の階調データを示す図。
【図５】従来の塗液吐出を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【実施例１】
【００２５】
図１、図２を用いて本発明の塗布装置及び塗布方法における実施例１について説明する。図１は、本発明の塗液吐出を説明する図であり、図２は本発明の実施例１における各格子の階調データを示す図である。
【００２６】
図１に示すように、塗布装置はヘッド１にインクジェット吐出方式からなる６つのノズル１１〜１６を有していて、基板等の塗布対象物に対して移動しながら、各ノズル１１〜１６から塗液を吐出して塗布対象物に回路を形成する。その際、塗布装置はヘッドの進行方向及びその直交する方向に仮想の２次元マトリックス２を塗布対象物に重ね、ヘッド進行方向と直交する方向に並ぶ所定の格子列に、各ノズル１１〜１６から塗液を吐出させるにあたり、図示しない吐出駆動信号生成部が各ノズル１１〜１６に共通の吐出駆動信号を生成するとともに、所定の格子列の任意の格子の位置に基づく塗布対象物上の吐出位置にノズル１１〜１６から塗液を吐出させることにより塗布対象物への塗布を行う。
【００２７】
なお、実施例１においてはノズル数を６つとしているが、ノズル数は複数であれば７つ以上でも５つ以下でもよい。また、実施例１においては、ヘッド１が塗布対象物に対して移動する構成としているが、ヘッド１に対して塗布対象物が移動するように構成してもよいし、ヘッド１及び塗布対象物の双方が移動するように構成してもよい。
【００２８】
ヘッド１は、図１に示すように、２次元マトリックス２に対して（すなわち塗布対象物に対して）、傾けて相対移動することができるように構成されている。これは、相対移動方向と直交する方向の格子間隔とノズル間隔を合わせるためであり、異なる格子サイズで塗布することになった場合はこのヘッド１の傾きを変化させてノズル間隔と相対移動方向と直交する方向の格子間隔とを合わせることができる。
【００２９】
このようにヘッド１が傾いた状態で塗布対象物に移動させる場合において、相対移動方向と直交する方向に直線を塗布する場合は、図１に示すノズル１１が所定の格子位置に到達してからノズル１２〜１６が所定の格子位置に到達するまでに時間差が生じる。そのため、各ノズル１１〜１６がそれぞれ所定の格子位置で塗液を吐出するように、上記時間差に対応する吐出タイミング調整情報をノズル毎に予め設定されている。
【００３０】
この吐出タイミング調整情報に対応した時間だけノズル１２〜１６がノズル１１に対して吐出タイミングをずらして塗液を吐出することによって、相対移動方向と直交する方向に滑らかな直線として塗液を塗布することができる。
【００３１】
ヘッド１が傾いた状態で塗布対象物に移動させるか否か、また、傾きをどの程度にするかは、格子のサイズとノズル間隔との関係等により任意に選択でき、必ずしもヘッド１を傾けた状態で塗布対象物に移動させなければならないものではなく、ヘッド１を傾けずに塗布対象物に移動させるようにしてもよい。
【００３２】
このヘッド１の傾きは、予めＴＶカメラ等で計測してノズル毎のずれ量を算出する。そして当該算出したずれ量に対応する情報を上述した吐出タイミング調整情報としてノズル毎に記憶しておく。
【００３３】
なお、ヘッド１を傾けた結果、ヘッド１の相対移動方向におけるノズル間隔が格子サイズを超える場合、前記格子サイズを超える分だけ塗液を吐出する格子の位置をずらした２次元マトリックスを２次元マトリックス２とは別に作成してもよい。
【００３４】
塗布装置は、２次元マトリックス２の格子毎に濃淡画像と同様の階調データを記憶する記憶部を有している。この記憶部には吐出位置を所定の格子位置から所定量ずらす遅延情報であるディレイ情報を階調データとして記憶している。図１の●は塗液を吐出する位置を示している。ディレイ情報が「０」であれば、塗液を吐出しないが、「０」以外の値であれば所定量遅延させて塗液を吐出するように制御される。例えば、図１に示すようにディレイ情報（すなわち、階調データ）が「１」から「６」の場合は、●で示す位置に塗液を吐出する。図２には遅延が０μｓｅｃ、１０μｓｅｃ、４０μｓｅｃの場合について各格子のディレイ情報である階調データの例を示している。
【００３５】
階調データは、２進数で標記している。例えば、ディレイ情報が「１」の場合は２進数標記では「００００  ０００１」で、これはディレイなしで所定の格子位置で塗液を吐出することを示している。ディレイ情報は、所定の格子位置にヘッドが到達してから塗液を吐出するまでの遅延時間を示す情報でもある。例えば、階調データが１増える毎に１０μｓｅｃの遅延をさせるとすると、ディレイ情報が「２」の場合は２進数標記では「００００  ００１０」で、これは１０μｓｅｃの遅延を意味し、「３」の場合は２進数標記では「００００  ００１１」で、これは２０μｓｅｃの遅延を意味し、「４」の場合は２進数標記では「００００  ０１００」で、これは３０μｓｅｃの遅延を意味し、「５」の場合は２進数標記では「００００  ０１０１」で、これは４０μｓｅｃの遅延を意味し、「６」の場合は２進数標記では「００００  ０１１０」で、これは５０μｓｅｃだけ遅延させて塗液を吐出することを意味している。すなわち上記の場合では、０〜５０μｓｅｃの間にヘッド１が移動する距離分、塗液の吐出位置をずらすことができる。
【００３６】
例えば、ヘッド１が１００ｍｍ／ｓｅｃで移動する場合は、１０μｓｅｃで１μｍだけ吐出位置をずらすことになるため、ディレイ情報が「００００  ００１０」の場合は１μｍずらすことができ、ディレイ情報が「００００  ０１１０」の場合は５μｍずらすことができる。
【００３７】
実施例１においては、このように階調データを８ビットのデータで構成しているが何ビット構成でもよく、４ビットで構成しても３ビットで構成してもよい。
【００３８】
塗布装置は、所定の格子位置と格子毎に記憶しているディレイ情報とを用いて実際の吐出位置を図示しない演算部で演算する。また、ヘッド１が傾いた状態で塗布対象物に移動させる場合は、ノズル毎に記憶している吐出タイミング調整情報を加味して実際の吐出位置を演算する。
【００３９】
実施例１においては、ディレイ情報を遅延させる時間情報として記憶しているので、ノズル１１〜１６が所定の格子位置に到達してから、ディレイ情報として記憶されている遅延情報から遅らせる時間を演算し、当該演算した時間分だけ、ヘッドが移動するのを待って塗液を吐出させる。
【００４０】
また、実施例１においては、塗布対象物の部分的な歪み量は、塗布装置の上流側にある位置認識装置の位置認識部で塗布対象物の部分的な歪みを公知の方法で認識し、認識したずれ量を下流側の塗布装置に有線又は無線通信により送信する。
【００４１】
塗布装置は、受信した塗布対象物の部分的な歪みに対応したノズルの移動時間の情報に変換したディレイ情報を格子毎に記憶部に記憶させる。
【００４２】
そして、塗布装置は塗布に際して、記憶部に格子毎に記憶されたディレイ情報に基づいて吐出位置を演算し、演算した吐出位置にノズル１１〜１６が到達したら、塗液を吐出して塗布対象物に塗布を行う。
【００４３】
実施例１においては、下流側の塗布装置の塗布動作と並行して上流側における位置認識装置で塗布対象物の部分的なずれである歪みを認識することができ、塗布タクトを短縮することができる。
【００４４】
以上の構成により、格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で塗布位置を制御することができるため、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかで任意の回路を形成することができる。
【実施例２】
【００４５】
図３、図４を用いて本発明の塗布装置及び塗布方法における実施例２について説明する。実施例２の構成は実施例１の構成とほぼ同じであるが、記憶部に記憶する階調データの意味合いが異なり、塗液吐出の液滴数も制御する点で異なっている。
【００４６】
塗布装置には、図３に示すように記憶部に格子毎に塗液吐出数情報を階調データとして記憶し、各格子の吐出位置で記憶された液滴数の塗液を吐出するようにして塗布形状を制御するようにしているものがある。
例えば、階調データが「００００  ００１１」の場合は、塗液吐出数が３滴であり、階調データが「００００  ０００１」の場合は、塗液吐出数が１滴であり、階調データが「００００  ００１０」の場合は、塗液吐出数が２滴であることを示している。そして階調データに記憶された塗液吐出数だけノズルから塗液を吐出するように制御される。
【００４７】
実施例２は、図４に示すように、図３で示した階調データの塗液吐出数情報の一部をディレイ情報に置き換えて記憶部に記憶するように塗布装置を構成したものである。
【００４８】
塗液吐出数情報とディレイ情報とは、図４に示すように、階調データの上位４ビットを塗液吐出数情報、下位４ビットをディレイ情報として記憶している。例えば、階調データが「００１１  ００１０」の場合は、塗液吐出数が３滴であり遅延時間が１０μｓｅｃで吐出することを示しており、階調データが「０００１  ０００１」の場合は、塗液吐出数が１滴であり遅延時間が０μｓｅｃで吐出することを示しており、階調データが「００１０  ０１０１」の場合は、塗液吐出数が２滴であり遅延時間が４０μｓｅｃで吐出することを示している。
【００４９】
そして、上述のように階調データに記憶された情報に基づいて、実施例１と同様に格子毎に記憶しているディレイ情報に基づいて、塗液を吐出する吐出位置を図示しない演算部で演算し、記憶されている塗液吐出数情報に相当する液滴数の塗液を演算された吐出位置に吐出する。これにより、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかに、かつ任意の回路を形成することができる。また、従来から記憶部に記憶している塗液吐出数情報の一部をディレイ情報に置き換えて記憶させることができて、塗液吐出数情報とディレイ情報とを同時に読み込むことができるため、処理時間を延ばすことなくディレイ情報を記憶した塗布装置を構成することができる。
【００５０】
なお、実施例２においても、ヘッド１が傾いた状態で塗布対象物に移動させる場合は、ノズル毎に記憶している吐出タイミング調整情報を格子毎に記憶しているディレイ情報に加味して実際の吐出位置を演算することは言うまでもない。
【００５１】
実施例２においては、階調データの上位４ビットを塗液吐出数情報、下位４ビットをディレイ情報として記憶しているが、これに限らず上位４ビットにディレイ情報、下位ビットに塗液吐出数情報として記憶させてもよいし、各データを４ビット以外のビット数で表してもよい。
【００５２】
以上の構成により、格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で塗布位置を制御することができるため、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかで任意の回路を形成することができるとともに、従来から記憶部に記憶している塗液吐出数情報の一部をディレイ情報に置き換えて記憶させることができて、塗液吐出数情報とディレイ情報とを同時に読み込むことができるため、処理時間を延ばすことなくディレイ情報を記憶した塗布装置を構成することができる。
【実施例３】
【００５３】
実施例１及び実施例２においては、ディレイ情報を遅延時間の情報として記憶部に記憶していたが、本発明の塗布装置及び塗布方法における実施例３においては、ディレイ情報を１μｍや５μｍといった遅延させる距離情報として記憶部に記憶している点で実施例１及び実施例２と異なっている。
【００５４】
所定の格子位置と、格子毎に記憶している遅延させる距離情報であるディレイ情報とを演算部で演算して塗液を吐出させる吐出位置を得る。そして当該得られた吐出位置にヘッド１のノズル１１〜１６が到達したら、塗液を吐出するように制御する。ヘッド位置は、ヘッド１又は塗布対象物の移動を駆動する駆動部に設けたエンコーダ等から得ることができる。
【００５５】
なお、実施例３においても、ヘッド１が傾いた状態で塗布対象物に移動させる場合は、ノズル毎に記憶している吐出タイミング調整情報を格子毎に記憶しているディレイ情報に加味して実際の吐出位置を演算することは言うまでもない。
【００５６】
この構成により、格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で塗布位置を制御することができるため、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかな回路を形成することができるとともに、より正確な塗布位置を得ることができ、より滑らかな回路を形成することができる。
【実施例４】
【００５７】
本発明の塗布装置及び塗布方法における実施例４は、位置認識部を塗布装置が有している点で、実施例１〜３における構成と異なっている。
【００５８】
すなわち実施例１〜３においては、塗布装置の上流側に位置認識部を有した位置認識装置を備え、塗布対象物の部分的な歪みを公知の方法で認識していたが、実施例４においては、塗布装置に位置認識部を備え、この位置認識部で塗布対象物の部分的な歪みを公知の方法で認識し、認識したずれ量を遅延時間又は遅延させる距離情報に変換し、ディレイ情報として格子毎に記憶部に記憶させる。
【００５９】
位置認識部を塗布装置に備えることにより、装置全体を低コストでコンパクトに構成することができる。
【００６０】
この構成によって、格子毎に格子サイズよりも細かい分解能で塗布位置を制御することができるため、塗布対象物が部分的に歪んでいる場合や斜め直線を描画するように塗布する場合であっても塗布位置がずれることなく滑らかな回路を形成することができるとともに、低コストに滑らかな回路を形成することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、板状又はシート状の対象物に塗液を塗布する塗布装置及び塗布方法に広く適用することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１          ヘッド
２          ２次元マトリックス
１１〜１６  ノズル
１０２      ２次元マトリックス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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