【手続補正書】
【提出日】令和3年11月26日(2021.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転する基板の成膜面に蒸着材料を蒸発させて蒸着する成膜装置であって、
前記基板の成膜面と対向する面内に配置される３つ以上の蒸発源を含み、
前記３つ以上の蒸発源のそれぞれは、回転軸を中心に放射状に配置された複数のるつぼを有し、前記回転軸を回転中心として回転可能であり、
前記３つ以上の蒸発源は、前記３つ以上の蒸発源のうちの任意の３つの蒸発源の各回転中心が前記面内において三角形状を成すように配置され、
前記３つ以上の蒸発源のそれぞれの前記複数のるつぼは、蒸着位置に位置する蒸着用るつぼと、予備加熱位置に位置する予備加熱用るつぼを含み、
前記３つ以上の蒸発源のそれぞれの前記蒸着用るつぼは、前記面内において前記基板の回転中心軸から同一の距離に配置されることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記３つ以上の蒸発源のそれぞれの前記回転中心は、前記面内において前記基板の回転中心軸を中心とする同一の円上に配置されることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記３つ以上の蒸発源のそれぞれの前記蒸着用るつぼは、前記円よりも内側に配置されることを特徴とする請求項２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記３つ以上の蒸発源のそれぞれの前記予備加熱用るつぼは、前記円よりも外側に配置されることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記３つ以上の蒸発源のそれぞれの前記予備加熱用るつぼは、前記基板の回転半径よりも外側に配置されることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記蒸着位置は、該位置に位置するるつぼが前記基板に向かって蒸着材料を供給する位置であり、
前記予備加熱位置は、該位置に位置するるつぼが前記蒸発源の回転によって前記蒸着位置に移動する前に予熱される位置であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか
１項に記載の成膜装置。
【請求項７】
回転する基板の成膜面に蒸着材料を蒸発させて蒸着する成膜装置であって、
前記基板の成膜面と対向する面内に配置される複数の蒸発源を含み、
前記複数の蒸発源のそれぞれは、回転軸を中心に放射状に配置された複数のるつぼを有し、前記回転軸を回転中心として回転可能であり、
前記複数の蒸発源は、複数の第１るつぼを有する複数の第１蒸発源と、前記各第１蒸発源が有する前記複数の第１るつぼの数よりも少ない数の第２るつぼを有する第２蒸発源とを含み、
前記複数の第１蒸発源は、各回転中心が前記面内において前記基板の回転中心軸を中心とする第１円上に配置され、
前記第２蒸発源は、前記複数の第１蒸発源のうち隣接する二つの第１蒸発源の間に配置され、かつ、前記第２蒸発源の回転中心が前記隣接する二つの第１蒸発源の回転中心を結ぶ線分と同一直線上に位置しないように配置されることを特徴とする成膜装置。
【請求項８】
前記第２蒸発源は、前記各第１蒸発源よりも直径が小さい蒸発源であることを特徴とする請求項７に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記第２蒸発源の回転中心は、前記基板の回転中心軸を基準に前記隣接する二つの第１蒸発源の回転中心を結ぶ線分よりも外側に、かつ、前記第１円よりも内側に配置されることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の成膜装置。
【請求項１０】
前記各第１蒸発源の前記第１るつぼおよび前記第２蒸発源の第２るつぼは、それぞれ、蒸着位置に位置する蒸着用るつぼと、予備加熱位置に位置する予備加熱用るつぼとを含み、
前記第１蒸発源および前記第２蒸発源のそれぞれにおいて、前記各蒸着用るつぼは、前記各予備加熱用るつぼよりも前記基板の回転中心軸から近い位置に配置されることを特徴とする請求項７〜請求項９のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項１１】
前記各第１蒸発源の前記各蒸着用るつぼは、前記第１円よりも内側に配置されることを特徴とする請求項１０に記載の成膜装置。
【請求項１２】
前記各第１蒸発源の前記各予備加熱用るつぼは、前記第１円よりも外側に配置されることを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の成膜装置。
【請求項１３】
前記第２蒸発源の前記蒸着用るつぼは、前記基板の回転中心軸を基準に前記第２蒸発源の回転中心よりも内側に配置されることを特徴とする請求項１０〜請求項１２のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項１４】
前記第２蒸発源の前記予備加熱用るつぼは、前記基板の回転中心軸を基準に前記第２蒸発源の回転中心よりも外側に配置されることを特徴とする請求項１０〜請求項１３のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項１５】
前記各第１蒸発源の前記各蒸着用るつぼおよび前記第２蒸発源の前記蒸着用るつぼは、前記基板の回転中心軸から同一の距離に配置されることを特徴とする請求項１０〜請求項１４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項１６】
前記各第１蒸発源の前記各蒸着用るつぼおよび前記第２蒸発源の前記蒸着用るつぼは、前記基板の回転半径よりも外側に配置されることを特徴とする請求項１０〜請求項１５のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項１７】
前記各第１蒸発源の前記各予備加熱用るつぼおよび前記第２蒸発源の前記予備加熱用るつぼは、前記基板の回転半径よりも外側に配置されることを特徴とする請求項１０〜請求項１６のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項１８】
前記蒸着位置は、該位置に位置するるつぼが前記基板に向かって蒸着材料を供給する位置であり、
前記予備加熱位置は、該位置に位置するるつぼが前記各蒸発源の回転によって前記蒸着位置に移動される前に予熱される位置であることを特徴とする請求項１０〜請求項１７のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項１９】
前記成膜装置は複数のコーナー部を有する多角形の成膜装置であり、前記複数の第１蒸発源は、上面から見たとき、前記多角形の成膜装置の各コーナー部に対応して前記各第１蒸発源が配置されることを特徴とする請求項７〜請求項１８のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項２０】
前記成膜装置は四つのコーナー部を有する成膜装置であり、前記複数の第１蒸発源は、上面から見たとき、前記成膜装置の各コーナー部に対応して四つの第１蒸発源が矩形状の四つの角部に対応する位置に配置されることを特徴とする請求項１９に記載の成膜装置。
【請求項２１】
前記成膜装置は四つのコーナー部を有する多角形の成膜装置であり、前記複数の第１蒸発源は、上面から見たとき、前記多角形の成膜装置の各コーナー部に対応して四つの第１蒸発源が矩形状の四つの角部に対応する位置に配置され、前記各第１蒸発源の前記各蒸着用るつぼが長方形状の四つの角部に対応する位置に配置されることを特徴とする請求項１０〜請求項１８のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項２２】
前記第２蒸発源は、上面から見たとき、前記矩形状に配置される四つの第１蒸発源のうち隣接する二つの第１蒸発源の間に配置され、かつ、前記長方形状の長辺に沿って配置されることを特徴とする請求項２１に記載の成膜装置。
【請求項２３】
前記四つの第１蒸発源は、隣接する各第１蒸発源が互いに反対方向に回転することを特徴とする請求項２０〜請求項２２のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項２４】
更に、前記基板の成膜面と前記複数の蒸発源が配置される前記面との間の領域において、前記第１円よりも外側に設置される蒸発レートセンサーを含む請求項７〜請求項２３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項２５】
請求項１〜請求項２４のいずれか１項に記載の成膜装置を用いて、有機ＥＬ表示素子の電極層を形成する成膜方法。
【請求項２６】
請求項２５に記載の成膜方法を用いて、電子デバイスを製造する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第２態様による成膜装置は、回転する基板の成膜面に蒸着材料を蒸発させて蒸着する成膜装置であって、前記基板の成膜面と対向する面内に配置される複数の蒸発源を
含み、前記複数の蒸発源のそれぞれは、回転軸を中心に放射状に配置された複数のるつぼを有し、前記回転軸を回転中心として回転可能であり、前記複数の蒸発源は、複数の第１るつぼを有する複数の第１蒸発源と、前記各第１蒸発源が有する前記複数の第１るつぼの数よりも少ない数の第２るつぼを有する第２蒸発源とを含み、前記複数の第１蒸発源は、各回転中心が前記面内において前記基板の回転中心軸を中心とする第１円上に配置され、前記第２蒸発源は、前記複数の第１蒸発源のうち隣接する二つの第１蒸発源の間に配置され、かつ、前記第２蒸発源の回転中心が前記隣接する二つの第１蒸発源の回転中心を結ぶ線分と同一直線上に位置しないように配置されることを特徴とする。