(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定められた平面に沿ってステージを移動させるステージ駆動部と、
前記ステージに、前記予め定められた平面と略垂直な方向の位置が異なる２つのレーザ光を含む複数のレーザ光を、前記予め定められた平面と平行な第１の方向に沿って照射する第１レーザ光照射部を有し、前記ステージが反射した前記複数のレーザ光の反射光に基づいて、前記ステージと前記予め定められた平面とのなす第１の角度を算出する角度算出部と、
前記ステージが前記第１の方向に沿った予め定められた移動範囲を移動する間の前記第１の角度の変化量に基づいて、前記予め定められた移動範囲内における前記ステージが平準に移動しない移動範囲を示す第１移動範囲を判定する判定部と
を備えるステージ装置。
【請求項２】
前記角度算出部は、前記ステージに、前記予め定められた平面と略垂直な方向の位置が異なる２つのレーザ光を含む複数のレーザ光を、前記予め定められた平面と平行であって、前記第１の方向と垂直な第２の方向に沿って照射する第２レーザ光照射部を有し、前記第２レーザ光照射部が照射したレーザ光を前記ステージが反射した反射光に基づいて、前記ステージと前記予め定められた平面とのなす第２の角度を算出し、
前記判定部は、前記ステージが前記第２の方向に沿った予め定められた移動範囲を移動する間の前記第２の角度の変化量に基づいて、前記予め定められた移動範囲内における前記ステージが平準に移動しない移動範囲を示す第２移動範囲を判定し、前記第１移動範囲及び前記第２移動範囲に基づいて、前記ステージが踏んだ異物の大きさを判定する
請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記角度算出部は、前記第１レーザ光照射部から照射された前記複数のレーザ光の反射光に基づいて前記複数のレーザ光の光路長を算出し、前記光路長のそれぞれの差分に基づいて前記第１の角度を算出する請求項１または２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記ステージは、前記予め定められた平面と略垂直なミラーを有し、
前記第１レーザ光照射部は、前記ミラーに前記複数のレーザ光を照射し、
前記角度算出部は、前記ミラーにおいて反射した前記複数のレーザ光の反射光に基づいて前記第１の角度を算出する請求項１から３のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記判定部が判定した第１移動範囲を示す前記ステージの位置情報を記憶する手段を備える請求項１から４のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項６】
予め定められた平面に沿ってステージを移動させるステージ駆動段階と、
前記ステージに、前記予め定められた平面と略垂直な方向の位置が異なる２つのレーザ光を含む複数のレーザ光を、前記予め定められた平面と平行な第１の方向に沿って照射し、前記ステージが反射した前記複数のレーザ光の反射光に基づいて、前記ステージと前記予め定められた平面とのなす角度を算出する角度算出段階と、
前記ステージが前記第１の方向に沿った予め定められた移動範囲を移動する間の、前記ステージと前記予め定められた平面とのなす角度の変化量に基づいて、前記予め定められた移動範囲内における前記ステージが平準に移動しない移動範囲を判定する判定段階とを備える測定方法。
【請求項７】
電子ビームによりウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、
前記電子ビームを前記ウェハに照射する電子銃と、
前記電子ビームを偏向させる偏向器と、
前記ウェハを載置し、予め定められた平面に沿って移動するステージと、
前記ステージを移動させるステージ駆動部と、
前記ステージに、前記予め定められた平面と略垂直な方向の位置が異なる２つのレーザ光を含む複数のレーザ光を、前記予め定められた平面と平行な第１の方向に沿って照射する第１レーザ光照射部を有し、前記ステージが反射した前記複数のレーザ光の反射光に基づいて、前記予め定められた平面と前記ステージとのなす角度を算出する角度算出部と
前記ステージが前記第１の方向に沿った予め定められた移動範囲を移動する間の、前記ステージと前記予め定められた平面とのなす角度の変化量に基づいて、前記予め定められた移動範囲内における前記ステージが平準に移動しない移動範囲を判定する判定部と
を備える電子ビーム露光装置。
【請求項８】
前記判定部が判定した前記ステージが平準に移動しない移動範囲を示す前記ステージの位置情報を記憶する記憶部と、
前記記憶部に記憶された前記位置情報に基づいて、前記偏向器及び前記ステージ駆動部の少なくともいずれかを制御することにより、前記電子ビームの露光位置を補正する制御部と
を備える請求項７に記載の電子ビーム露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ステージ装置、測定方法、及び電子ビーム露光装置に関する。特に、ステージの姿勢を検出することのできるステージ装置、測定方法、及び電子ビーム露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば電子ビーム露光装置のステージ装置は、ステージ移動領域にある異物等の検出は、実際にウェハを露光した結果により判断していた。つまり、ウェハにパターンを露光し、期待される露光結果との差によってステージ移動領域にある異物を検出していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述した手法では、実際に露光してみる必要があり、無駄が生じる。また、異物の位置を特定することが困難であった。さらに、真空中に配置されたステージにおいては、異物の捜索が不可能であった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の第１の形態においては、所定の平面を移動するステージの位置情報を検出する手段を有するステージ装置であって、ステージを移動させるステージ駆動部と、ステージと前記所定の平面とのなす角度を算出する角度算出部とを備えることを特徴とするステージ装置を提供する。
【０００５】
第１の形態において、ステージの所定の移動範囲における、角度の変化量に基づいて、ステージが平準に移動しているか否かを判定する判定部を、さらに備えてもよい。また、角度算出部は、ステージに、所定の平面と略垂直な方向の位置が異なる２つのレーザ光を含む、複数のレーザ光を照射するレーザ光照射部を有し、角度算出部は、ステージにおいて反射した複数のレーザ光の反射光に基づいて角度を算出してもよい。
【０００６】
角度算出部は、複数のレーザ光の反射光に基づいて複数のレーザ光の光路長を算出し、光路長のそれぞれの差分に基づいて角度を算出してもよい。また、ステージは、所定の平面と略垂直なミラーを有し、レーザ光照射部は、ミラーに複数のレーザ光を照射し、角度算出部は、ミラーにおいて反射した複数のレーザ光の反射光に基づいて角度を算出してもよい。また、判定部が、ステージが平準に移動していないと判定した、ステージの位置情報を記憶する手段を備えてもよい。
【０００７】
本発明の第２の形態は、所定の平面を移動するステージが、平準に移動しているか否かを測定する測定方法であって、ステージを移動させるステージ駆動段階と、ステージと所定の平面とのなす角度を検出する角度算出段階とを備えることを特徴とする測定方法を提供する。
【０００８】
本発明の第３の形態は、電子ビームによりウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、電子ビームをウェハに照射する電子銃と、電子ビームを偏向させる偏向器と、ウェハを載置し、所定の平面を移動するステージと、ステージを移動させるステージ駆動部と、所定の平面とステージとのなす角度を算出する角度算出部とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置を提供する。
【０００９】
尚、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又、発明となりうる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【００１１】
図１は、本発明の実施形態に係る電子ビーム処理装置である電子ビーム露光装置１００の一例を示す。電子ビーム露光装置１００は、電子ビームによりウェハ６４に所定の露光処理を施すための露光部１５０と、露光部１５０の各構成の動作を制御する制御系１４０を備える。
【００１２】
露光部１５０は、筐体１０内部に、所定の電子ビームを照射する電子ビーム照射系１１０と、電子ビーム照射系１１０から照射された電子ビームを、ウェハ６４に照射するか否かを制御するショット制御系１１２と、電子ビームをステージ板３００に載置されたウェハ６４の所定の領域に偏向するとともに、ウェハ６４に転写されるパターンの像のサイズを調整するウェハ用投影系１１４を含む電子光学系を備える。
【００１３】
電子ビーム照射系１１０は、電子ビームを発生させる電子銃１２による、電子ビームの焦点位置を定める第１電子レンズ１４と、電子ビームを通過させる矩形形状の開口（スリット）が形成されたスリット部１６とを有する。電子銃１２は、安定した電子ビームを発生させるのに所定の時間がかかるので、電子銃１２は、露光処理期間において常に電子ビームを発生してもよい。図１において、電子ビーム照射系１１０から照射された電子ビームが、電子光学系により偏向されない場合の電子ビームの光軸を、一点鎖線Ａで表現する。
【００１４】
ショット制御系１１２は、ブランキング電極１８と、ラウンドアパーチャ部２０とを有する。ラウンドアパーチャ部２０は、円形の開口（ラウンドアパーチャ）を有する。ブランキング電極１８は、電子ビームを高速に同期してオン／オフすることができ、具体的には、電子ビームをラウンドアパーチャの外側に当たるように偏向する機能を有する。すなわち、ブランキング電極１８は、電子ビームの進行方向に対してラウンドアパーチャ部２０から下流に電子ビームが進行することを防ぐことができる。電子銃１２は、露光処理期間において常に電子ビームを照射するので、ブランキング電極１８は、ウェハ６４に転写するパターンを変更するとき、更には、パターンを露光するウェハ６４の領域を変更するときに、ラウンドアパーチャ部２０から下流に電子ビームが進行しないように電子ビームを偏向することが望ましい。
【００１５】
ウェハ用投影系１１４は、第２電子レンズ２２と、第３電子レンズ２４と、主偏向器２６と、副偏向器２８とを有する。第２電子レンズ２２は、スリット部１６で形成されたパターンに対する、ウェハ６４に転写されるパターン像の縮小率を調整する。第３電子レンズ２４は、対物レンズとして機能する。主偏向器２８及び副偏向器３０は、ウェハ６４上の所定の領域に電子ビームが照射されるように、電子ビームを偏向する。本実施形態では、主偏向器２８は、１ショットの電子ビームで照射可能な領域（ショット領域）を複数含むサブフィールド間で電子ビームを偏向するために用いられ、副偏向器３０は、サブフィールドにおけるショット領域間の偏向のために用いられる。
【００１６】
また、露光部１５０は、所定の平面３１６を移動するステージ３１０の移動情報を検出する手段を持つステージ装置３００を有する。ステージ装置３００は、ステージ３１０を所定の平面３１６上で移動させるステージ駆動部３１２と、ステージと所定の平面３１６とのなす角度を検出する角度算出部３１４を有する。パターンが露光されるべきウェハ６４は、ステージ３１０に載置される。
【００１７】
制御系１４０は、統括制御部１３０と、偏向制御部１３２と、電子レンズ制御部１３４と、ウェハステージ制御部１３６とを有する。統括制御部１３０は、例えばワークステーションであって、個別制御部１２０に含まれる各制御部を統括制御する。偏向制御部１３２は、ブランキング電極１８、主偏向器５６、及び副偏向器５８を制御する。電子レンズ制御部１３４は、第１電子レンズ１４、第２電子レンズ２２及び第３電子レンズ２４に供給する電流を制御する。ウェハステージ制御部１３６は、ステージ装置３００のステージ駆動部３１２により、ステージ３１０を所定の位置に移動させる。
【００１８】
本実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の動作について説明する。ステージ３１０上には、露光処理が施されるウェハ６４が載置されている。ウェハステージ制御部１３６は、ステージ装置３００のステージ駆動部３１２によりステージ３１０を移動させて、ウェハ６４の露光されるべき領域が光軸Ａ近傍に位置するようにする。また、電子銃１２は、露光処理期間において常に電子ビームを照射するので、露光の開始前において、スリット部１６の開口を通過した電子ビームがウェハ６４に照射されないように、偏向制御部１３２が、ブランキング電極１８を制御する。
【００１９】
ショット制御系１１２及びウェハ用投影系１１４が調整された後、偏向制御部１３２が、ブランキング電極１８による電子ビームの偏向を停止する。これにより、以下に示すように、電子ビームはウェハ６４に照射される。電子銃１２が電子ビームを生成し、第１電子レンズ１４が電子ビームの焦点位置を調整して、スリット部１６に照射させる。スリット部１６の開口を通過した電子ビームは、矩形の断面形状を有している。
【００２０】
そして、スリット部１６を通過した電子ビームは、ラウンドアパーチャ部２０に含まれるラウンドアパーチャを通過し、第２電子レンズ２２により、パターン像の縮小率が調整される。それから、電子ビームは、主偏向器２６及び副偏向器３０により、ウェハ６４上の所定のショット領域に照射されるように偏向される。本実施形態では、主偏向器２６が、ショット領域を複数含むサブフィールド間で電子ビームを偏向し、副偏向器２８が、サブフィールドにおけるショット領域間で電子ビームを偏向する。所定のショット領域に偏向された電子ビームは、第３電子レンズ２４によって調整されて、ウェハ６４に照射される。
【００２１】
所定の露光時間が経過した後、偏向制御部１３２が、電子ビームがウェハ６４を照射しないように、ブランキング電極１８を制御して、電子ビームを偏向させる。以上のプロセスにより、ウェハ６４上の所定のショット領域に、パターンが露光される。次のショット領域に、パターンを露光するために、副偏向器２８は、パターン像が、次のショット領域に露光されるように電界を調整する。この後、上記と同様に当該ショット領域にパターンを露光する。サブフィールド内の露光すべきショット領域のすべてにパターンを露光した後に、主偏向器２６は、次のサブフィールドにパターンを露光できるように磁界を調整する。電子ビーム露光装置１００は、この露光処理を、繰り返し実行することによって、所望の回路パターンを、ウェハ６４に露光することができる。
【００２２】
本発明による電子ビーム処理装置である電子ビーム露光装置１００は、可変矩形を用いた電子ビーム露光装置であってもよく、また、ブランキング・アパーチャ・アレイ（ＢＡＡ）・デバイスを用いた電子ビーム露光装置であってもよい。
【００２３】
図２は、ステージ装置３００の構成の一例を示す。ステージ装置３００は、ステージ駆動部３１２、ステージ３１０、角度算出部３１４、判定部３２２、及び記憶部３２４を有する。ステージ駆動部３１２は、制御系１４０のウェハステージ制御部１３６から制御信号を受け取り、ステージ３１０を移動させる。角度算出部３１４は、ステージ３１０と、ステージが駆動すべき所定の平面である平面３１６（図１参照）とのなす角度θ１を算出する。判定部３２２は、算出した角度θ１に基づいて、ステージが平準に移動しているか否かを判定する。記憶部３２４は、判定部３２２が判定した、ステージが平準に移動していない場所を記憶する。
【００２４】
例えば、ステージ３１０は、車輪を有し、ステージ駆動部３１２は、車輪を駆動させる発動機であってよい。角度算出部３１４は、例えばレーザ干渉計であって、ステージ３１０に所定の平面３１６と略垂直な方向の位置が異なる２つのレーザ光を含む、複数のレーザ光を照射するレーザ光照射部を有し、ステージ３１０において反射した複数のレーザ光の反射光に基づいて角度θ１を算出してもよい。この場合、角度算出部３１４は、複数のレーザ光の反射光に基づいて、複数のレーザ光の光路長を算出し、複数のレーザ光の反射光のそれぞれの光路長の差分に基づいて角度θ１を算出してよい。判定部３２２は、ステージ３１０の所定の移動範囲における、角度θ１の変化量にもとづいて、ステージ３１０が平準に移動しているか否かを判定する。
【００２５】
図３は、ステージ装置３００の一例を示す。ステージ装置３００は、図２に関連して説明したステージ装置３００と同一又は同様の機能及び構成を有する。ステージ３００は側面にミラー７２を有し、角度検出部３１４は、ステージ３１０に所定の平面３１６と略垂直な方向の位置が異なる２つのレーザ光３１８ａ及び３１８ｂを照射するレーザ光照射部（図示せず）を有する。また、角度検出部３１４は、ステージ３１０のミラー７２において反射した２つのレーザ光の反射光３２０ａ及び３２０ｂの光路長差に基づいて角度θ１を算出する。
【００２６】
本例において、レーザ光照射部は、ステージ３１０の側面にレーザ光を照射する。ステージ３１０に照射されたレーザ光は、ステージ３１０の側面に設けられたミラー７２において反射される。角度算出部３１４は、反射光３２０ａと反射光３２０ｂとの光路長差に基づいて、所定の平面３１６とステージ３１０のなす角度θ１を算出する。角度算出部３１４は、例えば反射光３２０ａ及び３２０ｂの位相、強度等に基づいてそれぞれの反射光の光路長を算出してよい。
【００２７】
図３（ａ）に示すように、レーザ光が照射されるステージの側面と所定の平面３１６とが垂直である場合、レーザ光照射部が照射する２つのレーザ光の光路長は同じである。すなわち、角度算出部３１４は、θ１＝０を算出する。ステージ駆動部３１２がステージ３１０を移動させ、ステージ３１０が移動した位置で、例えばステージ３１０の移動面に存在する異物やキズ等により傾いた場合、ミラー７２で反射するレーザ光の光路長が変化する。角度算出部３１４は、変化したレーザ光の光路長に基づいてステージ３１０の傾き、すなわちステージ３１０と所定の平面３１６とがなす角度θ１を算出する。
【００２８】
図４は、ステージ３１０の側面の拡大図である。ステージ３１０と所定の平面３１６とのなす角度をθ１とする。角度算出部３１４から照射されたレーザ光３１８ａ及びレーザ光３１８ｂは、ステージ３１０の側面に設けられたミラー７２で反射される。ステージ３１０の側面は、ほぼθ１と同じ傾きを有するので、レーザ光３１８ａと反射光３１８ｂとがステージ３１０の側面に到達するまでの光路長には差が生じる。また、ステージ３１０の側面において反射される反射光３２０ａとレーザ光３２０ｂとが角度検出部３１４に到達するまでの光路長にも差が生じる。角度算出部３１４は、この光路長差に基づいてθ１を算出する。
【００２９】
角度算出部３１４は、受光する反射光３２０ａ及び反射光３２０ｂの位相差、強度差によってθ１を算出するのが好ましい。また、角度算出部３１４は、レーザ光３１８ａ及びレーザ光３１８ｂの照射位置と、反射光３２０ａ及び反射光３２０ｂの受光位置との距離Ｌ１及びＬ２に基づいて、角度θ１を算出してよい。本例においては、角度算出部３１４は２本のレーザ光の反射光によって、ステージ３１０の傾きθ１を算出する。他の例においては、３本以上のレーザ光をステージ３１０に照射し、当該レーザ光による反射光に基づいてステージ３１０の傾きθ１を算出してよい。角度算出部３１４は、ミラー７２における所定の平面と略垂直な方向において異なる位置に照射される２つのレーザ光を含む複数のレーザ光を照射するレーザ光照射部を有し、ステージ３１０のミラー７２において反射した当該複数のレーザ光の反射光に基づいて角度θ１を算出してよい。
【００３０】
また、角度検出部３１４は、ステージ３１０の異なる複数の側面にレーザ光を照射して、ステージ３１０の傾きを検出してよい。この場合、ステージ３１０は当該レーザ光が照射される複数の側面にそれぞれミラーを有することが好ましい。また、角度検出部３１４は、隣接する２つの側面を含む複数の側面にレーザ光を照射して、ステージ３１０の傾きを検出することが好ましい。ステージ３１０は、所定の平面３１６と略垂直なミラーを有し、角度算出部３１４のレーザ光照射部は、当該ミラーに複数のレーザ光を照射し、角度算出部３１４は、当該ミラーにおいて反射した複数のレーザ光の反射光に基づいて、ステージ３１０と所定の平面３１６とのなす角度を算出することが好ましい。すなわち、ステージ３１０は、レーザ光が照射される側面にミラーを有し、角度算出部３１４は、当該ミラーからの反射光に基づいて当該角度を算出する。この場合、当該ミラーは、所定の平面３１６と略垂直な面に反射面を有する。
【００３１】
図５は、角度算出部３１４が算出する、ステージ３１０と所定の平面３１６とのなす角度の一例を示す。図５（ａ）に示すグラフにおいて、横軸はステージの移動距離を示し、縦軸は角度算出部３１４によって検出されるステージ３１０と所定の平面３１６とのなす角度を示す。本例において、レーザ光が照射されるステージ３１０の側面又はミラー７２と、所定の平面３１６とのなす角度は、ステージ３１０が移動する方向に対して一定ではない場合を示す。例えば、ステージ３１０が移動するに従い、ステージ３１０の側面又はミラー７２と、所定の平面３１６とのなす角度は、ほぼ一定の割合で増加する場合を示す。例えば、図５（ｂ）に示すステージ３１０がＸ方向に移動し、角度算出部３１４（ｂ）から照射されるレーザ光を反射するステージ３１０の側面又はミラー７２ｂの傾きが、レーザ光が照射される場所によって異なる場合、角度算出部３１４（ｂ）は、ステージ３１０が移動するに従い、当該側面又はミラー７２ｂの傾きに応じて異なる角度を検出する。その結果、図５（ａ）に示すような変化を示す。
【００３２】
ステージ３１０がＸ方向に移動した距離をＸ０、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３とし、そのとき角度算出部３１４（ｂ）が算出する角度をそれぞれθ０、θ１、θ２、θ３とする。Ｘ０、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３は、それぞれ等距離間隔である。ステージ駆動部３１２がステージ３１０を等距離移動させる毎に角度算出部３１４（ｂ）が算出する角度の変化量θ１−θ０、θ２−θ１、θ３−θ２を算出し、それぞれが所定の範囲にあるかを判定する。所定の範囲に無い場合、ステージ３１４（ｂ）が平準に移動していないと判定する。判定部３２２（図２参照）は、ステージ３１０の所定の移動範囲における、角度の変化量に基づいて、ステージ３１０が平準に移動しているか否かを判定する。本例において、判定部は、Ｘ２移動した場所で、ステージ３１０が平準に移動していないと判定する。つまりステージ３１０がＸ２移動した場所に、異物やキズ等が存在すると判定することができる。
【００３３】
また、ステージ３１０がＸ方向に移動する場合に、角度算出部３１４（ａ）及び角度算出部３１４（ｂ）が算出する角度の変化量に基づいてステージ３１０が平準に移動しているか否かを判定してもよい。また、ステージ３１０がＹ方向に移動する場合も、上述したＸ方向に移動する場合と同様に、ステージ３１０が平準に移動しているか否かを判定する。また、図５（ｂ）に示すように、ステージ３１０の複数の側面にレーザ光を照射し、ステージ３１０の傾きを算出することにより、ステージ３１０のどの位置において異物やキズ等が存在するかを検出することが可能となる。また、ステージ３１０の複数の側面にレーザ光を照射し、角度算出部３１４（ａ）及び角度算出部３１４（ｂ）が算出するステージ３１０の傾きに基づいて、ステージ３１０が踏んだ異物の大きさを算出することができる。また、ステージ装置３００は、判定部が、ステージ３１０が平準に移動していないと判定したステージ３１０の位置情報を記憶する手段を備えてもよい。
【００３４】
制御系１４０（図１参照）は、記憶部３２２が記憶した位置情報に基づいて、電子ビームがウェハ上を照射する位置を調整してよい。すなわち、制御系１４０は、記憶部３２２が記憶した位置情報に基づいて、電子ビームの偏向、電子ビームの露光位置、ステージ３１０の位置を制御してよい。
【００３５】
以上説明した電子ビーム露光装置１００及びステージ装置３００によれば、ステージ３１０が平準に移動していない場所を容易に検出することが可能となる。また、ステージ３１０が平準に移動していない場所を記憶することにより、ウェハを露光する際に電子ビームの露光箇所を補正することができる。また、ステージ３１０が平準に移動していない場所を記憶することにより、ステージ３１０が平準に移動しない原因を特定し、除去することが可能となる。例えば、ステージ３１０が移動する領域にある異物の存在場所を特定し、除去することが可能となる。また、本例においてはステージ３１０は車輪を有し、当該車輪を駆動させることにより、所定の平面を移動した。他の例においては、ステージ３１０は車輪を有し、当該車輪はステージ３１０が移動するべき平面上に設けられたガイドを挟む様に配置され、当該車輪を駆動させることにより当該ガイドに沿ってステージ３１０を移動させてもよい。この場合、角度検出部３１４は、レーザ光の反射光に基づいてステージ３１０の側面又はミラー７２までの距離を検出し、検出した距離に基づいてステージ３１０が平準に移動しているか否かを判定してよい。つまり、当該反射光に基づいてガイド上にある異物やキズ等を検出してよい。
【００３６】
図６は、本発明に係る測定方法を説明するフローチャートである。本発明に係る測定方法は、所定の平面を移動するステージが、平準に移動しているか否かを測定する。当該測定方法は、ステージを移動させるステージ駆動段階と、ステージと所定の平面とのなす角度を算出する角度算出段階と、ステージが平準に移動しているか否かを判定する判定段階と、判定段階が判定した結果を記憶する記憶段階とを備える。
【００３７】
ステージ駆動段階は、所定の位置にステージを移動させる（Ｓ１００）。ステージ駆動段階は、図１から図５に関連して説明したステージ駆動部３１２を用いてステージを移動させてよい。また、ステージ駆動段階は、所定の移動距離に基づいてステージを移動させてよい。次に、角度算出段階は、ステージと所定の平面とのなす角度を算出する（Ｓ１０２）。角度算出段階は、ステージの側面にレーザ光を照射し、当該レーザ光によるステージの側面からの反射光に基づいて、ステージと所定の平面とのなす角度を算出してよい。また、角度算出段階は、図１から図５に関連して説明した角度検出部３１４を用いてステージと所定の平面とのなす角度を算出してよい。角度算出段階は、ステージ駆動段階がステージを移動させる所定の移動距離毎に、ステージと所定の平面とのなす角度を算出してよい。次に、判定段階は、角度算出段階が算出した角度に基づいて、ステージが平準に移動しているか否かを判定する（Ｓ１０４）。判定段階は、図２から図５に関連して説明した判定部３２２を用いて、ステージが平準に移動しているか否かを判定してよい。判定段階は、ステージ駆動段階がステージを移動させる所定の移動距離毎に、ステージが平準に移動しているか否かを判定してよい。次に、記憶段階は、判定段階が判定した判定結果を記憶する（Ｓ１０６）。記憶段階は、判定段階がステージが平準に移動していないと判定した場所を記憶してよい。記憶段階は、図２から図５に関連して説明した記憶部３２４を用いて判定結果を記憶してよい。次に、まだステージが移動されるべき場所が残っている場合は、ステージ駆動段階（Ｓ１００）に戻り、ステージが移動されるべき場所が残っていない場合は、当該測定方法を終了する。
【００３８】
以上説明した測定方法によれば、ステージが平準に移動していない場所を、容易に検出できる。また、ステージが平準に移動していない場所を記憶することにより、例えば露光装置におけるステージにおいて、電子ビームの露光位置を補正することができる。また、ステージが平準に移動していない場所を記憶するので、ステージが平準に移動しない原因を特定し、修正することができる。
【００３９】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【００４０】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば、ステージと所定の平面とのなす角度を容易に検出することが可能となる。また、ステージと所定の平面とのなす角度を検出することにより、ステージが平準に移動しているか否かを判定し、異物等の存在を判定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施形態に係る電子ビーム処理装置である電子ビーム露光装置１００の一例を示す。
【図２】  ステージ装置３００の構成の一例を示す。
【図３】  ステージ装置３００の一例を示す。
【図４】  ステージ３１０の側面の拡大図である。
【図５】  角度算出部３１４が算出する、ステージ３１０と所定の平面３１６とのなす角度の一例を示す。
【図６】  本発明に係る測定方法を説明するフローチャートである。
【符号の説明】
１０・・・筐体、１２・・・電子銃
１４・・・第１電子レンズ、１６・・・スリット部
１８・・・ブランキング電極、２０・・・ラウンドアパーチャ部
２２・・・第２電子レンズ、２４・・・第３電子レンズ
２８・・・主偏向器、６４・・・ウェハ
７２・・・ミラー、１００・・・電子ビーム露光装置
１１０・・・電子ビーム照射系、１１２・・・ショット制御系
１１４・・・ウェハ用投影系、１２０・・・個別制御部
１３０・・・統括制御部、１３２・・・偏向制御部
１３４・・・電子レンズ制御部、１３６・・・ウェハステージ制御部
１４０・・・制御系、１５０・・・露光系
３００・・・ステージ装置、３１０・・・ステージ
３１２・・・ステージ駆動部、３１４・・・角度算出部
３１６・・・所定の平面、３２２・・・判定部
３２４・・・記憶部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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