(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板上にマトリックス状に形成されたブラックマトリックスと、
前記ブラックマトリックス上において光学位相差を補償し、所定領域が離隔された複数の補償パターンを含む補償層と、
前記ブラックマトリックスの間に配置されたカラーフィルタ層と、
前記所定領域を少なくとも含んで形成されたカラムスペーサと
を含み、
前記カラーフィルタ層は、ストライプ状を有し、第１方向へ前記ブラックマトリックス上に所定間隔離隔されて形成され、第２方向へ前記ブラックマトリックス上に一体に形成され、
前記カラムスペーサは、前記補償パターンの所定領域と前記カラーフィルタ層の所定間隔を介して前記ブラックマトリックスに接触して形成され、前記補償パターンの所定領域を介して前記カラーフィルタ層に接触して形成され、前記補償パターンの所定領域及び前記補償パターンの一部領域上に形成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１及び第２基板の外郭領域に形成されたシールパターンをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記外郭領域に対応した前記第１基板には、前記補償パターンが形成されていないことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２基板に形成された画素電極と共通電極をさらに含み、前記シールパターンは、直接前記第１基板に形成されることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記補償パターンは、反応性メソゲンで形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
第１基板と、
前記第１基板上にマトリックス状に形成されたブラックマトリックスと、
前記ブラックマトリックス上において光学位相差を補償し、所定領域が離隔された複数の補償パターンを含む補償層と、
前記所定領域を少なくとも含んで形成されたカラムスペーサと、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１及び第２基板の間に介在された液晶層と、
前記ブラックマトリックスの間に配置されたカラーフィルタ層と
を含み、
前記第２基板に画素電極と共通電極とが互いに交互に配列され、
前記カラーフィルタ層は、ストライプ状を有し、第１方向へ前記ブラックマトリックス上に所定間隔離隔されて形成され、第２方向へ前記ブラックマトリックス上に一体に形成され、
前記カラムスペーサは、前記補償パターンの所定領域と前記カラーフィルタ層の所定間隔を介して前記ブラックマトリックスに接触して形成され、前記補償パターンの所定領域を介して前記カラーフィルタ層に接触して形成され、前記補償パターンの所定領域及び前記補償パターンの一部領域上に形成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１及び第２基板の外郭領域に形成されたシールパターンをさらに含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記外郭領域に対応した前記第１基板には、前記補償パターンが形成されていないことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記シールパターンは、前記第１基板に直接形成されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記補償パターンは、反応性メソゲンで形成されることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
第１基板と、
前記第１基板上にマトリックス状に形成されたブラックマトリックスと、
前記ブラックマトリックス上において光学位相差を補償し、所定領域が離隔された複数の補償パターンを含む補償層と、
前記補償パターンを含む前記第１基板上に形成された共通電極と、
前記ブラックマトリックスに対応した前記共通電極上に形成されたカラムスペーサと、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１及び第２基板の間に介在された液晶層と、
前記ブラックマトリックスの間に配置されたカラーフィルタ層と
を含み、
前記第２基板に画素電極が形成され、
前記カラーフィルタ層は、ストライプ状を有し、第１方向へ前記ブラックマトリックス上に所定間隔離隔されて形成され、第２方向へ前記ブラックマトリックス上に一体に形成され、
前記カラムスペーサは、前記共通電極と接触し、前記補償パターンの所定領域と前記カラーフィルタ層の所定間隔を介して前記ブラックマトリックス上に形成され、前記補償パターンの所定領域を介して前記カラーフィルタ層上に形成され、前記補償パターンの所定領域及び前記補償パターンの一部領域上に形成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１及び第２基板の外郭領域に形成されたシールパターンをさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記外郭領域に対応した前記第１基板には、前記補償パターンが形成されていないことを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記シールパターンは、前記共通電極に形成されることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記共通電極は、前記ブラックマトリックス上においてへこんだグルーブ形状を有することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記共通電極のグルーブ上に前記カラムスペーサが形成されることを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記補償パターンは、反応性メソゲンで形成されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
第１基板上にマトリックス状にブラックマトリックスを形成するステップと、
前記ブラックマトリックスの間にカラーフィルタ層を形成するステップと、
前記ブラックマトリックスを含む前記第１基板の前面に光学位相差を補償する補償層を形成するステップと、
前記ブラックマトリックス上の所定領域に対応した補償層をパターニングすることにより、補償パターンを形成するステップと、
前記所定領域を含む前記第１基板上にカラムスペーサを形成するステップと
を含み、
前記カラーフィルタ層は、ストライプ状を有し、第１方向へ前記ブラックマトリックス上に所定間隔離隔されて形成され、第２方向へ前記ブラックマトリックス上に一体に形成され、
前記カラムスペーサは、前記補償パターンの所定領域と前記カラーフィルタ層の所定間隔を介して前記ブラックマトリックスに接触して形成され、前記補償パターンの所定領域を介して前記カラーフィルタ層に接触して形成され、前記補償パターンの所定領域及び前記補償パターンの一部領域上に形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記補償層は、インクジェット、ロールプリント、スクリーンプリント、バーコートまたはスピンコートのうちのいずれかの方式により形成することを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記第１基板の外郭領域に対応した補償層をパターニングすることにより、補償パターンを形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第１基板の外郭領域にシールパターンを形成するステップと、
前記糸パターンを利用して、前記第１基板に対向配置された第２基板を合着するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記外郭領域に対応した前記第１基板には、前記補償パターンが形成されていないことを特徴とする請求項２１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記シールパターンは、前記第１基板に直接形成されることを特徴とする請求項２１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２４】
前記補償パターンは、反応性メソゲンで形成されることを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に、基板内部に形成された補償層を含む液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報通信の発達に伴い、高輝度、大画面、低消費電力及び低価格化を得ることができる液晶表示装置が注目されつつある。
このような液晶表示装置は、第１及び第２電極がそれぞれ備えられ、前記第１及び第２電極が互いに対向するように合着された第１及び第２基板と、前記第１及び第２基板の間に注入された液晶とを含む。前記液晶表示装置は、前記第１及び第２電極に所定の電圧を印加して生成された電界により、前記液晶分子を動かして、変わる光の透過率により画像を表現する。
【０００３】
前記液晶は、光学的に通常屈折率（ｏｒｄｉｎａｒｙ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ  ｉｎｄｅｘ）と異常屈折率（ｅｘｔｒａ−ｏｒｄｉｎａｒｙ  ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  ｉｎｄｅｘ）のような２つの屈折率を有する異方性物質であるから、入射光の入射角度に応じて光の経路と複屈折率が変化する特性を有する。バックライトから出る光が、前記液晶表示装置の液晶パネルの下部偏光フィルムで線形偏光された後、光学的異方性を有する液晶を通過する場合、このような特性により、前記光が液晶セルを垂直に通過するときと、斜めに通過するときに、その位相遅延値が互いに異なるため、位相差が発生し、視野角に応じる透過光の特性が異なるようになる。
これにより、従来の液晶表示装置は、視野角に応じて像がどれくらい明確に見えるかを計る尺度であるコントラスト比の変化と、階調反転現象により、視認性が落ちる。
【０００４】
このような短所は、液晶セルから発生する光学位相差を補償させることで克服可能であり、その結果、視野角を向上させることができる。したがって、従来では、光学位相差を補償させ得る補償フィルムを基板に取り付けて、視野角を向上させることができる。
しかしながら、前記基板に補償フィルムを取り付ける場合、補償フィルムを介して異質物が取り付けられる可能性があり、液晶パネルの厚さを減らすのに限界があった。このような問題を解決するために、従来では、前記基板内部に光学位相差を補償させ得る補償層を形成して、補償層による異質物の付着を防止し、液晶パネルの厚さを減らすことができた。
【０００５】
前記補償層は、前記基板内部の前面に形成され、その上に両基板間のセルギャップを維持するカラムスペーサが形成される。前記補償層は、強度及び復元力の弱い材質で形成されるため、前記液晶表示装置に所定の圧力が加えられる場合、このような圧力により、カラムスペーサが前記補償層を押さえるようになる。このような場合、前記補償層は、前記カラムスペーサにより押さえられる。以後、前記液晶表示装置に加えられる圧力が解除される場合、前記補償層は復元力が弱いため、元の通りに復元されなくなる。したがって、両基板間のセルギャップが減るようになり、このようなセルギャップの変化が押さえ跡を引き起こす。
【０００６】
また、前記補償層が前記基板内部の前面に形成されるため、液晶表示装置の枠に沿って形成されるシール（ｓｅａｌ）パターンが、前記補償層上に形成される。しかしながら、前記シールパターンと前記補償層との間の接着力は極めて弱いため、結局、シールパターンの破損などのような不良が発生する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたもので、第１の目的は、基板内部に補償層を形成して、視野角の向上とともに、異質物による汚染を減らすことができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、基板内部に補償層を形成して、薄型化を実現することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
本発明の第３の目的は、カラムスペーサ領域に対応した補償層を除去して複数の補償パターンを形成することにより、両基板間のセルギャップを安定的に維持できる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
本発明の第４の目的は、シールパターン領域に対応した補償パターンを除去して、シールパターンの破損を防止することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成すべく、本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置によれば、第１基板と、前記第１基板上にマトリックス状に形成されたブラックマトリックスと、前記ブラックマトリックス上において所定領域が離隔された補償パターンと、前記所定領域を少なくとも含んで形成されたカラムスペーサとを含む。
【０００９】
上記の目的を達成すべく、本発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装置によれば、第１基板と、前記第１基板上にマトリックス状に形成されたブラックマトリックスと、前記ブラックマトリックス上において所定領域が離隔された補償パターンと、前記所定領域を少なくとも含んで形成されたカラムスペーサと、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１及び第２基板の間に介在された液晶層とを含み、前記第２基板に画素電極と共通電極とが互いに交互に配列される。
【００１０】
上記の目的を達成すべく、本発明の第３の実施の形態に係る液晶表示装置によれば、第１基板と、前記第１基板上にマトリックス状に形成されたブラックマトリックスと、前記ブラックマトリックス上において所定領域が離隔された補償パターンと、前記補償パターンを含む前記第１基板上に形成された共通電極と、前記ブラックマトリックスに対応した前記共通電極上に形成されたカラムスペーサと、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１及び第２基板の間に介在された液晶層とを含み、前記第２基板に画素電極が形成される。
【００１１】
上記の目的を達成すべく、本発明の第４の実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法によれば、第１基板上にマトリックス状にブラックマトリックスを形成するステップと、前記ブラックマトリックス上において所定領域が離隔された補償パターンを形成するステップと、前記所定領域を少なくとも含んでカラムスペーサを形成するステップとを含む。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、位相差を補償するとともに、ブラックマトリックスとカラーフィルタ層との間の段差を補償する機能を有する補償パターンを形成することによって、視野角を向上させることができる。
本発明は、従来の別途に製作して取り付ける補償フィルムの代りに、基板上に補償パターンを直接形成することによって、薄型化を実現することができる。
本発明は、カラムスペーサ領域に対応した補償パターンを除去することにより、両基板間のセルギャップを安定的に維持できる。
本発明は、シールパターン領域に対応した補償パターンを除去することにより、シールパターンの破損を防止することができる。
上述したように、本発明によれば、基板内部に補償層を形成することにより、視野角の向上とともに、異質物による汚染を減らすことができ、薄型化に有利な液晶表示装置を提供することができる。
また、上記の通りに、基板内部に補償層を形成する場合に発生するシールパターンの破損という不良を改善することができ、両基板間のセルギャップを安定的に維持できる液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付図面に基づき詳細に説明する。
【００１４】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る横電界型液晶表示装置の断面を示す図である。
同図に示すように、所定間隔に離隔されて第１及び第２基板１００，２００が配置され、前記第１及び第２基板１００，２００の間に液晶層３００が介在される。前記第１及び第２基板１００，２００の外郭領域（シールパターン領域）Ａにシールパターン４００が形成され、このようなシールパターン４００により、第１及び第２基板１００，２００が合着される。
【００１５】
前記第１基板１００の内側面にブラックマトリックス１１０及びカラーフィルタ層１２０が形成される。
【００１６】
前記ブラックマトリックス１１０は、前記第２基板２００の非透過領域に対応してマトリックス状に配列される。前記非透過領域は、前記第２基板２００の画素領域を画定するゲート配線及びデータ配線と、前記両配線の交差部に形成された薄膜トランジスタと、前記外郭領域Ａとを含む。
【００１７】
前記カラーフィルタ層１２０は、前記第２基板２００の透過領域に対応して形成される。前記透過領域は、前記ゲート配線とデータ配線との交差により画定された複数の画素領域を含む。前記カラーフィルタ層１２０は、各画素領域に対応して互いに異なる色相を有する。前記カラーフィルタ層１２０は、前記画素領域に対応して形成されるのみならず、前記ブラックマトリックス１１０上に一部が重なって形成される。したがって、前記ブラックマトリックス１１０上には、第１カラーフィルタ層と第２カラーフィルタ層とが所定間隔が離隔されて形成される。これは、図１のＣ領域に示されている。
【００１８】
同図のＢ領域に示すように、前記カラーフィルタ層１２０がストライプ状に配列される場合には、前記ブラックマトリックス１１０上のカラーフィルタ層１２０は全て同じ色を有するため、所定間隔が離隔されず、一体に形成される。
【００１９】
要するに、ストライプ状にカラーフィルタ層１２０が配列される場合、Ｒ，Ｇ，Ｂカラーフィルタ層が縦方向に配列され得る。このような場合、横方向のブラックマトリックス１１０上には、隣接カラーフィルタ層が互いに所定間隔が離隔されるように形成される。これに対し、縦方向のブラックマトリックス１１０上には、同一のカラーフィルタ層が形成されるため、互いに離隔されず、一体に形成される。
【００２０】
以下、本発明は、カラーフィルタ層がストライプ状に配列される場合に限定して説明する。
【００２１】
前記ブラックマトリックス１１０及び前記カラーフィルタ層１２０上に補償層１３０が形成されている。前記補償層１３０は、複数の補償パターン１３０ａ，１３０ｂを含む。前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂは、光学位相差を補償するとともに、前記ブラックマトリックス１１０と前記カラーフィルタ層１２０との間の段差を補償するオーバーコート層としても機能する。前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂは、光漏れを補償することができる反応性メソゲン（ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｍｅｓｏｇｅｎ）を利用して形成することができる。
【００２２】
前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂは、前記ブラックマトリックス１１０上において所定領域Ｐ１が離隔されて形成される。すなわち、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂは、前記ブラックマトリックス１１０の全ての領域に対応して一体に形成されるものではなく、前記所定領域Ｐ１分だけ除去される。これにより、前記所定領域Ｐ１により補償パターン１３０ａ，１３０ｂが除去されるため、前記所定領域Ｐ１には、補償パターン１３０ａ，１３０ｂが存在しなくなる。したがって、前記ブラックマトリックス１１０上において、補償パターン１３０ａ，１３０ｂは、所定領域Ｐ１分だけ離隔される。このとき、前記所定領域Ｐ１は、後述するカラムスペーサ１４０分だけ離隔されることが好ましい。それは、カラムスペーサ１４０のサイズ分だけ補償パターンが除去されても、カラムスペーサにより補償パターン１３０ａ，１３０ｂが押さえられなくなり、これにより、補償パターンが押さえられた後の復元不良による押さえ跡を防止することができるためである。
【００２３】
前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの所定領域Ｐ１を完全に含んで、前記第１基板１００と前記第２基板２００との間のセルギャップを維持するためのカラムスペーサ１４０が形成される。
【００２４】
このような場合、前記カラムスペーサ１４０は、縦方向（図１のＢ領域）と横方向（図１のＣ領域）により接触位置が変わる。
【００２５】
例えば、横方向（図１のＣ領域）の場合、前記カラムスペーサ１４０は、ブラックマトリックス１１０、カラーフィルタ層１２０、補償パターン１３０ａ，１３０ｂに局部的に接触することができる。すなわち、横方向（図１のＣ領域）の場合、カラーフィルタ層１２０が所定間隔分だけ離隔され、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂが所定領域Ｐ１分だけ離隔されるため、カラムスペーサ１４０が前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの所定領域Ｐ１を通過して、前記カラーフィルタ層１２０の所定間隔を中心に、両方に前記カラーフィルタ層１２０に局部的に接触され、前記カラーフィルタ層１２０の所定間隔を通過して、前記ブラックマトリックス１１０に接触され得る。また、前記カラムスペーサ１４０の直径が、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの所定領域Ｐ１の直径より少なくとも大きくなるように形成されるため、前記カラムスペーサ１４０は、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの前記所定領域Ｐ１を中心に、両方に前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂと局部的に接触され得る。
【００２６】
縦方向（図１のＢ領域）の場合、前記カラムスペーサ１４０がカラーフィルタ層１２０及び補償パターン１３０ａ，１３０ｂに局部的に接触され得る。すなわち、縦方向（図１のＢ領域）の場合、カラーフィルタ層１２０が離隔されず、一体に形成されるため、カラムスペーサ１４０が前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの所定領域Ｐ１を通過して、前記カラーフィルタ層１２０に局部的に接触され、前記カラムスペーサ１４０の直径が、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの所定領域Ｐ１の直径より少なくとも大きくなるように形成されるため、前記カラムスペーサ１４０は、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの前記所定領域Ｐ１を中心に、両方に前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂと局部的に接触され得る。
【００２７】
カラムスペーサは、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂと可能な限り多く接触されないことが好ましい。したがって、ブラックマトリックス１１０上の補償パターン１３０ａ，１３０ｂが所定領域Ｐ１分だけ離隔されて、カラムスペーサ１４０が前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂよりは前記カラーフィルタ層１２０又はブラックマトリックス１１０と主に接触されるため、カラムスペーサ１４０により補償パターン１３０ａ，１３０ｂが押さえられた後に、復元されなくなることから発生する押さえ跡を防止することができる。
【００２８】
一方、前記第１及び第２基板１００，２００の外郭領域Ａには、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂが形成されない。このために、前記外郭領域Ａに形成された前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂは除去されることができる。
【００２９】
前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂが形成されない外郭領域Ａにおいて、シールパターン４００が第１基板１００に直接接触される。したがって、シールパターン４００が、前記第１基板１００に強く接触されるようになって、シールパターンの接触不良によるシールパターンの破損を防止することができる。
【００３０】
一方、前記第２基板２００の内側面に横方向にゲート配線（図示せず）が配列され、前記ゲート配線に交差して縦方向にデータ配線（図示せず）が配列される。前記ゲート配線と前記データ配線との交差により、画素領域が画定される。前記画素領域において、前記ゲート配線及びデータ配線の交差点に薄膜トランジスタＴｒが配列され、前記ゲート配線と平行するように、画素領域内に共通配線（図示せず）が配列され、前記共通配線で複数の共通電極２１２が分岐して配置され、前記薄膜トランジスタＴｒに接続され、前記共通電極２１２と交互に配置された画素電極２１５が配置される。
【００３１】
前記薄膜トランジスタＴｒは、前記ゲート配線から分岐したゲート電極２１１と、前記ゲート電極２１１を含む前記第２基板２００上に形成されたゲート絶縁膜２１０と、前記ゲート電極２１１に対応した前記ゲート絶縁膜２１０上に位置し、チャネル層２１２ａとオームコンタクト層２１２ｂとが積層されたアクティブ層と、前記アクティブ層の両端部上にそれぞれ位置するソース／ドレイン電極２１３ａ，２１３ｂを含む。
【００３２】
前記ソース／ドレイン電極２１３ａ，２１３ｂを含む前記第２基板２００上に保護膜２２０が位置する。前記画素電極２１５は、前記保護膜２２０上に前記共通電極２１２と交互に配列されて位置することができる。
【００３３】
前記共通電極２１２と画素電極２１５との間に所定の電圧を印加するとき、前記共通電極２１２と前記画素電極２１５との間に横電界が発生する。このような横電界により液晶分子が配列され、これにより視野角が向上することができる。
【００３４】
しかしながら、前記横電界型液晶表示装置は、暗い状態の場合、傾斜角から光が漏れてコントラスト比が低下するという問題を有する。
【００３５】
これを解決するために、前記第１基板１００の内側面には、傾斜角の暗い状態で漏れる光漏れを補償させ得る補償パターン１３０ａ，１３０ｂを形成し、前記第２基板２００には、前記液晶の配向を調節して視野角を向上させることによって、画質を改善することができる横電界型液晶表示装置を製造することができる。
【００３６】
また、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂは、前記ブラックマトリックス１１０上に所定領域Ｐ１が離隔するように形成して、前記所定領域Ｐ１上にカラムスペーサ１４０を形成することによって、カラムスペーサが押さえられた後に、復元の際、補償パターンが復元されなくなることから発生する押さえ跡現象を防止することができる。
【００３７】
また、前記カラムスペーサ１４０が、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂにほとんど影響されず、前記ブラックマトリックス１１０上に形成されることによって、前記第１及び第２基板１００，２００間のセルギャップが一定に安定的に維持され得る。
【００３８】
なお、前記第１及び第２基板１００，２００の外郭領域Ａにおいて、前記第１基板１００上に補償パターン１３０ａ，１３０ｂが形成されないようにして、前記第１基板１００上にシールパターン４００を直接接触させることによって、前記シールパターン４００がより強く前記第１基板１００に取り付けられ得るため、シールパターンの破損などのような不良を防止することができる。
【００３９】
図２ａ〜図２ｅは、本発明の第１の実施の形態に係る横電界型液晶表示装置の製造方法を説明するために示す工程図である。
【００４０】
図２ａに示すように、ブラックマトリックス１１０とカラーフィルタ層１２０が形成された第１基板１００を提供する。ブラックマトリックス１１０は、非透過領域に対応して配列されるため、横軸と縦軸とが交差接続されて形成されたマトリックス状を有する。前記カラーフィルタ層１２０は、ストライプ状に配列される。前記カラーフィルタ層１２０は、必要に応じてＲ，Ｇ，Ｂの順に配列されたり、Ｒ，Ｇ，Ｇ，Ｂの順に配列されたりすることができる。例えば、前記各カラーフィルタ層１２０は、横方向には、縦軸ブラックマトリックス１１０の間に形成され、前記カラーフィルタ層１２０の一部領域は、縦軸ブラックマトリックス１１０上に重なって形成されるされる。これにより、前記縦軸ブラックマトリックス１１０上において隣接するカラーフィルタ層１２０が、所定間隔が離隔されて配列され得る。前記各カラーフィルタ層１２０は、縦方向に沿って一体に長く配列されるため、横軸ブラックマトリックス１１０上をそのまま通って配列されるため、前記横軸ブラックマトリックス１１０上では、前記カラーフィルタ層１２０が所定間隔に離隔されず、そのまま一体に形成される。
【００４１】
前記ブラックマトリックス１１０は、前記第１基板１００上に遮光物質を塗布し、露光及び現像工程を経た後、硬化させて形成し得る。前記遮光物質は、カーボンブラック又は酸化チタンであり得る。前記カラーフィルタ層１２０は、前記ブラックマトリックス１１０が形成されない透過領域に色相を発現させる顔料を含む感光膜を塗布し、露光及び現像工程を経た後、硬化させて形成できる。
【００４２】
図２ｂに示すように、前記ブラックマトリックス１１０及び前記カラーフィルタ層１２０上に補償層１３０を形成する。前記補償層１３０は、反応性メソゲンを含む補償層の形成物質をインクジェット、ロールプリント、スクリーンプリント、バーコート又はスピンコートのうちのいずれかの方式により形成することができる。
【００４３】
以後、前記補償層１３０上にマスクを整列した後、露光工程を経て、前記ブラックマトリックス１１０上の所定領域と、前記第１基板１００の外郭領域Ａ、すなわちシールパターン領域上に位置する前記補償層１３０を除く領域に光を照射して硬化させる。
【００４４】
図２ｃに示すように、前記補償層１３０をアセトン、エタノール、ＰＧＭＡ（Ｐｏｌｙ  ｇｌｙｃｉｄｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）を含む現像液を利用して現像工程を経て、前記ブラックマトリックス１１０上の所定領域と前記シールパターン領域Ａとに対応した補償層１３０を除去して、補償パターン１３０ａ，１３０ｂを形成する。
【００４５】
図２ｄに示すように、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂを含む前記第１基板１００上に感光性膜を塗布した後、パターニングして、カラムスペーサ１４０を形成する。前記カラムスペーサ１４０は、前記ブラックマトリックス１１０上の前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの所定領域Ｐ１に形成されることができる。したがって、前記カラムスペーサ１４０は、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの所定領域Ｐ１を通過してカラーフィルタ層１２０上に形成されることができる。または、前記カラムスペーサ１４０は、前記補償パターン１３０ａ，１３０ｂの所定領域Ｐ１と前記カラーフィルタ層１２０の所定間隔を通過して、前記ブラックマトリックス１１０上に形成され得る。
【００４６】
図２ｅに示すように、前記第１基板１００と対向する第２基板２００を提供する。
【００４７】
前記第２基板２００には、内側面に互いに交差して配列されたゲート配線とデータ配線と、前記ゲート配線とデータ配線との交差領域に配置された薄膜トランジスタＴｒと、前記ゲート配線と平行するように画素領域内に配置された共通配線（図示せず）と、前記共通配線から分岐した複数の共通電極２１２と、前記薄膜トランジスタＴｒに接続し、前記共通電極２１２と交互に配置された画素電極２１５とを含む。
【００４８】
前記第１基板１００及び前記第２基板２００の外郭領域Ａにシールパターンを形成した後、前記両基板を合着することにより、横電界型液晶表示装置を製造することができる。
【００４９】
前記シールパターン４００が形成された外郭領域Ａには、補償パターン１３０ａ，１３０ｂが形成されないため、前記シールパターン４００がより強い付着力を有し、前記第１基板１００に直接取り付けられることにより、シールパターンの破損などのような不良を防止することができる。
【００５０】
図３は、本発明の第２の実施の形態に係るＴＮ型液晶表示装置の断面を示す図である。
同図に示すように、所定間隔に離隔されて第１、第２基板５００，６００が配置される。前記第１及び第２基板５００，６００の間に液晶層７００が介在される。前記第１及び第２基板５００，６００の外郭領域（シールパターン領域）Ａにシールパターン８００が形成され、このようなシールパターン８００により、前記第１及び第２基板５００，６００が合着される。
【００５１】
前記第１基板５００の内側面にブラックマトリックス５１０及びカラーフィルタ層５２０が形成される。
【００５２】
前記ブラックマトリックス５１０は、前記第２基板６００の非透過領域に対応して形成される。前記非透過領域は、前記第２基板６００の画素領域を確定するゲート配線及びデータ配線と、前記両配線の交差部に形成された薄膜トランジスタと、前記外郭領域Ａとを含む。
【００５３】
前記カラーフィルタ層５２０は、前記第２基板６００の透過領域に対応して形成される。前記透過領域は、前記ゲート配線とデータ配線との交差により画定される複数の画素領域を含む。前記カラーフィルタ層５２０は、各画素領域に対応して互いに異なる色相を有する。前記カラーフィルタ層５２０は、前記画素領域に対応して形成されるのみでなく、前記ブラックマトリックス５１０上に一部が重なって形成される。したがって、前記ブラックマトリックス５１０上には、第１カラーフィルタ層と第２カラーフィルタ層とが所定間隔離隔されて形成される。これは、図３のＣ領域に示されている。
【００５４】
同図のＢ領域に示すように、前記カラーフィルタ層５２０がストライプ状に配列される場合には、前記ブラックマトリックス５１０上のカラーフィルタ層５２０は、全て同じ色を有するため、所定間隔が離隔されず、一体に形成される。
【００５５】
要するに、ストライプ状にカラーフィルタ層５２０が配列される場合、Ｒ，Ｇ，Ｂカラーフィルタ層が縦方向に配列され得る。このような場合、横方向のブラックマトリックス５１０上には、隣接カラーフィルタ層が互いに所定間隔が離隔されるように形成される。これに対し、縦方向のブラックマトリックス５１０上には、同一のカラーフィルタ層が形成されるため、互いに離隔されず、一体に形成される。
【００５６】
以下、本発明は、カラーフィルタ層がストライプ状に配列される場合に限定して説明する。
【００５７】
前記ブラックマトリックス５１０及び前記カラーフィルタ層５２０上に補償層５３０が形成されている。前記補償層５３０は、複数の補償パターン５３０ａ，５３０ｂを含む。前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂは、光学位相差を補償するとともに、前記ブラックマトリックス５１０と前記カラーフィルタ層５２０との間の段差を補償するオーバーコート層としても機能する。前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂは、光漏れを補償することができる反応性メソゲンを利用して形成することができる。
【００５８】
前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂは、前記ブラックマトリックス５１０上において所定領域Ｐ１が離隔されて形成される。すなわち、前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂは、前記ブラックマトリックス５１０の全ての領域に対応して一体に形成されるものではなく、前記所定領域Ｐ１分だけ除去される。これにより、前記所定領域Ｐ１により補償パターン５３０ａ，５３０ｂが除去されるため、前記所定領域Ｐ１には、補償パターン５３０ａ，５３０ｂが存在しなくなる。したがって、前記ブラックマトリックス５１０上において隣接する補償パターン５３０ａ，５３０ｂの間には、所定領域Ｐ１分だけ離隔されるようになる。
【００５９】
前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂを含む前記第１基板５００上に共通電極５５０が形成される。前記共通電極５５０は透明電極であって、ＩＴＯ又はＩＺＯであり得る。したがって、前記共通電極５５０は、前記ブラックマトリックス５１０上において前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂの所定領域Ｐ１を通過して、カラーフィルタ層５２０と接触されたり（図３のＢ領域参照）、又は前記ブラックマトリックス５１０上において前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂの所定領域Ｐ１と前記カラーフィルタ層５２０の所定間隔を通過して、前記ブラックマトリックス５１０上に接触されたりすることができる（図３のＣ領域参照）。
【００６０】
したがって、前記共通電極５５０は、前記ブラックマトリックス５１０上においてへこんだグルーブ形状を有する。
【００６１】
前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂの所定領域Ｐ１に対応した前記共通電極５５０上に、前記第１基板５００と前記第２基板６００との間のセルギャップを維持するためのカラムスペーサ５４０が形成される。したがって、前記カラムスペーサ５４０は、前記ブラックマトリックス５１０上において前記共通電極５５０のへこんだグルーブ上に形成される。前記グルーブの下部には、前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂが形成されなくなるため、前記カラムスペーサ５４０が押さえられた後、復元の際、補償パターンの復元不良による押さえ跡を防止することができる。結局、前記カラムスペーサ５４０は、前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂに全く影響されないため、前記カラムスペーサ５４０により完全に前記第１及び第２基板５００，６００間のセルギャップが一定に安定的に維持されることができる。
【００６２】
一方、前記第１及び第２基板１００，２００の外郭領域Ａには、前記補償パターン１３０が形成されず、共通電極５５０が前記第１基板５００上に直接形成され、前記共通電極５５０上にシールパターン８００が直接形成されることによって、従来、シールパターンが接着力の弱い補償パターンと取り付けられることに比べて、より強い接着力で共通電極５５０上にシールパターン８００が取り付けられるため、シールパターンの破損のような不良を防止することができる。
【００６３】
一方、前記第２基板６００の内側面に一方向に配列されたゲート配線（図示せず）と、前記ゲート配線に垂直な方向に配列されたデータ配線（図示せず）と、前記ゲート配線及びデータ配線の交差部位に配置された薄膜トランジスタＴｒと、前記薄膜トランジスタＴｒのドレイン電極６１３ｂに接続する画素電極６１５とを含む。
【００６４】
前記第２基板６００には、複数の絶縁膜、すなわち、ゲート絶縁膜６１０及び保護膜６２０が形成され、配線間のショットを防止することができる。
【００６５】
これにより、前記第１基板５００の内側面には、光位相差を補償する補償パターン５３０ａ，５３０ｂを形成することによって、視野角が改善された完成されたＴＮ型液晶表示装置を製造することができる。
【００６６】
また、前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂを、外圧の力が集中するカラムスペーサ５４０の形成領域を露出させるように形成して、前記第１基板５００と前記第２基板６００との間のセルギャップを一定に維持できる。
【００６７】
本発明の実施の形態は、ＴＮ型液晶表示装置に限定されるものではなく、ＶＡ型液晶表示装置、ＯＣＢ液晶表示装置、ＳＴＮ液晶表示装置など、多様な形態の液晶表示装置に適用されることができる。
【００６８】
図４ａ〜図４ｄは、本発明の第２の実施の形態に係るＴＮ型液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。
【００６９】
図４ａに示すように、ブラックマトリックス５１０及びカラーフィルタ層５２０が形成された第１基板５００を提供する。ブラックマトリックス５１０は、非透過領域に対応して配列されるため、横軸と縦軸とが交差接続されて形成されたマトリックス状を有する。前記カラーフィルタ層５２０は、ストライプ状に配列される。前記カラーフィルタ層５２０は、必要に応じてＲ，Ｇ，Ｂの順に配列されたり、Ｒ，Ｇ，Ｇ，Ｂの順に配列され得る。例えば、前記各カラーフィルタ層５２０は、横方向には、縦軸ブラックマトリックス５１０の間に形成され、前記カラーフィルタ層５２０の一部領域は、縦軸ブラックマトリックス５１０上に重なって形成される。これにより、前記縦軸ブラックマトリックス５１０上において隣接するカラーフィルタ層５２０が所定間隔離隔されて配列され得る。前記各カラーフィルタ層５２０は、縦方向に沿って一体に長く配列され、横軸ブラックマトリックス５１０上をそのまま通って配列されるため、前記横軸ブラックマトリックス５１０上では、前記カラーフィルタ層５２０が所定間隔離隔されず、そのまま一体に形成される。
【００７０】
前記ブラックマトリックス５１０は、前記第１基板５００上に遮光物質を塗布し、露光及び現像工程を経た後、硬化させて形成することができる。前記遮光物質は、カーボンブラックまたは酸化チタンであり得る。前記カラーフィルタ層５２０は、前記ブラックマトリックス５１０が形成されない透過領域に色相を発現させる顔料を含む感光膜を塗布し、露光及び現像工程を経た後、硬化させて形成することができる。
【００７１】
以後、前記ブラックマトリックス５１０上に所定領域Ｐ１分だけ補償層を除去して、補償パターン５３０ａ，５３０ｂを形成する。まず、反応性メソゲンを含む補償層の形成物質をインクジェット、ロールプリント、スクリーンプリント、バーコート又はスピンコートのうちのいずれかの方式により補償層を形成する。
【００７２】
以後、前記補償層状にマスクを整列した後、露光工程を経て、前記ブラックマトリックス５１０上の所定領域と、前記第１基板５００の外郭領域Ａ、すなわちシールパターン領域上に位置する前記補償層を除く領域に光を照射して硬化させる。
【００７３】
以後、アセトン、エタノール、ＰＧＭＡを含む現像液を利用して現像工程を経て、前記ブラックマトリックス５１０上の所定領域と前記シールパターン領域Ａとに対応した補償層を除去することにより、補償パターン５３０ａ，５３０ｂを形成する。
【００７４】
図４ｂに示すように、前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂを含む前記第１基板５００上に共通電極５５０を形成する。前記共通電極５５０は、ＩＴＯ又はＩＺＯをスパッタリング法により形成することができる。したがって、前記共通電極５５０は、前記ブラックマトリックス５１０上において前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂの所定領域Ｐ１を通過して、カラーフィルタ層５２０と接触されるか（Ｂ領域）、または前記ブラックマトリックス５１０上において前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂの所定領域Ｐ１と前記カラーフィルタ層５２０の所定間隔を通過して、前記ブラックマトリックス５１０上に接触され得る（Ｃ領域）。前記共通電極５５０は、前記ブラックマトリックス５１０上において前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂがないため、へこんだグルーブ形状を有することができる。
【００７５】
図４ｃに示すように、前記共通電極５５０上に感光性膜を塗布した後、パターニングして、カラムスペーサ５４０を形成する。したがって、前記カラムスペーサ５４０は、前記ブラックマトリックス５１０上において前記共通電極５５０のへこんだグルーブ上に形成される。前記グルーブの下部には、前記補償パターン５３０ａ，５３０ｂが形成されなくなるため、前記カラムスペーサ５４０が押さえられる後、復元の際に、補償パターンの復元不良による押さえ跡を防止することができる。
【００７６】
図４ｄに示すように、前記第１基板５００と対向する第２基板６００を提供する。
【００７７】
前記第２基板６００には、内側面に互いに交差して配列されたゲート配線とデータ配線、前記ゲート配線とデータ配線との交差領域に配置された薄膜トランジスタＴｒと、前記薄膜トランジスタＴｒのドレイン電極と電気的に接続した画素電極６１５が形成されている。
【００７８】
前記第１基板５００又は前記第２基板６００の外郭領域Ａにシールパターン８００を形成した後、前記両基板を合着することにより、ＴＮ型液晶表示装置を製造することができる。
【００７９】
前記第１及び第２基板１００，２００の外郭領域Ａには、前記補償パターン１３０が形成されず、共通電極５５０が前記第１基板５００上に直接形成され、前記共通電極５５０上に直接シールパターン８００が形成されることによって、従来、シールパターンが接着力の弱い補償パターンと取り付けられることに比べて、より強い接着力で共通電極５５０上にシールパターン８００が取り付けられるため、シールパターンの破損のような不良を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る横電界型液晶表示装置の断面を示す図である。
【図２ａ】本発明の第１の実施の形態に係る横電界型液晶表示装置の製造方法を説明するために示す工程図である。
【図２ｂ】本発明の第１の実施の形態に係る横電界型液晶表示装置の製造方法を説明するために示す工程図である。
【図２ｃ】本発明の第１の実施の形態に係る横電界型液晶表示装置の製造方法を説明するために示す工程図である。
【図２ｄ】本発明の第１の実施の形態に係る横電界型液晶表示装置の製造方法を説明するために示す工程図である。
【図２ｅ】本発明の第１の実施の形態に係る横電界型液晶表示装置の製造方法を説明するために示す工程図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態に係るＴＮ型液晶表示装置の断面を示す図である。
【図４ａ】本発明の第２の実施の形態に係るＴＮ型液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。
【図４ｂ】本発明の第２の実施の形態に係るＴＮ型液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。
【図４ｃ】本発明の第２の実施の形態に係るＴＮ型液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。
【図４ｄ】本発明の第２の実施の形態に係るＴＮ型液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。
【符号の説明】
【００８１】
１００      第１基板
１１０      ブラックマトリックス
１２０      カラーフィルタ層
１３０      補償層
１３０ａ，１３０ｂ      補償パターン
１４０      カラムスペーサ
２００      第２基板
２１２      共通電極
２１５      画素電極
２２０      保護膜
３００      液晶層
４００      シールパターン
【図１】
0004664893.tif 000002
【図２ａ】
0004664893.tif 000003
【図２ｂ】
0004664893.tif 000004
【図２ｃ】
0004664893.tif 000005
【図２ｄ】
0004664893.tif 000006
【図２ｅ】
0004664893.tif 000007
【図３】
0004664893.tif 000008
【図４ａ】
0004664893.tif 000009
【図４ｂ】
0004664893.tif 000010
【図４ｃ】
0004664893.tif 000011
【図４ｄ】
0004664893.tif 000012