(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を有する仕切壁で区画された複数の空間と、各空間に設けられた給気手段および排気手段と、前記給気手段および排気手段を制御して前記空間内の圧力を所定の陽圧値に維持する圧力制御手段とを備え、前記複数の空間中に物品に所定の処理を行う処理空間と、その上流側と下流側に物品の搬送空間を配置して各空間内の圧力を制御する空間の圧力制御システムにおいて、
前記処理空間内の圧力を高圧力に制御するとともに、前記搬送空間に前記処理空間の圧力よりも低圧力に制御する低圧力搬送空間と、前記処理空間の圧力と前記低圧力搬送空間の圧力の中間の圧力に制御する中圧力搬送空間とを設けるとともに、前記処理室の上流側に物品の搬送方向に沿って中圧力搬送空間と低圧力搬送空間とを順次配置するとともに、処理室の下流側に物品の搬送方向に沿って低圧力空間と中圧力空間とを順次配置したことを特徴とする空間の圧力制御システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、空間の圧力制御システムに係り、特に、開口部を有する仕切壁で区画された複数の空間をそれぞれ独立して圧力制御を行うようにした空間の圧力制御システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
外部から隔離されたアイソレータ内に充填機等の処理装置を設置し、医薬品等の製造を行うアイソレータシステムが従来から知られている。例えば、医薬品産業では、このようなアイソレータを主として高度な無菌環境を維持するため、あるいは、病原菌や生理活性の強い薬物を取り扱う目的等で使用している。本発明は、外部と隔離されたアイソレータ内で、薬理活性の強い医薬用の粉末を調合したり、容器内に粉末を充填する作業を行う場合に、このような粉末をアイソレータの外部に出さないようにするための技術に関するものである。
【０００３】
前記のように外部から隔離されたアイソレータ内で粉末等の薬理活性の強い物質を取り扱う場合には、アイソレータ内を、開口部を有する仕切壁によって複数の空間に区画し、これら複数の空間のうち中央部付近に位置する空間内に粉末充填機を設置している。そして、従来は、粉末充填機を設置した空間内の圧力を最も高く、この充填部から上流側および下流側に離れるに従って順次圧力が低くなるように、各空間内の圧力を制御していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前記のようにアイソレータ内の中央部付近に配置された粉末を処理する空間内を高圧力に制御し、その前後の空間（高圧力に制御された空間の上流側の空間および下流側の空間）は徐々に低圧力となるような圧力制御を行った場合には、処理空間で飛散したり容器に付着した粉末が前後の空間を通ってアイソレータの外部に出ることを完全に阻止することは出来なかった。
【０００５】
本発明は、前記課題を解決するためになされたもので、医薬用の粉末や、その他薬理活性の強い物質が、アイソレータ等の空間から外部に出てしまうことを確実に阻止することが出来る空間の圧力制御システムを提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる空間の圧力制御システムは、開口部を有する仕切壁で区画された複数の空間と、各空間に設けられた給気手段および排気手段と、前記給気手段および排気手段を制御して前記空間内の圧力を所定の陽圧値に維持する圧力制御手段とを備え、前記複数の空間中に物品に所定の処理を行う処理空間と、その上流側と下流側に物品の搬送空間を配置して各空間内の圧力を制御するものであって、特に、前記処理空間内の圧力を高圧力に制御するとともに、前記搬送空間に前記処理空間の圧力よりも低圧力に制御する低圧力搬送空間と、前記処理空間の圧力と前記低圧力搬送空間の圧力の中間の圧力に制御する中圧力搬送空間とを設けるとともに、前記処理室の上流側に物品の搬送方向に沿って中圧力搬送空間と低圧力搬送空間とを順次配置するとともに、処理室の下流側に物品の搬送方向に沿って低圧力空間と中圧力空間とを順次配置したものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、図面に示す実施の形態により本発明を説明する。図１は、本発明の一実施の形態に係る圧力制御システムによって内部の空間の圧力が制御されるアイソレータの平面配置図、図２は、前記圧力制御システムの回路図である。アイソレータ（全体として符号２で示す）の内部は、開口部４Ａａ、４Ｂａ、４Ｃａ、４Ｄａ、４Ｅａ、４Ｆａ、４Ｇａを有する複数の仕切壁４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ、４Ｅ、４Ｆ、４Ｇによって、複数（この実施の形態では８個）の空間１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８に区画されている。
【０００８】
アイソレータ２内の最も上流側の空間１１（第１ゾーン）は、その上流側に設置された別のアイソレータ６に連結されており、この上流側の別のアイソレータ６から粉末が充填される容器（図示せず）が供給される。前記上流側のアイソレータ６と第１ゾーン１１との間の開口（容器搬入口）はシャッター８によって開閉できるようになっており、このシャッター８を開放して、上流側アイソレータ６に設置されたコンベヤ１０から第１ゾーン１１側に容器が受け渡される。
【０００９】
このアイソレータ２内の最初の空間（第１ゾーン）１１から第７番目の空間（第７ゾーン）１７迄の内部に、メインコンベヤ２０が配置されており、このコンベヤ２０によって前記コンベヤ１０から容器を受け取って搬送する。そして、容器は、第４番目の空間（第４ゾーン）１４内迄搬送され、この空間１４内に設置された粉末充填機（図示せず）によって医薬用の粉末が充填される。従って、第４ゾーン１４が物品の処理空間であり、その前後のゾーン１１、１２、１３、１５、１６、１７が物品の搬送空間になっている。
【００１０】
このアイソレータ２の最後（第８番目）の空間１８はエアシャワー部であり、粉末が充填されて搬送されてきた容器をこの空間１８内のコンベヤ２２によって受け取り、エアを吹き付けて容器に付着していた粉末等を吹き飛ばす。このエアシャワー部１８と、前記第７ゾーン１７との間の仕切壁４Ｇに形成された開口４Ｇａにはシャッター２４が設けられて開閉できるようになっている。
【００１１】
アイソレータ２内の前記各ゾーン（第１ゾーン１１ないし第７ゾーン１７およびエアシャワー部１８）は、独立して圧力制御できるようになっており、それぞれに、一組の給気ブロア１１Ａ、１２Ａ、１３Ａ、１４Ａ、１５Ａ、１６Ａ、１７Ａ、１８Ａおよび排気ブロア１１Ｂ、１２Ｂ、１３Ｂ、１４Ｂ、１５Ｂ、１６Ｂ、１７Ｂ、１８Ｂと、図示しない圧力センサが設けられている。さらに、前記各ゾーン１１〜１８内の圧力を所定の圧力に維持するように、前記吸気ブロア１１Ａ〜１８Ａおよび排気ブロア１１Ｂ〜１８Ｂの給気量および排気量を制御する制御手段（図示せず）が設けられている。なお、前記のように各ゾーンにそれぞれ一組の給気ブロアおよび排気ブロアを設けなくとも良く、二つのゾーンまたはそれ以上のゾーンを一組の給気ブロアおよび排気ブロアによって制御することもできる。
【００１２】
また、前記粉末充填機が設置されている第４ゾーン１４の前後に位置する第３ゾーン１３および第５ゾーン１５には、それぞれエアシャワー用のブロア２６Ａ、２８Ａを有する循環ライン２６、２８が設けられており、第４ゾーン１４で容器内に粉末を充填した際にその空間内に飛散した粉末や、容器に付着した粉末等を吹き落とすようになっている。
【００１３】
この実施の形態では、各空間（各ゾーン１１〜１８）内の圧力がそれぞれ独立して制御されており、第１ゾーン１１は４０Ｐａ陽圧（つまり大気圧プラス４０Ｐａの圧力）に維持されており、次の第２ゾーン１２は１５Ｐａ陽圧、第３ゾーン１３は５０Ｐａ陽圧になるようにそれぞれ制御されている。そして、粉末充填機が設置されている第４ゾーン１４は、このアイソレータ２内で最も高圧である８０Ｐａの陽圧に維持されている。さらに、この第４ゾーン１４の下流側の第５ゾーン１５は５０Ｐａ、第６ゾーン１６は１５Ｐａ、第７ゾーン１７は４０Ｐａの陽圧をそれぞれ維持するように制御されている。また、このアイソレータ２内の最も下流側の、エアシャワー部１８は１０Ｐａの陽圧になっている。なお、このアイソレータの上流側に連結されている別のアイソレータ６は、１００Ｐａの陽圧を維持するように制御されている。
【００１４】
前記構成にかかるアイソレータ２では、区画された各ゾーン１１〜１８内がそれぞれ前述の圧力に制御されており、上流側の別のアイソレータ６から供給されてきた容器は、４０Ｐａ陽圧に維持された第１ゾーン１１、１５Ｐａ陽圧の第２ゾーン１２、そして５０Ｐａ陽圧の第３ゾーン１３を順次通過して、充填部である第４ゾーン１４に搬入される。この第４ゾーン１４には粉末充填機が設置されており、この粉末充填機によって医薬用の粉末が容器内に充填される。粉末が充填された容器は、第４ゾーン１４から、下流側の５０Ｐａ陽圧に維持された第５ゾーン１５、１５Ｐａ陽圧の第６ゾーン１６、４０Ｐａ陽圧の第７ゾーン１７を順次経て、最後のエアシャワー部１８に送られ、エアシャワーを浴びた後このアイソレータ２から排出される。
【００１５】
前述のように第４ゾーン１４は、このアイソレータ２内で最も高い圧力（８０Ｐａ）に制御されており、容器内へ粉末を充填する際に、この空間内に飛散した粉末は、この第４ゾーン１４よりも低い圧力（５０Ｐａ）に制御されている第３ゾーン１３および第５ゾーン１５に流れ出す。これら第３ゾーン１３の上流側の第２ゾーン１２、および第５ゾーン１５の下流側の第６ゾーン１６は、このアイソレータ２内で最も低圧（１５Ｐａ）に制御されており、前記飛散した粉末はさらにこれら第２ゾーン１２および第６ゾーン１６に流れ出す。しかしながら、第２ゾーン１２の上流側の第１ゾーン１１と第６ゾーン１６の下流側の第７ゾーン１７は、前記第２ゾーン１２および第６ゾーン１６内の圧力よりも高い圧力（４０Ｐａ）に制御されており、充填部である第４ゾーン１４から流れ出してきた粉末は、これら第１ゾーン１１および第７ゾーン１７に流れ出すことはなく、第２ゾーン１２および第６ゾーン１６内に閉じこめられる。
【００１６】
本実施の形態に係るアイソレータ２は、仕切壁４Ａ〜４Ｇによって区画された各ゾーン１１〜１８内を前記のような圧力勾配、つまり、粉末充填機が設置された充填部（第４ゾーン１４）を最も高い圧力に制御するとともに、その上流側および下流側に最も低圧力のゾーン（第２ゾーン１２および第６ゾーン１６）を設け、さらにその外側に前記高圧力（８０Ｐａ）と低圧力（１５Ｐａ）との中間の圧力（４０Ｐａ）に設定した中圧力ゾーン（第１ゾーン１１および第７ゾーン１７）を設けたので、充填部での充填作業時に飛散した粉末がアイソレータ２の外部に出てしまうことがない。
【００１７】
なお、前記実施の形態では、最も高圧力に制御された第４ゾーン１４と最も定圧力に制御された第２ゾーン１２および第６ゾーン１６との間に、それぞれ５０Ｐａ陽圧に制御された第３ゾーン１３および第５ゾーンを設けているが、これらのゾーンは必ずしも設けなくとも良い。いずれにしても、本発明は、高圧力に制御された粉末充填等の処理空間の下流側に低圧力のゾーンと中圧力のゾーンとを順次設けるとともに、前記処理空間の上流側に低圧力のゾーンと中圧力のゾーンとを順次設ければ良い。また、前記実施の形態で示した各ゾーンの圧力の数値は一例であり、その他の圧力に制御することもできる。さらに、前記実施の形態では、アイソレータ内を開口部を有する仕切壁によって複数の空間に区画した場合について説明したが、複数のアイソレータ同士を連結して一つのアイソレータとして扱う場合にも本発明を適用できることはいうまでもない。
【００１８】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、開口部を有する仕切壁で区画された複数の空間と、各空間に設けられた給気手段および排気手段と、前記給気手段および排気手段を制御して前記空間内の圧力を所定の陽圧値に維持する圧力制御手段とを備え、前記複数の空間中に物品に所定の処理を行う処理空間と、その上流側と下流側に物品の搬送空間を配置して各空間内の圧力を制御する空間の圧力制御システムにおいて、前記処理空間内の圧力を高圧力に制御するとともに、前記搬送空間に前記処理空間の圧力よりも低圧力に制御する低圧力搬送空間と、前記処理空間の圧力と前記低圧力搬送空間の圧力の中間の圧力に制御する中圧力搬送空間とを設けるとともに、前記処理室の上流側に物品の搬送方向に沿って中圧力搬送空間と低圧力搬送空間とを順次配置するとともに、処理室の下流側に物品の搬送方向に沿って低圧力空間と中圧力空間とを順次配置したことにより、前記処理空間からその下流側および上流側の低圧力の空間に流れ出した粉末等の薬理活性が強い物質は、この低圧力の空間のさらに下流側または上流側に配置された空間が中圧力のため、前記低圧力の空間内に閉じこめられて外部に流れ出すことがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る空間の圧力制御システムによって制御されるアイソレータの全体の配置を示す平面図である。
【図２】前記空間の圧力制御システムの回路図である。
【符号の説明】
２    アイソレータ
４Ａ〜４Ｇ    仕切壁
４Ａａ〜４Ｇａ    開口部
１１Ａ〜１８Ａ    給気ブロア
１１Ｂ〜１８Ｂ    排気ブロア
１１    中圧力の搬送空間（第１ゾーン）
１２    低圧力の搬送空間（第２ゾーン）
１４    処理空間（第４ゾーン）
１６    低圧力の搬送空間（第６ゾーン）
１７    中圧力の搬送空間（第７ゾーン）
【図１】
0004770062.tif 000002
【図２】
0004770062.tif 000003