(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半田付け装置の入口部及び出口部に配置されたバッファ室と、
該バッファ室に隣接して配置され且つカルボン酸を含む雰囲気でワークを処理する処理室と、
前記入口部及び出口部並びに前記バッファ室と前記処理室との間に配設されたラビリンス機構と、
前記バッファ室に接続された吸引ポンプと、
該吸引ポンプで前記バッファ室から取り出したガスを無害化する排気処理部とを有し、
前記入口部又は前記出口部と前記処理室との間に複数のバッファ室が配置され、
前記入口部に配置されたバッファ室と前記処理室との間に配置された第２のバッファ室に配設された開閉可能な真空釜を更に有し、
該真空釜の中をカルボン酸を含む雰囲気にした状態でワークを減圧処理することを特徴とする半田付け装置。
【請求項２】
前記入口部と前記出口部が一つであり、共通の出入口を通じてワークの出し入れが行われる、請求項１に記載の半田付け装置。
【請求項３】
前記入口部と前記出口部が別である、請求項１に記載の半田付け装置。
【請求項４】
一端に入口部、他端に出口部を備えたトンネル形の半田付け装置であって、
前記入口部から前記出口部に向けて順に、第１入口側バッファ室、第２入口側バッファ室、予備加熱室、リフロー室、冷却室、第１出口側バッファ室、第２出口側バッファ室を有する半田付け装置において、
前記入口部、前記出口部、前記第１入口側バッファ室と前記第２入口側バッファ室との間、前記第１出口側バッファ室と前記第２出口側バッファ室との間に配設されたラビリンス機構と、
前記第１入口側バッファ室と前記第２出口側バッファ室とに接続された吸引ポンプと、
該吸引ポンプで前記第１入口側バッファ室及び前記第２出口側バッファ室から取り出したガスを無害化する排気処理部とを有し、
前記第１入口側バッファ室と前記第２出口側バッファ室が前記吸引ポンプによって負圧が生成され、
前記予備加熱室から前記冷却室までの雰囲気がカルボン酸を含む不活性ガス雰囲気に維持されることを特徴とする半田付け装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はフラックスレス半田付け装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１、２は、１つの開閉可能な減圧加熱処理釜を備えたリフロー炉及びワーク搬送装置を開示している。従来の一般的なリフロー炉は、周知のように、クリーム半田（「ソルダペースト」とも呼ばれている）を介して電子部品を搭載したプリント配線基板（以下、「ワーク」という。）の半田付けに適用される。
【０００３】
特許文献１、２に開示のリフロー炉に含まれる１つの減圧加熱処理釜は低い圧力の下でワークを加熱するのに用いられ、これによりクリーム半田を脱泡しながら半田を溶かすことができる。
【０００４】
近時の高密度実装基板に対応するために、リフロー半田付けの後にフラックス残渣が残らないソルダペーストの開発が進んでいる。
【０００５】
特許文献３は、粉末半田と、沸点が粉末半田の固相線と液相線との間にある多価アルコールからなるバインダとを混合したソルダペースト（「クリーム半田」とも呼ばれている）を開示している。このソルダペーストは還元雰囲気でリフローされる。
【０００６】
特許文献４は、粉末半田と、有機多価ヒドロキシ化合物（蒸発温度が１７０℃以上）とを混合したソルダペーストを開示している。
【０００７】
特許文献５は、ロジンを含有していないフラックスであってリフロー温度で蒸発する少なくとも１種類の固体溶剤と、常温で高粘性流体であり且つリフロー温度で蒸発する少なくとも１種類の高粘性溶剤と、常温で液体であり且つリフロー温度で蒸発する少なくとも１種類の液体溶剤と、粉末半田とを混合したソルダペーストを開示している。
【０００８】
この種のソルダペーストを使った半田付けに適したリフロー炉が提案されている（例えば特許文献６）。このリフロー炉は、フラックスの代わりにギ酸の還元力を利用して金属表面の酸化皮膜を除去する構成が採用され、業界では、「フラックスレスリフロー炉」と呼ばれている。
【０００９】
特許文献７は、フラックスレスリフロー炉に適用可能なカルボン酸を例示している。具体的には、ギ酸、酢酸、アクリル酸、プロピオン酸、プチリック酸、カプロン酸、シュウ酸、コハク酸、サリチル酸、マロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、乳酸、カプリン酸を挙げている。そして、特許文献７には、フラックスレスリフロー炉に適用する場合に、それらの一つ又は複数を選択して適用することが可能であると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】ＷＯ 2013/031739 A1
【特許文献２】ＷＯ 2013/031740 A1
【特許文献３】特開平２−２５２９１号公報
【特許文献４】特開平９−９４６９１号公報
【特許文献５】特開２００４−２５３０５号公報
【特許文献６】特開２００７−１２５５７８号公報
【特許文献７】特開２００１−２４４２８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
特許文献７は、ギ酸及び不活性ガスの雰囲気で処理する半田付け装置を開示している。具体的に説明すると、特許文献７に開示の半田付け装置は、ギ酸雰囲気でワークを処理する各処理室にシャッターを備えている。各処理室での処理はシャッターを閉めた状態で行われる。また、ギ酸は金属腐食性が高いため、ワークを各処理室に収容したらシャッターを閉める。そして、ギ酸処理する処理室に排気口を設け、この排気口を通じてギ酸を回収する。
【００１２】
特許文献７に開示の半田付け装置のように、ギ酸処理する処理室毎にシャッターを設け、また、ギ酸回収装置を設置するのは、半田付け装置のコストアップの要因になるだけでなく、半田付け装置の制御も複雑化する要因になる。
【００１３】
本発明の目的は、比較的簡単な構成でギ酸のようなカルボン酸が外部に流出するのを防止できる半田付け装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の技術的課題は、本発明によれば、
半田付け装置の入口部及び出口部に配置されたバッファ室と、
該バッファ室に隣接して配置され且つカルボン酸を含む雰囲気でワークを処理する処理室と、
前記入口部及び出口部並びに前記バッファ室と前記処理室との間に配設されたラビリンス機構と、
前記バッファ室に接続された吸引ポンプと、
該吸引ポンプで前記バッファ室から取り出したガスを無害化する排気処理部とを有し、
前記入口部又は前記出口部と前記処理室との間に複数のバッファ室が配置され、
前記入口部に配置されたバッファ室と前記処理室との間に配置された第２のバッファ室に配設された開閉可能な真空釜を更に有し、
該真空釜の中をカルボン酸を含む雰囲気にした状態でワークを減圧処理することを特徴とする半田付け装置を提供することにより達成される。
【００１５】
本発明の半田付け装置によれば、吸引ポンプによってバッファ室が負圧状態に維持される。バッファ室が負圧であることから、入口、出口を通じて外気がバッファ室に流れ込む。この外気の流れによって処理室内のカルボン酸が外部に流出するのを阻止することができる。すなわち、本発明によればシャッターレスでありながら、炉内のカルボン酸が外部に流出するのを防止することができる。
【００１６】
本発明を適用した最も典型的な例は次の構成を備えた半田付け装置である。
【００１７】
典型的な半田付け装置は、
一端に入口部、他端に出口部を備えたトンネル形の半田付け装置であって、
前記入口部から前記出口部に向けて順に、第１入口側バッファ室、第２入口側バッファ室、予備加熱室、リフロー室、冷却室、第１出口側バッファ室、第２出口側バッファ室を有する半田付け装置において、
前記入口部、前記出口部、前記第１入口側バッファ室と前記第２入口側バッファ室との間、前記第１出口側バッファ室と前記第２出口側バッファ室との間に配設されたラビリンス機構と、
前記第１入口側バッファ室と前記第２出口側バッファ室とに接続された吸引ポンプと、
該吸引ポンプで前記第１入口側バッファ室及び前記第２出口側バッファ室から取り出したガスを無害化する排気処理部とを有し、
前記第１入口側バッファ室と前記第２出口側バッファ室が前記吸引ポンプによって負圧が生成され、
前記予備加熱室から前記冷却室までの雰囲気がカルボン酸を含む不活性ガス雰囲気に維持されることを特徴とする半田付け装置である。
【００１８】
本発明の他の目的及び本発明の作用効果は、以下に説明する本発明の好ましい実施例の詳細な説明から明らかになろう。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に従う半田付け装置の基本構造の一例を説明するための図である。
【図２】図１に図示の半田付け装置の変形例を説明するための図である。
【図３】実施例のトンネル形リフロー炉であって、第２の入口側バッファ室に真空釜を設置したリフロー炉を説明するための図である。
【図４】実施例のバッチ式リフロー炉を説明するための図である。
【図５】図４に図示のバッチ式リフロー炉の変形例を説明するための図である。
【図６】実施例の噴流半田槽を備えたリフロー炉を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下に、添付の図面に基づいて本発明の好ましい実施例を説明する。
【００２１】
図１は、本発明に従う半田付け装置の基本構造の一例を説明するための図である。図１はトンネル形のリフロー炉１を示す。トンネル形のリフロー炉１は、その一端に入口部２を有し、他端に出口部４を有する。
【００２２】
入口部２は第１の仕切り壁６によって区画された第１、第２の入口側バッファ室８、１０を有している。同様に、出口部４は第２の仕切り壁１２によって区画された第１、第２の出口側バッファ室１４、１６を有している。図中、参照符号１８はワーク（図示せず）の搬送路を示し、ワークは左から右に向けて搬送される。
【００２３】
リフロー炉１は、ソルダペーストを介して電子部品を搭載したワークを連続的に半田付けする「フラックスレスリフロー炉」であり、炉内は不活性ガス及びギ酸の雰囲気である。リフロー炉１の炉内に供給されるギ酸は、ギ酸と共に又はギ酸に代えて、酢酸、アクリル酸、プロピオン酸、プチリック酸、カプロン酸、シュウ酸、コハク酸、サリチル酸、マロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、乳酸、カプリン酸などのカルボン酸を採用することができる。これらのカルボン酸は一つ又は複数の種類を選択することができる。
【００２４】
フレックスレスリフロー炉１は、入口部２と出口部４との間に、典型的には、ワーク搬送方向に配置された複数の仕切り壁で区画された複数のチャンバーで構成される処理部２０を有している。処理部２０は一つのチャンバーで構成されていてもよい。ワークは処理部２０で加熱され、次いで冷却される。
【００２５】
入口部２を構成する第１、第２の入口側バッファ室８、１０を説明する。第１の入口側バッファ室８は入口８aを通じて外部と連通している。ワークは入口８aを通じて外部から第１入口側バッファ室８に搬入される。第１、第２の入口側バッファ室８、１０を区画する第１の仕切り壁６は開口部６aを有し、この開口部６aを通じて、第１入口側バッファ室８から第２入口側バッファ室１０にワークが搬入される。
【００２６】
出口部４を構成する第１、第２の出口側バッファ室１４、１６を説明する。第１、第２の出口側バッファ室１４、１６を区画する第２の仕切り壁１２は開口部１２aを有し、この開口部１２aを通じて、第１出口側バッファ室１４から第２出口側バッファ室１６にワークが搬入される。
【００２７】
第２の出口側バッファ室１６は出口１６aを通じて外部と連通している。ワークは出口１６aを通じて第２出口側バッファ室１６から外部に搬出される。
【００２８】
リフロー炉１の入口８a、出口１６a、第１仕切り壁６の開口部６a、第２仕切り壁１２の開口部１２aにはガスの流動を阻止するためのラビリンス（labyrinth）機構２２が配設されている。すなわち、リフロー炉１はシャッターレスであり、リフロー炉１の一端部に位置する第１入口側バッファ室８はその入口８aと出口（開口部６a）に、夫々、入口側、出口側のラビリンス機構２２が配設されている。また、リフロー炉１の他端部に位置する第２出口側バッファ室１６はその入口（開口部１２a）と出口１６aに、夫々、入口側、出口側のラビリンス機構２２が配設されている。
【００２９】
ラビリンス機構２２は、ワークの移動方向に配置された複数の可撓性の樹脂片又は金属片で構成されている。ラビリンス機構２２はＪＰ実公平４−９８３６４号公報に詳しく説明されていることから、このＪＰ実公平４−９８３６４号公報を本願明細書に組み込むことにより、ラビリンス機構２２の詳しい説明を省略する。
【００３０】
リフロー炉１はギ酸無害化処理システム３０を有し、ギ酸無害化処理システム３０は共通の吸引ポンプ３２を有している。共通吸引ポンプ３２は配管３４を通じて第１入口側バッファ室８及び第２出口側バッファ室１６に連通している。第１入口側バッファ室８及び第２出口側バッファ室１６は、その内部のガスが共通吸引ポンプ３２によって吸い出される。
【００３１】
共通吸引ポンプ３２から吐出されるガスは共通の排気処理室３６を介して外部に排出される。共通吸引ポンプ３２によって第１入口側バッファ室８及び第２出口側バッファ室１６から取り出されるガスはギ酸を含んでいる。このギ酸は共通排気処理室３６で無害化された後に外部に排出される。
【００３２】
共通排気処理室３６において、ギ酸が、燃焼、化学反応、紫外線照射などによって無害化される。その一例を化学式で表すと次の通りである。
【００３３】
２ＨＣＯＯＨ→ＣＯ２＋Ｈ２Ｏ
【００３４】
ギ酸無害化処理システム３０は、共通の吸引ポンプ３２の代わりに、第１入口側バッファ室８のガスを取り出す第１吸引ポンプと、第２出口側バッファ室１６のガスを取り出す第２吸引ポンプとを有していてもよい。また、ギ酸無害化処理システム３０は、共通排気処理室３６の代わりに、上記第１の吸引ポンプに接続された第１排気処理室と、上記第２の吸引ポンプに接続された第２排気処理室とを有していてもよい。
【００３５】
第１入口側バッファ室８はリフロー炉１の一端に位置している。同様に、第２出口側バッファ室１６はリフロー炉１の他端に位置している。第１入口側バッファ室８及び第２出口側バッファ室１６は、共通吸引ポンプ３２の動作によって、リフロー炉１の周囲よりも相対的に低い圧力状態に維持される。具体的には、第１入口側バッファ室８及び第２出口側バッファ室１６は、共通吸引ポンプ３２によって、大気圧よりも１〜１０Ｐa程度低い負圧状態に維持される。
【００３６】
また、第１入口側バッファ室８は、これに続く第２入口側バッファ室１０よりも相対的に低い圧力状態に維持するのが好ましい。同様に、第２出口側バッファ室１６は、これに隣接する第１出口側バッファ室１４よりも相対的に低い圧力状態に維持するのが好ましい。
【００３７】
第１入口側バッファ室８及び第２出口側バッファ室１６の圧力状態の調整を目的として風量調整用ダンパー４０をギ酸無害化処理システム３０に設置するのがよい。変形例として、共通吸引ポンプ３２の吸引能力を調整することで、第１入口側バッファ室８及び第２出口側バッファ室１６の圧力状態を調整するようにしてもよい。
【００３８】
第１入口側バッファ室８は第１の風量調整室４２を介して配管３４に接続されている。第２出口側バッファ室１６は第２の風量調整室４４を介して配管３４に接続されている。上述した風量調整用ダンパー４０は上記第１、第２の風量調整室４２、４４に配設されている。風量調整用ダンパー４０は手動であってもよいし電動であってもよい。風量調整用ダンパー４０の開度を調整することで、第１入口側バッファ室８又は第２出口側バッファ室１６から取り出されるガスの単位時間当たりの量を調整することができる。
【００３９】
第１入口側バッファ室８が外部よりも負圧に維持されるため、入口８aを通じて、外気が第１入口側バッファ室８に入る。同様に、第２出口側バッファ室１６が外部よりも負圧に維持されるため、出口１６aを通じて、外気が第２出口側バッファ室１６に入る。
【００４０】
第１入口側バッファ室８は、上述したように、その隣りの第２入口側バッファ室１０よりも相対的に低い圧力状態に維持するのが好ましい。これにより、第２入口側バッファ室１０内のガスが第１入口側バッファ室８に入る。第１入口側バッファ室８内のガスは、上述したように、共通吸引ポンプ３２によって吸引される。
【００４１】
入口８aから第１入口側バッファ室８に入る外気の流れによって、処理部２０内のギ酸を含むガスが入口８aを通じて外部に流出するのを防止できる。
【００４２】
第２出口側バッファ室１６は、上述したように、その隣りの第１出口側バッファ室１４よりも相対的に低い圧力状態に維持するのが好ましい。これにより、第１出口側バッファ室１４内のガスが第２出口側バッファ室１６に入る。第２出口側バッファ室１６内のガスは、上述したように、共通吸引ポンプ３２によって吸引される。
【００４３】
出口１６aから第２出口側バッファ室１６に入る外気の流れによって、処理部２０内のギ酸を含むガスが出口１６aを通じて外部に流出するのを防止できる。
【００４４】
図２は、上述した図１に図示のトンネル形のリフロー炉１の変形例を示す。図２に図示の第２のリフロー炉５０は、上述した第２の入口側バッファ室１０及び第１の出口側バッファ室１４を備えていない。すなわち、第２のリフロー炉５０の処理部２０は、上述した第１、第２の仕切り壁６、１２の間に位置している。
【００４５】
第２のリフロー炉５０（図２）の変形例として、上述した第２の入口側バッファ室１０及び第１の出口側バッファ室１４のいずれか一方を備えていないリフロー炉であってもよい。
【００４６】
図３は、真空釜６０を設置した第３のリフロー炉５２を示す。図示の第３のリフロー炉５２は、上記第２入口側バッファ室１０に真空釜６０が設置されている。また、上述した処理部２０は、仕切り壁で区画された複数の加熱処理室Ｐ(n)と、これに続く冷却室Ｃ(1)、Ｃ(2)とで構成されている。
【００４７】
加熱処理室Ｐ(n)は、典型的には、半田が溶融しない程度までワークを予備的に加熱する予備加熱室と、これに続いて半田が溶融する温度まで加熱する本加熱室（リフロー室）とで構成されている。予備加熱室及び本加熱室を備えたリフロー炉は従来から周知であるので、その詳しい説明を省略する。
【００４８】
処理部２０の雰囲気、つまり加熱処理室Ｐ(n)及び冷却室Ｃ(1)、Ｃ(2)の雰囲気は、不活性ガス（窒素ガス）とギ酸とで生成されている。第３のリフロー炉５２では、ワークが炉内を間欠的に搬送される。ワークは各室での処理が終わると、各ワークが次の室に搬送される。
【００４９】
真空釜６０は、上下に分割したアッパーハーフ６０aとロアハーフ６０bとで構成されている。ロアハーフ６０bは定置されている。アッパーハーフ６０aは、アクチュエータ（シリンダ装置）６４によって上下に移動可能である。アッパーハーフ６０aが上昇することで真空釜６０が開放した状態になる。アッパーハーフ６０aが下降することで真空釜６０が密閉した状態になる。
【００５０】
開放状態の真空釜６０に対して、先ず、真空釜６０から処理済みのワークの取り出しが行われ、次に、後続のワークが真空釜６０の中に搬入される。真空釜６０には、真空源としての真空ポンプ６６が接続されている。真空釜６０の中にファンを設けるのが好ましい。
【００５１】
真空釜６０での処理の手順の一例を説明すると、次の通りである。
（１）真空釜６０を密閉状態にする。
（２）真空ポンプ６６によって極めて低い圧力まで真空引きする。
（３）一定時間、低い圧力状態を維持する。
（４）真空釜６０の中にギ酸と窒素ガスを充填してほぼ大気圧まで昇圧する。真空釜６０の中にファンを設置した場合には、ファンを旋回させるのが好ましい。
（５）ほぼ大気圧まで昇圧したら、真空釜６０を開放してワークを取り出す。
【００５２】
真空釜６０を使った上記の処理を行うことにより、プリント配線基板と電子部品との間に介在するソルダペースト中の互いに隣り合う粉末の間にギ酸を侵入させることができる。
【００５３】
第３のリフロー炉５２は、上述したように、処理部２０、つまり予備加熱室及びリフロー室Ｐ(n)、冷却室Ｃ(1) 、冷却室Ｃ(2)の雰囲気がギ酸及び不活性雰囲気ガス（典型的には窒素ガス）で作られている。すなわち、処理部２０において、ギ酸及び窒素ガスの雰囲気の中でワークの処理が行われる。
【００５４】
第３のリフロー炉５２においても、上述した第１、第２のリフロー炉１、５０（図１、図２）と同様に、共通吸引ポンプ３２による吸引力によって、第１入口側バッファ室８が外部よりも負圧に維持される。また、第２出口側バッファ室１６が外部よりも負圧に維持される。また、好ましくは、第１入口側バッファ室８は、その隣りの第２入口側バッファ室１０よりも相対的に低い圧力状態に維持される。また、第２出口側バッファ室１６は、その隣りの第１出口側バッファ室１４よりも相対的に低い圧力状態に維持される。
【００５５】
これにより、第３のリフロー炉５２からギ酸が外部に流出するのを的確に防止することができる。
【００５６】
第３のリフロー炉５２の変形例として、処理部２０、例えば予備加熱室やリフロー室Ｐ(n)に真空釜６０を設置し、この真空釜６０を使ってワークを加熱するようにしてもよい。
【００５７】
予備加熱室に真空釜６０を設置した場合の処理の手順の一例を説明すると、次の通りである。
（１）半田が溶融しない程度まで加熱する（予備加熱）。
（２）極めて低い圧力まで真空引きする。
（３）一定時間、低い圧力状態を維持する。
（４）ファンを旋回させながらギ酸と窒素ガスを充填してほぼ大気圧まで昇圧する。
（５）ほぼ大気圧まで昇圧したら、真空釜６０を開放してワークを取り出す。
【００５８】
リフロー室Ｐ(n)での加熱は、典型的には、熱風による加熱方法が採用されるが、変形例として、遠赤外線加熱（輻射熱）や熱プレート（伝導）による加熱方法を採用してもよい。勿論、熱風による加熱と、遠赤外線加熱（輻射熱）や熱プレート（伝導）による加熱とを組み合わせた加熱方法を採用してもよい。
【００５９】
図４は、バッチ式のリフロー炉に本発明を適用した例を示す。図４に図示のバッチ式リフロー炉７０は、シャッターレスの出入口７２側から順に、バッファ室７４、冷却室７６、処理室７８を備え、この処理室７８に上述した真空釜６０（図３）が設置されている。
【００６０】
真空釜６０には、熱源である電熱ヒータＨやファンＦが設けられる。真空釜６０で加熱処理する際には、真空釜６０にギ酸と窒素ガスが供給される。また、冷却室７６及び処理室７８の雰囲気ガスには、ギ酸と窒素ガスが含まれている。
【００６１】
真空釜６０で処理が完了すると、処理済みのワークが真空釜６０から冷却室７６に移される。ワークは冷却室７６で冷却された後に出入口７２を通じて外部に取り出される。冷却室７６にファンＦを設置して、ファンＦで冷却室７６内の雰囲気ガスを流動させながらワークを冷却させるのが好ましい。 
【００６２】
バッチ式リフロー炉７０の出入口７２及びバッファ室７４と冷却室７６との間の仕切り壁８０に形成された開口部８０aには、夫々、ラビリンス機構２２が配設されている。
【００６３】
バッファ室７４は配管８２を介して吸引ポンプ１２０に接続され、この吸引ポンプ１２０によってバッファ室７４の中のガスが吸引される。吸引ポンプ１２０には、排気処理室１２２が接続され、ギ酸を無害化する処理が行われる。
【００６４】
バッチ式リフロー炉７０においても、上述した第１、第２のリフロー炉１、５０（図１、図２）と同様に、吸引ポンプ１２０による吸引力によって、バッファ室７４の負圧が生成される。バッファ室７４は外部（大気圧）よりも低い圧力であり且つ好ましくは冷却室７６よりも低い圧力に維持される。
【００６５】
これにより、バッチ式リフロー炉７０からギ酸が外部に流出するのを的確に防止することができる。
【００６６】
図５は、上述したバッチ式リフロー炉７０の変形例を示す。図５に図示の第２のバッチ式リフロー炉８４は、第２のバッファ室８６を備え、この第２のバッファ室８６に真空釜６０が設置されている。真空釜６０には真空源６６が接続されている。
【００６７】
第２のバッチ式リフロー炉８４での処理手順は次の通りである。
（１）真空釜６０にワークを入れた後に密閉状態にする。
（２）真空ポンプ６６によって極めて低い圧力まで真空引きする。
（３）一定時間、低い圧力状態を維持する。
（４）真空釜６０の中にギ酸と窒素ガスを充填してほぼ大気圧まで昇圧する。
（５）ほぼ大気圧まで昇圧したら、真空釜６０を開放してワークを取り出す。
（６）真空釜６０から取り出したワークを処理室７８に入れて、ギ酸及び窒素ガスの雰囲気で加熱処理する。
（７）加熱処理が完了したワークを冷却室７６に移動させて、ワークを冷やす。
（８）ワークが冷えたら、ワークをリフロー炉８４から取り出す。
【００６８】
第２のバッチ式リフロー炉８４において、追加した第２のバッファ室８６と冷却室７６との間にラビリンス機構２２を配置するのが好ましい。
【００６９】
図６は、噴流半田槽を備えたリフロー炉に本発明を適用した例を示す。図６に図示のリフロー炉９０は、その一端部に位置する入口９０aと、他端部に位置する出口９０bとを備えている。入口９０a及び出口９０bは共にシャッターレスである。リフロー炉９０は、入口９０aから入るワークを受け入れる入口側バッファ室９２を有し、入口側バッファ室９２は、次の処理室９４と第１の仕切り壁９６によって区画されている。
【００７０】
処理室９４には、予備加熱を行うプリヒーター９８と、その下流側に位置する噴流半田槽１００とが設置されている。処理室９４には窒素ガスとギ酸が供給される。すなわち、処理室９４の雰囲気は窒素ガスとギ酸で生成される。
【００７１】
リフロー炉９０は、処理室９４の下流側に位置する冷却室１０２と、出口側バッファ室１０４とを有する。冷却室１０２の雰囲気も窒素ガスとギ酸で生成されるのが好ましい。冷却室１０２には、熱交換器１０６及びファン１０８が配設されている。冷却室１０２内の雰囲気温度は一定に維持される。
【００７２】
リフロー炉９０は、処理室９４と冷却室１０２とが第２の仕切り壁１１０によって区画されている。また、冷却室１０２と出口側バッファ室１０４とが第３の仕切り壁１１２によって区画されている。
【００７３】
入口９０a、出口９０b、入口側バッファ室９２と処理室９４との間の第１の仕切り壁９６、処理室９４と冷却室１０２との間の第２の仕切り壁１１０、冷却室１０２と出口側バッファ室１０４との間の第３の仕切り壁１１２の各々にラビリンス機構２２が配設されている。
【００７４】
図６に図示の噴流半田槽１００を備えたリフロー炉９０においても、上述した第１、第２のリフロー炉１、５０（図１、図２）と同様に、共通吸引ポンプ３２による吸引力によって、入口側バッファ室９２及び出口側バッファ室１０４の負圧が生成される。
【００７５】
入口側バッファ室９２は外部（大気圧）よりも低い圧力であり且つ好ましくは処理室９４よりも低い圧力に維持される。同様に、出口側バッファ室１０４も、外部（大気圧）よりも低い圧力であり且つ好ましくは冷却室１０２よりも低い圧力に維持される。
【００７６】
これにより、噴流半田槽を備えたリフロー炉９０（図６）からギ酸が外部に流出するのを的確に防止することができる。
【００７７】
以上、本発明の好ましい実施例を説明したが、本発明は上記の実施例に限定されることなく、下記の変形例を包含する。
【００７８】
（１）上記の実施例では、吸引ポンプ３２、１２０から出たガスを排気処理室３６、１２２に供給する構成が採用されている。すなわち、上記の実施例では、排気処理室３６、１２２が吸引ポンプ３２、１２０の下流側に配置されている。変形例として、排気処理室３６、１２２を吸引ポンプ３２、１２０の上流側に配置してもよい。
【００７９】
（２）排気処理室３６、１２２の機能つまりギ酸を無害化する機能を吸引ポンプ３２、１２０に持たせてもよい。すなわち、吸引ポンプ３２、１２０に２つの機能を持たせるようにしてもよい。一つの機能が、リフロー炉のバッファ室からガスを吸引してバッファ室を負圧する機能である。他の機能が、ギ酸を無害化する機能である。この２つの機能を備えたポンプの具体例として液封式真空ポンプを挙げることができる。液封式真空ポンプは「水封式真空ポンプ」とも呼ばれている。
【００８０】
水封式真空ポンプは、ケーシング内の偏芯羽車と、同じケーシング内の封水とを使ってガスを連続的に吸引、圧縮、排気する。
【００８１】
リフロー炉のバッファ室のガスを水封式真空ポンプで吸引する過程で、ギ酸が封水に溶け込む。これによりリフロー炉のバッファ室から取り出したガスを無害化することができる。
【００８２】
更なる変形例として、封水にアルカリ水溶液を使うのが良い。この点について説明すると、水封式真空ポンプの封水にギ酸が溶け込むと封水が酸性化する。これに対して、封水としてアルカリ水溶液を採用すれば、封水にギ酸が溶け込むことに伴う封水の酸性化を抑えることができる。
【符号の説明】
【００８３】
１  第１例の半田付け装置（トンネル形のリフロー炉）
２  入口部
４  出口部
８  第１入口側バッファ室
１０  第２入口側バッファ室
１４  第１出口側バッファ室
１６  第２出口側バッファ室
２０  処理部
２２  ラビリンス機構
３０  ギ酸無害化処理システム
３２  共通吸引ポンプ
３６  共通排気処理室
４０  風量調整用ダンパー
６０  真空釜
６６  真空ポンプ
１２０  吸引ポンプ
１２２  排気処理室
Ｐ(n)  加熱処理室（予備加熱室、リフロー室）
Ｃ(n)  冷却室
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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