Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月22日(2021.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
降雨による異常水位の発生を検知し報知する異常水位報知システムであって、
建物の屋内に設置され、又はアプリが読み込まれ実行されたスマートフォン又はコンピュータにより構成されるセンタノードと、
前記センタノードの周囲の屋内又は屋外に設置され、又はアプリが読み込まれ実行されたスマートフォン又はコンピュータにより構成される一乃至複数のルータノードと、
前記各ルータノードの近傍に、一乃至複数設置されるリーフノードと、を備え、
前記ルータノードは、
全球測位衛星システムにより、自己位置を表すルータ位置情報を検出し出力する、又は位置情報記憶手段に予め記録された自己位置を表すルータ位置情報を出力するルータノード位置出力手段と、
前記各リーフノードに対し周囲空間へ無線発信した質問信号に対して、又は所定の時間間隔で間歇的に、前記各リーフノードから送信されてくるリーフ応答信号を受信する応答受信手段と、
前記各リーフノードのうち前記リーフ応答信号の送信が途絶したものの有無に基づき、又は前記リーフ応答信号の強度変化に基づき、水の接近又は浸水の有無を判定し、水の接近又は浸水が有りと判定された場合に、水位検知を示す値が有効とされる水位検知情報を生成する水位検知手段と、
前記水位検知手段により出力される前記水位検知情報を前記ルータ位置情報とともに、前記センタノードへ無線送信する水位検知信号送信手段と、を備え、
前記リーフノードは、
該リーフノードの識別コードであるリーフＩＤを記憶するリーフＩＤ記憶手段と、
前記ルータノードから発信される前記質問信号を受信した場合に、又は所定の時間間隔で間歇的に、前記リーフＩＤ記憶手段に記憶されたリーフＩＤを含む前記リーフ応答信号を生成し周囲空間へ無線発信するリーフノード応答手段と、を備え、
前記センタノードは、
公衆通信回線を介して外部との通信を行う通信インタフェースと、
前記ルータノードから無線送信されてくる前記水位検知情報及び前記ルータ位置情報を受信するセンタノード受信手段と、
前記センタノード受信手段が前記水位検知情報及び前記ルータ位置情報を受信した場合において、前記水位検知情報の水位検知を示す値が有効な場合、異常水位の発生を音声又は表示により周囲に報知する第１の異常報知手段と、
前記センタノード受信手段が前記水位検知情報及び前記ルータ位置情報を受信した場合において、前記水位検知情報の水位検知を示す値が有効な場合、該水位検知情報及び該ルータ位置情報を、前記公衆通信回線を介して外部の水害情報集配信サーバへ送信する異常水位情報送信手段と、
を備えたことを特徴とする異常水位報知システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月16日(2021.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
防火対象物に設置される防災設備の配置を、シンボルを用いて図示する設備配置図を表示させるとともに、前記シンボルを表示させるか否かを切り替えるためのボタンを、前記シンボルが表示対象になっているか否かを判別可能な態様で表示させる表示制御部を備える防災支援システム。
【請求項２】
前記表示制御部は、前記シンボルが表示対象になっているか否かに応じて前記ボタンの一部又は全体を異なる色で表示させることを特徴とする請求項１に記載の防災支援システム。
【請求項３】
前記表示制御部は、前記防火対象物のフロア単位で切り替え可能なように設備配置図を表示させ、
第１の設備配置図から第２の設備配置図に切り替えられた後も、前記第１の設備配置図が表示されていた時の前記ボタンの選択状態が維持される
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の防災支援システム。
【請求項４】
前記表示制御部は、前記防火対象物の表示対象のフロアに特定の種類の防災設備が存在しない場合には、当該防災設備を示すシンボルを表示させるか否かを切り替えるためのボタンを選択不能とする
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の防災支援システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月29日(2021.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
このような要求を満たす二次電池として、リチウムイオン二次電池がある。このリチウムイオン二次電池は、負極、正極、非水電解質あるいは固体電解質などで構成され、その負極および正極の材料として用いられる活物質には、リチウムを脱離および挿入することが可能な材料が使用される。なお、非水電解質としては、支持塩であるリチウム塩を有機溶媒に溶解してなる非水電解液があり、固体電解質としては、不燃性でリチウムイオン伝導性を有する無機あるいは有機の固体電解質がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本発明の非水電解質二次電池用正極活物質は、一般式（Ｂ）：Ｌｉ１＋ｕＮｉｘＭｎｙＣｏｚＭｔＯ２（−０．０５≦ｕ≦０．５０、ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｔ＝１、０．４≦ｘ≦０．７０、０．１５≦ｙ≦０．４、０．１５≦ｚ≦０．３、０≦ｔ≦０．１、Ｍは、Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗから選択される１種以上の添加元素）で表され、層状構造を有する六方晶系の結晶構造を有するリチウムニッケルマンガンコバルト含有複合酸化物からなることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
本発明の複合水酸化物において、板状一次粒子は、平均粒径が０．３μｍ〜３μｍの範囲となる大きさで形成される。好ましくは、板状一次粒子の大きさは、平均粒径で０．４μｍ〜１．５μｍの範囲である。板状一次粒子の平均粒径が０．３μｍ未満であると、正極活物質を作製するための焼成工程において、板状一次粒子の体積収縮も低温域においても生じてしまうため、第１〜第３の低密度層と、中心部、高密度層および外殻層との体積収縮量の差が小さくなるため、正極活物質の内部において十分な数の空間部が得られない可能性がある。一方、板状一次粒子の平均粒径が３μｍより大きいときは、正極活物質を作製する際の焼成工程において、正極活物質の結晶性を高めるために、より高温での焼成が必要となり、複合水酸化物を構成する二次粒子間の焼結が進行し、正極活物質の平均粒径ＭＶや粒度分布を所定の範囲に設定することが困難となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８３】
ニッケル（Ｎｉ）は、二次電池の高電位化および高容量化に寄与する元素であり、高ニッケル比率の三元系の正極活物質とする観点から、その含有量を示すｘの値は、好ましくは０．４〜０．７の範囲、より好ましくは０．４３〜０．６５の範囲、さらに好ましくは、０．５〜０．６の範囲にあるようにする。ｘの値が０．４未満では、この正極活物質を用いた二次電池のエネルギー密度を十分に向上させることができない。一方、ｘの値が０．７を超えると、他の元素の含有量が減少し、三元系の正極活物質としての効果を得ることができない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０６】
ａ）焼成温度
リチウム混合物の焼成温度は、６５０℃〜９２０℃とすることが必要となる。焼成温度が６５０℃未満では、複合水酸化物または熱処理粒子中にリチウムが十分に拡散せず、余剰のリチウムや未反応の複合水酸化物または熱処理粒子が残存したり、得られる正極活物質の結晶性が不十分なものとなったりする。一方、焼成温度が９２０℃を超えると、正極活物質の二次粒子中の気孔が潰れてしまう可能性があり、また、正極活物質の二次粒子間が激しく焼結し、異常粒成長が引き起こされ、不定形な粗大粒子の割合が増加することとなる。二次粒子を構成する凝集部および空間部をそれぞれ適切な大きさの範囲内に制御する観点からは、リチウム混合物の焼成温度を７００℃〜９２０℃とすることが好ましく、８００℃〜９００℃とすることがより好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２４１】
次に、第１の原料水溶液を、反応前水溶液に１１５ｍｌ／分で供給することで、核生成工程用水溶液を形成し、１分間の核生成を行った。この際、２５質量％の水酸化ナトリウム水溶液と２５質量％のアンモニア水を適時供給し、核生成用水溶液のｐＨ値およびアンモニウムイオン濃度を上述した範囲に維持した。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月18日(2021.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
一面と、前記一面とは板厚方向において反対の裏面とに、主電極（３１ｃ、３１ｅ、３２ｃ、３２ｅ）をそれぞれ有する少なくともひとつの半導体素子（３１、３２）と、
前記板厚方向において前記半導体素子を挟むように前記一面側および前記裏面側のそれぞれに配置され、対応する前記主電極と電気的に接続された少なくとも一組の放熱部（４１、４２、５１、５２）と、前記放熱部に連なる複数の端子部（Ｃ１、Ｃ２、Ｅ１、Ｅ２）と、を含む複数の導体部と、前記板厚方向において２つの前記導体部の間に接合材（９１ｄ、９２ｄ）が配置されて形成された少なくともひとつの接合部（１２１、１２２）と、を有する配線部材と、を備え、
前記接合部の少なくともひとつにおいて、前記導体部のひとつである第１導体部（５１、５２）は、前記導体部の他のひとつである第２導体部（Ｅ１、Ｅ２）と対向する側の面に、高濡れ領域（１５１ｂ、１５２ｂ）と、前記板厚方向の平面視において前記高濡れ領域の外周を規定するように前記高濡れ領域に隣接して設けられ、前記高濡れ領域よりも前記接合材に対する濡れ性が低い低濡れ領域（１５１ａ、１５２ａ）と、を有し、
前記高濡れ領域は、前記平面視において、前記第２導体部における前記接合部の形成領域と重なる領域であり、少なくとも一部に前記接合材が配置された重なり領域（１５１ｃ、１５２ｃ）と、前記重なり領域に面一で連なり、前記第２導体部の接合部形成領域と重なっていない領域である非重なり領域（１５１ｄ、１５２ｄ）と、を有し、
前記非重なり領域は、前記重なり領域に面一で連なり、前記接合部に対して余剰の前記接合材を収容する収容領域（１５１ｅ、１５２ｅ）を少なくとも含む半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
高濡れ領域は、平面視において、第２導体部における接合部の形成領域と重なる領域であり、少なくとも一部に接合材が配置された重なり領域（１５１ｃ、１５２ｃ）と、重なり領域に面一で連なり、第２導体部の接合部形成領域と重なっていない領域である非重なり領域（１５１ｄ、１５２ｄ）と、を有する。そして、非重なり領域は、重なり領域に面一で連なり、接合部に対して余剰の接合材を収容する収容領域（１５１ｅ、１５２ｅ）を少なくとも含む。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月22日(2021.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スキン層が設けられた接触面で基板を洗浄する第１洗浄部材と、
スキン層が設けられていない接触面で、前記第１洗浄部材によって洗浄された後の前記基板を洗浄する第２洗浄部材と、を備える基板処理装置。
【請求項２】
前記第２洗浄部材は、側面にスキン層が設けられている、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第２洗浄部材は、スキン層が設けられた本体部と、前記接触面とスキン層が設けられたノジュール部と、を有する請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
気体が溶存した洗浄液を前記第２洗浄部材の内部に供給する洗浄液供給ユニットを備え、
前記第２洗浄部材の内部に供給された洗浄液は、前記第２洗浄部材の接触面から前記基板上に到達する、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第１洗浄部材は、スキン層が設けられていない側面を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記側面は、スキン層が設けられている第１部位と、スキン層が設けられていない第２部位と、で構成される、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記第１部位は、前記第２部位よりも前記接触面に近い位置に設けられている、請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
気体が溶存した洗浄液を前記第２洗浄部材の内部に供給する洗浄液供給ユニットを備え、
前記第２洗浄部材の内部に供給された洗浄液は、前記第２洗浄部材の表面から前記基板上に到達する、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記洗浄液供給ユニットは、
前記第２洗浄部材の内部に連通する供給ラインと、
前記洗浄液に気体を溶解させる気体溶解部と、
前記供給ラインにおいて、前記気体溶解部と前記第２洗浄部材との間に設けられたフィルタと、を有する、請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記洗浄液供給ユニットは、
前記第２洗浄部材の内部に連通する供給ラインと、
前記供給ラインに接続され、バブルを含む洗浄液を生成するバブル含有洗浄液生成部と、
前記供給ラインにおいて、前記バブル含有洗浄液生成部と前記第２洗浄部材との間に設けられたフィルタと、を有する、請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記基板に到達する洗浄液は、バブルを含む、請求項８乃至１０のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記基板に到達する洗浄液は、直径が１００ｎｍ未満のバブルを含む、請求項１１に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
前記基板に到達する洗浄液は、直径が１００ｎｍ以上のバブルを含まない、請求項１２に記載の基板処理装置。
【請求項１４】
第１洗浄部材におけるスキン層が設けられた接触面で基板を洗浄する第１洗浄工程と、
その後、第２洗浄部材におけるスキン層が設けられていない接触面で前記基板を洗浄する第２洗浄工程と、を備える基板洗浄方法。
【請求項１５】
前記第２洗浄工程では、前記第２洗浄部材の内部に直径が１００ｎｍ未満のバブルを含む洗浄液を供給し、前記第２洗浄部材の表面から前記基板上に到達させつつ、前記第２洗浄部材による洗浄を行う、請求項１４に記載の基板洗浄方法。
【請求項１６】
前記第２洗浄部材を初めて用いる前に、前記第２洗浄部材の内部に直径が１００ｎｍ未満のバブルを含む洗浄液を供給し、前記第２洗浄部材の表面から排出させる工程を備える、請求項１４または１５に記載の基板洗浄方法。
【請求項１７】
ある基板の洗浄を終え、別の基板の洗浄を始める前に、前記第２洗浄部材の内部に直径が１００ｎｍ未満のバブルを含む洗浄液を供給し、前記第２洗浄部材の表面から排出させる工程を備える、請求項１４乃至１６のいずれかに記載の基板洗浄方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月1日(2021.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１連結部材（１）と第２連結部材（２）とを装着および離脱させる連結機構（６）と、
圧力流体が給排されるリリース室（１１）であって、前記連結機構（６）の一部を構成する出力部材（８）を当該リリース室（１１）の圧力流体によって前記第１連結部材（１）内で軸方向にリリース駆動させるリリース室（１１）と、
前記出力部材（８）を挟んで前記リリース室（１１）と反対側に形成されると共に、内部に進出バネ（１５）が装着される作動室（１４）と、
前記出力部材（８）の前記軸方向に対して交差する方向に移動可能に前記第１連結部材（１）に形成された案内孔（２５）に挿入される第１操作ロッド（２６）と、
前記第１操作ロッド（２６）の移動方向に対して傾斜するように形成される楔部（２９）と、
前記楔部（２９）に係合可能であると共に、前記出力部材（８）に係合可能となっている第２操作ロッド（３１）であって、前記リリース室（１１）に突出可能となるように、前記案内孔（２５）と前記リリース室（１１）とを連通させる前記第１連結部材（１）に形成された収容孔（３０）に保密状で移動可能に挿入される第２操作ロッド（３１）と、を備える工具交換装置。
【請求項２】
第１連結部材（１）と第２連結部材（２）とを装着および離脱させる工具交換装置であって、
前記第１連結部材（１）が有する本体部分（３）と、その本体部分（３）から先端側に突設された筒状のプラグ部分（４）と、
前記プラグ部（４）が挿入可能となるように前記第２連結部材（２）に形成される装着孔（５）と、
前記第１連結部材（１）内に軸方向へ移動可能に挿入される出力部材（８）と、
前記出力部材（８）の基端側に形成されると共に、圧力流体が供給および排出されるリリース室（１１）と、
前記出力部材（８）の先端側に形成される作動室（１４）と、
前記作動室（１４）内に装着される進出バネ（１５）であって、前記出力部材（８）が基端側に付勢される進出バネ（１５）と、
前記プラグ部分（４）の筒壁に周方向へ所定の間隔をあけて形成される複数の貫通孔（１６）と、
前記貫通孔（１６）に移動可能に挿入される係合部材（１７）と、
前記出力部材（８）の先端部に形成されると共に、前記係合部材（１７）に係合可能となっているカム部（１９）と、
前記係合部材（１７）に係合可能となるように前記装着孔（５）に形成される受け面（２０）と、
前記出力部材（８）の前記軸方向に対して交差する方向に移動可能となるように前記第１連結部材（１）に形成された案内孔（２５）に挿入される第１操作ロッド（２６）と、
前記第１操作ロッド（２６）の移動方向に対して傾斜するように形成される楔部（２９）と、
前記楔部（２９）に係合可能であると共に、前記出力部材（８）に係合可能となっている第２操作ロッド（３１）であって、前記リリース室（１１）に突出可能となるように、前記案内孔（２５）と前記リリース室（１１）とを連通させる前記第１連結部材（１）に形成された収容孔（３０）に保密状で移動可能に挿入される第２操作ロッド（３１）と、を備える工具交換装置。
【請求項３】
請求項１または２の工具交換装置において、
前記作動室（１４）に圧力流体が供給および排出される、ことを特徴とする工具交換装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月26日(2021.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持して搬送する搬送キャリアが移動する搬送路を構成する搬送モジュールを含む搬送機構と、
前記搬送キャリアに保持され前記搬送機構により搬入された前記基板にマスクが位置決めされて固定されるアライメント室と、
前記搬送キャリアと前記搬送モジュールの一方に配置された複数のコイルに電流または電圧を印加することで、前記複数のコイルと、前記搬送キャリアと前記搬送モジュールの他方に配置された複数の磁石との間に発生する磁力を制御する制御手段と、
を備えるアライメント装置であって、
前記制御手段は、前記磁力を制御することにより、前記基板を保持する前記搬送キャリアが浮上した状態で前記搬送キャリアの位置を調整して、前記基板と前記マスクの位置決めを行う
ことを特徴とするアライメント装置。
【請求項２】
前記搬送キャリアは前記基板の搬送方向に配列された前記複数の磁石を有し、前記搬送モジュールは前記複数の磁石に対向するように配置された前記複数のコイルを有する
ことを特徴とする請求項１に記載のアライメント装置。
【請求項３】
前記複数の磁石は、前記搬送キャリアの搬送方向に対して左右に対になる複数の磁石列を形成するように配列される
ことを特徴とする請求項２に記載のアライメント装置。
【請求項４】
前記搬送方向に対して左右に対になるように形成された前記複数の磁石列の少なくとも一方は、さらに複数の磁石列を含む
ことを特徴とする請求項３に記載のアライメント装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記搬送キャリアの位置を、前記基板の搬送方向、前記搬送方向と交差する方向、および、前記搬送キャリアと前記搬送モジュールが対向する方向に移動させることができる
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のアライメント装置。
【請求項６】
前記搬送キャリアに配置された、前記基板と前記マスクにそれぞれ配置されたアライメントマークを同時に撮像できるアライメントカメラをさらに備え、
前記制御手段は、前記アライメントカメラが撮像した前記アライメントマークの画像に基づいて、前記基板と前記マスクの位置決めを行う
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のアライメント装置。
【請求項７】
前記搬送キャリアは、前記基板を吸着して保持する静電吸着手段を有する
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のアライメント装置。
【請求項８】
前記搬送キャリアは、前記静電吸着手段で保持された前記基板を介して前記マスクを吸着する磁気吸着手段を有する
ことを特徴とする請求項７に記載のアライメント装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のアライメント装置と、
前記搬送機構により前記アライメント室から搬送された前記基板に蒸着材料が蒸着される蒸着室と、
を備えることを特徴とする蒸着装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記アライメント室における前記搬送キャリアと前記マスクの位置決めと、前記搬送キャリアの搬送とを、同じ前記搬送機構を用いて行う
ことを特徴とする請求項９に記載の蒸着装置。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の蒸着装置を用いて前記基板に成膜することにより電子デバイスを製造する
ことを特徴とする電子デバイスの製造装置。
【請求項１２】
基板にマスクを位置決めするアライメント方法であって、
前記基板を保持する搬送キャリアと、前記搬送キャリアの搬送路を構成する搬送モジュールの一方に配置された複数のコイルに電流または電圧を印加することで、前記複数のコイルと、前記搬送キャリアと前記搬送モジュールの他方に配置された複数の磁石との間に発生する磁力を制御する制御工程を有し、
前記制御工程では、前記磁力を制御することにより、前記基板を保持する前記搬送キャリアが浮上した状態で前記搬送キャリアの位置を調整して、前記基板と前記マスクの位置決めを行う
ことを特徴とするアライメント方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、以下の構成を採用する。すなわち、
基板を保持して搬送する搬送キャリアが移動する搬送路を構成する搬送モジュールを含む搬送機構と、
前記搬送キャリアに保持され前記搬送機構により搬入された前記基板にマスクが位置決めされて固定されるアライメント室と、
前記搬送キャリアと前記搬送モジュールの一方に配置された複数のコイルに電流または電圧を印加することで、前記複数のコイルと、前記搬送キャリアと前記搬送モジュールの他方に配置された複数の磁石との間に発生する磁力を制御する制御手段と、
を備えるアライメント装置であって、
前記制御手段は、前記磁力を制御することにより、前記基板を保持する前記搬送キャリアが浮上した状態で前記搬送キャリアの位置を調整して、前記基板と前記マスクの位置決めを行う
ことを特徴とするアライメント装置である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月30日(2021.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持して搬送する搬送キャリアと、前記搬送キャリアが移動する搬送路を構成する搬送モジュールと、を含む搬送機構と、
前記搬送キャリアに保持された前記基板が搬入され、搬入された前記基板にマスクが位置決めされて固定されるアライメント室と、
前記アライメント室から前記搬送キャリアに保持された前記基板が搬入され、搬入された前記基板に蒸着材料が蒸着される蒸着室と、
前記搬送キャリアに前記基板の搬送方向に沿って配列された複数の磁石と、前記搬送モジュールに前記複数の磁石に対向するように配列された複数のコイルとの間に発生する磁力を、前記複数のコイルに電流または電圧を印加することで制御する制御手段と、
を備える蒸着装置であって、
前記制御手段は、前記搬送機構の搬送モードを、前記磁力を発生させて前記搬送キャリアと前記搬送モジュールを非接触の状態にして搬送を行う第１のモードと、前記搬送キャリアと前記搬送モジュールを接触させて搬送を行う第２のモードの間で切換え可能であることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記蒸着室において、前記搬送機構を前記第１のモードで制御する
ことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記基板を保持した状態の前記搬送キャリアの上下を反転させる反転手段を含む反転室をさらに備え、
前記アライメント室には、前記反転室から前記搬送機構により前記基板が搬入されるものであり、
前記搬送機構は、前記搬送キャリアを反転する前は前記第２のモードで搬送を行い、前記搬送キャリアを反転した後は前記第１のモードで搬送を行う
ことを特徴とする請求項１または２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記反転手段は、前記搬送モジュールが前記搬送キャリアを支持しているときに、前記搬送モジュールごと前記搬送キャリアの上下を反転させる
ことを特徴とする請求項３に記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記反転手段は、被成膜面が上方を向いた状態の前記基板を保持した状態の前記搬送キャリアの上下を反転して、前記被成膜面が下方を向いた状態とする
ことを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置。
【請求項６】
前記基板が搬入されて前記搬送キャリアにより保持されたのち、前記反転室に搬出される基板搬入室をさらに備え、
前記基板搬入室、前記反転室、前記アライメント室および前記蒸着室を含む蒸着処理工程搬送路は、直線状に配置される
ことを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記搬送キャリアは、前記基板を保持して前記蒸着処理工程搬送路を移動し、蒸着がなされた前記基板を排出した後、前記蒸着処理工程搬送路とともに循環型搬送路を構成するリターン搬送路によって前記基板搬入室に復帰する
ことを特徴とする請求項６に記載の蒸着装置。
【請求項８】
前記搬送モジュールには前記搬送方向に沿ってローラが配置され、前記搬送キャリアには前記搬送方向に沿ってガイド溝が形成され、前記第２のモードにおいて、前記搬送キャリアは、前記搬送モジュールの前記ローラが前記搬送キャリアの前記ガイド溝に挿入されて支持されながら搬送される
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項９】
前記搬送キャリアの前記ガイド溝は、前記搬送キャリアの搬送方向に対して左右に対になるように形成され、
前記複数の磁石は、前記搬送キャリアの搬送方向に対して左右に対になる複数の磁石列を形成するように配列される
ことを特徴とする請求項８に記載の蒸着装置。
【請求項１０】
前記搬送キャリアの前記ガイド溝に沿って前記複数の磁石が配列される
ことを特徴とする請求項８または９に記載の蒸着装置。
【請求項１１】
前記第２のモードにおいては前記搬送モジュールに接触した状態の前記搬送キャリアを前記磁力によって駆動し、かつ、前記アライメント室においては前記基板を保持した前記搬送キャリアの位置を前記磁力によって調整するように、前記制御手段が前記磁力の発生を制御する
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の蒸着装置を用いて前記基板に成膜することにより電子デバイスを製造する
ことを特徴とする電子デバイスの製造装置。
【請求項１３】
基板を保持して搬送する搬送キャリアと、前記搬送キャリアが移動する搬送路を構成する搬送モジュールと、を含む搬送機構により前記基板を搬送しながら、前記基板に蒸着を行う蒸着方法であって、
前記搬送キャリアは前記基板の搬送方向に沿って配列された複数の磁石を有し、前記搬送モジュールは前記複数の磁石に対向するように配列された複数のコイルを有し、前記複数の磁石と前記複数のコイルの間に発生する磁力は、前記複数のコイルに電流または電圧が印加されることで制御されるものであり、
前記蒸着方法は、
前記搬送キャリアに保持された前記基板に、マスクを位置決めして固定されるアライメ
ント工程と、
アライメントが行われた前記基板に蒸着材料を蒸着する蒸着工程と、
を有し、
前記搬送機構の搬送モードは、前記磁力を発生させて前記搬送キャリアと前記搬送モジュールを非接触の状態にして搬送を行う第１のモードと、前記搬送キャリアと前記搬送モジュールを接触させて搬送を行う第２のモードの間で切換え可能である
ことを特徴とする蒸着方法。
【請求項１４】
前記第２のモードにおいては前記搬送モジュールに接触した状態の前記搬送キャリアを前記磁力によって駆動し、かつ、前記アライメント工程においては前記基板を保持した前記搬送キャリアの位置を前記磁力によって調整するように、前記磁力の発生を制御する
ことを特徴とする請求項１３に記載の蒸着方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月22日(2021.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ばねブレーキのブレーキ力を解放する操作が行われる操作部と、
前記ばねブレーキのブレーキ力を駆動部に伝達するブレーキ力伝達部と、
前記ばねブレーキのブレーキ力を前記ブレーキ力伝達部に伝達及び遮断するクラッチ機構と、
前記操作部と前記クラッチ機構とを接続し、前記操作部の操作によって回転するラッチと、
前記ラッチの回転軸の軸方向に前記ラッチが傾くことを抑制する位置規制部とを備える
ブレーキシリンダ。
【請求項２】
前記ラッチの回転軸に直交する方向に延出する板部材を備え、
前記位置規制部は、前記板部材に取り付けられ前記ラッチとの距離を変更する変更部を有する
請求項１に記載のブレーキシリンダ。
【請求項３】
前記変更部は、回転量で距離が変更されるねじを有する
請求項２に記載のブレーキシリンダ。
【請求項４】
前記位置規制部は、前記操作部が操作されるときの前記ラッチの回転量を所定量に規制する回転規制部を兼ねる
請求項１〜３のいずれか一項に記載のブレーキシリンダ。
【請求項５】
前記ラッチと、前記ラッチが取り付けられる前記ブレーキシリンダのケースとの間に設けられる軸受を備える
請求項１〜４のいずれか一項に記載のブレーキシリンダ。
【請求項６】
前記位置規制部と前記ラッチとの間に前記ラッチが復帰可能な変位を許容する隙間を有する
請求項１〜５のいずれか一項に記載のブレーキシリンダ。
【請求項７】
ばねブレーキのブレーキ力を解放する操作が行われる操作部と、
前記ばねブレーキのブレーキ力を駆動部に伝達するブレーキ力伝達部と、
前記ばねブレーキのブレーキ力を前記ブレーキ力伝達部に伝達又は遮断するクラッチ機構と、
前記操作部と前記クラッチ機構とを接続し、前記操作部の操作によって回転するラッチと、
前記ラッチの回転軸の軸方向に前記ラッチが傾くことを規制する位置規制部と、
前記ブレーキ力伝達部を介して前記ブレーキ力が伝達される前記駆動部としての制輪子頭とを備える
ユニットブレーキ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記ブレーキシリンダについて、前記位置規制部は、前記操作部が操作されるときの前記ラッチの回転量を所定量に規制する回転規制部を兼ねることが好ましい。
上記構成によれば、位置規制部によってラッチの傾きを抑制しつつ、操作部の操作量を所定量に規制することができるため、部品点数を低減することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記ブレーキ装置は、前記位置規制部と前記ラッチとの間に前記ラッチが復帰可能な変位を許容する隙間を有することが好ましい。
上記構成によれば、位置規制部とラッチとの間に隙間があるので、位置規制部がラッチの復帰可能な変位を許容しつつ、位置規制部がラッチの過度な変位を規制することでリセット不良を抑制することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
ラッチ５１は、本体３１の保持部３１Ａの基端内面とクラッチ４３の外周面との間に支持されている。本体３１の保持部３１Ａの内面とラッチ５１との間には、針状ころ軸受５５が設置されている。ラッチ５１は、針状ころ軸受５５によって本体３１に対する回転が容易となっている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月24日(2021.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
円形ザグリ加工部２２５の内側に形成された格子状の平坦当接部２２６ａ〜２２６ｊは、ｘ軸方向に等間隔に形成された５本の平坦当接部２２６ａ〜２２６ｅと、ｙ軸方向に等間隔に形成された５本の平坦当接部２２６ｆ〜２２６ｊとを有する。ｘ軸方向に形成された５本の平坦当接部２２６ａ〜２２６ｅのうち、真ん中に位置する平坦当接部２２６ｃは、本体部２２１の中心を通り、同様に、ｙ軸方向に形成された５本の平坦当接部２２６ｆ〜２２６ｊのうち、真ん中に位置する平坦当接部２２６ｈは、本体部２２１の中心を通る。この実施形態では、支持部材２２の円形ザグリ加工部２２５の内側に格子状の平坦当接部２２６ａ〜２２６ｊを形成する例を説明したが、平坦当接部２２６は、後述する複数の支持部２３３がそれぞれ当接可能であれば、格子状に限られるものではない。また、円形ザグリ加工部２２５は、ザグリに代えて、本体部２２１を厚み方向に貫通する孔（抜き）を形成することもできる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
各アンカー２５１は、プローブカード２５のプローブ基板２５５の上面２５２に配置されており、配線基板２３の貫通孔２３２に挿通されている支持部２３３を支持するための部材である。各アンカー２５１は、後述するように支持部材２２の下面の円形ザグリ加工部２２５に形成されている格子状の平坦当接部２２６（２２６ａ〜２２６ｊ）の位置に対応するように配置される。このように、アンカー２５１を配置することにより、各アンカー２５１を土台にして設けられる各支持部２３３で配線基板２３を支持することができるので、配線基板２３の撓み等の変形を抑えることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
図６に示すように、複数のアンカー２５１は、支持部材２２の下面の円形ザグリ加工部２２５に形成されている平坦当接部２２６（２２６ａ〜２２６ｊ）の位置に対応する位置に配置される。この実施形態では、２０個のアンカー２５１（２５１ａ〜２５１ｔ）を配置する場合を例示する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
また、２０個のアンカー２５１ａ〜２５１ｔのうち、４個のアンカー２５１ｅ〜２５１ｈは、円形ザグリ加工部２２５の中心、つまり正方形Ｓの対角線の交点を中心（重心）とし、縦長（ｙ軸方向に長い）の略長方形Ｒ１の頂点の位置に配置される。略長方形Ｒ１の長辺は、略正方形Ｓの対角線の長さのほぼ２倍程度の長さとすることができる。略長方形Ｒ１の２つの長辺のそれぞれは、略正方形Ｓの一方の対向する頂点のそれぞれを通るものである。つまり、４個のアンカー２５１ｅ〜２５１ｈで形成される略長方形Ｒ１の４辺うち、アンカー２５１ｆとアンカー２５１ｇとを結ぶ長辺（右辺）は、上述した略正方形Ｓのアンカー２５１ｂを略中点として含み、アンカー２５１ｅとアンカー２５１ｈとを結ぶ長辺（左辺）は、上述した略正方形Ｓのアンカー２５１ｄを略中点として含む。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
さらに、以下では、アンカー２５１及び支持部２３３の配置を変えてＦＥＭ解析を行ない、アンカー２５１及び支持部２３３の最適化を図る。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
１…検査装置、２１…テストヘッド、２２…支持部材、２３…配線基板、２４…接続ユニット、２５…プローブカード、２６…検査ステージ、２７…チャックトップ、２８…検査ステージ、３０…ポゴピンブロック、３１…ポゴピン、３３…ポゴピンブロック支持部、４２…プローブ、５１ａ〜５１ｆ…係合部、２１１…接続部、２２４…突起部、２２５…円形ザグリ加工部、２２６（２２６ａ〜２２６ｊ）…平坦当接部、２２７…ザグリ部、２３１…端子部、２３２…貫通孔、２３３…支持部、２３４…上端面、２３５…下端面、２５１（２５１ａ〜２５１ｔ）…アンカー、２５２…上面、２５３…上面、２５４…多層配線基板、２５５…プローブ基板、２７１…載置面、３１１…上端部、３１２…下端部。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2020094941.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月26日(2021.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信装置であって、
他の通信装置と接続し、ＩＥＥＥ８０２．１１ｂａ規格におけるＰＣＲ（Ｐｒｉｍａｒｙ  Ｃｏｎｎｅｃｔｉｖｉｔｙ  Ｒａｄｉｏ）機能を用いて通信する第１の通信手段と、
前記他の通信装置とＩＥＥＥ８０２．１１ｂａ規格におけるＷＵＲ（Ｗａｋｅ  Ｕｐ  Ｒａｄｉｏ）機能を用いて通信する第２の通信手段と、
前記第２の通信手段により前記他の通信装置から受信された信号から、当該信号の信号強度もしくは信号品質を示す値を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された前記値に基づいて、前記第１の通信手段による伝送レートを設定する設定手段と、
を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記第１の通信手段を省電力状態に移行させるＷＵＲモードを開始するか、前記ＷＵＲモードを終了して前記第１の通信手段を通信可能な状態に移行させるかを制御するモード制御手段を更に有し、
前記設定手段は、前記値に基づいて、前記モード制御手段により前記ＷＵＲモードが開始された後に前記ＷＵＲモードが終了された際の前記第１の通信手段による伝送レートである第２の伝送レートを設定することを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記モード制御手段により前記ＷＵＲモードが開始される直前における前記第１の通信手段による伝送レートである第１の伝送レートが前記通信装置により使用可能な最大の伝送レートであり、かつ、前記値が所定のレベル以上である場合に、前記設定手段は、前記第１の伝送レートを、前記第２の伝送レートとして設定することを特徴とする請求項２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記第１の伝送レートが前記最大の伝送レートではない、または、前記値が所定のレベル以上でない場合に、前記取得手段により取得された前記値の変化の量が所定量以上であるかを判定する判定手段を更に有し、
前記設定手段は、前記変化の量が前記所定量以上である場合に、前記第１の伝送レートを変更して、前記第２の伝送レートとして設定することを特徴とする請求項３に記載の通信装置。
【請求項５】
前記判定手段は、前記変化が前記値の増加によるものか減少するものかを更に判定し、
前記設定手段は、前記変化の量が前記所定量以上であって、前記変化が前記値の増加によるものである場合に、前記第１の伝送レートに対して前記変化の量に対応して増加させた伝送レートを、前記第２の伝送レートとして設定することを特徴とする請求項４に記載の通信装置。
【請求項６】
前記設定手段は、前記変化の量が前記所定量以上であって、前記変化が前記値の減少によるものである場合に、前記第１の伝送レートに対して前記変化の量に対応して減少させた伝送レートを、前記第２の伝送レートとして設定することを特徴とする請求項４または５に記載の通信装置。
【請求項７】
前記変化の量に対応して増加させる量は、前記変化の量に対応して減少させる量より小さいことを特徴とする請求項５または６に記載の通信装置。
【請求項８】
前記変化の量に対応する量は、前記変化の量に対して段階的に変化することを特徴とする請求項５から７のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項９】
前記第１の通信手段が用いる周波数帯域と前記第２の通信手段が用いる周波数帯域とが異なる場合、前記設定手段は、前記第１の伝送レートを、前記第２の伝送レートとして設定することを特徴とする請求項３から８のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１０】
前記伝送レートは、前記通信装置により使用される変調方式および符号化率、フレームアグリゲーションによって連結されるフレーム数、アンテナ数のうちのいずれかを変更することにより変更されることを特徴とする請求項４から９のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１１】
前記信号はＷＵＲビーコンであることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１２】
他の通信装置と接続し、ＩＥＥＥ８０２．１１ｂａ規格におけるＰＣＲ（Ｐｒｉｍａｒｙ  Ｃｏｎｎｅｃｔｉｖｉｔｙ  Ｒａｄｉｏ）機能を用いて通信する第１の通信手段と、前記他の通信装置とＩＥＥＥ８０２．１１ｂａ規格におけるＷＵＲ（Ｗａｋｅ  Ｕｐ  Ｒａｄｉｏ）機能を用いて通信する第２の通信手段と、を有する通信装置の制御方法であって、
前記第２の通信手段により前記他の通信装置から受信された信号から、当該信号の信号強度もしくは信号品質を示す値を取得する取得工程と、
前記取得工程において取得された前記値に基づいて、前記第１の通信手段による伝送レートを設定する設定工程と、
を有することを特徴とする通信装置の制御方法。
【請求項１３】
コンピュータを、請求項１から１１のいずれか１項に記載の通信装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月26日(2021.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信装置であって、
他の通信装置と接続し、ＩＥＥＥ８０２．１１ｂａ規格におけるＰＣＲ（Ｐｒｉｍａｒｙ  Ｃｏｎｎｅｃｔｉｖｉｔｙ  Ｒａｄｉｏ）機能を用いて通信する第１の通信手段と、
前記他の通信装置とＩＥＥＥ８０２．１１ｂａ規格におけるＷＵＲ（Ｗａｋｅ  Ｕｐ  Ｒａｄｉｏ）機能を用いて通信する第２の通信手段と、
前記第１の通信手段を省電力状態に移行させるＷＵＲモードを開始するか、前記ＷＵＲモードを終了して前記第１の通信手段を通信可能な状態に移行させるかを制御するモード制御手段と、
前記モード制御手段により前記ＷＵＲモードが開始される前における前記第１の通信手段による伝送レートである第１の伝送レートを記憶部に記録する記録手段と、
前記記録手段によって記録された前記第１の伝送レートを、前記モード制御手段により前記ＷＵＲモードが終了された際の前記第１の通信手段による伝送レートである第２の伝送レートとして設定する設定手段と、
を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記ＷＵＲモードの間に、前記第２の通信手段が前記他の通信装置から送信された信号の受信に成功するか否かを判定する判定手段を更に有し、
前記判定手段により前記第２の通信手段が前記信号の受信に所定期間に渡って成功しなかったと判定された場合に、前記モード制御手段は、前記ＷＵＲモードを終了させることを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記判定手段は、前記所定期間に渡って前記信号の受信信号強度が受信閾値未満である場合に、前記信号の受信に成功しなかったと判定することを特徴とする請求項２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記ＷＵＲモードの間に、前記信号の受信信号強度が前記所定期間に渡って前記受信閾値未満である場合に、前記記録手段は、前記第１の伝送レートとして、当該第１の伝送レートより低い伝送レートに更新して前記記憶部に記録することを特徴とする請求項３に記載の通信装置。
【請求項５】
前記モード制御手段は、前記ＷＵＲモードの間に、前記他の通信装置から前記ＷＵＲモードを終了させることを示す所定の信号が前記第２の通信手段により受信された場合に、前記ＷＵＲモードを終了させることを特徴とする請求項２から４のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項６】
前記モード制御手段は、前記ＷＵＲモードの間に、前記通信装置が送信するデータがある場合に、前記ＷＵＲモードを終了させることを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項７】
前記信号はＷＵＲビーコンであることを特徴とする請求項２から６のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項８】
前記通信装置の電源電圧を一定期間測定し、当該電源電圧の平均値と分散値を算出する算出手段を更に有し、
前記平均値と前記分散値がそれぞれ第１の範囲と第２の範囲の範囲内にない場合に、前記記録手段は、前記第１の伝送レートとして、当該第１の伝送レートより低い伝送レートに更新して前記記憶部に記録することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項９】
前記平均値と前記分散値がそれぞれ第１の範囲と第２の範囲の範囲内にない場合に更新される第１の伝送レートは、前記電源電圧の平均値と前記分散値に基づいて決定されることを特徴とする請求項８に記載の通信装置。
【請求項１０】
前記伝送レートは、前記第１の通信手段が用いる変調方式および符号化率、または、ＭＩＭＯ（ｍｕｌｔｉ−ｉｎｐｕｔ  ｍｕｌｔｉ−ｏｕｔｐｕｔ）通信を行う場合の空間ストリーム数、の少なくともいずれかにより決定されることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１１】
他の通信装置と接続し、ＩＥＥＥ８０２．１１ｂａ規格におけるＰＣＲ（Ｐｒｉｍａｒｙ  Ｃｏｎｎｅｃｔｉｖｉｔｙ  Ｒａｄｉｏ）機能を用いて通信する第１の通信手段と、
前記他の通信装置とＩＥＥＥ８０２．１１ｂａ規格におけるＷＵＲ（Ｗａｋｅ  Ｕｐ  Ｒａｄｉｏ）機能を用いて通信する第２の通信手段と、を有する通信装置の制御方法であって、
前記第１の通信手段を省電力状態に移行させるＷＵＲモードを開始するか、前記ＷＵＲモードを終了して前記第１の通信手段を通信可能な状態に移行させるかを制御するモード制御工程と、
前記ＷＵＲモードが開始される前における前記第１の通信手段による伝送レートである第１の伝送レートを記憶部に記録する記録工程と、
前記記録工程によって記録された前記第１の伝送レートを、前記ＷＵＲモードが終了された際の前記第１の通信手段による伝送レートである第２の伝送レートとして設定する設定工程と、
を有することを特徴とする通信装置の制御方法。
【請求項１２】
コンピュータを、請求項１から１０のいずれか１項に記載の通信装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月22日(2021.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
紅麹は穀類にモナスカス属の菌株を繁殖させた麹で、中国、台湾などでは紅酒、老酒、紅乳腐などの醸造原料として利用されており、また古来より生薬として「消食活血」「健脾燥胃」などの効果が知られている。また、血圧降下作用、コレステロール改善作用等、様々な機能を有することが知られ、味噌、醤油、食酢等の醸造食品をはじめ、パン、麺類等、色々な食品に使われている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月17日(2021.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記アクスル・ドライブ・システム（１０）は、タンデム・アクスルとして、特にユティリティ・ビークルのタンデム・アクスルとして、構成されるものである、請求項１乃至８のいずれかに記載のアクスル・ドライブ・システム（１０、１１０）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被回収成分を回収する方法であって、
（ａ）ＣａＭｎＯ３および被回収成分含有材を含む被処理体を、不活性ガス雰囲気において、８５０℃〜１０００℃から選定される加熱温度に加熱するステップと、
（ｂ）前記不活性ガス雰囲気を１０ｖｏｌ％〜３０ｖｏｌ％の酸素を含む雰囲気に切り換え、前記被処理体を前記加熱温度に最大２時間保持して処理体を形成するステップと、
を有する、方法。
【請求項２】
前記酸素を含む雰囲気は、大気雰囲気である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記（ａ）の工程では、前記被処理体は、１時間未満の時間、前記加熱温度に保持される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
さらに、
（ｃ）前記（ｂ）で得られた処理体から、前記被回収成分含有材に含まれる被回収成分を分離する工程
を有する、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
前記（ｃ）の工程は、前記処理体を酸に溶出させる工程を有する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記被回収成分含有材に含まれる被回収成分は、イリジウム、ルテニウム、レニウム、白金、パラジウム、およびロジウムからなる群から選定される少なくとも１種を含む、請求項１乃至５のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
前記被処理体は、粉末または成形体の形態である、請求項１乃至６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
ペロブスカイト型の複合酸化物であって、
室温（２５℃）でのＸ線回折測定（Ｘ線波長０．１５４１ｎｍ）において、
Ｃａ（Ｍｎ１−ｘＡｘ）Ｏ３で表される化合物のメインピークを有するとともに、
２θ＝３３．０°〜３３．８°の位置に、Ｃａ（Ｍｎ１−ｙＡｙ）Ｏ３で表される化合物のピークを少なくとも一つ有する、複合酸化物：
ここで、Ａは、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｐｔ、Ｐｄ、およびＲｈからなる群から選定される少なくとも一つであり、０．０１≦ｘ≦０．０７であり、０．２≦ｙ≦０．８である。
【請求項９】
処理体を連続的に製造する装置であって、
ＣａＭｎＯ３および被回収成分含有材を含む被処理体を搬送する搬送手段と、
不活性ガス雰囲気において、前記被処理体を８５０℃〜１０００℃から選定される加熱温度に加熱する第１のチャンバと、
１０ｖｏｌ％〜３０ｖｏｌ％の酸素を含む雰囲気において、前記被処理体を前記加熱温度に維持する第２のチャンバと、
を有し、
前記被処理体は、前記搬送手段により、前記第１のチャンバに搬送された後、前記第２のチャンバに搬送される、装置。
【請求項１０】
被回収成分含有材は、カーボンを含む、請求項１乃至７のいずれか一つに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月6日(2021.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基油とフラーレンとを含む潤滑油組成物の検査方法であって、
前記潤滑油組成物の摩擦係数と相関関係を有する数値を測定し、その測定値が設定した範囲内にある前記潤滑油組成物を選別する潤滑油組成物の検査方法。
【請求項２】
前記潤滑油組成物の摩擦係数と相関関係を有する数値の測定が、粒径分布の測定である請求項１に記載の潤滑油組成物の検査方法。
【請求項３】
前記相関関係の相関係数の絶対値が、０．７８以上である請求項１または請求項２に記載の潤滑油組成物の検査方法。
【請求項４】
基油とフラーレンとを混合して得た潤滑油組成物を、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の潤滑油組成物の検査方法により選別する工程を含む潤滑油組成物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月16日(2021.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユウロピウムが固溶したβ型サイアロン蛍光体であって、
前記β型サイアロン蛍光体は、一般式Ｓｉ６−ｚＡｌｚＯｚＮ８−ｚ：Ｅｕ２＋（０＜Ｚ≦４．２）で示され、
以下の手順により、前記β型サイアロン蛍光体の単結晶粒子を特定し、当該単結晶粒子の５０％面積径をＤ５０とし、前記単結晶粒子の１０％面積径をＤ１０としたとき、
前記β型サイアロン蛍光体は、前記単結晶粒子からなる粒子と、複数の前記単結晶粒子が粒界を介して焼結してなる粒子とを含むものであって、
Ｄ５０が７．０μｍ以上２０．０μｍ以下であり、
（Ｄ５０−Ｄ１０）／Ｄ５０が０．６０以下であるβ型サイアロン蛍光体。
（手順）
（ｉ）前記β型サイアロン蛍光体を測定対象とする電子後方散乱回折像法の測定により、電子後方散乱回折像のデータを得る。
（ｉｉ）前記電子後方散乱回折像のデータを解析し、個々の前記β型サイアロン蛍光体の粒子における結晶方位を識別し、個々の結晶方位毎に区別できる領域を単結晶粒子とする。当該単結晶粒子の断面積を画像解析により求める。
（ｉｉｉ）前記単結晶粒子の前記断面積から累積カーブを作成し、５０％および１０％にあたる点の単結晶粒子の断面積を求め、これらを用いて、円換算した場合の直径にあたる単結晶粒子の５０％面積径および１０％面積径をそれぞれ求める。
【請求項２】
請求項１に記載のβ型サイアロン蛍光体において、
前記手順の（ｉｉｉ）において、９０％にあたる点の単結晶粒子の断面積を求め、これを用いて、円換算した場合の直径にあたる単結晶粒子の９０％面積径を求め、当該単結晶粒子の９０％面積径をＤ９０としたとき、
（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０が１．４５以下であるβ型サイアロン蛍光体。
【請求項３】
請求項１または２に記載のβ型サイアロン蛍光体において、
前記一般式において、０．００５≦Ｚ≦１．０であるβ型サイアロン蛍光体。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のβ型サイアロン蛍光体において、
前記β型サイアロン蛍光体のＤＶ５０粒径（ＪＩＳ  Ｒ  １６２９：１９９７に準拠したレーザー回折散乱法による体積基準の積算分率における５０％体積径）が５μｍ以上５０μｍ以下であるβ型サイアロン蛍光体。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載のβ型サイアロン蛍光体において、
前記単結晶粒子が粒界を介して焼結してなる粒子の数に対する前記単結晶粒子からなる粒子の数の比が１．９０以下であるβ型サイアロン蛍光体。
【請求項６】
発光光源と波長変換部材とを含む発光装置であって、
前記波長変換部材は蛍光体を含み、
前記蛍光体が請求項１乃至５のいずれか一項に記載のβ型サイアロン蛍光体を含む発光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の発光装置において、
前記発光光源が、３００ｎｍ〜５００ｎｍの波長の光を発生するＬＥＤチップを含む発光装置。
【請求項８】
請求項６または７に記載の発光装置において、
前記蛍光体が、マンガンが固溶したＫＳＦ系蛍光体をさらに含む発光装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月16日(2021.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル重合体及び着色剤を含み、
前記着色剤が金属酸化物及びカーボンブラックから選択される少なくとも１種であり、
前記アクリル重合体の酸価は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、
全光線透過率が５〜９０％であり、
全光線透過率とヘーズ値の積が１７０以下である、透明部材貼合用粘着シート。
【請求項２】
前記着色剤が金属酸化物である請求項１に記載の透明部材貼合用粘着シート。
【請求項３】
ヘーズが０．１〜１５％である請求項１又は２に記載の透明部材貼合用粘着シート。
【請求項４】
前記着色剤の一次平均粒子径が０．０１μｍ以上５μｍ未満である請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明部材貼合用粘着シート。
【請求項５】
厚みが１〜５０００μｍである請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明部材貼合用粘着シート。