(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの洗浄機構であって，
回転ロールの下面をその下面の形状に沿って覆い，当該回転ロールの下面との間に洗浄液を貯留する洗浄液貯留部材と，
前記洗浄液貯留部材と回転ロールとの間に洗浄液を供給する洗浄液供給口と，
前記洗浄液貯留部材を前記回転ロールの表面に沿った円周方向に移動させて傾ける移動機構と，を有し，
前記回転ロールは，筺体に収容され，前記筺体の上面には，蓋体が形成され，
前記蓋体には，前記ノズルを回転ロールの上部の表面に近接するための開口部が形成され，前記回転ロールと前記蓋体との間には，前記筺体の外部の気体を前記開口部から筺体の内部に導入するための通気口が形成され，
前記筺体には，筺体の内部の気体を排気する排気口が形成され，
前記洗浄液貯留部材の前記回転ロールの表面に対向する面は，円弧状に湾曲しており，その円弧状の面に，前記洗浄液供給口が形成され，
前記移動機構は，前記筺体内において洗浄液貯留部材を回転ロールの下面側から一の方向側に移動させて傾けることができ，
前記排気口は，前記洗浄液貯留部材の前記一の方向と反対側の筺体の側壁に形成され，
前記移動機構により，前記洗浄液貯留部材が前記円周方向に移動した際に，前記洗浄液貯留部材と回転ロールとの間の隙間と，前記通気口とが接続されることを特徴とする，回転ロールの洗浄機構。
【請求項２】
前記洗浄液供給口は，前記洗浄液貯留部材を傾ける方向の前記円弧状の面の端部に形成されていることを特徴とする，請求項１に記載の回転ロールの洗浄機構。
【請求項３】
前記通気口を形成する前記蓋体の回転ロール側の面は，回転ロールの表面の形状に沿って湾曲していることを特徴とする，請求項１または２に記載の回転ロールの洗浄機構。
【請求項４】
前記洗浄液貯留部材を傾ける前記一の方向側にある前記蓋体と前記回転ロールとの間の通気口は，その反対側にある蓋体と回転ロールとの間の通気口よりも広く形成されていることを特徴とする，請求項１〜３のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
【請求項５】
前記筺体の下面には，洗浄液の排出口が形成されていることを特徴とする，請求項１〜４のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
【請求項６】
前記洗浄液貯留部材は，撥水性材料により形成されていることを特徴とする，請求項１〜５のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構を用いた回転ロールの洗浄方法であって，
洗浄液貯留部材を回転ロールの下面側に配置し，洗浄液貯留部材と回転ロールの表面との間に洗浄液を貯留する第１の工程と，
前記洗浄液貯留部材の洗浄液と前記回転ロールの表面とを接触させながら，前記回転ロールを回転させる第２の工程と，
前記洗浄液貯留部材を回転ロールの表面に沿って円周方向に移動させ傾けて，洗浄液貯留部材から洗浄液を落下させる第３の工程と，
前記回転ロールの表面に気流を形成し，前記回転ロールを乾燥する第４の工程と，を有することを特徴とする，回転ロールの洗浄方法。
【請求項８】
前記第１の工程において，前記洗浄液貯留部材の中心位置が回転ロールの最下点からずれるように，前記洗浄液貯留部材を傾けて配置し，
前記第２の工程において，前記洗浄液貯留部材と回転ロールとの間に洗浄液を供給し続けることを特徴とする，請求項７に記載の回転ロールの洗浄方法。
【請求項９】
前記第２の工程において，前記洗浄液貯留部材を前記回転ロールに対して揺動させることを特徴とする，請求項７または８のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
【請求項１０】
前記第３の工程において，前記洗浄液貯留部材と回転ロールの表面との間に洗浄液を供給することを特徴とする，請求項７〜９のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
【請求項１１】
前記第３の工程において，前記洗浄液貯留部材と回転ロールの表面との間に下降気流を形成することを特徴とする，請求項７〜１０のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
【請求項１２】
前記第３の工程において，回転ロールの回転方向側に前記洗浄液貯留部材を傾けることを特徴とする，請求項７〜１１のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
【請求項１３】
前記第４の工程において，前記第３の工程の洗浄液貯留部材の傾き状態を維持し，その洗浄液貯留部材の傾き方向と反対側から回転ロールの周辺雰囲気を排気して，回転ロールの表面に気流を形成することを特徴とする，請求項７〜１２のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
【請求項１４】
前記第４の工程において，前記回転ロールを回転させることを特徴とする，請求項７〜１３のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの洗浄機構と，その回転ロールの洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば，液晶ディスプレイの製造プロセスのフォトリソグラフィ工程では，ガラス基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理が行われている。
【０００３】
このレジスト塗布処理は，通常レジスト塗布処理ユニットにおいて行われ，例えばステージ上にガラス基板が載置され，そのガラス基板の上面をノズルが移動しながらレジスト液を吐出することにより行われている。
【０００４】
ところで，上述したようなレジスト塗布処理ユニットでは，塗布時のノズルの吐出状態を安定させるため，塗布前にノズルの先端部を回転ロールの上部表面に近づけ，回転ロールを回転させながら，ノズルから回転ロールにレジスト液を試し出しする処理が行われる。
【０００５】
また，レジスト液で汚れた回転ロールをそのままにしておくと，次の試し出しの際にノズルが汚れるので，試し出しの終了後に，回転ロールを洗浄する処理が行われる。従来より，この回転ロールの洗浄処理は，タンクに貯留された洗浄液内に回転ロールの下部を浸漬し，回転ロールを回転させることによって行われていた（特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−７６２０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら，上述したようにタンクに洗浄液を貯留して回転ロールを洗浄する場合，回転ロールが入るような容積の大きいタンクに洗浄の度に毎回洗浄液を入れ替える必要があるので，洗浄液の使用量が著しく多くなっていた。このため，レジスト塗布処理ユニットのランニングコストが高くなっていた。
【０００８】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，回転ロールを洗浄する洗浄液の使用量を低減し，レジスト塗布処理ユニットなどの塗布処理ユニットのランニングコストを低減することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するための本発明は，ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの洗浄機構であって，回転ロールの下面をその下面の形状に沿って覆い，当該回転ロールの下面との間に洗浄液を貯留する洗浄液貯留部材と，前記洗浄液貯留部材と回転ロールとの間に洗浄液を供給する洗浄液供給口と，前記洗浄液貯留部材を前記回転ロールの表面に沿った円周方向に移動させて傾ける移動機構と，を有し，前記回転ロールは，筺体に収容され，前記筺体の上面には，蓋体が形成され，前記蓋体には，前記ノズルを回転ロールの上部の表面に近接するための開口部が形成され，前記回転ロールと前記蓋体との間には，前記筺体の外部の気体を前記開口部から筺体の内部に導入するための通気口が形成され，前記筺体には，筺体の内部の気体を排気する排気口が形成され，前記洗浄液貯留部材の前記回転ロールの表面に対向する面は，円弧状に湾曲しており，その円弧状の面に，前記洗浄液供給口が形成され，前記移動機構は，前記筺体内において洗浄液貯留部材を回転ロールの下面側から一の方向側に移動させて傾けることができ，前記排気口は，前記洗浄液貯留部材の前記一の方向と反対側の筺体の側壁に形成され，前記移動機構により，前記洗浄液貯留部材が前記円周方向に移動した際に，前記洗浄液貯留部材と回転ロールとの間の隙間と，前記通気口とが接続されることを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば，洗浄液貯留部材と回転ロールとの間の隙間に洗浄液を供給して，回転ロールを洗浄できるので，洗浄液の使用量を低減でき，コストを低減できる。
【００１２】
前記洗浄液供給口は，前記洗浄液貯留部材を傾ける方向の前記円弧状の面の端部に形成されていてもよい。
【００１４】
前記通気口を形成する前記蓋体の回転ロール側の面は，回転ロールの表面の形状に沿って湾曲していてもよい。
【００１６】
前記洗浄液貯留部材を傾ける前記一の方向側にある前記蓋体と前記回転ロールとの間の通気口は，その反対側にある蓋体と回転ロールとの間の通気口よりも広く形成されていてもよい。
【００１８】
前記筺体の下面には，洗浄液の排出口が形成されていてもよい。
【００１９】
前記洗浄液貯留部材は，撥水性材料により形成されていてもよい。
【００２０】
別の観点による本発明は，請求項１〜６のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構を用いた回転ロールの洗浄方法であって，洗浄液貯留部材を回転ロールの下面側に配置し，洗浄液貯留部材と回転ロールの表面との間に洗浄液を貯留する第１の工程と，前記洗浄液貯留部材の洗浄液と前記回転ロールの表面とを接触させながら，前記回転ロールを回転させる第２の工程と，前記洗浄液貯留部材を回転ロールの表面に沿って円周方向に移動させ傾けて，洗浄液貯留部材から洗浄液を落下させる第３の工程と，前記回転ロールの表面に気流を形成し，前記回転ロールを乾燥する第４の工程と，を有することを特徴とする。
【００２１】
前記第１の工程において，前記洗浄液貯留部材の中心位置が回転ロールの最下点からずれるように，前記洗浄液貯留部材を傾けて配置し，前記第２の工程において，前記洗浄液貯留部材と回転ロールとの間に洗浄液を供給し続けるようにしてもよい。
【００２２】
前記第２の工程において，前記洗浄液貯留部材を前記回転ロールに対して揺動させてもよい。
【００２３】
前記第３の工程において，前記洗浄液貯留部材と回転ロールの表面との間に洗浄液を供給してもよい。
【００２４】
前記第３の工程において，前記洗浄液貯留部材と回転ロールの表面との間に下降気流を形成してもよい。
【００２５】
前記第３の工程において，回転ロールの回転方向側に前記洗浄液貯留部材を傾けるようにしてもよい。
【００２６】
前記第４の工程において，前記第３の工程の洗浄液貯留部材の傾き状態を維持し，その洗浄液貯留部材の傾き方向と反対側から回転ロールの周辺雰囲気を排気して，回転ロールの表面に気流を形成してもよい。
【００２７】
前記第４の工程において，前記回転ロールを回転させてもよい。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば，回転ロールの洗浄処理における洗浄液の使用量を低減できるので，例えば塗布処理ユニットのランニングコストを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる回転ロールの洗浄機構が搭載された塗布現像処理装置１の構成の概略を示す平面図である。
【００３０】
塗布現像処理装置１は，図１に示すように例えば複数のガラス基板Ｇをカセット単位で外部に対して搬入出するためのカセットステーション２と，フォトリソグラフィ工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理ユニットが配置された処理ステーション３と，処理ステーションに３に隣接して設けられ，処理ステーション３と露光装置４との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行うインターフェイスステーション５とを一体に接続した構成を有している。
【００３１】
カセットステーション２には，カセット載置台１０が設けられ，当該カセット載置台１０は，複数のカセットＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在になっている。カセットステーション２には，搬送路１１上をＸ方向に向かって移動可能な基板搬送体１２が設けられている。基板搬送体１２は，カセットＣに収容されたガラス基板Ｇの配列方向（Ｚ方向；鉛直方向）にも移動自在であり，Ｘ方向に配列された各カセットＣ内のガラス基板Ｇに対して選択的にアクセスできる。
【００３２】
基板搬送体１２は，Ｚ軸周りのθ方向に回転可能であり，後述する処理ステーション３側のエキシマＵＶ照射ユニット２０や第６の熱処理ユニット群３４の各ユニットに対してもアクセスできる。
【００３３】
処理ステーション３は，例えばＹ方向（図１の左右方向）に延びる２列の搬送ラインＡ，Ｂを備えている。この搬送ラインＡ，Ｂにおいては，コロ搬送やアームによる搬送などにより，ガラス基板Ｇを搬送できる。処理ステーション３の正面側であるＸ方向負方向側（図１の下側）の搬送ラインＡには，カセットステーション２側からインターフェイスステーション５側に向けて順に，例えばガラス基板Ｇ上の有機物を除去するエキシマＵＶ照射ユニット２０，ガラス基板Ｇを洗浄するスクラバ洗浄ユニット２１，第１の熱処理ユニット群２２，第２の熱処理ユニット群２３，ガラス基板Ｇにレジスト液を塗布するレジスト塗布処理ユニット２４，ガラス基板Ｇを減圧乾燥する減圧乾燥ユニット２５及び第３の熱処理ユニット群２６が直線的に一列に配置されている。
【００３４】
第１及び第２の熱処理ユニット群２２，２３には，ガラス基板Ｇを加熱する複数の加熱処理ユニットとガラス基板Ｇを冷却する冷却処理ユニットが多段に積層されている。第１の熱処理ユニット群２２と第２の熱処理ユニット群２３との間には，このユニット群２２，２３間でガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体２７が設けられている。第３の熱処理ユニット群２６にも同様に，加熱処理ユニットと冷却処理ユニットが多段に積層されている。
【００３５】
処理ステーション３の背面側であるＸ方向正方向側（図１の上方側）の搬送ラインＢには，インターフェイスステーション５側からカセットステーション２側に向けて順に，例えば第４の熱処理ユニット群３０，ガラス基板Ｇを現像処理する現像処理ユニット３１，ガラス基板Ｇの脱色処理を行うｉ線ＵＶ照射ユニット３２，第５の熱処理ユニット群３３及び第６の熱処理ユニット群３４が直線状に一列に配置されている。
【００３６】
第４〜第６の熱処理ユニット群３０，３３，３４には，それぞれ加熱処理ユニットと冷却処理ユニットが多段に積層されている。また，第５の熱処理ユニット群３３と第６の熱処理ユニット群３４との間には，このユニット群３３，３４間でガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体４０が設けられている。
【００３７】
搬送ラインＡの第３の熱処理ユニット群２６と搬送ラインＢの第４の熱処理ユニット群３０との間には，このユニット群２６，３０間のガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体４１が設けられている。この搬送体４１は，後述するインターフェイスステーション５のエクステンション・クーリングユニット６０に対してもガラス基板Ｇを搬送できる。
【００３８】
搬送ラインＡと搬送ラインＢとの間には，Ｙ方向に沿った直線的な空間５０が形成されている。空間５０には，ガラス基板Ｇを載置して搬送可能なシャトル５１が設けられている。シャトル５１は，処理ステーション３のカセットステーション２側の端部からインターフェイスステーション５側の端部まで移動自在であり，処理ステーション３内の各搬送体２７，４０，４１に対してガラス基板Ｇを受け渡すことができる。
【００３９】
インターフェイスステーション５には，例えば冷却機能を有しガラス基板Ｇの受け渡しを行うエクステンション・クーリングユニット６０と，ガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファカセット６１と，外部装置ブロック６２が設けられている。外部装置ブロック６２には，基板Ｇに生産管理用のコードを露光するタイトラーと，ガラス基板Ｇの周辺部を露光する周辺露光装置が設けられている。インターフェイスステーション５には，上記エクステンション・クーリングユニット６０，バッファカセット６１，外部装置ブロック６２及び露光装置４に対して，ガラス基板Ｇを搬送可能な基板搬送体６３が設けられている。
【００４０】
この塗布現像処理装置１においては，カセットステーション２から搬入されたガラス基板Ｇが，洗浄処理，熱処理，レジスト塗布処理，乾燥処理などを順に行いながら，搬送ラインＡを通ってインターフェイスステーション５に搬送される。そして，ガラス基板Ｇがインターフェイスステーション５から露光装置４に搬送され，露光装置４で露光処理が終了したガラス基板Ｇが，熱処理，現像処理，熱処理などを行いながら，搬送ラインＢを通ってカセットステーション２に戻される。
【００４１】
次に，回転ロールの洗浄機構を有するレジスト塗布処理ユニット２４の構成について説明する。
【００４２】
レジスト塗布処理ユニット２４には，例えば図２及び図３に示すように搬送ラインＡに沿ったＹ方向に長いステージ７０が設けられている。ステージ７０の上面には，図３に示すように多数のガス噴出口７１が形成されている。ステージ７０の幅方向（Ｘ方向）の両側には，Ｙ方向に延びる一対の第１のガイドレール７２が形成されている。第１のガイドレール７２には，ガラス基板Ｇの幅方向の端部を保持して第１のガイドレール７２上を移動する一対の保持アーム７３がそれぞれ設けられている。ガス噴出口７１からガスを噴出することにより，ガラス基板Ｇを浮上させ，その浮上したガラス基板Ｇの両端部を保持アーム７３により保持して，ガラス基板Ｇを搬送ラインＡに沿って移動させることができる。
【００４３】
レジスト塗布処理ユニット２４のステージ７０上には，ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出するノズル８０が設けられている。ノズル８０は，例えば図３及び図４に示すようにＸ方向に向けて長い略直方体形状に形成されている。ノズル８０は，例えばガラス基板ＧのＸ方向の幅よりも長く形成されている。ノズル８０の下端部には，図４に示すようにスリット状の吐出口８０ａが形成されている。ノズル８０の上部には，レジスト液供給源８１に通じるレジスト液供給管８２が接続されている。
【００４４】
図３に示すようにノズル８０の両側には，Ｙ方向に延びる第２のガイドレール８３が形成されている。ノズル８０は，第２のガイドレール８３上を移動するノズルアーム８４によって保持されている。ノズル８０は，ノズルアーム８４の駆動機構により，第２のガイドレール８３に沿ってＹ方向に移動できる。また，例えばノズルアーム８４には，昇降機構が設けられており，ノズル８０は，所定の高さに昇降できる。かかる構成により，ノズル８０は，ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出する吐出位置Ｅと，それよりＹ方向負方向側にある後述する回転ロール９０及び待機部９１との間を移動できる。
【００４５】
図２及び図３に示すようにノズル８０の吐出位置Ｅよりも上流側，つまりノズル８０の吐出位置ＥのＹ方向負方向側には，ノズル８０の試し出しが行われる回転ロール９０が設けられている。回転ロール９０は，回転軸をＸ方向に向けて，例えばノズル８０よりも長く形成されている。この回転ロール９０の最上部にノズル８０の吐出口８０ａを近接させ，回転ロール９０を回転させながら，吐出口８０ａから回転ロール９０にレジスト液を吐出することにより，ノズル８０の吐出口８０ａにおけるレジスト液の付着状態を整えて，レジスト液の吐出状態を安定させることができる。
【００４６】
回転ロール９０のさらに上流側には，ノズル８０の待機部９１が設けられている。この待機部９１には，例えばノズル８０を洗浄する機能やノズル８０の乾燥を防止する機能が設けられている。
【００４７】
回転ロール９０には，回転ロール９０を洗浄する洗浄機構１００が設けられている。以下，この回転ロール９０の洗浄機構１００について説明する。
【００４８】
回転ロール９０は，例えば図５に示すように筐体１１０に収容されている。筐体１１０は，例えば回転ロール９０の軸方向に沿って長い略直方体形状に形成され，回転ロール９０の全体を収容している。筐体１１０の上面には，板状の蓋体１１１が形成されている。蓋体１１１の中央部には，図３に示すように回転ロール９０の軸方向に沿ったスリット状の開口部１１１ａが形成されている。開口部１１１ａは，少なくともノズル８０よりも長く，回転ロール９０の両端部間に亘って形成されている。図５に示すように回転ロール９０の上部は，開口部１１１ａ内に位置している。開口部１１１ａにノズル８０を移動させることにより，ノズル８０の吐出口８０ａを回転ロール９０の最上部に近接させて，ノズル８０から回転ロール９０にレジスト液を供給することができる。
【００４９】
回転ロール９０の上部は，蓋体１１１と同程度の高さに位置し，蓋体１１１の開口部１１１ａ側の内側面１１１ｂと回転ロール９０の表面との間には，通気口１１２が形成されている。蓋体１１１の内側面１１１ｂは，回転ロール９０の表面の形状に沿った円弧状に形成されており，通気口１１２の隙間は，一定に形成されている。通気口１１２の隙間は，例えば１ｍｍ以下，好ましくは２００〜３００μｍ程度に設定されている。通気口１１２により，筐体１１０の外部の気体を筐体１１０の内部に導入することができる。回転ロール９０に対してノズル８０の吐出位置Ｅ側（Ｙ方向正方向側）にある通気口１１２ａは，逆側（Ｙ方向負方向側）の通気口１１２ｂよりも広く設定されている。これにより，回転ロール９０に対してＹ方向正方向側の通気口１１２ａからより多くの気体を流入できる。
【００５０】
回転ロール９０の下側には，洗浄液を貯留する洗浄液貯留部材としての洗浄液貯留容器１２０が設けられている。洗浄液貯留容器１２０は，例えば図６に示すように円筒を軸方向に切断した略船型の形状を有している。洗浄液貯留容器１２０は，例えば撥水性を有するもの，例えばフッ素系の樹脂や，金属表面にフッ素樹脂をコーティングしたものにより形成されている。洗浄液貯留容器１２０は，例えば回転ロール９０の表面に対向する円弧面１２０ａと，その円弧面１２０ａの両側を塞ぐ側面１２０ｂを備えている。円弧面１２０ａは，回転ロール９０の表面形状に沿って湾曲した薄板状に形成され，回転ロール９０の表面を例えば７０〜９０°程度覆っている。図５に示す円弧面１２０ａと回転ロール９０の表面との隙間Ｄは，例えば上述の蓋体１１１の通気口１１２ａの隙間と同じ例えば１ｍｍ以下，より好ましくは２００μｍ〜３００μｍ程度に設定されている。
【００５１】
洗浄液貯留容器１２０の円弧面１２０ａには，レジスト液の溶剤などの洗浄液を吐出する洗浄液供給口１３０が形成されている。洗浄液供給口１３０は，例えば円弧面１２０ａの中心よりもずれた位置，例えばＹ方向正方向側の端部に形成されている。洗浄液供給口１３０は，例えば図６に示すように回転ロール９０の軸方向に沿って一列に複数並べて形成されている。
【００５２】
洗浄液供給口１３０は，図５に示すように配管１３１によって，洗浄液供給装置１３２に接続されている。洗浄液供給装置１３２からの洗浄液の供給により，洗浄液供給口１３０から回転ロール９０と円弧面１２０ａとの間に洗浄液を供給し，洗浄液貯留容器１２０に洗浄液を貯留できる。
【００５３】
洗浄液貯留容器１２０には，例えば図７に示すようにこの洗浄液貯留容器１２０を回転ロール９０の円周方向に移動させる移動機構１４０が設けられている。例えば回転ロール９０の軸には，回転ロール９０と独立して回転可能なプーリ１４１が取り付けられる。プーリ１４１には，連接棒１４２によって洗浄液貯留容器１２０が固定されている。プーリ１４１は，ベルト１４３によってモータの駆動軸１４４に接続されている。駆動軸１４４を回転させることにより，ベルト１４３を介してプーリ１４１が回転し，それに伴い洗浄液貯留容器１２０を回転ロール９０の周方向に回転できる。これにより，洗浄液貯留容器１２０を回転ロール９０の下面から上方側に移動させて傾け，洗浄液貯留容器１２０内の洗浄液を落下させることができる。例えば洗浄液貯留容器１２０の回転方向，回転角度などの動作は，駆動軸１４４のモータの動作を制御する制御部１４５により制御されている。なお，本実施の形態において，移動機構１４０は，プーリ１４１，連接棒１４２，ベルト１４３，駆動軸１４４及び制御部１４５により構成されている。
【００５４】
図５に示すように筐体１１０のＹ方向負方向側の側壁１１０ａには，排気口１５０が形成されている。排気口１５０は，側壁１１０ａの上部，例えば蓋体１１１に近い，少なくとも回転ロール９０の軸よりも高い位置に形成されている。排気口１５０は，例えば排気管１５１によって，真空ポンプなどの負圧発生装置１５２に接続されている。負圧発生装置１５２により，排気口１５０から筐体１１０内の気体を強制的に排気し，その排気による負圧により，通気口１１２から気体を流入させ，回転ロール９０の表面に気流を形成して，回転ロール９０を乾燥させることができる。
【００５５】
筐体１１０の底部には，排出口１６０が形成されている。排出口１６０は，例えば排出管１６１を通じて工場排液部に接続されている。
【００５６】
なお，洗浄液供給装置１３２，負圧発生装置１５２などの動作の制御は，例えば上述の制御部１４５によって行われており，洗浄液供給口１３０からの洗浄液の吐出のタイミングや吐出圧，排気口１５０からの排気のタイミングや排気圧などは，制御部１４５によって制御されている。
【００５７】
次に，以上のように構成された回転ロール９０の洗浄機構１００の動作を，ガラス基板Ｇのレジスト塗布処理のプロセスと共に説明する。
【００５８】
例えばガラス基板Ｇがレジスト塗布処理ユニット２４のステージ７０上に搬送される前に，図２に示すようにノズル８０が待機部９１から回転ロール９０上に移動し，図５に示すようにノズル８０の吐出口８０ａが回転ロール９０の最上部に近接される。このとき回転ロール９０の収容されている筐体１１０では，排気口１５０から弱い排気が行われ，筐体１１０内には，通気口１１２から排気口１５０に向かう緩やかな気流が形成されている。
【００５９】
次に，回転ロール９０が回転方向Ｆ側に回転され，ノズル８０の吐出口８０ａから回転ロール９０の表面にレジスト液が吐出されて，レジスト液が試し出しされる。こうして，吐出口８０ａにおけるレジスト液の付着状態が整えられ，ノズル８０の吐出状態が安定する。なお，この試し出し時には，洗浄液貯留容器１２０は，回転ロール９０の下面側に待機し，洗浄液供給口１３０から洗浄液は吐出されていない。
【００６０】
ノズル８０の吐出口８０ａにおけるレジスト液の付着状態が整えられた後，ノズル８０の吐出が停止され，ノズル８０は図２に示すように所定の吐出位置Ｅに移動する。ノズル８０が吐出位置Ｅに移動した後，ガラス基板Ｇがレジスト塗布処理ユニット２４のステージ７０上を搬送ラインＡに沿って移動される。ガラス基板Ｇがノズル８０の下方を通過する際に，ノズル８０からレジスト液が吐出され，ガラス基板Ｇの表面の全面にレジスト液が塗布される。
【００６１】
一方，ノズル８０が回転ロール９０の最上部から吐出位置Ｅに移動した後，回転ロール９０の洗浄が開始される。先ず，図８に示すように洗浄液供給口１３０から洗浄液貯留容器１２０上にレジスト液の溶剤である洗浄液Ｈが供給され，貯留される。供給された洗浄液Ｈは，洗浄液貯留容器１２０と回転ロール９０との隙間Ｄに充填される。その後，隙間Ｄの洗浄液Ｈと接触した状態で，回転ロール９０が回転方向Ｆ側に回転され，回転ロール９０の表面のレジスト液が洗浄される。回転ロール９０は，例えば２回程度回転される。なお，この洗浄時においても，排気口１５０からの弱い排気が引き続き行われる。
【００６２】
洗浄後，例えば回転ロール９０が引き続き回転された状態で，洗浄液貯留容器１２０が，図９に示すように移動機構１４０により回転ロール９０の回転方向Ｆ側に例えば９０°程度回転されて，傾けられる。このとき，洗浄液貯留容器１２０は，回転方向Ｆ側の先端部が蓋体１１１の下面に接するまで回転され，蓋体１１１の通気口１１２ａと洗浄液貯留容器１２０の隙間Ｄが接続されて回転ロール９０の表面に沿った流路が形成される。洗浄液貯留容器１２０が傾けられたことにより，洗浄液貯留容器１２０の汚れた洗浄液Ｈが落下し除去される。また，これと同時に，洗浄液貯留容器１２０の洗浄液供給口１３０から新しい洗浄液Ｈが供給され，洗浄液貯留容器１２０の汚れた洗浄液Ｈが新しい洗浄液Ｈによって洗い落とされる。洗浄液貯留容器１２０から筐体１１０の底部に落下した洗浄液Ｈは，排出口１６０から排出される。なお，この洗浄液の除去時には，回転ロール９０は停止されていてもよい。
【００６３】
洗浄液貯留容器１２０が傾けられ，洗浄液Ｈが除去された後，回転ロール９０が回転された状態で，排気口１５０からの排気が強められる。これにより，図１０に示すように筐体１１０の外部から多くの気体が通気口１１２を通って筐体１１０内に流入し，回転ロール９０の表面に沿って流れる強い気流が形成される。この気流により，回転ロール９０が乾燥される。上述したように蓋体１１１の通気口１１２ａと洗浄液貯留容器１２０の隙間Ｄが接続されているため，通気口１１２ａから筐体１１０内に導入された気体は，通気口１１２ａと洗浄液貯留容器１２０の隙間Ｄを通って，回転ロール９０の表面を回転方向Ｆと逆回りに誘導され，回転ロール９０の回りを３/４回転程度流れて，排気口１５０から排気される。また，通気口１１２ａは，通気口１１２ｂよりも広く形成されているので，この通気口１１２ａから流入する，回転方向Ｆと逆回りの気流が，通気口１１２ｂから流入する気流よりも強くなる。
【００６４】
回転ロール９０が乾燥されると，排気口１５０からの排気が弱められ，洗浄液貯留容器１２０が回転ロール９０の下面側に戻されて，回転ロール９０の洗浄処理が終了する。
【００６５】
以上の実施の形態によれば，回転ロール９０の下面側に，回転ロール９０の下面の形状に沿った形状の洗浄液貯留容器１２０が設けられ，その洗浄液貯留容器１２０と回転ロール９０の表面との間に洗浄液Ｈを溜めて回転ロール９０の洗浄を行ったので，従来のようにタンクに洗浄液を貯留する場合に比べて，洗浄液Ｈの使用量を飛躍的に低減できる。また，洗浄液貯留容器１２０を回転ロール９０の円周方向に移動可能にしたので，洗浄液貯留容器１２０を傾けて，洗浄液貯留容器１２０の汚れた洗浄液Ｈを除去することができる。
【００６６】
洗浄液貯留容器１２０の円弧面１２０ａに，洗浄液供給口１３０が形成されているので，洗浄液貯留容器１２０と回転ロール９０との狭小な隙間Ｄに適正に洗浄液Ｈを供給できる。
【００６７】
洗浄液貯留容器１２０の傾斜方向側（回転ロール９０の回転方向Ｆ側）の端部に洗浄液供給口１３０が形成されたので，洗浄液貯留容器１２０を傾けた際に，洗浄液貯留容器１２０の高い位置から新しい洗浄液Ｈを流し，汚れた洗浄液Ｈを洗い落とすことができる。なお，上記実施の形態では，洗浄液供給口１３０が洗浄液貯留容器１２０に複数形成されていたが，洗浄液供給口１３０は，洗浄液貯留容器１２０の長手方向に沿ってスリット状に形成されていてもよい。
【００６８】
筐体１１０の蓋体１１１と回転ロール９０との間に通気口１１２が形成され，筐体１１０の側壁１１０ａに，排気口１５０が形成されたので，回転ロール９０の表面に沿って流れる気流を形成し，その気流によって回転ロール９０を乾燥できる。
【００６９】
通気口１１２を形成する蓋体１１１の内側面１１１ｂは，回転ロール９０の表面の形状に沿って湾曲しているので，開口部１１１ａから導入された気体を回転ロール９０の表面に沿って流すことができる。また，洗浄液貯留容器１２０を傾けた際に，洗浄液貯留容器１２０の隙間Ｄと通気口１１２ａを接続することができるので，通気口１１２ａと洗浄液貯留容器１２０の隙間Ｄにより回転ロール９０の表面に沿った流路を形成できる。この結果，開口部１１１ａから流入した気流を回転ロール９０の表面に沿って誘導し，回転ロール９０の表面を効果的に乾燥させることができる。
【００７０】
洗浄液貯留容器１２０の傾斜方向と反対側の筐体１１０の側壁１１０ａに，排気口１５０が形成されたので，通気口１１２ａと洗浄液貯留容器１２０の隙間Ｄによって誘導された気体をさらに回転ロール９０のＹ方向負方向側の表面まで誘導することができる。この結果，回転ロール９０の表面の広い部分に，回転ロール９０の回転方向Ｆと逆方向の気流が形成され，回転ロール９０の表面と気流との相対速度が増すので，回転ロール９０の乾燥を促進できる。
【００７１】
また，回転ロール９０のＹ方向負方向側の通気口１１２ｂよりもＹ方向正方向側の通気口１１２ａの幅が広く形成されたので，回転ロール９０を回転方向Ｆと逆方向に流れる強い気流が形成される。この結果，回転ロール９０の乾燥をさらに促進できる。
【００７２】
筐体１１０の下面に排出口１６０が形成されたので，洗浄液貯留容器１２０から落下した洗浄液Ｈを排出できる。また，洗浄液貯留容器１２０が撥水性材料により形成されたので，洗浄液貯留容器１２０が傾けられたときに，洗浄液Ｈを適正に除去することができる。
【００７３】
以上の実施の形態において，洗浄液Ｈの貯留された洗浄液貯留容器１２０上で回転ロール９０を回転させ，回転ロール９０を洗浄する際に，洗浄液供給口１３０から洗浄液Ｈを供給し続けてもよい。こうすることにより，洗浄液貯留容器１２０と回転ロール９０との隙間Ｄに，常に新しい洗浄液Ｈが供給され，回転ロール９０の洗浄を効果的に行うことができる。また，この例において，回転ロール９０の洗浄の際に，図１１に示すように洗浄液貯留容器１２０の中心位置が回転ロール９０の最下点からずれるように，洗浄液貯留容器１２０を傾けて配置してもよい。この洗浄液貯留容器１２０の傾斜動作は，例えば移動機構１４０により行ってもよい。この場合，洗浄液供給口１３０から供給された洗浄液Ｈが，洗浄液貯留容器１２０の低い方の端部から流れ出る。これにより，洗浄液貯留容器１２０上に洗浄液Ｈの流れが形成され，この洗浄液Ｈの流れにより回転ロール９０の汚れを効果的に落とすことができる。特に，洗浄液供給口１３０が形成されている回転方向Ｆ側に洗浄液貯留容器１２０を傾斜させた場合には，洗浄液貯留容器１２０と回転ロール９０との隙間Ｄに，回転ロール９０の回転方向Ｆと逆方向に向かう洗浄液Ｈの流れが形成される。それ故，回転ロール９０と洗浄液Ｈの相対速度が増して，回転ロール９０の表面の洗浄がさらに効果的に行われる。
【００７４】
以上の実施の形態において，洗浄液Ｈの貯留された洗浄液貯留容器１２０上で回転ロール９０を回転させ，回転ロール９０を洗浄する際に，図１２に示すように洗浄液貯留容器１２０を回転ロール９０の表面に沿って揺動させてもよい。この洗浄液貯留容器１２０の揺動は，例えば移動機構１４０により行ってもよい。この場合，回転ロール９０の汚れを効果的に落とすことができる。
【００７５】
以上の実施の形態において，洗浄液貯留容器１２０を傾けて隙間Ｄの洗浄液Ｈを除去する際に，洗浄液供給口１３０から洗浄液Ｈを供給していたが，例えばその洗浄液Ｈの供給の後に，排気口１５０からの排気を強めて，洗浄液貯留容器１２０と回転ロール９０との隙間Ｄに，強い下降気流を形成してもよい。こうすることにより，洗浄液貯留容器１２０の洗浄液Ｈが確実に除去される。また，この場合，必ずしも洗浄液供給口１３０から洗浄液Ｈを供給する必要はなく，気流のみで，隙間Ｄの洗浄液Ｈを除去してもよい。
【００７６】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において，各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００７７】
例えば以上の実施の形態で記載した移動機構１４０は，プーリ１４１，駆動軸１４４やベルト１４３を用いて洗浄液貯留容器１２０を回転させるものであったが，他の構成であってもよい。例えば図１３に示すように，シリンダ１７０のピストン１７１と洗浄液貯留容器１２０とを連接棒１７２によって接続し，洗浄液貯留容器１２０と回転ローラ９０の軸とを連接棒１７３によって接続する。そして，ピストン１７１の往復移動により，洗浄液貯留容器１２０を回転ローラ９０回りに回転移動させる。
【００７８】
また，以上の実施の形態では，洗浄液貯留容器１２０を回転ロール９０の回転方向Ｆ側に傾斜させていたが，反対側に傾斜させてもよい。この場合，排気口１５０を筐体１１０のＹ方向正方向側の側壁に設けてもよい。さらに，本発明を，レジスト液の試し出しが行われる回転ロールの洗浄に対して適用していたが，現像液などの他の塗布液の試し出しが行われる回転ロールの洗浄に適用してもよい。また，洗浄液Ｈも溶剤に限られず，純水など他の液体であってもよい。本発明は，ガラス基板Ｇ以外の他のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）やフォトマスク用のマスクレチクル，半導体ウェハなどの他の基板に塗布液を塗布する場合にも適用できる。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本発明は，回転ロールを洗浄する洗浄液の消費量を低減する際に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】本実施の形態における塗布現像処理装置の構成の概略を示す平面図である。
【図２】レジスト塗布処理ユニットの構成の概略を示す縦断面の説明図である。
【図３】レジスト塗布処理ユニットの構成の概略を示す平面図である。
【図４】ノズルの説明図である。
【図５】回転ロールの洗浄機構の構成の概略を示す縦断面の説明図である。
【図６】洗浄液貯留容器の斜視図である。
【図７】洗浄液貯留容器の移動機構の構成を模式的に示す説明図である。
【図８】洗浄液貯留容器上に洗浄液を供給した際の回転ロールの洗浄機構の縦断面の説明図である。
【図９】洗浄液貯留容器を傾けた際の回転ロールの洗浄機構の縦断面の説明図である。
【図１０】乾燥時の回転ロールの洗浄機構の縦断面の説明図である。
【図１１】洗浄液貯留容器を傾けて配置した場合の回転ロールの洗浄機構の縦断面の説明図である。
【図１２】洗浄液貯留容器を揺動させた場合の回転ロールの洗浄機構の縦断面の説明図である。
【図１３】洗浄液貯留容器の移動機構の他の構成例を示す説明図である。
【符号の説明】
【００８１】
１    塗布現像処理装置
２４  レジスト塗布処理ユニット
９０  回転ロール
１１０  筐体
１１１  蓋体
１１１ａ  開口部
１１２  通気口
１２０  洗浄液貯留容器
１３０  洗浄液供給口
１５０  排気口
Ｄ    隙間
Ｈ    洗浄液
Ｇ    ガラス基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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