(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子樹脂基材上の少なくとも片面に放射線硬化性層Ａ、ガスバリア層、放射線硬化性層Ｂを順次積層してなる、ガスバリア層を有する積層体の製造方法であって、
前記高分子基材上に、前記放射線硬化性層Ａを、放射線硬化性樹脂原料としてアクリレート樹脂を蒸着法で形成する工程と、
不活性ガスプラズマにより重合させて形成する工程と、
前記ガスバリア層を金属アルミニウムを酸素ガスのみの存在下で蒸着法により形成する工程と、
前記放射線硬化性層Ｂを、放射線硬化性樹脂原料としてアクリレート樹脂を蒸着法で形成する工程と、
不活性ガスプラズマにより重合させて形成する工程と、
を順に同一真空装置内で連続して行うことを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項２】
前記金属アルミニウムの単位時間当たりの蒸発量に対し、酸素供給速度が、酸素／アルミニウムモル換算比で０．１５〜１．７５であることを特徴とする、請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
請求項１、２いずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とする積層体。
【請求項４】
真空ポンプを接続した真空成膜装置の内部に、冷却ロールを備え、前記冷却ロールに対して上側にそれぞれ独立して巻き出しロール、巻き取りロールを備え、前記冷却ロールの周囲に、放射線硬化性樹脂原料層Ａ蒸着装置、放射線硬化樹脂層Ａ不活性ガスプラズマ照射装置をそれぞれ備え、前記冷却ロールに対して下側に、遮蔽板で真空成膜装置の一部を区画して設けた部分にガスバリア層形成装置を備え、放射線硬化性樹脂原料層Ｂ樹脂蒸着装置、放射線硬化性樹脂層Ｂ不活性ガスプラズマ照射装置をそれぞれ備え、これらを高分子樹脂基材の走行方向に沿って順に備えることを特徴とする、積層体の真空成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、食品や医薬品等の包装に適した酸素および水蒸気の透過に対して高度なガスバリア性を持ったガスバリア材等の積層体の製造方法及び製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、包装材料の分野では、包装材料としては内容物の保存のためにガスバリア性が重要であり、酸素や水蒸気に対するガスバリア性を備えた透明包装材料として、無機化合物からなるガスバリア層を設ける包装材料が知られている。
無機化合物からなるガスバリア層を高分子樹脂基材へ成膜する際、ガスバリア性能、生産性などを考慮すると、電子線加熱方式の巻き取り式真空蒸着による成膜が適している。電子線加熱方式は蒸着物のみを加熱し不純物の混入を最小限に抑えることが可能な上に、蒸発速度も速く高速巻き取りが可能で生産性に優れているためである。しかし真空蒸着は蒸着物の持つエネルギーが低いため高分子樹脂との密着性が低く、界面で剥離するといった問題があった。
【０００３】
この改善のため有機物を硬化させたアンカーコート層を用いたガスバリア材が開発されている。例えば特開平９−２９８８５公報には高分子樹脂基材上に紫外線硬化型アクリレート樹脂硬化層を用いたガスバリア性を有するフィルムが開示されている。アンカーコート層として用いる有機物の硬化手段としては、熱、電子線、紫外線で重合硬化させる手段がある。そのうち熱による硬化は重合速度が遅く、また乾燥はオーブンが多大なスペースを要するうえに基材にも熱が掛かりダメージを受ける。この改善の為放射線重合によって硬化させるものが考えられている。電子線で硬化させる方法では重合速度は速いが、ガスバリア材が帯電し成膜装置内の塵埃や蒸発物の塊を引きつける。付着物が巻き取り搬送系でガスバリア材と多数のロールとの間で擦られることによって重大な損傷がガスバリア材に生じる。さらに、巻き取り搬送中にガスバリア材とロールが剥離する際に放電し、ガスバリア層から樹脂基材まで貫通する損傷が生じる問題がある。一方紫外線で硬化させる場合は帯電の影響はない。しかし熱による重合に比べ硬化は速いものの光源からの放射熱によって基材樹脂がダメージを受ける。また光重合開始剤が必要となり有機層が黄変する場合、また層内に未硬化の重合開始剤が残留する場合がある。
【０００４】
さらにアンカーコート層の塗工、成膜を大気中で行った場合、大気中の水や酸素によって変質してしまう。これにより無機化合物からなるガスバリア層との密着性や、ガスバリア性が低下する。
また、ガスバリア性を上げるためやガスバリア層の保護のためにガスバリア層の上部にオーバーコート層を設けるという方法が知られているが、従来は前記アンカーコート層と同様、紫外線硬化樹脂や電子線硬化樹脂を用いて成膜していたため、同様の問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は上記のような問題点を解決するものであり、重合開始剤が不要で、熱、帯電によるダメージが無く、かつ重合速度が速く、密着性の良い均一な膜形成できる積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装置を提供するものである。なかでも、高度なガスバリア性を有する透明性に優れたガスバリア材及びその製造方法並びに真空成膜装置を提供することにある。
【０００６】
高分子樹脂基材上の少なくとも片面に放射線硬化性層Ａ、ガスバリア層、放射線硬化性層Ｂを順次積層してなる、ガスバリア層を有する積層体の製造方法であって、
前記高分子基材上に、前記放射線硬化性層Ａを、放射線硬化性樹脂原料としてアクリレート樹脂を蒸着法で形成する工程と、
不活性ガスプラズマにより重合させて形成する工程と、
前記ガスバリア層を金属アルミニウムを酸素ガスのみの存在下で蒸着法により形成する工程と、
前記放射線硬化性層Ｂを、放射線硬化性樹脂原料としてアクリレート樹脂を蒸着法で形成する工程と、
不活性ガスプラズマにより重合させて形成する工程と、
を順に同一真空装置内で連続して行うことを特徴とする積層体の製造方法である。
【０００７】
請求項２の発明は、前記金属アルミニウムの単位時間当たりの蒸発量に対し、酸素供給速度が、酸素／アルミニウムモル換算比で０．１５〜１．７５であることを特徴とする、請求項１に記載の積層体の製造方法である。
【０００８】
請求項３の発明は、請求項１、２いずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とする積層体である。
【０００９】
請求項４の発明は、真空ポンプを接続した真空成膜装置の内部に、冷却ロールを備え、前記冷却ロールに対して上側にそれぞれ独立して巻き出しロール、巻き取りロールを備え、前記冷却ロールの周囲に、放射線硬化性樹脂原料層Ａ蒸着装置、放射線硬化樹脂層Ａ不活性ガスプラズマ照射装置をそれぞれ備え、前記冷却ロールに対して下側に、遮蔽板で真空成膜装置の一部を区画して設けた部分にガスバリア層形成装置を備え、放射線硬化性樹脂原料層Ｂ樹脂蒸着装置、放射線硬化性樹脂層Ｂ不活性ガスプラズマ照射装置をそれぞれ備え、これらを高分子樹脂基材の走行方向に沿って順に備えることを特徴とする、積層体の真空成膜装置である。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下図面を用いて本発明の積層体の製造方法と製造装置を、放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバリア層、放射線硬化樹脂層Ｂを順次積層してなるガスバリア材を例にして説明する。ここで、放射線硬化樹脂層Ａ、放射線硬化樹脂層Ｂは共に請求項１記載の放射線硬化樹脂層と同様の方法で成膜される。図１に装置図を示し、図２にこの製造方法によって作られるガスバリア材を示す。
【００１８】
以下、製造装置の具体例を説明をする。
真空ポンプ（２）を接続した真空成膜装置（１）の内部に冷却ロール（３）を、その上部に巻き出しロール（４）、巻き取りロール（５）を設置する。冷却ロール（３）周囲に、順に放射線硬化樹脂原料層Ａ樹脂蒸着装置（６）からなる放射線硬化樹脂原料層形成装置、放射線硬化樹脂層Ａプラズマ照射装置（７）、遮蔽板（８）及びガスバリア層蒸着用電子銃（９）及び坩堝（１０）及び偏向コイル（１１）からなるガスバリア層形成装置を設置する。さらに、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置（１２）からなる放射線硬化樹脂原料層形成装置、放射線硬化樹脂層Ｂプラズマ照射装置（１３）を設置する。さらに、前記放射線硬化樹脂原料層Ａ樹脂蒸着装置（６）に放射線硬化樹脂層Ａ樹脂層樹脂原料供給装置（１４）を連結し、放射線硬化樹脂層Ａプラズマ照射装置（７）に放射線硬化樹脂層Ａ用プラズマ硬化ガス供給装置（１７）を連結し、前記ガスバリア層形成装置にガスバリア層形成用酸素ガス供給装置（１５）を配置し、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置（１２）に放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂層樹脂原料供給装置（１６）を連結し、放射線硬化樹脂層Ｂプラズマ照射装置（１３）に放射線硬化樹脂層Ｂ用プラズマ硬化ガス供給装置（１８）を連結する。さらに放射線硬化樹脂層Ａ樹脂蒸着装置（６）、ガスバリア層蒸着用電子銃（９）、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置（１２）のそれぞれに真空ポンプ等圧力調整装置を接続し、各プロセスに適した真空度に調節する。
このように同じ真空成膜装置内で放射線硬化樹脂層、ガスバリア層が形成できることにより、ゴミなどの混入が少なく生産性の高い積層体が製造できる。
巻き出しロール（４）に高分子樹脂基材（１０１）の原反を装着し、冷却ロール（３）を介して巻き取りロール（５）に至る原反搬送パスを形成する。真空成膜装置（１）内を真空ポンプ（２）にて排気して、真空度を１Ｐａ以上とする。また、ここでは放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバリア層、放射線硬化樹脂層Ｂを順次積層してなるガスバリア材のそれぞれの層を蒸着法により形成する製造装置の例を説明したが、これに限るものではない。
【００１９】
以下、工程を説明する。
高分子樹脂基材（１０１）上にアンカーコート層として放射線硬化樹脂層Ａ（１０２）を設ける。高分子樹脂基材としては、特に限定するものではなく、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン等を用いることができる。
【００２０】
ここでは、放射線硬化樹脂層Ａはアンカーコート層として機能するが、それ以外のガスバリア性などの機能を持たせても良い。
放射線硬化樹脂層は、放射線硬化樹脂原料層を蒸着法により形成した後、プラズマに曝すことにより重合させ形成する。
蒸着は、減圧下で行うと膜厚制御、成膜速度に優れている。前記放射線硬化樹脂層は、ガスバリア材に用いるとき、高分子樹脂基材とガスバリア材層との間にはさむことにより、ガスバリア層の密着性が向上する。放射線硬化樹脂層樹脂原料としては特に限定するものではなく、用途に応じて選ぶことができ、なかでも塩素を含まない樹脂が環境衛生上好ましい。また、前記放射線硬化樹脂層樹脂原料としては、低分子量であるモノマー、オリゴマーは、蒸気圧が高く蒸着制御が容易であるため、好ましい。この場合蒸発速度は使用するモノマーあるいはオリゴマーによって異なるので、それらを考慮しながら樹脂の流量を制御する。
【００２１】
また図１の装置図には示していないが、前記放射線硬化樹脂原料層は、蒸着法ではなく、塗布法等により形成しても良い。また、同一真空装置内で形成すればゴミ等の混入もなく、生産性の高い積層体が製造できる。
【００２２】
このような放射線硬化樹脂層樹脂原料としては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、１，９ノナンジオールジアクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸等が挙げられる。
【００２３】
放射線硬化樹脂層樹脂原料を所定の厚さに蒸着させた後、プラズマに曝して重合させる。重合装置においてプラズマが発生する系内は酸素が除去されていることが望ましく、ガスとしては、特に限定するものではないが、ヘリウム、アルゴン等の不活性気体を用いることが望ましい。プラズマを発生させる際の入力エネルギーおよびガス流量は、装置の形態や、放射線硬化樹脂層Ａ（１０２）に用いる樹脂、膜厚に応じて制御する。プラズマによる樹脂の重合硬化は、短時間で重合を行うことができるため基材に与える熱負荷が極めて少なく、基材の伸びや硬化層の変形がない。また電子線による硬化と異なりフィルムの帯電が無く塵埃などの付着が無く、巻き取り搬送系において擦れ合うことによる損傷を防ぐことができる重合方法である。また、このように放射線硬化樹脂層原料樹脂を基板に均一に蒸着した後、プラズマにより重合させることにより、蒸着中に重合が起こらず、均一な膜の形成ができる。
【００２４】
次にガスバリア層を形成する。ガスバリア層蒸着用電子銃（９）から電子線を坩堝（１０）内の蒸着原料に照射して、蒸着原料を蒸気化させる。ガスバリア層（１０３）としては、特に限定するものではないが、酸化アルミニウム、酸化ケイ素が透明性とガスバリア性に優れる。酸化アルミニウムの真空蒸着には、蒸着原料として金属アルミニウム、酸化アルミニウムのいずれを用いることも可能である。金属アルミニウムを蒸着原料とした場合には、金属アルミニウムガスバリア層蒸着用電子銃（９）により蒸気化させると共にガスバリア層酸素供給装置（１５）から酸素を供給し反応蒸着によって酸化アルミニウム層を成膜する。酸化アルミニウムの真空蒸着による成膜は、成膜速度が速く生産性に優れる。供給する酸素の量は酸化アルミニウムの厚さ、酸化度、巻き取り速度、真空成膜装置（１）の大きさ等の成膜条件によって異なるが、金属アルミニウムの単位時間当たりの蒸発量に対し酸素供給速度が、酸素／アルミニウムモル換算比で０．１５〜０．７５であることが望ましい。酸素の比が０．１５より小さいと金属アルミニウムの酸化度が低く着色が顕著となり、反対に酸素比が０．７５より多いと酸化アルミニウム層内に空隙が多くなりガスバリア性が発揮されないためである。
【００２５】
また図１の装置図には示していないが、前記ガスバリア層は蒸着法ではなく、スパッタリング法などにより形成しても良い。また、同一真空装置内で形成すればゴミ等の混入もなく、生産性の高い積層体が製造できる。
【００２６】
前記のようにして成膜されたガスバリア層の上に、さらに放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を積層させることによってガスバリア性、可撓性を向上させることが可能である。ここでは、放射線硬化樹脂層Ｂはオーバーコート層として機能するが、それ以外にガスバリア性などの他の機能を持たせても良い。この場合、前記放射線硬化樹脂層Ａ（１０２）と同一のモノマーまたはオリゴマーである必要はないが、同一であっても良い。蒸発速度は使用するモノマーあるいはオリゴマーによって異なるので、それらを考慮しながら放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置（１２）を制御する。こうして蒸発物を所定の厚さに蒸着させた後、放射線硬化樹脂層Ｂプラズマ照射装置（１３）にて硬化処理が行われる。
【００２７】
【実施例】
次に更に詳細な実施例を記載する。
【００２８】
＜参考例１＞
１２μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムを真空成膜装置（１）の巻き出しロール（４）に装着し、真空成膜装置（１）内を１×１０−１Ｐａまで減圧した。
速度１０ｍ／分で冷却ロール（３）に密着させて走行せしめた。高分子樹脂基材（１０１）の上にアクリレート（共栄社化学（株）製３ＥＧ−Ａ）の樹脂モノマーを、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂供給装置（１４）、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂蒸着装置（６）を用いて硬化後の放射線硬化樹脂層厚が、０．１μｍになるように制御した。プラズマ照射装置において放射線硬化樹脂層Ａガス供給装置（１７）を用いてアルゴンガスを３００ｓｃｃｍ導入し、周波数１３．５６ＭＨｚ、電力１００Ｗでプラズマを発生させた。プラズマを放射線硬化樹脂層面に曝して重合させた。
つづいて、ガスバリア層蒸着用電子銃（９）に１５ｋＷの電力を供給して電子線を発生させ、蒸着原料であるアルミニウムに照射して蒸発させることにより、ガスバリア層（１０３）を設けた。この時アルミニウムの酸化剤として酸素を、アルミニウム蒸発速度に対しモル比で０．４の割合でガスバリア層酸素供給装置（１５）から導入してアルミニウムと反応させ、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウム層を成膜した。
【００２９】
＜実施例１＞
放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバリア層を参考例１と同じ条件で成膜し、前記ガスバリア層上に放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を設けた。アクリレート（共栄社化学（株）製３ＥＧ−Ａ）の樹脂モノマーを、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂供給装置（１６）、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置（１２）を用いて硬化後の有機層厚が、１．０μｍになるように制御した。次いでプラズマ照射装置においてアルゴンプラズマを放射線硬化樹脂層面に接触させ放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を硬化させた。
【００３０】
＜参考例２＞
放射線硬化樹脂層Ａ（１０２）を設けず、ガスバリア層、放射線硬化樹脂層Ｂを実施例１と同じ条件で成膜した。 
【００３１】
＜比較例１＞
放射線硬化樹脂層Ａ（１０２）の硬化をプラズマでなく電子線によって行った以外は参考例１と同じ条件、層構成で成膜した。加速電圧１２０ｋＶ、電子線照射量１００ｋＧｙで硬化させた。
【００３２】
＜比較例２＞
放射線硬化樹脂層Ａ（１０２）および放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）の硬化をプラズマでなく電子線によって行った以外は実施例１と同じ条件、層構成で成膜した。電子線照射条件は各層とも比較例１と同じ条件で行った。
【００３３】
＜比較例３＞
放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）の硬化をプラズマでなく電子線によって行った以外は参考例２と同じ条件、層構成で成膜した。電子線照射条件は各層とも比較例１と同じ条件で行った。
【００３４】
＜比較例４＞
放射線硬化樹脂層Ａ（１０２）の硬化をプラズマでなく紫外線によって行った以外は参考例１と同じ条件、層構成で成膜した。１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプを用い、照射量は２００ｍＪ／ｃｍ２で硬化させた。
【００３５】
＜比較例５＞
放射線硬化樹脂層Ａ（１０２）および放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）の硬化をプラズマでなく紫外線によって行った以外は実施例１と同じ条件、層構成で成膜した。紫外線照射条件は各層とも比較例４と同じ条件で行った。
【００３６】
＜比較例６＞
放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）の硬化をプラズマでなく紫外線によって行った以外は参考例２と同じ条件、層構成で成膜した。紫外線照射条件は比較例４と同じ条件で行った。
【００３７】
＜比較例７＞
放射線硬化樹脂層Ａ（１０２）及び放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を設けず、ガスバリア層のみを参考例１と同じ条件で成膜した。
【００３８】
上記実施例１、参考例１、２および比較例１、２、３、４、５、６、７で得られたガスバリア材について、以下の評価を行った。その結果を表１に示す。
＜評価方法＞
（１）酸素バリア性・・温度３０℃、湿度７０％ＲＨの雰囲気下でＭｏｃｏｎＯｘｔｒａｎ１０／５０Ａ酸素透過度測定装置（モダンコントロール社製）によって測定し酸素透過度とした。
（２）水蒸気バリア性・・温度４０℃、湿度９０％ＲＨの雰囲気下でＭｏｃｏｎＰｅｒｍａｔｒａｎＷ６水蒸気透過度測定装置（モダンコントロール社製）にて測定し水蒸気透過度とした。
（３）欠陥観察・・光学顕微鏡で２×２ｃｍ範囲に含まれる膜の欠陥を数え、塵埃などによって擦られたことに起因する損傷を調べた。
（４）可撓性・・ガスバリア材の試料を長さ４０ｃｍ、幅１４ｃｍに切り出し、長さ方向に所定の歪（３％、６％）まで引っ張った後、元に戻して酸素バリア性、水蒸気バリア性を評価した。
（５）密着性評価・・１０×３０ｍｍの大きさのガスバリアフィルムを、水温２５℃の３％水酸化ナトリウム水溶液に１０分浸漬させた後、水洗、乾燥しセロハンテープを貼ってはがしてもＡｌＯｘ膜が下地に全て残っている条件を満たしたものを○そうでない場合を×とした。
（６）総合評価・・欠陥検査５以下、引っ張り無し酸素、水蒸気透過度をそれぞれ０．１０、０．１０以下、３％引っ張り酸素、水蒸気透過度をそれぞれ０．１０、０．５０以下、６％引っ張り酸素、水蒸気透過度をそれぞれ１．００、１．００以下、密着度○または△という条件を全て満たすものを○とし、それ以外を×とした。
なお、表中の酸素透過度の単位はｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ、水蒸気透過度の単位はｇ／ｍ２・ｄａｙである。
【００３９】
【表１】
0004710137.tif 000002
【００４０】
表１に示すように、本発明によって示されたようにガスバリア材は高度なガスバリア性を有し、比較例に示されるガスバリア材に比べ初期のガスバリア性に優れ、さらに所定の歪みまで引っ張った後のガスバリア性に優れ十分な可撓性を示すことが確認された。
【００４１】
【発明の効果】
本発明により、放射線硬化樹脂層樹脂原料を蒸着法により形成した後、プラズマ照射による重合によって、熱によるダメージもなく、帯電も無く均一に有機層を成膜できることにより、塵埃の付着を防ぎ巻き取り搬送中での擦れによる損傷を削減され、可撓性、密着性、透明性に優れ、また重合開始剤が不要かつ重合速度の速い積層体の製造方法を提供することができる。また、本発明をガスバリア材の製造方法に応用した場合、放射線硬化樹脂層の存在によって可撓性が向上し、放射線硬化樹脂層を基材樹脂とガスバリア層の間に設けることによって密着性が向上した、高度なガスバリア性を有する積層体の製造方法が提供できる。また、放射線硬化樹脂層をさらに最上層に積層することによって、ガスバリア層の損傷を防ぐことができる。
また、この製造方法において、すべての層を同一真空装置内で大気に開放せず逐次的に形成することで生産性が大きく向上させることができる。
【００４２】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の積層体の形成に関わり、真空成膜装置（１）を含む製造装置の１例を説明する模式説明図である。
【図２】本発明によって製造される積層体の１例を説明する模式説明図である。
【００４３】
【符号の説明】
１      真空成膜装置
２      真空ポンプ
３      冷却ロール
４      巻き出しロール
５      巻き取りロール
６      放射線硬化樹脂層Ａ樹脂蒸着装置
７      放射線硬化樹脂層Ａプラズマ照射装置
８      遮蔽板
９      ガスバリア層蒸着用電子銃
１０    坩堝
１１    偏向コイル
１２    放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置
１３    放射線硬化樹脂層Ｂプラズマ照射装置
１４    放射線硬化樹脂層Ａ樹脂供給装置
１５    ガスバリア層酸素供給装置
１６    放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂供給装置
１７    放射線硬化樹脂層Ａガス供給装置
１８    放射線硬化樹脂層Ｂガス供給装置
１０１  高分子樹脂基材
１０２  放射線硬化樹脂層Ａ
１０３  ガスバリア層
１０４  放射線硬化樹脂層Ｂ
【図１】
0004710137.tif 000003
【図２】
0004710137.tif 000004