(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）；
【化１】
0004711494.tif 000006
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４のアルキルチオ基を表す。）
で表されるベンゾニトリル類と硫化水素とを、触媒の存在下に加圧下で反応させることを特徴とする下記一般式（２）；
【化２】
0004711494.tif 000007
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、前記一般式（１）と同様である。）
で表されるチオベンズアミド類の製造方法であって、
前記触媒がアルキルアミン類、又はピリジン類であり、
４９０．３〜１０６８．９ｋＰａの加圧下で反応させることを特徴とするチオベンズアミド類の製造方法。
【請求項２】
触媒の使用量が、ベンゾニトリル類に対して０．１〜２０モル％である請求項１に記載のチオベンズアミド類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、チオベンズアミド類の製造方法に関する。さらに詳しくは、医薬品、農薬等の製造中間体として有用なチオベンズアミド類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
チオベンズアミド類を製造する方法としては、４−ヒドロキシベンゾニトリルと硫化水素とを反応させる方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．９４；９，３１５３，（１９７２））、ベンゾニトリル類と五硫化リンとを反応させる方法（新実験化学講座１４有機合成と反応［III］ｐ１８２８〜１８２９）、ベンゾニトリル類とチオアセトアミドとをポリリン酸中で反応させる方法（特開平１１−６０５５２号公報）等が知られている。
【０００３】
しかしながら、前記の４−ヒドロキシベンゾニトリルと硫化水素とを反応させる方法においては、触媒であるトリエチルアミンを４−ヒドロキシベンゾニトリルに対して５３モル％と大量に用いている。また、ベンゾニトリル類と五硫化リンとを反応させる方法やベンゾニトリル類とチオアセトアミドとをポリリン酸中で反応させる方法は、リンを大量に含む廃水が排出されるため、高度な処理が必要となる。したがって、これらの方法は、工業的に有利な製造方法とは言い難い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、工業的に有利なチオベンズアミド類の製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討の結果、ベンゾニトリル類と硫化水素とを、加圧下で反応させることにより、触媒の使用量が低減でき、工業的に有利にチオベンズアミド類を製造することができることを見出し本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、本発明は、下記一般式（１）；
【０００７】
【化３】
0004711494.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４のアルキルチオ基を表す。）
【０００８】
で表されるベンゾニトリル類と硫化水素とを、触媒の存在下に加圧下で反応させることを特徴とする下記一般式（２）；
【０００９】
【化４】
0004711494.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、前記一般式（１）と同様である。）
【００１０】
で表されるチオベンズアミド類の製造方法に関する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明においては、ベンゾニトリル類と硫化水素とを、触媒の存在下に加圧下で反応させることにより、触媒の使用量が低減でき、工業的に有利にチオベンズアミド類を製造することができる。
【００１２】
本発明に用いられるベンゾニトリル類は、下記一般式（１）；
【００１３】
【化５】
0004711494.tif 000004
【００１４】
で表される化合物である。
【００１５】
前記一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４のアルキルチオ基を表す。
【００１６】
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００１７】
前記炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００１８】
前記炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
【００１９】
前記炭素数１〜４のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等が挙げられる。
【００２０】
前記ベンゾニトリル類の具体例としては、ベンゾニトリル、４−クロロベンゾニトリル、２−ブロモベンゾニトリル、４−シアノフェノール、３−メチルベンゾニトリル、４−エチルベンゾニトリル、４−ｎ−プロピルベンゾニトリル、４−ｎ−ブチルベンゾニトリル、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾニトリル、４−メトキシベンゾニトリル、４−エトキシベンゾニトリル、４−ｎ−プロポキシベンゾニトリル、４−ｎ−ブトキシベンゾニトリル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシベンゾニトリル、２−メチル−４−ブロモベンゾニトリル、２−メトキシ−４−ヒドロキシベンゾニトリル、２−エチル−４−メトキシベンゾニトリル、２−ｎ−プロポキシ−４−クロロベンゾニトリル、２−ｎ−プロピル−４−ニトロベンゾニトリル、２−メチルチオ−４−クロロベンゾニトリル、２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシベンゾニトリル、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−６−ニトロベンゾニトリル、２−ｎ−プロピル−４−ニトロ−６−メトキシベンゾニトリル、２−メチルチオ−４−クロロ−６−ヒドロキシベンゾニトリル、２−ｎ−プロポキシ−４−クロロ−６−ブロモベンゾニトリル等が挙げられる。中でも、ベンゾニトリル、４−クロロベンゾニトリル、４−シアノフェノール、４−メトキシベンゾニトリルが好適に用いられる。
【００２１】
本発明に用いられる硫化水素の使用量は、通常、ベンゾニトリル類に対して１〜２倍モル、好ましくは１．１〜１．４倍モルである。硫化水素の使用量が１倍モル未満の場合、反応が完結しにくい。また、硫化水素の使用量が２倍モルを越える場合、未反応の硫化水素が多くなり好ましくない。
【００２２】
本発明に用いられる触媒は、特に限定されず、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン等のアルキルアミン類；ピリジン、メチルピリジン、エチルピリジン等のピリジン類が挙げられる。中でも、入手が容易で経済的な観点から、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミンが好適に用いられる。
【００２３】
前記触媒の使用量は、通常、ベンゾニトリル類に対して０．１〜２０モル％、好ましくは１．０〜１０モル％である。触媒の使用量が０．１モル％未満の場合、反応速度が遅くなるおそれがある。また、触媒の使用量が２０モル％を越える場合、使用量に見合う効果がなく経済的でない
【００２４】
前記反応における圧力は、通常、１０６８．９ｋＰａ以下、好ましくは２９４．２〜９８０．６ｋＰａ、より好ましくは４９０．３〜９８０．６ｋＰａの範囲である。前記反応における圧力が１０６８．９ｋＰａを超えても、特に有利な結果を得ることができず、経済的でない。
【００２５】
前記反応における反応温度は、通常、４０〜１６０℃、好ましくは６０〜１１０℃である。反応温度が４０℃未満の場合、反応速度が遅くなるおそれがある。また、反応温度が１６０℃を越える場合、不純物の生成が多くなり好ましくない。反応時間は、反応温度により異なるが、通常、３〜２０時間である。
【００２６】
前記反応に用いられる溶媒としては、特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、クロロホルム、二塩化エチレン、ジエチルエーテル等の非水溶性有機溶媒；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エチルアルコール、メチルアルコール等の水溶性有機溶媒等が挙げられる。中でも、反応後に触媒、溶媒等の回収を容易に行うことができる観点から、トルエン、メチルアルコール、エチルアルコールが好適に用いられる。
【００２７】
前記反応溶媒の使用量は、通常、ベンゾニトリル類に対して２〜１０倍重量である。反応溶媒の使用量が２倍重量未満の場合、反応が円滑に進行しにくくなるおそれがある。また、反応溶媒の使用量が１０倍重量を超える場合、容積効率が悪化するばかりか、収率が低下するおそれがある。
【００２８】
反応終了後、放圧して反応系内から過剰の硫化水素を除去し、次いで、反応液を冷却することによりチオベンズアミド類が析出する。析出したチオベンズアミド類は濾過等の方法により容易に単離することができる。
【００２９】
かくして得られたチオベンズアミド類は下記一般式（２）；
【００３０】
【化６】
0004711494.tif 000005
【００３１】
で表される化合物である。
【００３２】
前記一般式（２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、前記一般式（１）と同様に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４のアルキルチオ基を表す。
【００３３】
前記チオベンズアミド類の具体例としては、チオベンズアミド、４−クロロチオベンズアミド、２−ブロモチオベンズアミド、４−ヒドロキシチオベンズアミド、３−メチルチオベンズアミド、４−エチルチオベンズアミド、４−ｎ−プロピルチオベンズアミド、４−ｎ−ブチルチオベンズアミド、４−ｔｅｒｔ−ブチルチオベンズアミド、４−メトキシチオベンズアミド、４−エトキシチオベンズアミド、４−ｎ−プロポキシチオベンズアミド、４−ｎ−ブトキシチオベンズアミド、４−ｔｅｒｔ−ブトキシチオベンズアミド、２−メチル−４−ブロモチオベンズアミド、２−メトキシ−４−ヒドロキシチオベンズアミド、２−エチル−４−メトキシチオベンズアミド、２−ｎ−プロポキシ−４−クロロチオベンズアミド、２−ｎ−プロピル−４−ニトロチオベンズアミド、２−メチルチオ−４−クロロチオベンズアミド、２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシチオベンズアミド、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−６−ニトロチオベンズアミド、２−ｎ−プロピル−４−ニトロ−６−メトキシチオベンズアミド、２−メチルチオ−４−クロロ−６−ヒドロキシチオベンズアミド、２−ｎ−プロポキシ−４−クロロ−６−ブロモチオベンズアミド等が挙げられる。
【００３４】
【実施例】
以下、実施例、比較例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００３５】
実施例１
撹拌機、温度計およびガス吹き込み管を備えた１Ｌ容の耐圧反応容器に、ベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）、ジエチルアミン３．３ｇ（０．０４５モル）、トルエン２００ｇを仕込み、１００℃で６時間を要して硫化水素２２ｇ（０．６モル）を吹き込み反応させた。その時の圧力は、７８４．５〜９８０．６ｋＰａであった。反応終了後、放圧して反応系内から過剰の硫化水素を除去した。次いで、反応液を５℃まで冷却し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をトルエン１００ｇで洗浄後、乾燥し、チオベンズアミド５６．３ｇ（０．４１モル）を得た。ベンゾニトリルに対する収率は８２％であった。
【００３６】
実施例２
実施例１においてベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）の代わりに４−メトキシベンゾニトリル６６．６ｇ（０．５モル）を、ジエチルアミン３．３ｇ（０．０４５モル）の代わりにトリメチルアミン２．１ｇ（０．０３５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、４−メトキシチオベンズアミド６６．９ｇ（０．４モル）を得た。４−メトキシベンゾニトリルに対する収率は８０％であった。
【００３７】
実施例３
実施例１においてベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）の代わりに４−クロロベンゾニトリル６８．８ｇ（０．５モル）を、ジエチルアミン３．３ｇ（０．０４５モル）の代わりにトリエチルアミン２．５ｇ（０．０２５モル）用いた以外は実施例１と同様にして、４−クロロチオベンズアミド６５．２ｇ（０．３８モル）を得た。４−クロロベンゾニトリルに対する収率は７６％であった。
【００３８】
実施例４
実施例１においてベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）の代わりに４−シアノフェノール５９．６ｇ（０．５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、４−ヒドロキシチオベンズアミド６４．３ｇ（０．４２モル）を得た。４−シアノフェノールに対する収率は８４％であった。
【００３９】
実施例５
実施例１においてベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）の代わりに２−メチル−４−ブロモベンゾニトリル９８．０ｇ（０．５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、２−メチル−４−ブロモチオベンズアミド８９．７ｇ（０．３９モル）を得た。２−メチル−４−ブロモベンゾニトリルに対する収率は７８％であった。
【００４０】
実施例６
実施例１においてベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）の代わりに２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシベンゾニトリル１０６．０ｇ（０．５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシチオベンズアミド１２３．１ｇ（０．４モル）を得た。２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシベンゾニトリルに対する収率は８０％であった。
【００４１】
比較例１
撹拌機、温度計およびガス吹き込み管を備えた１Ｌ容の反応器に、ベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）、ジエチルアミン３．３ｇ（０．０４５モル）、トルエン２００ｇを仕込み、１００℃、常圧の条件下で１２時間を要して硫化水素２２ｇ（０．６モル）を吹き込み反応させた。反応終了後、反応液を５℃まで冷却し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をトルエン１００ｇで洗浄後、乾燥し、チオベンズアミド１３．７ｇ（０．１モル）を得た。ベンゾニトリルに対する収率は２０％であった。
【００４２】
【発明の効果】
本発明によると、ベンゾニトリル類と硫化水素とを、触媒の存在下に加圧下で反応させることにより、触媒の使用量が低減でき、工業的に有利にチオベンズアミド類を製造することができる。