(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
２ロールプロセスにおいて薄い金属ストリップ（１）を連続的にキャストするための方法であって、
融液バス（６）を形成しつつ、さらに、キャストロール（２）のうちの前記融液バス（６）よりも上方に位置した表面（１１）を、不活性ガスまたは不活性ガス混合ガスの吹付を行いつつ、２つのキャストロール（２）によって形成されたキャストギャップ（３）内において、金属融液（７）を、キャストすべき厚さのストリップ（１）へとキャストするという方法において、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）の前記ガス吹付を、前記キャストロール（２）の長さ方向において局所的にそれぞれ異なる様式で行い、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）を、前記キャストロール（２）の長さ方向にわたって局所的表面粗さに関して観測し、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）の前記ガス吹付を、観測結果に基づいて行う、
という方法において、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）を、長さ方向において連続的に隣接配置された領域（ａ、ｂ、ｃ、…）へと分割し、
該各領域（ａ、ｂ、ｃ、…）を、前記表面（１１）の局所的表面粗さに関して観測し、
前記局所的なガス吹付を、前記各領域（ａ、ｂ、ｃ、…）内においては一様かつ一定として行うことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
局所的にそれぞれ異なる前記ガス吹付を、局所的にそれぞれガス組成を変えることによって行うことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の方法において、
局所的にそれぞれ異なる前記ガス吹付を、局所的にそれぞれガス量を変えることによって行うことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の方法において、
局所的にそれぞれ異なる前記ガス吹付を、局所的にそれぞれガス圧力を変えることによって行うことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１記載の方法において、
前記隣接配置領域（ａ、ｂ、ｃ、…）を、少なくとも３つ形成することを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１記載の方法において、
前記隣接配置領域（ａ、ｂ、ｃ、…）を、最大４０個形成することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の方法において、
前記ガス吹付を、ガス出口開口（１８）のところにおける圧力が１．０５〜２ｂａｒという範囲の圧力で行うことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載された方法を適用することによって薄い金属ストリップ（１）を連続的にキャストするための装置であって、
キャストすべきストリップ（１）の厚さに対応した幅とされたキャストギャップ（３）を形成する２つのキャストロール（２）によって構成される連続キャスト型と、
蓋（５）によってカバーされている融液バスであって前記キャストギャップ（３）の上方において前記キャストロール（２）の間に形成される融液バスのための融液バス空間（４）と、
前記キャストロール（２）に対して不活性ガスを供給するためのものであって前記キャストロール（２）どうしの間に存在する前記融液バス（６）の直上位置に少なくとも１つのガス出口開口（１８）を有しているガス供給デバイス（２１）と、
前記キャストロール（２）に対してのガス供給を制御するための制御ユニット（２０）と、
を具備してなり、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）の前記各隣接配置領域（ａ、ｂ、ｃ、…）に関して局所的表面粗さを観測するためのデバイス（１９）が設けられ、
該デバイス（１９）は、前記制御ユニットに対して接続されており、
前記ガス供給デバイス（２１）が、複数設けられており、
各ガス供給デバイス（２１）は、前記キャストロール（２）の各隣接配置領域（ａ、ｂ、ｃ、…）のそれぞれに対応して設けられており、
前記各隣接配置領域（ａ、ｂ、ｃ、…）に対しては、対応する前記ガス供給デバイス（２１）によって、前記制御ユニット（２０）により各（ａ、ｂ、ｃ、…）に対して割り当てられた値の関数として、ガス供給可能とされていることを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項８記載の装置において、
前記各ガス供給デバイス（２１）は、複数の近接配置されたガス出口開口（１８）を備えていることを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項８または９記載の装置において、
前記ガス供給デバイス（２１）は、それぞれが互いに異なるガスを収容している２つ以上のガスリザーバ（２２）と、ガスダクト（２４）と、絞り閉塞部材（２５）と、を備えて構成され、
各ガス供給デバイス（２１）の前記ガスダクト（２４）は、前記ガス供給デバイス（２１）に設けられた混合デバイス（２３）に対して連通しており、
前記混合デバイス（２３）からは、少なくとも１つのガス供給ダクトが延出されていて、該ガス供給ダクトは、各ガス供給デバイス（２１）に対応したそれぞれの前記ガス出口開口（１８）に対して連通していることを特徴とする装置。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれかに記載の装置において、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）の局所的表面粗さを観測するための前記デバイスは、前記キャストロール（２）の前記表面（１１）を向いて配置されたセンサ（１９）によって構成されていることを特徴とする装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の装置において、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）の局所的表面粗さに関して長さ方向にわたっての一体観測の目的のためのセンサとして、特性決定センサ（１９）が、前記各キャストロール（２）に設置されていることを特徴とする装置。
【請求項１３】
請求項８〜１２のいずれかに記載の装置において、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）の局所的表面粗さを観測するための前記デバイスは、前記ストリップ（１）の前記表面（２６）の少なくとも一方に向けて配置されたセンサ（１９）によって構成されていることを特徴とする装置。
【請求項１４】
請求項８〜１３のいずれかに記載の装置において、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）の局所的表面粗さを観測するためのデバイス（１９）は、２つ以上のものが、前記キャストロール（２）の長さ方向に分散配置され、
前記各デバイス（１９）は、制御ユニット（２０）を介して、それぞれのガス供給デバイス（２１）に対して個別的に接続されていることを特徴とする装置。
【請求項１５】
請求項８〜１４のいずれかに記載の装置において、
前記ガス出口開口（１８）の軸は、前記キャストロール（２）の前記表面（１１）に向けて、周縁方向において、＋６０°〜−６０°という範囲の角度αを向いていることを特徴とする装置。
【請求項１６】
請求項８〜１５のいずれかに記載の装置において、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）は、４μｍよりも大きな表面粗さを有していることを特徴とする装置。
【請求項１７】
請求項８〜１６のいずれかに記載の装置において、
前記キャストロール（２）の前記表面（１１）には、１０〜１００μｍという範囲の深さかつ０．２〜１．０ｍｍという範囲の直径の窪みが設けられていることを特徴とする装置。
【請求項１８】
請求項１７記載の装置において、
前記窪みは、互いに当接していることを特徴とする装置。
【請求項１９】
請求項１８記載の装置において、
２０％よりも多くの前記窪みが、互いに当接していることを特徴とする装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、２ロールプロセスにおいて、好ましくは厚さが１０ｍｍ未満であるような特にスチールストリップといった薄いストリップを連続的にキャストするための方法であって、この場合、融液バスを形成しつつ、さらに、キャストロールのうちの融液バスよりも上方に位置した表面を、表面状態の関数として不活性ガスまたは不活性ガス混合ガスによって掃引しつつ、２つのキャストロールによって形成されたキャストギャップ内において、金属融液を、キャストすべき厚さのストリップへとキャストするという方法に関するものである。また、本発明は、このような方法を実施するための装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
２ロールプロセスにおいて薄いストリップをキャストする場合、ストリップの断面は、キャストロールのうちの高温状態部分によって決定される。高温部分が、ストリップの所望横断面形状に対して正確に対応していることが本質的である。その理由は、キャストプロセス後においては、ストリップ断面は、もはや変化し得ないからである。すなわち、ロールプロセスによっては、平坦とはならない。キャストロールの高温部分は、非常に大きな熱負荷がキャストロールの表面上に周期的に発生することにより、キャストロールの低温部分から大きく逸れてしまう。熱による反りが引き起こされることになるけれども、キャストロールの表面を凹状に粗面化しておくことにより、少なくとも部分的に補償することができる。
【０００３】
しかしながら、キャストプロセスにおいてキャストロール上にもたらされる熱負荷が、複数のパラメータによって影響されることにより、またこれに加えて、ストリップキャスト機が、幅広い操作範囲（例えば、０．２〜２．５ｍ／ｓという範囲のキャスト速度、１〜１０ｍｍという範囲のストリップ厚さ、キャストロール上に発生する様々な圧延力、キャストされるべき金属融液の様々な温度、例えば様々なスチールグレード等といったような様々な金属品質）を備えているべきであることにより、粗面化によるキャストロールの事前的特性決定を充分に行うことは不可能である。そうではなく、様々な動作ポイントに適合させるように、キャストロールをオンラインで調節することが必要とされる。
【０００４】
上記のようなオンライン調節は、例えばオーストラリア国特許出願公開抄録第５０  ３４０／９６号により、公知である。この文献においては、キャストロールの表面は、コンピュータに対して接続された複数のセンサによって観測される。コンピュータは、キャストロールに対してのガス供給を制御する。この場合、例えば窒素とアルゴンといったような異なる２つのガスが、キャストロールに対して供給される。よって、これら２種類のガスが、キャストロールの表面状態に応じた様々な分圧比でもって融液バスに対して供給される。これにより、融液バスのバス液位の直上における熱伝達に影響を与えることができる。このようにして形成された混合ガスは、キャストロールの全長さにわたって分散された態様で、キャストロールの表面に対して供給される。これは、キャストロールの熱による反りを避けるためであり、製造されるストリップの厚さを一様なものとするためである。これに代えて、他の提案は、ストリップの幅方向にわたってストリップの厚さを測定して、ストリップの矩形断面からのズレを検出可能とすることであり、また、キャストロール面に対して供給されるガスの混合比率を適切なものとすることにより、ズレを補償することである。上述のように、キャストロールと金属融液との間の熱伝達は、様々なガス組成によって重大な影響を受け、これにより、キャストロールの形状の変化を引き起こす。
【０００５】
２ロールキャストの分野における内部調査作業により、上記のような測定を行ったにしても、満足のいく製品を得ることができないことがわかった。特別に調節されたガス混合比でもってガス供給がなされたにしても、キャストロールの熱変形のために、また、キャストロールの表面上における金属融液のわずかに非平坦な凝固のために、キャストロールの表面全体にわたってできるだけ一様とされた表面粗さが維持されないという現象が観測された。また、キャストロールの長さ全体にわたって延在せず周縁部に位置した円滑部分が発生するという現象が観測された。よって、例えば、より輝きかつより円滑な部分が、キャストロールの周縁部に形成される。表面粗さが低減されていることのためにそのような円滑部分が金属融液のより急速な固化を引き起こしこのためキャストギャップ内において良好なコンタクトをもたらすことにより、より大きな局所的圧延力を誘起することとなるいわゆる『キスポイント』が形成され、キャストロールのうちの、既に円滑とされていた領域における円滑さが、さらに増大する。このことは、積層プロセスを引き起こす。すなわち、ストリップ品質のさらなる劣化を引き起こす。これは、上記のような手段によっては、すなわち、バス液位近傍に供給されるガスの混合比の変化によっては、回避することができない。
【０００６】
本発明は、上記のような欠点や困難さを回避することを目標とするものであって、その目的は、最初に規定したタイプの方法において、操業状態が著しく変化したにしても理想的横断面形状を有したストリップを製造し得るような方法を提供することであり、また、このような方法を実施するための装置構成を提供することである。局所的円滑領域に基づくキャストロールの熱変形の発生を回避することが、特に重視される。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、上記目的は、キャストロールの表面のガス掃引（すなわち、『ガス吹付』。以下においても同様。）を、キャストロールの長さ方向において局所的にそれぞれ異なる様式で行うことにより得られる。
【０００８】
好ましい実施形態は、キャストロールの表面を、キャストロールの長さ方向にわたって局所的表面状態を観測し、キャストロールの表面のガス掃引を、観測結果に基づいて行うことを特徴としている。
【０００９】
好ましくは、局所的にそれぞれ異なるガス掃引は、局所的にそれぞれガス組成を変えることによって行われる。
【００１０】
しかしながら、局所的にそれぞれ異なるガス掃引は、局所的にそれぞれガス量を変えることによって、および／または、局所的にそれぞれガス圧力を変えることによって、行うこともできる。
【００１１】
好ましくは、キャストロールの局所的表面粗さが、観測される。
【００１２】
他の実施形態においては、キャストロールの局所的表面反射特性が、観測される。
【００１３】
しかしながら、キャストロールの表面の局所的変色を観測することもできる。
【００１４】
本方法を単純な態様においては、キャストロールの表面が長さ方向において連続的に隣接配置された領域へと分割されていて、これら各領域の表面状態が観測され、局所的なガス掃引が各領域内においては一様かつ一定として行われる。この場合、隣接配置領域は、少なくとも３つ形成され、好ましくは、最大４０個形成される。
【００１５】
好ましい実施形態は、キャストロールの表面の観測を、キャストロール表面から放出されるおよび／または反射される電磁波を受領することにより、特に可視光の範囲および／または熱放射の範囲といったような電磁波を受領することにより、行うことを特徴としている。
【００１６】
本発明の他の実施形態においては、キャストロールの表面の観測を、キャストギャップからストリップが出現した後のところにおいてストリップを幅方向にわたって観測することにより間接的に行う。この場合、好都合には、ストリップの少なくとも一方の面を、キャストギャップからストリップが出現した直後のところにおいてストリップを幅方向にわたって観測し、好ましくは、ストリップの表面から放出されるおよび／または反射される電磁波を、特に可視光の範囲および／または熱放射の範囲といったような電磁波を受領する。
【００１７】
好ましくは、ガス掃引を、ガス出口開口のところにおける圧力が１．０５〜２ｂａｒという範囲の圧力で好ましくは１．５〜２ｂａｒという範囲の圧力で行い、この場合、好都合には、ガス掃引を、ガス出口開口のところにおけるガス放出速度が少なくとも０．２ｍ／ｓという速度で好ましくは少なくとも１．５ｍ／ｓという速度で行う。
【００１８】
本発明による装置は、上記方法を適用することによって薄いストリップを連続的にキャストするための装置であって、キャストすべきストリップの厚さに対応した幅とされたキャストギャップを形成する２つのキャストロールによって構成される連続キャスト型と、蓋によってカバーされている融液バスであってキャストギャップの上方においてキャストロールの間に形成される融液バスのための融液バス空間（あるいは、融液バス容器）と、キャストロールに対して不活性ガスを供給するためのものであってキャストロールどうしの間に存在する融液バスの直上位置に少なくとも１つのガス出口開口を有しているガス供給デバイスと、キャストロールの表面を観測するためのデバイスと、キャストロールに対してのガス供給をキャストロールの表面状態の関数として制御するための制御ユニットと、を具備してなり、ガス供給デバイスが、複数設けられており、各ガス供給デバイスは、キャストロールの各部分表面領域のそれぞれに対応して設けられており、各部分表面領域に対しては、対応するガス供給デバイスによって、制御ユニットにより各部分表面領域に対して割り当てられた値の関数として、ガス供給可能とされていることを特徴としている。
【００１９】
好ましくは、各ガス供給デバイスは、複数の近接配置されたガス出口開口を備えている。
【００２０】
好ましい実施形態は、ガス供給デバイスが、それぞれが互いに異なるガスを収容している２つ以上のガスリザーバと、ガスダクトと、絞り閉塞部材と、を備えて構成され、各ガス供給デバイスのガスダクトは、ガス供給デバイスに設けられた混合デバイスに対して連通しており、混合デバイスは、好ましくは混合チャンバとされ、混合デバイスからは、少なくとも１つのガス供給ダクトが延出されていて、ガス供給ダクトは、各ガス供給ダクトに対応したそれぞれのガス出口開口に対して連通していることを特徴としている。
【００２１】
有利には、キャストロールの表面を観測するためのデバイスは、キャストロールの表面を向いて配置されたセンサによって構成される。
【００２２】
キャストロール表面の特に全体的の観測のために、キャストロールの表面の長さ方向にわたっての好ましくは長さ方向全体にわたっての一体観測の目的のためのセンサとして、特性決定センサが、各キャストロールに設置される。
【００２３】
また、キャストロールの表面は、間接的に観測することもできる、すなわち、ストリップ（キャストストリップ）を介して観測することもできる。この場合、キャストロールの表面を観測するためのデバイスは、ストリップの表面の少なくとも一方に向けて配置されたセンサによって構成される。
【００２４】
他の好ましい実施形態においては、キャストロールの表面を観測するためのデバイスは、２つ以上の好ましくは少なくとも３つ以上のものが、キャストロールの長さ方向に分散配置され、各デバイスは、制御ユニットを介して、それぞれのガス供給デバイスに対して個別的に接続されている。
【００２５】
好ましくは、ガス出口開口の軸は、キャストロールの表面に向けて、周縁方向において、＋６０°〜−６０°という範囲の好ましくは＋２０°〜−３０°という範囲の角度を向いている。
【００２６】
好ましい実施形態は、キャストロールの表面は、４μｍよりも大きな好ましくは８μｍよりも大きな表面粗さを有している。
【００２７】
さらなる好ましい実施形態においては、キャストロールの表面には、１０〜１００μｍという範囲の深さかつ０．２〜１．０ｍｍという範囲の直径の窪みが設けられており、これら窪みは、好ましくは５〜２０％のものが、互いに当接している。
【００２８】
２０％よりも多くの窪みが互いに当接していれば、良好なガス掃引が確保される。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に概略的に図示された２つの実施形態の例示により、本発明についてさらに詳細に説明する。図１は、本発明の第１実施形態に基づく、薄いストリップを連続的にキャストするための装置を示す側面図である。図２は、図１の一部を拡大して示す図であり、図３は、図１における矢印 III方向から見た平面図である。図４は、個々の外周領域におけるガス掃引を示す図である。
【００３０】
互いに平行とされた状態で互いに隣接配置された２つのキャストロール２によって形成された連続キャストモールドは、薄いストリップ１をキャストするように機能する、特に、１〜１０ｍｍの厚さとされたスチールストリップをキャストするように機能する。２つのキャストロール２は、キャストギャップ３を形成している。このキャストギャップ３は、『キスポイント』とも称されるものであって、連続キャストモールドからストリップ１が発生する箇所をなす。キャストギャップ３の上方には、カバーを形成しているカバープレート５によって上方を遮蔽されたスペース４が形成されている。このスペース４は、融液バス６を受領するために機能する。金属融液７は、カバーの開口８を通して供給される。開口８を通しては、含浸チューブが、融液の液位９よりも下方位置にまでへと、融液バス６内に延出されている。両キャストロール２には、図示しない内部冷却機構が設けられている。キャストロール２の側部には、融液バス６を受領するためのスペース４をシールするために、側部プレート１０が設置されている。
【００３１】
両キャストロール２の表面１１上には、それぞれ、ストランドシェル１２が形成される。これらストランドシェル１２どうしは、ストリップ１を形成するために、キャストギャップ３内においてすなわちキスポイント上において、互いに連結される。ほぼ一様な厚さを有したストリップ１の最適形成のためには、好ましくは規格に適合したわずかな湾曲を有したストリップ１の最適形成のためには、キャストギャップ３内における矩形形態に関しての圧延力分布の存在が、重要である。
【００３２】
カバープレート５は、カバープレート５と両キャストロール２の各表面１１との間にわずかの幅のギャップ１３が形成されるようにして、設置されている。わずかの幅のギャップ１３は、空気の侵入を防止するために、付加的な弾性シールリップ１４やラビリンスシール等を介して、両キャストロール２の表面１１に対して外部からシールされている。カバープレート５のうちの、キャストロール２の方を向いている両エッジは、ギャップ１３の幅がほぼ一定となるように、それぞれ、キャストロール２の各表面１１に対して適合した形状とされている。このギャップ１３を通して、簡易連結具１６を介してカバープレート５に対して固定されたガス供給ダクト１５によって、不活性ガスが供給される。有利には、１つの簡易連結具１６が、２つまたはそれ以上のガス供給ダクト１５を、同時に連結する。重要なことは、緊密で正確な連結である。このために、連結は、突き合わせ継手という形態とすることもできる。その理由は、個々のガス供給ダクト１５内のガス圧力を、すべて同一とする必要がないからである。カバープレート内には、孔１７（孔に代えて、スリットとすることもできる）が、カバープレートと各キャストロール２との間のギャップ１３内に開口しているガス出口開口１８と共に、ガス供給ダクト１５の延長として設けられている。孔１７は、カバープレート５のうちの水平となっているエッジ領域において、ギャップ１３の下端に向けて開口することもできる。ガス出口開口１８の直径または開口幅は、５ｍｍよりも小さなものであり、好ましくは、３ｍｍよりも小さなものである。
【００３３】
キャストロール２の表面１１は、表面状態の関数として、不活性ガスによって掃引される。この目的のために、キャストロール２の表面１１には、表面を観測するためのデバイス１９が設けられている。図示の実施形態においては、特性決定センサ１９が、キャストロール２の表面１１に向けて配置されている。この特性決定センサ１９は、各キャストロール２の長さ方向にわたっての温度分布を測定する。特性決定センサ１９は、互いに隣接配置された部分表面領域ａ、ｂ、ｃ、…に対して、すなわちキャストロール２の長さ方向にわたって分散している個々の互いに隣接した周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…に対して、それぞれ、温度値または温度平均値を割り当てることができるようにして、コンピュータおよび制御ユニット２０に対して接続されている。
【００３４】
また、特性決定センサ１９は、キャストロール２の表面１１上における円滑領域を検出するための放射センサによって代替することもできる。
【００３５】
不活性ガスによって、各キャストロール２の互いに隣接配置された個々の周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…からなる個々の領域に対して、互いに個別的に影響を与え得るように、複数のガス供給デバイス２１が設けられている。図示の実施形態においては、各ガス供給デバイス２１は、キャストロール２の周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…に対して割り当てられている。
【００３６】
ガス掃引のために、様々なガスのための加圧ガスリザーバ２２が、設けられている。例えば、図示の実施形態においては、３つの加圧ガスリザーバ２２が設けられている。ここで、各加圧ガスリザーバ２２には、例えば１つのものには窒素ガスが他のリザーバにはアルゴンガスがさらに他のリザーバにはヘリウムガスがといったようにして、特定のガスが充填されている。これら各加圧ガスリザーバ２２からは、ガスダクト２４が延出されていて、各周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…に対して割り当てられた混合チャンバ２３に対して連結されている。この場合、圧縮ガスリザーバ２２内に収容された１つ以上のガスから形成される特定ガス組成は、ガスダクト２４内に設置された絞り閉塞部材２５によって、各混合チャンバ２３内において（個別的に）設定することができる。これら絞り閉塞部材２５は、コントローラ２０に対して接続されている。絞り閉塞部材２５は、各キャストロール２の長さ方向にわたって存在する温度分布に従った特定ガス組成を、各混合チャンバ２３に対して個別に設定することができるようにして、したがって、各周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…に対して個別に設定することができるようにして、コントローラ２０によって駆動制御される。選択されるべき設定値は、各センサ１９によって検出された温度分布に基づいて、コントローラ２０により決定される。
【００３７】
ガス供給ダクト１５が、各混合チャンバ２３から、カバープレート５のエッジ上に設けられたガス出口開口１８へと、延在している。これにより、キャストロール２の表面１１に対しては、それぞれ異なるガス組成を作用させることができる。すなわち、周縁領域に関連した態様でもって、キャストロール２の長さ方向に沿って局所的にそれぞれ異なるガス組成を作用させることができる。また、隣接配置された複数のガス出口開口１８（例えば、孔の形態）を組み合わせて、これらガス出口開口をグループ化することにより、単一のガス供給ダクト１５からガス供給を行うこともできる。その場合には、形成される周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…は、比較的広くなる。すなわち、表面１１のより大きな表面に対して、同一組成の混合ガスが供給されることとなる。よって、周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…に対してガスを供給するためのガス供給デバイスは、ガスダクト２４（圧縮ガスリザーバ２２の数に対応した数だけ設けられる）と、絞り閉塞部材２５と、混合チャンバ２３と、ガス供給ダクト１５と、少なくとも１つのガス出口開口１８と、から形成されている。
【００３８】
流入ガスは、少なくとも１．０５ｂａｒの圧力（衝撃圧力）を有しているべきであり、好ましくは、１．５ｂａｒよりも大きく最大２ｂａｒまでの圧力を有している。この場合、ガス出口開口１８の軸は、キャストロールの表面に対して実質的に垂直なものとすることができる。しかしながら、これら軸は、ロール表面の移動方向に対してあるいは移動方向に向けて、正確に±６０°という範囲内で、傾斜していても良い。周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…の幅の選択は、キャストプロセスのエラーに対する感受性に依存するものである。この場合、エラーに対する感受性は、プロセスパラメータに大いに依存する。
【００３９】
本発明の他の実施形態においては、キャストロール２の表面１１は、直接的に観測されるのではなく、ストリップ１の一方または双方の表面２６に関する直接観測結果から、キャストロール２の表面１１の状態に関する結論を引き出される。したがって、この実施形態におけるセンサ１９は、ストリップ１の表面２６に対して向けられている。すなわち、図１において一点鎖線で示すように、キャストギャップ３からのストリップ１のできるだけ出現直後のところに設置されている。
【００４０】
本発明は、図面に図示された例示としての実施形態に限定されるものではなく、様々な観点から変更を加えることができる。例えば、キャストロール表面１１上において局所的に発生する温度を測定する代わりに、キャストロール２の局所的表面粗さを観測することによって、本発明の目的を達成することができる。また、イメージ認識システムを使用してキャストロール２のまたはストリップ１の表面反射特性を観測することによって、結論を引き出すことができる。あるいは、キャストロール２の表面の局所的な様々な変色を観測して、周縁領域に向けての掃引ガス組成の選択のために使用することができる。
【００４１】
また、キャストロール２の表面１１は、ガス組成を局所的に調節することに代えて、付加的に、局所的ガス量を様々に調節することによっても、および／または、局所的ガス圧力を様々に調節することもよっても、制御することができる。
【００４２】
図４は、周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…に対しての、様々なガス組成Ａ、Ｂ、Ｃ、…での様々な供給量によるガス供給を概略的に示している。個別的に隣接配置された各周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…が、グラフの横軸を構成している。要約すれば、横軸は、キャストロール２の長さに対応している。縦軸には、個々の周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…に対して割り当てられた温度値が、非常に微細な測定に基づく温度特性曲線２７としてプロットされている。加えて、個々の周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…を掃引するための単位時間あたりのガス量値が、縦軸にプロットされている。参照値Ａ、Ｂ、Ｃ、…は、例えば加圧ガスリザーバ２２内に収容された様々なガスを混合することによって形成することができるような様々なガス組成を、示している。周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…における各温度平均値（温度平均値は、破線で示されている）が、周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…に対して作用している決められたガス組成や決められたガス量に対して割り当てられることは、明らかである。
【００４３】
本発明は、キャストロール２の表面１１のうちの各部分に対しての局所的影響を、融液バス液位９の直上への混合ガス供給時に、局所的な様々な供給ガス組成や供給ガス量によって、引き起こし得るというアイデアをベースとするものである。実験的検証により、様々な固化速度を誘起する様々な組成の混合ガスを、密接に隣接した領域に対してさえも、すなわち、融液バス液位９の直接的隣接領域に対してさえも、導入することができることが示された。一方、それにもかかわらず、キャストロール２の隣接配置された表面領域すなわち周縁領域ａ、ｂ、ｃ、…に対して、互いに異なる影響をもたらすことができる。これにより、キャストロール２の表面１１が非一様となるのを防止することができる。その結果、キャストロール２の表面１１は、これまでの交換期間よりも、かなり長期にわたるキャスト期間の後とか、あるいは、実質的に多くの生産を行った後とか、にしか交換や修理を行う必要がない。
【００４４】
実験的検証により、ヘリウムガスを１００％使用した場合よりもアルゴンガスを１００％使用した場合の方が、固化速度が、最大３０％まで遅く維持されることが示された。よって、キャストロール２の表面１１のうちの赤茶色の変色を示す領域を、ヘリウムの供給量を増大させて局所的固化速度を増大させこれにより赤茶色の変色を消失させることによって、再度除去できることがわかった。さらに、光沢的変色領域に関しては、アルゴン供給を増大させることにより、固化速度を減少させることができ、これにより、光沢的変色を、再度消失させることができることがわかった。一般に、本発明によるプロセスにおいては、キャストロール２の長さ方向にわたってのキャストロールの表面状態の変化が、除去され、キャスト実施時のあるいはキャスト実施による表面品質変化の分散範囲が増大することがなく、局所的変化の際の表面に対しての熱伝達が、表面に対する変化が大きくならずに逆に再度小さくなるようにして、局所的に適用された混合ガスの変化によって影響を受ける。表面品質という用語は、例えば表面粗さや、表面の光学的反射特性や、変色や、細い溝または窪みの存在、として理解されるべきである。
【００４５】
本発明においては、一方においては、製造されるストリップ１の固化構造、特に、中央球状−針状（dentric） 固化構造が、幅全体にわたってさらに一様となり、他方においては、再調整（キャストロール２の表面１１をより均一とする再調整）が、かなり多数のキャストを行った後でしか必要とはされない。よって、表面層のサービス寿命だけでなく、キャストロール２全体としてのサービス寿命までも、著しく増大される。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、本発明の第１実施形態に基づく、薄いストリップを連続的にキャストするための装置を示す側面図である。
【図２】  図１の一部を拡大して示す図である。
【図３】  図１における矢印 III方向から見た平面図である。
【図４】  個々の外周領域におけるガス掃引を示す図である。
【符号の説明】
１  ストリップ
２  キャストロール
３  キャストギャップ
４  スペース（融液バス空間）
５  カバープレート（蓋）
６  融液バス
７  金属融液
８  キャストロール
１１  表面
１８  ガス出口開口
１９  センサ
２０  コントローラ（制御ユニット）
２１  ガス供給デバイス
２２  ガスリザーバ
２３  混合チャンバ（混合デバイス）
２４  ガスダクト
２５  絞り閉塞部材
２６  表面
ａ、ｂ、ｃ  周縁領域（部分表面領域）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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