(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査電極と維持電極とからなる複数の表示電極および誘電体層が順次形成されるとともに、前記誘電体層が保護膜で被覆された第１の基板と、前記第１の基板との間に放電空間が形成されるように対向配置されかつ前記表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに前記放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した第２の基板とを備え、前記放電空間に放電ガスを封入するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護膜が真空蒸着装置を用いて物理気相法により形成され、
前記真空蒸着装置が少なくとも２箇所以上の蒸発源を備え、
順次加熱蒸着により成膜を行い、かつそれぞれ異なった熱量を前記蒸発源に投入し、
前記保護膜の前記誘電体層に近い下層側の屈折率を上層側の屈折率よりも小さくすることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、大型のテレビジョンや広告、情報等の公衆表示用への利用が拡大してきているプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰともいう）およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＥＬ装置、ＳＥＤ装置、液晶表示（ＬＣＤ）装置やＰＤＰ装置等のディスプレイパネルを用いる平板表示装置は薄型軽量化が可能で低消費電力であることから、大型のテレビジョン受像機や公衆表示用モニタとしての社会的な要望が増大し、注目を集めている。特に、希ガス放電による紫外線で蛍光体を励起発光させて画像・映像表示に利用し、視認性に優れるとされるＰＤＰでは、最近、表示領域のサイズが５０インチを超えて８０インチもある大画面のＰＤＰを用いた製品が登場している。将来的には、表示領域のサイズが１００インチを超えるさらに大画面のＰＤＰ装置も計画されており、高性能化、低価格化、最適量産化等を目指して次々と新しい技術が開発されてきている。
【０００３】
ＰＤＰには交流駆動方式と直流駆動方式があるが、ここでは一般的な交流駆動方式のＰＤＰ（以下、交流駆動方式のＰＤＰをＡＣ型ＰＤＰともいう）について説明する。また、ＡＣ型ＰＤＰには各種の方式があり、図４には面放電型と呼ばれる方式を一例として、その構成の概略を斜視図で示している。ＰＤＰは、ガラス等の透明基板製の前面板ＰＡ１、背面板ＰＡ２にそれぞれ行電極、列電極が直交配置され、画素（ピクセル）となる行、列両電極の交点および両基板間にある隔壁１９により放電空間３０を形成する構造となっている。以下、図４に示した一般的な面放電型のＡＣ型ＰＤＰの構成について簡単に説明する。
【０００４】
前面板ＰＡ１は、前面ガラス基板１１上に順次表示用の走査信号を入力するための走査電極１２ａおよび放電の維持信号を入力するための維持電極１２ｂが、それぞれ対をなして平行に複数形成されて行電極となる表示電極１２が構成されている。これらの表示電極１２上に放電による壁電荷を形成するための透明な誘電体層１３が成膜され、誘電体層１３上に放電によるイオン衝撃から誘電体層１３を保護するための誘電体保護膜（以下、単に保護膜ともいう）１４が形成されている。また、隣り合う走査電極１２ａと維持電極１２ｂの対間に、表示面のコントラストを高めるため、必要に応じてブラックマトリクスとなる遮光層１５を形成することもある。
【０００５】
次に、背面板ＰＡ２は、背面ガラス基板１６上に複数の表示データ信号を入力するための列電極となるアドレス電極（データ電極ともいう）１７が、前面板ＰＡ１の表示電極１２と交差する方向に複数形成されている。アドレス電極１７の上にやはり放電による壁電荷を形成するための下地誘電体層１８が成膜されて、さらにその上にアドレス電極１７と平行して隔壁１９が形成されており、隔壁１９間には赤色、緑色および青色をそれぞれ発光する蛍光体層２０が設けられている。
【０００６】
そして、前面板ＰＡ１と背面板ＰＡ２とをその電極形成面側を対向させながら貼りあわせてフリットガラス等のシール材を用いて封着パネル化して加熱しながら脱ガス処理を行った後、放電ガスとしてＨｅ、Ｎｅ、Ｘｅ等の希ガスを４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入して、パネルの各電極に所定の電圧、波形の駆動パルスを印加して放電を行うエージングを実施し、放電空間３０が形成されたＰＤＰパネル２１が完成する。
【０００７】
完成したＰＤＰパネル２１には、走査電極１２ａ、維持電極１２ｂからなる表示電極１２およびアドレス電極１７に電気信号を供給するため、これらの電極の端子に駆動用のドライバＩＣが搭載された回路基板が接続され、制御信号回路や電源回路とともに筐体に組み込んで表示装置として完成する。各電極に所定の信号の電圧パルスを印加することにより封入された希ガスを放電させ、放電により放出される紫外線で隔壁１９間に設けられた各色蛍光体層２０を励起して赤色、緑色、青色の可視光を発光させて、カラー画像等からなる情報を表示することができる。
【０００８】
特に、前面板ＰＡ１の形成にあたっては、走査電極１２ａ、維持電極１２ｂからなる表示電極１２と誘電体層１３とが形成された前面ガラス基板１１上に放電によるイオン衝撃から誘電体層１３を保護するとともに、２次電子放出による蛍光体の発光を促進する目的で、保護膜１４が所定の条件下で電子ビーム蒸着によって形成されているが、一般的にこの保護膜１４は単結晶ＭｇＯが広く用いられている。そして、電子ビーム蒸着のような真空成膜技術によって形成されたＭｇＯの保護膜１４は、結晶性が高く緻密な膜であり、耐スパッ夕性に優れているので、放電で生じるイオン衝撃から誘電体層を保護しているのみならず、イオン衝撃により保護膜１４そのものから２次電子を放出し、駆動電圧を低下させる役割も担うという優れた特徴を有している。ガス放電によるイオン衝撃から誘電体層１３を保護する保護性能と、高い２次電子放出係数により放電電圧を下げて応答性の速い放電を実現するため、保護膜１４の結晶学的構造や各種物理的特性を改善するための各種の提案がなされている（例えば、特許文献１参照）。
【０００９】
ここで、図５に示したＭｇＯの保護膜形成用の従来の真空蒸着装置の模式図を用いて、一般的なＭｇＯ保護膜の形成方法の原理について簡単に説明する。一般的に、ＰＤＰのＭｇＯの保護膜１４は物理気相法により形成される。物理気相法とは、低圧力下で固体原料を加熱し、蒸発もしくは昇華させることにより、原料の薄膜を対象とする物体上に形成する方法である。物理気相法には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等がある。
【００１０】
図５において、真空蒸着装置４０は真空ポンプ４１が接続された密閉容器４２内に、主にＭｇＯの蒸発部となるハース４４および基板保持部となるトレイ４７からなる機器が設置されている。ＭｇＯからなる保護膜形成用原料４３は、水冷されたハース４４の蒸発源ポッド４３ａ中に供給され、酸素雰囲気下で電子銃４５から放出された熱電子ビーム４６を照射することにより、蒸発源にある原料４３に熱量が投入され、加熱・蒸発される。このとき、前面板ＰＡ１は、基板支持のための開口部４７ａを有するトレイ４７に乗せられ、図５に示す矢印の方向に沿って左側から右側に移動し、蒸発したＭｇＯは開口部４７ａを通過し、基板ヒータ４８により所定温度まで加熱された前面板ＰＡ１上に付着し、所望の形状、膜厚のＭｇＯ保護膜１４が連続的に形成される。
【００１１】
上述したように、保護膜として一般的に用いられているＭｇＯは、その本来の目的である放電空間における高い耐スパッタ性を有することと同時に、放電空間での電気的挙動として、一定の電子放出特性を有する膜であることが求められている。そのために、放電遅れ時間を短くして、高精細高画質表示を可能とするように誘電体保護膜の屈折率を波長４００ｎｍ〜１０００ｎｍの光に対して１．４〜２．０に設定することにより、保護膜からの電子放出性能を高くするための方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。一方、ＰＤＰ製造上の大きな課題として低コスト化が考えられ、主に高価な真空成膜によって形成される保護膜の生産性を考えると、搬送式の成膜装置の際には、パネル特性を確保するために放電特性を重視しつつ搬送速度を上げることで生産設備による対投資効果を向上させる必要があり、このために成膜に要するパワー（蒸発源へ投入する熱量）を上げることによって生産性を犠牲にすることなくパネル特性を確保することが必要となり、このための各種の成膜装置、成膜方法の提案がなされている（例えば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開平１１−５４０４５号公報
【特許文献２】特開２００３−３１７６３１号公報
【特許文献３】特開２００４−５５１８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、上述した物理気相法による一般的なＭｇＯの保護膜の形成においては、成膜時の投入パワーを上げることで形成される保護膜の屈折率が低下する傾向にあり、耐スパッタ性によるパネル寿命が短くなるのみならず、放電特性（例えば放電電圧）が経時的に変化する等の現象が大きな問題となっている。前者の保護膜の屈折率が低下する問題については、膜厚を厚くすることである程度の対応はできるが、放電特性の経時変化については回避できる方法がなかった。このように、図５に示した真空蒸着装置に加えて、上記の特許文献に示したような従来のＭｇＯの保護膜の形成方法においては、量産性向上と寿命特性改善を両立する方法を見い出すことが大きな課題となっていた。
【００１３】
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、ＭｇＯの保護膜の最表面の一定の厚みについては蒸発源へ投入する熱量を低下させ、耐スパッタ性を向上させることで、ＰＤＰの経時変化まで含めた性能の維持と高い量産性とを両立することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の目的を達成するために、本発明のＰＤＰは、走査電極と維持電極とからなる複数の表示電極および誘電体層が順次形成されるとともに、誘電体層が保護膜で被覆された第１の基板と、第１の基板との間に放電空間が形成されるように対向配置されかつ表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した第２の基板とを備えたプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）において、保護膜の誘電体層に近い下層側の屈折率を上層側の屈折率よりも小さくした構成を有している。
【００１５】
また、本発明のＰＤＰは、記保護膜の屈折率が下層から上層にわたって連続的に変化している構成に加えて、また、保護膜は異なる屈折率を有する複数の層からなり、かつ保護膜の屈折率が下層から上層にわたって断続的に変化している構成、また、保護膜の屈折率をｎとするとき、屈折率ｎが１．４≦ｎ≦２．０の範囲にあり、かつ屈折率の最大値が１．６０以上である構成、また、保護膜がＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ、ＢａＯ、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２のうちのいずれかの金属酸化物、または金属酸化物のいずれかを含む混合酸化物からなる構成、また、保護膜が物理気相法、化学気相法、ゾルゲル法、印刷法、塗布法、含浸法のうちのいずれかの方法により形成された保護膜である構成、さらには、保護膜が真空蒸着装置を用いて物理気相法により形成された保護膜である構成であってもよい。
【００１６】
これらの構成により、ＰＤＰの前面板に形成されるＭｇＯの保護膜を下層から上層に行くにしたがって屈折率が変化するように分布を持たせて形成しており、表示放電における放電電圧の経時変化を小さくすることができ、長期間にわたって表示品質の優れたＰＤＰを提供することが可能になる。
【００１７】
また、上記の目的を達成するために、本発明のＰＤＰの製造方法は、走査電極と維持電極とからなる複数の表示電極および誘電体層が順次形成されるとともに、誘電体層が保護膜で被覆された第１の基板と、第１の基板との間に放電空間が形成されるように対向配置されかつ表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した第２の基板とを備え、放電空間に放電ガスを封入するプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の製造方法であって、保護膜が真空蒸着装置を用いて物理気相法により形成され、真空蒸着装置が少なくとも２箇所以上の蒸発源を備え、順次加熱蒸着により成膜を行い、かつそれぞれ異なった熱量を蒸発源に投入する工程のステップを備え、保護膜の前記誘電体層に近い下層側の屈折率を上層側の屈折率よりも小さくする。
【００１８】
このＰＤＰの製造方法により、ＰＤＰの前面板を構成する誘電体層を覆うＭｇＯの保護膜を、下層から上層に行くにしたがって屈折率が変化するように分布を持たせて形成することができ、その結果放電電圧の経時変化を小さく、長期間にわたって表示品質の変化が少ない優れたＰＤＰ表示装置を提供することができる。そして、量産性向上と経時変化改善の両立が可能となるＰＤＰの製造方法を実現することが可能になる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、交流面放電型のＰＤＰの誘電体層を覆うＭｇＯの保護膜は、下層から上層に行くにしたがって屈折率が変化するように分布を持たせて形成しており、その結果放電電圧の経時変化を小さくすることができ、表示品質の優れたＰＤＰを実現できる。このような保護膜を有するＰＤＰのパネルにより、表示画面内の放電特性の経時変化が少なく、長期間にわたって表示品質の変化が少ない優れたＰＤＰ表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００２１】
本発明の実施の形態においては、ＰＤＰは背景技術の説明で図４に一例を示した面放電型のＡＣ型ＰＤＰと同様な構造を有し、図５に模式図で示した保護膜形成用の真空蒸着装置により製造の手順を概略的に述べたのと同様な製造方法により製造されるものとする。
【００２２】
（実施の形態）
本発明の実施の形態におけるＰＤＰについて、今一度、図４を用いて簡単に説明する。図４に示した面放電型のＡＣ型ＰＤＰは、各電極にパルス状の電圧を印加することで放電を放電空間３０内で生じさせ、放電に伴って背面板ＰＡ２側で発生した赤、緑、青各色の可視光を、前面板ＰＡ１の主表面から透過させる構成を有している。
【００２３】
第１の基板である前面板ＰＡ１は、走査電極１２ａと維持電極１２ｂとがストライプ状に複数対配設（図４には便宜上１対を伸ばして記載）されて表示電極１２が形成された前面ガラス基板１１上に、表示電極１２を覆うように誘電体層１３が形成されている。さらに、この誘電体層１３を覆うように保護膜１４が形成されている。
【００２４】
第２の基板である背面板ＰＡ２には、複数のアドレス電極１７が背面ガラス基板１６上に、走査電極１２ａと維持電極１２ｂとからなる表示電極１２と直交するようにストライプ状に配されている。また、下地誘電体層１８はアドレス電極１７を覆うように形成され、アドレス電極１７を保護し、可視光を前面パネル側に反射する作用を担う。この下地誘電体層１８上にアドレス電極１７と同じ方向に向けて、アドレス電極１７を挟むように伸びる隔壁１９が立設され、隔壁１９間に蛍光体層２０が配されている。
【００２５】
１対の走査電極１２ａおよび維持電極１２ｂが表示電極１２を構成し、これらとアドレス電極１７とが交差する部分に隔壁１９で囲まれて放電空間３０が形成される。各ピクセルを構成する放電空間３０内で放電を発生させ、放電に伴って蛍光体層２０から発生する赤、緑、青の３色の可視光が、前面板ＰＡ１を透過することにより、表示が行われる。
【００２６】
本発明によるＰＤＰは、屈折率が膜厚方向で一様でないという保護膜１４の特性およびその形成方法に特徴があり、その内容について図１、図２、図３を用いて説明する。図１は本発明の実施の形態におけるＰＤＰの保護膜形成用の真空蒸着装置の模式図、図２（ａ）は本発明の実施の形態におけるＰＤＰに形成されて異なる屈折率分布を有するＭｇＯ保護膜の構成を示す図、図２（ｂ）は異なる屈折率分布を有するＭｇＯ保護膜に対し、連続点灯時の放電電圧の変化を示すグラフ、図３は本発明の実施の形態におけるＰＤＰに形成されて種々の上層の屈折率を有するＭｇＯ保護膜の屈折率に対し、１００００時間連続点灯後の放電電圧変化量を示すグラフである。なお、各図において図４、図５と同じ構成要素には同じ符号を付し、重複する構成要素の詳しい説明は省略する。
【００２７】
以下、図１に示した本発明の実施の形態におけるＰＤＰのＭｇＯ保護膜を形成する真空蒸着装置５０を用いて、本発明の実施の形態におけるＰＤＰのＭｇＯ保護膜形成方法の原理を説明する。図１に示した真空蒸着装置５０の構成が図５に示した一般的なＭｇＯ保護膜を形成する真空蒸着装置４０と異なるところは、ハース４４に別にＭｇＯ保護膜形成用原料５３を第２の蒸発源ポッド５３ａに配設した第２の蒸着源およびそれを加熱するための第２の電子銃５５を設けたところである。
【００２８】
図１において、真空蒸着装置５０は真空ポンプ４１が接続された密閉容器４２内に、主にＭｇＯの蒸発部となるハース４４および基板保持部となるトレイ４７からなる機器が設置されている。ＭｇＯ等の金属酸化物のペレットからなる保護膜形成用原料４３、５３は、水冷されたハース４４の蒸発源ポッド４３ａおよび第２の蒸発源ポッド５３ａ中にそれぞれ供給され、酸素雰囲気下で電子銃４５および第２の電子銃５５からそれぞれ放出された熱電子ビーム４６、５６が照射されることにより、加熱・蒸発される。蒸発したＭｇＯは、基板ヒータ４８により所定温度まで加熱された基板である前面板ＰＡ１上に付着する。ここで、前面板ＰＡ１は基板支持のための開口部４７ａを有するトレイ４７に乗せられ、蒸発したＭｇＯが開口部４７ａを通過し、所望のＭｇＯの保護膜１４が形成される。
【００２９】
保護膜１４を形成するにあたり、成膜時の酸素ガスの供給が必要である。酸素ガスを真空蒸着装置５０の真空成膜室（真空チャンバ）となる密閉容器４２内に供給することにより、保護膜１４を目標の膜厚となるように制御する。電子ビーム照射により膜原料であるＭｇＯ等の金属酸化物を蒸発させると、膜原料から酸素原子が脱離しやすいので、酸素ガスの供給なしで形成した膜は酸素欠損状態になりやすい。そのため、成長表面には常に酸素ガスを供給する必要がある。このように、酸素ガスを供給しつつ成膜を行うことで、結果的に可視光に対する透明性を高めることができる。
【００３０】
また、保護膜１４の膜質・特性および膜厚は、基板である前面板ＰＡ１の加熱温度、酸素ガス圧力、電子銃からの電子ビームの強度、蒸着速度等の各種成膜パラメータによって任意に制御することができる。ＰＤＰにおいて保護膜１４として用いるためには、基板温度を２００℃以上、酸素ガス圧力を１０−２Ｐａ台にすることが好ましい。成膜パラメータを成膜対象となる前面板ＰＡ１の面に垂直な方向に変化させるように制御することにより、保護膜１４の膜質、特性に膜厚方向に分布を持たせて形成することが可能になる。
【００３１】
以下に、実施例として、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの保護膜１４の膜質・特性のうち屈折率に関し、膜厚方向に分布を持たせて形成試作した例について説明する。初めに、屈折率が膜厚方向で変化するＭｇＯの保護膜を図１に示した真空蒸着装置５０により、真空蒸着法で形成した際の蒸着成膜の条件例を記載しておく。
【００３２】
・到達圧力：５．０×１０−４Ｐａ以下
・蒸着時の基板（前面板ＰＡ１）の温度：２５０℃
・電子銃４５のエミッション電流：２５０ｍＡ
・第２の電子銃５５のエミッション電流：２００ｍＡ
・蒸着時の圧力：２．０×１０−２Ｐａ
・蒸発源ポッド４３ａおよび第２の蒸発源ポッド５３ａ間の距離：２０ｃｍ
この例では、膜厚方向に屈折率を変化させるために２基の電子銃のそれぞれの電子ビームの強度、すなわち電子銃のエミッション電流を変化させている。上記の条件で真空蒸着成膜を行うことで、ＭｇＯの保護膜１４の上層部から誘電体層１３に近い下層側へ向かって屈折率が連続的に小さくなるＭｇＯの保護膜１４を形成することができた。
【００３３】
なお、上述した本発明の実施の形態におけるＰＤＰのＭｇＯの保護膜を形成する実施例では、蒸発源、すなわち蒸発源ポッド間の距離を比較的短くして蒸着を行ったが、この距離を長くとること（例えば１ｍ以上）で、保護膜の屈折率が下層から上層にわたり層状に断続的に変化するＭｇＯ膜を作成することもできる。また、図１に示した真空蒸着装置では、ＭｇＯ蒸発源は２箇所設けて成膜を行ったが、３箇所以上設けて成膜を行うことも可能であり、蒸発源を増やすことでさらに細かく屈折率を制御することも可能である。さらに、上記の真空蒸着法に限らず、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を用いて保護膜を形成することが可能であり、この場合にも複数箇所の蒸発源を準備し、成膜制御を行うこともできる。
【００３４】
次に、本発明の実施の形態において図１に示した真空蒸着装置を用いて成膜した保護膜を有するＰＤＰの特性について説明する。図２（ａ）に示すように、ＭｇＯの保護膜として、屈折率が膜厚方向に１．５３で均一な膜（Ａ）と下層から上層に向かって屈折率が１．５３から１．６５へ連続的に変化させた膜（Ｂ）、下層の屈折率が１．５３で上層の屈折率が１．６５に不連続に変化している膜（Ｃ）の３種類の保護膜をそれぞれ成膜した前面板を用いて試作したＰＤＰにより、連続点灯試験を行った。図２（ｂ）に各ＭｇＯ膜での点灯時間と放電電圧の経時変化の関係を示す。この結果から、屈折率が膜厚方向に均一な従来のＰＤＰで用いられる膜（Ａ）に比べ、上層の屈折率が高い膜（Ｂ）および膜（Ｃ）のＭｇＯの保護膜を用いることで、連続点灯での放電電圧の経時変化が小さいことが確認できた。
【００３５】
また、ＭｇＯの保護膜の下層の屈折率が１．５３で上層の屈折率が１．５３、１．５５、１．５８、１．６０、１．６５に変化させた５種類の保護膜を有する前面板を用いて試作したそれぞれのＰＤＰを用いて、１００００時間点灯後の放電電圧変化量を測定した結果を図３に示す。この結果から、上層の屈折率を１．６０以上の膜に形成することで放電電圧変化が３Ｖ以下になって非常に小さくなることが明らかになった。ここで示した結果は、ＭｇＯの保護膜の屈折率を１．６０以上にすることで、緻密で結晶性の良い保護膜が得られ、保護膜の耐イオン衝撃性が向上し、ＰＤＰの寿命を長くすることができることを示したものと考えられる。なお、上述した保護膜の屈折率はエリプソメータで測定した値である。
【００３６】
既に背景技術において、ＭｇＯの保護膜の屈折率については電子放出性能を高くするため屈折率を１．４〜２．０に設定することが望ましいことを述べたが、本発明の実施の形態におけるＰＤＰのパネルにおいても屈折率が２．０を超える膜では、初期の放電電圧が上昇して良好なＰＤＰのパネル特性が得られず、また、蒸着時の投入パワーを大きく上げて形成した、屈折率が１．４以下の膜でも結晶性が悪く、この場合も良好なＰＤＰのパネル特性が得られないことが確認できており、注意が必要である。
【００３７】
また、上記説明では、異なる屈折率を有する複数の層からなるＭｇＯの保護膜について、図２（ａ）に示すように下層側の屈折率が１．５３で上層側の屈折率が１．６５とした膜（Ｃ）を用いたが、本発明の実施の形態におけるＰＤＰはこの保護膜に限定されることはなく、３層以上の複数の膜からなって、下層側の膜の屈折率が１．４以上で、上層側の膜の屈折率が２．０以下の別の構成であってもよい。
【００３８】
以上説明した結果から、本発明の実施の形態で述べた方法に基づいて形成したＭｇＯの保護膜は、下層から上層に行くにしたがって屈折率が変化するように分布を持たせて形成しており、１００００時間を超える点灯試験で放電電圧の変化が小さくなっていることを確認できた。すなわち、実施例で述べた方法に基づいて形成したＭｇＯの保護膜にあっては、表示放電における放電電圧の経時変化を小さくすることができ、表示品質の優れたＰＤＰが実現できる。
【００３９】
また、上述した実施例では、保護膜の形成にあたって、物理気相法を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、化学気相法、ゾルゲル法、印刷法、塗布法、含浸法といったほかの方法により保護膜を形成することもできる。
【００４０】
なお、本発明の実施の形態におけるＰＤＰでは、保護膜用の材料としてＭｇＯを使用したが、本発明はこれに限定されることはなく、ＭｇＯのほかにＡｌ２Ｏ３、ＣａＯ、ＢａＯ、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２等の金属酸化物やこれらの金属酸化物を含む混合酸化物であって、耐イオン衝撃性に優れ、かつ２次電子放出係数の大きい材料であれば種類を問わず、いずれの材料を用いてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明は、誘電体層を覆うＭｇＯの保護膜を、下層から上層に行くにしたがって屈折率が変化するように分布を持たせて形成しており、その結果放電電圧の経時変化を小さくすることができるので、長期間にわたって表示品質の変化が少ない優れたＰＤＰ表示装置を提供することができ、特に量産性向上と経時変化改善の両立が可能となるＰＤＰの製造方法として適用すれば効果が大きい。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施の形態におけるＰＤＰの保護膜形成用の真空蒸着装置の模式図
【図２】（ａ）は本発明の実施の形態におけるＰＤＰに形成されて異なる屈折率分布を有するＭｇＯ保護膜の構成を示す図（ｂ）は異なる屈折率分布を有するＭｇＯ保護膜に対し、連続点灯時の放電電圧の変化を示すグラフ
【図３】本発明の実施の形態におけるＰＤＰに形成されて種々の上層の屈折率を有するＭｇＯ保護膜の屈折率に対し、１００００時間連続点灯後の放電電圧変化量を示すグラフ
【図４】一般的な面放電型のＡＣ型ＰＤＰの概略構成を示す斜視図
【図５】ＭｇＯの保護膜形成用の従来の真空蒸着装置の模式図
【符号の説明】
【００４３】
ＰＡ１    前面板（第１の基板）
ＰＡ２    背面板（第２の基板）
１１    前面ガラス基板
１２    表示電極
１２ａ    走査電極
１２ｂ    維持電極
１３    誘電体層
１４    （誘電体）保護膜
１５    遮光層
１６    背面ガラス基板
１７    アドレス電極
１８    下地誘電体層
１９    隔壁
２０    蛍光体層
２１    ＰＤＰパネル
３０    放電空間
４０，５０    真空蒸着装置
４１    真空ポンプ
４２    密閉容器
４３，５３    （保護膜形成用）原料
４３ａ    蒸発源ポッド
４４    ハース
４５    電子銃
４６，５６    熱電子ビーム
４７    トレイ
４８    基板ヒータ
５３ａ    第２の蒸発源ポッド
５５    第２の電子銃
【図１】
0004835099.tif 000002
【図２】
0004835099.tif 000003
【図３】
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【図４】
0004835099.tif 000005
【図５】
0004835099.tif 000006