(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の化学式１で示されるジテルペン誘導体：
【化１】
0004615710.tif 000063
（前記の化学式で、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ水素、ヒドロキシまたは環中の二重結合を形成し、Ｒ3はビニル、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、アセチルオキシエチル、メトキシメトキシエチル、メトキシエトキシメトキシエチル、メトキシイミノエチル、またはイソオキサゾリニルを示し、Ｒ4はカルボキシル、カルボキシメチル、カルボキシビニル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル、カルボキシブチル、カルボキシブタジエニール、カルボキシアリル、カルボキシホモアリル、カルバモイル、メチルカルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、カルバゾイル、Ｎ−ピプシルカルバモイルメチル、Ｎ−ピプシルカルバモイルエチル、Ｎ−ピプシルカルバモイルブタジエニールまたはＮ−メタンスルフォニルカルバモイルエチル基を示す（ただし、Ｒ1、Ｒ2が環中の二重結合を形成し、Ｒ3がビニル基である場合には、Ｒ4はカルボキシルまたはカルボキシメチル基ではなく；Ｒ1とＲ2が共に水素で、Ｒ3がビニルのとき、Ｒ4はカルボキシルではない。）。）。
【請求項２】
請求項１記載のジテルペン誘導体を活性成分として含む消炎鎮痛剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ジテルペン誘導体及びこれを含む消炎鎮痛剤に関して、詳しくはアカントパナクスコレアヌム(Acanthopanax Koreanum)から抽出した成分から製造される下記化学式１のジテルペン誘導体に関する。
【０００２】
【化２】
0004615710.tif 000002
【０００３】
（前記の化学式で、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ水素、ヒドロキシまたは環中の二重結合を形成し、Ｒ3はビニル、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、アセチルオキシエチル、メトキシメトキシエチル、メトキシエトキシメトキシエチル、メトキシイミノエチル、またはイソオキサゾリニルを示し、Ｒ4はヒドロキシメチル、カルボキシル、カルボキシメチル、カルボキシビニル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル、カルボキシブチル、カルボキシブタジエニール、カルボキシアリル、カルボキシホモアリル、カルバモイル、メチルカルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、カルバゾイル、Ｎ−ピプシルカルバモイルメチル、Ｎ−ピプシルカルバモイルエチル、Ｎ−ピプシルカルバモイルブタジエニールまたはＮ−メタンスルフォニルカルバモイルエチル基を示す）
【０００４】
【関連技術】
アカントパナクスコレアヌムは、韓国の済州島で自生する特産物であり、アンゼリカ木科に属する落葉灌木で、済州地方からの搬出が制限されている。この木の樹皮及び根皮は昔から漢方で筋骨の疼痛に対する鎮痛の作用が有効であると考証されており、民間ではアカントパナクスコレアヌム根皮または樹皮で酒を造り、神経痛と中風、高血圧及びリューマチなどの治療に用いられてきた。
【０００５】
最近、本発明者らは、アカントパナクスコレアヌムの根皮及び樹皮から抽出されたジテルペン系成分の中(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸[(−)−pimara−9(11),15−diene−4−carboxylic acid]及びこれから合成される新規誘導体が、アラキドン酸(arachidonic acid)が炎症の仲介物質であるPGE2へ転換される過程を阻害するによって、優れた抗炎症の作用を持っていることを見出し、特許出願した。(韓国特許第112194号)
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、優れたPGE2(プロスタグランディン E2)生成阻害物質を見出す目的で、続けて研究を行った結果、より一層抗炎症作用の優れている化合物を開発し、本発明を完成するに至った。
本発明の目的は、前記の化学式１のジテルペン誘導体を提供することにある。
【０００７】
本発明の別の目的は、前記の化学式１で示されるジテルペン誘導体を含む消炎鎮痛剤を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は下記の化学式１のジテルペン誘導体及びこれを含む消炎鎮痛剤に関する。
【０００９】
【化３】
0004615710.tif 000003
【００１０】
前記の化学式でＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は前で定義されたとおりである。
前記の化学式１の化合物はアカントパナクスコレアヌムから抽出された成分から製造されるのであり、その製造方法を詳しく説明すると次の通りである。
まず、アカントパナクスコレアヌムの根皮及び樹皮を細切してアルコールで水浴上で加熱抽出後、抽出物をろ過する。アルコール抽出物のろ過液を集めて濃縮した後、水を加えてこの混合物をジエチルエーテルで抽出する。エーテル抽出物を濃縮乾燥し、残留物をエチルアセテートとヘキサン混合溶出液を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分別し、分画の主成分である下記の化学式２の(−)−ピマラ−9(11)、15−ジエン−4−カルボン酸(R4＝COOH)を得る。以下の化学式２〜４８の化合物についての説明の中で、括弧の中のＲ1〜Ｒ4についての定義は化学式１と比較して、化学式２〜４８のＲ1〜Ｒ4置換基がどう特徴的に変化したかを示すために記載した。
【００１１】
【化４】
0004615710.tif 000004
【００１２】
得られた前記の化学式２の化合物は様々な誘導体を形成するように下記の反応式１〜７のように反応させる。
【００１３】
【化５】
0004615710.tif 000005
【００１４】
前記の反応式１に示したように、化学式２の天然ジテルペン(R4=COOH)を還元させた後、テトラプロピルアンモニウム過ルテニウム酸塩、PDC、PCC又はスウォン(Swern)酸化方法等で酸化し、化学式３の化合物(R4=CHO)を得る。得られた化学式３の化合物のアルデヒド基をトリエチルホスホノアセテートアニオンで、テトラヒドロフラン中でウィッティヒ(Wittig)反応させ、化学式６の化合物のように二重結合を得る。共役エステルの二重結合をメタノール中でマグネシウムで還元させたり、または水酸化リチウムで直接加水分解させ、化学式７の化合物(R4=CH2CH2COOH) 、または化学式８の化合物(R4=CHCHCOOH)を得る。なお、メトキシメチルホスホランを用いてウィッティヒ反応で得られた化学式４の化合物(R4=CHCHOCH3)をアセトンの中でパラトルエンスルホン酸で加水分解してアルデヒドを得た後、水とエタノール中で酸化銀で酸化させ、化学式５の化合物(R4=CH2COOH)を得る。
【００１５】
本発明のカルボニル誘導体は、下記の反応式(2及び3)に示したように製造することができる。
【００１６】
【化６】
0004615710.tif 000006
【００１７】
前記の反応式２に示したように、化学式２の天然ジテルペン(R4=COOH)をベンゼン中でオキザリルクロライドやチオニルクロライドと直接反応させ、化学式９の化合物(R4=COC1)を得て、このものはエチルアセテート中でアンモニア水、またはメチルアミン水溶液で反応させたり、ベンゼン中でヒドロキシルアミン塩酸塩、または無水エーテル中でヒドラジン１水和物と反応させ、それぞれ、化学式１０の化合物(R4=CONH2)、化学式１１の化合物(R4=CONHCH3)、化学式１２の化合物(R4=CONHNH2、カルバゾイル)及び化学式１３の化合物(R4=CONHOH)を得る。
【００１８】
同様に、前記の化学式９の化合物の酸クロライド基を、ピリジン中でトリメチルシリルエタノールと反応させ、カルボキシル基が保護された化学式１４の化合物(R4=COOCH2CH2TMS)を得る。このものをテトラヒドロフラン中で２当量のボラン−メチルスルフィドと反応させ、ジメチルホルムアミド中でテトラブチルアンモニウムフッ化物で脱保護基させると、化学式１５の化合物(R1=OH, R2=H, R3=CH2CH2OH，R4 = CO2H)が得られる。なお、カルボキシル基が保護された化学式１４の化合物(R4 =COOCH2CH2TMS)は、N−クロロスクシンイミドとアセトアルドキシムによって得られたニトリルオキシドを用いてテトラヒドロフラン中で環化反応をさせた後、テトラブチルアンモニウムフッ化物で脱保護基させ、化学式１６の化合物(R1 、R2 =二重結合、R3 =イソオキサゾリニル)を得る。
【００１９】
【化７】
0004615710.tif 000007
【００２０】
前記の反応式３に示したように、化学式２の天然ジテルペン(R4=COOH)をｎ−ブチルリチウムでテトラヒドロフラン中で反応させてカルボン酸塩を得た後、１当量のボラン−メチルスルフィド複合体(BH3-SMe2)で還元させると、カルボキシル基に影響を与えないで目的とする化学式１７の化合物(R3=CH2CH2OH)を得ることができる。得られた化学式１７の化合物を接触還元させると、化学式１８の化合物(R1=H2, R2=H, R3=CH2CH2OH)を得ることができる。
【００２１】
【化８】
0004615710.tif 000008
【００２２】
前記の反応式４に示したように、前記の反応式１で得られた化学式４の化合物を加水分解して得られた化学式１９の化合物(R4=CH2CHO)のアルデヒド基をトルエン中でウィッティヒ反応させて二重結合を得た後、 共役エステルを水酸化リチウムで直接加水分解させたり、またはメタノール中でマグネシウムで還元させた後加水分解し、化学式２１の化合物(R4=CH2CHCHCOOH)または、化学式２３の化合物(R4=CH2CH2CH2COOH)を得る。
【００２３】
【化９】
0004615710.tif 000009
【００２４】
前記の反応式５に示したように、前記の反応式２で得た化学式６の化合物(R4=CHCHCO2Et)の共役エステル基を還元させた後、テトラプロピルアンモニウム過ルテニウム酸塩で酸化し、化学式２４の化合物(R4=CHCHCHO)を得ることができる。そのアルデヒドはトリエチルホスホノアセテートアニオンでテトラヒドロフラン中で、ウィッティヒ反応させてジエンを得た後、水酸化リチウムで加水分解させ、化学式２５の化合物(R4=CHCHCHCHCO2H)を得る。
【００２５】
なお、化学式６の化合物(R4=CHCHCO2Et)の共役エステル基をメタノール中でマグネシウムと反応させて二重結合を還元させ、ジイソブチルアルミニウムヒドライドと反応させてエステル基を還元させた後、テトラプロピルアンモニウム過ルテニウム酸塩で酸化して、化学式２７の化合物(R4=CH2CH2CHO)を得る。
その結果として得られた化学式２７の化合物のアルデヒド基をトリエチルホスホノアセテートアニオンを用いてテトラヒドロフラン中で、ウィッティヒ反応させて二重結合を得た後、 共役エステルの二重結合を水酸化リチウムで直接加水分解させたり、またはメタノール中でマグネシウムで還元させてから加水分解させ、化学式２９の化合物(R4=CH2CH2CHCHCOOH)又は化学式３１の化合物(R4=CH2CH2CH2CH2COOH)を得る。
【００２６】
本発明のピプシルカルバモイル誘導体は、下記の反応式６に示したように製造することができる。
【００２７】
【化１０】
0004615710.tif 000010
【００２８】
前記の化学式５、７及び２５の化合物のカルボキシル基をベンゼン中でオキザリルクロライドやチオニルクロライドで直接反応させて酸クロライドを得てから、ピプシルアミド又はメタンスルホンアミドを、テトラヒドロフラン中で水素化ナトリウムで処理して得られたピプシルアミドアニオン、またはメタンスルホンアミドアニオンと反応させ、それぞれ化学式３２の化合物(R4=CH2CONHSO2PhI, ピプシルカルバモイルメチル)、化学式３３の化合物(R4=CH2CH2CONHSO2PhI, ピプシルカルバモイルエチル)、化学式３４の化合物(R4=CH2CH2CONHSO2CH3、メタンスルホニルカルバモイルエチル)及び化学式３５の化合物(R4=CHCHCHCHCONHSO2PhI, ピプシルカルバモイルブタジエニル)を得る。
【００２９】
【化１１】
0004615710.tif 000011
【００３０】
前記の反応式７に示したように、前記の反応式３で得られた化学式１４のエステルを１当量のボラン−メチルスルフィドで反応させて得た化学式３６の化合物(R3=CH2CH2OH, R4=CO2CH2 CH2TMS)のヒドロキシ基を、水素化ナトリウム−ヨウ化メタン、無水酢酸、メトキシメチルクロライド又はメトキシエトキシメチルクロライドで処理した後、 ジメチルスルホキシド中でテトラブチルアンモニウムフッ化物で脱保護基させ、それぞれ化学式４１の化合物(R3=CH2CH2OCH3)、化学式４２の化合物(R3=CH2CH2OAc)、化学式４３の化合物(R3=CH2CH2OCH2OCH3)及び化学式４４の化合物(R3=CH2CH2OCH2OCH2CH2OCH3)を得る。
【００３１】
一方、化学式３６の化合物のヒドロキシ基をテトラプロピルアンモニウム過ルテニウム酸塩で酸化させて化学式４５の化合物(R3=CH2CHO)を得、 メトキシアミンと縮合させてから、ジメチルスルホキシド中でテトラブチルアンモニウムフッ化物で脱保護基させ、化学式４７の化合物(R3=CH2CHNOCH3)を得る。
前記の化学式１の化合物の投与量は、消炎鎮痛剤として大人１日0.01〜1000mgであり、投与量は症状の程度だけでなく患者の年齢及び体重によって、常套的に変えられる。
【００３２】
本発明の消炎鎮痛剤は、通常の製剤の製造方法によって経口投与、または非経口投与に適した形に製造化することができる。経口投与の場合には、本発明の消炎鎮痛剤は、カプセル剤、溶液、シロップ剤、懸濁剤等の形態に製造することができ、非経口の場合には、腹腔、皮下、筋肉、経皮に対する注射剤の形で製造することができる。
【００３３】
【実施例】
以下の実施例で本発明をさらに詳しく説明するが、本発明がこれらに限られるものではない。
実施例 1：4−ヒドロキシメチル−(−)−ピマラ−9(11)、15−ジエンの製造
(−)−ピマラ−9(11)、15−ジエン−4−カルボン酸101mgとリチウムアルミニウムヒドライド25.4mgをエーテル3mlに溶解し、室温で10時間攪拌した。数滴のメタノールを添加して反応を終了させた。エーテル20ml、酒石酸ナトリウムカリウム4水和物の飽和溶液20mlを反応混合物に加え、室温で5時間激しく攪拌した。有機溶媒層を水と塩化ナトリウムの飽和水溶液で洗浄した後、 硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/5の混合溶出液)で精製し、4−ヒドロキシメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン82mg(85%)を得た。
【００３４】
【数１】
0004615710.tif 000012
【００３５】
実施例 2:4−ホルミル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
4−ヒドロキシメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン55mgと、テトラプロピルアンモニウム過ルテニウム酸塩触媒量、N−メチルモルホリン−N−オキサイド22.4mg、モレキュラーシーブパウダーを3mlのジクロロメタンに溶解した後、室温で30分間攪拌した。反応混合液を減圧濃縮した後、 ジエチルエ−テルで希釈し、シリガゲルでろ過した。 ろ過液を減圧濃縮した後、得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、4−ホルミル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン49mg(91%)を得た。
【００３６】
【数２】
0004615710.tif 000013
【００３７】
実施例 3:4−メトキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウムクロライド23.5mgのテトラヒドロフラン溶液2mlに、１Ｍ濃度のカリウムt−ブトキサイドのテトラヒドロフラン溶液0.07mlをゆっくり加えた。前記の実施例2の方法によって製造された4−ホルミル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン16.3mgを反応混合物に滴下し、12時間還流した。反応混合物を減圧濃縮した後、残留物をエチルアセテート20mlを加えて希釈し、水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した。反応混合物を硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮した後、得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、4−メトキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン19.8mg(90%, trans:cis＝2:1)を得た。
【００３８】
【数３】
0004615710.tif 000014
【００３９】
実施例 4:4−ホルミルメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
前記の実施例３の方法によって製造した4−メトキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン7mgと、パラトルエンスルホン酸をアセトン2mlに溶解した後、 0℃で30分間攪拌した。この反応混合物に炭酸ナトリウム飽和溶液1mlを加えた後、 エチルアセテート20mlを加えて希釈し、水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した。反応混合物を硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/20の混合溶出液)で精製し、4−ホルミルメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン6.2mg(93%)を得た。
【００４０】
【数４】
0004615710.tif 000015
【００４１】
実施例 5:4−カルボキシメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
硝酸銀と水酸化ナトリウムを水2mlに溶解し0℃で1時間攪拌した。実施例４の方法によって製造した4−ホルミルメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン15mgをエタノール1mlに溶解し、反応混合物に加えた。 9時間攪拌した後、 ろ過した。 このろ過液をエチルアセテート20mlで抽出し、有機溶媒層を0.5M濃度の塩酸溶液と、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−カルボキシメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン8.0mg(51%)を得た。
【００４２】
【数５】
0004615710.tif 000016
【００４３】
実施例 6:4−カルボエトキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
トリエチルホスホノアセテート31.4mgと、60%水素化ナトリウム4mgをテトラヒドロフラン1mlに溶解し、室温で1時間攪拌した。この反応混合物に実施例２の方法によって製造した4−ホルミル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10mgをテトラヒドロフラン1mlに溶解して加え、 12時間還流した。反応混合物をエチルアセテート20mlで希釈し、水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、 硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、4−カルボエトキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン8.3mg(70%)を得た。
【００４４】
【数６】
0004615710.tif 000017
【００４５】
実施例 7:4−カルボキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
前記の実施例６の方法によって製造した4−カルボエトキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン11mgをテトラヒドロフラン1mlと、水1mlとの混合物に溶解した後、 水酸化リチウム3.9mgを加えて、12時間還流した。この反応混合物を水で希釈し、1M塩酸溶液で酸性化した後、エチルアセテート20mlで抽出した。有機溶媒層を0.5M濃度の塩酸溶液と、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−カルボキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン7.5mg(75%)を得た。
【００４６】
【数７】
0004615710.tif 000018
【００４７】
実施例 8:4−カルボメトキシエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例６の方法によって製造した4−カルボエトキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10mgをメタノール2mlに溶解した後、 マグネシウムパウダー5mgを加え常温で12時間攪拌した。反応混合物に2M塩酸溶液を加え、残っているマグネシウムを溶かして減圧濃縮した後、 エチルアセテート20mlで抽出して、有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、9mg(90%)の4−カルボメトキシエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンを得た。
【００４８】
【数８】
0004615710.tif 000019
【００４９】
実施例 9:4−カルボキシエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例８の方法によって製造した4−カルボメトキシエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10mgをテトラヒドロフラン1mlと水1mlとの混合物に溶解した後、 水酸化リチウム3.9mgを加え12時間還流した。この反応混合物を水で希釈し、１Ｍ塩酸溶液で酸性化した後、 エチルアセテート20mlで抽出した。有機溶媒層を0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和溶液で洗浄した後、 硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−カルボキシエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン6.9mg(75%)を得た。
【００５０】
【数９】
0004615710.tif 000020
【００５１】
実施例 10:4−クロロホルミル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸10mgの2mlのベンゼン溶液に、オキザリルクロライド30μｌを加え室温で1時間攪拌した後減圧濃縮し、不安定な4−クロロホルミル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンを得た。
実施例 11:4−カルバモイル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例10で製造された反応混合物を減圧蒸留して得た残査に、アンモニア水1mlを加え、エチルアセテート2mlを加えた後、 常温で30分間攪拌した。 この反応混合物をエチルアセテート20mlで抽出して有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の溶出液)で精製し、4−カルバモイル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン9.8mg(99%)を得た。
【００５２】
【数１０】
0004615710.tif 000021
【００５３】
実施例 12:4−(N−メチル)カルバモイル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例10の反応混合物を減圧蒸留して得た残査にメチルアミン溶液1mlを加え、 エチルアセテート2mlを加えて室温で30分間攪拌した後、 反応混合物をエチルアセテート20mlで抽出し、有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮した後、得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−(N−メチル)カルバモイル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10.3mg(99%)を得た。
【００５４】
【数１１】
0004615710.tif 000022
【００５５】
実施例 13:4−カルバゾイル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例10の反応混合物を減圧蒸留して得た残査を無水エーテル2mlに溶解して室温でヒドラジンの1水和物4.5mgを加えた後、 1時間攪拌した。この反応混合物をジクロロメタン20mlで抽出し、有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮した後、得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール＝30：1の混合溶出液)で精製し、4−カルバゾイル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10.3mg(99%)を得た。
【００５６】
【数１２】
0004615710.tif 000023
【００５７】
実施例 14:4−(N−ヒドロキシ)カルバモイル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例10の反応混合物を減圧蒸留して得た残査に、ベンゼン1mlを加え0℃でヒドロキシルアミンの塩酸塩4.5mgを加えた後、 室温で3時間攪拌した。この反応混合物に無水酢酸ナトリウム4mgを加えて水で希釈後、 エチルアセテート20mlで抽出した。有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート：ヘキサン＝1：1の混合溶出液)で精製し、4−(N−ヒドロキシ)カルバモイル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10.4mg(99%)を得た。
【００５８】
【数１３】
0004615710.tif 000024
【００５９】
実施例 15:16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11),15−エン−4−カルボキシル酸の製造
(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸178mgのテトラヒドロフラン4ml溶液に、−20℃で1.6M濃度のn−ブチルリチウム0.6mlを加えた後、30分間攪拌した。この反応混合物に2M濃度のボラン−メチルスルフィド溶液0.5mlを加え、常温で26時間攪拌した後、 3N濃度の水酸化ナトリウム0.3mlと、30%過酸化水素0.3mlを反応混合物に加え、 常温で3時間攪拌した。反応混合物をエチルアセテート50mlで希釈し、0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート：ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸122.7mg(68.5%)を得た。
【００６０】
【数１４】
0004615710.tif 000025
【００６１】
実施例 16:16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−4−カルボン酸の製造
実施例15の方法によって製造した16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸45mgを無水メタノール2mlに溶解し、10%パラジウム/活性炭を触媒量入れた後、 水素で置換して室温で6時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、 ジエチルエーテルで希釈しシリカゲルでろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、 16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−4−カルボン酸43mg(95%)を得た。
【００６２】
【数１５】
0004615710.tif 000026
【００６３】
実施例 17:2'−(トリメチルシリル)エチル(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸塩の製造
実施例10の反応混合物を減圧蒸留して得た残査に、ピリジン1ml及びトリメチルシリルエタノール0.02mlを加えた後、 室温で20時間攪拌した。この反応混合物をエチルアセテート20mlで希釈し、1M塩酸溶液と水及び塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、2'−(トリメチルシリル)エチル(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸塩11.3mg(85%)を得た。
【００６４】
【数１６】
0004615710.tif 000027
【００６５】
実施例 18:2'−(トリメチルシリル)エチル 11,16−ジヒドロキシ−(−)−ピマラ−4−カルボン酸塩の製造
実施例17の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸塩10mgのテトラヒドロフラン1.5ml溶液に、0℃で2M濃度のボラン−メチルスルフィド溶液0.05mlを加えた後、 室温で20時間攪拌した。この反応混合物に3N濃度の水酸化ナトリウム溶液0.1mlと30%過酸化水素0.1mlを加え、室温で3時間攪拌した。反応混合物をエチルアセテート20mlで希釈し、水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、 硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート溶出液)で精製し、2'−(トリメチルシリル)エチル 11,16−ジヒドロキシ−(−)−ピマラ−4−カルボン酸塩6mg(55%)を得た。
【００６６】
【数１７】
0004615710.tif 000028
【００６７】
実施例 19:11,16−ジヒドロキシ−(−)−ピマラ−4−カルボン酸の製造
実施例18の方法によって製造した、2'−(トリメチルシリル)エチル11,16−ジヒドロキシ−(−)−ピマラ−4−カルボン酸塩6mgのジメチルホルムアミド1ml溶液に、テトラブチルアンモニウムフッ化物0.06mlを加えた後、 室温で2時間攪拌した。この反応混合物をエチルアセテート20mlで希釈した後、 0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート溶出液)で精製し、11,16−ジヒドロキシ−(−)−ピマラ−4−カルボン酸4.2mg(91%)を得た。
【００６８】
【数１８】
0004615710.tif 000029
【００６９】
実施例 20：化学式16の化合物のカルボキシル基がトリメチルシリルエチル基で保護された化合物の製造
N−クロロスクシンイミド1170mgの8mlクロロホルム溶液に、アセトアルドオキシム578mgとピリジン0.05mlとを加えた後、室温で10分間攪拌した。この反応混合物に、実施例17の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸塩194mgの3mlクロロホルム溶液を滴下した。40℃で攪拌しながらトリエチルアミン1.34mlを30分間にわたって適下し、20時間攪拌した。反応混合物をクロロホルム40mlで希釈し、1M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、化学式16の化合物のカルボキシル基がトリメチルシリルエチル基で保護された化合物162mg(73%)を得た。
【００７０】
【数１９】
0004615710.tif 000030
【００７１】
実施例 21:化学式16の化合物の製造
実施例20の方法によって製造した、化学式16の化合物のカルボキシル基がトリメチルシリルエチル基で保護された化合物114mgのジメチルホルムアミド7ml溶液に、テトラブチルアンモニウムフッ化物0.5mlを加えた後、室温で2時間攪拌した。この反応混合物をエチルアセテート50mlで希釈した後、0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/2の混合溶出液)で精製し、化学式16の化合物80mg(90%)を得た。
【００７２】
【数２０】
0004615710.tif 000031
【００７３】
実施例 22:4−カルボエトキシアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
トリエチルホスホノアセテート0.06mlと、60%水素化ナトリウム12mgを、トルエン1mlに溶解し1時間攪拌した。この反応混合物に、実施例4の方法によって製造した4−ホルミルメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン30mgをトルエン1mlに溶解した溶液を加えて室温で1時間攪拌後、 減圧濃縮してトルエンを除去しエチルアセテート20mlで希釈し、水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、4−カルボエトキシアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン28mg(76%)を得た。
【００７４】
【数２１】
0004615710.tif 000032
【００７５】
実施例 23:4−カルボキシアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例22の方法によって製造した4−カルボエトキシアリル−(−)−ピマラ  −9(11),15−ジエン13mgをテトラヒドロフラン1mlと水1mlとの混合液に溶解した後、水酸化リチウム1水和物4.4mgを加え、12時間還流した。この反応混合物をエチルアセテート20mlで希釈し、0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−カルボキシアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10.2mg(85%)を得た。
【００７６】
【数２２】
0004615710.tif 000033
【００７７】
実施例 24:4−カルボメトキシプロピル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例22の方法によって製造した4−カルボエトキシアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン15mgのメタノール2ml溶液に、 マグネシウムパウダー5mgを入れ室温で12時間攪拌した。反応混合物に2M塩酸溶液を加え、残っているマグネシウムを溶解し減圧濃縮し、メタノールを除去した後、 エチルアセテート20mlで抽出して有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、4−カルボメトキシプロピル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン12mg(83%)を得た。
【００７８】
【数２３】
0004615710.tif 000034
【００７９】
実施例 25:4−カルボキシプロピル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例24の方法によって製造した4−カルボメトキシプロピル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10mgをテトラヒドロフラン1mlと水1mlとの混合液に溶解した後、水酸化リチウム1水和物3.5mgを加え、 4時間還流し、エチルアセテート20mlで希釈し、0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、 硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−カルボキシプロピル−(−)−9(11),15−ジエン6mg(62.4%)を得た。
【００８０】
【数２４】
0004615710.tif 000035
【００８１】
実施例 26:4−ヒドロキシメチルビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例６の方法によって製造した4−カルボエトキシビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン24mgのジクロロメタン2ml溶液に、-78℃で1M水素化ジイソブチルアルミニウム溶液0.15mlを加え、30分間攪拌した後、数滴のメタノールを加えて反応を終結した。反応混合物にジクロロメタン20mlと酒石酸ナトリウムカリウム4水和物の飽和溶液20mlを加え、 室温で2時間激しく攪拌した。有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して4−ヒドロキシメチルビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン20mg(95%)を得た。
【００８２】
【数２５】
0004615710.tif 000036
【００８３】
実施例 27:4−ホルミルビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例26の方法によって製造した4−ヒドロキシメチルビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン20mgと、テトラプロピルアンモニウム過ルテニウム酸塩の触媒量、N−メチルモルホリン−N−オキサイド12mg及びモレキュラーシーブパウダーを2mlのジクロロメタンに溶解した後、 室温で1時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、 ジエチルエーテルで希釈し、シリカゲルで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、4−ホルミルビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン17mg(85.5%)を得た。
【００８４】
【数２６】
0004615710.tif 000037
【００８５】
実施例 28:4−カルボエトキシブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
トリエチルホスホノアセテート69μｌ、60%水素化ナトリウム13.4mgを、テトラヒドロフラン1.5mlに溶解し、室温で1時間攪拌した。この反応混合物に、実施例27の方法によって製造した4−ホルミルビニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン35mgをテトラヒドロフラン1mlに溶解した溶液を加え、室温で30分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮してテトラヒドロフランを除去してエチルアセテート20mlで希釈し、水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、4−カルボエトキシブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン41mg(95.7%)を得た。
【００８６】
【数２７】
0004615710.tif 000038
【００８７】
実施例 29:4−カルボキシブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例28の方法によって製造した4−カルボエトキシブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン41mgをテトラヒドロフラン1mlと水1mlとの混合液に溶解した後、水酸化リチウム1水和物13.5mgを加え、12時間還流し、エチルアセテート20mlで希釈し、0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−カルボキシブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン33.5mg(88%)を得た。
【００８８】
【数２８】
0004615710.tif 000039
【００８９】
実施例 30:4−ヒドロキシプロピル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例8の方法によって製造した4−カルボメトキシエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン40mgのジクロロメタン2ml溶液に、 -78℃で1M水素化ジイソブチルアルミニウム溶液0.25mlを加え、30分間攪拌した後、数滴のメタノールを加えて反応を終結した後、 ジクロロメタン20mlと酒石酸ナトリウムカリウム4水和物の飽和溶液20mlを加え、室温で2時間激しく攪拌した。有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−ヒドロキシプロピル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン36ml(98%)を得た。
【００９０】
【数２９】
0004615710.tif 000040
【００９１】
実施例 31:4−ホルミルエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例30の方法によって製造した4−ヒドロキシプロピル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン36mgと、テトラプロピルアンモニウム過ルテニウム酸塩の触媒量、N−メチルモルホリン−N−オキサイド20mg及びモレキュラーシーブパウダーを2mlのジクロロメタンに溶解した後、 室温で1時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、 ジエチルエーテルで希釈しシリカゲルでろ過した後、 ろ過液を減圧濃縮して4−ホルミルエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンを得た。これは実施例32の反応に供された。
【００９２】
実施例 32:4−カルボエトキシホモアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
トリエチルホスホノアセテート60μｌ及び60%水素化ナトリウム12mgをテトラヒドロフラン1.5mlに溶解し、室温で1時間攪拌した。この反応混合物に実施例31の方法によって製造した4−ホルミルエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン35mgのテトラヒドロフラン1ml溶液を加え、室温で30分間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮してテトラヒドロフランを除去し、エチルアセテート20mlで希釈して水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して、4−カルボエトキシホモアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンを得、これは実施例33の反応に供された。
【００９３】
実施例 33:4−カルボキシホモアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例32の方法によって製造した4−カルボエトキシホモアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン18mgをテトラヒドロフラン1mlと水1mlとの混合液に溶解した後、水酸化リチウム1水和物6mgを加え、4時間還流し、エチルアセテート20mlで希釈し、0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮した後、 得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−カルボキシホモアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン13.5mg(81%)を得た。
【００９４】
【数３０】
0004615710.tif 000041
【００９５】
実施例 34:4−カルボメトキシブチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例32の方法によって製造した4−カルボエトキシホモアリル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン18mgのメタノール2ml溶液に、 マグネシウムパウダー5mgを入れ、室温で12時間攪拌した。反応混合物に2M塩酸溶液を加え、残っているマグネシウムを溶解し減圧濃縮してメタノールを除去した後、 エチルアセテート20mlで抽出し、有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して、4−カルボメトキシブチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンを得た。これは実施例35の反応に供された。
【００９６】
実施例 35:4−カルボキシブチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例34の方法によって製造した4−カルボメトキシブチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン16mgをテトラヒドロフラン1mlと水1mlとの混合液に溶解した後、水酸化リチウム1水和物5mgを加え、4時間還流し、エチルアセテート20mlで希釈し、0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、4−カルボキシブチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン14.5mg(94%)を得た。
【００９７】
【数３１】
0004615710.tif 000042
【００９８】
実施例 36:ピプシルアミドの製造
ピプシルクロライド15mgにアンモニア水2mlを加え室温で5分間攪拌した後、 反応混合物をエチルアセテートで希釈し、有機溶媒層を水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮し、白色固体のピプシルアミド11.2mg(80%)を得た。
【００９９】
【数３２】
0004615710.tif 000043
【０１００】
実施例 37:4−クロロホルミルメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例5の方法によって製造した4−カルボキシメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10mgの2mlベンゼン溶液に、 オキザリルクロライド30μｌを加え、室温で1時間攪拌した後、 減圧濃縮して不安定な4−クロロホルミルメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンを得た。
【０１０１】
実施例 38:4−(N−ピプシル)カルバモイルメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例36の方法によって製造したピプシルアミド9.6mgと60%水素化ナトリウム1.4mgとをテトラヒドロフラン1mlに溶解し、室温で30分間攪拌した（反応混合物Ａ）。実施例37で製造した反応混合物を減圧濃縮して得た残査をテトラヒドロフラン1mlに溶解した（反応混合物Ｂ）。反応混合物Ａに反応混合物Ｂを加えた後、 室温で1時間攪拌した。 この反応混合物を減圧濃縮してテトラヒドロフランを除去し、ジクロロメタン20mlで希釈した後、水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/5の混合溶出液)で精製し、4−(N−ピプシル)カルバモイルメチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン17mg(92%)を得た。
【０１０２】
【数３３】
0004615710.tif 000044
【０１０３】
実施例 39:4−クロロホルミルエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例９の方法によって製造した4−カルボキシエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10mgの2mlベンゼン溶液に、 オキザリルクロライド30μｌを加え、室温で1時間攪拌した後、 減圧濃縮して不安定な4−クロロホルミルエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンを得た。
【０１０４】
実施例 40:4−(N−ピプシル)カルバモイルエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例36の方法によって製造したピプシルアミド9.6mgと60%水素化ナトリウム1.4mgとをテトラヒドロフラン1mlに溶解し、室温で30分間攪拌した(反応混合物A)。実施例39の反応混合物を減圧濃縮して得た残査をテトラヒドロフラン1mlに溶解した(反応混合物B)。反応混合物Aに反応混合物Bを加えた後、室温で1時間攪拌した。この反応混合物を減圧濃縮してテトラヒドロフランを除去し、ジクロロメタン20mlで希釈した後、水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1：5の混合溶出液)で精製し、4−(N−ピプシル)カルバモイルエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン16.2mg(90%)を得た。
【０１０５】
【数３４】
0004615710.tif 000045
【０１０６】
実施例 41:4−(N−メタンスルホニル)カルバモイルエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
メタンスルホンアミド6mgと60%水素化ナトリウム2.5mgとをテトラヒドロフラン1mlに溶解し、室温で30分間攪拌した(反応混合物A)。実施例39の反応混合物を減圧濃縮して得た残査をテトラヒドロフラン1mlに溶解した(反応混合物B)。反応混合物Aに反応混合物Bを加えた後、 室温で1時間攪拌した。 この反応混合物を減圧濃縮してテトラヒドロフランを除去し、エチルアセテート20mlで希釈した後、 水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1：3の混合溶出液)で精製し、4−(N−メタンスルホニル)カルバモイルエチル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン9.2mg(75%)を得た。
【０１０７】
【数３５】
0004615710.tif 000046
【０１０８】
実施例 42:4−クロロホルミルブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例29の方法によって製造した4−カルボキシブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン12mgの2mlベンゼン溶液に、オキザリルクロライド30μｌを加えて室温で1時間攪拌した後、 減圧濃縮して不安定な4−クロロホルミルブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンを得た。
【０１０９】
実施例 43:4−(N−ピプシル)カルバモイルブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエンの製造
実施例36の方法によって製造したピプシルアミド9.6mgと60%水素化ナトリウム1.4mgとをテトラヒドロフラン1mlに溶解し、室温で30分間攪拌した(反応混合物A)。実施例42の反応混合物を減圧濃縮して得た残査をテトラヒドロフラン1mlに溶解した(反応混合物B)。反応混合物Aに反応混合物Bを加えた後、 室温で1時間攪拌した。 この反応混合物を減圧濃縮してテトラヒドロフランを除去し、ジクロロメタン20mlで希釈した後、 水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1：3の混合溶出液)で精製し、4−(N−ピプシル)カルバモイルブタジエニル−(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン10mg(48%)を得た。
【０１１０】
【数３６】
0004615710.tif 000047
【０１１１】
実施例 44:2'−(トリメチルシリル)エチル 16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11),15−エン−4−カルボン酸塩の製造
実施例17の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸塩73mgの5mlテトラヒドロフラン溶液に、0℃で2M濃度のボラン−メチルスルフィド溶液0.33mlを加えた後、 0℃で60時間攪拌した。 この反応混合物に、3N濃度の水酸化ナトリウム溶液0.3mlと30%過酸化水素0.3mlとを加え、室温で1時間攪拌した後、 減圧濃縮してトラヒドロフランを除去し、20mlのエチルアセテートで希釈し、 水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/5の混合溶出液)で精製し、2'−(トリメチルシリル)エチル 16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩24mg(32%)を得た。
【０１１２】
【数３７】
0004615710.tif 000048
【０１１３】
実施例 45:2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩の製造
60%水素化ナトリウム2.5mgに、ジエチルエーテル1.8mlとジメチルスルホキシド0.2mlとを加えた。反応混合物を室温で攪拌しながら、実施例44の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩13mgのジエチルエーテル0.5ml溶液を加え、30分後ヨウ化メタン10μｌを加えた後、 2時間攪拌した。 反応混合物を20mlのジエチルエーテルで希釈し、水と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩10mg(74%)を得た。
【０１１４】
【数３８】
0004615710.tif 000049
【０１１５】
実施例 46:16−メトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸の製造
実施例45の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩20mgのジメチルスルホキシド1ml溶液に、1M濃度のテトラブチルアンモニウムフッ化物溶液0.15mlを加えた後、 室温で10分間攪拌し、エチルアセテート20mlで希釈した後、 0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/8の混合溶出液)で精製し、16−メトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩12mg(78%)を得た。
【０１１６】
【数３９】
0004615710.tif 000050
【０１１７】
実施例 47: 2'−(トリメチルシリル)エチル 16−アセチルオキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩の製造
実施例44の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩23mgを2mlのピリジンに溶解し、無水酢酸20μｌを加えた後、 室温で3時間攪拌した。 この反応混合物に、水1mlを加えて20分間攪拌した後、 エチルアセテート20mlで希釈し、炭酸ナトリウム飽和水溶液と0.5M濃度の塩酸溶液、 塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、2'−(トリメチルシリル)エチル 16−アセチルオキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩21mg(83%)を得た。
【０１１８】
【数４０】
0004615710.tif 000051
【０１１９】
実施例 48:16−アセチルオキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸の製造
実施例47の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 16−アセチルオキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩21mgのジメチルスルホキシド1ml溶液に、1M濃度のテトラブチルアンモニウムフッ化物溶液0.15mlを加えた後、 室温で30分間攪拌し、エチルアセテート20mlで希釈した後、 0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/8の混合溶出液)で精製し、16−アセチルオキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩14mg(82%)を得た。
【０１２０】
【数４１】
0004615710.tif 000052
【０１２１】
実施例 49:2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩の製造
実施例44の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩15mgのジクロロメタン2ml溶液に、ジイソプロピルエチルアミン13μｌと、メトキシメチルクロライド6μｌとを加えた後、 室温で1時間攪拌し、ジクロロメタン20mlで希釈し、塩化アンモウム飽和水溶液、水、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/30の混合溶出液)で精製し、2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩11.5mg(69%)を得た。
【０１２２】
【数４２】
0004615710.tif 000053
【０１２３】
実施例 50:16−メトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸の製造
実施例49の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩22.5mgのジメチルスルホキシド1mlに溶解した溶液に、1M濃度のテトラブチルアンモニウムフッ化物溶液0.15mlを加えた後、 室温で1時間攪拌し、エチルアセテート20mlで希釈した後、0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/5の混合溶出液)で精製し、16−メトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸14mg(76%)を得た。
【０１２４】
【数４３】
0004615710.tif 000054
【０１２５】
実施例 51:2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシエトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩の製造
実施例44の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩18mgのジクロロメタン2ml溶液に、ジイソプロピルエチルアミン16μｌと、メトキシエトキシメチルクロライド10μｌとを加えた後、 室温で2時間攪拌し、ジクロロメタン20mlで希釈し、塩化アンモニウム飽和水溶液、水、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/10の混合溶出液)で精製し、2‘−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシエトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩14.5mg(66%)を得た。
【０１２６】
【数４４】
0004615710.tif 000055
【０１２７】
実施例 52:16−メトキシエトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸の製造
実施例51の2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシエトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩14.5mgのジメチルスルホキシド1ml溶液に、1M濃度のテトラブチルアンモニウムフッ化物溶液0.1mlを加えた後、 室温で1時間攪拌し、エチルアセテート20mlで希釈した後、 0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/3の混合溶出液)で精製し、16−メトキシエトキシメトキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸11mg(91%)を得た。
【０１２８】
【数４５】
0004615710.tif 000056
【０１２９】
実施例 53:2'−(トリメチルシリル)エチル 15−ホルミル−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩の製造
実施例44の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 16−ヒドロキシ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩27.7mgと、テトラプロピルアンモニウム過ルテニウム酸塩の触媒量、N−メチルモルホリン−N−オキサイド12.5mg及びモレキュラーシーブパウダーを2mlのジクロロメタンに溶解した後、 室温で1時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、 ジエチルエーテルで希釈しシリカゲルでろ過した後、 ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/20の混合溶出液)で精製し、2'−(トリメチルシリル)エチル 15−ホルミル−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩27mg(98%)を得た。
【０１３０】
【数４６】
0004615710.tif 000057
【０１３１】
実施例 54:2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシイミノ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩の製造
実施例53の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 15−ホルミル−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩30mgを1.5mlのピリジンに溶解し、メトキシルアミン塩酸塩32mgを加えた後、室温で20時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、 ジエチルエーテルで希釈し、シリカゲルでろ過した。ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/20の混合溶出液)で精製し、2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシイミノ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩29mg(90%,trans:cis=2:1)を得た。
【０１３２】
【数４７】
0004615710.tif 000058
【０１３３】
実施例 55:16−メトキシイミノ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸の製造
実施例54の方法によって製造した2'−(トリメチルシリル)エチル 16−メトキシイミノ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸塩29mgのジメチルスルホキシド1ml溶液に、1M濃度のテトラブチルアンモニウムフッ化物溶液0.2mlを加えた後、 室温で１時間攪拌し、エチルアセテート20mlで希釈した後、 0.5M濃度の塩酸溶液と塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。 ろ過液を減圧濃縮して得た残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチルアセテート/ヘキサン＝1/8の混合溶出液)で精製し、16−メトキシイミノ−(−)−ピマラ−9(11)−エン−4−カルボン酸21mg(90%, trans:cis=2:1)を得た。
【０１３４】
【数４８】
0004615710.tif 000059
【０１３５】
実験例 1:天然単一成分及びその合成誘導体のPGE2合成阻害効果
新規誘導体のＰＧＥ2合成を阻害する効果が試験管内で試験された。該阻害効果はシクロオキシゲナーゼ-2の活性を抑制することによりもたらされる。新規誘導体は、アカントパナクスコレアヌムの根皮から分離されたジテルピン化合物である(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸から合成される。
【０１３６】
実験の方法は次の通りである。
羊の胎盤(sheep placenta)から分離精製されたCOX-2(Layman chemical社製)3ユニットと、補助因子としてヘマチン(hematin)1.0mM、1−エピネフリン1.95mM及び還元されたグルタチオン0.49mMを混合し、氷の上で5分間放置した後、 COX-2活性測定用の試料を加え、氷の上で10分間インキュベートした。予備インキュベートした後、 基質として0.02μCiの〔1-14C〕アラキドン酸を加え、37℃で20分間反応させた。反応を終結させるために、2M HCI 10μｌを加えた。生成されたプロスタグランジンをエチルエーテルで二回抽出した。二つのエチルエーテル層を合わせて37℃の水浴上でその溶媒を蒸発させた後、 濃縮液をアセトンに溶解しTLCプレートに点滴した後、CHCl3:メタノール:酢酸＝18:1:1の混合溶媒で展開した。 展開されたTLCプレートのPGE2部分をオートラジオグラフィー(PACKARD)を利用して確認し、試料によって減少したPGE2の量を対照群と比較し、試料のCOX-2阻害活性を測定した。
【０１３７】
試験結果は、次の表1の通りである。IC50はPGE2活性を50%阻害できる検体試料の濃度である。
【０１３８】
【表１】
0004615710.tif 000060
【０１３９】
前記の測定結果は、本発明の化合物は、最26μMの濃度でPGE2合成を50%阻害する効果を示しているのに対し、通常の消炎鎮痛剤であるインドメタシンは同様の効果を発揮するのに約84μMの濃度を要している。従って、本発明の化合物は、インドメタシンに比べて、最大3.2倍も増大した消炎鎮痛作用を持つのがわかる。 なお、COX-1に対するCOX-2の選択的な阻害作用が優れていることで知られている、大正製薬会社のNS-398〔Prostaglandin Vol.47, p55(1994)及びGen. Pharmac. Vol.24, No.1, pp105-110(1993)〕と比較しても本発明の化合物は1.5倍の強い活性を示した。
【０１４０】
実験例 2:天然単一成分及びその合成誘導体の急性炎症についての抗炎症作用
実験例1でPGE2合成阻害効果が試験された天然単一成分及びその合成誘導体の中の一部について、単発性関節炎のモデルを利用し、次のように、関節炎の消炎作用についての試験を行った。
(Ａ) 誘導体の投与及び関節炎の誘発
合成された誘導体は、エタノール:TWEEN−80:生理食塩水(1:1:8)の混合溶媒に溶解し、腹腔内に注射で投与した。試験管内での試験結果を参照し、一次選別検査のための投与量として5mg/kgが用いられた。ミネラルオイルに溶解し滅菌処理した補助薬(adjuvant)をラットの右脚の後ろ部分のチベオ−カルカニアンジョイント(tibeo-calcanean joint)内に注入することにより、関節炎を誘発した。注入容量は、100μg/50μｌのM. butyricumを含むように調節された。
【０１４１】
(Ｂ) 誘導体の効果判定
第一次として、浮腫の程度を測定し炎症の指標にした。チベオ−カルカニアンジョイント(tibeo-calcanean joint)部位の断面積の算出法によりその程度を決定した。炎症誘発の後、定められた時間に関節部位の幅と長さとを測定し、この二つの測定値をかけた値を断面積の指標(SAI)にした。断面積の指標を基に浮腫指標を次のように計算した。
【０１４２】
【数４９】
0004615710.tif 000061
【０１４３】
各指標の測定は、補助剤注射後1時間、4時間、24時間に実施した。正常な関節には、補助剤の注入前に同側の関節で測定した指標値を用いた。
統計的な有意性は、unpaired t-testまたはFisher PLSDを用いたANOVAで検証した。
（Ｃ）消炎測定の結果
PGE2合成に対する阻害効果が優れている化学式５、７、８及び１８のジテルペン誘導体を対象に、単発性関節炎に対する生体内での活性度を、コプロフェン(koprofen)とインドメタシン(indomethacin)を対照薬物として検査した。
【０１４４】
炎症誘発の1時間後、化学式5と7の誘導体は浮腫指標を半分以下に減少させ、コプロフェンとインドメタシンより優れた効果を示すとともに、4時間後も、対照薬物であるコプロフェンとインドメタシンの効果を遥かに上回る効果を示した。
実験例 3:天然単一成分から合成された誘導体の細胞毒性試験
合成により得られたジテルペン誘導体の有用性を調査するため、一部誘導体の細胞毒性を調査した。
【０１４５】
細胞毒性はRaw 264.7を用いて試験された。細胞毒性の有無は、主に試料を処理してから48時間後にMTT試験を実施して判定した。
その測定結果は、次の表２の通りである。
【０１４６】
【表２】
0004615710.tif 000062
【０１４７】
各誘導体の細胞毒性試験の結果、各誘導体は殆んどが低い細胞毒性を示し、合成された誘導体は消炎鎮痛剤として利用可能であることが明らかである。
製剤例
1.錠剤の製造
実施例35の化合物                            2.5mg
ラクトースBP                              151.0mg
澱粉BP                                      30.0mg
プレゼラチン化トウモロコシ澱粉        15.0mg
実施例35の化合物を篩にかけて、ラクトース、澱粉及びプレゼラチン化トウモロコシ澱粉と混合した後、 精製水を添加し、ペーストを顆粒化し、乾燥した後、 ステアリン酸マグネシウムと混合し圧搾して、錠剤を得た。
【０１４８】
2. 注射剤の製造(抗癌剤)
実施例35の化合物                             800μｇ
希塩酸                                 PH 3.5になるまで
注射用生理食塩水BP                           最大1ml
適当な容量の注射用生理食塩水BP中に実施例35の化合物を溶解して、生成された溶液のpHを希塩酸BPを用いてpH3.5に調節し、続いて注射用生理食塩水BPを用いて容量を調節し、充分に混合してガラス製の5mlタイプのアンプル中に充填し、アンプルの先を熔解して封入した。アンプルに含まれる溶液は120℃で15分間加圧滅菌し、注謝剤を得た。
【０１４９】
【発明の効果】
本発明は、アカントパナクスコレアヌムの根皮及び樹皮から単離された、ジテルペン化合物である化学式(2)の(−)−ピマラ−9(11),15−ジエン−4−カルボン酸から、本発明の方法により合成された本発明の新しい誘導体が、イン  ビトロでPGE2合成を阻害する効果が、インドメタシンより優れており、 これらの化合物が消炎作用に対して、3.2倍もの生理活性度を持っていることを確認した。なお、これらの化合物は、動物をモデルにした消炎試験の中でも優れた効果を示し、また低い毒性も示した。 従って、アカントパナクスコレアヌムのジテルペン成分及びその合成誘導体は、消炎鎮痛剤として有用に用いることができる。