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【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
システムであって、
プロセッサを備え、
前記プロセッサは、次の各ステップを実行させるプログラムを実行するように構成され、
管理ステップでは、評価者及び被評価者を含む各ユーザーの評価を示す評価情報を管理し、
更新ステップでは、前記評価者による前記被評価者の評価を含む入力に基づいて、前記評価者の評価情報と、前記被評価者の評価情報との両方を更新し、
算出ステップでは、前記評価情報と、前記ユーザーの職能又は役職とに基づいて、法定通貨と互換性を有する対価として換算可能なスコアを算出する、もの。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、
さらに、解析ステップでは、前記評価情報に含まれるテキストに対して自然言語解析を実行し、
さらに、表示制御ステップでは、解析された結果に基づいて、前記評価情報がポジティブな内容かネガティブな内容かを表示させる、もの。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のシステムにおいて、
前記対価は、電子マネー、金券又は前記ユーザーが決済をする際に享受される割引である、もの。
【請求項４】
情報処理方法であって、
請求項１〜請求項３の何れか１つに記載のシステムにおける各ステップを備える、方法。
【請求項５】
プログラムであって、
コンピュータに、請求項１〜請求項３の何れか１つに記載のシステムにおける各ステップを実行させる、もの。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
＜スコア算出部１２＞
スコア算出部１２は、取得部１１により取得された操作の種別に基づいて、第１ユーザーの信用度を表すスコアを算出する。本実施形態では、スコア算出部１２は、予め定められた規則に基づいて、スコアを算出する。ここで、かかる規則は、第１端末２０の操作の種別及びスタッフレベルの組み合わせにより所定のスコアが定められている。本実施形態では、スタッフレベルは、第１ユーザーが所属する組織の従業員の職能又は役職を表すレベルである。そして、かかる規則は、記憶部３にルールテーブルとして記憶される。ルールテーブルの詳細については、図３を用いて後述する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
＜更新部１５＞
更新部１５は、ルールテーブルにおいて第１端末２０の操作の種別及びスタッフレベルの組み合わせにより定められたスコアを、第１端末２０の操作の種別及びスタッフレベルの組み合わせ毎に更新するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
＜記憶部３＞
記憶部３は、種々のプログラム及びデータを記憶するものであり、例えばメモリ、ハードディスク、ＳＳＤ等により構成される。本実施形態では、記憶部３は、ルールテーブル、従業員データ、報告書データ、評価データ、進捗データ、メンタルデータを記憶する。ルールテーブルは、スコア算出部１２が第１ユーザー及び第２ユーザーの信用度を表すスコアを算出する際に参照する規則を表すテーブルである。ここで、かかる規則はテーブルとして記憶されることに変えて、任意の関数として記憶されてもよい。従業員データは、従業員である第１ユーザー及び第２ユーザーの氏名、社員番号、役職、勤続年数、階級等を表すデータである。報告書データは、第１ユーザー及び第２ユーザーの業務に関する
報告書の記載内容を表すデータである。報告書データには、テキストデータ、画像データ、動画データ、音声データが含まれてもよい。評価データは、評価情報を表すデータである。本実施形態では、評価情報は、他のユーザーに関する言動、健康状態、知識、能力及び評価の少なくとも１つに関する情報である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
２．ルールテーブル
次に、図２を用いて、一実施形態に係るルールテーブルについて説明する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図２に示されるように、ルールテーブルは、第１端末２０の操作の種別及びスタッフレベルの組み合わせにより所定のスコアが定められたテーブルである。本実施形態では、ルールテーブルの各マトリックスに記載された数字がスコアを表す。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
ここで、本実施形態では、情報処理装置１０の更新部１５により、図２に示されるルールテーブルの各マトリックスで規定されるスコアを変更することができる。これにより、システム１００の管理者は、時期、時間帯、曜日、イベント等に応じて、適切なスコアを個別に指定することが可能になる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】膨張装置、及び造形物の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、膨張装置、及び造形物の製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、より細かな凹凸を有する造形物を製造できる膨張装置、及び造形物の製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の第１の観点に係る膨張装置は、
基材と前記基材の第１主面にパターン形成された熱膨張層とを備える成形シートを加熱して、前記熱膨張層の少なくとも一部を膨張させる第１膨張手段と、
レーザ光を、前記熱膨張層の前記第１膨張手段が膨張させる領域の大きさよりも小さい領域に照射して、該領域を膨張させる第２膨張手段と、を備える。
本発明の第２の観点に係る膨張装置は、
基材と前記基材の第１主面に積層された熱膨張層とを備える成形シートを、前記基材の前記第１主面と反対側の第２主面側から加熱して、前記熱膨張層の少なくとも一部を膨張させる第１膨張手段としての電熱ヒータと、
レーザ光を、前記熱膨張層の前記電熱ヒータが膨張させる領域の大きさよりも小さい領域に照射して、該領域を膨張させる第２膨張手段と、を備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第３の観点に係る造形物の製造方法は、
基材と前記基材の第１主面に積層された熱膨張層とを備える成形シートを加熱して、前記成形シートの熱膨張層の少なくとも一部を膨張させる第１膨張工程と、
レーザ光を、前記熱膨張層の前記第１膨張工程において膨張させる領域の大きさよりも小さい領域に照射して、該領域を加熱し膨張させる第２膨張工程と、を含む。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と前記基材の第１主面にパターン形成された熱膨張層とを備える成形シートを加熱して、前記熱膨張層の少なくとも一部を膨張させる第１膨張手段と、
レーザ光を、前記熱膨張層の前記第１膨張手段が膨張させる領域の大きさよりも小さい領域に照射して、該領域を膨張させる第２膨張手段と、を備える、
膨張装置。
【請求項２】
前記第１膨張手段は、前記基材の前記第１主面と反対側の第２主面側から前記成形シートを加熱する電熱ヒータである、
請求項１に記載の膨張装置。
【請求項３】
基材と前記基材の第１主面に積層された熱膨張層とを備える成形シートを、前記基材の前記第１主面と反対側の第２主面側から加熱して、前記熱膨張層の少なくとも一部を膨張させる第１膨張手段としての電熱ヒータと、
レーザ光を、前記熱膨張層の前記電熱ヒータが膨張させる領域の大きさよりも小さい領域に照射して、該領域を膨張させる第２膨張手段と、を備える、
膨張装置。
【請求項４】
前記熱膨張層は、前記基材の前記第１主面に第１凸部に対応するようにパターン形成されていて、
前記第２膨張手段は、前記小さい領域として、前記第１凸部と第１凹部から構成される第１凹凸よりも細かい第２凹凸を構成する第２凸部と第２凹部とのうち前記第２凸部に対応する領域に、前記レーザ光を照射する、
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の膨張装置。
【請求項５】
前記第２膨張手段は、記憶手段に記憶されている前記第２凹凸に対応するデータに基づいて、前記小さい領域に前記レーザ光を照射する、
請求項４に記載の膨張装置。
【請求項６】
前記成形シートを搬送する搬送手段を備え、
前記第１膨張手段と前記第２膨張手段は、前記搬送手段が前記成形シートを搬送する方向に沿って、前記第２膨張手段、前記第１膨張手段の順に配置されている、
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の膨張装置。
【請求項７】
基材と前記基材の第１主面に積層された熱膨張層とを備える成形シートを加熱して、前記成形シートの熱膨張層の少なくとも一部を膨張させる第１膨張工程と、
レーザ光を、前記熱膨張層の前記第１膨張工程において膨張させる領域の大きさよりも小さい領域に照射して、該領域を加熱し膨張させる第２膨張工程と、を含む、
造形物の製造方法。
【請求項８】
前記第１膨張工程は、前記基材の前記第１主面と反対側の第２主面側から前記成形シートを電熱ヒータにより加熱することを含む、
請求項７に記載の造形物の製造方法。
【請求項９】
前記熱膨張層は、前記基材の前記第１主面に第１凸部に対応するようにパターン形成されていて、
前記第２膨張工程は、前記小さい領域として、前記第１凸部と第１凹部から構成される第１凹凸よりも細かい第２凹凸を構成する第２凸部と第２凹部とのうち前記第２凸部に対応する領域に、前記レーザ光を照射することを含む、
請求項７又は８に記載の造形物の製造方法。
【請求項１０】
前記第２膨張工程は、記憶手段に記憶されている前記第２凹凸に対応するデータに基づいて、前記小さい領域に前記レーザ光を照射することを含む、
請求項９に記載の造形物の製造方法。
【請求項１１】
前記第１膨張工程と前記第２膨張工程は、前記第２膨張工程、前記第１膨張工程の順で実施される、
請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の造形物の製造方法。
【請求項１２】
前記第１膨張工程と前記第２膨張工程は、前記第１膨張工程、前記第２膨張工程の順で実施される、
請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の造形物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月1日(2021.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも塩化物イオン、アルカリ金属イオン、炭酸イオン及びカルシウムイオンを含む排水を処理する排水の処理方法であって、
排水から炭酸カルシウムを結晶化させて除去する軟水処理工程と、
前記炭酸カルシウムが除去された排水の一部を電気透析処理により電気透析濃縮水と電気透析希釈水とに分離する電気透析工程と、
前記電気透析濃縮水の一部を電気分解して酸性水溶液とアルカリ性水溶液とを得る電気分解工程と、
前記炭酸カルシウムが除去された排水の一部を、逆浸透膜を用いて、逆浸透膜処理水と逆浸透膜濃縮水とに分離する逆浸透膜処理工程とを有し、
前記アルカリ性水溶液の少なくとも一部を循環させて前記軟水処理工程で用い、
前記酸性水溶液の少なくとも一部を循環させて前記電気透析工程で用いる、排水の処理方法。
【請求項２】
前記酸性水溶液の少なくとも一部を循環させて前記電気分解工程で用いる、請求項１に記載の排水の処理方法。
【請求項３】
さらに、前記逆浸透膜処理工程の前に、前記炭酸カルシウムが除去された排水に前記酸性水溶液を混合する工程を有する、請求項１又は２に記載の排水の処理方法。
【請求項４】
さらに、前記炭酸カルシウムが除去された排水の一部を電気分解して、次亜塩素酸ナトリウム水溶液を製造する次亜塩素酸ナトリウム製造工程を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の排水の処理方法。
【請求項５】
前記電気分解工程を水素酸化反応によって行う、請求項１〜４のいずれか一項に記載の排水の処理方法。
【請求項６】
前記アルカリ性水溶液の少なくとも一部を循環させて前記軟水処理工程で用いる際に、前記軟水処理工程で用いられる前記排水のｐＨを１０以上とし、
前記酸性水溶液の少なくとも一部を循環させて前記電気透析工程で用いる際に、前記電気透析工程で用いられる前記ｐＨ１０以上の排水を中性にする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の排水の処理方法。
【請求項７】
少なくとも塩化物イオン、アルカリ金属イオン、炭酸イオン及びカルシウムイオンを含む排水を処理する排水の処理装置であって、
前記排水から炭酸カルシウムを結晶化させて除去する、晶析装置と、
前記炭酸カルシウムが除去された排水の一部を電気透析処理により電気透析濃縮水と電気透析希釈水とに分離する電気透析装置と、
前記電気透析濃縮水の一部を電気分解して、酸性水溶液とアルカリ性水溶液とを製造する電気分解装置と、
前記炭酸カルシウムが除去された排水の一部を、逆浸透膜を用いて、逆浸透膜処理水と逆浸透膜濃縮水とに分離する逆浸透膜処理装置と、
前記アルカリ性水溶液の少なくとも一部を前記晶析装置に循環させる第１の循環部と、
前記酸性水溶液の少なくとも一部を循環させて前記電気透析装置に循環させる電気透析用酸性水循環管とを備える、排水の処理装置。
【請求項８】
前記酸性水溶液の少なくとも一部を循環させて、前記電気分解装置に循環させる第２の循環部を備える、請求項７に記載の排水の処理装置。
【請求項９】
さらに、前記炭酸カルシウムが除去された排水の一部を電気分解して、次亜塩素酸ナトリウム水溶液を製造する次亜塩素酸ナトリウム製造装置を備える、請求項７又は８に記載の排水の処理装置。
【請求項１０】
前記電気分解装置は、アノードが水素ガス拡散電極である、請求項７〜９のいずれか一項に記載の排水の処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月12日(2021.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インビボグルコースセンサの製造方法であって、
インビボグルコースセンサのロットを準備する工程であって、各インビボグルコースセンサが少なくとも１つの膜層と少なくとも１つの活性センシング層とを有しているステップと、
前記インビボグルコースセンサのロットの１つのサンプルのグルコース応答をテストし、そのロットの較正パラメータを決定するステップと、
前記インビボグルコースセンサの物理的特性を被破壊的に決定するステップであって、前記物理的特性が、前記インビボグルコースセンサの少なくとも１つの膜層の厚さ、前記インビボグルコースセンサの少なくとも１つの活性センシング層の活性センシング領域の表面積、および前記インビボグルコースセンサの少なくとも１つの活性センシング層の活性センシング領域の体積の少なくとも１であるステップと、
前記インビボグルコースセンサの少なくとも１つの物理的特性に基づいて前記ロットの較正パラメータを調整することによって、前記インビボグルコースセンサのためのセンサ固有較正パラメータを付与するステップと、を備えている、
ことを特徴とするインビボグルコースセンサの製造方法。
【請求項２】
前記物理的特性が自動的に決定される、
請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記物理的特性が光学スキャナを使用して決定される、
請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記ロットの１つのサンプルのグルコース応答をテストするステップが、インビトロテストである、
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記インビボグルコースセンサに付与されたセンサ固有較正パラメータを、前記インビボグルコースセンサのメモリにロードするステップを更に備えている、
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記インビボグルコースセンサに付与されたセンサ固有較正パラメータを、前記インビボグルコースセンサのパッケージの中に提供するステップを更に備えている、
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記インビボグルコースセンサの第２の物理的特性を決定するステップをさらに備え、
前記インビボグルコースセンサのセンサ固有較正パラメータを付与するステップが、前記インビボグルコースセンサの物理的特性および前記インビボグルコースセンサの第２の物理的特性に基づいて、前記ロットの較正パラメータを継続的に調整するステップを備えている、
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記物理的特性が前記インビボグルコースセンサの少なくとも１つの膜層の厚さであり、前記第２の物理的特性が前記インビボグルコースセンサの活性センシング領域の表面積である、
請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
前記物理的特性が前記インビボグルコースセンサの少なくとも１つの膜層の厚さであり、前記第２の物理的特性が前記インビボグルコースセンサの活性センシング層の活性センシング領域の体積である、
請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記ロットの物理的特性の平均値を決定するステップと、
前記インビボグルコースセンサの物理的特性を、前記ロットの物理的特性の平均値と比較し、訂正ファクタを決定するステップと、をさらに備え、
前記インビボグルコースセンサのセンサ固有較正パラメータを付与するステップが、前記訂正ファクタを使用して前記ロットの較正パラメータを調整するステップを備えている、
請求項１ないし９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記物理的特性が、前記インビボグルコースセンサの少なくとも１つの膜層の厚さであり、前記訂正ファクタが、前記ロットの物理的特性の平均値で割られた前記インビボグルコースセンサの物理的特性として定義され、前記インビボグルコースセンサのためのセンサ固有較正パラメータを付与するステップが、前記インビボグルコースセンサのための訂正ファクタで前記ロットの較正パラメータを割ることによって前記ロットの較正パラメータを調整するステップを備えている、
請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記物理的特性が、前記インビボグルコースセンサの少なくとも１つの活性センシング領域の表面積であり、
前記訂正ファクタが、前記ロットの物理的特性の平均値で割られた前記インビボグルコースセンサの物理的特性として定義され、
前記インビボグルコースセンサのためのセンサ固有較正パラメータを付与するステップが、前記インビボグルコースセンサのための訂正ファクタを乗じた前記ロットの較正パラメータによって、前記ロットの較正パラメータを調整するステップを備えている、
請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記ロットの較正パラメータが前記ロットの平均感度であり、前記センサ固有較正パラメータがセンサ固有感度である、
請求項１ないし１２にいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記ロットのインビボグルコースセンサの各々が、ワイヤセンサと、白金作動電極および銀/塩化銀参照電極を含む複数の電極と、を備えている、
請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記インビボグルコースセンサが、近位部分と、カバーレイ材料と該カバーレイ材料に形成されたウェルとを有する遠位部分とを備え、前記遠位部分は、ユーザーの体液と接触するように位置決めされている、
請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの膜層が干渉物質除去層と、グルコース流緩和層とを備えている、
請求項１ないし１５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１７】
内部への空気および湿気の侵入を減少させるように構成されたハウジング内に前記インビボグルコースセンサをパッケージするステップをさらに備え、前記ハウジングが、トレイとフタとを有し、該トレイ及びフタが前記ハウジングの占有されない容積を減少させるように構成されている、
請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
前記トレイが剛性構造体と、径方向外方に延び前記フタに係合するように構成されたリップとを有し、前記トレイが接着面を有する可撓性シートを備えている、
請求項１７に記載の製造方法。
【請求項１９】
ドリフトプロファイルからドリフト訂正ファクタを決定するステップと、
前記ドリフト訂正ファクタを前記インビボグルコースセンサに付与するステップとをさらに備えている、
請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２０】
前記ドリフト訂正ファクタを前記インビボグルコースセンサのメモリにロードするステップをさらに備えている、
請求項１９に記載の製造方法。
【請求項２１】
前記ドリフト訂正ファクタは、前記インビボグルコースセンサのロットに関連している、  請求項１９又は２０に記載の製造方法。
【請求項２２】
前記インビボグルコースセンサが、前記センサ固有較正パラメータとドリフト訂正ファクトとを使用して、グルコースを決定する、
請求項１９、２０および２１のいずれか１項に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月15日(2021.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞増殖性疾患の治療又は予防用医薬であって、式（Ｉ）：
【化１】
2021091608.tif 000001
で表される化合物又はその薬学上許容され得る塩を有効成分として含有し、
（ａ）前記化合物又は塩が週に２回、３週間投与され、
（ｂ）続く１週間、前記化合物又は塩の投与が休止され、
（ｃ）以後、ステップ（ａ）及び（ｂ）が少なくとも１回繰り返される
ように用いられる前記医薬。
【請求項２】
式（Ｉ）で表される化合物のカリウム塩を有効成分として含有する、請求項１に記載の医薬。
【請求項３】
細胞増殖性疾患はがんである、請求項１又は２に記載の医薬。
【請求項４】
細胞増殖性疾患は、ＫＲＡＳ変異、ＮＲＡＳ変異又はＨＲＡＳ変異を有するがんである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項５】
細胞増殖性疾患は、ＫＲＡＳ変異を有するがんである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項６】
細胞増殖性疾患は、ＫＲＡＳ変異及びＮＲＡＳ変異を有するがんである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項７】
細胞増殖性疾患は固形癌である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項８】
ステップ（ａ）における１回当たりの用量が３．２ｍｇである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項９】
ステップ（ａ）の前に、
（１）前記化合物又は塩が１回３．２ｍｇの用量で週に２回投与され、又は
（２）
（２ａ）前記化合物又は塩が１回４ｍｇの用量で週に２回、３週間投与され、
（２ｂ）続く１週間、前記化合物又は塩の投与が休止され、
（２ｃ）以後、ステップ（２ａ）及び（２ｂ）が少なくとも１回繰り返される
ように用いられる、請求項８に記載の医薬。
【請求項１０】
ステップ（１）又は（２）の前に、前記化合物又は塩が１回４ｍｇの用量で週に２回投与されるように用いられる、請求項９に記載の医薬。
【請求項１１】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の医薬であって、
（Ａ）まず、前記化合物又は塩が１回４ｍｇの用量で週に２回投与され、
（Ｂ１）次いで、前記化合物又は塩が１回３．２ｍｇの用量で週に２回投与され、
（Ｃ）その後、
（Ｃａ）前記化合物又は塩が１回３．２ｍｇの用量で週に２回、３週間投与され、
（Ｃｂ）続く１週間、前記化合物又は塩の投与が休止され、
（Ｃｃ）以後、ステップ（Ｃａ）及び（Ｃｂ）が少なくとも１回繰り返される
ように用いられるか、あるいは
（Ａ）まず、前記化合物又は塩が１回４ｍｇの用量で週に２回投与され、
（Ｂ２）次いで、
（Ｂ２ａ）前記化合物又は塩が１回４ｍｇの用量で週に２回、３週間投与され、
（Ｂ２ｂ）続く１週間、前記化合物又は塩の投与が休止され、
（Ｂ２ｃ）以後、ステップ（Ｂ２ａ）及び（Ｂ２ｂ）が少なくとも１回繰り返される
ように用いられるか、あるいは
（Ａ）まず、前記化合物又は塩が１回４ｍｇの用量で週に２回投与され、
（Ｂ２）次いで、
（Ｂ２ａ）前記化合物又は塩が１回４ｍｇの用量で週に２回、３週間投与され、
（Ｂ２ｂ）続く１週間、前記化合物又は塩の投与が休止され、
（Ｂ２ｃ）以後、ステップ（Ｂ２ａ）及び（Ｂ２ｂ）が少なくとも１回繰り返され、
（Ｃ）その後、
（Ｃａ）前記化合物又は塩が１回３．２ｍｇの用量で週に２回、３週間投与され、
（Ｃｂ）続く１週間、前記化合物又は塩の投与が休止され、
（Ｃｃ）以後、ステップ（Ｃａ）及び（Ｃｂ）が少なくとも１回繰り返される
ように用いられる前記医薬。
【請求項１２】
細胞増殖性疾患は多発性骨髄腫である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項１３】
ステップ（ａ）における１回当たりの用量が４ｍｇである、請求項１２に記載の医薬。
【請求項１４】
細胞増殖性疾患は、ＮＲＡＳ変異を有するがんである、請求項１２又は１３に記載の医薬。
【請求項１５】
デキサメタゾンと組み合わせて用いられる、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の医薬であって、前記化合物又は塩がデキサメタゾンの投与前、投与と同時、又は投与後に投与されるように用いられる前記医薬。
【請求項１６】
デキサメタゾンは１回２０ｍｇの用量で週に１回投与される、請求項１５に記載の医薬。
【請求項１７】
前記化合物又は塩の投与は経口投与である、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の医薬。
【請求項１８】
式（Ｉ）：
【化２】
2021091608.tif 000002
で表される化合物又はその薬学上許容され得る塩を有効成分として含有する、細胞増殖性疾患の治療又は予防用医薬であって、
（ｉ）前記医薬を収容するための容器、及び
（ｉｉ）
（ａ）前記化合物又は塩が週に２回、３週間投与され、
（ｂ）続く１週間、前記化合物又は塩の投与が休止され、
（ｃ）以後、ステップ（ａ）及び（ｂ）が少なくとも１回繰り返される
ように前記医薬を用いるための指示
とともにパッケージ化された前記医薬。
【請求項１９】
前記医薬は請求項１〜１７のいずれか一項に記載の医薬であり、
前記指示は、当該医薬に対応する所定の投与レジメンに従って前記化合物又は塩が投与されるように前記医薬を用いるための指示である、
請求項１８に記載の医薬。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月4日(2021.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックライト光源、２つの偏光板、及び前記２つの偏光板の間に配置された液晶セルを有する液晶表示装置であって、
前記バックライト光源は、４００ｎｍ以上４９５ｎｍ未満、４９５ｎｍ以上６００ｎｍ未満及び６００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の各波長領域にそれぞれ発光スペクトルのピークトップを有し、かつ、６００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長領域における最もピーク強度の高いピークの半値幅が５ｎｍ未満である発光スペクトルを有する白色光源であり、
前記偏光板のうち少なくとも一方の偏光板は、偏光子の少なくとも一方の面に１５００〜３００００ｎｍのリタデーションを有するポリエステルフィルムが積層されたものであり、前記偏光子の透過軸と平行な方向の、前記ポリエステルフィルムの屈折率が１．５３〜１．６２である、
液晶表示装置。
【請求項２】
前記バックライト光源の発光スペクトルは、
４００ｎｍ以上４９５ｎｍ未満の波長領域における最もピーク強度の高いピークの半値幅が５ｎｍ以上であり、
４９５ｎｍ以上６００ｎｍ未満の波長領域における最もピーク強度の高いピークの半値幅が５ｎｍ以上である、
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
バックライト光源、２つの偏光板、及び前記２つの偏光板の間に配置された液晶セルを有する液晶表示装置であって、
前記バックライト光源は、フッ化物錯体蛍光体を含む白色光源であり、
前記偏光板のうち少なくとも一方の偏光板は、偏光子の少なくとも一方の面に１５００〜３００００ｎｍのリタデーションを有するポリエステルフィルムが積層されたものであり、
前記偏光子の透過軸と平行な方向の、前記ポリエステルフィルムの屈折率が１．５３〜１．６２である、
液晶表示装置。
【請求項４】
前記フッ化物蛍光体が。Ｍｎ４＋付活フッ化物錯体蛍光体である請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記ポリエステルフィルムの厚みが２５〜８０μｍである請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置（但し、厚み８０μｍであるものは除く）
【請求項６】
前記ポリエステルフィルムのリタデーションが８０００ｎｍ以上である、
請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記偏光子の透過軸と平行な方向の、前記ポリエステルフィルムの屈折率が１．５３〜１．６１であり、
前記ポリエステルフィルムのＲｅ／Ｒｔｈが０．２〜０．８５である、
請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記偏光子の透過軸と平行な方向の、前記ポリエステルフィルムの屈折率が１．５３〜１．６０であり、
前記ポリエステルフィルムのリタデーションが４１６０ｎｍ以上である、
請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記ポリエステルフィルムのリタデーションが４１６０〜７８２０ｎｍである、
請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記偏光子の透過軸方向における屈折率と、前記偏光子の透過軸と平行な方向における前記ポリエステルフィルムの屈折率との差が０．１２以下である、請求項１〜９のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
偏光子の少なくとも一方の面に１５００〜３００００ｎｍのリタデーションを有するポリエステルフィルムが積層された偏光板であって、
前記偏光子の透過軸と平行な方向の、前記ポリエステルフィルムの屈折率が１．５３〜１．６２である、
４００ｎｍ以上４９５ｎｍ未満、４９５ｎｍ以上６００ｎｍ未満及び６００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の各波長領域にそれぞれ発光スペクトルのピークトップを有し、かつ、６００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長領域における最もピーク強度の高いピークの半値幅が５ｎｍ未満である発光スペクトルを有する白色光源からなるバックライト光源を有する液晶表示装置用偏光板。
【請求項１２】
偏光子の少なくとも一方の面に１５００〜３００００ｎｍのリタデーションを有するポリエステルフィルムが積層された偏光板であって、
前記偏光子の透過軸と平行な方向の、前記ポリエステルフィルムの屈折率が１．５３〜１．６２である、
フッ化物錯体蛍光体を含む白色光源からなるバックライト光源を有する液晶表示装置用偏光板。
【請求項１３】
前記フッ化物蛍光体が。Ｍｎ４＋付活フッ化物錯体蛍光体である請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記ポリエステルフィルムの厚みが２５〜８０μｍである請求項１１〜１３のいずれかに記載の液晶表示装置用偏光板（但し、厚み８０μｍであるものは除く）
【請求項１５】
前記ポリエステルフィルムのリタデーションが８０００ｎｍ以上である、
請求項１１〜１３のいずれかに記載の液晶表示装置用偏光板。
【請求項１６】
前記偏光子の透過軸と平行な方向の、前記ポリエステルフィルムの屈折率が１．５３〜１．６１であり、
前記ポリエステルフィルムのＲｅ／Ｒｔｈが０．２〜０．８５である、
請求項１１〜１３のいずれかに記載の液晶表示装置用偏光板。
【請求項１７】
前記偏光子の透過軸と平行な方向の、前記ポリエステルフィルムの屈折率が１．５３〜１．６０であり、
前記ポリエステルフィルムのリタデーションが４１６０ｎｍ以上である、
請求項１１〜１３のいずれかに記載の液晶表示装置用偏光板。
【請求項１８】
前記ポリエステルフィルムのリタデーションが４１６０〜７８２０ｎｍである、
請求項１１〜１３のいずれかに記載の液晶表示装置用偏光板。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月24日(2021.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板と、
前記絶縁基板上に配置された第１の導電パターンと、
前記第１の導電パターン上に配置された複数のパワー半導体チップと、
前記複数のパワー半導体チップの各々のゲート電極同士を直接接続する架橋形状の第１の配線と、
前記複数のパワー半導体チップの各々のソース電極同士を直接接続する架橋形状の第２の配線と、
前記第１の導電パターンと電気的に絶縁してケース上に配置されたゲート制御端子と、
前記第１の導電パターンと分離して前記ケース上に配置されたソースセンス制御端子と、を備え、
前記第１の配線は、前記第２の配線と成す角度が３０度以内で前記第２の配線に沿って配置され、かつ、前記絶縁基板上の他の導電パターンを介さずに前記ゲート制御端子に接続され、
前記第２の配線は、前記絶縁基板上の他の導電パターンを介さずに前記ソースセンス制御端子に接続されることを特徴とするパワー半導体モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記複数のパワー半導体チップは、前記第１の導電パターン上において、一定数のチップ毎に複数のチップ群として配置されており、
各チップ群の前記第１の配線は、共通のゲート制御端子に接続され、
各チップ群の前記第２の配線は、共通のソースセンス制御端子に接続されることを特徴とするパワー半導体モジュール。
【請求項３】
請求項１に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記絶縁基板上に配置された第２の導電パターンと、
前記第２の導電パターン上に配置された複数のパワー半導体チップと、
前記第２の導電パターン上の複数のパワー半導体チップの各々のゲート電極同士を直接接続する架橋形状の第３の配線と、
前記第２の導電パターン上の複数のパワー半導体チップの各々のソース電極同士を直接接続する架橋形状の第４の配線と、を備え、
前記第３の配線は、前記第４の配線と成す角度が３０度以内で前記第４の配線に沿って配置されることを特徴とするパワー半導体モジュール。
【請求項４】
請求項３に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記第１の導電パターンと前記第２の導電パターンとの間に、第３の導電パターンが前記第２の導電パターンに隣接して配置されており、
前記第２の導電パターンおよび前記第３の導電パターンのそれぞれの導電パターンを流れる電流方向が１８０°異なる部分が存在することを特徴とするパワー半導体モジュール。
【請求項５】
請求項４に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記第２の導電パターンは、前記第１の導電パターン上の複数のパワー半導体チップのソース電極と複数のボンディングワイヤで接続され、前記第２の導電パターンとボンディングワイヤとの接続点および前記第２の導電パターンの給電点との間にソース電流経路のインダクタンスばらつきを低減するＬ字形状またはＩ字形状の第１のスリットパターンを有し、
前記第３の導電パターンは、前記第２の導電パターン上の複数のパワー半導体チップのソース電極と複数のボンディングワイヤで接続され、前記第３の導電パターンとボンディングワイヤとの接続点および前記第３の導電パターンの給電点との間にソース電流経路のインダクタンスばらつきを低減するＬ字形状またはＩ字形状の第２のスリットパターンを有することを特徴とするパワー半導体モジュール。
【請求項６】
請求項５に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記第１のスリットパターンと前記第２のスリットパターンは、点対称の位置に配置されることを特徴とするパワー半導体モジュール。
【請求項７】
請求項１に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記複数のパワー半導体チップの各々は、電流スイッチング機能および還流機能を共に有することを特徴とするパワー半導体モジュール。
【請求項８】
請求項１に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記複数のパワー半導体チップの各々は、ゲート電極パッドからチップ内部を見込んだインピーダンスにおいて、所定の抵抗値を有する内蔵抵抗を備えることを特徴とするパワー半導体モジュール。
【請求項９】
請求項８に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記複数のパワー半導体チップの各々は、ポリシリコン製の内蔵抵抗を備えることを特徴とするパワー半導体モジュール。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記複数のパワー半導体チップは、ＳｉＣパワー半導体チップであることを特徴とするパワー半導体モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記課題を解決するために、本発明は、絶縁基板と、前記絶縁基板上に配置された第１の導電パターンと、前記第１の導電パターン上に配置された複数のパワー半導体チップと、前記複数のパワー半導体チップの各々のゲート電極同士を直接接続する架橋形状の第１の配線と、前記複数のパワー半導体チップの各々のソース電極同士を直接接続する架橋形状の第２の配線と、前記第１の導電パターンと電気的に絶縁してケース上に配置されたゲート制御端子と、前記第１の導電パターンと分離して前記ケース上に配置されたソースセンス制御端子と、を備え、前記第１の配線は、前記第２の配線と成す角度が３０度以内で前記第２の配線に沿って配置され、かつ、前記絶縁基板上の他の導電パターンを介さずに前記ゲート制御端子に接続され、前記第２の配線は、前記絶縁基板上の他の導電パターンを介さずに前記ソースセンス制御端子に接続されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２９】
１〜７：絶縁基板上の金属（導電）パターン
９，１０：半田接合層
１１〜１６，２１〜２６：パワー半導体チップ
３１〜３４，３５Ａ〜３５Ｃ，４１〜４４，４５Ａ〜４５Ｃ：ボンディングワイヤ
３６，４６：ゲート配線用ワイヤ
３７，４７：ソース配線用ワイヤ
５１，６３Ａ，６３Ｂ，６４：端子（基板上の端子給電点）
５２，６２：端子（基板上の電位モニタ用給電点）
７１Ａ，７１Ｂ：スリットパターン
９１，９３：ゲート制御端子
９２，９４：ソースセンス制御端子
９５，９７：（チップ間ゲート接続用）導体
９６，９８：（チップ間ソースセンス接続用）導体
９９：絶縁基板
１００〜１０３：パワー半導体チップ搭載基板
３００：ベースプレート
３１０：樹脂ケース
５０１：（パワー半導体チップの）ゲート電極パッド
５０２：（パワー半導体チップの）ソース電極パッド
６０１，６０２，６０３：（簡易）等価回路
Ｍｇ１〜Ｍｇ６，Ｍ１６，Ｍ２５，Ｍ３４：相互インダクタンス
Ｌｄ１〜Ｌｄ６：ＭＯＳＦＥＴドレイン経路の寄生インダクタンス
Ｌｓ１〜Ｌｓ６：ＭＯＳＦＥＴソース主電流経路の寄生インダクタンス
Ｌｇ１〜Ｌｇ６：ＭＯＳＦＥＴゲート経路の寄生インダクタンス
Ｌｓｓ１〜Ｌｓｓ６：ＭＯＳＦＥＴソース制御経路の寄生インダクタンス
Ｒｇｃ１１〜Ｒｇｃ１３，Ｒｇｃ２１〜Ｒｇｃ２３：ＭＯＳＦＥＴチップ内部のゲート経路の抵抗値
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月25日(2021.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者の呼吸モニタリングのためのシステム（１００）であって、
前記被験者に関連する配置のために構成され、生体インピーダンス信号を取得する生体インピーダンス計測センサ（１１０）と、
前記被験者に関連する配置のために構成され、前記被験者の呼吸努力又は前記被験者の呼吸気流を示す基準信号を取得する基準計測センサ（１３０）と、
前記取得された生体インピーダンス信号を受信し、基準信号を受信するように構成された処理ユニット（１２０）とを備え、
前記基準信号は、前記生体インピーダンス信号の取得の時点における前記被験者の呼吸努力又は呼吸気流を表現し、
前記処理ユニット（１２０）は、前記受信した生体インピーダンス信号及び前記受信した基準信号に基づいて、前記生体インピーダンス信号を、前記被験者の呼吸努力を示す努力成分及び前記被験者の呼吸気流を示す気流成分に分解するようにさらに構成される、
システム（１００）。
【請求項２】
前記基準計測センサ（１３０）は、前記被験者の呼吸努力を示す基準信号を取得するように構成された、
請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記処理ユニット（１２０）は、前記被験者の前記呼吸努力を示す前記取得された基準信号を受信するように構成され、
前記処理ユニット（１２０）は、前記取得された生体インピーダンス信号及び前記取得された基準信号に基づいて前記努力成分の推定値を決定し、かつ前記決定された努力成分の推定値及び前記取得された生体インピーダンス信号に基づいて、前記気流成分の推定値を決定するように構成された、
請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記基準計測センサ（１３０）は、前記被験者の呼吸気流を示す基準信号を取得するように構成された、
請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記処理ユニット（１２０）は、前記被験者の前記呼吸気流を示す前記取得された基準信号を受信するように構成され、
前記処理ユニット（１２０）は、前記取得された生体インピーダンス信号及び前記取得された基準信号に基づいて前記気流成分の推定値を決定し、かつ前記決定された呼吸成分及び前記取得された生体インピーダンス信号に基づいて、前記努力成分の推定値を決定するように構成された、
請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記基準信号は第１の基準信号であり、
前記処理ユニット（１２０）は、前記被験者の呼吸努力を示すか又は前記被験者の呼吸気流を示す第２の基準信号を受信するようにさらに構成された、
請求項１〜５のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項７】
前記処理ユニット（１２０）は、異常な呼吸を示す呼吸イベント信号を受信するようにさらに構成され、
前記処理ユニット（１２０）は、さらに前記呼吸イベント信号に基づいて、前記生体インピーダンス信号を前記努力成分及び前記気流成分に分解する、
請求項１〜６のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項８】
前記処理ユニット（１２０）は、前記生体インピーダンス信号にブラインド信号源分離アルゴリズムを適用して、前記生体インピーダンス信号を前記努力成分及び前記気流成分に分解するように構成された、
請求項１〜７のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項９】
前記処理ユニット（１２０）は、適応フィルタを用いて、前記生体インピーダンス信号を前記努力成分及び前記気流成分に分解するように構成された、
請求項１〜７のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項１０】
前記処理ユニット（１２０）は、前記生体インピーダンス信号を前記努力成分及び前記気流成分に分解する前に、前記生体インピーダンス信号を前処理するように構成された、
請求項１〜９のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項１１】
前記生体インピーダンス計測センサ（１１０）は、前記被験者の胸郭領域に配置されて構成された搬送体上に配置される、
請求項１〜１０のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項１２】
前記生体インピーダンス計測センサ（１１０）は、少なくとも２つ又は少なくとも４つの電極を備え、生体インピーダンスの２極又は４極計測のために構成された、
請求項１〜１１のいずれか１つに記載のシステム。
【請求項１３】
処理装置により実行される、被験者の呼吸モニタリングのための方法であって、
前記被験者の生体インピーダンスを示す取得された生体インピーダンス信号を受信するステップと、
前記被験者の呼吸努力を示すか、又は前記被験者の呼吸気流を示す、取得された基準信号を受信するステップであって、前記生体インピーダンス信号及び前記基準信号は同時に取得されかつ前記基準信号は基準計測センサによって取得されるステップと、
前記受信した生体インピーダンス信号と、前記受信した基準信号とに基づいて、前記生体インピーダンス信号を、前記被験者の呼吸努力を示す努力成分及び前記被験者の呼吸気流を示す気流成分に分解するステップとを含む、
方法。
【請求項１４】
コンピュータ可読媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、
前記コンピュータ可読媒体は、処理ユニット上で実行されるときに前記処理ユニットに請求項１３に記載の方法を実行させるように、コンピュータ可読な命令を格納する、
コンピュータプログラム製品。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月3日(2021.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
始動条件の成立に基づき表示装置で識別情報を変動表示させる変動表示ゲームを実行可能な遊技制御手段を備え、前記変動表示ゲームの結果が特別結果となる場合に、遊技者に遊技価値を付与可能な特別遊技状態を発生可能な遊技機において、
前記遊技制御手段は、
第１の始動条件の成立に基づいて第１変動表示ゲームの実行制御を行う第１制御手段と、
第２の始動条件の成立に基づいて第２変動表示ゲームの実行制御を行う第２制御手段と、を備え、
前記第１制御手段による前記第１変動表示ゲームと、前記第２制御手段による前記第２変動表示ゲームとを共に実行中の状態とすることが可能であり、
前記特別遊技状態の終了した後の遊技状態を、当該遊技状態中における前記第１変動表示ゲームと前記第２変動表示ゲームとの合計の実行回数に応じて制御することを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来の遊技機においては、第１変動表示ゲーム（例えば特図１変動表示ゲーム）と第２変動表示ゲーム（例えば特図２変動表示ゲーム）を共に実行中の状態とすることが可能な遊技機（いわゆる同時変動機）がある（例えば、特許文献１）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１７−１４８１２７号公報
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、このような遊技機において、柔軟に演出が実行できず、遊技の興趣が低下するおそれがあった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、遊技の興趣の低下を抑制することを目的とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の代表的な一形態では、始動条件の成立に基づき表示装置で識別情報を変動表示させる変動表示ゲームを実行可能な遊技制御手段を備え、前記変動表示ゲームの結果が特別結果となる場合に、遊技者に遊技価値を付与可能な特別遊技状態を発生可能な遊技機において、前記遊技制御手段は、第１の始動条件の成立に基づいて第１変動表示ゲームの実行制御を行う第１制御手段と、第２の始動条件の成立に基づいて第２変動表示ゲームの実行制御を行う第２制御手段と、を備え、前記第１制御手段による前記第１変動表示ゲームと、前記第２制御手段による前記第２変動表示ゲームとを共に実行中の状態とすることが可能であり、前記特別遊技状態の終了した後の遊技状態を、当該遊技状態中における前記第１変動表示ゲームと前記第２変動表示ゲームとの合計の実行回数に応じて制御する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一形態によれば、遊技の興趣の低下を抑制することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月24日(2021.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロボットと、
機器と通信し、前記ロボットを制御するロボット制御装置と、を備え、
前記機器が有するクロック同期式シリアル通信方式の送信端子と、前記ロボット制御装置が有する受信端子とが信号線により接続され、
前記ロボット制御装置は、前記機器から調歩式の信号を受信する、
ロボットシステム。
【請求項２】
前記ロボット制御装置は、前記機器に非同期式シリアル通信方式の信号を送信する、
請求項１に記載のロボットシステム。
【請求項３】
前記ロボット制御装置と複数の前記機器とがバス配線により接続される、
請求項１または２に記載のロボットシステム。
【請求項４】
前記機器は、エンコーダー、センサー、またはＩ／Ｏの機器である、
請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載のロボットシステム。
【請求項５】
ロボットと、
機器と通信し、前記ロボットを制御するロボット制御装置と、を備え、
前記機器が有するクロック同期式シリアル通信方式の第１送信端子と、前記ロボット制御装置が有する第１受信端子とが第１信号線により接続され、
前記ロボット制御装置が有するクロック同期式シリアル通信方式の第２送信端子と、前記機器が有する第２受信端子とが第２信号線により接続され、
前記ロボット制御装置は、前記機器から調歩式の第１信号を受信し、前記機器に調歩式の第２信号を送信する、
ロボットシステム。
【請求項６】
機器と通信するロボット制御装置であって、
前記機器が有するクロック同期式シリアル通信方式の送信端子と、信号線により接続される受信端子を備え、
前記機器から、調歩式の信号を受信する、
ロボット制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ロボットシステムおよびロボット制御装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ロボットシステムおよびロボット制御装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために一態様は、ロボットと、機器と通信し、前記ロボットを制御するロボット制御装置と、を備え、前記機器が有するクロック同期式シリアル通信方式の送信端子と、前記ロボット制御装置が有する受信端子とが信号線により接続され、前記ロボット制御装置は、前記機器から調歩式の信号を受信する、ロボットシステムである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために一態様は、ロボットと、機器と通信し、前記ロボットを制御するロボット制御装置と、を備え、前記機器が有するクロック同期式シリアル通信方式の第１送信端子と、前記ロボット制御装置が有する第１受信端子とが第１信号線により接続され、前記ロボット制御装置が有するクロック同期式シリアル通信方式の第２送信端子と、前記機器が有する第２受信端子とが第２信号線により接続され、前記ロボット制御装置は、前記機器から調歩式の第１信号を受信し、前記機器に調歩式の第２信号を送信する、ロボットシステムである。
【手続補正書】
【提出日】令和3年12月6日(2021.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（５Ｚ，８Ｚ，１１Ｚ，１３Ｅ，１７Ｚ）−１５−オキソイコサ−５，８，１１，１３，１７−ペンタエン酸（「１５−オキソ−ＥＰＡ」）を含む組成物であって、該１５−オキソ−ＥＰＡが、該組成物の総重量の約０．１重量％〜約９９重量％の量で該組成物中に存在する、前記組成物。
【請求項２】
（８Ｚ，１１Ｚ，１３Ｅ）−１５−オキソイコサ−８，１１，１３−トリエン酸（「１５−オキソ−ＤＧＬＡ」）を含む組成物であって、該１５−オキソ−ＤＧＬＡが、該組成物の総重量の約０．１重量％〜約９９重量％の量で該組成物中に存在する、前記組成物。
【請求項３】
対象において線維症、炎症、腎臓病、または腎機能障害を治療及び／または予防するための組成物であって、請求項１または２に記載の組成物を含む、前記組成物。
【請求項４】
前記線維症は、肺、肝臓、心臓、縦隔、骨髄、後腹膜腔、皮膚、腸、関節、生殖器、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される臓器または組織と関連する、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記線維症は、肝線維症である、請求項３または４に記載の組成物。
【請求項６】
前記線維症は、非アルコール性脂肪性肝疾患（ＮＡＦＬＤ）と関連する、請求項３〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記組成物が、経口投与用に製剤化されている、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項８】
前記１５−オキソ−ＥＰＡまたは前記１５−オキソ−ＤＧＬＡは、前記組成物中の唯一の活性成分である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記組成物は、前記線維症療法に影響を及ぼすための追加の薬剤をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記１５−オキソ−ＥＰＡまたは前記１５−オキソ−ＤＧＬＡは、遊離酸形態である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記１５−オキソ−ＥＰＡまたは前記１５−オキソ−ＤＧＬＡは、エステル化形態であり、
任意に、前記エステル化形態は、アルキルエステル形態であり、
任意に、前記エステル化形態は、トリグリセリド形態である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。