(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式［Ｉ］
【化１】
0004703077.tif 000087
｛式中、Ｒ１は水素原子（但しＲ２＝水素原子でありＷ＝ＳＯ２の場合は除く）、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、フェニル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、シアノ基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基（但しＲ２＝フェニル基でありＷ＝ＳＯ２の場合は除く）、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、アルデヒド基、オキシラニル基、基ＮＲ９Ｒ１０又は基ＣＯＮＲ９Ｒ１０を表し、Ｒ９は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基を表し、Ｒ１０はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでＲ９及びＲ１０はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員飽和環を形成してもよく、
Ｒ２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、シアノ基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＣＲ１１Ｒ１２ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、基ＣＲ１１Ｒ１２ＣＯＮＲ９Ｒ１０又は一般式Ｒ２−１〜Ｒ２−１３
【化２】
0004703077.tif 000088
（式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｎが２〜３の整数の場合は、Ｘは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）の何れかで示される基を表し、Ｒ１１及びＲ１２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し、Ｒ３は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、ジＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、オキシラニルＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｗは基−Ｃ（＝Ｑ）Ｚ−又は基−ＳＯ２−を表し、Ｑは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｚは酸素原子、硫黄原子、基−ＮＲ６−、基−ＣＨ２ＣＨ２−、基−ＣＨ＝ＣＨ−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−Ｑ−、基−Ｃ（＝Ｑ）−、基−ＮＲ６ＮＲ６ａ−又は基−ＮＲ６Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−を表し、Ｒ４及びＲ５は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ６アルキルチオ基を表し、Ｒ６及びＲ６ａは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基又はＣ２〜Ｃ６アルキニル基を表し、ここでＲ３及びＲ６はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員環状ウレアを形成してもよく、
Ａｒ基は一般式Ａｒ−１〜Ａｒ−１７
【化３】
0004703077.tif 000089
（式中、Ｘ’は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎ’は１〜３の整数を表し、ｍは０〜３の整数を表し、ｎ’が２〜３の整数の場合は、Ｘ’は、同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）の何れかで示される基を表し、
Ｒ７は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表し、
Ｒ８は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表す。｝で示されるピリミジン誘導体。
【請求項２】
一般式［Ｉ］
【化４】
0004703077.tif 000090
｛式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、フェニル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルホニル基、ヒドロキシアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノ基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、アルデヒド基、オキシラニル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０を表し、Ｒ９は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基を表し、Ｒ１０はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでＲ９及びＲ１０はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員飽和環を形成してもよく、
Ｒ２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、シアノ基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＣＲ１１Ｒ１２ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、基ＣＲ１１Ｒ１２ＣＯＮＲ９Ｒ１０又は一般式Ｒ２−１〜Ｒ２−１３
【化５】
0004703077.tif 000091
（式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｎが２〜３の整数の場合は、Ｘは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）の何れかで示される基を表し、Ｒ１１及びＲ１２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し、
Ｒ３は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、ジＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、オキシラニルＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｗは基−Ｃ（＝Ｑ）Ｚ−を表し、Ｑは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｚは酸素原子、硫黄原子、基−ＮＲ６−、基−ＣＨ２ＣＨ２−、基−ＣＨ＝ＣＨ−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−Ｑ−、基−Ｃ（＝Ｑ）−、基−ＮＲ６ＮＲ６ａ−又は基−ＮＲ６Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−を表し、Ｒ４及びＲ５は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ６アルキルチオ基を表し、Ｒ６及びＲ６ａは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基又はＣ２〜Ｃ６アルキニル基を表し、ここでＲ３及びＲ６はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員環状ウレアを形成してもよく、
Ａｒ基は一般式Ａｒ−１〜Ａｒ−１７
【化６】
0004703077.tif 000092
（式中、Ｘ’は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎ’は１〜３の整数を表し、ｍは０〜３の整数を表し、ｎが２〜３の整数の場合は、Ｘ’は同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）で示される基を表し、Ｒ７は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表し、Ｒ８は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表す。｝で示されるピリミジン誘導体。
【請求項３】
一般式［１］
【化７】
0004703077.tif 000093
｛式中、Ｒ１はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、オキソＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、フェニル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基により置換されてもよい。）、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルホニル基、ヒドロキシアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノ基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、アルデヒド基、オキシラニル基、基ＮＲ９Ｒ１０又は基ＣＯＮＲ９Ｒ１０を表し、Ｒ９は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基を表し、Ｒ１０はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、ここでＲ９及びＲ１０はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員飽和環を形成してもよく、
Ｒ２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、シアノ基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＣＲ１１Ｒ１２ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、基ＣＲ１１Ｒ１２ＣＯＮＲ９Ｒ１０又は一般式Ｒ２−１〜Ｒ２−１３
【化８】
0004703077.tif 000094
（式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基又はニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｎが２〜３の整数の場合は、Ｘは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）の何れかで示される基を表し、Ｒ１１及びＲ１２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し、Ｒ３は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、ジＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、オキシランＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｗは基−ＳＯ２−を表し、
Ａｒ基は一般式Ａｒ−１〜Ａｒ−１７
【化９】
0004703077.tif 000095
（式中、Ｘ’は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎ’は１〜３の整数を表し、ｍは０〜３の整数を表し、ｎ’が２〜３の整数の場合は、Ｘ’は同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）で示される基を表し、
Ｒ７は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表し、
Ｒ８は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表す。｝で示されるピリミジン誘導体。
【請求項４】
一般式［１］
【化１０】
0004703077.tif 000096
｛式中、Ｒ１はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、フェニル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基（但しＲ２＝フェニル基、Ｗ＝ＳＯ２の場合は除く）、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノ基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、アルデヒド基、オキシラニル基、基ＮＲ９Ｒ１０又は基ＣＯＮＲ９Ｒ１０を表し、Ｒ９は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基を表し、Ｒ１０はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでＲ９及びＲ１０はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員飽和環を形成してもよく、
Ｒ２はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、シアノ基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＣＲ１１Ｒ１２ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、基ＣＲ１１Ｒ１２ＣＯＮＲ９Ｒ１０又は一般式Ｒ２−１〜Ｒ２−１３
【化１１】
0004703077.tif 000097
（式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｎが２〜３の整数の場合は、Ｘは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）の何れかで示される基を表し、Ｒ１１及びＲ１２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し、
Ｒ３は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、ジＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｗは基−Ｃ（＝Ｑ）Ｚ−又は基−ＳＯ２−を表し、Ｑは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｚは酸素原子、硫黄原子、基−ＮＲ６−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−Ｑ−、基−ＮＲ６ＮＲ６ａ−又は基−ＮＲ６Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−を表し、Ｒ４及びＲ５は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し、Ｒ６及びＲ６ａは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基又はＣ２〜Ｃ６アルキニル基を表し、ここでＲ３及びＲ６はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員環状ウレアを形成してもよく、
Ａｒ基は一般式Ａｒ−１〜Ａｒ−１７
【化１２】
0004703077.tif 000098
（式中、Ｘ’は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎ’は１〜３の整数を表し、ｍは０〜３の整数を表し、ｎ’が２〜３の整数の場合は、Ｘ’は同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）で示される基を表し、Ｒ７は水素原子又はハロゲン原子を表し、
Ｒ８は水素原子を表す。｝で示されるピリミジン誘導体。
【請求項５】
一般式［Ｉ］
0004703077.tif 000099
｛式中、Ｒ１はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、フェニル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基（但しＲ２＝フェニル基、Ｗ＝ＳＯ２の場合は除く）、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノ基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、カルボキシル基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ２はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）Ｃ２〜Ｃ７アシル基、又は一般式Ｒ２−１又はＲ２−６
【化１３】
0004703077.tif 000100
（式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｎが２〜３の整数の場合は、Ｘは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）の何れかで示される基を表し、
Ｒ９は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基を表し、Ｒ１０はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでＲ９及びＲ１０はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員飽和環を形成してもよく、
Ｒ１１及びＲ１２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し、
Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基又はシアノＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｗは基−Ｃ（＝Ｑ）Ｚ−又は基−ＳＯ２＿を表し、Ｑは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｚは、基−ＮＲ６−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−Ｑ−、基−ＮＲ６ＮＲ６ａ−又は基−ＮＲ６Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−を表し、Ｒ４及びＲ５は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し、Ｒ６及びＲ６ａは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基又はＣ２〜Ｃ６アルキニル基を表し、ここでＲ３及びＲ６はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員環状ウレアを形成してもよく、
Ａｒ基は一般式Ａｒ−１、Ａｒ−６又はＡｒ−１４
【化１４】
0004703077.tif 000101
（式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｍは２〜３の整数を表し、ｎが２〜３の整数の場合は、Ｘは、同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）の何れかで示される基を表し、
Ｒ７は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表し、
Ｒ８は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表す。｝で示されるピリミジン誘導体。
【請求項６】
一般式［ＩＩ］で示される中間体
【化１５】
0004703077.tif 000102
｛式中、Ｒ１はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、フェニル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）又はジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ２はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、フェニル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基により置換されてもよい。）、チエニル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基により置換されてもよい。）、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基又はジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）を表し、
Ｒ３は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、オキシラニルＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ７は水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し、
Ｒ８は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表す。｝で示されるピリミジン誘導体。
【請求項７】
請求の範囲１乃至５の何れか１項に記載のピリミジン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、新規なピリミジン誘導体及びこれを有効成分として含有する除草剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ピリミジン誘導体については、国際出願ＷＯ９５／１２５８２号公報明細書、国際出願ＷＯ９６／２２９８０号公報明細書、国際出願ＷＯ９７／１２８７７号公報明細書等に知られているが、本発明のピリミジン誘導体は未だ知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
有用作物に対して使用される除草剤は、畑作土壌又は水田に施用し、低薬量で十分な除草効果を示し、しかも作物・雑草間の選択性を発揮する薬剤であることが望まれる。そこで本発明は優れた除草活性ならびに作物雑草間に選択性のある化合物を提供することを課題とする。
【０００４】
【発明を解決するための手段】
本発明者らは、このような状況に鑑み種々の置換ピリミジン誘導体を合成し、その生理活性について検討を重ねた。その結果、本発明化合物の新規な置換ピリミジン誘導体が優れた除草活性ならびに作物雑草間に選択性を有することを見い出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、一般式［Ｉ］
【０００５】
【化１６】
0004703077.tif 000002
【０００６】
｛式中、Ｒ１は水素原子（但しＲ２＝水素原子でありＷ＝ＳＯ２の場合は除く）、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、フェニル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、シアノ基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基により置換されてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基（但しＲ２＝フェニル基でありＷ＝ＳＯ２の場合は除く）、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルホニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルホニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ２〜Ｃ６アルケニル基、カルボキシル基、カルボキシルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、アルデヒド基、オキシラニル基、基ＮＲ９Ｒ１０又は基ＣＯＮＲ９Ｒ１０を表し、Ｒ９は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基を表し、Ｒ１０はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、又はベンジルオキシカルボニル基を表し、ここでＲ９及びＲ１０はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員飽和環を形成してもよく、Ｒ２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基（該基はハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基により置換されてもよい。）、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、シアノ基、ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ヒドロキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ジオキソラニル基（該基はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよい）、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＣＲ１１Ｒ１２ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、基ＣＲ１１Ｒ１２ＣＯＮＲ９Ｒ１０又は一般式Ｒ２−１〜Ｒ２−１３
【０００７】
【化１７】
0004703077.tif 000003
【０００８】
（式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｎが２〜３の整数の場合は、Ｘは同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）の何れかで示される基を表し、Ｒ１１及びＲ１２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基を表し、Ｒ３は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、ジＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、オキシラニルＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｗは基−Ｃ（＝Ｑ）Ｚ−又は基−ＳＯ２−を表し、Ｑは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｚは酸素原子、硫黄原子、基−ＮＲ６−、基−ＣＨ２ＣＨ２−、基−ＣＨ＝ＣＨ−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−、基−Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−Ｑ−、基−Ｃ（＝Ｑ）−、基−ＮＲ６ＮＲ６ａ−又は基−ＮＲ６Ｃ（Ｒ４）Ｒ５−を表し、Ｒ４及びＲ５は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基又はＣ１〜Ｃ６アルキルチオ基を表し、Ｒ６及びＲ６ａは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基又はＣ２〜Ｃ６アルキニル基を表し、ここでＲ３及びＲ６はこれらのものが結合する炭素原子と共に５〜７員環状ウレアを形成してもよく、
Ａｒ基は一般式Ａｒ−１〜Ａｒ−１７
【０００９】
【化１８】
0004703077.tif 000004
【００１０】
（式中、Ｘ’は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基ＮＲ９Ｒ１０、基ＣＯＮＲ９Ｒ１０、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表し、ｎ’は１〜３の整数を表し、ｍは０〜３の整数を表し、ｎ’が２〜３の整数の場合は、Ｘ’は、同一でも異なってもよく、又、隣接した低級アルコキシ基同士が２個結合してＣ１〜Ｃ３アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）の何れかで示される基を表し、
Ｒ７は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表し、
Ｒ８は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表す。｝で示されるピリミジン誘導体及び、これを有効成分として含有する除草剤を提供するものである。
尚、本明細書において、用いられる用語の定義を以下に示す。
【００１１】
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
Ｃ１〜Ｃ６アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を意味し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基とは、炭素数が３〜６のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテニル基又は２−プロペニル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチニル基又は２−プロピニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は相異なるハロゲン原子１〜９で置換されている炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えばクロロメチル基、トリフルオロメチル基又はテトラフルオロエチル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基等を挙げることができる。
【００１２】
Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基とは、アルケニル部分が上記の意味である（アルケニル）−Ｏ−基を示し、例えばエテニルオキシ基又は２−プロペニルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基とは、アルキニル部分が上記の意味である（アルキニル）−Ｏ−基を示し、例えばエチニルオキシ基又は２−プロピニルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルオキシ基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基又はシクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−（アルキレン）−基を示し、例えばメトキシメチル基又はエトキシメチル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキル）−（Ｃ１〜Ｃ６アルキレン）基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基又はシクロヘキシルエチル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばトリフルオロメトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
【００１３】
Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル基及びＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｓ−基、（アルキル）−ＳＯ−基、（アルキル）−ＳＯ２−基を示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、メチルスルホニル基又はエチルスルホニル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルスルフィニル基及びＣ２〜Ｃ６アルケニルスルホニル基とは、アルケニル部分が上記の意味である（アルケニル）−Ｓ−基、（アルケニル）−ＳＯ−基、（アルケニル）−ＳＯ２−基を示し、例えばプロペニルチオ基、ブテニルチオ基、プロペニルスルフィニル基、ブテニルスルフィニル基、プロペニルスルホニル基又はブテニルスルホニル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルスルフィニル基及びＣ２〜Ｃ６アルキニルスルホニル基とは、アルキニル部分が上記の意味である（アルキニル）−Ｓ−基、（アルキニル）−ＳＯ−基、（アルキニル）−ＳＯ２−基を示し、例えばエチニルチオ基、２−プロピニルチオ基、エチニルスルフィニル基、２−プロピニルスルフィニル基、エチニルスルホニル基又は２−プロピニルスルホニル基等を挙げることができる。
【００１４】
Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルチオ基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルスルフィニル基及びＣ３〜Ｃ６シクロアルキルスルホニル基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキル）−Ｓ−基、（シクロアルキル）−ＳＯ−基、（シクロアルキル）−ＳＯ２−基を示し、例えばシクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、シクロプロピルスルフィニル基、シクロブチルスルフィニル基、シクロペンチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、シクロプロピルスルホニル基、シクロブチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基又はシクロヘキシルスルホニル基等を挙げることができる。
【００１５】
Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｓ−（アルキレン）基を示し、例えばメチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基又はメチルチオエチル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ７アシル基とは、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルカルボニル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルカルボニル基又はベンゾイル基を示し、例えばアセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブチリル基、イソブチリル基、シクロプロピルカルボニル基又はベンゾイル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは例えばメチルカルボニルメチル基、エチルカルボニルメチル基又はプロピルカルボニルメチル基等を挙げることができる。
ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、例えばジメトキメチル基又はジエトキメチル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、例えばメトキイミノメチル基、エトキシイミノメチル基等を挙げることができる。
ヒドロキシイミノＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、例えばヒドロキシイミノメチル基又はヒドロキシイミノエチル基等を挙げることができる。
シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、例えばシアノメチル基又はシアノエチル基等が挙げられる。
Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基とは、例えばヒドロキシメチル基又はヒドロキシエチル基等が挙げられる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基とは、例えばメトキカルボニル基又はエトキシカルボニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、例えばメトキカルボニルメチル基又はエトキシカルボニルメチル基等を挙げることができる。
カルボキシルＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、例えばカルボキシメチル基又はカルボキシエチル基等を挙げることができる。
ジＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基とは、例えばジエトキシメチル基又は２−ジメトキシエチル基等を挙げることができる。
ジＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基とはアルキルアルキル部分が上記の意味であるジアルキルアミノ基であり、例えばジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基等を挙げることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
次に、一般式［Ｉ］で表される本発明化合物の代表的な具体例を表１〜表３９に例示する。しかしながら、本発明化合物はこれらの化合物に限定されるものではない。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。また、本発明化合物及び記載化合物中で１つ以上の不斉炭素を有している場合は全ての立体異性体を本発明化合物として含む。
【００１７】
本明細書の表中においてＳ−体及びＲ−体の表記はそれぞれ光学異性体のＳ−体及びＲ−体を表し、不斉炭素を有していても特に表記がない場合はラセミ体を表す。また、表中においてＡ−体及びＢ−体の表記は、ジアステレマー異性体が存在する場合、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分割して先に溶出するものをＡ−体、後に溶出するものをＢ−体とし、ジアステレオマー異性体が存在していても特に表記がない場合はジアステレオマー混合物を表す。
【００１８】
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
Ｍｅ      ：メチル基、                Ｅｔ      ：エチル基、
Ｐｒ      ：ｎ−プロピル基、          Ｐｒ−ｉ  ：イソプロピル基、
Ｐｒ−ｃ  ：シクロプロピル基、        Ｂｕ      ：ｎ−ブチル基、
Ｂｕ−ｉ  ：イソブチル基、            Ｂｕ−ｓ  ：ｓｅｃ−ブチル基、
Ｂｕ−ｔ  ：ｔｅｒｔ−ブチル基、      Ｂｕ−ｃ  ：シクロブチル基、
Ｐｅｎ    ：ｎ−ペンチル基、          Ｐｅｎ−ｉ：イソペンチル基、
Ｐｅｎ−ｃ：シクロペンチル基、        Ｈｅｘ−ｃ：シクロヘキシル基
【００１９】
【表１】
0004703077.tif 000005
【００２０】
【表２】
0004703077.tif 000006
【００２１】
【表３】
0004703077.tif 000007
【００２２】
【表４】
0004703077.tif 000008
【００２３】
【表５】
0004703077.tif 000009
【００２４】
【表６】
0004703077.tif 000010
【００２５】
【表７】
0004703077.tif 000011
【００２６】
【表８】
0004703077.tif 000012
【００２７】
【表９】
0004703077.tif 000013
【００２８】
【表１０】
0004703077.tif 000014
【００２９】
【表１１】
0004703077.tif 000015
【００３０】
【表１２】
0004703077.tif 000016
【００３１】
【表１３】
0004703077.tif 000017
【００３２】
【表１４】
0004703077.tif 000018
【００３３】
【表１５】
0004703077.tif 000019
【００３４】
【表１６】
0004703077.tif 000020
【００３５】
【表１７】
0004703077.tif 000021
【００３６】
【表１８】
0004703077.tif 000022
【００３７】
【表１９】
0004703077.tif 000023
【００３８】
【表２０】
0004703077.tif 000024
【００３９】
【表２１】
0004703077.tif 000025
【００４０】
【表２２】
0004703077.tif 000026
【００４１】
【表２３】
0004703077.tif 000027
【００４２】
【表２４】
0004703077.tif 000028
【００４３】
【表２５】
0004703077.tif 000029
【００４４】
【表２６】
0004703077.tif 000030
【００４５】
【表２７】
0004703077.tif 000031
【００４６】
【表２８】
0004703077.tif 000032
【００４７】
【表２９】
0004703077.tif 000033
【００４８】
【表３０】
0004703077.tif 000034
【００４９】
【表３１】
0004703077.tif 000035
【００５０】
【表３２】
0004703077.tif 000036
【００５１】
【表３３】
0004703077.tif 000037
【００５２】
【表３４】
0004703077.tif 000038
【００５３】
【表３５】
0004703077.tif 000039
【００５４】
【表３６】
0004703077.tif 000040
【００５５】
【表３７】
0004703077.tif 000041
【００５６】
【表３８】
0004703077.tif 000042
【００５７】
【表３９】
0004703077.tif 000043
【００５８】
本発明化合物は、例えば以下に示す製造法に従って製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。尚、製造中間体の合成法も併せて記載する。
【００５９】
【化１９】
0004703077.tif 000044
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表す。）
即ち、工程（１−１）では一般式［ＩＩ−１］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＩＩ−２］で表される化合物１〜１０当量を無水酢酸中で反応させることにより、一般式［ＩＩ−４］で表される化合物を得ることができる。ここで、場合により触媒（例えば塩化亜鉛等を例示できる。）０．０１〜１．０当量を添加しても良い。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００６０】
次に、工程（１−２）では一般式［ＩＩ−４］で表される化合物１当量に対し、塩基１〜１０当量の存在下、一般式［ＩＩ−６］で表される化合物のルイス酸塩１〜１０当量を不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＩＩ−７］で表される化合物を得ることができる。本反応は、場合により一般式［ＩＩ−８］で表される化合物も副生成物として得られる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
【００６１】
塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム又は水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物を例示できる。
ルイス酸としては酢酸、塩酸等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００６２】
又、工程（１−３）では一般式［ＩＩ−１］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＩＩ−３］で表される化合物１〜１０当量を、無溶媒又は不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＩＩ−５］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００６３】
更に、工程（１−４）では一般式［ＩＩ−５］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＩＩ−６］で表される化合物のルイス酸塩１〜５当量を、不活性溶媒中、塩基１〜１０当量の存在下、反応させることにより、一般式［ＩＩ−７］で表される化合物を得ることができる。本反応は、場合により一般式［ＩＩ−８］で表される化合物も副生成物として得られる。
不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、又は水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物を例示できる。
ルイス酸としては酢酸、塩酸等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００６４】
【化２０】
0004703077.tif 000045
（Ｌ１はハロゲン原子を表し、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
即ち、工程（２−１）では一般式［ＩＩ−７］で表される化合物１当量を、不活性溶媒中、還元剤（例えばボラン−ｔｅｒｔ−ブチルアミン錯体又は水素化ホウ素ナトリウム等を例示できる。）０．５〜１０当量で還元することにより、一般式［ＩＩＩ−３］で表される化合物を得ることができる。
【００６５】
不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００６６】
工程（２−２）では一般式［ＩＩＩ−１］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＩＩＩ−２］で表される化合物１〜１０当量を、メチルリチウム、エチルリチウム又はｎ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム類、或いはマグネシウム１〜１０当量の存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＩＩＩ−３］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１００℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
なお、上記製造方法で用いる製造中間体である一般式［ＩＩＩ−１］で表される化合物は、例えば、国際出願ＷＯ９７／３７９７８号公報明細書等に記載の方法で合成できる。
【００６７】
工程（２−３）では一般式［ＩＩＩ−４］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＩＩＩ−５］で表される化合物１〜１０当量を、メチルリチウム、エチルリチウム又はｎ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム類、或いはマグネシウム１〜１０当量の存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＩＩＩ−３］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１００℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００６８】
【化２１】
0004703077.tif 000046
（式中、Ｌ２はＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６アルキル基が置換されてもよいフェニル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８及びＬ１はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
【００６９】
即ち、工程（３−１）では一般式［ＩＩＩ−３］で表される化合物１当量を、不活性溶媒中、塩素化剤（例えばチオニルクロリド又は塩化水素等を例示できる。）１〜１０当量で塩素化することにより、一般式［ＩＶ−１］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００７０】
工程（３−２）では一般式［ＩＶ−１］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＩＶ−３］で表される化合物１〜１０当量を不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＩＶ−４］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００７１】
又、工程（３−３）では一般式［ＩＩＩ−３］で表される化合物１当量と、一般式［ＩＶ−８］で表される化合物１〜１０当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＩＶ−２］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いはピリジン等のピリジン類を例示できる。
【００７２】
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００７３】
更に、工程（３−４）では一般式［ＩＶ−２］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＩＶ−３］で表される化合物２〜１０当量を、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＩＶ−４］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコールなどのアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００７４】
工程（３−５）では一般式［ＩＩＩ−３］で表される化合物１当量を、不活性溶媒中、三フッソ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、トリフェニルホスフィン及びトリフルオロ酢酸の存在下又は非存在下、トシルアジド、アジ化ジフェニルホスホリル、アジ化ナトリウム、アジ化リチウム又はアジ化水素などのアジド化剤１〜１０当量でアジド化することにより、一般式［ＩＶ−５］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００７５】
工程（３−６）では一般式［ＩＶ−５］で表される化合物１当量に対し、マグネシウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、トリフェニルホスフィン又は鉄などの還元剤１〜１０当量を使用、或いはパラジウム炭素、白金炭素又はラネーニッケルなどの触媒を使う水素化接触還元を行うことにより、不活性溶媒中で、一般式［ＩＶ−６］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、メチルアルコール又はエチルアルコール等のアルコール類、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００７６】
工程（３−７）では一般式［ＩＶ−６］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＩＶ−７］で表される化合物１〜１０当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＩＶ−４］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、メチルアルコール又はエチルアルコール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００７７】
【化２２】
0004703077.tif 000047
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８、Ｚ及びＡｒはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
【００７８】
即ち、工程（４−１）では一般式［ＩＶ−４］で表される化合物１当量に対し、一般式［Ｖ−１］で表される化合物１〜１０当量を、不活性溶媒中、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下で反応させるか、或いは、一般式［ＩＶ−４］で表される化合物１当量に対し、一般式［Ｖ−２］で表される化合物１〜１０当量を、縮合剤（例えば１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドハイドロクロリド又は１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール等を例示できる。）１〜１０当量の存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［Ｖ］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いはアセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒を例示できる。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基類、或いはピリジン又はトリエチルアミン等の有機塩基類を例示できる。
何れの反応も場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００７９】
【化２３】
0004703077.tif 000048
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８、Ｚ及びＡｒはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
【００８０】
即ち、工程（５−１）では一般式［Ｖ］で表される本発明化合物１当量を、不活性溶媒中、五硫化二リン又はローソン試薬０．３〜１０当量と反応させることにより、一般式［ＶＩ］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いはピリジン等のピリジン類等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００８１】
【化２４】
0004703077.tif 000049
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ６ａ、Ｒ７、Ｒ８、Ａｒ及びＬ１はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
【００８２】
即ち、工程（６−１）では一般式［ＩＶ−４］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＶＩＩ−１］で表される化合物又は一般式［ＶＩＩ−２］で表される化合物０．５〜５当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＶＩＩ−３］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、メチルアルコール、イソプロピルアルコール又はエチルアルコール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００８３】
次に、工程（６−２）では一般式［ＶＩＩ−３］で表される本発明化合物１当量に対し、一般式［ＶＩＩ−４］で表される化合物１〜１０当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＶＩＩ］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００８４】
工程（６−３）では一般式［ＩＶ−４］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＶＩＩ−５］で表される化合物１〜１０当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより一般式［ＶＩＩ−６］で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、メチルアルコール又はエチルアルコール等のアルコール類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００８５】
次に、工程（６−４）、工程（６−５）及び工程（６−６）では一般式［ＶＩＩ−６］で表される化合物１当量に対し、それぞれ一般式［ＶＩＩ−７］で表される化合物、一般式［ＶＩＩ−８］で表される化合物及び一般式［ＶＩＩ−９］で表される化合物１〜１０当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＶＩＩ］で表される本発明化合物、一般式［ＶＩＩ’］で表される化合物及び一般式［ＶＩＩ”］で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００８６】
【化２５】
0004703077.tif 000050
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ７、Ｒ８、Ｚ及びＡｒはそれぞれ前記と同じ意味を表わし、Ｒ１３ａはＣ１〜Ｃ６アルキル基を表す。）
【００８７】
即ち、工程（７−１）では一般式［ＶＩＩＩ−１］で表される化合物１当量を、不活性溶媒中、パラホルムアルデヒド１〜１０当量と反応させることにより（条件により、ディーンスタークの使用又は触媒を添加する）、一般式［ＶＩＩＩ−２］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
触媒としては、例えばトリエチルアミン等の有機塩基類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００８８】
次に工程（７−２）では一般式［ＶＩＩＩ−２］で表される化合物１当量を、［Ｖ−１］で表される化合物１〜１０当量と不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＶＩＩＩ−３］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００８９】
更に工程（７−３）では一般式［ＶＩＩＩ−３］で表される化合物１当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下、一般式［ＶＩＩＩ−４］で表される化合物１〜４当量と不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＶＩＩＩ］で表される本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基類、或いはピリジン又はトリエチルアミン等の有機塩基類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００９０】
【化２６】
0004703077.tif 000051
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８及びＡｒはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
【００９１】
即ち、工程（８−１）では一般式［ＩＶ−４］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＩＸ−１］で表される化合物１〜１０当量を、不活性溶媒中、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下で反応させることにより、一般式［ＩＸ］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基類、或いはピリジン又はトリエチルアミン等の有機塩基類を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００９２】
【化２７】
0004703077.tif 000052
（式中、Ｒ１、Ｒ７、Ｒ８及びＬ１はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ２１及びＲ２２は水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表わし、Ｒ２３はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ基、シアノ基又はＮＲ９Ｒ１０を表わし、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
【００９３】
即ち、工程（９−１）では一般式［Ｘ−１］で表される化合物１当量を、不活性溶媒中、塩素化剤（例えばスルフリルクロリド、Ｎ−クロロスクシンイミド又は塩素等を例示できる。）１〜１０当量でハロゲン化することにより、一般式［Ｘ−２］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばクロロホルム又はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００９４】
次に、工程（９−２）では一般式［Ｘ−２］で表される化合物１当量に対し、一般式［Ｘ−３］で表される化合物１〜１０当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［Ｘ−４］で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００９５】
【化２８】
0004703077.tif 000053
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｗ、Ｌ１及びＡｒはそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ１３ｂはＣ１〜Ｃ６アルキル基又は互いに結合していてもよいＣ１〜Ｃ４飽和炭素鎖を表わし、Ｒ１３ｃはＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ１４及びＲ１５は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル基を表わし、ｓは０又は１を表わす。）
【００９６】
即ち、工程（１０−１）では一般式［ＸＩ−１］で表される化合物１当量に対し、塩酸又は硫酸等の酸０．９〜２０当量を、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＸＩ−２］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、アセトン又はメチルエチルケトン等のケトン類、水、或いはそれらの混液を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００９７】
次に、工程（１０−２）では一般式［ＸＩ−２］で表される本発明化合物１当量に対し、ヒドロキシアミン塩酸塩１〜１０当量を、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムの存在下、不活性溶媒中で反応させることにより一般式［ＸＩ−３］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【００９８】
次に、工程（１０−３）では一般式［ＸＩ−３］で表される化合物１当量に対し、脱水剤１〜１０当量を、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＸＩ−４］で表される本発明化合物を得ることができる。
【００９９】
脱水剤としては１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、１，１’−カルボニルジイミダゾール、チオニルクロライド、五塩化リン、メタンスルホニルクロライド、ジホスゲン、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド、又は無水酢酸等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、又は四塩化炭素等のハロゲン化炭素類、エチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１００】
次に、工程（１０−４）では、一般式［ＸＩ−４］で表される本発明化合物１当量に対し、一般式［ＸＩ−５］で表される化合物１〜１０当量と、メチルリチウム、エチルリチウム又はｎ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム、或いはマグネシウム１〜１０当量を、不活性溶媒中で反応させることにより一般式［ＸＩ−６］で表される化合物を得ることができる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
【０１０１】
又、工程（１０−５）では、一般式［ＸＩ−９］で表される本発明化合物１当量に対し、塩酸又は硫酸等の酸０．９〜２０当量を、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＸＩ−６］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、アセトン又はメチルエチルケトン等のケトン類、水、或いはそれらの混液を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１０２】
次に、工程（１０−６）では一般式［ＸＩ−６］で表される本発明化合物１当量に対し、１〜１０当量の酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム存在下、一般式［ＸＩ−７］で表される化合物１〜１０当量を、不活性溶媒中で反応させることにより一般式［ＸＩ−８］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１０３】
次に、工程（１０−７）では一般式［ＸＩ−２］で表される本発明化合物１当量に対し、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の塩基１〜１０当量の存在又は非存在下、過マンガン酸カリウム、過酢酸、過酸化水素、ｍ−クロロ過安息香酸又は次亜塩素酸ナトリウムなどの酸化剤１〜１０当量を不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＸＩ−１０］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばアセトン又はメチルエチルケトン等のケトン類、エチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、水、或いはそれらの混液を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１０４】
次に、工程（１０−８）では一般式［ＸＩ−１０］で表される本発明化合物１当量に対し、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の存在下、一般式［ＸＩ−１１］で表される化合物１〜５０当量を、不活性溶媒中又は無溶媒で、反応させることにより一般式［ＸＩ−１２］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１０５】
工程（１０−９）では一般式［ＸＩ−１０］で表される本発明化合物１当量に対し、チオニルクロライドなどの塩素化剤１〜１０当量を、不活性溶媒中で反応させることにより一般式［ＸＩ−１３］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、又は四塩化炭素等のハロゲン化炭素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、或いはｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１０６】
次に、工程（１０−１０）では、一般式［ＸＩ−１３］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＸＩ−１１］で表される化合物１〜３当量を、塩基１〜６当量の存在又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより一般式［ＸＩ−１２］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１０７】
又、工程（１０−１１）では、一般式［ＸＩ−１０］で表される本発明化合物１当量に対し、一般式［ＸＩ−１５］で表される化合物１〜３当量を、塩基１〜６当量の存在又は非存在下、１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、又はＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのペプチド化剤を使用することにより、不活性溶媒中で反応させることにより一般式［ＸＩ−１４］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭素類、エチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１０８】
工程（１０−１２）では、一般式［ＸＩ−１３］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＸＩ−１５］で表される化合物１〜３当量を、塩基１〜１０当量の存在又は非存在下、不活性溶媒中で反応させることにより一般式［ＸＩ−１４］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は室温から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜１００時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１０９】
【化２９】
0004703077.tif 000054
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ７、Ｒ８、Ｑ及びＡｒはそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｍｓはメタンスルホニル基、ｐは２、３又は４を表わし、ｑは１又は０を表わす。）
【０１１０】
即ち、工程（１１−１）及び工程（１１−２）では一般式［ＩＶ−１］で表される化合物又は一般式［ＩＶ−２］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＸＩＩ−１］で表される化合物０．９〜３当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下で、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＸＩＩ−２］で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１１１】
次に、工程（１１−３）では一般式［ＸＩＩ−２］で表される化合物１当量に対し、ホスゲン又はチオホスゲン１〜１０当量を、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下で、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＸＩＩ］で表される目的の本発明化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１１２】
【化３０】
0004703077.tif 000055
（式中、Ｒ１ａは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキル基を表わし、Ｒ１６は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基を表わし、Ｙは酸素原子、イオウ原子又はＮＲ９を表わし、Ｒ９は前記と同じ意味を表わし、ｒは１または２を表わす。）
【０１１３】
即ち、工程（１２−１）では一般式［ＸＩＩＩ−１］で表される化合物１当量に対し、Ｎ−メチルホルムアニリド又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１〜１０当量とオキシ塩化リン１〜２０当量を、不活性溶媒中又は無溶媒で反応させることにより、一般式［ＸＩＩＩ−２］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素、クロロベンゼン、又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１１４】
次に、工程（１２−２）では一般式［ＸＩＩＩ−２］で表される化合物１当量に対し、一般式［ＸＩＩＩ−３］で表される化合物１〜３当量を使用することにより、塩基１〜１０当量の存在下又は非存在下で、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＸＩＩＩ−４］で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等を例示できる。
ここで溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
【０１１５】
また、工程（１２−３）では一般式［ＸＩＩＩ−２］で表される化合物１当量に対し、酸化マンガン１〜８当量とパラジウウム炭素又はラネーニッケルなどの触媒０．０１〜４当量を使用することにより、水素添加を行い、不活性溶媒中で反応させることにより、一般式［ＸＩＩＩ−５］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類又は水を例示できる。
反応温度は−１０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、工程（１２−４）では一般式［ＸＩＩＩ−５］で表される化合物１当量に対し、不活性溶媒中でオキザリルクロリド１〜１０当量、ジメチルスルホキシド１〜１０当量、及びトリエチルアミン１〜１０当量などを使用する酸化反応を行うことにより、一般式［ＸＩＩＩ−６］で表される化合物を得ることができる。
ここで不活性溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、又は四塩化炭素等のハロゲン化炭素類、エチルアルコール、イソプロピルアルコール又はメチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類、ピリジン等のピリジン類、或いは水を例示できる。
【０１１６】
反応は場合により窒素気流下で実施され、反応温度は−８０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、化合物により異なるが１時間〜２４時間で終了する。目的物は反応液から常法により単離することができ、必要に応じて蒸留又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、本発明化合物の合成中間体の製造法も併せて記載する。
【０１１７】
【実施例】
＜製造例１＞
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］フェニルアセトアミド（本発明化合物番号１−８）の製造
４−トリフルオロメチル−５−［１−（Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロピル］ピリミジン６ｇ（２６ミリモル）及び炭酸カリウム３．６ｇ（２６ミリモル）をアセトニトリル１５０ｍｌに溶解し、フェニルアセチルクロリド４ｇ（２６ミリモル）を滴下し、室温にて３時間攪拌した。反応溶液に水２００ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンにて洗浄し、無色透明結晶（融点１０６〜１０９℃）のＮ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］フェニルアセトアミド７．７ｇ（収率８５％）を得た。
【０１１８】
＜製造例２＞
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］−２−ピリジルアセトアミド（本発明化合物番号２−３）の製造
２−ピリミジニル酢酸塩酸塩０．３ｇ（１．７ミリモル）及びトリエチルアミン０．１８ｇ（１．８ミリモル）をテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解し、１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール０．２８ｇ（１．７ミリモル）を加え、室温で１時間攪拌した。次に４−トリフルオロメチル−５−［１−（Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロピル］ピリミジン０．４ｇ（１．７ミリモル）を加え、さらに３時間加熱還流した。反応溶液に水１００ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル：メタノール＝４．５：４．５：１）で精製し、無色透明結晶（融点９９〜１００℃）のＮ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］−２−ピリジルアセトアミド０．２ｇ（収率３３％）を得た。
【０１１９】
＜製造例３＞
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］フェニルチオアセトアミド（本発明化合物番号１−１４２）の製造
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］フェニルアセトアミド０．４５ｇ（１．３ミリモル）及びローソン試薬０．５２ｇ（１．３ミリモル）をトルエン３０ｍｌに溶解し、３０時間加熱還流した。反応溶液に水１００ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、淡黄色結晶（融点９３〜９４℃）のＮ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］フェニルチオアセトアミド０．１２ｇ（収率２６％）を得た。
【０１２０】
＜製造例４＞
Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］−４−クロロフェニルアセトアミド（本発明化合物番号１−１０５）の製造
４−トリフルオロメチル−５−［１−アミノ−２−メチルプロピル］ピリミジン１．０ｇ（４．６ミリモル）、パラホルムアルデヒド０．２３ｇ（６．９ミリモル）及びトリエチルアミン０．．１ｇ（９．９ミリモル）をトルエン５０ｍｌに溶解した。反応系からディーンスタークで脱水しながら１時間加熱還流した。反応溶液を室温に戻し、４−クロロフェニルアセチルクロリド０．８６ｇ（４．６ミリモル）を滴下し、さらに２時間撹拌した。この溶液に、メタノール０．２ｇ（６．２ミリモル）及びトリエチルアミン０．５ｇ（４．９ミリモル）のトルエン溶液１０ｍｌを滴下し、室温で１時間撹拌した。反応溶液に水１００ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、無色透明結晶（融点１４２〜１４５℃）のＮ−メトキシメチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］−４−クロロフェニルアセトアミド０．５ｇ（収率２６％）を得た。
【０１２１】
＜製造例５＞
Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−クロロジフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］−Ｎ’−（４−メチルフェニル）ウレア（本発明化合物番号１−３７）の製造
４−クロロジフルオロメチル−５−［１−（Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロピル］ピリミジン０．５０ｇ（２．１ミリモル）及び４−メチルフェニルイソシアナート０．２８ｇ（２．１ミリモル）をイソプロピルエーテル３０ｍｌに溶解し、室温にて１時間撹拌した。析出した結晶をろ別し、無色透明結晶（融点１３５〜１３７℃）のＮ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−クロロジフルオロメチルピリミジン−５−イル）プロピル］−Ｎ’−（４−メチルフェニル）ウレア０．６５ｇ（収率８４％）を得た。
【０１２２】
＜製造例６＞
１，３−ジメチル−１−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル］−３−フェニルウレア（本発明化合物番号１−４２４）の製造
４−トリフルオロメチル−５−［１−（Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロピル］ピリジン０．８ｇ（３．４ミリモル）をクロロホルム３０ｍｌに溶解し、フェニルイソシアネート０．４５ｇ（３．８ミリモル）のクロロホルム溶液５ｍｌを滴下し、室温にて１０時間攪拌した。反応溶液に水５０ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機相を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンにて洗浄し、１−メチル−１−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル］−３−フェニルウレア１．０ｇ（収率８３％）を得た。得られた１−メチル−１−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル］−３−フェニルウレア０．５ｇ（１．４ミリモル）をテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解し、水素化ナトリウム０．０６ｇ（２．５ミリモル）を加え室温にて０．５時間攪拌した後、沃化メチル０．２２ｇ（１．６ミリモル）を滴下し、室温にて４時間攪拌した。反応溶液に水５０ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機相を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル９：１〜３：１）により精製し、無色結晶（融点１０４−１０５℃）１，３−ジメチル−１−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル−３−フェニルウレア０．２８ｇ（収率５３．８％）を得た。
【０１２３】
＜製造例７＞
Ｎ−［１−（４−エチル−ピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−４−フルオロ−Ｎ−メチル−ベンゼンスルホンアミド（本発明化合物番号４−３）の製造
［１−（４−エチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル］−メチル−アミン０．４ｇ（０．２ミリモル）をピリジン２０ｍｌに溶解し、ｐ−フルオロベンゼンスルホニルクロリド０．４３ｇ（０．２２ミリモル）を滴下し、室温にて１０時間攪拌した。反応溶液に水５０ｍｌを加えジエチルエーテルにより抽出した。得られた有機相を希クエン酸水溶液３０ｍｌで２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル４：１〜１：１）により精製し、無色油状物（ｎＤ２０＝１．５３９９）（Ｎ−［１−（４−エチル−ピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−４−フルオロ−Ｎ−メチル−ベンゼンスルホンアミド０．４ｇ（収率５６％）を得た。
【０１２４】
＜製造例８＞
１−（４−クロロベンジル）−１，３ジメチル−３−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル］−ウレア（本発明化合物番号１−５３２）の製造
（４−クロロベンジル）−メチルアミン０．１６ｇ（１．０ミリモル）をピリジン３０ｍｌに溶解し、Ｎ−メチル−Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル］−カルバモイルクロリド０．３ｇ（１．０ミリモル）を滴下し、室温にて１０時間攪拌した。反応溶液に水５０ｍｌを加えジエチルエーテルにより抽出した。得られた有機相を希クエン酸水溶液３０ｍｌで２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８：１〜３：１）により精製し、無色結晶（融点９５−９８℃）１−（４−クロロベンジル）−１，３ジメチル−３−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル］−ウレア０．２２ｇ（収率５２％）を得た。
【０１２５】
＜製造例９＞
Ｎ−［１−（４−ジエトキシメチルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチル−２−フェニル酢酸アミド（本発明化合物番号１−４５３）の製造
［１−（４−ジエトキシメチルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］メチルアミン８．３ｇ（０．０３１モル）、炭酸カリウム６．４ｇ（４６ミリモル）をアセトニトリル１００ｍｌに加えた後、フェニルアセチルクロライド５．８ｇ（０．０３８モル）を室温下で加え２時間反応させた。反応終了後水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：５〜酢酸エチル）で精製して、無色粘凋液体（ｎＤ２０＝１．５２５３）Ｎ−［１−（４−ジエトキシメチルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチル−２−フェニル酢酸アミドを８．４ｇ（収率７０％）得た。
【０１２６】
＜製造例１０＞
Ｎ−［１−（４−フォルミルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチル−４−フルオロフェニルアセトアミド（本発明化合物番号１−５２３）の製造
Ｎ−［１−（４−ジエトキシメチルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチル４−フルオロフェニルアセトアミド８．４ｇ（２．１ミリモル）をアセトン１００ｍｌに溶解し、６Ｎ−塩酸１３ｍｌを加え室温で５時間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性にして酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：５〜酢酸エチル）で精製して、無色粘凋液体（ｎＤ２０＝１．５４６６）のＮ−［１−（４−ホルミルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチル−４−フルオロフェニルアセトアミドを５．３ｇ（収率７７％）得た。
【０１２７】
＜製造例１１＞
Ｎ−［１−（４−ヒドロキシイミノメチルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチルフェニルアセトアミド（本発明化合物番号１−５００）の製造
Ｎ−［１−（４−ホルミルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチルフェニルアセトアミド１．０ｇ（３．２ミリモル）をメタノール３０ｍｌに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩０．４５ｇ（６．５ミリモル）、酢酸カリウム０．６３ｇ（６．４ミリモル）を加えて室温下で１時間反応させた。反応終了後、水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、クエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１〜酢酸エチル）で精製して、無色結晶（融点１７１〜１７２℃）のＮ−［１−（４−ヒドロキシイミノメチルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチルフェニルアセトアミドを０．４５ｇ（収率４３％）得た。
【０１２８】
＜製造例１２＞
Ｎ−［１−（４−シアノピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチルフェニルアセトアミド（本発明化合物番号１−５０４）の製造
Ｎ−［１−（４−ヒドロキシイミノメチルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチルフェニルアセトアミド０．２５ｇ（０．７７ミリモル）をクロロホルム３０ｍｌに溶解し、１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド塩酸塩０．１６ｇ（０．８３ミリモル）を加え、室温下で８時間反応させた。反応終了後、溶媒を留去し水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１〜酢酸エチル）で精製して、無色結晶（融点８０〜８１℃）のＮ−［１−（４−シアノピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチルフェニルアセトアミドを０．１９ｇ（収率８８％）得た。
【０１２９】
＜製造例１３＞
２−（４−クロロフェニル）−Ｎ−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチル酢酸アミド（本発明化合物番号３−４１）の製造
１−（４，６−ジメトキシピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピルアミン０．８０ｇ（３．８ミリモル）、ヨウ化メチル０．５９ｇ（４．２ミリモル）、トリエチルアミン０．４６ｇ（４．６ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１０ｍｌに加え、８０℃で１時間反応させた。反応終了後水にあけ、トルエンで抽出した。有機層を水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物を精製せずに次反応に供した。この油状物０．２０ｇ（０．８９ミリモル）、炭酸カリウム０．２２ｇ（１．６ミリモル）をアセトニトリル２０ｍｌに加えた後、４−クロロフェニルアセチルクロライド０．３０ｇ（１．６ミリモル）を室温下で加え一晩反応させた。反応終了後水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物を分取ＨＰＬＣ（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精製して、無色結晶（融点１０７〜１０９℃）の２−（４−クロロフェニル）−Ｎ−［１−（４，６−ジメトキシピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチル酢酸アミド０．２１ｇ（収率１５％、２ｓｔｅｐｓ）得た。
【０１３０】
＜製造例１４＞
１−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル］−３−フェニルイミダゾリン−２−オン（本発明化合物番号５−１）の製造
５−（１−クロロ−２−メチルプロピル）−４−トリフルオロメチルピリミジン１．０５ｇ（４．２モル）、Ｎ−フェニルエチレンジアミン０．６１（４．２モル）をイソプロピルアルコール１０ｍｌに加え、室温で６時間攪拌させた。反応終了後、反応液を濃縮した後、水にあけ、酢酸エチルで抽出し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１〜酢酸エチル）で精製して、Ｎ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−プロピル］−Ｎ’−フェニルエタン−１，２−ジアミン０．３８ｇを得た。次にＮ−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−プロピル］−Ｎ’−フェニルエタン−１，２−ジアミン０．３８ｇ（１ミリモル）、トリエチルアミン０．５ｇ（５ミリモル）をジクロロメタン１０ｍｌに加え、氷冷下ホスゲン０．２ｇ（２ミリモル）を含んだジクロロメタン溶液を滴下した。滴下後、さらに室温で１時間攪拌し、反応を終了した。反応終了後水にあけ、重曹水で洗浄し、乾燥、濃縮し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１〜酢酸エチル）で精製して、無色結晶（融点１２６〜１２８℃）の１−［２−メチル−１−（４−トリフルオロメチル−ピリミジン−５−イル）−プロピル］−３−フェニルイミダゾリン−２−オン０．２５ｇ（収率６１％）得た。
【０１３１】
＜製造例１５＞
５−（１−｛［２−（４−クロロフェニル）−プロピオニル］メチルアミノ｝−２−メチルプロピル）−ピリミジン−４−カルボン酸（本発明化合物番号１−７１８）の製造
Ｎ−［１−（４−ホルミルピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピル］−Ｎ−メチルフェニルアセトアミド１．０ｇ（３．２ミリモル）、テトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液を水酸化カリウム０．２３ｇ（４．１ミリモル）、水１０ｍｌの溶液に加えた後に、さらに過マンガンカリウム０．８８ｇ（５．５６ミリモル）を加えた。次に８０℃で３時間加温した。反応終了後、亜硫酸ナトリウムを加えた後にろ過を行い、ろ液を塩酸で酸性にして、酢酸エチルで抽出し、塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮を行ない粗生成物を得た。この粗生成物をトルエン、エーテル、アセトン混液に溶解し、水酸化カリウム水溶液で抽出を行った後に、希塩酸で酸性にして、酢酸エチルで抽出を行い、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮しさらにイソプロピルエーテルで洗浄を行い、淡褐色結晶（融点１６８−１７０℃）の５−（１−｛［２−（４−クロロフェニル）−プロピオニル］メチルアミノ｝−２−メチルプロピル）−ピリミジン−４−カルボン酸（ジアステレオマーＡ体）０．３３ｇ（収率３２％）を得た。
【０１３２】
＜製造例１６＞
５−（１−｛［２−（４−クロロフェニル）−プロピオニル］メチルアミノ｝−２−メチルプロピル）−ピリミジン−４−カルボン酸メチルエステル（ジアステレオマーＡ体）（本発明化合物番号１−５９２）の製造
濃硫酸数滴を５−（１−｛［２−（４−クロロフェニル）−プロピオニル］メチルアミノ｝−２−メチルプロピル）−ピリミジン−４−カルボン酸２．００ｇ（５．３２ミリモル）、メタノール溶液に加え、加熱還流を５時間行った。反応終了後、水を加え酢酸エチルで抽出を行い、塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮を行い、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１〜酢酸エチル）で精製して、無色油状物の５−（１−｛［２−（４−クロロフェニル）−プロピオニル］メチルアミノ｝−２−メチルプロピル）−ピリミジン−４−カルボン酸メチルエステル（ジアステレオマーＡ体）０．５９ｇ（収率２８％）を得た。
【０１３３】
（中間体の製造例）
＜参考例１＞
３−エトキシメチレン−１，１，１−トリフルオロ−５−メチル−２，４−ヘキサンジオンの製造
１，１，１−トリフルオロ−５−メチル−２，４−ヘキサンジオン２１３ｇ（１．１７モル）、オルトぎ酸エチル２４２ｇ（１．６４モル）及び無水酢酸１６６ｇ（１．６３モル）の混合物を６時間加熱還流した。溶媒を減圧下留去し、３−エトキシメチレン−１，１，１−トリフルオロ−５−メチル−２，４−ヘキサンジオン１４６ｇ（収率６７％）を得た。
【０１３４】
＜参考例２＞
５−イソプロピルカルボニル−４−トリフルオロメチルピリミジンの製造
ナトリウムメトキシド４６ｇ（０．８５モル）をメタノール７００ｍｌに溶解し、ホルムアミジン酢酸塩７６ｇ（０．７３モル）を加え室温で１５分攪拌した。次に３−エトキシメチレン−１，１，１−トリフルオロ−５−メチル−２，４−ヘキサンジオン１４６ｇ（０．６１モル）を氷冷下で加え、さらに２時間加熱還流した。溶媒を減圧下留去し、氷水１０００ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製し、淡黄色液体の５−イソプロピルカルボニル−４−トリフルオロメチルピリミジン８９ｇ（収率６７％）を得た。
【０１３５】
＜参考例３＞
５−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−４−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−イソプロピルカルボニル−４−トリフルオロメチルピリミジン２５ｇ（１１５ミリモル）をエタノール１００ｍｌに溶解し、氷冷下、ボラン−ｔｅｒｔ−ブチルアミン錯体６ｇ（６９ミリモル）を加え２時間攪拌した。さらにアセトン２０ｍｌを加え、０．５時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、淡黄色液体（ｎＤ２０＝１．４４８１）の５−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−４−トリフルオロメチルピリミジン２２ｇ（収率８７％）を得た。
【０１３６】
＜参考例４＞
５−（１−クロル−２−メチルプロピル）−４−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−４−トリフルオロメチルピリミジン２２ｇ（１００ミリモル）をクロロホルム１５０ｍｌに溶解し、チオニルクロリド２５ｍｌ（３４２ミリモル）を加えた。反応混合物を２時間加熱還流した。溶媒及びチオニルクロリドを減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製し、褐色液体（屈折率ｎＤ２０：１．４５５８）の５−（１−クロル−２−メチルプロピル）−４−トリフルオロメチルピリミジン１１．６ｇ（収率４９％）を得た。
【０１３７】
＜参考例５＞
５−［１−（Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロピル］−４−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−（１−クロル−２−メチルプロピル）−４−トリフルオロメチルピリミジン４．５ｇ（１９ミリモル）をイソプロピルアルコール５０ｍｌに溶解し、５０％メチルアミン水溶液１０ｍｌ（１６１ミリモル）を加え、室温にて８時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、水１００ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、淡黄色液体（屈折率ｎＤ２０：１．４５２９）の５−［１−（Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロピル］−４−トリフルオロメチルピリミジン３．４ｇ（収率７７％）を得た。
【０１３８】
＜参考例６＞
４−エトキシメチレン−２，６−ジメチル−３，５−ヘプタンジオンの製造
２，６−ジメチル−３，５−ヘプタンジオン１７．２ｇ（１１０ミリモル）、オルトぎ酸エチル２２．８ｇ（１５３ミリモル）及び無水酢酸３１．５ｇ（３０９ミリモル）の混合物を２時間１１０℃で反応させた。溶媒を減圧下留去し、４−エトキシメチレン−２，６−ジメチル−３，５−ヘプタンジオン１１．５ｇ（収率４９％）を得た。
【０１３９】
＜参考例７＞
５−イソプロピルカルボニル−４−イソプロピルピリミジンの製造
２８％ナトリウムメトキシド溶液１１．５ｇ（６０ミリモル）をメタノール１００ｍｌに溶解し、ホルムアミジン酢酸塩５．６ｇ（５４ミリモル）を加え、室温で１５分攪拌した。次に４−エトキシメチレン−２，６−ジメチル−３，５−ヘプタンジオン１１．５ｇ（５４ミリモル）を氷冷下で加えた。反応混合物をさらに５０℃にて１時間反応させた。溶媒を減圧下留去し、水２００ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、淡黄色液体の５−イソプロピルカルボニル−４−イソプロピルピリミジン９．２ｇ（収率８９％）を得た。
【０１４０】
＜参考例８＞
５−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−４−イソプロピルピリミジンの製造
５−イソプロピルカルボニル−４−イソプロピルピリミジン９．２ｇ（４８ミリモル）をエタノール５０ｍｌに溶解し、氷冷下、ボラン−ｔｅｒｔ−ブチルアミン錯体２．５ｇ（２９ミリモル）を加え２時間攪拌した。さらにアセトン２０ｍｌを加え０．５時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、水２００ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、５−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−４−イソプロピルピリミジン８．３ｇ（収率８９％）の目的物を得た。
【０１４１】
＜参考例９＞
５−（１−メチルスルホニルオキシ−２−メチルプロピル）−４−イソプロピルピリミジンの製造
５−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−４−イソプロピルピリミジン８．３ｇ（４３ミリモル）をピリジン１０ｍｌに溶解し、氷冷下、メチルスルホニルクロリド９．８ｇ（８６ミリモル）を滴下した。反応混合物を室温にて２時間反応させた後、氷水１００ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層をクエン酸水溶液、水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、５−（１−メチルスルホニルオキシ−２−メチルプロピル）−４−イソプロピルピリミジン１０．６ｇ（収率９０％）を得た。
〔１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））０．９１（３Ｈ，ｄ）、１．１４（３Ｈ，ｄ）、１．３１（３Ｈ，ｄｄ）、２．１−２．２（１Ｈ，ｍ）、２．８９（３Ｈ，ｓ）、３．２−３．３（３Ｈ，ｍ）、５．５６（１Ｈ，ｄ）、８．６８（１Ｈ，ｓ）、９．１４（１Ｈ，ｓ）〕
【０１４２】
＜参考例１０＞
５−［１−（Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロピル］−４−イソプロピルピリミジンの製造
５−（１−メチルスルホニルオキシ−２−メチルプロピル）−４−イソプロピルピリミジン１０．６ｇ（３９ミリモル）をイソプロピルアルコール５０ｍｌに溶解し、４０％メチルアミン水溶液１０ｍｌ（１２９ミリモル）を加え、室温にて８時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧下留去し、水１００ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒＝酢酸エチル）で精製し、淡黄色結晶（融点３７〜３９℃）の５−［１−（Ｎ−メチルアミノ）−２−メチルプロピル］−４−イソプロピルピリミジン２．９ｇ（収率３６％）を得た。
【０１４３】
＜参考例１１＞
５−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−４−メチルチオピリミジンの製造
５−ブロモ−４−メチルチオピリミジン１０．６ｇ（５２ミリモル）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解し、−６０℃にてｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．６ｍｏｌ／ｌ）３６ｍｌを滴下した。−６０℃で３０分攪拌した後、イソブチルアルデヒド４．１ｇ（５７ミリモル）を滴下し、さらに１時間反応させた。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒／ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：２）で精製し、淡黄色結晶（融点１２３〜１２７℃）の５−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−４−メチルチオピリミジン２．９ｇ（収率２８％）を得た。
【０１４４】
＜参考例１２＞
２−ブロモ−１−（４−エチルピリミジン−５−イル）−プロパン−１−オンの製造
１−（４−エチルピリミジン−５−イル）プロパン−１−オン４９．２ｇ（０．３０モル）を四塩化炭素５００ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド５３ｇ（０．３０モル）、アゾイソブチロニトリル０．３ｇを加え、２時間還流させた。放冷後、結晶をろ過して除き、ろ液を濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４〜１：２）で精製して、黄色液体の２−ブロモ−１−（４−エチルピリミジン−５−イル）−プロパン−１−オンを６４．３ｇ（収率８９％）得た。
【０１４５】
＜参考例１３＞
１−（４−エチルピリミジン−５−イル）−２−メチルチオ−プロパン−１−オンの製造
２−ブロモ−１−（４−エチルピリミジン−５−イル）プロパン−１−オン１０．０ｇ（０．０４１モル）をイソプロピルアルコール４０ｍｌの溶解し、１５％メチルメルカプタンナトリウム水溶液２１ｇ（０．０４５モル）を氷冷下で加えたのち、室温で１時間反応させた。反応終了後水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を塩水で洗浄、乾燥、濃縮して粗製の１−（４−エチルピリミジン−５−イル）−２−メチルチオ−プロパン−１−オン９．５ｇを得た。精製せずに次反応に供した。
【０１４６】
＜参考例１４＞
４，６−ジクロロピリミジン−５−カルボアルデヒドの製造
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６５．０ｇ（０．８９モル）に氷冷下、２０℃以下でオキシ塩化リン３５６ｇ（２．３モル）を加え、室温で１０分攪拌した。４，６−ジヒドロキシピリミジン５０．０ｇ（０．４５モル）を氷冷下でゆっくりと加えた。添加終了後、温度上昇がおさまったら９０℃で３時間反応させた。過剰のオキシ塩化リンを減圧留去し、クロロホルム３００ｍｌを加え、氷水中にゆっくり加えた。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して褐色結晶（融点６５〜６６℃）の４，６−ジクロロピリミジン−５−カルボアルデヒドを４３．８ｇ（収率５５％）得た。
【０１４７】
＜参考例１５＞
４，６−ジメトキシピリミジン−５−カルボアルデヒドの製造
４，６−ジクロロピリミジン−５−カルボアルデヒド４３．６ｇ（２４６ミリモル）をメタノール２００ｍｌに溶解し、２８％ナトリウムメトキシド１２０ｇ（６２２ミリモル）を氷冷下で加えた後、室温下で２時間反応させた。反応終了後、溶媒を留去しクエン酸水溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、クエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた粗結晶をイソプロピルエーテルで洗浄して４，６−ジメトキシピリミジン−５−カルボアルデヒドを８．３ｇ（収率２０％）得た。
【０１４８】
＜参考例１６＞
１−（４，６−ジメトキシピリミジン−５−イル）−３−メチルブタン−２−オールの製造
マグネシウム０．８１ｇ（３３ミリモル）をテトラヒドロフラン３０ｍｌに加え、２−ブロモプロパン４．１ｇ（３３ミリモル）を加えてイソプロピルマグネシウムブロマイドのテトラヒドロフラン溶液を調製した。４，６−ジメトキシピリミジン−５−カルボアルデヒド２．８ｇ（１７ミリモル）をテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解し、上記のテトラヒドロフラン溶液を室温下で加え一晩反応させた。反応液を塩化アンモニウム水溶液にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）で精製して、淡黄色結晶の１−（４，６−ジメトキシピリミジン−５−イル）−３−メチルブタン−２−オールを１．９ｇ（収率５４％）得た。
【０１４９】
＜参考例１７＞
５−（２−アジド−３−メチルブチル）−４，６−ジメトキシピリミジンの製造
１−（４，６−ジメトキシピリミジン−５−イル）−３−メチルブタン−２−オール１．０５ｇ（５ミリモル）をトルエン１０ｍｌに溶解し、氷冷下でトリメチルシリルアジド１．０１ｇ（１０ミリモル）と三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体１．４２ｇ（１０ミリモル）を順に加えた後、室温下で７時間反応させた。反応終了後、水にあけ、トルエンで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：９）で精製して、無色液体の５−（２−アジド−３−メチルブチル）−４，６−ジメトキシピリミジンを１．２２ｇ（収率１００％）得た。
〔１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））０．７０（３Ｈ，ｄ）、１．１３（３Ｈ，ｄ）、２．４４（１Ｈ，ｍ）、４．００（６Ｈ，ｓ）、４．３８（１Ｈ，ｄ）、８．３９（１Ｈ，ｓ）〕
【０１５０】
＜参考例１８＞
１−（４，６−ジメトキシピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピルアミンの製造
５−（２−アジド−３−メチルブチル）−４，６−ジメトキシピリミジン１．２ｇ（５．１ミリモル）をメタノール２０ｍｌに溶解し、氷冷下でマグネシウム１．５ｇ（０．０６２モル）を加え、一晩反応させた。反応終了後、溶媒を留去しエーテルを加えて不溶物をろ過し、希塩酸で抽出した。水酸化ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性としトルエンで抽出した。有機層を水、塩水の順で洗浄、乾燥、濃縮して得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精製して、無色結晶の１−（４，６−ジメトキシピリミジン−５−イル）−２−メチルプロピルアミン０．８０ｇ（収率７５％）得た。
〔１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））０．７０（３Ｈ，ｄ）、１．０７（３Ｈ，ｄ）、１．７１（２Ｈ，ｓ）、２．０２（１Ｈ，ｍ）、３．７８（１Ｈ，ｄ）、３．９７（６Ｈ，ｓ）、８．３３（１Ｈ，ｓ）〕
次に製造法１から製造法１２に記載の方法に準じて製造した本発明化合物の物性値（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））を表４０から表４３に示す。
【０１５１】
【表４０】
0004703077.tif 000056
【０１５２】
【表４１】
0004703077.tif 000057
【０１５３】
【表４２】
0004703077.tif 000058
【０１５４】
【表４３】
0004703077.tif 000059
本発明の除草剤は、一般式〔Ｉ〕で示されるピリミジン誘導体を有効成分としてなる。
【０１５５】
本発明化合物を除草剤として使用するには本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤等に製剤して使用することもできる。
製剤化に際して用いられる担体としては、例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられる。
【０１５６】
界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用する。
【０１５７】
本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用または水面施用等により使用することができる。有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤または粒剤とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。
【０１５８】
本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り０．１ｇ〜５ｋｇ、好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合のように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適宜選ぶのがよい。
また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
【０１５９】
〈製剤例１〉  水和剤
化合物（１−８）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【０１６０】
〈製剤例２〉  水和剤
化合物（１−８）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２０部、ホワイトカーボンの５部、クレーの６４部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【０１６１】
〈製剤例３〉  水和剤
化合物（１−８）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２０部、ホワイトカーボンの５部、炭酸カルシウムの６４部を混合粉砕し、水和剤を得る。
【０１６２】
〈製剤例４〉  乳剤
化合物（１−８）の３０部にキシレンとイソホロンの等量混合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の１０部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得る。
【０１６３】
〈製剤例５〉  粒剤
化合物（１−８）の１０部、タルクとベントナイトを１：３の割合の混合した増量剤で８０部、ホワイトカーボンの５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５部に水１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得る。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。
【０１６４】
〈試験例１〉  水田湛水処理による除草効果試験
１００ｃｍ２プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ（Ｅｏ）、コナギ（Ｍｏ）の種子を播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を１０アール当り１００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表４４の基準に従って除草効果を調査した。結果を表４５〜表５２に示す。
【０１６５】
【表４４】
0004703077.tif 000060
【０１６６】
【表４５】
0004703077.tif 000061
【０１６７】
【表４６】
0004703077.tif 000062
【０１６８】
【表４７】
0004703077.tif 000063
【０１６９】
【表４８】
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【０１７０】
【表４９】
0004703077.tif 000065
【０１７１】
【表５０】
0004703077.tif 000066
【０１７２】
【表５１】
0004703077.tif 000067
【０１７３】
【表５２】
0004703077.tif 000068
【０１７４】
〈試験例２〉  畑地土壌処理による除草効果試験
８０ｃｍ２プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ（Ｅｃ）、エノコログサ（Ｓｅ）の種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表４４の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表５３〜表６０に示す。
【０１７５】
【表５３】
0004703077.tif 000069
【０１７６】
【表５４】
0004703077.tif 000070
【０１７７】
【表５５】
0004703077.tif 000071
【０１７８】
【表５６】
0004703077.tif 000072
【０１７９】
【表５７】
0004703077.tif 000073
【０１８０】
【表５８】
0004703077.tif 000074
【０１８１】
【表５９】
0004703077.tif 000075
【０１８２】
【表６０】
0004703077.tif 000076
【０１８３】
〈試験例３〉  畑地茎葉処理による除草効果試験
８０ｃｍ２プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ（Ｅｃ）、エノコログサ（Ｓｅ）の種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、１０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表４４の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表６１〜表６４に示す。
【０１８４】
【表６１】
0004703077.tif 000077
【０１８５】
【表６２】
0004703077.tif 000078
【０１８６】
【表６３】
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【０１８７】
【表６４】
0004703077.tif 000080
【０１８８】
〈試験例４〉  水田湛水処理による作物選択性試験
１００ｃｍ２プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ（Ｅｏ）、コナギ（Ｍｏ）の種子を播種し、２葉のイネ（Ｏｒ）を移植し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を１０アール当り２５ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表４４の基準に従って除草効果を調査した。結果を表６５〜表６９に示す。
【０１８９】
【表６５】
0004703077.tif 000081
【０１９０】
【表６６】
0004703077.tif 000082
【０１９１】
【表６７】
0004703077.tif 000083
【０１９２】
【表６８】
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【０１９３】
【表６９】
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【０１９４】
〈試験例５〉  畑地土壌処理による作物選択性試験
８０ｃｍ２プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ（Ｅｃ）、エノコログサ（Ｓｅ）、ダイズ（Ｇｌ）、コムギ（Ｔｒ）、トウモロコシ（Ｚｅ）、の種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１０アール当り有効成分が２５ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表４４の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表７０に示す。
【０１９５】
【表７０】
0004703077.tif 000086
【０１９６】
【産業上の利用可能性】
一般式〔Ｉ〕で表される本発明の化合物は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、アサガオ、オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。また、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草を防除することもできる。
一方、本発明の除草剤は作物に対する安全性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ等に対して高い安全性を示す。