(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の上に、絶縁材料からなる層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜の上に、該層間絶縁膜とはエッチング耐性の異なる材料からなる第１のハードマスクを形成する工程と、
前記第１のハードマスクの上面から前記層間絶縁膜の底面まで達するビアホールを形成する工程と、
前記層間絶縁膜及び前記第１のハードマスクとはエッチング耐性の異なる材料からなる埋め込み部材を、前記ビアホール内に充填すると共に、前記第１のハードマスクの上に堆積させる工程と、
前記埋め込み部材の上に、前記埋め込み部材とはエッチング耐性の異なる材料からなる第２のハードマスクを形成する工程と、
前記第２のハードマスクに、平面視において前記ビアホールに連続する配線溝に対応する開口を形成する工程と、
前記第２のハードマスクをエッチングマスクとして、前記ビアホールの深さ方向の途中まで前記埋め込み部材をエッチングする工程と、
前記埋め込み部材の上に残っている前記第２のハードマスク、及び前記第２のハードマスクに形成されていた開口に対応する領域の前記第１のハードマスクを除去する工程と、
前記層間絶縁膜の厚さ方向の途中まで達する前記配線溝を形成する工程であって、前記層間絶縁膜のエッチングレートが前記埋め込み部材のエッチングレートよりも速い条件で、前記層間絶縁膜及び前記埋め込み部材をエッチングし、前記配線溝の底面に、エッチングされた前記層間絶縁膜と同一の材料が露出している状態でエッチングを停止し、前記配線溝の底面が前記埋め込み部材の上面よりも高く、かつ前記ビアホール内に残っている埋め込み部材の上面と、前記配線溝の底面との高さの差が、前記ビアホールの平面形状の最大寸法の１／２以下になるように前記配線溝を形成する工程と、
前記ビアホール内の埋め込み部材を除去する工程と、
前記ビアホール及び前記配線溝の内面上に、バリアメタル膜の材料をスパッタリングにより堆積させてバリアメタル膜を形成する工程と、
堆積速度よりもエッチング速度の方が速い条件で、前記バリアメタル膜をリスパッタリングする工程と、
前記ビアホール及び前記配線溝内に、リスパッタリングされた前記バリアメタル膜を介して導電部材を充填する工程と
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記配線溝を形成する工程において、前記ビアホール内に残っている前記埋め込み部材、及び前記第１のハードマスクの上に残っている前記埋め込み部材をエッチングマスクとして、前記層間絶縁膜を厚さ方向の途中までエッチングする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
半導体基板の上に、絶縁材料からなる層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜の上に、該層間絶縁膜とはエッチング耐性の異なる材料からなる第１のハードマスクを形成する工程と、
前記第１のハードマスクの上面から前記層間絶縁膜の底面まで達するビアホールを形成する工程と、
前記層間絶縁膜及び前記第１のハードマスクとはエッチング耐性の異なる材料からなる埋め込み部材を、前記ビアホール内に充填すると共に、前記第１のハードマスクの上に堆積させる工程と、
前記埋め込み部材の上に、前記埋め込み部材とはエッチング耐性の異なる材料からなる第２のハードマスクを形成する工程と、
前記第２のハードマスクに、平面視において前記ビアホールに連続する配線溝に対応する開口を形成する工程と、
前記第２のハードマスクをエッチングマスクとして、前記ビアホールの深さ方向の途中まで前記埋め込み部材をエッチングする工程と、
前記埋め込み部材の上に残っている前記第２のハードマスク、及び前記第２のハードマスクに形成されていた開口に対応する領域の前記第１のハードマスクを除去する工程と、
前記第２のハードマスク及び前記第１のハードマスクを除去した後、前記層間絶縁膜の厚さ方向の途中まで達する前記配線溝を形成する工程であって、前記層間絶縁膜のエッチングレートが前記埋め込み部材のエッチングレートよりも速い条件で、前記層間絶縁膜及び前記埋め込み部材をエッチングし、前記配線溝の底面に、エッチングされた前記層間絶縁膜と同一の材料が露出している状態でエッチングを停止し、前記配線溝の底面の高さが前記埋め込み部材の上面の高さと等しくなるように前記配線溝を形成する工程と、
前記ビアホール内の埋め込み部材を除去する工程と、
前記ビアホール及び前記配線溝の内面上に、バリアメタル膜の材料をスパッタリングにより堆積させてバリアメタル膜を形成する工程と、
堆積速度よりもエッチング速度の方が速い条件で、前記バリアメタル膜をリスパッタリングする工程と、
前記ビアホール及び前記配線溝内に、リスパッタリングされた前記バリアメタル膜を介して導電部材を充填する工程と
を有する半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に関し、特にダマシン法を用いた配線を含む半導体装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
寄生容量の低減のために、配線層の層間絶縁膜の材料として従来の酸化シリコン等に比べて誘電率の低い材料が用いられている。また、さらなる低誘電率化のために、相対的に誘電率の高いエッチングストッパ膜を配置しない構造が採用されつつある。デュアルダマシン法により配線を形成する場合、ビアホールの層と配線溝の層との間に配置されていたエッチングストッパ膜を省略すると、配線溝やビアホールの形状の制御が困難になる。
【０００３】
また、ビアホールや配線溝が微細化されると、導電部材を再現性よく充填することが困難になる。下記の特許文献１に、ビアホールの壁面上端部や配線溝の壁面上端部に傾斜面を設けて埋め込み性を改善する技術が開示されている。
【０００４】
下記の特許文献２に、ビアホールの底に堆積するバリアメタル膜をスパッタエッチングしながらビアホールや配線溝の側壁にバリアメタル膜を堆積させる技術が開示されている。この技術により、配線のエレクトロマイグレーション耐性を高めることができる。
【０００５】
下記の特許文献３に、ビアホールの内面をバリアメタル膜で覆った後、底部のバリアメタル膜をエッチングで除去し、底部以外の薄くなったバリアメタル膜の上に、再度バリアメタル膜を堆積させる方法が開示されている。これにより、ビアホール底部のバリアメタル膜を薄くすると共に、ビアホールの側壁や、配線溝の内面のバリアメタル膜の十分な厚さを確保することができる。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−９２３４９号公報（図９）
【特許文献２】特開２００１−２８４４４９号公報
【特許文献３】特開２００４−１６５３３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
バリアメタル膜の堆積工程において、堆積とエッチングとを組み合わせたスパッタリングを適用することにより、歩留まりや配線の信頼性を向上させることができる。バリアメタル膜をスパッタエッチングする際に、基板表面に対する傾斜角が４５°近傍の斜面の上に堆積しているバリアメタル膜が、その他の領域に堆積しているバリアメタル膜よりも速くエッチングされることがわかった。これは、スパッタに用いるイオンの入射角が４５°近傍のときに、エッチング速度が最大になるためと考えられる。
【０００８】
ビアホールや配線溝の内面に、傾斜角４５°の傾斜面が存在すると、その部分に堆積しているバリアメタル膜が薄くなってしまう。バリアメタル膜が薄くなると、ビアホール内に空孔等が発生し、配線の信頼性が低下してしまう。特許文献３に開示された方法を用いて、この薄くなった部分にバリアメタル膜を十分な厚さだけ再度堆積させると、その他の領域においてバリアメタル膜が厚くなり過ぎる場合がある。
【０００９】
本発明の目的は、バリアメタル膜をスパッタエッチングしても、配線の信頼性を低下させない半導体装置の製造方法を提供することである。本発明の他の目的は、バリアメタル膜をスパッタエッチングしても、配線の信頼性を低下させない構造を持つ半導体装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一観点によると、
半導体基板の上に、絶縁材料からなる層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜の上に、該層間絶縁膜とはエッチング耐性の異なる材料からなる第１のハードマスクを形成する工程と、
前記第１のハードマスクの上面から前記層間絶縁膜の底面まで達するビアホールを形成する工程と、
前記層間絶縁膜及び前記第１のハードマスクとはエッチング耐性の異なる材料からなる埋め込み部材を、前記ビアホール内に充填すると共に、前記第１のハードマスクの上に堆積させる工程と、
前記埋め込み部材の上に、前記埋め込み部材とはエッチング耐性の異なる材料からなる第２のハードマスクを形成する工程と、
前記第２のハードマスクに、平面視において前記ビアホールに連続する配線溝に対応する開口を形成する工程と、
前記第２のハードマスクをエッチングマスクとして、前記ビアホールの深さ方向の途中まで前記埋め込み部材をエッチングする工程と、
前記埋め込み部材の上に残っている前記第２のハードマスク、及び前記第２のハードマスクに形成されていた開口に対応する領域の前記第１のハードマスクを除去する工程と、
前記層間絶縁膜の厚さ方向の途中まで達する前記配線溝を形成する工程であって、前記層間絶縁膜のエッチングレートが前記埋め込み部材のエッチングレートよりも速い条件で、前記層間絶縁膜及び前記埋め込み部材をエッチングし、前記配線溝の底面に、エッチングされた前記層間絶縁膜と同一の材料が露出している状態でエッチングを停止し、前記配線溝の底面が前記埋め込み部材の上面よりも高く、かつ前記ビアホール内に残っている埋め込み部材の上面と、前記配線溝の底面との高さの差が、前記ビアホールの平面形状の最大寸法の１／２以下になるように前記配線溝を形成する工程と、
前記ビアホール内の埋め込み部材を除去する工程と、
前記ビアホール及び前記配線溝の内面上に、バリアメタル膜の材料をスパッタリングにより堆積させてバリアメタル膜を形成する工程と、
堆積速度よりもエッチング速度の方が速い条件で、前記バリアメタル膜をリスパッタリングする工程と、
前記ビアホール及び前記配線溝内に、リスパッタリングされた前記バリアメタル膜を介して導電部材を充填する工程と
を有する半導体装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
配線溝を形成する工程において、ビアホール内に残っている埋め込み部材の上面と、配線溝の底面との高さの差が、ビアホールの平面形状の最大寸法の１／２以下になるように配線溝を形成すると、配線溝の底面とビアホールの側面との接続部分に傾斜面が生じにくくなる。
【００１４】
傾斜面を生じにくくすることにより、バリアメタル膜の目減りによる影響を軽減し、配線の信頼性を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１Ａに、実施例による半導体装置の配線及びビアホール部の平面図を示す。相対的に太い配線４３の端部のほぼ中央から、相対的に細い配線４１が、太い配線４３の長手方向と平行な方向に延びている。細い配線４１の先端に、ほぼ円形の平面形状を有するビアホール２４が配置されている。一例として、太い配線４３の幅Ｗ１は３μｍ、細い配線４１の幅Ｗ２は１４０ｎｍ、太い配線４３の端部からビアホール２４の中心までの距離Ｌは１μｍである。ビアホール２４の直径は、細い配線４１の幅と等しい。
【００１６】
図１Ｂ〜図１Ｌを参照して、実施例による半導体装置の製造方法について説明する。図１Ｂ〜図１Ｌは、図１Ａの一点鎖線Ｂ１−Ｂ１における断面に相当する。具体的には、図１Ｂ〜図１Ｌは、配線４１及び４３の長手方向に平行でビアホール２４の中心を通り、かつ半導体基板の表面に垂直な断面に相当する。
【００１７】
図１Ｂに示すように、シリコン等からなる半導体基板１の表層部に、シャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）構造を持つ素子分離絶縁膜２が形成されている。素子分離絶縁膜２に囲まれた活性領域内に、ＭＯＳトランジスタ３が形成されている。半導体基板１の上に、酸化シリコン等からなる層間絶縁膜１０が、ＭＯＳトランジスタ３を覆うように形成されている。層間絶縁膜１０を貫通するビアホール内に、タングステン等からなる導電プラグ１１が充填されている。導電プラグ１１は、ＭＯＳトランジスタ３のソースまたはドレインに接続される。
【００１８】
層間絶縁膜１０の上に、さらにＳｉＯＣ等からなる層間絶縁膜１５が形成されている。層間絶縁膜１５内に、シングルダマシン法により配線溝が形成され、この配線溝内にＣｕ等からなる配線１７が埋め込まれている。なお、配線溝の内面は、Ｔａ等からなるバリアメタル膜１６で被覆されている。
【００１９】
層間絶縁膜１５の上に、ＳｉＣ等からなる厚さ５０ｎｍのキャップ膜２０を形成する。さらにその上に、ＳｉＯＣ等からなる厚さ４５０ｎｍの層間絶縁膜２１、及び第１のハードマスク２２をこの順番に堆積させる。第１のハードマスク２２は、ＳｉＯ２からなる厚さ１００ｎｍの下層２２ａと、ＳｉＮからなる厚さ３０ｎｍの上層２２ｂとの２層構造を有する。これらの膜は、例えば化学気相成長（ＣＶＤ）により堆積される。第１のハードマスク２２の下層２２ａの成膜には、原料ガスとしてテトラエトキシオルソシルケート（ＴＥＯＳ）と酸素とを用いる。なお、第１のハードマスク２２の材料として、層間絶縁膜２１とエッチング耐性の異なる他の材料を用いてもよい。
【００２０】
図１Ｃに示すように、第１のハードマスク２２の上に、レジストパターン３０を形成する。レジストパターン３０には、層間絶縁膜２１に形成すべきビアホール２４に対応する開口が設けられている。レジストパターン３０をエッチングマスクとして、第１のハードマスク２２及び層間絶縁膜２１をエッチングし、ビアホール２４を形成する。ビアホール２４の底にキャップ膜２０が露出する。このエッチングは、例えばＭＥＲＩＥ(Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching)装置を用い、下記の条件で行うことができる。
【００２１】
Ｃ４Ｆ６流量  ６ｓｃｃｍ；
Ｏ２流量  ６ｓｃｃｍ；
Ｎ２流量  ６０ｓｃｃｍ；
Ａｒ流量  ６００ｓｃｃｍ；
圧力  ６．７Ｐａ（５０ｍＴｏｒｒ）；
ＲＦパワー：１２００Ｗ。
【００２２】
ビアホール２４を形成した後、レジストパターン３０を除去する。
【００２３】
図１Ｄに示すように、第１のハードマスク２２の上に、感光性を持たないレジストからなる埋め込み部材３３を形成する。埋め込み部材３３は、ビアホール２４内にも充填される。埋め込み部材３３の表面は、ほぼ平坦になる。なお、埋め込み部材３３の材料として、キャップ膜２０、層間絶縁膜２１、第１のハードマスク２２のいずれともエッチング耐性の異なる他の材料を用いてもよい。
【００２４】
平坦化された埋め込み部材３３の表面上に、原料としてＴＥＯＳを用いたＣＶＤにより、ＳｉＯ２からなる厚さ１００ｎｍの第２のハードマスク３５を形成する。なお、第２のハードマスク３５の材料として、埋め込み部材３３とはエッチング耐性の異なる他の材料を用いてもよい。第２のハードマスク３５の上に、レジストパターン３８を形成する。レジストパターン３８には、層間絶縁膜２１に形成すべき配線溝に対応する開口が設けられている。
【００２５】
図１Ｅに示すように、レジストパターン３８をエッチングマスクとして、第２のハードマスク３５をＭＥＲＩＥ装置を用いてエッチングする。エッチング条件は下記の通りである。
【００２６】
Ｃ４Ｆ６流量  ２５ｓｃｃｍ；
Ｏ２流量  ５０ｓｃｃｍ；
Ａｒ流量  ２５０ｓｃｃｍ；
圧力  ３．３Ｐａ（２５ｍＴｏｒｒ）；
ＲＦパワー  ２５０Ｗ。
【００２７】
図１Ｆに示すように、第２のハードマスク３５をエッチングマスクとして、埋め込み部材３３を、ＭＥＲＩＥ装置を用いてビアホール２４の深さの途中までエッチングする。エッチング条件は、下記の通りである。
【００２８】
Ｏ２流量  １０ｓｃｃｍ；
Ｎ２流量  ３００ｓｃｃｍ；
圧力  ６．７Ｐａ（５０ｍＴｏｒｒ）；
ＲＦパワー  ２００Ｗ。
【００２９】
このエッチングにより、第２のハードマスク３５を覆っていたレジストパターン３８も除去され、第２のハードマスク３５の上面が露出する。さらに、配線溝に対応する領域の第１のハードマスク２２の上面が露出する。第２のハードマスク３５で覆われている領域に埋め込み部材の一部３３Ａが残り、ビアホール２４内の一部に、埋め込み部材の一部３３Ｂが残る。ビアホール２４内に残すべき埋め込み部材３３Ｂの好ましい高さについて、後に詳しく説明する。
【００３０】
図１Ｇに示すように、埋め込み部材３３Ａをエッチングマスクとして、第１のハードマスク２２を、ＭＥＲＩＥ装置を用いてエッチングする。エッチング条件は下記の通りである。
【００３１】
ＣＦ４流量  ５０ｓｃｃｍ；
ＣＨＦ３流量  ５０ｓｃｃｍ；
圧力  ３．３Ｐａ（２５ｍＴｏｒｒ）；
ＲＦパワー  ５００Ｗ。
【００３２】
このエッチングにより、配線溝に対応する部分の層間絶縁膜２１の表面が露出する。さらに、埋め込み部材３３Ａの上に残っていた第１のハードマスク３５も除去される。
【００３３】
図１Ｈに示すように、埋め込み部材３３Ａ及び３３Ｂをエッチングマスクとして、層間絶縁膜２１を、ＭＥＲＩＥ装置を用い、層間絶縁膜２１のエッチングレートが埋め込み部材３３Ｂのエッチングレートよりも速い条件で、厚さ方向の途中までエッチングする。具体的なエッチング条件は、例えば下記の通りである。
【００３４】
ＣＦ４流量  ７０ｓｃｃｍ；
ＣＨＦ３流量  ３０ｓｃｃｍ；
圧力  ３．３Ｐａ（２５ｍＴｏｒｒ）；
ＲＦパワー  ５００Ｗ。
【００３５】
このエッチングにより、配線溝２５が形成される。層間絶縁膜２１のエッチング時に、埋め込み部材３３Ａ及び３３Ｂも部分的にエッチングされるため、第１のハードマスク２２の上に残っている埋め込み部材３３Ａが薄くなり、ビアホール２４内に充填されている埋め込み部材３３Ｂが低くなる。配線溝２５を目標の深さまで形成した時点で、配線溝２５の底面と、ビアホール２４内に充填されている埋め込み部材３３Ｂの上面とがほぼ同じ高さになることが好ましい。より具体的には、ビアホール２４内に残っている埋め込み部材３３Ｂの上面と、配線溝２５の底面との高さの差を、ビアホール２４の平面形状の最大寸法の１／２以下にすることが好ましい。このためには、形成すべき配線溝２５の目標深さ、及び層間絶縁膜２１のエッチングレートと埋め込み部材３３Ｂのエッチングレートとの比に基づいて、図１Ｇに示した工程において、ビアホール２４内に残す埋め込み部材３３Ｂの高さを調節しておけばよい。
【００３６】
配線溝２５を形成した後、埋め込み部材３３Ａ及び３３Ｂをアッシングにより除去する。アッシングの条件は、下記の通りである。
【００３７】
Ｏ２流量  ９００ｓｃｃｍ；
圧力  ４０Ｐａ（３００ｍＴｏｒｒ）；
ＲＦパワー  ３００Ｗ。
【００３８】
図１Ｉに示すように、ビアホール２４の底にキャップ膜２０が露出し、第１のハードマスク２２の上面が露出する。
【００３９】
図１Ｊに示すように、ビアホール２４の底に露出しているキャップ膜２０を、ＭＥＲＩＥ装置を用いてエッチングする。エッチング条件は下記の通りである。
【００４０】
ＣＨ２Ｆ２流量  ２０ｓｃｃｍ；
Ｏ２流量  １０ｓｃｃｍ；
Ｎ２流量  ５０ｓｃｃｍ；
圧力  ２．７Ｐａ（２０ｍＴｏｒｒ）；
ＲＦパワー  １００Ｗ。
【００４１】
キャップ膜２０のエッチング時に、第１のハードマスク２２の上層２２ｂも除去される。ビアホール２４の底に露出したＣｕ配線１７の表面を、Ａｒ等でスパッタリングすることにより表面の清浄化を行う。
【００４２】
図１Ｋに示すように、配線溝２５の内面、ビアホール２４の内面、及び第１のハードマスク２２の下層２２ａの上面を覆うように、Ｔａからなるバリアメタル膜４０Ａを、スッパッタリングにより形成する。
【００４３】
図２に、スパッタリング装置の概略断面図を示す。チャンバ５０内に、ウエハステージ５１が配置されており、その上にウエハ５２が保持される。ウエハ５２の上方にターゲット５３が保持されている。ターゲット５３とウエハステージ５１との間の空間の側方が、シールド５４で磁気シールドされる。ターゲット５３の上に回転磁気アセンブリ５５が装着されている。
【００４４】
ステージバイアス電源５８がウエハステージ５１に基板バイアス電力を供給する。ターゲット電源５９がターゲット５３にターゲット電力を供給する。基板バイアス電力及びターゲット電力は、例えば周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電力である。ガス供給源６０からチャンバ５０内にガスが供給され、真空ポンプ６５がチャンバ５０内を真空排気する。ターゲット電力と基板バイアス電力とを制御することにより、Ｔａ膜の堆積速度と堆積したＴａ膜のエッチング速度とを調節することができる。
【００４５】
以下、Ｔａからなるバリアメタル膜４０Ａの成膜方法について説明する。まず、堆積速度がエッチング速度よりも大きくなる条件でＴａ膜を堆積させる。このときの成膜条件は下記の通りである。
【００４６】
ターゲット電力  １０ｋＷ；
基板バイアス電力  ０〜２００Ｗ；
圧力  ４×１０−２〜８×１０−２Ｐａ。
【００４７】
次に、エッチング速度が堆積速度よりも大きくなる条件、例えば成膜速度がエッチング速度の０．５〜０．９倍程度となる条件で、基板上に堆積しているＴａ膜のリスパッタリングを行う。リスパッタリングの条件は下記の通りである。
【００４８】
ターゲット電力  ０．５〜４．０ｋＷ；
基板バイアス電力  ２００〜６００Ｗ；
圧力  ４×１０−２〜８×１０−２Ｐａ；
リスパッタリング時間  ５〜３０秒。
【００４９】
上述の条件で形成されるバリアメタル膜４０Ａの厚さは、ビアホール２４の側面上において５〜８ｎｍ、底面上において３〜５ｎｍ、配線溝２５の側面上において８〜１３ｎｍ、底面上において５〜１０ｎｍ、第１のハードマスク膜２２上において１０〜１５ｎｍになる。
【００５０】
バリアメタル膜４０Ａの上にＣｕのシード膜をスパッタリングにより成膜し、さらにＣｕを電解めっきすることにより導電膜４１Ａを形成する。ビアホール２４及び配線溝２５内が導電膜４１Ａで埋め込まれる。
【００５１】
図１Ｌに示すように、第１のハードマスク膜の下層２２ａが露出するまでＣＭＰを行う。ビアホール２４及び配線溝２５の内面上にバリアメタル膜４０が残り、ビアホール２４及び配線溝２５内に充填された配線４１が残る。
【００５２】
次に、図３Ａ及び図３Ｂを参照して、配線溝２５の底面とビアホール２４の側面との接続部分の形状について説明する。
【００５３】
図３Ｂに、ビアホール２４内に残された埋め込み部材３３Ｂの高さが低すぎる場合のエッチングの進み方を示す。エッチングの当初、ビアホール２４の上端近傍の側面が露出しているため、ビアホール２４の側面と配線溝２５の底面との接続部分に傾斜面２７が形成される。配線溝２５が形成される領域の層間絶縁膜２１のエッチングが進むと、埋め込み部材３３Ｂもエッチングされ、その高さが低くなる。埋め込み部材３３Ｂが低くなると、ビアホール２４の側面の露出する部分が増え、傾斜面２７が大きくなる。
【００５４】
図３Ａに、実施例による方法で層間絶縁膜２１のエッチングを行うときのエッチングの進み方を示す。エッチングの当初、図３Ｂの場合と同様に、ビアホール２４の側面と配線溝２５の底面との接続部分に傾斜面２７が形成される。しかし、ビアホール２４の露出している部分が浅いため、図３Ｂの場合に比べて傾斜面２７が緩やかになる。エッチングが進み、配線溝２５の底面が、埋め込み部材３３Ｂの上面にほぼ追いつくと、傾斜面が形成されにくくなる。配線溝２５の底面と埋め込み部材２４の上面とが同じ高さになったときにエッチングを停止させれば、傾斜面はほとんど形成されない。
【００５５】
次に、図４Ａ〜図４Ｆを参照して、配線溝２５の底面とビアホール２４の側面との接続部分に形成される種々の表面形状について説明する。図４Ａ〜図４Ｆは、図１Ａの一点鎖線Ｂ１−Ｂ１における断面に相当する。具体的には、配線４１及び４３の長手方向に平行でビアホール２４の中心を通り、かつ半導体基板の表面に垂直な断面に相当する。
【００５６】
図４Ａは、配線溝２５の底面とビアホール２４の側面との接続部分に、傾斜面２７ａが形成されている状態を示す。半導体基板１の表面に対する傾斜面２７ａの傾斜角は、５０°よりも大きい。
【００５７】
図４Ｂは、配線溝２５の底面とビアホール２４の側面との接続部分に、段差面２７ｂが形成されている状態を示す。段差面２７ｂは、ビアホール２４の側面に連続する相対的に勾配の緩やかな領域と、配線溝２５の底面に連続する相対的に勾配の急な領域とを含む。図４Ｂでは、勾配の緩やかな領域の傾斜角がほぼ０であり、勾配の急な領域の傾斜角がほぼ９０°の場合を示している。
【００５８】
図４Ｃに示した段差面２７ｃは、図４Ｂの段差面２７ｂと異なる形状を有する。段差面２７ｃの勾配の緩やかな領域の傾斜角はほぼ０であり、勾配の急な領域の傾斜角は、５０°よりも大きい。
【００５９】
図４Ｄは、傾斜角が４０°〜５０°の範囲内の傾斜面２７ｄが形成されている状態を示している。図４Ｅは、図の断面内において曲線部分を含む傾斜面２７ｅが形成されている状態を示している。図４Ｆは、傾斜角が４０°〜５０°の範囲内で、図４Ｄに示した傾斜面２７ｄよりも大きな傾斜面２７ｆが形成されている状態を示している。
【００６０】
このような形状の相違は、図１Ｈに示した層間絶縁膜２１をエッチングする工程におけるエッチング条件の違いや、配線溝２５の底面と埋め込み部材３３Ｂの上面との高さの違い等により発生する。
【００６１】
図５Ａ及び図５Ｂに、実際に作製した配線溝とビアホールの断面の顕微鏡写真を示す。この写真は、配線溝及びビアホールの内面をバリアメタル膜で覆った状態を示す。Ｃｕ配線はまだ充填されていない。図５Ａは、配線溝の底面とビアホールの側面との接続部分に段差面が形成されている図４Ｃの状態に相当する。図５Ｂは、配線溝の底面とビアホールの側面との接続部分に傾斜角が４０°〜５０°の範囲内の傾斜面が形成されている図４Ｄまたは図４Ｆの状態に相当する。
【００６２】
図５Ａ及び図５Ｂに示した試料のストレスマイグレーション耐性を評価するために、試料を約２００℃まで昇温させて、２１日間放置し、加熱前のビア抵抗と、昇温させた状態で放置した後のビア抵抗を測定した。
【００６３】
図６に、図５Ａ及び図５Ｂに示した試料のビアチェーンの抵抗の上昇率の累積確率を示す。横軸は、抵抗の上昇率を単位「％」で表し、縦軸は、累積確率を表す。図６の曲線ａ及びｂは、それぞれ図５Ａ及び図５Ｂに示した試料の累積確率を示す。
【００６４】
図５Ｂに示した試料においては、図５Ａに示した試料に比べてビア抵抗の上昇率が大きいことがわかる。評価試験後に、図５Ｂに示した試料のビアホール部分を観察したところ、ビアホール内に空孔（ボイド）が発生したことにより、ビア抵抗が上昇したことがわかった。以下、ボイド発生の原因について説明する。
【００６５】
図４Ｆに示したように、傾斜角４０°〜５０°の大きな傾斜面２７ｆが形成されていると、バリアメタル膜４０Ａの成膜工程において、傾斜面２７ｆ上に堆積したバリアメタル膜４０Ａがリスパッタリングされて薄くなる。バリアメタル膜４０Ａが薄くなった領域でＣｕ配線４１の密着性が低下し、ボイドが発生しやすくなると考えられる。特に、傾斜角が４０°〜５０°の傾斜面上においてリスパッタリングによる膜厚の目減りが大きい。
【００６６】
図４Ａに示したように、傾斜面２７ａの傾斜角が５０°より大きい場合には、この傾斜面２７ａ上に堆積したバリアメタル膜４０Ａのリスパッタリングによる目減りが少ない。このため、配線の信頼性低下を防止することができる。また、傾斜面の傾斜角が４０°未満である場合にも、同様に、配線の信頼性低下を防止することができる。
【００６７】
図４Ｂに示したように、配線溝２５の底面とビアホール２４の側面との接続部分に段差面２７ｂが形成されている場合にも、リスパッタリングによるバリアメタル膜４０Ａの膜厚の目減りを抑制することができる。特に、段差面２７ｂの勾配の緩やかな領域の傾斜角が４０°未満であり、かつ勾配の急な領域の傾斜角が５０°よりも大きい形状である場合、バリアメタル膜４０Ａの膜厚の目減り抑制効果が大きい。
【００６８】
図４Ｄに示したように、傾斜面２７ｄの傾斜角が４０°〜５０°の範囲内である場合には、その上に堆積したバリアメタル膜４０Ａの膜厚の目減りが懸念される。ただし、図４Ｄに示した断面内における傾斜面２７ｄの長さが、ビアホール２４の平面形状の最大寸法以下である場合には、バリアメタル膜４０Ａの膜厚の目減りによる影響は少ない。ここで、平面形状の最大寸法とは、ビアホールの平面形状を内包する最小の円の直径を意味する。例えば、ビアホールの平面形状が円形である場合には、その直径を意味し、平面形状が正方形または長方形である場合には、その対角線の長さを意味する。
【００６９】
また、図４Ｃに示した段差面２７ｃの勾配が急な領域の傾斜角が４０°〜５０°の範囲内である場合に、図４Ｃに示した断面内における勾配の急な領域の長さが、ビアホール２４の平面形状の最大寸法以下であれば、バリアメタル膜４０Ａの膜厚の目減りによる影響は少ない。
【００７０】
図４Ｅに示したように、傾斜面２７ｅが、図４Ｅの断面内において曲線部分を含む場合には、傾斜角が４０°〜５０°の範囲内の領域の合計の長さが、ビアホール２４の平面形状の最大寸法以下にすることが好ましい。
【００７１】
図４Ｆに示したように、傾斜面２７ｆが大きく、断面内における傾斜面２７ｆの長さが、ビアホール２４の平面形状の最大寸法よりも長い場合には、配線のストレスマイグレーション耐性が十分ではなく、ボイドが発生しやすくなる。
【００７２】
発明者らの評価実験によると、図１Ａに示したように、太い配線の先端から細い配線が延び、その先端にビアホールが配置されている構成において、ビアホール内にボイドが発生しやすいことが分かった。このため、このようなレイアウトの配線パターン及びビアホールを持つ半導体装置において、配線溝の底面とビアホールの側面との接続部分の形状を上記実施例のように調整することの効果が顕著に現れる。
【００７３】
また、太い部分４３の幅が、細い部分４１の幅の３倍以上である場合に、顕著な効果が期待できる。さらに、太い部分４３の端部からビアホール２４の中心までの長さが、ビアホール２４の直径の１．５倍以上である場合に、顕著な効果が期待できる。
【００７４】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【００７５】
上記実施例から、以下の付記に示す発明が導出される。
【００７６】
（付記１）
（ａ）半導体基板の上に、絶縁材料からなる層間絶縁膜を形成する工程と、
（ｂ）前記層間絶縁膜に、その底面まで達するビアホールを形成する工程と、
（ｃ）前記ビアホール内の下側の一部に、埋め込み部材を充填する工程と、
（ｄ）前記層間絶縁膜の厚さ方向の途中まで達し、平面視において前記ビアホールに連続する配線溝を形成する工程であって、前記層間絶縁膜のエッチングレートが前記埋め込み部材のエッチングレートよりも速い条件で、前記ビアホール内に残っている埋め込み部材の上面と、前記配線溝の底面との高さの差が、前記ビアホールの平面形状の最大寸法の１／２以下になるように配線溝を形成する工程と、
（ｅ）前記ビアホール内の埋め込み部材を除去する工程と、
（ｆ）前記ビアホール及び配線溝内に導電部材を充填する工程と
を有する半導体装置の製造方法。
【００７７】
（付記２）
前記工程ｆが、前記ビアホール及び配線溝の内面をバリアメタル膜で覆う工程を含む付記１に記載の半導体装置の製造方法。
【００７８】
（付記３）
前記バリアメタル膜で覆う工程が、
前記ビアホール及び配線溝の内面上に、前記バリアメタル膜の材料をスパッタリングにより堆積させる工程と、
堆積速度よりもエッチング速度の方が速い条件で、前記バリアメタル膜をリスパッタリングする工程と
を含む付記２に記載の半導体装置の製造方法。
【００７９】
（付記４）
前記工程ｂが、
（ｂ１）前記層間絶縁膜の上に、該層間絶縁膜とはエッチング耐性の異なる材料からなる第１のハードマスクを形成する工程と、
（ｂ２）前記第１のハードマスクの上面から前記層間絶縁膜の底面まで達するビアホールを形成する工程と
を含む付記１〜３のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【００８０】
（付記５）
前記工程ｃが、
（ｃ１）前記層間絶縁膜及び前記第１のハードマスクとはエッチング耐性の異なる材料からなる埋め込み部材を、前記ビアホール内に充填すると共に、前記第１のハードマスクの上に堆積させる工程と、
（ｃ２）前記埋め込み部材の上に、前記埋め込み部材とはエッチング耐性の異なる材料からなる第２のハードマスクを形成する工程と、
（ｃ３）前記第２のハードマスクに、前記配線溝に対応する開口を形成する工程と、
（ｃ４）前記第２のハードマスクをエッチングマスクとして、前記ビアホールの深さ方向の途中まで前記埋め込み部材をエッチングする工程と、
（ｃ５）前記埋め込み部材の上に残っている前記第２のハードマスク、及び前記第２のハードマスクに形成されていた開口に対応する領域の前記第１のハードマスクを除去する工程と
を含む付記４に記載の半導体装置の製造方法。
【００８１】
（付記６）
前記工程ｄにおいて、前記ビアホール内に残っている前記埋め込み部材、及び前記第１のハードマスクの上に残っている前記埋め込み部材をエッチングマスクとして、前記層間絶縁膜を厚さ方向の途中までエッチングする付記５に記載の半導体装置の製造方法。
【００８２】
（付記７）
半導体基板の上に形成された絶縁材料からなる層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜の上面から、該層間絶縁膜の厚さ方向の途中まで達する深さを有する配線溝と、
前記配線溝の端部に配置され、前記層間絶縁膜の底面まで達するビアホールと、
前記配線溝及びビアホールの内面を覆うバリアメタル膜と、
前記配線溝及びビアホールの内部に充填された配線と
を有し、前記配線溝の底面と前記ビアホールの側面とは、傾斜面を介して接続されており、前記配線溝の長手方向に平行で前記ビアホールの中心を通り、かつ前記半導体基板の表面に垂直な断面内において、前記傾斜面のうち、前記半導体基板の表面に対する傾斜角が４０°〜５０°の範囲内の部分の長さが、前記ビアホールの平面形状の最大寸法以下である半導体装置。
【００８３】
（付記８）
前記配線溝は、相対的に太い部分と、該太い部分の端部から延びる相対的に細い部分を含み、前記ビアホールは、前記細い部分の先端に配置されている付記７に記載の半導体装置。
【００８４】
（付記９）
前記太い部分の幅は、前記細い部分の幅の３倍以上である付記８に記載の半導体装置。
【００８５】
（付記１０）
前記太い部分の端部から前記ビアホールの中心までの長さは、前記ビアホールの直径の１．５以上である付記８または９に記載の半導体装置。
【００８６】
（付記１１）
前記半導体基板の表面に対する前記傾斜面の傾斜角が、４０°未満、または５０°よりも大きい付記７〜１０のいずれかに記載の半導体装置。
【００８７】
（付記１２）
前記傾斜面は、前記配線溝の長手方向に平行で前記ビアホールの中心を通り、かつ前記半導体基板の表面に垂直な断面内において曲線部分を含む付記７〜１１のいずれかに記載の半導体装置。
【００８８】
（付記１３）
半導体基板の上に形成された絶縁材料からなる層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜の上面から、該層間絶縁膜の厚さ方向の途中まで達する深さを有する配線溝と、
前記配線溝の端部に配置され、前記層間絶縁膜の底面まで達するビアホールと、
前記配線溝及びビアホールの内面を覆うバリアメタル膜と、
前記配線溝及びビアホールの内部に充填された配線と
を有し、前記配線溝の底面と前記ビアホールの側面とは、段差面を介して接続されている半導体装置。
【００８９】
（付記１４）
前記段差面は、前記ビアホールの側面に連続する相対的に勾配の緩やかな領域と、前記配線溝の底面に連続する相対的に勾配の急な領域とを含む付記１３に記載の半導体装置。
【００９０】
（付記１５）
前記勾配の緩やかな領域の傾斜角は４０°未満であり、前記勾配の急な領域の傾斜角は５０°よりも大きい付記１４に記載の半導体装置。
【００９１】
（付記１６）
前記勾配の急な領域の傾斜角は４０°〜５０°の範囲内であり、前記ビアホールの中心を通り前記半導体基板の表面に垂直な断面内において、前記勾配の急な領域の長さは前記ビアホールの平面形状の最大寸法以下である付記１４に記載の半導体装置。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１−１】（１Ａ）は、実施例による半導体装置の配線溝とビアホールのレイアウトを示す平面図であり、（１Ｂ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その１）である。
【図１−２】（１Ｃ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その２）であり、（１Ｄ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その３）である。
【図１−３】（１Ｅ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その４）であり、（１Ｆ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その５）である。
【図１−４】（１Ｇ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その６）であり、（１Ｈ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その７）である。
【図１−５】（１Ｉ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その８）であり、（１Ｊ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その９）である。
【図１−６】（１Ｋ）は、実施例による半導体装置の製造途中における断面図（その１０）であり、（１Ｌ）は、実施例による半導体装置の断面図である。
【図２】バリアメタル膜を形成するスパッタリング装置の断面図である。
【図３】（３Ａ）は、実施例による半導体装置の製造方法における配線溝形成時のエッチング途中経過を示す断面図であり、（３Ｂ）は、比較例による半導体装置の製造方法における配線溝形成時のエッチング途中経過を示す断面図である。
【図４−１】（４Ａ）〜（４Ｃ）は、実施例による半導体装置の配線溝の底面とビアホールの側面との接続部分の形状の例を示す断面図である。
【図４−２】（４Ｄ）及び（４Ｅ）は、実施例による半導体装置の配線溝の底面とビアホールの側面との接続部分の形状の例を示す断面図であり、（４Ｆ）は、比較例による半導体装置の配線溝の底面とビアホールの側面との接続部分の形状の例を示す断面図である。
【図５】（５Ａ）及び（５Ｂ）は、実際に作製した半導体装置の配線溝とビアホール部分の顕微鏡写真である。
【図６】図５Ａ及び図５Ｂに対応する試料のストレスマイグレーション耐性評価試験における抵抗の上昇率の累積確率を示すグラフである。
【符号の説明】
【００９３】
１  半導体基板
２  素子分離絶縁膜
３  ＭＯＳトランジスタ
１０  層間絶縁膜
１１  導電プラグ
１５  層間絶縁膜
１６  バリアメタル膜
１７  配線
２０  キャップ膜
２１  層間絶縁膜
２２  第１のハードマスク
２２ａ  第１のハードマスクの下層
２２ｂ  第１のハードマスクの上層
２４  ビアホール
２５  配線溝
２７  傾斜面
３０  レジストパターン
３３、３３Ａ、３３Ｂ  埋め込み部材
３５  第２のハードマスク
３８  レジストパターン
４０、４０Ａ  バリアメタル膜
４１  細い配線
４１Ａ  導電膜
４３  太い配線
５０  チャンバ
５１  ウエハステージ
５２  ウエハ
５３  ターゲット
５４  シールド
５５  回転磁気アセンブリ
５８  ステージバイアス電源
５９  ターゲット電源
６０  ガス供給源
６５  真空ポンプ
【図１−１】
0004728153.tif 000002
【図１−２】
0004728153.tif 000003
【図１−３】
0004728153.tif 000004
【図１−４】
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【図１−５】
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【図１−６】
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【図２】
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【図３】
0004728153.tif 000009
【図４−１】
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【図４−２】
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【図５】
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【図６】
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