(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体であって、
前記記録層は、並列して前記回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含み、
前記トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部、を有し、
前記ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有し、
前記第１磁性部および第２磁性部は、高温となるほど保磁力が小さくなる同一の磁性材料からなっており、
前記第１磁性部が前記基材の側で接合する部位は、前記第２磁性部が前記基材の側で接合する部位より、高い放熱性を有しており、かつ、
前記第２磁性部は、アズデポ状態とされている、磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、いわゆるディスクリートトラック型の磁気記録媒体の技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクなどの記憶装置を構成するための記録媒体として、磁気ディスク（磁気記録媒体）が知られている。磁気ディスクは、ディスク基板と所定の磁性構造を有する記録層とを含む積層構造を有する。コンピュータシステムにおける情報処理量の増大に伴い、磁気ディスクについては高記録密度化の要求が高まっている。
【０００３】
磁気ディスクへの情報記録に際しては、磁気ディスクの記録面（実質的に記録層により構成される）に対して記録用の磁気ヘッドが近接配置され、当該磁気ヘッドにより、記録層に対し、その保磁力より強い記録磁界が印加される。磁気ディスクに対して磁気ヘッドを相対移動させつつ磁気ヘッドからの記録磁界の向きを順次反転させることにより、記録層の情報トラックにて、磁化方向が順次反転する複数の記録マーク（磁区）がディスク周方向に連なって形成される。このとき、記録磁界方向を反転させるタイミングが制御されることにより、各々に所定の長さで記録マークが形成される。このようにして、記録層において、磁化方向の変化として所定の信号ないし情報が記録される。
【０００４】
また、磁気ディスクの技術分野においては、高記録密度化を図るのに好ましい媒体として、いわゆるディスクリートトラック（ＤＴ）型の磁気ディスクが知られている。ＤＴ型磁気ディスクについては、例えば下記の特許文献１〜３に記載されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−７１４６７号公報
【特許文献２】特開２００５−１６６１１５号公報
【特許文献３】特開２００５−２９３７３０号公報
【０００６】
図３１および図３２は、ＤＴ型の従来の磁気ディスク９０を表す。図３１は、磁気ディスク９０における部分平面図であり、図３２は、図３１の線XXXII−XXXIIに沿った断面図である。
【０００７】
磁気ディスク９０は、図３２に示すように、ディスク基板９１、記録層９２、および保護膜９３からなる積層構造を有する。記録層９２は、図３１に示すように、ディスク周方向Ｄに延びる複数の情報トラック９２Ａと、情報トラック間の非磁性部９２Ｂとからなる。情報トラック９２Ａは、トラックサーボ信号領域ＴＳおよびユーザデータ領域ＹＤを有する。トラックサーボ信号領域ＴＳは、複数の磁性部９２ａおよび複数の非磁性部９２ｂを有し、隣り合う磁性部９２ａは非磁性部９２ｂにより分断されている。複数の磁性部９２ａは、各々いわゆる垂直磁気異方性を有し、同一方向に磁化されている。このような複数の磁性部９２ａおよび複数の非磁性部９２ｂは、トラックサーボ情報を構成する。また、ユーザデータ領域ＹＤは、ユーザデータが書き込まれることとなる磁性部９２ｃを有する。磁性部９２ｃは、磁性部９２ａと同一の磁性材料により構成されて垂直磁気異方性を有し、初めてユーザデータが書き込まれる前には、上下方向の磁化がランダムかつ略均等に生じている、いわゆるアズデポ（ａｓ−ｄｅｐｏ）状態にある。
【０００８】
このようなＤＴ型の磁気ディスク９０の情報記録時には、磁気ヘッドによる記録磁界の印加によって、記録層９２の一の情報トラック９２Ａにおけるユーザデータ領域ＹＤの磁性部９２ｃにて、磁化方向が順次反転する複数の記録マーク（磁区）がディスク周方向に連なって形成される。このとき、情報記録進行中であって磁界が順次印加される情報トラック９２Ａと、これと隣り合う別の情報トラック９２Ａとが、非磁性部９２Ｂにより分断されているため、当該隣の情報トラック９２Ａの記録マークが消失ないし劣化するというクロスライト現象が抑制される。クロスライト現象が抑制される磁気ディスクは、トラックの狭ピッチ化ないし高記録密度化を図るうえで、好ましい。
【０００９】
図３３および図３４は、磁気ディスク９０の製造方法を表す。磁気ディスク９０の製造においては、まず、図３３（ａ）に示すように、ディスク基板９１上に磁性膜９４が形成される。次に、図３３（ｂ）に示すように、磁性膜９４上にレジストパターン９５が形成される。レジストパターン９５は、上述の記録層９２における非磁性部９２ｂのパターン形状に対応する開口部９５ａを有する。また、レジストパターン９５は、記録層９２における非磁性部９２Ｂのパターン形状に対応する開口部（図示なし）も有する。次に、図３３（ｃ）に示すように、レジストパターン９５をマスクとして利用して行うエッチング処理によって磁性膜９４がパターニングされる。これにより、記録層９２における磁性部９２ａ，９２ｃが形成される。次に、レジストパターン９５が除去された後、図３３（ｄ）に示すように、磁性部９２ａ，９２ｃ間に非磁性材料９６が充填される。これにより、記録層９２における非磁性部９２Ｂ，９２ｂが形成される。
【００１０】
次に、図３４（ａ）に示すように、記録層９２上に保護膜９３が形成される。次に、図３４（ｂ）に示すように、記録層９２の全体に対する一括的な磁界印加により、磁性部９２ａ，９２ｃの磁化方向が同一方向に揃えられる。本工程では、磁性部９２ａ，９２ｃの保磁力より強い磁界Ｈｒが印加される。磁性部９２ａの磁化方向が同一方向に揃うことにより、トラックサーボ信号領域ＴＳにおいてトラックサーボ情報が形成されることとなる。この後、ＡＣイレース処理により、図３４（ｃ）に示すように、ユーザデータ領域ＹＤの磁性部９２ｃがアズデポ化される。ＡＣイレース処理では、所定の磁気ヘッドを使用して、情報トラック９２Ａごとに、ユーザデータ領域ＹＤの磁性部９２ｃにおいて高周波の繰り返しパターンマークが形成される。以上のようにして、記録層９２にトラックサーボ情報が形成された磁気ディスク９０は製造される。
【００１１】
しかしながら、従来の磁気ディスク９０は、効率よく製造することができない。従来の磁気ディスク９０の製造過程では、記録層９２において磁性部９２ａの磁化方向を揃えたうえで、磁性部９２ｃのみをアズデポ状態とするためのＡＣイレース処理が必要である。ＡＣイレース処理は、情報トラック９２Ａごとに行わなければならない。そのため、ＡＣイレース処理によると、全ての情報トラック９２Ａ内の磁性部９２ｃ（従って、記録層９２における全ての磁性部９２ｃ）をアズデポ状態とするのには、多大な時間（磁気ディスク９０一枚あたり例えば１０分以上）を要してしまう。このようなＡＣイレース処理は、磁気ディスクの製造効率向上および製造コスト低減の観点からは、好ましくない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、以上のような事情の下で考え出されたものであり、トラックサーボ情報を効率よく形成し且つユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とするのに適した、磁気記録媒体および磁気記録媒体製造方法を提供することを、目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の第１の側面によると、基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体が提供される。この磁気記録媒体において、記録層は、並列して回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含む。トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部を有する。ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有する。第１および第２磁性部は垂直磁気異方性を有し、第２磁性部の保磁力は、第１磁性部の保磁力より大きい。また、本発明における基材には、基板、および、表面に所定の材料膜が形成された基板が含まれる。このような構成を有する本磁気記録媒体は、トラックサーボ情報を効率よく形成し且つユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とするうえで、好適である。
【００１４】
本磁気記録媒体の製造過程においては、トラックサーボ信号領域における第１磁性部およびユーザデータ領域における第２磁性部は、各々、例えば基材上にて、薄膜形成技術を利用して先ずアズデポ状態に形成することができる。この後、第１磁性部の保磁力より強く且つ第２磁性部の保磁力より弱い所定の磁界を、記録層の全体に対して一括的に印加すると、第２磁性部のアズデポ状態を維持しつつ、第１磁性部の磁化方向を同一方向に揃えることが可能である。この磁界印加により、トラックサーボ信号領域において、同一の磁化方向を有する複数の第１磁性部と複数の非磁性部とから構成されるトラックサーボ情報が形成される。
【００１５】
本磁気記録媒体においては、記録層の全体に対する一括的な磁界印加によりトラックサーボ信号領域における第１磁性部の磁化方向を同一方向に揃えることができるため、効率よくトラックサーボ情報を形成することができる。本磁気記録媒体では、トラックサーボ情報を形成するうえで、磁気ヘッドなどにより第１磁性部ごとに個別に磁界を印加する必要はない。また、本磁気記録媒体においては、第１および第２磁性部の保磁力の差を利用して、アズデポ状態で先ずは形成される第２磁性部の当該アズデポ状態を、上述のような一括的な磁界印加工程を経ても維持することができる。そのため、本磁気記録媒体では、ユーザデータ領域における第２磁性部をアズデポ状態とするうえで、従来の磁気ディスク９０に関して上述したようなＡＣイレース処理を行う必要はない。このように、本磁気記録媒体においては、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とすることが可能なのである。このような磁気記録媒体は、製造効率の向上や製造コストの低減を図りやすい。
【００１６】
本発明の第１の側面における好ましい実施の形態では、基材と第２磁性部の間には、微小凹凸構造層が介在する。磁性部が積層形成される積層対象面の表面粗さは、当該磁性部の保磁力の大きさに影響を与え、当該積層対象面の表面粗さが大きいほど、当該積層対象面上に形成される磁性部の保磁力は大きい傾向にある場合がある。したがって、所定の微小凹凸構造層上に第２磁性部を設け且つ例えば基材表面上に直に第１磁性部を設けることにより、第２磁性部の保磁力を、第１磁性部の保磁力よりも大きく設定することが可能である。
【００１７】
本発明の第１の側面における他の好ましい実施の形態では、基材は、表面粗化領域を有し、第２磁性部は、表面粗化領域上に設けられている。磁性部が積層形成される積層対象面の表面粗さが大きいほど、上述のように、当該積層対象面上に形成される磁性部の保磁力は大きい傾向にある場合がある。したがって、所定の表面粗化領域上に第２磁性部を設け且つ基材において例えば表面粗化処理等が施されていない領域の上に第１磁性部を設けることにより、第２磁性部の保磁力を、第１磁性部の保磁力よりも大きく設定することが可能である。
【００１８】
本発明の第２の側面によると、基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体が提供される。この磁気記録媒体において、記録層は、並列して回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含む。トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部を有する。ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有する。第１および第２磁性部は垂直磁気異方性を有し、第１磁性部の保磁力は、第２磁性部の保磁力より大きい。このような構成を有する本磁気記録媒体は、トラックサーボ情報を効率よく形成し且つユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とするうえで、好適である。
【００１９】
本磁気記録媒体の製造過程においては、トラックサーボ信号領域内に第１磁性部を含み且つユーザデータ領域内に第２磁性部を含む記録層の全体に対し、第１磁性部の保磁力より強い所定の磁界を一括的に印加すると、第１および第２磁性部の磁化方向を同一方向に揃えることが可能である。この磁界印加により、トラックサーボ信号領域において、同一の磁化方向を有する複数の第１磁性部と複数の非磁性部とから構成されるトラックサーボ情報が形成される。この後、例えば媒体全体を所定の温度で加熱することにより、より大きな保磁力を有する第１磁性部の磁化方向を維持しつつ、より小さな保磁力を有する第２磁性部を熱緩和させてアズデポ状態とすることができる。
【００２０】
本磁気記録媒体においては、記録層の全体に対する一括的な磁界印加によりトラックサーボ信号領域における第１磁性部の磁化方向を同一方向に揃えることができるため、効率よくトラックサーボ情報を形成することができる。また、本磁気記録媒体においては、ユーザデータ領域における第２磁性部をアズデポ状態とするうえで、従来の磁気ディスク９０に関して上述したようなＡＣイレース処理を行う必要はない。第１および第２磁性部の保磁力の差を利用して、例えば媒体全体に対する所定程度の加熱処理により、第１磁性部の磁化方向を維持しつつ、第２磁性部を熱緩和させてアズデポ状態とすることができるからである。このように、本磁気記録媒体においては、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とすることが可能なのである。このような磁気記録媒体は、製造効率の向上や製造コストの低減を図りやすい。
【００２１】
本発明の第２の側面における好ましい実施の形態では、基材と第１磁性部の間には、微小凹凸構造層が介在する。磁性部が積層形成される積層対象面の表面粗さが大きいほど、上述のように、当該積層対象面上に形成される磁性部の保磁力は大きい傾向にある場合がある。したがって、所定の微小凹凸構造層上に第１磁性部を設け且つ例えば基材表面上に直に第２磁性部を設けることにより、第１磁性部の保磁力を、第２磁性部の保磁力よりも大きく設定することが可能である。
【００２２】
本発明の第２の側面における他の好ましい実施の形態では、基材は、表面粗化領域を有し、第１磁性部は、表面粗化領域上に設けられている。磁性部が積層形成される積層対象面の表面粗さが大きいほど、上述のように、当該積層対象面上に形成される磁性部の保磁力は大きい傾向にある場合がある。したがって、所定の表面粗化領域上に第１磁性部を設け且つ基材において例えば表面粗化処理等が施されていない領域上に第２磁性部を設けることにより、第１磁性部の保磁力を、第２磁性部の保磁力よりも大きく設定することが可能である。
【００２３】
好ましくは、第１磁性部の側壁は粗化されている。このような構成は、第１磁性部の保磁力を第２磁性部の保磁力よりも大きく設定するうえで好適である。
【００２４】
本発明の第３の側面によると、基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体が提供される。この磁気記録媒体において、記録層は、並列して回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含む。トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部を有する。ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有する。第１および第２磁性部は垂直磁気異方性を有し、基材と第１磁性部の間、または、基材と第２磁性部の間には、微小凹凸構造層が介在する。
【００２５】
磁性部が積層形成される積層対象面の表面粗さが大きいほど、上述のように、当該積層対象面上に形成される磁性部の保磁力は大きい傾向にある場合がある。したがって、本発明の第３の側面に係る磁気記録媒体においては、所定の微小凹凸構造層上に第１磁性部を設け且つ例えば基材表面上に直に第２磁性部を設けることにより、第１磁性部の保磁力を、第２磁性部の保磁力よりも大きく設定することが可能である。或は、所定の微小凹凸構造層上に第２磁性部を設け且つ例えば基材表面上に直に第１磁性部を設けることにより、第２磁性部の保磁力を、第１磁性部の保磁力よりも大きく設定することが可能である。このような本磁気記録媒体においては、第１または第２の側面に係る磁気記録媒体に関して上述したのと同様に、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とすることが可能である。
【００２６】
本発明の第４の側面によると、基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体が提供される。この磁気記録媒体において、基材は、表面粗化領域を有する。記録層は、並列して回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含む。トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部を有する。ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有する。第１および第２磁性部は垂直磁気異方性を有し、第１磁性部または第２磁性部は、基材の表面粗化領域上に設けられている。
【００２７】
磁性部が積層形成される積層対象面の表面粗さが大きいほど、上述のように、当該積層対象面上に形成される磁性部の保磁力は大きい傾向にある場合がある。したがって、本発明の第４の側面に係る磁気記録媒体においては、所定の表面粗化領域上に第１磁性部を設け且つ基材において例えば表面粗化処理等が施されていない領域の上に第２磁性部を設けることにより、第１磁性部の保磁力を、第２磁性部の保磁力よりも大きく設定することが可能である。或は、所定の表面粗化領域上に第２磁性部を設け且つ基材において例えば表面粗化処理等が施されていない領域の上に第１磁性部を設けることにより、第２磁性部の保磁力を、第１磁性部の保磁力よりも大きく設定することが可能である。このような本磁気記録媒体においては、第１または第２の側面に係る磁気記録媒体に関して上述したのと同様に、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とすることが可能である。
【００２８】
本発明の第５の側面によると、基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体が提供される。この磁気記録媒体において、記録層は、並列して回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含む。トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部を有する。ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有する。第１および第２磁性部は垂直磁気異方性を有し、第１磁性部の側壁は粗化されている。このような構成を有する磁気記録媒体においては、第１磁性部の保磁力を第２磁性部の保磁力よりも大きく設定することが可能である。したがって、本磁気記録媒体においては、第２の側面に係る磁気記録媒体に関して上述したのと同様に、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とすることが可能である。
【００２９】
本発明の第６の側面によると、基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体が提供される。この磁気記録媒体において、記録層は、並列して回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含む。トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部を有する。ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有する。第１および第２磁性部は垂直磁気異方性を有し、第１磁性部が基材の側で接合する部位（第１部位）は、第２磁性部が基材の側で接合する部位（第２部位）より、高い放熱性を有する。
【００３０】
本磁気記録媒体では、例えば、基材と第１磁性部の間には放熱層が介在する。或は、基材と第１磁性部の間には第１放熱層が介在し、基材と第２磁性部の間には第２放熱層が介在し、第１放熱層の熱伝導率は、第２放熱層の熱伝導率より大きくてもよい。或は、基材と第１磁性部の間には第１放熱層が介在し、基材と第２磁性部の間には第２放熱層が介在し、第１放熱層は、第２放熱層より厚くてもよい。これらの構成は、第１磁性部が基材の側で接合する第１部位について、第２磁性部が基材の側で接合する第２部位よりも、高い放熱性を設定するうえで好ましい。
【００３１】
本磁気記録媒体の製造過程においては、トラックサーボ信号領域内に第１磁性部を含み且つユーザデータ領域内に第２磁性部を含む記録層の全体に対し、第１および第２磁性部の保磁力より強い所定の磁界を一括的に印加すると、第１および第２磁性部の磁化方向を同一方向に揃えることが可能である。この磁界印加により、トラックサーボ信号領域において、同一の磁化方向を有する複数の第１磁性部と複数の非磁性部とから構成されるトラックサーボ情報が形成される。この後、例えば、光磁気記録媒体用のバルクイレーザを使用して、複数の情報トラックにわたる径を有するレーザを、基材とは反対の側から記録層に対して所定パワーで照射することにより、第１および第２磁性部が同一磁性材料よりなる場合であっても、第１磁性部の磁化方向を維持しつつ、第２磁性部を熱緩和させてアズデポ状態とすることができる。
【００３２】
本磁気記録媒体において、第１および第２磁性部が同一の磁性材料よりなる場合、同一温度条件のもとでは、第１および第２磁性部は実質的に同一の保磁力を有する。しかしながら、本磁気記録媒体では、第１磁性部が基材の側で接合する第１部位は、第２磁性部が基材の側で接合する第２部位より、高い放熱性を有するため、記録層が基材とは反対の側からレーザ照射を受けると、第１および第２部位の放熱性ないし放熱機能の差に起因して、照射領域内の第２磁性部は照射領域内の第１磁性部よりも昇温する。また、当該昇温の程度差に起因して、照射領域内の第２磁性部の保磁力は、照射領域内の第１磁性部の保磁力よりも小さくなる（高温ほど、磁性材料の保磁力は小さい傾向にある）。したがって、当該レーザ照射工程では、照射領域内において、より低温で且つより大きな保磁力を有する第１磁性部の磁化方向を維持しつつ、より高温で且つより小さな保磁力を有する第２磁性部を熱緩和させてアズデポ状態とすることができる。
【００３３】
本磁気記録媒体においては、記録層の全体に対する一括的な磁界印加によりトラックサーボ信号領域における第１磁性部の磁化方向を同一方向に揃えることができるため、効率よくトラックサーボ情報を形成することができる。また、本磁気記録媒体においては、ユーザデータ領域における第２磁性部をアズデポ状態とするうえで、従来の磁気ディスク９０に関して上述したようなＡＣイレース処理を行う必要はない。第１磁性部が基材の側で接合する第１部位と第２磁性部が基材の側で接合する第２部位との放熱性ないし放熱機能の差を利用して、基材とは反対の側からの記録層へのレーザ照射により、第１磁性部の磁化方向を維持しつつ、第２磁性部を熱緩和させてアズデポ状態とすることができるからである。このように、本磁気記録媒体においては、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とすることが可能なのである。このような磁気記録媒体は、製造効率の向上や製造コストの低減を図りやすい。
【００３４】
本発明の第１から第６の側面において、好ましくは、第１磁性部および第２磁性部は、同一組成の磁性材料よりなる。本発明においては、第１磁性部を構成するための磁性材料と、第２磁性部を構成するための磁性材料とを、異ならせる必要はない。
【００３５】
本発明の第７の側面によると磁気記録媒体製造方法が提供される。この方法は、上述の第１の側面に係る磁気記録媒体における第１および第２磁性部に対し、第１磁性部の保磁力より強く且つ第２磁性部の保磁力より弱い磁界を一括的に加え、第１磁性部の磁化方向を同一方向に揃える工程を含む。このような方法によると、第１の側面に係る磁気記録媒体に関して上述したように、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とすることが可能である。
【００３６】
本発明の第８の側面によると磁気記録媒体製造方法が提供される。この製造方法は、上述の第２または第５の側面に係る磁気記録媒体における第１および第２磁性部に対し、第１磁性部の保磁力より強い磁界を一括的に加え、第１および第２磁性部の磁化方向を同一方向に揃える工程と、加熱により第２磁性部を熱緩和させる工程とを含む。このような方法によると、第２の側面に係る磁気記録媒体に関して上述したように、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とすることが可能である。
【００３７】
本発明の第９の側面によると磁気記録媒体製造方法が提供される。この製造方法は、上述の第６の側面に係る磁気記録媒体における第１および第２磁性部に対して一括的に磁界を加えて当該第１および第２磁性部の磁化方向を同一方向に揃える工程と、基材とは反対の側からの記録層に対するレーザ照射により第２磁性部を熱緩和させる工程とを含む。このような方法によると、第６の側面に係る磁気記録媒体に関して上述したように、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域における磁性部を効率よくアズデポ状態とすることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
図１から図３は、本発明の第１の実施形態に係るディスクリートトラック（ＤＴ）型の磁気ディスクＸ１を表す。図１は、磁気ディスクＸ１の平面図であり、図２は、図１の磁気ディスクＸ１の部分拡大平面図である。また、図３は、図２の線III−IIIに沿った断面図である。
【００３９】
磁気ディスクＸ１は、ディスク基板１１、記録層１２、微小凹凸構造層１３（図１，２では図示なし）、および保護膜１４（図１，２では図示略）を含む積層構造を有し、熱アシスト磁気記録方式による情報記録と情報再生とを実行可能な磁気記録媒体として構成されている。
【００４０】
ディスク基板１１は、主に、磁気ディスクＸ１の剛性を確保するための部位であり、例えば、アルミニウム合金、ガラス、シリコン、またはポリカーボネート樹脂よりなる。
【００４１】
記録層１２は、図２に示すように、複数の情報トラック１２Ａおよび複数の非磁性部１２Ｂを有する。情報トラック１２Ａは、図１にて一部を模式的に太線で示すように、磁気ディスクＸ１の回転中心Ａを共通中心としてディスク基板１１上にて同心円状に配置されている。また、情報トラック１２Ａは、部分的に図２に示すように、複数のトラックサーボ信号領域ＴＳおよび複数のユーザデータ領域ＹＤに区分される。トラックサーボ信号領域ＴＳは、複数の磁性部１２ａおよび複数の非磁性部１２ｂを有し、隣り合う磁性部１２ａは非磁性部１２ｂにより分断されている。複数の磁性部１２ａは、各々いわゆる垂直磁気異方性を有し、同一方向に磁化されている。磁性部１２ａの保磁力Ｈｃ1は、例えば３〜５ｋＯｅ（室温）である。このような磁性部１２ａは、例えばＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ2よりなる。非磁性部１２ｂは、例えばＳｉＮ、Ｃ、ＳｉＯ2などの非磁性材料よりなる。トラックサーボ信号領域ＴＳにおけるこのような複数の磁性部１２ａおよび複数の非磁性部１２ｂは、トラックサーボ情報を構成する。また、ユーザデータ領域ＹＤは、ユーザデータが書き込まれることとなる、情報トラック１２Ａの延び方向に延びる磁性部１２ｃを有する。磁性部１２ｃは、磁性部１２ａと同一の磁性材料により構成されて垂直磁気異方性を有し、初めてユーザデータが書き込まれる前には、上下方向の磁化がランダムかつ均等に生じている、いわゆるアズデポ状態にある。磁性部１２ｃの保磁力Ｈｃ2は、磁性部１２ａの保磁力Ｈｃ1より大きい限りにおいて例えば４〜６ｋＯｅ（室温）である。非磁性部１２Ｂは、情報トラック１２Ａ間に介在し、上述の非磁性部１２ｂと同一の非磁性材料よりなる。以上のような記録層１２の厚さは例えば１０〜２０ｎｍである。
【００４２】
微小凹凸構造層１３は、情報トラック１２Ａのユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃの保磁力を高めるためのものであり、ディスク基板１１上において、記録層１２のトラックサーボ信号領域ＴＳに対応する領域を除く、少なくともユーザデータ領域ＹＤに対応する領域に設けられている（例えば、ディスク基板１１上において、記録層１２のトラックサーボ信号領域ＴＳに対応する領域を除く、全面に設けられている）。また、微小凹凸構造層１３は、記録層１２の側に、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃのピンニング力を高めて実効的な保磁力を高めるピンニング作用を及ぼす微小凹凸構造を有する。微小凹凸構造層１３における記録層１２の側の表面について、表面粗さＲａは例えば０.５〜２ｎｍであり、凹凸形状における凸部（成長粒子）の平均直径（平均粒径）は、例えば５〜１０ｎｍである。微小凹凸構造層１３の構成材料としては、例えばＰｔ，Ａｕ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｃｏを採用することができる。このような微小凹凸構造層１３の厚さは例えば３〜１０ｎｍである。
【００４３】
トラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部１２ａとユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃとは、上述のように同一の磁性材料よりなるが、本実施形態では、微小凹凸構造層１３からのピンニング作用に起因して、磁性部１２ｃは磁性部１２ａよりも大きな保磁力を有する。図４は、磁性部１２ａの保磁力Ｈｃ1および磁性部１２ｃの保磁力Ｈｃ2について、温度依存性の一例を表すグラフである。図４のグラフでは、横軸は温度を示し、縦軸は保磁力を示す。磁性部１２ａ，１２ｃは、同一の磁性材料よりなるが、異なる温度依存性を示す。具体的には、キュリー温度Ｔｃを除く温度範囲において、保磁力Ｈｃ2は保磁力Ｈｃ1より大きい。
【００４４】
保護膜１４は、記録層１２や微小凹凸構造層１３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、またはダイアモンドライクカーボンよりなる。
【００４５】
以上のようなディスク基板１１、記録層１２、微小凹凸構造層１３、および保護膜１４を含む磁気ディスクＸ１の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。例えば、ディスク基板１１と記録層１２の間には、記録用の磁気ヘッドから出力される記録磁界を収束させ、記録マークの形成に必要な実効的な記録磁界を低減させるための、いわゆる軟磁性材料層を設けてもよい。
【００４６】
このような磁気ディスクＸ１の情報記録時には、磁気ヘッド（図示略）による記録磁界の印加によって、記録層１２の一の情報トラック１２Ａにおけるユーザデータ領域ＹＤの磁性部１２ｃにて、磁化方向が順次反転する複数の記録マーク（磁区）がディスク周方向に連なって形成される。このとき、情報記録進行中であって磁界が順次印加される情報トラック１２Ａと、これの隣の別の情報トラック１２Ａとが、非磁性部１２Ｂにより分断されているため、当該隣の情報トラック１２Ａの記録マークが消失ないし劣化するというクロスライト現象が抑制される。クロスライト現象が抑制される磁気ディスクは、トラックの狭ピッチ化ないし高記録密度化を図るうえで、好ましい。
【００４７】
図５から図７は、磁気ディスクＸ１の製造方法の一例を表す。図５から図７では、磁気ディスクＸ１の製造過程における、図３に示す箇所の断面構造の変化を表す。
【００４８】
磁気ディスクＸ１の製造においては、まず、図５（ａ）に示すように、ディスク基板１１上にレジストパターン１５を形成する。レジストパターン１５は、本方法では、記録層１２におけるトラックサーボ信号領域ＴＳに対応するパターン形状を有する。ディスク基板１１上に液状のフォトレジストをスピンコーティングにより成膜した後に、露光処理およびその後の現像処理を経て当該フォトレジスト膜をパターニングすることにより、レジストパターン１５を形成することができる。後出のレジストパターンについても、同様の手法により形成することができる。
【００４９】
次に、図５（ｂ）に示すように、ディスク基板１１上に微小凹凸構造層１３を形成する。微小凹凸構造層１３の形成においては、例えば、スパッタリング法により、ディスク基板１１の素地よりも表面張力の大きな材料をディスク基板１１上にアイランド成長させる。或は、ディスク基板１１上に表面張力の比較的小さな材料（例えばＳｉＮ）よりなる下地膜を例えばスパッタリング法により形成した後、当該下地膜上に表面張力のより大きな材料（例えばＰｔ）を例えばスパッタリング法により成長させることにより、微小凹凸構造層１３を形成してもよい。
【００５０】
次に、図５（ｃ）に示すようにレジストパターン１５を除去した後、図５（ｄ）に示すように、垂直磁化膜である磁性膜１６を形成する。磁性膜１６の形成においては、例えばスパッタリング法により、磁性部１２ａに関して上述した材料を、微小凹凸構造層１３を覆うようにディスク基板１１上に成膜する。本工程では、磁性膜１６は、上下方向の磁化がランダムかつ略均等に生じているアズデポ状態に形成される。
【００５１】
次に、図６（ａ）に示すように、磁性膜１６上にレジストパターン１７を形成する。レジストパターン１７は、上述の非磁性部１２ｂのパターン形状に対応する開口部１７ａを有する。また、レジストパターン１７は、上述の非磁性部１２Ｂのパターン形状に対応する開口部（図示なし）も有する。
【００５２】
次に、図６（ｂ）に示すように、レジストパターン１７をマスクとして利用して、磁性膜１６に対してエッチング処理を施す。エッチング手法としては、例えば、エッチングガスとしてＡｒを用いたドライエッチングを採用することができる。本工程により、アズデポ状態にある磁性部１２ａ，１２ｃが形成される。
【００５３】
次に、図６（ｃ）に示すようにレジストパターン１７を除去した後、図６（ｄ）に示すように非磁性材料１８を堆積させる。具体的には、例えばスパッタリング法により、非磁性部１２ｂに関して上述した非磁性材料を、磁性部間の溝を少なくとも充填するように堆積させる。
【００５４】
次に、図７（ａ）に示すように、非磁性材料１８の過剰部分を除去する。除去手法としては、例えば機械的研磨を採用することができる。本工程により、非磁性部１２ｂおよび非磁性部１２Ｂ（図示なし）が形成され、記録層１２が形成されることとなる。
【００５５】
次に、図７（ｂ）に示すように、記録層１２上に保護膜１４を形成する。例えば、スパッタリング法により所定の材料を記録層１２上に成膜することによって、保護膜１４を形成することができる。
【００５６】
次に、図７（ｃ）に示すように、磁性部１２ａの保磁力Ｈｃ1より強く且つ磁性部１２ｃの保磁力Ｈｃ2より弱い所定の磁界Ｈｒを、記録層１２の全体に対して一括的に印加することにより、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃのアズデポ状態を維持しつつ、トラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部１２ａの磁化方向を同一方向に揃える。この磁界印加により、トラックサーボ信号領域ＴＳにおいて、同一の磁化方向を有する複数の磁性部１２ａと複数の非磁性部１２ｂとから構成されるトラックサーボ情報が形成される。以上のようにして、記録層１２の各情報トラック１２Ａにおける各トラックサーボ信号領域ＴＳにトラックサーボ情報を有する磁気ディスクＸ１を作製することができる。
【００５７】
磁気ディスクＸ１においては、図７（ｃ）を参照して上述したように、記録層１２の全体に対する一括的な磁界印加によりトラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部１２ａの磁化方向を同一方向に揃えることができるため、効率よくトラックサーボ情報を形成することができる。また、磁気ディスクＸ１においては、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃをアズデポ状態とするうえで、従来の磁気ディスク９０に関して上述したようなＡＣイレース処理を行う必要はない。磁気ディスクＸ１では、図７（ｃ）を参照して上述した工程において、磁性部１２ａ，１２ｃの保磁力差を利用して、アズデポ状態で先ずは形成されている磁性部１２ｃの当該アズデポ状態を維持することができるからである。このように、磁気ディスクＸ１においては、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃを効率よくアズデポ状態とすることが可能なのである。このような磁気ディスクＸ１は、製造効率の向上や製造コストの低減を図りやすい。
【００５８】
図８および図９は、本発明の第２の実施形態に係るＤＴ型の磁気ディスクＸ２を表す。図８は、磁気ディスクＸ２の部分平面図であり、図９は、図８の線IX−IXに沿った断面図である。
【００５９】
磁気ディスクＸ２は、ディスク基板２１、記録層１２、および保護膜１４（図８では図示略）を含む積層構造を有し、熱アシスト磁気記録方式による情報記録と情報再生とを実行可能な磁気記録媒体として構成されている。磁気ディスクＸ２は、ディスク基板１１に代えてディスク基板２１を有する点、および、微小凹凸構造層１３を有しない点において、磁気ディスクＸ１と異なる。
【００６０】
ディスク基板２１は、主に、磁気ディスクＸ２の剛性を確保するための部位であり、例えば、アルミニウム合金、ガラス、シリコン、またはポリカーボネート樹脂よりなり、情報トラック１２Ａのユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃの保磁力を高めるための表面粗化領域２１ａを有する。表面粗化領域２１ａは、ディスク基板２１の表面において、記録層１２のトラックサーボ信号領域ＴＳに対応する箇所を除く、少なくともユーザデータ領域ＹＤに対応する箇所に設けられている（例えば、ディスク基板２１表面において、記録層１２のトラックサーボ信号領域ＴＳに対応する箇所を除く、全面に設けられている）。また、表面粗化領域２１ａは、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃにピンニング作用を及ぼして当該磁性部１２ｃの実効的な保磁力を高める微小凹凸構造を有する。表面粗化領域２１ａについて、表面粗さＲａは例えば０.５〜２ｎｍであり、凹凸形状における凸部（成長粒子）の平均直径（平均粒径）は、例えば５〜１０ｎｍである。
【００６１】
トラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部１２ａとユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃとは、同一の磁性材料よりなるが、本実施形態では、表面粗化領域２１ａからのピンニング作用に起因して、磁性部１２ｃは磁性部１２ａよりも大きな保磁力を有する。例えば図４に示すように、磁性部１２ｃの保磁力Ｈｃ2を磁性部１２ａの保磁力Ｈｃ1より大きく設定することができる。
【００６２】
図１０から図１２は、磁気ディスクＸ２の製造方法の一例を表す。図１０から図１２では、磁気ディスクＸ２の製造過程における、図９に示す箇所の断面構造の変化を表す。
【００６３】
磁気ディスクＸ２の製造においては、まず、図１０（ａ）に示すように、ディスク基板２１上にレジストパターン２５を形成する。レジストパターン２５は、本方法では、記録層１２におけるトラックサーボ信号領域ＴＳに対応するパターン形状を有する。
【００６４】
次に、図１０（ｂ）に示すように、ディスク基板２１に表面粗化領域２１ａを形成する。表面粗化領域２１ａの形成においては、具体的には、レジストパターン２５をマスクとして利用して、ディスク基板２１に対してドライエッチング処理を施す。エッチングガスとしてはＡｒを使用することができる。
【００６５】
次に、図１０（ｃ）に示すようにレジストパターン２５を除去した後、図１０（ｄ）に示すように、垂直磁化膜である磁性膜１６を形成する。磁性膜１６の形成手法については、第１の実施形態における磁性膜１６の形成に関して上述したのと同様である。本工程では、磁性膜１６は、上下方向の磁化がランダムかつ略均等に生じているアズデポ状態に形成される。
【００６６】
次に、図１１（ａ）に示すように、磁性膜１６上にレジストパターン１７を形成する。次に、図１１（ｂ）に示すように、レジストパターン１７をマスクとして利用して、磁性膜１６に対してエッチング処理を施す。本工程により、アズデポ状態にある磁性部１２ａ，１２ｃが形成される。次に、図１１（ｃ）に示すようにレジストパターン１７を除去した後、図１１（ｄ）に示すように非磁性材料１８を堆積させる。次に、図１２（ａ）に示すように、非磁性材料１８の過剰部分を除去する。本工程により、非磁性部１２ｂおよび非磁性部１２Ｂ（図示なし）が形成される。次に、図１２（ｂ）に示すように、記録層１２上に保護膜１４を形成する。これらの工程の具体的態様については、第１の実施形態におけるレジストパターン１７の形成から保護膜１４の形成までに関して上述したのと同様である。
【００６７】
次に、図１２（ｃ）に示すように、磁性部１２ａの保磁力Ｈｃ1より強く且つ磁性部１２ｃの保磁力Ｈｃ2より弱い所定の磁界Ｈｒを、記録層１２の全体に対して一括的に印加することにより、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃのアズデポ状態を維持しつつ、トラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部１２ａの磁化方向を同一方向に揃える。この磁界印加により、トラックサーボ信号領域ＴＳにおいて、同一の磁化方向を有する複数の磁性部１２ａと複数の非磁性部１２ｂとから構成されるトラックサーボ情報が形成される。以上のようにして、記録層１２の各情報トラック１２Ａにおける各トラックサーボ信号領域ＴＳにトラックサーボ情報を有する磁気ディスクＸ２を作製することができる。
【００６８】
磁気ディスクＸ２においては、図１２（ｃ）を参照して上述したように、記録層１２の全体に対する一括的な磁界印加によりトラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部１２ａの磁化方向を同一方向に揃えることができるため、効率よくトラックサーボ情報を形成することができる。また、磁気ディスクＸ２においては、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃをアズデポ状態とするうえで、従来の磁気ディスク９０に関して上述したようなＡＣイレース処理を行う必要はない。磁気ディスクＸ２では、図１２（ｃ）を参照して上述した工程において、磁性部１２ａ，１２ｃの保磁力差を利用して、アズデポ状態で先ずは形成されている磁性部１２ｃの当該アズデポ状態を維持することができるからである。このように、磁気ディスクＸ２においては、磁気ディスクＸ１と同様に、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部１２ｃを効率よくアズデポ状態とすることが可能なのである。このような磁気ディスクＸ２は、製造効率の向上や製造コストの低減を図りやすい。
【００６９】
図１３および図１４は、本発明の第３の実施形態に係るＤＴ型の磁気ディスクＸ３を表す。図１３は、磁気ディスクＸ３の部分平面図であり、図１４は、図１３の線XIV−XIVに沿った断面図である。
【００７０】
磁気ディスクＸ３は、ディスク基板３１、記録層３２、微小凹凸構造層３３（図１３では図示なし）、および保護膜３４（図１３では図示略）を含む積層構造を有し、熱アシスト磁気記録方式による情報記録と情報再生とを実行可能な磁気記録媒体として構成されている。
【００７１】
ディスク基板３１は、主に、磁気ディスクＸ３の剛性を確保するための部位であり、例えば、アルミニウム合金、ガラス、またはポリカーボネート樹脂よりなる。
【００７２】
記録層３２は、図１３に示すように、複数の情報トラック３２Ａおよび複数の非磁性部３２Ｂを有する。情報トラック３２Ａは、磁気ディスクＸ３の回転中心を共通中心としてディスク基板３１上にて同心円状に配置されている。また、情報トラック３２Ａは、部分的に図１３に示すように、複数のトラックサーボ信号領域ＴＳおよび複数のユーザデータ領域ＹＤに区分される。トラックサーボ信号領域ＴＳは、複数の磁性部３２ａおよび複数の非磁性部３２ｂを有し、隣り合う磁性部３２ａは非磁性部３２ｂにより分断されている。複数の磁性部３２ａは、各々いわゆる垂直磁気異方性を有し、同一方向に磁化されている。磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1は、例えば３〜５ｋＯｅ（室温）である。磁性部３２ａおよび非磁性部３２ｂの構成材料は、第１の実施形態における磁性部１２ａおよび非磁性部１２ｂに関して上述した材料を採用することができる。このような複数の磁性部３２ａおよび複数の非磁性部３２ｂは、トラックサーボ情報を構成する。また、ユーザデータ領域ＹＤは、ユーザデータが書き込まれることとなる、情報トラック３２Ａの延び方向に延びる磁性部３２ｃを有する。磁性部３２ｃは、磁性部３２ａと同一の磁性材料により構成されて垂直磁気異方性を有し、初めてユーザデータが書き込まれる前には、上下方向の磁化がランダムかつ均等に生じている、いわゆるアズデポ状態にある。磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2は、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1より小さい限りにおいて例えば２〜４ｋＯｅ（室温）である。非磁性部３２Ｂは、情報トラック３２Ａ間に介在し、上述の非磁性部３２ｂと同一の非磁性材料よりなる。以上のような記録層３２の厚さは例えば１５ｎｍである。
【００７３】
微小凹凸構造層３３は、情報トラック３２Ａのトラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部３２ａの保磁力を高めるためのものであり、ディスク基板３１上において、記録層３２のユーザデータ領域ＹＤに対応する領域を除く、少なくともトラックサーボ信号領域ＴＳに対応する領域に設けられている（例えば、ディスク基板３１上において、記録層３２のユーザデータ領域ＹＤに対応する領域を除く、全面に設けられている）。また、微小凹凸構造層３３は、記録層３２の側に、トラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部３２ａにピンニング作用を及ぼす微小凹凸構造を有する。微小凹凸構造層３３の他の構成については、第１の実施形態における微小凹凸構造層１３に関して上述したのと同様である。
【００７４】
トラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部３２ａとユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部３２ｃとは、上述のように同一の磁性材料よりなるが、本実施形態では、微小凹凸構造層３３からのピンニング作用に起因して、磁性部３２ａは磁性部３２ｃよりも大きな保磁力を有する。図１５は、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1および磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2について、温度依存性の一例を表すグラフである。図１５のグラフでは、横軸は温度を示し、縦軸は保磁力を示す。磁性部３２ａ，３２ｃは、同一の磁性材料よりなるが、異なる温度依存性を示す。具体的には、キュリー温度Ｔｃを除く温度範囲において、保磁力Ｈｃ1は保磁力Ｈｃ2より大きい。
【００７５】
保護膜３４は、記録層３２や微小凹凸構造層３３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、またはダイアモンドライクカーボンよりなる。
【００７６】
以上のようなディスク基板３１、記録層３２、微小凹凸構造層３３、および保護膜３４を含む磁気ディスクＸ３の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。
【００７７】
このような磁気ディスクＸ３の情報記録時には、磁気ヘッド（図示略）による記録磁界の印加によって、記録層３２の一の情報トラック３２Ａにおけるユーザデータ領域ＹＤの磁性部３２ｃにて、磁化方向が順次反転する複数の記録マーク（磁区）がディスク周方向に連なって形成される。このとき、情報記録進行中であって磁界が順次印加される情報トラック１２Ａと、これの隣の別の情報トラック３２Ａとが、非磁性部３２Ｂにより分断されているため、当該隣の情報トラック３２Ａの記録マークが消失ないし劣化するというクロスライト現象が抑制される。クロスライト現象が抑制される磁気ディスクは、トラックの狭ピッチ化ないし高記録密度化を図るうえで、好ましい。
【００７８】
図１６から図１８は、磁気ディスクＸ３の製造方法の一例を表す。図１６から図１８では、磁気ディスクＸ３の製造過程における、図１４に示す箇所の断面構造の変化を表す。
【００７９】
磁気ディスクＸ３の製造においては、まず、図１６（ａ）に示すように、ディスク基板３１上にレジストパターン３５を形成する。レジストパターン３５は、本方法では、記録層３２におけるユーザデータ領域ＹＤに対応するパターン形状を有する。
【００８０】
次に、図１６（ｂ）に示すように、ディスク基板３１上に微小凹凸構造層３３を形成する。微小凹凸構造層３３の形成手法は、第１の実施形態における微小凹凸構造層１３の形成手法と同様である。
【００８１】
次に、レジストパターン３５を除去した後、図１６（ｃ）に示すように、垂直磁化膜である磁性膜３６を形成する。磁性膜３６の形成においては、例えばスパッタリング法により、微小凹凸構造層３３を覆うように所定の磁性材料をディスク基板３１上に成膜する。本工程では、磁性膜３６は、上下方向の磁化がランダムかつ略均等に生じているアズデポ状態に形成される。
【００８２】
次に、図１６（ｄ）に示すように、磁性膜３６上にレジストパターン３７を形成する。レジストパターン３７は、上述の非磁性部３２ｂのパターン形状に対応する開口部３７ａを有する。また、レジストパターン３７は、上述の非磁性部３２Ｂのパターン形状に対応する開口部（図示なし）も有する。
【００８３】
次に、図１７（ａ）に示すように、レジストパターン３７をマスクとして利用して、磁性膜３６に対してエッチング処理を施す。エッチング手法としては、例えば、エッチングガスとしてＡｒを用いたドライエッチングを採用することができる。本工程により、アズデポ状態にある磁性部３２ａ，３２ｃが形成される。
【００８４】
次に、レジストパターン３７を除去した後、図１７（ｂ）に示すように非磁性材料３８を堆積させる。具体的には、スパッタリング法により、磁性部間の溝を少なくとも充填するように所定の非磁性材料を堆積させる。
【００８５】
次に、図１７（ｃ）に示すように、例えば機械研磨により、非磁性材料３８の過剰部分を除去する。本工程により、非磁性部３２ｂおよび非磁性部３２Ｂ（図示なし）が形成される。
【００８６】
次に、図１７（ｄ）に示すように、例えばスパッタリング法により所定の材料を記録層３２上に成膜することによって、保護膜３４を形成する。
【００８７】
次に、図１８（ａ）に示すように、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1より強い（従って、磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2より強い）所定の磁界Ｈｒを、記録層３２の全体に対して一括的に印加することにより、磁性部３２ａ，３２ｃの磁化方向を同一方向に揃える。この磁界印加により、トラックサーボ信号領域ＴＳにおいて、同一の磁化方向を有する複数の磁性部３２ａと複数の非磁性部３２ｂとから構成されるトラックサーボ情報が形成される。
【００８８】
次に、例えばディスク全体を所定の温度で加熱することにより、図１８（ｂ）に示すように、より大きな保磁力Ｈｃ1を有する磁性部３２ａの磁化方向を維持しつつ、より小さな保磁力Ｈｃ2を有する磁性部３２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とする。以上のようにして、記録層３２の各情報トラック３２Ａにおける各トラックサーボ信号領域ＴＳにトラックサーボ情報を有する磁気ディスクＸ３を作製することができる。
【００８９】
磁気ディスクＸ３においては、図１８（ａ）を参照して上述したように、記録層３２の全体に対する一括的な磁界印加によりトラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部３２ａの磁化方向を同一方向に揃えることができるため、効率よくトラックサーボ情報を形成することができる。また、磁気ディスクＸ３においては、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部３２ｃをアズデポ状態とするうえで、従来の磁気ディスク９０に関して上述したようなＡＣイレース処理を行う必要はない。磁気ディスクＸ３では、図１８（ｂ）を参照して上述した工程において、磁性部３２ａ，３２ｃの保磁力の差を利用して、磁性部３２ａの磁化方向を維持しつつ、磁性部３２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とすることができるからである。このように、磁気ディスクＸ３においては、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部３２ｃを効率よくアズデポ状態とすることが可能なのである。このような磁気ディスクＸ３は、製造効率の向上や製造コストの低減を図りやすい。
【００９０】
本実施形態における上述の製造方法においては、図１７（ｂ）を参照して上述した工程において、磁性部３２ａ，３２ｃに対して所定の程度に大きな応力を作用させる非磁性材料３８を堆積させてもよい。当該応力については、非磁性材料３８を堆積させるためのスパッタリング時のスパッタリング装置におけるガス圧条件や投入電力条件を調整することにより、制御することができる。堆積される非磁性材料３８からの応力作用の影響は、磁性部３２ｃと比べて実際上は相当程度に小さく区画されている各磁性部３２ａの方が、磁性部３２ｃよりも強く受け、従って、非磁性材料３８からの応力作用の影響によって各磁性部３２ａ内に生ずる応力は、磁性部３２ｃ内に生ずる正味の応力より大きい。磁性材料よりなる部位の内部応力の増大は、当該部位の保磁力の増大を招来する場合があるところ、上述のような非磁性材料３８（または非磁性材料３８から形成される非磁性部３２Ｂ，３２ｂ）からの所定程度の有意な応力作用は、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1を磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2より高めるのに資する場合がある。また、本発明では、微小凹凸構造層３３を設けずに、磁性部３２ｃに生ずる正味の内部応力よりも磁性部３２ａに生ずる内部応力を上述のようにして大きくすることにより、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1を、磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2よりも大きく設定してもよい。
【００９１】
また、本実施形態における上述の製造方法においては、例えばレジストパターン３７を除去した後であって、図１７（ｂ）に示すように非磁性材料３８を堆積させる前に、エッチングガスとして例えばＡｒを用いて行うドライエッチングにより、磁性部３２ａ，３２ｃの側壁を粗化してもよい。磁性部３２ａ，３２ｃの側壁を粗化したうえで、図１７（ｂ）を参照して上述したように非磁性材料３８を磁性部間の溝に充填すると、磁性部３２ａ，３２ｃ内では、内部応力が発生または増大しやすい。側壁粗化によるこのような影響は、磁性部３２ｃと比べて実際上は相当程度に小さく区画されている各磁性部３２ａの方が、磁性部３２ｃよりも大きく、従って、側壁粗化の影響によって各磁性部３２ａ内に生ずる応力は、磁性部３２ｃ内に生ずる正味の応力より大きい。磁性材料よりなる部位の内部応力の増大は、当該部位の保磁力の増大を招来する場合があるところ、上述のような側壁粗化は、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1を磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2より高めるのに資する場合がある。また、本発明では、微小凹凸構造層３３を設けずに、磁性部３２ｃに生ずる正味の内部応力よりも磁性部３２ａに生ずる内部応力を上述のようにして側壁粗化を利用して大きくすることにより、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1を、磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2よりも大きく設定してもよい。
【００９２】
図１９および図２０は、本発明の第４の実施形態に係るＤＴ型の磁気ディスクＸ４を表す。図１９は、磁気ディスクＸ４の部分平面図であり、図２０は、図１９の線XX−XXに沿った断面図である。
【００９３】
磁気ディスクＸ４は、ディスク基板４１、記録層３２、および保護膜３４（図１９では図示略）を含む積層構造を有し、熱アシスト磁気記録方式による情報記録と情報再生とを実行可能な磁気記録媒体として構成されている。磁気ディスクＸ４は、ディスク基板３１に代えてディスク基板４１を有する点、および、微小凹凸構造層３３を有しない点において、磁気ディスクＸ３と異なる。
【００９４】
ディスク基板４１は、主に、磁気ディスクＸ４の剛性を確保するための部位であり、例えば、アルミニウム合金、ガラス、シリコン、またはポリカーボネート樹脂よりなり、情報トラック３２Ａのトラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部３２ａの保磁力を高めるための表面粗化領域４１ａを有する。表面粗化領域４１ａは、ディスク基板４１の表面において、記録層３２のユーザデータ領域ＹＤに対応する箇所を除く、少なくともトラックサーボ信号領域ＴＳに対応する箇所に設けられている（例えば、ディスク基板４１表面において、記録層３２のユーザデータ領域ＹＤに対応する箇所を除く、全面に設けられている）。また、表面粗化領域４１ａは、トラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部３２ａの保磁力を高めるピンニング作用を及ぼす微小凹凸構造を有する。表面粗化領域４１ａについて、表面粗さＲａは例えば０.５〜２ｎｍであり、凹凸形状における凸部（成長粒子）の平均直径（平均粒径）は、例えば５〜１０ｎｍである。
【００９５】
トラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部３２ａとユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部３２ｃとは、同一の磁性材料よりなるが、本実施形態では、表面粗化領域４１ａからのピンニング作用に起因して、磁性部３２ａは磁性部３２ｃよりも大きな保磁力を有する。例えば図１５に示すように、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1を磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2より大きく設定することができる。
【００９６】
図２１から図２３は、磁気ディスクＸ４の製造方法の一例を表す。図２１から図２３では、磁気ディスクＸ４の製造過程における、図２０に示す箇所の断面構造の変化を表す。
【００９７】
磁気ディスクＸ４の製造においては、まず、図２１（ａ）に示すように、ディスク基板４１上にレジストパターン４５を形成する。レジストパターン４５は、本方法では、記録層３２におけるユーザデータ領域ＹＤに対応するパターン形状を有する。
【００９８】
次に、図２１（ｂ）に示すように、ディスク基板４１に表面粗化領域４１ａを形成する。表面粗化領域４１ａの形成においては、具体的には、レジストパターン４５をマスクとして利用して、ディスク基板４１に対してドライエッチング処理を施す。エッチングガスとしてはＡｒを使用することができる。
【００９９】
次に、レジストパターン４５を除去した後、図２１（ｃ）に示すように、垂直磁化膜である磁性膜３６を形成する。磁性膜３６の形成においては、例えばスパッタリング法により、ディスク基板４１上に所定の磁性材料を成膜する。本工程では、磁性膜３６は、上下方向の磁化がランダムかつ略均等に生じているアズデポ状態に形成される。
【０１００】
次に、図２１（ｄ）に示すように、磁性膜３６上にレジストパターン３７を形成する。次に、図２２（ａ）に示すように、レジストパターン３７をマスクとして利用して、磁性膜３６に対してエッチング処理を施す。本工程により、アズデポ状態にある磁性部３２ａ，３２ｃが形成される。次に、レジストパターン３７を除去した後、図２２（ｂ）に示すように非磁性材料３８を堆積させる。次に、図２２（ｃ）に示すように、非磁性材料３８の過剰部分を除去する。本工程により、非磁性部３２ｂおよび非磁性部３２Ｂ（図示せず）が形成される。次に、図２２（ｄ）に示すように保護膜３４を形成する。これらの工程の具体的態様については、第３の実施形態におけるレジストパターン３７の形成から保護膜３４の形成までに関して上述したのと同様である。
【０１０１】
次に、図２３（ａ）に示すように、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1より強い（従って、磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2より強い）所定の磁界Ｈｒを、記録層３２の全体に対して一括的に印加することにより、磁性部３２ａ，３２ｃの磁化方向を同一方向に揃える。この磁界印加により、トラックサーボ信号領域ＴＳにおいて、同一の磁化方向を有する複数の磁性部３２ａと複数の非磁性部３２ｂとから構成されるトラックサーボ情報が形成される。
【０１０２】
次に、例えばディスク全体を所定の温度で加熱することにより、図２３（ｂ）に示すように、より大きな保磁力Ｈｃ1を有する磁性部３２ａの磁化方向を維持しつつ、より小さな保磁力Ｈｃ2を有する磁性部３２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とする。以上のようにして、記録層３２の各情報トラック３２Ａにおける各トラックサーボ信号領域ＴＳにトラックサーボ情報を有する磁気ディスクＸ４を作製することができる。
【０１０３】
磁気ディスクＸ４においては、図２３（ａ）を参照して上述したように、記録層３２の全体に対する一括的な磁界印加によりトラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部３２ａの磁化方向を同一方向に揃えることができるため、効率よくトラックサーボ情報を形成することができる。また、磁気ディスクＸ４においては、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部３２ｃをアズデポ状態とするうえで、従来の磁気ディスク９０に関して上述したようなＡＣイレース処理を行う必要はない。磁気ディスクＸ４では、図２３（ｂ）を参照して上述した工程において、磁性部３２ａ，３２ｃの保磁力差を利用して、磁性部３２ａの磁化方向を維持しつつ、磁性部３２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とすることができるからである。このように、磁気ディスクＸ４においては、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部３２ｃを効率よくアズデポ状態とすることが可能なのである。このような磁気ディスクＸ４は、製造効率の向上や製造コストの低減を図りやすい。
【０１０４】
本実施形態における上述の製造方法においては、図２２（ｂ）を参照して上述した工程において、磁性部３２ａ，３２ｃに対して所定の程度に大きな応力を作用させる非磁性材料３８を堆積させてもよい。第３の実施形態に関して上述したように、このような非磁性材料３８（または非磁性材料３８から形成される非磁性部３２Ｂ，３２ｂ）からの所定程度の有意な応力作用は、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1を磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2より高めるのに資する場合がある。
【０１０５】
また、本実施形態における上述の製造方法においては、例えばレジストパターン３７を除去した後であって、図２２（ｂ）に示すように非磁性材料３８を堆積させる前に、エッチングガスとして例えばＡｒを用いて行うドライエッチングにより、磁性部３２ａ，３２ｃの側壁を粗化してもよい。第３の実施形態に関して上述したように、このような側壁粗化は、磁性部３２ａの保磁力Ｈｃ1を磁性部３２ｃの保磁力Ｈｃ2より高めるのに資する場合がある。
【０１０６】
図２４および図２５は、本発明の第５の実施形態に係るＤＴ型の磁気ディスクＸ５を表す。図２４は、磁気ディスクＸ５の部分平面図であり、図２５は、図２４の線XXV−XXVに沿った断面図である。
【０１０７】
磁気ディスクＸ５は、ディスク基板５１、記録層５２、放熱層５３（図２４では図示なし）、および保護膜５４（図２４では図示略）を含む積層構造を有し、熱アシスト磁気記録方式による情報記録と情報再生とを実行可能な磁気記録媒体として構成されている。
【０１０８】
ディスク基板５１は、主に、磁気ディスクＸ５の剛性を確保するための部位であり、例えば、アルミニウム合金、ガラス、またはポリカーボネート樹脂よりなる。
【０１０９】
記録層５２は、図２４に示すように、複数の情報トラック５２Ａおよび複数の非磁性部５２Ｂを有する。情報トラック５２Ａは、磁気ディスクＸ５の回転中心を共通中心としてディスク基板５１上にて同心円状に配置されている。また、情報トラック５２Ａは、部分的に図２４に示すように、複数のトラックサーボ信号領域ＴＳおよび複数のユーザデータ領域ＹＤに区分される。トラックサーボ信号領域ＴＳは、複数の磁性部５２ａおよび複数の非磁性部５２ｂを有し、隣り合う磁性部５２ａは非磁性部５２ｂにより分断されている。複数の磁性部５２ａは、各々いわゆる垂直磁気異方性を有し、同一方向に磁化されている。磁性部５２ａの保磁力Ｈｃ1は、例えば３〜５ｋＯｅ（室温）である。磁性部５２ａおよび非磁性部５２ｂの構成材料は、第１の実施形態における磁性部１２ａおよび非磁性部１２ｂに関して上述した材料を採用することができる。このような複数の磁性部５２ａおよび複数の非磁性部５２ｂは、トラックサーボ情報を構成する。また、ユーザデータ領域ＹＤは、ユーザデータが書き込まれることとなる、情報トラック５２Ａの延び方向に延びる磁性部５２ｃを有する。磁性部５２ｃは、磁性部５２ａと同一の磁性材料により構成されて垂直磁気異方性を有し、初めてユーザデータが書き込まれる前には、上下方向の磁化がランダムかつ均等に生じている、いわゆるアズデポ状態にある。磁性部５２ｃの保磁力Ｈｃ2は、室温では磁性部５２ａの保磁力Ｈｃ1と同じで例えば３〜５ｋＯｅである。非磁性部５２Ｂは、情報トラック５２Ａ間に介在し、上述の非磁性部５２ｂと同一の非磁性材料よりなる。以上のような記録層５２の厚さは例えば１０〜２０ｎｍである。
【０１１０】
放熱層５３は、記録層５２におけるトラックサーボ信号領域ＴＳの特に磁性部５２ａからディスク基板５１に熱を伝えるためのものであり、ディスク基板５１よりも高い熱伝導率を有する。また、放熱層５３は、ディスク基板５１上において、記録層５２のユーザデータ領域ＹＤに対応する領域を除く、少なくともトラックサーボ信号領域ＴＳに対応する領域に設けられている（例えば、ディスク基板５１上において、記録層５２のユーザデータ領域ＹＤに対応する領域を除く、全面に設けられている）このような放熱層５３は、所定の高熱伝導材料よりなり、放熱層５３の厚さは例えば５〜３０ｎｍである。高熱伝導材料としては、例えば、Ａｇ，Ａｌ，Ａｕ，Ｐｔからなる群より選択される金属、または当該金属を含む合金を、採用することができる。
【０１１１】
保護膜５４は、記録層５２や放熱層５３を外界から物理的および化学的に保護するための部位であり、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ2、またはダイアモンドライクカーボンよりなる。
【０１１２】
以上のようなディスク基板５１、記録層５２、放熱層５３、および保護膜５４を含む磁気ディスクＸ５の積層構造中には、必要に応じて他の層が含まれてもよい。
【０１１３】
このような磁気ディスクＸ５の情報記録時には、磁気ヘッド（図示略）による記録磁界の印加によって、記録層５２の一の情報トラック５２Ａにおけるユーザデータ領域ＹＤの磁性部５２ｃにて、磁化方向が順次反転する複数の記録マーク（磁区）がディスク周方向に連なって形成される。このとき、情報記録進行中であって磁界が順次印加される情報トラック５２Ａと、これの隣の別の情報トラック５２Ａとが、非磁性部５２Ｂにより分断されているため、当該隣の情報トラック５２Ａの記録マークが消失ないし劣化するというクロスライト現象が抑制される。クロスライト現象が抑制される磁気ディスクは、トラックの狭ピッチ化ないし高記録密度化を図るうえで、好ましい。
【０１１４】
図２６から図２８は、磁気ディスクＸ５の製造方法の一例を表す。図２６から図２８では、磁気ディスクＸ５の製造過程における、図２５に示す箇所の断面構造の変化を表す。
【０１１５】
磁気ディスクＸ５の製造においては、まず、図２６（ａ）に示すように、ディスク基板５１上にレジストパターン５５を形成する。レジストパターン５５は、本方法では、記録層５２におけるユーザデータ領域ＹＤに対応するパターン形状を有する。
【０１１６】
次に、図２６（ｂ）に示すように、ディスク基板５１上に放熱層５３を形成する。例えばスパッタリング法により、所定の高熱伝導材料をディスク基板５１上に成膜することにより、放熱層５３を形成することができる。
【０１１７】
次に、レジストパターン５５を除去した後、図２６（ｃ）に示すように、垂直磁化膜である磁性膜５６を形成する。磁性膜５６の形成においては、例えばスパッタリング法により、放熱層５３を覆うように所定の磁性材料をディスク基板５１上に成膜する。本工程では、磁性膜５６は、上下方向の磁化がランダムかつ略均等に生じているアズデポ状態に形成される。
【０１１８】
次に、図２６（ｄ）に示すように、磁性膜５６上にレジストパターン５７を形成する。レジストパターン５７は、上述の非磁性部５２ｂのパターン形状に対応する開口部５７ａを有する。また、レジストパターン５７は、上述の非磁性部５２Ｂのパターン形状に対応する開口部（図示なし）も有する。
【０１１９】
次に、図２７（ａ）に示すように、レジストパターン５７をマスクとして利用して、磁性膜５６に対してエッチング処理を施す。エッチング手法としては、例えば、エッチングガスとしてＡｒを用いたドライエッチングを採用することができる。本工程により、アズデポ状態にある磁性部５２ａ，５２ｃが形成される。
【０１２０】
次に、レジストパターン５７を除去した後、図２７（ｂ）に示すように非磁性材料５８を堆積させる。具体的には、スパッタリング法により、非磁性部５２ｂに関して上述した非磁性材料を、磁性部間の溝を少なくとも充填するように堆積させる。
【０１２１】
次に、図２７（ｃ）に示すように、例えば機械研磨により、非磁性材料５８の過剰部分を除去する。本工程により、非磁性部５２ｂ，５２Ｂが形成される。
【０１２２】
次に、図２７（ｄ）に示すように、例えばスパッタリング法により所定の材料を記録層５２上に成膜することによって、保護膜５４を形成する。
【０１２３】
次に、図２８（ａ）に示すように、磁性部５２ａ，５２ｃの保磁力Ｈｃ1，Ｈｃ2より強い所定の磁界Ｈｒを、磁気ディスクＸ５ないし記録層５２の全体に対して一括的に印加することにより、磁性部５２ａ，５２ｃの磁化方向を同一方向に揃える。この磁界印加により、トラックサーボ信号領域ＴＳにおいて、同一の磁化方向を有する複数の磁性部５２ａと複数の非磁性部５２ｂとから構成されるトラックサーボ情報が形成される。
【０１２４】
次に、図２８（ｂ）に示すように、保護膜５４の側から記録層５２に対して所定パワーのレーザＬを照射して記録層５２の全体にわたって当該レーザＬを掃引することにより、磁性部５２ａの磁化方向を維持しつつ、磁性部５２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とする。本工程では、レーザ照射手段として、例えば、光磁気記録媒体用のバルクイレーザを使用する。その場合、複数の情報トラック５２Ａにわたる径を有するレーザＬを記録層５２に対して照射することができ、本工程を効率よく行うことが可能である。
【０１２５】
磁気ディスクＸ５において、同一温度条件のもとでは、磁性部５２ａの保磁力Ｈｃ1と磁性部５２ｃの保磁力Ｈｃ2とは実質的に同一である。しかしながら、磁性部５２ａがディスク基板５１の側で接合する放熱層５３は、磁性部５２ｃが接合するディスク基板５１より、高い熱伝導率（従って高い放熱性）を有するため、本工程において、記録層５２が保護膜５４の側（即ち、ディスク基板５１とは反対の側）からレーザ照射を受けると、放熱層５３およびディスク基板５１の放熱性ないし放熱機能の差に起因して、照射領域内の磁性部５２ｃは照射領域内の磁性部５２ａよりも昇温する。また、当該昇温の程度差に起因して、照射領域内の磁性部５２ｃの保磁力Ｈｃ2は、照射領域内の磁性部５２ａの保磁力Ｈｃ1よりも小さくなる（高温ほど、磁性材料の保磁力は小さい傾向にある）。したがって、本工程では、照射領域内において、より低温で且つより大きな保磁力Ｈｃ1を有する磁性部５２ａの磁化方向を維持しつつ、より高温で且つより小さな保磁力Ｈｃ2を有する磁性部５２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とすることができるのである。
【０１２６】
以上のようにして、記録層５２の各情報トラック５２Ａにおける各トラックサーボ信号領域ＴＳにトラックサーボ情報を有する磁気ディスクＸ５を作製することができる。
【０１２７】
磁気ディスクＸ５においては、図２８（ａ）を参照して上述したように、記録層５２の全体に対する一括的な磁界印加によりトラックサーボ信号領域ＴＳにおける磁性部５２ａの磁化方向を同一方向に揃えることができるため、効率よくトラックサーボ情報を形成することができる。また、磁気ディスクＸ５においては、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部５２ｃをアズデポ状態とするうえで、従来の磁気ディスク９０に関して上述したようなＡＣイレース処理を行う必要はない。磁気ディスクＸ５では、図２８（ｂ）を参照して上述した工程において、磁性部５２ａが接する放熱層５３と磁性部５２ｃが接するディスク基板５１との放熱性ないし放熱機能の差を利用して、磁性部５２ａの磁化方向を維持しつつ、磁性部５２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とすることができるからである。このように、磁気ディスクＸ５においては、トラックサーボ情報を効率よく形成することが可能であり、且つ、ユーザデータ領域ＹＤにおける磁性部５２ｃを効率よくアズデポ状態とすることが可能なのである。このような磁気ディスクＸ５は、製造効率の向上や製造コストの低減を図りやすい。
【０１２８】
磁気ディスクＸ５においては、放熱層５３を設けるのに代えて、図２９に示すように放熱層５３Ａ，５３Ｂを設けてもよい。放熱層５３Ａは、記録層５２におけるトラックサーボ信号領域ＴＳの特に磁性部５２ａからディスク基板５１に熱を伝えるためのものであり、ディスク基板５１および放熱層５３Ｂよりも高い熱伝導率を有し、少なくとも、トラックサーボ信号領域ＴＳの磁性部５２ａとディスク基板５１との間に介在する。一方、放熱層５３Ｂは、記録層５２におけるユーザデータ領域ＹＤの磁性部５２ｃからディスク基板５１に熱を伝えるためのものであり、ディスク基板５１よりも高く且つ放熱層５３Ａより低い熱伝導率を有し、少なくとも、ユーザデータ領域ＹＤの磁性部５２ｃとディスク基板５１との間に介在する。
【０１２９】
磁気ディスクＸ５がこのような構成を有する場合であっても、図２８（ｂ）を参照して上述した工程において、保護膜５４の側から記録層５２に対して所定パワーのレーザＬを照射して記録層５２の全体にわたって当該レーザＬを掃引することにより、磁性部５２ａの磁化方向を維持しつつ、磁性部５２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とすることができる。図２９に示す磁気ディスクＸ５において、同一温度条件のもとでは、磁性部５２ａの保磁力Ｈｃ1と磁性部５２ｃの保磁力Ｈｃ2とは実質的に同一である。しかしながら、磁性部５２ａがディスク基板５１の側で接合する放熱層５３Ａは、磁性部５２ｃがディスク基板５１の側で接合する放熱層５３Ｂより、高い熱伝導率（従って高い放熱性）を有するため、記録層５２が保護膜５４の側（即ち、ディスク基板５１とは反対の側）からレーザ照射を受けると、放熱層５３Ａ，５３Ｂの放熱性ないし放熱機能の差に起因して、照射領域内の磁性部５２ｃは照射領域内の磁性部５２ａよりも昇温する。また、当該昇温の程度差に起因して、照射領域内の磁性部５２ｃの保磁力Ｈｃ2は、照射領域内の磁性部５２ａの保磁力Ｈｃ1よりも小さくなる。したがって、磁気ディスクＸ５が図２９に示す構成を有する場合であっても、図２８（ｂ）を参照して上述した工程では、照射領域内において、より低温で且つより大きな保磁力Ｈｃ1を有する磁性部５２ａの磁化方向を維持しつつ、より高温で且つより小さな保磁力Ｈｃ2を有する磁性部５２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とすることができるのである。
【０１３０】
また、磁気ディスクＸ５においては、放熱層５３を設けるのに代えて、図３０に示すように放熱層５３Ｃを設けてもよい。放熱層５３Ｃは、ディスク基板５１よりも高い熱伝導率を有し、連続する厚肉部５３Ｃ’および薄肉部５３Ｃ’’を有する。厚肉部５３Ｃ’は、記録層５２におけるトラックサーボ信号領域ＴＳの特に磁性部５２ａからディスク基板５１に熱を伝えるためのものであり、少なくとも、トラックサーボ信号領域ＴＳの磁性部５２ａとディスク基板５１との間に介在する。一方、薄肉部５３Ｃ’’は、記録層５２におけるユーザデータ領域ＹＤの磁性部５２ｃからディスク基板５１に熱を伝えるためのものであり、少なくとも、ユーザデータ領域ＹＤの磁性部５２ｃとディスク基板５１との間に介在する。
【０１３１】
磁気ディスクＸ５がこのような構成を有する場合であっても、図２８（ｂ）を参照して上述した工程において、保護膜５４の側から記録層５２に対して所定パワーのレーザＬを照射して記録層５２の全体にわたって当該レーザＬを掃引することにより、磁性部５２ａの磁化方向を維持しつつ、磁性部５２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とすることができる。図３０に示す磁気ディスクＸ５において、同一温度条件のもとでは、磁性部５２ａの保磁力Ｈｃ1と磁性部５２ｃの保磁力Ｈｃ2とは実質的に同一である。しかしながら、磁性部５２ａがディスク基板５１の側で接合する厚肉部５３Ｃ’は、磁性部５２ｃがディスク基板５１の側で接合する薄肉部５３Ｃ’’より、高い放熱性を有するため、記録層５２が保護膜５４の側（即ち、ディスク基板５１とは反対の側）からレーザ照射を受けると、厚肉部５３Ｃ’および薄肉部５３Ｃ’’の放熱性ないし放熱機能の差に起因して、照射領域内の磁性部５２ｃは照射領域内の磁性部５２ａよりも昇温する。また、当該昇温の程度差に起因して、照射領域内の磁性部５２ｃの保磁力Ｈｃ2は、照射領域内の磁性部５２ａの保磁力Ｈｃ1よりも小さくなる。したがって、磁気ディスクＸ５が図３０に示す構成を有する場合であっても、図２８（ｂ）を参照して上述した工程では、照射領域内において、より低温で且つより大きな保磁力Ｈｃ1を有する磁性部５２ａの磁化方向を維持しつつ、より高温で且つより小さな保磁力Ｈｃ2を有する磁性部５２ｃを熱緩和させてアズデポ状態とすることができるのである。
【０１３２】
以上のまとめとして、本発明の構成およびそのバリエーションを以下に付記として列挙する。
【０１３３】
（付記１）基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体であって、
前記記録層は、並列して前記回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含み、
前記トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部、を有し、
前記ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有し、
前記第１磁性部の保磁力と前記第２磁性部の保磁力とは異なる、磁気記録媒体。
（付記２）前記第２磁性部の保磁力は、前記第１磁性部の保磁力より大きい、付記１に記載の磁気記録媒体。
（付記３）前記第１磁性部の保磁力は、前記第２磁性部の保磁力より大きい、付記１に記載の磁気記録媒体。
（付記４）前記基材と前記第１磁性部の間、または、前記基材と前記第２磁性部の間には、微小凹凸構造層が介在する、付記１に記載の磁気記録媒体。
（付記５）前記基材は、表面粗化領域を有し、前記第１磁性部または前記第２磁性部は、前記表面粗化領域上に設けられている、付記１に記載の磁気記録媒体。
（付記６）前記第１磁性部の側壁は粗化されている、付記１に記載の磁気記録媒体。
（付記７）基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体であって、
前記記録層は、並列して前記回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含み、
前記トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部、を有し、
前記ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有し、
前記基材と前記第１磁性部の間、または、前記基材と前記第２磁性部の間には、微小凹凸構造層が介在する、磁気記録媒体。
（付記８）基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体であって、
前記基材は、表面粗化領域を有し、
前記記録層は、並列して前記回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含み、
前記トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部、を有し、
前記ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有し、
前記第１磁性部または前記第２磁性部は、前記基材の前記表面粗化領域上に設けられている、磁気記録媒体。
（付記９）基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体であって、
前記記録層は、並列して前記回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含み、
前記トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部、を有し、
前記ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有し、
前記第１磁性部の側壁は粗化されている、磁気記録媒体。
（付記１０）基材および記録層を含む積層構造を有して情報記録時に回転動作を伴う磁気記録媒体であって、
前記記録層は、並列して前記回転動作の回転中心まわりを延び且つ各々がトラックサーボ信号領域およびユーザデータ領域を有する複数条の情報トラック、並びに、隣り合う情報トラックの間に介在する非磁性部を含み、
前記トラックサーボ信号領域は、トラック延び方向に並ぶ複数の第１磁性部、および、隣り合う第１磁性部の間に介在する非磁性部、を有し、
前記ユーザデータ領域は、トラック延び方向に延びる第２磁性部を有し、
前記第１磁性部が前記基材の側で接合する部位は、前記第２磁性部が前記基材の側で接合する部位より、高い放熱性を有する、磁気記録媒体。
（付記１１）前記基材と前記第１磁性部の間には放熱層が介在する、付記１０に記載の磁気記録媒体。
（付記１２）前記基材と前記第１磁性部の間には第１放熱層が介在し、前記基材と前記第２磁性部の間には第２放熱層が介在し、前記第１放熱層の熱伝導率は、前記第２放熱層の熱伝導率より大きい、付記１０に記載の磁気記録媒体。
（付記１３）前記基材と前記第１磁性部の間には第１放熱層が介在し、前記基材と前記第２磁性部の間には第２放熱層が介在し、前記第１放熱層は、前記第２放熱層より厚い、付記１０に記載の磁気記録媒体。
（付記１４）前記第１磁性部および前記第２磁性部は、同一組成の磁性材料よりなる、付記１から１３のいずれか一つに記載の磁気記録媒体。
（付記１５）付記２に記載の磁気記録媒体における前記第１および第２磁性部に対し、前記第１磁性部の保磁力より強く且つ前記第２磁性部の保磁力より弱い磁界を一括的に加え、前記第１磁性部の磁化方向を揃える工程を含む、磁気記録媒体製造方法。
（付記１６）付記３または９に記載の磁気記録媒体における前記第１および第２磁性部に対し、前記第１磁性部の保磁力より強い磁界を一括的に加え、前記第１および第２磁性部の磁化方向を揃える工程と、
加熱により前記第２磁性部を熱緩和させる工程と、を含む、磁気記録媒体製造方法。
（付記１７）
付記１０から１３のいずれか一つに記載の磁気記録媒体における前記第１および第２磁性部に対して一括的に磁界を加えて当該第１および第２磁性部の磁化方向を揃える工程と、
前記基材とは反対の側からの記録層に対するレーザ照射により前記第２磁性部を熱緩和させる工程と、を含む、磁気記録媒体製造方法。
【図面の簡単な説明】
【０１３４】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る磁気ディスクの平面図である。
【図２】図１に示す磁気ディスクの部分拡大平面図である。
【図３】図２の線III−IIIに沿った断面図である。
【図４】第１の実施形態の磁気ディスクにおける第１磁性部の保磁力および第２磁性部の保磁力について、温度依存性例を表す。
【図５】第１の実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図６】図５の後に続く工程を表す。
【図７】図６の後に続く工程を表す。
【図８】本発明の第２の実施形態に係る磁気ディスクの部分平面図である。
【図９】図８のIX−IXに沿った断面図である。
【図１０】第２の実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図１１】図１０の後に続く工程を表す。
【図１２】図１１の後に続く工程を表す。
【図１３】本発明の第３の実施形態に係る磁気ディスクの部分平面図である。
【図１４】図１３のXIV−XIVに沿った断面図である。
【図１５】第３の実施形態の磁気ディスクにおける第１磁性部の保磁力および第２磁性部の保磁力について、温度依存性例を表す。
【図１６】第３の実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図１７】図１６の後に続く工程を表す。
【図１８】図１７の後に続く工程を表す。
【図１９】本発明の第４の実施形態に係る磁気ディスクの部分平面図である。
【図２０】図１９のXX−XXに沿った断面図である。
【図２１】第４の実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図２２】図２１の後に続く工程を表す。
【図２３】図２２の後に続く工程を表す。
【図２４】本発明の第５の実施形態に係る磁気ディスクの部分平面図である。
【図２５】図２４のXXV−XXVに沿った断面図である。
【図２６】第５の実施形態に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図２７】図２６の後に続く工程を表す。
【図２８】図２７の後に続く工程を表す。
【図２９】第５の実施形態に係る磁気ディスクの第１変形例のディスク周方向の部分断面図を表す。
【図３０】第５の実施形態に係る磁気ディスクの第２変形例のディスク周方向の部分断面図を表す。
【図３１】ディスクリートトラック型の従来の磁気ディスクにおける部分平面図である。
【図３２】図３１の線XXXII−XXXIIに沿った断面図である。
【図３３】図３１に示す従来の磁気ディスクの製造方法における一部の工程を表す。
【図３４】図３３の後に続く工程を表す。
【符号の説明】
【０１３５】
Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４，Ｘ５，９０      磁気ディスク
１１，２１，３１，４１，５１      ディスク基板
１２，３２，５２，９２      記録層
１２Ａ，３２Ａ，５２Ａ，９２Ａ      情報トラック
１２ａ，１２ｃ，３２ａ，３２ｃ，５２ａ，５２ｃ，９２ａ，９２ｃ      磁性部
１２Ｂ，１２ｂ，３２Ｂ，３２ｂ，５２ｂ，５２Ｂ，９２ｂ，９２Ｂ      非磁性部
１３，３３      微小凹凸構造層
１４，３４，５４，９３      保護膜
２１ａ，４１ａ      表面粗化領域
５３，５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃ      放熱層
５３Ｃ’      厚肉部
５３Ｃ’’      薄肉部
ＴＳ      トラックサーボ信号領域
ＹＤ      ユーザデータ領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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