(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ガスを放電空間に導入して該放電空間に配置した被処理物に当て、該被処理物の表面処理を行なうプラズマ処理装置において、
（ａ）前記放電空間を形成するための放電面を有する電極と、
（ｂ）前記電極の放電面に被さる主誘電部と、前記放電面に沿う延出方向に沿って前記主誘電部及び前記放電面ひいては前記電極より延び出る延出部を有する板状の固体誘電体からなる誘電部材と、
（ｃ）前記処理ガスを前記放電空間に供給し、又は前記放電空間から処理済みのガスを吸引するガス路と、前記延出部の前記延出方向の端部を保持する保持部とを一体に有して、前記電極から前記延出方向に離れた絶縁材料製のノズル部材と、
（ｄ）前記電極を前記放電面とは反対側から支持する支持部と、
を備え、前記電極及び前記ノズル部材の互いに前記延出方向に離れて対向する側面どうしが直接的に対面して、これら側面と前記延出部における前記端部より前記主誘電部の側の部分とによって電極側部空間が画成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記電極には、前記放電面における前記延出部の側の縁部の近傍に開口して前記誘電部材を真空吸着する吸着孔が設けられ、前記吸着孔に前記誘電部材が被さっていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
処理ガスを放電空間に導入して該放電空間に配置した被処理物に当て、該被処理物の表面処理を行なうプラズマ処理装置において、
（ｅ）前記放電空間を形成するための放電面を有する電極と、
（ｆ）前記電極の放電面に被さる主誘電部と、前記放電面に沿う延出方向に沿って前記主誘電部及び前記放電面ひいては前記電極より前記延出方向の一側に延び出る第１延出部と、前記延出方向に沿って前記主誘電部及び前記放電面ひいては前記電極より前記延出方向の他側に延び出る第２延出部を有する板状の固体誘電体からなる誘電部材と、
（ｇ）前記処理ガスを前記放電空間に供給する第１ガス路と、前記第１延出部の前記延出方向の前記一側の端部を保持する第１保持部とを一体に有して、前記電極から前記延出方向の前記一側に離れた絶縁材料製の第１ノズル部材と、
（ｈ）前記放電空間から処理済みのガスを吸引する第２ガス路と、前記第２延出部の前記延出方向の前記他側の端部を保持する第２保持部とを一体に有して、前記電極から前記延出方向の前記他側に離れた絶縁材料製の第２ノズル部材を、
（ｉ）前記電極を前記放電面とは反対側から支持する支持部と、
を備え、前記電極及び前記第１ノズル部材の互いに前記延出方向に離れて対向する第１の側面どうしが直接的に対面して、前記電極の前記第１の側面及び前記第１ノズル部材の前記第１の側面、並びに前記第１延出部における前記一側の端部より前記主誘電部の側の部分によって第１電極側部空間が画成され、前記電極及び前記第２ノズル部材の互いに前記延出方向に離れて対向する第２の側面どうしが直接的に対面して、前記電極の前記第２の側面及び前記第２ノズル部材の前記第２の側面、並びに前記第２延出部における前記他側の端部より前記主誘電部の側の部分によって第２電極側部空間が画成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、処理ガスをプラズマ放電空間に導入して該放電空間に配置した被処理物に当て、該被処理物のプラズマ表面処理を行なう所謂ダイレクト式のプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１には、電極ユニットとロール電極とを上下に対向させて間に放電空間を形成し、この放電空間に被処理物を配置してプラズマ処理を行なう、所謂ダイレクト式のプラズマ処理装置が記載されている。電極ユニットは、中央に電極を配し、その両側を一対の樹脂製のノズル部材で挟むことにより構成されている。各ノズル部材は、電極の側部に当接され、ボルトにて連結されている。片側のノズル部材の内部には処理ガスの供給路が設けられ、他方のノズル部材には排気路が設けられている。電極の下面には固体誘電体板が設けられている。固体誘電体板は、電極の両側より延び出ている。上記一対のノズル部材には、この固体誘電体板の延出部を保持する保持部が設けられている。
【特許文献１】特開２００５−０８５５４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上掲特許文献１に記載の装置では、ノズル部材が電極の側部に当接されているため、プラズマ放電に伴なう電極の発熱や電極の側部で発生する沿面放電によって加熱され変形を来たしやすい。そうすると、ガス流が不均一になったり、固体誘電体板を正常に保持できなくなり、固体誘電体板を破損させたり脱落させたりするおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するため、本発明は、処理ガスを放電空間に導入して該放電空間に配置した被処理物に当て、該被処理物の表面処理を行なうプラズマ処理装置において、
（ａ）前記放電空間を形成するための放電面を有する電極と、
（ｂ）前記電極の放電面に被さる主誘電部と、前記放電面に沿う延出方向に沿って前記主誘電部及び前記放電面ひいては前記電極より延び出る延出部を有する板状の固体誘電体からなる誘電部材と、
（ｃ）前記処理ガスを前記放電空間に供給し、又は前記放電空間から処理済みのガスを吸引するガス路と、前記延出部の前記延出方向の端部を保持する保持部とを一体に有して、前記電極から前記延出方向に離れた絶縁材料製のノズル部材と、
（ｄ）前記電極を前記放電面とは反対側から支持する支持部と、
を備え、前記電極及び前記ノズル部材の互いに前記延出方向に離れて対向する側面どうしが直接的に対面して、これら側面と前記延出部における前記端部より前記主誘電部の側の部分とによって電極側部空間が画成されていることを特徴とする。
上記構成によれば、電極の放電面とは反対側を支持することにより、電極の側部に空間を形成でき、ノズル部材を電極から熱的に離して配置するのが容易になり、電極とノズル部材との間の熱伝達を抑制することができる。これによって、電極がプラズマ放電により発熱したり側部に沿面放電が形成されたりしても、ノズル部材までもが加熱されて熱変形を来たすのを防止でき、ガス流が不均一になったり、誘電部材を正常に保持できなくなって誘電部材が破損したり保持部から脱落したりするのを防止することができる。
【０００５】
また、本発明は、処理ガスを放電空間に導入して該放電空間に配置した被処理物に当て、該被処理物の表面処理を行なうプラズマ処理装置において、
（ｅ）前記放電空間を形成するための放電面を有する電極と、
（ｆ）前記電極の放電面に被さる主誘電部と、前記放電面に沿う延出方向に沿って前記主誘電部及び前記放電面ひいては前記電極より前記延出方向の一側に延び出る第１延出部と、前記延出方向に沿って前記主誘電部及び前記放電面ひいては前記電極より前記延出方向の他側に延び出る第２延出部を有する板状の固体誘電体からなる誘電部材と、
（ｇ）前記処理ガスを前記放電空間に供給する第１ガス路と、前記第１延出部の前記延出方向の前記一側の端部を保持する第１保持部とを有して、前記電極から前記延出方向の前記一側に離れた絶縁材料製の第１ノズル部材と、
（ｈ）前記放電空間から処理済みのガスを吸引する第２ガス路と、前記第２延出部の前記延出方向の前記他側の端部を保持する第２保持部とを有して、前記電極から前記延出方向の前記他側に離れた絶縁材料製の第２ノズル部材を、
（ｉ）前記電極を前記放電面とは反対側から支持する支持部と、
を備え、前記電極及び前記第１ノズル部材の互いに前記延出方向に離れて対向する第１の側面どうしが直接的に対面して、前記電極の前記第１の側面及び前記第１ノズル部材の前記第１の側面、並びに前記第１延出部における前記一側の端部より前記主誘電部の側の部分によって第１電極側部空間が画成され、前記電極及び前記第２ノズル部材の互いに前記延出方向に離れて対向する第２の側面どうしが直接的に対面して、前記電極の前記第２の側面及び前記第２ノズル部材の前記第２の側面、並びに前記第２延出部における前記他側の端部より前記主誘電部の側の部分によって第２電極側部空間が画成されていることを特徴とする。
上記構成によれば、電極の放電面とは反対側を支持することにより、電極の両側部に空間を形成でき、第１、第２ノズル部材を電極から熱的に離して配置するのが容易になり、電極と第１、第２ノズル部材との間の熱伝達を抑制することができる。これによって、電極がプラズマ放電により発熱したり側部に沿面放電が形成されたりしても、第１、第２ノズル部材までもが加熱されて熱変形を来たすのを防止でき、ガス流が不均一になったり、誘電部材を正常に保持できなくなって誘電部材が破損したり保持部から脱落したりするのを防止することができる。
【０００６】
前記電極には、前記放電面における前記延出部（前記第１延出部又は第２延出部）の側の縁部の近傍に開口して前記誘電部材を真空吸着する吸着孔が設けられ、前記吸着孔に前記誘電部材が被さっていることが好ましい。
これにより、誘電部材を電極の放電面に密着させることができ、電極と誘電部材の間に隙間が形成されるのを防止できる。ひいては、電極と誘電部材の間で異常放電が生じるのを回避でき、パーティクルの発生を抑制することができる。
【０００７】
本発明は、大気圧近傍下でプラズマを生成し表面処理するのに好適である。大気圧近傍（略常圧）とは、１．０１３×１０4〜５０．６６３×１０4Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０4〜１０．６６４×１０4Ｐａ（１００〜８００Ｔｏｒｒ）が好ましく、９．３３１×１０4〜１０．３９７×１０4Ｐａ（７００〜７８０Ｔｏｒｒ）がより好ましい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、ノズル部材が熱変形を来たすのを防止でき、ガス流が不均一になったり、誘電部材が破損したり保持部から脱落したりするのを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の第１実施形態を説明する。
図１は、大気圧プラズマ処理装置Ｍを示したものである。装置Ｍは、処理ヘッド１と、この処理ヘッド１の下方に配置されたロール２を備えている。ロール２は、軸線を図１の紙面と直交する前後方向に向けた筒状の金属にて構成されている。ロール２は、電気的に接地され、接地電極を構成している。ロール２の表面には例えばアルミナの溶射膜等からなる固体誘電体層（図示せず）が設けられている。
【００１０】
ロール２の上側部にフィルム状ないしはシート状の被処理物Ｗが部分的に巻かれている。ロール２は例えば時計周りに回転し、これに併せて被処理物Ｗが例えば右方向に送られるようになっている。
【００１１】
図１及び図２に示すように、処理ヘッド１は、ヘッドフレーム１０と、電源電極３０と、一対をなす第１及び第２のノズル部材５０，６０とを備え、前後方向（図１の紙面直交方向、図２の上下方向）に延びている。図２に示すように、処理ヘッド１の長手方向の両端部には、それぞれ樹脂製のエンドブロック１５が設けられている。
【００１２】
図１に示すように、ヘッドフレーム１０は、前後方向に延びる金属板にて構成され、図示しない架台に支持されている。ヘッドフレーム１０の下面の左右方向の中央部に樹脂製の絶縁フレーム１１が金属製ボルト１２にて取り付けられている。絶縁フレーム１１は、四角形の断面をなして前後方向に延びている。この絶縁フレーム１１の下側に電源電極３０が設けられている。
【００１３】
図１及び図２に示すように、電源電極３０は、ステンレスやアルミ等の金属にて構成され、大略四角形の断面をなして前後方向（図１の紙面直交方向、図２の上下方向）に延びている。電極３０は、給電ライン３ａを介して電源３に接続されている。電源３から電極３０に電圧が供給されることにより、電極３０とその下側の接地電極としてのロール２との間に大気圧グロー放電が形成されるようになっている。電極３０の下面が、上記放電を形成するための放電面を構成している。図１及び図３に示すように、電極３０の下面と左右の側面との角は、それぞれ斜めに面取りされ、面取り部３２が形成されている。
【００１４】
電極３０の支持構造について説明する。
図１に示すように、ヘッドフレーム１０と絶縁フレーム１１には、ボルト挿通孔１３が垂直に貫通形成されている。絶縁フレーム１１内における挿通孔１３の中間部には段差１３ａが形成されている。挿通孔１３は、絶縁フレーム１１の左右に２列をなし、前後方向（図１の紙面直交方向）に離れて複数配置されている。これら挿通孔１３の各々に金属製ボルト１４（支持部）が通されている。これらボルト１４の頭部が、挿通孔１３の段差１３ａに引っ掛かり、脚部が電極３０の上側部にねじ込まれている。これにより、電極３０が、ボルト１４によって吊り下げられるようにして上側（放電面とは反対側）から支持されている。電極３０の上面は絶縁フレーム１１の下面に押し当てられている。電極３０とベースフレーム１０とは、絶縁フレーム１１によって絶縁されている。ボルト１４とベースフレーム１０とは、絶縁フレーム１１及び挿通孔１３内の空間によって絶縁されている。
【００１５】
図１及び図２に示すように、電極３０の下面（放電面）には、誘電部材４０が設けられている。誘電部材４０は、例えばアルミナを材料とするセラミックなどの固体誘電体で構成され、長手方向を前後方向（図１の紙面直交方向、図２の上下方向）に向け、幅方向を左右に向けた平らな長板状をなしている。誘電部材４０の厚さは、例えば１ｍｍ程度である。誘電部材４０は、電極３０より大きな長さと幅を有し、その中央部（主誘電部４０Ｘ）が電極３０の下面（放電面）の全体を覆っている。この誘電部材の中央部４０Ｘとロール電極２との間に放電空間９１が画成されるようになっている。誘電部材４０の幅方向の両側部は、電極３０より左右外側へ延び出ており、左側の延び出た部分が第１延出部４１を構成し、右側の延び出た部分が第２延出部４２を構成している。
【００１６】
図１及び図２に示すように、電極３０の内部には、一対の吸着路３５が形成されている。これら吸着路３５は、電極３０の下側部の左右の隅の近くに配置され、それぞれ電極３０の長手方向に延びている。各吸着路３５は、電極３０と絶縁フレーム１１とヘッドフレーム１０を貫通する吸引ライン４ａを介して真空ポンプ等からなる吸引手段４に接続されている。
【００１７】
図２及び図３に示すように、各吸着路３５から多数の細孔状の吸着孔３４が分岐して下方へ延びている。これら吸着孔３４は、吸着路３５の長手方向に間隔を置いて配置されている。吸着孔３４の下端は、電極３０の下面に達し、開口されている。この吸着孔３４の下端開口は、電極３０の左右下隅の面取り部３２の近傍に配置されている。
吸引手段４を駆動して吸引ライン４ａ及び吸着路３５を介して吸着孔３４を吸引することにより、誘電部材４０を電極３０の下面（放電面）に吸着できるようになっている。
【００１８】
図１に示すように、電極３０の内部には、更に冷却路３６（温調路）が形成されている。冷却路３６は、電極３０の長手方向に延びている。冷却路３６には冷媒（温調媒体）として例えば水が通され、これにより、電極３０が冷却（温調）されるようになっている。
【００１９】
第１ノズル部材５０と第２ノズル部材６０は、絶縁フレーム１１と電極３０と誘電部材４０を左右から挟み、処理ヘッド１の左右の壁を構成している。
左側の第１ノズル部材５０は、ユニレート（登録商標）等の耐プラズマ性及び絶縁性に優れた樹脂やセラミック等の絶縁材料にて構成されている。図１及び図２に示すように、ノズル部材５０は、大略、上下に長い長方形の断面をなし、前後方向に延びている。図１に示すように、ノズル部材５０の下面（先端面）は、左外側へ向かって下に傾く斜面になっている。
【００２０】
右側の第２ノズル部材６０は、第１ノズル部材５０と同様にユニレート（登録商標）等の耐プラズマ性及び絶縁性に優れた樹脂やセラミック等の絶縁材料にて構成されている。図１及び図２に示すように、ノズル部材６０は、大略、上下に長い長方形の断面をなし、前後方向に延びている。図１に示すように、ノズル部材６０の下面（先端面）は、右外側へ向かって下に傾く斜面になっている。
【００２１】
第１、第２ノズル部材５０，６０は、次のようにして支持されている。
図１に示すように、左側の第１ノズル部材５０の上面がヘッドフレーム１０の左側部の下面に突き当てられ、ヘッドフレーム１０にボルト（図示せず）等にて連結されている。また、ノズル部材５０の右側を向く内側面の上側部分が絶縁フレーム１１の左側面に添えられ、絶縁フレーム１１にボルト（図示せず）等にて連結されている。ノズル部材５０の内側面の下側部分は、電極３０の左側面（第１側面）と離れて対向している。ノズル部材５０と電極３０との間に第１電極側部空間８１が画成されている。
【００２２】
右側の第２ノズル部材６０の上面がヘッドフレーム１０の右側部の下面に突き当てられ、ヘッドフレーム１０にボルト（図示せず）等にて連結されている。また、ノズル部材６０の左側を向く内側面の上側部分が絶縁フレーム１１の右側面に添えられ、絶縁フレーム１１にボルト（図示せず）等にて連結されている。ノズル部材６０の内側面の下側部分は、電極３０の右側面（第２側面）と離れて対向している。ノズル部材６０と電極３０との間に第２電極側部空間８２が画成されている。
【００２３】
左側の第１ノズル部材５０の内部には、第１ガス路５１が形成されている。第１ガス路５１は、ノズル部材５０の上面から下へ延びる導入路５２と、この導入路５２の下端に接続された吹出し路５３と、この吹出し路５３から下方へ延びる多数の細孔状の吹出し孔５４と、これら吹出し孔５４に連なる吹出し口５５とを有している。導入路５２の上端部に導入ライン５ａを介して処理ガス源５が連なっている。処理ガス源５には処理目的に応じた処理ガスが蓄えられており、所定流量の処理ガスを第１ガス路５１へ供給するようになっている。
【００２４】
図１及び図２に示すように、吹出し路５３は、ノズル部材５０の長手方向に延びている。
吹出し孔５４は、吹出し路５３の下側部から下方に向かって内側（右側）へ斜めに延びるとともに、互いに吹出し路５３の長手方向に間隔を置いて配置されている。
【００２５】
ノズル部材５０の下面には、凹溝５５が長手方向に延びるようにして形成され、この凹溝５５の上底面に各吹出し孔５４の下端が開口されている。この凹溝５５によって吹出し口が構成されている。
【００２６】
右側の第２ノズル部材６０の内部には、第２ガス路６１が形成されている。第２ガス路６１は、吸引口６２と、多数の吸引孔６３と、吸引路６４と、この吸引路６４から上へ延びる排出路６５とを有している。
ノズル部材６０の下面には、凹溝６２が長手方向に延びるように形成されている。この凹溝が、吸引口６２を構成している。
吸引孔６３は、吸引口６２の上底面から上に延びる短い細孔状をなしている。吸引孔６３は、吸引口６２の長手方向に互いに間隔を置いて多数配置されている。
吸引路６４は、ノズル部材６０の長手方向に延び、多数の吸引孔６３を連ねている。
排出路６５は、吸引路６４から上へ延び、ノズル部材６０の上面に達している。この排出路６５の上端部に排気ライン６ａを介して真空ポンプ等からなる排気手段６が接続されている。排気手段６は、上記吸着孔３４に連なる吸引手段４と共通の真空ポンプ等を用いてもよい。
【００２７】
ノズル部材５０，６０は、処理ガスの給排通路を形成する部材としてだけでなく、誘電部材４０を保持する部材としても用いられている。
図２及び図３に示すように、左側の第１ノズル部材５０には、誘電部材４０の左端を保持するための第１保持部５６が一体に設けられている。第１保持部５６は、第１ノズル部材５０の内側面の下端付近に形成され、ノズル部材５０の長手方向（図１の紙面直交方向）に延びる凹溝状をなしている。この第１保持部５６に誘電部材４０の第１延出部４１の端縁が差し込まれている。
誘電部材４０の第１延出部４１によって、第１電極側部空間８１の下端が塞がれ、ひいては第１電極側部空間８１が放電空間９１から隔てられている。
【００２８】
図１及び図２に示すように、右側の第２ノズル部材６０には、誘電部材４０の右端を保持するための第２保持部６６が一体に設けられている。第２保持部６６は、第２ノズル部材６０の内側面の下端付近に形成され、ノズル部材６０の長手方向（図１の紙面直交方向）に延びる凹溝状をなしている。この第２保持部６６に誘電部材４０の第２延出部４２の端縁が差し込まれている。
誘電部材４０の第２延出部４２によって、第２電極側部空間８２の下端が塞がれ、ひいては第２電極側部空間８２が放電空間９１から隔てられている。
【００２９】
上記のように構成された大気圧プラズマ処理装置Ｍの動作を説明する。
処理すべき被処理物Ｗをロール２の上側部に巻き付ける。処理ヘッド１とロール２上の被処理物Ｗとの間には、放電空間９１を含む処理通路９０が画成される。
そして、処理ガス源５からの処理ガスを、第１ガス路５１の導入路５２に導入する。この処理ガスは、導入路５２から吹出し路５３へ送られ、この吹出し路５３内をノズル部材５０の長手方向へ拡散しながら順次吹出し孔５４に通され、凹溝状の吹出し口５５から一様に処理通路９０の左端部（上流端部）に吹出される。この処理ガスが、処理通路９０の中央部の放電空間９１へ導かれる。
併行して、電源３から電極３０に電圧が供給され、電極３０とロール２との間に大気圧グロー放電が形成される。これによって、放電空間９１において処理ガスがプラズマ化され、このプラズマ化された処理ガスが被処理物Ｗの表面に接触して反応が起きる。これによって、洗浄、表面改質、エッチング、アッシング、成膜等の所望の表面処理を行なうことができる。
処理済みのガスは、処理通路９０の右端部（下流端部）から第２ガス路６１の吸引口６２に入り、吸引孔６３、吸引路６４、排出路６５及び排気ライン６ａを順次経て、排気手段６にて排出される。
【００３０】
大気圧プラズマ処理装置Ｍによれば、処理ガスを放電空間９１に導入するための第１ガス路５１を形成する部材と誘電部材４０の幅方向の一端部を保持する部材が共通の部材５０にて構成されている。また、処理済みガスを放電空間９１から導出するための第２ガス路６１を形成する部材と誘電部材４０の幅方向の他端部を保持する部材が共通の部材６０にて構成されている。したがって、部品点数を削減でき、組立てを簡易化することができ、ノズル部材５０，６０と誘電部材４０相互の位置決めの手間を省くことができる。
【００３１】
電極３０をボルト１２で上側から吊るようにして支持することにより、電極３０をサイドから支持する必要がなく、ノズル部材５０，６０と電極３０の間に電極を保持する部材を配置したり、ノズル部材５０，６０自体で電極３０を保持したりする必要がない。したがって、電極３０とノズル部材５０，６０との間に空間８１，８２を形成して、これら電極３０とノズル部材５０，６０とを熱的に離すことができる。これによって、電極３０がプラズマ放電により発熱したり側部に沿面放電が形成されたりしても、ノズル部材５０，６０すなわち誘電部材４０の保持部材までもが加熱されて熱変形を来たすのを防止できる。この結果、ガス路５１，６２が変形してガス流が不均一になったり、誘電部材４０を正常に保持できなくなって誘電部材４０が破損したり脱落したりするのを防止することができる。
【００３２】
また、吸引手段４を駆動し、吸着路３５を介して吸着孔３４を吸引する。これにより、誘電部材４０を電極３０の下面に密着させることができ、電極３０と誘電部材４０の間に隙間が形成されるのを防止できる。ひいては、電極３０と誘電部材４０の間で異常放電が生じるのを回避でき、パーティクルの発生を抑制することができる。
電極３０はボルト１２に吊り下げられ、誘電部材３０に自重がかからないようになっているので、誘電部材３０が電極３０の重さで破損することはない。
【００３３】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の実施形態と重複する構成に関しては、図面に同一符号を付して説明を省略する。
図４は、電極支持構造の変形例を示したものである。電極３０の支持部として、第１実施形態の短い金属製のボルト１４に代えて、長い樹脂（絶縁材料）製のボルト１５が用いられている。この樹脂ボルト１５の頭部が、ヘッドフレーム１０に引っ掛けられ、脚部が、ヘッドフレーム１０及び絶縁フレーム１１を貫通して電極３０にねじ込まれている。これにより、ボルト１５は、電極３０を吊るように支持するだけでなく、絶縁フレーム１１をヘッドフレーム１０と電極３０との間に挟み付けて保持している。したがって、ヘッドフレーム１０と絶縁フレーム１１を連結するボルト１２は不要である。
【００３４】
図５は、第１ガス路５１の下流端の吹出し口の変形例を示したものである。第１ノズル部材５０の下面の凹溝５５には、拡散板５７が設けられている。拡散板５７は、多数の小孔５７ａを有する多孔板にて構成され、前後に延びる凹溝５５に合わせて前後（図５の紙面直交方向）に延びている。処理ガスは、吹出し孔５４から凹溝５５の上底面と拡散板５７との間の空間に導入されて拡散し、多数の小孔５７ａから吹出される。小孔５７ａが、第１通路５１の吹出し口を構成している。
【００３５】
図６及び図７は、第１通路５１の吹出し口の幅を可変にした変形例を示したものである。第１ノズル部材５０の下面の凹溝５５には、吹出し幅調節部材５８が収容されている。吹出し幅調節部材５８は、ユニレート（登録商標）等の耐プラズマ性に優れた絶縁材料にて構成され、前後（図６の紙面直交方向、図７の上下方向）に延びる板状をなしている。吹出し幅調節部材５８の右端縁（電極３０を向く側の縁）と凹溝５５の右端面との間に、第１ガス路５１の吹出し口５１ａが形成されている。
【００３６】
吹出し幅調節部材５８には、ボルト挿通孔５８ａが形成されている。この挿通孔５８ａに挿通したボルト５９を第１ノズル部材５０にねじ込むことにより、吹出し幅調節部材５８が第１ノズル部材５０に固定されている。ボルト挿通孔５８ａは、長径を左右に向けた長孔になっている。これにより、吹出し幅調節部材５８の第１ノズル部材５０に対する左右方向の位置を調節できるようになっている。ひいては、吹出し口５１ａの幅を拡縮調節できるようになっている。
【００３７】
この発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の改変をなすことができる。
例えば、プラズマ処理装置Ｍの電極構造は、平板電極３０とロール電極２とで構成されていたが、接地電極をも平板電極にし、平行平板電極としてもよい。
本発明は、洗浄、表面改質、エッチング、アッシング、成膜等の種々のプラズマ表面処理に遍く適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明は、液晶パネル等のフラットパネル用ガラス基板や半導体製造におけるシリコン基板のプラズマ表面処理に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置の正面断面図である。
【図２】上記大気圧プラズマ処理装置の処理ヘッドの底面図である。
【図３】図１において上記処理ヘッドの誘電部材の保持部を拡大して示す断面図である。
【図４】電極支持構造の変形例を示す処理ヘッドの正面断面図である。
【図５】処理ヘッドの第１ノズル部材の吹出し口の変形例を示す断面図である。
【図６】第１ノズル部材の吹出し口の他の変形例を示す断面図である。
【図７】図６に示す第１ノズル部材の底面図である。
【符号の説明】
【００４０】
Ｍ      大気圧プラズマ処理装置
Ｗ      被処理物
３      電源
１４    ボルト（支持部）
１５    ボルト（支持部）
３０    電源電極
３４    吸着孔
４０    誘電部材
４０Ｘ  主誘電部
４１    第１延出部
４２    第２延出部
５０    第１ノズル部材
５１    第１ガス路
５６    第１保持部
６０    第２ノズル部材
６１    第２ガス路
６６    第２保持部
８１    第１電極側部空間
８２    第２電極側部空間
９１    放電空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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