(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子の両側に保護膜を有し、かつ少なくとも片方の保護膜上に粘着層が設けられた偏光板であって、該保護膜の少なくとも一方が、金属支持体上に流延後のウェブを熱風温度１７０〜１９０℃の熱風で乾燥する工程、及び前記金属支持体から剥ぎ取り後のウェブを延伸倍率１〜１８％で延伸する工程を含む製膜法により製膜してなる、弾性率Ｅが下記数式（１）を満たすセルロースアシレートフィルムであり、かつ、該粘着層を無アルカリガラス板に幅１０ｍｍ、長さ１０ｍｍの面積で貼り付け、５０℃の雰囲気下で２００ｇの荷重を１時間掛けた後のクリープ量が７０μｍ未満であることを特徴とする偏光板。
数式（１）：５００ＭＰａ≦Ｅ≦１７５０ＭＰａ
【請求項２】
前記偏光板の粘着層を無アルカリガラス板に幅１０ｍｍ、長さ１０ｍｍの面積で貼り付け、２５℃の雰囲気下で２００ｇの荷重を１時間掛けた後のクリープ量が４０μｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記保護膜の少なくとも一方の正面レターデーション値Ｒｅλ及び膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈλが、下記数式（２）及び（３）を満たす請求項１または２に記載の偏光板。
数式（２）：０≦Ｒｅ590≦２００
数式（３）：０≦Ｒｔｈ590≦４００
［式中、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは、波長λｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項４】
前記保護膜の少なくとも一方が、セルロースを構成するグルコース単位の水酸基を炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られたセルロースアシレートからなるフィルムであって、セルロースを構成するグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ2、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ3、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ6としたときに、下記数式（６）及び（７）を満たすセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板。
数式（６）：２．０≦ＤＳ2＋ＤＳ3＋ＤＳ6≦３．０
数式（７）：ＤＳ6／（ＤＳ2＋ＤＳ3＋ＤＳ6）≧０．３１５
【請求項５】
前記アシル基がアセチル基である請求項４に記載の偏光板。
【請求項６】
前記保護膜の少なくとも一方が、セルロースの水酸基をアセチル基及び炭素原子数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルからなるフィルムであって、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（８）及び（９）を満足するセルロースアシレートであること特徴とした請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板。
数式（８）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
数式（９）：０＜Ｂ
ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。
【請求項７】
前記保護膜の少なくとも一方が、棒状化合物又は円盤状化合物のレターデーション発現剤を１種以上含有している請求項１〜６のいずれかに記載の偏光板。
【請求項８】
前記保護膜の少なくとも一方の表面に光学異方性層が設けられた請求項１〜７のいずれかに記載の偏光板。
【請求項９】
前記保護膜の少なくとも一方が、可塑剤、紫外線吸収剤、剥離促進剤、染料、及びマット剤から選択された１種以上を含有していることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の偏光板。
【請求項１０】
前記保護膜の少なくとも一方の表面に、ハードコート層、防眩層および反射防止層から選択された少なくとも一層が設けられた請求項１〜９のいずれかに記載の偏光板。
【請求項１１】
液晶セルと偏光板を有する液晶表示装置であって、該偏光板が、請求項１〜１０のいずれかに記載の偏光板を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
前記偏光板の前記液晶セル側の保護膜の弾性率Ｅが、請求項１に記載の数式（１）を満たすことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
液晶セルを一対の偏光板で挟んだ液晶表示装置であって、該一対の偏光板の透過軸が互いに直交に配置されており、かつ該透過軸は該偏光板の辺に対して直交または平行であることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
液晶セルがＶＡモードである請求項１１〜１３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い光学補償機能を有しつつ、温湿度変化や液晶表示装置の連続点灯による
画面周辺部における光漏れがなく、かつリワーク性に優れた偏光板、および該偏光板を使
用した液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点から、パ
ーソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。この
ような液晶表示装置は、液晶セル内の液晶分子の配列状態により様々なモードが提案され
ているが、従来は液晶セルの下側基板から上側基板に向かって約９０°捩れた配列状態に
なるＴＮモードが主流であった。
【０００３】
一般に液晶表示装置は、液晶セル、光学補償シート、偏光子から構成される。光学補償
シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために用いられており、延伸
した複屈折フィルムや透明フィルムに液晶を塗布したフィルムが使用されている。
【０００４】
例えば、特許文献１では、ディスコティック液晶をトリアセチルセルロースフィルム上
に塗布し配向させて、固定化した光学補償シートをＴＮモードの液晶セルに適用し、視野
角を広げる技術が開示されている。しかしながら、大画面で様々な角度から見ることが想
定されるテレビ用途の液晶表示装置は、視野角依存性に対する要求が厳しく、前述のよう
な手法をもってしても要求を満足することはできていない。そのため、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐ
ｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓ
ａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モード
など、ＴＮモードとは異なる液晶表示装置が研究されている。特にＶＡモードはコントラ
ストが高く、比較的製造の歩留まりが高いことからＴＶ用の液晶表示装置として着目され
ている。
【０００５】
ところで、セルロースアシレートフィルムは、他のポリマーフィルムと比較して、光学
的等方性が高い（レターデーション値が低い）という特徴がある。従って、光学的等方性
が要求される用途、例えば偏光板には、セルロースアシレートフィルムを用いることが普
通である。
【０００６】
一方、液晶表示装置の光学補償シート（位相差フィルム）には、逆に光学的異方性（高
いレターデーション値）が要求される。特にＶＡ用の光学補償シートでは２０〜２００ｎ
ｍの正面レターデーション（Ｒｅ590）、０〜４００ｎｍの膜厚方向レターデーション（
Ｒｔｈ590）が必要とされる。従って、光学補償シートとしては、ポリカーボネートフィ
ルムやポリスルホンフィルムのようなレターデーション値が高い合成ポリマーフィルムを
用いることが普通であった。
【０００７】
以上のように光学材料の技術分野では、ポリマーフィルムに光学的異方性（高いレター
デーション値）が要求される場合には合成ポリマーフィルムを使用し、光学的等方性（低
いレターデーション値）が要求される場合にはセルロースアシレートフィルムを使用する
ことが一般的な原則であった。
【０００８】
特許文献２には、従来の一般的な原則を覆して、光学的異方性が要求される用途にも使
用できる、高いレターデーション値を有するセルロースアセテートフィルムが提案されて
いる。この提案では、セルローストリアセテートで高いレターデーション値を実現するた
めに、少なくとも２つの芳香環を有する芳香族化合物、中でも１，３，５−トリアジン環
を有する化合物を添加し、延伸処理を行っている。一般にセルローストリアセテートは延
伸しにくい高分子素材であり、複屈折率を大きくすることは困難であることが知られてい
るが、添加剤を延伸処理で同時に配向させることにより複屈折率を大きくすることを可能
にし、高いレターデーション値を実現している。このフィルムは偏光板の保護膜を兼ねる
ことができるため、安価で薄膜な液晶表示装置を提供することができる利点がある。
【０００９】
特許文献３には、炭素数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度を
Ａとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＢとしたとき、式２．０≦Ａ＋Ｂ≦３
．０及び式Ａ＜２．４を同時に満たすセルロースエステルを含有する光学フィルムが開示
されている。
【００１０】
特許文献４にはＶＡモード液晶表示装置に用いられる偏光板において、該偏光板が、偏
光子と光学的に二軸性の混合脂肪酸セルロースエステルフィルムとを有し、液晶セルと偏
光子の間に該光学的に二軸性の混合脂肪酸セルロースエステルフィルムが配置されている
ことを特徴とする偏光板が開示されている。
【００１１】
上述の文献に開示されている方法は、安価で且つ薄い液晶表示装置が得られる点で有効
である。しかしながら、近年、液晶表示装置は大型化が急速に進んでおり、それに伴い、
偏光板をパネルに貼り合わせる際の貼り合せミスによるパネルの損失が問題になってきて
いる。これは、偏光板にリワーク適性があり、貼り合わせをミスしても、容易にパネルか
ら剥がせれば、改善できる問題であり、偏光板にはリワーク性の付与がますます要望され
ている。
【００１２】
上記リワーク性付与の技術としては、特許文献５〜８が挙げられ、特許文献５では粘着
剤組成を工夫することで、リワーク改良する方法が開示されている。また、特許文献６〜
８では、給水弾性率や引き裂き強度など、保護フィルムの物性を工夫することで、リワー
ク改良する方法が開示されている。
【００１３】
一方、偏光板の収縮応力による黒表示時の画面周辺部における光漏れが問題となってき
ている。偏光板は環境の温湿度の変化により収縮しようとするが、粘着層により液晶セル
に固定されているため、偏光板の保護膜、粘着層及び液晶セルのガラス基板に局所的（特
に画面周辺部）に応力が発生し、それぞれの光弾性による複屈折の変化により光漏れが生
じる。
【特許文献１】特許第２５８７３９８号公報
【特許文献２】欧州特許出願公開第９１１６５６号明細書
【特許文献３】特開２００２−７１９５７号公報
【特許文献４】特開２００３−２７０４４２号公報
【特許文献５】特開平８−３４９６３号公報
【特許文献６】特開２００３−２３２９２６号公報
【特許文献７】特開２００４−１９１９０６号公報
【特許文献８】特開２００４−２０６０３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の課題は、高い光学補償機能を有しつつ、温湿度変化や液晶表示装置の連続点灯
による画面周辺部における光漏れがなく、かつリワーク性に優れた偏光板、および該偏光
板を使用した液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者は、偏光板を液晶セルのガラス板に貼り付ける粘着層および偏光板の保護膜の
弾性率を特定の物性にすることで上記課題が達成出来ることを見出した。
本発明は、以下のとおりである。
【００１６】
１）偏光子の両側に保護膜を有し、かつ少なくとも片方の保護膜上に粘着層が設けられた偏光板であって、該保護膜の少なくとも一方が、金属支持体上に流延後のウェブを熱風温度１７０〜１９０℃の熱風で乾燥する工程、及び前記金属支持体から剥ぎ取り後のウェブを延伸倍率１〜１８％で延伸する工程を含む製膜法により製膜してなる、弾性率Ｅが下記数式（１）を満たすセルロースアシレートフィルムであり、かつ、該粘着層を無アルカリガラス板に幅１０ｍｍ、長さ１０ｍｍの面積で貼り付け、５０℃の雰囲気下で２００ｇの荷重を１時間掛けた後のクリープ量が７０μｍ未満であることを特徴とする偏光板。
数式（１）：５００ＭＰａ≦Ｅ≦１７５０ＭＰａ
２）前記偏光板の粘着層を無アルカリガラス板に幅１０ｍｍ、長さ１０ｍｍの面積で貼り付け、２５℃の雰囲気下で２００ｇの荷重を１時間掛けた後のクリープ量が４０μｍ未満であることを特徴とする上記１）に記載の偏光板。
３）前記保護膜の少なくとも一方の正面レターデーション値Ｒｅλ及び膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈλが、下記数式（２）及び（３）を満たす上記１）または２）に記載の偏光板。
数式（２）：０≦Ｒｅ590≦２００
数式（３）：０≦Ｒｔｈ590≦４００
［式中、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは、波長λｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。］
４）前記保護膜の少なくとも一方が、セルロースを構成するグルコース単位の水酸基を炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られたセルロースアシレートからなるフィルムであって、セルロースを構成するグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ2、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ3、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ6としたときに、下記数式（６）及び（７）を満たすセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする上記１）〜３）のいずれかに記載の偏光板。
数式（６）：２．０≦ＤＳ2＋ＤＳ3＋ＤＳ6≦３．０
数式（７）：ＤＳ6／（ＤＳ2＋ＤＳ3＋ＤＳ6）≧０．３１５
５）前記アシル基がアセチル基である上記４）に記載の偏光板。
６）前記保護膜の少なくとも一方が、セルロースの水酸基をアセチル基及び炭素原子数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルからなるフィルムであって、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（８）及び（９）を満足するセルロースアシレートであること特徴とした上記１）〜３）のいずれかに記載の偏光板。
数式（８）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
数式（９）：０＜Ｂ
ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。
７）前記保護膜の少なくとも一方が、棒状化合物又は円盤状化合物のレターデーション発現剤を１種以上含有している上記１）〜６）のいずれかに記載の偏光板。
８）前記保護膜の少なくとも一方の表面に光学異方性層が設けられた上記１）〜７）のいずれかに記載の偏光板。
９）前記保護膜の少なくとも一方が、可塑剤、紫外線吸収剤、剥離促進剤、染料、及びマット剤から選択された１種以上を含有していることを特徴とする上記１）〜８）のいずれかに記載の偏光板。
１０）前記保護膜の少なくとも一方の表面に、ハードコート層、防眩層および反射防止層から選択された少なくとも一層が設けられた上記１）〜９）のいずれかに記載の偏光板。
１１）液晶セルと偏光板を有する液晶表示装置であって、該偏光板が、上記１）〜１０）のいずれかに記載の偏光板を含むことを特徴とする液晶表示装置。
１２）前記偏光板の前記液晶セル側の保護膜の弾性率Ｅが、上記１）に記載の数式（１）を満たすことを特徴とする上記１１）に記載の液晶表示装置。
１３）液晶セルを一対の偏光板で挟んだ液晶表示装置であって、該一対の偏光板の透過軸が互いに直交に配置されており、かつ該透過軸は該偏光板の辺に対して直交または平行であることを特徴とする上記１１）又は１２）に記載の液晶表示装置。
１４）液晶セルがＶＡモードである上記１１）〜１３）のいずれかに記載の液晶表示装置。
本発明は、上記１）〜１４）に係る発明であるが、以下、それ以外の事項についても記載している。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、高い光学補償機能を有しつつ、温湿度変化や液晶表示装置の連続点灯
による画面周辺部における光漏れがなく、かつリワーク性に優れた偏光板、および該偏光
板を使用した液晶表示装置が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明について更に詳細に説明する。
なお本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値
２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書に
おいて、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少
なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１９】
＜粘着層＞
まず、本発明に関する粘着層について説明する。
液晶表示装置を高温下に放置した場合、高温高湿から低温低湿へ環境を変化させた場合
、連続してバックライトを表示させた場合などには、偏光板の寸法変化が生じ、この寸法
変化に伴い、粘着層の発泡や、液晶セルなどの被着体からのハガレが生じやすくなる。従
来の粘着層は、粘着剤の分子量を上げたり、架橋度を上げたりして、粘着層を上記のよう
な過酷な条件下における使用に耐えるように改良されている。
【００２０】
本発明では、上記のような過酷な条件下において発生する発泡やハガレ、および偏光板
の寸法変化を、三次元架橋（ゲル化）により粘着層を硬くして防止し、例えばホモポリマ
ーとした場合のＴｇが低い、つまり柔らかい（メタ）アクリル酸エステルを使用すること
で、粘着力を確保するのが好ましい。また、分子量分布（高分子量成分と低分子量成分の
比）によっても調整することができる。
接着性能と硬さのバランスは、共重合体を構成するモノマー成分（低Ｔｇ、高Ｔｇ）の
構成比、三次元架橋の程度（ゲル分率）により調整できる。
【００２１】
〔（メタ）アクリル系共重合体：（Ａ）｛並びにＡ1およびＡ2｝〕
（ａ1）（ａ11）（ａ21）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリ
ル酸エステルモノマー
内部応力を緩和させるためには、ホモポリマーとした場合のＴｇが−３０℃未満の（メ
タ）アクリル酸エステルモノマーを使用する。好ましくは−４０℃未満であり、更に好ま
しくは−５０℃未満のものを使用することである。Ｔｇが−３０℃未満の（メタ）アクリ
ル酸エステルとしては、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリ
レート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘプチルアクリレ
ート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−ノニルアクリレート、ｎ−デシルアクリレート、
２−メトキシエチルアクリレート、エトキシメチルアクリレート、２−エトキシエチルア
クリレート、３−エトキシプロピルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−ノ
ニルメタクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、ｎ−ウンデカシルメタクリレート、ｎ
−ドデシルメタクリレート、ｎ−ドリデシルメタクリレート等が挙げられる。
【００２２】
（ａ2）（ａ12）（ａ22）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有す
る化合物
ホモポリマーとした場合のＴｇが−３０℃以上のビニル化合物としては、メチルアクリ
レート、ｉ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、ｎ−ウンデカシルアクリレート、ｎ−ドデシルアクリレート
、ｎ−トリデシルアクリレート、ｎ−テトラデシルアクリレート、ｎ−ペンタデシルアク
リレート、ｎ−ヘキサデシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｉ−ブチルメタクリレート、
ｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート
、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ｎ−ヘプチルメタクリレー
ト、ｎ−テトラデシルメタクリレート、ｎ−ペンタデシルメタクリレート、ｎ−ヘキサデ
シルメタクリレート等の（メタ）アクリレートが挙げられる。その他のビニル化合物とし
て、酢酸ビニル、スチレン、メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、（メ
タ）アクリルアミド及びＮ−メチルアクリルアミドなどを挙げることができる。
【００２３】
［Ｔｇの測定］
ホモポリマーとした場合のＴｇの測定は、示差熱走査熱量計（ＤＳＣ２９１０、ＴＡ  
Ｉｎｓｔｕｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いて行った。アルミニウム製のパンにポリマーを入
れ、−１６０℃から＋１００℃まで１０℃／ｍiｎで昇温し、その後＋１００℃から−１
６０℃まで１０℃／ｍiｎで降温し、降温過程のデータからＴｇを求めた。
【００２４】
本発明では、ホモポリマーとした場合のＴｇが−３０℃未満の、上記の（メタ）アクリ
ル酸エステルから誘導される繰り返し単位ＲＵSと、Ｔｇが−３０℃以上のビニル化合物
から誘導される繰り返し単位ＲＵHの割合は、モノマー単位の質量比で、ＲＵS７５質量部
以上でＲＵH２５質量部以下である。ＲＵS１００質量部でＲＵH０質量部であってもよい
が、本発明では、ホモポリマーとした場合のＴｇが−３０℃未満の上記の（メタ）アクリ
ル酸エステルと、Ｔｇが−３０℃以上のビニル化合物の共重合体とすることが好ましい。
これにより粘着層の凝集性を高め、粘着性、耐水性、透明性、加工性などの粘着層の性能
を向上することができる。
さらには、ＲＵS８５質量部以上でＲＵH１５質量部以下であることが好ましく、ＲＵS
９５質量部以上でＲＵH５質量部以下であることが最も好ましい。
【００２５】
（ａ3）（ａ13）（ａ23）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノ
マー
多官能性化合物に対して反応性を有する官能基含有モノマーの例としては、（メタ）ア
クリル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、
無水マレイン酸及びマレイン酸ブチルなどのカルボキシル基を含有するモノマー；２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）
アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びアリルアルコールな
どの水酸基を含有するモノマー；アミノメチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノメ
チル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミ
ノプロピル（メタ）アクリレート及びビニルピリジンなどのアミノ基を含有するモノマー
；グリシジル（メタ）アクリレートなどのエポキシ基を含有するモノマー及びアセトアセ
トキシエチル（メタ）アクリレートなどのアセトアセチル基を含有するモノマーなどを挙
げることができる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。
これらの中でも、カルボキシル基を含有するモノマー及び水酸基を含有するモノマーが
好ましい。
【００２６】
本発明における、粘着層を形成する（メタ）アクリル系共重合体の組成物の主要成分と
しての（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）｛及び後述する（Ａ1）、（Ａ2）｝は、ホモポ
リマーとした場合のＴｇが−３０℃未満の上記の（メタ）アクリル酸エステル（ａ1）｛
または（ａ11）、（ａ21）｝と、Ｔｇが−３０℃以上のビニル化合物（ａ2）｛または（
ａ12）、（ａ22）｝の合計１００質量部に対して１０質量部以下、好ましくは０.５〜１
０質量部の、後記する多官能性化合物（Ｂ）に対する反応性を有する官能基含有モノマー
（ａ3）｛または（ａ13）、（ａ23）｝との共重合体である。
【００２７】
上記のような量で、（メタ）アクリル酸エステル（ａ1）｛または（ａ11）、（ａ21）
｝及びビニル化合物（ａ2）｛または（ａ12）、（ａ22）｝と、多官能性化合物に対する
反応性を有する官能基含有モノマー（ａ3）｛または（ａ13）、（ａ23）｝とを共重合さ
せることにより、多官能性化合物（Ｂ）と結合して良好な接着性を有する共重合体の組成
物を形成することができる。
【００２８】
〔多官能性化合物：（Ｂ）〕
本発明の偏光板用粘着層は、反応性官能基を有する多官能性化合物（Ｂ）を含有する。
この化合物の有する官能基は、上記（メタ）アクリル系重合体（Ａ）｛及び（Ａ1）、
（Ａ2）｝の反応性を有する官能基と反応するものであり、一分子内に官能基を少なくと
も２個、好ましくは２〜４個有している。
【００２９】
このような多官能性化合物（Ｂ）の例としては、イソシアネート系化合物、エポキシ系
化合物、アミン系化合物、金属キレート系化合物及びアジリジン系化合物などを挙げるこ
とができる。
【００３０】
イソシアネート系化合物の例としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシ
リレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジ
イソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネー
ト、トリフェニルメタントリイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート
及びこれらのトリメチロールプロパンなどポリオールとのアダクト体などを挙げることが
できる。
【００３１】
また、エポキシ系化合物の例としては、ビスフェノールＡ、エピクロルヒドリン型のエ
ポキシ系樹脂、エチレングリコールグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル
、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシ
ジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テト
ラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン及び１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノ
メチル）シクロヘキサンなどを挙げることができる。
【００３２】
さらに、アミン系化合物の例としては、ヘキサメチレンジアミン、トリエチルジアミン
、ポリエチレンイミン、ヘキサメチレンテトラミン、ジエチレントリアミン、トリエチル
テトラミン、イソホロンジアミン、尿素樹脂、メラミン樹脂等のアミノ樹脂及びメチレン
樹脂などを挙げることができる。
【００３３】
またさらに、金属キレート化合物の例としては、アルミニウム、鉄、銅、亜鉛、スズ、
チタン、ニッケル、アンチモン、マグネシウム、バナジウム、クロム及びジルコニウムな
どの多価金属がアセチルアセトンやアセト酢酸エチルに配位した化合物などを挙げること
ができる。
【００３４】
さらに、アジリジン系化合物の例としては、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルメタン-４，４’−
ビス（１−アジリジンカルボキシド）、Ｎ，Ｎ’−トルエン−２，４−ビス（１−アジリ
ジンカルボキサミド）、トリエチレンメラミン、ビスイソフタロイル−１−（２−メチル
アジリジン）、トリ−１−アジリジニルホスフィンオキシド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン
−１，６−ビス（１−アジリジンカルボキシド）、トリメチロールプロパン−トリ−β−
アジリジニルプロピオネート及びテトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロ
ピオネートなどを挙げることができる。
【００３５】
その他にも、ジアルデヒド、メチロールポリマー、酸類、酸無水物、アミン酸等を使用
することができる。
【００３６】
このような多官能性化合物（Ｂ）は、上記高分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）
｛または（Ａ1）、（Ａ2）｝１００質量部に対して、通常は０.００５〜５質量部、好ま
しくは０.０１〜３質量部の量で使用される。このような量で多官能性化合物（Ｂ）を使
用することにより、上記高分子量（メタ）アクリル系共重合体との間で好適な三次元架橋
構造が形成される。なお、これら多官能性化合物（Ｂ）は、単独で又は組み合わせて使用
することができる。
【００３７】
〔（メタ）アクリル系共重合体の製造〕
本発明の偏光板用粘着層を構成する（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）の製造には、公
知の任意の方法を採用することができる。
【００３８】
例えば質量平均分子量が１００万以上の高分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）
は、原料モノマー１００質量部に対して、０.０１〜１質量部の重合開始剤（アゾビスイ
ソビチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリルなどのアゾ系重合開始剤、過
酸化ベンゾイル、過酸化アセチルなどの過酸化物、ジフェニルケトン、２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンなどの光重合開始剤など）を用い、塊状
重合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合などの方法により合成され、好ましくは溶液重合で
合成される。
【００３９】
溶液重合法の場合、重合溶媒として酢酸エチル、トルエン、ヘキサン、アセトンなどが
用いられ、反応温度は５０〜１５０℃、好ましくは５０〜１１０℃、反応時間は３〜１５
時間、好ましくは５〜１０時間である。
【００４０】
また、重合平均分子量が１０万以下の低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ2
）は、高分子量アクリル系共重合体（Ａ1）と同様、塊状重合、溶液重合、乳化重合、懸
濁重合などの方法により合成され、好ましくは、溶液重合で合成される。但し、質量平均
分子量１０万以下にするため、重合開始剤の使用量を高分子量アクリル系共重合体の場合
の１０〜１００倍程度にし、さらに好ましくはラウリルメルカプタン、ｎ−ドデシルメル
カプタン、ｎ−オクチルメルカプタンなどのメルカプタン、α−メチルスチレンダイマー
及びリモネンなどの連鎖移動剤が使用される。
【００４１】
〔偏光板用粘着剤〕
本発明の偏光板用粘着剤は、上記のようにして製造した（メタ）アクリル系共重合体（
Ａ）及び多官能性化合物（Ｂ）を混合することにより製造することができる。（Ａ）とし
ては（Ａ1）、（Ａ2）のどちらを用いてもよい。
また、本発明の偏光板用粘着剤は、上記のようにして製造した高分子量（メタ）アクリ
ル系共重合体（Ａ1）、低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ2）及び多官能性化
合物（Ｂ）を混合することにより製造することができる。すなわち、（Ａ）として、（Ａ
1）および（Ａ2）の両方を用いてもよい。
この際、低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ2）は、上記高分子量（メタ）
アクリル系共重合体（Ａ1）１００質量部に対して、２０〜２００質量部、好ましくは３
０〜１５０質量部；多官能性化合物（Ｂ）は、上記高分子量（メタ）アクリル系共重合体
（Ａ1）１００質量部に対して、０.００５〜５質量部、好ましくは０.０１〜３質量部の
量で含有する。
【００４２】
内部応力の緩和は、ホモポリマーとした場合のＴｇが低い（メタ）アクリル酸エステル
を使用することに加えて、高分子量の（メタ）アクリレート共重合体（Ａ1）で三次元架
橋構造を作り、その三次元架橋構造中で、低分子量の（メタ）アクリレート共重合体（Ａ
2）が動く（滑る）ことによっても行うことができることが特許第３５３３５８９号公報
に記載されている。本発明においては、このような内部応力の緩和の程度は、高分子量（
質量平均分子量が１００万以上）の（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）と低分子量（質
量平均分子量が１０万以下）の（メタ）アクリル系共重合体（Ａ2）における官能基含有
モノマー（ａ13）及び（ａ23）から誘導される繰返し単位の導入量により調整することが
でき、下記数式（１２）で定義される官能基分配率＝０〜１５質量％とすることが好まし
く、０〜１０質量％とすることがさらに好ましい。
数式（１２）：官能基分配率＝［（メタ）アクリル系共重合体（Ａ2）中の官能基含有
モノマー（ａ23）から誘導される繰返し単位の質量／（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1
）中の官能基含有モノマー（ａ13）から誘導される繰返し単位の質量］×１００
【００４３】
三次元架橋の程度（ゲル分率）は、粘着剤において、４０質量％以上９０質量％以下で
あり、６０質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。より好ましくは、７０質量
％以上９０質量％以下である。
上記の範囲内とすることで、接着性能と緩和のバランスをより有意に調整することが可
能となり好ましい。三次元架橋の程度は、多官能性化合物に対する反応性を有する重合性
モノマーの量や多官能性化合物の量により調整できる。
【００４４】
本発明の偏光板用粘着剤は、上記のように（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）｛又は高
分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）と低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体
（Ａ2）｝及び多官能性化合物（Ｂ）からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を主
要成分とするが、さらに、この偏光板用粘着剤には、通常粘着剤に配合される、耐候安定
剤、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、染料、顔料、シランカップリング剤及び導電性
微粒子・光散乱性微粒子等の無機フィラー等を配合することができる。
【００４５】
粘着剤のクリープ値は、粘着層を無アルカリガラス板に幅１０ｍｍ、長さ１０ｍｍの面
積を貼り付け、５０℃の雰囲気下で２００ｇの荷重を１時間掛けた後のクリープ量が７０
μｍ未満であることが好ましく、６０μｍ未満であることがさらに好ましく、５０μｍ未
満であることが特に好ましい。また、粘着層を無アルカリガラス板に幅１０ｍｍ、長さ１
０ｍｍの面積を貼り付け、２５℃の雰囲気下で２００ｇの荷重を１時間掛けた後のクリー
プ量が４０μｍ未満であることが好ましく、３５μｍ未満であることがさらに好ましく、
３０μｍ未満であることが特に好ましい。
【００４６】
＜保護膜＞
次に本発明の保護膜について説明する。
本発明の偏光板は、偏光子の両側に保護膜を有する。本発明においては、セルロースアシレートフィルムまたは環状ポリオレフィンフィルムを用いることが好ましい。偏光子の両側の保護膜は同じであっても異なっていてもよい。例えば、偏光子の両側の保護膜のうち、片側を前述のセルロースアシレートフィルム、もう片側を環状ポリオレフィンフィルムを用いることもできる。また、お互いに異なる組成や異なる光学特性のフィルムを用いることも出来る。さらに、セルロースアシレートフィルムや環状ポリオレフィンフィルムなどの上にポリマー層を設けて保護膜としてもよい。例えば、セルロースアシレートフィルムの上にポリイミド層を設けて保護膜とすることができる。
【００４７】
｛セルロースアシレートフィルム｝
次に、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムについて説明する。
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、特定のセルロースアシ
レートを原料として用いて形成されている。光学異方性の発現性を大きくする場合と、小
さくする場合で使用するセルロースアシレートを使い分ける。
【００４８】
〔光学異方性を大きくする場合のセルロースアシレート〕
まず、本発明において用いられる光学異方性の発現性を大きくする場合のセルロースア
シレートについて詳細に記載する。
本発明においては異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いてもよい。
【００４９】
前記の特定のセルロースアシレートは、セルロースの水酸基をアセチル基及び炭素原子
数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルであって、セ
ルロースの水酸基への置換度が下記数式（４）及び（５）を満足するセルロースアシレー
トであることが好ましい。
数式（４）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
数式（５）：０＜Ｂ
ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し
、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。
【００５０】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位
に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部
をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３
位及び６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエス
テル化は置換度１）を意味する。
【００５１】
本発明では、水酸基のＡとＢとの置換度の総和（Ａ＋Ｂ）は、上記数式（４）に示すよ
うに、２．０〜３．０であることが好ましく、より好ましくは２．２〜２．９であり、特
に好ましくは２．４０〜２．８５である。また、Ｂの置換度は上記数式（５）に示すよう
に、０より大きく、０．６以上であることがさらに好ましい。（Ａ＋Ｂ）が２．０以上で
あれば、親水性が強くなりすぎて環境湿度の影響を受けやすくなるなどの不都合が生じな
いので好ましい。
【００５２】
さらに上記数式（５）におけるＢは、その２８％以上が６位水酸基の置換基であるのが
好ましいが、より好ましくは３０％以上が６位水酸基の置換基であり、３１％以上がさら
に好ましく、特には３２％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。
【００５３】
また更に、セルロースアシレートの６位のＡとＢの置換度の総和が０．７５以上である
のが好ましく、さらには０．８０以上が、特には０．８５以上が好ましい。これらのセル
ロースアシレートフィルムにより溶解性、濾過性の好ましいフィルム調製用の溶液が作製
でき、非塩素系有機溶媒においても、良好な溶液の作製が可能となる。更に粘度が低く濾
過性のよい溶液の作成が可能となる。
【００５４】
また、セルロースアシレートフィルムが偏光板の液晶セル側に配置される保護膜である
場合、セルロースを構成するグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度をＤ
Ｓ2、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ3、６位の水酸基のアシル基による置換
度をＤＳ6としたときに、下記数式（６）及び（７）を満たすことが好ましい。
数式（６）：２．０≦ＤＳ2＋ＤＳ3＋ＤＳ6≦３．０
数式（７）：ＤＳ6／（ＤＳ2＋ＤＳ3＋ＤＳ6）≧０．３１５
上記数式（６）及び（７）を満たすことにより、セルロースアシレートフィルムの溶媒
への溶解性が向上し、また光学異方性の湿度依存性が小さくなるので好ましい。
さらに、上記のアシル基はアセチル基であることが、鹸化が進行しやすい、寸度変化が
小さい、耐久性が高い、コストが安いという点で好ましい。
【００５５】
前記炭素原子数３以上のアシル基としては、脂肪族基でも芳香族炭化水素基でもよく特
に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニ
ルカルボニルエステル又は芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステ
ルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。
【００５６】
好ましい炭素原子数３以上のアシル基としては、プロピオニル、ブタノイル、へプタノ
イル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テト
ラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル
、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモ
イル基などを挙げることができる。これらの中でも、好ましくはプロピオニル、ブタノイ
ル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフ
チルカルボニル、シンナモイル基などである。特に好ましくはプロピオニル、ブタノイル
基である。
また、プロピオニル基の場合には置換度Ｂは１．３以上であるのが好ましい。
【００５７】
前記混合脂肪酸セルロースアシレートとしては、具体的には、セルロースアセテートプ
ロピオネート、セルロースアセテートブチレートが挙げられる。
【００５８】
〔光学異方性を小さくする場合のセルロースアシレート〕
光学異方性を小さくする場合、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．
００であることが望ましい。さらには置換度が２．７５〜３．００であることが望ましい
、２．８５〜３．００であることがより望ましい。
【００５９】
セルロースの水酸基に置換する炭素原子数２〜２２のアシル基のうち、炭素数２〜２２
のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定されず、単一でも２種
類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、
アルケニルカルボニルエステル又は芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニ
ルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。
【００６０】
これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノ
イル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テト
ラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノ
イル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シン
ナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタ
ノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、
ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイ
ルがより好ましい。
【００６１】
上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、アセチル基、プロピオニ
ル基及びブタノイル基の少なくとも２種類から実質的になる場合、その全置換度が２.５
０〜３．００であることが好ましい。より好ましいアシル置換度は２．７５〜３．００で
あり、さらに望ましくは２．８５〜３．００である。上記の範囲内であれば、セルロース
アシレートフィルムの光学異方性を充分に低下することができ、好ましい。
【００６２】
〔セルロースアシレートの合成方法〕
セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０
頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物
−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。
【００６３】
前記セルロースアシレートを得るには、具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセル
ロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエ
ステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位及び６位のアシル置換度の合計が、
ほぼ３．００）を合成する。
【００６４】
上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボ
ン酸及び触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロース及び系
内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エス
テル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解及びエステル
化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミ
ニウム又は亜鉛の炭酸塩、酢酸塩又は酸化物）の水溶液を添加する。
【００６５】
次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する
硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度及
び重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが
得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和する
か、あるいは中和することなく水もしくは希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（
又は、セルロースアシレート溶液中に、水もしくは希硫酸を投入）してセルロースアシレ
ートを分離し、洗浄及び安定化処理を行う等して、前記の特定のセルロースアシレートを
得ることができる。
【００６６】
前記セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が、実質的に
上記の特定のセルロースアシレートからなることが好ましい。
ここで『実質的に』とは、ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上
、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。
【００６７】
前記セルロースアシレートは、粒子状で使用することが好ましい。使用する粒子の９０
質量％以上が０．５〜５ｍｍの粒子径を有することが好ましい。また使用する粒子の５０
質量％以上が１〜４ｍｍの粒子径を有することが好ましい。セルロースアシレート粒子は
、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。
【００６８】
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で、好
ましくは２００〜７００、より好ましくは２５０〜５５０、更に好ましくは２５０〜４０
０であり、特に好ましくは２５０〜３５０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（
宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）に
より測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
【００６９】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロ
ースアシレートよりも低くなるため、前記セルロースアシレートとしては低分子成分を除
去したものが有用である。
【００７０】
低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレ
ートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セル
ロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分
の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロ
ースアシレート１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。  
硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）
セルロースアシレートを合成することができる。
【００７１】
セルロースアシレートをフィルムの製造に使用する際には、その含水率は２質量％以下
であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下
である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており含水率２．５〜５質量％が
知られている。本発明では、セルロースアシレートの含水率を上記好適範囲とするために
は、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になる方法であれば特に限
定されない。
【００７２】
前記セルロースアシレートの原料綿や合成方法は、発明協会公開技報公技番号２００１
−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）ｐ．７−１２に詳細に記載されて
いる原料綿や合成方法を採用できる。
【００７３】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、前記の特定のセルロー
スアシレートと必要に応じて添加剤とを有機溶媒に溶解させた溶液を用いてフィルム化す
ることにより得ることができる。
【００７４】
弾性率を低下させるためには、綿リンタよりも繊維長の短い木材パルプを原料として用
いることが好ましい。また、セルロースアシレートの重合度が低いものを用いることも好
ましい。
【００７５】
〔添加剤〕
本発明において前記セルロースアシレート溶液に用いることができる添加剤としては、
例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、レターデーション（光学異方性）発現剤、
レターデーション（光学異方性）低下剤、波長分散調整剤、染料、微粒子、剥離促進剤、
赤外吸収剤などを挙げることができる。本発明においては、レターデーション発現剤を用
いるのが好ましい。また、可塑剤、紫外線吸収剤、剥離促進剤、染料、マット剤の少なく
とも１種以上を用いるのが好ましい。
【００７６】
それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定さ
れるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、
同様に可塑剤を混合して用いたりすることができ、例えば特開２００１−１５１９０１号
公報などに記載されている。
【００７７】
保護膜の弾性率Ｅは、引張試験機「ストログラフ−Ｒ２」｛（株）東洋精機製作所製｝
で測定する弾性率を５００〜３０００ＭＰａにすることが好ましい。より好ましくは、６
００〜２５００ＭＰａであり、特に好ましくは６００〜２０００ＭＰａである。
【００７８】
［紫外線吸収剤］
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル
酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアク
リレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン
系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。
【００７９】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒド
ロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等を挙げることが
できる。
【００８０】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ
−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロ
キシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，
５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５
’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ
−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
【００８１】
サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシ
レート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等を挙げることができる。
【００８２】
これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２（２’−ヒド
ロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、
２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒ
ドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒド
ロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールが特に
好ましい。
【００８３】
紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範
囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化
防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、液晶表示性の観点
から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線
吸収剤は、先に上げたベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル
酸エステル系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステ
ルに対する不用な着色が少ないことから、好ましい。
【００８４】
また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０
１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−
１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、
同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号
、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載の化合物も用いることができる。
【００８５】
紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対し０．００１〜５質量％が好まし
く、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％以上であれば添加効
果が十分に発揮されうるので好ましく、添加量が５質量％以下であればフィルム表面への
紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できるので好ましい。
【００８６】
また紫外線吸収剤は、セルロースアシレート溶解時に同時に添加してもよいし、溶解後
のドープに添加してもよい。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外
線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好まし
い。
【００８７】
［劣化防止剤］
前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することが
できる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２
５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリア
ゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（
特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物がある。
【００８８】
［可塑剤］
可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。リン酸
エステル系可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジル
ホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフ
ェート、ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリオクチルホスフェート、ト
リブチルホスフェート等；カルボン酸エステル系可塑剤としては、例えばジメチルフタレ
ート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオ
クチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタ
レート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルク
エン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリ
ブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリア
セチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリ
コレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を
挙げることができ、本発明に用いられる可塑剤はこれら例示の可塑剤から選ばれたもので
あることがより好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル
類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。
可塑剤の添加は弾性率を低下させるために好ましい。しかし多量に添加しすぎるとフィ
ルムから可塑剤が析出する問題が生じる。
よって添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．
１〜２０質量部であることが好ましく、３〜１８質量部であることがさらに好ましく、５
〜１５質量部であることが特に好ましい。
【００８９】
［剥離促進剤］
剥離促進剤としては、クエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。
【００９０】
［赤外吸収剤］
さらに赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている
。
【００９１】
［添加時期等］
これらの添加剤を添加する時期は、ドープ作製工程において何れで添加してもよいが、
ドープ調製工程の最後の調製工程に、添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい
。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。
【００９２】
また、セルロースアシレートフィルムが多層である場合、各層の添加物の種類や添加量
が異なってもよい。例えば、特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが
、これらは従来から知られている技術である。
【００９３】
これら添加剤の種類や添加量の選択によって、セルロースアシレートフィルムの動的粘
弾性測定機「バイブロン：ＤＶＡ−２２５」｛アイティー計測制御（株）製｝｝で測定す
るガラス転移点Ｔｇを７０〜１５０℃に、引張試験機「ストログラフ−Ｒ２」｛（株）東
洋精機製作所製｝で測定する弾性率を５００〜３０００ＭＰａにすることが好ましい。よ
り好ましくは、ガラス転移点Ｔｇが８０〜１３５℃、弾性率が６００〜２５００ＭＰａで
ある。すなわち、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、偏光板
加工や液晶表示装置組立ての工程適性の点で、ガラス転移点Ｔｇ、弾性率を上記の範囲と
することが好ましい。
【００９４】
さらに添加剤については、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１
年３月１５日発行、発明協会）ｐ．１６以降に詳細に記載されているものを適宜用いるこ
とができる。
【００９５】
［レターデーション発現剤］
本発明では光学異方性を大きく発現させる場合には、好ましいレターデーション値を実
現するために、レターデーション発現剤を用いるのが好ましい。本発明において用いるこ
とができるレターデーション発現剤としては、棒状又は円盤状化合物からなるものを挙げ
ることができる。棒状又は円盤状化合物としては、少なくとも２つの芳香族環を有する化
合物を用いることができる。
【００９６】
棒状化合物からなるレターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含む
ポリマー成分１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．５〜
２０質量部であることがさらに好ましい。
【００９７】
円盤状のレターデーション発現剤は、前記セルロースアシレートを含むポリマー成分１
００質量部に対して、０．０５〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜
１０質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．２〜５質量部の範囲で使用するこ
とがさらに好ましく、０．５〜２質量部の範囲で使用することが最も好ましい。
【００９８】
円盤状化合物は、Ｒｔｈレターデーション発現性において棒状化合物よりも優れている
ため、特に大きなＲｔｈレターデーションを必要とする場合には好ましく使用される。
２種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。
【００９９】
棒状又は円盤状化合物からなる前記レターデーション発現剤は、２５０〜４００ｎｍの
波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないこ
とが好ましい。
【０１００】
（円盤状化合物）
以下、円盤状化合物について説明する。
円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる
。
本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を
含む。
【０１０１】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳
香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環
又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。
【０１０２】
芳香族性ヘテロ環は、一般に最多の二重結合を有する。
ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好
ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾー
ル環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾ
ール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジ
ン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼ
ン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾ
ール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリ
アジン環が好ましく、特に１，３，５−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には
例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合物が円盤状化合物として好ましく
用いられる。
【０１０３】
前記円盤状化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２
であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最
も好ましい。
【０１０４】
２つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する
場合及び（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合
は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。
【０１０５】
（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環
、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、
ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフ
ラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾー
ル環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロ
メン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キ
ノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナン
トリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フ
ェノキサジン環及びチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール
環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリア
ゾール環及びキノリン環が好ましい。
【０１０６】
（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上
の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環又は非芳香族性複
素環を形成してもよい。
【０１０７】
（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、
アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−
又はそれらの組み合わせであることが好ましい。
【０１０８】
組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は
、逆になってもよい。
ｃ1：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ2：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ3：−アルキレン−Ｏ−
ｃ4：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ5：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ6：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ7：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ8：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ9：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
【０１０９】
芳香族環及び連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシ
ル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、
ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシル
オキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
ルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪
族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換
ウレイド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。
【０１１０】
アルキル基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状ア
ルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換
基（例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有
していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル基、エチル基、
ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、４−カルボキシブチル基、２
−メトキシエチル基及び２−ジエチルアミノエチル基が含まれる。
【０１１１】
アルケニル基の炭素原子数は２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖
状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、
さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基及び１−
ヘキセニル基が含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも
鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は
、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、１−ブチニル
基及び１−ヘキシニル基が含まれる。
【０１１２】
脂肪族アシル基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例に
は、アセチル基、プロパノイル基及びブタノイル基が含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオ
キシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基（例えば、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基
を含む）例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基及びメトキシエトキシ基が含まれ
る。
【０１１３】
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。アルコキシカ
ルボニル基の例には、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基が含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。アルコ
キシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基及びエトキシカルボニル
アミノ基が含まれる。
【０１１４】
アルキルチオ基の炭素原子数は１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例に
は、メチルチオ基、エチルチオ基及びオクチルチオ基が含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニ
ル基の例には、メタンスルホニル基及びエタンスルホニル基が含まれる。
【０１１５】
脂肪族アミド基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例に
は、アセトアミド基が含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホン
アミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基及びｎ−オクタン
スルホンアミド基が含まれる。
【０１１６】
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ
基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及び２−カルボキシエチルアミノ基が
含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換
カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基及びジエチルカルバモイル基が含まれる
。
【０１１７】
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。脂肪族置換
スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基及びジエチルスルファモイル基が含
まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレ
イド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基及びモルホリノ基が含まれる。
【０１１８】
円盤状化合物からなるレターデーション発現剤の分子量は、３００乃至８００であるこ
とが好ましい
【０１１９】
（棒状化合物）
本発明では前述の円盤状化合物の他に、直線的な分子構造を有する棒状化合物も好まし
く用いることができる。
【０１２０】
直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直
線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析又は分子軌道計
算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト｛例えば、“ＷｉｎＭＯＰ
ＡＣ２０００”富士通（株）製｝を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小
さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記の
ように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成す
る角度が１４０゜以上であることを意味する。
【０１２１】
棒状化合物としては、少なくとも２つの芳香族環を有するものが好ましく、少なくとも
２つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ま
しい。
一般式（１）：Ａｒ1−Ｌ1−Ａｒ2
上記一般式（１）において、Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立に、芳香族基である。
【０１２２】
本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基
、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。アリール基及び置換アリール
基の方が、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。
【０１２３】
芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員
環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ま
しい。芳香族性へテロ環は、一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素
原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましく、窒素原子又は硫黄原子がさらに好ましい。
【０１２４】
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オ
キサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジ
ン環及びピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
【０１２５】
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミ
ノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）
、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチル
カルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スル
ファモイル基、アルキルスルファモイル基（例えば、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−
エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ウレイド基、アルキル
ウレイド基（例えば、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ
'−トリメチルウレイド基）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−
アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、
アリル基、ヘキセニル基）、アルキニル基（例えば、エチニル基、ブチニル基）、アシル
基（例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）、ア
シルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウ
リルオキシ基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）、アリールオキシ基
（例えば、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキ
シカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば
、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、ブトキシカルボ
ニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例えば、メチル
チオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ
基、オクチルチオ基）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基）、アルキルスルホニ
ル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチ
ルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基
）、アミド基（例えば、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリル
アミド基）及び非芳香族性複素環基（例えば、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる
。
【０１２６】
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ
基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、ア
シルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基及び
アルキル基が好ましい。
【０１２７】
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基のアル
キル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分及びアルキ
ル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、
アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファ
モイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルア
ミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基及び非芳香
族性複素環基が含まれる。アルキル部分及びアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子
、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ
基、アルコキシカルボニル基及びアルコキシ基が好ましい。
【０１２８】
前記一般式（１）において、Ｌ1は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基
、−Ｏ−、−ＣＯ−及びそれらの組み合わせからなる基から選ばれる２価の連結基である
。
【０１２９】
アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘ
キシレンが好ましく、１，４−シクロへキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基とし
ては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。アルキレン
基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１５であり、さ
らに好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜８であり、最も好ましくは１〜６
である。
【０１３０】
アルケニレン基及びアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好まし
く、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルケニレ
ン基及びアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２
〜８であり、さらに好ましくは２〜６であり、さらに好ましくは２〜４であり、最も好ま
しくは２（ビニレン又はエチニレン）である。
【０１３１】
アリーレン基は、炭素原子数は６〜２０であることが好ましく、より好ましくは６〜１
６であり、さらに好ましくは６〜１２である。
【０１３２】
一般式（１）の分子構造において、Ｌ1を挟んで、Ａｒ1とＡｒ2とが形成する角度は、
１４０゜以上であることが好ましい。
【０１３３】
棒状化合物としては、下記一般式（２）で表される化合物がさらに好ましい。
一般式（２）：Ａｒ1−Ｌ2−Ｘ−Ｌ3−Ａｒ2
上記一般式（２）において、Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立に、芳香族基である。
【０１３４】
芳香族基の定義及び例は、一般式（１）のＡｒ1及びＡｒ2と同様である。また、Ｌ2及
びＬ3は、それぞれ独立に、アルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−及びそれらの組み合わせか
らなる基より選ばれる２価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状
構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルキレン基の炭素原子数は１〜
１０であることが好ましく、より好ましくは１〜８であり、さらに好ましくは１〜６であ
り、さらに好ましくは１〜４であり、１又は２（メチレン又はエチレン）であることが最
も好ましい。
Ｌ2及びＬ3は、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であることが特に好ましい。
【０１３５】
一般式（２）において、Ｘは、１，４−シクロへキシレン、ビニレン又はエチニレンで
ある。
【０１３６】
一般式（１）又は（２）で表される化合物の具体例としては、特開２００４−１０９６
５７号公報の［化１］〜［化１１］に記載の化合物が挙げられる。
【０１３７】
その他、下記一般式（３）で表される化合物もまた好ましい。
一般式（３）：
【０１３８】
【化１】
0004802067.tif 000002
【０１３９】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立に水素原
子又は置換基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5のうち少なくとも１つは電子供与性基
を表す。Ｒ8は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭
素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ
基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭
素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。）
【０１４０】
レターデーション発現剤のうち、一般式（３）で表される棒状化合物の具体例を以下に
示す。
【０１４１】
【化２】
0004802067.tif 000003
【０１４２】
【化３】
0004802067.tif 000004
【０１４３】
【化４】
0004802067.tif 000005
【０１４４】
【化５】
0004802067.tif 000006
【０１４５】
【化６】
0004802067.tif 000007
【０１４６】
【化７】
0004802067.tif 000008
【０１４７】
【化８】
0004802067.tif 000009
【０１４８】
溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長（λmax）が２５０ｎｍより短波
長である棒状化合物を、２種類以上併用してもよい。
【０１４９】
棒状化合物は、文献記載の方法により合成できる。
文献としては、“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．”，５３巻、ｐ２２９（
１９７９年）、同８９巻、ｐ９３（１９８２年）、同１４５巻、ｐ１１１（１９８７年）
、同１７０巻、ｐ４３（１９８９年）、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，１１３巻、
ｐ１３４９（１９９１年）、同１１８巻、ｐ５３４６（１９９６年）、同９２巻、ｐ１５
８２ページ（１９７０年）、“Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．”，４０巻、ｐ４２０（１９７５
年）、“Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ”，４８巻１６号、ｐ３４３７（１９９２年）を挙げる
ことができる。
【０１５０】
［レターデーション低下剤］
セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる場合に使用するレターデー
ション低下剤について説明する。
フィルム中のセルロースアシレートが、面内及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合
物を用いて、光学的異方性を十分に低下させ、Ｒｅ及びＲｔｈをゼロ又はゼロに近くにす
ることができる。このためには、光学的異方性を低下させる化合物はセルロースアシレー
トに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である
。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を
同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【０１５１】
（ＬｏｇＰ値）
光学的異方性の低いセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のよ
うに、フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制して光
学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７
である化合物が好ましい。化合物のｌｏｇＰ値が７以下であれば、セルロースアシレート
との相溶性が良好で、フィルムの白濁や粉吹きなどの不具合を生じにくいので好ましい。
また化合物のｌｏｇＰ値が０以上であれば、親水性が高くなりすぎることがなく、セル
ロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させることがないので好ましい。ｌｏｇＰ値と
してさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
【０１５２】
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ  Ｚ−７２６０−１０７（
２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール
−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見
積もることも可能である。
【０１５３】
計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗ
ａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍ
ｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍ
ｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，
１９巻、ｐ７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆ
ｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２
７巻、ｐ２１（１９８７年）｝がより好ましい。
【０１５４】
ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が上
記の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法によ
り判断することが好ましい。
【０１５５】
（光学的異方性を低下する化合物の物性）
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい
。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが
好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であ
ることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても
よいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【０１５６】
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜
２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００
℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム
作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【０１５７】
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質
量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％
であることが特に好ましい。
【０１５８】
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混
合して用いてもよい。
【０１５９】
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであっても
よく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０１６０】
光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％まで
の部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部にお
ける該化合物の平均含有率の８０〜９９％であることが好ましい。光学異方性を低下させ
る化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトル
を用いる方法などにより、表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【０１６１】
（光学異方性を低下させる化合物の具体例）
以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低
下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。
【０１６２】
【化９】
0004802067.tif 000010
【０１６３】
【化１０】
0004802067.tif 000011
【０１６４】
【化１１】
0004802067.tif 000012
【０１６５】
【化１２】
0004802067.tif 000013
【０１６６】
【化１３】
0004802067.tif 000014
【０１６７】
【化１４】
0004802067.tif 000015
【０１６８】
【化１５】
0004802067.tif 000016
【０１６９】
【化１６】
0004802067.tif 000017
【０１７０】
【化１７】
0004802067.tif 000018
【０１７１】
【化１８】
0004802067.tif 000019
【０１７２】
［波長分散調整剤］
次ぎに、セルロースアシレートフィルムの波長分散を低下させる化合物について説明す
る。２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び
｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート
固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことが好ましい。波長分散調整剤の含有により
、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整することができる。こ
こで、Ｒｅ400、Ｒｔｈ400は、波長λ＝４００ｎｍにおける値、Ｒｅ700、Ｒｔｈ700は、
波長λ＝７００ｎｍにおける値（いずれも単位：ｎｍ）を表す。このような化合物の添加
量としては、０．１〜３０質量％含むことによってセルロースアシレートフィルムのＲｅ
、Ｒｔｈの波長分散を調整できる。
【０１７３】
セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は、一般に短波長側よりも長波長側
が大きい波長分散特性となる。従って、相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きく
することによって、波長分散を平滑にすることが要求される。一方、２００〜４００ｎｍ
の紫外領域に吸収を持つ化合物は、短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特
性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれ
ば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は、吸光度の波長分散と同
様に短波長側が大きいと想定される。
【０１７４】
従って、上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身の
Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散が短波長側で大きいと想定されるものを用いることによって、セ
ルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このた
めには、波長分散を調整する化合物は、セルロースアシレートに十分均一に相溶すること
が要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好まし
いが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【０１７５】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置では、よ
り少ない電力で輝度を高めるために、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れ
たものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持
ち、フィルムの｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物
を、セルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れていることが要求
される。本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３
８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、且つ波長３５０ｎｍにおけ
る分光透過率が１０％以下であることがのぞましい。
【０１７６】
上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は、揮散性の観点から分子
量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更
に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分
子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複
数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【０１７７】
波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮
散しないことが好ましい。
【０１７８】
（波長分散調整剤の添加量）
上記の本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレート
の固形分に対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であ
ることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。
【０１７９】
（波長分散調整剤の添加の方法）
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合し
て用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく
、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０１８０】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾ
ール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン
系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本
発明はこれらの化合物だけに限定されるものではない。
【０１８１】
［染料］
また本発明では、色相調整のための染料を添加してもよい。染料の含有量は、セルロー
スアシレートに対する質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍ
が更に好ましい。この様に染料を含有させることにより、セルロースアシレートフィルム
のライトパイピングが減少でき、黄色味を改良することができる。これらの化合物は、セ
ルロースアシレート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶媒と共に添加してもよ
いし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。またインライン添加する紫外線吸収剤液に
添加してもよい。特開平５−３４８５８号公報に記載の染料を用いることができる。
【０１８２】
［マット剤微粒子］
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒
子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チ
タン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク
、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム
、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は、珪素を含む
ものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０１８３】
二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ見掛け比重が７０
ｇ／Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィ
ルムのヘイズを下げることができより好ましい。見掛け比重は９０〜２００ｇ／Ｌ以上が
好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌ以上がさらに好ましい。見掛け比重が大きい程、高濃度
の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１８４】
マット剤として二酸化珪素微粒子を用いる場合の、その使用量は、セルロースアシレー
トを含むポリマー成分１００質量部に対して０．０１〜０．３質量部とするのが好ましい
。
【０１８５】
これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成するが、フ
ィルム中では１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸
を形成させる。２次粒子の平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．
４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ま
しい。該平均粒子径が１．５μｍ以下であればヘイズが強くなりすぎることがなく、また
０．２μｍ以上であればきしみ防止効果が十分に発揮されるので好ましい。
【０１８６】
微粒子の１次、２次粒子径は、フィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に
外接する円の直径をもって粒径とする。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その
平均値をもって平均粒子径とする。
【０１８７】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、「アエロジル」Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ
８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００｛以上、日本アエ
ロジル（株）製｝などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、
例えば、「アエロジル」Ｒ９７６及びＲ８１１｛以上、日本アエロジル（株）製｝の商品
名で市販されており、使用することができる。
【０１８８】
これらの中で「アエロジル２００Ｖ」、「アエロジルＲ９７２Ｖ」が、１次平均粒子径
が２０ｎｍ以下であり、且つ見掛け比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であ
り、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ま
しい。
【０１８９】
本発明において、２次平均粒子径の小さな粒子を含有するセルロースアシレートフィル
ムを得るためには、微粒子の分散液を調製する際いくつかの手法が考えられる。例えば、
溶媒と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液を予め作製し、この微粒子分散液を、別途用意
した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースア
シレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、
二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶媒に
少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散
を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十
分混合する方法もある。本発明においては、これらの方法に限定されるものではないが、
二酸化珪素微粒子を溶媒などと混合して分散するときの、二酸化珪素の濃度は５〜３０質
量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。
分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため
好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2
当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜
０．１６ｇが最も好ましい。
【０１９０】
使用される溶媒は、低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げ
られる。低級アルコール以外の溶媒としては、特に限定されないが、セルロースエステル
の製膜時に用いられる溶媒を用いることが好ましい。
【０１９１】
次に、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートが溶解される前記有機溶媒に
ついて記述する。
【０１９２】
本発明においては、有機溶媒として、塩素系有機溶媒を主溶媒とする塩素系溶媒と、塩
素系有機溶媒を含まない非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができる。
【０１９３】
〔塩素系溶媒〕
本発明において好ましく用いられるセルロースアシレートの溶液を作製するに際しては
、主溶媒として塩素系有機溶媒が好ましく用いられる。本発明においては、セルロースア
シレートが溶解し、流延・製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは、その
塩素系有機溶媒の種類は特に限定されない。これらの塩素系有機溶媒は、好ましくはジク
ロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶
媒以外の有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合ジクロロメタンは、有機溶媒
全体量中少なくとも５０質量％使用することが好ましい。
【０１９４】
本発明で塩素系有機溶媒と併用される他の有機溶媒について以下に記す。
すなわち、好ましい他の有機溶媒としては、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン
、エーテル、アルコール、炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン
、エーテル及びアルコールは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエー
テルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有す
る化合物も、溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能
基を同時に有していてもよい。２種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数
はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２の
エステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メ
チルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテート等が挙げられる。炭素原子数
が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイ
ソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等が
挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジ
メトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テト
ラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等が挙げられる。２種類以上の官能基を有
する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２
−ブトキシエタノール等が挙げられる。
【０１９５】
また塩素系有機溶媒と併用されるアルコールとしては、好ましくは、直鎖であっても分
枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ま
しい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例
には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール
、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール及
びシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用い
られる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，
２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、
直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水
素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であっても
よい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレン
が含まれる。
【０１９６】
塩素系有機溶媒と他の有機溶媒との組合せ例としては、以下の組成を挙げることができ
るが、これらに限定されるものではない。
ジクロロメタン／メタノール／エタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５（質量部
）、
ジクロロメタン／アセトン／メタノール／プロパノール＝８０／１０／５／５（質量部
）、
ジクロロメタン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン＝８０／１０／５／５（質
量部）、
ジクロロメタン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５
（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール＝７
５／８／５／５／７（質量部）、
ジクロロメタン／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール＝８０／７／５／
８（質量部）、
ジクロロメタン／酢酸メチル／ブタノール＝８０／１０／１０（質量部）、
ジクロロメタン／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン＝７０／２０／５／５（質
量部）、
ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝５０／２
０／２０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／１、３ジオキソラン／メタノール／エタノール＝７０／２０／５／５
（質量部）、
ジクロロメタン／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール＝６０／２０／１０
／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロ
ヘキサン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝７０／１
０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン＝６５／
１０／１０／５／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール＝６５／２０／１０／５
（質量部）、
ジクロロメタン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール＝６５／２０／１０／５
（質量部）。
【０１９７】
〔非塩素系溶媒〕
次に、本発明において好ましく用いられるセルロースアシレートの溶液を作製するに際
して、好ましく用いられる非塩素系有機溶媒について記載する。本発明においては、セル
ロースアシレートが溶解し、流延・製膜できる範囲において、その目的が達成できる限り
は、非塩素系有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、炭
素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステ
ル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエー
テルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有す
る化合物も、主溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官
能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数は
、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２の
エステル類の例には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル及び酢酸ペンチルが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン
、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン及びアセチル酢酸メチルが挙げられる。炭素原子
数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメ
トキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニ
ソール及びフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが
挙げられる。
【０１９８】
以上の、セルロースアシレートに用いられる非塩素系有機溶媒については、前述のいろ
いろな観点から選定されるが、好ましくは以下のとおりである。
すなわち、非塩素系溶媒としては、上記非塩素系有機溶媒を主溶媒とする混合溶媒が好
ましく、互いに異なる３種類以上の溶媒の混合溶媒であって、第１の溶媒が酢酸メチル、
酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、ジオキソラン、ジオキサンから選ばれ
る少なくとも１種又はそれらの混合液であり、第２の溶媒が炭素原子数４〜７のケトン類
又はアセト酢酸エステルから選ばれ、第３の溶媒が炭素数１〜１０のアルコール又は炭化
水素、より好ましくは炭素数１〜８のアルコールから選ばれる混合溶媒である。なお第１
の溶媒が、２種以上の溶媒の混合液である場合は、第２の溶媒がなくてもよい。第１の溶
媒は、さらに好ましくは、酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチル又はこれらの
混合物であり、第２の溶媒は、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノ
ン、アセチル酢酸メチルが好ましく、これらの混合溶媒であってもよい。
【０１９９】
第３の溶媒であるアルコールは、その炭化水素鎖が直鎖であっても分枝を有していても
環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素鎖であることが好ましい。アルコー
ルの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール及びシクロヘキサ
ノールが含まれる。なおアルコールとしては、その炭化水素鎖の水素の一部又は全部がフ
ッ素で置換されたフッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、
２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノ
ールなども挙げられる。
【０２００】
さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭
化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっ
ても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、
トルエン及びキシレンが含まれる。
【０２０１】
これらの第３の溶媒であるアルコール及び炭化水素は、単独で用いてもよいし、２種類
以上の混合物で用いてもよく特に限定されない。第３の溶媒としては、好ましい具体的化
合物は、アルコールとして、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノ
ール、１−ブタノール、２−ブタノール、及びシクロヘキサノール、炭化水素として、シ
クロヘキサン、ヘキサンなどを挙げることができ、特に好ましくはメタノール、エタノー
ル、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールである。
【０２０２】
以上の３種類の混合溶媒の混合割合は、混合溶媒全体量中、第１の溶媒が２０〜９５質
量％、第２の溶媒が２〜６０質量％、そして第３の溶媒が２〜３０質量％の比率で含まれ
ることが好ましく、さらに第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜５０
質量％、そして第３のアルコールが３〜２５質量％含まれることが好ましい。また特に第
１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜３０質量％、第３の溶媒がアルコ
ールであって３〜１５質量％含まれることが好ましい。
【０２０３】
以上の本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、さらに詳細には発明協会公開技報公技
番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）ｐ．１２−１６に詳
細に記載されている。
【０２０４】
本発明の好ましい非塩素系有機溶媒の組合せは以下挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。
酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／ブタノール＝７５／１０／５／５／
５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／プロパノール＝７５／１０／５／５
／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン＝７５／１０／５／
５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８１／８／７／４（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８２／１０／４／４（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８０／１０／４／６（質量部）、
酢酸メチル／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５（質
量部）、
酢酸メチル／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール＝７５／
８／５／５／７（質量部）、
酢酸メチル／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール＝８０／７／５／８（
質量部）、
酢酸メチル／アセトン／ブタノール＝８５／１０／５（質量部）、
酢酸メチル／シクロペンタノン／アセトン／メタノール／ブタノール＝６０／１５／１
４／５／６（質量部）、
酢酸メチル／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン＝７０／２０／５／５（質量部
）、
酢酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝５０／２０／
２０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／１、３−ジオキソラン／メタノール／エタノール＝７０／２０／５／５（
質量部）、
酢酸メチル／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール＝６０／２０／１０／５
／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキ
サン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、
【０２０５】
ギ酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝５０／２０／
２０／５／５（質量部）、
ギ酸メチル／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン＝６５／１０
／１０／５／５／５（質量部）、
アセトン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール＝６５／２０／１０／５（質量
部）、
アセトン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール＝６５／２０／１０／５（質量
部）、
アセトン／１，３−ジオキソラン／エタノール／ブタノール＝６５／２０／１０／５（
質量部）、
１、３−ジオキソラン／シクロヘキサノン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノ
ール＝５５／２０／１０／５／５／５（質量部）
などをあげることができる。
【０２０６】
更に、下記の方法で調整したセルロースアシレート溶液を用いることもできる。
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８１／８／７／４（質量部）でセル
ロースアシレート溶液を作製し、濾過・濃縮後に２質量部のブタノールを追加添加する方
法、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８４／１０／４／２（質量部）でセ
ルロースアシレート溶液を作製し、濾過・濃縮後に４質量部のブタノールを追加添加する
方法、
酢酸メチル／アセトン／エタノール＝８４／１０／６（質量部）でセルロースアシレー
ト溶液を作製し、濾過・濃縮後に５質量部のブタノールを追加添加する方法、
【０２０７】
本発明に用いるドープには、上記本発明の非塩素系有機溶媒以外に、ジクロロメタンを
本発明の全有機溶媒量の１０質量％以下含有させてもよい。
【０２０８】
〔セルロースアシレート溶液特性〕
セルロースアシレートの溶液は、前記有機溶媒にセルロースアシレートを溶解させた溶
液であり、その濃度は１０〜３０質量％の範囲であることが、製膜流延適性の点で好まし
く、より好ましくは１３〜２７質量％であり、特に好ましくは１５〜２５質量％である。
セルロースアシレート溶液をこのような濃度範囲にする方法は、溶解する段階で所定の
濃度になるようにしてもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製
した後に、後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度
のセルロースアシレート溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度の
セルロースアシレート溶液としてもよく、いずれの方法でも本発明において好ましく用い
られるセルロースアシレート溶液濃度になるように実施されれば特に問題ない。
【０２０９】
次に、本発明では、セルロースアシレート溶液を同一組成の有機溶媒で０．１〜５質量
％にしたときの、希釈溶液中のセルロースアシレートの会合体分子量が１５万〜１５００
万であることが、溶媒への溶解性の点で好ましい。会合分子量は１８万〜９００万である
ことがさらに好ましい。この会合分子量は、静的光散乱法で求めることができる。その際
に、同時に求められる慣性半径は１０〜２００ｎｍになるように溶解することが好ましい
。さらに好ましい慣性半径は２０〜２００ｎｍである。更にまた、第２ビリアル係数が−
２×１０-4〜＋４×１０-4となるように溶解することが好ましく、より好ましくは第２ビ
リアル係数が−２×１０-4〜＋２×１０-4である。
【０２１０】
ここで、本発明での会合分子量、さらに慣性半径及び第２ビリアル係数の定義について
述べる。これらは下記方法に従って、静的光散乱法を用いて測定する。測定は装置の都合
上希薄領域で測定するが、これらの測定値は本発明の高濃度域でのドープの挙動を反映す
るものである。
【０２１１】
まず、セルロースアシレートをドープに使用する溶媒に溶かし、０．１質量％、０．２
質量％、０．３質量％、０．４質量％の溶液を調製する。なお秤量は、吸湿を防ぐため、
セルロースアシレートは、１２０℃で２時間乾燥したものを用い、２５℃、１０％ＲＨで
行う。溶解方法は、ドープ溶解時に採用した方法（常温溶解法、冷却溶解法、高温溶解法
）に従って実施する。続いてこれらの溶液、及び溶媒を０．２μｍのテフロン（登録商標）製フィルターで濾過する。そして、濾過した溶液の静的光散乱を、光散乱測定装置“ＤＬＳ−７００”｛大塚電子（株）製｝を用い、２５℃において３０゜から１４０゜まで１０゜間隔で測定する。得られたデータをＢＥＲＲＹプロット法にて解析する。なお、この解析に必要な屈折率は、アッベ屈折系で求めた溶媒の値を用い、屈折率の濃度勾配（ｄｎ／ｄｃ）は、示差屈折計“ＤＲＭ−１０２１”｛大塚電子（株）製｝を用い、光散乱測定に用いた溶媒及び溶液を用いて測定する。
【０２１２】
〔ドープの調製〕
次に、セルロースアシレートの流延・製膜用の溶液（ドープ）の調製について述べる。
セルロースアシレートの溶解方法は、特に限定されず、室温溶解法でもよく、また冷却
溶解法又は高温溶解法、さらにはこれらの組み合わせで実施されてもよい。これらに関し
ては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１
２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５
９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、さらに特開平１
１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開
平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、
特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号などの各公報にセルロースア
シレート溶液の調製法として記載されている。
【０２１３】
以上記載した、これらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、適宜本発明
の範囲であれば、本発明においてもこれらの技術を適用できるものである。これらの詳細
、特に非塩素系溶媒系については、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２
００１年３月１５日発行、発明協会）ｐ．２２−２５に詳細に記載されており、その方法
に従って実施することができる。さらに本発明において好ましく用いられるセルロースア
シレートのドープ溶液については、通常、溶液濃縮、濾過が実施されるが、これらについ
ては同様に発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行
、発明協会）ｐ．２５に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合には、使用
する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で行われる。
【０２１４】
セルロースアシレート溶液は、その溶液の粘度と動的貯蔵弾性率が以下に述べる範囲で
あることが、流延しやすく好ましい。これらの値は、試料溶液１ｍＬをレオメーター“Ｃ
ＬＳ  ５００”に、直径４ｃｍ／２°の“Ｓｔｅｅｌ  Ｃｏｎｅ”（共にＴＡ  Ｉｎｓｔ
ｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いて測定する。測定条件はＯｓｃｉｌｌａｔｉｏｎ  Ｓｔｅｐ
／Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｒａｍｐで４０℃〜−１０℃の範囲を２℃／分で可変して測
定し、４０℃の静的非ニュートン粘度ｎ*（Ｐａ・ｓ）及び−５℃の貯蔵弾性率Ｇ'（Ｐａ
）を求める。なお試料溶液は、予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測
定を開始する。
【０２１５】
本発明では、４０℃での粘度が１〜４００Ｐａ・ｓであり、１５℃での動的貯蔵弾性率
が５００Ｐａ以上であることが好ましく、より好ましくは４０℃での粘度が１０〜２００
Ｐａ・ｓで、１５℃での動的貯蔵弾性率が１００〜１００万であるのがよい。さらには、
低温での動的貯蔵弾性率は大きいほど好ましく、例えば流延支持体が−５℃の場合は、動
的貯蔵弾性率が−５℃で１万〜１００万Ｐａであることが好ましく、支持体が−５０℃の
場合は、−５０℃での動的貯蔵弾性率が１万〜５００万Ｐａであることが好ましい。
【０２１６】
本発明においては、前述の特定のセルロースアシレートを用いているので、高濃度のド
ープが得られるのが特徴であり、濃縮という手段に頼らずとも高濃度で、しかも安定性の
優れたセルロースアシレート溶液が得られる。更に溶解し易くするために、低い濃度で溶
解してから濃縮手段を用いて濃縮してもよい。濃縮の方法としては、特に限定するものは
ないが、例えば、低濃度溶液を筒体とその内部の周方向に回転する回転羽根外周の回転軌
跡との間に導くとともに、溶液との間に温度差を与えて、溶媒を蒸発させながら高濃度溶
液を得る方法（例えば、特開平４−２５９５１１号公報等）、加熱した低濃度溶液をノズ
ルから容器内に吹き込み、溶液をノズルから容器内壁に当たるまでの間で溶媒をフラッシ
ュ蒸発させるとともに、溶媒蒸気を容器から抜き出し、高濃度溶液を容器底から抜き出す
方法（例えば、米国特許第２，５４１，０１２号、米国特許第２，８５８，２２９号、米
国特許第４，４１４，３４１号、米国特許第４，５０４，３５５号各明細書等などに記載
の方法）等で実施できる。
【０２１７】
ドープ溶液は、流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ
、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。セルロースアシレート溶液の濾過
には、絶対濾過精度が０．１〜１００μｍのフィルターを用いることが好ましく、さらに
は絶対濾過精度が０．５〜２５μｍであるフィルターを用いることが好ましい。フィルタ
ーの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合
、濾過圧力は１．６ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは１．２ＭＰａ以下、更には１
．０ＭＰａ以下、特に０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。濾材としては、ガラ
ス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知で
ある材料を好ましく用いることができ、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる
。セルロースアシレート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよ
く、通常１０Ｐａ・ｓ〜２０００Ｐａ・ｓの範囲に調製されることが好ましく、３０Ｐａ
・ｓ〜１０００Ｐａ・ｓがより好ましく、４０Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓが更に好ましい
。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−５
〜＋７０℃であり、より好ましくは−５〜＋５５℃である。
【０２１８】
〔製膜〕
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、前記セルロースアシレ
ート溶液（ドープ）を用いて製膜を行うことにより得ることができる。製膜方法及び設備
は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延
製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液
）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープを
ドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプ
を通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）から、エンドレスに
走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点
で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの
両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロ
ール群で搬送し乾燥を終了して、巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール
群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。電子ディスプレイ用機能性保護膜
に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、
ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加される
ことが多い。以下に各製造工程について簡単に述べるが、これらに限定されるものではな
い。
【０２１９】
ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製するに際しては、ま
ず、調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を、ドラム又はバンド上に流延し、溶
媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が５〜４０質量％とな
るように濃度を調整しておくことが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕
上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が３０℃以下のドラム又はバンド上に流
延する方法が好ましく採用され、特には金属支持体温度が−１０〜２０℃の範囲であるこ
とが好ましい。さらに本発明では、特開２０００−３０１５５５号、特開２０００−３０
１５５８号、特開平０７−０３２３９１号、特開平０３−１９３３１６号、特開平０５−
０８６２１２号、特開昭６２−０３７１１３号、特開平０２−２７６６０７号、特開昭５
５−０１４２０１号、特開平０２−１１１５１１号、及び特開平０２−２０８６５０号の
各公報に記載の方法を用いることができる。
【０２２０】
［重層流延］
セルロースアシレート溶液は、金属支持体としての平滑なバンド上又はドラム上に単層
液として流延してもよいし、２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延してもよい
。複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置い
て設けた複数の流延口から、セルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて、積
層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１
−１２２４１９号、及び特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応で
きる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってフィル
ム化することもでき、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特
開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号
、及び特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。さらに、特開昭５
６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセ
ルロースアシレート溶液で包み込み、その高粘度及び低粘度のセルロースアシレート溶液
を同時に押出す、セルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。更にまた、特開昭６
１−９４７２４号及び特開昭６１−９４７２５号の各公報に記載の、外側の溶液が内側の
溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。あ
るいはまた２個の流延口を用い、第一の流延口により金属支持体上に形成したフィルムを
剥離した後、そのフィルムの金属支持体面に接していた側に第二の流延を行うことでより
、複数の層のフィルムを作製することもでき、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記
載されている方法を挙げることができる。流延するセルロースアシレート溶液は、同一の
溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく、特に限定されない。複数の
セルロースアシレート層に機能を持たせるためには、その機能に応じたセルロースアシレ
ート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにセルロースアシレート溶液は、
他の機能層（例えば、粘着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層
、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。
【０２２１】
従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには、高濃度で高粘度のセルロース
アシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性
が悪くなりがちで固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問
題となることが多かった。この解決法として、複数のセルロースアシレート溶液を、複数
の流延口から相対的に少量ずつ流延することにより、高粘度の溶液を同時に金属支持体上
に押出すことが可能になり、平面性も改善されて優れた面状のフィルムが作製できるばか
りでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき
、フィルムの生産スピードを高めることができる。
【０２２２】
共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の１
〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２〜３０％の厚さである。ここで、３層
以上の共流延の場合には、金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外
側の厚さとして定義する。共流延の場合、前記の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添
加物濃度が異なるセルロースアシレート溶液を共流延して、積層構造のセルロースアシレ
ートフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構
成のセルロースアシレートフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層
に多く、又はスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層より
もコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。またコア層とスキン層で
可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層に低揮発性の可塑剤
及び紫外線吸収剤の少なくともいずれかを含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、ある
いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。さらに剥離促進剤を金
属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。さらにまた、冷却ドラ
ム法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコ
ールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のＴｇが異なっていて
もよく、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。またさらに流延時のセ
ルロースアシレートを含む溶液の粘度も、スキン層とコア層で異なっていてもよく、スキ
ン層の粘度がコア層の粘度よりも小さいことが好ましいが、コア層の粘度がスキン層の粘
度より小さくてもよい。
【０２２３】
［流延方法］
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し
出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブ
レードによる方法、逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等が
あるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタ
イプ等があるが、いずれも好ましく用いることができる。またここで挙げた方法以外にも
、従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施する
ことができ、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することにより、それぞ
れの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。
【０２２４】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムを製造するのに使用される
、エンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げさ
れたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよ
い）が用いられる。使用される加圧ダイは、金属支持体の上方に１基又は２基以上の設置
でもよい。好ましくは１基又は２基である。２基以上設置する場合には、流延するドープ
量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれ
ぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるセルロースアシレート溶
液の温度は−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。その場合、
工程のすべての溶液温度が同一でもよく、又は工程の各所で異なっていてもよい。異なる
場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
【０２２５】
［乾燥］
セルロースアシレートフィルムの製造に係わる、金属支持体上におけるドープの乾燥は
、一般的には、金属支持体（ドラム又はベルト）の表面側、つまり金属支持体上にあるウ
ェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム又はベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度
コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させ
て、伝熱によりドラム又はベルトを加熱し表面温度をコントロールする裏面液体伝熱方法
などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度は、
ドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するた
めには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸
点の低い溶媒の沸点より１〜１０℃低い温度に設定することが好ましい。なお流延ドープ
を冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
また、金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法も好ましく、熱風温度が
高い場合、また、熱風量が多い場合には、ウェブが急乾状態になり、得られるフィルムの
密度が小さくなるため、弾性率を小さくすることが出来る。
本発明に用いる所望の弾性率を得る上で、熱風温度は１４０〜１９０℃であることが好
ましく、１４５℃〜１９０℃であることが更に好ましく、１５０℃〜１９０℃であること
が特に好ましい。
同様の理由で熱風量は２００〜３２０（m3/min）であることが好ましく、２１０〜３１
０（m3/min）であることが更に好ましく、２０５〜３０５（m3/min）であることが特に好
ましい。
【０２２６】
［延伸処理］
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレター
デーションを調整することが好ましい。特に、セルロースアシレートフィルムの正面レタ
ーデーション値を高い値とする場合には、積極的に幅方向に延伸する方法、例えば、特開
昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開
平４−２９８３１０号、及び特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている、
製造したフィルムを延伸する方法を用いることができる。
【０２２７】
フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転
移温度以下であることが好ましい。フィルムの延伸は、縦又は横だけの一軸延伸でもよく
、同時又は逐次２軸延伸でもよい。通常は１〜２００％の延伸を行うが、好ましくは１〜
１００％、特に好ましくは１〜５０％の延伸を行うのがよい。また、本発明のようにＶＡ
モード液晶表示装置用偏光板では、５〜２００％の延伸を行うことが好ましく、さらに好
ましくは１０〜１５０％、特に好ましくは１５〜１００％の延伸を行うことが好ましい。
【０２２８】
液晶セルの光学異方性の補償及び偏光板を斜めから見た場合の光漏れの抑制のためには
、正面レターデーション値が３０ｎｍ以上の保護膜を用いることが好ましく、そのために
は延伸処理を行ったセルロースアシレートフィルムが用いられる。光学特性を得るために
は、具体的には、延伸倍率１０％以上のものが好ましく、さらに好ましくは１５％以上の
ものである。
【０２２９】
ただし、弾性率を低下させるためには、延伸倍率は小さいほうが好ましい。
【０２３０】
上記の偏光板を斜めから見たときの光漏れの抑制のためには、偏光子の透過軸とセルロ
ースアシレートフィルムの面内の遅相軸を平行に配置する必要がある。連続的に製造され
るロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であ
るので、前記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状のセルロースアシレートフィ
ルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅
相軸は、フィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従って幅方向により多く延伸
することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き
取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶媒を含んだ状態で延伸を行って
もよく、残留溶媒量が２〜３０質量％で好ましく延伸することができる。
残留溶媒量（％）は、（A−B）／B×１００で定義する。ここで、Aはウェブの質量、Bはウェブを１４０℃で６０分間乾燥させた後の質量である。
【０２３１】
乾燥後得られる、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの膜厚は
、使用目的によって異なり、通常、５〜５００μｍの範囲であることが好ましく、更に２
０〜３００μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１５０μｍの範囲が好ましい。また、光学
用、特にＶＡ液晶表示装置用としては、３５〜１４０μｍであることが好ましい。フィル
ム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金
のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。
また、本発明のようにＶＡモードのような液晶セル表裏の偏光板の吸収軸が互いに直交
しており、かつ吸収軸が液晶セルの長辺または短辺と平行な液晶表示装置偏光板では、２
０〜２００μｍであることが好ましく、２５〜１８０μｍであることがさらに好ましく、
３０〜１５０μｍであることが特に好ましい。
またこれらのうちでも保護膜の膜厚が薄い方がリワーク適性に優れ好ましい。
【０２３２】
以上のようにして得られた、セルロースアシレートフィルムの幅は０．５〜３ｍが好ま
しく、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長
さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５
００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、
少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍ
ｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく
、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい
。
【０２３３】
フィルムの幅方向のＲｅ590値のばらつきは、±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎ
ｍであることが更に好ましい。また幅方向のＲｔｈ590値のバラツキは±１０ｎｍが好ま
しく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバ
ラツキも、幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。
【０２３４】
〔セルロースアシレートフィルムの光学特性〕
本明細書において、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは、それぞれ波長λにおける正面レターデーショ
ン及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅλは“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子
計測機器（株）製｝において、波長λｎｍの光をフィルムの法線方向に入射させて測定さ
れる。Ｒｔｈλは、前記Ｒｅλ、面内の遅相軸（“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”により判断
される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向か
ら波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸
（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光
を入射させて測定したレターデーション値の、合計３つの方向で測定したレターデーショ
ン値を基に“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”が算出する。
【０２３５】
ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓ
ｏｎｓ，Ｉｎｃ．）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈
折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学
フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカ
ーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．
５９）。
また、これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨに
よりｎx（遅相軸方向の屈折率）、ｎy（進相軸方向の屈折率）、ｎz（厚み方向の屈折率
）を算出する。また“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”は、面内の遅相軸を傾斜軸とした場合の
、フィルム内部を伝播する光に対してレターデーション値が最小となるフィルム法線方向
に対する角度βも算出する。
【０２３６】
Ｒｅλレターデーション値、Ｒｔｈλレターデーション値が、それぞれ、以下の数式（
２）、（３）を満たすことが、液晶表示装置、特にＶＡモード液晶表示装置の視野角を広
くするために好ましい。また特にセルロースアシレートフィルムが、偏光板の液晶セル側
の保護膜に用いられる場合に好ましい。
数式（２）：０≦Ｒｅ590≦２００
数式（３）：０≦Ｒｔｈ590≦４００
［式中、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは、波長λｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。］
【０２３７】
また、セルロースアシレートフィルムの光学異方性の影響を小さくしたい場合は、液晶
セル側に配置される保護膜（セルロースアシレートフィルム）のＲｅλ及びＲｔｈλが、
数式（８）〜（１１）を満たすことが好ましい。
数式（８）：０≦Ｒｅ590≦１０
数式（９）：｜Ｒｔｈ590｜≦２５
数式（１０）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０
数式（１１）：｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
［式中、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは、波長λｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。］
【０２３８】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムをＶＡモードに使用する場
合、セルの両側に１枚ずつ合計２枚使用する形態（２枚型）と、セルの上下のいずれか一
方の側にのみ使用する形態（１枚型）の２通りがある。
２枚型の場合、Ｒｅ590は２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜７０ｎｍがさらに好ま
しい。Ｒｔｈ590については７０〜３００ｎｍが好ましく、１００〜２００ｎｍがさらに
好ましい。
１枚型の場合、Ｒｅ590は３０〜１５０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好
ましい。Ｒｔｈ590については１００〜３００ｎｍが好ましく、１５０〜２５０ｎｍがさ
らに好ましい。
【０２３９】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの、フィルム面内の遅相軸
角度のバラつきは、ロールフィルムの基準方向に対して−２゜〜＋２゜の範囲にあること
が好ましく、−１゜〜＋１゜の範囲にあることがさらに好ましく、−０．５゜〜＋０．５
゜の範囲にあることが最も好ましい。ここで、基準方向とは、セルロースアシレートフィ
ルムを縦延伸する場合にはロールフィルムの長手方向であり、横延伸する場合にはロール
フィルムの幅方向である。
【０２４０】
また、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、２５℃、１０％
ＲＨにおけるＲｅ値と、２５℃、８０％ＲＨにおけるＲｅ値との差ΔＲｅ（＝Ｒｅ10%−
Ｒｅ80%）が０〜１０ｎｍであり、２５℃、１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と、２５℃、８
０％ＲＨにおけるＲｔｈ値との差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ10%−Ｒｔｈ80%）が０〜３０ｎｍで
あるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
【０２４１】
さらに本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、２５℃、８０％
ＲＨにおける平衡含水率が３．２％以下であるのが、液晶表示装置の経時による色味変化
を少なくする上で好ましい。
含水率の測定法は、セルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを、水分測定
器、試料乾燥装置｛“ＣＡ−０３”、“ＶＡ−０５”、共に三菱化学（株）｝を用いてカ
ールフィッシャー法で測定する。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出する。
【０２４２】
さらにまた、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、６０℃、
９５％ＲＨ、２４時間の透湿度（膜厚８０μｍ換算）が、４００ｇ／ｍ2・２４ｈｒ以上
１８００ｇ／ｍ2・２４ｈｒ以下であるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少な
くする上で好ましい。
【０２４３】
透湿度は、セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ小さくなり、膜厚が薄けれ
ば大きくなる。そこで、どのような膜厚のサンプルでも基準となる膜厚を設け換算する必
要がある。本発明においては、基準となる膜厚を８０μｍとして、次の数式（１３）に従
って膜厚を換算した。
数式（１３）：８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ。
【０２４４】
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁
〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法
を適用することができる。
【０２４５】
ガラス転移温度の測定は、セルロースアシレートフィルム試料（未延伸）５ｍｍ×３０
ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿した後に、動的粘弾性測定装置「バイブロ
ン：ＤＶＡ−２２５」｛アイティー計測制御（株）製）｝を用いて、つかみ間距離２０ｍ
ｍ、昇温速度２℃／分、測定温度範囲３０℃〜２００℃、周波数１Ｈｚで測定し、縦軸に
対数軸で貯蔵弾性率、横軸に線形軸で温度（℃）をとった時に、貯蔵弾性率が固体領域か
らガラス転移領域へ移行する際に見受けられる、貯蔵弾性率の急激な減少を示す温度をガ
ラス転移温度Ｔｇとした。具体的には、得られたチャート上において、固体領域で直線１
を引き、ガラス転移領域で直線２を引いたときの直線１と直線２の交点が、昇温時に貯蔵
弾性率が急激に減少しフィルムが軟化し始める温度であり、ガラス転移領域に移行し始め
る温度であることから、ガラス転移温度Ｔｇ（動的粘弾性）とした。
【０２４６】
弾性率の測定は、セルロースアシレートフィルム試料１０ｍｍ×１５０ｍｍを、２５℃
、６０％ＲＨで２時間以上調湿した後、引張り試験機「ストログラフ−Ｒ２」｛（株）東
洋精機製作所製）｝で、チャック間距離１００ｍｍ、温度２５℃、延伸速度１０ｍｍ／分
で行った。
【０２４７】
吸湿膨張係数の測定は、２５℃、８０％ＲＨ下に２時間以上放置したフィルムの寸法を
ピンゲージで測定した値Ｌ80%と、２５℃、１０％ＲＨ下に２時間以上放置したフィルム
の寸法をピンゲージで測定した値Ｌ10%とから、次の数式（１４）により求めた。
数式（１４）：（Ｌ80%−Ｌ10%）／（８０％ＲＨ−１０％ＲＨ）×１０6
【０２４８】
また、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、そのヘイズが０
．０１〜２％の範囲であるのが好ましい。ここでヘイズは、以下のようにして測定できる
。
ヘイズの測定は、セルロースアシレートフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、
６０％ＲＨでヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”｛スガ試験機（株）製｝でＪＩＳ  Ｋ−
６７１４に従って測定する。
【０２４９】
さらに本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、８０℃、９０％
ＲＨの条件下に４８時間静置した場合の質量変化が、０〜５質量％の範囲であるのが、好
ましい。
【０２５０】
またさらに、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、６０℃、
９５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化、及び９０℃、５％ＲＨの条件下
に２４時間静置した場合の寸度変化が小さく、いずれも０〜５％の範囲であるのが好まし
い。
【０２５１】
光弾性係数は、５０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ以下であるのが、液晶表示装置の経時に
よる色味変化を少なくする上で好ましい。
具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料１０ｍｍ×１００ｍｍ
の、長軸方向に対して引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメータ
ー“Ｍ１５０”｛日本分光（株）｝で測定し、応力に対するレターデーションの変化量か
ら光弾性係数を算出した。
【０２５２】
｛環状ポリオレフィン｝
また、保護膜としては、セルロースアシレートの代わりに環状ポリオレフィン系樹脂を用いることもできる。
本発明においては、環状ポリオレフィン系樹脂とは、環状ポリオレフィン構造を有する重合体樹脂を表す。また、本発明においては、環状ポリオレフィン系樹脂を環状ポリオレフィンとも呼ぶ。
本発明に用いる環状ポリオレフィンの例には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィンの重合体、（３）環状共役ジエンの重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及び（１）〜（４）の水素化物などがある。本発明において好ましく用いられる重合体樹脂は、下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を少なくとも１種以上含む付加（共）重合体環状ポリオレフィンおよび必要に応じ、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種以上を更に含んでなる付加（共）重合体環状ポリオレフィンである。また、一般式（ＩＩＩ）で表される環状繰り返し単位を少なくとも１種含む開環（共）重合体も好適に使用することができる。
【０２５３】
【化１９】
0004802067.tif 000020
【０２５４】
【化２０】
0004802067.tif 000021
【０２５５】
【化２１】
0004802067.tif 000022
【０２５６】
式中、ｍは０〜４の整数を表す。Ｒ1〜Ｒ6は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｘ1〜Ｘ3、Ｙ1〜Ｙ3は水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、−(ＣＨ2)nＣＯＯＲ11、−(ＣＨ2)nＯＣＯＲ12、−(ＣＨ2)nＮＣＯ、−(ＣＨ2)nＮＯ2、−(ＣＨ2)nＣＮ、−(ＣＨ2)nＣＯＮＲ13Ｒ14、−(ＣＨ2)nＮＲ13Ｒ14、−(ＣＨ2)nＯＺ、−(ＣＨ2)nＷ、またはＸ1とＹ1あるいはＸ2とＹ2あるいはＸ3とＹ3から構成された(−ＣＯ)2Ｏ、(−ＣＯ) 2ＮＲ15を示す。なお、Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｚは炭化水素基またはハロゲンで置換された炭化水素基、ＷはＳｉＲ16pＤ3-p（Ｒ16は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｄはハロゲン原子、−ＯＣＯＲ16または−ＯＲ16、ｐは０〜３の整数を示す）、ｎは０〜１０の整数を示す。
【０２５７】
Ｘ1〜Ｘ3 、Ｙ1 〜Ｙ3の置換基に分極性の大きい官能基を導入することにより、光学フィルムの厚さ方向レターデーション（Ｒｔｈ）を大きくし、正面レターデーション（Ｒｅ）の発現性を大きくすることが出来る。Ｒｅ発現性の大きなフィルムは、製膜過程で延伸することによりＲｅ値を大きくすることができる。
ノルボルネン系付加（共）重合体は、特開平１０−７７３２号公報、特表２００２−５０４１８４号公報、ＵＳ２００４２２９１５７Ａ１号明細書あるいは国際公開第２００４／０７０４６３Ａ１号パンフレット等に開示されているものを用いることができる。ノルボルネン系多環状不飽和化合物同士を付加重合する事によって得られる。また、必要に応じ、ノルボルネン系多環状不飽和化合物と、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレンのような共役ジエン；エチリデンノルボルネンのような非共役ジエン；アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの線状ジエン化合物とを付加重合することもできる。このノルボルネン系付加（共）重合体としては、市販品を用いることもできる。具体的には、三井化学（株）よりアペルの商品名で発売されており、ガラス転移温度（Ｔｇ）の異なる例えばＡＰＬ８００８Ｔ（Ｔｇ７０℃）、ＡＰＬ６０１３Ｔ（Ｔｇ１２５℃）あるいはＡＰＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ１４５℃）などのグレードがある。ポリプラスチック（株）よりＴＯＰＡＳ８００７、同６０１３、同６０１５などのペレットが発売されている。更に、プロメラス社よりＡｐｐｅａｒ３０００が発売されている。
【０２５８】
ノルボルネン系重合体水素化物は、特開平１−２４０５１７号公報、特開平７−１９６７３６号公報、特開昭６０−２６０２４号公報、特開昭６２−１９８０１号公報、特開２００３−１１５９７６７号公報あるいは特開２００４−３０９９７９号等公報に開示されているように、多環状不飽和化合物を付加重合あるいはメタセシス開環重合したのち水素添加することにより作られるものを用いることができる。本発明に用いるノルボルネン系重合体において、Ｒ5〜Ｒ6は水素原子又は−ＣＨ3 が好ましく、Ｘ3、及びＹ3 は水素原子、Ｃｌ、−ＣＯＯＣＨ3 が好ましく、その他の基は適宜選択される。このノルボルネン系樹脂は、市販品を用いることもでき、具体的にはＪＳＲ（株）からアートン（Ａｒｔｏｎ）ＧあるいはアートンＦという商品名で発売されており、また日本ゼオン（株）からゼオノア（Ｚｅｏｎｏｒ）ＺＦ１４、ＺＦ１６、ゼオネックス（Ｚｅｏｎｅｘ）２５０あるいはゼオネックス２８０という商品名で市販されており、これらを使用することができる。
【０２５９】
本発明において用いられる前記環状ポリオレフィン系樹脂は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した質量平均分子量（Ｍｗ）は、ポリスチレン分子量換算で５,０００〜１,０００,０００であることが好ましく、１０,０００〜５００,０００であることがより好ましく、５０,０００〜３００,０００であることがさらに好ましい。また、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ；ＭｎはＧＰＣにより測定した数平均分子量）は１０以下であることが好ましく、より好ましくは５．０以下、さらに好ましくは３．０以下である。ガラス転移温度（Ｔｇ；ＤＳＣにより測定）は５０〜３５０℃であることが好ましく、より好ましくは８０〜３３０℃、さらに好ましくは１００〜３００℃の範囲にある。
【０２６０】
該環状ポリオレフィンフィルムは、その光学異方性の影響を小さくしたい場合は、液晶セル側に配置される保護膜（環状ポリオレフィンフィルム）のＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、前述の数式（２）〜（３）を満たすことが好ましい。
【０２６１】
＜偏光板＞
次に、本発明に関する偏光板について説明する。
本発明に関する偏光板は、液晶セル側に配置される保護膜の厚みｄ1と、液晶セルと反
対側に配置される保護膜の厚みｄ2が、下記数式（１５）を満たすことが好ましい。
数式（１５）：０．３×ｄ1≦ｄ2≦１．３×ｄ1
上記数式（１５）を満たすことにより、弾性率、吸湿膨張係数がほぼ同じ保護膜を組み
合わせる場合に、偏光板のカールが−３０ｍｍ〜＋１５ｍｍの範囲となり、好ましい結果
が得られる。
【０２６２】
また、本発明に関する偏光板は、液晶セル側に配置される保護膜の弾性率Ｅ1と、液晶
セルと反対側に配置される保護膜の弾性率Ｅ2が下記数式（１６）を満たすことが好まし
い。それにより、厚み、吸湿膨張係数がほぼ同じ保護膜を組み合わせる場合に偏光板のカ
ールが−３０ｍｍ〜＋１５ｍｍの範囲となり、好ましい結果が得られる。
数式（１６）：０．３×Ｅ1≦Ｅ2≦１．３×Ｅ1
【０２６３】
さらに、液晶セル側に配置される保護膜の厚みｄ1及び弾性率Ｅ1と、液晶セルと反対側
に配置される保護膜の厚みｄ2及び弾性率Ｅ2が下記式（１７）を満たすことが好ましい。
数式（１７）：０．３×Ｅ1×ｄ1≦Ｅ2×ｄ2≦１．３×Ｅ1×ｄ1
数式（１７）を満たすことにより、厚み、弾性率が異なる保護膜を組み合わせる場合に
も偏光板のカールが−３０ｍｍ〜＋１５ｍｍの範囲となる。
【０２６４】
さらに、本発明に関する偏光板は、液晶セル側に配置される保護膜の吸湿膨張係数Ｃ1
と、液晶セルと反対側に配置される保護膜の吸湿膨張係数Ｃ2が下記数式（１８）を満た
すことが好ましい。
数式（１８）：０．３×Ｃ1≦Ｃ2≦１．３×Ｃ1
上記数式を満たすことにより、偏光板作製時に対して偏光板を液晶セルに貼り合せる時
の湿度が高くなった場合の偏光板カールを−３０ｍｍ〜＋１５ｍｍの範囲がとなり、好ま
しい結果が得られる。
【０２６５】
偏光板の偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系
偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィ
ルムを用いて製造する。
【０２６６】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。例えば、得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護膜処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
環状ポリオレフィンフィルムを偏光板保護膜として用いる場合には、接着剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックスに加えて、アクリル系ポリマー、エポキシ系ポリマー、変成オレフィン系ポリマー、スチレンブタジエン系ポリマー、特殊合成ゴム等の接着剤を用いることができる。
接着性を高めるために表面処理を行っても良い。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号明細書に記載のように、下塗り層を設けることも好ましい。フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてポリマーフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下とすることが好ましい。
【０２６７】
偏光板は、偏光子及びその両面を保護する保護膜、および少なくとも片面に粘着層を有
して構成されており、さらにまた、粘着層面にセパレートフィルムを、該偏光板のセパレ
ートフィルムとは反対面にプロテクトフィルムを貼合して構成してもよい。プロテクトフ
ィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する
目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼
合され、偏光板を液晶セルへ貼合する面の反対面側に用いられる。またセパレートフィル
ムは偏光板を液晶セルへ貼合するための粘着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液
晶セルへ貼合する面側に用いられる。
粘着層は（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）｛又は高分子量（メタ）アクリル系共重合
体（Ａ1）と低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ2）｝及び多官能性化合物（Ｂ
）からなる（メタ）アクリル系共重合体を含む組成物の溶液をダイコーター等のコーター
でセパレートフィルム上に塗布し、乾燥させた後、偏光板保護膜にセパレートフィルムご
と転写することにより形成される。上記組成物の溶液を偏光板保護膜上に塗布し、乾燥さ
せた後、セパレートフィルムで粘着層を覆っても良い。
【０２６８】
前記した延伸したセルロースアシレートフィルムを用いる場合の偏光子への貼り合せ方
は、図１に示すように、偏光子１の透過軸２とセルロースアシレートフィルム３の遅相軸
４を一致させるように貼り合せることが好ましい。
【０２６９】
なお、偏光板クロスニコル下で作製した偏光板は、本発明に好ましく用いられるセルロ
ースアシレートフィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸（透過軸と直交する軸）との直交精度
が１゜以内であれば、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下して、光抜けが生じた
り、液晶セルと組み合わせた場合に、十分な黒レベルやコントラストが得られなかったり
するなどの不具合が生じにくいので、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレート
フィルムの遅相軸の方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが１゜以内であることが
好ましく、０．５゜以内であることがさらに好ましい。
【０２７０】
液晶セルへの偏光板の貼り付けは、一般的には多数の穴の開いた吸引治具に偏光板を取
り付け、粘着剤が塗設されて形成された粘着層表面のセパレートフィルムを剥がし、粘着
層表面を液晶セルに接触させ、ローラーで加圧することにより貼り付けを行う。この際、
偏光板が液晶セル側に凹になるようにカールしていると、吸引治具への吸着が十分に行わ
れず、吸引治具への取り付け角度のズレが生じ、液晶セルへの貼り付け角度がずれ、設計
どおりの表示特性が得られない。また、液晶セルへの貼り付け途中に偏光板が吸引治具か
ら脱落し、貼り付け作業を続けることができず、作業中断となる場合もある。
【０２７１】
このような偏光板貼り付け不良を生じさせないためには、偏光板のカール量を−３０ｍ
ｍ〜＋１５ｍｍの範囲とすることが好ましく、−２０ｍｍ〜＋５ｍｍの範囲とすることが
さらに好ましく、−１０ｍｍ〜０ｍｍの範囲とすることが最も好ましい。ここで、液晶セ
ルに貼り付ける面（粘着剤塗設面＝粘着層表面）側に凹となる場合を＋（プラス）カール
、凸となる場合を−（マイナス）カールと呼ぶ。カール量の制御は、液晶セル側の保護膜
と、液晶セルと反対側の保護膜の厚み、弾性率、吸湿膨張係数の関係を調整によって行う
ことができる。
【０２７２】
カールの測定は、２３０ｍｍ×３０５ｍｍの大きさの偏光板を、平らな台の上で、端部
が持ち上がる面を下にして置き、２５℃、６０％ＲＨの環境に２時間以上を放置した後に
、台の面を基準とし偏光板端部の最も離れた位置の高さを測定し、カール量とする。セパ
レートフィルム、プロテクトフィルムがついている場合は、それらのフィルムはつけたま
まで測定した。
【０２７３】
〔セルロースアシレートフィルムの表面処理〕
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を
行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層及びバッ
ク層）との接着の向上を達成することができる。表面処理としては、例えばグロー放電処
理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる
。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラ
ズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは
上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン
、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及び
それらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報公技番号
２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）ｐ．３０−３２に詳細に
記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１
０００Ｋｅｖ下で２０〜５００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０
〜５００Ｋｅｖ下で２０〜３００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも
特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理とし
ては極めて有効である。
【０２７４】
［アルカリ鹸化処理］
アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法
、又は鹸化液をセルロースアシレートフィルムに塗布する方法により実施することが好ま
しい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクスト
ルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。
アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液をセルロースアシレートフィルムに対して塗布
するために、濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によってセルロースアシレートフィルム表面
に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的に
は、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面
活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、
上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布
液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件
は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以
上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄
したあと水洗することが好ましい。
【０２７５】
また、本発明に関する偏光板は、保護膜の上に光学異方性層を設けることが好ましい。
光学異方性層は、液晶性化合物、非液晶性化合物、無機化合物、有機／無機複合化合物
等、材料は限定されない。液晶性化合物としては、重合性基を有する低分子化合物を配向
させた後に光または熱による重合により配向を固定化するものや、液晶性高分子を加熱し
配向させた後に冷却しガラス状態で配向固定化するものを使うことができる。液晶性化合
物としては円盤状構造を有するもの、棒状構造を有するもの、光学的二軸性を示す構造を
有するものを使うことができる。非液晶性化合物としては、ポリイミド、ポリエステル等
の芳香族環を有する高分子を使うことができる。
光学異方性層の形成方法は、塗布、蒸着、スパッタリング等種々の手法を使用すること
ができる。
偏光板の保護膜の上に光学異方性層を設ける場合、粘着層は偏光子側からさらに該光学
異方性層の外側に設けられる。
【０２７６】
さらに本発明に関する偏光板は、偏光板の少なくとも一方の側の保護膜の表面に、ハー
ドコート層、防眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けられたものであるのが好まし
い。すなわち、図２に示すように、偏光板は、偏光子１１の両側に保護膜１２，１３が設
けられ、偏光板の液晶表示装置への使用時において、液晶セル側に配置される保護膜１２
は、前記弾性率Ｅを満たし、液晶セルと反対側に配置される保護膜１３は反射防止層など
の機能性膜１４を設けることが好ましく、かかる機能性膜としては、ハードコート層、防
眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けるのが好ましい。なお、各層はそれぞれ別個
の層として設ける必要はなく、例えば、反射防止層やハードコート層に防眩性の機能を持
たせることにより、反射防止層及び防眩層の二層を設ける代わりに、防眩性反射防止層と
して機能させてもよい。
【０２７７】
〔反射防止層〕
本発明では、偏光板の保護膜上に、少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層さ
れてなる反射防止層、又は保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積
層した反射防止層が好適に設けられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。なお前者
の構成では、一般的に鏡面反射率は１％以上となり、Ｌｏｗ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（Ｌ
Ｒ）フィルムと呼ばれる。後者の構成では、鏡面反射率０．５％以下を実現するものが可
能となり、Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＡＲ）フィルムと呼ばれる。
【０２７８】
［ＬＲフィルム］
偏光板の保護膜上に、光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層（ＬＲフィルム）の好
ましい例について述べる。
光散乱層には、マット粒子が分散されているのが好ましく、光散乱層のマット粒子以外
の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の
屈折率は１．２０〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明において光散乱層は、
防眩性とハードコート性を兼ね備えており、一層でもよいし、複数層、例えば二層〜四層
で構成されていてもよい。
【０２７９】
反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μ
ｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均凹凸間距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹
凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均凹凸間距
離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５゜の面が１０％以上となるように設計す
ることで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成されるので好ましい。
【０２８０】
また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ*値−２〜２、ｂ*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８
０ｎｍの範囲内での反射率の、最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射
光の色味がニュートラルとなるので好ましい。さらにＣ光源下での透過光のｂ*値が０〜
３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減されるので好ましい。さ
らにまた、面光源上と反射防止層の間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入して、フィル
ム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに
本発明の偏光板を適用したときのギラツキが低減されるので好ましい。
【０２８１】
本発明で用いることができる反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％
以下、透過率９０％以上、６０゜光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき
、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０.５％
以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値の比が
０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％
以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２
゜傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツ
キ防止、文字等のボケの低減が達成されるので好ましい。
【０２８２】
（低屈折率層）
本発明で用いることができる低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．２０〜１．４９で
あり、更に好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式
（１９）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（１９）：（ｍ／４）λ×０．７＜ｎLｄL＜（ｍ／４）λ×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎLは低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄLは低屈折率
層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である
。
【０２８３】
低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。
フッ素ポリマーとしては、動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１
２０゜、純水の滑落角が７０゜以下の、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素ポリマ
ーが好ましい。本発明に関する偏光板を画像表示装置に装着した時、市販の接着テープと
の剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、引張試験機
で測定した場合、該剥離力が５００ｇｆ以下であることが好ましく、３００ｇｆ以下であ
ることがより好ましく、１００ｇｆ以下であることが最も好ましい。また、微小硬度計で
測定した表面硬度が高いほど傷がつき難く、該表面硬度は０．３ＧＰａ以上が好ましく、
０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【０２８４】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしては、ペルフルオロアルキル基含有シラ
ン化合物｛例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエ
トキシシラン｝の加水分解物、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与
のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【０２８５】
含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエ
チレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ペルフルオロオクチルエチ
レン、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソ
ール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類［例え
ば「ビスコート６ＦＭ」｛大阪有機化学工業（株）製｝や“Ｍ−２０２０”｛ダイキン工
業（株）製｝等］、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましく
はペルフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に
好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０２８６】
架橋反応性付与のための構成単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシ
ジルビニルエーテルのように、分子内に予め自己架橋性官能基を有するモノマーの重合に
よって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有す
るモノマー｛例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
アルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル
、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等｝の重合によって得られ
る構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリロイル基等の架橋反
応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させ
る等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０２８７】
また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶媒への溶解
性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することも
できる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、
プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（ア
クリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル
）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸
ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニ
ルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニ
ルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステ
ル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔ
−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類
、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【０２８８】
上記のポリマーに対しては、特開平１０−２５３８８号及び特開平１０−１４７７３９
号各公報に記載のごとく、適宜硬化剤を併用してもよい。
【０２８９】
（光散乱層）
光散乱層は、表面散乱及び内部散乱の少なくともいずれかによる光拡散性と、フィルム
の耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに付与する目的で形成される。従
って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒
子、及び必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含ん
で形成される。また、このような光散乱層を設けることにより、該光散乱層が防眩層とし
ても機能し、偏光板が防眩層を有することになる。
【０２９０】
光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、１〜１０μｍが好ましく、１．
２〜６μｍがより好ましい。光散乱層の膜厚が該下限値以上であれば、ハード性が不足す
るなどの問題が生じにくく、該上限値以下であれば、カールや脆性が悪化して加工適性が
不足するなどの不都合が生じにくいので好ましい。
【０２９１】
光散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖又はポリエーテル鎖を主鎖として有す
るポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであるこ
とがさらに好ましい。またバインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和
炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマー
の重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、且つ架橋構造を有するバインダ
ーポリマーとしては、２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が
好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環
や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なく
とも１種の原子を含むものを選択することもできる。
【０２９２】
２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）
アクリル酸とのエステル｛例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタン
ジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−
シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ
）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート｝、上記のエチレンオキシド変性体、ビニ
ルベンゼン及びその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−
２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホ
ン（例えば、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミ
ド）及びメタクリルアミドが挙げられる。これらのモノマーは２種以上併用してもよい。
【０２９３】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフ
ィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４
'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用し
てもよい。
【０２９４】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤又は熱ラジ
カル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。従って、エチ
レン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤、マット粒子
及び無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗布液を保護膜上に塗布後、電離放射線
又は熱による重合反応により硬化して反射防止層を形成することができる。これらの光ラ
ジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。
【０２９５】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が
好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤又は熱酸発生剤の存在下、電
離放射線の照射又は加熱により行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合物、光
酸発生剤又は熱酸発生剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗
布液を保護膜上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止層を形
成することができる。
【０２９６】
２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに、又はそれに加えて、架橋
性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能
基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
【０２９７】
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン
基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活
性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メ
ラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような
金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイ
ソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。す
なわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解し
た結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋
構造を形成することができる。
【０２９８】
光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が１〜１０μ
ｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子
が含有される。マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機
化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子
、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。な
かでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が
好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。
【０２９９】
また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子
径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与
することが可能である。
【０３００】
さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては、単分散であることが最も好ましく、各
粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほどよい。例えば、平均粒子径よりも２０
％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子
数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好まし
くは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後
に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、よ
り好ましい分布のマット剤を得ることができる。
【０３０１】
上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍ
ｇ／ｍ2、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ2となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子
数分布に換算する。
【０３０２】
光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジル
コニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なく
とも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以
下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた
光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好
ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
【０３０３】
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、
Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯとＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2及び
ＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング
処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と
反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
【０３０４】
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ま
しく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
【０３０５】
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、
バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
【０３０６】
光散乱層のバインダー及び無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．５０〜２．
００であることが好ましく、より好ましくは１．５１〜１．８０である。屈折率を上記範
囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。ど
のように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【０３０７】
光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ
素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、又はその両者を光散乱層形成用の塗布組成物
中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明におい
て好ましく用いられる反射防止層の塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する
効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせ
ることにより生産性を高めることが目的である。
【０３０８】
［ＡＲフィルム］
次に保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止層
（ＡＲフィルム）について述べる。
【０３０９】
保護膜上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成
からなる反射防止層は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞保護膜の屈折率＞低屈折率層の屈折率
【０３１０】
また、保護膜と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率
ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよく、例えば、特開平８−１２
２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００
２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の反射防止層が挙
げられる。
さらに各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性
の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２
４３９０６号公報等）等が挙げられる。
【０３１１】
反射防止層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。
また、膜の表面強度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが
好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０３１２】
（高屈折率層及び中屈折率層）
反射防止層の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合
物微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化膜からなる。
【０３１３】
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、
好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚ
ｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げら
れる。
【０３１４】
このような微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シラ
ンカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特
開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２０
０１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（
特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用（例えば、特開平１１−１５
３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０９号公
報等）等挙げられる。
【０３１５】
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が
挙げられる。
更に好ましい材料としては、ラジカル重合性及びカチオン重合性の少なくともいずれか
の重合性基を２個以上有する多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有する有機金
属化合物を含有する組成物、及びその部分縮合体を含有する組成物から選ばれる少なくと
も１種の組成物が挙げられ、例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３
１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等
に記載の化合物が挙げられる。
【０３１６】
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アル
コキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８
号公報等に記載されている。
【０３１７】
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さ
は、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ま
しい。
【０３１８】
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるよ
うに調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また
、厚さは５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに
好ましい。
【０３１９】
（低屈折率層）
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなる。低屈折率層の屈折率は１．２０〜
１．５５であることが好ましい。より好ましくは１．３０〜１．５０である。
【０３２０】
低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦
傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーン
の導入、フッ素の導入等からなる薄膜層の手段を適用できる。
【０３２１】
含フッ素化合物は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性又は重合性の官
能基を含む化合物が好ましく、例えば、特開平９−２２２５０３号公報段落番号［００１
８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報段落番号［００１９］〜［００３０］、
特開２００１−４０２８４号公報段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−
２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは
１．３６〜１．４７である。
【０３２２】
シリコーン化合物としては、ポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に
硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好まし
い。例えば、反応性シリコーン［例えば、「サイラプレーン」｛チッソ（株）製等｝］、
両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が
挙げられる。
【０３２３】
架橋又は重合性基を有する、含フッ素ポリマー及びシロキサンポリマーの少なくともい
ずれかの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための
塗布組成物を塗布と同時に、又は塗布後に光照射や加熱することにより低屈折率層を形成
することが好ましい。
【０３２４】
またシランカップリング剤等の有機金属化合物と、特定のフッ素含有炭化水素基含有の
シランカップリング剤とを、触媒共存下に縮合反応で硬化するゾル／ゲル硬化膜も好まし
い。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開
昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公
報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）
、フッ素含有長鎖基であるポリ（ペルフルオロアルキルエーテル）基を含有するシリル化
合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２
−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
【０３２５】
低屈折率層は、上記以外の添加剤として、充填剤｛例えば、二酸化珪素（シリカ）、含
フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平
均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［
００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等｝、シランカップリング剤、滑り剤、界
面活性剤等を含有することができる。
【０３２６】
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよい。
安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
【０３２７】
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであ
ることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０３２８】
（ハードコート層）
ハードコート層は、反射防止層を設けた保護膜に物理強度を付与するために、保護膜の
表面に設ける。特に、保護膜と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコー
ト層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されるこ
とが好ましい。硬化性化合物における硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい
。また加水分解性官能基含有の有機金属化合物や有機アルコキシシリル化合物も好ましい
。
【０３２９】
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３
号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記
載のものが挙げられる。
【０３３０】
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記
載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが
好ましい。
【０３３１】
ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグ
レア機能）を付与した防眩層を兼ねることもできる。
【０３３２】
ハードコート層の膜厚は、用途により適切に設計することができる。ハードコート層の
膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである
。
【０３３３】
ハードコート層の表面強度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上で
あることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も
好ましい。またＪＩＳ  Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量
が少ないほど好ましい。
【０３３４】
（反射防止層の他の層）
さらに、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい
。
【０３３５】
（帯電防止層）
帯電防止層を設ける場合には、体積抵抗率が１０-8（Ωｃｍ-3）以下の導電性を付与す
ることが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー
、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０-8（Ωｃｍ-3）の体積抵抗率
の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問
題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色
しているものがあるが、これらの金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全体
が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属として、Ｚｎ、Ｔ
ｉ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ又はＶをあげることができ、これら
を主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。
【０３３６】
上記金属酸化物の具体的な例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2
Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ3、ＷＯ3、Ｖ2Ｏ5等、又はこれらの複合酸化物が
よく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ2及びＳｎＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えば
ＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加物、ＳｎＯ2に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素
等の添加、またＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加が効果的である。
【０３３７】
更にまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子又は繊維状
物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用してもよい。なお体
積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり、単純に比較することはできないが、体積抵抗
値で１０-8（Ωｃｍ-3）以下の導電性を確保するためには、該帯電防止層が概ね１０-10
（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく、更に好ましくは１０-8（Ω／□）であ
る。帯電防止層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されること
が必要であり、積層フィルムを形成する途中の段階で測定することができる。
【０３３８】
＜液晶表示装置＞
本発明の液晶表示装置は、本発明の偏光板を少なくとも有するものである。好ましくは、一対の偏光板を液晶セルの上下に１枚ずつ用いた液晶表示装置であり、特に好ましくは本発明の一対の偏光板をＶＡモード液晶セルの上下に１枚ずつ用いた液晶表示装置である。また、該偏光板の少なくとも一方の保護膜が前記の保護膜、すなわち、前記のセルロースアシレートフィルムまたは環状ポリオレフィンフィルムであることが好ましい。さらにまた、液晶表示装置の偏光板の液晶セル側に配置される保護膜が、前記数式（６）および（７）を満たす保護膜であることが好ましい。また、保護膜の上に光学異方性層を設けた態様、及び／または保護膜の上に反射防止層を設けた態様も好ましい。このような構成とすることで、軽くて薄い液晶表示装置を得ることができる。
【０３３９】
以下に、本発明の偏光板を用いて液晶表示装置とすることの出来る液晶セルの例を挙げ
る。
【０３４０】
本発明の偏光板は、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉ
ｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬ
Ｃ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔ
ｉ−Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉ
ｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔ
ｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（
Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードを挙げるこ
とができる。このうち、ＶＡモード又はＯＣＢモードに好ましく用いることができ、特に
ＶＡモードに用いることが好ましい。
【０３４１】
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向して
いる。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配
向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２
−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードを突起によ
りマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル｛“ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏ
ｆ  ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ”（予稿集）２８集（１９９７）ｐ．８４５記載｝、（３
）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチド
メイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード、ＣＰＡモード）の液晶セル｛日本液晶討論
会の予稿集ｐ．５８〜５９（１９９８）、シャープ技報第８０号１１頁記載｝及び、（４
）斜め電界によりマルチドメイン配向させるＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル｛月刊
ディスプレイ５月号１４頁（１９９９年）｝、ＰＶＡモードの液晶セル｛“１８ｔｈ，Ｉ
ＤＲＣ  Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ”，  ｐ．３８３（１９９８年）｝が含まれる。
【０３４２】
ＶＡモードの液晶表示装置としては、図３に示すように、液晶セル（ＶＡモードセル）
４０及び、その両側に２枚の偏光板｛セルロースアシレートフィルム（ＴＡＣ１）（２２
）、セルロースアシレートフィルム（ＴＡＣ２）（２３、３３）、セルロースアシレート
フィルム（ＴＡＣ３）（３２）、偏光子（２１、３１）および粘着層（不図示）を有する
偏光板｝を有するものが挙げられる。液晶セルは、特に図示しないが２枚の電極基板の間
に液晶を担持している。
【０３４３】
図３に示す本発明の透過型液晶表示装置の態様では、保護膜として用いられるセルロー
スアシレートフィルムのうち、液晶セル側に用いられる保護膜ＴＡＣ１とＴＡＣ３は同じ
フィルムであっても良いし、異なったフィルムであっても良い。またＴＡＣ１およびＴＡ
Ｃ３は保護膜兼光学補償シートとして用いられてもよい。
【０３４４】
図３の保護膜（ＴＡＣ２）は、通常のセルレートアシレートフィルムでもよく、本発明
に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムより薄いことが好ましい。例えば、
４０〜８０μｍが好ましく、市販の“ＫＣ４ＵＸ２Ｍ”｛コニカオプト（株）製４０μｍ
｝、“ＫＣ５ＵＸ”｛コニカオプト（株）製６０μｍ｝、“ＴＤ８０ＵＬ”｛富士写真フ
ィルム（株）製８０μｍ｝等が挙げられるが、これらに限定されない。
【実施例】
【０３４５】
以下、本発明を実施例、製造例及び合成例に基づき具体的に説明するが、本発明はこれ
ら実施例等に限定されない。
【０３４６】
製造例１：バンド流延機によるセルロースアシレートフィルムの製膜（フィルム１〜１８
）
（１）セルロースアシレート
表１に記載のように、アシル基の種類、置換度の異なるセルロースアシレートを調製し
た。これは、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、
アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加し４０℃でアシル化反応を行った。この時、
硫酸触媒量、水分量及び熟成時間を調整することでアシル基の種類、全置換度と６位置換
度を調整した。熟成温度は４０℃で行った。またアシル化後４０℃で熟成を行った。さら
にこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。
【０３４７】
なお、表中ＣＡＢとは、セルロースアセテートブチレート（アシル基がアセチル基とブ
タノイル基（Ｂｕ）からなるセルロースエステル誘導体）の略称であり、ＣＡＰとは、セ
ルロースアセテートプロピオネート（アシル基がアセチル基とプロピオニル基（Ｐｒ）か
らなるセルロースエステル誘導体）の略称であり、ＣＴＡとは、セルローストリアセテー
ト（アシル基がアセチル基のみからなるセルロースエステル誘導体）を意味する。
【０３４８】
【表１】
0004802067.tif 000023
【０３４９】
（２）ドープの調製
［１−１．セルロースアシレート溶液］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、更に９０℃に約１
０分間加熱した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルター
で濾過した。
なお、トリフェニルホスフェート及び、ビフェニルジフェニルホスフェートの添加量は
表２に記載したように、各フィルムによって異なる。
【０３５０】
（セルロースアシレート溶液の組成）
表１記載のセルロースアシレート                  １００．０質量部
トリフェニルホスフェート                            （表２記載）
ビフェニルジフェニルホスフェート                    （表２記載）
メチレンクロリド                                ４０３．０質量部
メタノール                                        ６０．２質量部
【０３５１】
［１−２．マット剤分散液］
次に、上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物を分散機に投入
し、マット剤分散液を調製した。
【０３５２】
（マット剤分散液の組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ）                      ２．０質量部
“ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝
メチレンクロリド                                  ７２．４質量部
メタノール                                        １０．８質量部
上記セルロースアシレート溶液                      １０．３質量部
【０３５３】
［１−３．レターデーション発現剤溶液Ａ］
次に、上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物をミキシングタ
ンクに投入し、加熱しながら攪拌して溶解し、レターデーション発現剤溶液Ａを調製した
。なお下記組成物中、レターデーション発現剤（ＲＰ１）は後記［化１９］に示す化合物
である。
【０３５４】
（レターデーション発現剤溶液Ａの組成）
レターデーション発現剤（ＲＰ１）                  ２０．０質量部
メチレンクロリド                                  ５８．３質量部
メタノール                                          ８．７質量部
上記セルロースアシレート溶液                      １２．８質量部
【０３５５】
上記セルロースアシレート溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部、更
にレターデーション発現剤溶液Ａを表２に示す割合になるように混合し、製膜用ドープを
調製した。本ドープをフィルム２，５−７，９−１５の作製に供した。レターデーション
発現剤溶液Ａは、セルロースアシレート量を１００質量部とした時のレターデーション発
現剤の質量部で表２に示した。
【０３５６】
［１−４．レターデーション発現剤溶液Ｂ］
更に上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む、下記組成物をミキシングタ
ンクに投入し、加熱しながら攪拌して溶解し、レターデーション発現剤溶液Ｂを調製した
。なお下記組成物中、レターデーション発現剤（ＲＰ１）は後記［化１９］に示す化合物
であり、レターデーション発現剤（３０）は前記［化５］（３０）に示す化合物である。
【０３５７】
（レターデーション発現剤溶液Ｂの組成）
レターデーション発現剤（ＲＰ１）                    ７．８質量部
レターデーション発現剤（３０）                    １２．２質量部
メチレンクロリド                                  ５８．３質量部
メタノール                                          ８．７質量部
上記セルロースアシレート溶液                      １２．８質量部
【０３５８】
上記セルロースアシレート溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部、更
にレターデーション発現剤溶液Ｂを表２に示す割合になるように混合し、製膜用ドープを
調製した。本ドープをフィルム１６の作製に供した。レターデーション発現剤溶液Ｂは、
セルロースアシレート量を１００質量部とした時のレターデーション発現剤の質量部で表
２に示した。
【０３５９】
［１−５．レターデーション低下剤溶液］
更に上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物をミキシングタン
クに投入し、加熱しながら攪拌して溶解し、レターデーション低下剤溶液及び波長分散調
整剤溶液を調製した。なお下記組成物中、レターデーション低下剤（１１９）は前記［化
１０］（１１９）に示す化合物である。また下記組成物中、波長分散調整剤ＨＯＢＰは２
−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノンを意味する。
【０３６０】
（レターデーション低下剤溶液の組成）
レターデーション低下剤（１１９）                  ２０．０質量部
メチレンクロリド                                  ５８．３質量部
メタノール                                          ８．７質量部
上記セルロースアシレート溶液                      １２．８質量部
【０３６１】
（波長分散調整剤溶液の組成）
波長分散調整剤ＨＯＢＰ                            ２０．０質量部
メチレンクロリド                                  ５８．３質量部
メタノール                                          ８．７質量部
上記セルロースアシレート溶液                      １２．８質量部
【０３６２】
上記セルロースアシレート溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部、更
にレターデーション低下剤溶液及び波長分散調整剤溶液を表２に示す割合になるように混
合し、製膜用ドープを調製した。本ドープをフィルム１７の作製に供した。レターデーシ
ョン低下剤溶液及び波長分散調整剤溶液は、セルロースアシレート量を１００質量部とし
た時のレターデーション低下剤及び波長分散調整剤の質量部で表２に示した。
【０３６３】
［１−６．紫外線吸収剤溶液］
更に上記方法で作製したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物をミキシングタン
クに投入し、加熱しながら攪拌して溶解し、紫外線吸収剤溶液を調製した。
（紫外線吸収剤溶液の組成）
紫外線吸収剤ＵＶ１またはＵＶ２                    ２０．０質量部
メチレンクロリド                                  ５８．３質量部
メタノール                                          ８．７質量部
上記セルロースアシレート溶液                      １２．８質量部
【０３６４】
上記セルロースアシレート溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部、更
に紫外線吸収剤溶液を表２に示す割合になるように混合し、製膜用ドープを調製した。本
ドープをフィルム１，３，４，８の作製に供した。
紫外線吸収剤溶液は、セルロースアシレート量を１００質量部とした時の紫外線吸収剤
の質量部で表２に示した。
表２において、紫外線吸収剤ＵＶ１は２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル］ベンゾトリアゾール］、ＵＶ２は２−［２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ
−アミルフェニル］−５−クロルベンゾトリアゾール］を意味する。
【０３６５】
【化２２】
0004802067.tif 000024
【０３６６】
上記セルロースアシレート溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部にな
るように混合し、製膜用ドープを調製した。本ドープをフィルム１８の作製に供した。
【０３６７】
（３）流延
上記のドープを、バンド流延機を用いて流延した。金属支持体上にあるウェブの表面か
ら熱風を当てた。熱風の温度、風量は表２に記載の通りである。残留溶媒量が２５〜３５
質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、延伸温度がセルロースアシレートフィルムの
ガラス転移温度に対し約５℃低い温度から約５℃高い温度までの範囲（以下、約Ｔｇ−５
〜Ｔｇ＋５℃の範囲と表記することがある）の条件で、テンターを用いて表２に記載の延
伸倍率で、幅方向に延伸して、セルロースアシレートフィルムを製膜した。巻取り部前で
両端部を切り落とし幅２０００ｍｍとし、長さ４０００ｍのロールフィルムとして巻き取
った。表２に、テンターの延伸倍率を示してある。作製したセルロースアシレートフィル
ムについて、複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用い
、２５℃、６０％ＲＨで波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590値及びＲｔｈ590値を測定した。
Ｒｔｈ590値の計算には平均屈折率として１．４８を入力した。また前記に従って、弾性
率を求めた。結果を表２に示した。さらにフィルム１７については波長４００ｎｍおよび
７００ｎｍにおいて、Ｒｅ400値、Ｒｅ700値、Ｒｔｈ400値およびＲｔｈ700値を測定した
。Ｒｔｈ400値およびＲｔｈ700値の計算には平均屈折率として１．４８を入力した。その
結果はそれぞれ、Ｒｅ400は−１ｎｍ、Ｒｅ700値は３ｎｍ、Ｒｔｈ400値は−３ｎｍおよ
びＲｔｈ700値は６ｎｍであった。
【０３６８】
本製造例で得られたフィルムのヘイズは、全て０．１〜０．９、マット剤の２次平均粒子径が１．０μｍ以下であり、８０℃９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合の質量変化は０〜３質量％であった。また６０℃、９５％ＲＨ及び９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化は、０〜４．５％であった。さらに、どのサンプルも光弾性係数は５０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ（５×１０-13Ｎ/ｍ２）以下であった。
なお、参考として、市販のセルロースアシレートフィルムとして、「フジタックＴＤ８０ＵＬ」、「フジタックＴＦ８０ＵＬ」、「フジタックＴＤＹ８０ＵＬ」｛以上、富士写真フィルム（株）製｝、及び“ＫＣ８０ＵＶＳＦＤ”｛コニカオプト（株）製｝を用いた結果についても、併せて表２に示す。
以下、製造例１−２、１−５〜１−８、１−１０〜１−１２、２−１、３、５−１、５−２は、それぞれ、参考製造例１−２、１−５〜１−８、１−１０〜１−１２、２−１、３、５−１、５−２と読み替えるものとする。
【０３６９】
【表２】
0004802067.tif 000025
【０３７０】
比較製造例１：製造例１と同様にして、表２に記載の条件でフィルム１９〜２３を作製し
た。
【０３７１】
製造例２：ドラム流延機によるセルロースアシレートフィルムの製膜（フィルム２４）
（１）溶解
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を
溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０３７２】
（セルロースアセテート溶液の組成）
（質量部）          内層            外層
セルロースアセテート（酢化度６０．９％）    １００          １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤）          ７．８          ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）  ３．９          ３．９
メチレンクロリド（第１溶媒）                ２９３          ３１４
メタノール（第２溶媒）                        ７１            ７６
１−ブタノール（第３溶媒）                  １．５          １．６
シリカ微粒子                                    ０          ０．８
“ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝
レターデーション発現剤（ＲＰ２）            １．４              ０
【０３７３】
上記セルロースアセテートの置換度は次の通りであった。
置換度Ａ  ２．８７、置換度Ｂ  ０、全置換度Ａ＋Ｂ  ２．８７、６位置換度０．９０７
、６位置換度／全置換度  ０．３１６
【０３７４】
【化２３】
0004802067.tif 000026
【０３７５】
得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて０℃に冷却したド
ラム上に流延した。金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てた。熱風温度、風量
は表２に示した通りである。残留溶媒量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、
両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１００％（延伸倍率１％）として
搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶媒量が１０質量％となったところで１１０℃で乾
燥させた。その後１４０℃の温度で３０分乾燥し、巻取り部前で両端部を切り落とし幅２
０００ｍｍとし、長さ４０００ｍのロールフィルムとして巻き取った。このようにして残
留溶媒が０．３質量％のフィルム２４（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）
を作製した。作製したセルロースアシレートフィルム２４について、複屈折測定装置“Ｋ
ＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて、２５℃、６０％ＲＨで波長５
９０ｎｍにおけるＲｅ590値及びＲｔｈ590値を測定した。Ｒｔｈ590値の計算には平均屈
折率として１．４８を入力した。また前記に従って、弾性率及び吸湿膨張係数を求めた。
この結果、Ｒｅ590＝１２ｎｍ、Ｒｔｈ590＝８５ｎｍ、弾性率２８００ＭＰａ、吸湿膨張
係数５５ｐｐｍ／％ＲＨであった。
【０３７６】
また製造例２で得られたフィルムのヘイズは０．３、マット剤の２次平均粒子径が１．
０μｍ以下であり、８０℃、９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合の質量変化は０
．５質量％であった。また６０℃、９５％ＲＨ及び９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間
静置した場合の寸度変化は０．１％以内であった。さらに光弾性係数は１３×１０-13ｃ
ｍ2／ｄｙｎｅ（１．３×１０-13Ｎ/ｍ２）であった。
【０３７７】
製造例３：環状ポリオレフィン二軸延伸フィルムの作製（フィルム２５）
「ゼオノア１４２０Ｒ」｛日本ゼオン（株）製、厚み１００μｍ｝を、縦一軸延伸機において、給気温度１４０℃、フィルム膜面温度１３０℃で、延伸倍率３０％で縦延伸した。その後、テンター延伸機において、給気温度１４０℃、フィルム膜面温度１３０℃で延伸倍率４０％で横延伸し、巻取り部前で両端部を切り落とし幅１５００ｍｍとし、長さ４０００ｍのロールフィルムとして巻き取った。二軸延伸したフィルム２５を作製した。得られたフィルム２５の厚みは６０μｍであった。作製したフィルム２５について、複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて、２５℃、６０％ＲＨで波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590値及びＲｔｈ590値を測定した。Ｒｔｈ590値の計算には平均屈折率として１．５１を入力した。また前記に従って、弾性率及び吸湿膨張係数を求めた。この結果、Ｒｅ590＝４７ｎｍ、Ｒｔｈ590＝１２８ｎｍ、弾性率１８００ＭＰａ、吸湿膨張係数１ｐｐｍ／％ＲＨであった。
【０３７８】
製造例４：保護膜（フィルム２６）の作製
２，２'−ビス（３，４−ジスカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，
２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニルから合成されたポリイ
ミドをシクロヘキサノン中に溶解させ、１５質量％の溶液を調製した。このポリイミド溶
液を、製造例１で作製したフィルム１７を基体フィルムとして、その上に乾燥後の膜厚で
６μｍ分塗布し、１５０℃で５分間乾燥させた後、１５０℃の雰囲気下で、テンター延伸
機で幅方向に１５％延伸しながら、１５０℃で１０分間加熱して、巻取り部前で両端部を
切り落とし幅１８００ｍｍとし、長さ４０００ｍのロールフィルムとして巻き取り、フィ
ルム２６を得た。フィルム２６の膜厚は６０μｍであった。作製したフィルム２６につい
て、複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて、２５
℃、６０％ＲＨで波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590値及びＲｔｈ590値を測定した。Ｒｔｈ
590値の計算には平均屈折率として１．５８を入力した。また前記に従って、弾性率及び
吸湿膨張係数を求めた。この結果、Ｒｅ590＝６０ｎｍ、Ｒｔｈ590＝２３０ｎｍ、弾性率
１８００ＭＰａ、吸湿膨張係数４５ｐｐｍ／％ＲＨであった。
【０３７９】
参考製造例：保護膜（フィルム２７）の作製
基体フィルムをフィルム１７から「フジタックＴＤ８０ＵＬ」｛富士写真フィルム（株
）製｝に変え、乾燥後の膜厚で５．５μｍとなるようにポリイミド溶液を塗布し、テンタ
ー延伸機での延伸倍率を２０％にした以外は製造例４と同様にしてフィルム２７を作製し
た。巻取り部前で両端部を切り落とし幅１４５０ｍｍとし、長さ３８００ｍのロールフィ
ルムとして巻き取った。フィルム２７の膜厚は７０μｍであった。作製したフィルム２７
について、複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて
、また前記に従って、弾性率及び吸湿膨張係数を求めた。この結果、Ｒｅ590＝６１ｎｍ
、Ｒｔｈ590＝２３６ｎｍ、弾性率４０００ＭＰａ、吸湿膨張係数４７ｐｐｍ／％ＲＨで
あった。
【０３８０】
製造例５−１：保護膜（フィルム３１）の作製
＜環状ポリオレフィン重合体Ｐ−１の合成＞
精製トルエン１００質量部とノルボルネンカルボン酸メチルエステル１００質量部を反応釜に投入した。次いでトルエン中に溶解したエチルヘキサノエート−Ｎｉ２５ｍｍｏｌ％（対モノマー質量）、トリ（ペンタフルオロフェニル）ボロン０．２２５ｍｏｌ％（対モノマー質量）及びトルエンに溶解したトリエチルアルミニウム０．２５ｍｏｌ％（対モノマー質量）を反応釜に投入した。室温で攪拌しながら１８時間反応させた。反応終了後過剰のエタノール中に反応混合物を投入し、重合物沈殿を生成させた。沈殿を精製し得られた重合体（Ｐ−１）を真空乾燥で６５℃２４時間乾燥した。
【０３８１】
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
【０３８２】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィン溶液  Ｄ−１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィンＰ−１                         １５０質量部
ジクロロメタン                                   ３８０質量部
メタノール                                         ７０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３８３】
次に上記方法で作成した環状ポリオレフィン溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、微粒子分散液を調製した。
【０３８４】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
微粒子分散液  Ｍ−１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２  日本アエロジル（株）） ２質量部
ジクロロメタン                                   ７３質量部
メタノール                                       １０質量部
環状ポリオレフィン溶液 Ｄ−１                    １０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３８５】
上記環状ポリオレフィン溶液Ｄ−１を１００質量部、微粒子分散液Ｍ−１を１．３５質量を混合し、製膜用ドープを調製した。
上記のドープを、バンド流延機を用いて流延した。金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てた。熱風の温度は１４０℃、風量は２００ｍ３／minである。残留溶媒量が４３質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、延伸温度１４０℃で、テンターを用いて延伸倍率８％で、幅方向に延伸して、環状ポリオレフィンフィルムを製膜した。巻取り部前で両端部を切り落とし幅２０００ｍｍとし、長さ４０００ｍのロールフィルム３１として巻き取った。
得られたフィルム３１の厚みは８０μｍであった。作製したフィルム３１について、複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて、２５℃、６０％ＲＨで波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590値及びＲｔｈ590値を測定した。Ｒｔｈ590値の計算には平均屈折率として１．５１を入力した。また前記に従って、弾性率及び吸湿膨張係数を求めた。この結果、Ｒｅ590＝６０ｎｍ、Ｒｔｈ590＝２２０ｎｍ、弾性率２０００ＭＰａ、吸湿膨張係数１ｐｐｍ／％ＲＨであった。
【０３８６】
製造例５−２：保護膜（フィルム３２）の作製
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
【０３８７】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィン溶液  Ｄ−２
――――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィン：Ａｐｐｅａｒ  ３０００            １００質量部
（プロメラス社製）
ジクロロメタン                                        ３８０質量部
メタノール                                              ７０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３８８】
次に上記方法で作成した環状ポリオレフィン溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、微粒子分散液を調製した。
【０３８９】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
微粒子分散液  Ｍ−２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２  日本アエロジル（株）製）   ２質量部
ジクロロメタン                                       ７３質量部
メタノール                                           １０質量部
環状ポリオレフィン溶液 Ｄ−２                        １０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３９０】
上記環状ポリオレフィン溶液Ｄ‐２を１００質量部、微粒子分散液Ｍ‐２を１．３５質量を混合し、製膜用ドープを調製した。
上記のドープを、バンド流延機を用いて流延した。金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てた。熱風の温度は１４０℃、風量は２００ｍ３／minである。残留溶媒量が３８質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、延伸温度１４０℃で、テンターを用いて延伸倍率１５％で、幅方向に延伸して、環状ポリオレフィンフィルムを製膜した。巻取り部前で両端部を切り落とし幅２０００ｍｍとし、長さ４０００ｍのロールフィルム３２として巻き取った。
得られたフィルム３２の厚みは５５μｍであった。作製したフィルム３２について、複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測器（株）製｝を用いて、２５℃、６０％ＲＨで波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590値及びＲｔｈ590値を測定した。Ｒｔｈ590値の計算には平均屈折率として１．５１を入力した。また前記に従って、弾性率及び吸湿膨張係数を求めた。この結果、Ｒｅ590＝５６ｎｍ、Ｒｔｈ590＝２１０ｎｍ、弾性率１８００ＭＰａ、吸湿膨張係数１ｐｐｍ／％ＲＨであった。
【０３９１】
製造例６：反射防止層を有する保護膜（フィルム２８、２９、３３）の作製
［光散乱層用塗布液の調製］
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの
混合物“ＰＥＴＡ”｛日本化薬（株）製｝５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。更に
、重合開始剤「イルガキュア１８４」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝を
２ｇ添加し、混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１
．５１であった。
【０３９２】
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒径３
．５μｍの架橋ポリスチレン粒子“ＳＸ−３５０”｛屈折率１．６０、綜研化学（株）製
｝の３０質量％トルエン分散液を１．７ｇ及び平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチ
レン粒子｛屈折率１．５５、綜研化学（株）製｝の３０質量％トルエン分散液を１３．３
ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１３２）０．７５ｇ、シランカップリング
剤“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝を１０ｇ加えて、得られた混合液を孔
径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して光散乱層の塗布液を調製した。
【０３９３】
【化２４】
0004802067.tif 000027
【０３９４】
［低屈折率層用塗布液の調製］
まず始めに、次のようにしてゾル液ａを調製した。
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロイル
オキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１００
質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合した
のち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し
、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち
、分子量が１０００〜２００００の成分は１００質量％であった。また、ガスクロマトグ
ラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存し
ていなかった。
【０３９５】
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー“ＪＮ−７２２８”｛固形分濃度６質量％
、ＪＳＲ（株）製｝１３ｇ、シリカゾル｛シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均
粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製｝１．３ｇ、上記のように調製
したゾル液ａ０．６ｇ及びメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、
攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を
調製した。
【０３９６】
［反射防止層を有する保護膜の作製］
基体フィルムである８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム「フジタックＴ
Ｄ８０ＵＬ」｛富士写真フィルム（株）製｝をロール形態で巻き出して、上記の機能層（
光散乱層）用塗布液を、線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有す
る、直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロー
ル回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、
さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス
（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射
して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。
【０３９７】
上記の機能層（光散乱層）を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出し
て、その光散乱層側に、前記で調製した低屈折率層用塗布液を、線数１８０本／インチ、
深度４０μｍのグラビアパターンを有する、直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとド
クターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ／分の条件
で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ
下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用い
て、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎ
ｍの低屈折率層を形成し、巻き取り、反射防止層を有する保護膜（フィルム２８）を作製
した。
作製したフィルム２８について、複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計
測器（株）製｝を用いて、２５℃、６０％ＲＨで波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590値及び
Ｒｔｈ590値を測定した。Ｒｔｈ590値の計算には平均屈折率として１．４８を入力した。
また前記に従って、弾性率及び吸湿膨張係数を求めた。この結果、Ｒｅ590＝５ｎｍ、Ｒ
ｔｈ590＝４６ｎｍ、弾性率３９００ＭＰａ、であった。
また、基体フィルムを製造例１で作製したフィルム１８にする以外は同様にして、反射
防止層を有する保護膜（フィルム２９）を作製した。
作製したフィルム２９については、Ｒｅ590＝３ｎｍ、Ｒｔｈ590＝５８ｎｍ、弾性率１
５５０ＭＰａ、であった。
さらに、基体フィルムを環状ポリオレフィンフィルム  ZEONOR  ZF14（（株）オプテス製）にする以外は同様にして、反射防止層を有する保護膜（フィルム３３）を作製した。
作製したフィルム３３については、Ｒｅ590＝３ｎｍ、Ｒｔｈ590＝１０ｎｍ、弾性率２２００ＭＰａ、であった。
【０３９８】
製造例７：反射防止層を有する保護膜（フィルム３０）の作製
［ハードコート層用塗布液の調製］
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）｛日本化薬（株）製｝７５０
．０質量部に、質量平均分子量３０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０
質量部、メチルエチルケトン７３０．０ｇ、シクロヘキサノン５００．０ｇ及び光重合開
始剤「イルガキュア１８４」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝５０．０ｇ
を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコ
ート層用の塗布液を調製した。
【０３９９】
［二酸化チタン微粒子分散液の調製］
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、且つ水酸化アルミニウムと水酸化ジ
ルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子“ＭＰＴ−１２９”｛石原産業
（株）製｝を使用した。
【０４００】
この粒子２５７．１ｇに、下記分散剤３８．６ｇ、及びシクロヘキサノン７０４．３ｇ
を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製し
た。
【０４０１】
【化２５】
0004802067.tif 000028
【０４０２】
［中屈折率層用塗布液の調製］
上記の二酸化チタン分散液８８．９ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
とジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”５８．４ｇ、光重合
開始剤「イルガキュア９０７」３．１ｇ、光増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」｛日本化薬
（株）製｝１．１ｇ、メチルエチルケトン４８２．４ｇ及びシクロヘキサノン１８６９．
８ｇを添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィル
ターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
【０４０３】
［高屈折率層用塗布液の調製］
上記の二酸化チタン分散液５８６．８ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
トとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”｛日本化薬（株）
製｝４７．９ｇ、光重合開始剤「イルガキュア９０７」｛チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ（株）製｝４．０ｇ、光増感剤「カヤキュアー−ＤＥＴＸ」｛日本化薬（株）製｝１
．３ｇ、メチルエチルケトン４５５．８ｇ、及びシクロヘキサノン１４２７．８ｇを添加
して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の
塗布液を調製した。
【０４０４】
［低屈折率層用塗布液の調製］
下記共重合体（Ｐ−１）を、メチルイソブチルケトンに７質量％の濃度になるように溶
解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂“Ｘ−２２−１６４Ｃ”｛信越化学（株
）製｝を固形分に対して３質量％、光ラジカル発生剤「イルガキュア９０７」（商品名）
を固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層用塗布液を調製した。
【０４０５】
【化２６】
0004802067.tif 000029
【０４０６】
［反射防止層を有する保護膜の作製］
基体フィルムである膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム「フジタックＴＤ
８０ＵＬ」｛富士写真フィルム（株）製｝上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコー
ターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気に
なるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラ
フィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫
外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。
【０４０７】
次いでハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層
用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した
。
【０４０８】
中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体
積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライ
ドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４
００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎ
ｍであった。
【０４０９】
高屈折率層及び低屈折率層の乾燥条件は、いずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分
とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし
ながら２４０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を
用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
【０４１０】
硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍ、低屈折率層は屈折率１．４
４０、膜厚８５ｎｍであった。このようにして、反射防止層を有する保護膜（フィルム３
０）を作製した。
作製したフィルム３０について、複屈折測定装置“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計
測器（株）製｝を用いて、２５℃、６０％ＲＨで波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590値及び
Ｒｔｈ590値を測定した。Ｒｔｈ590値の計算には平均屈折率として１．４８を入力した。
また前記に従って、弾性率及び吸湿膨張係数を求めた。この結果、Ｒｅ590＝６ｎｍ、Ｒ
ｔｈ590＝４８ｎｍ、弾性率３９５０ＭＰａであった。
【０４１１】
以上の製造例４〜７で作製した保護膜の構成及び形成された機能性層について、表３に
まとめる。
【０４１２】
【表３】
0004802067.tif 000030
【０４１３】
合成例１
（１）（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）溶液の調製
表４に示す組成比で、ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル
酸エステル（ａ1）、ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化
合物（ａ2）、多官能性化合物に対して反応性を有する官能基含有モノマー（ａ3）及び重
合開始剤を反応容器に入れ、この反応容器を窒素ガスで置換した後、攪拌しつつ窒素雰囲
気下で、表４に示す反応温度及び時間で反応させた。（メタ）アクリル系共重合体Ｎｏ．
１、２、３、５、６については反応後に酢酸エチルで希釈し、固形分濃度２０質量％とし
（メタ）アクリル系共重合体溶液を得た。（メタ）アクリル系共重合体Ｎｏ．４、７につ
いては反応後にトルエンで希釈し、固形分濃度２０質量％とし、（メタ）アクリル系共重
合体溶液を得た。
【０４１４】
［質量平均分子量の測定］
上記（メタ）アクリル系共重合体溶液における各共重合体の、スチレン換算の質量平均
分子量（Ｍｗ）をゲル浸透クロマトグラフ法（ＧＰＣ）により求めた。測定条件を下記に
示す。また得られた結果を表４に示す。
【０４１５】
装置名：“ＨＬＣ−８１２０”｛東ソー（株）製｝
カラム：“Ｇ７０００ＨＸＬ”７．８ｍｍＩＤ×３０ｃｍ  １本｛東ソー（株）製｝
“ＧＭＨＸＬ”７．８ｍｍＩＤ×３０ｃｍ  ２本｛東ソー（株）製｝
“Ｇ２５００ＨＸＬ”７．８ｍｍＩＤ×３０ｃｍ  １本｛東ソー（株）製｝
サンプル濃度：１．５ｍＬ／ｍＬになるようにテトラヒドロフランで希釈
移動相溶媒：テトラヒドロフラン
流量：１．０ｍＬ／分
カラム温度：４０℃
【０４１６】
【表４】
0004802067.tif 000031
【０４１７】
（２）粘着剤溶液の調製
合成例１で調製した（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）溶液を、表５に示す固形分比と
なるように混合し、表５に示す多官能性化合物（架橋剤）（Ｂ）を添加し、十分に攪拌し
て粘着剤溶液１〜１２を得た。
【０４１８】
［ゲル分率の測定］
ゲル分率の測定は下記のように行った。粘着剤溶液を２５μｍ厚のＰＥＴフィルム上に
ダイコーターを用いて塗布した後、乾燥させた。乾燥後の厚みが２５μｍになるように粘
着剤溶液の塗布量を調整した。乾燥した粘着層約２０ｍＬをクロロホルム約１０ｍＬに浸
漬し、不溶成分を０．４５μｍのフィルターで濾過し、フィルターに残ったものを乾燥し
、質量を測りゲル分（架橋成分）の質量Ｍｇとした。さらに、濾液を乾燥して残渣の質量
を測り、ゾル分（未架橋成分）の質量Ｍｓとし、下記式によりゲル分率を算出した。
ゲル分率（％）＝Ｍｇ／（Ｍｇ＋Ｍｓ）×１００
【０４１９】
（粘着層の塗設）
偏光板への粘着層の塗設は次のように行った。
粘着剤溶液１〜１２の溶液を、２５μｍ厚のＰＥＴフィルム上にダイコーターを用いて
塗布した後、乾燥させた。ここで、乾燥後の粘着層の厚さが２５μｍとなるように調整し
た。さらに、ＰＥＴフィルム上に塗設された粘着層を偏光板に転写し、２５℃、６０％Ｒ
Ｈで７日間熟成させた。粘着剤溶液１〜１２を塗設して粘着剤層１〜１２を形成した。
【０４２０】
[クリープ値の測定]
水洗・乾燥を行った無アルカリガラス板（品番１７３７、コーニング製）に粘着層を形
成した偏光板を図４に示すように貼り付けた。図４において（ａ）は平面図であり、（ｂ
）は側面図である。また符号７０はガラス板、８０は粘着層、９０は偏光板である。貼り
付け面積は縦ａが１０ｍｍ、横ｂが１０ｍｍとした。初期接着圧力は５ｋｇ／ｃｍ2（０
．４９ＭＰａ）とした。その後、接着圧力を除き、５０℃の雰囲気下で２００ｇの荷重Ｗ
を１時間掛け、室温雰囲気下に取り出し荷重を取り除き粘着剤のクリープ量を測定した。
粘着層を形成した偏光板を未試験のものに取り替えて、雰囲気の温度を２５℃、７０℃、
９０℃として、５０℃の場合と同様にクリープ量を測定した。
【０４２１】
粘着剤１〜１２の物性値を表５にまとめた。
【０４２２】
【表５】
0004802067.tif 000032
【０４２３】
［偏光板の作製］
実施例１及び比較例１
（偏光子の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量
％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度の
ホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分
間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。
【０４２４】
（セルロースアシレートフィルムの表面処理）
製造例１、２、４〜７、および、比較製造例１で作製した保護膜及び以下に挙げる市販
のセルロースアシレートフィルムを、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００
５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分
に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
【０４２５】
（偏光板の作製）
上記のように鹸化処理を行った保護膜及び市販のセルロースアシレートフィルムを、表
６，７に示す組合せで前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて
貼り合せ偏光板を作製した。
【０４２６】
ここで市販のセルロースアシレートフィルムとしては、「フジタックＴ４０ＵＺ」、「
フジタックＴＦ８０ＵＬ」、「フジタックＴＤ８０ＵＬ」、「フジタックＴＤＹ８０ＵＬ
」｛以上、富士写真フィルム（株）製｝、及び“ＫＣ８０ＵＶＳＦＤ”｛以上、コニカオ
プト（株）製｝を用いた。
【０４２７】
このとき、偏光子及び偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロー
ルフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すよ
うに、偏光板のセル側に配置される保護膜３においては、偏光子の透過軸と製造例１、２
、４〜７及び比較製造例１で作製したセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行に
なっている。
【０４２８】
（粘着層の塗設）
偏光板への粘着層の塗設は次のように行った。
粘着剤溶液を、２５μｍ厚のＰＥＴフィルム上にダイコーターを用いて塗布した後、乾
燥させた。ここで、乾燥後の粘着層の厚さが２５μｍとなるように調整した。さらに、Ｐ
ＥＴフィルム上に塗設された粘着層を上記で作製した偏光板に表６，７の組合せで転写し
、２５℃、６０％ＲＨで７日間熟成させた。
上記のようにして作製した偏光板の粘着層側にはＰＥＴのセパレーターを取り付け、粘
着層と逆側にはＰＥＴ製のプロテクトフィルムを取り付けた。
【０４２９】
実施例２
実施例１と同様に作製した偏光子の片面に、実施例１と同様に鹸化処理を行ったセルロ
ースアセテートフィルム２９を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ、他
方の面に製造例３で作製したフィルム２５をアクリル系接着剤“ＤＤ６２４”｛ノガワケ
ミカル（株）製｝を用いて貼り合わせ偏光板を作製し、以下実施例１と同様にして粘着層
の塗設を行った。
実施例１と同様に作製した偏光子の片面に、セルロースアシレートフィルム６、セルロースアシレートフィルム  フジタックTDY80UL（富士写真フィルム（株）製）、セルロースアシレートフィルム１３を実施例１と同様に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
また、環状ポリオレフィンフィルム２５、環状ポリオレフィンフィルム３３、環状ポリオレフィンフィルム  ZEONOR ZF14（（株）オプテス製）、環状ポリオレフィンフィルム３１、環状ポリオレフィンフィルム３２はアクリル系接着剤“ＤＤ６２４”｛ノガワケミカル（株）製｝を用いて実施例１と同様に作製した偏光子の片面に貼り合わせた。
このようにして表６または７に記載の偏光板を作製し、実施例１と同様にして粘着層の塗設を行った。
【０４３０】
（リワーク性）
得られた偏光板を１００×１００ｍｍサイズに打ち抜き、ガラス基盤に貼合した。４角
の１カ所から偏光板をガラス基盤から少し剥離し、剥離した偏光板を掴みガラス基盤を押
さえながら対角方向に剥離していく。同様の操作を計１０枚のサンプルで実施し、以下の
基準に従い評価を行った。
【０４３１】
◎：１０枚とも完全に剥離できた
○：１枚のみ部分的に剥離残りが生じた
△：２〜５枚で剥離のこりが生じた
×：６枚以上剥離のこりが生じた
【０４３２】
上記実施例１及び２で作製した偏光板の構成、リワーク性について、表６及び表７にま
とめる。本発明にかかるフィルムを用いた偏光板においてはリワーク性が良化することが
明らかである。
【０４３３】
【表６】
0004802067.tif 000033
【０４３４】
【表７】
0004802067.tif 000034
【０４３５】
［反射率の測定］
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、
入射角５°における分光反射率を機能性膜側から測定し、４５０〜６５０ｎｍの積分球平
均反射率を求めたところ、反射防止層を有する保護膜であるフィルム２４を使用した偏光
板では２．３％、反射防止層を有する保護膜であるフィルム２５を使用した偏光板では０
．４％であった。ここで反射防止層を有する保護膜上のプロテクトフィルムは剥がして反
射率測定を行った。
【０４３６】
実施例３−１〜３−２６
ＶＡパネルへの実装
実施例１、実施例２で作製した偏光板を、視認側偏光板は２６"ワイドのサイズで偏光
子の吸収軸が長辺となるように、バックライト側偏光板は偏光子の吸収軸が短辺となるよ
うに長方形に打抜いた。ＶＡモードの液晶ＴＶ“ＫＤＬ−Ｌ２６ＲＸ２”｛ソニー（株）
製｝の、表裏の偏光板及び位相差板を剥し、表と裏側に実施例１、比較例１及び実施例２
で作製した偏光板を表８に示す組合せで貼り付け、液晶表示装置ＶＡ−１〜ＶＡ−２６を
作製した。偏光板貼り付け後、５０℃、５ｋｇ／ｃｍ2（０．４９ＭＰａ）で２０分間保
持し、接着させた。この際、視認側の偏光板の吸収軸をパネル水平方向に、バックライト
側の偏光板の吸収軸をパネル鉛直方向となり、粘着材面が液晶セル側となるように配置し
た。
【０４３７】
プロテクトフィルムを剥した後、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示及び白表示の輝度測定から視野角（コントラスト比が１０以上の範囲）を算出した。いずれの偏光板を使用した場合も、全方位で極角８０゜以上の良好な視野角特性が得られた。
以下、実施例３−７、３−１３、３−２７、３−２８は、それぞれ、参考例３−７、３−１３、３−２７、３−２８と読み替えるものとする。
【０４３８】
【表８】
0004802067.tif 000035
【０４３９】
［耐久試験による偏光板剥がれ］
実施例３で作製した液晶表示装置を下記の２条件で耐久試験を行った。
（１）６０℃９０％ＲＨの環境に２００時間保持し、２５℃６０％ＲＨ環境に取り出し
２４時間後に偏光板の液晶パネルからの剥がれの有無を評価した。
（２）８０℃ｄｒｙの環境に２００時間保持し、２５℃６０％ＲＨ環境に取り出し１時
間後に偏光板の液晶パネルからの剥がれの有無を評価した。
上記において本発明の偏光板を用いた液晶表示装置においては偏光板の液晶パネルから
の剥がれは見られなかった。
【０４４０】
［光漏れ］
また偏光板剥がれを評価した２条件で、光漏れの評価も行った。本発明のいずれの偏光
板を使用した場合も、光漏れが発生せず、良好な表示性能を保っていた。
【０４４１】
実施例４
ＩＰＳパネルへの実装
実施例１及び実施例２で作製した偏光板を、視認側偏光板は３２"ワイドのサイズで偏
光子の吸収軸が長辺となるように、バックライト側偏光板は偏光子の吸収軸が短辺となる
ように長方形に打抜いた。ＩＰＳモードの液晶ＴＶ“Ｗ３２−Ｌ５０００”｛日立製作所
（株）製｝の表裏の偏光板及び位相差板を剥し、表と裏側に実施例１及び実施例２で作製
した偏光板を、表９に示す組合せで貼り付け、液晶表示装置ＩＰＳ−１を作製した。
偏光板貼り付け後、５０℃、５ｋｇ／ｃｍ2（０．４９ＭＰａ）で２０分間保持し、接
着させた。この際、視認側の偏光板の吸収軸をパネル水平方向に、バックライト側の偏光
板の吸収軸をパネル鉛直方向となり、粘着層表面が液晶セル側となるように配置した。
【０４４２】
プロテクトフィルムを剥した後、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”（ＥＬ
ＤＩＭ社製）を用いて、黒表示及び白表示の輝度測定から視野角（コントラスト比が１０
以上の範囲）を算出した。いずれの偏光板を使用した場合も、全方位で極角８０゜以上の
良好な視野角特性が得られた。
【０４４３】
得られたＩＰＳモード液晶表示装置について、実施例３と同様にその特性を評価した。
【０４４４】
【表９】
0004802067.tif 000036
【図面の簡単な説明】
【０４４５】
【図１】本発明に関する偏光板の製造時におけるセルロースアシレートフィルムの貼り合わせ方法の一例を示す模式図である。
【図２】本発明の偏光板の断面構造の一例を模式的に示す図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の断面構造の一例を模式的に示す図である。
【図４】（ａ），（ｂ）ともに、本発明の粘着剤のクリープ量を測定する説明図である。
【符号の説明】
【０４４６】
１：偏光子
２：透過軸
３：セルロースアシレートフィルム
４：遅相軸
１１：偏光子
１２：（液晶セル側）保護膜
１３：（液晶セルとは反対側の）保護膜
１４：機能性膜（ハードコート層、防眩層、反射防止層）
２１：偏光子
２２：ＴＡＣ１：液晶セル側保護膜
２３：ＴＡＣ２：液晶セルとは反対側の保護膜
３１：偏光子
３２：ＴＡＣ３：液晶セル側保護膜
３３：ＴＡＣ２：液晶セルとは反対側の保護膜
４０：ＶＡモード液晶セル
５０：視認側
６０：バックライト側
７０：ガラス板
８０：粘着層
９０：偏光板
【図１】
0004802067.tif 000037
【図２】
0004802067.tif 000038
【図３】
0004802067.tif 000039
【図４】
0004802067.tif 000040