【手続補正書】
【提出日】令和3年11月29日(2021.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の研磨中に該基板の膜厚を測定するための光学式膜厚測定装置の最適な動作レシピを決定する方法であって、
動作レシピを構成する複数のレシピパラメータをそれぞれ含む複数のパラメータセットを記憶装置内に保存し、
前記複数のパラメータセットと、データサーバ内に格納されている、研磨された基板からの反射光の参照スペクトルのデータとを用いて、研磨時間の経過に伴う膜厚変化のシミュレーションを実行し、
前記膜厚変化の仕方を評価する少なくとも１つの指標値を評価計算式に入力して、前記複数のパラメータセットに対する複数の総合評価値を算定し、
前記複数の総合評価値に基づいて、前記複数のパラメータセットの中から最適な１つを選択する、方法。
【請求項２】
前記評価計算式は、前記少なくとも１つの指標値、前記少なくとも１つの指標値に対する少なくとも１つの目標値、および前記少なくとも１つの目標値と前記少なくとも１つの指標値との差に乗算される少なくとも１つの重み係数を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記複数のレシピパラメータは、
基板の研磨中に取得された複数のスペクトルの移動平均を算出するための時間幅、
基板の研磨中に取得された複数のスペクトルの空間的平均を算出するためのデータ点数、
基板の研磨中に取得された複数のスペクトルに適用されるフィルターのパラメータ、
基板の研磨中に取得された複数のスペクトルを規格化するための規格化パラメータ、
膜厚の決定に使用されるスペクトルの波長範囲、
膜厚の決定に使用される参照スペクトルを含むスペクトルグループの番号、
のうちの少なくとも２つを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの指標値は、
研磨時間に対する膜厚プロファイルの形状の不変性の評価を表す第１の指標値、
膜厚測定器によって測定された膜厚の実測値と、前記シミュレーションで得られた膜厚との差の少なさの評価を表す第２の指標値、
前記シミュレーションにおいて生成されたスペクトルと、前記データサーバ内に格納されている参照スペクトルとの形状の一致度の評価を表す第３の指標値、
前記シミュレーションにおいて生成されたスペクトルに基づいて決定される膜厚の品質係数の評価を表す第４の指標値、
研磨時間に沿った膜厚変化の線形性の評価を表す第５の指標値、
のうちの少なくとも１つを含む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記データサーバ内に格納されている前記参照スペクトルは、複数の基板を実際に研磨しているときに取得された反射光のスペクトルである、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記シミュレーションおよび前記総合評価値の算定を、前記複数の基板について繰り返すことで、各パラメータセットに対する複数の総合評価値を取得し、
各パラメータセットに対する前記複数の総合評価値のばらつきを算定する工程をさらに含み、
前記複数のパラメータセットの中から最適な１つを選択する工程は、前記ばらつきが最小となる最適なパラメータセットを前記複数のパラメータセットから選択する工程である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記シミュレーションおよび前記総合評価値の算定を、前記複数の基板について繰り返すことで、各パラメータセットに対する複数の総合評価値を取得し、
各パラメータセットに対する前記複数の総合評価値の合計を算定する工程をさらに含み、
前記複数のパラメータセットの中から最適な１つを選択する工程は、前記合計が最大または最小となる最適なパラメータセットを前記複数のパラメータセットから選択する工程である、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
基板の研磨中に該基板の膜厚を測定するための光学式膜厚測定装置の最適な動作レシピを決定するシステムであって、
動作レシピを構成する複数のレシピパラメータをそれぞれ含む複数のパラメータセット、およびプログラムが格納された記憶装置、および前記プログラムに含まれる命令に従って演算を実行する処理装置を備えたレシピ評価装置と、
研磨された基板からの反射光の参照スペクトルのデータを格納したデータサーバを備え、
前記レシピ評価装置は、
前記複数のパラメータセットと、前記データサーバから取得した前記参照スペクトルのデータとを用いて、研磨時間の経過に伴う膜厚変化のシミュレーションを実行し、
前記膜厚変化の仕方を評価する少なくとも１つの指標値を評価計算式に入力して、前記複数のパラメータセットに対する複数の総合評価値を算定し、
前記複数の総合評価値に基づいて、前記複数のパラメータセットの中から最適な１つを選択するように構成されている、システム。
【請求項９】
前記評価計算式は、前記少なくとも１つの指標値、前記少なくとも１つの指標値に対する少なくとも１つの目標値、および前記少なくとも１つの目標値と前記少なくとも１つの指標値との差に乗算される少なくとも１つの重み係数を含む、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記複数のレシピパラメータは、
基板の研磨中に取得された複数のスペクトルの移動平均を算出するための時間幅、
基板の研磨中に取得された複数のスペクトルの空間的平均を算出するためのデータ点数、
基板の研磨中に取得された複数のスペクトルに適用されるフィルターのパラメータ、
基板の研磨中に取得された複数のスペクトルを規格化するための規格化パラメータ、
膜厚の決定に使用されるスペクトルの波長範囲、
膜厚の決定に使用される参照スペクトルを含むスペクトルグループの番号、
のうちの少なくとも２つを含む、請求項８または９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの指標値は、
研磨時間に対する膜厚プロファイルの形状の不変性の評価を表す第１の指標値、
膜厚測定器によって測定された膜厚の実測値と、前記シミュレーションで得られた膜厚との差の少なさの評価を表す第２の指標値、
前記シミュレーションにおいて生成されたスペクトルと、前記データサーバ内に格納されている参照スペクトルとの形状の一致度の評価を表す第３の指標値、
前記シミュレーションにおいて生成されたスペクトルに基づいて決定される膜厚の品質係数の評価を表す第４の指標値、
研磨時間に沿った膜厚変化の線形性の評価を表す第５の指標値、
のうちの少なくとも１つを含む、請求項８乃至１０のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記データサーバ内に格納されている前記参照スペクトルは、複数の基板を実際に研磨しているときに取得された反射光のスペクトルである、請求項８乃至１１のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１３】
前記レシピ評価装置は、
前記シミュレーションおよび前記総合評価値の算定を、前記複数の基板について繰り返すことで、各パラメータセットに対する複数の総合評価値を取得し、
各パラメータセットに対する前記複数の総合評価値のばらつきを算定し、
前記ばらつきが最小となる最適なパラメータセットを前記複数のパラメータセットから選択するように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記レシピ評価装置は、
前記シミュレーションおよび前記総合評価値の算定を、前記複数の基板について繰り返すことで、各パラメータセットに対する複数の総合評価値を取得し、
各パラメータセットに対する前記複数の総合評価値の合計を算定し、
前記合計が最大または最小となる最適なパラメータセットを前記複数のパラメータセットから選択するように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
基板の研磨中に該基板の膜厚を測定するための光学式膜厚測定装置の最適な動作レシピを決定するレシピ評価装置であって、
動作レシピを構成する複数のレシピパラメータをそれぞれ含む複数のパラメータセット、およびプログラムを格納した記憶装置と、
前記プログラムに含まれる命令に従って演算を実行する処理装置を備え、
前記処理装置は、
前記複数のパラメータセットと、データサーバから取得した、研磨された基板からの反射光の参照スペクトルのデータとを用いて、研磨時間の経過に伴う膜厚変化のシミュレーションを実行し、
前記膜厚変化の仕方を評価する少なくとも１つの指標値を評価計算式に入力して、前記複数のパラメータセットに対する複数の総合評価値を算定し、
前記複数の総合評価値に基づいて、前記複数のパラメータセットの中から最適な１つを選択するように構成されている、レシピ評価装置。
【請求項１６】
前記評価計算式は、前記少なくとも１つの指標値、前記少なくとも１つの指標値に対する少なくとも１つの目標値、および前記少なくとも１つの目標値と前記少なくとも１つの指標値との差に乗算される少なくとも１つの重み係数を含む、請求項１５に記載のレシピ評価装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
一態様では、基板の研磨中に該基板の膜厚を測定するための光学式膜厚測定装置の最適な動作レシピを決定する方法であって、動作レシピを構成する複数のレシピパラメータをそれぞれ含む複数のパラメータセットを記憶装置内に保存し、前記複数のパラメータセットと、データサーバ内に格納されている、研磨された基板からの反射光の参照スペクトルのデータとを用いて、研磨時間の経過に伴う膜厚変化のシミュレーションを実行し、前記膜厚変化の仕方を評価する少なくとも１つの指標値を評価計算式に入力して、前記複数のパラメータセットに対する複数の総合評価値を算定し、前記複数の総合評価値に基づいて、前記複数のパラメータセットの中から最適な１つを選択する、方法が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
一態様では、前記評価計算式は、前記少なくとも１つの指標値、前記少なくとも１つの指標値に対する少なくとも１つの目標値、および前記少なくとも１つの目標値と前記少なくとも１つの指標値との差に乗算される少なくとも１つの重み係数を含む。
一態様では、前記複数のレシピパラメータは、基板の研磨中に取得された複数のスペクトルの移動平均を算出するための時間幅、基板の研磨中に取得された複数のスペクトルの空間的平均を算出するためのデータ点数、基板の研磨中に取得された複数のスペクトルに適用されるフィルターのパラメータ、基板の研磨中に取得された複数のスペクトルを規格化するための規格化パラメータ、膜厚の決定に使用されるスペクトルの波長範囲、膜厚の決定に使用される参照スペクトルを含むスペクトルグループの番号、のうちの少なくとも２つを含む。
一態様では、前記少なくとも１つの指標値は、研磨時間に対する膜厚プロファイルの形状の不変性の評価を表す第１の指標値、膜厚測定器によって測定された膜厚の実測値と、前記シミュレーションで得られた膜厚との差の少なさの評価を表す第２の指標値、前記シミュレーションにおいて生成されたスペクトルと、前記データサーバ内に格納されている参照スペクトルとの形状の一致度の評価を表す第３の指標値、前記シミュレーションにおいて生成されたスペクトルに基づいて決定される膜厚の品質係数の評価を表す第４の指標値、研磨時間に沿った膜厚変化の線形性の評価を表す第５の指標値、のうちの少なくとも１つを含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
一態様では、基板の研磨中に該基板の膜厚を測定するための光学式膜厚測定装置の最適な動作レシピを決定するシステムであって、動作レシピを構成する複数のレシピパラメータをそれぞれ含む複数のパラメータセット、およびプログラムが格納された記憶装置、および前記プログラムに含まれる命令に従って演算を実行する処理装置を備えたレシピ評価装置と、研磨された基板からの反射光の参照スペクトルのデータを格納したデータサーバを備え、前記レシピ評価装置は、前記複数のパラメータセットと、前記データサーバから取得した前記参照スペクトルのデータとを用いて、研磨時間の経過に伴う膜厚変化のシミュレーションを実行し、前記膜厚変化の仕方を評価する少なくとも１つの指標値を評価計算式に入力して、前記複数のパラメータセットに対する複数の総合評価値を算定し、前記複数の総合評価値に基づいて、前記複数のパラメータセットの中から最適な１つを選択するように構成されている、システムが提供される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
一態様では、前記評価計算式は、前記少なくとも１つの指標値、前記少なくとも１つの指標値に対する少なくとも１つの目標値、および前記少なくとも１つの目標値と前記少なくとも１つの指標値との差に乗算される少なくとも１つの重み係数を含む。
一態様では、前記複数のレシピパラメータは、基板の研磨中に取得された複数のスペクトルの移動平均を算出するための時間幅、基板の研磨中に取得された複数のスペクトルの空間的平均を算出するためのデータ点数、基板の研磨中に取得された複数のスペクトルに適用されるフィルターのパラメータ、基板の研磨中に取得された複数のスペクトルを規格化するための規格化パラメータ、膜厚の決定に使用されるスペクトルの波長範囲、膜厚の決定に使用される参照スペクトルを含むスペクトルグループの番号、のうちの少なくとも２つを含む。
一態様では、前記少なくとも１つの指標値は、研磨時間に対する膜厚プロファイルの形状の不変性の評価を表す第１の指標値、膜厚測定器によって測定された膜厚の実測値と、前記シミュレーションで得られた膜厚との差の少なさの評価を表す第２の指標値、前記シミュレーションにおいて生成されたスペクトルと、前記データサーバ内に格納されている参照スペクトルとの形状の一致度の評価を表す第３の指標値、前記シミュレーションにおいて生成されたスペクトルに基づいて決定される膜厚の品質係数の評価を表す第４の指標値、研磨時間に沿った膜厚変化の線形性の評価を表す第５の指標値、のうちの少なくとも１つを含む。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
一態様では、基板の研磨中に該基板の膜厚を測定するための光学式膜厚測定装置の最適な動作レシピを決定するレシピ評価装置であって、動作レシピを構成する複数のレシピパラメータをそれぞれ含む複数のパラメータセット、およびプログラムを格納した記憶装置と、前記プログラムに含まれる命令に従って演算を実行する処理装置を備え、前記処理装置は、前記複数のパラメータセットと、データサーバから取得した、研磨された基板からの反射光の参照スペクトルのデータとを用いて、研磨時間の経過に伴う膜厚変化のシミュレーションを実行し、前記膜厚変化の仕方を評価する少なくとも１つの指標値を評価計算式に入力して、前記複数のパラメータセットに対する複数の総合評価値を算定し、前記複数の総合評価値に基づいて、前記複数のパラメータセットの中から最適な１つを選択するように構成されている、レシピ評価装置が提供される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
一態様では、前記評価計算式は、前記少なくとも１つの指標値、前記少なくとも１つの指標値に対する少なくとも１つの目標値、および前記少なくとも１つの目標値と前記少なくとも１つの指標値との差に乗算される少なくとも１つの重み係数を含む。