(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フュージョンパイプに熔融状態のガラスを流し込み、前記フュージョンパイプから熔融状態のガラスを下方に流下させ徐冷して固化させることでガラス基板を製造するフュージョン法によるガラス基板の製造方法であって、
前記熔融状態のガラスの表面に、粒子を付着させることで、前記ガラス基板の表面にうねりを形成し、
前記粒子は、前記熔融状態のガラスと同じ材質のガラス粒子であることを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記ガラス粒子は、フュージョンパイプに流し込む前記熔融状態のガラスの流路において、前記熔融状態のガラスの表面に付着させることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記ガラス粒子は、フュージョンパイプの上方から前記フュージョンパイプ内の前記熔融状態のガラスの表面に付着させることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記ガラス粒子は、フュージョンパイプの片側または両側の側方から前記熔融状態のガラスの表面に付着させることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記ガラス粒子の直径は１５〜４０ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記うねりは、高さ１０〜２０ｎｍで周期０．１〜１ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記うねりは、高さ１５〜２０ｎｍで周期０．１〜０．６ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記ガラス基板は、縦および横方向の長さがそれぞれ１０００ｍｍより大きく、かつ、厚さは１．２ｍｍより薄いことを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記熔融状態のガラスは無アルカリガラスであることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
フュージョンパイプに熔融状態のガラスを流し込み、前記フュージョンパイプから熔融状態のガラスを下方に流下させ徐冷して固化させることで、ガラス基板を製造するフュージョン法によるガラス基板の製造方法であって、
前記フュージョンパイプから流下するガラスに、前記のガラス基板の固化が終了する前に、側方から粒子を衝突させることで、前記ガラス基板の表面を塑性変形させてうねりを形成することを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項１１】
前記粒子は、ガラス、金属、およびセラミックスのうちの、少なくとも１種以上からなることを特徴とする請求項１０に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１２】
前記流下するガラスの片側のみに粒子を衝突させることで、前記ガラス基板の表面にうねりを発生させることを特徴とする請求項１０に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１３】
前記うねりは、高さ１０〜２０ｎｍで周期０．１〜１ｍｍであることを特徴とする請求項１０に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１４】
前記うねりは、高さ１５〜２０ｎｍで周期０．１〜０．６ｍｍであることを特徴とする請求項１０に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１５】
前記ガラス基板は、縦および横方向の長さがそれぞれ１０００ｍｍより大きく、かつ、厚さは１．２ｍｍより薄いことを特徴とする請求項１０に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１６】
前記熔融状態のガラスは無アルカリガラスであることを特徴とする請求項１０に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１７】
フュージョンパイプに熔融状態のガラスを流し込み、前記フュージョンパイプから熔融状態のガラスを下方に流下させ徐冷して固化させることで、ガラス基板を製造するフュージョン法によるガラス基板の製造方法であって、
前記フュージョンパイプから流下するガラスの両面を一対の転写用ローラーで挟み、前記ガラスの固化が終了する前の段階で前記ガラスの厚さ方向に圧力を加えることにより前記ガラスに塑性変形が発生させ、ガラス基板の表面にうねりを形成することを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項１８】
前記一対の転写用ローラーのうち、少なくとも一方のローラーの表面は、高さ１０〜４０ｎｍで周期０．１〜１．２ｍｍのうねりを有することを特徴とする請求項１７に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１９】
前記うねりは、高さ１０〜２０ｎｍで周期０．１〜１ｍｍであることを特徴とする請求項１７に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項２０】
前記うねりは、高さ１５〜２０ｎｍで周期０．１〜０．６ｍｍであることを特徴とする請求項１７に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項２１】
前記ガラス基板は、縦および横方向の長さがそれぞれ１０００ｍｍより大きく、かつ、厚さは１．２ｍｍより薄いことを特徴とする請求項１７に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項２２】
前記熔融状態のガラスは無アルカリガラスであることを特徴とする請求項１７に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項２３】
フュージョンパイプに熔融状態のガラスを流し込み、前記フュージョンパイプから二方向にオーバーフローした熔融状態のガラスを、前記フュージョンパイプの二つの側面に沿って流し、前記フュージョンパイプの下端のブレード状部分で合流させて流下させながら前記熔融状態のガラスを徐冷して固化させることで、ガラス基板を製造するフュージョン法によるガラス基板の製造方法であって、
前記フュージョンパイプの内部に埋め込まれたヒーターを、前記フュージョンパイプ表面において前記ガラスが熔融状態を維持できる温度に保ちつつ、前記フュージョンパイプの両側側面に時間の経過に伴って周期的に制御することで、前記フュージョンパイプの前記二つの側面の間の温度差を周期的に変化させることにより、ガラス基板の表面にうねりを発生させることを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項２４】
前記うねりは、高さ１０〜２０ｎｍで周期０．１〜１ｍｍであることを特徴とする請求項２３に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項２５】
前記うねりは、高さ１５〜２０ｎｍで周期０．１〜０．６ｍｍであることを特徴とする請求項２３に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項２６】
前記ガラス基板は、縦および横方向の長さがそれぞれ１０００ｍｍより大きく、かつ、厚さは１．２ｍｍより薄いことを特徴とする請求項２３に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項２７】
前記熔融状態のガラスは無アルカリガラスであることを特徴とする請求項２３に記載のガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネル等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に用いるためのガラス基板およびその製造方法に関するものであり、特に、テレビジョンやコンピュータ用ディスプレイ等の大型ＦＰＤ用のガラス基板に有用である。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶方式やプラズマ方式に代表されるＦＰＤが急速に普及している。また最近になって、ＦＰＤの新たな方式としてフィールドエミッション型ディスプレイも発表され、更に開発が活発化している。
【０００３】
これらのＦＰＤを製造するには、平板状のガラス基板表面に微細なパターンを精度よく形成する技術が必要とされる。一例として、ＴＦＴ型液晶素子について説明する。ＴＦＴ液晶素子は、ガラス基板の表面に多数の薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を、それぞれが一つ一つの画素に対応するように精度よく配列されて形成される。ＴＦＴを精度よく配列するにはフォトリソグラフィー技術が用いられる。
【０００４】
即ち、第１のガラス基板表面に金属層を形成し、その上にフォトレジストを塗布する。次に、複数パネル分のＴＦＴパターンを露光し現像した後、エッチングを行なう。これにより、第１のガラス基板上の金属層がＴＦＴパターンの形状に残る。この状態となったものを、ここではＴＦＴ基板と呼ぶ。
【０００５】
第２のガラス基板にも、第１のガラス基板に遮光材料層を形成し、その上にフォトレジストを塗布する。次に、ＴＦＴパターンに対応した複数パネル分のカラーフィルター（ＣＦ）パターンを露光した後、エッチングを行なう。これにより、第２のガラス基板上の遮光材料層がＣＦパターンの形状として残る。次に、ＴＦＴパターンの形成に用いたのと同様のフォトリソグラフィー技術により、遮光膜層のパターンに対応してＣＦが形成される。ＣＦの形成工程を合計３回繰り返すことで、赤フィルター、緑フィルター、および青フィルターが形成される。この状態となったものを、ここではＣＦ基板と呼ぶ。
【０００６】
ＴＦＴ基板とＣＦ基板の両方に配向膜を塗布した後、配向膜側を内側にしてガラスビーズによるスペーサを介して両者を貼り合せ、更に、パターン領域の外側部分をシール剤で接着する。
【０００７】
次に、各パネルを切断した後、予め設けられた液晶供給用の穴からＴＦＴ基板とＣＦ基板の間に液晶材料を注入した後、液晶を供給した穴をシールする。最後に、両面に偏光板を貼り付け、ＴＦＴ型液晶パネルが完成する。
【０００８】
ＴＦＴパターンの各画素は、それぞれに対応するＣＦパターンの各領域と互いに精度よく対応させる必要がある。両者がずれると高精細な画像が生成できなくなるからである。従って、ＴＦＴパターンとＣＦパターンはそれぞれが高い寸法精度で形成されなければならない。
【０００９】
ＴＦＴパターンおよびＣＦパターンが所定の寸法精度で形成されているかどうかを評価するための指標として、ＴＦＴパターンとＣＦパターンの外側には、複数の測定用パターンが設けられている。即ち、ＴＦＴパターンとＣＦパターンをそれぞれ露光、現像した後、それぞれの測定用パターン間距離を測定して、設計値との誤差により、これらのパターンの精度評価を行なう。
【００１０】
ところで、ＦＰＤ用のガラス基板の多くは、フュージョン法と呼ばれる方法により製造される。フュージョン法とは、熔融させたガラス材料をフュージョンパイプと呼ばれる容器に流し込み、フュージョンパイプの両側から熔融ガラスをオーバーフローさせ、下方に流しながら固化させることで板状のガラス材を製造する方法である。研磨加工を必要としないため、低コストでガラス基板を製造することが可能である。
【００１１】
フュージョン法によるガラス基板の製造方法について説明する。図８はフュージョン法によるガラス基板の製造に用いるフュージョンパイプを示す。図８(a)に示す通り、フュージョンパイプ4は上方が開放された樋（trough）状部分41となっており、樋状部分41の両側は樋状部分より高い土手（bank）状部分42となっている。このフュージョンパイプ4の下部は楔（wedge）状になっており、下端部はブレード（blade）状部分43となっている。フュージョンパイプ4の内部にはヒーター（図示せず）が内蔵されており、フュージョンパイプ4の表面が、ガラスの熔融状態を維持できる温度を保持できるようになっている。フュージョンパイプ4のＡ-Ａ断面の形状を図８(b)に示す。
【００１２】
図９はフュージョン法によるガラス基板の製造プロセスを示している。高温状態に維持されたフュージョンパイプ4の樋状部分41に熔融状態のガラスGが連続的に流し込まれる。熔融状態のガラスGは土手状部分42から両側にオーバーフローし、更に、フュージョンパイプ4の側面に沿って流下し、下端のブレード状部分43に達する。ブレード状部分43では、フュージョンパイプ4の両側側面に沿って流下した熔融状態のガラスGが合流して板状のガラスGPとなり、降下しながら徐冷される。この過程で板状のガラスGPは徐々に固化し、更に、ローラー45の回転により下方に引き下げられる。その後、所望の大きさに切断されてガラス基板は完成する。
【００１３】
なお、フュージョン法によるガラス基板の製造プロセスについては、次の特許文献１および２にも記載されている。
【特許文献１】米国特許第３３３８６９６号明細書
【特許文献２】米国特許第３６８２６０９号明細書  ＦＰＤの大型化と生産の効率化のために、ＦＰＤ用ガラス基板は年々大型化が進んでいる。液晶用の基板を例に挙げると、既に実用が開始されている第７世代と呼ばれるガラス基板のサイズは、1870mm×2200mmという極めて大きなものであり、更に、大きなサイズも提案されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかし、大きなサイズのガラス基板にパターンを形成する場合、実際に形成されたパターンの寸法が、設計値に比べて許容範囲を超えて誤差が生じることがあるという問題がある。
【００１５】
この問題に関して、パターンの露光に用いる露光装置の投影光学系は極めて高精度に調整されており、投影されるパターンには実質的に歪はないことが確認されている。即ち、投影光学系の精度の問題ではない。また、露光装置のステージは極めて高精度な平面に加工されており、ステージに吸着されたガラス基板の表面は、露光装置に搭載された投影光学系の焦点深度内に収まることも確認されている。従って、ステージの平面性の問題でもない。即ち、ガラス基板上に露光された測定用パターン間の寸法は、少なくとも露光装置のステージに吸着されている間は許容範囲内に入っいると考えてよい。
【００１６】
しかし、それにも拘らず、パターンを露光、現像した後、測定用パターン間の距離を測定すると、許容範囲に収まらないことがあるという問題がある。
【００１７】
また、別の問題として、フォトレジストが塗付されたガラス基板にＴＦＴパターンやＣＦパターンを露光した後、ガラス基板をステージからアンロードする際、静電気が発生し、それがフォトレジスト面に放電することにより、ＴＦＴパターンやＣＦパターンに欠陥が発生するという現象がある。
【００１８】
本発明者らは、ステージの吸着部分とガラス基板の接触面積を減少させることで、これらの問題に対して効果があることを見出した。ステージの吸着部分とガラス基板の接触面積を小さくするには、ステージの吸着部分およびガラス基板の少なくともどちらか一方の表面に適当なうねり（凹凸）を形成することが考えられる。本発明者らは、ステージの吸着部分の表面に研削加工により微小なうねりを形成したところ、研削加工直後には効果が得られるものの、時間の経過と共に徐々に効果が減少し、ステージの吸着部分の表面を再度研削加工すると、再び静電気抑制の効果が増すことを確認した。これは、ガラス基板を繰り返し支持する間に、ステージの吸着部分の表面がガラス基板により磨耗してうねりが小さくなり、その結果、静電気抑制の効果が低下するためである。
【００１９】
そこで、ガラス基板の表面に適度なうねり（凹凸）を形成して、ステージの吸着部分とガラス基板の接触面積を減少させることで、これらの問題が解決できる。ガラス基板の表面に形成するうねりは、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足する必要がある。また、ＦＰＤのパターンが所定の精度で露光できる必要もある。
【００２０】
うねりを形成するには、ガラス基板を一旦製造した後で改めて加工を施して適度なうねりを形成することも可能であるが、このようなプロセスではガラス基板のコストが上昇する。従って、低コストに抑えるには、ガラス基板を製造する段階で、表面に適度なうねりを形成する製造方法が期待される。
【００２１】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、不良率を低く抑え効率よくＦＰＤの製造を行なうことを可能とするガラス基板を提供すること、および、そのようなガラス基板の効率的な製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す各図に対応付けした下記の構成を採用している。ただし、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
【００２３】
本発明は第１に、表面に、高さ１０〜２０ｎｍで周期０．１〜１ｍｍのうねりを有するガラス基板を提供する。
【００２４】
この構成によれば、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足できる。
【００２５】
本発明は第２に、表面に、高さ１５〜２０ｎｍで周期０．１〜０．６ｍｍのうねりを有するガラス基板を提供する。
【００２６】
この構成によれば、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足できる。
【００２７】
本発明は第３に、フュージョンパイプ（1）に熔融状態のガラス（G）を流し込み、フュージョンパイプ（1）から熔融状態のガラス（G）を下方に流下させ徐冷して固化させることで、ガラス基板を製造するフュージョン法によるガラス基板の製造方法であって、熔融状態のガラス（G）の表面に、粒子（GB）を付着させることで、ガラス基板の表面にうねりを形成するガラス基板の製造方法を提供する。
【００２８】
この構成によれば、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足するガラス基板を製造できる。
【００２９】
本発明は第４に、フュージョンパイプ（1）に熔融状態のガラス（G）を流し込み、フュージョンパイプ（1）から熔融状態のガラス（G）を下方に流下させ徐冷して固化させることで、ガラス基板を製造するフュージョン法によるガラス基板の製造方法であって、フュージョンパイプ（1）から流下するガラス（GP）に、側方から粒子を衝突させることで、ガラス基板の表面を変形させてうねりを形成するガラス基板の製造方法を提供する。
【００３０】
この構成によれば、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足するガラス基板を製造できる。
【００３１】
本発明は第５に、フュージョンパイプ（1）に熔融状態のガラス（G）を流し込み、フュージョンパイプ（1）から熔融状態のガラス（G）を下方に流下させ徐冷して固化させることで、ガラス基板を製造するフュージョン法によるガラス基板の製造方法であって、フュージョンパイプ（1）から流下するガラス（GP）の両面を一対の転写用ローラー（16Aおよび16B）で挟み、ガラスの厚さ方向に圧力を加えることにより、ガラス基板の表面にうねりを形成するガラス基板の製造方法を提供する。
【００３２】
この構成によれば、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足するガラス基板を製造できる。
【００３３】
本発明は第６に、フュージョンパイプ（3）に熔融状態のガラス（G）を流し込み、フュージョンパイプ（3）から二方向にオーバーフローした熔融状態のガラス（G）を、フュージョンパイプ（3）の二つの側面（36および37）に沿って流し、フュージョンパイプ（3）の下端のブレード状部分（33）で合流させて流下させながら熔融状態のガラスを徐冷して固化させることで、ガラス基板を製造するフュージョン法によるガラス基板の製造方法であって、フュージョンパイプ（3）の二つの側面（36および37）の間の温度差を周期的に変化させることにより、ガラス基板の表面にうねりを発生させるガラス基板の製造方法を提供する。
【００３４】
この構成によれば、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足するガラス基板を製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。
【００３６】
＜第１実施形態＞
図１は第1実施形態に係るガラスの製造方法を示す概略構成図である。図１において、1はフュージョンパイプを示している。このフュージョンパイプ1の上方は開放された樋（trough）状部分11となっており、その両側には土手（bank）状部分12が配置されている。更に、下端部にはブレード（blade）状部分13がある。また、フュージョンパイプ1の内部にはヒーター（図示せず）が組み込まれており、このヒーターでフュージョンパイプ1を加熱することにより、その表面において、ガラスの熔融状態を維持できる温度とする。
【００３７】
フュージョンパイプ1の樋状部分11には熔融状態の無アルカリガラスGが流し込まれる。ここで、無アルカリガラスとは、ナトリウム（Ｎａ）やカリウム（Ｋ）等のアルカリ金属を含まないガラスを言う。熔融状態の無アルカリガラスGは樋状部分11を満たす。
【００３８】
フュージョンパイプ1の上方には、ノズル14が配置されており、ノズルの先端からは熔融状態のガラスGと同じ材質のガラス粒子GBが吐出される。ガラス粒子GBは、樋状部分11を満たした熔融状態のガラスGの表面に落下して熔融ガラスGの表面に付着する。その状態で、熔融状態のガラスGは土手状部分12からオーバーフローしてフュージョンパイプ1の側面に沿って流下する。
【００３９】
フュージョンパイプ1の下端のブレード状部分13に達した熔融状態のガラスGは板状のガラスGPとなり固化しながら降下し、ローラー15の回転により下方に引き下げられる。その後、所望の大きさに切断されてガラス基板は完成する。
【００４０】
このように製造されたガラス基板の表面にはガラス粒子GBが付着しており、ガラス粒子一つ一つの一部はガラス基板表面から突出した状態となっている。即ち、ガラス基板の表面には、この突出分に相当するうねり（凹凸）が形成されている。
【００４１】
このようなガラス基板にＴＦＴパターンやＣＦパターンを形成してＦＰＤを製造する際、うねりの形成された側をステージに吸着するように管理する。これにより、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足でき、不良品の発生を安定的に抑制できる。また、表面のうねりにより光が適度に散乱されるので、反射防止（写り込み防止）効果もある。
【００４２】
本実施形態において、ガラス粒子GBの大きさは、直径が15〜40ｎｍであることが望ましい。また、ノズルから吐出させるガラス粒子GBの量は、熔融状態のガラスGの流量やガラス粒子GBの大きさにより適宜決定すればよい。
【００４３】
なお、図1では、熔融状態のガラスGがフュージョンパイプ1の両側の側面を流下して、ブレード状部分13で合流する様子を示しているが、熔融状態のガラスGはフュージョンパイプ1のどちらか一方の側面に沿って流下させブレード状部分から降下させてもよい。
【００４４】
また、ノズル14は、フュージョンパイプ1の上方に設けることは必須ではなく、フュージョンパイプ1に溶融状態のガラスを送り込む流路の上方に設けても構わないし、あるいは、フュージョンパイプ1の側方に設けても構わない。フュージョンパイプ1の側方にノズル14を設けた様子を図２に示す。
【００４５】
また、本実施形態においては、ガラス粒子GBは熔融状態のガラスGに付着することにより、完成したガラス基板の表面に凹凸のうねりが形成される。しかし、熔融状態のガラスGに一旦付着したガラス粒子GBを、ガラス基板から超音波洗浄等により除去することでガラス基板表面にうねりを形成しても構わない。この場合には、無アルカリガラス以外の別種のガラス粒子を用いてもよいし、更に、ガラス以外の材料の粒子でも構わない。この場合には、無アルカリガラスより融点の高い材料が好都合である。
【００４６】
＜第２実施形態＞
図３は第２実施形態に係るガラスの製造方法を示す概略構成図である。図３において、フュージョンパイプは第１実施形態に用いたものと同様の構成であり、符号も共通に用いている。
【００４７】
本実施形態においては、ノズル14はフュージョンパイプ1の斜め下方に配置されている。ノズル14からは直径約０．１μｍの大きさのガラス粒子Pが吐出される。
【００４８】
フュージョンパイプ1の樋状部分11に流し込まれた熔融状態の無アルカリガラスGは樋状部分11を満たし、更にオーバーフローしてフュージョンパイプ1の側面に沿って流下する。
【００４９】
フュージョンパイプ1の下端のブレード状部分13に達した熔融状態のガラスGは板状のガラスGPとなり固化しながら降下し、ローラー15の回転により下方に引き下げられる。
【００５０】
その際、板状のガラスGPの固化が終了する前に、ノズル14から吐出されるガラス粒子を板状のガラスGPの表面に衝突させる。それにより板状のガラスGPの表面には塑性変形が生じてうねり（凹凸）が形成される。その後、所望の大きさに切断されてガラス基板は完成する。
【００５１】
このようにして製造されたガラス基板にＴＦＴパターンやＣＦパターンを形成してＦＰＤを製造する際、うねりの形成された側をステージに吸着するように管理する。これにより、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足でき、不良品の発生を安定的に抑制できる。また、表面のうねりにより光が適度に拡散されるので、反射防止（写り込み防止）効果もある。
【００５２】
本実施形態において、ガラス粒子Pの大きさは、直径約０．１μｍの大きさに限定されるものではなく、ノズルの位置やガラス粒子の吐出速度等の条件に応じて適宜決定すればよい。
【００５３】
また、本実施形態においては、ガラス粒子を用いたが、粒子の材料はガラスに限定されることはなく、セラミックや金属でも構わない。
【００５４】
また、本実施形態は、フュージョンパイプに流し込まれた溶融状態のガラスはオーバーフローしてフュージョンパイプ1の側面に沿って流下する構成となっている。しかし、オーバーフローさせずにフュージョンパイプの下部にスリットを設け、そこから溶融状態のガラスを流下させる構成でも構わない。
【００５５】
＜第３実施形態＞
図４は第３実施形態に係るガラスの製造方法を示す概略構成図である。図４において、フュージョンパイプは第１実施形態に用いたものと同様の構成であり、符号も共通に用いている。
【００５６】
本実施形態においては、フュージョンパイプ11の下方に一対の転写用ローラー16Aおよび16Bが配置される。一方の転写用ローラー（16Aまたは16B）の表面にはうねり（凹凸）が形成される。そして、これら一対の転写用ローラー16Aおよび16Bは固化が終了する前の段階で板状ガラスGPの両側表面を挟んで厚さ方向に圧力をかけるように配置される。
【００５７】
フュージョンパイプ1の樋状部分11に流し込まれた熔融状態の無アルカリガラスGは樋状部分11を満たし、更にオーバーフローしてフュージョンパイプ1の側面に沿って流下する。
【００５８】
フュージョンパイプ1の下端のブレード状部分13に達した熔融状態のガラスGは板状のガラスGPとなり固化しながら降下し、まず、一対の転写用ローラー16Aおよび16Bにより厚さ方向に圧力を加えられた後、ローラー15の回転により下方に引き下げられる。
【００５９】
その際、板状のガラスGPの表面は、一対の転写用ローラー16Aおよび16Bにより印加された圧力により塑性変形が発生し、その表面にはうねり（凹凸）が形成される。図４のＡの部分を拡大した様子を図５に示す。その後、所望の大きさに切断されてガラス基板は完成する。
【００６０】
このようにして製造されたガラス基板にＴＦＴパターンやＣＦパターンを形成してＦＰＤを製造する際、うねりの形成された側をステージに吸着するように管理する。これにより、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足でき、不良品の発生を安定的に抑制できる。また、表面のうねりにより光が適度に拡散されるので、反射防止（写り込み防止）効果もある。
【００６１】
本実施形態において、転写用ローラー16Aまたは16Bの表面に形成されるうねりは、高さ１０〜４０ｎｍで周期０．１〜１．２ｍｍであることが望ましいが、これらの値は、転写用ローラー16Aおよび16Bにより印加する圧力や、ガラスの固化度合に応じて適宜決定すればよい。また、うねりは、転写用ローラー16Aおよび16Bの両方の表面に形成されていてもよい。その場合には、ガラスの両面にうねりが形成されることになり、うねりの形成された側をステージ吸着面とする管理は不要となる。
【００６２】
なお、本実施形態は、フュージョンパイプに流し込まれた溶融状態のガラスはオーバーフローしてフュージョンパイプ1の側面に沿って流下する構成となっている。しかし、オーバーフローさせずにフュージョンパイプの下部にスリットを設け、そこから溶融状態のガラスを流下させる構成でも構わない。
【００６３】
＜第４実施形態＞
図６は第４実施形態に係るガラスの製造方法を示す概略構成図である。図４において、フュージョンパイプは第１実施形態に用いたものと類似の形態であるが、第１実施形態とは異なる温度制御を行なう。このフュージョンパイプについて図７を用いて説明する。
【００６４】
このフュージョンパイプ3の上方は開放された樋（trough）状部分31となっており、その両側には土手（bank）状部分32が配置されている。更に、下端部にはブレード（blade）状部分33がある。また、フュージョンパイプ3の内部にはヒーター34および35が組み込まれている。これらのヒーターは、フュージョンパイプ3の表面においてガラスが熔融状態を維持できる温度となるように保ちつつ、フュージョンパイプの両側側面36および37に、時間の経過に伴って周期的に温度差が発生するように制御される。
【００６５】
フュージョンパイプ3の樋状部分31には熔融状態の無アルカリガラスGが流し込まれる。熔融状態の無アルカリガラスGは樋状部分31を満たす。樋状部分31を満たした熔融状態のガラスGは土手状部分32を乗り越えて両側にオーバーフローし、フュージョンパイプ3の側面36および37に沿って流下する。
【００６６】
フュージョンパイプ3の下端のブレード状部分33に達した熔融状態のガラスGは板状のガラスGPとなり徐冷され固化しながら降下する。
【００６７】
その際、フュージョンパイプの両側側面36および37は、上記の説明の通り、時間の経過に伴って周期的に温度差が発生するように制御される。ここでは、ヒーター35はほぼ一定の出力にコントロールされ、ヒーター34は周期的に出力を増減させるように制御することで、側面37は一定温度に、側面36は温度を上下させる。
【００６８】
その結果、側面37を流れる熔融状態のガラスの流速は一定となり、一方、側面36を流れる熔融状態のガラスの流速は時間と共に増減するので、ブレード状部分33で合流して流下する板状のガラスGPの片側には凹凸状のうねりが形成される。
【００６９】
板状のガラスGPは固化しながら降下し、ローラー15の回転により下方に引き下げられる。その後、所望の大きさに切断されてガラス基板は完成する。ガラス基板の表面にはうねりが形成される。
【００７０】
このようにして製造されたガラス基板にＴＦＴパターンやＣＦパターンを形成してＦＰＤを製造する際、うねりの形成された側をステージに吸着するように管理する。これにより、吸着の安定化と静電気発生の抑制を同時に満足でき、不良品の発生を安定的に抑制できる。また、表面のうねりにより光が適度に拡散されるので、反射防止（写り込み防止）効果もある。
【００７１】
本実施形態においては、ヒーター35はほぼ一定の出力にコントロールされ、ヒーター34は周期的に出力を増減させるように制御を行なう。しかし、本発明は、フュージョンパイプの両側側面36および37に、時間の経過に伴って周期的に温度差が発生すればよい。従って、ヒーター34はほぼ一定の出力にコントロールされ、ヒーター35は周期的に出力を増減させるように制御を行なってもよい。あるいは、ヒーター34および35を共に周期的に出力を増減させるように制御を行なってもよい。この場合には、両面にうねりが形成されたガラス基板が得られ、うねりの形成された側をステージ吸着面とする管理は不要となる。
【００７２】
本実施形態においては、ヒーター34および35への供給電力の制御することで、種々の高さと周期を有するうねりの形成が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
ＦＰＤ、特にＴＦＴ型液晶のように高精細なパターンが必要な表示素子を歩留りよく製造できる大型ガラス基板およびその製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の第１実施形態に係わるフュージョン法によるガラス基板の製造を示す概念図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係わるフュージョン法によるガラス基板の製造を示す概念図である。
【図３】本発明の第２実施形態に係わるフュージョン法によるガラス基板の製造を示す概念図である。
【図４】本発明の第３実施形態に係わるフュージョン法によるガラス基板の製造を示す概念図である。
【図５】本発明の第３実施形態に係わるフュージョン法によるガラス基板の製造に用いる転写用ローラーを示す概念図である。
【図６】本発明の第４実施形態に係わるフュージョン法によるガラス基板の製造を示す概念図である。
【図７】本発明の第４実施形態に係わるフュージョン法によるガラス基板の製造に用いるフュージョンパイプを示す概念図である。
【図８】従来のフュージョン法によるガラス基板の製造に用いるフュージョンパイプを示す概念図である。
【図９】従来のフュージョン法によるガラス基板の製造を示す概念図である。
【符号の説明】
【００７５】
1、3、4      フュージョンパイプ
11、31、41   桶状部分
12、32、42   土手状部分
13、33、43   ブレード状部分
14          ノズル
15          ローラー
16A、16B    転写用ローラー
34、35      ヒーター
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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