(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、
その底に第１の孔が開口され、修正液が注入された容器と、
前記容器に固定され、第２の孔が開口された蓋と、
その先端部が前記第２の孔に挿入され、前記第１および第２の孔と略同じ径を有し、前記欠陥部に前記修正液を塗布するための塗布針と、
前記塗布針を上下動可能に支持する直動案内部材と、
前記塗布針を下降させ、前記塗布針の先端部を前記第１の孔から突出させて前記先端部に前記修正液を付着させる駆動部と、
支持台と、
前記容器を前記支持台に取り付けるための磁石とを備え、
前記容器は、前記磁石と前記第２の孔に挿入された前記塗布針とによって所定の位置に支持される、塗布ユニット。
【請求項２】
前記磁石は前記支持台に固定され、
さらに、前記容器に固定され、磁性体材料で形成されたピンを備え、
前記ピンの端面が前記磁石の端面に吸着されて前記容器が前記支持台に支持される、請求項１に記載の塗布ユニット。
【請求項３】
前記ピンの端面が前記磁石の端面に吸着されたときに、前記第１の孔の中心と前記第２の孔の中心とを結ぶ基準線が前記塗布針の中心線にほぼ一致するように、前記磁石と前記ピンが配置されている、請求項２に記載の塗布ユニット。
【請求項４】
前記第１の孔とそれを貫通する前記塗布針との隙間は、前記第２の孔とそれを貫通する前記塗布針との隙間よりも大きい、請求項１から請求項３までのいずれかに記載の塗布ユニット。
【請求項５】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、
その底に第１の孔が開口され、修正液が注入された容器と、
前記容器に固定され、第２の孔が開口された蓋と、
その先端部が前記第２の孔に挿入され、前記第１および第２の孔と略同じ径を有し、前記欠陥部に前記修正液を塗布するための塗布針と、
支持台と、
その先端部に前記塗布針が設けられ、その基端部が第１の直動案内部材を介して前記支持台に結合され、前記支持台に対して上下動可能に設けられた第１のアームと、
その先端部に前記容器が設けられ、その基端部が第２の直動案内部材を介して前記第１のアームに結合され、前記第１のアームに対して相対的に上下動可能に設けられた第２のアームと、
前記第１および第２のアームを上下動させるとともに、前記第１および第２のアームを相対的に上下動させ、前記第１の孔から前記塗布針の先端部を突出させて前記先端部に前記修正液を付着させる駆動部と、
前記容器を前記第２のアームに取り付けるための磁石とを備え、
前記容器は、前記磁石と前記第２の孔に挿入された前記塗布針とによって所定の位置に支持される、塗布ユニット。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれかに記載の塗布ユニットを備える、パターン修正装置。
【請求項７】
互いに異なる種類の修正液が注入された複数の塗布ユニットを備え、
前記複数の塗布ユニットのうちの前記欠陥部の種類に応じて選択された塗布ユニットの修正液を前記欠陥部に塗布する、請求項６に記載のパターン修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明はパターン修正装置およびその塗布ユニットに関し、特に、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置およびその塗布ユニットに関する。より特定的には、この発明は、フラットパネルディスプレイの製造工程において発生する電極のオープン欠陥、プラズマディスプレイのリブ（隔壁）欠損、液晶カラーフィルタの白抜け欠陥、マスクの欠陥などを修正するパターン修正装置と、それに用いられる塗布ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの大型化、高精細化に伴って、ディスプレイの製造工程において、基板上の電極やリブなどに欠陥が発生したり、液晶カラーフィルタの着色層に欠陥が発生したりする確率が高くなっている。このため、歩留まりの向上を図り、各種欠陥を修正するパターン修正装置が提案されている。
【０００３】
たとえば、液晶カラーフィルタの着色層の一部が色抜けした白欠陥を修正する装置として、塗布針の先端部に付着させた修正用インクを白欠陥に塗布して修正するものがある（たとえば、特許文献１参照）。また、プラズマディスプレイの背面ガラス基板上に形成されたリブの一部が欠けたリブ欠け欠陥を修正する装置として、塗布針の先端部に付着させた修正用ペーストをリブ欠け欠陥に塗布して修正するものがある（たとえば、特許文献２参照）。
【０００４】
これらのパターン修正装置では、容器に注入された修正液（修正用インク、修正用ペースト）の液面の上で塗布針を上下動させて塗布針の先端部に修正液を付着させた後、その塗布針を欠陥部（白欠陥、リブ欠け欠陥）の上で上下動させて塗布針先端部の修正液を欠陥部に塗布していた。
【特許文献１】特開平９−６１２９６号公報
【特許文献２】特開２０００−２９９０５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、従来のパターン修正装置では、欠陥部が大きい場合は修正液を欠陥部に複数回塗布する必要があり、塗布する度に塗布針を欠陥部から容器まで戻して、塗布針に修正液を付着し直す必要があった。このため、欠陥部の修正時間が長くなるという問題があった。
【０００６】
そこで、本願発明者は、修正液の容器の底に第１の孔を開口し、その容器の蓋に第２の孔を開口し、塗布針を第２の孔に挿入した状態で待機し、塗布時には、塗布針の先端部を第１の孔から突出させて先端部に修正液を付着させる塗布ユニットを提案した（たとえば、特願２００５−９１５２４号、特願２００５−９１５２５号参照）。この塗布ユニットによれば、従来のように塗布針を欠陥部と容器の間で往復動させる工程が省略されるので、欠陥部の修正時間が短縮化される。
【０００７】
しかし、この塗布ユニットでは、第１および第２の孔を塗布針が貫通できる位置に容器を固定する必要があり、容器の着脱に手間取ることも想定される。
【０００８】
それゆえに、この発明の主たる目的は、修正液の容器を容易に着脱することが可能なパターン修正装置およびその塗布ユニットを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に係る塗布ユニットは、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、その底に第１の孔が開口され、修正液が注入された容器と、容器に固定され、第２の孔が開口された蓋と、その先端部が第２の孔に挿入され、第１および第２の孔と略同じ径を有し、欠陥部に修正液を塗布するための塗布針と、塗布針を上下動可能に支持する直動案内部材と、塗布針を下降させ、塗布針の先端部を第１の孔から突出させて先端部に修正液を付着させる駆動部と、支持台と、容器を支持台に取り付けるための磁石とを備え、容器は、磁石と第２の孔に挿入された塗布針とによって所定の位置に支持されることを特徴としている。
【００１０】
好ましくは、磁石は支持台に固定され、さらに、容器に固定され、磁性体材料で形成されたピンを備え、ピンの端面が磁石の端面に吸着されて容器が支持台に支持される。
【００１１】
また好ましくは、ピンの端面が磁石の端面に吸着されたときに、第１の孔の中心と第２の孔の中心とを結ぶ基準線が塗布針の中心線にほぼ一致するように、磁石とピンが配置されている。
【００１２】
また好ましくは、第１の孔とそれを貫通する塗布針との隙間は、第２の孔とそれを貫通する塗布針との隙間よりも大きい。
【００１３】
また、この発明に係る他の塗布ユニットは、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、その底に第１の孔が開口され、修正液が注入された容器と、容器に固定され、第２の孔が開口された蓋と、その先端部が第２の孔に挿入され、第１および第２の孔と略同じ径を有し、欠陥部に修正液を塗布するための塗布針と、支持台と、その先端部に塗布針が設けられ、その基端部が第１の直動案内部材を介して支持台に結合され、支持台に対して上下動可能に設けられた第１のアームと、その先端部に容器が設けられ、その基端部が第２の直動案内部材を介して第１のアームに結合され、第１のアームに対して相対的に上下動可能に設けられた第２のアームと、第１および第２のアームを上下動させるとともに、第１および第２のアームを相対的に上下動させ、第１の孔から塗布針の先端部を突出させて先端部に修正液を付着させる駆動部と、容器を第２のアームに取り付けるための磁石とを備え、容器は、磁石と第２の孔に挿入された塗布針とによって所定の位置に支持されることを特徴としている。
【００１４】
また、この発明に係るパターン修正装置は、上記塗布ユニットを備えたものである。
好ましくは、互いに異なる種類の修正液が注入された複数の塗布ユニットを備え、複数の塗布ユニットのうちの欠陥部の種類に応じて選択された塗布ユニットの修正液を欠陥部に塗布する。
【発明の効果】
【００１５】
この発明に係るパターン修正装置およびその塗布ユニットでは、その底に第１の孔が開口され、修正液が注入された容器と、容器に固定され、第２の孔が開口された蓋と、その先端部が第２の孔に挿入され、第１および第２の孔と略同じ径を有し、欠陥部に修正液を塗布するための塗布針と、容器を支持台または第２のアームに取り付けるための磁石とを備え、容器は、磁石と第２の孔に挿入された塗布針とによって所定の位置に支持される。したがって、容器を容易に着脱することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
［実施の形態１］
図１は、この発明の実施の形態１によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。図１において、パターン修正装置１は、基板の表面を観察する観察光学系２と、観察された画像を映し出すモニタ３と、観察光学系２を介して基板にレーザ光を照射し不要部をカットするカット用レーザ部４と、修正液を塗布針先端に付着させて基板の欠陥部に塗布する塗布機構部５と、欠陥部に塗布された修正液を加熱する基板加熱部６と、欠陥部を認識する画像処理部７と、装置全体を制御するホストコンピュータ８と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ９とを備える。さらに、その他に欠陥部を有する基板をＸＹ方向（水平方向）に移動させるＸＹステージ１０と、ＸＹステージ１０上で基板を保持するチャック部１１と、観察光学系２や塗布機構部５をＺ方向（垂直方向）に移動させるＺステージ１２などが設けられている。
【００１７】
ＸＹステージ１０は、塗布機構部５によって修正液を欠陥部に塗布する際や、観察光学系２によって基板の表面を観察する際などに、基板を適切な位置に相対移動させるために用いられる。図１に示したＸＹステージ１０は、２つの一軸ステージを直角方向に重ねた構成を有している。ただし、このＸＹステージ１０は、観察光学系２や塗布機構部５に対して基板を相対的に移動させることができるものであればよく、図１に示すＸＹステージ１０の構成に限定されるものではない。近年では、基板サイズの大型化に伴い、Ｘ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ独立して移動可能なガントリ型のＸＹステージが多く採用されている。
【００１８】
図２（Ａ）は、図１に示した塗布機構部５に含まれる塗布ユニット２０の構成を示す断面図である。図２（Ａ）において、塗布ユニット２０は、その底に第１の孔２１ａが開口され、修正液２２が注入された容器２１と、第２の孔２３ａが開口され、容器２１を密封する蓋２３と、第１および第２の孔２１ａ，２３ａと略同じ径を有する塗布針２４とを含む。塗布針２４の先端部は、第２の孔２３ａを貫通して修正液２２に浸漬される。
【００１９】
図３は、塗布針２４と容器２１の部分を拡大した図であり、容器２１の底に開口された第１の孔２１ａと、その蓋２３に開口された第２の孔２３ａと、塗布針２４との寸法関係を表したものである。第１の孔２１ａの径をＤｄとし、第２の孔２３ａの径をＤｕとし、塗布針２４の径をＤとすると、ＤｄとＤｕはＤよりも大きく、Ｄｄ＞Ｄｕ＞Ｄの関係にある。なお、この関係式は、塗布針２４が段付ではなく、ストレートのタイプの場合に成り立つ。
【００２０】
また、第１の孔２１ａの径Ｄｄと塗布針２４の径Ｄとの差の半分（片側隙間）をΔｄとし、第２の孔２３ａの径Ｄｕと塗布針２４の径Ｄとの差の半分（片側隙間）をΔｕとすると、Δｄ＞Δｕの関係にあり、蓋２３に開口された第２の孔２３ａと塗布針２４との隙間よりも、容器２１の底に開口された第１の孔２１ａと塗布針２４との隙間の方が大きく設定されている。このため、第２の孔２３ａと塗布針２４で容器２１の姿勢を保つことができ、さらに、塗布針２４が第２の孔２３ａの内面に接触した状態にあっても、塗布針２４が第１の孔２１ａの内面に接触しないため、第１の孔２１ａの磨耗による変形を抑制できる。したがって、塗布針２４の先端部２４ａに付着する修正液２２の液量が変化しないので安定した塗布が可能となる。
【００２１】
図２に戻って、塗布針２４の基端部は塗布針固定板２５に固定支持される。塗布針固定板２５は直動案内部材２６のスライド部２６ｂに固定され、直動案内部材２６のレール部２６ａは支持台２９に固定される。直動案内部材２６は、レール部２６ａとスライド部２６ｂの間に転動体（ボールなど）を介在させた転がり案内の構成を有し、レール部２６ａとスライド部２６ｂとは極軽い力で自在に直線運動することが可能なリニアガイドとなっている。塗布精度を向上するために、軽い予圧を与える場合もある。
【００２２】
直動案内部材２６の上下端にはそれぞれストッパ２７，２８が設けられ、スライド部２６ｂがレール部２６ａから抜け出ることを防止する。なお、直動案内部材２６にストッパ機能が内蔵されていれば、ストッパ２７，２８は無くてもよい。
【００２３】
支持台２９には、出力軸３０ａを上方に向けてエアシリンダ３０が設けられる。エアシリンダ３０の出力軸３０ａの先端には、先端にピン３１ａを固着した駆動板３１が水平に固定されており、出力軸３０ａと一体となって上下動する。ピン３１ａは、図２（Ｂ）に示すように、塗布針固定板２５に設けた切り欠き部２５ａの下方から接して、エアシリンダ３０の出力軸３０ａの上下動により、塗布針固定板２５を上下に移動させる機能を持つ。
【００２４】
容器２１は、たとえば、ポリプロピレン樹脂、フッ素樹脂、ポリアセタール樹脂等の樹脂からなり、容器２１の側部には突起部２１ｂが設けられている。この突起部２１ｂには、磁性体のピン３２が突起部２１ｂから上方に突出するように固着される。容器２１は射出成形により作成してもよく、この場合、ピン３２は射出成形時に一体成形することも可能である。
【００２５】
また、直動案内部材２６を固定する支持台２９の下端面には磁石３３が固着される。容器２１に固着されたピン３２の上端面を磁石３３の下端面に吸着させることで、容器２１を支持台２９に１点で吊り下げた状態で支持するとともに、蓋２３に開口された第２の孔２３ａに塗布針２４を貫通させると、その隙間Δｕは小さいため、容器２１は所定位置に保持される。また、容器２１の底に開口した第１の孔２１ａと塗布針２４との隙間ΔｄをΔｕよりも十分大きく設定することで、塗布針２４は、第１の孔２１ａに接触することなく上下動することが可能となる。たとえば、Δｄ＝２００μｍ、Δｕ＝１００μｍに設定する。
【００２６】
塗布針２４が容器２１の蓋２３に開口した第２の孔２３ａに挿入されれば、容器２１の姿勢は塗布針２４と第２の孔２３ａによりある程度拘束され、容器２１の姿勢が決まり、その姿勢を保持する。
【００２７】
容器２１の底に開口した第１の孔２１ａと塗布針２４とが接触しないため、ダストの発生を防止することができ、修正液２２中へのダストの侵入を抑制することができる。また、容器２１は磁石３３と容器２１に固着したピン３２の吸引力で１面支持されているだけであり、塗布針２４と第２の孔２３ａとが接触しても、容器２１の固定方法には調心性があるため、塗布針２４に与える影響は少ない。ピン３２と磁石３３とが接する面はほぼ平らで、それらは３ｍｍ前後の直径である。なお、第１の孔２１ａの中心と第２の孔２３ａとの中心を結ぶ基準線が、塗布針２４の中心線とほぼ一致するように、ピン３２と磁石３３の接触面が設定される。
【００２８】
容器２１を支持台２９に取り付ける場合、図４に示すように、支持台２９の下方から上に修正液２２を注入した容器２１を持っていき、塗布針２４の先端部２４ａを第２の孔２３ａに挿入した後、ピン３２を磁石３３に吸着させれば、容器２１の取り付けは完了する。その後、試しに塗布針２４を上下動させて第１の孔２１ａから突出させ、容器２１の位置をなじませるようにしてもよい。
【００２９】
このような構造にすることによって、工具を使用することなく、また、容器２１の固定位置を気にすることなく簡単に容器２１の着脱ができるようになる。
【００３０】
なお、図５に示すように、容器２１の突起部２１ｂに磁石３３を固定し、支持台２９の下端面にピン３２を固定してもよい。
【００３１】
図６（Ａ）〜（Ｄ）は、図２に示した塗布ユニット２０を用いて基板３５に生じた欠陥部３５ａを修正する工程を表したものである。まず、図６（Ａ）に示すように、塗布ユニット２０の塗布針２４の直下に欠陥部３５ａが来るように塗布ユニット２０と基板３５を相対移動させる。
【００３２】
次に図６（Ｂ）に示すように、エアシリンダ３０の出力軸３０ａを下方（図では、出力軸３０ａを引き込む方向）に移動させ、出力軸３０ａと一体となって移動する駆動板３１を下方に移動する。駆動板３１の先端に固着したピン３１ａは、塗布針固定板２５に設けた切り欠き部２５ａに下方から接しており、駆動板３１の下降により塗布針固定板２５は直動案内部材２６に沿って下方に移動する。それに合わせて塗布針２４も下方に移動し、容器２１の底に開口された第１の孔２１ａから塗布針２４の先端部２４ａが突出する。この状態で、塗布針２４の先端部２４ａには修正液２２が付着しており、塗布できる状態となる。
【００３３】
その後、図６（Ｃ）に示すように、副Ｚステージ３４を用いて塗布ユニット２０全体を下降させ、塗布針２４の先端を基板３５の欠陥部３５ａに接触させる。これにより、塗布針先端部２４ａの修正液２２が欠陥部３５ａに塗布される。
【００３４】
塗布針２４の先端が基板３５の欠陥部３５ａに接触してから、さらに、副Ｚステージ３４により、塗布ユニット２０を０．５ｍｍから１ｍｍ程度下方に移動させるが、この際、塗布針２４は、直動案内部材２６に沿って上方に退避するので、塗布針２４に過大な力は働かない。
【００３５】
塗布後、図６（Ｄ）に示すように、エアシリンダ３０の出力軸３０ａを上方（図では、出力軸３０ａを突出させる方向）に移動させ、塗布針２４の先端部２４ａを容器２１の修正液２２中に浸漬した状態に戻すとともに、副Ｚステージ３４を上方に移動させて塗布ユニット２０全体を上方に移動する。さらに塗布する場合は同じ工程を繰り返す。なお、ここでは塗布ユニット２０の下降を副Ｚステージ３４によって行なっているが、その代わりに観察光学系２を搭載したＺステージ１２によって行なってもよい。
【００３６】
［実施の形態２］
図７（Ａ）〜（Ｃ）は、この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の塗布ユニット４０の構成および動作を示す断面図である。この塗布ユニット４０は、実施の形態１の塗布ユニット２０を改良したものであり、塗布針２４と容器２１からなる塗布部の高さ方向の寸法を抑えて、観察光学系２の対物レンズ３６と基板３５との隙間に塗布部を挿入できる構造としたものである。
【００３７】
対物レンズ３６の作動距離（対物レンズから焦点位置までの距離）が短くて、塗布ユニット４０が挿入できない場合は、図示しないレボルバを回転させて作動距離の長い対物レンズ３６に変更する。一般的に低倍率の方が作動距離は長くなる。たとえば、１０倍の対物レンズ３６の作動距離は約３０ｍｍであり、塗布ユニット４０の塗布部の高さを低く設計すれば容易に挿入可能である。
【００３８】
支持台２９の下端部の側面には、水平方向に延びるアーム４１の基端が固定されている。なお、アーム４１と支持体２９を一体成形し、アーム４１を支持台２９の一部としてもよい。アーム４１の先端部の下面には磁石３３が埋設固着され、図２で示したように、修正液２２を注入した容器２１は、容器２１に固着されたピン３２が磁石３３に吸引されることでアーム４１に固定される。
【００３９】
直動案内部材２６のスライド部には、Ｌ字形状のアーム４２の基端部が固定される。塗布針２４の基端部は塗布針固定板２５に固着され、塗布針固定板２５はアーム４２の先端部４２ａに取り付けられる。支持台２９を介してアーム４１，４２の反対側には、出力軸３０ａを下向きにしてエアシリンダ３０が配置される。エアシリンダ３０の出力軸３０ａの先端には、先端にピン３１ａを固着した駆動板３１が水平に固定され、出力軸３０ａと一体となって上下動する。ピン３１ａはアーム４２の基端部に設けた切り欠き部に下方から接していて、エアシリンダ３０の出力軸３０ａの上下動によりアーム４２を上下に移動させる機能を持つ。
【００４０】
直動案内部材２６の上下には、支持台２９に固定されたストッパ２７，２８が設けられ、アーム４２の上下動はストッパ２７，２８により拘束される。なお、直動案内部材２６にストッパ機能が内蔵されていれば、ストッパ２７，２８は無くてもよい。
【００４１】
アーム４２の先端部４２ａの上面と、塗布針固定板２５の下面にはそれぞれ磁石４３，４４が埋設固着されており、それらは互いに異なる極性で向かい合うように配置され、かつ図８に示すように、磁石４３と４４の位置は完全に重ならないようにお互いに少しずらしてある。ずらす方向は、これら磁石４３，４４の吸引力が、アーム４２の先端部４２ａに設けた２辺の突き当て部４２ｂ，４２ｃに押し当てる方向（矢印Ｂ）であり、塗布針固定板２５は、突き当て部４２ｂ，４２ｃの２辺に押し当てられ、かつアーム４２の先端部４２ａ側に吸引されて位置固定される。塗布針固定板２５は、エアシリンダ３０の出力軸３０ａの上下動により、アーム４２を介して上下に移動可能となり、それに合わせて塗布針２４が上下に移動する。
【００４２】
塗布針２４は、図９に示すように、その先端部２４ａ側の細い軸２４ｂと、塗布針固定板２５に固着される側の太い軸２４ｃからなる段付形状を成し、細い軸２４ｂは容器２１の底に開口した第１の孔２１ａ内を上下に進退し、また、太い軸２４ｃは容器２１の蓋２３に開口された第２の孔２３ａ内を上下に進退する。
【００４３】
容器２１の底面に開口された第１の孔２１ａの径Ｄｄは、塗布針２４の細い軸２４ｂの径Ｄ１よりも大きく設定され、また、容器２１の蓋２３に開口された第２の孔２３ａの径Ｄｕは、塗布針２４の太い軸２４ｃの径Ｄ２よりも大きく設定されている。
【００４４】
第１の孔２１ａの径Ｄｄと、塗布針２４の細い軸２４ｂの径Ｄ１との差の半分（片側隙間）Δｄは、第２の孔２３ａの径Ｄｕと、塗布針２４の太い軸２４ｃの径Ｄ２との差の半分（片側隙間）Δｕよりも大きく設定されている。すなわち、Δｄ＞Δｕの関係になるように各孔の径は設定される。たとえば、Δｄ＝２００μｍ、Δｕ＝１００μｍに設定する。
【００４５】
段付の塗布針２４にすると、蓋２３を固定した容器２１を塗布ユニット４０に取り付ける作業が容易になる。つまり、塗布針先端部２４ａを第２の孔２３ａに挿入する際、塗布針先端部２４ａの径Ｄ１よりも第２の孔２３ａの径Ｄｕの方が十分大きいので、塗布針先端部２４ａを容易に挿入できる。また、塗布針２４の太い軸２４ｃが第２の孔２３ａの内周面に接触しても、Δｄ＞Δｕの関係にあるため、塗布針２４の細い軸２４ｂが第１の孔２１ａの内周面に接触することを抑制できる。
【００４６】
容器２１の内部底は、孔２１ａに近づくに従って断面積が小さくなるテーパ形状を有し、少ない修正液２２でも塗布針２４の先端部２４ａを浸漬することができ経済的である。たとえば、修正液２２の量は２０μｌ（マイクロリットル）である。修正液２２は日持ちしないものもあり、容器２１は定期的に交換する。あるいは、使用済み容器２１を洗浄後、再利用することも可能である。容器２１の着脱を簡単にするため、手でつかみ易い構造にする方が使い勝手は向上する。
【００４７】
図７（Ａ）に戻って塗布動作を説明する。塗布ユニット４０は、図示しない副ＸＹＺステージにより対物レンズ３６と基板３５の隙間に移動し、塗布針２４の直下に欠陥部３５ａが位置しており、塗布針２４の先端部２４ａは修正液２２に浸漬した状態にある。
【００４８】
次に図７（Ｂ）に示すように、エアシリンダ３０の出力軸３０ａを下方に突出させて駆動板３１を下方に移動すると、駆動板３１と一体となって移動するピン３１ａによって下方から支持されるアーム４２が下方に移動し、それに合わせて塗布針２４の先端部２４ａは容器２１の底に開口された第１の孔２１ａから突出する。
【００４９】
その後、図７（Ｃ）に示すように、図示しない副Ｚステージを用いて塗布ユニット４０全体を下降させることで、塗布針２４の先端を基板３５の欠陥部３５ａに接触させる。塗布針２４の先端が基板３５の欠陥部３５ａに接触してからも、さらに副Ｚステージを用いて、塗布ユニット４０を０．５ｍｍから１ｍｍ程度下方に移動させるが、この際、塗布針２４は、直動案内部材２６によりアーム４２とともに上方に退避するので、塗布針２４に過大な力は働かない。
【００５０】
塗布後、エアシリンダ３０の出力軸３０ａを上方に引き込んで元の状態（図７（Ａ））に戻り、１回の塗布が完了する。さらに塗布する場合は同じように塗布を繰り返す。
【００５１】
［実施の形態３］
図１０は、この発明の実施の形態３によるパターン修正装置の塗布ユニット５０の構成および動作を示す断面図である。この塗布ユニット５０は、実施の形態２の塗布ユニット４０を改良したものであり、修正液２２を入れた容器２１を、塗布針２４に対して相対的に上下動させる機構を備えたものである。
【００５２】
図１０において、この塗布ユニット５０では、アーム４１の代わりに、Ｌ字形状のアーム５１が設けられる。アーム５１の先端部の下面には磁石３３が埋設固着され、図２で示したように、修正液２２を注入した容器２１は、容器２１に固着されたピン３２が磁石３３に吸引されることでアーム５１に固定される。アーム５１の基端部は直動案内部材５２を介してアーム４２に結合される。アーム５１は、直動案内部材５２により、アーム４２に対して相対的に上下動可能に保持する。
【００５３】
アーム４２と５１の上下方向の相対移動量は、アーム４２に固定支持されたピン５３と、アーム５１に設けた切り欠き孔５１ｂにより限定される。すなわち、相対移動範囲は、ピン５３が切り欠き孔５１ｂの中を移動可能な範囲となるため、直動案内部材５２に抜け防止のためのストッパを設けなくてもよい。直動案内部材２６の下側のストッパ２８は、アーム５１の動作範囲を制限するストッパを兼ねている。
【００５４】
図１０では、エアシリンダ３０の出力軸３０ａが上方にあり（この例では出力軸３０ａが引き込まれた状態）、アーム４２は上端に位置し、アーム５１は、ピン５３に吊り下がる状態、すなわち、切り欠き孔５１ｃの上端とピン５３が接する状態にある。このとき、塗布針２４の先端部２４ａは、容器２１内に入れた修正液２２に浸漬された状態にある。
【００５５】
この塗布ユニット５０では、修正液２２を入れた容器２１を上下動させる機構を設けたため、待機位置では、容器２１を上方に保持できるようになり、塗布ユニット５０全体を基板３５に近接させても、容器２１と基板３５との距離を十分開けることができる。このため、待機時に容器２１から修正液２２の漏れ落ちが仮にあっても、漏れ落ちた修正液２２によって基板３５が汚染されないように、図１０に示すように、基板３５と容器２１との間に遮蔽板５４を設けることも可能となる。遮蔽板５４は、図示しない副ＸＹＺステージの副Ｚステージに固定されており、塗布ユニット５０と同じように、副Ｚステージにより上下する。
【００５６】
また、図１０は、観察光学系２の対物レンズ３６で基板３５の欠陥部３５ａを観察している状態を示している。この状態では、対物レンズ３６から離れた位置に塗布ユニット５０が配置され、修正指令を待っている。塗布ユニット５０は図示しない副ＸＹＺステージに固定され、紙面左右方向、前後方向、上下方向に移動可能であり、副ＸＹＺステージは、たとえば観察光学系２を固定するＺステージ１２に固定される。なお、場合によって、副Ｙステージを省略してもよい。
【００５７】
ここで塗布指令が与えられると、図１１（Ａ）〜（Ｄ）に示す動作を行って塗布が行われる。まず図１１（Ａ）に示すように、副ＸＹステージの動作により塗布ユニット５０の塗布部が対物レンズ３６と基板３５との隙間に挿入され、塗布針２４の直下に欠陥部３５ａが位置するように位置決めされる。このとき、遮蔽板５４はＸ軸方向に移動しなので、容器２１の下方に遮蔽板５４は無く、塗布が可能となる。
【００５８】
その後、エアシリンダ３０の出力軸３０ａを下方に突出させて駆動板３１を下降させる。図１１（Ｂ）は、出力軸３１ａが下方に移動する途中過程を示したものであり、図１１（Ｃ）は出力軸３１ａが最下端に到達した状態を示している。
【００５９】
エアシリンダ３０の出力軸３０ａが下方に突出すると、出力軸３０ａに固定された駆動板３１、および、駆動板３１の先端に固着したピン３１ａも一緒に下降するので、ピン３１ａによって支えられたアーム４２もそれに合わせて下降する。また、アーム４２に固着したピン５３に吊り下げられた状態でアーム５１もそれに合わせて下方に移動するが、始めの間はアーム４２と５１の上下方向の相対位置は変化しない。
【００６０】
次いで図１１（Ｂ）に示すように、アーム５１の基端部の下端がストッパ２８に当接すると、アーム５１の下降が停止され、その後は、アーム４２のみが下降する。アーム４２のみが下降すると、アーム４２に固定された塗布針２４の先端部２４ａは、容器２１の底面に設けた第１の孔２１ａから突出を開始し、その突出は、図１１（Ｃ）に示すように、アーム４２の基端部の下端がストッパ２８に当接することで停止する。この状態では、塗布針２４の先端部２４ａには修正液２２が付着しており、塗布の準備が完了する。このとき、容器２１は、エアシリンダ３０の出力軸３０ａが下方に突出するのに伴って、遮蔽板５４よりも下方に移動するが、塗布時に容器２１と遮蔽板５４が干渉することはない。
【００６１】
その後、図１１（Ｄ）に示すように、図示しない副Ｚステージを用いて塗布ユニット５０全体を下降させ、塗布針２４の先端を基板３５の欠陥部３５ａに接触させる。塗布針２４の先端が基板３５の欠陥部３５ａに接触してから、さらに、副Ｚステージを用いて、塗布ユニット５０を０．５ｍｍから１ｍｍ程度下方に移動するが、この際、塗布針２４は、直動案内部材２６によりアーム４２とともに上方に退避するので、塗布針２４に過大な力は働かない。
【００６２】
塗布後、エアシリンダ３０の出力軸３０ａを上方に引き込んで元の状態（図１１（Ａ））に戻り、１回の塗布が完了する。さらに塗布する場合は同様にして繰り返し塗布が行われる。塗布作業が終了すれば、図１０に示したように塗布ユニット５０を対物レンズ３６の視界から離すように操作すれば、塗布状態を対物レンズ３６を介して観察することができる。
【００６３】
なお、基板３５がカラーフィルタ基板の場合、修正する色、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、ＢＭ（ブラックマトリックスの黒）、場合によってはＯＣ（オーバーコート）ごとに塗布ユニット５０を設けて複数台の塗布ユニット５０を配置し、修正する色に合わせて、塗布ユニット５０を選択して修正を行なうことも可能である。この場合、修正する色に合わせて修正が行われるため、塗布針２４の洗浄は不要である。また、修正液２２は、ほぼ密閉した容器２１内にあるため、開放して使う場合に比べて日持ちする効果も得られる。
【００６４】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】この発明の実施の形態１によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。
【図２】図１に示した塗布機構部に含まれる塗布ユニットの構成を示す断面図である。
【図３】図２に示した容器および塗布針の構成を示す断面図である。
【図４】図２に示した容器の取付け方法を示す断面図である。
【図５】図２に示した塗布ユニットの変更例を示す断面図である。
【図６】図２に示した塗布ユニットの塗布動作を示す断面図である。
【図７】この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の塗布ユニットの構成および動作を示す断面図である。
【図８】図７に示した塗布針固定板の取り付け方法を示す上面図である。
【図９】図７に示した容器および塗布針の構成を示す断面図である。
【図１０】この発明の実施の形態３によるパターン修正装置の塗布ユニットの構成および動作を示す断面図である。
【図１１】図１０に示した塗布ユニットの塗布動作を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１  パターン修正装置、２  観察光学系、３  モニタ、４  カット用レーザ部、５  塗布機構部、６  基板加熱部、７  画像処理部、８  ホストコンピュータ、９  制御用コンピュータ、１０  ＸＹステージ、１１  チャック部、１２  Ｚステージ、２０，４０，５０  塗布ユニット、２１  容器、２１ａ  第１の孔、２２  修正液、２３  蓋、２３ａ  第２の孔、２４  塗布針、２４ａ  先端部、２５  塗布針固定板、２５ａ  切り欠き部、２６，５２  直動案内部材、２６ａ  レール部、２６ｂ  スライド部、２７，２８  ストッパ、２９  支持台、３０  エアシリンダ、３０ａ  出力軸、３１  駆動板、３１ａ，３２，５３  ピン、３３，４３，４４  磁石、３５  基板、３５ａ  欠陥部、３６  対物レンズ、４１，４２，５１  アーム、５１ａ  先端部、４２ｂ，４２ｃ  突き当て部、５１ｂ  切り欠き孔、５４  遮蔽板。
【図１】
0004719050.tif 000002
【図２】
0004719050.tif 000003
【図３】
0004719050.tif 000004
【図４】
0004719050.tif 000005
【図５】
0004719050.tif 000006
【図６】
0004719050.tif 000007
【図７】
0004719050.tif 000008
【図８】
0004719050.tif 000009
【図９】
0004719050.tif 000010
【図１０】
0004719050.tif 000011
【図１１】
0004719050.tif 000012