(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のレジスト膜を液浸露光する前に当該レジスト膜の上に形成された撥水性の保護膜を、液浸露光の後に、フッ素系の溶剤である除去液により除去するために、基板保持部に水平に保持された基板の表面に除去液供給ノズルから前記除去液を供給する保護膜除去装置において、
前記除去液とこの除去液により溶解した保護膜の溶解液との混合液である薬液を回収するために、基板が置かれる雰囲気に連通する回収路と、
この回収路の出口端に設けられた中間タンクと、
この中間タンク内に、前記薬液よりも比重が小さくかつ当該薬液と分離する揮発防止液を予め供給するための手段と、
前記中間タンクに入口端が設けられ、バルブを備えた送液路と、
この送液路の出口端に設けられた回収タンクと、
前記中間タンクの液量を監視する液量監視手段と、
液量の監視結果に基づいて、前記中間タンク内の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、前記送液路のバルブを開き、前記中間タンク内の液を回収タンクに供給するための制御手段と、を備えたことを特徴とする保護膜除去装置。
【請求項２】
中間タンクは、第１の中間タンク及び第２の中間タンクを含み、前記回収路は分岐されて各出口端に夫々第１の中間タンク及び第２の中間タンクが設けられ、
前記制御手段は、前記第１の中間タンク及び第２の中間タンクの一方の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、回収路のバルブの制御を介して、回収路から液を受け取る中間タンクを他方側に切り替える機能を備えていることを特徴とする請求項１記載の保護膜除去装置。
【請求項３】
制御手段は、液量が予め設定された設定量になったと判断した中間タンクについて、送液路のバルブを開き中間タンク内の液を回収タンクに送るように制御動作することを特徴とする請求項２記載の保護膜除去装置。
【請求項４】
回収タンクは、第１の回収タンク及び第２の回収タンクを含み、これら回収タンクが夫々送液路の出口端に設けられ、
前記制御手段は、前記第１の回収タンク及び第２の回収タンクの一方の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、送液路のバルブの制御を介して、送液路から液を受け取る回収タンクを他方側に切り替える機能を備えていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一に記載の保護膜除去装置。
【請求項５】
前記送液路のバルブを開いたときには、前記中間タンク内の薬液に加えて揮発防止液も回収タンクに供給されることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一に記載の保護膜除去装置。
【請求項６】
回収タンクに前記揮発防止液を供給するための手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一に記載の保護膜除去装置。
【請求項７】
中間タンク内の液を回収タンクに送液しているときに、液が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出する検出手段を備え、
制御手段は、この検出手段が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出したときに送液路に設けたバルブを閉じる機能を備えたことを特徴とする請求項１、２、３、４または６記載の保護膜除去装置。
【請求項８】
中間タンク内の液を排出するためのドレイン路とこのドレイン路に設けられたバルブとを備え、
制御手段は、前記検出手段が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出したときに送液路に設けたバルブを閉じる機能に加えて、ドレイン路に設けられたバルブを開く機能を備えていることを特徴とする請求項７に記載の保護膜除去装置。
【請求項９】
中間タンク内の液を回収路に戻すための帰還路とこの帰還路に設けられたバルブと帰還路の途中に設けられた揮発防止液を貯留する戻り液用タンクと、を備え、
制御手段は、前記検出手段が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出したときに送液路に設けたバルブを閉じる機能に加えて、帰還路に設けられたバルブを開いて揮発防止液を戻り液用タンクに送る機能を備えていることを特徴とする請求項７に記載の保護膜除去装置。
【請求項１０】
基板上のレジスト膜を液浸露光する前に当該レジスト膜の上に形成された撥水性の保護膜を、液浸露光の後に、フッ素系の溶剤である除去液により除去するために、基板保持部に水平に保持された基板の表面に除去液供給ノズルから前記除去液を供給する保護膜除去装置において、
前記除去液とこの除去液により溶解した保護膜の溶解液との混合液である薬液を回収するために、基板が置かれる雰囲気に連通する回収路と、
この回収路の出口端に設けられた回収タンクと、
この回収タンク内に、前記薬液よりも比重が小さくかつ当該薬液と分離する揮発防止液を予め供給するための手段と、
前記回収タンクの液量を監視する液量監視手段と、
液量の監視結果に基づいて、前記回収タンク内の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、前記回収路のバルブを閉じるための制御手段と、を備えたことを特徴とする保護膜除去装置。
【請求項１１】
回収タンクは、第１の回収タンク及び第２の回収タンクを含み、これら回収タンクが夫々回収路の出口端に設けられ、
前記制御手段は、前記第１の回収タンク及び第２の回収タンクの一方の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、回収路のバルブの制御を介して、回収路から液を受け取る回収タンクを他方側に切り替える機能を備えていることを特徴とする請求項１０に記載の保護膜除去装置。
【請求項１２】
除去液供給ノズルに前記揮発防止液を供給するための手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか一に記載の保護膜除去装置。
【請求項１３】
回収路に付着した薬液を流すために、回収路に前記揮発防止液を供給するための手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか一に記載の保護膜除去装置。
【請求項１４】
前記回収路に揮発防止液を供給するための手段は、基板保持部に保持された基板の表面に揮発防止液を供給するためのノズル、基板の裏面周縁を洗浄するためのノズル及び基板保持部を囲むと共に下部に回収路が接続されたカップ体に接続された揮発防止液供給路から選ばれるものであることを特徴とする請求項１３記載の保護膜除去装置。
【請求項１５】
基板上のレジスト膜を液浸露光する前に当該レジスト膜の上に形成された撥水性の保護膜を、液浸露光の後にフッ素系の溶剤である除去液により除去し、この除去工程により生じた、除去液と溶解した保護膜の溶解液との混合液である薬液を回収する方法において、
中間タンク内に、前記薬液よりも比重が小さくかつ当該薬液と分離する揮発防止液を予め供給しておく工程と、
基板から離れた前記薬液を回収路を介して中間タンクに送る工程と、
前記中間タンクの液量を監視する工程と、
前記中間タンク内の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、前記中間タンクと回収タンクとの間に設けられた送液路のバルブを開き、前記薬液及び揮発防止液を回収タンクに供給する工程と、を含むことを特徴とする薬液の回収方法。
【請求項１６】
中間タンクは、第１の中間タンク及び第２の中間タンクを含み、前記回収路は分岐されて各出口端に夫々第１の中間タンク及び第２の中間タンクが設けられ、
前記第１の中間タンク及び第２の中間タンクの一方の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、回収路のバルブの制御を介して、回収路から液を受け取る中間タンクを他方側に切り替える工程を含むことを特徴とする請求項１５記載の薬液の回収方法。
【請求項１７】
中間タンク内の液量が予め設定された設定量になったと判断した中間タンクについて、送液路のバルブを開き中間タンク内の液を回収タンクに送る工程を含むことを特徴とする請求項１５又は１６に記載の薬液の回収方法。
【請求項１８】
回収タンクは、第１の回収タンク及び第２の回収タンクを含み、これら回収タンクが夫々送液路の出口端に設けられ、
前記第１の回収タンク及び第２の回収タンクの一方の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、送液路のバルブの制御を介して、送液路から液を受け取る回収タンクを他方側に切り替える工程を含むことを特徴とする請求項１５ないし１７のいずれか一に記載の薬液の回収方法。
【請求項１９】
前記送液路のバルブを開いたときには、前記中間タンク内の薬液に加えて揮発防止液も回収タンクに供給されることを特徴とする請求項１５ないし１８のいずれか一に記載の薬液の回収方法。
【請求項２０】
中間タンク内の液を回収タンクに送液しているときに、液が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出する工程と、
薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出したときに送液路に設けたバルブを閉じる工程を含むことを特徴とする請求項１５ないし１９のいずれか一に記載の薬液の回収方法。
【請求項２１】
中間タンク内の液を排出するためのドレイン路とこのドレイン路に設けられたバルブとを備え、
中間タンク内の液を回収タンクに送液しているときに、液が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出したときに、送液路に設けたバルブを閉じる工程に加えて、ドレイン路に設けられたバルブを開く工程を含むことを特徴とする請求項２０に記載の薬液の回収方法。
【請求項２２】
中間タンク内の液を回収路に戻すための帰還路とこの帰還路に設けられたバルブと帰還路の途中に設けられた揮発防止液を貯留する戻り液用タンクと、を備え、
中間タンク内の液を回収タンクに送液しているときに、液が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出したときに、送液路に設けたバルブを閉じる工程に加えて、帰還路に設けられたバルブを開いて揮発防止液を戻り液用タンクに送る工程を含むことを特徴とする請求項２０に記載の薬液の回収方法。
【請求項２３】
基板上のレジスト膜を液浸露光する前に当該レジスト膜の上に形成された撥水性の保護膜を、液浸露光の後にフッ素系の溶剤である除去液により除去し、この除去工程により生じた、除去液と溶解した保護膜の溶解液との混合液である薬液を回収する方法において、
回収タンク内に、前記薬液よりも比重が小さくかつ当該薬液と分離する揮発防止液を予め供給しておく工程と、
基板から離れた前記薬液を回収路を介して回収タンクに送る工程と、
前記回収タンクの液量を監視する工程と、
前記回収タンク内の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、前記回収タンクのバルブを閉じる工程と、を含むことを特徴とする薬液の回収方法。
【請求項２４】
回収タンクは、第１の回収タンク及び第２の回収タンクを含み、これら回収タンクが夫々回収路の出口端に設けられ、
前記第１の回収タンク及び第２の回収タンクの一方の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、回収路のバルブの制御を介して、回収路から液を受け取る回収タンクを他方側に切り替える工程を含むことを特徴とする請求項２３に記載の薬液の回収方法。
【請求項２５】
基板表面に前記揮発防止液を供給する工程を含むことを特徴とする請求項１５ないし２４のいずれか一に記載の薬液の回収方法。
【請求項２６】
回収路に付着した薬液を流すために、回収路に前記揮発防止液を供給する工程を含むことを特徴とする請求項１５ないし２４のいずれか一に記載の薬液の回収方法。
【請求項２７】
前記回収路に揮発防止液を供給する工程は、基板保持部に保持された基板の表面に揮発防止液を供給するためのノズル、基板の裏面周縁を洗浄するためのノズル及び基板保持部を囲むと共に下部に回収路が接続されたカップ体に接続された揮発防止液供給路の少なくとも一つから揮発防止液を供給する工程であることを特徴とする請求項２６記載の薬液の回収方法。
【請求項２８】
基板上のレジスト膜を液浸露光する前に当該レジスト膜の上に形成された撥水性の保護膜を、液浸露光の後に、フッ素系の溶剤である除去液により除去するために、基板保持部に水平に保持された基板の表面に除去液供給ノズルから前記除去液を供給する保護膜除去装置に用いられ、コンピュータ上で動作するプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは請求項１５ないし２７のいずれか一つに記載された薬液の回収方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の表面に形成された撥水性の保護膜を除去液で除去し、前記除去液とこの除去液により溶解した保護膜の溶解液との混合液である薬液を回収する保護膜除去装置及びその薬液を回収する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造工程におけるフォトリソグラフィ技術は、例えば半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）にレジスト膜を形成し、フォトマスクを用いて当該レジスト膜を露光した後、現像処理を行うことにより所望のパターンを得る、一連の工程により行われている。
【０００３】
この露光技術として、ウエハの表面に光を透過させる液層を形成した状態で露光する手法（以下、「液浸露光」という）がある（特許文献１）。これは液層例えば超純水などの水の中を、光を透過させることで、水中では波長が短くなることから例えば１９３ｎｍのＡｒＦの波長が水中では実質１３４ｎｍになる、という特徴を利用して露光処理するものである。このため既存の光源例えばフッ化アルゴン（ＡｒＦ）やフッ化クリプトン（ＫｒＦ）などを用いて、解像度の高い露光処理を行うことができる。
【０００４】
上述した液浸露光を行うにあたって、液浸露光時における、レジストの溶出を抑えると共に液層をウエハ表面に残りにくくするために、ウエハにレジスト液を塗布した後、ウエハの表面に撥水性の保護膜を形成することが検討されている。そして、特許文献２には、現像装置にてウエハの表面に形成されている撥水性の保護膜を薬液（除去液）によって除去し、その使用済みの薬液を回収することが記載されている。前記薬液としては、例えばウエハの表面に形成された保護膜がアルカリ溶液に対して可溶である場合には、希釈した現像液若しくはシンナー等が用いられ、保護膜がアルカリ溶液に対して不溶である場合には、フッ素系の溶剤等が用いられる。
【０００５】
ここで保護膜の性能及びコストについて検討すると、後者の保護膜は前者の保護膜よりも性能の点で優れているが、コストの面において不利である。即ち、アルカリに対して不溶の保護膜は、フッ素系の樹脂であり、また当該保護膜の除去剤（剥離液とも呼ばれている）もフッ素系の溶剤であることから、これらのコストが高い。このため本発明者は、保護膜を溶解した液及び除去剤を回収して再利用することを検討しているが、これらの薬液は揮発性が極めて高いため、回収率が極めて低い（３００ｍｍのウエハにおいて、回収率は数％〜５０％程度）という問題がある。
【０００６】
なお、特許文献１には、揮発性が高い洗浄溶剤例えばＰＦＣ（パーフロカーボン）、ＨＣＦＣ、ＨＦＣ等を貯留した洗浄槽において、前記洗浄槽の洗浄溶剤液面に対向して設けられた油吐出手段によって洗浄溶剤より比重が小さい油を吐出し、洗浄溶剤液面に油層を形成することで洗浄溶剤の自然気化（揮発）を防止することが記載されているが、上述の課題を解決する手法については記載されていない。
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−１７５０７９号公報
【特許文献２】特開２００５−１８３７０９号公報
【特許文献３】特開平８−１７３９２１号公報（段落００１９及び段落００２０、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、基板の表面に形成された撥水性の保護膜を除去液で除去し、前記除去液とこの除去液により溶解した保護膜の溶解液との混合液である薬液を回収するにあたって、その薬液の回収率の向上を図ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、基板上のレジスト膜を液浸露光する前に当該レジスト膜の上に形成された撥水性の保護膜を、液浸露光の後に、フッ素系の溶剤である除去液により除去するために、基板保持部に水平に保持された基板の表面に除去液供給ノズルから前記除去液を供給する保護膜除去装置において、
前記除去液とこの除去液により溶解した保護膜の溶解液との混合液である薬液を回収するために、基板が置かれる雰囲気に連通する回収路と、
この回収路の出口端に設けられた中間タンクと、
この中間タンク内に、前記薬液よりも比重が小さくかつ当該薬液と分離する揮発防止液を予め供給するための手段と、
前記中間タンクに入口端が設けられ、バルブを備えた送液路と、
この送液路の出口端に設けられた回収タンクと、
前記中間タンクの液量を監視する液量監視手段と、
液量の監視結果に基づいて、前記中間タンク内の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、前記送液路のバルブを開き、前記中間タンク内の液を回収タンクに供給するための制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
上記保護膜除去ユニットにおいて、前記中間タンクは、第１の中間タンク及び第２の中間タンクを含み、前記回収路は分岐されて各出口端に夫々第１の中間タンク及び第２の中間タンクが設けられ、前記制御手段は、前記第１の中間タンク及び第２の中間タンクの一方の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、回収路のバルブの制御を介して、回収路から液を受け取る中間タンクを他方側に切り替える機能を備えた構成としてもよい。また前記制御手段は、液量が予め設定された設定量になったと判断した中間タンクについて、送液路のバルブを開き中間タンク内の液を回収タンクに送るように制御動作するようになっている。
【００１１】
また上記保護膜除去装置は、回収タンクは、第１の回収タンク及び第２の回収タンクを含み、これら回収タンクが夫々送液路の出口端に設けられ、
前記制御手段は、前記第１の回収タンク及び第２の回収タンクの一方の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、送液路のバルブの制御を介して、送液路から液を受け取る回収タンクを他方側に切り替える機能を備えた構成としてもよい。
【００１２】
さらに上記保護膜除去装置において、前記送液路のバルブを開いたときには、前記中間タンク内の薬液に加えて揮発防止液も回収タンクに供給されることが好ましい。また中間タンク内の揮発防止液を回収タンクに供給しない場合には、回収タンクに前記揮発防止液を供給するための手段を備えた構成とすることができる。
【００１３】
また上記保護膜除去装置は、中間タンク内の液を回収タンクに送液しているときに、液が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出する検出手段を備え、制御手段は、この検出手段が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出したときに送液路に設けたバルブを閉じる機能を備えた構成としてもよい。またこの保護膜除去装置は、中間タンク内の液を排出するためのドレイン路とこのドレイン路に設けられたバルブとを備え、制御手段は、前記検出手段が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出したときに送液路に設けたバルブを閉じる機能に加えて、ドレイン路に設けられたバルブを開く機能を備えた構成であってもよい。さらにこの保護膜除去装置は、中間タンク内の液を回収路に戻すための帰還路とこの帰還路に設けられたバルブと帰還路の途中に設けられた揮発防止液を貯留する戻り液用タンクと、を備え、制御手段は、前記検出手段が薬液から揮発防止液に切り替わったことを検出したときに送液路に設けたバルブを閉じる機能に加えて、帰還路に設けられたバルブを開いて揮発防止液を戻り液用タンクに送る機能を備えた構成であってもよい。
【００１４】
また本発明は、板上のレジスト膜を液浸露光する前に当該レジスト膜の上に形成された撥水性の保護膜を、液浸露光の後に、フッ素系の溶剤である除去液により除去するために、基板保持部に水平に保持された基板の表面に除去液供給ノズルから前記除去液を供給する保護膜除去装置において、
前記除去液とこの除去液により溶解した保護膜の溶解液との混合液である薬液を回収するために、基板が置かれる雰囲気に連通する回収路と、
この回収路の出口端に設けられた回収タンクと、
この回収タンク内に、前記薬液よりも比重が小さくかつ当該薬液と分離する揮発防止液を予め供給するための手段と、
前記回収タンクの液量を監視する液量監視手段と、
液量の監視結果に基づいて、前記回収タンク内の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、前記回収路のバルブを閉じるための制御手段と、を備えたことを特徴とする。この保護膜除去装置の回収タンクは、第１の回収タンク及び第２の回収タンクを含み、これら回収タンクが夫々回収路の出口端に設けられ、前記制御手段は、前記第１の回収タンク及び第２の回収タンクの一方の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、回収路のバルブの制御を介して、回収路から液を受け取る回収タンクを他方側に切り替える機能を備えた構成としてもよい。
【００１５】
さらに上述した保護膜除去装置において、除去液供給ノズルに前記揮発防止液を供給するための手段を備えた構成であってもよいし、回収路に付着した薬液を流すために、回収路に前記揮発防止液を供給するための手段を備えた構成であってもよい。前記回収路に揮発防止液を供給するための手段は、基板保持部に保持された基板の表面に揮発防止液を供給するためのノズル、基板の裏面周縁を洗浄するためのノズル及び基板保持部を囲むと共に下部に回収路が接続されたカップ体に接続された揮発防止液供給路から選ばれるものである。
【００１６】
また本発明は、基板上のレジスト膜を液浸露光する前に当該レジスト膜の上に形成された撥水性の保護膜を、液浸露光の後にフッ素系の溶剤である除去液により除去し、この除去工程により生じた、除去液と溶解した保護膜の溶解液との混合液である薬液を回収する方法において、
中間タンク内に、前記薬液よりも比重が小さくかつ当該薬液と分離する揮発防止液を予め供給しておく工程と、
基板から離れた前記薬液を回収路を介して中間タンクに送る工程と、
前記中間タンクの液量を監視する工程と、
前記中間タンク内の液量が予め設定された設定量になったと判断したときに、前記中間タンクと回収タンクとの間に設けられた送液路のバルブを開き、前記薬液及び揮発防止液を回収タンクに供給する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１７】
さらに本発明は、基板上のレジスト膜を液浸露光する前に当該レジスト膜の上に形成された撥水性の保護膜を、液浸露光の後に、フッ素系の溶剤である除去液により除去するために、基板保持部に水平に保持された基板の表面に除去液供給ノズルから前記除去液を供給する保護膜除去装置に用いられ、コンピュータ上で動作するプログラムを格納した記憶媒体であって、前記プログラムは上述した薬液の回収方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする。なお、基板の表面に形成された撥水性の保護膜に対してフッ素系の溶剤である除去液を塗布すると、当該保護膜は基板の表面から剥がれて離れることから、除去液は剥離液（剤）とも呼ばれる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、液浸露光用の撥水性の保護膜を、フッ素系の溶剤である除去液により除去するにあたって、除去液と保護膜の溶解液との混合液である薬液を揮発防止液により揮発を防止した状態で一旦中間タンクに溜め、この中間タンク内の液量が予め設定された設定量になったときに回収タンクに薬液を送るようにしているので、高い回収率で薬液を回収でき、例えば高価な除去液を再利用することができる。
【００１９】
また、中間タンクに一旦薬液を溜めるようにすれば、回収タンクにより直接薬液を回収する場合に比べて、タンク内に溜まった薬液を取り出す際の薬液と水との分離作業を最小限に抑えることができると共に、タンクへ搬送される際の薬液の揮発を最小限に抑えることができる。  
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
先ず、本発明の実施の形態に係る保護膜除去装置を説明する前に、当該保護膜除去装置が組み込まれる露光装置が接続された塗布、現像装置の全体構成について図１から図３を参照しながら簡単に説明する。図１及び図２中Ｂ１は基板例えば１３枚密閉収納されたキャリア２を搬入出するためのキャリアステーションであり、このキャリアステーションＢ１にはキャリア２を複数個並べて載置可能な載置部２０と、前記載置部２０から見て前方の壁面に設けられる開閉部２１と、開閉部２１を介してキャリア２からウエハＷを取り出すための受け渡し手段Ａ１とが設けられている。
【００２１】
前記キャリアステーションＢ１の奥側には筐体２２にて囲まれる処理ブロックＢ２が接続されており、この処理ブロックＢ２には手前側から順に加熱・冷却系等のユニットを多段化した棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３及び液処理ユニットＵ４，Ｕ５の各ユニット間のウエハＷの受け渡しを行う基板搬送手段をなすメインアームＡ２，Ａ３とが交互に配列して設けられている。また主搬送手段Ａ２，Ａ３は、キャリアステーションＢ１から見て前後方向に配置される棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３側の一面部と、後述する例えば右側の液処理ユニットＵ４，Ｕ５側の一面側と、左側の一面側をなす背面部とで構成される区画壁２３により囲まれる空間内に置かれている。また図１及び図２中２４，２５は各ユニットで用いられる処理液の温度調節装置や温湿度調節用のダクト等を備えた温湿度調節ユニットである。  
前記液処理ユニットＵ４，Ｕ５は、例えば図２に示すようにレジスト液や現像液等の薬液収納部２６の上に、ウエハＷの表面にレジスト液を塗布するための塗布ユニット（ＣＯＴ）３０、レジスト膜が形成されたウエハＷの表面に撥水性材料例えばフッ素系の溶剤を含む保護膜形成用の塗布液を塗布し、アルカリ溶液に対して不溶である撥水性の保護膜を形成するための保護膜形成部である保護膜形成ユニット（ＴＣ）３、ウエハＷの表面に現像液を塗布するための現像ユニット（ＤＥＶ）２７及び反射防止膜形成ユニット（ＢＡＲＣ）等を複数段例えば５段に積層した構成にある。また既述の棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３は、液処理ユニットＵ４，Ｕ５にて行われる処理の前処理及び後処理を行うための各種ユニットを複数段例えば１０段に積層した構成にあり、その組み合わせはウエハＷを加熱（ベーク）する加熱ユニット、ウエハＷを冷却する冷却ユニット等が含まれる。
【００２２】
前記処理ブロックＢ２における棚ユニットＵ３の奥側には、インターフェイス部Ｂ３を介して露光装置Ｂ４が接続されている。以下、インターフェイス部Ｂ３について図１、図２及び図３を参照しながら説明する。インターフェイス部Ｂ３は、処理ブロックＢ２と露光装置Ｂ４との間の前後に設けられる第１の搬送室２８ａ、第２の搬送室２８ｂにて構成されており、夫々に主搬送部３１Ａ及び補助搬送部３１Ｂが設けられている。これら主搬送部３１Ａ及び補助搬送部３１Ｂは、基板搬送手段をなすものである。主搬送部３１Ａは昇降自在且つ鉛直軸回りに回転自在な基体３２と、この基体３２上に設けられる進退自在なアーム３３とで構成されている。第１の搬送室２８ａには主搬送部３１Ａを挟んでキャリアステーションＢ１側から見た左側には、ウエハＷのエッジ部のみを選択的に露光するための周縁露光装置（ＷＥＥ）と、複数枚例えば２５枚のウエハＷを一次的に収納するバッファカセット（ＳＢＵ）とが設けられている。また前記バッファカセット（ＳＢＵ）の下には、後述する保護膜除去装置４０が複数段例えば５段に積層した構成で設けられている。
【００２３】
同じく右側にはウエハＷを受け渡すための受け渡しユニット（ＴＲＳ２）が設けられており、この受け渡しユニット（ＴＲＳ２）の上には、例えば冷却プレートを有する高精度温調ユニット（ＣＰＬ）が配置されている。
【００２４】
前記主搬送部３１Ａは、棚ユニットＵ３の受け渡しユニット（ＴＲＳ１）に載置された露光前のウエハＷを周縁露光装置（ＷＥＥ）、バッファカセット（ＳＢＵ）、高精度温調ユニット（ＣＰＬ）に順次搬送すると共に、受け渡しユニット（ＴＲＳ２）に載置された露光後のウエハＷを保護膜除去装置４０、棚ユニットＵ３の加熱ユニット（ＰＥＢ）に順次搬送する役割を備えている。
【００２５】
前記補助搬送部３１Ｂは、昇降自在且つ鉛直軸回りに回転自在な基体３４がガイド機構３５の働きにより左右方向に移動できるように構成されており、更にこの基体３４上に進退自在なアーム３６が設けられている。この補助搬送部３１Ｂは、高精度温調ユニット（ＣＰＬ）内のウエハＷを露光装置Ｂ４の搬入ステージ３７に搬送すると共に、露光装置Ｂ４の搬出ステージ３８上のウエハＷを受け渡しユニット（ＴＲＳ２）に搬送する役割を備えている。
【００２６】
次に前記保護膜除去装置４０の構造について図４を用いて説明する。図４中の５０は基板保持部をなすスピンチャックであり、真空吸着によりウエハＷを水平に保持するように構成されている。このスピンチャック５０は駆動部５１により鉛直回りに回転でき、かつ昇降できるようになっている。またスピンチャック５０の下方側には断面形状が山形のガイドリング５が設けられており、このガイドリング５の外周縁は下方側に屈曲して延びている。前記スピンチャック５０及びガイドリング５を囲むようにカップ体５２が設けられている。
【００２７】
このカップ体５２は上面にスピンチャック５０が昇降できるようにウエハＷよりも一回り大きい開口部が形成されていると共に、側周面とガイドリング５の外周縁との間に排出路をなす隙間５ａが形成されている。前記カップ体５２の下方側は、ガイドリング５の外周縁部分と共に屈曲路を形成して気液分離部を構成している。また前記カップ体５２の底部の内側領域には二つの排気口５３ａ，５３ａが形成されており、これら排気口５３ａ，５３ａには夫々回収管５３，５３が接続されている。さらに前記カップ体５２の底部の外側領域には二つの排液口５４ａ，５４ａが形成されており、これら排液口５４ａ，５４ａには夫々排液管５４，５４が接続されている。なお、これら回収管５４，５４は途中で合流されて一つの回収管６として構成されている。
【００２８】
また保護膜除去装置４０は、ウエハＷの表面に形成されている保護膜を除去するための除去液を供給する除去液供給ノズル７０を備えている。前記除去液供給ノズル７０は、除去液供給管７３を介して除去液を供給する除去液供給源７６に接続されている。また前記除去液供給管７３にはバルブや流量調整部等を含む供給機器群７５が介設されている。前記除去液としては、保護膜がフッ素系の樹脂であるため、フッ素系の溶剤等が用いられる。
【００２９】
またスピンチャック５０に保持されたウエハＷの周縁下方側には、ウエハＷの裏面側周縁部に除去液を供給するためのバックリンスノズル７ａ，７ｂが外側上方に傾斜して設けられており、このノズル７ａ，７ｂの吐出口は、吐出された除去液がウエハＷの周縁部に内側下方から到達するように構成されている。また当該バックリンスノズル７ａ，７ｂには前記除去液供給源７６からの除去液供給管７３の分岐管の一端が接続されている。
【００３０】
また前記除去液供給ノズル７０は、図４（ｂ）に示すようにＬ字状に屈曲したアーム７７を介して移動機構５６に接続されている。前記アーム７７は移動機構５６により処理容器５７の長さ方向（Ｙ方向）に沿って設けられたガイドレール５８に沿って、カップ体５２の一端側の外側に設けられた待機領域５９から他端側に向かって移動できると共に上下方向に移動できるように構成されている。また図５中の６０は主搬送部３１Ａの搬入領域に臨む面に形成されたウエハＷの搬入出口であり、開閉シャッタ６１が設けられている。
【００３１】
また図５に示すように各保護膜除去装置４０の回収管６の下流側は共通回収管６２に各々接続されており、この共通回収管６２の先端部は中間タンク８０の上面部に挿入され、中間タンク８０の底面近傍まで伸びている。この中間タンク８０は、例えばインターフェイス部Ｂ３の底部に、ウエハＷの第１の搬送室２８ａとは区画されて形成された空間に設置されている。また前記共通回収管６２にはバルブＶ６が介設されている。なお、この例では回収管６及び共通回収管６２は回収路に相当する。
【００３２】
次に前記中間タンク８０の上面部には上述した共通回収管６２の他に、タンク８０内を大気開放するための開放口８２が形成されていると共に中間タンク８０内に揮発防止液である例えば比重１．０の純水Ｄを供給するための純水供給管８３が接続されている。なお、揮発防止液は、比重が例えば０．７〜１．５であれば純水に限られるものでない。前記純水供給管８３はバルブＶ１を介して純水供給源８４に接続されている。また前記中間タンク８０には各水位レベルを測定するために液量監視手段である水位センサＨＨ，Ｈ，Ｌ，ＬＬが設置されている。水位センサＨＨは装置の非常停止用の上限水位を監視するためのものであり、水位センサＨは液面をコントロールするための上限水位を監視するためのものであり、水位センサＬは揮発防止液を予め満たしておくための設定水位を監視するためのものであり、水位センサＬＬは中間タンク８０内の薬液を回収タンク９０に送ることのポンプ停止水位を監視するためのものである。また前記タンク８０の底面部には送液路をなす送液管８５が接続されており、前記送液管８５にはバルブＶ２及びポンプＰ２が介設されている。前記送液管８５の先端部は例えば塗布、現像装置の外部に設けられた回収タンク９０の上部開口部に挿入され、回収タンク９０の底面近傍まで延びている。
【００３３】
また前記回収タンク９０は回収タンク満杯検出手段である重量センサ９２の上に載置されており、後述するように回収タンク９０が予め設定した重さになったときに、重量センサ９２の重量計測値に基づいて図示しないアラーム発生部からアラームが発せられると共に図示しない操作パネル上に回収タンク９０が満杯であることが表示されるようになっている。
【００３４】
また上記保護膜除去装置４０は、後述する一連の動作を制御するコンピュータプログラムを有する制御部９を備えており、この制御部９により中間タンク８０内の薬液Ｒ及び純水Ｄを回収タンク９０に供給するタイミング等が制御される。前記プログラムは、記憶媒体例えばフレキシブルディスク（ＦＤ）、メモリーカード、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルデスク（ＭＯ）等に格納され、制御部９であるコンピュータにインストールされている。
【００３５】
続いて上述の実施の形態の作用について説明するが、初めにここで上述した塗布、現像装置におけるウエハＷの流れについて簡単に説明しておく。先ず外部からウエハＷの収納されたキャリア２が載置台２０に載置されると、開閉部２１と共にキャリア２の蓋体が外されて受け渡し手段Ａ１によりウエハＷが取り出される。そしてウエハＷは棚ユニットＵ１の一段をなす受け渡しユニット（図示せず）を介して主搬送手段Ａ２へと受け渡され、棚ユニットＵ１〜Ｕ３内の一の棚にて、塗布処理の前処理として例えば疎水化処理、冷却処理が行われ、しかる後、塗布ユニット（ＣＯＴ）３０にてウエハＷの表面にレジスト液が塗布された後、保護膜形成部である保護膜形成ユニット（ＴＣ）３にてレジスト膜が形成されたウエハＷの表面に撥水性の保護膜が成膜される。また反射防止膜形成ユニット（ＢＡＲＣ）にて疎水化処理に代えてウエハＷの表面に反射防止膜が形成される場合もある。またレジスト膜の上に反射防止膜が形成され、その上に前記保護膜が形成される場合もある。次いでウエハＷは棚ユニットＵ１〜Ｕ３の一の棚をなす加熱ユニット（ＰＡＢ）で加熱（ベーク処理）され、更に冷却された後、棚ユニットＵ３の受け渡しユニット（ＴＲＳ１）を経由してインターフェイス部Ｂ３へと搬入される。このインターフェイス部Ｂ３においてウエハＷは主搬送部３１Ａによって周縁露光装置（ＷＥＥ）→バッファカセット（ＳＢＵ）→高精度温調ユニット（ＣＰＬ）と搬送され、高精度温調ユニット（ＣＰＬ）に載置されたウエハＷは補助搬送部３１Ｂによって露光装置Ｂ４へ搬送され、当該露光装置Ｂ４で露光処理が行われる。露光されたウエハＷは補助搬送３１Ｂによって受け渡しユニット（ＴＲＳ２）に搬送され、続いて主搬送手段３１Ａによって受け渡しユニット（ＴＲＳ２）から保護膜除去装置４０に搬送される。
【００３６】
ここで前記保護膜除去装置４０にて行われる処理、即ち、ウエハＷの表面に形成された撥水性の保護膜を除去液（剥離液とも呼ばれる）で除去する処理について簡単に述べておく。先ず例えばウエハＷの回転と同時にウエハＷの表面中央部に除去液供給ノズル７０により所定量の除去液を塗布すると共にバックリンスノズル７ａ、７ｂからも所定量の除去液がウエハＷの裏面側周縁部から中央部までの例えば８０ｍｍの範囲に塗布される。ウエハＷの中央部に塗布された除去液は周縁に向かって広がり、保護膜を溶解させながら、カップ体５２の側面とガイドリング５の外周縁との間の隙間５ａに流れ落ちる。またウエハＷの裏面側周縁部に塗布された除去液も周縁に向かって広がり、ウエハＷの裏面側周縁部に付着している保護膜を溶解させながら、カップ体５２の側面とガイドリング５の外周縁との間の隙間５ａに流れ落ちる。そして除去液とこの除去液により溶解した保護膜の混合液である薬液（比重が例えば１．７〜１．８）はカップ体５２の底部の外側領域に形成された二つの排液口５４ａ，５４ａを通って回収管５４，５４から排出される。またカップ体５２内の気体はカップ体５２の底部の内側領域に形成された二つの排気口５３ａ，５３ａから排気管５３，５３を介して図示しない吸引手段である吸引ポンプにより吸引されて排出される。
【００３７】
上述したように保護膜除去装置４０にてウエハＷの表面に形成されている保護膜の除去処理が終わった後、ウエハＷは主搬送手段３１Ａによって棚ユニットＵ３の加熱ユニット（ＰＥＢ）に搬送される。そしてウエハＷは棚ユニットＵ５の一の棚をなす現像ユニット（ＤＥＶ）にてウエハＷの表面に現像液を供給してレジストが現像されることで所定のパターン形状のレジストマスクが形成される。しかる後、受け渡し手段Ａ１によりウエハＷは載置台２０上の元のキャリア２へと戻される。
【００３８】
続いて保護膜除去装置４０から排出される薬液を回収する工程について図５及び図６を用いて詳細に説明する。先ず中間タンク８０において、バルブＶ１を開けて空のタンク８０内に純水供給源８４より純水Ｄが純水供給管８３を介して供給され、水位センサＬが液面を感知するとバルブＶ１を閉じて純水Ｄの供給を停止する（図６（ａ））。
【００３９】
次にバルブＶ６を開けて保護膜除去装置４０から排出された薬液Ｒが共通回収管６２を介して所定量の純水Ｄが貯留されている中間タンク８０内に供給される。当該薬液Ｒは純水Ｄよりも比重が大きく且つ当該純水Ｄと分離するため中間タンク８０の底部に順次溜まって、その上に純水Ｄが積層された状態となる（図６（ｂ））。そして水位センサＨによって液面を感知するとバルブＶ２を開けて、ポンプＰ２によって中間タンク８０の底部に溜まっている薬液Ｒが送液管８５を介して回収タンク９０に供給される（図６（ｃ））。こうして中間タンク８０内の薬液Ｒが徐々に減少して行き、薬液Ｒに加えて純水Ｄも回収タンク９０に供給される。そして水位センサＬＬが液面を感知するとバルブＶ２が閉じられ、送液が止められる（図６（ｄ））。
【００４０】
しかる後、同様にして純水供給源８４から純水供給管８３を介して中間タンク８０内に純水Ｄを水位センサＬが当該純水Ｄの液面を感知するまで供給する（図６（ａ））。このように図６（ａ）〜図６（ｄ）に示す一連の動作を繰り返すことで、中間タンク８０内の薬液Ｒ及び純水Ｄが順次回収タンク９０に供給されることになる。
【００４１】
前記回収タンク９０では、図５に示すように薬液Ｒが純水Ｄよりも比重が大きいため薬液Ｄの上に洗浄液Ｄが積層されて溜まることになる。そして重量センサ９２の計測値が設定値になったとき、つまり満液になったときには、重量センサ９２から制御部９へ信号が送られて、この信号に基づいて図示しないアラーム発生部からアラームが発せられると共に、図示しない操作パネル上に回収タンク９０が満杯であることが表示され、それらを例えば作業者が感知することで回収タンク９０が所定の場所に移され、回収タンク９０の開口部に蓋９３が付される。しかる後、当該蓋９３によって密閉された回収タンク９０は業者により回収されることになる。
【００４２】
上述の実施の形態によれば、ウエハＷの表面に形成された撥水性の保護膜を、フッ素系の溶剤である除去液により除去し、その除去液と保護膜の溶解液との混合液である薬液Ｒを回収するにあたって、先ず薬液Ｒを純水Ｄにより揮発を防止した状態で一旦中間タンク８０に溜め、この中間タンク８０内の液量が予め設定された設定量になったときに、回収タンク９０に薬液Ｒ及び純水Ｄを送るようにしているため、中間タンク８０においても回収タンク９０においても揮発性の高い薬液Ｒは純水Ｄによりいわば蓋をされた状態で溜められるため、高い回収率で薬液Ｒを回収することができる。
【００４３】
また、中間タンク８０に一旦薬液Ｒを溜めるようにすれば、回収タンク９０により直接薬液を回収する場合に比べて、タンク内に溜まった薬液Ｒを取り出す際の薬液Ｒと純水Ｄとの分離作業を最小限に抑えることができると共に、タンクへ搬送される際の薬液Ｒの揮発を最小限に抑えることができる。  
また本発明は、図７に示すように共通回収管６２及び純水供給管８３を夫々分岐させ、一方の共通回収管６２ａ及び純水供給管８３ａの先端部に第１の中間タンク８０ａを設け、他方の共通回収管６２ｂ及び純水供給管８３ｂの先端部に第２の中間タンク８０ｂを設け、第１の中間タンク８０ａ及び第２の中間タンク８０ｂの一方の液量が予め設定された設定量になったときに、薬液Ｒを受け取る中間タンクを他方側に切り替えるように構成してもよい。
【００４４】
この例について図７を用いて具体的に説明する。この例では第１の中間タンク８０ａ及び第２の中間タンク８０ｂ内には既に所定量の純水Ｄが供給されているものとする。先ず、一方の共通回収管６２ａに介設されているバルブＶ３ａを開けて第１の中間タンク８０ａ内に薬液Ｒが供給される。そして水位センサＨによって純水Ｄの液面を感知すると、バルブＶ３ａが閉じられてバルブＶ２ａが開けられ、第１の中間タンク８０ａ内の薬液Ｒが回収タンク９０に供給されると共に他方の共通回収管６２ｂに介設されているバルブＶ３ｂが開けられ、第２の中間タンク８０ｂ内に薬液Ｒが供給される。このように第１の中間タンク８０ａの液量が予め設定された設定量になったときに、バルブＶ３ａ及びバルブＶ３ｂの開閉によって薬液Ｒの供給を第２の中間タンク８０ｂに切り替えるようにしているので、中間タンク８０において連続した薬液Ｒの回収を行うことができる。
【００４５】
さらに上述の例では、図５及び図６に示すように送液管８５に介設されているバルブＶ２を開いたときに、中間タンク８０内の薬液Ｒに加えて純水Ｄも回収タンク９０に供給されることになるが、回収タンク９０には薬液Ｒのみを供給するようにしてもよい。このような手法の一例として、水位センサＬによって純水Ｄの液面を感知したときに、バルブＶ２を閉じる手法が挙げられる。この場合には、回収タンク９０では薬液Ｒの揮発を防止するために、回収タンク９０の上部開口部に純水供給源８４から延びた純水供給管が挿入され、回収タンク９０内に薬液Ｒを供給する前に、純水供給管に介設されたバルブを開いて純水供給源８４から純水供給管を介して回収タンク９０内に予め所定量の純水Ｄを供給することが好ましい。
【００４６】
また上述の例では一つの回収タンク９０内に送液管８２を介して薬液Ｒ及び純水Ｄを供給し、この回収タンク９０が所定の重さになったときに当該回収タンク９０を回収する構成にあるが、図８に示すように送液管８５を夫々分岐させ、一方の送液管８５ａの先端部に第１の回収タンク９０ａを設け、他方の送液管８５ｂの先端部に第２の回収タンク９０ｂを設け、第１の回収タンク９０ａ及び第２の回収タンク９０ｂの一方の液量が予め設定された設定量になったときに、薬液Ｒ及び純水Ｄを受け取る回収タンクを他方側に切り替えるように構成してもよい。
【００４７】
この例について図８を用いて具体的に説明する。第１の回収タンク９０ａ及び第２の回収タンク９０ｂ内には、図５及び図６を用いて説明した各水位センサＨＨ，Ｈ，Ｌ，ＬＬが順番に配列された水位センサユニット９３ａ，９３ｂが夫々挿入されており、先ず一方の送液管８５ａに介設されているバルブＶ４ａを開けて中間タンク８０から第１の回収タンク９０ａ内に薬液Ｒ及び純水Ｄが順次供給される。そして純水Ｄの液面が水位センサユニット９３ａの水位センサＨの検出レベルになると、バルブＶ４ａが閉じられてバルブＶ４ｂが開けられ、第２の回収タンク９０ｂ内に薬液Ｒ及び純水Ｄが供給される。そして図８（ｂ）に示すように回収タンク９０ａは、回収タンク９０ａの上面部に挿入されている送液管８５ａと水位センサユニット９３ａとを抜き出して、これらの孔部と回収タンク９０ａの上面部に形成されている液取り出し口９４ａとを夫々蓋９５ａ，９５ｂ，９５ｃによって各々密閉され、当該回収タンク９０ａは業者に回収されることになる。このように第１の回収タンク９０ａの液量が予め設定された設定量になったときに、バルブＶ４ａ及びバルブＶ３ｂの開閉によって薬液Ｒ及び純水Ｄの供給を第２の中間タンク９０ｂに切り替えるようにしているので、回収タンク９０において連続した薬液Ｒの回収を行うことができる。なお、この例では水位センサユニット９３ａ，９３ｂは回収タンク満杯検出手段に相当する。また回収タンク９０ａ，９０ｂの液量の検出は、水位センサユニット９３ａ，９３ｂを用いる代わりに、重量センサを用いてもよく、この場合、重量センサからの計測値が設定値になったときに、バルブＶ４ａ，Ｖ４ｂの間の切り替えが行われる。さらに回収タンク満杯検出手段としては、重量センサ及び水位センサの他に、例えば回収タンク９３内に電極を設け、この電極が薬液に浸った時に回収タンク９３内に薬液Ｒ及び純水Ｄの供給を停止するように構成された静電容量センサや例えば回収タンク内に一定光量の光を発する発光ダイオードと純水Ｄに反射した光を受光する受光ダイオードとを設け、前記受光ダイオードが所定の光量を受光した時に回収タンク９３内に薬液Ｒ及び純水Ｄの供給を停止するように構成された光電式センサであってもよい。
【００４８】
また中間タンク８０から回収タンク９０に薬液Ｒ及び純水Ｄを供給する方法として水位センサＨＨ，Ｈ，Ｌ，ＬＬを用いることに限られず、次の方法を採用してもよい。先ず、純水供給源８４から純水供給管８３を介して中間タンク９０内に純水Ｄを供給する。その供給量は純水供給管８３に介設されたバルブＶ１が開いている時間で制御する。次いで、各保護膜除去装置４０の運転を開始する。前記制御部９は各保護膜除去措置４０の除去液供給ノズル７０から供給される除去液の使用量ｖが予め分かっているので、当該ノズル７０の延べの稼動回数Ｎをカウントする。このＮはどれかの保護膜除去装置４０が稼動すると１回カウントされるので、例えば１号機が１回、２号機が３回稼動すると、Ｎは４回となる。このためＮ×ｖ≧設定量となったところで、中間タンク８０は満水として取り扱われる。中間タンク８０が満水になると、バルブＶ２が開かれ、中間タンク９０内の薬液Ｒ及び純水Ｄが送液管８５を介してポンプＰ２によって回収タンク９０内に供給される。このように保護膜除去装置４０の稼動回数をカウントしてバルブＶ２の開閉制御を行うプログラムは、制御部９内のメモリに格納されている。
【００４９】
また図９に示すように中間タンク８０の底面部に接続された送液管８５に、界面検出手段２００例えば液の比重を計測する比重計や液の屈折率を計測する計測器を介設して、この界面検出手段２００によって薬液Ｒから純水Ｄに切り替わったことを検出したときに、送液管８５に介設されたバルブＶ２を閉じることで回収タンク９０に薬液Ｒのみを供給するように構成してもよい。この場合、回収タンク９０に供給された薬液Ｒの揮発を防ぐために、上述したように回収タンク９０内に薬液Ｒを供給する前に、純水供給管に介設されたバルブを開いて純水供給源８４から純水供給管を介して回収タンク９０内に予め所定量の純水Ｄを供給することが好ましい。
【００５０】
上述の方法を採用する場合でも中間タンク８０に水位センサＬ，Ｈ，ＨＨを設け、既述のように液面を管理することが好ましい。
【００５１】
さらに中間タンク８０の底面部に図示しないドレイン管を設けて、前記界面検出手段２００によって薬液Ｒから純水Ｄに切り替わったことを検出したときに、若しくは中間タンク８０内の純水Ｄの液面が水位センサＬあるいは水位センサＬＬの検出レベルになったときに、送液管８５に介設されたバルブＶ２を閉じると同時に図示しないドレイン管に介設されているバルブを開けて、図示しないドレイン管に介設されているポンプによって中間タンク８０内の純水Ｄを排出するようにしてもよい。この場合、中間タンク９０内に薬液Ｒが供給される前に中間タンク８０内には常に所定量の新鮮な純水Ｄが溜まっていることになるため、薬液Ｒの揮発をより一層抑えることができる。
【００５２】
また図９に示すように中間タンク８０の底面部に帰還路である戻り管１００を接続し、この戻り管１００の途中に戻り液用タンク１０１を設け、この戻り液用タンク１０１の下流側の戻り管１００を各回収管６の上流側に接続し、各戻り管１００に介設されているバルブＶ２１〜Ｖ２５を開いて、下流側の戻り管１００に介設されているポンプＰ３を駆動して、戻り液用タンク１０１内の使用済みの純水Ｄを各回収管６内に追い水として供給する構成であってもよい。  
この例について図９を用いて具体的に説明する。先ず、中間タンク８０内の純水Ｄの液面が水位センサＬあるいは水位センサＬＬの検出レベルになると、若しくは前記界面検出手段２００によって薬液Ｒから純水Ｄに切り替わったことを検出したときに、バルブＶ２が閉じられてバルブＶ５とバルブＶ１とが開けられ、戻り液用タンク１０１内に、中間タンク８０内に残っている古い水Ｄと純水供給源８４から中間タンク８０内に供給される純水Ｄとが供給される。そして設定時間が経過すると、純水液供給源８４からの純水の供給が止められ、例えば自然落下で純水を供給している場合にはバルブＶ５を閉じ、更にＶ５を閉じ且つポンプＰ２を停止する。また戻り液用タンク１０１内には上限水位を検出する水位センサＨ及び下限水位を検出する水位センサＬが設けられ、戻り液用タンク１０１において、純水Ｄの液面が水位センサＨの検出レベルになると、バルブＶ１及びバルブＶ５が閉じられる。このような動作は、中間タンク８０内の古い水と新しい水とを交換すると共に戻り液用タンク１０１内にいわば追い水として水を貯留しておくために行われる。
【００５３】
そして複数の保護膜除去装置４０のうち、何れか一つの装置の除去処理が終了したとき、この保護膜除去装置４０に対応する戻り管１００に介設されたバルブ（Ｖ２１〜Ｖ２５）を開けると共にバルブＶ６を開けて、さらに下流側の戻り管１００に介設されているポンプＰ３を駆動して、戻り液用タンク１０１内の使用済みの純水Ｄを回収管６内に追い水として供給する。この供給量は、回収管６内に付着している薬液Ｒを洗い流して中間タンク８０内に回収できる程度の量に設定されている。具体的には戻り液用タンク１０１から供給される使用済みの純水Ｄの量は、例えば３秒程度で１００ｍｌである。このような構成にすることで、保護膜除去装置の回収管６から排出された薬液Ｒをスムーズに中間タンク８０まで運ぶことができ、また純水の消費量を低減することができる。
【００５４】
また上述の例において、下流側の戻り管１０１に三方バルブＶ７を介設して、この三方バルブＶ７に純水供給源８４から延びた純水供給管を接続することで、前記三方バルブＶ７を純水供給源８４に切り替えて、同様に複数の保護膜除去装置４０のうち、何れか一つの装置の除去処理が終了したら、この保護膜除去装置４０に対応する戻り管１００に介設されたバルブ（Ｖ２１〜Ｖ２５）を開けて、純水供給源８２の純水Ｄを追い水として回収管６内に供給してもよい。
【００５５】
また下流側の戻り管１００を各回収管６に夫々接続する場合に限られず、例えば各カップ体５２の側壁に夫々接続してもよい。さらに中間タンク８０内に予め純水Ｄを入れておく作業を、この追い水の配管から回収管６を介して中間タンク８０内に所定量（水位センサＬレベルまで）の純水Ｄを供給することにより実施するようにしてもよい。
【００５６】
さらにまた図４に示す保護膜除去装置４０において、除去液供給ノズル７０の側面に純水供給ノズルを設けて、この純水供給ノズルによって中間タンク８０内に所定量の純水Ｄを供給するように構成してもよい。
【００５７】
この例について図１０を用いて具体的に説明する。なお、図１０において図４を用いて説明した保護膜除去装置４０と同じ構成にある部分については同じ符号を付してある。図１０に示すように、除去液供給ノズル７０の側面には純水供給ノズル３００が設けられている。この純水供給ノズル３００は、純水液供給管３０１を介して純水を供給する純水供給源３０２に接続されている。また前記純水供給管３０１にはバルブや流量調整部等を含む供給機器群３０３が介設されている。また図１０（ｂ）に示すように、スピンチャック５０に保持されたウエハＷの周縁下方側には、ウエハＷの裏面側周縁部に純水を供給するためのバックリンスノズル３１０，３２０が外側上方に傾斜して設けられており、このノズル３１０，３２０の吐出口は、吐出された純水がウエハＷの周縁部に内側下方から到達するように構成されている。また当該バックリンスノズル３１０，３２０には前記純水供給源３０２からの純水供給管３０１の分岐管の一端が接続されている。
【００５８】
この例では、ウエハＷの表面に形成されている保護膜を除去する工程の後に、ウエハＷの表面を純水で洗浄する工程が行われる。例えばウエハＷの回転と同時にウエハＷの表面中央部に純水供給ノズル３００により所定量例えば５秒程度で１００ｍｌの純水Ｄを塗布する。ウエハＷの中央部に塗布された純水Ｄは周縁に向かって広がり、カップ体５２の側面とガイドリング５の外周縁との間の隙間５ａに流れ落ちる。この純水Ｄの供給量は、ウエハＷ上を洗浄する役割に加え、追い水をカップ体５２及び回収管６内に供給する役割を果たすことができるように設定される。またノズル３１０，３２０からウエハＷの裏面側周縁部に塗布された純水Ｄも周縁に向かって広がり、カップ体５２の側面とガイドリング５の外周縁との間の隙間５ａに流れ落ちる。そして純水Ｄはカップ体５２の底部の外側領域に形成された二つの排液口５４ａ，５４ａを通って回収管５４，５４から排出される。また、カップ体５３及び回収管６内の薬液をスムーズに排出するためには、このバックリンス工程において、ウエハＷの裏面を洗浄する役割に加え、追い水としての役割を果たせるように供給量を設定してもよい。しかる後、ウエハＷを高速回転させて、振り切り乾燥いわゆるスピン乾燥を行い、ウエハＷの表面を乾燥させる。このスピン乾燥の際にも上述したようにカップ体５２の側面とガイドリング５の外周縁との間の隙間５ａに純水Ｄが流れ落ちることになる。そして保護膜除去装置４０から排出された純水Ｄは共通回収管６２を介して空の中間タンク８０内に供給される。
【００５９】
また上述の例では、除去液供給ノズル７０の側部に設けられた純水液供給ノズル３００からウエハＷの表面に対して純水Ｄを供給するように構成されているが、このような構成に限られず、除去液供給ノズル７０に除去液Ｒと純水Ｄとの吐出を切替える切替え手段を設け、前記切替え手段を制御部９によって切替え制御することで、除去液供給ノズル７０から純水Ｄを供給するように構成してもよい。
【００６０】
さらに図４に示す保護膜除去措置において、カップ体５３の上部側縁部に環状貯留部を設けると共にガイドリング５の山部分に環状貯留部を設け、これら環状貯留部から純水を供給してカップ体５３内を洗浄し、カップ体５３内の洗浄に利用した純水を中間タンク８０内に所定量供給するようにしてもよい。
【００６１】
この例について図１１を用いて具体的に説明する。なお、図１１において図４を用いて説明した保護膜除去装置４０と同じ構成にある部分については同じ符号を付してある。図１１に示すように、カップ体５３の上部側縁部には環状貯留部４００が設けられており、ガイドリング５の山部分には環状貯留部４０１が設けられている。これら環状貯留部４００，４０１は、純水供給管４０２を介して純水を供給する純水供給源４０３に接続されている。また前記純水供給管４０２にはバルブや流量調整部等を含む供給機器群４０４が介設されている。また図１１（ｂ）に示すように前記環状貯留部４００の内周面には例えば直径１ｍｍの吐出孔が周方向に沿って多数形成されており、前記環状貯留部４０１の上面部には例えば直径１ｍｍの吐出孔が周方向に沿って多数形成されている。そしてこれら吐出孔から純水がリング状に吐出され、カップ体５２の内周面に付着している薬液やガイドリング５の外周縁に付着している薬液を洗浄するようになっている。
【００６２】
この例では、環状貯留部４００から供給された純水Ｄは、カップ体５３の内側側面に沿って薬液Ｒと共に流れ落ちることになり、環状貯留部４０１から供給された純水Ｄは、ガイドリング５の外周縁に沿って薬液Ｒと共に流れ落ちることになる。そして保護膜除去装置４０から排出された純水Ｄ及び薬液Ｒは共通回収管６２を介して空の中間タンク８０内に供給される。また回収管６内の薬液Ｒをスムーズに排出するために、追い水としての役割を果たせるように環状貯留部４００，４０１から供給される純水Ｄの供給量を設定してもよい。
【００６３】
また図１２に示すように、工場内に複数台の塗布、現像装置を設け、それぞれの装置に設けられた複数の保護膜除去装置４０から排出される薬液を、共通回収管６２を介して工場内に設置された回収タンク９４に直接送るように構成してもよい。この場合、各保護膜除去装置４０の除去液供給ノズル７０の側部には上述したように純水供給ノズル３００が設けられており、この純水供給ノズルによって回収タンク９０内に所定量（水位センサＬレベルまで）の純水Ｄを供給するようになっている。その他、既述の中間タンク８０を設けた実施の形態に含まれる技術であって且つ図１２に示す実施の形態に適用できる手法については、適用するようにしてもよい。例えば図８を用いて説明したように共通回収管６２を夫々分岐させ、一方の共通回収管６２ａの先端部に第１の回収タンク９０ａを設け、他方の共通回収管６２ｂの先端部に第２の回収タンク９０ｂを設け、第１の回収タンク９０ａ及び第２の回収タンク９０ｂの一方の液量が予め設定された設定量になったときに、薬液Ｒ及び純水Ｄを受け取る回収タンクを他方側に切り替えるように構成してもよい。さらに回収タンク９０の上面部に回収タンク９０内に純水Ｄを供給するための純水供給源から延びた純水供給管を接続し、この純水供給管から回収タンク９０内に純水Ｄを供給するように構成してもよい。更にまた、回収タンク９０内が満水となったことを回収タンク満杯検出手段である重量センサで検出する手法や、除去液供給ノズル７０、純水供給ノズル３００あるいはカップ体５２の側壁に接続した配管からカップ体５２を介して回収路６内に追い水を供給する手法等を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の実施の形態に係る塗布、現像装置を示す平面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る塗布、現像装置を示す斜視図である。
【図３】前記塗布、現像装置におけるインターフェイス部を示す概略斜視図である。
【図４】前記インターフェイス部内に設けられる保護膜除去装置を示す概略断面図及び概略正面図である
【図５】前記保護膜除去装置から排出される薬液を回収するシステムを説明する概略図である。
【図６】中間タンクにおいて薬液が回収される様子を示す説明図である。
【図７】中間タンクの他の例を示す説明図である。
【図８】回収タンクの他の例を示す説明図である。
【図９】前記保護膜除去装置から排出される薬液を回収するシステムの他の例を説明する概略図である。
【図１０】前記インターフェイス部内に設けられる他の保護膜除去装置を示す概略断面図及び概略正面図である。
【図１１】前記インターフェイス部内に設けられる他の保護膜除去装置を示す概略断面図及び概略正面図である。
【図１２】前記保護膜除去装置から排出される薬液を回収する他のシステムを説明する概略図である。
【符号の説明】
【００６５】
Ｄ      純水
Ｒ      薬液
Ｗ      ウエハ
４０    保護膜除去装置
６２    共通回収管
８０    中間タンク
８３    純水供給管
８４    純水供給源
８５    送液管
９０    回収タンク
９２    重量センサ
９３    水位センサユニット
９      制御部
１００  戻り管
１０１  戻り液用タンク  
Ｖ１〜Ｖ６  バルブ
Ｖ７    三方バルブ
Ｐ１〜Ｐ３  ポンプ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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