(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版ステージに搭載された原版を、光源からの光で照明する照明装置と、露光に寄与しない不要な光を遮光するマスキングブレードと、を備える走査型露光装置において、
前記原版ステージは、前記原版を搭載して移動可能な第１テーブルと、前記第１テーブルを搭載して移動可能な第２テーブルと、前記第２テーブルに対して前記第１テーブルを駆動する第１駆動機構と、前記第２テーブルを走査方向に駆動する第２駆動機構とを有し、
該マスキングブレードは、前記走査方向に移動可能な第１のブレードと、非走査方向に移動可能な第２のブレードと、前記第２テーブルの駆動に同期して前記第１のブレードを駆動する第１ブレード駆動機構と、前記第２ブレードを駆動する第２ブレード駆動機構と、を有し、
前記第１ブレード駆動機構が前記第２テーブルに支持され、前記第２ブレード駆動機構が前記第２テーブルを支持する固定部に支持されることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１のブレードは、走査方向に配置された一対のブレードを備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の露光装置を利用してデバイスを製造する工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体露光装置に用いられる照明に関し、特に光源として波長２００ｎｍ乃至１０ｎｍの極端紫外線領域（ＥＵＶ：ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）、またはＸ線領域の発光光源を利用して、半導体ウエハ用の単結晶基板、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用のガラス基板などの被処理体を露光する照明装置、露光装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特開平１１−２１９９００号公報に開示のマスキングブレードでは、フィールドの絞りのために可動ブレードが具備され、マスク(ＥＵＶ光ビームの入って来る側の)の下側に隣接して配置されている。可変ブレードは、特開２００３−０４５７８４号公報に示されるように、円弧状の形状をしており、円弧スリットの幅が部分的に変更できることが必要とされている。
【０００３】
また、特開平４−１９６５１３号公報に開示の発明においては、マスクの転写領域に合わせて、可変ブレードを動作させている。このような可変ブレードは、マスクステージの速度に同期させてブレードを動作させて、非転写領域で遮光するようにしている。
【特許文献１】特開平１１−２１９９００号公報
【特許文献２】特開２００３−０４５７８４号公報
【特許文献３】特開平４−１９６５１３号公報
【特許文献４】特許第３２０９２９４号公報
【特許文献５】特開平１１−３２９９５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特に極端紫外線領域のＥＵＶでは、可変ブレードが円弧状であり、図１０に示すように、円弧形状の開口部も持った可変ブレードによって形成された円弧状のマスク１０１上の照明領域１０５は、すでに露光したいマスク１０１の実素子部の実素子パターン領域１０３における露光するために照明したい範囲１０６を露光している。同時に、露光領域外でも、露光してしまい、テストパターン領域104を露光してしまうという問題があった。もし、テストパターンがない場合であっても、遮光領域１０２を必ず露光しているために、マスク１０１の遮光欠陥により、どうしても微小な光が入り込み、ウエハに投影されてしまうという問題があった。素子の形状は長方形であり、一方投影する光は円弧であるために、ブレードをどのように動かしても解決できない。
【０００５】
また、図１１に示すように、マスクステージ１１２の定盤１１４を掘り込んで、マスキングブレード１１５，１１６を配置するために、マスクステージ１１２の剛性を下げ、マスクステージ１１２の精度を劣化させている。さらに、定盤１１４の肉厚分、マスキングプレード１１５，１１６はマスク１１１から離れるために、ボケが発生し、光束はその中心１１３が図のような位置にある場合において光学的に十分な遮光ができない。
【０００６】
また、生産性を向上させるために、マスクステージ１１２の移動速度は速くなっている。マスクステージ１１２に同期して動作するマスキングブレード１１５，１１６も速く移動する必要があり、リニアモータなどがアクチュエータとして採用されているが、マスクステージ１１２の定盤１１４を掘り込んで配置するために、設計が困難になり、ステージ１１２の信頼性が劣化している。また、像高別にスリットの幅を調整する場合は、さらにアクチュエータの数が増え、さらに設計が困難で、信頼性を落としている。
【０００７】
本発明の主な目的は、原版の近傍にマスキングブレードを配置することが可能であって、良好な露光性能が達成できる光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために本発明では、原版ステージに搭載された原版を、光源からの光で照明する照明装置と、露光に寄与しない不要な光を遮光するマスキングブレードと、を備える走査型露光装置において、前記原版ステージは、前記原版を搭載して移動可能な第１テーブルと、前記第１テーブルを搭載して移動可能な第２テーブルと、前記第２テーブルに対して前記第１テーブルを駆動する第１駆動機構と、前記第２テーブルを走査方向に駆動する第２駆動機構とを有し、該マスキングブレードは、前記走査方向に移動可能な第１のブレードと、非走査方向に移動可能な第２のブレードと、前記第２テーブルの駆動に同期して前記第１のブレードを駆動する第１ブレード駆動機構と、前記第２ブレードを駆動する第２ブレード駆動機構と、を有し、前記第１ブレード駆動機構が前記第２テーブルに支持され、前記第２ブレード駆動機構が前記第２テーブルを支持する固定部に支持されることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように、本発明によれば、スキャン方向のマスキングブレードをマスクステージに搭載することによって、ステージ精度を劣化させることなく、原版としてのマスクとブレードのギャップを小さくすることが可能となり、ボケを小さくすることができ、良好な露光性能が達成される。さらに、二つのマスキングブレードによって、円弧照明におけるマスキングブレードであっても、不本意な部分の照明を防ぎ、単純な構成となるように、照明範囲と露光範囲を分離してマスキングすることによって、安価で高い精度を達成することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明を実施するための最良の形態について、以下、原版がマスクである場合の実施例を挙げ図面を参照しながら詳細に説明する。
【実施例１】
【００１６】
まず、図２および図３を用いて本発明の実施例に係るマスクステージについて説明する。図２は本発明の実施例に係るマスクステージを示す概略斜視図であり、図３は図２を下から見上げた粗動部の底面図である。
【００１７】
このマスクステージを用いた露光装置では、ＥＵＶのように波長の短い光源でレンズが使えず反射型マスクを用い、マスクステージが天地逆の構成になっている。この実施例では、ベース定盤１の中央部にスライダ定盤２が搭載され、その左右にはＹ定盤３が搭載されている。スライダ定盤２にはＹフット５が左右に搭載され、スライダ定盤２に対して不図示の静圧空気軸受けによってＺ方向（鉛直方向）に案内されており、Ｙフット５にはそれぞれ可動磁石７が設けられている。図３に示すように、Ｙフット５は、コイルを有するＥ字型電磁石６が設けられ、スライダ定盤２の中央に配置された磁性体板４に対して非接触にＸ方向に案内されており、可動磁石７とＹ定盤３に搭載されたリニアモータ固定子８との間の駆動力によってＹ方向に移動する。Ｙフット５には微動部を支持する第２のテーブルとなる固定プレート９が載り、固定プレート９には第１のリニアモータとなる６軸微動リニアモータ１０を介してマスクが搭載される第１テーブルとなる天板１１が載り、ステージを構成している。固定プレート９と天板１１の間には自重支持ばね（不図示）が設けられており、天板１１の自重を支持している。
【００１８】
本発明のマスキングブレードは、図２に示したマスクステージ上に配置される。マスキングブレードを搭載した実施例を図１に示す。図１は、図２をＸ方向（横方向）から見た図に、マスキングブレードを搭載している状態を表す。図４は下からＺ方向に見た図であって、スキャン方向に移動するマスキングブレードの構成を示している。図５は、スキャン方向に移動するマスキングブレードのさらに下に配置され且つ非スキャン方向に配置されるマスキングブレードの構成を示している。
【００１９】
スキャン方向のマスキングブレードは、ベース定盤２２を走行し、大ストロークを移動できる粗動ステージである第２のテーブル２４に搭載されている。マスク３２を保持する第１のテーブルである天板３０は、第２のテーブル２４に取り付けられたリニアモータによって駆動されている。６軸方向にリニアモータを配置することによって、天板３０と第２のテーブル２４は、磁気力によって６軸浮上制御され、高精度にマスクを位置決めでき
る。すなわち、第１のテーブルと第２のテーブルは粗微動構成になっている。
【００２０】
スキャン方向のマスキングブレードは第２のテーブル２４の両端から支柱２９を立て支持する。マスキングブレードを駆動した時の振動や駆動反力は第２のテーブル２４が受けることになり、第２のテーブル２４の制御外乱となる。ブレード駆動による第２のテーブル２４の位置誤差を補正するように第１のテーブル即ち天板３０で制御するので、マスク３２には偏差が発生せずに、高い同期精度でスキャンすることができる。第１のテーブル即ち天板３０を制御するリニアモータは、固定子の位置が変動しても力伝達が変動しないコアレスのローレンツ型のリニアモータが望ましい。
【００２１】
スキャン方向のマスキングブレードは、テーブルが移動する方向とはちょうど逆方向に移動し、照明系から導かれた中心２０の光束に対して常に一定の遮光幅となるように駆動される。ブレードを移動させるアクチュエータは、比較的低速で往復運動するので、第２のステージを移動させるモータと同じリニアモータであることが望ましい。
【００２２】
非スキャン方向のマスキングブレードは、マスク３２のスキャンに連動して移動する必要がないので、第２のテーブル２４に搭載される必要はない。マスクステージを保持しているベース定盤２２の両端から支柱２１を立て支持する。
【００２３】
非スキャン方向のブレードは、スキャン方向のマスキングのブレードよりも必ず離れた位置に構成さえる。この時、ブレードによるボケが許容範囲内になければならない。図１１に示すような従来の構成では、マスクステージの定盤があったので、ボケを小さくするためにブレードをマスクに近くにしたくともできない構成であった。どうしても、非スキャン方向のボケは大きくなってしまっていた。本発明の実施例では、マスクステージの配置を上下反転させ、マスクステージ上にマスキングブレード機構を搭載することにより、マスクの極めて近傍にブレードを配置することができ、ボケの低減を実現できた。
【００２４】
スキャン方向のマスキングブレードの構成を図４で説明する。第２のテーブル４２は、両端に粗動リニアモータの可動子４６を具備している。さらにその両端には、粗動リニアモータの固定子４１があって、これによってテーブルに大推力の駆動力を与えている。
【００２５】
マスキングブレードは、この第２のテーブル４２の両端からブレード駆動部４３を兼ねた支柱をたて、上空にロの字形の枠を構成し、スキャン方向に駆動するブレード４４とスキャン方向に駆動するブレード４５の駆動をするガイドとアクチュエータを具備（不図示）していて、矢印５０に示すような方向に移動する。いずれもスキャンする方向４８とは常に逆向きに同速に移動する。
【００２６】
照明装置から導かれる光は円弧状であるために、当然、ブレード４４，４５も円弧状になっており、照明に寄与しない不要な迷光を遮光する構成になっている。ブレード４４とブレード４５は常に一定の間隔が保たれて移動する。
【００２７】
マスクステージの位置とスキャン方向の２つのブレード位置の相対関係は常に計測され、制御されているということは言うまでもない。
【００２８】
非スキャン方向のマスキングブレードの構成を図５で説明する。図４に非スキャン方向のブレードを重ねて示したものである。非スキャン方向のマスキングブレードは、ＰＯ３４のベース定盤２２に両端から支柱をたて、上空にハの字形のバーを構成し、左右のバーから非スキャン方向に駆動するブレード５１とブレード５２の駆動をする。左右のバーにはガイドとアクチュエータを具備（不図紙）している。矢印５３に示すような方向に移動する。駆動する位置はマスクの露光範囲に一致するものである。スキャン方向のブレード
がスキャンしても非スキャン方向のブレードが外れることないように十分な長さが必要である。
【００２９】
非スキャン方向は、前述のように露光の幅を決めているものであり、露光されるマスクに応じて設定され、スキャン中に変更することはない。このために、非スキャン方向のブレードは第２のテーブルに搭載していない。スキャン方向のブレードと非スキャン方向のブレードを組み合わせることによって常に適切な遮光領域が形成されていることは言うまでもない。
【００３０】
非スキャン方向のマスキングブレードは、マスクステージベース定盤から支持したが、これにこだわることはない。例えば、図６に示すように。ＰＯ３４を支持するＰＯ定盤５６から支持支柱５５をたて、ブレード２８を構成しても、まったく同様の効果が得られる。
非スキャン方向のマスキングブレードの移動は、露光が開始される前に一度するだけなので、駆動による振動や変形がＰＯ定盤に影響することはない。安定した露光は確保される。さらに、直接床から支持しても同様の効果を得ることができる。
すなわち、非スキャン方向とスキャン方向とマスクの相対関係が計測等によって維持されるならば、ＰＯ定盤以外の支持系であっても何ら問題はない。
【実施例２】
【００３１】
本発明の実施例２として、第２のマスキングブレードを具備した構成を図７から図９で説明する。図７は、図１の第１のマスキングブレードの構成に第２のマスキングブレードを付加したものである。ＰＯのベース定盤５６から支柱６０を立てて、上空に第２のマスキングブレード６１を構成している。第二のマスキングブレードは、マスクステージと照明装置の間に配置される。そして、第一のマスキングブレードよりも、マスク面から遠い位置で配置される。当然であるが、ブレードによるボケは許容範囲内であることは言うまでもない。
ＥＵＶのような露光装置では、マスクが反射型となるが、従来の露光装置の場合は、照明光が透過するタイプである。この場合は、第二のマスキングブレードがマスクステージと投影光学系の間にあっても同様の効果がある。
【００３２】
二つのマスキングブレードを配置することによって、円弧状の照明範囲を規定するブレードと露光範囲を規定するブレードは独立に設定することができる。実施例１では、第１のマスキングブレードのスキャン方向の円弧状ブレードは、スキャンに同期して移動する必要があったが、実施例２では、円弧の形成は第２のマスキングブレードが行うので、第１のマスキングブレードのスキャン方向も露光範囲を決めるだけでよく、同期して移動する必要がなくなった。同時に第１のマスキングブレードの精度が不要になり、軽量化できる。さらに、図１０の従来例で発生していた不要部分の露光も、図８に示すように、第１のマスキングブレードによって遮光することができるので、完全に回避することが可能となった。
【００３３】
図８は、露光範囲を決めるためのスキャン方向のブレードの構成を示している。ブレード６５と６６はマスクの露光したい領域４９を制限するように移動することができる。図１０にあったようにテストパターンのみを露光した場合は、ブレードをその間隔にて移動させることによって容易に実現できる。また、スキャン中にブレードが移動しないようにメカニカルまたは電磁力を用いてブレードをロックできる。
【００３４】
ブレードのスキャン方向の幅は円弧の幅とスキャンが反転するのに必要となる加減速距離と整定距離を加えた距離に等しいかそれよりも大きくなければならない。
【００３５】
ブレードの駆動は実施例１と同じく、第２のテーブルから出た支柱によって支持されたロの字の枠があって、不図示のガイドとリニアモータによってブレードを駆動する。ガイドも摩擦を少なくするために、真空内でも案内できるラビリンス排気を具備した気体静圧軸受が望ましい。
【００３６】
露光範囲を決めるための非スキャン方向の構成は、実施例１と同様でよい。
第２のマスキングステージの構成を図９で説明する。照明範囲を規定するために、スキャン方向は円弧状をしている。円弧は場所によって照度ムラが最小となるように調整可能に
独立に動く、複数のブレード（７４〜８１）から形成される。複数のブレード（７４〜８１）はロの字形のブレード駆動部７３に連結され、ブレード駆動部７３はＰＯのベース定盤から支持されたマスクステージ支持部７０によって保持される。非スキャン方向も同様にマスクステージ支持部７０に内蔵された駆動部から出たブレード７１とブレード７２によって、照明範囲を規定する。
【００３７】
第２のマスキングステージの非スキャン方向のブレードは、第１のマスキングステージの非スキャン方向のブレードの必ず外側に配置されるので、第２のマスキングステージの非スキャン方向のブレードを削除することも可能である。
また、第一の実施例の場合は、円弧スリットの形状を第一のマスキングブレードによって形成している。この場合は、第一のマスキングブレードが図９の複数のブレード（７４〜８１）と同様な構造に形成されることによって同様の効果を得ることができる。
【００３８】
このように、円弧照明におけるマスキングブレードであっても、照明範囲と露光範囲を分離することによって、簡単な構成で高い精度と生産性を達成することができた。
照明範囲の形状は円弧で説明しているが、他の形状でも同様の効果があることは言うまでもない。
【実施例３】
【００３９】
図１２は、上記のステージを備える半導体デバイス製造用の露光装置を示す図である。
この露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用され、原版であるレチクルＲを介して基板としての半導体ウエハＷ上に光源９１からの露光エネルギーとしての露光光（この用語は、可視光、紫外光、ＥＵＶ光、Ｘ線、電子線、荷電粒子線等の総称である）を投影系としての投影レンズ（この用語は、屈折レンズ、反射レンズ、反射屈折レンズシステム、荷電粒子レンズ等の総称である）９２を介して照射することによって、基板上に所望のパターンを形成している。
【００４０】
この露光装置は、定盤８１上にガイド８２とリニアモータ固定子９７を固設している。前述と同様に、リニアモータ固定子９７は多相電磁コイルを、リニアモータ可動子９６は永久磁石群を有している。リニアモータ可動子９６を可動部８３として、ステージである可動ガイド８４に接続し、リニアモータＭ１の駆動によって可動ガイド８４を紙面法線方向に移動させる。可動部８３は、定盤８１の上面を基準に静圧軸受８５で、ガイド８２の側面を基準に静圧軸受８６で支持される。
【００４１】
可動ガイド８４を跨ぐようにして配置したステージである移動ステージ８７は静圧軸受８８によって支持されている。この移動ステージ８７は、上記と同様のリニアモータＭ２によって駆動され、可動ガイド８４を基準に移動ステージ８７が紙面左右方向に移動する。移動ステージ８７の動きは、移動ステージ８７に固設したミラー８９および干渉計９０を用いて計測する。
【００４２】
移動ステージ８７に搭載したチャック上に基板であるウエハＷを保持し、光源９１、投影光学系９２によって、原版であるレチクルＲのパターンをウエハＷ上の各領域にステップアンドリピートもしくはステップアンドスキャンで縮小転写する。
【００４３】
なお、本発明のリニアモータは、マスクを使用せずに半導体ウエハ上に回路パターンを直接描画してレジストを露光するタイプの露光装置にも、同様に適用できる。
【００４４】
次に、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図１３は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
【００４５】
一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ７でこれを出荷する。
上記ステップ４のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するＣＶＤステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の実施例に係るレチクルステージに搭載されたマスキングブレードの構成を示す側面図である。
【図２】本発明の実施例に係るレチクルステージの概略斜視図である。
【図３】図２のレチクルステージの実施例を分解した底面図である。
【図４】本発明の実施例１に係るレチクルステージに搭載されたマスキングブレードのスキャン方向にブレードの構成を示す下面図である。
【図５】本発明の実施例１に係るレチクルステージに搭載されたマスキングブレードの非スキャン方向にブレードの構成を示す下面図である。
【図６】本発明の実施例１に係るレチクルステージに搭載されたマスキングブレードの非スキャン方向において、他のブレードの支持構成を示した側面図である。
【図７】本発明の実施例２に係る第２実施例であるレチクルステージに搭載されたマスキングブレードの構成を示す側面図である。
【図８】本発明の実施例２に係るレチクルステージに搭載されたマスキングブレードのスキャン方向にブレードの構成を示す下面図である。
【図９】本発明の実施例２に係るレチクルステージに搭載された第２マスキングブレードの構成を示す下面図である。
【図１０】従来例として、不要部分の露光がされていることを示す図である。
【図１１】従来例として、マスキングブレードの配置を示す図である。
【図１２】半導体デバイス製造用の露光装置を示す図である。
【図１３】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【符号の説明】
【００４７】
１：ベース定盤、２：スライダ定盤、３：Ｙ定盤、９：微動固定プレート、１０：微動リニアモータ、１１：天板、１２：電磁石、１３：取付板、１４：磁性体板、１５：取付板、２０：照明装置の光源から導かれた光束の中心、２１：非スキャン方向のブレード支持支柱、２２：ベース定盤、２３：エアーパッド、２４：Ｙフットを含む第２のテーブル、２５：第２ステージのスキャン移動方向、２６：第１のテーブルを駆動するアクチュエータ（リニアモータ）、２８：非スキャン方向のブレード、２９：スキャン方向のブレード支持支柱、３０：天板（第１のテーブル）、３１：スキャン方向のブレード、
３２：マスク、３３：スキャン方向のブレードの移動方向、３４：ＰＯ、４０：非スキャン方向のブレード支持支柱、４１：第２のテーブルを駆動するアクチュエータ（粗動リニアモータ固定子）、４２：Ｙフットを含む第２のテーブル、４３：スキャン方向のブレード支持部およびブレード駆動部、４４：スキャン方向の第1ブレード、４５：スキャン方向の第２ブレード、４６：粗動リニアモータ可動子、４７：天板（第１のテーブル）、４８：スキャン方向、４９：マスクの露光領域、５０：スキャン方向のブレードの移動方向、５１：非スキャン方向の第1ブレード、５２：非スキャン方向の第２ブレード、５３：非スキャン方向のブレードの移動方向、５４：非スキャン方向のブレード支持部およびブレード駆動部、５５：非スキャン方向のブレード支持支柱、５６：ＰＯのベース定盤、５６：ＰＯのベース定盤、６０：第２のマスクステージの支持部、６１：第２のマスクステージのスキャン方向のブレード、６２：第２のマスクステージの非スキャン方向のブレード、６５：スキャン方向の露光範囲を決める第1ブレード、６６：スキャン方向の露光範囲を決める第２ブレード、７０：第２のマスクステージの支持部および非スキャン方向の駆動部、７１：非スキャン方向の照明範囲を決める第1ブレード、７２：非スキャン方向の照明範囲を決める第２ブレード、７３：スキャン方向のブレード駆動部、７４：スキャン方向の照明範囲を決める第１ブレード、７５：スキャン方向の照明範囲を決める第２ブレード、７６：スキャン方向の照明範囲を決める第３ブレード、７７：スキャン方向の照明範囲を決める第４ブレード、７８：スキャン方向の照明範囲を決める第５ブレード、７９：スキャン方向の照明範囲を決める第６ブレード、８０：スキャン方向の照明範囲を決める第７ブレード、８１：スキャン方向の照明範囲を決める第８ブレード、１０１：マスク又はレチクル、１０２：遮光領域（光吸収体）、１０３：実素子パターン領域、１０４：テストパターン領域、１０５：可変ブレードによって形成された円弧状のマスク上の照明領域、１０６：斜線部が実素子を露光するために照明したい範囲、１１１：マスク又はレチクル、１１２：マスクステージ（可動部）、１１３：照明装置の光源から導かれた光束の中心、１１４：マスクステージ（固定部）の支持定盤、１１５：スキャン方向の可変ブレード、１１６：非スキャン方向の可変ブレード、１１７：ＰＯ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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