(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
施釉機の上方を通過する無端状の施釉用ハンガーコンベアが設けられ、
前記施釉用ハンガーコンベアに瓦素地を吊持するとともに瓦素地を水平方向に回動自在となす多数のハンガーが連結片を介して前記施釉用ハンガーコンベアに備えられ、
前記ハンガーが、連結片の下端に固定された支持片と、前記支持片に対して回動自在な略十字状の回動レバーと、前記回動レバーの下面に固定された固定片と、前記固定片に設けられた揺動ピンと、前記揺動ピンを介して前記固定片に軸支された略円弧状の杆体と、前記杆体の下端に設けられた押え板と、前記杆体の下端付近において水平方向へ貫通させた支点ピンと、前記支点ピンに回動自在に設けられた倒立Ｌ字状の係止片と、前記係止片の中心付近に前記杆体に対して直角方向に貫通された開口用ピンと、前記杆体の中心付近に前記開口用ピンと平行に貫通させた姿勢制御用ピンと、からなるとともに、
一方、施釉機から見た前記施釉用ハンガーコンベアの上流側には、瓦素地を前記ハンガーへ向けて送り出す送出コンベアが設けられ、
瓦素地の尻を上方へ向けて起立させるとともに前記ハンガーへ瓦素地を受け渡す起立機構が前記送出コンベアの終端付近に備えられ、
他方、施釉機から見た前記施釉用ハンガーコンベアの下流側には、前記ハンガーから取り外された瓦素地を水平状態で搬送する受取コンベアが設けられ、
前記ハンガーから瓦素地を取り外すとともに、瓦素地の表面が上方へ向かうように倒伏させる倒伏機構が前記受取コンベアの始端付近に設けられ、
前記ハンガーの前記回動レバーに干渉して瓦素地を水平方向へ回動させる回動機構が起立機構と倒伏機構との間に位置する施釉用ハンガーコンベアの近傍に備えられたことを特徴とする瓦素地の搬送ラインシステム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
この発明は、瓦素地の搬送方法および瓦素地の搬送ラインシステムに関する。
とくに、施釉を必要とする瓦素地の搬送方法および瓦素地の搬送ラインシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
粘土瓦のうち、陶器瓦の製造は、成形された瓦素地を乾燥させた後に施釉し、施釉後に瓦素地を焼成させることが実施されているが、この工程を連続的に行うため、瓦素地の搬送ラインシステムが採用されている。
従来では、例えば図８に示される搬送ラインシステム１００が採用され、瓦素地Ｗの一連の搬送が行われていることは知られる通りである。
この搬送ラインシステム１００は、施釉機１２２の上方を通過する無端状の施釉用ハンガーコンベア１０２が設けられ、施釉用ハンガーコンベア１０２には瓦素地Ｗを吊持するため多数の施釉用ハンガーコンベア１０２のハンガー（以下断りがない限り単に「ハンガー」と称する）１２４が備えられていた。
一方、施釉機１２２から見た場合の施釉用ハンガーコンベア１０２の上流側には、前工程により乾燥された瓦素地Ｗを次の施釉工程側へ搬送させることを目的として送出コンベア１１４が設けられていた。
さらに、瓦素地Ｗの尻Ｓを上方へ向けて起立させるとともに、瓦素地Ｗをハンガー１２４へ受け渡すために放射状に、多数の受承体１１７を備えた起立機構１１６が送出コンベア１１４の終端付近に備えられていた。
他方、施釉機１２２から見た場合の施釉用ハンガーコンベア１０２の下流側には、ハンガー１２４から瓦素地Ｗを取り外し、前工程により施釉された瓦素地Ｗを次の焼成工程側へ搬送させることを目的として水平状態で搬送するために受取コンベア１２０が設けられていた。
また、ハンガー１２４から瓦素地Ｗを取り外すとともに、瓦素地Ｗを倒伏させるために放射状に多数の受承体１１９を備えた倒伏機構１１８が受取コンベア１２０の始端付近に設けられていた。
【０００３】
この種の搬送ラインシステム１００により乾燥後の瓦素地Ｗを焼成工程側へ搬送するに先立って、前工程として瓦素地Ｗは乾燥されるが、その場合、水平状態であって、かつ裏面を下方にして乾燥が行われる。
そして、乾燥後の瓦素地Ｗは、その姿勢を保って乾燥台車などから送出コンベア上１１４へ移載され、次の工程に備えられる。
さらに、瓦素地Ｗは施釉工程に備え、その頭Ｈが搬送方向に変位されることは知られるとおりである。
この点についてさらに言及すると、起立機構１１６により瓦素地Ｗを起立させる場合、その制御は受承体１１９が搬送方向に向けて回転されることに支配されるから、前記のように、瓦素地Ｗの頭Ｈが搬送方向に向けられる。
送出コンベア上１１４へ移載され、表面Ｐを上方とし裏面Ｎを下方とする瓦素地Ｗは送出コンベア１１４の終端付近に設けられた起立機構１１６により、瓦素地Ｗの尻Ｓを上方に向けて起立される。
そして、起立機構１１６により起立された瓦素地Ｗの尻Ｓをハンガー１２４が吊持し、ハンガー１２４に吊持された瓦素地Ｗは施釉用ハンガーライン１０２により施釉機１２２に向けて搬送される。
次いで、施釉機１２２により搬送中の瓦素地Ｗの表面Ｐが施釉され、施釉された瓦素地Ｗは引き続き搬送され、瓦素地Ｗは受取コンベア１２０の始端付近に達する。
受取コンベア１２０に備えられた倒伏機構１１８により瓦素地Ｗはハンガー１２４から取り外されるとともに倒伏され、受取コンベア１２０上に受け渡される。
このように、前記した工程を行う従来の搬送ラインシステム１００によれば、乾燥済みの瓦素地Ｗを送出コンベア１１４から施釉用ハンガーコンベア１０２を介して、受取コンベア１２０へ瓦素地Ｗを連続的に搬送することができるほか、ハンガー１２４による搬送中の瓦素地Ｗに対して施釉することができる。
【０００４】
しかしながら、この種の搬送ラインシステム１００による瓦素地Ｗの搬送では、送出コンベア１１４上で搬送される瓦素地Ｗの表面Ｐは上方に向けられている。
したがって、瓦素地Ｗを送出コンベア１１４からハンガー１２４へ受渡す目的から、起立機構１１６の受承体１１７は搬送方向へ回転され、瓦素地Ｗの裏面Ｎを掬うようにして瓦素地Ｗは水平状態から徐々に傾斜され、遂には垂直状態に立起され、瓦素地Ｗの尻Ｓがハンガー１２４により把持される。
ハンガー１２４に吊持された瓦素地Ｗの姿勢は垂直状態であるが、ハンガー１２４に吊持前の瓦素地Ｗは水平状態であって表面Ｐは上方に向けられているから、この姿勢で前記したように起立機構１１６の受承体１１７が搬送方向へ回転することにより、瓦素地Ｗの表面Ｐは依然として搬送方向へ向けられる。
そして、瓦素地Ｗの表面Ｐが搬送方向へ向けられたまま施釉が行われる。
施釉後の瓦素地Ｗは受取コンベア１２０に達し、ハンガー１２４に吊持された瓦素地Ｗの表面Ｐは搬送方向に向いているから、倒伏機構１１８の受承体１１９に臨んだ状態になる。
したがって、ハンガー１２４から取り外された瓦素地Ｗの表面Ｐは、搬送方向に向けて徐々に回転する前記の受承体１１９に接触することになり、倒伏時の瓦素地Ｗの表面Ｐが倒伏機構１１８の受承体１１９に接触することを回避できない。
さらに、瓦素地Ｗの表面Ｐが倒伏機構１１８の受承体１１９により支持された状態でさらに受承体１１９が搬送方向に向けて徐々に回転することにより、傾斜状態の瓦素地Ｗは遂に倒伏され、水平状態に変位されて受取コンベア１２０上に移載され、瓦素地Ｗは次工程に向けて搬送できる状態となる。
ところが、瓦素地Ｗは水平状態ではあるものの、その表面Ｐが下方に向けられたままであるから、受取コンベア１２０に接触することを回避できない。
よって、前記したように、瓦素地Ｗの表面Ｐは倒伏機構１１８の受承体１１９に接触し、また受取コンベア１２０との接触も回避できないから、瓦素地Ｗの表面Ｐに傷が付き易く、傷の発生により瓦の商品価値を損ねてしまうという問題があった。
とりわけ、瓦素地Ｗの表面Ｐが施釉されている場合では、倒伏機構１１８などとの接触により、その表面Ｐに一層傷が付き易いという問題があった。
【０００５】
また、瓦素地ＷがＦ形粘土瓦である場合では、傾斜状態に列設された瓦素地Ｗを焼成することが少なくない。
この場合、図９に示されるように、傾斜用コンベア１４０上に瓦素地Ｗを順次傾斜状態で起立させる必要があるが、従来の搬送ラインシステム１００では、瓦素地Ｗの姿勢を水平状態から傾斜状態へ制御する前に、瓦素地Ｗの頭Ｈ・尻Ｓの向きと、表面Ｐ・裏面Ｎの向きをそれぞれ反転させる必要がある。
このため、瓦素地Ｗの頭Ｈ・尻Ｓの向きと、表面Ｐ・裏面Ｎの向きをそれぞれ反転させるための反転装置などが別途必要となり、設備のコストや設置スペースが増大するほか、設備の複雑化や生産効率の低下を招くという問題があった。
さらに、瓦素地Ｗの頭Ｈ・尻Ｓの向きと、表面Ｐ・裏面Ｎの向きを反転させるようにすると、瓦素地Ｗの表面Ｐを傷付けるおそれがあった。
【０００６】
これらの問題点を解決するために、前記した理由から明らかなように、施釉後の瓦素地Ｗの表面Ｐを受取コンベア１２０において上方に向うようにすることが考えられる。
そのためには、乾燥後の瓦素地Ｗが裏面Ｎが送出コンベア１１４上において上方に向けて搬送されるようにすることが考えられる。
しかしながら、瓦素地Ｗの乾燥時には、その表面Ｐに傷が付くことを避けるために瓦素地Ｗの表面Ｐを上方に向けることは必須である。
乾燥済の瓦素地Ｗを施釉処理に先立って瓦素地Ｗの裏面Ｎを上方に向けるためには、乾燥済の瓦素地Ｗを送出コンベア１１４上で一度表裏を反転させる必要がある。
したがって、乾燥済の瓦素地Ｗ反転のための装置が別途必要になるなど、設備のコストや設置スペースが増大するほか、設備の複雑化や生産効率の低下を招くことになる。
なお、特開平１１−３２２４７５号公報および特開平１０−１９４４２１号公報に吊持した瓦素地を水平方向へ回動自在としたハンガーやこの種のハンガーを利用した施釉装置に記載されているが、ハンガーから受取コンベアへ受け渡す瓦素地の姿勢の制御ついては一切言及されていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
この発明が解決しようとする課題は、瓦素地の搬送時における倒伏の際に、瓦素地の表面が倒伏機構に臨むから、施釉された瓦素地の表面が倒伏機構や受取コンベアに接触し、倒伏機構による倒伏時や受取コンベアによる搬送時において瓦素地の表面に傷が付き易く、瓦の商品価値を損ねる点にある。
また、瓦素地がＦ形粘土瓦の場合では、瓦素地の頭を上方とし尻を下方とする傾斜状態の瓦素地を焼成することから、受取コンベア上の瓦素地を順次傾斜状態で起立させる必要がある。
ところが、瓦素地を傾斜状態に起立させるに先立って、瓦素地の頭尻および表裏面の向きをそれぞれ反転させなければならないので、反転装置などが別途必要になり、設備のコストや設置スペースが増大するほか、設備の複雑化や生産効率の低下を招く点にある。
【０００８】
この発明の目的は、施釉後の瓦素地の表面に傷を付ないようにする瓦素地の搬送方法および瓦素地の搬送ラインシステムを提供することにある。
さらに、瓦素地がＦ形粘土瓦であって、傾斜状態で焼成を行う場合であっても、生産設備のコストや設置スペースが増大したり、設備の複雑化や生産効率の低下を招くような反転装置などを別途必要しないようにすることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段および作用効果】
上記の目的を達成するため、請求項１記載の瓦素地の搬送ラインシステムは、施釉機の上方を通過する無端状の施釉用ハンガーコンベアが設けられ、前記施釉用ハンガーコンベアに瓦素地を吊持するとともに瓦素地を水平方向に回動自在となす多数のハンガーが連結片を介して前記施釉用ハンガーコンベアに備えられ、前記ハンガーが、連結片の下端に固定された支持片と、前記支持片に対して回動自在な略十字状の回動レバーと、前記回動レバーの下面に固定された固定片と、前記固定片に設けられた揺動ピンと、前記揺動ピンを介して前記固定片に軸支された略円弧状の杆体と、前記杆体の下端に設けられた押え板と、前記杆体の下端付近において水平方向へ貫通させた支点ピンと、前記支点ピンに回動自在に設けられた倒立Ｌ字状の係止片と、前記係止片の中心付近に前記杆体に対して直角方向に貫通された開口用ピンと、前記杆体の中心付近に前記開口用ピンと平行に貫通させた姿勢制御用ピンと、からなるとともに、一方、施釉機から見た前記施釉用ハンガーコンベアの上流側には、瓦素地を前記ハンガーへ向けて送り出す送出コンベアが設けられ、瓦素地の尻を上方へ向けて起立させるとともに前記ハンガーへ瓦素地を受け渡す起立機構が前記送出コンベアの終端付近に備えられ、他方、施釉機から見た前記施釉用ハンガーコンベアの下流側には、前記ハンガーから取り外された瓦素地を水平状態で搬送する受取コンベアが設けられ、前記ハンガーから瓦素地を取り外すとともに、瓦素地の表面が上方へ向かうように倒伏させる倒伏機構が前記受取コンベアの始端付近に設けられ、前記ハンガーの前記回動レバーに干渉して瓦素地を水平方向へ回動させる回動機構が起立機構と倒伏機構との間に位置する施釉用ハンガーコンベアの近傍に備えられたことを特徴とする。
【００１２】
請求項１記載の瓦素地の搬送ラインシステムによれば、送出コンベア上において瓦素地が水平状態で搬送されるが、起立機構によりハンガーへ受け渡すために瓦素地の尻が上方へ向かうように起立される。
次いで、起立された瓦素地は施釉用ハンガーラインのハンガーにより吊持されるとともに、瓦素地が送出しコンベアからハンガーへ受け渡される。
そして、瓦素地は瓦素地の頭を下方にしてハンガーにより搬送されるとともに、ハンガーに吊持された瓦素地の表面は施釉される。
さらに、瓦素地を水平方向に回動自在となすハンガーであることから、施釉後の瓦素地の裏面がハンガーの搬送方向となるように瓦素地が回動される。
回動された瓦素地を倒伏機構により瓦素地をハンガーから取り外すとともに、瓦素地の表面が上方へ向かうように瓦素地を倒伏させる。
瓦素地が倒伏されるとき、施釉された瓦素地の裏面が搬送方向へ向けられているから、倒伏された瓦素地の表面は上方を向かうことになる。
かくして、瓦素地は表面を上方に向けて受取コンベアに水平状態で受け渡される。
したがって、施釉された瓦素地の表面が起伏機構および受取コンベアに接触することがなく、施釉された瓦素地の表面を傷付けることがない。
また、受け渡された瓦素地の尻を搬送方向に向ければ、後工程において傾斜状態に瓦素地を起立させるＦ形粘土瓦の場合でも、瓦素地の表面が下方に向けられた場合と比較して、傾斜状態に起立させるに先立って瓦素地の向きを反転させるための反転装置などを別途必要としない。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１は、実施の形態にかかる瓦素地の搬送ラインシステムの概略を示す平面図、図２は同ラインシステムの概略を示す側面図、図３は搬送ラインシステムにおける瓦素地の搬送の過程を示す説明図、図４は搬送ラインシステムの起立機構による瓦素地の起立の過程を示す側面図、図５は搬送ラインシステムの倒伏機構による瓦素地の倒伏の過程を示す側面図、図６は瓦素地を傾斜状態へ起立させる過程を示す説明図、図７はハンガーの斜視図、図８は従来の搬送ラインシステムにの概略を示す側面図、図９は従来の搬送ラインシステムにおける瓦素地の搬送の過程を示す説明図である。
この実施の形態の瓦素地の搬送ラインシステム１０は、乾燥済のＦ形粘土瓦の瓦素地Ｗの表面Ｐに施釉を行い、施釉後の瓦素地Ｗを次工程に向けて搬送するためのものであり、主にハンガー２４が吊持された施釉用ハンガーコンベア１２、送出コンベア１４、起立機構１６、倒伏機構１８、受取コンベア２０、施釉機２２などから構成されている。
【００１４】
施釉用ハンガーコンベア１２は、後述する送出コンベア１４、起立機構１６、倒伏機構１８、受取コンベア２０、施釉機２２などの上方を通過するように設置されている（図１、図２を参照）。
また、施釉用ハンガーコンベア１２は無端状であって、瓦素地Ｗを吊持するためのハンガー２４が多数備えられている。
施釉用ハンガーコンベア１２は送出コンベア１４の上方では、上方から下方へ向けられ、再び下方から上方へ向かう第１湾曲部２６として形成されているほか、詳細について追って説明するハンガー２４の姿勢を制御して、ハンガー２４の係止片６８を開口させるために一対の第１のガイドレール４６（図４において、一方のガイドレール４６は図示されていない）が第１湾曲部２６に沿うように設けられ、一対の第１のガイドレール４６の外側に隣接して第１のガイドレール４６より短い一対の第２のガイドレール４４が設けられている（図２または図４を参照）。
【００１５】
一方、受取コンベア２０の上方においても、第１湾曲部２６と同様に第２湾曲部３２が形成されているほか、ハンガー２４の前後方向への揺動を防止するために、一対の揺動防止用ガイドレール４８が第２湾曲部３２の下方へ向かう部分に沿わせて設けられている（図５において、一方の揺動防止用ガイドレール４８は図示されていない）。
また、第２湾曲部３２の最下の部分にはハンガー２４の係止片６８を強制的に開口させるための開口用ガイド体５０が設けられている（図２、図５、図７を参照）。
なお、この実施の形態の開口用ガイド体５０は、ハンガー２４から瓦素地Ｗを取り外す場合、その作業の確実性を図るために、施釉用ハンガーコンベア１２に対して所定の範囲で昇降自在としているが、瓦素地Ｗの種類によっては開口用ガイド体５０を固定式としてもよい。
【００１６】
また、ハンガー２４に吊持された瓦素地Ｗの向きを施釉工程前に水平方向へ回動できるように、回動機構３８が起立機構１６と施釉機２２との間に位置する施釉用ハンガーコンベア１２の近傍に備えられている。
さらに、この実施の形態では、ハンガー２４に吊持された瓦素地Ｗの向きを施釉後においても水平方向へ回動できるように、回動機構３９が施釉機２２と倒伏機構１８との間に位置する施釉用ハンガーコンベア１２の近傍に備えられている。
これらの両回動機構３８、３９は何れも追って説明する走行中のハンガー２４の回動レバー５６に干渉するように設置されている。
【００１７】
次に施釉用ハンガーコンベア１２に吊持されるハンガー２４について説明すると（図７を参照）、瓦素地Ｗを吊持させる機能を備えるほか、吊持された瓦素地Ｗの向き、たとえば、表面が搬送方向に向けられた状態から裏面を搬送方向に向けるために水平方向へ回動自在に設けられ、ハンガー２４と施釉用ハンガーコンベア１２とは連結片５２を介して搬送方向へ揺動自在に連結されている。
ハンガー２４は、連結片５２の下端に固定された支持片５４、支持片５４に対して回動自在な略十字状の回動レバー５６、回動レバー５６の下面に固定された固定片５８、固定片５８に設けられた揺動ピン６０、揺動ピン６０を介して軸支された略円弧状の杆体６２、杆体６２の下端に設けられた押え板６４、杆体６２の下端付近において水平方向へ貫通させた支点ピン６６、支点ピン６６に回動自在に設けられた倒立Ｌ字状の係止片６８、係止片６８の中心付近に前記杆体６２に対して直角方向に貫通された開口用ピン７０、杆体６２の中心付近に前記開口用ピン７０と平行に貫通させた姿勢制御用ピン７２とから構成されている。
したがって、このハンガー２４によれば、起立機構１６側の回動機構３８の干渉により回動レバー５６が回動され、支持片５４を除くハンガー２４の構成要素が水平方向へ回動され、吊持された施釉前の瓦素地Ｗが水平方向へ回動することになる。
なお、受取コンベア２０側の回動機構３９の作用は、その設置位置の相違があるものの、起立機構１６側の回動機構３８の作用と同様であり、単に施釉後の瓦素地Ｗが水平方向へ回動する相違に止まる。
前記したこのハンガー２４による瓦素地Ｗは、回動する角度を９０度毎とし、正逆方向に回動自在とするものである。
【００１８】
送出コンベア１４は前工程により乾燥された瓦素地Ｗを施釉用ハンガーコンベア１２へ搬送するためのものである。
この実施の形態では、乾燥工程時の瓦素地Ｗの姿勢を保ち、送出しコンベア１４により、知られるように、施釉上の有利性を考慮し、その頭Ｈは搬送方向に向けられ、乾燥時の瓦素地Ｗの表面Ｐの損傷を抑制することを考慮し、その表面Ｐが上方に向けられた水平状態により搬送される。
また、送出コンベア１４には瓦素地Ｗの周縁に生じがちなバリを除去するためのバリ取り機構（図示せず）を設けてもよく、瓦素地Ｗの施釉においてバリによる不具合をバリ取り機構により未然に防止することができる。
【００１９】
送出コンベア１４の終端付近には起立機構１６が設けられているが、起立機構１６は送出コンベア１４により搬送された瓦素地Ｗを、ハンガー２４へ受け渡すために瓦素地Ｗを起立させるためのものである。
起立機構１６は、前記した施釉用ハンガーコンベア１２の第１湾曲部２６との組み合わせにより機能するものであるから、起立機構１６は上方から下方へ下降して上方へ湾曲された前記の第１湾曲部２６の下方に位置するように設けられている（図２を参照）。
起立機構１６には回転軸２８が設けられ、水平状態の瓦素地Ｗを掬い上げて起立させる受承体３０が回転軸２８に放射状に設けられ、受承体３０が回転軸２８の回転により搬送方向へ向けて回転される構造となっている。
また、起立機構１６および施釉用ハンガーコンベア１２は瓦素地Ｗの受け渡しができるように、互いに同期して駆動されるものとなっている。
なお、受承体３０の受承面に臨むように吸盤を設け、受承体３０の回転角度に応じて吸盤による瓦素地Ｗの吸着および解除を図ることにより、ハンガー２４への瓦素地Ｗの受け渡しの確実化を図るようにしてもよい。
【００２０】
起立機構１６から見て施釉用ハンガーコンベア１２の下流側には瓦素地Ｗに釉薬Ｇを施すための施釉機２２が設置されている。
施釉機２２は公知の施釉機であり、この実施の形態では瓦素地Ｗの表面Ｐが瓦素地Ｗの搬送方向と直角方向になるように、ハンガー２４に吊持された瓦素地Ｗを回動させた後、施釉用ハンガーコンベア１２の側方から瓦素地Ｗに向けて釉薬Ｇをノズルから吐出させて塗布するものとなっている。
【００２１】
施釉機２２から見て施釉用ハンガーコンベア１２の下流側には、ハンガー２４に吊持された瓦素地Ｗを倒伏させて受取コンベア２０へ受け渡すための倒伏機構１８と、瓦素地Ｗを水平状態で次工程側へ向けて搬送するための受取コンベア２０が設けられている。
受取コンベア２０の始端付近に設けられた倒伏機構１８は、ハンガー２４に吊持された瓦素地Ｗをハンガー２４から取り外し、搬送方向側へ倒伏させることにより瓦素地Ｗを受取りコンベア２０へ受け渡すためのものである。
倒伏機構１８は、前記した施釉用ハンガーコンベア１２の第２湾曲部３２との組み合わせにより機能するものであるから、倒伏機構１８は上方から下方へ下降して上方へ湾曲された前記の第２湾曲部３２の下方に位置するように設けられている（図２を参照）。
倒伏機構１８には回転軸３４が設けられており、ハンガー２４により垂直状態で吊持される瓦素地Ｗを受承するための受承体３６が回転軸３４に放射状に設けられており、受承体３６が回転軸３４の回転により搬送方向へ向けて回転される構造となっており、また、倒伏機構１８の受承体３６は瓦素地Ｗの裏面Ｎを受承するものとなっている。
倒伏機構１８および施釉用ハンガーコンベア１２は瓦素地Ｗの受け渡しができるように、互いに同期して駆動されるものとなっている。
なお、受承体３６の受承面に臨むように吸盤を設けて、受承体３６の回転角度に応じて吸盤による瓦素地Ｗの吸着および解除を図ることにより、倒伏機構１８への瓦素地Ｗの受け渡しを確実にするようにしてもよい。
【００２２】
この実施の形態では、焼成工程において瓦素地Ｗを傾斜状態で焼成するために、瓦素地Ｗを傾斜状態に姿勢制御するための傾斜用コンベア４０が受取コンベア２０の終端に接続されている。
この傾斜用コンベア４０は、受取コンベア２０により水平状態で搬送される瓦素地Ｗを順次傾斜状態に姿勢制御するものであるが、瓦素地Ｗを掬い上げて傾斜コンベア４０上で瓦素地Ｗの傾斜状態の姿勢を図るための傾斜支持体４２を備えている（図６を参照）。
傾斜用コンベア４０により７０度の傾斜状態を保つ瓦素地Ｗは、表面Ｐを上方に向けて裏面Ｎを傾斜支持体４２により支持されることが焼成のために必要である。
この実施の形態では、受取コンベア２０上の瓦素地Ｗの尻Ｓが搬送方向に向けられていることと、受取コンベア２０上の瓦素地Ｗの表面Ｐが上方へ向けられていることから、傾斜用コンベア４０により瓦素地Ｗの姿勢を制御する移動角度は７０度で済み、受取コンベア２０上の瓦素地Ｗの表面Ｐを下方に向けた従来の場合（図９を参照）と比較して、瓦素地Ｗの頭Ｈ・尻Ｓと、表面Ｐ・裏面Ｎを反転させる反転装置を必要としない。
【００２３】
次に、この実施の形態に係る搬送ラインシステム１０による瓦素地Ｗの搬送方法について説明する。
まず、乾燥済みの瓦素地Ｗが送出しコンベア１４により水平状態へ起立機構１６へ搬送される。
このときの瓦素地Ｗの表面Ｐは上方へ向けられているほか、瓦素地の頭Ｈが搬送方向へ向けられている（図４を参照）。
次いで、瓦素地Ｗが起立機構１６へ達するが、起立機構１６は回転する受承体３０により瓦素地Ｗをその裏面Ｎ側から順次掬い上げられ、尻Ｓを上方に向け、かつ表面Ｐが搬送方向に向けられた姿勢で水平状態から起立される。
一方、施釉用ハンガーコンベア１２を起立機構１６に同期して作動させることにより、施釉用ハンガーコンベア１２に吊持されたハンガー２４は、前記第１湾曲部２６により制御され、起立された瓦素地Ｗの尻Ｓに徐々に接近し、遂にその尻Ｓを把持する（図４を参照）。
ハンガー２４が瓦素地Ｗを順次把持するとともに、瓦素地Ｗを受承する受承体３０は空の状態で搬送方向へ回転して倒伏する一方、瓦素地Ｗの表面Ｐは依然として搬送方向に向けられたまま瓦素地Ｗはハンガー２４により吊持され、施釉用ハンガーコンベア１２により次工程に向けて搬送される。
【００２４】
次に、ハンガー２４により吊持された搬送中の瓦素地Ｗは、施釉機２２の傍らに達する前に回動機構３８により水平方向に９０度順次回動され、その表面Ｐが施釉機２２側に向けられる。
回動された瓦素地Ｗの表面Ｐは施釉機２２により順次施釉される（図３を参照）。
そして、施釉された瓦素地Ｗはハンガー２４により引き続き搬送されるが、倒伏機構１８に達する前に瓦素地Ｗの裏面Ｎが搬送方向へ向けられるように、搬送中の瓦素地Ｗが水平方向へ回動機構３９によりさらに９０度順次回動される（図３を参照）。
裏面Ｎを搬送方向へ向けた瓦素地Ｗは倒伏機構１８へ達して、倒伏機構１８の受承体３６により順次受承される（図５を参照）。
このとき、瓦素地Ｗの裏面Ｎが倒伏機構１８の受承体３６により支持されるから、施釉された瓦素地Ｗの表面Ｐが損傷することは一切ない。
そして、受承体３６の搬送方向への回転に伴って瓦素地Ｗは垂直状態から傾斜するとともに、ハンガー２４による瓦素地Ｗの吊持が順次解除される。
【００２５】
倒伏機構１６の受承体３６のさらなる回転により瓦素地Ｗは受取コンベア２０上に順次載置されるが、受取コンベア２０上の瓦素地Ｗは尻Ｓを搬送方向へ向け、瓦素地Ｗの表面Ｐは上へ向けられた水平状態にある。
受取コンベア２０に載置された瓦素地Ｗは受取コンベア２０の駆動により傾斜用４０コンベアへ向けて順次搬送される。
傾斜用コンベア４０に達した瓦素地Ｗは、傾斜用コンベア４０の傾斜支持体４２により順次掬い上げられて、掬い上げられた瓦素地Ｗは傾斜支持体４２により傾斜用コンベア４０上に傾斜状態の姿勢を保って列設される。
この実施の形態に係る搬送ラインシステム１０よる瓦素地Ｗの搬送状態の推移を平面と側面から見たものが図３にそれぞれ示されている。
【００２６】
この実施の形態では、搬送される瓦素地ＷをＦ形粘土瓦のものとしたが、瓦素地の種類に制限されるものではない。
さらに、この実施の形態では、ハンガー２４により吊持された施釉前の瓦素地Ｗの姿勢を回動機構３８により水平方向へ９０度回動させたが、回動させることなく瓦素地Ｗの施釉を行ってもよい。
要するにハンガー２４に吊持された瓦素地Ｗが倒伏機構１６に達する前に、瓦素地Ｗの裏面Ｎが搬送方向へ向けられていればよい。
また、施釉直後の瓦素地Ｗの表面Ｐの頭Ｓに残留しがちな滴状の釉薬Ｇ溜りを掬い取る仕上げ機構（図示せず）を施釉機２２からみた施釉用ハンガーコンベア１２の下流側に設けてもよい。
なお、この実施の形態ではハンガー２４による瓦素地Ｗの搬送中において瓦素地Ｗに釉薬Ｇの塗布する施釉について説明したが、いぶし瓦の製造における「はけ土」の塗布に対してもこの実施の形態に係る搬送ラインシステムを同様に実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施の形態にかかる瓦素地の搬送ラインシステムの概略を示す平面図である。
【図２】  同ラインシステムの概略を示す側面図である。
【図３】  搬送ラインシステムにおける瓦素地の搬送の過程を示す説明図である。
【図４】  搬送ラインシステムの起立機構による瓦素地の起立の過程を示す側面図である。
【図５】  搬送ラインシステムの倒伏機構による瓦素地の倒伏の過程を示す側面図である。
【図６】  瓦素地を傾斜状態へ起立させる過程を示す説明図である。
【図７】  ハンガーの斜視図である。
【図８】  従来の搬送ラインシステムの概略を示す側面図である。
【図９】  従来の搬送ラインシステムにおける瓦素地の搬送の過程を示す説明図である。
【符号の説明】
１０  搬送ラインシステム
１２  ハンガーコンベア
１４  送出コンベア
１６  起立機構
１８  倒伏機構
２０  受取コンベア
２２  施釉機
２４  ハンガー
２６  第１湾曲部
２８  回転軸
３０  受承体
３２  第２湾曲部
３４  回転軸
３６  受承体
３８  回動機構（起立機構・施釉機間）
３９  回動機構（施釉機・倒伏機構間）
４０  傾斜用コンベア
４２  傾斜支持体
４４  第２のガイドレール
４６  第１のガイドレール
４８  揺動防止用ガイドレール
５０  開口用ガイド体
５２  連結片
５４  支持片
５６  回動レバー
５８  固定片
６０  揺動ピン
６２  杆体
６４  押え板
６６  支点ピン
６８  係止片
７０  開口用７０
７２  姿勢制御用ピン
１００  搬送ラインシステム（従来）
１０２  施釉用ハンガーライン
１１４  送出コンベア
１１６  起立機構
１１８  倒伏機構
１２０  受取コンベア
１２２  施釉機
１２４  ハンガー
１４０  傾斜用コンベア
Ｗ  瓦素地
Ｈ  頭
Ｓ  尻
Ｐ  表面
Ｎ  裏面
Ｇ  釉薬
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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