(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送単位が単数又は複数である被搬送体を順次搬送する搬送路及び被搬送体を載置することが可能な載置面に１又は複数の載置領域を有する載置台を備える搬送システムにおいて、
前記搬送路は、前記載置台の床占有部分を鉛直方向に投影した空間領域内を横切って前記載置台の載置面の下方に配置してあり、
前記載置台の内部の前記搬送路と前記載置面との間に、前記搬送路で搬送される被搬送体および前記載置面に載置される被搬送体のいずれにも干渉せずに、前記被搬送体を収容しうる空間が形成され、
前記搬送路で搬送されて前記空間領域内を通過する一の被搬送体を前記被搬送体を収容しうる空間の他の被搬送体と干渉しない位置に移動させる移動手段を備え、
前記載置台が載置面に有する少なくとも一つの載置領域には、開口が形成してあり、
前記開口を閉鎖することが可能な閉鎖体を備えることを特徴とする搬送システム。
【請求項２】
前記搬送路は、単数及び複数の搬送単位を混在させて被搬送体を搬送することが可能であり、
前記移動手段は、複数の搬送単位に係る外形寸法に応じた移動長で被搬送体を移動させるようにしてある請求項１に記載の搬送システム。
【請求項３】
前記搬送路で搬送されるパレットを備え、
被搬送体は前記パレットに載置されて前記搬送路で搬送されており、
前記パレットは載置された被搬送体を覆って周囲との雰囲気遮断を行うカバーを備える請求項１に記載の搬送システム。
【請求項４】
前記移動手段による移動範囲及び前記搬送路を覆うカバー体を備える請求項１に記載の搬送システム。
【請求項５】
前記搬送路は、環状である、請求項１に記載の搬送システム。
【請求項６】
前記閉鎖体は下面を開放した箱状であり、
箱状の前記閉鎖体の上板部で前記開口を閉鎖する位置から前記載置面の上方へ前記閉鎖体が突出するまでの範囲で前記閉鎖体を移動させる閉鎖体移動手段を備える、請求項１に記載の搬送システム。
【請求項７】
複数の被搬送体を収納できる収納箱を備え、
前記閉鎖体は、前記収納箱を内部に収めることが可能であり、
前記載置台の載置面の上方へ突出して位置する前記閉鎖体の内部へ収めるように前記載置面の下方から前記収納箱を移動させる手段を備える、請求項６に記載の搬送システム。
【請求項８】
複数の被搬送体を収納できる収納箱を備え、
前記閉鎖体は、前記収納箱を内部に収めることが可能であり、
閉鎖体内に収納箱が収められた場合、前記閉鎖体移動手段による閉鎖体の移動と共に前記収納箱を移動させる手段を備える、請求項６に記載の搬送システム。
【請求項９】
前記載置台の載置面の上方へ突出して位置する前記閉鎖体の内部に前記収納箱が収められた場合、前記移動手段により干渉しない位置に移動した被搬送体を前記収納箱へ収納するように移送する移送手段を備える、請求項７に記載の搬送システム。
【請求項１０】
前記移動手段により干渉しない位置に移動した被搬送体を前記載置台の載置面の高さへ移動させる手段を備える請求項１に記載の搬送システム。
【請求項１１】
前記移動手段は、前記搬送路で搬送される被搬送体を搬送方向に沿って斜め上方へ移動させる手段を備える請求項１に記載の搬送システム。
【請求項１２】
前記搬送路で搬送される被搬送体が乗り上げるように、搬送方向の下流側を上端にした昇斜面を形成する手段を備え、
前記移動手段は前記昇斜面に乗り上げた被搬送体を移動させるように構成されている、請求項１に記載の搬送システム。
【請求項１３】
前記干渉しない位置にある被搬送体を前記搬送路の搬送方向に沿って斜め下方に移動させて前記搬送路へ載置する手段を備える請求項１に記載の搬送システム。
【請求項１４】
前記干渉しない位置にある被搬送体を前記搬送路に滑り降ろすように、搬送方向の下流側を下端にした降斜面を形成する手段を備える請求項１に記載の搬送システム。
【請求項１５】
基板に対する処理を行う処理部と、
前記処理部を被う筐体と、
前記筐体の一側面に配置され、載置面を備える載置台と、
前記載置台の床占有部分を鉛直方向に投影した空間領域内で前記載置台の載置面の下方に位置する搬送路と、を備え、
前記載置台の内部の前記搬送路と前記載置面との間に、前記搬送路で搬送される基板および前記載置面に載置される基板のいずれにも干渉せずに、前記基板を収容しうる空間が形成され、
前記搬送路で搬送されて前記空間領域内を通過する一の基板を前記基板を収容しうる空間の他の基板と干渉しない位置へ移動させる移動手段を備え、
前記載置台の載置面には、所定対象の基板が通過することが可能な開口が形成され、
前記開口を閉鎖することが可能な閉鎖体を備えることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、製造施設内の製造物に係る搬送システム、及び基板処理装置に関し、特に、省スペース化及びメンテナンス性の向上を図ると共に、製造施設内で使用されている既存の搬送系とも共存できる搬送形態を実現するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、各種製造施設内では製造物（ワーク）の搬送を行う搬送システムが構築されている。例えば、ウエハ、液晶パネル等の基板状のワークを製造する施設では、枚葉単位で又は複数のワークをカセット単位で効率的に搬送できるようにしたシステムが存在する。この種のシステムは、例えば、特開平６−１６２０６号公報、特開２００２−２３７５１２号公報、特開２００３−２８２６６９号公報、特開２００１−１８９３６６号公報、特開２００３−８６６６８号公報に開示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
図１８は、従来の一般的な搬送システムの具体的な構成をウエハ製造施設内のシステムの一例を示している。施設内にはウエハに対する必要な処理（製造に係る処理、計測に係る処理、検査に係る処理、及び格納に係る処理等）毎に処理装置が据付配置されている。各処理装置の前面には複数のウエハを収容する密閉容器（ＦＯＵＰと称される）等を載置する載置台（ロードポートが相当）が併設されている。このような各載置台の上方に天井搬送システム、あるいは前方に自動搬送車（AGV：Automated Guided Vehicle）などによる床搬送システムが敷設されている。【０００４】
ウエハが収容されたＦＯＵＰは、天井搬送システムや自動搬送車により運ばれて載置台に載置される。なお、状況によっては、作業者がウエハの収容されたＦＯＵＰを載置台まで運ぶこともある。また、最近では少量多品種の要求の増加により、上述した搬送システムの他に、循環搬送路型などの枚葉搬送装置が提案されている。【０００５】
これらの循環型の搬送システムは、載置台の前方に搬送路が敷設される。このため、施設内の床を載置台及び搬送路で占める面積が増大し、施設内の床面積を有効に活用することを阻害する。また、処理装置の点検や修理を担当者が装置前面側から行う場合、処理装置までの間に載置台及び搬送路が介在するため、処理装置までの距離が遠く、処理が困難である。【０００６】
さらに、載置台前方に搬送路が存在するという構造や、搬送単位（搬送枚数）及び搬送対象物の形状（格納容器）の差異により、搬送システムのレイアウトやアクセス距離にも制限を受ける。従って、循環型の搬送システムは、従来から広く用いられているＦＯＵＰを用いた天井搬送システムや床搬送システムとの間で被搬送物の受け渡しが困難な場合がある。【０００７】
本発明は、斯かる事情に鑑みてなされたものであり、専有面積の小さい搬送システム、及び基板処理装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、載置台が占有する領域と搬送路の敷設領域との共有化を図るようにした搬送システム、及び基板処理装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、搬送路の敷設箇所を変更しても効率的な搬送形態を確保できるようにした搬送システム、及び基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために第１発明に係る搬送システムは、搬送単位が単数又は複数である被搬送体を順次搬送する搬送路及び被搬送体を載置することが可能な載置面に１又は複数の載置領域を有する載置台を備える搬送システムにおいて、前記搬送路は、前記載置台の床占有部分を鉛直方向に投影した空間領域内を横切って前記載置台の載置面の下方に配置してあり、前記載置台の内部の前記搬送路と前記載置面との間に、前記搬送路で搬送される被搬送体および前記載置面に載置される被搬送体のいずれにも干渉せずに、前記被搬送体を収容しうる空間が形成され、前記搬送路で搬送されて前記空間領域内を通過する一の被搬送体を前記被搬送体を収容しうる空間の他の被搬送体と干渉しない位置に移動させる移動手段を備え、前記載置台が載置面に有する少なくとも一つの載置領域には、開口が形成してあり、前記開口を閉鎖することが可能な閉鎖体を備えることを特徴とする。
【０００９】
第１発明にあっては、載置台に係る空間領域内を横切って載置面の下方に搬送路を配置する。従って、載置台の占有領域と搬送路の敷設領域とが共用化され、省スペース化を実現できる。また、載置台の前方に搬送路が位置しなくなるので、点検及び修理等の際に装置前面側からの載置台へのアクセスも容易になる。また、レイアウトの制限も緩和され、他の搬送系との親和性及び共存性も高められる。また、載置台に係る空間領域内を通過する一の被搬送体を後続の他の被搬送体と干渉しない位置へ移動させる移動手段を備えるので、搬送される被搬送体を処理等のために移動させることも搬送に支障無く行えるようになり、各種処理のために搬送中の被搬送体のスムーズに移動させられる。【００１０】
第２発明に係る搬送システムは、前記搬送路は、単数及び複数の搬送単位を混在させて被搬送体を搬送することが可能であり、前記移動手段は、複数の搬送単位に係る外形寸法に応じた移動長で被搬送体を移動させるようにしてあることを特徴とする。
第２発明にあっては、搬送路は単数及び複数の搬送単位を混在させて搬送可能であると共に、移動手段は複数の搬送単位に係る外形寸法に応じた移動長で被搬送体を移動させるので、搬送単位の枚数に限定されることなく自由な搬送形態で被処理体を搬送できるようになり、製造計画の変動等にも柔軟に対応して被搬送体を搬送できる。【００１１】
第３発明に係る搬送システムは、前記搬送路で搬送されるパレットを備え、被搬送体は前記パレットに載置されて前記搬送路で搬送されており、前記パレットは載置された被搬送体を覆って周囲との雰囲気遮断を行うカバーを備えることを特徴とする。
第３発明にあっては、被搬送体をカバー付きのパレットに載せて搬送するので、搬送路全体の清浄度を確保するための構造物や用力を必要とせず、また、搬送路自体からの発塵などの影響をうけることなく、被搬送体に対する清浄性をパレット単位で確保できるようになる。【００１２】
第４発明に係る搬送システムは、前記移動手段による移動範囲及び前記搬送路を覆うカバー体を備えることを特徴とする。
第４発明にあっては、移動手段による移動範囲及び搬送路を覆うカバー体を備えるので、被搬送体が移動する範囲を周囲の雰囲気から遮断でき、カバー体の内部を清浄な雰囲気に確保しやすくなる。なお、清浄な雰囲気を確保するには、カバー体の内部を減圧すること、清浄空気やイナートガスのような所定の気体をカバー体の内部へ供給すること、弱減圧とイナートガスのような所定の気体の供給とを組み合わせること等を行うことが好適である。【００１３】
第５発明に係る搬送システムは、前記搬送路は、環状であることを特徴とする。
第５発明にあっては、搬送路を環状にしているので、被搬送体を循環して搬送できるようになり、様々な処理装置が配置された各種レイアウトにも対応した搬送形態を実現できる。【００１４】
第６発明に係る搬送システムは、前記載置台が載置面に有する少なくとも一つの載置領域には、開口が形成してあり、前記開口を閉鎖することが可能な閉鎖体を備えることを特徴とする。
第６発明にあっては、少なくとも一つの載置領域に開口を形成すると共に、その開口を閉鎖する閉鎖体を備えるので、開口を閉鎖している場合には従来の載置台と同様に、載置面にＦＯＵＰなどの密閉容器等を載置でき、また、開口を開放している場合には搬送路で搬送される被搬送体を移送する経路として利用でき、載置台と搬送路との領域を共有させた特徴的な搬送形態でも自由に被搬送体を扱えるようになる。【００１５】
第７発明に係る搬送システムは、前記閉鎖体は下面を開放した箱状であり、箱状の閉鎖体の上板部で前記開口を閉鎖する位置から前記載置面の上方へ前記閉鎖体が突出するまでの範囲で前記閉鎖体を移動させる閉鎖体移動手段を備えることを特徴とする。
第７発明にあっては、閉鎖体を下面が開放した箱状にして、その閉鎖体を天板となる上板部で載置台の開口を閉鎖した状態から載置面より上方へ突出した状態へ移動できるようにするので、閉鎖体の上面を従来のＦＯＵＰなどの載置規格と合わせることによって閉鎖状態においてはＦＯＵＰなどの収容容器等を閉鎖体の上板部に載置できると共に、突出状態においては箱体の閉鎖体の内部空間を利用して被搬送体等を一時的に装置との移載位置に配置できるスペースを確保でき、載置台に係る空間領域を一層有効に利用できる。【００１６】
第８発明に係る搬送システムは、複数の被搬送体を収納できる収納箱を備え、前記閉鎖体は、前記収納箱を内部に収めることが可能であり、前記載置台の載置面の上方へ突出して位置する前記閉鎖体の内部へ収めるように前記載置面の下方から前記収納箱を移動させる手段を備えることを特徴とする。【００１７】
第８発明にあっては、箱状の閉鎖体は複数の被搬送体を一時的に収納する収納箱を内部に収めるようにすると共に、閉鎖体が載置面の上方へ突出した状態において閉鎖体の内部との間で収納箱を適宜移動させる手段を別途備えるので、載置面に対する上下の任意位置に収納箱を位置させることができるようになり、収納箱を活用して被搬送体の一時的な待機及び避難等も可能になり、被搬送体を様々な態様で扱うことができ、柔軟な搬送形態を実現できる。また、収納箱を載置面の上方へ移動させることで被搬送体の処理を行う処理装置との間の被搬送体の受け渡しを収納箱を介在させて多様に行えるようになる。なお、第８発明では収納箱を単独で移動させるので、移動に係る収納箱の位置決め精度を良好に維持しやすく、収納箱に収納された被搬送体の受け渡しをロボット等で行う場合に好適となる。【００１８】
第９発明に係る搬送システムは、複数の被搬送体を収納できる収納箱を備え、前記閉鎖体は、前記収納箱を内部に収めることが可能であり、閉鎖体内に収納箱が収められた場合、前記閉鎖体移動手段による閉鎖体の移動と共に前記収納箱を移動させる手段を備えることを特徴とする。【００１９】
第９発明にあっては、箱状の閉鎖体の内部に収納箱を収めるようにして、閉鎖体内に収められた収納箱を閉鎖体と共に移動する。従って、収納箱を活用して被搬送体の一時的な待機及び避難等も行うことができる。また、収納箱を上方へ移動させた場合は、被搬送体の処理を行う処理装置との間での被搬送体の受け渡しも自由に行えるようになる。なお、第９発明では、収納箱より一回り大きく重い閉鎖体を一緒に移動させるので、閉鎖体や収納箱の運用に制約条件が付く場合があるが、移動のための駆動機構を共有する事ができ、そのためのコストとスペースを削減する事ができる。【００２０】
第１０発明に係る搬送システムは、前記載置台の載置面の上方へ突出して位置する前記閉鎖体の内部に前記収納箱が収められた場合、前記移動手段により干渉しない位置に移動した被搬送体を前記収納箱へ収納するように移送する移送手段を備えることを特徴とする。
第１０発明にあっては、干渉しない位置に移動した被搬送体を上方に移動した収納箱へ移送して収納する移送手段を備えるので、搬送路から退避した被搬送体を収納箱へスムーズに移動できるようになり、搬送路と収納箱との間で被搬送体の受け渡しを可能にして様々な搬送状況に対して臨機応変に対応できるようになる。【００２１】
第１１発明に係る搬送システムは、前記移動手段により干渉しない位置に移動した被搬送体を前記載置台の載置面の高さへ移動させる手段を備えることを特徴とする。
第１１発明にあっては、干渉しない位置にいる被搬送体を載置台の載置面の高さへ移動させる手段を備えるので、被搬送体を直接的に載置面まで移動できることになり、被搬送体の処理を行う処理装置への受け渡しをダイレクトに行って効率的な被搬送体の処理を実現できる。【００２２】
第１２発明に係る搬送システムは、前記移動手段は、前記搬送路で搬送される被搬送体を搬送方向に沿って斜め上方へ移動させる手段を備えることを特徴とする。【００２３】
第１２発明にあっては、載置面の下方に配置された搬送路で搬送される被搬送体を斜め上方へ移動させるので、搬送路による搬送を停止することなく、被搬送体を搬送路から退避させることができ、特に搬送路に沿って移動させることで搬送による生じる慣性に逆らうことなく被搬送体をスムーズに移動停止できるようになる。なお、移動させた被搬送体は徐々に減速させて停止させることが、被搬送体を落下させることなく移動させる観点から重要になる。【００２４】
第１３発明に係る搬送システムは、前記搬送路で搬送される被搬送体が乗り上げるように、搬送方向の下流側を上端にした昇斜面を形成する手段を備え、前記移動手段は前記昇斜面に乗り上げた被搬送体を移動させるようにしてあることを特徴とする。【００２５】
第１３発明にあっては、載置面の下方に配置された搬送路に対して昇斜面を形成するので、搬送方向に慣性を有する被搬送体を昇斜面に乗り上げさせることが可能になる。また、乗り上げた被搬送体を干渉しない位置へ移動させるので、複雑な機構なしに搬送中の被搬送体を所定の位置へ移すことができる。なお、昇斜面は、受け取ろうとする被搬送体の到着に合わせて搬送路に対して形成されること、被搬送体が乗り上げる際の上方加速度を被搬送体への損傷が無いように抑えることのできる角度であること、乗り上げた被搬送体が所定の減速度にて停止できるような長さと減速機構を有することが重要である。【００２６】
第１４発明に係る搬送システムは、前記干渉しない位置にある被搬送体を前記搬送路の搬送方向に沿って斜め下方に移動させて前記搬送路へ載置する手段を備えることを特徴とする。【００２７】
第１４発明にあっては、干渉しない位置にいる被搬送体を搬送方向に沿って斜め下方に移動させて搬送路へ載置するので、搬送路に依って搬送されている他の被搬送体と干渉することなく搬送路へ戻すことが可能になる。なお、被搬送体の搬送路への移動は、搬送路の空きを認識して被搬送体を損傷を与えない所定の加速度内で加速して搬送速度に合わせ且つ搬送路の空き部分に同期して載せることが重要である。【００２８】
第１５発明に係る搬送システムは、前記干渉しない位置にある被搬送体を前記搬送路に滑り降ろすように、搬送方向の下流側を下端にした降斜面を形成する手段を備えることを特徴とする。【００２９】
第１５発明にあっては、搬送路の搬送面に応じた高さで下降する降斜面を形成し、その降斜面へ被搬送体を移動させることにより、被搬送体は降斜面を滑り降りて自動的に搬送路へ戻るようになる。なお、降斜面は、他の被搬送体と干渉しないように搬送路の空きを認識して空き部分の到着に合わせて形成し、被搬送体を被搬送体に損傷を与えない所定の加速度内で搬送路の搬送速度に適合するまで加速する機構を有し、滑り降りた被搬送体が搬送路に乗る際の上方加速度が被搬送体に損傷を与えない角度であることが重要である。【００３０】
第１６発明に係る基板処理装置は、基板に対する処理を行う処理部と、処理部を被う筐体と、筐体の一側面に配置され、載置面を備える載置台と、前記載置台の床占有部分を鉛直方向に投影した空間領域内で前記載置台の載置面の下方に位置する搬送路と、を備え、前記載置台の内部の前記搬送路と前記載置面との間に、前記搬送路で搬送される基板および前記載置面に載置される基板のいずれにも干渉せずに、前記基板を収容しうる空間が形成され、前記搬送路で搬送されて前記空間領域内を通過する一の基板を前記基板を収容しうる空間の他の基板と干渉しない位置へ移動させる移動手段を備え、前記載置台の載置面には、所定対象の基板が通過することが可能な開口が形成され、前記開口を閉鎖することが可能な閉鎖体を備えることを特徴とする。
第１６発明にあっては、処理部の筐体の一側面に配置した載置台に処理対象の基板が通過する開口を形成することにより、開口を通じて基板の移送経路を確保でき、様々な搬送形態に対応できる仕様になる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施形態に係る搬送システムを示す斜視図である。
【図２】（ａ）はウエハ単体での搬送形態を示す斜視図、（ｂ）はパレットに載置したウエハでの搬送形態を示す斜視図である。
【図３】（ａ）は図１のＡ−Ａ線における断面図、（ｂ）は複数のウエハの搬送形態を示す断面図、（ｂ）は複数のウエハを遮蔽カバーで覆った搬送形態を示す断面図である。
【図４】イナートガスの加圧による雰囲気遮断の構造を示す概略断面図である。
【図５】（ａ）は処理装置の図１のＢ−Ｂ線における断面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線における断面図である。
【図６】（ａ）（ｂ）は、閉鎖箱及びバッファを上昇させた状態を示す断面図である。
【図７】（ａ）は閉鎖箱を処理装置の筐体側へ移動させた状態を示す断面図であり、（ｂ）はドア部及びカバー部を開放した状態を示す断面図である。
【図８】（ａ）は密閉容器を載置して処理装置の筐体側へ移動させた状態を示す断面図、（ｂ）は密閉容器のフタ部及びドア部を開放した状態を示す断面図である。
【図９】（ａ）は移動板部を設けた箇所の搬送路を示す平面図であり、（ｂ）は一方の移動板部の移動に係る構成を示す正面図である。
【図１０】（ａ）はウエハを移動板部により搬送路へ戻す状態を示す断面図であり、（ｂ）はウエハを載置面の高さに上昇させた状態を示す断面図である。
【図１１】複数の載置台を併設した処理装置の断面図である。
【図１２】１個の載置領域を有する載置台を併設した処理装置の断面図である。
【図１３】変形例の移動板部の移動に係る構成であり、（ａ）は移動前の状態を示す正面図、（ｂ）は昇斜面を形成するように移動板部を回転させた状態の正面図、（ｃ）は降斜面を形成するように移動板部を回転移動させた状態の正面図である。
【図１４】（ａ）は昇斜面に乗り上げたウエハを示す正面図、（ｂ）は後続のウエハが干渉しない位置へ移動したウエハを示す正面図、（ｃ）は降斜面を滑り降りるウエハを示す正面図である。
【図１５】変形例のウエハ退避機構であり、（ａ）はウエハを挟持した状態を示す概略図、（ｂ）はウエハを退避させた状態を示す概略図である。
【図１６】別の変形例のウエハ退避機構であり、（ａ）はウエハを挟持した状態を示す概略図、（ｂ）はウエハを退避させた状態を示す概略図である。
【図１７】（ａ）は清浄空気の吸入による雰囲気遮断の形態を示す断面図であり、（ｂ）は減圧による雰囲気遮断の形態を示す断面図である。
【図１８】従来の搬送システムの一例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
【００３５】
１  搬送システム
５  カバー体
１０、１００、２００  処理装置
１１、１１１、１５０  載置台
１１ａ  下方空間
１１ｂ  上方空間
１１ｄ  載置面
１１ｇ  開口
１２、１１２  閉鎖箱
１２ａ  上板部
１２ｃ  フランジ部
１４  開閉装置
１５  筐体
１６  トランスファーロボット
１７  直動装置
１８  垂直移動装置
１９  移送ロボット
２０、２１、４１  移動板部
２２、２３  案内レール部
Ｂｆ  バッファ
Ｆ  密閉容器
Ｐ  パレット
Ｐａ  突出部
Ｔ  搬送路
Ｗ  ウエハ
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
図１は、本発明の実施形態に係る搬送システム１を適用した全体的なレイアウトを示す斜視図である。搬送システム１は被搬送体としてウエハＷ（基板）を順次搬送するためのものであり、ウエハＷの製造施設内に設置された処理装置１０、１００、２００等を繋ぐように構築されている。また、搬送システム１の上方には、既存の天井搬送システム２が存在する。さらに、製造施設の床に貼られた誘導テープ若しくはガイドレール４に沿って走行する無人搬送装置３を有する床搬送システムも存在している。【００３７】
各処理装置１０、１００、２００はウエハＷに対して夫々相異する処理（製造に係る処理、計測に係る処理、検査に係る処理、及び格納に係る処理等）を行うものであり、外観的な基本構成は共通している。外観に関する基本構成を処理装置１０で説明すると、処理装置１０は、ウエハＷに対して処理を行う処理部を覆うボックス状の筐体１５を備える。その筐体１５の前面には、密閉容器Ｆ（ＦＯＵＰ等が相当）等を載置することが可能な載置台１１が設けられている。なお、載置台１１の載置面１１ｄは、天井搬送システム２の上方からの受け渡し、及び床搬送システムの無人搬送車３に対する受け渡しに対応した高さに設定されている。載置面１１ｄの高さをこのように設定することによって、搬送システム１は既存の天井搬送系及び床搬送系との親和性及び共存性が高い。また、載置台１１の載置面１１ｄには作業者Ｓが直接的に密閉容器Ｆ等を載置することも可能である。【００３８】
搬送システム１は、処理装置１０等の載置台１１等の床占有部分を鉛直方向に投影した空間領域を載置面１１ｄの下方で横切るようにカバー体５で覆われた搬送路を配置している。このような搬送路の配置により、省スペース化を実現すると共に、各処理装置１０等への前方からのアクセス性を高めている。なお、搬送システム１はカバー体５で覆われた環状の搬送路及び処理装置１０等の筐体１５に併設された載置台１１等により構成されている。各処理装置１０等の処理部と筐体１５、天井搬送システム２、及び床搬送システムの無人搬送車３は搬送システム１に含まれない。【００３９】
図２（ａ）（ｂ）は、搬送システム１で搬送可能なウエハＷの搬送形態を示しており、カバー体５で覆われた内部の略水平に延在する搬送路Ｔを含んだ図である。図２（ａ）は、ウエハＷを直接的に搬送路Ｔの搬送面Ｔａに載せて搬送を行う単数の搬送単位の場合であり、図２（ｂ）は、ウエハＷをパレットＰに載せて搬送路Ｔで搬送を行う単数の搬送単位の場合を示している。なお、搬送システム１で用いられるパレットＰは、所要の厚みを有しており、左右の側面から突出する計４個のタイヤ状の突出部Ｐａを設けている。【００４０】
また、図３（ａ）〜３（ｃ）は、搬送システム１におけるウエハＷの他の搬送形態を示す。なお、図３（ａ）では、カバー体５の内部における搬送路Ｔの位置関係を示すため、図１のＡ−Ａ線における断面方向からの視図にしている。図３（ａ）はパレットＰに載せたウエハＷを遮蔽カバーＨで周囲と雰囲気を遮蔽した状態で搬送路Ｔにより搬送する単数の搬送単位の場合である。また、図３（ｂ）はカセットによる搬送形態であり、複数（３枚）のウエハＷをパレットＰに設けた棚状のキャリアＫに載置した状態で搬送路Ｔにより搬送する複数の搬送単位の場合を示す。さらに、図３（ｃ）はカセットによる搬送形態であり、複数（３枚）のウエハＷをパレットＰに設けた棚状のキャリアＫに載置し、遮蔽カバーＨにより周囲と雰囲気を遮蔽した状態で搬送路Ｔにより搬送する複数の搬送単位の場合を示す。【００４１】
搬送システム１は、図２（ａ）（ｂ）及び図３（ａ）〜（ｃ）に示すいずれの搬送形態でもウエハＷを搬送することが可能であり、いずれか１つの搬送形態のみで搬送すること、単数及び複数の搬送形態を混在させて搬送すること、２つ以上の搬送形態を混在させて搬送すること等に対応できる。搬送形態は、ウエハＷの製造計画に基づき決定され、図１に示さない制御装置により所要の搬送形態にされたウエハＷが搬送システム１で搬送される。【００４２】
図４は、搬送路Ｔを覆うカバー体５の所要箇所に設けられたイナートガスの供給部分の構造を示している。供給部分におけるカバー体５は、天板部５ａにイナートガスの供給孔５ｂを突設し、底板部５ｃには図示しない排気管に連結される排気孔５ｄを突設し、搬送路Ｔの上方にはフィルタ６を設けている。カバー体５の内部には、排気口５ｄからイナートガスが加圧して供給され、フィルタ６で濾過されてから排気孔５ｄよりイナートガスが排出される。このようなイナートガスの供給によりカバー体５の内部は外部の雰囲気と遮断され所要のクリーン度が確保される。なお、各処理装置１０等の載置台１１等の下方に配置される搬送路Ｔの部分は、別のカバー体に相当する閉鎖箱１２で外部の雰囲気と遮断されており、詳細は後述する。【００４３】
図５（ａ）（ｂ）は、処理装置１０の内部構成を示している。処理装置１０は、ウエハＷに対する処理を行う処理部（図示せず）を覆う筐体１５及び載置台１１を有し、載置台１１の内部を通過する部分の搬送路Ｔにより構成されている。筐体１５は内部に、ウエハＷを内部に受け入れて処理部へ渡すと共に、処理部で処理されたウエハＷを外方へ送り出すアーム１６ａを備えたトランスファーロボット１６を配置している。【００４４】
なお、筐体１５の上部の前面１５ａにはドア部１５ｂが設けられており、筐体１５の内部へウエハＷを受け入れる場合にドア部１５ｂは下降して筐体１５の前面１５ａの一部が開口するようになっている。ドア部１５ｂの開閉はトランスファーロボット１６の前方に配置された開閉装置１４により行われる。【００４５】
一方、筐体１５の前面１５ａに併設される載置台１１は、内部が搬送路Ｔの通過する下方空間１１ａと箱状の閉鎖体に相当する閉鎖箱１２が位置する上方空間１１ｂに分かれている。なお、下方空間１１ａは、載置台１１の床占有部分に相当する底板部１１ｃを鉛直方向に投影した空間領域に相当し、ウエハＷが搬送路Ｔから掬い上げられた移動する際の移動範囲を含んでいる。また、下方空間１１ａを通過する搬送路Ｔの一部の箇所には、搬送路Ｔの両側に長板状の移動板部２０、２１が設けられている。移動板部２０、２１は上面が搬送路Ｔの上面と同等の高さにされており、ウエハＷを載せたパレットＰが移動板部２０、２１を設けた箇所を通過する際に、パレットＰの突出部Ｐａが移動板部２０、２１に載るようにしている。なお、移動板部２０、２１の移動に係る構成は後述する。【００４６】
載置台１１は、図５（ｂ）に示すように側壁部分がカバー体５と連続しており、下方空間１１ａと上方空間１１ｂとを分ける部分にリブ１１ｅを突設している。なお、リブ１１ｅの上面にはシール部材が設けられている。また、載置台１１の上部空間１１ｂを形成する筐体１５側の側壁部１３は別体にしており（図５（ａ）参照）、上述した開閉装置１４により上下に移動可能にされている。この側壁部１３にもリブ１１ｅと同様の側壁リブ１３ａが設けられている。また、載置台１１は、載置面１１ｄの中央付近となる載置箇所に大きな矩形状の開口１１ｇを形成しており、開口１１ｇの周縁部１１ｆの下面にシール部材を設けている。【００４７】
載置台１１の上方空間１１ｂに位置する閉鎖箱（Mini-Environmentと称される）１２は、下面が開放されており、複数のウエハＷを収納できるバッファ（収納箱に相当）Ｂｆを内部１２ｂに収められる寸法が確保されると共に、天板となる上板部１２ａは載置台１１の開口１１ｇを閉鎖できる寸法になっている。上板部１２ａの上面は密閉容器Ｆをそれぞれ載置可能な２個の載置領域１２ｅ、１２ｆになっており（図１参照）、上板部１２で開口１１ｇが閉鎖された場合、載置台１１の載置面１１ｄに２個の載置領域１２ａ、１２ｆが存在することになる。なお、上板部１２ａの一方の載置領域１２ｆには載置される密閉容器Ｆとの位置関係を保証するために（平面を決定するために）一直線上にない三点配置のキネマティック・カップリング１２ｇが設けられている。また、閉鎖箱１２は、下方周囲に外方へ突出したフランジ部１２ｃを設けており、フランジ部１２ｃの上下面及び先端にはシール部材を設けている。さらに、閉鎖箱１２の筐体１５側のドア部１５ｂに応じた部分は別体のカバー部１２ｄとされており、上述した開閉装置１４により離脱可能にされている。【００４８】
閉鎖箱１２は、載置台１１の上部空間１１ｂに設けられた直動装置１７により鉛直方向と筐体１５へ接近する方向へ移動可能になっている。直動装置１７は、鉛直方向に延在する直動ガイド部１７ａに図６（ａ）に示す水平移動ガイドユニット１７ｃを介して移動ユニット１７ｂを設けており、移動ユニット１７ｂが閉鎖箱１２の下端部分に連結されている。直動装置１７は、図示しない制御装置により各ユニット１７ｂ、１７ｃの移動が制御されており、鉛直方向の移動に関しては各ユニット１７ｂ、１７ｃを直動ガイド部１７ａに沿って上下に移動させる。【００４９】
各ユニット１７ｂ、１７ｃが、制御装置により制御される移動範囲の下端側に位置する場合、閉鎖箱１２は、上板部１２ａの上面が載置台１１の載置面１１ｄと同等の高さになり、載置面１１ｄの開口１１ｇを上板部１２ａで閉鎖すると共に、上板部１２ａの上面に密閉容器Ｆ（図５（ａ）（ｂ）中、二点鎖線で示す）を載置することが可能になる。なお、密閉容器Ｆの載置は、天井搬送システム２、床搬送システムの無人搬送車３、又は人手により行われる。また、閉鎖箱１２が移動範囲の下端側に位置するときは、フランジ部１２ｃの下面と載置台１１のリブ１１ｅ及び側壁リブ１３ａの上面が当接しており、このように当接する箇所には上述したようにシール部材が夫々設けられているので、載置台１１の内部は閉鎖箱１２により雰囲気の遮蔽性が維持され、そのため閉鎖箱１２はウエハＷの移動範囲を被うカバー体としても機能する。【００５０】
また、各ユニット１７ｂ、１７ｃが移動範囲の上端側へ移動した場合、図６（ａ）（ｂ）に示すように、閉鎖箱１２は載置台１１の載置面１１ｄの上方へ突出した状態になり、閉鎖箱１２のフランジ部１２ｃの上面と開口１１ｇの周縁部１１ｆの下面が当接する。このように当接する箇所にもシール部材が夫々設けられているので、載置台１１の内部の遮蔽性は維持される。さらに、各ユニット１７ｂ、１７ｃの移動中は、閉鎖箱１２のフランジ部１２ｃの先端が載置台１１の上部空間１１ｂの内側壁と当接し、フランジ部１２ｃの先端のシール部材により移動中も遮蔽性は維持されている。なお、閉鎖箱の内部を陽圧に制御している場合にはフランジ部１２ｃの先端のシール部材がなくても間隙が充分に小さく保たれれば閉鎖箱の内部を清浄に保つことができると共にシールの摩擦に起因する発塵を避けることができる。【００５１】
さらに、各ユニット１７ｂ、１７ｃが移動範囲の上端に移動したときは、図７（ａ）に示すように、移動ユニット１７ｂを水平移動ガイドユニット１７ｃに対して筐体１５側へ移動させることで、閉鎖箱１２を筐体１５の前面１５ａに密着させるまで移動する。【００５２】
図５（ａ）（ｂ）に戻り説明を続けると、また、載置台１１は、上部空間１１ｂにバッファＢｆの垂直移動装置１８を設けている。垂直移動装置１８は、垂直ガイド部１８ａに沿って移動する移動ユニット１８ｂの制御が図示しない制御装置により行われており、移動ユニット１８ｂがバッファＢｆの下部と接続されることでバッファＢｆを垂直方向で上下に移動できるようにしている。【００５３】
バッファＢｆの垂直移動装置１８による移動は、直動装置１７による閉鎖箱１２の移動状態に対応して制御されており、図５（ａ）（ｂ）に示すように閉鎖箱１２が下端側に位置する場合、バッファＢｆを移動する制御は行われない。一方、図６（ａ）（ｂ）に示すように、閉鎖箱１２が載置面１１ｄより突出するように上端側へ移動した場合、図示されない制御装置は、閉鎖箱１２が上端側にいることを移動ユニット１７ｂの状態に基づき認識し、この状態で所要の条件を満たした場合、移動ユニット１８ｂを上昇させて、上方に位置する閉鎖箱１２の内部へ収めるようにバッファＢｆを移動させる。【００５４】
なお、バッファＢｆは筐体１５内のトランスファーロボット１６のアーム１６により、収容しているウエハＷが受け渡しされるので、正確な位置決め精度が要求され、バッファＢｆの垂直移動装置１８は、閉鎖箱１２の直動装置１７に比べて位置決め精度が高いものが用いられている。【００５５】
上昇されたバッファＢｆに収容されたウエハＷを筐体１５内のトランスファーロボット１６のアーム１６で受け渡しするには、図７（ａ）に示すように、先ず閉鎖箱１２が筐体１５側へ移動され、次に図７（ｂ）に示すように、筐体１５のドア部１５ｂ及び閉鎖箱１２のカバー部１２ｄが開閉装置１４により下降される。この状態でトランスファーロボット１６のアーム１６ａがバッファＢｆへ伸びて、ウエハＷの受け渡しが行われる。なお、この状態でも閉鎖箱１２のカバー部１２ｄの周囲部分が筐体１５の前面１５ａと当接すると共に閉鎖箱１２のフランジ部１２ｃは周縁部１１ｆと当接するので遮蔽は維持されている。【００５６】
一方、図５（ａ）（ｂ）に示すように下方に位置する閉鎖箱１２の上板部１２ａに載置された密閉容器Ｆに対してウエハＷの受け渡しを行う場合も、基本的に上述した場合と同様である。詳しくは、図８（ａ）（ｂ）に示すように、密閉容器Ｆは筐体１５側の面が開閉可能なフタ部Ｆａとなっており、閉鎖箱１２を筐体１５側へ移動させることでフタ部Ｆａが筐体１５のドア部１５ｂと密着し、この状態で開閉装置１４がフタ部Ｆａ、ドア部１５ｂ、及び載置台１１の側壁部１３を下降する。これにより密閉容器Ｆが開放され、トランスファーロボット１６のアーム１６ａが密閉容器Ｆの内部へ伸びてウエハＷの受け渡しが行われる。この際、密閉容器Ｆの端面は筐体１５ａと接しており、気密性は保たれる。【００５７】
また、再度、図５（ａ）（ｂ）に戻り説明を続けると、載置台１１の上部空間１１ｂには、ウエハＷ移送用の移送ロボット１９も配置されている。移送ロボット１９は、基部１９ａに対して垂直的な移動を行う可動部１９ｂ及び可動部１９ｂの上端に設けられたアーム部１９ｃにより構成されており、移送ロボット１９の移送制御は図示しないロボット制御装置により行われる。【００５８】
移送ロボット１９によるウエハＷの移送は、図６（ｂ）に示すように、上昇位置のバッファＢｆに対して行われ、搬送路Ｔより後続のウエハＷ′と干渉しない位置へ移動板部２０、２１により移動されたパレットＰに載置されたウエハＷが移送対象になる。図示しないロボット制御装置は、バッファＢｆ及びウエハＷが図６（ｂ）に示す位置関係になっていることを検出すると、所要の条件が満たされた場合にウエハＷをバッファＢｆの空いている棚へ移送ロボット１９で移送して収納させる。【００５９】
さらに、ロボット制御装置は、バッファＢｆに収納されているウエハＷをパレットＰに載置されるように移送ロボット１９で移送することも行う。このような移送ロボット１９による移送を行うことで、搬送路Ｔを搬送されるウエハＷを処理装置１０の筐体１５内の処理部へ送り所要の処理を施すことが可能になり、また、処理済みのウエハＷをパレットＰに戻すことも可能になる。【００６０】
図９（ａ）は、移動板部２０、２１が設けられた搬送路Ｔの箇所の平面図である。移動板部２０、２１の外側方には案内レール部２２、２３が配置されており、移動板部２０、２１は移動介在ユニット２４ａ、２４ｂを介して案内レール部２２、２３に連結されている。なお、案内レール部２２、２３は、図５（ａ）（ｂ）〜図８（ａ）（ｂ）においては、図が煩雑になることを避けるために図示を省略しているが、載置台１１の内部に設けられているものである。また、案内レールは同様の軌跡を描く事のできるロボット・アームで置き換えても良い。さらに、軌跡は直線に限定されず、更に搬送装置から乗り上げる際の上下方向の加速度を小さくできるような曲線が好ましい。【００６１】
図９（ｂ）は、一方の移動板部２１に係る案内レール部２３の形状を示す概略図であり、他方の移動板部２０に係る案内レール部２２は対称形状であるため、以下、一方の案内レール部２３で代表して説明する。案内レール部２３は全体が三角形状であり、底辺に相当する底辺部２３ａ、左斜辺に相当する左斜辺部２３ｂ、及び右斜辺に相当する右斜辺部２３ｃで構成されると共に、各辺部２３ａ〜２３ｃに連続してガイド溝部２３ｄが形成されている。なお、底辺部２３ａの中央から両斜辺部２３ｂ、２３ｃが交わる頂点部分までの垂直方向の寸法は、図３（ｃ）に示す複数のウエハＷを遮蔽カバーＨで覆う場合の搬送形態に係る高さ寸法より大きい値に設定している。【００６２】
また、ガイド溝部２３ｄには移動介在ユニット２４ａが嵌め込まれており、移動介在ユニット２４ａは、各辺部２３ａ〜２３ｃの端部で向きを変えて、図９（ｂ）において時計方向回りにガイド溝部２３ｄに沿って移動できるようにされている。なお、移動介在ユニット２４ａの移動も図示しない制御装置により制御されており、この制御装置は底辺部２３ａの左端に移動介在ユニット２４ａが位置するときに、移動板部２１を通過するパレットＰの先端位置を検出するセンサ２７により移動の制御を行う。【００６３】
即ち、所定の条件を満足させた状態でセンサ２７がパレットＰを検出すると、前記制御装置は、移動板部２１の移動介在ユニット２４ａを図９（ｂ）に実線で示す位置から両斜辺部２３ｂ、２３ｃの頂点へと移動させる（図中、二点鎖線で示す）。なお、この移動は搬送路Ｔの搬送方向に沿って斜め上方になり、移動した頂点は、後続のウエハＷが干渉しない位置に相当する。また、移動の際には、最初は搬送路Ｔの搬送速度と同等の速度で移動を開始するが、徐々に減速して両斜辺部２３ｂ、２３ｃの頂点で移動介在ユニット３４ａを静かに停止させる。【００６４】
上述した移動制御を行うことで、図５（ｂ）に示す搬送路Ｔを搬送されている載置台１１の下部空間１１ａ内を通過するウエハＷを図６（ｂ）に示す後続のパレットＰ′に載置されたウエハＷ′と干渉しない位置へ滑らかに移動できる。よって、上述した図９（ａ）、（ｂ）に示した構成がウエハＷの移動手段として機能している。【００６５】
図９（ｂ）に戻り、両斜辺部２３ｂ、２３ｃの頂点に位置する移動介在ユニット２４ａを、所要の条件を満たした場合に、前記制御装置は底辺部２３ａの右端へ移動させる制御を行う。この移動は、図示しないセンサーで予め搬送路の空き位置を検出し、徐々に加速して底辺部２３ａの右端に到達する時に搬送路Ｔの空き位置に搬送路Ｔと同等な搬送速度で到達するように速度が制御されている。このような制御を行うことで、図１０（ａ）に示すように干渉しない位置にいたウエハＷが搬送路Ｔの搬送方向に沿って斜め下方に移動して搬送路Ｔの空き位置に載置され、搬送路Ｔによる搬送へ戻されることになる。なお、搬送路ＴへウエハＷが戻されると、移動介在ユニット２４ａは底辺部２３ａに沿って移動して、移動板部２１を元の位置へ戻す。【００６６】
また、図９（ｂ）に戻り説明を続けると、案内レール部２３の頂点からは、切替ユニット２６を介して垂直レール部２５が連結されている。垂直レール部２５にもガイド溝部２５ａが形成されており、垂直レール部２５は、図１０（ａ）に示すバッファＢｆを有する場合には移送ロボット１９の下降点まで、図１０（ｂ）に示すバッファＢｆを取り外したような場合には載置台１１の載置面１１ｄの高さまで、それぞれパレットＰに載置されたウエハＷを到達させる寸法を備える。【００６７】
垂直レール部２５と案内レール部２３との間に位置する切替ユニット２６は、各ガイド溝部２３ｄ、２５ａの開放及び閉鎖を切り替えるものであり、移動介在ユニット２４ａを案内レール部２３に沿って移動させる場合は垂直レール部２５のガイド溝部２５ａの下端を閉じる。また、移動介在ユニット２４ａを垂直レール部２５へと導く場合は、右斜辺部２３ｃの上端のガイド溝部２３ｄを閉じる。このような切替制御も前記制御装置により行われる。また、制御装置は、閉鎖箱１２が載置面１１ｄから突出した状態であること、更にバッファＢｆを有する場合にはバッファＢｆが閉鎖箱の内部に上昇していることを判断してから、垂直レール部２５への切替及び移動を行う。【００６８】
上述したような垂直レール部２５への切替及び移動が行われることで、図１０（ｂ）に示すように、パレットＰに載置されたウエハＷは、搬送路Ｔから直接的に載置台１１の載置面１１ｄの高さまで移動でき、臨機応変にウエハＷを搬送路Ｔから抽出すること及び戻すことが可能になる。なお、載置面１１ｄの高さまで移動したウエハＷは、図７（ａ）（ｂ）に示す閉鎖箱１２の移動及びドア部１５ｂ及びカバー部１２ｄの下降に基づいて、筐体１５の内部に対して受け渡しが行われる。【００６９】
また、図２（ａ）に示すパレットＰを用いない搬送形態の場合には、ウエハを搬送路から直接すくい上げる為の図示しないハンドを移動板部２０、２１から伸ばす事によってウエハを直接すくい上げて以後同様な動作を行う。【００７０】
なお、上述した処理装置１０では、１台の載置台１１を筐体１５に併設しているが、ウエハＷに対する処理内容によっては、複数の載置台を併設することも可能である。図１１は、２台の載置台１１１、１５０を並べて筐体１１５に併設した処理装置１００の構成を示している。処理装置１００は、２台の載置台１１１、１５０を前面に並べて設けているので、搬送路Ｔの搬送方向に対する寸法を図５（ｂ）等に示す処理装置１０に比べて長くしている。【００７１】
処理装置１００の一方の載置台１１１は、上述した処理装置１０の載置台１１と同等の構成であり、載置台１１１の内部に閉鎖箱１１２を載置面１１１ｄに対して移動可能に設けると共に、バッファＢｆを移動可能に収められるようにしており、移動板部１２０、１２１により載置台１１１の内部空間を通過するウエハＷを上方へ移動可能にしている。な
お、閉鎖箱１１２は、上板部１１２ａに２個の載置領域１１２ｅ、１１２ｆを有する。また、他方の載置台１５０は、基本的に従来のロードポートと同等の構成であり、載置箇所に開口を有しない閉鎖された載置面１５０ａにキネマティック・カップリング１５３を設けた１個の載置領域１５２を形成すると共に、載置台１５０の載置面１５０ａの下方の空間を横切ってカバー体５で覆われた搬送路Ｔを配置していることが特徴である。【００７２】
処理装置１００では、搬送路Ｔに対するウエハＷの受け渡しを一方の載置台１１１で行い、周囲からの密閉容器Ｆの載置用に他方の載置台１５０を利用できるようにしており、このようにすることで、従来のロードポート装置に準じた構成の載置台１５０を有効に活用できると共に、天井搬送システム２及び床搬送システムと云った他の搬送系等に対して密閉容器Ｆの載置箇所を複数確保でき、他の搬送系との親和性及び共存性も向上できる。なお、処理装置１００の筐体１１５の内部には、一方の載置台１１１及び他方の載置台１５０に載置された密閉容器Ｆの両方に対してウエハＷの受け渡しを行えるトランスファーロボットが設けられている。【００７３】
また、本実施形態の搬送システム１では、各載置台１１、１１１、１５０の配置形態は図５（ｂ）、図１１等に示す形態に限定されるものではなく、各処理装置１０、１００、２００等が行う処理内容に合わせて所要数を適宜配置でき、例えば、図５（ｂ）に示す載置台１１を複数並べること、載置台１１と図１１に示す載置台１５０をそれぞれ複数配置すること等も可能である。【００７４】
このような搬送システム１を用いることで、各載置台１１、１１１の内部を通過するウエハＷを後続のウエハＷ′が干渉しない位置へ移動して、その間に後続のウエハＷ′を各載置台１１、１１１の内部を通過させて搬送させると云う搬送方法を実現でき、各ウエハＷ、Ｗ′は単数単位若しくは複数単位のいずれか、又は両単位を混在させて搬送することも可能になる。【００７５】
なお、本実施形態の搬送システム１は、上述した形態に限定されるものではなく、種々の変形例の適用が可能である。例えば、搬送路Ｔの形状は、図１に示す環状に限定されるものではなく、環状から分岐した形態、魚の骨状と云った様々な形態にすることが可能である。搬送される対象はウエハＷに限定されるものではなく、他の種類のワークの搬送も勿論行うことができ、特に板状のワーク搬送への適用が好適である。【００７６】
また、搬送システム１では、図５（ａ）（ｂ）及び図６（ａ）（ｂ）に示すように、閉鎖箱１２及びバッファＢｆを別々に移動させるのでなく、閉鎖箱１２の内部に収めたバッファＢｆを一緒にして移動させるようにしてもよい。この場合は、直動装置１７にバッファＢｆも取り付けて、直動装置１７のみでバッファＢｆを移動させるようにして、垂直移動装置１８を省略した構成にする。【００７７】
さらに、図５（ｂ）に示す載置台１１において、バッファＢｆを内部に収める必要がないときは、載置台１１からバッファＢｆの移動に係る垂直移動装置１８及びウエハＷの移送を行う移送ロボット１９を省略した構成にすることも可能であり、このような構成の載置台１１は、移送ロボット１９の省略により搬送方向に対する寸法を図１１に示す載置台１５０と同等の寸法に縮小することも可能になる。【００７８】
図１２は、バッファＢｆ及び移送ロボットを省略した小寸法の処理装置３００を示し、上板部３１２ａに１個の載置領域３１２ｅを有する閉鎖箱３１２で、載置面３１１ｄに形成した開口３１１ｇを閉鎖するようにした載置台３１１を設けている。この載置台３１１は、１個の密閉容器Ｆの載置が可能であり、内部にはバッファを取り付ける構成になっていないため、図９（ｂ）に示す案内レール部２３及び垂直レール部２５に係る機構を設けることで、ウエハＷを搬送路Ｔから載置面３１１ｄの高さまで垂直方向に移動できるようにしている。【００７９】
さらにまた、図５〜図８に示す形態で、ＦＯＵＰなどの密閉容器Ｆ等を閉鎖箱１２の上板部１２ａに載置する必要がない場合には、閉鎖箱１２、又は閉鎖箱１２とバッファＢｆとの両方を上昇位置で固定して直動装置１７、垂直移動装置１８を適宜省略してもよい。また、この場合には閉鎖箱１２と処理装置１０の筐体１５と一体に構成することも可能であり、このような構成にすると、閉鎖箱１２を筐体１５に押し付ける駆動機構（水平移動ガイドユニット１７ｃに係る構造）も省略できる。さらに閉鎖箱１２の内部雰囲気と筐体１５の内部雰囲気とを適宜遮断する必要がない場合には、ドア部１５ｂの開閉機構も省略可能になる。【００８０】
また、搬送路Ｔで搬送されるウエハＷを後続のウエハＷと干渉しない位置に移動させる移動手段としての構成は、図９（ａ）（ｂ）に示したもの以外に、図１３（ａ）〜（ｃ）に示す構成も適用できる。図１３（ａ）において移動板部４１は、図９に示す一方の移動板部２１に相当するものであり、図１３（ａ）に示す構成においても、対称となる側の移動板部の構成が同様に設けられているものとする。よって、以下に、一方の移動板部４１に基づいて変形例の移動構成を説明する。【００８１】
移動板部４１は外側の側面に回転可能なピン４１ａが取り付けられている。また、移動板部４１のピン４１ａに対応して直動レール部４３が鉛直方向に設けられている。直動レール４３は、図３（ｃ）に示す複数のウエハＷを遮蔽カバーＨで覆う場合の搬送形態に係る高さ寸法以上のレール寸法のものが採用されており、ウエハＷを図１２に示すように載置面１１ｄの高さまで持ち上げる必要のある場合は、載置面１１ｄの高さを越える寸法のレール寸法のものが適用される。【００８２】
直動レール部４３のレール溝４３ａには移動ユニット４５が取り付けられており、移動ユニット４５は図示しない制御装置により、レール溝４３ａ、に沿って移動可能になっている。さらに、移動ユニット４５には、移動板部４１のピン４１ａが連結されると共にピン４１ａを回転させるモータ（図示せず）が設けられており、このモータも図示しない制御装置により回転量が制御されている。【００８３】
移動板部４１は、上述した構成で直動レール部４３に取り付けられることで、図１３（ｂ）（ｃ）に示す昇斜面及び降斜面を形成できるようにしている。具体的には、図１３（ｂ）に示すように、移動板部４１の搬送路Ｔの下流側の端部が上昇するように、ピン４１aを中心に反時計回りに所要角度分で回転を行う。これにより移動板部４１により下流側に向かって上昇する昇斜面が形成される。【００８４】
また、図１３（ｃ）に示すように、移動板部４１の搬送路Ｔの上流側の端部が上昇するように、移動ユニット４５を上昇させると共に、ピン４１ａを中心に時計回りに所要角度分で回転を行うことで、移動板部４１により下流側に向かって下降して搬送路Ｔの上面に連なる降斜面が形成される。なお、移動板部４１を水平にして移動ユニット４５移動させると、水平状態の移動板部４１全体を上下動させることが可能になる。【００８５】
上述した移動板部４１の動きの制御は、図１４（ａ）〜（ｃ）に示すようにウエハＷの搬送状況によって行われる。先ず、ウエハＷを搬送路Ｔから取り上げる場合は、図１４（ａ）に示すように、移動板部４１のピン４１ａを中心に反時計方向に回転させることで、昇斜面が形成される。なお、ピン４１ａの反時計方向の回転は図１４（ａ）で示していない移動板部４１の前方に設けられたパレットＰの検出用のセンサの検出に基づき行われる。また、ピン４１ａを回転させる角度は、形成される昇斜面により搬送路Ｔで搬送されるパレットＰの突出部Ｐａが搬送による慣性で移動板部４１に乗り上げると共に、乗り上げた後は昇斜面による負の重力加速度及び不足な場合には積極的な減速機構を併設することによって移動板部４１上に留まって停止するように設定される。被搬送体が斜面に乗り移る際にウエハに損傷を与えないように、上下方向の加速度が所定の値以内になるように被搬送体の進入速度を勘案して斜面の角度を決定する。【００８６】
このように、移動板部４１で昇斜面が形成されることで、搬送路Ｔで搬送されるウエハＷのパレットＰは搬送路Ｔから移動板部４１へ乗り換えて停止する。なお、移動板部４１上でパレットＰが停止したことは、図１４（ａ）で示さないセンサにより検出される。このセンサの検出により、図１４（ｂ）に示すように、移動ユニット４５を上昇させると共にピン４１ａを中心に移動板部４１を時計方向に回転させて、移動板部４１を水平方向の姿勢にして上昇させる。この上昇によりウエハＷが後続のパレットＰ′に載置された他のウエハＷ′と干渉しない位置に移動される。【００８７】
さらに、搬送路Ｔの上方へ移動したウエハＷを搬送路Ｔに戻すには、図示しないセンサーで予め搬送路の空き位置を見つけてその空き位置に同期して図１４（ｂ）の状態から一旦下降して搬送路Ｔの上方で停止、その状態から図１４（ｃ）に示すように、ピン４１ａを中心に時計方向に移動板部４１を回転させ、移動板部４１の下流側の端部を搬送路Ｔの上面と連なるように下端にした降斜面を形成する。【００８８】
この移動板部４１での降斜面の形成により、パレットＰは重力加速度及び搬送路の搬送速度が速くて不足な場合には積極的な加速機構により最終的に搬送路の速度と同等な速度で降斜面を滑り降りて搬送路Ｔに乗り、その後は、再度搬送路Ｔで搬送される。なお、パレットＰをウエハＷに損傷を与えないようにスムーズに搬送路Ｔへ移すには、パレットＰが搬送路に乗り移る際の上下方向加速度が所定の値以内になるように移動板部４１の傾斜制御を行うようにしている。また、ウエハＷを搬送路Ｔに戻した後は、移動板部４１を移動させて、後続のウエハＷと干渉しないようにする。【００８９】
図１５（ａ）、（ｂ）は、ウエハＷを干渉しない位置へ移動させる別の変形例の構成を示しており、図３（ａ）と同方向の視図である。この変形例では、搬送路Ｔの一側方に９０度反転ユニット５０が設けられており、挟持部５１及びガイド板部５２を回転軸５１ａを中心にして図中の矢印方向へ回転させるアクチュエータ５３が設けられている。【００９０】
９０度反転ユニット５０は、パレットＰの突出部Ｐａを挟持部５１で挟持すると共に、ウエハＷを覆う遮蔽カバーＨの上面をガイド板部５２で抑えた状態にして、この状態で図１５（ａ）に示す矢印方向へ略９０度、挟持部５１及びガイド板部５２を回転させる。これにより、図１５（ｂ）に示すように、パレットＰ、ウエハＷ及び遮蔽カバーＨが搬送路Ｔから退避して、後続のパレットＰ′に載置されたウエハＷ′が干渉することなく搬送路Ｔで搬送できるようにしている。【００９１】
また、図１６（ａ）、（ｂ）は、ウエハＷを干渉しない位置へ移動させる更に別の変形例の構成を示しており、図３（ａ）と同方向の視図である。この変形例では、搬送面Ｔａ′が傾斜するように搬送路Ｔ′が配置されている。また、ウエハＷの水平移動装置６０は搬送路Ｔ′の一側方に設けられており、水平移動装置６０は、移動ユニット６２を移動可能に設けた直動レール部６１を水平配置し、移動ユニット６２にパレットＰの突出部Ｐａを挟持するチャック部６３を設けている。【００９２】
水平移動装置６０は、搬送路Ｔ′を搬送されるパレットＰの突出部Ｐａをチャック６３で挟持し、この状態で移動ユニット６２を図１６（ａ）中の矢印方向へ移動させる。そうすると、図１６（ｂ）に示すように、パレットＰに載置されたウエハＷは搬送路Ｔ′から退避した位置に移動し、後続のパレットＰ′に載置されたウエハＷ′は干渉することなく搬送路Ｔ′で搬送できるようになる。【００９３】
また、搬送システム１は、カバー体５等で覆われる搬送路Ｔの周囲の雰囲気遮断を、図４に示すイナートガスの加圧以外の方式で行うことも可能であり、例えば、排気側にポンプを設けて強制的に搬送路Ｔの周囲の気体を吸引して外部へ排出するようにして、イナートガスの吸引及び搬送路Ｔの周囲の減圧により雰囲気遮断を行える。【００９４】
さらに、他の雰囲気遮断の方式としては、図１７（ａ）に示すように、搬送路Ｔを覆うカバー体７０の上部を開放し、上部に吸引用のファン７１及びフィルタ７２を設けると共に、カバー体７０の下板部７０ａには大気開放のための開口７０ｂを設けた構成も適用可能である。この構成の場合では、フィルタ７２に依る発塵や化学成分の清浄化能力で不足な場合にはファン７１に施設内に設けた清浄空気生成装置（図示せず）により生成した清浄空気を導入することで所定のクリーン度に応じた雰囲気遮断を達成できる。なお、図１７（ａ）の雰囲気遮断では、カバー体７０の内部は気密性が要求されないので、図５（ａ）（ｂ）等で示す閉鎖箱１２のフランジ部１２ｃ等に係るシール部材は省略できる。【００９５】
また、図１７（ｂ）は、更に別の雰囲気遮断方式を示しており、搬送路Ｔを覆うカバー体８０は下面部８０ａ以外を遮蔽した形状にして、下面部８０ａには内部に排気ポンプ８１を設けた排気口８０ｂを突出し、この排気口８０ｂを図示しない排気管と接続した構成にする。この例では、カバー体８０の内部が排気ポンプ８１による排気で所定の圧力に減圧されるため、カバー体８０の内部の雰囲気は外部と遮断され、搬送に好適な雰囲気を形成できる。この方法は、カバー体８０の内部の酸素濃度や水蒸気の濃度を下げて搬送中のウエハの表面の変化を抑制するのに有効である。更にこの方法に於いてはカバー体８０の内部が粘性流領域以下に減圧されると搬送機構からの発塵を清浄な気体の流れに依って流し去る事ができなくなるという問題点があるが、その場合にはカバー体８０の上部からイナートガスや清浄空気を所定量導入する事によって清浄かつ酸素や水蒸気の濃度の低い気体の流れを形成して発塵を排気ポンプに流し去ることが可能となる。なお、上述した各種雰囲気遮断方式は搬送路Ｔをカバー体５で覆う場合に対し省略することも可能である。【００９６】
また、図３（ａ）（ｃ）に示すように、パレットＰに載置されたウエハＷ毎に遮蔽カバーＨで雰囲気遮断を行って搬送を行う場合は、搬送路Ｔを覆うカバー体５を省略することもできる。この場合は、機密構造を問わない安全確保のための構造物で囲われた搬送路Ｔにより遮蔽カバーＨで覆ったウエハＷをパレットＰに載せて搬送されることになり、搬送システム構築に要するコストの低減を図れる。この構成の場合、図５（ａ）（ｂ）に示すバッファＢｆを設けた形態では、載置台１１内部のリブ１１ｅ及び側壁リブ１３ａで形成される境界、図１２に示すバッファＢｆを設けない形態では、垂直レール部２５で上昇されたウエハＷの上昇位置（実線で示されたパレットの底面位置）に蓋部をそれぞれ設け、その蓋部はパレットが有するカバーの開閉と連動して開閉可能にし、その蓋部にパレットのカバーを押し付けて気密性を確保し、蓋部とカバーとを一緒に開ける構成にする。【００９７】
本出願は、２００４年１０月２５日に出願された、日本国特許出願２００４−３１０１４３号に基づく。本明細書中に、日本国特許出願２００４−３１０１４３号の明細書、特許請求の範囲、図面全体を参照としてとりこむものとする。
【産業上の利用可能性】
【００９８】
以上説明したように、本発明に係る搬送システムは、種々の被搬送体の搬送に有用であり、また、基板処理装置は、基板を搬送したり処理部で処理することに有用である。
【図１】
0004642032.tif 000002
【図２】
0004642032.tif 000003
【図３】
0004642032.tif 000004
【図４】
0004642032.tif 000005
【図５】
0004642032.tif 000006
【図６】
0004642032.tif 000007
【図７】
0004642032.tif 000008
【図８】
0004642032.tif 000009
【図９】
0004642032.tif 000010
【図１０】
0004642032.tif 000011
【図１１】
0004642032.tif 000012
【図１２】
0004642032.tif 000013
【図１３】
0004642032.tif 000014
【図１４】
0004642032.tif 000015
【図１５】
0004642032.tif 000016
【図１６】
0004642032.tif 000017
【図１７】
0004642032.tif 000018
【図１８】
0004642032.tif 000019