(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダストの混じったガスが流れるガスダクトからサンプルガスを抽気してガス検査機器に流すガス抽気装置であって、ガス室と該ガス室の上部に設けられガスが流入するガス流入口と上部に設けられガスが流出するガス流出口とを有するガス室ハウジングと、ガスダクトから導入したガスの圧力を下げて前記ガス流入口へ吐出する減圧器と、前記ガス流出口から低圧ガスを吸入しガス検査機器のガス入口へ吐出する第一真空ポンプと、
前記第一真空ポンプのサンプルガス出口とガス検査機器のサンプルガス入口とを連通するガス抽気配管と、
ガス検査機器のサンプルガス入口にダストを含まずガス検査装置の検査結果に影響を与えないガスである清浄ガスを前記ガス抽気配管に注入する清浄ガス配管と、
前記ガス室から低圧ガスを吸入し吐出口から吐出する第三真空ポンプと、を備え、
前記第三真空ポンプが前記ガス室の下から低圧ガスを吸引する、ことを特徴とするガス抽気装置。
【請求項２】
ダストの混じったガスが流れるガスダクトからサンプルガスを抽気してガス検査機器に流すガス抽気装置であって、ガス室と該ガス室の上部に設けられガスが流入するガス流入口と上部に設けられガスが流出するガス流出口とを有するガス室ハウジングと、ガスダクトから導入したガスの圧力を下げて前記ガス流入口へ吐出する減圧器と、前記ガス流出口とガス検査機器のサンプルガス入口とを連通するガス抽気配管と、ガス検査機器のサンプルガス出口から低圧ガスを吸入し吐出口から吐出する第二真空ポンプと、
ガス検査機器のサンプルガス入口にダストを含まずガス検査装置の検査結果に影響を与えないガスである清浄ガスを前記ガス抽気配管に注入する清浄ガス配管と、
前記ガス室から低圧ガスを吸入し吐出口から吐出する第三真空ポンプと、を備え、
前記第三真空ポンプが前記ガス室の下から低圧ガスを吸引する、ことを特徴とするガス抽気装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、燃焼設備等から排出されたダストを含む排ガスから排ガスを抽気するガス抽気装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ボイラやごみ焼却器等の燃焼設備から排出される排ガスには硫黄酸化物や窒素酸化物等の有害な成分が含まれている。これらの排ガスを大気に放出するには、排煙脱硫装置や排煙脱硝装置等の排煙処理装置で無害化することが必要である。
【０００３】
一般的な燃焼設備を、図を参照して、説明する。図４は、一般的な燃焼設備の概念図である。
燃焼設備２００では、アスファルトタンク２０１に貯蔵された燃料を、加熱器２０２で加熱し、ボイラ２０３で燃焼する。燃焼した後のガスには、燃料に由来するダストが混じっている。ダストが混じったガスは、ガスダクト１０１を介して、脱硝装置２０４、予熱器２０５、集塵機２０６を経由して、吸収搭２０７でＳＯｘ等を吸収され、煙突２０８から大気開放される。
【０００４】
例えば、ＳＯ2とＳＯ3が、ガスダクト１０１を通過するガスに含まれている。ＳＯｘが結露してガスダクト１０１を腐食するのを防止するために、酸路点以上の温度にガス温度を維持している。ＳＯ3の含有量が減ると酸路点が下降するので、排煙処理装置のダクトの温度を下げることができる。しかし、従来の分析装置はＳＯ3を連続測定する事ができなかったので、ＳＯ3の含有量を大目に予測してダクトの温度を維持していた。そのため、ＳＯ3の含有量を正確に把握できる場合に比べて、ダクトの温度を高くしなければならなかった。
また、ＳＯ3をアンモニアに吸収させて処理している。ＳＯ3の含有量が減るとアンモニアの量が少なくして、アンモニア消費量を減らすことができる。しかし、従来の分析装置はＳＯ3を連続測定する事ができなかったので、ＳＯ3の含有量を大目に予想してアンモニアを処理装置に供給していた。
【０００５】
このため、燃焼設備や排煙処理装置から排出される排ガス中の硫黄酸化物や窒素酸化物等の分析装置の開発が盛んに行われている。
この分析装置の一つとしてＳＯ3ガスの連続分析装置がある。従来の分析方法ではＳＯ3ガスをリアルタイムに連続測定することができなかった。
そこで、出願人は、ＳＯ3を連続測定できる計測装置を開発した。出願人は、特願平１１年第３７４１０３号において、煙道から排ガスを吸入する吸入用配管及び上記煙道に排ガスを排出する排出用配管を有すると共に、対向する二つの透明窓を有するキャビテイと、該キャビテイ内に光を照射するための光源と、上記キャビテイの外部に配置され、上記光源からの光を上気キャビテイ内に往復させるための反射ミラーと、往復後の光のうち波長２００ｎｍ〜２６０ｎｍの光を分光分析することにより上記排ガス中のＳＯ3濃度を算出する算出手段とを備えたＳＯ3濃度計の発明を出願した。
【０００６】
上記構成により煙道から排ガスが吸入されたキャビティ内に光源からの光を複数回往復させ、往復後の光を分光分析することにより排ガス中のＳＯ3濃度を計測することができる。
この際に、吸入用配管の途中にフィルタを設けてガスのダストを除去している。排ガスがダストを含む場合に、キャビティ内に進入したダストが光源からの光を散乱させて計測誤差を生じさせることを防止している。
【０００７】
上述のガス分析装置を使用すれば、燃焼設備や排煙処理装置から排出される排ガス中の硫黄酸化物や窒素酸化物等の分析を連続して行うことができ、ボイラやごみ焼却器等の燃焼設備の運転を適切に行うことができる。
例えば、ＳＯ2とＳＯ3とが同時に含まれている排ガスの場合、ＳＯ2とＳＯ3の成分割合を連続して測定することができ、酸露点の温度を的確に把握でき、ＳＯ2とＳＯ3とが結露しないようにダクトの温度を適切に制御することで、ダクトの腐食を防止できる。
また、ＳＯ3の量を連続して測定すれば、ＳＯ3の処理のためのアンモニアの量を適切に管理できる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
触媒能力を有するダストが排ガス中に混ざっている場合がある。
従来のフィルタを用いたガス分析装置の場合、ダストがガスを抽気するガス抽気装置のフィルタに捕捉される。ダストはフィルタの目に詰まったままとなる。そのダストが分析対象である成分に対して触媒能力がある場合、フィルタを通過したガスの成分が変化してしまう。ガスの成分が変化してしまうと、ガス分析装置の測定データが、実際にガスダクトを通過するガスの成分と異なってしまうという問題があった。
例えば、五酸化バナジウムはダストの主要成分の一つである。五酸化バナジウムは、所定温度でＳＯ2とＯ2を反応させてＳＯ3を生成させる触媒能力がある。五酸化バナジウムのダストが吸入用配管の途中に設けられたフィルタの目に捕捉されると、ＳＯ2とＳＯ3とが混じったガスがフィルタを通過した際に、一部のＳＯ2がＯ2と反応してＳＯ3になるので、ガス中のＳＯ3の濃度が上昇する。ガス分析装置の分析したＳＯ2とＳＯ3の比が、ガスダクトを流れるガスの真のＳＯ2とＳＯ3の比と異なってしまう。
この例の様に、ガス分析装置の測定データが、ガスダクトを通過するガスの真のガス成分を分析できないと、上述の様なボイラやごみ焼却器等の燃焼設備の運転を適切に行うことができなくなる。
【０００９】
ところで、流体中を粒子が運動する場合、粒子と流体間に速度差があれば、粒子は流体から抗力を受ける。流体中の粒子の運動を規定するのは、通常主に粒子に働く重力、遠心力、静電気力といった外力と流体から受ける抗力との間の大小である。
いま、粒子を球形とし、抗力をＦとすると、Ｆ（ｇｃｍ／ｓ2）は粒径Ｄ（ｃｍ）、流体速度ｕ（ｃｍ／ｓ）、流体密度ρ（ｇ／ｃｍ3）、流体の粘性係数μ（ｇｃｍ／ｓ）によって次の様になると考えられる。
Ｆ＝ｋＤ2ｕ2ρ（Ｄｕρ／μ）-e
Ａ＝πＤ２／４を用いると
Ｆ＝１／２ρｕ2ＡＣｄ
となり、Ｃｄは抵抗係数と呼ばれ、レイノルズ数の指数関数である。
ここで、粒径に比べてはるかに大きな容器中を粒子群が重力の作用を受けて沈降する場合を考えると、粒子濃度が高くなると各々の粒子の沈降が近くの粒子を下向きに引っ張って沈降速度を速めるように作用する。一方、これらの粒子および隣接する流体の下向きの運動は、連続の条件を満足しなければならないので、等しい上向きの流れによってつり合わなければならない。この上向きの流れは粒子の沈降速度を減少するように働く。
そこで、流体がガスである場合、ガス圧力が下がると、ガス密度（流体密度）ρが小さくなるので、ダストの沈降を妨げる抗力Ｆが小さくなり、粒子が重力沈降する時間が短くなることが期待できる。
【００１０】
本発明は以上に述べた問題点に鑑み、上記の物理現象に関する知識に基づき、案出されたもので、従来のガス抽気装置にかわって、連続的にガス中に含まれるダストを除去し、かつ触媒能力のあるダストが混じっていてもガス成分に変化を与えずにガスを抽気できるガス抽気装置を提供しようとする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係るダストの混じったガスが流れるガスダクトからサンプルガスを抽気してガス検査機器に流すガス抽気装置であって、ガス室と該ガス室の上部に設けられガスが流入するガス流入口と上部に設けられガスが流出するガス流出口とを有するガス室ハウジングと、ガスダクトから導入したガスの圧力を下げて前記ガス流入口へ吐出する減圧器と、前記ガス流出口から低圧ガスを吸入しガス検査機器のガス入口へ吐出する第一真空ポンプと、
前記第一真空ポンプのサンプルガス出口とガス検査機器のサンプルガス入口とを連通するガス抽気配管と、
ガス検査機器のサンプルガス入口にダストを含まずガス検査装置の検査結果に影響を与えないガスである清浄ガスを前記ガス抽気配管に注入する清浄ガス配管と、
前記ガス室から低圧ガスを吸入し吐出口から吐出する第三真空ポンプと、を備え、
前記第三真空ポンプが前記ガス室の下から低圧ガスを吸引するものとした。
【００１２】
上記本発明の構成により、ガスダクトのガスが、減圧器で減圧され、第一真空ポンプで真空にされたガス室に入り、ダストが重力沈降し、ダスト濃度の少なくなったガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。また、ダストに触媒能力がある場合でも、ガスが沈降したダストに直接接触しないので、ガスの成分が変化しない。
また、上記本発明の構成により、ガス室に溜まったダスト濃度の高いガスを排出できるので、さらにダスト濃度の少なくなったガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。また、ダストに触媒能力がある場合でも、ガスが沈降したダストに直接接触しないので、ガスの成分が変化しない。
また、本発明に係るガス抽気装置は、ガス検査機器のサンプルガス入口にダストを含まずガス検査装置の検査結果に影響を与えないガスである清浄ガスを注入する清浄ガス配管を備えるものとした。上記本発明の構成により、ガスに清浄ガスを混入させるので、ダスト濃度の低下したガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。
さらに、本発明に係るガス抽気装置は、前記第三真空ポンプが前記ガス室の下から低圧ガスを吸引するものとした。上記本発明の構成により、ガス室内に上部から下部へ流れるガスの流れをつくることができ、ダストの沈降を促進させる、よりダスト濃度の少なくなったガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。また、ダストに触媒能力がある場合でも、ガスが沈降したダストに直接接触しないので、ガスの成分が変化しない。
【００１３】
また上記目的を達成するため、本発明に係るダストの混じったガスが流れるガスダクトからサンプルガスを抽気してガス検査機器に流すガス抽気装置であって、ガス室と該ガス室の上部に設けられガスが流入するガス流入口と上部に設けられガスが流出するガス流出口とを有するガス室ハウジングと、ガスダクトから導入したガスの圧力を下げて前記ガス流入口へ吐出する減圧器と、前記ガス流出口とガス検査機器のサンプルガス入口とを連通するガス抽気配管と、ガス検査機器のサンプルガス出口から低圧ガスを吸入し吐出口から吐出する第二真空ポンプと、
ガス検査機器のサンプルガス入口にダストを含まずガス検査装置の検査結果に影響を与えないガスである清浄ガスを前記ガス抽気配管に注入する清浄ガス配管と、
前記ガス室から低圧ガスを吸入し吐出口から吐出する第三真空ポンプと、を備え、
前記第三真空ポンプが前記ガス室の下から低圧ガスを吸引するものとした。
【００１４】
上記本発明の構成により、ガスダクトのガスが、減圧器で減圧され、第二真空ポンプで真空にされたガス室に入り、ダストが重力沈降し、ダスト濃度の少なくなった真空圧のガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。また、ダストに触媒能力がある場合でも、ガスが沈降したダストに直接接触しないので、ガスの成分が変化しない。
また、上記本発明の構成により、ガス室に溜まったダスト濃度の高いガスを排出できるので、さらにダスト濃度の少なくなったガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。また、ダストに触媒能力がある場合でも、ガスが沈降したダストに直接接触しないので、ガスの成分が変化しない。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい第一の実施形態を、図面を参照して説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。
【００１９】
本発明の第一の実施形態に係るガス抽気装置付きガス分析装置の構造を説明する。図１および図２（Ａ）は、本発明の第一の実施形態の概念図である。図３は、本発明の第一の実施形態のガス抽気装置を設けたガス分析装置の概念図である。
【００２０】
最初に、ガス分析器の構造を簡単に説明する。ガス分析装置１００は、予熱温度調整器１０４と予熱器１０５とキャビティー１０６と循環ポンプ１０７と光源１０８と反射ミラー１０９と分光器１１０と光検出素子１１１と演算器１１２とヒータ１１３と温度調節器１１４とを備える。
【００２１】
予熱器１０５は、予熱調節器１０４により制御され、サンプリングガス４を計測に必要な温度に予熱する装置であり、予熱したガスをキャビティー１０６へ送る。キャビティー１０６は、所定の温度になったガスを密閉する部屋であり、対向する２つの透明窓を有する。循環ポンプ１０７が、抽気されたサンプリングガスが、キャビティー１０６内を連続的に通過できる様にしている。光源１０８は、キャビティー１０６内に所望の周波数の光を照射するためのものである。反射ミラー１０９は、光源１０８からの光をキャビティー１０６内で複数回往復させるためのミラーであり、透明窓に面して設けられる。分光器１１０は、入射した光を分光する装置である。光検出素子１１１は、分光された光を電気信号に変換する素子であり、分光器１１０の内部に設けられる。演算器１１２は、光検出素子１１１の出力した電気信号を元に、ガス成分の濃度（例えばＳＯ3の濃度）を演算する装置である。ヒータ１１３は、温度調節器１１４により制御され、キャビティー１０６内のガス温度を所望の温度に維持する装置である。
【００２２】
次に、ガス分析器の作用を簡単に説明する。ダストを含んだガス１が、ガスダクト１０１を流れる。そのガス１がガス抽気装置１０２に抽気され、ダストが除去されたサンプルガス４となる。サンプルガス４は、予熱器１０５により所定の温度に予熱され、キャビティー１０６に入る。光源１０８からの光がキャビティー１０６内を通過し、分光器１１０分光をされる。分光された光は、光検出素子１１１により電気信号に変換さる。演算器１１２は電気信号からガス成分を演算する。サンプルガス４は、循環ポンプ１０７により、ガスダクト１０１に戻される。
【００２３】
次に、第一の実施形態に係るガス抽気装置１０２を詳述する。
ガス抽気装置１０２は、ダストの混じったガスが流れるガスダクト１０１からガスを導入してダストを除去したサンプルガスをガス検査機器１００に流す装置であって、ガス室ハウジング１０と減圧器２０と第一真空ポンプＰ１と第三真空ポンプＰ３と清浄ガス注入システムとガス導入配管３１とガス流入配管３２とガス流出配管３３とガス抽気配管３４とガス戻り配管４５と真空配管３６と真空戻り配管３７とを備える。
【００２４】
ガス室ハウジング１０は、ガス室を有する。ガスが流入するガス流入口１２とガスが流出するガス流出口１３とが対向してガス室の上部に設けられ、下部ガス流出口１４がガス室の下部に設けられる。ガス流出口とガス流出口と下部ガス流出口とを閉止すると、ガス室は気密になる。
【００２５】
減圧器２０は、吸入口である減圧器吸入口２１から入ったガスの圧力を下げて吐出口である減圧器吐出口２２から吐出するものである。例えば、減圧器２０がオリフィスであれば、減圧器吸入口の圧力（例えば、１気圧）と減圧器吐出口の圧力（例えば、真空圧）との差圧とオリフィス面積で一意的に定まる流量が流れる。
【００２６】
第一真空ポンプＰ１は、いわゆる真空ポンプであり、吸入口である第一真空ポンプ吸入口Ｐ１ｉｎから真空圧のガスを吸入し吐出口である第一真空ポンプ吐出口Ｐ１ｏｕｔから吐出する。
第三真空ポンプＰ３は、いわゆる真空ポンプであり、吸入口である第三真空ポンプ吸入口Ｐ３ｉｎから真空圧のガスを吸入し吐出口である第三真空ポンプ吐出口Ｐ３ｏｕｔから吐出する。
清浄ガス注入システムは、ダストを含まないガスであってガス計測機器１００の計測結果に影響を与えないガスである清浄ガスをガス抽気配管３４に注入するものであり、清浄ガス配管３８と清浄ガスバルブ４０とを備える。
【００２７】
ガス導入配管３１は、ガスダクト１０１のガスを減圧器吸入口２１に導入する配管である。
ガス流入配管３２は、減圧器吐出口２２とガス流入口１２とを連通する配管である。
ガス流出配管３３は、前記ガス流出口と第一真空ポンプ吸入口Ｐ１ｉｎとを連通する配管である。
ガス抽気配管３４は、第一真空ポンプ吐出口Ｐ１ｏｕｔとガス検査機器１００のサンプルガス入口とを連通する配管である。
ガス戻り配管４５は、ガス検査機器１００のサンプルガス出口とガスダクト１０１とを連通する配管である。
真空配管３６は、下部ガス流出口１４と第三真空ポンプ吸入口Ｐ３ｉｎとを連通する配管である。
真空戻り配管３７は、第三真空ポンプ吸出口Ｐ３ｏｕｔとガスダクト１０１とをを連通する配管である。
【００２８】
以下に、第一の実施形態に係るガス抽気装置の作用を詳述する。
ダストを含んだガスがガスダクト１０１内を流れる。そのガスが、ガス導入配管３１を経由して、減圧器吸入口２１から減圧器２０へ入る。減圧器２０内で、ガスの流量が所定の値に維持されたまま、ガスの圧力が下げられる。圧力の下がったガスが、減圧器吐出口２２から出て、ガス流入配管３２を経由してガス流入口１２へ入る。ガスが、ガス室内で減速される。ガス中のダストが、重力の影響を受けて沈降する。ガス室の圧力が真空圧であるので、ガスの密度が小さく、さらにガスの速度が低いので、ガス中のダストが沈降する際に、ガスがダストに及ぼす抗力が極めて小さい。従って、ダストはガスの抵抗を受けずに速やかに沈降する。ガスがガス流入口１２からガス流出口１３へ移動するに従って、ガス室の上部のダスト濃度が低下し、ガス室の下部でのダスト濃度が上昇する。
【００２９】
ダストの減ったガス（以下、サンプルガスという。）が、ガス流出口１３からガス流出配管３３を経由して第一真空ポンプ吸入口Ｐ１ｉｎへ入る。サンプルガスが、第一真空ポンプＰ１で昇圧され、第一真空ポンプ吐出口Ｐ１ｏｕｔから出て、ガス抽気配管３４を経由して、ガス検査機器１００へ導入される。ガス検査装置１００を出たサンプルガスは、ガス戻り配管３５を経由して、ガスダクト１０１へ戻る。
清浄ガスバルブ３９が開放されると、清浄ガスが、図示しない清浄ガス源から清浄ガス配管３８を経由してガス抽気配管３４に入り、サンプルガスと混合される。
ダスト濃度の高いガスが、ガス室１１室内の下部ガス流出口１４から出て、真空配管３６を経由して、第三真空ポンプ吸入口Ｐ３ｉｎへ入る。ダスト濃度の高いガスは、第三真空ポンプＰ３により昇圧され、真空戻り配管３７を経由して、ガスダクト１０１へ戻る。
【００３０】
次に、本発明の第二の実施形態に係るガス抽気装置付きガス分析装置の構造を説明する。ガス抽気装置以外の構造と作用は同じなので、異なる部分のみ説明する。本発明の第二の実施形態に係るガス抽気装置を詳述する。図２（Ｂ）は、本発明の第二の実施形態の概念図である。
【００３１】
第二の実施形態に係るガス抽気装置は、第一の実施形態に係る抽気装置のガス戻り配管中に第二真空ポンプＰ２を追加したものである。
第二真空ポンプＰ２は、吸入口である第二真空ポンプ吸入口Ｐ２ｉｎから低圧ガスを吸入し吐出口である第二真空ポンプ吐出口Ｐ２ｏｕｔから吐出する真空ポンプである。
前部ガス戻り配管３５ａは、ガス検査機器１００の出口と第二真空ポンプ吸入口Ｐ２ｉｎとを連通する。
後部ガス戻り配管３５ｂは、第二真空ポンプ吐出口Ｐ２ｏｕｔとガスダクト１０１とを連通する。
【００３２】
次に、第二の実施形態のガス抽気装置の作用を、第一の実施形態と異なる部分のみ説明する。
ガス検査機器１００を出たサンプルガスが、第二真空ポンプに入る。サンプルガスが、第二真空ポンプで昇圧されてガスダクト１０１に戻る。
真空ポンプが２段になるので、ガス室の真空度を上げることが出来る。ガス室内の真空度が上がると、ガス室内のガス密度がさらに低下し、ダストの沈降を妨げる抗力が小さくなるので、ダストの重力沈降が促進される。
【００３３】
次に、本発明の第三の実施形態に係るガス抽気装置付きガス分析装置の構造を説明する。ガス抽気装置以外の構造と作用は同じなので、異なる部分のみ説明する。本発明の第三の実施形態に係るガス抽気装置を詳述する。図２（Ｃ）は、本発明の第三の実施形態の概念図である。
【００３４】
第三の実施形態に係るガス抽気装置は、第一の実施形態に係る抽気装置のガス抽気配管中に第四真空ポンプＰ４を追加したものである。
第四真空ポンプＰ４は、いわゆる真空ポンプであり、吸入口である第四真空ポンプ吸入口Ｐ４ｉｎから真空圧のガスを吸入し吐出口である第四真空ポンプ吐出口Ｐ４ｏｕｔから吐出する。
中間ガス戻り配管３９ａは、ガス抽気配管３４の中間と第四真空ポンプ吸入口Ｐ４ｉｎとを連通する。
中間ガス戻り配管３９ｂは、第四真空ポンプ吸出口Ｐ４ｏｕｔとダスダクト１０１とを連通する。
【００３５】
次に、第三の実施形態のガス抽気装置の作用を、第二の実施形態と異なる部分のみ説明する。
第一真空ポンプ吐出口Ｐ１ｏｕｔを出たサンプルガスが２つに分岐し、一部は第四真空ポンプへ吸入され、残りの一部は清浄ガスと混合されガス検査機器１００の入口に入る。第四真空ポンプから吐出されたガスは、ガス分析装置１００を経由せず、直接ガスダクトに戻る。
真空ポンプが２段になるので、ガス室の真空度を上げることが出来る。ガス室内の真空度が上がると、ガス室内のガス密度がさらに低下し、ダストの沈降を妨げる抗力が小さくなるので、ダストの重力沈降が促進される。
【００３６】
次に、本発明の第四の実施形態に係るガス抽気装置付きガス分析装置の構造を説明する。ガス抽気装置以外の構造と作用は同じなので、異なる部分のみ説明する。本発明の第四の実施形態に係るガス抽気装置を詳述する。図２（Ｄ）は、本発明の第四の実施形態の概念図である。
【００３７】
第四の実施形態に係るガス抽気装置は、第二の実施形態に係るガス抽気装置から第一真空ポンプＰ１を省略したものである。
【００３８】
次に、第四の実施形態のガス抽気装置の作用を、第二の実施形態と異なる部分のみ説明する。
ガス流出口３３を出たサンプルガスは昇圧はされることなく、ガス室と同じ真空圧力のまま、ガス検査機器の入口へ送られる。
ガス検査装置１００を出たサンプルガスは、第二真空ポンプＰ２で昇圧され、ガスダクト１０１へ戻される。
【００３９】
上述の実施形態のガス抽気装置を用いれば、ガス室内でガス中のダストが重力沈降するので、サンプルガスに混入するダストが少なくなり、ガス検査機器１００の検査精度が向上する。
また、ガス室１１内では、ガス流入口１２から入ったガスが沈降したダストに接触しないので、ガス成分がダストの触媒能力により変化することがない。
また、ガス室内の圧力が低いので、ダストの沈降を妨げるガスの抵抗力が小さく、小型のガス室であっても、効率的にダストを沈降させられる。
また、サンプルガスにガス検査装置の検査結果に影響を与えない清浄ガスを加えるので、さらにサンプルガス中のダスト濃度を下げることができる。
また、ガス室から第三真空ポンプでダスト濃度の高いガスを吸い出すので、ガス室内に溜まったダストを排出できる。
また、ガス室の下部から第三真空ポンプでダスト濃度の高いガスを吸い出すので、ガスに上部から下部への流れができ、ダストの沈降を促進する。
また、２つの真空ポンプを備えて、２段に真空引きすると、ガス室の真空度が増し、さらにダストの沈降を促進できる。
【００４０】
本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。
サンプルガスに清浄ガスを混入させる構造を説明したがこれに限定されず、清浄ガスの混入をやめてもよい。
また、ガス室の下部からダスト濃度の濃いガスを排出したが、これに限定されず、例えば、フィーダやゲートバブル等でダストを排出しても良い。
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したように本発明のダストの混じったガスが流れるガスダクトからサンプルガスを抽気してガス検査機器に流すガス抽気装置は、その構成により、以下の効果を有する。
ガスダクトのガスが、減圧器で減圧され、第一真空ポンプで真空にされたガス室に入り、ダストが重力沈降し、ダスト濃度の少なくなったガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。また、ダストに触媒能力がある場合でも、ガスが沈降したダストに直接接触しないので、ガスの成分が変化しない。
ガスダクトのガスが、減圧器で減圧され、第二真空ポンプで真空にされたガス室に入り、ダストが重力沈降し、ダスト濃度の少なくなった真空圧のガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。また、ダストに触媒能力がある場合でも、ガスが沈降したダストに直接接触しないので、ガスの成分が変化しない。
また、ガスに清浄ガスを混入させるので、ダスト濃度の低下したガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。
また、ガス室に溜まったダスト濃度の高いガスを排出できるので、さらにダスト濃度の少なくなったガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。また、ダストに触媒能力がある場合でも、ガスが沈降したダストに直接接触しないので、ガスの成分が変化しない。
また、ガス室内に上部から下部へ流れるガスの流れをつくることができ、ダストの沈降を促進させる、さらにダスト濃度の少なくなったガスをガス検査機器に導入することができ、ガス検査装置の検査精度が向上する。また、ダストに触媒能力がある場合でも、ガスが沈降したダストに直接接触しないので、ガスの成分が変化しない。
従って、連続的にガス中に含まれるダストを除去し、かつ触媒能力のあるダストが混じっていてもガス成分に変化を与えずにガスを抽気できるガス抽気装置を提供できる。
【００４２】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施形態の概念図である。
【図２】本発明の第一乃至第四の実施形態の概念図である。
【図３】本発明の実施形態を設けたガス分析装置の概念図である。
【図４】燃焼設備の一例の概念図である。
【符号の説明】
１    ガス
２    ガス
３    サンプルガス
５    清浄ガス
６    ダスト
Ｐ１    第一真空ポンプ
Ｐ２    第二真空ポンプ
Ｐ３    第三真空ポンプ
Ｐ４    第四真空ポンプ
１０    ガス室ハウジング
１１    ガス室
１２    ガス流入口
１３    ガス流出口
２０    減圧器
２１    減圧器吸入口
２２    減圧器吐出口
３１    ガス導入配管
３２    ガス流入配管
３３    ガス流出配管
３４    ガス抽気配管
３５    ガス戻り配管
３５ａ  ガス戻り配管
３５ｂ  ガス戻り配管
３６    真空配管
３７    真空戻り配管
３８    清浄ガス配管
３９    中間ガス戻り配管
３９ａ  中間ガス戻り配管
３９ｂ  中間ガス戻り配管
４０    清浄ガスバルブ
１００    ガス分析装置
１０１    ガスダクト
１０２    ガス抽気装置
１０４    予熱調節器
１０５    予熱器
１０６    キャビティー
１０７    循環ポンプ
１０８    光源
１０９    反射ミラー
１１０    分光器
１１１    光検出素子
１１２    演算器
１１３    ヒータ
１１４    温度調節器
【図１】
0004720967.tif 000002
【図２】
0004720967.tif 000003
【図３】
0004720967.tif 000004
【図４】
0004720967.tif 000005