(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成した半導体層の表面にドーパントイオンを吸着させる工程と、
前記半導体層の表面に吸着したドーパントイオンを水素イオンに置換することで、前記半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御する工程と、
吸着したドーパントイオンを前記半導体層内に拡散させると共に当該半導体層内で活性化させる工程とを行う
半導体層のドーピング方法。
【請求項２】
前記ドーパントイオンの量を制御する工程は、水素プラズマ照射によって行う
請求項１記載の半導体層のドーピング方法。
【請求項３】
前記ドーパントイオンは燐イオンである
請求項１または２記載の半導体層のドーピング方法。
【請求項４】
前記半導体層はシリコンを主材料とする
請求項１〜３の何れかに記載の半導体層のドーピング方法。
【請求項５】
前記ドーパントイオンの吸着工程の前に、前記半導体層の結晶化が行われる
請求項１〜４の何れかに記載の半導体層のドーピング方法。
【請求項６】
前記基板は耐熱温度が２００℃以下の低耐熱性基板である
請求項１〜５の何れかに記載の半導体層のドーピング方法。
【請求項７】
前記低耐熱性基板は有機高分子材料基板である
請求項６記載の半導体層のドーピング方法。
【請求項８】
前記ドーパントイオンはレーザーアニール、ファーネスアニ−ル、およびランプアニ−ルのいずれか又はそれらの組み合わせによって活性化される
請求項１〜７の何れかに記載の半導体層のドーピング方法。
【請求項９】
基板上に形成した半導体層の表面にドーパントイオンを吸着させる工程と、
前記半導体層の表面に吸着したドーパントイオンを水素イオンに置換することで、前記半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御する工程と、
吸着したドーパントイオンを前記半導体層内に拡散させると共に当該半導体層内で活性化させる工程とを行う
薄膜半導体素子の製造方法。
【請求項１０】
前記半導体層はSOI構造の薄膜トランジスタの素子領域に用いられ、
前記ドーパントイオンの量が制御された領域は前記薄膜トランジスタの低濃度の不純物拡散領域を構成する
請求項９記載の薄膜半導体素子の製造方法。
【請求項１１】
前記基板は耐熱温度が２００℃以下の低耐熱性基板である
請求項９または１０記載の薄膜半導体素子の製造方法。
【請求項１２】
前記低耐熱性基板は有機高分子材料基板である
請求項１１記載の薄膜半導体素子の製造方法。
【請求項１３】
基板上に形成した半導体層の表面にドーパントイオンを吸着させる工程と、
前記半導体層の表面に吸着したドーパントイオンを水素イオンに置換することで、前記半導体層の表面に  吸着するドーパントイオンの量を制御する工程と、
吸着したドーパントイオンを前記半導体層内に拡散させると共に当該半導体層内で活性化させる工程とを行う
半導体層の抵抗制御方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体層のドーピング方法、薄膜半導体素子の製造方法、及び半導体層の抵抗制御方法に関し、特にエキシマレーザアニールによる結晶化半導体層を用いたドーピング方法や薄膜トランジスタなどの薄膜半導体素子の製造方法、及び半導体層の抵抗制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
【０００３】
高度情報化時代の進展に伴い、入出力装置の重要性が急激に増しており、装置の高機能化が求められている。さらに、近年携帯端末機の普及は目覚しく、それに伴い、従来のガラス基板に対して、軽量性、可とう性、非破壊性に優れているプラスチック基板上へのＴＦＴ作製技術が望まれている。このような状況のなかで薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔoｒ）を用いたアクティブマトリクス液晶表示素子（ＡＭ−ＬＣＤ）や、密着型イメージセンサ（ＣＩＳ）等の研究開発が活発に行われている。
【０００４】
シリコンからなる半導体膜をチャンネルに用いた薄膜トランジスタを、キャリア走行層（活性層）の構成材料から分類すると、非晶質シリコン（アモルファスシリコン：ａ−Ｓｉ）からなる半導体膜を用いたものと結晶相を有する多結晶質シリコン（非単結晶の結晶質シリコン）からなる半導体膜を用いたものとに分類することができる。多結晶質シリコンとしては主として多結晶シリコン（ｐｏｌｙ−Ｓｉ）、または微結晶シリコン（μｃ−Ｓｉ）が知られている。
【０００５】
多結晶シリコン（ｐｏｌｙ−Ｓｉ）あるいは微結晶シリコン（μｃ−Ｓｉ）などの多結晶質シリコン（非単結晶の結晶質シリコン）からなる半導体は、アモルファスシリコンからなる半導体と比較してキャリアの移動度が１０倍から１００倍程度大きいという特徴があり、スイッチング素子の構成材料として非常に優れた特性を有している。また多結晶質シリコンを活性層に用いた薄膜トランジスタは高速動作が可能なことから、近年では各種論理回路（例えばドミノ論理、ＣＭＯＳトランスミッションゲート回路）やこれらを用いたマルチプレクサ、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、ＣＣＤ、ＲＡＭ、さらに液晶表示装置、エレクトロルミネセンス表示装置等の駆動回路などを構成するスイッチング素子としても注目されている。また、近年、このような多結晶シリコンをチャンネル半導体膜として用いた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をスイッチング素子及び周辺の駆動回路として採用したアクティブマトリクス型液晶表示装置が注目されている。安価な非結晶質のガラス基板を用いて低温成膜ができる多結晶シリコン半導体膜を用いて薄膜トランジスタアレイを構成することにより、反射型や大面積、高精細、高画質かつ安価なパネルディスプレイ（例えばフラット型テレビジョン）を実現できる可能性があるからである。
【０００６】
一方、ｐｏｌｙ−ＳｉＴＦＴを液晶表示装置等の画素選択用スイッチング素子に用いる場合、オフ電流が大きく、表示品質が低いという問題がある。従来の単結晶のＭＯＳトランジスタでは、ゲート逆バイアスにおいて、チャンネルがソース又はドレインと逆極性になり、空乏層が形成されて十分な耐圧及び整流性を示すため、リーク電流の増加はなかった。しかしながら、ｐｏｌｙ−ＳｉＴＦＴでは半導体膜を構成する結晶粒子の粒界、あるいは粒子内の欠陥を経由して電流が流れてしまうため、大きなリーク電流が発生するという問題がある。さらに、ＭＯＳトランジスタは、それほど大きなゲート逆バイアスでは用いられないために、リーク電流は問題とはならなかった。ところが、例えばアクティブマトリクス型液晶表示装置に用いられるｐｏｌｙ−ＳｉＴＦＴでは、約１０Ｖ以上の逆バイアス下で用いられるため、リーク電流が大きな問題となる。この問題は、液晶表示装置の画素選択用薄膜トランジスタにｐｏｌｙ−Ｓｉを用いる場合に特に重要な問題である。
【０００７】
このリーク電流を低減するためには、ドレイン端での電界を緩和することが効果的であり、これまでにＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）構造（電子通信学会総合全国大会，２−２０，ｐｐ．２７１  １９７８）が効果的である事が知られている。これはドレイン端に低ドーズの例えば１ｘ１０１４／ｃｍ２以下で不純物を活性化した領域を形成しドレイン端での電界を緩和するものである。
【０００８】
薄膜トランジスタのようなＬＤＤ構造は、従来、例えば以下のような工程により形成されている。まず水素を含有する非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ：Ｈ）膜をガラス基板上に形成し、ランプアニールで水素抜きを行う。その後レーザ結晶化で、多結晶シリコン（ｐｏｌｙ−Ｓｉ）半導体膜を形成した後、ゲート絶縁膜およびゲート電極を形成し、このゲート電極をマスクとして不純物イオンのヘビードープを行う。このときゲート電極はチャネル領域およびＬＤＤ領域を覆うようにパターニングしておく。ついでゲート電極をチャネル領域のみを覆うように再度パターニングする。そして再度パターニングしたゲート電極をマスクと不純物イオンのライトドープを行う。この結果ＬＤＤ構造の形成が可能となる。このような工程は、例えば特開２０００−２２８５２６号公報にその記載がある。
【０００９】
このような手法によりＬＤＤ構造を形成する場合、ゲート電極のパターニング時のマスクずれなどにより、チャネル領域の両側でＬＤＤ長（チャネル領域とコンタクト領域との間のＬＤＤ領域の厚さ）が異なったり、ばらついたりするという問題がある。このため薄膜トランジスタの特徴がばらつき、また薄膜トランジスタの生産性が低下してしまうという問題がある。また、マスク合わせマージンを確保するため、ＬＤＤ長を約２μｍ以下にすることはできない。このためＬＤＤ領域が高抵抗になり、キャリアの移動度が減少してしまうという問題がある。従って、ＬＤＤ長の制御性が良い自己整合型プロセスで、低ドーズ量の例えば１ｘ１０１４／ｃｍ２以下での制御性が充分であるプロセスの開発が重要である。
【００１０】
ところで、ｐｏｌｙ−ＳｉＴＦＴは製造工程上プロセス最高温度が１０００℃程度に達し、耐熱性に優れた石英ガラス等がｐｏｌｙ−ＳｉＴＦＴ製造用の絶縁基板として用いられている。すなわち製造プロセス上、比較的低融点のガラス基板を使用することは困難とされている。しかしながら、液晶ディスプレイの低コスト化の為には低融点ガラス板材料の使用が必要不可欠である。そこで、近年プロセス最高温度が６００℃以下になる所謂低温プロセスの開発が進められ、実際にデバイスの作製がなされている。さらに、最近では、より低温で大面積化が容易であるプラスチック基板を用いる事も検討されている。プラスチック基板の変形温度は、耐熱性のある材料によって形成された場合でも、せいぜい２００℃である。従って、基板がプラスチックにより形成されている場合には、全てのプロセスを２００℃以下という従来に比較して超低温の条件で行わせざるを得ない。
【００１１】
液晶ディスプレイの大型化に伴い、低温プロセスのｐｏｌｙ−ＳｉＴＦＴでは大面積の半導体薄膜にスループット良く不純物を注入できるイオンドーピング法やプラズマドーピング法が用いられている。イオンドーピング法は不純物気体をイオン化した後、質量分離を行うことなく電界加速して大面積の半導体薄膜に一括して不純物イオンを照射するものであり、プラズマドーピング法は不純物気体と成膜ガスを同時にイオン化し、基板表面に不純物イオンと共に成膜する方法である。これに対し、イオンインプランテーションは不純物イオンの質量分離を行った後、イオンビームにして半導体薄膜を照射するものである。このように大面積可に有利なでイオンドーピング法や、プラズマドーピング法であるが、一方で、これらのプロセスは膜中に水素を多量に含んでしまうため、プラスチック基板のようなさらに低温でのプロセスでは水素抜きの温度（４００℃）が得られずエキシマレーザーによる結晶化（ＥＬＡ: Excimer Laser Anneal）時に内部の水素が噴出し膜を破壊してしまうという問題が起こってしまう。また、原理上、自己整合型のプロセスには向かないなどの問題もある。
【００１２】
ところで、最近、２００℃以下のプロセスでドーピング可能な方法としてLaser-Induced Melting of Predeposited Impurity Doping法 (レーザーインデュースド・メルティング・プレディポジッテド・インピュイティ・ドーピング法；ＬＩＭＰＩＤ法)が注目されている。これは不純物気体をイオン化し、半導体薄膜表面に不純物イオンを吸着させた後、エキシマレーザーにより膜中に溶かし込む方法で、膜中に水素を取り込まないだけでなく、自己整合化プロセスにも最適であり、低温プロセスへの最適性と併せて注目されている（特開昭６１−１３８１３１号公報、特開昭６２−００２５３１号公報、特開昭６２−２６４６１９号公報、及び特開平９−２９３８７８号公報参照）。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
エキシマレーザーを用いたＬＩＭＰＩＤ法は自己整合化プロセスにも最適であり、低温プロセスへの最適性と併せて注目されている。このＬＩＭＰＩＤ法では１ｘ１０１５〜１ｘ１０１６／ｃｍ２程度の高ドーズ量で不純物を半導体薄膜中に電気的に活性化することができる。しかしながら、１ｘ１０１４／ｃｍ２以下で不純物のドーズ量を精密良く制御することは原理上困難である。これは、例えばＳｉ最表面に１原子層の不純物イオンが吸着した場合でも、エキシマレーザーアニールによって１ｘ１０１５〜１ｘ１０１６／ｃｍ２程度の高ドーズ量で不純物が活性化されてしまうからである。さらに、従来の方法では１原子層の不純物イオンの吸着は極めて短時間で起こるため、低ドーズ量での制御は困難であった。
【００１４】
図１３はプラズマ照射によって燐を吸着させた後でエキシマレーザーを用いたアニ−ルを施した場合のシート抵抗を示すグラフである。図１３に示す実験においては、不活性ガスであるアルゴンガスによって、フォスフィン（PH３）を種々の分圧としながらシート抵抗σｓの値が測定されている。なお、この実験において、プラズマ照射条件は、アルゴンガスは流量５〜１５０ｓｃｃｍであり、フォスフィン・水素の流量は３〜１０ｓｃｃｍであり、全圧力は４７５ｍTorr、基板温度１３０℃、RFパワー２０W、照射時間は１分である。また、エキシマレーザーを用いたアニ−ルの条件が３０８nmのXeClエキシマレーザーを用い、３００ｍJ／ｃｍ２のエネルギー密度で、オーバーラップ率９８％である。図１３からも明かなように、フォスフィンの分圧を変えた場合であっても、結果としてのシート抵抗σｓの値に大きな変化がなく、分圧の制御によっては不純物拡散領域の不純物濃度は制御できないことが示されている。
【００１５】
一方、従来のイオンインプランテーションでは自己整合化プロセスにも最適であり、低ドーズ量のコントロールは可能である。しかし、一般にシリコン基板に対してのプロセスでは、プロセス中に基板の温度が上昇してしまうため、基板の静電チャックで冷却板吸着させ、裏面から放熱する方法をとっているが、この方法はプラスチック基板の熱伝導性、電気伝導性を考えた場合困難である。また、大面積の半導体薄膜に対して一括して不純物を打ち込むことはできず、液晶ディスプレイの製造に際してスループットが悪化するという課題もある。
【００１６】
そこで、本発明は、上述の技術的な課題に鑑み、低耐熱性基板を使用した場合においても、低濃度の不純物拡散領域を制御性良く形成することが可能な半導体層のドーピング方法、薄膜半導体素子の製造方法、及び半導体層の抵抗制御方法の提供を目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するため、本発明の半導体層のドーピング方法は、基板上に形成した半導体層の表面にドーパントイオンを吸着させる工程と、前記半導体層の表面に吸着したドーパントイオンを水素イオンに置換することで、前記半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御する工程と、吸着したドーパントイオンを前記半導体層内に拡散させると共に前記半導体層内で活性化させる工程とを有することを特徴とする。
【００１８】
ここで半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御する方法としては、例えば、半導体層を形成する材料のダングリングボンドの終端量を制御する方法や、半導体層の表面に吸着されたドーパントイオンをエッチングにより部分的に除去する方法が挙げられる。ダングリングボンドの終端量を制御する方法について例示すると、水素イオンをダングリングボンドの終端部に吸着させる方法や、半導体層が形成される基板の温度を変化させる方法があり、より具体的には吸着するドーパントイオンのドーパントガスをドーパントイオン濃度が１％未満となるように水素ガス、或いは水素ガス及び不活性ガスの混合ガスでで希釈する方法を用いることができる。
【００１９】
上述の本発明の半導体層のドーピング方法によれば、基板上に形成された半導体層の表面にドーパントイオンが吸着されることになるが、そのドーパントイオンの量が制御されるため、半導体層に導入されて活性化される量も精密に制御でき、特に低耐熱性基板上に低濃度不純物拡散領域が再現性良く形成される。
【００２０】
また、本発明の薄膜半導体素子の製造方法、および半導体層の抵抗制御方法は、基板上に形成した半導体層の表面にドーパントイオンを吸着させる工程と、前記半導体層の表面に吸着したドーパントイオンを水素イオンに置換することで、前記半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御する工程と、吸着したドーパントイオンを前記半導体層内に拡散させると共に前記半導体層内で活性化させる工程とを有することを特徴とする。また、本発明の薄膜半導体素子は上述の製造方法を用いて製造されることを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の半導体層のドーピング方法の一実施形態について、図１を用いて説明する。本実施形態の半導体層のドーピング方法は、その基本的な工程を示したものであり、プラスチックなどの低耐熱性絶縁基板上に形成されたシリコン層に対しても制御性良く低濃度不純物拡散領域を形成できる製法である。
【００２２】
初めに、図１の（ａ）に示すように、絶縁基板上に半導体層であるシリコン層１１が形成されており、この段階ではエキシマレーザーのレーザービームの照射によって結晶化がなされているものとする。このシリコン層１１の表面では、例えば微結晶の形式でシリコン原子１１ａが存在する。各シリコン原子１１ａからは一部のシリコン原子１１ａからダングリングボンド１１ｂが出ている構成とされる。
【００２３】
次に図１の（ｂ）に示すように、半導体成膜ガスを含まないドーパントガスからなるプラズマを使用してシリコン層１１の表面のダングリングボンド１１ｂを終端させるようにドーパントガスイオンを吸着させる。ここでドーパントガスは燐イオン１２ｐを含むＰＨ３ガスを水素Ｈ２で希釈したガスであり、プラズマガス中には燐イオン１２ｐと水素イオン１２ｈが混在して、これら燐イオン１２ｐと水素イオン１２ｈがそれぞれダングリングボンド１１ｂを終端させるようにシリコン層１１の表面に吸着される。仮に、燐イオン１２ｐのみの存在下ではシリコン層１１の表面の殆どのダングリングボンド１１ｂに燐イオン１２ｐが吸着してしまい、不活性ガスで燐系ガスの分圧を下げた場合でも低濃度の拡散領域の形成が困難であった（図１３参照）が、本実施形態では水素イオン１２ｈが燐イオン１２ｐによるダングリングボンド１１ｂの終端量を制御することになり、シリコン層１１の表面での燐イオン１２ｐの濃度を吸着段階で下げることができる。
【００２４】
続いて、図１の（ｃ）に示すように、絶縁基板１０上のシリコン層１１の表面にエキシマレーザーのビームを照射して、シリコン層１１の表面に吸着している燐イオン１２ｐをシリコン層１１中に拡散させる。エキシマレーザーの照射によって、シリコン層１１は瞬間的に溶融し、吸着されていた燐イオン１２ｐを膜中に溶かし込む。この時、ダングリングボンド１１ｂの一部を終端していた水素イオン１２ｈはガス化してＰＨ３ガスとして雰囲気ガス中に蒸発し、一方、燐イオン１２ｐはシリコン層１１に拡散して低濃度の不純物拡散領域を形成して行く。水素イオン１２ｈがダングリングボンド１１ｂを終端するように吸着していたことから、燐イオン１２ｐは低濃度に拡散され、特にシリコン層にＴＦＴのＬＤＤ構造を形成した場合の低濃度不純物領域を制御性良く形成することができる。
【００２５】
本実施形態のドーピング方法では、不純物が吸着する濃度を精密に制御する手段として、半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御することが行われており、その方法として、水素イオンを吸着させるガスを流してドーパントイオンのドーパントガスを希釈することが行われ、これに加えて基板温度を変化させたり、ガスの流量や分圧を制御したり、ドーパントイオンのドーパントガスと水素系のガスの混合ガスを更に不活性ガスで希釈したり、さらには吸着のためのプラズマ照射の条件を制御することも可能である。また、一旦半導体層の表面に吸着したドーパントイオンをエッチングなどの方法で取り除くことも可能であり、水素プラズマ処理工程を追加して半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御することもできる。ドーパントイオンをエッチングなどの方法で取り除く方法とガスの流量や分圧を制御や基板温度の制御と組み合わせることも可能である。
【００２６】
ドーパントガスに水素ガスを混ぜることにより、プラズマ処理中にシリコン層の表面にドーピングイオンの吸着と同時に水素のパッシベーションが生ずる。水素によってパッシベーションされたシリコンのボンドにドーピングイオンが吸着するためには、SiとHの結合を切断する必要があるため、ドーピングイオンの吸着速度を遅らせることにより、プロセスウインドを大きくしてプロセスの制御性を向上させることができる。一方、室温付近でシリコン表面に吸着した水素は比較的安定であり、特に水素が燐と同時に吸着している場合、P−Si−Hの複合体を形成し、水素の解離エネルギーが上昇し、Si−Hの結合は安定である。他方、この結合は基板温度が１００℃程度になると壊れ易くなる。そこでLDD構造の低濃度不純物拡散領域を形成する場合では、燐の吸着量を少なくする必要があり、室温付近で水素を大量に含んだガスでドーピングガスを含んだプラズマを照射すれば良く、ソース・ドレイン領域のように高濃度不純物拡散領域を形成する場合では、燐の吸着量を多くする必要があり、水素濃度を減らし、基板温度を上昇させてプラズマを照射させることでエキシマレーザーアニール後の薄膜の抵抗を精度良く制御することができる。
【００２７】
吸着されたドーパントイオンは、図１の（ｃ）のようにエキシマレーザーの如きエネルギービームの照射によって活性化されるが、ドーパントイオンの活性化と基板上の半導体層の再結晶化を同時に行うようにすることも可能である。ドーパントイオンの活性化や基板上の半導体層の再結晶化にエネルギービームの一例として、エキシマレーザーを使用する場合、ＡｒＦエキシマレーザー、ＸｅＦエキシマレーザー、ＸｅＣｌエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー等を用いることができる。ドーパントイオンの活性化の手段としては、エキシマレーザーなどのエネルギービームを使用することが挙げられるが、これらに限定されずにランプアニールやファーネスアニールなどの加熱手段を使用しても良い。
【００２８】
ドーパントイオンの吸着時のプラズマ照射条件を制御する場合、ドーピングガスに水素ガスあるいは不活性ガスと水素ガスの混合ガスを混合したガスからプラズマを生成してプラズマの照射を行うことが可能であるが、これに限らずドーピングガスを含有するガスのプラズマ照射前或いは照射後で水素プラズマ照射を行うようにしても良い。一般に、ドーピングガスを希釈する水素ガスの濃度が高い程、不純物拡散濃度をさげることができ、また、半導体層表面の温度が低い場合ほど不純物拡散濃度をさげることができる。プラズマ照射条件は、ドーパントガスと水素ガスを含有する混合ガスの流量や圧力、基板温度や、照射時間、RFパワーなどの各条件であり、これらをそれぞれ制御或いはこれらの組み合わせを制御することで、再現性良く低濃度不純物拡散領域を形成することができる。
【００２９】
本件発明者は、半導体層の表面に吸着するドーパントイオン量を制御するための手段として、希釈ガスによって制御する方法、プラズマ照射時間によって制御する方法、基板温度によって制御する方法、水素プラズマ処理によって制御する方法についての実験を行っており、ここではその実験結果から得られたデータについて図２乃至図６を参照しながら説明する。
【００３０】
図２はドーパントガスとしてフォスフィン（ＰＨ３）を使用し、そのフォスフィン（ＰＨ３）の濃度が約１％となるように水素ガス（Ｈ２）で希釈し、さらにそれを希釈するガスとして、不活性ガスとしてのアルゴンと水素の混合ガスを水素分圧０％（アルゴン分圧１００％）から水素分圧１００％（水素分圧０％）の範囲で変化させて混合し、その上で、厚み７０nmの非単結晶シリコン膜に前記混合ガスを用いてプラズマ照射を行い、その場合のシート抵抗(ｓを測定したものである。測定結果として、横軸は水素含有ドーパントガスとアルゴンとの混合ガスの混合比を示し、縦軸は薄膜半導体層のシート抵抗(ｓを示す。なお、この測定において、フォスフィン（ＰＨ３）に水素ガス（Ｈ２）を約９９％となるように含有させたガスは６９ｍTorrであり、アルゴンと水素の混合ガス中のアルゴンガス分圧は４０６・XｍTorr（Xは数値（％））であり、アルゴンと水素の混合ガス中の水素ガス分圧は４０６・（１００−X）ｍTorr（Xは数値（％））である。
【００３１】
この図２からも明かなように、特にアルゴンガスの分圧の低いすなわち水素ガスの分圧の高い領域で、５ｘ１０３〜６ｘ１０３Ω／ｃｍ２程度の高抵抗化が可能とされ、水素ガスがドーパントガスに対して希釈する効果が現れている。すなわち、水素ガスが存在することで薄膜半導体膜上に水素ガスが高い割合で吸着され、その分だけ燐の濃度を低減して高抵抗化が実現されていることが分かる。
【００３２】
図３はエキシマレーザーのエネルギー密度（ｍJ／ｃｍ２）に対する燐イオンの濃度変化を測定した図であり、アルゴン分圧が１００％の場合は黒四角で示す点で表され、水素分圧が１００％の場合は黒丸で示す点で表されている。一般のエキシマレーザーのエネルギー密度が低い方が燐イオンの濃度が高くなっているが、アルゴン分圧が１００％の場合の方が水素分圧が１００％の場合に比べて燐イオンの濃度が高くなり、低濃度不純物拡散領域を形成する場合にはアルゴン分圧よりも水素分圧を高くした場合の方が望ましいことが分かる。
【００３３】
本件発明者は、プラズマ照射時間とシート抵抗値の関係についても実験を行っている。実験は膜厚７０nmの非単結晶シリコン層に対して、プラズマ照射時間による制御された燐の吸着と、エキシマレーザーアニールによる活性化を図ったものである。図４において、横軸はプラズマ照射時間（秒）であり、縦軸はシート抵抗値(ｓ（Ω／ｃｍ２）である。図４からも明かなように、プラズマ照射時間を長くする程、そのシート抵抗値(ｓが低下する傾向があり、プラズマ照射時間を短くすることで不純物拡散領域の高抵抗化を図ることができる。シート抵抗値(ｓの低下はほぼ指数関数的な変化を示しており、照射開始後の短い時間で、抵抗値が大きく低下していくことが分かる。なお、この実験において、照射時間以外のプラズマ照射条件は、フォスフィン（PH３）と９９％の水素（H２）の混合ガスを流量１０ｓｃｃｍとし、アルゴンガスを流量５０ｓｃｃｍで導入し、圧力を４７５ｍTorr、基板温度を１３０℃、RFパワーを２０Wに設定している。また、活性化のためのエキシマレーザーアニールの条件については、エキシマレーザーとしてXeCｌエキシマレーザー（波長３０８nm）が使用され、９８％のオーバーラップ率で順じ照射したものである。
【００３４】
半導体層の表面に吸着するドーパントイオン量を制御するための手段としては、さらにプラズマ照射時の基板温度の制御も有効であることが、実験から見出されている。図５は基板温度（K）を変化させて膜厚７０nmの非単結晶シリコン層のシート抵抗値(ｓの変化を測定したものである。図５において、横軸が基板温度（K）であり、縦軸がシート抵抗値(ｓ（Ω／ｃｍ２）である。図５からも明かなように、プラズマ照射時の基板温度を高くする程、そのシート抵抗値(ｓが低下する傾向があり、プラズマ照射時の基板温度を高くすることで不純物拡散領域の高抵抗化を図ることができる。なお、この実験において、基板温度以外のプラズマ照射条件は、フォスフィン（PH３）と９９％の水素（H２）の混合ガスを流量１０ｓｃｃｍとし、アルゴンガスを流量５０ｓｃｃｍで導入し、圧力を４７５ｍTorr、基板温度を１３０℃、RFパワーを２０W、そしてプラズマ照射時間を１分に設定している。また、活性化のためのエキシマレーザーアニールの条件については、エキシマレーザーとしてXeCｌエキシマレーザー（波長３０８nm）が使用され、９８％のオーバーラップ率で順じ照射したものである。
【００３５】
更に、半導体層の表面に吸着するドーパントイオン量を制御するための手段としては、水素プラズマ処理工程を加えるようにすることでも可能であり、図６に示すように、ドーピングガスを用いたプラズマ照射を行った後、水素ガスを用いたプラズマ照射を行って、既に半導体薄膜の表面に吸着している燐イオンを水素イオンに置換して、吸着するドーパントイオン量を制御することができる。図６はシート抵抗値(ｓ（Ω／ｃｍ２）の水素プラズマ照射依存性を示す図であり、図６において、横軸は水素プラズマの照射時間（秒）であり、縦軸はシート抵抗値（Ω／ｃｍ２）である。水素プラズマ処理の時間が長くなる程、シート抵抗値(ｓが増大する傾向にある。従って、水素プラズマ処理の時間を制御することで、所望のシート抵抗値（Ω／ｃｍ２）を有する不純物拡散領域を形成ことができることになる。なお、この実験において、半導体膜として膜厚４０nmの非単結晶シリコン膜が使用され、ドーピングガスのプラズマ照射条件は、フォスフィン（PH３）と９９％の水素（H２）の混合ガスを流量１０ｓｃｃｍとし、アルゴンガスを流量５０ｓｃｃｍで導入し、圧力を４７５ｍTorr、基板温度を１３０℃、RFパワーを２０W、そしてプラズマ照射時間を１分に設定している。また、水素プラズマ照射条件は、水素ガス（H２）を流量５０ｓｃｃｍとし、圧力を２００ｍTorr、RFパワーを２０Wに設定している。また、活性化のためのエキシマレーザーアニールの条件については、エキシマレーザーとしてXeCｌエキシマレーザー（波長３０８nm）が使用され、９８％のオーバーラップ率で順じ照射したものである。
【００３６】
以上の実験結果からも明かなように、本実施形態の半導体層のドーピング方法では、半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御することが行われており、具体的には、水素イオンを吸着させるガスを流してドーパントイオンのドーパントガスを希釈することが行われ、これに加えて基板温度を変化させたり、ガスの流量や分圧を制御したり、ドーパントイオンのドーパントガスと水素系のガスの混合ガスを更に不活性ガスで希釈したり、さらには吸着のためのプラズマ照射の条件、例えば基板温度やプラズマ照射時間を制御することも可能である。また、一旦半導体層の表面に吸着したドーパントイオンをエッチングなどの方法で取り除くことも可能であり、水素プラズマ処理工程を追加して半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御することもできる。
【００３７】
ここでエキシマレーザーを用いたＬＩＭＰＩＤ法について説明すると、基本的にはドーパントガスをイオン化し、半導体薄膜表面にドーパントイオンを吸着させた後にエキシマレーザーなどのエネルギービームの照射によって膜中に不純物イオンを溶かし込む方法であり、特に低温でのプロセスが実現されるために注目されている技術である。本実施形態の半導体層のドーピング方法においては、そのドーパントの吸着工程で半導体層の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御することが行われるが、該吸着工程後はエキシマレーザーを用いたＬＩＭＰＩＤ法と同じ工程でドーピングを行うものである。
【００３８】
このＬＩＭＰＩＤ法は、特に面内のドーピングの均一性に優れており、特に低濃度の不純物を拡散させる場合に好適である。図７はCVD装置でシリコンなどの薄膜を形成した場合の膜厚分布であり、図中の番号１〜番号９で示した点がシート抵抗の測定ポイントである。この測定ポイント番号１〜番号９の各点でのシート抵抗の分布が図８に示されている。測定はフォスフィンと水素（PH３／H２）の混合ガスの分圧を３９ｍTorrとし、水素ガスの分圧を２１８ｍTorrとし、アルゴンガスの分圧を２１８ｍTorrとした第１のガスと、フォスフィンと水素（PH３／H２）の混合ガスの分圧を７１ｍTorrとし、アルゴンガスの分圧を４０４ｍTorrとした第２のガスについて、それぞれウエハ面内での分布を調べたものである。この図８からも明かなように、ＬＩＭＰＩＤ法を用いた場合ではシート抵抗値は面内で略均一にされ、従って良好な再現性が得られることになる。
【００３９】
さらに図９はＬＩＭＰＩＤ法での再現性を示した図であり、アモルファスシリコン膜を被覆させ、レーザーアニ−ルを施した状態においてのシート抵抗値の変動を測定した結果を示す図である。図９中、上側の分布はフォスフィンと水素（PH３／H２）の混合ガスの流量を９ｓｃｃｍとし、水素ガスの流量を９２ｓｃｃｍとし、アルゴンガスの流量を５０ｓｃｃｍとした第１の条件下のデータであり、下側の分布はフォスフィンと水素（PH３／H２）の混合ガスの流量を９ｓｃｃｍとし、アルゴンガスの流量を５０ｓｃｃｍとした第２の条件下のデータである。図９中の四角の印部分は或日に処理したときのデータであり、三角の印部分はその約6日後に再度処理したときのデータである。これら四角の印部分と三角の印部分は良く重なっており、ＬＩＭＰＩＤ法では再現性に優れた素子の形成が可能であることが分かる。
【００４０】
本発明によるドーピングプロセスは、特に低温でのプロセスに最適であるため、例えば基板にプラスチックを用いることが出来る。ここで図１０及び図１１を参照して、本発明の実施形態として基板にプラスチック基板を用いたプロセスについて説明する。本実態形態はＰチャネル型の薄膜トランジスタを絶縁基板上に形成して、アクティブマトリクス型表示装置の能動素子基板に用いる薄膜半導体装置を作製する例である。尚、Ｎチャネル型の薄膜トランジスタを形成する場合も全く同様である。
【００４１】
まず図１０の（a）において、絶縁基板１５には有機高分子材料からなるいわゆるプラスチック材料を用いることができる。ここで、プラスチック材料とはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネートなどのポリエステル類、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、ポリフェニリンスルフィドなどのポリフェニリンスルフィド類、ポリアミド類、芳香族ポリアミド類、ポリエーテルケトン類、ポリイミド類、アクリル系樹脂、ＰＭＭＡなどである。特にポリエチレンテレフタレート、アセテート、ポリフェニレンスルフィド、ポリカーボネートや、ポリエーテルスルホン、ポリスチレン、ナイロン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、アクリル系樹脂、ＰＭＭＡなどの汎用的なプラスチック材料は、好適に使用できる。また、絶縁基板１５をフィルムの形態で用いる場合は、機械的安定性や強度の点から二軸延伸されていることが好ましい。さらに、プラスチック基板の吸湿性を抑えるための酸化シリコン膜などのバリア層１６を基板裏面に成膜しておくことにより、真空装置内から大気圧に晒すとき及びその後のプロセスにおける基板１５の変形を抑えることができる。図１０の（a）に示すように、酸化シリコンのバリア層１６はプラスチック製の絶縁基板１５の表面にも成膜しておくとより効果的である。
【００４２】
また、絶縁基板１５には、あらかじめ熱的なバッファー層２０を形成しておくことが望ましい。熱的なバッファー層２０としては無機材料のＳｉＯ２膜、ＳｉＮｘ膜等を約１００〜２００μｍの厚みで成膜して措くと良いが、このときに基板１５の有機高分子材料と有機材料の熱膨張の違いによりエネルギービーム照射時に膜が剥離することを防ぐ目的で、図１０の（a）に示すように、基板より熱的軟化点の低い有機高分子材料のアクリル樹脂等を別のバッファー層１７として多層構造に用いるとより効果的である。
【００４３】
このようなプラスチック基板の耐熱用バッファー層１７、２０が形成された上面にトランジスタの活性層となるべき非単結晶性の半導体薄膜２１を成膜する。本実施形態では、成膜装置にはスパッタ装置を用いて、プラスチック製絶縁基板１５を痛めない２００℃以下、望ましくは１５０℃以下に基板温度を設定して約２０〜１００μｍの膜厚で堆積を行う。次に基板１５にエネルギービーム、例えばエキシマレーザーを用いて非単結晶性の半導体薄膜２１を結晶化（微結晶化）させ半導体多結晶膜２２を形成する。エキシマレーザーの照射による結晶化に於いても、基板１５のプラスチックの温度はプラスチック基板を痛めない２００℃以下、望ましくは１５０℃以下になるように、レーザーの照射エネルギー、時間の最適化を行う必要がある。この時、レーザビームのエネルギー密度を約３００ｍＪ／ｃｍ２に設定し、例えばライン状に整形したレーザビームを基板に対して走査しながら繰り返し部分的に重ねて照射することが望ましい。ライン状に整形されたレーザビームの形状は一例として長手方向の寸法が１２０ｍｍであり、幅寸法が０．５ｍｍである。このレーザビームを幅方向に沿って部分的に重ねながら照射するが、この際の重ね量（オーバラップ量）は９８％に設定した。この半導体多結晶膜２２の上面に、図１０の（ｂ）に示すように、反応性スパッタ法により、ＳｉＯ２膜のゲート絶縁膜２３を成膜する。これにより半導体薄膜を被覆するゲート絶縁膜となるＳｉＯ２が得られる。場合によってはこのＳｉＯ２の上にＳｉＮｘさらにその上に再びＳｉＯ２膜を連続成膜してゲート絶縁膜としても良い。
【００４４】
続いて、ゲート絶縁膜２３の上にゲート電極２４をパターニングする。ゲート電極２４の形成は、例えば、Ａｌ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｃｒ等の金属膜、高濃度で不純物がドーピングされた多結晶シリコン膜、高濃度ドープ多結晶シリコンと金属の積層膜、又は上述した材料の合金膜を成膜し、所定に形状にパタニングしてゲート電極に加工する。次にこのゲート電極２４をマスクにしてＳｉＯ２膜２３をアイランド状にパタニングする。これにより、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜２３が形成できる。続いてＬＤＤ領域の作製に入る。ドーピングガスに水素ガス又は不活性ガスと水素ガスの混合ガス用いた混合気体を用いてプラズマを発生させ、図１０の（ｃ）に示すように、半導体薄膜表面にドーピングイオンと水素イオンを吸着させる。このとき半導体薄膜表面の温度が高温側から室温に近くなるほど、希釈ガス水素の濃度が長い程ドーズ量が増えるが、この増加は時間と共にある一定濃度に漸近する。これは燐が吸着した領域には燐が吸着しにくいことにより、燐による被覆率が上昇する程、吸着率が減少するためによる。本実施形態では基板温度を室温にし、ＰＨ３ガス（ＰＨ３濃度１％となるようにＨ２で希釈）９sccm、水素希釈ガス１００sccmを混合したドーピング用原料気体を用い、５００ｍＴorrにてＲＦ電源を用いて２０Ｗで約１分間のプラズマ照射を行い表面に燐イオンを吸着させている。前述のように、当該吸着工程では、希釈ガスの流量を制御することで半導体多結晶膜２２の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御することが行われており、具体的には、基板温度を変化させたり、ドーパントイオンのドーパントガスと水素系のガスの混合ガスを更に不活性ガスで希釈したり、さらには吸着のためのプラズマ照射の条件、例えば基板温度やプラズマ照射時間を制御することも可能である。また、一旦半導体多結晶膜２２の表面に吸着したドーパントイオンをエッチングなどの方法で取り除くことも可能であり、水素プラズマ処理工程を追加して半導体多結晶膜２２の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御することもできる。
【００４５】
その後、図１１の（ｄ）に示すように、再びエネルギービームを照射して半導体多結晶膜２２の表面に吸着しているドーパントを膜中に溶かし込むと共に活性化する。このときのエネルギービームは前述と同様に例えばXeClエキシマレーザー（波長３０８nm）を使用し、望ましくは半導体薄膜を結晶化（微結晶化）させたとき以上の高エネルギーであることが望ましい。なお、本実施形態ではレーザービームのエネルギー密度を約３００ｍＪ／ｃｍ２に設定している。これによりゲート電極２４でマスクされた以外の半導体膜が低ドーズ量で活性化され、低濃度不純物領域２２Lが形成される。
【００４６】
次にゲート電極２４にサイドウォール２５を形成する。例えばＰＥ−ＣＶＤ法によりゲート電極２４を含む全面にＳｉＯ２膜を堆積させる。しかる後、異方性選択エッチング（例えば反応性イオンエッチング（ＲＩＥ））等により、ゲート電極２４をストッパーとして図１１の（ｅ）に示すように、ゲート電極２４及びゲート絶縁膜層２３の側面にのみＳｉＯ２膜をサイドウォール２５として残存させる。そしてドーピングガスに水素ガス又は不活性ガスと水素ガスの混合ガス用いた混合気体を用いてプラズマを発生させ、ゲート電極とサイドウォールをマスクとして、半導体薄膜表面に再度吸着させる。次いで再びXeClエキシマレーザー（波長３０８nm）などのエネルギービームを照射して半導体薄膜表面（低濃度不純物領域２２L）に吸着しているドーパントを膜中に溶かし込むと共に活性化し、高濃度不純物領域２２Hを形成するヘビードープを行う。本実施形態では、基板温度を１２０℃にし、ＰＨ３ガス（ＰＨ３濃度１％となるようにＨ２で希釈）９sccm、Ａｒ希釈ガス５０sccmを混合したドーピング用原料気体を用い、５００ｍＴorrにてＲＦ電源を用いて２０Ｗで約１分間のプラズマ照射を行い表面に燐イオンを吸着させた。このとき、希釈ガスはＨｅガスでもＮｅガス等の他の不活性ガスでも構わない。このときのエネルギービームは前述と同様に行い、本例ではレーザビームのエネルギー密度を約３１０ｍＪ／ｃｍ２に設定した。これによりゲート電極２４とサイドウォールでマスク２５された以外の半導体膜が高ドーズ量で活性化される。高濃度不純物領域２２Hと低濃度不純物領域２２Lの形成のためのドーパントは燐などの同じドーパントであっても良く、また異なるドーパントであっても良い。
【００４７】
高濃度不純物領域２２Hの活性化の後、層間絶縁膜２８を形成し、所要のコンタクトホールを形成してアルミニューム膜を約１０００μｍの厚みで成膜し、図１１の（ｆ）に示すように、所定の形状にパタニングして配線電極２７とする。、この配線電極２７はコンタクトホールを介して薄膜トランジスタのソース・ドレイン領域に接続している。次いでＳｉＯ２膜を約４００ｎｍの厚みで成膜し、パシベーション膜とする。このパシベーション膜は薄膜トランジスタ及び配線電極２７を被覆している。この後、必要ならば基板の耐熱温度の範囲で基板加熱を行い、パッシベーション膜をキャップ膜として層間絶縁膜２８に含まれる水素原子を半導体薄膜中に拡散させて、所謂水素化処理を実施する。
【００４８】
図１２は、アクティブマトリクス型の表示装置を構成する場合の素子断面図である。プラスチック製の絶縁基板４０の両面に酸化シリコンのバリア層４１が形成され、プラスチック製基板４０の耐熱用バッファー層４２、４３が積層されて、その上に高濃度不純物領域４４Hと低濃度不純物領域４４Lの半導体薄膜が形成されている。特に低濃度不純物領域４４Lは、例えば希釈ガスの流量を制御することで半導体薄膜の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御することが行われており、基板温度を変化させたり、ドーパントイオンのドーパントガスと水素系のガスの混合ガスを更に不活性ガスで希釈したり、さらには吸着のためのプラズマ照射の条件、例えば基板温度やプラズマ照射時間を制御することなどによって、精密その不純物濃度が所要の低濃度となるように制御されている。
【００４９】
一対の低濃度不純物領域４４Lの間のチャネル領域上には、シリコン酸化膜４６を介してゲート電極４７が形成されており、層間絶縁膜４５に設けられたコンタクトホールには配線電極層４８が高濃度不純物領域４４Hからなる薄膜トランジスタのソース・ドレイン領域に接続する。パッシベーション膜４９の表面にＩＴＯ等からなる透明導電膜を成膜し、所定の形状にパタニングして画素電極５０に加工する。この画素電極５０は配線電極層４８に接続され、予めパシベーション膜４９及び層間絶縁膜４５に開口したコンタクトホールを介して薄膜トランジスタのソース・ドレイン領域に接続する。なお、この薄膜半導体装置を能動素子基板としてアクティブマトリクス型の液晶表示装置を組み立てる場合には、予め対向電極が形成せれた別の絶縁基板を所定の間隙を介して絶縁基板４０に接合し、且つこの間隙に液晶等の電気光学物質を配置すれば良い。
【００５０】
なお、上述の実施形態は、半導体層のドーピング法と、それを用いた薄膜半導体素子の製造方法について説明しているが、さらに本発明の半導体層のドーピング法は、制御性良く半導体層の高抵抗化を図る方法であるため、半導体薄膜の表面に吸着するドーパントイオンの量を制御する工程を利用して抵抗層の抵抗値を制御する方法としても利用できる。
【００５１】
【発明の効果】
上述のように、本発明の半導体層のドーピング法によれば、低耐熱性基板を使用した場合においても、低濃度の不純物拡散領域を制御性良く形成することが可能であり、特に薄膜トランジスタにおけるLDD構造の低濃度不純物領域を制御性良く形成することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の半導体層のドーピング方法の実施形態の一例を示す工程断面図であり、（a）はイオン吸着前のシリコン層表面の状態を示し、（ｂ）は燐イオンと共に水素イオンも吸着された状態を示し、（ｃ）はエキシマレーザーの照射による活性化工程を示す。
【図２】本発明に基づく実験結果に従った希釈ガスの混合比とシート抵抗の関係を示す特性図である。
【図３】本発明に基づく実験結果に従った希釈ガスの混合比と燐濃度の関係を示す特性図である。
【図４】本発明に基づく実験結果に従ったシート抵抗とプラズマ照射時間の関係を示す特性図である。
【図５】本発明に基づく実験結果に従った基板温度とシート抵抗の関係を示す特性図である。
【図６】本発明に基づく実験結果に従った水素プラズマ処理時間とシート抵抗の関係を示す特性図である。
【図７】  CVD成膜後の従ったウエハ内膜厚分布とシート抵抗評価点を示す模式図である。
【図８】  LIMPID法によるシート抵抗の面内分布を示す図である。
【図９】  LIMPID法によって反復して形成した場合のシート抵抗値を示す図である。
【図１０】本発明の半導体層のドーピング方法の実施形態の一例として、薄膜トランジスタの形成方法の例を説明する工程断面図であり、（a）は半導体多結晶膜の形成工程までの工程断面図であり、（ｂ）は半導体薄膜を結晶化する工程までの工程断面図であり、（ｃ）はドーパントイオンと水素イオンの吸着工程までの工程断面図である。
【図１１】本発明の半導体層のドーピング方法の実施形態の一例として、図１０に続いて前記薄膜トランジスタの形成方法の例を説明する工程断面図であり、（ｄ）は半導体多結晶膜の活性化工程までの工程断面図であり、（ｅ）は半導体薄膜への高濃度のドーピング工程までの工程断面図であり、（ｆ）は薄膜トランジスタにおける配線工程までの工程断面図である。
【図１２】本発明の薄膜半導体素子の製造方法の実施形態の一例によって形成された液晶表示装置における薄膜トランジスタの素子構造を示す断面図である。
【図１３】従来のプロセスを用いた場合におけるPH３分圧とシート抵抗の関係を示す特性図である。
【符号の説明】
１０  絶縁基板
１１  シリコン層
１１a  シリコン原子
１１ｂ  ダングリングボンド
１２ｐ  燐イオン
１２ｈ  水素イオン
１５、４０  絶縁基板
１６、４１  バリア層
１７、２０、４２、４３  バッファー層
２２、４４  半導体多結晶膜
２２L、４４L  低濃度不純物拡散領域
２２H、４４H  高濃度不純物拡散領域
２３、４６  ゲート絶縁膜
２４、４７  ゲート電極
２５  サイドウオール
２７  配線電極
５０  画素電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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