(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを収容すると共に大気環境と真空環境とを移動するマスク収容容器を、真空環境において、前記マスクを載置するベース部材と前記マスクを覆う蓋部材とに分離させるマスク収容容器開装置であって、
前記マスク収容容器を載置して搬送するマスク搬送部と、
前記蓋部材を係止すると共に前記蓋部材を載置可能な蓋部材係止部と、
前記ベース部材を前記マスク搬送装置に向けて押圧するベース部材押圧部と、
を備え、
前記蓋部材を前記蓋部材係止部に係止させると共に、前記マスク搬送部により前記ベース部材を降下させて、前記ベース部材と前記蓋部材とを分離させることを特徴とするマスク収容容器開装置。
【請求項２】
前記蓋部材を前記蓋部材係止部に向けて押圧する蓋部材押圧部を備えることを特徴とする請求項１に記載のマスク収容容器開装置。
【請求項３】
前記ベース部材押圧部と前記蓋部材押圧部とは、同一の上下駆動部により上下移動されることを特徴とする請求項２に記載のマスク収容容器開装置。
【請求項４】
前記蓋部材押圧部と前記上下駆動部との間に、上下方向に変形可能な第一弾性部を備えることを特徴とする請求項３に記載のマスク収容容器開装置。
【請求項５】
前記ベース部材押圧部と前記上下駆動部との間に、上下方向に変形可能な第二弾性部を備えることを特徴とする請求項４に記載のマスク収容容器開装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５に記載のマスク収容容器開装置をマスク搬送経路上に備えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レチクルを収納して、大気環境と真空環境の間を移動するマスク収納容器を開けるマスク収納容器開装置、これを備える露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体集積回路の微細化に伴い、光の回折限界において制限される光学系の解像力を向上させるために、より短い波長のＥＵＶ(Extreme Ultra Violet)を使用した投影リドグラフィ装置が開発されている。この技術は７０ｎｍ以下の線幅の解像力が得られる技術として期待されている。ＥＵＶ光は空気によっても吸収されるため、その鏡筒内は高度の真空に保つ必要があり、また、マスク（レチクル）搬送系には特別な工夫が必要である。ＥＵＶ露光装置に使用されるレチクルには反射系のものが使用されるが、通常の紫外線を使った露光装置のおけるマスクと異なりペリクル膜を使用することができないため、パターン面がむき出しになる。したがって、マスク搬送や保管においてはパターン面に異物又はゴミが付着しないように保護する必要がある。
【０００３】
このため、クリーンフィルターポット（ＣＦＰ）と呼ばれるマスク収納容器がマスク搬送に使用されている。マスク収納容器は、アルミニウムからなる上蓋と下蓋で構成され、下蓋の上にマスクを載せた状態で上蓋を下蓋に被せて、マスクをマスク収納容器内に格納する。
そして、クリーンフィルターポッドは、マスクを収容して大気環境と真空環境とを行き来し、真空環境において内部に収容したマスクを取り出すことで、搬送中における異物又はゴミが付着の防止を図っている。
【特許文献１】特開平１１−０７４１８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、クリーンフィルターポッドは、真空状態と大気中とを行き来するので、上蓋及び下蓋に圧力差により力がかかり、上蓋及び下蓋との間に吸着力が発生する場合がある。このため、上蓋と下蓋とが外れずに、マスクが取り出せないことがある。上蓋と下蓋とを外しマスクを取り出す工程は、真空状態で行われるので、マスクを取り外すことができないエラーが発生すると、一旦、大気圧状態にしてエラーを解除しなければならなく、長時間製造ラインを止めなければならないというおそれがあった。
【０００５】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、マスク収納装置内で上蓋と下蓋とが確実に外れるようにするマスク収納容器開装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係るマスク収納容器開装置、露光装置では、上記課題を解決するために、以下の手段を採用した。
上記課題を解決するために、一実施例を示す図面に対応づけて説明すると、第１の発明は、マスク（１）を収納すると共に大気環境と真空環境とを移動するマスク収納容器（２、５２）を、真空環境において、マスクを載置するベース部材（２ｂ、５２ｂ）とマスクを覆う蓋部材（２ａ、５２ａ）とに分離させるマスク収納容器開装置（１８、３０、６０）であって、マスク収納容器を載置して搬送するマスク搬送部（１６）と、蓋部材を係止すると共に蓋部材を載置可能な蓋部材係止部（１８ｂ）と、ベース部材をマスク搬送装置に向けて押圧するベース部材押圧部（３３ａ、６２ｋ）とを備え、蓋部材を蓋部材係止部に係止させると共に、マスク搬送部により前記ベース部材を降下させて、ベース部材と蓋部材とを分離させるようにした。
この構成により、確実に、ベース部材と蓋部材とを分離させるため、マスクが取り出せないなどの支障がなくなり製造ラインを順調に稼動させることができる。
【０００７】
また、蓋部材（２ａ、５２ａ）を蓋部材係止部（１８ｂ）に向けて押圧する蓋部材押圧部（３３ｂ、６２ｊ）を備えるものでは、蓋部材が跳ね上がることを防止することができる。
また、ベース部材押圧部（３３ａ、６２ｋ）と蓋部材押圧部（３３ｂ、６２ｊ）とが、同一の上下駆動部（４０、６１）により上下移動されるものでは、簡易な装置でマスク収納容器を分離することができる。
また、蓋部材押圧部（３３ｂ、６２ｊ）と上下駆動部（４０、６１）との間に、上下方向に変形可能な第一弾性部（３２ｂ、６２ｇ）を備えるものでは、上下駆動部によりベース部材押圧部と蓋部材押圧部に降下方向への動力が伝達された際に、第一弾性部が変形することで、蓋部材押圧部を同一位置に停止させることができる。
また、ベース部材押圧部（３３ａ、６２ｋ）と上下駆動部（４０、６１）との間に、上下方向に変形可能な第二弾性部（３２ａ、６２ｈ）を備えるものでは、ベース部材押圧部とマスク搬送部とによりベース部材を適切な力で挟持することが可能となる。
【０００８】
第２の発明は、露光装置（１９）が、第１の発明のマスク収納容器開装置をマスク搬送経路（１５）上に備えるようにした。
この発明によれば、半導体素子などの製造ラインの信頼性を高めることができる。
【０００９】
なお、本説明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面に対応づけて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば以下の効果を得ることができる。
真空環境において、ベース部材と蓋部材とを分離させるマスク収納容器開装置が、マスク搬送部と、蓋部材係止部と、ベース部材押圧部とを備え、蓋部材を蓋部材係止部に係止させると共にマスク搬送部によりベース部材を降下させることで、ベース部材と蓋部材とを分離させるようにしたので、ベース部材と蓋部材とが吸着していた場合であっても、良好にベース部材と蓋部材とを分離させることができる。これにより、製造ラインを順調に稼動させることができる。
したがって、半導体素子などの製造ラインの稼働率向上が図られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明のマスク収納容器開装置、露光装置の実施形態について図を参照して説明する。
図１は、レチクル１、レチクル保持装置であるクリーンフィルターポット２、およびレチクルキャリア３の関係を示す概略である。図２は、レチクル１がクリーンフィルターポット２内に収納され、更にレチクルキャリア３に収納された状態を示す組立図（カバー３ｂが透明に描かれている）である。
レチクル１（マスク）は、上蓋２ａと下蓋２ｂとを有するクリーンフィルターポット２（ＣＦＰ）内に、上蓋２ａと下蓋２ｂとに挟まれる形で収納されて保護される。さらに、クリーンフィルターポット２は、基台３ａとカバー３ｂとを有するレチクルキャリア３（レチクルスミフポッド：ＲＳＰとも言う）内に収納される。
上蓋２ａには、突起部２ｅが図の左右に２ヵ所設けられている。これはこの部分を保持部材に引っ掛けて保持し、下蓋２ｂを下に下げることにより、上蓋２ａと下蓋２ｂとを分離するためのものである。
なお、レチクルキャリア３内には複数のクリーンフィルターポットが収納されることもあるが、以下の実施形態の説明では、一つのクリーンフィルターポットが収納される例について説明する。
【００１２】
図３は、レチクル搬送装置と露光装置の概要を示す模式図である。
外部から搬送されたレチクル１は、大気レチクルストッカ１１内に収納される。または、大気レチクルストッカ１１内に収納された状態で搬入される。そして、大気ロボット１２により、レチクルキャリアオープナー１３に搬入され、レチクルキャリア３内からレチクルキャリアオープナー１３内の洗浄雰囲気中へクリーンフィルターポットが取り出される。その後、大気ロボット１４により、クリーンフィルターポットが取り出されてロードロック室１５中に搬入される。なお、大気ロボット１４を含むロードロック室１５とレチクルキャリアオープナー１３などの通路は洗浄雰囲気内となっている。
【００１３】
ロードロック室１５には二つの扉１５ａ及び扉１５ｂが取り付けられている。ロードロック室１５内において真空引きが行われ、ロードロック室１５およびクリーンフィルターポット２内が真空状態になる。真空引きが完了した後、クリーンフィルターポット２が真空ロボット１６により、ロードロック室１５から取り出される。
具体的には、ロードロック室１５が大気開放状態のとき、扉１５ｂを閉めて、そして扉１５ａを開け、大気ロボット１４によりクリーンフィルターポット２をレチクルキャリアオープナー１３内から搬入する。その後、扉１５ａを閉めて真空引きを行い、真空引きが完了した後、扉１５ｂを開けて、真空ロボット１６により、クリーンフィルターポット２を真空領域内に取り出す。
【００１４】
真空領域内に搬入されたクリーンフィルターポット２は、真空レチクルライブラリー１７中に搬入され、そこで、一時的に保管される。実際に、露光装置１９においてレチクル１を使用する際は、レチクル１を収納したクリーンフィルターポット２が真空ロボット１６により真空レチクルライブラリー１７から取り出され、ＣＦＰオープナー１８内に搬入される。ＣＦＰオープナー１８は、クリーンフィルターポット２の上蓋２ａとレチクル１および下蓋２ｂとを分離する。
その後、レチクル１は、下蓋２ｂ上に載った状態で、真空ロボット１６により、露光装置１９のレチクルステージ１９ａまで搬送される。そして、レチクルステージ１９ａが有する静電チャックによりチャッキングされて、下蓋２ｂと分離さて露光に使用される。分離されたが下蓋２ｂは、真空ロボット１６によりＣＦＰオープナー１８内に戻され、真空ロボット１６に保持された状態で、レチクル１を用いた露光が終了するまで待機する。
【００１５】
レチクル１を用いた露光が終了すると、真空ロボット１６が下蓋２ｂをレチクルステージ１９ａまで搬送する。そして所定の位置で停止した状態で静電チャックのチャッキングを解除すると、レチクル１が下蓋２ｂの上に置かれる。その状態で、真空ロボット１６が下蓋２ｂをＣＦＰオープナー１８に搬送し、ＣＦＰオープナー１８内で先に分離された上蓋２ａを下蓋２ｂに被せる。その後、真空ロボット１６はクリーンフィルターポット２を真空レチクルライブラリー１７中に戻し保管する。
【００１６】
クリーンフィルターポット２を真空領域から取り出すときは、真空ロボット１６により真空レチクルライブラリー１７内のクリーンフィルターポット２をロードロック室１５中に入れ、そこでロードロック室１５内を大気圧とする。大気圧にした後、クリーンフィルターポット２は、大気ロボット１４によりレチクルキャリアオープナー１３内に戻し、レチクルキャリア３内に収納する。そして、レチクルキャリア３が大気レチクルストッカ１１内に格納される。大気レチクルストッカ１１に収納されている所望のレチクルキャリア３を作業者又はロボットが外部に搬送する。
なお、図３において、レチクルキャリア３の識別符号を読み取るレチクルキャリアＩＤリーダ２０ａと、レチクル１とクリーンフィルターポット２の識別符号を読むレチクルＩＤリーダ２０ｂと、レチクル１が真空引きされる際に受ける温度低下を補償するためにレチクル１の温度調整を行う温度補償ランプ２１が設けられている。レチクルキャリアＩＤリーダ２０ａとレチクルＩＤリーダ２０ｂとを使って、レチクル１、クリーンフィルターポット２及びレチクルキャリア３の情報を読み取って、目的とするレチクル１を露光装置１９に供給したり、露光装置１９から取り出したレチクル１を、所定のクリーンフィルターポット２及びレチクルキャリア３に収納したりする。
【００１７】
図４は、真空レチクルライブラリー１７の構造の概要を示す図である。
真空レチクルライブラリー１７は、立て板１７ａと横板１７ｂからなるラックであり（もう一枚の立て板１７ａは理解を容易にするため図示していない）、各横板１７ｂの上に、レチクル１を収納したクリーンフィルターポット２が載置されている。各横板１７ｂの断面がＬ字型をしている理由は、クリーンフィルターポット２の隅部を浮かせた状態とし、真空ロボットアーム１６ａの先端部が、下蓋２ｂの下部に差し込まれて、下蓋２ｂをすくい上げることが容易にできるようにするためである。
【００１８】
図５は、ＣＦＰオープナー１８の構造と、ＣＦＰ強制分離機構３０とを示した概略図である。ＣＦＰオープナー１８及びＣＦＰ強制分離機構３０により、クリーンフィルターポット２の上蓋２ａと下蓋２ｂとを分離する。
ＣＦＰオープナー１８は、立て板１８ａと横板１８ｂからなる１段のラックである（図面右側の立て板１８ａは理解を容易にするため図示していない）。横板１８ｂの上に、上蓋２ａの突起部２ｅが引っかかり、上蓋２ａが釣り下がるようになっている。ＣＦＰオープナー１８には、アライメント用ステージ２２が設けられている。このアライメント用ステージ２２は、図に示すように、Ｘ方向、これと直交するＹ方向への移動、およびこれら２方向と直行するＺ方向を軸とする回転（θ）が可能となっている。
また、ＣＦＰ強制分離機構３０は、支柱３１と下蓋押圧部としてのフレクチャー先端部３３ａとからなり、支柱３１にフレクチャー先端部３３ａが固定されている。支柱３１自体は、上下動駆動モータ４０に接続され、上下に移動できるようになっている。なお、図面右側の支柱３１は理解を容易にするため図示していない。
【００１９】
図６は、ＣＦＰオープナー１８において、レチクル１を下蓋２ｂ上に載置した状態で取り出している状態を示す概略図である。
横板１８ｂの上方から、下蓋２ｂの下面を真空ロボットアーム１６ａの先端部で支えた状態で、クリーンフィルターポット２を降ろす。すると、上蓋２ａの突起部２ｅが横板１８ｂに引っかかる。さらに真空ロボットアーム１６ａの位置を下げると、下蓋２ｂとその上に載置されているレチクル１とは、そのまま下に降りることになる。上蓋２ａは、突起部２ｅが横板１８ｂに引っかかった状態なので、横板１８ｂ上に保持されて残る。これにより、通常であれば、上蓋２ａと、レチクル１を載置した下蓋２ｂとの分離が完了する。
しかし、上蓋２ａと下蓋２ｂとが、クリーンフィルターポッド２は真空状態と大気中とを行き来するので、上蓋２ａ及び下蓋２ｂに圧力差が生じて上蓋２ａ及び下蓋２ｂがくっついていたり、クリーンフィルターポッド２にゴミが入らないように上蓋２ａ及び下蓋２ｂとの間に、Ｏリングなどのパッキン部材を備えている場合には、Ｏリングの粘着力により上蓋２ａ及び下蓋２ｂがくっついていたりする。
そこで、ＣＦＰ強制分離機構３０のフレクチャー先端部３３ａが下方に下がることで、下蓋２ｂを強制的に下側に押さえ、上蓋２ａ及び下蓋２ｂを分離する。その後、真空ロボットアーム１６ａを矢印の方へ引くことにより、レチクル１を載置した下蓋２ｂを取り出すことができる。
【００２０】
図７は、上蓋２ａと下蓋２ｂとを分離する過程をより詳細に示した図である。
ＣＦＰオープナー１８の立て板１８ａには、開口１８ｃが形成されている。かかる開口１８ｃには、ＣＦＰ強制分離機構３０のフレクチャーアーム３２ａが延びており、フレクチャーアーム３２ａの先端にはフレクチャー先端部３３ａが設けられている。フレクチャーアーム３２ａ及びフレクチャー先端部３３ａは、下蓋２ｂを４箇所で押さえるように、４個で設けられている。支柱３１は上下動駆動モータ４０に接続されており、支柱３１自体が上下動する。フレクチャーアーム３２ａ、レクチャー先端部３３ａ及び支柱３１は、ステンレス鋼などの金属で形成されている。フレクチャーアーム３２ａは、押圧力を与えるため弾性変形しやすいように、その形状、厚さ及び幅が適宜決定される。
【００２１】
まず、図７（Ａ）に示すように、真空ロボットアーム１６ａによってクリーンフィルターポッド２がＣＦＰオープナー１８が横方向（図面中では奥から手前方向）から挿入される。
クリーンフィルターポッド２がＣＦＰオープナー１８に挿入される際には、レクチャーアーム３２ａ及びフレクチャー先端部３３ａが上端に位置している。その状態において、真空ロボットアーム１６ａは、上蓋２ａの突起部２ｅの下面が、横板１８ｂの上面よりも上に、且つ下蓋２ｂの上面が、フレクチャー先端部３３ａの下面よりも下になるように、クリーンフィルターポッド２を横から挿入させる。
【００２２】
次に、図７（Ｂ）に示すように、真空ロボットアーム１６ａが矢印に示すように下方へ移動する。これにより、上蓋２ａの突起部２ｅの下面と横板１８ｂの上面とが接触し、上蓋２ａが係止される。
そして、本来ならば、真空ロボットアーム１６ａが更に下方へ所定距離だけ移動することで、下蓋２ｂは自重で上蓋２ａと下蓋２ｂとが分離し、真空ロボットアーム１６ａ上にレチクル１を載置した下蓋２ｂのみが載っているはずである。
しかし、上蓋２ａ及び下蓋２ｂに圧力差が生じて上蓋２ａ及び下蓋２ｂがくっついた状態、又はＯリングの粘着力により上蓋２ａ及び下蓋２ｂがくっついた状態であったり、クリーンフィルターポッド２の上蓋２ａと下蓋２ｂとが磁力等により吸着したりするものがある。
このようなクリーンフィルターポッド２では、下蓋２ｂの自重で上蓋２ａと下蓋２ｂとが分離することはないので、ＣＦＰ強制分離機構３０を用いて強制的に分離する必要がある。
【００２３】
そこで、図７（Ｃ）に示すように、ＣＦＰ強制分離機構３０を矢印に示すように下方へ移動させる。これにより、フレクチャー先端部３３ａの下面と下蓋２ｂの上面とが接触して、下蓋２ｂがフレクチャー先端部３３ａ及び真空ロボットアーム１６ａにより挟持される。
更に、図７（Ｄ）に示すように、フレクチャー先端部３３ａと真空ロボットアーム１６ａとを同期して、下方に所定距離だけ移動させることにより、くっついた状態又は磁力で引き合った状態の上蓋２ａと下蓋２ｂとを分離させることができる。
そして、更に、真空ロボットアーム１６ａのみを降下させることで、上蓋２ａとレチクル１を載置した下蓋２ｂとの分離が完了する（図６参照）。
【００２４】
図８は、ＣＦＰ強制分離機構３０の変形例である。
ＣＦＰオープナー１８の立て板１８ａには、開口１８ｃと開口１８ｄとが形成されている。開口１８ｃには、下蓋２ｂを押圧するフレクチャーアーム３２ａが延びており、開口１８ｄには、上蓋２ａの突起部２ｅを押圧するフレクチャーアーム３２ｂが延びている。フレクチャーアーム３２ｂの先端にはフレクチャー先端部３３ｂが設けられている。フレクチャーアーム３２ｂ及びフレクチャー先端部３３ａは、突起部２ｅを４箇所で押さえるように、４個で設けられている。フレクチャーアーム３２ｂも、フレクチャーアーム３２ａと同様に、支柱３１に形成されており、上下動駆動モータ４０で上下動する。
フレクチャーアーム３２ｂで突起部２ｅを押さえる理由は、フレクチャーアーム３２ａで、くっついた又は磁力で引き合った上蓋２ａと下蓋２ｂとを分離する際に、分離した際の衝撃で上蓋２ａが跳ね上がることがある。この上蓋２ａが跳ね上がることで生じる音、ゴミなどを抑えるためである。上蓋２ａが跳ね上がることを考慮して、押圧力を与えるため弾性変形しやすいように、フレクチャーアーム３２ｂの形状、厚さ及び幅が適宜決定される。フレクチャーアーム３２ｂは、上蓋２ａの跳ね上が防止だけであるため、上蓋２ａと下蓋２ｂとを分離するレクチャーアーム３２ａよりも、よく曲がる（弾性変形し易い）方が好ましい。
【００２５】
次に、ＣＦＰ強制分離機構の第２実施形態について説明する。
図９は、クリーンフィルターポット５２の概略構成を示す図である。図１０は、ＣＦＰ強制分離機構６０を示す図である。
クリーンフィルターポット５２の上蓋５２ａには、４つの突起部５２ｆが設けられており、この突起部５２ｆが上述したＣＦＰオープナー１８の横板１８ｂに係合することで、上蓋５２ａが釣り下がるようになっている。
また、上蓋５２ａと下蓋５２ｂとを分離する際に、上蓋５２ａが跳ね上がることを防止するのために、上蓋５２ａには押さえ領域５２ｇが形成されている、
また、上蓋２ａには、切り欠け部５２ｉが形成されており、下蓋５２ｂの押圧領域５２ｈを上方から押さえることが可能となっている。
クリーンフィルターポット５２の上蓋５２ａの四隅には、磁力で上蓋５２ａと下蓋５２ｂとが所定の力で吸着する磁気部材４２が４つ設けられ、また、外部からゴミなどの異物がレチクル１に付着しないように、ゴム、シリコンゴムなどでできたパッキン材４４がレチクル１を取り囲むように設けてある。
【００２６】
ＣＦＰ強制分離機構６０は、平面板６０ｄを上下動させるために、平面板６０ｄを案内する４本のガイド６０ａ、平面板６０ｄを上下移動させるボールネジ６０ｂ、及びボールネジ６０ｂを駆動する駆動モータ６１を固定基板１０ｅに備えている。
平面板６０ｄの下面には、上蓋５２ａの押さえ領域５２ｇを押圧するための４本のアーム部６０ｆと、下蓋５２ｂの押圧領域５２ｈを押圧するための２本のアーム部６０ｇとが接続されている。４本のアーム部６０ｆの先端には、弾性変形するコイルバネ６２ｇが取り付けられ、コイルバネ６２ｇには上蓋５２ａに当接する押圧部材６２ｊが取り付けられている。２本のアーム部６０ｇの先端には、弾性変形するコイルバネ６２ｈが取り付けられ、コイルバネ６２ｈには下蓋５２ｂに当接する押圧部材６２ｋが取り付けられている。
コイルバネ６２ｇ及び６２ｈは、押圧力を与えるため弾性変形しやすいように、その形状、バネ太さが適宜決定される。なお、コイルバネ６２ｇは、コイルバネ６２ｈよりも長いストローク（変形長さ）を有する。
【００２７】
次に、ＣＦＰ強制分離機構６０の動作について説明する。
まず、真空ロボットアーム１６ａは、上蓋５２ａの突起部５２ｆの下面が、横板１８ｂの上面よりも上に、且つ下蓋５２ｂの上面が、フレクチャー先端部３３ａの下面よりも下になるように、クリーンフィルターポッド２を横から挿入させる。
そして、真空ロボットアーム１６ａが下方へ移動することで、上蓋５２ａの突起部５２ｆの下面と横板１８ｂの上面とが接触し、上蓋５２ａが係止される。
次いで、ＣＦＰ強制分離機構６０を駆動して、平面板６０ｄを降下させる。これにより、４本のアーム部６０ｆの先端に設けた押圧部材６２ｊを上蓋５２ａの押さえ領域５２ｇに当接させる。同時に、２本のアーム部６０ｇの先端に設けた押圧部材６２ｋを下蓋５２ｂの押圧領域５２ｈに当接させる。
更に、真空ロボットアーム１６ａとＣＦＰ強制分離機構６０の平面板６０ｄとを同期させての降下させる。これにより、下蓋５２ｂは真空ロボットアーム１６ａと押圧部材６２ｋとにより挟持された状態で下方に移動する。一方、上蓋５２ａは、横板１８ｂと押圧部材６２ｊとに挟持された状態で係止されているので、上蓋５２ａと下蓋５２ｂとが分離する。
このようにした、磁力等により吸着した状態の上蓋５２ａと下蓋５２ｂとを良好に分離することができる。また、上蓋５２ａと下蓋５２ｂとを分離した際における上蓋５２ａの跳ね上がりを防止することができる。
【００２８】
ＥＵＶ露光装置１９の概要を図１１に示す。
ＥＵＶ光源Ｓから放出されたＥＵＶ光は照明光学系Ｄ、ＩＲ１、ＩＲ２、ＩＲ３及びＩＲ４を介して、レチクルＲ上に細長い円弧上の照明領域を形成する。照明されたレチクルＲのパターンからの光は複数の反射鏡からなる投影光学系ＰＲ１、ＰＲ２、ＰＲ３及びＰＲ４を介して。ウエハＷ上にレチクルパターン像を形成する。なおレチクルＲはレチクルステージ、ウエハＷはウエハステージに保持され、このレチクルステージ及びウエハステージを走査させることにより、レチクルＲのパターン像全体をウエハＷに転写する。ここではレチクルステージ及びウエハステージの図示を省略している。
【００２９】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲においてプロセス条件や設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】レチクル、クリーンフィルターポット及びレチクルキャリアの関係を示す概略図である。
【図２】レチクルがクリーンフィルターポット内に収納され、更にマスクキャリアに収納された状態を示す組立図である。
【図３】レチクル搬送装置と露光装置の概要を示す模式図である。
【図４】真空マスクライブラリーの構造の概要を示す図である。
【図５】ＣＦＰオープナー及びＣＦＰ強制分離機構の概略を示す図である。
【図６】ＣＦＰオープナー上で、レチクルを取り出す動作を示す図である。
【図７】上蓋と下蓋とを分離する過程を示した図である。
【図８】ＣＦＰ強制分離機構の変形例である。
【図９】クリーンフィルターポットの他の実施形態を示す図である。
【図１０】ＣＦＰ強制分離機構の他の実施形態を示す図である。
【図１１】ＥＵＶ露光装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００３１】
１…レチクル（マスク）
２…クリーンフィルターポット（マスク収納容器）
２ａ…上蓋（蓋部材）
２ｂ…下蓋（ベース部材）
１５…ロードロック室（マスク搬送経路）
１６…真空ロボット（マスク搬送部）
１８…オープナー（マスク収納容器開装置）
１８ｂ…横板（蓋部材係止部）
１９…露光装置
３０       強制分離機構（マスク収納容器開装置）
３２ａ…フレクチャーアーム（第二弾性部）
３２ｂ…フレクチャーアーム（第一弾性部）
３３ａ…フレクチャー先端部（ベース部材押圧部）
３３ｂ…フレクチャー先端部（蓋部材押圧部）
４０…上下動駆動モータ（上下駆動部）
５２…クリーンフィルターポット（マスク収納容器）
５２ａ…上蓋（蓋部材）
５２ｂ…下蓋（ベース部材）
６０…強制分離機構（マスク収納容器開装置）
６１…駆動モータ（上下駆動部）
６２ｇ…コイルバネ（第一弾性部）
６２ｈ…コイルバネ（第二弾性部）
６２ｊ…押圧部材（蓋部材押圧部）
６２ｋ…押圧部材（ベース部材押圧部）
【図１】
0004692238.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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