(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定数の電極を群として、複数の電極群が形成されると共に、これら各電極群に接続した配線パターンを設けた基板に、前記配線パターンの前記各電極群への接続部にレーザビームを照射して、前記配線パターンと電極との間を部分的に切断する方法であって、
前記基板を走行テーブル上に載置して、この走行テーブルを一定の速度で直進方向に連続走行させるようになし、
前記走行テーブル上に載置された基板の基準位置を検出し、
前記電極群の形成間隔にはレーザビームを照射し、相隣接する電極群間間隔ではレーザビームを照射しないようにするために、前記基準位置から、前記走行テーブルの走行中にレーザビームの照射位置と非照射位置との座標を設定し、この座標位置信号により各電極群形成間隔の配線パターンに間欠的にレーザビームを照射する
ことを特徴とする基板の配線パターン切断方法。
【請求項２】
前記レーザビームの照射位置と非照射位置の各座標上の位置は、前記基準位置からの距離と、前記基板の移動距離とに基づいて設定される始点座標位置と、終点座標位置とであることを特徴とする請求項１記載の基板の配線パターン切断方法。
【請求項３】
所定数の電極を群として、複数の電極群が形成されると共に、これら各電極群に接続した配線パターンを設けた基板に、前記配線パターンの前記各電極群への接続部にレーザビームを照射して、前記配線パターンを部分的に切断する装置であって、
基板が載置されて、一定の速度で直進方向に連続走行する走行テーブルと、
前記走行テーブル上に載置された基板の基準位置を検出する基準位置検出手段と、
前記走行テーブルの走行距離を計測する走行距離計測手段と、
前記基板の前記配線パターンに対してレーザビームを照射するためのレーザビーム照射手段と、
前記基準位置からの前記電極群の位置の座標を設定する座標設定手段と、
前記電極群の形成間隔に対してレーザビームを照射し、相隣接する電極群間隔ではレーザビームを照射しないように、前記レーザビーム照射手段を間欠照射するように制御する制御手段とを備え、
この制御手段では、前記基準位置検出手段からの検出信号と、前記走行距離測定手段からレーザビームの照射位置までの走行テーブルの走行距離から、前記電極群の始点部の座標位置で前記レーザビーム照射手段によるレーザビームの照射を開始し、電極群の終点部の座標位置でレーザビームの照射を停止するように制御する
構成としたことを特徴とする基板の配線パターン切断装置。
【請求項４】
前記座標設定手段は、前記基準位置検出手段により検出される基準位置と、前記走行距離計測手段により計測される前記走行テーブルの走行距離とに基づいて、前記電極群の始点位置と前記電極群の終点位置とを検出するものであることを特徴とする請求項３記載の基板の配線パターン切断装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶基板等の基板に形成した不要な配線パターンをレーザビームを照射することにより切断する、基板の配線パターン切断方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、ＴＦＴ駆動方式の液晶パネルは、上下２枚の透明な基板の間に液晶を封入したものから構成され、一方の基板はＴＦＴ基板、他方の基板はカラーフィルタ基板である。ＴＦＴ基板の４辺のうちの少なくとも２辺にはドライバ回路が接続される。ドライバ回路は、ＬＳＩ（集積回路素子）を含むものであり、ドライバ回路の実装方式としては、ＴＡＢ（Tape Automated Bonding）方式、ＣＯＧ（Chip on Glass ）方式等が広く用いられている。ＴＡＢ実装方式では、ＬＳＩはテープ状のフィルムキャリアに搭載されてＴＣＰ（Tape Carrier Package）を構成し、このＴＣＰが基板に実装される。また、ＣＯＧ方式では、ドライバ回路を構成するＬＳＩが基板上に直接実装されることになる。
【０００３】
ＴＦＴ基板には多数のトランジスタがマトリックス状に配列されると共に、これら各トランジスタに接続するように配線パターンが形成される。このように、基板における配線パターンの形成部の一部がそれに重ね合わせられる基板から張り出しており、この張り出し部に多数の電極が形成され、これら各電極は各々トランジスタと電気的に接続されている。ドライバ回路は各電極に接続されるように実装される。例えば、ＴＡＢ実装方式ではＴＣＰが用いられる。ＴＣＰはＬＳＩをフィルムキャリアに搭載したものからなり、このフィルムキャリアには所定数のリードが延在されており、これら各リードが電極と接続される。
【０００４】
ＴＡＢ実装方式であれ、またＣＯＧ等他の実装方式であれ、ドライバ回路が実装される前の段階では、液晶パネルを構成する基板に設けた電極は外部に露出している。このために、静電気からの回路保護等の観点から、基板に形成されている全ての電極を短絡させるようにしている。この電極の短絡部の構成としては、基板の表面に短絡用配線のパターンを形成し、これら短絡用配線を各電極に接続するようにしている。従って、基板にドライバ回路を実装する前の段階で、この短絡用配線と各電極との間を電気的に遮断しなければならない。
【０００５】
このために、レーザビーム照射手段を設けて、レーザビームを基板の短絡配線に照射して、この短絡配線の一部を基板表面から剥離するようにして短絡配線の切断を行うのが一般的である。従って、基板における配線切断ラインと対向させてレーザビーム照射手段が設けられるが、このレーザビーム照射手段から基板に対してレーザビームを走査させなければならない。このレーザビームを走査させるには、液晶パネルまたはレーザビーム照射手段のいずれか一方を動かすようにする。レーザビーム照射手段は、重量物であり、かつサイズも大きいので、このレーザビーム照射手段側を駆動するのは好ましくはない。なお、レーザビームのスキャンニング方式として、所謂ガルバノ方式があり、このガルバノ方式ではミラーのみを動かせば良いことから、駆動機構は比較的簡単なものとなる。しかしながら、ガルバノ方式は温度の影響によりレーザビームの走査位置が変化する等の不都合がある。
【０００６】
以上のことから、レーザビーム照射手段を固定的に配置すると共に、液晶パネルを走行手段上に設置して、液晶パネルにおけるレーザビームの照射位置をレーザビーム照射手段からのレーザビームの照射光路と一致させた状態で、走行手段を作動させることにより液晶パネルを直進させ、この間にレーザビーム照射手段からレーザビームを照射するように構成するのが一般的である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前述したように、液晶パネルの基板に形成した多数の電極は、ドライバ回路に接続される関係から、全て同じピッチ間隔で形成されるのではなく、ドライバ回路の接続部毎に電極群が形成され、相隣接する電極群間は、所定の間隔にわたって電極が形成されていない空白部となっている。そして、この空白部には他の配線パターン等が形成される等、他の目的に利用されるようになっており、このために電極群間の空白部にはレーザビームを照射しないように制御する必要がある。このように、レーザビームを基板上に走査させるに当っては、レーザビームの照射は間欠的なものとなる。従って、基板を走行させるに当って、間欠照射のタイミングをどのように設定するかによっては、基板の走行速度に対する大きな制約となり、高精度な加工を行おうとすると処理・加工速度が低下する等の問題点がある。
【０００８】
本発明は以上の点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、基板を高速で走行させる間に、この基板の表面に形成されている配線パターンを正確に切断できるようにすることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、所定数の電極を群として、複数の電極群が形成されると共に、これら各電極群に接続した配線パターンを設けた基板に、前記配線パターンの前記各電極群への接続部にレーザビームを照射して、前記配線パターンを部分的に切断する方法としては、前記基板を走行テーブル上に載置して、この走行テーブルを一定の速度で直進方向に連続走行させるようになし、前記走行テーブル上に載置された基板の基準位置を検出し、前記電極群の形成間隔にはレーザビームを照射し、相隣接する電極群間間隔ではレーザビームを照射しないようにするために、前記基準位置から、前記走行テーブルの走行中にレーザビームの照射位置と非照射位置との座標を設定し、この座標位置信号により各電極群形成間隔の配線パターンに間欠的にレーザビームを照射するようにしたことを特徴とするものである。
【００１０】
また、所定数の電極を群として、複数の電極群が形成されると共に、これら各電極群に接続した配線パターンを設けた基板に、前記配線パターンの前記各電極群への接続部にレーザビームを照射して、前記配線パターンを部分的に切断する装置の構成としては、基板が載置されて、一定の速度で直進方向に連続走行する走行テーブルと、前記走行テーブル上に載置された基板の基準位置を検出する基準位置検出手段と、前記走行テーブルの走行距離を計測する走行距離計測手段と、前記基板の前記配線パターンに対してレーザビームを照射するためのレーザビーム照射手段と、前記基準位置からの前記電極群の位置の座標を設定する座標設定手段と、前記電極群の形成間隔に対してレーザビームを照射し、相隣接する電極群間隔ではレーザビームを照射しないように、前記レーザビーム照射手段を間欠照射するよに制御する制御手段とを備え、この制御手段では、前記基準位置検出手段からの検出信号と、前記走行距離測定手段からレーザビームの照射位置までの走行テーブルの走行距離から、前記電極群の始端部の座標位置で前記レーザビーム照射手段によるレーザビームの照射を開始し、電極群の終端部の座標位置でレーザビームの照射を停止するように制御する構成としたことをその特徴とするものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の一形態について説明する。以下に説明する実施の形態においては、液晶パネルの基板の表面に形成した配線パターン群の一部をレーザビームで剥離することによって、アース線との間を切断するようにしたものとして説明するが、本発明の基板の配線パターン切断方法及び装置はこれに限定されるものではない。
【００１２】
まず、図１には、ドライバ回路を実装する前の段階での液晶パネルの構成を示す。図中において、液晶パネル１は、下基板２と上基板３とを備え、これら両基板２，３間には液晶が封入されている。ここで、ＴＦＴ駆動方式の液晶パネルとして構成する場合には、下基板２はＴＦＴ基板であり、また上基板３はカラーフィルタ基板である。下基板２のサイズは上基板３より大きくなっており、従って下基板２は少なくとも２辺（図示したものにあっては３辺）が上基板３から所定の長さ分だけ張り出している。
【００１３】
下基板２の張り出し部はドライバ回路接続部２ａであり、各ドライバ回路接続部２ａには所定の配線パターンが形成されている。下基板２と上基板３とが重なり合った部位には、例えばＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等の素子がマトリックス状に設けられており、これら各素子には配線が接続されている。これら各配線は、下基板２において、各ドライバ回路接続部２ａに形成した多数の電極と接続されている。これらの電極には、ドライバ回路の端子なりリードなりが電気的に接続されるようになっている。
【００１４】
図２に下基板２における１箇所のドライバ回路接続部２ａの拡大図を示す。なお、電極の数や間隔等に違いがあることもあるが、他のドライバ回路接続部もドライバ回路接続部２ａと構成上で実質的な差異はない。而して、図示は省略するが、下基板２と上基板３との重畳部にＴＦＴ等の回路素子がマトリックス状に多数形成されており、これら各素子からの配線４は上基板３の重畳部から張り出している下基板２のドライバ回路接続部２ａに延在されている。また、ドライバ回路接続部２ａには電極５が配列されており、各配線４はこれら各電極５に接続されている。各電極５には、さらに下基板２の端部側において短絡用配線６により短絡させている。これら配線４、電極５及び短絡用配線６は、いずれも下基板２の表面に成膜手段で形成した金属薄膜をエッチングすることにより形成され、また印刷手段によっても形成することができる。
【００１５】
ドライバ回路接続部２ａには、図２に符号１０で示したドライバ回路がＴＡＢ実装されることになる。ドライバ回路１０は、キャリアフィルム１１にＬＳＩ１２を搭載されており、このＬＳＩ１２の端子（図示せず）は、キャリアフィルム１１に設けた所定数のリード１３，１４に接続されている。キャリアフィルム１１の一辺側のリード１３は下基板２のドライバ回路接続部２ａに設けた電極５に接続される。このドライバ回路１０は、下基板２の一辺において、複数接続されるようになっている。このために、電極５は１個分のドライバ回路１０に接続される数毎に電極群部５Ｇを構成しており、従ってドライバ回路接続部２ａには複数の電極群部５Ｇが形成されている。ここで、電極群部５Ｇは所定数の電極５と、これらの電極５に接続されている配線４及び短絡用配線６を含むものである。そして、相隣接する電極群部５Ｇ間には空白部７が形成されており、この空白部７は他の配線乃至回路パターン等が形成される領域となっている。
【００１６】
下基板２に形成され、電極群部５Ｇを構成する短絡用配線６はこの電極群部５Ｇを構成する全電極５間を短絡させるものであり、さらに下基板２のエッジ部分等に全ての短絡用配線６は相互に導通させている。従って、短絡用配線６の導通部のいずれかの部位を接地させるようにすれば、回路全体が接地されることになり、静電気に対するＴＦＴ等の回路素子の保護が図られる。そこで、下基板２にドライバ回路１０を実装する前の段階で、電極５と短絡用配線６との間の接続を遮断する処理が行われる。この処理は、電極群部５Ｇにおいて、短絡用配線６における電極５への接続部の近傍位置にレーザビームを照射して、例えば図２に切断領域８で示したように、金属膜の細い線で形成した短絡用配線６の一部を剥離させることによって、短絡用配線６の電極５への接続を遮断する。
【００１７】
以上の処理を行うために、図３に示した配線パターン切断装置２０が用いられる。まず、液晶パネル１は、直進ガイド２１に沿って図中に矢印方向に往復移動可能な走行テーブル２２上に真空吸着等の手段により固定的に載置されている。この走行テーブル２２によって、液晶パネル１は、位置決めステージＳ１と加工ステージＳ２との間に往復移動されるようになっている。そして、走行テーブル２２はＸ，Ｙ，θ方向への位置微調整機構２３を有するものであり、この位置微調整機構２３により液晶パネル１の位置が調整される。
【００１８】
位置決めステージＳ１にはテレビカメラ２４ａを用いた画像認識手段２４が設置されており、テレビカメラ２４ａにより下基板２のコーナ部に設けたマーク９を検出して、このマーク９の画像認識手段２４に設定された基準位置と比較するようにしている。その結果、走行テーブル２２上に載置されている液晶パネル１の基準となる位置からのずれを検出して、位置微調整機構２３を作動させることによって、走行テーブル２２を適宜Ｘ，Ｙ，θ方向に位置調整を行うことによって、液晶パネル１の下基板２が適正な位置になるように位置調整されるようになっている。即ち、マーク９は、液晶パネル１の位置検出用のマークである。
【００１９】
加工ステージＳ２においては、走行テーブル２２の走行経路の上部位置にレーザビーム照射手段２５が設けられている。このレーザビーム照射手段２５は、レーザ発振器２６と、このレーザ発振器２６からのレーザビームを平行光束化するエキスパンダレンズ２７と、レーザビームの光路を９０°曲げるための反射ミラー２８と、集光レンズ２９とから構成される。従って、レーザビーム照射手段２５から下基板２の表面に対して所定のスポット径となるようにレーザビームが照射され、下基板２に形成されている金属薄膜が剥離して除去されることになる。これによって、短絡用配線６が部分的に切断されて、電極５との導通が遮断されることになる。
【００２０】
レーザビームは、電極５と短絡用配線６との接続部分に照射されるが、空白領域７に対してはレーザビームが照射されないように制御する。つまり、走行テーブル２２により液晶パネル１が走行する間に、レーザビーム照射手段２５から間欠的にレーザビームが照射される。このために、レーザ発振器２６にはスイッチ３０が設けられている。このスイッチ３０は、例えばＱスイッチ等で構成することができ、このスイッチ３０をＯＮ，ＯＦＦ制御することによって、下基板２のうち、電極５と短絡用配線６との接続部分にのみレーザビームを照射させ、空白領域７に対してはレーザビームの照射を停止するように制御される。
【００２１】
レーザ発振器２６の作動制御は座標情報に基づいて行われる。このために、座標設定部３１を有する。座標設定部３１は、図４に示したように、走行テーブル２２の走行方向、例えばＸ軸方向において、液晶パネル１が基準位置に配置されている時に、レーザビーム照射位置Ｓを原点位置として、この原点位置から下基板２における電極群部５Ｇの位置までの距離が座標データとして記録されている。即ち、下基板２のドライバ回路接続部２ａにおいて、各電極群部５Ｇの始点の座標位置情報がＰ１Ｈ，Ｐ２Ｈ，Ｐ３Ｈ，・・・ＰｎＨとして、また終点の座標位置情報がＰ１Ｌ，Ｐ２Ｌ，Ｐ３Ｌ，・・・ＰｎＬとして記録されている。なお、下基板２の各ドライバ回路接続部２ａにおける電極群部５Ｇの間隔は一定であるから、記録される座標位置としては電極群部５Ｇの始点座標位置のみとすることもできる。
【００２２】
下基板２の基準位置は、この下基板２に設けられているマーク９に基づいて設定される。即ち、テレビカメラ２４ａにより下基板２のマーク９を撮影して、画像認識手段２４に取り込まれ、このマーク９が所定の基準位置となるように走行テーブル２２を設けた位置微調整機構２３を作動させて、その位置調整が行われる。このようにして調整された位置が基準位置となる。従って、画像認識手段２４は下基板２の基準位置検出手段としても機能する。
【００２３】
下基板２における各電極群５Ｇが原点位置に移行する毎にレーザ発振器２６からのレーザビームの照射及び照射停止を行うために、下基板２の走行距離を計測する手段が設けられる。この走行距離計測手段は、走行テーブル２２に設けたエンコーダ３２とカウンタ３３とから構成される。エンコーダ３２は、走行テーブル２２が所定距離走行する毎に刻々パルス信号を出力するものであり、このエンコーダ３２からのパルス信号はカウンタ３３により計測される。そして、カウンタ３３は下基板２が基準位置に配置されるとリセットされ、この状態からエンコーダ３２からのパルス信号をカウンタ３３に取り込んで、リセット状態からパルス数を計測することによって、下基板２の移動距離を測定する。
【００２４】
カウンタ３３の計測値、つまり下基板２の移動距離は比較器３４により座標設定部３１に記録されている座標情報と比較される。座標設定部３１には各電極群部５Ｇの始点座標位置Ｐ１Ｈ，Ｐ２Ｈ，Ｐ３Ｈ，・・・ＰｎＨと、終点座標位置Ｐ１Ｌ，Ｐ２Ｌ，Ｐ３Ｌ，・・・ＰｎＬとが設定されている。そして、座標設定部３１における座標情報出力部３１ａから座標位置情報Ｐ１Ｈ，Ｐ１Ｌ，Ｐ２Ｈ，Ｐ２Ｌ，Ｐ３Ｈ，Ｐ３Ｌ，・・・ＰｎＨ，ＰｎＬを順次読み出して、カウンタ３３の計測値と逐次比較して、両者が一致する毎にレーザ発振器２６のスイッチ３０をＯＮ，ＯＦＦさせることによって、レーザビームを下基板２に照射したり、照射を停止するように制御することによって、短絡用配線６の電極群部５Ｇを構成する電極５への接続部分を剥離するようにして切断し、空白部７の位置ではレーザビームの照射を停止する。
【００２５】
ここで、座標設定部３１における各座標位置の設定、カウンタ３３の作動、走行テーブル２２の走行等を含めて、装置全体の作動は制御回路３５からの信号に基づいて行われる。この制御回路３５はＣＰＵ等で構成される。
【００２６】
以上のように構成することによって、走行テーブル２２を直進方向に高速で走行させる間に、液晶パネル１における下基板２の各ドライバ回路接続部２ａに形成されている各電極群部５Ｇにおいて、電極５に接続した短絡用配線６を確実に切断し、しかも電極群部５Ｇ，５Ｇ間の空白部７には何等のダメージを与えないようにすることができる。そこで、以下に、この短絡用配線６を切断する方法を説明する。
【００２７】
まず、座標設定部３１において、各電極群部５Ｇの始点の座標位置情報と終点の座標位置情報を取得する。このために、レーザビームの照射位置の上方、つまり反射ミラー２８の配設位置の上部位置に第２のテレビカメラ３６を設置しておき、この第２のテレビカメラ３６により電極群部５Ｇを撮影できるようにする。そして、反射ミラー２８を光路から外して、レーザビームの照射位置を第２のテレビカメラ３８の視野に入れる状態にする。一方、走行テーブル２２を位置決めステージＳ１に配置して、液晶パネル１をこの走行テーブル２２上に載置し、画像認識手段２４を構成するテレビカメラ２４ａにより下基板２のマーク９を撮影する。そして、画像認識手段２４によりマーク９が基準位置からずれていると、位置微調整機構２３を作動させて位置調整を行う。この位置調整が完了すると、走行テーブル２２により液晶パネル１を走行させ、この走行テーブル２２の走行距離をエンコーダ３２からの信号により計測する。
【００２８】
走行テーブル２２が所定距離だけ走行すると、下基板２における最初の電極群部５Ｇが第２のテレビカメラ３６の視野における所定の位置に入ることになる。そこで、この時までの走行テーブル２２の走行距離をレーザビームの照射位置を原点とするＸ軸上の座標位置Ｐ１Ｈとして座標設定部３１に記録する。また、下基板２の最初の電極群部５Ｇが通過する位置が第２のテレビカメラ３６の視野に入るので、この位置までの距離を座標位置Ｐ１Ｌとして座標設定部３１に記録する。以下、順次電極群部５Ｇの始点及び終点の位置が検出される毎に座標設定部３１に記録する。このようにして各電極群部５Ｇの座標位置を取得するが、これによりテレビカメラ２４ａの位置で下基板２のマーク９が基準となる位置に配置されておれば、下基板２における短絡用配線６の切断位置は必ずレーザビームの照射位置を通ることになる。以上のようにして座標設定部３１に各電極群部５Ｇの座標位置の設定・記録がなされると、反射ミラー２８を正規の位置に戻す。
【００２９】
そこで、走行テーブル２２を位置決めステージＳ１に配置して、この走行テーブル２２に液晶パネル１を載置する。この液晶パネル１の載置は、ロボット等のハンドリング手段により行うことができ、下基板２を走行テーブル２２に当接させるようになし、この走行テーブル２２により下基板２を真空吸着させる等により固定する。
【００３０】
この状態で、テレビカメラ２４ａを備えた画像認識手段２４によって、マーク９に基づいて下基板２の位置を検出し、マーク９が基準位置からずれていると、位置微調整機構２３を作動させて、走行テーブル２２の位置調整を行う。この位置調整が完了すると、走行テーブル２２を位置決めステージＳ１から加工ステージＳ２に向けて移動させる。この移動距離はエンコーダ３２及びカウンタ３３からなる走行距離計測手段により計測される。この時に、座標設定部３１における座標情報出力部３１ａから最初の始点座標位置Ｐ１Ｈが読み出されて、比較器３４において、カウンタ３３による検出信号と比較される。そして、走行テーブル２２が、原点位置からその下基板２の最初の始点座標位置Ｐ１Ｈまでの距離だけ移動すると、スイッチ３０がＯＮの状態になり、レーザ発振器２６からレーザビームの照射を開始する。これによって、電極群部５Ｇにおける短絡用配線６の電極５への接続部がレーザビームのエネルギにより切断される。
【００３１】
比較器３４からスイッチ３０にレーザ発振器２６のレーザビーム照射開始信号が出力されると、座標情報出力部３１ａから次の座標位置情報、つまり最初の終点座標位置Ｐ１Ｌが比較器３４に出力されて、カウンタ３３からの出力と比較される。そして、カウンタ３３による下基板２の移動が座標位置Ｐ１Ｌとなるまでは、つまり電極群部５Ｇがレーザビームの照射位置に配置されている間はレーザ発振器２６からレーザビームの照射が継続する。そして、比較器３４において基板２が終点座標位置Ｐ１Ｌまで進行したことを検出した時には、スイッチ３０に信号が入力されて、スイッチ３０をＯＦＦの状態にする。これによって、当該の電極群部５Ｇにおける全ての電極５が短絡用配線６から切断される。
【００３２】
スイッチ３０のＯＦＦによって、下基板２へのレーザビームの照射が停止されるが、この間は下基板２における空白部７がレーザビーム照射位置を通っているのである。従って、空白部７にはレーザビームが照射されることはない。その結果、空白部７に他のパターン等が設けられている場合に、このパターン等がレーザビームによるダメージを受けることはない。
【００３３】
そして、比較器３４で下基板２が終点座標位置Ｐ１Ｌにまで進行したことが検出され、スイッチ３０がＯＦＦの状態になると、次の座標情報、つまり２番目の始点座標位置Ｐ２Ｈが座標情報出力部３１ａから読み出されて、これがカウンタ３３の出力値と比較される。そして、下基板２の２番目の始点座標位置Ｐ２Ｈがレーザビームの照射位置に到達すると、スイッチ３０が再びＯＮの状態になり、レーザビームの照射が開始される。以下、座標設定部３１に記録されている座標位置情報が座標情報出力部３１ａから読み出されて、比較器３４においてカウンタ３３の出力値と順次比較されて、スイッチ３０のＯＮ，ＯＦＦ制御が行われる。
【００３４】
その結果、下基板２のドライバ回路接続部２ａに設けた全ての電極群部５Ｇにおいて、短絡用配線６の電極５への接続部分が切断されることになり、しかも電極群部５Ｇが形成されていない空白部７ではレーザビームの照射が停止されるように、レーザ発振器２６によるレーザビームの照射が間欠的に行われる。
【００３５】
【発明の効果】
本発明は以上のように構成したので、基板を高速で走行させる間に、この基板の表面に形成されている配線パターンをレーザビームにより正確に切断でき、かつ配線パターンが形成されていない部分には確実にレーザビームが照射されないように制御できる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】処理・加工される基板の一例としての液晶パネルの平面図である。
【図２】液晶パネルに実装されるドライバ回路の一例と共に示す図１の要部拡大図である。
【図３】本発明における実施の一形態を示す基板の配線パターン切断装置の構成説明図である。
【図４】下基板における各電極群部の座標位置についての説明図である。
【符号の説明】
１  液晶パネル      ２  下基板
３  上基板          ５Ｇ  電極群部
５  電極            ６  短絡用配線
７  空白部          ８  切断領域
９  マーク
２０  配線パターン切断装置
２１  直進ガイド    ２２  走行テーブル
２３  位置微調整機構
２４  画像認識手段  ２４ａ  テレビカメラ
２５  レーザビーム照射手段
２６  レーザ発振器
３０  スイッチ      ３１  座標設定部
３１ａ  座標情報出力部
３２  エンコーダ    ３３  カウンタ
３４  比較器        ３５  制御回路
【図１】
0004782957.tif 000002
【図２】
0004782957.tif 000003
【図３】
0004782957.tif 000004
【図４】
0004782957.tif 000005