(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層と、
第１の面の表示領域に、複数の画素電極がマトリクス状に配置される第１基板と、
第１の面が前記第１基板の第１の面に対向するように、前記第１基板に液晶層を介して重ね合わされた第２基板と、
前記第１及び第２基板の周縁部で、前記第１及び第２基板の間に設けられ、前記表示領域の外側で前記液晶層の存在する領域を取り囲み、前記第１基板及び第２基板を固定するシール材とを備える液晶表示装置であって、
前記第１基板は、第２の面の周縁部の少なくとも一辺に遮光膜を有し、
前記第１基板の第２面における前記遮光膜が形成される領域と、前記第１基板を挟んで対向する前記第１基板の第１面の領域は、前記シール材が形成されている領域を含み、
前記遮光膜は、黒色顔料を添加したポリエステル系樹脂で構成されるとともに、粘着剤を介することなく前記基板上に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１および第２基板は、第２の面にそれぞれ偏光板を有し、
前記遮光膜は、前記第１基板の前記偏光板が形成されていない領域に形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記遮光膜は、前記第１基板の長辺側の一辺と、前記第１基板の短辺側の一辺に形成され、
前記第１基板の第２面における前記遮光膜が形成される領域と、前記第１基板を挟んで対向する前記第１基板の第１面の領域には、前記液晶表示素子の各画素を駆動する半導体チップが実装されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記ポリエステル系樹脂は、エチレンテレフタレートと変成アルキレンエーテル・テレフタレートとの共重合体を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記黒色顔料は、カーボンブラック、および金属系黒色顔料の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記遮光膜は、膜厚が４０〜１２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
液晶層と、
透明な絶縁基板から成り、第１の面の表示領域に、複数の画素電極がマトリクス状に配置される第１基板と、
透明な絶縁基板から成り、第１の面が前記第１基板の第１の面に対向するように、前記第１基板に液晶層を介して重ね合わされた第２基板と、
前記第１及び第２基板の周縁部で、前記第１及び第２基板の間に設けられ、前記表示領域の外側で前記液晶層の存在する領域を取り囲み、前記第１基板及び第２基板を固定するシール材と、
前記第１及び第２基板の周囲を覆い、前記表示領域を露出させる開口部を有し、遮光性の枠体より成る上側ケースと、
前記第１基板の第２の面側に設けられるバックライト光を照射する照明光手段とを備える液晶表示装置であって、
前記第２基板は、前記画素電極の周囲を覆う遮光膜からなるブラックマトリクスを有し、
前記ブラックマトリクスは、前記シール材と一部重なり、前記表示領域と前記シール材の間の領域を覆い、かつ、前記シール材の存在する領域内にある前記ブラックマトリクスは、前記上側ケースと重ならない部分が存在し、
前記第１基板は、第２の面の周縁部の少なくとも一辺に遮光膜を有し、
前記第１基板の第２面における前記遮光膜が形成される領域と、前記第１基板を挟んで対向する前記第１基板の第１面の領域は、前記上側ケースと前記ブラックマトリクスで覆われていない領域を含み、
前記遮光膜は、黒色顔料を添加したポリエステル系樹脂で構成されるとともに、粘着剤を介することなく前記基板上に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１および第２基板は、第２の面にそれぞれ偏光板を有し、
前記遮光膜は、前記第１基板の前記偏光板が形成されていない領域に形成されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記遮光膜は、前記第１基板の長辺側の一辺と、前記第１基板の短辺側の一辺に形成され、
前記第１基板の第２面における前記遮光膜が形成される領域と、前記第１基板を挟んで対向する前記第１基板の第１面の領域には、前記液晶表示素子の各画素を駆動する半導体チップが実装されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記ポリエステル系樹脂は、エチレンテレフタレートと変成アルキレンエーテル・テレフタレートとの共重合体を含むことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記黒色顔料は、カーボンブラック、および金属系黒色顔料の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記遮光膜は、膜厚が４０〜１２０μｍであることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
第１の面の表示領域に、複数の画素電極がマトリクス状に配置された第１基板を作成する工程と、
第２基板を作成する工程と、
前記第１基板あるいは前記第２基板の第１の面の、前記表示領域の外側に、液晶注入口を除いてシール材を形成する工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを、それぞれの第１の面を互いに対向させて配置し、封着する工程と、
前記液晶注入口より液晶を注入し、封止する工程と、
前記第１基板の第２の面の周縁部の少なくとも一辺に、ディスペンサー方式で、ポリエステル系樹脂と、黒色顔料とを少なくとも含む樹脂膜を塗布する工程と、
前記樹脂膜を硬化させて遮光膜を形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記樹脂膜は、ポリエステル系樹脂と、黒色顔料と、分散剤と、溶剤とを含み、
前記樹脂膜における溶剤の含有量は、３０〜６０重量％であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記ポリエステル系樹脂は、エチレンテレフタレートと変成アルキレンエーテル・テレフタレートとの共重合体を含むことを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記黒色顔料は、カーボンブラック、および金属系黒色顔料の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記溶剤は、メトキシブチルアセテートであることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記樹脂膜は、粘度が５００〜３０００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記第１基板を作製する工程は、前記第２の面に偏光板を貼り付ける工程を含み、
前記樹脂膜は、前記第１基板の前記偏光板が形成されていない領域に塗布されることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、パーソナルコンピュータ、ワークステーション等に用いられる液晶表示装置に係わり、特に、バックライトユニットからの光漏れ防止に適用して有効な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）方式、あるいはＴＦＴ（Thin Film Transister）の液晶表示モジュールは、ノート型パーソナルコンピュータ等の表示装置として広く使用されている。
これらの液晶表示モジュールは、周囲に駆動回路部が配置された液晶表示パネルと、当該液晶表示パネルを照射するバックライトユニットとで構成される。
なお、このような技術は、例えば、特公昭６０−１９４７４号公報、実開平４−２２７８０号公報に前記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
例えば、ＴＦＴ方式の液晶表示モジュールでは、カラーフィルタが形成されるフィルタ基板と、画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成されるＴＦＴ基板とを、両基板の周縁部に形成されるシール材により、配向膜が形成される面が互いに対向するように重ね合わせ、両基板間に液晶を注入・封止して、液晶表示パネルが形成される。
ここで、フィルタ基板上には、ブラックマトリクスが形成される。
このブラックマトリクスは、各画素電極の周囲を覆うように設けられ、これにより、１画素の有効表示領域が仕切られるので、各画素の輪郭をはっきりさせ、コントラストを向上させることができる。
また、このブラックマトリクスは、バックライトユニットからの光が、液晶表示パネルの周縁部から表示面側に漏れるのを防止するために、シール材が形成される領域にも形成されていた。
【０００４】
しかしながら、ブラックマトリクスを有機系樹脂で構成する場合、フィルタ基板と有機系樹脂との接着強度が低下し、例えば、液晶表示パネルの製造工程における切断工程などにおいて、シール材が形成される領域にストレスがかかり、シール材が形成される領域において、ブラックマトリクスがフィルタ基板から剥離するという問題点があった。
そのため、例えば、特開平９−２１１４７３号公報（以下、文献（イ）という。）では、シール材が形成される領域に形成されるブラックマトリクスの一部を除去して、ブラックマトリクスがシール材とオーバラップされない領域を設け、これにより、接着強度を向上させるようにしている。
但し、文献（イ）に記載されて液晶表示装置では、ブラックマトリクスがシール材とオーバラップされない領域から、バックライトユニットからの照射光が表面側に漏れだしてくるので、ＴＦＴ基板の液晶層と対向しない側の面の周縁部で、少なくとも、ブラックマトリクスがシール材とオーバラップされない領域に、黒色の遮光テープを貼り付けて、このバックライトユニットからの光漏れを防止するようにしている。
【０００５】
しかしながら、この黒色の遮光テープをＴＦＴ基板のガラス基板に貼り付ける作業は、各液晶表示パネル毎に、人の手で行われており、極めて作業効率が悪く、液晶表示装置の製造コストが上昇するという問題点があった。
本発明は、前記従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、液晶表示装置において、液晶表示素子を構成する一方の基板の周縁部に設けられる遮光膜を、自動で、かつ簡単に形成できるようにして、製造コストを低減させることが可能となる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の前記述及び添付図面によって明らかにする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下前記の通りである。
即ち、本発明は、液晶層と、第１の面の表示領域に、複数の画素電極がマトリクス状に配置される第１基板と、第１の面が前記第１の基板の第１の面に対向するように、前記第１基板に液晶層を介して重ね合わされた第２基板と、前記第１及び第２基板の周縁部で、前記第１及び第２基板の間に設けられ、前記表示領域の外側で前記液晶層の存在する領域を取り囲み、前記第１の基板および第２基板を固定するシール材とを備える液晶表示装置に適用される。
本発明においても、前記第１基板の第２の面の周縁部の少なくとも一辺に、遮光膜が形成されるが、この遮光膜は、黒色顔料を添加したポリエステル系樹脂で構成される。
本発明では、この遮光膜は、前記第１基板の第２の面で前記シール材が形成されている領域を含むように形成されるが、望ましくは、前記遮光膜は、前記第１基板の前記偏光板が形成されていない領域に形成されることが望ましい。
【０００７】
また、本発明は、液晶層と、透明な絶縁基板から成り、第１の面の表示領域に、複数の画素電極がマトリクス状に配置される第１基板と、透明な絶縁基板から成り、第１の面が前記第１の基板の第１の面に対向するように、前記第１基板に液晶層を介して重ね合わされた第２基板と、前記第１及び第２基板の周縁部で、前記第１及び第２基板の間に設けられ、前記表示領域の外側で前記液晶層の存在する領域を取り囲み、前記第１の基板および第２基板を固定するシール材と、前記第１及び第２基板の周囲を覆い、前記表示領域を露出させる開口部を有し、遮光性の枠体より成る上側ケースと、前記第１基板の第２の面側に設けられる照射する照明光手段とを備えるとともに、前記第２基板は、前記画素電極の周囲を覆う遮光膜からなるブラックマトリクスを有し、前記ブラックマトリクスは、前記シール材と一部重なり、前記表示領域と前記シール材の間の領域を覆い、かつ、前記シール材の存在する領域内にある前記ブラックマトリクスは、前記上側ケースと重ならない部分が存在する液晶表示装置にも適用される。
この場合には、前記第１基板の第２の面の周縁部の少なくとも一辺に形成される遮光膜の形成領域は、前記第１基板の第２の面で、前記上側ケースと前記ブラックマトリクスで覆われていない領域を含んでいる。
【０００８】
また、この遮光膜は、膜厚が４０〜１２０μｍであることが望ましい。
また、本発明の一実施の形態では、この遮光膜は、前記第１基板の長辺側の一辺と、前記第１基板の短辺側の一辺に形成され、前記第１基板の第１の面の前記遮光膜が形成される領域には、前記液晶表示素子の各画素を駆動する半導体チップが実装される。
また、本発明の一実施の形態では、前記ポリエステル系樹脂は、エチレンテレフタレートと変成アルキレンエーテル・テレフタレートとの共重合体を含み、前記黒色顔料は、カーボンブラック、および金属系黒色顔料の少なくとも一方を含んでいる。
【０００９】
また、本発明の遮光膜は、ポリエステル系樹脂と、黒色顔料とを少なくとも含む樹脂膜を、ディスペンサー方式で前記第１基板の第２の面の周縁部の少なくとも一辺に塗布した後、硬化させて形成される。
本発明の一実施の形態では、この樹脂膜は、ポリエステル系樹脂と、黒色顔料と、分散剤と、溶剤とを含み、前記樹脂膜における溶剤の含有量は、３０〜６０重量％である。
本発明の一実施の形態では、前記溶剤は、メトキシブチルアセテートである。
本発明の一実施の形態では、前記樹脂膜は、粘度が５００〜３０００ｍＰａ・ｓである。
本発明の一実施の形態では、前記ディスペンサー方式で樹脂膜を塗布する際に、直径が１６〜２４Ｇのノズルを用い、０．０５〜０．３Ｍｐａの塗布圧力で、かつ、１００〜４００ｍｍ／ｓの塗布速度で樹脂膜が塗布される。
【００１０】
本発明の遮光膜は、従来の黒色の遮光テープとは異なり、粘着剤を介さずに第１基板の第２の面上に形成することができる。
また、本発明の遮光膜は、膜材料が粉状にぼろぼろになることがなく、かつ、テープ状に繋がった状態となるので、剥離する場合には連続的に剥がすことが可能である。
さらに、偏光板よりも薄く形成することができるので、液晶層のギャップむらを抑えることが可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
なお、実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
〈本発明が適用されるＴＦＴ方式の液晶表示モジュールの基本構成〉
図１は、本発明が適用されるＴＦＴ方式の液晶表示モジュール（ＬＣＭ）の概略構成を示す分解斜視図である。
図１に示す液晶表示モジュール（ＬＣＭ）は、金属板から成る枠状のフレーム（上側ケース）４、液晶表示パネル（ＬＣＤ；本発明の液晶表示素子）５、バックライトユニットとから構成される。
液晶表示パネル５は、画素電極、薄膜トランジスタ等が形成されるＴＦＴ基板と、対向電極、カラーフィルタ等が形成されるフィルタ基板とを、所定の間隙を隔てて重ね合わせ、該両基板間の周縁部近傍に枠状に設けたシール材により、両基板を貼り合わせると共に、シール材の一部に設けた液晶封入口から両基板間のシール材の内側に液晶を封入、封止し、さらに、両基板の外側に偏光板を貼り付けて構成される。
【００１２】
ここで、ＴＦＴ基板のガラス基板上には、半導体集積回路装置（ＩＣ）で構成される複数のドレインドライバおよびゲートドライバが搭載されている。
このドレインドライバには、フレキシブルプリント配線基板１を介して、駆動電源、表示データおよび制御信号が供給され、ゲートドライバには、フレキシブルプリント配線基板２を介して、駆動電源および制御信号が供給される。
これらフレキシブルプリント配線基板（１，２）は、バックライトユニットの後ろ側に設けられる駆動回路基板３に接続される。
また、複数のドレインドライバおよびゲートドライバが搭載されている液晶表示パネル５が、表示窓を有するフレーム４とバックライトユニットとの間に収納されて構成される。
そして、フレーム４の表示窓の領域が、液晶表示モジュール（ＬＣＭ）の表示領域を構成し、この表示領域以外の領域、即ち、フレーム４の表示窓の周囲の領域を、通常額縁と称する。
本実施の形態の液晶表示モジュールのバックライトユニットは、冷陰極蛍光灯１６、楔形（側面形状が台形）の導光体９、拡散シート（６，８）、レンズシート７、反射シート１０とが、図１に示す順序で、側壁を有し、枠状に形成されたモールド１４に嵌め込まれて構成される。
なお、図１において、１１はゴムブッシュ、１２はコネクタ、１８，１９はケーブルである。
【００１３】
〈図１に示す液晶表示モジュールの画素部の構成〉
図２は、図１に示す液晶表示モジュールの１画素とその周辺を示す平面図である。
図３は、図２に示すＤ−Ｄ’切断線における断面を示す断面図である。
図２、図３において、１０１，１０２はガラス基板（ＳＵＢ１、ＳＵＢ２）、１０３はブラックマトリクス（ＢＭ）、１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃはそれぞれＲ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の３色のカラーフィルタ（ＦＩＬ（Ｒ），ＦＩＬ（Ｇ），ＦＩＬ（Ｂ））、１０５，１１５は保護膜（ＰＳＶ１，ＰＳＶ２）、１０６，１０７は配向膜（ＯＲＩ１，ＯＲＩ２）、１１０は液晶層（ＬＣ）、１１１，１１２は偏光板（ＰＯＬ１，ＰＯＬ２）、１１３は画素電極（ＩＴＯ１）、１１４はコモン電極（ＩＴＯ２）、１１６はゲート電極（ＧＴ）、１１７はソース電極（ＳＤ１）、１１８はドレイン電極（ＳＤ２）、１１９はアモルファスシリコン（ＡＳ）、１２０ａ，１２０ｂは薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１，ＴＦＴ２）、１２１はデータライン（ＤＬ）、１２２はゲートライン（ＧＬ）、１２３は保持容量（Ｃａｄｄ）、１２４は絶縁膜（ＧＩ）、１２５，１２６，１２７，１２８は酸化シリコン膜（ＳＩＯ）である。
【００１４】
図２、図３に示す液晶表示パネルにおいて、各画素は隣接する２本の走査信号線（ゲートライン（ＧＬ））と、隣接する２本の映像信号線はデータライン（ＤＬ））との交差領域（４本の信号線で囲まれた領域）内に配置され、各画素は、２個の薄膜トランジスタ（１２０ａ，１２０ｂ）と、画素電極１１３および保持容量１２３を含んでいる。
ゲートライン１２２は図２では左右方向に延在し、上下方向に複数本配置され、また、データライン１２１は図３では上下方向に延在し、左右方向に複数本配置される。
各薄膜トランジスタ（１２０ａ，１２０ｂ）は、ゲート電極１１６と、ゲート絶縁膜として用いられる絶縁膜１２４と、アモルファスシリコン１１９と、ソース電極１１７と、ドレイン電極１１８とを有する。
【００１５】
ゲート電極１１６は、ゲートライン１２２から垂直方向に突出する形で、ゲートライン１２２と連続して一体的に形成され、また、ゲート電極１１６とゲートライン１２２とは単層の第２導電膜（ｇ２）で形成され、さらに、ゲート電極１１６とゲートライン１２２上には陽極酸化膜（ＡＯＦ）が形成されている。
ソース電極１１７とドレイン電極１１８とは、Ｎ（＋）型半導体層（ｄ０）に接触する第２導電膜（ｄ２）とその上に形成された第３導電膜（ｄ３）とから構成され、また、ドレイン電極１１８はデータライン１２１に接続され、ソース電極１１７は画素電極１１３に接続される。
また、データライン１２１は、ドレイン電極１１８と同層の第２導電膜（ｄ２）とその上に形成された第３導電膜（ｄ３）とから構成され、画素電極１１３は透明な第１導電膜（ｄ１）で形成される。
【００１６】
図２、図３に示す液晶表示パネルにおいて、液晶層１１０を基準にして、ガラス基板１０１には薄膜トランジスタ（１２０ａ，１２０ｂ）および画素電極１１３が形成され、ガラス基板１０２にはカラーフィルタ（１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃ）およびブラックマトリクス１０３が形成される。
ガラス基板１０２の内側（液晶層側）には、カラーフィルタ（１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃ）およびブラックマトリクス１０３、保護膜１１５、透明導電膜からなるコモン電極１１４、配向膜１０７とが順次積層され、これらがフィルタ基板を構成する。
ガラス基板１０１の内側（液晶層側）には、ゲート電極１１６およびゲートライン１２２、絶縁膜１２４、アモルファスシリコン１１９、画素電極１１３、データライン１２１、ソース電極１１７、ドレイン電極１１８、保護膜１０５、配向膜１０６とが順次積層され、これらがＴＦＴ基板を構成する。
また、ガラス基板（１０１，１０２）の外側には、それぞれ偏光板（１１１，１１２）が形成され、さらに、各ガラス基板（１０１，１０２）の両面にはディップ処理等によって形成された酸化シリコン膜（１２５〜１２８）が形成されている。
また、図３には図示していないが、液晶層１１０には、液晶層１１０の厚さを均一に保つためのスペーサが封入される。
【００１７】
〈本発明の実施の形態のＴＦＴ方式の液晶表示モジュールの特徴〉
図４は、本実施の形態の液晶表示パネルにおける、シール材が形成される領域の断面構造を要部断面図であり、図１に示すＡ−Ａ’切断線に沿った断面構造を示す図である。
図４において、１７はランプ反射シート、１３０がシール材であり、このシール材１３０は、図５に示すように、フィルタ基板およびＴＦＴ基板の周縁部の、フィルタ基板とＴＦＴ基板間に、液晶注入口１３１を除いて枠状に形成される。
なお、図５において、１３０の符号が付された２つの線に挟まれた領域がシール材を示している。
本実施の形態では、ブラックマトリクス１０３は、例えば、カーボンブラックなどの黒色の顔料を添加したアクリル、エポキシ、ポリイミドなどの有機系樹脂膜で構成される。
このブラックマトリクス１０３は、図５に示すように、画素部を越えてシール材１３０が形成される領域まで延長して形成され、液晶注入口を除き、一部シール材１３０とオーバーラップしている。
これにより、本実施の形態では、シール材１３０近傍領域から表示面側に漏れ出す、バックライトユニットからの光漏れを遮蔽することができる。
【００１８】
なお、図５において、１０３の符号が付された２つの線に挟まれた領域は、画素部を越えてシール材１３０が形成される領域まで延長して形成されるブラックマトリクス１０３で、画素部の周辺に額縁状に形成されるブラックマトリクスを示している。
さらに、本実施の形態では、シール材１３０のほぼ全周にわたって、ガラス基板やシール材１３０に対して接着強度の低い有機系膜から成るブラックマトリクス１０３を一部除去し、ブラックマトリクス１０３とシール材１３０とがオーバーラップしない部分を設けたので、当該オーバーラップしない部分においては、例えば、ガラス基板１０２／保護膜１１５／シール材１３０の接着強度の高い組み合わせとなり、シール領域の接着強度を向上させることが可能となる。
また、ガラス基板１０１における、シール材１３０とブラックマトリクス１０３とが重ならない領域のバックライトユニット側の面に、遮光膜１５０が形成される。
これにより、シール領域において、シール材１３０とブラックマトリクス１０３とが重ならない領域から表示面側に漏れ出す、バックライトユニットからの光漏れを遮蔽する。
【００１９】
図６は、本実施の形態の液晶表示パネルにおける、遮光膜１５０の形成領域を説明するための図である。
なお、この図は、液晶表示パネルをバックライトユニット側から見た図である。
図６に示すように、遮光膜１５０は、ＴＦＴ基板側のガラス基板１０１の長辺側の一辺と、短辺側の一辺とに設けられ、この遮光膜１５０が形成される領域の裏側（表示面側）には、図４に示すように、ドレインドライバおよびゲートドライバを構成する半導体チップ（ＩＣ）が搭載される。
ここで、長辺側の一辺に搭載される半導体チップ（ＩＣ）はドレインドライバを、短辺側の一辺に搭載される半導体チップ（ＩＣ）はゲートドライバを構成する。
ＴＦＴ基板側のガラス基板１０１のバックライトユニット側の面には、偏光板１１１が形成されるが、本実施の形態では、遮光膜１５０は、偏光板１１１が形成される領域以外の領域に形成される。
なお、図６では、遮光膜１５０を、ＴＦＴ基板側のガラス基板１０１のバックライトユニット側の面で、偏光板１１１が形成されていない全ての領域に設けた場合を図示している。
したがって、図４に示すように、本実施の形態では、遮光膜１５０は、枠状のフレーム４で覆われていない領域を含むように設けられる。
【００２０】
本実施の形態では、この遮光膜１５０は、例えば、黒色顔料を添加したポリエステル系樹脂（例えば、エチレンテレフタレートと変成アルキレンエーテル・テレフタレートとの共重合体）で構成される。
本実施の形態の遮光膜１５０は、膜材料が粉状にぼろぼろになることがなく、かつ、テープ状に繋がった状態となるので、剥離する場合には連続的に剥がすことが可能であるという特徴を有している。
この遮光膜１５０は、後述するように、ディスペンサー方式で形成されるが、塗布乾燥した後の厚み（膜厚）が、４０〜１２０μｍ（さらに望ましくは、５０〜１００μｍ）と、偏光板１１１より薄く形成できるので、液晶層のギャップむらを抑えることが可能となる。
本実施の形態の遮光膜１５０は、前述の文献（イ）に記載されている黒色の遮光テープとは異なり、粘着剤を介さず、ＴＦＴ基板のガラス基板１０１の面上に、ディスペンサー方式で形成される。
このため、本実施の形態では、前述の文献（イ）に記載されている黒色の遮光テープの場合のように、人の手を介して黒色のテープを貼り付ける必要がないので、作業効率を向上させることができるばかりが、製造コストを低減することが可能となる。
【００２１】
液晶表示パネルを構成する透明基板に遮光性を有する樹脂膜を形成する技術は、特開２０００−５６３１７号公報（以下、文献（ロ）という。）にも記載されている。
この文献（ロ）は、遮光性を有するシール剤で一対の透明基板を貼り合わせて構成される液晶表示パネルにおいて、この一対の透明基板間に液晶組成物を封入する部分（遮光性シール剤が途切れ又はその厚みが顕著に減少する部分）における光漏れを抑えるために、一対の透明基板の一方の液晶組成物封入部分に対応する裏面に外部遮光膜を設ける技術を開示している。
しかしながら、文献（ロ）は、前述の外部遮光膜を構成する材料の詳細に関しては言及していない。換言すれば、文献（ロ）の外部遮光膜には、これを文献（イ）の遮光テープの代わりに用いるための配慮がなされていない。
【００２２】
本実施の形態で述べた遮光膜１５０が、前述したように、ガラス基板１０１の主面に適度な強度で貼り付き、粉状に劣化せず、テープ状の形態を保つ性質を示すか否かは、その材料の物理的な性質に依存する。
即ち、遮光膜１５０の材料には、ガラス基板１０１に粘着し得る粘性と、このガラス基板上に塗布されたときの形状を外力（特に、遮光膜１５０をガラス基板から剥離する力）に対して維持し得る弾性とを併せ持つことが要請される。
本発明の液晶表示装置において、前述した遮光膜１５０を粘弾性体として捉えた場合、この液晶表示装置が利用され得る環境温度（例えば、−４０〜＋６０°Ｃ）の範囲において、遮光膜１５０はゴム状の物性を示すことが要請される。
粘弾性体は、例えば、福沢敬司著「粘着技術」（（株）高分子刊行会，第７版１９８７年刊行）の１４−２０頁（セクション２．２．１「粘弾性体としての粘着剤」）に記載されているように、ガラス転移温度（Ｔｇ）以下でガラス域、このガラス転移温度以上でゴム域（ガラス域で凍結された分子鎖が運動を開始する領域）、このガラス転移温度よりも更に高い以上で流動域（弾性を実質的に失う領域）となる。
遮光膜１５０を、ゴム域にある粘弾性体として捉えた場合、適度な粘性でガラス基板１０１に粘着しながらも、分子鎖の運動の自由度に拠る弾性が外力に拮抗できるため、ガラス基板に塗布されたときの形状を乾燥や剥離に対して維持することができる。
【００２３】
本発明の液晶表示装置において、前述の遮光膜１５０として、少なくともこの液晶表示装置が組立てられる雰囲気の温度範囲（例えば、０〜＋３０°Ｃ）において、前述のゴム域の物性を示す樹脂材料（粘着剤）を用いれば、本実施の形態のポリエステル系樹脂に限られることなく、その利点を再現できる。
前述の刊行物によれば、粘着剤（固着剤）には、通常、エラストマー（ゴム状弾性体）、粘着付与剤樹脂、及び軟化剤（場合により、微量の老化防止剤）が含まれる。
本発明による液晶表示装置の遮光膜１５０を構成する樹脂材料（粘着剤）には、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、トルエン、キシレン等の所謂溶媒材料が含有され、当該樹脂材料において、前述の粘着付与剤又は軟化剤の如く振る舞う。
即ち、遮光膜１５０の原料をガラス基板上に塗布し、且つ、固化した後においても、この溶剤材料が遮光膜１５０中に適度に残ることにより、本発明による液晶表示装置の遮光膜１５０のガラス基板主面への適度な接着性と塗布時の（テープ形状）形態の維持という効果が確実に得られる。
【００２４】
例えば、前述の実施の形態において、ガラス基板１０１に粘着した遮光膜１５０の材料の組成をガスクロマトグラフにより分析したとき、これに含まれる軟化剤の検出ピークの高さが、これに含まれるエチレンテレフタレートや変成アルキレンエーテル・テレフタレート等の樹脂材料の検出ピークの半分以上に至るとき、遮光膜１５０は前述の利点のみならず、ガラス基板からきれいに剥離できる（剥離後に遮光膜１５０がガラス基板上に殆ど残らない）という利点ももたらす。
この利点は、ガラス基板１０１に歪み（いびつ）に形成された遮光膜１５０を一旦剥がして、改めて遮光膜１５０を塗布しなおすという、液晶表示パネルのリペアを可能にするため、液晶表示装置の完成の歩留まりを著しく改善する。
【００２５】
また、このような更なる利点も本実施の形態において例示した材料のみならず、遮光膜１５０を構成する樹脂材料の物理的性質を前述のように設定することにより、特定の組成に限定されることなく達成できるものと考えられる。
なお、前述した液晶表示パネルのリペアを行い易くするに当たり、本発明による液晶表示装置の遮光膜１５０を構成する樹脂材料の粘性（粘着力）は、例えば、偏光板（偏光フィルムと位相差フィルムまたは保護フィルムとを積層してなる）のガラス基板主面（この主面には遮光膜１５０も塗布されている）に対するそれよりも弱めに設定し、また、その塗布・乾燥後の厚みが前述の偏光板のそれ（ガラス基板にこれを接着させる接着剤の厚みも含み）よりも薄くすることが望ましい。
【００２６】
〈本発明の実施の形態の液晶表示パネルの製造方法の概要〉
以下、本実施の形態の液晶表示パネルの製造方法の概要について説明する。
（イ）工程１
ガラス基板１０２上に、ブラックマトリクス１０３、カラーフィルタ（１０４ａ、１０４ｂ、１０４ｃ）、保護膜１１５、コモン電極１１４、配向膜１０７とを順次積層して、フィルタ基板を製造する。
同じように、ガラス基板１０１上に、ゲート電極１１６およびゲートライン１２２、絶縁膜１２４、アモルファスシリコン１１９、画素電極１１３、データライン１２１、ソース電極１１７、ドレイン電極１１８、保護膜１０５、配向膜１０６とが順次積層して、ＴＦＴ基板を製造する。
（ロ）工程２
フィルタ基板２００の周辺部に熱硬化型エポキシ樹脂材料からなるシール材１３０を形成し、シール材１３０の内側にスペーサを配置する。
【００２７】
（ハ）工程３
フィルタ基板と、ＴＦＴ基板とのパターン面を合わせて重ね合わせ、フィルタ基板とＴＦＴ基板との外面を加圧した状態で加熱しシール材１３０を硬化させ、フィルタ基板とＴＦＴ基板とを接着シールする。
（ニ）工程４
シール材１３０の液晶注入封止口から液晶層１１０を注入し、液晶注入封止口をエポキシ樹脂等で封止し、最後に、ガラス基板（１０１、１０２）の上に偏光板（１１１，１１２）を貼り付ける。
（ホ）工程５
次に、ＴＦＴ基板側のガラス基板１０１のバックライトユニット側の面で、偏光板１１１が形成されていない領域に、ディスペンサー方式により遮光膜となる樹脂膜を形成し硬化させて、遮光膜１５０を形成する。
その後、半導体チップ（ＩＣ）を実装した後、図１に示す配置関係となるように、別途作製したおいたバックライトユニット上に、液晶表示パネルを配置して完成される。
【００２８】
図７は、ＴＦＴ基板側のガラス基板１０１のバックライトユニット側の面で、偏光板１１１が形成されていない領域に、ディスペンサー方式により樹脂膜を形成する方法を説明するための図である。
図７において、２２１は移動台、２２２はノズル、２２３はシリンジ、２２４は高圧のエアー（あるいは窒素）である。
図７に示すように、ディスペンサー方式とは、シリンジ２２３に遮光膜１５０となる樹脂を充填し、高圧のエアー（あるいは窒素）２２４によりシリンジ２２３に圧力を加え、シリンジ２２３の先端部に設けたノズル２２２から樹脂を吐出し、移動台２２１に載置された液晶表示パネル、あるいはシリンジ２２３をＸーＹ方向に移動させることにより、遮光膜１５０となる樹脂膜を、ＴＦＴ基板側のガラス基板１０１のバックライトユニット側の面で、偏光板１１１が形成されていない領域に塗布する方式である。
【００２９】
このディスペンサー方式における遮光膜１５０となる樹脂膜の塗布量は、遮光膜１５０の材料となる樹脂の粘性、塗布圧力、ノズル２２２の直径、液晶表示パネルあるいはシリンジ２２３の移動スピードにより左右される。
本実施の形態では、以下の条件下で遮光膜１５０となる樹脂膜を形成した。
（１）遮光膜１５０となる樹脂の粘性
５００〜３０００ｍＰａ・ｓ（より好ましくは、１０００〜２０００ｍＰａ・ｓ）。
（２）ノズル２２２の直径
１６〜２４Ｇ（より好ましくは、２０Ｇ）
（３）塗布圧力
０．０５〜０．３Ｍｐａ（より好ましくは、０．１〜０．１５Ｍｐａ）
（４）液晶表示パネルあるいはシリンジ２２３の移動スピード
１００〜４００ｍｍ／ｓ（より好ましくは、２００〜３００ｍｍ／ｓ）
【００３０】
また、遮光膜１５０となる樹脂は、ポリエステル系樹脂と、黒色顔料と、分散剤と、溶剤とで構成される。
ここで、ポリエステル系樹脂は、エチレンテレフタレートと変成アルキレンエーテル・テレフタレートとの共重合体を含み、また、黒色顔料は、カーボンブラックで構成される。
また、分散剤は、有機系分散剤（例えば、酢酸ｎ−ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、イソブチルアルコール等）で構成され、溶剤はメトキシブチルアセテートで構成される。
本実施の形態では、この溶剤の含有量を、３０〜６０重量％（より、好ましくは、４５重量％）とした。
【００３１】
本実施の形態の遮光膜１５０を使用することにより、以下のような効果を得ることが可能となる。
（１）本実施の形態の遮光膜１５０は、膜が粉状にポロポロと、あるいは部分的に剥がれることがないので、液晶表示モジュール内に異物が混入するのを防止することが可能となる。
（２）本実施の形態の遮光膜１５０は、ディスペンサー方式で塗布し、硬化させた後の膜は、テープ状に繋がった状態となり、この遮光膜１５０を剥離する場合には連続的に剥がすことが可能である。
（３）本実施の形態によれば、比較的大面積の領域に遮光膜１５０を形成するために、遮光膜１５０の材料となる樹脂を重ね塗りした場合でも、溶剤の含有量が比較的多いため（３０〜６０重量％、より、好ましくは、４５重量％）に、遮光膜１５０の膜厚は、前述した範囲の値に制限されるので、ギャップムラの発生を防止することができる。
これに対して、前述の文献（イ）に記載されている黒色のテープでは、重なり部分があると、当該部分の厚みが、他の部分よりも厚くなるので、ギャップムラが発生しやすい。
【００３２】
なお、前述の実施の形態では、ポリエステル系樹脂に添加される黒色の顔料として、カーボンブラックを使用する場合について説明したが、カーボンブラック以外に、酸化コバルト粒子、酸化クロム粒子、酸化チタン粒子、酸窒化チタン粒子などの金属系の黒色顔料を使用することも可能である。
また、前述の文献（イ）には、遮光膜１５０を、黒色顔料を添加した樹脂膜で形成することも記載されているが、この文献（イ）は、遮光膜１５０として、黒色顔料を添加した樹脂膜が使用可能であることを単に開示するのみであって、遮光膜１５０に使用される樹脂の種類、および、遮光膜１５０の形成方法、ならびに、ディスペンサー方式で遮光膜１５０を形成する際の樹脂の組成などについては何ら開示されていない。
さらに、前記実施の形態では、本発明をＴＦＴ方式の液晶表示モジュールに適用した実施の形態について主に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明は、ＳＴＮ方式の液晶表示モジュールにも適用可能であることはいうまでもない。
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。
【００３３】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下前記の通りである。
（１）本発明の液晶表示装置によれば、遮光膜が粉状にポロポロと、あるいは部分的に剥がれることがないので、液晶表示モジュール内に異物が混入するのを防止することが可能となる。
（２）本発明の液晶表示装置によれば、遮光膜が、テープ状に繋がった状態となり、剥離する場合に連続的に剥がすことが可能である。
（３）本実施の液晶表示装置によれば、遮光膜を、偏光板よりも薄く形成することができるので、液晶層のギャップむらを抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明が適用されるＴＦＴ方式の液晶表示モジュール（ＬＣＭ）の概略構成を示す分解斜視図である。
【図２】図１に示す液晶表示モジュールの１画素とその周辺を示す平面図である。
【図３】図２に示すＤ−Ｄ’切断線における断面を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態の液晶表示パネルにおける、シール材が形成される領域の断面構造を要部断面図であり、図１に示すＡ−Ａ’切断線に沿った断面構造を示す図である。
【図５】本発明の実施の形態の液晶表示パネルにおける、シール材が形成される領域と、ブラックマトリクスが形成される領域を説明するための図である。
【図６】本発明の実施の形態の液晶表示パネルにおける、遮光膜の形成領域を説明するための図である。
【図７】ＴＦＴ基板側のガラス基板に、ディスペンサー方式により樹脂膜を形成する方法を説明するための図である。
【符号の説明】
１，２…フレキシブルプリント配線基板、３…駆動回路基板、４…フレーム、５…液晶表示パネル、６，８…拡散シート、７…レンズシート、９…導光体、１０…反射シート、１１…ゴムブッシュ、１２…コネクタ、１３…インサータ、１４…モールド、１６…冷陰極蛍光灯、１８，１９…ケーブル、１０１，１０２…ガラス基板（ＳＵＢ１、ＳＵＢ２）、１０３…ブラックマトリクス（ＢＭ）、１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃ…Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の３色のカラーフィルタ（ＦＩＬ（Ｒ），ＦＩＬ（Ｇ），ＦＩＬ（Ｂ））、１０５，１１５…保護膜（ＰＳＶ１，ＰＳＶ２）、１０６，１０７…配向膜（ＯＲＩ１，ＯＲＩ２）、１１０…液晶層（ＬＣ）、１１１，１１２…偏光板（ＰＯＬ１，ＰＯＬ２）、１１３…画素電極（ＩＴＯ１）、１１４…コモン電極（ＩＴＯ２）、１１６…ゲート電極（ＧＴ）、１１７…ソース電極（ＳＤ１）、１１８…ドレイン電極（ＳＤ２）、１１９…アモルファスシリコン（ＡＳ）、１２０ａ，１２０ｂ…薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１，ＴＦＴ２）、１２１…データライン（ＤＬ）、１２２…ゲートライン（ＧＬ）、１２３…保持容量（Ｃａｄｄ）、１２４…絶縁膜（ＧＩ）、１２５，１２６，１２７，１２８…酸化シリコン膜（ＳＩＯ）、１３０…シール材、１３１…液晶注入口、１５０…遮光膜、２２１…移動台、２２２…ノズル、２２３…シリンジ、２２４…高圧のエアー（あるいは窒素）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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