(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）１００重量部、および（Ｂ）ポリ乳酸（Ｂ成分）１〜２００重量部からなり、ポリ乳酸（Ｂ成分）が、（Ｂ−１）Ｌ−乳酸単位９０〜１００モル％と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−１成分）と、（Ｂ−４）Ｄ−乳酸単位９０〜１００モル％と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−４成分）からなり、Ｂ−１成分とＢ−４成分の重量比（Ｂ−１成分／Ｂ−４成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にある芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板。
【請求項２】
ポリ乳酸（Ｂ成分）は、（１）（Ｂ−１）ポリ乳酸単位（Ｂ−１成分）、および（Ｂ−５）Ｄ―乳酸単位９０〜９９モル％と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位１〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−５成分）からなり、Ｂ−１成分とＢ−５成分の重量比（Ｂ−１成分／Ｂ−５成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にある、または
（２）（Ｂ−４）ポリ乳酸単位（Ｂ−４成分）、および（Ｂ−２）Ｌ―乳酸単位９０〜９９モル％と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位１〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−２成分）からなり、Ｂ−４成分とＢ−２成分の重量比（Ｂ−４成分／Ｂ−２成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にある請求項１に記載の光ディスク基板。
【請求項３】
ポリ乳酸（Ｂ成分）は、（Ｂ−２）ポリ乳酸単位（Ｂ−２成分）、および（Ｂ−５）ポリ乳酸単位（Ｂ−５成分）からなり、Ｂ−２成分とＢ−５成分の重量比（Ｂ−２成分／Ｂ−５成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にある請求項１に記載の光ディスク基板。
【請求項４】
ポリ乳酸（Ｂ成分）は、（Ｂ−３）Ｌ−乳酸単位９９モル％を超え１００モル％以下と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０モル％以上１モル％未満とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−３成分）、および（Ｂ−５）ポリ乳酸単位（Ｂ−５成分）からなり、Ｂ−３成分とＢ−５成分の重量比（Ｂ−３成分／Ｂ−５成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にある請求項１に記載の光ディスク基板。
【請求項５】
ポリ乳酸（Ｂ成分）は、（Ｂ−６）Ｄ−乳酸単位９９モル％を超え１００モル％以下と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０モル％以上１モル％未満とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−６成分）、および（Ｂ−２）ポリ乳酸単位（Ｂ−２成分）からなり、Ｂ−６成分とＢ−２成分の重量比（Ｂ−６成分／Ｂ−２成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にある請求項１に記載の光ディスク基板。
【請求項６】
ポリ乳酸（Ｂ成分）は、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と混合する前に、（Ｂ−１）Ｌ−乳酸単位９０〜１００モル％と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−１成分）と、（Ｂ−４）Ｄ−乳酸単位９０〜１００モル％と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−４成分）からなり、Ｂ−１成分とＢ−４成分の重量比（Ｂ−１成分／Ｂ−４成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲になるように共存させ、２４５〜３００℃で熱処理することにより予め混合されたポリ乳酸である請求項１に記載の光ディスク基板。
【請求項７】
ポリ乳酸（Ｂ成分）は、（１）芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と混合する前に、（Ｂ−１）ポリ乳酸単位（Ｂ−１成分）、および（Ｂ−５）Ｄ―乳酸単位９０〜９９モル％と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位１〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−５成分）からなり、Ｂ−１成分とＢ−５成分の重量比（Ｂ−１成分／Ｂ−５成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲になるように共存させ、２４５〜３００℃で熱処理することにより予め混合されたポリ乳酸、または、
（２）芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と混合する前に、（Ｂ−４）ポリ乳酸単位（Ｂ−４成分）、および（Ｂ−２）Ｌ―乳酸単位９０〜９９モル％と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位１〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−２成分）からなり、Ｂ−４成分とＢ−２成分の重量比（Ｂ−４成分／Ｂ−２成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲になるように共存させ、２４５〜３００℃で熱処理することにより予め混合されたポリ乳酸である請求項２に記載の光ディスク基板。
【請求項８】
ポリ乳酸（Ｂ成分）は、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と混合する前に、（Ｂ−２）ポリ乳酸単位（Ｂ−２成分）、および（Ｂ−５）ポリ乳酸単位（Ｂ−５成分）からなり、Ｂ−２成分とＢ−５成分の重量比（Ｂ−２成分／Ｂ−５成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲になるように共存させ、２４５〜３００℃で熱処理することにより予め混合されたポリ乳酸である請求項３に記載の光ディスク基板。
【請求項９】
ポリ乳酸（Ｂ成分）は、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と混合する前に、（Ｂ−３）Ｌ−乳酸単位９９モル％を超え１００モル％以下と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０モル％以上１モル％未満とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−３成分）、および（Ｂ−５）ポリ乳酸単位（Ｂ−５成分）からなり、Ｂ−３成分とＢ−５成分の重量比（Ｂ−３成分／Ｂ−５成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲になるように共存させ、２４５〜３００℃で熱処理することにより予め混合されたポリ乳酸である請求項４に記載の光ディスク基板。
【請求項１０】
ポリ乳酸（Ｂ成分）は、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と混合する前に、（Ｂ−６）Ｄ−乳酸単位９９モル％を超え１００モル％以下と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０モル％以上１モル％未満とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−６成分）、および（Ｂ−２）ポリ乳酸単位（Ｂ−２成分）からなり、Ｂ−６成分とＢ−２成分の重量比（Ｂ−６成分／Ｂ−２成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲になるように共存させ、２４５〜３００℃で熱処理することにより予め混合されたポリ乳酸である請求項５に記載の光ディスク基板。
【請求項１１】
示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定の昇温過程におけるポリ乳酸成分に由来する融解ピークにおいて、１９５℃以上の融解ピークの割合が２０％以上である請求項１〜１０のいずれかに記載の光ディスク基板。
【請求項１２】
（Ｃ）結晶核剤（Ｃ成分）を、ポリ乳酸成分（Ｂ成分）１００重量部あたり０．０１〜５重量部含んでなる請求項１〜１１のいずれかに記載の光ディスク基板。
【請求項１３】
結晶核剤（Ｃ成分）は、タルクである請求項１２に記載の光ディスク基板。
【請求項１４】
（Ｄ）末端封鎖剤（Ｄ成分）を、ポリ乳酸成分（Ｂ成分）１００重量部あたり、０．０１〜５重量部を含んでなる請求項１〜１３のいずれかに記載の光ディスク基板。
【請求項１５】
上記光ディスク基板は、該基板上に少なくとも光透過層が積層されており、光透過層側から光が照射されて情報信号の記録および／または再生が行われる光ディスクにおける基板であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の光ディスク基板。
【請求項１６】
上記光ディスク基板は、該基板上に反射層、記録層および光透過層が積層されており、かつ記録層は反射層と光透過層との間に存在する光ディスクにおける基板であることを特徴とする請求項１５に記載の光ディスク基板。
【請求項１７】
上記光ディスク基板は、該基板上に記録層あるいは反射層が複数積層されてなる多層構造を形成してなる光ディスクにおける基板であることを特徴とする請求項１５または１６に記載の光ディスク基板。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれかに記載の光ディスク基板を用いたことを特徴とする光学情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バイオマス資源から得られるポリマーを含有し、かつ耐熱性、機械特性、耐久安定性に優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板に関する。さらに詳しくは、芳香族ポリカーボネートに、特定のポリ乳酸を配合することにより得られた、耐熱性、機械特性、耐加水分解性、耐薬品性、表面精密転写性に優れた環境配慮型光ディスク基板、およびこの光ディスク基板を用いた光学情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
芳香族ポリカーボネート樹脂は、優れた耐熱性、機械特性、耐衝撃性、および寸法安定性等を有しており、ＯＡ機器分野、自動車分野、電気・電子部品分野等の用途に広く用いられている。一方で芳香族ポリカーボネート樹脂は、原料のほとんどを石油資源に依存するという側面も有している。
【０００３】
近年、石油資源の枯渇の懸念や、地球温暖化を引き起こす空気中の二酸化炭素の増加の問題から、原料を石油に依存せず、また燃焼させても二酸化炭素を増加させないカーボンニュートラルが成り立つバイオマス資源が大きく注目を集めるようになり、ポリマーの分野においても、バイオマス資源から生産されるバイオマスプラスチックが盛んに開発されている。
【０００４】
バイオマスプラスチックの代表例がポリ乳酸であり、バイオマスプラスチックの中でも比較的高い耐熱性、機械特性を有するため、食器、包装材料、雑貨などに用途展開が広がりつつあるが、さらに光ディスク基板としての可能性も検討されるようになってきた。
【０００５】
例えば、光透過性を維持するために非晶状態のポリ乳酸を光ディスク基板に利用した技術としては、ポリ乳酸光ディスク基板表面温度を結晶化温度まで上昇させずに反射膜をスパッタ蒸着する技術（特許文献１参照）、低複屈折の非晶ポリ乳酸光ディスク基板の射出成形方法（特許文献２参照）などが開示されている。しかしながら、非晶状態のポリ乳酸は、その低いガラス転移温度のために実使用環境温度において基板が変形し、記録・再生が正常にできなくなるという問題がある。また非晶状態の低い耐熱性を逆に利用して、ポリ乳酸光ディスク基板上に形成されたピット形状を熱処理により消去することにより簡単に廃棄できる光ディスク基板も開示されている（特許文献３参照）。しかしながら、かかる耐熱性では実使用において基板変形を生じることは前述の通りである。
【０００６】
一方、信号記録部に非晶状態のポリ乳酸を使用しながら同時に光ディスク基板の耐熱性を向上させる技術として、非晶ポリ乳酸基板の両側にＵＶ硬化性樹脂層を設けた光ディスク基板（特許文献４参照）、非晶状態のポリ乳酸中に熱変形温度の高いポリカーボネートのごとき樹脂を、信号記録または再生用レーザー光波長よりも小さい粒径で分布させることにより、該レーザー光に対する透過性を確保しながら耐熱性を向上させた光ディスク基板（特許文献５参照）、金型温度を変えた二色成形によりディスク基板の一部を結晶化ポリ乳酸とすることにより強度補強された光ディスク基板（特許文献６参照）が開示されている。しかしながら、かかる技術においても耐熱性改良の効果は不十分なものであった。
【０００７】
このようにポリ乳酸は、芳香族ポリカーボネートが使用されている分野において工業材料として使用するに当っては、その機械特性、耐熱性などの特性が不足しているだけでなく、ポリ乳酸が生分解性を併せ持つとの性質が、湿熱条件下での使用に対して、耐加水分解性が著しく低いという制約があり、用途展開が進んでいない。
【０００８】
また、ポリ乳酸には光学異性体が存在し、それぞれＬ−乳酸とＤ−乳酸の重合体であるポリＬ−乳酸とポリＤ−乳酸を混合すると、ステレオコンプレックス結晶を形成し、ポリＬ−乳酸あるいはポリＤ−乳酸単独の結晶より高い融点を示す材料となることが知られており（特許文献７、非特許文献１参照）、このステレオコンプレックスポリ乳酸を、その耐熱性を活かして自動車部品や家電部品などの工業用途に利用しようとする試みが行われている（特許文献８参照）。
【０００９】
しかしながら、このステレオコンプレックスポリ乳酸を、工業的に有利な溶融押出プロセスにて作製しようとした場合、ステレオコンプレックス化を十分に進めるのが非常に困難であり、その特徴である良好な耐熱性が発揮されない、また、ステレオコンプレックスポリ乳酸は、ポリＬ−乳酸あるいはポリＤ−乳酸よりも、結晶化速度が速い傾向があるものの、射出成形で効率よく生産するには未だ不十分であるなど、幅広い用途展開に向けては未だ課題が多い。
【００１０】
このような動きの中で、原料を石油に依存するプラスチックに関しては、その環境負荷を低減するための方策として、一部にバイオマスプラスチックを導入しようとする動きが最近強まりつつあり、芳香族ポリカーボネートについても、コーンスターチ等の天然ポリマーを配合する提案（特許文献９参照）、ポリ乳酸と組み合わせた組成物の提案（特許文献１０〜１２参照）などがなされている。
【００１１】
また、ポリ乳酸に関しても、芳香族ポリカーボネートなどの樹脂と難燃剤を導入し、工業材料として利用しようとする試みがなされている（特許文献１３参照）。
しかし、いずれの場合においても、工業材料として活用するに当たっては、ポリ乳酸の性質から来る耐加水分解性低下の課題は解決されておらず、用途展開の障害になっているのが現状である。
【００１２】
【特許文献１】特開２００５−１９０６０２号公報
【特許文献２】特開２００５−２１２３７６号公報
【特許文献３】特開２００５−５０４９９号公報
【特許文献４】特開２００５−１９０６０３号公報
【特許文献５】特開２００５−１９６８２１号公報
【特許文献６】特開２００５−５０４８９号公報
【特許文献７】特開昭６３−２４１０２４号公報
【特許文献８】特許第３５８３０９７号公報
【特許文献９】特表平７−５０６８６３号公報
【特許文献１０】特許第３２７９７６８号公報
【特許文献１１】特開２００５−４８０６６号公報
【特許文献１２】特開２００５−４８０６７号公報
【特許文献１３】特開２００４−１９００２６号公報
【非特許文献１】Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ， ２４， ５６５１（１９９１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
したがって、本発明の主たる目的は、バイオマス資源から得られるポリマーを含有し、かつ耐熱性、機械特性、耐久安定性、表面精密転写性に優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板、およびかかる光ディスク基板を用いた光学情報記録媒体を提供することにある。
本発明者らはかかる目的を達成すべく鋭意研究の結果、芳香族ポリカーボネートに、特定のポリ乳酸を配合することにより得られた成形品が、耐熱性、機械特性、耐加水分解性、耐薬品性、表面精密転写性に優れた光ディスク基板となることを見出し、本発明を完成した。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
すなわち、本発明は、（Ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）１００重量部、および（Ｂ）ポリ乳酸（Ｂ成分）１〜２００重量部からなり、ポリ乳酸（Ｂ成分）が、（Ｂ−１）Ｌ−乳酸単位９０〜１００モル％と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−１成分）と、（Ｂ−４）Ｄ−乳酸単位９０〜１００モル％と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位（Ｂ−４成分）からなり、Ｂ−１成分とＢ−４成分の重量比（Ｂ−１成分／Ｂ−４成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にある芳香族ポリカーボネート樹脂組成物からなる光ディスク基板である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明は、芳香族ポリカーボネート樹脂と、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位成分と、Ｄ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位成分との混合物からなる組成物から得られる光ディスク基板であって、良好な耐熱性、機械特性、耐加水分解性、耐薬品性および表面精密転写性を有するのに加えて環境負荷の低減された樹脂組成物であることから、その奏する産業上の効果は格別である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物における各成分、それらの配合割合、調製方法等について、順次具体的に説明する。
【００１７】
＜Ａ成分について＞
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物におけるＡ成分は、該樹脂組成物の主成分となる芳香族ポリカーボネート樹脂である。代表的な芳香族ポリカーボネート樹脂（以下、単に“ポリカーボネート”と称することがある）は、２価フェノールとカーボネート前駆体とを反応させて得られるものであり、反応の方法としては界面重縮合法、溶融エステル交換法、カーボネートプレポリマーの固相エステル交換法および環状カーボネート化合物の開環重合法等を挙げることができる。
【００１８】
上記２価フェノールの具体例としては、ハイドロキノン、レゾルシノール、４，４’−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称“ビスフェノールＡ”）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エステル、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等が挙げられる。これらの中でも、ビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン、特にビスフェノールＡ（以下“ＢＰＡ”と略称することがある）が汎用されている。
【００１９】
本発明では、汎用のポリカーボネートであるビスフェノールＡ系のポリカーボネート以外にも、他の２価フェノール類を用いて製造した特殊なポリカーボネ−トをＡ成分として使用することが可能である。
【００２０】
例えば、２価フェノール成分の一部または全部として、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール（以下“ＢＰＭ”と略称することがある）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（以下“Ｂｉｓ−ＴＭＣ”と略称することがある）、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンおよび９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（以下“ＢＣＦ”と略称することがある）を用いたポリカーボネ−ト（単独重合体または共重合体）は、吸水による寸法変化や形態安定性の要求が特に厳しい用途に適当である。これらのＢＰＡ以外の２価フェノールは、該ポリカーボネートを構成する２価フェノール成分全体の５モル％以上、特に１０モル％以上、使用するのが好ましい。
【００２１】
殊に、高剛性かつより良好な耐加水分解性が要求される場合には、樹脂組成物を構成するＡ成分が次の（１）〜（３）の共重合ポリカーボネートであるのが特に好適である。
（１）該ポリカーボネートを構成する２価フェノール成分１００モル％中、ＢＰＭが２０〜８０モル％（より好適には４０〜７５モル％、さらに好適には４５〜６５モル％）であり、かつＢＣＦが２０〜８０モル％（より好適には２５〜６０モル％、さらに好適には３５〜５５モル％）である共重合ポリカーボネート。
（２）該ポリカーボネートを構成する２価フェノール成分１００モル％中、ＢＰＡが１０〜９５モル％（より好適には５０〜９０モル％、さらに好適には６０〜８５モル％）であり、かつＢＣＦが５〜９０モル％（より好適には１０〜５０モル％、さらに好適には１５〜４０モル％）である共重合ポリカーボネート。
（３）該ポリカーボネートを構成する２価フェノール成分１００モル％中、ＢＰＭが２０〜８０モル％（より好適には４０〜７５モル％、さらに好適には４５〜６５モル％）であり、かつＢｉｓ−ＴＭＣが２０〜８０モル％（より好適には２５〜６０モル％、さらに好適には３５〜５５モル％）である共重合ポリカーボネート。
【００２２】
これらの特殊なポリカーボネートは、単独で用いてもよく、２種以上を適宜混合して使用してもよい。また、これらを汎用されているビスフェノールＡ型のポリカーボネートと混合して使用することもできる。
【００２３】
これらの特殊なポリカーボネートの製法および特性については、例えば、特開平６−１７２５０８号公報、特開平８−２７３７０号公報、特開２００１−５５４３５号公報および特開２００２−１１７５８０号公報等に詳しく記載されている。
【００２４】
なお、上述した各種のポリカーボネートの中でも、共重合組成等を調整して、吸水率およびＴｇ（ガラス転移温度）を下記の範囲内にしたものは、ポリマー自体の耐加水分解性が良好で、かつ成形後の低反り性においても格段に優れているため、形態安定性が要求される分野では特に好適である。
（ｉ）吸水率が０．０５〜０．１５重量％、好ましくは０．０６〜０．１３重量％であり、かつＴｇが１２０〜１８０℃であるポリカーボネート、あるいは
（ii）Ｔｇが１６０〜２５０℃、好ましくは１７０〜２３０℃であり、かつ吸水率が０．１０〜０．３０重量％、好ましくは０．１３〜０．３０重量％、より好ましくは０．１４〜０．２７重量％であるポリカーボネート。
【００２５】
ここで、ポリカーボネートの吸水率は、直径４５ｍｍ、厚み３．０ｍｍの円板状試験片を用い、ＩＳＯ６２−１９８０に準拠して２３℃の水中に２４時間浸漬した後の水分率を測定した値である。また、Ｔｇ（ガラス転移温度）は、ＪＩＳ Ｋ７１２１に準拠した示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定により求められる値である。
【００２６】
一方、カーボネート前駆体としては、カルボニルハライド、カーボネートエステルまたはハロホルメート等が使用され、具体的にはホスゲン、ジフェニルカーボネートまたは２価フェノールのジハロホルメート等が挙げられる。
【００２７】
このような２価フェノールとカーボネート前駆体とから界面重合法によってポリカーボネートを製造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、２価フェノールが酸化するのを防止するための酸化防止剤等を使用してもよい。また、ポリカーボネートは３官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分岐ポリカーボネートであってもよい。ここで使用される３官能以上の多官能性芳香族化合物としては、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン等が挙げられる。
【００２８】
分岐ポリカーボネートを生ずる多官能性化合物を含む場合、その割合は、ポリカーボネート全量中、０．００１〜１モル％、好ましくは０．００５〜０．９モル％、特に好ましくは０．０１〜０．８モル％である。また、特に溶融エステル交換法の場合、副反応として分岐構造が生ずる場合があるが、かかる分岐構造量についても、ポリカーボネート全量中、０．００１〜１モル％、好ましくは０．００５〜０．９モル％、特に好ましくは０．０１〜０．８モル％であるものが好ましい。なお、かかる分岐構造の割合については1Ｈ−ＮＭＲ測定により算出することが可能である。
【００２９】
また、本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物においてＡ成分となる芳香族ポリカーボネート樹脂は、芳香族もしくは脂肪族（脂環族を含む）の２官能性カルボン酸を共重合したポリエステルカーボネート、２官能性アルコール（脂環族を含む）を共重合した共重合ポリカーボネート並びにかかる２官能性カルボン酸および２官能性アルコールを共に共重合したポリエステルカーボネートであってもよい。また、得られたポリカーボネートの２種以上をブレンドした混合物でも差し支えない。
【００３０】
ここで用いる脂肪族の２官能性のカルボン酸は、α，ω−ジカルボン酸が好ましい。脂肪族の２官能性のカルボン酸としては、例えば、セバシン酸（デカン二酸）、ドデカン二酸、テトラデカン二酸、オクタデカン二酸、イコサン二酸等の直鎖飽和脂肪族ジカルボン酸およびシクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸が好ましく挙げられる。２官能性アルコールとしては、脂環族ジオールがより好適であり、例えばシクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール、トリシクロデカンジメタノール等が例示される。
【００３１】
さらに、本発明では、Ａ成分として、ポリオルガノシロキサン単位を共重合した、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の使用も可能である。
【００３２】
Ａ成分となる芳香族ポリカーボネート樹脂は、上述した２価フェノールの異なるポリカーボネート、分岐成分を含有するポリカーボネート、ポリエステルカーボネート、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体等の各種ポリカーボネートの２種以上を混合したものであってもよい。さらに、製造法の異なるポリカーボネート、末端停止剤の異なるポリカーボネート等を２種以上混合したものを使用することもできる。
【００３３】
本発明のポリカーボネート樹脂の製造方法である界面重合法、溶融エステル交換法、カーボネートプレポリマーの固相エステル交換法、および環状カーボネート化合物の開環重合法などの反応形式は、各種の文献および特許公報などで良く知られている方法である。
【００３４】
Ａ成分となる芳香族ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は限定されない。しかしながら、粘度平均分子量は、１０，０００未満であると強度等が低下し、５０，０００を超えると成形加工特性が低下するようになるので、１０，０００〜５０，０００の範囲が好ましく、１２，０００〜３０，０００の範囲がより好ましく、１４，０００〜２８，０００の範囲がさらに好ましい。この場合、成形性等が維持される範囲内で、粘度平均分子量が上記範囲外であるポリカーボネートを混合することも可能である。例えば、粘度平均分子量が５０，０００を超える高分子量のポリカーボネート成分を配合することも可能である。
【００３５】
本発明でいう粘度平均分子量は、まず、次式にて算出される比粘度（ηSP）を２０℃で塩化メチレン１００ｍｌに芳香族ポリカーボネート０．７ｇを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求め、
比粘度（ηSP）＝（ｔ−ｔ0）／ｔ0
［ｔ0は塩化メチレンの落下秒数、ｔは試料溶液の落下秒数］
求められた比粘度（ηSP）から次の数式により粘度平均分子量Ｍを算出する。
ηSP／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］2ｃ（但し［η］は極限粘度）
［η］＝１．２３×１０-4Ｍ0.83
ｃ＝０．７
【００３６】
なお、本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物における粘度平均分子量を測定する場合は、次の要領で行う。すなわち、該樹脂組成物をその２０〜３０倍重量の塩化メチレンに溶解し、可溶分をセライト濾過により採取した後、溶液を除去して十分に乾燥し、塩化メチレン可溶分の固体を得る。かかる固体０．７ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解した溶液から２０℃における比粘度（ηSP）を、オストワルド粘度計を用いて求め、上式によりその粘度平均分子量Ｍを算出する。
【００３７】
本発明のＡ成分である芳香族ポリカーボネート樹脂は、再利用されたものを用いることもできる。その場合には、脱石油資源材料のＢ成分と併せて環境負荷の小さい成分の割合が増大することになり、環境負荷低減効果の上でより好ましい材料となる。再利用された芳香族ポリカーボネート樹脂とは、少なくとも目的の製品を製造するための加工工程により形成された樹脂成形品からポリマーの分解工程を得ることなく回収された樹脂をいい、例えば使用済みの製品から分別回収された樹脂成形品、製品製造時に不良品として発生したものから分別回収された樹脂成形品、並びに成形加工時に生じるスプール・ランナーなどの不要部分などからなる樹脂成形品が代表的に例示される。なお、分解工程とは、芳香族ポリカーボネートの主鎖を形成する結合を分解し、分解されて生ずるモノマーやオリゴマーを回収することを目的とする工程をいい、混練、粉砕、および加工などを目的とする工程における熱分解を意味するものではない。再利用された芳香族ポリカーボネート樹脂は、その樹脂材料１００重量％中、芳香族ポリカーボネート成分を９０重量％以上含有するものが好ましくに用いられ、より好ましくは９５重量％以上、さらに好ましくは９８重量％以上含有するものが用いられる。
【００３８】
前記使用済みの製品としては、防音壁、ガラス窓、透光屋根材、および自動車サンルーフなどに代表される各種グレージング材、風防や自動車ヘッドランプレンズなどの透明部材、水ボトルなどの容器、並びに光記録媒体などが好ましく挙げられる。これらは多量の添加剤や他樹脂などを含むことがなく、目的の品質が安定して得られやすい。殊に透明なポリカーボネート樹脂成形品表面にハードコート被膜が積層されてなる成形品が好ましい態様として例示される。かかる成形品は良好な透明性を有しながら、ハードコート剤の影響で着色する場合が多いためである。かかる成形品の具体例としては、各種グレージング材、風防や自動車ヘッドランプレンズなどの透明部材が例示される。
【００３９】
また再利用された芳香族ポリカーボネート樹脂は、前記の不要となった樹脂成形品の粉砕物、および粉砕物を再溶融押出して製造されたペレットのいずれも使用できる。さらに樹脂成形品が印刷塗膜、シール、ラベル、化粧塗装膜、導電塗装、導電メッキ、金属蒸着などが施されている場合には、かかる部分を除去した粉砕物（除去後の粉砕、粉砕後の除去のいずれであってもよい）、並びに該粉砕物を再溶融押出して製造されたペレットのいずれも使用可能である。前記印刷塗膜などを含む場合には、これらの影響により着色しやすいことから、本発明の効果が十分に発揮されにくい。したがって印刷塗膜など除去することが本発明において好適である。かかる印刷塗膜やメッキなどを除去する方法としては、２本のロール間で圧延する方法、加熱・加圧水、各種溶剤、酸・アルカリ水溶液などに接触させる方法、かかる除去部分を機械的に削り取る方法、超音波を照射する方法、およびブラスト処理する方法などを挙げることができ、これらを組み合わせて使用することも可能である。
【００４０】
一方、透明なポリカーボネート樹脂成形品表面にハードコート被膜が積層されてなる成形品においては、良好な色相の達成が可能であることから粉砕物をそのまま配合することがより効率的であり、環境負荷の低減に貢献する。粉砕物は公知の粉砕機を用いて樹脂成形品を粉砕することにより製造することができる。
【００４１】
再利用された芳香族ポリカーボネート樹脂は、Ａ成分の芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量％中は、好ましくは５重量％以上、より好ましくは１０重量％以上、さらに好ましくは１５重量％以上含有できる。上限は１００重量％とすることが可能であるが、実用的には５０重量％以下であるとより特性の安定した樹脂組成物が得られ好ましい。
【００４２】
＜Ｂ成分について＞
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物におけるＢ成分は、下記式（ｉ）に示す、Ｌ−乳酸単位、Ｄ−乳酸単位を基本成分とするポリ乳酸である。
【化１】
0004847139.tif 000002
【００４３】
ポリ乳酸（Ｂ成分）の重量平均分子量は、好ましくは１０万〜５０万である。より好ましくは１０万〜３０万である。重量平均分子量は溶離液にクロロホルムを用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー(ＧＰＣ)測定による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量値である。
【００４４】
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物におけるポリ乳酸（Ｂ成分）は、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位であるＢ−１成分、Ｂ−２成分、Ｂ−３成分、および主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位であるＢ−４成分、Ｂ−５成分、Ｂ−６成分である。
【００４５】
Ｂ−１成分は、Ｌ−乳酸単位９０〜１００モル％と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位である。
Ｂ−２成分は、Ｌ―乳酸単位９０〜９９モル％と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位１〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位である。
Ｂ−３成分は、Ｌ−乳酸単位９９モル％を超え１００モル％以下と、Ｄ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０モル％以上１モル％未満とにより構成されるポリ乳酸単位である。
従って、Ｂ−１成分には、Ｂ−２成分、およびＢ−３成分が包含される。
【００４６】
Ｂ−４成分は、Ｄ−乳酸単位９０〜１００モル％と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位である。
Ｂ−５成分は、Ｄ―乳酸単位９０〜９９モル％と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位１〜１０モル％とにより構成されるポリ乳酸単位である。
Ｂ−６成分は、Ｄ−乳酸単位９９モル％を超え１００モル％以下と、Ｌ−乳酸単位および／または乳酸以外の共重合成分単位０モル％以上１モル％未満とにより構成されるポリ乳酸単位である。
従って、Ｂ−４成分には、Ｂ−５成分、およびＢ−６成分が包含される。
【００４７】
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物におけるポリ乳酸（Ｂ成分）は、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位であるＢ−１成分、Ｂ−２成分、Ｂ−３成分と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位であるＢ−４成分、Ｂ−５成分、Ｂ−６成分との特定の組合せからなる。
【００４８】
即ち、ポリ乳酸（Ｂ成分）は、Ｂ−１成分、およびＢ−４成分からなり、Ｂ−１成分とＢ−４成分の重量比（Ｂ−１成分／Ｂ−４成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にあるポリ乳酸が好ましい。
【００４９】
更に、ポリ乳酸（Ｂ成分）は、（１）Ｂ−１成分、およびＢ−５成分からなり、Ｂ−１成分とＢ−５成分の重量比（Ｂ−１成分／Ｂ−５成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にある、または（２）Ｂ−４成分、およびＢ−２成分からなり、Ｂ−４成分とＢ−２成分の重量比（Ｂ−４成分／Ｂ−２成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にあるポリ乳酸が好ましい。
【００５０】
特に好ましいポリ乳酸（Ｂ成分）は、Ｂ−２成分および、Ｂ−５成分からなり、Ｂ−２成分とＢ−５成分の重量比（Ｂ−２成分／Ｂ−５成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にあるポリ乳酸（組合せ１）、Ｂ−３成分および、Ｂ−５成分からなり、Ｂ−３成分とＢ−５成分の重量比（Ｂ−３成分／Ｂ−５成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にあるポリ乳酸（組合せ２）、Ｂ−６成分および、Ｂ−２成分からなり、Ｂ−６成分とＢ−２成分の重量比（Ｂ−６成分／Ｂ−２成分）が１０／９０〜９０／１０の範囲にあるポリ乳酸（組合せ３）である。
【００５１】
以上の、特に好ましい組合せをまとめると以下のようになる。
【表１】
0004847139.tif 000003
【００５２】
以上のようにポリ乳酸（Ｂ成分）の組合せにおいて、Ｂ−３成分とＢ−６成分との組合せは、特に好ましい範囲からは除外される。
【００５３】
ポリ乳酸（Ｂ成分）中における、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）の重量比は、１０／９０〜９０／１０であるが、より多くのステレオコンプレックスを形成させるためには、２５／７５〜７５／２５であることが好ましく、さらに好ましくは４０／６０〜６０／４０である。一方のポリマーの重量比が１０未満であるかまたは、９０を超えると、ホモ結晶化が優先してしまい、ステレオコンプレックスを形成し難くなるので好ましくない。
【００５４】
ポリ乳酸（Ｂ成分）中のポリ乳酸単位における乳酸以外の共重合成分単位としては、２個以上のエステル結合形成可能な官能基を持つジカルボン酸、多価アルコール、ヒドロキシカルボン酸、ラクトン等由来の単位およびこれら種々の構成成分からなる各種ポリエステル、各種ポリエーテル、各種ポリカーボネート等由来の単位を単独、もしくは混合して使用することができる。
【００５５】
ジカルボン酸としては、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等が挙げられる。多価アルコールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、グリセリン、ソルビタン、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の脂肪族多価アルコール等あるいはビスフェノールにエチレンオキシドが付加させたものなどの芳香族多価アルコール等が挙げられる。ヒドロキシカルボン酸として、グリコール酸、ヒドロキシブチルカルボン酸等が挙げられる。ラクトンとしては、グリコリド、ε−カプロラクトングリコリド、ε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、δ−ブチロラクトン、β−またはγ−ブチロラクトン、ピバロラクトン、δ−バレロラクトン等が挙げられる。
【００５６】
＜ポリ乳酸（Ｂ成分）の製造方法について＞
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物におけるポリ乳酸（Ｂ成分）を構成する各ポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−６成分）は、既知の任意のポリ乳酸の重合方法により製造方法することができ、例えばラクチドの開環重合、乳酸の脱水縮合、およびこれらと固相重合を組み合わせた方法などにより製造することができる。
【００５７】
各ポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−６成分）を既知の任意の重合方法により製造する場合、副生成物として乳酸の環状二量体であるラクチドが生成することがある。各ポリ乳酸単位は、樹脂の熱安定性を損ねない範囲であれば、かかるラクチドを含有していてもよい。
【００５８】
かかる各ポリ乳酸単位に含まれるラクチドは、各ポリ乳酸単位の重合終了後、溶融減圧下で除去する方法、溶媒を用いて抽出除去する方法などにより、ポリ乳酸単位から除去することが、樹脂の熱安定性を向上させる上で好ましい。各ポリ乳酸単位に含まれるラクチドは、各ポリ乳酸単位に対して２％以下、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下である。
【００５９】
ポリ乳酸（Ｂ成分）を構成する各ポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−６成分）に使用される乳酸以外の共重合成分単位は、２個以上のエステル結合形成可能な官能基を持つジカルボン酸、多価アルコール、ヒドロキシカルボン酸、ラクトン等およびこれら種々の構成成分からなる各種ポリエステル、各種ポリエーテル、各種ポリカーボネート等が挙げられる。
【００６０】
ジカルボン酸としては、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等が挙げられる。多価アルコールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、グリセリン、ソルビタン、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の脂肪族多価アルコール等あるいはビスフェノールにエチレンオキシドが付加させたものなどの芳香族多価アルコール等が挙げられる。ヒドロキシカルボン酸として、グリコール酸、ヒドロキシブチルカルボン酸等が挙げられる。ラクトンとしては、グリコリド、ε−カプロラクトングリコリド、ε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、δ−ブチロラクトン、β−またはγ−ブチロラクトン、ピバロラクトン、δ−バレロラクトン等が挙げられる。
【００６１】
ポリ乳酸（Ｂ成分）を構成する各ポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−６成分）は、樹脂の熱安定性を損ねない範囲で重合に関わる触媒を含有していてもよい。このような触媒としては、各種のスズ化合物、アルミニウム化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物、カルシウム化合物、有機酸類、無機酸類などを挙げることができる。このような触媒としては、スズ、アルミニウム、ジルコニウムおよびチタンの脂肪酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、あるいは、それら金属そのものが挙げられる。具体的には、オクチル酸スズ、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドが挙げられる。
【００６２】
かかる各ポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−６成分）に含まれる重合に関わる触媒は、各ポリ乳酸単位の重合反応終了後に、溶媒を用いて抽出除去する方法、または該触媒を不活性化させる公知の安定剤を共存させる方法などにより、除去または失活させることが、樹脂の熱安定性を向上させる上で好ましい。
【００６３】
ポリ乳酸（Ｂ成分）を構成する、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）は、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）やその他の成分と共に混合して樹脂組成物を製造しても構わないが、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）やその他の成分と共に混合する前に、予め両者を共存させて熱処理する方法をとることが、成形品中でステレオコンプレックスを効率的に生成させることが可能となるため好ましい。
【００６４】
具体的には、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）とを共存させたものを、２４５〜３００℃で熱処理する方法が、成形品中でステレオコンプレックスを効率よく生成させるために特に好ましい。
【００６５】
また、該熱処理に際しては、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）とをできるだけ均一に混合することが好ましい。混合は、それらが熱処理したときに均一に混合される方法であればいかなる方法をとることも出来る。
【００６６】
そのような混合方法として、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）とを、溶媒の存在下で混合した後、再沈殿して混合物を得る方法や、加熱により溶媒を除去して混合物を得る方法が例示できる。この場合には、Ｂ−１〜Ｂ−３成分、およびＢ−４〜Ｂ−６成分とを別々に溶媒に溶解した溶液を調製し両者を混合するか、または両者を一緒に溶媒に溶解させ混合することにより行うことが好ましい。
【００６７】
溶媒は、ポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−６成分）が溶解するものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、フェノール、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ブチロラクトン、トリオキサン、ヘキサフルオロイソプロパノール等の単独あるいは２種以上混合したものが好ましい。
【００６８】
溶媒が存在しても、加熱することにより溶媒が蒸発し、無溶媒の状態で熱処理することができる。溶媒の蒸発後（熱処理）の昇温速度は、長時間、熱処理をすると分解する可能性があるので短時間で行うのが好ましいが特に限定されるものではない。
【００６９】
また、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）の混合を、溶媒の非存在下で行うこともできる。即ち、Ｂ−１〜Ｂ−３成分、およびＢ−４〜Ｂ−６成分をあらかじめ粉体化あるいはチップ化したものを所定量混合した後に溶融し、あるいは溶融後、混練して混合する方法、または、Ｂ−１〜Ｂ−３成分、あるいはＢ−４〜Ｂ−６成分のいずれか一方を溶融させた後に残る一方を加えて混練し混合する方法を採用することができる。
【００７０】
従って本発明は、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）とを、溶媒の存在下、または溶媒の非存在下で混合、熱処理するポリ乳酸の製造方法をとることにより作製した樹脂組成物からなる光ディスク基板を包含する。
【００７１】
ここで、上記において粉体あるいはチップの大きさは、各ポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−６成分）の粉体あるいはチップが均一に混合されれば特に限定されるものではないが、３ｍｍ以下が好ましく、さらには１から０．２５ｍｍのサイズであることが好ましい。溶融混合する場合、大きさに関係なく、ステレオコンプレックス結晶を形成するが、粉体あるいはチップを均一に混合した後に単に溶融する場合、粉体あるいはチップの直径が３ｍｍ以上の大きさになると、ホモ結晶も析出するので好ましくない。
【００７２】
ポリ乳酸単位（Ｂ成分）を熱処理する方法において、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）、および主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）を混合するために用いる混合装置としては、溶融によって混合する場合にはバッチ式の攪拌翼がついた反応器、連続式の反応器のほか、二軸あるいは一軸のエクストルーダー、粉体で混合する場合にはタンブラー式の粉体混合器、連続式の粉体混合器、各種のミリング装置などを好適に用いることができる。
【００７３】
本発明における熱処理とは、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）、およびポリ乳酸単位主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）を重量比１０／９０〜９０／１０の範囲になるように共存させ、２４５〜３００℃の温度領域で維持することをいう。熱処理の温度は好ましくは２７０〜３００℃、より好ましくは２８０〜２９０℃である。３００℃を超えると、分解反応を抑制するのが難しくなるので好ましくない。熱処理の時間は特に限定されるものではないが、０．２〜６０分、好ましくは１〜２０分である。熱処理時の雰囲気は、常圧の不活性雰囲気下、または減圧のいずれも適用可能である。
【００７４】
熱処理に用いる装置、方法としては、雰囲気調整を行いながら加熱できる装置、方法であれば用いることができるが、たとえば、バッチ式の反応器、連続式の反応器、二軸あるいは一軸のエクストルーダーなど、またはプレス機、流管式の押出機を用いて、成型しながら処理する方法をとることが出来る。
【００７５】
＜Ｃ成分について＞
本発明において用いられるＣ成分である結晶核剤はポリ乳酸、並びに芳香族ポリエステルなどの結晶性樹脂に対して結晶核剤として一般に用いられている公知の化合物が主たる対象となる。
【００７６】
例えば、タルク、シリカ、グラファイト、炭素粉、ピロフェライト、石膏、中性粘土等の無機質微粒子や、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、二酸化チタン等の金属酸化物、硫酸塩、リン酸塩、ホスホン酸塩、硅酸塩、蓚酸塩、ステアリン酸塩、安息香酸塩、サリチル酸塩、酒石酸塩、スルホン酸塩、モンタンワックス塩、モンタンワックスエステル塩、テレフタル酸塩、安息香酸塩、カルボン酸塩等があげられる。
【００７７】
これらの結晶核剤として用いられる化合物の中で特に効果の大きいものは、タルクであり、平均粒径が２０μｍ以下のものが好ましく用いられるが、平均粒径が５μｍ以下のものを用いると更に好ましい。
【００７８】
これらの結晶核剤の配合量は、結晶核剤の種類や形状によってその効果を発現させる量は異なるため一律に規定することはできないが、ポリ乳酸成分（Ｂ成分）１００重量部あたり、０．０１〜５重量部であり、好ましくは０．０５〜３重量部、より好ましくは、０．１〜２重量部である。結晶核剤の添加量が少なすぎる場合には結晶核剤としての成形品のステレオ化率向上効果が発現されず、逆に多くし過ぎても結晶核剤としての効果が増大されることがないばかりか、むしろ機械特性その他において悪い結果を与える場合がある。
【００７９】
本発明において用いられるＣ成分の結晶核剤の配合方法に特に制約はないが、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）とを、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と混合する前に、予め混合しておく場合には、それらを芳香族ポリカーボネートとや他成分と共に混合する際に添加する方法が、ステレオコンプレックス形成に与える悪影響が小さいため好ましい。
【００８０】
＜Ｄ成分について＞
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物において、末端封鎖剤（Ｄ成分）を更に配合すると、耐加水分解性が更に高められた成形品を得ることができる。
【００８１】
Ｄ成分の末端封鎖剤とは、本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物におけるポリ乳酸（Ｂ成分）のカルボキシル基末端の一部または全部と反応して封鎖する働きを示すものであり、例えば、脂肪族アルコールやアミド化合物などの縮合反応型化合物や、カルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、アジリジン化合物などの付加反応型の化合物などが挙げられる。後者の付加反応型の化合物を用いれば、例えば、アルコールとカルボキシル基の脱水縮合反応による末端封鎖のように余分な副生成物を反応系外に排出する必要がない。従って、本発明の樹脂組成物を製造するにあたり、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と混合する前に、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）とを予め混合しておく方法をとる場合、付加反応型の末端封鎖剤を添加・混合・反応させることにより、副生成物による樹脂の分解を抑制しつつ、十分なカルボキシル基末端封鎖効果を得ることができ、実用的に十分な耐加水分解性を備えた光ディスク基板を得ることができる。
【００８２】
本発明に用いることのできる末端封鎖剤のうちカルボジイミド化合物（ポリカルボジイミド化合物を含む）としては、一般的に良く知られた方法で合成されたものを使用することができ、例えば、触媒として有機リン系化合物又は有機金属化合物を用い、各種ポリイソシアネートを約７０度以上の温度で、無溶媒又は不活性溶媒中で、脱炭酸縮合反応に付することより合成することができるものを挙げることができる。
【００８３】
上記カルボジイミド化合物に含まれるモノカルボジイミド化合物としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジメチルカルボジイミド、ジイソブチルカルボジイミド、ジオクチルカルボジイミド、ｔ−ブチルイソプロピルカルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、ジ−ｔ−ブチルカルボジイミド、ジ−β−ナフチルカルボジイミド等を例示することができ、これらの中では、特に工業的に入手が容易であるという面から、ジシクロヘキシルカルボジイミド或いはジイソプロピルカルボジイミドが好適である。
【００８４】
また、上記カルボジイミド化合物に含まれるポリカルボジイミド化合物としては、種々の方法で製造したものを使用することができるが、基本的には従来のポリカルボジイミドの製造方法（米国特許第２９４１９５６号明細書、特公昭４７−３３２７９号公報、Ｊ．０ｒｇ．Ｃｈｅｍ．２８， ２０６９−２０７５（１９６３）、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ ｌ９８１，Ｖｏｌ．８１ Ｎｏ．４、ｐ６１９−６２１）により製造したものを用いることができる。
【００８５】
上記ポリカルボジイミド化合物の製造における合成原料である有機ジイソシアネートとしては、例えば芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネートやこれらの混合物を挙げることができ、具体的には、１，５−ナフタレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートと２，６−トリレンジイソシアネートの混合物、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、２，６−ジイソプロピルフェニルイソシアネート、１，３，５−トリイソプロピルベンゼン−２，４−ジイソシアネート等を例示することができる。
【００８６】
また、上記ポリカルボジイミド化合物の場合は、モノイソシアネート等の、ポリカルボジイミド化合物の末端イソシアネートと反応する化合物を用いて、適当な重合度に制御することもできる。
【００８７】
このようなポリカルボジイミド化合物の末端を封止してその重合度を制御するためのモノイソシアネートとしては、例えば、フェニルイソシアネート、トリルイソシアネート、ジメチルフェニルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、ブチルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等を例示することができる。
【００８８】
本発明に用いることのできる末端封鎖剤のうちエポキシ化合物の例としては、例えば、Ｎ−グリシジルフタルイミド、Ｎ−グリシジル−４−メチルフタルイミド、Ｎ−グリシジル−４，５−ジメチルフタルイミド、Ｎ−グリシジル−３−メチルフタルイミド、Ｎ−グリシジル−３，６−ジメチルフタルイミド、Ｎ−グリシジル−４−エトキシフタルイミド、Ｎ−グリシジル−４−クロルフタルイミド、Ｎ−グリシジル−４，５−ジクロルフタルイミド、Ｎ−グリシジル−３，４，５，６−テトラブロムフタルイミド、Ｎ−グリシジル−４−ｎ−ブチル−５−ブロムフタルイミド、Ｎ−グリシジルサクシンイミド、Ｎ−グリシジルヘキサヒドロフタルイミド、Ｎ−グリシジル−１，２，３，６−テトラヒドロフタルイミド、Ｎ−グリシジルマレインイミド、Ｎ−グリシジル−α，β−ジメチルサクシンイミド、Ｎ−グリシジル−α−エチルサクシンイミド、Ｎ−グリシジル−α−プロピルサクシンイミド、Ｎ−グリシジルベンズアミド、Ｎ−グリシジル−ｐ−メチルベンズアミド、Ｎ−グリシジルナフトアミド、Ｎ−グリシジルステラミド、Ｎ−メチル−４，５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸イミド、Ｎ−エチル−４，５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸イミド、Ｎ−フェニル−４，５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸イミド、Ｎ−ナフチル−４，５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸イミド、Ｎ−トリル−３−メチル−４，５−エポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸イミド、オルソフェニルフェニルグリシジルエーテル、２−メチルオクチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、３−（２−キセニルオキシ）−１，２−エポキシプロパン、アリルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ラウリルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテル、シクロヘキシルグリシジルエーテル、α−クレシルグリシジルエーテル、ｐ−ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、メタクリル酸グリシジルエーテル、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、スチレンオキサイド、オクチレンオキサイド、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテルなどが挙げられ、さらには、テレフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジメチルジグリシジルエステル、フェニレンジグリシジルエーテル、エチレンジグリシジルエーテル、トリメチレンジグリシジルエーテル、テトラメチレンジグリシジルエーテル、ヘキサメチレンジグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらのエポキシ化合物の中から１種または２種以上の化合物を任意に選択してポリ乳酸単位のカルボキシル末端を封鎖すればよいが、反応性の点でエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル、オルソフェニルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、Ｎ−グリシジルフタルイミド、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジ��リシジルエーテル、水添ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテルなどが好ましい。
【００８９】
本発明に用いることのできる末端封鎖剤のうちオキサゾリン化合物の例としては、例えば、２−メトキシ−２−オキサゾリン、２−エトキシ−２−オキサゾリン、２−プロポキシ−２−オキサゾリン、２−ブトキシ−２−オキサゾリン、２−ペンチルオキシ−２−オキサゾリン、２−ヘキシルオキシ−２−オキサゾリン、２−ヘプチルオキシ−２−オキサゾリン、２−オクチルオキシ−２−オキサゾリン、２−ノニルオキシ−２−オキサゾリン、２−デシルオキシ−２−オキサゾリン、２−シクロペンチルオキシ−２−オキサゾリン、２−シクロヘキシルオキシ−２−オキサゾリン、２−アリルオキシ−２−オキサゾリン、２−メタアリルオキシ−２−オキサゾリン、２−クロチルオキシ−２−オキサゾリン、２−フェノキシ−２−オキサゾリン、２−クレジル−２−オキサゾリン、２−ｏ−エチルフェノキシ−２−オキサゾリン、２−ｏ−プロピルフェノキシ−２−オキサゾリン、２−ｏ−フェニルフェノキシ−２−オキサゾリン、２−ｍ−エチルフェノキシ−２−オキサゾリン、２−ｍ−プロピルフェノキシ−２−オキサゾリン、２−ｐ−フェニルフェノキシ−２−オキサゾリン、２−メチル−２−オキサゾリン、２−エチル−２−オキサゾリン、２−プロピル−２−オキサゾリン、２−ブチル−２−オキサゾリン、２−ペンチル−２−オキサゾリン、２−ヘキシル−２−オキサゾリン、２−ヘプチル−２−オキサゾリン、２−オクチル−２−オキサゾリン、２−ノニル−２−オキサゾリン、２−デシル−２−オキサゾリン、２−シクロペンチル−２−オキサゾリン、２−シクロヘキシル−２−オキサゾリン、２−アリル−２−オキサゾリン、２−メタアリル−２−オキサゾリン、２−クロチル−２−オキサゾリン、２−フェニル−２−オキサゾリン、２−ｏ−エチルフェニル−２−オキサゾリン、２−ｏ−プロピルフェニル−２−オキサゾリン、２−ｏ−フェニルフェニル−２−オキサゾリン、２−ｍ−エチルフェニル−２−オキサゾリン、２−ｍ−プロピルフェニル−２−オキサゾリン、２−ｐ−フェニルフェニル−２−オキサゾリンなどが挙げられ、さらには、２，２′−ビス（２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４−メチル−２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４，４′−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４−エチル−２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４，４′−ジエチル−２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４−プロピル−２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４−ブチル−２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４−ヘキシル−２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４−シクロヘキシル−２−オキサゾリン）、２，２′−ビス（４−ベンジル−２−オキサゾリン）、２，２′−ｐ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−ｍ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−ｏ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−ｐ−フェニレンビス（４−メチル−２−オキサゾリン）、２，２′−ｐ−フェニレンビス（４，４′−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２′−ｍ−フェニレンビス（４−メチル−２−オキサゾリン）、２，２′−ｍ−フェニレンビス（４，４′−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２′−エチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−テトラメチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−ヘキサメチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−オクタメチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−デカメチレンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−エチレンビス（４−メチル−２−オキサゾリン）、２，２′−テトラメチレンビス（４，４′−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２′−９，９′−ジフェノキシエタンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−シクロヘキシレンビス（２−オキサゾリン）、２，２′−ジフェニレンビス（２−オキサゾリン）などが挙げられる。さらには、上記した化合物をモノマー単位として含むポリオキサゾリン化合物など、例えばスチレン・２−イソプロペニル−２−オキサゾリン共重合体などが挙げられる。これらのオキサゾリン化合物の中から１種または２種以上の化合物を任意に選択してポリ乳酸単位のカルボキシル末端を封鎖すればよい。
【００９０】
本発明に用いることのできる末端封鎖剤のうちオキサジン化合物の例としては、例えば、２−メトキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−エトキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−プロポキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−ブトキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−ペンチルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−ヘキシルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−ヘプチルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−オクチルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−ノニルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−デシルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−シクロペンチルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−シクロヘキシルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−アリルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−メタアリルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン、２−クロチルオキシ−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジンなどが挙げられ、さらには、２，２′−ビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）、２，２′−メチレンビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）、２，２′−エチレンビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）、２，２′−プロピレンビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）、２，２′−ブチレンビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）、２，２′−ヘキサメチレンビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）、２，２′−ｐ−フェニレンビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）、２，２′−ｍ−フェニレンビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）、２，２′−ナフチレンビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）、２，２′−Ｐ，Ｐ′−ジフェニレンビス（５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジン）などが挙げられる。さらには、上記した化合物をモノマー単位として含むポリオキサジン化合物などが挙げられる。これらのオキサジン化合物の中から１種または２種以上の化合物を任意に選択してポリ乳酸単位のカルボキシル末端を封鎖すればよい。
【００９１】
更には、既に例示したオキサゾリン化合物および上述のオキサジン化合物などの中から１種または２種以上の化合物を任意に選択し併用してポリ乳酸のカルボキシル末端を封鎖してもよいが、耐熱性および反応性や脂肪族ポリエステルとの親和性の点で２，２′−ｍ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）や２，２′−ｐ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）が好ましい。
【００９２】
本発明に用いることのできる末端封鎖剤のうちアジリジン化合物の例としては、例えば、モノ，ビスあるいはポリイソシアネート化合物とエチレンイミンとの付加反応物などが挙げられる。
【００９３】
また、本発明に用いることのできる末端封鎖剤として上述したカルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、アジリジン化合物などの化合物うち、２種以上の化合物を末端封鎖剤として併用することもできる。
【００９４】
本発明のポリ乳酸樹脂組成物では、用途に応じて適度にカルボキシル末端基の封鎖を行えばよいが、具体的なカルボキシル基末端封鎖の程度としてはポリ乳酸単位のカルボキシル基末端の濃度が１０当量／１０3ｋｇ以下であることが耐加水分解性向上の点から好ましく、６当量／１０3ｋｇ以下であることがさらに好ましい。
【００９５】
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物におけるポリ乳酸（Ｂ成分）のカルボキシル基末端を封鎖する方法としては、縮合反応型あるいは付加反応型などの末端封鎖剤を反応させればよく、縮合反応によりカルボキシル基末端を封鎖する方法としては、ポリマー重合時に重合系内に脂肪族アルコールやアミド化合物などの縮合反応型の末端封鎖剤を適量添加して減圧化で脱水縮合反応させるなどしてカルボキシル基末端を封鎖することができるが、ポリマーの高重合度化の観点から、重合反応終了時に縮合反応型の末端封鎖剤を添加することが好ましい。
【００９６】
付加反応によりカルボキシル基末端を封鎖する方法としては、ポリ乳酸の溶融状態でカルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、アジリジン化合物などの末端封鎖剤を適量反応させることで得ることができ、ポリマーの重合反応終了後に末端封鎖剤を添加・反応させることが可能であるが、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−１〜Ｂ−３成分）と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位（Ｂ−４〜Ｂ−６成分）とを、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と混合する前に、予め混合しておく場合には、その際に併せて添加する方法や、両ポリ乳酸単位を混合する前に、それぞれのポリ乳酸単位中に予め混合しておく方法をとると、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）の分解・劣化が抑制されるため特に好ましい。
【００９７】
この末端封鎖剤（Ｄ成分）の含有量はポリ乳酸成分（Ｂ成分）１００重量部当り、０．０１〜５重量部であり、好ましくは０．０５〜４重量部、より好ましくは０．１〜３重量部である。
【００９８】
＜その他の成分について＞
（ｉ）熱安定剤
本発明の成形品を構成する樹脂組成物においては、良好な色相かつ安定した流動性を得るため、リン系安定剤を含有することが好ましい。殊にリン系安定剤として、下記一般式（ｉｉ）に示すペンタエリスリトール型ホスファイト化合物を配合することが好ましい。
【００９９】
【化２】
0004847139.tif 000004
［式中Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基ないしアルキルアリール基、炭素数７〜３０のアラルキル基、炭素数４〜２０のシクロアルキル基、炭素数１５〜２５の２−（４−オキシフェニル）プロピル置換アリール基を示す。なお、シクロアルキル基およびアリール基は、アルキル基で置換されていてもよい。］
【０１００】
前記ペンタエリスリトール型ホスファイト化合物としては、より具体的には、例えば、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられ、中でも好適には、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、およびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトが挙げられる。
【０１０１】
他のリン系安定剤としては、前記以外の各種ホスファイト化合物、ホスホナイト化合物、およびホスフェート化合物が挙げられる。
【０１０２】
ホスファイト化合物としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、トリス（ジエチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｎ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、およびトリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。
【０１０３】
さらに他のホスファイト化合物としては二価フェノール類と反応し環状構造を有するものも使用できる。例えば、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイトなどを挙げることができる。
【０１０４】
ホスフェート化合物としては、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどを挙げることができ、好ましくはトリフェニルホスフェート、トリメチルホスフェートである。
【０１０５】
ホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等があげられ、テトラキス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトがより好ましい。かかるホスホナイト化合物は上記アルキル基が２以上置換したアリール基を有するホスファイト化合物との併用可能であり好ましい。
【０１０６】
ホスホネイト化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、およびベンゼンホスホン酸ジプロピル等が挙げられる。
【０１０７】
上記のリン系安定剤は、単独でまたは２種以上を併用して使用することができ、少なくともペンタエリスリトール型ホスファイト化合物を有効量配合することが好ましい。リン系安定剤は芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）１００重量部当たり、好ましくは０．００１〜１重量部、より好ましくは０．０１〜０．５重量部、さらに好ましくは０．０１〜０．３重量部配合される。
【０１０８】
（ｉｉ）弾性重合体
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物には、衝撃改良剤として弾性重合体を使用することができ、弾性重合体の例としては、ガラス転移温度が１０℃以下のゴム成分に、芳香族ビニル、シアン化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、およびこれらと共重合可能なビニル化合物から選択されたモノマーの１種または２種以上が共重合されたグラフト共重合体を挙げることができる。より好適な弾性重合体は、ゴム成分のコアに前記モノマーの１種または２種以上のシェルがグラフト共重合されたコア−シェル型のグラフト共重合体である。
【０１０９】
またかかるゴム成分と上記モノマーのブロック共重合体も挙げられる。かかるブロック共重合体としては具体的にはスチレン・エチレンプロピレン・スチレンエラストマー（水添スチレン・イソプレン・スチレンエラストマー）、および水添スチレン・ブタジエン・スチレンエラストマーなどの熱可塑性エラストマーを挙げることができる。さらに他の熱可塑性エラストマーして知られている各種の弾性重合体、例えばポリウレタンエラストマー、ポリエステルエラストマー、ポリエーテルアミドエラストマー等を使用することも可能である。
【０１１０】
衝撃改良剤としてより好適なのはコア−シェル型のグラフト共重合体である。コア−シェル型のグラフト共重合体において、そのコアの粒径は重量平均粒子径において０．０５〜０．８μｍが好ましく、０．１〜０．６μｍがより好ましく、０．１〜０．５μｍがさらに好ましい。０．０５〜０．８μｍの範囲であればより良好な耐衝撃性が達成される。弾性重合体は、ゴム成分を４０％以上含有するものが好ましく、６０％以上含有するものがさらに好ましい。
【０１１１】
ゴム成分としては、ブタジエンゴム、ブタジエン−アクリル複合ゴム、アクリルゴム、アクリル−シリコーン複合ゴム、イソブチレン−シリコーン複合ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、エチレン−プロピレンゴム、ニトリルゴム、エチレン−アクリルゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、フッ素ゴムおよびこれらの不飽和結合部分に水素が添加されたものを挙げることができるが、燃焼時の有害物質の発生懸念という点から、ハロゲン原子を含まないゴム成分が環境負荷の面において好ましい。
【０１１２】
ゴム成分のガラス転移温度は好ましくは−１０℃以下、より好ましくは−３０℃以下であり、ゴム成分としては特にブタジエンゴム、ブタジエン−アクリル複合ゴム、アクリルゴム、アクリル−シリコーン複合ゴムが好ましい。複合ゴムとは、２種のゴム成分を共重合したゴムまたは分離できないよう相互に絡み合ったＩＰＮ構造をとるように重合したゴムをいう。
【０１１３】
ゴム成分に共重合するビニル化合物における芳香族ビニルとしては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、アルコキシスチレン、ハロゲン化スチレン等を挙げることができ、特にスチレンが好ましい。またアクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル等を挙げることができ、メタアクリル酸エステルとしては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル等を挙げることができ、メタクリル酸メチルが特に好ましい。これらの中でも特にメタクリル酸メチルなどのメタアクリル酸エステルを必須成分として含有することが好ましい。これは芳香族ポリカーボネート樹脂との親和性に優れることから、該樹脂中により多くの弾性重合体が存在するようになり、芳香族ポリカーボネート樹脂の有する良好な耐衝撃性がより効果的に発揮され、結果として樹脂組成物の耐衝撃性が良好となるためである。より具体的には、メタアクリル酸エステルはグラフト成分１００重量％中（コア−シェル型重合体の場合にはシェル１００重量％中）、好ましくは１０重量％以上、より好ましくは１５重量％以上含有される。
【０１１４】
ガラス転移温度が１０℃以下のゴム成分を含有する弾性重合体は、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合のいずれの重合法で製造したものであってもよく、共重合の方式は一段グラフトであっても多段グラフトであっても差し支えない。また製造の際に副生するグラフト成分のみのコポリマーとの混合物であってもよい。さらに重合法としては一般的な乳化重合法の他、過硫酸カリウム等の開始剤を使用するソープフリー重合法、シード重合法、二段階膨潤重合法等を挙げることができる。また懸濁重合法において、水相とモノマー相とを個別に保持して両者を正確に連続式の分散機に供給し、粒子径を分散機の回転数で制御する方法、および連続式の製造方法において分散能を有する水性液体中にモノマー相を数〜数十μｍ径の細径オリフィスまたは多孔質フィルターを通すことにより供給し粒径を制御する方法などを行ってもよい。コア−シェル型のグラフト重合体の場合、その反応はコアおよびシェル共に、１段であっても多段であってもよい。
【０１１５】
かかる弾性重合体は市販されており容易に入手することが可能である。例えばゴム成分として、ブタジエンゴム、アクリルゴムまたはブタジエン−アクリル複合ゴムを主体とするものとしては、鐘淵化学工業（株）のカネエースＢシリーズ（例えばＢ−５６など）、三菱レイヨン（株）のメタブレンＣシリーズ（例えばＣ−２２３Ａなど）、Ｗシリーズ（例えばＷ−４５０Ａなど）、呉羽化学工業（株）のパラロイドＥＸＬシリーズ（例えばＥＸＬ−２６０２など）、ＨＩＡシリーズ（例えばＨＩＡ−１５など）、ＢＴＡシリーズ（例えばＢＴＡ−ＩＩＩなど）、ＫＣＡシリーズ、ローム・アンド・ハース社のパラロイドＥＸＬシリーズ、ＫＭシリーズ（例えばＫＭ−３３６Ｐ、ＫＭ−３５７Ｐなど）、並びに宇部サイコン（株）のＵＣＬモディファイヤーレジンシリーズ（ユーエムジー・エービーエス（株）のＵＭＧ ＡＸＳレジンシリーズ）などが挙げられ、ゴム成分としてアクリル−シリコーン複合ゴムを主体とするものとしては三菱レイヨン（株）よりメタブレンＳ−２００１あるいはＳＲＫ−２００という商品名で市販されているものが挙げられる。
【０１１６】
衝撃改良剤の組成割合は、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）１００重量部あたり０．２〜５０重量部が好ましく、１〜３０重量部が好ましく、１．５〜２０重量部がより好ましい。かかる組成範囲は、剛性の低下を抑制しつつ組成物に良好な耐衝撃性を与えることができる。
【０１１７】
（ｉｉｉ）無機充填材
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物には、成形品の表面平滑性を損なわない範囲で、無機充填材を配合することもできる。無機充填材としては、繊維状、針状、球状、フレーク状、中空状、板状もしくは層状の種々のものを使用することができるが、機械特性の向上と表面平滑性が両立しやすい板状もしくは層状のものが好ましく、特に層状のものが好ましい。
【０１１８】
板状もしくは層状の無機充填材としては、マイカ、タルクなどや、層間にイオン交換可能な陽イオンをもつ各種珪酸塩（シリケート）または粘土鉱物（クレー）があげられ、例えば、スメクタイト系鉱物、バーミキュライト、ハロイサイト、および膨潤性雲母などに代表される。具体的には、スメクタイト系鉱物としては、モンモリロナイト、ヘクトライト、フッ素ヘクトライト、サポナイト、バイデライト、スチブンサイト等が、膨潤性雲母としては、Ｌｉ型フッ素テニオライト、Ｎａ型フッ素テニオライト、Ｎａ型四珪素フッ素雲母、Ｌｉ型四珪素フッ素雲母等の膨潤性合成雲母等が挙げられる。これらの、層間にイオン交換可能な陽イオンをもつ各種珪酸塩（シリケート）または粘土鉱物（クレー）では、樹脂中での分散促進のため、層間の陽イオンを、４級アンモニウム塩などの有機物でイオン交換したものも用いることができる。
【０１１９】
これらの無機充填材を配合した場合、それらの成形品中における分散形態は、その６０％以上の数割合が１００ｎｍ以下の厚みを有することが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。
【０１２０】
また、無機充填材が配合された場合の成形品の表面平滑性は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠して測定される算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以下であることが好ましく、０．０３μｍ以下がより好ましい。
【０１２１】
（ｉｖ）その他の添加剤
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物には、本発明の効果を発揮する範囲で、他の熱可塑性樹脂（例えば、ポリアルキレンテレフタレート樹脂、ポリアリレート樹脂、液晶性ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル／スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリスチレン樹脂、高衝撃ポリスチレン樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、ポリメタクリレート樹脂、並びにフェノキシまたはエポキシ樹脂など）、酸化防止剤（例えば、ヒンダ−ドフェノ−ル系化合物、イオウ系酸化防止剤等）、紫外線吸収剤（ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系など）、光安定剤（ＨＡＬＳなど）、離型剤（飽和脂肪酸エステル、不飽和脂肪酸エステル、ポリオレフィン系ワックス、フッ素化合物、パラフィンワックス、蜜蝋など）、流動改質剤（ポリカプロラクトンなど）、着色剤（カーボンブラック、二酸チタン、各種の有機染料、メタリック顔料など）、光拡散剤（アクリル架橋粒子、シリコーン架橋粒子など）、蛍光増白剤、蓄光顔料、蛍光染料、帯電防止剤、無機および有機の抗菌剤、光触媒系防汚剤（微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛など）、赤外線吸収剤、並びにフォトクロミック剤紫外線吸収剤などを配合してもよい。これら各種の添加剤は、芳香族ポリカーボネート樹脂に配合する際の周知の配合量で利用することができる。
【０１２２】
＜樹脂組成物の製造方法について＞
本発明の光ディスク基板を構成する樹脂組成物を製造するには、任意の方法が採用される。例えば各成分、並びに任意に他の成分を予備混合し、その後溶融混練し、ペレット化する方法を挙げることができる。予備混合の手段としては、ナウターミキサー、Ｖ型ブレンダー、ヘンシェルミキサー、メカノケミカル装置、押出混合機などを挙げることができる。予備混合においては場合により押出造粒器やブリケッティングマシーンなどにより造粒を行うこともできる。予備混合後、ベント式二軸押出機に代表される溶融混練機で溶融混練、およびペレタイザー等の機器によりペレット化する。溶融混練機としては他にバンバリーミキサー、混練ロール、恒熱撹拌容器などを挙げることができるが、ベント式二軸押出機が好ましい。他に、各成分、並びに任意に他の成分を予備混合することなく、それぞれ独立に二軸押出機に代表される溶融混練機に供給する方法も取ることもできる。
【０１２３】
なお、本発明のポリカーボネート樹脂（Ａ成分）として成形品の粉砕物が配合される場合、かかる粉砕物は比較的かさ高い特性を有する。したがって押出機の供給においては他のかさ密度の高い成分と混合するか、また独立に供給する場合にあってもかさ密度の高い成分と共に押出機に供給することが好ましい。かかる製造方法によって再利用された芳香族ポリカーボネート樹脂に起因する樹脂の劣化はより抑制され、より好適な色相の樹脂組成部が得られる。また液体状の原料は、別途液注装置を用いて独立に供給するのがよい。さらに無機充填材を配合する場合、それらは押出機スクリュー根元の第１供給口から供給することも可能であるが、押出機途中の第２供給口からのサイドフィーダーによる供給がより好ましい。
【０１２４】
また、本発明の目的から考えて、異物、不純物等の混入のない原料を用いると共に、樹脂組成物製造時及び成形時における、所定の原料以外の異物、不純物、溶媒等の混入を極力低く抑えることが必要である。この目的で、事前に各原料を精製することや、押出原料中に混入した異物等を除去するためのスクリーンを押出機ダイス部前のゾーンに設置し、異物等を樹脂組成物から取り除くことは有益である。かかるスクリーンとしては金網、スクリーンチェンジャー、焼結金属プレート（ディスクフィルター等）等を用いることができる。さらに、ペレット化に際して外部の埃等の影響を低減する必要がある場合には、押出機周囲の雰囲気を清浄化することが好ましい。
【０１２５】
＜光ディスク基板の製造について＞
本発明の光ディスク基板は、通常前記方法で製造された樹脂組成物のペレットを射出成形して得られるものである。かかる射出成形においては、通常のコールドランナー方式の成形法だけでなく、ホットランナー方式の成形法も可能である。かかる射出成形においては、通常の成形方法だけでなく、適宜目的に応じて、射出圧縮成形、射出プレス成形、ガスアシスト射出成形、発泡成形（超臨界流体の注入によるものを含む）、インサート成形、インモールドコーティング成形、断熱金型成形、急速加熱冷却金型成形、二色成形、サンドイッチ成形、および超高速射出成形などの射出成形法を用いて成形品を得ることができる。これら各種成形法の利点は既に広く知られるところである。
【０１２６】
かかる射出成形には、射出成形機（射出圧縮成形機を含む）が用いられる。この射出成形機としては、炭化物の発生を抑制し、光ディスク基板の信頼性を高める観点からシリンダーやスクリューとして樹脂との付着性が低く、かつ耐食性、耐摩耗性を示す材料を使用してなるものを用いるのが好ましく、これらによって光学的に優れた光ディスク基板を得ることができる。成形工程の環境は、本発明の目的から考えて、可能な限りクリーンであることが好ましい。また、成形に供する材料を十分乾燥して水分を除去することや、溶融樹脂の分解を招くような滞留を起こさないように配慮することも重要となる。
【０１２７】
光ディスク基板の形状は、通常円板（円盤）状であるが、その形状や大きさは特に制限されず、用途に応じて適宜選定される。また、光ディスク基板の好適な厚みは０．３〜１．２ｍｍの範囲である。本発明における光ディスク基板は、その成形時にスタンパーにより該基板の片面又は両面にビットやグルーブが設けられることが多いが、光ディスク基板の用途によっては成形時にかかる加工がなされない場合もある。
【０１２８】
本発明の光ディスク基板上には、その用途に応じて、反射層、記録層、光透過層（透明保護層）等が積層され、情報記録媒体としての光ディスクとなる。
【０１２９】
反射層は金属元素を単独あるいは二種以上複合させて形成することができる。かかる反射層を形成する金属としては、ＡｌまたはＡｕを単独で使用するか、もしくは０．５重量％以上１０重量％以下、特に好ましくは３．０〜１０重量％のＴｉを含有するＡｌ合金、０．５〜１０重量％のＣｒを含有するＡｌ合金を使用するのが好ましい。上記金属からなる反射層はイオンビームスパッタ法、ＤＣ（直流）スパッタ法、またはＲＦスパッタ法等の手段で形成させることができる。
【０１３０】
本発明における光ディスク基板上には、かかる反射層に加え、基本的には記録層（ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶ−Ｒ等の場合には相変化記録層、染料記録層、ＭＯ（光磁気ディスク）の場合は光磁気記録層）、および光透過層が形成されて、情報記録媒体としての光ディスクとなる。かかる相変化記録層としては、例えば単体のカルコゲンやカルコゲン化合物が用いられる。具体的には、Ｔｅ、Ｓｅの各単体、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｇｅ−Ｔｅ、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｅ−Ａｇ、Ｉｎ−Ｓｅ、Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｌ−Ｃｏ、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｓｅ、Ｂｉ２Ｔｅ３、ＢｉＳｅ、Ｓｂ２Ｓｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３等のカルコゲナイト系材料が使用される。また、光磁気記録層には、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ等の非晶質合金薄膜等のカー効果やファラデー効果等の磁気光学特性を有する垂直磁化層等が用いられる。
【０１３１】
記録層の上下の層には誘電体層を設け、光学的特性や熱的特性を制御することが好ましい。誘電体層としては、例えば、Ａｌ、Ｓｉ等の金属、半金属元素の窒化物、酸化物、硫化物等が適用される。その具体例としては、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物や、ＡｌＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＭｇＦ２等が例示される。
【０１３２】
光透過層は、記録層の上または、誘電体層がある場合には誘電体層の上に形成される。この光透過層は記録層や基板のピットやグルーブを保護するための透明保護層となる。この光透過層の材料は芳香族ポリカーボネートや非晶性ポリオレフィン系樹脂等の透明な熱可塑性樹脂や、各種熱硬化性（特に光硬化性）樹脂等が挙げられる。透明保護層を形成する手段は、例えば記録層上に芳香族ポリカーボネートや非晶性ポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂からなるシート等の透明シートを貼り合わせる方法（この際の接着層としては光硬化性樹脂が好適である）や、紫外線硬化樹脂をスピンコート等の手法によって塗布し、紫外線照射することによって保護層形成する方法等が挙げられる。さらに特に透明シートを使用する方法では、その表面にさらに高硬度特性や帯電防止性等を有する保護透明層を設けることもできる。光透過層（保護透明層がある場合にはその厚みを含む）の厚みは、コマ収差を小さく抑えるために、３〜２００μｍの範囲に制限される。特に１００μｍ程度の厚みが好ましい。
【０１３３】
光ディスクは、多くの場合、光線を該ディスクの光透過層側から照射し、光透過層を通じて記録層等に到達・反射させて、情報信号の記録／再生が行われる。
【０１３４】
なお、本発明の光ディスク基板上に転写されるグルーブもしくはビットの構成、基板上に形成される積層構成や、反射層（反射膜）あるいは記録層と光透過層の構成は、特に限定されるものではなく、グルーブ又はピットが基板の両面に設けられ、反射層あるいは記録層及び光透過層も共に両面に設けられていてもよい。なお、光ディスクの上記の如き多層構造は広く知られるところであり、例えばその詳細は特開平１１−７６５８号公報等に記載されている。
【０１３５】
次に、かかる光ディスクの多層構造の具体例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図面は、代表的な光ディスクの構造を単に例示するものであって、本発明の光ディスク基板の用途が、かかる構造の光ディスクのみに限定されないことは言うまでもない。
【０１３６】
図１〜図４は、それぞれ光記録媒体としての光ディスクの構造の一例を示すものであり、ディスク面における垂直の断面の部分的模式図である。図１に示す光ディスク１は、ポリ乳酸樹脂組成物からなる基板（１）上に、反射層（２）、記録層（３）、および光透過層（４）が順次積層形成されてなるものである。基板（１）には、その上部表面にデータ情報やトラッキングサーボ信号等の記録がなされる位相ピットや、プリグルーブ等の微細な凸凹等の所定の凸凹パターンからなるグルーブが形成されている。また、図２に示す光ディスク２は、ポリ乳酸樹脂組成物からなる基板（１）上に、第１の反射層（５）、第１の記録層（６）、中間層（７）、第２の反射層（８）、第２の記録層（９）、および光透過層（４）が順次複数積層された多層構造を有するものである。さらに、図３に示す光ディスク３では、ピット又はグルーブがポリ乳酸樹脂組成物からなる基板（１）の両面に設けられ、上面には第１の反射層（５）、第１の記録層（６）、および光透過層（４）が、下面には第２の反射層（８）、第２の記録層（９）、および光透過層（４）が、それぞれ順次積層形成されている。なお、これら図１〜図３に示す光ディスクを構成する基板、反射層、記録層、光透過層等の材料としては、それぞれ同一もしくは類似の特性を持つ材料が使用可能である。
【０１３７】
さらに、図４には、記録層の上下の層に誘電体層が設けられた構成を有する多層構造の光ディスク４を示す。このディスク４では、基板（１）の上に、反射膜（１０）、第１の誘電体層（１１）、相変化型記録層（１２）、第２の誘電体層（１３）が積層されており、さらにその表面を光透過層（１４）で被覆している。かかる層構成における各層の厚みの一例としては、基板１．１ｍｍ、反射膜６０ｎｍ、第１の誘電体層１９ｎｍ、相変化型記録層２４ｎｍ、第２の誘電体層１００ｎｍ、そして光透過層１００μｍである態様が例示される。
【０１３８】
本発明では、既に詳述したポリ乳酸樹脂からなる光ディスク基板を有する限り、その上に積層される層の構成や数等にかかわらず、本発明の範囲に包含される。
【０１３９】
本発明の光ディスク基板は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定の昇温過程におけるポリ乳酸に由来する融解ピークにおいて、１９５℃以上の融解ピークの割合が２０％以上、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは８０％以上、特に好ましくは９５％以上である。１９５℃以上の融解ピークの割合が大きいほど、成形品の耐加水分解性が高くなる。
【０１４０】
融点は、１９５〜２５０℃の範囲が好ましく、より好ましくは２００〜２２０℃の範囲である。融解エンタルピーは、２０Ｊ／ｇ以上が好ましく、より好ましくは３０Ｊ／ｇ以上である。
【０１４１】
具体的には、示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定の昇温過程におけるポリ乳酸に由来する融解ピークにおいて、１９５℃以上の融解ピークの割合が３０％以上であり、融点が１９５〜２５０℃の範囲にあり、融解エンタルピーが２０Ｊ／ｇ以上であることが好ましい。
【０１４２】
さらに本発明の光ディスク基板には、表面改質を施すことによりさらに他の機能を付与することが可能である。ここでいう表面改質とは、蒸着（物理蒸着、化学蒸着等）、メッキ（電気メッキ、無電解メッキ、溶融メッキ等）、塗装、コーティング、印刷等の樹脂成形品の表層上に新たな層を形成させるものであり、通常の樹脂成形品に用いられる方法が適用できる。
【実施例】
【０１４３】
以下、実施例により本発明を詳述する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４４】
下記の製造例に示す方法により、ポリ乳酸単位の製造を行った。また実施例中における各値は下記の方法で求めた。
（１）還元粘度：ポリ乳酸単位０．１２ｇを１０ｍＬのテトラクロロエタン／フェノール（容量比１／１）に溶解し、３５℃における還元粘度（ｍＬ／ｇ）を測定した。
（２）重量平均分子量（Ｍｗ）：ポリ乳酸単位の重量平均分子量はＧＰＣ（カラム温度４０℃、クロロホルム）により、ポリスチレン標準サンプルとの比較で求めた。
（３）結晶化点、融点：ポリ乳酸単位をＤＳＣを用いて、窒素雰囲気下、昇温速度２０℃／分で測定し、結晶化点（Ｔｃ）、および融点（Ｔｍ）を求めた。
【０１４５】
＜製造例１：ポリ乳酸単位Ｂ−３成分の製造＞
Ｌ−ラクチド（株式会社武蔵野化学研究所）５０重量部を重合槽に加え、系内を窒素置換した後、ステアリルアルコール０．０５重量部、触媒としてオクチル酸スズ２５×１０−３重量部を加え、１９０℃、２時間、重合を行い、ポリ乳酸単位Ｂ−３成分を得た。得られたポリ乳酸単位Ｂ−３成分の還元粘度は１．４８（ｍＬ／ｇ）、重量平均分子量１１万であった。融点（Ｔｍ）は１５８℃であった。結晶化点（Ｔｃ）は１１７℃であった。
【０１４６】
＜製造例２：ポリ乳酸単位Ｂ−６成分の製造＞
Ｄ−ラクチド（株式会社武蔵野化学研究所）５０重量部を重合槽に加え、系内を窒素置換した後、ステアリルアルコール０．０５重量部、触媒としてオクチル酸スズ２５×１０−３重量部を加え、１９０℃、２時間、重合を行い、ポリ乳酸単位Ｂ−６成分を得た。得られたポリ乳酸単位Ｂ−６成分の還元粘度は１．９５（ｍＬ／ｇ）、重量平均分子量１１万であった。融点（Ｔｍ）は１５８℃であった。結晶化点（Ｔｃ）は１２１℃であった。
【０１４７】
＜製造例３：ポリ乳酸単位Ｂ−２成分の製造＞
Ｌ−ラクチド（株式会社武蔵野化学研究所製）４８．７５重量部とＤ−ラクチド（株式会社武蔵野化学研究所製）１．２５重量部を重合槽に加え、系内を窒素置換した後、ステアリルアルコール０．０５重量部、触媒としてオクチル酸スズ２５×１０−３重量部を加え、１９０℃、２時間、重合を行い、ポリマーを製造した。このポリマーを７％５Ｎ塩酸のアセトン溶液で洗浄し、触媒を除去し、ポリ乳酸単位Ｂ−２成分を得た。得られたポリ乳酸単位Ｂ−２成分の還元粘度は１．４７（ｍＬ／ｇ）、重量平均分子量１０万であった。融点（Ｔｍ）は１５９℃であった。結晶化点（Ｔｃ）は１２０℃であった。
【０１４８】
＜製造例４：ポリ乳酸単位Ｂ−５成分の製造＞
Ｌ−ラクチド（株式会社武蔵野化学研究所）１．２５重量部とＤ−ラクチド（株式会社武蔵野化学研究所）４８．７５重量部を重合槽に加え、系内を窒素置換した後、ステアリルアルコール０．０５重量部、触媒としてオクチル酸スズ２５×１０−３重量部を加え、１９０℃、２時間、重合を行い、ポリマーを製造した。このポリマーを７％５Ｎ塩酸のアセトン溶液で洗浄し、触媒を除去し、ポリ乳酸単位Ｂ−５成分を得た。得られたポリ乳酸単位Ｂ−５成分の還元粘度は１．７６（ｍＬ／ｇ）、重量平均分子量１２万であった。融点（Ｔｍ）は１５６℃であった。結晶化点（Ｔｃ）は１２０℃であった。
【０１４９】
＜製造例５：ポリ乳酸１の製造＞
製造例１で得られたポリ乳酸単位Ｂ−３成分  １００重量部、および製造例２で得られたポリ乳酸単位Ｂ−６成分  １００重量部を、径３０ｍｍφのベント式二軸押出機［（株）日本製鋼所製ＴＥＸ３０ＸＳＳＴ］に供給し、シリンダー温度２８０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、吐出量１５ｋｇ／ｈ、およびベント減圧度３ｋＰａで溶融押出してペレット化し、ポリ乳酸１を得た。
【０１５０】
＜製造例６：ポリ乳酸２の製造＞
製造例３で得られたポリ乳酸単位Ｂ−２成分  １００重量部、および製造例４で得られたポリ乳酸単位Ｂ−５成分  １００重量部を、径３０ｍｍφのベント式二軸押出機［（株）日本製鋼所製ＴＥＸ３０ＸＳＳＴ］に供給し、シリンダー温度２８０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、吐出量１５ｋｇ／ｈ、およびベント減圧度３ｋＰａで溶融押出してペレット化し、ポリ乳酸２を得た。
【０１５１】
＜製造例７：ポリ乳酸３の製造＞
製造例３で得られたポリ乳酸単位Ｂ−２成分  １００重量部、製造例４で得られたポリ乳酸単位Ｂ−５成分  １００重量部、及びカルボジイミド化合物（カルボジライトＨＭＶ−８ＣＡ：日清紡（株）製）  １重量部を、径３０ｍｍφのベント式二軸押出機［（株）日本製鋼所製ＴＥＸ３０ＸＳＳＴ］に供給し、シリンダー温度２８０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、吐出量１５ｋｇ／ｈ、およびベント減圧度３ｋＰａで溶融押出してペレット化し、ポリ乳酸３を得た。
【０１５２】
下記の実施例、比較例に示す方法により、ディスク成形品の製造を行った。また実施例中における各値は下記の方法で求めた。
（１）１９５℃以上の融解ピークの割合：ＤＳＣを用いて、窒素雰囲気下、昇温速度２０℃／分で測定し、１９５℃以上の融解ピークの割合（％）を、１９５℃以上（高温）の融解ピーク面積と１４０〜１８０℃（低温）融解ピーク面積から以下の式により算出した。
Ｒ１９５以上（％）＝Ａ１９５以上／（Ａ１９５以上＋Ａ１４０〜１８０）×１００
Ｒ１９５以上：１９５℃以上の融解ピークの割合
Ａ１９５以上：１９５℃以上の融解ピーク面積
Ａ１４０〜１８０：１４０〜１８０℃の融解ピーク面積
（２）曲げ強度：ＩＳＯ１７８に準拠して曲げ強度を測定した。試験片形状：長さ８０ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚み４ｍｍ。
（３）曲げ弾性率：ＩＳＯ１７８に準拠して曲げ弾性率を測定した。試験片形状：長さ８０ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚み４ｍｍ。
（４）耐熱性：ＩＳＯ７５−１および２に準拠して、荷重たわみ温度を測定した。荷重：１．８０ＭＰａ。
（５）耐加水分解性：ＩＳＯ１７８曲げ試験片を、プレッシャークッカー試験機にて、１２０℃×１００％相対湿度の条件にて８時間処理した後の分子量を、処理前の値に対する保持率で評価した。
（６）耐薬品性：光ディスク基板成形品を、室温にてメタノールに１週間浸漬した後、表面状態を観察し、以下の基準で評価を行った。
◎：全く変化無し
○：やや表面荒れが認められるが、製品として問題なし
×：表面荒れが認められ、製品として不可
（７）ディスク基板転写率：光ディスク成形品に転写した溝の深さを、原子力顕微鏡（セイコー電子工業：ＳＰＩ３７００）を用いて、中央から外周へ４０ｍｍの位置にて５箇所を測定した。転写性は次式：
転写率（％）＝１００×ディスクの溝深さ／スタンパーの溝深さ
で示される転写率として示した。この値が１００％に近いほど転写性に優れている。
（８）ディスク基板表面状態：光ディスク成形品の表面状態を、共焦点反射顕微鏡（オリンパス光学工業（株）製：ＭＸ５０）を用い、光ディスク基板のスタンパー非転写面側、スタンパー中央から外周へ４０ｍｍの位置で観察し、下記の基準にて判断した。
○：異物の浮きや微細なヒケといった平滑異常が全く認められないもの
△：平滑異常が僅かに認められるもの
×：平滑異常が明らかに認められるもの
（９）ディスク基板耐熱性：光ディスク成形品に対して、ＪＩＳ Ｓ ８６０５に定める条件（５５℃、７０％相対湿度、９６時間）の耐熱処理を実施した後に、市販のＣＤプレーヤーにて問題無く再生できれば○、再生できなければ×と判定した。
【０１５３】
原料としては、以下のものを用いた。
（Ａ成分）
Ａ−１：芳香族ポリカーボネート樹脂パウダー（帝人化成（株）製：パンライト Ｌ−１２５０ＷＰ、粘度平均分子量２３，９００）
（Ｃ成分）
Ｃ−１：タルク（巴工業（株）製：HiTalc Premium HTP ultra 5C）
（その他成分）
Ｐ−１：ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト（旭電化工業（株）製：アデカスタブＰＥＰ−８）
【０１５４】
＜実施例１〜７、比較例１＞
表２に示す組成で芳香族ポリカーボネート樹脂、ポリ乳酸、結晶核剤、およびリン系安定剤をタンブラーを用いて均一に混合して予備混合物を作成し、かかる混合物を径３０ｍｍφのベント式二軸押出機［（株）日本製鋼所製ＴＥＸ３０ＸＳＳＴ］の第１供給口より供給し、シリンダー温度２６０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、吐出量２０ｋｇ／ｈ、およびベント減圧度３ｋＰａで溶融押出してペレット化した。
【０１５５】
スクリュー構成はサイドフィーダー位置以前に第１段のニーディングゾーン（送りのニーディングディスク×２、送りのローター×１、戻しのローター×１および戻しニーディングディスク×１から構成される）を、サイドフィーダー位置以後に第２段のニーディングゾーン（送りのローター×１、および戻しのローター×１から構成される）を設けてあった。
【０１５６】
得られたペレットを１００℃で５時間、熱風循環式乾燥機により乾燥した。乾燥後、射出成形機（東芝機械（株）製：ＩＳ−１５０ＥＮ）により、シリンダー温度２４０℃、金型温度８０℃、成形サイクル８０秒の条件で、曲げ強度、曲げ弾性率、および荷重たわみ温度評価用の試験片を成形した。また上記乾燥ペレットを用いて、射出成形機（（株）名機製作所製：Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭ）、およびＣＤ用スタンパー（ピット深さ１００ｎｍ、ピット列間隔１．６μｍ）を用いて、シリンダー温度２５０℃、金型温度８０℃で、成形サイクル６０秒の条件で直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板を成形した。これらの成形品を用いて各特性を測定した。それらの射出成形性および測定結果を表２に示す。
【０１５７】
【表２】
0004847139.tif 000005
【０１５８】
表２の結果から明らかな通り、芳香族ポリカーボネート樹脂とポリ乳酸からなる組成物から得られる成形品は、ポリ乳酸成分が、ステレオコンプレックスを形成することにより、耐加水分解性が大きく向上すると共に、耐薬品性も向上することが分かる。また、ポリ乳酸成分の製造方法として、主としてＬ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位成分と、主としてＤ−乳酸単位からなるポリ乳酸単位成分とを、芳香族ポリカーボネート樹脂と混合する前に予め混合しておくことによりステレオコンプレックスの形成比率が高い成形品が得られ、その結果耐加水分解性が更に高まることがわかる。さらに、末端封鎖剤を含むことによる耐加水分解性の更なる向上も得られていることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１５９】
【図１】本発明に係る基板を用いた光ディスクの一例を示すディスク面の垂直断面の部分的模式図である。
【図２】本発明に係る基板を用いた光ディスクの他の一例を示すディスク面の垂直断面の部分的模式図である。
【図３】本発明に係る基板を用いた光ディスクの他の一例を示すディスク面の垂直断面の部分的模式図である。
【図４】本発明に係る基板を用いた光ディスクの他の一例を示すディスク面の垂直断面の部分的模式図である。
【符号の説明】
【０１６０】
１：基板
２：反射層
３：記録層
４：光透過層
５：第１の反射層
６：第１の記録層
７：中間層
８：第２の反射層
９：第２の記録層
１０：反射膜
１１：第１の誘電体層
１２：相変化型記録層
１３：第２の誘電体層
１４：光透過層
【図１】
0004847139.tif 000006
【図２】
0004847139.tif 000007
【図３】
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【図４】
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