(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体Ａ上に、少なくとも一層の光学異方性層及び少なくとも一層の透明電極層をこの順に有し、前記光学異方性層と前記透明電極層とを同時に転写し、
前記仮支持体Ａが、セルロースエステル、ポリオレフィン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、又はノルボルネン系ポリマーから構成される転写材料。
【請求項２】
仮支持体Ａ上に、少なくとも一層の光学異方性層及び少なくとも一層の透明電極層をこの順に有し、さらに、前記仮支持体Ａと前記光学異方性層との間に熱可塑性樹脂層を有し、
前記光学異方性層と前記透明電極層とを同時に転写する転写材料。
【請求項３】
前記光学異方性層が、少なくとも一つの反応性基を有する液晶性化合物を含有する液晶層に、熱または電離放射線を照射して形成された層である請求項１又は２に記載の転写材料。
【請求項４】
前記液晶性化合物の反応性基が、エチレン性不飽和基である請求項３に記載の転写材料。
【請求項５】
前記液晶性化合物が、棒状液晶である請求項３又は４に記載の転写材料。
【請求項６】
前記液晶性化合物の示す液晶相が、ネマチック相またはスメクチック相である請求項３〜５のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項７】
前記液晶性化合物の示す液晶相がコレステリック相である請求項３〜６のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項８】
前記仮支持体Ａと反対側の表面に仮支持体Ｂをさらに有する請求項１〜７のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項９】
基板と、請求項１〜８のいずれか一項に記載の転写材料から転写された光学異方性層及び透明電極層を有する液晶セル用基板であって、
前記基板と前記透明電極層との間に、粘着層を有する液晶セル用基板。
【請求項１０】
前記基板が、カラーフィルタを備え、カラーフィルタ上に前記光学異方性層と透明電極層とを転写してなる請求項９に記載の液晶セル用基板。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の転写材料から、少なくともひとつの光学異方性層と少なくとも一つの透明電極層とを基板上に転写する工程を含む液晶セル用基板の製造方法。
【請求項１２】
一対の基板と、該一対の基板に挟持される液晶層とを有する液晶セルを備えた液晶表示装置であって、前記一対の基板の少なくとも一方が、請求項９又は１０に記載の液晶セル用基板である液晶表示装置。
【請求項１３】
前記液晶セルの液晶モードがＳＴＮ、ＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＯＣＢのいずれかである請求項１２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶セル用基板を簡易に作製するのに有用な転写材料に関する。また、本発明は、生産性と色視野角特性の優れた液晶表示装置の作製に有用な液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなどに用いられる表示装置としては、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）がこれまで主に使用されてきた。近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）が、薄型、軽量、且つ消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されてきている。液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を有する。偏光板は保護フィルムと偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。例えば、透過型ＬＣＤでは、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板および液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過型、反射型および半透過型のいずれにも適用でき、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。しかしながら、従来のＬＣＤで表示し得る色やコントラストは、ＬＣＤを見る時の角度によって変化する。そのため、ＬＣＤの視野角特性は、ＣＲＴの性能を越えるまでには至っていない。
【０００３】
この視野角特性を改良するために、視野角補償用の光学異方性層（光学補償シート）が適用されてきた。これまでに上述の様々の表示モードに対して種々の光学特性を有する光学補償シートを用いることにより、優れたコントラスト視野角特性を有するＬＣＤが提案されている。特にＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳの３つのモードは広視野角モードとして全方位にわたり広いコントラスト視野角特性を有するようになり、テレビ用途として既に家庭に普及している。
【０００４】
これらの液晶セルにおいては、通常、光学補償シートは偏光板と貼り合わされて、接着剤で液晶セルの外側に設けられている。しかしながら、上記従来の技術では、次のような問題点を有している。
まず、位相差付偏光板を液晶セル外に貼り付けて設置する場合、要求される貼り付け精度が厳しく、特に大型のもので顕著であり、反りや位置ずれによって安定的に貼り付け工程を実施できない場合がある。その結果、高価な位相差板付偏光板が無駄になってコスト増加要因になっている。また、液晶パネルの動作中、バックライト等からの熱による偏光板支持体の膨張及び収縮で、貼り付けた位相差板が応力を受け光学特性が変化する。この場合は、変形箇所において位相差板の位相補償効果が不十分になり、黒状態で光抜けを引き起こすことになる。このような現象は、液晶パネルのサイズが大きくなるにつれて、より顕著に発生する。即ち、液晶パネルのサイズが大きくなれば、偏光板も大きくなり収縮量膨張量も大きくなるため、偏光板支持体の変形量も大きくなり、顕著に白抜け状態が発生する。
【０００５】
以上のように、従来技術は、液晶セルの外側に貼り付ける精度が充分でないことに伴う歩留まり問題や、偏光板支持体の膨張収縮に伴う光抜け問題を有していた。
【０００６】
これに対し、光学異方性層を偏光板と貼り合わせて液晶セルに貼り付けるのではなく、液晶セルの内側に光学異方性層を設ける技術が提案されている（特許文献１）。これは主に液晶セル内にカラーフィルタなどと一緒に光学異方性層をパターニングする方法により実現される。しかしながら、液晶セル内にパターニング可能な材料で、尚且つ光学的に均一な異方性特性を有する光学異方性層を形成することは困難であった。また、従来の方法では、光学異方性層をパターニングするために、製造工程が増えてしまい、コスト的に実現性に乏しいという問題点があった。
【特許文献１】ＧＢ２３９４７１８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記の課題に鑑みなされたものであり、その目的は、光学補償能を有する液晶セル用基板を作製するのに有用な転写材料、及びかかる液晶セル用基板の簡易且つ安定的な作製方法を提供することを課題とする。また、本発明は光学異方性層をセル内に有する液晶セル及び液晶表示装置の生産性の改善に寄与する転写材料を提供することを課題とする。また、本発明は、安定的に製造可能な光学補償能付き液晶セル用基板を提供することを課題とする。また、本発明は、視野角特性が改善され、光漏れが軽減された液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題の解決のために鋭意研究を行い、一つの転写材料から、光学異方性層と透明電極層とを同時に基板上に転写する方法によれば、前記課題を解決しうるとの知見を得、この知見に基づいて、本発明を完成するに至った。上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］  仮支持体Ａ上に、少なくとも一層の光学異方性層及び少なくとも一層の透明電極層をこの順に有する転写材料。
［２］  前記光学異方性層が、少なくとも一つの反応性基を有する液晶性化合物を含有する液晶層に、熱または電離放射線を照射して形成された層である［１］の転写材料。
［３］  前記液晶性化合物の反応性基が、エチレン性不飽和基である［２］の転写材料。
［４］  前記液晶性化合物が、棒状液晶である［２］又は［３］の転写材料。
［５］  前記液晶性化合物の示す液晶相が、ネマチック相またはスメクチック相である［２］〜［４］のいずれかの転写材料。
［６］  前記液晶性化合物の示す液晶相がコレステリック相である［２］〜［５］のいずれかの転写材料。
［７］  前記仮支持体Ａと反対側の表面に仮支持体Ｂをさらに有する［１］〜［６］のいずれかの転写材料。
［８］  基板上に、［１］〜［７］のいずれかの転写材料から転写された光学異方性層及び透明電極層を有する液晶セル用基板。
［９］  前記基板が、カラーフィルタを備え、カラーフィルタ上に前記光学異方性層と透明電極層とを転写してなる［８］の液晶セル用基板。
［１０］  ［１］〜［７］のいずれかの転写材料から、少なくともひとつの光学異方性層と少なくとも一つの透明電極層とを基板上に転写する工程を含む液晶セル用基板の製造方法。
［１１］  一対の基板と、該一対の基板に挟持される液晶層とを有する液晶セルを備えた液晶表示装置であって、前記一対の基板の少なくとも一方が、［８］又は［９］の液晶セル用基板である液晶表示装置。
［１２］  前記液晶セルの液晶モードがＳＴＮ、ＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＯＣＢのいずれかである［１１］の液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の転写材料によれば、光学異方性層と透明電極膜とを同時に基板上に転写できるので、工程数を増やさずに、安定的且つ簡易に液晶セル用基板を作製することができる。その結果、液晶セル内に光学補償層を有する液晶表示装置の生産性を向上することができる。また、本発明によれば、良好な視野角特性を有する液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００１１】
本明細書において、Ｒｅレターデーション値は、以下に基づき算出するものとする。Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）は平行ニコル法により、波長λｎｍの光を法線方向に入射させて測定される。本明細書におけるλは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍを指し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍまたは５９０±５ｎｍを指す。
【００１２】
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが実質的に０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００１３】
［転写材料］
本発明の転写材料は、仮支持体と、少なくとも一層の光学異方性層と、少なくとも一層の透明電極層とを有し、前記光学異方性層及び透明電極層を、他の基板上に転写するのに用いられる材料である。本発明の転写材料は、所望により、これら以外の構成層を有していてもよい。図１に本発明の転写材料のいくつかの例の概略断面図を示す。図１（ａ）に示す本発明の転写材料は、下側仮支持体（仮支持体Ａ）１０上に、光学異方性層１２及び透明電極層１４をこの順に有する。下側仮支持体は、基板等の被転写材に転写される際は剥離されて除去されるので、透明な材料であっても、不透明な材料であってもよい。図１（ｂ）に示す転写材料は、（ａ）の転写材料の透明電極層１４上に、上側仮支持体（仮支持体Ｂ）１６を配置した構成である。上側仮支持体Ｂは、転写材料を保管・搬送する際に、透明電極層１４が汚れたり、破損等するのを防止する機能を有する。仮支持体Ａと同様、基板等に転写後は剥離されるので、透明な材料であっても、不透明な材料であってもよい。
【００１４】
図１（ｃ）に示す転写材料は、光学異方性層１２と下側仮支持体１０との間に、配向層１８を有する。配向層１８は、例えば、光学異方性層１２を液晶性組成物から作製する際に、液晶性組成物中の液晶分子の配向を制御するのに利用される。また、図１（ｄ）に示す転写材料は、下側仮支持体１０と光学異方性層１２との間に、熱可塑性樹脂層２０をさらに有する。層２０は、転写時に被転写材である基板側の凹凸を吸収するための、クッション性等の力学特性をコントロール又は凹凸追従性を付与する機能を有する。
【００１５】
その他、本発明の転写材料は、光学異方性層と透明電極層との間に、オーバーコート層、透明電極層と上側仮支持体（仮支持体Ｂ）との間に配向層等を有していてもよい。
【００１６】
［仮支持体Ａ］
本発明の転写材料が有する仮支持体Ａは、光学異方性層等を転写後は除去されるので、透明でも不透明でもよく特に限定はない。仮支持体Ａを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、仮支持体Ａは透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
【００１７】
［光学異方性層］
転写材料における光学異方性層は、異方性を測定したときにＲｅが実質的に０でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有していれば特に限定はないが、液晶セル中に用いる、光学特性を制御しやすいなどの観点から、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する組成物から形成されていることが好ましく、また、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する液晶層に紫外線を照射することで硬化させて形成された層であることが望ましい。
【００１８】
［液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層］
光学異方性層は、上記の様に、液晶セル中に組み込まれることによって、液晶表示装置の視野角を補償する光学異方性層として機能する。光学異方性層単独で充分な光学補償能を有する態様はもちろん、他の層（例えば、液晶セル外に配置される光学異方性層等）との組み合わせで光学補償に必要とされる光学特性を満足する態様もであってもよい。また、転写材料が有する光学異方性層が、光学補償能に充分な光学特性を満足している必要はなく、例えば、液晶セル基板上に転写後に露光することにより、光学特性が発現又は変化して、最終的に光学補償に必要な光学特性を示すものであってもよい。
【００１９】
上述のように、前記光学異方性層は、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する組成物から形成されることが好ましい。一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井  正男  著，２頁，岩波書店，１９９２）。本態様では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成するのがより好ましく、混合物の場合少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【００２０】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物が挙げられる。
【００２１】
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表すが、Ｌ3およびＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【００２２】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【００２３】
【化１】
0004832904.tif 000002
【００２４】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。この場合、Ｌ3およびＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）である。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1およびＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００２５】
Ａ1およびＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【００２６】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（II）で表される基が好ましい。
一般式（II）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1およびＷ2は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
【００２７】
Ｗ1およびＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1およびＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【００２８】
前記一般式（II）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００２９】
【化２】
0004832904.tif 000003
【００３０】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【００３１】
【化３】
0004832904.tif 000004
【００３２】
【化４】
0004832904.tif 000005
【００３３】
【化５】
0004832904.tif 000006
【００３４】
本発明の他の態様として、前記光学異方性層にディスコティック液晶を使用した態様がある。前記光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物を含有する層または重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層であるのが好ましい。前記ディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【００３５】
本発明では、下記一般式（III）で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。
一般式（III）：  Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
【００３６】
前記式（III）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
【００３７】
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
【００３８】
【化６】
0004832904.tif 000007
【００３９】
【化７】
0004832904.tif 000008
【００４０】
【化８】
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【００４１】
【化９】
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【００４２】
【化１０】
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【００４３】
【化１１】
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【００４４】
【化１２】
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【００４５】
【化１３】
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【００４６】
【化１４】
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【００４７】
【化１５】
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【００４８】
【化１６】
0004832904.tif 000017
【００４９】
前記光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱または電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。前記光学異方性層が二軸性を示すと、液晶セル、特にＶＡモードの液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。液晶性化合物として、反応性基を有する棒状液晶性化合物を用いる場合、二軸性を発現させるためにはコレステリック配向もしくは傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向を、偏光照射によって歪ませることが必要である。偏光照射によって配向を歪ませる方法としては、二色性液晶性重合開始剤を用いる方法（ＥＰ１３８９１９９  Ａ１）や分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法（特開２００２−６１３８号公報）が挙げられる。本発明においては、いずれも利用できる。
【００５０】
前記光学異方性層が一軸性の場合、上下いずれかの偏光板保護フィルムの光学異方性を最適化することにより、ＶＡモードもしくはＩＰＳモードの液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。ＶＡモード、ＩＰＳモードいずれの場合においても、本発明の目的である色視野角特性改良に対しては、偏光板保護フィルムのレターデーション波長分散が一般的、即ち波長が長くなるにつれてレターデーションが小さくなることで、液晶セルに対して広い波長域で正確に光学補償できる。ＶＡモードにおいては、偏光板保護フィルムとしての光学異方性層がｃ−ｐｌａｔｅであることが好ましく、ＩＰＳモードに対しては厚み方向の屈折率が最も小さい二軸性であることが好ましい。転写材料に用いる一軸性の光学異方性層は、一軸性である棒状もしくは円盤状の液晶性化合物を液晶のダイレクタが一方向に揃うように配向させることにより作製することができる。このような一軸性配向は、ラビング配向層もしくは光配向層上にカイラル性のない液晶層を配向させる方法、磁場もしくは電場で配向させる方法、延伸やせん断のような外力を与えて配向させる方法などによって実現できる。
【００５１】
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよいが、水平配向、垂直配向、ねじれ配向が好ましく、水平配向が最も好ましい。なお、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。本明細書において「水平配向」というときは、上記傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
【００５２】
液晶性化合物からなる光学異方性層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物からなる層と棒状性液晶性化合物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。
【００５３】
光学異方性層は、液晶性化合物、及び所望により、下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する所定の配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００５４】
［液晶性化合物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００５５】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００５６】
前記光学異方性層は、偏光照射による光配向によって面内のレターデーションが発生した層であってもよい。この偏光照射は、上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよい。なお、偏光照射による光配向によって発生した面内のレターデーションを示す光学異方性層は、特に、ＶＡモードの液晶表示装置を光学補償するのに優れている。
【００５７】
［偏光照射による光配向］
前記光学異方性層は、偏光照射による光配向で面内のレターデーションが発現した層であってもよい。大きな面内レターデーションを得るために、偏光照射は液晶化合物層塗布、配向後に最初に行う必要がある。偏光照射は、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００５８】
［偏光照射後の紫外線照射による後硬化］
前記光学異方性層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良すると共に、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は、不活性ガス置換してもしなくてもよいが、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００５９】
前記光学異方性層の形成用組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物の少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。以下、下記一般式（１）〜（３）について、順に説明する。
【００６０】
一般式（１）
【化１７】
0004832904.tif 000018
【００６１】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々独立して、水素原子または置換基を表し、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は単結合または二価の連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ3で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基またはフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−および−ＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基または該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい
【００６２】
一般式（２）
【化１８】
0004832904.tif 000019
【００６３】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3で表される置換基の好ましい範囲として挙げてものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２または３である。
【００６４】
一般式（３）
【化１９】
0004832904.tif 000020
【００６５】
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は各々独立して、水素原子または置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（Ｉ）におけるＲ1、Ｒ2およびＲ3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−０９９２４８号公報に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【００６６】
前記一般式（１）〜（３）で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（３）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００６７】
［配向層］
前記光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に透明支持体上または該透明支持体に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。また、配向層は酸素遮断層としての機能を有してもよい。
【００６８】
配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコールおよびアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙げることができる。
【００６９】
配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。
【００７０】
また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【００７１】
また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【００７２】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ2を代表とし、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ2等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
【００７３】
光学異方性層は、液晶性化合物を仮配向層上で配向させ、その配向を固定化した後、透明支持体に粘着剤を用いるなどして転写することもできるが、生産性の観点からは転写なしに直接形成することが好ましい。
【００７４】
［透明電極層］
本発明の転写材料は、光学異方性層上に透明電極層を有する。透明電極層の作製には、光透過性の材料が用いられ、一般的には、ＩＴＯ、ＺｎＯ：Ａｌ、ＺｎＯ：Ｓｉ、ＳｎＯ2、Ｓｂ等が用いられる。光学異方性層上（光学異方性層表面もしくは光学異方性層上に形成された他の層の表面）に前記透明電極層を形成する方法としては、スパッタリング、蒸着、ＣＶＤ法等を用いることができるが、中でも、光学異方性層へのダメージが少なくという観点から、低温スパッタリング法が特に好ましい。低温スパッタリング時の温度は、２５〜１００℃程度が好ましく、２５〜４０℃程度がより好ましい。形成される透明電極層の厚さについては特に制限はないが、通常、数百〜数千Åの範囲である。形成した透明電極層には、パターニング処理を施してもよい。
【００７５】
［仮支持体Ｂ］
本発明の転写材料は、上記仮支持体Ａとは反対側の表面に仮支持体Ｂを有していてもよい。例えば、透明電極層が最上層になる場合は、仮支持体Ｂは透明電極層の表面に配置される。仮支持体Ｂは、透明電極層等の最上層の表面を保護するためのものであり、保管・搬送等の際に、汚れたり損傷するのを防止するものである。前記仮支持体Ｂは、透明電極層に容易に貼付可能で、また、基板に転写後の透明電極層から容易に剥離可能なものの中から選択でき、前記仮支持体Ａと同一又は類似の材料からなるものであってもよい。具体的には、シリコーン紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエチレンシート等が好ましく、中でも、ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムがより好ましい。さらに、仮支持体Ｂが透明電極層と接する場合は、その面に1〜５０μｍの粘着層を有してもよい。粘着剤としては、例えば、エチレンビニルアセテート、ポリオレフィン、アクリル樹脂等が一般的に好ましい。
上記仮支持体Ｂの厚みとしては、約５〜１００μｍが好ましく、１０〜６０μｍがより好ましい。
【００７６】
［その他の層］
本発明の転写材料は、仮支持体Ａと光学異方性層との間などに、転写材料の力学特性や凹凸追従性をコントロールするための熱可塑性樹脂層が設けられていてもよい。熱可塑性樹脂層の作製に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルおよびそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【００７７】
本発明の転写材料は、複数の塗布層の塗布時、および塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層が設けられていてもよい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時の感度が上がり、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水またはアルカリ水溶液に分散または溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
【００７８】
前記熱可塑性樹脂層や前記中間層を、前記配向層と兼用することもできる。特に前記中間層に好ましく用いられるポリビニルアルコールおよびポリビニルピロリドンは配向層としても有効であり、中間層と配向層を１層にすることが好ましい。
【００７９】
光学異方性層、および所望により形成されるオーバーコート層、配向層、熱可塑性樹脂層および中間層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【００８０】
［液晶セル用基板の製造方法］
本発明の転写材料を利用した液晶セル用基板の製造方法の一例について説明する。
まず、透明基板を用意する。透明基板としては、ガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板；及び、プラスチックフィルム等を挙げることができる。被転写材料である透明基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、光学異方性層との密着性が良好になるので好ましい。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報記載の方法が好適に用いられる。
尚、特に限定されるわけではないが、前記透明基板の膜厚としては、５００〜１２００μｍが一般的に好ましい。
【００８１】
前記透明基板は、その表面に、酸化ケイ素又は窒化珪素等の絶縁膜を有していてもよい。また、上記転写材料を転写する側に、ブラックマトリックスやカラーフィルタを有していてもよい。ブラックマトリックスやカラーフィルタは、転写法やインクジェット法等の種々の方法で、透明基板上に形成することができる。カラーフィルタは、ＲＧＢからなるカラーフィルタであっても、最近よくみられる様に、ＲＧＢＷ（白）からなるカラーフィルタであってもよい。カラーフィルタの作製方法は特に限定されるものではなく、インクジェット法や印刷法、顔料分散法、フィルム転写法、染色法等を用いることができる。
【００８２】
透明基板の表面上には、前記転写材料からの転写を安定的に行うために、粘着層を形成し、転写材料との接着性を向上させるのが好ましい。前記粘着層は、種々の方法で、前記透明基板上に形成することができる。例えば、転写法により形成してもよく、具体的には、ＰＥＴフィルム等のフィルム上に感光性樹脂層（粘着層）を塗布し、オーブンで乾燥させて作製した転写材料を、透明基板表面上に配置し、前記感光性樹脂層を熱転写して、透明基板上に粘着層を形成してもよい。粘着層は、透明基板上に必要な粘着性を与えるものであり、この転写以外の方法、例えば塗布等により、形成された層であってもよい。
【００８３】
次に、フィルム状に製造した本発明の転写材料を、前記透明基板上に貼り付ける。具体的には、転写材料から、前記仮支持体Ａを剥離し、光学異方性層又は仮支持体Ａと光学異方性層との間に形成された他の層を、透明基板表面側にして、ラミネータを用いて加熱および／または加圧したローラーまたは平板で圧着または加熱圧着して、貼り付けることができる。例えば、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法を利用することができるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、仮支持体Ｂは剥離してもよく、剥離によって露出した透明電極層をエッチング等によりパターニングしてもよい。
【００８４】
上記方法により、一つの転写材料から一回の転写工程により、光学異方性層と透明電極層とを有する液晶セル用基板を製造することができる。なお、該基板が液晶セルの作製に用いられる場合は、透明電極層を内側、即ち、液晶層側にして配置されるので、前記透明電極層上に、液晶層中の液晶性分子の配向を制御するための配向層をさらに形成してもよい。また、その他、配向制御構造や、ギャップ制御柱が形成されていてもい。
【００８５】
［液晶セル用基板］
上記方法によって製造された液晶セル用基板の用途については特に限定されないが、液晶表示装置の構成部材として利用するのが好ましく、通常液晶表示装置の液晶層を挟持する一対の基板の一方又は双方に用いられる。図２に、上記方法によって製造された液晶セル用基板の一例の概略断面図を示す。図２に示す液晶セル用基板は、透明基板２１上に、ブラックマトリックス２２、ＲＧＢからなるカラーフィルタ２３、粘着層２４、及び転写材料から転写された光学異方性層１２と透明電極層１４を有する。図２に示す液晶表示用セルは、透明基板上にあらかじめブラックマトリックス及びカラーフィルタを形成し、その上に粘着層を形成して、例えば、図１（ａ）に示した本発明の転写材料から、光学異方性層及び透明電極層を転写することで製造することができる。
【００８６】
［液晶表示装置］
図３は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。図３中、図２中に示した部材と同一の部材には同一の番号を付し、詳細な説明は省略する。図３に示した液晶表示装置は、図２に示した液晶セル用基板の表面にさらに配向層１５を形成した基板を、上側対向基板１０Ａとして用い、下側対向基板１０ＢとしてＴＦＴアレイ基板を用いた液晶セル３０を有する。下側対向基板１０Ｂは、透明基板２１上に、ＴＦＴ電極層２５及び配向層２６を有する。基板１０Ａ及び１０Ｂの間には、液晶層２８が挟持され、配向層１５及び２６によって配向が制御されているとともに、透明電極層１４及びＴＦＴ電極層２５によって電圧を供与可能に構成されている。液晶セル３０の両側には、セルロースアセテート（ＴＡＣ）フィルム等からなる保護フィルム３４及び３５に挟まれた偏光層３３からなる偏光板３２が配置されている。液晶セル側の保護フィルム３５として、光学補償シートを用いてもよいし、光学的に等方性の保護フィルム３４と同じでもよい。
【００８７】
図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろんフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。液晶表示装置の表示モードは特に制限がなく、全ての透過型および反射型液晶表示装置に用いることが可能である。中でも色視野角特性改良が望まれるＶＡモードに対して、本発明は効果を発揮する。
【００８８】
本発明の液晶セル用基板中の光学異方性層は、液晶表示装置の光学補償に寄与し、即ち、コントラスト視野角を拡大し、液晶表示装置の画像着色を解消するのに寄与する。本発明の転写材料を用いて液晶セル用基板を製造すると、光学異方性層と透明電極層とを同時に基板に転写することができ、その結果、液晶表示装置の製造工程をほとんど増やすことなく、液晶表示装置の視野角特性、特に色視野角特性と透過率を改良することができる。
【実施例】
【００８９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【００９０】
（熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
────────────────────────────────―――
熱可塑性樹脂層用塗布液組成（％）
────────────────────────────────―――
メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、
Ｔｇ≒７０℃）
５．８９
スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、
重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
１３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製）                        ９．２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製）    ０．５５
メタノール                                                    １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ６．４３
メチルエチルケトン                                            ５２．９７
─────────────────────────────────―――
【００９１】
（中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
─────────────────────────────────――
中間層／配向層用塗布液組成（％）
─────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）            ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ  Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製）    １．４８
蒸留水                                                        ５２．１
メタノール                                                    ４３．２１
─────────────────────────────────――
【００９２】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ  ２１に記載の方法により合成した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２２．０
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）３．４０
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH                              ３．３０
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COOH                                     ３．３０
（但し、Phはフェニレン基を表す）
４，４’−アゾキシジアニソール                                  ０．５２
水平配向剤（ＬＣ−１−１）                                      ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２）                                    １．３６
メチルエチルケトン                                            ６６．２
──────────────────────────────────――
【００９３】
【化２０】
0004832904.tif 000021
【００９４】
以下に感光性樹脂層用塗布液の調製方法を説明する。表１にそれぞれの感光性樹脂層用塗布液の組成を示す。
【００９５】
【表１】
0004832904.tif 000022
【００９６】
表１中の組成物は以下の通り。
［Ｋ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｋ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
カーボンブラック（デグッサ社製、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ２５０）
１３．１
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピル
アミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］
−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン
０．６５
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．７万）                                      ６．７２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７９．５３
──────────────────────────────────――
【００９７】
［Ｒ顔料分散物−１組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−１組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４                                ８．０
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピル
アミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］
−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン                                            ０．８
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                      ８．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ８３．２
──────────────────────────────────――
【００９８】
［Ｒ顔料分散物−２組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−２組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７                              １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                    １２．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７０．０
──────────────────────────────────――
【００９９】
［Ｇ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｇ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６                              １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                    １２．０
シクロヘキサノン                                              ３５．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ３５．０
──────────────────────────────────――
【０１００】
［バインダ１組成］
──────────────────────────────────――
バインダ１組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４万）                                        ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１０１】
［バインダ２組成］
──────────────────────────────────――
バインダ２組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３８／２５／３７モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１０２】
［バインダ３組成］
──────────────────────────────────――
バインダ３組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３６／２２／４２モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１０３】
［ＤＰＨＡ組成］
──────────────────────────────────――
ＤＰＨＡ溶液組成（％）
──────────────────────────────────――
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）                  ７６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ２４．０
──────────────────────────────────――
【０１０４】
（遮光性隔壁層用塗布液ＰＰ−Ｋ１の調製）
遮光性隔壁層用塗布液ＰＰ−Ｋ１は、まず表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ溶液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、メガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌することによって得られた。
【０１０５】
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｒ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｒ１は、まず表１に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のＥＤ１５２をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ２０分間攪拌し、更に、表３１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１０６】
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｇ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｇ１は、まず表１に記載の量のＧ顔料分散物、ＣＦエローＥＸ３３９３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダ１、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１０７】
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｂ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｂ１は、まず表１に記載の量のＣＦブルーＥＸ３３５７、ＣＦブルーＥＸ３３８３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１０８】
（粘着層用塗布液ＰＰ−Ｘ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｘ１は、表１に記載のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１０９】
（粘着層用転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、塗布液ＰＰ−Ｘ１を塗布、１１０℃で１０分間間乾燥させ、粘着層Ｘ−１を作製した。乾燥した層の膜厚は１．２μｍであった。
【０１１０】
（偏光ＵＶ照射装置ＰＯＬＵＶ−１）
ＵＶ光源として３５０〜４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ−Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を用い、照射面から３ｃｍ離れた位置に、ワイヤグリッド偏光フィルタ（ＰｒｏＦｌｕｘ  ＰＰＬ０２（高透過率タイプ）、Ｍｏｘｔｅｋ社製）を設置して偏光ＵＶ照射装置を作製した。この装置の最大照度は４００ｍＷ／ｃｍ2であった。
【０１１１】
（透明電極層付き光学位相差層転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを仮支持体Ａとして用い、その上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させて、熱可塑性樹脂層を形成した。次に、塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させて、配向層を形成した。熱可塑性樹脂層の膜厚は６．０μｍ、配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を＃６のワイヤーバーコータで塗布し、膜面温度が９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、ＰＯＬＵＶ−１を用いて偏光板の透過軸が仮支持体のＴＤ方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）して光学異方層を固定化し、厚さ２．８μｍの光学異方性層を形成した。次に、ＩＴＯを加熱温度３０℃でスパッタリングし透明電極層を形成した。その上にパナック社製  Ｐａｃ２フィルムをラミネートして仮支持体Ｂとし、本発明の実施例１である、透明電極層及び光学位相差層を有する転写材料Ｔ−１を作製した。
【０１１２】
（位相差測定）
転写材料Ｔ−１が有する光学異方性層の波長λにおける正面レターデーションＲｅ（０）および遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションＲｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）を、ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により測定した。位相差測定結果を表２に示す。
【０１１３】
【表２】
0004832904.tif 000023
【０１１４】
（ＫＲＧＢ用感光性樹脂転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は１４．６μｍ、配向層は１．６μｍであった。続いて、その上に感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｋ１を塗布、乾燥させ、感光性樹脂転写材料Ｋ−１を作製した。
Ｒ、Ｇ、Ｂについても、ＰＰ−Ｋ１の代わりにＰＰ−Ｋ１、ＰＰ−Ｇ１、ＰＰ−Ｂ１を塗布した以外は同様にして、それぞれＲ用、Ｇ用、Ｂ用感光性樹脂転写材料Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１を作製した。
【０１１５】
（突起用感光性転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体上に熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１５μｍの熱可塑性樹脂層を設けた。
次に、前記熱可塑性樹脂層上に中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。
前記中間層上に、下記の処方からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２．０μｍの液晶配向制御用の突起形成用感光性樹脂層を設けた。
──────────────────────────────────――
突起用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ＦＨ−２４１３Ｆ（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）
５３．３
メチルエチルケトン                                            ４６．７
メガファックＦ−１７６ＰＦ                                      ０．０４
──────────────────────────────────――
更に、前記感光性樹脂層表面に厚さ１２μｍのポリプロピレン製のフィルムをカバーフィルムとして貼り付け、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層、カバーフィルムをこの順に有する突起形成用転写材料を作製した。
【０１１６】
（液晶セル用基板の作製）
次の方法により液晶セル用基板（カラーフィルタ）を作製した。
―洗浄及び表面処理―
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
（カラーフィルタの作製）
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用いて、前記１００℃で２分間加熱した前記基板上に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
仮支持体Ｂを剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、基板と所望の画像パターンを有す石英露光マスクで、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量９０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画像を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で１０００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理した。
このＫの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱し、ブラックマトリックス（ＢＭ）パターンを形成した基板を得た。
【０１１７】
−レッド（Ｒ）画素の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｒ−１を用い、前記ブラックマトリクスを形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１と同様の工程で、レッド（Ｒ）の画素を得た。
【０１１８】
−グリーン（Ｇ）画素の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｇ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素を形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１と同様の工程で、グリーン（Ｇ）の画素を得た。
【０１１９】
−ブルー（Ｂ）画素の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｂ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素とグリーン（Ｇ）画素を形成した基板上に、同様の工程で、ブルー（Ｂ）の画素を得た。
このＲ、Ｇ及びＢの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、基板加熱装置により２４０℃５０分加熱し、目的のカラーフィルタを作製した。この様にして、カラーフィルタ付き基板を作製した。
【０１２０】
―粘着層の形成―
前記粘着層転写材料Ｘ−１を、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した、上記カラーフィルタ付き基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートし、粘着層をカラーフィルタ付き基板の表面に転写した。
【０１２１】
−光学異方性層および透明電極層の形成−
粘着層を転写したカラーフィルタ付き基板を１００℃で２分間加熱した。この基板の粘着層の表面に、前記転写材料Ｔ−１の仮支持体Ａを剥離しつつ、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用いて、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートし、光学異方性層と透明電極層とを基板上に転写し、仮支持体Ｂを剥離した。
【０１２２】
−突起の形成−
上で作製した突起形成用転写材料からカバーフィルムを剥がし、その感光性樹脂層の表面と前記基板のＩＴＯ透明電極層の表面とを重ね合わせ、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、温度１３０℃、搬送速度２．２ｍ／分の条件下で貼り合わせた。その後、突起形成用転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去した。この状態では、基板のＩＴＯ透明電極層上に、感光性樹脂層、中間層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されていた。
次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方に、フォトマスクが感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー７０ｍＪ／ｃｍ2でプロキシミティー露光した。その後、１％トリエタノールアミン水溶液を、シャワー式現像装置にて３０℃で３０秒間基板に噴霧して、熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この段階では、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。
続いて、２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を、シャワー式現像装置にて２３℃５０秒間基板に噴霧しながら現像し、感光性樹脂層の不要部（未硬化部）を現像除去した。すると、前記レッド（Ｒ）とグリーン（Ｇ）パターンを積層して形成したスペーサの土台上と、カラーフィルタ側基板上に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ側基板を２３０℃下で５０分ベークすることにより、前記レッド（Ｒ）とグリーン（Ｇ）を積層して形成したスペーサの土台上に、グリーン（Ｇ）画素からの高さが３．７μｍのスペーサと、カラーフィルタ側基板上に、高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の液晶配向制御用突起を形成することができた。
【０１２３】
−配向層の形成−
更にその上に配向層を設けた。配向材はＪＳＲ製ポリイミドＪＡＬＳ２０４を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に選択的に塗布した。塗布後、８０℃の雰囲気で１５分プリベークを行い、さらに２００℃で６０分焼成を行った。その結果、膜厚で約０．５μｍの配向層を得た。
この様にして、ガラス基板上に、カラーフィルタ（ＢＭ及びＲＧＢ層を含む）、光学異方性層層、ＩＴＯ透明電極層、配向制御用突起パターン及び配向層をこの順で有する液晶セル用基板（以下、「カラーフィルタ基板」という）を作製した。
【０１２４】
（対向側基板の準備）
上記で作製したカラーフィルタ基板の対向基板として、ガラス基板上に、透明導電層を形成した基板を用いた。次に、透明導電層の上にはポリイミド配向層を形成した。配向材はＪＳＲ製ポリイミドＪＡＬＳ２０４を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に選択的に塗布した。塗布後、８０℃の雰囲気で１５分プリベークを行い、さらに２００℃で６０分焼成を行った。その結果、膜厚で約０．５μｍの配向層を得た。
【０１２５】
（シールパターンの形成）
基板の周囲にシールパターンを形成した。スペーサ粒子を１質量％含有したエポキシ樹脂（日産化学製ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ）をシールディスペンサ装置で表示領域を囲む所定の領域に液晶の注入口に相当する部分を開いた形で印刷した。これを８０℃で３０分仮焼きした。
【０１２６】
（重ね合わせ）
上記で作製したカラーフィルタ基板と、対向基板とが正しい位置で重なるように、アライメントしながら重ねあわせ装置で合わせた。その状態で０．０３Ｍｐａの圧力をかけながら、貼り合わされたガラス基板を１８０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。焼成にはバルーンタイプの焼成装置を使用した。
（液晶注入）
この基板積層体に液晶注入装置を使って液晶材を注入した。液晶材はメルク社製ＭＬＣ−６６０８で、これを液晶皿に入れ、基板積層体とともに真空チャンバー内で１０-1Ｐａの真空下で６０分保持して脱気した。十分真空に引いた後、シールに設けた注入口の部分を液晶に浸すようにした上で大気圧に戻して１８０分保持して、ガラス基板の間隙に液晶を満たした。その後、注入装置から基板積層体を取り出し、注入口の部分をＵＶ硬化性のエポキシ接着剤を塗布・硬化して液晶セルを得た。
【０１２７】
（偏光版貼り付け）
この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を吸収軸を直交する配置に貼り付けて液晶パネルを得た。
【０１２８】
（実施例１のＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管をバックライトとして使用した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置し、実施例のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１２９】
（比較例のＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラーフィルタ作製後、転写材料Ｔ−１から透明電極層及び光学位相差層を転写する代わりに、スパッタによりＩＴＯを形成し、さらに下側偏光板の液晶セル側の保護フィルム上に、ＡＬ−１とＬＣ−１を用いてＴ−１の光学異方性層を作製したのと同様の方法によって２．７５μｍの光学異方性層を形成した以外は実施例と同様にして、比較例１のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１３０】
（ＶＡ−ＬＣＤの光漏れの比較）
作製した実施例と比較例の液晶表示装置を、駆動状態で６０℃９５％の恒温層に２４時間入れた後取り出し、２５℃５０％の状態１時間放置した後に、黒表示画面での光漏れを目視観察した。結果を表３に示す。
【０１３１】
【表３】
0004832904.tif 000024
【図面の簡単な説明】
【０１３２】
【図１】本発明の転写材料のいくつかの例の断面概略図である。
【図２】本発明の転写材料を用いて作製された液晶セル用基板の一例の断面概略図である。
【図３】本発明の転写材料を用いて作製された液晶セル用基板を有する液晶表示装置の一例の断面概略図である。
【符号の説明】
【０１３３】
１０  仮支持体Ａ
１２  光学異方性層
１４  透明電極層
１５  配向層
１６  仮支持体Ｂ
１８  配向層
２０  凹凸吸収層
２１  透明基板
２２  ブラックマトリック層
２３  カラーフィルタ層
２４  粘着層
２５  ＴＦＴ電極層
２６  配向層
２８  液晶
３０  液晶セル
３２  偏光板
３３  偏光層
３４  保護フィルム
３５  保護フィルム又は光学補償シート
１０Ａ、１０Ｂ  液晶セル用基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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