(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（I）
【化１】
0004840716.tif 000004
（式中Xは、水素原子または、直鎖又は分枝鎖を有するＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表し、Yは水素原子及び、直鎖又は分枝鎖を有するＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルキニル基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、置換アミノスルホニル基を表す。）で表される４（５）−シアノイミダゾール誘導体の製造方法において、式（II）
【化２】
0004840716.tif 000005
（式中X、Ｙは前記と同じ意味を表す。）で表される化合物を、有機溶媒中、１６０℃から２２０℃の温度範囲において昇温しながら反応させていくことを特徴とする製造方法。
【請求項２】
１６０℃から２２０℃の温度範囲において段階的に昇温することを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
１６０℃から２２０℃の温度範囲において１６０℃から５〜１０℃の範囲で段階的に反応温度を上げて行き、各温度で０．５〜５時間程度反応温度を維持することを特徴とする請求項１または２に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬及び農薬の中間体となる４（５）−シアノイミダゾール誘導体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
４（５）−シアノイミダゾール誘導体の製造方法として、例えば、Ｊ．Heterocycl．Chem．，（１９８３），２０（４），ｐ１１０３−５４ には、４（５）−シアノ−５（４）−イミダゾールカルボン酸をニトロベンゼン溶媒中で２０時間加熱還流して脱炭酸させる４（５）−シアノイミダゾールの合成方法が記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記製造方法においては、ニトロベンゼンの沸点は２１０℃と高温であり、大量に製造する場合、かかる高温では炭酸ガスが激しく発生し反応の制御が難しいなど、工業的には実現不可能なものであった。
本発明は、工業的により安全に、４（５）−シアノイミダゾール誘導体を良好な収率で製造する方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、有機溶媒中１６０℃から４（５）−シアノ−５（４）−イミダゾールカルボン酸誘導体の脱炭酸反応が進行すること、さらに段階的に反応温度を上げていくことで、脱炭酸反応を制御することができることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００５】
即ち、本発明は、
（１）式（I）
【化３】
0004840716.tif 000002
（式中Xは、水素原子または、直鎖又は分枝鎖を有するＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表し、Yは水素原子及び、直鎖又は分枝鎖を有するＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルキニル基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、置換アミノスルホニル基を表す。）で表される４（５）−シアノイミダゾール誘導体の製造方法において、式（II）
【化４】
0004840716.tif 000003
（式中X、Ｙは前記と同じ意味を表す。）で表される化合物を、有機溶媒中、１６０℃から２２０℃に昇温しながら反応させていくことを特徴とする製造方法に関し、
（２）１６０℃から２２０℃に段階的に昇温することを特徴とする（１）に記載の製造方法、
（３）１６０℃から２２０℃の温度範囲において１６０℃から５〜１０℃の範囲で段階的に反応温度を上げて行き、各温度で０．５〜５時間程度反応温度を維持することを特徴とする（１）または（２）に記載の製造方法、
に関する。
【０００６】
【発明の実施の形態】
式（I）で表される化合物中、Xは、水素原子、直鎖または分枝鎖を有するC1〜C6アルキル基を表し、Yは水素原子、直鎖又は分枝鎖を有するC1〜C6アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、アラルキル基、トリチル基、アシル基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、置換アミノスルホニル基を表す。
【０００７】
Xとして具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソアミル基、ｎ−ヘキシル基等を例示することができる。Ｙとして具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソアミル基、ｎ−ヘキシル基、ビニル基、プロパルギル基、アリル基、ベンジル基、トリチル基、アセチル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、フェニルスルホニル基、メチルスルホニル基、Ｎ、Ｎ−ジメチルスルファモイル基、等を例示することができる。
式（II）で表される化合物中、X、Yは、前記と同様の意味を表し、上記したのと同様の置換基を例示することができる。なお、Yの置換位置によりシアノ基の置換位置は、４位、５位のいずれかをとり得る場合がある。
【０００８】
本反応に用いる有機溶媒としては、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のトリエチレングリコールジアルキルエーテル類やジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類、オルト−ジクロロベンゼン、ベンゾニトリル、ニトロベンゼンなどを例示することができる。反応は通常常圧下行われるが、沸点が１６０℃以下の溶媒を用いた場合、加圧下で反応を行うこともできる。
用いる溶媒の量は特に制限されないが、熱効率及び、反応の安全性を考慮して式（II）で表される化合物１００ｇに対して３００ｍｌ以上用いるのが好ましい。
【０００９】
本発明は、式（I）で表される化合物の製造方法において、式（II）で表されるシアノイミダゾールカルボン酸を、１６０℃から２２０℃まで昇温しながら反応させることを特徴とし、さらに好ましくは段階的に反応温度を上げて行くことで反応速度を制御し、脱炭酸反応をより安全に行うことを特徴とする。
脱炭酸反応速度の制御方法としては、反応温度を段階的に昇温するのが好ましい。段階的に昇温する方法中、段階数、昇温する幅、温度保持時間等は、反応基質、反応スケールにより任意に選択することができ、例えば、１７０〜１７５℃で２〜４時間、２０５〜２１０℃で１〜２時間のように２段階で昇温する場合、１６０〜１７０℃の温度範囲で１〜５時間、１７０℃〜１８０℃の温度範囲で１〜５時間、１８０℃〜１９０℃の温度範囲で１〜５時間、１９０℃〜２２０℃の温度範囲で１〜５時間の様に１６０℃から２２０℃の温度範囲において１６０℃から５〜１０℃の範囲で段階的に反応温度を上げて行き、各温度で０．５〜５時間程度反応温度を維持する場合を例示することができ、このようにすることにより脱炭酸反応速度を制御することができる。
【００１０】
反応は、通常大気下で行うが、発生する炭酸ガスを反応系外に追い出すために、窒素等の不活性ガスを反応槽または反応液中に吹込ながら反応を行うこともできる。
以下実施例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明の範囲は実施例に限定されるものではない。
【００１１】
実施例１
４（５）−シアノ−５（４）−イミダゾールカルボン酸３５３．５ｇ（２．５８ｍｏｌ）をニトロベンゼン２１２０ｍｌに懸濁させ、１６０℃まで２．５時間かけて昇温した。１６０℃から１６５℃の間で０．５時間反応させ、１７０℃まで昇温し、１７０℃で２時間反応させ、次に１７５℃まで昇温し、１７５℃で２時間反応させた。さらに１８０℃まで昇温し、１８０℃で２時間反応させた。反応中、炭酸ガス発生による、激しい発泡、突沸等の現象は見られなかった。反応液を２０℃まで冷却し、水３０２５ｍｌと２５％水酸化ナトリウム４１３ｇを添加し、分液して有機層を除き、得られた水層をトルエン１３０ｍｌで洗浄した。水層を３５％塩酸で中和し、活性炭処理をした後、水を減圧で留去し、得られた残渣を水で再結晶することで、４（５）−シアノイミダゾールを１２７ｇ（収率５３％（再結晶前で収率７３％））得た。ｍｐ１５０〜１５１℃
なお、４（５）−シアノ−５（４）−イミダゾールカルボン酸は、特開昭５０−２９５６０号公報に記載の方法で合成した。
【００１２】
【発明の効果】
以上、述べたように、本発明の方法を用いることにより、激しい発泡、突沸等の工業的に製造する際に問題なる現象を抑えることができ、工業的製造方法として有用である。