(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
無電解めっき方法において、めっき液液面をシート状、板状の蓋体で直接覆い、かつめっき液中に非酸化性ガスをバブリングさせてめっき液中の溶存酸素を１ｍｇ／Ｌ以下まで低減した状態で被めっき物のめっきを行うことを特徴とする無電解めっき方法。
【請求項２】
被めっき物がめっき槽内を移動する請求項１記載の無電解めっき方法。
【請求項３】
蓋体がめっき液液面を５０％以上覆う請求項１または２記載の無電解めっき方法。
【請求項４】
めっき液槽、該めっき液槽内で被めっき物を移動する手段、めっき液槽内に配管された非酸化性ガスバブリング管、及びめっき液液面を直接覆うシート状、板状の蓋体を具備した無電解めっき装置。
【請求項５】
非酸化性ガスバブリング管がめっき槽下方に向けてガス噴出口を備えている請求項４記載の無電解めっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無電解めっき方法、及びその方法に使用する装置に関する。特に、めっき液中にバブリングしながら、めっきする方法及び装置の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
無電解めっきを行うに当たり、窒素などの非酸化性ガスをめっき液中にバブリングして、めっき液中の溶存酸素を除去しながら行うことはすでに公知の技術である（特許文献１、２）。
このバブリングは、溶存酸素の除去によりめっき液の還元作用を高める他、めっき液の攪拌作用により電極付近の濃度分極の発生を防止するなどの効果をもたらし、その結果めっき効率を向上させることが出来るとされている。
【特許文献１】特開昭６３−１３４６７１号公報
【特許文献２】特開平１−１９５２８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、本発明者らが確認したところ、被めっき物を静止状態で無電解めっきした場合には、バブリングの効果は認められるが、無電解めっきを連続的に行うため、被めっき物をめっき槽内を移動させながら無電解めっきする場合には、バブリングの効果は不十分であり、被めっき物へ十分なめっき被膜を形成することが出来ないことが判明した。
本発明は、被めっき物を静止状態で無電解めっきする場合はもとより、被めっき物を移動させながら無電解めっきする場合においても、バブリングの効果を十分に発揮することができる無電解めっき方法及びその方法に使用する無電解めっき装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、前記の静止状態で無電解めっきを行う場合に比べて、被めっき物を移動させながら無電解めっきを行う場合には、バブリングの効果が十分に得られない理由について検討した結果、被めっき物を移動させながら無電解めっきを行う場合には、被めっき物に吸着した触媒を介しためっきされる金属イオンの還元反応が、溶存酸素によって阻害されやすくなる可能性を推測した。さらに検討の結果、めっき液面を大気と遮断することで、大気からめっき液面を通して、取り込まれる酸素量を減らし、めっき液中の溶存酸素濃度をさらに低下させることが有効であることを見出し、本発明に至った。
【０００５】
すなわち、本発明は、
（１）無電解めっき方法において、めっき液液面をシート状、板状の蓋体で直接覆い、かつめっき液中に非酸化性ガスをバブリングさせてめっき液中の溶存酸素を１ｍｇ／Ｌ以下まで低減した状態で被めっき物のめっきを行うことを特徴とする無電解めっき方法。
（２）被めっき物がめっき槽内を移動する前記（１）記載の無電解めっき方法。
（３）蓋体がめっき液液面を５０％以上覆う前記（１）または（２）記載の無電解めっき方法。
（４）めっき液槽、該めっき液槽内で被めっき物を移動する手段、めっき液槽内に配管された非酸化性ガスバブリング管、及びめっき液液面を直接覆うシート状、板状の蓋体を具備した無電解めっき装置。
（５）非酸化性ガスバブリング管がめっき槽下方に向けてガス噴出口を備えている前記（４）記載の無電解めっき装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、無電解めっきにおける非酸化性ガスのバブリングの効果を向上させることができ、特に非めっき物がめっき槽を移動する無電解めっきの場合に顕著に向上させることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明に使用する無電解めっき装置は、一般の無電解めっき装置においてめっき液をバブリングするための配管と液面を覆う蓋体を具備することが重要である。
バブリング配管は、めっき液槽中で効率的に、めっき液が均一に攪拌されるように、めっき槽内の底部付近に設置されることが好ましく、また配管から非酸化性ガスを噴出させる噴出口はめっき液槽の底部に向けて、好ましくは管断面の左右斜め下方に設ける。
【０００８】
また、蓋体は、めっき液面を大気から遮断出来るものであれば特に制限はない。例えば発泡ポリウレタンの板等プラスチック製のシート状、板状のものでよい。
蓋体は、めっき液面の約５０％以上を覆うものが好ましい。さらに好ましくは、めっき液面の約６０％以上を覆うものがより好ましい。さらに、めっき液面の約７０％以上を覆うものが一層好ましい。
【０００９】
本発明に使用する非酸化性ガスとしては、非酸化性ガスであれば制限はなく、水素も使用できるが、アルゴン、窒素あるいは炭酸ガスが特に入手も、また取扱も容易であり好ましい。
本発明によれば、めっき液面を蓋体で覆い大気と遮断したことにより、バブリングの効果を向上することができ、めっき液中の溶存酸素量を１ｍｇ／Ｌ以下まで低減することが可能となり、その結果均一な無電解めっき被膜を効率的に形成することができる。
【実施例】
【００１０】
本発明の無電解めっき方法は、金属の無電解めっきに適用できる。特にニッケル、銅、金、銀、パラジウム、コバルト等の無電解めっきに好適である。
以下に実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
幅15cmのPETフィルムを、ローラーを使用してアルカリ脱脂処理槽、Pd触媒処理槽および無電解ニッケルめっき槽の順に線速度5m/minで動かすことにより、ニッケルめっきを実施した。なお、前記各槽の液量は３０Ｌとした。アルカリ脱脂はギルデオンFK-330(中央化学製)を50g/Lで60℃、3分間行った。Pd触媒処理はPM-A117(日鉱マテリアルズ製)をPd濃度20mg/Lで60℃、３分間行った。無電解ニッケルめっきは硫酸ニッケル六水和物が34g/L、硫酸アンモニウムが40g/L、EDTA・4Hが10g/L、次亜リン酸ナトリウム一水和物が23g/L、ｐHが9.0（アンモニア）、浴温が30℃で4分間行った。各処理の間には水洗槽を設けた。
【００１１】
無電解ニッケルめっき槽の液面を発泡ウレタンフォームを使用して74%蓋をし、1mm径の穴を管径方向断面の斜め下方左右両側に５０個開けた外径19mmの塩ビパイプを１本槽の底に這わせ、窒素ガスをバブリングさせて溶存酸素濃度を低減させながらめっきを行った。この際の窒素バブリング量とめっき液中の溶存酸素濃度の関係は、図１に示すとおりであった。溶存酸素濃度が1.5mg/L以上ではニッケルが全く析出しなかった。1.5mg/Lより低くなるとニッケルが少しずつ析出し始め、1mg/L以下になると全面にニッケルが析出した。
【００１２】
実施例２
無電解ニッケルめっき槽の液面にポリエチレンシートを使用して74%蓋をした以外は実施例１と同様の工程で、PETフィルムにニッケルめっきを実施した。溶存酸素濃度とニッケルめっき析出性の関係は、実施例１と同様であった。
【００１３】
実施例３
無電解ニッケルめっき槽の液面にテフロン( 登録商標）シートを使用して74%蓋をした以外は実施例１と同様の工程で、PETフィルムにニッケルめっきを実施した。溶存酸素濃度とニッケルめっき析出性の関係は、実施例１と同様であった。
【００１４】
実施例４
被めっき物として幅15cmのガラス繊維を用いて、実施例１と同様の工程でニッケルめっきを実施した。溶存酸素濃度とニッケルめっき析出性の関係は、実施例１と同様であった。
【００１５】
実施例５
被めっき物として幅15cmのポリイミドフィルムを用いて、実施例１と同様の工程でニッケルめっきを実施した。溶存酸素濃度とニッケルめっき析出性の関係は、実施例１と同様であった。
【００１６】
比較例１
無電解ニッケルめっき槽の液面に蓋をしなかった以外は実施例1と同様の工程で、PETフィルムにニッケルめっきを実施した。窒素バブリングを行っても溶存酸素濃度は1.5mg/Lまでしか下がらず、ニッケルは全く析出しなかった。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施例、及び比較例に使用した無電解めっき液槽表面を蓋体で覆った場合（実施例１〜５）と覆わなかった場合（比較例１）において、窒素バブリング量とめっき液中の溶存酸素濃度との関係を示すグラフ。
【図２】本発明の無電解めっき装置の概略説明図。
【図１】
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【図２】
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