(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
サーボピットパターンを有する下側基板と、該下側基板上にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、該記録層上にカバー基板とを少なくとも有してなり、
前記カバー基板と前記記録層との間に透明樹脂層を有し、透明樹脂層が熱硬化性樹脂及び紫外線遅効硬化性樹脂のいずれかであり、かつ透明樹脂層の酸素透過率が１，０００ｃｃ／ｍ２・ｄ・ａｔｍ以下であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
熱硬化性樹脂が、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ウレタン樹脂及びシリコーン樹脂から選択される少なくとも１種である請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
紫外線遅効硬化性樹脂が、カチオン系紫外線遅効硬化性樹脂である請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項４】
透明樹脂層の厚みが、２０μｍ以上である請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項５】
カバー基板表面及び記録層表面のいずれかに、少なくとも熱硬化性樹脂を含有する透明樹脂層組成物を塗布し、前記カバー基板と前記記録層とを前記透明樹脂層組成物を介して重ね合わせた後、該透明樹脂層組成物を熱硬化させて透明樹脂層を形成する透明樹脂層形成工程を少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
カバー基板表面に、紫外線遅効硬化性樹脂を含有する透明樹脂層組成物を塗布し、該透明樹脂層組成物に紫外線を照射させて、前記カバー基板と前記記録層とを前記透明樹脂層組成物を介して重ね合わせた後、該透明樹脂層組成物を硬化させて透明樹脂層を形成する透明樹脂層形成工程を少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラフィを利用して情報が記録される光記録媒体及び該光記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。このような光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。しかし、従来より提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録可能なホログラム型の光記録媒体が注目されている。
【０００３】
前記ホログラム型光記録媒体は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
このホログラム型光記録媒体では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち多重記録が可能である。デジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、１スポットの信号対雑音比（Ｓ／Ｎ比）は極めて高くなるので、重ね書きによりＳ／Ｎ比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる（特許文献１参照）。
【０００４】
このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図１に示すように、下側基板１表面にサーボピットパターン３を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜２と、この反射膜上に少なくともフォトポリマーを含有する記録層４と、この記録層上にカバー基板５とを有するものが提案されている（特許文献２参照）。
【０００５】
しかし、前記光記録媒体では、厚みのある記録層形成時に記録層表面に凹凸、うねりが生じる。このような記録層表面にカバー基板を設けると、該記録層とカバー基板との間に隙間が生じて、該隙間でのレーザー光の散乱により、光信号のＳ／Ｎ比が低下してしまうという問題がある。また、カバー基板を透過した酸素が記録層の感度を低下させたり、カバー基板から記録層へ可塑剤等の低分子化合物が溶出して記録層が劣化して、感度が低下するという問題がある。更に、記録層からカバー基板へ腐食成分が溶出して、カバー基板表面が腐食し、光の散乱により、光信号のＳ／Ｎ比が低下してしまうという問題もあり、これらの解決が望まれているのが現状である。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１２３９４９号公報
【特許文献２】特開平１１−３１１９３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、記録層とカバー基板との間に隙間が発生することを防止でき、光信号のＳ／Ｎ比の向上を図れ、記録層への酸素の透過を防止でき、高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体、該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  サーボピットパターンを有する下側基板と、該下側基板上にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、該記録層上にカバー基板とを少なくとも有してなり、
前記カバー基板と前記記録層との間に透明樹脂層を有すること特徴とする光記録媒体である。
＜２＞  透明樹脂層が、熱硬化性樹脂及び紫外線遅効硬化性樹脂のいずれかを含有する前記＜１＞に記載の光記録媒体である。
＜３＞  熱硬化性樹脂が、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ウレタン樹脂及びシリコーン樹脂から選択される少なくとも１種である前記＜２＞に記載の光記録媒体である。
＜４＞  紫外線遅効硬化性樹脂が、カチオン系紫外線遅効硬化性樹脂である前記＜２＞に記載の光記録媒体である。
＜５＞  透明樹脂層の厚みが、２０μｍ以上である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜６＞  透明樹脂層の酸素透過率が、１，０００ｃｃ／ｍ２・ｄ・ａｔｍ以下である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜７＞  サーボピットパターン表面に反射膜を有する前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜８＞  反射膜が、金属反射膜である前記＜７＞に記載の光記録媒体である。
＜９＞  下側基板と記録層との間に選択反射層を有する前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１０＞  選択反射層が、ダイクロイックミラー層、誘電体蒸着層、及びコレステリック液晶層の少なくともいずれかである前記＜９＞に記載の光記録媒体である。
＜１１＞  選択反射層と反射膜との間に、下側基板表面を平滑化するための第１ギャップ層を有する前記＜９＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１２＞  記録層と選択反射層との間に、第２ギャップ層を有する前記＜９＞から＜１１＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１３＞  カバー基板表面及び記録層表面のいずれかに、少なくとも熱硬化性樹脂を含有する透明樹脂層組成物を塗布し、前記カバー基板と前記記録層とを前記透明樹脂層組成物を介して貼り合せた後、該透明樹脂層組成物を熱硬化させて透明樹脂層を形成する透明樹脂層形成工程を少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。該＜１３＞に記載の光記録媒体の製造方法においては、本発明の前記光記録媒体を効率よく製造することができる。
＜１４＞  カバー基板表面に、紫外線遅効硬化性樹脂を含有する透明樹脂層組成物を塗布し、該透明樹脂層組成物に紫外線を照射させて、前記カバー基板と前記記録層とを前記透明樹脂層組成物を介して重ね合わせた後、該透明樹脂層組成物を硬化させて透明樹脂層を形成する透明樹脂層形成工程を少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。該＜１４＞に記載の光記録媒体の製造方法においては、紫外線遅効硬化性樹脂を用いているので、該樹脂は紫外線を照射するまでは粘度の変化も硬化もしないので、製造時に配管が詰まることなく、適切な厚みの透明樹脂層を効率よく形成することができる。
【０００９】
＜１５＞  前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の光記録媒体に対し情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録媒体の記録方法である。該＜１５＞に記載の光記録媒体の記録方法においては、本発明の前記光記録媒体を用いて、情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することにより、今までにない高密度記録を実現することができる。
＜１６＞  前記＜１５＞に記載の光記録媒体の記録方法により記録層に記録された干渉パターンに参照光を照射して情報を再生することを特徴とする光記録媒体の再生方法である。該＜１６＞に記載の光記録媒体の再生方法においては、本発明の前記記録方法により記録層に記録された干渉パターンを効率よく、正確に読み取って高密度記録情報を再生することができる。
【００１０】
本発明の光記録媒体は、サーボピットパターンを有する下側基板と、該下側基板上にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、該記録層上にカバー基板と、を少なくとも有してなり、
前記カバー基板と前記記録層との間に、少なくとも１層の透明樹脂層を有する。
本発明の光記録媒体においては、上記構成を備えることにより、記録層とカバー基板との間に隙間が発生することを防止でき、光信号のＳ／Ｎ比の向上を図れ、高密度画像記録が可能となる。また、前記カバー基板と前記記録層との間に透明樹脂層を設けることにより、該透明樹脂層がバリア層として働き、記録層への酸素の透過を抑え、記録層の感度低下を防止できる。また、カバー基板から記録層への可塑剤等の低分子化合物の溶出を防止して、記録層の劣化による感度低下を防止できる。更に、カバー基板への記録層の腐食成分の溶出を遮断し、カバー基板の腐食を防止して、光の散乱を抑えることで光信号のＳ／Ｎ比の低下を防止できる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、記録層とカバー基板との間に隙間が発生することを防止でき、光信号のＳ／Ｎ比の向上を図れ、記録層への酸素の透過を防止でき、高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体、該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、下側基板と、該下側基板上に記録層と、該記録層上にカバー基板と、前記カバー基板と前記記録層との間に、透明樹脂層とを少なくとも有してなり、反射膜、選択反射層、第１ギャップ層、第２ギャップ層、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
【００１３】
＜透明樹脂層＞
前記透明樹脂層は、熱硬化性樹脂及び紫外線遅効硬化性樹脂のいずれかを含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記熱硬化性樹脂としては、透明でありかつ熱硬化性であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、エポキシ樹脂が好ましい。該エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とビスフェノールＦ型エポキシ樹脂の混合樹脂などが好適である。
【００１４】
前記紫外線遅効硬化性樹脂は、透明であり、かつ紫外線（ＵＶ）を照射した瞬間には硬化せず、照射後しばらく経ってから硬化するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、カチオン系紫外線遅効硬化性樹脂が好ましく、例えば、光カチオン重合系エポキシ樹脂、光カチオン重合系ビニルエーテル樹脂、光カチオン重合系オキセタン樹脂などが挙げられる。
前記カチオン系紫外線遅効硬化性樹脂としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば「ダイキュアクリアＥＸ−４０１６」（大日本インキ化学工業株式会社製）、「ＳＣＲ−７１０」（日本合成ゴム株式会社製）、「ＨＳ−６７４」（旭電化工業株式会社製）、「ＳＯＭＯＳ８１００」（チバ・スペシャルティケミカルズ社製）などが挙げられる。
【００１５】
前記透明樹脂層の酸素透過率は、１，０００ｃｃ／ｍ２・ｄ・ａｔｍ以下であることが好ましく、０．１〜１００ｃｃ／ｍ２・ｄ・ａｔｍがより好ましい。前記酸素透過率が１，０００ｃｃ／ｍ２・ｄ・ａｔｍを超えると、ホログラム記録層の感度が低下してしまうことがある。
ここで、前記酸素透過率は、例えば、試料の両側に酸素と窒素をほぼ大気圧で流して、透過する酸素を測定する酸素透過率同圧法（ＪＩＳ  Ｋ７１２６、又はＡＳＴＭ  Ｄ３９８５）により測定することができる。
【００１６】
前記透明樹脂層の厚みは、２０μｍ以上が好ましく、２０〜１００μｍがより好ましい。前記厚みが２０μｍ未満であると、ホログラム記録層の厚み分布をキャンセルすることができず、カバー基板に歪みが発生することがあり、１００μｍを超えると、透明樹脂層の厚みが厚くなりすぎて、ホログラム記録再生レーザー光やサーボ用レーザー光のフォーカスのアンマッチングが発生することがある。
なお、前記透明樹脂層の形成方法は、後述する本発明の光記録媒体の製造方法において詳細に説明する。
【００１７】
＜カバー基板及び下側基板＞
前記カバー基板及び下側基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料を選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが好ましい。
【００１８】
前記基板材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができるが、光記録媒体の機械的強度を確保できるものであり、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する透過型の場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成紙などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
前記基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターなどにより回転して用いる場合には、過剰な負荷をかけることがある。
【００１９】
前記下側基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマット）。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くても構わない。
【００２０】
＜記録層＞
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
【００２１】
前記記録層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（２）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（３）光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、（４）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（５）カルコゲン材料、などが挙げられ、前記（１）のフォトポリマーが特に好ましい。
【００２２】
前記（１）のフォトポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、マトリックス、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。
【００２３】
前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３０１０  ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３２９１  ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第５,７５９,７２１号明細書、同第４,９４２,１１２号明細書、同第４,９５９,２８４号明細書、同第６,２２１,５３６号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第２８８０３４２号公報、同第２８７３１２６号公報、同第２８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報、などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。
【００２４】
前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。
【００２５】
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であっても構わない。また、光架橋反応を利用したものであっても構わない。
【００２６】
前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１,６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１,９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾール、などが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１,６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ａ）〜（Ｅ）で表される化合物、などが挙げられる。
これらモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【化１】
0004724568.tif 000002
【００２７】
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、２,２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４,４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。なお、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用しても構わない。
【化２】
0004724568.tif 000003
【００２８】
前記マトリックスは、塗膜性、膜強度、及びホログラム記録特性向上の効果を高める目的で使用されるものであり、ホログラム材料との相溶性、を考慮して適宜選択される。
前記マトリックスとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、熱硬化性マトリックスであることが好ましく、例えば、イソシアネート化合物とアルコール化合物から形成されるウレタン樹脂やオキシラン化合物から形成されるエポキシ化合物、メラミン化合物、フォルマリン化合物、（メタ）アクリル酸やイタコン酸等の不飽和酸のエステル化合物やアミド化合物を重合して得られる重合体などが挙げられる。
前記マトリックスは、熱により硬化してもよく、触媒などを使用して硬化してもよい。
【００２９】
前記マトリックスの前記記録層における含有量は、１０〜９５質量％が好ましく、３５〜９０質量％がより好ましい。前記含有量が１０質量％未満であると、安定な干渉像が得られないことがあり、９５質量％を超えると、回折効率の点で望ましい性能が得られないことがある。
【００３０】
前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、前記マトリックス、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。
【００３１】
前記（２）のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００３２】
前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素／顔料；ナフタロシアニン色素／顔料；モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素／顔料；ペリレン系染料／顔料；インジゴ系染料／顔料；キナクリドン系染料／顔料；アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料／顔料；シアニン系染料／顔料；ＴＴＦ−ＴＣＮＱで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体；アズレニウム塩；Ｃ６０及びＣ７０で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３３】
前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾン化合物；トリフェニルアミン類；トリフェニルメタン類；ブタジエン類；スチルベン類；アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体；Ｃ６０及びＣ７０等のフラーレン並びにその誘導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３４】
前記（３）のフォトクロミック材料は、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン誘導体、スチルベン誘導体、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体が特に好ましい。
【００３５】
前記（５）のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、Ｓ、Ｔｅ又はＳｅのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ−Ｃｅ系ガラス等が挙げられ、これらの中ではＧｅ−Ｓ系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてＧｅ−Ｓ系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するＧｅ及びＳの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてＧｅＳ２で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ａｇ等が挙げられる。これらの中では、Ａｇ、Ａｕ又はＣｕが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Ａｇは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で０．１〜２体積％が好ましく、０．１〜１．０体積％がより好ましい。前記金属粒子の含有量が０．１体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、２体積％を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
【００３６】
前記記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができるが、例えば、注入法、蒸着法、湿式成膜法、ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、ＬＢ法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。これらの中でも、注入法、湿式成膜法が好ましい。なお、前記注入法については、後述する本発明の光記録媒体の製造方法で説明する。
【００３７】
前記湿式成膜法による前記記録層の形成は、例えば、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
【００３８】
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１００μｍ以上が好ましく、１００〜９００μｍがより好ましい。前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【００３９】
＜選択反射層＞
前記選択反射層は、下側基板上であって、前記記録層の下に設けられる。
前記選択反射層は、複数種の光線の中から特定の波長の光のみを反射する、波長選択反射機能を有する。特に、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能もあり、前記光記録媒体に前記選択反射層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記選択反射層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ダイクロイックミラー層、誘電体蒸着層、単層又は２層以上のコレステリック層及び必要に応じて適宜選択したその他の層の少なくともいずれかを積層した積層体により形成される。
前記選択反射層は、直接記録層など共に、前記支持体上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して選択反射層を作製し、これを支持体上に積層してもよい。
【００４０】
−ダイクロイックミラー層−
前記ダイクロイックミラー層は、波長選択反射層とするためには、複数層積層することが好ましい。前記積層数は、１〜５０層が好ましく、２〜４０層がより好ましく、２〜３０層が特に好ましい。前記積層数が、５０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、分光透過率特性の変化が小さくなり層数を増加するだけの効果は小さくなる。
【００４１】
前記ダイクロイックミラー層における材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｕ、又はこれらの合金などが挙げられる。
【００４２】
前記ダイクロイックミラー層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、イオンアシスト法、レーザーアブレーション法等の物理的気相成長（ＰＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の化学的気相成長（ＣＶＤ）法、などが挙げられる。これらの中でも、物理的気相成長（ＰＶＤ）法が好ましく、スパッタリング法が特に好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いＤＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、（１）１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法、（２）複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記ダイクロイックミラー層の厚みとしては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λの膜厚が好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８がより好ましい。
【００４３】
−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、例えば、互いに屈折率の異なる誘電体薄層を複数層積層してなり、波長選択反射層とするためには、高屈折率の誘電体薄層と低屈折率の誘電体薄層とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。
前記積層数は、２〜２０層が好ましく、２〜１２層がより好ましく、４〜１０層が更に好ましく、６〜８層が特に好ましい。前記積層数が、２０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【００４４】
前記誘電体薄層の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては１．８が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。
【００４５】
前記高屈折率の誘電体薄層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｓｃ２Ｏ３、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＴｌＣｌ、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２、などが挙げられる。これらの中でも、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２が好ましく、これらの中でも、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２がより好ましい。
【００４６】
前記低屈折率の誘電体薄層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＬａＦ３、ＰｂＣｌ２、ＰｂＦ２、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＮｄＦ３、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＮａＦ、ＴｈＯ２、ＴｈＦ４、などが挙げられる。これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３が好ましく、これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３がより好ましい。
なお、前記誘電体薄層の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
【００４７】
前記誘電体薄層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、イオンアシスト法、レーザーアブレーション法等の物理的気相成長（ＰＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の化学的気相成長（ＣＶＤ）法、などが挙げられる。これらの中でも、物理的気相成長（ＰＶＤ）法が好ましく、スパッタリング法が特に好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いＤＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、（１）１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法と、（２）複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記誘電体薄層の厚みとしては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λの膜厚が好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８がより好ましい。
【００４８】
前記誘電体蒸着層においては、該誘電体蒸着層中を伝播する光の一部が、各誘電体薄層毎に多重反射し、それらの反射光が干渉するため、誘電体薄層の厚さと光に対する膜の屈折率との積で決まる波長の光のみが選択的に透過されることになる。また、誘電体蒸着層の中心透過波長は入射光に対して角度依存性を有しており、入射光を変化させると透過波長を変えることができる。
【００４９】
−コレステリック液晶層−
前記コレステリック液晶層は、少なくともネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００５０】
前記コレステリック液晶層は、１層でもよく、２層以上が積層されていてもよい。該２層以上の積層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、２〜１０層が好ましい。前記積層数が１０層を超えると、却って塗布による生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【００５１】
前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。したがって、前記各コレステリック液晶層は、第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光の円偏光を反射することが好ましく、前記第一の光の波長が３５０〜６００ｎｍであり、かつ前記第二の光の波長が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。
【００５２】
前記コレステリック液晶層の選択反射特性は、特定の波長帯域のみに限定され、可視光域をカバーすることは困難である。即ち、前記コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式１で表される。
＜数式１＞
Δλ＝２λ（ｎｅ−ｎｏ）／（ｎｅ＋ｎｏ）
ただし、前記数式１中、ｎｏは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。ｎｅは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
【００５３】
前記数式１で示すように、前記選択反射波長帯域幅Δλは、ネマチック液晶そのものの分子構造に依存する。前記数式１から、（ｎｅ−ｎｏ）を大きくすれば、前記選択反射波長帯域幅Δλを拡げられるが、（ｎｅ−ｎｏ）は通常０．３以下であり、０．３より大きくなると、液晶としてのその他の機能、例えば、配向特性、液晶温度等が不十分となり、実用化が困難となる。したがって、現実にはコレステリック液晶層の選択反射波長帯域幅Δλは、最大でも１５０ｎｍ程度であり、通常３０〜１００ｎｍ程度が好ましい。
【００５４】
また、前記コレステリック液晶層の選択反射中心波長λは、下記数式２で表される。
＜数式２＞
λ＝（ｎｅ＋ｎｏ）Ｐ／２
ただし、前記数式２中、ｎｅ及びｎｏは上記数式１と同じ意味を表す。Ｐは、コレステリック液晶層の一回転ねじれに要する螺旋ピッチ長を表す。
【００５５】
前記数式２で示すように、前記選択反射中心波長λは、コレステリック液晶層の螺旋ピッチが一定であれば、コレステリック液晶層の平均屈折率と螺旋ピッチ長Ｐに依存する。それ故、コレステリック液晶層の選択反射特性を拡げるには、前記各コレステリック液晶層の選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）が互いに同じであることが好ましい。また、各コレステリック液晶層の選択反射波長帯域は連続的であることが好ましい。ここで、前記「連続的」とは、２つの選択反射波長帯域間にギャップがなく、実質的にこの範囲の反射率が４０％以上であることを意味する。
したがって、各コレステリック液晶層の選択反射中心波長λ間の距離は、各選択反射波長帯域が少なくとも１つの他の選択反射波長帯域と連続となる範囲内であることが好ましい。
【００５６】
前記選択反射層は、垂直入射を０°とし±２０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが好ましく、垂直入射を０°とし±４０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが特に好ましい。
前記λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）の範囲における光反射率が４０％以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。
【００５７】
具体的には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を３層積層すると、図４に示すような反射特性を有する選択反射層が得られる。この図４は正面（０°）からの垂直入射光に対する反射特性が４０％以上であることを示している。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で４０°傾斜した時は図５に示すような反射特性を示す。
同様に、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を２層積層すると、図６に示すような反射特性を有する選択反射層が得られる。この図６は正面（０°）からの垂直入射光に対する反射特性が４０％以上であることを示している。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で２０°傾斜した時は図７に示すような反射特性を示す。
【００５８】
なお、図４に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ光が６５５ｎｍの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲は選択反射層における±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタにおける各コレステリック液晶層の平均屈折率を十分大きくすれば、選択反射層内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合は図６に示すλ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層を２層積層することでよいので、サーボ光透過には全く支障がなくなる。
したがって、図４〜図７の結果から、前記選択反射層においては、入射波長が０°〜２０°（好ましくは０°〜４０°）傾斜しても４０％以上の反射率が確保できているので、信号読み取りには何ら支障のない選択反射層が得られる。
【００５９】
前記各コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００６０】
−ネマチック液晶化合物−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。前記ネマチック液晶化合物は、溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
【００６１】
前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記の化合物などを挙げることができる。
【００６２】
【化３】
0004724568.tif 000004
【００６３】
【化４】
0004724568.tif 000005
【００６４】
【化５】
0004724568.tif 000006
【００６５】
前記式中において、ｎは１〜１，０００の整数を表す。なお、前記各例示化合物においては、その側鎖連結基を、以下の構造に変えたものも同様に好適なものとして挙げることができる。
【００６６】
【化６】
0004724568.tif 000007
【００６７】
上記の各例示化合物のうち、ネマチック液晶化合物としては、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）重合性液晶が好適である。該ＵＶ重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３、などが挙げられる。
【００６８】
前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０〜９９質量％が好ましく、５０〜９９質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。
【００６９】
−カイラル化合物−
前記カイラル化合物としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマニード化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等の他、以下に示す化合物などを挙げることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７０】
【化７】
0004724568.tif 000008
【００７１】
【化８】
0004724568.tif 000009
【００７２】
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６、などが挙げられる。
【００７３】
前記カイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜３０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００７４】
−重合性モノマー−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化（パターンニング）させた後（例えば、選択反射波長の分布を形成した後）、その螺旋構造（選択反射性）を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマー等が挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。
前記エチレン性不飽和結合を持つモノマーの具体例としては、以下に示す化合物を挙げることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７５】
【化９】
0004724568.tif 000010
【００７６】
前記重合性モノマーの添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記添加量が５０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
【００７７】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤、などが挙げられる。
【００７８】
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯ、などが挙げられる。
【００７９】
前記光重合開始剤の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。
【００８０】
前記増感剤は、必要に応じてコレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加される。前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、などが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。
【００８１】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマー、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基、などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体、などが挙げられる。
【００８２】
前記バインダー樹脂の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形質量に対し０〜８０質量％が好ましく、０〜５０質量％がより好ましい。前記添加量が８０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００８３】
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体、などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し０〜１０質量％が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。
【００８４】
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８５】
−反射膜−
前記反射膜は、前記下側基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【００８６】
前記反射膜の形成は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みは、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
【００８７】
−第１ギャップ層−
前記第１ギャップ層は、必要に応じて前記選択反射層と前記反射膜との間に設けられ、下側基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第１ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、選択反射層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第１ギャップ層としても働くことになる。
前記第１ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【００８８】
−第２ギャップ層−
前記第２ギャップ層は、必要に応じて前記記録層と前記選択反射層との間に設けられる。前記第２ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製の商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第２ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【００８９】
ここで、図２は、本発明の第一の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第一の実施形態に係る光記録媒体２１では、ポリカーボネート樹脂製基板又はガラス基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図２では下側基板１全面にサーボピットパターン３が形成されているが、図１に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットの高さは最大１７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
【００９０】
第１ギャップ層８は、紫外線硬化樹脂等の材料を下側基板１の反射膜２上にスピンコート等により塗布して形成される。第１ギャップ層８は、反射膜２を保護すると共に、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層４において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層４とサーボピットパターン３との間にギャップを設けると有効である。
第１ギャップ層８上には選択反射層６が設けられ、記録層４とカバー基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）との間に透明樹脂層１０が設けられ、光記録媒体２１が構成される。
【００９１】
図２において、選択反射層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、選択反射層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
この選択反射層６は、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜が７層積層された誘電体多層蒸着層である。この誘電体多層蒸着層からなる選択反射層６は、第１ギャップ層８上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上に誘電体多層蒸着層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。なお、誘電体多層蒸着層を用いる場合には、光記録媒体の中であって、誘電体多層蒸着層と入出射面との間に４分の１波長板を光記録媒体の構成として入れるか、光記録媒体の中でなくてもダイクロイックミラーと光記録媒体との間に光学的な構成として４分の１波長板を配置するようにすればよい。
この４分の１波長板は、緑色の光に対してのみ４分の１波長分ずらすようにし、緑の光が入射すると円編光の光になるが、それ以外（例えば、赤）の色の光が入射すると楕円偏光の光になるようにするものである。
【００９２】
本実施形態における光記録媒体２１は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２１では、下側基板１の厚みは０．６ｍｍ、第１ギャップ層８の厚みは１００μｍ、選択反射層６の厚みは２〜３μｍ、記録層４の厚みは０．６ｍｍ、透明樹脂層１０の厚みは５０μｍ、カバー基板５の厚みは０．６ｍｍであって、合計厚みは約１．９ｍｍとなっている。
【００９３】
次に、図８を参照して、光記録媒体２１周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザーから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、カバー基板５、透明樹脂層１０、記録層４、選択反射層６、及び第１ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第１ギャップ層８、選択反射層６、記録層４、透明樹脂層１０、及びカバー基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
【００９４】
また、記録用／再生用レーザーから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１１によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２１に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４を通過し、選択反射層６に入射するが、該選択反射層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。選択反射層６は誘電体多層蒸着層からなり、赤色光のみを透過する性質を有するからである。
【００９５】
＜第二の実施形態＞
図３は、本発明の第二の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第二の実施形態に係る光記録媒体２２では、ポリカーボネート樹脂又はガラス基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３表面にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１７５０Å（１７５ｎｍ）である点については、第一の実施形態と同様である。
【００９６】
第二の実施形態と第一の実施形態の構造の差異は、第二の実施形態の光記録媒体２２では、選択反射層６と記録層４との間に第２ギャップ層７が設けられていることである。
【００９７】
誘電体多層蒸着層からなる選択反射層６は、第１ギャップ層８を形成した後、該第１ギャップ層８上に形成され、前記第一実施形態と同様のものを用いることができる。
【００９８】
第２ギャップ層７は、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在する。このエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第２ギャップ層を設けることが有効となる。
【００９９】
また、光記録媒体２２では、下側基板１の厚みは１．０ｍｍ、第１ギャップ層８の厚みは１００μｍ、選択反射層６の厚みは３〜５μｍ、第２ギャップ層７の厚みは７０μｍ、記録層４の厚みは０．６ｍｍ、透明樹脂層１０の厚みは５０μｍ、カバー基板５の厚みは０．４ｍｍであって、合計厚みは約２．２ｍｍとなっている。
【０１００】
情報の記録又は再生を行う場合、このような構造を有する光記録媒体２２に対して、赤色のサーボ用光及び緑色の情報光並びに記録及び再生用参照光が照射される。サーボ用光は、入出射面Ａから入射し、透明樹脂層１０、記録層４、第２ギャップ層７、選択反射層６、及び第１ギャップ層８を通過して反射膜２で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第１ギャップ層８、選択反射層６、第２ギャップ層７、記録層４、透明樹脂層１０、及びカバー基板５をこの順序で通過して、入出射面Ａより出射する。出射した戻り光は、フォーカスサーボやトラッキングサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。緑色の情報光等は、入出射面Ａから入射し、透明樹脂層１０、記録層４、第２ギャップ層７を通過して、選択反射層６で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第２ギャップ層７、記録層４、透明樹脂層１０、及びカバー基板５をこの順序で通過して、入出射面Ａより出射する。また、再生時についても再生用参照光はもちろん、再生用参照光を記録層４に照射することによって発生する再生光も反射膜２に到達せずに入出射面Ａから出射する。なお、光記録媒体２２周辺（図８における対物レンズ１２、選択反射層６、検出器としてのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４）での光学的動作は、第一の実施形態（図８）と同様なので説明を省略する。
【０１０１】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法は、第１形態では、透明樹脂層形成工程を少なくとも含んでなり、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【０１０２】
−透明樹脂層形成工程−
前記透明樹脂層形成工程は、カバー基板表面及び記録層表面のいずれかに、少なくとも熱硬化性樹脂を含有する透明樹脂層組成物を塗布し、前記カバー基板と前記記録層とを前記透明樹脂層組成物を介して重ね合わせた後、該透明樹脂層組成物を熱硬化させて透明樹脂層を形成する工程である。
【０１０３】
前記透明樹脂層組成物としては、上述した透明樹脂層材料を溶剤で粘度調整したものが用いられる。
前記透明樹脂層組成物の塗布は、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられ、これらの中でも、スピンコート法が特に好ましい。
前記熱硬化は、特に制限はなく、用いる樹脂の種類に応じて適宜選択することができるが、例えば、６０〜１５０℃で、３０分間〜２時間が好ましい。
【０１０４】
本発明の光記録媒体の製造方法は、第２形態では、カバー基板表面に、紫外線遅効硬化性樹脂を含有する透明樹脂層組成物を塗布し、該透明樹脂層組成物に紫外線を照射させて、前記カバー基板と前記記録層とを前記透明樹脂層組成物を介して重ね合わせた後、該透明樹脂層組成物を硬化させて透明樹脂層を形成する透明樹脂層形成工程を少なくとも含んでなり、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【０１０５】
前記第２形態では、記録層が紫外線照射により反応してしまうので、カバー基板表面に紫外線遅効硬化性樹脂を含有する透明樹脂層組成物を塗布する。
前記透明樹脂層組成物としては、上述した透明樹脂層材料を溶剤で粘度調整したものが用いられる。
前記透明樹脂層組成物の塗布は、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられ、これらの中でも、スピンコート法が特に好ましい。
前記紫外線（ＵＶ）照射は、特に制限はなく、用いる樹脂の種類に応じて適宜選択することができるが、例えば、１０〜５０ｍＪ／ｃｍ２で０．１〜１０秒間が好ましい。
【０１０６】
前記第１及び第２形態の光記録媒体の製造方法におけるその他の工程としては、記録層形成工程、反射膜形成工程、選択反射層形成工程、第１ギャップ層形成工程、第２ギャップ層形成工程、などが挙げられる。
【０１０７】
＜光記録媒体の記録方法及び再生方法＞
本発明の光記録媒体の記録方法は、本発明の前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録する。
本発明の光記録媒体の再生方法は、本発明の前記記録方法により記録層に記録された干渉パターンに参照光を照射して情報を再生する。
【０１０８】
本発明の光記録媒体の記録方法及び再生方法では、上述したように、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、本発明の光記録媒体の記録方法及び再生方法は、以下に説明する本発明の光記録再生装置を用いて行われる。
【０１０９】
本発明の光記録媒体の記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置について図９を参照して説明する。
図９は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体２０が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２０の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２０に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２０に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体２０に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２０の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【０１１０】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２０の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２０の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２０の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【０１１１】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２０のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現できるようになっている。
【０１１２】
本発明の光記録媒体を用いた記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置は、カバー基板と記録層との間に透明樹脂層を有する本発明の光記録媒体を用いているので、光信号のＳ／Ｎ比の向上が図れ、今までにない高密度記録を実現することができる。
【実施例】
【０１１３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１１４】
（実施例１）
−光記録媒体の作製−
下側基板として、直径１２０ｍｍ、厚み０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂製基板を用意した。この下側基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは１．６μｍ、溝深さは７５ｎｍ、溝幅は８００ｎｍである。
まず、下側基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により厚み２００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜した。
【０１１５】
次に、Ａｌ反射膜上に、厚み８０μｍのポリカーボネートフィルムを厚み２０μｍの粘着シートを用いて貼り付け、第１ギャップ層を形成した。
次に、基材上にＳｉＯ２からなる薄膜と、ＴｉＯ２からなる薄膜とを交互に合計３０層蒸着させてなる厚み２．４μｍの多層蒸着膜（選択反射層）を所定のディスクサイズに打ち抜き、接着剤で第１ギャップ層上に貼り付けた。
次に、前記選択反射層上に、ＵＶ硬化樹脂組成物をスピンコートして、ＵＶ照射し、硬化させて、厚み５０μｍの第２ギャップ層を形成した。
次に、第２ギャップ層表面に、記録層の厚み（６００μｍ）を有する外周スペーサ及び内周スペーサをそれぞれ接着した。
次に、外周スペーサ及び内周スペーサに挟まれた凹部に、下記組成の記録層用塗布液を流し込み、８０℃で１時間硬化させた。
＜記録層用塗布液の組成＞
・ジ（ウレタンアクリレート）オリゴマー（Ｅｃｈｏ  Ｒｅｓｉｎｓ社製、ＡＬＵ−３５１）・・・５９質量部
・イソボルニルアクリレート・・・３０質量部
・ビニルベンゾエート・・・１０質量部
・重合開始剤（チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア７８４）・・・１質量部
【０１１６】
次に、硬化させた記録層の表面に、熱硬化性樹脂（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とビスフェノールＦ型エポキシ樹脂の混合樹脂）を含有する透明樹脂層組成物をスピンコートし、該透明樹脂層組成物上に、直径１２０ｍｍ、厚み０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂製のカバー基板を重ねて、８０℃で１時間硬化させた。これにより、厚み３０μｍの透明樹脂層が形成された。
以上により、実施例１の光記録媒体を作製した。
【０１１７】
（実施例２）
−光記録媒体の作製−
実施例１において、透明樹脂層の厚みを１０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、実施例２の光記録媒体を作製した。
【０１１８】
（参考例３）
−光記録媒体の作製−
実施例１において、熱硬化性樹脂（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とビスフェノールＦ型エポキシ樹脂の混合樹脂）の代わりに熱可塑性樹脂（ポリプロピレン樹脂）を含有する透明樹脂層組成物を用いて透明樹脂層を形成した以外は、実施例１と同様にして、参考例３の光記録媒体を作製した。
【０１１９】
（実施例４）
−光記録媒体の作製−
実施例１において、硬化させた記録層の表面に熱硬化性樹脂からなる透明樹脂層組成物を塗布せず、カバー基板上にカチオン系ＵＶ遅効性硬化樹脂である「ダイキュアクリアＥＸ−４０１６」（大日本インキ化学工業株式会社製）からなる透明樹脂層組成物を回転数２０００ＲＰＭで３０秒間スピン塗布し、紫外線を３０ｍＪ／ｃｍ２で０．５秒間照射した後、硬化させた記録層の表面に透明樹脂層組成物が接するようにカバー基板を重ね合わせ、硬化させて厚み３０μｍの透明樹脂層を形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の光記録媒体を作製した。
【０１２０】
（比較例１）
−光記録媒体の作製−
実施例１において、透明樹脂層を設けなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例１の光記録媒体を作製した。
【０１２１】
＜酸素透過率の測定＞
実施例１、参考例３、及び実施例４の透明樹脂層組成物を用いて、厚み５０μｍのサンプルを形成し、該サンプルについて、試料の両側に酸素と窒素をほぼ大気圧で流して、透過する酸素を測定する酸素透過率同圧法（ＪＩＳ  Ｋ７１２６、ＡＳＴＭ  Ｄ３９８５）により、酸素透過率を測定したところ、実施例１のサンプルは、酸素透過率が８５ｃｃ／ｍ２・ｄ・ａｔｍであり、参考例３のサンプルは、酸素透過率が２，５００ｃｃ／ｍ２・ｄ・ａｔｍであった。実施例４のサンプルは、酸素透過率が１００ｃｃ／ｍ２・ｄ・ａｔｍであった。
【０１２２】
＜多重記録可能回数＞
得られた実施例１、２、４、と参考例３、及び比較例１の各光記録媒体について、ホログラフィック記録再生装置（ＳＨＯＴ−２０００、パルステック工業株式会社製）を用いて、実際に情報の記録を行い、多重記録可能回数を測定した。結果を表１に示す。
【０１２３】
＜記録感度の評価＞
得られた実施例１、２、４、と参考例３及び比較例１の各光記録媒体について、記録感度を、ホログラフィック記録再生装置（ＳＨＯＴ−２０００、パルステック工業株式会社製）により測定した。結果を表１に示す。
【０１２４】
＜保存性＞
得られた実施例１、２、４、と参考例３及び比較例１の各光記録媒体について、レーザー光で情報を記録後、温度６０℃、９０ＲＨ％で１週間加速試験を行った。その後、記録した情報を再生し、問題なく情報が再生できるかどうかを保存性の目安とし、下記の基準で評価した。結果を表１に示す。
〔評価基準〕
◎：保存性が非常に良好である
○：保存性が良好である
△：保存性がやや劣る（実使用可能なレベル）
×：保存性が不良である（使用不能なレベル）
【０１２５】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の光記録媒体は、記録層とカバー基板との間に透明樹脂層を設けることにより、光信号のＳ／Ｎ比の向上を図れ、記録層への酸素の透過を防止でき、高密度画像記録が可能となるので、各種ホログラム型の光記録媒体として幅広く用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１２７】
【図１】図１は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図２】図２は、本発明による第一の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図３】図３は、本発明による第二の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図４】図４は、コレステリック液晶層を３層積層した選択反射層の正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図５】図５は、コレステリック液晶層を３層積層した選択反射層内の４０°傾斜方向からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図６】図６は、コレステリック液晶層を２層積層した選択反射層の正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図７】図７は、コレステリック液晶層を２層積層した選択反射層内の２０°傾斜方向からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図８】図８は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図９】図９は、本発明の光記録媒体を搭載した光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【符号の説明】
【０１２８】
１      下側基板
２      反射膜
３      サーボビットパターン
４      記録層
５      カバー基板（上側基板）
６      選択反射層
７      第２ギャップ層
８      第１ギャップ層
１０      透明樹脂層
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波長板
１６      偏光板
１７      ハーフミラー
２０      光記録媒体
２１      光記録媒体
２２      光記録媒体
３１      ピックアップ
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカスサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      走査部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
【図１】
0004724568.tif 000012
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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