(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に低誘電率膜を形成する工程（ａ）と、
前記低誘電率膜の上に反射防止膜を形成する工程（ｂ）と、
前記工程（ｂ）よりも後に、前記低誘電率膜にホ−ルを形成する工程（ｃ）と、
前記低誘電率膜の上に前記反射防止膜を残存させた状態で、少なくとも前記ホ−ルの壁面に露出した前記低誘電率膜に、プラズマを用いて正電荷を持つイオンを吸着させ又は注入する工程（ｄ）と、
前記工程（ｄ）よりも後に、前記ホ−ルを含む前記低誘電率膜の上に化学増幅型レジストを塗布し、該塗布された化学増幅型レジストに対して露光及び現像を行なうことによって、前記ホ−ルが形成された領域を含む配線形成領域に開口部を持つレジスト膜を形成する工程（ｅ）と、
前記レジスト膜をマスクとして前記低誘電率膜に対してエッチングを行なって、前記ホ−ルと接続する配線用溝を形成する工程（ｆ）とを備え、
前記工程（ｄ）よりも前に、前記低誘電率膜にアミン又は塩基性物質が含有されることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２】
前記プラズマを構成するガスは、Ｈ2 ガス及びＨ2 Ｏガスのうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項３】
前記プラズマを構成するガスは、Ｃｌ2 ガスを含むことを特徴とする請求項１に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項４】
前記反射防止膜は、ＳｉＯＮ膜からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項５】
前記工程（ｄ）において、前記基板を陰極側に設置した状態でプラズマ処理を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は配線の形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
配線形成方法の１つである、デュアルダマシン構造の配線の形成方法は次の通りである。すなわち、絶縁膜をパターン化することによって、ビアホールと配線用溝（以下、トレンチと称することもある）とを形成した後、それらに導電膜を埋め込むことにより配線を形成する。このとき、配線間の容量を低減するために、配線間の絶縁膜として、シリコン酸化膜よりも誘電率の小さい材料からなる膜（つまり低誘電率膜）、例えば有機含有シリコン酸化膜（つまり炭素含有シリコン酸化膜）又はポーラス膜等を用いる場合がある。
【０００３】
特許文献１に開示された従来の配線形成方法においては、炭素含有シリコン酸化膜にビアホールを形成した後、トレンチパターンを有するレジスト膜をマスクとして炭素含有シリコン酸化膜に対してエッチングを行なうことにより、デュアルダマシン構造を形成している。
【特許文献１】特開平１１−２４３１４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、炭素含有シリコン酸化膜等の低誘電率膜を用いた従来の配線形成方法においては、ビアホール形成後に、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーによりトレンチパターンを形成しようとした場合に、所望のトレンチパターンを持つレジスト膜を形成できないという問題が発生する。以下、図面を参照しながら、この問題について具体的に説明する。
【０００５】
図１０（ａ）及び（ｂ）は、従来の配線形成方法において化学増幅型ポジレジストを用いた場合に生じる問題点を示す図である。図１０（ａ）に示すように、基板５１上には、第１の配線５３が埋め込まれた絶縁膜５２が形成されている。第１の配線５３の上を含む絶縁膜５２の上には、保護膜５４、有機含有シリコン酸化膜５５及び反射防止膜５６が順次形成されている。ここで、有機含有シリコン酸化膜５５及び反射防止膜５６にビアホール５７を形成した後、反射防止膜５６の上に、化学増幅型ポジレジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを有するレジスト膜５８を形成しようとしたところ、次のような問題が生じた。すなわち、レジスト膜５８に対して光を照射した後に現像を行なうと、トレンチ形成領域のレジスト膜５８が十分に溶解せず、その結果、現像不良Ｆ、具体的にはレジストの裾引き（レジストがホール内部まで裾を引くように残ってしまうこと）が発生する。その後、裾引きが生じたレジスト膜５８をマスクとして反射防止膜５６及び有機含有シリコン酸化膜５５に対してエッチングを行なうと、図１０（ｂ）に示すように、フェンス６０を持つトレンチ５９が形成される。そして、このフェンス６０に起因して、トレンチ５９に形成された配線部分と、ビアホール５７に形成されたプラグ部分との間における接続抵抗が大きくなってしまう。
【０００６】
また、図１１（ａ）及び（ｂ）は、従来の配線形成方法において化学増幅型ネガレジストを用いた場合に生じる問題点を示す図である。図１１（ａ）に示すように、基板５１上には、第１の配線５３が埋め込まれた絶縁膜５２が形成されている。第１の配線５３の上を含む絶縁膜５２の上には、保護膜５４、有機含有シリコン酸化膜５５及び反射防止膜５６が順次形成されている。ここで、有機含有シリコン酸化膜５５及び反射防止膜５６にビアホール５７を形成した後、反射防止膜５６の上に、化学増幅型ネガレジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを有するレジスト膜５８を形成しようとしたところ、次のような問題が生じた。すなわち、レジスト膜５８に対して光を照射した後に現像を行なうと、本来のトレンチ形成領域よりも広い範囲でレジスト膜５８が溶解する。言い換えると、所望のマスク寸法よりも大きいトレンチパターンを持つレジスト膜５８が形成される。その後、このレジスト膜５８をマスクとして反射防止膜５６及び有機含有シリコン酸化膜５５に対してエッチングを行なうと、図１１（ｂ）に示すように、所望の寸法と異なる寸法を持つトレンチ５９が形成される。
【０００７】
図１２（ａ）は、ビアホールが形成された絶縁膜上に、所望のマスク寸法通りのトレンチパターンを持つレジスト膜が形成された場合の様子を示す平面図である。
【０００８】
それに対して、図１２（ｂ）は、ビアホールが形成された絶縁膜上に、化学増幅型ポジレジストを用いたリソグラフィーにより、裾引きのあるトレンチパターンを持つレジスト膜が形成された場合の様子を示す平面図である。図１２（ｂ）に示すように、ビアとトレンチとの接続部が狭められてしまう場合がある。通常、ポジレジストを用いたリソグラフィーでは、光を照射されたレジストが現像によって除去されるが、図１２（ｂ）に示す場合、ビアホール近傍のレジストが現像時に十分除去されない結果、裾引きのあるトレンチパターンが形成されてしまう。
【０００９】
また、図１２（ｃ）は、ビアホールが形成された絶縁膜上に、化学増幅型ネガレジストを用いたリソグラフィーにより、所望のマスク寸法よりも大きいトレンチパターンを持つレジスト膜が形成された場合の様子を示す平面図である。図１２（ｃ）に示すように、トレンチパターンの幅が拡がると、隣り合うトレンチ同士が結合して配線ショートの原因となってしまう場合がある。通常、ネガレジストを用いたリソグラフィーでは、光を照射されたレジストが現像によって除去されずに残存するが、図１２（ｃ）に示す場合、ビアホール近傍のレジストが現像時に除去されてしまう結果、拡大した幅を持つトレンチパターンが形成されてしまう。
【００１０】
前記に鑑み、本発明は、ビアホールが形成された低誘電率膜の上に、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、所望のトレンチパターンを持つレジスト膜を形成できるようにし、それによってデュアルダマシン構造の配線を確実に形成できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記の目的を達成するために、本願発明者らが、低誘電率膜、例えば炭素含有シリコン酸化膜を用いた従来の配線形成方法においてレジストの現像不良が生じる原因を検討したところ、次のような知見を得た。すなわち、ビアホールが形成された炭素含有シリコン酸化膜の上に化学増幅型レジストを塗布した際に、炭素含有シリコン酸化膜（特にビアホールの壁部）に含まれるアミン又は塩基性物質がレジスト中に拡散するというレジストポイズニング現象が生じる。その結果、露光時に化学増幅型レジストから発生する酸が前述の塩基性物質等によって中和されてしまうので、言い換えると、レジストの良好な現像に不可欠な酸が失活してしまうので、レジストの現像不良が生じる。
【００１２】
本発明は、以上の知見に基づきなされたものであって、具体的には、本発明に係る電子デバイスの製造方法は、基板上に低誘電率膜を形成する工程（ａ）と、前記低誘電率膜にホ−ルを形成する工程（ｂ）と、少なくとも前記ホ−ルの壁面に露出した前記低誘電率膜に電子受容体を吸着させ又は注入する工程（ｃ）と、前記工程（ｃ）よりも後に、前記ホ−ルを含む前記低誘電率膜の上に化学増幅型レジストを塗布し、該塗布された化学増幅型レジストに対して露光及び現像を行なうことによって、前記ホ−ルが形成された領域を含む配線形成領域に開口部を持つレジスト膜を形成する工程（ｄ）と、前記レジスト膜をマスクとして前記低誘電率膜に対してエッチングを行なって、前記ホ−ルと接続する配線用溝を形成する工程（ｅ）とを備え、前記工程（ｃ）よりも前に、前記低誘電率膜にアミン又は塩基性物質が含有される。
【００１３】
本発明の電子デバイスの製造方法によると、低誘電率膜、例えば炭素含有シリコン酸化膜にホ−ルを形成した後、ホ−ル壁部の炭素含有シリコン酸化膜に電子受容体を吸着させ又は注入し、その後、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、ホ−ルが形成された領域を含む配線形成領域に開口部を持つレジスト膜を形成する。このため、ホ−ル壁部の炭素含有シリコン酸化膜中において、アミン又は塩基性物質と、吸着させた又は注入した電子受容体との間に酸塩基反応を生じさせることができ、それによって炭素含有シリコン酸化膜中のアミン若しくは塩基性物質を中和でき又は該アミン等の濃度を低減できる。これにより、炭素含有シリコン酸化膜と化学増幅型レジストとが直接接触する場合にも、露光時に化学増幅型レジストから発生する酸が失活してしまうことを防止できる。従って、レジストの現像不良を防止でき、それによって所望のトレンチパターンを持つレジスト膜を形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００１４】
本発明の電子デバイスの製造方法において、前記工程（ｃ）は、プラズマを用いて前記低誘電率膜に正電荷を持つイオンを吸着させ又は注入する工程を含むことが好ましい。
【００１５】
このようにすると、低誘電率膜、例えば炭素含有シリコン酸化膜中のアミン若しくは塩基性物質を確実に中和でき又は該アミン等の濃度を確実に低減できる。また、この場合、前記プラズマを構成するガスは、Ｈ２  ガス及びＨ２  Ｏガスのうちの少なくとも１つを含むことが好ましい。このようにすると、炭素含有シリコン酸化膜に入射されるイオンは、質量の小さいＨ＋  イオン又はＯＨ＋  イオンとなるので、ビアホールの開口寸法の拡大を防止できる。また、プラズマによって基板が受ける損傷（プラズマダメージ）を最小限に抑制することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によると、化学増幅型レジストの塗布時にホ−ル壁部の低誘電率膜中のアミン等を中和し又は該アミン等の濃度を低減することにより、次のような効果が得られる。すなわち、露光時に化学増幅型レジストから発生する酸が失活してしまうことを防止できるため、レジストの現像不良を防止できる。従って、所望のトレンチパターンを持つレジスト膜を形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１（ａ）〜（ｄ）及び図２（ａ）〜（ｅ）は、第１の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【００１９】
まず、図１（ａ）に示すように、例えばシリコンからなる半導体基板（Ｓｉ基板）１の上に全面に亘って、例えばＳｉＯ２  からなる層間絶縁膜２を堆積する。その後、層間絶縁膜２に第１の金属配線３を埋め込むと共に、層間絶縁膜２の上面を平坦化する。次に、平坦化された層間絶縁膜２の上及び第１の金属配線３の上に、例えばＳｉＮからなる第１の保護膜４を形成する。
【００２０】
ここで、第１の保護膜４は、第１の金属配線３が酸化されることを防止するために形成される。すなわち、第１の金属配線３の材料としては、一般にＣｕ等が用いられるが、このような配線材料は、非常に酸化されやすい金属である。よって、後の工程で第１の金属配線３が第２の金属配線１２（図２（ｅ）参照）と接続されるまでの間に両配線の接続面に酸化膜が形成されてコンタクト抵抗が上昇する事態を防止するために、第１の保護膜４が必要となる。
【００２１】
次に、図１（ａ）に示すように、第１の保護膜４の上に全面に亘って、シリコン酸化膜よりも比誘電率の小さい低誘電率膜、例えばＳｉＯＣからなる厚さ４００ｎｍ程度の有機含有シリコン酸化膜（炭素含有シリコン酸化膜）５を堆積した後、有機含有シリコン酸化膜５の上に全面に亘って、例えばＳｉＯＮからなる反射防止膜６を形成する。その後、リソグラフィー法により、ビアホール形成領域に開口部を持つレジスト膜７、つまりビアホールパターンを持つレジスト膜７を形成する。
【００２２】
その後、図１（ｂ）に示すように、レジスト膜７をマスクとして、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５に対して順次ドライエッチングを行なってビアホール８を形成する。
【００２３】
続いて、図１（ｃ）に示すように、アッシングによりレジスト膜７を除去して反射防止膜６を露出させる。その後、前工程である、ビアホール８を形成するためのエッチング工程で生じたポリマー残さ等を除去するために、反射防止膜６の表面及びビアホール８の内部を洗浄する。
【００２４】
次に、図１（ｄ）に示すように、ビアホール８の内表面全体（壁面及び底面）と反射防止膜６の表面とを覆うように、例えばＳｉＯ２  からなる厚さ３０ｎｍ程度の酸化膜９（以下、本実施形態では第２の保護膜９と称する）をＣＶＤ（chemical vapor deposition ）法により形成する。これにより、ビアホール８の壁面に露出する有機含有シリコン酸化膜５を、第２の保護膜９によって完全に保護することができる。尚、第２の保護膜９は、ビアホール８が完全には埋まらないように形成される。
【００２５】
酸化膜からなる第２の保護膜９が必要な理由は次の通りである。すなわち、有機含有シリコン酸化膜５が、後の工程（図２（ａ）参照）で使用する化学増幅型ポジレジストと直接接触すると、有機含有シリコン酸化膜５に含まれているアミン等と、露光により化学増幅型ポジレジストから発生する酸とが反応する結果、レジストの良好な現像に不可欠な酸が失活してしまう。この現象が生じると、所望の形状を持つレジストパターンを形成することができない。よって、図１（ｄ）に示す工程で形成する保護膜、つまり、有機含有シリコン酸化膜５とレジストとの接触を防止する第２の保護膜９は、有機含有シリコン酸化膜を用いて配線形成を行なう上で重要な役割を果たしている。
【００２６】
次に、図２（ａ）に示すように、ビアホール８の内部を含む第２の保護膜９の上に全面に亘って、化学増幅型ポジレジストからなるレジスト膜１０を堆積する。ここで、前工程で形成した第２の保護膜９の存在により、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とは直接接触しない。よって、前述の酸の失活現象は起こらないので、レジスト膜１０は変質しない。
【００２７】
その後、図２（ｂ）に示すように、トレンチパターンを持つフォトマスクを用いた露光とそれに続く現像、つまりリソグラフィーによって、トレンチ形成領域のレジスト膜１０に幅Ｓ０  の開口部（トレンチパターン）を形成する。これにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまりレジストパターン１０ａが形成される。ここで、トレンチ形成領域は、ビアホール８が形成された領域を含んでいる。
【００２８】
続いて、図２（ｃ）に示すように、レジストパターン１０ａをマスクとして、第２の保護膜９、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５に対して順次ドライエッチングを行なって、有機含有シリコン酸化膜５及び反射防止膜６に、ビアホール８と接続する深さ（反射防止膜６の表面からの深さ）ｄ０  のトレンチ（配線用溝）１１を形成する。
【００２９】
その後、図２（ｄ）に示すように、レジストパターン１０ａをアッシングにより除去して、反射防止膜６上の第２の保護膜９を露出させる。さらに、第１の保護膜４におけるビアホール８に露出する部分に対してエッチングを行なって該部分を開口することにより、第１の金属配線３の上面を露出させる。
【００３０】
次に図２（ｅ）に示すように、ビアホール８及びトレンチ１１の内部に、デュアルダマシン構造を持つ第２の金属配線１２を形成する。第２の金属配線１２の具体的な形成方法は次の通りである。まず、ビアホール８及びトレンチ１１の内表面全体を覆うように、バリア膜（例えば上層のＴａ膜及び下層のＴａＮ膜の積層膜）を堆積する。バリア膜は、ビアホール８及びトレンチ１１が完全には埋まらないように形成される。続いて、例えばメッキ法により、ビアホール８及びトレンチ１１が完全に埋まるようにＣｕ膜等の金属膜を堆積する。その後、例えばＣＭＰ（chemical mechanical polishing ）法により、ビアホール８及びトレンチ１１からはみ出した不要な金属膜を除去すると共に、反射防止膜６上の第２の保護膜９を除去する。これにより、ビアホール８及びトレンチ１１の内部に第２の金属配線１２が形成される。
【００３１】
以上に説明したように、第１の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５にビアホ−ル８を形成した後、ビアホ−ル８の壁面上に第２の保護膜９を形成する。その後、化学増幅型ポジレジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａ）を形成する。このため、化学増幅型ポジレジストの塗布時にビアホ−ル８内でレジストと有機含有シリコン酸化膜５とが直接接することがないので、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質がレジスト中に拡散すること、つまりレジストポイズニング現象を防止できる。従って、レジストの現像不良を防止でき、それにより所望のトレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまり裾引きのないレジストパターン１０ａを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００３２】
また、第１の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成しているので、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーを正確に行なうことができる。また、第２の保護膜９を反射防止膜６の上にも形成しているので、レジストポイズニング現象を確実に防止できる。
【００３３】
尚、第１の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成したが、これに代えて、反射防止膜６を形成しなくてもよい。この場合、第２の保護膜９は、ビアホール８の外側の有機含有シリコン酸化膜５の露出表面全体と、ビアホール８の壁面に露出した有機含有シリコン酸化膜５の側面を含むビアホール８の内表面全体とを覆うことになる。従って、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とが直接接触することを防止できる。
【００３４】
また、第１の実施形態において、トレンチ１１の形成後に、ビアホール８の壁面を覆う第２の保護膜９を除去してもよい。このようにすると、ビアホール８に形成されるビアプラグの抵抗の増大を防止できる。
【００３５】
また、第１の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の材料は、シリコン酸化膜よりも比誘電率の小さい材料であれば特に限定されないが、例えばＳｉＯＣを用いた場合には配線間の容量を確実に低減できる。また、有機含有シリコン酸化膜５に代えて、他の低誘電率膜、例えばポーラス膜等を用いてもよい。
【００３６】
また、第１の実施形態において、第２の保護膜９の材料は、有機含有シリコン酸化膜５からのアミン等の拡散を防止できる材料であれば特に限定されないが、例えば炭素非含有のシリコン酸化膜を用いた場合には、レジストポイズニング現象を確実に防止できる。
【００３７】
また、第１の実施形態において、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（レジストパターン１０ａ）を形成するために、化学増幅型ポジレジストを用いたが、これに代えて、化学増幅型ネガレジストを用いてもよい。この場合も、寸法拡大のないトレンチパターンを持つレジスト膜、つまりトレンチ形成領域に所望の寸法通りの開口部を持つレジストパターンを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００３８】
（第２の実施形態）
以下、本発明の第２の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について図面を参照しながら説明する。
【００３９】
図３（ａ）〜（ｅ）は、第２の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【００４０】
尚、第２の実施形態においては、まず、図１（ａ）〜（ｄ）に示す第１の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を実施するものとする。すなわち、図１（ａ）に示すように、半導体基板１上に、層間絶縁膜２、第１の金属配線３、第１の保護膜４、低誘電率膜（具体的には有機含有シリコン酸化膜）５、反射防止膜６、及びビアホールパターンを持つレジスト膜７を順次形成する。その後、図１（ｂ）に示すように、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５にビアホール８を形成した後、図１（ｃ）に示すように、アッシングによりレジスト膜７を除去する。続いて、図１（ｄ）に示すように、ビアホール８の内表面全体と反射防止膜６の表面とを覆うように酸化膜９を形成する。
【００４１】
その後、図３（ａ）に示すように、酸化膜９に対してエッチバックを行なうことにより、ビアホール８の壁面に、酸化膜（ＳｉＯ２  ）からなるサイドウォール９ａを形成すると共に、反射防止膜６上の酸化膜９をエッチングにより除去する。これにより、ビアホール８の壁面に露出する有機含有シリコン酸化膜５を、サイドウォール９ａによって保護することができる。このとき、反射防止膜６も、わずかに（例えば厚さｄ１  程度）エッチングされるが、これは、後の工程に対して大きな影響を与えるものではない。
【００４２】
次に、図３（ｂ）に示すように、ビアホール８の内部を含む反射防止膜６の上に全面に亘って、化学増幅型ポジレジストからなるレジスト膜１０を堆積する。ここで、前工程で形成したサイドウォール９ａの存在により、ビアホール８の内部において、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とは直接接触しない。また、有機含有シリコン酸化膜５の上面にも反射防止膜６が存在しているので、ビアホール８の外側においても、有機含有シリコン酸化膜５がレジスト膜１０と直接接触することはない。よって、第１の実施形態で述べた酸の失活現象は起こらないので、レジスト膜１０は変質しない。
【００４３】
その後、図３（ｃ）に示すように、トレンチパターンを持つフォトマスクを用いた露光とそれに続く現像、つまりリソグラフィーによって、トレンチ形成領域のレジスト膜１０に幅Ｓ０  の開口部（トレンチパターン）を形成する。これにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまりレジストパターン１０ａが形成される。ここで、トレンチ形成領域は、ビアホール８が形成された領域を含んでいる。
【００４４】
続いて、図３（ｄ）に示すように、レジストパターン１０ａをマスクとして、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５に対して順次ドライエッチングを行なって、有機含有シリコン酸化膜５及び反射防止膜６に、ビアホール８と接続する深さ（反射防止膜６の表面からの深さ）ｄ０  のトレンチ（配線用溝）１１を形成する。
【００４５】
その後、図３（ｅ）に示すように、レジストパターン１０ａをアッシングにより除去した後、第１の保護膜４におけるビアホール８に露出する部分に対してエッチングを行なって該部分を開口することにより、第１の金属配線３の上面を露出させる。その後、例えば第１の実施形態と同様の方法により、ビアホール８及びトレンチ１１の内部に金属を埋め込むことによって、デュアルダマシン構造を持つ第２の金属配線１２を形成する。
【００４６】
以上に説明したように、第２の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５にビアホ−ル８を形成した後、ビアホ−ル８の壁面上に、保護膜となるサイドウォール９ａを形成する。その後、化学増幅型ポジレジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａ）を形成する。このため、化学増幅型ポジレジストの塗布時にビアホ−ル８内でレジストと有機含有シリコン酸化膜５とが直接接することがないので、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質がレジスト中に拡散すること、つまりレジストポイズニング現象を防止できる。従って、レジストの現像不良を防止でき、それにより所望のトレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまり裾引きのないレジストパターン１０ａを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００４７】
また、第２の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成しているので、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーを正確に行なうことができる。
【００４８】
また、第２の実施形態によると、サイドウォール９ａとなる酸化膜９のうち、反射防止膜６の上側の部分を予め除去しているため、第１の実施形態の図２（ｃ）に示すエッチング工程と、第２の実施形態の図３（ｄ）に示すエッチング工程とを比較した場合、次のような効果が得られる。すなわち、第２の実施形態の方が第１の実施形態よりも、反射防止膜６の上に酸化膜９が存在しない分、トレンチパターンエッチング時の負荷が低減できる。従って、エッチング時間を短縮でき、それによりレジストエッチング量の低減等も図ることができる。
【００４９】
尚、第２の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成したが、これに代えて、反射防止膜６を形成しなくてもよい。
【００５０】
また、第２の実施形態において、トレンチ１１の形成後に、ビアホール８の壁面を覆うサイドウォール９ａを除去してもよい。このようにすると、ビアホール８に形成されるビアプラグの抵抗の増大を防止できる。
【００５１】
また、第２の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の材料は、シリコン酸化膜よりも比誘電率の小さい材料であれば特に限定されないが、例えばＳｉＯＣを用いた場合には配線間の容量を確実に低減できる。また、有機含有シリコン酸化膜５に代えて、他の低誘電率膜、例えばポーラス膜等を用いてもよい。
【００５２】
また、第２の実施形態において、サイドウォール９ａの材料は、有機含有シリコン酸化膜５からのアミン等の拡散を防止できる材料であれば特に限定されないが、例えば炭素非含有のシリコン酸化膜を用いた場合には、レジストポイズニング現象を確実に防止できる。
【００５３】
また、第２の実施形態において、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（レジストパターン１０ａ）を形成するために、化学増幅型ポジレジストを用いたが、これに代えて、化学増幅型ネガレジストを用いてもよい。この場合も、寸法拡大のないトレンチパターンを持つレジスト膜、つまりトレンチ形成領域に所望の寸法通りの開口部を持つレジストパターンを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００５４】
（第３の実施形態）
以下、本発明の第３の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について図面を参照しながら説明する。
【００５５】
図４（ａ）〜（ｅ）は、第３の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【００５６】
尚、第３の実施形態においては、まず、図１（ａ）〜（ｃ）に示す第１の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を実施するものとする。すなわち、図１（ａ）に示すように、半導体基板１上に、層間絶縁膜２、第１の金属配線３、第１の保護膜４、低誘電率膜（具体的には有機含有シリコン酸化膜）５、反射防止膜６、及びビアホールパターンを持つレジスト膜７を順次形成する。その後、図１（ｂ）に示すように、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５にビアホール８を形成した後、図１（ｃ）に示すように、アッシングによりレジスト膜７を除去する。
【００５７】
次に、図４（ａ）に示すように、例えばＣ４Ｆ８等のフルオロカーボンガス中で放電を行なうことによってプラズマ１３を生成し、該プラズマ１３に半導体基板１をさらすことにより、ビアホール８の内表面全体と反射防止膜６の表面とを覆うようにフルオロカーボン膜１４（以下、本実施形態では第２の保護膜１４と称する）を形成する。これにより、ビアホール８の壁面に露出する有機含有シリコン酸化膜５を、第２の保護膜１４によって完全に保護することができる。尚、第２の保護膜１４は、ビアホール８が完全には埋まらないように形成される。
【００５８】
次に、図４（ｂ）に示すように、ビアホール８の内部を含む第２の保護膜１４の上に全面に亘って、化学増幅型ポジレジストからなるレジスト膜１０を隙間なく堆積する。ここで、前工程で形成した第２の保護膜１４の存在により、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とは直接接触しない。よって、第１の実施形態で述べた酸の失活現象は起こらないので、レジスト膜１０は変質しない。
【００５９】
その後、図４（ｃ）に示すように、トレンチパターンを持つフォトマスクを用いた露光とそれに続く現像、つまりリソグラフィーによって、トレンチ形成領域のレジスト膜１０に幅Ｓ０  の開口部を形成する。これにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまりレジストパターン１０ａが形成される。ここで、トレンチ形成領域は、ビアホール８が形成された領域を含んでいる。
【００６０】
続いて、図４（ｄ）に示すように、レジストパターン１０ａをマスクとして、第２の保護膜１４、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５に対して順次ドライエッチングを行なって、有機含有シリコン酸化膜５及び反射防止膜６に、ビアホール８と接続する深さ（反射防止膜６の表面からの深さ）ｄ０  のトレンチ（配線用溝）１１を形成する。
【００６１】
その後、図４（ｅ）に示すように、レジストパターン１０ａをアッシングにより除去した後、第１の保護膜４におけるビアホール８に露出する部分に対してエッチングを行なって該部分を開口することにより、第１の金属配線３の上面を露出させる。その後、例えば第１の実施形態と同様の方法により、ビアホール８及びトレンチ１１の内部に金属を埋め込むことによって、デュアルダマシン構造を持つ第２の金属配線１２を形成する。
【００６２】
以上に説明したように、第３の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５にビアホ−ル８を形成した後、ビアホ−ル８の壁面上に、フルオロカーボン膜からなる第２の保護膜１４を形成する。その後、化学増幅型ポジレジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａ）を形成する。このため、化学増幅型ポジレジストの塗布時にビアホ−ル８内でレジストと有機含有シリコン酸化膜５とが直接接することがないので、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質がレジスト中に拡散すること、つまりレジストポイズニング現象を防止できる。従って、レジストの現像不良を防止でき、それにより所望のトレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまり裾引きのないレジストパターン１０ａを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００６３】
また、第３の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成しているので、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーを正確に行なうことができる。また、第２の保護膜１４を反射防止膜６の上にも形成しているので、レジストポイズニング現象を確実に防止できる。
【００６４】
尚、第３の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成したが、これに代えて、反射防止膜６を形成しなくてもよい。この場合、第２の保護膜１４つまりフルオロカーボン膜は、ビアホール８の外側の有機含有シリコン酸化膜５の露出表面全体と、ビアホール８の壁面に露出した有機含有シリコン酸化膜５の側面を含むビアホール８の内表面全体とを密着性良く覆うことになる。従って、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とが直接接触することを防止できる。
【００６５】
また、第３の実施形態において、トレンチ１１の形成後に、ビアホール８の壁面を覆う第２の保護膜１４を除去してもよい。このようにすると、ビアホール８に形成されるビアプラグの抵抗の増大を防止できる。
【００６６】
また、第３の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の材料は、シリコン酸化膜よりも比誘電率の小さい材料であれば特に限定されないが、例えばＳｉＯＣを用いた場合には配線間の容量を確実に低減できる。また、有機含有シリコン酸化膜５に代えて、他の低誘電率膜、例えばポーラス膜等を用いてもよい。
【００６７】
また、第３の実施形態において、第２の保護膜９つまりフルオロカーボン膜を形成するためのプラズマ処理の材料ガスとして、Ｃ４Ｆ８ガスを用いたが、これに代えて、他のフルオロカーボンガス、例えば、Ｃ３Ｆ６ガス、Ｃ５Ｆ８ガス及びＣＨＦ３  ガス等の、フッ素と炭素とを含むガスを用いても、同様の効果が得られる。
【００６８】
また、第３の実施形態において、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（レジストパターン１０ａ）を形成するために、化学増幅型ポジレジストを用いたが、これに代えて、化学増幅型ネガレジストを用いてもよい。この場合も、寸法拡大のないトレンチパターンを持つレジスト膜、つまりトレンチ形成領域に所望の寸法通りの開口部を持つレジストパターンを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００６９】
（第４の実施形態）
以下、本発明の第４の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について図面を参照しながら説明する。
【００７０】
図５（ａ）〜（ｅ）は、第４の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【００７１】
尚、第４の実施形態においては、まず、図１（ａ）〜（ｃ）に示す第１の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を実施するものとする。すなわち、図１（ａ）に示すように、半導体基板１上に、層間絶縁膜２、第１の金属配線３、第１の保護膜４、低誘電率膜（具体的には有機含有シリコン酸化膜）５、反射防止膜６、及びビアホールパターンを持つレジスト膜７を順次形成する。その後、図１（ｂ）に示すように、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５にビアホール８を形成した後、図１（ｃ）に示すように、アッシングによりレジスト膜７を除去する。
【００７２】
次に、図５（ａ）に示すように、ビアホール８の壁面に露出する有機含有シリコン酸化膜５に対して、例えばＯ２  ガスを用いたアッシングを行なう。これにより、ビアホール８の壁部となる有機含有シリコン酸化膜５が高密度化（具体的にはＳｉＯ２  化）して表面改質層１５が形成される。表面改質層１５は、それにより覆われた有機含有シリコン酸化膜５に対して、第１の実施形態の第２の保護膜９と同様の保護膜として機能する。
【００７３】
次に、図５（ｂ）に示すように、ビアホール８の内部を含む反射防止膜６の上に全面に亘って、化学増幅型ポジレジストからなるレジスト膜１０を堆積する。ここで、前工程で形成した表面改質層１５の存在により、ビアホール８の内部において、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とは直接接触しない。また、有機含有シリコン酸化膜５の上面にも反射防止膜６が存在しているので、ビアホール８の外側においても、有機含有シリコン酸化膜５がレジスト膜１０と直接接触することはない。よって、第１の実施形態で述べた酸の失活現象は起こらないので、レジスト膜１０は変質しない。
【００７４】
その後、図５（ｃ）に示すように、トレンチパターンを持つフォトマスクを用いた露光とそれに続く現像、つまりリソグラフィーによって、トレンチ形成領域のレジスト膜１０に幅Ｓ０  の開口部（トレンチパターン）を形成する。これにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまりレジストパターン１０ａが形成される。ここで、トレンチ形成領域は、ビアホール８が形成された領域を含んでいる。
【００７５】
続いて、図５（ｄ）に示すように、レジストパターン１０ａをマスクとして、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５に対して順次ドライエッチングを行なって、有機含有シリコン酸化膜５及び反射防止膜６に、ビアホール８と接続する深さ（反射防止膜６の表面からの深さ）ｄ０  のトレンチ（配線用溝）１１を形成する。
【００７６】
その後、図５（ｅ）に示すように、レジストパターン１０ａをアッシングにより除去した後、第１の保護膜４におけるビアホール８に露出する部分に対してエッチングを行なって該部分を開口することにより、第１の金属配線３の上面を露出させる。その後、例えば第１の実施形態と同様の方法により、ビアホール８及びトレンチ１１の内部に金属を埋め込むことによって、デュアルダマシン構造を持つ第２の金属配線１２を形成する。
【００７７】
以上に説明したように、第４の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５にビアホ−ル８を形成した後、ビアホ−ル８の壁面上に、保護膜となる表面改質層１５を形成する。その後、化学増幅型ポジレジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａ）を形成する。このため、化学増幅型ポジレジストの塗布時にビアホ−ル８内でレジストと有機含有シリコン酸化膜５とが直接接することがないので、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質がレジスト中に拡散すること、つまりレジストポイズニング現象を防止できる。従って、レジストの現像不良を防止でき、それにより所望のトレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまり裾引きのないレジストパターン１０ａを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００７８】
また、第４の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成しているので、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーを正確に行なうことができる。
【００７９】
尚、第４の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成したが、これに代えて、反射防止膜６を形成しなくてもよい。
【００８０】
また、第４の実施形態において、トレンチ１１の形成後に、ビアホール８の壁面を覆う表面改質層１５を除去してもよい。このようにすると、ビアホール８に形成されるビアプラグの抵抗の増大を防止できる。
【００８１】
また、第４の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の材料は、シリコン酸化膜よりも比誘電率の小さい材料であれば特に限定されないが、例えばＳｉＯＣを用いた場合には配線間の容量を確実に低減できる。また、有機含有シリコン酸化膜５に代えて、他の低誘電率膜、例えばポーラス膜等を用いてもよい。
【００８２】
また、第４の実施形態において、アッシングにより有機含有シリコン酸化膜５をＳｉＯ２  化して表面改質層１５を形成したが、これに代えて、他の方法で有機含有シリコン酸化膜５を高密度化して改質層を形成してもよい。
【００８３】
また、第４の実施形態において、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（レジストパターン１０ａ）を形成するために、化学増幅型ポジレジストを用いたが、これに代えて、化学増幅型ネガレジストを用いてもよい。この場合も、寸法拡大のないトレンチパターンを持つレジスト膜、つまりトレンチ形成領域に所望の寸法通りの開口部を持つレジストパターンを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００８４】
（第５の実施形態）
以下、本発明の第５の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について図面を参照しながら説明する。
【００８５】
図６（ａ）〜（ｈ）は、第５の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【００８６】
まず、第１の実施形態の図１（ａ）に示す工程と同様に図６（ａ）に示すように、例えば半導体基板１の上に全面に亘って、例えばＳｉＯ２  からなる層間絶縁膜２を堆積する。その後、層間絶縁膜２に第１の金属配線３を埋め込むと共に、層間絶縁膜２の上面を平坦化する。次に、平坦化された層間絶縁膜２の上及び第１の金属配線３の上に、例えばＳｉＮからなる第１の保護膜４を形成する。その後、第１の保護膜４の上に全面に亘って、低誘電率膜、例えばＳｉＯＣからなる厚さ４００ｎｍ程度の有機含有シリコン酸化膜（炭素含有シリコン酸化膜）５を堆積した後、有機含有シリコン酸化膜５の上に全面に亘って、例えば有機材料からなる反射防止膜１９を形成する。その後、リソグラフィー法により、ビアホール形成領域に開口部を持つレジスト膜７、つまりビアホールパターンを持つレジスト膜７を形成する。
【００８７】
その後、レジスト膜７をマスクとして、反射防止膜１９及び有機含有シリコン酸化膜５に対して順次ドライエッチングを行なって、図６（ｂ）に示すように、ビアホール８を形成する。尚、レジスト膜７及び反射防止膜１９は、ビアホール８の形成後にアッシングにより除去される。
【００８８】
次に、図６（ｃ）に示すように、プラズマ１６に半導体基板１をさらすことにより、正電荷を持つイオンを有機含有シリコン酸化膜５の表面に注入し又は吸着させる。これにより、プラズマ処理によって有機含有シリコン酸化膜５の表面に注入し又は吸着させた、正電荷を持つイオンと、有機含有シリコン酸化膜５（特にビアホール８の壁部）中のアミン又は塩基性物質との間に酸塩基反応を生じさせることができる。従って、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン若しくは塩基性物質を中和でき又は該アミン等の濃度を低減できる。尚、前述のプラズマ処理によるイオンのスパッタリング効果によって、ビアホール８に、わずかな（例えば幅ｘ０  程度）開口拡大が生じるが、後のトレンチパターン形成工程（図６（ｅ）参照）で寸法制御を行なうことにより、ビアホール８の開口拡大が問題を生じることはない。
【００８９】
次に、図６（ｄ）に示すように、ビアホール８の内部を含む有機含有シリコン酸化膜５の上に全面に亘って、化学増幅型ポジレジストからなるレジスト膜１０を堆積する。ここで、前工程のプラズマ処理により、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質の濃度が低下しているため、露光時にレジスト膜１０から発生する酸が失活してしまうことを防止できるので、レジスト膜１０は変質しない。
【００９０】
その後、図６（ｅ）に示すように、トレンチパターンを持つフォトマスクを用いた露光とそれに続く現像、つまりリソグラフィーによって、トレンチ形成領域のレジスト膜１０に開口部（トレンチパターン）を形成する。これにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまりレジストパターン１０ａが形成される。ここで、トレンチ形成領域は、ビアホール８が形成された領域を含んでいる。
【００９１】
続いて、図６（ｆ）に示すように、レジストパターン１０ａをマスクとして、有機含有シリコン酸化膜５に対してドライエッチングを行なって、有機含有シリコン酸化膜５に、ビアホール８と接続する深さｄ０  のトレンチ（配線用溝）１１を形成する。
【００９２】
その後、図６（ｇ）に示すように、レジストパターン１０ａをアッシングにより除去した後、第１の保護膜４におけるビアホール８に露出する部分に対してエッチングを行なって該部分を開口することにより、第１の金属配線３の上面を露出させる。
【００９３】
その後、図６（ｈ）に示すように、例えば第１の実施形態と同様の方法により、ビアホール８及びトレンチ１１の内部に金属を埋め込むことによって、デュアルダマシン構造を持つ第２の金属配線１２を形成する。
【００９４】
以上に説明したように、第５の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５にビアホ−ル８を形成した後、ビアホ−ル８の壁部を含む有機含有シリコン酸化膜５に、正電荷を持つイオンを注入し又は吸着させ、その後、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａ）を形成する。このため、有機含有シリコン酸化膜５に注入し又は吸着させた、正電荷を持つイオンと、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質との間に酸塩基反応を生じさせることができ、それによって有機含有シリコン酸化膜５中のアミン若しくは塩基性物質を中和でき又は該アミン等の濃度を低減できる。これにより、有機含有シリコン酸化膜５と化学増幅型レジストとが直接接触する場合にも、露光時に化学増幅型レジストから発生する酸が失活してしまうことを防止できる。従って、レジストの現像不良を防止でき、それによって所望のトレンチパターンを持つレジスト膜１０つまり裾引きのないレジストパターン１０ａを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【００９５】
また、第５の実施形態によると、プラズマ１６を用いて正電荷を持つイオンを有機含有シリコン酸化膜５に注入することによって、次のような効果が得られる。すなわち、正電荷を含むプラズマ１６を形成するためのガスとしては、様々な種類のガス、例えばプラズマ中でＣｌ＋  という陽イオンを生じるＣｌ２  ガスを用いることができる。また、半導体基板１をプラズマ１６にさらすときに、半導体基板１を陰極側に設置することにより、陽イオンを有機含有シリコン酸化膜５に簡単に注入することができる。すなわち、第５の実施形態では、基本的にどのようなガスを用いても、レジストポイズニング現象を防止できるという効果が得られる。
【００９６】
尚、第５の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の材料は、シリコン酸化膜よりも比誘電率の小さい材料であれば特に限定されないが、例えばＳｉＯＣを用いた場合には配線間の容量を確実に低減できる。また、有機含有シリコン酸化膜５に代えて、他の低誘電率膜、例えばポーラス膜等を用いてもよい。
【００９７】
また、第５の実施形態において、ビアホール８の形成後に、有機含有シリコン酸化膜５上の反射防止膜１９を除去した。しかし、有機材料からなる反射防止膜１９に代えて、例えばＳｉＯＮからなる反射防止膜を用いる場合には、該反射防止膜を残存させる。このようにすると、トレンチパターン形成時に、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーを正確に行なうことができる。
【００９８】
また、第５の実施形態において、正電荷を持つイオンを有機含有シリコン酸化膜５の表面に注入し又は吸着させたが、これに代えて、他の電子受容体を有機含有シリコン酸化膜５の表面に注入し又は吸着させても、同様の効果が得られる。
【００９９】
また、第５の実施形態において、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（レジストパターン１０ａ）を形成するために、化学増幅型ポジレジストを用いたが、これに代えて、化学増幅型ネガレジストを用いてもよい。この場合も、寸法拡大のないトレンチパターンを持つレジスト膜、つまりトレンチ形成領域に所望の寸法通りの開口部を持つレジストパターンを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【０１００】
（第６の実施形態）
以下、本発明の第６の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について図面を参照しながら説明する。
【０１０１】
図７（ａ）〜（ｈ）は、第６の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【０１０２】
まず、第１の実施形態の図１（ａ）に示す工程と同様に図７（ａ）に示すように、例えば半導体基板１の上に全面に亘って、例えばＳｉＯ２  からなる層間絶縁膜２を堆積する。その後、層間絶縁膜２に第１の金属配線３を埋め込むと共に、層間絶縁膜２の上面を平坦化する。次に、平坦化された層間絶縁膜２の上及び第１の金属配線３の上に、例えばＳｉＮからなる第１の保護膜４を形成する。その後、第１の保護膜４の上に全面に亘って、低誘電率膜、例えばＳｉＯＣからなる厚さ４００ｎｍ程度の有機含有シリコン酸化膜（炭素含有シリコン酸化膜）５を堆積した後、有機含有シリコン酸化膜５の上に全面に亘って、例えば有機材料からなる反射防止膜１９を形成する。その後、リソグラフィー法により、ビアホール形成領域に開口部を持つレジスト膜７、つまりビアホールパターンを持つレジスト膜７を形成する。
【０１０３】
その後、レジスト膜７をマスクとして、反射防止膜１９及び有機含有シリコン酸化膜５に対して順次ドライエッチングを行なって、図７（ｂ）に示すように、ビアホール８を形成する。尚、レジスト膜７及び反射防止膜１９は、ビアホール８の形成後にアッシングにより除去される。
【０１０４】
次に、図７（ｃ）に示すように、Ｈ２  ガス若しくはＨ２  Ｏガス又はそれらを主成分とするガスからなるプラズマ１７に半導体基板１をさらすことにより、Ｈ＋  イオン又はＯＨ＋  イオンを有機含有シリコン酸化膜５の表面に注入し又は吸着させる。これにより、プラズマ処理によって有機含有シリコン酸化膜５の表面に注入し又は吸着させたＨ＋  イオン又はＯＨ＋  イオンと、有機含有シリコン酸化膜５（特にビアホール８の壁部）中のアミン又は塩基性物質との間に酸塩基反応を生じさせることができる。従って、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン若しくは塩基性物質を中和でき又は該アミン等の濃度を低減できる。尚、前述のプラズマ処理によって有機含有シリコン酸化膜５に入射されるイオンは、質量の小さいＨ＋  イオン又はＯＨ＋  イオンであるため、そのスパッタリング効果は小さいので、第５の実施形態（図６（ｃ）参照）で見られた、ビアホール８の開口拡大は起こらない。また、Ｈ＋  イオン又はＯＨ＋  イオンの質量及び大きさが小さいので、半導体基板１のプラズマダメージ、特に有機含有シリコン酸化膜５のプラズマダメージも極小に抑制することができる。
【０１０５】
次に、図７（ｄ）に示すように、ビアホール８の内部を含む有機含有シリコン酸化膜５の上に全面に亘って、化学増幅型ポジレジストからなるレジスト膜１０を堆積する。ここで、前工程のプラズマ処理により、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質の濃度が低下しているため、露光時にレジスト膜１０から発生する酸が失活してしまうことを防止できるので、レジスト膜１０は変質しない。
【０１０６】
その後、図７（ｅ）に示すように、トレンチパターンを持つフォトマスクを用いた露光とそれに続く現像、つまりリソグラフィーによって、トレンチ形成領域のレジスト膜１０に開口部（トレンチパターン）を形成する。これにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０つまりレジストパターン１０ａが形成される。ここで、トレンチ形成領域は、ビアホール８が形成された領域を含んでいる。
【０１０７】
続いて、図７（ｆ）に示すように、レジストパターン１０ａをマスクとして、有機含有シリコン酸化膜５に対してドライエッチングを行なって、有機含有シリコン酸化膜５に、ビアホール８と接続する深さｄ０  のトレンチ（配線用溝）１１を形成する。
【０１０８】
その後、図７（ｇ）に示すように、レジストパターン１０ａをアッシングにより除去した後、第１の保護膜４におけるビアホール８に露出する部分に対してエッチングを行なって該部分を開口することにより、第１の金属配線３の上面を露出させる。
【０１０９】
その後、図７（ｈ）に示すように、例えば第１の実施形態と同様の方法により、ビアホール８及びトレンチ１１の内部に金属を埋め込むことによって、デュアルダマシン構造を持つ第２の金属配線１２を形成する。
【０１１０】
以上に説明したように、第６の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５にビアホ−ル８を形成した後、ビアホ−ル８の壁部を含む有機含有シリコン酸化膜５にＨ＋  イオン又はＯＨ＋  イオンを注入し又は吸着させ、その後、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａ）を形成する。このため、有機含有シリコン酸化膜５に注入し又は吸着させたＨ＋  イオン又はＯＨ＋  イオンと、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質との間に酸塩基反応を生じさせることができ、それによって有機含有シリコン酸化膜５中のアミン若しくは塩基性物質を中和でき又は該アミン等の濃度を低減できる。これにより、有機含有シリコン酸化膜５と化学増幅型レジストとが直接接触する場合にも、露光時に化学増幅型レジストから発生する酸が失活してしまうことを防止できる。従って、レジストの現像不良を防止でき、それによって所望のトレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまり裾引きのないレジストパターン１０ａを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【０１１１】
また、第６の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５に、質量の小さいＨ＋  イオン又はＯＨ＋  イオンを入射するので、ビアホール８の開口寸法の拡大を防止できる。また、半導体基板１のプラズマダメージ、特に有機含有シリコン酸化膜５のプラズマダメージを最小限に抑制することができる。
【０１１２】
尚、第６の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の材料は、シリコン酸化膜よりも比誘電率の小さい材料であれば特に限定されないが、例えばＳｉＯＣを用いた場合には配線間の容量を確実に低減できる。また、有機含有シリコン酸化膜５に代えて、他の低誘電率膜、例えばポーラス膜等を用いてもよい。
【０１１３】
また、第６の実施形態において、ビアホール８の形成後に、有機含有シリコン酸化膜５上の反射防止膜１９を除去した。しかし、有機材料からなる反射防止膜１９に代えて、例えばＳｉＯＮからなる反射防止膜を用いる場合には、該反射防止膜を残存させる。このようにすると、トレンチパターン形成時に、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーを正確に行なうことができる。
【０１１４】
また、第６の実施形態において、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（レジストパターン１０ａ）を形成するために、化学増幅型ポジレジストを用いたが、これに代えて、化学増幅型ネガレジストを用いてもよい。この場合も、寸法拡大のないトレンチパターンを持つレジスト膜、つまりトレンチ形成領域に所望の寸法通りの開口部を持つレジストパターンを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【０１１５】
（第７の実施形態）
以下、本発明の第７の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について図面を参照しながら説明する。
【０１１６】
図８（ａ）〜（ｅ）は、第７の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【０１１７】
尚、第７の実施形態においては、まず、図１（ａ）〜（ｃ）に示す第１の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を実施するものとする。すなわち、図１（ａ）に示すように、半導体基板１上に、層間絶縁膜２、第１の金属配線３、第１の保護膜４、低誘電率膜（具体的には有機含有シリコン酸化膜）５、反射防止膜６、及びビアホールパターンを持つレジスト膜７を順次形成する。その後、図１（ｂ）に示すように、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５にビアホール８を形成した後、図１（ｃ）に示すように、アッシングによりレジスト膜７を除去する。
【０１１８】
ここで、本実施形態では、エッチングによりビアホール８を形成する工程で発生したポリマー等のレジスト残さを除去するための洗浄を行なわない。すなわち、図８（ａ）に示すように、ビアホール８の内表面及び反射防止膜６の表面のそれぞれの上に全面に亘ってレジスト残さ１８が残存したままの状態にしておく。尚、ビアホール８を形成するためのエッチングは、基板表面全体に対して行なわれるものであるので、レジスト残さ１８は、ビアホール８の内表面全体に隙間なく付着する。また、レジスト残さ１８は、ビアホール８を形成するためのエッチング工程で用いたＣ４Ｆ８等のフルオロカーボンガスから生じた生成物であって、具体的には、ＣｘＦｙ（ｘ及びｙは自然数）とシリコンとの化合物である。本実施形態では、このレジスト残さ１８を、第１の実施形態の第２の保護膜９と同様に、有機含有シリコン酸化膜５に対する保護膜として活用する。
【０１１９】
次に、図８（ｂ）に示すように、ビアホール８の内部を含むレジスト残さ１８の上に全面に亘って、化学増幅型ポジレジストからなるレジスト膜１０を堆積する。ここで、ビアホール８を形成するためのエッチング後に残存させたレジスト残さ１８の存在により、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とは直接接触しない。よって、第１の実施形態で述べた酸の失活現象は起こらないので、レジスト膜１０は変質しない。
【０１２０】
その後、図８（ｃ）に示すように、トレンチパターンを持つフォトマスクを用いた露光とそれに続く現像、つまりリソグラフィーによって、トレンチ形成領域のレジスト膜１０に幅Ｓ０  の開口部を形成する。これにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまりレジストパターン１０ａが形成される。ここで、トレンチ形成領域は、ビアホール８が形成された領域を含んでいる。
【０１２１】
続いて、図８（ｄ）に示すように、レジストパターン１０ａをマスクとして、レジスト残さ１８、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５に対して順次ドライエッチングを行なって、有機含有シリコン酸化膜５及び反射防止膜６に、ビアホール８と接続する深さ（反射防止膜６の表面からの深さ）ｄ０  のトレンチ（配線用溝）１１を形成する。
【０１２２】
その後、図８（ｅ）に示すように、例えばＯ２  ガスを用いることにより、レジストパターン１０ａ、並びにレジストパターン１０ａの下側のレジスト残さ１８及びビアホール８の内表面上のレジスト残さ１８を除去する。その後、第１の保護膜４におけるビアホール８に露出する部分に対してエッチングを行なって該部分を開口することにより、第１の金属配線３の上面を露出させる。その後、例えば第１の実施形態と同様の方法により、ビアホール８及びトレンチ１１の内部に金属を埋め込むことによって、デュアルダマシン構造を持つ第２の金属配線１２を形成する。
【０１２３】
以上に説明したように、第７の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５にビアホ−ル８をエッチングにより形成した後、該エッチング工程で生じたレジスト残さ１８をビアホ−ル８の壁面等の上に残存させたまま、化学増幅型ポジレジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａ）を形成する。このため、化学増幅型ポジレジストの塗布時にビアホ−ル８内でレジストと有機含有シリコン酸化膜５とが直接接することがないので、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質がレジスト中に拡散すること、つまりレジストポイズニング現象を防止できる。従って、レジストの現像不良を防止でき、それにより所望のトレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまり裾引きのないレジストパターン１０ａを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【０１２４】
また、第７の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成しているので、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーを正確に行なうことができる。また、レジスト残さ１８を反射防止膜６の上にも残存させているので、レジストポイズニング現象を確実に防止できる。
【０１２５】
また、第７の実施形態によると、トレンチ１１の形成後に、ビアホール８の壁面を覆うレジスト残さ１８を除去しているので、ビアホール８に形成されるビアプラグの抵抗の増大を防止できる。
【０１２６】
尚、第７の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成したが、これに代えて、反射防止膜６を形成しなくてもよい。この場合、レジスト残さ１８は、ビアホール８の外側の有機含有シリコン酸化膜５の露出表面全体と、ビアホール８の壁面に露出した有機含有シリコン酸化膜５の側面を含むビアホール８の内表面全体とを覆うことになる。従って、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とが直接接触することを防止できる。
【０１２７】
また、第７の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の材料は、シリコン酸化膜よりも比誘電率の小さい材料であれば特に限定されないが、例えばＳｉＯＣを用いた場合には配線間の容量を確実に低減できる。また、有機含有シリコン酸化膜５に代えて、他の低誘電率膜、例えばポーラス膜等を用いてもよい。
【０１２８】
また、第７の実施形態において、レジスト残さ１８の組成は特に限定されるものでないが、レジスト残さ１８が、例えばＣｘＦｙ（ｘ及びｙは自然数）とシリコンとの化合物であると、レジストポイズニング現象を確実に防止できる。
【０１２９】
また、第７の実施形態において、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（レジストパターン１０ａ）を形成するために、化学増幅型ポジレジストを用いたが、これに代えて、化学増幅型ネガレジストを用いてもよい。この場合も、寸法拡大のないトレンチパターンを持つレジスト膜、つまりトレンチ形成領域に所望の寸法通りの開口部を持つレジストパターンを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【０１３０】
（第８の実施形態）
以下、本発明の第８の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について図面を参照しながら説明する。
【０１３１】
図９（ａ）〜（ｆ）は、第８の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【０１３２】
尚、第８の実施形態においては、まず、図１（ａ）〜（ｃ）に示す第１の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を実施するものとする。すなわち、図１（ａ）に示すように、半導体基板１上に、層間絶縁膜２、第１の金属配線３、第１の保護膜４、低誘電率膜（具体的には有機含有シリコン酸化膜）５、反射防止膜６、及びビアホールパターンを持つレジスト膜７を順次形成する。その後、図１（ｂ）に示すように、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５にビアホール８を形成した後、図１（ｃ）に示すように、アッシングによりレジスト膜７を除去する。
【０１３３】
ここで、本実施形態では、第７の実施形態と同様に、エッチングによりビアホール８を形成する工程で発生したポリマー等のレジスト残さを除去するための洗浄を行なわない。すなわち、図９（ａ）に示すように、ビアホール８の内表面及び反射防止膜６の表面のそれぞれの上に全面に亘ってレジスト残さ１８が残存したままの状態にしておく。尚、ビアホール８を形成するためのエッチングは、基板表面全体に対して行なわれるものであるので、レジスト残さ１８は、ビアホール８の内表面全体に隙間なく付着する。また、レジスト残さ１８は、ビアホール８を形成するためのエッチング工程で用いたＣ４Ｆ８等のフルオロカーボンガスから生じた生成物であって、具体的には、ＣｘＦｙ（ｘ及びｙは自然数）とシリコンとの化合物である。また、本実施形態でも、第７の実施形態と同様に、レジスト残さ１８を、有機含有シリコン酸化膜５に対する保護膜として活用する。
【０１３４】
次に、図９（ｂ）に示すように、ビアホール８の内部を含むレジスト残さ１８の上に全面に亘って、化学増幅型ポジレジストからなるレジスト膜１０を堆積する。ここで、ビアホール８を形成するためのエッチング後に残存させたレジスト残さ１８の存在により、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とは直接接触しない。よって、第１の実施形態で述べた酸の失活現象は起こらないので、レジスト膜１０は変質しない。
【０１３５】
その後、図９（ｃ）に示すように、トレンチパターンを持つフォトマスクを用いた露光とそれに続く現像、つまりリソグラフィーによって、トレンチ形成領域のレジスト膜１０に幅Ｓ０  の開口部を形成する。これにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまりレジストパターン１０ａが形成される。ここで、トレンチ形成領域は、ビアホール８が形成された領域を含んでいる。
【０１３６】
その後、図９（ｄ）に示すように、例えばＯ２  ガスを用いたＲＩＥ（reactive ion etching）方式のアッシングを行なうことにより、レジストパターン１０ａの外側のレジスト残さ１８、つまりレジスト膜１０の開口部に露出するレジスト残さ１８（具体的にはレジストパターン１０ａに覆われていない反射防止膜６上のレジスト残さ１８と、ビアホール８の内表面全体を覆うレジスト残さ１８）を全て除去する。
【０１３７】
尚、本実施形態が第７の実施形態と異なっている点は、トレンチ形成工程（図９（ｅ）参照）の前に、トレンチ形成領域の反射防止膜６上のレジスト残さ１８を予め除去していることである。このため、第７の実施形態のトレンチ形成工程（図８（ｄ）参照）と比較して、本実施形態の方が、トレンチ形成領域にレジスト残さ１８が存在しない分、トレンチ形成のためのエッチング時の負荷を低減できる。従って、該エッチングに要する時間を短縮してレジストエッチング量を低減できる。
【０１３８】
続いて、図９（ｅ）に示すように、レジストパターン１０ａをマスクとして、反射防止膜６及び有機含有シリコン酸化膜５に対して順次ドライエッチングを行なって、有機含有シリコン酸化膜５及び反射防止膜６に、ビアホール８と接続する深さ（反射防止膜６の表面からの深さ）ｄ０  のトレンチ（配線用溝）１１を形成する。前述のように、本実施形態では、図９（ｅ）に示す工程よりも前に、トレンチ形成領域のレジスト残さ１８を除去しているので、第７の実施形態と比べて、トレンチ形成のためのエッチング時の負荷を低減でき、それにより、該エッチングに要する時間を短縮してレジストエッチング量の低減等を図ることができる。
【０１３９】
その後、図９（ｆ）に示すように、レジストパターン１０ａをアッシングにより除去した後、第１の保護膜４におけるビアホール８に露出する部分に対してエッチングを行なって該部分を開口することにより、第１の金属配線３の上面を露出させる。その後、例えば第１の実施形態と同様の方法により、ビアホール８及びトレンチ１１の内部に金属を埋め込むことによって、デュアルダマシン構造を持つ第２の金属配線１２を形成する。
【０１４０】
以上に説明したように、第８の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５にビアホ−ル８をエッチングにより形成した後、該エッチング工程で生じたレジスト残さ１８をビアホ−ル８の壁面等の上に残存させたまま、化学増幅型ポジレジストを用いたリソグラフィーにより、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａ）を形成する。このため、化学増幅型ポジレジストの塗布時にビアホ−ル８内でレジストと有機含有シリコン酸化膜５とが直接接することがないので、有機含有シリコン酸化膜５中のアミン又は塩基性物質がレジスト中に拡散すること、つまりレジストポイズニング現象を防止できる。従って、レジストの現像不良を防止でき、それにより所望のトレンチパターンを持つレジスト膜１０、つまり裾引きのないレジストパターン１０ａを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【０１４１】
また、第８の実施形態によると、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成しているので、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーを正確に行なうことができる。また、レジスト残さ１８を反射防止膜６の上にも残存させているので、レジストポイズニング現象を確実に防止できる。
【０１４２】
また、第８の実施形態によると、トレンチ形成工程（図９（ｅ）参照）の前に、レジスト膜１０の開口部に露出するレジスト残さ１８、つまりトレンチ形成領域のレジスト残さ１８を予め除去する。このため、ビアホール８の壁面を覆うレジスト残さ１８も除去されるので、ビアホール８に形成されるビアプラグの抵抗の増大を防止できる。また、トレンチ形成のためのエッチング時の負荷を低減できるので、該エッチングに要する時間を短縮してレジストエッチング量を低減できる。
【０１４３】
尚、第８の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の上に反射防止膜６を形成したが、これに代えて、反射防止膜６を形成しなくてもよい。この場合、レジスト残さ１８は、ビアホール８の外側の有機含有シリコン酸化膜５の露出表面全体と、ビアホール８の壁面に露出した有機含有シリコン酸化膜５の側面を含むビアホール８の内表面全体とを覆うことになる。従って、有機含有シリコン酸化膜５とレジスト膜１０とが直接接触することを防止できる。
【０１４４】
また、第８の実施形態において、有機含有シリコン酸化膜５の材料は、シリコン酸化膜よりも比誘電率の小さい材料であれば特に限定されないが、例えばＳｉＯＣを用いた場合には配線間の容量を確実に低減できる。また、有機含有シリコン酸化膜５に代えて、他の低誘電率膜、例えばポーラス膜等を用いてもよい。
【０１４５】
また、第８の実施形態において、レジスト残さ１８の組成は特に限定されるものでないが、レジスト残さ１８が、例えばＣｘＦｙ（ｘ及びｙは自然数）とシリコンとの化合物であると、レジストポイズニング現象を確実に防止できる。
【０１４６】
また、第８の実施形態において、トレンチパターンを持つレジスト膜１０（レジストパターン１０ａ）を形成するために、化学増幅型ポジレジストを用いたが、これに代えて、化学増幅型ネガレジストを用いてもよい。この場合も、寸法拡大のないトレンチパターンを持つレジスト膜、つまりトレンチ形成領域に所望の寸法通りの開口部を持つレジストパターンを形成できるので、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できる。
【産業上の利用可能性】
【０１４７】
本発明は、配線の形成方法に関し、デュアルダマシン構造の配線を確実に形成できるので、非常に有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１４８】
【図１】（ａ）〜（ｄ）は本発明の第１の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は本発明の第１の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｅ）は本発明の第２の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【図４】（ａ）〜（ｅ）は本発明の第３の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【図５】（ａ）〜（ｅ）は本発明の第４の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【図６】（ａ）〜（ｈ）は本発明の第５の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【図７】（ａ）〜（ｈ）は本発明の第６の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【図８】（ａ）〜（ｅ）は本発明の第７の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【図９】（ａ）〜（ｆ）は本発明の第８の実施形態に係る電子デバイスの製造方法の各工程を示す断面図である。
【図１０】（ａ）及び（ｂ）は従来の配線形成方法において化学増幅型ポジレジストを用いた場合に生じる問題点を示す図である。
【図１１】（ａ）及び（ｂ）は従来の配線形成方法において化学増幅型ネガレジストを用いた場合に生じる問題点を示す図である。
【図１２】（ａ）は、ビアホールが形成された絶縁膜上に、所望のマスク寸法通りのトレンチパターンを持つレジスト膜が形成された場合の様子を示す平面図であり、（ｂ）は、ビアホールが形成された絶縁膜上に、化学増幅型ポジレジストを用いたリソグラフィーにより、裾引きのあるトレンチパターンを持つレジスト膜が形成された場合の様子を示す平面図であり、（ｃ）は、ビアホールが形成された絶縁膜上に、所望のマスク寸法よりも大きいトレンチパターンを持つレジスト膜が形成された場合の様子を示す平面図である。
【符号の説明】
【０１４９】
１    半導体基板
２    層間絶縁膜
３    第１の金属配線
４    第１の保護膜
５    有機含有シリコン酸化膜
６    反射防止膜
７    レジスト膜
８    ビアホール
９    第２の保護膜（酸化膜）
９ａ  サイドウォール
１０    レジスト膜
１０ａ  レジストパターン
１１    トレンチ（配線用溝）
１２    第２の金属配線
１３    プラズマ
１４    第２の保護膜（フルオロカーボン膜）
１５    表面改質層
１６    プラズマ
１７    プラズマ
１８    レジスト残さ
１９    反射防止膜
Ｓ０      トレンチ幅
ｄ０      トレンチ深さ
ｄ１      反射防止膜のエッチング厚さ
ｘ０      ビアホールの開口拡大幅
【図１】
0004606399.tif 000002
【図２】
0004606399.tif 000003
【図３】
0004606399.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
0004606399.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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