(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
チップ形状の絶縁基板と、前記絶縁基板上に形成した一対の上面電極層と、前記一対の上面電極層上に両端部が一部重なるように形成した暗色の抵抗体層と、前記抵抗体層を被覆するように形成した透明又は半透明の保護層と、前記絶縁基板の両端面に形成した端面電極層と、前記端面電極層上に形成したメッキ層とからなる基本構成を備え、前記保護層を透した抵抗体層のトリミングの有効範囲を２値化による画像認識により明らかにし、前記有効範囲に基づいて前記抵抗体層をトリミングすることで抵抗値を調整できるトリマブルチップ抵抗器であって、
前記保護層が基板幅方向において前記抵抗体層を内包するように、前記保護層の基板幅方向の幅を前記抵抗体層の基板幅方向の幅よりも広く設定し、
一端部が前記一対の上面電極層間の基板長手方向の内側の側縁間の離間幅を超えない離間幅で対向するとともに、前記一対の上面電極層と前記抵抗体層とが重なった部分を介して、他端部を前記一対の上面電極層に重なるようにした一対の補助膜を、前記保護層の両端部上に形成し、
前記一対の補助膜は、前記画像認識用のデジタル画像上で、前記抵抗体層のトリミングの有効範囲の色に対して明確に対比できる色を呈していることを特徴とするトリマブルチップ抵抗器。
【請求項２】
チップ形状の絶縁基板と、前記絶縁基板上に形成した一対の上面電極層と、前記一対の上面電極層上に両端部が一部重なるように形成した暗色の抵抗体層と、前記抵抗体層を被覆するように形成した透明又は半透明の保護層と、前記絶縁基板の両端面に形成した端面電極層と、前記端面電極層上に形成したメッキ層とからなる基本構成を備え、前記保護層を透した抵抗体層のトリミングの有効範囲を２値化による画像認識により明らかにして、前記有効範囲に基づいて前記抵抗体層をトリミングすることで抵抗値を調整できるトリマブルチップ抵抗器であって、
前記保護層が基板幅方向において前記抵抗体層を内包するように、前記保護層の基板幅方向の幅を前記抵抗体層の基板幅方向の幅よりも広く設定し、
一端部が前記一対の上面電極層間の基板長手方向の内側の側縁間の離間幅を超えない離間幅で前記保護膜を介して対向するとともに、他端部を前記一対の上面電極層と重なるようにした一対の補助膜を、前記抵抗体層の両端部上に形成し、
前記一対の補助膜は、前記画像認識用のデジタル画像上で、前記抵抗体層のトリミングの有効範囲の色に対して明確に対比できる色を呈していることを特徴とするトリマブルチップ抵抗器。
【請求項３】
チップ形状の絶縁基板と、前記絶縁基板上に形成した一対の上面電極層と、前記一対の上面電極層上に両端部が一部重なるように形成した暗色の抵抗体層と、前記抵抗体層を被覆するように形成した透明又は半透明の保護層と、前記絶縁基板の両端面に形成した端面電極層と、前記端面電極層上に形成したメッキ層とからなる基本構成を備え、前記保護層を透した抵抗体層のトリミングの有効範囲を２値化による画像認識により明らかにして、前記有効範囲に基づいて前記抵抗体層をトリミングすることで抵抗値を調整できるトリマブルチップ抵抗器であって、
前記保護層が基板幅方向において前記抵抗体層を内包するように、前記保護層の基板幅方向の幅を前記抵抗体層の基板幅方向の幅よりも広く設定し、
一端部が前記一対の上面電極層間の基板長手方向の内側の側縁間の離間幅を超えない離間幅で前記保護膜の両端下に対向するとともに、他端部を前記一対の上面電極層とが重なるようにした一対の補助膜を、前記抵抗体層の両端部上に形成し、
しかも前記保護膜の基板幅方向の幅を、前記補助膜の基板幅方向の幅より幅広に形成したものであり、
前記一対の補助膜は、前記画像認識用のデジタル画像上で、前記抵抗体層のトリミングの有効範囲の色に対して明確に対比できる色を呈していることを特徴とするトリマブルチップ抵抗器。
【請求項４】
前記一対の補助膜は導電性であることを特徴とする請求項１乃至３に記載のトリマブルチップ抵抗器。
【請求項５】
前記上面電極層の基板長手方向内側の側縁と、前記補助膜の基板長手方向内側の側縁とが、略面一になっていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のトリマブルチップ抵抗器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、小型電子機器の電子回路に用いられるチップ抵抗器に関し、特に、ユーザ側において抵抗体層をトリミングして抵抗値を調整できるトリマブルチップ抵抗器の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】
トリマブルチップ抵抗器における抵抗値を調整する方法として、一般的に、画像処理を用いたレーザトリミング法が採用されている。この方法では、チップ抵抗器の表面をＴＶカメラで撮像した後、その画像を２値化処理することで抵抗体層の輪郭を認識し、その輪郭を基準にしてトリミング有効範囲及びトリミング開始点を決定している。そのため、上記方法においてトリミング精度を向上させるためには、２値化画像において抵抗体層の輪郭が明確になるようにすることが必要不可欠である。従来、このことを目的として、図４や図５に示すトリマブルチップ抵抗器が提案されている。
【０００３】
図４に示すトリマブルチップ抵抗器は、チップ形状の絶縁基板１と、絶縁基板１上に形成した一対の上面電極層３と、一対の上面電極層３に両端部が一部重なるように形成した抵抗体層４と、抵抗体層４の露出部を被覆するように形成した保護層５と、絶縁基板１の両端面に形成した端面電極層と、前記端面電極層上に形成したメッキ層とからなる基本構成において、抵抗体層４の色を上面電極層３や絶縁基板１の表面明度よりも著しく明度の低い暗色を呈したものとしたことを特徴としている。これにより、抵抗体層４とその外縁のコントラストが顕著となり、トリミング位置の認識精度が高まる（実用新案登録第２５４２００１号公報、参照）。なお、端面電極とメッキ層の図示は省略した。
【０００４】
他方、図５に示すトリマブルチップ抵抗器は、上記基本構成において、抵抗体層４の上に上面電極層３を形成したことを特徴としており、上記構成とはその配置が逆になっている。これにより、抵抗体層４とその外縁のコントラストを保ちつつ、画像認識される抵抗体層４の中心が必然的に実際の抵抗として機能する部分の中心となるので、抵抗体層４の印刷ズレを見込んだ精度の高いトリミングができる（特開２０００−０９１１０２号公報、参照）。なお、端面電極とメッキ層の図示は省略した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図４に示すトリマブルチップ抵抗器にあっては、抵抗体層４の全範囲が画像認識の対象となるため、抵抗体層４が上面電極層３と重なった部分（図４に示す幅ｄの部分）までもがトリミング有効範囲として認識されてしまうという問題があった。
【０００６】
また、図５に示すチップ抵抗器にあっては、抵抗体層４の一部に上面電極層３を重ねた構造を有するために、上面電極層３上の一部に抵抗体層４を重ねた構造と異なり、抵抗体層４よりも上面電極層３の焼成温度を低くして形成する場合は、抵抗体層４の表面へのガラス成分の浮きによって、上面電極層３と抵抗体層４との電気的な接触に伴う電気雑音が大きくなるという問題があった。また、抵抗値は上面電極層３を形成した後でしか測定できないため、抵抗体層４の形成における抵抗値分布が所定の範囲からズレた場合は、抵抗体層４及び上面電極層３を最初から形成しなければならず、抵抗値検査の手間と工数が増加するという問題もった。
【０００７】
本発明はこのような従来の問題点に着目してなされたものであり、トリミング位置を精度良く演算・設定することができ、抵抗値検査工数を増大することなく、電気的接続性に優れ、広範なトリミング倍率が確保できるトリマブルチップ抵抗器を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１の発明にかかるトリマブルチップ抵抗器は、チップ形状の絶縁基板と、前記絶縁基板上に形成した一対の上面電極層と、前記一対の上面電極層上に両端部が一部重なるように形成した暗色の抵抗体層と、前記抵抗体層を被覆するように形成した透明又は半透明の保護層と、前記絶縁基板の両端面に形成した端面電極層と、前記端面電極層上に形成したメッキ層とからなる基本構成を備え、前記保護層を透した抵抗体層のトリミングの有効範囲を２値化による画像認識により明らかにし、前記有効範囲に基づいて前記抵抗体層をトリミングすることで抵抗値を調整できるトリマブルチップ抵抗器であって、前記保護層が基板幅方向において前記抵抗体層を内包するように、前記保護層の基板幅方向の幅を前記抵抗体層の基板幅方向の幅よりも広く設定し、一端部が前記一対の上面電極層間の基板長手方向の内側の側縁間の離間幅を超えない離間幅で対向するとともに、前記一対の上面電極層と前記抵抗体層とが重なった部分を介して、他端部を前記一対の上面電極層に重なるようにした一対の補助膜を、前記保護層の両端部上に形成し、前記一対の補助膜は、前記画像認識用のデジタル画像上で、前記抵抗体層のトリミングの有効範囲の色に対して明確に対比できる色を呈していることを特徴としている。
【０００９】
上記構成により、各補助膜の色は、画像認識用のデジタル画像上で、抵抗体層の露出部に対応する部分の色に対して明確に対比できるものであれば良く、また、保護層の色も透明等に限定されないので、これらの素材の選択自由度が高い。
【００１０】
また、保護層の色の如何にかかわらず、上面電極層と抵抗体層とが重なった部分が、上記の色を呈した補助膜によって画像認識できるようになるので、基板長手方向のレーザトリミング有効範囲が前記補助膜の側縁によって明確に画像認識でき、ひいては、上面電極層と抵抗体層とが重なった範囲内へのトリミングを防止できる。
また、保護層の基板幅方向の幅が抵抗体層の基板幅方向の幅よりも広く設定され、抵抗体層は基板幅方向において保護層に完全に覆われているので、保護層の色の如何にかかわらず、基板幅方向における印刷のズレ位置精度、及びレーザトリミング装置の同方向におけるビーム位置精度等を見込んだ余白を予め確保でき、ひいては、抵抗体層の基板幅方向の側縁上又は側縁内側からのトリミング開始を防止できる。
これら２つの作用が合わさることで、保護層の色の如何にかかわらず、抵抗体層のトリミング位置の設定対象となる部分の輪郭が全範囲にわたって判別でき、画像認識が容易になる。これにより、その輪郭を基準とするトリミング位置を精度良く演算・設定することができ、補助膜６の基板長手方向内側の側縁間の距離の割り出し演算と、片方の補助膜６の基板長手方向内側の側縁を基点とする距離を演算することが容易となり、さらに、保護層５の基板幅方向の側縁上の任意の点、又は抵抗体層４の基板幅方向の側縁からやや基板幅方向の内側へ離間した補助膜６間線上の任意の点から、所望するトリミング溝形状（シングル、ダブル、Ｌ字、サーペインタイン等）を有するトリミング開始点の選択が可能となり、トリミング倍率を目的に応じて自由に選択することができる。
【００１１】
さらに、上面電極層の上に抵抗体層が形成されるため、抵抗体層の上に上面電極層が形成されるよりも電気的な接続の安定性が増し、電流雑音及び抵抗値の再現性が良好となる。
【００１２】
また、請求項２の発明にかかるトリマブルチップ抵抗器は、チップ形状の絶縁基板と、前記絶縁基板上に形成した一対の上面電極層と、前記一対の上面電極層上に両端部が一部重なるように形成した暗色の抵抗体層と、前記抵抗体層を被覆するように形成した透明又は半透明の保護層と、前記絶縁基板の両端面に形成した端面電極層と、前記端面電極層上に形成したメッキ層とからなる基本構成を備え、前記保護層を透した抵抗体層のトリミングの有効範囲を２値化による画像認識により明らかにして、前記有効範囲に基づいて前記抵抗体層をトリミングすることで抵抗値を調整できるトリマブルチップ抵抗器であって、前記保護層が基板幅方向において前記抵抗体層を内包するように、前記保護層の基板幅方向の幅を前記抵抗体層の基板幅方向の幅よりも広く設定し、一端部が前記一対の上面電極層間の基板長手方向の内側の側縁間の離間幅を超えない離間幅で前記保護膜を介して対向するとともに、他端部を前記一対の上面電極層と重なるようにした一対の補助膜を、前記抵抗体層の両端部上に形成し、前記一対の補助膜は、前記画像認識用のデジタル画像上で、前記抵抗体層のトリミングの有効範囲の色に対して明確に対比できる色を呈していることを特徴としている。
【００１３】
上記構成により、請求項１の発明と同様、保護層の基板幅方向の幅が抵抗体層の基板幅方向の幅よりも広く設定され、抵抗体層は基板幅方向において保護層に完全に覆われているので、保護層の色の如何にかかわらず、基板幅方向における印刷のズレ位置精度、及びレーザトリミング装置の同方向におけるビーム位置精度等を見込んだ余白を予め確保でき、ひいては、抵抗体層の基板幅方向の側縁上又は側縁内側からのトリミング開始を防止できる。
また、保護層の色が透明又は半透明であれば、基板長手方向のトリミング有効範囲が前記補助膜の側縁によって明確に画像認識でき、上面電極層と抵抗体層とが重なった範囲内へのトリミングを防止できる。
さらに、請求項１の発明と同様、上面電極層の上に抵抗体層が形成されるため、電気的な接続の安定性が増し、電流雑音及び抵抗値の再現性が良好となる。
【００１４】
また、請求項３の発明に係るトリマブルチップ抵抗器は、チップ形状の絶縁基板と、前記絶縁基板上に形成した一対の上面電極層と、前記一対の上面電極層上に両端部が一部重なるように形成した暗色の抵抗体層と、前記抵抗体層を被覆するように形成した透明又は半透明の保護層と、前記絶縁基板の両端面に形成した端面電極層と、前記端面電極層上に形成したメッキ層とからなる基本構成を備え、前記保護層を透した抵抗体層のトリミングの有効範囲を２値化による画像認識により明らかにして、前記有効範囲に基づいて前記抵抗体層をトリミングすることで抵抗値を調整できるトリマブルチップ抵抗器であって、前記保護層が基板幅方向において前記抵抗体層を内包するように、前記保護層の基板幅方向の幅を前記抵抗体層の基板幅方向の幅よりも広く設定し、一端部が前記一対の上面電極層間の基板長手方向の内側の側縁間の離間幅を超えない離間幅で前記保護膜の両端下に対向するとともに、他端部を前記一対の上面電極層とが重なるようにした一対の補助膜を、前記抵抗体層の両端部上に形成し、しかも前記保護膜の基板幅方向の幅を、前記補助膜の基板幅方向の幅より幅広に形成したものであり、前記一対の補助膜は、前記画像認識用のデジタル画像上で、前記抵抗体層のトリミングの有効範囲の色に対して明確に対比できる色を呈していることを特徴としている。
【００１５】
さらに、請求項４の発明にかかるトリマブルチップ抵抗器は、請求項１乃至３の発明において、前記一対の補助膜は導電性であることを特徴としている。これにより、抵抗体層に接触する電極部分の面積が増大するため、その接触抵抗が低減され、電流雑音及び抵抗値の再現性が良好となる。また、画像認識される抵抗体層の中心が必然的に実際の抵抗として機能する部分の中心となるので、抵抗体層の印刷ズレを見込んだ精度の高いトリミングができる。
【００１６】
また、請求項５の発明にかかるトリマブルチップ抵抗器は、請求項１乃至４のいずれかの発明において、前記上面電極層の基板長手方向内側の側縁と、前記補助膜の基板長手方向内側の側縁とが、略面一になっていることを特徴としている。これにより、広いトリミング有効範囲を確保しつつ、上面電極層と抵抗体層とが重なった範囲内へのトリミングを確実に防止できる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
【００１８】
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態のトリマブルチップ抵抗器及びその製造工程を概念的に示す説明図である。１は、主として明色のアルミナで構成された矩形の絶縁基板である。ここでは説明の都合により、縦横の分割スリッドが刻設されたシート状絶縁基板をこれら分割スリッドに沿って縦横に分割してチップ状にしたものとして示してある。
【００１９】
まず、絶縁基板１の裏面両端部に、縦及び横の分割スリッドをまたぐように、図１（ｄ）に示すような裏電極層２を形成する。この裏電極層２はメタルグレーズ系の導体ペーストを印刷・焼成することによって得られる。
【００２０】
次に、絶縁基板１の上面両端部に、縦及び横の分割スリッドをまたぐように、図１（ｄ）に示すような所定幅の上面電極層３を形成する。この上面電極層３は明色のメタルグレーズ系の導体ペーストを印刷・焼成することによって得られる。
【００２１】
続いて、一対の上面電極層３にそれぞれ一部重なるようにして且つ、前記一対の上面電極層３をまたぐようにして、これら上面電極層３の基板幅方向の幅よりも短い幅の抵抗体層４を、図１（ａ）に示すように形成する。この抵抗体層４は暗色のメタルグレーズ系の抵抗ペーストを印刷・焼成することによって得られる。
【００２２】
このように本実施形態では、上面電極層３の上に抵抗体層４が形成されているため、抵抗体層４の上に上面電極層３が形成されるよりも電気的な接続の安定性が増し、電流雑音及び抵抗値の再現性が良好となる。
【００２３】
次に、一対の上面電極層３にそれぞれ一部重なるようにして、且つ、抵抗体層４の露出部を覆うようにして、上面電極層３の基板幅方向の幅と略等しい幅の保護層５を、図１（ｂ）に示すように形成する。この保護層５は、透明を呈する、ガラス系又は樹脂系のコート素材を印刷・焼成することによって得られる。この保護層５の色については後で述べる。
【００２４】
続いて、一対の上面電極層３と抵抗体層４とが重なった部分に対し、それぞれの一端部が保護層５を介して対向するようにして、且つ、一対の上面電極層３の一部にそれぞれの他端部が重なるようにして、保護層５の両端部上に、一対の補助膜６を、図１（ｃ）に示すように形成する。補助膜６は矩形であり、その基板幅方向の幅は保護層５の基板幅方向の幅と略等しいか又は長く設定されている。また、補助膜６の側縁６ａと上面電極層３の側縁３ａとが略面一になっている。この補助膜６は、明色のガラス系又は樹脂系又は導電ペースト等の素材を印刷・焼成することによって得られる。なお、補助膜６の素材は導電性のものに限定されるものではなく、絶縁性の素材を印刷・焼成してもよい。
【００２５】
このように本実施形態では、抵抗体層４が暗色であるのに対して、補助膜６が明色であることから、上面電極層３と抵抗体層４とが重なった部分が、これに対向する補助膜６によって画像認識できる。よって、基板長手方向のレーザトリミング有効範囲を補助膜６の側縁６ａを基準にして明確に設定でき、ひいては、上面電極層３と抵抗体層４とが重なった範囲内へのトリミングを防止できる。
【００２６】
またこれに関連して、補助膜６の側縁６ａと上面電極層３の側縁３ａとが略面一になっているため、広いトリミング有効範囲を確保しつつ、上面電極層３と抵抗体層４とが重なった範囲内へのトリミングを確実に防止できる。なお、一対の補助膜６間の離間幅が一対の上面電極層３間の離間幅を超えない範囲内に設定されるのであれば、両者が等しいときと同様な効果が得られる。（ここで両離間幅の中心は略一致しているものとする。）
【００２７】
また本実施形態では、保護層５の基板幅方向の幅が抵抗体層４の基板幅方向の幅よりも広く設定されているので、抵抗体層４は基板幅方向において保護層５に完全に覆われることになる。これにより、透明又は半透明の保護層５を配設したときは、抵抗体層４の基板幅方向の側縁が認識でき、抵抗体層４の基板幅方向の側縁外側からのトリミング開始が可能となる。なお、透明又は半透明の保護層５は、補助膜６の明色と、抵抗体層４の暗色との差異をより顕著にする効果があるので、上述した補助膜６の効果との相乗効果が期待できる。
【００２８】
本実施形態では続いて、絶縁基板１を縦方向の分割スリッドに沿って短冊状に分割した後、補助膜６に接して、且つ、上面電極層３と裏電極層２を電気的に接続するように、絶縁基板１の両端部に端面電極層７を、図１（ｄ）に示すように形成する。そして、短冊状の絶縁基板１を横方向の分割スリッドに沿ってチップ状に分割した後、端面電極層７と裏電極層２の露出表面を覆うように明色のメッキ層８（下層；Ｃｕ系又はＮｉ系＋上層；Ｓｎ/Ｐｂ又はＳｎ）を、図１（ｄ）に示すように形成してトリマブルチップ抵抗器が完成する。
【００２９】
以上のように本実施形態では、保護層５の色の如何にかかわらず、抵抗体層４のトリミング位置の設定対象となる部分の輪郭が全範囲にわたって判別できるので、画像認識による識別が容易になる。これにより、その輪郭を基準とするトリミング位置を精度良く演算・設定することができ、上述したトリミング溝の種類や、トリミング倍率を目的に応じて自由に選択することができる。
【００３０】
（第２実施形態）
図２は、本発明の第２実施形態のトリマブルチップ抵抗器及びその製造工程を概念的に示す説明図である。この実施形態でも、上記実施形態と同様に絶縁基板１上に上面電極層３及び抵抗体層４を形成する。（図１（ａ）参照）以下、上述の実施形態と重複する部分の説明は省略し、要点となるところを抽出して説明する。
【００３１】
図２（ａ）に示すように、それぞれの一端部が上面電極層３に重なるようにして、且つ、それぞれの他端部が抵抗体層４の両端部を上下方向に挟み込むようにして、抵抗体層４の両端部上に、一対の補助膜６を形成する。補助膜６は矩形であり、その基板幅方向の幅は上面電極層３の基板幅方向の幅と略等しいか又は長く設定されている。また、上面電極層３の側縁３ａと補助膜６の側縁６ａとが略面一になっている。この上面電極層３は明色のメタルグレーズ系の導体ペーストを印刷・焼成することによって得られる。
【００３２】
このように本実施形態においては、一対の補助膜６は導電性であるとともに、一対の補助膜６の一部が一対の上面電極層３の一部にそれぞれ接続しているので、抵抗体層４に接触する電極部分の面積が増大し、その接触抵抗が低減され、ひいては電流雑音及び抵抗値の再現性が良好となる。さらに、画像認識される抵抗体層４の中心が必然的に実際の抵抗として機能する部分の中心となり、抵抗体層４の印刷ズレを見込んだ精度の高いトリミングができる。
【００３３】
次に、一対の補助膜６の間を埋めるように、且つ、補助膜６の基板幅方向の幅と略等しい幅の保護層５を、図２（ｂ）のように形成する。このとき、基板長手方向において保護層５と補助膜６と境界が顕著になっているので、上面電極層３の側縁３ａと補助膜６の側縁６ａとが略面一に設定されていることと相まって、広いトリミング有効範囲を確保しつつ、上面電極層３と抵抗体層４とが重なった範囲内へのトリミングを確実に防止できる。また、保護層５は上記境界に被さることがないので、その色は透明等に限定される。
【００３４】
続いて、上記実施形態と同様に、絶縁基板１の縦分割を介して端面電極層７を形成し、絶縁基板１の横分割を介してメッキ層８を形成して、図２（ｃ）に示すようなトリマブルチップ抵抗器が完成する。
【００３５】
以上のように本実施形態でも、上記実施形態と同様に、抵抗体層４のトリミング位置の設定対象となる部分の輪郭が全範囲にわたって判別でき、画像認識による識別が容易になる。これにより、抵抗体層４の輪郭を基準とするトリミング位置を精度良く演算・設定することができ、上述したトリミング溝の種類や、トリミング倍率を目的に応じて自由に選択することができる。また、上面電極層３の上に抵抗体層４が形成されているため、電流雑音及び抵抗値の再現性が良好となる。
【００３６】
（第３実施形態）
図３は、本発明の第３実施形態のトリマブルチップ抵抗器及びその製造工程を概念的に示す説明図である。この実施形態でも、上記第２実施形態と同様に絶縁基板１上に上面電極層３、抵抗体層４及び補助膜６を形成する。（図１（ａ）、図３（ａ）参照）以下、上述した実施形態と重複する部分の説明は省略し、要点となるところを抽出して説明する。
【００３７】
図３（ｂ）に示すように、一対の補助膜６のそれぞれに一部重なるようにして、且つ、補助膜６の基板幅方向の幅よりも幅広で、基板幅方向において抵抗体層４をある程度の余裕をもって内包する保護層５を形成する。この保護層５は、透明又は半透明のガラス系又は樹脂系のコート素材を印刷・焼成することによって得られる。
【００３８】
続いて、上記実施形態と同様に、絶縁基板１の縦分割を介して端面電極層７を形成し、絶縁基板１の横分割を介してメッキ層８を形成して、図３（ｃ）に示すようなトリマブルチップ抵抗器が完成する。
【００３９】
以上のように本実施形態では、保護層５の色を透明又は半透明とし、上記実施形態と同様に、抵抗体層４のトリミング位置の設定対象となる部分の輪郭が全範囲にわたって判別でき、画像認識による識別が容易になる。これにより、抵抗体層４の輪郭を基準とするトリミング位置を精度良く演算・設定することができ、上述したトリミング溝の種類や、トリミング倍率を目的に応じて自由に選択することができる。また、上面電極層３の上に抵抗体層４が形成されているため、電流雑音及び抵抗値の再現性が良好となる。
【００４０】
ところで本発明では、一対の補助膜６は、画像認識用のデジタル画像上で、抵抗体層４の露出部に対応する部分の色に対して明確に対比できる色を呈していれば良く、特定の素材に限定されるものではない。上記各実施形態では画像認識において２値化画像を用いた場合を意識して、抵抗体層４を暗色とし、絶縁基板１・上面電極層３・補助膜６を明色としたが、例えばグレースケール又はカラーによる画像認識が可能な場合においては、これらの色の条件は幾分緩和されることになる。後者の場合はまた、エッジ抽出などの画像処理に重きを置くことで、さらに色の条件が緩和される。なお、この明細書では、説明の簡略化のため、色合い・彩度・明度といった色の概念を意識的に除外し、単に「色」と表現した。
【００４１】
【発明の効果】
以上のように、本発明は、絶縁基板・上面電極層・抵抗体層・保護層・端面電極層・メッキ層を基本構成とする、画像認識を用いたレーザトリミングによる抵抗値調整が可能なトリマブルチップ抵抗器において、前記保護層が基板幅方向において前記抵抗体層を内包するように、前記保護層の基板幅方向の幅を前記抵抗体層の基板幅方向の幅よりも広く設定し、前記一対の上面電極層間の離間幅を超えない離間幅で対向するとともに、前記一対の上面電極層と前記抵抗体層とが重なった部分に少なくとも一部がそれぞれ対向する一対の補助膜を、前記保護層の両端部上に形成し、前記一対の補助膜は、前記画像認識用のデジタル画像上で、前記抵抗体層の露出部に対応する部分の色に対して明確に対比できる色を呈していることを特徴とするトリマブルチップ抵抗器とした。
【００４２】
上記構成により、抵抗体層のトリミング位置の設定対象となる部分の輪郭が全範囲にわたって判別でき、画像認識による識別が容易になる。これにより、抵抗体層の輪郭を基準とするトリミング位置を精度良く演算・設定することができ、トリミング溝の種類や、トリミング倍率を目的に応じて自由に選択することができる。また、保護層の色は、透明又は半透明に限定されないので、その素材の選択自由度が高い。さらに、上面電極層の上に抵抗体層が形成されるため、抵抗体層の上に上面電極層が形成されるよりも電気的な接続の安定性が増し、電流雑音の低減化や抵抗値検査工数の簡素化を実現できる。
【００４３】
本発明はまた、上記構成において、前記一対の補助膜を前記抵抗体層の両端部上に形成した態様であっても、上記構成と同様の効果を有する。後者の構成において、前記一対の補助膜は導電性であるとともに、前記一対の補助膜の一部が前記一対の上面電極層の一部にそれぞれ接続することで、抵抗体層に接触する電極部分の面積が増大し、その接触抵抗が低減され、電流雑音の低減化や抵抗値検査工数の簡素化を実現できる。また、画像認識される抵抗体層の中心が必然的に実際の抵抗として機能する部分の中心となり、抵抗体層の印刷ズレを見込んだ精度の高いトリミングができる。
【００４４】
本発明はまた、後者の構成において、前記保護層の基板長手方向の幅が、前記一対の補助膜の離間幅と略等しくなるようにすることで、例えば暗色系の保護層を配設した場合においても、基板長手方向のトリミング有効範囲が前記補助膜の側縁によって明確に認識でき、上面電極層と抵抗体層とが重なった範囲内へのトリミングを防止できる。
【００４５】
本発明はさらに、前者又は後者の構成において、前記上面電極層の基板長手方向内側の側縁と、前記補助膜の基板長手方向内側の側縁とが、略面一になるようにすることで、広いトリミング有効範囲を確保しつつ、上面電極層と抵抗体層とが重なった範囲内へのトリミングを確実に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態によるトリマブルチップ抵抗器を示す説明図であり、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は平面図、（ｄ）は（ｃ）の中心を含む基板長手方向の断面図（断面を示す斜線は省略）である。
【図２】本発明の第２実施形態によるトリマブルチップ抵抗器を示す説明図であり、（ａ）及び（ｂ）は平面図、（ｃ）は（ｂ）の中心を含む基板長手方向の断面図（断面を示す斜線は省略）である。
【図３】本発明の第３実施形態によるトリマブルチップ抵抗器を示す説明図であり、（ａ）及び（ｂ）は平面図、（ｃ）は（ｂ）の中心を含む基板長手方向の断面図（断面を示す斜線は省略）である。
【図４】従来のトリマブルチップ抵抗器を示す平面図である。
【図５】従来の他のトリマブルチップ抵抗器を示す平面図である。
【符号の説明】
１  絶縁基板
２  裏電極層
３  上面電極層
３ａ  ３の基板長手方向内側の側縁
４  抵抗体層
５  保護層
６  補助膜
６ａ  ６の基板長手方向内側の側縁
７  端面電極層
８  メッキ層
【図１】
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【図２】
0004795581.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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