(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表わされる遷移金属化合物。
【化１】
0004772951.tif 000005
（式中、Ｒ1及びＲ3〜Ｒ8はそれぞれ水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。Ｒ2は炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ隣接する基と環を形成せず、Ｒ5〜Ｒ8はそれぞれ隣接する基と環を形成してもよい。Ａは−Ｓｉ(Ｒ9)(Ｒ10)−で表される基を示し、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。複数のＡは、互いに同じでも異なっていてもよい。ｐは２を示す。Ｘは、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアミド基、炭素数１〜２０のホスフィド基、炭素数１〜２０のスルフィド基、炭素数１〜２０のスルホキシド基、及び炭素数１〜２０のアシル基からなる群から選ばれる１種以上を示し、Ｘが複数ある場合には、それらは同じでも異なっていてもよい。ｑは１〜５の整数で［（Ｍの原子価）−２］を示す。Ｍはチタニウム、ジルコニウム又はハフニウムを示す。）
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される遷移金属化合物のＸがハロゲン原子である、請求項１に記載の遷移金属化合物。
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される遷移金属化合物が、（１，１'−ＳｉＭｅ2）（２，２'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド又は（１，１'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（２，２'−ＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドである、請求項１又は２に記載の遷移金属化合物。
【請求項４】
（Ａ）請求項１〜３のいずれかに記載の遷移金属化合物、及び（Ｂ）活性化助触媒を主成分として含有するオレフィン重合用触媒であって、前記（Ｂ）活性化助触媒が、（Ｂ−１）前記（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、（Ｂ−２）アルミノキサン、（Ｂ−３）ルイス酸及び（Ｂ−４）粘土、粘土鉱物又はイオン交換性化合物から選ばれるいずれかである、オレフィン重合用触媒。
【請求項５】
（Ａ）請求項１〜３のいずれかに記載の遷移金属化合物、（Ｂ）活性化助触媒、及び（Ｃ）有機アルミニウムを主成分として含有するオレフィン重合用触媒であって、前記（Ｂ）活性化助触媒が、（Ｂ−１）前記（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、（Ｂ−２）アルミノキサン、（Ｂ−３）ルイス酸及び（Ｂ−４）粘土、粘土鉱物又はイオン交換性化合物から選ばれるいずれかであり、前記（Ｃ）有機アルミニウムが下記一般式（ＶＩＩ）で示される化合物である、オレフィン重合用触媒。
Ｒ17vＡｌＰ3-v      ・・・（ＶＩＩ）
（式中、Ｒ17は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｐは水素原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基又はハロゲン原子を示し、ｖは１〜３の実数である。）
【請求項６】
請求項４又は５に記載のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンもしくは炭素数３〜２０のα−オレフィンを単独重合、又はエチレンもしくは炭素数３〜２０のα−オレフィンと他のオレフィン類及び／又は他の単量体とを共重合させることを特徴とするオレフィン系重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、オレフィン重合触媒成分として有用な新規な遷移金属化合物、それを含有するオレフィン重合触媒、該触媒を用いるオレフィン系重合体の製造方法及び該製造方法により得られるオレフィン系重合体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、高活性可溶系オレフィン重合触媒としては遷移金属化合物とアルミノキサンとの組み合わせからなるものが知られている（特開昭５８−１９３０９号公報、特開昭６０−２１７２０９号公報）。また可溶系オレフィン重合触媒の活性種としてはカチオン種が有効であることが報告されている。［Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．の第８１巻、第８１ページ（１９５９年），第８２巻、第１９５３ページ（１９６０年），第１０７巻、第７２１９ページ（１９８６年）］。また、この活性種を単離し、オレフィン重合に適用した例としては、［Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，第１０８巻，第７４１０ページ（１９８６年）］，特表平１−５０２６３６号公報、特開平３−１３９５０４号公報、ヨーロッパ公開特許第４６８６５１号公報などを挙げることができ、さらにこの活性種に有機アルミニウム化合物を併用した例として、特開平３−２０７７０４号公報、国際特許公開９２−１７２３号公報などを挙げることができる。
ところで、多重架橋型（二重架橋型）メタロセン錯体については、その合成例が少なく、国際特許公開９３−２０１１３号公報及び「Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ」第１２巻、第１９３１ページ（１９９３年）及び「Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ」第１３巻、第３８６８ページ、「Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ」第１７巻、第５５２８ページに記載されている。また、その重合触媒としての挙動は「Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ」第１２巻、第１９３１ページ（１９９３年）にプロピレンの重合例が記載されているが、アイソタクチックポリプロピレンを得るにはメタロセン錯体のメソ、ラセミ体の分割が必要である上、得られるポリプロピレンの分子量は低いものであった。これに対して、最近いくつかの新規な二重架橋型メタロセン錯体が提案されている。（国際特許公開９５−９１７２号公報、同９６−３０３８０号公報、同９９−６７３０３号公報等）
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、（１）オレフィン重合触媒の成分として有用な、新規な二重架橋型メタロセン錯体、（２）高分子量でかつ高重合活性でオレフィン系重合体を与える、オレフィン重合触媒、（３）該重合触媒を用いるオレフィン系重合体の効率良い製造方法、並びに（４）該重合体を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述問題に鑑みなされたものであり、特定の遷移金属化合物、それを含有するオレフィン重合触媒、、該触媒を用いるオレフィン系重合体の製造方法及び該製造方法により得られるオレフィン系重合体により、本目的を達成できることを見出し、これに基づき本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、以下の遷移金属化合物、それを含有するオレフィン重合触媒、該触媒を用いるオレフィン系重合体の製造方法及び該製造方法により得られるオレフィン系重合体を提供するものである。
〔１〕  下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表わされる遷移金属化合物。
【０００５】
【化２】
0004772951.tif 000002
【０００６】
（式中、Ｒ1及びＲ3〜Ｒ8はそれぞれ水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。Ｒ2は炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ隣接する基と環を形成せず、Ｒ5〜Ｒ8はそれぞれ隣接する基と環を形成してもよい。Ａは−Ｓｉ(Ｒ9)(Ｒ10)−で表される基を示し、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。複数のＡは、互いに同じでも異なっていてもよい。ｐは２を示す。Ｘは、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアミド基、炭素数１〜２０のホスフィド基、炭素数１〜２０のスルフィド基、炭素数１〜２０のスルホキシド基、及び炭素数１〜２０のアシル基からなる群から選ばれる１種以上を示し、Ｘが複数ある場合には、それらは同じでも異なっていてもよい。ｑは１〜５の整数で［（Ｍの原子価）−２］を示す。Ｍはチタニウム、ジルコニウム又はハフニウムを示す。）
〔２〕  前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される遷移金属化合物のＸがハロゲン原子である、上記〔１〕に記載の遷移金属化合物。
〔３〕  前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される遷移金属化合物が、（１，１'−ＳｉＭｅ2）（２，２'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド又は（１，１'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（２，２'−ＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドである、上記〔１〕又は〔２〕に記載の遷移金属化合物。
〔４〕  （Ａ）上記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の遷移金属化合物、及び（Ｂ）活性化助触媒を主成分として含有するオレフィン重合用触媒であって、前記（Ｂ）活性化助触媒が、（Ｂ−１）前記（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、（Ｂ−２）アルミノキサン、（Ｂ−３）ルイス酸及び（Ｂ−４）粘土、粘土鉱物又はイオン交換性化合物から選ばれるいずれかである、オレフィン重合用触媒。
〔５〕  （Ａ）上記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の遷移金属化合物、（Ｂ）活性化助触媒、及び（Ｃ）有機アルミニウムを主成分として含有するオレフィン重合用触媒であって、前記（Ｂ）活性化助触媒が、（Ｂ−１）前記（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、（Ｂ−２）アルミノキサン、（Ｂ−３）ルイス酸及び（Ｂ−４）粘土、粘土鉱物又はイオン交換性化合物から選ばれるいずれかであり、前記（Ｃ）有機アルミニウムが下記一般式（ＶＩＩ）で示される化合物である、オレフィン重合用触媒。
Ｒ17vＡｌＰ3-v      ・・・（ＶＩＩ）
（式中、Ｒ17は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｐは水素原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基又はハロゲン原子を示し、ｖは１〜３の実数である。）
〔６〕  上記〔４〕又は〔５〕に記載のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンもしくは炭素数３〜２０のα−オレフィンを単独重合、又はエチレンもしくは炭素数３〜２０のα−オレフィンと他のオレフィン類及び／又は他の単量体とを共重合させることを特徴とするオレフィン系重合体の製造方法。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の遷移金属化合物［Ｉ］、オレフィン重合触媒［ＩＩ］、オレフィン系重合体の製造方法［ＩＩＩ］及びオレフィン系重合体［ＩＶ］について詳細に説明する。
［Ｉ］遷移金属化合物
本発明の遷移金属化合物は、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表わされる新規な二重架橋型メタロセン錯体である。すなわち、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）に示されるように、配位子はシクロペンタジエニル環又は置換シクロペンタジエニル環（但し、Ｒ1〜Ｒ3は、それぞれ隣接する基と環を形成せず）とインデニル環又は置換インデニル環であり、かつ二つの架橋基の少なくとも一方は、周期律表第１４族の元素からなる基が２以上の架橋基であることを必須とする新規な二重架橋型メタロセン錯体である。これにより、オレフィンを高分子量でかつ高重合活性で製造することができる。前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）において、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、珪素含有基またはヘテロ原子含有基を示す。炭素数１〜２０の炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基などのアルキル基や、ビニル基、プロペニル基、シクロヘキセニル基などのアルケニル基；ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基などのアリールアルキル基；フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、アントラセニル基、フェナントニル基などのアリール基が挙げられる。
【０００８】
珪素含有基としては、炭素数１〜２０の珪素含有基が好ましく挙げられる。炭素数１〜２０の珪素含有基としては、メチルシリル基、フェニルシリル基などのモノ炭化水素置換シリル基；ジメチルシリル基、ジフェニルシリル基などのジ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、ジメチル（ｔ−ブチル）シリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基、トリトリルシリル基、トリナフチルシリル基などのトリ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリルエーテル基などの炭化水素置換シリルエーテル基；トリメチルシリルメチル基などのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリルフェニル基などのケイ素置換アリール基などやジメチルヒドロシリル基、メチルジヒドロシリル基等が挙げられる。なかでもトリメチルシリルメチル基、フェニルジメチルシリルエチル基などが好ましい。
【０００９】
ヘテロ原子含有基としては、ヘテロ原子含有炭化水素基が挙げられる。ヘテロ原子含有炭化水素基としては、ｐ−フルオロフェニル基，３，５−ジフルオロフェニル基，ペンタクロロフェニル基，３，４，５−トリフルオロフェニル基，ペンタフルオロフェニル基，３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基，ビス（トリメチルシリル）メチル基等が挙げられる。
【００１０】
Ｒ1〜Ｒ3は、それぞれ隣接する基と環を形成せず、Ｒ5〜Ｒ8は、それぞれ隣接する基と環を形成してもよい。置換基についての制限は特にないが、Ｒ1〜Ｒ3が水素原子以外の置換基である場合が高活性となり好ましい。また、Ｒ3が水素原子のとき、Ｒ4のｖａｎ  ｄｅｒ  Ｗａａｌｓ半径は、Ｒ1のｖａｎ  ｄｅｒ  Ｗａａｌｓ半径以下であると好ましい場合がある。Ｒ3が水素原子ではないとき、Ｒ4のｖａｎ  ｄｅｒ  Ｗａａｌｓ半径は、Ｒ1のｖａｎ  ｄｅｒ  Ｗａａｌｓ半径より大きいと好ましい場合がある。
【００１１】
Ａは、周期律表第１４族の元素からなる基を示し、Ａが複数ある場合には、それらは互いに同じでも異なっていてもよい。周期律表第１４族の元素としては、炭素、珪素、ゲルマニウム、錫が好ましい。周期律表第１４族の元素からなる基としては、例えば下記の一般式
【００１２】
【化３】
0004772951.tif 000003
【００１３】
（Ｅは炭素、珪素、錫、ゲルマニウムを示し、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０の珪素含有基を示し、それらは互いに同一でも異なっていても良く、また互いに結合して環を形成していてもよい。）で表わされる基が挙げられる。炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基及び炭素数１〜２０の珪素含有基としては、前記Ｒ1〜Ｒ8におけるものと同様のものが挙げられる。具体的には、メチレン、イソプロピリデン基、ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジメチルゲルミレン基、ジメチルスタニレン基などが挙げられる。
【００１４】
ｐは２〜１０の整数を示す。
Ｘはσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場合には、それらは同じでも異なっていてもよい。Ｘとしては、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアミド基、炭素数１〜２０の珪素含有基、炭素数１〜２０のホスフィド基、炭素数１〜２０のスルフィド基、炭素数１〜２０のスルホキシド基又は炭素数１〜２０のアシル基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。炭素数１〜２０の炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基などのアルキル基や、ビニル基、プロペニル基、シクロヘキセニル基などのアルケニル基；ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基などのアリールアルキル基；フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、アントラセニル基、フェナントニル基などのアリール基が挙げられる。炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基等が挙げられる。炭素数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基等が挙げられる。炭素数１〜２０のアミド基としては、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、ジブチルアミド基、ジシクロヘキシルアミド基、メチルエチルアミド基等のアルキルアミド基や、ジビニルアミド基、ジプロペニルアミド基、ジシクロヘキセニルアミド基などのアルケニルアミド基；ジベンジルアミド基、フェニルエチルアミド基、フェニルプロピルアミド基などのアリールアルキルアミド基；ジフェニルアミド基、ジナフチルアミド基などのアリールアミド基が挙げられる。炭素数１〜２０の珪素含有基としては、メチルシリル基、フェニルシリル基などのモノ炭化水素置換シリル基；ジメチルシリル基、ジフェニルシリル基などのジ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、ジメチル（ｔ−ブチル）シリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基、トリトリルシリル基、トリナフチルシリル基などのトリ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリルエーテル基などの炭化水素置換シリルエーテル基；トリメチルシリルメチル基などのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリルフェニル基などのケイ素置換アリール基などやジメチルヒドロシリル基、メチルジヒドロシリル基等が挙げられる。なかでもトリメチルシリルメチル基、フェニルジメチルシリルエチル基などが好ましい。炭素数１〜２０のスルフィド基としては、メチルスルフィド基、エチルスルフィド基、プロピルスルフィド基、ブチルスルフィド基、ヘキシルスルフィド基、シクロヘキシルスルフィド基、オクチルスルフィド基などのアルキルスルフィド基や、ビニルスルフィド基、プロペニルスルフィド基、シクロヘキセニルスルフィド基などのア���ケニルスルフィド基；ベンジルスルフィド基、フェニルエチルスルフィド基、フェニルプロピルスルフィド基などのアリールアルキルスルフィド基；フェニルスルフィド基、トリルスルフィド基、ジメチルフェニルスルフィド基、トリメチルフェニルスルフィド基、エチルフェニルスルフィド基、プロピルフェニルスルフィド基、ビフェニルスルフィド基、ナフチルスルフィド基、メチルナフチルスルフィド基、アントラセニルスルフィド基、フェナントニルスルフィド基などのアリールスルフィド基が挙げられる。炭素数１〜２０のスルホキシド基としては、メチルスルホキシド基、エチルスルホキシド基、プロピルスルホキシド基、ブチルスルホキシド基、ヘキシルスルホキシド基、シクロヘキシルスルホキシド基、オクチルスルホキシド基などのアルキルスルホキシド基や、ビニルスルホキシド基、プロペニルスルホキシド基、シクロヘキセニルスルホキシド基などのアルケニルスルホキシド基；ベンジルスルホキシド基、フェニルエチルスルホキシド基、フェニルプロピルスルホキシド基などのアリールアルキルスルホキシド基；フェニルスルホキシド基、トリルスルホキシド基、ジメチルフェニルスルホキシド基、トリメチルフェニルスルホキシド基、エチルフェニルスルホキシド基、プロピルフェニルスルホキシド基、ビフェニルスルホキシド基、ナフチルスルホキシド基、メチルナフチルスルホキシド基、アントラセニルスルホキシド基、フェナントニルスルホキシド基などのアリールスルホキシド基が挙げられる。炭素数１〜２０のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、パルミトイル基、テアロイル基、オレオイル基等のアルキルアシル基、ベンゾイル基、トルオイル基、サリチロイル基、シンナモイル基、ナフトイル基、フタロイル基等のアリールアシル基、シュウ酸、マロン酸、コハク酸等のジカルボン酸からそれぞれ誘導されるオキサリル基、マロニル基、スクシニル基等が挙げられる。Ｘとしては、メチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基やフェニル基などのアリール基が好ましい。
【００１５】
Ｙはルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合には、それらは同じでも異なっていてもよく、他のＹやシクロペンタジエニル基またはＸと架橋していてもよい。このＹとしてはアミン類、エーテル類、エステル類、ホスフィン類、チオエーテル類、ニトリル類などが挙げられる。アミン類としては、炭素数１〜２０のアミン類が挙げられ、具体的には、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、メチルエチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、メチルエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン等のアルキルアミンや、ビニルアミン、プロペニルアミン、シクロヘキセニルアミン、ジビニルアミン、ジプロペニルアミン、ジシクロヘキセニルアミンなどのアルケニルアミン；フェニルアミン、フェニルエチルアミン、フェニルプロピルアミンなどのアリールアルキルアミン；ジフェニルアミン、ジナフチルアミンなどのアリールアミン、又はアンモニア、アニリン、Ｎ−メチルアニリンジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、メチルジフェニルアミン、ピリジン、ｐ−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどが挙げられる。エーテル類としては、メチルエーテル、エチルエーテル、プロピルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、イソブチルエーテル、ｎ−アミルエーテル、イソアミルエーテル等の脂肪族単一エーテル化合物；メチルエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、メチル−ｎ−アミルエーテル、メチルイソアミルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エチル−ｎ−アミルエーテル、エチルイソアミルエーテル等の脂肪族混成エーテル化合物；ビニルエーテル、アリルエーテル、メチルビニルエーテル、メチルアリルエーテル、エチルビニルエーテル、エチルアリルエーテル等の脂肪族不飽和エーテル化合物；アニソール、フェネトール、フェニルエーテル、ベンジルエーテル、フェニルベンジルエーテル、α−ナフチルエーテル、β−ナフチルエーテル等の芳香族エーテル化合物、酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化トリメチレン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環式エーテル化合物が挙げられる。エステル類としては、安息香酸エチル等が挙げられる。ホスフィン類としては、炭素数１〜２０のホスフィンが挙げられる。具体的には、メチルホスフィン、エチルホスフィン、プロピルホスフィン、ブチルホスフィン、ヘキシルホスフィン、シクロヘキシルホスフィン、オクチルホスフィンなどのモノ炭化水素置換ホスフィン；ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジプロピルホスフィン、ジブチルホスフィン、ジヘキシルホスフィン、ジシクロヘキシルホスフィン、ジオクチルホスフィンなどのジ炭化水素置換ホスフィン；トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィンなどのトリ炭化水素置換ホスフィン等のアルキルホスフィンや、ビニルホスフィン��プロペニルホスフィン、シクロヘキセニルホスフィンなどのモノアルケニルホスフィンやホスフィンの水素原子をアルケニルが２個置換したジアルケニルホスフィン；ホスフィンの水素原子をアルケニルが３個置換したトリアルケニルホスフィン；ベンジルホスフィン、フェニルエチルホスフィン、フェニルプロピルホスフィンなどのアリールアルキルホスフィン；ホスフィンの水素原子をアリールまたはアルケニルが３個置換したジアリールアルキルホスフィンまたはアリールジアルキルホスフィン；フェニルホスフィン、トリルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、トリメチルフェニルホスフィン、エチルフェニルホスフィン、プロピルフェニルホスフィン、ビフェニルホスフィン、ナフチルホスフィン、メチルナフチルホスフィン、アントラセニルホスフィン、フェナントニルホスフィン；ホスフィンの水素原子をアルキルアリールが２個置換したジ（アルキルアリール）ホスフィン；ホスフィンの水素原子をアルキルアリールが３個置換したトリ（アルキルアリール）ホスフィンなどのアリールホスフィン等が挙げられる。チオエーテル類としては、前記のスルフィドが挙げられる。ニトリル類としては、アセトニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられる。
【００１６】
ｑは１〜５の整数で［（Ｍの原子価）−２］を示し、ｒは０〜３の整数を示す。
Ｍは、周期律表第３〜１０族またはランタノイド系列の金属元素を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウム、ハフニウム、イットリウム、バナジウム、クロム、マンガン、ニッケル、コバルト、パラジウム及びランタノイド系金属などが挙げられるが、これらの中でオレフィン類の重合触媒用としては、４族元素であるチタニウム、ジルコニウム及びハフニウムが好適である。
【００１７】
このような遷移金属化合物の具体例としては、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−テトラメチルジシリレン）（インデニル）（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−テトラメチルジシリレン）（インデニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−テトラメチルジシリレン）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−テトラメチルジシリレン）（インデニル）（５'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−テトラメチルジシリレン）（インデニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−テトラメチルジシリレン）（インデニル）（４'，５'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−テトラメチルジシリレン）（３−メチルインデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−テトラメチルジシリレン）（３−イソプロピルインデニル）（４'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−テトラメチルジシリレン）（３−メチルインデニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（インデニル）（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（インデニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（インデニル）（５'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（インデニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（インデニル）（４'，５'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（３−メチルインデニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（３−イソプロピルインデニル）（３'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（３−メチルインデニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−テトラメチルジシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−テトラメチルジシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３'−���チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−テトラメチルジシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−テトラメチルジシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（５'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−テトラメチルジシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−テトラメチルジシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（４'，５'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−テトラメチルジシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（３−メチルインデニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−テトラメチルジシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（３−イソプロピルインデニル）（３'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−テトラメチルジシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（３−メチルインデニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１'−エチレン）（２，２'−ジメチルシリレン）（インデニル）（５'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１'−エチレン）（２，２'−ジメチルシリレン）（インデニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（インデニル）（４'，５'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（３−メチルインデニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（３−イソプロピルインデニル）（３'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−エチレン）（３−メチルインデニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドなど、及びこれらの化合物におけるジルコニウムをチタンまたはハフニウムに置換したものを挙げることができるがもちろんこれらに限定されるものではない。また、ジルコニウムを他の族の遷移金属に置換した上記と類似の遷移金属化合物又は、ジルコニウムをランタノイド系列の金属元素に置換した上記と類似の化合物であってもよい。
［ＩＩ］オレフィン重合用触媒
本発明のオレフィン重合用触媒は、（Ａ）前記の一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される遷移金属化合物、（Ｂ）活性化助触媒、及び必要に応じて（Ｃ）有機アルミニウム化合物を含有する。
【００１８】
（Ｂ）成分としては、活性化助触媒であれば、特に制限はないが、（Ｂ−１）（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、（Ｂ−２）アルミノキサン、（Ｂ−３）ルイス酸又は（Ｂ−４）粘土、粘土鉱物又はイオン交換性化合物を、重合活性が高く、触媒コストを低減できる点から好ましく挙げることができる。
【００１９】
上記（Ｂ−１）成分としては、前記（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応して、イオン性の錯体を形成するイオン性化合物であれば、いずれのものでも使用できるが、特に効率的に重合活性点を形成できるなどの点から、次の一般式（ＩＩ），（ＩＩＩ）で表わされるものが好ましい。
【００２０】
（〔Ｌ1−Ｒ11〕h+）a（〔Ｚ〕-）b    ・・・（ＩＩＩ）
（〔Ｌ2〕h+）a（〔Ｚ〕-）b        ・・・（ＩＶ）
（ただし、Ｌ2はＭ1，Ｒ12Ｒ13Ｍ2，Ｒ143Ｃ又はＲ15Ｍ2である。）
〔（ＩＩＩ），（ＩＶ）式中、Ｌ1はルイス塩基、〔Ｚ〕-は、非配位性アニオン〔Ｚ1〕-又は〔Ｚ2〕-、ここで〔Ｚ1〕-は複数の基が元素に結合したアニオンすなわち〔Ｍ3Ｇ1Ｇ2・・・Ｇf〕（ここで、Ｍ3は周期律表第５〜１５族元素、好ましくは周期律表第１３〜１５族元素を示す。Ｇ1〜Ｇfはそれぞれ水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数２〜４０のジアルキルアミノ基，炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリール基，炭素数６〜２０のアリールオキシ基，炭素数７〜４０のアルキルアリール基，炭素数７〜４０のアリールアルキル基，炭素数１〜２０のハロゲン置換炭化水素基，炭素数１〜２０のアシルオキシ基，有機メタロイド基、又は炭素数２〜２０のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ｇ1〜Ｇfのうち２つ以上が環を形成していてもよい。ｆは〔（中心金属Ｍ3の原子価）＋１〕の整数を示す。）、〔Ｚ2〕-は、酸解離定数の逆数の対数（ｐＫａ）が−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸を組合わせた共役塩基、あるいは一般的に超強酸と定義される共役塩基を示す。また、ルイス塩基が配位していてもよい。また、Ｒ11は水素原子，炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示し、Ｒ14及びＲ13はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル基，インデニル基、置換インデニル基、フルオレニル基又は置換フルオレニル基、Ｒ14は炭素数１〜２０のアルキル基，アリール基，アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示す。Ｒ15はテトラフェニルポルフィリン，フタロシアニンなどの大環状配位子を示す。ｈは〔Ｌ1−Ｒ11〕，〔Ｌ2〕のイオン価数で１〜３の整数、ａは１以上の整数、ｂ＝（ｈ×ａ）である。Ｍ1は、周期律表第１〜３、１１〜１３、１７族元素を含むものであり、Ｍ2は、周期律表第７〜１２族元素を示す。〕で表されるものを好適に使用することができる。
【００２１】
ここで、Ｌ1の具体例としては、アンモニア，メチルアミン，アニリン，ジメチルアミン，ジエチルアミン，Ｎ−メチルアニリン，ジフェニルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン，トリメチルアミン，トリエチルアミン，トリ−ｎ−ブチルアミン，メチルジフェニルアミン，ピリジン，ｐ−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどのアミン類、トリエチルホスフィン，トリフェニルホスフィン，ジフェニルホスフィンなどのホスフィン類、テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、安息香酸エチルなどのエステル類、アセトニトリル，ベンゾニトリルなどのニトリル類などを挙げることができる。
【００２２】
Ｒ11の具体例としては水素，メチル基，エチル基，ベンジル基，トリチル基などを挙げることができ、Ｒ12，Ｒ13の具体例としては、シクロペンタジエニル基，メチルシクロペンタジエニル基，エチルシクロペンタジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基などを挙げることができる。Ｒ14の具体例としては、フェニル基，ｐ−トリル基，ｐ−メトキシフェニル基などを挙げることができ、Ｒ15の具体例としてはテトラフェニルポルフィン，フタロシアニン，アリル，メタリルなどを挙げることができる。また、Ｍ1の具体例としては、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｂｒ，Ｉ，Ｉ3などを挙げることができ、Ｍ2の具体例としては、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎなどを挙げることができる。
【００２３】
また、〔Ｚ1〕-、すなわち〔Ｍ3Ｇ1Ｇ2・・・Ｇf〕において、Ｍ3の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂなど、好ましくはＢ又はＡｌが挙げられる。また、Ｇ1，Ｇ2〜Ｇfの具体例としては、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基など、アルコキシ基若しくはアリールオキシ基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基，フェノキシ基など、炭化水素基としてメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−エイコシル基，フェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，４−ｔ−ブチルフェニル基，３，５−ジメチルフェニル基など、ハロゲン原子としてフッ素，塩素，臭素，ヨウ素，ヘテロ原子含有炭化水素基としてｐ−フルオロフェニル基，３，５−ジフルオロフェニル基，ペンタクロロフェニル基，３，４，５−トリフルオロフェニル基，ペンタフルオロフェニル基，３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基，ビス（トリメチルシリル）メチル基など、有機メタロイド基としてペンタメチルアンチモン基，トリメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニルアルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニル硼素などが挙げられる。
【００２４】
また、非配位性のアニオンすなわちｐＫａが−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸を組合わせた共役塩基〔Ｚ2〕-の具体例としてはトリフルオロメタンスルホン酸アニオン（ＣＦ3ＳＯ3）-，ビス（トリフルオロメタンスルホニル）メチルアニオン，ビス（トリフルオロメタンスルホニル）ベンジルアニオン，ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド，過塩素酸アニオン（ＣｌＯ4）-，トリフルオロ酢酸アニオン（ＣＦ3ＣＯ2）-，ヘキサフルオロアンチモンアニオン（ＳｂＦ6）-，フルオロスルホン酸アニオン（ＦＳＯ3）-，クロロスルホン酸アニオン（ＣｌＳＯ3）-，フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化アンチモン（ＦＳＯ3／ＳｂＦ5）-，フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化砒素（ＦＳＯ3／ＡｓＦ5）-，トリフルオロメタンスルホン酸／５−フッ化アンチモン（ＣＦ3ＳＯ3／ＳｂＦ5）-などを挙げることができる。
【００２５】
このような前記（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、すなわち（Ｂ−１）成分化合物の具体例としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸メチル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウム，テトラフェニル硼酸メチルピリジニウム，テトラフェニル硼酸ベンジルピリジニウム，テトラフェニル硼酸メチル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルピリジニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジルピリジニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（４−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニルホスホニウム，テトラキス〔３，５−ジ（トリフルオロメチル）フェニル〕硼酸ジメチルアニリニウム，テトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラフェニル硼酸トリチル，テトラフェニル硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸（１，１’−ジメチルフェロセニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカメチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸銀、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリチル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸リチウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ナトリウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン，テトラフルオロ硼酸銀，ヘキサフルオロ燐酸銀，ヘキサフルオロ砒素酸銀，過塩素酸銀，トリフルオロ酢酸銀，トリフルオロメタンスルホン酸銀などを挙げることができる。
【００２６】
この（Ｂ−１）成分である、該（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物は一種用いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２７】
一方、（Ｂ−２）成分のアルミノキサンとしては、下記一般式（Ｖ）で示される鎖状アルミノキサン、及び一般式（ＶＩ）で示される環状アルミノキサンを挙げることができる。
【００２８】
【化４】
0004772951.tif 000004
【００２９】
（式中、Ｒ16は、それぞれ炭素数１〜２０、好ましくは１〜８のアルキル基を示し、それらは同じであっても異なっていてもよい。また、ｍは２＜ｍ≦４０、ｎは１＜ｎ≦５０の整数である。）
具体的には、メチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン、イソブチルアルミノキサン等のアルミノキサン類が挙げられる。
【００３０】
前記アルミノキサンの製造法としては、アルキルアルミニウムと水などの縮合剤とを接触させる方法が挙げられるが、その手段については特に限定はなく、公知の方法に準じて反応させればよい。例えば有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶解しておき、これを水と接触させる方法、重合時に当初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に水を添加する方法、金属塩などに含有されている結晶水、無機物や有機物への吸着水を有機アルミニウム化合物と反応させる方法、テトラアルキルジアルミノキサンにトリアルキルアルミニウムを反応させ、さらに水を反応させる方法などがある。なお、アルミノキサンとしては、トルエン不溶性のものであってもよい。
【００３１】
これらのアルミノキサンは一種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
（Ｂ−３）成分のルイス酸については特に制限はなく、有機化合物でも固体状無機化合物でもよい。有機化合物としては、硼素化合物やアルミニウム化合物などが、無機化合物としてはマグネシウム化合物，アルミニウム化合物などが効率的に活性点を形成できる点から好ましく用いられる。該アルミニウム化合物としては例えばビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウムメチル，（１，１−ビ−２−ナフトキシ）アルミニウムメチルなどが、マグネシウム化合物としては例えば塩化マグネシウム，ジエトキシマグネシウムなどが、アルミニウム化合物としては酸化アルミニウム，塩化アルミニウムなどが、硼素化合物としては例えばトリフェニル硼素，トリス（ペンタフルオロフェニル）硼素，トリス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル〕硼素，トリス〔（４−フルオロメチル）フェニル〕硼素，トリメチル硼素，トリエチル硼素，トリ−ｎ−ブチル硼素，トリス（フルオロメチル）硼素，トリス（ペンタフルオロエチル）硼素，トリス（ノナフルオロブチル）硼素，トリス（２，４，６−トリフルオロフェニル）硼素，トリス（３，５−ジフルオロ）硼素，トリス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル〕硼素，ビス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ硼素，ジフェニルフルオロ硼素，ビス（ペンタフルオロフェニル）クロロ硼素，ジメチルフルオロ硼素，ジエチルフルオロ硼素，ジ−ｎ−ブチルフルオロ硼素，ペンタフルオロフェニルジフルオロ硼素，フェニルジフルオロ硼素，ペンタフルオロフェニルジクロロ硼素，メチルジフルオロ硼素，エチルジフルオロ硼素，ｎ−ブチルジフルオロ硼素などが挙げられる。これらのルイス酸は一種用いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３２】
（Ｂ−４）成分の一つとして、粘土または粘土鉱物が用いられる。粘土は、細かい含水ケイ酸塩鉱物の集合体であって、適当量の水を混ぜてこねると可塑性を生じ、乾かすと剛性を示し、高温度で焼くと焼結するような物質であり、また、粘土鉱物は、粘土の主成分をなす含水ケイ酸塩である。前記オレフィン重合触媒成分の調製には、粘土、粘土鉱物のいずれを用いてもよく、これらは、天然産のものでも、人工合成したものであってもよい。
【００３３】
また、（Ｂ−４）成分として、イオン交換性層状化合物を用いることができる。このイオン交換性層状化合物は、イオン結合等によって構成される面が互いに弱い結合力で、平行に積み重なった結晶構造をとる化合物であり、これに含有されるイオンが交換可能なものである。粘土鉱物の中には、イオン交換性層状化合物であるものもある。
【００３４】
これら（Ｂ−４）成分について、その具体例を示すと、例えば粘土鉱物としてフィロ珪酸類を挙げることができる。フィロ珪酸類としては、フィロ珪酸やフィロ珪酸塩がある。フィロ珪酸塩には、天然品として、スメクタイト族に属するモンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、雲母族に属するイライト、セリサイト及びスメクタイト族と雲母族または雲母族とバーミキュライト族との混合層鉱物等を挙げることができる。また、合成品として、フッ素四珪素雲母、ラポナイト、スメクトン等を挙げることができる。この他、α−Ｚｒ（ＨＰＯ4）2、γ−Ｚｒ（ＨＰＯ4）2、α−Ｔｉ（ＨＰＯ4）2 及びγ−Ｔｉ（ＨＰＯ4）2等の粘土鉱物ではない層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物を用いることができる。
【００３５】
また、イオン交換性層状化合物に属さない粘土および粘土鉱物としては、モンモリロナイト含量が低いためベントナイトと呼ばれる粘土、モンモリロナイトに他の成分が多く含まれる木節粘土、ガイロメ粘土、繊維状の形態を示すセピオライト、パリゴルスカイト、また、非結晶質あるいは低結晶質のアロフェン、イモゴライト等がある。
【００３６】
さらに（Ｂ−４）成分としては、体積平均粒子径が１０μｍ以下である粒子が好ましく、体積平均粒子径が３μｍ以下である粒子がさらに好ましい。また、一般に粒子の粒子形状は粒径分布を有するが、（Ｂ−４）成分としては、体積平均粒子径が１０μｍ以下であって、体積平均粒子径が３．０μｍ以下の含有割合が１０質量％以上である粒径分布を有することが好ましく、体積平均粒子径が１０μｍ以下であって、体積平均粒子径が１．５μｍ以下の含有割合が１０質量％以上である粒径分布を有することがさらに好ましい。体積平均粒子径及び含有割合の測定方法としては、例えば、レーザー光による光透過性で粒径を測定する機器（ＧＡＬＡＩ  Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  Ｌｔｄ．製のＣＩＳ−１）を用いる測定方法が挙げられる。また、（Ｂ−４）成分としては、酸処理、アルカリ処理、塩類処理、又は有機物処理されたものであってもよい。なかでも有機ケイ素化合物や有機アルミニウム化合物で前処理されたものが、重合活性が向上し好ましい。
【００３７】
これら（Ｂ−４）成分の中でも、四級アンモニウム塩（特に制限はないが、四級アルキルアンモニウム塩、四級アリ−ルアンモニウム塩、四級アリ−ルアルキルアンモニウム塩、四級ベンジルアンモニウム塩、複素芳香族アンモニウム塩等）を吸着ないし粘土等と反応し層間化合物を生成（インターカレーションともいう）する能力の高いものが好ましい。例えば、粘土または粘土鉱物が好ましく、具体的には、フィロ珪酸類が好ましく、さらにスメクタイトが好ましく、特に好ましいのはモンモリロナイトである。また、合成品としてはフッ素四珪素雲母が好ましい。
【００３８】
本発明の重合用触媒における（Ａ）触媒成分と（Ｂ）触媒成分との使用割合は、（Ｂ）触媒成分として（Ｂ−１）化合物を用いた場合には、モル比で好ましくは１０：１〜１：１００、より好ましくは２：１〜１：１０の範囲が望ましく、上記範囲を逸脱する場合は、単位質量ポリマーあたりの触媒コストが高くなり、実用的でない。また（Ｂ−２）化合物を用いた場合には、モル比で好ましくは１：１〜１：１，０００，０００、より好ましくは１：１０〜１：１０，０００の範囲が望ましい。この範囲を逸脱する場合は単位質量ポリマーあたりの触媒コストが高くなり、実用的でない。前記（Ａ）触媒成分と（Ｂ−３）触媒成分との使用割合は、モル比で、好ましくは１０：１〜１：２，０００、より好ましくは５：１〜１：１，０００、さらに好ましくは２：１〜１：５００の範囲が望ましく、この範囲を逸脱する場合は単位質量ポリマーあたりの触媒コストが高くなり、実用的でない。（Ａ）成分と（Ｂ−４）成分との割合は、（Ｂ−４）成分の粘土等の単位質量［ｇ］に対し、（Ａ）成分の遷移金属錯体０．１〜１，０００マイクロモル、好ましくは１〜１００マイクロモルの範囲である。
【００３９】
また、触媒成分（Ｂ）としては（Ｂ−１），（Ｂ−２），（Ｂ−３）などを単独又は二種以上組み合わせて用いることもできる。
本発明の重合用触媒は、前記の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を主成分として含有するものであってもよいし、また、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）有機アルミニウム化合物を主成分として含有するものであってもよい。
【００４０】
ここで、（Ｃ）成分の有機アルミニウム化合物としては、一般式（ＶＩＩ）
Ｒ17vＡｌＰ3-v    ・・・（ＶＩＩ）
（式中、Ｒ17は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｐは水素原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリール基又はハロゲン原子を示し、ｖは１〜３の実数である）で示される化合物が用いられる。
【００４１】
前記一般式（ＶＩＩ）で示される化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，トリイソプロピルアルミニウム，トリイソブチルアルミニウム，ジメチルアルミニウムクロリド，ジエチルアルミニウムクロリド，メチルアルミニウムジクロリド，エチルアルミニウムジクロリド，ジメチルアルミニウムフルオリド，ジイソブチルアルミニウムヒドリド，ジエチルアルミニウムヒドリド，エチルアルミニウムセスキクロリド等が挙げられる。
【００４２】
これらの有機アルミニウム化合物は一種用いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。
前記（Ａ）触媒成分と（Ｃ）触媒成分との使用割合は、モル比で好ましくは１：１〜１：１０，０００、より好ましくは１：５〜１：２，０００、さらに好ましくは１：１０ないし１：１，０００の範囲が望ましい。該（Ｃ）触媒成分を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を向上させることができるが、あまり多い場合、特に上記範囲を逸脱する時は有機アルミニウム化合物が無駄になるとともに、重合体中に多量に残存し、また少ない場合は充分な触媒活性が得られず、好ましくない場合がある。
【００４３】
また、本発明においては各成分の接触に際し、または接触後、ポリエチレン、ポリプロピレン等の重合体、シリカ、アルミナ等の無機酸化物（いわゆる担体）を共存または接触させてもよい。担体に担持するにあたっては、ポリマー上に担持するのが好ましく、このような担体ポリマーとしては、その粒径は１〜３００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜１００μｍである。この粒径が１μｍよりも小さいと重合体中の微紛が増大し、３００μｍを超えるものであると重合体中の粗大粒子が増大し、嵩密度の低下や製造工程におけるホッパーのつまりの原因となる。この場合の担体の比表面積は、１〜１，０００ｍ2／ｇ、好ましくは５０〜５００ｍ2／ｇであり、細孔容積は０．１〜５ｍ3／ｇ、好ましくは０．３〜３ｍ3／ｇである。
【００４４】
接触は、窒素等の不活性気体中、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の炭化水素中で行なってもよい。各成分の添加または接触は、重合温度下で行うことができることはもちろん、−３０℃〜各溶媒の沸点、特に室温から溶媒の沸点の間で行なうのが好ましい。
［ＩＩＩ］オレフィン重合体の製造方法
本発明のオレフィン重合体の製造方法は、前記のオレフィン重合用触媒の存在下、オレフィンを単独重合または共重合させることを特徴とする重合体の製造方法である。
【００４５】
なお、（Ｃ）有機アルミニウム化合物としては、前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物が用いられるが、好ましくは、トリアルキルアルミニウム化合物である。中でも、トリメチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが好ましい。本発明のオレフィン重合体の製造方法においては、（Ｃ）有機アルミニウム化合物は予め（Ａ）成分及び／又は（Ｂ）成分と接触させて用いてもよいし、反応器中に（Ｃ）成分を投入しておき（Ａ）成分、（Ｂ）成分と接触させて用いてもよい。（Ｃ）成分の用いる量は前記のオレフィン重合用触媒と同様である。本発明のオレフィン重合体の製造方法によると、上述した重合用触媒を用いて、オレフィン類の単独重合、またはオレフィンと他のオレフィン類及び／または他の単量体との共重合（つまり、異種のオレフィン類相互との共重合、オレフィン類と他の単量体との共重合、或いは異種のオレフィン類相互と他の単量体との共重合）を好適に行うことができる。
【００４６】
該オレフィン類については特に制限はないが、エチレン又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが好ましい。このα−オレフィンとしては、例えば、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、４−フェニル−１−ブテン、６−フェニル−１−ヘキセン、３−メチル−１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、５−メチル−１−ヘキセン、３，３−ジメチル−１−ペンテン、３，４−ジメチル−１−ペンテン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、ビニルシクロヘキサン等のα−オレフィン類、１，３−ブタジエン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン等のジエン類、ヘキサフルオロプロペン、テトラフルオロエチレン、２−フルオロプロペン、フルオロエチレン、１，１−ジフルオロエチレン、３−フルオロプロペン、トリフルオロエチレン、３，４−ジクロロ−１−ブテン等のハロゲン置換α−オレフィン、シクロペンテン、シクロヘキセン、ノルボルネン、５−メチルノルボルネン、５−エチルノルボルネン、５−プロピルノルボルネン、５，６−ジメチルノルボルネン、５−ベンジルノルボルネン等の環状オレフィン類、スチレン系としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−プロピルスチレン、ｐ−イソプロピルスチレン、ｐ−ブチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｏ−プロピルスチレン、ｏ−イソプロピルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｍ−イソプロピルスチレン、ｍ−ブチルスチレン、メシチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、３，５−ジメチルスチレン等のアルキルスチレン類、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン等のアルコキシスチレン類、ｐ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｍ−ブロモスチレン、ｏ−ブロモスチレン、ｐ−フルオロスチレン、ｍ−フルオロスチレン、ｏ−フルオロスチレン、ｏ−メチル−ｐ−フルオロスチレン等のハロゲン化スチレン、更にはトリメチルシリルスチレン、ビニル安息香酸エステル、ジビニルベンゼン等が挙げられる。また、上述した他のオレフィン類についても、上記オレフィン類の中から適宜選定すれば良い。
【００４７】
本発明においては、上記オレフィン類は一種用いてもよいし、二種以上を組み合わせてもよい。二種以上のオレフィンの共重合を行う場合、上記オレフィン類を任意に組み合わせることができる。
【００４８】
また、本発明においては、上記オレフィン類と他の単量体とを共重合させてもよく、この際用いられる他の単量体としては、例えばブタジエン、イソプレン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエンなどの鎖状ジオレフィン類、ノルボルネン、１，４，５，８−ジメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、２−ノルボルネン等の多環状オレフィン類、ノルボルナジエン、５−エチリデンノルボルネン、５−ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエンなどの環状ジオレフィン類、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチルなどの不飽和エステル類などを挙げる事ができる。
【００４９】
本発明においてオレフィン類を重合させる方法については特に制限はなく、スラリー重合法、溶液重合法、気相重合法、塊状重合法、懸濁重合法など、任意の重合法を採用する事ができる。
【００５０】
重合溶媒を用いる場合には、その溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンセン等の炭化水素類やハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。これらは一種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、重合に用いるモノマーもその種類によっては使用することができる。
【００５１】
また、重合反応における触媒の使用量は、溶媒１リットル当たり、［Ａ］成分が、通常０．５〜１００マイクロモル、好ましくは２〜２５マイクロモルの範囲になるように選ぶのが重合活性および反応器効率の面から有利である。
【００５２】
重合条件については、圧力は、通常、常圧〜２００ＭＰａ（ｇａｕｇｅ）の範囲が選択される。また、反応温度は、通常−５０℃〜２５０℃の範囲である。重合体の分子量の調節方法としては、各触媒成分の種類、使用量、重合温度の選択および水素の導入などが挙げられる。
さらに、本発明におけるオレフィンの重合時には、上記触媒を用いて予備重合を行うことができる。この予備重合は、固体触媒成分に少量のオレフィンを接触させて行うことができ、この場合の反応温度は、−２０〜１００℃、好ましくは−１０〜７０℃、特に好ましくは０〜５０℃である。また、この予備重合に際して用いる溶媒としては、不活性炭化水素、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、モノマーが用いられるが、特に脂肪族炭化水素が好ましい。この予備重合を無溶媒で行うこともできる。また、予備重合生成物は、その極限粘度〔η〕（１３５℃、デカリン中での測定）が０．２デシリットル／ｇ、好ましくは０，５デシリットル／ｇ以上となるように行うのがよく、触媒中の遷移金属成分１ミリモルあたり予備重合生成物の量が、１〜１０，０００ｇ、好ましくは１０〜１，０００ｇとなるように条件を調整することが好ましい。この製造方法によれば、特にポリプロピレン、ポリエチレン又はプロピレンとエチレン及び／又は炭素数が４〜２０のα−オレフィンとの共重合体が高分子量でかつ高重合活性で得られる。
［ＩＶ］オレフィン系重合体
本発明のオレフィン系重合体は、前記のオレフィン系重合体の製造方法により得られるものである。具体的には、ポリプロピレン、ポリエチレン又はプロピレンとエチレン及び／又は炭素数が４〜２０のα−オレフィンとの共重合体等が挙げられる。オレフィン系重合体の立体規則性は、13Ｃ−ＮＭＲにより求めたペンタッドメソ分率［ｍｍｍｍ］が、通常、０．０１〜０．８、好ましくは０．０５〜０．８である。それらは、均一な組成で狭い分子量分布を有する。分子量分布は、通常５以下、好ましくは４以下である。
【００５３】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。
〔実施例１〕  （１，１'−ＳｉＭｅ2）（２，２'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド（１）の合成
窒素気流下、１Ｌ三つ口フラスコにテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５０ｍＬとＭｇ１．３ｇ（５３ｍｍｏｌ）を加える。ここに１，２−ジブロモエタン０．１ｍＬを加え攪拌しＭｇを活性化する。３０分攪拌後、溶媒を抜き出し、新たにＴＨＦ５０ｍＬを添加する。ここに２−ブロモインデン２．６ｇ（１３．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２００ｍＬ）溶液を２時間かけて滴下する。滴下終了後、室温で２時間攪拌した後、−７８℃に冷却しジクロロテトラメチルジシラン２．３ｍＬ（１３．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍＬ）溶液を１時間で滴下する。１５時間攪拌後、溶媒を留去する。残渣をヘキサン２００ｍＬで抽出した後、溶媒を留去することにより１−クロロ−２−インデニルテトラメチルジシランを３．１２ｇ（１３．１ｍｍｏｌ）得る（収率９８％）
窒素気流下、三つ口フラスコにヘキサン２００ｍＬとメチルシクロペンタジエン１．０ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃でｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）のヘキサン溶液（１．５３Ｍ、８．２ｍＬ）を滴下する。室温で２時間攪拌した後固体をろ別して減圧乾燥することにより白色固体を得た。この固体をエーテル３０ｍＬに懸濁させ、ここへ１−クロロ−２−インデニルテトラメチルジシラン３．１２ｇのＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）を室温で滴下する。さらに室温で１０時間攪拌後溶媒を留去する。残渣をヘキサン１００ｍＬで抽出した後、溶媒を留去することにより１−インデニル−２−（３−メチルシクロペンタジエニル）−テトラメチルジシラン３．５８ｇ（１１．５ｍｍｏｌ）を得た。（収率９２％）
シュレンク瓶に１−インデニル−２−（３'−メチルシクロペンタジエニル）−テトラメチルジシラン３．５８ｇ（１１．５ｍｍｏｌ）とエーテル５０ｍＬを加え−７８℃でｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液（１．５３Ｍ、１５．１ｍＬ）を滴下する。室温に上げ３時間攪拌後、エーテルを留去する。得られた固体をヘキサン３０ｍＬで洗浄した後減圧乾燥する。この白色固体をＴＨＦ５０ｍＬに溶解し室温でジメチルジクロロシラン１．４ｍＬ（１０．６ｍｍｏｌ）を滴下する。室温で１２時間攪拌後溶媒を留去し、残渣をヘキサン５０ｍＬで抽出する。ろ液のヘキサンを留去すると黄褐色油状物が得られる。これをエーテル８０ｍＬに溶解し−７８℃でｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液（１．５３Ｍ、１５．８ｍＬ）を滴下する。室温で１２時間攪拌後、溶媒を留去し残渣をヘキサン５０ｍＬで洗浄することによりジリチウム塩を黄土色固体として得た。この固体をジクロロメタン５０ｍＬに懸濁させ、別容器でジクロロメタン２０ｍＬに懸濁させたＺｒＣｌ４（１．５ｇ）を滴下する。橙色懸濁液を室温で１２時間攪拌する。溶媒を留去した後残渣をヘキサン５０ｍＬで洗浄する。得られた固体をジクロロメタン３０ｍＬから再結晶化させることにより黄色粉末を０．７８ｇ得た。（収率２３％）
1Ｈ  ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ０．４６、０．５０、０．５４、０．５９（ｓ、−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2−、１２Ｈ）；０．９７、１．０５（ｓ、−ＳｉＭｅ2、６Ｈ）；２．２１（ｓ、−ＣＨ3、３Ｈ）；５．９０、６．５８（ｄ、ＣＨ、２Ｈ）；７．０−７．８（ｍ、ＣＨ  ａｎｄ  ＡｒＨ、５Ｈ）
〔実施例２〕  （１，１'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（２，２'−ＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド（２）の合成
窒素気流下、１Ｌ三つ口フラスコにＴＨＦ５０ｍＬとＭｇ２．６ｇ（１０７ｍｍｏｌ）を加える。ここに１，２−ジブロモエタン０．１ｍＬを加え攪拌しＭｇを活性化する。３０分攪拌後、溶媒を抜き出し、新たにＴＨＦ５０ｍＬを添加する。ここに２−ブロモインデン５．２ｇ（２６．７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２５０ｍＬ）溶液を２時間かけて滴下する。滴下終了後、室温で２時間攪拌した後、−７８℃に冷却しジメチルジクロロシラン３．２ｍＬ（２６．７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（７０ｍＬ）溶液を１時間で滴下する。１５時間攪拌後、溶媒を留去する。残渣をヘキサン２００ｍＬで抽出した後、溶媒を留去することにより１−クロロ−２−インデニルジメチルシランを４．３３ｇ（２０．７ｍｍｏｌ）得る（収率７８％）
窒素気流下、三つ口フラスコにエーテル１００ｍＬと６，６−ジメチルフルベン２．５ｍＬ（２０．７ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃でＭｅＬｉのエーテル溶液（１．１４Ｍ、１８．２ｍＬ）を滴下する。室温で２時間攪拌した後エーテルを留去し得られた固体をヘキサン５０ｍＬで洗浄後減圧乾燥することにより白色固体を得た。この固体をＴＨＦ５０ｍＬに溶かし、ここへ１−クロロ−２−インデニルジメチルシラン４．３３ｇのＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）を室温で滴下する。さらに室温で１０時間攪拌後溶媒を留去する。残渣をヘキサン１００ｍＬで抽出した後、溶媒を留去することによりインデニル−（３−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）−ジメチルシラン５．３４ｇ（１８．１ｍｍｏｌ）を得た。（収率８７％）
シュレンク瓶にインデニル−（３−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）−ジメチルシラン５．３４ｇ（１８．１ｍｍｏｌ）とエーテル５０ｍＬを加え−７８℃でｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液（１．５４Ｍ、２３．５ｍＬ）を滴下する。室温に上げ３時間攪拌後、エーテルを留去する。得られた固体をヘキサン３０ｍＬで洗浄した後減圧乾燥し４．８２ｇ（１２．７ｍｍｏｌ）得た。この黄白色固体をＴＨＦ５０ｍＬに溶解し室温でジクロロテトラメチルジシラン２．５ｍＬ（１２．７ｍｍｏｌ）を滴下する。室温で１２時間攪拌後溶媒を留去し、残渣をヘキサン５０ｍＬで抽出する。ろ液のヘキサンを留去すると黄褐色油状物５．２１ｇが得られる。これをエーテル８０ｍＬに溶解し−７８℃でｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液（１．５４Ｍ、１６．５ｍＬ）を滴下する。室温で１２時間攪拌後、沈殿物をろ取し、ヘキサン３０ｍＬで洗浄することによりジリチウム塩を黄色固体として１．２８ｇ（２．６ｍｍｏｌ）得た。この固体をトルエン３０ｍＬに懸濁させ、別容器でトルエン２０ｍＬに懸濁させたＺｒＣｌ4０．６１ｇ（２．６ｍｍｏｌ）を添加する。橙色懸濁液を室温で１２時間攪拌する。溶媒を留去した後残渣をヘキサン６０ｍＬで抽出する。抽出液の溶媒を約半量まで濃縮し−２０℃に冷蔵することにより、黄橙色粉末を０．４７ｇ得た。（収率  ３２％）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ（ｓ、−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2−、１２Ｈ）；（ｓ、−ＳｉＭｅ2、６Ｈ）；（ｓ、−ｔ−Ｂｕ、９Ｈ）；（ｄ、ＣＨ、２Ｈ）；（ｍ、ＣＨ  ａｎｄ  ＡｒＨ、５Ｈ）
〔実施例３〕  プロピレンの重合
加熱乾燥した１リットルオートクレーブに、窒素雰囲気下、室温でトルエン４００ｍＬ及びトリイソブチルアルミニウム１．５ミリモルを加えた。攪拌しながら温度を５０℃にした後、メチルアルミノキサン３ミリモルと実施例１で得られた（１，１'−ＳｉＭｅ2）（２，２'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドを３マイクロモル加えた。続いてプロピレンで圧力を０．７ＭＰａ・Ｇに保ちながら１時間重合した。重合反応終了後、反応生成物をメタノール−塩酸溶液中に投入し、充分攪拌した後ろ別し、さらにメタノールで充分洗浄後、乾燥しポリプロピレン８２．２ｇを得た。以下に述べるような方法により測定した極限粘度は１．０３ｄｌ／ｇ、重量平均分子量Ｍｗは１０．９万、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．８、ペンタッドメソ分率［ｍｍｍｍ］は０．０９３であった。ＤＳＣを測定したところ、融点は認められなかった。
（樹脂特性の評価方法）
ペンタッドメソ分率［ｍｍｍｍ］は、ポリマーの13Ｃ−ＮＭＲのうち、１９〜２２ｐｐｍに現れる９つのシグナルの総面積のうち、ペンタッドメソに帰属される２１．８ｐｐｍのシグナルの占める面積の割合として下記の装置、条件にて測定した。
装置：日本電子（株）製ＪＮＭ−ＥＸ４００型ＮＭＲ装置
観測核：13Ｃ（１００．４ＭＨｚ）
方法：1Ｈ完全デカップリング法
濃度：約２００ｍｇ／３ｍＬ（６．７×１０ｋｇ／ｍ3）（１０φ試料管）
溶媒：１，２，４−トリクロロベンゼンと重ベンゼンの９０：１０（容量比）混合溶媒
温度：１３０℃
パルス幅：４５°
パルス繰り返し時間：４秒
積算：１０００回
また融点は、
装置：パーキンエルマー社製ＤＳＣ７
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
温度範囲：−５０℃〜１５０℃
の条件で測定し、極限粘度［η］は（株）離合社製ＶＭＲ−０５３型自動粘度計を用い１３
５℃、デカリン中で測定した、
さらに分子量及び分子量分布は
装置：ウォーターズＡＬＣ／ＧＰＣ  １５０Ｃ
カラム：東ソー製、ＧＭＨＨＲ  ＋  Ｈ（Ｓ）ＨＴ×２
温度：１４５℃
溶媒：１，２，４−トリクロロベンゼン
流量：１ｍＬ／ｍｉｎ．
の条件にて、ゲルパミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によりポリエチレン換算で測定した。
〔実施例４〕  プロピレンの重合
（１，１'−ＳｉＭｅ2）（２，２'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドのかわりに実施例２で得た（１，１'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（２，２'−ＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドを用いた以外は実施例４と全く同様に実験を行ったところ、ポリプロピレン２８．０ｇを得た、得られたポリマーの融点は１３５℃、極限粘度は０．３２ｄｌ／ｇ、重量平均分子量Ｍｗは３５，９００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．２９、ペンタッドメソ分率［ｍｍｍｍ］は０．７０１であった。
〔比較例１〕
（１，１'−ＳｉＭｅ2）（２，２'−Ｍｅ2ＳｉＳｉＭｅ2）（インデニル）（４'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドのかわりに（１，２'−ＳｉＭｅ2）（２，１'−ＳｉＭｅ2）（テトラヒドロインデニル）2ジルコニウムジクロライドを用いた以外は実施例４と同様に行ったところアイソタクチックポリプロピレン１５．６ｇを得た、得られたポリマーの融点は１１６．０℃、極限粘度は０．１５ｄｌ／ｇ、重量平均分子量Ｍｗは１．５万、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．７、ペンタッドメソ分率［ｍｍｍｍ］は０．７５７であった。
【００５４】
【発明の効果】
本発明の遷移金属化合物は、オレフィン重合用触媒成分として有用であり、それを含有するオレフィン重合用触媒を用いると、高分子量のポリオレフィンが高活性で得られる。