(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを保持するプレートを有し、該プレートがプレート面において直交するＸＹ方向および上記プレート面に対して直交する軸の周りのθ回転方向に移動可能なＸＹθ移動ステージにおいて、
ステージベースと、
上記ステージベースに固定され、移動磁界を発生する磁極を有する推力発生手段と、
上記ステージベースに固定された３個の基準支持部材と、
上記ステージベースに固定された１個以上の補助支持部材とを備え、
上記プレートは、上記３個の基準支持部材および上記１個以上の補助支持部材によって支持されると共に、上記ワークを保持する面とは反対側の面に、碁盤目状の凸極が形成された平面状のプラテンが設けられ、上記推力発生手段により駆動されることを特徴とするＸＹθ移動ステージ。
【請求項２】
上記基準支持部材は、上記プレート面に対して直交するＺ方向の高さが固定されており、上記補助支持部材は、上記プレート面に対して直交するＺ方向の高さが可変であることを特徴とする請求項１に記載のＸＹθ移動ステージ。
【請求項３】
上記基準支持部材は、エア噴出孔を有するエアパッドと、該エアパッドを支持する台座と、上記エアパッドを上記台座に対して支持する球面軸受とを備え、
上記補助支持部材は、エア噴出孔を有するエアパッドと、該エアパッドを支持するエアシリンダまたはスプリングと、上記エアパッドを上記エアシリンダまたは上記スプリングに対して支持する球面軸受とを備えることを特徴とする請求項１に記載のＸＹθ移動ステージ。
【請求項４】
ワークを保持するプレートを有し、該プレートがプレート面において直交するＸＹ方向および上記プレート面に対して直交する軸の周りのθ回転方向に移動可能なＸＹθ移動ステージにおいて、
ステージベースと、
上記ステージベースに固定され、移動磁界を発生する磁極とエア噴出孔を有するエアパッドと、該エアパッドを支持する台座と、上記エアパッドを上記台座に対して支持する球面軸受とを備える３個の基準支持部材と、
上記ステージベースに固定され、エア噴出孔を有するエアパッドと、該エアパッドを支持するエアシリンダまたはスプリングと、上記エアパッドを上記エアシリンダまたは上記スプリングに対して支持する球面軸受とを備える１個以上の補助支持部材とを備え、
上記プレートは、上記３個の基準支持部材および上記１個以上の補助支持部材によって支持されると共に、上記ワークを保持する面とは反対側の面に、碁盤目状の凸極が形成された平面状のプラテンが設けられ、上記基準支持部材により駆動されることを特徴とするＸＹθ移動ステージ。
【請求項５】
上記補助支持部材は、上記平面プレートが占める領域よりも広い領域において分散配置されていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１つの請求項に記載のＸＹθ移動ステージ。
【請求項６】
上記プレートに設けられているプラテンは、複数に分割されていることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１つの請求項に記載のＸＹθ移動ステージ。
【請求項７】
マスクステージに保持されたマスクを介して、ＸＹθ移動ステージに保持されたワークに、光照射部からの光りを照射して、上記ワークを露光処理する露光装置において、
上記ＸＹθ移動ステージが請求項１ないし請求項６のいずれか１つの請求項に記載のＸＹθ移動ステージであることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
照明部からの照明光により、ＸＹθ移動ステージに保持されたワークに照明し、照明されたワークを撮像し、撮像された画像に基づき、上記ワークに形成されたパターンを検査する検査装置において、
上記ＸＹθ移動ステージが請求項１ないし請求項６のいずれか１つの請求項に記載の移動ステージであることを特徴とする検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＸＹθ移動ステージに係り、例えば、露光装置や検査装置など使用され、ワークを保持するプレート面において直交するＸＹ方向およびプレート面に対して直交する軸の周りのθ回転方向に移動可能なＸＹθ移動ステージに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、特開平９−２３６８９号公報に示されるように、碁盤目状に強磁性体の凸極が設けられている平面状のプラテン上に、移動体をエアにより浮上させ、移動体に磁力を印加して、移動体とプラテンの凸極との間の磁力を変化させることにより、移動体を移動させる平面ステージ装置が知られている。
上記装置における平面ステージは、移動体の一方の面（通常は上面）がワークを載置するためのワークステージとなるため、移動体の表面もプラテンの表面も、精度良く平面加工されている。移動体の他方の面（通常は下面）には、直交する座標軸の各軸方向に移動磁界を発生させるための磁極と、エアを吹き出すエアパッドが設けられている。
この平面ステージ装置は、プラテンの凸極に向き合うように、移動体の磁極とエアパッドが置かれ、移動体はエアの作用により浮上する。この状態で移動体の磁極に移動磁界を発生させ、磁極とプラテンの凸極との間の磁界を変化させることにより、移動体をプラテン上を移動させることができる。
【０００３】
なお、このような構成を有する装置は、サーフェースモータステージ装置、ソーヤモータステージ装置などと称されている。
【０００４】
このような平面ステージ装置は、従来の駆動手段としてボールネジを用いた構成のステージ装置などとは異なり、Ｘ方向に移動するＸステージ、Ｙ方向に移動するＹステージおよびθ回転移動するθステージと複数のステージを重ね合わせることなく、プラテンの平面よりなる１つのステージ上において移動体をＸＹ方向およびθ回転方向に移動させることができる。
【０００５】
そのため、このステージ装置は、近年、複数の露光領域に分割されたワークを分割された領域順に移動して逐次（ステップ・アンド・リピート）露光する露光装置のワークステージに適用することが検討されている。ワークステージとして平面ステージ装置を用いた露光装置においては、ワークステージの構成が単純なものとなることから、装置の小型軽量化を図ることができると期待されている。
【０００６】
図８は、ソーヤモータステージ（ＸＹθ移動ステージ）装置を、逐次（ステップ・アンド・リピート）露光装置に適用した露光装置の構成を示す図である。
同図に示すように、光照射部１０１は、露光光を含む光を放射するランプ１０２と、ランプ１０２からの光を反射するミラー１０３を有する。マスクステージ１０４は、パターンが形成されたマスク１０５を保持する。投影レンズ１０６は、マスク１０５のパターンを平面プレート１０７上に載置保持されているワーク１０８上に投影する。
【０００７】
平面プレート１０７は、ソーヤモータステージの移動体１０９の上に取り付けられており、移動体１０９は、エア噴出の作用により、プラテン１１０に対し１０〜２０μｍの間隔で浮上している。プラテン１１０の表面には、碁盤目状に強磁性体の凸極１１１が設けられ、精度良く平面に加工されている。
【０００８】
移動体１０９は、プラテン１１０の平面において直行するＸＹ座標軸の各軸方向に移動磁界を発生する磁極１１２を有する。磁極１１２にＸＹ座標軸の各軸方向に移動磁界を発生させることにより、プラテン１１０に形成されている凸極１１１との相互作用により、移動体１０９は、ＸＹ方向およびプラテン１１０平面に対して直交する軸の周りのθ回転方向に移動する。移動体１０９を移動させることにより、平面プレート１０７上に保持された、複数の露光領域に分割されたワーク１０８を、分割された領域順に移動して露光することができる。                     
【特許文献１】特開平９−２３６８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記のようなソーヤモータステージをワーク１０８を移動させるステージとして使った逐次（ステップ・アンド・リピート）露光装置を、液晶パネルやプリント基板の露光にも適用したいという要望がある。
しかし、近年、液晶パネルやプリント基板は大型化しており、これらのワーク１０８はソーヤモータステージの移動体１０９よりも大きく、そのワーク１０８を載置保持する平面プレート１０７も、移動体１０９よりも大きくなる。したがって、移動体１０９の上にオーバーハングするようにワーク１０８を載置する平面プレート１０７が設けられることになる。
【００１０】
図９は、図８に示す露光装置に適用されたＸＹθ移動ステージにおいて、プラテン１１０に対する移動体１０９に偏荷重が加わったときの状態を示す図である。
同図に示すように、移動体１０９に対してオーバーハングして載置された平面プレート１０７には、偏荷重がかかりやすく、一方、移動体１０９はプラテン１１０に対してエア浮上して支持されるので、偏荷重に弱い。したがって、平面プレート１０７の端に力が加わると、平面プレート１０７にφ方向の傾きや揺れが生じることになる。このような露光装置においては、ワーク１０８の端の方の露光領域を露光中に、φ方向の揺れが発生すると、ワーク１０８の表面が、投影レンズ１０６の結像位置からずれてしまうので、ワーク１０８に投影されるマスクパターンの像がぼけてしまい、露光精度が悪くなる。
【００１１】
本発明の目的は、上記の問題点に鑑み、装置の小型軽量化を図ることのできる平面ステージの構成を利用しつつ、大型のワークを載置する平面プレートに偏荷重が加わっても、揺れが生じることのないＸＹθ移動ステージを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、上記の課題を解決するために、次のような手段を採用した。
第１の手段は、ワークを保持するプレートを有し、該プレートがプレート面において直交するＸＹ方向および上記プレート面に対して直交する軸の周りのθ回転方向に移動可能なＸＹθ移動ステージにおいて、ステージベースと、上記ステージベースに固定され、移動磁界を発生する磁極を有する推力発生手段と、上記ステージベースに固定された３個の基準支持部材と、上記ステージベースに固定された１個以上の補助支持部材とを備え、上記プレートは、上記３個の基準支持部材および上記１個以上の補助支持部材によって支持されると共に、上記ワークを保持する面とは反対側の面に、碁盤目状の凸極が形成された平面状のプラテンが設けられ、上記推力発生手段により駆動されることを特徴とするＸＹθ移動ステージである。
第２の手段は、第１の手段において、上記基準支持部材は、上記プレート面に対して直交するＺ方向の高さが固定されており、上記補助支持部材は、上記プレート面に対して直交するＺ方向の高さが可変であることを特徴とするＸＹθ移動ステージである。
第３の手段は、第１の手段において、上記基準支持部材は、エア噴出孔を有するエアパッドと、該エアパッドを支持する台座と、上記エアパッドを上記台座に対して支持する球面軸受とを備え、上記補助支持部材は、エア噴出孔を有するエアパッドと、該エアパッドを支持するエアシリンダまたはスプリングと、上記エアパッドを上記エアシリンダまたは上記スプリングに対して支持する球面軸受とを備えることを特徴とするＸＹθ移動ステージである。
第４の手段は、ワークを保持するプレートを有し、該プレートがプレート面において直交するＸＹ方向および上記プレート面に対して直交する軸の周りのθ回転方向に移動可能なＸＹθ移動ステージにおいて、ステージベースと、上記ステージベースに固定され、移動磁界を発生する磁極とエア噴出孔を有するエアパッドと、該エアパッドを支持する台座と、上記エアパッドを上記台座に対して支持する球面軸受とを備える３個の基準支持部材と、上記ステージベースに固定され、エア噴出孔を有するエアパッドと、該エアパッドを支持するエアシリンダまたはスプリングと、上記エアパッドを上記エアシリンダまたは上記スプリングに対して支持する球面軸受とを備える１個以上の補助支持部材とを備え、上記プレートは、上記３個の基準支持部材および上記１個以上の補助支持部材によって支持されると共に、上記ワークを保持する面とは反対側の面に、碁盤目状の凸極が形成された平面状のプラテンが設けられ、上記基準支持部材により駆動されることを特徴とするＸＹθ移動ステージである。
第５の手段は、第１の手段ないし第４の手段のいずれか１つの手段において、上記補助支持部材は、上記平面プレートが占める領域よりも広い領域をおいて分散配置されていることを特徴とするＸＹθ移動ステージである。
第６の手段は、第１の手段ないし第５の手段のいずれか１つの手段において、上記プレートに設けられているプラテンは、複数に分割されていることを特徴とするＸＹθ移動ステージである。
第７の手段は、マスクステージに保持されたマスクを介して、ＸＹθ移動ステージに保持されたワークに、光照射部からの光りを照射して、上記ワークを露光処理する露光装置において、上記ＸＹθ移動ステージが第１の手段ないし第６の手段のいずれか１つの手段に記載のＸＹθ移動ステージであることを特徴とする露光装置である。
第８の手段は、照明部からの照明光により、ＸＹθ移動ステージに保持されたワークに照明し、照明されたワークを撮像し、撮像された画像に基づき、上記ワークに形成されたパターンを検査する検査装置において、上記ＸＹθ移動ステージが第１の手段ないし第６の手段のいずれか１つの手段に記載の移動ステージであることを特徴とする検査装置。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１および請求項２に記載の発明によれば、平面プレートの端に偏荷重がかかっても、補助支持部材が平面プレートが移動する全領域に渡って分散して配置されているので、平面プレートの傾きや揺れを防ぐことができる。
請求項３に記載の発明によれば、基準支持部材および補助支持部材は、自由に首振り可能な球面軸受によって支持されたエアパッドを備えているので、平面プレートを柔軟に支持することができる。
請求項４に記載の発明によれば、基準支持部材が推力発生手段の機能を備えているので、部品点数を減らすことができ、さらに小型軽量化を図ることができる。
請求項５に記載の発明によれば、平面プレートが広範囲に移動しても、平面プレートの傾きや揺れを確実に防ぐことができる。
請求項６に記載の発明によれば、平面プレートとプラテンの熱膨張率が異なっていても、熱膨張の差を吸収することができる。
請求項７に記載の発明によれば、露光を行っている領域が常に３個の基準支持部材が囲む領域内にあるので、露光を行っている領域が、傾いたり揺れたりすることがなく、安定した状態で露光処理を行うことができる。
請求項８に記載の発明によれば、検査を行っている領域を常に３個の基準支持部材が支持しているので、検査を行っている領域が、傾いたり揺れたりすることがなく、安定した状態で検査処理を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の第１の実施形態を図１ないし図６を用いて説明する。
図１は、本発明に係るＸＹθ移動ステージを適用した露光装置の構成を示す断面図、図２は図１に示したＸＹθ移動ステージの平面図である。なお、図１は図２のＡ−Ａ断面図であり、また図１においては、図８に示したような光照射部、マスクおよびマスクステー
ジは省略されている。
【００１５】
これらの図において、１はＸＹθ移動ステージが搭載されるベースプレートまたはベースフレームを構成するステージベース、２はステージベース１上に設けられる推力発生手段、３はステージベース１に固定される基準支持部材、４はステージベース１に固定される補助支持部材、５は平面プレート６、ハニカムコア７、およびプラテン８からなる平面ステージ、６は表面に露光を行うワーク９を載置保持する平面プレート、７は平面プレート６の裏面側（ワーク９が保持される側とは反対側）に設けられ、平面プレート６を薄く軽くしても、剛性が保つために設けられたハニカムコア、８は平面プレート６の裏側に設けられ、ハニカムコア７を介して、複数に分割され隙間８１をあけて取り付けられたプラテン、９はワーク、１０は投影レンズである。
【００１６】
これらの図に示すように、推力発生手段２は、従来の平面ステージの移動体と同様の構成を有しており、平面プレート６を移動させるための、プラテン８の平面において直交するＸ方向およびＹ方向の移動磁界、並びにプラテン８の平面に対して直交する座標軸の周りのθ回転軸方向の移動磁界を発生する磁極を備える。
また、推力発生手段２は、図２に示すように、移動磁界の方向がＸ軸に沿う方向に１個配置されたＸ方向推力発生手段２１と、移動磁界の方向がＹ軸に沿う方向に２個配置されたＹ方向推力発生手段２２とを有する。Ｙ方向推力発生手段２２の磁界を移動させず、Ｘ方向推力発生手段２１の磁界を移動させると、平面プレート６はＸ方向に移動する。また、Ｘ方向推力発生手段２１の磁界を移動させず、２つのＹ方向推力発生手段２２の磁界を、同期して同じ方向に移動させると、平面プレート６はＹ方向に移動する。また、Ｘ方向推力発生手段２１の磁界を移動させず、２つのＹ方向推力発生手段２２の磁界を、反対方向に移動させると、平面プレート６はθ回転軸方向に回転移動する。
【００１７】
また、基準支持部材３は、平面プレート６を支持するために３個設けられ、平面プレート６が、その移動範囲内においてどこに移動しても、常に平面プレート６の下にあり、平面プレート６を支持できる位置に配置される。すなわち、基準支持部材３は、３角形の頂点を形成する位置に配置され、その３角形に外接する円の領域に、１回の光照射で露光される露光領域が含まれるように配置する。このように構成することにより、露光を行っている領域が、常に３個の基準支持部材３が囲む領域内にあることになる。その結果、露光を行っている領域が、傾いたり揺れたりすることがなく、安定した状態で露光処理を行うことができる。
【００１８】
また、図２に示すように、補助支持部材４は、平面プレート６を支持するために１個以上、平面プレート６が占める領域よりも広い範囲に設けられ、平面プレート６が移動する領域全体に渡って分散して配置される。これにより平面プレート６が、その移動範囲内においてどこに移動しても、常に平面プレート６は基準支持部材３の他に、補助支持部材４により支持される。その結果、平面プレート６に偏荷重がかかっても、平面プレート６は傾いたり揺れたりすることがなく、安定した状態で露光処理を行うことができる。
【００１９】
なお、推力発生手段２、基準支持部材３、および補助支持部材４の平面ステージ５に対向する面からは、エアが噴出し、平面ステージ５はエア圧力で浮上される。
【００２０】
平面プレート６は、表面は精度良く平面加工されており、また、ワーク９を保持するための不図示の真空吸着溝が形成され、真空配管が接続されている。
【００２１】
プラテン８は、表面は碁盤目状に凸極が形成され、凸極と凸極の間が樹脂で埋められ、その後、平面研削されている。プラテン８は複数に分割され、隙間８１が設けられているのは、平面プレート６が機械加工の容易なアルミニウム製であるのに対して、プラテン８は純鉄製であり、熱膨張率が異なるので、熱膨張の差を隙間８１により吸収し、平面プレート６に反り等の変形が生じるのを防ぐためである。
【００２２】
図３は、推力発生手段２の具体的構成を示す斜視図である。
同図に示すように、推力発生手段２は、ステージベース１に対して高さ（上下）方向に自由度を有するように取り付けられる板ばね２３と、板ばね２３上に取り付けられ、一軸方向に移動磁界を発生する磁極２４とから構成されている。また、磁極２４の表面にはエア噴出孔２５が設けられ、平面プレート６を浮上させるためのエアが供給されている。
上記したように、推力発生手段２は、Ｘ方向に推力を発生させるＸ方向推力発生手段２１が１個と、Ｙ方向に推力を発生させるＹ方向推力発生手段２２が２個の、合計３個設けられる。
【００２３】
図４は、基準支持部材３の具体的構成を示す断面図である。
同図に示すように、基準支持部材３は、エア噴出孔３１を有するエアパッド３２と、ステージベース１に固定されエアパッド３２を支持する台座３３と、エアパッド３２を台座３３に対して支持する球面軸受３４とから構成される。エアパッド３２は、多孔質、またはオリフィスが設けられた表面からエアが噴出するエア噴出孔３１を備え、球面軸受３４により自由に首振り可能に構成されている。
基準支持部材３は、図２に示すように、ベースステージ１上に３個設けられ、予めステージベース１に対して高さを設定しておくことにより、平面プレート６の平面位置を決める。
【００２４】
図５は、補助支持部材４の具体的構成を示す断面図である。
同図に示すように、補助支持部材４は、エア噴出孔４１を有するエアパッド４２と、エアパッド４２を支持する中間台４３と、中間台４３からエアシリンダ４５内に伸びるシャフト４４と、ステージベース１に固定され中間台４３を支持するエアシリンダ４５と、エアパッド４２を中間台４３に対して支持する球面軸受４６とから構成されている。
補助支持部材４は、図２に示すように、ベースステージ１上に１個以上設けられ、エアシリンダ４５によって供給されるエアの圧力を変化させることにより、シャフト４４が任意の推力で上下し、エアパッド４２を任意の高さに調整することができる。
【００２５】
図６は、図５に示す補助支持部材４と異なる補助支持部材の具体的構成を示す断面図である。
同図に示すように、補助支持部材４は、エア噴出孔４１を有するエアパッド４２と、エアパッド４２を支持する中間台４３と、中間台４３からスプリング４７に伸びるシャフト４４と、ステージベース１に固定され中間台４３を支持するスプリング４７と、エアパッド４２を中間台４３に対して支持する球面軸受４６とから構成される。
補助支持部材４は、スプリング４７の弾性圧力が変化することにより、シャフト４４が任意の推力で上下するので、エアパッド４２を任意の高さに調整することができる。
【００２６】
次に、図１ないし図５を用いて、露光装置に適用した本実施形態の発明に係るＸＹθ移動ステージの動作について説明する。
まず、３個の基準支持部材３の高さを設定し、設定後、補助支持部材４のエアシリンダ４５にエアが供給し、シャフト４４を上昇させる。補助支持部材４のエアシリンダ４５に供給するエアの圧力は、平面プレート６の自重撓みをなくする推力が得られる圧力とする。平面プレート６の自重撓みをなくする推力は、平面プレート６の大きさ重さと基準支持部材３や補助支持部材４の個数から予め計算により求めておく。
【００２７】
平面プレート６を、基準支持部材３のエアパッド３２と補助支持部材４のエアパッド４２上に置く。推力発生手段２は、自身の磁力により、推力発生手段２を支持する平行板ばね２３が伸び、平面プレート６の裏面に設けたプラテン８に引き寄せられる。  
【００２８】
基準支持部材３のエアパッド３２、補助支持部材４のエアパッド４２および推力発生手段２にエアが供給されて、表面からエアが噴出されると、平面プレート６が、各エアパッド３２，４２および推力発生手段２に対して浮上する。
【００２９】
露光処理を行うために、ワーク９が平面プレート６上に載置される。Ｘ方向推力発生手段２１およびＹ方向推力発生手段２２の磁界を移動させることにより、平面プレート６がＸＹ平面内を移動し、不図示の光照射部から、マスクを介して露光光を照射して、複数の露光領域に分割されたワーク９をステップ・アンド・リピートにより、分割された領域順に移動させることにより露光が行われる。全領域の露光の終了後、ワーク９を平面プレート６から搬出する。
【００３０】
本実施形態の発明に係るＸＹθ移動ステージによれば、露光時に、平面プレート６の端に偏荷重がかかっても、平面プレート６が移動するエリア全域に渡って分散して配置されている補助支持部材４が平面プレート６を支持し、平面プレート６の傾きや揺れを防ぐことができる。
【００３１】
次に、本発明の第２の実施形態を図７を用いて説明する。
図７は、本発明に係るＸＹθ移動ステージを適用した検査装置の構成を示す断面図である。
同図において、１１は照明部、１２はＬＥＤ、１３は撮像部、１４はレンズ、１５はＣＣＤである。なお、その他の構成は図１に示す同符号の構成に対応するので、説明を省略する。
同図に示すように、本発明に係るＸＹθ移動ステージは、複数の検査領域に分割されたワーク９を、分割された領域順に移動させることにより検査する検査装置であり、照明部１１は、照明光を放射するＬＥＤ１２を有し、平面プレート６上に置かれた検査を行うワーク９に対して照明光を照射する。撮像部１３は、レンズ１４とＣＣＤ１５を有し、照明光により照明されたワーク９のパターンを撮像する。撮像したワーク９の画像は、不図示の制御部において、基準となるパターンと比較され、良否が判定される。
【００３２】
このＸＹθ移動ステージは、第１の実施形態で使用したＸＹθ移動ステージと同じ構造であり、平面プレート６上に置かれた複数の検査領域に分割されたワーク９を、ＸＹθ移動ステージをステップ・アンド・リピートにより、分割された領域順に移動させて撮像し、検査する。
なお、上記の各実施形態においては、推力発生手段２と基準支持部材３とを別個に設けたが、基準支持部材３の上部にあるエアパッド３２の表面に推力発生手段２に備えられていた磁極２４を設け、基準支持部材３を推力発生手段２と兼ねるように構成してもよい。
上記したように、基準支持部材３は、平面プレート６の平面位置を決めるために３個設けられ、推力発生手段２もまたＸ方向推力発生手段２１が１個とＹ方向推力発生手段２２が２個の合計３個設けられるので、両者を兼ねる構成とすることができる。このように基準支持部材３を推力発生手段２と兼ねる構成とすることによって、部品点数を減らすことができ、さらなる小型軽量化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明に係るＸＹθ移動ステージを適用した露光装置の構成を示す断面図である。
【図２】図１に示したＸＹθ移動ステージの平面図である。
【図３】推力発生手段の具体的構成を示す斜視図である。
【図４】基準支持部材の具体的構成を示す断面図である。
【図５】補助支持部材の具体的構成を示す断面図である。
【図６】図５に示した補助支持部材と異なる補助支持部材の具体的構成を示す断面図である。
【図７】本発明に係るＸＹθ移動ステージを適用した検査装置の構成を示す断面図である。
【図８】ソーヤモータステージ装置を、逐次（ステップ・アンド・リピート）露光装置に適用した露光装置の構成を示す図である。
【図９】図８に示す露光装置に適用されたＸＹθ移動ステージにおいて、プラテンに対する移動体に偏荷重が加わったときの状態を示す図である。
【符号の説明】
【００３４】
１  ステージベース
２  推力発生手段
２１  Ｘ方向推力発生手段
２２  Ｙ方向推力発生手段
２３  板ばね
２４  磁極
２５  エア噴出孔
３  基準支持部材
３１  エア噴出孔
３２  エアパッド
３３  台座
３４  球面軸受
４  補助支持部材
４１  エア噴出孔
４２  エアパッド
４３  中間台
４５  エアシリンダ
４４  シャフト
４６  球面軸受
４７  スプリング
５  平面ステージ
６  平面プレート
７  ハニカムコア
８  プラテン
８１  隙間
９  ワーク
１０  投影レンズ
１１  照明部
１２  ＬＥＤ
１３  撮像部
１４  レンズ
１５  ＣＣＤ
【図１】
0004702083.tif 000002
【図２】
0004702083.tif 000003
【図３】
0004702083.tif 000004
【図４】
0004702083.tif 000005
【図５】
0004702083.tif 000006
【図６】
0004702083.tif 000007
【図７】
0004702083.tif 000008
【図８】
0004702083.tif 000009
【図９】
0004702083.tif 000010