(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電空間を介して互いに対向するように配置された第１および第２の基板を備え、
前記第１の基板における前記放電空間側の主面に、表示電極と、前記表示電極を被覆する誘電体層と、前記誘電体層よりも前記放電空間側に配置された保護層と、が形成されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記保護層が、ＢａおよびＳｒから選ばれる少なくとも１種の元素と、Ｓｉと、Ｍｇと、Ｏとからなる複合酸化物を含み、
前記複合酸化物が、Ｓｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記保護層が、前記複合酸化物とＭｇＯとを含む請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記保護層が、前記複合酸化物を含む層と、ＭｇＯ層とを含む多層膜である請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記保護層が、前記複合酸化物とＭｇＯとを含む単一層の膜である請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記保護層が、ＭｇＯを含む層と、当該層における前記放電空間側の表面に配置された前記複合酸化物の粒子とを含む請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示デバイスなどの用途に用いられるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、高精細および高輝度を実現できる画像表示デバイスとして、ＰＤＰの開発が進められている。ＰＤＰは画面の大型化が容易であり、今後のさらなる普及が期待される。
【０００３】
図７に、現在主流である、非特許文献１に記載の３電極面放電型ＰＤＰの一般的な構造を示す。図７に示すＰＤＰ５１は、放電空間３１を介して対向するように配置された一対の基板（前面板１および背面板２）を備える。前面板１における放電空間３１側の主面には、維持電極１１および走査電極１２からなる表示電極１３と、表示電極１３を被覆する誘電体層１４と、誘電体層１４よりも放電空間３１側に配置された保護層１５とが形成されている。保護層１５は、放電空間３１と誘電体層１４とを隔離するように形成されており、放電空間３１内の放電から、より具体的には、放電により生じたプラズマや紫外線から、誘電体層１４を保護する役割を担っている。
【０００４】
背面板２における放電空間３１側の主面には、アドレス電極２３と、アドレス電極２３を被覆する誘電体層２２と、アドレス電極２３と平行にストライプ状に配置された隔壁２１と、隣り合う隔壁２１間に配置された蛍光体層２６とが形成されている。蛍光体層２６は、放電空間３１において発生した紫外線により発光する蛍光体を含み、当該蛍光体の種類により、青色、緑色または赤色に発光する。ＰＤＰ５１では、これら３原色の発光時間を制御して、フルカラーの画像表示を実現している。
【０００５】
前面板１および背面板２は、表示電極１３とアドレス電極２３とが各基板の主面から見て互いに直交するように、対向して配置されており、隔壁２１によって分割された放電空間３１における１つの表示電極１３（１組の維持電極１１および走査電極１２）に対応する領域が１つの放電セルとなる。１つの放電セルは１つの画素に対応し、複数の放電セル、即ち複数の画素、が、入力信号に対応するパターンで発光することにより、画像が表示される。
【０００６】
放電空間３１には、放電ガスとして、通常、ＮｅとＸｅとの混合ガスが充填されており、放電ガスにおけるＸｅの含有率を大きくすることにより、紫外線の発生量を増大させ、ＰＤＰの発光効率を向上できることが知られている。
【０００７】
ＰＤＰ５１における放電セルの駆動方法の一例について、図８を参照しながら説明する。図８は、放電セルの各電極へ印加する駆動電圧波形の一例を示すタイムチャートである。
【０００８】
ＰＤＰ５１を構成する全放電セル（全画素）を初期化するセットアップ期間２５０では、初期化パルス１１０として、全放電セルの走査電極１２に正の電圧を徐々に印加する。初期化パルス１１０の印加により、放電空間３１における走査電極１２とアドレス電極２３との間に微弱な放電が発生し、保護層１５における走査電極１２近傍の表面に負の電荷が、保護層１５における維持電極１１近傍の表面、および、蛍光体層２６におけるアドレス電極２３近傍の表面に正の電荷が、それぞれ蓄積される。セットアップ期間２５０では、ＰＤＰを構成する全放電セルに対して同一の初期化パルス１１０が印加されるため、上記電荷の蓄積量は、全放電セル間でほぼ同一となる。
【０００９】
発光させたい放電セルを選択するアドレス期間２６０では、データパルス１００として、発光させたい放電セルＡのアドレス電極２３に正の電圧を順に印加する。このとき、データパルス１００の印加と同時に、走査パルス１２０として、当該セルＡの走査電極１２に負の電圧を印加する。セルＡへのデータパルス１００および走査パルス１２０の印加により、走査電極１２とアドレス電極２３との間に微弱な放電が発生し、セルＡの保護層１５における走査電極１２近傍の表面に正の電荷が、保護層１５における維持電極１１近傍の表面に負の電荷が、それぞれ蓄積される。セルＡ以外の放電セルでは、データパルス１００および走査パルス１２０が印加されないため、保護層１５に蓄積された電荷はセットアップ期間２５０の状態に保持される。
【００１０】
アドレス期間２６０において選択したセルＡを所定の時間発光させる維持期間２７０では、維持パルス１３０として、全放電セルの走査電極１２に正の電圧を印加する。このとき、維持パルス１３０として印加する電圧の大きさを、各放電セルの走査電極１２と維持電極１１との間に放電が発生する電圧の大きさよりもわずかに低く設定する。セルＡでは、保護層１５における走査電極１２近傍の表面に正の電荷が、維持電極１１近傍の表面に負の電荷が蓄積されているため、走査電極１２と維持電極１１との間には維持パルス１３０よりも大きい電圧が印加される。このため、セルＡにおける走査電極１２と維持電極１１との間に放電が発生し、放電により生じた紫外線により蛍光体層２６が発光する。また、この放電により、保護層１５における走査電極１２近傍の表面に蓄積される電荷と、維持電極１１近傍の表面に蓄積される電荷との正負が逆転する。一方、セルＡ以外の放電セルでは、保護層１５における走査電極１２近傍の表面に負の電荷が、維持電極１１近傍の表面に正の電荷が蓄積されているため、走査電極１２と維持電極１１との間には維持パルス１３０よりも小さい電圧が印加されることになり、放電が生じず、蛍光体層２６は発光しない。
【００１１】
ここで、図８に示すように、維持パルス１３０として、維持電極１１への正の電圧の印加、および、走査電極１２への正の電圧の印加を交互に繰り返せば、各放電ごとに保護層１５における走査電極１２近傍の表面に蓄積される電荷と、維持電極１１近傍の表面に蓄積される電荷との正負が逆転するため、セルＡを連続的に発光させることができる。
【００１２】
維持期間２７０において発光させた放電セルＡの発光を停止させるイレース期間２８０では、消去パルス１４０として、維持パルス１３０よりもパルス長が短い電圧を維持電極１１に印加する。消去パルス１４０では、上記逆転が生じるほど十分な時間だけ電圧が印加されないため、セルＡの発光を停止できる。
【００１３】
ＰＤＰ５１では、誘電体層１４により表示電極１３が被覆されているが、この被覆構造により、誘電体層１４へ電荷を蓄積させて、放電セルの駆動電圧を低減できる。保護層１５は、誘電体層１４を保護する役割の他に、放電セル駆動時の放電現象のトリガーとしての役割も担っている。
【００１４】
放電セルにおける放電現象には、「放電の時間的なばらつき」が存在する。各電極にパルス電圧を印加した場合、一般に、電圧の立ち上がりから放電の発生まである程度の遅れが生じる。この遅れを、一般に「放電遅れ」と呼ぶ。放電遅れの時間は、各放電セル間で異なり、また、同一の放電セルであっても放電ごとに一定ではない。放電の時間的なばらつきとは、このように放電セルおよび放電ごとに異なる「放電遅れのばらつき」を反映していると考えられる。
【００１５】
放電の時間的なばらつきは、放電現象のトリガーとなる電子の量を増大させることにより低減できることが知られている。このため、保護層１５には、通常、トリガーとなる電子の放出量が多い酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が用いられる。ＭｇＯにおける電子の放出は、ＭｇＯ中に多数存在する結晶欠陥に基づくと考えられる。
【００１６】
発光効率の向上などを目的として、放電ガスにおけるＸｅの含有率を増大させた場合、ＭｇＯからなる保護層を用いたとしても電子の放出量が十分ではなく、放電の時間的なばらつきが増大する傾向を示すことがある。
【００１７】
ＭｇＯからなる保護層における電子の放出量を増大させるために、例えば、特許文献１には、ＭｇＯにおけるＭｇの一部を、Ｆｅ、ＣｒおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元素により置換する技術が開示されている。また例えば、特許文献２には、３原子％以上の水素原子を含有し、かつ、Ｎａなどの不純物元素の含有率を４００ｐｐｍ以下としたＭｇＯとする技術が開示されている。しかし、これらの文献に開示されている技術では、ＭｇＯ中の結晶欠陥を増大できるものの、ＭｇＯ層としての構造、即ち、保護層としての構造、が脆くなり、放電に伴って生じるプラズマによる変質などの劣化が進みやすくなると考えられる。
【非特許文献１】内池平樹、御子柴茂生共著、「プラズマディスプレイのすべて」、（株）工業調査会、１９９７年５月１日刊行、ｐ７７−ｐ８０
【特許文献１】特開平８−２３６０２８号公報
【特許文献２】特開２００３−３１１３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
近年、より高精細な画像表示のために、ＰＤＰにおける画素数が増加する傾向にあるが、画素数、即ち、放電セル数、が増加すると、アドレス期間２６０において印加するデータパルス１００の数も増加するため、データパルス１００のパルス幅を小さくする必要がある。しかし、単に当該パルス幅を小さくするだけでは、上述した「放電の時間的なばらつき」により、データパルス１００の印加による放電が発生しない確率が増大する。放電が発生しない場合、本来なら発光するはずの放電セルが非発光となり、また、このような非発光現象は確率的に発生するため、ざらついた画像が表示されることになる。この画像のざらつきは、一般に「ちらつき」と呼ばれ、白色を表示する場合に強く認められる。この傾向は、放電ガスにおけるＸｅの含有率を増加させた場合に、放電の時間的なばらつきが大きくなるため特に顕著となる。
【００１９】
また、セットアップ期間２５０において印加する初期化パルス１１０は、全放電セルに印加される。即ち、初期化パルス１１０の印加による放電は黒色を表示する際にも発生しており、当該放電の強度が過度に強くなると、放電セルの輝度が高くなることで黒色ではなく灰色が表示される。このため、初期化パルス１１０の印加による放電の強度は、できるだけ弱いことが望ましい。通常のＰＤＰでは、徐々に増加する電圧を初期化パルス１１０として印加することにより、当該放電強度の低減が図られている。
【００２０】
初期化パルス１１０の印加により生じる放電が、放電の時間的なばらつきにより過度に遅れると、初期化パルス１１０の特性上、走査電極１２に印加される電圧が通常よりも高くなり、通常よりも強い放電が発生して、黒色ではなく灰色が表示される。このような現象は確率的に発生するため、ざらついた画像が表示されることになる。この画像のざらつきも、一般に「ちらつき」と呼ばれ、白色を表示する際には目立たないが、黒色を表示する場合に強く認められる。この傾向は、放電ガスにおけるＸｅの含有率を増加させた場合に、放電の時間的なばらつきが大きくなるため特に顕著となる。
【００２１】
このような課題を鑑み、本発明は、特許文献１、２に開示されているＰＤＰとは異なる構成により、放電セルにおける放電の時間的なばらつきを低減し、「ちらつき」の発生が抑制された表示特性に優れるＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明のＰＤＰは、放電空間を介して互いに対向するように配置された第１および第２の基板を備え、前記第１の基板における前記放電空間側の主面に、表示電極と、前記表示電極を被覆する誘電体層と、前記誘電体層よりも前記放電空間側に配置された保護層とが形成されたプラズマディスプレイパネルであって、前記保護層が、Ｂａ（バリウム）およびＳｒ（ストロンチウム）から選ばれる少なくとも１種の元素と、Ｓｉ（ケイ素）と、Ｍｇ（マグネシウム）と、Ｏ（酸素）とからなる複合酸化物を含み、前記複合酸化物がＳｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の第１のＰＤＰでは、ＢａおよびＳｒから選ばれる少なくとも１種の元素と、Ｓｉと、Ｍｇと、Ｏとを含む保護層を備えることにより、各電極へのパルス電圧（駆動電圧）の印加による放電の時間的なばらつきを低減でき、画像のちらつき、なかでも、白色を表示する際に強く認められるちらつきの発生を抑制できる。
【００２５】
本発明の第１のＰＤＰが備える保護層は、従来のＰＤＰが備えるＭｇＯからなる保護層とは異なり、Ｍｇ原子およびＯ原子だけではなく、上記少なくとも１種の元素の原子と、Ｓｉ原子とをさらに含んでいる。このため、本発明の第１のＰＤＰが備える保護層は、ＭｇＯからなる従来の保護層に比べて、より多数の、かつ、多様な結晶欠陥を有すると考えられ、放電現象のトリガーとなる電子をより多く放出できると考えられる。即ち、例えば、放電ガスにおけるＸｅの含有率を増加させた場合においても、放電の時間的なばらつきを低減できる。
【００２６】
本発明の第２のＰＤＰでは、ＢａおよびＳｒから選ばれる少なくとも１種の元素と、Ｓｉと、Ｍｇと、Ｏとからなる複合酸化物を含む蛍光体層を備えることにより、初期化パルスの印加による放電の時間的なばらつきを低減でき、画像のちらつき、なかでも、黒色を表示する際に強く認められるちらつきの発生を抑制できる。
【００２７】
初期化パルスの印加により生じる放電は、放電空間における走査電極とアドレス電極との間で発生する。放電空間におけるアドレス電極側には蛍光体層が配置されており、初期化パルスの印加による放電の時間的なばらつきには、保護層だけではなく蛍光体層が大きく影響すると考えられる。
【００２８】
上記少なくとも１種の元素の原子と、Ｍｇ原子と、Ｓｉ原子と、Ｏ原子とからなる複合酸化物には、多様な結晶欠陥が多数存在すると考えられ、放電現象のトリガーとなる電子を多く放出できると考えられる。即ち、例えば、放電ガスにおけるＸｅの含有率を増大させた場合においても、放電の時間的なばらつきを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００３０】
図１は、本発明のＰＤＰ（第１のＰＤＰ）における、前面板１、背面板２および放電空間３１近傍の構成の一例を示す模式図である。
【００３１】
図１に示すＰＤＰ７は、ＢａおよびＳｒから選ばれる少なくとも１種の元素と、Ｓｉと、Ｍｇと、Ｏとを含む保護層５を備える。ＰＤＰ７は、保護層１５の代わりに保護層５を備える以外は、図７に示すＰＤＰ５１と同様の構成を有する。保護層５は、誘電体層１４よりも放電空間３１側に配置されており、放電空間３１と誘電体層１４とを隔離するように、前面板１（第１の基板）における放電空間３１側の主面に形成されている。保護層５は、放電空間３１内の放電から、より具体的には、放電により生じたプラズマや紫外線から、誘電体層１４を保護するとともに、放電現象のトリガーとなる電子を放出する役割を担っている。
【００３２】
ＰＤＰ７では、保護層５を備えることにより、各電極へのパルス電圧の印加による放電の時間的なばらつきを低減でき、画面のちらつき、なかでも、白色を表示する際に強く認められるちらつきの発生を抑制できる。
【００３３】
また、保護層５が含む上記元素の組み合わせは、複合酸化物として存在しうるなど、結晶構造的に安定であると考えられ、例えば、特許文献１、２に開示されているＭｇＯ層に比べて、保護層としての構造が脆くなることを抑制でき、放電に伴って生じるプラズマによる変質などの劣化を抑制できる。
【００３４】
保護層５の具体的な構成は、上記少なくとも１種の元素と、Ｓｉと、Ｍｇと、Ｏとを含む限り特に限定されない。例えば、上記少なくとも１種の元素と、Ｓｉと、Ｍｇと、Ｏとからなる複合酸化物Ａを含めばよく、これらの元素の組み合わせでは、安定した結晶構造を有する複合酸化物Ａを形成できるため、放電に伴うプラズマによる変質が抑制され、かつ、ＭｇＯよりも電子の放出量が多い保護層５を実現できる。
【００３５】
複合酸化物Ａの具体的な組成は特に限定されないが、例えば、式（ＢａpＳｒ1-p）3ＭｇＳｉ2Ｏ8、式（ＢａpＳｒ1-p）2ＭｇＳｉ2Ｏ7、または、式（ＢａpＳｒ1-p）ＭｇＳｉ2Ｏ6により示される組成を有する複合酸化物であればよい。ただし、ｐは、式０≦ｐ≦１を満たす数値である。
【００３６】
より具体的には、複合酸化物Ａが、例えば、Ｓｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8、Ｂａ3ＭｇＳｉ2Ｏ8、（Ｓｒ，Ｂａ）3ＭｇＳｉ2Ｏ8、Ｓｒ2ＭｇＳｉ2Ｏ7、ＳｒＭｇＳｉ2Ｏ6、Ｂａ2ＭｇＳｉ2Ｏ7、ＢａＭｇＳｉ2Ｏ6、（Ｓｒ，Ｂａ）2ＭｇＳｉ2Ｏ7、または、（Ｓｒ，Ｂａ）ＭｇＳｉ2Ｏ6であればよい。
【００３７】
保護層５は、複合酸化物Ａを１種類あるいは２以上の種類含んでもよい。
【００３８】
保護層５が、上記少なくとも１種の元素、Ｓｉ、ＭｇおよびＯを含むこと、あるいは、複合酸化物Ａを含むことは、保護層５に対する高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分析、エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析（ＥＤＸ）などによる組成分析により判別できる。必要に応じ、Ｘ線回折測定（ＸＲＤ）などの手法に基づく結晶構造解析を組成分析に併用してもよい。
【００３９】
保護層５が複合酸化物Ａを含む場合、保護層５は複合酸化物Ａからなってもよいし、複合酸化物Ａ以外の材料を含んでもよい。保護層５が含む複合酸化物Ａ以外の材料としては、例えば、ＭｇＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも１種であればよく、なかでも、電子を放出する特性が高いことからＭｇＯが好ましい。
【００４０】
保護層５が複合酸化物ＡとＭｇＯとを含む場合、保護層５の構造は特に限定されず、例えば、複合酸化物ＡとＭｇＯとを含む単一層の膜であってもよく、このような保護層５の一例として、図２に示すような、ＭｇＯからなる母材５ｂに、複合酸化物Ａを含む領域５ａが分散した構造を有する膜が挙げられる。
【００４１】
図２に示す保護層５では、領域５ａと母材５ｂとの境界近傍により多くの結晶欠陥が存在すると考えられ、放電現象のトリガーとなる電子の放出量をより増大できると考えられる。即ち、図２に示す保護層５では、各電極へのパルス電圧の印加による放電の時間的なばらつきをさらに低減できる。
【００４２】
領域５ａは、複合酸化物Ａからなってもよい。
【００４３】
また例えば、保護層５は、複合酸化物Ａを含む層と、ＭｇＯ層とを含む多層膜であってもよく、このような保護層５の一例として、図３に示すような、ＭｇＯ層５ｃと、複合酸化物Ａを含む層５ｄとが積層された構造を有する膜が挙げられる。
【００４４】
図３に示す保護層５では、ＭｇＯ層５ｃと層５ｄとの界面近傍により多くの結晶欠陥が存在すると考えられ、放電現象のトリガーとなる電子の放出量をより増大できると考えられる。即ち、図３に示す保護層５では、各電極へのパルス電圧の印加による放電の時間的なばらつきをさらに低減できる。
【００４５】
保護層５が、ＭｇＯ層５ｃと、複合酸化物Ａを含む層５ｄとが積層された構造を有する場合、保護層５が有するＭｇＯ層５ｃおよび層５ｄの数は特に限定されず、また、ＭｇＯ層５ｃと層５ｄとの位置関係も特に限定されない。例えば、図３に示す例では、層５ｄがＭｇＯ層５ｃよりも放電空間３１側に配置されているが、ＭｇＯ層５ｃが層５ｄよりも放電空間３１側に配置されていてもよい。
【００４６】
層５ｄは、複合酸化物Ａからなってもよく、この場合、保護層５は、複合酸化物Ａ層とＭｇＯ層とが積層された構造を有するともいえる。
【００４７】
また例えば、保護層５は、ＭｇＯを含む層と、当該ＭｇＯを含む層における放電空間側の表面に配置された複合酸化物Ａの粒子とを含んでいてもよく、このような保護層の一例として、図４に示すような、ＭｇＯ層５ｆと、ＭｇＯ層５ｆにおける放電空間３１側の表面に配置された複合酸化物Ａの粒子５ｅとを含む保護層５が挙げられる。図４に示す保護層５は、作製プロセスを単純化できるため、低コストでの実現が可能である。
【００４８】
保護層５がこのような構造を有する場合、粒子５ｅの形状、ならびに、ＭｇＯ層５ｆの表面における粒子５ｅの配置の形態などは特に限定されない。例えば、図４に示す例では、複数の粒子５ｅが、ＭｇＯ層５ｆの表面に分散した状態で配置されているが、ＭｇＯ層５ｆの表面における放電に強く晒される領域のみ、部分的に粒子５ｅを集合させてもよい。
【００４９】
保護層５は、ＰＤＰにおける従来の保護層と同様の方法により形成でき、例えば、電子ビーム蒸着などの真空蒸着法、イオンプレーティング法、あるいは、スパッタリング法などにより形成すればよい。
【００５０】
図５は、本発明のＰＤＰ（第２のＰＤＰ）における前面板１、背面板２および放電空間３１近傍の構成の一例を示す模式図である。
【００５１】
図５に示すＰＤＰ１７は、放電空間３１において発生した紫外線により発光する蛍光体（青色蛍光体、緑色蛍光体または赤色蛍光体）とともに、ＢａおよびＳｒから選ばれる少なくとも１種の元素と、Ｓｉと、Ｍｇと、Ｏとからなる複合酸化物Ａを含む蛍光体層６を備える。ＰＤＰ１７は、蛍光体層２６の代わりに蛍光体層６を備える以外は、図７に示すＰＤＰ５１と同様の構成を有する。蛍光体層６は、背面板２（第２の基板）における放電空間３１側の主面に形成されている。
【００５２】
ＰＤＰ１７では、蛍光体層６を備えることにより、初期化パルスの印加による放電の時間的なばらつきを低減でき、画像のちらつき、なかでも、黒色を表示する際に強く認められるちらつきの発生を抑制できる。また、上記元素の組み合わせでは、安定した結晶構造を有する複合酸化物Ａを形成できるため、放電に伴うプラズマなどによる影響を受けにくい、ちらつき抑制効果とすることができる。
【００５３】
蛍光体層６の構成は複合酸化物Ａを含む限り特に限定されず、例えば、図５に示すように、粒子状の複合酸化物Ａ８とともに、ＰＤＰにおける一般的な蛍光体を含めばよい。また例えば、複合酸化物Ａを含む層が表面および／または内部に形成された蛍光体層６であってもよい。
【００５４】
蛍光体層６における複合酸化物Ａの含有率は、複合酸化物Ａの組成によっても異なるが、通常、０．１重量％〜２０重量％程度の範囲であればよい。
【００５５】
蛍光体層６は、複合酸化物Ａを１種類または２以上の種類含んでもよい。
【００５６】
蛍光体層６が含む複合酸化物Ａは、上述した保護層５が含む複合酸化物Ａと同様であればよい。
【００５７】
蛍光体層６が複合酸化物Ａを含むことは、蛍光体層６に対するＩＣＰ発光分析、ＥＤＸなどによる組成分析により判別でき、必要に応じ、ＸＲＤなどの手法に基づく結晶構造解析を組成分析に併用してもよい。
【００５８】
蛍光体層６は、ＰＤＰにおける従来の蛍光体層と同様の方法により形成でき、例えば、５重量％〜１０重量％の濃度でエチルセルロースおよび／またはニトロセルロースを含むα−ターピネオールなどのバインダー中に、複合酸化物Ａおよび蛍光体を分散して得られたペーストを、スクリーン印刷またはラインジェット法によって隔壁２１間に塗布し、５００℃〜５５０℃の範囲で焼成して、形成すればよい。有機溶媒中に複合酸化物Ａおよび蛍光体を分散させる際には、両者の混合物を分散させてもよいし、各々を個別に有機溶媒に投入することにより分散させてもよい。
【００５９】
蛍光体層６に複合酸化物Ａを含む層が形成されている場合、当該層は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、あるいは、スパッタリング法などを用いて形成すればよい。
【００６０】
図１〜図５に示すＰＤＰ７、１７において、保護層５および蛍光体層６以外の各部材の構造、構成、および、各部材に用いる材料は、一般的なＰＤＰにおける各部材と同様であればよい。例えば、隔壁２１がストライプ状ではなく、井桁状に配置されていてもよい。ここで井桁状とは、隔壁がアドレス電極２３と平行な方向だけではなく、その他方向、例えばアドレス電極２３に垂直な方向にも形成されており、１つの放電空間（画素）を隔壁で取り囲む形状を意味する。
【００６１】
保護層６および蛍光体層６以外の各部材は、一般的なＰＤＰにおける各部材の形成方法と同様の方法により形成できる。
【００６２】
本発明のＰＤＰでは、保護層５と蛍光体層６との双方が形成されていてもよい。画像のちらつきの発生をより抑制できる。
【実施例】
【００６３】
（実施例１）
実施例１では、図２に示すような保護層５を備えるＰＤＰ７を作製し、前面板１における保護層５が配置されている面からの電子放出量、ならびに、作製したＰＤＰ７におけるデータパルスの印加に対する放電の時間的なばらつきの程度、および、白色を表示した時のちらつきの有無、を評価した。
【００６４】
（サンプル作製）
最初に、前面板１となるガラス基板における一方の主面上に、Ａｇからなる走査電極１２および維持電極１１を、スクリーン印刷により形成した。当該ガラス基板のサイズは１３インチとし、走査電極１２および維持電極１１間の距離は、４２インチサイズのハイビジョンテレビディスプレイに相当する０．１ｍｍとした。
【００６５】
次に、当該主面全体に、走査電極１２および維持電極１１を被覆するように誘電体層１４を形成した。誘電体層１４は、ペースト化したガラス材料（組成：ＰｂＯ  ７５重量％、Ｂ2Ｏ3  １５重量％、ＳｉＯ2  １０重量％）をスクリーン印刷により当該主面に塗布した後に、全体を５５０℃で焼結して形成した。
【００６６】
次に、誘電体層１４の表面に、真空蒸着法により保護層５（厚さ０．９μｍ）を成膜して、前面板１とした。
【００６７】
保護層５の成膜にあたっては、まず、ＳｒＣＯ3（関東化学株式会社製、製品番号：37339-08）４４．２９ｇと、ＭｇＯ（関東化学株式会社製  製品番号：25018-13）１２．０９ｇと、ＳｉＯ2（関東化学株式会社製  製品番号：37049-13）１８．０２４ｇとを秤量し、秤量後の各酸化物を自動混合乳鉢により乾式混合した後に、得られた混合物を空気中、９００℃にて１時間焼成し、焼成後に粉砕した。粉砕によって得られた粉末をペレット状（直径１０ｍｍ、高さ５ｍｍの円筒状）に成形し、空気中、１２００℃にて１時間焼成して、Ｓｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8からなる複合酸化物のペレット（ペレットＡ−１）を作製した。
【００６８】
ペレットＡ−１の作製とは別に、ＭｇＯ（関東化学株式会社製、製品番号：25018-13）の粉末をペレット状（直径３ｍｍ、高さ１５ｍｍ）に成形し、空気中、１２００℃において１時間焼成して、ＭｇＯペレットを作製した。
【００６９】
このようにして作製したペレットＡ−１（１０ｇ）と、ＭｇＯペレット（４０ｇ）とを、アルミナ製の容器中において手で３分間振ることにより混合し、得られた混合物を成膜材料として保護層５の成膜を行った。保護層５を成膜する際には、前面板１を３００℃に加熱し、成膜雰囲気を圧力３×１０-4Ｐａの減圧雰囲気とした。
【００７０】
成膜後の保護層５の構造を、ＩＣＰ発光分析に基づく組成分析、および、ＸＲＤに基づく結晶構造解析により評価したところ、図２に示すように、Ｓｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8の領域５ａがＭｇＯからなる母材５ｂ中に分散した構造が形成されていることがわかった。
【００７１】
前面板１の形成とは別に、背面板２となるガラス基板における一方の主面上に、Ａｇからなるアドレス電極２３を、スクリーン印刷により形成した。当該ガラス基板のサイズは１３インチとし、隣り合うアドレス電極２３間の距離は、４２インチサイズのハイビジョンテレビディスプレイに相当する０．２ｍｍとした。当該距離は、ＰＤＰにおける画素ピッチに相当する。
【００７２】
次に、当該主面全体にアドレス電極２３を被覆するように、誘電体層１４と同様にして誘電体層２２を形成した。誘電体層２２の形成に用いたガラス材料は、誘電体層１４と同様とした。
【００７３】
次に、誘電体層２２上に、ガラス製の隔壁２１を所定のピッチ（０．２ｍｍ）で固着した後に、隣り合う隔壁２１間の誘電体層２２上および隔壁２１の側面上に、スクリーン印刷により蛍光体層２６を形成し、背面板２とした。
【００７４】
蛍光体層２６の形成にあたっては、エチルセルロース（関東化学製、製品番号17783-1A）５ｇと、α-ターピネオール（日本テルペン化学株式会社製）４５ｇとを混合したバインダーに、蛍光体５０ｇを混合して形成したペーストを用い、蛍光体層２６を形成する部分に当該ペーストを塗布した後に、空気中、２００℃にて１時間乾燥させて蛍光体層２６とした。
【００７５】
蛍光体には、赤色蛍光体として（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕを、緑色蛍光体としてＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎを、青色蛍光体としてＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを用いた。これらの蛍光体は、ＰＤＰに一般的に用いられている蛍光体である。
【００７６】
上記のようにして作製した前面板１と背面板２とを、大気中、４５０℃にて１時間焼成した後に、保護層５と蛍光体層２６とが向かい合い、かつ、走査電極１２および維持電極１１とアドレス電極２３とが互いに直交するように対向して配置し、両板の周縁部を、封着用ガラスにより封着した。次に、放電空間３１内を圧力３×１０-4Ｐａになるまで減圧した後に、ＮｅとＸｅとからなる放電ガスを６７ｋＰａの圧力で封入し、全体を密封して、ＰＤＰ（サンプル１）を得た。
【００７７】
なお、サンプル１について、放電空間３１に封入する放電ガスの組成を３通り（Ｘｅの含有率が５体積％、１０体積％および４０体積％）に変化させた３種類のサンプルを作製した。上述したように、ＰＤＰでは一般に、放電ガスにおけるＸｅの含有率が増大するにつれて、表示される画像のちらつきが強くなる傾向がある。
【００７８】
サンプル１の作製とは別に、ペレットＡ−１の代わりに、ＢａＣＯ3（関東化学株式会社製、製品番号：04015-08）５９．２ｇと、ＭｇＯ（関東化学株式会社製  製品番号：25018-13）１２．０９ｇと、ＳｉＯ2（関東化学株式会社製  製品番号：37049-13）１８．０２４ｇとから形成した複合酸化物のペレットＡ−２を用いたサンプル２を作製した。ペレットＡ−２はペレットＡ−１と同様に形成し、サンプル２の作製は、ペレットＡ−２を用いた以外はサンプル１と同様にして行った。ペレットＡ−２の複合酸化物の組成は、Ｂａ3ＭｇＳｉ2Ｏ8である。なお、サンプル２についても、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【００７９】
また、サンプル１の作製とは別に、ペレットＡ−１の代わりに、ＳｒＣＯ3（関東化学株式会社製、製品番号：37339-08）２２．１４ｇと、ＢａＣＯ3（関東化学株式会社製、製品番号：04015-08）２８．６ｇと、ＭｇＯ（関東化学株式会社製  製品番号：25018-13）１２．０９ｇと、ＳｉＯ2（関東化学株式会社製  製品番号：37049-13）１８．０２４ｇとから形成した複合酸化物のペレットＡ−３と用いたサンプル３を作製した。ペレットＡ−３はペレットＡ−１と同様に形成し、サンプル３の作製は、ペレットＡ−３を用いた以外はサンプル１と同様にして行った。ペレットＡ−３の複合酸化物の組成は、（Ｓｒ，Ｂａ）3ＭｇＳｉ2Ｏ8である。なお、サンプル３についても、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【００８０】
サンプル１〜３の作製とは別に、保護層としてＭｇＯ層を備えるＰＤＰ（比較例であるサンプル４）を作製した。サンプル４は、保護層を形成する際に成膜原料として上記ＭｇＯペレットのみを用いた以外はサンプル１と同様にして、作製した。なお、サンプル４についても、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【００８１】
（前面板からの電子放出量の評価方法）
上記のように作製したサンプル１〜４の前面板について、その保護層が配置されている面からの電子放出量を、大気中光電子分光装置（理研計器株式会社製：ＡＣ−２）を用いて以下の測定条件により評価した。評価した電子放出量が大きいほど、放電現象のトリガーとなる電子がより多く放出されるといえる。
測定条件：
雰囲気：乾燥空気中
光源：重水素ランプ
光量：３５０ｍＷ（光量補正あり）
測定範囲：３．４〜６．２ｅＶ
測定ステップ：０．０５ｅＶ
測定時間：１０秒／ステップ
光源からの光（紫外線）は、各サンプルの前面板における保護層に照射した。
【００８２】
図６に、代表例として、サンプル１、４の測定結果を示す。図６に示すグラフの横軸は各々のサンプルの保護層に照射した紫外線のエネルギーを、縦軸は保護層から放出された電子の放出数（任意単位）を示す。このグラフでは、サンプルの電子放出量が多くなるほど、そのプロファイルの傾きが大きくなるが、本実施例では、紫外線のエネルギーが５．５〜６．０ｅＶの範囲におけるプロファイルの傾きを数値化することにより、各サンプルの前面板からの電子放出量とした。なお、図６に示すグラフでは、サンプル１の電子放出量が４８．２ｅＶ-1、比較例であるサンプル４の電子放出量が１２．８ｅＶ-1であり、従来のＰＤＰにおいて保護層に使用されてきたＭｇＯ層（サンプル４）に比べて、電子放出量が大きい保護層（サンプル１）とすることができた。
【００８３】
（放電の時間的なばらつきの評価方法）
上記のように作製したサンプル１〜４について、データパルスの印加に対する放電の時間的なばらつきを評価した。評価方法を以下に示す。
【００８４】
各サンプルにおける任意の１画素に、図８に示す初期化パルス１１０を印加した後に、データパルス１００および走査パルス１２０を繰り返し印加した。印加したデータパルスおよび走査パルスのパルス幅は、通常のＰＤＰ駆動時における５μｓｅｃよりも長い１００μｓｅｃに設定した。データパルスおよび走査パルスを印加する毎に、パルスを印加してから放電が発生するまでの時間（遅れ時間）を１００回測定し、測定した遅れ時間の最大値と最小値との差を算出した。遅れ時間は、放電に伴う蛍光体の発光を光センサーモジュール（浜松ホトニクス株式会社製、Ｈ６７８０−２０）により受光し、印加したパルス波形と受光信号波形とをデジタルオシロスコープ（横河電機製、ＤＬ９１４０）で観測することにより測定した。このテストを同条件で２０回繰り返し、上記最大値と最小値との差の平均値を、データパルスの印加に対する放電の時間的なばらつき、とした。
【００８５】
（ちらつきの評価方法）
上記のように作製したサンプル１〜４について、放電の時間的なばらつきの評価とは別に、白色を表示した時のちらつきの有無を評価した。
【００８６】
各サンプルにおける全画素に、図８に示す初期化パルス１１０、データパルス１００、走査パルス１２０および維持パルス１３０を印加することにより、全画素を発光させ、各サンプルに白色を表示させた。その際、視認評価により、表示される画像にちらつきがみられるかどうかを評価した。
【００８７】
各サンプルにおける評価結果について、以下の表１に示す。なお、放電の時間的なばらつきの値は、比較例であるサンプル４の値を１とする規格化後の値である。また、ちらつきの有無は、ちらつきが確認された場合を「あり」とし、ちらつきが確認されなかった場合を「なし」とした。
【００８８】
【表１】
0004839233.tif 000002
【００８９】
表１に示すように、サンプル１〜３では、比較例であるサンプル４に対して、電子放出量が多かった。また、サンプル１〜３では、サンプル４に対してデータパルスの印加に対する放電の時間的なばらつきを低減できた他、サンプル４に対してちらつきの発生を抑制できた。特にサンプル１は、電子放出量が最も大きく、放電の時間的なばらつきが最も小さかった他、放電ガスにおけるＸｅの含有率が４０体積％の場合においても、白色表示の際のちらつきが確認されなかった。
【００９０】
実施例１では、各ＰＤＰサンプルの駆動電圧として、図８に示す波形を有する駆動電圧を使用したが、サンプル１〜３で得られた効果は、保護層５がＢａおよびＳｒから選ばれる少なくとも１種の元素と、Ｓｉと、Ｍｇと、Ｏとを含むことに由来するものであるため、その他の波形を有する駆動電圧を印加した場合においても、実施例１と同様の結果が得られると考えられる。
【００９１】
（実施例２）
実施例２では、図３に示すような、複合酸化物Ａを含む層５ｄとＭｇＯ層５ｃとの積層構造を有する保護層５を備えるＰＤＰ７を作製し、前面板１における保護層５が配置されている面からの電子放出量、ならびに、作製したＰＤＰ７におけるデータパルスの印加に対する放電の時間的なばらつきの程度、および、白色を表示した時のちらつきの有無、を評価した。
【００９２】
（サンプル作製）
最初に、実施例１と同様にして、前面板１となるガラス基板における一方の主面上に、Ａｇからなる走査電極１２および維持電極１１と、誘電体層１４とを形成した。当該ガラス基板のサイズ、走査電極１２および維持電極１１間の距離、および、誘電体層１４の形成に用いたガラス材料は、実施例１と同様とした。
【００９３】
次に、誘電体層１４の表面に、真空蒸着法によりＭｇＯ層（厚さ０．８μｍ）を成膜した後に、当該ＭｇＯ層の表面に、真空蒸着法によりＳｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8層（厚さ０．１μｍ）を成膜して、保護層５とした。
【００９４】
ＭｇＯ層およびＳｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8層の成膜条件は実施例１と同様とし、各層の成膜原料には、それぞれ、実施例１で作製したＭｇＯペレットおよびペレットＡ−１を用いた。
【００９５】
形成した保護層５の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察したところ、ＭｇＯ層とＳｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8層とが積層された積層構造を有していた。各層の組成は、エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析（ＥＤＸ）により同定した。
【００９６】
このようにして形成した前面板１と、実施例１で形成した背面板２とを用い、実施例１と同様にしてＰＤＰ（サンプル５）を作製した。なお、サンプル５について、サンプル１と同様に、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【００９７】
サンプル５の作製とは別に、ペレットＡ−１の代わりに、実施例１で作製したペレットＡ−２を用いた以外はサンプル５と同様にして、サンプル６を作製した。サンプル６における保護層５の断面をＳＥＭにより観察したところ、ＭｇＯ層（厚さ０．８μｍ）とＢａ3ＭｇＳｉ2Ｏ8層（厚さ０．１μｍ）とが積層された積層構造を有していた。各層の組成は、ＥＤＸにより同定した。なお、サンプル６についても、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【００９８】
サンプル５〜６の作製とは別に、ＭｇＯペレットを成膜原料とする真空蒸着法により、保護層として２層のＭｇＯ層を誘電体層１４の表面に形成したＰＤＰ（比較例であるサンプル７）を作製した。サンプル７における保護層の断面をＳＥＭにより観察したところ、保護層は、厚さ０．８μｍのＭｇＯ層と、厚さ０．１μｍのＭｇＯ層とが積層された積層構造を有していた。なお、サンプル７についても、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【００９９】
上記のように作製したサンプル５〜７について、実施例１と同様にして、前面板１における保護層５が配置されている面からの電子放出量、データパルスの印加に対する放電の時間的なばらつき、および、白色を表示した時のちらつきの有無を評価した。評価結果を以下の表２に示す。なお、放電の時間的なばらつきの値は、比較例であるサンプル７の値を１とする規格化後の値である。また、ちらつきの有無は、ちらつきが確認された場合を「あり」とし、ちらつきが確認されなかった場合を「なし」とした。
【０１００】
【表２】
0004839233.tif 000003
【０１０１】
表２に示すように、サンプル５〜６では、比較例であるサンプル７に対して、電子放出量が多かった。また、サンプル５〜６では、サンプル７に対してデータパルスの印加に対する放電の時間的なばらつきを低減できた他、サンプル７に対してちらつきの発生を抑制でき、放電ガスにおけるＸｅの含有率が４０体積％の場合においても、白色表示の際のちらつきが確認されなかった。
【０１０２】
（実施例３）
実施例３では、図４に示すような、複合酸化物Ａの粒子５ｅをＭｇＯ層５ｆにおける放電空間側の表面に分散させた構造を有する保護層５を備えるＰＤＰ７を作製し、前面板１における保護層５が配置されている面からの電子放出量、ならびに、作製したＰＤＰ７におけるデータパルスの印加に対する放電の時間的なばらつきの程度、および、白色を表示した時のちらつきの有無、を評価した。
【０１０３】
（サンプル作製）
最初に、実施例１と同様にして、前面板１となるガラス基板における一方の主面上に、Ａｇからなる走査電極１２および維持電極１１と、誘電体層１４とを形成した。当該ガラス基板のサイズ、走査電極１２および維持電極１１間の距離、および、誘電体層１４の形成に用いたガラス材料は、実施例１と同様とした。
【０１０４】
次に、誘電体層１４の表面に、真空蒸着法によりＭｇＯ層（厚さ０．８μｍ）を成膜した後に、当該ＭｇＯ層の表面に、複合酸化物Ａの粒子としてＳｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8粒子を分散させて保護膜５とした。
【０１０５】
ＭｇＯ層の成膜条件は実施例１と同様とし、ＭｇＯ層の成膜原料には実施例１で作製したＭｇＯペレットを用いた。また、ＭｇＯ層の表面へのＳｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8粒子の分散は、実施例１で作製したペレットＡ−１を粉砕して得た粉末をエタノールと混合した（混合比は、粉末：エタノール＝１ｇ：５０ｇ）後、混合物をＭｇＯ層に噴霧して、エタノールを揮発させることにより行った。
【０１０６】
形成した保護層５の断面をＳＥＭにより観察したところ、ＭｇＯ層の表面にＳｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8粒子が分散した構造を有していた。
【０１０７】
このようにして形成した前面板１と、実施例１で形成した背面板２とを用い、実施例１と同様にしてＰＤＰ（サンプル８）を作製した。なお、サンプル８について、サンプル１と同様に、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【０１０８】
サンプル８の作製とは別に、ペレットＡ−１の代わりに、実施例１で作製したペレットＡ−２を用いた以外はサンプル８と同様にして、サンプル９を作製した。サンプル９についても、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【０１０９】
上記のように作製したサンプル８〜９について、実施例１と同様にして、前面板１における保護層５が配置されている面からの電子放出量、データパルスの印加に対する放電の時間的なばらつき、および、白色を表示した時のちらつきの有無を評価した。評価結果を、実施例１のサンプル４を比較例として、以下の表３に示す。なお、放電の時間的なばらつきの値は、比較例であるサンプル４の値を１とする規格化後の値である。また、ちらつきの有無は、ちらつきが確認された場合を「あり」とし、ちらつきが確認されなかった場合を「なし」とした。
【０１１０】
【表３】
0004839233.tif 000004
【０１１１】
表３に示すように、サンプル８〜９では、比較例であるサンプル４に対して、電子放出量が多かった。また、サンプル８〜９では、サンプル４に対してデータパルスの印加に対する放電の時間的なばらつきを低減できた他、サンプル４に対してちらつきの発生を抑制できた。特に、サンプル８では、放電ガスにおけるＸｅの含有率が４０体積％の場合においても、白色表示の際のちらつきが確認されなかった。
【０１１２】
（参照例）
本参照例では、図５に示すような、粒子状の複合酸化物Ａ８を含む蛍光体層６を備えるＰＤＰ１７を作製し、初期化パルスの印加に対する放電の時間的なばらつきの程度と、黒色を表示した時のちらつきの有無とを評価した。
【０１１３】
（サンプル作製）
最初に、実施例１と同様にして、背面板２となるガラス基板における一方の主面上に、Ａｇからなるアドレス電極２３と、アドレス電極２３を被覆する誘電体層２２とを形成した。当該ガラス基板のサイズ、隣り合うアドレス電極２３間の距離、および、誘電体層２２の形成に用いたガラス材料は、実施例１と同様とした。
【０１１４】
次に、誘電体層２２上に、ガラス製の隔壁２１を所定のピッチ（０．２ｍｍ）で固着した後に、隣り合う隔壁２１間の誘電体層２２上および隔壁２１の側面上に、スクリーン印刷によりＳｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8の粒子を含む蛍光体層６を形成して、背面板２とした。
【０１１５】
蛍光体層６は、実施例１における蛍光体層２６の形成に用いたバインダーに、蛍光体５０ｇと、実施例１で作製したペレットＡ−１を粉砕して得たＳｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8粉末５ｇとを混合して形成したペーストを用いた以外は実施例１と同様にして、形成した。蛍光体の種類は、サンプル１と同様とした。
【０１１６】
上記のようにして作製した背面板２と、サンプル４の作製に用いた前面板１（保護層がＭｇＯ層からなる）とを用い、実施例１と同様にしてＰＤＰ（サンプル１０）を作製した。なお、サンプル１０について、サンプル１と同様に、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【０１１７】
サンプル１０の作製とは別に、Ｓｒ3ＭｇＳｉ2Ｏ8粉末の代わりに、実施例１で作製したペレットＡ−２を粉砕して得たＢａ3ＭｇＳｉ2Ｏ8粉末を用いた以外はサンプル１０と同様にして、Ｂａ3ＭｇＳｉ2Ｏ8の粒子を含む蛍光体層６を備えるサンプル１１を作製した。なお、サンプル１１についても、放電ガスにおけるＸｅの含有率が異なるサンプルを３種類作製した。
【０１１８】
（放電の時間的なばらつきの評価方法）
上記のように作製したサンプル１０〜１１、および、実施例１で作製した比較例サンプル４について、初期化パルスの印加に対する放電の時間的なばらつきを評価した。評価方法を以下に示す。
【０１１９】
各サンプルにおける任意の１画素に、図８に示す初期化パルス１１０、走査パルス１２０、維持パルス１３０、および、消去パルス１４０を繰り返し印加し、初期化パルスを印加してから放電が発生するまでの時間（遅れ時間）を１００回測定し、測定した遅れ時間の最大値と最小値との差を算出した。遅れ時間は、放電に伴う蛍光体の発光を光センサーモジュール（浜松ホトニクス株式会社製、Ｈ６７８０−２０）により受光し、印加した初期化パルス波形と受光信号波形とをデジタルオシロスコープ（横河電機製、ＤＬ９１４０）で観測することにより測定した。このテストを同条件で２０回繰り返し、上記最大値と最小値との差の平均値を、初期化パルスの印加に対する放電の時間的なばらつき、とした。
【０１２０】
（ちらつきの評価方法）
上記のように作製したサンプル１０〜１１、および、実施例１で作製した比較例サンプル４について、放電の時間的なばらつきの評価とは別に、黒色を表示した時のちらつきの有無を評価した。
【０１２１】
各サンプルにおける全画素に、図８に示すデータパルス１００を印加することなく、初期化パルス１１０、走査パルス１２０および維持パルス１３０を印加して、各サンプルに黒色を表示させた。その際、視認評価により、表示される画像にちらつきがみられるかどうかを評価した。
【０１２２】
各サンプルにおける評価結果について、以下の表４に示す。なお、放電の時間的なばらつきは、比較例であるサンプル４の値を１とする規格化後の値である。また、ちらつきの有無は、ちらつきが確認された場合を「あり」とし、ちらつきが確認されなかった場合を「なし」とした。
【０１２３】
【表４】
0004839233.tif 000005
【０１２４】
表４に示すように、サンプル１０〜１１では、サンプル４に対して初期化パルスの印加に対する放電の時間的なばらつきを低減できた。また、サンプル１０〜１１では、サンプル４に対してちらつきの発生を抑制でき、放電ガスにおけるＸｅの含有率が４０体積％の場合においても、黒色表示の際のちらつきが確認されなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明によれば、駆動電圧の印加による放電の時間的なばらつきが低減され、画像のちらつきの発生が抑制されたＰＤＰを提供できる。また、発光効率の向上などを目的として放電ガスにおけるＸｅの含有率を増加させたＰＤＰにおいても、放電の時間的なばらつきを低減し、画像のちらつきの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明のＰＤＰにおける構造の一例を示す模式図である。
【図２】本発明のＰＤＰにおける構造の一例を示す模式図である。
【図３】本発明のＰＤＰにおける構造の一例を示す模式図である。
【図４】本発明のＰＤＰにおける構造の一例を示す模式図である。
【図５】本発明のＰＤＰにおける構造の一例を示す模式図である。
【図６】実施例１において測定した、サンプル１、４における電子放出量のプロファイルを示す図である。
【図７】一般的なＰＤＰにおける構造の一例を示す模式図である。
【図８】ＰＤＰの駆動電圧波形の一例を示すタイムチャート図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１  前面板
５  保護層
５ａ  領域
５ｂ  母材
５ｃ  ＭｇＯ層
５ｄ  （複合酸化物Ａを含む）層
５ｅ  （複合酸化物Ａの）粒子
５ｆ  ＭｇＯ層
６  蛍光体層
７  プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
８  粒子状の複合酸化物Ａ
１１  維持電極
１２  走査電極
１３  表示電極
１４  誘電体層
１５  保護層
１７  プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
２  背面板
２１  隔壁
２２  誘電体層
２３  アドレス電極
２６  蛍光体層
５１  プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
１００  データパルス
１１０  初期化パルス
１２０  走査パルス
１３０  維持パルス
１４０  消去パルス
２５０  セットアップ期間
２６０  アドレス期間
２７０  維持期間
２８０  イレース期間
【図１】
0004839233.tif 000006
【図２】
0004839233.tif 000007
【図３】
0004839233.tif 000008
【図４】
0004839233.tif 000009
【図５】
0004839233.tif 000010
【図６】
0004839233.tif 000011
【図７】
0004839233.tif 000012
【図８】
0004839233.tif 000013