(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の半導体チップ同士を配線するためのワイヤ又は前記複数の半導体チップを収容する半導体パッケージのリードフレームと前記半導体チップとを配線するためのワイヤを中継し、前記半導体パッケージに設けられる中継基板であって、
少なくとも４個のボンディングパッドが設けられた配線を複数備え、前記複数の配線のうち少なくとも一部の配線は、該中継基板の主面に「コ」の字形に形成された個別の金属配線の組み合わせを含むことを特徴とする中継基板。
【請求項２】
前記複数の配線のうち少なくとも一部の配線は、該中継基板の主面に互いに略平行に設けられていることを特徴とする請求項１記載の中継基板。
【請求項３】
前記複数の配線において、一の配線におけるボンディングパッドと隣り合う他の配線におけるボンディングパッドは、当該配線の設けられている方向に所定の長さずらして設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の中継基板。
【請求項４】
第１の半導体チップと第２の半導体チップと中継基板とをパッケージ化した半導体装置であって、
前記第１の半導体チップの上に前記中継基板と前記第２の半導体チップが並べられて配置され、
前記中継基板は、請求項１乃至３記載の中継基板であることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
前記中継基板は前記第１の半導体チップの上に複数配置されていることを特徴とする請求項４記載の半導体装置。
【請求項６】
複数の半導体チップを収容してパッケージ化した半導体装置であって、
前記複数の半導体チップ同士を配線するためのワイヤ又は前記複数の半導体チップを収容する半導体パッケージのリードフレームと前記半導体チップとを配線するためのワイヤを中継する中継基板を備え、
前記中継基板は、少なくとも４個のボンディングパッドが設けられた配線を複数備え、前記複数の配線のうち少なくとも一部の配線は、該中継基板の主面に「コ」の字形に形成された個別の金属配線の組み合わせを含むことを特徴とする半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中継基板及び当該中継基板を備えた半導体装置に関し、特に、例えば複数の半導体チップを１つの半導体パッケージ内に収容した形態の半導体装置において、前記複数の半導体チップ同士、又は前記半導体チップと前記半導体パッケージのリードフレーム等を配線するために使用される中継基板及び当該中継基板を備えた半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＳｉＰ（Ｓｙｓｔｅｍ  ｉｎ  Ｐａｃｋａｇｅ）技術を用いることにより、複数の異なる機能のチップを半導体パッケージ内に実装して単一パッケージ化することが知られている。かかる技術を用いて複数の半導体チップを１つの半導体パッケージに収容する場合、半導体チップ同士を直接ワイヤーボンディングするか、或いは個々の半導体チップから半導体パッケージのリードフレーム等にワイヤーボンディングを行って配線することが必要となる。
【０００３】
図１はＳｉＰ技術を用いた従来の半導体装置の平面図である。図１を参照するに、従来の半導体装置１０において、第１の半導体チップ１１は、ボンディングパッド１９を備えたリードフレームに実装されている。第１の半導体チップ１１の上には第２の半導体チップ１８が重ねて固着されている。第２の半導体チップ１８の４つのボンディングパッド１２−１乃至１２−４が、第１半導体チップ用ボンディングワイヤ１３乃至１６により、第１の半導体チップ１１の四辺に沿って多数設けられたボンディングパッド９のうち、所望のボンディングパッド９−１乃至９−４にそれぞれ接続している。また、第１半導体チップ１１のボンディングパッド９は、リードフレーム用ボンディングワイヤ１７により、リードフレームのボンディングパッド１９と接続している。
【０００４】
しかし、このように複数の半導体チップ１１及び１８が上下に重ねて設けられた場合、第１半導体チップ用ボンディングワイヤ１３及び１４のように、ボンディングワイヤ同士が重なったり、第１半導体チップ用ボンディングワイヤ１５及び１６のように、ワイヤ長が長くなりすぎたりしてしまう。
【０００５】
かかる問題を解消すべく、図２及び図３に示すように、ボンディングワイヤによる配線を中継するターミナルチップを半導体パッケージ内に設けた態様が提案されている。
【０００６】
図２は、ターミナルチップを設けた従来の半導体装置の第１の例の平面図である。図２を参照するに、半導体装置２０において、第１の半導体チップ１１と第２の半導体チップ１８との間にターミナルチップ２５が挟持されている。ターミナルチップ２５には、８個のボンディングパッド２６が形成されている。更に、ターミナルチップ２５には、２個のボンディングパッド２６を接続する金属配線２７が４本設けられている。ボンディングパッド２６は、第１ボンディングワイヤ２４を介して第２の半導体チップ１８のボンディングパッド１２に、第２ボンディングワイヤ２８を介して第１の半導体チップ１１のボンディングパッド９に、また、第３ボンディングワイヤ２９を介してリードフレームのボンディングパッド１９と接続している。かかる構造の下、ターミナルチップ２５はボンディングワイヤ２４、２８及び２９を中継し、図１の構造よりもワイヤ長の短縮を図っている。
【０００７】
図３は、ターミナルチップを設けた従来の半導体装置の第２の例の平面図である。図３を参照するに、半導体装置３０において、第１の半導体チップ１１の上に、第２の半導体チップ１８とターミナルチップ３５とが並んで設けられている。ターミナルチップ３５には、６個のボンディングパッド３６が形成されている。更に、ターミナルチップ３５には、２個のボンディングパッド３６を接続する金属配線３７が３本設けられている。図３中、ターミナルチップ３５において最も左及び真ん中にある金属配線３７が夫々接続するボンディングパッド３６のうち、一のボンディングパッド３６−１は第１ボンディングワイヤ３８を介して第２の半導体チップ１８のボンディングパッド１２に、他のボンディングパッド３６−２は第２ボンディングワイヤ３９を介して第１の半導体チップ１１のボンディングパッド９に、更に、リードフレーム用ボンディングワイヤ１７を介してリードフレームのボンディングパッド１９に接続している。かかる構造の下、ターミナルチップ３５はボンディングワイヤ３８及び３９を中継し、図１の構造のようにボンディングワイヤ同士が重なることを回避している。
【特許文献１】特開昭６１−１１２３４６号公報
【特許文献２】特開平８−７８４６７号公報
【特許文献３】特開２００１−７２７８号公報
【特許文献４】特開２００４−５６０２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、ターミナルチップに組み合わされる半導体チップの大きさ及び当該半導体チップに形成されるボンディングパッドの数や配置は様々である。従って、一の半導体パッケージの設計に適したターミナルチップであっても、必ずしも他の半導体パッケージの設計に適するとは限らない。即ち、図２及び図３に示すターミナルチップ２５及び３５が、図２及び図３に示された半導体チップ以外の他の半導体チップとの組み合わせに適さない場合がある。
【０００９】
従って、従来においては半導体パッケージ内に実装される半導体チップの仕様や組み合わせ毎に、それにあった異なるターミナルチップを作成し用意する必要があった。
【００１０】
このような半導体チップとの特定の組み合わせでしか使用できないターミナルチップは、長期の開発期間を必要とし、また、多大な製造費用が要される。
【００１１】
そこで、本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであって、中継する半導体チップとの特定の組み合わせではなく、様々な組み合わせに対して共通に使用することができる汎用性の高い中継基板及び当該中継基板を備えた半導体装置を提供することを本発明の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一観点によれば、複数の半導体チップ同士を配線するためのワイヤ又は前記複数の半導体チップを収容する半導体パッケージのリードフレームと前記半導体チップとを配線するためのワイヤを中継し、前記半導体パッケージに設けられる中継基板であって、少なくとも３個のボンディングパッドが設けられた配線を複数備えたことを特徴とする中継基板が提供される。
【００１３】
本発明の別の観点によれば、第１の半導体チップと第２の半導体チップと中継基板とをパッケージ化した半導体装置であって、前記第１の半導体チップの上に前記中継基板が配置され、前記中継基板の上に前記第２の半導体チップが配置され、前記中継基板は、請求項１記載の中継基板であることを特徴とする半導体装置が提供される。
【００１４】
本発明の更に別の観点によれば、第１の半導体チップと第２の半導体チップと中継基板とをパッケージ化した半導体装置であって、前記第１の半導体チップの上に前記中継基板と前記第２の半導体チップが並べて配置され、前記中継基板は、請求項１項記載の半導体装置が提供される。
【００１５】
本発明の更に別の観点によれば、複数の半導体チップを収容してパッケージ化した半導体装置であって、前記複数の半導体チップ同士を配線するためのワイヤ又は前記複数の半導体チップを収容する半導体パッケージのリードフレームと前記半導体チップとを配線するためのワイヤを中継する中継基板を備え、前記中継基板は、少なくとも３個のボンディングパッドが設けられた配線を複数備えたことを特徴とする半導体装置が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、中継する半導体チップとの特定の組み合わせではなく、様々な組み合わせに対して共通に使用することができる汎用性の高い中継基板及び当該中継基板を備えた半導体装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について説明する。説明の便宜上、先ず図４乃至図１０を参照して本発明の実施の形態に係るターミナルチップについて説明し、次いで図１１乃至図１５を参照して本発明の実施の形態に係る半導体装置について説明する。
【００１８】
[ターミナルチップ]
本発明のターミナルチップは、半導体装置に設けられ、当該半導体装置に実装される半導体チップの中継基板として機能する。
【００１９】
まず、本発明の第１の実施形態に係るターミナルチップについて、図４乃至図６を参照して説明する。
【００２０】
図４は、本発明の第１の実施形態に係るターミナルチップの平面図である。図４を参照するに、本発明の第１の実施形態にかかるターミナルチップ４０は、平面視すると矩形形状を有し、金属からなる４本の配線４１−１乃至４１−４が、ターミナルチップ４０の四辺に沿って同心状に設けられている。また、金属配線４１によりボンディングパッド４５が接続されている。具体的には、金属配線４１−１乃至４１−４の夫々に、３個以上の多数のボンディングパッド４５が所定の間隔を設けて形成されている。
【００２１】
図１１を参照して後述するが、本実施形態におけるターミナルチップ４０は、例えば、ターミナルチップ４０より大きい面積を有する一の半導体チップと、ターミナルチップ４０より小さい面積を有し、上述の金属配線４１−１乃至４１−４が設けられていない部分に設けられる他の半導体チップとに挟持され、ターミナルチップ４０のボンディングパッド４５が、所定のボンディングワイヤを介して、前記半導体チップそれぞれに形成されたボンディングパッド等に接続される。
【００２２】
図２及び図３を参照して説明したように、従来のターミナルチップは１つの金属配線に一対のボンディングパッド、即ち、１つの金属配線に対しボンディングパッド２個のみしか設けられていないが、図４に示す本実施形態のターミナルチップ４０では１つの金属配線４１に３個以上の多数のボンディングパッド４５が設けられている。従って、半導体チップとの組み合わせに応じて都合の良い位置にあるボンディングパッド４５を適宜選択して使用することができる。
【００２３】
また、上述のように、本実施形態のターミナルチップ４０では複数の金属配線４１が設けられているため、半導体チップの組み合わせに応じて都合の良い金属配線４１を選択し、その金属配線４１に設けられたボンディングパッド４５を選択して使用することができる。
【００２４】
なお、ターミナルチップ４０の基板は、例えば、半導体チップと同じ材料のシリコンから成る。従って、ターミナルチップ４０は、半導体チップ材料の熱膨張率等の違いによるひずみ等の発生を回避することができる。しかしながら、本発明のターミナルチップの材料はシリコンに限定されず、例えば、セラミック、ベークライト、ガラスエポキシ樹脂等の薄型基板又はポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の樹脂フィルム等から成っていてもよい。
【００２５】
図５は、図４において点線で囲った部分を拡大し（図５−（Ａ））、一の金属配線におけるボンディングパッドと他の金属配線におけるボンディングパッドの位置が、当該金属配線の設けられている方向と垂直な方向において揃っている場合（図５−（Ｂ））と比較した図である。
【００２６】
図５−（Ａ）を参照するに、図４に示すターミナルチップ４０では、一の金属配線４１−１におけるボンディングパッド４５−１と、隣り合う他の金属配線４１−２におけるボンディングパッド４５−２とが、当該金属配線４１−１及び４１−２が設けられている方向に所定の長さずれて、互い違いになるように設けられている。従って、一の金属配線４１−１におけるボンディングパッド４５−１と隣り合う他の金属配線４１−２におけるボンディングパッド４５−２との間隔ａは、図５−（Ｂ）に示す場合における一の金属配線に設けられたボンディングパッドと隣の金属配線であって当該金属配線の設けられている方向と垂直な方向において揃っているボンディングパッドとの間隔ｂよりも小さくすることができる（ａ＜ｂ）。よって、図５−（Ａ）に示す構成にすることにより、ターミナルチップの小型化を図ることが出来る。
【００２７】
また、図５−（Ａ）及び図５−（Ｂ）において、ボンディングパッド４５に接続するボンディングワイヤを点線で示す。図５−（Ｂ）に示す構成では、一の金属配線に設けられたボンディングパッドに接続するボンディングワイヤは、隣り合う他の金属配線のボンディングパッド上を通り過ぎている。一方、図５−（Ａ）に示す構成では、２本のボンディングワイヤの離間長さａ’を、図５−（Ｂ）に示す構成における２本のボンディングワイヤの離間長さｂ’よりも大きくすることができる（ａ’＞ｂ’）。よって、図５−（Ａ）に示す構成にすることにより、図５−（Ｂ）に示す構成よりも一層容易に、他のボンディングパッド上を通り過ぎることなくワイヤーボンディングすることが出来る。
【００２８】
但し、本発明のターミナルチップにおけるボンディングパッドの配置は、特に上述の例に限定されるものではない。
【００２９】
ところで、図４に示す例では、ターミナルチップ４０に設けられた各金属配線４１は完全に閉じられた状態になっている。しかしながら、本発明は図４に示した例には限定されない。例えば、金属配線の状態は図６に示した例の構成であってもよい。ここで、図６は、図４に示す本発明の第１の実施形態にかかるターミナルチップ４０の変形例のターミナルチップの平面図である。
【００３０】
図６を参照するに、この変形例では、ターミナルチップ６０に設けられた金属配線のうち、金属配線６１−１は完全に閉じたクローズドループ状に設けられているが、例えば金属配線６１−２は完全に閉じておらず一部が開いているオープンループ状に設けられている。
【００３１】
この例でも、金属配線６１は複数設けられ、１つの金属配線６１に３個以上の多数のボンディングパッド６５が設けられている。従って、半導体チップの組み合わせに応じて都合の良い位置にあるボンディングパッドを選択して使用することができる。
【００３２】
図６に示すターミナルチップ６０も、図４に示すターミナルチップ４０と同様に、例えば、ターミナルチップ６０より大きい面積を有する一の半導体チップと、ターミナルチップ６０より小さい面積を有し、上述の金属配線６１が設けられていないターミナルチップ６０の略中央部分に設けられる他の半導体チップとに挟持され、ターミナルチップ６０のボンディングパッド６５がボンディングワイヤを介して前記半導体チップのそれぞれに形成されたボンディングパッド等に接続される。
【００３３】
次に、本発明のターミナルチップの第２の実施形態について、図７乃至図１０を参照して説明する。
【００３４】
図７は、本発明の第２の実施形態に係るターミナルチップの平面図である。図７を参照するに、本発明の第２の実施形態に係るターミナルチップ７０には、４本の金属配線７１が、ターミナルチップ７０の長辺に沿って略平行に設けられている。金属配線７１の夫々には、３個以上の多数のボンディングパッド７５が所定の間隔を設けて形成されている。
【００３５】
図１４を参照して後述するが、本実施形態におけるターミナルチップ７０は、例えば、一の半導体チップの上に他の半導体チップと並んで搭載され、ボンディングパッド７５は、ボンディングワイヤを介して前記一の及び前記他の半導体チップのそれぞれに形成されたボンディングパッド等に接続される。
【００３６】
本実施形態でも、第１の実施形態と同様に、ターミナルチップ７０には金属から成る配線７１が複数設けられ、１つの金属配線７１に３個以上の多数のボンディングパッド７５が設けられている。従って、半導体チップの組み合わせに応じて都合の良い位置にあるボンディングパッドを適宜選択して使用することができる。
【００３７】
また、本実施形態のターミナルチップ７０におけるボンディングパッド７５は、第１の実施形態と同様に、一の金属配線におけるボンディングパッドと、隣り合う他の金属配線におけるボンディングパッドの位置は、当該金属配線の設けられている方向に所定の長さずれて、互い違いになるように設けられているが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３８】
更に、図７に示す例では、４本の金属配線７１は略平行に設けられているが、本発明はこれに限定されるものではない。金属配線７１の配線状態は、例えば、図８乃至図１０に示す構成であってもよい。ここで、図８は、図７に示す本発明の第２の実施形態にかかるターミナルチップ７０の第１変形例のターミナルチップの平面図であり、図９は、図７に示す本発明の第２の実施形態にかかるターミナルチップ７０の第２変形例のターミナルチップの平面図であり、図１０は本発明の第２の実施形態にかかるターミナルチップ７０の第３変形例のターミナルチップの平面図である。
【００３９】
図８を参照するに、本発明の第２の実施形態にかかるターミナルチップ７０の第１変形例のターミナルチップ８０は、３本の金属配線８１−１乃至８１−３を有する。具体的には、平面視して略逆「コ」の字形に形成された金属配線８１−２が、平面視して略「コ」の字形に形成された金属配線８１−１の一部を平面視して内包するように設けられている。また、金属配線８１−１及び８１−２の一部は、金属配線８１−３の設けられている方向と略垂直な方向になる構成で設けられている。従って、例えば、金属配線８１−２の２つのボンディングパッド８５−１及び８５−２に、図８において点線で示すようにボンディングワイヤを接続する場合、かかる構成を有しない場合に比し長さｃだけワイヤ長を短縮することができる。なお、図８の例では、金属配線８１−１及び８１−２の一部、即ち、例えばボンディングパッド８５−１及び８５−２を結んでいる配線部分は、金属配線８１−１及び８１−２の他の部分が設けられている方向と略垂直になっているが、本発明はこれに限定されず、金属配線８１−１及び８１−２の一部が平面視して任意の角度折曲されていてもよい。
【００４０】
次に、図９を参照するに、本発明の第２の実施形態にかかるターミナルチップ７０の第２変形例のターミナルチップ９０は、３本の金属配線９１−１乃至９１−３を有する。具体的には、平面視して略逆「コ」の字形に形成された金属配線９１−２の全体が、平面視して略「コ」の字形に形成された金属配線９１−１に平面視して内包されるように設けられている。また、属配線９１−１及び９１−２の一部は、金属配線９１−３の設けられている方向と略垂直な方向になるような構成で設けられている。従って、図８に示した例の場合と同様に、ワイヤ長の短縮を図ることができる。なお、図８に示した例の場合と同様に、図９の例では、金属配線９１−１及び９１−２の一部は、金属配線９１−１及び９１−２の他の部分が設けられている方向と略垂直になっているが、本発明はこれに限定されず、金属配線９１−１及び９１−２の一部が平面視して任意の角度折曲されていてもよい。
【００４１】
次に、図１０を参照するに、本発明の第２の実施形態にかかるターミナルチップ７０の第３変形例のターミナルチップ１００は、２本の金属配線１０１−１及び１０１−２を有する。金属配線１０１−１はターミナルチップ１００上の第一層に設けられ、金属配線１０１−２は前記第一層の上に設けられた第二層に設けられている。従って、図１０に示すような平面視して交差している複数の金属配線であっても、金属配線を設ける層を複数設け、当該複数の金属配線を夫々別の層に設けることにより、更に多くの金属配線の組み合わせが可能となる。
【００４２】
また、図８乃至図１０に示すいずれの例でも、複数の金属配線８１−１乃至８１−３、９１−１乃至９１−３、及び１０１−１及び１０１−２が設けられ、１つの金属配線に３個以上の多数のボンディングパッド８５、９５、１０５が設けられている。従って、図８乃至図１０に示す例においても半導体チップの組み合わせに応じて都合の良い位置にあるボンディングパッドを選択して使用することができる。
【００４３】
なお、図８乃至図１０に示すターミナルチップ８０、９０及び１００の何れも、図７に示すターミナルチップ７０と同様に、例えば、一の半導体チップの上に他の半導体チップと並んで搭載され、ターミナルチップ８０、９０及び１００のボンディングパッド８５、９５及び１０５は、ボンディングワイヤを介して前記一の及び前記他の半導体チップのボンディングパッド等に接続される。
【００４４】
[半導体装置]
次に、上述のターミナルチップを搭載した半導体装置の実施形態について説明する。
【００４５】
なお、以下の説明において、第１の半導体チップ及び第２の半導体チップは、平面視して矩形形状を有し、シリコン等から成る基板に図示を省略する半導体メモリ又は半導体集積回路等が形成されている。
【００４６】
図１１は、本発明のターミナルチップを搭載した本発明の第３の実施形態にかかる半導体装置の平面図である。図１１を参照するに、本発明の第３の実施形態にかかる半導体装置１１０は、第１の半導体チップ１１と、第２の半導体チップ１８と、本発明の第１の実施形態に係るターミナルチップ４０等を含む。
【００４７】
第１の半導体チップ１１は、ボンディングパッド１９を備えたリードフレームに実装されている。第１の半導体チップ１１の四辺には、多数のボンディングパッド９が設けられている。一部のボンディングパッド９は、リードフレーム用ボンディングワイヤ１１７により、半導体装置１１０のリードフレームのボンディングパッド１９と接続している。
【００４８】
ターミナルチップ４０は、ターミナルチップ４０より大きい面積を有する第１の半導体チップ１１とターミナルチップ４０より小さい面積を有する第２の半導体チップ１８とに挟持され、第１の半導体チップ１１の外縁のボンディングパッド９の形成領域の内側に収まるように、図示を省略する接着剤により固着されている。また、図４を参照して説明したように、ターミナルチップ４０には、金属から成る４本の配線４１−１乃至４１−４が、ターミナルチップ４０の四辺に沿って同心状に設けられている。また、夫々の金属配線４１には、３個以上の多数のボンディングパッド４５が所定の間隔を設けて形成されている。
【００４９】
第２の半導体チップ１８は、ターミナルチップ４０において、金属配線４１−１乃至４１−４が設けられていない略中央部分に固着されている。第２の半導体チップ１８には４つのボンディングパッド１２が設けられている。４つのボンディングパッド１２は夫々、ボンディングワイヤ１１１を介して、ターミナルチップ４０のボンディングパッド４５に接続されている。
【００５０】
また、ターミナルチップ４０に多数設けられたボンディングパッド４５のうち、ボンディングワイヤ１１１が接続されたボンディングパッド（例えば、ボンディングパッド４５−３ａ）が設けられた金属配線４１（例えば金属配線４１−３）上の他のボンディングパッド４５（例えば、ボンディングパッド４５−３ｂ）は、ボンディングワイヤ１１２を介して、第１の半導体チップ１１のボンディングパッド９に接続されている。更に、第１の半導体チップ１１の四辺に設けられているボンディングパッド９の一部は、リードフレーム用ボンディングワイヤ１１７により、半導体装置１１０のリードフレームのボンディングパッド１９と接続している。
【００５１】
このように、ターミナルチップ４０を第１の半導体チップ１１及び第２の半導体チップ１８という複数の半導体チップ同士、又は前記半導体チップと前記半導体パッケージのリードフレームとの配線のために使用し、ターミナルチップ４０に設けられた任意のボンディングパッド４５を利用することにより、図１に示す従来の半導体装置１０のようにボンディングワイヤが交差してしまうことを回避することができ、また、ワイヤ長の短縮を図ることができる。
【００５２】
更に、上述の構造を有する図１１に示す本実施形態の半導体装置１１０と、図２に示す従来のターミナルチップ２５を設けた従来の半導体装置２０の第１の例とを比較すると、本実施形態の半導体装置１１０のターミナルチップ４０には、従来のターミナルチップ２５よりも多くのボンディングパッドが設けられている。具体的には、ターミナルチップ４０には、複数の金属配線４１が設けられ、それぞれの金属配線４１上に少なくとも３個以上のボンディングパッド４５が形成されている。
【００５３】
従って、ターミナルチップが中継する半導体チップにおけるボンディングパッドの配置構成にかかわらず、ターミナルチップのボンディングパッドと半導体チップのボンディングパッドとをワイヤーボンディングすることができる。よって、本実施形態のターミナルチップ４０によれば、中継する半導体チップの組み合わせ毎にターミナルチップ４０の構造を変える必要はなく、様々な半導体チップの組み合わせに対しターミナルチップ４０を共通に使用することができるため、大量生産することにより、半導体装置の開発期間の短縮及び製造費用を削減することができる。
【００５４】
なお、１つの金属配線４１上に形成されるボンディングパッドの数は、図１１に示される例に限られず、その数が多ければ多いほど、ターミナルチップの汎用性は高まり望ましい。
【００５５】
また、図１１に示す半導体装置１１０では、図４に示す本発明の第１の実施形態に係るターミナルチップ４０が設けられているが、例えば、ターミナルチップ４０に代えて図６に示すターミナルチップ６０を設けてもよい。
【００５６】
更に、図１１に示す半導体装置１１０では、第１の半導体チップ１１の上にターミナルチップ４０が設けられ、ターミナルチップ４０の上に第２の半導体チップ１８が設けられている。しかしながら、本発明はこれに限られず、例えば、図１２に示す構造であってもよい。ここで、図１２は、本発明のターミナルチップを搭載した本発明の第４の実施形態にかかる半導体装置の平面図である。
【００５７】
図１２を参照するに、本発明の第４の実施形態にかかる半導体装置１２０では、ターミナルチップ４０の上に平面視してターミナルチップ４０よりも小さい面積を有する第１の半導体チップ２１１が設けられ、第１の半導体チップ２１１の上に平面視して第１の半導体チップ２１１よりも小さい面積を有する第２の半導体チップ２１８が設けられている。
【００５８】
この場合も、本発明の第３の実施形態にかかる半導体装置１１０と同様に、ターミナルチップ４０を第１の半導体チップ２１１及び第２の半導体チップ２１８という複数の半導体チップ同士、又は前記半導体チップと前記半導体パッケージのリードフレームのボンディングパッド１９との配線のために使用し、ターミナルチップ４０に設けられた任意のボンディングパッド４５を利用することにより、図１に示す従来の半導体装置１０のようにボンディングワイヤが交差してしまうことを回避することができ、また、ワイヤ長の短縮を図ることができる。
【００５９】
なお、図１２に示す例においても、ターミナルチップ４０に代えて図６に示すターミナルチップ６０を用いてもよい。
【００６０】
また、半導体装置１１０の構造は、図１３に示す構造であってもよい。ここで、図１３は、本発明のターミナルチップを搭載した本発明の第５の実施形態にかかる半導体装置の平面図である。
【００６１】
図１３を参照するに、本発明の第５の実施形態にかかる半導体装置１２０では、ターミナルチップ４０の上に第１の半導体チップ３１１と第２の半導体チップ３１８が並んで設けられている。ターミナルチップ４０は、平面視して第１の半導体チップ３１１と第２の半導体チップ３１８よりも大きい面積を有する。
【００６２】
この場合も、本発明の第３の実施形態にかかる半導体装置１１０と同様に、ターミナルチップ４０を第１の半導体チップ３１１及び第２の半導体チップ３１８という複数の半導体チップ同士、又は前記半導体チップと前記半導体パッケージのリードフレームのボンディングパッド１９との配線のために使用し、ターミナルチップ４０に設けられた任意のボンディングパッド４５を利用することにより、図１に示す従来の半導体装置１０のようにボンディングワイヤが交差してしまうことを回避することができ、また、ワイヤ長の短縮を図ることができる。
【００６３】
なお、図１３に示す例においても、ターミナルチップ４０に代えて図６に示すターミナルチップ６０を用いてもよい。
【００６４】
図１４は、本発明のターミナルチップを搭載した本発明の第６の実施形態にかかる半導体装置の平面図である。図１４を参照するに、本発明の第６の実施形態にかかる半導体装置１４０は、本発明の第２の実施形態に係るターミナルチップ７０を含み、以下の構造を有する。即ち、半導体装置１４０において、ターミナルチップ７０は、第１の半導体チップ１１の上に第２の半導体チップ１８と並んで搭載され、図示を省略する接着剤により固着されている。
【００６５】
なお、本実施形態の第１の半導体チップ１１及び第２の半導体チップ１８の構造は、上述の本発明の第３の実施形態の第１の半導体チップ１１及び第２の半導体チップ１８と同じであるため、ここでは説明を省略する。
【００６６】
上述のように、ターミナルチップ７０において、４本の金属配線７１が、ターミナルチップ７０の長辺に沿って略平行に設けられている。金属配線７１の夫々には、３個以上の多数のボンディングパッド７５が所定の間隔を設けて形成されている。
【００６７】
また、ターミナルチップ７０に多数設けられたボンディングパッド７５のうち、ボンディングワイヤ１７１が接続されたボンディングパッド７５−１が設けられた金属配線７１上の他のボンディングパッド７５−２は、ボンディングワイヤ１７２を介して、第１の半導体チップ１１のボンディングパッド９に接続され、また、ボンディングワイヤ１７３を介して、ボンディングパッド９はリードフレームのボンディングパッド１９に接続されている。
【００６８】
このように、ターミナルチップ７０を第１の半導体チップ１１及び第２の半導体チップ１８という複数の半導体チップ同士、又は前記半導体チップと前記半導体パッケージのリードフレームとの配線のために使用することができ、ターミナルチップ７０の任意のボンディングパッド７５を利用することにより、図１に示す従来の半導体装置１０のようにボンディングワイヤが交差してしまうことを回避することができ、また、ワイヤ長の短縮を図ることができる。
【００６９】
更に、上述の構造を有する図１４に示す本実施形態の半導体装置１４０と、図３に示すターミナルチップ３５を設けた従来の半導体装置の第２の例とを比較すると、本実施形態の半導体装置１４０のターミナルチップ７０には、従来のターミナルチップ３５よりも多くのボンディングパッドが設けられている。具体的には、ターミナルチップ７０には、複数の金属配線７１が設けられ、それぞれの金属配線７１上に少なくとも３個以上のボンディングパッド７５が形成されている。
【００７０】
従って、本発明の第３の実施形態に係る半導体装置１１０と同様に、ターミナルチップが中継する半導体チップにおけるボンディングパッドの配置構成にかかわらず、ターミナルチップと半導体チップのボンディングパッドとをワイヤーボンディングすることができる。よって、本実施形態のターミナルチップ７０は、図３に示す従来のターミナルチップ３５に比し汎用性に富み、容易に大量生産することができるため、半導体装置の開発期間を短縮及び製造費用を削減することができる。
【００７１】
なお、本実施形態においても、本発明の第３の実施形態に係る半導体装置１１０と同様に、１つの金属配線７１上に形成されるボンディングパッドの数は、図１４に示される例に限られず、その数が多ければ多いほど、ターミナルチップの汎用性は高まり望ましい。
【００７２】
図１５は、本発明のターミナルチップを搭載した本発明の第７の実施形態にかかる半導体装置の平面図である。
【００７３】
図１５を参照するに、本発明の第７の実施形態にかかる半導体装置１５０は、本発明の第２の実施形態に係るターミナルチップ７０を２つ含み、何れも第１の半導体チップ１１の上に、第２の半導体チップ１８と並んで搭載されている。
【００７４】
上述のように、ターミナルチップ７０は、図３に示す従来のターミナルチップ３５に比し汎用性に富み、本実施形態に示すように複数設けることにより、所望の半導体チップの組み合わせに対応することができる。
【００７５】
この場合も、本発明の第６の実施形態にかかる半導体装置１４０と同様に、ターミナルチップ７０を第１の半導体チップ１１及び第２の半導体チップ１８という複数の半導体チップ同士をボンディングワイヤ１７１及び１７２による配線、及び前記半導体チップと前記半導体パッケージのリードフレームのボンディングパッド１９のボンディングワイヤ１７４による配線のために使用することができる。そして、ターミナルチップ７０の任意のボンディングパッド７５を利用することにより、図１に示す従来の半導体装置１０のようにボンディングワイヤが交差してしまうことを回避することができ、また、ワイヤ長の短縮を図ることができる。
【００７６】
なお、図１４及び図１５に示す何れの半導体装置の例においても、第１の半導体チップ１１の上に、ターミナルチップ７０と第２の半導体チップ１８とが並んで搭載されている。しかしながら、本発明はこれに限定されない。例えば、第１の半導体チップ１１と、ターミナルチップ７０と、第２の半導体チップ１８とを同一平面上に任意に並べて設けてもよく、この場合も上述の効果を得ることができる。
【００７７】
このように、本発明によるターミナルチップは、中継する半導体チップの特定の組み合わせではなく、様々な組み合わせに対して共通に使用することができる。従って、本発明のターミナルチップは、汎用性に富み、容易に大量生産することができ、開発期間、開発費用及び製造コストを削減することができる。
【００７８】
以上、本発明の実施の形態について詳述したが、本発明は特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。
【００７９】
例えば、上述の各実施の形態では、ターミナルチップ及び第１及び第２の半導体チップに設けられたボンディングパッドが露出するようにターミナルチップ及び第１及び第２の半導体チップが設けられている。しかしながら、本発明はこれに限定されない。例えば、プリント配線が形成された基板が一の半導体チップの下に設けられ、当該半導体チップのボンディングパッドが当該プリント配線と半田ボール等を介して接合され、本発明のターミナルチップが当該半導体チップの上に設けられるような構造であってもよい。
【００８０】
以上の説明に関し、更に以下の項を開示する。
（付記１）  複数の半導体チップ同士を配線するためのワイヤ又は前記複数の半導体チップを収容する半導体パッケージのリードフレームと前記半導体チップとを配線するためのワイヤを中継し、前記半導体パッケージに設けられる中継基板であって、
少なくとも３個のボンディングパッドが設けられた配線を複数備えたことを特徴とする中継基板。
（付記２）  前記複数の配線のうち少なくとも一部の配線は、該中継基板の主面に同心状に設けられていることを特徴とする付記１記載の中継基板。
（付記３）  該中継基板の主面に同心状に設けられた前記配線のうち少なくとも一部の配線は、該中継基板の主面に一部が開いたオープンループ状に設けられていることを特徴とする付記２記載の中継基板。
（付記４）  前記複数の配線のうち少なくとも一部の配線は、該中継基板の主面に互いに略平行に設けられていることを特徴とする付記１記載の中継基板。
（付記５）  前記複数の配線のうち少なくとも一部の配線は、当該配線の一部が該中継基板の主面に所定の角度折曲して設けられていることを特徴とする付記１記載の中継基板。
（付記６）  前記複数の配線において、一の配線におけるボンディングパッドと隣り合う他の配線におけるボンディングパッドは、当該配線の設けられている方向に所定の長さずらして設けられていることを特徴とする付記１乃至５記載の中継基板。
（付記７）  当該中継基板は複数の層を備え、
前記複数の配線のうち少なくとも一部の配線は、他の配線が設けられている層とは異なる層に設けられていることを特徴とする付記１乃至６記載の中継基板。
（付記８）  前記中継基板は、単一の層を備え、
前記複数の配線は、前記単一の層に設けられていることを特徴とする付記１乃至６記載の中継基板。
（付記９）  当該中継基板の材質は、シリコン、セラミック、ベークライト、ガラスエポキシ、ポリイミドフィルム、及びポリエチレンテレフタレートフィルムからなる群から選択されることを特徴とする付記１乃至８記載の中継基板。
（付記１０）  第１の半導体チップと第２の半導体チップと中継基板とをパッケージ化した半導体装置であって、
前記第１の半導体チップの上に前記中継基板が配置され、
前記中継基板の上に前記第２の半導体チップが配置され、
前記中継基板は、付記１乃至３いずれか一項記載の中継基板であることを特徴とする半導体装置。
（付記１１）  第１の半導体チップと第２の半導体チップと中継基板とをパッケージ化した半導体装置であって、
前記中継基板の上に前記第１の半導体チップが配置され、
前記第１の半導体チップの上に前記第２の半導体チップが配置され、
前記中継基板は、付記１乃至３いずれか一項記載の中継基板であることを特徴とする半導体装置。
（付記１２）  第１の半導体チップと第２の半導体チップと中継基板とをパッケージ化した半導体装置であって、
前記中継基板の上に前記第１の半導体チップと前記第２の半導体チップが並べられて配置され、
前記中継基板は、付記１乃至３いずれか一項記載の中継基板であることを特徴とする半導体装置。
（付記１３）  第１の半導体チップと第２の半導体チップと中継基板とをパッケージ化した半導体装置であって、
前記第１の半導体チップの上に前記中継基板と前記第２の半導体チップが並べられて配置され、
前記中継基板は、付記１、４又は５いずれか一項記載の中継基板であることを特徴とする半導体装置。
（付記１４）  前記中継基板は前記第１の半導体チップの上に複数配置されていることを特徴とする付記１３記載の半導体装置。
（付記１５）  複数の半導体チップを収容してパッケージ化した半導体装置であって、
前記複数の半導体チップ同士を配線するためのワイヤ又は前記複数の半導体チップを収容する半導体パッケージのリードフレームと前記半導体チップとを配線するためのワイヤを中継する中継基板を備え、
前記中継基板は、少なくとも３個のボンディングパッドが設けられた配線を複数備えたことを特徴とする半導体装置。
（付記１６）  前記中継基板の前記複数の配線において、一の配線におけるボンディングパッドと隣り合う他の配線におけるボンディングパッドは、当該配線の設けられている方向に所定の長さずらして設けられていることを特徴とする付記１５記載の半導体装置。
（付記１７）  前記中継基板は複数の層を備え、
前記中継基板の前記複数の配線のうち少なくとも一部の配線は、他の配線が設けられている層とは異なる層に設けられていることを特徴とする付記１５又は１６記載の半導体装置。
（付記１８）  前記中継基板は、単一の層を備え、
前記中継基板の前記複数の配線は、前記単一の層に設けられていることを特徴とする付記１５又は１６記載の半導体装置。
（付記１９）  前記中継基板の材質は、シリコン、セラミック、ベークライト、ガラスエポキシ、ポリイミドフィルム、及びポリエチレンテレフタレートフィルムからなる群から選択されることを特徴とする付記１５乃至１８いずれか一項の半導体装置。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】ＳｉＰ技術を用いた従来の半導体装置の平面図である。
【図２】ターミナルチップを設けた従来の半導体装置の第１の例の平面図である。
【図３】ターミナルチップを設けた従来の半導体装置の第２の例の平面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係るターミナルチップの平面図である。
【図５】図４において点線で囲った部分を拡大し、一の金属配線におけるボンディングパッドと他の金属配線におけるボンディングパッドの位置が、当該金属配線の設けられている方向と垂直な方向において揃っている場合と比較した図である。
【図６】図４に示すターミナルチップの変形例の平面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態に係るターミナルチップの平面図である。
【図８】図７に示す本発明の第２の実施形態に係るターミナルチップの第１の変形例のターミナルチップの平面図である。
【図９】図７に示す本発明の第２の実施形態に係るターミナルチップの第２の変形例のターミナルチップの平面図である。
【図１０】図７に示す本発明の第２の実施形態に係るターミナルチップの第３の変形例のターミナルチップの平面図である。
【図１１】本発明の第３の実施形態に係る半導体装置の平面図である。
【図１２】本発明の第４の実施形態に係る半導体装置の平面図である。
【図１３】本発明の第５の実施形態に係る半導体装置の平面図である。
【図１４】本発明の第６の実施形態に係る半導体装置の平面図である。
【図１５】本発明の第７の実施形態に係る半導体装置の平面図である。
【符号の説明】
【００８２】
９    第１の半導体チップのボンディングパッド
１１０、１２０、１３０、１４０、１５０    半導体装置
１１、２１１、３１１    第１の半導体チップ
１２    第２の半導体チップのボンディングパッド
１１１、１１２、１１３、１１７、１７１、１７２、１７３    ボンディングワイヤ
１８、２１８、３１８    第２の半導体チップ
１９    リードフレームのボンディングパッド
４０、６０、７０、８０、９０、１００    ターミナルチップ
４５、６５、７５、８５、９５、１０５    ターミナルチップのボンディングパッド
４１、６１、７１、８１、９１、１０１    金属配線
【図１】
0004703300.tif 000002
【図２】
0004703300.tif 000003
【図３】
0004703300.tif 000004
【図４】
0004703300.tif 000005
【図５】
0004703300.tif 000006
【図６】
0004703300.tif 000007
【図７】
0004703300.tif 000008
【図８】
0004703300.tif 000009
【図９】
0004703300.tif 000010
【図１０】
0004703300.tif 000011
【図１１】
0004703300.tif 000012
【図１２】
0004703300.tif 000013
【図１３】
0004703300.tif 000014
【図１４】
0004703300.tif 000015
【図１５】
0004703300.tif 000016