(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン交換基を有しない熱可塑性重合体と、一般式（２）（ただし、Ａは、炭索数４のアルキレン基を表す。Ｚは、塩素、臭素、ヨウ素、水酸基、トシル基、第１〜第３アミンまたは−ＮＲ1Ｒ2Ｒ3基を表す。
ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基、ヒドロキシアルキル基から選ばれる基を表す。ベンゼン環に結合している水素原子はアルキル基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。）の単量体、又は一般式（２）の単量体及びこれと共重合しうる単量体との混合物からなる重合成分とを混合し、次いで前記重合成分を重合し、Ｚが塩素、臭素、ヨウ素、水酸基、又はトシル基の場合にはＺをイオン交換基に置換する反応を更に行う陰イオン交換膜の製造方法であって、前記熱可塑性重合体が主鎖の不飽和結合率が３％以下であり、かつポリスチレンからなるハードセグメントとソフトセグメントを有するスチレン系熱可塑性エラストマーであることを特徴とする陰イオン交換膜の製造方法。
【化１】
0004724971.tif 000004
【請求項２】
イオン交換基を有しない熱可塑性重合体および前記重合成分の合計量に対して、一般式（２）の単量体を２０〜９６質量％用いる請求項１記載の陰イオン交換膜の製造方法。
【請求項３】
イオン交換基を有しない熱可塑性重合体の膜状成形体に、前記重合成分を含浸させることにより該熱可塑性重合体と前記重合成分を混合する請求項１又は２記載の陰イオン交換膜の製造方法。
【請求項４】
前記重合成分に、イオン交換基を有しない熱可塑性重合体を混合して得られる溶液を膜状に成形した後で、前記重合成分を重合する請求項１又は２記載の陰イオン交換膜の製造方法。
【請求項５】
前記重合成分に、イオン交換基を有しない熱可塑性重合体を混合して得られる溶液を、多孔性の膜支持材料に含浸した後で、前記重合成分を重合する請求項１又は２記載の陰イオン交換膜の製造方法。
【請求項６】
前記重合成分に接触させる前又は接触させるとき、多孔性の膜支持材料に電子線又はγ線を照射する請求項５記載の陰イオン交換膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、陰イオン交換膜、その製造方法、および溶液処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
陰イオン交換膜として、数多くの文献、特許が報告されているが、もっとも実用的で有益なものとして、芳香環にクロロメチル基を有するスチレン−ジビニルベンゼン共重合体またはビニルピリジン−ジビニルベンゼン共重合体に陰イオン交換基を導入した陰イオン交換膜がある。これらはその耐薬品性、耐熱性に加え、架橋剤であるジビニルベンゼンの含有量を変えることにより、イオン交換特性や選択透過性を制御できることから、あらゆる用途に対し多種の品種を合成し発展してきた。特に、製塩に関わる電気透析による海水濃縮分野においては、低抵抗で輸率が高く、１価イオンを選択的に透過する高度な機能を有する膜が開発されてきた。
【０００３】
しかしながら、このスチレン−ジビニルベンゼン共重合体やビニルピリジン−ジビニルベンゼン共重合体に基づく陰イオン交換膜は、重合時またはイオン交換基導入反応時における発熱や寸法変化などの制御が難しく、歩留まりが必ずしも高くないという欠点がある。また、機械的に比較的脆いスチレン系樹脂から構成されているため、高温で使用した場合や処理水中の成分によっては、膜が過度に膨潤してイオン選択透過性の低下や膜強度の低下を招くおそれがあるなど、耐久性に課題があった。
【０００４】
特に、高いｐＨの溶液では、温度が高くなるにしたがい加速的に陰イオン交換基が分解し、膜抵抗の増加やイオン選択透過性の低下を招くおそれがある。このため、アルカリ濃度を下げたり、温度を下げて使用する必要があるなど、使用条件の制約が多かった。
【０００５】
一方、耐久性の良い陰イオン交換樹脂については、ベンゼン環と陰イオン交換基との間に特定な置換基Ａを導入した陰イオン交換樹脂を特開平４−３３４４９１号、特開平７−２８９９２１公報など数多くの提案をしている。しかしながら、そのような陰イオン交換基を有するイオン交換膜の陰イオン選択透過性などの特性及び耐久性やそれを利用した新しい応用方法については知られていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、陰イオン選択透過性と耐久性に優れた陰イオン交換膜を得ることを目的とし、またその膜を使用した新しい利用方法を提供することも目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記一般式（１）（ただし、Ａは、炭素数３〜８のアルキレン基または総炭素数４〜９のアルキレンオキシアルキル基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基、ヒドロキシアルキル基を表す。Ｘ-は、アニオンを表す。ベンゼン環に結合している水素原子はアルキル基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。）で表される繰り返し単位を含有する重合体２０〜９６質量％と、イオン交換基を有しない熱可塑性重合体４〜８０質量％とが、実質的に均一に含有される樹脂相を含む陰イオン交換膜を提供する。
【０００８】
【化３】
0004724971.tif 000002
【０００９】
本発明はさらに、イオン交換基を有しない熱可塑性重合体と、一般式（２）（ただし、Ａは、炭素数３〜８のアルキレン基または総炭素数４〜９のアルキレンオキシアルキル基を表す。Ｚは、塩素、臭素、ヨウ素、水酸基、トシル基、第１〜第３アミンまたは−ＮＲ1Ｒ2Ｒ3基を表す。ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基、ヒドロキシアルキル基から選ばれる基を表す。ベンゼン環に結合している水素原子はアルキル基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。）の単量体、又は一般式（２）の単量体及びこれと共重合しうる単量体との混合物からなる重合成分を混合し、次いで前記重合成分を重合し、Ｚが塩素、臭素、ヨウ素、水酸基、又はトシル基の場合にはＺをイオン交換基に置換する反応を更に行う陰イオン交換膜の製造方法を提供する。
【００１０】
【化４】
0004724971.tif 000003
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の陰イオン交換膜は、前記一般式（１）の繰り返し単位を含有する重合体（以下、一般式（１）の重合体という。）２０〜９６質量％とイオン交換基を有しない熱可塑性重合体４〜８０質量％とが、実質的に均一に混合された膜状の樹脂相からなる。本発明における実質的に均一に混合された膜状の樹脂相とは、該樹脂相を光学顕微鏡で観察した場合、一般式（１）の重合体とイオン交換基を有しない熱可塑性重合体とが、分別観察できない状態にあり、相の大きさが１μｍ以上の大きさである相分離構造が観察できない状態をいう。
【００１２】
例えば、一般式（１）の重合体の粉状物と熱可塑性重合体を機械的に混合し、加熱プレスなどで膜状に成形した不均質に混合したイオン交換膜は、電解質濃度の増加によりイオン選択透過性の低下が大きく、また高温下や樹脂を膨潤させる溶液組成で長期使用すると、イオン選択透過性の低下や膜強度の低下を招き好ましくない。また一般式（１）の重合体が２０質量％以下では、膜の電気抵抗の増加やイオン選択透過性の低下を招き、また９６質量％以上では、樹脂相の強度不足や使用時の耐久性が劣る。樹脂相において、一般式（１）の重合体が４０〜９４質量％である場合はさらに好ましい。
【００１３】
一般式（１）のＡは、炭素数３〜８のアルキレン基または総炭素数４〜９のアルキレンオキシアルキル基を表す。ここで、アルキレンオキシアルキル基とは、エーテル結合性の酸素原子を含むアルキレン基である。アルキレン基は直鎖状であっても分岐のあるものであってもよい。炭素数１または２のアルキレン基の場合、正電荷を有するアンモニウム基は、そのアルキレン基を通じてベンゼン環の影響を受けやすく陰イオン交換基の耐熱性が劣る。一方炭素数９以上では、質量あたりのイオン交換容量が低下する結果、膜の電気抵抗の増加やイオン選択透過性の低下を招く。
【００１４】
アルキレンオキシアルキル基の場合も、炭素数の範囲が上記範囲を逸脱する場合はアルキレン基の場合と同様である。具体的には、−（ＣＨ2）n−（ｎは１〜６の整数）、−（ＣＨ2）4−Ｏ−ＣＨ2−（テトラメチレン基側が窒素と結合したもの）、−（ＣＨ2）5−Ｏ−ＣＨ2−（ペンタメチレン基側が窒素と結合したもの）が挙げられる。
【００１５】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基、ヒドロキシアルキル基を表す。これらは互いに同一であっても異なっていてもよい。これらのアルキル基またはヒドロキシアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基が好ましく使用される。
【００１６】
Ｘ-はアンモニウム基に配位した対イオンであるアニオンを表す。具体的には、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-などのハロゲンイオン、ＨＣＯ3-、ＣＯ32-、酢酸イオン、ＮＯ3-、ＯＨ-、ｐ−トルエンスルホン酸イオンなどが挙げられる。ここで、Ｘ-はＳＯ42-イオンのような多価アニオンでもよく、その場合はＸ-は一価相当分の多価アニオンを示す。
【００１７】
一般式（１）のベンゼン環に結合した水素原子は、アルキル基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。アルキル基としては、メチル基またはエチル基が好ましく、ハロゲン原子としては、塩素または臭素が好ましい。
【００１８】
また、一般式（１）の重合体は、他の繰り返し単位を有していてもよい。例えば、一般式（１）で表される繰り返し単位に含まれるイオン交換基以外のイオン交換基を含む繰り返し単位、例えばビニルピリジン、クロロメチルスチレンなどに基づく繰り返し単位が使用できる。その場合、全イオン交換基中の９０ｍｏｌ％以上が一般式（１）で示される繰り返し単位に含まれるイオン交換基であることが、耐熱性や耐久性の点から好ましい。さらに、架橋にもイオン交換にも寄与しない繰り返し単位として、スチレン、ビニルトルエン、エチレン、プロピレン、アクリニトリルなどに基づくものを含んでいてもよい。
【００１９】
上記の好ましい樹脂相の製造方法としては、イオン交換基を有しない熱可塑性重合体１００質量部に対し一般式（２）の単量体２５〜２５００質量部を均一に混合せしめ、次いで該単量体を重合する方法が好ましい。なお、一般式（２）の単量体において、Ａは一般式（１）のものと同一である。
【００２０】
一般式（２）の単量体において、Ｚが第１〜第３アミンまたは−ＮＲ1Ｒ2Ｒ3基の場合は、単量体が親水性のため他の単量体と共重合させる際、イオン交換基を有しない熱可塑性重合体へ混合する際には均一な混合は容易ではない。このため、例えば電子線やγ線照射したポリエチレンフィルムやポリプロピレンフィルムを、該単量体の水溶液に浸漬することにより、熱可塑性重合体中へ単量体を溶解させ、重合をさせることにより、一般式（１）の重合体と熱可塑性重合体の均一な混合樹脂相からなる陰イオン交換膜を得ることができる。ここで溶解とは、いいかえれば、単量体を拡散により熱可塑性重合体中に浸透させることを意味する。
【００２１】
他方、Ｚが塩素、臭素、ヨウ素、水酸基、トシル基の場合には、重合後、アンモニアまたは第１〜第３アミンと反応させ、第１〜第３アミンまたは第４級アンモニウム塩基に変換する必要があり、この反応が行われることによりイオン交換基が形成される。以上のとおりではあるが、他の単量体との共重合による改質や熱可塑性重合体との混合または溶解性が良いので、前述のＺの場合が好ましく使用される。特に単量体の安定性、重合性および陰イオン交換基への変換性の点からＺが臭素の単量体が好ましく使用される。
【００２２】
また、一般式（２）の単量体は、他の単量体と共重合させることにより、イオン選択性や機械的強度を所望する特性に制御できる。この場合の他の単量体としては、不飽和結合を有する炭化水素基を含有する単量体が好ましい。具体的には、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルナフタレン、エチレングリコールジメタクリレートなどビニル基を２個以上有するものがあげられる。また、架橋にもイオン交換にも寄与しない単量体として、スチレン、ビニルトルエン、エチレン、プロピレン、アクリニトリルなどを用いてもよい。
【００２３】
陰イオン交換膜の樹脂相を構成する熱可塑性重合体としては、主鎖の不飽和結合率が３％以下で、熱可塑性重合体１００質量部に対し一般式（２）の単量体を２５質量部以上溶解する熱可塑性重合体が好ましい。ここで主鎖の不飽和結合率とは、主鎖を構成する炭素同士の全結合数のうち２重結合や３重結合の数を百分率で表したもので例えば、ポリブタジエンポリマーは不飽和結合率が２５．０％、スチレン−ブタジエンの質量比が１：１である共重合体は不飽和結合率が１６．７％である。
【００２４】
主鎖の不飽和結合が３％を超える場合は、得られる陰イオン交換膜の初期性能は良くとも、長期使用時に不飽和結合が切断される結果、耐熱性、耐薬品性の長期耐久性が低下するので好ましくない。
不飽和結合率が３％以下で、熱可塑性重合体１００質量部に対し一般式（２）の単量体を２５質量部以上溶解する熱可塑性重合体としては、熱可塑性オレフィン、熱可塑性エラストマー、熱可塑性プラストマーなどが好ましい。
【００２５】
具体的には、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレンと塩化ビニルとの共重合体、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、クロロスルホン化ポリエチレン、スチレン系熱可塑性エラストマー、または水素添加スチレンとブタジエンとの共重合体や水素添加ニトリルゴム、水素添加ピリジンゴムおよびそれらの混合物が例示される。
【００２６】
ここでスチレン系熱可塑性エラストマーとは、ポリスチレンからなるハードセグメントと、ソフトセグメントを有する共重合体である。ソフトセグメントとして、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリ（エチレン／ブチレン）（エチレン−ブチレン交互共重合体をいう、以下同様）、ポリ（エチレン／プロピレン）などからなるものが好ましく用いられる。
【００２７】
スチレン系熱可塑性エラストマーとしては、ポリスチレン−水素添加ポリブタジエン−ポリスチレンブロックポリマー（Ｈ−ＳＢＳ）、ポリスチレン−（ポリエチレン／ブチレンゴム）−ポリスチレンブロックポリマー（ＳＥＢＳ）、ポリスチレン−水素添加ポリイソプレンゴム−ポリスチレンブロックポリマー（Ｈ−ＳＩＳ）、ポリスチレン−（ポリエチレン／プロピレンゴム）−ポリスチレンブロックポリマー（ＳＥＰＳ）、ポリスチレン−ポリエチレン−（ポリエチレン／プロピレンゴム）−ポリスチレンブロックポリマー（ＳＥＥＰＳ）、ポリスチレン−ビニルポリイソプレン（ポリ（プロペニルエチレン））−ポリスチレンブロックポリマー等が一般式（２）の単量体との相溶性が良いので好ましい。
【００２８】
本発明のイオン交換膜の製造方法においては、上記で述べたイオン交換基を有しない熱可塑性重合体１００質量部に対し一般式（２）の単量体２５質量部以上を均一に混合し、次いで重合して膜状の樹脂相を形成するが、膜の使用寸法が小さい場合や機械的強度や寸法安定性が要求されない用途の場合は、重合して得られる樹脂相単独からなる陰イオン交換膜が使用される。
【００２９】
その場合は、熱可塑性重合体１００質量部に対し一般式（２）の単量体を２５〜２５００質量部、好ましくは５０〜５００質量部、特には７０〜２００質量部溶解し、重合するのが好ましい。なかでも、イオン交換基を有しない、熱可塑性重合体の膜状成形体に、単量体からなる重合成分を含侵させた後、該重合成分を重合させる方法は、量産性の点で好ましい方法として例示される。
【００３０】
一方、膜の使用寸法が大きい場合や機械的強度や寸法安定性が要求される用途の場合は、重合して得られる樹脂相を多孔性の膜支持材料で補強した陰イオン交換膜を使用することが望ましい。補強する方法としては、熱可塑性重合体より単量体との溶解性が小さい多孔性の膜支持材料、例えば、クロス、不織布などを、予め熱可塑性重合体膜に熱プレスなどで埋め込んだ複合膜に単量体を溶解し重合する方法が例示される。
【００３１】
また、別の好ましい膜の補強方法としては、一般式（２）の単量体、又は一般式（２）の単量体及びこれと共重合しうる他の単量体との混合物からなる重合成分と熱可塑性重合体とを混合し、得られる粘稠液を多孔性の膜支持材料に含浸させた後、上記重合成分を重合させる方法が使用される。このとき、熱可塑性重合体の構成や分子量により変わるが、熱可塑性樹脂重合体１００質量部に対し単量体２５〜２５００質量部、好ましくは１００〜２０００質量部、特には２００〜１５００質量部を添加するのが好ましい。
【００３２】
本発明の補強された陰イオン交換膜に使用する多孔性の膜支持材料としては、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンの織物、不織布、微多孔性膜なども使用できるが、高いｐＨ溶液や高温下での長期耐久性の点で、ポリエチレン、ポリプロピレンまたは含フッ素オレフィンの織物または微多孔性膜が好ましい。
【００３３】
多孔性の膜支持材料を使用する場合は、一般式（２）を含有する単量体に接触する前に、膜支持材料に電子線またはγ線を照射するか、単量体に浸漬した膜支持材料に電子線またはγ線を照射し、多孔性基材と膜とを密着させることが、得られる補強膜の電気抵抗、機械的強度および長期耐久性の点で好ましい。また、同様の目的から多孔性基材にあらかじめスルホン化、またはハロゲン化等の化学的処理を行うことが好ましい。
【００３４】
補強された陰イオン交換膜においては、多孔性の膜支持材料中に一般式（１）の重合体が存在している方が好ましい。例えば、クロスで補強した場合には、クロスを構成する繊維の内部にも一般式（１）の重合体が浸透して存在するのが好ましい。このとき、多孔性の膜支持材料中の一般式（１）で表される繰り返し単位の含有量が、一般式（１）のＸに起因する蛍光Ｘ線の強度で比較したときに前記樹脂相中のその含有量の０．０５〜０．７倍であるのが好ましい。
【００３５】
その状態は、補強された陰イオン交換膜の断面について走査電子顕微鏡−蛍光Ｘ線（ＳＥＭ−ＥＤＡＸ）分析を行い、一般式（１）のＸに含まれる元素の強度を求めることにより観測することができる。その観測により、樹脂相部分の強度に対する支持材料部分の強度の比が０．０５〜０．７であるのが好ましい。強度比が０．０５以下では、膜の電気抵抗が高く、長期耐久性が低下し、０．７以上では、機械的強度が低下する。好ましくは０．１〜０．６とするよう、電子線またはγ線を照射レベルや重合条件を選定することにより得られる。
【００３６】
このようにして得られる重合膜は、一般式（２）のＺがハロゲン原子の場合、クロロメチルスチレン系重合膜と同様に、例えばアンモニア、メチルアミン、ジメチルアミンと反応させた弱塩基性陰イオン交換膜、トリメチルアミン、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、などと反応させた強塩基性陰イオン交換膜、エチレンジアミン、テトラメチルジアミノプロパンなどと反応させ、イオン交換基同士を結合させた陰イオン交換膜とすることができる。
【００３７】
上記の方法により得られる本発明の陰イオン交換膜は、使用目的により異なるが樹脂相のイオン交換容量は、対イオンがＣｌである場合に０．５〜４ｍｅｑ／ｇ乾燥樹脂が好ましい。以下、本明細書においてはイオン交換容量は対イオンがＣｌの場合の値を示す。イオン交換容量がこれより小さい場合は得られる陰イオン交換膜の電気抵抗が高くなり、またこれより大きい場合は膜の機械的強度や長期耐久性が低下する。
【００３８】
本発明の陰イオン交換膜は、海水濃縮、かん水の脱塩、酸の濃縮または回収、有価金属の回収などを目的とする電気透析機構、および、酸回収などを目的とするの拡散透析機構に用いることができる。その他に、燃料電池や２次電池などのセパレーターにも有用である。特に、耐アルカリ性や耐熱性に優れていることから、ｐＨが１０以上の溶液から電気透析または拡散透析により水酸イオンの濃縮、脱塩、精製をする溶液処理装置や高温殺菌が必要な溶液処理装置、自己再生型脱イオン水製造装置に有用である。また陽イオン交換膜との複合膜（いわゆるバイポーラ膜）のベース膜としても好ましい。
【００３９】
【実施例】
以下に本発明の実施例（例１、例４〜例７）、及び比較例（例２、例３）を説明する。
[例１]
一般式（２）で表される単量体として、Ａがテトラメチレン基、Ｚが臭素である４−（４−ブロモブチル）スチレン（無色透明溶液、沸点１１５℃／０．２ｍｍＨｇ）を使用した。この単量体４５質量％、スチレン３５質量％、ジビニルベンゼン（純度５７質量％、残部はエチルベンゼン）２０質量％の単量体混合物を得た。
【００４０】
この単量体混合物１００質量部に、熱可塑性重合体として、ハードセグメントとしてポリスチレンを有しソフトセグメントとしてポリ（エチレン／プロピレン）を有するスチレン系熱可塑性エラストマー（株式会社シェルジャパン製、商品名クレイトン１７３０、不飽和結合率０％）１５質量部、重合開始剤であるベンゾイルパーオキサイド（日本油脂社製、商品名ナイパーＢＯ）４質量部を混合し、１５００ｃｐｓの粘稠液を得た。
【００４１】
次いで、３００ｋＧｙのγ線を照射した、厚さ３００μｍ、目付量１００ｇ／ｍ２のポリプロピレン製のクロスからなる膜支持材料に上記粘稠液を含浸した後、単量体混合物を重合させて厚さ３２０μｍの膜状に成形した。この膜状成形物を１ｍｏｌ／Ｌのトリメチルアミンのメタノール溶液に４０℃で１６時間浸漬し、一般式（２）で示される単量体に基づく繰り返し単位のＺを４級アンモニウム塩型にし、これをさらにＣｌ型に交換した。
このようにして一般式（１）で表される構造単位（ただし、Ａがテトラメチレン基、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はいずれもメチル基、Ｘ-はＣｌ-である。）を有する樹脂相を含む陰イオン交換膜を得た。
【００４２】
この結果得られた陰イオン交換膜は、イオン交換容量１．８ｍｅｑ／ｇ樹脂相であった。膜の比抵抗を０．５ｍｏｌ／Ｌ食塩水中、交流１０００Ｈｚで測定したところ６００Ω・ｃｍであった。静的輸率を（０．５ｍｏｌ／Ｌの食塩水）／（１．０ｍｏｌ／Ｌの食塩水）、２５℃で測定したところ０．９７であった。陰イオン交換膜を乾燥し、その断面についてＳＥＭ−ＥＤＡＸ測定によって、樹脂相のＣｌ元素の強度に対する、クロスのポリプロピレン繊維の部分のＣｌ元素の強度を求めたところ、その強度比は０．４であった。比抵抗、静的輸率、Ｃｌ元素の強度比は、以下の例においても同様にして測定した。
【００４３】
この陰イオン交換膜を０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して陰イオン交換基をＯＨ型に変換し、過剰の水酸化ナトリウムを水洗除去した後、８０℃のイオン交換水中に６ヶ月間浸漬した。浸漬後の陰イオン交換膜のイオン交換容量は１．７６ｍｅｑ／ｇ樹脂相で、比抵抗は６３０Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９７であった。
【００４４】
[例２（比較例）]
例１におけるスチレン系熱可塑性エラストマーを使用しない以外、例１と同様にして陰イオン交換膜を得た。
この陰イオン交換膜の比抵抗は４００〜５００Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９０〜０．９７と性質の変動が見られた。またＳＥＭ−ＥＤＡＸによる樹脂相に対するクロス部分のＣｌ元素の強度比は０．４であった。この陰イオン交換膜について例１と同様にしてＯＨ型に変換し、８０℃イオン交換水中に６ヶ月間浸漬した。浸漬後樹脂相には亀裂が発生した。浸漬後の陰イオン交換膜の静的輸率は０．８８であった。
【００４５】
[例３（比較例）]
例１における４−（４−ブロモブチル）スチレン４５質量％の替わりにクロロメチルスチレン（単量体混合物中に４５質量％）を使用した以外、例１と同様にして陰イオン交換膜を得た。
この陰イオン交換膜のイオン交換容量は１．９ｍｅｑ／ｇ樹脂相で、比抵抗は５００Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９７であった。またＳＥＭ−ＥＤＡＸによる樹脂相に対するクロス部分のＣｌ元素の強度比は０．４であった。この陰イオン交換膜について例１と同様にしてＯＨ型に変換し、８０℃イオン交換水中に６ヶ月間浸漬した。浸漬後の膜のイオン交換容量は１．５ｍｅｑ／ｇ樹脂相、比抵抗は１０００Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９２であった。
【００４６】
[例４]
例１におけるポリプロピレン製クロスの替りにγ線を３００ｋＧｙ照射した厚さ２６０μｍ、目付量７０ｇ／ｍ2のポリエチレン製クロスを使用し、またスチレン系熱可塑エラストマー１５質量部の替りに水素添加ニトリルゴム（日本ゼオン社製、商品名ゼットポール２０００）を１０質量部を使用した以外、例１と同様にして陰イオン交換膜を得た。
【００４７】
この陰イオン交換膜の比抵抗は５００Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９７であった。またＳＥＭ−ＥＤＡＸによる樹脂相に対するクロス部分のＣｌ元素の強度比は０．３５であった。この陰イオン交換膜について例１と同様にしてＯＨ型に変換し、８０℃イオン交換水中に６ヶ月間浸漬した。浸漬後の膜の比抵抗は５５０Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９７であった。
【００４８】
[例５]
例４におけるポリエチレン製クロスの替りに厚さ１６０μｍ、目付８０ｇ／ｍ２のポリ塩化ビニル製クロスを使用した以外、例４と同様にして陰イオン交換膜を得た。
この陰イオン交換膜の比抵抗は４００Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９８であった。この陰イオン交換膜の陰イオン交換基をＳＯ4型に転換した後、ＳＥＭ−ＥＤＡＸによる樹脂相に対するクロス部分のＳ元素の強度比を求めたところ０．６であった。この陰イオン交換膜について例１と同様にしてＯＨ型に変換し、８０℃イオン交換水中に６ヶ月間浸漬した。浸漬後の膜の比抵抗は６５０Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９７であった。
【００４９】
[例６]
γ線を３００ｋＧｙ照射した厚さ５０μｍのポリエチレンフィルムに、４−（４−ブロモブチル）スチレン１００質量％と開始剤ベンゾイルパーオキサイド（日本油脂社製、商品名ナイパーＢＯ）１質量部の混合液を浸漬し、ポリエチレンフィルム中に単量体を浸透させ同時に重合を行わせた。
【００５０】
この結果得られた膜状成形体は、ポリエチレン１００質量部に対し４−（４−ブロモブチル）スチレンの重合体が５０質量部含有されていた。この膜状成形体を例１と同様にしてトリメチルアミンによりアミノ化して陰イオン交換膜を得た。この陰イオン交換膜は、イオン交換容量が１．３ｍｅｑ／ｇ膜で、膜の比抵抗は２００Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９８であった。
【００５１】
[例７]
膜支持材料として厚さ２６０μｍ、目付量７０ｇ／ｍ2のポリエチレン製クロスにγ線を１００ｋＧｙ照射したものを用い、また水素添加ニトリルゴム１０質量部の替りにスチレン−ビニルポリイソプレン共重合体（クラレ社製、商品名  ハイブラ−２７５１）１８質量部を使用した以外、例４と同様にして陰イオン交換膜を得た。
【００５２】
この陰イオン交換膜の比抵抗は３７０Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９８であった。また、ＳＥＭ−ＥＤＡＸによる樹脂相に対するクロス部分のＣｌ元素の強度比は０．２０であった。この陰イオン交換膜について例１と同様にしてＯＨイオン型に変換し、８０℃イオン交換水中に６ヶ月間浸漬した。浸漬後の膜の比抵抗は４２０Ω・ｃｍ、静的輸率は０．９７であった。
【００５３】
【発明の効果】
本発明の陰イオン交換膜は、耐アルカリ性および耐熱性に優れ、かつ機械的強度も高い。このため、従来の陰イオン交換膜では耐久性に課題のある用途にも好適に使用できる。