(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体、該支持体上に形成された導電層、該導電層上に形成された中間層、および、該中間層上に形成された感光層を有する電子写真感光体において、
該導電層が、平均粒径が０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子と、結着材料とを含有する導電層用塗布液を用いて形成された層であり、
該導電層用塗布液における該酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（Ｐ）と該結着材料（Ｂ）との質量比（Ｐ：Ｂ）が、２．３：１．０乃至３．３：１．０の範囲にあり、
該導電層の体積抵抗率が、８．０×１０８Ω・ｃｍを超え１．０×１０１１Ω・ｃｍ以下である
ことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記導電層用塗布液に含有される酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子のうち、粒径が０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の割合が、前記導電層用塗布液に含有される酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の総数に対して４５個数％以上である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記導電層用塗布液が、粉体抵抗率が１Ω・ｃｍ以上５００Ω・ｃｍ以下の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子を用いて調製された塗布液である請求項１または２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記導電層の膜厚が、１０μｍ以上２５μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記結着材料が、硬化性樹脂の原料のモノマーおよび／またはオリゴマーである請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記支持体が、押し出し工程および引き抜き工程を含む製造方法により製造されたアルミニウム製支持体である請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項８】
前記帯電手段が前記電子写真感光体に接触配置された帯電部材を有する請求項７に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項９】
前記帯電部材が導電性基体および該導電性基体上に形成された導電性被覆層を有する部材であり、前記帯電部材の表面の十点平均粗さＲｚｊｉｓが５μｍ以下である請求項８に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【請求項１１】
前記帯電手段が前記電子写真感光体に接触配置された帯電部材を有する請求項１０に記載の電子写真装置。
【請求項１２】
前記帯電部材が導電性基体および該導電性基体上に形成された導電性被覆層を有する部材であり、前記帯電部材の表面の十点平均粗さＲｚｊｉｓが５μｍ以下である請求項１１に記載の電子写真装置。
【請求項１３】
前記帯電部材に直流電圧のみの電圧を印加するための電圧印加手段を有する請求項１１または１２に記載の電子写真装置。
【請求項１４】
支持体上に体積抵抗率が８．０×１０８Ω・ｃｍを超え１．０×１０１１Ω・ｃｍ以下の導電層を形成する導電層形成工程、該導電層上に中間層を形成する中間層形成工程、および、該中間層上に感光層を形成する感光層形成工程を有する電子写真感光体の製造方法であって、
該導電層形成工程において、平均粒径が０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子と、結着材料とを含有する導電層用塗布液を用い、該導電層用塗布液における該酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（Ｐ）と該結着材料（Ｂ）との質量比（Ｐ：Ｂ）が、２．３：１．０乃至３．３：１．０の範囲にある電子写真感光体の製造方法。
【請求項１５】
前記導電層用塗布液に含有される酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子のうち、粒径が０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の割合が、前記導電層用塗布液に含有される酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の総数に対して４５個数％以上である請求項１４に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１６】
前記導電層用塗布液が、粉体抵抗率が１Ω・ｃｍ以上５００Ω・ｃｍ以下の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子を用いて調製された塗布液である請求項１４または１５に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１７】
前記導電層の膜厚を１０μｍ以上２５μｍ以下とする請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１８】
前記結着材料が硬化性樹脂の原料のモノマーおよび／またはオリゴマーである請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１９】
前記支持体として、押し出し工程および引き抜き工程を含む製造方法により製造されたアルミニウム製支持体を用いる請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置、ならびに、電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機光導電性材料を用いた電子写真感光体（有機電子写真感光体）の研究開発が盛んに行われている。
【０００３】
電子写真感光体は、基本的には、支持体と該支持体上に形成された感光層とから構成されている。しかしながら、現状は、支持体表面の欠陥の被覆、感光層の塗工性向上、支持体と感光層との接着性向上、感光層の電気的破壊に対する保護、帯電性の向上、支持体から感光層への電荷注入阻止性の改良などのために、支持体と感光層との間に各種層を設けることが多い。したがって、支持体と感光層との間に設けられる層には、被覆性、接着性、機械的強度、導電性および電気的バリア性などの多くの機能が要求される。
【０００４】
支持体と感光層との間に設けられる層としては、従来、以下のタイプのものが知られている。
（ｉ）導電性材料を含有しない樹脂層。
（ｉｉ）導電性材料を含有した樹脂層。
（ｉｉｉ）上記（ｉｉ）の層の上に、上記（ｉ）の層を積層した複合層。
【０００５】
上記（ｉ）の層は、導電性材料を含有しないため、層の抵抗が高い。しかも、表面平滑化処理が施されていない支持体表面の欠陥を被覆するためには、その厚さ（膜厚）を厚くしなければならない。
【０００６】
しかしながら、抵抗が高い上記（ｉ）の層の膜厚を厚くすると、初期および繰り返し使用時の残留電位が高くなるという問題が生じる。
【０００７】
したがって、上記（ｉ）の層の実用化のためには、支持体表面の欠陥を少なくし、かつ、その膜厚を薄くする必要がある。
【０００８】
一方、上記（ｉｉ）の層は、導電性粒子などの導電性材料を樹脂中に分散した層であり、層の抵抗を小さくすることが可能であるため、層の膜厚を厚くして、導電性の支持体や非導電性の支持体（樹脂製の支持体など）の表面の欠陥を被覆することが可能である。
【０００９】
しかしながら、上記（ｉｉ）の層の膜厚を厚くする場合は、薄くする上記（ｉ）の層に比べて、層に十分な導電性を付与する必要があるため、上記（ｉｉ）の層は体積抵抗率の低い層となり、そのため、低温低湿から高温高湿の幅広い環境条件において、画像欠陥の原因となる支持体、上記（ｉｉ）の層から感光層への電荷注入を阻止するためには、電気的バリア性を有する層を上記（ｉｉ）の層と感光層との間に別途設けることが好ましい。電気的バリア性を有する層とは、上記（ｉ）の層のように、導電性粒子を含有しない樹脂層である。
【００１０】
つまり、支持体と感光層との間に設けられる層は、上記（ｉ）の層と上記（ｉｉ）の層とを積層した上記（ｉｉｉ）の構成であることが好ましい。
【００１１】
上記（ｉｉｉ）の構成は、複数の層を形成する必要があるため、それだけ工程が増えるが、支持体表面の欠陥の許容範囲が大きくなるため、支持体の使用許容範囲が大幅に広がり、生産性の向上が図れるという利点がある。
【００１２】
一般的に、上記（ｉｉ）の層は導電層と呼ばれ、上記（ｉ）の層は中間層（下引き層、バリア層）と呼ばれる。
【００１３】
押し出し工程および引き抜き工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管や、押し出し工程およびしごき工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管は、表面切削することなく無切削管として良好な寸法精度や表面平滑性が得られるうえ、コスト的にも有利な電子写真感光体用の支持体として用いられているが、これらの無切削のアルミニウム管の表面にはササクレ状の凸状欠陥が生じやすく、このような支持体の表面欠陥の隠蔽の観点からも、上記（ｉｉｉ）の構成が好ましい。
【００１４】
導電層に用いる導電性材料としては、各種の金属、金属酸化物および導電性ポリマーなどがある。その中でも、粉体抵抗率が通常１０４乃至１０６Ω・ｃｍの範囲にある酸化スズ（以下「ＳｎＯ２」ともいう。）は、抵抗特性に優れており好ましい。また、ＳｎＯ２の導電性材料の製造時に、酸化アンチモンなどのスズとは異なる価数の金属の化合物や非金属元素などを混合して（ドープして）、粉体抵抗率を１／１０００乃至１／１０００００に小さくした導電性材料もある。また、構成元素を増やさずにノンドープでＳｎＯ２の抵抗をアンチモンドープと同程度に小さくした酸素欠損型ＳｎＯ２の導電性材料もある。
【００１５】
酸素欠損型ＳｎＯ２に関連する先行技術として、例えば、酸素欠損型ＳｎＯ２を導電層に用いる技術が開示されている（例えば、特許文献１参照）。また、硫酸バリウム粒子に酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆して、ＳｎＯ２だけを用いる場合よりも分散性を向上させる技術が開示されている（例えば、特許文献２参照）。また、分散性を向上させるために硫酸バリウム粒子を用い、その上に、白色度を向上させるために酸化チタン（ＴｉＯ２）を被覆し、さらにその上に、導電性を付与するためにＳｎＯ２を被覆する技術が開示されている（例えば、特許文献３参照）。ただし、特許文献３には、酸素欠損型ＳｎＯ２の実施形態までは開示されていない。
【００１６】
また、近年、電子写真感光体に接触配置した帯電部材（接触帯電部材）に電圧を印加し、電子写真感光体を帯電する接触帯電方式を採用した電子写真装置が広く普及している。特に、ローラー形状の接触帯電部材（帯電ローラー）を電子写真感光体の表面に接触させ、これに直流電圧に交流電圧を重畳した電圧を印加することにより電子写真感光体の帯電を行う方式（ＡＣ／ＤＣ接触帯電方式）、あるいは、これに直流電圧のみの電圧を印加することにより電子写真感光体の帯電を行う方式（ＤＣ接触帯電方式）が主流となっている。
【００１７】
ＡＣ／ＤＣ接触帯電方式の場合、直流電源および交流電源が必要となり、電子写真装置自体のコストアップを招く、ＤＣ接触帯電方式の場合に比べて、電子写真装置のサイズが大きくなる、などのデメリットがある。また、交流電流を多量に消費することによって接触帯電部材および電子写真感光体の耐久性が低下する、という短所もある。
【００１８】
したがって、電子写真装置のコスト削減および小型化ならびに高耐久性を考慮すると、ＤＣ接触帯電方式がより好ましいといえる。
【００１９】
しかしながら、ＤＣ接触帯電方式を採用した電子写真装置は、ＡＣ／ＤＣ接触帯電方式を採用した電子写真装置に比べて、帯電時の電子写真感光体の表面電位の均一性（帯電均一性）が劣る傾向にある。したがって、ハーフトーン画像などで帯電ムラに起因する電子写真感光体の長手方向（周方向に直交する方向）のスジムラ状の不良画像（以下「帯電スジ」ともいう。）が問題となりやすい。
【００２０】
この問題に関して、帯電部材の面から改良の提案がなされている。具体的には、帯電均一性を向上させる方法として、帯電部材の抵抗分布の均一化や、帯電部材の表面性の向上が検討されている。
【００２１】
前者については、例えば、帯電部材の表面層（最外層）中の導電性材料の分散を向上させる、体積固有抵抗が比較的低い樹脂を接触帯電部材表面層の結着材料に用いる、接触帯電部材を構成する各層の膜厚を均一に調整する、などの方策が挙げられる。
後者については、例えば、帯電部材の表面層にレベリング剤を添加する、帯電部材の弾性層の表面性を向上させる、などの方策が挙げられる。
【００２２】
また、帯電部材に直流電圧のみの電圧を印加して電子写真感光体を帯電する場合でも、帯電部材の表面粗さを５μｍ以下とすることで帯電均一性が得られるという技術の提案がなされている（例えば、特許文献４参照）。
【００２３】
また、帯電部材の表面の十点平均粗さＲｚｊｉｓ（ＪＩＳ  Ｂ−０６０１）を２０μｍ以下とすることにより、帯電均一性が確保されて良好な画像が得られるという技術の提案がなされている（例えば、特許文献５参照）。
【００２４】
上記提案により、初期的な帯電均一性の向上はほぼ図られるが、帯電均一性の安定化という面では不十分なのが現状である。すなわち、長期に使用すると、帯電部材の表面に現像剤や紙粉などの汚染物質が付着するが、その際、部分的な付着ムラや大量付着が発生すると、それが原因で帯電均一性が低下することがある。
【００２５】
この長期使用における帯電均一性の安定化という課題に対して、さらに帯電部材の表面粗さを調節することによって、改良を行う提案がなされており、例えば、帯電部材の表面粗さを制御することにより帯電均一性を確保する技術が開示されている（例えば、特許文献６及び７参照）。また、帯電部材の表面粗さと電子写真感光体の表面摩擦係数を制御することによって帯電均一性を確保する技術が開示されている（例えば、特許文献８参照）。
【００２６】
一般的に、帯電部材の表面粗さは小さい方が長期使用による帯電部材の表面への汚染物質の付着を抑制できることが知られている。また、表面粗さが大きすぎると、帯電部材の表面形状に起因した帯電不良により、ポチなどの画像不良が発生する場合がある。これらの観点からみれば、帯電部材の表面粗さは小さい方が好ましい。
【００２７】
電子写真装置の高速化や高画質化の要求はより一層高まっており、特に、出力画像のカラー化（フルカラー化）により、ハーフトーン画像やベタ画像が出力されることが多くなっており、それらの高画質化への要求は年々高まる一方である。
【００２８】
例えば、出力画像１枚の中での濃度や色味などの均一性、また、連続画像出力での安定性が重視され、白黒プリンターや白黒複写機の許容範囲に比べると、格段に厳しくなってきている。特に、ＤＣ接触帯電方式を採用した電子写真装置では、露光（像露光）の履歴によるゴーストや、転写による帯電メモリー（転写メモリー）など、電子写真プロセスの１サイクルの履歴が次サイクルでの電子写真感光体の帯電電位ムラとなりやすい。そして、その結果として、出力画像に濃度ムラが生じてしまう。
【００２９】
そこで、通常は、転写手段の下流側かつ帯電手段の上流側に前露光手段などの除電手段を設けることにより、電子写真プロセス１サイクルの履歴を無くし、電子写真感光体の表面電位のムラを無くす対策が採られている。
【００３０】
【特許文献１】特開平０７−２９５２４５号公報
【特許文献２】特開平０６−２０８２３８号公報
【特許文献３】特開平１０−１８６７０２号公報
【特許文献４】特開平０５−３４１６２０号公報
【特許文献５】特開平０８−２８６４６８号公報
【特許文献６】特開２００４−０６１６４０号公報
【特許文献７】特開２００４−３０９９１１号公報
【特許文献８】特開２００４−０３８０５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３１】
しかしながら、本発明者らの検討の結果、支持体と感光層との間に上記（iii）の構成を採用した電子写真感光体を前露光手段を搭載した電子写真装置に用いると、帯電スジが非常に発生しやすくなることがわかった。また、この帯電スジの発生は、低温低湿環境下、さらにはサイクルタイムが短い場合においてより顕著になることもわかった。
【００３２】
本発明の目的は、支持体と感光層との間に上記（iii）の構成を採用した電子写真感光体であっても帯電スジが発生しにくい電子写真感光体を提供することにある。
【００３３】
また、本発明の目的は、このような電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。
【００３４】
また、本発明の目的は、このような電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００３５】
本発明は、支持体、該支持体上に形成された導電層、該導電層上に形成された中間層、および、該中間層上に形成された感光層を有する電子写真感光体において、
該導電層が、平均粒径が０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子と、結着材料とを含有する導電層用塗布液を用いて形成された層であり、
該導電層用塗布液における該酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（Ｐ）と該結着材料（Ｂ）との質量比（Ｐ：Ｂ）が、２．３：１．０乃至３．３：１．０の範囲にあり、
該導電層の体積抵抗率が、８．０×１０８Ω・ｃｍを超え１．０×１０１１Ω・ｃｍ以下である
ことを特徴とする電子写真感光体である。
【００３６】
また、本発明は、上記電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置である。
【００３７】
また、本発明は、支持体上に体積抵抗率が８．０×１０８Ω・ｃｍを超え１．０×１０１１Ω・ｃｍ以下の導電層を形成する導電層形成工程、該導電層上に中間層を形成する中間層形成工程、および、該中間層上に感光層を形成する感光層形成工程を有する電子写真感光体の製造方法であって、
該導電層形成工程において、平均粒径が０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子と、結着材料とを含有する導電層用塗布液を用い、該導電層用塗布液における該酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（Ｐ）と該結着材料（Ｂ）との質量比（Ｐ：Ｂ）が、２．３：１．０乃至３．３：１．０の範囲にある電子写真感光体の製造方法である。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、支持体と感光層との間に上記（iii）の構成を採用した電子写真感光体であっても帯電スジが発生しにくい電子写真感光体を提供することができる。
【００３９】
また、本発明によれば、帯電スジが発生しにくい電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された導電層、該導電層上に形成された中間層、および、該中間層上に形成された感光層を有する。
【００４１】
本発明では、導電層に含有させる導電性材料として、酸素を欠損させることにより低抵抗化を図ったＳｎＯ２をＴｉＯ２粒子に被覆してなる粒子を用いる。この粒子のことを、本発明においては「酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子」と称する。この低抵抗化により、粒子の抵抗は、粉体抵抗率で１／１００００程度になっている。
【００４２】
酸素欠損型ＳｎＯ２は、アンチモンなどの異元素をドープしたＳｎＯ２に比べて再利用性に優れる。また、低湿環境下での抵抗率の上昇や高湿下での抵抗率の低下が少なく、環境安定性にも優れている。
【００４３】
本発明に用いられる導電層用の導電性材料が、酸素欠損型ＳｎＯ２のみからなる粒子（酸素欠損型ＳｎＯ２粒子）ではなく、酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子である理由は以下のとおりである。
【００４４】
まず、芯材粒子（ＴｉＯ２粒子）を用いるのは、導電層用塗布液における粒子の分散性の向上を図るためである。酸素欠損型ＳｎＯ２粒子を用いて導電層用塗布液を作製した場合、特に酸素欠損型ＳｎＯ２の含有比率が高い場合に、酸素欠損型ＳｎＯ２の凝集が発生しやすい。
【００４５】
また、芯材粒子としてＴｉＯ２粒子を用いるのは、酸素欠損型ＳｎＯ２の酸素欠損部位とＴｉＯ２粒子表面の酸化物部位の親和力により、酸素欠損型ＳｎＯ２の被覆層と芯材の結合が強化されるからである。また、酸素欠損型は、ドープ型と異なり、酸素存在下で酸化して酸素欠損部位が消失し、導電性が低下（粉体抵抗率が増加）してしまう場合があるが、芯材粒子としてＴｉＯ２粒子を用いることにより、酸素欠損型ＳｎＯ２の酸素欠損部位が保護される。
【００４６】
また、芯材粒子であるＴｉＯ２粒子は、露光光（画像露光光）がレーザー光である場合、レーザー露光の際、支持体表面で反射した光が干渉して出力画像に干渉縞が発生することを抑制することができる。
【００４７】
なお、酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の製造方法（酸素欠損型ＳｎＯ２を作製する方法やＴｉＯ２粒子に酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆する方法）は、特開平０７−２９５２４５号公報や特開平０４−１５４６２１号公報に開示されている。
【００４８】
帯電スジの発生を抑制するためには、導電層の体積抵抗率は８．０×１０８Ω・ｃｍを超え１．０×１０１１Ω・ｃｍ以下である必要がある。導電層の抵抗は低いことが好ましいが、低温低湿環境下で帯電スジの発生を抑制するためには、導電層の体積抵抗率が１．０×１０１１Ω・ｃｍ以下である必要がある。一方、導電層の抵抗が低すぎると、高温高湿下での感光層への電荷注入によるポチやかぶりが発生することがあるため、導電層の体積抵抗率は８．０×１０８Ω・ｃｍを超えることが好ましい。
【００４９】
本発明において、導電層の体積抵抗率の測定は以下のとおりに行うことができる。
【００５０】
まず、導電層用塗布液を用いてアルミニウムシート上に導電層サンプル（膜厚は１０乃至１５μｍ程度。電子写真感光体の導電層と同膜厚が好ましい。）を形成する。この導電層サンプル上に金の薄膜を蒸着により形成する。アルミニウムシートおよび金薄膜の両電極間を流れる電流値をｐＡメーターで測定する。測定環境は２３℃／６０％ＲＨであり、印加電圧は０．１Ｖとする。電流値測定開始１分後の安定した値を読み取り、導電層の体積抵抗率を導き出す。
【００５１】
導電層の体積抵抗率を上記範囲に収めるためには、導電層用塗布液を調製する際に、粉体抵抗率が１乃至５００Ω・ｃｍの範囲にある酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子を用いることが好ましい。より好ましくは、１乃至２５０Ω・ｃｍの範囲である。粉体抵抗率が高すぎる酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子を用いて調製した導電層用塗布液では、導電層の体積抵抗率を上記範囲に収めることが難しくなる。一方、粉体抵抗率が低すぎる酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子を用いて調製した導電層用塗布液では、作製した電子写真感光体の帯電能が低下する場合がある。
【００５２】
粉体抵抗率が上記範囲にある酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子を安定して得るためには、該粒子を製造する際の原材料配合比率を制御すればよい。例えば、酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子に対して３０乃至６０質量％のＳｎＯ２を生成するのに必要なスズ原材料を該粒子製造時に配合すればよい（スズ原材料から得られるＳｎＯ２の純度が１００％であると仮定して計算した場合）。換言すれば、ＴｉＯ２粒子への酸素欠損型ＳｎＯ２の被覆率は３０乃至６０質量％が好ましい。
【００５３】
本発明における粉体抵抗率の測定方法は以下のとおりである。
測定装置としては、三菱化学（株）製の抵抗測定装置ロレスタＡＰ（ＬｏｒｅｓｔａＡｐ）を用いることができる。測定対象の粉体（＝粒子）は、５００ｋｇ／ｃｍ２の圧力で固めて、ペレット状の測定用サンプルとする。測定環境は２３℃／６０％ＲＨであり、印加電圧は１００Ｖとする。
【００５４】
また、帯電スジの発生を抑制するためには、導電層用塗布液中で酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下であることが必要である。また、導電層用塗布液に含有される酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子のうち、粒径が０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の割合は、導電層用塗布液に含有される酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の総数に対して４５個数％以上であることが好ましく、６０個数％以上であることがより好ましい。
【００５５】
本発明において、導電層用塗布液の酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の粒径（平均粒径や粒度分布なども含む）の測定は、以下のとおり液相沈降法によって行うことができる。
【００５６】
まず、導電層用塗布液をそれに用いた溶剤で透過率が０．８乃至１．０の間になるように希釈する。次に、（株）堀場製作所製の超遠心式自動粒度分布測定装置（ＣＡＰＡ７００）を用いて回転数３０００ｒｐｍの条件で測定し、平均粒径（体積標準Ｄ５０）および粒度分布のヒストグラムを作成する。
【００５７】
導電層の組成が同一であっても、酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径が大きくなるにしたがって該導電性材料の粉体抵抗率が低下し、それとともに導電層の体積抵抗率も低下する。
【００５８】
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径が０．２０μｍ未満の場合、導電層の体積抵抗率を上記範囲の収めるには、酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の使用量を増やす必要がある。ところが、酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の使用量を増やした場合、導電層の表面で反射した光が干渉して出力画像に干渉縞が発生することを抑制するために好適な導電層の表面粗さ（Ｒｚｊｉｓ：１乃至３μｍ）を達成することが難しくなる。なお、Ｒｚｊｉｓとは、ＪＩＳＢ０６０１（１９９４年）でＲｚと定義されていたものである。ＪＩＳＢ０６０１は、２００１年の規格改訂でＲｚが改訂され、１９９４年時のＲｙ（最大高さ）に置き換わった。１９９４年時のＲｚは区別のために、２００１年にＲｚｊｉｓと名称変更された。
【００５９】
また、酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の使用量を増やした場合、導電層の膜厚を厚くするとクラックが発生しやすくなり、膜特性が低下する場合もある。
【００６０】
一方、酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径が０．６０μｍを超える場合、あるいは、超えなくても粒径が０．１０μｍ以上０．４０μｍ以下の粒子の割合が４５個数％に満たない場合、導電層の体積抵抗率を上記範囲に収めることは可能である。しかしながら、導電層の表面が極端に荒れてしまい、感光層への局所的な電荷注入が起こりやすくなり、出力画像中の白地におけるポチが目立つようになる場合がある。
【００６１】
本発明において、導電層は、例えば、平均粒径０．２０乃至０．６０μｍの酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子を結着材料に溶剤とともに分散して得られる導電層用塗布液を支持体上に塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。分散方法としては、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機などを用いた方法が挙げられる。
【００６２】
導電層用塗布液に用いる溶剤としては、メタノール，エタノールおよびイソプロパノールなどのアルコールや，アセトン，メチルエチルケトンおよびシクロへキサノンなどのケトンや，テトラヒドロフラン，ジオキサン，エチレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテルや，酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステルや，トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素などを例示することができる。
【００６３】
支持体の表面欠陥を隠蔽するという観点から、導電層の膜厚は１０μｍ以上２５μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましい。
【００６４】
なお、本発明において、導電層を含む電子写真感光体の各層の膜厚は、（株）フィッシャーインストルメンツ社製のＦＩＳＨＥＲＳＣＯＰＥ  ｍｍｓで測定することができる。
【００６５】
導電層の結着材料としては、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリビニルアセタール、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリエステルなどの樹脂（結着樹脂）が挙げられる。これらは１種または２種以上用いることができる。また、各種樹脂の中でも、他層へのマイグレーション（溶け込み）の抑制、支持体への密着性、導電性材料の分散性・分散安定性、成膜後の耐溶剤性などの観点から、導電層の結着樹脂は硬化性樹脂が好ましく、熱硬化性樹脂がより好ましい。具体的には、熱硬化性のフェノール樹脂やポリウレタンが好ましい。導電層の結着樹脂として硬化性樹脂を用いる場合、導電層用塗布液に含有させる結着材料は該硬化性樹脂のモノマーおよび／またはオリゴマーとなる。
【００６６】
導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（Ｐ）と結着材料（Ｂ）との質量比（Ｐ：Ｂ）は、２．３：１．０乃至３．３：１．０の範囲にあることが好ましい。酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子が少なすぎると、導電層の体積抵抗率を上記範囲に収めることが難しくなる。酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子が多すぎると、導電層における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の結着が難しくなり、クラックが発生しやすくなる。
【００６７】
また、導電層の表面で反射した光が干渉して出力画像に干渉縞が発生することを抑制するために、導電層用塗布液に、導電層の表面を粗面化するための表面粗し付与材を添加することも可能である。表面粗し付与材としては、平均粒径が１μｍ以上３μｍ以下の樹脂粒子が好ましい。例えば、硬化性ゴム、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル、シリコーン樹脂、アクリル−メラミン樹脂などの硬化性樹脂の粒子などが挙げられる。これらの中でも、凝集しにくいシリコーン樹脂の粒子が好ましい。樹脂粒子の比重（０．５乃至２）は、酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の比重（４乃至７）に比べて小さいため、導電層形成時に効率的に該導電層の表面を粗面化することができる。ただし、導電層中の表面粗し付与材の含有量が多いほど、導電層の体積抵抗率が上昇する傾向にあるため、導電層の体積抵抗率を上記範囲に収めるためには、導電層中の表面粗し付与材の含有量は、導電層中の結着樹脂に対して１５乃至２５質量％になるように調節することが好ましい。
【００６８】
また、導電層の表面性を高めるためにレベリング剤を添加してもよく、導電層の隠蔽性を向上させるために顔料粒子を導電層に含有させてもよい。
【００６９】
導電層から感光層への電荷注入を阻止するために、電気的バリア性を有する中間層を導電層と感光層との間に設ける必要があるが、中間層の体積抵抗率は１．０×１０９Ω・ｃｍ以上１．０×１０１３Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。中間層の体積抵抗率が小さすぎると、電気的バリア性が乏しくなり、導電層からの電荷注入に起因するポチやカブリの発生が顕著になる傾向にある。一方、中間層の体積抵抗率が大きすぎると、画像形成時に電荷（キャリア）の流れが滞り、残留電位の上昇（電位安定性の欠如）が顕著になる傾向にある。
【００７０】
本発明における中間層の体積抵抗率の測定方法は以下のとおりである。
まず、中間層用塗布液を用いてアルミニウムシート上に中間層サンプル（膜厚は２乃至５μｍ程度。）を形成する。この中間層サンプル上に金の薄膜を蒸着により形成する。アルミニウムシートと金薄膜の両電極間を流れる電流値をｐＡメーターで測定する。測定環境は２３℃／６０％ＲＨであり、印加電圧は１００Ｖとする。電流値測定開始１分後の安定した値を読み取り、中間層の体積抵抗率を導き出す。
【００７１】
中間層は、結着樹脂を含有する中間層用塗布液を導電層上に塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【００７２】
中間層の結着樹脂としては、以下のものが例示できる：ポリビニルアルコール，ポリビニルメチルエーテル，ポリアクリル酸類，メチルセルロース，エチルセルロース，ポリグルタミン酸，カゼイン，でんぷんなどの水溶性樹脂や，ポリアミド，ポリイミド，ポリアミドイミド，ポリアミド酸，メラミン樹脂，エポキシ樹脂，ポリウレタン，ポリグルタミン酸エステルなど。
【００７３】
電気的バリア性を効果的に発現させるためには、また、塗工性、密着性、耐溶剤性、抵抗などの観点から、中間層の結着樹脂は熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、熱可塑性のポリアミドが好ましい。ポリアミドとしては、溶液状態で塗布できるような低結晶性または非結晶性の共重合ナイロンなどが好ましい。また、中間層の膜厚は０．１μｍ以上２μｍ以下であることが好ましい。
【００７４】
さらに、導電層用塗布液および中間層用塗布液を用い、導電層サンプルと中間層サンプルとをこの順に積層した積層サンプルにおいて、積層サンプルの総膜厚（導電層サンプルの膜厚＋中間層サンプルの膜厚）に対し、０．１０［Ｖ／μｍ］の電圧を印加して、電圧印加時間ｔ［ｓ］における電流値をＩ（ｔ）とし、０≦ｔ≦３００の範囲における電流値Ｉ（ｔ）の最小値をＩｍｉｎとしたとき、０．２≦Ｉｍｉｎ／Ｉ（０）≦１．０である特性を持つことが好ましい。
【００７５】
上記電圧印加時間に対する電流値の測定方法およびＩｍｉｎ／Ｉ（０）の値の求め方に関して説明する。
【００７６】
積層サンプル中の導電層サンプルの膜厚および中間層サンプルの膜厚は、それぞれ電子写真感光体の導電層の膜厚および中間層の膜厚と同一であることが好ましい。具体的には、アルミニウムシート上に導電層サンプルを１０乃至１５μｍの膜厚で形成し、その上に中間層サンプルを０．５乃至１．５μｍの膜厚で形成する。
【００７７】
まず、中間層サンプル上に金の薄膜を蒸着により形成して、アルミニウムシートと金薄膜の両電極間に積層サンプルの総膜厚に対し、０．１０［Ｖ／μｍ］の電圧を定電圧電源を用いて印加する。次に、アルミニウムシートと金薄膜の両電極間を流れる電流値をｐＡメーターで測定する。測定環境は２３℃／６０％ＲＨである。電流値測定は電圧印加開始時を０［ｓ］として３００［ｓ］まで測定する。さらに、０［ｓ］から３００［ｓ］の間で測定される電流最小値をＩｍｉｎとし、Ｉ（０）の値は５［ｓ］以下の範囲から外挿により求め、Ｉｍｉｎ／Ｉ（０）の値を求める。
【００７８】
Ｉｍｉｎ／Ｉ（０）の値は、導電層と中間層の界面における電荷移動の影響を受けるものと考えられる。Ｉｍｉｎ／Ｉ（０）が小さいほど、導電層と中間層との界面における電荷移動がスムーズではなくなり、導電層と中間層との界面において電荷が滞りやすい状態であることを示すと考えられる。帯電スジの発生を抑制するには、Ｉｍｉｎ／Ｉ（０）の値は０．２以上であることが好ましく、１．０に近いほど帯電スジの発生を抑制するためには効果的である。
【００７９】
また、中間層において電荷（キャリア）の流れが滞らないようにするために、中間層には、電子輸送物質（アクセプターなどの電子受容性物質）を含有させてもよい。
【００８０】
次に、本発明の電子写真感光体の構成について説明する。
図１（ａ）〜図１（ｄ）に示すように、本発明の電子写真感光体は、支持体１０１上に導電層１０２、中間層１０３、感光層１０４（電荷発生層１０４１、電荷輸送層１０４２）をこの順に有する電子写真感光体である。
【００８１】
感光層は、電荷輸送物質と電荷発生物質を同一の層に含有する単層型感光層１０４であっても（図１（ａ）参照）、電荷発生物質を含有する電荷発生層１０４１と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層１０４２とに分離した積層型（機能分離型）感光層であってもよい。電子写真特性の観点からは積層型感光層が好ましい。また、積層型感光層には、支持体１０１側から電荷発生層１０４１、電荷輸送層１０４２の順に積層した順層型感光層（図１（ｂ）参照）と、支持体１０１側から電荷輸送層１０４２、電荷発生層１０４１の順に積層した逆層型感光層（図１（ｃ）参照）がある。電子写真特性の観点からは順層型感光層が好ましい。
【００８２】
また、感光層１０４（電荷発生層１０４１、電荷輸送層１０４２）上に、保護層１０５を設けてもよい（図１（ｄ）参照）。
【００８３】
支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましく、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレスなどの金属製の支持体を用いることができる。アルミニウム、アルミニウム合金の場合は、押し出し工程および引き抜き工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管や、押し出し工程およびしごき工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管や、これらを切削、電解複合研磨（電解作用を有する電極と電解質溶液による電解および研磨作用を有する砥石による研磨）、湿式または乾式ホーニング処理したものも用いることができる。また、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム−酸化スズ合金などを真空蒸着によって被膜形成された層を有する上記金属製支持体や樹脂製支持体（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレン、ポリスチレン樹脂など）を用いることもできる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性材料を樹脂や紙に含浸した支持体や、導電性結着樹脂を有するプラスチックなどを用いることもできる。
【００８４】
導電層の電荷（キャリア）をアースに流すためには、導電性の支持体の体積抵抗率は、また、支持体の表面が導電性を付与するために形成された層である場合、その層の体積抵抗率は、１．０×１０１０Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。特には、１．０×１０６Ω・ｃｍ以下であることがより好ましい。
【００８５】
なお、支持体が非導電性の支持体である場合には、本発明の電子写真感光体の導電層からアースを取る構成を採る必要がある。
【００８６】
支持体上には導電層が設けられ、導電層上には中間層が設けられる。導電層および中間層に関しては上述のとおりである。中間層上には感光層が設けられる。
【００８７】
本発明の電子写真感光体に用いられる電荷発生物質としては、以下のものが例示できる：
モノアゾ，ジスアゾ，トリスアゾなどのアゾ顔料や，金属フタロシアニン，非金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や，インジゴ，チオインジゴなどのインジゴ顔料や，ペリレン酸無水物，ペリレン酸イミドなどのペリレン顔料や，アンスラキノン，ピレンキノンなどの多環キノン顔料や，スクワリリウム色素や，ピリリウム塩およびチアピリリウム塩や，トリフェニルメタン色素や，セレン，セレン−テルル，アモルファスシリコンなどの無機物質や，キナクリドン顔料や，アズレニウム塩顔料や，シアニン染料や，キサンテン色素や，キノンイミン色素や，スチリル色素や，硫化カドミウムや，酸化亜鉛など。
【００８８】
これらの中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンなどの金属フタロシアニンが好ましい。
【００８９】
感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層に用いる結着樹脂としては、以下のものが例示できる：ポリカーボネート，ポリエステル，ポリアリレート，ブチラール樹脂，ポリスチレン，ポリビニルアセタール，ジアリルフタレート樹脂，アクリル樹脂，メタクリル樹脂，酢酸ビニル樹脂，フェノール樹脂，シリコーン樹脂，ポリスルホン，スチレン−ブタジエン共重合体，アルキッド樹脂，エポキシ樹脂，尿素樹脂，塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体など。
【００９０】
これらは単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【００９１】
電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤と共に分散して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。分散方法としては、ホモジナイザー、超音波、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミルなどを用いた方法が挙げられる。電荷発生物質と結着樹脂との割合は、１０：１乃至１：１０（質量比）の範囲が好ましく、特には３：１乃至１：１（質量比）の範囲がより好ましい。
【００９２】
電荷発生層用塗布液に用いる溶剤は、使用する結着樹脂や電荷発生物質の溶解性や分散安定性から選択されるが、有機溶剤としてはアルコール、スルホキシド、ケトン、エーテル、エステル、脂肪族ハロゲン化炭化水素、芳香族化合物などが挙げられる。
【００９３】
電荷発生層用塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ローラーコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法などの塗布方法を用いることができる。
【００９４】
また、電荷発生層の膜厚は５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
【００９５】
また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。また、電荷発生層において電荷（キャリア）の流れが滞らないようにするために、電荷発生層には、電子輸送物質（アクセプターなどの電子受容性物質）を含有させてもよい。
【００９６】
本発明の電子写真感光体に用いられる電荷輸送物質としては、例えば、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物、トリアリルメタン化合物などが挙げられる。
【００９７】
感光層が積層型感光層である場合、電荷輸送層に用いる結着樹脂としては、以下のものが例示できる：アクリル樹脂，スチレン樹脂，ポリエステル，ポリカーボネート，ポリアリレート，ポリサルホン，ポリフェニレンオキシド，エポキシ樹脂，ポリウレタン，アルキド樹脂，不飽和樹脂など。
【００９８】
これらの中でも、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカーボネート、ポリアリレート、ジアリルフタレート樹脂が好ましい。これらは単独、混合物または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【００９９】
電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂を溶剤に溶解して得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。電荷輸送物質と結着樹脂との割合は、２：１乃至１：２（質量比）の範囲が好ましい。
【０１００】
電荷輸送層用塗布液に用いる溶剤としては、以下のものが例示できる：アセトン，メチルエチルケトンなどのケトン，酢酸メチル，酢酸エチルなどのエステル，ジメトキシメタン，ジメトキシエタンなどのエーテル，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水素，クロロベンゼン，クロロホルム，四塩化炭素などのハロゲン原子で置換された炭化水素など。
【０１０１】
電荷輸送層用塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ローラーコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法などの塗布方法を用いることができる。
【０１０２】
電荷輸送層の膜厚は５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上２０μｍ以下であることが帯電均一性の観点からより好ましい。
【０１０３】
また、電荷輸送層には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。
【０１０４】
感光層が単層型感光層である場合、該単層型感光層は、上記電荷発生物質および上記電荷輸送物質を上記結着樹脂および上記溶剤と共に分散して得られる単層型感光層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【０１０５】
また、感光層上には、該感光層を保護することを目的とした保護層を設けてもよい。保護層は、上述した各種結着樹脂を溶剤に溶解して得られる保護層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【０１０６】
保護層の膜厚は０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。
【０１０７】
次に、本発明に好適に用いられる帯電部材について説明する。
本発明に好適に使用される帯電部材はローラー形状（以下「帯電ローラー」ともいう。）である。その構成としては、例えば、導電性基体および該導電性基体上に形成された１つまたは複数の被覆層からなる構成が挙げられる。該被覆層の少なくとも１層には導電性が付与される。より具体的には、導電性基体、該導電性基体上に形成された導電性弾性層および導電性弾性層上に形成された表面層からなる構成が挙げられる。
【０１０８】
帯電部材の表面の十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）は５．０μｍ以下が好ましい。帯電部材の表面の十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）の測定は、（株）小坂研究所製の表面粗さ測定器ＳＥ−３４００を用いて行うことができる。より詳しくは、本測定器により、本帯電部材表面の任意の６点におけるＲｚｊｉｓを測定し、その６点の平均値をもって、十点平均粗さとする。
【０１０９】
帯電部材の表面粗さが大きすぎると、連続画像出力により現像剤（トナーやその外添剤）が帯電部材の表面に付着しやすくなり、帯電部材の表面の汚れを出力画像上に発生させることになりやすい。
【０１１０】
このように帯電部材の表面を特定の範囲内の粗さ範囲に制御することにより、表面の高低差による放電電荷量差を小さく抑えることができ、帯電部材の表面形状に起因した帯電不良によるポチなどの画像不良の発生を抑制することができる。
【０１１１】
図２に、本発明のプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す。
【０１１２】
図２において、１はドラム状の電子写真感光体であり、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。
【０１１３】
回転駆動される電子写真感光体１の周面は、帯電手段３により、正または負の所定電位に均一に帯電され、次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段（不図示）から出力される露光光（画像露光光）４を受ける。こうして電子写真感光体１の周面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。帯電手段３に印加する電圧は、直流電圧のみであってもよいし、交流電圧を重畳した直流電圧であってもよい。
【０１１４】
電子写真感光体１の周面に形成された静電潜像は、現像手段５のトナーにより現像されてトナー画像となる。次いで、電子写真感光体１の周面に形成担持されているトナー画像が、転写手段（転写ローラー）６からの転写バイアスによって、転写材（紙など）Ｐに順次転写されていく。なお、転写材は、電子写真感光体１の回転と同期して転写材供給手段（不図示）から電子写真感光体１と転写手段６との間（当接部）に給送されてくる。
【０１１５】
トナー画像の転写を受けた転写材Ｐは、電子写真感光体１の周面から分離されて定着手段８へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物（プリント、コピー）として装置外へプリントアウトされる。
【０１１６】
トナー像転写後の電子写真感光体１の表面は、クリーニング手段（クリーニングブレードなど）７によって転写残りの現像剤（トナー）の除去を受けて清浄面化される。さらに前露光手段（不図示）からの前露光光１１により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。
【０１１７】
上述の電子写真感光体１、帯電手段３、現像手段５、転写手段６およびクリーニング手段７などの構成要素のうち、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成し、このプロセスカートリッジを電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図２では、電子写真感光体１と、接触帯電手段３、現像手段５およびクリーニング手段７とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段１０を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ９としている。
【実施例】
【０１１８】
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。
【０１１９】
〈導電層用塗布液の調製例〉
（導電層用塗布液Ａの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部、結着樹脂としてのフェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分６０％）３６．５部、溶剤としてのメトキシプロパノール３５部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルで３時間分散して、分散液を調製した。
【０１２０】
この分散液に、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１２０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製、平均粒径２μｍ）３．９部、レベリング剤としてのシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．００１部を添加して攪拌し、導電層用塗布液Ａを調整した。
【０１２１】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６１．２質量％であった。
【０１２２】
（導電層用塗布液Ｂの調製）
分散時間を４時間に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｂを作製した。
【０１２３】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３３μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６４．８質量％であった。
【０１２４】
（導電層用塗布液Ｃの調製）
分散時間を１時間に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｃを作製した。
【０１２５】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．４７μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は４７．１質量％であった。
【０１２６】
（導電層用塗布液Ｄの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率５００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は３０％）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｄを作製した。
【０１２７】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．２３μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は９２．５質量％であった。
【０１２８】
（導電層用塗布液Ｅの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率２２０Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は３５％）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｅを作製した。
【０１２９】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３０μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６７．０質量％であった。
【０１３０】
（導電層用塗布液Ｆの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率８００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は２５％）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｆを作製した。
【０１３１】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．２０μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は９０．０質量％であった。
【０１３２】
（導電層用塗布液Ｇの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率８００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は５０％）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｇを作製した。
【０１３３】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．４５μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は４５．３質量％であった。
【０１３４】
（導電層用塗布液Ｈの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率８００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は６０％）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｈを作製した。
【０１３５】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．５１μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は４０．４質量％であった。
【０１３６】
（導電層用塗布液Ｉの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率８００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は６５％）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｉを作製した。
【０１３７】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．５７μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は３３．８質量％であった。
【０１３８】
（導電層用塗布液Ｋの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率０．８Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は７０％）５７．６部に変更し、また、導電層の結着樹脂としてのフェノール樹脂の使用量を３２部に変更し、分散時間を０．５時間に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｋを作製した。
【０１３９】
また、導電層用塗布液Ｋと導電性用塗布液Ｆを質量比３：２で混合した後、ロール架台で２時間混合して導電層用塗布液Ｊとした。
【０１４０】
導電性用塗布液Ｋにおける酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．５７μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は４６．２質量％であった。
【０１４１】
（導電層用塗布液Ｌの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を同じ酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の５３部に、導電層の結着樹脂としてのフェノール樹脂の使用量を４０部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｌを作製した。
【０１４２】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６２．５質量％であった。
【０１４３】
（導電層用塗布液Ｍの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を同じ酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の５６．７部に、導電層の結着樹脂としてのフェノール樹脂の使用量を３３．５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｍを作製した。
【０１４４】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６１．８質量％であった。
【０１４５】
（導電層用塗布液Ｎの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を同じ酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の５８．５部に、導電層の結着樹脂としてのフェノール樹脂の使用量を３０．５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｎを作製した。
【０１４６】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６０．９質量％であった。
【０１４７】
（導電層用塗布液Ｐの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を同じ酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の５９．４部に、導電層の結着樹脂としてのフェノール樹脂の使用量を１７．４部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｐを作製した。
【０１４８】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６０．３質量％であった。
【０１４９】
（導電層用塗布液Ｑの調製）
結着樹脂についてポリエステルポリウレタン（商品名：ニッポラン２３０４、日本ポリウレタン（株）製、固形分７０％）３１．３部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｑを作製した。
【０１５０】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６１．１質量％であった。
【０１５１】
（導電層用塗布液Ｒの調製）
導電層の表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子の使用量を３．３部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｒを作製した。
【０１５２】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６０．３質量％であった。
【０１５３】
（導電層用塗布液Ｓの調製）
導電層の表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子の使用量を４．４部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｓを作製した。
【０１５４】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６０．３質量％であった。
【０１５５】
（導電層用塗布液Ｔの調製）
導電層の表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子の使用量を５．４部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液Ｔを作製した。
【０１５６】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６０．３質量％であった。
【０１５７】
（導電層用塗布液ａの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率０．８Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は７０％）５７．６部に変更し、また、導電層の結着樹脂としてのフェノール樹脂の使用量を３２部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液ａを作製した。
【０１５８】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．６５μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は２２．５質量％であった。
【０１５９】
（導電層用塗布液ｂの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１２０Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５１．２部に変更し、また、導電層の結着樹脂としてのフェノール樹脂の使用量を４２．６部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液ｂを作製した。
【０１６０】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３５μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６３．９質量％であった。
【０１６１】
（導電層用塗布液ｃの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１２００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は２０％）５８．９部に変更し、また、導電層の結着樹脂としてのフェノール樹脂の使用量を２９．８部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液ｃを作製した。
【０１６２】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．１９μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は８８．１質量％であった。
【０１６３】
（導電層用塗布液ｄの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を１０質量％の酸化アンチモンをドープしたＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１５Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液ｄを作製した。
【０１６４】
この導電層用塗布液における１０質量％の酸化アンチモンをドープしたＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３６μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６１．０質量％であった。
【０１６５】
（導電層用塗布液ｅの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆した硫酸バリウム粒子（粉体抵抗率９５０Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は３０％）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液ｅを作製した。
【０１６６】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆した硫酸バリウム粒子の平均粒径は０．１８μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は８５．２質量％であった。
【０１６７】
（導電層用塗布液ｆの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部をドープ処理も酸素欠損処理もされていないＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率２０００００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液ｆを作製した。
【０１６８】
この導電層用塗布液におけるドープ処理も酸素欠損処理もされていないＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は０．３４μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は６４．８質量％であった。
【０１６９】
（導電層用塗布液ｇの調製）
酸素欠損型ＳｎＯ２被覆ＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部を酸素欠損型ＳｎＯ２粒子（粉体抵抗率０．５Ω・ｃｍ、芯材粒子なし）５５部に変更した以外は導電層用塗布液Ａと同様の操作で導電層用塗布液ｇを作製した。
【０１７０】
この導電層用塗布液における酸素欠損型ＳｎＯ２粒子の平均粒径は０．０５μｍであり、該粒子のうち、粒径が０．１０乃至０．４０μｍの範囲にある粒子の割合は４０．０質量％であった。
【０１７１】
〈電子写真感光体の作製例〉
（電子写真感光体１の作製）
押し出し工程および引き抜き工程を含む製造方法にて製造された、長さ２６０．５ｍｍ、直径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ−Ａ３００３、アルミニウム合金）を支持体とした。
【０１７２】
導電層用塗布液Ａを、２３℃／６０％ＲＨ環境下で、支持体上に浸漬塗布し、これを３０分間１４０℃で乾燥および熱硬化させることによって、膜厚が１５μｍの導電層を形成した。導電層の表面のＲｚｊｉｓを測定したところ、１．５μｍであった。
（本発明において、Ｒｚｊｉｓの測定は、ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９９４）に準じ、（株）小坂研究所製の表面粗さ計サーフコーダーＳＥ３５００を用い、送り速度０．１ｍｍ／ｓ、カットオフλｃ０．８ｍｍ、測定長さ２．５０ｍｍの設定で行った。）
【０１７３】
また、別途、この導電層用塗布液Ａを用いて導電層サンプル（膜厚１５μｍ）を作製した。この導電層サンプル上に金の薄膜を蒸着により形成して、導電層の体積抵抗率を測定したところ、１．５×１０１０Ω・ｃｍであった。
【０１７４】
次に、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、帝国化学産業（株）製）４．５部および共重合ナイロン樹脂（アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）１．５部を、メタノール６５部／ｎ−ブタノール３０部の混合溶媒に溶解して得られた中間層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、これを１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．６μｍの中間層を形成した。
【０１７５】
また、別途、この中間層用塗布液を用いて中間層サンプル（膜厚３μｍ）を作製した。この中間層サンプル上に金の薄膜を蒸着により形成して、中間層の体積抵抗率を測定したところ、２．０×１０１１Ω・ｃｍであった。
【０１７６】
また、別途、上記導電層用塗布液および上記中間層用塗布液を用いて、導電層と中間層との積層サンプル（導電層膜厚１５μｍ、中間層膜厚０．６μｍ）を作製した。この中間層サンプル上に金の薄膜を蒸着により形成して、Ｉｍｉｎ／Ｉ（０）を測定したところ、０．８０であった。
【０１７７】
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン１０部、ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）５部およびシクロヘキサノン２５０部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で１時間分散し、次に、酢酸エチル２５０部を加えて電荷発生層用塗布液を調製した。
【０１７８】
この電荷発生層用塗布液を、中間層上に浸漬塗布し、これを１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．１６μｍの電荷発生層を形成した。
【０１７９】
次に、下記式で示される構造を有するアミン化合物１０部、および、
【化１】
0004702950.tif 000002
ポリカーボネート樹脂（商品名：Ｚ４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）１０部を、ジメトキシメタン３０部／クロロベンゼン７０部の混合溶媒に溶解して、電荷輸送層用塗布液を調製した。
【０１８０】
この電荷輸送層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、これを３０分間１２０℃で乾燥させることによって、膜厚が１８μｍの電荷輸送層を形成した。
このようにして、電荷輸送層が表面層である電子写真感光体１を作製した。
【０１８１】
（電子写真感光体２の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｂに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２を作製した。
【０１８２】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．３μｍに、導電層の体積抵抗率は４．４×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．５０となった。
【０１８３】
（電子写真感光体３の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｃに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体３を作製した。
【０１８４】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．７μｍに、導電層の体積抵抗率は７．５×１０９Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、１．００となった。
【０１８５】
（電子写真感光体４の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｄに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体４を作製した。
【０１８６】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．３μｍに、導電層の体積抵抗率は１．１×１０１１Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．５０となった。
【０１８７】
（電子写真感光体５の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｅに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体５を作製した。
【０１８８】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．５μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．５３となった。
【０１８９】
（電子写真感光体６の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｆに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体６を作製した。
【０１９０】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．１μｍに、導電層の体積抵抗率は１．０×１０１１Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．３３となった。
【０１９１】
（電子写真感光体７の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｇに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体７を作製した。
【０１９２】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．７μｍに、導電層の体積抵抗率は２．５×１０９Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、１．００となった。
【０１９３】
（電子写真感光体８の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｈに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体８を作製した。
【０１９４】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは２．０μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０９Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．９６となった。
【０１９５】
（電子写真感光体９の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｉに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体９を作製した。
【０１９６】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは２．２μｍに、導電層の体積抵抗率は１．０×１０９Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、１．００となった。
【０１９７】
（電子写真感光体１０の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｋに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１０を作製した。
【０１９８】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．８μｍに、導電層の体積抵抗率は１．２×１０９Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８８となった。
【０１９９】
（電子写真感光体１１の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｌに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１１を作製した。
【０２００】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．６μｍに、導電層の体積抵抗率は５．０×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．２０となった。
【０２０１】
（電子写真感光体１２の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１２を作製した。
【０２０２】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．５μｍに、導電層の体積抵抗率は４．５×１０９Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８６となった。
【０２０３】
（電子写真感光体１３の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｎに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１３を作製した。
【０２０４】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．４μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０９Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．９０となった。
【０２０５】
（電子写真感光体１４の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｐに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１４を作製した。
【０２０６】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．３μｍに、導電層の体積抵抗率は８．５×１０８Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．９１となった。
【０２０７】
（電子写真感光体１５の作製）
導電層の膜厚を９μｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１５を作製した。
【０２０８】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．２μｍに、導電層の体積抵抗率は８．５×１０８Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．９１となった。
【０２０９】
（電子写真感光体１６の作製）
導電層の膜厚を１０μｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１６を作製した。
【０２１０】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．３μｍに、導電層の体積抵抗率は８．５×１０８Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．９１となった。
【０２１１】
（電子写真感光体１７の作製）
導電層の膜厚を２０μｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１７を作製した。
【０２１２】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．７μｍに、導電層の体積抵抗率は８．５×１０８Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．９１となった。
【０２１３】
（電子写真感光体１８の作製）
導電層の膜厚を２５μｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１８を作製した。
【０２１４】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは２．３μｍに、導電層の体積抵抗率は８．５×１０８Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．９１となった。
【０２１５】
（電子写真感光体１９の作製）
導電層の膜厚を２８μｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１９を作製した。
【０２１６】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは２．５μｍに、導電層の体積抵抗率は８．５×１０８Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．９１となった。
【０２１７】
（電子写真感光体２０の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｑに変更し、導電層の膜厚を１０μｍとした以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２０を作製した。
【０２１８】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．３μｍに、導電層の体積抵抗率は３．０×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．７０となった。
【０２１９】
（電子写真感光体２１の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｒに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２１を作製した。
【０２２０】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．２μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８０となった。
【０２２１】
（電子写真感光体２２の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｓに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２２を作製した。
【０２２２】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．８μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８０となった。
【０２２３】
（電子写真感光体２３の作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液Ｔに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２３を作製した。
【０２２４】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは２．１μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８０となった。
【０２２５】
（電子写真感光体２４の作製）
中間層の膜厚を０．４μｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２４を作製した。
【０２２６】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．５μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８０となった。
【０２２７】
（電子写真感光体２５の作製）
中間層の膜厚を１．５μｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２５を作製した。
【０２２８】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．５μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８０となった。
【０２２９】
（電子写真感光体２６の作製）
電荷輸送層の膜厚を２０μｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２６を作製した。
【０２３０】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．５μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８０となった。
【０２３１】
（電子写真感光体２７の作製）
電荷輸送層の膜厚を１０μｍに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２７を作製した。
【０２３２】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．５μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８０となった。
【０２３３】
（電子写真感光体２８の作製）
電子写真感光体１の作製において、電荷輸送層の結着樹脂を下記式で示される繰り返し構造単位を有するポリアリレート樹脂（粘度平均分子量（Ｍｖ）：４２０００）
【化２】
0004702950.tif 000003
に変更した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体２８を作製した。なお、上記式で示される繰り返し構造単位を有するポリアリレート樹脂は、テレフタル酸構造とイソフタル酸構造とのモル比（テレフタル酸構造：イソフタル酸構造）が５０：５０（モル比）のものである。
【０２３４】
（なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）の測定方法は以下のとおりである。
まず、試料０．５ｇをメチレンクロライド１００ｍｌに溶解し、改良Ｕｂｂｅｌｏｈｄｅ型粘度計を用いて、２５℃における比粘度を測定した。次に、この比粘度から極限粘度を求め、Ｍａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋの粘度式により、粘度平均分子量（Ｍｖ）を算出した。粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定されるポリスチレン換算値とした。）
【０２３５】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．５μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．８０となった。
【０２３６】
（電子写真感光体ａの作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液ａに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体ａを作製した。
【０２３７】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．４μｍに、導電層の体積抵抗率は６．０×１０８Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、１．００となった。
【０２３８】
（電子写真感光体ｂの作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液ｂに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体ｂを作製した。
【０２３９】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．２μｍに、導電層の体積抵抗率は２．０×１０１１Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．１７となった。
【０２４０】
（電子写真感光体ｃの作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液ｃに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体ｃを作製した。
【０２４１】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは０．８μｍに、導電層の体積抵抗率は７．０×１０１０Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．１８となった。
【０２４２】
（電子写真感光体ｄの作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液ｄに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体ｄを作製した。
【０２４３】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．６μｍに、導電層の体積抵抗率は４．０×１０８Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．６７となった。
【０２４４】
（電子写真感光体ｅの作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液ｅに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体ｅを作製した。
【０２４５】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは０．９μｍに、導電層の体積抵抗率は３．０×１０１１Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．４０となった。
【０２４６】
（電子写真感光体ｆの作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液ｆに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体ｆを作製した。
【０２４７】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．５μｍに、導電層の体積抵抗率は５．０×１０１２Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．１０となった。
【０２４８】
（電子写真感光体ｇの作製）
導電層用塗布液Ａを導電層用塗布液ｇに変更した以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体ｇを作製した。
【０２４９】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．６μｍに、導電層の体積抵抗率は７．０×１０１１Ω・ｃｍに、導電層と中間層の積層サンプルにおけるＩｍｉｎ／Ｉ（０）は、０．１４となった。
【０２５０】
（電子写真感光体ｈの作製）
中間層を設けなかった以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体ｈを作製した。
【０２５１】
その結果、導電層の表面のＲｚｊｉｓは１．５μｍに、導電層の体積抵抗率は１．５×１０１０Ω・ｃｍとなった。
【０２５２】
〈帯電部材の作製例〉
（帯電ローラーＡの作製）
まず、弾性層を以下の方法で作製した。
エピクロルヒドリンゴム三元共重合体                              １００部
（エピクロルヒドリン：エチレンオキサイド：アリルグリシジルエーテル
＝４０ｍｏｌ％：５６ｍｏｌ％：４ｍｏｌ％）
軽質炭酸カルシウム                                                ３０部
脂肪族ポリエステル系可塑剤                                          ５部
ステアリン酸亜鉛                                                    １部
老化防止剤ＭＢ（２−メルカプトベンズイミダゾール）              ０．５部
酸化亜鉛                                                            ５部
四級アンモニウム塩（下記構造式）                                    ２部
【化３】
0004702950.tif 000004
カーボンブラック（表面未処理品）（平均粒径：０．２μｍ、体積抵抗率：０．１Ω・ｃｍ）                                                                ５部
【０２５３】
以上の材料を５０℃に調節した密閉型ミキサーにて１０分間混練し、原料コンパウンドを調製した。このコンパウンドに原料のゴムのエピクロルヒドリンゴム１００部に対し、加硫剤としての硫黄１部、加硫促進剤としてのＤＭ（ジベンゾチアジルスルフィド）１部およびＴＳ（テトラメチルチウラムモノスルフィド）０．５部を加え、２０℃に冷却した二本ロール機にて１０分間混練した。
【０２５４】
混練にて得られたコンパウンドを、φ６ｍｍステンレス製の芯金に外径φ１５ｍｍのローラー状になるように押し出し成型機にて成型し、加熱蒸気加硫した後、外径が１０ｍｍになるように研磨加工を行い、弾性層を有するローラーを得た。この際、研磨加工においては、幅広研磨方式を採用した。ローラー長は２３２ｍｍとした。
【０２５５】
前記弾性層の上に表面層を被覆形成した。表面層は下記に示す表面層塗料を浸漬塗布法にてコート成形した。浸漬塗布回数は２回とした。
【０２５６】
まず、表面層塗料の材料として、
カプロラクトン変性アクリルポリオール溶液                        １００部
メチルイソブチルケトン                                          ２５０部
導電性酸化スズ（トリフルオロプロピルトリメトキシシラン処理品）（平均粒径：０．０５μｍ、体積抵抗率：１０３Ω・ｃｍ）                            １３０部
疎水性シリカ（ジメチルポリシロキサン処理品）（平均粒径：０．０２μｍ、体積抵抗率：１０１６Ω・ｃｍ）                                                ３部
変性ジメチルシリコーンオイル                                  ０．０８部
架橋ＰＭＭＡ粒子（平均粒径：４．９８μｍ）                        ８０部
を用い、ガラス瓶を容器として混合溶液を作製した。これに、分散メディアとして、ガラスビーズ（平均粒径φ０．８ｍｍ）を充填率８０％になるように充填し、ペイントシェーカー分散機を用いて１８時間分散した。分散溶液にヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）とイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の各ブタノンオキシムブロック体１：１の混合物を、
ＮＣＯ／ＯＨ＝１．０
となるように添加し、浸漬塗布用の表面層用塗料を調製した。
【０２５７】
前記弾性層の表面上に表面層用塗料を浸漬塗布法にて２回コートし、風乾させた後、温度１６０℃にて１時間乾燥させ、帯電ローラーＡを作製した。
【０２５８】
作製した帯電ローラーＡについて、十点平均粗さ（Ｒｚｊｉｓ）を前述した方法により測定したところ、４．４μｍであった。
【０２５９】
なお、表面層に添加する微粒子の粒度分布の測定は島津製作所製レーザー回折式粒度分布測定装置ＳＡＬＤ−７０００を用いて行った。測定可能な粒子径の範囲は０．０１５乃至５００μｍである。
【０２６０】
（帯電ローラーＢの作製）
表面層に添加するＰＭＭＡ粒子の平均粒径を２．５３μｍとした以外は、帯電ローラーＡの作製と同様にして帯電ローラーＢを作製した。そのときの帯電ローラーＢのＲｚｊｉｓは２．９μｍであった。
【０２６１】
（帯電ローラーＣの作製）
表面層に添加するＰＭＭＡ粒子の平均粒径を１．０９μｍとした以外は、帯電ローラーＡの作製と同様にして帯電ローラーＣを作製した。そのときの帯電ローラーＣのＲｚｊｉｓは１．３μｍであった。
【０２６２】
（帯電ローラーＤの作製）
表面層にＰＭＭＡ粒子を添加しなかった以外は、帯電ローラーＡの作製と同様にして帯電ローラーＤを作製した。そのときの帯電ローラーＣのＲｚｊｉｓは１．５μｍであった。
【０２６３】
（実施例１〜１０、参考例１１、実施例１２、実施例１３、参考例１４、実施例１５〜３４および比較例１〜１４）
上記のとおり作製した電子写真感光体および帯電ローラーをキヤノン（株）製レーザービームプリンターのＬＢＰ−２５１０の改造機に装着して、１５℃／１０％ＲＨの環境下および３０℃／８０％ＲＨの環境下にて通紙耐久テストを行い、初期と５０００枚通紙耐久後の画像の評価を行った。詳しくは以下のとおりである。
【０２６４】
ＬＢＰ−２５１０を、プロセススピード１９０ｍｍ／ｓになるように改造した。この改造機を用いて、ＬＢＰ−２５１０のシアン色用のプロセスカートリッジに作製した電子写真感光体および帯電ローラーを装着し、このカートリッジをシアンのプロセスカートリッジのステーションに装着し、評価を行った。
【０２６５】
通紙時は各色の印字率２％の文字画像をレター紙にて２０秒毎に１枚出力する間欠モードでフルカラープリント操作を行い、５０００枚の画像出力を行った。
【０２６６】
そして、耐久テスト開始時と５０００枚終了後に３枚（ベタ白、ベタ黒、１ドット桂馬パターンのハーフトーン画像）の画像評価用のサンプルを出力した。
【０２６７】
なお、画像の評価は、１５℃／１０％ＲＨの環境下の耐久テストにおいては帯電スジ、干渉縞、ポチ、カブリの評価を、３０℃／８０％ＲＨの環境下の耐久テストにおいてはポチ、カブリの評価を行った。
【０２６８】
画像の評価の基準は以下のとおりである。
帯電スジの有無は、桂馬パターンのハーフトーン画像から、
Ａ：帯電スジが全くなし、
Ｂ：帯電スジがほとんどなし、
Ｃ：帯電スジがわずかに観測される、
Ｄ：帯電スジが観測される、
Ｅ：帯電スジがはっきりわかる、
とした。
【０２６９】
干渉縞の有無は、桂馬パターンのハーフトーン画像から、
Ａ：干渉縞が全くなし、
Ｃ：干渉縞がわずかに観測される、
Ｄ：干渉縞が観測される、
とした。
【０２７０】
カブリ、ポチに関しては、ベタ白画像から評価した。
結果を表１および表２に示す。表において、ブランクはカブリ、ポチの発生がないことを意味する。
【０２７１】
【表１】
0004702950.tif 000005
【０２７２】
【表２】
0004702950.tif 000006
【０２７３】
以上の結果からわかるように、本発明によれば、支持体、該支持体上に形成された導電層、該導電層上に形成された中間層、および、該中間層上に形成された感光層を有する電子写真感光体であっても、帯電スジの発生が抑制された電子写真感光体を、リユース性に優れた酸素欠損型ＳｎＯ２を用いて提供することができる。
【０２７４】
また、本発明によれば、このような電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２７５】
【図１】本発明の電子写真感光体の層構成の例を示す図である。
【図２】本発明のプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。
【符号の説明】
【０２７６】
１０１  支持体
１０２  導電層
１０３  中間層
１０４  感光層
１０４１  電荷発生層
１０４２  電荷輸送層
１０５  保護層
１  電子写真感光体
２  軸
３  帯電手段（一次帯電手段）
４  露光光（画像露光光）
５  現像手段
６  転写手段（転写ローラー）
７  クリーニング手段（クリーニングブレード）
８  定着手段
９  プロセスカートリッジ
１０  案内手段
１１  前露光光
Ｐ  転写材（紙など）
【図１】
0004702950.tif 000007
【図２】
0004702950.tif 000008