(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも下記の成分Ａをラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有することを特徴とする電子写真感光体。
成分Ａ：以下の一般式（１）で示される脂肪族基とラジカル重合性基を含まない電荷輸送性基とが単結合で連結されたラジカル重合性モノマー
【化１】
0004657900.tif 000057
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表わす。）
【請求項２】
少なくとも下記の成分Ａ、Ｂをラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有することを特徴とする電子写真感光体。
成分Ａ：以下の一般式（１）で示される脂肪族基とラジカル重合性基を含まない電荷輸送性基とが単結合で連結されたラジカル重合性モノマー
【化２】
0004657900.tif 000058
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表わす。）
成分Ｂ：ラジカル重合性基を分子内に３個以上有するラジカル重合性モノマー
【請求項３】
少なくとも下記の成分Ａ、Ｂ、Ｃをラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有することを特徴とする電子写真感光体。
成分Ａ：以下の一般式（１）で示される脂肪族基とラジカル重合性基を含まない電荷輸送性基とが単結合で連結されたラジカル重合性モノマー
【化３】
0004657900.tif 000059
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表わす。）
成分Ｂ：ラジカル重合性基を分子内に３個以上有するラジカル重合性モノマー
成分Ｃ：光重合開始剤
【請求項４】
前記Ｂ成分のラジカル重合性基がアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記Ａ成分が下記一般式（２）で表わされるラジカル重合性モノマーであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電子写真感光体。
【化４】
0004657900.tif 000060
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表し、Ｒｃ、Ｒｄは、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表し、Ａｒ１、Ａｒ２は、置換基を有しても良いアリール基を表し、ｉ、ｊは０〜４の整数を表す。また、ＲｃとＲｄは結合してビフェニール環と共に炭素数５〜８の環状炭化水素環を形成しても良い。）
【請求項６】
前記Ａ成分が下記一般式（３）で表されるラジカル重合性モノマーであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電子写真感光体。
【化５】
0004657900.tif 000061
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表し、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆは、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表し、ｉ、ｊは０〜４の整数をｋ、ｌは０〜５の整数を表わす。また、ＲｃとＲｄは結合してビフェニール環と共に炭素数５〜８の環状炭化水素環を形成しても良い。）
【請求項７】
前記Ａ成分が下記一般式（４）で表されるラジカル重合性モノマーであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電子写真感光体。
【化６】
0004657900.tif 000062
（式中、Ｒａ、Ｒｂは水素原子またはメチル基を表し、Ｒｃ、Ｒｄは、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表し、Ａｒ1、Ａｒ2は、置換基を有しても良いアリール基を表し、ｉ、ｊは０〜４の整数を表わす。）
【請求項８】
前記Ａ成分が下記一般式（５）で表されるラジカル重合性モノマーであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１又は請求項７に記載の電子写真感光体。
【化７】
0004657900.tif 000063
（式中、Ｒａ、Ｒｂは水素原子またはメチル基を表し、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆは、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表し、ｉ、ｊは０〜４の整数をｋ、ｌは０〜５の整数を表わす。）
【請求項９】
導電性支持体上に少なくとも電荷発生層、電荷輸送層及び架橋型電荷輸送層を順次積層した電子写真感光体において、該架橋型電荷輸送層が請求項１乃至８のいずれかに記載の硬化被覆組成物を含むことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項１０】
前記架橋型電荷輸送層の膜厚が１μｍ以上、１０μｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体。
【請求項１１】
前記架橋型電荷輸送層が有機溶剤に対し不溶性であることを特徴とする請求項７又は１０に記載の電子写真感光体。
【請求項１２】
前記架橋型電荷輸送層に用いられる硬化被覆組成物のＢ成分のラジカル重合性官能基数に対する分子量の割合（分子量／官能基数）が、２５０以下であることを特徴とする請求項７乃至１１のいずれかに記載の電子写真感光体。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれかに記載の電子写真感光体を用いて、少なくとも帯電、画像露光、現像、転写を繰り返し行なうことを特徴とする画像形成方法。
【請求項１４】
請求項１乃至１２のいずれかに記載の電子写真感光体を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１２のいずれかに記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段および除電手段よりなる群から選ばれた少なくとも一つの手段を有するものであって、画像形成装置本体に着脱可能としたことを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、直径１００ｍｍの感光体換算で連続２００万枚異常の耐刷性を有するような極めて耐摩耗性の高い有機電子写真感光体に関するものであり、さらに帯電性、感度、残留電位蓄積性等の電気特性にも優れ、且つ、画像欠陥の少ない高画質を維持しつづける高耐久高信頼の電子写真感光体に関するものであり、さらに白斑点等の画像欠陥が生じにくい電子写真感光体に関するものである。また、青紫レーザー書き込み光源にも対応できるような書き込み光源波長への対応領域が広く且つ高耐久な有機電子写真感光体に関する。また、その長寿命、高性能な感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機感光体（ＯＰＣ）は良好な性能、様々な利点から、無機感光体に換わり複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ及びこれらの複合機に多く用いられている。この理由としては、例えば、
（１）光吸収波長域の広さ及び吸収量の大きさ等の光学特性
（２）高感度、安定な帯電特性等の電気的特性
（３）材料の選択範囲の広さ
（４）製造の容易さ
（５）低コスト
（６）無毒性
等が挙げられる。
【０００３】
一方、最近画像形成装置の小型化から感光体の小径化が進み、機械の高速化やメンテナンスフリーの動きも加わり感光体の高耐久化が切望されるようになってきた。この観点からみると、有機感光体は、電荷輸送層が低分子電荷輸送物質と不活性高分子を主成分としているため一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという欠点を有している。
【０００４】
加えて高画質化の要求からトナー粒子の小粒径化に伴いクリーニング性を挙げる目的でクリーニングブレードのゴム硬度の上昇と当接圧力の上昇が余儀なくされ、このことも感光体の摩耗を促進する要因となっている。
【０００５】
このような感光体の摩耗は、感度の劣化、帯電性の低下などの電気的特性を劣化させ、画像濃度低下、地肌汚れ等の異常画像の原因となる。また摩耗が局所的に発生した傷は、クリーニング不良によるスジ状汚れ画像をもたらす。そこで、耐摩耗性の改良が種々行われてきた。
（１）電荷輸送層に硬化性バインダーを用いたもの（例えば、特許文献１参照）。
（２）高分子型電荷輸送物質を用いたもの（例えば、特許文献２参照）。
（３）電荷輸送層に無機フィラーを分散させたもの（例えば、特許文献３参照）。
（４）多官能のアクリレートモノマー硬化物を含有させたもの（例えば特許文献４参照）。
（５）炭素−炭素二重結合を有するモノマーと、炭素−炭素二重結合を有する電荷輸送材及びバインダー樹脂からなる塗工液を用いて形成した電荷輸送層を設けたもの（例えば、特許文献５参照）。
（６）同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を硬化した化合物を含有させたもの（例えば、特許文献６、７参照）。
【０００６】
これらの改良により耐摩耗性は従来品に比べて向上したが新たな問題が生じてきている。従来の感光体は、表面に異物付着や傷等が生じても摩耗によりリフェースされ、いつまでも画像欠陥を引きずることは無かったが、耐摩耗性の改良された感光体は、一度表面に強固な異物付着や傷が発生するといつまでもその状態が残り、画像欠陥を出しつづける。このように画像欠陥を発生しやすい問題があった。
【０００７】
特に近年は高画質化及び省エネルギー化の要望からトナーの粒径が小さく、軟化温度が低くなっており、その流動性を確保するためにシリカ等の無機微粒子をトナー中に添加することが良く行われるようになってきている。このシリカ粒子が現像過程でＯＰＣ表面に刺さる場合が有り、その周囲にトナーのワックス成分等が堆積して現像できなくなり、白斑点状の画像欠陥が発生する問題が生じている。
また、近年のさらなる高画質化、高耐久化に伴い耐摩耗性や残留電位蓄積性をより高度なレベルで両立させる必要が生じている。
【０００８】
【特許文献１】特開昭５６−４８６３７号公報
【特許文献２】特開昭６４−１７２８号公報
【特許文献３】特開平４−２８１４６１号公報
【特許文献４】特許第３２６２４８８号公報
【特許文献５】特許第３１９４３９２号公報
【特許文献６】特開２０００−６６４２５号公報
【特許文献７】特開２００４−２１２９５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、本発明の課題は、従来以上に耐摩耗特性に優れ且つ電気的特性が良好で且つ白斑点等による画像欠陥が少ない長寿命な電子写真感光体を提供することである。もう一つの課題は、青紫レーザー書き込み光源にも対応できる前記長寿命な電子写真感光体を提供することである。
【００１０】
また、その白斑点画像欠陥の少ない長寿命感光体を使用し、長期間にわたり高画質化を実現した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題は、本発明の（１）「少なくとも下記の成分Ａをラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有することを特徴とする電子写真感光体。
成分Ａ：以下の一般式（１）で示される脂肪族基とラジカル重合性基を含まない電荷輸送性基とが単結合で連結されたラジカル重合性モノマー
【化１】
0004657900.tif 000002
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表わす。）」、
（２）「少なくとも下記の成分Ａ、Ｂをラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有することを特徴とする電子写真感光体。
成分Ａ：以下の一般式（１）で示される脂肪族基とラジカル重合性基を含まない電荷輸送性基とが単結合で連結されたラジカル重合性モノマー
【００１２】
【化２】
0004657900.tif 000003
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表わす。）
成分Ｂ：ラジカル重合性基を分子内に３個以上有するラジカル重合性モノマー」、
（３）「少なくとも下記の成分Ａ、Ｂ、Ｃをラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有することを特徴とする電子写真感光体。
成分Ａ：以下の一般式（１）で示される脂肪族基とラジカル重合性基を含まない電荷輸送性基とが単結合で連結されたラジカル重合性モノマー
【化３】
0004657900.tif 000004
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表わす。）
成分Ｂ：ラジカル重合性基を分子内に３個以上有するラジカル重合性モノマー
成分Ｃ：光重合開始剤」、
（４）「前記Ｂ成分のラジカル重合性基がアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基であることを特徴とする前記第（１）項乃至第（３）項のいずれかに記載の電子写真感光体」、
（５）「前記Ａ成分が下記一般式（２）で表わされるラジカル重合性モノマーであることを特徴とする前記第（１）項乃至第（４）のいずれかに記載の電子写真感光体。
【００１３】
【化４】
0004657900.tif 000005
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表し、Ｒｃ、Ｒｄは、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表し、Ａｒ１、Ａｒ２は、置換基を有しても良いアリール基を表し、ｉ、ｊは０〜４の整数を表す。また、ＲｃとＲｄは結合してビフェニール環と共に炭素数５〜８の環状炭化水素環を形成しても良い。）」、
（６）「前記Ａ成分が下記一般式（３）で表されるラジカル重合性モノマーであることを特徴とする前記第（１）項乃至第（５）項のいずれかに記載の電子写真感光体。
【００１４】
【化５】
0004657900.tif 000006
（式中、Ｒａ、Ｒｂはそれぞれ水素原子またはメチル基を表し、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆは、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表し、ｉ、ｊは０〜４の整数をｋ、ｌは０〜５の整数を表わす。また、ＲｃとＲｄは結合してビフェニール環と共に炭素数５〜８の環状炭化水素環を形成しても良い。）」、
（７）「前記Ａ成分が下記一般式（４）で表されるラジカル重合性モノマーであることを特徴とする前記第（１）項乃至第（４）項のいずれかに記載の電子写真感光体。
【００１５】
【化６】
0004657900.tif 000007
（式中、Ｒａ、Ｒｂは水素原子またはメチル基を表し、Ｒｃ、Ｒｄは、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表し、Ａｒ1、Ａｒ2は、置換基を有しても良いアリール基を表し、ｉ、ｊは０〜４の整数を表わす。）」、
（８）「前記Ａ成分が下記一般式（５）で表されるラジカル重合性モノマーであることを特徴とする前記第（１）項乃至第（４）項のいずれか１又は第（７）項に記載の電子写真感光体。
【００１６】
【化７】
0004657900.tif 000008
（式中、Ｒａ、Ｒｂは水素原子またはメチル基を表し、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆは、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表し、ｉ、ｊは０〜４の整数をｋ、ｌは０〜５の整数を表わす。）」、
（９）「導電性支持体上に少なくとも電荷発生層、電荷輸送層及び架橋型電荷輸送層を順次積層した電子写真感光体において、該架橋型電荷輸送層が前記第（１）項乃至第（８）項のいずれかに記載の硬化被覆組成物を含むことを特徴とする電子写真感光体」、
（１０）「前記架橋型電荷輸送層の膜厚が１μｍ以上、１０μｍ以下であることを特徴とする前記第（９）項に記載の電子写真感光体」、
（１１）「前記架橋型電荷輸送層が有機溶剤に対し不溶性であることを特徴とする前記第（７）項又は第（１０）項に記載の電子写真感光体」、
（１２）「前記架橋型電荷輸送層に用いられる硬化被覆組成物のＢ成分のラジカル重合性官能基数に対する分子量の割合（分子量／官能基数）が、２５０以下であることを特徴とする前記第（７）項乃至（１１）項のいずれかに記載の電子写真感光体」により達成される。
また、上記課題は、本発明の（１３）「前記第（１）項乃至第（１２）項のいずれかに記載の電子写真感光体を用いて、少なくとも帯電、画像露光、現像、転写を繰り返し行なうことを特徴とする画像形成方法」により達成される。
また、上記課題は、本発明の（１４）「前記第（１）項乃至第（１２）のいずれかに記載の電子写真感光体を有することを特徴とする画像形成装置」により達成される。
また、上記課題は、本発明の（１５）「前記第（１）項乃至第（１２）項のいずれかに記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段および除電手段よりなる群から選ばれた少なくとも一つの手段を有するものであって、画像形成装置本体に着脱可能としたことを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ」により達成される。
【発明の効果】
【００１７】
以上、詳細且つ具体的な説明から明らかなように、本発明によれば、少なくとも前記Ａ成分をラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面層に設けた電子写真感光体とすることで耐摩耗特性且つ電気的特性が共に良好な電子写真感光体にあって、白斑点による画像欠陥が少ない長寿命感光体を提供することができる。特に前記Ａ成分とＢ成分とをラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有することにより従来にはない極めて耐摩耗性に優れながら残留電位の少ない電荷移動性にも優れた電子写真感光体の提供が可能となる。
【００１８】
特に前記Ａ、Ｂ、Ｃ成分をラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有する電子写真感光体は、上記のような優れた特性を有する感光体を短時間で容易に製造することができるために安価に市場に提供することができる。
また、一般式（４）及び一般式（５）で表わされるＡ成分を用いた場合は、画像欠陥が少なく、非常に高いレベルで耐摩耗性と電位安定性に優れる感光体の提供が可能になる。
【００１９】
したがって、この感光体を用いることにより、長期間にわたり高画質化を実現した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、特定のラジカル重合性モノマーをラジカル重合させて得られる硬化膜を表面に配した電子写真感光体及びそのものを使用した画像形成方法、画像形成装置、画像形成装置用プロセスカートリッジを基本としている。
【００２１】
ここで言うラジカル重合性モノマーは電荷輸送性機能を発現する構造とラジカル重合性の構造を併せ持っており、重合して得られる硬化膜は電荷輸送性膜として機能する。このような電荷輸送性機能を発現する構造とラジカル重合性基を持ったラジカル重合性モノマーはこれまで数多く提案されており、例えば前記特開２００４−２１２９５９号公報には四百数十種類の化合物例が記載されている。
【００２２】
しかしながら、これら従来のラジカル重合性モノマーでは、高度なレベルで高い耐摩耗性と残留電位の発生が小さい電気特性とを両立させることができなかった。その原因は次のように考えられる。
【００２３】
ほとんど削れないような高度な耐摩耗性を実現するためには、架橋密度を十分に上げる必要があることが判ってきたが、そのためにはラジカル重合性基の含有割合を上げる必要があり、ラジカル重合性基を多官能化したり電荷輸送性構造の分子量を小さくしたりすることが必要である。しかし、良好な電荷輸送性を発現する構造の低分子量化には限度がある。一方でラジカル重合性基の多官能化は含有割合を上げるには有効であるが、硬化後の電荷輸送性が悪くなる。この原因は良く判っていないが、電荷輸送性構造部の分子運動が何箇所も架橋されることで拘束されて自由に動ける範囲が小さくなり、電荷のホッピング移動性を低下させてしまうためと推定される。
【００２４】
そこで、高密度なラジカル重合性と電荷輸送性を両立できる新たなラジカル重合性モノマーを検討し、二つのラジカル重合性基を有する脂肪族基とラジカル重合性基を含まない電荷輸送性基とが単結合で連結されたラジカル重合性モノマーを使用して硬化させる膜が高密度なラジカル重合性と良好な電荷輸送性を両立するのに有効であることを見出し本発明とした。
【００２５】
その特徴として架橋密度が高いにもかかわらず電荷輸送性基の分子運動束縛を極力減らすように比較的分子運動しやすい脂肪族構造の架橋部分にバルキーで構造の動きにくい芳香族化合物からなる電荷輸送性基をペンダント状に一箇所のみの結合で容易に回転できるように連結させた。このような構造の工夫により高密度なラジカル硬化性と良好な電荷輸送性の両立が図れたものと思われる。
【００２６】
また、従来の多官能性電荷輸送性モノマーを使用した場合は、硬化時の歪が大きくなり、クラック等のひびが生じる問題や多官能にもかかわらず硬化性に不足を生じる問題が発生したが、本願の特定のラジカル重合性モノマーの硬化では、クラック等の発生もなく十分に架橋硬化した均一で平滑な膜が得られ、良好な感光体表面層として機能する。
【００２７】
また、高密度な電荷輸送性硬化膜の形成が可能となったことで、膜強度が十分に高くなり、シリカ微粒子等非常に硬度の高いトナー中の外添剤が感光体に刺さることを防止し、白斑点等の画像欠陥を減らすことができるようになった。
【００２８】
また、高密度な架橋硬化膜の実現には前記Ａ成分のラジカル重合性モノマーと合わせてＢ成分であるラジカル重合性基を分子内に３個以上有するラジカル重合性モノマーを混合して使用することでより達成される。
【００２９】
また、ラジカル重合開始には従来公知の種々の方法が適用できるが、光重合開始剤を添加して光照射により短時間で硬化させることで架橋密度の高い機械的強度に優れる感光体が得られる。
【００３０】
次に、各構成成分について説明する。
まずＡ成分から説明する。
二つのラジカル重合性基を有する脂肪族基とラジカル重合性基を含まない電荷輸送性基とが単結合で連結されたラジカル重合性モノマーについて、ラジカル重合性基としては従来公知のものがいずれも適用できる。例えば、ビニル基、アリル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリルアミド基等である。
【００３１】
特に、重合特性の観点からアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であるのが好ましい。アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を使用することで短時間に十分硬化された平滑な膜の作製が可能となる。
【００３２】
脂肪族基としては特に制限はないが、炭素数１〜１０のアルキル基やエーテル結合を組み合わせてできる脂肪族基が好ましい。
【００３３】
二つのラジカル重合性基を有する脂肪族基の特に好ましい例の一つは前記一般式（１）で表わされる基である。式中、Ｒａ及びＲｂは、それぞれ水素原子又はメチル基を表し、ＲａおよびＲｂは同一でも異なっても良い。
この基は高いラジカル重合硬化性と適当な柔軟性をバランス良く有しており、ラジカル反応硬化性と電荷輸送性の両立に極めて有効である。
【００３４】
ラジカル重合性基を含まない電荷輸送性基としては、前記ビニル基、アリル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリルアミド基等を含まない電荷輸送性化合物から導かれる一価基であれば良い。
【００３５】
電荷輸送性化合物は、感光層において受光により生じた電荷をホッピング伝導等により輸送する性質を有する化合物である。電荷輸送性化合物には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。電子輸送物質の具体例としては、たとえばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５ ，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３ ，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５ ，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などの電子受容性物質が挙げられる。
【００３６】
正孔輸送物質の具体例としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９ −スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等、その他公知の材料が挙げられる。
【００３７】
以上述べたＡ成分のラジカル重合性モノマーのうち、特に好ましいのが前記一般式（２）で表わされるものである。
さらに、一般式（２）の中で青紫色レーザー書き込み光源にも良く対応出来るものとして前記一般式（３）で表わされるものがより好ましい材料として挙げられる。
【００３８】
一般式（２）及び（３）及び（４）及び（５）において、Ｒａ、Ｒｂは水素原子またはメチル基を表わす。水素原子とメチル基では、ラジカル重合性に違いが生まれるので、使用環境により適宜選択して使用される。ＲａとＲｂは同一でも異なっても良い。
Ａｒ１、Ａｒ２の置換基を有しても良いアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基等が挙げられ、また、下記一般式（６）で表わされる基も挙げることができる。
【００３９】
【化６】
0004657900.tif 000009
〔式中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−及び以下の２価基を表わす。
【００４０】
【化７】
0004657900.tif 000010
【００４１】
【化８】
0004657900.tif 000011
（ここで、Ｒ２６、Ｒ２７は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表し、ａは１〜１２の整数、ｂは１〜３の整数を表わす。）〕
【００４２】
上記一般式（６）、（８）のＲ２６、Ｒ２７としては、ハロゲン原子、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基が挙げられる。ハロゲン原子の具体例として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。また、炭素数１〜６のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基等であり、その置換基としては、ハロゲン原子、フェニル基が挙げられる。また、置換基を有しても良いアルコキシ基は、上記置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基を有するアルコキシ基を表し、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
置換基を有しても良いアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基等が挙げられ、これらの置換基としては、ハロゲン原子や炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基は、上記記載と同様である。
ここまでのハロゲン原子の具体例として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。
【００４３】
Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆは置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基を表わす。炭素数１〜６のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、t−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。その置換基としては、ハロゲン原子、フェニル基が挙げられる。置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基等が挙げられる。
【００４４】
また、アルコキシ基は、上記置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基を有するアルコキシ基を表し、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【００４５】
また、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基等が挙げられる。
【００４６】
これらの置換基としては、ハロゲン原子や炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基は、上記記載と同様である。
ここまでのハロゲン原子の具体例として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。
また、一般式（２）及び（３）においてＲｃとＲｄは結合してビフェニール環と共に炭素数５〜８の環状炭化水素環を形成しても良い。その際の具体例として下記部分構造が挙げられる。
【００４７】
【表１】
0004657900.tif 000012
【００４８】
下記に一般式（２）においてＲａが水素原子、Ｒｂがメチル基の場合を代表として具体的な本化合物の例示化合物を記す。
Ｒａがメチル基、Ｒｂが水素原子の場合、および、Ｒａ、Ｒｂが共に水素原子の場合、およびＲａ、Ｒｂが共にメチル基の場合も同様に記すことが出来る。
【００４９】
【表２】
0004657900.tif 000013
【００５０】
【表３】
0004657900.tif 000014
【００５１】
【表４】
0004657900.tif 000015
【００５２】
【表５】
0004657900.tif 000016
【００５３】
【表６】
0004657900.tif 000017
【００５４】
【表７】
0004657900.tif 000018
【００５５】
下記に一般式（４）においてＲａ、Ｒｂが水素原子の場合を代表として具体的な本化合物の例示化合物を記す。
Ｒａがメチル基、Ｒｂが水素原子の場合、および、Ｒａが水素原子、Ｒｂがメチル基の場合、およびＲａ、Ｒｂが共にメチル基の場合も同様に記すことが出来る。
【００５６】
【表８】
0004657900.tif 000019
【００５７】
【表９】
0004657900.tif 000020
【００５８】
【表１０】
0004657900.tif 000021
【００５９】
【表１１】
0004657900.tif 000022
【００６０】
【表１２】
0004657900.tif 000023
【００６１】
前記一般式（２）で表わされるラジカル重合性モノマーは、新規物質であり、例えば以下の製造法により容易に合成することができる。
【００６２】
【化９】
0004657900.tif 000024
【００６３】
【化１０】
0004657900.tif 000025
【００６４】
このとき、エポキシ環の開環方向により、下記類似構造体が副生する。
【００６５】
【化１１】
0004657900.tif 000026
これらの分離は容易ではなく、混合体として使用することもできる。混合体として使用しても特性に影響がなく、コスト的に有利である。
【００６６】
【化１２】
0004657900.tif 000027
【００６７】
また、Ａ-２工程を次の方法に変えても容易に合成出来る。
【００６８】
【化１３】
0004657900.tif 000028
【００６９】
Ａ−２工程と同様にエポキシ環の開環方向により下記類似化合物が副生する。
【００７０】
【化１４】
0004657900.tif 000029
【００７１】
この場合も混合体として使用することができ、次のＡ−３工程でＲａとＲｂが異なる場合は、類似化合物の混合体が得られる。
また、Ｂ−１工程におけるエポキシ化合物又は一般式（９）で表わされる化合物の下記加水分解物を経由する次の方法でも合成出来る。
【００７２】
【化１５】
0004657900.tif 000030
【００７３】
この合成法では、一般式（１）のＲａとＲｂを同じとする場合に適用しやすい。
【００７４】
前記一般式（４）で表わされるラジカル重合性モノマーは、新規物質であり、例えば以下の製造法により容易に合成することができる。
【００７５】
【化１６】
0004657900.tif 000031
【００７６】
【化１７】
0004657900.tif 000032
【００７７】
このとき、エポキシ環の開環方向により、下記類似構造体が副生する。
【００７８】
【化１８】
0004657900.tif 000033
これらの分離は容易ではなく、混合体として使用することもできる。混合体として使用しても特性に影響がなく、コスト的に有利である。
【００７９】
【化１９】
0004657900.tif 000034
【００８０】
また、Ａ−２‘工程を次の方法に変えても容易に合成出来る。
【００８１】
【化２０】
0004657900.tif 000035
【００８２】
Ａ−２‘工程と同様にエポキシ環の開環方向により下記類似化合物が副生する。
【００８３】
【化２１】
0004657900.tif 000036
この場合も混合体として使用することができ、次のＡ−３‘工程でＲａとＲｂが異なる場合は、類似化合物の混合体が得られる。
また、Ｂ−１‘工程におけるエポキシ化合物又は一般式（１０）で表わされる化合物の下記加水分解物を経由する次の方法でも合成出来る。
【００８４】
【化２２】
0004657900.tif 000037
この合成法では、一般式（４）のＲａとＲｂを同じとする場合に適用しやすい。
【００８５】
Ａ−３、Ａ−３’工程及びＣ−１、Ｃ−１’工程、は、アクリル化工程であり、従来のヒドロキシ体のエステル化と同様にして合成できる。すなわち、アルコール誘導体に（メタ）アクリル酸またはそのエステル化合物を作用させる。例えば、アルコール誘導体と（メタ）アクリル酸とをパラトルエンスルフォン酸等のエステル化触媒と共に有機溶媒中で脱水しながら加熱撹拌することで合成できる。また、アルコール誘導体とアクリル酸クロリドとを有機溶媒中アルカリ存在下で反応させることでも容易に合成できる。
【００８６】
アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ水溶液やトリエチルアミン、ピリジン等のアミン系塩基を使用することができる。
有機溶媒としては、トルエン等の炭化水素系溶媒やテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒や酢酸エチル等のエステル系溶媒等が使用できる。
【００８７】
また、Ｃ−１、Ｃ−１’工程でのエステル化では、アクリル酸クロリドを使用する代わりに３−クロロプロパン酸クロリドを使用して３−クロロプロパン酸エステル誘導体とした後にトリエチルアミンのような塩基触媒を加えて加熱撹拌し、脱塩化水素によりアクリル酸エステル誘導体を合成することもできる。この方法を使用することで高収なアクリル化が可能である。
この場合の好ましい溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが挙げられ、反応温度としては０〜１００℃、好ましくは１０〜８０℃である。
【００８８】
次に、Ｂ成分について説明する。
ラジカル重合性基を分子内に３個以上有するラジカル重合性モノマーとしては、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾールなどの正孔輸送性構造、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しておらず、且つラジカル重合性官能基を３個以上有するモノマーを指す。このラジカル重合性官能基とは、炭素−炭素２重結合を有し、ラジカル重合可能な基であれば何れでもよい。これらラジカル重合性官能基としては、例えば、下記に示す１−置換エチレン官能基、１，１−置換エチレン官能基等が挙げられる。
【００８９】
（１）  １−置換エチレン官能基としては、例えば一般式（１１）で表わされる官能基が挙げられる。
【００９０】
【化２３】
0004657900.tif 000038
（ただし、式中、Ｘ１は、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＣＯＮ（Ｒ１０）−基（Ｒ１０は、水素、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わす。）、または−Ｓ−基を表わす。）
【００９１】
これらの置換基を具体的に例示すると、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオエーテル基等が挙げられる。
【００９２】
（２）  １，１−置換エチレン官能基としては、例えば一般式（１２）で表わされる官能基が挙げられる。
【００９３】
【化２４】
0004657900.tif 000039
（ただし、式中、Ｙは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基あるいはエトキシ基等のアルコキシ基、−ＣＯＯＲ１１基（Ｒ１１は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、または−ＣＯＮＲ１２Ｒ１３（Ｒ１２およびＲ１３は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、あるいはフェネチル基等のアラルキル基、または置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表わし、互いに同一または異なっていてもよい。）、また、Ｘ２は上記式（１１）のＸ１と同一の置換基及び単結合、アルキレン基を表わす。ただし、Ｙ，Ｘ２の少なくとも何れか一方がオキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基、及び芳香族環である。）
【００９４】
これらの置換基を具体的に例示すると、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。なお、これらＸ１、Ｘ２、Ｙについての置換基にさらに置換される置換基としては、例えばハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。これらのラジカル重合性官能基の中では、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用であり、３個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば水酸基がその分子中に３個以上ある化合物とアクリル酸（塩）、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを用い、エステル反応あるいはエステル交換反応させることにより得ることができる。また、３個以上のメタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。また、ラジカル重合性官能基を３個以上有する単量体中のラジカル重合性官能基は、同一でも異なっても良い。
【００９５】
ラジカル重合性基を分子内に３個以上有するラジカル重合性モノマーとしては、以下のものが例示されるが、これらの化合物に限定されるものではない。すなわち、本発明において使用する上記ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレートトリメチロールプロパンアルキレン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性（以後ＥＯ変性）トリアクリレート、トリメチロールプロパプロピレンオキシ変性（以後ＰＯ変性）トリアクリレート、トリメチロールプロパンカプロラクトン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、グリセロールエピクロロヒドリン変性（以後ＥＣＨ変性）トリアクリレート、グリセロールＥＯ変性トリアクリレート、グリセロールＰＯ変性トリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、リン酸ＥＯ変性トリアクリレート、２ ，２ ，５ ，５ ，−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは、単独又は２種類以上を併用しても差し支えない。
【００９６】
また、本発明に用いられる電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、架橋型電荷輸送層中に緻密な架橋結合を形成するために、該モノマー中の官能基数に対する分子量の割合（分子量／官能基数）は２５０以下が望ましい。また、この割合が２５０より大きい場合、架橋型電荷輸送層は柔らかく耐摩耗性が幾分低下するため、上記例示したモノマー等中、ＥＯ 、ＰＯ 、カプロラクトン等の変性基を有するモノマーにおいては、極端に長い変性基を有するものを単独で使用することは好ましくはない。またラジカル重合性基を分子内に３個以上有するラジカル重合性モノマーの成分割合は、硬化被覆組成物全量に対し２０〜８０重量％、好ましくは３０〜７０重量％であり、実質的には、塗工液固形分中のラジカル重合性基を分子内に３個以上有するラジカル重合性モノマーの割合に依存する。モノマー成分が２０重量％未満では架橋型電荷輸送層の３次元架橋結合密度が少なく、従来の熱可塑性バインダー樹脂を用いた場合に比べ飛躍的な耐摩耗性向上が達成されない。また、８０重量％を超えると電荷輸送性化合物の含有量が低下し、電気的特性の劣化が生じる。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なり、それに伴い本感光体の架橋型電荷輸送層の膜厚も異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると３０〜７０重量％の範囲が最も好ましい。
【００９７】
次に、Ｃ成分について説明する。
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２ ，２ −ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１ −オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１ 、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１ ，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、などのアセトフェノン系またはケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４ −ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン、などのベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２ ，４−ジメチルチオキサントン、２ ，４−ジエチルチオキサントン、２ ，４−ジクロロチオキサントン、などのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２ ，４ ，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２ ，４ ，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、が挙げられる。
【００９８】
また、光重合促進効果を有するものを単独または上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。これらの重合開始剤は１種又は２種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物１００重量部に対し、０．５〜４０重量部、好ましくは１〜２０重量部である。
【００９９】
次に、硬化被覆組成物の形成方法に付いて説明する。
本発明で使用される硬化被覆組成物は、少なくとも成分Ａ又は成分ＡとＢ又は成分ＡとＢとＣを含む塗工液を作製し、その塗工液を感光体表面に塗工した後、ラジカル重合させて形成される。成分ＡとＢとＣの場合は、光重合開始剤の吸収波長に応じた光照射を行い、重合させることで形成される。
【０１００】
塗工液は、重合性モノマーが液体である場合、これに他の成分を溶解して塗布することも可能であるが、必要に応じて溶媒により希釈して塗布される。このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。これらの溶媒は単独または２種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
【０１０１】
また、Ａ成分は、硬化被覆組成物の電荷輸送性能を付与するために重要で、この成分は硬化被覆組成物に対し好ましくは２０〜８０重量％、さらに好ましくは３０〜７０重量％である。この成分が２０重量％未満では電荷輸送性能が充分に保てず、繰り返しの使用で感度低下、残留電位上昇などの電気特性の劣化が現れる。また、８０重量％を超えるとＢ成分の含有量が低下し、架橋結合密度の低下を招き目的の特性が発揮しにくくなる。
【０１０２】
塗工液にはＡ、Ｂ、Ｃ成分以外に塗工時の粘度調整、架橋型電荷輸送層の応力緩和、低表面エネルギー化や摩擦係数低減などの機能付与の目的で１官能及び２官能のラジカル重合性モノマー及びラジカル重合性オリゴマーを併用することができる。これらのラジカル重合性モノマー、オリゴマーとしては、公知のものが利用できる。
１官能のラジカルモノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンモノマーなどが挙げられる。２官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートビスフェノールＡ−ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＦ−ＥＯ変性ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。
【０１０３】
機能性モノマーとしては、例えば、オクタフルオロペンチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチルアクリレートなどのフッ素原子を置換したもの、特公平５−６０５０３号公報、特公平６−４５７７０号公報記載のシロキサン繰り返し単位：２０〜７０のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチルなどのポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートが挙げられる。
【０１０４】
ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。但し、１官能及び２官能のラジカル重合性モノマーやラジカル重合性オリゴマーを多量に含有させると硬化被覆組成物の３次元架橋結合密度が実質的に低下し、特性の低下を招く。このためこれらのモノマーやオリゴマーの含有量は、Ａ成分１００重量部に対し５０重量部以下、好ましくは３０重量部以下に制限される。
【０１０５】
更に、塗工液は必要に応じて各種可塑剤（応力緩和や接着性向上の目的）、レベリング剤、ラジカル反応性を有しない低分子電荷輸送物質などの添加剤が含有できる。これらの添加剤は公知のものが使用可能であり、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂に使用されているものが利用可能で、その使用量は塗工液の総固形分に対し２０重量％以下、好ましくは１０％以下に抑えられる。また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが利用でき、その使用量は塗工液の総固形分に対し３重量％以下が適当である
【０１０６】
塗工液を塗布後、場合によっては乾燥工程を入れ、光照射等により硬化を行なう。
光照射としては主に紫外光に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのＵＶ照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は５０ｍＷ／ｃｍ２以上、２０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ２未満では硬化反応に時間を要する。２０００ｍＷ／ｃｍ２より強いと反応の進行が不均一となり、架橋型電荷輸送層表面に局部的な皺が発生したり、多数の未反応残基、反応停止末端が生ずる。また、急激な架橋により内部応力が大きくなり、クラックや膜剥がれの原因となる。また、光照射時に窒素置換をして酸素による重合阻害を防止しても良い。また、光照射は、連続して行っても良く、間欠的に複数回に分けて照射してもよい。
【０１０７】
光照射の類似手段として電子線照射を用いることもできる。しかしながら、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから光のエネルギーを用いたものが好ましい。
【０１０８】
光照射量が多いほど硬化被覆組成物のゲル分率が上がり、より不溶不融の状態になる。本発明の目的を達成するためには、このゲル分率が９５％以上であることが好ましい。ゲル分率は、硬化被覆組成物をテトラヒドロフランのような溶解性の高い有機溶媒中に５日間浸漬し、重量減少量を測定することで見ることができる。
ゲル分率（％）＝１００×（浸漬乾燥後の硬化被覆組成物重量／硬化被覆組成物初期重量）
ゲル分率９５％以上の硬化被覆組成物を形成するためには、１０Ｊ／ｃｍ２以上の積算照射エネルギーを照射することが望ましい。
さらに、好ましくはゲル分率９７％以上まで硬化させることが望ましい。ゲル分率を上げることで、さらにシリカ等の刺さりを防止できる。この場合、２０J／ｃｍ２以上の積算照射エネルギーを照射することが望ましい。
光照射により硬化させた後、８０℃〜１５０℃でアニールを行い、電子写真感光体として使用される。アニール時間は、１分〜６０分程度である。
【０１０９】
次に、電子写真感光体の構成について説明する。
本発明の電子写真感光体は、前記硬化被覆組成物を表面に有するものであり、その構成に制限はないが、Ａ成分の好ましいラジカル重合性モノマーとして挙げた一般式（２）及び（３）の化合物特性がホール輸送性のため、負帯電方式の有機感光体表面に形成されるのが好ましい。
【０１１０】
負帯電方式有機感光体の代表的構成としては、導電性支持体上に電荷発生層、電荷輸送層を順に積層したものであり、電荷輸送層に前記硬化被覆組成物を適用することができる。しかしながらこの場合、電荷輸送層の膜厚に硬化条件による制約が生じるため、電荷輸送層の上に架橋型電荷輸送層を更に積層した感光体構成とし、架橋型電荷輸送層に前記硬化被覆組成物を適用するのが最も好ましい。
【０１１１】
以下、本発明をその最適層構造に従い説明する。
図１は、一態様を表わす断面図であり、導電性支持体（３１）上に、電荷発生機能を有する電荷発生層（３５）と、電荷輸送物機能を有する電荷輸送層（３７）とさらに架橋型電荷輸送層（３９）が積層された積層構造の感光体である。
【０１１２】
＜導電性支持体について＞
導電性支持体（３１）としては、体積抵抗１０ １０ Ω・ｃｍ 以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理を施した管などを使用することができる。また、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体（３１）として用いることができる。この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものについても、本発明の導電性支持体（３１）として用いることができる。
【０１１３】
この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。
【０１１４】
また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
【０１１５】
さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、ポリテトラフロロエチレン系フッ素樹脂などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体（３１）として良好に用いることができる。
【０１１６】
＜感光層について＞
（電荷発生層）
電荷発生層（３５）は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を併用することもできる。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【０１１７】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。
【０１１８】
電荷発生層（３５）に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。これらのバインダー樹脂は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、電荷輸送機能を有する高分子電荷輸送物質、例えば、アリールアミン骨格やベンジジン骨格やヒドラゾン骨格やカルバゾール骨格やスチルベン骨格やピラゾリン骨格等を有するポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料やポリシラン骨格を有する高分子材料等を用いることができる。
【０１１９】
前者の具体的な例としては、特開平０１−００１７２８号公報、特開平０１−００９９６４号公報、特開平０１−０１３０６１号公報、特開平０１−０１９０４９号公報、特開平０１−２４１５５９号公報、特開平０４−０１１６２７号公報、特開平０４−１７５３３７号公報、特開平０４−１８３７１９号公報、特開平０４−２２５０１４号公報、特開平０４−２３０７６７号公報、特開平０４−３２０４２０号公報、特開平０５−２３２７２７号公報、特開平０５−３１０９０４号公報、特開平０６−２３４８３６号公報、特開平０６−２３４８３７号公報、特開平０６−２３４８３８号公報、特開平０６−２３４８３９号公報、特開平０６−２３４８４０号公報、特開平０６−２３４８４１号公報、特開平０６−２３９０４９号公報、特開平０６−２３６０５０号公報、特開平０６−２３６０５１号公報、特開平０６−２９５０７７号公報、特開平０７−０５６３７４号公報、特開平０８−１７６２９３ 号公報、特開平０８−２０８８２０号公報、特開平０８−２１１６４０号公報、特開平０８−２５３５６８号公報、特開平０８−２６９１８３号公報、特開平０９−０６２０１９号公報、特開平０９−０４３８８３号公報、特開平０９−７１６４２号公報、特開平０９−８７３７６号公報、特開平０９−１０４７４６号公報、特開平０９−１１０９７４号公報、特開平０９−１１０９７６号公報、特開平０９−１５７３７８号公報、特開平０９−２２１５４４ 号公報、特開平０９−２２７６６９号公報、特開平０９−２３５３６７号公報、特開平０９−２４１３６９号公報、特開平０９−２６８２２６号公報、特開平０９−２７２７３５号公報、特開平０９−３０２０８４号公報、特開平０９−３０２０８５号公報、特開平０９−３２８５３９号公報等に記載の電荷輸送性高分子材料が挙げられる。また、後者の具体例としては、例えば特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平０５−１９４９７号公報、特開平０５−７０５９５号公報、特開平１０−７３９４４号公報等に記載のポリシリレン重合体が例示される。
【０１２０】
また、電荷発生層（３５）には低分子電荷輸送物質を含有させることができる。電荷発生層（３５）に併用できる低分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。電子輸送物質としては、たとえばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。
【０１２１】
正孔輸送物質としては、以下に表わされる電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。正孔輸送物質としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等、その他公知の材料が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。
【０１２２】
電荷発生層（３５）を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。また、必要に応じて、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のレベリング剤を添加することができる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。
【０１２３】
（電荷輸送層について）
電荷輸送層（３７）は電荷輸送機能を有する層で、電荷輸送機能を有する電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層（３５）上に塗布、乾燥することにより形成させる。電荷輸送物質としては、前記電荷発生層（３５）で記載した電子輸送物質、正孔輸送物質及び高分子電荷輸送物質を用いることができる。前述したように高分子電荷輸送物質を用いることにより、架橋型電荷輸送層塗工時の下層の溶解性を低減でき、とりわけ有用である。
【０１２４】
結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。電荷輸送物質の量は結着樹脂１００重量部に対し、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜１５０重量部が適当である。但し、高分子電荷輸送物質を用いる場合は、単独でも結着樹脂との併用も可能である。電荷輸送層の塗工に用いられる溶媒としては前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、電荷輸送物質及び結着樹脂を良好に溶解するものが適している。これらの溶剤は単独で使用しても２種以上混合して使用しても良い。また、電荷輸送層の下層部分の形成には電荷発生層（３５）と同様な塗工法が可能である。
【０１２５】
また、必要により可塑剤、レベリング剤を添加することもできる。電荷輸送層に併用できる可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂１００重量部に対して０〜３０重量部程度が適当である。
【０１２６】
電荷輸送層に併用できるレベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、結着樹脂１００重量部に対して０〜１重量部程度が適当である。電荷輸送層の膜厚は、５〜４０μｍ程度が適当であり、好ましくは１０〜３０μｍ程度が適当である。このようにして形成された電荷輸送層上に、前述の硬化性塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、光照射の外部エネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋型電荷輸送層が形成される。
【０１２７】
＜中間層について＞
本発明の感光体においては、電荷輸送層と架橋型電荷輸送層の間に、架橋型電荷輸送層への電荷輸送層成分混入を抑える又は両層間の接着性を改善する目的で中間層を設けることが可能である。このため、中間層としては架橋型電荷輸送層塗工液に対し不溶性または難溶性であるものが適しており、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。中間層の形成法としては、前述のごとく一般に用いられる塗工法が採用される。なお、中間層の厚さは０．０５〜２μｍ程度が適当である。
【０１２８】
＜下引き層について＞
本発明の感光体においては、導電性支持体（３１）と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。これらの下引き層は、前述の感光層の如く適当な溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。
【０１２９】
更に本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、本発明の下引き層には、Ａｌ２Ｏ３を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。
【０１３０】
＜各層への酸化防止剤の添加について＞
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、架橋型電荷輸送層、電荷輸送層、電荷発生層、下引き層、中間層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
【０１３１】
本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
（フェノール系化合物）
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシド］クリコ−ルエステル、トコフェロール類など。
【０１３２】
（パラフェニレンジアミン類）
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
【０１３３】
（ハイドロキノン類）
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。
【０１３４】
（有機硫黄化合物類）
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネートなど。
【０１３５】
（有機燐化合物類）
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。本発明における酸化防止剤の添加量は、添加する層の総重量に対して０．０１〜１０重量％である。
【０１３６】
（架橋型電荷輸送層）
本発明の架橋型電荷輸送層の膜厚は、好ましくは１μｍ以上、１０μｍ以下、さらに好ましくは３μｍ以上、１０μｍ以下である。１０μｍより厚い場合、クラックや膜剥がれが発生しやすくなり、光開始剤の光開裂によるラジカル重合開始が深部で起こりにくくなるため、架橋密度の高い膜を形成することができにくくなる。一方、ラジカル重合反応は酸素阻害を受けやすく、すなわち大気に接した表面では酸素によるラジカルトラップの影響で架橋が進まなかったり、不均一になりやすい。この影響が顕著に現れるのは表層１μｍ以下で、この膜厚以下の架橋型電荷輸送層は耐摩耗性の低下や不均一な摩耗が起こりやすい。また、架橋型電荷輸送層塗工時において下層の電荷輸送層成分の混入が生ずる。架橋型電荷輸送層の塗布膜厚が薄いと層全体に混入物が拡がり、硬化反応の阻害や架橋密度の低下をもたらす。これらの理由から、本発明の架橋型電荷輸送層は１μｍ以上の膜厚で高密度な架橋体を形成でき、白斑点防止になる。また、繰り返しの使用において摩耗による膜厚減少は、局部的な帯電性や感度変動を起しやすく、長寿命化の観点から架橋型電荷輸送層の膜厚を３μｍ以上にすることが望ましい。
【０１３７】
＜画像形成方法及び装置について＞
次に、図面に基づいて本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置を詳しく説明する。本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置とは、耐摩耗性及び耐傷性が非常に高く、且つクラックや膜剥がれが生じにくい架橋型電荷輸送層を表面に有する積層型感光体を用い、例えば少なくとも感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写、定着及び感光体表面のクリーニングというプロセスよりなる画像形成方法ならびに画像形成装置である。場合により、静電潜像を直接転写体に転写し現像する画像形成方法等では、感光体に配した上記プロセスを必ずしも有するものではない。
【０１３８】
図２は、画像形成装置の一例を示す概略図である。感光体を平均的に帯電させる手段として、帯電チャージャ（３）が用いられる。この帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラ帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。
【０１３９】
特に本発明の構成は、接触帯電方式又は非接触近接配置帯電方式のような帯電手段からの近接放電により感光体組成物が分解するような帯電手段を用いた場合に特に有効である。ここで言う接触帯電方式とは、感光体に帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電ブレード等が直接接触する帯電方式である。一方の近接帯電方式とは、例えば帯電ローラが感光体表面と帯電手段との間に２００μｍ以下の空隙を有するように非接触状態で近接配置したタイプのものである。この空隙は、大きすぎた場合には帯電が不安定になりやすく、また、小さすぎた場合には、感光体に残留したトナーが存在する場合に、帯電部材表面が汚染されてしまう可能性がある。したがって、空隙は１０〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００ μｍの範囲が適当である。次に、均一に帯電された感光体（１）上に静電潜像を形成するために画像露光部（５）が用いられる。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。次に、感光体（１）上に形成された静電潜像を可視化するために現像ユニット（６）が用いられる。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法がある。感光体に正（負）帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。次に、感光体上で可視化されたトナー像を転写体（９）上に転写するために転写チャージャ（１０）が用いられる。また、転写をより良好に行なうために転写前チャージャ（７）を用いてもよい。これらの転写手段としては、転写チャージャ、バイアスローラーを用いる静電転写方式、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方式が利用可能である。静電転写方式としては、前記帯電手段が利用可能である。次に、転写体（９）を感光体（１）より分離する手段として分離チャージャ（１１）、分離爪（１２）が用いられる。その他分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等が用いられる。分離チャージャ（１１）としては、前記帯電手段が利用可能である。次に、転写後感光体上に残されたトナーをクリーニングするためにファーブラシ（１４）、クリーニングブレード（１５）が用いられる。また、クリーニングをより効率的に行なうためにクリーニング前チャージャ（１３）を用いてもよい。その他クリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。次に、必要に応じて感光体上の潜像を取り除く目的で除電手段が用いられる。除電手段としては除電ランプ（２）、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源��帯電手段が利用できる。その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは公知のものが使用できる。
【０１４０】
本発明は、このような画像形成手段に本発明に係る電子写真感光体を用いる画像形成方法及び画像形成装置である。この画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。
【０１４１】
プロセスカートリッジの一例を図３に示す。画像形成装置用プロセスカートリッジとは、感光体（１０１）を内蔵し、他に帯電手段（１０２）、現像手段（１０４）、転写手段（１０６）、クリーニング手段（１０７）、除電手段（図示せず）の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。図３に例示される装置による画像形成プロセスについて示すと、感光体（１０１）は、矢印方向に回転しながら、帯電手段（１０２）による帯電、露光手段（１０３）による露光により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成され、この静電潜像は、現像手段（１０４）でトナー現像され、該トナー現像は転写手段（１０６）により、転写体（１０５）に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の感光体表面は、クリーニング手段（１０７）によりクリーニングされ、さらに除電手段（図示せず）により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。本発明は、耐摩耗性及び耐傷性が非常に高く、且つクラックや膜剥がれが生じにくい架橋型電荷輸送層を表面に有する積層型感光体と帯電、現像、転写、クリーニング、除電手段の少なくとも一つを一体化した画像形成装置用プロセスカートリッジを提供するものである。
【０１４２】
以上の説明から明らかなように、本発明の電子写真感光体は電子写真複写機に利用するのみならず、レーザービームプリンター、ＣＲＴ プリンター、ＬＥＤ プリンター、液晶プリンター及びレーザー製版等の電子写真応用分野にも広く用いることができるものである。
【０１４３】
＜本発明で使用されるＡ成分の合成例１＞
（４，４’−ジメチルトリフェニルアミンの調製）
かき混ぜ装置、温度計、冷却管をつけた反応容器に、アニリン（東京化成品製）１８．６３ｇ、ｐ−ヨードトルエン８９．３９ｇ、炭酸カリウム６６．３４ｇ、銅紛１．２７ｇを入れ、窒素気流下、２１０℃で２５時間反応を行った。冷却後、シクロヘキサン２００ｍｌで反応液を希釈し、活性白土とシリカゲルで吸着処理をした後、濃縮して目的物結晶２９．８２ｇを得た。（融点１０９℃）
【０１４４】
（４−ブロモ−４’，４’’−ジメチルトリフェニルアミンの調製）
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、４，４’−ジメチルトリフェニルアミン１４．５３ｇ、ジオキサン３０ｍｌを入れ、窒素気流下、ジオキサン５０ｍｌに臭素９．３４ｇを室温でゆっくり滴下し作製した液を室温でゆっくり滴下し、さらに同温度で１時間反応を行った。その後、トルエン５０ｍｌ、水１００ｍｌを加え、有機層を取り出した。
炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後シリカゲルで吸着処理をし、濃縮して目的物結晶を得た。（収量１５．７８ｇ、融点１０２．０〜１０３．０℃）
【０１４５】
（４−メトキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノビフェニルの調製）
かき混ぜ装置、温度計、冷却管をつけた反応容器に、４−ブロモ−４’，４’’−ジメチルトリフェニルアミン４．６６ｇ、４−メトキシフェニルボロン酸２．０４ｇ、トルエン２６ｍｌ、２規定の炭酸カリウム水溶液２６ｍｌ、エタノール１３ｍｌを入れ、窒素気流下超音波にて脱気処理を行なった後、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム０．６ｇを加えて７０℃で６時間反応させた。その後、取り出した有機層を水洗し、濃縮して粗収物を得た。それをシリカゲルを用いたカラムクロマトにより精製し、さらにヘキサン／トルエン混合溶媒にて再結晶精製して目的物を得た。（収量４．２８ｇ、融点１４２．０〜１４２．５℃）
【０１４６】
（４−ヒドロキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノビフェニルの調製）
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、４−メトキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノビフェニル１５．２ｇ、塩化メチレン６０ｍｌを入れ、氷冷下で三臭化ホウ素の塩化メチレン溶液２６ｍｌを滴下し、さらに同温度で４時間反応を行った。その後、反応液を氷水にあけ、塩化メチレンを加えて抽出し、炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、濃縮して目的物を得た。（収量１４．７ｇ、非晶質）
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（ｍ／ｚ）値は３６６であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。
【０１４７】
（２−ヒドロキシ−３−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）プロピルメタクリレートの調製）
かき混ぜ装置、温度計、冷却管、滴下漏斗をつけた反応容器に、４−ヒドロキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノビフェニル６．０ｇ、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム１．８ｇ、テトラヒドロフラン４０ｍｌを入れ、窒素気流下室温でグリシジルメタクリレート３．３ｍｌ／テトラヒドロフラン１０ｍｌの溶液を滴下した。その後、４０時間加熱還流した。
反応終了後、酢酸エチルで希釈し、シリカゲルを通してから溶媒を留去して粗収物８ｇを得た。さらに、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（２／１））により目的物を得た。（収量１．５ｇ、無色結晶）ＩＲ測定データを図５に示す。
また、反応副生物である構造類似体である２−ヒドロキシメチル−２−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）エチルメタクリレートとの混合物を得た。（収量３．５ｇ、無色結晶）ＩＲ測定データを図１１に示す。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（ｍ／ｚ）値は５０８であり、分子量＋１（プロトン付加）の値にいずれも一致した。
【０１４８】
（例示化合物２の合成）
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、２−ヒドロキシ−３−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）プロピルメタクリレート  ５．２ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、トリエチルアミン２ｇを入れ、窒素気流下１５℃で塩化アクリロイル１．９ｇとテトラヒドロフラン５ｍｌの混合溶液を滴下した。その後、室温で５時間反応させた。反応終了後、トルエン１００ｍｌにて希釈し、水洗して有機層を得た。その濃縮液をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（３／１））により目的物を得た。（収量３．１ｇ、無色オイル）
ＩＲ測定データを図６に示す。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（ｍ／ｚ）値は５６２であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。
【０１４９】
以上のように４，４’−ジメチルトリフェニルアミンを種々のアニリン誘導体に変えることにより同様にして他の具体例についても合成することができる。
また、上記４−メトキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノビフェニルに相当するメトキシ体からその後の反応を同様にして他の具体例についても合成することができる。
【０１５０】
＜本発明で使用されるＡ成分の合成例２＞
例示化合物２と下記一般式（１３）で示される化合物との混合物の合成
【０１５１】
【化２５】
0004657900.tif 000040
【０１５２】
上記で得られた２−ヒドロキシ−３−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）プロピルメタクリレートと反応副生物である構造類似体である２−ヒドロキシメチル−２−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）エチルメタクリレートとの混合物３ｇを用いて例示化合物２の合成と同様に行ない、目的の混合物を得た。（収量２．８６ｇ、無色オイル）
混合組成物のＩＲデータを図７に示す。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（
ｍ／ｚ）値は５６２であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。
【０１５３】
＜本発明で使用されるＡ成分の合成例３＞
下記式（１４）で示される化合物の合成
１、２−ジヒドロキシ−３−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）プロパンの調製）
かき混ぜ装置、温度計、冷却管、滴下漏斗をつけた反応容器に、４−ヒドロキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノビフェニル５．０ｇ、水酸化ナトリウム１．８ｇと水８ｇからなる水溶液、テトラヒドロフラン３０ｍｌを入れ、窒素気流下室温でグリシジルメタクリレート１．９ｍｌ／テトラヒドロフラン１０ｍｌの溶液を滴下した。その後、５０℃で１０時間反応させた。
反応終了後、酢酸エチルで希釈し、水洗してから溶媒を留去して粗収物７ｇを得た。さらに、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ（溶媒：酢酸エチル）により下記一般式（１５）で表わされる目的物を得た。（収量４ｇ、無色結晶）
【０１５４】
【化２６】
0004657900.tif 000041
（１、２−ジヒドロキシ−３−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）プロパンの調製）
かき混ぜ装置、温度計、冷却管、滴下漏斗をつけた反応容器に、４−ヒドロキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノビフェニル５．０ｇ、水酸化ナトリウム１．８ｇと水８ｇからなる水溶液、テトラヒドロフラン３０ｍｌを入れ、窒素気流下室温でグリシジルメタクリレート１．９ｍｌ／テトラヒドロフラン１０ｍｌの溶液を滴下した。その後、５０℃で１０時間反応させた。
反応終了後、酢酸エチルで希釈し、水洗してから溶媒を留去して粗収物７ｇを得た。さらに、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ（溶媒：酢酸エチル）により下記一般式（１５）で表わされる目的物を得た。（収量４ｇ、無色結晶）
【０１５５】
【化２７】
0004657900.tif 000042
【０１５６】
この材料の同定情報（ＩＲ測定データ）は図４に示される。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（ｍ／ｚ）値は４４０であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。融点：１４６−１４７℃。
【０１５７】
（一般式（１４）の合成）
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、１，２−ジヒドロキシ−３−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）プロパン  ４．６ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍｌ、トリエチルアミン５ｇを入れ、窒素気流下１５℃で塩化アクリロイル３．５ｇとテトラヒドロフラン５ｍｌの混合溶液を滴下した。その後、室温で５時間反応させた。反応終了後、トルエン１００ｍｌにて希釈し、水洗して有機層を得た。その濃縮液をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（３／１））により精製して目的物を得た。（収量４．６ｇ）
ＩＲ測定データを図８に示す。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（
ｍ／ｚ）値は５４８であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。
【０１５８】
＜本発明で使用されるＡ成分の合成例４＞
【０１５９】
【化２８】
0004657900.tif 000043
【０１６０】
４−メトキシベンジルホスホン酸ジエチルの調製
４−メトキシベンジルクロリドと亜リン酸トリエチルを１５０℃で５時間反応させた。
その後、減圧蒸留により、過剰な亜リン酸トリエチルと副生物のエチルクロリドを留去し、４−メトキシベンジルホスホン酸ジエチルを得た。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（ｍ／ｚ）値は２５９であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。
【０１６１】
４−メトキシ−４’−(ジ−ｐ−トリルアミノ)スチルベンの調製
等モルの４−メトキシベンジルホスホン酸ジエチルと４−(ジ−ｐ−トリルアミノ)ベンズアルデヒドをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、水冷下撹拌しながらｔｅｒｔ−ブトキシカリウムを少しずつ添加した。室温で５時間撹拌後、水を添加し、酸性にして析出した目的物の粗収物を得た。さらに、シリカゲルによるカラムクロマトグラフにより精製して目的物の４−メトキシ−４’−(ジ−ｐ−トリルアミノ)スチルベンを得た。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（ｍ／ｚ）値は４０６であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。融点：１５７−１５７．５℃。
【０１６２】
４−ヒドロキシ−４’−(ジ−ｐ−トリルアミノ)スチルベンの調製
４−メトキシ−４’−(ジ−ｐ−トリルアミノ)スチルベンと二倍当量のナトリウムエタンチオラートとをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させ、１３０℃で５時間反応させた。その後、冷却して水に空け、塩酸で中和し、酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を水洗、乾燥、溶媒留去して粗収物を得た。さらに、シリカゲルによるカラムクロマトグラフにより精製して目的物の４−ヒドロキシ−４’−(ジ−ｐ−トリルアミノ)スチルベンを得た。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（ｍ／ｚ）値は３９２であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。融点：１５２−１５５℃。
【０１６３】
１，２−ジヒドロキシ−３−[４’−(ジ−ｐ−トリルアミノ)スチルベン−４−イルオキシ]プロパンの調製
かき混ぜ装置、温度計、冷却管、滴下漏斗をつけた反応容器に、４−ヒドロキシ−４’−(ジ−ｐ−トリルアミノ)スチルベン１１．７５ｇ、グリシジルメタクリレート４．３５ｇ、トルエン８ｍｌを入れ、９０℃に昇温した後、トリエチルアミン０．１６ｇを加え、９５℃で８時間加熱撹拌した。その後、トルエン１６ｍｌ、１０％水酸化ナトリウム水溶液２０ｍｌを加え、さらに９５℃で８時間加熱撹拌した。
反応終了後、酢酸エチルで希釈し、酸洗浄後水洗してから溶媒を留去して粗収物１９ｇを得た。さらに、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ（溶媒：酢酸エチル）により下記一般式（１７）の目的物を得た。（収量９．８５ｇ、黄色結晶、融点１２７〜１２８．７℃）
【０１６４】
【化２９】
0004657900.tif 000044
【０１６５】
ＩＲ測定データを図９に示す。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（
ｍ／ｚ）値は４６６であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。
【０１６６】
（一般式（１６）の化合物の合成）
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、１、２−ジヒドロキシ−３−[４’−(ジ−ｐ−トリルアミノ)スチルベン−４−イルオキシ]プロパン  １．０ｇ、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド１０ｍｌを入れ、窒素気流下３℃で３−クロロプロパン酸クロリド１．０９ｇを滴下した。その後、室温で８時間反応させた。次に、トリエチルアミン１．７４ｇを加え、さらに６０℃で４時間反応させた。終了後、塩化メチレンで抽出し、水洗して有機層を得た。その濃縮液をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（２／１））により精製して目的物を得た。（収量１．１ｇ、黄色オイル）ＩＲ測定データを図１０に示す。
＜質量分析結果＞
大気圧化学イオン化法によりイオン化してポジティブで求めた単位電荷あたりの質量（ｍ／ｚ）値は５７４であり、分子量＋１（プロトン付加）の値に一致した。
以上のように４−メトキシベンジルホスホン酸ジエチル又はその誘導体と種々のベンズアルデヒド誘導体とを反応させて４−メトキシスチルベン誘導体を合成し、その後は上記と同様に行なうことで他の具体例についても合成することができる。
【実施例】
【０１６７】
次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例中において使用する「部」は、すべて重量部を表わす。
＜実施例１＞
φ３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布、乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層、１８μｍの電荷輸送層を形成した。この電荷輸送層上に下記組成の架橋型電荷輸送層用塗工液をスプレー塗工し、２０分自然乾燥した後、メタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ 、照射距離：１１０ｍｍ、照射強度：７５０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：２４０秒の条件で光照射を行ない塗布膜を硬化させた。更に１３０℃で２０分乾燥を加え５．０μｍの架橋型電荷輸送層を設け、本発明の電子写真感光体を得た。
【０１６８】
〔下引き層用塗工液〕
アルキッド樹脂                                                          ６部
（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ 、大日本インキ化学工業製）
メラミン樹脂                                                            ４部
（スーパーベッカミンＧ−８２１−６０、大日本インキ化学工業製）
酸化チタン                                                            ４０部
メチルエチルケトン                                                    ５０部
【０１６９】
〔電荷発生層用塗工液〕
下記構造式（Ｉ）のビスアゾ顔料                                       ２．５部
【０１７０】
【化３０】
0004657900.tif 000045
ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ製）                          ０．５部
シクロヘキサノン                                                    ２００部
メチルエチルケトン                                                    ８０部
【０１７１】
〔電荷輸送層用塗工液〕
ビスフェノールＺ  ポリカーボネート                                    １０部
（パンライトＴＳ−２０５０、帝人化成製）
下記構造式（II）の低分子電荷輸送物質（Ｄ−１）                            ７部
【０１７２】
【化３１】
0004657900.tif 000046
テトラヒドロフラン                                                  １００部
１％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液                        ０．２部
（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業製）
【０１７３】
〔架橋型電荷輸送層用塗工液〕
Ａ成分                                                                １０部
（例示化合物Ｎｏ．２）
Ｂ成分                                                                １０部
トリメチロールプロパントリアクリレート（KAYARAD TMPTA、日本化薬製）
分子量：２９６、官能基数：３官能、分子量／官能基数＝９９
Ｃ成分                                                                  １部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）
溶媒  テトラヒドロフラン                                            １００部
【０１７４】
＜実施例２＞
実施例１のＡ成分を例示化合物Ｎｏ．２と前記一般式（１３）との混合物に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１７５】
＜実施例３＞
実施例１のＡ成分を前記一般式（１４）に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１７６】
＜実施例４＞
実施例３において架橋型電荷輸送層の膜厚を１μｍとした他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１７７】
＜実施例５＞
実施例３において架橋型電荷輸送層の膜厚を２μｍとした他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１７８】
＜実施例６＞
実施例３において架橋型電荷輸送層の膜厚を７μｍとした他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１７９】
＜実施例７＞
実施例３において架橋型電荷輸送層の膜厚を１０μｍとした他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１８０】
＜実施例８＞
実施例３において架橋型電荷輸送層の膜厚を１２μｍとした他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１８１】
＜実施例９＞
実施例１においてＡ成分を前記一般式（１６）に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１８２】
＜実施例１０〜１４＞
合成例３及び合成例４と同様にして得られた例示化合物Ｎｏ．３のメタクリルオキシ基をアクリルオキシ基に変えた化合物、例示化合物Ｎｏ．９のメタクリルオキシ基をアクリルオキシ基に変えた化合物、例示化合物Ｎｏ．３８のメタクリルオキシ基をアクリルオキシ基に変えた化合物、追加例示化合物のＮｏ．１１、追加例示化合物のＮｏ．２８をＡ成分として実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１８３】
＜比較例１＞
実施例１においてＡ成分を一般式（１８）に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１８４】
【化３２】
0004657900.tif 000047
【０１８５】
＜比較例２＞
実施例１においてＡ成分を下記一般式（１９）に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１８６】
【化３３】
0004657900.tif 000048
【０１８７】
＜比較例３＞
実施例１においてＡ成分を下記一般式（２０）に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１８８】
【化３４】
0004657900.tif 000049
【０１８９】
＜比較例４＞
実施例１においてＡ成分を下記一般式（２１）化合物に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１９０】
【化３５】
0004657900.tif 000050
【０１９１】
＜比較例５＞
実施例１においてＡ成分を下記一般式（２２）に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１９２】
【化３６】
0004657900.tif 000051
【０１９３】
＜比較例６＞
実施例１においてＡ成分を下記一般式（２３）に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１９４】
【化３７】
0004657900.tif 000052
【０１９５】
＜比較例７＞
実施例１においてＡ成分を下記一般式（２４）に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１９６】
【化３８】
0004657900.tif 000053
【０１９７】
＜比較例８＞
実施例１においてＡ成分を下記一般式（２５）に代えた他は同様にして電子写真感光体を作製した。
【０１９８】
【化３９】
0004657900.tif 000054
【０１９９】
以上のように作製した実施例１〜９、比較例１〜８の電子写真感光体について、外観を目視で観察し、クラック、膜剥がれの有無を判断した。また、各架橋型電荷輸送層のゲル分率を求めた。ゲル分率は、アルミ支持体上に架橋型電荷輸送層塗工液を各実施例及び比較例と同様に直接塗工し、同じ条件で光照射および乾燥した膜を、テトラヒドロフラン溶液に２５℃で５日間浸漬させ、ゲル分の重量残率より求めた。その結果を表１３に示す。
【０２００】
【表１３】
0004657900.tif 000055
【０２０１】
次に、実施例１〜９、比較例１〜８のうち、架橋型電荷輸送層形成時にクラックが発生した比較例５の感光体を除き、同様に作製したこれらの感光体及びシリカ外添剤入りトナーを用いて、Ａ４サイズ１０万枚の通紙試験を実施した。まず、前記感光体を電子写真装置用プロセスカートリッジに装着し、画像露光光源として６５５ｎｍの半導体レーザーを用いたリコー製ｉｍａｇｉｏ Ｎｅｏ ２７０改造機にて初期暗部電位を−７００Ｖに設定した。そして、初期と５万枚複写後の全層膜厚を測定し、その差から摩耗量を算出し、５万枚複写後の画像を観察し、べた画像部から白斑点の単位面積当りの個数を数えた。また、残留電位蓄積性を見るために初期と５万枚複写後の露光部電位（ＶＬ）を測定した。その結果を表１４に示す。
【０２０２】
【表１４】
0004657900.tif 000056
【０２０３】
以上のように本願発明の電子写真感光体は、耐摩耗性が優れる有機感光体の中でも、その耐摩耗性が優れており、その一方で欠陥の少ない画像出力が可能となっている。特にシリカの刺さりによって引き起こされる白斑点が発生しにくく、長期使用に際しても十分な画像安定性を有している。
【０２０４】
これらの一番の要因は、本願で用いられる特定のＡ成分によることは比較例との対比で明らかであり、本願のＡ成分をラジカル重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有する電子写真感光体が優れた特性を有することを表している。
【０２０５】
特に本願の成分Ａと成分Ｂとの組み合わせは実施例が示すとおり平滑で耐摩耗性に極めて優れ、残留電荷蓄積性が低く、白斑点等の画像欠陥も少ない高耐久な感光体を与えることを示している。また、実施例では光重合開始剤の存在下で光硬化させた前記組成物の硬化被覆組成物が有効なことも同時に示している。
【０２０６】
また、架橋型電荷輸送層の膜厚が１〜１０μｍの範囲で良好な特性を維持しており、１μｍ未満では、５万枚複写後の摩耗量に対して余裕がほとんどなくなっていること、１０μｍを越える場合は、ゲル分率の低下が見られ、残留電位蓄積性が悪くなっていることから上記範囲が好ましいことを示している。
【０２０７】
また、実施例の硬化条件では、ゲル分率のデータから有機溶媒に対して実質的に不溶であると判断され、その条件下で優れた耐摩耗性や画像安定性を達成できていることを示している。
【０２０８】
また、一般式（４）及び一般式（５）で表わされるＡ成分を用いた場合は、最も高い耐摩耗性と優れた電位安定性を兼ね備えており、さらに白斑点の発生も少ない。
【図面の簡単な説明】
【０２０９】
【図１】本発明の電子写真感光体の断面図の一例である。
【図２】本発明の画像形成装置の一例を示す概略図である。
【図３】本発明の画像形成装置用プロセスカートリッジの一例を示す概略図である。
【図４】本発明における一般式（１５）のＩＲスペクトルを示した図である。
【図５】本発明における２−ヒドロキシ−３−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）プロピルメタクリレートのＩＲスペクトルを示した図である。
【図６】本発明における例示化合物２のＩＲスペクトルを示した図である。
【図７】本発明における例示化合物２と一般式（１３）の混合組成物のＩＲスペクトルを示した図である。
【図８】本発明における一般式（１４）のＩＲスペクトル示した図である。
【図９】本発明における一般式（１７）のＩＲスペクトルを示した図である。
【図１０】本発明における一般式（１６）のＩＲスペクトルの一例を示した図である。
【図１１】本発明における２−ヒドロキシ−３−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）プロピルメタクリレートと２−ヒドロキシメチル−２−（４−（４’−Ｎ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノ）ビフェニルオキシ）エチルメタクリレートとの混合物のＩＲスペクトルを示した図である。
【符号の説明】
【０２１０】
１  感光体
２  除電ランプ
３  帯電チャージャ
４  イレーサ
５  画像露光部
６  現像ユニット
７  転写前チャージャ
８  レジストローラ
９  転写紙
１０  転写チャージャ
１１  分離チャージャ
１２  分離爪
１３  クリーニング前チャージャ
１４  ファーブラシ
１５  クリーニングブレード
３１  導電性支持体
３３  感光層
３５  電荷発生層
３７  電荷輸送層
３９  架橋型電荷輸送層
１０１  感光ドラム
１０２  帯電装置
１０３  露光
１０４  現像装置
１０５  転写体
１０６  転写装置
１０７  クリーニングブレード
【図１】
0004657900.tif 000064
【図２】
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【図３】
0004657900.tif 000066
【図４】
0004657900.tif 000067
【図５】
0004657900.tif 000068
【図６】
0004657900.tif 000069
【図７】
0004657900.tif 000070
【図８】
0004657900.tif 000071
【図９】
0004657900.tif 000072
【図１０】
0004657900.tif 000073
【図１１】
0004657900.tif 000074