(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも樹脂基板、有機色素を含む記録層、及び反射層を有する光記録媒体であって、前記反射層が、前記記録層に近い側から第一反射層と第二反射層とをこの順で有し、
前記第二反射層の熱伝導度が前記第一反射層の熱伝導度よりも低く、かつ、
前記第一反射層の膜厚が前記第二反射層の膜厚よりも厚く、
前記第二反射層が、Ａｕを主成分とすることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記第二反射層の熱伝導度が、前記第一反射層の熱伝導度より６０Ｗ／ｍ・Ｋ以上低いことを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記第一反射層が、銀または銅を主成分とすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記第一反射層の主成分とする元素と前記第二反射層の主成分とする元素が異なることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記第一反射層が、銀を主成分とすることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の光記録媒体。
【請求項６】
前記第一反射層の膜厚が５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であり、前記第二反射層の膜厚が０．５ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載の光記録媒体。
【請求項７】
前記記録層が、最短マーク長０．４μｍ以下の記録マークを有することを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載の光記録媒体。
【請求項８】
記録線速度２８ｍ／ｓ以上で記録可能であることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれかの請求項に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体に関し、より詳しくは、耐候性、耐光性に優れ、高速記録で良好な記録再生特性が得られ、長期保存に耐えうる光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、書き換え型のＤＶＤ、追記型のＤＶＤ等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶し、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータ等の情報処理装置における外部記憶装置として広く認知されている。例えば、有機色素を含有する記録層を有する代表的な追記型のＤＶＤ等は、透明ディスク基板上に有機色素記録層と反射層とをこの順に有し、これらの記録層や反射層を覆う保護層を有する積層構造であり、透明ディスク基板（樹脂基板）を通してレーザー光にて記録・再生が行われる。有機色素を含有する記録層を有するこれらの光記録媒体においては、有機色素層と反射層との界面における水分の影響でエラーが増加することが知られている（特許文献１参照）。
【０００３】
かかるエラーの増加を防ぐために、有機色素の記録層の上に、金または金合金の第一反射層と、その上に、銀合金または銅合金を第二の反射層として積層した光記録媒体（特許文献１）や、有機染料の記録層上に、Ｐｄ，Ｎｉ，Ｓｎ，Ａｕ，Ｉｎ，Ｔｅ，Ｓｉ，Ｇｅあるいはこれらの合金から成る薄い金属中間層を設け、その上に銀あるいは銀合金の反射層を有する光記録媒体（特許文献２）等が報告されている。
【０００４】
ところで、光記録装置は、各種光記録媒体に予め最適化した記録条件を保持しており、これを用いて記録することにより良好な記録が行われる。用いる記録媒体の反射層の種類（反射層の材質や厚みなど）により、反射率や熱伝導度が異なるため、反射層が異なるディスクでは記録条件が異なることとなる。
【０００５】
現在、主流として使われている追記型のＤＶＤ、ＣＤ−Ｒディスクでは、ほとんどのディスクで反射層として銀または銀を主成分とする合金が使われている。そのため、通常、光記録装置が予め保持している記録条件は、銀反射層に最適化されたものとなっている。従って、特許文献１や特許文献２に記載された光記録媒体等では、予め光記録装置が保持する銀反射層を用いた光記録媒体に最適化した記録条件では良好な記録特性が得られない虞があった。また、これらの反射層の構成では、銀反射層に比べ反射率が低く、十分な記録特性が得られなかったり、記録材料の選択の幅が狭められる虞があった。さらに、特に高速記録時には、熱干渉を低減し記録特性のマージンを広げる必要があるが、このためには、色素記録膜の膜厚を薄くする必要があり、これにより反射率が低下するため、記録特性を維持することが難しい虞があった。
【０００６】
一方、有機色素からなる光吸収層の上に、純金属からなる高反射率の第１の反射層と、これよりも熱伝導性の低い第２の反射層とを積層することで、高速記録時のパワーマージンと反射率を両立することが知られている（特許文献３）。これは、第１の反射層によって反射率を実用レベルとし、第２の反射層の低熱伝導材料で全体の熱伝導度を下げるというものである。しかし、この場合、第２の反射層の熱伝導度の効果を大きくするために第１の反射層の膜厚を５０ｎｍ以下と薄くしているため、反射率がある程度低下するのは避けられないという問題点が存在する。また、既に銀反射層の光ディスクに最適化された光記録装置が普及している現在、この構成の光記録媒体では記録特性が異なるため、光記録装置に予め保持された記録条件では良好な特性が得られない虞があった。
【０００７】
また、金またはその合金の単層からなる反射層を用いた光記録媒体も提案されている。金反射層は、その化学的安定性から極めて良好な反射層として知られているが、金反射層を用いた光記録媒体は、上記の通り、既に普及している光記録装置では良好な記録特性が得られない虞があった。さらに、金は有機色素記録層との親和性が低いため、反射層と記録層との界面での剥離によるエラー発生の生じる虞があった。
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−１８４７１６公報
【特許文献２】特開平１１−２３２６９５号公報
【特許文献３】特開２００１−０３５０１４公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
有機色素を含有する記録層においては、通常、集光された記録用レーザー光を吸収した色素が分解し光学定数が変化したり、その部分の膜厚が減少すると共に圧力が高まり、高温に曝された記録層周辺が変化するなどして記録部が形成される。かかる記録の際には、相変化媒体の記録層とは異なり、有機色素の熱伝導度が非常に小さいことに起因して、熱拡散が起こりにくい。そのため、樹脂基板の記録層に近い部分や記録層、反射層には大きな熱的ストレス、それに続き起こる物理的ストレスが発生する。これらのストレスは低速記録においてよりも高速記録において大きくなると考えられる。
【００１０】
何故ならば、高速記録の場合、記録パルスを短小化するため、低速記録の場合より高パワーの記録用レーザー光を用いて色素を分解する必要がある。実際に、追記型のＤＶＤの１倍速の記録で一般的に使用されている記録レーザー光のパワーは、およそ６ｍＷ〜８ｍＷであるのに対し、追記型のＤＶＤの８倍速（記録線速度２８ｍ／ｓ）では、１３ｍＷ〜１８ｍＷである。瞬間的には、記録層や反射層が低速記録の場合より高温に曝されるため、低速記録よりも高速記録において、局所的な熱的、物理的なストレスが大きくなるのである。そして、同様な理由により、記録用のレーザー光波長が短くなるほど、言い換えれば、最短マーク長が０．４μｍ以下と短くなるほど大きくなると考えられる。
【００１１】
かかるストレスは、耐候性試験による劣化の原因になると考えられる。
即ち、かかるストレスの発生は、例えば、高温高湿度の保持する耐候性試験において、以下の問題をより大きくし、ディスクの劣化をさらに進行させてしまうのである。
【００１２】
即ち、本発明者らの検討によれば、高速記録の場合には、上記ストレスが生じた部位の周辺では、前述のように、低速の場合よりもいっそう、色素が基板あるいは反射層との界面で剥離しやすくなっていると考えられる。それは、そもそも、有機物から成る記録層と、金属から成る反射層とも密着性がよくない上に、記録層と反射層に大きな上記ストレスがかかるからである。そして、特に記録により色素が最も分解した部分は、基板や反射層が、例えば陥没やバンプのような何らかの形状変化、あるいは、形状変化の履歴を生じている場合がある。
その形状変化などの“変化の履歴部位”は、より高温に曝される高速記録において、その周辺の未記録部分とは異なる形状や履歴を有する故に、基板から浸透した水分が、かかる記録部分の記録層やその記録部分を覆う反射層を押し上げて欠陥となったり、温度湿度変化によるディスクの応力変化、反りの変化に追従できず、剥離し、その部分の反射層が小さな欠陥や、それらの欠陥が腐食されたりすることによる巨大欠陥（ｂｕｒｓｔ  ｄｅｆｅｃｔ）等となる場合がある。
上記は追記型のＤＶＤを例としたが、このような課題は、ＤＶＤのみならずＣＤ−Ｒにおいても同様であった。
【００１３】
本発明は、このような課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる、高い保存安定性を示す光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは鋭意検討の結果、光記録媒体を構成する反射層を複数の層とし、該複数の層の熱伝導度および厚みを特定の関係とすることにより、上記課題が効果的に解決されることを見出し、本発明に至った。
【００１５】
即ち、本発明においては、少なくとも樹脂基板、有機色素を含む記録層、及び反射層を有する光記録媒体であって、前記反射層が、前記記録層に近い側から第一反射層と第二反射層とをこの順で有し、前記第二反射層の熱伝導度が前記第一反射層の熱伝導度よりも低く、かつ、前記第一反射層の膜厚が前記第二反射層の膜厚よりも厚く、前記第二反射層が、Ａｕを主成分とすることを特徴とする光記録媒体を提供する。
【００１６】
本発明によれば、特定の熱伝導度の関係を有する反射層を積層することにより、後述のように、高速記録部分の記録層及び反射層が受けるストレスを緩和することが可能となる。さらに、第一反射層の膜厚を、第二反射層の膜厚よりも厚くすることにより、記録光の減衰を抑制し、記録感度を低下させることなく、良好な記録特性を得ることが可能となる。即ち、高反射率を有する良好な光記録媒体が得られるのである。
【００１７】
また、上記発明においては、上記第二反射層の熱伝導度が、上記第一反射層の熱伝導度より６０Ｗ/ｍ・Ｋ以上低いことが好ましい。
また、上記第一反射層が、銀または銅を主成分とすることが好ましい。
また、上記第一反射層の主成分とする元素と前記第二反射層の主成分とする元素が異なることが好ましい。
【００１９】
また、上記発明においては、上記第一反射層を、銀を主成分とすることが、本発明のより顕著な効果を得られやすいという理由から、好ましい。即ち、第一反射層を、銀を主成分とする場合に本発明を適用すれば、低コストの銀あるいは銀合金を使用した上で、高密度あるいは高速記録部分の耐候性（高温高湿度の耐久性試験での劣化が小さい）を確保でき、さらに、銀に起因する光触媒反応による接着層の劣化、ひいては、劣化した接着剤による反射層の腐食という問題を改善することが可能となるからである。
【００２０】
上記発明においては、上記第一反射層の膜厚が５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であり、上記第二反射層の膜厚が０．５ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内であることが好ましい。この範囲にすることにより、充分な反射率と放熱効果が確保でき、記録再生光のストレスを緩和することが可能となるからである。
【００２１】
上記発明においては、上記記録層が、最短マーク長０．４μｍ以下の記録マークを有することが好ましい。何故ならば、本発明の効果は、かかる高密度の記録、即ち、従来よりも高い記録パワーの光が照射されて、従来よりも高温に記録部がさらされる光記録媒体において、より顕著となるからである。
【００２２】
上記発明においては、光記録媒体が、記録線速度２８ｍ／ｓ以上で記録可能であることが好ましい。何故ならば、本発明の効果は、高速記録を行う有機色素の光記録媒体において顕著であるからである。その理由は上記最短マーク長０．４μｍ以下の記録マークを有する光記録媒体についてのものと同様である。
【発明の効果】
【００２３】
かくして本発明によれば、高密度、高速記録用途において良好な保存安定性を有する、高品質のアーカイバル用途の追記型光記録媒体が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。
【００２５】
本発明の光記録媒体としては、一度の記録のみ可能な追記型媒体（ＣＤ−ＲやＤＶＤ−ＲなどのＷｒｉｔｅ Ｏｎｃｅ媒体）や、記録消去を繰り返し行なえる書き換え型媒体（ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷなどのＲｅＷｒｉｔａｂｌｅ媒体）が好適であるが、再生専用媒体（ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭなどのＲＯＭ媒体）を排除するものではない。特に本発明は追記型媒体に適用した場合に、良好な保存安定性を発現することが出来るため好ましい。
また、本発明の光記録媒体としては、基板、記録層、反射層の順に積層され、基板側からレーザー光を入射する、いわゆる基板面入射型の光記録媒体のみならず、基板、反射層、記録層の順に積層され、基板とは反対側からレーザー光を入射する、いわゆる膜面入射型の光記録媒体にも適用することができる。
さらに、本発明の光記録媒体としては、記録層を１層のみ有する光記録媒体にのみならず、記録層を２層以上有する光記録媒体に適用することもできる。
【００２６】
本発明の光記録媒体は、少なくとも樹脂基板、有機色素を含む記録層、及び反射層を有する光記録媒体であって、上記反射層が、上記記録層に近い側から第一反射層と第二反射層とをこの順で有し、上記第二反射層の熱伝導度が上記第一反射層の熱伝導度よりも低く、かつ、上記第一反射層の膜厚が上記第二反射層の膜厚よりも厚いことを特徴とするものである。
【００２７】
本発明では、反射層が、記録層に近い側から第一反射層と第二反射層とをこの順で有し、第二反射層の熱伝導度が第一反射層の熱伝導度よりも低いことを特徴の一つとする。このように、特定の熱伝導度の関係を有する反射層を積層することにより、後述のように、高速記録部分の記録層及び反射層が受けるストレスを緩和することが可能となる。
【００２８】
更に、本発明では、第一反射層の膜厚を、第二反射層の膜厚より厚くすることをもう一つの特徴とする。このように、特定の２層の反射層とその膜厚の関係とを組み合わせることにより、記録光の減衰を抑制し、記録感度を低下させることなく、良好な記録特性を得ることが可能となる。また、反射層の膜応力を適切な範囲とすることが可能となるため、ディスクの反りを適切な範囲とすることが可能となる。さらに、後述のように、貼り合わせ基板（以下、ダミー基板ともいう。）側から可視光が長時間照射される場合においても、接着層の劣化や黄変を抑制することが可能となる。
【００２９】
次に、本発明の光記録媒体について、図面を用いて説明する。図１（ａ）は、本発明の光記録媒体の構成を模式的に示す断面図であり、基板面入射型で記録層を１層有する追記型ＤＶＤディスクの構成である。図１（ａ）に示すように、光記録媒体１００は、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の樹脂基板１０１と、この樹脂基板１０１のレーザー光１１０の入射面側に設けられ、有機色素を含む記録層１０２と、第一反射層１０３と、第二反射層１０４と、接着層１０５と、鏡面あるいは溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の貼り合わせ基板１０６と、を有するものである。そして、光記録媒体１００は、樹脂基板１０１側から入射したレーザー光１１０により、光情報の記録再生が行なわれる。
【００３０】
なお、図１（ｂ）は、従来の追記型ＤＶＤタイプの光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。図１（ｂ）に示すように、光記録媒体２００は、溝及びランド又はプリピットが形成されたディスク状の光透過性の樹脂基板２０１と、この樹脂基板２０１のレーザー光２１０の入射面側に設けられ、有機色素を含む記録層２０２と、反射層２０３と、接着層２０４と、貼り合わせ基板２０５と、を有するものである。従来の光記録媒体２００は、本発明の光記録媒体１００とは異なり、１層の反射層２０３を有するものであり、樹脂基板２０１側から入射したレーザー光２１０により、光情報の記録再生が行われる。
以下、本発明の光記録媒体について、構成ごとに説明する。
【００３１】
１．反射層
まず、第一反射層１０３および第二反射層１０４について説明する。本発明では、熱伝導度が相対的に高い第一反射層１０３と、熱伝導度が相対的に低い第二反射層１０４とを組み合わせて用いる。まず、そのような反射層を組み合わせて用いる理由について詳しく説明する。
【００３２】
従来の追記型ＤＶＤタイプの光記録媒体は、一般に反射層として銀または銅を主成分とする層が単層で用いられている。このように記録層および接着層の間に、銀または銅を主成分とする反射層を用いると、４００ｎｍ近傍の短波長領域に至る可視光において、高い反射率が得られるという利点がある。また、銀または銅は安価であることから低コスト化が可能となる。しかし、このような光記録媒体に対して高速記録（例えばＤＶＤ−Ｒの８倍速）を行うと、耐候性試験において顕著な劣化が見られる場合がある。具体的には、試験前には良好であった記録部分のジッターが悪化したり、ＰＯエラー（Ｐａｒｉｔｙ  ｏｆ  Ｏｕｔｅｒ−ｃｏｄｅ  Ｅｒｒｏｒ）が増加するという傾向が見られることがある。このような劣化は、従来の耐候性試験前後の光記録媒体の評価として通例である低速記録（追記型ＤＶＤの１倍速〜２倍速）を行い、同様のａｇｉｎｇ  ｔｉｍｅ（耐候性試験処理時間）を経過させた場合には見られない現象である。このような劣化は、記録層と反射層との密着性が、高速記録という過酷な条件においてはとりわけ良くないことを意味すると考えられる。
【００３３】
尚、通常ＤＶＤ検査においては、８ＥＣＣ内のＰＩエラー（Ｐａｒｉｔｙ  ｏｆ  Ｉｎｎｅｒ−ｃｏｄｅ  Ｅｒｒｏｒ）と上記ＰＯエラーが汎用のＤＶＤ検査機で計測されうるエラーとして知られている。これらは、追記型ＤＶＤ規格書である、“ＤＶＤ  Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎｓ  ｆｏｒ  Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ  Ｄｉｓｃ  ｆｏｒ  Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｖｅｒ．２．０”３．２．７章の「ＥＣＣ  Ｂｌｏｃｋ  ｃｏｎｆｉｇｕｌａｔｉｏｎ」の項目等に記載されている内容に準拠したものである。
ＰＩエラーは、１ＥＣＣブロック内の１つの行内に１バイト以上のエラーがあった場合に１つとカウント（ｃｏｕｎｔ）されるエラーで、内部パリティーで復元可能なものである。一方、ＰＯエラーは、１ＥＣＣブロック内の１つの行内に、パリティーによる訂正後でも５バイト以上の誤りが含まれているときに１つとカウント（ｃｏｕｎｔ）されるエラーである。ここで、ＥＣＣとは、エラーコレクションコードを意味する。
【００３４】
本発明者らは、高速記録という過酷な条件においてエラーが発生する原因としては、まず、記録層が記録用のレーザー照射により受ける熱的ストレスが一つの要素であると考えた。かかる熱的ストレスは、記録層と反射層との界面でかなり大きい。一方、反射層と接着層との界面については、反射層の放熱効果が比較的大きいために、記録層と反射層ほど大きなストレスは至らないと考えられる。しかし、接着層は厚さが非常に大きく、また、温度が上がりにくいため、反射層の厚さ方向の温度勾配は、ほとんど温度が上がらない接着層に向かって、非常に急峻なものとなる。従って、記録層と反射層の界面と、反射層と接着層の界面とでは、熱的ストレスは大きな隔たりがあるということになる。そこで、かかる反射層と接着層との間に、低熱伝導度の第二反射層を設け、前述のストレスの隔たりを緩和することにより、高速記録における過度の熱的ストレスの残留を抑制できるのではないか、というのが、本発明の思想の一つである。
【００３５】
以上の考察により、本発明者らは、高速記録における熱的ストレスを緩和し、高速記録信号再生特性が良好であり、さらに、耐候性試験に強い記録部を形成することを、本発明の目的としたのである。
【００３６】
従って、本発明者らは、上記の理由により、第一反射層の上には、誘電体や、第一反射層よりも高熱伝導度の金属反射層ではなく、第一反射層よりも低熱伝導度の反射層を積層することが好ましいと考え、本発明に到達した。また、反射層を低熱伝導度の材料のみの単層で構成した場合は、一般に反射層の反射率が低下するため、記録に必要な熱エネルギーを十分に得られない場合や、汎用の装置での再生が出来ない場合が生じることとなる。
【００３７】
尚、一般的に、金属の熱伝導度が高いほど、反射率は高いという傾向が知られている。その傾向は特に、６００ｎｍ〜６５０ｎｍで顕著である。従って、本発明の第二反射層は、第一反射層よりも低反射率の層であるとも言える。
【００３８】
さらに、本発明者らの検討により、反射層が銀を主成分とする単層である場合は、ダミー基板側から長時間可視光を照射すると接着層が変質し、さらに接着層の変質によって銀を主成分とする反射層が腐食して、ＰＩエラーが増加することのあることが判った。また、ダミー基板側から長時間可視光を照射すると、接着層が黄変する、即ち、接着層が変質して劣化が生じる場合もあることがわかった。これらの劣化はいずれも、銀に由来する光触媒作用が原因と考えられる。
【００３９】
可視光を長時間照射することにより生じる、かかる問題は、第二反射層に銀以外の金属あるいは合金の層を設けて、銀と接着層とを接触させないようにすることにより改善される。さらには、本発明の銀または銅を主成分とする反射層よりも反射率の低い第二反射層を設けることにより、ダミー基板側から照射される可視光の接着層への反射が減衰される。その結果、接着層の上記の劣化がよりいっそう抑制されると考えられる。
【００４０】
尚、本明細書において、「熱伝導度」としては、キッテル著、「固体物理学入門  上巻」、第６版、１１７ページの表１「デバイ温度と熱伝導率」に記載された、３００Ｋでの熱伝導率の値を用いるものとする。前記の表に記載された主な材料の熱伝導度の値を下記の表１に示す。
【００４１】
【表１】
0004794467.tif 000002
【００４２】
実際の薄膜での熱伝導度を測定する方法はいくつか報告されているが、その実験には特殊な装置（例えば光交流法薄膜熱定数測定装置など）や特殊なサンプルの作製法を必要とする。そのために、これらの手法は一般に普及しておらず、測定には過度の労力を必要とする場合が多い。そのため、本発明においては、一般化されているバルクの熱伝導度を用いた。しかしながら、含金属化合物などを用いる場合には、化合物の熱伝導度は上記装置を用いる等で測定することができる。
【００４３】
尚、合金の場合など、複数の組成から反射層が成り立つ場合には、以下の様に、それぞれのバルクの熱伝導度に、その組成の割合（原子％）をかけた値を求めることにより熱伝導度の値と定める。例えば、９５原子％のＡｇと５原子％のＴｉから成る合金の熱伝導度は、Ａｇのバルクの熱伝導度（４２９Ｗ／ｍ・Ｋ）と、Ｔｉのバルクの熱伝導度（２２Ｗ／ｍ・Ｋ）から、４２９×０．９５＋２２×０．０５＝４０８．７Ｗ／ｍ・Ｋと求められる。このようにして、例えば３元系でも４元系でも同様に算出する。従って、光記録媒体が完成されたディスクの形態であっても、その反射層の組成がわかれば、上記のようにして、本発明における熱伝導度を算出することができる。
【００４４】
次に、第一反射層１０３および第二反射層１０４の材料について、具体的に説明する。
第一反射層１０３を構成する材料は限定されないが、銀または銅を主成分とすることが好ましい。本発明において、「銀または銅を主成分とする」とは、第一反射層１０３を構成する金属に、銅または銀が、５０原子％以上含まれていることをいう。中でも、本発明の効果をより有効に発揮させるためには、銅または銀が、８０原子％以上、特に９０原子％以上含まれていることが好ましい。
【００４５】
即ち、第一反射層１０３は、銀または銅の金属単体から成る反射層であっても良く、銀または銅を主成分とする合金から成る反射層であっても良い。特に、第一反射層１０３は、銀あるいは銀を主成分とする合金から成る反射層であれば、前述のように、本発明のより顕著な効果が得られやすいので好ましい。
【００４６】
第二反射層１０４は、第一反射層１０３よりも熱伝導度が低い反射層である。第二反射層１０４を構成する材料は、第一反射層よりも熱伝導度が低いものであれば特に限定されるものではないが、第一反射層１０３を構成する材料とは主成分とする元素が異なることが好ましい。すなわち、第一反射層１０３として銀または銅を主成分とする材料を用いる場合、第二反射層１０４としては銀および銅以外の元素を主成分とすることが好ましい。ここで「銀および銅以外の元素を主成分とする」とは、第二反射層１０４を構成する全金属に対し、銀および銅以外の金属が、５０原子％以上含まれていることをいう。但し、第一反射層１０３として銀を主成分とする材料を用いる場合は、第二反射層１０４として銅を主成分とする材料を用いることが出来る。
第二反射層１０４を構成する材料としては、耐食性が高いという観点から、Ａｕ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｗ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｎｉ，ＺｎおよびＺｒから成る群の中から選ばれる金属を主成分とすることが好ましく、特に、Ａｕを主成分とすることが好ましい。本発明において、上記の金属を「主成分とする」とは、第二反射層１０４を構成する全金属に対し、上記の金属が、５０原子％以上含まれていることをいう。中でも、本発明の効果をより有効に発揮させるためには、上記の金属が、８０原子％以上、特に９０原子％以上含まれていることが好ましい。
【００４７】
即ち、第二反射層１０４は、上記金属の金属単体から成る反射層であっても良く、上記金属を主成分とする合金から成る反射層であっても良い。更には、上記金属を主成分とする含金属化合物であってもよい。
【００４８】
第二反射層１０４の熱伝導度と第一反射層１０３の熱伝導度との差は限定されないが、第二反射層１０４の熱伝導度が第一反射層１０３の熱伝導度より６０Ｗ/ｍ・Ｋ以上低いことが好ましく、より好ましくは８０Ｗ/ｍ・Ｋ以上低いことが、更に好ましくは１００Ｗ/ｍ・Ｋ以上低いことが望ましい。第二反射層１０４の熱伝導度と第一反射層１０３の熱伝導度との差が前記範囲であれば、耐候性改良の効果が良好となるため望ましい。第二反射層１０４の熱伝導度と第一反射層１０３の熱伝導度との差の上限値は限定されないが、通常、４００Ｗ/ｍ・Ｋ以下である。
第一反射層１０３の熱伝導度は限定されないが、好ましくは３５０Ｗ/ｍ・Ｋ以上、より好ましくは４００Ｗ/ｍ・Ｋ以上、更に好ましくは４２０Ｗ/ｍ・Ｋ以上であり、好ましくは４５０Ｗ/ｍ・Ｋ以下である。第一反射層１０３の熱伝導度が前記範囲であれば、既に普及している光記録装置で良好な記録特性が得られる傾向にあるため好ましい。
また、第二反射層１０４の熱伝導度は限定されないが、好ましくは４０５Ｗ/ｍ・Ｋ以下、より好ましくは３４０Ｗ/ｍ・Ｋ以下であり、好ましくは２０Ｗ/ｍ・Ｋ以上である。第二反射層１０４の熱伝導度が前記範囲であれば、耐候性改良の効果が良好となるため好ましい。
【００４９】
次に、第一反射層１０３と第二反射層１０４の膜厚の組み合わせについて述べる。本発明では、第一反射層１０３の膜厚を、第二反射層１０４の膜厚より厚くすることを特徴とする。第一反射層１０３の膜厚を、第二反射層１０４の膜厚より厚くすることにより、記録再生光強度を減衰することがなく、第二反射層１０４のストレス緩和効果を十分得ることができる。
【００５０】
第一反射層１０３の膜厚は、第二反射層１０４の膜厚より厚ければ厚み比は限定されないが、第一反射層１０３の膜厚を基準として第二反射層１０４の膜厚が、好ましくは０．０１以上、より好ましくは０．０５以上、更に好ましくは０．１以上であり、通常は１未満、好ましくは０．８以下、より好ましくは０．６以下であることが望ましい。
【００５１】
第一反射層１０３の膜厚は、好ましくは５０ｎｍ以上、より好ましくは６０ｎｍ以上である。第一反射層１０３の膜厚を上記範囲の厚さ以上とすることにより、充分な反射率と放熱効果が確保できる。第一反射層１０３の膜厚の上限は２００ｎｍが好ましく、必要以上にスパッタ成膜時間を長くしないように、より好ましくは１５０ｎｍ以下である。第一反射層１０３の膜厚を上記範囲以下にすることにより、第一反射層のスパッタ成膜時間を適正な範囲とすることが可能となる。その結果、膜応力の影響を低減させ、ディスクの反りを適正な範囲に保つことが可能となる。
【００５２】
第二反射層１０４の膜厚は、好ましくは０．５ｎｍ以上、より好ましくは１ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上であり、よりいっそう好ましくは２０ｎｍ以上である。また、第二反射層１０４の膜厚は６０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５０ｎｍ以下である。第二反射層１０４の膜厚を上記範囲とすることにより、記録再生光のストレスを緩和することが可能となると共に、接着層のバリア層として、ダミー側からの光の長時間の照射による銀に由来する光触媒作用を防ぎ、接着層の黄変や第一反射層の劣化を抑制する十分な耐食性を確保することが可能である。
【００５３】
そして、第一反射層１０３と第二反射層１０４の膜厚の和は、必要以上にスパッタ成膜時間を長くしないように、２００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１９０ｎｍ以下である。また、ジッターを安定して、より良好にするには、第一反射層１０３と第二反射層１０４の膜厚の和は１６０ｎｍ以下が好ましい（表４参照）。ディスクの反りの観点からいえば、第一反射層１０３と第二反射層１０４の膜厚の和はより小さくすることが好ましく、１５０ｎｍ以下がさらに好ましい。また、第一反射層１０３と第二反射層１０４と膜厚の和は５０ｎｍ以上とするのが好ましく、より好ましくは６０ｎｍ以上である。十分な反射光量を得て、安定に成膜できるという理由から、さらに好ましくは８０ｎｍ以上である。第一反射層１０３と第二反射層１０４の膜厚の和を上記範囲にすることにより、十分なディスクの反射率を確保できると共に、ディスクの反りも良好に保つことが可能となる。
【００５４】
２．樹脂基板
次に、樹脂基板１０１について説明する。基板面入射型の光記録媒体の場合、樹脂基板１０１は、光透過性であることが必要であり、複屈折率が小さい等光学特性に優れることが望ましい。また、射出成形が容易である等、成形性に優れることが望ましい。更に、吸湿性が小さいことが望ましい。更に、光記録媒体１００がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。このような材料としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、ガラス等が挙げられる。また、ガラス等の基体上に、光硬化性樹脂等の放射線硬化樹脂から成る樹脂層を設けたもの等も使用できる。これらの中でも、光学特性、成形性等の高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性等の点からはポリカーボネートが好ましい。また、耐薬品性、低吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性等の点からは、ガラス基板が好ましい。
【００５５】
樹脂基板１０１の溝幅は、トラックピッチをＴとして、通常、２Ｔ／１０以上、好ましくは３Ｔ／９以上である。この範囲であれば反射率を十分に確保できる。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、樹脂基板１０１の溝幅は、通常、１４８ｎｍ以上、好ましくは２４６ｎｍ以上とする。但し、樹脂基板１０１の溝幅は、通常、７Ｔ／１０以下、好ましくは、６Ｔ／１０以下である。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、光透過性の樹脂基板１０１の溝幅は、通常、５１８ｎｍ以下、好ましくは４４４ｎｍ以下とすると、溝形状の転写性を良好にできるので好ましい。
【００５６】
樹脂基板１０１の溝幅は、トラックピッチをＴとして、通常、２Ｔ／１０以上、好ましくは３Ｔ／９以上である。この範囲であれば反射率を十分に確保できる。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、樹脂基板１０１の溝幅は、通常、１４８ｎｍ以上、好ましくは２４６ｎｍ以上とする。但し、樹脂基板１０１の溝幅は、通常、９Ｔ／１０以下、好ましくは、８Ｔ／１０以下である。例えば、トラックピッチを７４０ｎｍとすると、光透過性の樹脂基板１０１の溝幅は、通常、６６６ｎｍ以下、好ましくは５９２ｎｍ以下とすると、溝形状の転写性を良好にできるので好ましい。
【００５７】
樹脂基板１０１の溝深さは、記録再生光波長をλとした場合、通常λ／１５以上とするのが、反射率や溝信号を十分確保できるので好ましい。より好ましくはλ／１２以上である。例えば、記録再生光の波長（記録再生波長）がλ＝６６０ｎｍの場合、樹脂基板１０１の溝深さは、通常４４ｎｍ以上、好ましくは５５ｎｍ以上である。ただし、樹脂基板１０１の溝深さの上限は、通常２λ／５以下とするのが溝形状の転写性を良好にできるため好ましく、より好ましくは２λ／７以下である。例えば、記録再生波長が６６０ｎｍの場合、通常２６４ｎｍ以下、好ましくは１８８．６ｎｍ以下である。
【００５８】
樹脂基板１０１の厚さは、特に限定されないが、基板面入射型の光記録媒体の場合で、通常０．５５ｍｍ〜０．６５ｍｍの範囲内である。
【００５９】
３．記録層
次に、記録層１０２について説明する。記録層１０２に含まれる有機色素は、３５０〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有し、青色〜近マイクロ波レーザーでの記録に適する色素化合物が好ましい。追記型のＤＶＤに用いられるような波長６２０〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザー（例えば、６３５ｎｍ、６６０ｎｍ、６８０ｎｍ）、波長４０５ｎｍ又は５１５ｎｍ等のいわゆるブルーレーザー等による記録に適する色素がより好ましい。何故ならば、すでに述べたように、本発明の効果は、熱伝導度の小さい有機色素層から成る、より高密度記録、あるいは、より高速記録に用いる光記録媒体において顕著だからである。
【００６０】
また、記録層１０２は、最短マーク長０．４μｍ以下の記録マークを有することが好ましい。
【００６１】
記録層１０２に使用される色素としては、特に限定されないが、通常、有機色素材料が使用される。有機色素材料としては、例えば、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素等が挙げられる。これらの中でも、含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ耐久性、耐光性に優れるため好ましい。これらの色素は１種を単独で用いても良く、２種以上混合して用いても良い。
【００６２】
また、記録層１０２には、色素の他にその他の成分が含まれていてもよい。
例えば、記録層１０２は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えば、エチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００６３】
更に、記録層１０２には、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００６４】
記録層１０２の成膜方法としては、特に限定されないが、通常、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等、一般に行われている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法等の湿式成膜法が好ましい。また、均一な記録層が得られるという点から、真空蒸着法が好ましい。
【００６５】
スピンコート法による成膜の場合、回転数は１０〜１５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、一般的に加熱処理を行い、溶媒を除去する。ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、樹脂基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【００６６】
これらの溶媒を除去するための加熱処理は、溶媒を除去し、且つ、簡便な設備により行うという観点から、通常、使用する溶媒の沸点よりやや低い温度で行われ、通常、６０℃〜１００℃の範囲で行われる。また、加熱処理の方法は、特に限定されないが、例えば、樹脂基板１０１上に記録層１０２を形成するために色素を含有する溶液を塗布して成膜した後、所定の温度で所定時間（通常、５分間以上、好ましくは１０分間以上、但し、通常、３０分間以内、好ましくは２０分間以内）保持する方法が挙げられる。また、赤外線、遠赤外線を短時間（例えば、５秒間〜５分間）照射し、樹脂基板１０１を加熱する方法も可能である。
【００６７】
真空蒸着法の場合は、例えば、有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０−２〜１０−５Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた樹脂基板上に蒸着させることにより行われる。
【００６８】
４．接着層
次に、接着層１０５について説明する。尚、この接着層１０５は１層でも複数層から成っていても良い。つまり、第二反射層１０４の上に、紫外線硬化樹脂から成る接着層１０５を数μｍスピンコートした上に、別の接着層１０５´を設けて、貼り合わせ基板１０６を設けても良い。
【００６９】
接着層１０５を構成する樹脂は、２５℃前後での弾性率が、通常１０００ＭＰａ以上、好ましくは２０００ＭＰａ以上、より好ましくは３０００ＭＰａ以上であることが好ましい。弾性率が１０００ＭＰａ以上の樹脂を用いて接着層１０５を構成することにより、良好な接着性を有し、機械特性も良好な貼り合せディスクが得られる。但し、弾性率の上限は、通常、６０００ＭＰａ以下である。弾性率が６０００ＭＰａ以下の樹脂を用いることにより、例えば、塗布等の溶液法により接着層１０５を成膜することが可能となり、工業的に有利である。接着層１０５を構成する樹脂が上記範囲の弾性率を有することにより、良好な機械特性を有する貼り合せディスクが得られる。
【００７０】
尚、接着層１０５の膜厚は、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上が必要である。
【００７１】
また、この層があまり厚い場合には、紫外線硬化にも時間を要し、色素に過度の光エネルギーを与えることになり、劣化の原因になる恐れがある上に、ディスクの反りなどの原因にもなる場合があるので好ましくない。以上のことから、接着層１０５は、通常１００μｍ以下が好ましい。
【００７２】
次に、接着層１０５を構成する材料の具体例について説明する。
接着層１０５を構成する材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）等を挙げることができる。接着層１０５を構成する材料は、これらの中から適宜選択される。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は、必要に応じて適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、貼り合わせ基板１０６を設置後に、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。これらの材料は単独又は混合して用いても良い。
【００７３】
接着層１０５を形成する方法としては、例えば、スピンコート法やキャスト法等の塗布法等が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。高粘度の樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、２０℃〜４０℃において液状であるものを用いることが好ましい。これは、溶媒を用いることなく塗布できるため生産性が良好となるからである。また、塗布液の粘度は２０ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように調整するのが好ましい。
【００７４】
接着層１０５を構成する材料の中でも、紫外線硬化性樹脂は、透明度が高く、硬化時間が短く製造上有利な点で好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂が挙げられ、何れも使用することができる。
【００７５】
ラジカル系紫外線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。
【００７６】
紫外線硬化性化合物としては、単官能（メタ）アクリレート及び多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは各々１種を単独で用いても良く、２種類以上を併用しても良い。尚、本明細書においては、「アクリレート」と「メタアクリレート」とを併せて「（メタ）アクリレート」と称する。
【００７７】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル、ジシクロペンタニル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニロキシエチル等の基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７８】
多官能（メタ）アクリレートとしては例えば、１、３−ブチレングリコール、１、４−ブタンジオール、１、５−ペンタンジオール、３−メチル−１、５−ペンタンジオール、１、６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１、８−オクタンジオール、１、９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７９】
また、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８０】
また、これらの重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとして、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８１】
一方、光重合開始剤としては、分子開裂型光重合開始剤又は水素引き抜き型光重合開始剤が好ましい。
【００８２】
分子開裂型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２、４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２、４、６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２、６−ジメトキシベンゾイル）−２、４、４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。更に、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良い。
【００８３】
また、水素引き抜き型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４´−メチル−ジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【００８４】
また、これらの光重合開始剤とともに、増感剤を併用することができる。増感剤としては、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４、４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００８５】
一方、カチオン系紫外線硬化性樹脂としては、例えば、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等が挙げられる。エポキシ樹脂としては、遊離した塩素及び塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
【００８６】
カチオン型紫外線硬化性樹脂１００重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は、通常０．１重量部以上、好ましくは０．２重量部以上、また、通常２０重量部以下、好ましくは５重量部以下の範囲である。尚、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００８７】
また、紫外線硬化性樹脂には、必要に応じて更にその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤及びエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
また、紫外線硬化性樹脂の中でも、低光散乱性且つ低粘度でスピンコートで塗布可能なカチオン型紫外線硬化性樹脂が好ましい。更に、種類が多く、配合比、組成の自由度が大きい点、また、接着層１０５の厚さが１０μｍ以上の場合は、酸素による硬化阻害を考慮する必要がない点から、ラジカル系紫外線硬化樹脂を使用することが好ましい。
【００８８】
本発明の光記録媒体には、アドレス情報、媒体の種類の情報、記録パルス条件、及び最適記録パワー等の情報を記録することができる。これらの情報を記録する形態としては、例えば、追記型のＤＶＤの規格書に記載されているＬＰＰやＡＤＩＰのフォーマット等を用いればよい。
【００８９】
５．貼り合わせ基板
次に、貼り合わせ基板１０６について説明する。貼り合わせ基板１０６の材料等については、特に限定されないが、上述した「２．樹脂基板」に記載した内容と同様であることから、ここでの説明は省略する。
【００９０】
また、貼り合わせ基板１０６の膜厚は、特に限定されないが、基板面入射型の光記録媒体の場合で、通常０．５５ｍｍ〜０．６５ｍｍの範囲内である。
【００９１】
６．光記録媒体
本発明の光記録媒体１００は、上述した反射層、樹脂基板、記録層および必要により、接着層および貼り合わせ基板を有するものである。ＤＶＤディスクの場合には、接着層および貼り合わせ基板を有することが好ましいが、ＣＤ−Ｒ等のＣＤディスクの場合は接着層および貼り合わせ基板を有さずに、保護層に置き換えることが出来る。なお、ＣＤディスクにおける保護層としては、紫外線硬化樹脂等を用いることができる。
本発明の光記録媒体１００として、記録層を２以上有する場合の構成は限定されないが、通常、各記録層の間には樹脂等で形成された中間層を介する。また、通常、各記録層に対応して、直接または他の層を介して各反射層が設けられる。従って、複数の記録層に対応した複数の反射層が存在する場合があるが、そのような場合は、少なくとも１つの反射層が前記した構成の反射層であればよい。
本発明の光記録媒体１００は、記録線速度２８ｍ／ｓ以上で記録可能であることが好ましい。何故ならば、本発明の効果は、高速記録を行う有機色素の光記録媒体において顕著であるからである。
また、本発明において「記録可能」とは、ＤＶＤディスクにあっては、通常のＤＶＤディスク再生機器にて正常に再生可能な信号を記録できることを意味する。あるいは、ＤＶＤ規格に準拠した再生特性が得られる記録部が形成できることを意味する。また、ＣＤディスクにあっては、通常のＣＤディスク再生機器にて正常に再生可能な信号を記録できることを意味する。あるいは、ＣＶＤ規格に準拠した再生特性が得られる記録部が形成できることを意味する。
【実施例】
【００９２】
以下、実施例（実験例）に基づき本実施の形態を更に具体的に説明する。尚、本実施の形態は、その要旨を超えない限り以下の実施例（実験例）に限定されるものではない。
【００９３】
（１）追記型ＤＶＤディスクの実験例
以下に、追記型ＤＶＤディスクの場合の実験例を示す。
［実施例１］
＜光記録媒体の調製＞
先ず、表面に溝が形成されたＮｉスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、ピッチ０．７４μｍ、幅３２０±５０ｎｍ、深さ１５０±２５ｎｍの溝が形成された直径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの樹脂基板を形成した。有機色素化合物として、それぞれ下記化学式で表される含金属アゾ色素である色素Ａ及び色素Ｂの混合物（色素Ａ：色素Ｂ＝６０重量％：４０重量％）のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．５重量％）を調製し、これを上述の樹脂基板上に滴下し、スピンコートした後、７０℃で３０分間乾燥し、記録層を形成した。樹脂基板の溝部における記録層の膜厚は約８０ｎｍであり、ＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ社製ＥＴＡ−ＲＴで測定した波長約５９５ｎｍでのＯＤ値（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）は、０．８１であった。
【００９４】
【化１】
0004794467.tif 000003
【００９５】
【化２】
0004794467.tif 000004
【００９６】
続いて、記録層の形成後、なるべく時間をおかずに、この記録層上に、第一反射層である純銀（熱伝導度  ４２９Ｗ／ｍ・Ｋ（３００Ｋ））のスパッタ膜を１００ｎｍ成膜した。さらに第二反射層である純金（熱伝導度  ３１７Ｗ／ｍ・Ｋ（３００Ｋ））のスパッタ膜を５０ｎｍ成膜した。
【００９７】
スパッタの条件は以下のとおりである。
純銀：成膜パワー  ３．８ｋＷ、  電圧６４０Ｖ〜６５０Ｖ、電流４．６Ａ〜５．２Ａ、アルゴン流量  ２５ｓｃｃｍ、到達真空度  １．０×１０−２ｍｂａｒ以下
金：成膜パワー  ２．６ｋＷ、  電圧６４０Ｖ〜６５０Ｖ、電流４．６Ａ〜５．２Ａ、アルゴン流量  ２５ｓｃｃｍ、到達真空度  １．０×１０−２ｍｂａｒ以下
なお、後述する実施例２〜８、比較例１〜７では、ターゲットおよびスパッタ条件を適宜変更することにより、所望の膜厚になるように調整して成膜した。
【００９８】
＜貼り合わせディスク調製＞
上述した方法で調製したディスクの第二反射層の上に、紫外線硬化樹脂（日本化薬製ラジカル系紫外線硬化樹脂  ＤＶＤ７５０：弾性率３１００ＭＰａ（２５℃）、ガラス転移温度Ｔｇ＝９８℃）を塗布し、貼り合わせ基板（鏡面レプリカ）を上に乗せながら、前記紫外線硬化樹脂層の膜厚がおよそ５０μｍになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。続いて、貼り合わせ基板側から紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化させ、その層を接着層とすることにより、樹脂基板および貼り合わせ基板で狭持された光記録媒体を調製した。尚、貼り合わせの紫外線硬化樹脂は、キセノンフラッシュランプの他、高圧水銀ランプやメタルハライドランプを用いることが可能であり、本発明においては通常の条件である５００ｍＪ強の照射を行って硬化させた。
【００９９】
尚、前記紫外線硬化樹脂の弾性率及びガラス転移温度Ｔｇは、動的粘弾性試験機（レオバイブロン社製：ＤＤＶシリーズ）を使用し、測定周波数１０Ｈｚ、昇温速度３℃／ｍｉｎの条件で測定した。
【０１００】
＜耐候性試験前の記録再生特性の評価＞
評価機：記録ドライブ  Ｂｅｎｑ製  ＤＷ−８２２Ａ（ＦＷ：Ｂ３ＣＣ０１）
記録速度：ＤＶＤの８倍速（線速度２８ｍ／ｓ：８Ｘと記載する場合あり。）
記録パワー：１３ｍＷ〜１８ｍＷ
【０１０１】
＜記録再生特性のＯＫ／ＮＧの判断基準＞
以下の内容でのエラー測定をＯＫ／ＮＧの判断基準とした。
評価機：  Ｅｘｐｅｒｔ製  ＤＶＤＴ＋Ｒ（ｄｒｉｖｅ  ｕｎｉｔ＝Ｐｈｉｌｉｐｓ  ＤＶＤＲ−１０００用ドライブ搭載）でエラーを測定し、追記型ＤＶＤの規格に従って、ＰＩエラー２８０個以上、あるいは、ＰＯエラーが発生（たちあがり）すればＮＧ（スペックオフ）とした。
【０１０２】
＜耐候性試験の方法＞
上記８倍速の記録をしたディスク各５枚を以下の耐候性試験装置に投入し、９０℃，８０％相対湿度（但し、昇温中、目標到達温度での試験中及び降温中に結露が無いことを確認した）で１００時間保持した後、上記８倍速記録部のエラーを測定した後に、再度耐候性試験機に投入するという操作を繰り返した。尚、耐候性試験はタバイ製  ＰＲ−２ＫＰを使用した。
【０１０３】
上述の手順に従って作製した、第一反射層として純銀１００ｎｍ、第二反射層として純金５０ｎｍを有する貼り合わせディスクについて、上記耐候性試験前後のエラーの変化を測定した結果を表２および図２（ａ）、（ｂ）に示す。図２（ａ）、（ｂ）に点線で示されるように、９０℃，８０％相対湿度という過酷な条件下に８００時間という長い時間保持しても、ＰＩエラーはほとんど変化せず、ＰＯエラーは０個と、極めて良好であった。
【０１０４】
［比較例１］
実施例１において、反射層を純銀１６０ｎｍから成る１層としたこと以外は全く同様にして貼り合せディスクを作成し、実施例１と同様にして耐候性試験前後のエラーの変化を測定した結果を表２および図２（ａ）、（ｂ）に示す。図２（ａ）、（ｂ）に実線で示されるように、純銀の反射層１層の場合には、ＰＩエラーが４００時間で規格の上限値を超える劣化が見られ、それと同時に、ＰＯエラーも４００時間を越えると顕著に発生した。
【０１０５】
［比較例２］
実施例１において、反射層を純金１８０ｎｍから成る１層としたこと以外は全く同様にして貼り合せディスクを作成し、実施例１と同様にして耐候性試験前後のエラーの変化を測定した結果を表２および図２（ａ）、（ｂ）に示す。図２（ａ）、（ｂ）に破線で示したように、ＰＩエラーは８００時間を経て１００個以下であるものの、ＰＯエラーは２００時間を越えると顕著に発生した。このエラー発生部を観察したところ、金反射層が気泡のように膨れた欠陥が見られた。この欠陥は８倍速記録部の色素と反射層との界面の形状異常と考えられる。このような欠陥は、８倍速記録という高速記録の際に色素と反射層の界面で大きな熱的・物理的なストレスが発生した際に、金が柔らかいために変形が残留し、その変形部に耐候性試験中における樹脂基板からの水の染み出しや、温度湿度のサイクルによるディスクの反りなどが発生したことによる欠陥と考えられる。
金反射層は、従来、その化学的安定性から極めて良好な反射層として知られてきたが、本検討により、かかる高速記録条件で記録した場合に、ＰＩエラーは良好であるのにもかかわらず、局所的な欠陥が発生することがわかった。
尚、この１層のみの金反射層のスパッタ成膜条件は、成膜パワー  ３．０ｋＷ、  電圧５１０Ｖ〜６００Ｖ、電流５．０Ａ〜６．１Ａ、アルゴン流量  ７５ｓｃｃｍ、到達真空度  １．０×１０−２ｍｂａｒであった。
【０１０６】
［比較例３］
実施例１において、第一反射層を純金のスパッタ膜２０ｎｍ、第二反射層を純銀のスパッタ膜１４０ｎｍに変えた以外は全く同様にして、貼り合せディスクを作製し、実施例１と同様にして耐候性試験前後のエラーの変化を測定した結果を表２に示す。比較例３では、第一反射層を薄く形成したため純金層の影響は小さいと予想していたが、２００時間後でＰＯエラーが発生し、劣化が明らかであった。
【０１０７】
[比較例４]
実施例１において、第一反射層を純金のスパッタ膜１２０ｎｍ、第二反射層を純銀のスパッタ膜５０ｎｍに変えた以外は全く同様にして、貼り合せディスクを作製し、実施例１と同様にして耐候性試験前後のエラーの変化を測定した結果を表２に示す。比較例４では、２００時間後でＰＩエラー、ＰＯエラー双方とも顕著に発生して劣化が明らかであった。なお、２００時間後でＰＩエラー、ＰＯエラーが顕著に発生したため、２００時間以降の耐候性試験は行わなかった。
【０１０８】
[比較例５]
実施例１において、第一反射層を純銀のスパッタ膜４０ｎｍ、第二反射層を銅／銀（銀１２．８原子％、熱伝導度４０４Ｗ／ｍ・Ｋ（３００Ｋ））のスパッタ膜７０ｎｍに変えた以外は全く同様にして、貼り合せディスクを作製し、実施例１と同様にして耐候性試験前後のエラーの変化を測定した結果を表２に示す。比較例５では、２００時間後でＰＯエラーが発生していたことから、劣化が明らかであった。なお、２００時間後でＰＯエラーが発生したため、２００時間以降の耐候性試験は行わなかった。
【０１０９】
[比較例６]
実施例１において、第一反射層を純銀のスパッタ膜４０ｎｍ、第二反射層を純金のスパッタ膜７０ｎｍに変えた以外は全く同様にして、貼り合せディスクを作製し、実施例１と同様にして耐候性試験前後のエラーの変化を測定した結果を表２に示す。比較例６では、２００時間後でＰＩエラー、ＰＯエラー双方とも顕著に発生して劣化が明らかであった。なお、２００時間後でＰＩエラー、ＰＯエラーが顕著に発生したため、２００時間以降の耐候性試験は行わなかった。
【０１１０】
【表２】
0004794467.tif 000005
【０１１１】
［実施例２〜５］
純銀の第一反射層と純金の第二反射層の膜厚を表３のようにした以外は実施例１と全く同様にして、貼り合わせディスクを作製した。
【０１１２】
表３には、上記実施例２〜５に加えて、実施例１、比較例１〜６のディスクについて実施例１と同様の記録を行った結果の反射率（ディスクサンプル平均値）とジッター値（ディスクサンプル平均値）の値を記載した。なお、何れも耐候性試験前のディスクでの測定値である。
【０１１３】
【表３】
0004794467.tif 000006
【０１１４】
表４には、上記実施例２〜５に加えて、実施例１、比較例１〜３のディスクについて、レーベル印刷の無い、貼り合せ基板側から太陽光に２６０時間暴露させたあと、ディスクの接着層の黄変劣化の有無を観察した結果を示す。
【０１１５】
【表４】
0004794467.tif 000007
【０１１６】
表４より判るように、最外層の反射層に純銀を有する場合（比較例１と比較例３）には、接着層の黄変劣化が見られた。一方、その接着層の黄変劣化は、第一反射層に純銀を使用したとしても、その上の第二反射層に、反射率が小さい、熱伝導度が純銀よりも低い純金層を設けることにより防げることが判った。
【０１１７】
（２）ＣＤ−Ｒディスクの実験例
以下に、ＣＤ−Ｒディスクの場合の実験例を示す。
［実施例６］
＜光記録媒体の調製＞
先ず、表面に溝が形成されたＣＤ−Ｒ用のＮｉスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形することにより、ピッチ１．５μｍの溝が形成された直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの樹脂基板を形成した。その樹脂基板の上に、有機色素化合物としてフタロシアニン系色素を有機溶剤に溶解した溶液を滴下してスピンコートした後、加熱乾燥して記録層を形成した。記録層の膜厚は、色素化合物の最大吸収波長におけるＯＤ値が０．５７となるように調整した。
【０１１８】
続いて、記録層の形成後、なるべく時間をおかずに、この記録層上に、第一反射層である純銀のスパッタ膜を８０ｎｍ成膜した。さらに第二反射層である純金のスパッタ膜を３０ｎｍ成膜した。
上述した方法で調製したディスクの第二反射層の上に紫外線硬化樹脂を塗布した後、スピンコートした。続いて、塗布した紫外線硬化樹脂側から紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化させて保護層とした。
【０１１９】
＜耐候性試験前の記録再生特性の評価＞
評価機：記録ドライブ  Ｐｌｅｘｔｏｒ製  ＰＸ−Ｒ８２０Ｔ（ＦＷ：１．０３）
記録速度：ＣＤの８倍速（線速度９．６ｍ／ｓ：８Ｘと記載する場合あり。）
記録パワー：１２ｍＷ〜１７ｍＷ
【０１２０】
＜記録再生特性のＯＫ／ＮＧの判断基準＞
以下の内容でのエラー測定をＯＫ／ＮＧの判断基準とした。
評価機：  Ａｕｄｉｏ社製  ＣＤ−ＣＡＴＳでエラーを測定し、ＣＤ−Ｒの規格に従って、ＢＬＥＲ２２０個（スペック）以上をＮＧとした。なお、ＢＬＥＲとは、ブロックエラーレートを意味する。
【０１２１】
＜耐候性試験の方法＞
上記８倍速の記録をしたディスク各５枚を以下の耐候性試験装置に投入し、９０℃，８０％相対湿度（但し、昇温中、目標到達温度での試験中及び降温中に結露が無いことを確認した）で１００時間保持した後、上記８倍速記録部のエラーを測定した後に、再度耐候性試験機に投入するという操作を繰り返した。尚、耐候性試験はタバイ製  ＰＲ−２ＫＰを使用した。
【０１２２】
上述の手順に従って作製した、第一反射層として純銀８０ｎｍ、第二反射層として純金３０ｎｍを有するディスクについて、上記耐候性試験前後のＢＬＥＲを測定した結果を表５に示す。実施例６では、９０℃，８０％相対湿度という過酷な条件下に８００時間という長い時間保持しても、ＢＬＥＲ値は極めて良好であった。また、反射率も表５に示す通り、良好な値であった。
【０１２３】
［実施例７、８、比較例７］
第一反射層および第二反射層の膜厚を表６の通りとした以外は実施例６と同様にしてディスクを作成し、実施例６と同様にして反射率および耐候性試験前後のＢＬＥＲを測定した結果を表５に示す。
実施例６に対して第二反射層の純金の厚みを変えた実施例７、実施例８においても、耐候性試験後のＢＬＥＲ値は極めて良好であった。また、反射率も表６に示す通り、良好な値であった。
第二反射層を設けずに純銀の層のみとした比較例７では、反射率は良好であるものの、耐候性試験において８００時間後のＢＬＥＲ値が顕著に悪化した。
【０１２４】
【表５】
0004794467.tif 000008
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明は、追記型ＤＶＤやＣＤ−Ｒ等の赤色半導体レーザー用の光記録媒体や、青色半導体レーザー用の光記録媒体等の用途において、好適に利用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】（ａ）は、本発明の光記録媒体の構成を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は、従来の光記録媒体の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】実施例１、比較例１及び比較例２の耐候性試験前後のエラーの変化を示す図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１００、２００  光記録媒体
１０１、２０１  樹脂基板
１０２、２０２  記録層
１０３  第一反射層
１０４  第二反射層
１０５、２０４  接着層
１０６、２０５  貼り合わせ基板
１１０、２１０  レーザー光
２０３  反射層
【図１】
0004794467.tif 000009
【図２】
0004794467.tif 000010