(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
相互作用する化学および／または生物学的種の間の反応を調査する装置であって、
該装置が、基材と、該基材上に蒸着されたプラズマ層とを含み、
該基材が、本質的に金からなる遊離電子金属のフィルムを含み、
該遊離電子金属のフィルム上に蒸着された該プラズマ層が、硫黄を含み、
該プラズマ層が、ポリマー物質である、
装置。
【請求項２】
前記プラズマ蒸着層が、前記遊離電子金属フィルム上に直接配置される、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記プラズマ蒸着層が、１またはそれ以上の化学および／または生物学的官能基を含む、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
さらに、湿潤化学方法で前記プラズマ蒸着層上に配置された１またはそれ以上の層を含む、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記プラズマ層が、チオール類、スルフィド類およびジスルフィド類またはジアリルスルフィドからなる群から選択される、１またはそれ以上の硫黄化合物を含む、請求項１〜４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記プラズマ蒸着層が、さらに、１またはそれ以上のアミン化合物を含む、請求項１〜５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
１またはそれ以上のアミン化合物を含むさらなるプラズマ蒸着層が存在する、請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
相互作用する化学および／または生物学的種の間の反応を調査する装置を提供するための方法であって、該方法は、
予め選択した基材を提供する工程であって、該基材が、本質的に金からなる遊離電子金属のフィルムを含む、工程と、
該金フィルム上に、プラズマ蒸着によって、硫黄を含むポリマー物質のプラズマ層を配置する工程と
を含む、方法。
【請求項９】
前記プラズマ層が、前記基材の前記遊離電子金属のフィルム上に直接蒸着される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記プラズマ層が、ガス状態のモノマー／オリゴマー／ポリマーから蒸着される、請求項８または９記載の方法。
【請求項１１】
前記基材が、前記プラズマ蒸着工程の前に、プラズマエッチング工程によって該基材を前処理することを含む予備洗浄工程に付される、請求項８〜１０いずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記プラズマ層が、次の条件：
５０００ワット以下の放電力、
１０００秒以下の露出時間、
１００００ｃｍ３／分以下のプラズマガス流量、
１バール（ｂａｒ）以下の圧力、
ＤＣ、ＡＣ、ＲＦおよびＭＷを含む振動数で蒸着される、請求項８〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記放電力を前記プラズマにパルス放電し、該パルス放電を１０００秒以下ごとに分割する、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記基材がアフターグロー（ａｆｔｅｒ−ｇｌｏｗ）中で処理される、請求項１２または１３記載の方法。
【請求項１５】
前記パルス放電後、予め選択したガスで前記基材を後処理する、請求項１３〜１４記載の方法。
【請求項１６】
相互作用する生物／化学種の間の反応を表面プラズモン共鳴分光で調査するのに適した、請求項８〜１５のいずれかに記載の方法であって、以下の工程：
基材を予め選択する工程であって、
該基材は、表面プラズモン共鳴分光による調査を可能とするのに適したものであり、
予め選択した第１の官能基種をプラズマ蒸着によって該基材に配置し、
該第１の官能基種が、該プラズマ蒸着された第１の官能基種と相互作用する第２の官能基種から、該基材を保護し、該相互作用は調査することができるものであり、
該基材と、該第２の官能基種との間の望ましくない相互作用を防止する、工程と、
該プラズマ蒸着した第１の官能基種の層に、第２の官能基種を配置する工程であって、該第１の官能基種層と、該第２の官能基種層との間の相互作用を表面プラズモン共鳴分光によって調査することができる、工程と
を含む、方法。
【請求項１７】
相互作用する生物／化学種の間の反応を表面プラズモン共鳴分光で調査するのに適した、請求項８〜１６のいずれかに記載の方法であって、以下の工程：
金である基材を予め選択する工程であって、
該基材は、表面プラズモン共鳴分光による調査を可能とするのに適したものであり、
予め選択した第１の官能基種をプラズマ蒸着によって該基材に配置し、該官能基種は、硫黄化合物から選択され、
該第１の官能基種が、該プラズマ蒸着された第１の官能基種と相互作用する第２の官能基種から、該基材を保護し、該相互作用は調査することができるものであり、
該基材と、該第２の官能基種との間の望ましくない相互作用を防止する、工程
を含む、方法。
【請求項１８】
請求項８〜１７のいずれかに記載の方法により得られる、請求項１〜７記載の装置。
【請求項１９】
所定の化学および／または生物学的種の相互作用を調査するための方法であって、請求項１〜７および１８のいずれかに記載の装置に配置された化学および／または生物学的種の間の相互作用を解析する工程を含む、方法。
【請求項２０】
化学的に相互作用する種の間の反応を調査するため、表面プラズモン共鳴分光で使用する、請求項１〜７および１８のいずれかに記載の装置の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は相互作用性化学および／または生物学種間の反応を検出する装置、そのような装置を提供する方法および化学および／または生物学的相互作用、たとえば生物分子相互作用を装置を用いて検出する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
化学および／または生物学的反応は化学および／または生物学的相互作用の元に理解されている。
【０００３】
特定の化合物の固体表面での相互作用は分析光学、たとえばＲＩＡおよびＥＬＩＳＡの技術を含む化学および生物学的現象および領域における重要な役目を果たす。
【０００４】
表面相互作用を検知もしくは検査するために、「感受性の高い」表面を必要とする。
【０００５】
表面反応の即時検出のために、いくつかの方法がたとえば楕円偏光（ellipsometry）、反射光学 （reflectometry）、および表面プラズモン共鳴分光学（Surface Plasmon Resonance Spectroscopy ：ＳＰＲ）である。これらの技術は、レーザーによって起る光の反射を用いて生物学的分子の層の成長や破壊を表面で解析する点で共通性をもっている。
【０００６】
これらの技術には、反射表面が必要である。ＳＰＲの場合、遊離電子金属、たとえば金を含有する表面が多く用いられる。
【０００７】
他の相互作用を検出するためにこの技術を用いるには、（生物）分子の遊離電子金属表面との相互作用の他に、遊離電子表面がたとえば生分子、たとえばタンパク質の吸収および溶媒キャストまたはスピンコート法においてポリマー層でその被膜によって改質されてきた。
【０００８】
タンパク質の固定化のために特定の化学基で金表面を提供する方法も開発され、その表面はついで他の（生物的）物質、たとえば抗原抗体相互作用を研究するために用いられている。
【０００９】
ＳＰＲセンサー表面を形成する方法には、有機表面を金層に湿潤化学方法、たとえば溶媒キャスティングまたはスピンコーティングで、プラズマエッチング処理の前に配置することを含む。
【００１０】
別の方法には、化学的官能界面活性剤の変性される表面への湿潤化学方法による吸着であり、界面活性剤の固定化はアルゴンプラズマによって行われ、いわゆるプラズマイモビライゼーションが含まれる。
【００１１】
これらの既知の技術の欠点は官能性表面層の安定性の欠如である。
【００１２】
【発明の開示】
本発明の目的は相互作用しうる化学種間の反応を検出する改良された装置を提供することにある。本発明によれば、請求項１〜８のいずれかに記載の装置を提供する。
【００１３】
本発明の装置はプラズマ蒸着層の優れた付着性、その優れた安定性および優れた感受性を示す装置を提供し、それにより基材が官能性層を有し、その官能性が化学基、たとえば、アミン、カルボキシル基、酸基、ヒドロキシル基、酸塩基、イソシアネート基、アルデヒド基、酸無水物基、エポキシド基およびチオール基によって提供される。
【００１４】
本発明の第２の観点では、本発明の装置を提供するための請求項９〜１９に記載の方法を提供することである。
【００１５】
官能性基層はプラズマ蒸着されるから、その蒸着のコントロールは正確に行われ、それにより薄い層が形成され、非常に感受性の高い装置を提供する。このことは基材上に湿潤化学方法による有機層の配置を必要とせず、検出が行われる点にある。
【００１６】
本発明による方法は制御性が高い。
【００１７】
本来のセンサー装置において、層が湿潤化学方法により基材上に配置される場合、その方法は時間がかかり、実施が難しく、しかも非常に注意して扱わないと感受性が欠如する方法と比べて、本発明の方法は極端に有用性が高く、コストパフォーマンスが高い。
【００１８】
プラズマ蒸着法はプラズマ層から基材上への有機種の付着を含む。たとえば（揮発性）モノマーをガス層として適用することにより、その構造が対応するポリマーと似ている有機層を付着することができる。化学官能性を有する（揮発性）モノマーを適用することにより、化学的官能性ポリマー層も得ることができる。
【００１９】
プラズマは好ましくは不飽和モノマー類；アクリル酸、アリルアミン、アリルイソシアネート、アリルメルカプタン、メタクリル酸、アリルアルコール、アリルアセテート、アリル酢酸、アリルグリシジルエーテル、３−アリロキシ、１−２プロパノール、ビニルアセテート、アクリル酸ハライド、
【００２０】
不飽和モノマー；アルコール類、メタノール、エタノール、プロパノール、酸、例えば、プロピオン酸、酢酸など、ホルムアルデヒド、プロピオンアルデヒド、グルタルアルデヒド、アミノエタン、アミノエタノール、エチレンオキシド、アセトンメタン、エタン、プロパンおよびこれらの類似物からなる群から実質的に選択される郡から選択されるモノマーから提供され、基材は対応する官能性を提供される。
【００２１】
不飽和および不飽和モノマーのプラズマ蒸着とは離れて、官能性がその場でプラズマ層中にモノマーの再配置またはプラズマガスの混合物間の反応によって形成され、その後この現場で形成された官能性が付着する。
【００２２】
高い表面エネルギーを有する表面、例えば一般に金属表面は、環境からの種による表面の不純物による急速な表面疎水性を引き起こす。この表面不純物は最終表面の安定性に関して表面をより改質することに弊害をもたらす。従って、この表面不純物は、可能な限り、例えば、表面を不活性環境に貯蔵するおよび表面調製と改質の間の時間の短縮、改質を行う前に表面の洗浄によって避けられなければならない。プラズマエッチングは、このクリーニングの優れた方法を提供する。プラズマクリーニングは、迅速で、かつ有機溶剤の使用や環境に悪影響を与える試薬の使用を含まないので、その方法自体クリーンである。本発明では、プラズマ蒸着による実際の改質の前に基材をプラズマクリーニングをすることが有用である。
【００２３】
プラズマ蒸着層は、好ましくは一以上の硫黄化合物、チオール、スルフィド、および/またはジスルフィド、即ち、メルカプト酢酸、２−メルカプトプロピオン酸、３-メルカプトプロピオン酸、１−メルカプトプロペノル、２-メルカプトエタノール等、好ましくはジアリルスルフィドの形で含む。なぜならば特に、金を基材に用いるときには、安定性の改良が必要だからである。
【００２４】
本発明の更なる観点では、化学および/または生物種間の相互作用の監視方法、例えば請求項１４または１５の即時表面相互作用の監視方法を提供する。
【００２５】
本発明を以下の実施例により、図１を参照して更に詳細に説明する。図１は、実施例１２により行ったCOOHディスクへのアルブミンの固定化を示すグラフである。
【００２６】
実施例１
カルボキシル酸官能性金表面の調製
金を被覆したガラスディスク（６０）をプラズマ反応器の中心に置き、反応器は３つの電極を外側に配置したガラスチューブ（長さ１５０ｃｍ、径１０ｃｍ）であり、中心の電極は電気をかけて、他の２つは印加電極から３０ｃｍ離れた距離でアースされている。電極はＲＦ発電機（１３．５６メガヘルツ、ＥＮＩ  ＡＣＧ−３、ＥＮＩパワーシステム）にマッチングネットワーク（ＥＮＩマッチワーク（Ｍａｔｃｈｗｏｒｋ）５）およびマッチングネットワークコントロールユニット（ＥＮＩ  ＴＨ−１０００、ＥＮＩ）を通して接続されていた。発電機はタイマー（タイムコントロールプログラム付きアップル・イル（Apple Ile）・コンピューター）でコントロールされていた。
【００２７】
反応器はロータリーポンプ（ＤＵＯ００４Ｂ、Ｐfeifer）により０．００１ｍｂａｒ以下の圧力に排気され、ロータリーポンプはフィルター（ＯＮＦ０２５、Ｐfeifer）によりオイルの逆流を防止した。圧力はプレッシャゲージ（ＢＡＲＡＴＲＯＮ６２８Ａ０１ＭＤＥ、ＭＫＳ・インスツルーメンツ）により測定され、ディスプレイモデュール（Ｒ４０００、ＭＳＫ・インスツルーメンツ）から読み取った。５ｓｃｃｍ／分の空気流が約０．１２ｍｂａｒの圧力をもたらし、５分後ディスクを同じ流れ条件下で１分間ダイナミックエアープラズマ（８５ワット）で処理した。空気流はマスフローコントローラ（タイプ１２５９＋ＰＲ３０００コントロールユニット、ＭＫＳ・インスツルーメンツ）によりコントロールした。プラズマ処理後、空気流を２分間継続し、停止した後、アクリル酸流を反応器中にディレクトモノマーインレットを経由して確立し、約０．０３ｍｂａｒの圧力を得た。アクリル酸が反応器から出てポンプに到達するのを避けるために、アクリル酸流は液体窒素で冷却したコールドトラップでバイパスされた。貯蔵コンテナ中でのアクリル酸の温度は室温であった。２分後表面が放電力７５ワットでアクリル酸プラズマの５パルスで処理され、パルスは反応器を通してアクリル酸流の３０秒によって分離されていた。最終のパルス後、表面をアクリル酸流にさらに２分、その後アクリル酸流を止めて、反応器を空気で大気圧に戻した。
【００２８】
実施例２
アミン官能性表面の調製
金を被覆したガラスディスク（６０）を実施例１に記載したプラズマ反応器に置いた。反応器は０．０５ｍｂａｒ以下の圧力に排気し、５ｓｃｃｍ／分の空気流を５分間形成し、ディスクをダイナミックエアープラズマ（８５Ｗ）で同じ流量条件下で１分処理した。空気流を止めて、アリルアミン流（０．０７ｍｂａｒ）を反応器中に形成し、モノマー貯蔵コンテナの温度を３６℃にした。２分後表面を反応器中でアリルアミン流１０秒で分離された７５Ｗの放電力でアリルアミンプラズマの１０パルスで処理した。最終パルス後、表面をさらにアリルアミン流で２分間処理し、その後アリルアミン流を止めて、反応容器を空気で大気圧に戻した。
【００２９】
実施例３
金被覆基材（６）を反応器のガス導入側にあるコールド電極とホット電極との間にプラズマ反応器（実施例２参照）中に置いた。反応器は０．００５ｍｂａｒ以下の圧力に排気し、５ｓｃｃｍの空気流を反応器中に形成した。空気流を形成した後２分後、基材をダイナミックエアープラズマ（５ｓｃｃｍ、８５Ｗ）で１分間処理し、ついで５ｓｃｃｍの空気流に約１０分間露出した。ついで空気流を止めて、反応器を排気後、アリルアミン流（０．０９５ｍｂａｒの圧力）形成した。２分後、基材を１秒間に１０パルスのアリルアミンプラズマ（８５Ｗ放電力）に露出し、パルスは１０秒のアリルアミン流によって分離されている。最終のアリルアミンプラズマ後、アリルアミン流を２分間継続し、その後流れを停止し、反応器を排気し、空気で大気圧に戻した。ついで、表面を炭素、酸素、窒素および金についてＸ線ホトエレクトロンスペクトルスコピーで解析し、その結果を以下の表に示す。また、水で１時間洗浄後乾燥した表面をＸＰＳで解析した。
【００３０】
【表１】
0004732583.tif 000002
【００３１】
実施例４
金被覆基材（６）をガス導入側のコールド電極およびホット電極間にプラズマ反応器（実施例２参照）中に置いた。反応器を０．００５ｍｂａｒ以下に排気し、アルゴン流５ｓｃｃｍを反応器中に形成した。アルゴン流２分後、基材をダイナミックアルゴンプラズマ（５ｓｃｃｍ、８５Ｗ）で１分間処理し、さらに１０分５ｓｃｃｍのアルゴン流に晒した。ついで、アルゴン流を止めて、反応容器を排気した後、アリルアミン流（０．０９５ｍｂａｒ）を反応器中に形成した。２分後、基材を放電力８５Ｗで、パルスは１０秒のアリルアミン流で分離されており、１秒間の１０パルスに露出した。最終のアリルアミンプラズマ後、アリルアミン流を２分間継続し、その後流れを停止し、反応容器を排気した後空気で大気圧に戻した。
【００３２】
実施例５
金被覆基材（６）を反応器のガス導入部分のコールド電極とホット電極間にプラズマ反応器（実施例２参照）中に置いた。反応器を０．００５ｍｂａｒ以下に排気し、空気流５ｓｃｃｍを反応器中に確立した。空気流形成後２分後、基材を１分間ダイナミックエアープラズマ（５ｓｃｃｍ、８５Ｗ）処理し、さらに１０分間５ｓｃｃｍ空気流に晒した。ついで、空気流を停止し、排気後、０．０９５ｍｂａｒの圧力でアリルアミン流を反応器に形成した。アリルアミン流２分後、基材をアリルアミンプラズマの１秒の５パルスに露出した。パルスは１７０Ｗ放電力を有し、１０秒のアリルアミン流で分離されていた。ついで、放電力８５Ｗでアリルアミン流の５パルスに露出し、このパルスも１０秒のアリルアミン流で分離されていた。最終のアリルアミンプラズマパルスの後、アリルアミン流を２分間継続し、流れを停止した後、反応容器を排気し、空気で大気圧に戻した。ついで、表面をＸ線ホトエレクトロン・スペクトルスコピーで炭素、酸素、窒素および金の解析を行ない、その結果を以下の表に示す。
【００３３】
【表２】
0004732583.tif 000003
【００３４】
実施例６
金被覆基材（６）を反応器のガス導入側コールド電極およびホット電極間にプラズマ反応器（実施例２参照）中に置いた。反応器を０．００５ｍｂａｒ以下の圧力に排気し、空気流５ｓｃｃｍを反応容器中に形成した。空気流２分後、基材を１分間ダイナミックエアープラズマ（５ｓｃｃｍ、８５Ｗ）で処理し、さらに１０分間５ｓｃｃｍの空気流に晒した。ついで、空気流を停止し、反応容器を排気した後、アリルアミンとオクタジエン（アリルアミン６６体積％）の混合流を０．０５５ｍｂａｒの圧力で反応容器に形成した。アリルアミン／オクタジエン流２分後、基材を８５Ｗ放電力のアリルアミン／オクタジエンプラズマの１秒の１０パルスに露出し、そのパルスは１０秒のアリルアミン／オクタジエン流で分離されていた。最終のプラズマパルス後、アリルアミン／オクタジエン流を２分間継続し、流れを停止して反応容器を排気した後、空気で大気圧に戻した。ついで、表面をＸ線ホトエレクトロン・スペクトルスコピーで炭素、酸素、窒素および金を解析した。その結果を表３に示す。
【００３５】
【表３】
0004732583.tif 000004
【００３６】
実施例７
金被覆基材（６）をプラズマ反応器（実施例２参照）中で容器のガス導入側のコールド電極とホット電極間に置いた。反応器を０．００５ｍｂａｒ以下の圧力に排気し、空気流５ｓｃｃｍを反応器に形成した。空気流２分後、基材を１分間ダイナミックエアープラズマ（５ｓｃｃｍ、８５Ｗ）で処理し、さらに１０分間空気流５ｓｃｃｍに露出した。ついで、空気流を停止し、反応容器を排気後、アリルアミンおよびジアリルスルフィルド（６６体積％アリルアミン）の混合流を０．０６５ｍｂａｒの圧力で反応容器中に形成した。アリルアミン／ジアリルスルフィルド流２分後、基材を放電力８５Ｗでアリルアミン／ジアリルスルフィルドプラズマの１秒の１０回パルスに露出し、パルスは１０秒のアリルアミン／ジアリルスルフィルド流で分離されていた。最終プラズマパルス後、アリルアミン／ジアリルスルフィルド流をさらに２分間継続し、その後流れを停止して反応容器を排気した後、空気で大気圧に戻した。
【００３７】
ついで、表面をＸ線ホトエレクトロン・スペクトルスコピーで炭素、酸素、窒素および金を解析し、その結果を以下の表に示す。また、水で１時間リンスした後、乾燥した表面をＸＰＳで解析した。
【００３８】
【表４】
0004732583.tif 000005
【００３９】
実施例８
金被覆基材（６）をプラズマ反応器中で、ホット電極と反応器のガス導入側のコールド電極間に置いた。反応器を０．００５ｍｂａｒ以下に排気し、空気流５ｓｃｃｍを反応器中に形成した。アルゴン流２分後、基材を１分間ダイナミックアルゴンプラズマ（５ｓｃｃｍ、８５Ｗ）で処理し、ついで１０分間アルゴン流５ｓｃｃｍに露出した。ついで、アルゴン流を停止し、排気後、アリルアミンおよびジアリルスルフィルド（アリルアミン６６体積％）の混合流を０．０６５ｍｂａｒの圧で反応器中に形成した。２分のアリルアミン／ジアリルスルフィルド流の後、基材を放電力８５Ｗでアリルアミン／ジアリルスルフィルドプラズマの１秒の１０回パルスに露出し、パルスは１０秒のアリルアミン／ジアリルスルフィルド流で分離されていた。最終プラズマパルス後、アリルアミン／ジアリルスルフィルド流を２分間継続し、その後流れを停止した後、排気し、空気で大気圧に戻した。
実施例９
金被覆基材（６）をプラズマ反応器（実施例２参照）中で容器のガス導入側のコールド電極とホット電極間に置いた。反応器を０．００５ｍｂａｒ以下の圧力に排気し、空気流５ｓｃｃｍを反応器に形成した。空気流２分後、基材を１分間ダイナミックエアープラズマ（５ｓｃｃｍ、８５Ｗ）で処理し、さらに１０分間空気流５ｓｃｃｍに露出した。ついで、空気流を停止し、反応容器を排気後、ジアリルスルフィルド流を０．０２５ｍｂａｒの圧力で反応容器中に形成した。ジアリルスルフィルド流２分後、基材を放電力８５Ｗでジアリルスルフィルドプラズマの１秒の１０回パルスに露出し、パルスは１０秒のジアリルスルフィルド流で分離されていた。最終プラズマパルス後、ジアリルスルフィルド流をさらに１分間継続し、その後流れを停止して反応容器を０．００１ｍｂａｒに排気した。次いで、アリルアミン流を０．０９０ｍｂａｒで反応器中に形成した。アリルアミン流２分後、基材をアリルアミンプラズマ（８５Ｗ）の１秒の１０パルスに露出した。パルスは１０秒のアリルアミン流で分離されていた。最終アリルアミンプラズマパルス後、アリルアミン流を停止し、反応器を０．００１ｍｂａｒ以下に排気した後、空気で大気圧に戻した。
ついで、表面をＸ線ホトエレクトロン・スペクトルスコピーで炭素、酸素、窒素および金を解析し、その結果を以下の表に示す。また、水で１時間リンスした後、乾燥した表面をＸＰＳで解析した。
【表５】
0004732583.tif 000006
【００４０】
実施例１０
金被覆基材（６）をプラズマ反応器中で、ホット電極と反応器のガス導入側のコールド電極間に置いた。反応器を０．００５ｍｂａｒ以下に排気し、空気流５ｓｃｃｍを反応器中に形成した。アルゴン流２分後、基材を１分間ダイナミックアルゴンプラズマ（５ｓｃｃｍ、８５Ｗ）で処理し、ついで１０分間アルゴン流５ｓｃｃｍに露出した。ついで、アルゴン流を停止し、排気後、ジアリルスルフィルド流を０．０２５ｍｂａｒの圧で反応器中に形成した。２分のジアリルスルフィルド流を、基材を放電力８５Ｗでジアリルスルフィルドプラズマの１秒の１０回パルスに露出し、パルスは１０秒のジアリルスルフィルド流で分離されていた。最終ジアリルスルフィルドプラズマパルス後、ジアリルスルフィルド流を１分間継続し、その後流れを停止した後、０．００１ｍｂａｒに排気した。次いで、アリルアミン流を０．０９０ｍｂａｒで反応器中に形成した。アリルアミン流２分後、基材をアリルアミンプラズマ（８５Ｗ）の１秒の１０パルスに露出した。パルスは１０秒のアリルアミン流で分離されていた。最終アリルアミンプラズマパルス後、アリルアミン流を停止し、反応器を０．００１ｍｂａｒ以下に排気し、空気で大気圧に戻した。
【００４１】
実施例１１
アミン官能化金表面へのＣＭＤのカップリング
カルボキシメチルセルロース（１００ｍｇ）を２−（Ｎ−モルホリノ）エタンスルフォン酸０．０５Ｍ１０ｍｌに溶解した後、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド５ｍｇを加えた。完全に溶解した後、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’−エチルカルボジイミド２０ｇを加えた。３分の活性化後アミン官能化金表面をこのカルボキシメチルデキストラン溶液１ｍｌで２．５時間インキュベートした。ついで、表面をホスフェート緩衝食塩水で洗浄し、水で洗浄した後乾燥した。全体の固定化操作は室温で行なった。
【００４２】
この実施例においてカルボキシメチルデキストランを化学官能基（一般にデキストラン、たとえばカルボキシメチルデキストラン、カルボキシメチルセルロース、モノ−、ジ−、オリゴ−、ポリ−サッカライド、ガムキサンタン、カルボキシレートおよびアミンデンドリマー、およびモノ−、ホモ−、およびヘテロ−官能性カルボキシレートおよびポリエチレングリコールおよびポリエチレンオキシド、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなど）を含む化合物を含有する化学官能性基のためのモデル化合物として用いる。
【００４３】
固定化されるべき化合物を含むこれらの官能基の量は反応パラメーター、たとえば反応時間、化合物含有官能基の濃度および化合物含有官能基に対するカップリング剤の比でコントロールする。
【００４４】
実施例１２
ＣＯＯＨ官能基官能装置上へのアルブミンの固定化
プラズマ蒸着法によりＣＯＯＨ官能化されたもののセンサー装置をアルブミンの固定化に用いた。２２．５℃で行なわれた固定化工程の間、表面の状態をサフエース・プラズモン・レゾンナンス・スペクトロスコピーでモニターし、その結果を図１に示す。ＳＰＲ装置中に官能化感応装置を裁置した後、感応表面を１０ｍＭＨＥＰＥＳ緩衝液で約５分間インキュベートした。ついでＨＥＰＥＳ緩衝液をＥＤＣ（２０ｍｇ／ｍｌ）−ＮＨＳ（４ｍｇ／ｍｌ）溶液で水中で交換した。５分活性化の後、ＥＤＣ／ＮＨＳ溶液をアルブミン溶液（１０ｍＭＨＥＰＥＳ中２ｍｇ／ｍｌ）へ交換し、１５分間の固定化時間をかけた。ついで感応表面をＨＥＰＥＳ緩衝液で洗浄し、ＨＥＰＥＳ緩衝液中で固定化されたアルブミンの安定性を３分間モニターし、その後ＨＥＰＥＳ緩衝液での洗浄工程を繰返した。０．２ＮＨＣｌ中で固定化されたアルブミンの安定性を検討するために、ＨＥＰＥＳ緩衝液を０．１Ｎ（規定）ＨＣｌで置換し、感応表面を３分間この溶液でインキュベートした後、０．１Ｎ（規定）ＨＣｌを新しい０．１規定ＨＣｌに置換え、さらに３分間測定を継続した。ついで表面を０．１規定ＨＥＰＥＳ緩衝液で洗浄し、感応表面のインキュベーションを最終５分間この緩衝液中で行った。
この結果、ＥＤＣ／ＮＨＳで感応表面を活性化し、アルブミンの固定化をし、ＨＥＰＥＳ緩衝液で洗浄した後、応答は約７００ミリデグリーで上昇し、アルブミンのＣＯＯＨ官能化官能表面への固定化を確認した。０．１規定ＨＣｌでの表面の洗浄は約３０ミリデグリーのシグナルの減少をもたらし、そのことはアルブミンの固定化が非常に安定であることを示す。
【００４５】
本発明は上記記載に限定されず、特許請求の範囲の記載により決定される。
【図１】
0004732583.tif 000007