(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸気口と排気口が形成されたケーシングと、
前記ケーシング内に設けられ、前記吸気口を介して真空装置から吸気した気体を前記排気口へ移送する気体移送機構と、
前記気体移送機構より上流に配置され、前記真空装置と対向する面よりも前記気体移送機構と対向する面の放射率が大きく形成され、前記気体移送機構からの熱を吸収し前記真空装置へ放射される熱を低減する遮熱プレートと、
前記遮熱プレートを固定する固定手段と、
を備えたことを特徴とする真空ポンプ。
【請求項２】
吸気口と排気口が形成されたケーシングと、
前記ケーシング内に設けられ、前記吸気口を介して真空装置から吸気した気体を前記排気口へ移送する気体移送機構と、
前記気体移送機構より上流に配置され、前記真空装置と対向する面よりも前記気体移送機構と対向する面の放射率が大きく形成された遮熱プレートと、
前記遮熱プレートを固定する固定手段と、を備え、
前記気体移送機構は、回転軸と前記回転軸に固定されているロータとからなるロータ部と、前記ロータ部の外周面から放射状に配設されたロータ翼とを有し、
前記遮熱プレートは、前記気体移送機構側に投影される領域が、前記ロータ部の前記吸気口と対面する領域とほぼ等しいことを特徴とする真空ポンプ。
【請求項３】
最も上流側に位置する前記ロータ翼は、前記真空装置と対向する面の放射率が他の面の放射率よりも小さく形成されていることを特徴とする請求項２記載の真空ポンプ。
【請求項４】
前記遮熱プレートを冷却する冷却機構を備えたことを特徴とする請求項１から請求項３のうち何れか１の請求項に記載の真空ポンプ。
【請求項５】
前記遮熱プレートは、前記気体移送機構と対向する面に、凹状に湾曲した面が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のうち何れか１の請求項に記載の真空ポンプ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、表面分析装置や微細加工装置等で用いられる真空装置の真空排気処理を行う真空ポンプに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、真空ポンプを用いて排気処理を行い、内部が真空に保たれるような真空装置には、半導体製造装置用のチャンバ、電子顕微鏡の測定室、表面分析装置、微細加工装置などがある。
また、各種ある真空ポンプのうち、高真空の環境を実現するために多用されるものに、ターボ分子ポンプがある。
ターボ分子ポンプは、吸気口および排気口を有するケーシングの内部でロータが高速回転するように構成されている。ケーシングの内周面には、固定翼が多段に配設されており、一方、ロータには回転翼が放射状にかつ多段に配設されている。ロータが高速回転すると、回転翼と固定翼との作用により気体が吸気口から吸引され、排気口から排出されるようになっている。
【０００３】
ターボ分子ポンプは、タービンを高速回転させて排気処理を行っているため、気体分子の衝突熱や、モータから発生する熱などにより加熱されて高温状態となる場合がある。
そして、この真空ポンプの放射熱の影響により真空装置側に支障を来してしまうおそれがある。
例えば表面分析装置や微細加工装置は、真空ポンプの放射熱によって加熱されると、測定精度や加工精度の誤差が大きくなってしまうなどの不具合が生じるおそれがある。そのため、このような装置において、より精密な加工やより精度の高い測定を実現させることが困難であった。
そこで、従来下記の特許文献をはじめ、真空ポンプの放射熱による影響を低減させるために、真空ポンプからの熱の伝播（伝導）を抑制し、真空装置側における過熱を防止する技術が提案されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２２７７６５公報
【０００５】
特許文献１には、真空ポンプと真空装置とを、熱伝導率の高い部材（配管）を介して接合し、この部材を水冷や空冷などの冷却方法を用いて冷却することによって、真空装置への熱の伝播を抑制する技術が開示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１で提案されているような熱対策を施す場合には、専用の冷却用の配管や冷却システム等が必要となるだけでなく、これらの部材を配置するスペースを確保しなければならない。
そこで、本発明は、真空装置側へ伝播する真空ポンプの放射熱を簡単な構成で効率的に低減させることができる真空ポンプを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１記載の発明では、吸気口と排気口が形成されたケーシングと、前記ケーシング内に設けられ、前記吸気口を介して真空装置から吸気した気体を前記排気口へ移送する気体移送機構と、前記気体移送機構より上流に配置され、前記真空装置と対向する面よりも前記気体移送機構と対向する面の放射率が大きく形成され、前記気体移送機構からの熱を吸収し前記真空装置へ放射される熱を低減する遮熱プレートと、前記遮熱プレートを固定する固定手段と、を備えることにより前記目的を達成する。
【０００８】
請求項１記載の発明の遮熱プレートは、例えば、真空装置と対向する面（真空装置から排気される気体の流れからみた場合の上流方向と対向する面）に放射率が小さい表面処理がほどこされていることが好ましい。この場合における表面処理としては、例えば、放射率が０．１以下となるような、電解研磨処理、金メッキ処理、アルミメッキ処理等であることが好ましい。
請求項１記載の発明の遮熱プレートは、例えば、気体移送機構と対向する面（真空装置から排気される気体の流れからみた場合の下流方向と対向する面、あるいは、真空ポンプの排気口方向と対向する面）に放射率が大きい表面処理がほどこされていることが好ましい。この場合における表面処理としては、例えば、放射率が０．８以上となるような、アルマイトコーティング処理、セラミックコーティング処理等であることが好ましい。
【０００９】
請求項１記載の発明の固定手段は、例えば、熱伝導率の高い部材で形成された部材であることが好ましい。また、この固定手段は、例えば、遮熱プレートと一体形成されていることが好ましい。
請求項１記載の発明の遮熱プレートは、例えば、気体移送機構の近傍に配設されていることが好ましい。
【００１０】
請求項２記載の発明では、吸気口と排気口が形成されたケーシングと、前記ケーシング内に設けられ、前記吸気口を介して真空装置から吸気した気体を前記排気口へ移送する気体移送機構と、前記気体移送機構より上流に配置され、前記真空装置と対向する面よりも前記気体移送機構と対向する面の放射率が大きく形成された遮熱プレートと、前記遮熱プレートを固定する固定手段と、を備え、前記気体移送機構は、回転軸と前記回転軸に固定されているロータとからなるロータ部と、前記ロータ部の外周面から放射状に配設されたロータ翼とを有し、前記遮熱プレートは、前記気体移送機構側に投影される領域が、前記ロータ部の前記吸気口と対面する領域とほぼ等しいことにより前記目的を達成する。
請求項２記載の発明では、遮熱プレートは、例えば、回転翼が吸気口側に投影される領域と、遮熱プレートが吸気口側に投影される領域とは重複しないように配置されていることが好ましい。即ち、遮熱プレートは、例えば、遮熱プレートが吸気口側に投影される領域と、ロータ部の吸気口側端面領域が吸気口側に投影される領域と、が重複するように配置されていることが好ましい。
【００１１】
請求項３載の発明では、請求項２記載の発明において、最も上流側に位置する前記ロータ翼は、前記真空装置と対向する面の放射率が他の面の放射率よりも小さく形成されている。
請求項３記載の発明において最も上流側に位置する前記ロータ翼は、例えば、前記真空装置と対向する領域に放射率が小さい表面処理が施されていることが好ましい。この場合における放射率が小さい表面処理としては、例えば、放射率が０．１以下となるような、電解研磨処理、金メッキ処理、アルミメッキ処理等であることが好ましい。
【００１２】
請求項４記載の発明では、請求項１から請求項３のうち何れか１の請求項に記載の発明において、前記遮熱プレートを冷却する冷却機構を備える。
請求項４記載の発明における冷却機構は、例えば、冷却管内を流れる熱媒体である冷却材に熱を吸収させる水冷（液冷）方式を用いることが好ましい。
【００１３】
請求項５記載の発明では、請求項１から請求項４のうち何れか１の請求項に記載の発明において、前記遮熱プレートは、前記気体移送機構と対向する面に、凹状に湾曲した面が形成されている。
請求項５記載の発明における凹状に湾曲した面は、例えば、真空ポンプの回転軸を対称軸としロータ部の上面より下流に焦点が設けられている放物曲面であることが好ましい。
請求項５記載の発明における凹状に湾曲した面は、例えば、多段に設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、真空ポンプから放射されて真空装置へ伝播する熱の量を低減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の好適な実施の形態について、図１〜図３を参照して詳細に説明する。本実施の形態では、真空ポンプの一例としてターボ分子ポンプを用いて説明する。
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る放射熱低減構造を備えたターボ分子ポンプ１の概略構成を示した図である。なお、図１は、ターボ分子ポンプ１の軸線方向の断面図を示している。
また、図１には、ターボ分子ポンプ１に接続された真空室３０の一部も示している。
ここで、ターボ分子ポンプ１に接続された真空室３０について説明する。
真空室３０は、例えば、表面分析装置や微細加工装置のチャンバ等として用いられる真空装置を形成している。
真空室３０は、真空室壁３１によって構成され、ターボ分子ポンプ１との接続ポートを有する真空容器である。
【００１６】
以下に、ターボ分子ポンプ１の構成について説明する。
ターボ分子ポンプ１は、真空室３０の排気処理を行うための真空ポンプである。このターボ分子ポンプ１は、ターボ分子ポンプ部とねじ溝式ポンプ部を備えた、いわゆる複合翼タイプの分子ポンプである。
ターボ分子ポンプ１の外装体を形成するケーシング２は、略円筒状の形状をしており、ケーシング２の下部（排気口６側）に設けられたベース３と共にターボ分子ポンプ１の筐体を構成している。そして、この筐体の内部には、ターボ分子ポンプ１に排気機能を発揮させる構造物、即ち、気体移送機構が収納されている。
この気体移送機構は、大きく分けて回転自在に軸支された回転部と筐体に対して固定された固定部から構成されている。
【００１７】
ケーシング２の端部には、当該ターボ分子ポンプ１へ気体を導入するための吸気口４が形成されている。また、ケーシング２の吸気口４側の端面には、外周側へ張り出したフランジ部５が形成されている。ターボ分子ポンプ１と真空室壁３１とは、フランジ部５を介してボルト等の締結部材を用いて固定することによって結合されている。
また、ベース３には、当該ターボ分子ポンプ１から気体を排気するための排気口６が形成されている。
【００１８】
回転部は、回転軸であるシャフト７、このシャフト７に配設されたロータ８、ロータ８に設けられた回転翼９、排気口６側（ねじ溝式ポンプ部）に設けられたステータコラム１０などから構成されている。なお、シャフト７及びロータ８によってロータ部が構成されている。
回転翼９は、シャフト７の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜してシャフト７から放射状に伸びたブレードからなる。
また、ステータコラム１０は、ロータ８の回転軸線と同心の円筒形状をした円筒部材からなる。
【００１９】
シャフト７の軸線方向中程には、シャフト７を高速回転させるためのモータ部１１が設けられている。
さらに、シャフト７のモータ部１１に対して吸気口４側、および排気口６側には、シャフト７をラジアル方向（径方向）に軸支するための径方向磁気軸受装置１２、１３、シャフト７の下端には、シャフト７を軸線方向（アキシャル方向）に軸支するための軸方向磁気軸受装置１４が設けられている。
【００２０】
筐体の内周側には、固定部が形成されている。この固定部は、吸気口４側（ターボ分子ポンプ部）に設けられた固定翼１５と、ケーシング２の内周面に設けられたねじ溝スペーサ１６などから構成されている。
固定翼１５は、シャフト７の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して筐体の内周面からシャフト７に向かって伸びたブレードから構成されている。
各段の固定翼１５は、円筒形状をしたスペーサ１７により互いに隔てられている。
ターボ分子ポンプ部では、固定翼１５が軸線方向に、回転翼９と互い違いに複数段形成されている。
【００２１】
ねじ溝スペーサ１６には、ステータコラム１０との対向面にらせん溝が形成されている。ねじ溝スペーサ１６は、所定のクリアランス（間隙）を隔ててステータコラム１０の外周面に対面するようになっている。ねじ溝スペーサ１６に形成されたらせん溝の方向は、らせん溝内をロータ８の回転方向にガスが輸送された場合、排気口６に向かう方向である。
また、らせん溝の深さは、排気口６に近づくにつれ浅くなるようになっており、らせん溝を輸送されるガスは排気口６に近づくにつれて圧縮されるようになっている。
このように構成されたターボ分子ポンプ１により、真空室３０内の真空排気処理を行うようになっている。
【００２２】
このように構成されているターボ分子ポンプ１は、回転部を高速回転させて排気処理を行っているため、気体（ガス）分子の衝突熱や、モータ部１１から発生する熱などにより加熱されて高温状態となる場合がある。
そして、ターボ分子ポンプ１の放射熱が吸気口４を介して真空室３０へ伝わり、真空室３０内部が高温状態となると、真空室３０で扱われている装置や試料等に影響を与えてしまうおそれがある。
そこで、第１実施形態におけるターボ分子ポンプ１には、真空室３０が受ける放射熱の影響を低減させるための放射熱低減構造が設けられている。この放射熱低減構造は、気体移送機構の上流（吸気口４側）に設けられている。
【００２３】
次に、ターボ分子ポンプ１に設けられている放射熱低減構造について説明する。
放射熱低減構造は、大別すると、遮熱機構と冷却機構とから構成されている。はじめに、図１および図２を参照しながら遮熱機構について説明する。
図２は、第１実施形態に係る遮熱機構の概略構成を示した図である。なお、図２では、遮熱機構を吸気口４側からみた平面図で示している。
ところで、すべての物体は、絶対温度が零度でない限り電磁波の形で熱エネルギーを放射している。
従って、高温部から放射されて真空室３０へ到達する電磁波を低減させることによって、ターボ分子ポンプ１の熱放射が真空室３０へ与える影響を低減させることができる。
そこで、第１実施形態に係る遮熱機構では、ターボ分子ポンプ１の高温部から放射される電磁波を吸収しやすく、かつ、真空室３０側へ放射されにくい構造としている。
【００２４】
第１実施形態に係る遮熱機構は、遮熱プレート１８、支持部１９および最上段スペーサ１７ａから構成されている。
遮熱プレート１８は、円盤（円板）状の部材であり、ターボ分子ポンプ１から真空室３０へ放射される熱を遮るための邪魔板（バッフルプレート）として機能する。
放射熱は、面に垂直な方向への放射が最も強く、シャフト７の軸線に垂直な平面に対して傾斜しているブレード（回転翼９、固定翼１５）からの放射熱の影響はそれほど大きいものではない。
つまり、ロータ８の吸気口４側端面から垂直方向へ、即ち真空室３０方向へ放射される放射熱の影響が最も強くなる。
そのため、遮熱プレート１８は、ロータ８の吸気口４側端面から垂直方向に放射される熱（電磁波）を垂直方向から吸収するように配置されている。
また、遮熱プレート１８は、回転翼９の近傍に配置されている。回転翼９の近傍に配置することにより、遮熱プレート１８の外周端部から回り込むような熱の放射を低減することができる。
【００２５】
なお、遮熱プレート１８の大きさ（径）は、排気性能への影響を最小限にとどめるために、ロータ８の吸気口４側端面領域と等しくなっている。即ち、気体移送路が形成される領域（回転翼９および固定翼１５が配設されている領域）の吸気口４側に投影される領域と、遮熱プレート１８が吸気口４側に投影される領域とは重複しないようになっている。
言い換えると、遮熱プレート１８は、遮熱プレート１８が吸気口４側に投影される領域と、ロータ８の吸気口４側端面領域が吸気口４側に投影される領域と、が重複するように配置されている。
このように、遮熱プレート１８を、ロータ８の円筒部分（回転翼９が配設領域を除いた部分）の上部のみ、即ち、気体移送機構の作用により移送される気体の排気抵抗を増大させる領域に及ばないように配置することにより、遮熱プレート１８を設けたことに起因するターボ分子ポンプ１の排気性能の低下を抑制することができる。
【００２６】
また、遮熱プレート１８の両表面には、それぞれ異なる表面処理が施されている。
遮熱プレート１８の下流側面（排気口６側の面）、即ち、回転翼９や固定翼１５等から構成される気体移送機構に対向する面には、放射率が高い表面処理が施されている。
なお、放射率とは、熱エネルギー（電磁波）の吸収率を示し、放射率が高いほど熱の吸収率が高く、放射率が低いほど熱の吸収率が低いことを示している。
遮熱プレート１８の下流側面に施されている放射率が高い表面処理としては、例えば、放射率が０．８以上となるような、アルマイトコーティング処理、セラミックコーティング処理等がある。
このように、遮熱プレート１８の下流側面に放射率が高い表面処理を施すことによって、遮熱プレート１８における、ロータ８等から放射される熱の吸収率を向上させることができる。即ち、遮熱プレート１８においてより多くの熱を吸収させることができるため、真空室３０側へ放射される熱の量を低減させることができる。
【００２７】
一方、遮熱プレート１８の上流側面、即ち、真空室３０と対向する面には、放射率が低い表面処理が施されている。
遮熱プレート１８の上流側面に施されている放射率が低い表面処理としては、例えば、放射率が０．１以下となるような、電解研磨処理、金メッキ処理、アルミメッキ処理等がある。
なお、電解研磨処理とは、金属製の研磨対象物を電極の＋（プラス）極にして電解液を介して直流電流を流し、金属表面を溶解させることにより研磨効果を得る方法である。
このように、遮熱プレート１８の上流側面に放射率が低い表面処理を施すことによって、遮熱プレート１８から真空室３０側へ放射される熱の量を低減させることができる。即ち、遮熱プレート１８で吸収された後、真空室３０側へ再び放射される熱の量を低減させることができる。
【００２８】
支持部１９は、遮熱プレート１８を支持するための部材であり、遮熱プレート１８から９０度間隔で半径方向に延びる４つの帯状の部材から構成されている。
また、支持部１９は、支持部材としての機能だけでなく、遮熱プレート１８の熱をターボ分子ポンプ１の筐体（ケーシング２）へ導き、そこからターボ分子ポンプ１の外部へ放熱させるための熱の伝導経路の機能を兼ねている。
支持部１９は、ターボ分子ポンプ１における排気性能の低下を抑えるために、細い帯状の部材で構成されている。
なお、支持部１９は、熱の伝導率を向上させるために、熱伝導率の高い部材によって形成するようにしてもよい。熱伝導率の高い部材としては、例えば、カーボンファイバー等を用いるようにする。
【００２９】
支持部１９の外側端部は、最上段スペーサ１７ａに固定されている。
最上段スペーサ１７ａは、各段の固定翼１５を軸方向に間隔を設けた状態で固定するために配設されているスペーサ１７の最上段、即ち最も上流側に配置されているものである。
遮熱プレート１８、支持部１９および最上段スペーサ１７ａは、それぞれの接合部（接続部）における熱抵抗の上昇を抑えるために一体形成されている。遮熱機構は、例えば、削り出し加工によって形成された、継ぎ目のない一体構造であることが好ましい。
遮熱機構は、ターボ分子ポンプ１を組み立てる際に、最上段スペーサ１７ａを他のスペーサ１７と同様に組み込むことによって、容易に配設することができる。
【００３０】
このように配設された遮熱機構では、遮熱プレート１８で吸収された熱が、支持部１９を介して最上段スペーサ１７ａへ伝わるようになっている。
第１実施形態では、最上段スペーサ１７ａへ伝わった熱を効果的に冷却するために、あるいは、遮熱機構を効率よく冷却するために冷却機構が設けられている。
冷却機構は、冷却管２０と冷却管ジャケット２１を備えた水冷（液冷）システムによって構成されている。
最上段スペーサ１７ａのケーシング２を介した外周部には、ケーシング２を周方向に囲むように冷却管ジャケット２１が設けられている。この冷却管ジャケット２１の内部には、ケーシング２が内接するように冷却管２０が配設されている。
冷却管２０は、チューブ状（管状）の部材からなる。水冷（液冷）システムでは、冷却管２０内部に熱媒体である冷却材を流し、この冷却材に熱を吸収させるようにして冷却を行っている。
【００３１】
なお、第１実施形態においては、冷却管２０をケーシング２と別構成しているが、冷却管２０の構成方法は、これに限定されるものではない。例えば、ケーシング２の外周面に溝を形成し、この溝に冷却材を流して冷却管２０の機能を持たせるようにしてもよい。このように冷却管を構成した場合には、冷却材はケーシング２から直接熱を吸収することができるため、冷却効率を向上させることができる。
また、冷却管ジャケット２１と冷却管２０との空隙や、冷却管２０とケーシング２との接触部に半田や熱伝導用のペーストなどを付設し、冷却管２０における熱交換の効率をさらに向上させるようにしてもよい。
【００３２】
このように第１実施形態では、冷却機構を設けることにより、遮熱プレート１８から最上段スペーサ１７ａへ伝わった熱を効果的に冷却する、即ち、熱を速やかに外部に排出することができる。このように、遮熱機構を効率よく冷却することにより、ターボ分子ポンプ１から真空室３０側へ放射される熱の量を低減することができる。
【００３３】
（第２実施形態）
次に、本発明における第２実施形態について図３を参照して説明する。
図３（ａ）は、第２実施形態に係る放射熱低減構造を備えたターボ分子ポンプ１の概略構成を示した図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）におけるＡ部の拡大図を示した図である。なお、図３は、ターボ分子ポンプ１の軸線方向の断面図を示している。
また、図３には、ターボ分子ポンプ１に接続された真空室３０の一部も示してある。
なお、上述した図１に示す第１実施形態と同一部分（重複する箇所）には、同一の符号を用い詳細な説明を省略する。
【００３４】
第２実施形態においても、真空室３０が受ける放射熱の影響を低減させるための放射熱低減構造が設けられている。第２実施形態における放射熱低減構造は、真空室３０内に設けられている。
以下に、第２実施形態における放射熱低減構造について説明する。
放射熱低減構造は、大別すると、遮熱機構と冷却機構とから構成されている。はじめに、図３（ａ）および（ｂ）を参照しながら遮熱機構について説明する。
第２実施形態に係る遮熱機構は、ターボ分子ポンプ１の高温部から放射される電磁波が真空室３０の内部にまで放射されることを抑制するために、真空室３０の接続ポート（排気ポート）の近傍において、放射熱（電磁波）を遮る構造となっている。
【００３５】
第２実施形態に係る遮熱機構は、遮熱プレート２２および支持部２３から構成されている。
遮熱プレート２２は、その径がターボ分子ポンプ１の吸気口４の径よりも大きい円盤（円板）状の板部材であり、ターボ分子ポンプ１から放射される熱を遮るための邪魔板（バッフルプレート）として機能する。
この遮熱プレート２２は、ターボ分子ポンプ１の吸気口４が形成されている面に対向するように、ターボ分子ポンプ１の取付面に対して平行になるように配置されている。
【００３６】
また、遮熱プレート２２のターボ分子ポンプ１と対向する面、即ち、気体移送機構と対向する面には、凹状に湾曲した面（以下、湾曲面とする）が形成されている。
詳しくは、気体移送機構と対向する面が凹状に湾曲した面となるように形成された環状の溝が形成されている。この環状溝は、同心円状に複数（多段）形成されている。
このような湾曲面を形成することによって、ターボ分子ポンプ１側へ放射熱（電磁波）を適切に反射させることができる。あるいは、遮熱プレート２２から放射される熱（電磁波）のうちのターボ分子ポンプ１方向へ放射される熱（電磁波）の量を上げることができる。
【００３７】
この遮熱プレート２２に形成されている環状溝は、図２（ｂ）に示すように、溝を形成する面のうちターボ分子ポンプ１と対向する面の軸線方向の断面が回転軸（シャフト７）を対称軸とし、気体移送機構の設けられている方向に焦点を有する２次曲線（放物線）となるように形成されている。即ち、遮熱プレート２２に形成されている環状溝は、溝を形成する面のうちターボ分子ポンプ１の気体移送構造と対向する面が放物曲面となるように形成されている。
なお、この放物曲面の焦点は、詳しくは、ロータ８の上面より下流に設定されていることが好ましい。
【００３８】
放物曲面には、この面に電磁波が衝突（輻射）した場合、その電磁波が放物面の対象軸方向と平行となる方向に反射する特性を持っている。
従って、ターボ分子ポンプ１から放射された熱（電磁波）が遮熱プレート２２の環状溝に衝突した場合、この熱（電磁波）は軸方向と平行になる方向に沿って反射する。即ち、ターボ分子ポンプ１側に反射される。
【００３９】
このように、遮熱プレート２２のターボ分子ポンプ１と対向する面に所定の角度を持った溝、即ち、上述した放物曲面に基づいて溝の角度が設定された溝を形成することにより、効率的にロータ８等から放射される熱をターボ分子ポンプ１側へ反射させることができる。
また、遮熱プレート２２のターボ分子ポンプ１と対向する面、即ち、気体移送機構と対向する面に凹状に湾曲した面を形成することにより、遮熱プレート２２からターボ分子ポンプ１側へ熱が放射されやすくさせることができる。
従って、遮熱プレート２２においてより多くの熱を適切にターボ分子ポンプ１側へ反射させることができるため、また、遮熱プレート２２から放射される熱（電磁波）のうちのターボ分子ポンプ１方向へ放射される熱（電磁波）の量を上げることができるため、真空室３０側へ放射される熱の量を低減させることができる。
【００４０】
支持部２３は、遮熱プレート２２を支持するための部材であり、遮熱プレート２２の外周端面からターボ分子ポンプ１方向へ垂直に延びる複数の柱状の部材から構成されている。隣接する支持部２３は、真空室３０の排気性能に影響しない程度に、十分な間隔を空けて配設されている。
また、支持部２３は、支持部材としての機能だけでなく、遮熱プレート２２の熱を真空室壁３１へ導き、そこから外部へ放熱させるための熱の伝導経路の機能を兼ねている。
そのため支持部２３は、熱の伝導率を向上させるために、熱伝導率の高い部材によって形成することが好ましい。
支持部２３の一端は、遮熱プレート２２の外周端に接合され、もう一端は真空室壁３１に固定されている。遮熱プレート２２の真空室壁３１への取付は、例えば、真空室壁３１に設けられた取付孔に支持部２３を圧入して行う。
なお、遮熱プレート２２を固定するための支持部２３の配設方法は、遮熱プレート２２に対して垂直方向に限定されるものではない。例えば、遮熱プレート２２に対して水平方向、即ち放射方向に配設して真空室壁３１に固定するようにしてもよい。この場合には、後述する冷却機構を支持部２３と真空室壁３１との接続部の近傍に設けるようにする。
【００４１】
このように配設された遮熱機構では、遮熱プレート２２の熱が、支持部２３を介して真空室壁３１へ伝わるようになっている。
第２実施形態では、真空室壁３１へ伝わった熱を効果的に冷却するために、あるいは、遮熱機構を効率よく冷却するために冷却機構が設けられている。
冷却機構は、冷却管２４、２５を直接真空室壁３１の内部に形成あるいは配設した水冷（液冷）システムによって構成されている。
冷却管２４、２５は、第１実施例における冷却システムと同様に、冷却管２４、２５内部に熱媒体である冷却材を流し、この冷却材に熱を吸収させるようにして冷却を行っている。
【００４２】
このように第２実施形態では、冷却機構を設けることにより、遮熱プレート２２から支持部２３を介して真空室壁３１へ伝わった熱を効果的に冷却する、あるいは、遮熱機構を効率よく冷却することができる。これにより、ターボ分子ポンプ１の高温部から放射される電磁波を真空室３０の排気口近傍で遮ることができるため、真空室３０の内部にまで放射される熱の量を低減させることができる。
【００４３】
なお、第１実施形態における支持部１９に、遮熱プレート１８と同様に、支持部１９の下流側面に放射率が高い表面処理を施し、支持部１９の上流側面に放射率が低い表面処理を施すようにしてもよい。支持部１９にこのような表面処理を施すことにより、真空室３０側へ放射される熱の量をさらに低減させることができる。
また、第２実施形態における遮熱プレート２２に、第１実施形態における遮熱プレート１８と同様に、遮熱プレート２２の下流側面（ターボ分子ポンプ１と対向する面）に放射率が高い表面処理を施し、遮熱プレート２２の上流側面（真空室３０の中心部と対向する面）に放射率が低い表面処理を施すようにしてもよい。遮熱プレート２２にこのような表面処理を施すことにより、真空室３０側へ放射される熱の量をさらに低減させることができる。
さらに、第１実施形態における遮熱プレート１８に、第２実施形態において遮熱プレート２２に施した環状溝を形成するようにしてもよい。遮熱プレート１８にこのような表面処理（溝加工）を施すことにより、真空室３０側へ放射される熱の量をさらに低減させることができる。
【００４４】
第１実施形態における遮熱プレート１８の上流側面、即ち、真空室３０と対向する面に施されている放射率が低い表面処理と同様の表面処理を、第１実施例および第２実施例における気体移送機構の最も上流側に位置する部材と真空室３０と対向する領域、例えば、ロータ８の吸気口４側端面や回転翼９の吸気口４と対向する面等に施すようにしてもよい。
このように、気体移送機構の最も上流側に位置する部材と真空室３０と対向する領域に放射率が低い表面処理を施すことによって、この領域から真空室３０側へ放射される熱の量を低減させることができる。
【００４５】
また、第１実施形態における遮熱プレート１８の上流側面、即ち、真空室３０と対向する面に施されている放射率が低い表面処理と同様の表面処理を、第１実施例および第２実施例における気体移送機構の最も上流側に位置する部材のうちの気体移送路を形成する部位と真空室３０と対向する領域、例えば、回転翼９の吸気口４と対向する面等に施すようにしてもよい。
このように、気体移送機構の最も上流側に位置する部材のうちの気体移送路を形成する部位と真空室３０と対向する領域に放射率が低い表面処理を施すことによって、この領域から真空室３０側へ放射される熱の量を低減させることができる。
この場合、気体移送機構の最も上流側に位置する部材のうちの気体移送路を形成していない部位と真空室３０と対向する領域、例えば、ロータ８の吸気口４側端面から真空室３０側へ放射される熱（電磁波）は、遮熱プレート１８あるいは遮熱プレート２２に衝突するようになっているため、真空室３０への伝播を抑制することができるだけでなく、ロータ８、回転翼９、シャフト７等の回転部（非接触部）に熱がこもってしまうことを抑制することができる。結果として、回転部の温度上昇を抑制することができる。
【００４６】
上述した第１および第２実施形態によれば、ターボ分子ポンプ１から真空室３０へ伝播する熱を減衰（減少）させることができるため、真空室３０の内部温度上昇を適切に抑制することができる。これにより、真空室３０の内部におけるより精密な加工やより精度の高い測定を実現させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】第１実施形態に係る放射熱低減構造を備えたターボ分子ポンプの概略構成を示した図である。
【図２】第１実施形態に係る遮熱機構の概略構成を示した図である。
【図３】（ａ）は、第２実施形態に係る放射熱低減構造を備えたターボ分子ポンプの概略構成を示した図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＡ部の拡大図を示した図である。
【符号の説明】
【００４８】
１ ターボ分子ポンプ
２ ケーシング
３ ベース
４ 吸気口
５ フランジ部
６ 排気口
７ シャフト
８ ロータ
９ 回転翼
１０  ステータコラム
１１  モータ部
１２、１３  径方向磁気軸受装置
１４  軸方向磁気軸受装置
１５  固定翼
１６  溝スペーサ
１７  スペーサ
１７ａ  最上段スペーサ
１８、２２  遮熱プレート
１９、２３  支持部
２０、２４、２５  冷却管
２１  冷却管ジャケット
３０  真空室
３１  真空室壁
【図１】
0004671624.tif 000002
【図２】
0004671624.tif 000003
【図３】
0004671624.tif 000004