(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
両面に易接着層を有するポリエステルフィルム基材の少なくとも片面に近赤外線吸収層が設けられているプラズマディスプレイパネル用フィルターであって、
該ポリエステルフィルム基材が３層以上の積層構造からなる二軸配向積層ポリエステルフィルム基材であり、少なくとも中間層にベンゾトリアゾール系および環状イミノエステル系からなる群から選ばれた少なくとも１種の紫外線吸収剤を含有し、該ポリエステルフィルム基材の吸光度及び接着性が下記式を満足し、
該ポリエステルフィルム基材の厚みが５０μｍ以上３００μｍ以下であり、
該ポリエステルフィルム基材の一方の最外層の厚みが、全厚みの５〜１５％の範囲であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
ａbs（≦380）≧２
adＨ１≧９０
adNIR≧８９
ただし、ａbs（≦380）は、波長380ｎｍ以下における吸光度、
adＨ１は、易接着層上に光硬化型アクリル系コート層を設けた時の接着性、
adNIRは、易接着層上に近赤外線吸収層を設けた時の接着性、を表す。
【請求項２】
前記ポリエステルフィルム基材が３層とも実質的に粒子を含まないことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項３】
前記易接着層が共重合ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項４】
前記共重合ポリエステル系樹脂が、分岐したグリコール成分及び５−ナトリウムスルホイソフタル酸を構成成分とし、
分岐したグリコール成分は全グリコール成分中１０モル％以上含有し、
５−ナトリウムスルホイソフタル酸は全ジカルボン酸成分中１〜１０モル％含有することを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項５】
前記共重合ポリエステル系樹脂と前記ポリウレタン系樹脂の重量比が、共重合ポリエステル系樹脂：ポリウレタン系樹脂＝９０：１０〜１０：９０であることを特徴とする請求項３または４に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項６】
前記紫外線吸収剤の含有量がポリエステルに対して0.1〜４重量％であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項７】
前記紫外線吸収剤の分解開始温度が２９０℃以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項８】
ＦＴ−ＩＲにより測定されたポリエステルフィルム基材表層の吸光度（Ｘ）とフィルム中央部の吸光度（Ｙ）との比が下記式を満足することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
０  ≦  Ｘ／Ｙ  ≦  0．１
Ｘ：  ブランク試料（紫外線吸収剤を含有しないポリエチレンテレフタレート（PET）フィルム）の表層のＩＲスペクトル（Ｉ）と本発明の試料の表層ＩＲスペクトル（ＩＩ）を測定する。
（Ｉ）と（ＩＩ）の差スペクトルをとり、1700〜1800cm−1での吸光度（紫外線吸収剤の特徴的な吸収）と（ＩＩ）のＩＲスペクトルから得られた1505cm−１での吸収（PETの吸収）との吸光度比（1700〜1800cm−1／1505cm−１）をとりＸを求めた。
Ｙ：  本発明の試料を厚み方向に全厚みの５０％を削りとり、むき出しになった面（フィルム中央部）を測定し（ＩＩ）とした以外は上記Ｘと同様の測定を行い、Ｙを求めた。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられるポリエステルフィルム基材であって、
該ポリエステルフィルム基材が、原料ペットを押し出し機に供給し、シート状に溶融押し出しする工程を経て製造されるものであって、
前記押し出し機が、押出機熔融部、混練り部、第１のポリマー管、ギアポンプ、フィルター、第２のポリマー管、フラットダイを含み、
押出機熔融部、混練り部、第１のポリマー管、ギアポンプ、フィルターまでの樹脂温度は２８０〜２９０℃、その後の第２のポリマー管、フラットダイまでの樹脂温度は２７０〜２８０℃であり、
該ポリエステルフィルム基材が３層以上の積層構造からなる二軸配向積層ポリエステルフィルム基材であり、少なくとも中間層にベンゾトリアゾール系および環状イミノエステル系からなる群から選ばれた少なくとも１種の紫外線吸収剤を含有し、該ポリエステルフィルム基材の吸光度及び接着性が下記式を満足し、
該ポリエステルフィルム基材の厚みが５０μｍ以上３００μｍ以下であり、
該ポリエステルフィルム基材の一方の最外層の厚みが、全厚みの５〜１５％の範囲であることを特徴とするポリエステルフィルム基材。
ａbs（≦380）≧２
adＨ１≧９０
adNIR≧８９
ただし、ａbs（≦380）は、波長380ｎｍ以下における吸光度、
adＨ１は、易接着層上に光硬化型アクリル系コート層を設けた時の接着性、
adNIRは、易接着層上に近赤外線吸収層を設けた時の接着性、を表す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル用フィルターに関する。詳しくは、プラズマディスプレイから放射される近赤外線によるリモコンや伝送系光通信における誤動作を防止する目的でディスプレイの前面に設置されている近赤外線吸収層の太陽光線に含まれる紫外線による劣化防止機能を有するプラズマディスプレイパネル用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとしてプラズマディスプレイパネルが使用され、その需要が増大し、今後もその数は益々増加するものと考えられる。
【０００３】
プラズマディスプレイパネル用フィルターは、近赤外線カット層や電磁波カット層を設けたり、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止(ノングレア)層を組み合わせて成る。
【０００４】
特に、近赤外線カット層は、プラズマディスプレイから放射される近赤外線によるリモコンや伝送系光通信における誤動作を防止する目的でディスプレイの前面に設置され重要な機能を有する。
【０００５】
しかしながら、近赤外線吸収層に含まれる、例えばジイモニウム化合物及び含フッ素フタロシアニン系化合物系を含む近赤外線吸収色素を始めとする近赤外線吸収色素は一般に太陽光線に含まれる紫外線によって分解し、その性能が長期間の使用によって低下すると言う問題があった。
【０００６】
このため、該基材フィルムに紫外線吸収剤を含有する層をコーティングにより塗工する方法が提案されている。
【０００７】
例えば、特開２００２−７１９４２号公報（特許文献１）では、プラズマディスプレイパネル用フィルターの片面にコーティングにより紫外線吸収層(２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）)ベンゾトリアゾールの０．６３％シクロヘキサノン溶液０．３６ｇ、ポリエテレンテレフタレート樹脂（バイロン２００；東洋紡（株）製）の２０％シクロヘキサノン溶液３ｇを混合し、バーコーターで塗工し、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング膜）を積層する方法が例示されているが、近赤外線吸収色素の劣化を防止するのに十分な紫外線遮蔽効果は有しえない。
【０００８】
また、特開２００３−１７０３号公報（特許文献２）では、基材フィルムに直接、紫外線吸収剤を練り込む方法が例示されており、この方法によれば近赤外線吸収色素の劣化を防止するのに十分な紫外線遮蔽効果を得ることができる。しかし、例示されている環状イミノエステル系紫外線吸収剤は、一般的な紫外線吸収剤に比べて昇華しにくく好適な材料ではあるが、樹脂の押出し工程において溶融押出しされた場合には、昇華物はゼロではなく、また、フィルム表層へブリードアウトする性質を有するため、微量ではあるが引取ロールに昇華物等が付着する。この付着した紫外線吸収剤は製膜時間の経過とともに工程を汚染し、フィルムに付着し、異物欠点となったり、後の縦延伸工程での予熱、延伸、冷却ロールに付着し、キズの発生などの問題を引き起こす。このため、定期的にロール掃除作業を行うとコスト的にも不利である。また、この問題をさけるため、低温で樹脂を溶融し、押し出す方法では、フィルターでの濾圧が上昇するため、高精度の濾過が困難となるなどの問題が生じる。
【０００９】
また、横延伸工程でも高温にさらされるため、紫外線吸収剤が昇華し、長期にわたりテンター内に蓄積し、その後フィルム上に落下、付着し異物欠点となる。これらの異物欠点、キズなどは、特に要求品質の厳しい光学用フィルムとしては致命的な欠陥となる。
【００１０】
すなわち、十分な近赤外線吸収色素の劣化防止性能を有し、ロール汚れなどの工程汚染がなく生産性に優れ、近赤外線吸収層及びハードコート層に対する接着性に優れたプラズマディスプレイパネル用フィルターの基材フィルム及びプラズマディスプレイパネル用フィルターの製造は困難であった。
【特許文献１】特開２００２−７１９４２号公報
【特許文献２】特開２００３−１７０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は前記問題点に鑑み、十分な近赤外線吸収色素の劣化防止性能を維持しつつ着色も少なく、ロール汚れなどの工程汚染がなく生産性に優れ、さらに近赤外線吸収層及びハードコート層に対する接着性に優れたプラズマディスプレイパネル用フィルターの基材フィルム及びプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、十分な近赤外線吸収色素の劣化防止性能を維持しつつ着色も少なくさらに近赤外線吸収層及びハードコート層に対する接着性に優れ、ＵＶ剤の昇華によるロールの汚染に起因する光学欠点の少ないプラズマディスプレイパネル用フィルターの基材フィルム及びプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することにある。
【００１３】
上記課題を達成するために鋭意研究を重ねた結果、前記問題点を解決したプラズマディスプレイパネル用フィルターの基材フィルム及びプラズマディスプレイパネル用フィルターを得るに至った。
【００１４】
すなわち本発明は次の構成を有する。
Ａ：
（１）ポリエステルフィルム基材が３層以上の積層構造からなる二軸配向積層ポリエステルフィルム基材であって、（２）該基材フィルムの両面に易接着層を有し、（３）少なくとも中間層に紫外線吸収剤を含有し、（４）吸光度及び接着性が下記式を満足し、（５）一方の最外層の厚みが、全厚みの３〜１５％であることを特徴とするプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルム。
ａbs（≦380）≧２
adＨ≧85
adNIR≧85
ただし、ａbs（≦380）は波長380ｎｍ以下における吸光度、
adＨは易接着層上に光硬化型アクリル系コート層を設けた時の接着性、
adNIRは易接着層上に近赤外線吸収層を設けた時の接着性を表す。
Ｂ：
３層以上の積層構造からなる二軸配向積層ポリエステルフィルム基材の中間層にベンゾトリアゾール系および環状イミノエステル系からなる群から選ばれた少なくとも１種の紫外線吸収剤を含有し、該３層とも実質的に粒子を含まないことを特徴とするＡ項のプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルム。
Ｃ：
Ｂ項のプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムの少なくとも片面に近赤外線吸収層を有するプラズマディスプレイ用フィルター。
Ｄ：
ＦＴ−ＩＲにより測定された基材ポリエステルフィルム表層の吸光度（Ｘ）とフィルム中央部の吸光度（Ｙ）との比が下記式を満足することを特徴とするＡ，Ｂ，Ｃ項に記載のプラズマディスプレイパネル用紫外線吸収ポリエステルフィルム。
０  ≦  Ｘ／Ｙ  ≦  0．１
Ｘ：  ブランク試料（紫外線吸収剤を含有しないポリエチレンテレフタレート（PET
）フィルム）の表層のＩＲスペクトル（Ｉ）と本発明の試料の表層ＩＲスペクトル（ＩＩ）を測定する。
【００１５】
（Ｉ）と（ＩＩ）の差スペクトルをとり、1760cm−1での吸光度（使用した紫外線吸収剤の特徴的な吸収）と（ＩＩ）のＩＲスペクトルから得られた1505cm−１での吸収（PETの吸収）との吸光度比（1760cm−1／1505cm−１）をとりＸを求めた。
【００１６】
Ｙ：  本発明の試料を厚み方向に全厚みの５０％を削りとり、むき出しになった面（フィルム中央部）を測定し（ＩＩ）とした以外は上記Ｘと同様の測定を行い、Ｙを求めた。
Ｅ：
二軸配向積層ポリエステルフィルム基材の両最外層に、高分子系の紫外線吸収剤を少なくとも１種含有し、接着性が下記式を満足し、且つ、３層とも紫外線吸収剤以外には実質的に粒子を含まないことを特徴とするＡ，Ｂ，Ｃ、Ｄ項に記載のプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルム。
adＨ２≧85
adＨ２＝基材フィルムの易接着層上に光硬化型アクリル系コート層を設け，その上からサンシャインウエザメーター５００時間照射した後の接着性
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、十分な近赤外線吸収色素の劣化防止性能を維持しつつ着色も少なくさらに近赤外線吸収層及びハードコート層に対する接着性に優れ、ＵＶ剤の昇華によるロールの汚染に起因する光学欠点の少ないプラズマディスプレイパネル用フィルターの基材フィルム及びプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明のプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムは、両面に易接着層を有し、紫外線吸収剤を含有するポリエステル系フィルムよりなる。かかるポリエステル系フィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、若しくはこれらの樹脂の構成成分を主成分とする共重合体よりなるフィルムが挙げられるが、これらのなかでも２軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムが、力学的性質、耐熱性、透明性、価格等の点から特に好適である。
【００１９】
プラズマディスプレイパネル用フィルターのベースフィルムは優れた強度、寸法安定性、取り扱いやすさの観点から、厚さ５０μｍ以上の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムであれば、その構成素材である熱可塑性樹脂の種類は特に限定されない。基材フィルムの厚みの上限も特に限定されないが、取り扱い性や光学用部材としての規格の面から、３００μｍ以下であることが推奨される。
【００２０】
共重合体を用いる場合、そのジカルボン酸成分としてはアジピン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸；テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、及び２，６−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸；トリメリト酸及びピロメリト酸等の多官能カルボン酸等が用いられる。また、グリコール成分としてはエチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、プロピレングリコール及びネオペンチルグリコール等の脂肪酸グリコール；ｐ−キシレングリコール等の芳香族グリコール；１，４−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族グリコール；平均分子量が１５０〜２００００のポリエチレングリコール等が用いられる。
【００２１】
好ましい共重合体の共重合成分の重量比率は２０重量％未満である。２０重量％以上ではフィルム強度、透明性、耐熱性が劣る傾向がある。
【００２２】
また、本発明のポリエステル系フィルムに使用する樹脂ペレットの固有粘度は、０．４５〜０．７０ｄｌ／ｇの範囲が好ましい。
【００２３】
固有粘度が０．４５ｄｌ／ｇよりも低いと、耐引き裂き性向上効果が悪化する傾向がある。一方、固有粘度が０．７０ｄｌ／ｇより大きいと、濾圧上昇が大きくなり高精度濾過が困難となる傾向がある。
【００２４】
本発明に係る基材フィルムは、後述するように、通常、フィルム状に溶融押出し、これを金属ロールでキャストして製膜する。このキャストの際に、溶融フィルムと金属ロールとの密着性を高めるべく、静電密着させることが推奨される。よって、基材を構成するポリエステル樹脂は、溶融比抵抗値が低いことが望ましい。具体的には、上記ポリエステル樹脂の２７５℃における溶融比抵抗値は、０．４５×１０8Ω・ｃｍ以下であることが好ましく、０．３０×１０8Ω・ｃｍ以下であることがさらに好ましい。他方、ポリエステル樹脂の溶融比抵抗値があまり低過ぎると、基材フィルムが静電気の影響を受け易くなり、ハンドリング性が低下する傾向にある。よって、上記ポリエステル樹脂の２７５℃における溶融比抵抗値は、０．１０×１０8Ω・ｃｍ以上であることが好ましく、０．１２×１０8Ω・ｃｍ以上であることがさらに好ましい。
【００２５】
なお、本発明で規定する溶融比抵抗値は、後述する実施例において採用する方法によって測定される値である。
【００２６】
上記ポリエステル樹脂の溶融比抵抗値は、該ポリエステル樹脂中に、マグネシウム化合物およびリン化合物を含有させることで確保できる。
【００２７】
マグネシウム化合物中のマグネシウムは、ポリエステル樹脂の溶融比抵抗値を低下させる作用を有する。このような作用を有効に発揮させると共に、マグネシウム化合物に起因する異物の生成やポリエステル樹脂の着色を抑える観点から、ポリエステル樹脂中のマグネシウム化合物量は、マグネシウム原子換算で４０ｐｐｍ（質量基準、以下同じ）以上、好ましくは４５ｐｐｍ以上であって、７０ｐｐｍ以下、好ましくは６５ｐｐｍ以下とすることが推奨される。
【００２８】
リン化合物は、それ自体ポリエステル樹脂の溶融比抵抗値を低下させる作用は有しないが、マグネシウム化合物と組み合わせることにより、溶融比抵抗値の低下に寄与し得る。その理由は明らかではないが、リン化合物を含有させることにより、異物の生成を抑制し、電荷担体の量を増大させることができるのではないかと考えられる。よって、上記の作用を有効に発揮させると共に、リン化合物に起因する異物の生成を抑える観点から、ポリエステル樹脂中のリン化合物量は、リン原子換算で１０ｐｐｍ（質量基準、以下同じ）以上、好ましくは１５ｐｐｍ以上であって、５５ｐｐｍ以下、好ましくは５０ｐｐｍ以下とすることが推奨される。
【００２９】
本発明では、基材フィルム中に易滑性を付与するための粒子を含んでもよい。この場合、、基材フィルムの中間層、及び最外層各層に前記粒子を含んでもよいが、透明性の観点から最外層にのみ、前記粒子を含むのが好ましい。この場合の粒子としては、例えば炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アンモニウム、リン酸カルシウム、シリカ、酸化亜鉛、炭化珪素、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等の無機粒子、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の有機粒子を挙げることができる。中でもシリカがポリエステル樹脂と屈折率が比較的近く高い透明性が得やすいため最も好適である。シリカの平均粒径は１〜３μｍであることが好ましく、また、添加量は透明性と滑りの観点から、0．003〜0．01重量％が好ましい。
【００３０】
また、更に高い透明性を確保するためには、基材フィルム中に易滑性を付与するための粒子を実質的に存在しないことが好ましい。なお、「粒子が実質的に存在しない」とは、接着性改質樹脂層を積層しない基材において、粒子の存在量が蛍光Ｘ線分析法の検出限界以下であることを意味する。
【００３１】
ポリエステル系基材フィルムに易滑性付与を目的とした粒子は添加されていなくてもインラインで積層される易接着層に均一な粒径の微小粒子含有により滑り性をもたせておけば、良好な巻き取り性、キズ発生防止機能を付与できるため、ポリエステル系基材フィルム中への粒子の添加は不要である。
【００３２】
かかる易接着層中に含有させる粒子の例としては、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等の無機粒子、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の有機粒子を挙げることができる。中でもシリカがポリエステル樹脂と屈折率が比較的近く、高い透明性が得やすいため最も好適である。
【００３３】
本発明の方法で使用される紫外線吸収剤は公知の物質である。
【００３４】
まず、３層以上の積層構造からなる二軸配向積層ポリエステルフィルム基材の中間層に添加される紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤が挙げられるが、透明性の観点から有機系紫外線吸収剤が好ましい。この場合の中間層とは、両最外層以外の少なくとも１層をさす。
【００３５】
さらに、有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系等、及びその組み合わせが挙げられるが本発明の規定する吸光度の範囲であれば特に限定されない。しかし、耐久性の観点からはベンゾトアゾール系、環状イミノエステル系が特に好ましい。
【００３６】
２種以上の紫外線吸収剤を併用した場合には、別々の波長の紫外線を同時に吸収させることができるので、いっそう紫外線吸収効果を改善することができる。
【００３７】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば２−［２'−ヒドロキシ−５'−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−５'−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−５'−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−５'−（メタクリロイルオキシヘキシル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−３'−ｔｅｒｔ−ブチル−５'−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−５'−ｔｅｒｔ−ブチル−３'−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−５'−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−５'−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−５'−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−シアノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−５'−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−５'−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ニトロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールなどが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００３８】
環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、例えば以下のものが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００３９】
２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン）、２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（１−又は２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（４−ビフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｍ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ベンゾイルフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｏ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−シクロヘキシル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−（又はｍ−）フタルイミドフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン）２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−エチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−テトラメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−デカメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−又は１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，４−シクロヘキシレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）。
【００４０】
１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン、および２，４，６−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン。
【００４１】
２，８−ジメチル−４H，６H−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス−（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジメチル−４H，９H−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス−（１，３）−オキサジン−４，９−ジオン、２，８−ジフェニル−４H，８H−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス−（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジフェニル−４H，９H−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス−（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、６，６’−ビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−エチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−ビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−エチレンビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−オキシビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−スルホニルビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−カルボニルビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、および６，７’−メチレンビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）。
【００４２】
さらに、紫外線吸収剤は分解開始温度が２９０℃以上の紫外線吸収剤を用いるのが製膜時の工程汚染を少なくする上で好ましい。
【００４３】
前記紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステルに対し、０．１〜４重量％が好ましく、さらには０．３〜２重量％が好ましい。この量が０．１重量％未満では紫外線劣化防止効果が小さく、４重量％を越えるとフィルムが黄変したり、ポリエステルフィルムの製膜性が低下し、好ましくない。
【００４４】
基材フィルムに紫外線吸収剤を配合する方法としては、公知の方法を組み合わせて採用し得る。
【００４５】
例えば、予め混練押出機を用い、乾燥させた紫外線吸収剤とポリエステル原料とをブレンドしマスターバッチを作製しておき、基材フィルム製膜時に所定の該マスターバッチとポリエステル原料を混合する方法などによって配合することができる。
【００４６】
この時、マスターバッチの紫外線吸収剤濃度は紫外線吸収剤を均一に分散させ、且つ経済的に配合するために５〜３０重量％の濃度にするのが好ましい。マスターバッチを作製する条件としては混練押出機を用い、押し出し温度はポリエステル原料の融点以上、２９０℃以下の温度で１〜１５分間で押し出すのが好ましい。２９０℃を超えると紫外線吸収剤の減量が大きく、また、マスターバッチの粘度低下が大きくなる。押し出し温度１分より少ないと紫外線吸収剤の均一な混合が困難となる。この時、必要に応じて安定剤、色調調整剤、帯電防止剤を添加しても良い。
【００４７】
次に、３層以上の積層構造からなる二軸配向積層ポリエステルフィルム基材の両最外層は、中間層に含有された紫外線吸収剤の昇華物の防止、およびブリードアウトの阻止を目的として積層される。この場合の積層比率について、最外層（片側）の全厚みに対する比率は、３〜１５％が好ましく、更には５〜１０％がより好ましい。最外層（片側）の比率が３％より低い場合、中間層に含まれる有機系紫外線吸収剤の昇華、およびブリードアウトを十分に防止することができない。また、１５％より高い場合は、中間層の紫外線吸収効果が不足する場合があり好ましくない。
【００４８】
この両最外層には、必ずしも紫外線吸収剤は含まれなくてもよい。しかしながら、この場合、紫外線吸収剤が含まれていない最外層が、紫外線により劣化し、時間の経過とともに近赤外線吸収層及びハードコート層に対する十分な接着性が得られない場合がある。
【００４９】
これらの問題を解決するため、表層へのブリードの問題がない高分子タイプの紫外線吸収剤を添加するのが好ましい。高分子タイプの紫外線吸収剤は公知の物質である。
【００５０】
高分子タイプの紫外線吸収剤とは、紫外線吸収剤として有用な骨格を側鎖に有するポリマーである。波長350ｎｍ以下の光の透過率が５％以下となるものであれば特に限定はされないが、ポリエステル樹脂との相溶性から主にポリエステル系、アクリル系ポリマー紫外線吸収剤が好ましい。
【００５１】
例えば、ポリエステル樹脂が、ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、ジオール成分としてエチレングリコールおよび／または１，４−ブタンジオールを主成分とするポリエステルであって、共重合成分として一般式（Ｉ）で示されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミドと一般式（ＩＩ）で示されるナフタレンジカルボン酸を含有した紫外線吸収化合物（三菱化学株式会社製  NovapexＵ−110）、２−（２−ヒドロキシルフェニル）ベンゾトリアゾール骨格を側鎖に有するアクリル系ポリマー（ＢＡＳＦ社製  ＵVＡ−１６３５）などが目的とするＵＶカット性能および透明性などの特性が優れ好ましい。
【００５２】
【化１】
0004650604.tif 000002
（上記一般式（Ｉ）において、Ｒはアルキレン基等、Ｘはヒドロキシ基等を示す）
【００５３】
【化２】
0004650604.tif 000003
前記高分子タイプの紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステルに対し、0．1〜２０重量％が好ましく、さらには０．５〜１５重量％が好ましい。この量が０．１重量％未満では紫外線劣化防止効果が小さく、２０重量％を越えるとフィルムが黄変したり、ポリエステルフィルムの製膜性が低下し、好ましくない。
【００５４】
基材フィルムに紫外線吸収剤を配合する方法としては、中間層に含有する紫外線吸収剤と同様に公知の方法を組み合わせて採用し得る。
【００５５】
基材の構成素材である熱可塑性樹脂には、必要に応じて、本発明の作用を阻害しない範囲で各種の添加剤が含有されていてもよい。上記添加剤としては、例えば、帯電防止剤、安定剤などが挙げられる。
【００５６】
次に、本発明のプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムの製造方法について、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記す）のペレットを基材フィルムの原料とした例について詳しく説明するが、当然これに限定されるものではない。
【００５７】
概ペレットを移送するには通常、所定の配管を用いて空送で行うがこの際の空気は埃混入防止のため、ＨＥＰＡフィルターを用い、清浄化された空気を用いることが好ましい。
【００５８】
この際に用いるＨＥＰＡフィルターは公称濾過精度０．５μｍ以上の埃を９５％以上カットの性能を有するフィルターを用いるのが好ましい。
【００５９】
まず、ＰＥＴのペレットと紫外線吸収剤とポリエステル原料とをブレンドしマスターバッチを所定の割合で混合する。上記ＰＥＴのペレット、及び、紫外線吸収剤とポリエステル原料とをブレンドしたマスターバッチは、易滑性付与を目的とした粒子を実質的に含有していないペレットである。混合した原料ペレットを十分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し、シート状に溶融押し出しし、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸ＰＥＴシートを製膜する。この際、押出機熔融部、混練り部、ポリマー管、ギアポンプ、フィルターまでの樹脂温度は280〜290℃、その後のポリマー管、フラットダイまでの樹脂温度は270〜280℃とすることが紫外線吸収剤のダイス出口での昇華、引取ロールの汚染を防止するために好ましい。また、溶融樹脂が約２８０℃に保たれた任意の場所で、樹脂中に含まれる異物を除去するために高精度濾過を行う。溶融樹脂の高精度濾過に用いられる濾材は、特に限定はされないが、ステンレス焼結体の濾材の場合、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｃｕを主成分とする凝集物及び高融点有機物の除去性能に優れ好適である。
【００６０】
高精度濾過を行う上で、熔融樹脂の温度が２８０℃より低い場合、濾圧が上昇するため、押出し量を下げる等の対応が必要となり、生産性が低下する。
【００６１】
さらに、濾材の濾過粒子サイズ（初期濾過効率９５％）は、２０μｍ以下、特に１５μｍ以下が好ましい。濾材の濾過粒子サイズ（初期濾過効率９５％）が２０μｍを超えると、２０μｍ以上の大きさの異物が十分除去できない。濾材の濾過粒子サイズ（初期濾過効率９５％）が２０μｍ以下の濾材を用いて溶融樹脂の高精度濾過を行うことにより、生産性が低下する場合があるが、粗大粒子による突起の少ないフィルムを得る上で重要な工程である。
【００６２】
原料ポリマー中に存在する異物、及び紫外線吸収剤が昇華しロールを汚染し、それらがフィルムに付着したものが存在すると製膜時の延伸工程でこの異物の周囲でポリエステル分子の配向が乱れ、光学的歪みが発生する。この光学的歪みのため、実際の異物の大きさよりもかなり大きな欠点として認識されるため、著しく品位を損なう。例えば、大きさ２０μｍの異物でも、光学的には５０μｍ以上の大きさとして認識され、さらには１００μｍ以上の大きさの光学欠点として認識される場合もある。高透明なフィルムを得るためには、基材フィルム中に易滑性を付与するための粒子を含有させないか、透明性を阻害しない程度に少量しか含有させないことが望ましいが、粒子含有量が少なくフィルムの透明性が高くなるほど、微小な異物による光学欠点はより鮮明となる傾向にある。また、フィルムが厚手になるほど、フィルム単位面積当たりの異物の含有量が薄手のフィルムより多くなる傾向にあり、一層この問題は大きくなる。
【００６３】
一方、フィルムの透明性を高くするために、基材フィルム中に粒子を含有させないか、透明性を阻害しない程度に少量しか含有させないと、フィルムの易滑性が不十分となりハンドリング性が悪化する。そのため、易接着層に易滑性付与を目的とした粒子を添加する必要があり、これらの粒子は透明性を確保するために可視光線の波長以下の極めて平均粒径が小さい粒子を用いる必要がある。しかし、これらの微細粒子は粗大凝集物となりやすく、この粗大凝集物を含有する易接着層を基材フィルムに積層すると光学欠点の原因となる。
【００６４】
前記基材フィルム表面に凸部の高さが１μｍ以上で最大径が２０μｍ以上の形状を有し、凸部に隣接している所から１００μｍ以内の凹部の深さが０．５μｍ以上の異物が、１０個／ｍ２以下であることが好ましく、更には５個／ｍ２であることが好ましい。
【００６５】
次に最外層用としてＰＥＴのペレット単独、中間層用として紫外線吸収剤を含有したマスターバッチとＰＥＴのペレットを所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶融積層用押出機に供給し、スリット状のダイからシート状に押出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわち、２台以上の押出機、３層のマニホールドまたは合流ブロック（例えば角型合流部を有する合流ブロック）を用いて、両外層を構成するフィルム層、中間層を構成するフィルム層を積層し、口金から３層のシートを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場合の積層比率について、最外層（片側）の全厚みに対する比率は３〜１５％が好ましく、更には５〜１０％がより好ましい。最外層（片側）の比率が３％より低い場合、中間層に含まれる有機系紫外線吸収剤のブリードアウトを十分に防止することができない。また、１５％より高い場合は、中間層の紫外線吸収効果が不足する場合があり好ましくない。
【００６６】
また、最外層の紫外線劣化防止を目的として、最外層にブリードの問題がない公知の高分子タイプの紫外線吸収剤を添加するのが好ましい。
【００６７】
得られた未延伸フィルムを８０〜１２０℃に加熱したロールで長手方向（縦方向：積層フィルム製造時の走行方向）に２．５〜５．０倍延伸し、一軸配向フィルムを得る。なお、この一軸延伸を行う工程を「縦延伸工程」という場合がある。
【００６８】
該積層フィルムの表面に存在する深さ１μｍ以上、長さ３ｍｍ以上のキズは、１００個／ｍ2以下である。好ましくは、上記キズの個数は３０個／ｍ2以下、さらに好ましくは１０個／ｍ2以下である。上記キズの個数をこのような範囲とすれば、光学欠点による問題が生じない。
【００６９】
勿論、本発明の積層フィルムにおいては、上記キズの個数は０個／ｍ2であることが最も好ましい。
【００７０】
また、具体的に言えば、上記縦方向キズまたは上記横方向キズの個数が５０個／ｍ2以下、好ましくは３０個／ｍ2以下、より好ましくは１５個／ｍ2以下、さらに好ましくは１０個／ｍ2以下、特に好ましくは５個／ｍ2以下、最も好ましくは０個／ｍ2であることが推奨される。縦方向キズおよび横方向キズのいずれもが上記個数範囲を満たすことがより望ましい。
【００７１】
この際、フィルムのキズの発生を防止するためには、（ａ）フィルム表面そのものやロール表面、特にフィルムと接触するロール表面にキズの原因となる「欠点」を発生させないこと、（ｂ）接触するロールの表面上でフィルムが縦方向および横方向にずれないようにすることが重要である。
【００７２】
上記の「欠点」とは、ロール表面に形成されるキズ、堆積物、付着物、異物などの、フィルムと接触することによりフィルムに微細なキズを発生させるすべての要因を指す。よって、これらの欠点を無くすことで、フィルム表面へのキズの発生を低減できる。上記欠点の発生を防止するためには、例えば、下記に挙げる方法を採用することができる。
【００７３】
積層フィルム製造時に用いるロールの表面粗度をＲａで０．１μｍ以下とする方法や、堆積物、付着物、異物などのキズ発生要因のロール表面への堆積を防止するため、縦延伸工程（以下、「ＭＤ工程」という）の予熱入口と冷却ロールにロールクリーナーを設置する方法が挙げられる。
【００７４】
また、積層フィルム製造工程におけるクリーン度をクラス１０００以下（１立方フィート当たりの体積中に０．５μｍ以上の粒子が１０００個以下）とする方法があり、特にロール周りはクラス１００以下、キャスト工程で反ロール面を冷却するための送風冷却装置についてもクラス１００以下のクリーンエアを使用することが好ましい。
【００７５】
さらに、積層フィルム製造前に、研磨材を用いてロール上の欠陥を削り取る作業などによりロールの掃除を行う方法も挙げられる。また、静電気の発生によってフィルムがゴミなどを吸着し、欠点となることを避けるため、フィルムの帯電量が全工程で±１５００Ｖ以下になるよう除電装置を設ける方法も挙げられる。基材フィルムのキャストから後述するテンターまでの工程はキズが主に発生し易い工程であり、この区間をコンパクトにレイアウトし、通過時間を５分以下にすることも欠点の発生抑制に寄与し得る。
【００７６】
ロールについては、ロール表面に水膜を形成したり、エアフローティングタイプのロールとすることで、フィルムにロール表面の欠点が直接接触しない構造にすることができる。また、フィルムから析出するオリゴマー量を１０００ｐｐｍ以下とすることで、ロール表面への欠点の付着を減少させ、ロール表面の欠点を低減することができる。
【００７７】
さらに、後述する延伸後の巻き取り工程において、フィルムの幅方向（横方向：積層フィルム製造時の走行方向に垂直な方向）の端部側の表面を突起付きのローラで押圧して、その部分に凹凸部を形成すると共に、該凹凸部が形成されたフィルムを巻取り機構でロール状に巻き取るよう構成し、さらに該突起付きのローラにおける突起を先窄まり状に形成し、該突起の頂部に丸みをつけ、その頂面の曲率半径を０．４ｍｍ以下に設定することで、フィルムの巻取り装置において、フィルムと欠点が接触しないようにすることもできる。
【００７８】
また、ロール表面上で、フィルムがずれないようにする方法としては、例えば下記に挙げる方法が採用可能である。
【００７９】
ロールを小径化すること、サクションロールの使用、静電密着、パートニップの密着装置を使用するなどしてフィルムのロールへの密着力を増大させることにより、長いキズの発生を抑えることができる。特にロールを小径化することは、フィルムのずれ量の細分化にもなり、長いキズの発生防止に寄与し得る。また、キズの多くはロール幅方向の端部に向かうほど、長さおよび頻度が増加し、ロール幅方向の端部においてはキズのない部分を得ることが困難であるため、キズの少ないロール幅方向の中央付近をトリミングすることで、キズの少ないフィルムを得ることが可能となる。
【００８０】
縦方向キズまたは横方向キズの発生要因としては、夫々フィルムの縦方向または横方向での、膨張、収縮などの変形も挙げられる。これらのフィルムの変形は、主としてフィルムの温度変化によって生じる。よって、例えば、ロール表面でのフィルムの温度変化を抑制することで、こうした温度によるフィルム変形量を小さくでき、縦方向キズや横方向キズの発生を防止できる。具体的には、ロール１本当たりでのフィルムの温度変化を４０℃以下、好ましくは３０℃以下、さらに好ましくは２０℃以下、さらに一層好ましくは１０℃以下、特に好ましくは５℃以下とすることが推奨される。
【００８１】
ロール表面でのフィルムの温度変化を抑制する方法としては、例えば、ロール間での空中冷却、水槽を通過させる水中冷却などが挙げられる。さらに、ロール本数を多くすることにより、１本当たりのロール表面でのフィルムの温度変化を低減できる。好ましくは、ＭＤ工程でのロール数を１０本以上とするのがよい。
【００８２】
また、複数のロールの相対的な速度の関係を、フィルムの温度や張力による変形量に対して最も近い速度プロファイルに設定することでフィルムの縦方向のズレを低減することができる。
【００８３】
さらに、後述する接着性改質樹脂層形成用の塗布液の塗布工程において、乾燥条件を、ドライヤー区間の初期で乾燥を完了し、出口にかけて冷却することにより、ドライヤー出口でのフィルム温度を４０℃以下として、温度変化によるフィルムのずれを低減することもできる。
【００８４】
フィルム走行時の張力は、低すぎると把持力が下がってずれが発生し、高すぎても応力変形が大きくなってずれが発生するため、最適な張力範囲である４．９〜２９．４ＭＰａになるように駆動ロール速度と張力調整手段によって調節することが好ましい。また、製造時の使用温度におけるフィルムとロール間の摩擦係数を０．２以上とすることでロール表面でのフィルムのずれを抑制することができる。
【００８５】
さらに、フリーロールについては特殊ベアリングを採用し、１９．６Ｎ以下の回転抵抗とすることが好ましい。駆動ロールについては回転斑を０．０１％以下に制御する。
【００８６】
一軸延伸後のフィルムには、フィルムを搬送するために縦方向に応力がかかり、さらにこの直交方向にポアソン比と弾性率に見合った変形応力が発生するため、横方向のずれが生じる。この応力を下げるため、およびフィルムが持つ熱収縮応力を下げるため、フィルム物性に悪影響を与えない範囲で低配向化させることが好ましい。具体的には、Ｘ軸方向の屈折率差［（一軸延伸フィルムのＸ軸方向の屈折率）−（未延伸フィルムのＸ軸方向の屈折率）］が０．０１〜０．１２となる低配向の一軸延伸フィルムとすることが推奨される。
【００８７】
この工程中または工程後の任意の段階でポリエステルフィルムの少なくとも片面に、近赤外線吸収層やハードコート層に対する十分な接着性を得るために易接着層を塗布し、積層する。
【００８８】
上記易接着層を塗布するには、公知の任意の方法で行うことができる。例えばリバースロール・コート法、グラビア・コート法、キス・コート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーバーコート法、パイプドクター法、含浸・コート法およびカーテン・コート法などが挙げられ、これらの方法を単独であるいは組み合わせて行うことができる。
【００８９】
上記塗布液を塗布する工程は、通常の塗布工程、すなわち二軸延伸し熱固定した基材フィルムに塗布する工程でもよいが、該フィルムの製造工程中に塗布するのが好ましい。さらに好ましくは結晶配向が完了する前の基材フィルムに塗布する。水溶液中の固形分濃度は通常３０重量％以下であり、好ましくは１０重量％以下である。該水性塗布液は、走行しているフィルム１ｍ２あたり０．０１〜５ｇ、好ましくは０．２〜４ｇが付着されるように塗工される。該水性塗布液が塗布されたフィルムは、延伸および熱固定のためにテンターに導かれ、そこで加熱されて、熱架橋反応により安定な被膜を形成し、ポリエステル系績層フィルムとなる。十分な近赤外線吸収層やハードコート層との密着性を得るためには、この時のコート量がフィルム１ｍ２あたり０．０１ｇ／ｍ２以上であって、１００℃、１分以上の熱処理が必要である。上記、塗布液を塗布する際のクリーン度は埃の付着を少なくするためクラス１０００以下が好ましい。
【００９０】
本発明のプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムには前述のように易接着層が積層される。
【００９１】
前記易接着層の樹脂としては、例えば共重合ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂などが挙げられ、少なくとも１つ以上を使用することが好ましい。なかでも、共重合ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂が優れた接着性を有し特に好ましい
易接着層形成に用いる塗布液調整について以下に共重合ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる塗布液の一例について説明する。
【００９２】
本発明の易接着層に用いる共重合ポリエステル系樹脂とは分岐したグリコール成分を構成成分とする。
【００９３】
ここで言う分岐したグリコール成分とは、例えば２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２、２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオール、２、２−ジ−ｎ−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−ｎ−ブチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、及び２、２−ジ−ｎ−ヘキシル−１，３−プロパンジオールなどが挙げられる。
【００９４】
上記の分岐したグリコール成分は全グリコール成分の中に、好ましくは１０モル％以上の割合で、さらに好ましくは２０モル％以上の割合で含有される。上記化合物以外のグリコール成分としてはエチレングリコールが最も好ましい。少量であれば、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオールまたは１，４シクロヘキサンジメタノールなどを用いても良い。
【００９５】
共重合ポリエステル系樹脂に構成成分として含有される、ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸およびイソフタル酸が最も好ましい。少量であれば他のジカルボン酸；ジフェニルカルボン酸及び２，６−ナルタレンジカルボン酸の芳香族ジカルボン酸を加えて共重合させてもよい。
【００９６】
上記ジカルボン酸成分の他に、水分散性を付与させるため、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を１〜１０モル％の範囲で使用するのが好ましく、例えばスルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホナフタレンイソフタル酸−２，７−ジカルボン酸および５−（４−スルフォフェノキシ）イソフタル酸及びその塩類等を挙げることができる。
【００９７】
本発明の易接着層に用いるポリウレタン樹脂とは例えばブロック型イソシアネート基を含有する樹脂であって、末端イソシアネート基を親水性基で封鎖（以下ブロックと言う）した、熱反応型の水溶性ウレタンなどが挙げられる。上記イソシアネート基のブロック化剤としては、重亜硫酸塩類及びスルホン酸基を含有したフェノール類、アルコール類、ラクタム類オキシム類及び活性メチレン化合物類等が挙げられる。ブロック化されたイソシアネート基はウレタンプレポリマーを親水化あるいは水溶化する。フィルム製造時の乾燥あるいは熱セット過程で、上記樹脂に熱エネルギーが与えられると、ブロック化剤がイソシアネート基からはずれるため、上記樹脂は自己架橋した編み目に混合した水分散性共重合ポリエステル樹脂を固定化するとともに上記樹脂の末端基等とも反応する。塗布液調整中の樹脂は親水性であるため耐水性が悪いが、塗布、乾燥、熱セットして熱反応が完了すると、ウレタン樹脂の親水基すなわちブロック化剤がはずれるため、耐水性が良好な塗膜が得られる。
【００９８】
上記ブロック化剤の内、熱処理温度、熱処理時間が適当で、工業的に広く用いられるものとしては重亜硫酸塩類が最も好ましい。
【００９９】
上記樹脂において使用される、ウレタンプレポリマーの化学組成としては（１）分子内に２個以上の活性水素原子を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは分子内に少なくとも２個の活性水素原子を有する分子量が２００〜２０，０００の化合物、（２）分子内に２個以上のイソシアネート基を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは、（３）分子内に少なくとも２個活性水素原子を有する鎖伸長剤を反応せしめて得られる、末端イソシアネート基を有する化合物である。
【０１００】
上記（１）の化合物として一般に知られているのは、末端又は分子中に２個以上のヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基あるいはメルカプト基を含むものであり、特に好ましい化合物としては、ポリエーテルポリオールおよびポリエーテルエステルポリオール等が挙げられる。
【０１０１】
ポリエーテルポリオールとしては、例えばエチレンオキシド及び、プロピレンオキシド等アルキレンオキシド類、あるいはスチレンオキシドおよびエピクロルヒドリン等を重合した化合物、あるいはそれらのランダム重合、ブロック重合あるいは多価アルコールへの付加重合を行って得られた化合物がある。ポリエステルポリオール及びポリエーテルエステルポリオールとしては、主として直鎖状あるいは分岐状の化合物が挙げられる。コハク酸、アジピン酸、フタル酸及び無水マレイン酸等の多価の飽和あるいは不飽和カルボン酸、あるいは該カルボン酸無水物等と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール及びトリメチロールプロパン等の多価の飽和及び不飽和のアルコール類、比較的低分子量のポリエチレングリコールおよびポリプロピレングリコール等のポリアルキレンエーテルグリコール類、あるいはそれらアルコール類の混合物とを縮合することにより得ることができる。
【０１０２】
さらにポリエステルポリオールとしてはラクトン及びヒドロキシ酸から得られるポリエステル類、またポリエーテルエステルポリオールとしては、あらかじめ製造されたポリエステル類にエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド等を付加せしめたポリエーテルエステル類も使用することができる。上記（２）の有機ポリイソシアネートとしては、トルイレンジイソシアネートの異性体類、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、キシリレンジイソシアネート等の芳香族脂肪族ジイソシアネート類、イソホロンジイソシアネート及び４，４−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート類、ヘキサメチレンジイソシアネート、および２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類、あるいはこれらの化合物を単一あるいは複数でトリメチロールプロパン等とあらかじめ付加させたポリイソシアネート類が挙げられる。
【０１０３】
上記（３）の少なくとも２個の活性水素を有する鎖伸長剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、及び１，６−ヘキサンジオール等のグリコール類、グリセリン、トリメチロールプロパン、およびペンタエリスリトール等の多価アルコール類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、およびピペラジン等のジアミン類、モノエタノールアミンおよびジエタノールアミン等のアミノアルコール類、チオジエチレングルコール等のチオジグリコール類、あるいは水が挙げられる。上記（３）のウレタンポリマーを合成するには通常、上記鎖伸長剤を用いた一段式あるいは多段式イソシアネート重付加方法により、１５０℃以下、好ましくは７０〜１２０℃の温度において、５分ないし数時間反応させる。活性水素原子に対するイソシアネート基の比は、１以上であれば自由に選べるが、得られるウレタンプレポリマー中に遊離のイソシアネート基が残存することが必要である。
【０１０４】
さらに遊離のイソシアネート基の含有量は１０重量％以下であればよいが、ブロック化された後のウレタンポリマー水溶液の安定性を考慮すると、７重量％以下であるのが好ましい。
【０１０５】
得られた上記ウレタンプレポリマーは、好ましくは重亜硫酸塩を用いてブロック化を行う。重亜硫酸塩水溶液と混合し、約５分〜１時間、よく攪拌しながら反応を進行させる。反応温度は６０℃以下とするのが好ましい。その後、水で希釈して適当な濃度にして、熱反応型水溶性ウレタン組成物とする。該組成物は使用する際、適当な濃度および粘度に調製するが、通常８０〜２００℃前後に加熱すると、ブロック剤の重亜硫酸塩が解離し、活性なイソシアネート基が再生するために、プレポリマーの分子内あるいは分子間で起こる重付加反応によってポリウレタン重合体が生成したり、また他の官能基への付加を起こす性質を有するようになる。
【０１０６】
上記に説明したブロック型イソシアネート基を含有する樹脂（Ｂ）の１例としては、第一工業製薬（株）製の商品名エラストロンが代表的に例示される。エラストロンは、重亜硫酸ソーダによってイソシアネート基をブロックしたものであり、分子末端に強力な親水性を有する、カルバモイルスルホネート基が存在するため、水溶性となっている。
【０１０７】
本発明で使用される、分岐したグリコール成分を含有する共重合ポリエステル樹脂（Ａ）およびブロック型イソシアネート基を含有する樹脂（Ｂ）を混合して塗布液を調製する場合、樹脂（Ａ）と樹脂（Ｂ）の重量比は（Ａ）：（Ｂ）＝９０：１０〜１０：９０が好ましく、更に好ましくは（Ａ）：（Ｂ）＝８０：２０〜２０：８０の範囲である。固形分重量に対する上記樹脂（Ａ）の割合が１０％未満では、基材フィルムへの塗布性が不適で、表面層と該フィルムとの間の接着性が不十分となる。
【０１０８】
１０％未満の場合には、ＵＶ硬化タイプのハードコートにおいては実用性のある接着性が得られない。
本発明で使用される水性塗布液には、熱架橋反応を促進させるため、触媒を添加しても良く、例えば無機物質、塩類、有機物質、アルカリ性物質、酸性物質および含金属有機化合物等、種々の化学物質が用いられる。また水溶液のｐＨを調節するために、アルカリ性物質あるいは酸性物質を添加してもよい。
【０１０９】
上記水性塗布液を基材フィルム表面に塗布する際には、該フィルムへの濡れ性を上げ、塗布液を均一にコートするために、公知のアニオン性活性剤およびノニオン性の界面活性剤を必要量添加して用いることができる。塗布液に用いる溶剤は、水の他にエタノール、イソプロピルアルコールおよびベンジルアルコール等のアルコール類を、全塗布液に占める割合が５０重量％未満となるまで混合してもよい。さらに、１０重量％未満であれば、アルコール類以外の有機溶剤を溶解可能な範囲で混合してもよい。ただし、塗布液中、アルコール類とその他の有機溶剤との合計は、５０重量％未満とする。
【０１１０】
有機溶剤の添加量が５０重量％未満であれば、塗布乾燥時に乾燥性が向上するとともに、水のみの場合と比較して塗布膜の外観向上の効果がある。５０重量％を越えると、溶剤の蒸発速度が速く塗工中に塗布液の濃度変化が起こり、粘度が上昇して塗工性が低下するために、塗布膜の外観不良を起こす恐れがあり、さらには火災などの危険性も考えられる。
【０１１１】
塗布液の溶液粘度は１．０ＰａＳ（パスカルセック）以下が好ましい。１．０ＰａＳ（パスカルセック）以上ではスジ状の塗布厚み斑が発生しやすい。
【０１１２】
本発明では基材フィルム中に易滑性付与を目的とした滑剤を添加しないため、上記水性塗布液には、粒子を添加しフィルム表面に適度な突起を形成するのが好ましい。かかる粒子の例としては、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等の無機粒子、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の有機粒子を挙げることができる。中でもシリカがポリエステル樹脂と屈折率が比較的近く高い透明性が得やすいため最も好適である。
【０１１３】
上記水性塗布液に添加する粒子の平均粒径は、通常１．０μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以下である。平均粒径が１．０μｍを超えるとフィルム表面が粗面化し、フィルムの透明性が低下する傾向がある。また、上記塗液中に含まれる粒子含有量は、通常、塗布、乾燥後で塗布膜の粒子含有量が６０重量％以下、好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは４０重量％以下になるよう添加する。塗布膜の粒子含有量が６０重量％を超えるとフィルムの易接着性が損なわれることがある。
【０１１４】
フィルム中に、上記粒子を２種類以上配合してもよく、同種の粒子で粒径の異なるものを配合してもよい。いずれにしても、粒子全体の平均粒径、および合計の含有量が上記した範囲を満足することが好ましい。上記塗布液を塗布する際には塗布液中の粒子の粗大凝集物を除去するために塗布直前に塗布液が精密濾過されるように濾材を配置する必要がある。
【０１１５】
本発明で用いられる塗布液を精密濾過するための濾材は濾過粒子サイズ２５μｍ以下（初期濾過効率９５％）であることが必要である。２５μｍ以上では粗大凝集物が十分去できず、除去できなかった多くの粗大凝集物は塗布、乾燥後一軸延伸、あるいは二軸延伸した際に易接着層に粒子の粗大凝集物が広がって１００μｍ以上の凝集物として認識され結果として多くの光学欠点が発生する。
【０１１６】
塗布液を精密濾過するための濾材のタイプは上記性能を有していれば特に限定されないが例えばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。
【０１１７】
塗布液を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、且つ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。
【０１１８】
上記水性塗布液の組成物には、その効果を消失しない限りにおいて帯電防止剤、顔料、有機フィラーおよび潤滑剤等の種々の添加剤を混合してもよい。さらに、塗布液が水性であるため、その寄与効果を消失しない限りにおいて、性能向上のために、他の水溶性樹脂、水分散性樹脂およびエマルジョン等を塗布液に添加してもよい。
【０１１９】
本発明に用いる近赤外線吸収層はプラズマディスプレイなどから放出されるような、近赤外領域を充分吸収しうる性能を有していれば特に限定はされないが、例えば特開２００２−２２６８２７号公報記載の近赤外線吸収色素を用いる方法が挙げられる。
【０１２０】
すなわち、下記構造式（３）で示される、近赤外線吸収化合物の前駆体（中性分子化合物）を文献の方法（ＳｈｉｇｅｒｕＳａｓａｋｉ ａｎｄ Ｍａｓａｈｉｋｏ Ｉｙｏｄａ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９５年）により合成する。
【０１２１】
【化３】
0004650604.tif 000004
（式中、−Ｏ−ｎ−Ｂｕはｎ−ブトキシ基の略である。）次に、当該前駆体（１部）をアセトン（２０部）に溶解し、さらに当該前駆体対して２倍モル量のヘキサフルオロアンチモン酸銀を加えた。室温で２時間攪拌したのち、析出した銀をろ別し、ろ液をエーテルで希釈し、析出した固体をろ取し、これをエーテルおよびヘキサンで洗浄することにより、下記構造式（４）で示される近赤外線吸収化合物（４）（０．５部）を得た。
【０１２２】
【化４】
0004650604.tif 000005
（式中、−Ｏ−ｎ−Ｂｕはｎ−ブトキシ基の略である。） 
当該近赤外線吸収化合物を、塩化メチレンに溶解して１０ｍｇ／Ｌの溶液を調製した。調製液をセル巾が１ｃｍの石英セルに入れ、分光光度計により透過率を測定した。当該近赤外線吸収化合物は、吸収ピーク波長が８８２ｎｍ±３０ｎｍの範囲に存在しており、表１に示されるように、波長８８２ｎｍにおける近赤外領域の吸収が大きく、かつ可視光領域の５５０ｎｍにおける透過率が高いという結果が得られる。
【０１２３】
近赤外線吸収フィルターの製造において、近赤外線吸収層の基材への積層方法としては特に限定されないが、コーティング法が厚み均一性やコストの点で好ましい。
【０１２４】
コーティング法の場合、近赤外線吸収化合物と高分子樹脂が溶解できる溶剤にこれらを溶解させてコーティングを行う。この時の溶剤としては、例えば、アセトン、エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、酢酸エチル、酢酸プロピル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水などが挙げられ、１つまたは２つ以上併用してもよく、またこれらに限定されるものではない。
【０１２５】
コーティング法を具体的に説明すると、上記溶剤に、高分子樹脂および少なくとも１つの近赤外線吸収化合物を添加して溶解させ、これを、例えば基材上に高速でコーティングできるグラビアコート法、リバースコート法、キスロールコート法、ロールコート法などを用いて塗布することによって行うことができ、当該方法は加工性や生産性の点も優れている。近赤外線吸収層中の近赤外線吸収化合物は、高分子樹脂に溶解した状態であるのが好ましい。
【０１２６】
本発明のプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルム基材の片面のみに近赤外線吸収層を積層させた構成を有する近赤外線吸収フィルターは、例えば、基材上に上記の方法で１層目の近赤外線吸収層を設けた後、さらにコーティング法などにより２層目以降の近赤外線吸収層を設けることにより得ることができる。１層目と２層目以降の近赤外線吸収層を形成するのに用いる、溶剤、バインダーおよび方法は同じであっても異なっていてもよい。２層目以降の近赤外線吸収層をコーティング法により設ける場合、層の混合を避けるため、１層目の近赤外線吸収層を乾燥後に設けるのが好ましい。
【０１２７】
近赤外線吸収層には、さらに慣用な各種添加剤が含有されていても良い。当該添加剤として、例えば、帯電防止剤、安定剤等が挙げられるが、透明性の点から、易滑性付与を目的とした不活性粒子を実質上含有しないことが好ましい。
【０１２８】
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルター
プラズマディスプレイから放射される不要な近赤外線を遮断する用途に用いることができ且つ、優れた耐久性を有する。
【実施例】
【０１２９】
本発明のプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルム及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターの製造方法について、基材としてポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略す）を使用した場合を例にとって説明するが、本発明は当然これらに限定されるものではない。
【０１３０】
また、実施例及び比較例中の「部」は、特に断らない限り、「重量部」のことであり、本明細書に記載の分光特性は、自記分光光度計（日立Ｕ−３５００型）を用いて測定したものであり、測定した波長は２００〜１５００ｎｍの範囲である。
評価方法
（１）吸光係数
U-2001日立ダブルビーム分光光度形を使用し、所定の波長の吸光度を測定した。
（２）接着層上に光硬化型アクリル系ハードコート層を設けた時の接着性（adＨ１、およびａｄH２）
実施例及び比較例で得たプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムの易接着層表面に、大日精化社製ハードコート剤（セイカビームＥＸＦ０１（Ｂ））を＃８ワイヤバーを用い塗布し、７０℃で１分間乾燥し溶剤を除去した後、高圧水銀灯で８０ｗ／ｃｍ、照射距離１５ｃｍ、５ｍ／分の条件下で２μｍのハードコート層を形成した。ＪＩＳ−Ｋ５４００の８．５．１記載に準じた試験方法で接着性を求めた（ａｄＨ１）。具体的には易接着層を貫通して、基材フィルムに達する１００個の升目状の切り傷を隙間間隔２ｍｍのカッターガイドを用いて付け、セロハン粘着テープ（ニチバン社製４０５番２４ｍｍ幅）を升目状の切り傷面に張り付け消しゴムでこすって完全に付着させた後、垂直に引き剥がして目視により下記の式から接着性を求めた。
【０１３１】
adＨ（％）＝（１−剥がれ面積／評価面積）×１００
また、得られたハードコート層を形成したフィルムを、ハードコート面側からサンシャインウエザメーターを用い、５００時間照射した後、ＪＩＳ−Ｋ５４００の８．５．１記載に準じた試験方法で接着性を求めた（ａｄＨ２）。
（３）易接着層上に近赤外線吸収層を設けた時の接着性（adNIR）
下記（表１）に示す塗布液を、実施例及び比較例で得たプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムの易接着層表面に、グラビアロールにより片面にコーティングし、１５０℃の熱風をフィルム表面に風速５ｍ／秒で送りながら１分間乾燥した。乾燥後のコート層（近赤外線吸収層）の厚みは８．０μｍであった。ＪＩＳ−Ｋ５４００の８．５．１記載に準じた試験方法で接着性を求めた。具体的には易接着層を貫通して、基材フィルムに達する１００個の升目状の切り傷を隙間間隔２ｍｍのカッターガイドを用いて付け、セロハン粘着テープ（ニチバン社製４０５番２４ｍｍ幅）を升目状の切り傷面に張り付け消しゴムでこすって完全に付着させた後、垂直に引き剥がして目視
により下記の式から接着性を求めた。
【０１３２】
adNIR（％）＝（１−剥がれ面積／評価面積）×１００
【０１３３】
近赤外線吸収層用塗布液
【表１】
0004650604.tif 000006
【０１３４】
Ｘ：  ブランク試料（紫外線吸収剤を含有しないポリエチレンテレフタレート（PET）フィルム）の表層のＩＲスペクトル（Ｉ）と本発明の試料の表層ＩＲスペクトル（ＩＩ）を測定する。
【０１３５】
（Ｉ）と（ＩＩ）の差スペクトルをとり、1700〜1800cm−1での吸光度（紫外線吸収剤の特徴的な吸収）と（ＩＩ）のＩＲスペクトルから得られた1505cm−１での吸収（PETの吸収）との吸光度比（1700〜1800cm−1／1505cm−１）をとりＸを求めた。
【０１３６】
Ｙ：  本発明の試料を厚み方向に全厚みの５０％を削りとり、むき出しになった面（フィルム中央部）を測定し（ＩＩ）とした以外は上記Ｘと同様の測定を行い、Ｙを求めた。
【０１３７】
ＦＴ−ＩＲ装置  ：  Ｄｉｇｉｌａｂ社製  FTS-7000ｅ
１回反射ＡＴＲ装置  ：  Thermo  Spectra-Tech社製  Thunderdome
ＩＲＥ  ：  Ge、  入射角  ：  45°
分解能  ：  ８cm-1
積算回数  ：  １２８回
（５）異物、キズの検出及び測定方法
キズの検出下記の光学欠点検出方法により、２５０ｍｍ×２５０ｍｍのフィルム片１６枚について、光学的に５０μｍ以上の大きさと認識される光学欠点を検出する。なお、測定するフィルムは製膜開始から２４ｈｒ後のものを用いる。
５．１  ［光学欠点検出方法］
投光器として２０Ｗ×２灯の蛍光灯をＸＹテーブル下方４００ｍｍに配置し、ＸＹテーブル上に設けたスリット幅１０ｍｍのマスク上に測定対象の試験片を載置する。投光器と受光器を結ぶ線と、試験片表面の鉛直方向とのなす角度を１２°となるよう光を入射すると、入射位置の試験片にキズが存在する場合に、その部分が光り輝く。その部分の光量をＸＹテーブル上方５００ｍｍに配置したＣＣＤイメージセンサカメラで電気信号に変換し、その電気信号を増幅し、微分してスレッシュホールド（しきい値）レベルとコンパレータで比較して、光学欠点の検出信号を出力する。また、ＣＣＤイメージセンサカメラを用いて、キズの画像を入力し、入力された画像のビデオ信号を所定の手順により解析して、光学欠点の大きさを計測し、５０μｍ以上の欠点の位置を表示する。光学欠点の検出は、試験片の両面について行う。
５．２  フィルム表面のキズの大きさの測定
上記（５．１）において検出される光学欠点部分から、キズによる欠点を選出する。上記の試験片を適当な大きさに裁断し、マイクロマップ社製３次元形状測定装置ＴＹＰＥ５５０を用いて、試験片表面に対して垂直方向から観察し、キズの大きさを測定する。試験片、すなわちフィルムの表面に対して垂直方向から観察した時に、５０μｍ以内に近接するキズの凹凸は同一のキズとして考え、それらのキズの最外部を覆う最小面積の長方形の長さおよび幅を、キズの長さおよび幅とする。そして、上記長方形の長さの方向が縦方向（光学用積層フィルム製造時の走行方向）から±４５°以下であるキズを縦方向キズとし、そして横方向（縦方向の直交方向）から±４５°未満であるキズを横方向キズとして、深さ（キズの最も高いところと最も低いところの高さの差）および長さを計測する。この結果より、深さ１μｍ以上且つ長さ３ｍｍ以上の縦方向キズ、横方向キズ、および全キズの個数（個／ｍ2）を求める。
【０１３８】
１００個／ｍ2より多い場合を×、１００〜５１個／ｍ２を△、５０〜３１個／ｍ2を○、３０個／ｍ2以下を◎とした。
５．３  フィルム中異物及び表面付着異物の大きさの測定方法
前述の光学欠点検出装置より検出した欠点部分から、異物による光学欠点及び塗布液中粒子の粗大凝集物による光学欠点を選び出した。さらに適当な大きさに切り取って、スケール付き顕微鏡で、フィルム面に対して垂直方向から観察した時の大きさを測定した。異物による光学欠点の場合、２０μｍ以上の最大径を有する異物の個数（個／ｍ2）を求めた。塗布液中粒子の粗大凝集物の場合、１００μｍ以上の最大径を有する異物の個数（個／ｍ2）を求めた。
フィルム表面の凹凸の高さ及び深さの測定非接触式三次元粗さ計（マイクロマップ社製５５０）を使用して測定する。前述の光学欠点検出装置を用い、検出した欠点部分から異物による光学欠点、及び塗布液中粒子の粗大凝集物による光学欠点を選び出した。さらに適当な大きさに切り取って、Ａｌ蒸着を行い、非接触式三次元粗さ計（マイクロマップ社製５５０）でフィルム面に対して垂直方向から観察した時の大きさと高さ及び深さを測定した。異物による光学欠点の場合、異物の最大径が２０μｍ以上の異物の個数（個／ｍ2）を求めた。
１０個／ｍ2より多い場合を×、１０〜６個／ｍ２を△、５〜３個／ｍ2を○、２個／m2以下を◎とした。
（６）積層フィルムの最外層厚さ（μｍ）
あらかじめ、粒子含有量（シリカ等）が既知のポリエステルを数水準作成する。フィルムの最外層のみに粒子を含有させ、中間層には粒子を含有させない。
ＳＩＭＳ（二次イオン質量分析装置）を用いて、粒子に起因する元素（Ｘ）とポリエステルの炭素元素（Ｙ）との濃度比（Ｘ／Ｙ）を求める。
最外層側のポリエステル表層からフィルムの深さ方向にＸ／Ｙを測定することにより、粒子の濃度を知ることができる。
このようにして測定したＭ／Ｃは、フィルム表層では高い値を示すが、主層に近づくに従って急激に低下し（変極点Ａ），その後一定の値で安定化する（変極点Ｂ）。ＡとＢを直線で結び、その１／２の値から最層外層までの距離を積層厚さとする。
【０１３９】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
（実施例１）
（１）マスターバッチ（Ａ）の製造
乾燥させた紫外線吸収剤CYASORB  UV-3638サイアテック社製（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン））１０重量部、粒子を含有しないＰＥＴ樹脂（東洋紡績社製ＭＥ−553）９０重量部を混合し、混練押出機を用い、マスターバッチを作製した。この時の押し出し温度は２８５℃であり、押し出し時間は７分であった。
（易接着層形成用の塗布液（Ａ）の調整）
易接着層形成用の塗布液Ａを以下の方法に従って調製した。ジメチルテレフタレート９５部、ジメチルイソフタレート９５部、エチレングリコール３５部、ネオペンチルグリコール１４５部、酢酸亜鉛０．１部および三酸化アンチモン０．１部を反応容器に仕込み、１８０℃で３時間かけてエステル交換反応を行った。次に5-ナトリウムイソフタル酸６．０部を添加し、２４０℃で１時間かけてエステル化反応を行った後、重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂を得た。
【０１４０】
得られたポリエステル樹脂の３０％水分散液を６．７部、重亜硫酸ソーダでブロックしたイソシアネート基を含有する自己架橋型ポリウレタン樹脂の２０％水溶液（第一工業製薬製：商品名エラストロンＨ−３）を４０部、エラストロン用触媒（Ｃａｔ６４）を０．５部、水を４７．８部およびイソプロピルアルコールを５部、それぞれ混合し、さらにアニオン性界面活性剤を１重量％、滑剤（日産化学工業社製：スノーテックスＯＬ）を５重量％添加し塗布液Ａとした。
（２）プラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムの製膜
中間層用原料として固有粘度が０．６２ｄｌ／ｇのＰＥＴ樹脂の粒子を含有しないペレット（東洋紡績社製ＭＥ−553）９０重量部とマスターバッチ（Ａ）１０部とを１３５℃で６時間減圧乾燥（１Torr）した後、押出機２（中間層Ｂ層用）に供給した。粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレット（東洋紡績社製ＭＥ−553）を１３５℃で６時間減圧乾燥（１Torr）した後、押出機１（外層Ａ層用及び外層Ｃ層用）にそれぞれ供給し、押出機熔融部、混練り部、ポリマー管、ギアポンプ、フィルターまでの樹脂温度は280℃、その後のポリマー管では275℃とし、３層合流ブロックにて、積層し、口金よりシート状にして押し出した。これらのポリマーは、それぞれステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）を用いて濾過した。また、フラットダイは樹脂温度が275℃になるようにした。押し出した樹脂を静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラム（ロール径４００φ、Ｒａ０．１μｍ以下）に巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時の吐出量は４８kg／hrであり、得られた未延伸シートは幅３００ｍｍ、厚さ１４００μｍであった。
【０１４１】
また、最外層（Ａ層及びＣ層）の厚さの比率は全厚みに対して１０％となるように各押し出し機の吐出量を調整した。
【０１４２】
次に、上記キャストフィルムを加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて１００℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で長手方向（走行方向）に３．５倍延伸して一軸配向フィルムを得た。
【０１４３】
なお、フィルム製造時に用いる全ロールに関し、ロールの表面粗度をＲａで０．１μｍ以下に管理し、縦延伸工程の予熱入口と冷却ロールにロールクリーナーを設置した。縦延伸工程のロール径は１５０ｍｍであり、サクションロール、静電密着、パートニップの密着装置を採用してフィルムをロールへ密着させた。
【０１４４】
その後、易接着層形成用の塗布液Ａを濾過粒子サイズ（初期濾過効率９５％）２５μｍのフェルト型ポリプロピレン製濾材で精密濾過し、リバースロール法で両面に塗布、乾燥した。塗布後引き続いて、フィルムの端部をクリップで把持して１３０℃に加熱された熱風ゾーンに導き、乾燥後幅方向に４．０倍に延伸し２３０℃にて５秒間熱処理し、この熱処理工程中で必要に応じて幅方向に３％の弛緩処理し、プラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムを得た。この時のフィルム厚さ１００μｍであり、この時の易接着層のコート量は０．０１ｇ／ｍ２であった。
（実施例２）
実施例１において、片側の最外層（Ａ層及びＣ層）の厚さの比率は全厚みに対して５％となるように各押し出し機の吐出量を調整した以外は同様の方法でプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムを得た。
（実施例３）
実施例２の溶融押出し条件において、フィルター後のポリマー管とフラットダイスの温度を樹脂温度が２８５℃となるように設定した以外は同様の方法でプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムを得た。
（参考例１）
実施例１において、片側の最外層（Ａ層及びＣ層）の厚さの比率は全厚みに対して３％となるように各押し出し機の吐出量を調整した以外は同様の方法でプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムを得た。
（参考例２）
実施例１において、最外層には、粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレット（東洋紡績社製ＭＥ−553）に高分子系紫外線吸収剤（NOVAPEX  U-110（三菱化学社製））を２０重量部となるよう添加し、押出機１（外層Ａ層用及び外層Ｃ層用）にそれぞれ供給した以外は同様の方法でプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムを得た。
（比較例１）
実施例１において、片側の最外層（Ａ層及びＣ層）の厚さの比率は全厚みに対して１％となるように各押し出し機の吐出量を調整した以外は同様の方法でプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムを得た。
（比較例２）
実施例１において中間層を構成する樹脂の外側に最外層を設けない構成とした以外は同様の方法でプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムを得た。
（比較例３）
実施例１において、片側の最外層（Ａ層及びＣ層）の厚さの比率は全厚みに対して３０％となるように各押し出し機の吐出量を調整した以外は同様の方法でプラズマディスプレイ用紫外線吸収ポリエステルフィルムを得た。
【０１４５】
実施例１〜３、参考例１〜２及び比較例１〜３の吸光係数、接着性、製膜開始から２４時間後のフィルム表面のキズ評価、フィルム内部及び表層付着異物評価、フィルム表層と内部の吸光度比を表２に示す。
【表２】
0004650604.tif 000007