(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性粒子が含まれた被処理液を収容する液貯留部を備えたセパレータ本体と、
前記セパレータ本体内に設けられたマグネットドラム機構と、を備えたマグネットセパレータであって、
前記マグネットドラム機構は、
水平方向に延びる軸線を中心に回転し、上部が前記被処理液の液面上に露出する円筒形のドラムと、
前記ドラムの内側に該ドラムの内周面と対向して配置され、回転する前記ドラムに対して回転しないように前記セパレータ本体に固定され、前記ドラムの外周面の周方向の一定の範囲に前記磁性粒子を吸着可能な磁場領域を形成するマグネットと、
前記ドラムの外周面の底部側に形成され、前記被処理液が通る液流通部と、
前記ドラムの上部で前記磁場領域から周方向に離れた位置に形成される非磁場領域に配置され、前記ドラムの外周面に付着した前記磁性粒子を前記非磁場領域にて前記セパレータ本体の外部に導くための掻き板と、を有し
前記掻き板は、前記ドラムの軸線方向に沿って前記ドラムの外周面に対し非接触の状態で対向する先端部を有し、この先端部と前記ドラムの外周面との間に、前記ドラムの外周面上に形成される前記被処理液の膜の厚さよりも大きい間隙を形成したことを特徴とするマグネットセパレータ。
【請求項２】
前記掻き板の下方から前記ドラムの外周面に沿って前記ドラムの底部に向かうとともに、前記液流通部内に延びたガード板を備え、このガード板と前記ドラムの外周面との間に前記マグネットの磁界が及ぶ隙間が形成され、前記掻き板の下方にて前記ドラムから剥離した磁性粒子を前記隙間内で前記磁場領域まで案内することができるようにしたことを特徴とする請求項１に記載のマグネットセパレータ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理液から磁性粒子を分離除去するマグネットセパレータに関する。
【背景技術】
【０００２】
機械加工においては、冷却や潤滑を目的に大量のクーラントが使用される。このクーラントには、例えば切粉や研削屑のような磁性粒子が加工時に混入する。この混入した磁性粒子はクーラントのなかでスラッジ（汚泥）となる。クーラントは、使用後にそのスラッジを分離除去することで繰り返し使用される。
【０００３】
特許文献１には、クーラント内のスラッジを捕捉して排出するマグネットセパレータが開示されている。このセパレータは、円筒形のドラムと、このドラムの内側に設けられたマグネットとを備えている。スラッジは、上記マグネットの磁力によりドラムの外周面に吸着される。このセパレータには、スラッジに含まれる液分を絞る絞りロールと、液分が絞られたスラッジを上記ドラムの外周面から掻き取る掻き板（スラッジ剥離板）とが設けられている。
【特許文献１】登録実用新案第３０２４６７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献に記載のような掻き板は、ドラムの外周面に押し当てられている。すなわち、ドラムの外周面に付着したスラッジを取りこぼさないように、掻き板の先端部をドラムの外周面に密着させている。
【０００５】
ところで油性クーラントの処理を行う場合、ドラムの外周面には油膜が形成される。この油膜は、スラッジの量が比較的多いときは、絞りロールの作用によってセパレータ本体の液貯留部へ戻される。しかしながら、加工が行われていない時や、加工中でもスラッジの量が比較的少ないときは、絞りロールの作用では油膜があまり除去されず、ドラムの外周面に多くの油膜が残る。この油膜は掻き板によって掻き取られ、スラッジボックスに流れ込むことになる。つまり上記のような掻き板を用いると、被処理液の持ち出し（すなわち被処理液が目減りする現象）が生じる。
【０００６】
この対策としては、絞りロールの硬度を大きくしたり、絞りロールをより強くドラムに押し当てるなどして絞り効果を高めることが考えられる。しかしながら、これらの対策は機械的なグレードアップを必要とし、そのため大きなコストアップを伴う。その一方でその効果は限定的なものであると思われ、抜本的な対策とはいえない。
【０００７】
本発明の目的は、被処理液の持ち出しを抑制することができるマグネットセパレータを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一つの形態に係るマグネットセパレータは、磁性粒子が含まれた被処理液を収容する液貯留部を備えたセパレータ本体と、前記セパレータ本体内に設けられたマグネットドラム機構とを備える。前記マグネットドラム機構は、水平方向に延びる軸線を中心に回転し、上部が前記被処理液の液面上に露出する円筒形のドラムと、前記ドラムの内側に該ドラムの内周面と対向して配置され、回転する前記ドラムに対して回転しないように前記セパレータ本体に固定され、前記ドラムの外周面の周方向の一定の範囲に前記磁性粒子を吸着可能な磁場領域を形成するマグネットと、前記ドラムの外周面の底部側に形成され、前記被処理液が通る液流通部と、前記ドラムの上部で前記磁場領域から周方向に離れた位置に形成される非磁場領域に配置され、前記ドラムの外周面に付着した前記磁性粒子を前記非磁場領域にて前記セパレータ本体の外部に導くための掻き板とを有する。前記掻き板は、前記ドラムの軸線方向に沿って前記ドラムの外周面に対し非接触の状態で対向する先端部を有し、この先端部と前記ドラムの外周面との間に、前記ドラムの外周面上に形成される前記被処理液の膜の厚さよりも大きい間隙を形成している。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、被処理液の持ち出しを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、本実施形態に係るマグネットセパレータ１（以下、単にセパレータ１）の全体を示す。セパレータ１は、例えば研削盤などの工作機械に用いられた使用後のクーラント（いわゆるダーティ液）からスラッジを分離除去する装置である。
【００１１】
なおここで「スラッジ」とは、クーラントと混合されて汚泥のような状態になった磁性粒子の集まりのことをいう。磁性粒子とは、磁力により引き付けられる性質をもつ粒子であり、例えば金属の切り屑や切粉、研削屑などである。また、このスラッジ（すなわち磁性スラッジ）を含むダーティ液は、本発明でいう被処理液の一例である。
【００１２】
図１に示すように、セパレータ１は、セパレータ本体２、およびマグネットドラム機構３を備える。セパレータ本体２は、ダーティ液Ｄ（図２参照）を収容する液貯留部１１を備え、ダーティ液Ｄを一時的に貯留する。図２に示すように、このセパレータ本体２には、出口１２が設けられている。
【００１３】
出口１２は、クリーンタンク（図示しない）に向けて開口しており、マグネットドラム機構３によってスラッジ８１が濾過されたクーラント（いわゆるクリーン液Ｃ）をクリーンタンクへ向けて排出する。
【００１４】
図２に示すように、マグネットドラム機構３は、セパレータ本体２内に設けられている。このマグネットドラム機構３は、マグネットドラム２０、液流通部２１、絞りロール２２、および掻き板２３を備える。マグネットドラム２０は、ドラム２５と、マグネット２６とを有する。
【００１５】
図１に示すように、ドラム２５は、軸線が水平方向に延びる円筒形をしている。図２に示すように、ドラム２５は、例えばその下部３１がダーティ液Ｄに浸かるとともに、その上部３２がダーティ液Ｄの液面上に露出するようにセパレータ本体２内に設けられている。ドラム２５は、駆動モータ３４（図１参照）によって、上記軸線を中心に図２中のＡ方向に回転される。ドラム２５の一例は、ステンレス鋼等の非磁性材料からなるが、その材料は金属、非金属を問わない。
【００１６】
図２に示すように、マグネット２６は、ドラム２５の内側に該ドラム２５の内周面２５ｂと対向して配置されている。マグネット２６は、前記セパレータ本体２に固定され、回転する前記ドラム２５に対して回転しないようになっている。図２に示すように、マグネット２６は、ドラム２５の周方向において部分的に設けられている。これによりマグネット２６は、ドラム２５の外周面２５ａの周方向の一定範囲に磁性粒子８１ａを吸着可能な磁場領域４１を形成する。
【００１７】
磁場領域４１は、例えばマグネット２６に対向する領域であり、マグネット２６の磁界の影響を比較的強く受ける領域である。図２に示すように、磁場領域４１は、例えばドラム２５のなかで、ダーティ液Ｄに浸かる下部領域から絞りロール２２に対向する上部領域の一部に亘って形成される。
【００１８】
またドラム２５の外周面２５ａには、ドラム２５の上部３２で磁場領域４１から周方向に離れた位置に非磁場領域４２が形成される。非磁場領域４２は、例えばマグネット２６に対向しない領域であり、マグネット２６の磁界の影響がほとんど無い、若しくは上記磁場領域４１に比べてマグネット２６の磁界の影響が小さい領域である。図２に示すように、非磁場領域４２は、掻き板２３に対向する領域に形成される。
【００１９】
また、図２に示すように、セパレータ１の内部には底板５１が設けられている。底板５１は、液貯留部１１の隔壁の一部を構成するとともに、ドラム２５の外周面２５ａに沿って配置されている。この底板５１により、ドラム２５の外周面２５ａの底部側には、ダーティ液Ｄが通る液流通部２１が形成されている。すなわち底板５１によって、液貯留部１１に収容されたダーティ液Ｄをドラム２５の外周付近へ導く流路が形成されている。底板５１の先端とドラム２５との間には、濾過出口５２が形成されている。
【００２０】
絞りロール２２は、例えば硬質ゴムのような弾性体で形成されるとともに、例えば絞りロール調整スプリング５４（図１参照）によってマグネットドラム２０に向けて加圧されている。絞りロール２２は、ドラム２５の外周面２５ａに吸着したスラッジ８１に含まれる液分を絞る。
【００２１】
次に、本実施形態に係る掻き板２３について詳しく説明する。  
掻き板２３は、ドラム２５の上部３２に形成される非磁場領域４２に配置され、ダーティ液Ｄの外部においてドラム２５の外周面２５ａに対向している。掻き板２３は、ドラム２５の外周面２５ａに付着した磁性粒子８１ａをこの非磁場領域４２にてセパレータ本体２の外部に導くための部材である。
【００２２】
図３に示すように、掻き板２３は、上記非磁場領域４２から後述するスラッジシュート５５に亘って設けられている。掻き板２３は、ドラム２５に対向する先端部６１と、スラッジシュート５５に対向する後端部６２とを有する。図１および図３に示すように、本実施形態に係る掻き板２３は、その先端部６１および後端部６２が中央部に対してわずかに折れ曲がっている。なお掻き板２３の形状は、上記例に限られるものではなく、折れ曲がりを有しない平板や、種々の折れ曲がりやその他形状を含むものであってもよい。
【００２３】
図３に示すように、掻き板２３は、例えばドラム２５の外周面２５ａの接線方向において、ドラム２５の回転方向とは反対側からドラム２５に向かい合っている。図１に示すように、掻き板２３の先端部６１は、ドラム２５の軸線方向に沿って延びており、この軸線方向に沿ってドラム２５の外周面２５ａに対向している。なお「軸線方向に沿って対向する」とは、掻き板２３の先端部６１が上記軸線方向と平行に延びており、上記軸線方向の各領域でドラム２５の外周面２５ａに対向することをいう。掻き板２３は、例えばドラム２５の略全幅に亘って設けられている。
【００２４】
図３に示すように、掻き板２３の先端部６１は、ドラム２５の外周面２５ａから浮かされて、ドラム２５の外周面２５ａに対し非接触の状態で対向する。掻き板２３は、その先端部６１とドラム２５の外周面２５ａとの間に小間隙Ｓ（すなわち隙間）を形成する。上述したように、掻き板２３の先端部６１は、ドラム２５の軸線方向に沿ってドラム２５の外周面２５ａに対向している。この小間隙Ｓは、上記軸線方向の全領域において掻き板２３の先端部６１とドラム２５の外周面２５ａとの間に形成されている。
【００２５】
小間隙Ｓの一例は、０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの隙間である。なお小間隙Ｓの大きさは、上記数値に限定されるものではない。油性クーラントの処理を行う場合、ドラム２５の外周面２５ａには例えば厚さ１０μｍ程度の油膜が形成される。小間隙Ｓの大きさは、少なくともこの油膜の厚さよりも大きければよい。なお小間隙Ｓの大きさは、ドラム２５の真円度や各部品の部品公差、取付け誤差などの許容量に応じて任意の大きさに適宜設定可能である。
【００２６】
図１および図３に示すように、掻き板２３は、セパレータ本体２に例えばねじ６４で固定される。掻き板２３は、例えばねじ６４を目一杯締めたときにその先端部６１がドラム２５の外周面２５ａとの間に小間隙Ｓを空けるように形成されている。なお掻き板２３の取付構造はねじ止めに限らず、その取り付け手法は問わない。
【００２７】
図２および図３に示すように、掻き板２３の下方には、ガード板７１が設けられている。ガード板７１は、掻き板２３の下方からドラム２５の外周面２５ａに沿うように円弧状に湾曲するとともに、ドラム２５の底部７３に向かって延びている。ガード板７１の先端部は、上記濾過出口５２から液流通部２１の内部に入り込み、ドラム２５の磁場領域４１に対向する領域まで延びている。すなわちガード板７１は、掻き板２３の下方においてドラム２５の非磁場領域４２に対向する第１の端部７１ａと、液流通部２１の内部においてドラム２５の磁場領域４１に対向する第２の端部７１ｂとを有する。
【００２８】
このガード板７１とドラム２５の外周面２５ａとの間には、隙間Ｔが形成されている。この隙間Ｔのなかで例えば磁場領域４１に臨む領域は、マグネット２６の磁界が及ぶ隙間Ｔａとなる。すなわちマグネット２６の磁界が及ぶ隙間Ｔａの一例は、ガード板７１とドラム２５の磁場領域４１との間に形成される。この隙間Ｔａの長さは、特に限定されるものではなく、非磁場領域４２においてマグネットドラム２０から吸引されなくなったスラッジ８１が再びマグネットドラム２０に吸着されるのに十分な長さであればよい。
【００２９】
これによりガード板７１は、小間隙Ｓに入り込み掻き板２３の下方にてドラム２５から剥離した磁性粒子８１ａを隙間Ｔ内で磁場領域４１まで案内することができる。すなわちガード板７１は、ドラム２５から剥離した磁性粒子８１ａがクーラントに再び混入することを避けるための部材である。
【００３０】
図１ないし図４に示すように、スラッジシュート５５は、マグネットドラム２０とは反対側から掻き板２３に隣接している。スラッジシュート５５は、掻き板２３によって掻き取られた磁性粒子８１ａを、スラッジボックス（図示しない）に向けて導く。
【００３１】
次に本実施形態に係るセパレータ１の作用について説明する。  
図２に示すように、ダーティ液Ｄは、まずセパレータ本体２の液貯留部１１に流入する。このダーティ液Ｄは、底板５１に案内されて、マグネットドラム２０と底板５１との間を流れる（図２中、黒矢印参照）。この過程でダーティ液Ｄに含まれるスラッジ８１（すなわち磁性粒子８１ａ）は、マグネット２６の磁力によりのドラム２５の外周面２５ａに吸着される。これにより、ダーティ液Ｄは濾過されてスラッジ８１が除去されたクリーン液Ｃとなり、出口１２からクリーンタンクに向けて排出される。一方、ドラム２５の外周面２５ａに吸着されたスラッジ８１は、ドラム２５の回転に伴って外周面２５ａと一体に移動する。
【００３２】
ここで、図４は、セパレータ１の作用を模式的に示す。図４に示すように、ドラム２５が回転するに伴い、ドラム２５の外周面２５ａがダーティ液Ｄの中を通過する。この通過する過程で、ドラム２５の外周面２５ａには次々と磁性粒子８１ａが吸着され、スラッジ８１が成長する。すなわちドラム２５の外周面２５ａがダーティ液Ｄの中を通過する過程で、スラッジ８１が徐々に大きなダマになる。このスラッジ８１の成長は、例えばそれぞれ磁化された複数の磁性粒子８１ａが互いに引かれ合うことで実現される。
【００３３】
ドラム２５に吸着されたスラッジ８１は、ドラム２５の回転と共に上方に移動し、絞りロール２２によってスラッジ８１中の液分が絞られる。この絞られた液分は、再び液貯留部１１に戻る。
【００３４】
絞りロール２２を通過したスラッジ８１は、マグネット２６の影響をほとんど受けない非磁場領域４２に入る。このとき、いままでマグネット２６の磁力によりドラム２５の外周面２５ａに張り付いていたスラッジ８１がマグネット２６の磁力から開放される。これにより、スラッジ８１は、ドラム２５の外周面２５ａの上にただ載っているだけの状態になる。
【００３５】
スラッジ８１を構成する個々の磁性粒子８１ａは、掻き板２３の先端部６１とドラム２５の外周面２５ａとの間の小間隙Ｓに比べて小さいが、上記のように集合して成長したスラッジ８１は、掻き板２３の先端部６１に引っ掛かる程度の大きさを有する。換言すれば、スラッジ８１が先端部６１に引っ掛るように、上記間隙Ｓの大きさが調整されている。ドラム２５の外周面２５ａの上にただ載っているだけのスラッジ８１は、掻き板２３にわずかにでも接触すると、掻き板２３に引っ掛かり、その移動が止まることになる。
【００３６】
ここで、ドラム２５の回転に伴い、掻き板２３の先端部６１には次から次へと後続のスラッジ８１が到着する。前方のスラッジ８１が掻き板２３の先端部６１に引っ掛っている場合、その引っ掛ったスラッジ８１は、後方から到着するスラッジ８１に押されて掻き板２３の上に乗り上げる。または、前方のスラッジ８１が掻き板２３の先端部６１に引っ掛っている場合、後方から到着したスラッジ８１が前方で引っ掛かっているスラッジ８１の上に乗り上げ、そのまま掻き板２３の上に乗り上げる。
【００３７】
このようにしてスラッジ８１は、掻き板２３に掻き取られる。掻き板２３に掻き取られたスラッジ８１は、スラッジシュート５５に案内されてスラッジボックスへ排出される。なお本明細書における「掻き取る」または「掻き」とは、ドラム２５の外周面２５ａをこするという意味ではなく、上記のようにスラッジ８１をこすって取る、すなわちスラッジ８１を引っ掛け取るという意味で用いている。
【００３８】
例えば油性クーラントの処理を行う場合、ドラム２５の外周面２５ａには油膜が形成される。この油膜は、例えば１０μｍ程度の厚さを有し、さらに自身の表面張力によりドラム２５の外周面２５ａに張り付いている。このような油膜は、掻き板２３の先端部６１とドラム２５の外周面２５ａとの間の小間隙Ｓを通過し、掻き板２３に掻き取られることなく、再びセパレータ本体２の内部へ戻ることになる。
【００３９】
また、スラッジ８１を構成する個々の磁性粒子８１ａは、掻き板２３の先端部６１とドラム２５の外周面２５ａとの間の小間隙Ｓよりも小さい。そのため、磁性粒子８１ａの一部は、掻き板２３に掻き取られることなく、上記小間隙Ｓに入り込む。ここで、掻き板２３が配置されているのは非磁場領域４２であるため、ドラム２５の外周面２５ａの上にただ載っているだけの磁性粒子８１ａの一部のなかには、小間隙Ｓを通過した後にドラム２５の外周面２５ａから剥離するものもある。
【００４０】
このようなドラム２５の外周面２５ａから剥離した磁性粒子８１ａは、ガード板７１によって案内され、ガード板７１とドラム２５との間の隙間Ｔに導かれる。この隙間Ｔに導かれた磁性粒子８１ａは、マグネット２６の磁力が及ぶ隙間Ｔａにおいてドラム２５の外周面２５ａの磁場領域４１に再び吸着され、ドラム２５の外周面２５ａと一体に移動するようになる。つまりこの磁性粒子８１ａは、濾過されたクーラントに混じらない。
【００４１】
この再びドラム２５に吸着された磁性粒子８１ａは、ドラム２５の外周面２５ａが再びダーティ液Ｄに晒される過程で、ダーティ液Ｄに含まれる磁性粒子８１ａが集まりスラッジ８１が成長する。そして、掻き板２３に引っ掛る程度の大きさまで成長したスラッジ８１は、ドラム２５の回転に伴い再び上方へ導かれたときに掻き板２３に掻き取られる。なおこのサイクルは、掻き板２３とドラム２５との間の小間隙Ｓにスラッジ８１が入り込んだ場合も同様である。
【００４２】
このような構成のセパレータ１によれば、被処理液の持ち出し（例えば油の持ち出し）を抑制することができる。すなわち、本実施形態に係るセパレータ１は、掻き板２３の先端部６１をドラム２５の外周面２５ａに非接触の状態で対向させ、この先端部６１とドラム２５の外周面２５ａとの間に小間隙Ｓを形成している。このようなセパレータ１によれば、ドラム２５の外周面２５ａに形成される油膜が掻き板２３によってほとんど掻き取られることなく、油の持ち出しを抑制することができる。
【００４３】
一方で、上記のように掻き板２３の先端部６１とドラム２５の外周面２５ａとの間に小間隙Ｓを形成しても、スラッジ８１が成長する現象を利用することでスラッジ８１を十分に取り出すことができる。これにより、掻き板２３の本来の機能を十分に確保することができる。
【００４４】
さらに述べると、掻き板２３の先端部６１がドラム２５の外周面２５ａに対して非接触であると、（１）被処理液の持ち出しが減る。（２）ドラム２５の外周面２５ａに傷が付きにくい。（３）掻き板２３が磨耗しにくい、との効果がある。
【００４５】
掻き板２３の先端部６１がドラム２５の外周面２５ａに密着していると、掻き板２３とドラム２５との間に摩擦に基づく磨耗などが生じる。特に研削加工に使用されたクーラントの濾過を行う場合、クーラントには磁性粒子８１ａの他に砥石から剥がれた微細な砥粒などの非金属あるいは非磁性金属が混ざっていることもある。この砥粒が掻き板２３の先端部６１とドラム２５の外周面２５ａとの間に挟まり、掻き板２３およびドラム２５の双方が磨耗したり傷付いたりするおそれがある。
【００４６】
掻き板２３が磨耗したり傷付いたりすると、スラッジ８１を効果的に掻き取れなくなるおそれがある。ドラム２５の外周面２５ａが磨耗したり傷付いたりすると、絞りロール２２による絞り効果が低下し、結果的に被処理液の持ち出しが増えるおそれがある。
【００４７】
一方、本実施形態のようにドラム２５に対して掻き板２３を非接触状態で対向させることで、上記のような問題が生じるおそれを抑制することができる。すなわち本実施形態に係る掻き板２３を用いることで、マグネットドラム表面の硬化処理、絞りロールのゴム硬度アップ、絞りロール調整スプリングの強化などのような機械的なグレードアップを施すことなく、被処理液の持ち出しを抑制することができる。
【００４８】
掻き板２３の下方からドラム２５の外周面２５ａに沿ってドラム２５の底部に向かうとともに、液流通部２１内に延びたガード板７１を備え、このガード板７１とドラム２５の外周面２５ａとの間にマグネット２６の磁界が及ぶ隙間Ｔａを形成すると、掻き板２３の下方にてドラム２５から剥離した磁性粒子８１ａをガード板７１によって隙間Ｔ内でドラム２５の磁場領域４１まで案内することができ、この磁性粒子８１ａが濾過されたクーラントに混ざることを抑制することができる。
【００４９】
特に本実施形態のように、液流通部２１内のクーラントは、掻き板２３の下方領域ではドラム２５から離れる方向に流れているため、ガード板７１がないとドラム２５の外周面２５ａから剥離した磁性粒子８１ａがドラム２５から離れる方向に流されてしまうおそれがある。しかしながらガード板７１を備えることで、クーラントの上記流れに流されることなく、磁性粒子８１ａをドラム２５の磁場領域４１まで導くことができる。
【００５０】
以上、本発明の一つの実施形態に係るマグネットセパレータについて説明したが、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。この発明は、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。なお本発明に係るマグネットセパレータは、水溶性のクーラントの濾過に用いることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一つの実施形態に係るセパレータを示す斜視図。
【図２】図１中に示されたセパレータのＦ２−Ｆ２線に沿う断面図。
【図３】図２中に示された掻き板周りを拡大して示す断面図。
【図４】図１中に示されたセパレータの作用を模式的に示す断面図。
【符号の説明】
【００５２】
Ｓ…小間隙、１…マグネットセパレータ、２…セパレータ本体、３…マグネットドラム機構、１１…液貯留部、２０…マグネットドラム、２１…液流通部、２３…掻き板、２５…ドラム、２５ｂ…内周面、２５ａ…外周面、２６…マグネット、４１…磁場領域、４２…非磁場領域、６１…先端部、７１…ガード板。
【図１】
0004810549.tif 000002
【図２】
0004810549.tif 000003
【図３】
0004810549.tif 000004
【図４】
0004810549.tif 000005