(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機粉末と感光性有機成分からなるペーストであって、無機粉末が、少なくとも軟磁性体粉末（Ａ）、およびガラス粉末（Ｂ）を含み、軟磁性体粉末（Ａ）とガラス粉末（Ｂ）との質量比が２０／８０〜７０／３０の範囲内である感光性ペースト。
【請求項２】
軟磁性体粉末が鉄合金粉末もしくはフェライト粉末である請求項１に記載の感光性ペースト。
【請求項３】
フェライト粉末が、ＭＦｅ２Ｏ４（ただし、Ｍは、Ｍｎ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｚｎ、Ｃｕ−Ｚｎ、Ｍｇ−ＺｎおよびＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎから選ばれる２価の金属）の一般式で表されるフェライトからなる請求項２に記載の感光性ペースト。
【請求項４】
軟磁性体粉末の中心粒子径が０．１〜５μｍの範囲内、かつ、軟磁性体粉末の最大粒子径が１０μｍ以下である請求項１〜３のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項５】
ガラス粉末が非結晶性ガラスである請求項１〜４のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項６】
ガラス粉末が酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化鉛および酸化リンから選ばれる少なくとも１種を含有するガラスを含む請求項１〜５のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項７】
ガラス粉末の中心粒子径が０．１〜５μｍの範囲内、かつ、ガラス粉末の最大粒子径が１０μｍ以下である請求項１〜６のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項８】
感光性有機成分が３６５ｎｍの波長で分子吸光係数が１，０００（１／ｍｏｌ・ｃｍ）以上である光重合開始剤および／または増感剤を含む請求項１〜７のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項９】
感光性有機成分が４００ｎｍを越えた波長領域に吸収極大を持つ化合物をさらに含む請求項８に記載の感光性ペースト。
【請求項１０】
感光性有機成分が４００ｎｍを越えた波長領域に吸収極大を持つ化合物とビス（アルキルアミノ）ベンゾフェノンもしくはチオキサントン誘導体を含む請求項９に記載の感光性ペースト。
【請求項１１】
感光性有機成分が紫外線吸収剤を含む請求項１〜１０のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項１２】
感光性有機成分が重合禁止剤を含む請求項１〜１１のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の感光性ペーストを基板上に塗布して乾燥する工程を含むディスプレイパネル用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、軟磁性を有する無機粉末を含有する感光性ペーストに関する。
【背景技術】
【０００２】
電磁波シールド板は、たとえば、ディスプレイから漏洩する電磁波を遮断するために、ディスプレイに装着される前面フィルターとして広く用いられている。ディスプレイの前面板として用いられる電磁波シールド板には、電磁波を遮断する機能の他に、ディスプレイの表示画面の視認性を低下させないことが求められる。このような電磁波シールド板としては、たとえば、金属箔がメッシュ状にエッチングされたエッチングシートを透明基板と貼りあわせた電磁波シールド板が用いられているが、金属箔のラミネート工程やエッチング工程などの多くの工程が必要になる問題があった。また、視認性を向上するために、メッシュ状の金属表面を黒色化するためにクロムメッキ等の表面処理工程が必要になり、複雑な工程が必要になる問題があった。この問題を解決する方法として、特開2002-271086号公報では、ガラス基板上に、凹版オフセット印刷により、黒色顔料と金属粒子を含有するインキを用いて、幾何学パターンに凹版オフセット印刷を行った上で、焼成することにより、電磁波シールド板を製造する方法が提案されている。しかし、黒色顔料は抵抗値が高いため、十分な黒色度が得られる量の黒色顔料を添加した場合、得られる導電層の抵抗値が高くなる。そのため、十分な電磁波シールド性を確保するためには、湿式メッキにより、黒色導電層の表面に、さらに金属層を形成することが必要であり、工程が複雑になる課題があった。
【特許文献１】特開2002-271086号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、簡略な工程で、十分な視認性と電磁波シールド性とを有するディスプレイパネル用部材を製造可能にする感光性ペーストを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
すなわち本発明は、無機粉末と感光性有機成分からなるペーストであって、無機粉末が、少なくとも軟磁性体粉末（Ａ）、およびガラス粉末（Ｂ）を含み、軟磁性体粉末（Ａ）とガラス粉末（Ｂ）との質量比が２０／８０〜７０／３０の範囲内である感光性ペーストである。【０００５】
また、本発明は、上記の感光性ペーストを基板上に塗布して乾燥する工程を含むディスプレイパネル用部材の製造方法である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、高精細にパターン加工することが可能で、かつ、高い透磁率を有する軟磁性体層を形成可能な感光性ペーストを提供できる。本発明の感光性ペーストを用いることにより、簡略な工程により、視認性および電磁波シールド性に優れるディスプレイパネル用部材を製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明における感光性ペーストは、無機粉末と感光性有機成分からなる感光性ペーストである。本発明の感光性ペーストは、感光性有機成分をペースト中の５〜５０質量％、無機粉末をペースト中の５０〜９５質量％含有することが好ましい。【０００８】
本発明において、無機粉末は、少なくとも軟磁性体粉末とガラス粉末を含む。【０００９】
軟磁性体粉末としては、外部磁界を取り去ると磁化を失って元の状態に戻る性質を示す物質であればよい。軟磁性体粉末の具体例としては、鉄、鉄合金あるいはフェライトからなる粉末が挙げられる。【００１０】
本発明においては、軟磁性体粉末としては、高い透磁率を有すると共に低い電気伝導度を示す点から、鉄合金粉末もしくはフェライト粉末が好ましい。飽和磁束密度が高く、保磁力の小さい点から、フェライト粉末がより好ましい。フェライト粉末としては、ＭＦｅ２Ｏ４（ただし、Ｍは、Ｍｎ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｚｎ、Ｃｕ−Ｚｎ、Ｍｇ−ＺｎおよびＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎから選ばれる２価の金属）の一般式で示されるフェライトからなるものが特に好適である。鉄合金粉末の具体例としては、パーマロイ、スーパーマロイ、パーメンジュール、アモルファス、センダスト、フェライトやＦｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｚｒ、Ｆｅ−Ｍｎ、Ｆｅ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ａｌからなるもの等が挙げられる。【００１１】
軟磁性体粉末は、中心粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であることが好ましい。中心粒子径が０．１μｍ未満の粉末は、感光性ペースト中に良好に分散することが困難であり、好ましくない。中心粒子径が５μｍを越える粉末は、焼成後の膜の平坦性やパターンの形状が悪化するので好ましくない。中心粒子径は、より好ましくは０．５〜４μｍの範囲内である。さらに、軟磁性体粉末は、最大粒子径が１０μｍ以下であることが好ましい。軟磁性体粉末の最大粒子径が１０μｍを越えると、焼成後の膜の平坦性やパターンの形状が悪化するので好ましくない。最大粒子径は、より好ましくは８μｍ以下である。【００１２】
中心粒子径および最大粒子径は、コールターカウンター法、光子相関法およびレーザー回折法等の体積基準分布より求めることができる。【００１３】
ガラス粉末の軟化温度は８００℃以下が好ましい。また、ガラス粉末の軟化温度は、３５０℃以上が好ましい。軟化温度が３５０℃未満のガラスは、化学的安定性が低い。また、軟化温度が８００℃を越えると、焼成工程においてガラス粉末が軟化しにくくなる。基板にガラスを用いた場合でも基板上で十分な軟化を行うために、ガラス粉末の軟化温度は、７５０℃以下が、より好ましく、６５０℃以下が、さらに好ましい。【００１４】
ガラス粉末は、非結晶性ガラスからなることが好ましい。結晶性ガラスの場合、焼成後の膜面にクラック等が生じやすく、絶縁性や電気特性を低下させる場合がある。また、軟磁性体粉末との反応を考慮すると、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化鉛および酸化リンからなる群から選ばれる少なくとも一種類の元素を含むホウケイ酸系のガラス粉末が好ましく用いられる。また、環境面を考慮すると、酸化ビスマスや酸化亜鉛を主成分とするガラス粉末が好ましい。さらに、アルカリ金属を含むガラス粉末を用いた場合には、焼成時に基板ガラスとのイオン交換反応により、基板の反りを生じることがあるため、アルカリ金属の含有量は１０質量％以下とすることが好ましい。【００１５】
ガラス粉末の中心粒子径が０．１〜５μｍの範囲内であることが好ましい。中心粒子径が０．１μｍ未満の粉末は感光性ペースト中に良好に分散することが困難であり、好ましくない。中心粒子径が５μｍを越える粉末は、焼成後の膜の平坦性やパターンの形状が悪化するので好ましくない。中心粒子径は、より好ましくは０．５〜４μｍの範囲内である。さらに、ガラス粉末の最大粒子径が１０μｍ以下であることが好ましい。ガラス粉末の最大粒子径が１０μｍを越えると、焼成後の膜の平坦性やパターンの形状が悪化するので好ましくない。ガラス粉末の最大粒子径は、より好ましくは８μｍ以下である。ガラス粉末の平均粒子径および最大粒子径は、軟磁性体粉末と同様に測定することができる。【００１６】
また、軟磁性体粉末の粒子径とガラス粉末の粒子径が同程度であることが好ましい。軟磁性体粉末の粒子径とガラス粉末の粒子径が同程度であることで、現像時の残膜発生を抑制でき、得られるパターンの形状を安定させることができる。具体的には、軟磁性体粉末の中心粒子径／ガラス粉末の中心粒子径の値が、好ましくは０．１〜５の範囲、より好ましくは０．５〜４の範囲である。最大粒子径についても、同様である。【００１７】
本発明の感光性ペーストにおいては、軟磁性体粉末（Ａ）とガラス粉末（Ｂ）との質量比がＡ／Ｂ＝２０／８０〜７０／３０の範囲内であることが必要である。ガラス粉末は、ガラスフリットとも呼ばれ、焼成の際に無機粉末が焼結しやすくするために添加される。ガラスフリットは、つなぎのための成分であるから、少量である方が好ましく、通常は、無機粉末中の３〜１０質量％程度添加される。しかし、発明者らは、本発明の感光性ペーストにおいては、ガラス粉末（Ｂ）の量が、軟磁性体粉末（Ａ）とガラス粉末（Ｂ）の合計に対して３０質量％未満では、好ましい結果が得られない場合があることを見いだした。【００１８】
感光性ペーストを焼結させて得られる軟磁性体層が、高い透磁率等の電気特性を満足するためには、使用する軟磁性体粉末が高い透磁率を持っているとともに、軟磁性体粉末とガラス粉末が十分に焼結して、緻密な軟磁性体層を形成している必要がある。軟磁性体層が緻密でないと、軟磁性体粉末が本来持っている透磁率が発現しないためである。磁性体粉末とガラス粉末が十分に焼結するためには、焼成温度を比較的高温にする必要があるが、用途によっては高温で焼成できない場合がある。例えば、基板にガラスを用いた場合、高温で焼成するとガラス基板に悪影響を及ぼすため、焼成温度が限定される。本発明の感光性ペーストにおいては、ガラス粉末（Ｂ）の含有量を、軟磁性体粉末（Ａ）とガラス粉末（Ｂ）との合計に対して３０質量％以上とすることにより、焼成温度が比較的低温でも磁性体粉末とガラス粉末が十分に焼結可能となり、目的の電気特性を得ることができる。また、ガラス粉末（Ｂ）の含有量が、軟磁性体粉末（Ａ）とガラス粉末（Ｂ）との合計に対して８０質量％を越えると、軟磁性体粉末（Ａ）の含有量が低くなりすぎることにより、軟磁性体層の電気特性が低下するので好ましくない。より好ましくは、質量比がＡ／Ｂ＝３０／７０〜７０／３０の範囲内、さらに好ましくは、Ａ／Ｂ＝４０／６０〜７０／３０の範囲内である。【００１９】
また、本発明の感光性ペーストには、上記の軟磁性体粉末やガラス粉末以外の無機粉末が含まれていてもよい。例えば、黒色層を形成する場合は、黒色顔料を添加すると、ディスプレイの前面板として用いた場合のコントラスト向上に寄与することができる。黒色顔料としては、コバルト、ニッケル、銅、鉄、マンガン、クロムおよびルテニウム等の元素の酸化物を含む無機酸化物からなる顔料を好ましく用いることができる。それぞれの元素単独の酸化物を用いることもできるが、３種以上の元素の酸化物で構成されるスピネル化合物を用いることも有効である。特に、４００〜７００℃に加熱する工程を経る際には、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｃｕ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｕ−ＭｎなどのＣｏ元素を含むスピネル化合物を用いることにより、高温での退色を防止することが可能である。黒色顔料として、中心粒子径が０．０１〜１．５μｍの顔料を用いることが、均一かつ十分な黒色度の黒色層を形成することができるため好ましい。黒色顔料の中心粒子径が０．０１μｍ未満になると、黒色顔料の凝集が発生しやすく、黒色度が不均一になりやすい。また、黒色顔料の中心粒子径が１．５μｍを越えると、黒色度が低下しやすくなる。また、黒色顔料として、カーボンを用いることも好ましい。カーボン粒子としては、中心粒子径が１μｍ以下のものを用いることで、黒色度に優れた黒色層を形成することができる。４００℃以上の加熱工程を経る場合には、耐熱性カーボンを用いることが好ましい。黒色顔料の添加量は、黒色顔料の種類にもよるが、十分な黒色度を得るためには、無機粉末全体に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましい。【００２０】
感光性ペースト中の感光性有機成分は、通常、反応性モノマー、反応性オリゴマーおよび反応性ポリマーから選ばれた少なくとも１種、および必要に応じてバインダーポリマー、光重合開始剤、光酸発生剤、光塩基発生剤、増感剤、増感助剤、紫外線吸収剤、有機染料、分散剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸、塩基、沈降防止剤、重合禁止剤等の添加剤成分により構成される。ここで、反応性モノマー、反応性オリゴマーおよび反応性ポリマーにおける反応性とは、活性光線の照射を受けた場合に、光架橋、光重合、光解重合、光変性等の反応を通して化学構造が変化する性質を有することを意味する。【００２１】
感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭素不飽和二重結合を有する化合物が好ましく用いられる。官能基として、ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレート基、アクリルアミド基等を有する単官能および多官能化合物が好ましく使用できる。具体的には、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。これらの化合物のエチレンオキシド付加物、プロピレンオキシド付加物等も好ましく使用できる。【００２２】
感光性オリゴマーおよび感光性ポリマーとしては、活性な炭素−炭素不飽和二重結合を有するオリゴマーおよびポリマーが好ましく用いられる。感光性オリゴマーおよび感光性ポリマーは、カルボキシル基を有することが、感光後の感光性ペースト塗布膜の現像性を向上することができるため好ましい。カルボキシル基を有するオリゴマーおよびポリマーは、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物等のカルボキシル基含有モノマーおよびメタクリル酸エステル、アクリル酸エステル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、２−ヒドロキシアクリレート等のモノマーを共重合することにより得られる。【００２３】
カルボキシル基を有するオリゴマーおよびポリマーとしては、焼成時の熱分解温度が低いことから、（メタ）アクリル酸エステルおよび（メタ）アクリル酸を共重合成分とするアクリルコポリマーが好ましく用いられる。とりわけ、スチレン／メタクリル酸メチル／メタクリル酸共重合体が好ましく用いられる。【００２４】
カルボキシル基を有するコポリマーの酸価は５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が１５０を越えると、現像許容幅が狭くなる。また、酸価が５０未満では、感光性ペースト塗布膜の未露光部の現像液に対する溶解性が低下するため、現像液濃度を高くしないと現像できなくなる。現像液濃度を高くすると、感光性ペースト塗布膜の露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得られにくくなる。【００２５】
活性な炭素−炭素不飽和二重結合をオリゴマーもしくはポリマーに導入する方法としては、オリゴマーもしくはポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライド、マレイン酸等のカルボン酸を反応させて作る方法等を用いることができる。グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテル等が挙げられる。とりわけ、メタクリル酸グリシジルが好ましく用いられる。イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアナート、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等がある。グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物、アクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、オリゴマーもしくはポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基およびカルボキシル基に対して、０．０５〜１モル当量反応させることが好ましい。【００２６】
感光性モノマー、感光性オリゴマーおよび感光性ポリマーの好ましい添加量は、感光性ペースト中に２〜４０質量％であり、より好ましくは５〜３０質量％である。【００２７】
バインダーポリマーが必要な場合にはポリマーとして、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、ブチルメタクリレート樹脂等を用いることができる。【００２８】
本発明に用いる光重合開始剤は、活性光線の照射を受けた場合に、ラジカル種を発生する化合物から選んで用いられる。また、光重合開始剤と共に増感剤を使用することにより、感度を向上させたり、反応に有効な波長範囲を拡大することができる。光重合開始剤および増感剤としては、一般的な光重合開始剤および増感剤を使用することができる。しかし、本発明の感光性ペーストは、軟磁性体粉末を含有しているため、感光性ペーストが黒色を呈している。したがって、露光の光が吸収され、多くの露光量が必要となり、十分な感度が得られにくい。また、露光後の感光性ペースト塗布膜の現像液に対する耐性も弱く、現像時間が長くなると、感光性ペースト塗布膜が基板から剥離する場合がある。そのため、本発明における光重合開始剤および／または増感剤は、３６５ｎｍの波長で吸光係数が１，０００（１／ｍｏｌ・ｃｍ）以上であるものを特に好ましく用いることができる。より好ましくは、３６５ｎｍの波長で吸光係数が２，０００（１／ｍｏｌ・ｃｍ）以上である。３６５ｎｍの波長で吸光係数が１，０００（１／ｍｏｌ・ｃｍ）以上である光重合開始剤および／または増感剤を用いることで、高い感度が得られ、感光性ペースト塗布膜の現像液に対する耐性も向上するので、プロセスマージンを広げることができる。吸光係数の上限は、特に限定されないが、３６５ｎｍの波長で１００，０００（１／ｍｏｌ・ｃｍ）以下が好ましい。【００２９】
吸光係数は次のように測定できる。
（１）光重合開始剤および／または増感剤を秤量し、γ−ブチルラクトンに完全に溶解させる。
（２）秤量後、１０ｍｌのメスフラスコを用いて希釈する。
（３）（２）の希釈溶液の波長２６５ｎｍ〜６００ｎｍの領域の吸光度を、島津製作所社製ＵＶ−３１０１ＰＣ型自記分光光度計（セル１０ｍｍ）を用いて、波長０．５ｎｍ単位で測定する。
（４）（３）で求めた吸光度が０．７を越えるときは、適当な濃度まで希釈を行い、吸収スペクトルを測定する。
（５）測定した最大の吸光度が０．７以下になるまで希釈と測定を繰り返す。
（６）得られた各濃度のスペクトルから、ランバート・ベールの式により、３６５ｎｍでの単位濃度当たりの吸光係数（１／ｍｏｌ・ｃｍ）を算出する。【００３０】
吸光係数＝吸光度／（モル濃度×ｄ）  （式中ｄはセル長を示す）
３６５ｎｍの波長で吸光係数が１，０００（１／ｍｏｌ・ｃｍ）以上である光重合開始剤の具体例としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。【００３１】
本発明では、これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性有機成分に対し、好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜１０質量％である。重合開始剤の量が少なすぎると光感度が低下し、光重合開始剤の量が多すぎると、現像の際に露光部の残存率が小さくなるおそれがある。【００３２】
３６５ｎｍの波長で吸光係数が１，０００（１／ｍｏｌ・ｃｍ）以上である増感剤の具体例としては、２−メチルチオキサントン、２−クロルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−ラウリルチオキサントン、３−クロルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジプロピルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ピペリジン）ベンゾフェノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニルプロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニルプロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシムなどが挙げられる。これらの中でも、ビス（アルキルアミノ）ベンゾフェノンもしくはチオキサントン誘導体が特に好ましい。【００３３】
本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。増感剤を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量は感光性有機成分に対して、０．０５〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％である。増感剤の量が少なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤の量が多すぎれば、現像の際に露光部の残存率が小さくなる恐れがある。【００３４】
３６５ｎｍの波長で吸光係数が１，０００（１／ｍｏｌ・ｃｍ）以上である光重合開始剤および／または増感剤に加えて、感光性有機成分が４００ｎｍを越えた波長領域に吸収極大を持つ化合物を感光性ペーストに含むことが好ましい。前記のように感光性ペーストに３６５ｎｍの波長で吸光係数が１，０００（１／ｍｏｌ・ｃｍ）以上である光重合開始剤および／または増感剤を含むことにより、感光性ペーストの感度は高くなるが、感光性ペースト塗布膜が厚い場合、底部の方では露光光が減衰するために、十分な硬化が進みにくい。そのため、底部まで感光性ペースト塗布膜の硬化を進めるためには、露光量を多くする必要がある。そこで、４００ｎｍを越えた波長領域に吸収極大を持つ化合物を、さらに含有させると、４００ｎｍを越える波長の光は、感光性ペースト塗布膜の底部にまで透過し易いため、該塗布膜の底部の方でも硬化が進行するようになる。そのため、少ない露光量で、露光を行うことができる。また、感光性ペースト塗布膜底部まで硬化を進めることができるため、現像時間を長くしても感光性ペースト塗布膜が基板から剥離しなくなり、プロセスマージンを広げることができる。また、厚膜での加工が可能となる。特に、増感剤としてビス（アルキルアミノ）ベンゾフェノンもしくはチオキサントン誘導体を用い、４００ｎｍを越えた波長領域に吸収極大を持つ化合物と組み合わせて用いると、顕著な効果が得られるので好ましい。【００３５】
これらの化合物の吸収極大は、より好ましくは、４０５ｎｍを越えた波長領域、さらに好ましくは、４１０ｎｍを越えた波長領域に存在すると、上記の効果が、より高いので好ましい。一方、通常、露光に用いられる超高圧水銀灯の主波長は３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよび４３６ｎｍであるため、このような光源を用いる場合、これらの化合物の吸収極大は、５００ｎｍ以下の波長領域にあることが好ましい。【００３６】
４００ｎｍを越えた波長領域に吸収極大をもつ化合物の具体例としては、１−クロル−Ｎ−メチルアクリドン、２−クロル−Ｎ−メチルアクリドン、３−クロル−Ｎ−メチルアクリドン、２−クロル−Ｎ−ブチルアクリドン、２−クロル−Ｎ−メチルアクリドン、３−クロル−Ｎ−ベンジルアクリドン、４−クロル−Ｎ−メチルアクリドン、２，３−ジクロル−Ｎ−メチルアクリドン、２，６−ジクロル−Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ベンジルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−エチルアクリドンなどのアクリドン誘導体が挙げられるが、これらに限定されない。４００ｎｍを越えた波長領域に吸収極大をもつ化合物の好ましい添加量は、感光性ペースト中に０．１〜１０質量％である。より好ましくは、０．５〜５質量％である。【００３７】
本発明の感光性ペーストに、紫外線吸収剤を添加することも有効である。本発明の感光性ペーストでは、無機粉末として性質の異なる軟磁性体粉末とガラス粉末を用いているため、感光性ペースト塗布膜の内部で露光光の散乱が大きく、得られるパターンが広がりやすい傾向にある。紫外線吸収剤は、感光性ペースト塗布膜内部の散乱光を吸収し、散乱光を弱める。これによってパターンの広がりが抑えられ、シャープなパターンが得られる。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インドール系化合物、無機系の微粒子酸化金属等が挙げられる。これらの中でもベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インドール系化合物が特に有効である。これらの具体例としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−ｎ−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、インドール系の吸収剤であるＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９０１（オリエント化学社製）、ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９０２（オリエント化学社製）ＳＯＭ−２−０００８（オリエント化学社製）等が挙げられるがこれらに限定されない。さらに、これら紫外線吸収剤の骨格にメタクリル基等を導入した反応型紫外線吸収剤も好ましく用いることができる。本発明では、これらを１種以上使用することができる。【００３８】
紫外線吸収剤の添加量は、感光性ペースト中に０．００１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは、０．００５〜５質量％である。添加量が０．００１〜１０質量％未満だと、散乱光の吸収能力が低い。添加量が１０質量％を越えると、露光光の透過率が下がり、感光性ペーストの感度が低下するので好ましくない。【００３９】
また、有機染料を紫外線吸収剤として用いることも有効である。有機染料を用いる場合、上記感光性ペースト内部の散乱光を吸収する効果に加えて、感光性ペーストが着色されることにより、現像時の視認性が良くなるという効果がある。すなわち、現像時にペーストが残存している部分と除去された部分との区別が容易になる。有機染料としては、特に限定はされないが、焼成後の絶縁膜中に残存しないものが好ましい。具体的には、アントラキノン系染料、インジゴイド系染料、フタロシアニン系染料、カルボニウム系染料、キノンイミン系染料、メチン系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、ニトロソ系染料、ベンゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、フタルイミド系染料、ペリノン系染料等が使用できる。特に、ｈ線とｉ線付近の波長の光を吸収するもの、例えばベーシックブルー等のカルボニウム系染料を選択すると、本発明の効果がより出やすくなり好ましい。有機染料の添加量は０．００１〜１質量％であることが好ましい。【００４０】
さらに、本発明の感光性ペーストに、重合禁止剤を添加することも有効である。重合禁止剤を添加することで、少ない露光量では、重合禁止剤がラジカルを捕獲する。重合禁止剤で抑制できなくなる程度まで露光量が増加した点で急激に光反応が進行するため、露光後の感光性ペーストの現像液への溶解および不溶のコントラストを高くすることができる。【００４１】
重合禁止剤としては、具体的には、ヒドロキノン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、２，５−ジブチルヒドロキノン、モノ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ｐ−メトキシフェノール、ピロガロール等が挙げられるがこれらに限定されない。本発明では、これらを１種以上使用することができる。【００４２】
重合禁止剤の添加量は、感光性ペースト中に０．００１〜１質量％が好ましく、より好ましくは０．００５〜０．５質量％である。これらの範囲より少ない場合、現像液への溶解および不溶のコントラストの向上効果が小さい。またこの範囲を越えると、感光性ペーストの感度が低下したり、感光性有機成分の重合度が上がらないので好ましくない。【００４３】
紫外線吸収剤と重合禁止剤をコントロールすることで、パターン形状のコントロールが可能となる。【００４４】
感光性ペーストを基板に塗布する時の粘度を塗布方法に応じて調整するために、有機溶媒を添加することも好ましい。有機溶媒としては、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸等、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、テルピネオール、３−メチル−３−メトキシブタノール、テキサノール、ベンジルアルコール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、および、これらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が好ましく用いられる。有機溶媒は、揮発性と、使用する感光性モノマー、感光性オリゴマーおよび感光性ポリマーの溶解性とを主に考慮して選定するのが好ましい。感光性モノマー、感光性オリゴマーおよび感光性ポリマーの有機溶媒に対する溶解性が低いと、固形分比が同一でも感光性ペーストの粘度が高くなってしまい、塗布特性が悪化する傾向がある。【００４５】
有機溶媒の含有率は、少なすぎると感光性ペーストの粘度が高くなりすぎ、塗膜内の気泡を抜くことが困難となり、塗布面の平滑性が不良となる傾向がある。反対に有機溶媒の含有率が多すぎる場合には、感光性ペースト中の無機粉末の沈降が速くなり、感光性ペーストの組成が不安定になったり、乾燥に要するエネルギーと時間が大きくなる。有機溶媒の好ましい含有率は、感光性ペースト中に５〜５０質量％、さらに好ましくは１０〜４０質量％である。【００４６】
本発明の感光性ペーストは、各種成分を所定の組成となるように調合した後、プラネタリーミキサー等のミキサーによって予備分散した後、３本ローラーなどの分散機で分散・混練手段によって均質に分散し、作製する。【００４７】
本発明の感光性ペーストは、ディスプレイパネル用部材の製造に好適に用いることができる。本発明において、ディスプレイパネル用部材とは、電磁波シールド性を有するディスプレイパネル用の部材のことを言う。典型的な例としては、ディスプレイパネルの前面に配置する電磁波シールド板、あるいは、該電磁波シールド板を組み込んだディスプレイパネル用光学フィルターなどが挙げられる。【００４８】
また、本発明の感光性ペーストは、ディスプレイパネル用部材以外にも無線式通話装置の電磁波シールドやインダクター部を有する配線基板の磁性層等にも用いることができる。配線基板の磁性層に用いる場合、例えば、基板上に本発明の感光性ペーストを塗布および乾燥した後、露光工程および現像工程を経てスルホール部を形成し、さらに焼成して磁性層を形成する。本発明の感光性ペーストを用いることにより、生産性が高くなり、低コスト化がはかれる点やインダクター部の磁性層の剥離が生じにくくなり信頼性が向上することなどの利点がある。【００４９】
次に、本発明の感光性ペーストを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法について、電磁波シールド板を例に説明する。【００５０】
電磁波シールド板の層構成としては、基板／黒色層／金属層、基板／金属層／黒色層、基板／黒色層／金属層／黒色層等の構成が挙げられる。また、基板として、透明導電層を表面に形成した基板を用いて、基板／透明導電層／黒色層／金属層、基板／透明導電層／金属層／黒色層、基板／透明導電層／黒色層／金属層／黒色層等の構成とすることも好ましい。黒色層および金属層の作成にペースト法を用いた場合、塗布するペーストの種類と順序を変更することで、どのような層構成でも作成することができる。
（基板）
電磁波シールド板に用いる基板としては、ディスプレイの前面に配置され得る透明なものであれば、特に制限なく用いることができる。具体例としては、ガラス基板、樹脂基板、フィルムなどを用いることができる。樹脂基板としては、厚み０．５〜３ｍｍのアクリル板もしくはポリカーボネート基板等の公知の透明樹脂基板を用いることができる。また、フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリカーボネートフィルムを用いることができる。【００５１】
中でもコスト面および加工の自由度が高い点から、ガラス基板を用いるのが最も好ましい。ガラス基板の厚みとしては、０.７〜５mm程度が好ましく、より好ましくは１．０〜３.５mm程度の範囲である。厚みが０.７mmより薄いと、取り扱い時および使用時にガラス基板が破損しやすくなる。厚みが５mmを超えると重くなりすぎて、好ましくない。また、製造時および使用時の破損防止の観点から、ガラス基板は強化処理されているのが好ましい。強化処理の観点からは１．５mm以上の厚みを有するガラス基板が好ましい。【００５２】
ガラス基板の強化処理は、黒色層および金属層の形成前に行っても、後に行ってもよい。すなわち、ガラス基板を強化処理した後、その強化ガラス上に黒色層および金属層を形成してもよいし、普通ガラスに黒色層および金属層を形成した後、ガラスを強化処理してもよい。ガラスの強化処理は、ガラスの表面に圧縮歪みをもたせることによって強度を増す処理であり、表面に圧縮歪みをもたせる方法によって、熱強化処理と化学強化処理に分けられる。ガラスは引張り力により表面から破壊するため、予め表面に圧縮歪みをもたせると、強度を増すことができる。熱強化処理は、板状ガラスをその軟化点付近まで加熱した後、空気ジェットによりガラス表面を急冷し、ガラス表面に圧縮応力層を形成することにより行われる。黒色層および金属層の形成後に強化処理を行う場合は、連続的または段階的な加熱室をもった加熱炉で軟化点近くまで加熱した後、一群の空気ノズルからガラス基板の両面に垂直に空気ジェットを吹き付けて急冷することにより行うことが好ましい。【００５３】
ガラス基板は、金属イオン、金属コロイド、非金属元素などにより着色されていてもよい。ガラス基板の着色は公知の方法で行うことができる。着色は多くの場合、ディスプレイの見やすさを向上させる目的で行われる。
（透明導電層）
基板表面に透明導電層を形成することにより、光透過率を維持しつつ、基板の抵抗値を低減して電磁波シールド性を向上することができる。たとえば、ガラス基板表面に、ＩＴＯや酸化錫からなる透明な導電層を形成したガラス基板を用いることにより、電磁波シールド性を向上することができる。これらの透明導電層は、基板上にスパッタやＣＶＤ（ケミカル・ベーパー・デポジション）法により形成できる。【００５４】
透明導電層としては、ＩＴＯが酸化錫と比較して低抵抗化が可能な利点はあるが、基板としてガラスを用いる場合は、高価なインジウムを使用しない酸化錫の方がコスト面で優れる。また、金属層として銀を用いた場合、銀をガラス基板上に形成する際に、銀／ガラス間の反応によって黄色化する問題を抑制できる利点についても酸化錫が好ましい。
（金属層）
十分な電磁波シールド性を得るためには、電磁波シールド板の表面抵抗値が１Ω以下であることが好ましい。より好ましくは表面抵抗値が０．１Ω・ｃｍ以下である。しかし、透明導電層のみでは電磁波シールド板の表面抵抗値を１Ω以下にすることが困難である。また、抵抗値を低減するために透明導電層を厚く形成した場合、光線透過率が低下して、ディスプレイの視認性が低下する問題点や長時間の真空工程が必要になり、生産性が著しく低下するという問題点がある。そこで、基板上にメッシュ状もしくはストライプ状の金属層を形成することが好ましい。該金属層をメッシュ状やストライプ状に形成することで、メッシュやストライプの開口部分から光を透過することができる。【００５５】
金属層の材料としては、抵抗値を低減しやすい銀を用いることが好ましい。該金属層には、銀以外にニッケルやアルミ等の金属を含有しても良い。ただし、金属成分の中で銀の含有量を５０質量％以上とすることが抵抗値を低減する上で好ましい。銀の含有率が５０％未満になると、抵抗値が増大しやすくなる。【００５６】
また、十分な電磁波シールド性を得るためには、メッシュ状やストライプ状の金属層の線幅を５〜３０μｍとすることが望ましい。メッシュやストライプの線幅が、５μｍよりも小さいとパターンの欠損が生じやすく、線幅が３０μｍを越えると光透過率が低下する。また、金属層の厚みは０．５〜１５μｍが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍである。０．５μｍよりも薄いと金属層の抵抗値が大きくなり、電磁波シールド性が不足する。一方、金属層の厚みが１５μｍよりも厚くなると、メッシュやストライプの形成工程が複雑になることや材料コストが増加する。また、金属層が厚いと、パターン側面での反射による視認性低下が起こり、それを防ぐための透明化処理工程が必要になる問題がある。【００５７】
また、メッシュやストライプのパターンのピッチは、粗くなるとモアレ現象によりディスプレイの視認性が低下する場合があるので、ＰＤＰの画素ピッチの１／２以下が好ましい。つまり、通常のＰＤＰは０．７〜１ｍｍ四方の画素が形成されていることから、メッシュやストライプのピッチは０．１〜０．５ｍｍピッチで形成することが好ましい。
（黒色層）
金属層は光を反射するため、反射光によってディスプレイの視認性が低下するという問題がある。そのため黒色層を形成し、反射を抑制することにより、視認性を向上することが好ましい。金属層の上部に金属層と同じストライプ状もしくはメッシュ状の形状を有する黒色層を形成すること、つまり、上部黒色層を形成することにより、反射を抑制し、ディスプレイの視認性と電磁波シールド性を両立することができる。【００５８】
黒色層の厚みとしては、黒色層の黒さにも影響されるが、０．５〜１０μｍが好ましい。十分な黒色度を得るために、黒色層の厚みは０．５μｍ以上が好ましい。また、材料コスト面で黒色層の厚みを１０μｍ以下とすることが好ましい。【００５９】
本発明の感光性軟磁性体ペーストを用いて黒色層を形成すると、黒色層自体も電磁波シールド性を有し、電磁波シールド性の高い電磁波シールド板を形成できるので好ましい。
（製造方法）
基板上に金属層を作製する方法としては、基板上に金属を含有するペーストを用いて、必要なパターンを形成した後に、焼成することにより金属層を形成する方法が例示できる。金属ペーストを用いて必要なパターンを形成する方法としては、オフセット印刷、スクリーン印刷等のパターン印刷法を用いても良い。ただし、オフセット印刷では、金属層の厚みを厚くすることが難しく、一方、スクリーン印刷では、金属層のライン幅を３０μｍ以下に細くすることが困難という問題がある。そこで、好ましい方法としては、感光性ペースト法がある。感光性ペースト法は、感光性有機成分と金属粉末を含有するペーストを用いて、フォトリソグラフィー法によりパターンを形成する方法である。【００６０】
また、黒色層を作製する方法としては、本発明の感光性軟磁性体ペーストを用いて、フォトリソグラフィー法により必要なパターンを形成した後に、焼成することにより黒色層を形成する方法が好ましく例示できる。なお、金属層と黒色層の焼成は一括で行うこともできる。【００６１】
以下に、感光性ペースト法を用いた電磁波シールド板の製造方法の一例を示す。基板上に、金属粉末および感光性有機成分を含む感光性金属ペーストを塗布および乾燥し、感光性金属ペースト塗布膜を形成する。さらに、その上に、本発明の感光性軟磁性体ペーストを塗布および乾燥し、感光性金属ペースト塗布膜および感光性軟磁性体ペースト塗布膜の積層塗布膜を形成する。次に、その積層塗布膜に、メッシュ状パターンに対応するフォトマスクを介して、活性光線を照射して露光した後、現像することによって、積層塗布膜をメッシュ状パターンに形成する。続いて、基板としてガラス基板を用いた場合は、４００〜７００℃に加熱して焼成する。これにより、積層塗布膜中の有機成分が焼去されるとともに、無機粉末が密着し、金属ペースト塗布膜から金属層が、軟磁性体ペースト塗布膜から黒色層が形成される。焼成温度が４００℃未満の場合、金属層および黒色層中の有機物が十分に減少しないため、ガラス基板との密着性が不十分となる。一方、焼成温度が７００℃を超えると、ガラス基板自体に変形を生じるおそれがある。【００６２】
無機粉末を十分に密着させるためには、金属層および黒色層中の有機物の残存量は、焼成前の質量の１０％以下となるようにするのが好ましく、さらには５％以下となるようにするのがさらに好ましい。焼成時間は、好ましい温度範囲内で、残存有機物が好ましい範囲まで減少するように調整すればよい。また、ガラス基板として、強化処理ガラスを用いる場合は、強化がなまされないよう、焼成条件を当該ガラスの歪点よりも低く設定する必要がある。そのためには、ガラスの歪点よりも３０℃以上低い温度で焼成を行うのが好ましく、さらにはガラスの歪点よりも５０℃以上、とりわけ１００℃以上低い温度で焼成を行うのが好ましい。一方、ガラス基板として、普通ガラスを用いる場合は、ガラス基板上に感光性ペースト塗布膜のパターンを形成してから、ガラス基板の軟化点に近い温度で焼成した後、急冷することにより、ガラス基板の強化も同時に行うことができる。具体的には、例えば、６００〜７００℃で数十秒〜十数分程度加熱した後、空気を吹き付けて急冷することにより、感光性ペースト塗布膜の焼成とガラス基板の強化処理を同時に行うことができる。強化処理条件は、ガラス基板の厚みや必要な強化度合いにより適宜決定される。【００６３】
このようにして、ガラス基板上にメッシュ状の金属層および黒色層が形成された電磁波シールド板が得られる。電磁波シールド板に、さらに反射防止機能や透過率制御機能を付与することにより、ディスプレイ用の光学フィルターが作成される。反射防止機能を付与する方法としては、加工した基板に低屈折率の反射防止塗料を塗布して、加熱する方法がある。また、反射防止機能を有するフィルムを該電磁波シールド板に貼付する方法もある。また、透過する光の波長を制御するための色補正フィルム、赤外線や紫外線をカットするフィルム、また、プラズマディスプレイに用いる場合は、ネオン光をカットする機能を有するフィルムなどを貼り付けることで、透過率制御機能を有する光学フィルターを作成できる。ガラス基板自体に適当な金属イオンを添加することにより、近赤外線吸収性能を付与することも可能である。さらに、指紋など汚染物質が表面に付着することを防止する防汚性フィルムなどを貼付することも好ましい。また、こうして得られる光学フィルターは、ディスプレイ用の前面フィルター、例えば、プラズマディスプレイパネルなどの前面フィルターとして、好適に用いることができる。
【実施例】
【００６４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、各実施例および比較例で得られた電磁波シールド板は、以下の（１）、（２）および（３）により評価した。
（１）金属層および黒色層の線幅および形状
各実施例で得られた電磁波シールド板について、メッシュ状に形成された金属層および黒色層を顕微鏡で観察し、線幅の測定および形状の観察を行った。
（２）抵抗値
各実施例で得られた電磁波シールド板について、表面抵抗三菱化学（株）製の表面抵抗測定器“ロレスタ”を使用し、４端針法にて表面抵抗を測定した。
（３）電磁波シールド性
各実施例で得られた電磁波シールド板から一辺が１００mmの正方形サンプルを切り出し、ＫＥＣ（関西電子工業振興センター）法に準拠したアンリツ社製ＥＭＩシールド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を用いて電磁波シールド性を測定した。【００６５】
１０ｄＢ以下  ：ほとんど効果無し
１０〜３０ｄＢ：最小限度の効果
３０〜６０ｄＢ：平均的な効果
６０〜８０ｄＢ：平均以上の効果
８０〜１２０ｄＢ：高性能な効果
（シールド性能：ｄＢ）＝２０×ｌｏｇ（シールド後の電界強度／シールド前の電界強度）
（４）吸光係数
感光性ペーストに用いた光重合開始剤および増感剤の吸光係数は、次の手順により求めた。【００６６】
ａ．光重合開始剤および／または増感剤を秤量し、γ−ブチルラクトンに完全に溶解させる。【００６７】
ｂ．秤量後、１０ｍｌのメスフラスコを用いて希釈する。【００６８】
ｃ．ｂの希釈溶液の波長２６５ｎｍ〜６００ｎｍの領域の吸光度を島津製作所社製ＵＶ−３１０１ＰＣ型自記分光光度計（セル１０ｍｍ）を用いて、波長０．５ｎｍ単位で測定する。【００６９】
ｄ．ｃで求めた吸光度が０．７を越えるときは、適当な濃度まで希釈を行い、吸収スペクトルを測定する。【００７０】
ｅ．測定した最大の吸光度が０．７以下になるまで希釈と測定を繰り返す。【００７１】
ｆ．得られた各濃度のスペクトルから、ランバート・ベールの式により、３６５ｎｍでの単位濃度当たりの吸光係数（１／ｍｏｌ・ｃｍ）を算出する。【００７２】
吸光係数＝吸光度／（モル濃度×ｄ）  （式中ｄはセル長を示す）
（５）無機粉末の粒径
感光性ペーストに用いた無機粉末の粒径は、マイクロトラック社製粒度分布計ＨＲＡ９３２０−Ｘ１００を用いて、試料１ｇを精製水中で１．５分間超音波で分散して測定した。粒子屈折率は、無機粉末の種類によって変更し、溶媒屈折率は、１．３３とした。測定は３回行い、平均値を求めた。【００７３】
（実施例１〜１２）
大きさ９７０ｍｍ×５８０ｍｍで厚み３ｍｍのソーダガラス基板（日本板硝子社製）上に、ガラス粉末３質量％、メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（質量組成比６０／４０、質量平均分子量３２０００）６質量％、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３質量％、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン１質量％、中心粒子径２μｍのＡｇ粉末（同和鉱業社製）７４質量％、有機溶媒（ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート）１３質量％からなる感光性銀ペーストをマイクロテック社製スクリーン印刷機および３８０メッシュのスクリーン版を用いて全面塗布し、タバイ社製熱風乾燥機を用いて、１００℃で３０分乾燥した。ガラス粉末としては、酸化ビスマス（７５質量％）、酸化珪素（５質量％）、酸化硼素（１０質量％）、酸化ジルコニウム（３質量％）、酸化亜鉛（３質量％）および酸化アルミニウム（４質量％）からなるガラスを粉砕した、中心粒子径０．８μｍ、最大粒子径７μｍのガラス粉末を用いた。乾燥後の感光性銀ペースト塗布膜の厚みは１５μｍであった。【００７４】
次に、表１に示した組成の感光性軟磁性体ペーストを、マイクロテック社製スクリーン印刷機および３８０メッシュのスクリーン版を用いて、感光性銀ペースト塗布膜の上に全面塗布し、タバイ社製熱風乾燥機を用いて１００℃で３０分乾燥した。乾燥後の感光性軟磁性体ペースト塗布膜の厚みは１３μｍであった。このようにして得られた基板に、線間隔３００μｍ、線幅２０μｍのメッシュ状に開口部が形成されたフォトマスクを介して、露光光の照射を行い、感光性銀ペースト塗布膜および感光性軟磁性体ペースト塗布膜を同時に露光した。露光機は、大日本スクリーン製露光機（光源：２ｋＷ超高圧水銀灯）を用いた。露光後、０．５％の２−アミノエタノール水溶液を用いて、２分間シャワーで現像することにより、感光性銀ペースト塗布膜および感光性軟磁性体ペースト塗布膜は、メッシュ状にパターン加工された。その後、このメッシュ状パターン付きガラス基板を７００℃で５分間、光洋サーモテック社製ローラーハース焼成炉を用いて焼成した後、空気を吹き付けて急冷した。この処理により、感光性銀ペースト塗布膜および感光性軟磁性体ペースト塗布膜は、メッシュ状パターンを有する金属層および黒色層となって強固にガラス基板に密着するとともに、基材ガラスは強化ガラスとなった。このようにして、電磁波シールド板を作製した。【００７５】
なお、表１に用いた材料は以下の通りである。表１において、上段は材料、下段はその比率（質量部）である。【００７６】
【表１】
0004760709.tif 000002
【００７７】
Ａ：Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト粉末、商品名“ＫＮＳ−４１５”（戸田工業社製）、中心粒子径１．７μｍ、最大粒子径７．３μｍ
Ｂ：Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト粉末、商品名“ＢＳＮ−７１４”（戸田工業社製）、中心粒子径２．７μｍ、最大粒子径８．１μｍ
Ｃ：酸化ビスマス（７５質量％）、酸化珪素（５質量％）、酸化硼素（１０質量％）、酸化ジルコニウム（３質量％）、酸化亜鉛（３質量％）および酸化アルミニウム（４質量％）からなるガラスを粉砕した中心粒子径０．８μｍ、最大粒子径７μｍの非結晶性ガラス粉末
Ｄ：酸化コバルト（Ｃｏ３Ｏ４、中心粒子径０．１μｍ）
Ｅ：酸価が８５、質量平均分子量が３２，０００の感光性アクリルポリマー（東レ社製ＡＰＸ−７１６）
Ｆ：プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（第一工業製薬社製）
Ｇ：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（３６５ｎｍの波長における分子吸光係数：７，８００）
Ｈ：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（３６５ｎｍの波長における分子吸光係数：２，３００）
Ｉ：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（３６５ｎｍの波長における分子吸光係数：２０）
Ｊ：２，４−ジエチルチオキサントン（３６５ｎｍの波長における分子吸光係数：５，１００）
Ｋ：４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（３６５ｎｍの波長における分子吸光係数：３７，０００）
Ｌ：Ｎ−ブチルアクリドン（最大吸収波長４０２ｎｍ）
Ｍ：ベーシックブルー２６
Ｎ：ｐ−メトキシフェノール
Ｏ：ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
表１の組成の感光性ペーストを用いた結果を表２に示す。実施例１〜９では、十分に実用可能な感度で露光ができ、金属層および黒色層の線幅および形状も良好であった。実施例１０では、多くの露光量を必要とし、金属層および黒色層の形状もやや不良であったが、パターン形成は可能であった。実施例１１〜１３では、金属層および黒色層の形状がやや不良であったが、パターン形成は可能であった。【００７８】
次に、得られた電磁波シールド板の評価結果を表２に示す。【００７９】
【表２】
0004760709.tif 000003
【００８０】
さらに、実施例１〜１２で作製した電磁波シールド板に、反射防止機能、色補正機能、およびネオンカット機能を有する機能フィルム（住友大阪セメント社製）を貼合し、前面フィルターを作成した。画面のヘイズ感により視認性を評価したところ、良好であった。【００８１】
（比較例１）
大きさ９７０ｍｍ×５８０ｍｍのポリエステルフィルム上に、凹版オフセット印刷法を用いて、カーボンブラックを１質量％含有する銀ペーストを用いて、ピッチ３００μｍ、線幅２０μｍのメッシュ状パターンを形成し、１５０℃に加熱した。続いて、メッシュ状の銀ペーストパターン上に、電解メッキで銅メッキ層を３μｍの厚みになるように形成した。このようにして、ポリエステルフィルム上にメッシュ状パターンを有する電磁波シールドフィルムを作成した。【００８２】
得られた電磁波シールドフィルムをガラス基板に貼合し、その上に、反射防止機能、色補正機能およびネオンカット機能を有する機能フィルム（住友大阪セメント社製）を貼合し、前面フィルターを作成した。画面のヘイズ感により視認性を評価したところ、良好であった。しかし、メッキ工程が必須であるため、工程が余分に必要であった。【００８３】
（比較例２）
大きさ９７０ｍｍ×５８０ｍｍのポリエステルフィルム上に、厚み１３μｍの銅箔をラミネートした後、ドライフィルムレジストをラミネートした。ピッチ３００μｍ、線幅２０μｍのメッシュ状に開口部が形成されたフォトマスクを介してドライフィルムレジストを露光した。続いて、現像、エッチング、およびレジスト剥離の各工程を経て、ポリエステルフィルム上にメッシュ状パターンを有する電磁波シールドフィルムを作成した。【００８４】
得られた電磁波シールドフィルムをガラス基板に貼合し、その上に、反射防止機能、色補正機能およびネオンカット機能を有する機能フィルム（住友大阪セメント社製）を貼合し、前面フィルターを作成した。画面のヘイズ感により視認性を評価したところ、ヘイズ感が強く視認性不良であった。【００８５】
（比較例３）
感光性軟磁性体ペーストの組成を表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にして電磁波シールド板を作成した。焼成後、金属層および黒色層がガラス基板から剥離してしまった。【００８６】
（比較例４）
感光性軟磁性体ペーストの組成を表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にして電磁波シールド板および前面フィルターを作成した。画面のヘイズ感により視認性を評価したところ、ヘイズ感が強く視認性不良であった。
【産業上の利用可能性】
【００８７】
本発明の感光性ペーストを用いることにより、簡略な工程により、視認性に優れる電磁波シールド板を製造できる感光性ペーストを提供できる。【００８８】
また、本発明の感光性ペーストは、ディスプレイの電磁波シールド板以外にも、無線式通話装置の電磁波シールドやインダクター部を有する配線基板の磁性層等にも用いることができる。【００８９】
本発明の感光性ペーストを用いることにより、生産性が高くなり、低コスト化が図れる点や、形成した軟磁性体層が基板から剥離しにくくなり信頼性が向上する点などの利点がある。