(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内に保持された基板に対する蒸着用マスクの位置合わせを行うアライメント装置であって、
上記真空容器内に保持された基板の下方に、当該真空容器の壁体に形成された貫通穴を挿通された吊持部材を介して保持されたマスクホルダと、
上記真空容器の外方に設けられるとともに上記吊持部材に連結された連結用板と、
この連結用板を移動させてマスクホルダに保持された真空容器内のマスクの基板に対する位置を調整し得る位置調整装置と、
上記吊持部材に外嵌されるとともに壁体の貫通穴の外周と上記連結用板との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材と、
上記筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板への押圧力と逆方向の付勢力を発生させる付勢装置とを具備したことを特徴とする真空蒸着用アライメント装置。
【請求項２】
位置調整装置が、連結用板に吊持部材およびマスクホルダを介して保持されたマスクが基板表面と平行に移動し得るように構成されたことを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着用アライメント装置。
【請求項３】
位置調整装置に、連結用板をマスク表面と直交する軸心方向で移動し得る機能が具備されたことを特徴とする請求項２に記載の真空蒸着用アライメント装置。
【請求項４】
付勢装置の付勢力が調整可能に構成されたことを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着用アライメント装置。
【請求項５】
基板を保持板体に保持させるとともに、この保持板体を保持解放自在な保持装置が具備されたことを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着用アライメント装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、真空蒸着用アライメント装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  従来、半導体基板などを製造する際に、真空容器内で半導体材料が蒸発されるとともに、基板表面に蒸着されて所定の導体パターンが形成されている。【０００３】  この導体パターンを形成する場合、通常、基板の表面に導体パターンが形成されたマスクを配置し、その表面に塗布されたフォトレジストが露光されることにより行われている（例えば、特開平５−１５９９９７号公報参照）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】  ところで、真空容器内において、基板に対してマスクを所定位置に配置する必要があり、この位置合わせのためのアライメント装置が設けられている。【０００５】  このアライメント装置は真空容器内に配置されることになるが、位置合わせ精度が高いアライメント装置を真空容器内に配置する場合、ガス放出が少ない特種な材料からなる部品および潤滑剤を用いる必要があるとともに、放熱対策なども必要とするため、装置そのものが非常に高価なものとなる。【０００６】  一方、このような事態を回避するために、アライメント装置を真空容器の外部に配置することが考えられる。【０００７】  アライメント装置を真空容器の外部に配置する場合には、アライメント装置におけるマスク保持部材の真空容器内への挿入部分における真空維持機構が必要となり、したがって特殊なシール機構、または加工が必要となり、やはり装置が高価なものとなる。【０００８】  さらに、マスク保持部材の真空容器内への挿入部分には、真空力により、言い換えれば、大気圧による大きい外力を受けて、歪が生じ位置合わせ精度が低下する虞れがあった。【０００９】  そこで、上記課題を解決するため、本発明は、装置自体の製造コストが安価で且つ高精度な位置合わせを維持し得る真空蒸着用アライメント装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】  上記課題を解決するため、本発明の真空蒸着用アライメント装置は、真空容器内に保持された基板に対する蒸着用マスクの位置合わせを行うアライメント装置であって、上記真空容器内に保持された基板の下方に、当該真空容器の壁体に形成された貫通穴を挿通された吊持部材を介して保持されたマスクホルダと、上記真空容器の外方に設けられるとともに上記吊持部材に連結された連結用板と、この連結用板を移動させてマスクホルダに保持された真空容器内のマスクの基板に対する位置を調整し得る位置調整装置と、上記吊持部材に外嵌されるとともに壁体の貫通穴の外周と上記連結用板との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材と、上記筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板への押圧力と逆方向の付勢力を発生させる付勢装置とが具備されたものである。【００１１】  また、上記位置調整装置は、連結用板に吊持部材およびマスクホルダを介して保持されたマスクが基板表面と平行に移動し得るように構成されており、さらに連結用板を基板表面と直交する軸心方向で移動し得る機能も具備されている。【００１２】  また、上記付勢装置の付勢力が調整可能に構成されている。【００１３】  さらに、上記基板は保持板体により保持されるとともに、この保持板体を保持解放自在な保持装置が具備されたものである。
【発明の効果】
【００１４】  上述した構成によると、所定の真空下で基板に対するマスクの位置合わせを行う際に、真空容器の外部に基板の位置調整装置が配置されているので、真空下を考慮した材料等を用いる必要がないとともに、特殊なシール機構などについても必要とせず、したがって装置自体の製造コストが安価となる。【００１５】  また、真空下で大気圧による押圧力に対向し得る付勢力を付与し得る付勢装置が具備されているので、位置調整装置に余分な外力が作用するのを防止することができ、したがって基板に対するマスクの位置合わせを高精度に維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態１に係るアライメント装置が設けられた真空蒸着装置の断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】同アライメント装置の構成を示す断面図である。
【図４】同アライメント装置の要部を示す斜視図である。
【図５】同アライメント装置における平面内移動装置の平面図で、（ａ）は平面内移動装置の構成を示すもので、（ｂ）〜（ｆ）はその動作を説明するものである。
【図６】同真空蒸着装置における基板ホルダとマスクホルダとを示す斜視図である。
【図７】同アライメント装置による基板とマスクとの位置合わせ動作を説明する平面図である。
【図８】同アライメント装置における焦点調整具を示す要部断面図である。
【図９】同アライメント装置における焦点調整具の変形例を示す要部断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態２に係るアライメント装置が設けられた真空蒸着装置の断面図である。
【図１１】同真空蒸着装置における基板の保持板体の平面図である。
【図１２】同保持板体の正面図である。
【図１３】同保持板体の側面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】［実施の形態１］
本発明の実施の形態１に係る真空蒸着用アライメント装置を図面に基づき説明する。【００１８】  この真空蒸着用アライメント装置は、例えば有機ＥＬディスプレイの表示部を製造するための真空蒸着装置に設けられるもので、マスクを用いてガラス基板の表面に有機材料（蒸着材料である）を所定のパターンでもって蒸着させて導体パターンを得る際に、マスクを保持するとともにガラス基板に対する当該マスクの位置合わせ（アライメント）を行うためのものである。【００１９】  図１および図２に示すように、このアライメント装置１は、真空下でガラス基板の表面に有機材料を蒸着させるための蒸着室２を有する真空容器３の上壁３ａに取付用板（壁体の一例である）１ａを介して設けられている。なお、取付用板を介さずに、真空容器の上面全体に亘って設けられる上壁に、直接、取り付けるようにしてもよい。【００２０】  上記真空容器３の蒸着室２の下部には蒸発源４が配置されるとともに、真空容器３の蒸着室２内の上方位置には、ガラス基板（以下、基板という）５が基板ホルダ６により保持され、またこの基板５の下方には、アライメント装置１およびマスクホルダ７を介して所定の導体パターンを形成するためのマスク８が保持されている。上記真空容器３の側壁３ｂには、基板５およびマスク８の搬入出用開口９が設けられており、基板５およびマスク８の搬入および搬出については、ロボットハンド（図示せず）が用いられる。なお、基板ホルダ６については、それぞれ下端に爪１０ａを有する４本の保持部材１０により構成されている。【００２１】  上記アライメント装置１には、図１〜図３に示すように、マスク８を保持するマスクホルダ７の前後左右４箇所に下端部が連結されるとともに上端部が取付用板１ａに形成された貫通穴１ｂを挿通されて真空容器３の外部に突出された４本の棒状の吊持部材１１と、真空容器３の外部に設けられて上記４本の吊持部材１１の上端部に連結された例えば平面視矩形状の連結用板１２と、上記取付用板１ａの上面に配置されて連結用板１２を移動させてマスクホルダ７に保持された蒸着室２内におけるマスク８の基板５に対する位置を調整し得る位置調整装置１３と、上記各吊持部材１１に外嵌されるとともに取付用板１ａの貫通穴１ｂの外周と上記連結用板１２との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材（例えば、真空ベローズが用いられる）１４と、この筒状遮断部材１４の内側が真空状態であることにより発生する連結用板１２への押圧力（押付力）と逆方向の付勢力を発生させる（付与する）付勢装置１５とが具備されている。【００２２】  そして、上記筒状遮断部材１４と取付用板１ａ側および連結用板１２側とは、それぞれ所定内径の下環状取付座１６および上環状取付座１７を介して連結されており、したがって取付用板１ａ側に設けられる上環状取付座１７への筒状遮断部材１４における取付部開口面積（接触面積）には、真空による力（大気圧による押圧力）が作用することになる。【００２３】  上記位置調整装置１３は、図３〜図５に示すように、連結用板１２を、基板５の表面と平行な平面内で平行移動、回転（板の中心を回転中心とした回転）および旋回（板の中心とは異なる位置を中心にした回転）させ得る平面内移動装置２１と、基板５（連結用板の表面でもある）と直交する鉛直方向（軸心方向）で移動させ得る鉛直移動装置２２とから構成されている。【００２４】  上記平面内移動装置２１は、平面視が矩形状の支持板３１と、この支持板３１上の４隅の内、３箇所に配置された駆動用支持機構３２および残りの１箇所に配置された案内用支持機構３３と、これら各支持機構３２，３３に設けられた連結具３４を介して支持された移動板３５とから構成されており、またこの移動板３５と連結用板１２とは昇降用案内機構３６を介して鉛直方向での移動を許容するとともに水平面内での移動が連動（追従）するように構成されている。【００２５】  上記駆動用支持機構３２は、公知の技術であり、図５に示すように、水平面内で、すなわちＸ−Ｙ軸方向でリニアガイド機構３７を介して移動し得るとともに、サーボモータ３８により一方の軸方向（Ｘ軸またはＹ軸方向）に沿って強制移動を行い得るもので、また案内用支持機構３３は、上記と同様のリニアガイド機構３９を介してＸ−Ｙ軸方向で自由に移動し得るようにされたものである。【００２６】  そして、３個の駆動用支持機構３２の内、２個については、同一方向で強制移動し得るように配置されるとともに、残りの１個については、上記２個の強制移動方向と直交する方向で強制移動し得るように配置されて、これら３個の内、所定（１個、２個または３個）の駆動用支持機構３２におけるサーボモータ３８を駆動することにより、移動板３５を、Ｘ軸方向（図５（ｂ）参照）、Ｙ軸方向（図５（ｃ）参照）、Ｘ軸およびＹ軸に対して斜め方向（図５（ｄ）参照）、並びに移動板３５の中心を回転軸とする回転方向でもって（図５（ｅ）参照）、また任意の支持機構３２側を中心として旋回させる旋回方向でもって（図５（ｆ）参照）、移動板３５を水平面内で任意の方向並びに任意の回転角または旋回角でもって移動させ得るものである。【００２７】  上記昇降用案内機構３６は、図３および図４に示すように、移動板３５の上面に一体に設けられた平面視矩形状の取付用板４１と、この取付用板４１の前後左右位置で連結用板１２の各穴部１２ａを挿通して立設された４本のリニアガイド軸４２と、連結用板１２の各穴部１２ａ側に設けられてこれら各リニアガイド軸４２の側方に外嵌して上下方向で移動自在に案内される４個の移動部材４３とから構成されている。なお、図面上では、手前（前部）に配置された左右のガイド軸４２および移動部材４３だけを示している。【００２８】  そして、鉛直移動装置２２として、電動シリンダ（サーボモータにより駆動されるもの）が用いられ、この電動シリンダの出退用ロッド２２ａが上記取付用板４１に連結されており、その出退用ロッド２２ａを出退させることにより、連結用板１２を介してマスクホルダ７が昇降されて、基板５に対するマスク８の間隔が調整される。【００２９】  上記付勢装置１５は、貫通穴１ｂを介して蒸着室２に連通されて真空状態になる筒状遮断部材１５内の端面側に作用する大気圧による押圧力を打ち消す（または、軽減する）ためのものである。【００３０】  すなわち、この付勢装置１５は、図３に示すように、取付用板１ａ側に配置されて連結用板１２を下方���ら支持する複数（例えば、左右２箇所に配置される）の片ロッド式の空気圧シリンダ５１と、これら各空気圧シリンダ５１におけるシリンダ室５２への空気供給口５３に空気配管５４を介して接続された空気供給ポンプ５５と、上記空気配管５４の途中に配置された圧力調整器５６とから構成されている。なお、連結用板１２が少なくとも水平方向に移動し得るため、空気圧シリンダ５１の下側であるシリンダ本体を取付用板１ａ側に固定するとともに、上側であるロッド部の先端に転動用ボール（ボール軸受）を配置して、単に、下側から連結用板１２を支持するようにされている。なお、空気圧シリンダ５１の上下端部と取付用板１ａおよび連結用板１２とをそれぞれ自在継手を介して接続するようにしてもよい。【００３１】  ここで、マスクホルダ７について説明しておく。【００３２】  このマスクホルダ７は、図６に示すように、マスク８を両側から支持する一対の側部支持板６１と、これら両側部支持板６１の端部同士を連結する一対の連結板６２とから構成されている。これら支持板６１および連結板６２は、井桁状（矩形状）に形成されて、その中央部分は有機材料（蒸着材料）が通過し得るように開口部にされている。【００３３】  また、マスク８については、図３および図６に示すように、マスク本体８ａと、このマスク本体８ａの周縁を保持する保持枠８ｂとから構成されるとともに、この保持枠８ｂには、基板ホルダ６における各保持部材１０の爪１０ａをそれぞれ案内し得る穴８ｃが形成されている。【００３４】  図３に示すように、上記吊持部材１１としては筒状のものが用いられるとともに、マスクホルダ７の連結板６２には各吊持部材１１内の連通用穴１１ａに接続される通路（穴部である）６２ａが設けられて、吊持部材１１の上端開口から水などの冷却流体を供給することにより、マスク８を冷却し得るようにされている。また、マスクホルダ７側には、温度センサ（図示しないが、例えば熱電対などが用いられる）が設けられており、この温度センサへの配線が連通用穴１１ａを介して行われる。【００３５】  さらに、図１、図３および図７に示すように、基板ホルダ６に保持された基板５に対してマスク８の位置合わせを行うために、基板５の対角線上の隅部に設けられた円形のマスク側マークＭ１内に、マスク８側に設けられた点状の基板側マークＭ２を案内するためのＣＣＤカメラ装置５７が連結用板１２側に焦点調整具５８を介して設けられている。勿論、取付用板１ａ側には、覗き窓５９が設けられている。【００３６】  この焦点調整具５８は、図８に示すように、連結用板１２の縁部に立設された取付板７１に取り付けられた支持板７２と、この支持板７２の上下に設けられた両フランジ７３，７３に鉛直方向で回転自在に支持されたねじ軸７４と、このねじ軸７４に螺嵌されるとともに上記カメラ装置５７が固定されたナット部材７５と、上記上フランジ７３に支持されてねじ軸７４を回転させるモータ７６とから構成されている。【００３７】  すなわち、このモータ７６を回転させることにより、カメラ装置５７のピントを合わせることができるので、基板５とマスク８との位置合わせを精度良く行うことができる。【００３８】  上記構成において、真空容器３内にて基板５に対するマスク８の位置合わせ作業について説明する。【００３９】  まず、図１に示すように、真空容器３の側壁３ｂに形成された搬入出用開口９より、ロボットハンドを用いて、基板５をマスクホルダ７により保持されたマスク８の上方に挿入するとともに、基板ホルダ６にて基板５を保持した後、ロボットハンドを真空容器３から出し、そして搬入出用開口９を閉じる。【００４０】  次に、基板ホルダ６により蒸着室２内に保持された基板５に対して、マスクホルダ７により保持されたマスク８の位置合わせが行われる。【００４１】  この基板５に対するマスク８の位置合わせには、対角線上に配置された２台のＣＣＤカメラ装置５７が用いられる。【００４２】  すなわち、図７に示すように、マスク８側に設けられた円形のマスク側マークＭ１内に、基板５側に設けられた点状の基板側マークＭ２が入るように、位置調整装置１３の平面内移動装置２１が駆動された後、鉛直移動装置２２により、基板５の表面に、殆ど接触するようにマスク８が移動される。なお、各マークの形状は、画像認識が容易なものであれば、十字形状など、どのようなものであってもよい。【００４３】  基板５に対するマスク８の位置合わせが完了すると、蒸発源４の加熱により、蒸着材料がマスク８のパターンに応じて基板５の表面に付着されて所定の導体パターンが形成される。【００４４】  所定の導体パターンが形成されると、ロボットハンドにより搬入出用開口９から基板５を取り出した後、新しい基板５を真空容器３内に挿入して基板ホルダ６に保持させ、そして上述したように、位置合わせを行い導体パターンを形成すればよい。【００４５】  このように、所定の真空下で、基板５に対するマスク８の位置合わせを行う際に、真空容器３の外部にマスク８の位置調整装置１３を配置したので、装置自体の構成を安価なものにすることができる。【００４６】  また、真空下で大気圧による押圧力に対向し得る付勢装置１５を具備したので、アライメント装置１に余分な外力が作用するのを防止することができ、したがって装置に歪が発生することがないので、基板に対するマスクの位置合わせを高精度でもって行うことができる。【００４７】  詳しく説明すると、下記のような効果が得られる。
１．マスク８を水平面内で移動させる平面内移動装置２１および鉛直方向で移動させる鉛直移動装置２２を真空容器３の外部（大気圧下）に配置したので、特殊な真空用機械要素や、モータの冷却装置を必要としないので、安価で且つ高精度なアライメント装置を提供することができる。
２．各移動装置２１，２２を真空容器３の外部（大気圧下）に配置するとともに、真空下で作用する押圧力に対向する付勢力を付与し得る付勢装置１５を具備したので、真空により生じる各移動装置２１，２２に作用する力を軽減することができ、したがって移動装置におけるモータなどの駆動機器として容量の小さいものを用いることができるので、より安価な構成にし得る。
３．また、各移動装置２１，２２を真空容器３の外部（大気圧下）に配置するとともに、真空下で作用する押圧力に対向し得る付勢力を付与し得る付勢装置１５を具備したので、装置自体に歪が発生するのを抑制し得るとともに、マスク８の位置合わせ用のカメラ装置５７における視野ずれを防止でき、したがって高精度な位置合わせを行うことができる。
４．さらに、カメラ装置５７の焦点調整具５８を具備したので、基板５に対するマスク８の位置合わせをマークＭ１，Ｍ２を介して行う際に、両マークの位置を正確に把握でき、したがってより高精度な位置合わせを行うことができる。【００４８】  ところで、上記実施の形態における平面内移動装置２１を、３箇所に配置された駆動用支持機構３２と、１箇所に配置された案内用支持機構３３とから構成したが、全てを駆動用支持機構３２にて構成してもよい。【００４９】  また、上記実施の形態においては、カメラ装置５７および焦点調整具５８を連結用板１２側に支持させたが、図９に示すように、カメラ装置５７および焦点調整具５８を取付用板１ａ側に支持用ブラケット８１を介して支持させるようにしてもよい。
［実施の形態２］
以下、本発明の実施の形態２に係る真空蒸着用アライメント装置を、図１０〜図１３に基づき説明する。【００５０】  上述した実施の形態１においては、蒸着室にて、ガラス基板に対してマスクの位置合わせを行うものとして説明したが、本実施の形態２においては、蒸着用の真空容器ではなく、アライメント用の真空容器を別途設けるとともに当該真空容器内に形成されたアライメント室にて、ガラス基板に対するマスクの位置合わせを行うようにしたものである。【００５１】  言い換えれば、アライメント室にて、ガラス基板に対するマスクの位置合わせをした後、ガラス基板をマスク上に載置し、そして別の場所に設けられた真空容器の蒸着室内に、例えばロボットハンドなどを用いて搬送し、そこで、蒸着を行うようにしたものである。【００５２】  したがって、当該実施の形態２に係るアライメント装置が設けられた真空蒸着装置には、蒸着用の真空容器とアライメント用の真空容器とが具備されている。【００５３】  そして、本実施の形態２と実施の形態１との異なる箇所は、ガラス基板に対してマスクの位置合わせを行った後、これらを一緒に搬送し得るようにしたことであり、このため、ガラス基板の保持機構に着目して説明し、アライメント装置の構成については、実施の形態１と同様であるため、実施の形態１と同一の部材番号を付してその説明を省略する。【００５４】  すなわち、図１０〜図１３に示すように、ガラス基板（以下、基板という）５は、当該基板５より一回り大きい形状の保持板体９１に４個の保持爪９２を介して保持され、またこの保持板体９１を保持解放自在な保持装置９３が真空容器３の取付用板１ａに設けられている。【００５５】  この保持装置９３は、取付用板１ａの上面に筒状の支持部材９４を介して支持された回転駆動体（アクチュエータともいう）９５と、上端が上記支持部材９４内を挿通されるとともに上記回転駆動体９５に連結されて鉛直軸心回りで揺動自在に保持され且つ下端に上記保持板体９１の外周に形成された係合凹部９１ａに係脱自在な係合片９６ａが設けられた揺動軸体９６とから構成されている。なお、この揺動軸体９６と支持部材９４との間には、真空遮断用のＯ−リング９７が配置されている。【００５６】  勿論、上記各揺動軸体９６は、アライメント装置１の吊持部材１１と干渉しない位置で設けられている。なお、図中、９８は保持板体９１に形成された位置合わせ用の覗き穴である。【００５７】  上記構成において、基板５に対してマスク８の位置合わせを行う場合、真空下のアライメント室９９内で基板５を保持爪９２を介して保持板体９１に保持させた状態で、アライメント装置１により、基板５に対してマスク８の位置合わせを行う。【００５８】  位置合わせが終了すると、位置調節装置１３によりマスクホルダ７を上昇させて、マスク８上に基板５を載置し保持する。勿論、このとき、保持爪９２はマスク８側の穴８ｃに位置することになる。【００５９】  そして、その後、図１１の矢印ａにて示すように、保持爪９２を９０度水平方向に揺動させて、保持板体９１の係合凹部９１ａから離脱させる。【００６０】  この状態で、保持板体９１に保持された基板５は、マスクホルダ７側に支持されたことになり、この状態��、ロボットハンドにより、マスクホルダ７を、例えば隣接された真空容器の蒸着室内に移動させて、蒸着を行えばよい。【００６１】  このように、蒸着室ではなく、温度が低く安定したアライメント室９９で基板５に対するマスク８の位置合わせを行うことにより、その位置合わせ精度の向上を図ることができる。言い換えれば、温度が高い蒸着室で基板に対するマスクの位置合わせを行うと、熱の影響により、マスク８に歪が発生したり、また保持部材１０、吊持部材１１などの部材に伸縮が発生したりして位置合わせ精度が低下するが、これらを防止することができる。【００６２】  上記の構成によると、基板５、当該基板５を保持する保持板体９１およびマスク８を上方から吊り下げるように支持しているので、各駆動部分でのバックラッシュや弾性変形の影響が少なくなるとともに、自ら安定するという効果が得られる（振り子のように自動調心性を有する）ため、より高精度の位置合わせの要求に応じることができる。また、この保持板体９１は、位置合わせの終了後に、基板５上に載置されるため、これらを蒸着室に搬送する際に、互いにずれるのを防止することができる。【００６３】  さらに、基板５とマスク８との位置合わせ時および位置合わせ後の基板５とマスク８との密着作業時において、互いのずれを発生させないためには、基板５とマスク８との互いの平行度が要求されるが、基板５を保持する保持板体９１およびマスクホルダ７の支持および／または位置合わせ機構の全てが、真空容器３の上壁部である取付用板１ａ側に設置されており、したがって真空容器３に生じる内外圧力差による変形などが発生した場合でも、その影響を受けることがないので、容易に高い平行度を得ることができる。例えば、位置合わせ機構の一部が、真空容器３の他の壁面（下面や側面）、または真空容器以外の支持機構から支持されていると、メンテナンス等で真空容器を大気開放させた後、再度、真空に減圧させたときに、真空容器は内外圧力の変化を受けて変形を繰り返すため、機構間に相対的なずれが発生して大気開放前の調整済みの平行度が再現されるとは限らない。このため、再度、平行度の確認と調整とが必要となってしまい、実用的ではなくなってしまう。なお、メンテナンスは、例えば一週間に一度程度行われ、平行度の調整には、１〜２日程度必要となる。【００６４】  上述したように、位置合わせを行った基板とマスクとを別の真空室で蒸着させることで、位置合わせ時に熱膨張の影響を避けることができ、高精度（例えば、数ミクロン程度）な位置合わせを実現することができる。【００６５】  ところで、上記各実施の形態においては、有機ＥＬ材料をガラス基板に蒸着させる真空蒸着装置におけるアライメント装置として説明したが、勿論、真空蒸着の対象としては、この有機ＥＬ材料に限定されるものでもなく、例えば半導体装置の製造に際して、真空容器内でマスクを用いて基板上に導体パターンを形成するための装置であれば、どのような真空蒸着装置にでも適用し得るものである。
【産業上の利用可能性】
【００６６】  本発明は、真空容器内に配置された被蒸着部材であるガラス基板に対するマスクの位置合わせを、安価な構成でもって行うことができるので、例えば有機ＥＬディスプレイなどの表示部を形成するのに最適である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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