(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着反射層上に高屈折率と低屈折率の薄膜を組み合わせた多層薄膜を設けた多層薄膜型ＯＶＤが設けられたカードに記録されている磁気情報やＩＣ情報のうち固有情報を読取手段によって読み取る工程と、該読取手段から得られた固有情報の読み取りデータから理論式を用いて暗号化する暗号化工程と、暗号化されたデータをレーザー光で蒸着反射層に視認可能に描画する描画制御工程とを、
少なくとも、具備していることを特徴とする偽造防止カード作製方法。
【請求項２】
前記レーザー光で蒸着反射層に描画する描画制御工程において、ＣＯ２レーザー又はＹＡＧレーザーで固有情報を記録したことを特徴とする偽造防止カード作製方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は偽造防止手段として、ホログラムや回折格子のレリーフ型ＯＶＤ、或いは光学特性の異なる薄膜を重ねることにより見る角度によって色の変化（カラーシフト）が生じる多層薄膜型ＯＶＤを設けたクレジットカードやキャシュカード等の偽造防止カードに関する技術である。
【０００２】
【従来の技術】
光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾画像を表現できるホログラムや回折格子、屈折率の異なる薄膜を積層することにより見る角度によって色の変化（カラーシフト）が生じるようなＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｄｅｖｉｃｅ）の開発が盛んに行われている。
【０００３】
これらホログラムや回折格子のようなＯＶＤは、微細な凹凸パターンや屈折率の異なる縞状パターンなどの回折構造からなっていおり、これにより光の回折と干渉により観察する角度に応じて、固有の像や色変化（カラーシフト）が生じる。
一方、多層薄膜のＯＶＤは屈折率の異なる金属酸化物等のセラミックを幾重にも積層した構造で、光の干渉を利用した表示技術であり、特定の波長域に反射、透過特性を有しているために観察する角度に応じて、固有の像や色変化（カラーシフト）が生じる。
【０００４】
本明細書においてホログラム、回折及び多層薄膜などの光の干渉、屈折を利用した表示技術を総称してＯＶＤと称する。
【０００５】
従来、カードの偽造防止手段として、細紋や蛍光インキ等の印刷方式による偽造防止手段に加えて、ホログラム等のＯＶＤを用いているものが多い。ホログラム等の作製は高度な技術と設備とを必要とし、又カラーコピーなどの偽造に対してその効果を発揮していたため、カード類の偽造防止手段として頻繁に用いられてきていた。
しかし、ホログラム等のＯＶＤは、カード基材に接着剤を用いて貼り付けられているので、カード基材からＯＶＤ箔を剥離し、その剥離したＯＶＤ箔を別に偽造したカード基材に貼り付ける等によって偽造カードが不正使用されることも生じてきている。
また、コンピュータ技術等の周辺発達により、偽造防止に使用されているＯＶＤと一見しただけでは判別できない精巧な偽造カードも発見されており、必ずしもホログラム等を用いたからと言って、偽造防止が万全と言えなく状況になってきている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は以上のような問題点に着目してなされたもので、ホログラム等のＯＶＤを設けたカードの偽造を一層困難にし、更に、真偽判定が確実にできる偽造防止カードを提供することを課題としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に於いて上記課題を解決するためになされた請求項１に記載の発明は、蒸着反射層上に高屈折率と低屈折率の薄膜を組み合わせた多層薄膜を設けた多層薄膜型ＯＶＤが設けられたカードに記録されている磁気情報やＩＣ情報のうち固有情報を読取手段によって読み取る工程と、該読取手段から得られた固有情報の読み取りデータから理論式を用いて暗号化する暗号化工程と、暗号化されたデータをレーザー光で蒸着反射層に視認可能に描画する描画制御工程とを、少なくとも、具備していることを特徴とする偽造防止カード作製方法である。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、前記レーザー光で蒸着反射層に描画する描画制御工程において、ＣＯ２レーザー又はＹＡＧレーザーで固有情報を記録したことを特徴とする偽造防止カード作製方法。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の偽造防止カードの一例であり、（ａ）は平面図、（ｂ）はｘ−ｘ部に於ける構成断面図を示している。
図示してないが、用途に応じてカードに磁気ストライプやＩＣ等のデータ記録部材を有していてもよく、後述するようにこのような目視で判読できないデータ記録部材を有している方がより好ましい。
【００１４】
カード（１０）はポリ塩化ビニール、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチックからなるカード基材（１３）にホログラム等のＯＶＤ箔を汎用されているアクリル系、ウレタン系、塩ビ系接着剤で貼り付けて設け、ＯＶＤ部にはレーザー印字画像（１２）を記録してある。
【００１５】
レリーフ型ＯＶＤは、ＯＶＤ形成層（１６）と蒸着反射層（１５）から構成されている。ＯＶＤ形成層（１６）には、光学的な撮影方法により微細な凹凸パターンからなるマスター版を作製し、このマスター版を電気メッキ法により凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を作り、このプレス版をポリ塩化ビニール、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂からなるＯＶＤ形成層（１６）に加熱押圧するという周知の方法により複製される。
【００１６】
また、多層薄膜型ＯＶＤ（１８）は図３に示す如く、屈折率の異なる多層薄膜層（１８ａ、１８ｂ、１８ｃ）からなり、高屈折率と低屈折率の薄膜を組み合わせたものである。屈折率が約２以上の高屈折率材料としてＴｉＯ2 （２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＺｎＳ（２．３）、ＳｉＯ（２．０）、Ｉｎ2 Ｏ3 （２．０）、Ｚｎ０（２．１）等が、屈折率が１．５程度の低屈折材料としてＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ2 （１．５）、ＭｇＦ2 （１．４）、ＣａＦ2 （１．４）、ＡｌＦ3 （１．６）等が適宜使用され、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の薄膜形成法で積層された構成となっている。積層数及び薄膜の厚さは、どのような色変化をさせるかによって設計されるが、積層数は余り多くなると作製に要する工程、時間が大きくなるので４層以下、膜厚は１００Å〜５０００Åが好ましい。括弧内の数値は屈折率を示す。
【００１７】
蒸着反射層（１５）は、ＯＶＤ画像の視覚性を高める機能を有し、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の薄膜形成法で作製され、蒸着材料としてＳｎ、Ｓｎ−Ａｌ合金、Ｓｎ−Ｓｉ合金、Ａｌ，Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等が使用され、膜厚として１０００Å〜１００００Åの範囲である。
この蒸着反射層（１５）にレーザーマーキング装置によって、図２に示す如くレーザー光（２０）を照射すると蒸着反射層（１５）のレーザー照射部（１７ａ）の金属は溶融し、印字画像部（１７）に印字させると図１に示すＯＶＤ部にレーザー印字画像（１２）が記録されているカードが得られる。
【００１８】
このレーザー印字画像（１２）を、磁気情報やＩＣ情報の一部のデータ（例えば電話番号なりカードに記録されているデータ）、或いはこの情報と１対１に対応する関連付けた固有情報にすることで、磁気情報やＩＣ情報とレーザー印字画像（固有情報）とを比較照合することで真偽判定が容易にすることが可能となる。
また、磁気情報やＩＣ情報から得られたデータをブロック暗号系であるデータ暗号化ＤＥＳ（Ｄａｔａ  Ｅｎｃｒｙｐｔｉｏｎ  Ｓｔａｎｄａｒｄ）、ストリーム暗号系である非線型フィードバックシフトレジスタ暗号化、乱数加算暗号化等の公知の暗号化方式で暗号化して固有情報を作成し、この固有情報を蒸着反射層に記録することで、更に偽造防止効果が高まる。
【００１９】
このような磁気情報やＩＣ情報を読み取って、該情報と関連付けて固有情報をカードに記録するシステムを図４に示す。すなわち、カード（１０）の情報を読取手段（３０）で読み取り、コンピュータ（４０）に於いて、読取手段（３０）から得られたデータを上記の暗号化アルゴリズムに従って暗号化し、暗号化されたデータをＸＹプロッタと連動されているレーザー光発振部（５０）を用いてカード（１０）に記録する。コンピュータ（４０）は暗号化とレザーマーキング制御を行う機能を有している。
【００２０】
この偽造防止カードは、他の細紋、蛍光インキ、マイクロ文字等の偽造防止手段と組み合わせることで、より偽造防止効果を高めることができることは当然である。
【００２１】
【発明の効果】
本発明により、ＯＶＤを形成する蒸着反射層である金属薄膜に固有情報を記録することでホログラム等のＯＶＤによる偽造防止効果に加えて、固有情報を記録しているので偽造防止効果を高めることができる。
更に、目視では確認できない磁気層、或いはＩＣに記録された情報を読み取り、この読み取られた情報の一部分をＯＶＤを形成している蒸着反射層に記録したり、更には、該読み取られた情報を暗号化して、ＯＶＤを形成している蒸着反射層に固有情報を記録することで一層偽造防止効果を高めることができる。
また、カードに記録されている情報とレーザーで記録された固有情報を比較照合させることで、真偽判定が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の偽造防止カードの一例を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）はＸ−Ｘ部の断面図である。
【図２】レーザーによって、ＯＶＤの蒸着反射層に記録する状態を説明する図であり、（ａ）はレーザー光を照射している状態を、（ｂ）はレーザー光よって固有情報が記録された状態を、それぞれ示す概略断面図である。
【図３】多層薄膜型ＯＶＤを説明する構成断面図である。
【図４】本発明の偽造防止カードを作製するレーザーマーキングシステムのブロック図である。
【符号の説明】
１０…カード
１１…ＯＶＤ画像
１２…レーザー印字画像（固有情報画像）
１３…カード基材
１４…接着剤
１５…蒸着反射層
１６…ＯＶＤ形成層
１７…レーザー印字部
１７ａ…レーザー照射部
１８…多層薄膜型ＯＶＤ
１８ａ、１８ｂ、１８ｃ…薄膜
２０…レーザー光
３０…読取手段
４０…暗号化／マーキング制御コンピュータ
５０…レーザー発振部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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