(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
−３０℃〜７０℃における平均線膨張係数αLが９５×１０-7／℃〜１３０×１０-7／℃であって、Ｎａ4-xＫxＡｌ4Ｓｉ4Ｏ16（０≦ｘ≦１）である結晶または固溶体が析出している光フィルタ基板用結晶化ガラスであって、１９０〜２２０℃における平均線膨張係数αHが８０×１０-7／℃〜１５０×１０-7／℃である光フィルタ基板用結晶化ガラス。
【請求項２】
αHが１１０×１０-7／℃〜１４５×１０-7／℃である請求項１に記載の光フィルタ基板用結晶化ガラス。
【請求項３】
ヤング率が８５ＧＰａ以上である請求項１または２に記載の光フィルタ基板用結晶化ガラス。
【請求項４】
波長１５５０ｎｍの光に対する吸光係数が０．０３ｍｍ-1以下である請求項１、２または３に記載の光フィルタ基板用結晶化ガラス。
【請求項５】
下記酸化物基準のモル％表示で、
ＳｉＯ2          ３０〜６５％、
Ａｌ2Ｏ3           ５〜３５％、
ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2   １〜１５％、
Ｎａ2Ｏ            ５〜４０％、
Ｋ2Ｏ              ０〜２０％、
Ｌｉ2Ｏ            ０〜１５％、
ＭｇＯ             ０〜１５％、
ＣａＯ             ０〜１５％、
ＳｒＯ             ０〜１５％、
ＢａＯ             ０〜１５％、
ＺｎＯ             ０〜１５％、
Ｂ2Ｏ3             ０〜１５％、
Ｐ2Ｏ5             ０〜１５％、
Ｙ2Ｏ3             ０〜１５％、
から本質的になる請求項１〜４のいずれかに記載の光フィルタ基板用結晶化ガラス。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の光フィルタ基板用結晶化ガラスからなる光フィルタ基板に誘電体多層膜が形成されていることを特徴とする光フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、波長分割多重方式（ＷＤＭ）光通信システムに用いられるバンドパスフィルタ等の光フィルタの基板に用いられる結晶化ガラスおよび光フィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＷＤＭ光通信システムにおいては特定範囲の波長の光、たとえば１５３０〜１６２０ｎｍの特定の波長の光を選択的に透過させるバンドパスフィルタが必要とされ、当該バンドパスフィルタとしては、ガラス基板、結晶化ガラス基板等の基板の上に誘電体多層膜が形成されているバンドパスフィルタが使用されている。
前記誘電体多層膜は、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5等の高屈折率誘電体の薄膜とＳｉＯ2等の低屈折率誘電体の薄膜とが交互に積層された膜であって、典型的には１００層程度の多層膜である。
【０００３】
このようなバンドパスフィルタに用いられる基板には、誘電体多層膜の屈折率の温度変化を補償してバンドパスフィルタ通過波長の温度変化を抑制するために、−３０℃〜７０℃における平均線膨張係数αLが９５×１０-7／℃〜１３０×１０-7／℃の範囲にあることが求められる。
【０００４】
モル％表示の組成が、ＳｉＯ2：４７．３％、ＴｉＯ2：２４．２％、Ｎａ2Ｏ：１５．６％、Ｋ2Ｏ：６．３％、Ｌｉ2Ｏ：４．６％、ＢａＯ：１．８％、ＭｇＯ：０．２％、であるガラス（「従来ガラス」）は、そのαLが１０１×１０-7／℃であり、バンドパスフィルタの基板として使用されている。
【０００５】
しかし前記従来ガラスからなるガラス基板には成膜時の基板の反りが大きい問題があった。これは、従来ガラスのヤング率Ｅ（＝８３ＧＰａ）が小さいことによると考えられ、よりＥの大きな基板が求められている。
この問題を解決する基板として、モル％表示の組成が、ＳｉＯ2：７４．１％、Ａｌ2Ｏ3：４．０％、ＺｒＯ2：０．６％、Ｋ2Ｏ：１．２％、Ｌｉ2Ｏ：１８．１％、ＭｇＯ：１．１％、ＺｎＯ：０．４％、Ｐ2Ｏ5：０．４％、であって二珪酸リチウム結晶が析出している結晶化ガラス（「従来結晶化ガラス」）からなる結晶化ガラス基板が提案されている。この従来結晶化ガラスのαLは１１１×１０-7／℃、Ｅは９６ＧＰａである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従来結晶化ガラスからなる結晶化ガラス基板はαLおよびＥに関する課題を解決するものではあるが、従来ガラスからなるガラス基板に多層膜を成膜する場合に比べ成膜条件の調整が困難な問題があった。
本発明は、以上の課題を解決する光フィルタ基板用結晶化ガラスおよび光フィルタの提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、−３０℃〜７０℃における平均線膨張係数αLが９５×１０-7／℃〜１３０×１０-7／℃であって、Ｎａ4-xＫxＡｌ4Ｓｉ4Ｏ16（０≦ｘ≦１）である結晶または固溶体が析出している光フィルタ基板用結晶化ガラスを提供する。
また、前記光フィルタ基板用結晶化ガラスからなる光フィルタ基板に誘電体多層膜が形成されていることを特徴とする光フィルタを提供する。
【０００８】
本発明者は、従来結晶化ガラスからなる結晶化ガラス基板において成膜条件の調整が困難である原因が、７０℃以上における膨張特性が従来結晶化ガラスと従来ガラスにおいて違うことに存在するものと考え、本発明に至った。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明における結晶化ガラスとは、ガラス中に結晶または固溶体が存在しているものであり、当該結晶または固溶体の存在は公知のＸ線回折法によって調べられる。
また、本発明の光フィルタ基板用結晶化ガラス（「本発明の結晶化ガラス」）は、バンドパスフィルタ等の光フィルタの基板に用いられる結晶化ガラスである。
【００１０】
本発明の結晶化ガラスのαLは９５×１０-7／℃〜１３０×１０-7／℃であり、これにより、本発明の結晶化ガラスをＷＤＭ光通信用バンドパスフィルタ等の基板に適用できる。αLは、好ましくは１００×１０-7／℃〜１２０×１０-7／℃以上である。
【００１１】
本発明の結晶化ガラスの７０〜１００℃における平均線膨張係数α70は、９５×１０-7／℃〜１２５×１０-7／℃であることが好ましい。なお、従来ガラスのα70は１０５×１０-7／℃である。
本発明の結晶化ガラスの１００〜１４０℃における平均線膨張係数α100は、１１０×１０-7／℃〜１３５×１０-7／℃であることが好ましい。なお、従来ガラスのα100は１２７×１０-7／℃である。
本発明の結晶化ガラスの１４０〜１９０℃における平均線膨張係数α140は、１１５×１０-7／℃〜１４０×１０-7／℃であることが好ましい。なお、従来ガラスのα140は１３５×１０-7／℃である。
【００１２】
本発明の結晶化ガラスの１９０〜２２０℃における平均線膨張係数αHは、好ましくは８０×１０-7／℃〜１５０×１０-7／℃、より好ましくは１１０×１０-7／℃〜１４５×１０-7／℃、特に好ましくは１２０×１０-7／℃〜１４０×１０-7／℃である。なお、従来ガラスのαHは１３７×１０-7／℃、従来結晶化ガラスのαHは６５×１０-7／℃である。
【００１３】
本発明の結晶化ガラスは、従来結晶化ガラスと比較して、ＷＤＭ光通信用バンドパスフィルタ製造時の成膜が行われる典型的な温度、すなわち１９０〜２２０℃における膨張特性が従来ガラスの膨張特性により近く、したがって、成膜条件の調整が容易である。
【００１４】
本発明の結晶化ガラスにおいて、Ｎａ4-xＫxＡｌ4Ｓｉ4Ｏ16（０≦ｘ≦１）である結晶または固溶体（以下これらを併せて「ネフェリン系結晶」という。）の析出は必須である。ネフェリン系結晶が析出していない場合、７０℃以上における膨張特性、特にαHを従来ガラスに近づけることが困難になる。
なお、本発明の結晶化ガラスには、本発明の目的を損なわない範囲でその他の結晶または固溶体が析出していてもよい。
【００１５】
本発明の結晶化ガラスのＥは８５ＧＰａ以上であることが好ましい。８５ＧＰａ未満では成膜時の基板の反りが大きくなるおそれがある。
【００１６】
本発明の結晶化ガラスのビッカース硬度ＨVは６５０以上であることが好ましい。６５０未満では、研磨または切断時に、割れまたはチッピングが発生するおそれがある。
【００１７】
本発明の結晶化ガラスの、波長１５５０ｎｍの光に対する吸光係数μ1550は０．０３ｍｍ-1以下であることが好ましい。０．０３ｍｍ-1超ではＷＤＭ光通信用バンドパスフィルタへの適用が困難になるおそれがある。より好ましくは０．０２ｍｍ-1以下、特に好ましくは０．０１ｍｍ-1以下、最も好ましくは０．００５ｍｍ-1以下である。なお、前記吸光係数は、たとえば、厚さの異なるサンプルの透過率から算出され、散乱などエネルギー吸収をともなわない損失による項を含む。
【００１８】
本発明の結晶化ガラスは、典型的には次のようにして作製される。すなわち、原料を調合、混合し、次にこれを溶解して溶融ガラスとする。該溶融ガラスを所望の形状に成形、冷却後、熱処理を行ってネフェリン系結晶等の結晶または固溶体を析出させる。
【００１９】
本発明の結晶化ガラスは、下記酸化物基準のモル％表示で、
ＳｉＯ2          ３０〜６５％、
Ａｌ2Ｏ3           ５〜３５％、
ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2   １〜１５％、
Ｎａ2Ｏ            ５〜４０％、
Ｋ2Ｏ              ０〜２０％、
Ｌｉ2Ｏ            ０〜１５％、
ＭｇＯ             ０〜１５％、
ＣａＯ             ０〜１５％、
ＳｒＯ             ０〜１５％、
ＢａＯ             ０〜１５％、
ＺｎＯ             ０〜１５％、
Ｂ2Ｏ3             ０〜１５％、
Ｐ2Ｏ5             ０〜１５％、
Ｙ2Ｏ3             ０〜１５％、
から本質的になることが好ましい。
【００２０】
下記酸化物基準のモル％表示で、
ＳｉＯ2          ４４〜５５％、
Ａｌ2Ｏ3         １５〜２５％、
ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2   ２〜１０％、
Ｎａ2Ｏ          １０〜２０％、
Ｋ2Ｏ              ０〜１０％、
Ｌｉ2Ｏ            ０〜５％、
ＭｇＯ             ０〜１０％、
ＣａＯ             ０〜１０％、
ＳｒＯ             ０〜１０％、
ＢａＯ             ０〜１０％、
ＺｎＯ             ０〜１０％、
Ｂ2Ｏ3             ０〜１０％、
Ｐ2Ｏ5             ０〜５％、
Ｙ2Ｏ3             ０〜１０％、
から本質的になることがより好ましい。
【００２１】
次に、上記好ましい態様について、モル％を単に％と表示して説明する。
ＳｉＯ2はネットワークフォーマであり、またネフェリン系結晶の主成分であって、必須である。３０％未満では失透しやすくなる、または緻密なネフェリン系結晶が得られない。好ましくは３５％以上、より好ましくは４０％以上、特に好ましくは４４％以上である。６５％超ではαL、αH等の膨張係数（以下単に膨張係数という。）またはＥが小さくなる。好ましくは６０％以下、より好ましくは５５％以下である。
【００２２】
Ａｌ2Ｏ3は化学的耐久性を向上させる成分であり、またネフェリン系結晶の主成分であって、必須である。５％未満ではネフェリン系結晶が析出しにくい。好ましくは１０％以上、より好ましくは１３％以上、特に好ましくは１５％以上である。３５％超ではガラスの溶解が困難になる。好ましくは３０％以下、より好ましくは２７％以下、特に好ましくは２５％以下である。
【００２３】
ＴｉＯ2およびＺｒＯ2はネフェリン系結晶析出のための核形成剤であり、少なくともいずれか一方は必須である。ＴｉＯ2およびＺｒＯ2の含有量の合計が１％未満ではネフェリン系結晶の析出が困難になる。好ましくは２％以上である。前記合計が１５％超では、ガラスの溶解が困難になる、または失透しやすくなる。
好ましくは１０％以下である。
【００２４】
ＴｉＯ2は、好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下である。
ＺｒＯ2は、好ましくは１０％以下、より好ましくは６％以下、特に好ましくは４％以下である。
【００２５】
Ｎａ2Ｏはネフェリン系結晶の主成分であり、膨張係数を大きくし、またガラスの溶解性を向上させる成分であり、必須である。５％未満では、ネフェリン系結晶の析出が困難になる、膨張係数が小さくなる、またはガラスの溶解が困難になる。好ましくは８％以上、より好ましくは１０％以上である。４０％超では、Ｅが小さくなる、または化学的耐久性が低下する。好ましくは３５％以下、より好ましくは３０％以下、特に好ましくは２５％以下、最も好ましくは２０％以下である。
【００２６】
Ｋ2Ｏは必須ではないが、ガラスの溶解性を向上させるために、または膨張係数を大きくするために２０％まで含有してもよい。２０％超では、Ｅが小さくなる、または化学的耐久性が低下する。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下である。Ｋ2Ｏを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上である。なお、Ｅをより大きくしたい場合、または化学的耐久性をより向上させたい場合、Ｋ2Ｏを実質的に含有しないことが好ましい。
【００２７】
Ｌｉ2Ｏは必須ではないが、ガラスの溶解性を向上させるために、膨張係数を大きくするために、またはＥを大きくするために１５％まで含有してもよい。１５％超では失透しやすくなる。好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。Ｌｉ2Ｏを含有する場合、その含有量は０．５％以上であることが好ましい。より好ましくは１％以上、特に好ましくは２％以上である。
【００２８】
ＭｇＯは必須ではないが、ガラスの溶解性を向上させるために、またはＥを大きくするために１５％まで含有してもよい。１５％超では失透しやすくなる。好ましくは１２％以下、より好ましくは１０％以下である。ＭｇＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上である。
【００２９】
ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯはいずれも必須ではないが、ガラスの溶解性を向上させるために、または膨張係数を大きくするためにそれぞれ１５％まで含有してもよい。１５％超では失透しやすくなる、またはネフェリン系結晶が析出しにくくなる。好ましくは１２％以下、より好ましくは１０％以下である。ＣａＯ、ＳｒＯまたはＢａＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上である。
【００３０】
ＺｎＯは必須ではないが、ガラスの溶解性を向上させるために、またはＥを大きくするために１５％まで含有してもよい。１５％超では失透しやすくなる。好ましくは１２％以下、より好ましくは１０％以下である。ＺｎＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上である。
【００３１】
Ｂ2Ｏ3は必須ではないが、ガラスの溶解性を向上させるために１５％まで含有してもよい。１５％超ではＥが小さくなりすぎる、または化学的耐久性が低下する。好ましくは１０％以下である。Ｂ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。より好ましくは１％以上、特に好ましくは３％以上である。また、化学的耐久性をより向上させたい場合、Ｂ2Ｏ3は実質的に含有しないことが好ましい。
【００３２】
Ｐ2Ｏ5は必須ではないが、ネフェリン系結晶析出のための核形成を促進するために１５％まで含有してもよい。１５％超ではＥが小さくなりすぎる、ガラスの溶解性が低下する、または失透しやすくなるおそれがある。好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。Ｐ2Ｏ5を含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上である。なお、ガラスの溶解性をより向上させたい場合、またはＥをより大きくしたい場合、Ｐ2Ｏ5は実質的に含有しないことが好ましい。
【００３３】
Ｙ2Ｏ3は必須ではないが、ガラスの溶解性を向上させるために、またはＥを大きくするために、１５％まで含有してもよい。１５％超では失透しやすくなる。好ましくは１０％以下である。Ｙ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。より好ましくは１％以上、特に好ましくは３％以上である。
【００３４】
前記好ましい態様において本発明の結晶化ガラスは本質的に上記成分からなるが、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。前記その他成分の含有量の合計は、好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下である。
【００３５】
前記その他成分について以下に述べる。
Ｅを大きくするために、Ｖ2Ｏ5、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｌａ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3からなる群（以下この群を群Ａという。）から選ばれる１種以上の成分を含有してもよい。なお、群Ａの成分の含有量の合計は１５％以下であることが好ましい。１５％超では、失透しやすくなる、または膨張係数が小さくなるおそれがある。より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下、最も好ましくは３％以下である。また、群Ａの成分を含有する場合、それらの含有量の合計は好ましくは０．１％以上、より好ましくは１％以上、特に好ましくは２％以上である。
【００３６】
また、清澄剤として、ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ5、Ｆ、Ｃｌ等を含有してもよい。清澄剤の含有量の合計は２％以下であることが好ましく、特にＳＯ3、Ａｓ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ5、ＦおよびＣｌの含有量の合計は１．９％以下であることが好ましい。
また、ＰｂＯは実質的に含有しないことが好ましい。
【００３７】
前記好ましい態様の本発明の結晶化ガラスは、たとえば次のようにして作製される。すなわち、ガラスを溶解し、板状に成形後、冷却してガラス板を得る。次に、該ガラス板を所望の寸法に切断後、当該切断されたガラス板について、５００〜７５０℃に１時間〜５時間保持して結晶核を生成させ、その後７００〜１０００℃に１時間〜５時間保持して結晶を成長させる熱処理を行い、結晶化ガラスを得る。
【００３８】
本発明の光フィルタは、本発明の結晶化ガラスからなる光フィルタ基板に、蒸着法、スパッタリング法等により誘電体多層膜を形成して作製される。前記誘電体多層膜は、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5等の高屈折率誘電体の薄膜とＳｉＯ2等の低屈折率誘電体の薄膜とが交互に積層された膜であって、典型的には１００層程度の多層膜である。
【００３９】
本発明の光フィルタは、ＷＤＭ光通信システムにおいて用いられるバンドパスフィルタ、エッジフィルタ、利得平坦化フィルタ、ビームスプリッタ等に好適であるが、用途はこれらに限定されない。
【００４０】
【実施例】
表に示す例１〜例４は実施例であり、例５、例６はそれぞれ市販の従来結晶化ガラス、従来ガラスであって比較例である。なお、表のＳｉＯ2〜Ｐ2Ｏ5の欄に示す組成はモル％表示の組成である。
例１〜例４については、原料を調合して白金るつぼに入れ、１６５０℃に加熱し５時間溶融した。なお、この際白金スターラにより２時間撹拌し溶融ガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形後、徐冷し、ガラス板を得た。該ガラス板を、室温から５００℃まで３００℃／時間の速度で、５００〜７５０℃まで５０℃／時間の速度で、７５０〜９００℃まで３００℃／時間の速度で昇温し、９００℃にｔ時間保持する熱処理を行った。前記ｔ（単位：時間）は表に示す。
【００４１】
例１〜例６について、密度ｄ（単位：ｇ／ｃｍ）、Ｅ（単位：ＧＰａ）、膨張係数αL、α70、α100、α140、αH（単位：１０-7／℃）、μ1550（単位：ｍｍ-1）、厚さ１ｍｍでの内部透過率Ｔ（単位：％）、ＨV、析出結晶、を次のようにして測定または同定した。結果を表に示す。表中の「−」は当該データがないことを示す。
【００４２】
ｄ：アルキメデス法により測定した。
Ｅ：両面が平行になるように研磨された厚さが１０〜２０ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍの板状試料について、超音波パルス法により測定した。
【００４３】
αL、α70、α100、α140、αH：直径５ｍｍ、長さ２０ｍｍの円柱状に加工された試料について、熱機械分析装置（リガク（株）製、商品名：ＴＭＡ８１４０）を用いて５℃／分の速度で−５０℃から＋２３０℃まで昇温し、温度−伸びの関係を示す膨張曲線を得、該膨張曲線から算出した。
【００４４】
μ1550：両面が鏡面研磨された、大きさが４ｃｍ×４ｃｍ、厚さが１ｍｍの板状試料、および厚さが４ｍｍである以外は前記板状試料と同じ板状試料のそれぞれについて、分光光度計（（株）日立製作所製、商品名：Ｕ−３５００）を用いて波長１５５０ｎｍの光に対する透過率を測定した。該測定によって得られた厚さ１ｍｍにおける透過率Ｔ1と厚さ４ｍｍにおける透過率Ｔ4とから、次式により算出した。
μ1550＝−ｌｏｇe（Ｔ4／Ｔ1）／３。
【００４５】
Ｔ：次式により算出した。
Ｔ＝１００×ｅｘｐ（−μ1550）。
【００４６】
ＨV：両面が平行になるように研磨された厚さが４ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍの板状試料に、１Ｎの荷重でビッカース圧子を押しつけて測定した。
【００４７】
析出結晶：Ｘ線回折法により析出結晶を同定した。例１〜例４においてはＮａ3ＫＡｌ4Ｓｉ4Ｏ16結晶（ネフェリン）が析出していた。なお、例６については調べなかった。
【００４８】
また、例３に関連して、９００℃に１時間保持することを行わない以外は例３と同じようにしてサンプル３ａを作製し、Ｘ線回折法により析出結晶を同定した。その結果、サンプル３ａには、マグネシウム−チタン酸化物（ＭｇＴｉ2Ｏ5）およびマグネシウム−アルミニウム−チタン酸化物（Ｍｇ4Ａｌ2Ｔｉ9Ｏ25）の結晶の析出が認められた。すなわち、これら結晶が例３における結晶核であると考えられる。
【００４９】
【表１】
0004736207.tif 000002
【００５０】
【発明の効果】
本発明によれば、ＷＤＭ光通信システムに使用されるバンドパスフィルタの製造に際し従来ガラスからなるガラス基板に対すると同様に成膜でき、前記バンドパスフィルタ通過波長の温度変化を抑制でき、かつ、Ｅが大きい光フィルタ基板を提供できる。さらに、吸光係数が小さい、すなわち内部透過率が大きい光フィルタ基板、または硬度の大きい光フィルタ基板を提供できる。
【００５１】
本発明の結晶化ガラスはＥが大きいので成膜後の基板の反りを小さくでき、その結果、成膜後の基板の研磨、切断が容易になる。
また、本発明の結晶化ガラスは硬度が大きいので、研磨または切断時の基板の割れまたはチッピングが少なくなる。
【００５２】
本発明の光フィルタは、その通過波長の温度依存性が小さく、波長間隔の小さく多重度の大きい光通信用フィルタを提供できる。