(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼眼底に第１次指標像を投影する為の投影系と、第１次指標像の反射光束から光電検出器上に第２次指標像を形成する為の受光系と、前記光電検出器からの信号に基づき第２次指標像の光量強度分布特性を測定する為の検出系と、前記受光系と前記検出系の共通光路内に配置され被検眼の眼屈折特性に対応して矯正された状態で被検眼眼底に第１次指標像を合焦させる為の矯正光学系と、被検眼眼底からの散乱反射光束を含む反射光束を光電検出器上に導く為の第１の状態と被検眼眼底からの全反射光束のみを光電検出器上に導く為の第２の状態とに切換える為の光束切換手段とを具備し、前記矯正光学系により矯正された状態での前記光電検出器からの信号に基づき、前記光束切換手段で選択した２つの光束で形成されるそれぞれの第２次指標像の光量強度分布特性を測定し得る様に構成したことを特徴とする眼光学特性測定装置。
【請求項２】
前記２つの第２次指標像の光量強度分布特性から眼底の光学特性を算出する為の演算部を有する請求項１記載の眼光学特性測定装置。
【請求項３】
予め算出された前記眼底の光学特性と、第１の受光状態を選択した際の第２次指標像の光量強度分布特性とから、被検者が認識する眼底上の第１次指標像を演算により算出する為のシミュレーション画像算出手段を有する請求項２記載の眼光学特性測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は被検眼の眼底上に投影された指標像の光量強度分布を測定して眼球光学系の光学特性を測定する為の眼光学特性測定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、被検眼眼底にピンホール像等の指標像を投影し、その反射光束から光電検出器上に指標像を形成し、その指標像の光量強度分布特性を基に、被検眼の眼球光学系の眼光学特性を測定する眼光学特性測定装置が知られている。
【０００３】
斯かる眼光学特性測定装置に於いては、眼底上には角膜から眼底に至る眼球光学系を透過した光束により第１次指標像が形成され、この第１次指標像からの反射光束は再度眼球光学系を透過して光電検出器上に第２次指標像が形成されるもので、光電検出器からの信号に基づき第２次指標像の２次元的な光量強度分布特性を測定するものである。そして、この測定結果から被検眼の眼球光学系の光学特性（ＰＳＦ）（例えば点像強度分布関数）を演算するもので、この光学特性に基づき被検眼眼底上で形成される指標像をシミュレーション画像として演算・表示することができる利点がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前記被検眼の眼底に投影された光束は眼底で全て反射されるわけではなく、一部は眼底表面から表層内部に侵入し、散乱反射される現象、所謂にじみ反射が発生する。
【０００５】
前記眼底でのにじみ反射（散乱反射）により生じる像の劣化の程度は、眼底の光学特性としてあらわされるが、この眼底の光学特性を定量的に測定する装置は提案されていない。
【０００６】
従って、従来の眼光学特性測定装置では光電検出器上の第２次指標像には眼底での散乱反射により生じる像の劣化の影響が含まれ、前記散乱反射が、反射光束と共に前記光電検出器２１に受光されると、第２次指標像の光量強度分布のノイズとなり、正しい眼球光学系の眼光学特性を求めることができない。
【０００７】
本発明は、これらの従来技術の問題点を解決するものであり、本発明の第１の目的は、被検眼の眼底での散乱反射により生じる劣化状態を示す量、即ち、眼底の光学特性を定量的に測定できる眼光学特性測定装置を提供するものであり、又、得られた眼底の光学特性、任意のピント位置での光電検出器上での第２次指標像の光量強度分布とから、任意のピント位置で被検者が認識するシミュレーション画像を実時間で演算・表示が可能な装置を提供することを第２の目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決する為の手段】
本発明は、被検眼眼底に第１次指標像を投影する為の投影系と、第１次指標像の反射光束から光電検出器上に第２次指標像を形成する為の受光系と、前記光電検出器からの信号に基づき第２次指標像の光量強度分布特性を測定する為の検出系と、前記受光系と前記検出系の共通光路内に配置され被検眼の眼屈折特性に対応して矯正された状態で被検眼眼底に第１次指標像を合焦させる為の矯正光学系と、被検眼眼底からの散乱反射光束を含む反射光束を光電検出器上に導く為の第１の状態と被検眼眼底からの全反射光束のみを光電検出器上に導く為の第２の状態とに切換える為の光束切換手段とを具備し、前記矯正光学系により矯正された状態での前記光電検出器からの信号に基づき、前記光束切換手段で選択した２つの光束で形成されるそれぞれの第２次指標像の光量強度分布特性を測定し得る様に構成した眼光学特性測定装置に係り、又前記２つの第２次指標像の光量強度分布特性から眼底の光学特性を算出する為の演算部を有する眼光学特性測定装置に係り、又予め算出された前記眼底の光学特性と、第１の受光状態を選択した際の第２次指標像の光量強度分布特性とから、被検者が認識する眼底上の第１次指標像を演算により算出する為のシミュレーション画像算出手段を有する眼光学特性測定装置に係るものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。
【００１０】
図１に於いて、本発明の実施の形態の光学系について説明する。
【００１１】
図中、１は被検眼、２は投影光学系、３は受光光学系を示す。
【００１２】
前記投影光学系２は光源５、該光源５から発せられた投影光束を集光する投影レンズ６、該投影レンズ６の光軸上に配設されたハーフミラー７、該ハーフミラー７を透過した投影光束を前記被検眼１に向け第１の偏光方向の直線偏光成分（Ｓ直線偏光）を反射して投影すると共にＳ直線偏光とは偏光方向が９０°異なるＰ直線偏光を透過する偏光ビームスプリッタ８、該偏光ビームスプリッタ８の投影光軸に前記偏光ビームスプリッタ８側から配設されたリレーレンズ９、対物レンズ１１、該対物レンズ１１と前記被検眼１との間に配設され球面レンズで構成される矯正光学系１２、光軸に対して挿脱可能に設けられた１／４波長板１３、前記被検眼１の瞳１８と略共役な位置（共役な位置を含む）に配設された開口絞り１４を有する。更に、前記ハーフミラー７に対向して固視標１５、集光レンズ１６を有する固視標系１７が配設されている。前記光源５、固視標１５は前記被検眼１の眼底と共役な位置にあり、後述する様に、前記光源５、固視標１５は眼底に結像する。尚、光源５と投影レンズ６は一体で、後述の合焦レンズ１９と連動して光軸方向に沿って移動可能となっている。
【００１３】
前記受光光学系３は、前記偏光ビームスプリッタ８、該偏光ビームスプリッタ８の投影光軸に配設された前記リレーレンズ９、対物レンズ１１、矯正光学系１２、１／４波長板１３を前記投影光学系２と共用している。
【００１４】
前記偏光ビームスプリッタ８を透過する反射光軸上には反射光軸に沿って移動可能な合焦レンズ１９、結像レンズ２０が配設され、該結像レンズ２０は前記被検眼１の眼底と共役な位置にある光電検出器２１上に反射光束を結像させる。
【００１５】
該光電検出器２１からの受光信号は信号処理部２６を介して記憶部２７に記憶される。前記信号処理部２６から前記記憶部２７へのデータの書込みは制御部２８によって制御され、該制御部２８は前記記憶部２７に記憶されたデータを基に所要の演算をし、又演算結果を表示部２９に表示する。
【００１６】
前記開口絞り１４について、図２（Ａ）、図２（Ｂ）、図２（Ｃ）により説明する。
【００１７】
該開口絞り１４は円形状の３枚の開口板２３，２４，２５から構成され、前記開口板２３は中央部に円形の遮光部２３ａを有し、周囲のリング形状部分が透過部２３ｂとなっており、前記開口板２４は前記遮光部２３ａと同形の透過部２４ａと前記透過部２３ｂと同形のリング形状の遮光部２４ｂを有している。前記開口板２５は８等分した中心角が４５°で対称位置にある２つの小扇形状部分が透過部２５ａ，２５ａであり、残りの２つの大扇形状部分が遮光部２５ｂ，２５ｂとなっている。
【００１８】
前記開口板２３，２４，２５を組合わせることで、図３で示されるＡ1 ，Ａ2 ，Ｂ1 ，Ｂ2 ，Ｃ1 ，Ｃ2 ，Ｄ1 ，Ｄ2 及びＡ′1 ，Ａ′2 ，Ｂ′1 ，Ｂ′2 ，Ｃ′1 ，Ｃ′2 ，Ｄ′1 ，Ｄ′2 の開口部が得られる。
【００１９】
例えば、前記開口板２５を図２（Ｃ）図示の状態とし、該開口板２５に前記開口板２３を組合わせることで、開口部Ａ2 ，Ａ′2 が得られ、前記開口板２５に前記開口板２４を組合わせることで、開口部Ａ1 ，Ａ′1 が得られる。
【００２０】
更に、前記開口板２５を４５°ステップで回転させ、各ステップで開口板２３、開口板２４を組合わせることで、前記開口部Ａ1 ，Ａ2 ，Ｂ1 ，Ｂ2 ，Ｃ1 ，Ｃ2 ，Ｄ1 ，Ｄ2 及びＡ′1 ，Ａ′2 ，Ｂ′1 ，Ｂ′2 ，Ｃ′1 ，Ｃ′2 ，Ｄ′1 ，Ｄ′2 が得られる。
【００２１】
以下、上記光学系の作用について説明する。
【００２２】
前記合焦レンズ１９を基準位置とし、前記被検眼１に前記固視標１５を注視させ、前記矯正光学系１２により前記被検眼１の視力を矯正する。前記開口絞り１４は光軸から外した状態とする。
【００２３】
眼屈折力の矯正後、前記被検眼１に前記固視標１５を注視させた状態で、前記投影光学系２により投影光束が被検眼眼底に投影される。尚、前記固視標１５に関しては、可視光が用いられ、前記投影光束については赤外光が用いられる。
【００２４】
先ず、前記１／４波長板１３が光路に挿入されている状態を説明する。
【００２５】
前記光源５からの投影光束（赤外光）が前記投影レンズ６、ハーフミラー７を透過して前記偏光ビームスプリッタ８に至り、該偏光ビームスプリッタ８でＳ直線偏光分が反射され、前記リレーレンズ９を経て前記対物レンズ１１、矯正光学系１２により前記１／４波長板１３を経て前記被検眼１の眼底に投影され、該眼底上に第１指標像が結像される。
【００２６】
Ｓ直線偏光が該１／４波長板１３を透過することで、右円偏光となる。前記被検眼１の眼底で投影光束が全反射され、全反射光束は眼底で反射されることで左円偏光となる。更に、全反射光束が前記１／４波長板１３を透過することで、前記Ｓ直線偏光とは偏光方向が９０°異なるＰ直線偏光となる。
【００２７】
Ｐ直線偏光は前記矯正光学系１２、対物レンズ１１、リレーレンズ９により前記偏光ビームスプリッタ８に導かれる。該偏光ビームスプリッタ８はＳ直線偏光を反射し、Ｐ直線偏光を透過するので、前記全反射光束は該偏光ビームスプリッタ８を透過し、前記合焦レンズ１９、結像レンズ２０により前記光電検出器２１上に第２次指標像として結像される。
【００２８】
次に、前記被検眼１の眼底に投影された投影光束は眼底で全て反射されるわけではなく、一部は眼底表面から表層内部に侵入し、散乱反射される現象、所謂にじみ反射が発生する。この散乱反射光束が、全反射光束と共に前記光電検出器２１に受光されると、第２次指標像の光量強度分布のノイズとなり、正確な眼球光学系の眼光学特性が測定できない。
【００２９】
斯かる散乱反射による光束の偏光状態はランダム状態である。この為、前記１／４波長板１３を透過し、直線偏光となった場合にＰ直線偏光と合致するものは限られた部分に限定され、前記偏光ビームスプリッタ８により散乱反射光束でＰ直線偏光と合致するもの以外は反射される。従って、被検眼１の眼底で全反射されたＰ直線偏光分に対して散乱反射光束によるＰ直線偏光分の比率は無視できる程度に小さくなる。
【００３０】
従って、前記光電検出器２１が受光するのは実質上散乱反射光束分が除去された全反射光束となる。而して、前記１／４波長板１３を投影光学系２、受光光学系３の構成要素とすることで、正確な眼球光学系の眼光学特性測定を可能とする。
【００３１】
該光電検出器２１が受光した第２次指標像の光量強度分布は前記被検眼１そのものの眼光学特性を反映しており、光電検出器２１の受光状態を検出することで、眼光学特性を測定することができる。
【００３２】
次に、前記１／４波長板１３が光路から退避している状態を説明する。
【００３３】
前記１／４波長板１３が除去されているので、眼底からの全反射光の偏光状態はＳ直線偏光のままであり、前記偏光ビームスプリッタ８により全て反射される。従って、前記偏光ビームスプリッタ８を透過するのは、眼底で散乱反射された散乱光束のＰ直線偏光成分だけである。前記光電検出器２１上には散乱光束による第２次指標像が結像される。該光電検出器２１が受光した第２次指標像の光量強度分布は前記被検眼眼底と被検眼１の眼底光学特性、眼光学特性を反映している。
【００３４】
前記１／４波長板１３を挿入した状態での光電検出器２１の受光状態と、前記１／４波長板１３を退避させた状態の前記光電検出器２１の受光状態とに基づき以下の手順により、眼底光学特性を測定することができる。
【００３５】
又、前記１／４波長板１３の挿脱により、光電検出器２１に投影される反射光束は、眼底で全反射された全反射光束か、眼底で散乱反射した散乱反射光束かのいずれかを選択でき、前記１／４波長板１３は光束切替え手段として機能する。
【００３６】
先ず図４（Ａ）に示す様に、前記１／４波長板１３を光路中に挿入した場合、即ち散乱反射光束を除去した場合に於いて、被検眼１の眼球光学系の光学特性をＰ、眼底で全反射された全反射光束を受光した場合の光電検出器２１上での２次元光量強度分布をＩr とすると、光電検出器２１で受光する全反射光束は前記被検眼１を２度通過していることから、前記ＰとＩr との間には
【００３７】
Ｐ※Ｐ＝Ｉr
ここで、※は、コンボルーション積分を意味する。
又、Ｐ、Ｉr をフーリエ変換すると、
ＦＴ（Ｐ）＝ｐ、ＦＴ（Ｉr ）＝ｉr
となるので、
ｐ2 ＝ｉr                                        （１）
と表される。
【００３８】
次に図４（Ｂ）に示す様に、前記１／４波長板１３を退避させた場合、即ち反射光束が散乱反射のみである場合に於いて、被検眼１の眼球光学系の光学特性をＰ、眼底での散乱反射により生じる眼底の光学特性をＲ、眼底で散乱反射された散乱反射光束を受光した場合の光電検出器２１上での２次元光量強度分布をＩd とすると、光電検出器２１で受光する散乱反射光束は前記被検眼１を２度通過し、更に眼底の光学特性の影響を受けていることから、前記ＰとＩd との間には
【００３９】
Ｐ※Ｒ※Ｐ＝Ｉd
ここで、Ｐ、Ｒ、Ｉd をフーリエ変換すると、
ＦＴ（Ｒ）＝ｐ、ＦＴ（Ｒ）＝ｒ、ＦＴ（Ｉd ）＝ｉd
とすると、
ｐ×ｒ×ｐ＝ｐ2 ×ｒ＝ｉd                       （２）
と表される。
（１）式、（２）式から
ｒ＝ｉd ／ｉr
となり、更に逆フーリエ変換すると
Ｒ＝ＩＦＴ（ｉd ／ｉr ）                        （３）
となる。
【００４０】
即ち、ＦＴ（Ｉr ）＝ｉr 、ＦＴ（Ｉd ）＝ｉd     （４）
であるから、前記光電検出器２１上に於ける、眼底での全反射光束による光量強度分布Ｉr 、眼底での散乱光束よる光量強度分布Ｉd をそれぞれ測定し、前記（３）式に基づいて眼底での散乱反射により生じる像の劣化を定量的に示す眼底の光学特性を算出することができる。
【００４１】
上記した手順で眼底の光学特性を測定することができ、眼底の光学特性を考慮して眼底でのシミュレーション画像を演算することができる。
【００４２】
前記矯正光学系１２、或は合焦レンズ１９の調整により、任意の状態で被検眼眼底に指標像を投影した場合の眼底上での指標像を以下の手順により、シミュレーションする。
【００４３】
この場合、前記光電検出器２１上に結像される指標像の光量強度を測定する場合は、前記１／４波長板１３を退避させ散乱光束を受光する状態で行う。尚、上記手順で求めた眼底の光学特性については変化はない。
【００４４】
その時の眼球光学系の光学的光伝達関数をＰa 、眼底での散乱反射により生じる眼底の光学的光伝達関数をＲ、散乱反射光束で受光した場合の光電検出器上での光量強度分布をＩa とすると、
【００４５】
Ｐa ※Ｒ※Ｐa ＝Ｉa                             （５）
となる。
ここで、前述と同様に、フーリエ変換をする。
ＦＴ（Ｐa ）＝ｐa 、ＦＴ（Ｒ）＝ｒ、ＦＴ（Ｉa ）＝ｉa
となり、更に、
ｐa2×ｒ＝ｉa
となり、
ｐa ＝√（ｉa ／ｒ）                            （６）
となる。
従って、逆フーリエ変換をすると、
Ｐa ＝ＩＦＴ（√（ｉa ／ｒ））                  （７）
となる。
【００４６】
光電検出器２１上での光量強度分布Ｉa を測定し、前述の演算により算出したＲに基づき、その任意の状態での光伝達関数を算出することができ、この算出されたＰa と、実際に使用する指標の光量強度分布関数Ｏとをコンボルーション積分をすることにより、被検眼の眼底に投影されるイメージＩのシミュレーション画像を下記式により演算することができる。
【００４７】
Ｉ＝Ｐa ※Ｏ                                    （８）
【００４８】
従って、シミュレーション画像を表示装置に表示することで、任意の屈折力矯正状態、任意の合焦状態での被検者が実際に認識している像をリアルタイムで観察することができる。
【００４９】
被検眼の眼光学特性の測定について図５を参照して説明する。
【００５０】
ＳＴＥＰ０１：前記被検眼１に前記固視標１５を注視させた状態で、前記矯正光学系１２により、被検眼の球面度数、乱視度数、乱視軸に対応して被検眼の視力を矯正する。この矯正は、事前に測定した他覚式レフラクトメータの測定結果に基づき矯正を行う方法、或は、被検者が前記光電検出器２１からの信号に基づきモニタに表示された指標像を観察し指標像が点像として観察される様に矯正を行う方法等が利用できる。
【００５１】
ＳＴＥＰ０２：前記開口絞り１４を外すか、或は開口板２４を選択する。
【００５２】
ＳＴＥＰ０３：１／４波長板１３を挿入して、眼底での全反射光束を選択する。
【００５３】
ＳＴＥＰ０４：前記光電検出器２１には全反射光束により第２次指標像が結像され、該第２次指標像に基づく受光信号から第１の光量強度分布Ｉr が測定される。該第１の光量強度分布Ｉr を前記記憶部２７に記憶させる。
【００５４】
ＳＴＥＰ０５：１／４波長板１３を外して、受光光束を反射散乱光束とする。
【００５５】
ＳＴＥＰ０６：前記光電検出器２１上に形成される第２次指標像は反射散乱光束のみにより形成される。該第２次指標像に基づく受光信号から第２の光量強度分布Ｉd が測定され、前記記憶部２７に記憶される。
【００５６】
ＳＴＥＰ０７：前記制御部２８に於いて、ＳＴＥＰ０４、ＳＴＥＰ０６の測定結果より被検眼１眼底の光学特性Ｒを算出する。該眼底光学特性Ｒが前記記憶部２７に記憶される。
【００５７】
ＳＴＥＰ０８：前記１／４波長板１３を退避とし、散乱反射光束が選択される。
【００５８】
ＳＴＥＰ０９：前記開口絞り１４で任意の開口、合焦レンズ１９の移動による任意のピント位置、或は、矯正光学系１２による任意の矯正状態が選択される。
【００５９】
ＳＴＥＰ１０：前記光電検出器２１に形成された指標像に基づく受光信号から光量強度分布Ｉa が測定される。該光量強度分布Ｉa が前記記憶部２７に記憶される。
【００６０】
ＳＴＥＰ１１：眼底光学特性Ｒは既に求められているので、上記（５）式、（７）式より任意の開口、更に任意の合焦状態での眼光学特性Ｐa が求められ、更に（８）式によりシミュレーション画像を演算し、前記表示部２９に表示し、又は前記記憶部２７に記憶する。
【００６１】
ＳＴＥＰ１１に於いて説明した様に、前記開口絞り１４の任意の開口でリアルタイムのシミュレーション画像が得られる。従って、例えば前記開口板２４を挿入した状態と、外した状態でのシミュレーション画像を得ることで、虹彩が拡大した状態、縮小した状態での被検眼眼底での像を見ることができる。その他、図３中、Ｂ2 領域、或はＤ1 領域等に限った状態でのシミュレーション画像についても同様に得られ、更に眼屈折力を矯正している過程でも被検者が認識する像をリアルタイムで見ることができる。
【００６２】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、被検眼眼底に第１次指標像を投影する為の投影系と、第１次指標像の反射光束から光電検出器上に第２次指標像を形成する為の受光系と、前記光電検出器からの信号に基づき第２次指標像の光量強度分布特性を測定する為の検出系と、前記受光系と前記検出系の共通光路内に配置され被検眼の眼屈折特性に対応して矯正された状態で被検眼眼底に第１次指標像を合焦させる為の矯正光学系と、被検眼眼底からの散乱反射光束を含む反射光束を光電検出器上に導く為の第１の状態と被検眼眼底からの全反射光束のみを光電検出器上に導く為の第２の状態とに切換える為の光束切換手段とを具備し、前記矯正光学系により矯正された状態での前記光電検出器からの信号に基づき、前記光束切換手段で選択した２つの光束で形成されるそれぞれの第２次指標像の光量強度分布特性を測定し得る様に構成したので、被検眼の眼底での散乱反射により生じる劣化状態を定量的に測定でき、更に散乱反射により生じる劣化状態を定量的に測定するので、被検者が認識する眼底上の指標像をシミュレーションでき、リアルタイムで観察することができるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す光学系の概略構成図である。
【図２】同前実施の形態に使用される開口絞りの説明図である。
【図３】前記開口絞りにより分割される領域の状態を示す説明図である。
【図４】（Ａ）は被検眼眼底での全反射状態を示す説明図、（Ｂ）は被検眼眼底での散乱反射状態を示す説明図である。
【図５】本発明の実施の形態に於ける測定についてのフローチャートである。
【符号の説明】
１          被検眼
２          投影光学系
３          受光光学系
５          光源
８          偏光ビームスプリッタ
９          リレーレンズ
１１        対物レンズ
１２        矯正光学系
１３        １／４波長板
１４        開口絞り
１７        固視標系
１９        合焦レンズ
２１        光電検出器
２７        記憶部
２８        制御部
２９        表示部
【図１】
0004606560.tif 000002
【図２】
0004606560.tif 000003
【図３】
0004606560.tif 000004
【図４】
0004606560.tif 000005
【図５】
0004606560.tif 000006