(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の一般式（I）：
【化１】
0004709959.tif 000042
（式中、Ｒ１はリン酸保護基を表し、Ｒ２は窒素原子上に炭素数1から5の同一若しくは異なるアルキル基がふたつ結合したジアルキルアミノ基〔ふたつのアルキル基が互いに結合して環を形成してもよい〕、又はモルホリン−１−イル基を表し、Ｒ３はアルコキシ基を有していてもよいトリチル基を表し、Ｒ４は水素又はＯ−Ｒ５〔但し、Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシメチル基を表す。〕を表し、Ｂは保護基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。）
で表されるヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【請求項２】
一般式（I）におけるＲ１が、メチル基、２−シアノエチル基、又は２−トリメチルシリルエチル基である請求項１記載のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【請求項３】
一般式（I）におけるＲ３が、下記の一般式（II）:
【化２】
0004709959.tif 000043
（式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は互いに同一または異なって、水素、炭素数1から10のアルコキシ基を表す。）
で表される基である請求項１又は２記載のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【請求項４】
一般式（I）におけるＢが、下記の一般式（III）、（IV）、（V）、（VI）、又は（VII）:
【化３】
0004709959.tif 000044
【化４】
0004709959.tif 000045
【化５】
0004709959.tif 000046
【化６】
0004709959.tif 000047
【化７】
0004709959.tif 000048
（式中、Ｒ９は、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、４−tert−ブチルフェノキシアセチル基、又は４−イソプロピルフェノキシアセチル基を表す。）
で表される基である請求項１乃至３のいずれか一項に記載のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【請求項５】
一般式（I）におけるＲ１が２−シアノエチル基で、Ｒ２がジイソプロピルアミノ基で、Ｒ３がトリチル基、４−メトキシトリチル基、又は４，４’−ジメトキシトリチル基で、Ｒ４が水素で、Ｂがチミン−１−イル基である請求項１記載のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なヌクレオシドホスホロアミダイト化合物に関する。この化合物は、核酸合成試薬として使用することができる。
【０００２】
【従来の技術】
化学的に合成されたオリゴデオキシリボ核酸（オリゴＤＮＡ）は、遺伝子クローニングのプローブ、遺伝子発現解析用プローブ、アンチセンスオリゴヌクレオチド等種々の用途に用いられている。ＤＮＡ化学合成は現代の生命工学、生命科学の進展に必須な技術である。現在のオリゴデオキシリボヌクレオチド化学合成はホスホロアミダイト法により行われている。この方法においては、用いるホスホロアミダイトユニットの５’水酸基を適切な保護基を用いて保護することが必須である。現在主として用いられている５’水酸基の保護基は４，４’−ジメトキシトリチル基（ＤＭＴｒ基）である。ＤＭＴｒ基は弱酸性条件下、迅速に除去可能であるためＤＮＡ化学合成に用いられている。しかしここで用いる酸性条件のため、長鎖ＤＮＡ 合成においてプリンヌクレオシドのＮ−グリコシド結合の切断（デプリネーション）が問題となる。
【０００３】
ＤＮＡ化学合成におけるもうひとつの問題点はオリゴヌクレオチド鎖の伸長に時間がかかることである。現在のＤＮＡ化学合成は（１）アミダイトユニットと５’末端水酸基とのカップリング（２）未反応水酸基の保護（３）インターヌクレオシド結合の酸化（４）５’末端ＤＭＴｒ基の除去。の４工程からなっている。しかし、長鎖オリゴＤＮＡを合成するためにはその合成に要する時間を少しでも短縮することが経済的にも有利である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、オリゴＤＮＡ化学合成における上記ふたつの問題点、すなわち
（１）ＤＭＴｒ基を脱保護する酸性条件下でのデプリネーション
（２）ＤＮＡ化学合成が時間を要する工程であること、
を同時に解決することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、５’水酸基の保護基としてＤＭＴｒ基に替わり上記の（３）インターヌクレオシド結合の酸化工程で同時に脱保護可能な保護基を用いることにより、上記の（４）５’ＤＭＴｒ基の除去工程を省略できることを見出し、更に、そのような保護基として、スルフェニルエステル型保護基が使用できることを見出し、これらの知見に基づき、本発明を完成するに至った。
【０００６】
即ち、本発明は、下記の一般式（I）：
【０００７】
【化８】
0004709959.tif 000002
（式中、Ｒ１はリン酸保護基を表し、Ｒ２は窒素原子上に炭素数1から5の同一若しくは異なるアルキル基がふたつ結合したジアルキルアミノ基〔ふたつのアルキル基が互いに結合して環を形成してもよい〕、又はモルホリン−１−イル基を表し、Ｒ３はアルコキシ基を有していてもよいトリチル基を表し、Ｒ４は水素又はＯ−Ｒ５〔但し、Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシメチル基を表す。〕を表し、Ｂは保護基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。）
で表されるヌクレオシドホスホロアミダイト化合物である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】
本発明のヌクレオシドホスホロアミダイト化合物（以下、単に「本化合物」という。）は、下記の一般式（I）：
【００１０】
【化９】
0004709959.tif 000003
で表される。
【００１１】
式中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＢは以下の基を表す。
【００１２】
Ｒ１は、リン酸保護基を表す。リン酸保護基としては、ホスホロアミダイト法に使用されるものであればどのようなものでもよいが、メチル基、２−シアノエチル基、２−トリメチルシリルエチル基などを好ましい基として挙げることができる。
【００１３】
Ｒ２は、窒素原子上に炭素数1から5の同一若しくは異なるアルキル基がふたつ結合したジアルキルアミノ基〔ふたつのアルキル基が互いに結合して環を形成してもよい〕、又はモルホリン−１−イル基を表す。このようなジアルキルアミノ基としては、ジイソプロピルアミノ基、又はジメチルアミノ基などを挙げることができる。
【００１４】
Ｒ３はアルコキシ基を有していてもよいトリチル基を表す。より具体的には、下記の一般式（II）:
【００１５】
【化１０】
0004709959.tif 000004
（式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は互いに同一または異なって、水素、炭素数1から10のアルコキシ基を表す。）
で表される基を表す。一般式（II）で表される基の中で好ましい基としては、トリチル基、４−メトキシトリチル基、４，４’−ジメトキシトリチル基などを挙げることができる。
【００１６】
Ｒ４は水素又はＯ−Ｒ５を表す。ここで、Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシメチル基を表す。
【００１７】
Ｂは保護基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。核酸塩基は、核酸の合成に使用されるものであればどのようなものでもよく、また、保護基も核酸の合成に使用されるものであればどのようなものでもよい。好ましい核酸塩基の残基としては、下記の一般式（III）、（IV）、（V）、（VI）、又は（VII）:
【００１８】
【化１１】
0004709959.tif 000005
【００１９】
【化１２】
0004709959.tif 000006
【００２０】
【化１３】
0004709959.tif 000007
【００２１】
【化１４】
0004709959.tif 000008
【００２２】
【化１５】
0004709959.tif 000009
で表される基を例示することができる。式中のＲ９は水素又はアミノ基の保護基を表す。アミノ基の保護基としては、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、４−tert−ブチルフェノキシアセチル基、４−イソプロピルフェノキシアセチル基などを例示することができる。
【００２３】
本化合物は、デオキシヌクレオシドホスホロアミダイド化合物（式（I）中のＲ４が水素）とリボヌクレオシドホスホロアミダイト化合物（式（I）中のＲ４がＯＲ５）の両者を含む。デオキシヌクレオシドホスホロアミダイド化合物については、以下の合成法１−１又は合成法１−２により合成することができる。
（合成法１−１）
式（VIII）：
【００２４】
【化１６】
0004709959.tif 000010
（式中のＲ３及びＢは前記の通りである。）
で表される化合物と文献公知の方法によって得られる式（IX）：
【００２５】
【化１７】
0004709959.tif 000011
（式中のＲ１及びＲ２は前記の通りである。）
で表される化合物とを反応を阻害しない溶媒たとえばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の存在下、−７８℃から室温℃で５分間から７２時間撹拌することにより式（Ｉ）で表される化合物を得る。
（合成法１−２）
式（VIII）で表される化合物と文献公知の方法によって得られる式（X）：
【００２６】
【化１８】
0004709959.tif 000012
（式中のＲ１及びＲ２は前記の通りである。）
で表される化合物を反応を阻害しない溶媒例えばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、１Ｈ−テトラゾール、１Ｈ−テトラゾール  ジイソプロピルアンモニウム等の存在下−７８℃から室温℃で５分間から７２時間撹拌することにより式（I）で表される化合物を得る。
【００２７】
これらの方法で合成中間体として用いた式（VIII）で表される化合物は以下の中間体合成法１−１又は中間体合成法１−２により合成可能である。
（中間体合成法１−１）
市販もしくは文献公知の方法により得られる式（XI）：
【００２８】
【化１９】
0004709959.tif 000013
（式中のＢは前記の通りである。）
で表される化合物と式（XII）：
【００２９】
【化２０】
0004709959.tif 000014
（式中のＲ３は前記の通りである。）
で表される化合物を、反応を阻害しない溶媒たとえばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩基すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム  ２，６−ジメチルピペリジド、リチウム  ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム  ヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム  ブロミド、エチルマグネシウム  ブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウム  ブロミド等の存在下、または非存在下−７８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌することにより式（VIII）で表される化合物を得る。
【００３０】
ここで用いた式（XII）で表される化合物は式（XIII）：
【００３１】
【化２１】
0004709959.tif 000015
（式中Ｒ３は前記の通りである）
で表される化合物と塩素化試薬例えば塩素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロスクシミド、１，３−ジクロロ−５，５ジメチルヒダントイン等とを反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩基すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム  ２，６−ジメチルピペリジド、リチウム  ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム  ヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム  ブロミド、エチルマグネシウム  ブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存在下、または非存在下−７８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌することにより得られる。
【００３２】
ここで用いた式（XIII）で表される化合物は文献公知の方法を用いて得るか、もしくは文献公知の方法で得られる式（XIV）：
【００３３】
【化２２】
0004709959.tif 000016
（式中のＲ３は前記の通りである）
で表される化合物と硫化試薬例えば五硫化リン、ローソン試薬等を反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し室温から１００℃で５分間から７２時間撹拌することにより得られる。
（中間体合成法１−２）
式（XV）：
【００３４】
【化２３】
0004709959.tif 000017
（式中のＲ３及びＢは前記の通りであり、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は同一または異なって、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、又はフェニル基を表す。）
で表される化合物とフッ素化試薬例えばテトラブチルアンモニウム  フルオリド、テトラエチルアンモニウム  フルオリド、トリエチルベンジルアンモニウム  フルオリド、フッ化水素、フッ化水素−ピリジン、フッ化水素−トリエチルアミン複合体、トリエチルアミンー３フッ化水素複合体、フッ化セシウム等とを反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し室温から１００℃で５分間から７２時間撹拌することにより式（VIII）で表される化合物を得る。
【００３５】
ここで用いた式（XV）で表される化合物は式（XVI）：
【００３６】
【化２４】
0004709959.tif 000018
（式中のＲ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＢは前記の通りである。）
で表される化合物と式（XII）で表される化合物とを反応を阻害しない溶媒例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン等に溶解し有機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウムＮ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム２，６−ジメチルピペリジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存在下−７８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌することにより得られる。
【００３７】
ここで用いた式（XVI）で表される化合物は式（XI）で表される化合物と式（XVII）：
【００３８】
【化２５】
0004709959.tif 000019
（式中のＲ１０、Ｒ１１及びＲ１２は前記の通りであり、Ｒ１３は塩素、臭素、ヨウ素、又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等を表す。）
で表される化合物を、反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、イミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩基すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム  ２，６−ジメチルピペリジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム  ブロミド、エチルマグネシウム  ブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウム  ブロミド等の存在下、または非存在下−７８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌することにより得られる。また、式（XVI）で表される化合物は文献公知の方法により得られる式（XVIII）：
【００３９】
【化２６】
0004709959.tif 000020
（式中、Ｒ１４、Ｒ１５は同一または異なって水素又はメトキシ基を表す。）
で表される化合物と式（XVII）で表される化合物とを反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、イミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩基すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム  ２，６−ジメチルピペリジド、リチウム  ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム  ヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム  ブロミド、エチルマグネシウム  ブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウム  ブロミド等の存在下、または非存在下−７８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌して式（XIX）：
【００４０】
【化２７】
0004709959.tif 000021
（式中のＲ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、及びＢは前記の通りである。）
で表される化合物を得、ついでこの式（XIX）で表される化合物と酸例えば塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等を、反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールもしくはこれらの混合溶媒等に溶解し−７８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌して得られる。
【００４１】
リボヌクレオシドホスホロアミダイト化合物については、以下の合成法２−１又は２−２により合成することができる。
（合成法２−１）
式（XX）：
【００４２】
【化２８】
0004709959.tif 000022
（式中のＲ３、Ｒ５及びＢは前記の通りである。）
で表される化合物と式（IX）で表される化合物とを反応を阻害しない溶媒例えばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の存在下、−７８℃から室温℃で５分間から７２時間撹拌することにより式（Ｉ）で表される化合物を得る。
（合成法２−２）
式（XX）で表される化合物と式（X）で表される化合物を反応を阻害しない溶媒例えばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、１Ｈ−テトラゾール、１Ｈ−テトラゾール  ジイソプロピルアンモニウム等の存在下−７８℃から室温℃で５分間から７２時間撹拌することにより式（I）で表される化合物を得る。
【００４３】
これらの方法で合成中間体として用いた式（XX）で表される化合物は以下の中間体合成法２−１により合成可能である。
（中間体合成法２−１）
式（XXI）：
【００４４】
【化２９】
0004709959.tif 000023
（式中のＲ３、Ｒ５、及びＢは前記の通りであり、Ｒ１６は３−ヒドロキシ−１，１，３，３，−テトライソプロピルジシロキサン−１−イル基、又はジ−tert−ブチルヒドロキシシリル基を表す。）
で表される化合物を適当な溶媒（例えば、テトラヒドロフラン等）に溶解し、フッ素化剤（例えば、テトラブチルアンモニウムフルオリド、トリエチルアミントリハイドロフルオリド、フッ化水素ピリジン）及び酸（例えば、酢酸、塩酸、硫酸）を単独もしくは任意の混合比の混合試薬として反応させることにより、式（XX）で表される化合物が得られる。また、式（XXI）で表される化合物を水や適当な有機溶媒に溶解し、適当なアルカリ（例えば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化リチウム等）と反応させることによっても、式（XX）で表される化合物が得られる。
【００４５】
ここで用いた式（XXI）で表される化合物は式（XXII）：
【００４６】
【化３０】
0004709959.tif 000024
（式中のＲ５、Ｒ１６、及びＢは前記の通りである）
で表される化合物と式（XII）で表される化合物とを反応を阻害しない溶媒例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン等に溶解し有機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウムＮ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム２，６−ジメチルピペリジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存在下−７８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌することにより得られる。
【００４７】
ここで用いた式（XXII）で表される化合物は式（XXIII）：
【００４８】
【化３１】
0004709959.tif 000025
（式中のＲ５及びＢは前記の通りであり、Ｒ１７は１，１，３，３−テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル基、又はジ−tert−ブチルシランジイル基を表す。）
で表される化合物を適当な溶媒（例えば、テトラヒドロフラン等）に溶解し、フッ素化剤（例えば、テトラブチルアンモニウムフルオリド、トリエチルアミントリハイドロフルオリド、フッ化水素ピリジン）及び酸（例えば、酢酸、塩酸、硫酸）を単独もしくは任意の混合比の混合試薬として反応させることにより得られる。また、式（XXIII）で表される化合物を水や適当な有機溶媒に溶解し、適当なアルカリ（例えば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化リチウム等）と反応させることによっても得られる。
【００４９】
ここで用いた式（XXIII）で表される化合物は、式（XXIV）：
【００５０】
【化３２】
0004709959.tif 000026
（式中のＢ及びＲ１７は前記の通りである。）
で表される化合物から以下の処理を行うことにより得ることができる。
Ｒ５がtert-ブチリルジメチルシリル基である場合：
式（XXIV）で表される化合物を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶媒に溶かし、tert-ブチリルジメチルシリルクロリド及びイミダゾールと反応させる。
Ｒ５がテトラヒドロピラン−２−イル基である場合：
式（XXIV）で表される化合物を、適当な溶媒に溶解又は無溶媒条件下でパラトルエンスルホン酸等を酸触媒として、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランと反応させる。
Ｒ５が４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基である場合：
式（XXIV）で表される化合物を、適当な溶媒に溶解又は無溶媒条件下でパラトルエンスルホン酸等を酸触媒として、５，６−ジヒドロ−４−メトキシ−２Ｈ−ピランと反応させる
Ｒ５がトリイソプロピルシリルオキシメチル基である場合：
式（XXIV）で表される化合物を、ジクロロメタン等の反応を阻害しない溶媒に溶かし、トリイソプロピルシリルオキシメチルクロリド及びエチルジイソプロピルアミン等の有機アミンと反応させる。
【００５１】
ここで用いた式（XXIV）で表される化合物は、式（XXV）：
【００５２】
【化３３】
0004709959.tif 000027
（式中のＢは前記の通りである。）
で表される化合物を、適当な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジン等）に溶かし、硝酸銀、過塩素酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸銀等の非存在下若しくは存在下で、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトライソプロピルジシロキサン、ジ−tert−ブチルジクロロシロキサン、ジ−tert−ブチルシリルビス（トリフルオロメタンスルホン酸）などと反応させることにより得ることができる。
【００５３】
ここで用いた式（XXV）で表される化合物は文献記載の方法に従い合成可能である。合成方法の一例として以下の方法を例示できる。天然のリボヌクレオシドの水酸基をクロロトリメチルシラン、ピリジンなどで保護し、その後、酸塩化物や酸無水物などで核酸塩基のアミノ基を保護する。この際、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールや４−ジメチルアミノピリジン等の一般的にアシル化の際に用いる触媒を添加してもよい。溶媒は反応を阻害しないもの、例えば、ピリジン等を用いる。次に、水酸化ナトリウム、アンモニア水、アミンなどのアルカリやその水溶液、またはトリフルオロ酢酸、酢酸、塩酸等の酸やその水溶液により水酸基の保護基を脱保護する。この際、適当な有機溶媒を加えてもよい。以上のような合成法により式（XXV）で表される化合物を合成できる。
【００５４】
本化合物は、ＤＮＡ、ＲＮＡ、ホスホロチオエートなどの核酸及びその類似物質の合成試薬として使用することができる。本化合物を用いた核酸等の合成は、既存の核酸合成試薬を用いた場合と同様の方法で行うことができる。例えば、オリゴデオキシヌクレオチドの合成は、文献公知の方法により自分で調整するかもしくは市販品として入手可能な式（XXVI）：
【００５５】
【化３４】
0004709959.tif 000028
で表される固相担体と保護ヌクレオシドがリンカーで結合した化合物を原料として、以下の反応式１に従って行うことができる。また反応式１の工程のすべてを市販のＤＮＡ自動合成基を用いて行うこともできる。
（反応式１）
工程１：酸処理
工程２：本化合物＋活性化剤＋反応溶媒
工程３：キャップ化剤添加
工程４：酸化剤添加
（工程２、３、４は所望のオリゴデオキシヌクレオチドの鎖長から１を引いた回数繰り返し行う。）
工程５：切り出し剤添加
工程６：精製操作
反応式１に記載されている化合物及び試薬のうち、本化合物及び酸化剤以外については、オリゴＤＮＡ合成に一般的に使用されているものであれば特に限定されない。保護ヌクレオシドとしては、式（XXVI）中のＲ１８が４，４’−ジメトキシトリチル基を表し、Ｚがチミン−１−イル、Ｎ４−ベンゾイルシトシン−１−イル、Ｎ４−アセチルシトシン−１−イル、Ｎ６−ベンゾイルアデニン−９−イル、Ｎ６−フェノキシアセチルアデニン−９−イル、Ｎ２−イソブチリルグアニン−９−イル、Ｎ２−フェノキシアセチルグアニン−９−イルで表される保護ヌクレオシド等を例示することができる。固相担体としては、コントロールドポアグラス（ＣＰＧ）、ポリスチレン等を例示することができる。式（XXVI）中のリンカーで表される基としては、３−アミノプロピルやロング−チェーンアルキルアミノ（ＬＣＡＡ）等を例示することができる。酸としては、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸等を１から５％の濃度になるようにジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等の有機溶媒に溶解した溶液等を例示することができる。反応溶媒としては、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等、活性化剤としては１Ｈ−テトラゾール、５−エチルチオテトラゾール、３，４−ジクロロイミダゾール、３，４−ジシアノイミダゾール、ベンゾトリアゾールトリフラート、イミダゾールトリフラート等を例示することができる。キャップ化試薬としては、４−ジメチルアミノピリジンやＮ−メチルイミダゾールをピリジン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の任意の混合溶媒に０．０５から１Ｍの濃度になるように溶かした溶液と無水酢酸もしくは無水メトキシ酢酸等とを適当な混合比で混合した溶液等を例示することができる。切り出し剤としては、濃アンモニア水、濃アンモニア水と反応を阻害しない有機溶媒例えばエタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等を任意の比率で混合した溶液、あるいは有機塩基例えば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン等を反応を阻害しない有機有機溶媒例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフランの単独溶媒もしくは任意の比率の混合溶媒に溶解した溶液等を例示することができる。酸化剤としてはヨウ素をピリジン、水、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の無機溶媒や有機溶媒もしくはそれらの任意の混合溶媒に０．０５から２Ｍの濃度になるように溶解した溶液等を例示することができる。
【００５６】
合成したオリゴヌクレオチドの精製はＣ８からＣ１８の逆相カラムクロマトグラフィー、Ｃ８からＣ１８逆相カートリッジカラム、陽イオン交換カラムクロマトグラフィー、陰イオン交換カラムクロマトグラフィーなどの方法を単独で、もしくは高速液体クロマトグラフィー装置との組み合わせにより用いて行う。この際溶出溶媒としては例えばアセトニトリル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、水等の単独溶媒もしくは任意の比率の混合溶媒等があげられる。この場合添加物としてリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、酢酸アンモニウム、酢酸トリエチルアンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、トリス塩酸、エチレンジアミン四酢酸等を１ｍＭから２Ｍの濃度で添加したり、溶液のｐＨを１から９の範囲で調整することもできる。この方法で単離精製し収率１％から９９%で得ることができる。
【００５７】
【実施例】
（実施例１）
（２−シアノエトキシ）（５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニルチミジン−３’−Ｏ−イル）Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト
【００５８】
【化３５】
0004709959.tif 000029
５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニルチミジン（５２０ｍｇ，１．０  ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍｌ）に溶解し、ここにＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（５９３  μｌ，３．４  ｍｍｏｌ）とクロロ（２−シアノエトキシ）（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィン（４８３  μｌ，２．２ｍｍｏｌ）を加え室温で７０分反応を行った。反応系をクロロホルム（３０ｍｌ）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）で３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７：３から１：１）で精製し表題化合物（４２５  ｍｇ，６０％）を得た。
【００５９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）１．１８−１．２９（ｍ，１２Ｈ），８．２７（１Ｈ，ｂｒ，ＮＨ），１．９０（３Ｈ，ｓ），２．００（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，ｍ），２．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．４４−３．７８（６Ｈ，ｍ），３．９１（１Ｈ，ｓ），４．２４（１Ｈ，ｍ），６．２６（１Ｈ，ｍ），７．２６−７．３４（１５Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｓ）；３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，１０９．４ＭＨｚ）δ１４９．４，１４９．７．
（実施例２）
（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト
【００６０】
【化３６】
0004709959.tif 000030
５’−Ｏ−｛４−（メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニル｝チミジン（５５０  ｍｇ，１．０  ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍｌ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（４０１  μｌ，２．３  ｍｍｏｌ）とクロロ（２−シアノエトキシ）（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィン（３２５  μｌ，１．５ｍｍｏｌ）を加え室温で６０分反応を行った。反応系をクロロホルム（３０ｍｌ）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）で３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をジエチルエーテル−ジイソプロピルエーテル（５  ｍｌ−２０  ｍｌ）に溶解し、１０％炭酸ナトリウム水溶液（３０  ｍｌ）で１５回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧下留去し、表題化合物（６１３ｍｇ，８２％）を得た。
【００６１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）１．１８−１．２９（ｍ，１２Ｈ），１．９０（３Ｈ，ｓ），２．００（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，ｍ），２．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），２．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３  Ｈｚ），３．３８−３．７７（７Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．２４（１Ｈ，ｍ），６．２６（１Ｈ，ｍ），６．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６  Ｈｚ），７．２２−７．４３（１２Ｈ，ｍ），７．４９，７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝  １０．６  Ｈｚ）８．３２（１Ｈ，ｂｒ，ＮＨ）；３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，１０９．４ＭＨｚ）δ１４９．３，１４９．７
．
（実施例３）
（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンスルフェニルチミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト
【００６２】
【化３７】
0004709959.tif 000031
５’−Ｏ−｛４−（メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニル｝チミジンをジクロロメタンに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンとクロロ（２−シアノエトキシ）（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホスフィンを加え室温で反応を行った。反応系をクロロホルムで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をジエチルエーテル−ジイソプロピルエーテルに溶解し、１０％炭酸ナトリウム水溶液で１５回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧下留去し、表題化合物を得た。
【００６３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）１．１８−１．２９（ｍ，１２Ｈ），１．９０（３Ｈ，ｓ），２．００（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，ｍ），２．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），２．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３  Ｈｚ），３．３８−３．７７（７Ｈ，ｍ），３．９４（６Ｈ，ｓ），４．２６（１Ｈ，ｍ），６．２８（１Ｈ，ｍ），６．８３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２  Ｈｚ），７．２３−７．３４（９Ｈ，ｍ），７．５０，７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝  １０．９  Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｂｒ，ＮＨ）；３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，１０９．４ＭＨｚ）δ１４９．４，１４９．７．
（原料合成例１）
（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンチオール
【００６４】
【化３８】
0004709959.tif 000032
（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタノール（１２４  ｇ，０．４３  ｍｏｌ）をトルエン（２０００  ｍｌ）に溶解し、ここにローソン試薬（１０４ｇ，０．２４  ｍｏｌ）を加え７５℃まで昇温した。反応終了後、反応系を室温に戻した後水（１０００  ｍｌ）で１回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン）で精製し表題化合物（８０  ｇ，６１％）を得た。
【００６５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）δ３．０１（１Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），６．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９  Ｈｚ），７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９  Ｈｚ），７．２１−７．２７（１２Ｈ，ｍ）．
（原料合成例２）
ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンチオール
【００６６】
【化３９】
0004709959.tif 000033
ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタノール（１５  ｇ，４６．８  ｍｍｏｌ）をトルエン（３００  ｍｌ）に溶解し、ここにローソン試薬（１０．３ｇ，２３．４  ｍｍｏｌ）を加え７５℃まで昇温した。反応終了後、反応系を室温に戻した後水（３００  ｍｌ）で２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン）で精製し表題化合物（５．４  ｇ，３４％）を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ）
１６０７，１５０４，１４８７，１４４５，１３００，１２５０，１１８０，１０２８，８１６，７８１，７００，５７７ｃｍ−１
（原料合成例３）
（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルクロリド
【００６７】
【化４０】
0004709959.tif 000034
（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンチオール（５．０  ｇ，１６．３ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（５０  ｍｌ）に溶解し、ここに５，５−ジメチル−１，３−ジクロロヒダントイン（１．６ｇ，８．１  ｍｍｏｌ）を加え室温で撹拌した。反応終了後、反応系をジエチルエーテル（１００  ｍｌ）で希釈し、飽和食塩水（１００  ｍｌ）で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００  ｍｌ）で５回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣に酢酸エチルを加えて、生じた結晶を瀘取し、表題化合物（２．５  ｇ，４５％）を得た。
【００６８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）δ３．８１（３Ｈ，ｓ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９  Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２  Ｈｚ），７．３４−７．３５（１２Ｈ，ｍ）．
（原料合成例４）
ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンスルフェニルクロリド
【００６９】
【化４１】
0004709959.tif 000035
ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンチオールをトルエンに溶解し、ここにローソン試薬を加え７５℃まで昇温した。反応終了後、反応系を室温に戻した後、水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し表題化合物を得た。
（原料合成例５）
５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン
【００７０】
【化４２】
0004709959.tif 000036
３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（２．０  ｇ，５．６  ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１６  ｍｌ）に溶解し、ここにリチウムヘキサメチルジシラジド（２．０  ｇ，１２．３  ｍｍｏｌ）を加え室温で２５分間撹拌した。ここにトリフェニルメタンスルフェニルクロリド（１．７  ｇ，５．６  ｍｍｏｌ）を加え室温下３０時間撹拌後、反応系を酢酸エチル（５０  ｍｌ）で希釈し、水（５０  ｍｌ）１回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し表題化合物（１．８  ｇ，５１％）を得た。
【００７１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）δ０．１０（６Ｈ，ｓ），０．９３（９Ｈ，ｓ），１．９２−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．２５（１Ｈ，ｍ），３．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３  Ｈｚ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），３．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０  Ｈｚ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），３，７７（１Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，ｍ），６．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３  Ｈｚ），７．３６−７．４７（１２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｓ），８．２６（１Ｈ，ｂｒ）．
（原料合成例６）
５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン
【００７２】
【化４３】
0004709959.tif 000037
３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（３５６  ｍｇ，１．０  ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７  ｍｌ）に溶解し、ここにリチウムヘキサメチルジシラジド（１．５３  ｇ，２．２  ｍｍｏｌ）を加え室温で２５分間撹拌した。ここに（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルクロリド（５４５  ｍｇ，１．６  ｍｍｏｌ）を加え室温下１時間撹拌後、反応系に濃アンモニア水（１  ｍｌ）を加え室温で５分間撹拌した。反応系を酢酸エチル（２０ｍｌ）で希釈し、飽和食塩水（２０  ｍｌ）で３回洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し表題化合物（４９０  ｍｇ，７４％）を得た。
【００７３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）δ０．０１（６Ｈ，ｓ），０．８３（９Ｈ，ｓ），１．９１（４Ｈ，ｍ），２．１４（１Ｈ，ｍ），３．４０（１Ｈ，ｄ），３．５２（１Ｈ，ｄ），３，６９（１Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），４．０８（１Ｈ，ｍ），６．２５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９  Ｈｚ），６．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２  Ｈｚ），７．２３−７．３５（１２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｓ），８．３３（１Ｈ，ｂｒ）．
（原料合成例６）
５’−Ｏ−ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン
【００７４】
【化４４】
0004709959.tif 000038
３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジンをテトラヒドロフランに溶解し、ここにリチウムヘキサメチルジシラジドを加え室温で２５分間撹拌した。ここにビス（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルクロリドを加え室温下１時間撹拌後、反応系に濃アンモニア水を加え室温で５分間撹拌した。反応系を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で３回洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し表題化合物を得た。
（原料合成例７）
５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニルチミジン
【００７５】
【化４５】
0004709959.tif 000039
５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（１．８ｇ，２．９  ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５  ｍｌ）に溶解し、ここにテトラブチルアンモニウムフルオリド（８３４  ｍｇ，３．２  ｍｍｏｌ）と酢酸（１９２  ｍｇ，３．２  ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応系に水（１００  ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１２０  ｍｌ）で１回抽出した後、有機層を水（１００  ｍｌ）で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１−４：６）で精製し、表題化合物（１．１  ｇ，７３％）を得た。
【００７６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）δ１．８５（４Ｈ，ｍ），２．１４（１Ｈ，ｍ），３．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７  Ｈｚ，Ｊ＝１．６  Ｈｚ），３．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７  Ｈｚ，３．９  Ｈｚ），３，６１（１Ｈ，ｍ），３．９２（１Ｈ，ｍ），６．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８  Ｈｚ），７．１０−７．３２（１５Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｓ），８．１２（１Ｈ，ｂｒ）．
（原料合成例８）
５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチミジン
【００７７】
【化４６】
0004709959.tif 000040
５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（７９２  ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４  ｍｌ）に溶解し、ここにテトラブチルアンモニウムフルオリド（３９０  ｍｇ，１．５  ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応系を酢酸エチル（３０  ｍｌ）で希釈し、飽和食塩水（２０  ｍｌ）で３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：６）で精製し、表題化合物（５０５  ｍｇ，７５％）を得た。
【００７８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）δ１．９５（３Ｈ，ｍ），２．００（１Ｈ，ｍ），２．２５（１Ｈ，ｍ），３．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７  Ｈｚ），３．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝  Ｈｚ，Ｊ＝２．３  Ｈｚ），３，７３（１Ｈ，ｍ），３．８２（３Ｈ，ｓ），４．０７（１Ｈ，ｍ），６．２６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６  Ｈｚ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６  Ｈｚ），７．２４−７．３５（１２Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｓ），８．３３（１Ｈ，ｂｒ）．（原料合成例９）
５’−Ｏ−ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンスルフェニルチミジン
【００７９】
【化４７】
0004709959.tif 000041
５’−Ｏ−ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジンをテトラヒドロフランに溶解し、ここにテトラブチルアンモニウムフルオリドを加え、室温で１時間撹拌した。反応系を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物を得た。
（参考例１）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイトを用いたペンタチミジル酸の合成
ペンタチミジル酸は以下の工程に従い合成した。
（１）市販の５’−Ｏ−４，４’−ジメトキシトリチルチミジンを担持したＣＰＧ固相担体（１１  ｍｇ，０．５  μｍｏｌ）をグラスフィルターに入れ、１％トリフルオロ酢酸のジクロロメタン溶液（０．５  ｍｌ）で３回洗浄した。
（２）固相担体をアセトニトリル（０．５  ｍｌ）で３回洗浄した。
（３）反応容器にアセトニトリル（０．１３  ｍｌ）を加え、ここに（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト（７．５  ｍｇ，１０μｍｏｌ）と１Ｈ−テトラゾール（２．８  ｍｇ，４０μｍｏｌ）を加え室温で１分間振盪した。
（４）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３回洗浄した。
（５）反応容器に０．１  Ｍ  ジメチルアミノピリジンのピリジン溶液と無水酢酸とを体積比９：１で混合した溶液を加え、室温で２分間振盪した。
（６）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３回洗浄した。
（７）反応容器にヨウ素をピリジンとアセトニトリルと水とを９：１０：１の体積比で混合した溶媒に０．５Ｍになるように溶解した溶液を加え、室温で２分間振盪した。
（８）（３）から（７）の操作を合計４回繰り返した。
（９）反応容器に濃アンモニア水を加え室温で３０分振盪した。
（１０）上清を集め減圧下濃縮した。
（１１）残渣を逆相高速液体クロマトグラフィー（Ｗａｔｅｒｓ  μＢｏｎｄａｓｐｈｅｒｅ，アセトニトリル：０．１Ｍ酢酸アンモニウム＝０：１００から３０：７０、３０分の均等勾配）で精製して目的物を得た。：保持時間１２．５分、MＡＬＤＩ  ＴＯＦ−ＭＡＳＳ  ［Ｍ＋１］＝１４５５。
（参考例２）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイトを用いたペンタチミジル酸ホスホロチオエートの合成
ペンタチミジル酸ホスホロチオエートは以下の工程に従い合成した。
（１）市販の５’−Ｏ−４，４’−ジメトキシトリチルチミジンを担持したＣＰＧ固相担体（１１  ｍｇ，０．５  μｍｏｌ）をグラスフィルターに入れ、１％トリフルオロ酢酸のジクロロメタン溶液（０．５  ｍｌ）で３回洗浄した。
（２）固相担体をアセトニトリル（０．５  ｍｌ）で３回洗浄した。
（３）反応容器にアセトニトリル（０．１３  ｍｌ）を加え、ここに（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト（７．５  ｍｇ，１０μｍｏｌ）と１Ｈ−テトラゾール（２．８  ｍｇ，４０μｍｏｌ）を加え室温で１分間振盪した。
（４）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３回洗浄した。
（５）反応容器に０．１  Ｍ  ジメチルアミノピリジンのピリジン溶液と無水酢酸とを体積比９：１で混合した溶液を加え、室温で２分間振盪した。
（６）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３回洗浄した。
（７）反応容器に０．５  Ｍ  テトラエチルチウラムジスルフィドのアセトニトリル溶液を加え、室温で１５分間振盪した。
（８）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３回洗浄した。
（９）反応容器にヨウ素をピリジンとアセトニトリルと水とを９：１０：１の体積比で混合した溶媒に０．５Ｍになるように溶解した溶液を加え、室温で２分間振盪した。
（１０）（３）から（９）の操作を合計４回繰り返した。
（１１）反応容器に濃アンモニア水を加え室温で３０分振盪した。
（１２）上清を集め減圧下濃縮した。
（１３）残渣を逆相高速液体クロマトグラフィー（Ｗａｔｅｒｓ  μＢｏｎｄａｓｐｈｅｒｅ，アセトニトリル：０．１Ｍ酢酸アンモニウム＝０：１００から３０：７０、３０分の均等勾配）で精製して目的物を得た。
【００８０】
【発明の効果】
本発明は、新規なヌクレオシドホスホロアミダイド化合物を提供する。この化合物を核酸合成試薬として用いることにより、煩雑でかつデプリネーションを起こすおそれのあるＤＭＴｒ基の脱保護工程を省略することができるようになる。