(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子チップと、
電子チップ上に位置する強磁性放射線遮蔽層と、
側壁及び底部を有するチップキャリア部とを備え、
電子チップは強磁性放射線遮蔽層がチップキャリア部の底部の反対側に位置するように同底部の上に搭載され、
強磁性放射線遮蔽層及びチップキャリア部は電子チップを電子部品の外部の放射線から遮蔽し、
電子チップ、強磁性放射線遮蔽層及びチップキャリア部がモールドコンパウンドの内部に収容される、電子部品。
【請求項２】
チップキャリア部は銅および放射線遮蔽材から構成される請求項１に記載の電子部品。
【請求項３】
電子チップと、
電子チップ上に位置する強磁性放射線遮蔽層と、
底部及び側壁を有するチップキャリア部を含むリードフレームとを備え、
前記側壁及び底部は単一構造体を形成し、
前記側壁及び底部は、各々、
銅からなる第１層と、
強磁性放射線遮蔽材により構成される第２層とを備え、
電子チップは強磁性放射線遮蔽層がチップキャリア部の底部の反対側に位置するように同底部の上に搭載され、
電子チップ、強磁性放射線遮蔽層及びチップキャリア部がモールドコンパウンドの内部に収容される、電子部品。
【請求項４】
前記第２層は前記第１層の表面全体を覆う、請求項３に記載の電子部品。
【請求項５】
電子部品を製造する方法であって、
側壁と、底部と、同底部に配置された放射線遮蔽材とを有するチップキャリア部を設ける工程と、
電子チップの上面に隣接した放射線遮蔽層を有する電子チップを設ける工程と、
電子チップをチップキャリア部の上に、電子チップの上面がチップキャリア部から離反して向くように搭載する工程と、
モールドコンパウンドを電子チップ、放射線遮蔽層及びチップキャリア部の周囲に形成する工程とを備える方法。
【請求項６】
前記放射線遮蔽材及び前記放射線遮蔽層は強磁性材料を含む、請求項５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は概して電子部品に関し、特に電子部品のパッケージングに関する。
【背景技術】
【０００２】
ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）はほとんど全ての電子装置においてデータの格納に使用される。スタティックＲＡＭ（ＳＲＡＭ）、ダイナミックＲＡＭ（ＤＲＡＭ）、シンクロナスＤＲＡＭ（ＳＤＲＡＭ）、ダブルデータレートＳＤＲＡＭ（ＤＤＲＳＤＲＡＭ）、磁気抵抗ＲＡＭ（ＭＲＡＭ）、及び他のメモリを含む種々のタイプのＲＡＭが開発されている。ＭＲＡＭは、ＳＲＡＭの高速性とＤＲＡＭの高密度性とを兼ね備えたものである。この組合せにより、ＭＲＡＭは、より多くのデータを格納し、より高速でアクセスされ、消費電力を他のタイプの電子メモリよりも小さくすることができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
金属を磁界の中に置いたときに電気抵抗の変化を示す場合、その金属は磁気抵抗体である。ＭＲＡＭは、ＤＲＡＭ及びＳＲＡＭが使用する電荷の代わりに磁荷を使用してデータビットの状態を記憶する。従って、ＭＲＡＭデバイスは、メモリ破壊を防止するために、厳密な電磁遮蔽を行う必要がある。既存のＭＲＡＭデバイスでは、ＭＲＡＭの製造工程中に遮蔽層を堆積させることによって、このようなデバイスの上面及び下面は電磁遮蔽されているが、既存のＭＲＡＭデバイスでは、このようなデバイスの他の４つの側面の周囲は保護されていない。従って、ＭＲＡＭ及び他の電子素子を遮蔽してＭＲＡＭ及び他の電子素子が電磁放射の影響を受けないようにする機能を備える電子部品が必要になる。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の一実施形態では、電子部品は電子チップ及びチップキャリア部を備え、チップキャリア部は側壁及び底部を有する。電子チップはチップキャリア部の底部の上に搭載され、チップキャリア部は電子部品外部の放射線から電子チップを遮蔽する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００５】
本発明については、次の詳細な記述を添付の図を参照しながら一読することにより一層深く理解できるものと考える。
説明を簡単に、かつ明瞭にするために、描写図は構成の概要を示しており、そして公知の特徴及び技術についての記述及び詳細は本発明を不必要に不明瞭にしないために省略する。また、描写図に示される構成要素は必ずしも寸法通りになっていない。例えば、図に示される構成要素の幾つかの寸法は他の構成要素に対して誇張して描いて本発明の実施形態を理解し易くなるようにしている。異なる図における同じ参照番号は同じ構成要素を指す。
【０００６】
明細書および特許請求の範囲において、「第１」、「第２」、「第３」、「第４」などの用語は、同様な構成要素を区別するために使用し、必ずしも特定の連続する、または時系列に従った順番を表すために使用するのではない。ここで、このように使用する用語は適切な条件の下では入れ替え可能であるので、本明細書に記載する本発明の実施形態が、例えば例示の順番以外の順番で、または本明細書に記載する順番以外の順番で動作することができることを理解されたい。また、「備える」、「含む」、「有する」、及びこれらの全ての変形は包括的な意味を持たせているので、一連の構成要素を備えるプロセス、方法、製品、または装置は必ずしもこれらの構成要素に限定されるのではなく、明らかには列挙されていない、またはこのようなプロセス、方法、製品、または装置に固有の他の構成要素を含むことができるものとする。
【０００７】
明細書及び特許請求の範囲において、「左」、「右」、「前」、「後」、「頂部」、「底部」、「上」、「下」などの用語は、表現上の目的で使用し、必ずしも恒久的な相対位置を表わすために使用するのではない。ここで、このように使用する用語は適切な条件の下では入れ替え可能であるので、本明細書に記載する本発明の実施形態が、例えば例示の配置以外の配置で、または本明細書に記載する配置以外の配置で動作することができることを理解されたい。本明細書において使用する「接続される（ｃｏｕｐｌｅｄ）」という用語は、機械的に、または機械的ではない態様で、直接的に、或いは間接的に接続されるとして定義される。
【０００８】
次に、本発明の一実施形態による電子部品の一部の側面図である図１を参照すると、電子部品１００はチップキャリア部１２０、及びチップキャリア部に搭載される電子チップ１１０を含む。チップキャリア部１２０は複数の側壁１２１と、底部１２２とを有する。チップキャリア部１２０は、リードフレーム、セラミックチップキャリア、グリッドアレイパッケージ、または幾つかの他のチップキャリア構造の一部であり得る。電子部品１００は表面実装型部品またはリード型部品などであってよい。
【０００９】
一実施形態では、チップキャリア部１２０の側壁１２１は電子チップ１１０の高さとほぼ等しい高さを有するので、後続の工程において行なわれるワイヤボンディングを容易に実施することができる。しかしながら他の実施形態では、チップキャリア部１２０の側壁１２１は、電子チップ１１０の高さよりも高くすることもできるし、あるいは低くすることもできる。側壁１２１及び底部１２２を組み合わせることにより、水分の侵入経路を既存のチップキャリア構造におけるそれよりも長くすることができる。従って、側壁１２１及び底部１２２は水分がチップキャリア部１２０に侵入するのを少なくとも部分的に防止する。
【００１０】
側壁１２１は単一構造体を備えてもよいし、あるいは側壁１２１は別個の複数の構造体から構成されてもよい。例えば、側壁１２１は４つの側壁からなり、これらの側壁は各々が個々に底部１２２に取り付けられているが、互いに対しては付着されていないので、４つの側壁の間には底部１２２の角に隙間が残る。別の例として、側壁１２１は４つの側壁を備え、これらの側壁の各々が複数の構造体を備え、各構造体の間に隙間ができるようにすることができる。
【００１１】
側壁１２１が底部１２２と連続して、側壁１２１と底部１２２とが単一構造体を形成することができる。同じ、または別の実施形態では、側壁１２１及び底部１２２は各々がほぼ平坦であり、側壁１２１が底部１２２にほぼ直交するようにすることができる。別の実施形態では、側壁１２１及び底部１２２は、これらの部品の間の角度１３０が、約８０〜１１０度の値を有するように角度をなしてもよい。
【００１２】
電子チップ１１０は、チップキャリア部１２０の底部１２２の上に搭載される。電子チップ１１０はＲＡＭやＤＲＡＭなどのようなメモリデバイスであってもよいし、または電子チップ１１０は別のタイプの集積回路（ＩＣ）であってもよい。別の構成として、電子チップ１１０はパワートランジスタのようなディスクリート素子とすることができる。特定の実施形態では、電子チップ１１０はＭＲＡＭデバイスとすることができる。上に記載したように、ＭＲＡＭデバイスは、電界及び磁界を含む外部放射線を受け易いので、外部放射線の影響を受けないようにデバイスを保護してデータ損失を回避する必要がある。チップキャリア部１２０は電子チップ１１０を遮蔽して電子チップが電子部品１００の外部から生じる放射線の影響を受けないようにする。
【００１３】
チップキャリア部１２０は銅のような金属材料及び放射線遮蔽材から構成され得る。放射線遮蔽材は強磁性材料を含み得る。特定の実施形態では、放射線遮蔽材はニッケル鉄を含み、他の特定の実施形態では、放射線遮蔽材はニッケル鉄コバルトまたは鉄コバルトを含む。放射線遮蔽材は、放射線遮蔽層の各部分が同層の他の各部分とほぼ同じ比率の層成分を含む均質な層とすることができる。放射線遮蔽材がニッケル鉄である実施形態では、その比率は、ニッケルが約２０％であり、鉄が約８０％であり得る。ニッケル鉄コバルトの実施形態では、その比率は、ニッケルが約２０％、鉄が約７０％、コバルトが約１０％であり得る。この技術分野の当業者には明らかなように、他の比率も可能である。
【００１４】
一実施形態では、チップキャリア部１２０は層１２５及び層１２６を備え、この場合、層１２５は銅を含み、層１２６は放射線遮蔽材を含む。一例として、層１２６は約３．８マイクロメートル〜約５．１マイクロメートルの厚さを有することができる。層１２６の放射線遮蔽材は、この技術分野では公知の標準のメッキプロセスを使用して付着させることができる。例えば、放射線遮蔽材がニッケル鉄である実施形態では、ニッケル鉄槽を使用して放射線遮蔽材を付着させることができる。異なる実施形態では、チップキャリア部１２０は、放射線遮蔽材を含む単一層から構成することができる。
【００１５】
使用する特定の放射線遮蔽材は幾つかの基準に基づいて選択することができる。放射線遮蔽材を選択するために使用することができる基準としては次のものが挙げられる。すなわち、放射線遮蔽材と、電子チップ１１０をチップキャリア部１２０に接合させるために使用する接着剤との間の接着特性、チップキャリア部１２０の放射線遮蔽材と金属材料との間の接着特性、及びチップキャリア部１２０の放射線遮蔽材及び金属材料の熱膨張係数（ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅｒｍａｌ  ｅｘｐａｎｓｉｏｎ：ＣＴＥ）である。チップキャリア部１２０の金属材料のＣＴＥは、せん断、湾曲、及び他の応力に関連する効果を低減するために、チップキャリア部１２０の放射線遮蔽材のＣＴＥにできる限り近くなるように適合させる必要がある。
【００１６】
チップキャリア部１２０は表面１２３及び表面１２３とは反対側の表面１２４を有する。図１に示す実施形態では、電子チップ１１０はチップキャリア部１２０の表面１２３の上に搭載され、チップキャリア部１２０の表面１２４は電子部品１００の外側表面の一部を形成する。表面１２４が電子部品１００の外側表面の一部を形成する実施形態は「露出パッド」実施形態と呼ぶことができる。異なる実施形態では、チップキャリア部１２０の全てが完全に封止材料またはモールドコンパウンドの内部に収容される。
【００１７】
一実施形態では、チップキャリア部１２０の層１２６はチップキャリア部１２０の表面１２３にのみ隣接するように配置され、チップキャリア部１２０の表面１２４には設けられない。別の実施形態では、チップキャリア部１２０の層１２６はチップキャリア部１２０の表面１２４にのみ隣接するように配置され、チップキャリア部１２０の表面１２３には設けられない。図１に示す実施形態では、チップキャリア部１２０の層１２６はチップキャリア部１２０の表面１２３及び表面１２４の両方に隣接して配置されている。層１２６は側壁１２１の高さ全体に渡って延び、さらに側壁１２１の頂部を覆うようにして折り返す。層１２６を側壁１２１の頂部を覆って折り返すようにすることによって、層１２６が側壁１２１の頂部のみに設けられる場合に生じ得る被覆領域と比べると、より完全な被覆領域が提供される。より完全な被覆領域を達成することにより、放射線遮蔽効果を高めることができる。一実施形態では、電子部品１００は更に、電子チップ１１０の上に位置する放射線遮蔽材料層１４０を含む。層１４０は、層１２６に含まれる材料と同一の放射線遮蔽材、または層１２６に含まれる材料とは異なる放射線遮蔽材から構成することができる。
【００１８】
次の２つの図を参照すると、図２は本発明の別の実施形態による電子部品２００の一部の上部断面図であり、そして図３は本発明の一実施形態による、図２の切断線３−３に沿った電子部品２００の一部の側部断面図である。図２及び図３の電子部品２００は、電子チップ１１０、チップキャリア部１２０、及び層１４０を備える。図示の実施形態では、電子部品２００はリード型部品を形成する。別の実施形態では、電子部品２００は別の種類のチップキャリア構造を形成することができる。電子部品２００は更に、リード２１０、ボンディングワイヤ２２０、及びモールドコンパウンド２３０を含む。電子チップ１１０はボンディングワイヤ２２０を介してリード２１０に電気的に接続される。別の実施形態ではこの技術分野では公知のように、電子チップ１１０は他の幾つかの方法によりリード２１０に電気的に接続され得る。モールドコンパウンド２３０は電子チップ１１０及びチップキャリア部１２０を包囲するか、またはほぼ包囲する。一実施形態では、チップキャリア部１２０はモールドコンパウンド２３０によって全体が封止される。
【００１９】
次に、本発明の一実施形態による電子部品を製造する方法を示すフロー図である図４を参照すると、方法４００が記載されている。方法４００の工程４１０では、複数のリードと、放射線遮蔽材を有するチップキャリア部とを設ける。一例として、チップキャリア部は図１，図２，及び図３のチップキャリア部１２０と同様とすることができる。別の例として、リードは図２及び図３のリード２１０と同様とすることができる。更に別の例として、放射線遮蔽材は図１，図２，及び図３の層１２６に含まれる放射線遮蔽材と同様とすることができる。
【００２０】
方法４００の工程４２０では、電子デバイスを基板の内部及び基板の上に設けて電子チップを形成する。一例として、電子チップは図１，２，及び３の電子チップ１１０と同様とすることができる。方法４００の工程４３０では、放射線遮蔽材料層を電子チップの上に形成する。一例として、この層は図１，２，及び３の層１４０と同様とすることができる。一実施形態では、この層は電子チップの形成と同時に形成することができる。異なる実施形態では、この層は電子チップの形成の後に形成することができる。
【００２１】
方法４００の工程４４０では、電子チップをチップキャリア部の上に搭載し、方法４００の工程４５０では、電子チップをリードに電気的に接続する。一例として、図２及び図３のボンディングワイヤ２２０のようなボンディングワイヤは工程４５０の間に形成することができる。方法４００の工程４６０では、モールドコンパウンドを電子チップ及びチップキャリア部の周囲に形成する。一例として、モールドコンパウンドは図２及び図３のモールドコンパウンド２３０と同様とすることができる。
【００２２】
本発明について特定の実施形態を参照しながら記載してきたが、この技術分野の当業者であれば、種々の変更を本発明の技術思想または技術範囲から逸脱しない範囲で加え得ることを理解できるであろう。このような変更の種々の例についてはこれまでの記述の中に示してきた。従って、本発明の実施形態の開示は、本発明の技術範囲の例示であり、本発明を制限するものではない。本発明の技術範囲は、添付の請求項が請求する範囲によってのみ規定されるものとする。例えば、この技術分野の当業者にとっては、本明細書で議論した電子部品を多種多様な実施形態において実現することができ、そしてこれらの実施形態の或る実施形態に関する前述の議論が必ずしも全ての考えられる実施形態を完全に記載しているものではないことが容易に理解できるであろう。
【００２３】
更に、効果、他の利点、及び問題解決法が特定の実施形態に関して記載されてきた。しかしながら、効果、利点、問題解決法、及びこのような効果、利点、または問題解決法をもたらし、またはさらに顕著にさせるいずれかの要素が、またはいずれの要素群も、いずれかの請求項または全ての請求項の必須の、必要な、または基本的な特徴、或いは要素であると考えられるべきではない。
【００２４】
請求項の全ての請求要素が本発明にとって欠くことができないものであると考えられ、そして一つ以上の請求要素を置き換えることにより請求する発明を再構成するのであり、請求する発明を修正するのではない。更に、本明細書に開示する実施形態及び限定事項は、それら実施形態及び／又は限定事項が、（１）明示的に請求項において請求されておらず、かつ（２）均等論に基づいて請求項における表現要素及び／又は限定事項の均等物となる、または均等物となる可能性のある場合に、発明の開放の原則に基づいて公衆に開放されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施形態による電子部品の一部の側部断面図。
【図２】本発明の別の実施形態による電子部品の一部の上部断面図。
【図３】本発明の更に一実施形態による、図２の切断線３−３に沿った図２の電子部品の一部の側部断面図。
【図４】本発明の一実施形態による電子部品の製造方法を示すフロー図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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