(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素ゴム、加硫剤、および３００℃で３０分焼成後の分解残渣が０．３重量％以下である界面活性剤を含んでなるフッ素ゴム加硫用水性組成物であって、
界面活性剤が、フェニル基を有しない非イオン性界面活性剤であり、ポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーからなる群から選択される少なくとも１種の界面活性剤であるフッ素ゴム加硫用水性組成物。
【請求項２】
界面活性剤が非内分泌撹乱性化学物質を原料として合成された化合物である請求項１に記載のフッ素ゴム加硫用水性組成物。
【請求項３】
ポリオキシエチレンアルキルエーテルは、式：
Ｒ9―Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ
［式中、Ｒ9はアルキル基であり、ｎは１以上の数である。］
で表される化合物であり、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーは、式：
(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)m―(ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ)k―(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)m’
［式中、ｍ、ｍ’およびｋは、同一または異なって、１以上の数である。］
で表される化合物である請求項１に記載のフッ素ゴム加硫用水性組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のフッ素ゴム加硫用水性組成物から形成された被覆層により表面の少なくとも一部が被覆された物品。
【請求項５】
オフィスオートメーション機器用ロールである請求項４に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、フッ素ゴム加硫用水性組成物およびフッ素ゴム被覆物品に関し、さらに詳しくは、特定の界面活性剤を含むフッ素ゴム加硫用水性組成物およびその組成物から形成された被覆層を有する物品に関する。
背景技術
フッ素ゴム塗料は、フッ素ゴムの優れた耐熱性、耐候性、耐油性、耐溶剤性および耐薬品性を利用し、例えば織物、繊維、金属、プラスチック、ゴム、その他種々の基材に塗布または含浸されて、工業用材料として広く用いられている。中でも、環境に優しい水性塗料が、近年より多く使用されるようになっている。
従来のフッ素ゴム水性塗料では、界面活性剤として、一般に、式：
Ｒ−Ｐｈ−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ
［式中、Ｒはアルキル基、Ｐｈはフェニレン基、ｎは１以上の整数を表す。］
で示されるポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルが広く用いられているが、この種の界面活性剤は、分解温度が比較的高いことから、塗膜焼成後にもその分解残渣が塗膜中に残存しやすく、フッ素ゴム塗料が本来有する上記のような特徴を低下させる傾向にある。特にオフィスオートメーション（ＯＡ）機器（例えば複写機、プリンターなど）に使用されるロール表面塗膜などに用いた場合、塗膜の耐久性が不十分であるという欠点を有している。
さらに、この種の界面活性剤は内分泌撹乱作用を有すると疑われる化学物質を原料とするために、環境上の観点からみても好ましいものではない。
発明の開示
本発明の目的は、フッ素ゴム塗料が本来有する特徴を生かすことができるフッ素ゴム加硫用水性組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、従来のフッ素ゴム加硫用水性組成物から形成された塗膜を有する物品、特にＯＡ機器用ロールが有する上記従来技術の欠点を解消したフッ素ゴム被覆物品を提供することである。
上記目的は、フッ素ゴム、加硫剤、および３００℃で３０分焼成後の分解残渣が０．３重量％以下である界面活性剤を含んでなるフッ素ゴム加硫用水性組成物、およびこのフッ素ゴム加硫用水性組成物から形成された被覆層により表面の少なくとも一部が被覆されたフッ素ゴム被覆物品により達成される。
以下、本発明の組成物に含まれる各成分を具体的に説明する。
（Ａ）フッ素ゴム
フッ素ゴムは、通常水性ディスパージョンとして供給される。
フッ素ゴム水性ディスパージョンとは、弾性状含フッ素共重合体（フッ素ゴム）を界面活性剤の存在下に１０〜７５重量％の濃度で水中に分散したものである。
弾性状含フッ素共重合体とは、主鎖に−ＣＨ２−で示される繰り返し単位を含む含フッ素共重合体である。
その代表例はビニリデンフルオライドを含む弾性状含フッ素共重合体であり、具体的には、主鎖が以下の構造の繰り返し単位を含む共重合体である：
−ＣＦ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−および−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）−から選択される少なくとも１種の繰り返し単位、並びに
−ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２−ＣＦ２−、および−ＣＦ２−ＣＦ（ＯＲｆ）−
［式中、Ｒｆは炭素数１〜６のフルオロアルキル基である。］
から選択される少なくとも１種の繰り返し単位。
より具体的には、ビニリデンフルオライドとヘキサフルオロプロピレンの共重合体、ビニリデンフルオライドとテトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの共重合体、エチレンとヘキサフルオロプロピレンの共重合体、テトラフルオロエチレンとプロピレンの共重合体などである。
中でも、架橋性の点でビニリデンフルオライド系共重合体が好ましい。
このような弾性状含フッ素共重合体は、「ダイエル」（商標）（ダイキン工業株式会社）、「バイトン・フローム」（商標）（Ｅ．ｌ．デュポン社）、「アフラス」（商標）（旭硝子株式会社）などの商品名で市販されている。
本発明の組成物に含まれるフッ素ゴム（固形分）の量は、水１００重量部に対し、１〜５００重量部、好ましくは５〜３００重量部、より好ましくは１０〜１５０重量部である。
（Ｂ）加硫剤および加硫促進剤
本発明のフッ素ゴム加硫用水性組成物に用いる加硫剤は、公知のポリアミン系加硫剤およびポリオール系加硫剤のいずれでもよい。
ポリアミン加硫系では、式：
0004802433.tif 000002
［式中、Ｒ１はメチル基またはエチル基、Ｚは単結合、−Ｃ２Ｈ４ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−または−Ｃ２Ｈ４ＮＨ−Ｃ２Ｈ４ＮＨ−ＮＨ−であり、ｙは２または３である。］
で表されるアミノシラン化合物、またはその部分もしくは完全加水分解物や、
式：
0004802433.tif 000003
［式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は同一または相異なり、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、アミノ基、ポリアミノ基、または少なくとも１つの水素原子がアミノ基ないしポリアミノ基で置換された炭素数１〜６のアルキル基を表す。ただし、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうち少なくとも２つにアミノ基が存在するか、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうち少なくとも１つにポリアミノ基が存在する。］
で表されるポリアミノシロキサン化合物などが挙げられる。
ポリオール系加硫剤としては水酸基、特にフェノール性水酸基を分子内に少なくとも２個有する化合物および高分子化合物であって、加硫性能を有するものが挙げられる。例えば、
0004802433.tif 000004
などのフェノール化合物、
式：
0004802433.tif 000005
［式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、Ｒ５、ＣＨ２ＯＲ５またはＯＲ５、Ｚは−ＣＨ２−または−ＣＨ２ＯＣＨ２−、Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基、ｎは０〜１００の整数を表す。］
で示されるフェノール樹脂と塩基性化合物との塩が挙げられる。
塩基性化合物としては、アンモニウム塩、第３級アミン、ホスホニウム塩、アルカリ金属およびアルカリ土類金属などが挙げられる。
アンモニウム塩の具体例は、トリメチルベンジルアンモニウム，トリエチルベンジルアンモニウム，ジメチルデシルベンジルアンモニウム，トリエチルベンジルアンモニウム，ミリスチルベンジルジメチルアンモニウム，ドデシルトリメチルアンモニウム，ジメチルテトラデシルベンジルアンモニウム，トリメチルテトラデシルアンモニウム，ココナットトリメチルアンモニウム，ステアリルトリメチルアンモニウム，ジステアリルジメチルアンモニウム，テトラブチルアンモニウム，１，４−フェニレンジメチレンビストリメチルアンモニウム，１，４−フェニレンジメチレンビストリエチルアンモニウム，エチレンビストリエチルアンモニウムなどである。
第３級アミンの具体例は、１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−ウンデセン−７，８−メチル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−ウンデセン−７，８−プロピル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−ウンデセン−７，８−ドデシル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−ウンデセン−７，８−エイコシル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−ウンデセン−７，８−テトラコシル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−ウンデセン−７，８−ベンジル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−ウンデセン−７，８−フェネチル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−ウンデセン−７，８−（３−フェニルプロピル）−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−ウンデセン−７，トリメチルアミン，トリエチルアミン，トリ−ｎ−プロピルアミン，トリ−ｎ−ブチルアミン，トリイソブチルアミン，メチルジエチルアミン，ジメチルエチルアミン，ジメチル−ｎ−プロピルアミン，ジメチル−ｎ−ブチルアミン，ジメチルイソブチルアミン，ジメチルイソプロピルアミン，ジメチル−ｓｅｃ−ブチルアミン，ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルアミン，トリアリルアミン，ジアリルメチルアミン，アリルジメチルアミン，ベンジルジメチルアミン，ベンジルジエチルアミン，Ｎ−アリルピペリジン，Ｎ−エチルピペリジン，Ｎ−ブチルピペリジン，Ｎ−メチルピロリジン，Ｎ−シクロヘキシルピロリジン，Ｎ−ｎ−ブチルピロリジン，Ｎ−エチルピロリジン，Ｎ−ベンジルピロリジン，２，４，６−トリメチルピリジンなどである。
ホスホニウム塩の具体例は、ベンジルトリフェニルホスホニウム，メチルトリフェニルホスホニウム，２，４−ジクロロベンジルトリフェニルホスホニウム，４−メチルベンジルトリフェニルホスホニウム，４−クロロベンジルトリフェニルホスホニウム，ｍ−トリフルオロメチルベンジルトリフェニルホスホニウム，２−シアノベンジルトリフェニルホスホニウム，α−カルベトキシベンジルトリフェニルホスホニウム，ジフェニルメチルトリフェニルホスホニウム，１−ナフチルメチルトリフェニルホスホニウム，カルベトキシメチルトリフェニルホスホニウム，メトキシメチルトリフェニルホスホニウム，アリロキシメチルトリフェニルホスホニウム，１−カルベトキシエチルトリフェニルホスホニウム，イソブチルトリフェニルホスホニウム，４−シアノブチルトリフェニルホスホニウム，２−ペンチルトリフェニルホスホニウム，アリルトリフェニルホスホニウム，テトラフェニルホスホニウム，メチルトリオクチルホスホニウム，ベンジルトリオクチルホスホニウム，メトキシエトキシエチルトリオクチルホスホニウム，ブチルトリオクチルホスホニウム，ｍ−トリフルオロメチルベンジルトリオクチルホスホニウム，２，２，３，３−テトラフルオロプロピルトリオクチルホスホニウム，２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルトリオクチルホスホニウム，テトラオクチルホスホニウム，テトラブチルホスホニウムなどである。
アルカリ金属の具体例は、リチウム，ナトリウム，カリウムなどである。
アルカリ土類金属の具体例は、ベリリウム，マグネシウム，カルシウム，バリウムなどである。
中でも、ヒドロキノン，ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡＦ、レゾール型フェノール樹脂とアンモニウム塩もしくは第３級アミンとの塩が塗膜物性の点で好ましい。ヒドロキノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡＦ、レゾール型フェノール樹脂は加硫性能が特に優れ、また、アンモニウム塩や第３級アミンはアルカリ金属やアルカリ土類金属と異なり塗膜中に分解残渣を残さない。
ポリオール系加硫剤を用いる場合には、任意成分である加硫促進剤として以下のような化合物を配合することができる。
（ａ）第４級アンモニウム塩
式：ＮＲ６４ＸまたはＲ６３Ｎ−Ｒ７−ＮＲ６３・２Ｘ
［式中、Ｒ６は同一または相異なる炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基を表し、また２つ以上のＲ６が共同で炭素環または複素環を形成してもよい。Ｒ７は炭素数２〜２１のアルキレン基または炭素数８〜１２のフェニレンジアルキレン基を表す。Ｘは酸基または水酸基を表す。］
で示される第４級アンモニウム塩
前記酸基の例は、ハライド，サルフェート，サルファイト，ビサルファイト，チオサルフェート，サイファイド，ポリサルファイド，ハイドロジェンサイファイド，チオシアネート，カーボネート，ビカーボネート，ナイトレート，カーボキシレート，ボレート，ホスフェート，ビホスフェート，ホスファイト，パークロレート，ビフルオライド，アルセネート，フェリシアナイド，フェロシアナイド，モリブデート，セレネート，セレナイト  ウラネート，タングステートなどである。
第４級アンモニウム塩の具体例は、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド，トリエチルベンジルアンモニウムクロライド，ジメチルデシルベンジルアンモニウムクロライド，トリエチルベンジルアンモニウムクロライド，ミリスチルベンジルジメチルアンモニウムクロライド，ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド，ジメチルテトラデシルベンジルアンモニウムクロライド，トリメチルテトラデシルアンモニウムクロライド，ココナットトリメチルアンモニウムクロライド，ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド，ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド，テトラブチルアンモニウムハイドロオキサイド，１，４−フェニレンジメチレンビストリメチルアンモニウムジクロライド，１，４−フェニレンジメチレンビストリエチルアンモニウムジクロライド，エチレンビストリエチルアンモニウムジブロマイドなどのアルキルおよびアラルキル第４級アンモニウム塩、８−メチル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムクロライド，８−メチル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムアイオダイド，８−メチル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムハイドロオキサイド，８−メチル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウム−メチルサルフェート，８−メチル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムブロマイド，８−プロピル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムブロマイド，８−ドデシル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムクロライド，８−ドデシル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムハイドロオキサイド，８−エイコシル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムクロライド，８−テトラコシル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムクロライド，８−ベンジル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムクロライド，８−ベンジル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムハイドロオキサイド，８−フェネチル−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムクロライド，８−（３−フェニルプロピル）−１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムクロライドなどの第４級１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウム塩などである。
（ｂ）第３級アミンの無機または有機酸との第４級塩
式：ＮＲ６３またはＲ６２Ｎ−Ｒ７−ＮＲ６２
［式中、Ｒ６およびＲ７は前記と同意義である。］
で示される第３級アミン
第３級アミンの具体例は、トリメチルアミン，トリエチルアミン，トリ−ｎ−プロピルアミン，トリ−ｎ−ブチルアミン，トリイソブチルアミン，メチルジエチルアミン，ジメチルエチルアミン，ジメチル−ｎ−プロピルアミン，ジメチル−ｎ−ブチルアミン，ジメチルイソブチルアミン，ジメチルイソプロピルアミン，ジメチル−ｓｅｃ−ブチルアミン，ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルアミン，トリアリルアミン，ジアリルメチルアミン，アリルジメチルアミン，ベンジルジメチルアミン，ベンジルジエチルアミン，Ｎ−アリルピペリジン，Ｎ−エチルピペリジン，Ｎ−ブチルピペリジン，Ｎ−メチルピロリジン，Ｎ−シクロヘキシルピロリジン，Ｎ−ｎ−ブチルピロリジン，Ｎ−エチルピロリジン，Ｎ−ベンジルピロリジン，２，４，６−トリメチルピリジンなどである。
第４級塩を形成する無機または有機酸の例として、以下のようなものが挙げられる。
ＨＣｌ，ＨＢｒ，ＨＦ，（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋Ｃｌ−，（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ＮＯ３−，２（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ＳＯ４２−，２（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ＣＯ３２−，（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋Ｒ８Ｏ−，（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋Ｒ８ＣＯＯ−，（Ｃ４Ｈ９）３ＮＨ＋Ｃｌ−，（Ｃ４Ｈ９）３ＮＨ＋ＮＯ３−，２（Ｃ４Ｈ９）３ＮＨ＋ＳＯ４２−，２（Ｃ４Ｈ９）３ＮＨ＋ＣＯ３２−，（Ｃ４Ｈ９）３ＮＨ＋Ｒ８Ｏ−，（Ｃ４Ｈ９）３ＮＨ＋Ｒ８ＣＯＯ−
［式中、Ｒ８は炭素数１〜２０のアルキル基またはアルケニル基、もしくは炭素数６〜２０のアリール基を表す。］
なお、第１級または第２級アミンは、ポリオール加硫以外の反応が起こるので好ましくない。
（ｃ）第４級ホスホニウム塩
式：ＰＲ６４ＸまたはＲ６３Ｐ−Ｒ７−ＰＲ６３・２Ｘ
［式中、Ｒ６、Ｒ７およびＸは前記と同意義である。］
で示される第４級ホスホニウム塩
第４級ホスホニウム塩の具体例は、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド，ベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド，メチルトリフェニルホスホニウムメチルメタンホスホネート，ビス（ベンジルジフェニルホスフィン）イミニウムクロライド，２，４−ジクロロベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド，４−メチルベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド，４−クロロベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド，ｍ−トリフルオロメチルベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド，２−シアノベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド，α−カルベトキシベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド，ジフェニルメチルトリフェニルホスホニウムクロライド，１−ナフチルメチルトリフェニルホスホニウムクロライド，カルベトキシメチルトリフェニルホスホニウムブロマイド，メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロライド，アリロキシメチルトリフェニルホスホニウムクロライド，１−カルベトキシエチルトリフェニルホスホニウムクロライド，イソブチルトリフェニルホスホニウムブロマイド，４−シアノブチルトリフェニルホスホニウムブロマイド，２−ペンチルトリフェニルホスホニウムブロマイド，アリルトリフェニルホスホニウムクロライド，テトラフェニルホスホニウムクロライド，テトラフェニルホスホニウムブロマイド，メチルトリオクチルホスホニウムクロライド，メチルトリオクチルホスホニウムテトラフルオロボレート，メチルトリオクチルホスホニウムアセテート，メチルトリオクチルホスホニウムジメチルホスフェート，ベンジルトリオクチルホスホニウムクロライド，ベンジルトリオクチルホスホニウムブロマイド，メトキシエトキシエチルトリオクチルホスホニウムクロライド，ブチルトリオクチルホスホニウムブロマイド，ｍ−トリフルオロメチルベンジルトリオクチルホスホニウムクロライド，２，２，３，３−テトラフルオロプロピルトリオクチルホスホニウムクロライド，２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルトリオクチルホスホニウムクロライド，テトラオクチルホスホニウムブロマイド，テトラブチルホスホニウムクロライド，テトラブチルホスホニウムブロマイドなどである。
（ｄ）有機酸
本発明において、さらに保存安定性向上を目的として組成物に有機酸を添加することができる。有機酸としては炭素数１〜１２の有機酸、好ましくは炭素数１〜４の有機酸が用いられる。炭素数が１２を越える有機酸は塗膜中に残存するので好ましくない。より好ましい有機酸は蟻酸，酢酸，プロピオン酸などのモノカルボン酸、シュウ酸，マロン酸，コハク酸などのジカルボン酸である。
有機酸は、貯蔵中、組成物に含まれる含フッ素共重合体のポリオール加硫を抑制する。しかし、組成物を塗布，乾燥，焼成すると、有機酸が蒸発または熱分解され、上記塩基性化合物が加硫反応を促進するので、本発明では有機酸も「加硫促進剤」に含める。
本発明の組成物における各成分の配合割合は、ポリアミン系加硫の場合、フッ素ゴム１００重量部に対し、アミン化合物０．０１〜５０重量部、好ましくは０．１〜２０重量部である。ポリオール系加硫の場合、フッ素ゴム１００重量部に対し、塩基性ポリオール系加硫剤０．１〜２０重量部、好ましくは１〜１０重量部、加硫促進剤０〜１０重量部、好ましくは０．０１〜５重量部である。加硫促進剤の量が上記下限よりも少なくなると加硫が起こりにくくなり、一方、上限を超えると加硫制御が困難になることがある。
（Ｃ）界面活性剤
フッ素ゴムや各種添加剤を水中に分散させる界面活性剤としては、イオン性界面活性剤および非イオン性界面活性剤のいずれを用いてもよいが、比較的低温で分解されるタイプのものである必要がある。すなわち、本発明で用いる界面活性剤は、３００℃で３０分加熱後の分解残渣が０．３重量％以下、好ましくは０．２５重量％以下、より好ましくは０．１重量％以下である界面活性剤である。
このような界面活性剤としては、例えば、式：
Ｒ９―Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ
［式中、Ｒ９はアルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、ｎは１以上の数である。好ましくはｎは３０を越えない数、より好ましくは２０を越えない数である。］
で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテルや、式：
（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍ―（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｋ―（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍ’
［式中、ｍ、ｍ’およびｋは、同一または異なって、１以上の数である。好ましくは、ｍ、ｍ’およびｋの和は１０００を越えない、より好ましくは５００を越えない数である。］
で表されるポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーなどの、フェニル基を有しない非イオン性界面活性剤が挙げられる。
これらの界面活性剤は、内分泌撹乱作用を有すると疑われる化学物質を原料としない、すなわち非内分泌撹乱性化学物質を原料として合成された化合物であるので、環境上の観点からみても好ましい物質である。
３００℃で３０分加熱後の分解残渣が０．３重量％以下となる界面活性剤は、フッ素ゴム１００重量部に対し、１〜１００重量部、好ましくは１０〜５０重量部の割合で添加する。
（Ｄ）添加剤
本発明の組成物には、上記の成分に加え、フッ素ゴム組成物に通常添加される各種添化剤、例えば充填材，着色剤，受酸剤などを配合することができる。
充填材としてはカーボンブラック，ホワイトカーボン，炭酸カルシウム，硫酸バリウムなどが挙げられ、着色剤としては、無機顔料、複合酸化物顔料などが挙げられる。
受酸剤としては酸化マグネシウム，酸化鉛，酸化亜鉛，炭酸鉛，炭酸亜鉛，ハイドロタルサイトなどの複塩が挙げられるが、水酸化カルシウムなどの活性の高いものはゲル化を起こしやすく、好ましくない。また、前記塩基性化合物のｐＫａよりも小さいｐＫａを有する化合物が好ましい。受酸剤のｐＫａが大きいと、組成物がゲル化を起こしやすくなる。通常、受酸剤はその活性度に応じて含フッ素共重合体１００重量部に対し、１〜４０重量部配合できる。
本発明の組成物は、従来の含フッ素共重合体の加硫用組成物と同様の方法で塗布し、加硫することができる。
すなわち組成物の性状に応じてハケ塗り、スプレーコーティング、浸漬塗布、フローコーティング、ディスペンサーコーティング、スクリーンコーティングなどにより被塗物に塗布し、十分に乾燥させた後に１５０〜３００℃で１０〜１２０分間焼成する。
本発明の組成物から形成した被覆層の上に、さらに表面層を形成してもよい。表面層は、フッ素樹脂および／または末端変性パーフルオロポリエーテルから常套の方法で形成することができる。
フッ素樹脂としては、例えばポリフッ化ビニリデン（ＰＶｄＦ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＥＰＡ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、末端変性ＥＰＡ、末端変性ＦＥＰ、末端変性ＰＦＡなどのうちの１種以上を用いることができる。中でも、テトラフルオロエチレン系重合体が非粘着性の点で好ましい。
末端変性パーフルオロポリエーテルとしては、主鎖に式：−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−および−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）−で表される繰り返し単位からなる群より選択される少なくとも１種の繰り返し単位を含んでなる。繰り返し単位数の和は１〜１０００の範囲である。
パーフルオロポリエーテルの分子末端を変性する官能基としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＮＲ１０Ｒ１１（式中、Ｒ１０およびＲ１１は、同一または異なって、水素原子、アリール基、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数３〜１０のシクロアルキル基を表す。）、ＳＨ、ＮＣＯ、ＮＯ２、ＣＯＯＨ、ＰＯ２Ｈ、ＳＯ３Ｈ、ＯＨ、グリシジル基またはヒドロキシフェニル基を挙げることができる。これらの官能基は、パーフルオロポリエーテル分子の主鎖の末端にあっても側鎖の末端にあってもよい。これらの官能基は、上記の式で表されるパーフルオロポリエーテルの繰り返し単位よりなる主鎖に直接結合するか、あるいは、−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＦ２）ｎ−、−（ＣＨ２Ｏ）ｎ−、または−（ＣＦ２Ｏ）ｎ−（式中、ｎは１〜１００の数である。）などの基を介して結合していてよい。
物品基材（被塗物）の表面は、本発明の組成物を塗布する前に、十分脱脂、洗浄しておくのが好ましい。
物品基材と被膜との接着性を向上させるため、シラン系プライマー、シリコーン系プライマーなどによりプライマー層を被塗物表面に形成するのが望ましい。
本発明の組成物により被覆する物品基材としては、鉄、ステンレス鋼、銅、アルミニウム、真鍮などの金属類；ガラス板、ガラス繊維の織布及び不織布などのガラス製品；ポリプロピレン、ポリオキシメチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトンなどの汎用および耐熱性樹脂の成形品および被覆物；ＳＢＲ、ブチルゴム、ＮＢＲ、ＥＰＤＭなどの汎用ゴム、およびシリコーンゴム、フッ素ゴムなどの耐熱性ゴムの成形品および被覆物；天然繊維および合成繊維の織布および不織布；などを使用することができる。
本発明の組成物から形成される被覆は、耐熱性、耐溶剤性、潤滑性、非粘着性が要求される分野で使用でき、具体的な用途としては、複写機、プリンター、ファクシミリなどのＯＡ機器用のロール（例えば、定着ロール、圧着ロール）および搬送ベルト；シートおよびベルト；Ｏ−リング、ダイヤフラム、耐薬品性チューブ、燃料ホース、バルブシール、化学プラント用ガスケット、エンジンガスケットなどが挙げられる。
実施例
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明する。
実施例１
「フッ素ゴムディスパージョンＡ」の調製：
乳化重合によりビニリデンフルオライド（ＰＶｄＦ）／テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）／ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）共重合体（モノマー組成：６５／１８／１７）を製造し、得られた重合混合溶液を界面活性剤（日本油脂株式会社製ＥＡＤ‐１３の２０重量％水溶液および同社製ＥＡＤ‐１５の２０重量％水溶液：主成分は共にＣ１３Ｈ２７‐Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ）により濃縮して固形分濃度を６０重量％とした。これを「フッ素ゴムディスパージョンＡ」という。
「ＰｉｇペーストＡ」の調製：
充填剤（ＭＴカーボンブラック）１２重量部および受酸剤（協和化学工業株式会社製ＤＨＴ‐４Ａ）３重量部を、界面活性剤（日本油脂株式会社製ＥＡＤ‐１３の２０重量％水溶液）２重量部とともに純水２８重量部に分散させてペーストを調製した。これを「ＰｉｇペーストＡ」という。
「塗料Ａ」の調製：
フッ素ゴムディスパージョンＡ７重量部、ＰｉｇペーストＡ３重量部を混合して十分に分散させた。この水性分散液２０重量部にポリアミン系加硫剤（ダイキン工業株式会社製ＧＬ‐２５２  Ｂ液）１重量部を加え、塗料を調製した。これを「塗料Ａ」という。
塗装板の作成：
アルミニウム板表面にプライマーとしてＧＬＰ‐１０２ＮＲ（ダイキン工業株式会社製）を乾燥厚さ約５μｍで塗布し、８０℃で１５分間乾燥した。
このプライマー層上に塗料Ａをスプレー塗装し、８０〜１００℃で１５分間乾燥した後に３００℃で３０分間焼成して、約３５μｍの膜厚（プライマー層を含む）を有する塗装板を作成した。
塗膜物性：
塗膜の非粘着性および引張物性を以下のように評価した。
＜非粘着性＞
塗膜表面に純水またはｎ−セタンを一滴滴下してゴニオメーター（協和界面科学株式会社製）で接触角を測定した。
＜引張物性＞
調製した塗料を金属製バットに流し込み、室温で５日間、および８０〜１００℃で十分に乾燥させた後に２５０℃で３０分間焼成した。生成したフィルムを剥がし取ってＪＩＳ４号ダンベル形状に打ち抜き、引張速度５００ｍｍ／ｍｉｎで引張試験を行い、１００％引張応力、引張（破断時）強度および引張（破断時）伸びを測定した。
実施例２
「フッ素ゴムディスパージョンＢ」の調製：
乳化重合によりＰＶｄＦ／ＴＦＥ／ＨＦＰ共重合体（モノマー組成：６５／１８／１７）を製造し、得られた重合混合溶液を界面活性剤（ライオン株式会社製ＴＤ‐９０の２０重量％水溶液：主成分はＣ１３Ｈ２７‐Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ）により濃縮して固形分濃度を６０重量％とした。これを「フッ素ゴムディスパージョンＢ」という。
「塗料Ｂ」の調製：
フッ素ゴムディスパージョンＢ７重量部、ＰｉｇペーストＡ３重量部を混合して十分に分散させた。この水性分散液２０重量部にポリアミン系加硫剤（ダイキン工業株式会社製ＧＬ‐２５２  Ｂ液）１重量部を加え、塗料を調製した。これを「塗料Ｂ」という。
「塗料Ａ」に代えて「塗料Ｂ」を用いた以外は実施例１の手順を繰り返した。
比較例１
「フッ素ゴムディスパージョンＣ」の調製：
乳化重合によりＰＶｄＦ／ＴＦＥ／ＨＦＰ共重合体（モノマー組成：６５／１８／１７）を製造し、得られた重合混合溶液を界面活性剤（日本油脂株式会社製ＨＳ‐２０８の２０重量％水溶液および同社製ＨＳ‐２１５の２０重量％水溶液：主成分はＣ８Ｈ１７‐Ｐｈ‐Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ）により濃縮して固形分濃度を６０重量％とした。これを「フッ素ゴムディスパージョンＣ」という。
「ＰｉｇペーストＢ」の調製：
充填剤（ＭＴカーボンブラック）１２重量部および受酸剤（協和化学工業株式会社製ＤＨＴ−４Ａ）３重量部を、界面活性剤（日本油脂株式会社製ＨＳ‐２０８の２０重量％水溶液）２重量部とともに純水２８重量部に分散させてペーストを調製した。これを「ＰｉｇペーストＢ」という。
「塗料Ｃ」の調製：
フッ素ゴムディスパージョンＣ７重量部、ＰｉｇペーストＢ３重量部を混合して十分に分散させた。この水性分散液２０重量部にポリアミン系加硫剤（ダイキン工業株式会社製ＧＬ−２５２  Ｂ液）１重量部を加え、塗料を調製した。これを「塗料Ｃ」という。
「塗料Ａ」に代えて「塗料Ｃ」を用いた以外は実施例１の手順を繰り返した。
実施例３
「塗料Ｄ」の調製：
フッ素ゴムディスパージョンＡ７重量部、ＰｉｇペーストＡ３重量部を混合して十分に分散させた。この水性分散液２０重量部にポリオール系加硫剤（ビスフェノールＡＦアンモニウム塩の１０重量％水溶液）１重量部および加硫促進剤（サンアプロ株式会社製ＳＡ６１０‐５０：主成分はＤＢＵ−蟻酸塩の５０重量％ジプロピレングリコール溶液）０．１重量部を加え、塗料を調製した。これを「塗料Ｄ」という。
「塗料Ａ」に代えて「塗料Ｄ」を用いた以外は実施例１の手順を繰り返した。
実施例４
「塗料Ｅ」の調製：
フッ素ゴムディスパージョンＢ７重量部、ＰｉｇペーストＡ３重量部を混合して十分に分散させた。この水性分散液２０重量部にポリオール系加硫剤（ビスフェノールＡＦアンモニウム塩の１０重量％水溶液）１重量部および加硫促進剤（サンアプロ株式会社製ＳＡ６１０‐５０）０．１重量部を加え、塗料を調製した。これを「塗料Ｅ」という。
「塗料Ａ」に代えて「塗料Ｅ」を用いた以外は実施例１の手順を繰り返した。  比較例２
「塗料Ｆ」の調製：
フッ素ゴムディスパージョンＣ７重量部、ＰｉｇペーストＢ３重量部を混合して十分に分散させた。この水性分散液２０重量部にポリオール系加硫剤（ビスフェノールＡＦアンモニウム塩の１０重量％水溶液）１重量部および加硫促進剤（サンアプロ株式会社製ＳＡ６１０‐５０）０．１重量部を加え、塗料を調製した。これを「塗料Ｆ」という。
「塗料Ａ」に代えて「塗料Ｆ」を用いた以外は実施例１の手順を繰り返した。
実施例および比較例の結果を表１に示す。
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界面活性剤の分解残渣の測定：
約５ｇの界面活性剤をアルミカップに採取し、空気中、１００℃で１５分間静置した後に、空気中、３００℃で３０分間静置して加熱した。加熱後の重量を測定し、初めに採取した重量との比から分解残渣の割合を算出した。結果を表２に示す。
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