(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写基材と、該転写基材の一方の面へ、少なくとも剥離層、レリーフホログラム層、反射層、磁気記録層、及び接着層を設けてなるレリーフホログラム付き磁気記録層転写リボンにおいて、
前記レリーフホログラム層が（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物を含み、
かつ、前記レリーフホログラム層が（１）電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、
（２）基材、剥離層、レリーフホログラム層、及び反射層を設けた前記レリーフホログラム付き磁気記録層転写リボン状態で、１５０℃雰囲気中に１時間放置しても白化しない耐熱性を有することを特徴とするレリーフホログラム付き磁気記録層転写リボン。
【請求項２】
上記剥離層、レリーフホログラム層、及び反射層の合計厚味が７μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のレリーフホログラム付き磁気記録層転写リボン。
【請求項３】
上記レリーフホログラム層のＪＩＳ−Ｋ−５４００で測定した鉛筆硬度がＨ以上であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のレリーフホログラム付き磁気記録層転写リボン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録層転写リボンに関し、さらに詳しくは、高耐久性のホログラムと、磁気記録層とを同時に転写することができるホログラム付き磁気記録層転写リボンに関するものである。
【０００２】
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。また、「ＵＶ」は「紫外線」、「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
【背景技術】
【０００３】
（主なる用途）本発明のホログラム付き磁気記録層転写リボンを用いて、ホログラムと磁気記録層とを転写した媒体の主なる用途としては、社員証、会員証、学生証などのＩＤカード、ギフト券、入場証、通行証、サービスポイントなどの、一定の金額を払い込んだ（プリペイドという）権利や資格などを証明する媒体が適用できる。しかしながら、意匠性及びセキュリティ性に優れ、かつ、耐熱性や耐摩擦性などの耐久性が要求される用途であれば、特に限定されるものではない。
【０００４】
（背景技術）上記の媒体には、不可視および可視の情報が記録または表示されている。該情報によって有効な使用者が認証され、多種多様の用途に使用できる。不可視情報は、磁気記録部へ記録され、可視情報は、印刷、刻印、顔写真、印字などで表示されている。該媒体は一定の経済的価値や効果を持つため、不正に偽造、変造、不正使用することが絶えず、セキュリティ性の向上が求められている。特に、カラーコピー機の精度向上が著しく、各種の媒体類の偽造を容易にしている。これを防止するため各種の偽造防止手段が施されている。一方、カード券面は意匠性およびセキュリティ−性を高めるために、表面に種々の印刷を施したり、ホログラムや回折格子などの光回折構造を設けるなどの工夫がなされている。例えば、カ−ドの表面が同一の色彩を有するように、磁気記録層の上に印刷を施して、磁気記録層を隠蔽したものがある。磁気記録層を隠蔽することにより、磁気記録層の位置が目視によって判別不能となり、偽造防止効果を高めることができ、また、隠蔽層を設けることで磁気記録層上も含めて、カ−ド全面に適当なパタ−ンのデザインを施すことができる。上記の如きカ−ドは意匠性に優れているが、磁気記録の読み取り機などで繰り返し使用することにより、磁気記録層部分のパタ−ン印刷層および隠蔽層が擦られて剥れることが多く、その結果、カ−ド自体の読み取り精度が低下するのみならず、カ−ド全体としての意匠性が損われるという問題が生じる。該問題は、最表面に高耐久性保護層（ハ−ドコ−ト層、保護層ともいう）を設けることによって解決されるが、このようなカ−ドの表面にホログラム箔や他の転写箔によって、さらに優れた偽造防止性や意匠性を施そうとすると、保護層は離型性が高く、上記の如き各種転写が困難になり、転写しても容易に転写層が剥離してしまうという問題が生じる。さらに、以上の如く磁気記録層の上に各種の層が積層されて、磁気記録層と磁気ヘッド（磁気読み取り装置）と磁気記録層との間隔が必然的に大となり、所謂スペースロスが生じて、磁気記録の読み取り、書き込みの精度が低下するという問題が生じる。さらにまた、意匠性とセキュリティ性を合わせて有するホログラムなどを設ける場合には、磁気記録層の転写と、ホログラムの転写を別々に、２回の転写を行わねばならないので、製造が煩雑でコストが高いという問題点もある。
従って、カードなどの媒体へ転写するホログラム付き磁気記録層転写リボンは、磁気記録層とホログラムとを一度に転写でき、製造が容易で、かつ、意匠性及びセキュリティ性に優れるホログラムに耐熱性や耐摩擦性などの耐久性を持たせて、磁気記録層の保護にも優れ、しかも、磁気記録層上の厚味が薄く、磁気記録層の読み出し、書き込みも精度良く行うことがが求められている。
【０００５】
（先行技術）従来、磁気記録層を保護するため保護層、中間保護層、及び磁気隠蔽層を、磁気記録層の表面に設けてなる媒体が知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、磁気記録層の表面に３層が積層されるので、厚味が厚くスペースロスが大きく磁気情報が読み取りにくく、また、磁気記録層の面にはさらに厚味を増してしまうのでホログラムを設けることができないという欠点がある。
また、本出願人も、予め磁気記録層を有する媒体へホログラムを転写して、ホログラム付き磁気記録媒体とするものを開示している（例えば、特許文献２〜４参照。）。しかしながら、磁気記録層とホログラムとをそれぞれ別途２回転写するものであり、同時に転写できないという問題点がある。
さらに、本出願人は、カ−ド基材上に、磁気記録層、磁気記録層の隠蔽層、パタ−ン印刷層、高耐久性保護層、及び装飾物などの受容層を順に積層してなる表面耐久性に優れた磁気記録カード、及びその製造方法を開示している（例えば、特許文献５参照。）。しかしながら、受容層用塗工液を塗工し、該受容層が完全硬化する前に、該受容層の表面に高耐久性保護層用塗工液を塗布および硬化させて上記受容層と保護層との密着性を向上させ、該保護層の表面にパターン印刷層および磁気記録層の隠蔽層を形成してなる転写シートを用意し、磁気記録層が形成されたカード基材の磁気記録層側に、上記転写シートを用いて、隠蔽層、パターン印刷層、高耐久性保護層および受容層を転写させた後に、さらに受容層の表面のホログラムシ−トを貼着するもので、ホログラムは別途転写するものであり、ホログラムと磁気記録層を同時に転写できないという問題点がある。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−５４１６８号公報
【特許文献２】特開２００３−３２６８２４号公報
【特許文献３】特開２００３−３３５０８３号公報
【特許文献４】特開２００４−１９５６９１号公報
【特許文献５】特開２００２−３５８６２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、磁気記録層とホログラムとを一度に転写でき、製造が容易で、かつ、意匠性及びセキュリティ性に優れるホログラムに耐熱性や耐摩擦性などの耐久性を持たせて、磁気記録層の保護にも優れ、しかも、磁気記録層上の厚味が薄く、磁気記録層の読み出し、書き込みも精度良く行うホログラム付き磁気記録層転写リボンを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わるホログラム付き磁気記録層転写リボンは、転写基材と、該転写基材の一方の面へ、少なくとも剥離層、レリーフホログラム層、反射層、磁気記録層、及び接着層を設けてなるレリーフホログラム付き磁気記録層転写リボンにおいて、前記レリーフホログラム層が（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物を含み、かつ、前記レリーフホログラム層が（１）電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、（２）基材、剥離層、レリーフホログラム層、及び反射層を設けた前記レリーフホログラム付き磁気記録層転写リボン状態で、１５０℃雰囲気中に１時間放置しても白化しない耐熱性を有するように、したものである。
請求項２の発明に係わるホログラム付き磁気記録層転写リボンは、上記剥離層、レリーフホログラム層、及び反射層の合計厚味が７μｍ以下であるように、したものである。
請求項３の発明に係わるホログラム付き磁気記録層転写リボンは、上記レリーフホログラム層のＪＩＳ−Ｋ−５４００で測定した鉛筆硬度がＨ以上であるように、したものである。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１の本発明によれば、耐熱性に優れるので製造や使用時での熱負荷に耐えられ、、かつ製造し易く、磁気記録層とホログラムとを一度に転写でき、意匠性及びセキュリティ性に優れるホログラムに耐熱性や耐摩擦性などの耐久性を持たせて、磁気記録層の保護にも優れ、しかも、磁気記録層上の厚味が薄く、磁気記録層の読み出し、書き込みも精度良く行うホログラム付き磁気記録層転写リボンが提供される。
請求項２の本発明によれば、保護層が不要なので磁気記録層上の厚味が薄く、磁気記録層の読み出し、書き込みも精度良く行えるホログラム付き磁気記録層転写リボンが提供される。
請求項３の本発明によれば、ホログラム層が耐摩擦性などの耐久性を持つので、磁気記録層を保護し傷付きにくいホログラム付き磁気記録層転写リボンが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示すホログラム付き磁気記録層転写リボンの断面図である。
図２は、本発明のホログラム付き磁気記録層転写リボンを用いて転写したホログラム磁気記録層付き媒体の断面図である。
【００１１】
本発明のホログラム付き磁気記録層転写リボン１０は、図１に示すように、転写基材１１、剥離層１３、ホログラム層１５、反射層１７、磁気記録層２１、及び接着層１９、からなり、情報を記録できる磁気記録層２１と、意匠性及びセキュリティ性に優れるホログラムとを一度に転写できる。上記ホログラム層１５が（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物を含んでいるようにする。該組成とすることで、ホログラム層１５は（１）電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、（２）基材１１、剥離層１３、ホログラム層１５、及び反射層１７を設けたホログラム転写箔状態で、１５０℃雰囲気中に１時間放置しても白化しない耐熱性を有するようにできる。
【００１２】
図２に示す、ホログラム磁気記録層付き媒体１は、本発明のホログラム付き磁気記録層転写リボン１０を用いて、媒体基材１０１へ転写したものである。上記ホログラム層１５のＪＩＳ−Ｋ−５４００で測定した鉛筆硬度がＨ以上であるようにして、耐熱性や耐摩擦性などの耐久性を持たせて、磁気記録層２１を保護する。また、磁気読み取りヘッドを用いて、磁気記録層２１からの情報の読み出したり、書き込んだりする操作は、磁気情報を読み取る磁気ヘッドと磁気記録層２１との距離が小さいほどよく、７μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは５μｍ以下である。従って、剥離層１３、ホログラム層１５、及び反射層１７の合計厚味が７μｍ以下、好ましくは５μｍ以下である。この範囲を越えると磁気記録層２１からの情報の読み書き精度が悪く、この範囲以下では磁気記録層２１からの情報の読み書きの精度が良く、５μｍ以下ではさらに精度が良い。
【００１３】
（変形形態）本発明は、次のように変形して実施することを含むものである。
（１）ホログラム付き磁気記録層転写リボン１０の剥離層１３とホログラム層１５との間に別途保護層を設けてもよい、但し、該保護層と剥離層１３とホログラム層１５との合計厚味が７μｍ以下、好ましくは５μｍ以下であるようにする。
（２）ホログラム付き磁気記録層転写リボン１０の表面及び／又は層間に、印刷層などの他の層を設けるようににして構成してもよい。
（３）ホログラム付き磁気記録層転写リボン１０を媒体基材１０１へ転写する形状は、任意であり、全面でも、ストライプ状でも、スポット状などの所望の形状ににして構成してもよい。
【００１４】
（転写基材）転写基材１１としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリメタアクリレート、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、高衝撃ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、セロファン、セルロースアセテートなどのセルロース系フィルム、ポリイミドなどのイミド系樹脂、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリアラミド、ポリエーテルケトンなどのエンジニアリング樹脂、などがある。
好ましくは、耐熱性、機械的強度の点で、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンナフタレートの共押し出しフィルムなどのポリエステル系樹脂のフィルムで、ポリエチレンテレフタレートが最適である。該転写基材の厚さは、通常、２．５〜５０μｍ程度が適用できるが、４〜２５μｍが転写性の点で好ましい。
【００１５】
該転写基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、該基材は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材は、これら樹脂の少なくとも１層からなるフィルム、シート、ボード状として使用する。該基材は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００１６】
（剥離層）転写する際の転写性を安定させ向上させるために、転写基材１１の層形成面へ剥離層１３を設けることが好ましい。剥離層１３の材料としては、一般的な熱可塑性樹脂、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、熱もしくは電離放射線で架橋する硬化性樹脂などが適用できる。熱可塑性樹脂としては、例えば、環状オレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂などが挙げられる。離型性樹脂としては、例えば、弗素系樹脂、シリコーン、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、繊維素系樹脂、ワックス、メラミン系樹脂、各種のワックスなどである。これらの混合物等も合せて使用される。離型剤を含んだ樹脂は、例えば、弗素系樹脂、シリコーン、各種のワックスなどの離型剤を、添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂などである。電離放射線で架橋する硬化性樹脂としては、例えば、紫外線（ＵＶ）、電子線（ＥＢ）などの電離放射線で重合（硬化）する官能基を有するモノマー、オリゴマーなどを含有させた樹脂である。必要に応じて、剥離層とは別に離型層を設けてもよい。また、剥離層の材料は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または混合体（アロイを含む）であっても良い。
【００１７】
（剥離層の形成）剥離層１３は、上記の樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、バーコートなどの公知のコーティング方法で、少なくとも１部に塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。剥離層１３の厚さとしては、通常は０．１μｍ〜５μｍ程度、好ましくは０．５μｍ〜２μｍ程度である。
【００１８】
（ホログラム層）磁気記録層２１は媒体基材１０１上へ転写された後に、例えば、磁気記録カードとして用いられる場合には、磁気ヘッドで多数回読み書きされる。磁気情報を読み取る磁気ヘッドと磁気記録層２１との距離が小さいほどよく、７μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは５μｍ以下であるので、そのたびにヘッドによって摩擦されるが、磁気記録層２１が摩耗してしまうと、磁気情報の読み書き精度が低下するので、耐摩耗性が要求される。該耐摩耗性を向上させるために、先行技術にあるような保護層を設けると、磁気ヘッドと磁気記録層２１との距離が増して、磁気情報の読み書き精度が低下してしまう。そこで、本発明のホログラム層１５は耐久性があり保護層、又はハードコート層といわれる層の機能を兼ねることで、厚さを増さずに、耐久性を高めることができる。剥離層１３も保護層を兼ねるが、剥離層１３は薄く、またホログラム層１５が柔らかいと傷付き易いので、保護層の主体はホログラム層１５である。
【００１９】
該ホログラム層１５の樹脂材料としては、通常、熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂の硬化樹脂などが適用できるが、本発明では、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であり、さらに、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンを硬化させた硬化物を用いる。
【００２０】
（電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ）ホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂Ｍとしては、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂（本明細書の「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」に相当する）を主成分とし、さらにアクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンの一体的な硬化物を含んでいるものである。
【００２１】
（アクリル系オリゴマー）アクリル系オリゴマーとしては、アクリル系で耐熱性のあるオリゴマーであればよく、例えば、日本合成化学社の商品名；紫光６６３０Ｂ、７５１０Ｂ、７６３０Ｂなどが例示できる。含有させる質量基準での割合としては、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」１００部に対して１０〜３０部程度、好ましくは１５〜２５部である。この範囲未満では耐熱性が不足し、この範囲を超えては耐熱性はよいが、ヒビ割れしやすい。
【００２２】
（反応性シリコーン）反応性シリコーンとしては、電離放射線で硬化時に樹脂と反応し結合して一体化するもので、アクリル変性、メタクリル変性、又はエポキシ変性などで変性した反応性シリコーンが適用でき、該反応性シリコーンを含有させる質量基準での割合としては「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」１００に対して、０．１〜１０部程度、好ましくは０．３〜５部である。この範囲未満ではレリーフの賦型時にプレススタンパとの剥離が不十分であり、プレススタンパの汚染を防止することが困難である。また、この範囲を超えてはホログラム層面への反射層の密着性が低く、ホログラム層と反射層との間で剥離し商品価値を失ってしまう。
【００２３】
このように、ホログラム層を「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物とすることで、次の３つの作用効果を兼ねさせることができるのである。
（１）電離放射線硬化前の塗布状態のホログラム層塗膜は指乾状態でべとつかず、ブロッキングせずに巻き取ることができるので、ロールツーロール加工ができ、製造が容易であり、コストも低い。
【００２４】
（２）基材、剥離層、ホログラム層、及び反射層を設けたホログラム転写箔状態で、１５０℃程度、好ましくは１８０℃雰囲気中に１時間放置しても白化しない耐熱性を付与することができる。
【００２５】
（耐熱性）ホログラム層の耐熱性は、基材、剥離層、ホログラム層、及びアルミニウム反射層を設けてなるホログラム転写箔状態で、１５０℃、好ましくは１８０℃のオーブン中に１時間放置して、目視によりヒビ割れ及び／又は白化しない耐熱性をいう。
【００２６】
ホログラム層は、上記の樹脂及び必要に応じて添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、バーコートなどの公知のコーティング方法で、少なくとも１部に塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。ホログラム層１５の厚さとしては、通常は０．１μｍ〜１０μｍ程度、好ましくは０．３μｍ〜５μｍ程度である。このように、上記の樹脂を用いて塗布し乾燥させ、レリーフを賦型後に硬化させたホログラム層１５とすることで、ＪＩＳ−Ｋ−５４００で測定した鉛筆硬度がＨ以上とすることができる。このホログラム層１５は耐擦傷性が優れるので、製造や使用中での傷付きが極めて少なくできる。
【００２７】
（反射層）反射層１７は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層１５面のレリーフ面へ、反射層１７へ設けることにより、レリーフの反射及び／又は回折効果を高めるので、ホログラム層１５の反射率のより高れば、特に限定されなず、例えば金属薄膜が適用できる。
【００２８】
該反射層１７に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。反射層１７の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。
【００２９】
また、反射層１７として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層１５よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｉＯ、ＳｎＯ2、ＩＴＯ等があり、後者の例としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＡｌＦ3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｕ等の酸化物又は窒化物他はそれらを２種以上を混合したもの等が挙げられる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２００Å以下になると、透明性が出て使用できる。
【００３０】
透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層１５のレリーフ面に、１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、ホログラム層１５と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層１９材料とホログラム層１５材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層１９が反射層１９を兼ねることもできる。
【００３１】
（磁気記録層）磁気記録層２１は、例えば、クレジットカードのＡＴＭや、定期券の自動改札などに見られるように、磁気ヘッドに接触させて、記録されている信号を読み取るためのもので、γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、ＣｒＯ2、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、ＭｎＡｌ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライトなどの従来公知の磁性微粒子を、バインダへ分散されてなる組成物である。該組成物を溶剤などへ分散又は溶解させた組成物インキを用いて、公知のコーティング法で、組成物インキを塗布して、乾燥し、必要に応じて、温度３０℃〜７０℃で適宜エージング、または、電離放射線（紫外線、電子線など）を照射して、形成すれば良い。コーティング法としては、例えば、ロールコート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビアコート、グラビアリバースコート、キスコート、コンマコート、ロッドコ−ト、ブレードコート、バーコート、ワイヤーバーコート、ナイフコート、スクイズコート、エアードクターコート、エアナイフコート、ダイコート、リップコート、カーテンコート、フローコートなどが適用できる。該塗布方法で磁気記録層２１を形成する場合には、その膜厚は乾燥後で１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ程度である。
【００３２】
なお、γ−Ｆｅ2Ｏ3などの磁性微粒子が分散されるバインダの材料としては、ブチラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース系樹脂、アクリル樹脂、スチレン／マレイン酸共重合体樹脂などが用いられ、必要に応じて、ニトリルゴムなどのゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマーなどを添加することができる。また、必要に応じて、界面活性剤、シランカップリング剤、可塑剤、ワックス、シリコーンオイル、カーボンその他の添加剤を使用することができる。
【００３３】
（接着層）接着層１９の材料としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニール酢酸ビニール共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ０．１μｍから３０μｍの層を得る。
【００３４】
（媒体基材）媒体基材１０１としては特に限定されず、例えば天燃繊維紙、コート紙、トレーシングペーパー、転写時の熱で変形しないプラスチックフイルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布あるいは染料受容性のある媒体等いずれのものでもよい。また、転写基材１０１の媒体はその少なくとも１部が着色、印刷、その他の加飾が施されていてもよく、転写したホログラム面にも、印刷、その他の加飾を施してもよい。
【００３５】
（転写法）被転写基材への形成方法としては、公知の転写法でよく、例えば、熱刻印によるホットスタンプ（箔押）、熱ロールによる全面又はストライプ転写、サーマルヘッド（感熱印画ヘッド）によるサーマルプリンタ（熱転写プリンタともいう）などの公知の方法が適用できる。スポット状、文字、数字、イラストなどの任意の形状を転写してもよい。
【実施例】
【００３６】
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
【００３７】
（実施例１）
基材１１として厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムを用い、該基材１１の一方の面へ、グラビアコート法で、セルロース系樹脂塗工液を乾燥後１．２μｍになるように塗布し乾燥して剥離層１３を形成した。
該剥離層１３面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の塗布量が２μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、ホログラム層１５を形成した。
・＜電離放射線硬化性樹脂組成物の作製手順＞
まず、反応性生物（Ａ）は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル２０６．１ｇ及びイソホロンジイソシアネートの三量体（ＨＵＬＳ社製品、ＶＥＳＴＡＮＡＴ  Ｔ１８９０、融点１１０℃）１３３．５ｇを仕込み、８０℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．３８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製品、ビスコート３００）２４９．３ｇ及びジブチル錫ジラウレート０．３８ｇを仕込んだ。８０℃で５時間反応させたのち酢酸エチル６８８．９ｇを添加して冷却した。得られた反応生成液は赤外吸収スペクトル分析の結果、イソシアネート基の吸収が消滅していることを確認した。反応生成液から酢酸エチルを留去したものの軟化温度は４３℃であった。
該反応生成物（Ａ）と、造膜性樹脂（アクリル系オリゴマー）、反応性シリコーン、光重合開始剤、及び溶媒を下記の組成で配合して電離放射線硬化性樹脂組成物を調製した。
・＜電離放射線硬化性樹脂組成物＞
反応性生物（Ａ）                                                  ２５質量部
アクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光ＵＶ６６３０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５）      ０．２質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４）              ０．９質量部
酢酸エチル                                                        ７０質量部
次に、該ホログラム層面へ、２光束干渉法によるホログラムから２Ｐ法で複製した凹凸をスタンパとして複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。ホログラム層１５のレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが３００ｎｍの酸化チタン薄膜を形成して反射層１７とした。
該反射層１７面へ、下記の磁気記録層組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の塗布量が１２μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、さらに８０℃で３日間エージングして磁気記録層層１７を形成した。
・＜磁気記録層組成物＞
バリウムフェライト（磁性材料）  ３６質量部
ウレタン樹脂                    １２質量部
カーボン                          ２質量部
トルエン                        ２０質量部
メチルエチルケトン              １５質量部
メチルイソブチルケトン          １５質量部
イソシアネート系硬化剤            ２質量部
該磁気記録層層１７面へ、下記の接着層組成物をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が２μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、接着層１９を形成して、実施例１のホログラム付き磁気記録層転写リボン１０を得た。
・＜接着層組成物＞
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体          ２０質量部
アクリル樹脂                            １０質量部
溶媒（酢酸エチル：トルエン＝２：５）    ７０質量部
【００３８】
（実施例２）電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用い、反射層１７として真空蒸着法で厚さが５００ｎｍのアルミニウム薄膜を形成する以外は、実施例１と同様にして、実施例２のホログラム付き磁気記録層転写リボン１０を得た。
・＜電離放射線硬化性樹脂組成物＞
反応性生物（Ａ）                                                  ２４質量部
アクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光ＵＶ７５１０Ｂ）６質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−１６０２）      ０．１質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４）              ０．９質量部
酢酸エチル                                                        ７０質量部
【００３９】
（実施例３）剥離層の厚さを２μｍ、ホログラム層の厚さを４μｍとする以外は、実施例１と同様にして、実施例３のホログラム付き磁気記録層転写リボン１０を得た。
【００４０】
（評価）媒体基材１０１として、ポリ塩化ビニール製のクレジットカード仕様のカードを用い、該媒体基材１０１の表面へ顔写真を印画した後に、実施例１のホログラム付き磁気記録層転写リボン１０の接着層面を重ねて、公知の熱ロール転写法でストライプ状に転写したところ、剥離層１３、ホログラム層１５、反射層１７、磁気記録層２１、及び接着層１９がカードへ転写移行できた。磁気記録層２１面は透明ホログラムが観察され、意匠性に優れていた。また、磁気記録層２１上の合計厚味は剥離層１３、ホログラム層１５、及び反射層１７の厚味で３．３μｍであり、公知のクレジットカード用磁気ヘッドで、容易に読み取り書き込みできた。また表面の鉛筆硬度は２Ｈと良好であった。
【００４１】
また、媒体基材１０１として、厚さ１８８μｍのＰＥＴフィルムで寸法が８５×５７ｍｍのカード状基材を用い、該媒体基材１０１の表面へ、実施例２のホログラム付き磁気記録層転写リボン１０の接着層面を重ねて、公知の熱ロール転写法で全面に転写したところ、剥離層１３、ホログラム層１５、反射層１７、磁気記録層２１、及び接着層１９がカードへ転写移行できた。磁気記録層２１面は金属光沢ホログラムが観察され、意匠性に優れていた。また、磁気記録層２１上の合計厚味は剥離層１３、ホログラム層１５、及び反射層１７の厚味で３．３μｍであり、公知の自動改札用磁気ヘッドで、容易に読み取り書き込みできた。また表面の鉛筆硬度は２Ｈと良好であった。
【００４２】
媒体基材１０１として、ポリ塩化ビニール製のクレジットカード仕様のカードを用い、該媒体基材１０１の表面へ顔写真を印画した後に、実施例３のホログラム付き磁気記録層転写リボン１０の接着層面を重ねて、公知の熱ロール転写法でストライプ状に転写したところ、剥離層１３、ホログラム層１５、反射層１７、磁気記録層２１、及び接着層１９がカードへ転写移行できた。磁気記録層２１面は透明ホログラムが観察され、意匠性に優れていた。また、磁気記録層２１上の合計厚味は剥離層１３、ホログラム層１５、及び反射層１７の厚味で６．１μｍであり、公知のクレジットカード用磁気ヘッドで、問題なく読み取り書き込みできた。また表面の鉛筆硬度は２Ｈと良好であった。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の１実施例を示すホログラム付き磁気記録層転写リボンの断面図である。
【図２】本発明のホログラム付き磁気記録層転写リボンを用いて転写したホログラム磁気記録層付き媒体の断面図である。
【符号の説明】
【００４４】
１０：ホログラム付き磁気記録層転写リボン
１１：基材
１３：剥離層
１５：ホログラム層
１７：反射層
１９：接着層
２１：磁気記録層
１０１：媒体基材
【図１】
0004660325.tif 000002
【図２】
0004660325.tif 000003