(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
基板を載置して平面上を移動可能な第１の移動体と、
基板を載置して前記第１の移動体とは独立に前記平面上を移動可能な第２の移動体と、
前記投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液体供給装置と、
前記平面に沿った方向に関して、前記第１の移動体の端部と前記第２の移動体の端部との接近可能な距離を、複数の距離の間で変更することが可能な変更装置と、を備え、
前記複数の距離は、前記液浸領域を前記第１の移動体上に存在する状態から、前記第２の移動体上に位置する状態に遷移させる際に設定される第１の距離と、前記第１の移動体と前記第２の移動体の何れかに載置された前記基板に対して前記エネルギビームを照射して露光処理を行う際に設定される第２の距離と、を含む露光装置。
【請求項２】
前記第１の移動体の端部と前記第２の移動体の端部との接近可能な距離が第１の距離にあるときに、前記第１の移動体と前記第２の移動体とを所定方向に共に移動させる駆動装置をさらに備える請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記駆動装置は、前記投影光学系と前記第１の移動体との間に前記液浸領域が維持される第１状態から、前記投影光学系と前記第２の移動体との間に前記液浸領域が維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の直下に前記液浸領域を維持しつつ前記第１および前記第２の移動体を移動させる請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１の距離は、前記第１の移動体の端部と、前記第２の移動体の端部と、が接する距離を含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第２の距離は、前記第１の移動体の端部と前記第２の移動体の端部とが接触しない距離である請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１の移動体と前記第２の移動体の位置と速度の何れかに関する情報を求めることで、前記第１の移動体と前記第２の移動体の衝突を防止する制御装置をさらに備える請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記変更装置は、前記第１および前記第２の移動体の少なくとも一方に対して移動可能な可動部材を有し、
前記可動部材が第１の位置に移動した際に、前記第１の移動体の端部と前記第２の移動体の端部との接近可能な距離が前記第１の距離となり、前記可動部材が前記第１の位置とは異なる第２の位置に移動した際に、前記第１の移動体の端部と前記第２の移動体の端部との接近可能な距離が、前記第２の距離となる請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記可動部材の状態を検出する検出装置をさらに備える請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記変更装置は、前記第１の移動体の端部と前記第２の移動体の端部とが所定距離よりも接近するのを阻止する阻止装置を有し、
前記複数の距離は、前記所定距離を含む請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記変更装置は、前記第１の移動体の端部と前記第２の移動体の端部とが所定距離よりも接近するのを阻止する阻止装置と、該阻止を解除して前記第１の移動体と前記第２の移動体とを当接又は前記所定距離よりも接近させる解除装置と、を有する請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第１の移動体を支持し、かつ該第１の移動体と相対移動が可能な第３の移動体と、前記第２の移動体を支持し、かつ該第２の移動体と相対移動が可能な第４の移動体と、をさらに備え、
前記変更装置は、前記第３の移動体と前記第４の移動体の少なくとも一方に設けられている請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記阻止装置は、前記第３の移動体と前記第４の移動体の少なくとも一方に設けられて、他方の移動体との衝突によって受ける衝撃を緩和する緩衝装置を含む請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記阻止装置は、前記第３の移動体と前記第４の移動体の他方に設けられて、前記緩衝装置と接触可能な接触部材を有し、
前記解除装置は、前記接触部材の位置を、前記緩衝装置と接触する接触位置から、前記緩衝装置に接触しない非接触位置に変更する請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第１の移動体と前記第２の移動体の他方には、前記緩衝装置の先端部の少なくとも一部が侵入可能な開口が形成され、
前記接触部材は、前記開口を開閉するシャッタであり、
前記解除装置は、前記シャッタを閉状態から開状態に変更する請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第１の移動体と前記第２の移動体の少なくとも一部には、該２つの移動体の衝突により脱離する脱離部材が設けられている請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１６】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及びデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、所定の一軸方向に独立して移動可能な２つの移動体を有する露光装置及び該露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写するデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイスを製造するリソグラフィ工程では、マスク（又はレチクル）のパターンを投影光学系を介して、レジスト（感光剤）が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の感光性の物体（以下、「ウエハ」と呼ぶ）上の複数のショット領域の各々に転写するステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）や、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが、主として用いられている。【０００３】
この種の投影露光装置では、集積回路の高集積化によるパターンの微細化に伴って、より高い解像力（解像度）が年々要求されるようになり、そのために露光光の短波長化及び投影光学系の開口数（ＮＡ）の増大化（大ＮＡ化）が次第に進んできた。しかるに、露光光の短波長化及び投影光学系の大ＮＡ化は、投影露光装置の解像力を向上させる反面、焦点深度の狭小化を招く。また、露光波長は将来的に更に短波長化することが確実視されており、このままでは焦点深度が狭くなり過ぎて、露光動作時のフォーカスマージンが不足するおそれが生じていた。【０００４】
そこで、実質的に露光波長を短くして、かつ空気中に比べて焦点深度を大きく（広く）する方法として、液浸法を利用した露光装置が、最近注目されるようになってきた。この液浸法を利用した露光装置として、投影光学系の下面とウエハ表面との間を水又は有機溶媒等の液体で局所的に満たした状態で露光を行うものが知られている（例えば、下記特許文献１参照）。この特許文献１に記載の露光装置では、液体中での露光光の波長が、空気中の１／ｎ倍（ｎは液体の屈折率で通常１．２〜１．６程度）になることを利用して解像度を向上すると共に、その解像度と同一の解像度が液浸法によらず得られる投影光学系（このような投影光学系の製造が可能であるとして）に比べて焦点深度をｎ倍に拡大する、すなわち空気中に比べて焦点深度を実質的にｎ倍に拡大することができる。【０００５】
また、近時においては、２つのウエハステージを備えた露光装置や、ウエハステージとウエハステージとは独立して、２次元面内で駆動可能で、計測に用いられる計測器が設けられたステージ（計測ステージ）とを、備えた露光装置も提案されている（例えば、特許文献２、３等参照）。【０００６】
しかしながら、上記露光装置では、２つのステージを備えていることから、両ステージの制御を適確に行えない場合、すなわち両ステージが仮に暴走した場合には、両ステージが衝突する可能性がある。このような衝突が発生すると、両ステージが損傷するのは勿論、両ステージの損傷によりステージの位置決め精度等を含む制御性能が悪化するおそれがある。【０００７】
【特許文献１】国際公開第９９／４９５０４号パンフレット
【特許文献２】特開平１１−１３５４００号公報
【特許文献３】特開平３−２１１８１２号公報
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上述した事情の下になされたものであり、第１の観点からすると、投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、基板を載置して平面上を移動可能な第１の移動体と、基板を載置して前記第１の移動体とは独立に前記平面上を移動可能な第２の移動体と、前記投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液体供給装置と、前記平面に沿った方向に関して、前記第１の移動体の端部と前記第２の移動体の端部との接近可能な距離を、複数の距離の間で変更することが可能な変更装置と、を備え、前記複数の距離は、前記液浸領域を前記第１の移動体上に存在する状態から、前記第２の移動体上に位置する状態に遷移させる際に設定される第１の距離と、前記第１の移動体と前記第２の移動体の何れかに載置された前記基板に対して前記エネルギビームを照射して露光処理を行う際に設定される第２の距離と、を含む第１の露光装置である。
【００１６】
また、リソグラフィ工程において、本発明の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することにより、高集積度のマイクロデバイスの生産性を向上することが可能である。従って、本発明は、更に別の観点からすると、本発明の露光装置を用いるデバイス製造方法であるとも言える。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】一実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
【図２】図１のステージ装置の平面図である。
【図３】図３（Ａ）〜図３（Ｃ）は、計測テーブルに設けられた脱離部材を説明するための図である。
【図４】Ｘ軸固定子８０，８１の＋Ｘ側端部を示す斜視図である。
【図５】ショックアブソーバの構成を説明するための図である。
【図６】図６（Ａ）〜図６（Ｄ）は、ストッパ機構の作用を説明するための図である。
【図７】Ｘ軸固定子同士が最接近した状態を示す平面図である。
【図８】一実施形態に係る露光装置の制御系の主要な構成を示すブロック図である。
【図９】計測ステージが投影光学系直下にある状態を示す平面図である。
【図１０】図１０（Ａ）、図１０（Ｂ）は、ストッパ機構の変形例（その１）を示す図である。
【図１１】図１１（Ａ）〜図１１（Ｄ）は、ストッパ機構の変形例（その２）を示す図である。
【図１２】図１２（Ａ）、図１２（Ｂ）は、ショックアブソーバとシャッタが接触した状態でＸ軸固定子８０，８１（ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢ）のＸ軸方向の相対移動について説明するための図である。
【図１３】本発明に係るデバイス製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図１４】図１３のステップ２０４の具体例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図９に基づいて説明する。【００１９】
図１には、本発明の一実施形態に係る露光装置１００の構成が概略的に示されている。この露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャナである。【００２０】
露光装置１００は、照明系１０、該照明系１０からの露光用照明光（以下、「照明光」又は「露光光」と呼ぶ）ＩＬにより照明されるレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出された照明光ＩＬをウエハＷ上に投射する投影光学系ＰＬを含む投影ユニットＰＵ、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを有するステージ装置５０、及びこれらの制御系等を含んでいる。ウエハステージＷＳＴ上には、ウエハＷが載置されるようになっている。【００２１】
前記照明系１０は、例えば特開２００１−３１３２５０号公報及びこれに対応する米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書又は公報などに開示されるように、光源、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、ビームスプリッタ、リレーレンズ、可変ＮＤフィルタ、レチクルブラインド等（いずれも不図示）を含んでいる。この照明系１０では、レチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域を照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。また、オプティカルインテグレータとしては、フライアイレンズ、ロッドインテグレータ（内面反射型インテグレータ）あるいは回折光学素子などを用いることができる。本国際出願で指定した指定国（又は選択した選択国）の国内法令が許す限りにおいて、上記米国特許出願公開における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。【００２２】
前記レチクルステージＲＳＴ上には、回路パターンなどがそのパターン面（図１における下面）に形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系１１（図１では不図示、図８参照）によって、ＸＹ平面内で微少駆動可能であるとともに、所定の走査方向（ここでは図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向とする）に指定された走査速度で駆動可能となっている。【００２３】
レチクルステージＲＳＴのステージ移動面内の位置（Ｚ軸回りの回転を含む）は、レチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１１６によって、移動鏡１５（実際には、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている）を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。このレチクル干渉計１１６の計測値は、主制御装置２０（図１では不図示、図８参照）に送られ、主制御装置２０では、このレチクル干渉計１１６の計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴのＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）の位置を算出するとともに、この算出結果に基づいてレチクルステージ駆動系１１を制御することで、レチクルステージＲＳＴの位置（及び速度）を制御する。なお、移動鏡１５に代えて、レチクルステージＲＳＴの端面を鏡面加工して反射面（移動鏡１５の反射面に相当）を形成することとしても良い。【００２４】
レチクルＲの上方には、投影光学系ＰＬを介してレチクルＲ上の一対のレチクルアライメントマークとこれらに対応する計測ステージＭＳＴ上の一対の基準マーク（以下、「第１基準マーク」と呼ぶ）とを同時に観察するための露光波長の光を用いたＴＴＲ（Through The Reticle）アライメント系から成る一対のレチクルアライメント検出系ＲＡａ，ＲＡｂがＸ軸方向に所定距離隔てて設けられている。これらのレチクルアライメント検出系ＲＡａ，ＲＡｂとしては、例えば特開平７−１７６４６８号公報及びこれに対応する米国特許第５，６４６，４１３号などに開示されるものと同様の構成のものが用いられている。本国際出願で指定した指定国（又は選択した選択国）の国内法令が許す限りにおいて、上記米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。【００２５】
前記投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、該鏡筒４０内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子から成る投影光学系ＰＬとを含む。投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ軸方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズ（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられている。この投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで所定の投影倍率（例えば１／４倍又は１／５倍）を有する。このため、照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、このレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、「露光領域」とも呼ぶ）ＩＡに形成される。【００２６】
なお、本実施形態の露光装置１００では、後述するように液浸法を適用した露光が行われるため、開口数ＮＡが実質的に増大することに伴いレチクル側の開口が大きくなる。このため、レンズのみで構成する屈折光学系においては、ペッツヴァルの条件を満足することが困難となり、投影光学系が大型化する傾向にある。かかる投影光学系の大型化を避けるために、ミラーとレンズとを含んで構成される反射屈折系（カタディ・オプトリック系）を用いても良い。【００２７】
また、本実施形態の露光装置１００では、液浸法を適用した露光を行うため、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハＷ側）の光学素子としてのレンズ（以下、「先玉」ともいう）１９１の近傍には、液浸装置３２を構成する液体供給ノズル３１Ａと、液体回収ノズル３１Ｂとが設けられている。【００２８】
前記液体供給ノズル３１Ａには、その一端が液体供給装置５（図１では不図示、図８参照）に接続された不図示の供給管の他端が接続されており、前記液体回収ノズル３１Ｂには、その一端が液体回収装置６（図１では不図示、図８参照）に接続された不図示の回収管の他端が接続されている。【００２９】
前記液体供給装置５は、液体のタンク、加圧ポンプ、温度制御装置、並びに供給管に対する液体の供給・停止を制御するためのバルブ等を含んでいる。バルブとしては、例えば液体の供給・停止のみならず、流量の調整も可能となるように、流量制御弁を用いることが望ましい。前記温度制御装置は、液体タンク内の液体の温度を、露光装置が収納されているチャンバ（不図示）内の温度と同程度の温度に調整する。なお、液体を供給するためのタンク、加圧ポンプ、温度制御装置、バルブなどは、そのすべてを露光装置１００で備えている必要はなく、少なくとも一部を露光装置１００が設置される工場などの設備で代替することもできる。【００３０】
前記液体回収装置６は、液体のタンク及び吸引ポンプ、並びに回収管を介した液体の回収・停止を制御するためのバルブ等を含んでいる。バルブとしては、前述した液体供給装置５側のバルブに対応して流量制御弁を用いることが望ましい。なお、液体を回収するためのタンク、吸引ポンプ、バルブなどは、そのすべてを露光装置１００で備えている必要はなく、少なくとも一部を露光装置１００が設置される工場などの設備で代替することもできる。【００３１】
上記の液体としては、ここでは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する超純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水」と記述する）を用いるものとする。超純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できると共に、ウエハ上のフォトレジストや光学レンズ等に対する悪影響がない利点がある。【００３２】
ＡｒＦエキシマレーザ光に対する水の屈折率ｎは、ほぼ１．４４である。この水の中では、照明光ＩＬの波長は、１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。【００３３】
前記液体供給装置５及び液体回収装置６は、それぞれコントローラを具備しており、それぞれのコントローラは、主制御装置２０によって制御されるようになっている（図８参照）。液体供給装置５のコントローラは、主制御装置２０からの指示に応じ、供給管に接続されたバルブを所定開度で開き、液体供給ノズル３１Ａを介して先玉１９１とウエハＷとの間に水を供給する。また、このとき、液体回収装置６のコントローラは、主制御装置２０からの指示に応じ、回収管に接続されたバルブを所定開度で開き、液体回収ノズル３１Ｂを介して先玉１９１とウエハＷとの間から液体回収装置６（液体のタンク）の内部に水を回収する。このとき、主制御装置２０は、先玉１９１とウエハＷとの間に液体供給ノズル３１Ａから供給される水の量と、液体回収ノズル３１Ｂを介して回収される水の量とが常に等しくなるように、液体供給装置５のコントローラ、液体回収装置６のコントローラに対して指令を与える。従って、先玉１９１とウエハＷとの間に、一定量の水Ｌｑ（図１参照）が保持される。この場合、先玉１９１とウエハＷとの間に保持された水Ｌｑは、常に入れ替わっている。【００３４】
上記の説明から明らかなように、本実施形態の液浸装置３２は、上記液体供給装置５、液体回収装置６、供給管、回収管、液体供給ノズル３１Ａ及び液体回収ノズル３１Ｂ等を含む局所液浸装置である。【００３５】
なお、投影ユニットＰＵ下方に計測ステージＭＳＴが位置する場合にも、上記と同様に計測テーブルＭＴＢと先玉１９１との間に水を満たすことが可能である。【００３６】
なお、上記の説明では、その説明を簡単にするため、液体供給ノズルと液体回収ノズルとがそれぞれ１つずつ設けられているものとしたが、これに限らず、例えば、国際公開第９９／４９５０４号パンフレットに開示されるように、ノズルを多数有する構成を採用することとしても良い。要は、投影光学系ＰＬを構成する最下端の光学部材（先玉）１９１とウエハＷとの間に液体を供給することができるのであれば、その構成はいかなるものであっても良い。例えば、国際公開第２００４／０５３９５５号公報に開示されている液浸機構や、欧州特許公開第１４２０２９８号公報に開示されている液浸機構も本実施形態の露光装置に適用することができる。本国際出願で指定した指定国（又は選択した選択国）の国内法令が許す限りにおいて、上記国際出願公開パンフレットおよび欧州特許出願公開における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。【００３７】
前記ステージ装置５０は、ベース盤１２と、該ベース盤１２の上面の上方に配置されたウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴと、これらのステージＷＳＴ、ＭＳＴの位置を計測するＹ軸干渉計１６、１８を含む干渉計システム１１８（図８参照）と、ステージＷＳＴ、ＭＳＴを駆動するステージ駆動系１２４（図８参照）と、を含んでいる。【００３８】
ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴの底面には、不図示の非接触軸受、例えば真空予圧型空気静圧軸受（以下、「エアパッド」と呼ぶ）が複数ヶ所に設けられており、これらのエアパッドからベース盤１２の上面に向けて噴出された加圧空気の静圧により、ベース盤１２の上面の上方にウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴが数μｍ程度のクリアランスを介して非接触で浮上支持されている。また、各ステージＷＳＴ、ＭＳＴは、ステージ駆動系１２４によって、Ｘ軸方向（図１における紙面内左右方向）及びＹ軸方向（図１における紙面直交方向）に独立して２次元方向に駆動可能に構成されている。【００３９】
ベース盤１２上には、図２の平面図に示されるように、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸固定子８６、８７がＸ軸方向に所定間隔を隔てて配置されている。これらのＹ軸固定子８６、８７は、例えばＹ軸方向に沿って所定間隔でかつ交互に配置されたＮ極磁石とＳ極磁石の複数の組から成る永久磁石群を内蔵する磁極ユニットによって構成されている。これらのＹ軸固定子８６、８７には、各２つのＹ軸可動子８２，８４及び８３，８５が、対応するＹ軸固定子８６、８７に係合した状態で非接触で設けられている。すなわち、合計４つのＹ軸可動子８２、８４、８３、８５は、ＸＺ断面Ｕ字状のＹ軸固定子８６又は８７の内部空間に挿入された状態となっており、対応するＹ軸固定子８６又は８７に対して不図示のエアパッドをそれぞれ介して例えば数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持されている。Ｙ軸可動子８２、８４、８３、８５のそれぞれは、例えばＹ軸方向に沿って所定間隔で配置された電機子コイルをそれぞれ内蔵する電機子ユニットによって構成されている。すなわち、本実施形態では、電機子ユニットから成るＹ軸可動子８２、８４と磁極ユニットから成るＹ軸固定子８６とによって、ムービングコイル型のＹ軸リニアモータがそれぞれ構成されている。同様にＹ軸可動子８３、８５とＹ軸固定子８７とによって、ムービングコイル型のＹ軸リニアモータがそれぞれ構成されている。以下においては、上記４つのＹ軸リニアモータのそれぞれを、それぞれのＹ軸可動子８２、８４、８３、８５と同一の符号を用いて、適宜、Ｙ軸リニアモータ８２、Ｙ軸リニアモータ８４、Ｙ軸リニアモータ８３、及びＹ軸リニアモータ８５と呼ぶものとする。【００４０】
上記４つのＹ軸リニアモータのうち、２つのＹ軸リニアモータ８２、８３の可動子８２，８３は、Ｘ軸方向に延びるＸ軸固定子８０の長手方向の一端と他端にそれぞれ固定されている。また、残り２つのＹ軸リニアモータ８４、８５の可動子８４，８５は、Ｘ軸方向に延びるＸ軸固定子８１の一端と他端に固定されている。従って、Ｘ軸固定子８０、８１は、各一対のＹ軸リニアモータ８２，８３、８４，８５によって、Ｙ軸に沿ってそれぞれ駆動されるようになっている。【００４１】
前記Ｘ軸固定子８０，８１のそれぞれは、例えばＸ軸方向に沿って所定間隔で配置された電機子コイルをそれぞれ内蔵する電機子ユニットによって構成されている。【００４２】
一方のＸ軸固定子８１は、ウエハステージＷＳＴを構成するＸ移動体９１（図２では不図示、図１参照）に形成された不図示の開口に挿入状態で設けられている。このＸ移動体９１の上記開口の内部には、例えばＸ軸方向に沿って所定間隔でかつ交互に配置されたＮ極磁石とＳ極磁石の複数の組から成る永久磁石群を有する磁極ユニットが設けられている。この磁極ユニットとＸ軸固定子８１とによって、Ｘ移動体９１をＸ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＸ軸リニアモータが構成されている。同様に、他方のＸ軸固定子８０は、計測ステージＭＳＴを構成するＸ移動体９２（図２では不図示、図１参照）に形成された開口に挿入状態で設けられている。このＸ移動体９２の上記開口の内部には、ウエハステージＷＳＴ側（Ｘ移動体９１側）と同様の磁極ユニットが設けられている。この磁極ユニットとＸ軸固定子８０とによって、計測ステージＭＳＴをＸ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＸ軸リニアモータが構成されている。以下においては、適宜、これらのＸ軸リニアモータを、それぞれの固定子を構成するＸ軸固定子８１、８０と同一の符号を用いて、Ｘ軸リニアモータ８１、Ｘ軸リニアモータ８０と呼ぶものとする。【００４３】
本実施形態では、ステージ駆動系１２４を構成する上記各リニアモータが、図８に示される主制御装置２０によって制御されるようになっている。なお、各リニアモータは、それぞれムービングマグネット型やムービングコイル型のどちらか一方に限定されるものではなく、必要に応じて適宜選択することができる。【００４４】
なお、一対のＹ軸リニアモータ８４，８５（又は８２，８３）がそれぞれ発生する推力を僅かに異ならせることで、ウエハステージＷＳＴ又は計測ステージＭＳＴのヨーイングの制御が可能である。【００４５】
前記ウエハステージＷＳＴは、前述したＸ移動体９１と、該Ｘ移動体９１上に不図示のＺ・レベリング機構（例えばボイスコイルモータなど）を介して搭載され、Ｘ移動体９１に対してＺ軸方向及びＸ軸回りの回転方向（θｘ方向）、Ｙ軸回りの回転方向（θｙ方向）に相対的に微小駆動されるウエハテーブルＷＴＢとを含んでいる。【００４６】
前記ウエハテーブルＷＴＢ上には、ウエハＷを真空吸着等によって保持するウエハホルダ（不図示）が設けられている。また、ウエハテーブルＷＴＢの上面には、ウエハホルダ上に載置されるウエハとほぼ面一であって、全体として矩形でその中央部にウエハホルダよりも一回り大きな円形の開口が形成された補助プレート（撥水板）２８（図１、図３参照）が設けられている。この補助プレート（撥水板）２８は、ウエハテーブルＷＴＢよりも一回り大きく設定されている。補助プレート（撥水板）２８の撥液（撥水）面は、一般的に遠紫外域又は真空紫外域の光に弱く、その露光光の照射によって撥液（撥水）性能が劣化する。また、補助プレート（撥水板）２８の上面に液体の付着跡（ウォーターマークなど）が形成されるおそれもある。従って、補助プレート（撥水板）２８はウエハテーブルＷＴＢに対して容易に着脱（交換）ができるようになっている。なお、補助プレート（撥水板）の固定は、真空吸着方式や静電吸着方式などの各種の方式を採用することができる。【００４７】
このウエハテーブルＷＴＢの−Ｙ端面は、図２に示されるように、鏡面加工して反射面１７ａが形成されており、−Ｘ端面も同様に鏡面加工して反射面１７ｂが形成されている。これらの反射面には、干渉計システム１１８（図８参照）を構成する干渉計（Ｙ軸方向に関してはＹ軸干渉計１６、Ｘ軸方向に関しては複数のＸ軸干渉計１２６，１２８）からの干渉計ビーム（測長ビーム）が投射され、その反射光を各干渉計で受光することにより、各反射面の基準位置（一般には投影ユニットＰＵ側面や、アライメント系ＡＬＧの側面に固定ミラーを配置し、そこを基準面とする）からの変位が計測され、これにより、ウエハステージＷＳＴの２次元位置が計測されるようになっている。なお、図２では不図示ではあるが、Ｘ軸干渉計からの測長ビームが当たらない場合には、ウエハテーブルＷＴＢの位置がエンコーダ７７Ａ（図８参照）によって計測されるようになっている。【００４８】
前記計測ステージＭＳＴは、前述したＸ移動体９２と、該Ｘ移動体９２上に搭載された計測テーブルＭＴＢとを含んでいる。計測テーブルＭＴＢについても不図示のＺ・レベリング機構を介してＸ移動体９２上に搭載されている。なお、計測テーブルＭＴＢをＸ移動体９２に固定し、Ｘ移動体９２を６自由度方向に駆動可能な構成を採用することとしても良い。【００４９】
この計測テーブルＭＴＢ（及びＸ移動体９２）には、各種計測用部材が設けられている。この計測用部材としては、例えば、特開平５−２１３１４号公報及びこれに対応する米国特許第５，２４３，１９５号などに開示される複数の基準マークが形成された基準マーク板や投影光学系ＰＬを介して照明光ＩＬを受光するセンサなどが含まれている。センサとしては、例えば特開平１１−１６８１６号公報及びこれに対応する米国特許出願公開第２００２／００６１４６９号明細書などに開示される投影光学系ＰＬの像面上で照明光ＩＬを受光する所定面積の受光部を有する照度モニタや、特開昭５７−１１７２３８号公報及びこれに対応する米国特許第４，４６５，３６８号などに開示される投影光学系ＰＬの像面上で照明光ＩＬを受光するピンホール状の受光部を有する照度むらセンサ、特開２００２−１４００５号公報及びこれに対応する米国特許出願公開第２００２／００４１３７７号明細書などに開示される投影光学系ＰＬにより投影されるパターンの空間像（投影像）の光強度を計測する空間像計測器などを採用することができる。本国際出願で指定した指定国（又は選択した選択国）の国内法令が許す限りにおいて、上記各米国特許、各米国特許出願公開における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。【００５０】
なお、本実施形態では、投影光学系ＰＬと水とを介して露光光（照明光）ＩＬによりウエハＷを露光する液浸露光が行われるのに対応して、照明光ＩＬを用いる計測に使用される上記の照度モニタ、照度むらセンサ、空間像計測器では、投影光学系ＰＬ及び水を介して照明光ＩＬを受光することとなる。また、各センサは、例えば光学系などの一部だけが計測テーブルＭＴＢ（及びＸ移動体９２）に搭載されていても良いし、センサ全体を計測テーブルＭＴＢ（及びＸ移動体９２）に配置するようにしても良い。【００５１】
計測テーブルＭＴＢの−Ｙ側端部には、図２及び図３（Ａ）に示されるように、Ｘ軸方向に延びる脱離部材２９が設けられている。この脱離部材２９は、例えばテフロン（登録商標）樹脂から成り、計測テーブルＭＴＢに対して不図示の永久磁石等を介して固定されており、図３（Ｂ）のように、Ｙ軸方向からの衝撃（撥水板２８との衝突による力）を受けた場合に、図３（Ｃ）に示されるように、計測テーブルＭＴＢからの脱離が可能となっている。【００５２】
この計測テーブルＭＴＢの＋Ｙ端面、−Ｘ端面も前述したウエハテーブルＷＴＢと同様の反射面１９ａ、１９ｂが形成されている（図２参照）。これらの反射面には、干渉計システム１１８（図８参照）を構成する干渉計（Ｙ軸方向に関してはＹ軸干渉計１８、Ｘ軸方向に関してはＸ軸干渉計１２６，１２８又は１３０）からの干渉計ビーム（測長ビーム）が投射され、その反射光を各干渉計で受光することにより、各反射面の基準位置（一般には投影ユニットＰＵ側面や、アライメント系ＡＬＧの側面に固定ミラーを配置し、そこを基準面とする）からの変位が計測され、これにより、計測ステージＭＳＴの２次元位置が計測されるようになっている。なお、図２では不図示であるが、Ｘ軸干渉計からの測長ビームが当たらない場合には、計測テーブルＭＴＢの位置がエンコーダ７７Ｂ（図８参照）により計測されるようになっている。【００５３】
ところで、Ｘ軸固定子８１とＸ軸固定子８０とには、図２及びＸ軸固定子８０，８１近傍を斜視図にて示す図４に示されるように、ストッパ機構４８Ａ，４８Ｂが設けられている。一方のストッパ機構４８Ａは、一方のＸ軸固定子８１に設けられたショックアブソーバ４７Ａと、他方のＸ軸固定子８０の前記ショックアブソーバ４７Ａに対向する位置（＋Ｙ側）に設けられたシャッタ４９Ａとを含んでいる。Ｘ軸固定子８０のショックアブソーバ４７Ａに対向する位置には、開口５１Ａが形成されている。【００５４】
前記ショックアブソーバ４７Ａは、オイルダンパから成り、図５に断面図にて示されるように、円筒状（断面円形）のシリンダ１０２と、該シリンダ１０２内部に設けられた円柱状のピストン１０４ｃと該ピストン１０４ｃに接続されたピストンロッド１０４ａと、該ピストンロッド１０４ａの外周部に設けられ、シリンダ１０２の端面とピストンロッド１０４ａのヘッド部１０４ｄとの間に挟持された圧縮バネ１０６とを含んでいる。前記シリンダ１０２内部は、ピストン１０４ｃにより第１室１０８Ａと第２室１０８Ｂとに仕切られており、ピストン１０４ｃに設けられたオリフィス１０４ｂを介して、各室１０８Ａ、１０８Ｂが相互に連通している。室１０８Ａ、１０８Ｂのそれぞれの内部には、作動油が注入されている。【００５５】
前記シャッタ４９Ａは、図４に示されるように、Ｘ軸固定子８０に形成された開口５１Ａの−Ｙ側に設けられ、エアシリンダ等を含んで構成される駆動機構３４Ａにより矢印Ａ、Ａ’方向（Ｚ軸方向）に駆動されるようになっている。従って、シャッタ４９Ａによって開口５１Ａを開状態又は閉状態にすることが可能となっている。このシャッタ４９Ａの開閉状態は、該シャッタ４９Ａ近傍に設けられた開閉センサ（図４では不図示、図８参照）１０１により検出され、該検出結果が主制御装置２０に送られるようになっている。【００５６】
他方のストッパ機構４８Ｂも、一方のストッパ機構４８Ａと同様の構成となっている。すなわち、図２に示されるように、ストッパ機構４８Ｂは、一方のＸ軸固定子８１の−Ｘ端部近傍に設けられたショックアブソーバ４７Ｂと、他方のＸ軸固定子８０の前記ショックアブソーバ４７Ｂに対向する位置に設けられたシャッタ４９Ｂとを含んでいる。また、Ｘ軸固定子８０のシャッタ４９Ｂの＋Ｙ側部分には、開口５１Ｂが形成されている。【００５７】
ここで、前記ストッパ機構４８Ａ、４８Ｂの作用について、一方のストッパ機構４８Ａ近傍を拡大して示す図６（Ａ）〜図６（Ｄ）に基づいて説明する。【００５８】
図６（Ａ）に示されるように、シャッタ４９Ａが開口５１Ａを閉塞する状態にある場合には、図６（Ｂ）に示されるように、Ｘ軸固定子８１とＸ軸固定子８０が接近した場合にも、ショックアブソーバ４７Ａとシャッタ４９Ａが接触することにより、それ以上、Ｘ軸固定子８０，８１同士が接近できないようになっている。この場合、図６（Ｂ）に示されるようにショックアブソーバ４７Ａのピストン１０４ｃが最も−Ｙ側に移動した場合（すなわち、ショックアブソーバ４７Ａが縮み、その全長が最も短くなった場合）にもウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢとは接触しない構成とされている。【００５９】
一方、図６（Ｃ）に示されるように、駆動機構３４Ａを介して、シャッタ４９Ａが下降駆動されると、開口５１Ａが開放された状態となるので、Ｘ軸固定子８１，８０が互いに接近すると、図６（Ｄ）に示されるように、ショックアブソーバ４７Ａの先端部の少なくとも一部を開口５１Ａ内に侵入させることができるため、図６（Ｂ）に示される状態よりもＸ軸固定子８１，８０同士を接近させることが可能となっている。このようなＸ軸固定子８１，８０同士が最接近した状態では、図７に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢとを接触させる（あるいは、３００μｍ程度のクリアランスを介して接近させる）ことが可能となっている。【００６０】
開口５１Ａの奥行き（深さ）は、図６（Ｄ）に示すように、Ｘ軸固定子８１、８０同士が最接近した状態においてもショックアブソーバ４７Ａと開口５１Ａの終端部（底に相当する部分）の間にギャップが形成されるように設定しても良いし、ショックアブソーバ４７Ａが終端部に接するように設定しても良い。また、Ｘ軸固定子８１、８０がＸ軸方向に相対移動した場合でも、ショックアブソーバ４７Ａと開口５１Ａの壁部とが接触しないように、相対移動の量に応じて予め開口部の幅を設定しておいても良い。【００６１】
なお、他方のストッパ４８Ｂも同様に機能する。【００６２】
図２に戻り、Ｘ軸固定子８０の＋Ｘ端部には、間隔検知センサ４３Ａと衝突検知センサ４３Ｂが設けられ、Ｘ軸固定子８１の＋Ｘ端部には、Ｙ軸方向に細長い板状部材４１Ａが＋Ｙ側に突設されている。また、Ｘ軸固定子８０の−Ｘ端部には、図２に示されるように、間隔検知センサ４３Ｃと衝突検知センサ４３Ｄが設けられ、Ｘ軸固定子８１の−Ｘ端部には、Ｙ軸方向に細長い板状部材４１Ｂが＋Ｙ側に突設されている。【００６３】
前記間隔検知センサ４３Ａは、例えば透過型フォトセンサ（例えばＬＥＤ−ＰＴｒの透過型フォトセンサ）から成り、図４に示されるように、Ｕ字状の固定部材１４２と、該固定部材１４２の対向する一対の面それぞれに設けられた発光部１４４Ａ及び受光部１４４Ｂとを含んでいる。この間隔検知センサ４３Ａでは、発光部１４４Ａからの光が遮光されることにより変化する受光部１４４Ｂの出力を検出することにより、発光部１４４Ａと受光部１４４Ｂとの間に光を透過しない物体が存在するか否かを検出する。【００６４】
すなわち、間隔検知センサ４３Ａによると、図４の状態から、Ｘ軸固定子８０とＸ軸固定子８１が更に接近した場合には、図７に示されるように、受光部１４４Ｂと発光部１４４Ａとの間に板状部材４１Ａが入るようになっている。この場合、板状部材４１Ａの下半部が発光部１４４Ａからの光を遮ることとなるので、受光部１４４Ｂへの光の入光がなくなり、出力電流が小さくなる。従って、主制御装置２０では、該出力電流を検出することで、両移動体の間隔が所定距離以下になったことを検知することができるようになっている。【００６５】
前記衝突検知センサ４３Ｂは、Ｕ字状の固定部材１４３と、該固定部材１４３の対向する一対の面それぞれに設けられた発光部１４５Ａ及び受光部１４５Ｂとを含んでおり、発光部１４５Ａの光が遮光されることにより変化する受光部１４５Ｂの出力を検出することにより、発光部１４５Ａと受光部１４５Ｂとの間に光を透過しない物体が存在するか否かを検出するセンサである。この場合、発光部１４５Ａは、図４に示されるように、前述した間隔検知センサ４３Ａの発光部１４４Ａに対して、Ｚ軸方向の位置（高さ位置）が異なる位置に設定されており、受光部１４５Ｂは、間隔検知センサ４３Ａの受光部１４４Ｂに対して、Ｚ軸方向の位置（高さ位置）が異なる位置に設定されている。【００６６】
この衝突検知センサ４３Ｂによると、Ｘ軸固定子８１，８０同士が更に接近し、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢとが接触した段階で、発光部１４５Ａと受光部１４５Ｂとの間に板状部材４１Ａの上半部が位置決めされるため、発光部１４５Ａからの光が受光部１４５Ｂに入光しないようになっている。【００６７】
なお、図４では、板状部材４１Ａは、上半部が下半部よりも長く（＋Ｙ方向により突出した状態に）設定されているが、これは、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢとが接触したときに、板状部材４１Ａの上半部が発光部１４５Ａと受光部１４５Ｂとの間に位置決めされるようにしたものである。従って、衝突検知センサ４３Ｂをより−Ｙ側に設定することができる場合には、単に長方形状の板状部材を採用することとしても良い。【００６８】
なお、Ｘ軸固定子の−Ｘ端部近傍に設けられた間隔検知センサ４３Ｃ及び衝突検知センサ４３Ｄも、前述した−Ｘ端部近傍に設けられた間隔検知センサ４３Ａ及び衝突検知センサ４３Ｂと同様に構成され、板状部材４１Ｂも前述した板状部材４１Ａと同様に構成されているので、その説明は省略するものとする。【００６９】
図１に戻り、本実施形態の露光装置１００では、投影ユニットＰＵを保持する保持部材には、オフアクシス・アライメント系（以下、「アライメント系」と略述する）ＡＬＧが設けられている。このアライメント系ＡＬＧとしては、例えばウエハ上のレジストを感光させないブロードバンドな検出光束を対象マークに照射し、その対象マークからの反射光により受光面に結像された対象マークの像と不図示の指標（アライメント系ＡＬＧ内に設けられた指標板上の指標パターン）の像とを撮像素子（ＣＣＤ等）を用いて撮像し、それらの撮像信号を出力する画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系のセンサが用いられている。アライメント系ＡＬＧからの撮像信号は、図８の主制御装置２０に供給されるようになっている。【００７０】
なお、アライメント系ＡＬＧとしては、ＦＩＡ系に限らず、コヒーレントな検出光を対象マークに照射し、その対象マークから発生する散乱光又は回折光を検出する、あるいはその対象マークから発生する２つの回折光（例えば同次数の回折光、あるいは同方向に回折する回折光）を干渉させて検出するアライメントセンサを単独であるいは適宜組み合わせて用いることは勿論可能である。【００７１】
本実施形態の露光装置１００では、図１では図示が省略されているが、照射系９０ａ及び受光系９０ｂ（図８参照）から成る、例えば特開平６−２８３４０３号公報及びこれに対応する米国特許第５，４４８，３３２号）等に開示されるものと同様の斜入射方式の多点焦点位置検出系が設けられている。本実施形態では、一例として、照射系９０ａが投影ユニットＰＵの−Ｘ側にて投影ユニットＰＵを保持する保持部材に吊り下げ支持され、受光系９０ｂが投影ユニットＰＵの＋Ｘ側にて保持部材の下方に吊り下げ支持されている。すなわち、照射系９０ａ及び受光系９０ｂと、投影光学系ＰＬとが、同一の部材に取り付けられており、両者の位置関係が一定に維持されている。本国際出願で指定した指定国（又は選択した選択国）の国内法令が許す限りにおいて、上記米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。【００７２】
図８には、露光装置１００の制御系の主要な構成が示されている。この制御系は、装置全体を統括的に制御するマイクロコンピュータ（又はワークステーション）から成る主制御装置２０を中心として構成されている。【００７３】
次に、上述のようにして構成された本実施形態の露光装置１００における、ウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとを用いた並行処理動作について、図２、図７、図９等に基づいて説明する。なお、以下の動作中、主制御装置２０によって、液浸装置３２の液体供給装置５及び液体回収装置６の各バルブの開閉制御が前述したようにして行われ、投影光学系ＰＬの先玉１９１の直下には常時水が満たされている。しかし、以下では、説明を分かり易くするため、液体供給装置５及び液体回収装置６の制御に関する説明は省略する。【００７４】
図２には、ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷ（ここでは、一例として、あるロット（１ロットは２５枚又は５０枚）の最後のウエハとする）に対するステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われている状態が示されている。このとき、計測ステージＭＳＴは、ウエハステージＷＳＴと衝突しない所定の待機位置にて待機している。また、この場合には、ウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとが所定距離よりも接近するのを防止するため、シャッタ４９Ａ、４９Ｂが開口５１Ａ，５１Ｂを閉塞した状態に設定されている。【００７５】
上記の露光動作は、主制御装置２０により、事前に行われた例えばエンハンスト・グローバル・アライメント（ＥＧＡ）などのウエハアライメントの結果及び最新のアライメント系ＡＬＧのベースラインの計測結果等に基づいて、ウエハＷ上の各ショット領域の露光のための走査開始位置（加速開始位置）へウエハステージＷＳＴが移動されるショット間移動動作と、各ショット領域に対するレチクルＲに形成されたパターンを走査露光方式で転写する走査露光動作とを繰り返すことにより、行われる。なお、上記の露光動作は、先玉１９１とウエハＷとの間に水を保持した状態で行われる。【００７６】
そして、ウエハステージＷＳＴ側で、ウエハＷに対する露光が終了した段階で、主制御装置２０は、駆動機構３４Ａ，３４Ｂを介してシャッタ４９Ａ，４９Ｂを下降駆動し、開口５１Ａ，５１Ｂを開状態に設定する。主制御装置２０は、開閉センサ１０１を介して、シャッタ４９Ａ，４９Ｂが全開状態になったことを確認した後に、干渉計システム１１８の計測値、及びエンコーダ７７Ｂの計測値に基づいてステージ駆動系１２４を制御して、計測ステージＭＳＴ（計測テーブルＭＴＢ）を図７に示される位置まで移動させる。このとき、計測テーブルＭＴＢの−Ｙ側面とウエハテーブルＷＴＢの＋Ｙ側面とは接触している。なお、干渉計システム１１８のうち、各テーブルのＹ軸方向位置を計測する干渉計の計測値をモニタして計測テーブルＭＴＢとウエハテーブルＷＴＢとをＹ軸方向に３００μｍ程度離間させて、非接触の状態を保っても良い。【００７７】
次いで、主制御装置２０は、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢとのＹ軸方向の位置関係を保ちつつ、両ステージＷＳＴ、ＭＳＴを−Ｙ方向に同時に駆動する動作を開始する。【００７８】
このようにして、主制御装置２０により、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴが同時に駆動されると、投影ユニットＰＵの先玉１９１とウエハＷとの間に保持されていた水が、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴの−Ｙ側への移動に伴って、ウエハＷ→撥水板２８→計測テーブルＭＴＢ上を順次移動する。なお、上記の移動の間中、ウエハテーブルＷＴＢ、計測テーブルＭＴＢは相互に接触する位置関係を保っている。【００７９】
上記の状態から、更にウエハステージＷＳＴ，計測ステージＭＳＴが−Ｙ方向に同時に所定距離駆動されると、図９に示されるように、計測ステージＭＳＴと先玉１９１との間に水が保持された状態となる。【００８０】
次いで、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴの位置を干渉計システム１１８、エンコーダ７７Ａの計測値に基づいて管理しつつ、ステージ駆動系１２４を制御して、所定のウエハ交換位置にウエハステージＷＳＴを移動させるとともに次のロットの最初のウエハへの交換を行い、これと並行して、計測ステージＭＳＴを用いた所定の計測を必要に応じて実行する。この計測としては、例えばアライメント系ＡＬＧのベースライン計測が一例として挙げられる。具体的には、主制御装置２０では、計測テーブルＭＴＢ上に設けられた基準マーク領域内の一対の第１基準マークと対応するレチクル上のレチクルアライメントマークを前述のレチクルアライメント系ＲＡａ、ＲＡｂを用いて同時に検出して一対の第１基準マークと対応するレチクルアライメントマークの位置関係を検出する。これと同時に、主制御装置２０では、上記基準マーク領域内の第２基準マークをアライメント系ＡＬＧで検出することで、アライメント系ＡＬＧの検出中心と第２基準マークとの位置関係を検出する。そして、主制御装置２０は、上記一対の第１基準マークと対応するレチクルアライメントマークの位置関係とアライメント系ＡＬＧの検出中心と第２基準マークとの位置関係と、既知の一対の第１基準マークと第２基準マークとの位置関係とに基づいて、投影光学系ＰＬによるレチクルパターンの投影中心とアライメント系ＡＬＧの検出中心との距離、すなわちアライメント系ＡＬＧのベースラインを求める。【００８１】
なお、上記のアライメント系ＡＬＧのベースラインの計測とともに、レチクル上にレチクルアライメントマークを複数対形成し、これに対応して基準マーク領域内に複数対の第１基準マークを形成しておき、少なくとも２対の第１基準マークと対応するレチクルアライメントマークとの相対位置を、レチクルステージＲＳＴ、計測ステージＭＳＴをＹ軸方向にステップ移動しつつ、レチクルアライメント系ＲＡａ、ＲＡｂを用いて計測することで、いわゆるレチクルアライメントを行うこともできる。【００８２】
この場合、レチクルアライメント系ＲＡａ，ＲＡｂを用いたマークの検出は、投影光学系ＰＬ及び水を介して行われる。【００８３】
そして、上述した両ステージＷＳＴ、ＭＳＴ上における作業が終了した段階で、主制御装置２０は、計測ステージＭＳＴとウエハステージＷＳＴとを、接触させ、その状態を維持しつつ、ＸＹ面内で駆動し、ウエハステージＷＳＴを投影ユニット直下に戻す。なお、前述のように、計測ステージＭＳＴとウエハステージＷＳＴとを非接触の状態にしても良い。【００８４】
主制御装置２０では、先程とは逆にウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴのＹ軸方向の位置関係を保ちつつ、両ステージＷＳＴ、ＭＳＴを＋Ｙ方向に同時に駆動して、ウエハステージＷＳＴ（ウエハ）を投影光学系ＰＬの下方に移動させた後、計測ステージＭＳＴを所定の位置に退避させる。この段階で、主制御装置２０は、シャッタ４９Ａ，４９Ｂを、駆動機構３４Ａ，３４Ｂを介して上昇駆動することで、開口５１Ａ，５１Ｂを閉塞した状態に設定する。【００８５】
その後、主制御装置２０では、新たなウエハに対してウエハアライメント、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を実行し、ウエハ上の複数のショット領域にレチクルパターンを順次転写する。以降、同様の動作を繰り返し行う。【００８６】
なお、上記の説明では、計測動作として、ベースライン計測を行う場合について説明したが、これに限らず、ウエハステージＷＳＴ側で各ウエハの交換を行っている間に、計測ステージＭＳＴの計測器群を用いて、照度計測、照度むら計測、空間像計測、波面収差計測などの少なくとも一つを行い、その計測結果をその後に行われるウエハの露光に反映させることとしても良い。具体的には、例えば、計測結果に基づいて不図示の結像特性補正コントローラにより投影光学系ＰＬの調整を行うこととすることができる。また、上述の空間像計測器、照度ムラ計測器、照度モニタ及び波面収差計測器は、必ずしもその全てが備えられている必要はなく、必要に応じて一部のみを搭載するだけでも良い。【００８７】
また、上記の説明では、新たなウエハに対するウエハアライメントを、計測ステージＭＳＴを退避させた後に行っているが、新たなウエハに対するウエハアライメントの少なくとも一部を、両ステージＷＳＴ，ＭＳＴを接触させる前に、及び／又は両ステージＷＳＴ，ＭＳＴを接触させた状態で行っても良い。【００８８】
ここで、上述した各種の動作が行われている間には、干渉計システム１１８によりウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の位置及び速度、計測テーブルＭＴＢ（計測ステージＭＳＴ）の位置及び速度が計測されている。主制御装置２０では、両ステージの各時間毎の相対速度を算出し、算出された相対速度が予め定められている値（閾値）を超えた場合には、両ステージの速度を抑制するような制御を行うこととし、これにより、両ステージの暴走、衝突を防止することとしている。【００８９】
以上詳細に説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、ストッパ機構４８Ａ，４８Ｂにより、２つのＸ軸固定子８０，８１同士が所定距離よりも接近するのが阻止されているだけでなく、ウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢとが所定距離よりも接近するのが阻止されている。また、シャッタ４９Ａ，４９Ｂが駆動機構３４Ａ，３４Ｂにより退避されることで、このストッパ機構４８Ａ，４８Ｂによる阻止が解除され、２つのＸ軸固定子８０，８１を所定距離よりも接近させることができ、ウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢとを所定距離よりも接近させることができる。【００９０】
特に、本実施形態の露光装置１００のように、液浸型の露光装置を採用する場合にあっては、投影光学系ＰＬの直下にウエハテーブルＷＴＢ（又は計測テーブルＭＴＢ）が位置する状態から、投影光学系ＰＬの直下に計測テーブルＭＴＢ（又はウエハテーブルＷＴＢ）が位置する状態に遷移させる際に、ショックアブソーバ４９Ａ、４９Ｂによる阻止を解除する。そのため、ウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢとを接近させた状態で投影光学系直下を移動させることができるので、以下の（１）〜（３）の一連の動作を行う必要がない。つまり、（１）撥水板２８（又は計測テーブルＭＴＢ）上に存在する水を回収する、（２）投影光学系直下に計測テーブルＭＴＢ（又はウエハテーブルＷＴＢ）を移動する、（３）水を再度供給する、といった一連の動作が不要になる。従って、露光精度が高く維持されるとともに、２つのステージの移動の高速化、ひいては高スループット化を実現することが可能となる。【００９１】
また、主制御装置２０は、２つのＸ軸固定子の相対速度（ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢの相対速度）が所定値以上になったときに、２つのＸ軸固定子８０，８１（ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴ）のうちの少なくとも一方の速度を制限する。そのため、２つのＸ軸固定子（ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴ）の暴走を事前に防ぎ、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢの衝突の可能性を低減することができ、結果的にウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴの損傷の回避、及び各ステージの駆動性能の維持、及び露光精度の維持を図ることが可能である。【００９２】
また、ストッパ機構としてＹ軸方向からの衝撃を緩和するショックアブソーバが採用されていることから、移動体間の接近を阻止する場合においても、他方の移動体からの衝撃が一方の移動体に影響を与えるのを緩和することができるので、各移動体の損傷等を極力抑制することが可能となる。【００９３】
また、本実施形態では、シャッタが開状態及び閉状態にある場合の少なくとも一方を検出する開閉センサ１０１を含んでいるため、この開閉センサ１０１の検出結果に基づいて、２つのＸ軸固定子８０，８１を移動することにより、Ｘ軸固定子８０，８１を接近させたり、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢを接近又は接触させたいときにショックアブソーバ４７Ａ，４７Ｂとシャッタ４９Ａ，４９Ｂが機械的に干渉するのを回避することができる。【００９４】
また、本実施形態では、ストッパ機構４８Ａ，４８Ｂを備えるだけでなく、間隔検知センサ４３Ａ，４３Ｃを備え、該センサを用いて２つのＸ軸固定子８０，８１同士が所定距離より近づいたか否かを検出するので、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢの接近度合いを検出でき、仮にウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴが暴走等した場合であってもその衝突の可能性をより低減させることが可能である。【００９５】
更に、本実施形態では、２つのＸ軸固定子８０，８１の衝突を検出する衝突検知センサ４３Ｂ，４３Ｄを含んでいるので、このセンサ４３Ｂ，４３Ｄによる検出結果に基づいて２つのＸ軸固定子８０，８１の駆動制御を行うことで、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢの衝突による各テーブルなどへの影響を極力低減することができる。また、このセンサ４３Ｂ，４３Ｄにより衝突が検出されることで、メンテナンス開始等の判断を迅速かつ容易に行うことが可能である。【００９６】
また、本実施形態では、計測テーブルＭＴＢの−Ｙ側端部に、脱離部材２９が配置されているので、ウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢが衝突しても、脱離部材２９が最初に脱離することによりテーブル自体の損傷を極力小さくすることが可能である。【００９７】
なお、上記実施形態では、計測テーブルＭＴＢ側に脱離部材２９を配置することとしたが、これに限らず、脱離部材２９は、ウエハテーブルＷＴＢの＋Ｙ端部に設けることとしても良い。【００９８】
なお、上記実施形態では、Ｘ軸固定子８０，８１にストッパ機構を設ける場合について説明したが、これに限らず、例えば、ウエハテーブルＷＴＢ（又は）及び計測テーブルＭＴＢにストッパ機構を設けることとしても良い。【００９９】
なお、上記実施形態では、Ｘ軸固定子８０，８１同士の接近、及びウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢとの接近を阻止しているが、他の二物体の接近を阻止するようにしても良いことは言うまでもない。【０１００】
また、上記実施形態では、Ｘ軸固定子８０，８１にストッパ機構を設けているが、どちらか一方にストッパ機構を設ける構成でも良い。【０１０１】
また、上記実施形態では、Ｘ軸固定子８０，８１にストッパ機構を設け、Ｘ軸固定子８０，８１同士の接近、及びウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢとの接触を阻止するようにしているが、これに限らず、他の二物体の少なくとも一方にストッパ機構を設けることができる。例えば、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢの少なくとも一方にストッパ機構を設け、ウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢとの接近を阻止するようにしても良い。また、ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢの少なくとも一方にストッパ機構を設け、Ｘ軸固定子８０，８１同士の接近や他の二物体の接近を阻止することもできる。【０１０２】
また、上述の説明では、ウエハステージＷＳＴでウエハ交換を行う前後にストッパ機構４８Ａ，４８Ｂの阻止機能が解除されるようになっているが、これに限らず、必要に応じてストッパ機構４８Ａ，４８Ｂの阻止機能を解除できることは言うまでもない。【０１０３】
なお、上記実施形態では、ステージ装置５０がウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとを備える場合について説明したが、これに限らず、２つのステージがともにウエハステージであっても良い。この場合、一方のステージ上で露光動作が行われている間に他方のステージでウエハ交換及びアライメント等の計測を行うことができるので、スループットの向上が期待できる。【０１０４】
なお、上記実施形態では、ストッパ機構としてショックアブソーバを採用することとしたが、これに限らず、ショックアブソーバ以外（例えばエアダンパなど）であってもＹ軸方向からの衝撃を緩和することが可能であれば、各種緩衝装置を採用することができる。また、ストッパ機構としては、緩衝装置に限らず、緩衝作用を有さないストッパ機構を採用することとしても良い。【０１０５】
なお、上記実施形態では、ショックアブソーバをＸ軸固定子８１側に設け、Ｘ軸固定子８０に、該Ｘ軸固定子８０に形成された開口を開閉するシャッタを設けることとしたが、これに限らず、Ｘ軸固定子８０側にショックアブソーバを設け、Ｘ軸固定子８１に開口を形成するとともにシャッタを設けることとしても良い。【０１０６】
また、上記実施形態ではシャッタがＺ軸方向に駆動されることとしたが、これに限られるものではなく、シャッタがＸ軸方向に移動する構成を採用しても良いし、開口よりも一回り小さい蓋状の部材が開口内部でＹ軸方向に移動可能な構成を採用しても良い。【０１０７】
なお、上記実施形態では、Ｘ軸固定子８０に開口を設けることとしたが、これに限らず、図１０（Ａ）に示されるように、開口を設けず、シャッタ４９Ａを厚みを有する部材により構成し、シャッタ４９Ａを上下動する駆動機構３４Ａを介して、シャッタ４９Ａを図１０（Ａ）の状態から図１０（Ｂ）の状態に変更することで、ショックアブソーバ４７ＡによるウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢの接触の阻止、及び該阻止の解除を行うこととしても良い。【０１０８】
なお、上記実施形態では、Ｘ軸固定子８１の一方に固定されたショックアブソーバとシャッタとの組み合わせを採用することとしたが、本発明がこれに限られるものではなく、図１１（Ａ）に示されるように、ショックアブソーバがＹ軸方向に移動可能な構成を採用しても良い。図１１（Ａ）の構成によると、ショックアブソーバ４７Ａは、Ｘ軸固定子８１上に設けられたガイド４５に沿って、エアシリンダから成る駆動機構３４’により、Ｙ軸方向に駆動されるようになっている。また、Ｘ軸固定子８０のショックアブソーバ４７Ａに対向する位置には、板部材４９’が設けられている。【０１０９】
この場合、図１１（Ａ）に示されるように、ショックアブソーバ４７Ａが＋Ｙ側に配置され、ショックアブソーバ４７ＡがＸ軸固定子８１よりも＋Ｙ側に突出した状態では、図１１（Ｂ）に示されるように両Ｘ軸固定子８１，８０が接近しようとしても、ショックアブソーバ４７Ａと板部材４９とが接触することにより、Ｘ軸固定子８０，８１が所定距離以上接近することができないようになっている。すなわち、Ｘ軸固定子８０、８１の少なくとも一方が仮に暴走した場合であっても、ウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢとの接触を阻止することが可能となっている。【０１１０】
一方、図１１（Ｃ）に示されるように、ショックアブソーバ４７Ａが駆動機構３４’により−Ｙ側に移動された場合には、図１１（Ｄ）に示されるようにショックアブソーバ４７Ａと板部材４９とが接触しないため、両Ｘ軸固定子８１，８０同士を最接近させる（すなわち、ウエハテーブルＷＴＢ（撥水板２８）と計測テーブルＭＴＢとを接触又は最接近させる）ことが可能となっている。【０１１１】
なお、上記変形例においては、ショックアブソーバ４７Ａの位置が図１１（Ａ）の位置にあるのか、図１１（Ｃ）の状態にあるのかの少なくとも一方を検知するセンサを設けることが望ましい。【０１１２】
なお、上記変形例（図１１（Ａ）〜図１１（Ｄ））では、Ｘ軸固定子８０に設けられた板部材４９は設けないこととしても良い。また、ショックアブソーバ４７Ａ及び駆動機構３４’をＸ軸固定子８０側に設けることとしてもよい。【０１１３】
なお、上記実施形態におけるシャッタ４９Ａを駆動する駆動機構３４Ａ、３４Ｂ及び上記変形例におけるショックアブソーバ４７Ａを駆動する駆動機構３４’としてエアシリンダを採用することとしたが、これに限られるものではなく、ボールネジ方式の駆動機構や、ボイスコイルモータ、リニアモータなど種々の駆動機構を採用することが可能である。【０１１４】
また、上述の実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢ及び計測テーブルＭＴＢの位置情報を得るために、干渉計システムを使っているが、その代わりに、エンコーダなどの他の測長システムを用いても良い。【０１１５】
また、上記実施形態では、間隔検知センサ及び衝突検知センサとして、透過型フォトセンサを採用した場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、例えば、フォトセンサを採用する場合には、反射型フォトセンサや分離型フォトセンサ等を用いることとしてもよい。また、フォトセンサに限らず、ラインセンサや静電容量センサなど種々のセンサを用いることも可能である。また、第３、第４の検出装置として、２つの移動体間の距離を直接計測する計測装置を用いることもできる。【０１１６】
また、上述の実施形態において、ストッパ機構４８Ａ（４８Ｂ）のシャッタ４９Ａ（４９Ｂ）が閉状態となっている場合、Ｙ軸方向に関して、Ｘ軸固定子８０，８１（ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢ）とが所定距離よりも接近することが阻止されているが、ショックアブソーバ４７Ａ（４７Ｂ）のヘッド部１０４ｄとシャッタ４９Ａ（４９Ｂ）とが接触しても、Ｘ軸固定子８０，８１（ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢ）のそれぞれは、Ｘ軸方向、及びＺ軸方向に相対移動することができる。例えば、Ｘ軸固定子８０，８１（ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢ）のそれぞれがＸ軸方向に移動中に、図１２（Ａ）に示されるように、ショックアブソーバ４７Ａのヘッド部１０４ｄとシャッタ４９Ａとが接触しても、Ｘ軸固定子８０，８１（ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢ）同士のＹ軸方向の接近を制限しつつ、Ｘ軸方向に移動することができる。ここで、ヘッド部１０４ｄとシャッタ４９Ａとの間の摩擦による影響を回避するため、ヘッド部１０４ｄとシャッタ４９Ａの各表面をテフロン（登録商標）でコートするなど、滑りやすくするための表面処理を施すことが望ましい。これにより、図１２（Ｂ）に示されるように、ヘッド部１０４ｄとシャッタ４９Ａとが接触したまま、シャッタ４９Ａとヘッド部１０４ｄが互いに表面を滑るように移動することができる。このように、シャッタ４９Ａとヘッド部１０４ｄとが接触してもＸ軸方向の移動が許容されているため、ヘッド部１０４ｄとシャッタ４９Ａとの接触の影響を受けることなく、Ｘ軸固定子８０，８１（ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢ）をＸ軸方向へ相対移動することが可能である。なお、前記表面処理に代えて、ヘッド部１０４ｄのシャッタ４９Ａとの接触部を回転可能な球状にすることとしても良い。なお、図１２（Ａ）、図１２（Ｂ）では、Ｘ軸固定子８０，８１（ウエハテーブルＷＴＢと計測テーブルＭＴＢ）がＸ軸方向に相対移動している間の図が示されているが、Ｚ軸方向に関しても同様である。【０１１７】
なお、上記実施形態では、露光装置が液浸型の露光装置である場合について説明したが、これに限られるものではなく、液体（水）を介さずにウエハＷの露光を行うドライタイプの露光装置にも採用することができる。この場合、露光動作、アライメント動作などの並行動作の際に、仮に２つのステージが暴走した場合であっても、両ステージ同士の衝突を防止できるとともに、２つのステージを接近させる必要がある場合にも、ストッパ機構の阻止を解除することで、ストッパ機構に邪魔されることなく２つのステージを接近させることが可能である。【０１１８】
なお、上記実施形態では、液体として超純水（水）を用いるものとしたが、本発明がこれに限定されないことは勿論である。液体としては、化学的に安定で、照明光ＩＬの透過率が高く安全な液体、例えばフッ素系不活性液体を使用しても良い。このフッ素系不活性液体としては、例えばフロリナート（米国スリーエム社の商品名）が使用できる。このフッ素系不活性液体は冷却効果の点でも優れている。また、液体として、照明光ＩＬに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、また、投影光学系やウエハ表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの（例えばセダー油等）を使用することもできる。また、Ｆ2レーザを光源とする場合は、フォンブリンオイルを選択すれば良い。【０１１９】
また、上記実施形態で、回収された液体を再利用するようにしても良く、この場合は回収された液体から不純物を除去するフィルタを液体回収装置、又は回収管等に設けておくことが望ましい。【０１２０】
また、上記実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されないことは勿論である。すなわちステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置、さらに、ステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置、又はプロキシミティ方式の露光装置などにも、本発明は適用できる。【０１２１】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。【０１２２】
なお、上記実施形態の露光装置の光源は、ＡｒＦエキシマレーザに限らず、ＫｒＦエキシマレーザ（出力波長２４８ｎｍ）、Ｆ2レーザ（出力波長１５７ｎｍ）、Ａｒ2レーザ（出力波長１２６ｎｍ）、Ｋｒ2レーザ（出力波長１４６ｎｍ）などのパルスレーザ光源や、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などの輝線を発する超高圧水銀ランプなどを用いることも可能である。また、ＹＡＧレーザの高調波発生装置などを用いることもできる。この他、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、投影光学系は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良い。【０１２３】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、近年、７０ｎｍ以下のパターンを露光するために、ＳＯＲやプラズマレーザを光源として、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を発生させるとともに、その露光波長（例えば１３．５ｎｍ）の下で設計されたオール反射縮小光学系、及び反射型マスクを用いたＥＵＶ露光装置の開発が行われている。この装置においては、円弧照明を用いてマスクとウエハを同期走査してスキャン露光する構成が考えられる。【０１２４】
《デバイス製造方法》
次に上述した露光装置をリソグラフィ工程で使用するデバイスの製造方法の実施形態について説明する。【０１２５】
図１３には、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートが示されている。図１３に示されるように、まず、ステップ２０１（設計ステップ）において、デバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップ２０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ２０３（ウエハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。【０１２６】
次に、ステップ２０４（ウエハ処理ステップ）において、ステップ２０１〜ステップ２０３で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップ２０５（デバイス組立てステップ）において、ステップ２０４で処理されたウエハを用いてデバイス組立てを行う。このステップ２０５には、ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。【０１２７】
最後に、ステップ２０６（検査ステップ）において、ステップ２０５で作成されたデバイスの動作確認テスト、耐久テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。【０１２８】
図１４には、半導体デバイスにおける、上記ステップ２０４の詳細なフロー例が示されている。図１４において、ステップ２１１（酸化ステップ）においてはウエハの表面を酸化させる。ステップ２１２（ＣＶＤステップ）においてはウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ２１３（電極形成ステップ）においてはウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ２１４（イオン打ち込みステップ）においてはウエハにイオンを打ち込む。以上のステップ２１１〜ステップ２１４それぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。【０１２９】
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップ２１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップ２１６（露光ステップ）において、上で説明した露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップ２１７（現像ステップ）においては露光されたウエハを現像し、ステップ２１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップ２１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。【０１３０】
これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。【０１３１】
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法を用いれば、露光工程（ステップ２１６）において上記実施形態の露光装置が用いられるので、重ね合せ精度を高く維持しつつ、高スループットな露光を行うことができる。従って、微細パターンが形成された高集積度のマイクロデバイスの生産性を向上することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１３２】
以上説明したように、本発明の露光装置及びデバイス製造方法は、半導体素子（集積回路）、液晶表示素子などの電子デバイスを製造するのに適している。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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