(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースプレートと、
該ベースプレートに形成された第１の凹部内の平面に対向し、且つ前記第１の凹部の周縁部の内側に配置されるチルトプレートと、
前記チルトプレートに形成された第２の凹部の平面に対向し、且つ前記第２の凹部の周縁部の内側に配置される第１の可動プレートと、
該第１の可動プレートに形成された第３の凹部の平面に対向し、且つ前記第３の凹部の周縁部の内側に収容されるように形成された第２の可動プレートと、
前記第１の可動プレートの周縁部の外側を前記チルトプレートに対して側方から一方向にガイドする第１のガイド手段と、
前記第２の可動プレートの周縁部の外側を前記第１の可動プレートに対して側方から前記一方向と交差する他方向にガイドする第２のガイド手段と、
前記第１の可動プレートを側方から一方向に移動させる第１の駆動手段と、
前記第２の可動プレートを側方から他方向に移動させる第２の駆動手段と、
前記チルトプレートを前記ベースプレートの平面に対して傾ける第３の駆動手段と、
を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記第２の可動プレートの平面に対向し、Ｚ軸回りに回動可能に支持されたθ軸プレートと、
該θ軸プレートを外周から駆動する第４の駆動手段と、
を有することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記第１の可動プレートの周縁部の位置を検出する第１の位置検出手段と、
前記第２の可動プレートの周縁部の位置を検出する第２の位置検出手段と、
を有することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記ベースプレート、前記チルトプレート、前記第１の可動プレート、前記第２の可動プレートの夫々の中央部を貫通する開口部を設け、
前記各プレートの開口部のうち前記ベースプレート側に位置する開口部を大きく形成したことを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載のステージ装置。
【請求項５】
前記開口部は、内周側に位置合わせを行う光学系が軸線に対して所定角度傾斜した方向から挿入されるように傾斜部が設けられたことを特徴とする請求項４に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記第３の駆動手段は、前記ベースプレートに設けられ、前記チルトプレートの軸方向に対する角度を変更するように前記チルトプレートを傾ける複数のピエゾユニットを有することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記第１、第２の駆動手段は、超音波モータであることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はステージ装置に係り、特に小型化及び薄型化を図るよう構成されたステージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体製造工程に用いられる露光装置には、保持対象物としての露光用マスクを保持すると共に、光軸に対して露光用マスクの位置を調整するステージ装置が搭載されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このステージ装置では、基盤上に一対の第１クロスローラガイドを介して第１ステージを、第１ステージ上に一対の第２クロスローラガイドを介して第２ステージを順次載置した構成になっている。また、上記第１ステージは、第１ステージの下面に形成された第１の被駆動部材の圧接面に当接させた第１の超音波モータにより一方の方向に移動させるように取り付けられている。また、上記第２ステージは、第２ステージの下面に形成された第２の被駆動部材の圧接面に当接させた第２の超音波モータにより第１ステージと異なる方向に移動させるように設けられている。
【特許文献１】特開２０００−５８６２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記ステージ装置では、各ステージ間にローラガイドが介在する構成であるので、各ステージを重ね合わせた高さ寸法が大きくなり、装置全体が大型化してしまうという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明は上記課題を解決したステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。
【０００７】
請求項１記載の発明は、ベースプレートと、
該ベースプレートに形成された第１の凹部内の平面に対向し、且つ前記第１の凹部の周縁部の内側に配置されるチルトプレートと、
前記チルトプレートに形成された第２の凹部の平面に対向し、且つ前記第２の凹部の周縁部の内側に配置される第１の可動プレートと、
該第１の可動プレートに形成された第３の凹部の平面に対向し、且つ前記第３の凹部の周縁部の内側に収容されるように形成された第２の可動プレートと、
前記第１の可動プレートの周縁部の外側を前記チルトプレートに対して側方から一方向にガイドする第１のガイド手段と、
前記第２の可動プレートの周縁部の外側を前記第１の可動プレートに対して側方から前記一方向と交差する他方向にガイドする第２のガイド手段と、
前記第１の可動プレートを側方から一方向に移動させる第１の駆動手段と、
前記第２の可動プレートを側方から他方向に移動させる第２の駆動手段と、
前記チルトプレートを前記ベースプレートの平面に対して傾ける第３の駆動手段と、
を有することを特徴とする。
【０００８】
請求項２記載の発明は、前記第２の可動プレートの平面に対向し、Ｚ軸回りに回動可能に支持されたθ軸プレートと、該θ軸プレートを外周から駆動する第４の駆動手段と、を有することを特徴とする。
【０００９】
請求項３記載の発明は、前記第１の可動プレートの周縁部の位置を検出する第１の位置検出手段と、前記第２の可動プレートの周縁部の位置を検出する第２の位置検出手段と、を有することを特徴とする。
【００１１】
請求項４記載の発明は、前記ベースプレート、前記チルトプレート、前記第１の可動プレート、前記第２の可動プレートの夫々の中央部を貫通する開口部を設け、
前記各プレートの開口部のうち前記ベースプレート側に位置する開口部を大きく形成したことを特徴とする。
【００１２】
請求項５記載の発明は、前記開口部は、内周側に位置合わせを行う光学系が軸線に対して所定角度傾斜した方向から挿入されるように傾斜部が設けられたことを特徴とする。
【００１３】
請求項６記載の発明は、前記第３の駆動手段は、前記ベースプレートに設けられ、前記チルトプレートの軸方向に対する角度を変更するように前記チルトプレートを傾ける複数のピエゾユニットを有することを特徴とする。
【００１４】
請求項７記載の発明は、前記第１、第２の駆動手段は、超音波モータであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ベースプレートに形成された第１の凹部の周縁部の内側にチルトプレートを収容し、チルトプレートに形成された第２の凹部の周縁部の内側に第1の可動プレートを収容し、第１の可動プレートに形成された第３の凹部の周縁部の内側に第２の可動プレートを収容し、且つ、第１、第２のプレートの周縁部の外側を側方からガイドすると共に、側方から駆動するため、各プレートをできるだけ近接させた状態で重ね合わせることが可能になり、大幅な薄型化を実現できる共に、装置全体を小型化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。
【実施例１】
【００１７】
図１は本発明によるステージ装置の一実施例を示す斜視図である。図２は図１に示すステージ装置を下方からみた斜視図である。図３はステージ装置の縦断面図である。
【００１８】
図１及び図２に示されるように、ステージ装置１０は、ベースプレート１２の内部にチルトプレート１４、ＸＹステージ１６、θ軸ステージ１８とを収容した構成である。
【００１９】
ベースプレート１２は、下面側に各プレートを収容する凹部２０を有し、凹部２０の内部にはチルトプレート１４、ＸＹステージ１６、θ軸ステージ１８を収容する空間が形成されている。
【００２０】
また、本実施例のステージ装置１０は、露光用のマスクを保持するマスクチャック（図示せず）の位置を調整する位置調整装置として電子ビーム露光装置（図示せず）に組み込まれる。そのため、各プレートの中心部には、露光のための開口部２２が形成されている。マスクチャックは、上下方向に貫通する開口部２２の下側に位置するθ軸ステージ１８に保持され、露光装置の電子ビーム照射ユニットは、開口部２２（２２ａ〜２２ｅ）の上方に配置されており、マスクに対して上方から電子ビームを照射する。ベースプレート１２に設けられた開口部２２ａは、Ｘ方向及びＹ方向に延在する切欠部が設けられており、上方からみると十字状に形成されている。
【００２１】
また、ベースプレート１２の上面には、３本のＺ軸ピエゾユニット（第３の駆動手段）２８〜３０が設けられている。このＺ軸ピエゾユニット２８〜３０は、ピエゾアクチュエータ３２がベースプレート１２の上面に固定されたブラケット３４によりＺ軸方向に起立した状態に保持されている。尚、Ｚ軸ピエゾユニット２８〜３０は、上方からみて周方向上１２０度間隔となる位置に配置されている。
【００２２】
図３に示されるように、ピエゾアクチュエータ３２は、下端に直動案内部３５、ヒンジ３６、チルトプレート１４の上面凹部１４ａに嵌合する当接部３８を有する。ヒンジ３６は、Ｚ，Ｘ，Ｙ軸方向及びθｚ方向の剛性が高いのに対して、θx，θｙ方向の剛性が低くなっている。従って、チルトプレート１４は、３本のピエゾアクチュエータ３２のＺ軸方向変位量によってベースプレート１２に対するＺ軸方向及びθx，θｙ方向が調整される。
【００２３】
また、Ｚ軸ピエゾユニット２８〜３０によるベースプレート１２に対するZ軸方向の変位量は、静電容量センサ４０によって検出される。静電容量センサ４０は、ブラケット３４に固定されたL字状の固定側センサ部４０ａと、チルトプレート１４の上面に固定されベースプレート１２の孔１２ａを貫通して固定側電極４０ａに対向するコ字状の可動側電極４０ｂとから構成されており、固定側電極４０ａと可動側電極４０ｂとの相対変位に応じた静電容量の変化を検出する。静電容量センサ４０は、Ｚ軸ピエゾユニット２８〜３０の夫々に設けられており、３箇所のZ軸変位量の検出値を出力する。そして、制御部（図示せず）では、各静電容量センサ４０から得られたZ軸変位量の値からθx，θｙ方向の角度を求め、これに基づいてＺ軸ピエゾユニット２８〜３０に入力する制御信号を制御する。
【００２４】
さらに、チルトプレート１４の周縁部１４ｂは、ベースプレート１２の内壁に固定された複数の板バネ４２により上方に付勢されている。この板バネ４２のバネ力によってチルトプレート１４は、Ｚ軸ピエゾユニット２８〜３０の当接部３８に当接した状態が維持されている。
【００２５】
また、チルトプレート１４の中央部に設けられた開口部２２ｂよりもベースプレート１２の開口部２２ａの方がＸ方向及びＹ方向の幅寸法が大きく形成されている。この開口部２２ａと２２ｂとの寸法差は、ベースプレート１２に対してチルトプレート１４のθx，θｙ方向の位置調整が行われても開口部２２ｂがベースプレート１２によって閉塞されないように設定されている。
【００２６】
ここで、ＸＹステージ１６の構成について説明する。図４はステージ装置を上方から見た平面図である。図５はＸ方向からみたステージ装置の縦断面図である。図６はＹ方向からみたステージ装置の縦断面図である。
【００２７】
図３乃至図６に示されるように、ＸＹステージ１６は、チルトプレート１４の下面に対向し、且つチルトプレート１４の周縁部の内側に配置されるＸ軸プレート（第１の可動プレート）５０と、Ｘ軸プレート５０の下面に対向し、且つＸ軸プレート５０の周縁部の内側に収容されるように形成されたＹ軸プレート（第２の可動プレート）５２と、Ｘ軸プレート５０の周縁部を側方からＸ方向にガイドする一対のＸ方向直動ガイド（第１のガイド手段）５４と、Ｙ軸プレート５２の周縁部を側方からＹ方向にガイドする一対のＹ方向直動ガイド（第２のガイド手段）５６とを有する。
【００２８】
また、ＸＹステージ１６は、Ｘ軸プレート５０の側面に取り付けられたＸ方向被駆動側モータプレート５８を側方からＸ方向に移動させるＸ方向駆動用超音波モータ（第１の駆動手段）６０と、Ｙ軸プレート５２の側面に取り付けられたＹ方向被駆動側モータプレート６２を側方からＹ方向に移動させるＹ方向駆動用超音波モータ６４（第２の駆動手段）とを有する。
【００２９】
Ｘ軸プレート５０は、チルトプレート１４の下面側周縁部に支持されたＸ方向直動ガイド５４によりＸ方向に移動可能にガイドされており、Ｘ方向駆動用超音波モータ６０からの超音波がＸ方向被駆動側モータプレート５８に伝播されてＸ方向の駆動力を付与される。また、Ｘ軸プレート５０の中央部に設けられた開口部２２ｃは、Ｘ方向駆動用超音波モータ６０によりＸ方向に移動するストロークに応じた寸法でＸ方向に延在形成されており、一つ上側の開口部２２ｂよりも小さくなっている。開口部２２ｃと２２ｂとのＸ方向の寸法差は、チルトプレート１４に対してＸ軸プレート５０のＸ方向の位置調整が行われても開口部２２ｃがチルトプレート１４によって閉塞されないように設定されている。
【００３０】
Ｘ軸プレート５０のＹ方向側面には、Ｙ方向に延在形成されたＸ軸リニアスケール６６が取り付けられている。そして、Ｘ軸リニアスケール６６の側方には、Ｘ軸リニアエンコーダヘッド６８が対向するように配置されている。
【００３１】
Ｘ軸リニアエンコーダヘッド６８は、チルトプレート１４の周縁部下面に固定されているので、Ｘ軸プレート５０が移動すると、Ｘ軸リニアスケール６６との相対移動量に比例した検出信号を出力する。Ｘ軸プレート５０のＸ方向変位は、Ｘ軸リニアエンコーダヘッド６８からの検出信号を積算することにより算出される。そして、制御部（図示せず）は、Ｘ方向変位をフィードバックすることで、Ｘ方向駆動用超音波モータ６０によるＸ軸プレート５０のＸ方向位置制御を行うことができる。
【００３２】
Ｙ軸プレート５２は、Ｘ軸プレート５０の下面側周縁部に支持されたＹ方向直動ガイド５６によりＹ方向に移動可能にガイドされており、Ｙ方向駆動用超音波モータ６４からの超音波がＹ方向被駆動側モータプレート６２に伝播されてＹ方向の駆動力を付与される。また、Ｙ軸プレート５２の中央部に設けられた開口部２２ｄは、Ｙ方向駆動用超音波モータ６４によりＹ方向に移動するストロークに応じた寸法でＹ方向に延在形成されており、一つ上側の開口部２２ｃよりも小さくなっている。開口部２２ｄと２２ｃとのＹ方向の寸法差は、Ｘ軸プレート５０に対してＹ軸プレート５２のＹ方向の位置調整が行われても開口部２２ｄがＸ軸プレート５０によって閉塞されないように設定されている。
【００３３】
Ｙ軸プレート５２のＸ方向側面には、Ｘ方向に延在形成されたＹ軸リニアスケール７０が取り付けられている。そして、Ｙ軸リニアスケール７０の側方には、Ｙ軸リニアエンコーダヘッド７２が対向するように配置されている。
【００３４】
Ｙ軸リニアエンコーダヘッド７２は、Ｘ軸プレート５０の周縁部下面に固定されているので、Ｙ軸プレート５２が移動すると、Ｙ軸リニアスケール７０との相対移動量に比例した検出信号を出力する。Ｙ軸プレート５２のＹ方向変位は、Ｙ軸リニアエンコーダヘッド７４からの検出信号を積算することにより算出される。そして、制御部（図示せず）は、Ｙ方向変位をフィードバックすることで、Ｙ方向駆動用超音波モータ６４によるＹ軸プレート５２のＹ方向位置制御を行うことができる。
【００３５】
さらに、Ｙ軸プレート５２のＹ方向に延在する側面には、Ｘ軸平面ミラー７６が取り付けられている。また、Ｙ軸プレート５２のＸ方向に延在する側面には、Ｙ軸平面ミラー７７が取り付けられている。このＸ軸平面ミラー７６及びＹ軸平面ミラー７７が対向するベースプレート１２の周縁部１２ｂの下面には、レーザ干渉計（図示せず）から照射されたレーザ光が通過するための凹部１２ｃが設けられている。従って、ベースプレート１２の周縁部１２ｂにレーザ干渉計を取り付けることにより、レーザ干渉計（図示せず）からのレーザ光がＸ軸平面ミラー７６及びＹ軸平面ミラー７７に照射され、その反射光を受光してレーザ干渉計からＹ軸プレート５２までの距離を計測することを可能にしている。そのため、レーザ干渉計を用いることにより、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、θｚ軸方向の絶対変位量も計測することが可能になる。
【００３６】
開口部２２ｃのＸ方向内壁には、所定角度傾斜した傾斜面７８が２方向に形成されている。また、開口部２２ｄのＸ方向、Ｙ方向内壁には、所定角度傾斜した傾斜面７９が４方向に形成されている。この傾斜面７８，７９は、アライメントを行う際の位置ずれを検出する光学ユニット１２０（図７参照）の挿入角度に対応する角度で傾斜しており、例えば、軸線に対して４５度〜５０度の角度で傾斜している。
【００３７】
このように、ステージ装置１０は、ベースプレート１２の周縁部の内側に形成された凹部２０（第１の凹部）にチルトプレート１４を収容し、チルトプレート１４の周縁部の内側に形成された凹部８２（第２の凹部）にＸ軸プレート５０を収容し、Ｘ軸プレート５０の周縁部の内側に形成された凹部８４（第３の凹部）にＹ軸プレート５２を収容すると共に、Ｘ軸プレート５０及びＹ軸プレート５２を側方からガイドすると共に側方から駆動するため、各プレートをできるだけ近接させた状態で重ね合わせることが可能になり、大幅な薄型化を実現できる共に、装置全体を小型化することができる。
【００３８】
次にθ軸ステージ１８の構成について説明する。θ軸ステージ１８は、θ軸プレート９０を有する。θ軸プレート９０は、Ｙ軸プレート５２の下面側に対向配置されており、Ｙ軸プレート５２の下部外周に嵌合する環状軸受９２によりＺ軸回りに回動可能に支持されている。
【００３９】
また、θ軸プレート９０は、外周にθ軸被駆動側モータプレート９４が固定され、θ軸被駆動側モータプレート９４の側方にはθ軸駆動用超音波モータ（第４の駆動手段）９６が配置されている。θ軸駆動用超音波モータ９６は、Ｙ軸プレート５２の下面側段部に設けられており、超音波をθ軸被駆動側モータプレート９４に伝播することでθ軸プレート９０を周方向（θｚ方向）に回動させる。
【００４０】
本実施例では、θ軸プレート９０の下面にマスクチャック（図示せず）が保持される構成であり、θ軸駆動用超音波モータ９６の駆動力によってマスクチャックをθｚ方向に回動させることが可能になる。
【００４１】
図３及び図４に示されるように、θ方向駆動用超音波モータ９６は、Ｙ軸プレート５２の下面に固定されているので、θ方向駆動用超音波モータ９６からの超音波がＹ方向被駆動側モータプレート９４に伝播されると、θ軸プレート９０は、θｚ方向の駆動力を付与される。
【００４２】
また、θ軸プレート９０は、上記θ方向被駆動側モータプレート９４の取付位置と１８０度反対側の外周にθ軸リニアスケール１０４が取り付けられている。そして、θ軸リニアスケール１０４の側方には、θ軸リニアエンコーダヘッド１０６が対向するように配置されている。
【００４３】
θ軸リニアエンコーダヘッド１０６は、Ｙ軸プレート５２の周縁部下面に固定されているので、θ軸プレート９０が回動すると、θ軸リニアスケール１０４との相対移動量に比例した検出信号を出力する。θ軸プレート９０のθｚ方向変位は、θ軸リニアエンコーダヘッド１０６からの検出信号を積算することにより算出される。そして、制御部（図示せず）は、θｚ方向変位をフィードバックすることで、θ方向駆動用超音波モータ９６によるθ軸プレート９０のθｚ方向位置制御を行うことができる。
【００４４】
このように、チルトプレート１４、Ｘ軸プレート５０、Ｙ軸プレート５２の下方に支持されたθ軸プレート９０は、θ方向駆動用超音波モータ９６によりθz軸方向の位置を調整されると共に、チルトプレート１４を介してＺ，θx，θｙ軸方向が調整され、Ｘ軸プレート５０を介してＸ軸方向が調整され、Ｙ軸プレート５２を介してＹ軸方向が調整されるため、６自由度の位置制御が行える。
【００４５】
また、θ軸プレート９０の中央部に設けられた開口部２２ｅは、Ｘ方向駆動用超音波モータ６０及びＹ方向駆動用超音波モータ６４によりＸ方向及びＹ方向に移動するストロークに応じた寸法でＸ，Ｙ方向に延在形成されており、一つ上側の開口部２２ｄよりも小さくなっている。開口部２２ｅと２２ｄとのＸ，Ｙ方向の寸法差は、Ｙ軸プレート５２に対してθ軸プレート９０のθｚ方向の位置調整が行われてもマスクの寸法、形状に対応した露光に必要な必要開口部１００（図４に破線で示す）を確保する大きさを有するように設定されている。また、開口部２２ｅの内壁には、開口部２２ｃ，２２ｄの傾斜面７８，７９に連続するように形成された傾斜面１１０が設けられている。
【００４６】
θ軸プレート９０は、縦断面がＬ字状に形成されており、上面側に凹部９８が形成されている。この凹部９８には、環状軸受９２及びＹ軸プレート５２の下部が収容される構成である。従って、ＸＹステージ１６の下面側に取り付けられたθ軸プレート９０もＸＹステージ１６と同様に薄型化されている。
【００４７】
また、上記ベースプレート１２、チルトプレート１４、Ｘ軸プレート５０、Ｙ軸プレート５２、θ軸プレート９０は、非磁性材（例えば、アルミニウムなど）を用いて形成されている。
【００４８】
ここで、θ軸プレート９０のアライメントについて説明する。図７は光学ユニットを装置内に挿入した状態をY方向からみた縦断面図である。図８はＸ軸プレート５０をＸ方向に移動させた動作状態をY方向からみた縦断面図である。
【００４９】
図７に示されるように、θ軸プレート９０の下側に保持されたマスクチャック（図示せず）のマスクのアライメントを行う場合は、４つの光学ユニット１２０がＸ，Ｙ方向から同時に位置合わせを行う。光学ユニット１２０は、θ軸プレート９０の下方に保持された露光用マスク（図示せず）と露光されるウエハ（図示せず）との相対的な位置ずれを検出する。この光学ユニット１２０は、アライメント方法を用いた検出装置であり、マスク及びウエハに斜め上方から光を照射し、その反射光を像検出装置（図示せず）の受光面に結像させてマスク面マークとウエハ面マークとの差を光学的に検出するように構成されている。そして、制御部は、マスク面マークとウエハ面マークとの差が許容範囲に入るようにθ軸プレート９０に保持されたマスクチャックのＸ，Ｙ，Ｚ，θx，θｙ，θｚ軸方向の位置制御を行う。尚、上記アライメント方法は、本出願人が先に出願しました特開平８−２８８２０１号公報に記載されていますので、ここではその詳細な説明を省略する。
【００５０】
図８に示されるように、例えば、Ｘ軸プレート５０をＸ方向（図中、右方）に移動させた場合、開口部２２（２２ａ〜２２ｅ）の内壁が左側の光学ユニット１２０に近接することになる。しかしながら、開口部２２（２２ａ〜２２ｅ）は、光学ユニット１２０の傾斜角度に応じて上側ほど開口寸法が大きくなるように形成されており、さらにＸ軸プレート５０、Ｙ軸プレート５２、θ軸プレート９０の内壁には、傾斜面７８，７９，１１０が設けられている。そのため、光学ユニット１２０は、Ｘ軸プレート５０がＸ方向に移動可能な位置まで移動した場合でも開口部２２（２２ａ〜２２ｅ）の内壁と接触しないように取り付けられている。また、図示していないが、Y軸プレート５２がY方向に移動可能な位置まで移動した場合でも、光学ユニット１２０は、開口部２２（２２ａ〜２２ｅ）の内壁と接触しないように取り付けられている。
【００５１】
これにより、光学ユニット１２０は、Ｘ軸プレート５０がＸ方向に移動した場合、及びY軸プレート５２がY方向に移動した場合でも開口部２２（２２ａ〜２２ｅ）の内壁に接触せず、マスク面マーク及びウエハ面マークの位置検出に影響しないように取り付けられている。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
上記実施例では、電子ビーム露光装置に用いられたステージ装置について説明したが、これに限らず、例えば、本発明は紫外線露光装置やＸ線露光装置などにも適用することができるのは勿論である。
【００５３】
また、本発明のステージ装置は、真空環境下や非磁性環境下にも適用できると共に、大気中や窒素ガス中でも動作可能であるため、半導体製造工程や液晶製造工程にも適用可能なのは勿論である。このとき、ピエゾアクチュエータ、超音波モータに変えてＡＣモータを用いても良い。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明によるステージ装置の一実施例を示す斜視図である。
【図２】ステージ装置を下方からみた斜視図である。
【図３】ステージ装置の縦断面図である。
【図４】ステージ装置を上方から見た平面図である。
【図５】Ｘ方向からみたステージ装置の縦断面図である。
【図６】Ｙ方向からみたステージ装置の縦断面図である。
【図７】光学ユニットを装置内に挿入した状態をY方向からみた縦断面図である。
【図８】Ｘ軸プレート５０をＸ方向に移動させた動作状態をY方向からみた縦断面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１０  ステージ装置
１２  ベースプレート
１４  チルトプレート
１６  ＸＹステージ
１８  θ軸ステージ
２０  凹部
２２（２２ａ〜２２ｅ）  開口部
２８〜３０  Ｚ軸ピエゾユニット
４０  静電容量センサ
４２  板バネ
５０  Ｘ軸プレート
５２  Ｙ軸プレート
５４  Ｘ方向直動ガイド
５６  Ｙ方向直動ガイド
６０  Ｘ方向駆動用超音波モータ
６４  Ｙ方向駆動用超音波モータ
６８  Ｘ軸リニアエンコーダヘッド
６０  Ｘ方向駆動用超音波モータ
６４  Ｙ方向駆動用超音波モータ
７２  Ｙ軸リニアエンコーダヘッド
７８，７９，１１０  傾斜面
９０  θ軸プレート
９６  θ軸駆動用超音波モータ
１０６  θ軸リニアエンコーダヘッド
１２０  光学ユニット
【図１】
0004689423.tif 000002
【図２】
0004689423.tif 000003
【図３】
0004689423.tif 000004
【図４】
0004689423.tif 000005
【図５】
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【図６】
0004689423.tif 000007
【図７】
0004689423.tif 000008
【図８】
0004689423.tif 000009