(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１環状体を備え、基材シートに対向配置される第１回転体と、
前記第１環状体の周面に前記ハードコートを形成するためのハードコート形成用樹脂を供給する第１供給部と、
前記第１環状体の内部に配置され、前記第１供給部から供給されたハードコート形成用樹脂を焼成する第１焼成部と、
前記第１環状体の内部に配置され、前記第１焼成部によって焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却する第１冷却部と、
を含み、
前記第１冷却部によって冷却されたハードコート形成用樹脂を前記基材シートの表面に転写して、一方向に送られる前記基材シートの上にハードコートを形成するハードコート形成機構と、
第２環状体を備え、前記基材シートに対向配置される第２回転体と、
前記第２環状体の周面に前記反射防止層を形成するための有機系の反射防止層形成用樹脂を供給する第２供給部と、
前記第２環状体の内部に配置され、前記第２供給部から供給された反射防止層形成用樹脂を焼成する第２焼成部と、
前記第２環状体の内部に配置され、前記第２焼成部によって焼成された反射防止層形成用樹脂を冷却する第２冷却部と、
を含み、
前記第２冷却部によって冷却された反射防止層形成用樹脂を前記ハードコートの表面に転写して反射防止層を形成する反射防止層形成機構と、
を含む、
反射防止フィルムの製造装置。
【請求項２】
請求項１に記載された反射防止フィルムの製造装置において、
前記基材シートが送られる方向における前記第１回転体の上流側に配置され、前記基材シートの表面をプラズマ処理する第１プラズマ照射機構と、
前記第１回転体と前記第２回転体との間に配置され、前記ハードコートの表面をプラズマ処理する第２プラズマ照射機構と、
を含む、
反射防止フィルムの製造装置。
【請求項３】
請求項３に記載された反射防止フィルムの製造装置において、
前記第１環状体と前記第２環状体とは、それぞれドラム形状である、
反射防止フィルムの製造装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載された反射防止フィルムの製造装置において、
前記第１回転体の前記基材シートを挟んだ反対側に設けられ、前記基材シートを前記第１回転体側に押圧する第１押圧ローラと、
前記第２回転体の前記基材シートを挟んだ反対側に設けられ、前記基材シートを前記第２回転体側に押圧する第２押圧ローラと、
を含む、
反射防止フィルムの製造装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載された反射防止フィルムの製造装置において、
前記第１供給部と前記第２供給部の少なくとも一方はインクジェット式である、
反射防止フィルムの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ等の表面に設けられる反射防止フィルムの製造装置及び製造方
法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネル、その他のディスプレイ等には、ガラスやプラスチック等の透明基板が用
いられている。これらの透明基板を通して物体や文字、図形等の視覚情報を観察する場合
、あるいは、透明基板を通して反射層からの像を観察する場合に、これらの透明基板の表
面が外光で反射して内部の視覚情報が見えにくいという問題があった。
透明基板の反射を防止するために、反射防止フィルムを透明基板の上に設けることが行
われている。
【０００３】
この反射防止フィルムを製造する技術として、従来、ハードコート組成物を適当な溶剤
に溶解させて基材フィルムに塗布して硬化させ、その後に、反射防止層用組成物をハード
コートの上にディッピング法等で塗布し、塗布物を活性エネルギー線照射処理等する方法
がある（特許文献１）。
また、従来、セルロースエステルフィルムに反射防止層を形成する金属化合物を塗布し
、プラズマ処理により薄膜を形成する方法がある（特許文献２）。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−７２６号公報
【特許文献２】特開２００３−５３８８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１は、基材フィルムにハードコートを形成し、このハードコートに反射防止層
を形成する構成であるが、これらの工程は別々に行われているので、作業性が良くない。
そこで、基材フィルムをシート状にし、このシートを送りながら、その表面にハードコー
ト組成物を塗布し、この上に反射防止層用組成物を塗布することで一連の作業とすること
が考えられるが、ハードコート組成物を塗布した後にハードコート組成物を硬化させなけ
ればならず、ハードコートの上に反射防止層用組成物を塗布した後に反射防止層用組成物
を硬化させなけれならないので、これらの組成物を硬化させる時間が必要となり、その結
果、ライン自体が長いものとなって装置全体が大掛かりとなる。さらに、ハードコート組
成物を焼成しなければならないが、基材フィルムに直接ハードコート組成物を塗布し、焼
成すると、基材フィルムに熱ストレスが生じて品質を劣化させることにもなりかねない。
特許文献２では、反射防止層をシートに形成するには、大掛かりなプラズマ処理装置が
必要とされる。
【０００６】
本発明の目的は、簡易な構造で連続形成が可能な反射防止フィルムの製造装置及び製造
方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の反射防止フィルムの製造装置は、一方向に送られる基材シートの上にハードコ
ートを形成するハードコート形成機構と、このハードコート形成機構の前記基材シートの
送り方向側に配置され前記ハードコートの上に反射防止層を形成する反射防止層形成機構
とを備え、前記ハードコート形成機構は、前記基材シートに対向配置される第１回転体と
、この第１回転体の周面に前記ハードコートを形成するためのハードコート形成用樹脂を
供給する第１供給部と、この第１供給部で供給されたハードコート形成用樹脂を焼成する
第１焼成部と、この第１焼成部で焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却する第１冷却
部とを有し、この第１冷却部で冷却されたハードコート形成用樹脂が前記基材シートの表
面に転写してハードコートを形成し、前記反射防止層形成機構は、前記基材シートに対向
配置される第２回転体と、この第２回転体の周面に前記反射防止層を形成するための有機
系の反射防止層形成用樹脂を供給する第２供給部と、この第２供給部で供給された反射防
止層形成用樹脂を焼成する第２焼成部と、この第２焼成部で焼成された反射防止層形成用
樹脂を冷却する第２冷却部とを有し、この第２冷却部で冷却された反射防止層形成用樹脂
が前記ハードコートの表面に転写して反射防止層を形成することを特徴とする。
【０００８】
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、一方向に送られる基材シートの上にハードコ
ートを形成するハードコート形成工程と、このハードコート形成工程で形成された前記ハ
ードコートの上に反射防止層を形成する反射防止層形成工程とを備え、前記ハードコート
形成工程は、前記基材シートに対向配置されるとともに回転している第１回転体の周面に
前記ハードコートを形成するためのハードコート形成用樹脂を供給し、このハードコート
形成用樹脂を焼成し、この焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却し、この冷却された
ハードコート形成用樹脂を前記基材シートの表面に転写する工程を備え、前記反射防止層
形成工程は、前記基材シートに対向配置されるとともに回転している第２回転体の周面に
前記反射防止層を形成するための有機系の反射防止層形成用樹脂を供給し、この反射防止
層形成用樹脂を焼成し、この焼成された反射防止層形成用樹脂を冷却し、この冷却された
反射防止層形成用樹脂を前記ハードコートの表面に転写して反射防止層を形成する工程を
備えることを特徴とする。
【０００９】
以上の構成の本発明では、ハードコート形成機構によってハードコート形成工程を実行
し、反射防止層形成機構によって反射防止層形成工程を実行する。
まず、ハードコート形成工程では、回転している第１回転体の周面に第１供給部からハ
ードコート形成用樹脂が供給されると、このハードコート形成用樹脂が供給された第１回
転体の周面が第１焼成部に近接し、この第１焼成部によってハードコート形成用樹脂が焼
成され、続いて、焼成によって高温となったハードコート形成用樹脂が第１冷却部に近接
することで、所定温度まで冷却される。所定温度にまで冷却されたハードコート形成用樹
脂は基材シートの表面に転写されるとともに第１回転体の周面から剥離され、基材シート
の上にハードコートが形成されることになる。
次に、反射防止層形成工程では、回転している第２回転体の周面に第２供給部から反射
防止層形成用樹脂が供給されると、この反射防止層形成用樹脂が供給された第２回転体の
周面が第２焼成部に近接し、この第２焼成部によって反射防止層形成用樹脂が焼成され、
続いて、焼成によって高温となった反射防止層形成用樹脂が第２冷却部に近接することで
、所定温度まで冷却される。所定温度にまで冷却された反射防止層形成用樹脂はハードコ
ートの表面に転写されるとともに第２回転体の周面から剥離され、ハードコートの上に反
射防止層が形成されることになる。これにより、基材シートの上にハードコート及び反射
防止層が形成された反射防止フィルムが連続して形成されることになり、必要に応じて、
このフィルムを所定形状に切断することで、最終製品が完成することになる。
【００１０】
ハードコート形成工程においては、第１焼成部によって十分に加熱されたハードコート
形成用樹脂が第１冷却部によって所定温度まで冷却された後に基材シートに転写されるか
ら、高い温度のハードコート形成用樹脂が直接基材シートに触れることがない。その上、
反射防止層形成工程においては、第２焼成部によって十分に加熱された反射防止層形成用
樹脂が第２冷却部によって所定温度まで冷却された後にハードコートに転写されるから、
反射防止層形成用樹脂の高い温度がハードコートを介して基材シートに伝わることがない
。そのため、各焼成部で焼成された樹脂が高温であることに起因して基材シートが過熱す
ることがなくなり、基材シート自体に熱ストレスが発生することがなく、歪み等の不具合
が反射防止フィルムに生じることがない。
従って、本発明では、一方向に送られる基材シートの流れ方向に沿ってハードコート形
成機構と反射防止層形成機構とが配置されるものであり、これらの形成機構を構成する回
転体を利用してハードコート形成や反射防止層形成を行うので、基材シートの流れを中断
することなく、基材シートの上にハードコートと反射防止層とが設けられた反射防止フィ
ルムを連続形成することができる。しかも、各形成機構に必要とされるのは回転体と焼成
部と冷却部とであり、これらの構成はプラズマ処理装置という従来例に比べて簡易な構造
である。
【００１１】
ここで、反射防止フィルムの製造装置にかかる本発明では、前記第１回転体の上流側に
は前記基材シートの表面をプラズマ処理する第１プラズマ照射機構が配置され、前記第１
回転体と前記第２回転体との間には前記ハードコートの表面をプラズマ処理する第２プラ
ズマ照射機構が配置されている構成が好ましい。
反射防止フィルムの製造方法にかかる本発明では、前記ハードコート形成工程の前には
前記基材シートの表面にプラズマ処理する第１プラズマ処理工程が設けられ、前記ハード
コート形成工程と前記反射防止層形成工程との間には前記ハードコートの表面にプラズマ
処理する第２プラズマ処理工程が設けられている構成が好ましい。
この構成の発明では、基材シートの表面に第１プラズマ照射機構を用いてプラズマ処理
するため、ハードコート形成用樹脂と基材シートとの付着力が強くなり、基材シートの表
面にハードコートを形成しやすくなる。同様に、ハードコートの表面に第２プラズマ照射
機構を用いてプラズマ処理するため、ハードコートと反射防止層形成用樹脂との付着力が
強くなり、ハードコートの表面に反射防止層を形成しやすくなる。
【００１２】
反射防止フィルムの製造装置にかかる本発明では、前記第１回転体は、前記ハードコー
ト形成用樹脂が周面に供給される第１環状体を備え、前記第２回転体は、前記反射防止層
形成用樹脂が周面に供給される第２環状体を備えている構成が好ましい。
この構成の発明では、第１回転体及び第２回転体を、それぞれ環状体としているので、
これらの回転体の内部空間を有効に利用することができる。そのため、反射防止フィルム
の製造装置に不可欠な部品を回転体の内部空間に収納することで、製造装置自体の省スペ
ース化を図ることができる。
【００１３】
前記第１環状体の内部に前記第１焼成部と前記第１冷却部とがそれぞれ配置され、前記
第２環状体の内部に前記第２焼成部と前記第２冷却部とがそれぞれ配置されている構成が
好ましい。
この構成の発明では、焼成部と冷却部とを環状体の内部スペースに収納することで、製
造装置の省スペース化を図ることができる他、環状体の内部から環状体の周面に供給され
るハードコート形成用樹脂や反射防止層形成用樹脂を焼成・冷却することができるので、
焼成工程や冷却工程を効率的に行うことができる。
【００１４】
前記第１環状体と前記第２環状体とは、それぞれドラム形状である構成が好ましい。
この構成の発明では、環状体自体並びに環状体を回転させる機構の構造を簡易なものに
できる。
【００１５】
前記第１回転体の前記基材シートを挟んだ反対側には前記基材シートを前記第１回転体
側に押圧する第１押圧ローラが設けられ、前記第２回転体の前記基材シートを挟んだ反対
側には前記基材シートを前記第２回転体側に押圧する第２押圧ローラが設けられている構
成が好ましい。
この構成の発明では、基材シートが第１回転体と第１押圧ローラとで挟持される構成と
されるから、ハードコートを基材シートに十分に付着させることができる。しかも、ハー
ドコートを表面に形成した基材シートが第２回転体と第２押圧ローラとで挟持される構成
とされるから、ハードコートの上に反射防止層を十分に付着させることができる。
【００１６】
前記第１供給部と前記第２供給部との少なくとも一方はインクジェット式である構成が
好ましい。
この構成の発明では、回転体の周面に供給されるハードコート形成用樹脂や反射防止層
形成用樹脂の塗布量を精密に制御することができるから、ハードコートや反射防止層の膜
厚を十分に管理することができる。従って、第１供給部と第２供給部の両方がインクジェ
ット方式とすることがより好ましい。
【００１７】
反射防止フィルムの製造方法にかかる発明では、前記ハードコート形成用樹脂は、少な
くとも下記「Ａ成分」及び「Ｂ成分」を含有するコ−ティング組成物を含む構成が好まし
い。ここで、「Ａ成分」はルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する金属酸化物
微粒子であり、「Ｂ成分」は一般式、Ｒ1ＳｉＸ13で表される有機ケイ素化合物〔式中、
Ｒ1は重合可能な反応基を有する炭素数が２以上の有機基、Ｘ1は加水分解性基を表す。〕
である。
前記反射防止層成型用樹脂は、少なくとも下記「Ｃ成分」「Ｄ成分」及び「Ｅ成分」を
含有するコ−ティング組成物を含んでおり、前記ハードコートの屈折率よりも０．１０以
上低い屈折率を有することが好ましい。ここで、「Ｃ成分」は一般式、ＸｍＲ2３−ｍＳ
ｉ−Ｙ−ＳｉＲ2３−ｍＸｍで表される有機ケイ素化合物〔Ｒ2は炭素数１〜６の一価炭化
水素基。Ｙはフッ素原子を１個以上含有する二価有機基。Ｘは加水分解性基。ｍは１〜３
の整数である。〕であり、「Ｄ成分」は分子中に１個以上のエポキシ基を含有するエポキ
シ基含有有機化合物であり、「Ｅ成分」は平均粒径１〜１５０ｎｍのシリカ系微粒子であ
る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
本発明の第１実施形態が図１及び図２に示されている。図１は第１実施形態にかかる反
射防止フィルムの製造装置の概略を示す正面図であり、図２は反射フィルムの製造装置の
概略を示す平面図である。
図１及び図２において、反射防止フィルムの製造装置は、一方向に送られる基材シート
１の上にハードコート２を形成するハードコート形成機構１０と、このハードコート形成
機構１０の基材シート送り方向の下流側であってハードコート形成機構１０に並んで配置
されハードコート２の上に反射防止層３を形成する反射防止層形成機構２０とを備えた構
成である。
【００１９】
基材シート１は、所定の帯状とされており、図示しない供給ロールから繰り出されて長
手方向（図１中右側）に移送される構成である。
本実施形態における基材シート１は、透明性のあるシートであればよく、その材質は、
例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロ
ース、ポリエーテルサルホン、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル
、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエーテル
ケトン、（メタ）アクリロニトリル等を例示できるが、これらの中では一軸又は二軸延伸
ポリエステル、特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が透明性及び耐熱性に優れ
、光学的に異方性が無い点で好適に用いられる。
【００２０】
ハードコート形成機構１０は、基材シート１に対向配置される第１回転体１１と、この
第１回転体１１の周面にハードコート形成用樹脂を供給する第１供給部１２と、この第１
供給部１２で供給されたハードコート形成用樹脂を焼成する第１焼成部１３と、この第１
焼成部１３で焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却する第１冷却部１４とを有し、第
１冷却部１４で冷却されたハードコート形成用樹脂が基材シート１の表面に転写してハー
ドコート２が形成される。
第１回転体１１は、ハードコート形成用樹脂が周面に供給される第１環状体１１１と、
この第１環状体１１１を回転駆動する回転駆動機構１１２とから構成される。
【００２１】
第１環状体１１１はドラム形状とされ、熱伝導率の高い金属、例えば、チタンから形成
されている。第１環状体１１１の周面は鏡面仕上げ等が施されている。
第１環状体１１１の周面と基材シート１の上面との寸法はハードコート２の厚さ寸法相
当である。
回転駆動機構１１２は、第１環状体１１１の内周に配置され第１環状体１１１を回転自
在に支持する複数本のガイドロール１１１１と、第１環状体１１１の一端部周面に形成さ
れたギア部１１１Ａと噛合される歯車機構１１１２と、この歯車機構１１１２と連結され
るモータ１１１３とを備えており、モータ１１１３の回転に伴って歯車機構１１１２を介
して第１環状体１１１が図１中反時計方向に回転される。
ガイドロール１１１１は、その両端が第１環状体１１１の端面から突出して形成されて
おり、これらの突出した部分が図示しないフレームに回動自在に支持されている。
歯車機構１１１２は複数の歯車から構成されている。
【００２２】
第１供給部１２は第１環状体１１１の上方に配置されており、ハードコート形成用樹脂
が内部に収納されたノズル１２１と、このノズル１２１の吐出操作を制御する図示しない
駆動部とを備えている。この駆動部はインクジェット式であり、例えば、発熱素子や圧電
素子を用いてハードコート形成用樹脂をノズル１２１から吐出させる。ノズル１２１は第
１環状体１１１の軸方向に沿うように略長尺状に形成されている。
第１焼成部１３は第１環状体１１１の上部から水平部にかけた略直角の範囲を加熱する
もので、第１環状体１１１の内部上方側に配置されている。この第１焼成部１３は、ニク
ロム線ヒータ、面状ヒータ、その他の加熱装置から構成されている。
第１焼成部１３は、ハードコート形成用樹脂の焼成温度が５０〜２５０℃、好ましくは
、８０〜１５０℃となるように温度設定される。
第１冷却部１４は第１環状体１１１の水平部から下部にかけた略直角の範囲を冷却する
もので、第１環状体１１１の内部であって第１焼成部１３の下方に配置されている。第１
冷却部１４は、そのケーシングの内部に冷水等の冷媒が流通される構成や冷却空気を第１
環状体１１１の内部に吹き付ける構成を採用することができる。
第１冷却部１４は、ハードコート形成用樹脂が５０〜２０℃まで低下するように冷却温
度が設定される。
【００２３】
本実施形態で使用されるハードコート形成用樹脂は少なくとも下記「Ａ成分」及び「Ｂ
成分」を含有するコ−ティング組成物を含むものである。
「Ａ成分」；ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子
「Ｂ成分」；一般式、Ｒ1ＳｉＸ13で表される有機ケイ素化合物〔式中、Ｒ1は重合可能な
反応基を有する炭素数が２以上の有機基、Ｘ1は加水分解性基を表す。〕
「Ａ成分」としては、例えば、酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及
び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物を含む平均粒径１〜２００
ｎｍの無機酸化物微粒子を挙げることができ、「Ｂ成分」は、一般式：Ｒ1ＳｉＸ13で表
される有機ケイ素化合物（式中、Ｒ1は重合可能な反応基を有する炭素数が２以上の有機
基、Ｘ1は加水分解性基を表す）が挙げられる。
ハードコート２は、干渉縞を抑制する目的で、高屈折率の基材シートと同程度の、高い
屈折率が要求される。ハードコート２の高屈折率化への対応は、高屈折率を有する無機酸
化物微粒子を用いる方法が一般的であり、具体的には、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、ＣＥ、
Ｌａ、ＦＥ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｔｉから選ばれる１種又は２種以上の金属の酸化物
（これらの混合物を含む）、及び／又は２種以上の金属を含む複合酸化物からなる無色透
明の無機酸化物微粒子が用いられる。このうち、屈折率、透明性、分散安定性等の点から
酸化チタンを含有する無機酸化物微粒子が一般的に用いられる。
【００２４】
本実施形態では、ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する金属酸化物を用い
ることが好ましい。ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子
を使用することで、酸化チタンの光活性に起因する種々の不具合点を改善することができ
る。それは、酸化チタンを含有する金属酸化物の結晶構造をアナターゼ型に代えてルチル
型にすることによって耐候性や耐光性がより向上し、かつ屈折率はアナターゼ型の結晶よ
りもルチル型の結晶の方が高いので、比較的屈折率の高い無機酸化物微粒子が得られる。
【００２５】
ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンは、アナターゼ型の酸化チタンが光（紫外線）
エネルギーを受けると活性を帯び、強い酸化分解力により、有機物を分解するという特性
を有するのと異なり、このような光活性が低い。これは、光（紫外線）を照射すると酸化
チタンの価電子帯の電子が励起されて、ＯＨフリーラジカルとＨＯ2フリーラジカルがで
き、この強力な酸化力により有機物を分解するが、アナターゼ型酸化チタンよりルチル型
酸化チタンの方が熱エネルギー的に安定であるため、フリーラジカルの生成量が極めて少
ないためである。よって、ルチル型の結晶構造の酸化チタンを配合したハードコートが耐
候性や耐光性に優れているため、有機薄膜で構成される反射防止層がハードコートによっ
て変質されるおそれが無く、耐候性や耐光性に優れたプラスチックレンズが得られる。
【００２６】
ルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを得る手法はいくつか考えられるが、酸化スズ
との複合酸化物、さらに酸化ケイ素を加えた複合酸化物とすることが好ましい。酸化スズ
との複合酸化物を加えた場合、無機酸化物微粒子中に含まれる酸化チタン及び酸化スズの
量は、酸化チタンをＴｉＯ2に換算し、酸化スズをＳｎＯ2に換算したとき、ＴｉＯ2／Ｓ
ｎＯ2の重量比が１／３〜２０／１、好ましくは１．５／１〜１３／１の範囲にあること
が望ましい。
ＳｎＯ2の量を上記重量比の範囲よりも少なくしていくと、結晶構造がルチル型からア
ナターゼ型にシフトしていき、ルチル型の結晶とアナターゼ型の結晶を含む混晶になる、
あるいはアナターゼ型の結晶となる。また、ＳｎＯ2の量を上記重量比の範囲よりも多く
していくと、酸化チタンのルチル型結晶と酸化スズのルチル型結晶の中間にあるルチル型
の結晶構造となり、いわゆる酸化チタンのルチル型結晶とは異なる結晶構造を示すように
なり、しかも得られる無機酸化物微粒子の屈折率も低下する。
【００２７】
また、酸化スズとの複合酸化物、さらに酸化ケイ素を加えた複合酸化物を加えた場合、
無機酸化物微粒子中に含まれる酸化チタン、酸化スズ、及び酸化ケイ素の量は、酸化チタ
ンをＴｉＯ2に換算し、酸化スズをＳｎＯ2に換算し、酸化ケイ素をＳｉＯ2に換算したと
き、ＴｉＯ2／ＳｎＯ2の重量比が１／３〜２０／１、好ましくは１．５／１〜１３／１の
範囲にあり、かつ（ＴｉＯ2＋ＳｎＯ2）／ＳｉＯ2の重量比が５５／４５〜９９／１、好
ましくは７０／３０〜９８／２の範囲にあることが望ましい。
ＳｎＯ2の含有量については、酸化スズとの複合酸化物を加えた場合と同様であるが、
これに酸化ケイ素を含ませることにより、得られる無機酸化物微粒子の安定性と分散性を
向上させることができる。ここで、ＳｉＯ2の量を上記重量比の範囲よりも少なくしてい
くと、安定性と分散性が低下する。また、ＳｉＯ2の量を上記重量比の範囲よりも多くし
ていくと、この安定性と分散性はより向上するが、得られる無機酸化物微粒子の屈折率が
低下するので好ましくない。しかし、このルチル型酸化チタンにおいてもフリーラジカル
は生成される。これについては、酸化チタンを含有する無機酸化物微粒子として、酸化チ
タンを含有する２種以上の複合酸化物を含む無機酸化物微粒子を使用した場合も同様であ
る。
【００２８】
図１において、反射防止層形成機構２０は、基材シート１に対向配置される第２回転体
２１と、この第２回転体２１の周面に反射防止層形成用樹脂を供給する第２供給部２２と
、この第２供給部２２で供給された反射防止層形成用樹脂を焼成する第２焼成部２３と、
この第２焼成部２３で焼成された反射汚防止層形成用樹脂を冷却する第２冷却部２４とを
有し、第２冷却部２４で冷却された反射防止層形成用樹脂がハードコート２の表面に転写
して反射防止層３が形成される。
第２回転体２１は、反射防止層形成用樹脂が周面に供給される第２環状体２１１と、こ
の第２環状体２１１を回転駆動する回転駆動機構１１２とから構成される。
【００２９】
第２環状体２１１は第１環状体１１１と同じ形状並びに構造であり、その周面は鏡面仕
上げ等が施されている。
第２環状体２１１の周面とハードコート２の上面との寸法は反射防止層３の厚さ寸法相
当である。
【００３０】
第２供給部２２は第１環状体２１１の上方に配置されており、反射防止層形成用樹脂が
内部に収納されたノズル２２１と、このノズル２２１の吐出操作を制御する図示しない駆
動部とを備えている。この駆動部はインクジェット方式を採用している。ノズル２２１は
第２環状体２１１の軸方向に沿うように略長尺状に形成されている。
第２焼成部２３は第２環状体２１１の上部から水平部にかけた略直角の範囲を加熱する
もので、第２環状体２１１の内部上方側に配置されている。この第２焼成部２３は第１焼
成部１３と同様の構造である。
第２冷却部２４は第２環状体２１１の水平部から下部にかけた略直角の範囲を冷却する
もので、第２環状体１１１の内部であって第２焼成部１３の下方に配置されている。第２
冷却部２４は第１冷却部１４と同様構造である。
【００３１】
本実施形態で使用される反射防止層形成用樹脂は少なくとも下記「Ｃ成分」「Ｄ成分」
及び「Ｅ成分」を含有するコ−ティング組成物を含んでおり、前記ハードコートの屈折率
よりも０．１０以上低い屈折率を有する。
「Ｃ成分」；一般式、ＸｍＲ2３−ｍＳｉ−Ｙ−ＳｉＲ2３−ｍＸｍで表される有機ケイ素
化合物〔Ｒ2は炭素数１〜６の一価炭化水素基。Ｙはフッ素原子を１個以上含有する二価
有機基。Ｘは加水分解性基。ｍは１〜３の整数である。〕
「Ｄ成分」；分子中に１個以上のエポキシ基を含有するエポキシ基含有有機化合物
「Ｅ成分」；平均粒径１〜１５０ｎｍのシリカ系微粒子
前記「Ｄ成分」が一般式Ｒ3ｎＲ4ｐＳｉＺ４−〔ｎ＋ｐ〕〔Ｒ3，Ｒ4は炭素数１〜１６
の有機基であり、少なくとも一方はエポキシ基を含む。Ｚは加水分解性基。ｎ，ｐは０〜
２の整数であって１≦ｎ＋ｐ≦３である。〕で表される化合物と、下記一般式（１）で示
される化合物とから選ばれる少なくとも一種の化合物を含有することを特徴とする。
【００３２】
【化１】
0004835219.tif 000002
【００３３】
「Ｃ成分」の具体例としては、例えば下記のものが挙げられる。
【００３４】
【化２】
0004835219.tif 000003
【００３５】
上記「Ｃ成分」は、反射防止層を形成するコーティング材組成物中の樹脂成分全量に対
して６０〜９９重量％の範囲、好ましくは６０〜９０重量％の範囲で含有されるものであ
り、このため「Ｃ成分」の有機ケイ素化合物による被膜の耐薬品性の向上をなすことがで
きる。
また、「Ｄ成分」である分子中に１個以上のエポキシ基を含有するエポキシ基含有有機
化合物としては、適宜のものを用いることができる。組成物中において樹脂成分全量に対
して５〜２０重量％の範囲で含有させることが好ましく、この範囲よりも少ないと被膜の
耐クラック性及びハードコートとの密着性を十分に向上することができず、またこの範囲
より多いと、また被膜の耐摩耗性が低下するおそれがある。
このエポキシ基含有有機化合物としては、好ましくは一般式Ｒ3ｎＲ4ｐＳｉＺ４−〔ｎ
＋ｐ〕〔Ｒ3，Ｒ4は炭素数１〜１６の有機基であり、少なくとも一方はエポキシ基を含む
。Ｚは加水分解性基。ｎ，ｐは０〜２の整数であって１≦ｎ＋ｐ≦３である。〕で表され
る化合物と、下記一般式（１）で示される化合物とから選ばれるものを用いるものであり
、このような化合物から一種又は複数種を用いることができる。この場合、被膜の耐薬品
性及び耐摩耗性を低下させることなく、耐クラック性を更に向上することができる。これ
らの化合物の合計の含有量は、樹脂成分全量に対して１〜２０重量％の範囲であることが
好ましく、この含有量が過小であると耐クラック性の向上を十分になすことができないお
それがあり、またこの含有量が過剰であると耐薬品性及び耐摩耗性を低下させるおそれが
ある。
【００３６】
【化３】
0004835219.tif 000004
【００３７】
上記一般式Ｒ3ｎＲ4ｐＳｉＺ４−〔ｎ＋ｐ〕で表される化合物としては、基材への付着
性、得られる塗膜の硬度および低反射性、組成物の寿命等の目的に応じて適宜選択される
が、例えば、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシ
シラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエト
キシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプ
ロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、（3,4−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルフェニルジエトキシシラン、δ−（3,4−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエト
キシシラン等が挙げられる。
また、上記一般式（１）で示される化合物では、式中のＲ5〜Ｒ16はメチル基等の適宜
の炭化水素基などの有機基を挙げることができる。また、このＲ5〜Ｒ16のうち少なくと
も一つはエポキシ基を含むものであり、例えば下記構造を有するものを挙げることができ
る。
【００３８】
【化４】
0004835219.tif 000005
【００３９】
このような一般式（１）で示される化合物の具体例としては、例えば下記に示すものを
挙げることができる。
【００４０】
【化５】
0004835219.tif 000006
【００４１】
【化６】
0004835219.tif 000007
【００４２】
また、エポキシ基含有有機化合物としては、一般式Ｒ3ｎＲ4ｐＳｉＺ４−〔ｎ＋ｐ〕、
および一般式（１）に示すもののほか、適宜のエポキシ化合物を用いることもできる。こ
のようなエポキシ化合物としては、例えば下記に示すものを挙げることができる。
【００４３】
【化７】
0004835219.tif 000008
【００４４】
また、「Ｅ成分」のシリカ系微粒子としては、平均粒径１〜１５０ｎｍシリカ系微粒子
を、例えば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒からなる分散媒、にコロイド状に
分散させたシリカゾルを挙げることができる。また、低屈折率化のために、例えば内部に
空洞ないし空隙が形成されているシリカ系微粒子からなるシリカゾルを用いることが好ま
しい。シリカ系微粒子の内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶媒が包含さ
れることによって、空洞のないシリカ系微粒子に比べてより屈折率が低減し、反射防止層
の低屈折率化が達成される。
【００４５】
内部に空洞を有するシリカ系微粒子は、特開２００１−２３３６１１号公報に記載され
ている方法等で製造することができるが、本発明では、平均粒径が２０〜１５０ｎｍの範
囲にあり、かつ屈折率が１．１６〜１．３９の範囲にあるものを使用することが望ましい
。粒子の平均粒径が２０ｎｍ未満になると、粒子内部の空隙率が小さくなって、所望の低
屈折率が得られなくなる。また、平均粒径が１５０ｎｍを超えると、有機薄膜のヘーズが
増加するので好ましくない。このように内部空洞を有するシリカ系微粒子としては、平均
粒径２０〜１５０ｎｍ、屈折率１．１６〜１．３９の中空シリカ微粒子を含む分散ゾル（
触媒化成工業（株）製、スルーリア、及びレキューム）等が挙げられる。
【００４６】
また、反射防止層３のコーティング材組成物において、微粒子として「Ｅ成分」以外に
他の微粒子を併用することも可能である。それらの微粒子の添加総量としてはその他の樹
脂成分との重量割合は、特に限定されるものではないが、微粒子／その他の成分（固形分
）＝８０／２０〜１０／９０の範囲になるように設定するのが好ましく、より好ましくは
５０／５０〜１５／８５である。微粒子が８０より多いと、コーティング材組成物によっ
て得られる硬化被膜の機械的強度が低下するおそれがあり、逆に中空微粒子が１０より少
ないと、硬化被膜の低屈折率を発現させる効果が小さくなるおそれがある。
【００４７】
また、上記成分のほかに反射防止層のコーティング材組成物中に併用可能な有機ケイ素
化合物としては、テトラエトキシシラン等のシリケート類、メチルトリメトキシシラン、
ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等のアルキルシラン類、フェニ
ルトリメトキシシラン等のフェニルシラン類、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤類等の各種化合物
を挙げることができる。
これらの有機ケイ素化合物は、樹脂成分全量に対して２０重量％以下とすることが好ま
しい。この含有量が過剰であると被膜の耐クラック性が低下したり親水性が高くなり耐薬
品性が低下したりするおそれがある。
【００４８】
また、他の有機ケイ素化合物としては、一般式ＲＦ−ＳｉＸ3〔ＲＦはフッ素原子を一
個以上含有する一価有機基。Ｘは加水分解性基。〕で示されるフッ化アルキル基含有アル
コキシシランを含有させることもできる。このようなものを含有させると、形成される被
膜の屈折率を更に低減させることができる。
一般式ＲＦ−ＳｉＸ3において、ＲＦにおけるフッ素原子の数は３〜２５個、特に３〜
１７個であることが好ましい。中でも、下記のような構造単位は、極性部分を含んでいな
いため特に好ましい。
ＣＦ３Ｃ２Ｈ４−
ＣＦ３（ＣＦ２）３Ｃ２Ｈ４−
ＣＦ３（ＣＦ２）７Ｃ２Ｈ４−
【００４９】
また、加水分解性基であるＸは、上記「Ｃ成分」におけるものと同様とすることができ
る。
このような一般式ＲＦ−ＳｉＸ3に示すフッ化アルキル基含有アルコキシシランとして
は、例えば下記に示すものが挙げられる。
ＣＦ３Ｃ２Ｈ４−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）３Ｃ２Ｈ４−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＦ３（ＣＦ２）７Ｃ２Ｈ４−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
この一般式ＲＦ−ＳｉＸ3で示されるフッ化アルキル基含有アルコキシシランとその加
水分解物（部分加水分解物）の含有量は適宜調整されるが、添加量が多くなると被膜の耐
擦傷性が低下することから、組成物中の樹脂成分全量に対して１〜３０重量％の範囲とす
ることが好ましく、特に１０重量％以下が好ましい。
また、他の有機ケイ素化合物としては、下記一般式に示すジアルキルシロキシ系の加水分
解性オルガノシランを挙げることができる。
【００５０】
【化８】
0004835219.tif 000009
【００５１】
このようなジアルキルシロキシ系の加水分解性オルガノシランとしては、例えば下記に
示す構造のものを挙げることができる。
【００５２】
【化９】
0004835219.tif 000010
【００５３】
さらに、反射防止層を構成するコーティング組成物には、必要に応じて、少量の前述の
硬化触媒、光重合開始剤、酸発生剤、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止
剤、ヒンダートアミン・ヒンダートフェノール等の光安定剤、分散染料・油溶染料・蛍光
染料・顔料等を添加し、コーティング液の塗布性の向上や、硬化後の被膜性能を改良する
ことができる。
【００５４】
図１において、第１回転体１１の上流側には基材シート１の表面をプラズマ処理する第
１プラズマ照射機構１５が配置され、第１回転体１１と第２回転体２１との間にはハード
コート２の表面をプラズマ処理する第２プラズマ照射機構２５が配置されている。
これらのプラズマ照射機構１５，２５は、それぞれ大気圧プラズマ処理装置から構成さ
れている。また、本実施形態では、プラズマ照射機構に代えて低圧水銀ランプやエキシマ
ランプ等の紫外線照射機構を用いてもよい。
第１回転体１１の基材シート１を挟んだ反対側には基材シート１を第１回転体１１側に
押圧する第１押圧ローラ１６が設けられている。
この第１押圧ローラ１６は、図示しないフレームに固定された支持軸１６１と、この支
持軸１６１に回動自在に設けられたロール本体１６２とを備えている。
ロール本体１６２はゴム、金属等の適宜な材料によって略円筒状に形成されている。
第２回転体２１１の基材シート１を挟んだ反対側には基材シート１を第２回転体２１１
側に押圧する第２押圧ローラ２６が設けられている。
この第２押圧ローラ２６は、図示しないフレームに固定された支持軸２６１と、この支
持軸２６１に回動自在に設けられたロール本体２６２とを備えている。ロール本体２６２
はロール本体１６２と同じ材質かつ同様の形状から形成されている。
【００５５】
次に、第１実施形態の反射防止フィルムの製造方法について説明する。
［第１プラズマ処理工程］
一方向に送られる基材シート１の表面に第１プラズマ照射機構１５でプラズマ処理する
。これにより、基材シート１の表面の密着性が良好となる。
［ハードコート形成工程］
基材シート１と対応して第１環状体１１１が回転しており、この第１環状体１１１の周
面にハードコート形成用樹脂が第１供給部１２から供給される。第１環状体１１１の周面
にハードコート形成用樹脂が所定厚さで付着することになり、この樹脂は、その粘性によ
って第１環状体１１１が回転しても第１環状体１１１から流れ落ちたり剥がれたりするこ
とがない。
第１環状体１１１の周面に付着されたハードコート形成用樹脂は、第１焼成部１３に近
接すると、この第１焼成部１３から発せられる熱が第１環状体１１１を通じて伝達される
ことで焼成される。その後、第１環状体１１１が回転し続けると、ハードコート形成用樹
脂が第１冷却部１４に近接することになり、この第１冷却部１４から発せられる冷気が第
１環状体１１１を通じて伝達されることで樹脂自体が冷却される。
冷却されたハードコート形成用樹脂は基材シート１の表面に転写される。この際、第１
押圧ローラ１６で基材シート１の裏面側が押圧されているため、ハードコート形成用樹脂
が基材シート１の表面に確実に転写されることになる。
【００５６】
［第２プラズマ処理工程］
ハードコート形成用樹脂が基材シート１の転写されてハードコート２が形成され、この
ハードコート２の表面に第２プラズマ照射機構２５でプラズマ処理する。これにより、ハ
ードコート２の表面の密着性が良好となる。
［反射防止層形成工程］
基材シート１と対応して第２環状体２１１が回転しており、この第２環状体２１１の周
面に反射防止層形成用樹脂が第２供給部２２から供給される。第２環状体２１１の周面に
反射防止層形成用樹脂が所定厚さで付着することになり、この樹脂は、その粘性によって
第２環状体２１１が回転しても第２環状体２１１から流れ落ちたり剥がれたりすることが
ない。
第２環状体２１１の周面に付着されたハードコート形成用樹脂は、第２焼成部２３に近
接すると、この第２焼成部２３から発せられる熱が第２環状体２１１を通じて伝達される
ことで焼成される。その後、第２環状体２１１が回転し続けると、反射防止層形成用樹脂
が第２冷却部２４に近接することになり、この第２冷却部２４から発せられる冷気が第２
環状体２１１を通じて伝達されることで樹脂自体が冷却される。
冷却された反射防止層形成用樹脂はハードコート２の表面に転写される。この際、第２
押圧ローラ２６で基材シート１の裏面側が押圧されているため、反射防止層形成用樹脂が
ハードコート２の表面に確実に転写されることになる。
［切断工程］
ハードコート２及び反射防止層３が形成された基材シート１を最終製品の形状に合わせ
てカッターで切断し、反射防止フィルムを得る。
【００５７】
従って、第１実施形態では、次の作用効果を奏することができる。
（１）ハードコート形成工程を実行するハードコート形成機構１０と、反射防止層形成工
程を実行する反射防止層形成機構２０とを備えて反射防止フィルムの製造装置を構成した
。そして、ハードコート形成機構１０を、一方向に送られる基材シート１に対向配置され
る第１回転体１１と、この第１回転体１１の周面にハードコート形成用樹脂を供給する第
１供給部１２と、この第１供給部１２で供給されたハードコート形成用樹脂を焼成する第
１焼成部１３と、この第１焼成部１３で焼成されたハードコート形成用樹脂を冷却する第
１冷却部１４とを有し、この第１冷却部で冷却されたハードコート形成用樹脂が基材シー
ト１の表面に転写してハードコート２を形成するように構成した。同様に、反射防止層形
成機構２０を、基材シート１に対向配置される第２回転体２１と、この第２回転体２１の
周面に反射防止層形成用樹脂を供給する第２供給部２２と、この第２供給部２２で供給さ
れた反射防止層形成用樹脂を焼成する第２焼成部２３と、この第２焼成部２３で焼成され
た反射防止層形成用樹脂を冷却する第２冷却部２４とを有し、この第２冷却部２４で冷却
された反射防止層形成用樹脂がハードコート２の表面に転写して反射防止層３を形成する
構成とした。
従って、焼成されたハードコート組成物は一旦冷却されてから基材シート１の上に積層
され、同様に、焼成された反射防止層組成物は一旦冷却されてからハードコート２の上に
積層されるので、基材シート１に熱ストレスが生じることがなくなり、製品の品質が低下
することがない。その上、ハードコート組成物の焼成、冷却を回転している第１回転体１
１で行い、かつ、反射防止層組成物の焼成、冷却を回転している第２回転体２１で行って
いるので、製造ラインを長くする必要がなく、かつ、従来のようなプラズマ処理装置とい
う大掛かりな装置も不要とされる。
【００５８】
（２）第１回転体１１の上流側に基材シート１の表面をプラズマ処理する第１プラズマ照
射機構１５が配置されているから、ハードコート形成用樹脂と基材シート１との付着力が
強くなり、基材シート１の表面にハードコート２が形成しやすくなる。
（３）第１回転体１１と第２回転体２１との間にハードコート２の表面をプラズマ処理す
る第２プラズマ照射機構２５が配置されているから、ハードコート２と反射汚防止層形成
用樹脂との付着力が強くなり、ハードコート２の表面に反射防止層３を形成しやすくなる
。
【００５９】
（４）第１回転体１１及び第２回転体２１を、それぞれ第１環状体１１１と第２環状体２
１１から形成しているので、これらの回転体１１，２１の内部空間を有効に利用すること
で、製造装置自体の省スペース化を図ることができる。
（５）第１環状体１１１の内部に第１焼成部１３と第１冷却部１４とをそれぞれ収納し、
第２環状体２１１の内部に第２焼成部２３と第２冷却部２４とをそれぞれ収納しているか
ら、これらの環状体１１１，２１１の内部からハードコート形成用樹脂や反射防止層形成
用樹脂を焼成・冷却することができるので、焼成工程や冷却工程を効率的に行うことがで
きる。
【００６０】
（６）第１環状体１１１と第２環状体２１１とは、それぞれドラム形状であるから、これ
らの環状体１１１，２１１自体の製造が容易であり、これらの環状体１１１，２１１を回
転駆動させる回転駆動機構１１２も簡単な構造を採用することができる。
（７）第１環状体１１１の基材シート１を挟んだ反対側には基材シート１を第１環状体１
１１側に押圧する第１押圧ローラ１６が設けられているから、基材シート１が第１環状体
１１１と第１押圧ローラ１６とで挟持される構成となり、ハードコート２を基材シート１
に十分に付着させることができる。
（８）第２環状体２１１の基材シート１を挟んだ反対側には基材シート１を第２環状体２
１１側に押圧する第２押圧ローラ２６が設けられているから、ハードコート２を表面に形
成した基材シート１が第２環状体２１１と第２押圧ローラ２６とで挟持される構成となり
、ハードコート２の上に反射防止層３を十分に付着させることができる。
【００６１】
（９）第１供給部１２と第２供給部２２とは、それぞれインクジェット式であるから、環
状体１１１，２１１の周面に供給されるハードコート形成用樹脂や反射防止層形成用樹脂
の塗布量を精密に制御してハードコート２や反射防止層３の膜厚を正確に管理することが
できる。特に、インクジェット方式は微小量の吐出制御に優れているから、ハードコート
２や反射防止層３の膜厚を薄くする場合には好適である。
【００６２】
次に、本発明の第２実施形態を図３及び図４に基づいて説明する。
第２実施形態は第１実施形態とは環状体１１１，２１１の駆動機構の構成が異なるもの
で、他の構成は第１実施形態と同じである。ここで、第２実施形態の説明において第１実
施形態と同一構成要素は同一符号を付して説明を省略する。
図３は本発明の第２実施形態にかかる反射防止フィルムの製造装置の概略を示す断面図
であり、図４は反射フィルムの製造装置の概略を示す平面図である。
図３及び図４において、第１環状体１１１及び第２環状体２１１はそれぞれ回転駆動機
構２１２に連結されている。
【００６３】
第２実施形態の回転駆動機構２１２は、第１環状体１１１の一端部に設けられた円板状
の端板２１２１と、この端板２１２１の中心を貫通固定するとともに図示しないフレーム
に回転自在に設けられた回転軸２１２２と、この回転軸２１２２の一端部に連結された歯
車機構１１１２と、この歯車機構１１１２と連結されるモータ１１１３とを備えており、
モータ１１１３の回転に伴って歯車機構１１１２を介して第１環状体１１１が図３中反時
計方向に回転される。
第２実施形態における反射防止フィルムの製造方法は第１実施形態の製造方法と同じで
ある。
従って、第２実施形態では、第１実施形態と同様に（１）〜（９）の作用効果を奏する
ことができる。
【００６４】
次に、本発明の第３実施形態を図５及び図４に基づいて説明する。
第２実施形態は第１実施形態とは回転体の構成が異なるもので、他の構成は第１実施形
態と同じである。ここで、第３実施形態の説明において第１実施形態と同一構成要素は同
一符号を付して説明を省略する。
図５は本発明の第３実施形態にかかる反射防止フィルムの製造装置の概略を示す正面図
であり、図６は反射フィルムの製造装置の概略を示す平面図である。
図５及び図６において、第３実施形態の第１回転体３１は、ハードコート形成用樹脂が
周面に供給される第１帯体３１１と、この第１帯体３１１を回転駆動する回転駆動機構３
１２とから構成される。
【００６５】
第１帯体３１１は、熱伝導率の高い金属、例えば、チタンから形成されており、その周
面は鏡面仕上げ等が施されている。
回転駆動機構３１２は、第１帯体３１１の内周の両側に互いに対向配置され駆動軸３１
３及び従動軸３１４と、駆動軸３１３を回転駆動するベルト機構３１５とを備えて構成さ
れている。駆動軸３１３と従動軸３１４とは、その周面が第１帯体３１１の内周面に噛合
されている。
【００６６】
従動軸３１４は動軸３１３より基材シート１の流れ方向上流側に配置されており、かつ
、従動軸３１４は駆動軸３１３に比べて直径が大きく形成されている。従動軸３１４と駆
動軸３１３とに噛合されている第１帯体３１１は、第１供給部１２と対向する部分が略水
平とされ、基材シート１と対向する部分が基材シート１の長手方向に従って基材シート１
から離隔するようにされている。
第１帯体３１１の内部には第１焼成部１３と第１冷却部１４とがそれぞれ収納されてお
り、第１焼成部１３が第１供給部１２の直下に位置し、第１冷却部１４が第１焼成部１３
の基材シート１の流れ方向上流側に位置している。
【００６７】
第２回転体３２は、反射防止層形成用樹脂が周面に供給される第２帯体３２１と、この
第２帯体３２１を回転駆動する回転駆動機構３１２とから構成される。
第２帯体３２１は、第１帯体３１１と同様の材質から形成されており、その内部には第
２焼成部２３と第２冷却部２４とがそれぞれ収納されている。第２焼成部２３が第２供給
部２３の直下に位置し、第２冷却部２４が第２焼成部２３の基材シート１の流れ方向上流
側に位置している。
第３実施形態における反射防止フィルムの製造方法は第１実施形態の製造方法と同じで
ある。
【００６８】
従って、第３実施形態では、第１実施形態の（１）〜（５）（７）〜（９）と同様な作
用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
（１０）第１回転体３１は、ハードコート形成用樹脂が周面に供給される第１帯体３１１
と、この第１帯体３１１を回転駆動する回転駆動機構３１２とから構成されるから、第１
帯体３１１の上面部の水平方向長さ寸法を長く設定することで、ハードコート形成用樹脂
を安定した姿勢で第１帯体３１１の上に載せることができるとともに、焼成及び冷却の時
間を十分にとることができる。しかも、第１帯体３１１を水平方向に沿って扁平にした形
状とることで、第１回転体３１の高さを低いものにできるから、装置のメンテナンス作業
が容易である。
（１１）第２回転体３２は第１回転体３１と同様の構成を採用したから、反射防止用形成
樹脂を安定した姿勢で第２帯体３２１の上に載せることができるとともに、焼成及び冷却
の時間を十分にとることができる。
【００６９】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる
範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、第１供給部１２及び第２供給部２２は、それぞれインクジ
ェット方式を採用したが、本発明では、第１供給部１２と第２供給部２２とのいずれか一
方をインクジェット方式としてもよく、あるいは、インクジェット方式に代えてロータリ
ーポンプでノズル１３１，２３１の内部を加圧するタイプを用いてもよい。
さらに、前記実施形態では、反射防止層３を単層として形成したが、本発明では、低屈
折率と高屈折率との多層構造としてもよい。この場合、第２回転体２１，３２を複数個用
意し、これらの第２回転体２１，３２から異なる反射防止層を交互に形成する。
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明は、タッチパネル、テレビ、パソコン等のディスプレイに設けられる反射防止フ
ィルムに利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる反射防止フィルムの製造装置の概略を示す正面図。
【図２】第１実施形態にかかる反射フィルムの製造装置の概略を示す平面図。
【図３】本発明の第２実施形態にかかる反射防止フィルムの製造装置の概略を示す断面図。
【図４】第２実施形態にかかる反射フィルムの製造装置の概略を示す平面図。
【図５】本発明の第３実施形態にかかる反射防止フィルムの製造装置の概略を示す正面図。
【図６】第３実施形態にかかる反射フィルムの製造装置の概略を示す平面図。
【符号の説明】
【００７２】
１…基材シート、２…ハードコート、３…反射防止層、１０…ハードコート形成機構、
１１…第１回転体、１２…第１供給部、１３…第１焼成部、１４…第１冷却部、１５…第
１プラズマ照射機構、１６…第１押圧ローラ、２０…反射防止層形成機構、２１…第２回
転体、２２…第２供給部、２３…第２焼成部、２４…第２冷却部、２５…第２プラズマ照
射機構、２６…第２押圧ローラ、３１… 第１回転体、３２…第２回転体、１１１…第１
環状体、１１２…回転駆動機構、２１１…第２環状体、２１２…回転駆動機構、３１２…
回転駆動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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