(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（３）で表される有機ケイ素化合物を含有する防汚剤。
【化１】
0004733798.tif 000017
（上記一般式（３）中、Ｒf2は炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基、Ｒ3 は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｘはハロゲン元素、n2は１〜５０の整数、m2は０〜３の整数、l2は０〜３の整数、s2は１〜６の整数、aは０〜３の整数、bは０〜３の整数、cは０または１、dは０または１である。但し、６≧m2＋l2＞０、ａ＋ｂ＝３、ｃ＋ｄ＝１、ｂ＋ｃ≧１である。）
【請求項２】
前記一般式（３）において、Ｒf2は、−ＣＦ3 、−Ｃ2 Ｆ5 、および−Ｃ3 Ｆ7からなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の防汚剤。
【請求項３】
前記一般式（３）において、Ｒ3は−ＣＨ3 、−Ｃ2 Ｈ5 、および−Ｃ3 Ｈ7からなる群から選択されることを特徴とする請求項１または２に記載の防汚剤。
【請求項４】
前記一般式（３）で表される第１の有機ケイ素化合物と、前記一般式（３）で表される第２の有機ケイ素化合物とを含有し、第１及び第２の有機ケイ素化合物は、前記一般式（３）におけるａ，ｂ，ｃ，ｄの値がそれぞれ異なる請求項１ないし３のいずれか１項に記載の防汚剤。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の防汚剤を被処理基材上にウェットコーティング法により成膜して防汚層を形成する方法。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれかに記載の防汚剤を被処理基材上にドライコーティング法により成膜して防汚層を形成する方法。
【請求項７】
請求項１ないし４に記載の防汚剤を多孔性成型物中に含浸させる工程と、前記防汚剤が含浸された多孔性成型物を真空中で加熱し、防汚剤を蒸発させて被処理基材上に防汚層を成膜する工程とを具備する防汚層の形成方法。
【請求項８】
前記多孔性成型物は、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＭｇＯ、Ａｌ2Ｏ3 、ＣａＳＯ4 、Ｃｕ、Ｆｅ、Ａｌ、ステンレス、及びカーボンからなる群から選択された少なくとも１種を含む請求項７に記載の防汚層の形成方法。
【請求項９】
前記多孔性成型物中に含浸された防汚剤を蒸発させるための加熱方法は、抵抗加熱法、電子線加熱法、イオンビーム加熱法、高周波加熱法、及び光加熱法から選択された少なくとも１つの加熱方法である請求項７または８に記載の防汚層の形成方法。
【請求項１０】
前記防汚剤を被処理基材上に成膜した後、加熱、加湿、光照射、又は電子線照射を行う工程を具備する請求項５ないし９のいずれか１項に記載の防汚層の形成方法。
【請求項１１】
透明基材と、この透明基材の少なくとも一方の面に形成された反射防止膜と、最外表面に形成された防汚層とを具備し、前記防汚層は請求項１ないし４のいずれか１項に記載の防汚剤を含む反射防止光学部材。
【請求項１２】
前記透明基材は、有機基材である透明プラスチック基材、又は無機基材であるガラス基材である請求項１１に記載の反射防止光学部材。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の反射防止光学部材と、この反射防止光学部材に接着された機能性光学部材とを有する光学機能性部材。
【請求項１４】
前記機能性部材は偏光板である請求項１３に記載の光学機能性部材。
【請求項１５】
ディスプレイの表示画面表面の前面板の表面に、接着剤を介して接着されたコート部材を有する表示装置において、前記コート部材は、請求項１３または１４に記載の光学機能性部材である表示装置。
【請求項１６】
前記ディスプレイは、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイのいずれかである請求項１５に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、防汚性を必要とする各種被処理基材の表面に防汚層を形成するために使用する防汚剤、この防汚剤を用いて防汚層を形成する方法に関する。また本発明は、光学部材（反射防止膜、光学フィルター、光学レンズ、眼鏡レンズ、ビームスプリッター、プリズム、鏡等）、ディスプレイ（液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションテレビ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等）の表示画面表面に適用される反射防止光学部材、光学機能性部材、さらにディスプレーの表示画面表面にこの光学機能性部材を貼り合わせた表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止膜、光学フィルター、光学レンズ、眼鏡レンズ、ビームスプリッター、プリズム、鏡等の光学部材には、人が使用することによって、指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れが付着する場合が多い。そのような汚れは、一度付着すると除去することは容易ではなく、特に、反射防止膜付き光学部材では、付着した汚れが目立つために問題となる。
【０００３】
一方、多くのディスプレイは、室内外を問わず外光などが入射するような環境下で使用される。
【０００４】
この外光などの入射光は、ディスプレイ表面などにおいて正反射され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ、表示画像を見にくくしている。
【０００５】
特に、最近のオフィスのＯＡ化に伴いコンピューターを使用する頻度が増し、ディスプレイと相対していることが長時間化したことにより、反射像などによる表示品質の低下は、目の疲労などの健康障害などを引き起こす要因ともなっていると考えられる。
【０００６】
更には、近年ではアウトドアライフの普及に伴い、各種ディスプレイを室外で使用する機会が益々増える傾向にあり、表示品質をより向上して表示画像を明確に認識できるような要求が出てきている。
【０００７】
これらの要求を満たすための例として、可視光の広範囲にわたって反射防止効果を有する反射防止光学部材を、ディスプレイ表面に貼り合わせることが知られている。こうした反射防止光学部材としては、例えば、透明基材の表面に、金属酸化物などからなる高屈折率層と低屈折率層を積層したものが挙げられる。また、透明基材の表面に、無機や有機フッ素化合物などの低屈折率層を単層で形成したものも知られている。
【０００８】
これとは別に、透明プラスチックフィルム基材の表面に透明な微粒子を含むコーティング層を形成し、凹凸状の表面により外光を乱反射させるなどしても、同様の効果を得られることが知られている。
【０００９】
一方、上記反射防止光学部材には、人が使用することによって、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着する場合が多い。一般に、反射防止膜の表面エネルギーは約６０Ｊ／ｍ2 と大きいために、そのような汚れが付着しやすい。また、反射防止膜の表面には微細な凹凸があるため、汚れを除去することが容易ではない。さらに、そのような汚れが付着した部分だけ高反射となり、汚れが目立つため問題があった。
【００１０】
そこで、これら汚れの問題を解決する手段として、汚れが付着しにくく、付着しても拭き取りやすい性能を持つ防汚層を光学部材の表面の形成する技術が種々提案されている。
【００１１】
例えば、特開昭６４−８６１０１号公報には、基材の表面に、主として二酸化ケイ素からなる反射防止膜を設け、更にその表面に有機ケイ素置換基を含む化合物で処理した防汚性、耐摩擦性の反射防止物品が提案されている。特開平４−３３８９０１号公報には、同様に基材表面を末端シラノール有機ポリシロキサンで被覆した防汚性、耐摩擦性のＣＲＴフィルターが提案されている。また、特公平６−２９３３２号公報には、ポリフルオロアルキル基を含むモノ及びジシラン化合物及び、ハロゲン、アルキルまたはアルコキシのシラン化合物を含有する反射防止膜をその表面に有する防汚性・低反射性プラスチックが提案されている。更に、特開平７−１６９４０号公報には、パーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとアルコキシシラン基を有する単量体との共重合体を、二酸化ケイ素を主とする光学薄膜上に形成した光学部材が提案されている。
【００１２】
しかしながら、従来の方法で形成された防汚層は、防汚性が不十分であり、特に、指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れが拭き取りにくく、また、使用とともに防汚性能が大きく低下する。このため、防汚性と耐久性に優れた防汚層の開発が望まれている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は以上のような従来技術の課題を解決しようとするものであり、種々の被処理基材、特に、反射防止膜等の光学部材の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れが付着することを防止し、付着した場合には容易に拭き取れる優れた防汚性の防汚層を、高い耐久性で形成し得る防汚剤を提供することを目的とする。
【００１４】
また本発明は、優れた防汚性と耐久性とを有する防汚層を容易に形成し得る防汚層の形成方法を提供することを目的とする。
【００１５】
さらに本発明は、上述した防汚層を有する光学部材を提供することを目的とする。
【００１６】
さらに本発明は、上述した防汚層を有する反射防止光学部材を提供することを目的とする。
【００１７】
またさらに本発明は、上述した反射防止光学部材を有する光学機能性部材を提供することを目的とする。
【００１８】
またさらに本発明は、上述した光学機能性部材をディスプレイの表示画面表面に有する表示装置を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、下記一般式（３）で表される有機ケイ素化合物を含有する防汚剤が提供される。
【００２２】
【化４】
0004733798.tif 000002
【００２３】
（上記一般式（３）中、Ｒf2は炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基、Ｒ3 は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｘはハロゲン元素、n2は１〜５０の整数、m2は０〜３の整数、l2は０〜３の整数、s2は１〜６の整数、aは０〜３の整数、bは０〜３の整数、cは０または１、dは０または１である。但し、６≧m2＋l2＞０、ａ＋ｂ＝３、ｃ＋ｄ＝１、ｂ＋ｃ≧１である。）
さらに本発明によれば、前述した防汚剤を含有する防汚層の形成方法が提供される。
【００２４】
またさらに本発明によれば、前述した防汚材を含有する防汚層を有する光学部材が提供される。
【００２５】
またさらに本発明によれば、前述した防汚剤を含有する防汚層を有する反射防止光学部材が提供される。
【００２６】
またさらに本発明によれば、前述した反射防止光学部材を有する光学機能性部材が提供される。
【００２７】
またさらに本発明によれば、前述した光学機能性部材を具備する表示装置が提供される。
【００２８】
【発明の実施の形態】
本発明の防汚剤は、特定の有機ケイ素化合物を含有しているため、この防汚剤を用いて被処理基材に防汚層を形成すると、その被処理基材が各種光学部材（反射防止膜、光学フィルター、光学レンズ、眼鏡レンズ、ビームスプリッター、プリズム、鏡等）であった場合に、それらの光学性能を損なわせることなく、指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れの付着を防止でき、また、付着した汚れを容易に拭き取ることが可能となり、防汚層の耐久性も優れたものとなる。
【００２９】
本発明の防汚剤は、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物を含有する。
【００３０】
【化５】
0004733798.tif 000003
【００３１】
上記一般式（１）中、Ｒf2は炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基、Ｒ2 は加水分解基、Ｚは−ＯＯＣＮＨ−又は−Ｏ−であり、n2は1〜５０の整数、m2は０〜３の整数、l2は０〜３の整数、s2は１〜６の整数であり、６≧m2＋l2＞0である。
【００３２】
Ｒf2に導入され得る直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基の炭素数は、１〜１６がより好ましく、１〜３が最も好ましい。従って、Ｒf2としては、−ＣＦ3 、−Ｃ2 Ｆ5 、−Ｃ3 Ｆ7 等が特に好ましい。
【００３３】
Ｒ2 に導入され得る加水分解基としては、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＯＲ11、−ＯＯＣＲ11、−ＯＣ（Ｒ11）Ｃ＝Ｃ（Ｒ12）2 、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ11）2 、−ＯＮ＝ＣＲ13、−Ｎ（Ｒ12）2 、−Ｒ12ＮＯＣＲ11などが好ましい。Ｒ11はアルキル基などの炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基、またはフェニル基などの炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、Ｒ12は水素原子またはアルキル基などの炭素数１〜５の脂肪族炭化水素、Ｒ13はアルキリデン基などの炭素数３〜６の二価の脂肪族炭化水素基である。
【００３４】
これらの加水分解基の中でも、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 、−ＯＯＣＣＨ3 及び−ＮＨ2 が特に好ましい。
【００３５】
こうした加水分解基は、１種類のみならず２種類以上を組み合わせて、本発明の防汚剤を構成する有機ケイ素化合物中に含有させることができる。
【００３６】
上記一般式（１）におけるn2は、１〜３０あることがより好ましく、5〜２０であることが最も好ましい。m2は１〜２であることがより好ましく、l2は１〜2であることがより好ましい。また、s2は、１〜３であることがより好ましい。
【００３７】
前記一般式（１）において、Ｚが−ＯＯＣＮＨ−である化合物は、例えば、以下の反応式にしたがって合成することが可能である。
【００３８】
【化６】
0004733798.tif 000004
【００３９】
具体的には、下記一般式（２Ａ）で表される水酸基を有するフッ素化合物を、溶媒中で、触媒及び下記一般式（２Ｃ）で表されるイソシアネート系シランカップリング剤と反応させることにより、一般式（２Ｄ）で表される有機ケイ素化合物が得られる。
【００４０】
【化７】
0004733798.tif 000005
【００４１】
（但し、Ｒf2は炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基、Ｒ2 は加水分解基、n2は１〜５０の整数、m2は０〜３の整数、l2は０〜３の整数、s2は０〜６の整数である。）
反応は、水酸基を含有するフッ素化合物１ｍｏｌに対し、触媒であるＣ34Ｈ64Ｏ4 Ｓｎを０．００１〜０．０１ｍｏｌ、イソシアネート系シランカップリング剤を１〜過剰量用い、室温から溶媒が還流する温度で、２〜７２時間反応させることにより有利に進行する。溶媒としては、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサンなどの通常の炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンなどの多フッ素芳香族炭化水素、多フッ素脂肪族炭化水素などを用いることができる。
【００４２】
本発明の防汚剤は、前記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物の他、必要に応じて種々の添加剤を含有することができる。例えば、一般式（１）で表される有機金属化合物の加水分解、縮重合、ウレタン結合の形成を促進させる触媒を含有させることができる。
【００４３】
本発明の防汚剤において用い得る触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、シュウ酸、アンモニア、アルミニウムアセチルアセトナート、ジブチルスズジラウレート、オクチル酸スズ化合物、ナトリウム、水素化ナトリウム、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が例示できる。これらは、単独であるいは２種以上併せて用いてもよい。
【００４４】
前記一般式（１）においてＺが−Ｏ−である化合物は、例えば、以下の反応式に従って構成することが可能である。
【００４５】
【化８】
0004733798.tif 000006
【００４６】
具体的には、下記一般式（２Ａ）で表される水酸基を有するフッ素化合物を、溶媒中で、触媒及び下記一般式（２Ｂ)で表されるハロゲン系シランカップリング剤と反応させることにより、一般式（２Ｅ）で表される有機ケイ素化合物が得られる。
【００４７】
【化９】
0004733798.tif 000007
【００４８】
（但し、Ｒf2は炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基、Ｘはハロゲン元素、Ｒ2は加水分解基、n2は１〜５０の整数、m2は０〜３の整数、l2は０〜３の整数、s2は０〜６の整数である。）
反応は、水酸基を含有するフッ素化合物１ｍｏｌに対し、触媒であるＮａＨを１〜１．１過剰量、ハロゲン系シランカップリング剤を１〜過剰量用い、室温から溶媒が還流する温度で、２〜７２時間反応させることにより有利に進行する。溶媒としては、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサンなどの通常の炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンなどの多フッ素芳香族炭化水素、多フッ素脂肪族炭化水素などを用いることができる。
【００４９】
本発明の防汚剤は、前記一般式（１）で表される有機金属化合物の他、必要に応じて種々の添加剤を含有することができる。例えば、一般式（１）で表される有機ケイ素化合物の加水分解、縮重合、エーテル結合の形成を促進させる触媒を含有させることができる。
【００５０】
本発明の防汚剤において用い得る触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、シュウ酸、アンモニア、アルミニウムアセチルアセトナート、ジブチルスズジラウレート、オクチル酸スズ化合物、ナトリウム、水素化ナトリウム、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が例示できる。これらは、単独であるいは２種以上併せて用いてもよい。
【００５１】
また、本発明の防汚剤を構成する有機ケイ素化合物の他の例としては、下記一般式（３）で表される有機ケイ素化合物が挙げられる。
【００５２】
【化１０】
0004733798.tif 000008
【００５３】
上記一般式（３）中、Ｒf2は炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基、Ｒ3 は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｘはハロゲン元素、n2は１〜５０の整数、m2は０〜３の整数、l2は０〜３の整数、s2は１〜６の整数、aは０〜３の整数、bは０〜３の整数、cは０または１、dは０または１である。但し、６≧m2＋l2＞０、ａ＋ｂ＝３、ｃ＋ｄ＝１、ｂ＋ｃ≧１である。
【００５４】
Ｒf2に導入され得る直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基の炭素数は、１〜１６がより好ましく、１〜３が最も好ましい。従って、Ｒf2としては、−ＣＦ3 、−Ｃ2 Ｆ5 、−Ｃ3 Ｆ7 等が特に好ましい。
【００５５】
Ｒ3 に導入され得るアルキル基の炭素数は、１〜１０がより好ましく、１〜３が最も好ましい。従って、Ｒ3 としては、−ＣＨ3 、−Ｃ2 Ｈ5 、−Ｃ3 Ｈ7 等が特に好ましい。
【００５６】
前記一般式（３）で表される有機ケイ素化合物は、例えば、以下の反応式に従って合成することが可能である。
【００５７】
【化１１】
0004733798.tif 000009
【００５８】
具体的には、下記一般式（３Ａ）で表される水素基を有するフッ素化合物を、溶媒中で、触媒及び下記一般式（３Ｂ）で表されるハロゲン系シランカップリング剤と反応させることにより、一般式（３）で表される有機ケイ素化合物が得られる。
【００５９】
【化１２】
0004733798.tif 000010
【００６０】
（但し、Ｒf2は炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基、Ｒ3 は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｘはハロゲン元素、n2は１〜５０の整数、m2は０〜３の整数、l2は０〜３の整数、s2は１〜６の整数、aは０〜３の整数、bは０〜３の整数、cは０または１、dは０または１である。但し、６≧m2＋l2＞０、ａ＋ｂ＝３、ｃ＋ｄ＝１、ｂ＋ｃ≧１である。）
反応は、水酸基を含有するフッ素化合物１ｍｏｌに対し、触媒であるＮａＨを１〜１．１過剰量、ハロゲン系シランカップリング剤を１〜過剰量用い、室温から溶媒が還流する温度で、２〜７２時間反応させることにより有利に進行する。溶媒としては、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサンなどの通常の炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンなどの多フッ素芳香族炭化水素、多フッ素脂肪族炭化水素などを用いることができる。
【００６１】
前記一般式（３）で表される有機ケイ素化合物は、単独でまたは２種以上を組み合わせて配合して、本発明の防汚剤を構成することができる。複数の化合物を混合する場合には、一般式（３）におけるａ，ｂ，ｃ，ｄが異なるものを用いる。
【００６２】
本発明の防汚剤は、前記一般式（３）で表される有機金属化合物の他、必要に応じて種々の添加剤を含有することができる。例えば、一般式（３）で表される有機金属化合物の加水分解、縮重合、エーテル結合の形成を促進させる触媒を含有させることができる。
【００６３】
本発明の防汚剤において用い得る触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、シュウ酸、アンモニア、アルミニウムアセチルアセトナート、ジブチルスズジラウレート、オクチル酸スズ化合物、ナトリウム、水素化ナトリウム、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が例示できる。これらは、単独であるいは２種以上併せて用いてもよい。
【００６４】
本発明の防汚剤を用いて防汚層を形成する対象となる被処理基材は、特に制限されず、通常の光学部材を用いることができる。例えば、ガラス板、または無機化合物層を含有したガラス板等の無機基材や、透明プラスチック基材、または無機化合物層を含有した透明プラスチック基材等の有機基材からなる光学部材が挙げられる。
【００６５】
このうち、無機基材としては、主にガラス板を挙げることができる。無機化合物層を含有したガラス板を形成する無機化合物としては、金属酸化物（酸化ケイ素（二酸化ケイ素、一酸化ケイ素等）、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等、及び金属ハロゲン化物（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化ランタン、フッ化セリウム、フッ化リチウム、フッ化トリウム等）を挙げることができる。
【００６６】
こうした無機化合物からなる無機基材あるいは無機化合物層は、単層あるいは多層構成とすることができる。無機化合物層は反射防止層として作用し、ウェットコーティング法、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、及びＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等の公知の方法により形成することができる。ウェットコーティング法としては、例えば、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法等が挙げられ、ＰＶＤ法としては、例えば、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
【００６７】
また、被処理基材となる有機基材のうち、透明プラスチック基材としては、種々の有機高分子からなる基材を挙げることができる。通常、光学部材として使用される基材は、透明性、屈折率、分散性などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点から、ポリオレフィン系（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル系（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリアミド系（ナイロン−６、ナイロン−６６等）、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロース系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等）、あるいはこれらの有機高分子の共重合体などにより構成される。本発明において被処理基材とする透明プラスチック基材としても、これらの基材を挙げることができる。
【００６８】
これらの有機基材を構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができる。
【００６９】
有機基材上に無機化合物層を形成して、本発明における被処理基材として用いることもできる。この場合、無機化合物層は反射防止層として作用し、上述したような手法で有機基材上に形成することができる。
【００７０】
また、被処理基材とする無機基材あるいは有機基材の形状は、特に限定されるものではない。通常、光学部材として使用される透明プラスチック基材はフィルム状またはシート状をなしており、本発明においても、これらフィルム状又はシート状のものを被処理基材とすることができる。フィルム状またはシート状の基材としては、単層あるいは複数の有機高分子を積層したものでもよい。また、その厚みは、特に限定されるものではないが、０．０１〜５ｍｍが好ましい。
【００７１】
透明プラスチック基材と無機化合物層との間には、ハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、基材表面の硬度が向上すると共に、基材表面が平滑になるので、透明プラスチック基材と無機化合物層との密着が向上する。従って、鉛筆等の加重のかかる引っ掻きによる傷を防止できる。また、透明プラスチック基材の屈曲に起因した無機化合物層へのクラックの発生を抑制でき、光学部材の機械的強度を改善できる。
【００７２】
ハードコート層の材質は、透明性、適度な硬度、及び機械的強度を有するものであれば、特に限定されない。例えば、電離放射線や紫外線の照射による硬化樹脂や熱硬化性の樹脂が使用でき、特に紫外線照射硬化型アクリル系樹脂、有機ケイ素系樹脂、熱硬化型ポリシロキサン樹脂が好ましい。これらの樹脂の屈折率は、透明プラスチック基材の屈折率と同等、もしくはこれに近似していることがより好ましい。
【００７３】
このようなハードコート層の塗布方法は特に限定されず、均一に塗布されるのであれば任意の方法を採用することができる。また、ハードコート層の膜厚は３μｍ以上あれば充分な強度となるが、透明性、塗工精度、取り扱い性の点から５〜７μｍの範囲が好ましい。
【００７４】
さらに、ハードコート層に平均粒子径０．０１〜３μｍの無機あるいは有機物粒子を混合分散させることによって、一般的にアンチグレアと呼ばれる光拡散性処理を施すことができる。これらの微粒子は透明であれば特に限定されないが、低屈折率材料が好ましく、酸化ケイ素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等の点で特に好ましい。光拡散性処理は、ハードコート層の表面に凹凸を設けることによっても達成できる。
【００７５】
上述したような被処理基材は、本発明の反射防止光学部材における透明基材として用いることができる。特に、表面に反射防止膜が形成された被処理基材は、反射防止膜が形成された透明基材ということができる。こうした基材の表面に防汚層を形成することによって、本発明の反射防止光学部材が得られる。
【００７６】
防汚層を形成する方法には特に制限はなく、例えば、ウェットコーティング法、ドライコーティング法を採用することができる。
【００７７】
ウェットコーティング法としては、例えばディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、及びグラビアコーティング法等が挙げられる。
【００７８】
また、ドライコーティング法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、及びＣＶＤ法等が挙げられる。より具体的には、真空蒸着法としては、抵抗加熱法、電子線ビーム法、高周波加熱法、イオンビーム法等を用いることができ、ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、及び熱ＣＶＤ法等を用いることができる。
【００７９】
ウェットコーティング法による場合、希釈溶媒としては、特に限定されないが、組成物の安定性、揮発性などを考慮すると、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン等の炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等の多フッ素化芳香族炭化水素、多フッ素化脂肪炭化水素等が挙げられる。また、溶媒は単独でまたは２種類以上の混合物として用いることができる。
【００８０】
このウェットコーティング法は、複雑な形状の被処理基材や、面積の広い被処理基材への成膜に使用することが好ましい。
【００８１】
一方、防汚層形成時の作業環境や、防汚層の膜厚の制御の点からは、希釈溶媒を必要としないドライコーティング法によることが好ましく、特に、真空蒸着法によることが好ましい。ドライコーティング法によると、従来困難であった防汚層の膜厚をオングストロームオーダーで正確に制御することができ、所望の防汚層を有する光学部材を提供できる。さらに、反射防止膜を有する光学部材については、色設定が難しい反射防止膜の干渉色を変化させることなく、容易に防汚性を付与することが可能である。
【００８２】
なお、防汚層をドライコーティング法により形成する場合、その膜厚は防汚剤の蒸発量に依存して変化する。したがって、防汚層の膜厚を正確に制御するためには、防汚剤の蒸発量を正確に制御することが好ましい。
【００８３】
ドライコーティング法により、あるいはウェットコーティング法により被処理基材上に防汚層を成膜した後には、必要に応じて、加熱、加湿、光照射、電子線照射等を行ってもよい。
【００８４】
特に、以下に説明するような多孔性成型物を用いて真空蒸着法により防汚層を形成することが好ましい。
【００８５】
即ち、本発明の防汚剤を多孔性成型物中に含浸させる工程と、前記防汚剤が含浸された多孔性成型物を真空中で加熱し、防汚剤を蒸発させて反射防止膜が形成された透明基材上に防汚層を成膜する工程とを具備する方法である。
【００８６】
かかる方法において用いられ得る多孔性成型物の成分としては、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＭｇＯ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＣａＳＯ4 、Ｃｕ、Ｆｅ、Ａｌ、ステンレス、カーボンなど、又はその混合物などを挙げることができる。これらの材料は、例えば、通常は５〜２０μｍまでの範囲の粒径を有する細かく分割された形状を有している。こうした形状の材料をペレット化し、次にこれらのペレットを各材料の通常行われる方法で焼結することにより、本発明で用いられる多孔性成型物を製造することができる。
【００８７】
ペレットの焼結工程は、一般的には１〜１０時間にわたり、７００〜１４００℃の温度で行われる。一次粒子の粒径、濃厚化、及び焼結条件によって、得られる多孔性成型物は３０〜６０％の空孔率を有する。
【００８８】
本発明の防汚剤は、パーフルオロヘキサン等の溶剤で希釈して溶液とし、この中に多孔性成型物（ペレット）を浸して、完全に飽和状態となるように防汚剤を多孔性成型物中に含浸させる。次いで、溶剤を蒸発させて、本発明の防汚剤が含浸した多孔性成型物を得る。
【００８９】
防汚剤を含浸させた多孔性成型物を用いて、真空蒸着法により被処理基材上に防汚層を成膜する。ここで、多孔性成型物を加熱して防汚剤を蒸発させるための加熱方法としては、抵抗加熱法、電子線加熱法、イオンビーム加熱法、高周波加熱法、光加熱法が有効である。
【００９０】
防汚層を成膜した後には、必要に応じて加熱、加湿、光照射、又は電子線照射を行ってもよい。
【００９１】
上述したように、防汚層をドライコーティング法により形成する場合には防汚層の膜厚を制御するために、防汚剤の蒸発量を正確に制御することが望まれる。多孔性成型物を用いる場合には、防汚剤の蒸発量は、多孔性成型物中における防汚剤含浸量と成膜時の加熱条件とによって決定することができるので、膜厚の制御の点で有利である。さらに、多孔性成型物を用いて真空蒸着法により防汚層を形成すると、加熱により防汚剤が漏出して装置内を汚染することを防止し、また、防汚剤のスプラッシュ現象を低減するという利点も得られる。
【００９２】
本発明の防汚剤を用いて作製した防汚層の膜厚は、特に限定されるものではないが、防汚性、耐擦傷性、及び、光学部材の光学性能の点から、１０〜５００オングストロームが好ましい。
【００９３】
ここで、図１に本発明の反射防止光学部材の一例を表す断面図を示す。
【００９４】
図１に示されるように、透明基材１の一方の面には反射防止膜２が形成されており、さらにこの反射防止膜２の上には、本発明の方法により形成された防汚層３が設けられている。
【００９５】
本発明の反射防止光学部材と偏光板などの機能性光学部材などを、ラミネートに代表される貼り合わせ技術で貼り合わせることにより、反射防止機能を有する本発明の光学機能性部材が得られる。
【００９６】
図２には、本発明の光学機能性部材の一例を表す断面図を示す。
【００９７】
図２に示されるように、透明基材１の一方の面には反射防止膜２が形成されており、さらにこの反射防止膜２の上には、本発明の方法により形成された防汚層３が設けられている。また、透明基材１の他方の面には、機能性光学部材としての偏光板４が設けられている。
【００９８】
これらの反射防止光学部材や反射防止光学部材を貼り合わせた光学機能性部材を、粘着剤、接着剤などを用いて各種ディスプレイ（液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイなど）の表示装置の前面板のガラス板、プラスチック板、偏光板などと貼り合わせることによって、本発明の表示装置が得られる。
【００９９】
図３には、本発明の表示装置の一例の構成を表す概略図を示す。図３（ａ）に示す液晶ディスプレイにおいては、一方の表面に配向膜１１ａが形成されたＴＦＴ基板１０ａと、一方の表面に配向膜１１ｂが形成されたガラス基板１０ｂとがスペーサー１３を介して離間対向して配置され、これらの間に液晶層１２が挟持されている。ＴＦＴ基板１０ａには表示電極１４が設けられており、ガラス基板１０ｂにはカラーフィルター１５及び対向電極１６が設けられている。また、ＴＦＴ基板１０ａ及びガラス基板１０ｂの他方の表面には、偏光板１７がそれぞれ形成されている。
【０１００】
ＴＦＴ基板１０ａ上に形成された偏光板１７の表面には、本発明の防汚剤により構成された防汚層を有する光学機能性部材１８が設けられている。
【０１０１】
また、図３（ｂ）には、ＣＲＴディスプレイの一部の概略を示す。図示するように、パネル２１の表面に、本発明の防汚剤により構成された防汚層を有する光学機能性部材２２が設けられている。
【０１０２】
光学機能性部材の表面には、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止する防汚層が形成されている。この防汚層は、高い耐久性を有し、汚れが付着した際にも容易に汚れを拭き取ることができる。従って、画像認識の高い表示装置が得られる。
【０１０３】
【実施例】
以下、本発明の実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例の記載に限定されるものではない。
【０１０４】
まず、以下のようにして反射防止膜付きＴＡＣフィルムを作製した。
【０１０５】
ＴＡＣフィルム（厚さ：８０μｍ）上に、単官能性アクリル樹脂をマイクログラビア法を用いて塗布し、１２０Ｗのメタハライドランプを２０ｃｍの距離から１０ｓｅｃ．照射することにより、ハードコート層を形成した。その後、ハードコート層の上にプラズマアシスト蒸着法により、第１のＴｉＯ2 膜、第１のＳｉＯ2 膜、第２のＴｉＯ2 膜、及び第２のＳｉＯ2 膜の順序に成膜して反射防止層を作製した。各層の屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、及び光学膜厚ｎｄは、ＴＡＣフィルム（ｎ＝１．４９）、ハードコート層（ｎ＝１．５１，ｄ＝約５μｍ)、第１のＴｉＯ2 膜（ｎ＝２．３０，ｎｄ＝６０ｎｍ）、第１のＳｉＯ2 膜（ｎ＝１．４６，ｎｄ＝４０ｎｍ）、第２のＴｉＯ2 膜（２．３０，ｎｄ＝１１０ｎｍ）、第２のＳｉＯ2 膜（ｎ＝１．４６，ｎｄ＝１４０ｎｍ）とした。光学膜厚は、光学式膜厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜を止め所定の光学膜厚を得た。
【０１０６】
以下の各実施例及び比較例においては、こうして得られた反射防止膜付きＴＡＣフィルムを被処理基材、あるいは透明基材として用いて防汚層を形成する。
実施例１
まず、下記化学式（４）で表される水酸基を有するフッ素系樹脂１．７０ｇを、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン７．１３ｇに溶解して溶液を調製した。得られた溶液を、撹拌装置、滴下ロート、還流冷却管、及び温度計を装備した１００ｍｌの四つ口フラスコ中に収容した。
【０１０７】
【化１３】
0004733798.tif 000011
【０１０８】
次いで、触媒としてのジブチルスズジラウレート（０．００１８ｇ）をフラスコ内に添加し、十分に撹拌を続けながら１００℃に保った。その後、滴下ロートより下記化学式（５）で表されるイソシアネートプロピルトリエトキシシラン（０．１３ｇ）を滴下した。
【０１０９】
【化１４】
0004733798.tif 000012
【０１１０】
滴下終了後、加熱還流下１０時間反応させて有機ケイ素化合物を得た。
【０１１１】
この有機ケイ素化合物をＦＴ−ＩＲ分析にかけた。ＦＴ−ＩＲチャートを図４に示す。これにより得られた化合物は、下記化学式で表される有機ケイ素化合物であることが確認される。
【０１１２】
【化１５】
0004733798.tif 000013
【０１１３】
得られた有機ケイ素化合物を、パーフルオロヘキサンで０．１ｗｔ％に希釈して、本実施例の防汚剤を得た。
【０１１４】
前述のようにして製造した反射防止膜付きＴＡＣフィルムを被処理基板として用いて、本実施例の防汚剤をディップコーティング法により塗布した。塗布後、６０℃で１分間加熱乾燥して防汚層を形成して、本実施例の反射防止光学部材を得た。
【０１１５】
得られた反射防止光学部材の断面図を図５に示す。図示するように、本実施例の反射防止光学部材においては、透明基材１上にハードコート層５が設けられ、このハードコート層５の上には、第１のＴｉＯ2 膜２ａ、第１のＳｉＯ2 膜２ｂ、第２のＴｉＯ2 膜２ｃ、第２のＳｉＯ2 膜２ｄの積層構造からなる反射防止膜２が形成されている。最表面には、本発明の防汚剤により形成された防汚層３が設けられている。
【０１１６】
比較例１
ＣＦ3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 Ｓｉ（ＮＨ）3/2 （ＫＰ８０１Ｍ：信越化学工業社製）をパーフルオロヘキサンで０．１ｗｔ％に希釈して、防汚剤を調製した。この防汚剤を用いて、実施例１と同様にして被処理基材上に防汚層を形成した。
【０１１７】
実施例２
実施例１で得られた式（６）で表される有機ケイ素化合物をパーフルオロヘキサンで２０ｗｔ％に希釈して、本実施例の防汚剤を得た。
【０１１８】
前述のようにして製造した反射防止膜付きＴＡＣフィルムを被処理基板として用い、この被処理基材の表面に、本実施例の防汚剤を真空蒸着法（抵抗加熱法）により成膜して防汚層を形成した。
【０１１９】
真空蒸着法を行うに際しては、固形量５ｍｇの防汚剤をボート内に収容し、５×１０-5ｔｏｒｒ以下に真空排気した。その後、ボートを４００℃に加熱して、防汚剤を蒸発させた。
【０１２０】
比較例２
ＣＦ3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 Ｓｉ（ＮＨ）3/2 （ＫＰ８０１Ｍ：信越化学工業社製）を防汚剤として用いた以外は、実施例２と同様にして、被処理基材上に防汚層を形成した。
【０１２１】
実施例３
（１）多孔性成型物の作製
粒径１〜１０μｍのＡｌ2 Ｏ3 を原料として用いて、水圧プレスを使って直径６ｍｍ高さ４ｍｍのペレットを作製した。次にこのペレットを、１２００℃で１４時間焼結した。焼結され、成形された物品（ペレット）は約４０％の空孔率を有していた。
（２）防汚剤の合成
滴下ロート、還流冷却管を装備した１００ｍｌの二口ナス型フラスコ中に、水素化ナトリウム・オイルサスペンションを収容し、窒素置換した。置換後、ｎ−ヘキサンにより窒素下で洗浄する操作を４回繰り返し、ｎ−ヘキサンを減圧留去して水素化ナトリウム０．０１１ｍｏｌを得た。
【０１２２】
下記式（４）で示される水酸基を含有するフッ素化合物０．０１ｍｏｌをビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５０ｇに溶解して溶液を得、氷冷下でこの溶液を１滴／秒の割合で穏やかに滴下した。滴下終了後、水浴から室温に換え、約１０時間撹拌した。ナトリウムアルコキシドに、下記式（７）で示されるクロロメチルトリメトキシシラン（０．１ｍｏｌ）を加えて室温で２時間撹拌し、その後加熱温度が９０℃を保つように制御して７２時間加熱還流を行った。還流終了後、未反応の水素化ナトリウム及び塩化ナトリウムを減圧濾過した。さらに、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、過剰のクロロメチルトリメトキシシランを減圧留去して、下記式（８）で示される有機ケイ素化合物を得た。
【０１２３】
【化１６】
0004733798.tif 000014
【０１２４】
前記式（８）で表される有機ケイ素化合物５ｇをパーフルオロヘキサンで１０ｗｔ％に希釈し、防汚剤を作製した。これに上記多孔性成型物（ペレット）を浸し、完全に飽和状態になるよう含浸させた。この溶液から取り出し、溶剤を蒸発させた後、各ペレットは約２ｗｔ％の防汚剤を含有していた。
（３）防汚層の作製
前記ペレットをモリブデンボートに載せ、真空蒸着法（抵抗加熱法）により、前述の反射防止膜付きＴＡＣフィルム上に成膜し、防汚層を作製した。真空蒸着機内を５×１０-5ｔｏｒｒ以下に真空排気した後、ボートを４００℃に加熱し、防汚剤を蒸発させた。
【０１２５】
比較例３
ＣＦ3 （ＣＦ2 ）7 （ＣＨ2 ）2 Ｓｉ（ＮＨ）3/2 （ＫＰ８０１Ｍ：信越化学工業（株）製）を用いた以外は、実施例３と同様にして、防汚層を形成した反射防止膜付きＴＡＣフィルム上に防汚層を作製した。
【０１２６】
参考例４
（１）多孔性成型物の作製前述の実施例３と同様の手法により、約４０％の空孔率を有するペレットを作製した。
（２）防汚剤の合成滴下ロート、還流冷却管を装備した１００ｍｌの二口ナス型フラスコ中に、水素化ナトリウム・オイルサスペンションを収容し、窒素置換した。置換後、ｎ−ヘキサンにより窒素下で洗浄する操作を４回繰り返し、ｎ−ヘキサンを減圧留去して水素化ナトリウム０．０１１ｍｏｌを得た。
【０１２７】
下記式（４）で示される水酸基を含有するフッ素化合物０．０１ｍｏｌをビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５０ｇに溶解して溶液を得、氷冷下でこの溶液を１滴／秒の割合で穏やかに滴下した。滴下終了後、水浴から室温に換え、約１０時間撹拌した。ナトリウムアルコキシドに、下記式（７）で示されるクロロメチルトリメトキシシラン（０．０３ｍｏｌ）を加えて室温で２時間撹拌し、その後加熱温度が１００℃を保つように制御して４８時間加熱還流を行った。還流終了後、未反応の水素化ナトリウム及び塩化ナトリウムを減圧濾過した。さらに、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、過剰のクロロメチルトリメトキシシランを減圧留去して、下記式（９）で示される有機ケイ素化合物を得た。
【０１２８】
【化１７】
0004733798.tif 000015
【０１２９】
前記式（９）で表される有機ケイ素化合物５ｇをパーフルオロヘキサンで１０ｗｔ％に希釈し、防汚剤を作製した。これに上記多孔性成型物（ペレット）を浸し、完全に飽和状態になるよう含浸させた。この溶液から取り出し、溶剤を蒸発させた後、各ペレットは約２ｗｔ％の防汚剤を含有していた。
（３）防汚層の作製
前記実施例３と同様の手法により、反射防止膜付きＴＡＣフィルム上に防汚層を形成した。
【０１３０】
前述の各実施例及び比較例で得られた防汚層を試料として、次のような各諸物性を評価した。得られた結果を下記表１にまとめる。
【０１３１】
（ａ）接触角測定：接触角計（ＣＡ−Ｘ型：協和界面科学（株）製）を用いて、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で直径１．８ｍｍの液滴を針先に作り、これを試料（固体）の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義した。液体としては、蒸留水及びｎ−ヘキサデカンをそれぞれ使用した。
【０１３２】
（ｂ）転落角測定：転落角計（ＣＡ−Ｘ型：協和界面科学（株）製）を用いて、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で直径３．０ｍｍの液滴を針先に作り、これを水平な試料（固体）の表面上に接触させて液滴を作った。この固体試料を徐々に傾けていくと液滴は徐々に変形し、傾斜角度がある角度に達したとき、液滴は下方へ滑り出す。このときの傾斜角度を転落角とした。液体としては、蒸留水及びｎ−ヘキサデカンをそれぞれ使用した。
【０１３３】
（ｃ）油性ペンの付着性：油性ペン（マジックインキ：細書き用Ｎｏ．５００）を用いて、試料表面に長さ１ｃｍの直線を書き、その付き易さあるいは目立ち易さの目視判定を行った。判定基準は次の通りとした。
【０１３４】
○：油性ペンによる筆跡が球状にはじけている
×：油性ペンによる筆跡がはじかれずに、直線が描けている
（ｄ）油性ペンの拭き取り性：試料表面に付着した油性ペンをセルロース製不織布（ペンコットＭ−３：旭化成（株）製）で拭き取り、そのとれ易さの目視判定を行った。判定基準は次の通りとした。
【０１３５】
○：油性ペンを完全に拭き取ることができる
△：油性ペンの拭き取り後が残る
×：油性ペンを拭き取ることができない
（ｅ）指紋の付着性：試料表面に指を数秒押しつけて、指紋を付着させ、その付き易さあるいは目立ち易さの目視判定を行った。判定基準は次の通りとした。
【０１３６】
○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない
×：指紋の付着が確認できる
（ｆ）指紋の拭き取り性：試料面に付着した指紋をセルロース製不織布（ペンコットＭ−３：旭化成（株）製）で拭き取り、その取れ易さを目視判定を行った。判定基準は次の通りとした。
【０１３７】
○：指紋を完全に拭き取ることができる
△：指紋の拭き取り跡が残る
×：指紋を拭き取ることができない
（ｇ）耐摩耗性：試料表面をセルロース製不織布（ペンコットＭ−３：旭化成（株）製）で荷重５００ｇｆで１００回擦った後に、前記各諸物性評価（ａ）〜（ｆ）を行った。
【０１３８】
【表１】
0004733798.tif 000016
【０１３９】
表１中、括弧内の数値は、耐摩耗性試験後の値を表す。
【０１４０】
表１から実施例の防汚層は、比較例１〜比較例３の防汚層に比して、蒸留水やｎ−ヘキサデカンに濡れにくく、指紋や油性汚れが付着しにくい。しかも、付着した汚れが落ちやすくなり、優れた防汚性を有していることがわかる。また、表１に示されるように、実施例の防汚性は耐摩耗性試験後も維持されていることから、この優れた防汚性は耐久性を有していることがわかる。
【０１４１】
【発明の効果】
本発明の防汚剤を用いて光学部材の表面に形成した防汚層は、従来の防汚剤を用いて形成した防汚層に比して、光学部材の光学性能を損なわせることがなく、指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れを付着しにくくし、また、付着しても拭き取りやすくし、かつこのような防汚効果の耐久性に優れている。
【０１４２】
さらに、本発明の防汚剤を用いてウェットコーティング法により防汚層を形成すると、従来のドライコーティング法と比較して、複雑な形状の被処理基材や、面積の広い被処理基材への成膜が可能となる。また、本発明の防汚剤を用いてドライコーティング法により防汚層を形成すると、従来のウェットコーティング法と比較して、防汚層形成のための希釈溶媒が不要となり、また防汚層の膜厚の正確な制御も可能となる。特に、多孔性成型物を用いて真空蒸着法により防汚層を形成した場合には、膜厚の制御が容易となり極めて有利である。
【０１４３】
また、本発明の光学部材や反射防止光学部材と偏光板などの機能性光学部材と貼り合わせることにより得られた本発明の光学機能性部材は、上述したような優れた防汚性と高い耐久性とを有する防汚層が表面に形成されているので、この光学機能性部材を各種ディスプレイ（液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイなど）の表示画面の前面板などに貼り合わせることにより、画像認識の高い本発明の表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止光学部材の一例の構成を表す断面図。
【図２】本発明の光学機能性部材の一例の構成を表す断面図。
【図３】本発明の表示装置の一例の構成を表す概略図。
【図４】本発明の防汚剤を構成する有機ケイ素化合物のＦＴ−ＩＲチャート。
【図５】本発明の反射防止光学部材の一例の構成を表す断面図。
【符号の説明】
１…透明基材
２…反射防止膜
３…防汚層
４…偏光板
１０ａ…ＴＦＴ基板
１０ｂ…ガラス基板
１１ａ，１１ｂ…配向膜
１２…液晶層
１３…スペーサー
１４…表示電極
１５…カラーフィルター
１６…対向電極
１７…偏光板
１８…光学機能性部材
２１…パネル
２２…光学機能性部材
【図１】
0004733798.tif 000018
【図２】
0004733798.tif 000019
【図３】
0004733798.tif 000020
【図４】
0004733798.tif 000021
【図５】
0004733798.tif 000022