(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを載置したテーブルの端縁部に装備されたパッキンにより、前記パッキンを前記テーブルに配設したマスクに密着させる工程、
初期設定圧力値まで真空引きを行い、前記マスクを凸状にたわませて前記マスクの略中心から前記ワークに密着させる工程、
更に真空引きを行うと共に前記マスクの端縁部を保持するマスクホルダーを上昇させ、マスクのたわみを増大させつつ前記マスクの端縁部に向かって更に前記ワークに密着させる工程、及び
前記マスクが前記ワークの略端縁部まで密着したことに応じて、マスクホルダーの上昇を停止させる工程、
を含む、真空密着露光方法。
【請求項２】
前記マスクホルダーの上昇の制御がマスクホルダーに装備されたシリンダーにより実施される請求項１記載の真空密着露光方法。
【請求項３】
前記マスクの中心が前記ワークに接触後、前記マスクホルダーの上昇力を抑制し、真空引き圧力を前記マスクホルダーの上昇力よりも高く維持するように制御する、請求項２記載の真空密着露光方法。
【請求項４】
前記シリンダーの上昇が気体の送気により実施される請求項３記載の真空密着露光方法。
【請求項５】
始めに真空引きのみを実施し、前記真空引きによる真空圧が第１の設定値に達したことに応じて、送気圧が第１の設定値に達し、
引き続き真空引きと送気とを行い、真空圧が第２の設定値に達したことに応じて、送気圧が第２の設定値に達し、
送気圧が第２の設定値に達した後、送気を中止、送気圧を開放し、
引き続き真空圧が第３の設定値に達するまで真空引きを実施する、
ように真空圧及び送気圧を制御することを特徴とする、請求項４記載の真空密着露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置によって感光性を有する基板を露光する際に、当該感光性を有する基板と絵柄が形成されたフィルムとを密着させる密着方法及び露光装置に関連し、特に、前記密着を最適化する方法及び露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板を製造する際は、回路パターンが形成された原版フィルムを、感光性を有する基板に密着させて露光することにより、回路パターンを基板に焼き付ける露光装置が用いられている。
【０００３】
原版フィルムを感光性を有する基板に密着させる方法は、種々の方法が知られている。中でも真空密着方法は、原版フィルム及び感光性を有する基板の対向する端縁部をパッキンを介して密着させた後、これにより形成された気密空間を真空ポンプ等によって真空引きすることにより、前記の原版フィルムと感光性を有する基板とを密着させるというものである。
【０００４】
しかしながら、上述した方法では、原版フィルムと感光性を有する基板とを密着させる際に、これらの間隔を小さくすると、精度よく密着することが可能になるが、真空引きする際に周辺部が先に密着してしまい、中心部の空気が抜けずに密着不良になる可能性がある。
【０００５】
そこで、特許文献１に示す、密着誤差が少なく空気抜けの良い密着装置が提案された。前記特許文献１に記載の密着装置では、基板と原版フィルムを狭い間隔により配置できることに加え、気密室を２箇所設け同時に減圧することにより、高い密着精度と密着不良の抑止が達成された。
【０００６】
上記特許文献１に記載の方法のほか、特許文献２に記載される、フィルム状の基板の反りや皺を取り除くことにより、密着精度を向上する装置も提案されている。
【特許文献１】特開平７−２１９２３４号公報
【特許文献２】特開２００１−２０９１９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前記特許文献１の装置では、光透過性の板と原版フィルムを直接貼り付けて担持させるのではなく、これら二者の間に気密室が形成されるように、原版フィルムの端縁部のみで光透過性の板に貼り付けて担持させる。このため、露光工程を繰り返すうちに原版フィルムがたわんだり、接着部がはがれてしまう可能性があり、特に大量に製品を生産する際に、製品の品質にばらつきが生じてしまう可能性がある。また、特許文献２に記載の装置では、フィルム状の基板を上下からはさみ、アライメントを確認した後真空引きを行う構造であるため、アライメントの確認等に時間がかかるほか、密着不良を完全に抑止することは困難であった。
【０００８】
したがって、光透過性の板に原版フィルムを直接貼り付け、大量生産時にも製品の品質を確保しつつ、密着誤差を抑制する密着方法の開発が必要となった。
【０００９】
光透過性の板に原版フィルムを貼り付けて、感光性を有する基板に密着させる方法は、前記のとおり真空密着方法が採用される。そこで、真空引きする際の前記原版フィルムと感光性を有する基板との密着の際に、密着誤差を抑制しつつ、中心部の真空引きを効果的に行い密着不良を抑止する方法及び露光装置を提供することが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
そこで、本発明は、真空密着方法の過程を更に改良する方法及び露光装置を提供するものである。
【００１１】
より具体的には、次のようなものを提供する。
【００１２】
（１）真空密着露光方法であって、
ワークを載置したテーブルの端縁部に装備されたパッキンにより、前記パッキンを前記テーブルに配設したマスクに密着させる工程、
初期設定圧力値まで真空引きを行い、前記マスクを凸状にたわませて前記マスクの略中心から前記ワークに密着させる工程、
更に真空引きを行うと共に前記マスクの端縁部を保持するマスクホルダーを上昇させ、マスクのたわみを増大させつつ前記マスクの端縁部に向かって更に前記ワークに密着させる工程、及び
前記マスクが前記ワークの略端縁部まで密着したことに応じて、マスクホルダーの上昇を停止させる工程、
を含む、前記真空密着露光方法。
【００１３】
（１）の発明によれば、始めにパッキンをマスクに密着させ、初期設定圧力値まで真空引きを行うことにより、前記マスクを凸状にたわませて前記マスクの略中心から前記ワークに密着させる。通常は、更に真空引きを行うと前記マスクが下方向へ引っ張られる力を受け、マスク端縁部がワークに密着してしまい、マスク略中心の真空引きが十分に行えない場合がある。
【００１４】
そこで、真空引きと共に前記マスクの端縁部を保持するマスクホルダーを上昇させ、マスクのたわみを増大させることにより、前記マスクの略中心から端縁部に向かって更に前記ワークに密着させることが可能になる。
【００１５】
更に、前記マスクが前記ワークの略端縁部まで密着したことに応じて、マスクホルダーの上昇を停止させることにより、マスクの変形等による密着誤差を抑制することができる。
【００１６】
ここで、ワークとは、感光性を有する基板であって、露光により原版フィルムに形成されている回路パターンが転写される。
【００１７】
ここで、テーブルとは、前記ワークを担持する装置であって、真空引きするための真空配管系及び後述するマスクホルダーと密着し、気密室を構成するためのパッキンを備える。また、前記テーブルは、ワークとマスクホルダーとの位置を制御するために縦及び横方向に可動するほか、旋回することもできる。
【００１８】
ここで、パッキンとは、マスクホルダーと密着し、気密室を構成するためのものであって、機密性を維持できるのであれば、ゴム、プラスチック、シリコン等いかなる素材でよい。また、マスクと密着するために膨張できるような、可塑性の素材でもよい。この場合、パッキンを膨張させる方法は、気体の送気、油圧等いかなる方法でよいが、好ましくは気体の送気である。気体を送気する方法は、後述のように、気体供給源、レギュレター及び電磁弁等を用いる送気系統等、当業界において周知の方法によることができる。
【００１９】
ここで、マスクとは、ガラス又はアクリル等の素材に回路パターンが形成された原版フィルムが担持された部材である。マスクとワークとは、密着時の位置決め用に基準マークを有することができる。
【００２０】
ここで、マスクホルダーとは、前記のマスクを担持するための部材であって、更に上下に可動する機構を有することができる。前記の機構の例は、シリンダーであるが、このほかにも歯車を利用する方法等当業者にとって周知の機構を使用することもできる。
【００２１】
ここで、真空引きするための設備は、真空ポンプ及び真空圧制御用レギュレターから構成される、いかなる真空引き装置でよい。
【００２２】
（２）前記マスクホルダーの上昇の制御がマスクホルダーに装備されたシリンダーにより実施される真空密着露光方法。
【００２３】
（２）の発明によれば、前記マスクホルダーにシリンダーを装備し、前記シリンダーにより前記マスクホルダーを上下動させることにより、前記マスクのたわみ量を調整する。ここで、前記シリンダーを駆動させるためには、気体、油圧、電気モーター等いかなる動力源を利用することが可能である。
【００２４】
（３）前記マスクの中心が前記ワークに接触後、前記マスクホルダーの上昇力を抑制し、真空引き圧力を前記マスクホルダーの上昇力よりも高く維持するように制御する真空密着露光方法。
【００２５】
（３）の発明によれば、前記マスクの中心が前記ワークに接触後、前記マスクホルダーの上昇力を抑制し、真空引き圧力を前記マスクホルダーの上昇力よりも高く維持するように制御することにより、略中心から端縁部に向かって前記マスクと前記ワークとが密着し、略中心に空気が残留することを防止できるため、密着誤差を抑制する。
【００２６】
（４）前記シリンダーの上昇が気体の送気により実施される真空密着露光方法。
【００２７】
前述のように、前記シリンダーを駆動させるためには、気体、油圧、電気モーター等いかなる動力源を利用することが可能であるが、前記シリンダーを駆動する際に微妙な制御を行う必要があることから、気体の送気によるものが好ましい。
【００２８】
ここで、気体は、空気、窒素等を利用することが可能であるが、経済的な観点及び入手可能性から空気を使用することが好ましい。気体の送気により、前記シリンダーを駆動する際には、気体を供給する気体供給源、気体の流量を制御するレギュレター（調整装置）及び電磁弁をさらに装備することにより実現することができる。
【００２９】
前記気体供給源として、あらかじめ気体を圧縮して蓄積し必要に応じて放出する、いかなる気蓄器でも使用することができる。また、気蓄器を使用することなく、いかなる送気ポンプ等の当業界で周知の送気装置を使用してもよい。
【００３０】
レギュレター（調整装置）及び電磁弁は、前記供給源からの気体の流量を制御するいかなる形式のものでも使用することができる。
【００３１】
（５）  始めに真空引きのみを実施し、前記真空引きによる真空圧が第１の設定値に達したことに応じて、送気圧が第１の設定値に達し、
引き続き真空引きと送気とを行い、真空圧が第２の設定値に達したことに応じて、送気圧が第２の設定値に達し、
送気圧が第２の設定値に達した後、送気を中止、送気圧を開放し、
引き続き真空圧が第３の設定値に達するまで真空引きを実施する、
ように真空圧及び送気圧を制御することを特徴とする真空密着露光方法。
【００３２】
（５）の発明により、真空圧と送気圧とを制御することにより、（１）の発明のそれぞれの工程を実現することができる。
【００３３】
ここで、各設定値に達するまでの制御は、時間のパラメータに基づいて実施される。各設定値に達するまでの時間は、真空引きする系統及び送気する系統の性能に基づいて決定してもよいし、前記性能の範囲内であれば、任意に設定してもよい。始めに真空引きのみを実施し、前記真空引きによる真空圧が第１の設定値に達すると同時に送気圧をゼロから速やかに第１の設定値に達するように送気系を制御する方法については、後述する。
【発明の効果】
【００４０】
本発明により、密着誤差が少なく、密着不良を防止した真空密着露光方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００４２】
図１は、本発明の真空密着露光方法を用いた真空密着露光装置の機能構成図の一例である。図２は、本発明の真空密着露光方法を用いた真空密着露光装置の制御部の機能構成図の一例である。図３は、本発明の真空密着露光方法における密着プロセスを示すフローチャートの一例である。図４は、本発明の真空密着工程における圧力制御の一例を示すグラフである。図５は、本発明に係る実施例における真空圧の測定データを示すグラフである。図６は、本発明に係る真空密着の模式図である。図７は、比較例として、マスク上下シリンダーを使用しない場合の真空圧の測定データを示すグラフである。図８は、比較例における真空密着の模式図である。
【００４３】
図１は、本発明の真空密着露光方法を用いた真空密着露光装置の機能構成図の一例である。前記真空密着露光装置１００は、マスク１１０、ワーク１２０、パッキン１３０、テーブル１４０、真空配管系１５０、真空レギュレター１５５、真空ポンプ１５７、マスク上下シリンダー１６０、マスクホルダー１７０、電磁弁１８０、レギュレター１８５、気体供給源１８７及び制御部１９０から構成される。なお、図１では、マスク１１０とワーク１７０とが上下の関係に配置されているが、当該配置を上下逆に配置する、鉛直に配置し水平方向から真空引きとマスクホルダーの稼働を行うようにする等の改変は、他の構成要素を適切に再配置することにより実行することが可能である。ここでは、上下に配置した例について記載する。
【００４４】
マスク１１０は、回路パターンが形成された原版フィルムを有する光透過性の部材である。
【００４５】
ワーク１２０は、感光性を有する基板であって、露光により原版フィルムに形成されている回路パターンが転写される。
【００４６】
パッキン１３０は、前述のように、気密性を維持できる素材であればいかなる素材でもよいが、膨張性の素材を使用した場合には、送気により膨張し、マスク１１０又はマスクホルダー１７０と密着し、気密室を構成する。前記パッキン１３０への送気は、後述する気体供給源１８７から供給されても、別に独立した気体供給源から供給されてもよい。また、送気の制御も後述するレギュレター１８５及び電磁弁１８０を共用してもよいし、別の制御系等（図示せず）により実現されてもよい。また、非膨張性の素材からなるパッキンを採用した場合は、マスクホルダーを下降させることにより、パッキンとマスク又はマスクホルダーとが密着することができる。
【００４７】
テーブル１４０は、ワーク１２０を担持する装置であって、真空引きするための真空配管系１５０及びマスクホルダー１７０と密着し、気密室を構成するためのパッキン１３０を備える。また、前記テーブルは、ワーク１２０とマスク１１０との位置決めを制御するために、それぞれの基準マークが整合するように、縦及び横方向に可動並びに旋回させることができる。すなわち、Ｘ、Ｙ及びθ方向に可動することができる。
【００４８】
真空配管系１５０は、真空レギュレター１００及び真空ポンプ１００と共に前記気密室内を真空引きする。
【００４９】
真空レギュレター１５５は、制御部１９０からの命令に従い、真空引きの圧力を調節する。
【００５０】
真空ポンプ１５７は、前記気密室内を真空引きするための負の圧力を供給する。
【００５１】
マスク上下シリンダー１６０は、マスクホルダー１７０上に装備され、マスクホルダー１７０を上下に稼働する。
【００５２】
マスクホルダー１７０は、マスク１１０を担持し、前記マスク上下シリンダーにより上下に稼働する。
【００５３】
電磁弁１８０は、レギュレター１８５による制御を受け、開閉することにより、気体を送気する。
【００５４】
レギュレター１８５は、制御部１９０からの命令に従い、送気を調節する。
【００５５】
気体供給源１８７は、前記マスク上下シリンダー１００を稼働させる気体を供給する。
【００５６】
制御部１９０は、真空レギュレター１５５及びレギュレター１８５を制御する。
【００５７】
図２は、本発明の真空密着露光方法を用いた真空密着露光装置の制御部１９０の機能構成図の一例である。
【００５８】
前記制御部は、送気系調節手段２１０、制御手段２２０、真空系調節手段２３０及び記憶手段２４０から構成される。
【００５９】
送気系調節手段２１０は、レギュレター２８５に接続し、送気系の圧力を監視、制御装置２２０へ出力すると共に、制御手段２２０からの送気圧力制御命令をレギュレター２８５に出力する。
【００６０】
制御手段２２０は、送気系調節手段２１０及び真空計調節手段２３０からの圧力情報を受信し、記憶手段２４０に保存されたプログラムを読み込むことにより、圧力調節命令を送気系調節手段２１０及び真空計調節手段２３０に対して出力する。制御手段２２０は、既存のＣＰＵ等の演算装置から構成することができる。
【００６１】
真空系調節手段２３０は、真空レギュレター２５５に接続し、真空系の圧力を監視、制御手段２２０へ出力すると共に、制御手段２２０からの真空圧力制御命令を真空レギュレター２５５に出力する。
【００６２】
記憶手段２４０は、本発明にかかる真空密着露光方法を実現するための一連のプログラムを保存する。また、記憶手段２４０は、一連の工程における送気、真空引きにかかるデータを、後日参照することができるように保存することもできる。記憶手段２４０は、ハードディスク、半導体記憶素子、可搬式記憶媒体等いかなる記憶媒体を使用することができる。
【００６３】
図３は、本発明の真空密着露光方法における密着プロセスを示すフローチャートの一例である。
【００６４】
本発明に係る真空密着露光方法における密着プロセスでは、始めにステップＳ３０５で、制御部１９０は、マスク１１０とワーク１２０との位置合わせのための基準マーク（図示せず）との整合を判定し、整合が取れている場合にはステップＳ３１０に移行する。整合が取れていない場合には、ステップＳ３０３に移行する。
【００６５】
ステップＳ３０３では、制御部１９０は、マスク１１０とワーク１２０との基準マークが整合するように、テーブル１４０を縦方向、横方向に移動又は旋回させ、ステップＳ３０５に移行する。
【００６６】
ステップＳ３１０では、制御部１９０は、パッキン１３０とマスク１１０又はマスクホルダー１７０とを密着させる。パッキン１３０が膨張性の場合には、パッキン１３０に送気を開始し、前記パッキン１３０を膨張させ、マスク１１０又はマスクホルダー１７０と密着させ、気密室を構成させる。また、パッキン１３０が非膨張性の場合には、マスクホルダー１７０を下降させることにより、マスク１１０又はマスクホルダー１７０と密着させる。次にステップＳ３１５に移行する。
【００６７】
ステップＳ３１５では、制御部１９０は、真空レギュレター１５５を制御し、真空ポンプ１５７と協調して真空引きを開始し、ステップＳ３２０に移行する。これにより、マスクホルダー１７０には下向きの力がかかることになる。ここで、真空圧は第１の設定値であって、マスクの素材（ガラス、アクリル等）と厚さ（５ｍｍ、８ｍｍ等）に基づいて、０ｋＰａから−１０ｋＰａの範囲で任意に設定することができる。
【００６８】
ステップＳ３２０では、制御部１９０は、真空引き開始時刻からの経過時間が所定値（Ｔ１−Δ１）であるか否かを判定する。経過時間が所定値未満の場合、再度ステップＳ３２０に移行する。経過時間が所定値以上の場合には、ステップＳ３２５に移行する。ここで、Ｔ１は、マスク１１０とワーク１２０との略中心が密着したときの時間であって、本発明を実現するために、マスクホルダー１７０の材質や厚み等を勘案して設定する値である。また、Δ１は微小時間であり、送気を開始してから前記経過時間Ｔ１の時点で所望の送気圧力を得るために必要な時間である。すなわち、経過時間Ｔ１の時点で所望の送気圧力を得るために必要な準備時間を意味する。前記Δ１は、気体供給源１８７の送気圧等に基づいて、制御部１９０が自動的に算出することができる。無論、前期気体供給源１８７の送気能力等に基づいて、あらかじめ設定しておいてもよい。
【００６９】
ステップＳ３２５では、制御部１９０は、レギュレター１８５を制御し、気体供給源１８７及び電磁弁１８０と協調して送気を開始し、マスク上下シリンダー１６０をマスクホルダー１７０の周辺部が上方へ移動するように稼働し、ステップＳ３３０に移行する。これにより、マスクホルダー１７０は、真空引きにより下向きの力を受けつつ、周辺部が上方への力を受けるため、略中心を谷とする下向き凸状にたわむ。ここで、送気圧は第１の設定値であって、１ＭＰａから６ＭＰａの範囲から選択することができる。
【００７０】
ステップＳ３３０では、制御部１９０は、真空引き開始時刻からの経過時間が所定値（Ｔ２）であるか否かを判定する。経過時間が所定値未満の場合、再度ステップＳ３３０に移行する。経過時間が所定値以上の場合には、ステップＳ３３５に移行する。ここで、Ｔ２は、マスク１１０とワーク１２０とが全面密着したときの時間である。また、真空圧は第２の設定値であって、０ｋＰａから−２０ｋＰａの範囲から選択することができる。
さらに、送気圧は第２の設定値であって、１ＭＰａから６ＭＰａの範囲から選択することができる。
【００７１】
ステップＳ３３５では、制御部１９０は、レギュレター１８５を制御し、電磁弁１８０を開閉することにより、マスクホルダー１７０の上昇用の送気量を低下させ、ステップＳ３４０に移行する。これにより、始めにマスク１１０とワーク１２０との中心が密着し、徐々に周辺部が密着する密着工程が終了する。ここで、送気量の低下の割合は、マスクホルダー１７０の素材及び厚み等に応じて任意に設定しても、真空引きの圧力によりマスクホルダー１７０が下方向へ引っ張られる力を補償又は拮抗するように、制御部１９０が制御してもよい。
【００７２】
ステップＳ３４０では、制御部１９０は、マスクホルダー１７０の下降を停止又はパッキン１３０への送気を停止し、密着工程を終了し、ステップＳ３４５に移行する。
【００７３】
ステップＳ３４５では、制御部１９０は、真空引き開始時刻からの経過時間が所定値（Ｔ３）であるか否かを判定する。経過時間が所定値未満の場合、再度ステップＳ３４５に移行する。経過時間が所定値以上の場合には、ステップＳ３５０に移行する。ここで、Ｔ３は、マスク１１０とワーク１２０との密着を強化するのに必要な時間であって、前記マスクとワークとの十分な密着強度を得るのに必要で、あらかじめ設定された真空圧に到達するのに必要な時間である。前記真空圧は第３の設定値であって、−２０ｋＰａから−１００ｋＰａの範囲から選択される。
【００７４】
ステップＳ３４５では、制御部１９０は、真空引きの圧力を維持し、ステップＳ３５５に移行する。
【００７５】
ステップＳ３５５では、制御部１９０は、露光処理を実行し、ステップＳ３６０に移行する。
【００７６】
ステップＳ３６０では、制御部１９０は、真空レギュレター１５５を制御し、真空引きを停止し、ステップＳ３６５に移行する（経過時間Ｔ４）。ここで、Ｔ４は、前記Ｔ３以後露光処理を実施するのに必要な時間であって、露光装置の機能及び態様に基づいて任意に設定することができる。
【００７７】
ステップＳ３６５では、制御部１９０は、マスクホルダー１７０を上昇、テーブル１４０を下降、又はパッキン１３０内の気体を開放し、ワーク１２０とマスクホルダー１７０との密着を解き終了する。
【００７８】
前記密着プロセスの一例において、経過時間に基づく設定時間Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３及びＴ４の値は、使用するマスク１１０及びマスクホルダー１７０の材質、厚さ及び大きさ並びに真空引き及び送気能力に応じて任意に設定することができる。
【００７９】
また、それぞれの設定時間における真空圧及び送気圧も、使用するマスク１１０及びマスクホルダー１７０の材質や厚さに応じて任意に設定することができる。５ｍｍ厚アクリル、５ｍｍ厚ガラス及び８ｍｍ厚アクリルをマスクとして使用した際の設定条件の一例を、次の表１から表３に示す。
【００８０】
このような、マスク１１０及びマスクホルダー１７０の材質、厚み及び大きさ等に応じた種々の条件を、記憶手段２４０に保存し、制御手段２２０が材質と厚みに応じて呼び出すことにより、マスクホルダーの材質に応じた最適な真空密着条件を選択することができる。
【００８１】
【表１】
0004651648.tif 000002
【００８２】
【表２】
0004651648.tif 000003
【００８３】
【表３】
0004651648.tif 000004
【００８４】
図４は、本発明の真空密着工程における圧力制御の一例を示すグラフである。
【００８５】
真空引きは、時間Ｔ１までに−５ｋＰａ、時間Ｔ２までに−１０ｋＰａ、時間Ｔ３までに−６０ｋＰａになるように設定され、時間Ｔ３から時間Ｔ４までの間は−６０ｋＰａが維持されるように設定される。
【００８６】
送気圧力は、時間Ｔ１で２ＭＰａから時間Ｔ２で５ＭＰａになるように設定され、時間Ｔ２経過後は送気圧力が低下するように設定されている。ここで、送気開始直後に２ＭＰａの送気圧を得ることができないため、時間Ｔ１より微小時間Δ１だけ早く送気を開始することにより、最適な真空引きの圧力と送気圧力との組み合わせを実現することができる。また、時間Ｔ２経過後、時間Δ２にわたり送気量を低下させ、マスク略中心から周辺部への密着を実現することができる。
【００８７】
図４において、各時間における工程は次のとおりである。時間０からＴ１までは、パッキン１３０が膨張し、真空引きが開始され、マスクホルダー１７０の周辺部が上方へ引っ張られる直前までの工程を表している。
【００８８】
時間Ｔ１からＴ２までは、マスク１１０が略中心を谷とする下向き凸状にたわみ、略中心から徐々に周辺に向けてマスク１１０とワーク１２０とが密着してゆく工程を表している。
【００８９】
時間Ｔ２においてマスク１１０とワーク１２０とが全面密着した後、Ｔ３まで間真空引きを続けることにより、密着度を上昇させ、密着不良の発生を防止する工程を表している。
【００９０】
時間Ｔ３からＴ４までは、密着状態が維持され、露光の後、真空引きが停止する直前の工程までを表している。
【００９１】
時間Ｔ４以後は、真空引きを停止し、密着を解く工程を表している。
【実施例】
【００９２】
次に、実施例にもとづいて、本発明に係る真空密着方法を説明するが、当該実施例に限定されるものではない。
【００９３】
５ｍｍ厚アクリル、５ｍｍ厚ガラス及び８ｍｍ厚アクリルをマスクとして使用し、本発明に係る真空密着方法により、真空密着を実施した。
【００９４】
全てのマスクホルダーにおいて、略中心から周辺部への密着が実現され、略中心に空気が残留する等の密着不良は生じなかった。
【００９５】
図５は、本発明に係る実施例における真空圧の測定データを示すグラフである。後述する比較例と比較すれば明白であるが、本発明に係る真空密着方法では、マスク上下シリンダーを稼働させることにより、真空圧の急激な上昇を避けることができ、これにより、密着面略中心の空気が残留する密着不良の発生を防止することができた。
【００９６】
図６は、本発明に係る真空密着の模式図であり、当該模式図に基づいて上記の真空密着工程を説明する。
【００９７】
マスク上下シリンダー１６０が稼働しているため、マスク１１０は、略中心を谷とする下向き凸状にたわんでいる。これにより、始めにマスクとワークの略中心６１５が密着する。さらに真空引きが進むに連れて、マスクホルダー１７０には下向きの力がかかり、一気に周辺部までが密着するところであるが、マスク上下シリンダー１６０への送気圧力が増加することにより、周辺部をさらに上方へ引っ張り、前記下向き凸状を維持することにより、６２５及び６３５に示すように、徐々に周辺部へ向かって密着面積が増大することができる。
【００９８】
比較例として、マスク上下シリンダーを稼働させずに、５ｍｍ厚アクリル及び５ｍｍ厚ガラスをマスク１１０として使用して真空密着を実施した。この場合は、略中心に空気が残留し、密着不良が発生した。
【００９９】
図７は、比較例として、マスク上下シリンダーを使用しない場合の真空圧の測定データを示すグラフである。マスク上下シリンダーが稼働していないため、前述の実施例の約半分の時間で、急激に真空圧が上昇している。このため、マスクとワークとが急激に密着し、略中心から周辺部に徐々に密着するという工程を経ることができていない。
【０１００】
図８は、比較例における真空密着の模式図であり、当該模式図に基づいて上記の真空密着工程を説明する。
【０１０１】
この例では、マスク１１０とワーク１２０とが始めに密着し、真空引きされると、マスク１１０が下向き凸状にたわむため、略中心８１５で密着する。しかしながら、マスク上下シリンダーによる周辺部の引き上げが実施されないため、さらに真空引きすることにより急激にマスク１１０とワーク１２０とが密着する。これにより、略中心８３５に空気が残存しても、周囲の密着部８２５が気密室を形成してしまい略中心８３５の空気をこれ以上抜くことができない。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明の真空密着露光方法を用いた真空密着露光装置の機能構成図の一例である。
【図２】本発明の真空密着露光方法を用いた真空密着露光装置の制御部の機能構成図の一例である。
【図３】本発明の真空密着露光方法における密着プロセスを示すフローチャートの一例である。
【図４】本発明の真空密着工程における圧力制御の一例を示すグラフである。
【図５】本発明に係る実施例における真空圧の測定データを示すグラフである。
【図６】本発明に係る真空密着の模式図である。
【図７】比較例として、マスク上下シリンダーを使用しない場合の真空圧の測定データを示すグラフである。
【図８】比較例における真空密着の模式図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１１０  マスク
１２０  ワーク
１３０  パッキン
１４０  テーブル
１５０  真空配管系
１５５  真空レギュレター
１５７  真空ポンプ
１６０  マスク上下シリンダー
１７０  マスクホルダー
１８０  電磁弁
１８５  レギュレター
１８７  気体供給源
１９０  制御部
【図１】
0004651648.tif 000005
【図２】
0004651648.tif 000006
【図３】
0004651648.tif 000007
【図４】
0004651648.tif 000008
【図５】
0004651648.tif 000009
【図６】
0004651648.tif 000010
【図７】
0004651648.tif 000011
【図８】
0004651648.tif 000012