(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
【化１】
0004723272.tif 000006
(式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは置換基を示し、Ｒ３ａおよびＲ３ｂはアルキレン基を示す。ｋ１およびｋ２は同一又は異なって０又は１〜４の整数を示し、ｍ１およびｍ２は同一又は異なって０又は１〜３の整数を示し、ｎ１およびｎ２は同一又は異なって０又は１以上の整数を示し、ｐ１およびｐ２は同一又は異なって１〜３の整数を示す。ただし、ｍ１＋ｐ１及びｍ２＋ｐ２は、１〜５の整数である）
で表されるフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂、アルコキシシラン類および光酸発生剤で構成された光重合性樹脂組成物であって、
アルコキシシラン類が、（ｉ）官能基を有さないトリアルコキシシランとエポキシ基を有するトリアルコキシシランとを含むトリアルコキシシラン類の縮合物、および（ｉｉ）トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類との縮合物から選択された少なくとも１種であり、
アルコキシシラン類の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部に対して、３０〜１０００重量部であり、
光酸発生剤の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部に対して、０．５〜１０重量部であり、かつ
ポリシランおよび脂環式エポキシ化合物を含まない光重合性樹脂組成物。
【請求項２】
式（１）で表されるフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂が、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のジグリシジルエーテル、および９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のＣ２−４アルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルから選択された少なくとも１種である請求項１記載の光重合性樹脂組成物。
【請求項３】
式（１）で表されるフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂が、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル、および９，９−ビス（グリシジルオキシＣ２−４アルコキシフェニル）フルオレンから選択された少なくとも１種である請求項１記載の光重合性樹脂組成物。
【請求項４】
官能基を有しないトリアルコキシシランが、アルキルトリアルコシシラン又はアリールトリアルコキシシランである請求項１記載の光重合性樹脂組成物。
【請求項５】
（ｉ）トリアルコキシシラン類の縮合物において、官能基を有しないトリアルコキシシランが、アリールトリアルコキシシランであり、（ｉｉ）トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類との縮合物において、トリアルコキシシラン類が、アリールトリアルコキシシラン又はエポキシ基を有するトリアルコキシシランである請求項１記載の光重合性樹脂組成物。
【請求項６】
（ｉ）トリアルコキシシラン類の縮合物において、官能基を有さないトリアルコキシシランがＣ６−８アリールトリＣ１−４アルコキシシランであり、エポキシ基を有するトリアルコキシシランがグリシジルオキシＣ２−４アルキルトリＣ１−４アルコキシシラン又はエポキシＣ５−８シクロアルキルＣ２−４アルキルトリＣ１−４アルコキシシランであり、
（ｉｉ）トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類との縮合物において、トリアルコキシシラン類が、Ｃ６−８アリールトリＣ１−４アルコキシシランであり、テトラアルコキシシラン類が、テトラＣ１−４アルコキシシランである請求項１記載の光重合性樹脂組成物。
【請求項７】
光酸発生剤が、トリアリールスルホニウム塩、およびビス（アルキルアリール）ヨードニウム塩から選択された少なくとも１種である請求項１記載の光重合性樹脂組成物。
【請求項８】
アルコキシシラン類の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部に対して、５０〜７００重量部であり、光酸発生剤の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部に対して、０．５〜５重量部である請求項１記載の光重合性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１記載の光重合性樹脂組成物を、基板上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射し、前記光重合性樹脂組成物の硬化物を製造する方法。
【請求項１０】
光照射後、さらに加熱する請求項９記載の方法。
【請求項１１】
請求項１記載の光重合性樹脂組成物が硬化した硬化物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に対する高い密着性、高透明性（可視光線に対する透明性）、ハードコート性、高耐熱性、高屈折率などの優れた特性を有する硬化物を得るのに有用な光重合性樹脂組成物（特に電子材料用樹脂組成物）およびその硬化物（ハイブリッド硬化物）に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、エポキシ樹脂は、硬化剤と組み合わせたエポキシ樹脂組成物として、電子材料分野において、幅広く用いられている。このような電子材料分野のうち、例えば、反射防止膜（液晶ディスプレイ用の反射防止膜など）の高屈折率層、光学薄膜（反射板など）、電子部品用半導体封止材、プリント配線基板、層間絶縁膜材料（ビルドアッププリント基板用層間絶縁膜材料など）などの用途では、基材に対する高い密着性、ハードコート性、耐熱性、可視光に対する高透明性、高屈折率（さらには高レベルでの屈折率の調整）などの性能（又は特性）が成形材料に要求される。
【０００３】
このような特性は、電子材料分野の発展に伴い、より高水準かつ高レベルでの向上が求められており、種々の研究がなされている。例えば、特開平８−１００１０７号公報（特許文献１）には、エポキシ樹脂硬化物中に、金属アルコキシド（チタンアルコキシド、シリコンアルコキシドなど）より得られる金属酸化物が特定の粒径範囲で微分散した複合体が開示されている。このような複合体では、エポキシ樹脂組成物の硬化物の耐熱性を向上できる。また、特開２００３−１４１９３３号公報（特許文献２）には、水酸基含有ノボラック型エポキシ樹脂とメトキシシラン部分縮合物（テトラメトキシシランの部分縮合物など）とを縮合反応させて得られるメトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂が開示されている。このようなエポキシ樹脂では、耐熱性、透明性や基板に対する密着性を向上できる。
【０００４】
一方、近年では、電子材料分野において、光硬化性を有する成形材料が求められている。例えば、特開２００２−３４８３５７号公報（特許文献３）には、フルオレン骨格を有するジグリシジルエーテルと、光酸発生剤と、ポリシランとを含む光重合性樹脂組成物が開示されている。しかし、このような組成物では、ポリシランを使用するため、基材に対する密着性を向上させるのが困難であり、硬化膜に高い性能（例えば、硬度、透明性など）を付与することが困難である。
【特許文献１】特開平８−１００１０７号公報（請求項１、段落番号［００２９］、実施例）
【特許文献２】特開２００３−１４１９３３号公報（請求項１）
【特許文献３】特開２００２−３４８３５７号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、本発明の目的は、基材に対する高い密着性を有し、機械的特性（硬度、耐熱性など）に優れるとともに、高透明性、高屈折率などの光学的特性にも優れた硬化物を生成可能な光重合性樹脂組成物、およびその硬化物（ハイブリッド硬化物）を提供することにある。
【０００６】
本発明の他の目的は、光重合性又は光硬化性が高く、優れた機械的特性および光学的特性を付与できるとともに、高い密着性を有する硬化物（硬化塗膜）を基板に形成可能な光重合性樹脂組成物、およびその硬化物（又は硬化塗膜）を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂と、アルコキシシラン類と、光酸発生剤とで構成された光重合性樹脂組成物を光硬化又は光重合させると、光照射により生成した酸成分が前記エポキシ樹脂の硬化だけでなくアルコキシシラン類の重縮合に関与するためか、前記エポキシ樹脂とアルコキシシラン類とが重縮合し、基材又は基板に対する高い密着性と優れた機械的特性（ハードコート性、耐熱性など）と優れた光学的特性（透明性、屈折率など）とを両立できる硬化物又は硬化塗膜（ハイブリッド膜）を形成できることを見いだし、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明の樹脂組成物は、下記式（１）で表されるフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂、アルコキシシラン類および光酸発生剤で構成されている。
【０００９】
【化１】
0004723272.tif 000002
【００１０】
(式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ2aおよびＲ2bは置換基を示し、Ｒ3aおよびＲ3bはアルキレン基を示す。ｋ１およびｋ２は同一又は異なって０又は１〜４の整数を示し、ｍ１およびｍ２は同一又は異なって０又は１〜３の整数を示し、ｎ１およびｎ２は同一又は異なって０又は１以上の整数を示し、ｐ１およびｐ２は同一又は異なって１〜３の整数を示す。ただし、ｍ１＋ｐ１及びｍ２＋ｐ２は、１〜５の整数である）
前記式（１）で表されるフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂は、例えば、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のジグリシジルエーテル（例えば、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルなど）、および９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のＣ2-4アルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル［９，９−ビス（グリシジルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレンなど］から選択された少なくとも１種であってもよい。
【００１１】
前記アルコキシシラン類は、下記式（２）で表されるアルコキシシラン又はその縮合物であってもよい。
【００１２】
Ｓｉ(ＯＲ4)a(Ｒ5)4-a      （２）
［式中、Ｒ4は、アルキル基又は基−［（Ｒ6Ｏ）b−Ｒ7］（式中、Ｒ6は、アルキレン基であり、Ｒ7はアルキル基であり、ｂは１以上の整数を示す）であり、Ｒ5は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。ａは１〜４の整数を示す］
前記式（２）において、Ｒ5が、置換基を有していてもよいＣ1-6アルキル基、又は置換基を有していてもよいＣ6-10アリール基であり、ａが３又は４であってもよい。このようなアルコキシシラン類は、例えば、アリールトリアルコキシシラン（Ｃ6-8アリールトリＣ1-4アルコキシシラン）、エポキシ基を有するトリアルコキシシラン（グリシジルオキシＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシラン、エポキシＣ5-8シクロアルキルＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）、テトラアルコキシシラン（テトラＣ1-4アルコキシシランなど）、およびアルコキシシランの縮合物（少なくともトリアルコキシシラン類で構成されたアルコキシシランの縮合物など）から選択された少なくとも１種のアルコキシシラン類などであってもよい。
【００１３】
前記光酸発生剤は、オニウム塩、例えば、トリアリールスルホニウム塩、およびビス（アルキルアリール）ヨードニウム塩から選択された少なくとも１種などであってもよい。なお、前記組成物において、各成分の割合は、アルコキシシラン類の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部に対して、５０〜７００重量部程度であり、かつ光酸発生剤の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部に対して、０．５〜５重量部程度であってもよい。
【００１４】
本発明は、前記光重合性樹脂組成物を、基板上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射し、前記光重合性樹脂組成物の硬化物を製造する方法を含む。この方法では、光照射後、さらに加熱してもよい。さらに、本発明は、前記光重合性樹脂組成物が硬化した硬化物（硬化膜など）を含む。
【００１５】
なお、本明細書において、「フルオレン類」とは、「置換基を有さないフルオレン」と「置換基が置換したフルオレン」とを含む「置換基を有していてもよいフルオレン」を意味する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の光重合性樹脂組成物は、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂とアルコキシシラン類と光酸発生剤とを組み合わせるので、基材に対する高い密着性を有し、機械的特性（硬度、耐熱性など）に優れるとともに、高透明性、高屈折率などの光学的特性にも優れた硬化物（ハイブリッド硬化物）を生成可能である。また、本発明の光重合性樹脂組成物は、光重合性又は光硬化性が高く、優れた機械的特性および光学的特性を付与できるとともに、高い密着性を有する硬化物（硬化塗膜）を基板又は基材に形成可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の光重合性樹脂組成物（以下、単に組成物、光重合性組成物などということがある）は、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂、アルコキシシラン類および光酸発生剤で構成されている。
【００１８】
（フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂）
フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂（以下、単にフルオレンエポキシ樹脂、エポキシ樹脂ということがある）は、樹脂中にフルオレン骨格（９，９−ビスフェニルフルオレン骨格）を有するエポキシ樹脂であればよく、通常、下記式（１）で表されるエポキシ樹脂である。本発明の組成物は、このようなフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂で構成されているため、高耐熱性、高屈折率などの特性を効率よく硬化物（ハイブリッド硬化物）に付与できる。
【００１９】
【化２】
0004723272.tif 000003
【００２０】
(式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ2aおよびＲ2bは置換基を示し、Ｒ3aおよびＲ3bはアルキレン基を示す。ｋ１およびｋ２は同一又は異なって０又は１〜４の整数を示し、ｍ１およびｍ２は同一又は異なって０又は１〜３の整数を示し、ｎ１およびｎ２は同一又は異なって０又は１以上の整数を示し、ｐ１およびｐ２は同一又は異なって１〜３の整数を示す。ただし、ｍ１＋ｐ１及びｍ２＋ｐ２は、１〜５の整数である）
Ｒ1aおよびＲ1bで表される置換基としては、特に限定されないが、通常、アルキル基である場合が多い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基などのＣ1-6アルキル基（例えば、Ｃ1-4アルキル基、特にメチル基）などが例示できる。基Ｒ1aおよびＲ1bは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、基Ｒ1a（又はＲ1b）は、同一のベンゼン環において、異なっていてもよく、同一であってもよい。なお、フルオレン骨格を構成するベンゼン環に対する基Ｒ1a（又はＲ1b）の結合位置（置換位置）は、特に限定されない。好ましい置換数ｋ１およびｋ２は、０又は１、特に、０である。なお、置換数ｋ１及びｋ２は、異なっていてもよいが、通常、同一である。
【００２１】
置換基Ｒ2aおよびＲ2bとしては、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基などのＣ1-20アルキル基、好ましくはＣ1-8アルキル基、さらに好ましくはＣ1-6アルキル基など）、シクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロへキシル基などのＣ5-10シクロアルキル基、好ましくはＣ5-8シクロアルキル基、さらに好ましくはＣ5-6シクロアルキル基など）、アリール基［フェニル基、アルキルフェニル基（メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）など）などのＣ6-10アリール基、好ましくはＣ6-8アリール基、特にフェニル基など］、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基などのＣ6-10アリール−Ｃ1-4アルキル基など）などの炭化水素基；アルコキシ基（メトキシ基などのＣ1-4アルコキシ基など）；ヒドロキシル基；ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基（ヒドロキシ（ポリ）Ｃ2-4アルキレンオキシ基など）；アシル基（アセチル基などのＣ1-6アシル基など）；アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基などのＣ1-4アルコキシカルボニル基など）；ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子など）；ニトロ基；シアノ基などが挙げられる。なお、前記ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基は、後述する製造方法において、原料となる多価アルコールの残基（エピクロロヒドリンと反応しなかった基）である場合が多い。
【００２２】
好ましい置換基Ｒ2a（又はＲ2b）は、アルキル基（Ｃ1-6アルキル基）、シクロアルキル基（Ｃ5-8シクロアルキル基）、アリール基（Ｃ6-10アリール基）、アラルキル基（Ｃ6-8アリール−Ｃ1-2アルキル基）である。これらのうち、特に、Ｃ1-4アルキル基、Ｃ6-8アリール基が好ましい。置換基Ｒ2a（又はＲ2b）は、単独で又は２種以上組み合わせてベンゼン環に置換していてもよい。また、基Ｒ2aおよびＲ2bは互いに同一又は異なっていてもよいが、通常、同一である。また、基Ｒ2a（又はＲ2b）は、同一のベンゼン環において、異なっていてもよく、同一であってもよい。
【００２３】
また、置換基Ｒ2a（又はＲ2b）の置換位置は、特に限定されず、後述する置換数ｐ１（又はｐ２）などに応じて、フェニル基の２〜６位（例えば、２位、３位、５位、６位、３，５−位など）の適当な位置に置換できる。
【００２４】
好ましい置換数ｍ１およびｍ２は、０〜３、さらに好ましくは０〜２である。なお、置換数ｍ１およびｍ２は、異なっていてもよいが、通常、同一である場合が多い。
【００２５】
Ｒ3aおよびＲ3bで表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、Ｃ2-4アルキレン基（エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−１，２−ジイル基など）などが例示でき、特に、Ｃ2-3アルキレン基（特に、エチレン基、プロピレン基）が好ましい。なお、Ｒ3aおよびＲ3bは互いに同一の又は異なるアルキレン基であってもよいが、通常、同一のアルキレン基である。
【００２６】
アルコキシ基の置換数（付加数）ｎ１およびｎ２は、特に限定されないが、同一又は異なって、０〜１５程度の範囲から選択でき、例えば、０〜１２（例えば、１〜１２）、好ましくは０〜８（例えば、１〜８）、さらに好ましくは０〜６（例えば、１〜６）、特に０〜４（例えば、１〜４）程度であってもよい。なお、ｎ１（又はｎ２）が２以上の場合、ポリアルコキシ（ポリアルキレンオキシ）基は、同一のアルコキシ基で構成されていてもよく、異種のアルコキシ基（例えば、エトキシ基とプロピレンオキシ基）が混在して構成されていてもよいが、通常、同一のアルコキシ基で構成されている場合が多い。
【００２７】
グリシジルオキシ基又はグリシジルオキシ（ポリ）アルコキシ基（以下、グリシジルオキシ基含有基という場合がある）の置換数ｐ１およびｐ２は、１〜３が好ましく、特に１〜２が好ましい。また、ｐ１とｐ２との和（ｐ１＋ｐ２）は、例えば、２〜６、好ましくは２〜４（特に２又は４）であってもよい。なお、置換数ｐ１およびｐ２は、異なっていてもよいが、通常、同一である場合が多い。グリシジルオキシ基含有基の置換位置は、特に限定されず、ｐ１（又はｐ２）の数に応じて、フルオレンの９位に置換するフェニル基の２〜６位から選択でき、例えば、ｐ１（又はｐ２）が１の場合、例えば、２〜６位（好ましくは２又は４位、特に４位）であってもよく、ｐ１（又はｐ２）が２の場合、例えば、３，４−位、３，５−位などであってもよく、ｐ１（又はｐ２）が３の場合、例えば、３，４，５−位、２，３，４−位、２，３，５−位、２，３，６−位などであってもよい。
【００２８】
なお、同一のベンゼン環に置換する複数のグリシジルオキシ基含有基は、同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、複数のグリシジルオキシ基含有基が、（i）ｎ１＝０（ｎ２＝０）であるグリシジルオキシ基単独で構成されていてもよく、（ii）ｎ１＝０（ｎ２＝０）であるグリシジルオキシ基とｎ１≠０（ｎ２≠０）であるグリシジルオキシ（ポリ）アルコキシ基（２−グリシジルオキシエトキシ基など）とで構成されていてもよく、（iii）ｎ１≠０（ｎ２≠０）である同一のグリシジルオキシ（ポリ）アルコキシ基単独で構成されていてもよく、（iv）ｎ１≠０（ｎ２≠０）である異なるグリシジルオキシ（ポリ）アルコキシ基［例えば、２−グリシジルオキシエトキシ基と２−（２−グリシジルオキシエトキシ）エトキシ基］で構成されていてもよい。
【００２９】
前記式（１）で表される具体的なエポキシ樹脂には、例えば、９，９−ビス（モノ乃至トリヒドロキシフェニル）フルオレン類のグリシジルエーテル、９，９−ビス（モノ乃至トリヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド（Ｃ2-4アルキレンオキシド）付加体のグリシジルエーテルなどが含まれる。
【００３０】
前記式（１）で表される代表的なエポキシ樹脂としては、例えば、９，９−ビス（グリシジルオキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）フルオレン（ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル，ＢＰＦＧ）など］、置換基を有する９，９−ビス（グリシジルオキシフェニル）フルオレン｛例えば、９，９−ビス（アルキル−グリシジルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（ビスクレゾールフルオレンジグリシジルエーテル，ＢＣＦＧ）、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−２−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−グリシジルオキシ−６−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２−グリシジルオキシ−４−メチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ1-4アルキル−グリシジルオキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（ジアルキル−グリシジルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−２，６−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（ジＣ1-4アルキル−グリシジルオキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（シクロアルキル−グリシジルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ5-8シクロアルキル−グリシジルオキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アリールグリシジルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−グリシジルオキシ−３−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ6-8アリール−グリシジルオキシフェニル）フルオレンなど］など｝などの９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のグリシジルエーテル（ジグリシジルエーテル）；これらの化合物に対応する９，９−ビス［ジ（ヒドロキシ）フェニル］フルオレン類のグリシジルエーテル｛例えば、９，９−ビス［ジ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン［例えば、９，９−ビス［３，４−ジ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン（ビスカテコールフルオレンテトラグリシジルエーテル）、９，９−ビス［２，４−ジ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［３，５−ジ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［２，３−ジ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［２，６−ジ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［２，５−ジ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレンなど］などの９，９−ビス（ジヒドロキシフェニル）フルオレン類のジ乃至テトラグリシジルエーテル（特にテトラグリシジルエーテル）など｝；これらの化合物に対応する９，９−ビス［トリ（ヒドロキシ）フェニル］フルオレン類のグリシジルエーテル｛例えば、９，９−ビス［トリ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン［例えば、９，９−ビス［３，４，５−トリ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［２，３，４−トリ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［２，３，５−トリ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［２，３，６−トリ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［２，４，５−トリ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［２，４，６−トリ（グリシジルオキシ）フェニル］フルオレンなど］などの９，９−ビス（トリヒドロキシフェニル）フルオレン類のジ乃至ヘキサグリシジルエーテル（特にヘキサグリシジルエーテル）など｝が挙げられる。
【００３１】
また、前記式（１）で表される代表的なアルキレンオキシド付加体のグリシジルエーテルとしては、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド付加体のグリシジルエーテル（ジグリシジルエーテル）、例えば、９，９−ビス（グリシジルオキシアルコキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（４−グリシジルオキシエトキシフェニル）フルオレン（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル，ＢＰＥＦＧ）などの９，９−ビス（グリシジルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレンなど］、置換基を有する９，９−ビス（グリシジルオキシアルコキシフェニル）フルオレン｛例えば、９，９−ビス（アルキル−グリシジルオキシアルコキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（４−グリシジルオキシエトキシ−３−メチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ1-4アルキルグリシジルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−グリシジルオキシエトキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（ジＣ1-4アルキルグリシジルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（シクロアルキルグリシジルオキシアルコキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−グリシジルオキシエトキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ5-8シクロアルキルグリシジルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレン］、９，９−ビス（アリールグリシジルオキシアルコキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−グリシジルオキシエトキシ−３−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ6-8アリールグリシジルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレンなど］、これらの化合物に対応する９，９−ビス（グリシジルオキシポリアルコキシフェニル）フルオレン類［例えば、９，９−ビス｛４−［２−（２−グリシジルオキシエトキシ）エトキシ］フェニル｝フルオレンなどの９，９−ビス｛［２−（２−グリシジルオキシＣ2-4アルコキシ）Ｃ2-4アルコキシ］フェニル｝フルオレンなど］などの９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド付加体（Ｃ2-4アルキレンオキシド付加体）のジグリシジルエーテル；これらの化合物に対応する９，９−ビス［ジ（ヒドロキシ）フェニル］フルオレン類のアルキレンオキシド付加体（Ｃ2-4アルキレンオキシド付加体）のグリシジルエーテル（ジ乃至テトラグリシジルエーテル、特にテトラグリシジルエーテル）｛例えば、９，９−ビス［３，４−ジ（２−グリシジルオキシＣ2-4アルコキシ）フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［ジ（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フルオレン類のジ乃至テトラグリシジルエーテル、９，９−ビス｛３，４−ジ［２−（２−グリシジルオキシＣ2-4アルコキシ）Ｃ2-4アルコキシ］フェニル｝フルオレンなどの９，９−ビス［ジ（ヒドロキシポリアルコキシ）フェニル］フルオレンのジ乃至テトラグリシジルエーテルなど｝；これらの化合物に対応する９，９−ビス［トリ（ヒドロキシ）フェニル］フルオレン類のアルキレンオキシド付加体（Ｃ2-4アルキレンオキシド付加体）のグリシジルエーテル（ジ乃至ヘキサグリシジルエーテル、特にヘキサグリシジルエーテル）｛例えば、９，９−ビス［３，４，５−トリ（２−グリシジルオキシＣ2-4アルコキシ）フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［トリ（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フルオレン類のジ乃至ヘキサグリシジルエーテル、９，９−ビス｛３，４，５−トリ［２−（２−グリシジルオキシＣ2-4アルコキシ）Ｃ2-4アルコキシ］フェニル｝フルオレンなどの９，９−ビス［トリ（ヒドロキシポリアルコキシ）フェニル］フルオレンのジ乃至ヘキサグリシジルエーテルなど｝などが挙げられる。
【００３２】
これらのフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂のうち、特に、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のジグリシジルエーテル（すなわち、９，９−ビス（グリシジルオキシフェニル）フルオレン類）［例えば、９，９−ビス（グリシジルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（アルキル−グリシジルオキシフェニル）フルオレンなど；特に９，９−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）フルオレン（ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル）］、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のＣ2-4アルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル（すなわち、９，９−ビス（グリシジルオキシ（ポリ）Ｃ2-4アルコキシフェニル）フルオレン類）［例えば、９，９−ビス（グリシジルオキシアルコキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（アルキル−グリシジルオキシアルコキシフェニル）フルオレンなど；特に９，９−ビス（４−グリシジルオキシエトキシフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（グリシジルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレン］などが好ましい。
【００３３】
フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００３４】
なお、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂は、対応する９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類［すなわち、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類、９，９−ビス（ジヒドロキシフェニル）フルオレン類、又は９，９−ビス（トリヒドロキシフェニル）フルオレン類］又はそのアルキレンオキシド付加体と、エピクロルヒドリンとを反応させることにより得ることができる。
【００３５】
代表的な９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類には、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類｛例えば、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ビスフェノールフルオレン、ＢＰＦ）など］、９，９−ビス（アルキル−ヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（ビスクレゾールフルオレン、ＢＣＦ）、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−ヒドロキシ−６−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ1-4アルキル−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（ジＣ1-4アルキル−ヒドロキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（シクロアルキル−ヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ5-8シクロアルキル−モノヒドロキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アリール−ヒドロキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ6-8アリール−ヒドロキシフェニル）フルオレンなど］など｝；９，９−ビス（ジヒドロキシフェニル）フルオレン類｛例えば、９，９−ビス（ジヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（３，４−ジヒドロキシフェニル）フルオレン（ビスカテコールフルオレン（ＢＣＡＦ））、９，９−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，５−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，５−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，６−ジヒドロキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アルキル−ジヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（３，４−ジヒドロキシ−５−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，４−ジヒドロキシ−６−メチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ1-4アルキル−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４−ジヒドロキシ−３，６−ジメチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（ジＣ1-4アルキル−ジヒドロキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アリール−ジヒドロキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（３，４−ジヒドロキシ−５−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ6-8アリール−ジヒドロキシフェニル）フルオレンなど］など｝；９，９−ビス（トリヒドロキシフェニル）フルオレン類［例えば、９，９−ビス（３，４，５−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４，６−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４，５−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３，５−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３，６−トリヒドロキシフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（トリヒドロキシフェニル）フルオレンなど］が含まれる。
【００３６】
なお、ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類は、種々の合成方法、例えば、（a）塩化水素ガス及びメルカプトカルボン酸の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させる方法（文献［J. Appl. Polym. Sci., 27(9), 3289, 1982］、特開平６−１４５０８７号公報、特開平８−２１７７１３号公報）、（b）酸触媒（及びアルキルメルカプタン）の存在下、９−フルオレノンとアルキルフェノール類とを反応させる方法（特開２０００−２６３４９号公報）、（c）塩酸及びチオール類（メルカプトカルボン酸など）の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させる方法（特開２００２−４７２２７号公報）、（d）硫酸及びチオール類（メルカプトカルボン酸など）の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させ、炭化水素類と極性溶媒とで構成された晶析溶媒で晶析させてビスフェノールフルオレンを製造する方法（特開２００３−２２１３５２号公報）などを利用して製造できる。
【００３７】
また、９，９−ビス（ジ又はトリヒドロキシフェニル）フルオレン類は、上記９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類の製造方法において、フェノール類の代わりに、対応する多価アルコール類（ジヒドロキシフェノール類、トリヒドロキシフェノール類）を使用することにより製造できる。
【００３８】
さらに、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド付加体の製造方法は、特に限定されないが、例えば、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類と、対応するアルキレンオキサイド（Ｃ2-4アルキレンオキシド）又はアルキレンカーボネート（Ｃ2-4アルキレンカーボネート）を、必要に応じて触媒（塩基触媒など）の存在下で反応させる方法や、フルオレノンと対応するフェノキシＣ2-4アルコール類とを反応させる方法（例えば、特開平１１−３４９６５７号公報）などにより製造してもよい。また、９，９−ビス（ジ又はトリヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド付加体は、上記製造方法において、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類又はフェノキシＣ2-4アルコール類に代えて、対応するアルコール類［９，９−ビス（ジ又はトリヒドロキシフェニル）フルオレン類、ジ又はトリ（ヒドロキシＣ2-4アルコキシ）ベンゼン類など］を使用することにより製造できる。
【００３９】
（アルコキシシラン類）
アルコキシシラン類は、ケイ素原子に直接結合したアルコキシ基を少なくとも１つ有する化合物であればよく、通常、下記式（２）で表されるアルコキシシラン又はその縮合物を好適に使用できる。本発明の組成物は、このようなアルコキシシラン類で構成されているため、基材に対する高い密着性、ハードコート性、高透明性などの優れた特性を効率よく硬化物（ハイブリッド硬化物）に付与できる。
【００４０】
Ｓｉ(ＯＲ4)a(Ｒ5)4-a      （２）
［式中、Ｒ4は、アルキル基又は基−［（Ｒ6Ｏ）b−Ｒ7］（式中、Ｒ6は、アルキレン基であり、Ｒ7はアルキル基であり、ｂは１以上の整数を示す）であり、Ｒ5は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。ａは１〜４の整数を示す］
前記式（２）において、基Ｒ4（および基Ｒ7）で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのＣ1-6アルキル基、好ましくはＣ1-4アルキル基、さらに好ましくはＣ1-2アルキル基などが例示できる。基Ｒ5で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示できる。また、基−Ｏ−［（Ｒ6Ｏ）b−Ｒ7］で表されるポリアルコキシ基において、基Ｒ6で表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、Ｃ2-4アルキレン基（エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−１，２−ジイル基など）などが例示でき、特に、Ｃ2-3アルキレン基（特に、エチレン基、プロピレン基）が好ましい。アルキレンオキシ（Ｒ6Ｏ）単位の付加数ｂは、１以上であればよく、例えば、１〜４、好ましくは１〜２、さらに好ましくは１であってもよい。好ましいポリアルコキシ基には、２−メトキシエトキシ基、２−エトキシエトキシ基などのＣ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ基（特に、Ｃ1-2アルコキシエトキシ基）などが含まれる。
【００４１】
また、好ましいアルコキシ基の置換数ａは、２〜４、さらに好ましくは３又は４である。なお、置換数ａが複数である場合、複数の基Ｒ4は、同一又は異なっていてもよい。
【００４２】
基Ｒ5で表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などのＣ1-8アルキル基、好ましくはＣ1-6アルキル基、さらに好ましくはＣ1-4アルキル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基などのＣ2-6アルケニル基、好ましくはＣ2-4アルケニル基、さらに好ましくはＣ2-3アルケニル基）、シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基などのＣ5-8シクロアルキル基）、アリール基（例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基などのＣ6-15アリール基、好ましくはＣ6-10アリール基、さらに好ましくはＣ6-8アリール基）などが挙げられる。これらのうち、好ましい炭化水素基（置換基を有していてもよい炭化水素基）には、アルキル基（Ｃ1-6アルキル基など）、アリール基（Ｃ6-10アリール基など）などが含まれる。
【００４３】
基Ｒ5で表される炭化水素基は、置換基を有していてもよい。炭化水素基（上記例示の炭化水素基など）に置換する置換基としては、例えば、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子など、特に、塩素原子）、アミノ基又は置換アミノ基［例えば、アミノアルキルアミノ基（２−アミノエチルアミノ基などのアミノＣ2-4アルキルアミノ基など）、アルケニルアミノ基（アリルアミノ基などのＣ2-4アルケニルアミノ基など）、アルケニルアミノアルキル基（アリルアミノプロピル基など）など］、メルカプト基（又は置換メルカプト基）、エポキシ基含有基［エポキシシクロアルキル基（３，４−エポキシシクロヘキシル基などのエポキシＣ3-8シクロヘキシル基、好ましくはエポキシＣ5-8シクロアルキル基、さらに好ましくはエポキシＣ5-6シクロアルキル基）、グリシジルオキシ基など］、（メタ）アクリロイルオキシ基などが挙げられる。これらの置換基は、単独で又は２種以上組み合わせて炭化水素基に置換していてもよい。これらの置換基のうち、好ましい置換基には、エポキシ基含有基などが挙げられる。なお、置換数４−ａが複数である場合、複数の基Ｒ5は、同一又は異なっていてもよい。
【００４４】
前記式（２）で表されるアルコキシシランとしては、モノアルコキシシラン類（例えば、ビニルジメチルエトキシシランなどのアルケニルジアルキルアルコキシシランなど）、ジアルコキシシラン類、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類が挙げられる。代表的なジアルコキシシラン類としては、例えば、ジアルキルジアルコキシシラン（例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランなどのジＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシランなど）、ジアリールジアルコキシシラン（例えば、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジＣ6-10アリールジＣ1-4アルコキシシランなど）、エポキシ基を有するジアルコキシシラン｛例えば、（グリシジルオキシアルキル）アルキルジアルコキシシラン［例えば、３−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルエチルジエトキシシランなどの（グリシジルオキシＣ2-4アルキル）Ｃ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシランなど］など｝、アミノ基を有するジアルコキシシラン（例えば、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシランなどのアミノＣ2-4アルキルＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシラン；３−［Ｎ−（２−アミノエチル）アミノ］プロピルメチルジメトキシシランなどの（アミノＣ2-4アルキルアミノ）Ｃ1-4アルキル−Ｃ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシランなど）、メルカプト基を有するジアルコキシシラン（例えば、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジエトキシシランなどのメルカプトＣ2-4アルキルＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシラン）、アルケニル基を有するジアルコキシシラン［例えば、アルケニルアルキルジアルコキシシラン（例えば、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルジエトキシメチルシランなどのＣ2-4アルケニルＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシラン）、ジアルケニルジアルコキシシラン（例えば、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシランなどのジＣ2-4アルケニルジＣ1-4アルコキシシラン）など］、（メタ）アクリロイル基を有するジアルコキシシラン（例えば、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシランなどの（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキルＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシランなど）などが挙げられる。
【００４５】
代表的なトリアルコキシシラン類としては、例えば、トリアルコキシシラン（例えば、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシランなどのトリＣ1-4アルコキシシランなど）、アルキルトリアルコキシシラン（例えば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシランなどのＣ1-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）、アリールトリアルコキシシラン（例えば、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシランなどのＣ6-10アリールトリＣ1-4アルコキシシランなど）、ハロアルキルトリアルコキシシラン（例えば、２−クロロエチルトリメトキシシラン、２−クロロエチルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシランなどのクロロＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）、エポキシ基を有するトリアルコキシシラン｛例えば、（グリシジルオキシアルキル）トリアルコキシシラン（例えば、２−グリシジルオキシエチルトリメトキシシラン、２−グリシジルオキシエチルトリエトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシランなどのグリシジルオキシＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）、エポキシシクロアルキルトリメトキシシラン［例えば、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランなどのエポキシＣ5-8シクロアルキルＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど］など｝、アミノ基を有するトリアルコキシシラン（例えば、２−アミノエチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシランなどのアミノＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシラン；２−［Ｎ−（２−アミノエチル）アミノ］エチルトリメトキシシラン、３−［Ｎ−（２−アミノエチル）アミノ］プロピルトリメトキシシランなどのＮ−（アミノＣ2-4アルキル）アミノＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）、メルカプト基を有するトリアルコキシシラン（例えば、２−メルカプトエチルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどのメルカプトＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシラン）、アルケニル基を有するトリアルコキシシラン｛例えば、アルケニルトリアルコキシシラン［例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリ（ｔ−ブトキシ）シラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシランなどのＣ2-4アルケニルトリＣ1-4アルコキシシラン］、アルケニルトリ（アルコキシアルコキシ）シラン［例えば、ビニルトリ（２−メトキシエトキシ）シランなどのＣ2-4アルケニルトリ（Ｃ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ）シラン］など｝、（メタ）アクリロイル基を有す��トリアルコキシシラン［例えば、２−（メタ）アクリロキシエチルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリエトキシシランなどの（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシラン；３−（メタ）アクリロキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シランなどの（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキルトリ（Ｃ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ）シラン；Ｎ−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどの［（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキル］アミノＣ2-4アルキルトリアルコキシシランなど］などが挙げられる。
【００４６】
代表的なテトラアルコキシシラン類としては、上記例示のジ又はトリアルコキシシラン類に対応するテトラアルコキシシラン、例えば、テトラアルコキシシラン［テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどのＣ1-4アルコキシシランなど］などが挙げられる。
【００４７】
アルコキシシランの縮合物（アルコキシシラン縮合物）としては、前記式（２）で表されるアルコキシシラン（例えば、前記例示のジアルコキシシラン類、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類など）の縮合物（又は重合物）などが挙げられる。このような縮合物（又は部分縮合物）は、単一のアルコキシシランの縮合物であってもよく、複数のアルコキシシランの縮合物（例えば、トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類との縮合物、異種のテトラアルコキシシラン類の縮合物など）であってもよい。アルコキシシランの縮合物は、通常、トリアルコキシシラン類又はテトラアルコキシシラン類で少なくとも構成されたアルコキシシランの縮合物であってもよい。
【００４８】
アルコキシシランの縮合物は、オリゴマー（例えば、２〜１０量体、好ましくは２〜８量体、さらに好ましくは３〜６量体程度）であってもよく、ポリマーであってもよい。
【００４９】
アルコキシシラン縮合物は、網目状の縮合物（又は部分縮合物）であってもよく、鎖状又は直鎖状の縮合物（又は部分縮合物）であってもよい。通常、オリゴマー状のアルコキシシラン縮合物（以下、オリゴマー型アルコキシシラン縮合物という）は、鎖状又は直鎖状の縮合物である場合が多く、ポリマー状のアルコキシシラン縮合物（以下、ポリマー型アルコキシシラン縮合物という）は網目状（又は三次元網目状）の縮合物である場合が多い。ポリマー型アルコキシシラン縮合物は、アルコキシシランの縮合物であってもよく、オリゴマー型のアルコキシシラン縮合物と、アルコキシシラン（例えば、トリアルコキシシランなど）との縮合物であってもよい。なお、アルコキシシラン縮合物（オリゴマー型アルコキシシラン縮合物など）は、ゾル（部分縮合ゾル）であってもよい。
【００５０】
代表的なオリゴマー型アルコキシシラン縮合物（オリゴマー型縮合物）としては、トリアルコキシシラン類および／またはテトラアルコキシシラン類（前記例示のテトラアルコキシシラン類）の縮合物（部分縮合物）などが挙げられる。テトラアルコキシシランの縮合物には、下記式（３）で表される直鎖状のアルコキシシラン縮合物などが含まれる。
【００５１】
【化３】
0004723272.tif 000004
【００５２】
（式中、Ｒ7は前記に同じ。ｄは２以上の整数を示す）
上記式（３）において、好ましい基Ｒ7としては、メチル基、エチル基などのＣ1-4アルキル基（特にＣ1-2アルキル基）などが挙げられる。なお、前記のように、複数の基Ｒ7は、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。また、好ましい縮合度（重合度）ｄは、例えば、２〜８、好ましくは２〜６、さらに好ましくは３〜５程度であってもよい。
【００５３】
また、代表的なポリマー型アルコキシシラン縮合物（部分縮合物、部分縮合ゾル）としては、少なくともトリアルコキシシラン類で構成されたアルコキシシランの縮合物、例えば、ジアルコキシシラン類（又はそのオリゴマー型縮合物）とトリアルコキシシラン類（又はそのオリゴマー型縮合物）との縮合物（「ＤＴレジン」など）、トリアルコキシシラン類（又はそのオリゴマー型縮合物）の縮合物（「Ｔレジン」など）、トリアルコキシシラン類（又はそのオリゴマー型縮合物）とテトラアルコキシシラン類（又はそのオリゴマー型縮合物）との縮合物［「ＱＴレジン」（例えば、トリアルコキシシランとテトラメトキシシラン又はそのオリゴマー型縮合物との縮合物など）など］などが挙げられる。
【００５４】
好ましいアルコキシシラン類としては、トリアルコキシシラン類［例えば、アリールトリアルコキシシラン（Ｃ6-8アリールトリアルコキシシランなど）、エポキシ基を有するトリアルコキシシラン（グリシジルオキシＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシラン、エポキシＣ5-8シクロアルキルＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）］、テトラアルコキシシラン類［例えば、テトラアルコキシシラン（テトラＣ1-4アルコキシシランなど）など］、トリアルコキシシラン類又はテトラアルコキシシラン類で少なくとも構成されたアルコキシシランの縮合物［例えば、ジアルコキシシラン類とトリアルコキシシラン類との縮合物、トリアルコキシシラン類の縮合物、トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類との縮合物などの少なくともトリアルコキシシラン類で構成されたアルコキシシランの縮合物（特にポリマー型アルコキシシラン縮合物）など］などが含まれ、特に、ＱＴレジン、Ｔレジンが好ましい。なお、Ｔレジンは、同一の又は２種以上の異なるトリアルコキシシラン類の縮合物であればよいが、特に異なるトリアルコキシラン類のポリマー型縮合物である場合が多い。このような異なるトリアルコキシシランのポリマー型縮合物において、具体的なトリアルコキシシランの組み合わせとしては、官能基を有さないトリアルコキシシラン（アルキルトリアルコキシラン、アリールトリアルコキシシランなど）と、エポキシ基を有するトリアルコキシシランとの組み合わせなどが挙げられる。
【００５５】
アルコキシシラン類は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００５６】
アルコキシシラン類（ゾル状である場合は固形分換算、以下アルコキシシラン類の割合について同じ）の割合は、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部に対して、１０〜２０００重量部程度の範囲から選択でき、例えば、３０〜１０００重量部、好ましくは４０〜８００重量部（例えば、５０〜７００重量部）、さらに好ましくは５０〜５００重量部（例えば、１００〜３００重量部）程度であってもよく、通常、４０〜２００重量部程度であってもよい。
【００５７】
なお、本発明の組成物は、さらに他の金属アルコキシド類を含んでいてもよい。すなわち、本発明では、アルコキシシラン類と他の金属アルコキシド類（アルコキシシラン類を除く金属アルコキシド類）とを組み合わせて用いてもよい。
【００５８】
他の金属アルコキシド類としては、例えば、非ケイ素系金属アルコキシド、その縮合物（部分縮合物）などが挙げられる。他の金属アルコキシドとしては、例えば、下記式（４）で表される金属アルコキシドなどが挙げられる。
【００５９】
Ｍ(ＯＲ8)m(Ｒ9)n          （４）
［式中、ＭはＴｉ、Ｚｒ、Ａｌ又はＺｎを表す。Ｒ8は、アルキル基又は基−［（Ｒ10Ｏ）c−Ｒ11］（式中、Ｒ10は、アルキレン基であり、Ｒ11はアルキル基であり、ｃは１以上の整数を示す）、Ｒ9は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、ｍは１以上の整数、ｎは０又は１以上の整数を表す。］
前記式（４）において、基Ｒ8（および基Ｒ11）で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのＣ1-18アルキル基、好ましくはＣ1-10アルキル基、さらに好ましくはＣ1-6アルキル基（例えば、Ｃ1-4アルキル基）などが例示できる。基Ｒ9で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示できる。また、基−Ｏ−［（Ｒ10Ｏ）c−Ｒ11］で表されるポリアルコキシ基において、基Ｒ10で表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、Ｃ2-4アルキレン基（エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−１，２−ジイル基など）などが例示でき、特に、Ｃ2-3アルキレン基（特に、エチレン基、プロピレン基）が好ましい。アルキレンオキシ（Ｒ10Ｏ）単位の付加数ｃは、１以上であればよく、例えば、１〜４、好ましくは１〜２、さらに好ましくは１であってもよい。好ましいポリアルコキシ基には、２−メトキシエトキシ基、２−エトキシエトキシ基などのＣ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ基（特に、Ｃ1-2アルコキシエトキシ基）などが含まれる。
【００６０】
また、好ましいアルコキシ基の置換数ｍは、金属原子Ｍの種類に応じて、例えば、２〜４程度である。なお、置換数ｍが複数である場合、複数の基Ｒ8は、同一又は異なっていてもよい。
【００６１】
基Ｒ9で表される炭化水素基としては、アルコキシシラン類の項で例示の前記基Ｒ5と同様の炭化水素基、例えば、アルキル基（Ｃ1-6アルキル基など）、アリール基（Ｃ6-10アリール基など）などが含まれる。また、基Ｒ9で表される炭化水素基は、前記基Ｒ5と同様の置換基を有していてもよい。なお、好ましい置換数ｎは、０〜２である。また、置換数ｎが複数である場合、複数の基Ｒ9は、同一又は異なっていてもよい。
【００６２】
代表的な他の金属アルコキシド類としては、アルミニウムアルコキシド類［例えば、トリアルコキシアルミネート（トリメトキシアルミネート、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミネートなどのトリＣ1-4アルコキシアルミネートなど）など］、チタンアルコキシド類［例えば、ジアルキルジＣ1-4アルコキシチタネート（ジエチルジエトキシチタネートなど）などのジアルコキシチタネート類；トリＣ1-4アルコキシチタネート（トリメトキシチタネートなど）、アルキルトリＣ1-4アルコキシチタネート（エチルトリメトキシチタネートなど）、アリールトリＣ1-4アルコキシチタネート（フェニルトリメトキシチタネートなど）などのトリアルコキシチタネート類；テトラメトキシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプロポキシチタネート、テトライソプロポキシチタネートなどのテトラＣ1-4アルコキシチタネートなどのテトラアルコキシチタネート類など）］などが挙げられる。
【００６３】
他の金属アルコキシド類は、錯体（金属錯体）を形成していていもよい。錯体において、配位子（又は配位子を形成する化合物）としては、特に制限されないが、特に、有機化合物［キレート形成性有機化合物（例えば、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのβ−ジケトン構造を有する化合物など）など］を配位子とする錯体が好ましい。
【００６４】
なお、他の金属アルコキシドの縮合物は、（i）単独又は２種以上の他の金属アルコキシドの縮合物であってもよく、（ii）他の金属アルコキシドと前記アルコキシシラン類との縮合物であってもよい。また、縮合物は、ゾル状であってもよい。
【００６５】
他の金属アルコキシド類は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００６６】
他の金属アルコキシド類の割合（ゾル状である場合は固形分換算）は、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部に対して、例えば、５〜１０００重量部、好ましくは１０〜５００重量部、さらに好ましくは２０〜３００重量部（例えば、３０〜２００重量部）程度であってもよい。また、アルコキシシラン類と他の金属アルコキシド類との割合（固形分換算）は、前者／後者（重量比）＝９９／１〜１／９９、好ましくは９５／５〜５／９５、さらに好ましくは９０／１０〜１０／９０程度であってもよい。
【００６７】
（光酸発生剤）
光酸発生剤としては、特に限定されず、慣用の化合物を用いることができ、例えば、オニウム塩、メタロセン錯体などを好適に使用できる。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩などが例示でき、これらの対イオンとしては、ＣＦ3ＳＯ3-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-およびＳｂＦ6-などのアニオンが用いられる。
【００６８】
代表的な光酸発生剤としては、スルホニウム塩｛例えば、トリアリールスルホニウム塩［トリフェニルスルホニウムトリフレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、（４−フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、（４−フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートなどのトリフェニルスルホニウム塩など］、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、（４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート）など｝、ジアゾニウム塩（４−クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなど）、ヨードニウム塩｛例えば、ビス（アルキルアリール）ヨードニウム塩［例えば、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどのビス（アルキルフェニル）ヨードニウム塩など］、アルコキシカルボニルアルコキシ−トリアルキルアリールヨードニウム塩［例えば、４−［（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなど］、ビス（アルコキシアリール）ヨードニウム塩［例えば、（４−メトキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのビス（アルコキシフェニル）ヨードニウム塩など］など｝、ホスホニウム塩（ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネートなど）、セレニウム塩（トリフェニルセレニウムヘキサフルオロホスフェートなど）、メタロセン錯体［例えば、（η5又はη6−イソプロピルベンゼン）（η5−シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェートなど］などが挙げられる。
【００６９】
これらの光酸発生剤のうち、オニウム塩［特に、スルホニウム塩（トリアリールスルホニウム塩など）、ヨードニウム塩（ビス（アルキルアリール）ヨードニウム塩など）］が好ましい。光酸発生剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用してもよい。
【００７０】
光酸発生剤の割合は、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂１００重量部に対して、０．１〜１０重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．５〜１０重量部（例えば、１〜１０重量部）、好ましくは０．５〜５重量部、さらに好ましくは１〜５重量部（例えば、１〜３重量部）程度であってもよい。また、光酸発生剤の割合は、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂およびアルコキシシラン類の総量１００重量部に対して、０．０１〜８重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．０２〜５重量部（例えば、０．０３〜３重量部）、好ましくは０．０５〜３重量部、さらに好ましくは０．０８〜２重量部（例えば、０．１〜１重量部）程度であってもよい。本発明の組成物は、光重合性（又は光感度）が高いため、比較的少量の光酸発生剤であっても、効率よく光硬化可能である。
【００７１】
また、前記組成物は、溶媒を混合した塗布液の形態であってもよい。塗布液を構成する溶媒としては、特に限定されず、慣用の溶媒、例えば、炭化水素類（ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など）、ハロゲン系溶媒（ジクロロメタンなどのハロアルカン、モノクロロベンゼンなどのハロアレーンなど）、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルキルアルコール類など）、ジオール類（エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルカンジオール類、ジエチレングリコール、ポリオキシエチレングリコールなどの（ポリ）オキシアルキレングリコールなど）、エーテル類（ジエチルエーテルなどの鎖状エーテル類、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類など）、エステル類（エチルアセテートなどの酢酸エステル類など）、ケトン類（アセトン、エチルメチルケトン、２−ブタノンなどのジアルキルケトン類、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどの環状ケトン類など）、グリコールエーテルエステル類（エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セロソルブアセテートなど）、グリコールエーテル類［例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジグライム、ジメトキシエタンなど）などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて用いてもよい。なお、溶媒の割合は、塗布液粘度に応じて適宜調整できる。
【００７２】
本発明の組成物は、必要に応じて、慣用の添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、顔料、着色剤、増粘剤、増感剤、消泡剤、レベリング剤、塗布性改良剤、滑剤、安定剤（酸化防止剤、熱安定剤、耐光安定剤など）、可塑剤、界面活性剤、溶解促進剤、充填剤、帯電防止剤、硬化剤などが挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００７３】
なお、本発明の組成物は、ポリシラン（特開２００２−３４８３５７号公報に記載のポリシランなど）を含んでいてもよいが、通常、ポリシランを含んでいない場合が多い。本発明の組成物は、アルコキシシラン類を含んでいるため、ポリシランを含まなくても、硬化物の透明性や撥水性を高度に向上できる。
【００７４】
前記組成物は、慣用の方法、例えば、前記フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂と、前記アルコキシシラン類と、前記光酸発生剤と、必要に応じて他の成分（溶媒など）とを混合することにより調製できる。例えば、本発明の組成物を塗布液として使用する場合、前記フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂と、前記アルコキシシラン類と、前記光酸発生剤と（必要に応じて他の成分と）を、溶媒に混合（又は溶解又は分散）させることにより調製してもよい。
【００７５】
このような本発明の組成物は、高耐熱性、高屈折率などの特性を有する特定のエポキシ樹脂（フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂）と、基板に対する高密着性、ハードコート性、透明性（又は可視光に対する透明性）などを付与可能なアルコキシシラン類とを組み合わせるので、これらの優れた特性をバランスよく備えた高性能の硬化物（ハイブリッド硬化物）を得るのに有用である。
【００７６】
［硬化物およびその製造方法］
本発明の硬化物（前記光重合性樹脂組成物が硬化（又は架橋）した硬化物）は、前記組成物に光を照射して硬化反応（又は架橋反応）により硬化（又は架橋）させることにより製造又は調製できる。実用的な方法では、前記光重合性樹脂組成物を、基材上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射する（又は必要に応じて光照射後、さらに加熱）ことにより、本発明の硬化物（硬化膜、硬化パターンなど）を調製してもよい。すなわち、本発明では、光照射により発生する酸（又は酸触媒）により、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂およびアルコキシシラン類を縮重合させることによって、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂中にアルコキシシラン類（又はシリカ）を含む硬化物（ハイブリッド硬化物）を製造する。
【００７７】
硬化物（有機無機ハイブリッド硬化物）は、特に限定されず、三次元的硬化物、硬化膜や硬化パターンなどの一次元又は二次元的硬化物、点又はドット状硬化物などであってもよい。本発明の光重合性樹脂組成物は、特に、基材上での薄膜を製造するのに適している。このような方法により得られる硬化物は、前記のように、基板に対する密着性、ハードコート性（又は硬度）、耐熱性、可視光の透明性などに優れ、耐溶剤性、低収縮率、低吸水性を有し、さらに、屈折率が高く、良好な撥水性を有している。
【００７８】
塗布方法としては、例えば、フローコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法などを挙げることができる。
【００７９】
塗膜の厚みは、硬化物の用途によって応じて、０．０１μｍ〜１０ｍｍ程度の範囲から選択でき、例えば、フォトレジストの場合、０．０５〜１０μｍ（特に０．１〜５μｍ）程度であってもよく、プリント配線基板の場合、１０μｍ〜５ｍｍ（特に１００μｍ〜１ｍｍ）程度であってもよく、光学薄膜の場合、０．１〜１００μｍ（特に０．３〜５０μｍ）程度であってもよい。
【００８０】
照射又は露光する光は、例えば、ガンマー線、Ｘ線、紫外線、可視光線などであってもよく、通常、可視光又は紫外線、特に紫外線である場合が多い。光の波長は、例えば、１５０〜８００ｎｍ、好ましくは１５０〜６００ｎｍ、さらに好ましくは２００〜４００ｎｍ（特に３００〜４００ｎｍ）程度である。照射光量は、塗膜の厚みにより異なるが、例えば、２〜５０００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは５〜３０００ｍＪ／ｃｍ2程度であってもよい。光源としては、露光する光線の種類に応じて選択でき、例えば、紫外線の場合は、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、重水素ランプ、ハロゲンランプ、レーザー光（ヘリウム−カドミウムレーザー、エキシマレーザーなど）などを用いることができる。このような光照射により、前記組成物の硬化反応が進行する。
【００８１】
塗膜（又は被膜）は、加熱工程により加熱（加熱処理）すると、硬化又は架橋反応（およびゾル−ゲル反応）が促進され、高度の三次元架橋が起こり、より一層高硬度の硬化物（硬化塗膜）を得ることができる。塗膜の加熱は、通常、光照射後、又は光照射とともに行われ、通常、光照射後（アフターキュア）に行われる場合が多い。加熱温度は、例えば、６０〜２５０℃、好ましくは１００〜２００℃程度であってもよい。加熱時間は、３秒以上（例えば、３秒〜５時間程度）の範囲から選択でき、例えば、５秒〜２時間、好ましくは２０秒〜３０分程度であってもよく、通常、１分〜３時間（例えば、５分〜２．５時間）程度であってもよい。
【００８２】
さらに、パターンや画像を形成する場合（例えば、プリント配線基板などを製造する場合）、基材上に形成した塗膜をパターン露光してもよく、このパターン露光は、レーザ光の走査により行ってもよく、フォトマスクを介して光照射することにより行ってもよい。このようなパターン露光により生成した非照射領域（未露光部）を現像剤で現像（又は溶解）することによりパターン又は画像を形成できる。現像剤としては、水、アルカリ水溶液、親水性溶媒（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、セロソルブ類、セロソルブアセテート類など）や、これらの混合液などを用いることができる。
【００８３】
露光後に被膜を加熱する場合、現像工程は、加熱工程の前に行ってもよく、加熱工程の後で行ってもよい。このような方法では、小さな露光量でも、基材上に、精細で高精度のパターンを形成できる。従って、本発明の樹脂組成物は、精密なパターンを必要とする用途、例えば、電子機器のプリント配線基板などの製造に適している。
【００８４】
光学薄膜を形成する場合には、前記光重合性樹脂組成物を、基材上に複数層形成してもよい。また、基材上に他の機能層などを形成した後、その機能層の上に、前記光重合性樹脂組成物で形成された層を形成してもよい。本発明の硬化物は、可視光の透過性やハードコート性に優れ、高い屈折率を有し、光学的特性にも優れるため、特に、液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板などの光学薄膜に適している。
【００８５】
基材の材質は、用途に応じて選択され、例えば、プリント配線基板や光学薄膜の場合には、シリコン、ガリウム砒素、窒化ガリウム、炭化シリコンなどの半導体、アルミニウム、銅などの金属、酸化ジルコニウム、酸化チタン、ＰＺＴなどのセラミック、透明無機材料（ガラス、石英、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムなど）、透明樹脂（ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリスチレンなど）などが用いられる。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明の光重合性樹脂組成物は、塗料、電気機器の絶縁材、電線被覆材、電子機器の封止材、プリント配線基板、保護膜、フォトレジスト、印刷製版材、インキ、接着剤、粘着材、液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板などの広範な用途に用いることができる。
【実施例】
【００８７】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００８８】
（合成例１）部分縮合ゾルの合成
フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）７．９ｇおよびメチルシリケート（扶桑化学工業（株）製、商品名「ＭＳ−５１」）２ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍＬに溶解し、水２．２３ｇ、シュウ酸５０ｍｇを加えた後、６０℃で２時間攪拌し、冷却後、部分縮合したシリカゾル（ＱＴレジン、固形分約１７％）を調製した。
【００８９】
【化４】
0004723272.tif 000005
【００９０】
（合成例２）部分縮合ゾルの合成
フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）９．２ｇ、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＭＳ）３．９ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）２０ｇに溶解し、水３．２ｇ、ギ酸５０ｍｇを加えた後、６０℃で１時間、１３０℃で３時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル（固形分約２３％）を調製した。
【００９１】
（合成例３）部分縮合ゾルの合成
フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）９．２ｇ、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン（ＥＣＨＥＴＭＳ）３．４５ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）２０ｇに溶解し、水３．２ｇ、ギ酸５０ｍｇを加えた後、６０℃で１時間、１３０℃で３時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル（固形分約２５％）を調製した。
【００９２】
（合成例４）部分縮合ゾルの合成
フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）９．２ｇ、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＭＳ）３．９ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）２０ｇに溶解し、水３．２ｇ、シュウ酸５０ｍｇを加えた後、６０℃で１時間、１３０℃で３時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル（固形分約２５％）を調製した。
【００９３】
（合成例５）部分縮合ゾルの合成
フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）９．２ｇ、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン（ＥＣＨＥＴＭＳ）３．４５ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）２０ｇに溶解し、水３．２ｇ、シュウ酸５０ｍｇを加えた後、６０℃で１時間、１３０℃で３時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル（固形分約２６％）を調製した。
【００９４】
（合成例６）部分縮合ゾルの合成
フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）９．２ｇ、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＭＳ）３．９ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍＬに溶解し、水３．２ｇ、シュウ酸５０ｍｇを加えた後、６０℃で２時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル（固形分約２１％）を調製した。
【００９５】
（合成例７）部分縮合ゾルの合成
フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）９．２ｇ、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン（ＥＣＨＥＴＭＳ）３．４５ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍＬに溶解し、水３．２ｇ、シュウ酸５０ｍｇを加えた後、６０℃で２時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル（固形分約２２％）を調製した。
【００９６】
（合成例８）部分縮合ゾルの合成
フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）１．９８ｇ、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン（ＥＣＨＥＴＭＳ）０．８２ｇおよびテトライソプロポキシチタン７．５ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５ｍＬに溶解し、ギ酸４０ｍｇを加えた後、６０℃で２時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル（固形分約２３％）を調製した。
【００９７】
（実施例１）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１．１２ｇ、合成例１で調製した部分縮合ゾル３．１７ｇ、ＴＨＦ１ｇ、および光酸発生剤［ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート］２０ｍｇを含む混合液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらに、このハイブリッド膜を、温度約１２０℃でアフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜の屈折率は、約１．５５であり、耐熱性も高かった。
【００９８】
（実施例２）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１．３２ｇ、合成例２で調製した部分縮合ゾル５．７３ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇを含む混合液から０．５ｇを分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４．５ｇを加えた溶液（塗布液）をシリコン基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚６８ｎｍ）の屈折率は１．６１６であり、耐熱性も高かった。
【００９９】
（実施例３）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１．３２ｇ、合成例２で調製した部分縮合ゾル５．７３ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇを含む混合液から０．４５ｇを分取し、ジエチレングリコールモノメチルエーテル０．０５ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４．５ｇを加えた溶液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚７０ｎｍ）の屈折率は１．６１４であり、耐熱性も高かった。
【０１００】
（実施例４）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）０．９５ｇ、合成例３で調製した部分縮合ゾル３．８６ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇを含む混合液から０．５ｇを分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４．５ｇを加えた溶液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚８１ｎｍ）の屈折率は１．５９４であり、耐熱性も高かった。
【０１０１】
（実施例５）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１．１３ｇ、合成例４で調製した部分縮合ゾル４．５０ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇを含む混合液から０．５ｇを分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４．５ｇを加えた溶液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚１００ｎｍ）の屈折率は１．５８８であり、耐熱性も高かった。
【０１０２】
（実施例６）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１．２２ｇ、合成例５で調製した部分縮合ゾル４．６９ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇを含む混合液から０．５ｇを分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４．５ｇを加えた溶液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚１０４ｎｍ）の屈折率は１．５９４であり、耐熱性も高かった。
【０１０３】
（実施例７）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１．０８ｇ、合成例６で調製した部分縮合ゾル５．２４ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇにテトラヒドロフラン２６ｇを加えた混合液から０．５ｇを分取し、テトラヒドロフラン１．５ｇを加えた溶液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚９８ｎｍ）の屈折率は１．５９１であり、耐熱性も高かった。
【０１０４】
（実施例８）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１．１３ｇ、合成例６で調製した部分縮合ゾル２．７４ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇにテトラヒドロフラン２ｇを加えた混合液から０．２ｇを分取し、テトラヒドロフラン４ｇを加えた溶液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚８４ｎｍ）の屈折率は１．６１２であり、耐熱性も高かった。
【０１０５】
（実施例９）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１．２３ｇ、合成例７で調製した部分縮合ゾル５．６９ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇにテトラヒドロフラン２ｇを加えた混合液から０．２ｇを分取し、テトラヒドロフラン４ｇを加えた溶液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚９０ｎｍ）の屈折率は１．５９６であり、耐熱性も高かった。
【０１０６】
（実施例１０）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１．４２ｇ、合成例７で調製した部分縮合ゾル３．２９ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇにテトラヒドロフラン２ｇを加えた混合液から０．２ｇを分取し、テトラヒドロフラン４ｇを加えた溶液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚８９ｎｍ）の屈折率は１．６１５であり、耐熱性も高かった。
【０１０７】
（実施例１１）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１ｇ、合成例８で調製した部分縮合ゾル４．３１ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇの混合液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚８８ｎｍ）の屈折率は１．６５１であり、耐熱性も高かった。
【０１０８】
（厚膜の作製および物性評価）
（実施例１２）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１ｇ、合成例７で調製した部分縮合ゾル４．６３ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇの混合液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚６μｍ）の鉛筆硬度は３Ｈ、密着性（碁盤目試験）は１００／１００、５％重量減少温度（ＴＧＡ  空気雰囲気）は３０８．１℃であった。
【０１０９】
（実施例１３）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１ｇ、合成例７で調製した部分縮合ゾル２．３１ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇの混合液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜（膜厚９μｍ）の鉛筆硬度は２Ｈ、密着性（碁盤目試験）は１００／１００、５％重量減少温度（ＴＧＡ  空気雰囲気）は３０５．２℃であった。
【０１１０】
（比較例１）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのジグリシジルエーテル（ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル）１ｇにテトラヒドロフラン１．８１ｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート２０ｍｇを加えた混合液（塗布液）をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー２０００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜（厚み６μｍ）を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度１５０℃で１．５時間アフターキュア（加熱）すると、クラックが多数入った膜が得られた。鉛筆硬度はＨであった。