(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
純ＮｉあるいはＮｉを主成分とするＮｉ基合金で形成された基層と、ＮｉＮｂ金属間化合物層と、純Ｎｂで形成された表層を備え、
前記表層は前記ＮｉＮｂ金属間化合物層を介して前記基層に拡散接合され、
前記表層を形成する純Ｎｂ中の酸素含有量が５５０ppm 以下とされ、前記ＮｉＮｂ金属間化合物層の層厚が８．０μm 以下とされた、放電電極用クラッド材。
【請求項２】
前記基層と表層とは、露点が−４０℃以下のＡｒガス雰囲気中で連続焼鈍により拡散接合された、請求項１に記載した放電電極用クラッド材。
【請求項３】
前記基層はＮｂ及びＴａの一種又は二種を合計で１．０mass％以上、１２．０mass％以下含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物よりなるＮｉ基合金で形成された、請求項１又は２に記載した放電電極用クラッド材。
【請求項４】
前記表層は、その厚さが２０μm 以上、１００μm 以下であり、前記基層及び表層の合計の厚さに対して７０％以下である請求項１から３のいずれか１項に記載した放電電極用クラッド材。
【請求項５】
一端が解放された管部と、前記管部の他端を閉塞する端板部を有し、前記管部と端板部とがプレス成形により一体的に製造された放電電極であって、
前記放電電極が請求項１から４のいずれか１項に記載したクラッド材によって成形され、前記管部および端板部の内層が前記クラッド材の表層によって形成された、放電電極。
【請求項６】
純ＮｉあるいはＮｉを主成分とするＮｉ基合金で形成された基層用金属シートと、純Ｎｂで形成された表層用金属シートとを重ね合わせて圧接し、基層と表層とが圧接された圧接材を製作する圧接工程と、前記圧接材を露点が−４０℃以下のＡｒガス雰囲気中で８００〜１１００℃の焼鈍温度域で１５秒以上、１２０秒以下保持し、前記基層と表層とを拡散接合する拡散焼鈍工程とを有する、放電電極用クラッド材の製造方法。
【請求項７】
前記基層用金属シートは、Ｎｂ及びＴａの一種又は二種を合計で１．０mass％以上、１２．０mass％以下含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物よりなるＮｉ基合金で形成された、請求項６に記載した放電電極用クラッド材の製造方法。
【請求項８】
前記拡散焼鈍されたクラッド材に対して仕上圧延を施し、前記クラッド材の厚さを調整する仕上圧延工程を備えた、請求項６又は７に記載した製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶表示装置のバックライトとして用いられる蛍光放電管の放電電極及びその電極材に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置にはバックライトとして小形の蛍光放電管が用いられる。かかる蛍光放電管は、図３に示すように、内壁面に蛍光膜（図示省略）が形成され、その内部に放電用ガス（アルゴンガス等の希ガスおよび水銀蒸気）が封入されたガラス管５１と、そのガラス管５１の内部の両端部に設けられた一対の冷陰極を構成する放電電極５２を備えている。前記放電電極５２は、一端が開口した管部５３を有し、前記管部５３の他端が端板部５４にて閉塞されたカップ状（有底筒状）の形態を備える。前記端板部５４には前記ガラス管５１の端部を貫通して封止された軸状の支持導体５５の一端が溶接され、この支持導体５５の他端にリード線５７が接続される。前記支持導体５５は一般的にＷ（タングステン）で形成され、通常、放電電極５２とはレーザ溶接される。
【０００３】
前記放電電極５２は、従来、純Ｎｉによって形成され、そのサイズは、バックライト等の小形の蛍光放電管用のものでは、内径１．５mm程度、全長５mm程度、管部５３の肉厚０．１mm程度である。かかる放電電極は、通常、前記管部の肉厚と同等の厚さを有する純Ｎｉ薄板を深絞り成形することによって一体的に成形される。
【０００４】
上記のとおり、蛍光放電管用の放電電極は、成形性が良好で、材質的にも安定な純Ｎｉによって形成されていたが、ランプ寿命が比較的短いという問題がある。すなわち、蛍光放電管は点灯の際、電極にイオン等が衝突して電極金属から原子を放出する現象（スパッタリング）が生じる。このスパッタリングによって電極金属は消耗し、また放出された電極金属の原子は、ガラス管内に封入された水銀と結合し、ガラス管内の水銀蒸気を消耗させる。従来、電極金属を形成するＮｉは、スパッタの際の原子放出量が多い、すなわちスパッタ率が高く、水銀の消耗が大きいため、放電管の寿命が低下しやすいという問題がある。
【０００５】
このため、近年、特開２００２−１１００８５号公報（特許文献１）に記載されているように、放電電極をスパッタ率の低い、Ｎｂ（ニオブ）で形成することが試みられている。しかしながら、ＮｂはＮｉに比して高価である。また、Ｎｂは高融点（２７９３℃）であり、同じく高融点金属であるＷ（融点３６５３℃）の支持導体との溶接の際に、高温で溶接する必要がある。このため、溶接部に強固な酸化膜が形成され易い。この酸化膜が付着したまま、支持導体が溶接された放電電極をガラス管内に密封すると、放電中に酸化膜が分解して酸素が発生する。この酸素は、管内面の蛍光膜と反応し、蛍光膜を劣化させる。このため、支持導体の溶接後に、電極表面に形成された酸化膜を除去する工程が必要になる。
【０００６】
そこで、近年、特開２００２−２８９１３８号公報（特許文献２）の段落００２４や国際公開ＷＯ２００５／０４８２８５号公報（特許文献３）に記載されているように、放電電極を内外二層で形成し、外層をＮｉで、放電に実質的に寄与する内層をＮｂで形成することが試みられている。前記特許文献３には、二層構造の放電電極の製造方法として、Ｎｉで形成された基層用金属シートとＮｂで形成された表層用金属シートとを圧接し、この圧接材を拡散焼鈍したクラッド材からブランク材を採取し、これをカップ状に深絞り成形することが記載されている。
【特許文献１】特開２００２−１１００８５号公報
【特許文献２】特開２００２−２８９１３８号公報
【特許文献３】国際公開ＷＯ２００５／０４８２８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記クラッド材を製造する際、前記圧接材の基層と表層とを拡散焼鈍する必要があるが、Ｎｂは非常に酸化され易い材料であるため、通常、圧接材は真空加熱炉でバッチ焼鈍される。すなわち、圧接材は、真空加熱炉に装入され、炉内が真空引きされた後、所定温度に昇温され、その温度で保持される。この場合、加熱雰囲気が真空であるため、昇温速度が遅く、目標焼鈍温度での保持時間を短くしても、目標焼鈍温度に到達する過程で、あるいは目標焼鈍温度から冷却する過程で、８００℃以上の高温域に曝される時間が長くなる。このため、基層と表層との間に生成したＮｉＮｂ金属間化合物が必然的に成長する。ＮｉＮｂ金属間化合物層が薄い場合、両層の接合性に問題はないが、金属間化合物層がある程度厚くなると、深絞り成形の際に、そこにクラックが生じて、成形の際に表層が基層の変形に追随することができず、表層にクラックが生じるというおそれがある。
【０００８】
一方、連続焼鈍炉を用いて圧接材を拡散焼鈍した場合、目標焼鈍温度への昇温、焼鈍後の降温は速やかであり、ＮｉＮｂ金属間化合物層の過大な成長を抑制することができる。この場合、炉内雰囲気を実用的にはＡｒガス雰囲気にする必要がある。しかし、発明者の実験により、通常のＡｒガス雰囲気（露点−２０℃程度）では、深絞り成形の際にＮｂ層にクラックが入る場合があり、特に成形条件が厳しくなるとクラックが顕著に発生することがわかった。なお、加熱雰囲気ガスとして、窒素ガス、水素ガスは使用できない。窒素はＮｂと窒化物を形成し、また水素はＮｂに吸収され易く、いずれもＮｂ層を脆化させ、成形性を劣化させるからである。
【０００９】
本発明はかかる問題に鑑みなされたもので、カップ状放電電極への深絞り成形性に優れたクラッド材及びその製造方法を提供すること、またそのクラッド材によって成形された放電電極を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の放電電極用クラッド材は、純ＮｉあるいはＮｉを主成分とするＮｉ基合金で形成された基層と、純Ｎｂで形成された表層を備え、前記表層がＮｉＮｂ金属間化合物層を介して前記基層に拡散接合され、前記表層を形成する純Ｎｂ中の酸素含有量が５５０ppm 以下とされ、前記ＮｉＮｂ金属間化合物層の層厚が８．０μm 以下とされたものである。
【００１１】
このクラッド材によれば、表層は酸素含有量が５５０ppm 以下の純Ｎｂで形成されているので、延性に優れる。また前記表層は基層に直接的に、あるいはクラックが生じ難い、８．０μm 以下のＮｉＮｂ金属間化合物層を介して拡散接合されているので、前記基層と表層との接合性に優れる。この優れた接合性と表層の優れた延性とが相まって、クラッド材は深絞り性に優れる。
【００１２】
前記基層と表層とは、露点が−４０℃以下のＡｒガス雰囲気中での連続焼鈍により拡散焼鈍されることが好ましい。この連続焼鈍によって、表層に吸収される酸素量を５５０ppm 以下に容易に抑制しながら、基層と表層とを効率よく拡散接合することができ、このためクラッド材の生産性に優れる。
【００１３】
また、前記基層はＮｂ、Ｔａを単独あるいは複合して１．０mass％以上、１２．０mass％以下含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物よりなるＮｉ基合金で形成することが好ましい。ＮｉにＮｂ、Ｔａを所定量添加することにより、水銀蒸気に対する耐食性を向上させることができ、放電電極の耐久性を向上させることができる。
【００１４】
また、前記表層は、その厚さを２０μm 以上、１００μm 以下とすることが好ましい。表層の厚さを２０μm 以上、１００μm 以下とすることにより、少ない量のＮｂを用いて、全体を純Ｎｂで形成した放電電極と同等の寿命を確保することができる。このため、クラッド材の材料コストを低減することができ、経済的である。
【００１５】
また、表層の厚さを前記基層及び表層の合計の厚さに対して７０％以下とすることが好ましい。このように表層の厚さを設定することにより、カップ状放電電極の成形に際して基層を表層のバックアップ層として作用させることができる。これにより、降伏点伸びの大きいＮｂで形成した表層にリューダース帯に起因する凹凸が生成するのを防止することができ、良好なプレス成形性を確保することができる。表層の厚さが合計厚さの７０％を超えると、基層をバックアップ層として設けても、前記凹凸の発生を抑制することが困難になり、プレス成形性が却って低下するようになる。このため、表層の厚さは合計厚さに対して好ましくは７０％以下、より好ましくは６０％以下にするのがよい。
【００１６】
また、本発明の放電電極は、一端が解放された管部と、前記管部の他端を閉塞する端板部を有し、前記管部と端板部とがプレス成形により一体的に製造された放電電極であって、前記放電電極が上記クラッド材によって成形され、前記管部および端板部の内層が前記クラッド材の表層によって形成されたものである。この放電電極は、深絞り成形性に優れた前記クラッド材を用いて成形されたものであるため、生産性に優れ、また放電に寄与しない無駄なＮｂ量が節約されるため、材料コストを低減することができる。しかも端板部の外側は純Ｎｉ等により形成された基層が存在するため、支持導体との溶接性も良好である。
【００１７】
また、本発明の放電電極用クラッド材の製造方法は、純ＮｉあるいはＮｉを主成分とするＮｉ基合金で形成された基層用金属シートと、純Ｎｂで形成された表層用金属シートとを重ね合わせて圧接し、基層と表層とが圧接された圧接材を製作する圧接工程と、前記圧接材を露点が−４０℃以下のＡｒガス雰囲気中で８００〜１１００℃の焼鈍温度域で１５秒以上、１２０秒以下保持し、前記基層と表層とを拡散接合する拡散焼鈍工程とを有するものである。
【００１８】
この製造方法によれば、連続焼鈍炉を用いて圧接材の基層と表層とを拡散接合するにも拘わらず、クラッド材の表層の酸素含有量を５５０ppm 以下に容易に低減することができ、しかも表層と基層との間に生じるＮｉＮｂ金属間化合物層の厚さを８．０μm 以下に抑制することができる。このため、深絞り性に優れたクラッド材を容易に製造することができ、生産性に優れる。
【００１９】
この製造方法において、前記基層をＮｂ及びＴａの一種又は二種を合計で１．０mass％以上、１２．０mass％以下含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物よりなるＮｉ基合金で形成することができる。また、前記拡散焼鈍されたクラッド材に対して仕上圧延を施し、前記クラッド材の厚さを調整する仕上圧延工程を設けることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
図１は本発明の実施形態に係る放電電極用クラッド材の断面図を示しており、このクラッド材は純ＮｉあるいはＮｉを主成分とするＮｉ基合金で形成された基層１と、純Ｎｂによって形成された表層２とを備え、前記表層２は前記基層１の上にロール圧接され、さらに拡散接合されている。前記表層２は基層１に８．０μm 以下のごく薄いＮｉＮｂ金属間化合物層（図１では図示省略）を介して拡散接合されいるが、図１ではこのＮｉＮｂ金属間化合物層は図示省略されている。この点については、後述する当該クラッド材の製造方法の説明において説明する。
【００２１】
前記基層１を形成する純Ｎｉ、Ｎｉ基合金（以下、これらをまとめて「Ｎｉ基金属」という。）は耐酸化性に優れ、また冷間加工性にも優れ、深絞り性も良好である。前記Ｎｉ基合金は、Ｎｉ量が８０mass％以上、より好ましくは８５mass％以上で、Ｎｉと固溶する合金元素（例えば、Ｎｂ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔａ，Ｖ，Ｔｉ）の一種以上を含み、残部Ｎｉ及び不可避的不純物からなるものが望ましい。前記Ｎｉ基合金の内、Ｎｂ、Ｔａを単独あるいは複合して１．０〜１２．０mass％含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物よりなるＮｉ−Ｎｂ合金、Ｎｉ−Ｔａ合金、Ｎｉ−Ｎｂ−Ｔａ合金がより好ましい。Ｎｂ、Ｔａは、この程度の添加量であれば成形性を害することはなく、また水銀蒸気に対する耐食性を向上させる効果を有し、電極の耐久性を向上させることができる。また、Ｗを２．０〜１０mass％を含有し、残部実質的にＮｉからなるＮｉ−Ｗ合金もより好ましい。ＷもＮｂ、Ｔａと同様、水銀蒸気に対する耐食性を向上させることができる。Ｗを前記含有範囲のＮｂ及び／又はＴａと共に複合添加することもできるが、この場合はＷ量を６．０％程度以下に止めるのがよい。
【００２２】
前記表層２は、純Ｎｂによって形成されるが、Ｎｂに吸収（固溶）され易い酸素、水素、窒素等のガスは少ない程好ましい。後述するように、当該クラッド材は工業的には各層の素材となる金属シートを重ね合わせて圧接した後、得られた圧接材をＡｒガス雰囲気中で焼鈍することにより製造されるが、この場合、Ａｒガス中に含まれる水分が高温中で分解して生じる酸素がＮｂに吸収されるおそれがある。酸素が吸収されてＮｂ中の酸素量が５５０ppm を超えるとＮｂの延性が著しく劣化するようになり、これに伴ってクラッド材の深絞り成形性が劣化する。このため、本発明では表層を形成する純Ｎｂ中の酸素濃度を５５０ppm 以下、好ましくは４００ppm 以下に止める。なお、純Ｎｂは真空溶解法によって製造されるため、製造された純Ｎｂ中の酸素含有量は２００ppm 程度以下である。
【００２３】
前記表層２の厚さは、放電電極の消耗形態から２０μm 程度は必要であるが、安全性、クラッド材の全体の厚さとのバランスを考慮して２０〜１００μm 程度、好ましくは４０〜８０μm 程度とすればよい。一方、深絞り成形性の確保からクラッド材の全体の厚さは０．１〜０．２mm程度とされる。前記基層１の厚さは、前記表層２の厚さを考慮して前記全体厚さを確保すべく適宜設定されるが、支持電極の溶接性確保の観点からは、２０〜５０μm 程度あれば十分である。さらに、前記基層１を表層２の変形防止用バックアップ層として作用させ、深絞り成形の際に良好なプレス成形性を確保するには、前記表層２の厚さは表層２及び基層１の合計厚さ（クラッド材の全体厚さ）の７０％以下、好ましくは６０％以下にするのがよい。
【００２４】
図２は上記クラッド材を用いて深絞り成形したカップ状の放電電極を示す。この放電電極は、一端が解放された管部１１と、その他端を閉塞する端板部１２とを備え、前記端板部１２は前記管部１１と共に一体的に成形されている。また放電電極の内層が前記クラッド材の表層２で形成されている。放電電極として使用した場合、放電により消耗するのは主として放電電極の底部内面部であるので、放電電極の内層を表層２で形成することで、Ｎｂのみで形成した放電電極と同等の放電特性、蛍光放電管の使用寿命を確保しながら、Ｎｂの使用量を低減することができる。しかも基層１の存在によって支持導体との溶接も容易となる。
【００２５】
前記カップ状放電電極は、前記クラッド材から打ち抜き加工された円板状ブランク材を成形素材としてプレス成形により深絞り成形される。前記ブランク材の打ち抜き加工に際しては、例えば、その一部をクラッド材の外周部に連結部を介して連結しておき、複数のカップ状放電電極を深絞り成形した後に、連結部から放電電極を分離するようにしてもよい。
【００２６】
ここで、前記クラッド材の製造方法について説明する。まず、基層１の元になるＮｉ基金属シート（基層用金属シート）に表層２の元になるＮｂシート（表層用金属シート）を重ね合わせてロール圧接する。すなわち、ＮｉシートとＮｂシートとを重ね合わせた重ね合わせ材を一対のロールに通して圧接する。この圧接は冷間で行うことができる。ロール圧接における圧下率は、通常、５０〜７０％程度でよい。この製造工程を圧接工程と呼ぶ。この圧接工程により、基層と表層とが圧接された圧接材が得られる。
【００２７】
次に、前記圧接材は、８００〜１１００℃程度、好ましくは９００〜１０５０℃の温度で拡散焼鈍される。この製造工程を「拡散焼鈍工程」と呼ぶ。８００℃未満では拡散が起こりにくく、一方１１００℃を超えると拡散が著しくなり、圧接材の基層と表層との界面に生成したＮｉＮｂ金属間化合物層が短時間で成長して、その厚さが８μm を超えるようになる。８μm を超えるような厚いＮｉＮｂ金属間化合物層は、非常に脆く、割れ易いため、クラッド材の成形性を劣化させる。前記ＮｉＮｂ金属間化合物層の厚さは、６．５μm 以下にするのが好ましい。前記８００〜１１００℃の温度領域で保持すべき時間は、１５〜１２０秒程度が好ましい。１５秒程度未満では目標焼鈍温度を８００℃程度とした場合、拡散が不足して接合強度が低下し、引いてはクラッド材の成形性が劣化するおそれがある。一方、１２０秒程度を超えると、目標焼鈍温度を１１００℃程度とした場合、拡散が過剰となり、金属間化合物が著しく成長して接合強度が低下し、やはり成形性が劣化するおそれがある。好ましい目標焼鈍温度は、９００〜１０５０℃程度である。
【００２８】
上記拡散焼鈍条件を容易に満足することができる焼鈍方法としては、加熱雰囲気をＡｒガス雰囲気とした連続焼鈍が推奨される。前記連続焼鈍は、連続焼鈍炉を用いて実施される。連続焼鈍炉は、トンネル炉内にＡｒガスが正圧（大気圧より０．０００５〜０．００１ＭＰａ程度高い圧力）となるように供給され、炉の長さ方向に沿って所期の温度分布が得られるように温度制御される。この連続焼鈍炉に被処理材（例えば、ストリップ状の圧接材）を供給し、炉の長さ方向に所定の搬送速度によって搬送することにより、搬送速度と予め形成された温度分布に基づいて、所定の温度、保持時間を被処理材に付与することができる。
【００２９】
前記連続焼鈍を行う場合、本発明では供給するＡｒガスについて、その露点を−４０℃以下、好ましくは−４５℃以下にする。露点が−４０℃を超えるようになると、Ａｒガス中に含まれる水分が増え、この水分が高温の焼鈍温度下で分解して生成した酸素がＮｂに吸収されるようになる。このため、表層の延性が劣化し、クラッド材の成形性が低下する。露点が−４０℃以下のＡｒガス雰囲気中で８００〜１１００℃の温度域での保持時間を１５〜１２０sec とすることで、クラッド材の表層の酸素濃度を５５０ppm 以下に止めることができ、表層の延性劣化を抑制することができる。
【００３０】
前記圧接材の拡散焼鈍は、真空下で行ってもよい。もっとも、表層２を形成する純Ｎｂ中の酸素量を５５０ppm 以下にするには、前記焼鈍条件を満足する加熱冷却方法を採るようにすることが望ましい。その一例として以下の真空加熱方法を採ることができる。チャンバ内に加熱装置を設けた真空チャンバを用いて、真空チャンバに被処理物を収納して、チャンバ内部を真空にした後、前記加熱装置によって被処理物を所定温度に速やかに加熱して保持し、冷却の際は加熱を停止するとともに、真空チャンバ内にＡｒガスを導入して速やかに冷却する。真空下で拡散焼鈍を行えば、基層１と表層２との間にはＮｉＮｂ金属間化合物層がほとんど生成せず、表層２を基層１に直接拡散接合することができる。
【００３１】
拡散焼鈍後のクラッド材は、必要に応じて冷間で仕上圧延を行うことができる。これによってクラッド材の板厚を調整することができる。また、仕上圧延後、材質を軟化させるため、必要に応じて前記拡散焼鈍と同様の条件で焼鈍を施してもよい。以上のようにして製造されたクラッド材は、必要に応じて適宜の幅にスリットされ、さらにスリットされた帯材からブランク材が打ち抜き加工され、そのブランク材がプレス成形に供される。
【００３２】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はかかる実施例によって限定的に解釈されるものではない。
【実施例】
【００３３】
純Ｎｉで形成された基層に純Ｎｂで形成された表層が種々の条件で拡散接合された種々のクラッド材の試料を以下の要領により製作した。基層の元になる純Ｎｉシート（幅３０mm、長さ１００mm、厚さ０．５mm）並びに表層の元になる純Ｎｂシート（幅３０mm、長さ１００mm、厚さ０．１５mm）を準備し、重ね合わせて冷間でロール圧接し、これによって厚さが０．２８mmの圧接シートを得た。この圧接シートをＡｒガス雰囲気の連続焼鈍炉に通して表１に示す種々の条件で拡散焼鈍を施し、得られた各クラッド材に冷間圧延を施して、各クラッド材の厚さを０．１５mm（基層の厚さ０．１１４mm、表層の厚さ０．０３６mm）に調整した。また、一部の圧接シートについては、真空炉にて表１に示す条件でバッチ焼鈍を行い、得られたクラッド材に前記厚さになるように冷間圧延を施した。
【００３４】
以上のようにして製作された各クラッド材の試料を樹脂に埋め込み、得られた樹脂ブロックを研磨し、埋め込まれたクラッド材の断面が表面に露出するようにした。そして、各クラッド材の試料について、そのクラッド材の基層と表層との間に生成したＮｉＮｂ金属間化合物層の平均厚さを電子顕微鏡（倍率１０００〜３５００倍）を用いて測定した。また、各クラッド材から分析片を採取し、酸素窒素分析装置（型番ＥＭＧＡ−５２０、堀場製作所製）によって酸素含有量を測定した。基層中の酸素量は１〜２ppm 程度と微量であるので、測定された酸素量を表層中の酸素量とした。これらの測定結果を表１に併せて示す。
【００３５】
次に、上記各クラッド材を用いて、図２に示すように、外径１．１mm、内径０．９mm、管部長さ４mmのカップ状放電電極を、中間焼鈍を行うことなく１０工程の絞り加工を経て深絞り成形し、成形後のカップ状放電電極の割れ発生状態を目視観察した。その結果を表１に併せて示す。クラッド材の基層は展延性に優れるため、いずれの試料のクラッド材についても、クラッド材の基層に対応するカップ状放電電極の外層に割れが生じることなく、最終工程まで成形することができた。一方、クラッド材の中には、表１の成形結果に示すように、クラッド材の表層に対応するカップ状放電電極の内層に割れが発生したものがあった。この割れは、成形の際、クラッド材の表層が基層の変形に追随するができず、破断したものと推測される。
【００３６】
表１より、発明例のクラッド材ではＮｉＮｂ金属間化合物層の平均厚さが６．５μm 以下に止まっており、また表層の酸素量も３８０ppm 以下であったため、優れた深絞り成形性が得られた。これに対して、Ａｒガスの露点が−３５℃以上の試料No. ４及び５のクラッド材では、表層の酸素量が７００ppm 以上と過多となり、表層の延性が劣化して表層に割れが生じた。また、真空炉で焼鈍した試料No. ３のクラッド材では、８００℃以上に保持される時間が不可避的に長くなり、金属間化合物層が過大に成長したため、深絞り性が劣化した。
【００３７】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の実施形態にかかる放電電極用クラッド材の要部断面図を示す。
【図２】本発明の実施形態にかかる蛍光放電管用放電電極の縦断面図である。
【図３】従来の蛍光放電管用放電電極を備えた蛍光放電管の要部縦断面図である。
【符号の説明】
【００３９】
１  基層
２  表層
１１  管部
１２  端板部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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