(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に剥離層を形成する工程と、
前記剥離層の上方にバリア絶縁層を形成する工程と、
前記バリア絶縁層上に表示信号が供給される透明電極を形成する工程と
前記基板と剥離層との界面から剥離し、プラスチックフィルム上に、接着層を介して、下から順に、前記透明電極、前記バリア絶縁層及び前記剥離層を転写・形成する工程と、
前記剥離層を除去する工程と、
前記バリア絶縁層をパターニングすることにより、前記透明電極のパターン間上にバリア絶縁層パターンを形成する工程とを有することを特徴とする表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項２】
前記剥離層を形成する工程の後に、
前記剥離層上にマスク金属層をパターニングする工程をさらに有し、
前記プラスチックフィルム上に、接着層を介して、下から順に、前記透明電極、前記バリア絶縁層、前記マスク金属層及び前記剥離層が転写・形成され、
前記バリア絶縁層パターンを形成する工程は、前記マスク金属層をマスクにして行なわれ、
前記バリア絶縁層パターンを形成する工程の後に、前記マスク金属層を除去する工程をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項３】
前記剥離層を形成する工程の後に、
前記剥離層上にマスク金属層をパターニングする工程と、
前記マスク金属層を被覆する樹脂層を形成する工程とをさらに有し、
前記プラスチックフィルム上に、接着層を介して、下から順に、前記透明電極、前記バリア絶縁層、前記樹脂層、前記マスク金属層及び前記剥離層が転写・形成され、
前記バリア絶縁層パターンを形成する工程は、
前記マスク金属層をマスクにして、前記樹脂層及び前記バリア絶縁層を順次パターニングすることにより、前記バリア絶縁層パターン上に突起状樹脂層を形成することを含み、
前記バリア絶縁層パターンを形成する工程の後に、前記マスク金属層を除去する工程をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項４】
前記透明電極を形成する工程の後に、
前記透明電極を被覆する保護層を形成する工程と、
前記保護層上にカラーフィルタ層を形成する工程とをさらに有し、
前記プラスチックフィルム上に、接着層を介して、下から順に、前記カラーフィルタ層、前記保護層、前記透明電極、前記バリア絶縁層、前記樹脂層、前記マスク金属層及び前記剥離層が転写・形成されることを特徴とする請求項２又は３に記載の表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項５】
前記バリア絶縁層パターンを形成する工程の後に、
前記透明電極上に有機ＥＬ層を形成する工程と、
前記有機ＥＬ層に接続される上側電極を形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項６】
前記透明電極はＩＴＯ又はＩＺＯよりなり、前記バリア絶縁層はシリコン酸化層、シリコン窒化層及びシリコン酸化窒化層のいずれか又はそれらの積層膜よりなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の表示装置用素子基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置用素子基板の製造方法に係り、更に詳しくは、ＥＬディスプレイ装置や液晶表示装置などに使用される各種素子を備えた表示装置用素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置又は有機ＥＬ（Electroluminescence）ディスプレイ装置などの表示装置は、情報機器などへ急速にその用途を拡大している。これらの表示装置では、単純マトリクス方式やアクティブマトリクス方式に対応する各種のドットマトリクス素子を備えた素子基板が使用される。ドットマトリクス素子としては、単純マトリクス方式ではストライプ状の透明電極が使用され、アクティブマトリクス方式ではＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子やＭＩＭ（Metal Insulator Metal）素子などのアクティブ素子が使用される。
【０００３】
このような素子基板のベース基板として、軽量化や破損防止などのためにガラス基板の代わりにプラスチックフィルムを用いたものがある。プラスチックフィルムは、剛性が弱く、また熱変形温度が低いため、熱処理を伴う製造工程において反りや膨張収縮のような熱変形を生じ易い。
【０００４】
このため、プラスチックフィルム上に直接ドットマトリクス素子やカラーフィルタ層などを形成する製造方法では、熱処理を伴う製造工程などの条件が制限され、また高精度の位置合わせが困難になるので、所望の特性を有する素子基板を製造できなくなる場合がある。
【０００５】
このような問題を回避するために、耐熱性で剛性のガラス基板の上に製造条件が制限されないでドットマトリクス素子やカラーフィルタ層などを高精度で位置合わせして形成して転写層とした後、この転写層をプラスチックフィルム上に転写・形成することにより、表示装置用素子基板を製造する方法がある（例えば特許文献１）。
【特許文献１】特開２００３−１３１１９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、有機ＥＬディスプレイ装置に使用される有機ＥＬ素子は、水蒸気の侵入により電極と有機ＥＬ層との剥離が進行するなどしてダークスポッット（暗欠陥点）と呼ばれる点状又は円状の無発光の表示欠陥が発生しやすい。
【０００７】
上記したプラスチックフィルムを基板として使用する有機ＥＬディスプレイ装置では、外気から侵入する水蒸気ばかりではなく、プラスチックフィルム自身に含まれる水分が有機ＥＬ素子に浸入しないように対策することが必要になる。また、プラスチックフィルムを基板として使用する液晶表示装置においても、同様に、液晶層に水分やガスが侵入することによって表示特性が劣化するおそれがある。
【０００８】
その対策として、プラスチックフィルムの素子形成面側に、バリア層としてシリコン窒化層を全面に形成することが考えられる。しかしながら、十分なバリア性を確保するためにはシリコン窒化層の膜厚を比較的厚くする必要があり、厚膜のシリコン窒化層は有色となるので、表示装置の表示特性が劣化する問題がある。
【０００９】
なお、上記した特許文献１では、水蒸気の侵入に起因して表示装置の表示特性が劣化する問題に関しては何ら考慮されていない。
【００１０】
本発明は上記した問題点を鑑みて創作されたものであり、プラスチックフィルムを基板に使用する表示装置用素子基板の製造方法において、水蒸気などの侵入による表示特性の劣化を防止できる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記した課題を解決するため、本発明は表示装置用素子基板に係り、プラスチックフィルムと、前記プラスチックフィルム上に形成された接着層と、前記接着層の上方に形成され、表示信号が供給される透明電極と、複数の前記透明電極のパターン間上に形成されたバリア絶縁層パターンとを有することを特徴とする。
【００１２】
本発明の表示装置用素子基板が例えば有機ＥＬディスプレイ装置に適用される場合、透明電極（陽極）上に有機ＥＬ層が形成され、有機ＥＬ層に上側電極（陰極）が接続され、さらに上側電極（陰極）上に保護材が形成される。
【００１３】
前述したように、有機ＥＬ層は水分によって表示欠陥が発生しやすい特性を有する。本発明では、有機ＥＬ層の下に透明電極（ＩＴＯ膜）が形成され、有機ＥＬ層の横方向（透明電極のパターン間上）にバリア絶縁層パターンが形成されている。このバリア絶縁層パターンは外気（水蒸気）やプラスチックに含有される水分が有機ＥＬ層に侵入することをブロックするバリア層といて機能する。さらに、有機ＥＬ層の下に形成された透明電極も水蒸気をブロックするバリア層として機能する。
【００１４】
従って、有機ＥＬ層の下方（外気やプラスチックフィルム）から侵入する水蒸気は、透明電極及びバリア絶縁層パターンによって隙間なくブロックされるので、有機ＥＬ層の水蒸気による劣化を防止することができる。
【００１５】
さらには、バリア絶縁層パターンは、透明電極の主要部（発光部）上には形成されないので、十分なバリア性をもたせるためにバリア絶縁層パターンの膜厚を厚くして有色になるとしても、発光部では高い透過率が得られ、表示特性に悪影響を及ぼすおそれはない。
【００１６】
また、プラスチックフィルムと透明電極との間にカラーフィルタ層が配置される場合は、カラーフィルタ層から有機ＥＬ層に侵入する水蒸気をもブロックすることができる。
【００１７】
上記した発明において、バリア絶縁層パターンの上に突起状樹脂層がパターニングされていることが好ましい。この態様の場合、有機ＥＬ層の外側周辺部上には突起状樹脂層が立設されているので、有機ＥＬ層を外部からの衝撃や汚染から保護することができる。また、バリア絶縁層パターンに傷や応力によるクラックなどの損傷が生じないように保護することができる。
【００１８】
本発明の表示装置用素子基板の透明電極は、単純マトリクス駆動用の画素電極あってもよいし、あるいは、アクティブ・マトリクス駆動用の画素電極であってもよい。
【００１９】
さらには、本発明の表示装置用素子基板を液晶表示装置の素子基板として使用してもよい。この態様の場合は、液晶層への水分の侵入をブロックするだけではなく、ガスバリアとしても有効に機能する。
【００２０】
また、上記した課題を解決するため、本発明は表示装置用素子基板の製造方法に係り、基板の上に剥離層を形成する工程と、前記剥離層の上方にバリア絶縁層を形成する工程と、前記バリア絶縁層上に表示信号が供給される透明電極を形成する工程と、前記基板と剥離層との界面から剥離し、プラスチックフィルム上に、接着層を介して、下から順に、前記透明電極、前記バリア絶縁層及び前記剥離層を転写・形成する工程と、前記剥離層を除去する工程と、前記バリア絶縁層をパターニングすることにより、前記透明電極のパターン間上にバリア絶縁層パターンを形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２１】
本発明では、基板上に剥離層を介してバリア絶縁層及び表示信号が供給される透明電極が順に形成された後に、プラスチックフィルム上に透明電極、バリア絶縁層及び剥離層が上下反転した状態で転写・形成される。次いで、剥離層が除去された後に、バリア絶縁層がパターニングされて透明電極のパターン間上にバリア絶縁層パターンが形成される。
【００２２】
本発明の製造方法を使用することにより、プラスチックフィルム上に所望の透明電極及びバリア絶縁層パターンが形成された構造の上記した表示装置用素子基板を、何ら不具合が発生することなく容易に製造することができる。
【００２３】
プラスチックフィルムと透明電極との間にカラーフィルタ層が形成されるようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２４】
以上説明したように、プラスチックフィルムを基板に用いる表示装置用素子基板において、何ら不具合が発生することなく、外気やプラスチックフィルムからの水蒸気をブロックすることができ、表示特性の劣化を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明する。
【００２６】
（第１の実施の形態）
図１〜図４は本発明の第１実施形態の表示装置用素子基板の製造方法を順に示す断面図、図５は図４（ｃ）を含む全体の様子を平面からみた平面図、図６は本発明の第１実施形態の第１の表示装置用素子基板を示す断面図、図７は同じく第１実施形態の第２の表示装置用素子基板を示す断面図である。
【００２７】
本実施形態の表示装置用素子基板として、有機ＥＬディスプレイ装置に適用される素子基板を例に挙げて説明する。
【００２８】
本発明の第１実施形態に係る表示装置用素子基板の製造方法は、図１（ａ）に示すように、まず、耐熱性を有するソーダライムガラスなどのガラス基板２０を用意し、このガラス基板２０上に膜厚が例えば４μｍ程度のポリイミド樹脂などからなる剥離層２２を形成する。
【００２９】
続いて、図１（ｂ）に示すように、スパッタ又は蒸着などにより、剥離層２２上にアルミニウム（Ａｌ）又は銀（Ａｇ）などよりなる金属層２４ａを形成する。さらに、図１（ｃ）に示すように、金属層２４ａをフォトリソグラフィ及びエッチングでパターニングすることによりマスク金属層２４を形成する。このとき、マスク金属層２４は、後に形成される複数の陽極のパターン間に対応する部分にパターニングされる。
【００３０】
次いで、図１（ｄ）に示すように、剥離層２２及びマスク金属層２４上にポリイミド樹脂などの膜厚が例えば１〜２μｍの樹脂層２６ａを形成する。樹脂層２６ａは、後にマスク金属層２４をマスクにしてパターニングされて突起状樹脂層となるので、その膜厚は有機ＥＬディスプレイ装置の特性に合わせて適宜調整される。
【００３１】
続いて、図２（ａ）に示すように、樹脂層２６ａ上に膜厚が例えば５０〜３００ｎｍのバリア絶縁層２８ａを形成する。バリア絶縁層２８ａとしては、水蒸気の侵入をブロックできるシリコン酸化層（ＳｉＯX）、シリコン窒化層（ＳｉＮX）又はシリコン酸化窒化層（ＳｉＯＮ）などの無機絶縁層が好適に使用される。なお、ＳｉＮX層、ＳｉＯX層及びＳｉＯＮ層から２つ以上選択して積層してもよい。あるいは、後述するカラーフィルタの遮光層を兼ねる場合は、水蒸気の侵入をブロックできる黒色の絶縁層を使用してもよい。
【００３２】
次いで、図２（ｂ）に示すように、バリア絶縁層２８ａ上にＴＦＴ素子やＭＩＭ素子などのアクティブ素子（不図示）とそれに接続されたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）又はＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）よりなる陽極３０（画素電極）とを形成する。陽極３０は、マスク金属層２４のパターン間に対応するバリア絶縁層２８ａ上に形成される。
【００３３】
本実施形態では、表示信号が供給される透明電極（画素電極）として、アクティブ素子（不図示）とそれに接続された陽極３０が例示されている。特に図示しないが、ＴＦＴ素子を用いる場合は、まず、バリア絶縁層２８ａ上に島状にパターニングされたｎ型の多結晶シリコン層が形成される。その後、多結晶シリコン層上にゲート絶縁膜が形成され、続いてゲート絶縁膜上にＡｌ膜などからなるゲート電極が形成される。次いで、このゲート電極をマスクにしてｐ型の導電性不純物が導入されることでソース部及びドレイン部が形成されてｐチャネルのＴＦＴ素子が得られる。そして、上記した陽極３０はＴＦＴ素子のソース部に電気的に接続される。
【００３４】
なお、単純マトリクスタイプの表示装置用素子基板を製造する場合は、陽極３０は単純マトリクス駆動用のストライプ状の透明電極（画素電極）となる。
【００３５】
陽極３０を構成するＩＴＯ膜は耐熱性のガラス基板２０上に形成されることから、成膜温度が２００℃程度のスパッタ法などを採用することができる。このため、結晶性でかつ低抵抗（シート抵抗値：１０〜１５Ω／口（膜厚：１３０ｎｍ）のＩＴＯ膜が得られる。後述するように、陽極３０などは最終的に可撓性のプラスチックフィルム上に転写・形成される。プラスチックフィルム上に形成される各種の膜は傷つきやすいので、結晶性の硬質の陽極３０（ＩＴＯ膜）を使用できることは、陽極３０に傷がつきにくくなるという観点からも都合がよい。
【００３６】
続いて、図２（ｃ）に示すように、図２（ｂ）の構造体の上面にアクリル樹脂などよりなる膜厚が２〜５μｍの保護膜３１を形成する。これにより、アクティブ素子及びそれに接続された陽極３０の段差は保護膜３１により埋め込まれて平坦化される。
【００３７】
本実施形態では、有機ＥＬ層として白色発光層を使用し、カラーフィルタ層を組み合わせてカラー表示を行うタイプのＥＬディスプレイ装置を例示するので、次の工程でカラーフィルタ層３３が形成される。詳しく説明すると、図３（ａ）に示すように、まず、保護膜３１上の陽極３０のパターン間上に遮光層３３ｄをパターニングする。続いて、赤色画素部を構成する部分に赤色カラーフィルタ層３３ａをパターニングする。次いで、緑色画素部を構成する部分に緑色カラーフィルタ層３３ｂをパターニングする。その後に、青色画素部を構成する部分に青色カラーフィルタ層３３ｃをパターニングする。
【００３８】
このようにして、赤色カラーフィルタ層３３ａ、緑色カラーフィルタ層３３ｂ、青色カラーフィルタ層３３ｃ及び遮光層３３ｄにより構成されるカラーフィルタ層３３が形成される。各色のカラーフィルタ層３３ａ〜３３ｄは、例えば顔料分散タイプの感光性塗布膜がフォトリソグラフィによりパターニングされて形成される。
【００３９】
なお、有機ＥＬ層として赤色、緑色及び青色の３色の発光層を使用する場合は、カラーフィルタ層３３を形成する必要はない。
【００４０】
次いで、図３（ｂ）に示すように、カラーフィルタ３３上に紫外線硬化型樹脂を主要成分とする接着層３５を形成する。これにより、ガラス基板２０上に、下から順に、剥離層２２、マスク金属層２４、樹脂層２６ａ、バリア絶縁層２８ａ、アクティブ素子に接続された陽極３０（又はストライプ状の透明電極）、保護膜３１、カラーフィルタ層３３及び接着層３５により構成される転写層Ｔが形成される。
【００４１】
なお、カラーフィルタ層３３を省略する場合は、保護膜３１を形成せずにアクティブ素子及び陽極３０（透明電極）が接着層３５により埋め込まれるようにしてもよい。
【００４２】
次に、ガラス基板２０上に形成された転写層Ｔをプラスチックフィルム上に転写する方法を説明する。同じく図３（ｂ）に示すように、まず、ガラス基板２０の大きさに対応したプラスチックフィルム１０を用意する。プラスチックフィルム１０としては、膜厚が１００〜２００μｍのポリエーテルスルホンフィルムやポリカーボネートフィルムなどを使用することができる。
【００４３】
その後、転写層Ｔの接着層３５側の面にプラスチックフィルム１０を対向させ重ねて配置する。次いで、プラスチックフィルム１０側から高圧水銀灯によりＵＶ照射を行うことで紫外線硬化型樹脂である接着層３５を硬化させることにより、プラスチックフィルム１０と転写層Ｔとを貼り合わせる。このとき、カラーフィルタ層３３の段差は接着層３５により埋め込まれて平坦化される。
【００４４】
続いて、同じく図３（ｂ）に示すように、プラスチックフィルム１０の一端に直径２００ｍｍ程度のロール４０を固定し、このロール４０を回転させながらプラスチックフィルム１０を引き剥がす。このとき、ガラス基板２０と剥離層２２との界面（図３（ｂ）のＡ部）に沿って剥離される。
【００４５】
これにより、図３（ｃ）に示すように、プラスチックフィルム１０上に、下から順に、接着層３５、カラーフィルタ層３３、保護層３１、アクティブ素子に接続された陽極３０（又はストライプ状の透明電極）、バリア絶縁層２８ａ、樹脂層２６ａ、マスク金属層２４及び剥離層２２により構成される転写層Ｔが転写・形成される。
【００４６】
このように、本実施形態では、耐熱性で剛性のガラス基板２０上に所望の各種素子を含む転写層Ｔを精度よく形成した後に、その転写層Ｔをプラスチックフィルム１０上に転写・形成する手法を採用している。このため、プラスチックフィルム１０上に所望の各種素子を高い位置合わせ精度で形成することができる。
【００４７】
次いで、図４（ａ）に示すように、プラスチックフィルム１０上の剥離層２２を酸素プラズマやコリン系などのアルカリ溶液を用いてエッチングすることにより除去する。これにより、プラスチックフィルム１０の最上面にマスク金属層２４及び樹脂層２６ａが露出する。
【００４８】
次いで、図４（ｂ）に示すように、マスク金属層２４をマスクして樹脂層２６ａをバリア絶縁層２８ａの上面が露出するまでエッチングすることにより突起状樹脂層２６を形成する。樹脂層２６ａとしてポリイミド樹脂を使用する場合は、樹脂層２６ａは酸素プラズマやコリン系などのアルカリ溶液によってマスク金属層２４及びバリア絶縁層２８ａに対して選択的にエッチングされる。
【００４９】
続いて、図４（ｃ）に示すように、マスク金属層２４及び突起状樹脂層２６をマスクにして、バリア絶縁層２８ａを陽極３０の上面が露出するまでエッチングすることにより、バリア絶縁層パターン２８を形成する。バリア絶縁層２８ａとしてＳｉＮX層を使用する場合は、ＣＦ4プラズマやバッファードフッ酸によりバリア絶縁層２８ａが選択的にエッチングされる。
【００５０】
その後に、マスク金属層２４が突起状樹脂層２６、バリア絶縁層パターン２８及び陽極３０に対して選択的に除去される。マスク金属層としてＡｌ層を使用する場合は、燐酸を含む溶液を使用するウェットエッチングが採用される。
【００５１】
これにより、複数の陽極３０のパターン間上にバリア絶縁層パターン２８及び突起状樹脂層２６が形成される。つまり、バリア絶縁層２８ａ及び樹脂層２６ａは陽極３０上に開口部２５が設けられるようにパターニングされる。
【００５２】
図５には図４（ｃ）を含む全体を平面からみた様子が描かれている。図５には、説明を簡易にするために単純マトリクスタイプに対応するストライプ状の陽極３０が例示されており、陽極３０は一端側の外部接続部３０ａに繋がっている。ストライプ状の複数の陽極３０が配置された領域が表示領域Ｂ（鎖線で囲まれた領域）となっている。そして、バリア絶縁層パターン２８及び突起状樹脂層２６は、表示領域Ｂの各陽極３０上に開口部２５がそれぞれ設けられた状態で陽極３０のパターン間上に形成されているばかりではなく、外部接続部３０ａを除く表示装置用素子基板の主要部全体にわたって形成されている。
【００５３】
好適には、図５に示すように、陽極３０のパターン間から後に形成される保護フィルム３８が配置される領域まで延在して形成される（図５の着色された領域）。また、開口部２５はストライプ状の陽極３０の幅より小さい幅で形成される。なお、アクティブマトリクスタイプとする場合は、開口部２５が陽極３０（画素電極）の面積より小さい面積で形成されるようにする。
【００５４】
後に説明するように、陽極３０のパターン間から外側周辺部までバリア絶縁層パターン２８が形成されているので、下方から侵入する水蒸気は陽極３０及びバリア絶縁層パターン２８によって完全にブロックされる。ＩＴＯよりなる陽極３０も水蒸気をブロックするバリア層として機能するため、水蒸気が侵入する隙間がなくなるからである。
【００５５】
しかも、バリア絶縁層パターン２８は、十分なバリア性をもたせるために膜厚を厚く設定して有色になったとしても、陽極３０（発光部）上には形成されず陽極３０のパターン間上に形成されるので、表示特性を劣化させることもない。
【００５６】
なお、必ずしも突起状樹脂層２６を形成する必要はなく、突起状樹脂層２６を省略する場合は、マスク金属層２４上にバリア絶縁層２８ａを直接形成し、マスク金属層２４をマスクにバリア絶縁層２８ａをパターニングするようにしてもよい。あるいは、マスク金属層２４をさらに省略し、剥離層２２を形成した直後にバリア絶縁層２８ａを形成し、フォトリソグラフィによりバリア絶縁層２８ａをパターニングするようにしてもよい。
【００５７】
次いで、図４（ｄ）に示すように、開口部２５に露出する陽極３０上に正孔輸送層、白色発光層及び電子輸送層を印刷などにより順次形成して有機ＥＬ層３２を得る。このとき、有機ＥＬ層３２はバリア絶縁層パターン２８及び突起状樹脂層２６の開口部２５の底部に形成され、有機ＥＬ層３２の外側周辺部上に突起状樹脂層２６が配置されることになる。
【００５８】
次いで、図６に示すように、有機ＥＬ層３２に接続される陰極３４（上側電極）を素子形成部の全面にわたって形成する。なお、単純マトリクスタイプの場合は、ストライプ状の陽極３０（透明電極）と直交するストライプ状の陰極（上側電極）が形成される。このようして、有機ＥＬ層３２が陽極３０と陰極３４とによって挟まれた構造を有する有機ＥＬ素子３６が形成される。
【００５９】
その後に、同じく図６に示すように、陰極３４上に保護フィルム３８（保護材）を接着する。この保護フィルム３８は外部からの酸化雰囲気や水蒸気による有機ＥＬ素子３６の劣化を防止するために設けられる。保護フィルム３８は前述した図５に示されるようにバリア絶縁層パターン２８及び突起状樹脂層２６が形成された領域を含む領域に形成される。
【００６０】
本実施形態では、有機ＥＬ層３２を取り囲むように突起状樹脂層２６が形成されているので、保護フィルム３８と有機ＥＬ層３２とが直接接触しない構成とすることができる。従って、保護フィルム３８が外部から衝撃を受ける場合、有機ＥＬ層３２は突起状樹脂層２６で保護されるので、有機ＥＬ層３２にダメージが入ることが防止される。
【００６１】
また、バリア絶縁層パターン２８上には突起状樹脂層２６が形成されているので、バリア絶縁層パターン２８に傷や応力によるクラックなどの損傷が生じないように保護することができる。
なお、突起状樹脂層２６間のスペース４１は、接着層で充填されるようにしてもよいし、空洞であってもよい。
【００６２】
以上により、第１実施形態の第１の表示装置用素子基板１（有機ＥＬディスプレイ装置）が完成する。
【００６３】
本実施形態に係る表示装置用素子基板１では、有機ＥＬ素子３６の陽極３０に正の電圧、陰極３４に負の電圧を印加することにより、陽極３０から正孔注入層を介して注入される正孔と、陰極３４から電子輸送層を介して注入される電子とが有機ＥＬ層３２の内部で再結合することにより白色光が放出される。そして、この白色光がカラーフィルタ層３３などを透過して外部に放出されて画像が得られる（図６の矢印の方向）。
【００６４】
本実施形態の第１の表示装置用素子基板１では、図６に示すように、プラスチックフィルム１０上に接着層３５が設けられており、接着層３５の中にはカラーフィルタ層３２が埋設されている。また、カラーフィルタ３２上には保護層３１が形成されており、その保護層３１の中にＩＴＯよりなる陽極３０が埋設されている。陽極３０上には有機ＥＬ層３２が形成され、さらに、有機ＥＬ層３２上に陰極３４が素子形成部の全体にわたって形成されている。陽極３０、有機ＥＬ層３２及び陰極３４により有機ＥＬ素子３６が構成されている。さらに有機ＥＬ素子３６の陰極３４の上には保護フィルム３８が設けられている。
【００６５】
本実施形態では、陽極３０のパターン間上にはバリア絶縁層パターン２８及び突起状樹脂層２６がパターニングされており、陽極３０上に開口部２５が設けられた構成となっている。
【００６６】
また、本実施形態の第１の表示装置用素子基板１では、有機ＥＬ層３２の下にＩＴＯよりなる陽極３０が形成され、有機ＥＬ層３２の横方向（陽極３０のパターン間上）にバリア絶縁層パターン２８が形成されている。バリア絶縁層パターン２８は、外気やプラスチック１０からの水蒸気が有機ＥＬ層３２に侵入することをブロックするバリア層として機能する。さらに、有機ＥＬ層３２の下に形成された陽極３０（ＩＴＯ）も水蒸気をブロックするバリア層として機能する。
【００６７】
従って、有機ＥＬ層３２の下方（外気やプラスチックフィルム）から侵入する水蒸気は、陽極３０及びバリア絶縁層パターン２８で完全にブロックされるので、有機ＥＬ層３２の水蒸気による劣化を防止することができる。
【００６８】
さらには、バリア絶縁層パターン２８は、陽極３０の主要部（発光部）上には形成されないので、十分なバリア性をもたせるためにバリア絶縁層パターン２８の膜厚を厚くして有色になるとしても、発光部では高い透過率が得られ、表示特性に悪影響を及ぼすおそれはない。
【００６９】
また、有機ＥＬ層３２の直下及び横方向には、陽極３０及びバリア絶縁層パターン２８）がそれぞれ形成されているので、カラーフィルタ層３６や保護層３１が水分を含有する場合であってもそれらから侵入する水蒸気をもブロックすることができる。
【００７０】
また、有機ＥＬ層３２の外側周辺部上には突起状樹脂層２６が立設されていることから、保護フィルム３８が外部衝撃を受けることがあっても、有機ＥＬ層３２は突起状樹脂層２６によって保護されるので、有機ＥＬ層３２にダメージが入りにくくなり、有機ＥＬディスプレイ装置の信頼性を向上させることができる。
【００７１】
さらに、バリア絶縁層パターン２８が突起状樹脂層２６によって保護されるので、バリア絶縁層パターン２８に傷や応力によるクラックなどの損傷が生じることが防止される。
【００７２】
図７には、本実施形態の第２の表示装置用素子基板１ａ（有機ＥＬディスプレイ装置）が示されている。第２の表示装置用素子基板１ａでは、突起状樹脂層２６が省略されており、有機ＥＬ素子３６の陰極３４上に接着層（不図示）を介して保護フィルム３８が接着されている。その他の要素は図５と同一であるのでその説明を省略する。変形例の表示装置用素子基板１ａにおいても、同様に、有機ＥＬ層３２の直下及び横方向に陽極３０及びバリア絶縁層パターン２８がそれぞれ形成されているので、下方から侵入する水蒸気による有機ＥＬ層３２の劣化が防止される。
【００７３】
（第２の実施の形態）
図８は本発明の第２実施形態の第１の表示装置用素子基板を示す断面図、図９は図８の表示装置用素子基板を使用して構成される液晶表示装置を示す断面図、図１０は本発明の第２実施形態に係る変形例の液晶表示装置を示す断面図である。
【００７４】
図８に示される第２実施形態の第１の表示装置用素子基板１ｂは、第１実施形態で説明した図４（ｃ）の構造体と同様に基本構成されている。すなわち、図８に示すように、プラスチックフィルム１０上に接着層３５が設けられており、接着層３５の中にはカラーフィルタ層３３が埋設されている。カラーフィルタ３３上には保護層３１が形成されており、保護層３１の中にＩＴＯよりなるストライプ状の透明電極２９が埋設されている。
【００７５】
複数の透明電極２９のパターン間上にはバリア絶縁層パターン２８及び突起状樹脂層２６がパターニングされており、透明電極２９上に開口部２５が設けられた構成となっている。さらに、透明電極２９及び突起状樹脂層２６上には液晶材料を配向させるための配向膜４２が形成されている。
【００７６】
図８の例では、透明電極２９として、単純マトリクスタイプに適用されるストライプ状のものが例示されているが、ＴＦＴ素子やＭＩＭ素子に接続されるアクティブマトリクスタイプに使用されるものを用いてもよい。
【００７７】
第２実施形態では、突起状樹脂層２６が液晶表示装置の二つの素子基板の間隔を確保するためのスペーサとして機能する。突起状樹脂層２６の高さは、液晶表示装置の二つの素子基板の間隔に応じて適宜調整されるが、例えば、１０〜１００μｍに設定される。
【００７８】
さらに、図９に示すように、第１の表示装置用素子基板１ｂの対向基板である第２の表示装置用素子基板１ｃが用意される。第２の表示装置用素子基板１ｃでは、プラスチックフィルム１０ｘ上に、接着層３５ｘ、透明電極２９ｘ及びバリア絶縁層パターン２８ｘが順に形成されている。バリア絶縁層パターン２８ｘは、第１の表示装置用素子基板１ｂと同様に、複数の透明電極２９ｘのパターン間上などに形成されている。さらに、透明電極２９ｘ及びバリア絶縁層パターン２８ｘ上には液晶材料を配向させるための配向膜４２ｘが形成されている。
【００７９】
第１の表示装置用素子基板１ｂと第２の表示装置用素子基板１ｃとは、それぞれの透明電極２９，２９ｘが直交するように対向して配置され、周縁部に設けられたシール材４４によって接着されている。そして、第１の表示装置用素子基板１ｂと第２の表示装置用素子基板１ｃとの間には液晶層４６が封入されている。
【００８０】
このようにして、液晶表示装置２が構成されており、第１の表示装置用素子基板１ｂの突起状樹脂層２６によって、第１及び第２の表示装置用素子基板１ｂ，１ｃの間隔が確保されている。
【００８１】
本実施形態に係る液晶表示装置２では、突起状樹脂層２６によって２つの素子基板１ｂ，１ｃの間隔が確保されるようにしたので、従来技術のようなスペーサを散布して間隔を確保する方法よりも、外圧に対して強い液晶表示装置を製造することができる。
【００８２】
また、第１及び第２の表示装置用素子基板１ｂ，１ｃには、複数の透明電極２９のパターン間上にバリア絶縁層パターン２８が形成されているので、外気やプラスチックフィルム１０，１０ａからの水分やガスは、透明電極２９，２９ｘ及びバリア絶縁層パターン２８，２８ｘによってブロックされる。これにより、液晶層４６に水やガスが透過することが防止され、液晶表示装置の表示特性の信頼性を向上させることができる。バリア絶縁層パターン２８，２８ｘは、第１実施形態と同様に、表示領域だけでなくその外側周辺部にも形成されるようにしてもよい。
【００８３】
なお、第１の表示装置用素子基板１ｂにカラーフィルタ層３２を設ける代わりに、第２の表示装置用素子基板１ｃの例えば透明電極２９ｘと接着層３５ｘとの間にカラーフィルタ層を設けた形態としてもよい。
【００８４】
図１０には、第２実施形態に係る変形例の液晶表示装置２ａが示されている。図１０に示すように、第２実施形態の変形例の液晶表示装置２ａは、図９の液晶表示装置２において、突起状樹脂層２６が省略された形態であり、第１及び第２の表示装置用素子基板１ｂ，１ｃはスペーサ（不図示）によってそれらの間隔が確保されている。図１０において他の要素は図９と同一であるので、同一要素には同一符号を付してその説明を省略する。
【００８５】
変形例の液晶表示装置２においても、同様に、液晶層４６に水やガスが透過することが防止され、表示特性の劣化を防止することができる。
【００８６】
以上、第１及び第２実施形態により、表示装置用素子基板を有機ＥＬディスプレイ装置及び液晶表示装置に適用する形態を例示したが、その他の各種表示装置に適用することができる。また、表示信号が供給される透明電極としては、単純マトリクスタイプに対応するストライプ状の画素電極、アクティブマトリクスタイプに対応するＴＦＴ素子などの各種の３端子型素子やＭＩＭ素子などの各種の２端子型素子に関係をもたせた画素電極を使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】図１は本発明の第１実施形態の表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図（その１）である。
【図２】図２は本発明の第１実施形態の表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図（その２）である。
【図３】図３は本発明の第１実施形態の表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図（その３）である。
【図４】図４は本発明の第１実施形態の表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図（その４）である
【図５】図５は図４（ｃ）を含む全体の様子を平面からみた平面図である。
【図６】図５は本発明の第１実施形態の第１の表示装置用素子基板を示す断面図である。
【図７】図７は本発明の第１実施形態の第２の表示装置用素子基板を示す断面図である。
【図８】図８は本発明の第２実施形態の表示装置用素子基板を示す断面図である。
【図９】図９は図８の表示装置用素子基板を使用して構成される液晶表示装置を示す断面図である。
【図１０】図１０は本発明の第２実施形態に係る変形例の液晶表示装置を示す断面図である。
【符号の説明】
【００８８】
１，１ａ…表示装置用素子基板（有機ＥＬディスプレイ装置）、１ｂ…第１の表示装置用素子基板（液晶表示装置用）、１ｃ…第２の表示装置用素子基板（液晶表示装置用）、２，２ａ…液晶表示装置、１０…プラスチックフィルム、２０…ガラス基板、２２…剥離層、２４ａ…金属層、２４…マスク金属層、２６ａ…樹脂層、２６…突起状樹脂層、２８ａ…バリア絶縁層、２８，２８ｘ…バリア絶縁層パターン、２９，２９ｘ…透明電極、３０…陽極、３１…保護層、３２…有機ＥＬ層、３３…カラーフィルタ層、３３ａ…赤色カラーフィルタ層、３３ｂ…緑色カラーフィルタ層、３３ｃ…青色カラーフィルタ層、３３ｄ…遮光層、３４…陰極、３５，３５ｘ…接着層、３６…有機ＥＬ素子、４０…ロール、４１…スペース、４２，４２ｘ……配向膜、４４…シール層、４６…液晶層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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