(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＳｉＯ２                                       １８〜３１重量％
Ｎａ２Ｏ                                       ０〜７重量％
Ｋ２Ｏ                                         ０〜７重量％
ＰｂＯ                                        ６５〜８１重量％
Ａｓ２Ｏ３＋Ａｓ２Ｏ５                            ０．００１〜１重量％
を含み、以下の含有量を重量で有することを特徴とする鉛ガラス：
Ｓｂ２Ｏ３                                      ０〜５０００ｐｐｍ
ＴｉＯ２                                       ０〜５００ｐｐｍ
ＣｕＯ                                        ０〜１００ｐｐｍ
Ｆ                                            ０〜１０００ｐｐｍ
Σ（Ａｓ２Ｏ３，Ａｓ２Ｏ５，Ｓｂ２Ｏ３，Ｆ）        ≧２０ｐｐｍ
Ａｓ（ＩＩＩ）／Ａｓ（Ｖ）                    ≧０．５
【請求項２】
炭質還元剤を重量で０〜５０００ｐｐｍで用いることにより、和集合式Σ（Ｓｂ２Ｏ３＋５＊Ｆ＋炭質還元剤＋５０＊Ｃｕ＋１０＊ＴｉＯ２）≧５０ｐｐｍを満たす条件において、前記Ａｓ（ＩＩＩ）／Ａｓ（Ｖ）比を調整できることを特徴とする請求項１項記載の鉛ガラス。
【請求項３】
次の含有量を特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の鉛ガラス：
重量％で
ＳｉＯ２                                       １９〜３０
Ｎａ２Ｏ                                       ０〜５
Ｋ２Ｏ                                         ０〜５
ＰｂＯ                                        ６６〜８１
重量で
Ｓｂ２Ｏ３                                      ０〜３０００ｐｐｍ
ＴｉＯ２                                       ０〜２００ｐｐｍ
Σ（Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，Ｆ）                  ≧５０ｐｐｍ
Σ（Ｓｂ２Ｏ３＋５＊Ｆ＋炭質還元剤＋５０＊Ｃｕ＋１０＊ＴｉＯ２）                                                                   ≧１００ｐｐｍ
【請求項４】
前記和集合Σ（Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，Ｆ）が重量で５０ないし７，０００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の鉛ガラス。
【請求項５】
前記和集合Σ（Ｓｂ２Ｏ３＋５＊Ｆ＋炭質還元剤＋５０＊Ｃｕ＋１０＊ＴｉＯ２）が重量で５０ないし１０，０００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の鉛ガラス。
【請求項６】
Ｓｂ２Ｏ３、酸化チタン、酸化銅のいずれか、又はそれらのいずれかの組み合わせであって、重量でＳｂ２Ｏ３が１０００ｐｐｍ以下、酸化チタン量が４００ｐｐｍ以下、酸化銅量が８０ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のガラス。
【請求項７】
軽フリントガラスであって、以下の含有量を特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の鉛ガラス：
重量％で
ＳｉＯ２ １８〜２８
Ｎａ２Ｏ３                                      ０〜３
Ｋ２Ｏ                                         ０〜３
ＰｂＯ                                        ６８〜８１
重量で
Ｓｂ２Ｏ３                                      ０〜３０００ｐｐｍ
ＴｉＯ２                                       ０〜２００ｐｐｍ
Σ（Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，Ｆ）                  ≧５０ｐｐｍ
Σ（Ｓｂ２Ｏ３＋５＊Ｆ＋炭質還元剤＋５０＊Ｃｕ＋１０＊ＴｉＯ２）                                                                   ≧１００ｐｐｍ
【請求項８】
軽フリントガラスであって、以下の含有量を特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の鉛ガラス：
重量％で
ＳｉＯ２                                       ２２〜２７
Ｎａ２Ｏ                                       ０．１〜２
Ｋ２Ｏ                                         ０．１〜２
ＰｂＯ                                        ７１〜７８
重量で
Ｓｂ２Ｏ３                                      ０〜３０００ｐｐｍ
ＴｉＯ２                                       ０〜２００ｐｐｍ
Σ（Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，Ｆ）                  ≧５０ｐｐｍ
Σ（Ｓｂ２Ｏ３＋５＊Ｆ＋炭質還元剤＋５０＊Ｃｕ＋１０＊ＴｉＯ２）                                                                   ≧１００ｐｐｍ
【請求項９】
Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｇ、Ｖの各酸化物のいずれか又はそれらのいずれかの組み合わせを重量でそれぞれ１，０００ｐｐｍ以下含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の鉛ガラス。
【請求項１０】
重量で
Ｓｂ２Ｏ３                                      ０〜５０００ｐｐｍ
ＴｉＯ２                                       ０〜５００ｐｐｍ
ＣｕＯ                                        ０〜１００ｐｐｍ
Ｆ                                            ０〜１０００ｐｐｍ
炭質還元剤                                    ０〜５０００ｐｐｍ
Σ（Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，Ｆ）                  ≧２０ｐｐｍ
Σ（Ｓｂ２Ｏ３＋５＊Ｆ＋炭質還元剤＋５０＊Ｃｕ＋１０＊ＴｉＯ２）                                                                   ≧５０ｐｐｍ
Ａｓ（ＩＩＩ）／Ａｓ（Ｖ）                    ≧０．５
の含有量を有し、最終ガラス組成物中にＰｂＯが少なくとも６５重量％で存在する鉛ガラスの製造方法。
【請求項１１】
重量で
Ｓｂ２Ｏ３                                      ０〜５０００ｐｐｍ
ＴｉＯ２                                       ０〜５００ｐｐｍ
ＣｕＯ                                        ０〜１００ｐｐｍ
Ｆ                                            ０〜１０００ｐｐｍ
炭質還元剤                                    ０〜５０００ｐｐｍ
Σ（Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，Ｆ）                  ≧２０ｐｐｍ
Σ（Ｓｂ２Ｏ３＋５＊Ｆ＋炭質還元剤＋５０＊Ｃｕ＋１０＊ＴｉＯ２）                                                                   ≧５０ｐｐｍ
重量％で
ＳｉＯ２                                       １８〜３１
Ｎａ２Ｏ                                       ０〜７
Ｋ２Ｏ                                         ０〜７
ＰｂＯ                                        ６５〜８１
Ａｓ２Ｏ３                                      ０．００１〜１
からなる溶融液を形成することによる、鉛ガラスの製造方法。
【請求項１２】
特に偏光制御方式カラー管理システムまたは反射型液晶ディスプレイを用いて作動するデジタル投影分野において利用する複合カラースプリッタとしての、光学組立部品及び構成部品（ＰＢＳ(偏光ビームスプリッタ)）への請求項１〜９のいずれかに記載の鉛ガラスの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス、特に内部透過度が高くかつ放射線損傷に対して高安定性である、すなわち物理的圧密及びソラリゼーションを起こしにくい重フリントガラス、及び結像及び投影、さらには光通信エンジニアリング、遠距離通信及びコンピュータ製造におけるこれらガラスの使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
最新の高性能光学機器においては結像精度及び分解能に対する要求が益々高まっている。このことは、結像及び投影分野がそれぞれ発展する一方において、結像対象物がより小さな容積中に、またより高度な点及び細部精度を備えて結像されなければならないことを意味している。このため、より短い波長、すなわち光学素子のエネルギー負荷を増大する高エネルギー光を用いて露光を行うことが必要となる。さらに、例えばマイクロリソグラフィ等の技術的用途に用いる場合においては、製造進捗度をより短縮化するため露光時間をより短縮することが要求され、これによって光学機器を通して向けられる放射束及び放射線密度のそれぞれ、すなわち時間当たりの放射線露光量が不本意に増加してしまう。さらに、特に通信エンジニアリング及び遠距離通信における光学システムにおいては高発光効率、すなわち高透過度が重要な目標とされる。
【０００３】
このことは、単に各光学機器の発展に対する高度な要求が起こるのみならず光学機器に用いられる通常ガラスである材料に対しても高度な要求が起こることを意味している。例えば高エネルギー密度を用いると、透過度、すなわち光学素子の放射線透過性が劇的に低下するソラリゼーションと称される現象が起こることが周知である。しかしながら、光学素子の全発光効率が高エネルギー密度によって低下するだけでなく、このようにして吸収された放射線によって低下したエネルギー量も光学素子のマトリクス中へ取り込まれる。かかるマトリクス中へのエネルギーの堆積によってさらに圧密状態、すなわち光学材料の稠密化がひき起こされる。この稠密化はマトリクス材の収縮を引き起こすともに光学的特性、特に屈折能の変化をもたらす。しかし、かかる屈折能の変化によって光学素子のために当初算定された放射線進路が変化するため、結像対象物がぼやけ、つまり結像精度が低下してしまう。
【０００４】
かかる圧密化は放射線及び堆積されたエネルギーにそれぞれ比例するためその影響も増大され、光学システムの素子内部の各単一成分のみならず局部域も別の放射線に露光してしまう。このため、光学システムにおいては、幾何図形的に不規則な歪みが生じ、この歪みがレンズ全体へ加えられる。そのため、操作中にこれらの影響によって到達可能な点分解能が画像鮮明度とともに大きく低下する。
【０００５】
前記システムは技術の改良によって今日ではさらに長期に及ぶ作動性を有し、また光学素子の放射時間も増加し、それによってそれら素子のエネルギー負荷も増加しているため、またそれら素子の実用期間、従ってそれら素子の償却及び使用可能期間が制限され、さらにコスト高をひき起こしている。
【０００６】
これまで上述したガラス材の光学的品質、すなわち放射線透過性を向上させる試みが為されてきた。例えばＤＥ９７３３５０には、ｖ値それぞれに対し平均値分散が低い屈折率をもつ光学珪酸ガラスが記載されている。この開示によれば、ガラスには高い分散性がなければならない。このような凹レンズ用のガラスには
５〜３０重量％のアルカリ金属酸化物、３０〜７０重量％のＳｉＯ２及びＢ２Ｏ３、さらに０．１５〜３５重量％のフッ素が含まれ、また該ガラス中には５重量％までの範囲で、アルカリ土金属酸化物及び、ＡｌＯ３、ＴｉＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、Ａｓ２Ｏ３及びＰｂＯの少なくとも１種が含まれていなければならない。このうち、Ａｌ２Ｏ３及びＴｉＯ２の含量はそれぞれ３０重量％以下でなければならず、ＰｂＯの含量は５５重量％以下、Ｓｂ２Ｏ３の含量は３５重量％以下、そしてＡｓＯ３の含量は５重量％以下でなければならない。ガラスのｖ値が６３．５よりも高い値でなければならない場合は、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＡｓ２Ｏ３の含量の総和をＢ２Ｏ３の含量よりも高くしなければならない。ＤＥ９７３３５０での教示によれば、ガラス構造中へ実質的にフッ素を大量に添加して酸素と置き換えることにより低屈折能が達成される。
【０００７】
ＤＥ−Ａ２６０３４５０には、可視域内において高透過度を有する鉛珪酸ガラスが記載されている。本引例によれば、多量のフッ素の添加によってガラス中に取り込まれた光透過度を低下させる不純物がマスクされるため良好な光学的特性が得られる。
【０００８】
出願番号１０２０７７３２．０のドイツ特許出願において、光学的及び物理的安定性、特にソラリゼーション及び圧密作用に対する安定性が向上し、かつ内部透過度の良好な鉛ガラスが提示されている。これら鉛ガラスは屈折能が非常に低く、そのため例えば一連の重フリントガラス（ＳＦ（ドイツ語：”Ｓｃｈｗｅｒｆｌｉｎｔ”）ガラス）のような高濃度加鉛ガラスよりも放射線に対する感度がかなり低い。
ＳＦガラスは高含量の酸化鉛とアルカリ金属酸化物の添加含量に特徴がある。ＳＦガラスの利点の一つはそれらの高い屈折能と関連していて、光学設計分野において、組立部品サイズのより小形化を実現する、より短い焦点距離の達成を可能にしている。さらに高含量鉛ガラスの応力光学係数は極めて低いため、これらガラスは偏光制御方式カラー管理システム及び／または反射型液晶ディスプレイを用いて作動するデジタル投影における利用に特に適している。しかしながら、ＳＦガラスにおいて鉛比率が高いとエネルギーの直接吸収が起こるため放射線に対する感度の増大もひき起こされる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、改良鉛ガラス、特に鉛フリントガラスあるいは重フリントガラス等の高含量鉛ガラスは、一方においては高屈折能を有し、また他方において放射線に対し低感度及び安定性であることが必要である。本発明においては、良好な安定性及び放射線に対する低感度の両特性を特徴とする上述した高屈折能を備えた改良型ガラスが提供されている。かかるガラスを提供する目的は特許請求の範囲に限定された特徴によって達成される。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
鉛ガラス、特に鉛フリントガラスあるいは重フリントガラスに関する本発明の目的は、高含量鉛ガラス、特に１８〜３１重量％のＳｉＯ２、０〜７重量％のＮａ２Ｏ、０〜７重量％のＫ２Ｏ、６５〜８４重量％のＰｂＯ、さらに０．００１〜１重量％のＡｓ２Ｏ３を含んで成るガラスであって、溶融液及び最終ガラス製品それぞれのガラス中にＡｓ（ＩＩＩ）及びＡｓ（Ｖ）が少なくとも０．５の比で含まれているガラスによって達成されることが見出された。
【００１１】
本発明において、用語「高含量鉛ガラス」は、最終ガラス組成物中にＰｂＯが少なくとも６５重量％、特に６５重量％ないし８１重量％の範囲内で存在するガラスを意味する。又、組成物の各成分については重量％で示されるものとする。
【００１２】
例えばＳｂ、Ｔｉ、Ｃｕ及び／またはフッ化物源、及び／または炭質還元剤を溶融工程中任意にガラスまたはその出発原料へそれぞれ添加することにより上記したＡｓ（ＩＩＩ）及びＡｓ（Ｖ）の比を達成することができる。Ｓｂ２Ｏ３含量は５０００ｐｐｍを超えてはならず、ＴｉＯ２含量は５００ｐｐｍ以下、ＣｕＯ含量は１００ｐｐｍ以下、炭質還元剤含量は５０００ｐｐｍ以下、そしてフッ素含量は１０００ｐｐｍ以下でなければならない。本発明に従って、上記物質はさらに下記条件を満たさなければならない。
Ｉ   Σ（Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，Ｆ）≧２０ｐｐｍ、及び、好ましくは、
ＩＩ Σ（Ｓｂ２Ｏ３＋５＊Ｆ＋炭質還元剤＋５０＊ＣｕＯ＋１０＊ＴｉＯ２）≧５０ｐｐｍ
【００１３】
酸化溶融液ではＡｓ（ＩＩＩ）及びＡｓ（Ｖ）の比は約０．４であり、通常Ａｓ（Ｖ）の比率が増加している。他方非酸化溶融液、すなわち酸素の供給を行わない溶融液では通常０．４５の比が示される。還元剤の添加により、本発明に係るガラス組成物の前記比を何ら問題を生ぜず０．５へ調整できるが、この調整は例えば上記和集合式ＩＩ中において規定される各還元剤の量及び効果に直接依存している。前記比は好ましくは０．５５、特に好ましくは少なくとも０．６５、最も好ましくは少なくとも０．７０である。実用における比は約０．７５である。
【００１４】
すなわち、本発明によれば、上記調整に関する定則を考慮することにより、光学的及び物理的安定性、特にソラリゼーション及び圧密に関して優れた特性をもつのみならず優れた内部透過度をも示す光学ガラスを得ることが可能である。
【００１５】
前記第二の和集合式ＩＩは、本発明に従った混合物において、単一成分が目的物の達成に関して異なる有効係数を示すことを表している。前記式に従えば、例えば酸化銅は糖及び／または酸化アンチモンよりも５０倍高い活性を有する。フッ素は５倍高い活性をもち、酸化チタンは１０倍高い活性をもつ。前記式に関して、さらにフッ素濃度が純粋なフッ化物イオンに帰することを考慮しなければならない。前記和集合式に従えば、これは、例えば溶融液中のフッ化物２ｇをＳｂ２Ｏ３、１０ｇと置換できることを意味している。従って、酸化チタン１０ｇが炭質還元剤あるいはＳｂ２Ｏ３、１ｇと置き換わる。本発明に従って、高比率のフッ化物を用いることを止め、低比率のフッ化物しか含まないかあるいはフッ化物を全く含まないガラスを提供することが可能である。本発明によれば、ＳｉＯ２含量は好ましくは１９〜３０重量％の範囲内である。また酸化ナトリウム含量は好ましくは０〜５重量％、またＫ２Ｏ含量は好ましくは０〜５重量％の範囲内である。ＰｂＯ含量は好ましくは６６〜８３重量％の範囲内である。Ｓｂ２Ｏ３含量は好ましくは０〜３０００ｐｐｍ、ＴｉＯ２含量は０〜２００ｐｐｍ、またＣｕＯ含量は０〜１００ｐｐｍの範囲内である。
【００１６】
その際、前記第一の和集合式Ｉ、すなわちΣ（Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，Ｆ）の清澄剤の最小含量は好ましくは少なくとも５０ｐｐｍである。最大含量は好ましくは２５０００ｐｐｍを超えず、好ましくは２００００ｐｐｍ、特に好ましくは１５０００ｐｐｍである。前記和集合式Ｉ中の成分の特に好ましい上限は７０００ｐｐｍである。特に好ましい最小濃度は１００ｐｐｍであるが、さらに好ましい最小濃度は少なくとも２００ｐｐｍである。
【００１７】
前記和集合式ＩＩの成分が存在する濃度は好ましくは少なくとも１００ｐｐｍ、とりわけ２００ｐｐｍ、また特に好ましくは３００ｐｐｍである。この濃度の上限は好ましくは２００００ｐｐｍであり、特に好ましくは最大濃度として１５０００ｐｐｍ及び最大濃度として１００００ｐｐｍである。
【００１８】
本発明においては、少なくとも１０ｐｐｍの酸化砒素の添加が特に適することが示されている。すなわち、さらにより良好な透過度が得られることが示されている。また、酸化砒素としては好ましくはＡｓ２Ｏ３が、砒素を酸化する添加剤、例えば溶融中に砒素（ＩＩＩ）を清澄酸化砒素（Ｖ）へ変換する硝酸ナトリウム等の存在下で用いられる。Ｓｂ２Ｏ３の上限は好ましくは１２００ｐｐｍ、特に好ましくは１０００ｐｐｍである。上限を５００ｐｐｍとすることが適する場合も多いが、Ｓｂ２Ｏ３の最大濃度は４００ｐｐｍ、特に好ましく３００ｐｐｍである。さらに好ましい実施態様では、本発明に従ったガラスにＳｂ２Ｏ３は含まれない。
本発明に従えば、ＴｉＯ２の上限は５００ｐｐｍ、好ましくは４００ｐｐｍ、特に好ましくは３００ｐｐｍである。ＴｉＯ２は最大含量としてさらに好ましくは２００ｐｐｍ含まれるが、特に好ましくは最大含量として１００ｐｐｍである。
【００１９】
本発明に従ったガラスはＣｕＯを最大で１００ｐｐｍ含むが、好ましい最大含量は８０ｐｐｍ及び５０ｐｐｍである。前記ＣｕＯの最大含量の上限はより好ましくは２０ｐｐｍであり、特に好ましくは１０ｐｐｍである。
【００２０】
すなわち、本発明に従って前記和集合式ＩＩ中に示したドーピング剤をさらに添加することにより卓越した方式でソラリゼーションの傾向を減ずることが可能なことが見出された。式中、頭に示された数値は本発明に従って用いられるドーピング剤の効果を示すファクターである。
【００２１】
本発明においては、フッ化物としてフッ素が適当な方法で添加され、溶融液中に既に存在している陽イオンが陽イオンとして通常（必ずしも必要ではないが）用いられる。好ましいフッ化物としてＮａＦ、ＬｉＦ、ＫＦ、ＣａＦ２、ＭｇＦ２を挙げることができるが、任意的にＮａ２ＳｉＦ６を用いてもよい。
【００２２】
本発明に従った好ましい重フリントガラスのＳｉＯ２含量は２１〜２８重量％、特に２２〜２７重量％の範囲内であり、Ｎａ２Ｏ含量は０〜３重量％、好ましくは０．１〜２重量％の範囲内であり、Ｋ２Ｏ含量は０〜３重量％、特に０．１〜２重量％の範囲内、及びＰｂＯ含量は６８〜８１重量％、特に７１〜７８重量％の範囲内である。前記重フリントガラスにはさらにＳｂ２Ｏ３が０〜３０００ｐｐｍ、ＴｉＯ２が０〜２００ｐｐｍ、ＣｕＯが０〜１００ｐｐｍ、糖が０〜５００ｐｐｍ、及びＦが０〜１０００ｐｐｍ含まれる。この重フリントガラスにおける前記式Ｉに従った清澄剤の量は≧５０ｐｐｍであり、前記式ＩＩに従ったドーピング剤の量は少なくとも１０００ｐｐｍである。
【００２３】
本発明に従ったガラスにおいては、炭質還元剤として、黒鉛、石炭（槽、槽内部、るつぼ、棒状物、電極、攪拌器、あるいはこれらの部分の形態を採ってもよい）、炭化水素、脂肪酸、蓚酸等のジカルボン酸、さらには特に糖を用いることができる。
【００２４】
本発明に係るガラスにおいては、いかなる糖も他の有機物質、特に窒素及び硫黄を含まない有機物質、具体的にはポリヒドロキシ化合物と同様に用いることが可能である。特に好ましい糖は単糖類、二糖類及び／または多糖類、特に化学両論的構造式Ｃ６Ｈ１２Ｏ６を有する糖類である。特定の実施態様においては、本発明に係るガラスは保護雰囲気下、好ましくは窒素雰囲気下で製造される。
本発明に係るガラスには任意であるが少量のＦｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｇ、及び／またはＶの各酸化物が単独あるいは組み合わされて好ましくはそれぞれ独立して１０００ｐｐｍ以下の含量で含まれていてもよい。
【００２５】
本発明に従った前記調整定則を用いて低温溶融性な鉛珪酸ガラス、特に重フリントガラスを製造することが可能である。さらに、これらのガラスは取り扱いが容易であり、また１．８を上回る、具体的には１．８〜１．９の屈折能を有する。これらガラスのアッベ数は２０ないし３０の範囲内である。
【００２６】
本発明はさらに本発明に従ったガラスの製造方法にも関する。本方法においては、通常ガラスの製造に用いられる対応出発原料を酸化物及び／または塩の形態で、他のガラス補助剤、具体的には前記和集合式Ｉ及びＩＩに示した補助剤とともに溶融し、次いで既知の方法で冷却しながら清澄することにより所望のガラスが得られ、このガラスはさらに光学素子へと加工される。なお、前記和集合式に示した補助剤は通常溶融前に前記出発材料中に予め加えられる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明に係る光学ガラスは光学装置、具体的には光導体及び光ファイバの製造、また結像及び投影、マイクロリソグラフィの他、遠距離通信及び光通信エンジニアリング、さらにはデジタル投影への利用に特に適する。
従って、本発明に係る光学ガラスはレンズ、プリズム、ファイバオプティクス棒、ファイバオプティクスケーブル、光学窓、さらにはフォトリソグラフィ、ステッパ、エキシマレーザ、ウェーハー、コンピュータチップ、さらには集積回路及び前記回路及びチップを内蔵する電子機器用の光学構成部品の製造に特に適するガラスである。本発明に係るガラスは偏光制御方式カラー管理システム及び／または反射型液晶ディスプレイを用いて作動するデジタル投影分野における利用にも特に適する。以下に記載した実施例により本発明についてさらに詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
得られた物質をそれぞれ炭酸塩及び／または硝酸塩として秤量し、及びドーピング剤及び塩基清澄剤を加えてから、混合物を十分に混合した。次いでガラス混合物を約１２５０°Cで溶融して連続溶融凝集体とした後、該凝集体を１３２０°Cで清澄及び均質化した。次いでガラスを鋳造温度１３００°Cでプレス成形あるいは圧延によって処理し、所定の方法で冷却して所望の寸法に加工した。下記表は、表２及び３の基準となる計算されたガラス１００ｋｇの溶融液例を示している。
【００２９】
【表１】
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【００３０】
【表２】
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【００３１】
【表３】
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