(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
浴槽の浴水を入水し、ろ過装置により浄化処理を施した後、再び該浴水を浴槽に出水する浴水浄化装置において、
浴水浄化装置内部に前記ろ過装置を含む閉ループを形成して浴水を循環させて内部を洗浄するための内部洗浄装置と、
前記ろ過装置を通過しないように浴水をバイパスさせて循環させることが可能なバイパス管路と、
該バイパス管路によりろ過装置を通過させない状態で、浴水に殺菌又は滅菌あるいは除菌などの目的のための薬剤を注入するための薬剤注入装置と、
該注入された薬剤の濃度を検出する検出装置と、を備え、更に、
前記薬剤注入装置により薬剤を注入する際には、浴槽から浴水を入水し、前記バイパス管路によりろ過装置を通過させずに、浴槽に出水するように浴水を循環させ、該循環する浴水に薬剤を注入させ、
前記薬剤濃度が所定値になった時に、前記内部洗浄装置を駆動して、ろ過装置を含む浴水浄化装置内部を洗浄させ、
該洗浄後の浴水を系外に排出し、
その後浴槽から浴水を入水し、前記ろ過装置を通過させて浴槽に出水する通常の浴水の循環運転を行わせる、制御装置、を備えた、
ことを特徴とする浴水浄化装置。
【請求項２】
前記制御装置は、所定値以上の薬剤濃度が所定時間以上維持されたか否か判断し、所定時間維持されるまで前記バイパス管路による循環を実行させる、
請求項１に記載の浴水浄化装置。
【請求項３】
前記薬剤注入装置が塩素を含む薬剤を注入する、
請求項１又は２に記載に浴水浄化装置。
【請求項４】
前記内部洗浄装置が熱水により内部洗浄を行う、
請求項１又は２又は３に記載の浴水浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、浴水浄化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、本体内や配管などを定期的に７０℃以上の高温にして熱洗浄する機能の付いた浴水浄化装置がある。一方、浴水に塩素剤やヨウ素や銀イオンなどの殺菌剤を注入して、浴水の殺菌を行う方法も知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
これらの殺菌方法にはそれぞれ利点と欠点があり、前者の熱洗浄は環境に優しくまた確実に殺菌を行うことができる反面、全水系にわたって高温にすることができない為、部分的な殺菌になる問題がある。一方殺菌剤（塩素や銀やヨウ素）を用いる方法は逆に全水系の殺菌が可能な反面、殺菌力は限定的であり、また、環境にやさしいとは言えない。さらに殺菌剤はろ材でキャッチした汚れを剥離する効果もある為、浴水の濁度が上がる傾向があるなどの欠点も大きい。
またこの２つの殺菌法を単純に組み合わせた場合は、全水系の殺菌が可能となり殺菌面での効果はあるが、殺菌剤（塩素等）の欠点である環境問題や濁度問題が解決されず、製品化するには大きな問題となっていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、浴槽の浴水を入水し、ろ過装置により浄化処理を施した後、再び該浴水を浴槽に出水する浴水浄化装置において、浴水浄化装置内部に前記ろ過装置を含む閉ループを形成して浴水を循環させて内部を洗浄するための内部洗浄装置と、前記ろ過装置を通過しないように浴水をバイパスさせて循環させることが可能なバイパス管路と、該バイパス管路によりろ過装置を通過させない状態で、浴水に殺菌又は滅菌あるいは除菌などの目的のための薬剤を注入するための薬剤注入装置と、該注入された薬剤の濃度を検出する検出装置と、を備え、更に、前記薬剤注入装置により薬剤を注入する際には、浴槽から浴水を入水し、前記バイパス管路によりろ過装置を通過させずに、浴槽に出水するように浴水を循環させ、該循環する浴水に薬剤を注入させ、前記薬剤濃度が所定値になった時に、前記内部洗浄装置を駆動して、ろ過装置を含む浴水浄化装置内部を洗浄させ、該洗浄後の浴水を系外に排出し、その後浴槽から浴水を入水し、前記ろ過装置を通過させて浴槽に出水する通常の浴水の循環運転を行わせる、制御装置、を備えた、ことを特徴とする。
上記発明においては、薬剤注入はバイパス管路によりろ過装置を通過しない状態で行われるため、薬剤のろ過装置による吸着がなく、薬剤注入が効率的に行われ、効率的な全水系の殺菌が行える。また、薬剤注入後に浴水により内部洗浄が行われるから、薬剤入りの浴水での強力な内部洗浄が可能になり、この際に濁度の原因になる微細の汚れも落とされて系外に排出されるから、薬剤注入による濁度の上昇も抑制される。この内部洗浄は７０℃以上の高温の熱水で行うと更に効果的である。
更に、内部洗浄中に浴槽等における浴水は薬剤による殺菌作用を受け、この間に細菌やバクテリアの死滅、有機物の分解等が行われ、浴水の清浄化が促進され、次第に薬剤の濃度も低下する。そして、内部洗浄後は通常の運転によりろ過装置を経過させるから、浴水に残留した薬剤を速やかに除去することができ、薬剤による環境や人体に対する影響を最小限に止めることが可能になる。
なお、前記制御装置が、所定値以上の薬剤濃度が所定時間以上維持されたか否か判断し、所定時間維持されるまで前記バイパス管路による循環を実行させる、ように構成することも可能である。この構成により確実に薬剤の所定濃度以上の状態を所定時間維持することができ、殺菌効果を確実なものにすることが可能になる。
なお、前記薬剤注入装置が注入する薬剤としては、塩素或いは塩素を含む薬剤がもっとも一般的であるが、ヨウ素や銀等他の殺菌効果を有するどのような薬剤も本装置に使用可能である。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１において、循環ポンプ２０の稼働により浴槽（図示せず）の浴水は吸込口２４から浴水浄化装置に入水し、ヘアキャッチャー２３を通り、湯温センサ２８を経由して循環ポンプ２０を通って、更に切替バルブ２７を経由し、ろ過タンク２１においてろ過される。そして、ヒータ２２により所定温度まで加温され切替バルブ２６を通って吐出口２５から浴槽に出水され、この循環を繰り返して浄化されるように構成されている。
【０００６】
切替バルブ２６から吐出口２５の間に塩素注入器１が設けられており、塩素流量計２を介して配管４０に接続している。またヘアキャッチャー２３と循環ポンプ２０の間の配管４１には塩素濃度測定器３が設けられている。
塩素注入の際には、切替バルブ２７を図２に示すように切り替える。これにより浴水はヘアキャッチャー２３からメインポンプ２０、切替バルブ２７を経てバイパス管路４を通ってろ過タンク出水管路５からヒータ２２に入るという経路を通って、ろ過タンク２１をバイパスする。そのため、塩素注入器１から注入された塩素がろ過タンク２１で吸着されることがなく、効率的な塩素注入が行われる。
【０００７】
塩素注入後に浴水浄化装置内部の洗浄が行われるようになっている。この実施形態では熱洗浄と逆洗浄とを行うように構成されている。
熱洗浄を行う場合には、切替バルブ２６と切替バルブ２７を図３の位置に設定する。そして、循環ポンプ２０の運転を停止し、サブポンプ１５の運転に切り替える。これにより浴水はメインポンプ２０からヘアキャッチャー２３、サブポンプ１５を通って、ろ過タンク２１へ行き、更にヒータ２２から切替バルブ２６と切替バルブ２７を通ってメインポンプ２０に戻るという循環を行う。この際ヒータ２２により浴水は所定温度まで加温されて高温の熱水となって循環し、内部洗浄を行う。
【０００８】
上記熱洗浄終了後、逆洗浄を行うように構成されている。逆洗浄に際しては、切替バルブ２６と切替バルブ２７を図４に示す状態に切り替える。これにより浴水は吸込口２４からヘアキャッチャー２３、配管４１、塩素濃度測定器３、湯温センサ２８を通って循環ポンプ２０から切替バルブ２７、バイパス管路４、切替バルブ２６を介してヒータ２２に逆方向から流入し、更にろ過タンク２１へと逆方向から流入して洗浄する。そして開閉弁５３を通って排水管４２から排水されるようになっている。
なお、５０、５１、はそれぞれ逆止弁、５２は開閉弁、５４はエアー抜き用配管である。
【０００９】
なお、図５に示すように逆循環を行わせることも可能である。
この実施形態では逆止弁５０にかえて開閉弁５５を設け、ヘアキャッチャー２３から配管４１，塩素濃度測定器３，湯温センサ２８、循環ポンプ２０、切替バルブ２７、バイパス管路４、切替バルブ２６、ヒータ２２、ろ過タンク２１を経て、開閉弁５５からサブポンプ１５を通ってヘアキャッチャー２３に戻るという循環路を形成するようになっている。所定時間循環させたら開閉弁５３を開き開閉弁５５を閉として、洗浄後の浴水を排水管４２から系外へ排出するようになっている。
【００１０】
図６にこの実施形態の制御装置の構成を示す。制御装置３０はマイクロコンピュータを主体に構成されており、浴水浄化装置全体の制御を行っている。該制御装置３０には表示部３１と操作部３２が設けられており、操作部３２からユーザなどが種々の指令を入力する。表示部３１は様々な表示を行うものであって、また告知なども表示部３１において行うようになっている。また、タイマ装置２９は所定塩素濃度の維持時間の計測などを行うようになっている。
【００１１】
制御装置３０は循環ポンプ２０とサブポンプ１５の運転制御、切替バルブ２６と切替バルブ２７及び開閉弁５２と開閉弁５３或いは開閉弁５５の開閉制御およびヒータ２２の加温制御を行うようになっている。また湯温センサ２８からの湯温情報を入力するように構成されている。
【００１２】
制御装置３０には塩素注入器ＯＮ／ＯＦＦ制御回路１０が接続し、この塩素注入器ＯＮ／ＯＦＦ制御回路１０により塩素注入器１のオンオフを行うようになっている。また、塩素注入器電源制御回路１１が制御装置３０には接続され、塩素注入器１の電源のオンオフを制御できるようになっている。
制御装置３０には前記塩素濃度測定器３からの塩素濃度情報が入力し、また塩素流量計２からの流量情報が入力するように構成されている。
【００１３】
制御装置３０は操作部３２からの指令、或いは所定時間の計時などにより、切替バルブ２７を図２に示す位置に切り替えて、塩素注入器ＯＮ／ＯＦＦ制御回路１０に制御信号を送って塩素注入器１に塩素注入を行わせるように構成されている。塩素注入器１から塩素の注入がなされると、該塩素は塩素流量計２を通って配管４０に送られ、更に吐出口２５から浴槽内に吐出する。そして、吸込口２４から吸引されてヘアキャッチャー２３を経由して塩素濃度測定器３においてその塩素濃度が検出されるようになっている。
【００１４】
その後切替バルブ２６を切り替えて図３に示す熱洗浄モードとし、循環ポンプ２０の運転を停止しサブポンプ１５を運転し、更にヒータ２２により浴水を７０℃程度の高温に加温して、この高温水を内部循環させて熱洗浄を行わせるように構成されている。浴水には注入された塩素が所定の濃度で含まれており、更に高温に加熱されているから、塩素は汚れと速やかに反応し、濁度の原因となる汚れなども剥ぎ落とすことができる。この間、浴槽内では浴水が循環せずに保持され、浴水内の塩素による洗浄が進行する。
【００１５】
次にサブポンプ１５を停止し、循環ポンプ２０による運転に戻して図４に示すように逆洗浄を実行する。この逆洗浄により、浴水はヒータ２２とろ過タンク２１を逆流して洗浄を行い、浴水を排水管４２から排水するように構成されている。
この際図５に示す逆循環を行うように構成することも可能である。
【００１６】
上記熱洗浄と逆洗浄を行った後、制御装置３０は図１の通常運転モードによる運転を実行する。この通常運転モードにおいて、浴水に残留する塩素はろ過タンク２１において速やかに吸着され、環境や人体に対する塩素の悪影響が抑制される。
【００１７】
なお、逆洗浄後に通常運転に戻す際に、制御装置３０は浴水が所定の塩素濃度で所定時間維持されたか否かをチェックして、不足している場合には図２に示す塩素注入モードを実行し、所定塩素濃度で所定時間、浴水を循環させるようになっている。
【００１８】
図７により塩素注入と洗浄の動作を説明する。
使用者が操作部３２を操作するか或いはタイマ等の時間計時により制御装置３０は切替バルブ２７を切り替え、ろ過タンク２１をバイパスする管路とした上で（ステップＳ１）、塩素注入器１に塩素注入を行わせる（ステップＳ２）。この時同時にタイマ装置２９をスタートさせる。塩素濃度測定３からの検出濃度が所定値になるまで（ステップＳ３、４）、塩素注入を続ける。
塩素濃度が所定値になったら、図３に示す熱洗浄モードに切り替え（ステップＳ５）、熱洗浄動作に入り、ヒータ２２をオンとする（ステップＳ６）。浴水温度が一定温度（この例では７０℃）になったら（ステップＳ７）、該温度で一定時間保持して浴水を循環させる（ステップＳ８）。
次に、図４に示す逆洗浄モードに管路を切り替え（ステップＳ９）、逆洗浄動作を実行する（ステップＳ１０）。その後タイマ装置２９が所定時間経時したか否かチェックし（ステップＳ１１）、所定時間経過していなかったら図２に示す管路に切り替えてろ過タンク２１を通さないバイパス運転を行う（ステップＳ１２）。この際に、塩素濃度が低下していたら塩素注入器１による塩素注入を行うことも可能である。
所定時間経過したら図１に示す通常運転の管路に切り替えて、通常運転を実行する（ステップＳ１３）。この通常運転において塩素はろ過タンク２１に吸着され、速やかにその濃度が低下する。
【００１９】
以上の構成において塩素注入により浴水浄化装置と浴槽を含む全水系の殺菌が行われる上、該塩素注入後に熱洗浄が行われるため、浄化装置内部は塩素と熱の相乗効果により、効果的に洗浄される。そして、この洗浄水は系外に排出されるから濁度上昇の原因になる剥離された汚れも排出され、塩素注入に伴う濁度の上昇が抑制される。また、塩素も同時に排出され、浴槽等に残った塩素は熱洗浄と逆洗浄中に汚れと反応して浄化を行うと共に濃度が低下する。そして、内部洗浄後の通常運転においてろ過タンク２１において吸着されて、速やか濃度を低下させるため、環境や人体に対する悪影響が抑制される。
【００２０】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の浴水浄化装置によれば、薬剤による浄化効果を効果的に実行でき、しかも薬剤による環境や人体に対する悪影響を抑制できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態における通常運転モードを示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態における塩素注入モードを示す概略図。
【図３】本発明の一実施形態における熱洗浄モードを示す概略図。
【図４】本発明の一実施形態における逆洗浄モードを示す概略図。
【図５】本発明の一実施形態における逆循環モードを示す概略図。
【図６】本発明の一実施形態の制御装置を示すブロック図。
【図７】本発明の一実施形態の動作を示すフローチャート図。
【符号の説明】
１：塩素注入器、２：塩素流量計、３：塩素濃度測定器、４：バイパス管路、５：ろ過タンク出水管路、１０：塩素注入器ＯＮ／ＯＦＦ制御回路、１１：塩素注入器電源制御回路、１５：サブポンプ，２０：循環ポンプ、２１：ろ過タンク、２２：ヒータ、２３：ヘアキャッチャー、２４：吸込口、２５：吐出口、２６：切替バルブ、２７：切替バルブ、２８：湯温センサ、２９：タイマ装置、３０：制御装置、３１：表示部、３２：操作部、４０：配管、４１：配管、４２：排水管、５０：逆止弁、５１：逆止弁、５２：開閉弁、５３：開閉弁、５４：エアー抜き用配管、５５：開閉弁。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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