(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方の表面にフォトクロミック化合物が樹脂中に分散されたフォトクロミック層が形成されている光学基板と、該フォトクロミック層上に厚さ０．１〜２０μｍの緩衝層を介して形成された金属酸化物の蒸着薄膜とからなるフォトクロミック性光学物品であって、
前記フォトクロミック化合物として下記一般式（１）：
【化１】
0004606215.tif 000011
〔前記式（１）において、
Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８およびＲ３０は、それぞれ、水酸基、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシメチル基、ヒドロキシメチル基、アラルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アラルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記インデノナフト環に結合している置換もしくは非置換の複素環基、又は前記複素環基に芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環が縮合した縮合複素環基であり；
環Ｑは脂肪族炭化水素環基であり；
ｙ、ｙ’、ｙ”およびｙ”’は、各々、０〜２の整数であり；
Ｒ２９は、ジアルキルアミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記フェニル基に結合している置換もしくは非置換の複素環基であり、Ｒ３０は前記（１）式のＲ１で定義したものと同義である〕
で表されるインデノナフトピラン化合物が使用され、且つ前記フォトクロミック層は、３０〜５０μｍの厚みを有しているとともに、
前記金属酸化物の蒸着薄膜は、０．０１〜１μｍの厚みを有しており、且つ単層構造を有していることを特徴とするフォトクロミック性光学物品。
【請求項２】
前記金属酸化物が、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、またはこれらの酸化物成分を含む複合酸化物である請求項１に記載のフォトクロミック性光学物品。
【請求項３】
前記金属酸化物が酸化珪素である請求項１または請求項２に記載のフォトクロミック性光学物品。
【請求項４】
少なくとも一方の表面に、上記一般式（１）で表されるインデノナフトピラン化合物が樹脂中に分散され且つ３０〜５０μｍの厚みを有するフォトクロミック層が厚さ０．１〜２０μｍの緩衝層を介して形成された光学基板を用意し、
前記フォトクロミック層上に、０．０１〜１μｍの厚みを有しており、且つ単層構造の金属酸化物薄膜を蒸着法により形成することを特徴とするフォトクロミック性光学物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐久性が優れたフォトクロミックプラスチックレンズ等のフォトクロミック性光学物品及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトクロミック眼鏡とは、太陽光のような紫外線を含む光が照射される屋外ではレンズが速やかに着色してサングラスとして機能し、そのような光の照射がない屋内においては退色して透明な通常の眼鏡として機能する眼鏡であり、特にフォトクロミックプラスチックレンズを用いたものは近年その需要が増大している。
【０００３】
フォトクロミック性を有するプラスチックレンズの製法としては、大別して、次の３つの方法が知られている。（尚、以下の説明においては、フォトクロミック性を有していない通常のレンズを、単にレンズ基材と呼ぶ。）
(i)モノマーにフォトクロミック化合物を溶解させそれを重合させることにより直接フォトクロミックレンズを得る方法（練り混み法）；
(ii)フォトクロミック化合物を含む組成物中にレンズ基材を含浸させることにより、その表面にフォトクロミック層を形成する方法（含浸法）；
(iii)フォトクロミック化合物が分散されている組成物（フォトクロミックコーティング剤）をレンズ基材の表面にコーティングすることにより、その表面にフォトクロミック層を形成する方法（コーティング法）；
上記の方法の中で、練り込み法は、良好なフォトクロミック性を発現させるためには特殊なモノマー組成物を使用する必要があるという制約がある。また、含浸法においてはレンズ基材としてフォトクロミック化合物を拡散し易い柔らかい基材を用いる必要がある。これに対して、コーティング法は、原理的にはどのようなレンズ基材に対してもフォトクロミック性を付与できるという利点を有しており、最近、特に注目されている。
【０００４】
コーティング法においては、レンズ基材にフォトクロミック層を強固に密着させることが大きな技術課題であったが、レンズ基材に対して高い密着性を有するフォトクロミック層を形成し得るコーティング剤も開発され、その実用化が現実のものとなりつつある。例えば、特許文献１には、このようなフォトクロミックコーティング剤として、「シラノール基または加水分解によりシラノール基を生成する基を有するラジカル重合性単量体を含有するラジカル重合性単量体、アミン化合物およびフォトクロミック化合物を夫々特定量含有してなる硬化性組成物」が提案されている。
【０００５】
このように、コーティング法はフォトクロミックレンズの製法として非常に優れた方法であるといえるが、このようなコーティング法によりフォトクロミック層が形成されたレンズでは、長期間使用するとフォトクロミック層中のフォトクロミック化合物が劣化して発色濃度が低下したり黄変して未発色の状態（紫外線未照射の状態）でもレンズが黄色に着色したりするという問題があり、特にフォトクロミック化合物として、フォトクロミック性の良好なインデノナフトピラン化合物を用いた場合には、その劣化が顕著である。また、このような問題は、含浸法によりフォトクロミック層が形成されているレンズでも同様に生じていた。このフォトクロミック化合物の劣化の主原因は、フォトクロミック化合物が、大気中の酸素に触れて酸化劣化することにある。
【０００６】
このようなフォトクロミック層中のフォトクロミック化合物の酸化劣化を防止する方法として、特許文献２には、２０μｍ程度の厚みのフォトクロミック層の表面に、金属酸化物粒子または金属微粒子よりなる薄膜を形成させることが提案されている。
【０００７】
【特許文献１】国際公開第０３／０１１９６７号パンフレット
【特許文献２】特開平６−１９２６５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、この特許文献２で提案されているような薄膜では、ある程度は酸化劣化を抑制し、フォトクロミック層の特性低下を防止することができるのであるが、その効果は未だ十分ではなく、実用性の面からフォトクロミック耐久性をさらに向上することが求められている。特に、近年開発されたインデノナフトピラン化合物のようにフォトクロミック性の良好な化合物を用いた場合には、特許文献２のように、単に金属酸化物等の薄膜を設けただけでは、フォトクロミック特性の低下を有効に抑制することができず、その優れたフォトクロミック性を長期間にわたって維持することが困難となっていた。
【０００９】
従って本発明の目的は、プラスチックレンズ等の光学基板の表面に、フォトクロミック化合物としてインデノナフトピラン化合物を含むフォトクロミック層が形成されており、酸化劣化によるフォトクロミック層の特性低下が高度に抑制され、フォトクロミック性の耐久性に極めて優れたフォトクロミック性光学物品及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、少なくとも一方の表面にフォトクロミック化合物が樹脂中に分散されたフォトクロミック層が形成されている光学基板と、該フォトクロミック層上に厚さ０．１〜２０μｍの緩衝層を介して形成された金属酸化物の蒸着薄膜とからなるフォトクロミック性光学物品であって、
前記フォトクロミック化合物として下記一般式（１）：
【化２】
0004606215.tif 000002
〔前記式（１）において、
Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８およびＲ３０は、それぞれ、水酸基、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシメチル基、ヒドロキシメチル基、アラルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アラルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記インデノナフト環に結合している置換もしくは非置換の複素環基、又は前記複素環基に芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環が縮合した縮合複素環基であり；
環Ｑは脂肪族炭化水素環基であり；
ｙ、ｙ’、ｙ”およびｙ”’は、各々、０〜２の整数であり；
Ｒ２９は、ジアルキルアミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記フェニル基に結合している置換もしくは非置換の複素環基である〕
で表されるインデノナフトピラン化合物が使用され、且つ前記フォトクロミック層は、３０〜５０μｍの厚みを有しているとともに、
前記金属酸化物薄膜は、０．０１〜１μｍの厚みを有しており、且つ単層構造を有していることを特徴とするフォトクロミック性光学物品が提供される。
【００１１】
本発明によれば、また、少なくとも一方の表面に、上記一般式（１）で表されるインデノナフトピラン化合物が樹脂中に分散され且つ３０〜５０μｍの厚みを有するフォトクロミック層が厚さ０．１〜２０μｍの緩衝層を介して形成された光学基板を用意し、前記フォトクロミック層上に、０．０１〜１μｍの厚みを有しており、且つ単層構造の金属酸化物薄膜を蒸着法により形成することを特徴とするフォトクロミック性光学物品の製造方法が提供される。
【００１２】
本発明は、インデノナフトピラン化合物が分散された樹脂により形成されたフォトクロミック層は、酸化劣化によるフォトクロミック性の低下の度合いが、該フォトクロミック層の厚みに大きく依存するという他のフォトクロミック化合物を用いた場合には見られない性質を有しているという新規知見に基づいてなされたものであり、その厚みを３０〜５０μｍと比較的厚くし、このような厚みのあるフォトクロミック層上に金属酸化物薄膜を設けることにより、酸化劣化によるフォトクロミック層の特性低下を有効に抑制し、インデノナフトピラン化合物の優れたフォトクロミック性を長期間にわたって持続させることに成功したものである。このようにインデノナフトピラン化合物を用いた場合にのみ、フォトクロミック層の厚みを比較的厚くすることによってフォトクロミック層の特性低下が抑制されることはまったく予想外であるが、その理由を、本発明者等は次のように推定している。
【００１３】
即ち、インデノナフトピラン化合物が分散されているフォトクロミック層が薄い場合には、金属酸化物薄膜を設けているにもかかわらず、該フォトクロミック層を透過する酸素を完全に遮断することはできず、僅かな量ではあるが、酸素が該フォトクロミック層内の全体に拡散し、該層内の全体にわたってインデノナフトピラン化合物が酸化劣化し、フォトクロミック性が低下する（即ち、フォトクロミック耐久性が低い）。例えば、後述する比較例７に示されているように、フォトクロミック層の厚みが２０μｍ程度のときには、フォトクロミック耐久性がかなり低い。このようなフォトクロミック性の低下は、他のフォトクロミック化合物を用いた場合も同様である（比較例６）。
【００１４】
しかるに、インデノナフトピラン化合物が分散されているフォトクロミック層の厚みが３０〜５０μｍとなると、実施例１等に示されているように、フォトクロミック性の低下が著しく抑制されており、フォトクロミック耐久性の内特に黄変抑制効果が、著しく向上していることが判る。ところが、他のフォトクロミック化合物が分散されているフォトクロミック層では、その厚みが４０μｍの場合にも、フォトクロミック耐久性の向上は十分でなく、その黄変抑制効果も低い（比較例２）。この事実から考えると、インデノナフトピラン化合物を用いた場合には、この化合物が他のフォトクロミック化合物に比して耐酸化性（酸化劣化に対する耐久性）に優れており、このため、フォトクロミック層の厚みを厚くすることにより、金属酸化物薄層を透過した僅かな量の酸素は、フォトクロミック層の上部領域（金属酸化物薄膜側）で遮断され、その内部までの拡散が抑制されるものと考えられる。即ち、劣化が上部領域で止まり、フォトクロミック層の内部或いは下方領域（基板側）までは劣化が進行しないのである。他のフォトクロミック化合物では、耐酸化性が低く且つ光のみで劣化する機構が大きいと考えられるため、フォトクロミック層の厚みを厚くしたとしてもフォトクロミック層全体にわたって劣化が進行してしまい、この結果、フォトクロミック耐久性の向上がみられないものと考えられる。
【発明の効果】
【００１５】
このように、本発明のフォトクロミック性光学物品では、酸化劣化によるフォトクロミック層の特性低下が有効に抑制されているため、フォトクロミック性の耐久性が著しく優れており、長期間使用しても、インデノナフトピラン化合物が未発色の状態で黄色に着色することがなく、また該化合物の発色状態における色の濃度が低下しないという特徴を有する。
【００１６】
また、本発明において、フォトクロミック層上に設ける金属酸化物の薄層は、例えば単層であり、反射防止膜のような多層構造ではないため、コスト面のメリットが大きく、汎用レンズとしても十分使えるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１を参照して、本発明のフォトクロミック性光学物品は、全体として２００で示すフォトクロミック基板を有しており、このフォトクロミック基板２００は、光学基板２０１の表面にフォトクロミック層２０２が形成されて構造を有している。また、このフォトクロミック層２０２上には、金属酸化物薄膜３００が緩衝層６００を介して、蒸着法により蒸着薄膜として設けられている。緩衝層６００は、図１の例では、プライマー層４００と無機微粒子分散層５００とから形成されているが、後述するように、プライマー層４００のみを緩衝層６００として使用することもできるし、無機微粒子分散層５００のみを緩衝層６００として使用することもでき、さらには、無機微粒子分散層５００の上にもプライマー層４００を設けることもできる。
【００１９】
尚、金属酸化物薄膜３００は、後述するように、単層構造を有しているものであるが、かかる薄膜３００は、所謂反射防止膜とは明確に異なっている。即ち、フォトクロミック層の表面に金属酸化物薄膜を形成する技術としては、高級グレードのレンズにおいて、レンズの表面反射率を低減し、ちらつきを抑え見やすくするために行なわれる反射防止処理がある。この反射防止処理により形成される反射防止膜は、屈折率の異なる金属酸化物からなる薄層を所定の順序で５層〜７層積層した多層構造を有するものであるが、本発明における金属酸化物薄膜は、積層構造とせず単層であり、表面反射率を低減させる反射防止機能を実質的に有していない
【００２０】
［光学基板２０１］
光学基板２０１は、透明な板状体であり、表裏１対の主表面を有しており、該板状体は湾曲していてもよく、その厚さも必ずしも一定である必要は無い。例えば、本発明のフォトクロミック性光学物品をフォトクロミックレンズとして使用する場合には、この光学基板２０１は、レンズ形状を有するものとなる。尚、この光学基板２０１自体はフォトクロミック性を有していない。
【００２１】
また、透明な板状体の光学基板２０１は、透明性と適度な強度を確保できる限り、任意の材料、例えばプラスチックや、各種無機材料から形成されていてよい。このようなプラスチックとしては、各種の熱硬化性又は熱可塑性プラスチック樹脂、例えば、（メタ）アクリル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単量体又はジアリルフタレート単量体を硬化したアリル系樹脂；ポリイソシアネート単量体及びポリチオール単量体を硬化させたチオウレタン系樹脂；ウレタン系樹脂；チオエポキシ系樹脂；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂；ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン等のオレフィン樹脂；エポキシ樹脂；ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂を例示することができる。また、無機材料としては、無機ガラス、石英ガラス、透光性セラミック等を例示することができる。
【００２２】
さらに光学基板２０１は、フォトクロミック層２０２との密着性を向上させるために、プライマー処理やプラズマ処理或いはコロナ放電処理等の表面処理が施されたものであってもよい。このような表面処理としては、例えば、塩基性水溶液又は酸性水溶液への含浸による化学的処理、研磨剤を用いた研磨処理、大気圧プラズマおよび低圧プラズマ等を用いたプラズマ処理等を挙げることができる。このような表面処理は、特にフォトクロミック層２０２をコーティング法により形成する場合に特に有用である。
【００２３】
［フォトクロミック層２０２］
光学基板２０１の表面に形成されているフォトクロミック層２０２は、フォトクロミック化合物が分散した樹脂で構成される。このフォトクロミック層２０２の存在により、所定のフォトクロミック反応による色の可逆変化を有するものである。図１の例では、光学基板２０１の一方の面にのみフォトクロミック層２０２が形成されているが、用途に応じて、所定形状の光学基板２０１の全表面に形成されていてもよいし、一方の表面の全面に形成されていてもよいし、或いは一方の表面に部分的に形成されていてもよい。
【００２４】
本発明においては、フォトクロミック層２０２中に分散されているフォトクロミック化合物として、後述する一般式（１）で表されるインデノナフトピラン化合物を使用することが極めて重要である。この化合物は、クロメン化合物の一種であり、発色、退色速度等のフォトクロミック特性に特に優れるフォトクロミック化合物として近年開発されたものである。また、該化合物は、酸化劣化に対する耐久性にも優れており、このようなインデノナフトピラン化合物を用いてフォトクロミック層２０２を形成することにより、フォトクロミック耐久性を格段に向上させることが可能となる。
【００２５】
また、本発明においては、フォトクロミック層２０２の厚みを３０〜５０μｍ、特に３０〜４０μｍの範囲に設定することも極めて重要である。先に述べたように、上記のインデノナフトピラン化合物が分散されたフォトクロミック層２０２の厚みを上記範囲に設定することにより、該化合物の酸化劣化に対する耐久性が十分に発揮され、後述する金属酸化物薄膜３００の酸素遮断機能と相俟って、フォトクロミック耐久性を著しい向上がもたらされるのである。例えば、インデノナフトピラン化合物以外のフォトクロミック化合物を用いた場合には、酸化劣化によるフォトクロミック特性の低下が大きく、フォトクロミック耐久性の向上は得られず、インデノナフトピラン化合物を用いたとしても、フォトクロミック層の厚みが３０μｍよりも薄い場合には、金属酸化物薄膜３００を透過するわずかな量の酸素による劣化の影響が無視できなくなり、やはりフォトクロミック耐久性の向上はもたらされない。また、フォトクロミック層の厚みが５０μｍより厚くなると、経済的でない他、フォトクロミックの耐久性向上効果も低下してしまう。おそらく、クラック等の欠陥が発生しやすくなり、金属酸化物薄膜３００を透過するわずかな量の酸素が、物理的要因によりフォトクロミック層２０２の全体にわたって拡散してしまうためではないかと思われる。
【００２６】
本発明で用いられる上述したインデノナフトピラン化合物としては、下記式（１）で示されるものが用いられる。
【００２７】
【化３】
0004606215.tif 000003
【００２８】
〔前記式（１）において、
Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８およびＲ３０は、それぞれ、水酸基、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシメチル基、ヒドロキシメチル基、アラルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アラルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記インデノナフト環に結合している置換もしくは非置換の複素環基、又は前記複素環基に芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環が縮合した縮合複素環基であり；
環Ｑは脂肪族炭化水素環基であり；
ｙ、ｙ’、ｙ”およびｙ”’は、各々、０〜２の整数であり；
Ｒ２９は、ジアルキルアミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記フェニル基に結合している置換もしくは非置換の複素環基である〕
【００３１】
本発明において、上記式（１）で示されるインデノナフトピラン化合物は、１種単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００４３】
フォトクロミック層２０２におけるインデノナフトピラン化合物の含有量は、良好な発色濃度及び耐久性が得られるという観点から０．１〜２０質量％の範囲であるのが好適である。また、より耐久性を良く且つ初期着色を低減させるためには、この含有量は１〜１０質量％の範囲であるのが特に好ましい。
【００４４】
また、フォトクロミック層２０２には、フォトクロミックレンズの色調をグレー及びブラウン等の中間色に調整する等の理由から、前記式（１）で表されるインデノナフトピラン化合物に加えて、他のフォトクロミック化合物が分散されていてもよい。このような他のフォトクロミック化合物としては、例えばフルギミド化合物、スピロオキサジン化合物、クロメン化合物、前記式（１）で表されるもの以外のインデノナフトピラン化合物等の公知のフォトクロミック化合物を、目的とする発色色調に応じて１種単独で或いは２種以上の組み合わせで、上記式（１）で表されるインデノナフトピラン化合物と併用することができる。
【００４５】
上記のフルギミド化合物、スピロオキサジン化合物およびクロメン化合物としては、例えば特開平２−２８１５４号公報、特開昭６２−２８８８３０号公報、ＷＯ９４／２２８５０号明細書、ＷＯ９６／１４５９６号明細書などに記載されている化合物が使用できる。また、特開2001-114775号、特開2001-031670号、特開2001-011067号、特開2001-011066号、特開2000-347346号、特開2000-344762号、特開2000-344761号、特開2000-327676号、特開2000-327675号、特開2000-256347号、特開2000-229976号、特開2000-229975号、特開2000-229974号、特開2000-229973号、特開2000-229972号、特開2000-219687号、特開2000-219686号、特開2000-219685号、特開平11-322739号、特開平11-286484号、特開平11-279171号、特開平10-298176号、特開平09-218301号、特開平09-124645号、特開平08-295690号、特開平08-176139号、特開平08-157467号等に記載されたフォトクロミック化合物も使用することができる。
【００４６】
本発明においては、インデノナフトピラン化合物と併用する各種のフォトクロミック化合物の中でも、フォトクロミック特性の耐久性向上の効果が高く、さらに発色濃度および退色速度が良好であり、インデノナフトピラン化合物の優れた特性を損なわないという点から、クロメン化合物が好適である。このようなクロメン化合物の具体例としては、国際公開９４／２２８５０号パンフレット、国際公開９８／４５２８１号パンフレット、米国特許５，９３２，７２５号、米国特許６，５２５，１９４号等を挙げることができるが、最も好適なクロメン化合物としては、下記で示されるクロメン化合物を例示できる。
【００４７】
【化１０】
0004606215.tif 000004
【００４８】
これらの他のフォトクロミック化合物は、一般に、前述した一般式（１）で表されるインデノナフトピラン化合物の優れた特性を損なわない程度の量で使用されるべきであり、一般に、フォトクロミック層２０２中の含有量を、一般式（１）で表されるインデノナフトピラン化合物の７５質量％以下とすることが好ましい。
【００４９】
本発明において、上述したフォトクロミック層２０２は、それ自体公知の含浸法或いはコーティング法によって光学基板２０１の表面に形成することができる。
【００５０】
含浸法では、前述したフォトクロミック化合物（インデノナフトピラン化合物）をバインダーとなる樹脂とともに所定の有機溶媒に溶解乃至分散させたコート液を調製し、このコート液中に光学基板２０１を浸漬することによりコート液の膜を形成し、次いで乾燥することによりフォトクロミック層２０２が形成され、例えば、米国特許第５７３９２４３号明細書に開示されている含浸法が好適に採用される。一方、コーティング法では、フォトクロミック化合物及び重合性単量体を含む硬化性組成物からなるそれ自体公知のコーティング剤を、前述した光学基板２０１の表面（必要により前述した表面処理が行われている）に塗布して重合硬化させることにより、フォトクロミック層２０２が形成される。特に、コーティング剤としては、例えば国際公開第０３／０１１９６７号パンフレットに開示されている硬化性組成物からなるものが好適である。本発明においては、既に述べた通り、光学基板２０１に対する制約が少ないなどの点で、コーティング法によりフォトクロミック層２０２を形成することが好ましい。
【００５１】
尚、コーティング法によりフォトクロミック層２０２を形成する場合、コーティング剤（硬化性組成物）中のフォトクロミック化合物、特にインデノナフトピラン化合物は、硬化により形成されるフォトクロミック層２０２中の含有量が前述した範囲となるような量で配合され、また、フォトクロミック層２０２の厚みを前述した範囲（３０〜５０μｍ）に調整し得るように、コーティング剤の粘度（２０℃）は２０〜１０００ｃＰ、特に５０〜５００ｃＰの範囲にあるのがよい。さらに、コーティング剤中の重合性単量体としては、種々のラジカル重合性単量体を使用することができるが、少なくともその一部として、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのエポキシ系モノマーや、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランなどの分子内にシラノール基または加水分解によりシラノール基を生成する基を有するシリル系モノマーを用いることが、光学基板２０１に対する密着性を向上させるという点で好適である。
【００５２】
また、上記のコーティング剤中には、重合硬化形態に応じて、種々の過酸化物やアゾ化合物などのラジカル重合開始剤やベンゾインメチルエーテルなどの光重合開始剤が配合され、さらに、フォトクロミック化合物の耐久性の向上、発色速度の向上、退色速度の向上や密着性向上のために、或いは色調調整のために、硬化触媒、界面活性剤、酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色防止剤、帯電防止剤、蛍光染料、染料、顔料、香料、可塑剤等の添加剤を添加されていてもよい。
前記ラジカル重合性単量体として、特に本発明の耐久性向上効果が顕著に現れること及びフォトクロミック特性及びフォトクロミック樹脂層の密着性が良好であるとの観点から好適に用いられる配合例を例示すると、
全ラジカル重合性単量体１００重量部に対して、
Ａ）エポキシ系モノマーまたは／及びシリル系モノマーが、０．１〜３０重量部
Ｂ）ラジカル重合性基を３つ以上有する単量体を少なくとも５重量部含んでなる、中硬度又は高硬度モノマーが５〜６５重量部、
Ｃ）低硬度モノマーが５〜９０重量部配合されていることが特に好ましい。
【００５３】
ここで、Ｂ）及びＣ）の、高、中及び低高度モノマーとは、単独重合体のＬスケールロックウェル硬度が６０以上、特に６５〜１３０を示すものを高硬度モノマーとして分類でき、単独重合体のＬスケールロックウェル硬度が４０以下を示すものが低硬度モノマーである。更に単独硬化体のＬスケールロックウェル硬度が４０を超え６０未満を示すモノマーが中硬度モノマーと定義できる。高硬度モノマーは、硬化後の硬化体の耐溶剤性、硬度、耐熱性等を向上させる効果を有し、低硬度モノマーは、硬化体を強靭なものとしまたフォトクロミック化合物の退色速度を向上させる効果を有し、更に必要に応じて中硬度モノマーを組み合わせることで、本発明の耐久性向上効果に優れ且つフォトクロミック特性、強度に優れたフォトクロミック樹脂を与える。
【００５４】
ここで、Ｌスケールロックウェル硬度とは、ＪＩＳ−Ｂ７７２６に従って測定される硬度を意味する。各モノマーの単独重合体について該測定を行うことにより上記硬度の条件を満足するかどうかを簡単に判断することができる。具体的には、モノマーを重合させて厚さ２ｍｍの硬化体を得、これを２５℃の室内で１日保持した後にロックウェル硬度計を用いて、Ｌスケールロックウェル硬度を測定することにより容易に確認することができる。なお、上記Ｌスケールロックウェル硬度の測定に供する重合体は、仕込んだ単量体の有す重合性基の９０％以上が重合する条件で注型重合して得たものである。このような条件で重合された硬化体のＬスケールロックウェル硬度は、ほぼ一定の値として測定される。
【００５５】
前記高硬度モノマー、低硬度モノマー及び中硬度モノマーとしては、夫々前記特許文献国際公開第０３／０１１９６７号に開示されているフォトクロミックコーティング剤で使用されている高硬度モノマー、低硬度モノマー及び中硬度モノマーと同じものが使用できる。
【００５６】
エポキシ系モノマー或いはシリル系モノマーは、基材、プライマー層或いはハードコート層等のその他の構成要素との密着性向上成分として働くが、密着性を更に向上させる目的で、アミン化合物からなる硬化触媒を用いるのが特に好適である。硬化触媒の配合量は、ラジカル重合性単量体１００重量部に対してさらには１〜１０重量部の範囲であるのが好適である。
【００５７】
このようなコーティング剤は、コーティング法によりフォトクロミックレンズを製造する場合に好適なコーティング剤として、本発明者等が提案した出願（国際公開第０３／０１１９６７号パンフレット、特願２００２−３５４２９１及び特願２００２−３７２８３５号）に詳述されている。
【００５８】
[金属酸化物薄膜３００]
金属酸化物薄膜３００は、フォトクロミック層２０２への酸素透過を遮断するために形成する蒸着薄膜であり、その厚みは０．０１〜１μｍの範囲であり、特に好ましくは０．０１〜０．５μｍの範囲である。この範囲よりも小さい膜厚のときには酸素に対するバリアー性が低下し、フォトクロミック耐久性を向上させることが困難となり、膜厚がこの範囲よりも大きいときには、この薄膜３００にクラックなどの外観不良が生じやすくなる。
【００５９】
このような金属薄膜３００は、透明性が確保されている限り、種々の金属酸化物から形成されていてよい。例えば、この金属酸化物薄膜３００は、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、或いはこれらの酸化物成分を含む複合金属酸化物等から形成される。これらの中でも、着色を有さないという点から、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ及び酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属酸化物や、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化スズ系複合金属酸化物、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化珪素系複合金属酸化物等が好適であり、太陽光の暴露による耐久性を向上させる効果が高いという観点から、酸化珪素、酸化チタン及び酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種から形成されている薄膜が特に好適であり、酸化珪素からなる薄膜が最も好適である。また、この薄膜３００は、単層構造として設ける。従って、このような金属酸化物薄膜３００は、先にも述べたように、５層以上の積層構造を有する反射防止膜とは明確に異なり、反射防止膜よりも簡単に形成でき、コスト面で有利である。
【００６０】
上記の金属酸化物薄膜は、化学蒸着法（ＣＶＤ）、物理蒸着法（ＰＶＤ）、真空蒸着法などの蒸着法により作成する。すなわち、金属酸化物薄膜は蒸着薄膜として形成することにより、光学基板の耐熱温度よりも低温で成膜しやすくなり好適である。
【００７２】
［緩衝層６００］
本発明においては、上述した金属酸化物薄膜３００は、図１に示すように緩衝層６００を介してフォトクロミック層２０２上に設ける。即ち、前述したインデノナフトピラン化合物は、優れたフォトクロミック性を有するフォトクロミック化合物であるが、このようなフォトクロミック化合物を分散させたフォトクロミック層２０２の上に、直接、金属酸化物薄膜３００を蒸着法により形成すると、フォトクロミック性の応答速度が低下するという現象が生じる。
【００７３】
このような現象は、インデノナフトピラン化合物が、前述した一般式（１）で表されるもの、すなわち、式（１）中のＲ２９に相当する基がアミノ基を含有している場合（一般式（１）のＲ２９は、ジアルキルアミノ基、窒素原子をヘテロ原子として有し且つ該窒素原子が上記フェニル基に結合している置換もしくは非置換の複素環基）において顕著であり、応答速度の低下傾向は最も大きい。これらのインデノナフトピランでは、分子の自由度が、蒸着によって密に形成された金属酸化物薄膜３００によって大きく制限されてしまい、この結果として、フォトクロミック応答速度が大きく低下してしまうのである。しかるに、フォトクロミック層２０２と金属酸化物薄膜３００との間に緩衝層６００を介在させることにより、上記のフォトクロミック化合物の自由度が金属酸化物薄膜３００によって制限されず、応答速度の低下を有効に回避することが可能となる。
【００７４】
従って、このような緩衝層６００の厚みは、０．１〜２０μｍの範囲内とすべきである。この厚みが０．１μｍよりも薄いと、フォトクロミック化合物に適度な自由度を与えることができず、金属酸化物薄膜３００による応答速度の低下を免れず、一方、この厚みが２０μｍを越えると、クラック等の欠陥を生じ易くなってしまうし、また応答速度の低下を抑制する効果が増大するわけでもない。
【００７５】
本発明において、このような緩衝層６００は、プライマー層や無機微粒子分散層とすることができ、総厚みが上述した範囲内である限り、プライマー層と無機微粒子分散層との積層構造を緩衝層６００とすることもでき、例えば、図１に示されているように、プライマー層４００の上に無機微粒子分散層５００を形成し、或いは、このような無機微粒子分散層５００の上にさらにプライマー層４００を設けた積層構造を緩衝層６００として機能させることもできる。
【００７６】
このような緩衝層６００として機能するプライマー層４００は、密着性向上や耐衝撃性向上を目的とする公知のプライマーを用いて形成されるものであり、例えばエポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等のプライマーを含む塗布液を使用し、スピンコーティングやディッピングにより塗布し、加熱することにより形成することができる。このようなプライマー層４００の厚みは、通常１〜５μｍ程度である。
【００７７】
また、緩衝層６００として機能する無機粒子分散層５００は、無機粒子をバインダー樹脂に分散させたものであり、無機粒子が分散されているため、特に蒸着により形成される金属酸化物薄膜３００に対する密着性が高いという特性を有している。このような無機粒子分散層５００は、例えばシリコーン系コーティング剤のように、無機化合物のコロイド粒子とバインダーとなる加水分解可能な有機ケイ素化合物またはその加水分解物とを主成分とするコーティング剤を塗布し、硬化させることにより形成することができる。
【００７８】
上記コーティング剤における無機化合物のコロイド粒子としては、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン等の金属酸化物、及びこれら金属酸化物を含む複合酸化物を挙げることができ、該コーティング剤中に、固形分換算で２０乃至７０質量％、特に３０乃至６０質量％の範囲で含有させるのがよい。このコロイド粒子含量が上記範囲よりも多いと、無機粒子分散層５００とフォトクロミック層２０２やプライマー層４００との密着性が低下する傾向があり、場合によっては、フォトクロミック層２０２上に直接無機粒子分散層５００を形成したとき、緩衝層としての機能が低下し、フォトクロミック化合物の応答性低下防止機能が損なわれてしまうこともある。
【００７９】
また、加水分解可能な有機ケイ素化合物またはその加水分解物としては、一般にシランカップリング剤として使用されているものが好適に使用される。このような有機ケイ素化合物の具体例としては、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、アリルトリアルコキシシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラアセトキシシラン等を例示することができる。このような有機ケイ素化合物またはその加水分解物からなるバインダーは、固形分換算で３０乃至８０質量％となる程度の量でコーティング剤中に配合されているのがよい。
【００８０】
また、上記のシリコーン系コーティング剤には、前述したもの以外に、他の添加剤、例えば、酸、レベリング剤、硬化触媒を含有していてもよく、さらに有機溶媒を含有していてもよい。
【００８１】
酸は、バインダーとなる有機ケイ素化合物の加水分解及び縮合を促進させるために使用されるものであり、塩酸等の鉱酸が好適に使用される。このような酸は、一般に、有機ケイ素化合物１モルに対して１〜１０ミリモルの量で使用される。
【００８２】
有機溶媒は、コーティング剤の粘度を調整して塗布性を高めるために使用され、或いは前述したコロイド粒子の分散媒(ゾル）として使用されるものであり、メタノール、イソプロパノール、ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジオキサンが好適に使用できる。このような有機溶媒のコーティング剤中含量は、一般に、４０〜９０重量％である。
【００８３】
レベリング剤としては、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、デカグリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール・ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等を挙げることができる。このようなレベリング剤の含有量は、コーティング剤当り０．０１〜３質量％程度である。
【００８４】
また、硬化触媒は、加水分解された有機ケイ素化合物の重縮合を促進して硬化させるものであり、過塩素酸、過塩素酸アンモニウム、過塩素酸マグネシウム等の過塩素酸類、Ｃｕ（II）、Ｚｎ（II）、Ｃｏ（II）、Ｎｉ（II）、Ｂｅ（II）、Ｃｅ（III）、Ｔａ（III）、Ｔｉ（III）、Ｍｎ（III）、Ｌａ（III）、Ｃｒ（III）、Ｖ（III）、Ｃｏ（III）、Ｆｅ（III）、Ａｌ（III）、Ｃｅ（IV）、Ｚｒ（IV）、Ｖ（IV）等を中心原子とするアセチルアセトナート；アミン、グリシン等のアミノ酸；ルイス酸；有機金属塩；等が好適に使用される。これらの硬化触媒は、固形分当り、０．１〜３重量％の量でコーティング剤中に添加される。
【００８５】
このような無機粒子分散層５００の厚みは、通常１〜５μｍである。
【００８６】
尚、上述した無機粒子分散層５００には、所謂プラスチックレンズ等の表面に設けられるハードコート膜を形成するためのコーティング剤を用いて形成することもできるが、ハードコート膜として設けられるものではないため、コーティング剤中の無機粒子含量は、ハードコート膜用コーティング剤のそれよりも少量であっても構わない。また、無機粒子分散層５００がハードコート膜と同程度の無機粒子含量を有する時には、このような無機粒子分散層５００は、必要により、ハードコート膜として金属酸化物薄膜３００の表面に設けることができる。
【実施例】
【００８７】
以下の実施例及び比較例において、次のフォトクロミック化合物を用いた。
インデノナフトピラン（ａ）：
【００８８】
【化１１】
0004606215.tif 000005
【００８９】
インデノナフトピラン（ｂ）：
【００９０】
【化１２】
0004606215.tif 000006
【００９１】
クロメン（Ａ）：
【００９２】
【化１３】
0004606215.tif 000007
【００９３】
クロメン（Ｂ）：
【００９４】
【化１４】
0004606215.tif 000008
【００９５】
クロメン（Ｃ）：
【００９６】
【化１５】
0004606215.tif 000009
【００９７】
また、実施例及び比較例で得られたフォトクロミック性光学物品についてのフォトクロミック特性は、以下の項目について行なった。
（１）最大吸収波長（λmax）：
浜松ホトニクス製キセノンランプＬ−２３８０（３００ｍＷ）を用い、エアロマスフィルター（コーニング社製）を介して、下記の照射条件で試料のフォトクロミック性光学物品に、１２０秒間光照射して発色させた。
【００９８】
光照射条件；
温度：２０±１℃
表面でのビーム強度
３６５ｎｍ＝２．４ｍＷ／ｃｍ２
２５４ｎｍ＝２４μｍ／ｃｍ２
この時の最大吸収波長（λmax）を（株）大塚電子工業製の分光光度計（瞬間マルチチャンネルフォトディテクターＭＣＰＤ１０００）により求めた。なお、最大吸収波長は、発色時の色調に関係する。
（２）発色濃度（Ａｂｓ．）：
前記と同様に試料のフォトクロミック性光学物品に１２０秒間光照射し、その最大吸収波長（λmax）における吸光度（ε１２０）を測定し、さらに、光照射していない状態の該光学物品の該波長における吸光度（ε０）を測定し、両者の差（ε１２０−ε０）を求めこれを発色濃度Ａとした。この値が高いほどフォトクロミック性が優れているといえる。
（３）耐久性：
得られたフォトクロミック性光学物品を、スガ試験器（株）製キセノンウェザーメーターＸ２５（フェードメーター）により５０時間促進劣化させた。この促進劣化前後で、発色濃度を測定し、下記式により、残存率を求め、発色の耐久性の指標とした。
【００９９】
残存率（％）＝（Ａ５０／Ａ０）×１００
Ａ０：促進劣化前の発色濃度
Ａ５０：促進劣化後の発色濃度
この残存率が高いほど発色の耐久性が高い。
（４）黄色度（イエローインデックス；ＹＩ）：
上記と同様に５０時間の劣化促進試験を行ない、劣化促進前後でのフォトクロミック性光学物品の発色前（フォトクロミック化合物が未発色の状態）での黄色度の変化（ΔＹＩ）を、下記式により求めた。
【０１００】
△ＹＩ＝ＹＩ５０−ＹＩ０
ＹＩ０；劣化促進前の黄色度
ＹＩ５０；劣化促進後の黄色度
なお、黄色度は、スガ試験機（株）製の色差計（ＳＭ−４）を用いて測定した。ＹＩ値が高いほど、黄色度が強く、△ＹＩ値が大きいほど、劣化前後での黄変度が大きいことを示す。
（５）退色速度：
前記と同様に試料のフォトクロミック性光学物品に１２０秒間光照射し、光照射を止めた時点から、該光学物品の最大吸収波長（λmax）における吸光度が先に測定された発色濃度Ａの半分の値になるまでの時間（ｔ１／２；分）を測定し、この時間（ｔ１／２）を退色速度として評価した。この時間（ｔ１／２）が短い程、フォトクロミック性が優れている。
実施例１
ビスエチレングリコールジアリルカーボネート硬化体からなる２ｍｍ厚みのレンズ基材（屈折率＝１．５０）を用意し、さらにプライマーとして竹林化学工業株式会社製プライマーPFR４（湿気硬化型ウレタンプライマー）を用意した。
【０１０１】
上記のプライマーと酢酸エチルとを９：１の重量比で混合し、窒素雰囲気下で均一になるまで充分に撹拌してプライマー液を調製した。このプライマー液を、スピンコーター（ＭＩＫＡＳＡ製１Ｈ−ＤＸ２）を用い、アセトンで十分に脱脂されたレンズ基材の表面に塗布し、室温にて２０分で硬化してレンズ基材の表面にプライマー層を形成した。
【０１０２】
次いで、下記組成：
２，２−ビス（４−メタクリロイルオキシペンタエトキシフェニル）プロパン；  ５０重量部
ポリエチレングリコールジアクリレート（平均分子量５３２）；  １５重量部
トリメチロールプロパントリメタクリレート；  １５重量部
ポリエステルオリゴマーヘキサアクリレート（ダイセルユーシービー社、ＥＢ−１８３０）；  １０重量部
グリシジルメタクリレート；  １０重量部
のラジカル重合性単量体の混合物を調製した。このラジカル重合性単量体の混合物と、前述したフォトクロミック化合物を用い、下記処方により、フォトクロミック重合性組成物（フォトクロミックコート液）を調製した。
【０１０３】
ラジカル重合性単量体混合物；  １００重量部
インデノナフトピラン（ａ）；  ２．３５重量部
クロメン（Ａ）；  ０．２重量部
クロメン（Ｂ）；  １．６重量部
重合開始剤；  ０．５重量部
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート        （安定剤）；  ５重量部
γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（シランカップリング剤）；  ７重量部
尚、上記の重合開始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドとの混合物（重量比３：１）を用いた。
【０１０４】
上記のフォトクロミックコート液の約２ｇを、前記スピンコーターを用いて、前記レンズ基材の表面（プライマー層表面）にスピンコートした。このフォトクロミックコート液がコートされたレンズ基材に、窒素ガス雰囲気中で出力１２０ｍＷ／ｃｍ２のメタルハライドランプを用いて、３分間光照射し、フォトクロミックコート液を硬化させ、さらに１１０℃の恒温器にて１時間加熱処理を行うことにより表面にフォトクロミック層を有する光学基材を得た。なお、得られたフォトクロミック層の膜厚は４０μｍであった。
【０１０５】
次いで、上記のフォトクロミック層上に、（株）トクヤマ製ハードコート液ＴＳ−５６Ｈ（有機シリコン系ゾル；固形分換算でのシリカ含量５０質量％）をディッピングにより塗布し、１２０℃で２時間硬化し、１．６μmの厚みの無機粒子分散層を形成した。
【０１０６】
次いで、上記の無機粒子分散層の表面に、蒸着により、０．０２μｍの厚みの酸化珪素薄膜を成膜し、フォトクロミック性光学物品を得た。この光学物品のフォトクロミック性を前述した方法にしたがって評価し、その結果を表１に示した。
実施例２
酸化珪素薄膜の代わりに、酸化チタン薄膜（厚み；０．０２μｍ）を蒸着により形成した以外は実施例１と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
実施例３
フォトクロミック化合物として、クロメン（Ａ），（Ｂ）を使用せず、インデノナフトピラン（ａ）を１．５重量部用いた以外は実施例１と同様にして表面にフォトクロミック層を有する光学基材を作製した。このフォトクロミック光学基材を使用し、酸化珪素薄膜の厚みを０．１μｍに変更した以外は、実施例１と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
比較例１
無機粒子分散層を形成せず、フォトクロミック層上に直接酸化珪素薄膜を形成した以外は実施例３と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
比較例２
フォトクロミック化合物として、インデノナフトピラン（ａ）に変えてインデノナフトピラン（ｂ）を１．５重量部用いた以外は実施例３と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
比較例３
無機粒子分散層を形成せず、フォトクロミック層上に直接酸化珪素薄膜を形成した以外は比較例２と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
比較例４
酸化珪素薄膜を設けなかった以外は実施例１と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
比較例５
フォトクロミック化合物として、インデノナフトピラン（ａ）及びクロメン（Ｂ）を使用せず、クロメン（Ａ）を１．５重量部用いた以外は実施例１と同様にして表面にフォトクロミック層を有する光学基材を作製した。このフォトクロミック光学基材を使用し、酸化珪素薄膜の厚みを０．１μｍに変更した以外は、実施例１と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
比較例６
フォトクロミック層の厚みを１９μｍに変更した以外は、比較例２と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
比較例７
フォトクロミック層の厚みを１９μｍに変更した以外は、実施例１と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
比較例８
実施例１で作製された表面にフォトクロミック層を有する光学基材について、フォトクロミック層上に無機微粒子分散層及び金属酸化物薄層を形成せず、そのままの状態でフォトクロミック特性を測定し、その結果を表１に示した。
比較例９
比較例２で作製された表面にフォトクロミック層を有する光学基材について、フォトクロミック層上に無機微粒子分散層及び金属酸化物薄層を形成せず、そのままの状態でフォトクロミック特性を測定し、その結果を表１に示した。
比較例１０
フォトクロミック化合物としてクロメンＣを１．５重量部用いた以外は、実施例３と同様にしてフォトクロミック性光学物品を製造し、そのフォトクロミック特性を測定した。その結果を表１に示した。
【０１０７】
【表１】
0004606215.tif 000010
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】図１は、本発明のフォトクロミック性光学物品の断面構造の一例を示す図である。
【図１】
0004606215.tif 000012