(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）構造
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を有する式２の化合物のアノマー混合物を
構造
0004698775.tif 000013
を有する化合物１と、反応媒質として有機溶媒中で、そしてルイス酸の存在下に室温でまたは室温以下で、反応させて構造
0004698775.tif 000014
を有する式３の化合物のアノマー混合物を４４：１より高いβ：αの選択性で形成させ；
（ｂ）前記反応媒質からα形態を実質的に含有しない化合物３のＣ−１”−β形態を採取し；そして
（ｃ）工程（ｂ）の生成物からヒドロキシ保護基を除去することを特徴とする構造
0004698775.tif 000015
を有する化合物エトポシド４を製造する方法。
【請求項２】
前記溶媒がハロゲン化または非ハロゲン化溶媒である請求項１項記載の方法。
【請求項３】
前記溶媒がアセトニトリルである請求項１項記載の方法。
【請求項４】
前記ヒドロキシ保護基を貴金属触媒の存在下周囲の温度で水素添加することにより除去する請求項１項記載の方法。
【請求項５】
前記貴金属触媒がパラジウムである請求項４項記載の方法。
【請求項６】
前記ルイス酸が三フッ化ホウ素エーテル付加化合物である請求項１項記載の方法。
【請求項７】
前記反応を室温乃至−４０℃で実施する請求項１項記載の方法。
【請求項８】
前記反応を０℃乃至−４０℃の温度で実施する請求項７項記載の方法。
【請求項９】
前記反応温度が−１０℃である請求項８項記載の方法。
【請求項１０】
化合物３のアノマー性混合物の塩化メチレン溶液を形成させた後に、塩化メチレンの除去とアルコールの添加を行って生成物のアルコール溶液を形成させ、この溶液から前記Ｃ−１”−βアノマーを結晶化させ、そしてαアノマーを実質的に含有していないＣ−１”−βアノマーの結晶を採取することからなる化合物３のＣ−１”−βアノマーを得る方法。
【請求項１１】
前記アルコールがメタノールである請求項１０項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は抗がん化合物、エトポシドをＣ−１”−βアノマー形態で製造する新規な方法、および新規な中間体化合物に関する。
〔背景技術〕
エトポシド（ｅｔｏｐｏｓｉｄｅ）、ＶＰ−１６、４’−デメチル−４−エピポドフィロトキシンの誘導体はＶｅｐｅｓｉｄ（登録商標）としてブリストル−マイヤーズ  スクイブから市販され、がんの臨床治療に広く使用されている。エトポシドは１９６８年1にＳａｎｄｏｚ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＫｕｈｎ等によって初めて報告された。エトポシドの典型的な合成（スキーム１）において、４’−デメチル−４−エピポドフィロトキシンを側鎖のアリール環のフェノールで保護し、次に保護グルコース誘導体のアノマー性ヒドロキシ基とカップリングさせている。糖およびフェノールのヒドロキシ基を次に脱保護してエトポシドを得る。
フェノールの保護は普通カルボベンゾキシ（ＣＢｚ）基またはその他のアシル保護基で行われる2。しかし、近年Ｗａｎｇ3aおよびＡｌｌｅｖｉ3bはフェノールを保護しないカップリングをそれぞれ独立して報告した。これらの場合、単離が難しく、また所望のカップリングされた生成物の報告されている収率はフェノール基が保護されているときほど高いものではない。また、ＷａｎｇおよびＡｌｌｅｖｉは共にカップリング工程のためにＣ−１”−βアノマー配向での保護された糖を最初に使用することを必要としている。
0004698775.tif 000002
この方法での重要な工程はカップリング反応である。これは一般にはＢＦ3・ＯＥｔ2発生Ｃ−４リグナンカルボカチオンによる糖のアノマー性酸素のアタックによって達成され、これによってＣ−１”−αおよび−βアノマーの混合物が得られる。選択性を達成するために、先行技術ではほとんどがβである糖を製造し、それで反応はβ−アノマー性配置の保持を優位にして進行する1,2,3。これは、優位にβを製造し得る２，３−アシル保護糖の使用を意味しているが、これらの化合物は保護基を清浄に除去するのが難しく、通常は重金属の化学量論量の使用を必要とする。エーテル保護基の使用は稀であり、それはβ糖は容易に製造されない（例えば、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−β−Ｄ−グルコピラノールはこれまで全く報告されていない）からである。ベンジルエーテル保護基は脱保護のための温和で、中性の条件の利点がある。
ＯｈｎｕｍａおよびＨｏｓｈｉ4は２，３−ジ−Ｏ−ベンジル−４，６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−アロピラノースと４’−Ｏ−ＣＢＺ−４’−デメチル−４−エピポドフィロトキシンとのカップリングを報告している。Ａｌｌｅｖｉはトリメチルシリルトリフレートの存在下１−Ｏ−β−トリメチルシリル糖（１−Ｏ−ＴＭＳ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−β−Ｄ−グルコピラノースを包含している）をカップリングして高選択性を達成することを報告している3c,d。
Ｓｉｌｖｅｒｂｅｒｇ等は最近４，６−エチリデン２，３−ジ−Ｏ−ベンジリック−α，β−Ｄ−グルコピラノースの選択的カップリングを報告している5。典型的に使用されたハロゲン化溶媒中で、反応条件下の糖のアノマー化は極めて迅速であり、そして結果としてカップリングによりアノマー混合物が得られた（この選択性はベンジル基での置換分により影響を受けた）。溶媒として好ましくはアセトニトリルの使用はカップリング速度に関して糖のアノマー化を遅延させ、そしてＣ−１”立体化学のコントロールを可能とした。＞８５％β  ２，３−ジ−Ｏ−ベンジル−４，６−Ｏ−エチリデン−Ｄ−グルコピラノースの製造およびエトポシドホスフェートの合成におけるその使用もまた開示されている。
先行技術による問題とは対照的に、本発明者等は、２，３−ジ−Ｏ−ベンジル−４，６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノース（すなわち、αおよびβアノマーの混合物）と４’−デメチル−４−エピポドフィロトキシン（すなわち、保護されていないフェノールを有する）とを有機溶媒、好ましくはアセトニトリル中ＢＦ3・ＯＥｔ2を用いてカップリングさせることにより僅か二工程で高収率でエトポシドを製造できる新規合成法を見出した。新規な中間体生成物は予想外に良好な選択性で形成し、そして次に、ＢＦ3・ＯＥｔ2の存在下で、意外にして予想外にαからβにエピマー化し（おそらくは、β生成物の沈殿により進行される可逆反応を介して）、非常に高い選択性を生じる（＞４４：１）。導入糖はカップリングで高選択性を達成するのにβアノマー含量が高い必要はない。生成物は容易に単離され、再結晶により精製される。好ましくは温和な条件下での水素添加によるヒドロキシ基の脱保護によってエトポシドが高収率および高純度で容易に得られる。
〔発明の開示〕
従って、本発明は、
（ａ）構造
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を有する式２の化合物のアノマー混合物を
構造
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を有する化合物１と、反応媒質として有機溶媒中で、そしてルイス酸の存在下に室温でまたは室温以下で、反応させて構造
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を有する式３の化合物のアノマー混合物を形成させ；
（ｂ）前記反応媒質からα形態を実質的に含有しない化合物３のＣ−１”−β形態を採取し；そして
（ｃ）工程（ｂ）の生成物からヒドロキシ保護基を除去する
ことを特徴とする構造
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を有する化合物エトポシド４を製造する方法に関する。
好ましい態様は、前記溶媒がハロゲン化または非ハロゲン化溶媒、さらに好ましくはアセトニトリルである上記の方法である。
別の好ましい態様は、前記ヒドロキシ保護基を貴金属触媒の存在下に周囲の温度で水素添加することにより除去する上記の方法であ。
別の好ましい態様では、貴金属触媒がパラジウムである。
別の好ましい態様では、ルイス酸が三フッ化ホウ素エーテル付加化合物である。
別の好ましい態様では、反応をほぼ室温乃至−４０℃、さらに好ましくは０℃〜−４０℃、それ以上にさらに好ましくは−１０℃で実施する。
本発明は、有機溶媒中の化合物３のアノマー混合物を形成させ、形成した生成沈殿生成物を採取し、前記の採取生成物のアルコール中の第二の溶液を形成させ、前記の第二の溶液から前記Ｃ−１”−βアノマーを結晶化させ、そしてαアノマーを実質的に含有していないＣ−１”−βアノマーの結晶を採取することからなる化合物３のＣ−１”−βアノマーを得る方法にも関する。
好ましい態様では、アルコールはメタノールである。
本発明は式
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を有する新規な中間体化合物３α，βにも関する。
好ましくは、化合物３はＣ−１”−βアノマーである。
本文に記載の本発明は、４’−デメチル−４−エピポドフィロトキシ１からエトポシド４を合成するための新規な方法に関する。
好ましい態様（スキーム２）に例示する如く、１と２，３−ジ−Ｏ−ベンジル−４，６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノース２α，βとのカップリングにより、新規な中間体化合物、３βおよび３α、の混合物が生成する。反応を続け、そしてＣ−１”における化合物のエピマー化は極めて高いβ：α選択性を生じる。固体を反応混合物の濾過により（その他の処理方法も使用し得る）直接単離し、そして再結晶により精製して３βとする。次に、３βを水素添加して保護基を除去するとエトポシド４が得られる。
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１．カップリング
従前の糖−リグナンカップリング（すなわち、化合物１と化合物２との反応）のほとんどはＳａｎｄｏｚ1で開示された操作との差異が本質的にない非常に類似した系統のものであった。典型的には、４’−保護−４’−デメチル−４−エピポドフィロキシンを−２０℃でハロゲン化溶媒（１，２−ジクロロエタンすなわちＤＣＥ、塩化メチレンまたはクロロホルム）中三フッ化ホウ素エーテル付加化合物の存在下に２，３−ジ−Ｏ−アシル（エステルまたはカーボネート）−保護−β−Ｄ−グルコピラノースとカップリングさせる（スキーム３）1,2,3。糖２が全体としてＣ−１位でβ配置であり、そして反応条件下でのアノマー化がゆっくりである限り、反応はほぼ独占的にＣ−１”−β生成物を生じる。
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アシル保護基の使用からの二通りの発展が近年報告されている（スキーム４）。ＯｈｎｕｍａおよびＨｏｓｈｉ4は２，３−Ｏ−ジベンジル−４，６−Ｏ−エチリデン−α，β−Ｄ−アロピラノースと４’−Ｏ−ＣＢＺ−４’−デメチル−４−エピポドフィロトキシンとのカップリングを報告している。Ａｌｌｅｖｉおよび共同研究者3c,dは１−Ｏ−トリメチルシリル−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−β−Ｄ−グルコピラノシドを−７０℃で塩化メチレン中トリメチルシリルトリフレートを用いて１を包含する様々なリグナンとカップリングさせてほとんど独占的にＣ−１”−β生成物を得ることを報告している。ＴＭＳ（すなわち、トリメチルシリル）基は高い％でβカップリング生成物を得るのに必要であり、また同生成物を糖に組み入れるための追加の工程を必要としている。
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先行技術とは対照的に、本文に記載の方法（すなわち、スキーム２）は糖または炭水化物成分として２を使用している。必要な糖２は類縁化合物について既知の文献の方法4を採用することにより製造した。所望により、２のアノマーの混合物を＞８５％βである混合物に変換することができる。これにはａ）ヘキサンまたはヘプタンからの再結晶；ｂ）アノマーの油状混合物を室温で２ヶ月間放置する；またはｃ）メタノール／水から再結晶し、次に固体を１−７日間その融点以下に加熱するのいずれかを包含している。しかしながら、アノマーとして純粋な糖２βは本文で使用されているカップリング工程を必要としないことが意外でかつ予想外に見い出された。ハロゲン化されているかまたはハロゲン化されていない有機溶媒、好ましくはアセトニトリル中で室温乃至−４０℃、好ましくは０℃乃至−４０℃、なおさらに好ましくは−１０℃でルイス酸、好ましくは三フッ化ホウ素エーテル付加化合物の存在下に１と２α，βとのカップリングは極めて迅速であり、約５時間以内に完了する。
生成物の当初のアノマー比は化合物２の当初のアノマー組成に左右される。出発物質２が＞９０％βの場合、−４０℃でカップリングされた生成物３に対する比は約８：２  β：αであった。導入糖２が６３：３７である場合、当初のカップリングされた生成物３の比は６１：３９であった。しかしながら、反応を続けさせると、生成物のβ：α比が意外にも増大する。生成物が溶液中に残留していると、二種の生成物３αと３βとの間に熱力学的平衡が成立する。これは糖の可逆的非カップリング、次いで急速な再カップリングによって生じるものと予想される。しかし、この特別な場合、生成物３βがアセトニトリルからの溶解度がより一層低いために優先して沈殿する。それで、溶液に残留する生成物（おそらくは、大部分がα）が平衡を再成立させ、反応をβ生成物の方に進行させる。この理論は、生成物が急速に沈殿せず、生成物の比がαの方へ移動した反応で実証された。生成物が最終的に沈殿した場合、比はβの方に逆に移動した。β含量が高くない化合物２を使用することができるが、反応はより高い比に到達するのにより多くの時間を必要とする。９７．８：２．２  β：αのような高い比に到達した。溶液に純粋な３βを種晶するのも生成物の沈殿の助けとなり、これにより全反応時間が低減される。
グルコピラノース化合物２の２，３−ヒドロキシ保護基はベンジル（すなわち、Ｒ1がベンジルである）であるのが好ましいが、その他のアリールメチル基を使用することが企図されている。例えば、Ｃ1-4アルキル、ヒドロキシ、フェニル、ベンジル、ハロゲン例えばフルオロ、クロロ、ブロモおよびヨード、アルコキシ、ニトロおよびカルボン酸およびそれらのエステルからなる群から選択される一種または二種以上で置換されている置換ベンジルである。適当な置換ベンジル基には、２−メチルベンジル、３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、１または２−ナフチル、２，３または４−フェニルベンジル、４−メトキシカルボニルベンジル、２，６−ジクロロベンジル、２−フルオロベンジルおよびペンタフルオロベンジルがある。
グルコピラノースはさらに化合物２ａの構造を有していてよい。
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ここで、Ｒ1は前述のとおりであり、そしてＲ2はＲ1と同一であり、または二個のＲ2基は一緒になってＣ1-5アルキリデン基である。好ましくは、二個のＲ2基は一緒になってエチリデンである。代替的な態様では、二個のＲ2基は一緒になってプロピリデンまたはイソプロピリデンである。
化合物２および２ａは例えば米国特許Ｎｏ．４，９９７，９３１に記載されているような既知の操作によって製造される。
生成物３は反応混合物の濾過により直接単離することができる。これにより、重量収率９５％および純度〜９０％で粗製固体が生成する。小量の３αが存在している。この単離により、ＷａｎｇおよびＡｌｌｅｖｉの方法よりもさらに一層良い結果が得られる。次に、固体３塩化メチレンに溶解し、メタノールを加え、塩化メチレンの大部分を留去し、そして冷却することにより再結晶する。３βは純度＞９９％で７８．６％の収率で得られる。この収率はＷａｎｇの収率（６０％）3またはＡｌｌｅｖｉのカップリング収率よりも高く、そしてより高い品質の生成物を生成し（αおよびβの合計に対する７７％収率、９７：３  β：α）3c、そしてクロマトグラフィーなしで達成される。その他の単離方法も使用することができて、実験の部で詳述するように、８１．９％もの高い収率を達成することができる。
カップリングされた生成物中のＣ−１”−β：αの当初の比は、温度および溶媒を包含する数多くの要因により影響される。
カップリング工程で使用されるルイス酸は例えばＡｌＣｌ3、ＺｎＣｌ2、Ｅｔ2ＡｌＣｌ、ＣＦ3ＳＯ3Ｈ、ＣＦ3ＳＯ3Ａｇ、Ｚｎ（ＣＦ3ＳＯ3）2、ＴＭＳＣＦ3ＳＯ3および三フッ化ホウ素エーテル付加化合物である。好ましくは、これは三フッ化ホウ素エーテル付加化合物（三フッ化ホウ素エーテラート）である。
反応媒質として使用される有機溶媒はハロゲン化されているか、またはハロゲン化されていなくともよい。例としては、プロピオニトリル、アセトン、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリルおよびこれらの混合物がある。カップリング反応に好ましい溶媒はアセトニトリルである。それは、３β生成物の直接結晶化を可能とし、そのために精製を可能として反応を所望の生成物の方へ進行させることによるからである。
カップリング反応は一般には室温でまたは室温以下で実施され、好ましくは約０℃乃至−４０℃である。好ましい温度は−１０℃である。
２．脱保護
従来のエトポシドの合成のほとんどでは、糖をアシル基で保護する。エトポシドは酸および塩基両方に感受性を有しているので、これらの除去はとるに足らない問題である。普通、重金属化合物例えば酢酸亜鉛の化学量論量お用いて脱保護を実施する。これは工業的方法には望ましくはない。さらにまた、除去される保護基に基づいて、重大な劣化がひんぱんにみられる。例えば、Ａｌｌｅｖｉはエトポシドの最近の合成でのこの工程について僅か７０％の収率を報告している3b。エトポシド合成において、フェノールは通常は最も普通にはベンジルオキシカルボニル基で保護され、そしてまた脱保護されなければならない。最近の刊行物3は、しかしながら、フェノールの保護が必要ではないことを開示している。
本文に記載した本発明において、化合物３のＣ−１”−βアノマーの採取後、ヒドロキシ保護基は既知の方法、好ましくは水素添加により除去する。水素添加脱保護工程は有効に進行して最小限の劣化で高収率でエトポシドを生成する。化合物３は非常に不安定であり、酸および塩基両方に対して感受性を有している。酸または塩基を使用してヒドロキシ保護基を除去する現行の方法によると、所望の生成物の一部の分解を生じる。さらに、脱保護工程はグルコピラノースからエチリデン基を開裂することができる。
水素添加は多くの既知の方法で達成することができる。典型的には、水素添加は適当な溶媒または溶媒混合物中で貴金属触媒の存在下に行われる。
好ましい態様では、水素添加はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）またはアセトン中化合物３  Ｃ−１”−βアノマーの溶液で４％パラジウム付き炭素を用いて実施される。混合物は４０−５０ｐｓｉｇ水素で数時間、典型的には３−６時間水素添加する。次に、触媒を濾去し、そしてエトポシドをＴＨＦ−水またはメタノール−水溶液から再結晶する。
本文記載の発明において、保護基は好ましくはＰｄ／Ｃ触媒での水素添加によって除去される。９６．８％の収率が得られた。従前のエトポシド合成と比較していくつかの利点があげられる：ａ）二工程ではなく、一工程のみの脱保護工程が存在する；ｂ）糖を脱保護するのに例えば酢酸亜鉛のような重金属の使用が避けられる；ｃ）水素添加条件が温和で、中性で、かつ高収率である；ｄ）高純度のエトポシドを得るのにクロマトグラフィーは必要としない。
要約するに、方法は次のとおりの利点を有している：ａ）クロマトグラフィー精製を必要としない短時間で効率の良いエトポシドの合成である；ｂ）カップリング反応過程の化合物１フェノールは保護されてなく、そして得られた化合物３βでの糖保護基が高収率で容易に除去される（二つの工程に対する全収率は７９．３％であり―Ａｌｌｅｖｉは３５．７％3bおよび７０％3c全収率を報告し、Ｗａｎｇ  ５４％3a）；ｃ）３αから３βへの新規なエピマー化に鑑み、中程度のβ：α比の糖２を出発物質としたときでも、カップリングされた生成物３の極めて高いβ：α比が得られる；そしてｄ）Ａｌｌｅｖｉ3c,dが示唆しているように、カップリングに先立って糖化合物２でのＣ−１誘導体を製造する必要がない（例えば１−Ｏ−β−トリメチルシリル糖を用いる）。
以下の特性の実施例は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を限定することを意味するものではなく、その変化は当業者にとって明白である。
実施例１
２’，３’−ジ−Ｏ−ベンジルエトポシド（３β）（直接濾過）：
２５０ｍｌ三つ口丸底フラスコを炉で乾燥し、セプタムおよびＮ2導入口、機械的かくはん機、および温度計を装着し、そしてＮ2下に冷却した。化合物１（５．００ｇ、１２．４９ミリモル）および化合物２α，β（５．７９２ｇ、１４．９９ミリモル、１．２当量）を加え、次いで無水アセトニトリル（１１１ｍｌ）を加えた。スラリーを室温で二、三分かくはんし、次に−４０℃に冷却した。三フッ化ホウ素エーテル付加化合物（４．１５ｍｌ、３３．７２ミリモル、２．７当量）をシリンジで加えた。スラリーが黄色となり、固体が溶解し始めるが、８分以内でスラリーは生成物が沈殿するにつれて一層濃厚となった。ＨＰＬＣは１が１４％、３αが１４．６％そして３βが６６．２％であることを示した。２５分後、無水アセトニトリル（５５．５ｍｌ）をゆっくりと加えて（温度を−３５℃以下に保持しながら）混合物を希釈した。−４０℃で１８ｈ（ｈはすなわち時間）後、ＨＰＬＣは３β：３αの比９７．５：２．５を示した。合計１９ｈ後に、−４０℃の反応混合物の真空濾過により固体を集めた。固体を極冷の（−４０℃乃至−２０℃）アセトニトリルで二回洗滌し、そして真空炉で乾燥した。粗製固体は９６面積％を有することがわかった。固体を機械的かくはん機を有する二口５００ｍｌ丸底フラスコ中でＣＨ2Ｃｌ2（５４ｍｌ）に溶解した。メタノール（２７０ｍｌ）をゆっくりと加え、そして溶液を二、三分間かくはんし、結晶が認められた。混合物を加温還流し、留出物５５ｍｌを採集するまで大気圧で蒸留した。混合物を室温で２ｈかくはんし、次に２．５ｈ氷で冷却した。白色結晶性化合物を真空濾過により採集し、そして冷メタノールで２回洗滌した。固体を４０℃で一夜真空乾燥した。ＨＰＬＣ面積％９９．３を有する３βの７．５４ｇ（収率７８．６％）が得られた。1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．３６−７．１９（ｍ，８Ｈ），６．９９（ｄｄ，Ｊ＝１．９，７．５Ｈｚ，２Ｈ），６．８２（ｓ，１Ｈ），６．５５（ｓ，１Ｈ），６．２４（ｓ，２Ｈ），５．９７（ｄ，Ｊ＝１，２Ｈｚ，１Ｈ），５．８９（ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ  １Ｈ），４．９０−４．８５（ｍ，２Ｈ），４．７８−４，７１（ｍ，３Ｈ），４．５９−４．５０（ｍ，３Ｈ），４．３８（ｄｄ，Ｊ＝９．０，１０．５Ｈｚ，１Ｈ），４．２３−４．１４（ｍ，１Ｈ），３．７５（ｓ，６Ｈ），３．６５（ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），３．５４（ｔ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），３．４５−３．３５（ｍ，２Ｈ），３．３２−３．２７（ｍ，１Ｈ），３．２３（ｄｄ，Ｊ＝５．２，１４．１Ｈｚ，１Ｈ），２．９２−２．８２（ｍ，１Ｈ），１．３８（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，３Ｈ）  13Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ１７４．９，１４８．７，１４７．０，１４６．４，１３８．５，１３７．８，１３４．０，１３２．５，１３０．６，１２８．６，１２８．３，１２８．２，１２８．１，１２７．９，１２７．７３，１２７．６６，１１０．６，１０９．１，１０７．８，１０２．３，１０１．５，９９．５，８１．７，８０．９，７５．４，７５．０，７３．５，６８．２，６７．９，６６．０，５９．２，５６．４，４３．７，４１，３，３７．５，２０．４．
実施例２
２’，３’−ジ−Ｏ−ベンジルエトポシド（３β）（緩衝剤によるクエンチング）：
２５０ｍｌ三つ口丸底フラスコを炉で乾燥し、セプタム、機械的かくはん機、温度計およびＮ2導入口を装着し、そしてＮ2下に冷却した。化合物１（５．００ｇ）および無水アセトニトリル（１１１ｍｌ）を加えた。スラリーをかくはんし、次に−４０℃に冷却した。２α，βの試料（５．７９２ｇ、１．２当量）を加えた。三フッ化ホウ素エーテル付加化合物（４．１５ｍｌ、２．７当量）をシリンジで加えた。スラリーが黄色となり、そして固体が溶解し始めるが、１０分以内でスラリーは生成物が沈殿するにつれて一層濃厚となった。１７分後のＨＰＬＣは１５％  １、１９％  ３α、および５４％  ３βを示した。スラリーを１８ｈ  −４０℃でかくはんし、そしてｐＨ７の緩衝剤（Ｆｉｓｈｅｒ、０．０５Ｍ  ＫＨ2ＰＯ4、２２２ｍｌ）を加えた。混合物を０℃と室温との間に加温した。固体を真空濾過によって採集し、水で二回洗い、そして真空乾燥した（４０℃）。このようにして得られた粗製白色固体（９．４２ｇ、９８．１％）はＨＰＬＣで８５．１％の面積％を有していた。固体をＣＨ2Ｃｌ2（５６．４ｍｌ）に溶解し、そして１％メタノール（２８２ｍｌ）を加温しながらゆっくりと加え、そして溶液をかくはんした。混合物を加温還流させ、そして５６ｍｌの留出液が採集されるまで大気圧で蒸留した。混合物を室温に冷却し、次に水浴中で２ｈ冷却した。白色結晶を真空濾過によって採集し、冷メタノールで二回洗った。固体を真空炉（４０℃、実験室真空）で一夜乾燥した。９９．１で３βの７．０６ｇ（収率７３．６％）が得られた。面積％はＨＰＬＣで測定して９９．１であった。
実施例３
２’，３’−ジ−Ｏ−ベンジルエトポシド（３β）（Ｎ−メチルモルホリンによるクエンチングおよびトルエン抽出）：
かくはん棒を有する２５ｍｌ二つ口丸底フラスコを炉で乾燥し、セプタムおよびＮ2導入口を装着し、そしてＮ2下に冷却した。化合物１（０．１８０ｇ）および２α，β（０．２１ｇ、１．２当量）を無水アセトニトリル（４ｍｌ）の次に加えた。スラリーをかくはんし、次に−４０℃に冷却した。三フッ化ホウ素エーテル付加化合物（０．１５ｍｌ、２．７当量）をシリンジで加えた。スラリーが黄色となり、固体が溶解し始めるが、１２分以内にスラリーは生成物が沈殿するにつれて一層濃厚となった。１２分後、無水アセトニトリル（２ｍｌ）を加えてかくはんを促進した。スラリーを−４０℃で一夜かくはんした。Ｎ−メチルモルホリン（０．４５ｍｌ、９当量）を加えて反応をクエンチングした。混合物をトルエンで希釈し（固体が溶解した）、そして水で二回洗った。溶媒を真空で除去した。得られた黄色固体を熱トルエン（２ｍｌ）に溶解した。メタノール（１０ｍｌ）を溶液を暖かいままに保持しながらゆっくりと加え、そして得られた溶液をかくはんした。混合物を室温に冷却し、そして温度が周囲の温度に近くなると生成物が結晶化し始めた。スラリーを水浴中で２．５ｈ冷却した。白色結晶を真空濾過により採集し、そして冷メタノールで二回洗った。固体を一夜真空（４０℃）で乾燥した。３βの０．１８ｇ（収率５１．３％）が９９．１面積％で得られた。
実施例４
２’，３’−ジ−Ｏ−ベンジルエトポシド（３β）（緩衝剤クエンチングおよびトルエン抽出）：
かくはん棒を装着した１５ｍｌ丸底フラスコを炉で乾燥し、セプタムを装着し、そしてＮ2下に冷却した。化合物１（０．１８ｇ）および２α，β（０．２１ｇ）を加えた。無水アセトニトリル（４ｍｌ）を加え、そしてスラリーを−４０℃に冷却した。三フッ化ホウ素エーテル付加化合物（０．１５ｍｌ）を加えた。２５分後、アセトニトリルを加えた（２ｍｌ）。混合物を−４０℃で一夜かくはんした。ｐＨ７の緩衝剤（０．０５Ｍ  ＫＨ2ＰＯ4、８ｍｌ）を加え、そして混合物をかくはんしながら室温に加温し、次にトイルエンで抽出した。有機相を水で一回洗い、真空濃縮して油とした。トルエン（１．５ｍｌ）を加え、そして溶液を５５℃に加温した。メタノール（７．５ｍｌ）を加え、そして溶液をかくはんしながら室温に、次いで０℃に冷却した。固体をＢｕｃｈｎｅｒ漏斗に集め、冷メタノールで二回洗い、そして真空炉（４０℃、実験室真空）で一夜乾燥した。これにより、９９．３のＨＰＬＣ％を有する３βの０．１８３０ｇ（５３．０％）が生成した。
実施例５
２’，３’−ジ−Ｏ−ベンジルエトポシド（３β）：
５００ｍｌ三つ口丸底フラスコを炉で乾燥し、機械的かくはん機、温度計およびＮ2導入口を装着し、そしてＮ2下に冷却した。化合物１（９．０ｇ、２２．５ミリモル）および２α，β（１０．５３ｇ、２７．２ミリモル）を加えた。無水アセトニトリル（２００ｍｌ）を加えた。スラリーをかくはんし、そして−１３℃に冷却した。三フッ化ホウ素エーテル付加化合物（４．４５ｍｌ、３３．７ミリモル）を一度に加えた。溶液を−１０℃で５時間かくはんし、この時点でＨＰＬＣは＞９５：５  β：αの比を示した。１０−１５分後結晶が沈殿し始めた。ピリジン（８．２２ｍｌ、１０２ミリモル）を加え、そして１０分間かくはんした。混合物を７０ｍｌの容量に真空濃縮した。ジクロロメタン（１００ｍｌ）を加え、そして溶液を水で三回洗った（各１００ｍｌ）。有機層を７０ｍｌに濃縮し、そしてアセトニトリル（１００ｍｌ）を加えた。溶液を８０ｍｌに濃縮した。アセトニトリルの添加および濃縮をくり帰した。溶液を６５−７０℃に加熱し、次にゆっくりと２０℃に冷却し、そして１時間かくはんした。スラリーを０℃に冷却し、そして２時間かくはんした。生成物を真空濾過によって採集し、冷アセトニトリル（５０ｍｌ）で洗った。湿潤ケーキをジクロロメタン（５０ｍｌ）に溶解し、次に１００ｍｌに濃縮した。メタノール（３００ｍｌ）を加え、そしてジクロロメタンを大気圧で留去した。メタノールを加えて容量を３２５ｍｌに維持した。スラリーを２０℃に冷却し、そして１時間かくはんし、次に０℃に冷却し、そして２時間かくはんした。生成物を採集し、そして冷メタノールで洗った。固体を４５℃で真空炉で乾燥すると３βの１４．０８ｇ（収率８１．９％）が得られた。
実施例６
エトポシド（４）：
Ｐａｒｒ振とう機びん中の３β（２ｇ）をよび４％湿潤Ｐｄ／Ｃ触媒の混合物にＴＨＦ：ＣＨ3ＯＨ（１：１、３０ｍｌ）を加えた。これを水素で三回パージし、そして５０ｐｓｉで水素添加した。室温で３．５ｈ後、スラリーをＣｅｌｉｔｅを通して濾過し、そして温メタノール（５６℃、３×１５ｍｌ）で洗った。合した濾液を蒸発して固体とし、これに水を（２５ｍｌ）を加え、そして蒸発して〜５ｍｌを除去した。得られた水性スラリー（〜２５ｍｌ）を室温で１５分間そして２０℃で１５分間かくはんし、そして濾過した。固体エトポシドを水で洗い（２×５ｍｌ）、そして４０℃で恒量に乾燥した（１．４２ｇ、収率９２．５％）。ＨＰＬＣによると、このものは４の９９．７％を含有していた。
実施例７
エトポシド（４）：
ＴＨＦ（１５０ｍｌ）中の３β（２０ｇ、２６．０１ミリモル）の溶液を窒素雰囲気下にＢｕｃｈｉ装置中のＴＨＦ（５０ｍｌ）中の湿潤５％−Ｐｄ／Ｃ（２．５ｇ、５０％水湿潤）の混合物に加えた。これを窒素および水素で三回パージし、そして室温で５０ｐｓｉで水素添加した。４ｈ後、これを慎重に圧力解除し、そして水素添加セットアップから移し、温ＴＨＦで洗った（５５℃、２×２００ｍｌ）。濃厚な反応混合物をＢｕｃｈｎｅｒ漏斗で濾過した。この漏斗は０．４５μｍナイロン膜フィルターおよびＣｅｌｉｔｅ−５２１を含有した。Ｃｅｌｉｔｅケーキを反応器を清浄化するのに用いたＴＨＦで洗った。濾液を蒸発して淡黄色溶液〜５０ｍｌとした。水（３００ｍｌ）および１０％  ＮａＨＳＯ3（３ｍｌ）を加え、３０分間室温で、３０分間３℃でかくはんした。得られた無色のスラリーを濾過し、冷水で洗い（２×２５ｍｌ）そして乾燥すると９６．８％重量収率で純度１００．０％のエトポシド（４、１４．８３ｇ）が得られた。
実施例８
エトポシド（４）：
アセトン（２５０ｍｌ）中の３β（２５ｇ、３２．５ミリモル）および５％  Ｐｄ／Ｃ（５０％水湿潤）のスラリーを１Ｌの水素添加容器に充てんした。追加量（２５０ｍｌ）のアセトンを用いて３βおよび触媒を洗った。得られたスラリーを窒素次いで水素で六回パージし、そして１時間３バール圧および室温で水素添加した。反応終了時、ＭｅＯＨ（２５０ｍｌ）を加えて生成物を可溶化し、そして触媒を濾去した。反応器をＭｅＯＨ（２５０ｍｌ）で洗いすすぎし、このＭｅＯＨを次に消費触媒を洗うのに使用した。合した濾液をＮａＨＳＯ3溶液（１Ｎ、７．５ｍｌ）で処理していずれの色をも脱色し、そして溶媒を蒸留交換によりＭｅＯＨと交換した。得られたＭｅＯＨスラリー（３２５ｍｌ）を６５℃に加熱し、この点で水（５００ｍｌ）を加えた。結晶性スラリーを８５℃に加熱して透明な溶液とし、エトポシドの種晶を入れ、そして室温次に０℃にゆっくりと冷却し、ここで１時間保持した。生成物を濾過により単離し、真空乾燥すると三回の操作を基にした９３．３％重量収率、ＨＰＬＣ面積％９９％より大きい平均値でエトポシド（４、１７．６−１７．９９ｇ）が得られた。
参考文献
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