(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上方に透明電極を形成する工程と、
前記透明電極の上方に、表面に凹凸を有する反射材を形成する工程と、
前記透明電極及び前記反射材を、フィルムの上に接着層を介して転写する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の電極基材の製造方法。
【請求項２】
前記透明電極を形成する工程の後であって、前記反射材を形成する工程の前に、前記透明電極上に保護層を形成する工程をさらに有し、前記透明電極、前記保護層及び前記反射材を、前記フィルムの上に前記接着層を介して転写することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の電極基材の製造方法。
【請求項３】
前記保護層を形成する工程の後であって、前記反射材を形成する工程の前に、前記保護層上にカラーフィルタ層を形成する工程をさらに有し、前記透明電極、前記保護層、前記カラーフィルタ層及び前記反射材を、前記フィルムの上に前記接着層を介して転写することを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置の電極基材の製造方法。
【請求項４】
前記反射材を形成する工程が、
表面に凹凸を有する有機絶縁膜を形成する工程と、
前記凹凸面上に金属膜を被覆する工程とを含み、
前記金属膜を被覆する工程の後に、前記透明電極の画素になる部分に対応する前記金属膜の部分を、前記画素になる部分の面積より小さい面積で除去する工程をさらに有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶表示装置の電極基材の製造方法。
【請求項５】
前記有機絶縁膜は、ポリイミドの前駆体の単体、２種類以上のポリイミドの前駆体もしくは、アクリル樹脂の前駆体に基づいて形成されたものであることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置の電極基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はフィルムなどを基材とする反射（半透過）型の液晶表示装置の電極基材の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、低消費電力、低電圧動作、軽量、薄型及びカラー表示などを特徴とする液晶表示装置は、情報機器などへ急速にその用途を拡大している。
この中で、携帯端末機器用として、消費電力が低く、バックライトを必要としない反射型の単純マトリックス型液晶表示装置が注目されている。
【０００３】
この単純マトリックス型液晶表示装置は、２枚の基材上にそれぞれストライプ状の透明電極が形成され、この透明電極がお互いに直交するようにして２枚の基材が配置されている。この２枚の基材の間には液晶が封入され、２つの透明電極の交点が画素電極になり、液晶を制御することにより、画像を表示させることができる。
【０００４】
また、反射型の液晶表示装置においては、外光を反射して照度を得るため、外光を拡散反射させるための反射材を備えている。この反射型の液晶表示装置には、反射材が、基材の液晶層側とは反対側の面に形成された外付け反射材方式と、反射材が、基材の液晶層側の面に形成された内付け反射材方式とがある。
外付け反射材方式は、反射材が基材の液晶層側の反対側の面に形成されているので、外光が反射材で拡散反射した光は、基材を透過してから液晶層を透過し、表示画面から外部に放出される。このとき、反射光が基材の厚みの影響を受けることで視差が生じ、このことにより液晶表示される画像が二重になったり、色表示が混色になったりするなどの画像ボケが発生する。
【０００５】
一方、内付け反射材方式では、反射材が基材の液晶層側の面に形成されているので、外光が反射材で拡散反射した光は、基材を透過しないで液晶層を透過し、表示画面から外部に放出される。このとき、反射材と液晶層とが近接しており、反射光が基材の厚みの影響を受けず、このことにより視差が生じなくなり、画像ボケが発生しなくなる。
【０００６】
基材として、フィルムを用いた場合、フィルムの厚みはガラスの厚みより薄くできるので、その分、視差は生じにくい。しかしながら、カラーフィルタを備えた場合、一つの画素が３分の１の大きさのカラードットに分割されるので、反射光がモノクロの場合より他のドットを通過しやすくなり、フィルムの厚みの影響を無視できなくなる。
【０００７】
従って、基材としてフィルムを用いた場合でも、特に、カラー化された液晶表示装置においては、内付け反射材方式にする必要性が生じてくる。
しかしながら、内付け反射材方式の液晶表示装置は、構造が複雑になり、製造が困難になるおそれがある。特に、基材としてフィルムを用いた場合、フィルムは、熱や湿度の影響で伸縮を起こしやすく、材料や製造工程の条件が制限されることになる。このため、基材としてフィルムを用いた内付け反射材方式の液晶表示装置を、設計要求に応じて、コストを抑え、かつ高歩留りで製造できる製造方法が切望されている。
【０００８】
また、従来の反射（半透過）型液晶表示装置の反射材の製造方法として、フォトマスクを用いたフォトリソグラフィーにより、レジスト膜などの樹脂の表面に凹凸を形成し、この凹凸面上に光を反射しやすい金属膜を形成して反射材を形成する方法が提案されている。
さらに、樹脂の表面に凹凸を形成する他の方法としては、微細な粒子を分散させた樹脂により凹凸を形成する方法（特開平４−２６７２２０号公報）、２つの異なる成分からなる樹脂の硬化時の相分離を利用して凹凸を形成する方法（特開２０００−１９３８０７号公報）および光熱硬化型樹脂材料の硬化時の内部応力を制御して凹凸を形成する方法（特開２０００−１７１７９２号公報）などが知られている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、基材としてフィルムを用いた、内付け反射材方式の液晶表示装置の製造方法に上述した従来の製造方法をそのまま用いた場合には、以下のような問題がある。
反射材は外光を拡散反射する機能が必要なので表面に凹凸を備えている。この凹凸は液晶層の面を凹凸にすることになるので、液晶駆動に悪影響を及ぼすおそれがある。このため、特別に、高度な平坦化を行なう技術が必要になり、コストが上がり、歩留りが低下する可能性がある。
【００１０】
また、反射材となる金属膜を形成した後に透明電極などの形成工程における薬品処理で、先に形成した反射材にダメージが入るおそれがある。また、基材としてフィルムを用いるので、熱や湿度の影響でフィルムに伸縮が発生しやすく、反射材及び透明電極などの材料や製造条件が制限されるので、設計要求に応じた液晶表示装置を製造することが困難になる。
【００１１】
さらに、また、光源として、バックライトまたは外光による反射光とを両方使える半透過型の液晶表示装置の電極基材を、フィルム上に直接形成する場合、以下のような問題がある。
この場合、まず、フィルム上全面に金属膜からなる反射材を形成したあと、この後の工程で形成される透明電極の画素になる部分に対応する金属膜からなる反射材の部分のうち、該画素となる部分の面積より小さい面積を、バックライトが透過できるように、精度よく金属膜からなる反射材を除去する必要がある。
【００１２】
その後、反射材の上方に透明電極を形成する際、この金属膜からなる反射材を除去した部分に透明電極の画素となる部分がオーバーラップするように、透明電極となるＩＴＯを成膜し、そのＩＴＯ上にレジスト膜を形成して精度よく位置合わせし、レジスト膜を露光、現像し、ＩＴＯを除去して透明電極のパターンを形成する必要がある。すなわち、この場合、高度な位置合わせ技術が要求される。
【００１３】
しかしながら、プラスチックからなるフィルムは、例えば、水洗処理を行なうだけで伸びが発生し、これを乾燥すると、逆に縮みが発生する。さらに、これらの伸縮はすぐには安定せず、安定するまでに長時間を有する。すなわち、フィルムが一度縮みを起こすと、フィルム上に形成されたパターンの寸法は、長時間の間伸びが発生することになり、上述したような位置合わせに係わる再現性をとるのが困難である。
【００１４】
従って、フィルム上に直接、半透過型の液晶表示装置を製造するのは困難である。
また、従来の反射（半透過）型液晶表示装置の反射材の製造方法においては次のような問題がある。
フォトリソグラフィーによりレジスト膜などの樹脂の表面に凹凸を形成する方法は、反射材の凹凸のパターンを平面方向に単純な繰り返しパターンとすると反射材が回折格子として作用するようになるので、液晶表示画面を視認した際に、虹色の発色がしたり、配線やブラックマトリクスなどの他の繰り返しパターンとの位置関係の微妙なずれにより、いわゆるモアレ縞が見えたりといった表示上の不良が発生するおそれがある。このため、凹凸のパターンを形成するためのフォトマスクの設計において、通常の画素パターンのような単純な繰り返しパターンを用いることができず、極めて煩雑で困難な設計を行う必要がある。このように、通常のフォトリソグラフィーにより適当な拡散能をもった反射材を形成することは容易ではない。
【００１５】
また、特開平４−２６７２２０号公報に記載された方法は樹脂中にその樹脂とは異なった材料の粒子を分散させるもの、特開２０００−１９３８０７号公報に記載された方法は２つの異なった樹脂の硬化時の相分離を利用したもの、特開２０００−１７１７９２号公報に記載されている方法は樹脂の表面側の一部を硬化し、その内部が未硬化になるように露光や焼成を行って凹凸を形成するものである。
【００１６】
このような従来の反射材の製造方法により、反射材を膜厚が５０〜２００μｍのプラスチックフィルム上に直接形成する場合、樹脂の硬化時の応力によりプラスチックフィルムにそりが発生しやすい。
また、上記した製造方法で製造された反射材は、それぞれ、樹脂と粒子との界面や相分離した界面を境にして実質的に屈折率が異なる材料で構成されることになる。反射材の凹凸面が電極基材の液晶層側の反対側の面に形成される場合、偏光板で偏光された入射光が、液晶層を介して反射材の屈折率が異なる材料の界面を透過してから金属膜により反射される。
【００１７】
このとき、偏光された入射光及び金属膜で散乱された反射光が、屈折率が異なる材料の界面で屈折することに起因して光の偏光度が低下する消偏効果が発生しやすくなる。これにより、上述したような構成で配置された反射材を液晶表示装置に適用した場合、液晶表示画面のコントラスト比が低下するなどの問題が発生しやすい。
【００１８】
本発明は上記の問題点を鑑みて創作されたものであり、反射材や透明電極などの材料や製造条件が制限されず、低いコストで、かつ高歩留りで製造できる液晶表示装置の電極基材の製造方法を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は液晶表示装置の電極基材の製造方法に係り、基板の上方に、表面に凹凸を有する反射材を形成する工程と、前記反射材を、フィルムの上に接着層を介して転写する工程とを有することを特徴とする。
フィルム上に、直接、凹凸を有する反射材を形成する場合、フィルムは熱や湿度の影響で伸縮を起こしやすいので、反射材の材料や熱に係る製造条件が制限される。また、この反射材の表面の凹凸は液晶層の面の平坦性を悪くするので、液晶駆動に悪影響を及ぼすおそれがある。従って、特別に平坦化工程を追加する必要があるが、反射材上に、透明電極などを積層する場合、この平坦化工程は困難を極めるようになる。
【００２０】
本発明によれば、予め、基板の上方に、表面に凹凸を有する反射材を形成し、該反射材を接着層を介してフィルム上に転写することにより、フィルム上に反射材を形成している。
これによれば、耐熱性の基板上に反射材を形成するので、反射材の材質や温度に係る製造条件が制限されない。また、接着層を介して転写するとき、接着層で反射材の凹凸が容易に平坦化されるので、特別に、高度な平坦化技術を導入する必要がない。従って、設計要求に応じた液晶表示装置の電極基材を、コストを抑え、高い歩留りで製造することができる。
【００２１】
この製造方法を含む製造方法で製造された電極基材を備えた液晶表示装置においては、フィルム上に形成された反射材で拡散反射された光がフィルムを透過しないので、視差が生じにくくなり、画像ボケのない鮮明な画像が得られる。また、電極基材の層構成上、反射材の表面の凹凸が、液晶層の平滑性に影響しないので、液晶の駆動に悪影響を及ぼすことがない。
【００２２】
上記した液晶表示装置の製造方法において、前記反射材を形成する前に、前記基板上に、透明電極を形成する工程をさらに有することを特徴とする。
本発明によれば、予め、基板上に、下から順に、透明電極と反射材とを形成し、接着層とを介してこれらをフィルム上に転写する。すなわち、転写技術を利用するので、各層を形成する順番が、フィルム上に、直接、形成する場合の逆になり、透明電極を形成した後に、反射材を形成することになるので、反射材が損傷を受けることがなくなる。
【００２３】
また、上記した液晶表示装置の電極基材の製造方法において、前記反射材を形成する工程が、表面に凹凸を有する絶縁性有機膜を形成する工程と、前記凹凸上に金属膜を被覆する工程とを含むことを特徴とする。
フィルムはそれ自体が空気や水分などを含んでおり、また、フィルムは通気性や透湿性が高いため、外気やフィルム自身から液晶層内に空気や水分などが侵入して気泡が生じたり、水分により液晶表示装置が劣化したりするおそれがある。
【００２４】
本発明によれば、フィルムの液晶層側の面に、金属膜を有する反射材が形成され、この金属膜が空気や水分などを遮断するガスバリア層としても機能する。すなわち、外気の空気や水分ばかりではなく、フィルム自身に含まれる空気や水分をも遮断することができる。これにより、特別に、フィルムの液晶層側の面にガスバリア層を形成する必要がなくなるので、さらに、コストを下げることができ、かつ歩留りを向上させることができる。
【００２５】
また、半透過型液晶表示装置用として、好ましい形態においては、前記透明電極の画素になる部分に対応する前記金属膜の部分を、該透明電極の画素になる部分の面積より小さい面積で除去する工程をさらに有することを特徴とする。
本発明によれば、伸縮が発生しないガラス等の基板上で、透明電極と反射材とを形成するので、各層のパターン同士を精度よく位置合わせをして、形成することができる。すなわち、透明電極の画素部の周縁部に対応する部分に反射材となる金属膜が残るように形成され、画素部の中心部に金属膜が除去された部分が画素部の面積より小さくなる（画素部の面積の１０〜２０％程度）ように位置合わせされた状態で形成される。
【００２６】
従って、光源としてバックライトを使用する場合は、画素部に対応する反射材の部分のうち、金属膜が存在しない部分（窓）を光が透過することにより画像を表示することができる。また、光源として外光を使用する場合は、画素部に対応する反射材の部分のうち、金属膜が存在する部分で外光が反射されて画像を表示することができる。このように、フィルムを基材した半透過型の液晶表示装置を容易に製造することができる。
【００２７】
また、上記課題を解決するため、本発明は液晶表示装置の反射材の製造方法に係り、有機絶縁膜となる前駆体溶液を用意する工程と、前記前駆体溶液中の前駆体の一部が少なくとも部分的に閉環、縮合、架橋もしくは重合することで部分的に硬化した中間体を含む溶液を作成する工程と、前記部分的に硬化した中間体を含む溶液に基づいて塗布液を作成する工程と、前記塗布液を被塗布物上に塗布して表面に凹凸を備えた塗工膜を形成する工程と、前記塗工膜を加熱して完全に硬化させることにより、表面に凹凸を備えた前記有機絶縁膜を形成する工程と、前記有機絶縁膜の凹凸面上に金属膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２８】
本発明によれば、まず、有機絶縁膜の前駆体溶液を用意し、その後、部分的に硬化した中間体を含む溶液を作成する。
この工程は、例えば、有機絶縁膜を形成するための前駆体溶液を加熱することにより、前駆体溶液中の前駆体の一部が少なくとも部分的に閉環、縮合、架橋もしくは重合することで部分的に硬化した中間体を含む溶液とする。又は、前駆体溶液から固形分を取り出して前駆体固形分を得て、この前駆体固形分を加熱することにより、前駆体固形分を部分的に硬化させて中間体固形物を作成し、この中間体固形物を溶剤に溶解することにより部分的に硬化した中間体を含む溶液としてもよい。
【００２９】
その後、この部分的に硬化した中間体を含む溶液中の中間体の溶解性が低い状態で塗布液を作成し、これを被塗布物上に塗布して塗工膜を形成する。このとき、中間体が溶剤に対する溶解性が低い状態で塗工膜内に溶解された状態で含まれているので、塗工膜を乾燥させると中間体が析出し、塗工膜の表面においてはこの中間体の一部が突出してなる凹凸が形成される。
【００３０】
次いで、塗工膜を加熱して完全に硬化させることにより、膜中全体にわたって同一の材料からなり、表面に凹凸を備えた有機絶縁膜が形成される。次いで、有機絶縁膜の凹凸面上に金属膜を形成することにより、反射材を製造することができる。
このように、本発明は、有機絶縁膜を形成するための前駆体溶液を部分的に硬化した中間体を含む溶液とし、それを塗工、乾燥させることで有機絶縁膜の表面に凹凸を形成するように工夫されたものであって、極めて簡単な工程で凹凸を備えた反射材を形成することができる。また、このようにして形成された反射材の有機絶縁膜は、凹凸部を含む全ての部分が同一材料のものからなり、その屈折率も同一とすることができるので、内付け反射材方式において、反射材の凹凸面を基材の液晶層側の反対側の面になるように配置した場合においても、入射光の偏光度が低下する消偏効果の発生を防止することができるようになる。これにより、反射（半透過）型液晶表示装置のコントラスト比を向上させることができる。
【００３１】
上記した反射材の製造方法において、前記塗布液を作成する工程が、前記部分的に硬化した中間体を含む溶液に、前記中間体が実質的に溶解しない溶剤と、前記有機絶縁膜の前駆体とを混合する工程を有することが好ましい。
上記した反射材の製造方法では、中間体の溶剤への溶解性が低いほど、かつ、部分的に硬化した中間体を含む溶液中の前駆体の硬化率の均一性が悪いほど、有機絶縁膜の表面に微細な凹凸が形成されやすく、また、凹凸形状を制御しやすくなる。このため、部分的に硬化した中間体を含む溶液に、前記中間体が実質的に溶解しない非溶剤又は貧溶剤を混合して硬化物の溶解性を低くし、かつ、有機絶縁膜の前駆体をさらに混合することにより、部分的に硬化した中間体を含む溶液と硬化していない前駆体とが溶液内で存在するようにして塗布液を作成することが好ましい。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明する。
（第１の実施の形態）
（反射材の製造方法）
最初に、本発明の実施の形態の液晶表示装置の反射材の製造方法について説明する。
【００３３】
図１（ａ）は本発明の第１の実施の形態の反射材の製造方法に係る塗工膜が形成された様子を模式的に示す概略断面図，図１（ｂ）は本発明の第１の実施の形態の反射材の製造方法で製造された反射材を示す概略断面図である。
（第１の反射材の製造方法）
第１の反射材の製造方法は、まず、有機絶縁膜の一例であるポリイミド膜を形成するための前駆体溶液を作成する。この工程は、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン酸とベンゾフェノンテトラカルボン酸無水液とをジメチルアセトアミド中で公知の方法で縮合することにより、有機絶縁膜の前駆体溶液の一例であるポリイミド前駆体溶液（固形分１８％）を得ることができる。この反応過程を式（１）に示す。
【００３４】
【化１】
0004812971.tif 000002
【００３５】
その後、このポリイミド前駆体溶液３００ｇを１５０℃で６０分加熱攪拌することにより、ポリイミド前駆体溶液の前駆体の一部をイミド化して硬化することにより、部分的にイミド化した（部分的に硬化した）中間体を含む溶液を作成する。式２は、ポリイミドの前駆体を加熱してポリイミド膜を得る一般式であって、本発明の実施の形態では、前駆体溶液を完全にイミド化させてポリイミドにするのではなく、前駆体のうち、所定の割合分のみをイミド化したものを利用するようにしたものである。
【００３６】
【化２】
0004812971.tif 000003
【００３７】
さらに詳しく説明すると、ポリイミド前駆体溶液を所定の条件で加熱攪拌することで、ポリイミド前駆体のアミド基の水素原子とカルボキシル基との間で脱水閉環することにより、式３に示すような、式（２）の反応による中間体部の形体Ｂおよび式（２）のイミド部の形体Ｃが生成される。また、分子鎖中には脱水が全く起こっていない形体Ａ（ポリイミド前駆体部）も存在する。
【００３８】
すなわち、ポリイミド前駆体が部分的にイミド化された分子鎖中には、式（３）に示すように、形体Ａ（ポリイミド前駆体部）、形体Ｂ（中間体部）及び形体Ｃ（イミド部）の構造が混在していることになる。
【００３９】
【化３】
0004812971.tif 000004
【００４０】
このポリイミド前駆体が部分的にイミド化された状態を式に表すと、式（４）のようになる。
【００４１】
【化４】
0004812971.tif 000005
【００４２】
例えば、上記した条件下により、前駆体の４５〜５０％程度がイミド化して硬化する。前駆体の一部がイミド化するイミド化率は加熱温度や時間などを変えることにより容易に調節することができ、３０〜９０％程度とすることが好ましい。このイミド化率については、第２の反射材の製造方法で詳細に説明する。
なお、このポリイミド前駆体の一部をイミド化する工程では、ポリイミド前駆体が脱水閉環してイミド化する際に水が発生し、この水がポリイミド前駆体のアミドの加水分解や分子鎖の切断などを引き起こして安定性を低下させる恐れがあるので、ポリイミド前駆体溶液に、例えば、１００ｇのゼオライト（モレキュラーシーブ）を入れて加熱攪拌することが好ましい。ゼオライト（モレキュラーシーブ）は細孔を有し、分子ふるい作用などをもっているので、イミド化の過程で発生した水分を除去することができる。
【００４３】
次いで、この部分的に硬化した中間体を含む溶液を冷却後、ゼオライトを使用した場合は、これを濾過して取り除くことにより、前駆体が部分的にイミド化したものを含む部分的に硬化した中間体を含む溶液を作成することができる。
次に、塗布液を作成する工程の一例を説明する。まず、部分的に硬化した中間体を含む溶液１００重量部、シクロヘキサノン１００重量部、及び上記した前駆体溶液内の前駆体と同一構造のポリイミド前駆体３０重量部の割合で混合して均一な塗布液を作成する。
【００４４】
なお、シクロヘキサノンは、部分的に硬化した中間体を含む溶液中の中間体を溶解しない非溶剤の一例であって、この代わりに、該中間体を実質的に溶解しない貧溶剤であるメチルセルソルブを使用してもよい。
この工程では、硬化物が溶解しない非溶剤又は貧溶剤を混合して前記中間体の溶解性を低下させるほど、かつ、同じ構造のポリイミド膜の前駆体を混合して部分的に硬化した中間体を含む溶液内のイミド化率を不均一にする。すなわち、上述の中間体と脱水閉環していない前駆体溶液とが溶液内において、不均一な状態で析出するようにして凹凸面を形成できるようにしている。従って、上記したように、部分的に硬化した中間体を含む溶液に非溶剤又は貧溶剤と同一構造のポリイミド前駆体である前駆体溶液とを混合して塗布液を作成するのが好ましい。
【００４５】
次いで、図１（ａ）に示すように、基材などの被塗布物３６上にスピンコート法などにより、上記した塗布液を所定量滴下し、例えば１０００ｒｐｍで１２秒間回転させ、風乾することにより塗工膜３４を形成する。このとき、塗工膜３４にはポリイミド前駆体の一部がイミド化した中間体３４ａが、溶剤に対して溶解性を低くした状態で溶解されており、塗工膜３４を風乾することにより、溶剤がかなり残留した状態から中間体３４ａが析出し、塗工膜３４の表面側においては、中間体３４ａの一部が突出して凹凸が形成された状態となる。
【００４６】
次いで、この塗工膜３４を、例えば、２００℃で熱処理することにより、塗工膜３４内の未硬化の部分が完全にイミド化されて硬化し、図１（ｂ）に示すように、表面に凹凸が形成されたポリイミド膜３２ａが形成される。このポリイミド膜３２ａは、凹凸部とその他の部分とが同じ前駆体がイミド化されて硬化したものであることから、ポリイミド膜３２ａの凹凸を含む全体にわたって同一の材料、すなわち同一の屈折率で形成されることになる。
【００４７】
本実施の形態の反射材の製造方法によれば、例えば、凹凸の高さ（高低差）を２μｍ以下、好適には０．２〜０．４μｍの範囲で、また、凹凸の平面方向のピッチを０．５〜１０μｍ、好適には５〜６μｍの範囲で、場所によりランダムな凹凸の高さ（高低差）及び平面方向のピッチが得られるように形成することができる。このようにするには、上記した部分的に硬化した中間体を含む溶液とシクロヘキサノンとポリイミド前駆体とを上述した混合比率に基づいて適宜混合比率を調整して塗布液を作成すればよい。
【００４８】
次いで、表面側に凹凸が形成されたポリイミド膜３２ａを、３０分間、風冷後、ポリイミド膜３２ａの凹凸面上に真空蒸着法などにより、金属膜の一例である膜厚が例えば５０〜１００ｎｍのＡｌ（アルミニウム）膜３２ｂを形成する。
これにより、図１（ｂ）に示すような、ポリイミド膜３２ａとその凹凸面上に形成されたＡｌ膜３２ｂとからなる反射材３２を形成することができる。
【００４９】
なお、金属膜の材料として、Ａｌの他に、Ｔｉ（チタン）、Ａｇ（銀）、Ｐｔ（白金）、Ｔａ（タンタル）、Ｐｄ（パラジウム）のいずれか、又はこれらを含む合金を使用することができる。すなわち、光を反射しやすい金属材料を用いればよい。
また、金属膜の形成方法として、真空蒸着法の他に、スパッタリング法、イオンプレーティング法などを用いてもよい。
【００５０】
第１の反射材の製造方法によれば、ポリイミド前駆体の一部がイミド化した中間体により凹凸が形成されるようにし、その後、完全にイミド化させて凹凸を備えたポリイミド膜を形成している。このようにすることにより、極めて簡易な工程で反射材を構成する凹凸部を備えたポリイミド膜３２ａを形成することができるようになる。また、最終的には、凹凸部を含むポリイミド膜全体が同一のポリイミド前駆体がイミド化されて形成されたものとなるので、ポリイミド膜中の全体にわたって屈折率を同一にすることができる。
【００５１】
これにより、反射材の凹凸面が基材の液晶層と反対側に設置されるような場合においても、入射光及び入射光が金属膜で反射した反射光が屈折率の同一なポリイミド膜を透過することになるので、光の偏光度が低下するような不具合は起こらず、光の消偏効果の発生を防止することができるとともに、ポリイミド膜は透明度が高いので光の反射率の低下も問題にならなくなる。
【００５２】
（第２の反射材の製造方法）
第２の反射材の製造方法が第１の反射材の製造方法と異なる点は部分的に硬化した中間体を含む溶液の作成方法が異なることである。図１を参照し、第１の反射材の製造方法と同一の工程についてはその詳しい説明を省略する。
第２の反射材の製造方法は、まず、第１の反射材の製造方法と同様な方法で、ポリイミド前駆体溶液（固形分１８％）を作成する。
【００５３】
その後、ポリイミド前駆体溶液にメタノールなどを入れて固形化し、乾燥させることによりポリイミド前駆体溶液からポリイミド前駆体の固形分を取り出してポリイミド膜（有機絶縁膜）の前駆体固形物を得る。
次いで、このポリイミド膜の前駆体固形物を１２０〜１７０℃で加熱することにより、この前駆体固形物を部分的にイミド化して中間体固形物を作成する。なお、前駆体固形物を部分的にイミド化するときに水分が発生するが、第２の反射材の製造方法では、この水分がイミド化の加熱時に大気中に放出されるので、ゼオライトのような脱水剤を使用する必要はない。
【００５４】
次いで、この中間体固形物を溶剤に溶解することにより、部分的に硬化した中間体を含む溶液を作成する。この溶剤の一例として、ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）、ＤＭＦ（ジメチルホルムアルデヒド）及びＤＭＡｃ（ジメチルアセトアミド）のうち、いずれか又は、これらの混合液を使用することができる。
次いで、第１の反射材の製造方法と同様な方法で、塗布液を作成し、これを基材などの被塗布物上に塗布することにより、図１（ａ）に示すような表面に凹凸を備えた塗工膜３４と同様なものが形成される。
【００５５】
ここで、塗工膜３４の表面状態の中間体固形物に係るイミド化率依存性について説明する。本願発明者は、このイミド化率に注目して鋭意研究を重ねた結果、前駆体固形物が部分的にイミド化された中間体固形物に係るイミド化率が３０〜９０％程度の範囲であれば、塗工膜３４の表面に所望の凹凸を形成することができることを見出した。
【００５６】
表１は塗工膜の表面状態のイミド化率依存性を示すものである。
【００５７】
【表１】
0004812971.tif 000006
【００５８】
最初に、実験サンプル及び実験方法について説明する。まず、前駆体固形物が部分的にイミド化された中間体固形物に係るイミド化率が０〜１００％になるように振り分けて複数の中間体固形物を上記した方法により作成した。前駆体固形物を加熱する温度や時間などを所定の条件に設定することにより、所望のイミド化率でイミド化された中間体固形物を得ることができる。その後、所望の比率でイミド化された複数の中間体固形物をそれぞれＤＭＡｃに溶解させたものを「組成１の塗布液」とした。また、所望の比率でイミド化された複数の中間体固形物をそれぞれＤＭＡｃとシクロヘキサンとの混合液に溶解させたものを「組成２の塗布液」とした。また、所望の比率でイミド化された複数の中間体固形物をそれぞれＤＭＡｃとシクロヘキサンとの混合液に溶解させ、さらにこの溶液にイミド化されていない前駆体固形物を加えたものを「組成３の塗布液」とした。なお、特に明記しないが、「組成１の塗布液」〜「組成３の塗布液」において、それぞれ、塗布液を構成する各要素の比率を変えて複数の種類の塗布液を作成した。
【００５９】
その後、これらの複数の塗布液をそれぞれ被塗布物上に塗布し、風乾させることにより塗工膜を形成した。そして、イミド化率及び塗布液の組成に対して、塗工膜の表面状態がどのように依存するかを観察した。
次に、実験結果を説明する。なお、表１の中で「適」で示される範囲が、第１の反射材の製造方法で説明したような高低差やピッチを有する所望の凹凸が塗工膜の表面に形成されていることを示している。
【００６０】
イミド化率が０％の塗布液（Ｎｏ１）は、当然ながら、塗工膜の表面が鏡面になり所望の凹凸が形成されなかった。
イミド率が３０％の塗布液（Ｎｏ２）は、「組成１」の全条件の塗布液において、塗工膜の表面に所望の凹凸が形成されたが、「組成２」及び「組成３」の全条件の塗布液において、塗工膜の表面が半鏡面〜鏡面になり所望の凹凸が形成されなかった。
【００６１】
イミド化率が３７％の塗布液（Ｎｏ３）は、「組成１」の一部の条件及び「組成２」の一部の条件の塗布液で、塗工膜の表面に所望の凹凸が形成されたが、「組成３」の全条件の塗布液では、塗工膜の表面が半鏡面〜鏡面になり所望の凹凸が形成されなかった。また、「組成１」の条件の中には、塗工膜の表面に凹凸が形成されても、その凹凸の高さやピッチが大きくなりすぎてムラが発生するなどして好ましくない条件があった。
【００６２】
イミド化率が５０％の塗工液（Ｎｏ４）は、「組成２」の全条件の塗布液において、塗工膜の表面に所望の凹凸が形成された。また、「組成１」の条件中のほとんどの塗布液においては、塗工膜にムラが発生するなどして好ましくなかった。また、「組成３」の条件中のほとんどの塗布液においても、塗工膜の表面が半鏡面〜鏡面のものが形成されて好ましくなかった。
【００６３】
イミド化率が７５％の塗布液（Ｎｏ５）は、「組成２」の全条件と「組成３」の一部の条件で塗工膜の表面に所望の凹凸が形成された。「組成３」の条件の中には塗工膜の表面が半鏡面〜鏡面のものが形成されるものがあった。また、「組成１」の全条件において塗工膜にムラが発生して好ましくなかった。
イミド化率が９０％の塗布液（Ｎｏ６）は、「組成３」の全条件の塗布液と「組成２」の一部の条件の塗布液において、塗工膜の表面に所望の凹凸が形成された。「組成１」の全条件の塗布液及び「組成２」の他の条件の塗布液では塗工膜にムラが発生するなどして好ましくなかった。
【００６４】
イミド化率が１００％の塗布液（Ｎｏ７）は、中間体固形物が溶剤に溶解しなくなるので好ましくなかった。
以上のように、前駆体固形物が部分的にイミド化された中間固形物に係るイミド化率が低い場合、塗布液の組成によっては半鏡面〜鏡面になりやすく、逆に、このイミド化率が高いと塗布液の組成によっては凹凸の高さやピッチが大きくなりすぎて塗工膜にムラが発生しやすくなる傾向があることが分かった。さらに、イミド化率を高くしてイミド化率が１００％近くになると中間固形物が溶剤に溶解しにくくなるので好ましくないことが分かった。
【００６５】
つまり、イミド化率が３０％付近の条件では、「組成１」の塗布液、イミド化率が３７〜７５％程度の条件では「組成２」の塗布液、イミド化率が９０％付近の条件では「組成３」の塗布液を用いれば、所望の凹凸が塗工膜３４の表面に形成されるようになる。このように、前駆体固形物が部分的にイミド化された中間固形物に係るイミド化率を３０〜９０％程度とし、このイミド化率に合わせて所定の組成の塗布液を作成することにより所望の凹凸を有する塗工膜を形成することができる。
【００６６】
次に、第２の反射材の製造方法の説明に戻る。
次いで、このようにして形成された塗工膜３４を、第１の反射材の製造方法と同様な方法で、完全にイミド化して硬化させることにより、表面に凹凸を備えたポリイミド膜３２ａを形成する。
次いで、第１の反射材の製造方法と同様な方法で、ポリイミド膜３２ａの凹凸面上にＡｌ膜３２ｂを形成することで、ポリイミド膜３２ａとその凹凸面上に形成されたＡｌ膜３２ｂとからなる反射材３２を形成することができる。
【００６７】
第２の反射材の製造方法においても、第１の反射材の製造方法と同一の作用・効果を奏する。
（第３の反射材の製造方法）
第３の反射材の製造方法が、第１及び第２の反射材の製造方法と異なる点は、有機絶縁膜の他の一例としてアクリル樹脂を用いて表面に凹凸を備えた反射材を形成することにある。
【００６８】
第３の反射材の製造方法は、まず、有機絶縁膜となる前駆体の他の一例であるアクリル樹脂主剤（ＪＳＲ社製：ＳＳ６９１７）５００ｇに硬化剤１８０ｇを混合し、この混合物を溶剤に溶解させてアクリル前駆体溶液を作成する。
その後、このアクリル前駆体溶液を１１５℃で５分間加熱することにより、アクリル前駆体の一部を硬化させて部分的に硬化した中間体を含む溶液を作成する。溶剤としては、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどを用いることができる。
【００６９】
その後、部分的に硬化した中間体を含む溶液に未硬化のアクリル樹脂主剤２５０ｇと硬化剤９０ｇとをさらに混合して塗布液を作成する。
この塗布液を基材などの被塗布物上にスピンコート法により例えば１２００ｒｐｍで塗工することにより塗工膜を形成する。これにより、第１及び第２の反射材の製造方法と同様に、塗工膜内にはアクリル前駆体が部分的に硬化した中間体から析出が起こり、塗工膜の表面にはこの中間体により凹凸が形成される。
【００７０】
次いで、この塗工膜を２２０℃で加熱してアクリル樹脂を完全に硬化させることにより、図１（ｂ）のポリイミド膜３２ａと同様に、表面に凹凸を備えたアクリル樹脂膜が形成される。
次いで、第１の反射材の製造方法と同様に、アクリル樹脂膜の凹凸面上にＡｌ膜などを形成することで、アクリル樹脂膜とその凹凸面上に形成されたＡｌ膜とからなる反射材を形成することがきる。
【００７１】
第３の反射材の製造方法においても、第１の反射材の製造方法と同一の作用・効果を奏する。
（第４の反射材の製造方法）
第４の反射材の製造方法は、少なくとも２種類の有機絶縁膜の前駆体を含む前駆体混合溶液を用いて、これらの前駆体が硬化するときに相分離することに基づいて反射材の凹凸を形成する方法である。
【００７２】
第４の反射材の製造方法は、まず、以下に示すような２種類のポリイミド前駆体を用意する。第１のポリイミド前駆体として、ピロメリット酸無水物と３，３’−ジアミノジフェニルスルホンとをジメチルアセトアミド中で、公知の方法を用いて縮合させて固形分２８％の第１の前駆体溶液を用意する。一方、第２のポリイミド前駆体として、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物と３−３’−ジアミノジフェニルスルホンとをジメチルアセトアミド中で、公知の方法を用いて縮合させた固形分２８％の第２の前駆体溶液を用意する。
【００７３】
その後、これら２種類のポリイミド前駆体溶液の重量比が１００重量部：１００重量部になるように混合して前駆体混合溶液を用意する。この前駆体混合溶液に対して重量比が３６０重量部になるように、希釈剤として、例えば、メチルセロソルブやシクロへキサノンなどを加えて十分に攪拌して塗布液を作成する。
次いで、基材などの被塗布物上に、この塗布液をスピンコート法にて、例えば、１６００〜２０００ｒｐｍで３０秒または６００〜１０００ｒｐｍで３０秒の条件下で塗布し、膜厚が例えば０．５〜５μｍの塗工膜を形成する。
【００７４】
なお、塗布液の塗工法は、スピンコート法の他に、スプレーコーティング法、リバースコーティング法またはグラビアコーティング法などを使用することができる。
次いで、この塗工膜を３０分間、風乾する。このとき、被塗布物上に塗布された塗工膜は、性質が異なる２種類の前駆体を含んでいるので、塗工膜内の希釈剤の揮発とともに、２種類の前駆体の間で相分離が起こり、表面に凹凸を備えた塗工膜が形成される。
【００７５】
次いで、クリーンオーブンで、２００℃、６０分間、加熱することにより、塗工膜が完全に硬化されて表面に凹凸を備えたポリイミド膜が形成される。このとき、第１の反射材の製造方法で説明した図１（ｂ）のポリイミド膜３２ａと同様に、ポリイミド膜の表面全体にわたって凹凸が形成される。
ここで、第１の反射材の製造方法と同様に、ポリイミド膜の凹凸の高さ（高低差）及び平面方向のピッチを場所によりランダムに形成することが好ましい。例えば、凹凸の高さ（高低差）を０．１〜２μｍの範囲で、凹凸部の平面方向のピッチを２〜２０μｍの範囲で、場所によりランダムな寸法になるように形成することができる。
【００７６】
次いで、第１の反射材の製造方法と同様に、表面に凹凸が形成されたポリイミド膜を、３０分間、風冷後、ポリイミド膜の凹凸上に真空蒸着法などにより膜厚が５０〜１００ｎｍのＡｌ膜を形成する。
このようにして、ポリイミド膜とその凹凸面上に形成されたＡｌ膜とからなる反射材が形成される。
【００７７】
なお、金属膜の材料として、第１の反射材の製造方法で説明したＡｌ以外のものを使用することができ、また、金属膜の製造方法として、真空蒸着法の他に、スパッタリング法、イオンプレーティング法などを用いてもよい。
このように、前述した第１〜第４の反射材の製造方法のいずれかの方法を用いることにより、反射（半透過）型液晶表示装置の反射材を製造することができる。
【００７８】
（第１又は第２の反射材の製造方法で製造された反射材の反射特性）
図２（ａ）は反射特性を評価した反射材の構造を示す概略断面図、図２（ｂ）は反射材の輝度の測定系を示す概略図、図２（ｃ）は反射材の反射特性結果を示すものである。
本願発明者は第１又は第２の反射材の製造方法で製造された反射材の反射特性について調査した。最初に、反射特性の評価に用いた反射材の構造について説明する。図２（ａ）に示すように、まず、透明ガラス基板４２上に、上記した第１又は第２の反射材の製造方法により、表面に凹凸を備えたポリイミド膜３２ａを形成し、このポリイミド膜３２ａの凹凸面上にアルミニウム膜３２ｂを形成することにより、透明ガラス基板４２とこの上に形成された反射材３２とからなる反射板３８を作成してこれを評価サンプルとした。
【００７９】
本反射特性の評価は、反射材３２が後で説明する転写技術により電極基材上に形成される場合を想定したものであるので、外光がポリイミド膜３２ａを透過した後にアルミニウム膜３２ｂで拡散反射されるように、反射板３８の透明ガラス基板４２側から光を入射するようにした。
次に、反射材３２の輝度の測定に使用した測定系について説明する。図２（ｂ）に示すように、反射板３８の透明ガラス基板４２側の正面の一定位置に輝度計４４を配置し、反射板３８の側面側に光源４６を配置した。光源４６から放出される入射光と反射光とで形成される角度を入射角度θと定義し、この光源４６は入射角度θを可変できるように所定の位置に移動できるようになっている。光源４６として白色光を使用し、偏光フィルムは使用しない測定系とした。
【００８０】
続いて、入射角度θを７．４°〜３５．６°の範囲で変えて光源４６から白色光を放出し、反射材３２で反射した光の輝度を輝度計４４により測定することにより、輝度の入射角度θ依存性を調査した。
また、セラミックタイプの標準白色拡散板を用意し、上記と同じ測定方法により標準白色拡散板で反射した光の輝度の入射角度θ依存性を測定し、これを光反射輝度の基準値とした。
【００８１】
次いで、反射材３２の輝度値を標準白色拡散板の輝度値で除算し、これに１００を乗算した値を求めた。すなわち、標準白色拡散板の輝度を１００としたときの反射材３２の相対輝度値を求めた。
次いで、基材上に形成された表面側に凹凸を備えたレジスト膜と、この上に形成されたアルミニウム膜とからなる反射材を用意した。この反射材は反射型液晶表示装置の反射材として一般的に使用されているものであって、これを比較サンプルとした。続いて、上記と同様な方法で、比較サンプルで反射した光の輝度の入射角度θ依存性を調査し、標準白色拡散板の輝度を１００としたときの比較サンプルの相対輝度値を求めた。
【００８２】
次に、反射材３２の反射特性の評価結果について説明する。
図２（ｃ）に示すように、入射角度θが、７．４°、１７．７°、２２．３°のときは比較サンプルと反射光の輝度がほほ同等であるが、標準白色拡散板に対しては２．２〜４．４倍程度の輝度が得られている。
このように、本発明の実施の形態の反射材の製造方法で製造された反射材３２は、ほとんどの光の入射角度において標準白色拡散板より高い輝度が得られるとともに、入射角度θが大きい入射光、すなわち、反射材３２の側面側からの入射光の反射の輝度を比較サンプルより高くすることができることが分かった。
【００８３】
さらには、この反射材３２を、入射光がポリイミド膜を透過して拡散反射される構造で評価したにもかかわらず、標準白色拡散板より高い光反射輝度が得られているので、ポリイミド膜は透明性が高く、このような構造にしてもなんら問題がないことを確認することができた。
なお、図２（ａ）の反射板３８のアルミニウム膜３２ｂ側から光をあてた形態においても、本評価結果と同等以上の反射特性を有することはいうまでもない。
【００８４】
また、この反射材３２はポリイミド膜の全体にわたって、屈折率が同一のものからなるので、入射光がポリイミド膜を透過して拡散反射されるようにして配置される場合においても、光の消偏効果の発生が少ない反射材とすることができる。
すなわち、特に明記しないが、上記した測定系において、光源側と輝度系側とにお互いに偏光軸が平行な偏光フィルムを配置した場合の輝度Ｌａと、光源側と輝度系側とにお互いに偏光軸が垂直な偏光フィルムを配置した場合の輝度Ｌｂとを測定し、Ｌａ／Ｌｂ値（コントラスト比）を算出すると、従来の樹脂内で屈折率が異なる反射材より、大きなＬａ／Ｌｂ値が得られる。これは、本実施の形態の反射材が消偏効果の発生が少ない反射材であることを意味する。
【００８５】
（液晶表示装置の電極基材の製造方法）
次に、上記した反射材の製造方法を含む液晶表示装置の電極基材の製造方法について説明する。
図３（ａ）〜（ｃ）は本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置の電極基材の製造方法を示す概略断面図（その１）、図４（ａ）〜（ｃ）は同じく液晶表示装置の電極基材の製造方法を示す概略断面図（その２）である。
【００８６】
本発明の第１の実施の形態の液晶表示装置の電極基材の製造方法は、図３（ａ）に示すように、まず、基板の一例として、膜厚が例えば０．７〜１．１ｍｍ程度の耐熱性のガラス基板２を用意する。
その後、ガラス基板２上に、膜厚が例えば４μｍのポリイミド樹脂からなる剥離層４を形成する。
【００８７】
次いで、図３（ｂ）に示すように、この剥離層４上に膜厚が０．１〜０．４μｍのＩＴＯ（Indium tin oxide）層をスパッタリング法により形成する。続いて、フォトリソグラフィー及びエッチングにより、ＩＴＯ層をパターニングしてストライプ状の第１の透明電極６を形成する。
次いで、剥離層４及び第１の透明電極６上に、スピンコート法により、例えば、熱硬化性のアクリル樹脂の塗工液を塗布して塗工膜を形成する。続いて、この塗工膜を加熱、硬化して膜厚が例えば２〜５μｍの保護層８を形成する。
【００８８】
次いで、図３（ｃ）に示すように、保護層８上に黒色顔料を分散したレジスト層または黒色染料を溶解したポリイミド層を形成する。続いて、これをパターニングして第１の透明電極６のパターン間上に第１の透明電極６のパターン間の幅より大きなパターン幅を有する遮光層１０ｄを形成する。
次に、遮光層１０ｄ及び保護層８上であって、遮光層１０ｄのパターン間上に、端部が遮光層１０ｄにオーバーラップするようにして、顔料分散タイプの感光性赤色溶液を塗布露光現像して赤色画素部を構成する赤色カラーフィルタ層１０ａを形成する。
【００８９】
次いで、緑色画素部を構成する位置に、顔料分散タイプの感光性緑色溶液を塗布露光現像して緑色カラーフィルタ層１０ｂを形成する。
次いで、青色画素部を構成する位置に、顔料分散タイプの感光性青色溶液を塗布露光現像して青色カラーフィルタ層１０ｃを形成する。
このようにして、第１の透明電極６に平行でストライプ状の赤色カラーフィルタ層１０ａ、緑色カラーフィルタ層１０ｂ、青色カラーフィルタ層１０ｃ及び遮光層１０ｄからなるカラーフィルタ層１０が形成される。
【００９０】
次いで、前述した第１〜第４の反射材の製造方法のいずれかの方法を用いて、カラーフィルタ１０上に、ポリイミド膜やアクリル樹脂からなる表面に凹凸を備えた樹脂層１２ａを形成し、この樹脂層１２ａ上に金属膜の一例であるＡｌ膜１２ｂを形成する。これにより、カラーフィルタ１０上に反射材１２が形成される。
【００９１】
次に、半透過型の液晶表示装置用の反射材の製造方法を説明する。光源として、バックライトからの光と外光による反射材からの反射光とを両方使うことができる半透過型の液晶表示装置の電極基材を製造する場合、樹脂層１２ａの凹凸上にアルミニウム膜１２ｂを形成した後に、次の工程を追加すればよい。
図５（ａ）は、図３（ｃ）のＤ部よりアルミニウム膜から透明電極までを透視した透視拡大図、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＩ−Ｉに沿った概略断面図である。
【００９２】
まず、第１の透明電極６の画素部になる領域、すなわち第１の透明電極６と対向電極基材上に形成される第２の透明電極６ａとが交差する領域（図５（ａ）の斜線部）のアルミニウム膜１２ｂ上に、画素部になる領域の面積より小さい面積、画素部の面積の例えば１０％程度の面積の開口部を有する開口パターンが形成されるように、フォトリソグラフィーによりレジスト膜（図示せず）をパターニングする。
【００９３】
その後、図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、このレジスト膜をマスクにして、レジスト膜の開口部の底部に露出したＡｌ膜１２ｂをウェットエッチングにより除去して窓１９を開口する。これにより、画素部の面積の例えば１０〜２０％程度の面積の窓１９が画素部の中心部に形成される。
このようにすることにより、光源としてバックライトを使用する場合、画素部（図５（ａ）の斜線部）に開口された窓１９をバックライトの光が透過し、液晶画像を得ることができる。一方、光源として液晶画面側から入射した外光が反射材１２で拡散反射した光を使用する場合、画素部（図５（ａ）の斜線部）のうち、窓１９以外のアルミニウム膜１２ｂが残った周辺領域で外光が反射されて液晶表示画像を得ることができる。
【００９４】
以上のように、ガラス基板２上でこれらの工程を追加し、後で説明する転写技術を用いることにより、半透過型の液晶表示装置用の電極基材を容易に製造することができる。
プラスチックフィルム上に、直接、反射材１２や第１の透明電極６などを形成する場合、プラスチックフィルムは、製造工程での熱や湿度により伸縮し、かつ安定するまで長時間を有するので、アルミニウム膜１２ｂが部分的に除去された窓１９に第１の透明電極６の画素部になる部分がオーバーラップするように精度よく位置合わせして、アルミニウム膜１２ｂの上方に透明電極６のパターンを形成することが困難であることはいうまでもない。
【００９５】
次いで、図４（ａ）に示すように、反射材１２上に、紫外線硬化樹脂（旭電化社製：ＫＲ−３６０）に粒径が２〜１５μｍの範囲のスペーサ粒子（日本触媒社製：エポスターＧＰ−Ｈ）を少量混入分散させたものをスプレーにより２〜１５μｍの膜厚の範囲になるように調整して接着層１４を形成する。このとき、反射材１２の表面の凹凸は接着層１４で完全に埋め込まれて平坦化される。
【００９６】
このようにして、ガラス基板２上に下から順に、剥離層４、第１の透明電極６、保護層８、カラーフィルタ層１０、反射材１２及び接着層１４からなる転写層１７が形成される。
次に、ガラス基板２上に形成された転写層１７をプラスチックフィルム上に転写する方法を説明する。
【００９７】
まず、膜厚が例えば１００〜２００μｍのプラスチックフィルム１６（住友ベークライト社製：ポリエーテルスルホンフィルム）を用意し、超音波で水洗し、乾燥させた後、さらに２日間、クリーンルーム内で乾燥させる。
その後、図４（ａ）に示すように、転写層１７が形成されたガラス基板２上の接着層１４上にこのプラスチックフィルム１６を配置する。
【００９８】
次いで、プラスチックフィルム１６側から高圧水銀灯により例えば波長３６５ｎｍで３０００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ照射を行い、光硬化型樹脂である接着層１４を硬化させることにより、プラスチックフィルム１６と転写層１７を有するガラス基板２とを貼り合わせる。
このとき、転写時にプラスチックフィルムの温度が上がり、転写終了時には温度が下がることで、プラスチックフィルムに縮みなどが発生するので、形成されたパターンの寸法変動が起こる場合がある。これが問題となる設計ルールの場合、パルスキセノン光源を用いたものを使用すればよい。このパルスキセノン光源は発光強度が大きく、少ない照射時間で接着層を硬化させることができるので、照射に伴うプラスチックフィルムの温度上昇を抑えることができる。これにより、パターンの寸法変動を少なくすることができる。
【００９９】
次いで、図４（ｂ）に示すように、接着層１４に貼り合わせたプラスチックフィルム１６の一端を例えば直径２００ｍｍのロール４０に固定し、このロール４０を回転させながらプラスチックフィルム１６を引き剥がす。このとき、ガラス基板２と剥離層４との界面から剥がれて転写層１７がプラスチックフィルム１６側に転写される。
【０１００】
次いで、転写層１７が転写されたプラスチックフィルム１６をヒドラジン対エチレンジアミンの比率が１：１の混合液などのアルカリ混合液に浸漬させるか、又は、酸素プラズマで処理することにより、プラスチックフィルム１６上の剥離層４のみを除去する。
その後、第１の透明電極６及び保護層８上に液晶材料を配向させる配向膜１８を膜厚が例えば１００ｎｍ以下で形成し、この配向膜１８の表面をラビング処理する。
【０１０１】
以上により、図４（ｃ）に示すように、本実施の形態の液晶表示装置の走査電極基材２０が完成する。
本実施の形態の液晶表示装置の電極基材の製造方法によれば、予め、耐熱性のガラス基板２上に転写層１７を形成し、その後、この転写層１７をプラスチックフィルム１６に転写するので、第１の透明電極６や反射材１２などを形成するにあたって熱に係る製造工程上の制限を受けない。これにより、プラスチックフィルムを基材に用いた電極基材を設計要求に応じて容易に製造することができるようになる。
【０１０２】
プラスチックフィルム上に、直接、下から順に、反射材１２、カラーフィルタ層１０及び第１の透明電極６を形成する場合、カラーフィルタ層１０や第１の透明電極６を形成する工程で使用する薬品が下方にしみ込み、反射材１２のアルミニウム膜１２ｂに損傷を与えるおそれがある。
しかしながら、本実施の形態の製造方法では転写技術を使用するので、第１の透明電極６及びカラーフィルタ層１０を形成した後に、反射材１２を形成することになる。従って、反射材１２を形成した後は、薬品処理をする工程がないので、反射材１２のアルミニウム膜１２ｂが薬品により損傷を受けることがない。
【０１０３】
さらに、反射材１２の凹凸は、接着層１４を形成する工程で完全に平坦化されるので、特別な、平坦化工程を必要としない。
さらにまた、ガラス基板はプラスチックフィルムのように熱や湿度により伸縮しないので、各層のパターン間の位置合わせを容易にすることができる。すなわち、第１の透明電極６の画素になる部分に対応する反射材１２の部分内に、透明電極６の画素になる領域の面積より小さい面積で、バックライトの光が透過できる部分、すなわち、金属膜の窓（開口部）を設計要求に応じて、精度よく位置合わせして形成することができる。これにより、半透過型の液晶表示装置の電極基材をも容易に製造することができる。
【０１０４】
次に、走査電極基材２０の対向基材である信号電極基材の製造方法及びこれらの電極基材を用いた液晶表示装置を製造する方法を説明する。図６は本発明の第１の実施の形態の液晶表示装置の電極基材の製造方法で形成された電極基材を備えた液晶表示装置を示す概略断面図である。
まず、図６に示すように、前述した転写方法と同様な方法を用いて、第２のプラスチックフィルム１６ａ上に、下から順に、接着層１４ａ、保護層８ａ及び第２の透明電極６ａを形成する。続いて、第２の透明電極６ａ上に配向膜１８ａを形成し、この配向膜１８ａの表面をラビング処理することにより、走査電極基材２０の対向基材である信号電極基材２０ａが製造される。
【０１０５】
その後、走査電極基材２０及び信号電極基材２０ａのいずれかの電極基材上に、液晶材料を封じ込めるためのシール剤をディスペンサ装置により塗布してシール層２２を形成する。
次いで、シール層２２が形成された電極基材上に、粒径が５μｍ程度の接着性スペーサを塗布する。
【０１０６】
次いで、他方の電極基材をシール層２２が形成された電極基材に位置合わせして重ねて加熱する。このとき、２つの電極基材間には接着性スペーサがあるので、一定の間隔が保たれる。
次いで、走査電極基材２０と信号電極基材２０ａとの間に、予め、開けておいたシール層２２の液晶注入口から液晶材料を注入した後、封止剤で液晶注入口を密閉して液晶層２４を形成する。
【０１０７】
次いで、信号電極基材２０ａの液晶層２４側とは反対の面上に、位相差フィルム２６を配置し、さらに、位相差フィルム２６上に偏光フィルム２８を配置する。
以上により、図６に示すような第１の実施の形態の液晶表示装置３０が完成する。
【０１０８】
第１の実施の形態の液晶表示装置の電極基材の製造方法で製造された電極基材２０，２０ａを備えた液晶表示装置３０は、プラスチックフィルム１６の液晶層２４側の面に反射材１２が形成されているので、外光が反射材１２で拡散反射された光はプラスチックフィルム１６を透過することなく、液晶層２４を透過することができる。その後、この反射光は信号電極基材２０ａを透過し、さらに、位相差フィルム２６及び偏光フィルム２８を透過して液晶画面の外側に放出される。
【０１０９】
すなわち、外光が拡散反射された光はプラスチックフィルム１６の厚みの影響を受けないので、カラーフィルタを備えて１画素が３分の１の大きさのカラードッドに分割された液晶表示装置においても、視差の発生による画像ボケを防止することができる。
また、反射材１２を構成する凹凸を備えたポリイミド膜などからなる樹脂層１２ａが同一の材料で形成されることで、樹脂層１２ａの全体にわたってその屈折率を同一とすることができるので、樹脂層１２ａを外光及び外光の反射光が透過しても光の偏光度が低下することはなく、液晶表示画面のコントラスト比を向上させることができる。
【０１１０】
（第２の実施の形態）
図７は第２の実施の形態の液晶表示装置の電極基材の製造方法で製造された電極基材を備えた液晶表示装置を示す概略断面図である。
第２の実施の形態が第１の実施の形態と異なる点は、カラーフィルタ層が信号電極基材上に備えられていることであるので、図７において図６と同一要素には同一の符号を付し、その詳しい説明を省略する。
【０１１１】
最初に、図７に示す走査電極基材２０ｂの製造方法について説明する。なお、第１の実施の形態と同様な工程の詳しい説明を省略する。
まず、第１の実施の形態の製造方法と同様な方法で、ガラス基板上に、下から順に、剥離層、第１の透明電極６、保護層８、反射材１２及び接着層１４からなる転写層を形成する。その後、この転写層を、接着層１４を介してプラスチックフィルム１６ｂ上に転写する。続いて、転写層が形成されたプラスチックフィルム１６ｂの透明電極６上に配向膜１８を形成し、この配向膜１８の表面をラビング処理する。このようにして、走査電極基材２０ｂを製造することができる。
【０１１２】
次に、図７に示す信号電極基材２０ｃの製造方法について説明する。
まず、第１の実施の形態の製造方法と同様な方法で、ガラス基板上に、下から順に、剥離層、第２の透明電極６ａ、保護層８ａ、カラーフィルタ層１０及び接着層１４ａからなる転写層を形成する。
その後、この転写層を、接着層１４ａを介してプラスチックフィルム１６ｃ上に転写する。続いて、転写層が形成されたプラスチックフィルム１６ｃ上の第２の透明電極６ａ上に配向膜１８ａを形成し、この配向膜１８ａのラビング処理を行なう。このようにして、信号電極基材２０ｃを製造することができる。
【０１１３】
次いで、第１の実施の形態の製造方法と同様な方法で、走査電極基材２０ｂと信号電極基材２０ｃとをシール層２２を介して貼り合わせ、液晶材料を注入して液晶層２４を形成する。
次いで、信号電極基材２０ｃの液晶層２４側とは反対の面上に、位相差フィルム２６と偏光フィルム２８とを配置する。これにより、信号電極基材２０ｃ側にカラーフィルタ層１０が備えられた液晶表示装置３０ａが完成する。
【０１１４】
以上、第１及び第２の実施の形態により、この発明の詳細を説明したが、この発明の範囲は上記実施の形態に具体的に示した例に限られるものではなく、この発明を逸脱しない要旨の範囲の上記実施の形態の変更はこの発明の範囲に含まれる。
例えば、第１及び第２の実施の形態の電極基材の製造方法では、ガラス基板２上方の反射材１２上に接着層１４を形成し、この接着層１４を介してプラスチックフィルム１６上に、反射材１２などを含む転写層を転写しているが、プラスチックフィルム１６の転写層が転写される面上に接着層１４を形成し、この接着層１４が形成されたプラスチックフィルム１６の面とガラス基板２上方の反射材１２とを接着させて転写してもよい。
【０１１５】
なお、第１及び第２の実施の形態とは違う実施の形態として、プラスチックフィルム上に、直接、反射材を形成し、その他の透明電極などの層を転写層としてガラス基板上に形成し、このガラス基板上の転写層をプラスチックフィルム上の反射材上に接着層を介して転写して形成してもよい。
この場合、反射材の凹凸は、例えば、粒径が１〜１０μのシリカや炭酸カルシウムなどのフィラーとアルキド樹脂などの樹脂をシンナーに分散させた塗工液を、プラスチックフィルム上に直接スピンコートすることにより形成される。その後、樹脂層の凹凸面上に、アルミニウムなどからなる金属膜を形成して反射材とすればよい。
【０１１６】
また、反射材の製造方法に関しては、１種類の樹脂の前駆体の一部を硬化させることに基づいて表面に凹凸を形成する方法を例示したが、異なる２種類以上の樹脂の前駆体を使用してもよい。この場合、最終的に形成される反射材の樹脂層内で屈折率が実質的に同一になるような２種類以上の前駆体を使用することが好ましい。
【０１１７】
また、実施の形態では、ガラス基板の上方に形成された反射材などを転写によりプラスチックフィルム上に形成する方法を例示したが、本発明の液晶表示装置の反射材の製造方法は、基材などの被塗布物の上に反射材を形成する方法であって、どのような被塗布物上にも形成することができる。
【０１１８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、予め、基板の上方に表面に凹凸を有する反射材を形成し、反射材を接着層を介してフィルム上に転写して形成する。また、好ましい形態では、基板と反射材との間に透明電極を形成する。
耐熱性の基板上に透明電極や反射材などを形成するので、透明電極や反射材の材質や温度に係る製造上の条件が制限されない。また、接着層を介して転写する工程で反射材の凹凸が容易に平坦化されるので、特別に、高度な平坦化技術を導入する必要がない。
【０１１９】
また、転写技術を利用するので、各層を形成する順番が、フィルム上に、直接、形成する場合の逆になり、透明電極を形成した後に、反射材を形成することになる。従って、透明電極をパターニングする工程で薬品処理をしても下方には反射材が存在しないので、反射材に損傷を与えるおそれがなくなる。
このようにすることにより、設計要求に応じた液晶表示装置の電極基材を、低いコストで、高い歩留りで製造することが可能となる。
【０１２０】
また、本発明の反射材の製造方法は、有機絶縁膜を形成するための前駆体のうち、一部の前駆体を硬化させることに基づいて反射材の凹凸を形成するように工夫したので、極めて簡単な工程で凹凸を備えた反射材を形成することができる。また、このようにして形成された反射材は、凹凸部を含む全ての部分が同一材料の有機絶縁膜からなり、その屈折率も同一とすることができるので、反射材の凹凸面を基材の液晶層側の反対側の面になるように配置した場合においても、入射光の偏光度が低下する消偏効果の発生を防止することができるようになる。これにより、反射（半透過）型液晶表示装置のコントラスト比を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（ａ）は本発明の第１の実施の形態の反射材の製造方法に係る塗工膜が形成された様子を模式的に示す概略断面図，図１（ｂ）は本発明の第１の実施の形態の反射材の製造方法で製造された反射材を示す概略断面図である。
【図２】図２（ａ）は反射特性を評価した反射材の構造を示す概略断面図、図２（ｂ）は反射材の輝度の測定系を示す概略図、図２（ｃ）は反射材の反射特性結果を示すものである。
【図３】図３（ａ）〜（ｃ）は本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置の電極基材の製造方法を示す概略断面図（その１）である。
【図４】図４（ａ）〜（ｃ）は本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置の電極基材の製造方法を示す概略断面図（その２）である。
【図５】図５（ａ）は図３（ｃ）のＤ部よりアルミニウム膜から透明電極までを透視した透視拡大図、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＩ−Ｉに沿った断面図である。
【図６】図６は本発明の第１の実施の形態の液晶表示装置の電極基材の製造方法で形成された電極基材を備えた液晶表示装置を示す概略断面図である。
【図７】図７は本発明の第２の実施の形態の液晶表示装置の電極基材の製造方法で製造された電極基材を備えた液晶表示装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
２：ガラス基板
４：剥離層
６：第１の透明電極
６ａ：第２の透明電極
８、８ａ：保護層
１０：カラーフィルタ層
１０ａ：赤色カラーフィルタ層
１０ｂ：緑色カラーフィルタ層
１０ｃ：青色カラーフィルタ層
１０ｄ：遮光層
１２ａ：樹脂層
１２ｂ，３２ｂ：Ａｌ膜（金属膜）
１２，３２：反射材
１４、１４ａ：接着層
１６，１６ａ、１６ｂ，１６ｃ：プラスチックフィルム（フィルム）
１７：転写層
１８、１８ａ：配向膜
１９：窓
２０，２０ｂ：走査電極基材
２０ａ，２０ｃ：信号電極基材
２２：シール層
２４：液晶層
２６：位相差フィルム
２８：偏光フィルム
３０，３０ａ：液晶表示装置
３２ａ：ポリイミド膜
３４ａ：中間体
３６：被塗布物（基材）
３８：反射板
４０：ロール
４２：透明ガラス基板
４４：輝度計
４６：光源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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