(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、陽極導電層と、少なくとも一つの間隙式導電配線と、蛍光層とを具え、
該陽極導電層は該基板の表面に位置し、該少なくとも一つの間隙式導電配線は該陽極導電層の外周に位置し、並びに複数の間隙を具えて該陽極導電層の外部配線とされ、該陽極導電層と該間隙式導電配線は相互に接続され、且つ該陽極導電層と該間隙式導電配線の材料はいずれもＩＴＯとされ、該蛍光層は該陽極導電層の表面に位置して電界放出ディスプレイの発光層とされ、導電層の間隙式導電配線の表面が更に酸化クロム層で完全に被覆され、且つ該酸化クロム層の表面は完全にクロム金属層に被覆されて該間隙式導電配線が保護されたことを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板。
【請求項２】
請求項１記載の電界放出ディスプレイの陽極板において、間隙式導電配線の間隙が直線形、曲線形或いは孔形のパターンとされたことを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板。
【請求項３】
請求項１記載の電界放出ディスプレイの陽極板において、陽極導電層と間隙式導電配線が薄膜堆積にリソグラフィー工程を結合する方式か或いはスクリーン印刷方式で形成されることを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板。
【請求項４】
請求項２記載の電界放出ディスプレイの陽極板において、該間隙式導電配線の該間隙のパターンが直線形或いは曲線形とされて配線の線の幅と間隙の幅の比が１：１とされたことを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板。
【請求項５】
請求項２記載の電界放出ディスプレイの陽極板において、該間隙式導電配線の該間隙のパターンが孔形とされ、その孔の総面積対導電配線総面積の比が１：１とされたことを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一種の電界放出ディスプレイの陽極板に係り、特に、三極構造電界放出ディスプレイに適用される導電層に関する。
【背景技術】
【０００２】
電界放出ディスプレイ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙｓ；ＦＥＤｓ）は、大面積、短い画像反応時間、広い視角等の特徴により、伝統的なＣＲＴに代わり広く関係する電子製品に応用されている。ＦＥＤの発光原理は、１０-6ｔｏｒｒより低い高度真空環境下で、電場を利用し、カーボンナノチューブ（Ｃａｒｂｏｎ  Ｎａｎｏ  Ｔｕｂｅ；ＣＮＴ）尖端より電子を引き出し、陽極板のプラス電圧の加速の下で、陽極板の蛍光粉にぶつけて発光（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）現象を発生させる、というものである。伝統的な電界放出ディスプレイのトリオード構造は図１に示されるようであり、真空シール（Ｖａｃｕｕｍ  Ｓｅａｌｉｎｇ）技術により薄膜式の電界放出アレイ（ＦＥＡ）で構成した陰極板（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｐｌａｔｅ）１１０を、厚膜スクリーン印刷法で製造した蛍光粉層を具えた陽極板（ａｎｏｄｅ  ｐｌａｔｅ）１２０と、高真空（１０-6〜１０-7ｔｏｒｒ）の環境下で組合せてなり、現在使用されている真空シール方式は、陽極板１２０のガラス板の膨張係数と近いガラス粉材料を接着層とし、高温工程を利用してガラス粉を溶融させた後に焼結させ、これにより陰極板との間を貼り合わせる。しかし陽極板導電層配線部分（例えば透明導電材料のＩＴＯ）は、表示領域外部に露出してガラス粉と接触しなければならないため、貼り合わせの高温工程中にガラス粉と接触する部分の透明導電材料が損害を受けやすく、回路の運転に影響が生じる。このため、通常は、ガラス粉に接触する部分の透明導電材料１３０の上方に酸化しやすい金属層１４０を堆積させて、底部の透明導電材料１３０を保護している。しかし、ガラス粉に接触する導線に全面式設計が採用されている場合は、ガラス粉との膨張係数の差異により降温過程に熱応力の発生により亀裂が発生しやすく、このため陽極板と陰極板の間の真空室の構築が妨害されて正常作業するディスプレイパネルを順調に製造できなくなる。周知の技術によると、接着層材料の異なる溶剤、分散剤、塑化剤、粘着剤中での化学と物理性質を分析することで、電界放出ディスプレイ中の真空度を改善している。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の主要な目的は、一種の電界放出ディスプレイの陽極板を提供することにあり、それはディスプレイパネルに高温貼り合わせ工程を行なう時に、接着層が導電層配線部分にあって亀裂現象を発生せず、且つ導電層の機能と使用の便利性を妨害せず、並びにパネルの貼り合わせの密着度を高めることができるものとする。
【０００４】
本発明のもう一つの目的は、一種の電界放出ディスプレイを提供することにあり、それは、電界放出ディスプレイの透明導電材料が損壊しにくく、並びに陰極板と陽極板との間に高い真空度を具備し、電界放出ディスプレイの回路の運転に影響を与えないものとする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１の発明は、基板と、陽極導電層と、少なくとも一つの間隙式導電配線と、蛍光層とを具え、
該陽極導電層は該基板の表面に位置し、該少なくとも一つの間隙式導電配線は該陽極導電層の外周に位置し、並びに複数の間隙を具えて該陽極導電層の外部配線とされ、該陽極導電層と該間隙式導電配線は相互に接続され、且つ該陽極導電層と該間隙式導電配線の材料はいずれもＩＴＯとされ、該蛍光層は該陽極導電層の表面に位置して電界放出ディスプレイの発光層とされ、導電層の間隙式導電配線の表面が更に酸化クロム層で完全に被覆され、且つ該酸化クロム層の表面は完全にクロム金属層に被覆されて該間隙式導電配線が保護されたことを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板としている。
請求項２の発明は、請求項１記載の電界放出ディスプレイの陽極板において、間隙式導電配線の間隙が直線形、曲線形或いは孔形のパターンとされたことを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板としている。
請求項３の発明は、請求項１記載の電界放出ディスプレイの陽極板において、陽極導電層と間隙式導電配線が薄膜堆積にリソグラフィー工程を結合する方式か或いはスクリーン印刷方式で形成されることを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板としている。
請求項４の発明は、請求項２記載の電界放出ディスプレイの陽極板において、該間隙式導電配線の該間隙のパターンが直線形或いは曲線形とされて配線の線の幅と間隙の幅の比が１：１とされたことを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板としている。
請求項５の発明は、請求項２記載の電界放出ディスプレイの陽極板において、該間隙式導電配線の該間隙のパターンが孔形とされ、その孔の総面積対導電配線総面積の比が１：１とされたことを特徴とする、電界放出ディスプレイの陽極板としている。
【発明の効果】
【０００６】
本発明は、一種の電界放出ディスプレイの陽極板を提供し、それはディスプレイパネルに高温貼り合わせ工程を行なう時に、接着層が導電層配線部分にあって亀裂現象を発生せず、且つ導電層の機能と使用の便利性を妨害せず、並びにパネルの貼り合わせの密着度を高めることができる。
【０００７】
本発明は、一種の電界放出ディスプレイを提供し、それは、電界放出ディスプレイの透明導電材料が損壊しにくく、並びに陰極板と陽極板との間に高い真空度を具備し、電界放出ディスプレイの回路の運転に影響を与えない。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の電界放出ディスプレイの陽極板は、基板と、該基板の表面に位置する陽極導電層と、陽極導電層の外側に位置し、複数の間隙を具えて該陽極導電層の外部配線とされ、且つ該陽極導電層と相互に接続された少なくとも一つの間隙式導線と、及び、該陽極導電層の表面に位置して電界放出ディスプレイの発光層とされる蛍光層と、を具えている。
【０００９】
本発明の電界放出ディスプレイは、陰極板と、陽極板と、サイドフレームと、接着層とを具えている。該陰極板は、その表面に複数のカーボンナノチューブがあり、電子を発生する。該陽極板は、その表面に導電層と蛍光層を具え、該導電層が陽極導電領域と少なくとも一つの間隙式導線領域を具え、該陽極導電領域が該導電板と該蛍光層の間に挟まれ、プラス電圧が該陽極板に印加されることにより、陰極板が発生した電子が該蛍光層に衝突して発光現象を発生し、且つ該間隙式導電領域が陽極導電領域の外部配線とされる。該サイドフレームは該陰極板と該陽極板の貼り合わせ部分に位置し、該陰極板と該陽極板の間に固定距離を具備させ且つ陽極板の該間隙式導線領域は該陽極板と該サイドフレームの間に位置する。該接着層は、該陽極板と該サイドフレームの接触面間に位置し、該サイドフレームを該陽極板と該陰極板に固定するのに用いられる。
【００１０】
電界放出ディスプレイの工程中、真空室の構築は非常に重要な鍵となる。このため、いかに高温貼り合わせ過程において導電層配線部分に発生しうる亀裂を解決するかが本発明の主要な目的である。陽極板の導電層材質とガラス粉の間の熱膨張係数の違いにより形成される熱応力の発生による亀裂の発生を減らすため、導電層配線パターンは全ブロック型に改められて間隙を具備したパターンとされ、且つ相互間には相当な間隙を維持する設計とされ、線形の配線パターン或いは孔型配線パターンは熱膨張係数の違いによりパネルに発生する熱応力効果を減らして亀裂の発生を防止でき、陽極板と陰極板の間のパターンを全体型から間隙を具えたパターンに改変することができる。且つ相互の間に相当な間隙を維持する設計、例えば線型配線パターン或いは孔型配線パターンは熱膨張係数がパネルに対して発生する熱応力効果を減らして亀裂の発生を防止でき、陽極板と陰極板の間の真空室の構築を破壊させず、ディスプレイ製品の生産を行なうことができる。
【００１１】
本発明の導電層中、塊状導電領域の材料は導電機能を具えた透明材質、通常はＩＴＯとされ、間隙式導電層配線の材料は、通常はＩＴＯ導線に金属層、金属酸化層、或いはそれ以上を組み合わせて形成され、この金属層或いは金属酸化層は間隙式導電層配線のＩＴＯ導線を完全に被覆並びに保護して導電層配線の寿命と配線の特性を改善するのに用いられる。この金属層材料に制限はなく、好ましくは、クロム、アルミニウム、亜鉛とされ、該金属酸化層にも制限はなく、好ましくは、酸化クロム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛とされる。本発明の導電層、金属層、及び金属酸化層の形成方法に制限はなく、薄膜堆積にリソグラフィー工程を組み合わせるか或いはスクリーン印刷方式で形成される。そのうち、金属層と金属酸化層はその他の電界放出ディスプレイ工程の金属層或いは金属酸化層と一つに整合可能で、これにより工程を簡易化することができる。
【００１２】
本発明の電界放出ディスプレイの構造には制限がなく、それは一般に周知の電界放出ディスプレイとされ得て、基本的に、陰極板、陽極板、サイドフレーム、蛍光層、接着層、及び複数のカーボンナノチューブを具えたものとされうる。好ましくは更に複数のトランジスタをディスプレイを制御する画素スイッチとして具えている。陰極板と陽極板の接着層の材料はガラス粉とされ、即ちその膨張係数は陽極のガラス面板に接近し、膨張係数の違いにより発生する亀裂を減少できる。
【００１３】
間隙式導電層配線中、使用されるパターンが線形パターンであれば、それは直線形或いは曲線形とされうる。この導電層線の幅は、素材間の距離比が任意の比例の設計とされ、面板貼り合わせ時に用いるガラス材料と塗布領域の面積により定められ、好ましい導電層線幅は、素材間距離比が１：１とされる。間隙式導電層配線中、使用されるパターンが孔形間隙パターンである時、孔総面積対導電層配線総面積比は１：１とされる。導電層の間隙式導電層配線長さは接着層の幅より大きくなければならず、これにより導電層配線が金属層或いは金属酸化層の保護を受けられ、接着層との直接接触を防止できる。
【実施例１】
【００１４】
本発明の導電層は図２、３、４に示されるようであり、そのうち、図３は図２中の点線５４の拡大図である。本実施例の電界放出ディスプレイは、陰極板１、陽極板２を具え、陰極板１には複数のカーボンナノチューブが設けられて、該カーボンナノチューブは電子を発生し、更に該陰極板１には複数のトランジスタが設けられてそれぞれカーボンナノチューブに対応し電界放出ディスプレイを制御する画素スイッチとされている。陽極板２は、その表面に蛍光層４と導電層５を具えている。該導電層５は薄膜堆積にリソグラフィー工程を結合させて形成されパターンを具えたＩＴＯ導線とされ、並びに塊状導電領域５１と二つの直線形の間隙式導電配線領域５２を具え、塊状導電領域５１は陽極板２と蛍光層４の間に挟まれて正の電圧を陽極板２に印加するのに用いられ、それによりカーボンナノチューブより引き出された電子が加速されて蛍光層４に衝突してルミネッセンス現象を発生する。陰極板１と陽極板２の貼り合わせには、高温４４０℃で陰極板１と陽極板２に塗布したガラス粉接着層６を溶融させ、サイドフレーム３を陰極板１と陽極板２の間に固定して、陰極板１と陽極板２の間に固定距離を具備させる。そのうち、直線形の間隙式導電配線領域５２は陽極板２とサイドフレーム３の間に挟まれて、塊状導電領域５１の外部配線（ｒｕｎｎｅｒ）とされる。間隙式導電配線領域５２にはさらにクロム層（Ｃｒ）１０と酸化クロム（ＣｒＯｘ）層が堆積され、並びにもともと定義されている導電層配線パターンによりクロム層１０と酸化クロム（ＣｒＯｘ）層が導電層配線パターンの上方に置かれてそれを保護し導電層配線５２の寿命等配線特性上を改善する。ガラス粉塗布領域にあって導電層配線５３は全塊形式の設計とされ、陰極板１と陽極板２の貼り合わせ過程で、間隙式導電配線は温度が下がる時に、熱応力により発生する亀裂を減らすことができ、陰極板１と陽極板２の間に高真空度の要求を達成させられる。
【００１５】
本実施例中、間隙式配線パターンの表示領域素子に合わせた製作において酸化クロム（ＣｒＯｘ）８で完全にＩＴＯ導線７を被覆し、その後、さらにクロム（Ｃｒ）９で完全に酸化クロム（ＣｒＯｘ）８を被覆し、さらにリソグラフィーとエッチング工程で間隙式配線を形成する。これは図３に示されるようである。導線長さ９ｍｍはガラス粉の塗布幅５ｍｍより大きく、これにより、ＩＴＯ導線７が直接ガラス粉と接触するのが防止される。このほかＩＴＯ導線７の厚さは１ｋÅで幅は２５０μｍで、クロム（Ｃｒ）９と酸化クロム（ＣｒＯｘ）８の厚さはそれぞれ１．２５ｋÅで、定義された幅は３５０μｍであり、導線の間には並列方式が採用され全部で３５條あり、その間隙は３５０μｍで、ゆえに導線領域範囲の総幅は２４．１５ｍｍであり、間隙式配線中のＩＴＯ導線７は、電気抵抗係数２×１４-4Ωで計算すると、１條のＩＴＯ導線７導線の電気抵抗は７２Ωで３５條のＩＴＯ導線７導線の総抵抗は約２Ωであり、こうして新しい導電層配線機能方面にあって依然として正常使用可能であり、並びにディスプレイの機能設計と抵触することがなく、且つ完全に後続の基板等の駆動回路との接続の便利性及び周囲面板との間の密着の機能に影響を与えることがない。
【実施例２】
【００１６】
本実施例の導電層は図６に示されるようであり、本実施例の電界放出ディスプレイは、陰極板２１、陽極板２２、陰極板２１と陽極板２２のシール部分に位置して陰極板２１と陽極板２２の間に固定距離を具備させるサイドフレーム２３、陽極板２２の表面に位置すると共にサイドフレーム２３の内側に位置する蛍光層、陽極板２２とサイドフレーム２３の接触面及び陰極板２１とサイドフレーム２３の接触面間に位置してサイドフレーム２３を陽極板２２と陰極板２１の間に固定するガラス粉接着層、陰極板２１の表面上に位置して電子を発生する複数のカーボンナノチューブ、陰極板の表面に位置して電界放出ディスプレイを制御する画素スイッチとして用いられる複数のトランジスタを具えている。導電層２５は薄膜堆積にリソグラフィー工程を結合させて形成されパターンを具えた透明導電ガラス（ＩＴＯ導線）とされて陽極板２２に形成され、それは、塊状導電領域２５１と四つの直線形の孔式導電配線領域２５２を具え、塊状導電領域２５１は陽極板２２と蛍光層の間に挟まれて正の電圧を陽極板に印加するのに用いられ、それによりカーボンナノチューブより引き出された電子が加速されて蛍光層に衝突してルミネッセンス現象を発生する。円形孔式の間隙式導電配線領域（孔式導電配線領域２５２）は陽極板２２とサイドフレーム２３の間に挟まれて、塊状導電領域２５１の外部配線とされ、間隙式導電配線の上に更にクロム層１０と酸化クロム（ＣｒＯｘ）層が堆積され、並びにもともと定義されている導電層配線パターンのＩＴＯ導線の上方において、同様の方式と定義パターンによりクロムと酸化クロム（ＣｒＯｘ）２６が導電層配線２５２パターン上方に置かれて導電層配線の寿命等配線特性上を改善する。ガラス粉塗布領域にあって導電層配線は全塊形式の設計とされる。
【００１７】
本実施例中、間隙式導電配線パターンの表示領域に合わせた製作においては酸化クロム（ＣｒＯｘ）で完全にＩＴＯ導線を被覆し、その後、さらにクロム（Ｃｒ）で完全に酸化クロム（ＣｒＯｘ）を被覆し、さらにリソグラフィーとエッチング工程で間隙式配線を形成する。導線長さ９ｍｍはガラス粉の塗布幅５ｍｍより大きく、これにより、ＩＴＯ導線が直接ガラス粉と接触するのが防止される。このほかＩＴＯ導線の厚さは１ｋÅでその間の円孔の直径は３５０μｍで、クロム（Ｃｒ）と酸化クロム（ＣｒＯｘ）の厚さはそれぞれ１．２５ｋÅで、定義された円孔の直径は２５０μｍであり、間隙式導線中のＩＴＯ導線方面にあっては、孔の総面積と導電層配線総面積比は１：１であり、こうして新しい導電層配線機能方面にあって依然として正常使用可能であり、並びにディスプレイの機能設計と抵触することがなく、且つ完全に後続の基板等の駆動回路との接続の便利性及び周囲面板との間の密着の機能に影響を与えることがない。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】周知の全塊式導線設計の陰極板と陽極板のシール表示図である。
【図２】本発明の実施例の間隙式導線設計の陽極板とサイドフレームの正面図である。
【図３】本発明の実施例の間隙式導線設計の陽極板と陰極板のシールの立体図である。
【図４】本発明の実施例の間隙式導線設計の陽極板と陰極板のシールの側面図である。
【図５】本発明の実施例の導電層配線にクロム（Ｃｒ）とＩＴＯ導線の二層の導電材料を用いた表示図である。
【図６】本発明の別の実施例の間隙式導線設計の陰極板と陽極板のシールの立体図である。
【符号の説明】
【００１９】
１１０  陰極板            １２０  陽極板        １３０  透明導電材料
１４０  金属層
１  陰極板                ２  陽極板            ３  サイドフレーム
４  蛍光層                ５  導電層            ６  ガラス粉塗布領域
５１  塊状導電領域        ５２  間隙式導電配線領域  ５３  導電層配線
５４  点線
７  ＩＴＯ導線                ８  酸化クロム            ９  クロム
１０  クロム層
２１  陰極板              ２２  陽極板              ２３  サイドフレーム
２５  導電層              ２５１  塊状導電領域      ２５２  間隙式導電配線領域
２６  酸化クロム層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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