(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（ＩＩ）で表されるディスコティックネマチック材料。
一般式（ＩＩ）
【化１】
0004822861.tif 000040
（一般式（ＩＩ）中、Ｙ11およびＹ12は、それぞれ、下記一般式（ＩＩ−Ａ）、下記一般式（ＩＩ−Ｂ）または下記一般式（ＩＩ−Ｃ）を表す。）
一般式（ＩＩ−Ａ）
【化２】
0004822861.tif 000041
（一般式（ＩＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15およびＡ16は、それぞれ、メチンまたは窒素原子を表し、Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ11は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ12は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基または炭素数２〜６のアシルアミノ基で置き換わっていてもよい。Ｑ11は、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＩＩ−Ｂ）
【化３】
0004822861.tif 000042
（一般式（ＩＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25およびＡ26は、それぞれ、メチンまたは窒素原子を表し、Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ21は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基または炭素数２〜６のアシルアミノ基で置き換わっていてもよい。Ｑ21は、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＩＩ−Ｃ）
【化４】
0004822861.tif 000043
（一般式（ＩＩ−Ｃ）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35およびＡ36は、それぞれ、メチンまたは窒素原子を表し、Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ32は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基または炭素数２〜６のアシルアミノ基で置き換わっていてもよい。Ｑ31は、重合性基または水素原子を表す。）
【請求項２】
請求項１に記載のディスコティックネマチック材料を含有する、組成物。
【請求項３】
支持体の上に、少なくとも一層の光学異方性層を有し、該光学異方性層が請求項２に記載の組成物から形成される位相差板。
【請求項４】
請求項３に記載の位相差板と偏光膜とを有する、楕円偏光板。
【請求項５】
請求項３に記載の位相差板および/または請求項４に記載の楕円偏光板を含む、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は位相差板などの作製に有用なディスコティックネマチック相を発現するディスコティックネマチック材料、該材料を含む組成物に関する。また、該組成物から形成される光学異方性層を有する位相差板およびこれを用いた楕円偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスコティック液晶性化合物、特に、ディスコティックネマチック相（以下、ＮD相という）を発現する液晶性化合物は光学補償フィルムの用の素材として非常に重要な化合物であることが知られている。ディスコティック液晶性化合物として代表的なものは、C.Destradeらの研究報告（非特許文献１）に記載されているように、例えばベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体等が挙げられ、一般的にこれらを分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された構造である。
【０００３】
しかしながら、ＮD相を発現する液晶性化合物は報告例が限られており（非特許文献２）、例えば、広い温度範囲でＮD相を発現する２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ｛４−（４−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ｝トリフェニレンが開示されているが、トリフェニレンを母核とし、６本の側鎖が置換された構造をしており、その他の化合物でも放射状の側鎖が６本以上置換されているものがほとんどである。
【０００４】
また、最近、ベンゼン環の１，３，５位に１，３，４−オキサジアゾールが３つ置換された化合物がＮD相を発現することが報告されている（非特許文献３）。しかしながら、側鎖が３本未満の化合物がＮD相を発現することはこれまで知られていなかった。
このように、従来、側鎖が多い方がディスコティックネマチック相を発現する上では有利であると考えられていた。
【０００５】
【非特許文献１】Molecular Crystals and Liquid Crystals, １９８1年, ７１巻, １１1頁
【非特許文献２】THE CHEMICAL RECORD, ２００２年, ２巻, ５９頁
【非特許文献３】Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2001年, 370巻, 391頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ＮD相を発現する液晶性化合物は有用であるが、従来のディスコティック液晶性化合物では、その構造が複雑であるため、合成が難しく、コストが高くなってしまうという問題点があった。
本発明の目的は、従来のディスコティック液晶性化合物では実現できなかった、側鎖が２本でありながらＮD相を発現するディスコティックネマチック材料を提供することにある。また、このような材料を含む組成物、および該組成物を用いた位相差板および楕円偏光板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の手段によって解決される。
（１）下記一般式（I）で表される化合物を含む、ディスコティックネマチック材料。
一般式（I）
【０００８】
【化１】
0004822861.tif 000002
（一般式（Ｉ）中、Ａｒは置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を表し、Ｈ1およびＨ2はそれぞれ芳香族へテロ環を表し、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ炭素数１〜３０の置換基を表す。）
（２）前記Ｈ1およびＨ2が、それぞれ、１，２，４−オキサジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、または１，３，４−チアジアゾール環である、（１）に記載のディスコティックネマチック材料。
（３）前記Ｈ1およびＨ2が、１，２，４−オキサジアゾール環である、（２）に記載のディスコティックネマチック材料。
（４）前記Ａｒが置換もしくは無置換のベンゼン環または置換もしくは無置換のナフタレン環である、（１）に記載のディスコティックネマチック材料。
（５）前記Ａｒが置換もしくは無置換のベンゼン環である、（４）に記載のディスコティックネマチック材料。
（６）Ｈ1およびＨ2で表される芳香族ヘテロ環が、それぞれ、前記置換もしくは無置換のベンゼン環の１位および３位に結合している、（５）に記載のディスコティックネマチック材料。
（７）前記一般式（Ｉ）は、下記一般式（ＩＩ）で表される、（１）に記載のディスコティックネマチック材料。
一般式（ＩＩ）
【０００９】
【化２】
0004822861.tif 000003
（一般式（ＩＩ）中、Ｙ11およびＹ12は、それぞれ、下記一般式（ＩＩ−Ａ）、下記一般式（ＩＩ−Ｂ）または下記一般式（ＩＩ−Ｃ）を表す。）
一般式（ＩＩ−Ａ）
【００１０】
【化３】
0004822861.tif 000004
（一般式（ＩＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15およびＡ16は、それぞれ、メチンまたは窒素原子を表し、Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ11は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ12は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよい。Ｑ11は、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＩＩ−Ｂ）
【００１１】
【化４】
0004822861.tif 000005
（一般式（ＩＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25およびＡ26は、それぞれ、メチンまたは窒素原子を表し、Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ21は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよい。Ｑ21は、重合性基または水素原子を表す。）
一般式（ＩＩ−Ｃ）
【００１２】
【化５】
0004822861.tif 000006
（一般式（ＩＩ−Ｃ）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35およびＡ36は、それぞれ、メチンまたは窒素原子を表し、Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ32は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよい。Ｑ31は、重合性基または水素原子を表す。）
（８）（１）〜（７）のいずれか１項に記載のディスコティックネマチック材料を含有する、組成物。
（９）支持体の上に、少なくとも一層の光学異方性層を有し、該光学異方性層が（８）に記載の組成物から形成される位相差板。
（１０）（９）に記載の位相差板と偏光膜とを有する、楕円偏光板。
（１１）（９）に記載の位相差板および/または（１０）に記載の楕円偏光板を含む、液晶表示装置。
（１２）下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物。
一般式（ＩIＩ）
【００１３】
【化６】
0004822861.tif 000007
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ炭素数１〜１５の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基を表し、これらの基中の水素原子は置換基で置き換わっていてもよく、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7はそれぞれ置換基を表し、ｌ、ｍおよびｎはそれぞれ０〜４の整数を表し、Ｌ4およびＬ5はそれぞれ単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−および−ＮＨ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、環Ａおよび環Ｂはそれぞれ１，２，４−オキサジアゾール−３，５−ジイル基、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル基、１，２，４−チアジアゾール−３，５−ジイル基、または１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル基を表す。）
（１３）一般式（ＩＩＩ）において環Ａおよび環Ｂが１，２，４−オキサジアゾール−３，５−ジイル基で表される（１２）に記載の化合物。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、従来のディスコティック液晶性化合物では実現できなかった、ＮD相を発現しながらも、側鎖が少なく、安価に提供可能なディスコティックネマチック材料、該材料を含む組成物およびこれを用いた偏光板等を提供することが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。本明細書において、液晶性化合物とは、液晶性を示す化合物のことをいう。本明細書において、ディスコティックネマチック材料とは、ディスコティックネマチック相を形成可能な材料をいう。また、本明細書におけるディスコティックネマチック材料を含む組成物（以下、単に本発明の組成物ということがある）は、液晶性を失ったものであってもよい趣旨である。
【００１６】
まず、本発明のＮD相を発現する材料について詳細に説明する。
本発明のディスコティックネマチック材料（ＮD材料）は下記一般式（I）で表される化合物を含む。一般式（I）で表される化合物は、特に述べなくても、本発明の趣旨を逸脱しない限り、該化合物中水素原子が置換基によって置換されていてもよい。
一般式（I）
【００１７】
【化７】
0004822861.tif 000008
（一般式（Ｉ）中、Ａｒは置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を表し、Ｈ1およびＨ2はそれぞれ芳香族へテロ環を表し、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ炭素数１〜３０の置換基を表す。）
Ａｒは、置換もしくは無置換のベンゼン環または置換もしくは無置換のナフタレン環であることが好ましく、置換もしくは無置換のベンゼン環であることがより好ましく、無置換のベンゼン環であることがさらに好ましい。
【００１８】
Ｈ1およびＨ2は、それぞれ、５員環であることが好ましく、１，２，４−オキサジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、または１，３，４−チアジアゾール環であることがより好ましく、１，２，４−オキサジアゾール環であることがさらに好ましい。
【００１９】
Ｈ1およびＨ2とＡｒとの結合位置は本発明の趣旨を逸脱しない限り特に定めるものではない。
例えば、Ｈ1およびＨ2が１，２，４−オキサジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、または１，３，４−チアジアゾール環である場合、それぞれ、３位または５位での結合が可能であり、それぞれ、いずれの位置でＡｒに結合していてもよい。
一方、Ａｒがベンゼン環である場合、Ｈ1およびＨ2は該ベンゼン環のいずれの位置に結合していてもよいが、１位および２位、１位および３位、１位および４位に結合していることが好ましく、１位および３位に置換していることがより好ましい。
【００２０】
Ａｒが有してもよい置換基の好ましい例としては下記のものが挙げられる。
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、アルケニル基（好ましくは、炭素数２〜３０のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（ビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）基、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは、５または６員環の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５または６員環の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数２〜３０のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０のアルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０のアルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキルスルフィニル基、６〜３０のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルスルホニル基もしくはアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基、６〜３０のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０のアルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは、炭素数６〜３０のアリールアゾ基、炭素数３〜３０のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【００２１】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、より具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００２２】
上記置換基の中で、より好ましくは、炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシカルボニルオキシ基、シアノ基、ハロゲン原子である。
【００２３】
Ｒ1およびＲ2である、炭素数１〜３０の置換基としては、上記のＡｒが有してもよい置換基の例が挙げられ、アリール基またはヘテロ環基（置換基を有するものを含む）であることが好ましい。
【００２４】
Ｈ1とＲ1およびＨ2とＲ2の結合の位置関係は、特に定めるのではないが、例えば、Ｈ1およびＨ2が１，２，４−オキサジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、または１，３，４−チアジアゾール環である場合、それぞれ、３位または５位での結合が可能であり、いずれかの位置でＡｒと結合し、他方においてＲ1およびＲ2に結合していることが好ましい。
【００２５】
一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい例として、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が挙げられる。
一般式（ＩＩ）
【００２６】
【化８】
0004822861.tif 000009
【００２７】
（一般式（ＩＩ）中、Ｙ11およびＹ12は、それぞれ、下記一般式（ＩＩ−Ａ）、下記一般式（ＩＩ−Ｂ）または下記一般式（ＩＩ−Ｃ）を表す。）
一般式（ＩＩ）中、ベンゼン環上の水素原子は置換基で置き換わっていてもよい。この場合の置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基が挙げられる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がより好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がさらに好ましい。上記ベンゼン環は、無置換である方がさらに好ましい。
【００２８】
Ｙ11およびＹ12は、それぞれ、下記一般式（ＩＩ−Ａ）、下記一般式（ＩＩ−Ｂ）または下記一般式（ＩＩ−Ｃ）を表す。
波長分散性を小さくしようとする場合、一般式（ＩＩ−Ａ）または一般式（ＩＩ−Ｃ）が好ましく、一般式（ＩＩ−Ａ）がより好ましい。Ｙ11およびＹ12は、同一であることが好ましい。
【００２９】
一般式（ＩＩ−Ａ）
【００３０】
【化９】
0004822861.tif 000010
（一般式（ＩＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15およびＡ16は、それぞれ、メチンまたは窒素原子を表し、Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ11は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ12は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよい。Ｑ11は、重合性基または水素原子を表す。）
【００３１】
Ａ11およびＡ12は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ13、Ａ14、Ａ15およびＡ16は、これらのうち少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがさらに好ましい。
Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15またはＡ16がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数２〜１６のアルケニル基、炭素数２〜１６のアルキニル基、炭素数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数２〜１６のアシル基、炭素数１〜１６のアルキルチオ基、炭素数２〜１６のアシルオキシ基、炭素数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００３２】
一般式（ＩＩ−Ｂ）
【００３３】
【化１０】
0004822861.tif 000011
（一般式（ＩＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25およびＡ26は、それぞれ、メチンまたは窒素原子を表し、Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ21は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよい。Ｑ21は、重合性基または水素原子を表す。）
【００３４】
Ａ21およびＡ22は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ23、Ａ24、Ａ25およびＡ26は、これらのうち少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがさらに好ましい。
Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25またはＡ26がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数２〜１６のアルケニル基、炭素数２〜１６のアルキニル基、炭素数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数２〜１６のアシル基、炭素数１〜１６のアルキルチオ基、炭素数２〜１６のアシルオキシ基、炭素数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００３５】
一般式（ＩＩ−Ｃ）
【００３６】
【化１１】
0004822861.tif 000012
（一般式（ＩＩ−Ｃ）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35およびＡ36は、それぞれ、メチンまたは窒素原子を表し、Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ32は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよい。Ｑ31は、重合性基または水素原子を表す。）
【００３７】
Ａ31およびＡ32は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ33、Ａ34、Ａ35およびＡ36は、これらのうち少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。
Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35またはＡ36がメチンの場合、メチンは置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数２〜１６のアルケニル基、炭素数２〜１６のアルキニル基、炭素数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数２〜１６のアシル基、炭素数１〜１６のアルキルチオ基、炭素数２〜１６のアシルオキシ基、炭素数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００３８】
一般式（ＩＩ−Ａ）中のＬ11、一般式（ＩＩ−Ｂ）中のＬ21、一般式（ＩＩ−Ｃ）中のＬ31は、好ましくは、それぞれ、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００３９】
一般式（ＩＩ−Ａ）中のＬ12、一般式（ＩＩ−Ｂ）中のＬ22、一般式（ＩＩ−Ｃ）中のＬ32は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。
また、Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32は、それぞれ、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数２〜１４であることがより好ましく、−ＣＨ2−を１〜１６個含みかつ炭素数２〜１４であることがさらに好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個含みかつ炭素数２〜１４であることがよりさらに好ましい。
特に好ましくは、  Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32は、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれ、かつ、炭素数１〜２０である。
また、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００４０】
一般式（ＩＩ−Ａ）中のＱ11、一般式（ＩＩ−Ｂ）中のＱ21、一般式（ＩＩ−Ｃ）中のＱ31は、それぞれ、重合性基または水素原子を表す。
本発明のＮD材料を光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないものが好ましい光学フィルム等に用いる場合には、Ｑ11、Ｑ21、Ｑ31は重合性基であるほうが好ましい。
ここで、重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。すなわち、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００４１】
【化１２】
0004822861.tif 000013
【００４２】
Ｑ11、Ｑ21、Ｑ31は、さらに好ましくは、重合性基は付加重合反応が可能な官能基である。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。
【００４３】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【００４４】
【化１３】
0004822861.tif 000014
【００４５】
式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。
上記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中、（Ｍ−１）または（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【００４６】
開環重合性基は、環状エーテル基が好ましく、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基がさらに好ましい。
【００４７】
一般式（ＩＩ）は、好ましくは、一般式（ＩＩＩ）で表される。
（ＩＩＩ）
【００４８】
【化１４】
0004822861.tif 000015
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ炭素数１〜１５の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基を表し、これらの基中の水素原子は置換基で置き換わっていてもよく、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7はそれぞれ置換基を表し、ｌ、ｍおよびｎはそれぞれ０〜４の整数を表し、Ｌ4およびＬ5はそれぞれ単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−および−ＮＨ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、環Ａおよび環Ｂはそれぞれ１，２，４−オキサジアゾール−３，５−ジイル基、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル基、１，２，４−チアジアゾール−３，５−ジイル基、または１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル基を表す。）
【００４９】
Ｒ3およびＲ4はそれおｚれ置換または無置換の炭素数１〜１５の直鎖もしくは分岐のアルキル基が好ましい。置換基の例としてはハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基、炭素数２〜６のアシルアミノ基および前記重合性エチレン性不飽和基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基および前記重合性エチレン性不飽和基がより好ましい。
【００５０】
Ｒ5、Ｒ6およびＲ7で表される置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数２〜１６のアルケニル基、炭素数２〜１６のアルキニル基、炭素数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数２〜１６のアシル基、炭素数１〜１６のアルキルチオ基、炭素数２〜１６のアシルオキシ基、炭素数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
【００５１】
ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ、０、１、２であることが好ましく、０または１であることがより好ましく、０であることがさらに好ましい。ｌ、ｍ、ｎが２以上の場合、２以上のＲ5、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００５２】
Ｌ4およびＬ5は、それぞれ単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−および−ＮＨ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、−ＮＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。該置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましい。Ｌ4およびＬ5は、好ましくは、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、であり、より好ましくは−ＣＯ−Ｏ−である。
【００５３】
環Ａおよび環Ｂは、好ましくは１，２，４−オキサジアゾール−３，５−ジイル基である。
【００５４】
以下に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５５】
【化１５】
0004822861.tif 000016
【００５６】
【化１６】
0004822861.tif 000017
【００５７】
【化１７】
0004822861.tif 000018
【００５８】
【化１８】
0004822861.tif 000019
【００５９】
【化１９】
0004822861.tif 000020
【００６０】
【化２０】
0004822861.tif 000021
【００６１】
【化２１】
0004822861.tif 000022
【００６２】
【化２２】
0004822861.tif 000023
【００６３】
【化２３】
0004822861.tif 000024
【００６４】
【化２４】
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【００６５】
【化２５】
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【００６６】
【化２６】
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【００６７】
【化２７】
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【００６８】
【化２８】
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【００６９】
【化２９】
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【００７０】
【化３０】
0004822861.tif 000031
【００７１】
【化３１】
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【００７２】
【化３２】
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【００７３】
【化３３】
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【００７４】
【化３４】
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【００７５】
一般式（I）、一般式（ＩＩ）および一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、通常の有機合成化学的手法を駆使することで容易に製造できる。例えばOrganic Synthesis、Organic Reactions、実験化学講座（丸善株式会社出版）等に記載の手法を適当に選択、組み合わせることで容易に合成できる。また、芳香族へテロ環については、新編へテロ環化合物  応用編（講談社サイエンティフィック）の記載に従って合成可能であり、加えて、１，２，４−オキサジアゾール環を有する化合物については、Journal of Medicinal Chemistry, 1972年, 15巻, 1198-1200頁， Chemische Berichte, 1965年, 98巻, 2966-2984頁等に類似化合物の合成についての記載があり、その手法に従って合成可能である。
【００７６】
本発明の均一に配向した状態とは、均一で欠陥のないモノドメインな配向状態指す。このような配向状態を実現するためには、良好なモノドメイン性を示す液晶相が望ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。良好なモノドメイン性を示すと、例えば位相差板に用いた場合に該位相差板が高い光透過率を有しやすくなる。
【００７７】
一般式（I）で表される化合物は、ＮD相を２０℃〜３００℃の範囲で発現させるものが好ましい。より好ましくは４０℃〜２８０℃であり、さらに好ましくは６０℃〜２５０℃である。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。
【００７８】
本発明において、均一に配向した薄膜を得るためには、例えば、本発明のＮD材料に、必要に応じて他の添加剤を加え組成物（液晶性組成物）とした後に、該組成物を塗布し、液晶状態で均一に配向させることで得られる。本発明の組成物に加えることのできる添加剤の例としては、後述する空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。
一般式（Ｉ）で表される化合物を配向させる配向形態としては、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向、垂直配向が好ましい。
本発明の組成物が均一に配向した薄膜の厚さは、０．２〜１０．０μｍであることが好ましく、０．４〜４．０μｍであることがより好ましい。
【００７９】
均一に配向した状態を実現するために、配向膜を設けることが好ましい。但し、一般式（Ｉ）で表される化合物の光軸方向が薄膜面の法線方向と一致する場合（ホメオトロピック配向）においては必ずしも配向膜は必要ではない。
配向膜は、有機化合物（好ましくは、ポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与または光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
本発明の組成物に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、ラビング処理または光照射により形成される配向膜が好ましく、ポリマーのラビング処理により形成される配向膜がさらに好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがより好ましい。
【００８０】
（配向膜のラビング密度）
配向膜のラビング密度と配向膜界面での一般式（Ｉ）で表される化合物のプレチルト角との間には、ラビング密度を高くするとプレチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとプレチルト角は大きくなる関係があるので、配向膜のラビング密度を変えることで、プレチルト角の調整をすることができる。
配向膜のラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会編（丸善（株）、２０００年）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は式（Ａ）で定量化されている。
【００８１】
式（Ａ）  Ｌ＝Ｎｌ｛１＋（２πｒｎ／６０ｖ）｝
【００８２】
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
【００８３】
本発明で配向状態が固定化された状態とは、その配向が保持された状態が最も典型的、かつ、好ましい態様ではあるが、それだけには限定されず、例えば、０℃〜５０℃、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の温度範囲において、該固定化された組成物に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を含む趣旨である。なお、配向状態が最終的に固定化され光学異方性層が形成された際に、本発明の組成物はもはや液晶性を示す必要はない。例えば、液晶性化合物である一般式（Ｉ）で表される化合物が重合性基を有する場合、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋反応が進行し、高分子量化して、液晶性を失ってもよい。
光学異方性層の形成にあたり本発明の組成物に加えることのできる添加剤の例としては、空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。
【００８４】
［空気界面配向制御剤］
本発明の組成物は、空気界面においては空気界面のチルト角で配向する。このチルト角は、本発明の組成物に含まれる化合物の種類や添加剤の種類等で、その程度が異なるため、目的に応じて空気界面のチルト角を任意に制御する必要がある。
【００８５】
前記チルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。このような添加剤としては、炭素数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族基または、炭素数が６〜４０の置換もしくは無置換の脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に１本以上有する化合物が好ましく、分子内に２本以上有する化合物がさらに好ましい。例えば、空気界面配向制御剤としては、特開２００２−２０３６３号公報に記載の疎水性排除体積効果化合物を用いることができる。
【００８６】
空気界面側の配向制御用添加剤の添加量としては、本発明の組成物に対して、０．００１〜２０質量％が好ましく、０．０１質量％〜１０質量％がより好ましく、０．１質量％〜５質量％がさらに好ましい。
【００８７】
［ハジキ防止剤］
本発明の組成物に添加し、該組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。
使用するポリマーとしては、本発明の組成物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。
本発明の組成物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、本発明の組成物に対して、０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００８８】
［重合開始剤］
本発明における配向状態を固定化する方法としては、本発明の組成物を、一度、液晶相形成温度まで加熱し、次にその配向状態を維持したまま冷却することにより、その液晶状態における配向形態を損なうことなく固定化することで形成できる。また、本発明の組成物に重合開始剤を添加した組成物を液晶相形成温度まで加熱した後、重合させ冷却することによって液晶状態の配向状態を固定化することで形成できる。本発明における配向状態の固定化は、後者の重合反応により行うことが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応と電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応または電子線照射による重合反応が好ましい。
【００８９】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同第２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同第２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、光学異方性層の塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
【００９０】
重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、雰囲気の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させることが好ましい。好ましい酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がより好ましく、３％以下がさらに好ましい。
【００９１】
［重合性モノマー］
本発明の組成物には、重合性モノマーを添加してもよい。本発明で使用できる重合性モノマーとしては、一般式（Ｉ）で表される化合物と相溶性を有し、本発明の組成物の配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、一般式（Ｉ）で表される化合物に対して０．５〜５０質量％の範囲にあることが好ましく、１〜３０質量％の範囲にあることがより好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
【００９２】
［塗布溶剤］
本発明の組成物の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド、エステルおよびケトンが好ましい。これらは、２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００９３】
［塗布方式］
本発明の組成物は、例えば、配向膜上に塗布し、配向処理することにより光学フィルムとして用いることができる。
塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、スピンコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００９４】
［位相差板］
本発明の位相差板は、透明支持体の上に本発明の組成物から形成される光学異方性層を有する。透明支持体と光学異方性層の間には配向膜を設けることが好ましい。光学異方性層は、本発明の組成物に必要に応じて他の添加剤を加え、該組成物を配向膜上に塗布した後、液晶状態の配向を固定化して得られる。
【００９５】
本発明の位相差板における光学的異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．２〜１５μｍであることがさらに好ましく、０．５〜１０μｍであることが特に好ましい。
【００９６】
本発明の位相差板は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型、反射型、および半透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、上記装置の視野角の拡大に寄与させることができる。
【００９７】
［支持体］
本発明の位相差板の支持体としては、特に制限はないが、透明支持体であることが好ましい。また、前記光学的異方性層を仮支持体上に形成した後、別の支持体上に光学的異方性層のみを転写することによって、本発明の位相差板を作製することもできる。透明支持体としては、主に光学的等方性で、光透過率が８０％以上であれば、特に材料の制限はないが、ポリマーフィルムが好ましい。
ポリマーの具体例として、セルロースアシレート類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素数が６以下の脂肪酸で、炭素数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載の分子の修飾により該発現性を低下させたものも使用できる。
【００９８】
以下、透明支持体として好ましく使用されるセルロースアシレート（特に、セルローストリアセテート）について詳述する。
セルロースアシレートとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがより好ましく、１．４〜１．６であることがさらに好ましい。
【００９９】
セルロースアシレートでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０〜４０％のアシル基で置換されていることが好ましく、３１〜４０％のアシル基で置換されていることがより好ましく、３２〜４０％のアシル基で置換されていることがさらに好ましい。
６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基（例えば、プロピオニル基、ブチリル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【０１００】
透明支持体として用いるポリマーフィルム、特にセルロースアシレートフィルムは、レターデーションを調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することも可能である。このようなレターデーション上昇剤を使用する場合、レターデーション上昇剤は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【０１０１】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。
【０１０２】
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【０１０３】
前記芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
【０１０４】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが特に好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤については国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１パンフレット、国際公開ＷＯ００／２６１９Ａ１パンフレット、特開２０００−１１１９１４号公報、特開２０００−２７５４３４号公報、特開２００２−３６３３４３号公報等に記載されている。
【０１０５】
セルロースアシレートフィルムは、調製されたセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりを製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加してもよい。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許第６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【０１０６】
前記ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００℃〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１０７】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフィルム化することもできる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによりフィルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルムの流延方法を用いてもよい。
【０１０８】
セルロースアシレートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、０〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明に用いるセルロースアシレートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。
【０１０９】
セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、ジフェニルビフェニルホスフェートおよびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジ−２−エチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが特に好ましい。
【０１１０】
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量を０．０１質量％以上とすることにより、劣化防止剤効果がより効果的なものとなる。添加量を０．２質量％以下とすることにより、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）をより効果的に抑止できる。
特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。
【０１１１】
セルロースアシレートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアシレートフィルムの温度をガラス転移温度（Ｔｇ）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【０１１２】
セルロースアシレートフィルムの表面処理は、配向膜などとの接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの濃度は、０．１〜３．０ ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０ ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温（例えば、１８℃）〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１１３】
また、セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。
表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【０１１４】
セルロースアシレートフィルムの厚さは、５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がさらに好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。
【０１１５】
［楕円偏光板］
本発明の位相差板と偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。本発明の位相差板を利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大しうる楕円偏光板を提供することができる。
前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【０１１６】
偏光膜は位相差板の光学異方性層側に積層する。偏光膜の位相差板を積層した側と反対側の面に透明保護膜を形成することが好ましい。透明保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明保護膜としては、好ましくはセルロースエステルフィルム、より好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【０１１７】
［液晶表示装置］
本発明の位相差板の利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償フィルム）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用光学補償フィルムは、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用光学補償フィルムは、米国特許第５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償フィルムは、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償フィルムは、特許登録第２８６６３７２号公報に記載がある。
【０１１８】
本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用位相差板（光学補償フィルム）を作製することができる。本発明の位相差板は、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子および位相差板（光学補償フィルム）からなる。偏光素子は、一般に偏光膜と保護膜からなる。偏光膜と保護膜については、上記楕円偏光で説明したものを用いることができる。
【実施例】
【０１１９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【０１２０】
［実施例１］
[Ｄ−２２４の合成]
下記スキームに従って合成した。
【０１２１】
【化３５】
0004822861.tif 000036
【０１２２】
（Ｄ−２２４Ａの合成）
３−シアノ安息香酸クロライド２．５ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍｌに溶解させ、５−クロロ−１−ペンタノール１．９ｇ、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）３．０ｍｌを添加後、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧濃縮した。残渣をメタノール（ＭｅＯＨ）１００ｍｌに溶解させ、５０％ヒドロキシルアミン溶液２．８ｍｌを添加後、４０℃で１時間撹拌した。冷却後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾別、乾燥し、Ｄ−２２４Ａを３．８ｇ得た。
【０１２３】
（Ｄ−２２４Ｂの合成）
Ｄ−２２４Ａ２．８ｇをジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１０ｍｌに溶解させ、ピリジン０．８ｍｌ、イソフタロイルクロライド０．８ｇを添加後、１２０℃で１時間撹拌した。冷却後、メタノールを添加し、析出した結晶を濾取、乾燥し、Ｄ−２２４Ｂを２．１ｇ得た。
【０１２４】
（Ｄ−２２４の合成）
Ｄ−２２４Ｂ２．１ｇをジメチルアセトアミド３０ｍｌに溶解させ、炭酸カリウム２．７ｇ、ヨウ化ナトリウム２．９ｇ、アクリル酸１．３ｍｌを添加後、１００℃で３時間撹拌した。反応液に水を加え、析出した結晶をろ過により濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、Ｄ−２２４を１．８ｇ得た。得られたＤ−２２４のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
【０１２５】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
１．６０（４Ｈ、ｍ）
１．８０−１．９０（８Ｈ、ｍ）
４．２０（４Ｈ、ｔ）
４．４５（４Ｈ、ｔ）
５．８０（２Ｈ、ｄｄ）
６．１５（２Ｈ、ｄｄ）
６．４０（２Ｈ、ｄｄ）
７．６５（２Ｈ、ｔ）
７．８０（１Ｈ、ｔ）
８．２５（２Ｈ、ｄ）
８．４０（２Ｈ、ｄ）
８．５０（２Ｈ、ｄ）
８．９０（２Ｈ、ｓ）
９．１０（１Ｈ、ｓ）
【０１２６】
得られたＤ−２２４の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき７２℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、７５℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ−２２４は７２℃から７５℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分かった。
【０１２７】
［実施例２］
［Ｄ−２２３の合成］
下記スキームに従って合成した。
【０１２８】
【化３６】
0004822861.tif 000037
【０１２９】
実施例１において、５−クロロ−１−ペンタノールを４−クロロ−１−ブタノールに変え、後は実施例１と同様の方法で合成を行い、Ｄ−２２３を２．０ｇ得た。得られたＤ−２２３のＮＭＲスペクトルは以下の通りであった。
【０１３０】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
１．８５−２．００（８Ｈ、ｍ）
４．３０（４Ｈ、ｔ）
４．４５（４Ｈ、ｔ）
５．８５（２Ｈ、ｄｄ）
６．１５（２Ｈ、ｄｄ）
６．４０（２Ｈ、ｄｄ）
７．６５（２Ｈ、ｔ）
７．８０（１Ｈ、ｔ）
８．２５（２Ｈ、ｄ）
８．４０（２Ｈ、ｄ）
８．５０（２Ｈ、ｄ）
８．９０（２Ｈ、ｓ）
９．１０（１Ｈ、ｓ）
【０１３１】
得られたＤ−２２３の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき７４℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、９０℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ−２２３は７４℃から９０℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分かった。
【０１３２】
［実施例３］
［Ｄ−２２２の合成］
下記スキームに従って合成した。
【０１３３】
【化３７】
0004822861.tif 000038
【０１３４】
実施例１の５−クロロ−１−ペンタノールを３−クロロ−１−プロパノールに変え、後は実施例１と同様の方法で合成を行い、Ｄ−２２２を１．２ｇ得た。得られたＤ−２２２のＮＭＲスペクトルは以下の通りであった。
【０１３５】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．２０（４Ｈ、ｑｕｉｎｔ）
４．４０（４Ｈ、ｔ）
４．５０（４Ｈ、ｔ）
５．８０（２Ｈ、ｄｄ）
６．１０（２Ｈ、ｄｄ）
６．４０（２Ｈ、ｄｄ）
７．６５（２Ｈ、ｔ）
７．８０（１Ｈ、ｔ）
８．２０（２Ｈ、ｄ）
８．４０（２Ｈ、ｄ）
８．４５（２Ｈ、ｄ）
８．８５（２Ｈ、ｓ）
９．１０（１Ｈ、ｓ）
【０１３６】
得られたＤ−２２２の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき９４℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、９７℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ−２２２は９４℃から９７℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分かった。
【０１３７】
［実施例４］
［Ｄ−２２１の合成］
下記スキームに従って合成した。
【０１３８】
【化３８】
0004822861.tif 000039
【０１３９】
実施例１の５−クロロ−１−ペンタノールを２−クロロエタノールに変え、後は実施例１と同様の方法で合成を行い、Ｄ−２２１を０．８ｇ得た。得られたＤ−２２１のＮＭＲスペクトルは以下の通りであった。
【０１４０】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
４．５５（４Ｈ、ｔ）
４．６５（４Ｈ、ｔ）
５．８５（２Ｈ、ｄｄ）
６．１５（２Ｈ、ｄｄ）
６．５０（２Ｈ、ｄｄ）
７．６５（２Ｈ、ｔ）
７．８０（１Ｈ、ｔ）
８．２０（２Ｈ、ｄ）
８．４０（２Ｈ、ｄ）
８．４５（２Ｈ、ｄ）
８．８５（２Ｈ、ｓ）
９．１０（１Ｈ、ｓ）
【０１４１】
得られたＤ−２２１の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき９０℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、１１２℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ−２２１は９０℃から１１２℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分かった。