(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
メチレン鎖の水素原子の一部が水酸基で置換され、メチレン基１モルに対して、水酸基を０．２〜０．７モル含有するポリオレフィン樹脂（Ａ）と、末端不飽和基を有する架橋剤（Ｂ）と、高級脂肪酸で表面処理された金属水酸化物（Ｃ）とを含み、かつ、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００質量部に対し、前記金属水酸化物（Ｃ）を５〜６０質量部含有する樹脂組成物を、成形後に放射線架橋を施したことを特徴とする消弧用樹脂加工品。
【請求項２】
前記金属水酸化物（Ｃ）が、水酸化マグネシウムである、請求項１に記載の消弧用樹脂加工品。
【請求項３】
前記金属水酸化物（Ｃ）の表面処理に用いる高級脂肪酸が、炭素数１２〜２０の脂肪酸である、請求項１又は２に記載の消弧用樹脂加工品。
【請求項４】
前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）の分解潜熱が３０ｃａｌ／g以上である、請求項１〜３のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品。
【請求項５】
前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）が、エチレン−ビニルアルコール共重合体である、請求項１〜４のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品。
【請求項６】
前記架橋剤（Ｂ）が、下記式（Ｉ）及び／又は下式（ＩＩ）に示される有機リン化合物を含み、前記樹脂組成物中に前記有機リン化合物を０．５〜２０質量％含有する、請求項１〜５のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品。
【化１】
0004655094.tif 000014
（式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２−、又はヘテロ原子を含んでもよい一官能性の芳香族炭化水素系基を表し、Ｒ５はヘテロ原子を含んでもよい二官能性の芳香族炭化水素系基を表す。Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ−Ｏ−、−ＮＨ−、−（ＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２）Ｎ−より選択される基を表し、Ｘ１〜Ｘ４の少なくとも１つは−ＮＨ−、又は−（ＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２）Ｎ−を含む。Ｒ１〜Ｒ４及びＸ１〜Ｘ４の少なくとも２つはＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２−を含む。Ｙ１は水素又はメチル基を表し、Ｙ２は炭素数１〜５のアルキレン基、又は−ＣＯＯ−Ｙ３−を表す。ここで、Ｙ３は炭素数１〜５のアルキレン基を表す。）
【化２】
0004655094.tif 000015
（式（ＩＩ）中、１分子中に少なくとも１つのＰ−Ｃ結合を含み、Ａｒ１とＡｒ２は、それぞれ炭素数２０以下の易動性水素を含まない二官能性の芳香族炭化水素系基を表し、ｎは０〜２の整数である。Ｒ６〜Ｒ１０はそれぞれ、−ＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｎ(ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２)２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ＝ＣＨ２、−(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＮＨ(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｎ(ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２)−(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｒ−ＯＯＣ−Ｃ(Ｒ’)＝ＣＨ２、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｃ(Ｒ’)＝ＣＨ２、炭素数１２以下のアリール基より選択される基を表す。ここで、Ｒは炭素数２〜５のアルキレン基、Ｒ’は水素またはメチル基を表す。Ｒ６〜Ｒ１０の少なくとも２つは−ＣＨ＝ＣＨ２基又は−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２基を含む。）
【請求項７】
前記架橋剤（Ｂ）が、末端に少なくとも２つの不飽和基を有する環状の含窒素化合物からなる難燃剤を含み、前記樹脂組成物中に前記含窒素化合物を、０．５〜７質量％含有する、請求項１〜６のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品。
【請求項８】
前記樹脂組成物が、強化繊維、チタン酸バリウムウィスカー、シリカゲル微粒子、ベーマイト、タルク、炭酸マグネシウムから選ばれた１種以上の無機フィラー（Ｄ）を、１〜４０質量％含有する、請求項１〜７のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品。
【請求項９】
固定接点を有する固定接触子と、前記固定接触子と接触する可動接点を有し前記固定接触子に対して開閉動作をする可動接触子と、前記固定接触子と前記可動接触子とが開閉動作する際に発生するアークを消弧する消弧装置とを備えた回路遮断器において、
前記消弧装置が、請求項１〜８のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品からなることを特徴とする回路遮断器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回路遮断器などの電流遮断時に接点から発生するアークを消弧するために使用される、難燃性を備えた消弧用樹脂加工品及びこれを用いた回路遮断器に関する。
【背景技術】
【０００２】
回路遮断器などにおいて、過剰電流または定格電流の通電時に可動接触子の接点と固定接触子の接点を開離させると、接点間にアークが発生する。このアークを消弧するには、通常、アーク発生部の周囲に、消弧部材からなる消弧室を備えた消弧装置を配設している。そして、アークによって消弧部材を熱分解させて、この消弧部材から発生する熱分解ガスによってアークを消弧している。
【０００３】
これら消弧部材には、不飽和ポリエステル樹脂（特許文献１参照）、メラミン樹脂（特許文献２参照）などの熱硬化性樹脂や、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂（特許文献３参照）などの熱可塑性樹脂などがマトリックス樹脂として主に用いられている。
【０００４】
しかしながら、熱硬化性樹脂は成形時にバリが生じやすいことから、成形加工性が熱可塑性樹脂に比べて劣るという問題点があった。更には、アーク消弧時には、消弧部材から熱分解ガスが発生するため、消弧装置内の内圧が高まり、耐圧強度に劣る熱硬化性樹脂では、消弧装置の小型化が困難であった。
【０００５】
また、熱可塑性樹脂は、成形時にバリなどは生じにくいものの、強度、耐圧性、耐熱性が劣り、消弧部材が経時で変形ないし劣化する傾向にあった。一方、芳香族ポリアミド樹脂などのように芳香族環の含有量の多い熱可塑性樹脂は、比較的、強度、耐圧性、耐熱性に優れるものの、燃焼時に遊離炭素を放出しやすい。このため消弧装置を炭素で腐食される虞れがあり、消弧装置の絶縁性が損なわれるといった問題があった。
【０００６】
また、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂による消弧性を向上させるため、水酸化マグネシウムや水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物を添加するといった試みがなされている（特許文献１〜４参照）。
【０００７】
一方、下記特許文献５には、ポリエステルやポリアミドなどの熱可塑性樹脂に電子線処理を施して得られる樹脂加工品を用いた回路遮断器が開示されている。
【特許文献１】特許第３０９８０４２号明細書
【特許文献２】特開平２−２５６１１０号公報
【特許文献３】特開平７−３０２５３５号公報
【特許文献４】特開平８−１７１８４７号公報
【特許文献５】国際公開２００３−０４４８１８号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
金属水酸化物は、熱分解時の脱水反応によって、消弧作用の高い熱分解ガスが発生する。このため、上記特許文献１〜４に開示されているように、樹脂に金属水酸化物を添加することで、得られる樹脂加工品の消弧性が向上する。しかしながら、金属水酸化物は樹脂との相溶性や分散性が悪く、分散不良が生じ易いので、樹脂組成物の成形加工性が劣り易かった。また、得られる樹脂加工品の消弧性、強度、耐熱性、耐圧性などの物性にばらつきが生じ易かった。
【０００９】
また、上記特許文献５に開示されているように、熱可塑性樹脂に架橋処理を施すことで、強度、耐熱性や耐圧性などに関しては向上が認められるものの、消弧性に関しては向上が認められなかった。また、アーク消弧時に発生する熱分解ガスによる消弧装置内の内圧上昇もほとんど抑制できず、アーク消弧時の内圧上昇によって消弧装置が破損しやすかった。
【００１０】
したがって、本発明の目的は、回路遮断時に発生するアークを効率よく消弧できる熱分解ガスを発生でき、その際に起こる温度上昇に耐える耐熱性及び内圧上昇に耐えうる耐圧性を備え、更には成形加工性に優れる消弧用樹脂加工品及びそれを用いた回路遮断器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明の消弧用樹脂加工品は、メチレン鎖の水素原子の一部が水酸基で置換され、メチレン基１モルに対して、水酸基を０．２〜０．７モル含有するポリオレフィン樹脂（Ａ）と、末端不飽和基を有する架橋剤（Ｂ）と、高級脂肪酸で表面処理された金属水酸化物（Ｃ）とを含み、かつ、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００質量部に対し、前記金属水酸化物（Ｃ）を５〜６０質量部含有する樹脂組成物を、成形後に放射線架橋を施したことを特徴とする。
【００１２】
本発明の消弧用樹脂加工品は、放射線によって、架橋剤（Ｂ）の末端不飽和結合と、ポリオレフィン樹脂（Ａ）とが反応して三次元網目状に架橋しているので、強度、耐熱性、耐圧性に優れる。また、上記ポリオレフィン樹脂（Ａ）は、水酸基の含有率が高く、熱分解によって側鎖に有するＯＨ基が解離し易いので、水素ガス、Ｈ２Ｏ、Ｏ２及びＯの含有量の高い熱分解ガスを発生して、アークを速やかに消弧できる。そして、この熱分解ガスは、タール分などのアークの消弧に対する寄与が乏しい成分の含有量が少ないので消弧装置内の内圧を抑制できる。更には、アーク消弧時において、消弧装置に炭素が付着されにくいので、消弧装置の絶縁性が損なわれにくい。また、上記金属水酸化物（Ｃ）は、高級脂肪酸で表面処理したことで、樹脂との相溶性や分散性が向上し、溶融混練によって容易に樹脂組成物中に均一に分散できるので、成形加工性に優れている。
【００１３】
本発明の消弧用樹脂加工品は、前記金属水酸化物（Ｃ）が、水酸化マグネシウムであることが好ましい。水酸化マグネシウムは熱分解時に、水素ガス、Ｈ２Ｏ、Ｏ２及びＯの含有量の高い熱分解ガスを発生するので、アークをより速やかに消弧できる。
【００１４】
また、本発明の消弧用樹脂加工品は、前記金属水酸化物（Ｃ）の表面処理に用いる高級脂肪酸が、炭素数１２〜２０の脂肪酸であることが好ましい。
【００１５】
また、本発明の消弧用樹脂加工品は、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）の分解潜熱が３０ｃａｌ／g以上であることが好ましい。
【００１６】
また、本発明の消弧用樹脂加工品は、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）が、エチレン−ビニルアルコール共重合体であることが好ましい。
【００１７】
また、本発明の消弧用樹脂加工品は、前記架橋剤（Ｂ）が、下記式（Ｉ）及び／又は下式（ＩＩ）に示される有機リン化合物を含み、前記樹脂組成物中に前記有機リン化合物を０．５〜２０質量％含有することが好ましい。
【００１８】
【化１】
0004655094.tif 000002
【００１９】
（式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２−、又はヘテロ原子を含んでもよい一官能性の芳香族炭化水素系基を表し、Ｒ５はヘテロ原子を含んでもよい二官能性の芳香族炭化水素系基を表す。Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ−Ｏ−、−ＮＨ−、−（ＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２）Ｎ−より選択される基を表し、Ｘ１〜Ｘ４の少なくとも１つは−ＮＨ−、又は−（ＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２）Ｎ−を含む。Ｒ１〜Ｒ４及びＸ１〜Ｘ４の少なくとも２つはＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２−を含む。Ｙ１は水素又はメチル基を表し、Ｙ２は炭素数１〜５のアルキレン基、又は−ＣＯＯ−Ｙ３−を表す。ここで、Ｙ３は炭素数１〜５のアルキレン基を表す。）
【００２０】
【化２】
0004655094.tif 000003
【００２１】
（式（ＩＩ）中、１分子中に少なくとも１つのＰ−Ｃ結合を含み、Ａｒ１とＡｒ２は、それぞれ炭素数２０以下の易動性水素を含まない二官能性の芳香族炭化水素系基を表し、ｎは０〜２の整数である。Ｒ６〜Ｒ１０はそれぞれ、−ＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｎ(ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２)２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ＝ＣＨ２、−(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＮＨ(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｎ(ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２)−(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｒ−ＯＯＣ−Ｃ(Ｒ’)＝ＣＨ２、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｃ(Ｒ’)＝ＣＨ２、炭素数１２以下のアリール基より選択される基を表す。ここで、Ｒは炭素数２〜５のアルキレン基、Ｒ’は水素またはメチル基を表す。Ｒ６〜Ｒ１０の少なくとも２つは−ＣＨ＝ＣＨ２基又は−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２基を含む。）
【００２２】
上記有機リン化合物は、１分子内に１個以上リン原子を含んでいるので、燃焼時に難燃効果の高いＰラジカルを発生しやすく、さらに、解離しやすいＰ−Ｃ結合を含んでいるものでは、難燃効果の高いＰラジカルをより発生しやすい。したがって、上記有機リン化合物を用いることで、樹脂加工品の難燃性を向上でき、更には、樹脂との架橋反応によって、樹脂中に取り込まれることから、難燃剤成分のブリードアウトが生じにくく、長期にわたって優れた難燃性を発揮できる。また、上記有機リン化合物は、分子量が高く、エネルギー的にも安定しているため、樹脂への混練・成形時に、気化しにくく、更には、熱や剪断によって分解され難いので、成形加工性を損なうこともない。
【００２３】
また、本発明の消弧用樹脂加工品は、前記架橋剤（Ｂ）が、末端に少なくとも２つの不飽和基を有する環状の含窒素化合物からなる難燃剤を含み、前記樹脂組成物中に前記含窒素化合物を、０．５〜７質量％含有することが好ましい。上記含窒素化合物を含むことで、樹脂加工品の難燃性が向上する。また、樹脂との架橋反応によって、樹脂中に取り込まれることから、難燃剤成分のブリードアウトが生じにくく、長期にわたって優れた難燃性を発揮できる。そして、窒素を含有するので、特に樹脂としてポリアミド系樹脂を用いた場合には、樹脂との相溶性がより向上する。
【００２４】
また、本発明の消弧用樹脂加工品は、前記樹脂組成物が、ガラスファイバー、チタン酸バリウムウィスカー、シリカゲル微粒子、ベーマイト、タルク、炭酸マグネシウムから選ばれた１種以上の無機フィラー（Ｄ）を、１〜４０質量％含有することが好ましい。この態様によれば、樹脂加工品の強度及び耐圧性を向上できる。
【００２５】
一方、本発明の回路遮断器は、固定接点を有する固定接触子と、前記固定接触子と接触する可動接点を有し前記固定接触子に対して開閉動作をする可動接触子と、前記固定接触子と前記可動接触子とが開閉動作する際に発生するアークを消弧する消弧装置とを備えた回路遮断器において、前記消弧装置が、上記消弧用樹脂加工品からなることを特徴とする。
【００２６】
本発明の回路遮断器によれば、電流遮断時に接点から発生するアークを効率よく消弧でき、かつ、消弧装置内の内圧上昇を抑えることができる。このため、小型化で、過負荷遮断や短絡遮断など遮断性能の優れた回路遮断器とすることができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の消弧用樹脂加工品は、強度、耐圧性、耐熱性、成形加工性に優れるものであると共に、消弧作用の高い熱分解ガスを発生するので、電流遮断時に接点から発生するアークを効率よく消弧でき、消弧装置内の内圧上昇を抑えることができる。このため、この消弧用樹脂加工品を用いた本発明の回路遮断器は、小型化でき、かつ、過負荷遮断や短絡遮断など遮断性能の優れたものとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
［樹脂組成物］
まず、本発明の消弧用樹脂加工品に用いられる樹脂組成物について説明する。この樹脂組成物は、メチレン鎖の水素原子の一部が水酸基で置換され、メチレン基１モルに対して、水酸基を０．２〜０．７モル含有するポリオレフィン樹脂（Ａ）と、末端不飽和基を有する架橋剤（Ｂ）と、高級脂肪酸で表面処理された金属水酸化物（Ｃ）とを含む。
【００２９】
（ポリオレフィン樹脂（Ａ））
本発明の消弧用樹脂加工品に用いられる上記樹脂組成物は、メチレン基１モルに対して、水酸基を０．２〜０．７モル含有するポリオレフィン樹脂（Ａ）を含有する。このポリオレフィン樹脂（Ａ）は、メチレン基１モルに対して、水酸基を０．２〜０．６５モル含有するものが好ましい。水酸基が上記割合で０．２未満であると、熱分解時に消弧性に優れた熱分解ガスが発生しにくく、アークを速やかに消弧できないばかりか、アーク消弧時に消弧装置内の内圧が大きくなる傾向にある。また、水酸基が上記割合で０．７を超えると、耐熱性が低下し、更には、熱分解温度が低下して溶融混練による成形加工が困難となる傾向にある。
【００３０】
また、上記ポリオレフィン樹脂（Ａ）は、分解潜熱が３０ｃａｌ／g以上であることが好ましく、４０ｃａｌ／g以上がより好ましい。ここで、ポリオレフィン樹脂（Ａ）の分解潜熱を向上させるには、水酸基の含有量を増加させればよく、例えば、メチレン鎖の水素原子の一部が水酸基で置換された、メチレン基１モルに対して、水酸基を０．２〜０．７モル含有するポリオレフィン樹脂は、分解潜熱が３０〜５０ｃａｌ／gである。なお、樹脂の分解潜熱は、不活性雰囲気下にて、測定対象物の樹脂を加熱分解することで測定することができる。
【００３１】
また、上記ポリオレフィン樹脂（Ａ）は、水酸基の含有量が４０〜８０モル％であることが好ましく、６８〜７６モル％がより好ましい。
【００３２】
このようなポリオレフィン樹脂としては、消弧性が優れるという理由から、エチレン−ビニルアルコール共重合体が好ましい。エチレン−ビニルアルコール共重合体に比べ、ポリエチレンは消弧性が乏しく、また、ポリビニルアルコールでは成形加工方法が限定されてしまう。
【００３３】
（架橋剤（Ｂ））
本発明の消弧用樹脂加工品に用いられる上記樹脂組成物は、架橋剤（Ｂ）を含有する。この架橋剤（Ｂ）は、末端に不飽和基を有し、放射線照射によって樹脂と架橋反応する化合物であれば特に限定はない。例えば、芳香族環を有せず、かつ水素ガスを発生し易い、メラミン系のトリメタリルアクリレート及びトリアリルアクリレート、イソシアネートトリ（メチル）アクリレートなどの、２官能以上の反応性官能基を有する化合物（トリアリルイソシアヌレート、トリメタリルイソシアヌレート及びそれらをラジカルオリゴメリゼーションして得られたオリゴマー、トリメリット酸トリアリル、トリメリット酸トリメタリルエステル、ピロメリット酸テトラアリル、ピロメリット酸テトラメタリルエステル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサアリルメラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサメタリルメラミンなど）、下式（Ｉ）に示される有機リン化合物（以下、「反応性有機リン化合物（ｂ１）」と記す）、下式（ＩＩ）に示される有機リン化合物（以下、「反応性有機リン化合物（ｂ２）」と記す）、末端に少なくとも２つの不飽和基を有する環状の含窒素化合物からなる難燃剤（以下、「反応性環状含窒素化合物（ｂ３）」と記す）などが好ましく挙げられる。なかでも、反応性有機リン化合物（ｂ１）、反応性有機リン化合物（ｂ２）、反応性環状含窒素化合物（ｂ３）は、不飽和基が樹脂と結合して架橋すると共に、それ自身が難燃剤として機能して、得られる樹脂加工品に難燃性を付与することができることから、架橋剤（Ｂ）は、反応性有機リン化合物（ｂ１）、反応性有機リン化合物（ｂ２）及び反応性環状含窒素化合物（ｂ３）から選ばれた１種以上を含むことがより好ましく、反応性有機リン化合物（ｂ１）及び／又は反応性有機リン化合物（ｂ２）と、反応性環状含窒素化合物（ｂ３）とを併用することが特に好ましい。
【００３４】
【化３】
0004655094.tif 000004
【００３５】
（式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２−、又はヘテロ原子を含んでもよい一官能性の芳香族炭化水素系基を表し、Ｒ５はヘテロ原子を含んでもよい二官能性の芳香族炭化水素系基を表す。Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ−Ｏ−、−ＮＨ−、−（ＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２）Ｎ−より選択される基を表し、Ｘ１〜Ｘ４の少なくとも２つは−ＮＨ−、又は−（ＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２）Ｎ−を含む。Ｒ１〜Ｒ４及びＸ１〜Ｘ４の少なくとも１つはＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２−を含む。Ｙ１は水素又はメチル基を表し、Ｙ２は炭素数１〜５のアルキレン基、又は−ＣＯＯ−Ｙ３−を表す。ここで、Ｙ３は炭素数１〜５のアルキレン基を表す。）
【００３６】
【化４】
0004655094.tif 000005
【００３７】
（式（ＩＩ）中、１分子中に少なくとも１つのＰ−Ｃ結合を含み、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ炭素数２０以下の易動性水素を含まない二官能性の芳香族炭化水素系基を表し、ｎは０〜２の整数である。Ｒ６〜Ｒ１０はそれぞれ、−ＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｎ(ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２)２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ＝ＣＨ２、−(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＮＨ(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｎ(ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２)−(Ｃ６Ｈ４)−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｒ−ＯＯＣ−Ｃ(Ｒ’)＝ＣＨ２、−ＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯ−Ｃ(Ｒ’)＝ＣＨ２、炭素数１２以下のアリール基より選択される基を表す。ここで、Ｒは炭素数２〜５のアルキレン基、Ｒ’は水素またはメチル基を表す。Ｒ６〜Ｒ１０の少なくとも２つは−ＣＨ＝ＣＨ２基又は−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２基を含む。）
【００３８】
上式（Ｉ）におけるＣＨ２＝ＣＹ１−Ｙ２−基として、具体的には、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−などが挙げられる。
【００３９】
また、上式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ４のヘテロ原子を含んでもよい一官能性の芳香族炭化水素系基としては、炭素数が６〜１４の芳香族炭化水素系基が好ましい。具体的には、−Ｃ６Ｈ５（フェニル基）、−Ｃ６Ｈ５ＯＨ（ヒドロキシフェニル基）、−Ｃ６Ｈ５−Ｃ６Ｈ５ＯＨ（ヒドロキシビフェニル基）、−ＣＨ２Ｃ６Ｈ５（ベンジル基）、−α-Ｃ１０Ｈ７（α-ナフチル基）、−β-Ｃ１０Ｈ７（β-ナフチル基）などが挙げられる。
【００４０】
また、上式（Ｉ）におけるＲ５のヘテロ原子を含んでもよい二官能性の芳香族炭化水素系基としては、炭素数が１０〜１４の芳香族炭化水素系基が好ましい。具体的には、−ｐ-Ｃ６Ｈ４−p-Ｃ６Ｈ４−、−p-Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−p-Ｃ６Ｈ４−、−p-Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−p-Ｃ６Ｈ４−、−p-Ｃ６Ｈ４−Ｃ（＝Ｏ）−p-Ｃ６Ｈ４−、−p-Ｃ６Ｈ４−ＳＯ２−p-Ｃ６Ｈ４−、２，６−Ｃ１０Ｈ６＜（２，６−ナフチレン基）などが挙げられる。
【００４１】
なお、本発明において芳香族炭化水素系基とは、例えば上記のフェニル基や−p-Ｃ６Ｈ４−p-Ｃ６Ｈ４−のような芳香族炭化水素基のみならず、例えば上記のヒドロキシフェニル基や−p-Ｃ６Ｈ４−ＳＯ２−p-Ｃ６Ｈ４−のような、芳香族炭化水素基に加えて更に酸素や硫黄などのヘテロ原子を含んだ基も含むこととする。
【００４２】
そして、上記反応性有機リン化合物（ｂ１）の具体例としては、例えば、下記の構造式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１８）で示される化合物が挙げられる。
【００４３】
【化５】
0004655094.tif 000006
【００４４】
【化６】
0004655094.tif 000007
【００４５】
【化７】
0004655094.tif 000008
【００４６】
上記の化合物は、国際公開ＷＯ２００５／０１２４１５号パンフレットなどに記載された方法によって合成できる。例えば、上記（Ｉ−１）の化合物は、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）にオキシ塩化リンを加え、この溶液に、４,４’−ビフェニルアルコールとトリエチルアミンを溶解したＤＭＡｃの溶液を滴下して反応させ、次いで、アリルアミンとトリエチルアミンとの混合液を反応させることにより得ることができる。
【００４７】
また、上式（ＩＩ）における炭素数１２以下のアリール基としては、例えば、−Ｃ６Ｈ５（フェニル基）、−Ｃ６Ｈ５ＯＨ（ヒドロキシフェニル基）、−Ｃ６Ｈ５−Ｃ６Ｈ５ＯＨ（ヒドロキシビフェニル基）、−α-Ｃ１０Ｈ７（α-ナフチル基）、−β-Ｃ１０Ｈ７（β-ナフチル基）などが挙げられる。
【００４８】
また、上式（ＩＩ）におけるＡｒ1及びＡｒ２の炭素数２０以下の易動性水素を含まない二官能性芳香族炭化水素系基としては、例えば、−p-Ｃ６Ｈ４−、−p-Ｃ６Ｈ４−Ｏ−、−Ｏ−p-Ｃ６Ｈ４−Ｏ−、−p-Ｃ６Ｈ４−p-Ｃ６Ｈ４−、−p-Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−p-Ｃ６Ｈ４−、−p-Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−p-Ｃ６Ｈ４−、−p-Ｃ６Ｈ４−Ｃ（＝Ｏ）−p-Ｃ６Ｈ４−、−p-Ｃ６Ｈ４−ＳＯ２−p-Ｃ６Ｈ４−、２，６−Ｃ１０Ｈ６＜（２，６−ナフチレン基）などが挙げられる。ここで、易動性水素としては、−ＯＨ(水酸基)、−ＮＨＣＯ−（アミド結合）、−ＮＨＣＯＯ−（ウレタン結合）などの、水素結合を形成しやすく、金属ナトリウムや水素化ナトリウムなどと常温で容易に反応して水素を発生する官能基に含まれる反応性の高い水素を意味する。
【００４９】
そして、上記反応性有機リン化合物（ｂ２）の具体例としては、例えば、下記の構造式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−２３）で示される化合物が挙げられる。このうち、（ＩＩ−１〜ＩＩ−１２）はｎがゼロ、すなわち１分子中のリン原子が２個の場合の例である。また、（ＩＩ−１３〜ＩＩ−２０）はｎが１、すなわち、１分子中のリン原子が３個の場合の例である。また、（ＩＩ−２１）〜（ＩＩ−２３）はｎが２、すなわち、１分子中のリン原子が４個の場合の例である。
【００５０】
【化８】
0004655094.tif 000009
【００５１】
【化９】
0004655094.tif 000010
【００５２】
【化１０】
0004655094.tif 000011
【００５３】
【化１１】
0004655094.tif 000012
【００５４】
上記の化合物は、国際公開ＷＯ２００５／０８７８５２号パンフレットなどに記載された方法によって合成できる。例えば、上記（ＩＩ−１）の化合物は、４,４’−ジクロルビフェニルを出発原料とし、これをオキシ塩化リンと反応させた後、更に臭化アリルと反応させて末端に不飽和基を導入することによって合成することができる。
【００５５】
また、上記反応性環状含窒素化合物（ｂ３）は、末端に少なくとも２つの不飽和基を有する環状の含窒素化合物である。この末端に不飽和基を有する基としては、具体的にはジアクリレート、ジメタクリレート、ジアリレート、トリアクリレート、トリメタクリレート、トリアリレート、テトラアクリレート、テトラメタクリレート、テトラアリレートなどが挙げられ、反応性の点からはジアクリレート、トリアクリレート、テトラアクリレートなどのアクリレートがより好ましい。また、環状の含窒素化合物としては、イソシアヌル環、シアヌル環などが挙げられる。
【００５６】
そして、反応性環状含窒素化合物（ｂ３）の具体例としては、上記のシアヌル酸又はイソシアヌル酸の誘導体が挙げられ、例えば、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、トリイソシアヌールトリアクリレートなどの多官能性モノマー又はオリゴマーが例示できる。
【００５７】
本発明において、架橋剤（Ｂ）は、樹脂組成物中に０．５〜２０質量％含有することが好ましく、０．５〜７．０質量％がより好ましい。
【００５８】
また、架橋剤（Ｂ）として、反応性有機リン化合物（ｂ１）及び／又は反応性有機リン化合物（ｂ２）を用いる場合、これらは樹脂組成物中に０．５〜２０質量％含有させることが好ましく、４〜１２質量％がより好ましい。この反応性有機リン化合物の含有量が０．５質量％未満であると、難燃性をほとんど向上することができず、更には樹脂組成物の架橋密度が劣ることから、強度、耐圧性、耐熱性などの物理的特性をほとんど向上させることができない。また、２０質量％を超えると、反応性有機リン化合物が過剰となり、この有機リン化合物の未反応のモノマーや分解ガスが発生したり、オリゴマー化したものがブリードアウトする虞れがある。
【００５９】
また、架橋剤（Ｂ）として、反応性環状含窒素化合物（ｂ３）を用いる場合、これらは樹脂組成物中に０．５〜７質量％含有させることが好ましい。反応性環状含窒素化合物（ｂ３）の含有量が０．５質量％未満であると、難燃性をほとんど向上することができず、更には樹脂組成物の架橋密度が劣ることから、強度、耐圧性、耐熱性などの物理的特性をほとんど向上させることができない。また、７質量％を超えると、反応性環状含窒素化合物が過剰となり、この反応性環状含窒素化合物の未反応のモノマーや分解ガスが発生したり、オリゴマー化したものがブリードアウトする虞れがある。
【００６０】
（金属水酸化物（Ｃ））
本発明の消弧用樹脂加工品に用いられる上記樹脂組成物は、高級脂肪酸で表面処理された金属水酸化物（Ｃ）を含有する。高級脂肪酸で表面処理された金属水酸化物（Ｃ）は、樹脂（特にポリオレフィン樹脂）との相溶性や分散性に優れるので、溶融混練によって容易に樹脂組成物中に均一に分散できる。
【００６１】
金属水酸化物の種類としては、特に限定はなく、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウムなどが挙げられる。なかでも、水酸化マグネシウムは、熱分解時の脱水反応において、水素ガス、Ｈ２Ｏ、Ｏ２及びＯの含有量の高い熱分解ガスを発生することができるので特に好ましい。
【００６２】
また、金属水酸化物の粒径は１〜１０μｍが好ましい。これによれば、樹脂との相溶性、分散性が向上する。
【００６３】
また、この金属水酸化物の表面処理に用いる高級脂肪酸は、炭素数１２〜２０の脂肪酸が好ましく、炭素数１５〜１８の脂肪酸がより好ましい。具体的には、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸などが挙げられ、なかでも、沸点が成形加工温度以上であるという理由からステアリン酸が好ましい。
【００６４】
このような高級脂肪酸で表面処理された金属水酸化物（Ｃ）は、市販されているものを用いてもよく、例えば神島化学工業から市販されている「マグシーズＮ−４」などが挙げられる。
【００６５】
そして、上記金属水酸化物（Ｃ）の含有量は、上記ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００質量部に対し、５〜６０質量部であり、７〜２０質量部がより好ましい。金属水酸化物（Ｃ）の含有量が上記割合で５質量部未満であると、消弧性をほとんど向上できず、６０質量部を超えると、熱分解ガスの発生量が増加し、消弧装置内の内圧上昇を傾向にあり、更には、樹脂組成物の成形加工性を損なうことがある。
【００６６】
（無機フィラー（Ｄ））
本発明の消弧用樹脂加工品に用いられる上記樹脂組成物は、強化繊維、チタン酸バリウムウィスカー、シリカゲル微粒子、ベーマイト、タルク、炭酸マグネシウムから選ばれた１種以上の無機フィラー（Ｄ）を含有することが好ましい。無機フィラーを含有することによって、消弧用樹脂加工品の強度、耐圧性及び耐熱性が向上するとともに、寸法安定性を向上させることができる。
【００６７】
例えば、上記強化繊維としては、ガラス繊維、炭素繊維、金属繊維が挙げられ、強度、及び樹脂や無機充填材との密着性の点からガラス繊維を用いることが好ましい。これらの強化繊維は、単独でも、２種以上を併用して用いてもよく、また、シランカップリング剤などの公知の表面処理剤で処理されたものでもよい。また、ガラス繊維は、表面処理されており、更に樹脂で被覆されていることが好ましい。これにより、樹脂との密着性を更に向上することができる。
【００６８】
そして、上記無機フィラー（Ｄ）は、樹脂組成物中に１〜４０質量％含有することが好ましく、２０〜４０質量％がより好ましい。無機フィラー（Ｄ）の含有量が１質量％未満であると、無機フィラーによる効果がほとんど得られず、４０質量％を超えると、熱分解ガスの発生量が低減するので消弧性が劣る。
【００６９】
（その他成分）
本発明の消弧用樹脂加工品に用いられる上記樹脂組成物は、更に、ポリアセタール系樹脂を含有することが好ましい。ポリアセタール系樹脂と上記ポリオレフィン樹脂（Ａ）とを併用することで、樹脂組成物の成形加工性が損なわれることなく消弧性を向上でき、更には、アーク消弧時における消弧装置内の内圧上昇を抑制できる。
【００７０】
上記ポリアセタール系樹脂は、オキシメチレンから誘導される繰り返し単位の含有量が７５〜１００モル％であることが好ましく、８０〜１００モル％であることがより好ましい。上記繰り返し単位の含有量が７５モル％未満であると、消弧性が劣り、アークを速やかに消弧できない。
【００７１】
このようなポリアセタール系樹脂としては、オキシメチレン−オキシエチレン共重合体又はオキシメチレン重合体が好ましく、消弧性が優れるという理由から、オキシメチレン−オキシエチレン共重合体又はオキシメチレン重合体が特に好ましい。ただし、ポリオキシエチレンでは消弧性に乏しい。
【００７２】
そして、ポリアセタール系樹脂の含有量は、ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００質量部に対して１〜４０質量部であることが好ましく、２〜２５質量部がより好ましい。ポリアセタール系樹脂の含有量が上記割合で１質量部未満であると、ポリアセタール系樹脂による効果が乏しく、消弧性をほとんど向上できず、４０質量部を超えると、熱分解ガスの発生量が増加し、消弧装置内の内圧が上昇する傾向にある。
【００７３】
また、本発明の消弧用樹脂加工品に用いられる上記樹脂組成物は、本発明の目的である耐熱性、耐圧性、消弧性、強度などの物性を著しく損わない範囲で、上記以外の常用の各種添加成分、例えば結晶核剤、着色剤、酸化防止剤、離型剤、可塑剤、熱安定剤、滑剤、紫外線防止剤などの添加剤を添加することができる。
【００７４】
［消弧用樹脂加工品］
本発明の消弧用樹脂加工品は、上記樹脂組成物を成形後に、放射線照射することで得られる。
【００７５】
樹脂組成物の成形方法は従来公知の方法が用いられ、例えば、樹脂組成物を溶融混練してペレット化した後、従来公知の射出成形、押出成形、真空成形、インフレーション成形などによって成形することができる。溶融混練は、単軸或いは二軸押出機、バンバリーミキサー、ニーダー、ミキシングロールなどの通常の溶融混練加工機を使用して行うことができる。そして、混練温度は１７０〜２３０℃で行うことが好ましい。１７０℃未満であると溶融混練が困難であり、２３０℃を越えると樹脂組成物の水酸基が解離して消弧性を低下させるおそれがある。
【００７６】
また、ポリアセタール系樹脂を含む樹脂組成物を用いる場合においては、不活性雰囲気下にて、１８０〜２２０℃で溶融混練した後、成形し、４０〜６０℃に冷却することが好ましい。このようにして成形することで、ポリオレフィン樹脂（Ａ）中にポリアセタール系樹脂が０．１〜０．９μｍのサブミクロンオーダーで、海−島（ｓｅａ−ｉｓｌａｎｄ）状ないしヘキサゴナルシリンダー（ｈｅｘａｇｏｎａｌ  ｃｙｌｉｎｄｅｒ）状ないしラメラ（ｌａｍｅｌｌａｅ）状に分散したミクロ相分離構造を有する樹脂成形品が得られる。該ミクロ相分離構造を形成させることで、ポリアセタール系樹脂が熱分解されやすくなり、消弧性の高い熱分解ガスを放出できるので、消弧性が向上し、アークをより速やかに消弧できる。
【００７７】
なお、この段階では全く架橋は進行していないので、成形時の余分のスプール部は、リサイクルが可能である。
【００７８】
そして、こうして得られた樹脂成形品に対し、放射線照射を施すことで、本発明の消弧用樹脂加工品とすることができる。なお、上記ミクロ相分離構造は、放射線照射による架橋反応によって、固定化できる。
【００７９】
樹脂成形品に照射する放射線としては、α線、γ線、Ｘ線、紫外線などが利用でき、透過性が強く照射を均一にできるという理由からγ線が好ましい。
【００８０】
放射線の照射線量は１０ｋＧｙ以上であることが好ましく、１０〜４５ｋＧｙがより好ましい。この範囲であれば、架橋によって上記の物性に優れる消弧用樹脂加工品が得られる。照射線量が１０ｋＧｙ未満であると、架橋による３次元網目構造の形成が不均一となり、未反応の架橋剤がブリードアウトする可能性がある。また、４５ｋＧｙを超えると、酸化分解生成物による樹脂加工品の内部歪みが残留し、これによって変形や収縮などが発生する可能性がある。
【００８１】
このようにして得られた本発明の消弧用樹脂加工品は、強度、耐圧性、耐熱性、消弧性に優れ、回路遮断器の消弧装置として好適に用いることができる。
【００８２】
［回路遮断器］
次に、本発明の回路遮断器について説明する。
【００８３】
本発明の回路遮断器は、固定接点を有する固定接触子と、前記固定接触子と接触する可動接点を有し前記固定接触子に対して開閉動作をする可動接触子と、前記固定接触子と前記可動接触子とが開閉動作する際に発生するアークを消弧する、上記消弧用樹脂加工品からなる消弧装置とを備えたものである。
【００８４】
このような、回路遮断器の一例としては、例えば、図１〜３に示すものなどが具体例として挙げられる。図１は、回路遮断器の破断斜視図であり、図２は、消弧室の斜視図であり、図３は、回路遮断器の断面図である。
【００８５】
図１において、電源側端子４が一体形成された固定接触子５の反対側の端部は、可動接触子１に沿うようにＵ字状に折り返され、この折り返し部５ａの先端に可動接触子１の可動接点６と接触する固定接点７が設けられている。また、固定接触子５には可動・固定接点６，７間に発生したアークを消弧装置に向かって導くアークホーン９が取り付けられている。
【００８６】
消弧装置は、グリット２と、消弧室１３とで構成されている。グリット２は、所定間隔で、絶縁体１２に複数枚（図では５枚）積み重ねられており、可動接触子１がグリッド２に形成されたＶ字状の切欠２ａを通して、図１に実線で示した閉成位置と鎖線で示した開離位置との間で開閉運動をするように構成されている。また、可動接触子１とグリッド２との間に、上記本発明の消弧用樹脂加工品で形成されている消弧室１３が設置されている。
【００８７】
図１及び図３において、絶縁体１２は、左右の一対の側壁１２ａと、これらを上部及び下部でそれぞれ互いに連結する連結部１２ｂ及び１２ｃとからなり、耐アーク性のメラミン系モールド樹脂により一体成形されている。左右の側壁１２ａの対向面には断面方形の条溝１４が側壁１２ａの負荷側端面（図３の右側端面）から斜めに上昇するように多段に形成され、グリッド２は左右の側壁１２ａに跨がるようにして条溝１４に圧入されている。
【００８８】
一方、消弧室１３は、左右一対の側壁１３ａと、左右の側壁１３ａの上端部間をグリッド２の切欠２ａに沿って円弧状に結ぶ前壁１３ｂとを備えている。また、消弧室１３には、消弧装置と開閉機構との間を仕切る隔壁１５と、固定接触子５の上面を覆う絶縁カバー１６とが一体形成されている。隔壁１５には、可動接触子１の開閉運動経路に沿ってスリット１５ａが設けられ、絶縁カバー１６には固定接点７を露出させる窓穴１６ａが設けられている。そして、消弧室１３は、絶縁体１２の内側に、隔壁１５が絶縁体側壁１２ａの端面に接するように図３の右側から組み合わされ、絶縁カバー１６を介して固定接触子５上に支持され、回路遮断器の図示しない本体カバーで押さえられて固定される。この状態において、消弧室１３の側壁１３ａは、可動接触子１の両側に位置するグリッド２の両脚部（切欠２ａの両側部分）を内側から覆い、また前壁１３ｂは図３に示すように、最上段のグリッド２の切欠２ａの奥部に位置する。
【００８９】
上記構成において、電流遮断時には可動・固定接点６、７間にはアークが発生し、このアークはグリッド２に引き込まれて消弧される。その際、グリッド２の両脚部は、本発明の消弧用樹脂加工品からなる消弧室１３の側壁１３ａで内側から覆われており、アークから遮蔽され、アークによるこの部分の溶融、飛散が防止される。また、アークに近接する側壁１３ａからは、タール分などのアークの消弧に対する寄与が乏しい成分の含有量が少なく、水素ガス、Ｈ２Ｏ、Ｏ２及びＯの含有量の高い熱分解ガスを発生するので、アークの冷却が促進されて、速やかに消弧される。
【実施例】
【００９０】
（実施例１）
メチレン基１モルに対して、水酸基を０．５８モル含有するポリオレフィン樹脂（商品名；「ＥＶＡｌ−Ｌ１０４Ｂ」  クラレ（株）社製）５５質量部と、オキシメチレンから誘導される繰り返し単位の含有量が９０モル％であるポリオキシメチレンーオキシエチレン共重合体（商品名；「テナックーＣ  ４５２０」  旭化成（株）社製）２０質量部と、架橋剤としてＴＡＩＣ（商品名；「ＴＡＩＣ」  日本化成社製）５質量部と、金属水酸化物として水酸化マグネシウム（商品名；「マグシーズＮ−４」  神島化学工業社製）２０質量部とを混合し、サイドフロー型２軸押出機（日本製鋼社製）を用いて２２０℃で混練して樹脂ペレットを得た。次いで、この樹脂ペレットを、８０℃で、７時間乾燥した後、射出成形機（ＦＡＮＵＣ社製：α５０Ｃ）を用いて樹脂温度２１５℃、金型温度５０℃の条件で成形した。この成形体の断面状態をＳＥＭで観察したところ、ラメラ状態の球晶と均一な海島構造をしたミクロ相分離状態が確認できた。
その後、上記成形品に、コバルト６０を線源としたγ線を２５ｋＧｙ照射して実施例１の消弧用樹脂加工品を得た。この消弧用樹脂加工品の断面状態をＳＥＭで観察したところ、ラメラ状態の球晶と均一な海島構造をしたミクロ相分離状態が確認できた。
【００９１】
（実施例２）
メチレン基１モルに対して、水酸基を０．５８モル含有するポリオレフィン樹脂（商品名；「ＥＶＡＬ−Ｌ１０４Ｂ」  クラレ（株）社製）４５質量部と、オキシメチレンから誘導される繰り返し単位の含有量が９０モル％であるポリオキシメチレンーオキシエチレン共重合体（商品名；「テナックーＣ  ４５２０」  旭化成（株）社製）１５質量部と、金属水酸化物として水酸化マグネシウム（商品名；「マグシーズＮ−４」  神島化学工業社製）２０質量部と、無機フィラーとしてシラン処理したガラスファイバー（商品名；「０３．ＪＡＦＴ２Ａｋ２５」  旭ファイバーグラス社製）１５質量部と、反応性有機リン系難燃剤として上記式（Ｉ−１８）の化合物５質量部と、を混合し、サイドフロー型２軸押出機（日本製鋼社製）を用いて２２０℃で混練して樹脂ペレットを得た。次いで、この樹脂ペレットを、８０℃で、７時間乾燥した後、射出成形機（ＦＡＮＵＣ社製：α５０Ｃ）を用いて樹脂温度２１５℃、金型温度５０℃の条件で成形した。この成形体の断面状態をＳＥＭで観察したところ、ラメラ状態の球晶と均一な海島構造をしたミクロ相分離状態が確認できた。
その後、上記成形品に、コバルト６０を線源としたγ線を２５ｋＧｙ照射して実施例２の消弧用樹脂加工品を得た。この消弧用樹脂加工品の断面状態をＳＥＭで観察したところ、ラメラ状態の球晶と均一な海島構造をしたミクロ相分離状態が確認できた。
【００９２】
（実施例３）
メチレン基１モルに対して、水酸基を０．５８モル含有するポリオレフィン樹脂（商品名；「ＥＶＡｌ−Ｌ１０４Ｂ」  クラレ（株）社製）４３質量部と、オキシメチレンから誘導される繰り返し単位の含有量が９０モル％であるポリオキシメチレンーオキシエチレン共重合体（商品名；「テナックーＣ  ４５２０」  旭化成（株）社製）２０質量部と、金属水酸化物として水酸化マグネシウム（商品名；「マグシーズＮ−４」  神島化学工業社製）１５質量部と、無機フィラーとしてベーマイト（商品名；  「ＢＭＴ−１０」  河合石灰工業（株））１５質量部と、反応性有機リン系難燃剤として上記式（Ｈ−３）の化合物７質量部と、を混合し、Ｎ２ガス置換したサイドフロー型２軸押出機（日本製鋼社製）を用いて２２０℃で混練して樹脂ペレットを得た。そして、この樹脂ペレットを、８０℃で、７時間乾燥した後、射出成形機（ＦＡＮＵＣ社製：α５０Ｃ）を用いてＮ２雰囲気下、樹脂温度２１５℃、金型温度５０℃の条件で成形した。この成形体の断面状態をＳＥＭで観察したところ、ラメラ状態の球晶と均一な海島構造をしたミクロ相分離状態が確認できた。
その後、上記成形品に、コバルト６０を線源としたγ線を２５ｋＧｙ照射して実施例３の消弧用樹脂加工品を得た。この消弧用樹脂加工品の断面状態をＳＥＭで観察したところ、ラメラ状態の球晶と均一な海島構造をしたミクロ相分離状態が確認できた。
【００９３】
（比較例１）
実施例１において、架橋剤を配合しなかった以外は、実施例１と同様の条件で混練して樹脂ペレットを得た。そして、得られた樹脂ペレットを、８０℃で、７時間乾燥した後、射出成形機（ＦＡＮＵＣ社製：α５０Ｃ）を用いて樹脂温度２１５℃、金型温度５０℃の条件で成形して、比較例１の消弧用樹脂加工品を得た。
【００９４】
（比較例２）
実施例２において、反応性有機リン系難燃剤（Ｉ−１８）を配合しなかった以外は、実施例２と同様の条件で混練して樹脂ペレットを得た。そして、得られた樹脂ペレットを、８０℃で、７時間乾燥した後、射出成形機（ＦＡＮＵＣ社製：α５０Ｃ）を用いて樹脂温度２１５℃、金型温度５０℃の条件で成形して、比較例２の消弧用樹脂加工品を得た。
【００９５】
（比較例３）
実施例２において、メチレン基１モルに対して、水酸基を０．５８モル含有するポリオレフィン樹脂（商品名；「ＥＶＡＬ−Ｌ１０４Ｂ」  クラレ（株）社製）の代わりに、ポリエチレン樹脂（商品名；「ＨＪ３６２」  日本ポリエチレン（株）社製）を用いた以外は実施例２と同様にして比較例３の消弧用樹脂加工品を得た。
【００９６】
（比較例４）
実施例３において、反応性有機リン系難燃剤（ＩＩ−３）を配合しなかった以外は、実施例３と同様の条件で混練して樹脂ペレットを得た。そして、得られた樹脂ペレットを、８０℃で、７時間乾燥した後、射出成形機（ＦＡＮＵＣ杜製あ：α５０Ｃ）を用いて樹脂温度２１℃Ｃ、金型温度５℃の条件で成形して、比較例４の消弧用樹脂加工品を得た。
【００９７】
（比較例５）
不飽和ポリエステル樹脂（商品名；「７５２７」  ユピカ（株）社製）を２５質量部と、Ａｌ（ＯＨ）を３３５質量部と、スチレンー酢ビ共重合体５質量部と、重合開始剤としてｔ−ブチルパーオキサイド−Ｚを０．３質量部と、粘度調整剤４．７質量部と、をニーダーで混練しながら、無機フィラーとしてシラン処理したガラスファイバー（商品名；「０３．ＪＡＦＴ２Ａｋ２５」  旭ファイバーグラス社製）３５質量部を添加分散し、バルクモールドコンパンドを得た。このバルクモールドコンパンドを成形し、１４０〜１５０℃にて重合反応させて、比較例５消弧用樹脂加工品を得た。
【００９８】
実施例１〜３、比較例１〜５の消弧用樹脂加工品の成形加工性を評価した。また、この消弧用樹脂加工品を、図１の回路遮断器の消弧室１３として用い、短絡試験、耐熱性試験、難燃性試験を行った。
なお、短絡試験は、開成状態において、３相４４０Ｖ／５０ｋＡの条件で通電して可動接触子を開離させてアーク電流を発生させ、このアーク電流の遮断性（消弧性）と消弧装置の破損の有無（内圧性）、表面状態（耐熱性）を確認した。遮断性は短絡電流が遮断されることで合格とした。
また、成形加工性は、成形時に発泡、鼻タレなどの問題の有無を目視で評価し、目視で確認できなければ合格とした。
また、難燃性は、ＵＬ−９４試験に準拠した試験片（長さ５インチ、幅１／２インチ、厚さ３．２ｍｍ）を作製し、試験片を垂直に取りつけ、ブンゼンバーナーで１０秒間接炎後の燃焼時間を記録した。更に、消火後２回目の１０秒間接炎し再び接炎後の燃焼時間を記録し、燃焼時間の合計と２回目消火後の赤熱燃焼（グローイング）時間と綿を発火させる滴下物の有無により、ＵＬ−９４試験に準拠して判定した。
また、金属汚染性は、１２０℃環境下に３００時間放胆した後の接触抵抗を測定し、接触抵抗値が５０ｍΩ以下であれば合格とした。
【００９９】
上記試験結果を表１にまとめて記す。
【０１００】
【表１】
0004655094.tif 000013
【０１０１】
上記結果より、実施例１〜３の消弧用樹脂加工品は、難燃性、耐熱性及び成形加工性に優れ、またこの消弧用樹脂加工品からなる消弧装置を用いた回路遮断器は、電流遮断時に接点から発生するアークを効率よく消弧でき、また、消弧時において消弧室の破損が見られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明の回路遮断器の破断斜視図を示す一例である。
【図２】同回路遮断器に用いる消弧室の斜視図である。
【図３】同回路遮断器に用いる同消弧装置の断面図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１：可動接触子
２：グリット
４：電源側端子
５：固定接触子
６：可動接点
７：固定接点
９：アークホーン
１２：絶縁体
１３：消弧室
１４：条溝
【図１】
0004655094.tif 000016
【図２】
0004655094.tif 000017
【図３】
0004655094.tif 000018