(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）およびペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）から選ばれた少なくとも１種の含フッ素多環式化合物（Ｂ）を含む、実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性含フッ素重合体（Ａ）からなる光学樹脂組成物。
【請求項２】
含フッ素重合体（Ａ）が主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体である請求項１に記載の光学樹脂組成物。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光学樹脂組成物からなる光伝送体。
【請求項４】
含フッ素重合体（Ａ）中に含フッ素多環式化合物（Ｂ）が光伝送体の光伝送路の中心軸から周辺方向に沿って濃度が低下する濃度勾配を有して分布している屈折率分布型光伝送体である、請求項３に記載の光伝送体。
【請求項５】
屈折率分布型プラスチック光伝送ファイバ製造用プリフォームまたは屈折率分布型プラスチック光伝送ファイバから選ばれる光学樹脂成形体であって、マトリックスが実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体（Ａ）であり、屈折率調整物質がペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）およびペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）から選ばれた少なくとも１種の含フッ素多環式化合物（Ｂ）であることを特徴とする光学樹脂成形体。
【請求項６】
含フッ素重合体（Ａ）が主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体である請求項５に記載のプラスチック光伝送ファイバ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特定の屈折率調整物質を含む非結晶性含フッ素重合体からなる光学樹脂組成物、その材料を用いた光伝送体（特にプラスチック光伝送ファイバ）、および、屈折率調整物質としての新規な化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より非結晶性含フッ素重合体は、電気特性、耐薬品性、防水性、撥水撥油性、光学特性に優れるため、半導体をはじめとする電子部品の保護膜、インクジェットプリンタのヘッドの撥水膜、フィルタの防水防油コート、プラスチック光ファイバなどに用いられている。この重合体は単独で利用されることもあるが、各種の添加剤、改質剤などを混合され、新たな機能を付加する試みもなされている。しかし、非結晶性含フッ素重合体は極性基を通常有しないことより、この含フッ素重合体に対する低分子量化合物の溶解性は低い。そのため、非結晶性含フッ素重合体に低分子量化合物を配合して均一に混合させることが困難な場合が少なくなく、非結晶性含フッ素重合体が本来有している電気的特性、機械的特性、表面特性および透明性などの優れた特性を損なわれることがしばしばある。
【０００３】
一方、Ｃ−Ｈ結合を有しない非結晶性含フッ素重合体をマトリックスとし、この含フッ素重合体に溶融拡散可能な屈折率調整物質をマトリックス中に分布させて得られる屈折率分布型プラスチック光伝送ファイバが知られている（特開平８−５８４８号公報参照）。この屈折率分布型プラスチック光伝送ファイバは、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリノルボルネン樹脂などの樹脂をマトリックスとするプラスチック光伝送ファイバでは達し得なかった波長１３００ｎｍや１５５０ｎｍにおいて低損失であることが知られている。なお、以下プラスチック光伝送ファイバをＰＯＦという。また、光伝送ファイバを光ファイバともいう。
【０００４】
上記屈折率分布型ＰＯＦにおいて、非結晶性含フッ素重合体に屈折率調整物質を配合すると組成物のガラス転移温度（Ｔｇ）が低下して耐熱性が低下する問題がある。特に屈折率調整物質がクロロトリフルオロエチレンの５〜８量体であるオリゴマー（屈折率１．４１）などのように屈折率があまり高くない屈折率調整物質を用いたＰＯＦにおいては、開口数ＮＡ［ＮＡ＝（ｎ2 −ｍ2 ）1/2 、ｎは屈折率分布型光学樹脂材料中の屈折率の最大値、ｍは屈折率分布型光学樹脂材料中の屈折率の最小値。］を大きくするために屈折率調整物質の配合量を多くする必要がある。一方、このオリゴマーのＴｇは約−６０℃と低く、室温では液状であるため、ＮＡを大きくしようとして配合量を多くするにつれて組成物のＴｇが低下し、ＰＯＦが高温に曝されたときに屈折率分布や光伝送性能が変化しやすくなる。そのためＴｇが低くかつ屈折率があまり高くない屈折率調整物質を配合することは、ＮＡを大きくできないという問題が生じる。
【０００５】
また、特開平８−５８４８号公報記載のジブロモテトラフルオロベンゼンやクロロヘプタフルオロナフタレンなどの高屈折率の屈折率調整物質は、比較的少量の配合で充分な開口数ＮＡを得ることができる。しかし、この屈折率調整物質もまた組成物のＴｇを下げる作用が強く、耐熱性が充分高いＰＯＦを得ることは困難である。
【０００６】
特開平１１−１６７０３０号公報には上記耐熱性に関する問題点を解決するための新たな屈折率調整物質が記載されている。しかし具体的に記載されている屈折率調整物質は非結晶性含フッ素重合体に対する相溶性が必ずしも十分でない。屈折率調整物質が含フッ素重合体に完全に溶解していないと光散乱の要因となり、ＰＯＦの光伝送損失が増加する原因となる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記耐熱性の問題と相溶性の問題を同時に解決した、非結晶性含フッ素重合体に配合する屈折率調整物質に関するものであり、非結晶性含フッ素重合体の優れた透明性を損なうことなく、従来の光学樹脂組成物が有する課題を解決し、耐熱性が向上し、かつ光伝送損失が低い光学樹脂組成物を提供することを目的とする。また、そのような特性を有する光学樹脂組成物からなる光伝送体、特にＰＯＦの提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記耐熱性の問題と相溶性の問題を同時に解決した、非結晶性含フッ素重合体に配合する屈折率調整物質に関する。この屈折率調整物質は、特開平１１−１６７０３０号公報に記載されている範疇の屈折率調整物質の中から選択された、非結晶性含フッ素重合体に対する相溶性が特に優れた化合物である。
【０００９】
本発明は、この屈折率調整物質に係る以下の発明である。
すなわち、ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）およびペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）から選ばれた少なくとも１種の含フッ素多環式化合物（Ｂ）を含む、実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性含フッ素重合体（Ａ）からなる光学樹脂組成物、である。
【００１０】
また、上記光学樹脂組成物からなる光伝送体、である。
また、屈折率分布型プラスチック光伝送ファイバ製造用プリフォームまたは屈折率分布型プラスチック光伝送ファイバから選ばれる光学樹脂成形体であって、マトリックスが実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性含フッ素重合体（Ａ）であり、屈折率調整物質がペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）およびペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）から選ばれた少なくとも１種の含フッ素多環式化合物（Ｂ）であることを特徴とする光学樹脂成形体、である。
【００１１】
なお、ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）は公知の化合物であるが、ペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）は新規化合物である。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明における含フッ素多環式化合物（Ｂ）は屈折率調整物質である。含フッ素多環式化合物（Ｂ）を含む含フッ素重合体（Ａ）からなる本発明の光学樹脂組成物は光学樹脂製品の原材料を意味するばかりでなく、光学樹脂製品における樹脂組成物そのものをも意味する。また、本発明の光学樹脂組成物は、含フッ素多環式化合物（Ｂ）が含フッ素重合体（Ａ）の全体にわたって均一に分布した状態にあるものばかりでなく、含フッ素多環式化合物（Ｂ）が含フッ素重合体（Ａ）中に不均一に分布している状態にあるものをも意味する。
【００１３】
本発明の光伝送体とは、光を光学樹脂組成物中に通過させて伝送する機能を有する部材をいう。光伝送体は、プラスチック光伝送ファイバに限られるものではなく、例えば、ロッドレンズ、光導波路、光分岐器、光合波器、光分波器、光減衰器、光スイッチ、光アイソレータ、光送信モジュール、光受信モジュール、カプラ、偏向子、光集積回路などのそのものやその光伝送部分をいう。これら光伝送体の光を伝送する部分は、後述する屈折率分布構造を有するもの（以下屈折率分布型という）であることが好ましい。すなわち、含フッ素重合体（Ａ）中に含フッ素多環式化合物（Ｂ）が光伝送体の光伝送路の中心軸から周辺方向に沿って濃度が低下する濃度勾配を有して分布している屈折率分布型光伝送体であることが好ましい。本発明の光伝送体としては特にＰＯＦ、特に屈折率分布型ＰＯＦ、が好ましい。
【００１４】
本発明の光学樹脂成形体は、屈折率分布型ＰＯＦ製造用プリフォームまたは屈折率分布型ＰＯＦである。含フッ素重合体（Ａ）と屈折率調整物質を用いて屈折率分布型ＰＯＦ（および、それを製造するためのプリフォーム）を製造する方法は前記特開平８−５８４８や特開平１１−１６７０３０号公報などに記載されている。これら公報記載の屈折率調整物質の代わりに含フッ素多環式化合物（Ｂ）を使用して、これら公報記載の方法で屈折率分布型ＰＯＦを製造できる。同様にこれら公報記載の方法で屈折率分布型ＰＯＦ製造用プリフォームを製造できる。
【００１５】
周知のように屈折率分布型光ファイバは中心軸部分の屈折率が最大で中心軸から周辺方向に沿って屈折率が徐々に（通常二次曲線に沿って）低下する構造を有する。このような屈折率分布を形成する方法の一つとして拡散法が知られている。拡散法は、マトリックス中でマトリックスと異なる屈折率を有する屈折率調整物質を中心軸から周辺方向に沿って（屈折率調整物質がマトリックスよりも高屈折率である場合）拡散させることにより上記屈折率分布を形成する方法である。マトリックス中の屈折率調整物質の濃度が高い部分が高屈折率でその濃度が低下するほど低屈折率となる。
【００１６】
本発明の光伝送体は、屈折率分布型光伝送体であることが好ましい。すなわち、光伝送体の光が通過する光伝送路において、含フッ素重合体（Ａ）中に含フッ素多環式化合物（Ｂ）が光伝送路の中心軸から周辺方向に沿って濃度が低下する濃度勾配を有して分布している屈折率分布型光伝送体であるのが好ましい。この屈折率分布は屈折率調整物質である含フッ素多環式化合物（Ｂ）をマトリックスである含フッ素重合体（Ａ）中に拡散させることにより形成される。例えば、光伝送路の中心軸となる部分にある濃度で含フッ素多環式化合物（Ｂ）を存在させ、その含フッ素多環式化合物（Ｂ）を熱拡散させて中心軸から周辺方向に沿って濃度が低下する濃度勾配を形成する。
【００１７】
本発明の光学樹脂成形体は上記拡散法で形成された屈折率分布型の光学樹脂成形体であることが好ましい。この方法による光学樹脂成形体の製造方法は前記特開平８−５８４８や特開平１１−１６７０３０号公報などに記載されている。特に回転成形により屈折率分布型ＰＯＦ製造用プリフォーム（以下、単にプリフォームという）を製造し、プリフォームから紡糸してＰＯＦとする方法が好ましい。含フッ素多環式化合物（Ｂ）の拡散はプリフォーム製造工程、プリフォームを加熱維持して拡散を行う工程、プリフォームからの紡糸工程、またはそれら工程の２以上の工程で行い得る。また含フッ素多環式化合物（Ｂ）の拡散を行いながら押出し紡糸を行って光ファイバを１段で製造することもできる（ＷＯ９４／０４９４９公報記載の方法参照）。この拡散を行いながら押出しする方法で屈折率分布型のプリフォームを製造することもできる。
【００１８】
上記のようにプリフォームは必ずしも屈折率分布を有していなくてもよく、含フッ素多環式化合物（Ｂ）の拡散工程前のものであってよい。この場合、含フッ素多環式化合物（Ｂ）は中心軸部分のみに存在する。このプリフォームを加熱状態に維持して含フッ素多環式化合物（Ｂ）を拡散させ屈折率分布を有するプリフォームとし得る。しかし通常はプリフォームの成形工程において拡散も行い屈折率分布を有するプリフォームとする。プリフォームの形状は通常円柱状である。しかし形状はこれに限られず、回転成形で通常得られる孔の径がごく小さい円筒状のものであってもよい。円筒状プリフォームではその内表面に含フッ素多環式化合物（Ｂ）を存在させてそこから外表面方向に拡散させて屈折率分布を形成し得る。円筒状プリフォームの孔を潰しながら紡糸を行ってＰＯＦとし得る。
【００１９】
本発明の光学樹脂組成物において、含フッ素多環式化合物（Ｂ）は含フッ素重合体（Ａ）中に完全に溶解し、不溶解物がなくまたミクロな相分離構造が生じないないことが好ましい。不溶解物やミクロ相分離構造が存在すると、その部分が光散乱の要因となる。したがって、含フッ素多環式化合物（Ｂ）は含フッ素重合体（Ａ）中にその飽和溶解度量以下で存在することが好ましく、含フッ素多環式化合物（Ｂ）が部分的に高濃度に存在する場合であってもその高濃度部分に不溶解物がないことが好ましい。
【００２０】
含フッ素重合体（Ａ）の種類にもよるが、含フッ素重合体（Ａ）と含フッ素多環式化合物（Ｂ）の合計に対する含フッ素多環式化合物（Ｂ）の割合が約１５質量％でも充分均一に溶解する。したがって、本発明光学樹脂組成物における含フッ素重合体（Ａ）と含フッ素多環式化合物（Ｂ）の合計に対する含フッ素多環式化合物（Ｂ）の割合は１５質量％以下、特に１０質量％以下が好ましい。この割合は組成物全体における平均の存在割合を意味するとともに、含フッ素多環式化合物（Ｂ）が不均一に存在している場合であってもその最大存在部分が上記割合の上限以下であることを意味する。より好ましい最大存在部分の割合の下限は０．１質量％、特に１質量％、である。
【００２１】
含フッ素多環式化合物（Ｂ）が含フッ素重合体（Ａ）中に均一に存在している場合、または不均一に存在している場合に組成物全体に平均して存在すると仮定して計算した場合、その割合の下限は０．００１質量％であることが好ましい。なお、含フッ素重合体（Ａ）に対する含フッ素多環式化合物（Ｂ）の溶解性が高いことはまた含フッ素多環式化合物（Ｂ）が含フッ素重合体（Ａ）に対して屈折率分布を形成するに十分な拡散性を有していることも意味している。
【００２２】
屈折率分布型光伝送体とするためには、マトリックスと屈折率調整物質との屈折率の差は０．００５以上である必要があり、０．０１以上であることが好ましい。含フッ素重合体（Ａ）の屈折率は、その種類にもよるが、通常１．２５〜１．３５であり、含フッ素多環式化合物（Ｂ）の屈折率は約１．４７である。したがって、両者は屈折率分布を形成するに充分の屈折率差を有する。また、屈折率差が大きいことより、含フッ素重合体（Ａ）に対する含フッ素多環式化合物（Ｂ）の割合が最大存在部分において１０質量％以下であっても充分な屈折率分布を形成し得る。
【００２３】
また、含フッ素多環式化合物（Ｂ）のＴｇは−４５℃であり、従来の屈折率調整物質に比較して比較的高いＴｇを有している。したがって、含フッ素多環式化合物（Ｂ）は含フッ素重合体（Ａ）のＴｇを低下させる作用が少ない。よって、含フッ素多環式化合物（Ｂ）は、光学樹脂組成物に対する割合を少なくでき、かつ、本発明の光学樹脂組成物のＴｇの低下は少なく、耐熱性の良好な光伝送体が得られる。
【００２４】
以下、本発明における含フッ素重合体（Ａ）および含フッ素多環式化合物（Ｂ）について説明する。
本発明における含フッ素重合体（Ａ）は、非結晶性であり、かつ近赤外光で光吸収が起こるＣ−Ｈ結合を実質的に有しない重合体である。含フッ素重合体（Ａ）としては、Ｃ−Ｈ結合を有しない非結晶性含フッ素重合体であれば特に限定されないが、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体が好ましい。
【００２５】
主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するとは、脂肪族環を構成する炭素原子の１以上が主鎖を構成する炭素連鎖中の炭素原子であり、かつ脂肪族環を構成する炭素原子の少なくとも一部にフッ素原子またはフッ素含有基が結合している構造を有することを意味する。脂肪族環の環を構成する原子としては、炭素原子以外に酸素原子や窒素原子を含んでいてもよい。含フッ素脂肪族環構造としては、含フッ素脂肪族エーテル環構造がさらに好ましい。
【００２６】
含フッ素重合体（Ａ）の溶融状態における粘度は、溶融温度２００〜３００℃において１０2 〜１０4 Ｐａ・ｓが好ましい。溶融粘度が高すぎると溶融紡糸が困難なうえ、屈折率分布の形成に必要な、含フッ素多環式化合物（Ｂ）の拡散が起こりにくくなり屈折率分布の形成が困難になる。また、溶融粘度が低すぎると実用上問題が生じる。すなわち、電子機器や自動車等での光伝送体として用いられる場合に高温に曝され軟化し、光の伝送性能が低下する。
【００２７】
含フッ素重合体（Ａ）の数平均分子量は１×１０4 〜５×１０6 が好ましく、５×１０4 〜１×１０6 がより好ましい。分子量が小さすぎると耐熱性を阻害することがあり、大きすぎると屈折率分布を有する光伝送体の形成が困難になる。
【００２８】
含フッ素脂肪族環構造を有する重合体としては、含フッ素環構造を有する単量体を重合して得られるものや、２つ以上の重合性二重結合を有する含フッ素単量体を環化重合して得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が好適である。
【００２９】
含フッ素脂肪族環構造を有する単量体を重合して得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体は、特公昭６３−１８９６４などにより知られている。すなわち、ペルフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）などの含フッ素脂肪族環構造を有する単量体を単独重合することにより、またこの単量体とテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ペルフルオロ（メチルビニルエーテル）などのラジカル重合性単量体とを共重合させることにより主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が得られる。
【００３０】
また、２つ以上の重合性二重結合を有する含フッ素単量体を環化重合して得られる、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体は、特開昭６３−２３８１１１号公報や特開昭６３−２３８１１５号公報などにより知られている。すなわち、ペルフルオロ（アリルビニルエーテル）やペルフルオロ（ブテニルビニルエーテル）などを環化重合することにより、またはこのような単量体とテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ペルフルオロ（メチルビニルエーテル）などのラジカル重合性単量体とを共重合させることにより主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が得られる。
【００３１】
また、ペルフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）などの含フッ素脂肪族環構造を有する単量体とペルフルオロ（アリルビニルエーテル）やペルフルオロ（ブテニルビニルエーテル）などの２つ以上の重合性二重結合を有する含フッ素単量体とを共重合させることによっても主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が得られる。
【００３２】
含フッ素脂肪族環構造を有する重合体としては、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体の全モノマー単位に対して含フッ素脂肪族環構造を有するモノマー単位を２０モル％以上、特には４０モル％以上含有するものが透明性、機械的特性などの面から好ましい。また、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体としては、重合当初の重合体は末端に不安定な官能基を有していることが少なくないことより、重合体製造後、重合体をフッ素でフッ素化する末端安定化処理を行ったものを用いることが好ましい。
【００３３】
上記の含フッ素脂肪族環構造を有する重合体としては、具体的には以下の化学式から選ばれるモノマー単位を有するものが例示される。下記式１および式２は含フッ素環構造を有する単量体の重合により形成されるモノマー単位の例である。下記式３および式４は重合性二重結合を２個有する含フッ素単量体の環化重合により形成されるモノマー単位の例である。
【００３４】
下記式１〜４において、Ｘ1 〜Ｘ10はそれぞれ独立にフッ素原子またはペルフルオロアルキル基またはペルフルオロアルコキシ基を表わし、フッ素原子の一部は塩素原子で置換されていてもよく、またペルフルオロアルキル基やペルフルオロアルコキシ基におけるフッ素原子の一部は塩素原子で置換されていてもよい。ペルフルオロアルキル基やペルフルオロアルコキシ基における炭素数は１〜５が好ましく、特に１が好ましい。Ｚは酸素原子、単結合または−ＯＣ（Ｒ9 Ｒ10）Ｏ−を表す。好ましいＺは酸素原子である。
【００３５】
Ｒ1 〜Ｒ10はそれぞれ独立にフッ素原子、ペルフルオロアルキル基またはペルフルオロアルコキシ基を表わし、フッ素原子の一部は塩素原子で置換されていてもよく、またペルフルオロアルキル基およびペルフルオロアルコキシ基におけるフッ素原子の一部は塩素原子で置換されていてもよい。ペルフルオロアルキル基およびペルフルオロアルコキシ基における炭素数は１〜５が好ましく、特に１が好ましい。また、Ｒ1 とＲ2 およびＲ3 とＲ4 はそれぞれ共同して含フッ素脂肪族環を形成していてもよく、ｐやｑが２以上の場合、異なる置換メチレン基に結合している置換基は同様に共同して含フッ素脂脂肪族環を形成していてもよい。例えば、Ｒ1 とＲ2 は共同して炭素数２〜６のペルフルオロアルキレン基を表わしてもよい。
【００３６】
ｐは１〜４の整数を、ｑは１〜５の整数を、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０〜５でかつｓ＋ｔが１〜６の整数（ただし、Ｚが−ＯＣ（Ｒ9 Ｒ10）Ｏ−の場合はｓ＋ｔは０であってもよい）を表す。ただし、ｐ、ｑ、ｓ、ｔが２以上の整数の場合、その数で規定された複数の置換メチレン基における置換基の種類は異なっていてもよい。例えば、ｐが２の場合、２つのＲ1 は異なっていてもよく、２つのＲ2 も同様に異なっていてもよい。好ましいｐは１または２、好ましいｑは２である。ｓとｔはそれぞれ０〜４でかつｓ＋ｔが１〜４である整数が好ましい。
【００３７】
【化１】
0004682394.tif 000002
【００３８】
式１で表されるモノマー単位を形成する単量体としては、下記式５で表される含フッ素脂肪族環構造を有する単量体（ｐが１のもの）と下記式６で表される含フッ素脂肪族環構造を有する単量体（ｐが２のもの）が好ましい。また、式２で表されるモノマー単位を形成する単量体としては、下記式７で表される含フッ素脂肪族環構造を有する単量体（ｑが２のもの）が好ましい。下記式においてＲ11、Ｒ12は前記Ｒ1 と同じものを、Ｒ21、Ｒ22は前記Ｒ2 と同じものを、Ｒ31、Ｒ32はＲ3 と同じものを、Ｒ41、Ｒ42はＲ4 と同じものを表す。また、前記したように、Ｒ11とＲ22、Ｒ31とＲ42とはそれぞれ共同して含フッ素脂肪族環を形成してもよい。
【００３９】
式５〜式７で表される化合物としては、Ｘ1 〜Ｘ4 がいずれもフッ素原子、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ41、Ｒ42がそれぞれ独立にフッ素原子、トリフルオロメチル基またはクロロジフルオロメチル基である化合物が好ましい。最も好ましい化合物はＸ1 、Ｘ2 がいずれもフッ素原子で、Ｒ1 とＲ2 がいずれもトリフルオロメチル基である化合物［すなわち、ペルフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）］である。
【００４０】
【化２】
0004682394.tif 000003
【００４１】
好ましい式５〜式７で表される化合物の具体例としては、下記に示す化合物が挙げられる。
【００４２】
【化３】
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【００４３】
式３および式４で表されるモノマー単位を環化重合により形成する重合性二重結合を２個有する含フッ素単量体としては、下記式８で表される含フッ素脂肪族環構造を有する単量体がある。式８で表される化合物としては、Ｚは酸素原子または−ＯＣ（Ｒ9 Ｒ10）Ｏ−、ｓは０または１、ｔは０〜４でかつｓ＋ｔは１〜４（ただし、Ｚが−ＯＣ（Ｒ9 Ｒ10）Ｏ−の場合は０であってもよい）、Ｘ5 〜Ｘ10がいずれもフッ素原子であるかまたは多くとも２個以内が塩素原子、トリフルオロメチル基もしくはクロロジフルオロメチル基で他がフッ素原子、Ｒ5 〜Ｒ10がそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子（ただし多くとも炭素原子１個に付き１個結合）、トリフルオロメチル基またはクロロジフルオロメチル基である化合物が好ましい。
【００４４】
【化４】
0004682394.tif 000005
【００４５】
式８で表される化合物としては、下記式９〜式１１で表される化合物が好ましい。下記式９で表される化合物は、式８において、Ｚが酸素原子、ｓが０、ｔが１である化合物であり、下記式１０で表される化合物は、式８において、Ｚが酸素原子、ｓが０、ｔが２である化合物であり、式１１で表される化合物は、式８において、Ｚが−ＯＣ（Ｒ9 Ｒ10）Ｏ−、ｓ、ｔがいずれも０である化合物である。
【００４６】
式９で表される化合物において、Ｘ5 〜Ｘ10はすべてフッ素原子であるか、またはその１〜２個（ただし、Ｘ5 〜Ｘ7 の多くとも１個かつＸ8 〜Ｘ10の多くとも１個）が塩素原子で他がフッ素原子であることが好ましい。Ｒ7 とＲ8 はすべてフッ素原子であるか、一方が塩素原子もしくはトリフルオロメチル基であり、他方がフッ素原子であることが好ましい。最も好ましい式９で表される化合物はＸ5 〜Ｘ10、Ｒ7 、Ｒ8 のすべてがフッ素原子である化合物［すなわち、ペルフルオロ（アリルビニルエーテル）］である。
【００４７】
式１０で表される化合物において、Ｘ5 〜Ｘ10はすべてフッ素原子であるか、またはその１〜２個（ただし、Ｘ5 〜Ｘ7 の多くとも１個かつＸ8 〜Ｘ10の多くとも１個）が塩素原子で、他がフッ素原子であることが好ましい。Ｒ71、Ｒ72、Ｒ81、Ｒ82はすべてフッ素原子であるか、または多くとも２個が塩素原子もしくはトリフルオロメチル基であり、他がフッ素原子であることが好ましい。最も好ましい式１０で表される化合物はＸ5 〜Ｘ10、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ81、Ｒ82のすべてがフッ素原子である化合物［すなわち、ペルフルオロ（ブテニルビニルエーテル）］である。
【００４８】
式１１で表される化合物において、Ｘ5 〜Ｘ10はすべてフッ素原子であるか、またはその１〜２個（ただし、Ｘ5 〜Ｘ7 の多くとも１個かつＸ8 〜Ｘ10の多くとも１個）が塩素原子で、他がフッ素原子であることが好ましい。Ｒ9 とＲ10はすべてフッ素原子であるか、一方が塩素原子もしくはトリフルオロメチル基であり、他方がフッ素原子であることが好ましい。最も好ましい式１１で表される化合物はＸ5 〜Ｘ10、Ｒ9 、Ｒ10のすべてがフッ素原子である化合物［すなわち、ペルフルオロ｛ビス（ビニルオキシ）メタン）｝］である。
【００４９】
【化５】
0004682394.tif 000006
【００５０】
式９〜１１で表される化合物の具体例としては、以下の化合物などが挙げられる。
【００５１】
【化６】
0004682394.tif 000007
【００５２】
含フッ素多環式化合物（Ｂ）の内ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）は公知の化合物であり、Zh.Org.Khim.,13,1911(1977)に記載されている。しかしそこに記載されている製造方法はペルフルオロシクロヘキサジエンのごとき特殊な試薬を用いて合成する方法であり、原料自体の入手や合成が困難であるなどの問題がある。一般的な含フッ素多環式化合物の製造方法としては、Zh.Org.Khim.,13,1911(1977)記載の方法があるが、ペルフルオロシクロヘキサジエンのごとき特殊な試薬を用いて合成する方法があり、原料自体の入手や合成が困難な方法である。また、Tetrahedron,30,3499(1974) 記載の、炭化水素の芳香族化合物の水素原子を、ＫＣｏＦ4 を用いてフッ素化してペルフルオロの飽和型化合物にした後、酸化鉄を用いて３００〜４００℃の高温化にて脱フッ素化を行ない含フッ素多環式化合物を得る方法が知られている。しかしこの方法も、高温反応装置を必要とし、かつ発生するフッ素ガスの捕集が困難であるという問題がある。
【００５３】
また、Polym.Prepr.,Am.Chem.Soc.,Div.Polym.Chem.,7,1077(1966)には、金属銅を用い、２種の臭素化合物からUllmann 型のクロスカップリングによりペルフルオロ−ｍ−ターフェニルを製造する方法が記載されている。しかしこの方法により、ペルフルオロ（トリフェニルベンゼン）を製造すると、本質的に少なからぬホモカップリング体が副生し、目的物とさほど極性および構造等の違わないそれら副生物を目的物から分離することが極めて困難であるという問題がある。
【００５４】
具体的には、カッパーブロンズ存在下に１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロベンゼンとペンタフルオロブロモベンゼンをジメチルホルムアミド中でクロスカップリングすることにより目的物を製造することができた。しかし、生成物は目的物のペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）の他に、ブロモペンタフルオロベンゼンがホモカップリングしたペルフルオロビフェニル、および１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロベンゼンがホモカップリングしたタール状の化合物が大量に生成した。これらの混合物から目的のペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）を単離するためには、再結晶、カラムクロマトグラフィー、昇華等を繰り返し行なわなければならず、結局収率は２０％以下にまで低下した。
【００５５】
本発明者は、トリハロ置換トリフルオロベンゼン（ただし、トリハロ置換とは、臭素原子およびヨウ素原子から選ばれた少なくとも１種のハロゲン原子３個が水素原子と置換されていることをいう）とペンタフルオロフェニル銅を極性溶媒中で反応させることにより、ホモカップリング体をほとんど副生することなく目的物のペルフルオロ（トリフェニルベンゼン）を高選択的にかつ高収率で製造し得ることを見出した。ここにおけるトリハロ置換トリフルオロベンゼンとしては、１，３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロベンゼン、１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロベンゼン、１，３，５−トリヨード−２，４，６−トリフルオロベンゼン、１，２，４−トリヨード−３，５，６−トリフルオロベンゼン、およびそれらの２種以上の混合物が好ましい。これらの化合物の中では目的物の収率の面で特にトリヨード化合物が好ましい。
【００５６】
トリハロ置換トリフルオロベンゼンに対するペンタフルオロフェニル銅の量は、３倍モル以上であればよく、３〜１０倍モルが適当で、特に３〜４倍モルが好ましい。反応温度が低すぎると反応時間を要し、高すぎると副反応が起き易くなることより、１０〜１６０℃が適当で、特に４０〜１００℃が好ましい。
【００５７】
極性溶媒としては、特に限定されるものではないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦという）、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン系極性溶媒が好ましい。極性溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、トリハロ置換トリフルオロベンゼンに対し３〜２０倍質量が適当である。
【００５８】
反応終了後、溶媒と無機物を除去することによりほぼ純粋な目的物が得られ、ペルフルオロビフェニルなどの副生物は通常１０質量％以下である。また、Ullmann 型のカップリングでは今まで避けられなかったタール状成分がほとんど副生しないため、目的物単離のためのハンドリングも容易である。こうして得られた粗結晶は、再結晶をすることで容易に純度を上げることができる。再結晶溶媒は特に制限されないが、トルエン、ヘキサン、ペルフルオロ系有機溶媒等が好ましい。
【００５９】
一方、ペンタフルオロフェニル銅は、ペンタフルオロブロモベンゼンを極性溶媒中で、エチルマグネシウムブロマイドなどのアルキルマグネシウムブロマイドや金属マグネシウム等とのグリニヤー交換反応により、ペンタフルオロフェニルマグネシウムブロマイドとした後、この反応系に臭化銅（ＣｕＢｒ）を添加し反応させて製造し得る。前段の反応において、極性溶媒としては前記の極性溶媒を使用し得る。ペンタフルオロフェニルマグネシウムブロマイドが生成した反応系に、ついで臭化銅を添加して反応させる。この反応は発熱の大きい反応であり、反応温度が上がりすぎると分解などの副反応を生じやすくなるため、副反応を抑制するために反応温度を低めに抑えることが好ましい。具体的には−２０〜＋４０℃が適当で、特に０〜＋１０℃で行なうのが好ましい。臭化銅を分割添加し、かつ反応温度を上記範囲に維持しながら反応を行うことが好ましい。臭化銅の量は出発ペンタフルオロブロモベンゼンに対して１〜１０倍モルが適当であり、特に２〜５倍モルが好ましい。
【００６０】
本発明の光伝送体、特に屈折率分布型ＰＯＦは、波長６００〜１６００ｎｍで、１００ｍの伝送損失が５ｄｂ以下（即ち５０ｄＢ／ｋｍ以下）とすることができる。波長６００〜１６００ｎｍという比較的長波長において、このような低レベルの伝送損失であることはきわめて有利である。すなわち、石英光ファイバと同じ波長を使えることから、石英光ファイバとの接続が容易であり、また波長６００〜１６００ｎｍよりも短波長を使わざるをえない従来のＰＯＦに比べ、安価な光源ですむ利点がある。
【００６１】
光伝送体の伝送特性において、上記伝送損失とともに重要な特性として伝送帯域がある。大量の情報を高速で伝送するために伝送帯域が広いことが望まれる。現在、長距離通信において用いられている石英系シングルモードファイバは伝送帯域が数１０ＧＨｚ・ｋｍの広い伝送帯域を有する。
【００６２】
一方、ＰＯＦはファイバ径が太く光源・受光素子との接続またはファイバ同士の接続が容易なことから安価な短距離通信システムの構築への期待が高まっている。通常のステップインデックス型ＰＯＦは伝送帯域は数ＭＨｚ・ｋｍ程度と狭い。これを解決するために、本発明のような伝送帯域のより広い屈折率分布型ＰＯＦにおいては、屈折率分布が熱的に安定でないと、結果として伝送帯域が低下する。本発明の屈折率分布型ＰＯＦは耐熱性が飛躍的に向上しているので、屈折率分布の熱的な安定性が高く、室温以上の高温に長期間曝された場合においても、伝送帯域の低下を防止できる。
【００６３】
本発明の光学樹脂組成物の用途は前記したような光伝送体用途に限られるものではない。例えば、本発明の光学樹脂組成物からなるフィルムやシートは透明性の高いフッ素樹脂製のフィルムやシートとして有用である。例えば厚さ１００μｍ〜数ｍｍのフィルムの可視光線（波長４００〜７００ｎｍ）透過率は９０％以上である。また本発明の含フッ素樹脂組成物は波長３００ｎｍ以下の紫外線を吸収するため、各種の紫外線遮蔽フィルムとして利用し得る。さらに、ＫｒＦやＡｒＦなどのエキシマレーザによるレーザアブレーションを利用したマイクロパターンの形成用材料としても利用できる。マイクロパターン形成用材料としての応用例としては、例えば半導体素子製造工程における半導体の保護膜や層間絶縁膜、インクジェットプリンタヘッドのインク吐出口を形成する撥水膜、などがある。
【００６４】
【実施例】
次に、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。以下の例において、例１〜３は含フッ素重合体（Ａ）の合成例、例４〜例８は含フッ素多環式化合物（Ｂ）の合成例、例９〜２０は実施例、例２１〜２５は比較例である。部は質量部を表す。
【００６５】
（例１）
７５０ｇのペルフルオロ（ブテニルビニルエーテル）［以下、ＰＢＶＥという］、４ｋｇのイオン交換水、２６０ｇのメタノールおよび３．７ｇのジイソプロピルペルオキシジカーボネートを、内容積５Ｌのガラスフラスコに入れた。系内を窒素で置換した後、４０℃で２２時間懸濁重合を行い、数平均分子量約５×１０4 の重合体を６９０ｇ得た。この重合体をフッ素／窒素混合ガス（フッ素ガス濃度２０容量％）雰囲気中で２５０℃、５時間加熱処理することにより光透過性および熱安定性の良好な重合体（以下、重合体Ａという）を得た。
【００６６】
重合体Ａの固有粘度［η］は、ペルフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）［以下、ＰＢＴＨＦという］中３０℃で０．３であった。重合体ＡのＴｇは１０８℃であり、室温では強靱で透明なガラス状重合体であった。また屈折率は１．３４２であった。
【００６７】
（例２）
ＰＢＶＥを１７３ｇ、ペルフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）［以下、ＰＤＤという］を２７ｇ、ＰＢＴＨＦを２００ｇ、重合開始剤としてジイソプロピルペルオキシジカーボネートを２ｇ、内容積１Ｌのステンレス製オートクレーブに入れた。系内を窒素で置換した後、４０℃で２０時間重合を行い、数平均分子量約１．５×１０5 の透明な重合体２０ｇを得た。この重合体をフッ素／窒素混合ガス（フッ素ガス濃度２０容量％）雰囲気中で２５０℃、５時間加熱処理することにより光透過性および熱安定性の良好な重合体（以下、重合体Ｂという）を得た。重合体ＢのＴｇは１５０℃、屈折率は１．３２５であった。
【００６８】
（例３）
ＰＤＤとテトラフルオロエチレンを質量比８０：２０で、ＰＢＴＨＦを溶媒として用いてラジカル重合し、Ｔｇが１６０℃で数平均分子量が約１．７×１０5 の重合体を得た。この重合体をフッ素／窒素混合ガス（フッ素ガス濃度２０容量％）雰囲気中で２５０℃、５時間加熱処理することにより光透過性および熱安定性の良好な重合体（以下、重合体Ｃという）を得た。重合体Ｃは無色透明であり、屈折率は１．３０５であった。
【００６９】
（例４）
［１，３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロベンゼンの合成例］
温度計、滴下ロート、ジムロート冷却器、メカニカル撹拌器のついた１Ｌガラスフラスコに、９６％硫酸４００ｇと１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン１９５ｇ（０．６８２ｍｏｌ）を入れて撹拌した。フラスコを氷浴で冷却した後、１，３，５−トリフルオロベンゼン５０ｇ（０．３７９ｍｏｌ）を滴下ロートから滴下した。発熱があるため内温３３〜３７℃を保つように１時間かけて滴下を行なった。滴下終了後、水浴で５０℃に加温しさらに３時間撹拌を続けた。
【００７０】
この反応液にジクロロペンタフルオロプロパン（商品名「ＡＫ２２５」：旭硝子（株）製。以下、Ｒ２２５という）を５００ｍｌ加えて撹拌すると均一赤色溶液になるので、その混合液を水１Ｌを入れた２Ｌビーカー中に撹拌しながら注ぎ込んだ。下層の有機相を水１Ｌで３回水洗した後、硫酸マグネシウムで一晩乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過で取り除いた後、エバポレーターで余分なＲ２２５を除去し、Ｒ２２５の１００ｍｌから再結晶を行ない淡黄色の結晶を得た。ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９８％の１，３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロベンゼン８５ｇ（収率６１％）であることを確認した。
【００７１】
（例５）
［１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロベンゼンの合成例］
温度計、単蒸留抜き出し器の付いた５００ｍｌのガラス反応容器に、２，４，５−トリフルオロ安息香酸１７６ｇ（１．０ｍｏｌ）とトリオクチルアミン２１２ｇ（０．６ｍｏｌ）と沸石を入れ、マントルヒーターにて加熱した。内温を２２０〜２４０℃に保つと徐々に冷却器から透明液体が留出してくるのでこれをフラスコに捕集した。１０時間反応を続けた後、捕集した９０ｇの液体を単蒸留し、沸点９０℃の留分を集めた。ＧＣ−ＭＳで分析した結果、この留分は純度９５．６％の１，２，４−トリフルオロベンゼンであることを確認した。収量は８５ｇ（収率６４．４％）であった。
【００７２】
つぎに、温度計、滴下ロート、ジムロート冷却器、メカニカル撹拌器のついた１Ｌガラスフラスコに、９６％硫酸４００ｇと１，３，−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン１９５ｇ（０．６８２ｍｏｌ）を入れて撹拌した。フラスコを氷浴で冷却した後、先に合成した１，２，４−トリフルオロベンゼン５０ｇ（０．３７９ｍｏｌ）を滴下ロートから滴下した。発熱があるため内温３３〜３７℃を保つように１時間かけて滴下を行なった。滴下終了後、水浴で５０℃に加温しさらに３時間撹拌を続けた。
【００７３】
この反応液にＲ２２５を５００ｍｌ加えて撹拌すると均一赤色溶液になるので、その混合液を水１Ｌを入れた２Ｌビーカー中に撹拌しながら注ぎ込んだ。下層の有機相を水１Ｌで３回水洗した後、硫酸マグネシウムで一晩乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過で取り除いた後、エバポレーターで余分なＲ２２５を除去し、Ｒ２２５の１００ｍｌから再結晶を行ない淡黄色の結晶を得た。ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９６％の１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロベンゼン７８ｇ（収率５６％）であることを確認した。
【００７４】
（例６）
［１，３，５−トリヨード−２，４，６−トリフルオロベンゼンの合成例］
温度計、ジムロート冷却器、メカニカル撹拌器、滴下ロートの付いた２Ｌガラスフラスコに、室温にて、ヨウ素５７７ｇ（２．２７ｍｏｌ）、６０％発煙硫酸１０００ｇを仕込み、ここに滴下ロートより１，３，５−トリフルオロベンゼン１００ｇ（０．７６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。全量を仕込んだ後、反応器内温を６０〜７０℃に保ち、１８時間そのまま撹拌を続けた。その後室温まで冷却し、反応液を氷水にゆっくり注ぎ込むと黒色の固体が析出した。過剰のヨウ素をチオ硫酸ナトリウム水溶液で処理した後、褐色固体をヘキサンから再結晶することにより３３８ｇの淡褐色針状結晶を得た。ＮＭＲ、ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９９．１％の１，３，５−トリヨード−２，４，６−トリフルオロベンゼンであることを確認した。融点は１５５℃であった。収率は１，３，５−トリフルオロベンゼン基準で８７％であった。
【００７５】
（例７）
［１，２，４−トリヨード−３，５，６−トリフルオロベンゼンの合成例］
温度計、ジムロート冷却器、メカニカル撹拌器、滴下ロートの付いた２Ｌガラスフラスコに、室温にて、ヨウ素５７７ｇ（２．２７ｍｏｌ）、６０％発煙硫酸１０００ｇを仕込み、ここに滴下ロートより例５のごとき方法で合成した１，２，４−トリフルオロベンゼン１００ｇ（０．７６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。
全量を仕込んだ後、反応器内温を６０〜７０℃に保ち、２０時間そのまま撹拌を続けた。
【００７６】
その後室温まで冷却し、反応液を氷水にゆっくり注ぎ込むと黒色の固体が析出した。過剰のヨウ素をチオ硫酸ナトリウム水溶液で処理した後、褐色固体をヘキサンから再結晶することにより２８５ｇの淡褐色針状結晶を得た。ＮＭＲ、ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９９．３％の１，２，４−トリヨード−３，５，６−トリフルオロベンゼンであることを確認した。収率は１，２，４−トリフルオロベンゼン基準で７３％であった。
【００７７】
（例８）
［ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の合成例］
温度計、ジムロート冷却器、メカニカル撹拌器の付いた２Ｌガラスフラスコに、室温にて、銅粉（アルドリッチ社製カッパーブロンズ）３１０ｇ（４．９ｍｏｌ）、ジメチルホルムアミド５００ｍｌ、ブロモペンタフルオロベンゼン４０２ｇ（１．６ｍｏｌ）、１，３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロベンゼン６０ｇ（０．１６ｍｏｌ）を入れた。撹拌しながら、マントルヒーターでゆっくり加熱し昇温した。１５３℃で還流を３時間続けた後、反応液を濾過して濾液を回収した。さらに濾さいをアセトン５００ｍｌで洗い、濾液と混合した。混合液を水４Ｌに撹拌しながら投入すると固体が析出するのでこれを濾取し真空下室温で乾燥した。
【００７８】
その後、この固体を昇華装置で６０℃／４００Ｐａで昇華すると、純度９９．８％のペルフルオロビフェニルが２２０ｇ分別昇華され、さらに温度を１４０℃に上げて昇華される白色の固体をＰＢＴＨＦから再結晶することにより１９．０ｇの白色結晶を得た。あとには大量のタール成分が残った。ＮＭＲ、ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９９．９％のペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）であることを確認した。融点は１５２℃であった。収率は１，３，５−トリブロモ−２，４，６−トリフルオロベンゼン基準で１８．５％と低かった。
【００７９】
（例９）
［ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の合成法］
ジムロートコンデンサ、熱電対温度計、滴下ロート、メカニカルスターラーの付いた２Ｌパイレックス製４つ口フラスコを窒素置換した。１００ｒｐｍで撹拌しながら室温にてペンタフルオロブロモベンゼン１４８．２ｇ（０．６０ｍｏｌ）とＴＨＦ５００ｍｌをロートから仕込んだ。その後、氷水でフラスコを冷却し撹拌速度を５００ｒｐｍに上昇させた。０．９６ｍｏｌ／ＬのエチルマグネシウムブロマイドＴＨＦ溶液６００ｍｌ（０．５７６ｍｏｌ）を滴下ロートに仕込み、フラスコ内温が５℃以下になったら、エチルマグネシウムブロマイドを５ｍｌ／分程度の速度で滴下すると内温は６〜７℃に保たれ、約２時間で滴下終了した。滴下終了後、そのまま１時間撹拌を続けると淡褐色均一透明溶液になった。
【００８０】
つぎに固体の臭化銅（ＣｕＢｒ）１７２．２ｇ（１．２０ｍｏｌ）をロートから添加するが、この際発熱が大きく温度が高いと、ホモカップリングが起こりペルフルオロビフェニルが副生しやすくなるため、フラスコを氷冷したまま４回に分けて添加した。添加終了後、１時間以上そのまま撹拌を続けると淡青緑色懸濁溶液となった。さらに滴下ロートからジオキサン２００ｍｌを加え、そのまま３０分間撹拌した。つぎに例６の様に合成した１，３，５−トリヨード−２，４，６−トリフルオロベンゼンの固体をロートから一括投入し、氷浴をオイルバスに切り替えた後、撹拌しながら１６時間還流を続けた。
【００８１】
１６時間後に反応液から溶媒を留去濃縮し、残留物を水中に入れ、急冷した。濾過して集めた固体を２０００ｇのＲ２２５で抽出した後、エバポレーターで乾固すると、９２ｇの黄色結晶（ＧＣ純度９５％、収率９２％）が得られた。さらにこの結晶をヘキサンから再結晶すると白色針状結晶が得られた。ＮＭＲ、ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９９．９９％のペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）であることを確認した。融点は１５２℃であった。収率は１，３，５−トリヨード−２，４，６−トリフルオロベンゼン基準で８５％であった。
【００８２】
（例１０）
［ペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）の合成法Ａ］
温度計、ジムロート冷却器、メカニカル撹拌器の付いた２Ｌガラスフラスコに、室温にて、銅粉（アルドリッチ製カッパーブロンズ）３１０ｇ（４．９ｍｏｌ）、ジメチルホルムアミド５００ｍｌ、ブロモペンタフルオロベンゼン４０２ｇ（１．６ｍｏｌ）、１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロベンゼン６０ｇ（０．１６ｍｏｌ）を入れた。撹拌しながら、マントルヒーターでゆっくり加熱昇温した。１５３℃で還流を３時間続けた後、反応液を濾過して濾液を回収した。さらに濾さいをアセトン５００ｍｌで洗い、濾液と混合した。混合液を水４Ｌに撹拌しながら投入すると固体が析出するので、これを濾取し真空下室温で乾燥した。
【００８３】
その後、この固体を昇華装置で６０℃／４００Ｐａで昇華すると、純度９９．８％のペルフルオロビフェニルが２１０ｇ分別昇華され、さらに温度を１４５℃に上げて昇華する白色固体をＰＢＴＨＦから再結晶することにより１９．８ｇの白色結晶を得た。ＮＭＲ、ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９９．９％のペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）であることを確認した。融点は１５５℃であった。収率は１，２，４−トリブロモ−３，５，６−トリフルオロベンゼン基準で１９．４％であった。
【００８４】
ＮＭＲデータ：
19ＦＮＭＲ(376.23MHz, 溶媒(CD3)2CO, 基準CFCl3)：δ(ppm):-113.0(m,1F),-129.4(m,1F),-138.9(m,1F),-140.1(m,2F),-141.8(m,2F),-142.1(m,2F),-152.6(m,1F),-152.8(m,1F),-153.2(m,1F),-162.9(m,2F),-163.2(m,2F),-163.7(m,2F) 。
【００８５】
（例１１）
［ペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）の合成法Ｂ］
ジムロートコンデンサ、熱電対温度計、滴下ロート、メカニカルスターラの付いた２Ｌパイレックス製４つ口フラスコを窒素置換した。１００ｒｐｍで撹拌しながら室温にてペンタフルオロブロモベンゼン１４８．２ｇ（０．６０ｍｏｌ）とＴＨＦ５００ｍｌをロートから仕込んだ。その後、氷水でフラスコを冷却し撹拌速度を５００ｒｐｍに上昇させた。０．９６ｍｏｌ／ＬのエチルマグネシウムブロマイドＴＨＦ溶液６００ｍｌ（０．５７６ｍｏｌ）を滴下ロートに仕込み、約２時間かけて滴下した。滴下終了後そのまま１時間撹拌を続けた。
【００８６】
つぎに固体の臭化銅（ＣｕＢｒ）１７２．２ｇ（１．２０ｍｏｌ）をロートから４回に分けて添加した。添加終了後、１時間以上そのまま撹拌を続けると淡青緑色懸濁溶液となった。さらに滴下ロートからジオキサン２００ｍｌを加え、そのまま３０分間撹拌した。例７の様に合成した１，２，４−トリヨード−３，５，６−トリフルオロベンゼンの固体をロートから一括投入し、氷浴をオイルバスに切り替えた後、撹拌しながら１８時間還流を続けた。
【００８７】
１８時間後に反応液から溶媒を留去濃縮し、残留物を水中に入れ、急冷した。濾過して集めた固体を２０００ｇのＲ２２５で抽出した後、エバポレーターで乾固すると、８７ｇの黄色結晶（ＧＣ純度９６％、収率８８％）が得られた。さらにこの結晶をヘキサンから再結晶をすることで白色針状結晶が得られた。ＮＭＲ、ガスクロマトグラフ、マススペクトルの結果、純度９９．９９％のペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）であることを確認した。融点は１５５℃であった。収率は１，２，４−トリヨード−３，５，６−トリフルオロベンゼン基準で８２％であった。
【００８８】
（例１２）
重合体Ａの９部に対して、ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の１部をＰＢＴＨＦに溶解して固形分濃度１２質量％の溶液からなる含フッ素樹脂組成物を調製した。これをガラス板上に流延し、乾燥することにより厚さ１０μｍのフィルムを得た。このフィルムの光線透過率を測定すると３５０〜７００ｎｍの可視光線に対しては９０％以上の透過率であったことから、この含フッ素樹脂組成物は相分離に由来する光散乱が生じない、均一な組成物であることがわかった。
【００８９】
このフィルム中のペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の含有量は７．４質量％で、このフィルムの屈折率は１．３５７であった。またこのフィルムのＴｇは９０℃であった。また、このフィルムは紫外線の波長範囲において吸収を示し、極大点が２２０ｎｍおよび２６５ｎｍにあることから紫外線吸収性が良好なことがわかった。
【００９０】
（例１３）
重合体Ａの９部に対して、ペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）の１部をＰＢＴＨＦに溶解して固形分濃度１２質量％の溶液からなる含フッ素樹脂組成物を調製した。これをガラス板上に流延し、乾燥することにより厚さ１０μｍのフィルムを得た。このフィルムの光線透過率を測定すると３５０〜７００ｎｍの可視光線に対しては９０％以上の透過率であったことから、この含フッ素樹脂組成物は相分離に由来する光散乱が生じない、均一な組成物であることがわかった。
【００９１】
このフィルム中のペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）の含有量は７．２質量％で、このフィルムの屈折率は１．３５６であった。またこのフィルムのＴｇは９１℃であった。また、このフィルムは紫外線の波長範囲においては吸収を示し、極大点が２２０ｎｍおよび２６５ｎｍにあることから紫外線吸収性が良好なことがわかった。
【００９２】
（例１４）
重合体Ｂの９部に対して、ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の１部をＰＢＴＨＦに溶解して固形分濃度１２質量％の溶液からなる含フッ素樹脂組成物を調製した。これをガラス板上に流延し、乾燥することにより厚さ１０μｍのフィルムを得た。このフィルムの光線透過率を測定すると３５０〜７００ｎｍの可視光線に対しては９０％以上の透過率であることから、この含フッ素樹脂組成物は相分離に由来する光散乱が生じない、均一な組成物であることがわかった。
【００９３】
このフィルム中のペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の含有量は７．０質量％で、このフィルムの屈折率は１．３２１であった。またこのフィルムのＴｇは１３５℃であった。また、２１０〜３２０ｎｍの波長範囲において吸収を示すことから紫外線吸収性が良好なことがわかった。
【００９４】
（例１５）
例７で調製した溶液を用いてシリコンウェハー上にスピンコート法により厚さ３μｍの薄膜を形成した。つぎにマスクを介して２４８ｎｍのエキシマレーザにより露光を行ったところ、０．８Ｊ／ｃｍ2 の露光量でパターニングを行うことができた。
【００９５】
（例１６）
重合体Ａおよびペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の混合物［後者を混合物中７．４質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ａという）を得た。成形体ａの屈折率は１．３５７、Ｔｇは９０℃であった。
【００９６】
つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、この円筒管中空部に成形体ａを挿入し２００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸することにより屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下する光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、図１に示すごとく、６５０ｎｍで６３ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで２３ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで２０ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【００９７】
この光ファイバを７０℃のオーブン中に１００００時間保存した後、取り出してから屈折率分布をインターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところ変化は見られなかった。さらに、以下のようなパルス法により伝送帯域を測定することにより伝送特性を評価した。
【００９８】
すなわち、パルスジェネレータを用いてパルスレーザ光を発振させ、これを光ファイバに入射し、出射光をサンプリングオシロスコープで検出した。この検出信号をフーリエ変換して周波数特性を解析することにより伝送帯域を測定した。光ファイバを７０℃、１００００時間保存した後に伝送帯域を測定したところ、保存前後ともに２６０ＭＨｚ・ｋｍで、帯域の低下が起こらないことから耐熱性が良好であることが確認された。
【００９９】
（例１７）
重合体Ａおよびペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）の混合物［後者を混合物中７．４質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｂという）を得た。成形体ｂの屈折率は１．３５７、Ｔｇは９０℃であった。
【０１００】
つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、例１６と同様な方法で屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、６５０ｎｍで８０ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで３０ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで２５ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【０１０１】
この光ファイバを７０℃のオーブン中に１００００時間保存した後、取り出してから屈折率分布をインターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところ変化は見られなかった。さらに、例１６と同様なパルス法により伝送帯域を測定することにより伝送特性を評価し、保存前後ともに２６０ＭＨｚ・ｋｍで、帯域の低下が起こらないことから耐熱性が良好であることを確認した。
【０１０２】
（例１８）
重合体Ａを９３部とペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）３．５部およびペルフルオロ（１，２，４−トリフェニルベンゼン）３．５部の混合物をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｃという）を得た。成形体ｃの屈折率は１．３５６、Ｔｇは９１℃であった。
【０１０３】
つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、例１６と同様な方法で屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、６５０ｎｍで７５ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで２８ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで２１ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【０１０４】
この光ファイバを７０℃のオーブン中に１００００時間保存した後、取り出してから屈折率分布をインターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところ変化は見られなかった。さらに、例１６と同様なパルス法により伝送帯域を測定することにより伝送特性を評価し、保存前後ともに２６０ＭＨｚ・ｋｍで、帯域の低下が起こらないことから耐熱性が良好であることが確認された。
【０１０５】
（例１９）
重合体Ｂおよびペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の混合物［後者を混合物中７．４質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｄという）を得た。成形体ｄの屈折率は１．３４０、Ｔｇは１２８℃であった。
【０１０６】
つぎに、重合体Ｂのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、この中空部に成形体ｄを挿入し２３０℃に加熱して合体させることによりプリフォームを得た。このプリフォームを２７０℃で溶融紡糸することにより屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下する光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、６５０ｎｍで９０ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで４５ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで３５ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【０１０７】
この光ファイバを８５℃のオーブン中に１０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布をインターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところ特に変化は見られなかった。また、例４と同様なパルス法により伝送帯域を測定し、保存前後の特性を比較したところいずれも２８０ｄＢ・ｋｍで帯域の低下が起こらないことから耐熱性が良好であることが確認された。
【０１０８】
（例２０）
重合体Ｃおよびペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）の混合物［後者を混合物中７．０質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｅという）を得た。成形体ｅの屈折率は１．３２１、Ｔｇは１３５℃であった。
【０１０９】
つぎに、重合体Ｃのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、この中空部に成形体ｅを挿入し２３０℃に加熱して合体させることによりプリフォームを得た。このプリフォームを２７０℃で溶融紡糸することにより屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下する光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、６５０ｎｍで９５ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで４２ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで３８ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【０１１０】
この光ファイバを８５℃のオーブン中に１０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布をインターファコ干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところ特に変化は見られなかった。また、例４と同様なパルス法により伝送帯域を測定し、保存前後の特性を比較したところいずれも２６０ｄＢ・ｋｍで帯域の低下が起こらないことから耐熱性が良好であることが確認された。
【０１１１】
（例２１）
重合体Ａおよびクロロトリフルオロエチレンのオリゴマー（平均分子量８５０、屈折率１．４１）の混合物［後者を混合物中１５質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｆという）を得た。成形体ｆの屈折率は１．３５７、Ｔｇは７５℃であった。
【０１１２】
つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、この中空部に成形体ｆを挿入し２００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸することにより屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、７８０ｎｍで１１０ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで１００ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで８０ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【０１１３】
この光ファイバを７０℃のオーブン中に１０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。また、これに伴い伝送帯域の低下が見られ、保存前に２６０ＭＨｚ・ｋｍであったものが保存後には１６０ＭＨｚ・ｋｍに低下していた。
【０１１４】
（例２２）
重合体Ａおよびアルドリッチ社製デカフルオロビフェニル（屈折率１．４５）の混合物［後者を混合物中７質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｇという）を得た。成形体ｇの屈折率は１．３５７、Ｔｇは７３℃であった。
【０１１５】
つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、この中空部に成形体ｇを挿入し２００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸することにより屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、７８０ｎｍで１５０ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで１２０ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで１００ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【０１１６】
この光ファイバを７０℃のオーブン中に１０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。これに伴い、伝送帯域の低下が見られ、保存前に２００ＭＨｚ・ｋｍであったものが保存後には１１０ＭＨｚ・ｋｍに低下していた。
【０１１７】
（例２３）
重合体Ａおよびアルドリッチ社製ペルフルオロジフェニルスルフィドの混合物［後者を混合物中６質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｈという）を得た。成形体ｈの屈折率は１．３５７、Ｔｇは７７℃であった。
【０１１８】
つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、この中空部に成形体ｈを挿入し２００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸することにより屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、７８０ｎｍで１９０ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで１５０ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで１２０ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【０１１９】
この光ファイバを７０℃のオーブン中に１０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。これに伴い、伝送帯域の低下が見られ、保存前に２６０ＭＨｚ・ｋｍであったものが保存後には１８０ＭＨｚ・ｋｍに低下していた。
【０１２０】
（例２４）
重合体Ａおよびアルドリッチ社製ペルフルオロナフタレン( 屈折率１．４８) の混合物［後者を混合物中６質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｉという）を得た。成形体ｉの屈折率は１．３５７、Ｔｇは７６℃であった。
【０１２１】
つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、この中空部に成形体ｉを挿入し２００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸することにより屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、７８０ｎｍで１８０ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで１５０ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで１１０ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【０１２２】
この光ファイバを７０℃のオーブン中に１０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。これに伴い、伝送帯域の低下が見られ、保存前に２２０ＭＨｚ・ｋｍであったものが保存後には１１０ＭＨｚ・ｋｍに低下していた。
【０１２３】
（例２５）
重合体ＡおよびＰＣＲ社製１，３，５−トリクロロ−２，４，６−トリフルオロベンゼンの混合物［後者を混合物中６質量％含む］をガラス封管中に仕込み、２５０℃で溶融成形し円柱状の成形体（以下、成形体ｊという）を得た。成形体ｊの屈折率は１．３５５、Ｔｇは７９℃であった。
【０１２４】
つぎに、重合体Ａのみからなる円筒管を溶融成形により作成し、この中空部に成形体ｊを挿入し２００℃に加熱して合体させることによりプリフォームを得た。このプリフォームを２３０℃で溶融紡糸することにより屈折率が中心部から周辺部に向かって徐々に低下する屈折率分布型光ファイバを得た。得られた光ファイバの光伝送特性は、７８０ｎｍで２１０ｄＢ／ｋｍ、８５０ｎｍで１７０ｄＢ／ｋｍ、１３００ｎｍで１３０ｄＢ／ｋｍであり、可視光から近赤外光までの光を良好に伝達できる光ファイバであることを確かめた。
【０１２５】
この光ファイバを７０℃のオーブン中に１０００時間保存した後、取り出してから屈折率分布を干渉顕微鏡により測定し、保存前の屈折率分布と比較したところコアの中心付近で屈折率の低下が見られた。これに伴い、伝送帯域の低下が見られ、保存前に２５０ＭＨｚ・ｋｍであったものが保存後には１７０ＭＨｚ・ｋｍに低下していた。
【０１２６】
【発明の効果】
本発明における含フッ素多環式化合物（Ｂ）は実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体（Ａ）への高い相溶性を有し、含フッ素重合体（Ａ）中に白濁することなく均一に溶解する。したがって、本発明光学樹脂組成物においては、ミクロな相分離や含フッ素多環式化合物（Ｂ）の微結晶などにより生じる光散乱が少ない。また、含フッ素多環式化合物（Ｂ）は屈折率が高いので、少量の配合であっても目的の屈折率差を形成でき、含フッ素多環式化合物（Ｂ）の添加によるＴｇの低下が少ない利点がある。この利点および含フッ素多環式化合物（Ｂ）のＴｇが高いことにより、本発明の屈折率分布型光伝送体は耐熱性が飛躍的に向上し、屈折率分布の熱的な安定性が高く、室温以上の高温に長期間さらされた場合においても、伝送帯域の低下を防止できる。さらに、屈折率が高い含フッ素多環式化合物（Ｂ）は開口数ＮＡを大きくできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  例１６のファイバーの伝送損失（波長５００〜１６００ｎｍ）を示す図。
【図１】
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