(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
近接露光を行う露光装置を用い、ポジ型のフォトレジスト塗膜が設けられた基板の左右への１枚のフォトマスクを介した２回露光で、該フォトマスクより大きな１画面を有し、継ぎ部にて左右対称なカラーフィルタを製造する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）該フォトマスクは、フォトマスク上の継ぎ部に位置する遮光帯の端部には、遮光帯の内側方向の位置への補正を加えることなく、遮光帯の端部を該継ぎ部に位置させたフォトマスクであり、
２）前記近接露光のギャップ量として、２回露光におけるフォトマスクの位置ズレによって生じた、継ぎ部近傍の照射光が直接照射しないポジ型のフォトレジスト塗膜の部分に、２回露光における両遮光帯の端部での回折光が上記直接照射に相当する照射をもたらすギャップ量を用いることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記フォトマスクのマスクパターンは、配向制御突起形成用のマスクパターンであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
近接露光を行う露光装置を用い、ポジ型のフォトレジスト塗膜が設けられた基板の左右への１枚のフォトマスクを介した２回露光で、該フォトマスクより大きな１画面を有し、継ぎ部にて左右対称なカラーフィルタを製造する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）該フォトマスクは、フォトマスク上の継ぎ部に位置する遮光帯の端部には、遮光帯の内側方向の位置への補正を加えることなく、遮光帯の端部を該継ぎ部に位置させ、
２）フォトマスク上の遮光帯の端部からマスクパターンの遮光帯側端までの間隔は、各露光におけるフォトマスクの位置ズレの絶対値の和に、遮光帯の端部での回折光幅の絶対値を加算した値以上であることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記マスクパターンは、配向制御突起形成用のマスクパターンであることを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタの製造に関するものであり、特に、１枚のフォトマスクを用い、分割露光によって１画面のカラーフィルタを製造しても、液晶表示装置の継ぎ部に表示ムラを観視させることのないフォトマスクを用いた廉価な液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図４は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図５は、図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図４、及び図５に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ（４）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図４、及び図５はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成してブラックマトリックス基板とし、次に、このブラックマトリックス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００４】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００５】
このブラックマトリックス基板の製造には、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜（４３）の形成は、着色画素が形成されたブラックマトリックス基板上
に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
図４、及び図５に示すカラーフィルタ（４）は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して種々な機能、例えば、配向分割機能が付加されるようになった。
【０００８】
従来の液晶表示装置に於いては、液晶分子を一様に配向させるために、液晶を挟持する両基板に設けられた透明導電膜上に、予めポリイミドを塗布し、その表面に一様なラビング処理をしておく。
しかし、多くの液晶表示装置に用いられているＴＮ型液晶においては、原理的に広い視野角を得ることは困難であり、中間調表示状態では斜め視角において光がもれ、コントラストが低下し表示品質が悪化する。すなわち、コントラストが良好な視野角は狭いといった問題を有していた。
【０００９】
このような問題を解決する一技法として、一画素内での液晶分子の配向方向が一方向でなく、複数の方向になるように制御し、複数の方向で均一な中間調表示をするようにした、すなわち視野角の広い、配向分割垂直配向型液晶表示装置（ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ−ＬＣＤ）が開発された。
【００１０】
図６は、このようなＭＶＡ−ＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。図６に示すように、ＭＶＡ−ＬＣＤ（８０）は、液晶分子（２１）を介して配向制御突起（２２ａ）、（２２ｂ）が設けられたＴＦＴ側基板（２０）と、配向制御突起（２３）が設けられたカラーフィルタ（７）とを配置した構造であるが、配向制御突起（２２ａ）、（２２ｂ）及び配向制御突起（２３）は一画素内で互い違いの位置に設けられている。
【００１１】
図６に白太矢印で示すように、電圧印加時の状態では、一画素内で配向制御突起（２２ａ）〜配向制御突起（２３）間の液晶分子は、図中左斜めに傾斜し、配向制御突起（２３）〜配向制御突起（２２ｂ）間の液晶分子は、右斜めに傾斜する。すなわち、ラビング処理に代わり、突起を設けることにより液晶分子の配向を制御するものである。
図６に示す例では、一画素が２分割されたものとなり、一画素内で液晶分子の傾斜方向が２方向になり視野角特性の優れた液晶表示装置となる。
【００１２】
図７（ａ）、（ｂ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤに用いられるカラーフィルタの一例の一画素を拡大して示す平面図、及び断面図である。この例では、配向制御突起（８３）は、一画素内で９０°屈曲させてある。
また、図８（ａ）、（ｂ）は、別な一例の一画素を拡大して示す平面図、及び断面図である。図８（ａ）、（ｂ）に示すように、この別な例は、平面形状が円形の配向制御突起（９３）が形成されたカラーフィルタである。
このようなカラーフィルタを用いた液晶表示装置は、電圧印加時に液晶分子は、いわば無限の方向に傾斜する、すなわち、一画素が無限に分割されたものとなり、図８（ｃ）に示すように、視野角特性の優れた液晶表示装置となる。配向制御突起は、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いて形成される。
【００１３】
図４に示すカラーフィルタ（４）に追加される機能としては、上記配向分割機能の他に、スペーサー機能、高信頼性機能、透過・反射併用機能、分光特性調整機能などの機能が
あげられる。上記諸機能の内、そのカラーフィルタの用途、仕様にもとづき１機能或いは複数の機能が図４に示すカラーフィルタ（４）に追加される。
【００１４】
フォトリソグラフィ法によりカラーフィルタを製造する際の露光には、ガラス基板（４０）のサイズと略同程度のサイズのフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。カラーフィルタの画面全体を１回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
フォトリソグラフィ法によりカラーフィルタを製造する際の露光方法として、この一括露光法は廉価に大量にカラーフィルタを製造することのできる優れた露光法といえる。
【００１５】
しかし、ガラス基板のサイズが次第に大きくなり、５５０ｍｍ×６５０ｍｍを越えて、例えば、１ｍ×１．３ｍ、或いは１．５ｍ×１．８ｍ程度のサイズとなると、このサイズに対応したサイズのフォトマスクを製造する際の制約、及びそのフォトマスクを使用する際の制約が大きなものとなってくる。
従って、１ｍ×１．３ｍ、或いは１．５ｍ×１．８ｍ程度のサイズのガラス基板への露光には、１枚の同一フォトマスクを用い、例えば、カラーフィルタの画面を左右に２分割した分割露光法が採用されることになる。
【００１６】
図１は、分割露光法で製造したカラーフィルタの一例の概略を示す平面図である。図１は、ガラス基板（１０）上に既にブラックマトリックス、着色画素、及び透明導電膜が順次に形成され（図示せず）、続いて配向制御突起（７３）が形成された状態ものである。配向制御突起（７３）の形状は、説明上、円形で表し、また、配向制御突起（７３）は、カラーフィルタの１画面（１１）の全面に形成されているが、図１では、その描画の多くを省略してある。カラーフィルタの１画面（１１）は、実線で示すように、左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）で構成されている。
【００１７】
（Ｘ0 ）、及び（Ｙ0 ）は、各々カラーフィルタ（ガラス基板（１０））の、図１中、上下中央のＸ軸、及び左右中央のＹ軸を表している。また、（Ａ0 ）は、ガラス基板（１０）上に形成された左右のアライメントマークを表している。
また、カラーフィルタの１画面（１１）を構成する配向制御突起（７３）などの位置は、カラーフィルタのＹ軸（Ｙ0 ）に対し左右対称となっている。
【００１８】
図２は、図１に示すカラーフィルタの一例の配向制御突起（７３）を形成する際に用いるフォトマスクの概略を示す平面図である。図２に示すように、フォトマスク（ＰＭ１）において、符号（１２）で示す実線は、上記カラーフィルタの左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）に対応した領域を表している。フォトマスク（ＰＭ１）のこの領域が２回の露光に用いられる。
このパターン領域（１２）内には、配向制御突起（７３）を形成するためのマスクパターン（７５）が全面に設けられている。図２では、その描画の多くを省略してある。      
【００１９】
図２中、（Ｘ1 ）、及び（Ｙ1 ）は、各々フォトマスク（ＰＭ１）のパターン領域（１２）中心を通るＸ軸、及びＹ軸を表している。（Ｙ3 ）は、分割露光によって得られるカラーフィルタの１画面（１１）における左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）との間の継ぎ部に対応したフォトマスク（ＰＭ１）上の継ぎ部の位置を表している。図２中、左側の継ぎ部（Ｙ3 ）の左方には、左遮光帯（１３Ｌ）が、また、右側の継ぎ部（Ｙ3 ）の右方には、右遮光帯（１３Ｒ）が設けられている。
また、（Ａ1 ）は、フォトマスク（ＰＭ１）のＹ軸（Ｙ1 ）上に形成されたアライメントマークを表している。
【００２０】
図１に示す配向制御突起（７３）の形成は、先ず、フォトマスク（ＰＭ１）上のアライメントマーク（Ａ1 ）を、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））上の、図１中、左のアライメントマーク（Ａ0 ）に合わせて第１露光を行う。この際、フォトマスク（ＰＭ１）の右側の継ぎ部（Ｙ3 ）は、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））のＹ軸（Ｙ0 ）に合致している。
この左画面（１１Ｌ）への第１露光の際には、右画面（１１Ｒ）の内、Ｙ軸（Ｙ0 ）近傍の領域はフォトマスク（ＰＭ１）の右遮光帯（１３Ｒ）によって遮光されるが、右画面（１１Ｒ）の大部分は遮光されないので、フォトマスク（ＰＭ１）の光源側にブラインド・シャッター（図示せず）を設け右画面（１１Ｒ）を遮光しておく。
【００２１】
次に、フォトマスク（ＰＭ１）上のアライメントマーク（Ａ1 ）を、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））上の、図１中、右のアライメントマーク（Ａ0 ）に合わせて第２露光を行う。この際、フォトマスク（ＰＭ１）の左側の継ぎ部（Ｙ3 ）は、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））のＹ軸（Ｙ0 ）に合致している。
この右画面（１１Ｒ）への第２露光の際には、左画面（１１Ｌ）を遮光しておくために、フォトマスク（ＰＭ１）の光源側にブラインド・シャッター（図示せず）を設け左画面（１１Ｌ）を遮光しておく。
【００２２】
しかしながら、上記のようにして製造したカラーフィルタを用いた液晶表示装置では、そのＹ軸（Ｙ0 ）、すなわち、継ぎ部（Ｙ3 ）の左右近傍、図１中、上下方向（Ｙ0 −Ｙ0 ’）に継ぎ部（Ｙ3 ）の存在を認識させる表示ムラが観視されることがある。
【００２３】
ポジ型のフォトレジストを用いて分割露光を行った際に、第１露光でのフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレ、及び第２露光でのフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレによって、継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍において、露光されない部分が生じ現像処理後にレジストが残ってしまう場合、或いは、第１露光でのフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレ、及び第２露光でのフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレによって、継ぎ部（Ｙ3 ）近傍の配向制御突起（７３）の一部分が２重露光されてしまい配向制御突起（７３）のパターンの一部分に欠けが生じてしまう場合がある。
このような、レジスト残りや、配向制御突起に欠けが生じると、継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍にて液晶の配向に乱れが発生し、表示画面の継ぎ部に表示ムラが観視されてしまうものと推量されている。
【００２４】
図９は、継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍でのレジスト残りの発生を説明する断面図である。図９は、図１中、符号（Ｓ）で示す継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍を拡大した断面図である。また、図２中、符号（ＳＲ）は、図１に示す継ぎ部の近傍（Ｓ）に対応したフォトマスク（ＰＭ１）の部分を表している。符号（ＳＬ）は、図１に示す継ぎ部の近傍（Ｓ）に対応したフォトマスク（ＰＭ１）の部分を表している。
図１に示す、Ｙ軸（Ｙ0 ）の左側に形成された、左側配向制御突起（７３Ｌ）は、図２に示す、右側の継ぎ部（Ｙ3 ）の左方に設けられているマスクパターン（７５Ｒ）に対応している。また、図１に示す、Ｙ軸（Ｙ0 ）の右側に形成された、右側配向制御突起（７３Ｒ）は、図２に示す、左側の継ぎ部（Ｙ3 ）の右方に設けられているマスクパターン（７５Ｌ）に対応している。
【００２５】
図９は、分割露光を行った際に、第１露光及び第２露光においてフォトマスク（ＰＭ１）に位置ズレがなく、継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍において未露光部が発生せず、従って、現像処理後にレジスト残りがない場合を説明したものである。
図９（ａ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたポジ型のフォトレジストの塗膜（１５）に、フォトマスク（ＰＭ１）を介した第１露光（Ｌ１）を与え、現像処理を行うと左側配向制御突起（７３Ｌ）が形成される。
続いて、図９（ｂ）に示すように、フォトマスク（ＰＭ１）を介した第２露光（Ｌ２）を与え、現像処理を行うと右側配向制御突起（７３Ｒ）が形成される。
【００２６】
第１露光及び第２露光においてフォトマスク（ＰＭ１）には位置ズレがないために、ガラス基板（１０）上の、符号（Ｍ）で示す継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍においてレジスト残りは発生していない。
尚、図９においては、現像処理後の左側配向制御突起（７３Ｌ）、及び右側配向制御突起（７３Ｒ）の断面形状を示してある。
【００２７】
図１０は、分割露光を行った際に、第１露光において白太矢印で示すように、フォトマスク（ＰＭ１）に図１０中、左方への位置ズレが生じ、また、第２露光において白太矢印で示すように、フォトマスク（ＰＭ１）に図１０中、右方への位置ズレが生じ、継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍において未露光部が発生した場合である。図１０（ａ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたポジ型のフォトレジストの塗膜（１５）に、フォトマスク（ＰＭ１）を介した第１露光（Ｌ１）を与え、現像処理を行うと左側配向制御突起（７３Ｌ）が形成される。同時に、右遮光帯（１３Ｒ）の位置ズレ（ａ２）に対応したレジスト残り（１５Ｌ）が生じる。
【００２８】
続いて、図１０（ｂ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたポジ型のフォトレジストの塗膜（１５）に、フォトマスク（ＰＭ１）を介した第２露光（Ｌ２）を与え、現像処理を行うと右側配向制御突起（７３Ｒ）が形成される。同時に、左遮光帯（１３Ｌ）の位置ズレ（ａ２）に対応したレジスト残り（１５Ｒ）が生じる。すなわち、ガラス基板（１０）上の継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍においてレジスト残り（１５Ｌ、１５Ｒ）が生じる。
尚、符号（１４Ｒ）及び（１４Ｌ）は、各々右遮光帯（１３Ｒ）の端部、左遮光帯（１３Ｌ）の端部を表している。また、説明上、第１露光におけるフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレ（ａ２）と、第２露光におけるフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレ（ａ２）は逆方向の等量としてある。
【００２９】
また、図１１は、分割露光を行った際に、第１露光及び第２露光においてフォトマスク（ＰＭ１）に位置ズレがなく、継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍の、左側配向制御突起（７３Ｌ）及び右側配向制御突起（７３Ｒ）おいて配向制御突起の欠けが発生していない場合を説明したものである。
図１１（ａ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたポジ型のフォトレジストの塗膜（１５）に、フォトマスク（ＰＭ１）を介した第１露光（Ｌ１）を与え、現像処理を行うと左側配向制御突起（７３Ｌ）が形成される。
続いて、図１１（ｂ）に示すように、フォトマスク（ＰＭ１）を介した第２露光（Ｌ２）を与え、現像処理を行うと右側配向制御突起（７３Ｒ）が形成される。
【００３０】
第１露光及び第２露光においてフォトマスク（ＰＭ１）には位置ズレがないために、ガラス基板（１０）上の継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍の左側配向制御突起（７３Ｌ）及び右側配向制御突起（７３Ｒ）においては配向制御突起の欠けは生じていない。
【００３１】
また、図１２は、分割露光を行った際に、第１露光において白太矢印で示すように、フォトマスク（ＰＭ１）に図１２中、右方への位置ズレが生じ、また、第２露光において白太矢印で示すように、フォトマスク（ＰＭ１）に図１２中、左方への位置ズレが生じ、継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍の、左側配向制御突起（７３Ｌ）及び右側配向制御突起（７３Ｒ）おいて配向制御突起の欠けが発生した場合を説明したものである。
【００３２】
図１２（ａ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたポジ型のフォトレジス
トの塗膜（１５）に、フォトマスク（ＰＭ１）を介した第１露光（Ｌ１）を与え、現像処理を行うと左側配向制御突起（７３Ｌ）が形成される。同時に、右遮光帯（１３Ｒ）の位置ズレ（ｂ１）に対応した配向制御突起の欠け（１６Ｒ）が生じる。
【００３３】
続いて、図１２（ｂ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたポジ型のフォトレジストの塗膜（１５）に、フォトマスク（ＰＭ１）を介した第２露光（Ｌ２）を与え、現像処理を行うと右側配向制御突起（７３Ｒ）が形成される。
この右側配向制御突起（７３Ｒ）には、上記第１露光によって欠けが発生している。同時に、左遮光帯（１３Ｌ）の位置ズレ（ｂ１）に対応した左側配向制御突起（７３Ｌ）に欠け（１６Ｌ）が生じる。すなわち、ガラス基板（１０）上の継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍の配向制御突起である左側配向制御突起（７３Ｌ）及び右側配向制御突起（７３Ｒ）おいて配向制御突起の欠け（１６Ｌ、１６Ｒ）が生じることとなる。
尚、説明上、第１露光におけるフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレ（ｂ１）と、第２露光におけるフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレ（ｂ１）は逆方向の等量としてある。
【００３４】
上記のように、継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍でのレジスト残りや、配向制御突起の欠けは、ポジ型のフォトレジストを用いて分割露光を行った際に、第１露光及び第２露光におけるフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレに起因するものである。
このような不具合な現象を解消する手法としては、例えば、露光装置として位置ズレの少ない、すなわち、精度の高い露光装置を用いることが容易に考えられる。
例えば、所謂、レンズスキャン方式の露光装置は、フォトマスク画面をスキャンしながら露光を行う露光装置であるが、第１露光と第２露光との位置ズレは、例えば、最大０．７μｍといった高い精度を有する露光装置である。
【００３５】
このことは、例えば、前記継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍でのレジスト残りにおいて、図１０（ｂ）に示す第１露光におけるフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレ（ａ２）に、第２露光におけるフォトマスク（ＰＭ１）の位置ズレ（ａ２）を加算した位置ズレ（２・ａ２）に相当する位置ズレが、０．７μｍであることを意味している。
【００３６】
従って、このような位置ズレの精度の高い露光装置を用いる際には、例えば、図３に示すように、予め、右遮光帯（１３Ｒ）の端部（１４Ｒ）の位置を図３中、右方に、「０．７μｍ／２」以上を移動させた補正（ａ１）を与えておくことによって、補正した右遮光帯（１３Ｒ）の端部（１４Ｒ’）は、図３（ａ）に白太矢印で示す、左方への「０．７μｍ／２」の位置ズレがあっても、レジスト残り（図１０に示す１５Ｌ）は発生しないものとなる。
【００３７】
同様に、予め、左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ）の位置を図３中、左方に、「０．７μｍ／２」以上を移動させた補正（ａ１）を与えておくことによって、補正した左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ’）は、図３（ｂ）に白太矢印で示す、右方への「０．７μｍ／２」の位置ズレがあっても、レジスト残り（図１０に示す１５Ｒ）は発生しないものとなる。
【００３８】
また、このような位置ズレの精度の高い露光装置を用いる際に、左側配向制御突起（７３Ｌ）の欠けや、右側配向制御突起（７３Ｒ）の欠けは、発生することは殆どなくなる。実際のカラーフィルタにおいては、左側配向制御突起（７３Ｌ）の右端の位置、すなわち、図１１に示す左側配向制御突起（７３Ｌ）の継ぎ部（Ｙ3 ）からの距離（１７Ｌ）、及び右側配向制御突起（７３Ｒ）の左右端の位置、すなわち、図１１に示す右側配向制御突起（７３Ｒ）の継ぎ部（Ｙ3 ）からの距離（１７Ｒ）は、共に、例えば、３．５μｍ程度のものである。従って、３．５μｍに対して「０．７μｍ／２」といった小さな位置ズレによっては、最早、配向制御突起に欠けが発生することはない。
【００３９】
一方、前記一括露光法で用いる露光装置は、第１露光で左画面（１１Ｌ）の全体を露光し、次に、第２露光で右画面（１１Ｒ）の全体を露光しカラーフィルタの１画面（１１）全体を露光する装置である。この露光装置では、フォトレジストの塗膜が設けられたガラス基板の上方に、近接露光のギャップを介してフォトマスクが配置され、マスクパターンが形成されたフォトマスクは、その膜面を下方、すなわち、ガラス基板の塗膜に対向させる近接露光が広く採用されている。
【００４０】
この露光装置の価格は、上記レンズスキャン方式の露光装置に比較して廉価であり、また、時間当たりの露光枚数は大きな能力を有している。しかし、第１露光と第２露光との位置ズレは、例えば、最大２μｍ程度であり、上記レンズスキャン方式の露光装置に比較して位置ズレの精度が低いといった難点を有している。
【００４１】
このような精度の低い露光装置を用いる際には、前記レジスト残りへの対応策として、前記図３に示す補正（ａ１）を大きな値にすることによってレジスト残りを解消することができる。
すなわち、右遮光帯（１３Ｒ）の端部（１４Ｒ）の位置の補正、及び左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ）の位置の補正を、前記露光装置の位置ズレ０．７μｍに対応した補正（ａ１）である「０．７μｍ／２」以上に対して、精度の低い露光装置の位置ズレ２μｍに対応した補正（ａ３）として「２．０μｍ／２」以上の補正を行うことによってレジスト残りを解消することができる。
【００４２】
しかし、前記配向制御突起の欠けに関しては、上記「２．０μｍ／２」以上の遮光帯の端部の補正に、上記２μｍの位置ズレが加わり、更に、上記近接露光のギャップに起因する回折光が加わるので、配向制御突起の欠けへの対応策は難しいものとなる。
【００４３】
図１３は、遮光帯の端部に「２．０μｍ／２」以上の補正を行い、フォトマスクに２μｍの位置ズレがあり、更に、遮光帯の端部での回折光が加わった際における配向制御突起の欠けを説明する断面図である。
図１３（ａ）は第１露光の段階、（ｂ）は第２露光の段階を表している。また、図１３（ａ）においては、説明上、フォトマスクが上下に２枚示してある。図１３（ａ）中、上方フォトマスクは、右遮光帯（１３Ｒ）の端部（１４Ｒ）に「２．０μｍ／２」の補正（ａ３）を施した端部（１４Ｒ’）を有し（ａ３＝１．０μｍ）、位置ズレなく配置された場合を表している。また、下方フォトマスクは、この上方フォトマスクに、白太矢印で示す右方向へ位置ズレ（ｂ１）が加わった場合を表している（ｂ１＝２．０μｍ／２＝１．０μｍ）。第１露光は下方フォトマスクを介して行われる。
【００４４】
図１３（ａ）に示す上方フォトマスクにおいて、左側配向制御突起（７３Ｌ）の形成に対応しているマスクパターン（７５Ｒ）の右端の位置は、フォトマスクの継ぎ部（Ｙ3 ）から距離（１７Ｌ）離れた位置にある。言い換えると、上方フォトマスクは位置ズレなく配置されているので、マスクパターン（７５Ｒ）の右端の位置は、Ｙ軸（Ｙ0 ）から距離（１７Ｌ）離れた位置にある。この距離（１７Ｌ）は、例えば、３．５μｍ程度である。
【００４５】
この上方フォトマスクに、白太矢印で示す右方向へ位置ズレ（ｂ１＝１．０μｍ）が加わることにより、下方フォトマスクに示すように、補正（ａ３）を施した端部（１４Ｒ’）の位置はＹ軸（Ｙ0 ）より右方２．０μｍの位置になる（（ａ３＋ｂ１）＝１．０μｍ＋１．０μｍ）。また、この位置ズレによって、マスクパターン（７５Ｒ）の右端の位置は、Ｙ軸（Ｙ0 ）から距離（１８Ｌ）離れた位置になる（１８Ｌ＝（１７Ｌ−ｂ１）＝（３．５μｍ−１．０μｍ）＝２．５μｍ）。
【００４６】
この状態で第１露光が行われるので、左側配向制御突起（７３Ｌ）の右端の位置は、Ｙ軸（Ｙ0 ）から距離（１８Ｌ＝２．５μｍ）離れた位置になる。この際、塗膜（１５）には右遮光帯（１３Ｒ）の端部（１４Ｒ’）での照射光の回折（１９Ｒ）によって幅（ｃ１）の欠け（右側配向制御突起（７３Ｒ）の欠け（１６Ｒ））が生じる。
【００４７】
図１３（ｂ）に示すように、次に与える第２露光においては、左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ’）の位置はＹ軸（Ｙ0 ）より左方２．０μｍの位置になる（（ａ３＋ｂ１）＝１．０μｍ＋１．０μｍ）。また、前記左側配向制御突起（７３Ｌ）の右端の位置は、Ｙ軸（Ｙ0 ）から距離（１８Ｌ＝２．５μｍ）離れた位置にある。すなわち、左側配向制御突起（７３Ｌ）の右端は、左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ’）の左方に位置し、左側配向制御突起（７３Ｌ）の右端と左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ’）の位置の差は０．５μｍである。
【００４８】
しかしながら、左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ’）での照射光の回折（１９Ｌ）によって、左側配向制御突起（７３Ｌ）には幅（ｃ１）の欠け（１６Ｌ）が生じる。この回折（１９Ｌ）の幅（ｃ１）は、近接露光におけるギャップ量によって変動するものであるが、近接露光における本来のギャップ量を小さくして回折の幅を、左側配向制御突起（７３Ｌ）の右端と左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ’）の位置の差である０．５μｍ以下にすることは困難である。
【００４９】
上述のように、位置ズレの精度の低い露光装置を用いた際に、前記右遮光帯の端部（１４Ｒ）、及び左遮光帯の端部（１４Ｌ）への補正を行うことによりレジスト残りの現象は解消することが出来ても、配向制御突起の欠けを解消することは困難なことである。
【００５０】
尚、配向制御突起の欠けに関しては、第１露光と第２露光におけるフォトマスクの位置ズレが等量であり、また、第１露光にては図１３（ａ）中、右方向への位置ズレ、第２露光にては図１３（ｂ）中、左方向への位置ズレの場合において、両配向制御突起の欠け幅が最大となるので、上述のように、最大の際の説明を行った。
【特許文献１】特開２００１−２７２６６７号公報
【特許文献２】特開２００４−３０２４３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００５１】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、液晶表示装置用カラーフィルタをフォトリソグラフィ法により製造する露光装置として、位置ズレの精度の低い、近接露光による露光装置を用いた際に、ポジ型のフォトレジストを用いた、例えば、配向制御突起の形成において、１枚のフォトマスクを用いた近接露光にて、カラーフィルタの１画面を左右に２分割した分割露光を行って配向制御突起の形成しても、カラーフィルタの１画面の継ぎ部においてレジスト残りや、配向制御突起の欠けに起因する表示ムラを観視させることのない液晶表示装置用カラーフィルタを廉価に製造することのできるフォトマスクを用いた、１画面の継ぎ部において表示ムラを観視させることのない廉価な液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００５２】
本発明は、近接露光を行う露光装置を用い、ポジ型のフォトレジスト塗膜が設けられた基板の左右への１枚のフォトマスクを介した２回露光で、該フォトマスクより大きな１画面を有し、継ぎ部にて左右対称なカラーフィルタを製造する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）該フォトマスクは、フォトマスク上の継ぎ部に位置する遮光帯の端部には、遮光帯の内側方向の位置への補正を加えることなく、遮光帯の端部を該継ぎ部に位置させたフォトマスクであり、
２）前記近接露光のギャップ量として、２回露光におけるフォトマスクの位置ズレによって生じた、継ぎ部近傍の照射光が直接照射しないポジ型のフォトレジスト塗膜の部分に、２回露光における両遮光帯の端部での回折光が上記直接照射に相当する照射をもたらすギャップ量を用いることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００５３】
また、本発明は、上記発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記フォトマスクのマスクパターンは、配向制御突起形成用のマスクパターンであることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００５４】
また、本発明は、近接露光を行う露光装置を用い、ポジ型のフォトレジスト塗膜が設けられた基板の左右への１枚のフォトマスクを介した２回露光で、該フォトマスクより大きな１画面を有し、継ぎ部にて左右対称なカラーフィルタを製造する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）該フォトマスクは、フォトマスク上の継ぎ部に位置する遮光帯の端部には、遮光帯の内側方向の位置への補正を加えることなく、遮光帯の端部を該継ぎ部に位置させ、
２）フォトマスク上の遮光帯の端部からマスクパターンの遮光帯側端までの間隔は、各露光におけるフォトマスクの位置ズレの絶対値の和に、遮光帯の端部での回折光幅の絶対値を加算した値以上であることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００５５】
また、本発明は、上記発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記マスクパターンは、配向制御突起形成用のマスクパターンであることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００６０】
本発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、フォトマスク上の継ぎ部に遮光帯の端部を位置させ、近接露光のギャップ量として、継ぎ部近傍の照射光が直接照射しないポジ型のフォトレジスト塗膜の部分に、２回露光における両遮光帯の端部での回折光が直接照射に相当する照射をもたらすギャップ量を用いるので、液晶表示装置用カラーフィルタをフォトリソグラフィ法により製造する露光装置として、位置ズレの精度の低い、近接露光による露光装置を用いた際に、ポジ型のフォトレジストを用いた、例えば、配向制御突起の形成において、１枚のフォトマスクを用いた近接露光にて、カラーフィルタの１画面を左右に２分割した分割露光を行って配向制御突起の形成しても、カラーフィルタの１画面の継ぎ部においてレジスト残りに起因する表示ムラを観視させることのない液晶表示装置用カラーフィルタを廉価に製造することのできるフォトマスクを用いた液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法となる。
【００６１】
また、本発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、フォトマスク上の継ぎ部に遮光帯の端部を位置させ、フォトマスク上の遮光帯の端部からマスクパターンの遮光帯側端までの間隔は、各露光におけるフォトマスクの位置ズレの絶対値の和に、遮光帯の端部での回折光幅の絶対値を加算した値以上であるので、液晶表示装置用カラーフィルタをフォトリソグラフィ法により製造する露光装置として、位置ズレの精度の低い、近接露光による露光装置を用いた際に、ポジ型のフォトレジストを用いた、例えば、配向制御突起の形成において、１枚のフォトマスクを用いた近接露光にて、カラーフィルタの１画面を左右に２分割した分割露光を行って配向制御突起の形成しても、カラーフィルタの１画面の継ぎ部において配向制御突起の欠けに起因する表示ムラを観視させることのない液晶表示装置用カラーフィルタを廉価に製造することのできるフォトマスクを用いた液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法となる。
【００６２】
また、本発明は、上記フォトマスクを用いて製造する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であるので、１画面の継ぎ部において表示ムラを観視させることのない廉価な液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６３】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１４は、本発明によるフォトマスクの一実施例を説明する断面図である。図１４（ａ）は、フォトマスク上の右側の継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍を拡大した断面図である。また、図１４（ｂ）は、フォトマスク上の左側の継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍を拡大した断面図である。図１４（ａ）に示すように、本発明によるフォトマスクにおいては、右遮光帯（１３Ｒ）の端部（１４Ｒ）の位置は、右側の継ぎ部（Ｙ3 ）の位置である。端部（１４Ｒ）にはフォトマスクの位置ズレに起因するレジスト残りを解消するための、右遮光帯（１３Ｒ）の内側方向（矢印方向）への補正は加えていない。
【００６４】
また、図１４（ｂ）に示すように、本発明によるフォトマスクにおいては、左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ）の位置は、左側の継ぎ部（Ｙ3 ）の位置である。端部（１４Ｌ）にはフォトマスクの位置ズレに起因するレジスト残りを解消するための、左遮光帯（１３Ｌ）の内側方向（矢印方向）への補正は加えていない。
【００６５】
図１５は、本発明によるフォトマスクが用いられる状態、すなわち、レジスト残りが解消される状態を説明する断面図である。図１５（ａ）は第１露光の段階、（ｂ）は第２露光の段階を表している。また、図１５（ａ）においては、説明上、フォトマスクが上下に２枚示してある。図１５（ａ）中、上方フォトマスクは、位置ズレなく配置された場合を表している。また、下方フォトマスクは、この上方フォトマスクに、白太矢印で示す左方向（−方向）へ位置ズレ（ａ２Ｒ）が加わった場合を表している。端部（１４Ｒ）の位置は継ぎ部（Ｙ3 ）より−１．０μｍの位置となる（ａ２Ｒ＝−１．０μｍ）。第１露光は下方フォトマスクを介して行われる。
【００６６】
フォトマスクの膜面とフォトレジストの塗膜との間には、近接露光のギャップ（Ｇ１）が設けられている。右遮光帯の端部（１４Ｒ）の位置ズレ（ａ２Ｒ）に対応した塗膜上の領域（２５Ｌ）には、第１露光による照射光は直接には照射していない。しかし、ギャップ（Ｇ１）が設けられているので、端部（１４Ｒ）での回折光（１９Ｒ）は、端部（１４Ｒ）から右方向（＋方向）の塗膜上の領域（２５Ｌ）内に達している。                
【００６７】
図１５（ｂ）に示すように、次に与える第２露光においては、フォトマスクに、白太矢印で示す右方向（＋方向）へ位置ズレ（ａ２Ｌ）が加わった場合を表している。左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ）の位置は継ぎ部（Ｙ3 ）より＋１．０μｍの位置となる（ａ２Ｌ＝＋１．０μｍ）。
左遮光帯の端部（１４Ｌ）の位置ズレ（ａ２Ｌ）に対応した塗膜上の領域（２５Ｒ）には
、第２露光による照射光は直接には照射していない。しかし、ギャップ（Ｇ１）が設けられているので、端部（１４Ｌ）での回折光（１９Ｌ）は、端部（１４Ｌ）から左方向（−方向）の塗膜上の領域（２５Ｒ）内に達している。
【００６８】
この両端部での回折光（１９Ｒ、１９Ｌ）によって、両位置ズレ（ａ２Ｒ、ａ２Ｌ）に対応した塗膜上の領域（２５Ｌ、２５Ｒ）は露光され、現像処理を行うとレジスト残りは解消されたものとなる。
具体的には、図１６に模式的に示すように、回折光（１９Ｒ）の幅（ｃ１Ｒ）が＋１．５μｍ程度、回折光（１９Ｌ）の幅（ｃ１Ｌ）が−１．５μｍ程度の際に、２．０μｍ程度の位置ズレ（ａ２Ｒ＋ａ２Ｌ）の領域（２５Ｌ＋２５Ｒ）内が直接照射に相当する強度となる。
【００６９】
本発明は、近接露光のギャップ量として、両端部での回折光（１９Ｒ、１９Ｌ）が直接照射に相当する照射をもたらすギャップ量を用いることを特徴としている。本発明者は、回折光の幅（ｃ１Ｒ、ｃ１Ｌ）を１．５μｍ程度にする近接露光のギャップ量は１００μｍ程度であることを見出した。
【００７０】
図１７は、請求項３に係わるフォトマスクの一例を説明する断面図である。図１７（ａ）は、フォトマスク上の右側の継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍を拡大した断面図である。また、図１７（ｂ）は、フォトマスク上の左側の継ぎ部（Ｙ3 ）の近傍を拡大した断面図である。図１７（ａ）に示すように、本発明によるフォトマスクにおいては、図１４におけると同様に、右遮光帯（１３Ｒ）の端部（１４Ｒ）の位置は、右側の継ぎ部（Ｙ3 ）の位置である。端部（１４Ｒ）にはフォトマスクの位置ズレに起因するレジスト残りを解消するための、右遮光帯（１３Ｒ）の内側方向（矢印方向）への補正は加えていない。
【００７１】
また、図１７（ｂ）に示すように、本発明によるフォトマスクにおいては、左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ）の位置は、左側の継ぎ部（Ｙ3 ）の位置である。端部（１４Ｌ）にはフォトマスクの位置ズレに起因するレジスト残りを解消するための、左遮光帯（１３Ｌ）の内側方向（矢印方向）への補正は加えていない。
【００７２】
フォトマスク上の右遮光帯（１３Ｒ）の端部（１４Ｒ）からマスクパターン（７５Ｒ）の遮光帯側端までの間隔（２７Ｌ）は、後述する第１露光におけるフォトマスクの位置ズレ（βＲ）の絶対値と第２露光におけるフォトマスクの位置ズレ（ｂ１Ｌ）の絶対値の和に、左遮光帯の端部（１４Ｌ）での回折光（１９Ｌ）の幅（ｃ１Ｌ）の絶対値を加算した値以上である。
また、フォトマスク上の左遮光帯（１３Ｌ）の端部（１４Ｌ）からマスクパターン（７５Ｌ）の遮光帯側端までの間隔（２７Ｒ）は、後述する第１露光におけるフォトマスクの位置ズレ（ｂ１Ｒ）の絶対値と第２露光におけるフォトマスクの位置ズレ（ｂ１Ｌ）の絶対値の和に、右遮光帯の端部（１４Ｒ）での回折光（１９Ｒ）の幅（ｃ１Ｒ）の絶対値を加算した値以上である。
【００７３】
図１８は、請求項３に係わるフォトマスクが用いられる状態、すなわち、配向制御突起の欠けが解消される状態を説明する断面図である。図１８（ａ）は第１露光の段階、（ｂ）は第２露光の段階を表している。また、図１８（ａ）においては、説明上、フォトマスクが上下に２枚示してある。図１８（ａ）中、上方フォトマスクは、位置ズレなく配置された場合を表している。また、下方フォトマスクは、この上方フォトマスクに、白太矢印で示す右方向（＋方向）へ位置ズレ（ｂ１Ｒ）が加わった場合を表している。端部（１４Ｒ）の位置はＹ軸（Ｙ0 ）より＋１．０μｍの位置となる（βＲ＝＋１．０μｍ）。第１露光は下方フォトマスクを介して行われる。フォトマスクの膜面とフォトレジストの塗膜との間には、近接露光のギャップ（Ｇ２）が設けられている。
【００７４】
第１露光によって、現像処理後に得られる左側配向制御突起（７３Ｌ）の右端の位置は、マスクパターン（７５Ｒ）がＹ軸（Ｙ0 ）方向へ位置ズレ（ｂ１Ｒ）した量、近づいた位置になる（ｂ１Ｒ＝＋１．０μｍ）。また、右遮光帯の端部（１４Ｒ）での回折光（１９Ｒ）は、幅（ｃ１Ｒ）をもって端部（１４Ｒ）から右方向（＋方向）の塗膜（１５）上に達している。
【００７５】
図１８（ｂ）においては、説明上、フォトマスクが上下に２枚示してある。図１８（ｂ）中、上方フォトマスクは、位置ズレなく配置された場合を表している。また、下方フォトマスクは、この上方フォトマスクに、白太矢印で示す左方向（−方向）へ位置ズレ（ｂ１Ｌ）が加わった場合を表している。端部（１４Ｌ）の位置はＹ軸（Ｙ0 ）より−１．０μｍの位置となる（ｂ１Ｌ＝−１．０μｍ）。
第２露光は下方フォトマスクを介して行われる。第２露光によって、現像処理後に得られる右側配向制御突起（７３Ｒ）の左端の位置は、マスクパターン（７５Ｌ）がＹ軸（Ｙ0 ）方向へ位置ズレ（ｂ１Ｌ）した量、近づいた位置になる（ｂ１Ｌ＝−１．０μｍ）。また、左遮光帯の端部（１４Ｌ）での回折光（１９Ｌ）は、幅（ｃ１Ｌ）をもって端部（１４Ｌ）から左方向（−方向）の塗膜（１５）上に達している。
【００７６】
図１８に示すように、左側配向制御突起（７３Ｌ）の右端の位置は、第１露光の位置ズレ（ｂ１Ｒ）によって、Ｙ軸（Ｙ0 ）へ近づいた位置にあり（ｂ１Ｒ＝＋１．０μｍ）、また、左遮光帯の端部（１４Ｌ）は、第２露光の位置ズレ（ｂ１Ｌ）によって、Ｙ軸（Ｙ0 ）から離れた位置にあり（ｂ１Ｌ＝−１．０μｍ）、また、その位置の端部（１４Ｌ）での回折光（１９Ｌ）は、幅（ｃ１Ｌ）をもって左方向（−方向）に達している。
【００７７】
しかし、前記のように、フォトマスク上の右遮光帯の端部（１４Ｒ）からマスクパターン（７５Ｒ）の遮光帯側端までの間隔（２７Ｌ）は、第１露光におけるフォトマスクの位置ズレ（ｂ１Ｒ）の絶対値と第２露光におけるフォトマスクの位置ズレ（ｂ１Ｌ）の絶対値の和に、左遮光帯の端部（１４Ｌ）での回折光（１９Ｌ）の幅（ｃ１Ｌ）の絶対値を加算した値以上であるので、左側配向制御突起（７３Ｌ）が二重露光によって、例えば、回折光（１９Ｌ）の影響を受けて欠けることはない。このことは、右側配向制御突起（７３Ｒ）においても同様である。
【００７８】
具体的には、位置ズレの精度は２μｍ程度といった低い精度の露光装置においては、ｂ１Ｒ＝±１．０μｍ、ｂ１Ｌ＝±１．０μｍである。例えば、ｃ１Ｒ＝ｃ１Ｌ＝±１．５μｍとすると、フォトマスク上において遮光帯の端部（１４Ｒ）からマスクパターン（７５Ｒ）の端部までの間隔（２７Ｌ）は、２７Ｌ＞｛〔｜ｂ１Ｒ｜＋｜ｂ１Ｌ｜＋｜ｃ１Ｌ｜〕＝３．５μｍ｝となっている。また、遮光帯の端部（１４Ｌ）からマスクパターン（７５Ｌ）の端部までの間隔（２７Ｒ）は、２７Ｒ＞｛〔｜ｂ１Ｒ｜＋｜ｂ１Ｌ｜＋｜ｃ１Ｒ｜〕＝３．５μｍ｝となっている。
すなわち、遮光帯の端部からマスクパターンの端部までの間隔（２７Ｌ、２７Ｒ）を３．５μｍ以上とすることによって、配向制御突起の欠けを解消することが出来る。
【００７９】
言い換えると、マスクパターンの端部の位置は、遮光帯の端部から（継ぎ部（Ｙ3 から）３．５μｍ程度まで近づけたカラーフィルタを製造することができるものとなる。
【００８０】
上記のように、本願においては、マスクパターンとして配向制御突起形成用のマスクパターンを例にして説明をしたが、マスクパターンとしては配向制御突起形成用のマスクパターンに限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】分割露光法で製造したカラーフィルタの一例の概略を示す平面図である。
【図２】配向制御突起を形成する際に用いるフォトマスクの概略を示す平面図である。
【図３】遮光帯の端部の補正によりレジスト残りを防ぐ説明図である。
【図４】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図５】図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図６】ＭＶＡ−ＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。
【図７】（ａ）、（ｂ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤに用いられるカラーフィルタの一例の一画素を拡大して示す平面図、及び断面図である。
【図８】（ａ）、（ｂ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤの別な一例の一画素を拡大して示す平面図、及び断面図である。
【図９】継ぎ部の近傍でのレジスト残りの発生を説明する断面図である。
【図１０】分割露光を行った際に、継ぎ部の近傍において未露光部が発生した場合の説明図である。
【図１１】分割露光を行った際に、配向制御突起の欠けが発生していない場合の説明図である。
【図１２】分割露光を行った際に、配向制御突起の欠けが発生した場合の説明図である。
【図１３】配向制御突起の欠けを説明する断面図である。
【図１４】本発明によるフォトマスクの一実施例を説明する断面図である。
【図１５】本発明によるフォトマスクが用いられレジスト残りが解消される状態を説明する断面図である。
【図１６】回折光の強度説明する断面図である。
【図１７】請求項３に係わるフォトマスクの一例を説明する断面図である。
【図１８】請求項３に係わるフォトマスクが用いられ配向制御突起の欠けが解消される状態を説明する断面図である。
【符号の説明】
【００８２】
４、７、８、９・・・カラーフィルタ
１０、４０・・・ガラス基板
１１・・・カラーフィルタの１画面
１１Ｌ・・・カラーフィルタの左画面
１１Ｒ・・・カラーフィルタの右画面
１２・・・フォトマスクのパターン領域
１３Ｌ・・・左遮光帯
１３Ｒ・・・右遮光帯
１４Ｌ・・・左遮光帯の端部
１４Ｒ・・・右遮光帯の端部
１４Ｌ’・・・補正した左遮光帯の端部
１４Ｒ’・・・補正した右遮光帯の端部
１５・・・フォトレジストの塗膜
１５Ｌ、１５Ｒ・・・レジスト残り
１６Ｌ、１６Ｒ・・・配向制御突起の欠け
１７Ｌ、２７Ｌ・・・マスクパターンの右端の継ぎ部から距離
１７Ｒ、２７Ｒ・・・マスクパターンの左端の継ぎ部から距離
１９Ｌ、１９Ｒ・・・照射光の回折
２０・・・ＴＦＴ側基板
２１・・・液晶分子
２２ａ、２２ｂ、２３、７３、８３、９３・・・配向制御突起
２５Ｌ、２５Ｒ・・・照射光が直接には照射していない塗膜上の領域
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
７３Ｌ・・・左側配向制御突起
７３Ｒ・・・右側配向制御突起
７５・・・マスクパターン
８０・・・ＭＶＡ−ＬＣＤ
Ａ0 ・・・カラーフィルタ（ガラス基板）のアライメントマーク
Ａ1 ・・・フォトマスク（ＰＭ１）のアライメントマーク
Ｇ１、Ｇ２・・・近接露光のギャップ
Ｌ１・・・第１露光
Ｌ２・・・第２露光
ＰＭ１・・・フォトマスク
Ｘ0 ・・・カラーフィルタ（ガラス基板）のＸ軸
Ｘ1 ・・・フォトマスク（ＰＭ１）のＸ軸
Ｙ0 ・・・カラーフィルタ（ガラス基板）のＹ軸
Ｙ1 ・・・フォトマスク（ＰＭ１）のＹ軸
Ｙ3 ・・・継ぎ部
ｃ１・・・回折の幅
ａ１、ａ３・・・補正量
ａ２、ｂ１・・・フォトマスクの位置ズレ
ａ２Ｌ、ｂ１Ｌ・・・左遮光帯の端部の位置ズレ
ａ２Ｒ、ｂ１Ｒ・・・右遮光帯の端部の位置ズレ
ｃ１Ｌ・・・左遮光帯の端部での回折の幅
ｃ１Ｒ・・・右遮光帯の端部での回折の幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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