(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に隔壁を形成したディスプレイ用部材であって、隔壁が低融点ガラス材料を含有し、かつ隔壁が平均粒子径０．００６〜０．０８μｍの無機微粒子により構成される粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を含有し、該無機微粒子が、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化錫から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするディスプレイ用部材。
【請求項２】
低融点ガラス材料が、ガラス転移点４００〜５５０℃、荷重軟化点４５０〜６００℃であることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用部材。
【請求項３】
低融点ガラス材料の平均屈折率が１．５〜１．６５であることを特徴とする請求項１または２記載のディスプレイ用部材。
【請求項４】
隔壁が、コーディエライト、セルジアン、アノーサイト、ステアタイト、スポジュウメン、フォルステライト、シリカ、高融点ガラスからなる群より選ばれたフィラーを含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用部材。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか記載のディスプレイ用部材を用いたことを特徴とするプラズマディスプレイ。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか記載のディスプレイ用部材を用いたことを特徴とするプラズマアドレス液晶ディスプレイ。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか記載のディスプレイ用部材を用いたことを特徴とする電子放出素子を用いたディスプレイ。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれか記載のディスプレイ用部材を用いたことを特徴とする蛍光表示管素子を用いたディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、プラズマアドレス液晶ディスプレイ（ＰＡＬＣ）、電子放出素子（フィールドエミッション、ＦＥ）あるいは蛍光表示管素子（ＶＦＤ）を用いたディスプレイ等のディスプレイに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＤＰや電子放出素子、蛍光表示管素子を用いたディスプレイは、液晶ディスプレイ(ＬＣＤ)に比べて明るい画像が得られると共に、視野角が広い、さらに大画面化、高精細化の要求に応えられることから、そのニーズが高まりつつある。
【０００３】
電子放出素子には、熱電子放出素子と冷陰極電子放出素子がある。冷陰極電子源を用いたディスプレイは、電子放出素子から放出される電子ビームを蛍光体に照射して蛍光を発光させることで画像を表示するものである。この装置において、前面ガラス基板と背面ガラス基板にそれぞれの機能を付与して用いるが、背面ガラス基板には、複数の電子放出素子とそれらの素子の電極を接続するマトリックス状の配線が設けられる。これらの配線は、電子放出素子の電極部分で交差することになるので絶縁するための絶縁層が設けられる。さらに両基板の間で耐大気圧支持部材として隔壁（スペーサ）が形成される。
【０００４】
蛍光表示管(ＶＦＤ）の構造と電気的動作機構は、ＣＲＴと異なりＶＦＤでは数十Ｖの電圧による数十ｍＡの低速電子流で蛍光体を励起する。このようなＶＦＤ素子を用いたディスプレイにおいても、発光領域を区切るため格子状などの隔壁が形成される。
【０００５】
ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に設けられた隔壁で仕切られた放電空間内で対向するアノード電極およびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、この空間内に封入されているガスから発生する紫外線を放電空間内に塗布された蛍光体に当てることによって表示を行う。
【０００６】
プラズマアドレス液晶（ＰＡＬＣ）ディスプレイは、ＴＦＴ−ＬＣＤのＴＦＴ（薄膜トランジスター）アレイ部分をプラズマチャネルに置き換えたもので、プラズマ部分以外は基本的にＴＦＴ−ＬＣＤと同じ構造である。プラズマ発生部分は、高さ２００μｍ程度、ピッチ４８０μｍ程度の隔壁で区切られている。  つまり上記の各種ディスプレイは、いずれも隔壁を必要とする。以下、これらの各種ディスプレイを代表してＰＤＰについて記述する。ＰＤＰにおける隔壁は、従来、絶縁ガラスペーストをスクリーン印刷法で形成しているが、この方法ではスクリーン版の伸縮による位置合わせの精度の問題上、ＰＤＰの大面積化、高解像度化に伴い要求される、高アスペクト比で高精細の隔壁が得られない。このような問題を改良する方法として、感光性ペーストを用いてフォトリソグラフィ技術により隔壁を形成する方法が知られている。
【０００７】
一方、隔壁は単に発光区域を区分するのみでなく、発光輝度、色純度などのディスプレイの表示特性に影響を与えるものである。蛍光体層からの発光の効率を向上するためには、隔壁の反射率を高くしたいという要求がある。つまり、隔壁の光透過率が高く反射率が低いと、隔壁側面や隔壁間の底面に塗布されている蛍光体層から発光される表示光の反射が不足し、さらに、隣の隔壁間の蛍光体層の表示光の洩れ込みが起こり、輝度が高く色純度の良好なディスプレイを得ることができない。
【０００８】
そこで、隔壁の反射率を上げ蛍光体層からの発光の効率を向上するための手段として、例えば特公平６−４４４５２号公報には、隔壁に酸化チタン等の白色顔料を含有させることが開示されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかし上記の手段では、感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法による隔壁形成において、白色顔料により光の透過性が阻害されるため良好なパターニング性を得ることができない。
【００１０】
本発明は、かかる矛盾的な問題を解決し、フォトリソグラフィ法の良好なパターニングにより形成した隔壁を有し、さらに隔壁の反射率が高く、発光輝度等の表示特性に優れたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、基板上に隔壁を形成したディスプレイ用部材であって、隔壁が低融点ガラス材料を含有し、かつ隔壁が平均粒子径０．００６〜０．０８μｍの無機微粒子により構成される粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を含有し、該無機微粒子が、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化錫から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするディスプレイ用部材である。
【００１２】
また本発明は、上記のディスプレイ用部材を用いた各種のディスプレイである。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明をＰＤＰの作製手順に従って説明するが、本発明は、プラズマアドレス液晶ディスプレイならびに電子放出素子または蛍光表示管を用いたディスプレイにおいても、好ましく適用できる。
【００１４】
ＰＤＰの基板には、ソーダガラスやＰＤＰ用ガラス基板（例えば、旭硝子社製“ＰＤ２００”）が用いられる。
【００１５】
基板上に、導電性金属によりアドレス電極を形成する。導電性金属としては、銀、銅、クロム、アルミニウム、ニッケル、金などを用いることができる。アドレス電極は幅２０〜１００μｍのストライプ状に形成される。次いで電極を被覆するように誘電体層を形成するのが好ましい。
【００１６】
次いで、誘電体層上もしくは電極が形成された基板上に隔壁を形成する。本発明において隔壁は、感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法により形成する。すなわち、感光性ペーストを塗布し、露光し、露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して現像した後に焼成して隔壁を形成する。
【００１７】
本発明のディスプレイ用部材は、隔壁が平均粒子径０．００３〜０．０８μｍ、好ましくは０．００６〜０．０８μｍ、さらに好ましくは０．００８〜０．０８μｍの極微小の無機微粒子（以下、このような極微小の無機微粒子をナノ粒子と呼ぶ）により構成される０．３〜２μｍの凝集粒子を含有することが重要である。この構成を採ることにより、フォトリソグラフィ法によるパターニングにおいては良好な光の透過性を示し、焼成後の隔壁としては高い反射率を示すという矛盾的に要求される特性を両立して得ることができる。
【００１８】
つまり、上記のようなナノ粒子は、露光に用いる紫外線光の波長３５０〜４２０ｎｍよりも微細であり、また感光性ペーストおよびその塗布膜内においては比較的均一に分散されているため、紫外線光の透過性、すなわちパターニング性に影響を与えることなく露光が可能である。
【００１９】
一方、露光・現像後の焼成において、このナノ粒子は凝集して粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を構成する。するとこの凝集粒子は隔壁の反射率を向上させ、蛍光体層からの発光の効率を向上することができる。凝集粒子としてより好ましいサイズは粒子径で０．５〜１．０μｍである。ここでいう凝集粒子の粒子径とは、電子顕微鏡等による凝集粒の観察写真を画像処理し、凝集粒子の見かけの面積と同面積の円に換算した際の直径をいう。
【００２０】
上記のように、ナノ粒子は、露光光の透過を阻害しないよう充分小さいことが重要であり、具体的には平均粒子径が０．０８μｍ以下である。但し過度に小さいと、感光性ペースト及びその塗布膜内においても凝集し、露光光の透過を阻害することとなる。従って感光性ペースト法によって形成される隔壁が含有するナノ粒子の平均粒子径は、後述する焼結成長も考慮すると、０．００３μｍ以上となる。
【００２１】
このようなナノ粒子としては、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化錫の群から選ばれた少なくとも一種を用いることが好ましい。これらの酸化物を用いることにより、焼成により凝集した際に、高い反射率を呈することができる。特に、酸化チタンを少なくとも３０重量％以上含有する酸化チタン系微粒子が好ましい。
【００２２】
酸化チタン系微粒子は、パターン形成において良好な光透過性を示し、焼成後の隔壁としては高い反射性を示すという矛盾的に要求される特性を両立させることができるためである好ましく用いられる。また、上記の酸化チタン微粒子中に酸化ケイ素、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムなどの微粒子とを複合化することは、酸化チタン微粒子の凝集を回避するのに効果がある場合があるため好ましい。
【００２３】
焼成後のディスプレイ用部材に存在するナノ粒子の隔壁形成材に対する含有量としては、５〜３０重量％、さらには１０〜２０重量％が好ましい。５重量％以上とすることにより、添加による反射率向上の効果を得ることができる。また、３０重量％以下とすることにより、露光光の透過を阻害せずに、所望の隔壁パターンの形成を行うことができる。
【００２４】
以上のようなナノ粒子を焼成後の隔壁に含有させるためには、感光性ペーストを調製する際に仕込む段階（ペースト調製段階）でのナノ粒子のサイズを、焼成後の隔壁において所望するナノ粒子のサイズよりもやや小さめにすることが好ましい。というのは、ナノ粒子は数μｍオーダーの粒子に比べ低温でも焼結しやすいという性質を有し、隔壁の焼成において焼結成長することもあるためである。仕込む段階でのナノ粒子としては、平均粒子径が０．００２〜０．０６μｍ、さらには０．００５〜０．０３μｍであることが好ましい。仕込む段階（ペースト調製段階）でのナノ粒子が小さすぎると感光性ペーストおよびその塗布膜において凝集を抑えるのが困難な傾向にあり、大きすぎると、焼成後の凝集の効率が低下する傾向にあり、さらに大きすぎると、露光時のパターニング性を阻害する傾向にある。
【００２５】
また、この仕込み段階におけるナノ粒子には、界面活性剤により表面処理を施すことも好ましい。そうすることにより、当該ナノ粒子が感光性樹脂成分や有機溶媒と相互作用して凝集するのを防ぐことができる。
【００２６】
また本発明のＰＤＰ用部材の隔壁は、低融点ガラスを含有する。低融点ガラスを用いることにより、後述するように感光性有機成分との屈折率差の制御が容易となり、露光時のパターニング性を阻害することがなく、また焼成により強固な隔壁を形成することができる。
【００２７】
低融点ガラスは、ガラス転移点４００〜５５０℃、荷重軟化点４５０〜６００℃であることが好ましい。荷重軟化点を４５０℃以上とすることで、ディスプレイ形成の後工程において隔壁が変形することがなく、荷重軟化点を６００℃以下とすることで、焼成時に溶融し強度の高い隔壁を得ることができる。
【００２８】
また、低融点ガラスの平均屈折率は、感光性ペーストにおける感光性有機成分の平均屈折率との整合をとり、露光光の散乱を抑えるために、１．５〜１．６５の範囲内とすることが好ましい。このような特性を満たす低融点ガラス粉末は、酸化物換算表記で以下の様な組成であることが好ましい。
0004631153.tif 000002
【００２９】
酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウムのアルカリ金属酸化物のうち少なくとも１種を用い、その合計量が３〜１５重量％、さらには３〜１０重量％であることが好ましい。
【００３０】
アルカリ金属酸化物は、ガラスの荷重軟化点、熱膨張係数のコントロールを容易にするのみならず、ガラスの屈折率を低くすることができるため、感光性有機成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。アルカリ金属酸化物の合計量が３重量％以上とすることでガラスの低融点化の効果を得ることができ、１５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持すると共に熱膨張係数を小さく抑えることができる。アルカリ金属としては、ガラスの屈折率を下げることやイオンのマイグレーションを防止することを考慮するならリチウムを選択するのが好ましい。
【００３１】
酸化ケイ素の配合量は５〜３０重量％が好ましく、より好ましくは１０〜３０重量％である。酸化ケイ素は、ガラスの緻密性、強度や安定性の向上に有効であり、また、ガラスの低屈折率化にも効果がある。熱膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチによる剥離などを防ぐこともできる。５重量％以上とすることで、熱膨張係数を小さく抑えガラス基板に焼き付けた時にクラックを生じない。また、屈折率を低く抑えることができる。３０重量％以下とすることで、ガラス転移点、荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付け温度を低くすることができる。
【００３２】
酸化ホウ素は、鉛などの重金属を含有しないガラスにおいて低融点化のために必要な成分であり、さらに低屈折率化にも有効であり、２０〜４５重量％、さらには２０〜４０重量％の範囲で配合することが好ましい。２０重量％以上とすることで、ガラス転移点、荷重軟化点を低く抑えガラス基板への焼き付けを容易にする。また、４５重量％以上とすることでガラスの化学的安定性を維持することができる。
【００３３】
酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムのうち少なくとも１種を用い、その合計量が２〜１５重量％、さらには２〜１０重量％であることが好ましい。これらの成分は、ガラスの低融点化、熱膨張係数の調整に有効であり、焼き付け温度の基板の耐熱性への適用、電気絶縁性、形成される隔壁の安定性や緻密性の点でも好ましい。２重量％以上とすることで低融点化の効果を得ることができると共に結晶化による失透を防ぐこともできる。また、１５重量％以下とすることにより、熱膨張係数を小さく抑え、屈折率も小さく抑えることができる。またガラスの化学的安定性も維持できる。
【００３４】
酸化アルミニウムはガラス化範囲を広げてガラスを安定化する効果があり、ペーストのポットライフ延長にも有効である。１０〜２５重量％の範囲で配合することが好ましく、この範囲内とすることでガラス転移点、荷重軟化点を低く保ち、ガラス基板上への焼き付けを容易とすることができる。
【００３５】
さらに、酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数を制御するために配合されることが好ましい。酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムは合計で２〜１５重量％配合するのが好ましい。合計量が２重量％以上とすることで結晶化によるガラスの失透を防ぎ、１５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持することができる。
【００３６】
また、上記の組成には表記されていないが、酸化亜鉛はガラスの熱膨張係数を大きく変化させることなく低融点化させる成分でありこれも配合されることが好ましい。多く配合しすぎると屈折率が大きくなる傾向にあるので、１〜２０重量％の範囲で配合するのが好ましい。
【００３７】
感光性ペーストに用いる低融点ガラス粉末は、ペースト形成時の充填性および分散性が良好で、ペーストの均一な厚さでの塗布が可能であると共にパターン形成性を良好に保つためには、平均粒子径が１〜５μｍであり、最大粒子径が３５μｍ以下であることが好ましい。このような粒度分布を有するガラス粉末がペーストへの充填性および分散性の点で優れているが、低融点ガラス粉末の場合は焼成工程でその殆どが溶融し一体化されるので、かなり大きな粒子径の粉末も許容される。しかし、焼成工程での加熱温度以上の荷重軟化点または融点を有するフィラー成分の場合は、そのまま隔壁中または隔壁表面に残留するので、その平均粒子径はより小さいことが好ましく１．５〜４μｍであることが適当である。この範囲であれば、充填性および分散性を満足させて、塗布性およびパターン形成性の優れた感光性ペーストを構成することができる。
【００３８】
本発明のＰＤＰ用部材の隔壁は、上記のナノ粒子やガラス材料の他に、平均粒子径１．５〜５μｍのフィラーを５〜３０重量％含有しても良い。このフィラーを含むことにより、焼成前のパターン形成性を維持しつつ、焼成後の隔壁の強度を保持し、焼成収縮率を抑制し、形状保持性を高める効果がある。さらに隔壁の誘電率を下げるのに効果がある。
【００３９】
平均粒子径１．５〜５μｍのフィラーは、感光性ペーストにおける感光性有機成分や低融点ガラスの平均屈折率との整合をとり、露光光の散乱を抑えるために、平均屈折率が１．４５〜１．６５の範囲内にあることが好ましい。このフィラーの平均屈折率を上記の範囲内とするために、組成を調整した高融点ガラス、結晶化ガラス、セラミックスからなるフィラーやコーディエライトが好ましく用いられる。
【００４０】
フィラーとしては、コーディエライト（２ＭｇＯ・２Ａｌ2Ｏ3・５ＳｉＯ2）、セルジアン（ＢａＯ・Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2）、アノーサイト（ＣａＯ・Ａｌ2Ｏ3・２ＳｉＯ2）、ステアタイト（ＭｇＯ−ＳｉＯ2）、スポジュウメン（ＬｉＯ２・Ａｌ2Ｏ3・４ＳｉＯ2）、フォルステライト（２ＭｇＯ・ＳｉＯ2）、シリカ（石英）、高融点ガラスが好ましく用られる。
【００４１】
高融点ガラスとしては、ガラス転移点５００〜１２００℃、荷重軟化点５５０〜１２００℃を有するものが好ましく、このような高融点ガラスは、酸化ケイ素および酸化アルミニウムをそれぞれ１５重量％以上含有する組成のものが好ましく、これらの含有量合計が５０重量％以上であることが必要な熱特性を得るのに有効である。高融点ガラスの組成はこれに限定されるものではないが、例えば以下のような酸化物換算組成のものを用いることができる。
酸化珪素            １５〜５０重量％
酸化ホウ素            ５〜２０重量％
酸化バリウム          ２〜１０重量％
酸化アルミニウム    １５〜５０重量％。
【００４２】
さらに具体的には、例えば、酸化珪素３８重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸化バリウム５重量％、酸化アルミニウム３６重量％で、その他の成分として酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウムを少量ずつ含有するガラス転移点６２５℃、荷重軟化点７５０℃の高融点ガラスの平均屈折率は１．５９であり、これは本発明で好ましく使用される低融点ガラスの平均屈折率と同等である。
【００４３】
フィラーのもう一つの成分であるコーディエライトの屈折率は１．５８であり、本発明の成分として好適である。
【００４４】
このようなフィラーの平均粒子径は１．５〜５μｍの範囲が好ましい。１．５μｍ以上とすることで形状保持性の効果を得ることができる。また、フィラー成分は焼成工程で溶融することがないので５μｍより大きすぎると、形成された隔壁の頂部の凹凸が大きくなりクロストークの原因となるなどの問題を生じる傾向にある。
【００４５】
隔壁形成に用いる感光性ペーストは、低融点ガラス、ナノ粒子、フィラー、感光性有機成分等を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散することにより調製される。ペーストの調製の際、ナノ粒子のペーストの段階からの凝集を回避するために、感光性ポリマやモノマーなどの感光性樹脂、光重合開始剤、無機材料から不純物イオンを除去しておくことが好ましい。有機成分に含まれる感光性モノマー、感光性オリゴマーもしくはポリマー、種々の添加剤の熱分解特性とガラス粉末成分の熱特性が不釣り合いになると、隔壁が褐色に着色したり、隔壁が基板から剥がれたりする欠陥が発生する傾向にあるので、これらの整合を図ることも肝要である。
【００４６】
感光性ペーストの粘度は、有機溶媒により１万〜２０万ｃＰ（センチ・ポイズ）程度に調整して使用される。この時使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ-ブチロラクトンなどやこれらのうちの1種以上を含有する有機溶媒混合物が挙げられる。
【００４７】
感光性ペーストの塗布は、スクリーン印刷法、バーコーター法、ロールコータ法、ドクターブレード法などの一般的な方法で行うことができる。塗布厚さは、所望の隔壁の高さとペーストの焼成による収縮率を考慮して決めることができる。
【００４８】
塗布・乾燥した感光性ペースト膜にフォトマスクを介して露光を行って、隔壁パターンを形成する。露光の際、ペースト塗布膜とフォトマスクを密着して行う方法と一定の間隔をあけて行う方法（プロキシミティ露光）のいずれを用いても良い。露光用の光源としては、水銀灯やハロゲンランプが適当であるが、超高圧水銀灯が最もよく使用される。超高圧水銀灯を光源として、プロキシミティ露光を行うのが一般的である。露光条件はペーストの塗布膜厚さによって異なるが、通常は５〜３０ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒から１０分間露光を行うのが適当である。
【００４９】
露光後、露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。本発明で好ましく用いられる感光性ペーストの感光性有機成分としては、側鎖にカルボキシル基を有するものが好ましく採用され、この場合にはアルカリ水溶液での現像が可能になる。アルカリとしては、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去し易いので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどがあげられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜１重量％、より好ましくは０．１〜０．６重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が完全に除去されない傾向にあり、アルカリ濃度が高すぎると、露光部のパターンが剥離したり、侵食したりする傾向にある。現像時の温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００５０】
感光性ペーストの塗布膜から露光・現像の工程を経て形成した隔壁パターンを次に焼成炉で焼成し、有機成分を熱分解して除去し、同時に無機成分中の低融点ガラスを溶融させて隔壁を形成する。
【００５１】
焼成の雰囲気や温度は、ペーストや基板の特性によって異なるが、通常は、空気中で焼成される。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。バッチ式の焼成を行うには通常、隔壁パターンが形成されたガラス基板を室温から５００℃程度まで数時間掛けてほぼ等速で昇温した後、焼成温度として設定した５５０〜６００℃に３０〜１２０分間で上昇させて、約１５〜３０分間保持して焼成を行う。焼成温度は用いるガラス基板のガラス転移点より低くなければならないので、ガラス基板を用いる場合には自ずから好ましい上限が存在する。焼成温度が高すぎたり、焼成時間が長すぎたりすると隔壁の形状にダレなどの欠陥が発生する傾向にある。
【００５２】
本発明のＰＤＰ用部材の隔壁は全光線反射率が５０％以上、さらには６０％以上、またさらには７０％以上であることが好ましい。全光線反射率が高いことにより、蛍光体層からの発光を高い割合で開口部から外部に放射することになり輝度を高めると共に、また隣合う他の発光色への影響を遮断することができ、それぞれの発光色の色純度を高めることができる。また、全光線反射率は９０％以下であることが好ましい。９０％以下とすることにより、外光の反射による非発光領域への写り込みを防ぐことができる。全光線反射率は、例えば実施例で用いた方法にて測定することができる。
【００５３】
また、隔壁の気孔率は２〜８％、さらには２〜５％であることが好ましい。気孔率を８％以下とすることにより、緻密な構造の隔壁が形成され隔壁強度が向上するとともに、下層部の密着性を高め、隔壁の倒れを防止することができる。また、気孔率をこの程度に抑えることができれば、気孔はほとんど閉気孔の状態で存在するため、輝度低下などの発光特性低下の原因となるガスや水分が放電時に気孔から排出されるのを防ぐことができ、放電寿命や、輝度安定性も向上する。
【００５４】
一方、気孔率を２％以上とすることにより、熱や機械的な衝撃に対する緩衝効果を発揮する。つまり適度な気孔の存在が、熱や、衝撃による亀裂の伝搬を分散させ、隔壁の破損を防ぐことができる。また適度な気孔の存在は、隔壁の高反射率化にも寄与させることができる。気孔率は、例えば実施例で用いた方法にて測定することができる。
【００５５】
隔壁に挟まれたセル内に、赤、緑、青に発光する蛍光体ペーストを塗布して必要に応じて焼成し、本発明のディスプレイ用部材としてプラズマディスプレイパネル用の背面板を製造することができる。この背面板と前面板とを張り合わせた後、封着、ガス封入して本発明のディスプレイとしてプラズマディスプレイが作製される。
【００５６】
これらの技術は、プラズマアドレス液晶ディスプレイならびに電子放出素子あるいは蛍光表示管を用いたディスプレイにおいても、好ましく適用される。
【００５７】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、濃度（％）は特に断らない限り重量％である。
【００５８】
（測定方法）
（１）感光性ペーストに添加するナノ粒子の平均粒子径の測定
堀場製作所製の動的光散乱式粒径分布測定装置ＬＢ−５００を用いて測定したが、実施例１１〜１５については、マイクロトラック粒度分析計ＵＰＡ１５０ＭＯＤＥＬ、Ｎｏ．９３４０（日機装株式会社）を用いて測定した。
【００５９】
（２）凝集粒子の粒子径の測定
イオンエッチング法で処理した試料を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて２万倍に拡大して撮影し、その写真の画像処理から凝集粒子を球（画像上は円）に近似し、その直径を算出した。５０個の凝集粒子について観察・画像処理を行い、それらの平均値を凝集粒子の粒子径とした。
【００６０】
（３）隔壁におけるナノ粒子の平均粒子径の測定
上記（２）と同様にＴＥＭを用いて対応箇所を５０万倍に拡大して撮影し、その写真の画像処理から平均粒子径を算出した。
【００６１】
（４）全光線反射率の測定
以下の装置及び測定条件にて行った。
測定装置：ＵＶ−３１０１ＰＣ型自記分光光度計（島津製作所製）
スリット幅：７．５ｎｍ
測定速度：SLOW（約４points/sec）
光源：ハロゲンランプ（340nm以上）
検出器：ＰＭＴ（860nm以下）
副白板：ＢａＳＯ４
入射角：８度
測定に用いた試料は、ガラス基板にペーストをスクリーン印刷法で塗布し乾燥した後、５９０〜６００℃で１５分間焼成した後の厚さ約３０μｍ膜である。全光線反射率（Ｒｔ）は入射角８度で入射した光の全反射を測定したものである。
【００６２】
（５）気孔率の測定
連続自動粉体真密度測定器（（株）セイシン企業製、オートトゥルーデンサーＭＡＴ−７０００）を用いて測定した。気孔率Ｐ（％）は、焼成膜を粉砕した微粉末での値を真密度ｄｔｈ、焼成膜の形態での値を嵩密度ｄｅｘとした時、Ｐ＝｛１−（ｄｅｘ／ｄｔｈ）｝×１００と定義される。
【００６３】
真密度は、塗布・焼成膜を乳鉢で指頭に感じない程度の３２５メッシュ以下くらいまで粉砕して測定する。一方、嵩密度は、塗布・焼成膜の一部を形状を崩さないように削りとり、粉砕を行わないこと以外は真密度の場合と同様にして計測した。
【００６４】
（実施例１）
まず感光性ペーストの調製を行った。感光性ペーストに含まれる各成分の量（重量部）は、低融点ガラス５６、ナノ粒子１４（つまり低融点ガラスとナノ粒子の混合比率は８０：２０）、感光性ポリマー１９、感光性モノマー７．５、光重合開始剤２．４、増感剤２．４とした。
【００６５】
酸化物換算組成が、分析値で酸化リチウム６．７％、酸化ケイ素２２％、酸化ホウ素３２％、酸化バリウム３．９％、酸化アルミニウム１９％、酸化亜鉛２．２％、酸化マグネシウム５．５％、酸化カルシウム４．１％の低融点ガラスを用いた。この低融点ガラスのガラス転移点は４９７℃、荷重軟化点は５３０℃、熱膨張係数は７５×１０-7／Ｋ、屈折率は１．５８、誘電率８．１であった。ガラス成分は、予めアトラクターで微粉末とし、平均粒子径２．６μｍの非球状粉末として使用した。
【００６６】
このガラス粉末１００重量部に対して、０．０８重量部のアゾ系有機染料スダンIVをアセトンに溶解し、分散剤を加えてホモジナイザーで均質に撹拌し、この溶液中にガラス粉末を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエバポレーターを用いてアセトンを蒸発させ、１５０〜２００℃の温度で乾燥した。
【００６７】
一方、γ−ブチロラクトンに感光性ポリマーを４０％溶液になるように混合し、撹拌しながら６０℃まで加熱して全てのポリマーを溶解した。用いた感光性ポリマーは、サイクロマーＰ（ダイセル化学製品ＡＣＡ２１０、分子量２８，０００、酸価１２０）を用いた。室温の感光性ポリマー溶液に、感光性モノマー（ＭＧＰ４００）、光重合開始剤(ＩＣ−３６９）および増感剤(２，４−ジエチルチオキサントン）を加えた後に、超音波攪拌器で３０分間ほど攪拌して均一な１液の状態となるように溶解させた。その後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。
【００６８】
ナノ粒子として、平均粒子径が０．００５μｍ（５ｎｍ）の酸化チタンをγ−ブチロラクトンに単分散に近い状態で分散した２０％濃度の溶液を用いた。
【００６９】
ナノ粒子の分散溶液と、前述の有機ビヒクルおよび低融点ガラスをスパチュラーで混ぜ、３本ローラで混合・分散して感光性ペーストを得た。
【００７０】
次いで、この感光性ペーストの焼成後の測定用の試料を準備した。感光性ペーストを１００ｍｍ角ガラス基板上に３２５メッシュのスクリーンを用いたスクリーン印刷により塗布した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するために塗布・乾燥を数回繰り返し行い、膜厚の調整を行った。途中の乾燥は８０℃で１０分間行った。その後、８０℃で１時間保持して乾燥した。乾燥後の塗布膜厚さは５０μｍとした。これを６００℃で１５分間焼成したところ、白色を呈し、全光線反射率は７０％、気孔率は６％であった。
【００７１】
また、焼成後における酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は０．０１μｍ、凝集粒子の粒子径は０．５３μｍであった。図１に焼成後の凝集粒子のＴＥＭ写真を示した。従って、後述するディスプレイ用部材の隔壁においても、同等の全光線反射率、気孔率、焼成後のナノ粒子の平均粒子径、凝集粒子の粒子径が得られているものと推察される。
【００７２】
次に、プラズマディスプレイの作製を行った。
ガラス基板（旭硝子社製ＰＤ２００）上に、感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィ法により、線幅４０μｍ、ピッチ１５０μｍの５００本のアドレス電極を形成した。
【００７３】
次に、電極上にガラス粉末５０重量％、酸化チタン１５％、エチルセルロース２０％、溶媒１５％からなるガラスペーストをスクリーン印刷により塗布した後に、焼成して誘電体層を形成した。
【００７４】
誘電体層上に、前述の測定用試料の塗膜の形成と同様にして感光性ペーストを塗布し、乾燥後の厚さ１６５μｍの塗膜を形成した。
【００７５】
続いて、１５０μｍピッチ、線幅２０μｍのネガ用のクロムマスクを用いて、上面から２０ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯でプロキシミティ露光した。露光量は６００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【００７６】
次に、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．２％水溶液をシャワーで３００秒間かけることにより現像し、その後、シャワースプレーを用いて水洗し、光硬化していないスペース部分を除去してガラス基板上にストライプ状の隔壁パターンを形成した。
【００７７】
このようにして得られた隔壁パターンを空気中、６００℃で１５分間焼成して白色隔壁を形成した。形成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観察したところ、高さ１１５μｍ、隔壁中央部の線幅３０μｍ、ピッチ１５０μｍであった。
【００７８】
隔壁間に蛍光体層を形成し、本発明のディスプレイ用部材としてプラズマディスプレイ用の背面板を得た。
【００７９】
この背面板を別途作製した前面板と合わせた後、封着しガス封入し駆動回路を接続してプラズマディスプレイを作製した。このパネルに電圧を印加して表示を行った。全面点灯時の輝度を大塚電子社製の測光機ＭＣＰＤ−２００を用いて測定した。輝度は４２０ｃｄ／ｍ2であった。
【００８０】
（実施例２）
ナノ粒子として平均粒子径が０．０１μｍの酸化チタンを用い、低融点ガラスの配合量を５９重量部、ナノ粒子の配合量を１０重量部（すなわち低融点ガラスとナノ微粒子との混合割合を８５：１５）とした以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の測定において、全光線反射率は６０％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．５μｍであった。さらに、プラズマディスプレイの輝度は３８０ｃｄ／ｍ2であった。
【００８１】
（実施例３）
ナノ粒子として平均粒子径が０．０３μｍの酸化チタンを用い、低融点ガラスの配合量を６３重量部、ナノ粒子の配合量を７重量部（すなわち 低融点ガラスとナノ粒子との混合割合を９０：１０）とし、隔壁の焼成温度を５９０℃とした以外は実施例１を繰り返した。焼成後の測定において、全光線反射率は５５％であり、気孔率は４％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は０．０５μｍ、凝集粒子の粒子径は０．７μｍであった。さらに、プラズマディスプレイ用の背面板において白色隔壁を形成することができ、これを用いたプラズマディスプレイの輝度は３５０ｃｄ／ｍ2であった。
【００８２】
（実施例４）
低融点ガラスとして、酸化物換算組成が分析値で、酸化リチウム６．７％、酸化ケイ素２２％、酸化ホウ素３２％、酸化バリウム３．９％、酸化アルミニウム１９％、酸化亜鉛２．２％、酸化マグネシウム５．５％、酸化カルシウム４．１％ののものを用いた。この低融点ガラスのガラス転移点は４９７℃、荷重軟化点は５３０℃、熱膨張係数は７５×１０-7／Ｋ、屈折率は１．５８であった。ガラス成分は、予めアトラクターで微粉末とし、平均粒子径２．６μｍの非球状粉末にして使用した。
【００８３】
ナノ粒子として粒度分布のピークが０．０５μｍにある酸化チタンを用い、低融点ガラスとして下記のものを用いた。
【００８４】
また、低融点ガラスの配合量を５９重量部、ナノ粒子の配合量を１０重量部（すなわち低融点ガラスとナノ微粒子との混合割合を８５：１５）とした。
【００８５】
これら以外は実施例１を繰り返した。焼成後の測定において、全光線反射率は６５％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０８μｍ、凝集粒子の粒子径は１．０μｍであった。さらに、プラズマディスプレイ用の背面板において白色隔壁を形成することができ、これを用いたプラズマディスプレイの輝度は４００ｃｄ／ｍ2であった。
【００８６】
（実施例５）
低融点ガラスとして、酸化物組成が分析値で、酸化リチウム８．６％、酸化ケイ素２０．１％、酸化ホウ素３１％、酸化アルミニウム２０．６％、酸化バリウム３．８％、酸化マグネシウム５．９％、酸化カルシウム４．２％、酸化亜鉛２．１％のものを用いた。この低融点ガラスのガラス転移点は４７２℃、荷重軟化点は５１５℃、熱膨張係数は８３×１０-7／Ｋ、平均屈折率は１．５９であった。ガラス成分は、予めアトラクターで微粉末とし、平均粒子径２．６μｍの非球状粉末にして使用した。
【００８７】
ナノ粒子として平均粒子径が０．０１μｍにある酸化アルミニウムを用た。
【００８８】
また低融点ガラスの配合量を６３重量部、ナノ粒子の配合量を７重量部（すなわち 低融点ガラスとナノ粒子との混合割合を９０：１０）とした。
【００８９】
さらに感光性ポリマーとして、メタクリル酸４０％、メチルメタクリレート３０％およびスチレン３０％からなる共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させたもので、その重量平均分子量は４３，０００、酸価は９５のものを用いた。
また隔壁の焼成温度を５９０℃とした。
【００９０】
これら以外は実施例１を繰り返した。焼成後の測定において、全光線反射率は５０％であり、気孔率は４％であった。また、焼成後の酸化アルミニウムのナノ粒子の平均粒子径は、０．０２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．４μｍであった。さらに、プラズマディスプレイ用の背面板において白色隔壁を形成することができ、これを用いたプラズマディスプレイの輝度は３３０ｃｄ／ｍ2であった。
【００９１】
（実施例６）
ナノ粒子として平均粒子径が０．０２μｍの酸化ケイ素を用いた以外は実施例５を繰り返した。
【００９２】
焼成後の測定において全光線反射率は５２％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸化ケイ素のナノ粒子の平均粒子径は、０．０３５μｍ、凝集粒子の粒子径は０．５μｍであった。さらに、プラズマディスプレイ用の背面板において白色隔壁を形成することができ、これを用いたプラズマディスプレイの輝度は３４０ｃｄ／ｍ2であった。
【００９３】
（実施例７）
ナノ粒子として平均粒子径が０．０２μｍの酸化セリウムを用いた以外は実施例５を繰り返した。
【００９４】
焼成後の測定において全光線反射率は５０％であり、気孔率は４％であった。また、焼成後の酸化セリウムのナノ粒子の平均粒子径は、０．０４５μｍ、凝集粒子の粒子径は０．７μｍであった。さらに、プラズマディスプレイ用の背面板において白色隔壁を形成することができ、これを用いたプラズマディスプレイの輝度は３３０ｃｄ／ｍ2であった。
【００９５】
（実施例８）
電子放出素子を用いたディスプレイは、電子放出素子を作製した電子源を固定する背面基板と、蛍光体層とメタルバックが形成された前面基板を封着して作製した。前面基板と背面基板との間には、支持枠と耐大気圧支持部材として隔壁を作製した。
【００９６】
表面伝導型電子放出素子および電極間配線を形成した基板上に、実施例１で用いた感光性ペーストをスクリーン印刷により全面塗布・乾燥し、これを繰り返して乾燥厚みが約１ｍｍの塗布膜を形成した。この塗布膜に、幅２ｍｍのストライプ状の開口部を１ｃｍピッチで有するフォトマスクを密着させて、出力１５ｍＷ／ｃｍ2の超高圧水銀灯で紫外線露光した。露光量は１．２Ｊ／ｃｍ2とした。次に、２回目の感光性ペーストの塗布・乾燥を行って、最初と同様の厚みの２段目の塗布膜を形成し、今度は開口部幅１．６ｍｍのフォトマスクを最初の露光部に対応するようにアライメントして同様に露光した。この手法を３段目まで繰り返し、３段目には１．２ｍｍの開口部を有するフォトマスクを使用した。このように露光処理の終わった塗布膜を実施例３と同様の手段で現像・水洗して、断面が３段の雛壇状の高さ２．３ｍｍのストライプ状の隔壁パターンを形成した。これを空気中５８０℃で２０分間焼成し、白色隔壁を有する電子放出素子を用いたディスプレイ用の背面基板を得た。ここで得られた隔壁の全光線反射率、気孔率および凝集粒子のサイズは、実施例３の場合と同様と推定することができる。
【００９７】
一方、ブラックマトリクスおよび３原色に発光する蛍光体層を形成しメタルバックを設けた前面基板を別途作製し、上記背面基板と封着して電子放出素子を用いたディスプレイを得た。得られたディスプレイは、白色隔壁の効果により輝度が向上した。
【００９８】
（実施例９）
実施例２の感光性ペーストを用いて、プラズマアドレス液晶ディスプレイ用の隔壁を形成した。実施例２と同様の白色隔壁が形成された。これにより、ディスプレイの輝度および色純度が向上した。
【００９９】
（実施例１０）
実施例３の感光性ペーストを用いて、蛍光表示管を用いたディスプレイ用の隔壁を形成した。実施例３と同様の白色隔壁が形成された。これにより、ディスプレイの輝度および色純度が向上した。
【０１００】
（実施例１１）
低融点ガラス粉末、酸化チタン微粒子およびフィラーとして高融点ガラス粉末からなる無機成分それぞれをを７５％、５％、２０％の割合で用いた。低融点ガラス粉末は、実施例１と同じ粉末を用いた。酸化チタン微粒子（多木化学社製、“タイノック”、酸化チタン濃度１８．５％）は、純度９９％以上で、平均粒子径は０．００４μｍであった。
【０１０１】
フィラーとして用いた高融点ガラスの酸化物換算組成は、酸化ケイ素３８％、酸化ホウ素１０％、酸化バリウム５％、酸化カルシウム４％、酸化アルミニウム３６％、酸化亜鉛２％、酸化マグネシウム５％であり、ガラス転移点６５２℃、荷重軟化点７４６℃を有し、平均粒子径２．４μｍで屈折率は１．５９、誘電率７．０であった。
【０１０２】
感光性ポリマーは、実施例１と同じものを用いた。  感光性ペーストの構成成分は、感光性ポリマー１５％、感光性モノマーＧＭＰＡ７．２％、光重合開始剤（チバ・ガイギー社製、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１：ＩＣ３６９）３．６％、ベンゾトリアゾール（ＢＴ）３．１５％、ノプコスパース（サンノプコ社製）０．５％、ハイドロキノンモノメチルエーテル（ＨＱＭＥ）０．１％、スダンIV０．０３５％、フローノン（共栄社化学社製）０．７％と無機成分７０％つぃた。溶媒にはγ−ブチロラクトンを用いた。ここで、ＧＭＰＡは、ビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル）イソプロピルアミン（以下、ＧＭＰＡと略記）で示されるモノマーである。この感光性ペーストを用い、焼成条件をを５９０℃、３０分保持とした以外は実施例１を繰り返した。
【０１０３】
焼成後の測定において、全光線反射率は５２％であり、気孔率は３％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０１μｍ、凝集粒子の粒子径は０．５μｍであった。さらに、プラズマディスプレイの輝度は４３０ｃｄ／ｍ2であった。
【０１０４】
（実施例１２）
ナノ粒子として、酸化チタン系微粒子（触媒化成製、オプトレイク５０２）を用いた。これは、酸化チタン４２．８％、酸化錫３７．１％、酸化ケイ素２１．１％から構成されており、その平均粒子径は０．００５μｍであった。低融点ガラス粉末、酸化チタン系微粒子およびフィラーとして高融点ガラス粉末からなる無機成分それぞれをを７７％、３％、２０％の割合で用いた以外は実施例１１を繰り返した。
【０１０５】
焼成後の測定において、全光線反射率は５３％であり、気孔率は３％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．６μｍであった。さらに、プラズマディスプレイの輝度は４００ｃｄ／ｍ2であった。
【０１０６】
（実施例１３）
実施例１１と同じナノ粒子を用い、フィラーとして誘電率３．８の石英を用いた以外は実施例１１を繰り返した。
【０１０７】
焼成後の測定において、全光線反射率は５８％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０１μｍ、凝集粒子の粒子径は０．４μｍであった。さらに、プラズマディスプレイの輝度は３８０ｃｄ／ｍ2であった。
【０１０８】
（実施例１４）
実施例１１と同じナノ粒子を用い、フィラーとして誘電率４．５のコーディエライトを用いた以外は実施例１３を繰り返した。
【０１０９】
焼成後の測定において、全光線反射率は６０％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．５μｍであった。さらに、プラズマディスプレイの輝度は３８０ｃｄ／ｍ2であった。
【０１１０】
（実施例１５）
ナノ粒子として、酸化チタン系微粒子（触媒化成製、オプトレイク５０５）を用いた。これは、酸化チタン４１．８％、酸化錫３７．１％、酸化ケイ素２１．１％から構成されており、その平均粒子径は０．００８μｍであった。フィラーとして誘電率６．３のセルジアン（ＢａＯ・Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2）を用いた以外は実施例１３を繰り返した。
【０１１１】
焼成後の測定において、全光線反射率は５５％であり、気孔率は５％であった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．０２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．５μｍであった。さらに、プラズマディスプレイの輝度は３８０ｃｄ／ｍ2であった。
【０１１２】
（比較例１）
ナノ粒子として平均粒子径が０．００２μｍの酸化チタンを用いた他は実施例１を繰り返した。焼成後の測定において全光線反射率は６５％であるが、気孔率が１０％となった。また、焼成後の酸化チタンのナノ粒子の平均粒子径は、０．００５μｍ、凝集粒子の粒子径は０．２μｍであった。一方、プラズマディスプレイの作製において感光性ペーストの塗布膜を露光・現像したが、ナノ粒子が凝集して、パターン形成が出来なかった。
【０１１３】
（比較例２）
実施例１で用いたナノ粒子の替わりに平均粒子径が０．１μｍの酸化チタンの酸化物粉末を用いた他は実施例１を繰り返した。焼成後の測定において全光線反射率は６５％であり、気孔率は３％であった。また、焼成後の酸化チタンの粒子の平均粒子径は０．２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．４μｍであった。しかしながら、プラズマディスプレイの作製において、感光性ペースト塗布膜を露光・現像したが、得られた隔壁パターンの形状が不適であり、良好な隔壁形成ができなかった。
【０１１４】
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【０１１５】
【発明の効果】
本発明のディスプレイ用部材における隔壁には、ナノ粒子が凝集して形成された粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子が存在するため隔壁の全光線反射率が高く、高輝度で、色純度に優れたディスプレイを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１における、ナノ粒子の凝集粒子の、透過型電子顕微鏡による観察写真である。
【図１】
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