(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明性の基板の表面に遮光膜が形成された被検査体の前記遮光膜の表面側から当該遮光膜の表面に向かって光を照射する第１の光源と、前記遮光膜で反射した散乱光を受光できる位置に設けられる第１の散乱光検出手段と、前記遮光膜の表裏において前記第１の光源が照射した光と同じ位置であり前記基板の裏面側から前記遮光膜の裏面に向かって光を照射する第２の光源と、前記遮光膜の裏面で反射した散乱光を受光できる位置に設けられる第２の散乱光検出手段と、
前記第１の散乱光検出手段および前記第２の散乱光検出手段が散乱光を検出した場合のみ前記基板と前記遮光膜との間に異物が付着していると判定する判定装置と、
有することを特徴とする異物検査装置。
【請求項２】
前記判定装置は、
前記第１の散乱光検出手段が散乱光を検出し、且つ前記第２の散乱光検出手段が散乱光を検出していない場合には、前記遮光膜の表面に異物が付着していると判定し、
前記第２の散乱光検出手段が散乱光を検出し、且つ前記第１の散乱光検出手段が散乱光を検出していない場合には、前記基板の裏面に異物が付着していると判定し、
前記第１の散乱光検出手段および前記第２の散乱光検出手段が散乱光を検出していない場合には前記被検体に前記異物が付着していないと判定すること
を特徴とする請求項１記載の異物検査装置。
【請求項３】
前記基板の前記遮光膜が形成されている面とは反対側であって、前記第１の光源からの光が前記被検査体を透過したときに、前記被検査体を透過した光を受光可能な位置に第３の光検出手段が設けられ、
前記判定装置は、前記第３の光検出手段が前記遮光膜を透過した前記被検査体を透過した光を受光したことを検出することにより、前記遮光膜に欠損部があることを判定することを特徴とする請求項１または２記載の異物検査装置。
【請求項４】
前記第１の光源が照射する光および前記第２の光源が照射する光はレーザ光であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の異物検査装置。
【請求項５】
透明性の基板の表面に遮光膜が形成された被検査体の前記遮光膜の表面側から当該遮光膜の表面に向かって第１の検査光を照射し、前記遮光膜の表裏において前記第１の検査光と同じ位置であり前記基板の裏面側から前記遮光膜の裏面に向かって第２の検査光を照射し、
前記遮光膜の表面で反射した第１の検査光および前記遮光膜の裏面で反射した第２の検査光に散乱光が含まれている場合のみ前記基板と前記遮光膜との間に異物が付着していると判定すること
を特徴とする異物検査方法。
【請求項６】
前記遮光膜の表面で反射した第１の検査光に散乱光が含まれ、且つ前記遮光膜の裏面で反射した第２の検査光に散乱光が含まれていない場合には、前記遮光膜の表面に異物が付着していると判定し、
前記遮光膜の裏面で反射した第２の検査光に散乱光が含まれ、且つ前記遮光膜の表面で反射した第１の検査光に散乱光が含まれている場合には、前記基板の裏面に異物が付着していると判定し、
前記遮光膜の表面で反射した第１の検査光および前記遮光膜の裏面で反射した第２の検査光に散乱光が含まれていない場合には、前記被検体に前記異物が付着していないと判定すること
を特徴とする請求項５記載の異物検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基体表面に遮光膜が形成された被検査体に付着した異物を検査する異物検査装置及び異物検査方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイは、カラーフィルタが形成されたガラス基板であるカラーフィルタ基板とＴＦＴ（Thin Film Transistor）アレイが形成されたガラス基板であるＴＦＴアレイ基板との間に液晶を封入して構成される。ガラス基板上にＴＦＴアレイを形成するために、ガラス基板上に電極用の金属膜を形成し、この金属膜の上に感光剤であるレジスト膜を塗布する。そして、所定のパターン（回路パターン）を有するマスク基板を微小な間隔をもってレジスト膜に対向させて、紫外線等の光をマスク基板の上方から照射して、レジスト膜に回路パターンを転写する。そして、パターンが転写されていない部分のレジスト膜を除去し、エッチングを行った後に、感光剤を取り除くことにより、回路パターンが形成されたＴＦＴアレイ基板を得ることができる。
【０００３】
ところで、上述したマスク基板は透明性のガラス基板に遮光性の薄膜である回路パターンが形成されてなるものであり、当該回路パターンがレジスト膜に転写されて、ＴＦＴアレイ基板が得られる。従って、マスク基板には高い精度をもって回路パターンが形成されている必要がある。つまり、同一のマスク基板を用いて大量のＴＦＴアレイ基板が生成されるため、マスク基板そのものに欠陥があると、その回路パターンが転写されるＴＦＴアレイ基板にも欠陥を及ぼすことになり、その結果欠陥のあるＴＦＴアレイ基板が大量に生産されることになる。このため、予めマスク基板に欠陥があるか否かの検査を行う必要がある。
【０００４】
そこで、ガラス基板の欠陥を検査するものの一例として特許文献１が開示されている。  特許文献１では、ガラス基板の表面又は裏面に欠陥が生じているか否かを検査するものであり、レーザビームをガラス基板に照射して、散乱光を受光することによりガラス基板の表面又は裏面の欠陥を識別している。
【特許文献１】特開平９−２５８１９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に示される方法は、ガラス基板に欠陥が生じているか否かの識別をするものであるが、ガラス基板に遮光膜を形成してなるマスク基板等の部品においては、遮光膜の表面に異物が付着しているか、又は基板と遮光膜との間に異物が付着しているかの検査を行う必要がある。つまり、ガラス基板とマスクパターンである遮光膜との間に異物が付着していると、これを洗浄等することによって除去することができず、結果として不良品となる。一方、遮光膜の表面に異物が付着している場合は、洗浄等することにより異物を除去することができるため、異物を除去することにより、良品として使用することができる。従って、マスク基板に異物が付着しているか否かの検査を行う際には、異物が付着しているか否かのみではなく、どの位置に異物が付着しているかを検査することは極めて重要なことである。
【０００６】
特に、ガラス基板と遮光膜との間に異物が付着しているとマスクパターンの転写精度に問題が生じることにより、当該異物が剥離されると、異物の上に形成されている遮光膜も一体となって剥離されるため、剥離された部分は光が透過してしまい、誤った回路パターンがレジスト膜に転写されてしまう。その結果、液晶ディスプレイのＴＦＴアレイ基板として適正な動作を行うことができないという問題がある。
【０００７】
そこで、本発明は、上記の異物が付着しているか否か、及び付着している場合には、異物がどの位置に付着しているかを判定することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の異物検査装置は、透明性の基板の表面に遮光膜が形成された被検査体の前記遮光膜の表面側から当該遮光膜の表面に向かって光を照射する第１の光源と、前記遮光膜で反射した散乱光を受光できる位置に設けられる第１の散乱光検出手段と、前記基板の裏面側から前記遮光膜の裏面に向かって光を照射する第２の光源と、前記遮光膜の裏面で反射した散乱光を受光できる位置に設けられる第２の散乱光検出手段と、前記第１の散乱光検出手段および前記第２の散乱光検出手段が散乱光を検出した場合のみ前記基板と前記遮光膜との間に異物が付着していると判定する判定装置と、有することを特徴とする。
【００１０】
本発明の異物検査方法は、透明性の基板の表面に遮光膜が形成された被検査体の前記遮光膜の表面側から当該遮光膜の表面に向かって第１の検査光を照射し、前記基板の裏面側から前記遮光膜の裏面に向かって第２の検査光を照射し、前記遮光膜の表面で反射した第１の検査光および前記遮光膜の裏面で反射した第２の検査光に散乱光が含まれている場合のみ前記基板と前記遮光膜との間に異物が付着していると判定することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明では、被検査体に異物が付着しているか否か、及び付着している場合にはどの位置に付着しているかを判定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図１において、本発明の異物検査装置１は、第１の光源１１と第２の光源１２と第１の光検出器２１と第２の光検出器２２と第３の光検出器２３と第１の集束レンズ４１と第１の結像レンズ４２と第２の集束レンズ５１と第２の結像レンズ５２と第３の結像レンズ５３と判定装置３０とを有して構成される。
【００１４】
そして、異物検査装置１に検査される被検査体８０は透明性の基板８１の表面に遮光膜８２が形成されている。遮光膜８２は光を透過しない性質を有する薄膜であるため、被検査体８０の上方から入射する光は表面８２Ｓで、下方から入射する光は裏面８２Ｒで反射する。なお、遮光膜８２は完全に光を遮断するものであってもよいが、透過光量が少ないものであってもよい。被検査体８０としては、液晶ディスプレイの製造に用いられるマスク基板やＴＦＴアレイ基板等がある。マスク基板は透明性のガラス基板に回路パターンである遮光性の薄膜が形成されている。また、ＴＦＴアレイ基板はガラス基板に回路パターンの金属膜が形成されている。従って、本実施形態でいう遮光膜８２はマスク基板の遮光性の薄膜となり、またＴＦＴアレイ基板の金属膜となる。
【００１５】
異物検査装置１は被検査体８０に異物（ゴミや有機汚れ等）が付着しているか否か、及び付着しているのであればどの位置に付着しているかを判定するための装置である。異物検査装置１において、第１の光源１１からは発散光であるレーザ光が発振され、第１の集束レンズ４１により収束光となって遮光膜８２の表面８２Ｓに入射する。そして、遮光膜８２で反射した光は、第１の結像レンズ４２に入射し、第１の光検出器２１に結像される。第１の光源１１は斜め上方から遮光膜８２の表面８２Ｓにレーザ光を入射させ、遮光膜８２の表面８２Ｓで反射したレーザ光を受光できる位置に第１の光検出器２１を配置する。第１の光検出器２１は遮光膜８２の表面８２Ｓで反射したレーザ光を受光するものであるが、第１の検査光ＦＬ１が反射したときに散乱光が生じた場合には、必ず散乱光が受光されるようにする（つまり、第１の光検出器２１は、換言すれば第１の散乱光検出器である）。そして、第１の光検出器２１としてはＣＣＤ（Charge Coupled Device）を適用したものについて説明するが、光を検出できるものであれば任意のものを適用してよい。第１の光検出器２１には第１の結像レンズ４２により所定領域に光が入射する。第１の光検出器２１を構成するＣＣＤは入射した光を光電変換して電気信号に変換して判定装置３０に出力する。
【００１６】
第２の光源１２も第１の光源１１と同様にレーザ光を発振するためのものであり、第２の光源１２から射出されたレーザ光は第１の集束レンズ５１により被検査体８０の遮光膜８２の裏面８２Ｒで反射して、第２の結像レンズ５２により第２の光検出器２２に結像される。また、第２の光検出器２２も第１の光検出器２１と同様に、第２の光源１２は斜め下方から遮光膜８２の裏面８２Ｒにレーザ光を入射させ、遮光膜８２の裏面８２Ｒで反射したレーザ光を受光できる位置に配置し、受光手段としてＣＣＤを適用するものとする。また、第２の光検出手段２２についても、第２の検査光ＦＬ２が反射したときに散乱光が生じた場合には、必ず散乱光が受光されるようにする（つまり、第２の光検出器２２は、換言すれば、第２の散乱光検出器である）。そして、第２の光検出器２２で光電変換された電気信号が判定装置３０に出力される。ここで、第２の光源１２から射出されたレーザ光の遮光膜８２の裏面８２Ｒのスポット位置と、第１の光源１１から射出されたレーザ光の遮光膜８２の表面８２Ｓのスポット位置とは、遮光膜８２の表裏において同じ位置となるように第１の光源１１及び第２の光源１２が配置される。なお、第１の光源１１及び第２の光源１２からはレーザ光が出力されるものについて説明したが、これに限定されず、例えば発光ダイオードやランプ光源等からの光を適用してもよい。
【００１７】
そして、被検査体８０の斜め下方（第１の光源１１とは反対側）に第３の光検出器２３が配置されている。第３の光検出器２３についてもＣＣＤが適用される。ここで、第３の光検出器２３は第１の光源１１からのレーザ光を受光可能な位置に配置される。後述するが、被検査体８０の遮光膜８２に欠落（ピンホール）が生じているか否かを検出するために用いられる。第３の光検出器２３に入射した光は光電変換され、電気信号として判定装置３０に出力される。
【００１８】
図１に示される異物検査装置１は、被検査体８０の全体について検査を行うため、異物検査装置１の光学系（図１の異物検査装置１のうち判定装置３０を除いた部分）、又は被検査体８０をＸ方向（図１矢印方向）及びＹ方向（図１紙面奥行方向）に動作させて、被検査体８０の全ての部分に第１の検査光ＦＬ１及び第２の検査光ＦＬ２を照射して、散乱光の検出を行う。このため、例えば被検査体８０にＸＹ方向に動作する図示しないステージが設けられる。
【００１９】
判定装置３０は、被検査体８０に異物が付着しているか否か、及び付着している場合にはどの位置に異物が付着しているかを判定するための装置である。つまり、判定装置３０は、第１の光検出器２１、第２の光検出器２２及び第３の光検出器２３から出力された光電変換された電気信号に基づいて、異物が付着しているか否か、及び付着している場合にはどの位置に付着しているかを判定し、その結果を出力する。結果を出力する出力手段の一例としては、例えば判定結果を印刷するための印刷手段であるプリンタや判定結果を表示するための表示手段であるモニタ等の表示装置がある。かかる出力手段が判定装置３０に接続されることにより、被検査体８０に異物が付着しているか否か、及び付着している場合にはどの位置に付着しているかを出力することができる。
【００２０】
次に、異物検査装置１が行う処理について説明する。図１において、被検査体８０の遮光膜８２の表面８２Ｓに異物ＦＳが付着していなければ、第１の光源１１から射出したレーザ光（第１の検査光ＦＬ１とする）は第１の集束レンズ４１を経て、平面形状の遮光膜８２の表面８２Ｓで反射する。従って、反射面が平面であるため、遮光膜８２の表面８２Ｓで反射した第１の検査光ＦＬ１は、第１の結像レンズ４２により第１の光検出器２１の所定の領域（結像領域）に受光される。一方、第２の光源１２から射出したレーザ光（第２の検査光ＦＬ２とする）は、第２の集束レンズ５１を経て、平面形状の遮光膜８２の裏面８２Ｒで反射し、第２の結像レンズ５２により第２の光検出器２２の所定の領域（結像領域）に受光される。
【００２１】
図２は、被検査体８０の遮光膜８２の表面８２Ｓに異物ＦＳが付着しているものを示す。遮光膜８２の表面８２Ｓに異物が付着する原因としては、基板８１に遮光膜８２を形成する工程を経た後に、異物検査装置１により検査が行われる工程に移行するまでの間に何らかの異物が付着すること等が考えられる。遮光膜８２の表面８２Ｓに異物が付着している場合は、被検査体８０の洗浄を行えば異物を除去することができ、異物を除去すれば、被検査体８０は良品として使用することができる。
【００２２】
遮光膜８２の表面８２Ｓに異物ＦＳが付着している場合、第１の光源１１から射出されて第１の集束レンズ４１を経た第１の検査光ＦＬ１は遮光膜８２の表面８２Ｓで反射するが、当該第１の検査光ＦＬ１は異物ＦＳに入射する。異物ＦＳの部分は反射面が平面ではないため、散乱光ＳＬが発生する。従って、第１の光検出器２１には散乱光ＳＬが受光されることになる。一方、第２の光源１２から射出した第２の検査光ＦＬ２は、遮光膜８２の表面８２Ｓに付着している異物ＦＳには到達しないため、遮光膜８２の裏面８２Ｒで反射する。従って、反射面は全て平面であるため、遮光膜８２の裏面８２Ｒで反射する第２の検査光ＦＬ２は散乱光を含んだ光とはならず、第２の光検出器２では散乱光は検出されない。
【００２３】
図３は、基板８１と遮光膜８２との間（遮光膜８２の裏面８２Ｒ）に異物ＦＳが付着している場合を示す。遮光膜８２の裏面８２Ｒに異物ＦＳが付着する原因としては、基板８１に遮光膜８２を形成する前に、基板８１の表面８１Ｓに異物ＦＳが付着すること等が考えられる。遮光膜８２の裏面８２Ｒに異物ＦＳが付着している場合、図３に示されるように、異物ＦＳが付着している部分において、異物ＦＳにより遮光膜８２は若干隆起する。第１の光源１１からの第１の検査光ＦＬ１が隆起した遮光膜８２に入射すると、隆起部分での反射面は平面ではないため、散乱光ＳＬが発生する。従って、異物ＦＳが遮光膜８２の裏面８２Ｒに付着していると、第１の光検出器２１には散乱光ＳＬが検出される。
【００２４】
一方、第２の光源１２から射出した第２の検査光ＦＬ２は、遮光膜８２の裏面８２Ｒで反射するが、遮光膜８２の裏面８２Ｒに異物ＦＳが付着していると、基板８１を透過して、遮光膜８２の裏面８２Ｒに付着している異物ＦＳで反射する。従って、反射面は平面とはならず、散乱光ＳＬが発生する。従って、第２の光検出器２２には散乱光ＳＬが検出される。つまり、遮光膜８２の裏面８２Ｒに異物ＦＳが付着していると、第１の光検出器２１及び第２の光検出器２２の両者に、散乱光が検出されることになる。
【００２５】
図４は、基板８１の裏面８１Ｒに異物ＦＳが付着している場合を示す。基板８１の裏面８１Ｒに異物ＦＳが付着していたとしても、第１の光源１１から射出する第１の検査光ＦＬ１は、遮光膜８２の表面８２Ｓで反射する。従って、反射面は平面形状となるため、第１の光検出器２１には散乱光は受光ない。一方、第２の光源１２から射出したレーザ光は、平面形状の遮光膜８２の裏面８２Ｒで反射して、第２の光検出器２２に受光されるが、第２の光源１２から射出した第２の検査光ＦＬ２の一部は基板８１の裏面８１Ｒに付着している異物ＦＳで反射する。従って、異物ＦＳで散乱光ＳＬが発生し、第２の光検出器２２で散乱光ＳＬが検出される。
【００２６】
図５は、遮光膜８２の一部に欠落部（ピンホール）ＤＦが生じている場合を示している。遮光膜８２に欠落部ＤＦが生じる原因としては、遮光膜８２に亀裂や剥離等が生じていることが考えられる。遮光膜８２に欠落部ＤＦが生じていると、第１の光源１１から射出された第１の検査光ＦＬ１の一部又は全部が、遮光膜８２の表面８２Ｓで反射せず、欠落部ＤＦを透過する。そして、透過した光は透過光ＴＬとして、第３の結像レンズ５３を経て、第３の光検出器２３に透過光ＴＬが検出される。欠落部ＤＦにおいて第１の検査光ＦＬ１の全部が透過した場合には、遮光膜８２の表面８２Ｓで光は反射しないため、第１の光検出器２１に光が検出されることはない。これに対し、欠落部ＤＦにおいて第１の検査光ＦＬ１の一部が透過した場合には、遮光膜８２の表面８２Ｓで光の一部が反射するため、第１の光検出器２１に反射光が検出される。
【００２７】
一方、遮光膜８２に欠落部ＤＦが生じていると、第２の光源１２から射出した第２の検査光ＦＬ２も一部又は全部が、遮光膜８２の表面８２Ｓで反射せず、欠落部ＤＦを透過する。第２の光源１２からの第２の検査光ＦＬ２の全部が欠落部ＤＦを透過したときは、第２の光検出器２２に光が検出されることはない。これに対し、第２の光源１２からの第２の検査光ＦＬ２の一部が欠落部ＤＦを透過したときは、一部が反射されるため、当該反射光が第２の光検出器２２に検出される。なお、図１に示されるように、基板８１の裏面側において、第２の光検出器２２と第３の光検出器２３とが配置され、夫々光を受光するため、第１の光源１１からのレーザ光の照射角度と第２の光源１２からのレーザ光の照射角度とは異なる角度で被検査体８０に入射されるように第１の光源１１及び第２の光源１２は配置される。
【００２８】
判定装置３０には、上述した第１の光検出器２１、第２の光検出器２２及び第３の光検出器２３が接続され、各光検出器において光電変換された電気信号が判定装置３０に出力される。各光検出器としては、ＣＣＤを適用したものを例示している。ＣＣＤの場合、Ｘ方向（横方向）及びＹ方向（縦方向）に複数の受光素子が配列されてなるものが適用される。Ｘ方向及びＹ方向に複数の受光素子が配列されたものを適用することにより、一定範囲の面積を有する領域に光を受光させることができる。受光素子が受光した光は電気信号に光電変換され、判定装置３０に出力される。従って、各光検出器から判定装置３０に出力される電気信号の情報としては、各光検出器を構成する受光素子のアドレス（Ｘ方向とＹ方向とに夫々付された番地）と光強度との情報がある。
【００２９】
判定装置３０では、各光検出器から出力された情報に基づいて、散乱光ＳＬを受光しているか否かの判定を行う。散乱光ＳＬを受光しているか否かの判定に際しては、光量分布に基づいて判定が行われる。図６（ａ）は、散乱光ＳＬを受光していないときの各光検出器の受光領域を示している。散乱光ＳＬが発生しなければ、各光検出器に受光される光は、所定の結像領域ＦＡに結像される。このとき、同図（ａ）に示される中心軸Ｃ上における光量分布は同図（ｂ）で示されるようになる。すなわち、結像領域ＦＡでは高い光量となるが、結像領域以外では光量が「０」である光量分布を示す。
【００３０】
これに対し、図７（ａ）は、散乱光ＳＬが発生したときの各検出光の受光領域を示している。各検出器が散乱光ＳＬを受光すると、結像領域ＦＡの他に、例えば同図（ａ）に示されるように、散乱光ＳＬ１、ＳＬ２等が受光される。従って、中心軸Ｃ上における光量分布は、同図（ｂ）で示されるように、結像領域ＦＡ以外においても散乱光ＳＡ１、ＳＡ２が検出される。なお、結像領域ＦＡ以外で光量が「０」でない光があるときに散乱光ＳＬを検出したと判定してもよいが、誤差等を考慮して、ある閾値以上の強度を持つ光を受光したときに散乱光として検出してもよい。
【００３１】
以上により、判定装置３０は、各検出器が散乱光ＳＬを受光しているか否かを判定することができる。ここで、上述したように、遮光膜８２の表面８２Ｓに異物ＦＳが付着している場合は、第１の光検出器２１では散乱光ＳＬが検出されるが、第２の光検出器２２では散乱光ＳＬは検出されない。また、基板８１と遮光膜８２との間（遮光膜８２の裏面８２Ｒ）に異物ＦＳが付着している場合は、第１の光検出器２１及び第２の光検出器２２の両者に散乱光ＳＬが検出される。また、基板８１の裏面８１Ｒに異物ＦＳが付着している場合は、第１の光検出器２１には散乱光ＳＬは検出されないが、第２の光検出器２２には散乱光ＳＬが検出される。そして、被検査体８０に異物ＦＳが付着していない場合は、第１の光検出器２１及び第２の光検出器２２の両者に散乱光ＳＬは検出されない。
【００３２】
一方、第１の光検出器２１、第２の光検出器２２に光が受光されるか否かにかかわらず、遮光膜８２に欠落部ＤＦがある場合は、第３の光検出器２３に光が受光され、欠落部ＤＦがない場合は、第３の光検出器２３に光は受光されない。
【００３３】
以上をテーブル（対応表）化したものを図８（同図において、第１の光検出器２１及び第２の光検出器２２の最下段に示される「−」は、真偽何れの値でもよいことを示す）に示す。判定装置３０では、第１の光検出器２１、第２の光検出器２２及び第３の光検出器２３から出力される電気信号に基づいて、散乱光を受光しているか否かを、光量分布に応じて判定する。このとき、結像領域外で光量が「０」でないことを検出したか否か、又は予め設定された閾値以上の光量を検出したか否かにより、各光検出器に散乱光が検出されたか否かを判定する。そして、各光検出器における散乱光の検出有無と図８のテーブルとを比較して、被検査体８０に異物ＦＳが付着しているか否か、及び付着している場合には、異物ＦＳが遮光膜８２の表面８２Ｓに付着しているか、遮光膜８２の裏面８２Ｒの表面に付着しているか又は基板８１の裏面８１Ｒに付着しているかを判定する。そして、第３の光検出器２３に光が受光されているか否かによって、遮光膜８２に欠落部ＤＦが生じているか否かを判定する。判定装置３０は、判定した結果に基づいて、図示しない出力手段に、被検査体８０に異物ＦＳが付着しているか、及び付着しているのであればどの位置に付着しているかを出力する。
【００３４】
以上説明したように、本発明は、透明性の基板に遮光膜を形成した被検査体の遮光膜の表面側から遮光膜の表面に向かって第１の検査光を照射する第１の光源と基板の裏面側から遮光膜の裏面に向かって第２の検査光を照射する第２の光源とを設け、遮光膜の表面で反射した第１の検査光を受光可能な位置に第１の光検出器を、遮光膜の裏面で反射した第２の検査光を受光可能な位置に第２の光検出器を設け、第１の光検出器及び第２の光検出器が散乱光を検出したか否かによって、被検査体に異物が付着しているか、及び付着している場合にはどの位置に付着しているかを判定することができる。また、遮光膜に欠落部が生じているか否かは、第３の光検出器の受光の有無により判定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の異物検査装置の概略構成図である。
【図２】異物が遮光膜の表面に付着しているときの説明図である。
【図３】異物が遮光膜の裏面に付着しているときの説明図である。
【図４】異物が基板の裏面に付着しているときの説明図である。
【図５】遮光膜に欠落部が生じているときの説明図である。
【図６】散乱光が含まれていないときの受光領域及び光量分布を模式的に示す説明図である。
【図７】散乱光が含まれているときの受光領域及び光量分布を模式的に示す説明図である。
【図８】散乱光の有無を検出した結果に基づくテーブルを示す図である。
【符号の説明】
【００３６】
１    異物検査装置            １１    第１の光源
１２    第２の光源            ２１    第１の光検出器
２２    第２の光検出器        ２３    第３の光検出器
３０    判定装置            ８１    基板
８２    遮光膜                ＤＦ    欠落部
ＦＬ１    検査光                ＦＬ２    検査光
ＦＳ    異物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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