(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
切断されたガラス基板端面部を研磨により面取り加工した後に、ガラス基板端面部のみを薬液処理することにより、該端面部の微小凹部内の異物を除去することを特徴とするディスプレイ用ガラス基板の処理方法。
【請求項２】
ガラス基板の端面部の形状がＲ形状となるように研磨加工することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用ガラス基板の処理方法。
【請求項３】
ガラス基板の端面部の表面粗さが、平均粗さ（Ｒａ）で表したときに１．０μｍ以下となるように研磨加工することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用ガラス基板の処理方法。
【請求項４】
酸性溶液またはアルカリ性溶液を用いて薬液処理することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用ガラス基板の処理方法。
【請求項５】
酸性溶液が、ＨＦ、ＨＮＯ３、Ｈ２ＳＯ４、ＨＣｌ、Ｈ２Ｏ２のうち一種又は二種以上を含有することを特徴とする請求項４記載のディスプレイ用ガラス基板の処理方法。
【請求項６】
アルカリ性溶液が、ＮａＯＨ及び／またはＫＯＨを含有することを特徴とする請求項４記載のディスプレイ用ガラス基板の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンス、フィールドエミッションディスプレイ等の各種画像表示機器用のガラスパネルの製作に際しては、複数枚のガラスパネルが一枚のガラス基板から作り出される手法が採用されている。そのため、ガラスメーカーで製造されるガラス基板は、大型化が進んでいる。
【０００３】
これらのディスプレイ用ガラス基板は、矩形状で且つ所定の大きさに切断されたガラス基板端面部に対して研磨加工を施した後、そのガラス基板の表裏面を清浄な面にするための洗浄処理を行うことにより得られる。
【０００４】
すなわち、ガラス基板の切断部分は鋭利であることから、そのままでは、搬送時において、僅かな衝撃を受けただけでも欠けが生じ、隣接する他のガラス基板に傷を付けるといった問題が生じる。この問題を回避するため、特許文献１に開示されているように、ガラス基板の切断端面部に対しては、研磨加工が施される。
【０００５】
また、各種画像表示装置機器用のガラス基板には、その表面に電子機能素子等が形成されることから、高い清浄度が要求される。このような要求に応じるため、特許文献２に開示されているように、ガラス基板を洗浄液に浸漬して、洗浄液を振動させガラス基板から汚れ等を除去する洗浄処理が行われる。
【特許文献１】特開２００２−１６０１４７号公報
【特許文献２】特開２０００−１４０７７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記の処理を終えたガラス基板の表裏面には、多数の異物（パーティクル）が付着して容易に除去できない状態となっている。このような現象は、ガラス基板の四辺における切断端面部に面取加工が施された際には、その端面部が研磨によって鏡面にはならず必然的に微小な凹凸を有する面となることから、その端面部の微小凹部内にガラス粉や研磨粉が詰まり、洗浄処理時にそれらが滲み出て、ガラス基板表裏面に再付着し、乾燥時にガラス基板の表裏面のパーティクルとして残存することに由来して生じる。
【０００７】
ガラス基板端面部を研磨によって面取加工する際に、ガラス基板端面部の微小凹部内に侵入したガラス粉や研磨剤等の異物を除去し、ガラス基板へのパーティクルの付着を低減する方法として、ガラス基板を洗浄処理する際に超音波洗浄を行なうことが考えられるが、ガラス基板へのパーティクルの付着を十分に排除できないばかりでなく、ガラス基板の端面部から一定量のガラス粉や研磨粉を除去するには、不当に長い時間を要し、生産性が極めて悪化するという根本的な問題が生じる。
【０００８】
特に、近年、表示機器の高精細化が進み、これに伴ってガラス基板への清浄度がより厳しく要求されるに至っている。それにも拘らず、既述のように、ガラス基板表面へパーティクルが付着していたのでは、清浄度の厳しい要求に応じることができず、製品価値が低下するのみならず、使用に耐え得なくなり、不良品として扱われるという不具合をも招く。
【０００９】
本発明の目的は、ガラス基板端面部を研磨によって面取加工する際に、ガラス基板端面部の微小凹部内に侵入したガラス粉や研磨剤等の異物を除去し、ガラス基板表裏面へのパーティクルの付着を低減できるディスプレイ用ガラス基板の処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のディスプレイ用ガラス基板の処理方法は、切断されたガラス基板端面部を研磨により面取り加工した後に、ガラス基板端面部のみを薬液処理することにより、該端面部の微小凹部内の異物を除去することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のディスプレイ用ガラス基板の処理方法によれば、ガラス基板端面部の面取加工によって形成されたガラス基板端面部の微小凹部内に侵入したガラス粉や研磨剤等の異物を除去でき、ガラス基板の表裏面へのパーティクルの付着を低減できる。それ故、ディスプレイ用ガラス基板の処理方法として好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
一般に、ディスプレイ用ガラス基板は、所定の大きさに切断された後、その切断端面部は、面取加工が施される。この際、面取加工が施されたガラス基板端面部には、微小な凹凸が形成され、その微小凹部内にガラス粉や研磨粉等の異物が詰る。そして、ガラス基板を洗浄すると、微小凹部内からガラス粉や研磨粉等の異物が滲み出て、乾燥時にガラス基板の表裏面にパーティクルとして析出する。
【００１４】
そこで、本発明では、ガラス基板表裏面へのパーティクルの付着を低減するために、切断されたガラス基板端面部を研磨加工した後に、ガラス基板端面部のみを薬液処理している。このようにすることで、ガラス基板端面部の研磨加工によって形成された微小凹部内に詰ったガラス粉や研磨粉等の異物が薬液に溶け出す。そのため、その後、ガラス基板を洗浄処理しても、ガラス基板表裏面へのパーティクルの付着を低減することができる。
【００１５】
尚、本発明でいう「端面部」とは、ガラス基板の辺の先端から５ｍｍまでの部分をいう。
【００１６】
尚、搬送時の衝撃等による欠けや割れを防ぐために、ガラス基板の端面部形状は、断面形状がＲ形状となるように研磨加工することが好ましい。
【００１７】
また、端面部の研磨加工によって形成される微小凹部内にガラス粉や研磨粉等の異物を詰り難くするには、ガラス基板の端面部の表面粗さを細かくすればよく、具体的には、平均粗さ（Ｒａ）で表したときに、１．０μｍ以下となるように研磨加工することが好ましい。
【００１８】
尚、ガラス基板端面部のみを薬液処理する方法としては、ガラス基板の端面部のみを薬液に浸漬したり、端面部のみにシャワーを掛けたり、或いは、端面部に薬液を染み込ませたローラーブラシを押し当てればよい。或いは、ガラス基板表面に、基板端面処理に用いる薬液に対して耐性を持つ保護層を成膜する、若しくは、フィルム等を貼る等の処理を行った後、ガラス基板ごと浸漬処理やシャワーによる処理を行ってもよい。
【００１９】
ガラス基板端面部のみを薬液処理する理由は、ガラス基板端面部を面取加工した直後にガラス基板全体を薬液処理した場合、ガラス基板端面部の微小凹部内から溶け出たガラス粉や研磨粉等の異物が、ガラス基板の表裏面に再付着し、乾燥時にガラス基板の表裏面にパーティクルとして残存する恐れがあるためである。
【００２０】
また、本発明に使用する薬液としては、ガラス基板端面部の微小凹部に詰ったガラス粉や研磨粉等の異物を短時間で除去するには、酸性溶液またはアルカリ性溶液を用いることが好ましい。その理由は、酸性溶液またはアルカリ性溶液であれば、異物を容易に溶かすことができるためである。
【００２１】
尚、ガラス粉や研磨粉等の異物は、酸性溶液やアルカリ性溶液の両方に溶けるが、より短時間で異物を除去したい場合や、短時間で薬液を洗い流したい場合は、アルカリ性溶液よりもエッチング能力が高く、容易に溶液を洗い流すことができる酸性溶液を用いることが好ましく、具体的には、ＨＦ、ＨＮＯ3、Ｈ2ＳＯ4、ＨＣｌ、Ｈ2Ｏ2を単独または混合して使用することができる。特に、エッチング能力の高いＨＦを単独、または、ＨＦに他の酸やＮＨ4Ｆを混合して使用することが好ましい。
【００２２】
また、ガラス基板表面への薬液の付着による悪影響を回避したい場合は、ＨＦ等の酸性溶液よりもエッチング能力の緩やかなアルカリ性溶液を用いることが好ましく、具体的には、ＮａＯＨ及び／またはＫＯＨを含有する溶液を使用することが好ましい。
【００２３】
また、上記方法で処理されたガラス基板は、ガラス基板端面部に異物は少なくなる。そのため、ガラス基板を洗浄処理しても、ガラス基板の表裏面へのパーティクルの付着を防止することができる。
【実施例】
【００２４】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
【００２５】
表１及び表２は本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜６）を、表３は比較例（試料Ｎｏ．７及びＮｏ．８）をそれぞれ示している。
【００２６】
【表１】
0004650791.tif 000002
【００２７】
【表２】
0004650791.tif 000003
【００２８】
【表３】
0004650791.tif 000004
【００２９】
表中の各試料は次のようにして準備した。
【００３０】
まず、７３０×９２０×０．７ｍｍの大きさに切断した液晶ディスプレイ用ガラス基板（日本電気硝子製ＯＡ−１０）を用意し、ガラス基板の端面部（切断面）をＲ形状に研磨加工し、端面粗さを測定した。次に、薬液を染み込ませたローラーブラシを押し当てて、表に示す条件で薬液処理を行った。続いて、ガラス基板全体を温純水に浸漬し５分間振動して洗浄を行い、その後、ガラス基板を取り出し、乾燥した。このようにして試料Ｎｏ．１〜６を得た。また、比較例としてガラス基板端面部の薬液処理を行っていない試料Ｎｏ．７及び８を用意した。
【００３１】
尚、端面粗さについては、ガラス基板端面の稜部について、任意の５箇所を表面粗さ計（東京精密製サーフコム７５６Ａ）を用いて測定を行い平均して求めた。測長距離は３ｍｍ、測定速度は０．３ｍｍ／秒、カットオフは０．８ｍｍの条件で測定した。
【００３２】
このようにして、得られた各試料について、ガラス基板端面部の異物の残存面積割合及びガラス基板の表裏面に付着するパーティクルの量を評価した。
【００３３】
その結果、実施例である試料Ｎｏ.１〜６については、ガラス基板端面の凹部に残存する異物の残存面積割合は１０％以下と少なく、また、ガラス基板の表裏面に付着したパーティクルの量も６００個／ｍ2以下と少なかった。
【００３４】
これに対して、比較例である試料Ｎｏ.７及び８は、ガラス基板端面の凹部に残存する異物の残存面積割合は１５％以上と多く、また、ガラス基板の表裏面に付着したパーティクルの量も１０００個／ｍ2以上と多かった。
【００３５】
尚、ガラス基板端面の凹部に残存する異物の残存面積割合については、各試料のガラス基板の四辺の端面のそれぞれの中央部にセロハンテープを貼り、セロハンテープを剥がし、剥がしたセロハンテープの表面をＣＣＤ撮像装置付きの光学顕微鏡を用いて観察した。次いで、観察した画像をコンピューターに取り込み、画像処理を行って、ガラス基板の端面の面積に占める異物の付着面積の割合を求め、平均して、異物の残存面積割合とした。
【００３６】
また、ガラス表裏面に付着したパーティクルの量については、ガラス基板表面検査装置（日立ハイテク電子エンジニアリング社製ＧＩ４８３０）を用いて測定した。測定条件としてはポリスチレン標準粒子１μｍ以上を検知する条件で測定を行った。ガラス基板の表裏面のパーティクルの個数をそれぞれカウントして平均し、ガラス基板表裏面の総面積で除することにより、その個数を１ｍ2に換算して求めた。