(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を貯留可能な貯水タンクと、前記貯水タンクから供給された水をヒータの熱で沸騰させてスチームを発生させる沸騰室と、前記沸騰室で発生したスチームを機器本体の外部に吐出するスチーム吐出口とを備え、皮膚に前記スチームを当てて肌表面の手入れを行うスチーム式美容器において、
前記貯水タンクから前記沸騰室までの給水経路部は、それらの下方に位置する状態で接続され、
前記給水経路部は、略鉛直方向に延びて前記貯水タンクの下部に接続される第１給水経路と、第１給水経路の下端から略水平に延びる第２給水経路と、第２給水経路の端部から略鉛直上向きに延びて前記沸騰室に接続される第３給水経路とで構成され、
前記ヒータは、略鉛直面に沿って配設される加熱面と、この加熱面の背面側に位置する放熱面とを有し、
前記ヒータの加熱面に対向して前記沸騰室が配設され、
前記ヒータの放熱面に対向して予備加熱経路部が配設され、
前記予備加熱経路部の下部は、第２給水経路に連結され、
前記予備加熱経路部の上部は、前記沸騰室の上部のスチーム発生部に連結されていることを特徴とするスチーム式美容器。
【請求項２】
前記予備加熱経路部は、ヒータの加熱能力の調整、あるいは予備加熱経路部と放熱面との間に干渉部材を配設することで、水を沸騰させることなく加熱することを特徴とする請求項１に記載のスチーム式美容器。
【請求項３】
前記貯水タンクは、前記機器本体に対して着脱可能であることを特徴とする請求項１または２に記載のスチーム式美容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、皮膚にスチームを当てて肌表面の手入れを行うスチーム式美容器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、皮膚にスチームを当てて肌表面の手入れを行うスチーム式美容器が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この特許文献１には、貯水タンクから沸騰室に供給された水を、沸騰室に対向配置したヒータの熱で沸騰させることによりスチームを発生させ、そのスチームを機器本体の上部に設けられたスチーム吐出口から外部に吐出するように構成したスチーム式美容器が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−３４９１３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に開示されたスチーム式美容器において、スチーム化による沸騰室の水量の減少に伴って貯水タンクから沸騰室に温度の低い水が供給されることにより、給水時に沸騰室周辺の温度が急激に低下して機器内のスチーム圧が急激に低下し、スチーム吐出口から吐出されるスチームに脈動が生じるのを抑制したいという要望がある。
【０００５】
この発明は、上記のような要望に応えるためになされたものであり、スチームを安定して吐出させ、使用時の快適性を十分に向上させることが可能なスチーム式美容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明のスチーム式美容器は、水を貯留可能な貯水タンクと、前記貯水タンクから供給された水をヒータの熱で沸騰させてスチームを発生させる沸騰室と、前記沸騰室で発生したスチームを機器本体の外部に吐出するスチーム吐出口とを備え、皮膚に前記スチームを当てて肌表面の手入れを行うスチーム式美容器において、前記貯水タンクから前記沸騰室までの給水経路部は、それらの下方に位置する状態で接続され、前記給水経路部は、略鉛直方向に延びて前記貯水タンクの下部に接続される第１給水経路と、第１給水経路の下端から略水平に延びる第２給水経路と、第２給水経路の端部から略鉛直上向きに延びて前記沸騰室に接続される第３給水経路とで構成され、前記ヒータは、略鉛直面に沿って配設される加熱面と、この加熱面の背面側に位置する放熱面とを有し、前記ヒータの加熱面に対向して前記沸騰室が配設され、前記ヒータの放熱面に対向して予備加熱経路部が配設され、前記予備加熱経路部の下部は、第２給水経路に連結され、前記予備加熱経路部の上部は、前記沸騰室の上部のスチーム発生部に連結されていることを特徴とする。
【００１０】
予備加熱機構での突沸の発生を抑制して当該スチーム式美容器の安全性を向上させるために、前記予備加熱経路部は、ヒータの加熱能力の調整、あるいは予備加熱経路部と放熱面との間に干渉部材を配設することで、水を沸騰させることなく加熱するように構成されているのが好ましい。
【００１１】
貯水タンクに対する水の入替作業性を向上させるために、前記貯水タンクは、前記機器本体に対して着脱可能に構成されているのが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のスチーム式美容器によれば、貯水タンクから沸騰室に供給される水を予め加熱する予備加熱経路部を設けることによって、沸騰室の水量の減少に伴って貯水タンクから沸騰室に供給される水の温度を高くすることができるので、給水により沸騰室周辺の温度が急激に低下するのを抑制することができる。このため、給水時にスチーム発生部のスチーム圧が急激に低下するのを抑制することができるので、スチーム吐出口から吐出されるスチーム量が給水の度に大きく減少することに起因してスチーム吐出口から吐出されるスチームに脈動が生じるのを抑制することができる。これにより、スチーム吐出口からスチームを常時安定して吐出することができるので、使用時の快適性を十分に向上させることができる。
また、予備加熱経路部をヒータの放熱面に対向して配設することによって、ヒータの沸騰室に対する加熱効率を低下させることなく、ヒータの余熱のみを利用して水を加熱することができる。
さらに、ヒータに対向配置した予備加熱経路部を第２給水経路に連結することによって、貯水タンクからの給水時に、予備加熱経路部内の比較的高温な水を第２給水経路内の比較的低温な水に混ぜることができるので、沸騰室の水量の減少に伴って貯水タンクから沸騰室に供給される水の温度を高くすることができる。
また、予備加熱経路部の上部をスチーム発生部に連結させることによって、予備加熱経路部が袋小路形状となるのを防止することができるので、予備加熱経路部に対して容易に水を出入りさせることができる。これにより、貯水タンクからの給水時に予備加熱経路部内の比較的高温な水を第２給水経路内の比較的低温な水に容易に混ぜることができるので、沸騰室に供給される水の温度を容易に高くすることができる。また、予備加熱経路部の上部にスチームを充満させることができるので、予備加熱経路部の水を高温のスチームに接触させることができる。これにより、予備加熱経路部内の水をスチームによっても加熱することができるので、予備加熱経路部の加熱効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１４】
図１および図２は、本発明の一実施形態によるスチーム式美容器の全体構成を示した斜視図および正面図であり、図３は、図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。また、図４は、図３に示したスチーム式美容器の機器本体から貯水タンクを取り外した状態を示した断面図であり、図５は、図３に示したスチーム式美容器のヒータおよび沸騰室の概略平面図である。また、図６および図７は、図３に示したスチーム式美容器の連通孔出口近傍の構成を示した拡大図である。まず、図１〜図４を参照して、本発明の一実施形態によるスチーム式美容器１の全体構成について説明する。なお、図中において、＋Ｘ方向をスチーム式美容器１の前方とし、−Ｘ方向をスチーム式美容器１の後方とする。
【００１５】
本実施形態のスチーム式美容器１は、図１および図２に示すように、機器本体１ａの上部に前方に向けて突出して配設された後述のノズル４４から噴出するスチームをユーザの顔や手等に当てることにより肌表面の手入れを行うように構成されている。
【００１６】
このスチーム式美容器１は、図３および図４に示すように、給水機構２と、加熱機構３と、スチーム吐出機構４とを備えている。
【００１７】
給水機構２は、貯水タンク２１と、給水貯留部２２と、給水経路部２３とを含んでいる。
【００１８】
貯水タンク２１は、加熱機構３と所定間隔を隔てた位置で機器本体１ａの上部後方に着脱可能に装着されており、加熱機構３に供給する水を貯留可能なように構成されている。なお、貯水タンク２１には、約２５℃〜約３０℃の水が収容されている。また、貯水タンク２１に収容される水は、一般的な水（Ｈ２Ｏ）のみならず、例えば癒し効果を有するアロマ水等を含んでいてもよい。この貯水タンク２１は、機器本体１ａへの装着時に給水貯留部２２に連結されるようになっている。
【００１９】
また、貯水タンク２１は、蓋２１ａと、パッキン２１ｂと、円錐パッキン２１ｃと、止水ピン２１ｄと、圧縮コイルバネ２１ｅとを有している。蓋２１ａは、貯水タンク２１の開口に取り付けられており、貯水タンク２１を開閉させる機能を有している。パッキン２１ｂは、貯水タンク２１の開口と蓋２１ａとの間に介在して蓋閉め時に貯水タンク２１を水密状態にするために設けられている。
【００２０】
円錐パッキン２１ｃは、止水ピン２１ｄに固定的に取り付けられており、止水ピン２１ｄは、圧縮コイルバネ２１ｅによって貯水タンク２１から抜け出す方向に常時付勢された状態で蓋２１ａに取り付けられている。これにより、貯水タンク２１の機器本体１ａからの離脱状態では、円錐パッキン２１ｃが蓋２１ａに押し付けられる態様となり貯水タンク２１の水密性が確保されるようになっている。
【００２１】
また、スチーム式美容器１は、機器本体１ａの所定箇所に設けられて貯水タンク２１と係合するラッチ１１を備えており、貯水タンク２１の機器本体１ａに対する着脱動作をワンタッチのプッシュ操作で行うことが可能なようになっている。
【００２２】
すなわち、貯水タンク２１の取付け時に、貯水タンク２１の突起部２１ｆがラッチボタン１１ａを押すことによってラッチフック１１ｂが突出し、貯水タンク２１が保持される。一方、貯水タンク２１の取外し時に、貯水タンク２１の突起部２１ｆがラッチボタン１１ａを再度押すことによってラッチフック１１ｂが引っ込み、貯水タンク２１の保持が解除されるようになっている。これにより、貯水タンク２１を機器本体１ａに対して容易に着脱させることができるため、着脱時に貯水タンク２１から機器本体１ａへの水こぼれが発生するのを抑制することができる。
【００２３】
給水貯留部２２は、機器本体１ａに装着された貯水タンク２１の下部に隣接するように配設されており、貯水タンク２１から供給された水を一時的に貯留しつつ給水経路部２３に導くための機能を有している。また、給水貯留部２２は、当該給水貯留部２２内の水Ｗ１の水位、つまりスチーム式美容器１の使用時標準水位が図３中のＹラインに略一致するような高さ位置に設けられている。なお、本実施形態では、給水貯留部２２内の水Ｗ１と、予備加熱経路部２４内の水Ｗ２と、復水路３３内の水Ｗ４と、沸騰室３２内の水Ｗ３とが、上記Ｙラインで釣り合うようになっている。
【００２４】
給水貯留部２２は、上方向に突出する突出ピン２２ａを有している。この突出ピン２２ａは、貯水タンク２１の機器本体１ａへの取付け時に、止水ピン２１ｄを貯水タンク２１の内側に押し込んで円錐パッキン２１ｃによる貯水タンク２１の水密状態を解除することにより、貯水タンク２１内の水を給水貯留部２２に供給させるために設けられている。
【００２５】
給水経路部２３は、給水貯留部２２および加熱機構３にそれらの下方に位置するような状態で接続されている。すなわち、この給水経路部２３は、給水貯留部２２の下部から鉛直下向きに延びる第１給水経路２３ａと、第１給水経路２３ａの下端から前方に向けて下りつつ延びる第２給水経路２３ｂと、第２給水経路２３ｂの前端部から鉛直上向きに延びて加熱機構３に接続される第３給水経路２３ｃとにより構成されている。
【００２６】
ここで、本実施形態では、給水機構２は、加熱機構３に供給する水を予め加熱可能な予備加熱経路部２４をさらに含んでいる。この予備加熱経路部２４は、鉛直方向に延びるとともに、その下端部が第２給水経路２３ｂの前後方向略中間位置に連結されている。また、第２給水経路２３ｂと予備加熱経路部２４との連結部位が、沸騰室３２の比較的近くに位置するように構成されている。これにより、沸騰室３２と上記連結部位との間の給水経路部２３に存在する低温な水の量を減少させることができる。
【００２７】
加熱機構３は、熱源としてのヒータ３１と、沸騰室３２と、復水路３３と、連通孔３４と、不織布３５（図６および図７参照）とを含んでいる。
【００２８】
ヒータ３１は、鉛直面に沿って配設される加熱面３１ａと、加熱面３１ａの背面側に位置する放熱面３１ｂとを有している。なお、ヒータ３１は、ＰＴＣ（ｐｏｓｉｔｉｖｅ  ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）素子を使用しており、所定の飽和温度（例えば、約１９０℃）でヒータ温度を安定させるようになっている。
【００２９】
沸騰室３２は、ヒータ３１の加熱面３１ａに臨んで配設されており、ヒータ３１の熱で沸騰室３２内の水Ｗ３を沸騰（加熱気化）させてスチームを発生させるように構成されている。
【００３０】
この沸騰室３２は、図５に示すように、水面の面積が小さく、かつヒータ３１の加熱面３１ａとの接触面積が大きくなるように、鉛直面に沿って広がる薄型平板形状を有している。これにより、ヒータ３１による水Ｗ３の加熱効率を向上させながら、水Ｗ３の減少量に対応する水位の低下度合いを大きくすることができるので、沸騰室３２内の水位の低下に連動して貯水タンク２１から水が供給される構成の本実施形態のスチーム式美容器１において、水Ｗ３の減少量が比較的少ない状態での給水が可能となる。これにより、沸騰室３２への１回毎の給水量を少なくすることが可能であるので、沸騰室３２周辺の給水による急激な温度低下を抑制することができる。
【００３１】
また、本実施形態では、上述の予備加熱経路部２４は、その経路のほぼ全長をヒータ３１の放熱面３１ｂに接触させた状態で放熱面３１ｂに対向して配設されており、ヒータ３１の余熱を利用して予備加熱経路部２４内の水Ｗ２を加熱可能なように構成されている。なお、予備加熱経路部２４および放熱面３１ｂにより、本発明の「予備加熱機構」が構成されている。本実施形態のスチーム式美容器１では、ヒータ３１の加熱能力を調整したり、あるいは予備加熱経路部２４と放熱面３１ｂとの間に干渉部材を配設したりすることによって、予備加熱経路部２４内の水Ｗ２を沸騰させることなく加熱することが可能であり、水Ｗ２の温度が常時約８０℃〜約９０℃となっている。また、貯水タンク２１からの給水時に予備加熱経路部２４内の水Ｗ２と第２給水経路２３ｂ内の水とが混ざり合って形成される混合水の温度が約６０℃〜約７０℃となるように、予備加熱経路部２４および第２給水経路２３ｂの流路断面積等の値が設定されている。
【００３２】
復水路３３は、第３給水経路２３ｃの上端部とスチーム吐出機構４とに接続されており、スチーム吐出機構４で発生し自重で流下する結露水を第３給水経路２３ｃに戻すことにより再利用するために設けられている。これにより、スチーム化効率（給水量に対するスチーム発生量の比）を向上させている。なお、復水路３３内の水Ｗ４は、スチーム吐出機構４に充満する高温のスチームに常時接触することによって、比較的高温状態となっている。
【００３３】
連通孔３４は、第３給水経路２３ｃと沸騰室３２とを連結するために設けられている。この連通孔３４は、その断面積が長さに対して比較的小さく（例えば、直径が約２．５ｍｍ、長さが約１８．０ｍｍ）なるように構成されており、第３給水経路２３ｃから沸騰室３２への給水量を規制している。これにより、ヒータ３１の加熱能力に好適な量の水を沸騰室３２に供給することができる。
【００３４】
また、連通孔３４は、図６および図７に示すように、沸騰室３２側の端部に鉛直下方に延びるように形成された縦溝３４ａを有している。この縦溝３４ａは、溝幅が連通孔３４の直径（約２．５ｍｍ）に略一致し、溝深さｄが約１．２５ｍｍとなるように構成されている。これにより、連通孔３４内の水に、毛細管現象により沸騰室３２側に引っ張る引力を作用させることができるので、連通孔３４で水が停滞するのを防止することができる。
【００３５】
不織布３５は、優れた吸水性を有しており、図６に示すように、その一部をヒータ３１の加熱面３１ａに接触させた状態で沸騰室３２の内底面全域に亘って配設されている。これにより、スチーム式美容器１の使用後に、例えば沸騰室３２の壁面３２ａを伝って流下してきたスチーム吐出機構４内の結露水が、不織布３５に吸水された状態でヒータ３１に接触して不織布３５のヒータ３１との接触部分において徐々に蒸発するため、結露水がヒータ３１に直接接触することに起因するスチーム圧の急激な上昇を抑制することができる。
【００３６】
また、不織布３５は、ヒータ３１で常時加熱されているため、吸水飽和が生じ難く吸水可能な状態を容易に維持することができるようになっている。このような不織布３５の飽和吸水量は、ヒータ３１に流下接触する可能性のある結露水の総量以上に設定されるのが好ましい。
【００３７】
スチーム吐出機構４は、スチーム発生部４１と、スチーム経路部４２と、屈曲弾性体４３と、ノズル４４とを含んでいる。
【００３８】
スチーム発生部４１は、沸騰室３２の上部に連設されており、沸騰室３２内で水Ｗ３を沸騰させることにより得られたスチームを一時的に収容するように構成されている。このスチーム発生部４１は、図略の連結路を介してスチーム経路部４２に繋がっている。
【００３９】
また、本実施形態では、上述の予備加熱経路部２４の上部は、エルボ５０を介してスチーム発生部４１に連結されている。なお、スチーム発生部４１は、本発明の「スチーム経路」の一例である。このように、予備加熱経路部２４の上部を、スチーム圧の発生源でありスチーム凝縮等による圧力変動が比較的起こり難いスチーム発生部４１に接続することにより、容易に予備加熱経路部２４とスチーム吐出機構４との内圧平衡化を図ることができる。また、予備加熱経路部２４内の水Ｗ２は、スチーム吐出機構４に充満する高温のスチームに常時接触することによって、比較的高温状態となっている。
【００４０】
スチーム経路部４２は、屈曲弾性体４３を介してノズル４４に接続されており、段違い構造の突沸防御壁４５と、スチームを微細化する高圧放電装置４６とを有している。屈曲弾性体４３は、ノズル４４の回動（上下動）支点として機能するように構成されている。
【００４１】
ノズル４４は、屈曲弾性体４３に接続されるノズル内筒４７と、ノズル内筒４７に同軸なノズル外筒４８とを備えた２重壁構造を有している。ノズル内筒４７の先端には、スチーム吐出口４９が設けられている。このスチーム吐出口４９は、機器本体１ａから離間する方向に延出して形成されている。このように構成すれば、ユーザの施術部位にスチーム吐出口４９を近づけることができるため、狙った施術部位に容易にスチームを当てることができるとともに、ユーザが機器本体１ａへ近づく動作が不要となるので、楽な姿勢でスチーム式美容器１を使用することができる。さらに、ノズル４４を伸縮自在で広範囲に可動な構成とすれば、スチーム吐出可能な範囲が広がるため、更に使用性を向上させることができる。
【００４２】
また、ノズル内筒４７とノズル外筒４８との間には、例えば約５．０ｍｍの厚みを有する発泡ゴム等の断熱材Ｈが設けられており、ノズル４４の断熱効果を向上させている。なお、断熱材Ｈの代わりに空気層を設けてもよいし、断熱材Ｈと空気層との積層構造とすれば更にノズル４４の断熱効果を向上させることができる。
【００４３】
また、スチーム式美容器１は、当該スチーム式美容器１の動作を制御する制御回路１２を機器本体１ａ内の前方に備えている。この制御回路１２は、加熱機構３のヒータ３１と、電源ＯＮ／ＯＦＦ操作用の電源ボタン１３に連結された切替スイッチ１４と、スチーム吐出機構４の高圧放電装置４６と、電力供給用の電源コード１５とに電気的に接続されている。
【００４４】
また、スチーム式美容器１は、機器本体１ａの後方に設けられた排水口１６を備えている。この排水口１６は、機器本体１ａから貯水タンク２１を離脱させることによって外部に露出するように構成されている。すなわち、スチーム式美容器１の使用後に貯水タンク２１を機器本体１ａから離脱させた状態で、給水貯留部２２が下方となるように機器本体１ａを傾けることによって、機器本体１ａ内の残留水が排水口１６から排水されるようになっている。
【００４５】
また、排水口１６は、スチーム式美容器１の使用時標準水位であるＹライン（図３参照）より上方で、かつ、沸騰室３２内の水Ｗ３によって突沸が生じ易くなる所定の高さ位置より下方に配設されている。これにより、例えば専用の貯水タンク２１以外の給水手段を用いて給水が行われたとしても、規定の水位を上回って給水された水が、排水口１６から機器本体１ａ外部に排水されるため、過剰給水分が機器本体１ａ内部に給水されることに起因してスチーム吐出口４９から熱い湯滴が飛び出すといった不都合の発生を防止することができる。また、使用時標準水位のＹラインの直上位置に排水口１６を配設することによって、排水可能となる機器本体１ａの傾斜角度を小さくすることができるので、排水に対する取扱性を向上させることができる。
【００４６】
また、スチーム式美容器１は、図１に示すように、機器本体１ａの側方に設けられた示温部材１７を備えている。この示温部材１７は、両面テープで機器本体１ａに接着固定されており、例えば約４０℃で変色するようになっている。すなわち、示温部材１７の色が、示温部材１７を貼り付けた部位の温度が４０℃を超えた場合に、例えば青色からピンク色に変化し、前記部位の温度が４０℃以下に下った場合に、再度青色に変化するように設定されている。なお、示温部材１７は、ヒータ３１の温度と相関のある機器本体１ａの所定箇所に貼り付けられるのが好ましい。
【００４７】
このように構成すれば、スチーム式美容器１の使用後に、機器本体１ａが高温状態にある場合は、示温部材１７の色がピンク色に変化しているため、ユーザは、機器本体１ａが高温状態にあることが確実にかつ容易に視認することができる。これにより、予期せぬ突沸等を防止することができ、安全性を向上させることができる。
【００４８】
次に、本実施形態のスチーム式美容器１の使用手順について説明する。
【００４９】
まず、機器本体１ａから取り外した貯水タンク２１に規定量の水を注水し蓋をする。そして、貯水タンク２１を機器本体１ａに取り付けることにより給水貯留部２２に連結する。この時、給水貯留部２２の突出ピン２２ａによって止水ピン２１ｄが貯水タンク２１の内側に押し込まれ、円錐パッキン２１ｃの水密性が解除されることによって、貯水タンク２１内の水が給水貯留部２２に供給される。
【００５０】
給水貯留部２２に供給された水は、給水経路部２３を通って予備加熱経路部２４、沸騰室３２および復水路３３に供給される。なお、沸騰室３２には連通孔３４を経由して水が供給される。なお、給水貯留部２２内の水Ｗ１と、予備加熱経路部２４内の水Ｗ２と、復水路３３内の水Ｗ４と、沸騰室３２内の水Ｗ３とは、図３中のＹラインで釣り合っている。
【００５１】
次に、電源ボタン１３を押して切替スイッチ１４をＯＮ状態にし、ヒータ３１および高圧放電装置４６に電力を供給する。そして、ヒータ３１の熱で沸騰した沸騰室３２内の水Ｗ３から発生したスチームは、沸騰室３２の上部に設けたスチーム発生部４１を経てスチーム経路部４２を通過する際に、高圧放電装置４６により微細化される。そして、ノズル４４を通ってスチーム吐出口４９から機器本体１ａ外部に吐出される。
【００５２】
その後、沸騰室３２内の水Ｗ３は、スチーム化に伴って次第に減少し、予備加熱経路部２４内の水Ｗ２および復水路３３内の水Ｗ４とともにその水位が低下する。しかし、水Ｗ２、水Ｗ３および水Ｗ４の水面にはスチーム吐出機構４のスチーム圧が加わっており、大気圧に開放された状態の給水貯留部２２内の水Ｗ１と、水Ｗ２〜水Ｗ４との間に水位差が生じている。この状態で、水Ｗ１の水位が上記Ｙラインを下回った場合に、貯水タンク２１内に空気が進入し、貯水タンク２１内の水が給水貯留部２２に適量供給される。
【００５３】
このとき、貯水タンク２１から供給された水が給水経路部２３を沸騰室３２に向かって進むが、ヒータ３１の放熱面３１ｂで加熱された予備加熱経路部２４内の水Ｗ２と第２給水経路２３ｂにおいて混ざり合うため、貯水タンク２１から供給された水は、その水温が上昇した状態で沸騰室３２に供給される。これにより、沸騰室３２周辺の給水による急激な温度低下を抑えることができるので、給水によるスチーム吐出機構４のスチーム圧の急激な低下を抑えることができる。
【００５４】
そして、水Ｗ１〜水Ｗ４の水位が、連通孔３４の最下点である図３中のＺラインで平衡状態となることによって、沸騰室３２内の水Ｗ３のスチーム化が停止し、スチーム吐出口４９からのスチームの吐出が行われなくなる。
【００５５】
スチーム式美容器１の使用後は、貯水タンク２１を機器本体１ａから離脱させ、給水貯留部２２が下方となるように機器本体１ａを傾けて機器本体１ａ内の残留水を排水口１６から排水する。
【００５６】
本実施形態では、上記のように、貯水タンク２１から沸騰室３２に供給される水を予め加熱する予備加熱経路部２４を設けることによって、沸騰室３２の水量の減少に伴って貯水タンク２１から沸騰室３２に供給される水の温度を高くすることができるので、給水により沸騰室３２周辺の温度が急激に低下するのを抑制することができる。このため、給水時にスチーム発生部４１のスチーム圧が急激に低下するのを抑制することができるので、スチーム吐出口４９から吐出されるスチーム量が給水の度に大きく減少することに起因してスチーム吐出口４９から吐出されるスチームに脈動が生じるのを抑制することができる。これにより、スチーム吐出口４９からスチームを常時安定して吐出することができるので、使用時の快適性を十分に向上させることができる。
【００５７】
また、本実施形態では、上記のように、ヒータ３１の余熱を利用して水を加熱する予備加熱経路部２４を設けることによって、貯水タンク２１から沸騰室３２に供給される水を予め加熱するためのヒータを別途設ける必要がないので、部品点数の増加、および、機器本体１ａの大型化を抑制することができる。
【００５８】
また、本実施形態では、上記のように、ヒータ３１に対向配置した予備加熱経路部２４を第２給水経路２３ｂに連結することによって、貯水タンク２１からの給水時に、予備加熱経路部２４内の比較的高温な水を第２給水経路２３ｂ内の比較的低温な水に混ぜることができるので、沸騰室３２の水量の減少に伴って貯水タンク２１から沸騰室３２に供給される水の温度を高くすることができる。
【００５９】
また、本実施形態では、上記のように、予備加熱経路部２４をヒータ３１の放熱面３１ｂに対向して配設することによって、ヒータ３１の沸騰室３２に対する加熱効率を低下させることなく、ヒータ３１の余熱のみを利用して水を加熱することができる。
【００６０】
また、本実施形態では、上記のように、予備加熱経路部２４の上部をスチーム発生部４１に連結させることによって、予備加熱経路部２４が袋小路形状となるのを防止することができるので、予備加熱経路部２４に対して容易に水を出入りさせることができる。これにより、貯水タンク２１からの給水時に予備加熱経路部２４内の比較的高温な水を第２給水経路２３ｂ内の比較的低温な水に容易に混ぜることができるので、沸騰室３２に供給される水の温度を容易に高くすることができる。また、予備加熱経路部２４の上部にスチームを充満させることができるので、予備加熱経路部２４の水を高温のスチームに接触させることができる。これにより、予備加熱経路部２４内の水をスチームによっても加熱することができるので、予備加熱経路部２４の加熱効率を向上させることができる。
【００６１】
また、本実施形態では、上記のように、水を沸騰させることなく加熱するように構成された予備加熱経路部２４を設けることによって、予備加熱経路部２４で突沸が発生するのを抑制することができるので、当該スチーム式美容器１の安全性を向上させることができる。
【００６２】
また、本実施形態では、上記のように、貯水タンク２１を機器本体１ａに対して着脱可能に構成することによって、機器本体１ａから離脱させた状態の貯水タンク２１に対して水を入れ替えることができるので、貯水タンク２１に対する水の入替作業性を向上させることができる。また、貯水タンク２１をヒータ３１から離れた位置に配設することによって、貯水タンク２１がヒータ３１からの余熱で高温になるのを抑制することができるので、上記水の入替作業における安全性を向上させることができる。
【００６３】
また、本実施形態では、上記のように、予備加熱経路部２４の下端部を第２給水経路２３ｂに接続することによって、給水貯留部２２内の水Ｗ１が予備加熱経路部２４内の水Ｗ２の温度の影響を受け難くなるので、水Ｗ１の水温上昇を抑えることができる。これにより、安全性を向上させることができる。
【００６４】
また、本実施形態では、上記のように、給水経路部２３を沸騰室３２の下方に位置するように配設することによって、給水経路部２３内に常時水が存在する態様となるので、使用時に加熱機構３からスチームが逆流するのを防止することができる。
【００６５】
なお、上記実施形態では、第２給水経路２３ｂに下端部が連結される予備加熱経路部２４をヒータ３１の放熱面３１ｂに対向して配設する構成の予備加熱機構を設ける例について示したが、これに限らず、図８に示すように、第２給水経路２３ｂに上端部が連結される予備加熱経路１２４と、予備加熱経路１２４の下端部に配設される予備沸騰室１３２と、予備沸騰室１３２に対向配置される予備ヒータ１３１とにより構成される本発明の変形例１による予備加熱機構を設けてもよい。この変形例１による予備加熱機構においても、上記実施形態とほぼ同様の効果を得ることが可能である。
【００６６】
また、図９に示すように、加熱面２３１ａが水平となるようにヒータ２３１を配設するとともに、加熱面２３１ａの上方に沸騰室２３２を設け、第３給水経路２３ｃを、ヒータ２３１を垂直方向に貫通する連通孔２３４に接続することにより、給水貯留部２２からの水を沸騰室２３２に供給するように構成された本発明の変形例２による予備加熱機構を設けてもよい。この変形例２による予備加熱機構においても、上記実施形態とほぼ同様の効果を得ることが可能である。
【００６７】
また、上記実施形態では、連通孔３４の沸騰室３２側の端部に鉛直下方に延びるように縦溝３４ａを形成する例について示したが、これに限らず、図１０および図１１の変形例３に示すように、連通孔３４の沸騰室３２側の端部近傍に、連通孔３４の出口から下方に垂れ下がる導水部材３４ｂ（例えば、金属鎖等）を設けてもよい。このように構成しても、上記実施形態とほぼ同様の効果を得ることができる。
【００６８】
また、上記実施形態では、予備加熱経路部２４をヒータ３１の放熱面３１ｂに接触配置する例について示したが、これに限らず、予備加熱経路部２４をヒータ３１の加熱面３１ａに接触配置してもよい。この場合、予備加熱経路部２４を加熱する分だけヒータ面積を拡大することによりスチーム発生量の低下を防止するのが好ましい。
【００６９】
また、上記実施形態では、予備加熱経路部２４の上部を、エルボ５０を介してスチーム発生部４１に連結する例について示したが、これに限らず、予備加熱経路部２４の上部を、例えばスチーム経路部４２の突沸防御壁４５の下部近傍等に連結してもよい。
【００７０】
また、上記実施形態では、本発明を、機器本体１ａに対して着脱可能に構成された貯水タンク２１を具備するスチーム式美容器１に適用する例について示したが、これに限らず、貯水タンクが機器本体に一体に設けられたスチーム式美容器にも本発明を適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の一実施形態によるスチーム式美容器の全体構成を示した斜視図である。
【図２】図１に示したスチーム式美容器の正面図である。
【図３】図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。
【図４】図３に示したスチーム式美容器の機器本体から貯水タンクを取り外した状態を示した断面図である。
【図５】図３に示したスチーム式美容器のヒータおよび沸騰室の概略平面図である。
【図６】図３に示したスチーム式美容器の連通孔出口近傍の構成を示した拡大断面図である。
【図７】図６のＡ方向矢視図である。
【図８】本発明の変形例１によるスチーム式美容器の構成を部分的に示した断面図である。
【図９】本発明の変形例２によるスチーム式美容器の構成を部分的に示した断面図である。
【図１０】本発明の変形例３による連通孔出口近傍の構成を示した断面図である。
【図１１】図１０のＢ方向矢視図である。
【符号の説明】
【００７２】
１  スチーム式美容器
１ａ  機器本体
２１  貯水タンク
２３  給水経路部（給水経路）
２３ａ  第１給水経路
２３ｂ  第２給水経路
２３ｃ  第３給水経路
２４  予備加熱経路部（予備加熱機構）
３１  ヒータ
３１ａ  加熱面
３１ｂ  放熱面（予備加熱機構）
３２  沸騰室
４１  スチーム発生部（スチーム経路）
４９  スチーム吐出口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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