(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素電極が設けられた有効領域と、
前記有効領域の外側に位置する遮光層と、
前記遮光層を覆い、当該遮光層の外縁部に重なる段差部を備えた保護膜と、
前記保護膜上に設けられ、前記段差部上まで延在した走査線あるいはデータ線として機能する複数の電極と、を具備し、
前記電極は、前記有効表示領域に、電極幅の広い部分を備えるとともに、前記段差部上に、前記有効表示領域から延在する電極幅の広い部分と前記有効表示領域よりも電極幅の狭い部分を備え、
前記段差部上の電極幅の広い部分と前記電極幅の狭い部分とが、前記遮光層の外縁部上又は前記遮光層の外縁部よりも内側で連結していることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記段差部は、前記有効領域の最外周に設けられた色材層と前記遮光層の外縁部との間における第１の段差と、前記保護膜の形成領域と前記保護膜の非形成領域との間における第２の段差とを備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記電極は、前記遮光層の外縁部よりも外側に、電極幅の広い部分をさらに備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置。
【請求項４】
基板上に複数の画素電極が設けられた有効領域と、
前記有効領域の外側に位置する遮光層と、
前記遮光層を覆い、当該遮光層の外縁部に重なる段差部を備えた保護膜と、
前記保護膜上に設けられ、前記段差部上まで延在した走査線あるいはデータ線として機能する複数の電極と、を具備し、
前記電極は、前記有効表示領域に、電極幅の広い部分を備えるとともに、前記段差部上に、前記有効表示領域から延在する電極幅の広い部分と前記有効表示領域よりも電極幅の狭い部分を備え、
前記段差部上の電極幅の広い部分と前記電極幅の狭い部分とが、前記遮光層の外縁部上又は前記遮光層の外縁部よりも内側で連結していることを特徴とするアレイ基板。
【請求項５】
複数の画素電極が設けられた有効領域と、前記有効領域の外側に位置する遮光層と、前記遮光層を覆いかつ当該遮光層の外縁部に重なる段差部を備えた保護膜と、前記保護膜上に設けられかつ前記段差部上まで延在した走査線あるいはデータ線として機能する複数の電極とを具備する、表示部を備え、
前記電極は、前記有効表示領域に、電極幅の広い部分を備えるとともに、前記段差部上に、前記有効表示領域から延在する電極幅の広い部分と前記有効表示領域よりも電極幅の狭い部分を備え、
前記段差部上の電極幅の広い部分と前記電極幅の狭い部分とが、前記遮光層の外縁部上又は前記遮光層の外縁部よりも内側で連結していることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置及びこの液晶装置を備えた電子機器に関するものであり、特に、走査電極あるいはデータ電極となるストライプ状の電極の一部に電極幅の狭い部分を設けることによって電極の形成時に走査電極同士の短絡を防止できるようにした液晶装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えばＴＦＤ素子(Thin Film diode)を用いた液晶装置は、ＴＦＤ素子及び画素電極が形成された透明基板、いわゆるアレイ基板を有すると共に、この透明基板に対向する対向基板を有している。
【０００３】
透明基板及び対向基板の互いに対向する面と反対側の面には、それぞれ偏光板が貼り付けられ、透明基板及び対向基板の互いに対向する面には、配向膜が形成され、これらの対向する配向膜の間に液晶層及びスペーサ等が配置されている。
【０００４】
図１７に上述の液晶装置の対向基板の要部平面図を示し、図１８には図１７のＡ−Ａ'線に沿う断面図を示す。尚、これらの図は、対向基板の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の対向基板の寸法関係とは異なる。
【０００５】
図１７と図１８に示すように、対向基板２０上には複数の色材層２１…が形成され、各色材層２１…の間には、マトリックス状に形成されたクロム等からなる遮光層２２が設けられている。
【０００６】
更に対向基板２０には、図１７及び図１８に示すように、各色材層２１…及び遮光層２２を覆う保護膜２３が設けられている。これら色材層２１…、遮光層２２及び保護膜２３によりいわゆるカラーフィルタが構成されている。
【０００７】
また、図１８に示すように、保護膜２３は、有効領域の最外周に位置する色材層２１と遮光層２２の最外周の輪郭を構成する遮光層外縁部２２ａとによる段差２３ｂが形成され、遮光層外縁部２２ａの外側に位置する保護膜周縁部２３ａにも保護膜２３の膜厚による段差２３ｃが形成されている。これらの段差２３ｂ、２３ｃによる段差部の合計の高さ、即ち対向基板２０の上面（保護膜の非形成領域２６）から、有効領域２７における保護膜２３の上面までの高さは、一般的な液晶装置において約５μｍ程度とされている。
【０００８】
そして、保護膜２３上には複数の短冊状の走査電極あるいはデータ電極として機能するストライプ電極２４…が形成されている。
【０００９】
ストライプ電極２４…は、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜等の透明導電性膜からなるもので、図１７及び図１８に示すように、保護膜２３上（保護膜の形成領域２５）に形成され、保護膜周縁部２３ａを経て保護膜２３の非形成領域２６まで延在している。
【００１０】
なお、保護膜の非形成領域２６とは、保護膜２３が形成されていない領域を指し、具体的には基板２０の上面が露出している保護膜２３の周囲の領域を指す。
【００１１】
現在一般的な高精細な液晶装置におけるストライプ電極２４の電極幅は１００μｍ前後とされ、各ストライプ電極２４、２４間の間隔（以下、配線間ギャップＧと記載する）は２０μｍ以下とされている。更に、高解像度の液晶装置の場合は特に、配線間ギャップＧが１２μｍ以下に形成されるようになっている。
【００１２】
このＩＴＯからなる短冊状のストライプ電極２４…は、いわゆるフォトリソグラフィ技術により形成される。即ち、保護膜２３及び対向基板２０上においてスパッタリング等によるＩＴＯ層の形成、ＩＴＯ層へのポジ型レジスト層の形成、露光・現像によるポジ型レジストのパターニング、パターニングされたレジストをマスクとするＩＴＯ層のエッチング等の工程を経て形成される。
【００１３】
尚、配線間ギャップＧはストライプ電極２４の電極幅と比較して極めて小さく、ばらつきを生じることがあるため、ストライプ電極２４…を形成した後に、配線間ギャップＧを顕微鏡等で目視により検査している。
【００１４】
配線間ギャップＧのばらつきは、ストライプ電極２４…と、透明基板上に設けられた画素電極との位置ずれの原因になることから、配線間ギャップＧの検査は保護膜２３の形成領域２５において行うのが最も好ましいと考えられる。
【００１５】
しかし、保護膜２３の形成領域２５、特に有効領域２７においては、透明なストライプ電極２４の下側に光反射率の高い遮光層２２が位置しているので、遮光層２２からの反射光によりストライプ電極２４…の視認が難しくなり、保護膜２３の形成領域２５での配線間ギャップＧの検査が難しくなっている。従って配線間ギャップＧの検査は通常、ストライプ電極２４…の電極幅がその長手方向に沿って一定であることを利用し、有効領域２７の外側にて行なっていた。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述のストライプ電極２４…の形成工程では、ＩＴＯ層上に積層するポジ型レジストの厚さが、段差部２３ｂ、２３ｃ付近で規定の厚さよりも大きくなる場合がある。ポジ型レジストの厚さが規定より大きくなる部分では露光が不完全になりやすく、このため段差部２３ｂ、２３ｃ付近のポジ型レジストの一部が現像後も残存することがある。このレジストの残存部分の存在は、例えば図１７に示すように、ストライプ電極２４のバリ２４ｘの発生や、ストライプ電極２４、２４同士を短絡させるブリッジ２４ｙの発生の原因となり、液晶装置の歩留まり低下の遠因となっていた。
【００１７】
また、バリ２４ｘやブリッジ２４ｙが発生すると、ストライプ電極２４…の電極幅がその長手方向に沿って一定にならなくなるので、有効領域２７の外側で配線間ギャップＧを検査した意味が無く、液晶装置の歩留まりの向上が困難となっていた。
【００１８】
特に、ストライプ電極２４、２４同士の短絡は、配線間ギャップＧが小さい高解像度の液晶装置に多く発生し、これにより高解像度の液晶装置の歩留まりが低くなっていた。
【００１９】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、電極同士が短絡することなく、製造工程における歩留まりが高く、また配線間ギャップの測定が容易に行える液晶装置を提供することを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
【００２１】
本発明の液晶装置は、複数の画素電極が設けられた有効領域と、前記有効領域の外側に位置する遮光層と、前記遮光層を覆い、当該遮光層の外縁部に重なる段差部を備えた保護膜と、前記保護膜上に設けられ、前記段差部上まで延在した走査線あるいはデータ線として機能する複数の電極と、を具備し、前記電極は、前記有効表示領域に、電極幅の広い部分を備えるとともに、前記段差部上に、前記有効表示領域から延在する電極幅の広い部分と前記有効表示領域よりも電極幅の狭い部分を備え、前記段差部上の電極幅の広い部分と前記電極幅の狭い部分とが、前記遮光層の外縁部上又は前記遮光層の外縁部よりも内側で連結していることを特徴とする。
【００２２】
係る液晶装置によれば、保護膜が段差を有する部分で電極の電極幅が狭くされるように構成されており、この構成によって保護膜の段差部における電極間の間隔（以下、配線間ギャップと記載する）が大きくなるので、段差部での電極同士の短絡を防止することが可能になる。
【００２４】
また、前記段差部は、前記有効領域の最外周に設けられた色材層と前記遮光層の外縁部との間における第１の段差と、前記保護膜の形成領域と前記保護膜の非形成領域との間における第２の段差とを備えることを特徴とする。
【００２５】
また、前記電極は、前記遮光層の外縁部よりも外側に、電極幅の広い部分をさらに備えることを特徴とする。
【００２６】
また、本発明のアレイ基板は、基板上に複数の画素電極が設けられた有効領域と、前記有効領域の外側に位置する遮光層と、前記遮光層を覆い、当該遮光層の外縁部に重なる段差部を備えた保護膜と、前記保護膜上に設けられ、前記段差部上まで延在した走査線あるいはデータ線として機能する複数の電極と、を具備し、前記電極は、前前記有効表示領域に、電極幅の広い部分を備えるとともに、前記段差部上に、前記有効表示領域から延在する電極幅の広い部分と前記有効表示領域よりも電極幅の狭い部分を備え、前記段差部上の電極幅の広い部分と前記電極幅の狭い部分とが、前記遮光層の外縁部上又は前記遮光層の外縁部よりも内側で連結していることを特徴とする。
【００２７】
また、本発明の電子機器は、複数の画素電極が設けられた有効領域と、前記有効領域の外側に位置する遮光層と、前記遮光層を覆いかつ当該遮光層の外縁部に重なる段差部を備えた保護膜と、前記保護膜上に設けられかつ前記段差部上まで延在した走査線あるいはデータ線として機能する複数の電極とを具備する、表示部を備え、前記有効表示領域に、電極幅の広い部分を備えるとともに、前記段差部上に、前記有効表示領域から延在する電極幅の広い部分と前記有効表示領域よりも電極幅の狭い部分を備え、前記段差部上の電極幅の広い部分と前記電極幅の狭い部分とが、前記遮光層の外縁部上又は前記遮光層の外縁部よりも内側で連結していることを特徴とする。
【００２８】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００２９】
図１に本発明の第１の実施形態である液晶装置の斜視図を示し、図２には図１に示す液晶装置の要部の斜視図を示す。尚、これらの図は、液晶装置の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の液晶装置の寸法関係とは異なる。
【００３０】
図１に示す液晶装置１は、ＴＦＤ素子(Thin Film diode)を用いたもので、図１に示すように、ＴＦＤ素子が形成された透明基板１０、いわゆるアレイ基板を有すると共に、透明基板１０に対向する位置に対向基板２０が配置されている。
【００３１】
透明基板１０には図２に示すように、マトリックス状に配置されたＴＦＤ素子１４…と、複数の信号線あるいは走査線として機能する配線１５…とが形成されており、各配線１５…は複数のＴＦＤ素子１４…を直列に接続している。また、各ＴＦＤ素子１４…には画素電極１６…が接続されている。
【００３２】
また、図２に示すように、透明基板１０及び対向基板２０の互いに対向する面の反対側の面には、偏光板３０、３１がそれぞれ貼り付けられている。また、透明基板１０及び対向基板２０の互いに対向する面には、図示しないが配向膜が形成されており、これらの対向する配向膜の間に液晶層及びスペーサ等が配置されている。
【００３３】
また、図３に対向基板２０の要部(図１に示す２点鎖線枠内)の平面図を示し、図４には図３に示すＢ−Ｂ'線に沿う断面図を示す。尚、これらの図は、図１及び図２と同様、液晶装置の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の液晶装置の寸法関係とは異なる。
【００３４】
図２、図３及び図４に示すように、対向基板２０上（図２では対向基板２０の下側）には複数の色材層２１…が形成され、各色材層２１…の間には、マトリックス状に形成されたクロム等からなる遮光層２２が設けられている。
【００３５】
更に対向基板２０には、図２〜図４に示すように、各色材層２１…及び遮光層２２を覆う保護膜２３が設けられている。これら色材層２１…、遮光層２２及び保護膜２３によりいわゆるカラーフィルタが構成されている。
【００３６】
各色材層２１…は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかに着色されてなるもので、図３ではモザイク状に配置されているが、ストライプ状あるいはトライアングル状などの他の態様に配置されたものであっても良い。
【００３７】
遮光層２２は、色材層２１…を囲むようにマトリックス状に形成されたもので、クロム等からなり、コントラストの向上、色材の混合防止などの機能、いわゆるブラックマトリックスとしての機能を有しているものである。
【００３８】
また、図４に示すように、保護膜２３は、有効領域２７の最外周にある色材層と遮光層２２の最外周の輪郭を構成する遮光層外縁部２２ａとによる段差２３ｂと、保護膜２３の輪郭を構成する保護膜周縁部２３ａにおける保護膜２３の膜厚に相当する段差２３ｃと、からなる段差部を有する。すなわち、有効領域２７と保護膜の非形成領域２６の間に、保護膜が段差を有する領域２９（以降、保護膜の段差部２９という）が設けられている。
【００３９】
また遮光層２２が保護膜２３に覆われているため、遮光層外縁部２２ａは、保護膜周縁部２３ａよりも色材層２１…寄りに位置している。
【００４０】
これらの段差部２３ｂ、２３ｃの合計の高さは、約５μｍ程度とされている。
【００４１】
そして、保護膜２３上（図２では保護膜２３の下側）には複数の略短冊状の走査電極あるいはデータ線として機能するストライプ電極２４…が形成されている。
【００４２】
ストライプ電極２４…は、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜等の透明導電性膜からなるもので、図４に示すように、保護膜２３上（保護膜の形成領域２５）に形成されると共に、保護膜周縁部２３ａを経て保護膜２３の非形成領域２６まで延在している。
【００４３】
なお、保護膜２３の非形成領域２６とは、保護膜２３が形成されていない領域を指し、具体的には基板２０の上面が露出している保護膜２３の周囲の領域を指す。
【００４４】
またこれ以後、有効領域の最外周に位置する色材層に囲まれた領域を有効領域２７と称する。
【００４５】
ストライプ電極２４は、有効領域２７上に位置する電極基部２４ａと、保護膜の段差部２９上および保護膜非形成領域２６上に位置して電極基部２４ａに連結する電極狭部２４ｂとから構成されている。なお本実施形態で電極狭部２４ｂは、遮光層外縁部２２ａ上で電極基部２４ａに連結しているが、この連結部は色材層２１側に若干接近していても差し支えない。
【００４６】
また、電極基部２４ａ並びに電極狭部２４ｂのそれぞれの電極幅は、それぞれの長手方向に対して一定になっている。
【００４７】
そして電極狭部２４ｂの電極幅は、電極基部２４ａの電極幅よりも狭くされている。
【００４８】
このようにして、保護膜の段差部２９におけるストライプ電極２４…の電極幅が、有効領域２７における電極幅よりも狭くされている。
【００４９】
これにより、保護膜の段差部２９における各ストライプ電極２４…の間隔（以下、配線ギャップＧ2と記載する）が、有効領域２７上における各ストライプ電極２４…の間隔（以下、配線ギャップＧ1と記載する）より大きくなる。
【００５０】
具体的には、電極基部２４ａの電極幅が７０〜２００μｍの範囲、例えば１００μｍ程度とされ、電極狭部２４ｂの電極幅が６０〜１８０μｍの範囲、例えば９６μｍ程度とされている。また配線間ギャップＧ1が２０μｍ以下、高解像度の液晶装置の場合の配線間ギャップＧ1は１２μｍ以下とされている。
【００５１】
これにより、電極狭部２４ｂにおける配線間ギャップＧ2が２４μｍ以下、高解像度の液晶装置の場合の配線間ギャップＧ2が１６μｍ以下となる。
【００５２】
なお、電極幅及び各配線間ギャップの大きさは、上記に記載した範囲に限定されるものではなく、任意に変更することが可能である。
【００５３】
このストライプ電極２４…は以下に説明するように、フォトリソグラフィ技術により形成される。
【００５４】
まず図５に示すように、対向基板２０上に遮光層２２、色材層２１…、保護膜２３を順次積層してカラーフィルタを形成する。
【００５５】
次に図６に示すように、保護膜２３及び対向基板２０上にＩＴＯ層２４ｃ、ポジ型のフォトレジスト層３１を順次積層し、所定のマスクを用いてポジ型フォトレジストに光を照射してフォトレジスト層３１の露光・現像を行い、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとしてＩＴＯ層の一部をエッチングして除去する。
【００５６】
図６において、ＩＴＯ層２４ｃが保護膜２３及び対向基板２０上に積層され、このＩＴＯ層２４ｃ上にポジ型のフォトレジスト層３１が積層される。従って、ポジ型のフォトレジスト層３１には段差部２９に由来する段差部３１ａが形成されるか、あるいはこの保護膜の段差部を埋めるようにレジスト３１が塗布される。このため、このレジスト層の段差部３１ａでは露光が不完全になってレジスト層３１の一部がエッチング後でも残存することがある。
【００５７】
しかし、この段差部３１ａ近傍に形成されるストライプ電極２４の配線ギャップＧ2が大きくなるように構成されているので、たとえこの部分でフォトレジスト層３１が残存したとしても、配線間ギャップＧ2が大きいためストライプ電極２４、２４同士が短絡するようにレジスト層が残存することはない。
【００５８】
そして図７に示すように、残存したフォトレジスト層３１を除去することにより、図２及び図３に示すようなストライプ電極２４…が得られる。
【００５９】
上記の液晶装置は、ストライプ電極２４の電極狭部２４ｂの電極幅が電極基部２４ａの電極幅よりも狭く構成されているので、保護膜の段差部２９における配線間ギャップＧ2が大きくなり、保護膜の段差部におけるストライプ電極２４…同士の短絡を防止できる。
【００６０】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態を図面を参照して説明する。
【００６１】
図８に本発明の第２の実施形態である液晶装置の対向基板２０の要部の平面図を示し、図９には図８に示すＣ−Ｃ'線に沿う断面図を示す。
【００６２】
尚、これらの図は図１〜図４と同様に液晶装置の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の液晶装置の寸法関係とは異なる。
【００６３】
また、図８及び図９に示す構成要素のうち、図３及び図４に示す構成要素と同一の構成要素には、図３及び図４と同一の符号を付してその説明を省略、若しくは簡単に説明する。
【００６４】
図８及び図９に示すように、対向基板２０上には複数の色材層２１…が形成され、各色材層２１…の間には、マトリックス状に形成されたクロム等からなる遮光層２２が設けられている。
【００６５】
更に対向基板２０には、図９に示すように、各色材層２１…及び遮光層２２を覆う保護膜２３が設けられている。これら色材層２１…、遮光層２２及び保護膜２３によりいわゆるカラーフィルタが構成されている。
【００６６】
また、図９に示すように、保護膜２３には、有効領域の最外周に位置する色材層と遮光層２２の最外周の輪郭を構成する遮光層外縁部２２ａとによる段差２３ｂが形成され、保護膜２３の輪郭を構成する保護膜周縁部２３ａには保護膜２３の膜厚に相当する段差２３ｃが形成されている。保護膜２３は、有効領域２７における保護膜２３と保護膜非形成領域２６との間に、段差部２９を有する。
【００６７】
また遮光層２２が保護膜２３に覆われているため、遮光層外縁部２２ａは、保護膜周縁部２３ａよりも色材層２１…寄りに位置している。
【００６８】
これらの段差部２９の合計の高さは、約５μｍ程度とされている。
【００６９】
そして、保護膜２３上（図２では保護膜２３の下側）には複数の略短冊状のストライプ電極４４…が形成されている。
【００７０】
ストライプ電極４４…は、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜等の透明導電性膜からなるもので、図８及び図９に示すように、保護膜２３上（保護膜の形成領域２５）に形成されると共に、保護膜周縁部２３ａを経て保護膜２３の非形成領域２６まで延在している。
【００７１】
図８に示すように、ストライプ電極４４は、有効領域２７に位置する電極基部４４ａと、保護膜の段差部２９上に位置して電極基部４４ａに連結する電極狭部４４ｂと、保護膜２３の非形成成領域２６に位置して電極狭部４４ｂに連結する電極端部４４ｃとから構成されている。
【００７２】
電極狭部４４ｂは、保護膜の段差部２９から保護膜周縁部２３ａの外側まで延在している。本実施例では、電極狭部４４ｂは遮光層外縁部２２ａ上で電極基部２４ａと連結し、保護膜周縁部２３ａより外側で電極端部４４ｃと連結しているが、電極基部４４ａと電極狭部４４ｂとの接続部は、色材層よりに位置していても良い。
【００７３】
また、電極基部４４ａ、電極狭部４４ｂ並びに電極端部４４ｃのそれぞれの電極幅は、それそれの長手方向に対して一定になっている。
【００７４】
そして電極狭部４４ｂの電極幅は、電極基部４４ａ及び電極端部４４ｃの電極幅よりも狭くされている。また、電極基部４４ａの電極幅と電極端部４４ｃの電極幅は同一とされている。
【００７５】
また、電極端部４４ｃの長手方向の輪郭を構成する一対の辺４４ｄ、４４ｄは、電極基部４４ａの長手方向の輪郭を構成する一対の辺４４ｅ、４４ｅの延長線上に位置している。
【００７６】
これにより、保護膜の段差部２９における配線ギャップＧ4が、有効領域２７における配線間ギャップＧ3よりも大きくなる。また有効領域２７における配線間ギャップＧ3と、保護膜２３の非形成領域２６における配線間ギャップＧ5とが一致する。
【００７７】
具体的には、電極基部４４ａ及び電極端部４４ｃの電極幅が７０〜２００μｍの範囲、例えば１００μｍ程度とされ、電極狭部４４ｂの電極幅が６０〜１８０μｍの範囲、例えば９６μｍ程度とされている。また電極基部４４ａ及び電極端部４４ｃにおける配線間ギャップＧ3、Ｇ5が２０μｍ以下、高解像度の液晶装置の場合は、配線間ギャップＧ3、Ｇ5が１２μｍ以下とされている。
【００７８】
これにより、電極狭部４４ｂにおける配線間ギャップＧ4が２４μｍ以下、高解像度の液晶装置の場合に配線間ギャップＧ4が１６μｍ以下となる。
【００７９】
なお、電極幅及び配線ギャップの大きさは、上記に記載した範囲に限定されるものではなく、任意に変更することが可能である。
【００８０】
この実施形態の液晶装置は、ストライプ電極４４の電極狭部４４ｂの電極幅が電極基部４４ａの電極幅よりも狭く構成されているので、段差部２９における配線間ギャップＧ4が大きくなり、遮光層外縁部２２ａの段差２２ｂ近傍におけるストライプ電極４４…同士の短絡を防止できる。
【００８１】
また、遮光層２２からの反射光により有効領域２７における配線間ギャップＧ3の測定が妨げられたとしても、電極端部４４ｃにおける配線間ギャップＧ5が配線間ギャップＧ3と同一であるので、配線間ギャップＧ5を測定することで配線間ギャップＧ3の大きさを知ることができる。
【００８２】
更に、電極端部４４ｃの輪郭を構成する一対の辺４４ｄ、４４ｄが、電極基部４４ａの輪郭を構成する一対の辺４４ｅ、４４ｅの延長線上に位置しているので、配線間ギャップＧ5を測定することで電極基部４４ａにおける配線間ギャップＧ3をより正確に測定することができる。
【００８３】
（液晶装置の別の構成）
上記の第１の実施形態及び第２の実施形態においては、本発明をＴＦＤ素子型の液晶装置に適用した形態について説明したが、本発明はこれに限らず、例えば図１０に示すような単純マトリックス型の液晶装置に本発明を適用しても良い。
【００８４】
図１０に単純マトリックス型の液晶装置の要部の斜視図を示す。尚、この図は、液晶装置の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の液晶装置の寸法関係とは異なる。
【００８５】
なお、ここでは、第１の実施形態で説明したストライプ電極２４を適用する例を説明するが、第２の実施形態にて説明したストライプ電極４４を適用してもよいのは勿論である。
【００８６】
図１０に示す単純マトリックス型の液晶装置は、データ線あるいは走査線として機能する複数の短冊状の電極５６が形成された透明基板５０を有すると共に、透明基板５０に対向する位置に上記の対向基板２０が配置されている。
【００８７】
電極５６…は、相互に一定の間隔をあけて配置され、それぞれ同一方向に延在している。
【００８８】
また、透明基板５０及び対向基板２０の互いに対向する面の反対側の面には、偏光板３０、３１がそれぞれ貼り付けられている。また、透明基板５０及び対向基板２０の互いに対向する面には、図示しないが配向膜が形成されており、これらの対向する配向膜の間に液晶層及びスペーサ等が配置されている。
【００８９】
そして、対向基板２０上（図１０では対向基板２０の下側）には複数の色材層２１…が形成され、各色材層２１…の間には、マトリックス状に形成されたクロムからなる遮光層２２が設けられている。
【００９０】
更に対向基板２０には、各色材層２１…及び遮光層２２を覆う保護膜２３が設けられている。これら色材層２１…、遮光層２２及び保護膜２３によりいわゆるカラーフィルタが構成されている。
【００９１】
そして、保護膜２３上（図２では保護膜２３の下側）には、先に詳細に説明した走査線あるいはデータ線として機能する複数の略短冊状のストライプ電極２４…が形成されている。ストライプ電極２４…の長手方向は、データ電極５６…の長手方向に対して交差する関係になっている。
【００９２】
（電子機器）
次に、以上詳細に説明した液晶装置を備えた電子機器の実施形態について図１１及び図１２を参照して説明する。
【００９３】
なお、ここでは、第１の実施形態の液晶装置を適用する例を説明するが、第２の実施形態の液晶装置を適用してもよいのは勿論であり、また上記の単純マトリックス型の液晶装置として適用してもよい。
【００９４】
まず図１１に、第１の実施形態の液晶装置を備えた電子機器の概略構成を示す。図１１において、電子機器は、表示情報出力源１０００、表示情報処理回路１００２、駆動回路１００４、上記の第１実施形態の液晶装置１、クロック発生回路１００８並びに電源回路１０１０を備えて構成されている。
【００９５】
表示情報出力源１０００は、ＲＯＭ(Read Only Memory)、ＲＡＭ(Random Access Memory)、光ディスク装置などのメモリ、画像信号を同調して出力する同調回路等を含み、クロック発生回路１００８からのクロック信号に基づいて所定フォーマットの画像信号などの表示情報を表示情報回路１００２に出力する。
【００９６】
表示情報処理回路１００２は、増幅・極性反転回路、シリアル−パラレル変換回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種処理回路を含んで構成されており、クロック信号に基づいて入力された表示情報からデジタル信号を順次生成し、クロック信号ＣＬＫとともに駆動回路１００４に出力する。駆動回路１００４は液晶装置１を駆動する。
【００９７】
次に図１２にこのように構成された電子機器の具体例を示す。
【００９８】
図１２において、電子機器の他の例たるマルチメディア対応のラップトップ型のパーソナルコンピュータ１２００は上記第１の実施形態の液晶装置１がトップカバーケース内に設けられており、更に、ＣＰＵ、メモリ、モデム等を収容すると共にキーボード１２０２が組み込まれた本体１２０４を備えている。
【００９９】
更に図１３には電子機器の他の例である携帯型電話を示す。図１３において、符号２００は携帯電話本体を示し、符号２０１は上記の液晶装置１を用いた液晶表示部を示している。
【０１００】
図１４には電子機器のその他の例であるワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置を示す。図１４において、符号３００は情報処理装置、符号３０１はキーボードなどの入力部、符号３０３は情報処理装置本体、符号３０２は上記の液晶装置１を用いた液晶表示部を示している。
【０１０１】
図１５には電子機器のその他の例である腕時計型電子機器を示す。図１５において、符号４００は時計本体を示し、符号４０１は上記の液晶装置１を用いた液晶表示部を示している。
【０１０２】
また図１６には、電子機器の別の例である投射型表示装置を示す。
【０１０３】
図１６において、符号５３０は光源、符号５３３、５３４はダイクロイックミラー、符号５３５、５３６、５３７は反射ミラー、符号５３８は入射レンズ、符号５３９はリレーレンズ、符号５２０は出射レンズ、符号５２２、５２３、５２４は上記の液晶装置１を用いた液晶光変調装置、符号５２５はクロスダイクロイックプリズム、符号５２６は投射レンズを示している。
【０１０４】
光源５３０は、メタルハラルドなどのランプ５３１とランプ５３１の光を反射するリフレクタ５３２とからなる。青色光・緑色光反射のダイクロイックミラー５３３は、光源５３０からの光束のうちの赤色光を透過させるとともに青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は、反射ミラー５３７で反射されて、赤色光用液晶光変調装置５２２に入射される。一方、ダイクロイックミラー５３３で反射された色光のうち緑色光は、緑色光反射のダイクロイックミラー５３４によって反射され、緑色光用液晶光変調装置５２３に入射される。一方、青色光は、第２のダイクロイックミラー５３４も透過する。青色光に対しては、長い光路による光損失を防ぐため、入射レンズ５３８、リレーレンズ５３９、出射レンズ５２０を含むリレーレンズ系からなる導光手段５２１が設けられ、これを介して青色光が青色光用液晶光変調装置５２４に入射される。
【０１０５】
各光変調装置により変調された３つの色光は、クロスダイクロイックプリズム５２５に入射する。このプリズムは、４つの直角プリズムが張り合わされ、その内面に赤色を反射する誘電体多層膜と青色を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって、３つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ２６によってスクリーン上に投射され、画像が拡大されて表示される。
【０１０６】
以上、図１２ないし図１６を参照して説明した電子機器の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、電卓、エンジニアリングワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が図１１に示した電子機器の例として挙げられる。
【０１０７】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明の液晶装置は、保護膜の形成領域から非形成領域まで延在する複数の短冊状のストライプ電極とを具備してなり、少なくとも保護膜の段差部におけるストライプ電極の電極幅が、有効領域におけるストライプ電極の電極幅より狭く構成されているので、保護膜の段差部における配線間ギャップが大きくなり、段差部でのストライプ電極同士の短絡を防止することができ、液晶装置の信頼性を向上できる。
【０１０８】
また、本発明の液晶装置は、保護膜の段差部におけるストライプ電極の電極幅が、有効領域における電極幅より狭く構成され、かつ保護膜の非形成領域における電極幅の一部分が、有効領域における電極幅に一致するように構成されているので、有効領域と保護膜の非形成領域とに挟まれた段差部において配線間ギャップが大きくなり、これにより遮光層外縁部の段差部でのストライプ電極同士の短絡を防止できる。
【０１０９】
また、配線間ギャップを保護膜の非形成領域で測定することができ、遮光層の反射光により配線間ギャップの測定が妨害されることがない。
【０１１０】
また、本発明の液晶装置は、保護膜の非形成領域におけるストライプ電極の長手方向の輪郭を構成する一対の辺が、有効領域におけるストライプ電極の長手方向の輪郭を構成する一対の辺の延長線上にあるので、保護膜の非形成領域において有効領域上のストライプ電極の配線間ギャップをより正確に測定することができ、これにより特に高解像度の液晶装置の歩留まりを高くして液晶装置の信頼性を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１の実施形態であるＴＦＤ型の液晶装置を示す斜視図である。
【図２】  図１の液晶装置の要部を示す斜視図である。
【図３】  図１に示す液晶装置の対向基板の要部を示す図であって、図１における２点鎖線枠内の平面図である。
【図４】  図３におけるＢ−Ｂ'線の断面図である。
【図５】  図１に示す液晶装置の対向基板の製造方法を説明するための工程図である。
【図６】  図１に示す液晶装置の対向基板の製造方法を説明するための工程図である。
【図７】  図１に示す液晶装置の対向基板の製造方法を説明するための工程図である。
【図８】  本発明の第２の実施形態である液晶装置の対向基板の要部を示す平面図である。
【図９】  図８におけるＢ−Ｂ'線の断面図である。
【図１０】  単純マトリックス型の液晶装置の要部を示す斜視図である。
【図１１】  本発明による電子機器の実施形態の概略構成を示すブロック図である。
【図１２】  電子機器の一例としてパーソナルコンピュータを示す正面図である。
【図１３】  電子機器の他の例である携帯型電話を示す斜視図である。
【図１４】  電子機器のその他の例である携帯型情報装置を示す斜視図である。
【図１５】  電子機器のその他の例である腕時計型電子機器を示す斜視図である。
【図１６】  電子機器の別の例である投射型表示装置を示す概略構成図である。
【図１７】  従来の液晶装置の対向基板の要部を示す平面図である。
【図１８】  図１７おけるＡ−Ａ'線の断面図である。
【符号の説明】
１  液晶装置
２０  対向基板（基板）
２１  色材層
２２  遮光層
２３  保護膜
２４、４４  ストライプ電極
４４ｄ，４４ｅ  辺（一対の辺）
２５  保護膜の形成領域
２６  保護膜の非形成領域
２７  有効領域
２９  保護膜の段差部
【図１】
0004631159.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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