(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハに付着した水滴を遠心力を利用した装置によって離脱させて乾燥させるために、複数のウエハを収容するウエハキャリアであって、
前記複数のウエハを所定の間隔で並列に保持するための複数の溝を有する１組の保持部と、前記１組の保持部を固定して支持する支持部と、前記遠心力が加わったときに前記保持部から前記ウエハが飛び出さないように係止するストッパを有し、
前記ストッパは、前記ウエハとの接触部が板状に形成され、該接触部以外の弾性部には複数の孔が格子状に空けられた弾力性のある金属板で構成されたことを特徴とするウエハキャリア。
【請求項２】
前記ストッパの弾性部に空けられた孔は、直径がほぼ２ｍｍで、ほぼ５ｍｍの角型千鳥ピッチで形成されたことを特徴とする請求項１記載のウエハキャリア。
【請求項３】
半導体装置の製造過程におけるウエハ洗浄時に、
複数のウエハを所定の間隔で並列に保持するための複数の溝を有する１組の保持部と、該１組の保持部を固定して支持する支持部と、遠心力が加わったときに該保持部から該ウエハが飛び出さないように係止するストッパを有し、該ストッパは、該ウエハとの接触部が板状に形成され、該接触部以外の弾性部には複数の孔が格子状に空けられた弾力性のある金属板で構成されたウエハキャリアを用いて洗浄対象のウエハを保持する処理と、
前記ウエハキャリアごと前記洗浄対象のウエハを洗浄する処理と、
遠心力を利用した乾燥装置に、前記洗浄が終了したウエハを前記ウエハキャリアごと搭載して該ウエハに付着していた水滴を離脱させる処理とを、
順次行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造過程でウエハ洗浄時に用いるウエハキャリアに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
【特許文献１】特開平６−３７０８１号公報
【０００３】
図２（ａ），（ｂ）は、上記特許文献１に記載された従来のウエハ乾燥装置の構成図で、同図（ａ）は上部から透視した平面図、及び同図（ｂ）は同図（ａ）中のＡ−Ａ線に沿う部分の断面図である。
【０００４】
このウエハ乾燥装置は、洗浄後のウエハに付着した水滴を遠心力によって振り切って乾燥させるもので、固定された円筒状の本体容器１とその内部に設けられた回転台２を有している。本体容器１は、蓋部１ａと容器部１ｂで構成され、この容器部１ｂの底板は傾斜面を形成し、最低部に排水口１ｃが設けられている。また、容器部１ｂの底板の中央部に設けられた穴を貫通する回転軸３の上端に、回転台２が固定支持されている。
【０００５】
回転台２の上には、複数のウエハキャリア４が固定されるようになっている。
ウエハキャリア４は、複数のウエハＷを一定の間隔で水平に保持するために、挿入されたウエハＷの外周部を挟む複数の溝が形成されたクレードル５を有している。クレードル５の入口はウエハＷが挿入できるように広く開口され、奥の方はウエハＷが抜け落ちないように狭くなっている。更に、ウエハキャリア４の入口の中央部には、遠心力によってウエハＷが飛び出すことを防止するために、金属棒によるストッパ６が取り付けられるようになっている。
【０００６】
半導体装置の製造過程で、洗浄を行う必要のある複数のウエハＷは、ウエハキャリア４に収容され、脱落しないようにストッパ６で固定された後、純水等によってウエハキャリア４ごと一括洗浄される。
【０００７】
洗浄が終わったウエハＷは、ウエハキャリア４に収容されたまま、ウエハ乾燥装置の回転台２にセットされる。このとき、ウエハキャリア４のストッパ６が外側（即ち、遠心力が加わる位置）になるように、回転台２に固定される。
【０００８】
その後、回転軸３を８００〜１２００ｒｐｍで高速回転させると、ウエハＷとウエハキャリア４に付着していた水滴は、遠心力によって外側に飛び出し、このウエハＷの表面が乾燥する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、前記ウエハ乾燥装置では、次のような課題があった。即ち、回転軸３を高速回転させると、ウエハＷに付着した水滴のみならず、ウエハＷ自体にも遠心力が加わる。従って、ウエハＷは、強力な遠心力でストッパ６に押しつけられることになる。ストッパ６は、金属棒で構成されているため、ウエハＷの外周部とストッパ６は１点で接触し、ここに強力な遠心力が加わると、ウエハＷの接触箇所が欠けたりひび割れ等が発生するという問題があった。
【００１０】
このような問題を回避するため、金属棒によるストッパ６に代えて金属製の板バネを使用し、ウエハＷとの接触面積を大きくして接触箇所の欠けやひび割れを防止するものもある。しかしながら、板バネを使用した場合、遠心力で弾き飛ばされた水滴が板バネに邪魔されてウエハキャリア４内に残ってしまい、乾燥後のウエハＷに再付着してウォータマーク等の原因となることがあった。
【００１１】
本発明は、洗浄時にウエハを損傷することなく確実に水滴を除去することができるウエハキャリアを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、ウエハに付着した水滴を遠心力を利用した装置によって離脱させて乾燥させるために、複数のウエハを収容するウエハキャリアであって、前記複数のウエハを所定の間隔で並列に保持するための複数の溝を有する１組の保持部と、前記１組の保持部を固定して支持する支持部と、前記遠心力が加わったときに前記保持部から前記ウエハが飛び出さないように係止するストッパを有し、かつ、前記ストッパは、前記ウエハとの接触部を板状に形成し、該接触部以外の弾性部には複数の孔が格子状に空けられた弾力性のある金属板で構成したことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明では、遠心力が加わったときにウエハが飛び出さないように係止するストッパを弾力性のある金属板で構成し、ウエハとの接触部を板状に形成すると共に、この接触部以外の弾性部には複数の孔を格子状に空けている。これにより、ウエハとストッパとの接触面積が大きくなってウエハに加わる圧力が分散されるので、ウエハの接触箇所が欠けたりひび割れ等が発生するおそれがなくなる。更に、弾性部には複数の孔が格子状に空けられているので、遠心力によってウエハキャリア内の水滴を完全に外部に排除することができるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
ストッパの弾性部の孔は、直径がほぼ２ｍｍで、ほぼ５ｍｍの角型千鳥ピッチで形成する。
【００１５】
この発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は、次の好ましい実施例の説明を添付図面と照らし合わせて読むと、より完全に明らかになるであろう。但し、図面は、もっぱら解説のためのものであって、この発明の範囲を限定するものではない。
【実施例１】
【００１６】
図１（ａ）〜（ｄ）は、本発明の実施例を示すウエハキャリアの構成図であり、同図（ａ）は上面図、同図（ｂ）は正面図、同図（ｃ）はストッパの斜視図、及び同図（ｄ）は、同図（ｃ）中のＡ部の拡大図である。
【００１７】
ウエハキャリアは、半導体装置の製造過程でウエハを洗浄する時に、複数のウエハＷを所定の間隔をあけて並列に保持するものである。このウエハキャリア１０は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、上側から複数のウエハＷを垂直に挿入できるように構成され、挿入された複数のウエハＷを一定間隔で並列に保持するために、中央部にウエハＷの外周部を挟む複数の溝が形成された１組の保持部１１ａ，１１ｂを有している。保持部１１ａ，１１ｂは、その両端のほぼ中央部に固定された支持部１２ａ，１２ｂ，１２ｃによって所定の間隔で対向するよう接続されている。更に、保持部１１ａ，１１ｂの下部には、この保持部１１ａ，１１ｂの上側から溝に挿入されたウエハＷが落下しないように係止するために、それぞれ金属製の板バネ式のストッパ１３ａ，１３ｂが固定されている。
【００１８】
ストッパ１３ａ，１３ｂは、例えばステンレス鋼のように弾力性のある平板を加工したものである。ストッパ１３ａ，１３ｂは、ウエハＷとの接触部Ｃと、それ以外の弾性部Ｓで構成され、接触部Ｃは板状のままとなっているが、弾性部Ｓには多数の孔が空けられている。
【００１９】
ストッパ１３ａ，１３ｂの弾性部Ｓに空けられた孔は、例えば図１（ｄ）に示すように、直径２ｍｍ程度のもので、角型千鳥ピッチ５ｍｍで格子状に空けられており、透過率は約２５％となっている。なお、このウエハキャリアのストッパ１３ａ，１３ｂ以外の保持部１１ａ，１１ｂ及び支持部１２ａ，１２ｂは、ストッパ１３ａ，１３ｂと同様の金属で構成されている。
【００２０】
このウエハキャリアは、次のように用いられる。
ウエハキャリアの開口部が上側、ストッパ１３ａ，１３ｂが下側になるように設置し、洗浄するウエハＷを上側から、保持部１１ａ，１１ｂの溝に沿って垂直に挿入する。これにより、挿入されたウエハＷの下側が、ストッパ１３ａ，１３ｂの接触部Ｃと接触し、所定の位置に保持される。
【００２１】
ウエハＷが挿入されたウエハキャリアは、そのままの状態で洗浄装置に搬送され、ウエハキャリアごと一括して純水等による洗浄が行われる。
【００２２】
洗浄が済んだウエハＷは、ウエハキャリアに挿入されたまま、ウエハ乾燥装置に搬送される。なお、ウエハ乾燥装置は、図２に示したものと同様に、遠心力によって水滴を振り切って乾燥させるものである。
【００２３】
ウエハＷが挿入されたウエハキャリアは、今度はウエハＷが水平になるように、ウエハ乾燥装置の回転台に載せられる。そして、ウエハキャリアのストッパ１３ａ，１３ｂが外側（即ち、遠心力が加わる位置）になるように、回転台に固定される。
【００２４】
その後、回転台を高速回転させると、ウエハＷとウエハキャリアに付着していた水滴は、遠心力によって外側に飛び出し、このウエハＷの表面が乾燥する。この時、ウエハＷ自体にも遠心力が加わり、強力な遠心力でストッパ１３ａ，１３ｂに押しつけられる。しかし、ウエハＷの外周部は、ストッパ１３ａ，１３ｂの接触面Ｃで面接触して係止されるので、接触の圧力は分散され、ウエハＷの接触箇所の損傷は生じない。一方、外側に飛び出した水滴の一部は、ストッパ１３ａ，１３ｂの弾性部Ｓにぶつかるが、この弾性部Ｓに空けられた多数の孔を通して外側に飛び出すので、ウエハキャリア内に水滴が残留することはない。
【００２５】
このように、本実施例のウエハキャリアは、格子状に多数の孔を空けた板バネ式のストッパを有しているので、遠心力によってウエハキャリア内の水滴を完全に外部に排除することができる。また、このストッパがウエハと接触する接触部は、孔が空けられていない板状のままとなっているので、強力な遠心力が加わっても孔による干渉を受けず、欠けやひび割れ等の損傷が発生するおそれがない。
【００２６】
更に、このウエハキャリアは、ウエハの洗浄時と乾燥時にそのまま使用できるので、ウエハを洗浄した後、そのウエハを洗浄用のキャリアから乾燥用のキャリアに移載する必要がなく、製造工程が簡素化できるという利点がある。
【００２７】
なお、本発明は、上記実施例に限定されず、種々の変形が可能である。この変形例としては、例えば、次のようなものがある。
（１）  ストッパ１３ａ，１３ｂ以外の保持部１１ａ，１１ｂや支持部１２ａ，１２ｂの形状や構造は、例示したものに限定されず、従来通りのものを使用することができる。
（２）  保持部１１ａ，１１ｂや支持部１２ａ，１２ｂの材質は、金属に限定されず、プラスチック等を使用することができる。
（３）  ストッパ１３ａ，１３ｂの弾性部Ｓに設けられた孔は一例であり、孔の大きさや配置は任意である。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施例を示すウエハキャリアの構成図である。
【図２】従来のウエハ乾燥装置の構成図である。
【符号の説明】
【００２９】
１１ａ，１１ｂ    保持部
１２ａ〜１２ｃ    支持部
１３ａ，１３ｂ    ストッパ
Ｃ    接触部
Ｓ    弾性部
Ｗ    ウエハ
【図１】
0004606294.tif 000002
【図２】
0004606294.tif 000003