(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板上に設けられ、第１の電極、有機電界発光膜、及び第２の電極を備えた有機電界発光素子と、
前記第１基板上に設けられ、前記有機電界発光素子を覆う絶縁膜と、
前記絶縁膜上であって、前記有機電界発光膜と重ならない位置に設けられ、前記第１の電極と前記第２の電極と電気的に接続される導電性の金属膜と、
前記金属膜と対応する位置に設けられた複数のスルーホールと前記スルーホールを形成する周囲部分に設けられた導電性の接続部分とを備え、前記絶縁膜上に接着される第２基板と、
前記第２基板が前記第１基板側に接着される前に、前記第２基板の前記スルーホール内に充填されており、前記第２基板の前記第１基板に接着される側と反対側からレーザ光を照射されて溶融することで、前記第１基板の前記絶縁膜上に設けられた前記金属膜と前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続して前記有機電界発光素子の前記第１の電極と前記第２の電極と、前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続する半田部と、
を備えるディスプレイ装置。
【請求項２】
前記第２基板はフレキシブル配線板であり、前記フレキシブル配線板のスルーホールに充填した前記半田部の中心部分がレーザ光により溶融される
請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項３】
前記第１基板はガラス基板であり、前記導電性の金属膜は、Ｎｉが下地のＡｕ膜であり、前記導電性の接続部分は、Ｃｕである
請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項４】
複数の前記有機電界発光素子を配列することで大画面を構成している
請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項５】
ディスプレイ装置を有する電子機器であり、
前記ディスプレイ装置は、
第１基板と、
前記第１基板上に設けられ、第１の電極、有機電界発光膜、及び第２の電極を備えた有機電界発光素子と、
前記第１基板上に設けられ、前記有機電界発光素子を覆う絶縁膜と、
前記絶縁膜上であって、前記有機電界発光膜と重ならない位置に設けられ、前記第１の電極と前記第２の電極と電気的に接続される導電性の金属膜と、
前記金属膜と対応する位置に設けられた複数のスルーホールと前記スルーホールを形成する周囲部分に設けられた導電性の接続部分とを備え、前記絶縁膜上に接着される第２基板と、
前記第２基板が前記第１基板側に接着される前に、前記第２基板の前記スルーホール内に充填されており、前記第２基板の前記第１基板に接着される側と反対側からレーザ光を照射されて溶融することで、前記第１基板の前記絶縁膜上に設けられた前記金属膜と前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続して前記有機電界発光素子の前記第１の電極と前記第２の電極と、前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続する半田部と、
を備えるディスプレイ装置を有する電子機器。
【請求項６】
第１基板と、前記第１基板上に設けられ、第１の電極、有機電界発光膜、及び第２の電極を備えた有機電界発光素子と、前記有機電界発光素子を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上であって、前記有機電界発光膜と重ならない位置に設けられ、前記第１の電極と前記第２の電極と電気的に接続される導電性の金属膜とを有する第１基板と、
前記金属膜と対応する位置に設けられた複数のスルーホールと前記スルーホールを形成する周囲部分に設けられた導電性の接続部分とを有する第２基板と、
を備えるディスプレイ装置の製造方法であり、
前記第２基板の前記スルーホールに半田部を充填する半田部充填ステップと、
前記第１基板の前記金属膜に対応する位置に、前記第２基板の前記スルーホールを位置決めして前記第２基板を前記第１基板側に貼り付ける貼り付けステップと、
前記第２基板の前記第１基板に貼り付けられる側と反対側からレーザ光を、前記第２基板の前記スルーホールに充填された前記半田部に照射して前記半田部を溶融することにより、前記金属膜と前記第２基板の前記スルーホールの周囲部分に形成されている前記導電性の接続部分とを電気的に接続して、前記有機電界発光素子が備える前記有機電界発光膜を挟んで設けられる前記第１の電極と前記第２の電極と、前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続する接続ステップと、
を含むディスプレイ装置の製造方法。
【請求項７】
前記第２基板はフレキシブル配線板であり、前記半田部の中心部分がレーザ光により溶融される
請求項６に記載のディスプレイ装置の製造方法。
【請求項８】
前記半田部は、無鉛半田である
請求項６に記載のディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機電界発光素子を有するディスプレイ装置、そのディスプレイ装置を有する電子機器およびディスプレイ装置の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、有機電界発光素子（有機エレクトロルミネッセンス素子、以下有機ＥＬ素子という）を発光素子としたディスプレイ装置が注目されている。
従来のこの種のディスプレイ装置では、透明のガラス基板の上に陽極となる透明電極をストライプ状に形成している。このストライプ状の透明電極の上には、直行する方向に有機層が形成されている。この有機層は正孔輸送層と発光層からなる。有機層の上には陰極が形成されている。このようにすることで透明電極と陰極とが交差する位置に、それぞれ有機ＥＬ素子を形成してこれらの有機ＥＬ素子が縦横に配列されることにより発光エリアを形成している。ガラス基板の周辺部には、この発光エリアを駆動回路に対して接続するための電極部を有している。
【０００３】
陽極である透明電極に対して正の電圧が印加され、陰極に対して負の電圧が印加されると、透明電極から注入された正孔が正孔輸送層を経て発光層に到達する。一方陰極から注入された電子が発光層に到達する。これにより発光層内では電子−正孔の再結合が生じることから、所定の波長を持った光が発生して、透明のガラス基板からその光が外に出射するようになっている。
この種のディスプレイ装置では、ガラス基板上の電極に対して、外部への接続用のフレキシブル配線板や駆動用のドライバＩＣ（集積回路）を、熱をかけてＡＣＦ（異方性導電膜）を介して電気的に接続している。
【０００４】
図１６は、有機ＥＬ素子１０００とドライバＩＣ１００１およびフレキシブル配線板１００２の接続例を示している。有機ＥＬ素子１０００のガラス基板１００３およびドライバＩＣ１００１とフレキシブル配線板１００２の電気的な接続例は、図１７に示している。ガラス基板１００３の上にはＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ膜）の透明電極１００４が形成されている。この透明電極１００４に対してドライバＩＣ１００１は、ＡＣＦ１００５を用いて電気的に接続されている。同様にしてフレキシブル配線板１００２も、透明電極１００４に対してＡＣＦ１００６により電気的に接続されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このように熱をかけてガラス基板上の電極部とフレキシブル配線板あるいはドライバＩＣをＡＣＦを用いて電気的に接続すると、次のような問題がある。
有機ＥＬ素子を構成しているモノマーが８０℃程度しか熱的に耐えられず、有機ＥＬ素子は熱に弱い。従って、ガラス基板上の電極部とフレキシブル配線板やドライバＩＣを熱をかけて電気的に接続する場合には、ガラス基板上の電極部がガラス基板上の有機ＥＬ素子からかなり離れた位置にないと、このような熱を用いて電気的に接続することができないという問題がある。
そこで本発明は上記課題を解消し、フレキシブル配線板の導電性の接続部分を、有機電界発光素子の形成された基板側の導電性の金属膜に対して電気的に確実に接続できるとともに、有機電界発光素子の近くであってもそのような電気的な接続を行うことができるディスプレイ装置、電子機器およびディスプレイ装置の製造方法を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、第１基板と、前記第１基板上に設けられ、第１の電極、有機電界発光膜、及び第２の電極を備えた有機電界発光素子と、前記第１基板上に設けられ、前記有機電界発光素子を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上であって、前記有機電界発光膜と重ならない位置に設けられ、前記第１の電極と前記第２の電極と電気的に接続される導電性の金属膜と、前記金属膜と対応する位置に設けられた複数のスルーホールと前記スルーホールを形成する周囲部分に設けられた導電性の接続部分とを備え、前記絶縁膜上に接着される第２基板と、前記第２基板が前記第１基板側に接着される前に、前記第２基板の前記スルーホール内に充填されており、前記第２基板の前記第１基板に接着される側と反対側からレーザ光を照射されて溶融することで、前記第１基板の前記絶縁膜上に設けられた前記金属膜と前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続して前記有機電界発光素子の前記第１の電極と前記第２の電極と、前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続する半田部と、を備えることを特徴とするディスプレイ装置である。
請求項１では、有機電界発光素子は第１基板に形成されている。導電性の金属膜は有機電界発光素子と重ならない第１基板の位置に形成されている。
第２基板は複数のスルーホールを有し、スルーホールを形成する周囲部分には導電性の接続部分を有している。半田部は、第２基板が第１基板に接着される前に、第２基板のスルーホール内に充填されており、この半田部は溶融することで第１基板の導電性の金属膜と第２基板の導電性の接続部分を電気的に接続して、有機電界発光素子と第２基板を電気的に接続する。
これにより、第２基板の導電性の接続部分と第１基板側の導電性の金属膜は、半田部を用いて電気的に確実に接続することができる。
しかも、この半田部は、第２基板のスルーホールに充填されており、この半田部に対してわずかな熱を局所的にかけるだけで、第２基板の導電性の接続部分と第１基板の導電性の金属膜を電気的に接続できることから、このような接続部分は有機電界発光素子に近い場所であっても設けることができる。
【０００７】
請求項２の発明は、請求項１に記載のディスプレイ装置において、前記第２基板はフレキシブル配線板であり、前記フレキシブル配線板の穴に充填した前記半田部の中心部分がレーザ光により溶融される。
請求項２では、第２基板はフレキシブル配線板であり、フレキシブル配線板の穴に充填した半田部の中心部分がレーザ光により溶融される。
これによりわずかなエネルギーで有機電界発光素子と第２基板を電気的に接続することができる。
【０００８】
請求項３の発明は、請求項１に記載のディスプレイ装置において、前記第１基板はガラス基板であり、前記導電性の金属膜は、Ｎｉが下地のＡｕ膜であり、前記導電性の接続部分は、Ｃｕである。
【０００９】
請求項４の発明は、請求項１に記載のディスプレイ装置において、複数の前記有機電界発光素子を配列することで大画面を構成している。
【００１０】
請求項５の発明は、ディスプレイ装置を有する電子機器であり、前記ディスプレイ装置は、第１基板と、前記第１基板上に設けられ、第１の電極、有機電界発光膜、及び第２の電極を備えた有機電界発光素子と、前記第１基板上に設けられ、前記有機電界発光素子を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上であって、前記有機電界発光膜と重ならない位置に設けられ、前記第１の電極と前記第２の電極と電気的に接続される導電性の金属膜と、前記金属膜と対応する位置に設けられた複数のスルーホールと前記スルーホールを形成する周囲部分に設けられた導電性の接続部分とを備え、前記絶縁膜上に接着される第２基板と、前記第２基板が前記第１基板側に接着される前に、前記第２基板の前記スルーホール内に充填されており、前記第２基板の前記第１基板に接着される側と反対側からレーザ光を照射されて溶融することで、前記第１基板の前記絶縁膜上に設けられた前記金属膜と前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続して前記有機電界発光素子の前記第１の電極と前記第２の電極と、前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続する半田部と、を備えることを特徴とするディスプレイ装置を有する電子機器である。
請求項５では、有機電界発光素子は第１基板に形成されている。導電性の金属膜は有機電界発光素子と重ならない第１基板の位置に形成されている。
第２基板は複数のスルーホールを有し、スルーホールを形成する周囲部分には導電性の接続部分を有している。
半田部は、第２基板が第１基板に接着される前に、第２基板のスルーホール内に充填されており、この半田部は溶融することで第１基板の導電性の金属膜と第２基板の導電性の接続部分を電気的に接続して、有機電界発光素子と第２基板を電気的に接続する。
これにより、第２基板の導電性の接続部分と第１基板側の導電性の金属膜は、半田部を用いて電気的に確実に接続することができる。
しかも、この半田部は、第２基板のスルーホールに充填されており、この半田部に対してわずかな熱を局所的にかけるだけで、第２基板の導電性の接続部分と第１基板の導電性の金属膜を電気的に接続できることから、このような接続部分は有機電界発光素子に近い場所であっても設けることができる。
【００１１】
請求項６の発明は、第１基板と、前記第１基板上に設けられ、第１の電極、有機電界発光膜、及び第２の電極を備えた有機電界発光素子と、前記有機電界発光素子を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上であって、前記有機電界発光膜と重ならない位置に設けられ、前記第１の電極と前記第２の電極と電気的に接続される導電性の金属膜とを有する第１基板と、前記金属膜と対応する位置に設けられた複数のスルーホールと前記スルーホールを形成する周囲部分に設けられた導電性の接続部分とを有する第２基板と、を備えるディスプレイ装置の製造方法であり、前記第２基板の前記スルーホールに半田部を充填する半田部充填ステップと、前記第１基板の前記金属膜に対応する位置に、前記第２基板の前記スルーホールを位置決めして前記第２基板を前記第１基板側に貼り付ける貼り付けステップと、前記第２基板の前記第１基板に貼り付けられる側と反対側からレーザ光を、前記第２基板の前記スルーホールに充填された前記半田部に照射して前記半田部を溶融することにより、前記金属膜と前記第２基板の前記スルーホールの周囲部分に形成されている前記導電性の接続部分とを電気的に接続して、前記有機電界発光素子が備える前記有機電界発光膜を挟んで設けられる前記第１の電極と前記第２の電極と、前記第２基板の前記導電性の接続部分とを電気的に接続する接続ステップと、を含むことを特徴とするディスプレイ装置の製造方法である。
請求項６では、半田部充填ステップにおいて第２基板のスルーホール穴に半田部を充填する。
貼り付けステップでは、第１基板の金属膜に対応する位置に、第２基板のスルーホールを位置決めして第２基板を第１基板側に貼り付ける。
接続ステップでは、第２基板のスルーホールの半田部を溶融することにより、導電性の金属膜と第２基板のスルーホールの周囲部分に形成されている導電性の接続部分とを電気的に接続して、有機電界発光素子と第２基板を電気的に接続する。
これにより、第２基板の導電性の接続部分と第１基板側の導電性の金属膜は、半田部を用いて電気的に確実に接続することができる。
しかも、この半田部は、第２基板のスルーホールに充填されており、この半田部に対してわずかな熱を局所的にかけるだけで、第２基板の導電性の接続部分と第１基板の導電性の金属膜を電気的に接続できることから、このような接続部分は有機電界発光素子に近い場所であっても設けることができる。
【００１２】
請求項７の発明は、請求項６に記載のディスプレイ装置の製造方法において、前記第２基板はフレキシブル配線板であり、前記半田部の中心部分がレーザ光により溶融される。
請求項７では、半田部の中心部分がレーザ光に溶融されるだけであるので、より少ないエネルギーを用いるだけで済み、有機電界発光素子には熱的なダメージが加わらない。
【００１３】
請求項８の発明は、請求項６に記載のディスプレイ装置の製造方法において、前記半田部は、無鉛半田である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
【００１５】
図１は、本発明のディスプレイ装置を有する電子機器の一例を示している。
この電子機器１０は、たとえばテレビジョン受像機である。電子機器１０の筐体１２は、ディスプレイ装置２０を有している。このディスプレイ装置２０は、有機電界発光素子（以下有機ＥＬ素子という）を有するディスプレイ装置であり、たとえば大型の表示面を有していて、一例としては７５インチサイズ以上のサイズのディスプレイ装置である。
このディスプレイ装置２０は、図２に示す有機ＥＬユニット２２を有している。
【００１６】
図３は、図２の有機ＥＬユニット２２の一部分を拡大して示す分解斜視図である。
有機ＥＬユニット２２は、複数のＩＣ（集積回路）基板３０と、１枚の有機ＥＬパネル４０を有している。有機ＥＬパネル４０は、図３の図示例では表面４０Ａと裏面４０Ｂを有している。
各ＩＣ基板３０は、１つまたは複数個のドライバＩＣ３４を有している。これらのドライバＩＣ３４は、フレキシブル配線板５０を用いて、それぞれ有機ＥＬパネル４０の裏面４０Ｂ側の電気接続部分に電気的にかつ機械的に接続することができるようになっている。各ＩＣ基板３０は、別のフレキシブル基板５１により相互に電気的に接続することができる。
【００１７】
各ＩＣ基板３０のドライバＩＣ３４は、たとえば大型の有機ＥＬパネル４０を、破線で示すように区分面４１に分けてそれぞれ駆動できるようにしている。このように大型の面積を有する有機ＥＬパネル４０を複数の区分面４１に分けてそれぞれＩＣ基板３０のドライバＩＣ３４で駆動するのは、次の理由からである。
すなわち、大型の面積を有する有機ＥＬパネル４０を複数の区分面４１に区分して駆動することにより、各ＩＣ基板３０から対応する位置にある区分面４１までの駆動配線の長さが短くなり、表示画面を大型化した場合でも配線抵抗による電圧降下をなくして、有機ＥＬパネル４０の表示駆動を安定して行うことができるからである。
そして、大型面積を有する有機ＥＬパネル４０の面積に合わせて、大型のＩＣ基板３０を設けた場合に比べて、区分面４１に分割してＩＣ基板３０をそれぞれ配置することにより、仮にいずれかのＩＣ基板３０のドライバＩＣ３４の動作が不良になった場合でも、その該当する区分面４１のＩＣ基板３０のみを取り外して交換すればよいので、メンテナンス時のコストダウンを図ることができるというメリットもある。
【００１８】
図４と図５は、有機ＥＬパネル４０の構造例を示している。図５に拡大して示す有機ＥＬパネル４０は、表示部領域６０と、電気的な接続領域７０を有している。表示部領域６０は、寸法Ｄと、各寸法Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４で形成される部分である。電気的な接続領域７０は、寸法Ｄ５と寸法Ｄ６で形成される領域と、寸法Ｄ７と寸法Ｄ８で形成される領域を有している。
有機ＥＬパネル４０の端部には、位置決め用のアライメントマーク６４が形成されており、このアライメントマーク６４は、たとえば正方形の形状を有している。
電気的な接続領域７０は、たとえば丸形状の複数の接続ポイントＰを有している。
【００１９】
ここで、図６〜図７を参照して、有機ＥＬパネル４０の有機ＥＬ素子８０の構造例を説明する。
有機ＥＬパネル４０は、第１基板である透明基板１２１の上に、陽極となる透明電極１２２をストライプ状に形成し、さらに、正孔輸送層と発光層とからなる有機ＥＬ膜１２３を透明電極１２２と直交するように形成し、有機ＥＬ膜１２３上に陰極１２４を形成することで、透明電極１２２と陰極１２４とが交差する位置にそれぞれ有機ＥＬ素子８０を形成している。透明基板１２１は、図５に示すように、これら有機ＥＬ素子８０を縦横に配置した発光エリアである表示部領域６０と、発光エリアを駆動回路に接続させるために上述した電気的な接続領域７０を形成している。
このような有機ＥＬパネル４０においては、通常、透明電極１２２間に絶縁層が設けられており、これによって透明電極１２２間の短絡と、さらには透明電極１２２と陰極１２４との間の短絡が防止されている。
【００２０】
透明電極１２２と陰極１２４とが交差する位置に構成される有機ＥＬ素子としては、例えば図７（Ｂ）に示すシングルヘテロ型の有機ＥＬ素子８０がある。この有機ＥＬ素子８０は、ガラス基板等の透明基板１２１上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）等の透明電極１２２からなる陽極が設けられ、その上に正孔輸送層１２３ａ及び発光層１２３ｂからなる有機ＥＬ膜１２３と陰極１２４が設けられている。
【００２１】
有機ＥＬ素子８０は、透明陽極１２２に正の電圧を印加し、陰極１２４に負の電圧を印加すると、透明陽極１２２から注入された正孔が正孔輸送層１２３ａを経て発光層１２３ｂに到達し、また陰極１２４から注入された電子が発光層１２３ｂにそれぞれ到達し、発光層２３ｂ内で電子−正孔の再結合が生じる。このとき、所定の波長を持った光が発生し、図７（Ｂ）の矢印で示すように透明基板１２１側から外に出射する。
【００２２】
次に、有機ＥＬ素子８０の断面構造等の例について、図８と図９を参照して説明する。
第１基板である透明基板１２１は、たとえばガラス基板やプラスラック基板を用いることができる。ガラス基板の場合には、たとえばソーダ硝子、無アルカリ硝子、石英硝子などである。プラスチック基板の場合には、たとえばＰＣ（ポリカーボネート）、フッ素ＰＩ（ポリイミド）、ＰＭＭＡ（アクリル樹脂）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＡＲ（ポリアリレート）、ＰＥＳ（ポリエーテルスルフォン）、ＰＥＮ（ポリエーテルニトリル）、シクロ・オレフィン系樹脂などを用いる。
透明基板１２１の表面と裏面には、ガスバリア膜１４０が形成されている。このガスバリア膜１４０は、水分や酸素等のガスの素子内への浸入を防いで、有機ＥＬ素子の劣化を防止する。ガスバリア膜１４０には反射防止特性が付与されていることが望ましく、これによりガスバリア膜１４０は、発生した光の透明基板１２１での反射を抑えて、透過率の高い優れた有機ＥＬ素子にすることができる。
【００２３】
一方のガスバリア膜１４０の上には、補助電極１４２が形成されている。この補助電極１４２は、たとえばクロムにより作られておりたとえば櫛状に形成されており、この補助電極１４２は、抵抗値を下げるためについている。
補助電極１４２の上には、透明電極１２２が形成されている。この透明電極１２２は、たとえばストライプ状に形成されており、陽極であり、正の電圧を印加する部分であり、たとえばＩＴＯ膜（Ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ膜）である。
【００２４】
透明電極１２２の上には第１絶縁層１５０が形成されている。第１絶縁層１５０の上には、有機ＥＬ膜１２３が形成されている。この有機ＥＬ膜１２３は、正孔輸送層と発光層とが積層された多層構造である。第１絶縁層１５０と有機ＥＬ膜１２３の上には、陰極（カソード電極）１２４が形成されている。
第１絶縁層１５０は、たとえばＳｉＮ等により作られており、電気絶縁性ばかりでなく水分や酸素に対するガスバリア機能を有している。このガスバリア機能をもたせることで、素子内部への水分や酸素の浸入を防いで、有機ＥＬ膜１２３の劣化を防ぐ。
【００２５】
陰極１２４は、有機ＥＬ膜１２３のカソードとなるもので、有機ＥＬ膜１２３よりも大きめに形成されている。陰極１２４は、たとえばフッ化リチウム（ＬｉＦ）等からなる。
第１絶縁層１５０と陰極１２４の上には、第２絶縁層１５５が形成されている。この第２絶縁層１５５は、素子全体に亘って形成されており、たとえばＳｉＮ、ＡｌＮ等により作られている。第２絶縁層１５５は、絶縁性ばかりでなく、水分や酸素に対するガスバリア機能をも有しており、これにより素子内部への水分や酸素の浸入を防ぎ、有機ＥＬ膜１２３の劣化を防止することができる。
【００２６】
図８の第２絶縁層１５５と第１絶縁層１５０には、開口部１８０，１８１が形成されている。この開口部１８０，１８１には、それぞれ導電性を有する金属、たとえばＮｉの電極部分１８２，１８３が設けられている。
図９に示すように、第２絶縁層１５５の上には、接着剤１６０を介して、フレキシブル配線板５０が貼り付けられる。フレキシブル配線板５０は、たとえばＰＩ（ポリイミド）やＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）で構成されたものなどを採用することができる。
接着剤１６０は、たとえば、フレキシブル配線板５０に貼り付けられた両面粘着テープである。接着剤１６０の開口部１６１，１６２の中には、導電性の金属膜１７０が設けられる。この導電性の金属膜１７０は、電極部分１８２，１８３の上に形成された金属であり、たとえばＡｕ等を採用することができる。
導電性の金属膜１７０と電極部分１８２は、電極２００を構成している。もう一方の導電性の金属膜１７０と電極部分１８３は、電極２０１を構成している。各電極２００，２０１は、図５に示す電気的な接続領域７０の接続ポイントＰに位置している。
【００２７】
第２基板としてのフレキシブル配線板５０は、穴（スルーホール）２１０を有しており、これらの穴２１０は、周囲部分２１４により形成されている。この周囲部分２１４には、導電性の接続部分２２０があらかじめ形成されている。この導電性の接続部分２２０は、たとえばＣｕを採用することができる。導電性の接続部分２２０は、フレキシブル配線板５０の導体パターン２３０に電気的に接続されている。
【００２８】
このような有機ＥＬ素子８０もしくは有機ＥＬパネル４０では、陽極である透明電極１２２と、カソード電極である陰極１２４の間に電流が印加されると、陰極１２４から注入された正孔が、有機ＥＬ膜の正孔輸送層を経て発光層に達するとともに、透明電極１２２から注入された電子が有機ＥＬ膜１２３の発光層に到達する。従って、発光層内で電子−正孔の再結合が生じる。この時に、所定の波長を持った光が発生し、この光Ｌは、透明基板１２１から外に射出することになる。
なお、導電性の金属膜１７０の材質としては、Ａｕに限らず、半田やＣｕなどを採用することもでき、Ｎｉ下地のＡｕメッキ等であっても構わない。
また導電性の接続部分２２０の材質としては、Ｃｕのほかに、Ａｇやカーボンなどを採用することができる。
【００２９】
次に、図８〜図１１を参照して、図８の有機ＥＬ素子８０に対してフレキシブル配線板５０を電気的に接続するためのディスプレイ装置の製造方法について説明する。
図８において、各電極２００，２０１は、図５に示す有機ＥＬパネル４０の接続ポイントＰに対応した位置に位置している。これらの接続ポイントＰは、図１０において示すように有機ＥＬ膜１２３に重ならない位置に位置している。
このように有機ＥＬ膜１２３と接続ポイントＰに対応する電極２００，２０１が近い位置ではあるが重ならないようにしているのは、導電性の金属膜１７０とフレキシブル配線板５０の導電性の接続部分２２０を電気的に接続する際に、有機ＥＬ膜１２３への熱の伝導を極力防ぐためである。
【００３０】
図１０のステップＳ１〜Ｓ３には、ディスプレイ装置の製造方法の工程例を示している。
図８に示すように、電極部分１８２，１８３の上に導電性の金属膜１７０を形成してある。従って、この導電性の金属膜１７０は、電極部分１８２，１８３を下地とした金属膜である。
図１０の半田部充填ステップＳ１では、たとえば図１１に示すような手順で、フレキシブル配線板の穴（スルーホール）に対して半田部を充填して、接着剤１６０を設ける。
【００３１】
図１１のステップＳＴ１では、パターニングを行う。このパターニングでは、第２基板上（両面）に、必要な配線パターンおよびスルーホール２１０、導電パターン２３０の形成を行う。配線パターン、スルーホール２１０、導電パターン２３０の材質はＣｕが用いられ、必要に応じてさらにＡｕやハンダなどをメッキで付けるのが一般的である。次にステップＳＴ２では、フレキシブル配線板５０のシートの下面の目止めを行う。フレキシブル配線板５０の下面側の導電パターン２３０に例えばＰＩ (ポリイミド)などの耐熱性のあるフィルムを貼り付ける。ステップＳＴ３では、クリーム半田、たとえば無鉛クリーム半田を図８に示すフレキシブル配線板５０のスルーホール２１０に対して印刷して充填する。ステップＳＴ４では、リフロー炉に入れてこの無鉛クリーム半田を溶融する。ステップＳＴ５では、目止め剥がしを行う。この目止め剥がしとは、フレキシブル配線板５０の上の導電パターン２３０およびスルーホール２１０に半田３３０が形成された後、フレキシブル配線板５０の下面に貼られた目止めフィルムをはがす。ステップＳＴ６では、図８のフレキシブル配線板５０の下面に、接着剤１６０を形成する。具体的には両面接着形の接着シートをフレキシブル配線板５０の下面に貼り付ける。ステップＳＴ７では、フレキシブル配線板５０の外形加工を行う。すなわち、フレキシブル配線板５０の外形形状を必要な形状に裁断する。このようにして、図８に示すフレキシブル配線板５０を得ることができ、このフレキシブル配線板５０は半田部３３０を穴２１０に有しているとともに、接着剤１６０が形成されている。
【００３２】
図１０の貼り付けステップＳ２では、図８に示すように接着剤１６０を用いて第２基板であるフレキシブル配線板５０を第２絶縁層１５５の上に位置決めして貼り付ける。この場合に、たとえば図５に示す有機ＥＬパネル４０のアライメントマーク６４と、図８に示すフレキシブル配線板５０の所定の箇所に設けられたアライメントマークとを用いて、これらのアライメントマークを画像認識することで、フレキシブル配線板５０と有機ＥＬ素子８０との位置合わせを行う。
これにより、フレキシブル配線板５０に複数形成された穴２１０と有機ＥＬ素子８０側の導電性の金属膜１７０は、位置決めを行って正確に位置合わせすることができる。
【００３３】
次に、図１０の接続ステップＳ３に移る。この接続ステップＳ３は、貼り付けステップＳ２において、たとえば真空中でフレキシブル配線板５０を貼り付けた後に行う。
図９の状態では、すでに穴２１０には半田部３３０が充填されているが、この半田部３３０に対してレーザ光Ｌを照射する。このレーザ光Ｌは、たとえば半導体レーザ、エキシマレーザあるいはＹＡＧレーザ等のレーザ光を用いることができるが、いずれにしても半田部３３０を溶融できるものであればどのような種類のレーザを用いても勿論構わない。
半田部３３０に対してレーザ光Ｌを照射することで、半田部３３０の好ましくは中心部分が溶融される。この場合に、半田部３３０の中心部分が溶融されればよく、この中心部分だけがフレキシブル配線板５０の下面の位置まで溶かすことでよい。このように半田部３３０をすべて溶かす必要がないので、消費エネルギーを大幅に削減することができるとともに、熱によって有機ＥＬ膜１２３に対して影響を与えることがないのである。溶融した半田部３３０は図９に示すようにフレキシブル配線板５０の導電性の接続部分２２０と、電極２０１の導電性の金属膜１７０を、図９に示すように電気的かつ機械的に接続することができる。
【００３４】
なお、図９に示すようにレーザ光Ｌを半田部３３０に照射する場合には、必要に応じてマスキング材を用いるとよい。マスキング材は、レーザ光Ｌを半田部３３０の中心部分に当てるための穴を有している。以上のような製造方法により、第２基板であるフレキシブル配線板５０の導体パターン２３０は、導電性の接続部分２２０、半田部３３０、および導電性の金属膜１７０を介して、第１基板である透明基板１２１の有機ＥＬ素子８０の陰極１２４と透明電極１２２に対して電気的に接続することができるのである。
【００３５】
フレキシブル配線板５０の片側は、図３に示すようにＩＣ基板３０のコネクタ５９に挿入して接続できる形状となっている。ＩＣ基板３０は、たとえばガラスエポキシ基板や、その他の種類の基板たとえば紙フェノール基板、セラミック基板、鉄等の金属基板などを用いることができるが、もちろんフレキシブルな基板でも構わない。
このＩＣ基板３０にマウントされているコネクタ５９に対してフレキシブル配線板５０の他端部を電気的に接続することにより、ＩＣ基板３０のドライバＩＣ３４は、有機ＥＬパネル４０の図１０に示す有機ＥＬ素子８０に対して電気的に接続することができる。
尚、図３に示すドライバＩＣ３４は、ＩＣ基板３０ではなくフレキシブル配線板５０の上にマウントするようにしても構わない。
【００３６】
本発明のディスプレイ装置およびディスプレイ装置を有する電子機器では、たとえば図９に示すように有機ＥＬ膜１２３に近い位置のところでも、透明電極１２２と陰極１２４に対してフレキシブル配線板５０の導体パターンを電気的に接続することができる。すなわち、半田部３３０をフレキシブル配線板５０の穴２１０にあらかじめ配置しておき、この半田部３３０は局所的にレーザ光を用いて瞬間的に局所的に加熱するだけであるので、熱によって有機ＥＬ膜１２３に影響を与えることがないのである。
【００３７】
本発明の実施の形態では、たとえば図３に示すように、比較的大画面の有機ＥＬパネル４０を区分面４１に区分してそれらの区分面に対応してＩＣ基板３０を設けるようにして、そのフレキシブル配線板５０は、図５に示す電気的な接続領域７０に接続するような構成にしているので、配線抵抗値を少なくし、低消費電力化を図ることができる。
そしてある区分面４１に対応するＩＣ基板３０のいずれかのドライバＩＣ３４に故障が生じたとしても、その該当するＩＣ基板３０のみを交換すればよいので、メンテナンス時のコストの低減が図れる。
【００３８】
図９に示すように、フレキシブル配線板５０と有機ＥＬ素子８０は半田部３３０を用いて確実に電気的かつ機械的に接続することができるので、電気的、機械的な接続信頼性を向上することができる。
上述した実施の形態の電子機器は、いわゆる大型のディスプレイ装置であり、たとえば大型のテレビジョン受像機等に用いることができる。
【００３９】
図１２と図１３は、本発明のディスプレイ装置の別の実施の形態を示している。
図１２のディスプレイ装置の有機ＥＬユニット８２２は、１枚の有機ＥＬパネル８４０と複数個のＩＣ基板３０を有している。各ＩＣ基板３０は、有機ＥＬパネル８４０の裏面に対して直接電気的かつ機械的に接続されている。
図１３に示す実施の形態では、図８の実施の形態と異なるのは、第２基板９５０である。
図１３に示すように、第２基板９５０は、フレキシブル配線板ではなく、通常のフレキシブルでない硬い基板である。第２基板９５０としては、たとえばポリイミド基板、ガラスエポキシ基板、紙フェノール基板、セラミック基板、液晶ポリマー基板、ＰＰＳ（ポニフェニレンサルファイド）基板等であり、リフロー炉に通しても熱に耐え得る基板であれば特に限定されるものではない。
この第２基板の穴（スルーホール）２１０には、半田部が充填されている。第２基板９５０の裏面には接着剤１６０が形成されている。
図１３のその他の構成要素は、図８の対応する構成要素と同じであるのでその説明を用いることにする。
【００４０】
図１４と図１５は、小型の電子機器の一例として携帯電話４１０を示している。この携帯電話４１０は、アンテナ４１４、スピーカ４２２、マイク４２０、操作部４１８、筐体４１２を有している。操作部４１８は、各種の操作ボタンを有している。筐体４１２のフロント部４２４はディスプレイ装置５２０を有している。
このディスプレイ装置５２０は、携帯電話４１０に必要な情報等を表示する部分である。ディスプレイ装置５２０は、図１５に示すように有機ＥＬパネル５４０と、ＩＣ基板５３０を有しており、ＩＣ基板５３０と有機ＥＬパネル５４０は、フレキシブル配線板５０により電気的かつ機械的に接続されている。ＩＣ基板５３０はドライバＩＣ３４を有している。
このように大型の電子機器のみならず、小型の電子機器においても本発明のディスプレイ装置を適用することができる。
【００４１】
本発明の実施の形態では、あらかじめパターンの形成されたフレキ基板上に設けられたスルーホールに半田を充填しておき、この半田にレーザを照射することで半田を溶かして局所的に接合するものである。
【００４２】
本発明の実施の形態では、スルーホールに充填された半田部は、スルーホールとは電気的に接続しているので、有機ＥＬ素子との接合時に溶融すべき領域は極小にできる。従って、照射するレーザ径を絞れるため、熱の発生が少なく、素子への影響が少ない。このため、レーザを小型にでき、電源、冷却部などの付帯設備も小さくでき、設備費用が安価になる。しかもパッドともいう図８の電極２００，２０１のランド径が小さくできる。
【００４３】
ところで本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、ディスプレイ装置を有する電子機器としては、テレビジョン受像機、携帯電話の他に、コンピュータのモニター装置、携帯情報端末、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、携帯用ゲーム機、等に適用することができる。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、フレキシブル配線板の導電性の接続部分を、有機電界発光素子の形成された基板側の導電性の金属膜に対して電気的に確実に接続できるとともに、有機電界発光素子の近くであってもそのような電気的な接続を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のディスプレイ装置を有する電子機器の一例として、大型のテレビジョン受像機を示す斜視図。
【図２】図１の電子機器が有する有機ＥＬユニットの例を示す斜視図。
【図３】図２の有機ＥＬユニットの一部を示す有機ＥＬパネル、ＩＣ基板およびフレキシブル配線板を示す斜視図。
【図４】有機ＥＬパネルの電気的な接続領域の例を示す図。
【図５】図４の有機ＥＬパネルの電気的な接続領域および表示領域の例を示す平面図。
【図６】有機ＥＬパネルの有機ＥＬ素子の構造例を示す斜視図。
【図７】有機ＥＬパネルの一部の構造を示す図。
【図８】第１基板である透明基板側の電極に対して、フレキシブル配線板の半田部を接続する前の状態を示す図。
【図９】フレキシブル配線板の半田部が電極に電気的かつ機械的に接続された状態を示す図。
【図１０】本発明のディスプレイ装置の製造方法の一例を示す図。
【図１１】図１０の半田部充填ステップＳＴ１の例を示す図。
【図１２】本発明の別の実施の形態を示す図。
【図１３】図１２の実施の形態を示す図。
【図１４】本発明のディスプレイ装置の別の実施の形態が電子機器に搭載されている例を示す図。
【図１５】図１４のディスプレイ装置の構造例を示す斜視図。
【図１６】従来の有機ＥＬ素子とフレキシブル配線板の接続例を示す図。
【図１７】図１６の一部分を拡大して示す図。
【符号の説明】
１０・・・電子機器、２０・・・ディスプレイ装置、２２・・・有機ＥＬユニット、３０・・・ＩＣ基板、４０・・・有機ＥＬパネル、５０・・・フレキシブル配線板（第２基板）、７０・・・有機ＥＬパネルの電気的な接続領域、８０・・・有機ＥＬ素子、１２１・・・透明基板（第１基板）、１２２・・・透明電極（陽極）、１２４・・・陰極（カソード）、１７０・・・導電性の金属膜、２００，２０１・・・電極、２１０・・・フレキシブル配線板の穴、２２０・・・導電性の接続部分、３３０・・・半田部、３４０・・・レーザ光、９５０・・・基板（第２基板）、Ｐ・・・接続ポイント
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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