(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
通路が形成されたブロック状本体を有する複数の流体制御機器と、直列状に配置された複数の流体制御機器を支持する支持部材とを備えており、支持部材の両端部に立上り部が設けられ、複数の流体制御機器の本体同士がそれらの通路開口同士を突き合わせるようにして支持部材の立上り部間に載置され、いずれか一方の立上り部にこれを長さ方向に貫通する本体固定用おねじ部材がねじ込まれることにより、複数の流体制御機器の本体が支持部材に取り付けられていることを特徴とする流体制御装置。
【請求項２】
流体圧力または流量を調整する調整器と、調整器入口側に設けられた入口側遮断開放器と、調整器出口側に設けられた出口側遮断開放器とを備えており、入口側遮断開放器は、通路が形成されたブロック状本体を有する複数の流体制御機器と、直列状に配置された複数の流体制御機器を支持する入口側支持部材とを有し、出口側遮断開放器は、通路が形成されたブロック状本体を有する複数の流体制御機器と、直列状に配置された複数の流体制御機器を支持する出口側支持部材とを有しており、各支持部材の両端部に立上り部が設けられ、複数の流体制御機器の本体同士がそれらの通路開口同士を突き合わせるようにして各支持部材の立上り部間に載置され、入口側支持部材の反調整器側端部の立上り部にこれを長さ方向に貫通する本体固定用おねじ部材がねじ込まれることにより、調整器入口側の複数の流体制御機器の本体が入口側支持部材に取り付けられているとともに、出口側支持部材の反調整器側端部の立上り部にこれを長さ方向に貫通する本体固定用おねじ部材がねじ込まれることにより、調整器出口側の複数の流体制御機器の本体が出口側支持部材に取り付けられていることを特徴とする流体制御装置。
【請求項３】
調整器は、調整器本体およびこれの入口側および出口側に張り出し状に設けられた補助通路ブロックからなり、調整器入口側および出口側の複数の流体制御機器のうちの調整器に最も近いものがそれぞれ調整器接続用通路ブロックとされ、調整器の各補助通路ブロックが調整器接続用通路ブロックに支持されて、上方からの調整器固定用おねじ部材によってこれに取り付けられている請求項２の流体制御装置。
【請求項４】
支持部材は、レールに摺動可能に取り付けられており、本体固定用おねじ部材が設けられていない方の立上り部に、これを立上り方向に貫通する支持部材固定用おねじ部材がねじ込まれることにより、支持部材がレールに取り付けられている請求項１または２の流体制御装置。
【請求項５】
本体固定用おねじ部材がねじ込まれる立上り部と立上り部に最も近い流体制御機器との間に、通路が形成されていない押圧用ブロックが介在させられている請求項１または２の流体制御装置。
【請求項６】
隣り合う流体制御機器の本体の合わせ面において、一方の本体の合わせ面に位置決め用凸部が形成され、他方の本体の合わせ面に、凸部に嵌め合わされる凹部が形成されている請求項１または２の流体制御装置。
【請求項７】
支持部材の板状部の少なくとも一方の側面に、流体制御機器の幅方向への脱落を防止する脱落防止板が取り付けられている請求項１または２の流体制御装置。
【請求項８】
少なくとも１カ所において、隣り合う流体制御機器の本体に上下２段の通路が設けられて、各通路同士がそれぞれシール部を介して接続されており、本体固定用おねじ部材は、上下２段のシール部のちょうど中央部分を押すように配置されている請求項１または２の流体制御装置。
【請求項９】
少なくとも１カ所において、隣り合う流体制御機器の本体の少なくとも一方に、下段の通路がなく上段の通路のみが設けられて、隣り合う流体制御機器の本体の上段の通路同士がシール部を介して接続されており、両流体制御機器の合わせ面の下段のシール部に対応する位置に、上段のシール部とバランスを取るためにこれと同じ形状とされたダミーシール部が設けられている請求項８の流体制御装置。
【請求項１０】
入口側遮断開放器は、上面に開口する弁室を有する本体および本体上面に設けられて弁室内の弁座に対して弁体を当接・離間させるアクチュエータからなり調整器接続用通路ブロックに隣り合うパージガス用開閉弁を有しており、パージガス用開閉弁の本体に、本体を入口方向から出口方向に貫通して調整器接続用通路ブロックの通路に常時通じておりプロセスガス導入用通路ならびにプロセスガス排出用およびパージガス排出用通路として使用される貫通通路と、一端が本体上方の弁室から離れた部分に開口し他端が弁室に通じているパージガス導入用通路と、貫通通路から分岐して弁室に通じアクチュエータによってパージガス導入用通路との連通が遮断開放されるパージガス排出用通路とが形成されている請求項３の流体制御装置。
【請求項１１】
入口側遮断開放器は、上面に開口する弁室を有する本体および本体上面に設けられて弁室内の弁座に対して弁体を当接・離間させるアクチュエータからなり調整器接続用通路ブロックに隣り合うパージガス用開閉弁を有しており、パージガス用開閉弁の本体に、一端が入口方向に開口し他端が弁室に通じているプロセスガス導入用上段通路と、一端がプロセスガス導入用通路の下方において入口方向に開口し他端が弁室に通じているパージガス導入用下段通路と、一端が弁室に通じ他端が出口方向に開口しているプロセスガスおよびパージガス排出用通路とが形成されており、プロセスガス導入用上段通路と排出用通路とは、常時連通させられ、パージガス導入用下段通路と排出用通路とは、アクチュエータによってその連通が遮断開放されている請求項３の流体制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体製造装置等に使用される流体制御装置に関し、特に、複数の流体制御機器が集積化されて形成される流体制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置で使用される流体制御装置においては、複数の流体制御機器が直列状に配されてパイプや継手を介さずに接続されることによって形成された複数のラインをベース部材上に並列状に設置するという集積化が進んでおり、特許文献１には、そのような流体制御装置として、下段層となる複数のブロック状継手部材がおねじ部材によってベース部材に取り付けられ、隣り合う継手部材にまたがるように上段層となる複数の流体制御機器が取り付けられているものが開示されている。
【特許文献１】特開平１０−２２７３６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記特許文献１の流体制御装置では、装置の占有スペースの減少および通路のボリュームの減少が可能となるという利点を有しているが、部品点数が多くなって組立てに時間がかかるという問題があった。【０００４】
この発明の目的は、装置の占有スペースおよび通路のボリュームに関しては、従来と同等の性能を維持して、部品点数削減によるコストダウンおよび組立て作業効率の向上が図られた流体制御装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
第１の発明による流体制御装置は、通路が形成されたブロック状本体を有する複数の流体制御機器と、直列状に配置された複数の流体制御機器を支持する支持部材とを備えており、支持部材の両端部に立上り部が設けられ、複数の流体制御機器の本体同士がそれらの通路開口同士を突き合わせるようにして支持部材の立上り部間に載置され、いずれか一方の立上り部にこれを長さ方向に貫通する本体固定用おねじ部材がねじ込まれることにより、複数の流体制御機器の本体が支持部材に取り付けられていることを特徴とするものである。【０００６】
第２の発明による流体制御装置は、流体圧力または流量を調整する調整器と、調整器入口側に設けられた入口側遮断開放器と、調整器出口側に設けられた出口側遮断開放器とを備えており、入口側遮断開放器は、通路が形成されたブロック状本体を有する複数の流体制御機器と、直列状に配置された複数の流体制御機器を支持する入口側支持部材とを有し、出口側遮断開放器は、通路が形成されたブロック状本体を有する複数の流体制御機器と、直列状に配置された複数の流体制御機器を支持する出口側支持部材とを有しており、各支持部材の両端部に立上り部が設けられ、複数の流体制御機器の本体同士がそれらの通路開口同士を突き合わせるようにして各支持部材の立上り部間に載置され、入口側支持部材の反調整器側端部の立上り部にこれを長さ方向に貫通する本体固定用おねじ部材がねじ込まれることにより、調整器入口側の複数の流体制御機器の本体が入口側支持部材に取り付けられているとともに、出口側支持部材の反調整器側端部の立上り部にこれを長さ方向に貫通する本体固定用おねじ部材がねじ込まれることにより、調整器出口側の複数の流体制御機器の本体が出口側支持部材に取り付けられていることを特徴とするものである。【０００７】
流体制御装置の１つのラインは、例えば、調整器であるマスフローコントローラと、マスフローコントローラの入口側および出口側にそれぞれ設けられて流体の出入りを開閉する遮断開放器とから構成され、このうちの遮断開放器部分が上記第１の発明の流体制御装置とされる。遮断開放器には、流体制御機器として、少なくとも１つの開閉弁が備えられ、このほかに、フィルター、レギュレータ、通路ブロックなどの流体制御機器が適宜備えられる。例えば、入口に配置される入口管継手接続用通路ブロックについては、これを流体制御機器の１つと見なしてもよく、この通路ブロックに１または２つの入口管継手が一体化された流体導入用部材を流体制御機器の１つと見なしてもよい。【０００８】
立上り部の高さは、本体の高さと同じとすればよいが、本体の高さより低くてもよい。【０００９】
第１および第２の発明の流体制御装置において、流体制御機器の本体には、例えば、１つまたは１対のＬ字形の通路が形成され、隣り合う流体制御機器本体の通路開口同士がシール部を介して突き合わされる。開閉弁は、長さ方向（ライン方向）の通路開口を逆に向けた１対のＬ字形通路が形成された本体に、これらの通路の連通を遮断または開放するアクチュエータが取り付けられることにより形成される。調整器の一例であるマスフローコントローラは、マスフローコントローラ本体およびこれの入口側および出口側に張り出し状に設けられた補助通路ブロックからなるものとされ、マスフローコントローラの各補助通路ブロックがＬ字形の通路が形成されたマスフローコントローラ接続用通路ブロックに支持される。この場合のマスフローコントローラ接続用通路ブロックは、通路が形成されたブロック状本体だけからなる流体制御機器となる。【００１０】
第２の発明の流体制御装置において、調整器は、調整器本体およびこれの入口側および出口側に張り出し状に設けられた補助通路ブロックからなり、調整器入口側および出口側の複数の流体制御機器のうちの調整器に最も近いものがそれぞれ調整器接続用通路ブロックとされ、調整器の各補助通路ブロックが調整器接続用通路ブロックに支持されて、上方からの調整器固定用おねじ部材によってこれに取り付けられていることが好ましい。このようにすると、支持部材に支持された複数の流体制御機器は、そのままにして、調整器だけを着脱することができる。【００１１】
入口側遮断開放器は、例えば、２種類の流体（例えば、パージガスおよびプロセスガス）を順次切り換えて下流側に排出するための複数の流体制御機器として複数の開閉弁（プロセスガス用開閉弁およびパージガス用開閉弁）を有しているものとされる。プロセスガス用開閉弁およびパージガス用開閉弁を有する場合には、入口側遮断開放器は、プロセスガス導入用管継手、パージガス導入用管継手および通路ブロックからなる二流体導入部材をさらに有しているものとされることが好ましい。そして、パージガス用開閉弁の本体には、一端が入口方向に開口し他端がアクチュエータ側に開口する大小２つの入口側Ｌ字形通路（小通路＝上段通路がプロセスガス用、大通路＝下段通路がパージガス用）と、一端がアクチュエータ側に開口し他端が調整器に通じている出口側Ｌ字形通路（パージガス用）とが形成され、これに対応して、二流体導入部材の通路ブロックには、大小二つのＬ字形通路（小がプロセスガス用、大がパージガス用）が形成され、プロセスガス用２ポート開閉弁の弁本体には、一方の開口がいずれも上向きに、他方の開口がライン方向の互いに逆向きに向けられている１対のＬ字形通路（プロセスガス用）に加えて、下段の貫通通路（パージガス用）が形成される。【００１２】
本体固定用おねじ部材がねじ込まれる立上り部と立上り部に最も近い流体制御機器との間に、通路が形成されていない押圧用ブロックが介在させられているようにしてもよい。【００１３】
調整器接続用通路ブロックは、他の流体制御機器の本体と同様に、本体固定用おねじ部材を外したときに、支持部材から取り外すことができるようにしておいてももちろんよいが、支持部材の立上り部に、通路ブロック固定用おねじ部材によって予め固定しておいてもよく、また、立上り部を調整器固定用おねじ部材がねじ込まれる部分と調整器接続用通路ブロックとからなる一体形状にしてもよい。【００１４】
また、第１および第２の発明の流体制御装置において、支持部材は、レールに摺動可能に取り付けられており、本体固定用おねじ部材が設けられていない方の立上り部に、これを立上り方向に貫通する支持部材固定用おねじ部材がねじ込まれることにより、支持部材がレールに取り付けられていることが好ましい。このようにすると、支持部材固定用おねじ部材をゆるめることにより、支持部材したがって支持部材に支持された複数の流体制御機器をレールに沿って所定位置に移動させることができ、複数の流体制御機器の位置決めを容易に行うことができる。【００１５】
隣り合う流体制御機器の本体の合わせ面においては、一方の本体の合わせ面に、位置決め用凸部が、他方の本体の合わせ面に、凸部に嵌め合わされる凹部が形成されていることが好ましい。この凸部および凹部は、それぞれ通路開口を介して対称位置に計２つ設けられ、これらの凸部と凹部とが嵌め合わされることによって、流体制御機器本体間のラインと直交する方向の相対的なずれが防止され、隣り合う本体の通路開口同士がずれることなく突き合わされる。したがって、本体固定用おねじ部材が締め付けられた際、直列状に配置された複数の流体制御機器の本体同士は、予め設定された位置関係でシール部を介して密接させられ、本体固定用おねじ部材の締付け力を所定値とすることにより、各シール部に適正な圧力が付与された状態で、必要な流体制御機器が１つの支持部材に組み付けられる。【００１６】
隣り合う流体制御機器の本体の各通路同士がそれぞれシール部を介して接続されている場合、本体固定用おねじ部材は、シール部と同心となるように配置されることが好ましい。【００１７】
支持部材の板状部の少なくとも一方の側面に、流体制御機器の幅方向への脱落を防止する脱落防止板が取り付けられていることがある。流体制御装置は、水平な台上に設置されるとは限らず、垂直な壁面に設置されることもある。この場合のライン方向は、水平とされる場合があり、垂直とされる場合もある。脱落防止板が設けられていることにより、流体制御装置を垂直な壁面にライン方向が水平となるように設置する場合であっても、流体制御機器の幅方向への脱落が防止され、これにより、流体制御装置設置時の作業性の低下が防止される。脱落防止板は、例えば、支持部材の板状部の側面に少なくも１つのめねじ部を設けておいて、おねじ部材により幅方向外側から支持部材に着脱自在に取り付けるようにすればよい。【００１８】
少なくとも１カ所において、隣り合う流体制御機器の本体に上下２段の通路が設けられて、各通路同士がそれぞれシール部を介して接続されており、本体固定用おねじ部材は、上下２段のシール部のちょうど中央部分を押すように配置されていることがある。本体に形成される通路に関しては、種々の形状が可能であり、必要に応じて、上下２段に設けられる。この場合、本体固定用おねじ部材が上下２段のシール部のちょうど中央部分を押すように配置されることにより、片締めが防止される。【００１９】
上下２段の通路と１段だけの通路とが混在している場合、すなわち、上記の上下２段の通路に加えて、少なくとも１カ所において、隣り合う流体制御機器の本体の少なくとも一方に、下段の通路がなく上段の通路のみが設けられて、隣り合う流体制御機器の本体の上段の通路同士がシール部を介して接続されている場合には、両流体制御機器の合わせ面の下段のシール部に対応する位置に、上段のシール部とバランスを取るためにこれと同じ形状とされたダミーシール部が設けられていることが好ましい。【００２０】
上記の流体制御装置は、半導体製造装置用として好適であり、この場合には、２種類の異なったガス（プロセスガスおよびパージガス）が使用され、プロセスガスの純度を確保するため、プロセスガスを流す際のデッドボリュームを小さくすることが要求される。これに対応するために、入口側遮断開放器は、上面に開口する弁室を有する本体および本体上面に設けられて弁室内の弁座に対して弁体を当接・離間させるアクチュエータからなり調整器接続用通路ブロックに隣り合うパージガス用開閉弁を有しており、パージガス用開閉弁の本体に、本体を入口方向から出口方向に貫通して調整器接続用通路ブロックの通路に常時通じておりプロセスガス導入用通路ならびにプロセスガス排出用およびパージガス排出用通路として使用される貫通通路と、一端が本体上方の弁室から離れた部分に開口し他端が弁室に通じているパージガス導入用通路と、貫通通路から分岐して弁室に通じアクチュエータによってパージガス導入用通路との連通が遮断開放されるパージガス排出用通路とが形成されていることがあり、入口側遮断開放器は、上面に開口する弁室を有する本体および本体上面に設けられて弁室内の弁座に対して弁体を当接・離間させるアクチュエータからなり調整器接続用通路ブロックに隣り合うパージガス用開閉弁を有しており、パージガス用開閉弁の本体に、一端が入口方向に開口し他端が弁室に通じているプロセスガス導入用上段通路と、一端がプロセスガス導入用通路の下方において入口方向に開口し他端が弁室に通じているパージガス導入用下段通路と、一端が弁室に通じ他端が出口方向に開口しているプロセスガスおよびパージガス排出用通路とが形成されており、プロセスガス導入用上段通路と排出用通路とは、常時連通させられ、パージガス導入用下段通路と排出用通路とは、アクチュエータによってその連通が遮断開放されていることがある。前者のものでは、デッドボリュームが実質的にゼロではあるが、厳密には、パージガス排出用通路部分がデッドボリュームとなる。後者のものでは、上下２段の通路の採用により、前者の１段の通路のものでは、わずかながらデッドボリュームが存在しているのに対し、デッドボリュームを完全にゼロにすることができる。
【発明の効果】
【００２１】
第１および第２の発明の流体制御装置によると、支持部材の両端部に立上り部が設けられ、複数の流体制御機器の本体同士がそれらの通路開口同士を突き合わせるようにして支持部材の立上り部間に載置され、いずれか一方の立上り部にこれを長さ方向に貫通する本体固定用おねじ部材がねじ込まれることにより、複数の流体制御機器の本体が支持部材に取り付けられているので、上段層の流体制御機器を接続するための多数の継手部材が必要な従来の流体制御装置に比べて、部品点数削減によるコストダウンが可能となり、また、この流体制御装置で使用されるおねじ部材の数が削減されることから、組立て作業効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】この発明による流体制御装置の第１実施形態を示す斜視図である。
【図２】同分解斜視図である。
【図３】この発明による流体制御装置の第２実施形態を示す分解斜視図である。
【図４】同平面図である。
【図５】この発明による流体制御装置の第１および第２実施形態の通路部分を示す縦断面図である。
【図６】この発明による流体制御装置の第３実施形態の通路部分を示す縦断面図である。
【符号の説明】
【００２３】
(2)     レール
(3)     マスフローコントローラ（調整器）
(3a)    マスフローコントローラ本体
(3b)(3c)    補助通路ブロック
(4)     入口側遮断開放器
(5)     出口側遮断開放器
(11)(12)(13)(15)(23)(24)(25)    流体制御機器
(11)(12a)(13a)(14a)(15)(23)(24a)(25)    ブロック状本体
(11a)(12c)(13c)(14c)(15a)(23a)(25a)     通路
(14)      パージガス用開閉弁
(14a)     本体
(14b)     アクチュエータ
(14c)     貫通通路
(14d)     パージガス排出用通路
(14e)     パージガス導入用通路
(15)(25)    調整器接続用通路ブロック
(16)    入口側支持部材
(18)(19)    立上り部
(20)    支持部材固定用おねじ部材
(21)    本体固定用おねじ部材
(22)(30)    押圧用ブロック
(26)    出口側支持部材
(28)(29)    立上り部
(31)    シール部
(32)    マスフローコントローラ固定用おねじ部材
(35)    位置決め用凸部
(41)(42)    脱落防止板
(51)(52)(53)(54)(55)(56)(57)(58)    流体制御機器
(51a)(52a)(53a)(54a)(55)(56)(56a)(57)     ブロック状本体
(51b)(52c)(52d)(53c)(53d)(54c)(54e)(55a)    上段通路
(51c)(52e)(53e)(54d)    下段通路
(54)    パージガス用開閉弁
(54a)   本体
(54b)   アクチュエータ
(54c)   小入口側Ｌ字形通路（プロセスガス導入用上段通路）
(54d)   大入口側Ｌ字形通路（パージガス導入用下段通路）
(54e)   出口側Ｌ字形通路（プロセスガスおよびパージガス排出用通路）
(56a)(57c)(57d)(58a)    通路
(59)    ダミーシール部
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
この発明の実施の形態を、以下図面を参照して説明する。以下の説明において、図５の上下を上下というものとする。【００２５】
図１および図２に示すように、この発明による流体制御装置は、複数のライン(1)がその入口および出口を同じ方向に向けてベース部材（図示略）に並列状に配置されることにより形成されるもので、各ライン(1)は、ベース部材に着脱可能に取り付けられるレール(2)と、調整器であるマスフローコントローラ(3)と、マスフローコントローラ(3)の入口側に設けられてマスフローコントローラ(3)への流体の流入を開閉する入口側遮断開放器(4)と、マスフローコントローラ(3)の出口側に設けられてマスフローコントローラ(3)からの流体の流出を開閉する出口側遮断開放器(5)とからなる。【００２６】
入口側遮断開放器(4)は、２種類の流体（パージガスおよびプロセスガス）を順次切り換えてマスフローコントローラ(3)に供給するもので、複数の流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)と、レール(2)の長さ方向に直列状に配置されたこれらの複数の流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)を支持する入口側支持部材(16)とを備えている。【００２７】
入口側遮断開放器(4)の複数の流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)は、入口管継手接続用通路ブロック(11)、手動弁(12)、プロセスガス用開閉弁(13)、パージガス用開閉弁(14)およびマスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)であり、これらはこの順でライン入口から直列状に配置されている。【００２８】
図２に示すように、入口管継手接続用通路ブロック(11)は、通路(11a)が形成された直方体ブロック状本体(11)からなる。手動弁(12)は、通路(12c)が形成された直方体ブロック状本体(12a)および手動操作用のハンドル(12b)を有している。プロセスガス用開閉弁(13)は、２ポートのダイヤフラム弁で、通路(13c)が形成された直方体ブロック状本体(13a)および本体(13a)に取り付けられたアクチュエータ(13b)からなる。パージガス用開閉弁(14)は、２ポートのダイヤフラム弁で、通路(14c)が形成された直方体ブロック状本体(14a)および本体(14a)に取り付けられたアクチュエータ(14b)からなる。マスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)は、通路(15a)が形成された直方体ブロック状本体(15)からなる。【００２９】
図５に詳しく示すように、入口管継手接続用通路ブロック(11)の通路(11a)は、一方の開口が上向きに、他方の開口がライン方向手動弁(12)の向きに向けられているＬ字形通路とされている。手動弁(12)の通路(12c)(12d)は、一方の開口がいずれも上向きに、他方の開口がライン方向の互いに逆向きに向けられている１対のＬ字形通路とされている。同様に、プロセスガス用開閉弁(13)の通路(13c)(13d)は、一方の開口がいずれも上向きに、他方の開口がライン方向の互いに逆向きに向けられている１対のＬ字形通路とされている。パージガス用開閉弁(14)は、上面に開口する弁室(14f)を有する本体(14a)と、本体(14a)上面に設けられて弁室(14f)内の弁座(14g)に対して弁体（ダイヤフラム）(14h)を当接・離間させるアクチュエータ(14b)とからなり、本体(14a)には、本体(14a)を入口方向から出口方向に貫通してマスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)の通路(15a)に常時通じておりプロセスガス導入用通路ならびにプロセスガス排出用およびパージガス排出用通路として使用される貫通通路(14c)と、一端が本体(14a)上方の弁室(14f)から離れた部分に開口し他端が弁室(14f)に通じているパージガス導入用通路(14e)と、貫通通路(14c)から分岐して弁室(14f)に通じアクチュエータ(14b)によってパージガス導入用通路(14e)との連通が遮断開放されるパージガス排出用通路(14d)とが形成されている。マスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)の通路(15a)は、一方の開口が上向きに、他方の開口がライン方向パージガス用開閉弁(14)の向きに向けられているＬ字形通路とされている。【００３０】
入口側支持部材(16)は、レール(2)の長さ方向（ライン方向）にのびる板状部(17)の両端に一体に立上り部(18)(19)が形成されたもので、その幅がレール(2)と同じ幅とされ、マスフローコントローラ側端部の立上り部(19)において、支持部材固定用おねじ部材(20)によってレール(2)に着脱可能に取り付けられている。【００３１】
入口側の複数の流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)は、それらの本体(11)(12a)(13a)(14a)(15)同士が通路(11a)(12d)(12c)(13d)(13c)(14c)(15a)開口同士を突き合わせるようにして入口側支持部材(16)の立上り部(18)(19)間の板状部(17)に載置されている。反マスフローコントローラ側端部の立上り部(18)には、これを長さ方向に貫通するねじ孔(18a)が設けられ、このねじ孔(18a)に、長さ方向外側から本体固定用おねじ部材(21)がねじ込まれている。また、反マスフローコントローラ側端部の立上り部(18)と入口管継手接続用通路ブロック(11)との間には、押圧用ブロック(22)が配置されている。したがって、本体固定用おねじ部材(21)をねじ込むことにより、押圧用ブロック(22)がマスフローコントローラ側に移動し、複数の流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)の本体(11)(12a)(13a)(14a)(15)同士が密接させられた状態で、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)がマスフローコントローラ側端部の立上り部(19)に押し付けられ、これにより、複数の流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)の本体(11)(12a)(13a)(14a)(15)が支持部材(16)に固定されている。通路(11a)(12d)(12c)(13d)(13c)(14c)(15a)同士は、シール部(31)を介して接続されており、本体固定用おねじ部材(21)は、シール部(31)と同心、すなわち、おねじ部材(21)の軸線方向にシール部(31)が並ぶように配置されている。【００３２】
出口側遮断開放器(5)は、複数の流体制御機器(23)(24)(25)と、レール(2)の長さ方向に直列状に配置されたこれらの複数の流体制御機器(23)(24)(25)を支持する出口側支持部材(26)とを備えている。【００３３】
出口側遮断開放器(5)の複数の流体制御機器(23)(24)(25)は、出口管継手接続用通路ブロック(23)、２ポート開閉弁(24)およびマスフローコントローラ接続用通路ブロック(25)であり、これらはこの順でライン出口から直列状に配置されている。【００３４】
出口管継手接続用通路ブロック(23)は、通路(23a)が形成された直方体ブロック状本体(23)からなる。２ポート開閉弁(24)は、通路(24c)(24d)が形成された直方体ブロック状本体(24a)および本体(24a)に取り付けられたアクチュエータ(24b)からなる。マスフローコントローラ接続用通路ブロック(25)は、通路(25a)が形成された直方体ブロック状本体(25)からなる。出口管継手接続用通路ブロック(23)の通路(23a)は、一方の開口が上向きに、他方の開口がライン方向開閉弁(24)の向きに向けられているＬ字形通路とされている。２ポート開閉弁(24)の通路(24c)(24d)は、一方の開口がいずれも上向きに、他方の開口がライン方向の互いに逆向きに向けられている１対のＬ字形通路とされている。マスフローコントローラ接続用通路ブロック(25)の通路(25a)は、一方の開口が上向きに、他方の開口がライン方向２ポート開閉弁(24)の向きに向けられているＬ字形通路とされている。【００３５】
出口側支持部材(26)は、レール(2)の長さ方向（ライン方向）にのびる板状部(27)の両端に一体に立上り部(28)(29)が形成されたもので、その幅がレール(2)と同じ幅とされ、マスフローコントローラ(3)側の立上り部(29)において、支持部材固定用おねじ部材(20)によってレール(2)に着脱可能に取り付けられている。【００３６】
出口側の複数の流体制御機器(23)(24)(25)は、それらの本体(23)(24a)(25)同士が通路(23a)(24c)(24d)(25a)開口同士を突き合わせるようにして出口側支持部材(26)の立上り部(28)(29)間の板状部(27)に載置されている。反マスフローコントローラ側端部の立上り部(28)には、これを長さ方向に貫通するねじ孔(28a)が設けられ、このねじ孔(28a)に、長さ方向外側から本体固定用おねじ部材(21)がねじ込まれている。また、反マスフローコントローラ側端部の立上り部(28)と出口管継手接続用通路ブロック(23)との間には、押圧用ブロック(30)が配置されている。したがって、本体固定用おねじ部材(21)をねじ込むことにより、押圧用ブロック(30)がマスフローコントローラ側に移動し、複数の流体制御機器(23)(24)(25)の本体(23)(24a)(25)同士が密接させられた状態で、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(25)がマスフローコントローラ側端部の立上り部(29)に押し付けられ、これにより、複数の流体制御機器(23)(24)(25)の本体(23)(24a)(25)が支持部材(26)に固定されている。通路(23a)(24c)(24d)(25a)同士は、シール部(31)を介して接続されており、本体固定用おねじ部材(21)は、シール部(31)と同心、すなわち、おねじ部材(21)の軸線方向にシール部(31)が並ぶように配置されている。【００３７】
マスフローコントローラ(3)は、マスフローコントローラ本体(3a)およびこれの入口側および出口側に張り出し状に設けられた入口側および出口側補助通路ブロック(3b)(3c)からなる。各補助通路ブロック(3b)(3c)は、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)(25)の通路(15a)(25a)開口に突き合わされる通路を有しており、マスフローコントローラ(3)は、その各補助通路ブロック(3b)(3c)がマスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)(25)上にシール部(31)を介してそれぞれ重ね合わされるとともに、各補助通路ブロック(3b)(3c)を貫通する２本のマスフローコントローラ固定用おねじ部材(32)によって、対応するマスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)(25)に固定されている。【００３８】
入口管継手接続用通路ブロック(11)には、入口管継手(33)が取り付けられている。また、出口管継手接続用通路ブロック(23)には、出口管継手(34)が取り付けられている。【００３９】
図２に示すように、入口管継手(33)は、入口管継手接続用通路ブロック(11)の通路(11a)の上向き開口に一方の開口がシール部(31)を介して突き合わされているＬ字形通路を有するブロック部(33a)、ブロック部(33a)の他方の開口からのびるパイプ部(33b)、およびガスの供給源からのびる配管等に結合するための袋ナット部(33c)からなり、ブロック部(33a)を貫通する２本の継手固定用おねじ部材(32)によって、入口管継手接続用通路ブロック(11)に結合されている。同様に、出口管継手(34)は、出口管継手接続用通路ブロック(23)の通路の上向き開口に一方の開口がシール部(31)を介して突き合わされているＬ字形通路を有するブロック部(34a)、ブロック部(34a)の他方の開口からのびるパイプ部(34b)、および半導体製造用のチャンバに向かってのびる配管等に結合するための袋ナット部(34c)からなり、ブロック部(34a)を貫通する２本の継手固定用おねじ部材(32)によって、出口管継手接続用通路ブロック(23)に結合されている。【００４０】
各支持部材(16)(26)の立上り部(18)(19)(28)(29)同士の間隔（内のり）は、これに支持される流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)の本体(11)(12a)(13a)(14a)(15)(23)(24a)(25)および押圧用ブロック(22)(30)を合わせたライン方向長さよりも大きくされている。また、押圧用ブロック(22)(30)は、通路や凹凸が形成されていない直方体状のものとされている。したがって、例えば、入口側支持部材(16)には、本体固定用おねじ部材(21)を外した状態で、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)、パージガス用開閉弁(14)、プロセスガス用開閉弁(13)、手動弁(12)、入口管継手接続用通路ブロック(11)および押圧用ブロック(22)の順に載置することができ、支持部材(16)(26)への流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)の取付けおよび必要に応じての流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)の交換を容易に行うことができる。【００４１】
図２に示すように、隣り合う流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)の本体(11)(12a)(13a)(14a)(15)(23)(24a)(25)の合わせ面においては、一方の本体(11)(12a)(13a)(14a)(23)(24a)の合わせ面に、円柱状の位置決め用凸部(35)が、他方の本体(12a)(13a)(14a)(15)(24a)(25)の合わせ面に、凸部(35)に着脱可能に嵌め合わされる円柱状凹部（図示略）が形成されている。この凸部(35)および凹部は、それぞれ通路(11a)(12d)(12c)(13d)(13c)(14c)(15a)(23a)(24c)(24d)(25a)開口を介して対称位置に計２つ設けられ、これらの凸部(35)と凹部とが嵌め合わされることによって、隣り合う本体(11)(12a)(13a)(14a)(15)(23)(24a)(25)は、ラインと直交する方向の相対的なずれ（上方へのたわみおよび左右方向への移動）が防止され、それらの通路(11a)(12d)(12c)(13d)(13c)(14c)(15a)(23a)(24c)(24d)(25a)開口同士がずれることなくシール部(31)を介して突き合わされる。したがって、本体固定用おねじ部材(21)が締め付けられた際、直列状に配置された複数の流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)の本体(11)(12a)(13a)(14a)(15)(23)(24a)(25)同士は、予め設定された位置関係でシール部(31)を介して密接させられ、本体固定用おねじ部材(21)の締付け力を所定値とすることにより、各シール部(31)に適正な圧力が付与された状態で、必要な流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)が対応する支持部材(16)(26)に組み付けられる。【００４２】
各支持部材(16)(26)は、その支持部材固定用おねじ部材(20)をゆるめることにより、レール(2)に沿って摺動可能となり、適宜な位置決め手段によって規定された位置まで移動させられた後、支持部材固定用おねじ部材(20)を締め付けることによってレール(2)の所定位置に固定される。マスフローコントローラ(3)は、各支持部材(16)(26)が固定された後、両者にまたがるように取り付けられる。【００４３】
入口管継手接続用通路ブロック(11)、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)(25)および出口管継手接続用通路ブロック(23)の各通路ブロック高さと各支持部材(16)(26)の立上り部(18)(19)(28)(29)の高さとは、同じとされており、押圧用ブロック(22)(30)の高さもこれらと同じにされている。また、支持部材固定用おねじ部材(20)が設けられる支持部材(16)(26)の立上り部(19)(29)には、おねじ部材(20)の頭部が立上り部(19)(29)から突出しないように座ぐりが設けられている。これにより、入口管継手(33)、出口管継手(34)およびマスフローコントローラ(3)の各補助通路ブロック(3b)(3c)は、支持部材(16)(26)の立上り部(19)(29)に干渉することなく、対応する通路ブロック(11)(15)(23)(25)に取り付けられる。【００４４】
上記の流体制御装置は、水平な台上に設置されてもよく、垂直な壁面に設置されてもよい。垂直な壁面に設置する場合のライン方向は、水平とされてもよく、垂直とされてもよい。流体制御装置を垂直な壁面にライン方向が水平となるように設置する場合の好ましい実施形態（第２実施形態）を図３および図４に示す。【００４５】
この実施形態では、図３および図４に示すように、各支持部材(16)(26)の板状部(17)(27)両側面に、複数のめねじ部(40)がそれぞれ設けられており、支持部材(16)(26)の幅方向外側（両側）から、流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)の幅方向への脱落を防止する脱落防止板(41)(42)が当てられて、脱落防止板(41)(42)に設けられた複数の貫通孔(41a)にそれぞれ挿通されたボルト(43)によって支持部材(16)(26)に固定されている。各流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)は、脱落防止板(41)(42)が固定された後に、順次設置していくことができ、この設置作業における各流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)の幅方向への脱落が脱落防止板(41)(42)によって防止され、これにより、流体制御装置設置時の作業性が向上する。【００４６】
流体制御機器(11)(12)(13)(14)(15)(23)(24)(25)の幅方向への脱落を防止する構成以外の構成については、図１，図２および図５を参照して説明した第１実施形態のものと全く同様であるので、その説明は省略する。【００４７】
図６は、この発明による流体制御装置の第３実施形態を示すもので、第１実施形態の図５に対応している。この第３実施形態の流体制御装置は、通路が本体内において上下２段に形成されている点で第１実施形態と相違している。以下の説明において、第１実施形態と同じ構成については同じ符号を付してその説明を省略する。【００４８】
入口側遮断開放器(4)は、複数の流体制御機器(51)(52)(53)(54)(55)と、レール(2)の長さ方向に直列状に配置されたこれらの複数の流体制御機器(51)(52)(53)(54)(55)を支持する入口側支持部材(16)とを備えている。【００４９】
入口側遮断開放器(4)の複数の流体制御機器(51)(52)(53)(54)(55)は、二流体導入部材(51)、手動弁(52)、プロセスガス用開閉弁(53)、パージガス用開閉弁(54)およびマスフローコントローラ接続用通路ブロック(55)であり、これらはこの順でライン入口から直列状に配置されている。【００５０】
二流体導入部材(51)は、大きさが異なる２つのＬ字形通路(51b)(51c)を有する直方体状の通路ブロック(51a)と、通路ブロック(51a)に取り付けられた２つの管継手(51d)(51e)とからなる。２つのＬ字形通路(51b)(51c)は、いずれも、一方の開口が上向きに、他方の開口がライン方向手動弁(52)の向きに向けられており、小さい（上段の）Ｌ字形通路(51b)にプロセスガス導入用管継手(51d)が接続され、大きい（下段の）Ｌ字形通路(51c)にパージガス導入用管継手(51e)が接続されている。各管継手(51d)(51e)は、第１実施形態の入口管継手(33)と同様の構成とされている。【００５１】
手動弁(52)は、直方体ブロック状本体(52a)および手動操作用のハンドル(52b)を有している。手動弁(52)の本体(52a)には、一方の開口がいずれも上向きに、他方の開口がライン方向の互いに逆向きに向けられている１対のＬ字形通路(52c)(52d)に加えて、下段の貫通通路(52e)が形成されている。【００５２】
プロセスガス用開閉弁(53)は、２ポートのダイヤフラム弁であり、上面に開口する弁室を有する直方体ブロック状本体(53a)と、本体(53a)上面に設けられて弁室内の弁座に対して弁体（ダイヤフラム）を当接・離間させるアクチュエータ(53b)とからなる。プロセスガス用開閉弁(53)の本体(53a)には、一方の開口がいずれも上向きに、他方の開口がライン方向の互いに逆向きに向けられている１対のＬ字形通路(53c)(53d)に加えて、下段の貫通通路(53e)が形成されている。【００５３】
パージガス用開閉弁(54)は、３ポートのダイヤフラム弁であり、上面に開口する弁室(54f)を有する直方体ブロック状本体(54a)と、本体(54a)上面に設けられて弁室(54f)内の弁座(54g)に対して弁体（ダイヤフラム）(54h)を当接・離間させるアクチュエータ(54b)とからなる。開閉弁(54)の本体(54a)には、一端が入口方向に開口し他端が弁室(54f)に通じている小さい入口側Ｌ字形通路（プロセスガス導入用上段通路）(54c)と、一端が入口側Ｌ字形通路(54c)の下方において入口方向に開口し他端が弁室(54f)に通じている大きい入口側Ｌ字形通路（パージガス導入用下段通路）(54d)と、一端が弁室(54f)に通じ他端が出口方向に開口している出口側Ｌ字形通路（プロセスガスおよびパージガス排出用通路）(54e)とが形成されている。小さい（上段の）入口側Ｌ字形通路(54c)と出口側Ｌ字形通路(54e)とは、常時連通させられており、大きい（下段の）入口側Ｌ字形通路(51d)と出口側Ｌ字形通路(54e)とは、アクチュエータ(54b)によってその連通が遮断開放されている。【００５４】
マスフローコントローラ接続用通路ブロック(55)は、通路(55a)が形成された直方体ブロック状本体(55)からなる。マスフローコントローラ接続用通路ブロック(55)の通路(55a)は、一方の開口が上向きに、他方の開口がパージガス用開閉弁(54)の向きに向けられているＬ字形通路とされている。【００５５】
入口側の複数の流体制御機器(51)(52)(53)(54)(55)は、それらの本体(51a)(52a)(53a)(54a)(55)同士が通路(51b)(51c)(52c)(52d)(52e)(53c)(53d)(53e)(54c)(54d)(54e)(55a)開口同士を突き合わせるようにして入口側支持部材(16)の立上り部(18)(19)間の板状部(17)に載置されている。【００５６】
入口側支持部材(16)の反マスフローコントローラ側端部の立上り部(18)には、これを長さ方向に貫通するねじ孔(18a)が設けられ、このねじ孔(18a)に、長さ方向外側から本体固定用おねじ部材(21)がねじ込まれている。また、反マスフローコントローラ側端部の立上り部(18)と二流体導入部材(51)の本体(51a)との間には、押圧用ブロック(22)が配置されている。したがって、本体固定用おねじ部材(21)をねじ込むことにより、押圧用ブロック(22)がマスフローコントローラ側に移動し、複数の流体制御機器(51)(52)(53)(54)(55)の本体(51a)(52a)(53a)(54a)(55)同士が密接させられた状態で、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(55)がマスフローコントローラ側端部の立上り部(19)に押し付けられ、これにより、複数の流体制御機器(51)(52)(53)(54)(55)の本体(51a)(52a)(53a)(54a)(55)が支持部材(16)に固定されている。【００５７】
この第３実施形態の入口側遮断開放器(4)と図５に示した第１および第２実施形態のものとを比較すると、第１実施形態のパージガス導入用開閉弁(14)では、２ポートのダイヤフラム弁とされるとともに、パージガス導入用通路(14e)によって直接その本体(14a)内にパージガスを導入しているのに対し、第３実施形態のパージガス導入用開閉弁(54)では、３ポートのダイヤフラム弁とされるとともに、入口側遮断開放器(4)の入口に設けられた管継手(51e)から導入されたパージガスを他の流体制御機器(51)(52)(53)に設けられた下段通路(51c)(52e)(53e)を介してその本体(54a)内の通路(54d)に導入している。【００５８】
この結果、第３実施形態のものでは、少なくとも１カ所（この実施形態では、二流体導入部材(51)、手動弁(52)、プロセスガス用開閉弁(53)およびパージガス用開閉弁(54)の合わせ面である計３カ所）において、隣り合う流体制御機器(51)(52)(53)(54)の本体(51a)(52a)(53a)(54a)にそれぞれ上段の通路(51b)(52d)(52c)(53d)(53c)(54c)および下段の通路(51c)(52e)(53e)(54d)が設けられて、各通路(51b)(51c)(52c)(52d)(52e)(53c)(53d)(53e)(54c)(54d)同士がそれぞれシール部(31)を介して接続されているとともに、少なくとも１カ所（この実施形態では、パージガス用開閉弁(54)とマスフローコントローラ接続用通路ブロック(55)との合わせ面である計１カ所）において、隣り合う流体制御機器(54)(55)の本体(54a)(55a)の少なくとも一方（この実施形態では、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(55)）に、下段の通路がなく上段の通路(55a)のみが設けられて、隣り合う流体制御機器(54)(55)の本体(54a)(55a)の上段の通路(54e)(55a)同士がシール部(31)を介して接続されている。【００５９】
ここで、本体固定用おねじ部材(21)は、上下２段のシール部(31)のちょうど中央部分を押すように配置されている。また、下段の通路がなく上段の通路(55a)のみが設けられているマスフローコントローラ接続用通路ブロック(55)とこれに隣り合うパージガス用開閉弁(54)との合わせ面では、下段のシール部に対応する位置に、上段のシール部(31)とバランスを取るためにこれと同じ形状とされたダミーシール部(59)が設けられている。【００６０】
出口側遮断開放器(5)は、複数の流体制御機器(56)(57)(58)と、レール(2)の長さ方向に直列状に配置されたこれらの複数の流体制御機器(56)(57)(58)を支持する出口側支持部材(26)とを備えている。【００６１】
出口側遮断開放器(5)の複数の流体制御機器(56)(57)(58)は、出口管継手接続用通路ブロック(56)、２ポート開閉弁(57)およびマスフローコントローラ接続用通路ブロック(58)であり、これらはこの順でライン出口から直列状に配置されている。【００６２】
出口管継手接続用通路ブロック(56)は、通路(56a)が形成された直方体ブロック状本体(56)からなる。２ポート開閉弁(57)は、通路(57c)(57d)が形成された直方体ブロック状本体(57a)および本体(57a)に取り付けられたアクチュエータ(57b)からなる。マスフローコントローラ接続用通路ブロック(58)は、通路(58a)が形成された直方体ブロック状本体(58)からなる。出口管継手接続用通路ブロック(56)の通路(56a)は、一方の開口が上向きに、他方の開口が開閉弁(57)の向きに向けられているＬ字形通路とされている。２ポート開閉弁(57)の通路(57c)(57d)は、一方の開口がいずれも上向きに、他方の開口がライン方向の互いに逆向きに向けられている１対のＬ字形通路とされている。マスフローコントローラ接続用通路ブロック(58)の通路(58a)は、一方の開口が上向きに、他方の開口がライン方向２ポート開閉弁(57)の向きに向けられているＬ字形通路とされている。【００６３】
この第３実施形態の出口側遮断開放器(5)と図５に示した第１および第２実施形態のものとを比較すると、第３実施形態の出口側遮断開放器(5)において実際にガス（流体）が流される通路(56a)(57c)(57d)(58a)は、第１および第２実施形態のものにおいて実際にガス（流体）が流される通路(23a)(24c)(24d)(25a)と全く同様である。すなわち、第３実施形態の出口側遮断開放器(5)を構成するすべての流体制御機器(56)(57)(58)には、下段の通路がなく上段の通路(56a)(57c)(57d)(58a)のみが設けられて、隣り合う流体制御機器(56)(57)(58)の本体(56)(57a)(58)の上段の通路(56a)(57c)(57d)(58a)同士がシール部(31)を介して接続されている。ここで、本体固定用おねじ部材(21)は、入口側遮断開放器(4)における上下２段のシール部(31)のちょうど中央部分を押すように配置されている。そして、２ポート開閉弁(57)の本体(57a)が入口側遮断開放器(4)のプロセスガス用２ポート開閉弁(53)の本体(52a)と同じ形状とされることによって、２ポート開閉弁(57)の本体(57a)の下段にダミー通路(57e)が形成されるとともに、２ポート開閉弁(57)の本体(57a)と出口管継手接続用通路ブロック(56)との合わせ面および２ポート開閉弁(57)の本体(57a)とマスフローコントローラ接続用通路ブロック(58)との合わせ面には、下段のシール部に対応する位置に、上段のシール部(31)とバランスを取るためにこれと同じ形状とされたダミーシール部(59)が設けられている。【００６４】
図５に示した第１および第２実施形態の入口側遮断開放器(4)に設けられた通路(11a)(12d)(12c)(13d)(13c)(14c)(15a)(23a)(24c)(24d)(25a)によると、パージガスは、プロセスガス用開閉弁(13)を閉、パージガス用開閉弁(14)を開として、パージガス用開閉弁(14)の上方から導入される。パージガス用開閉弁(14)の本体(14a)内のパージガス導入用通路(14e)に導入されたパージガスは、パージガス用開閉弁(14)のアクチュエータ(14b)が開とされていることによって、本体(14a)内のパージガス排出用通路(14d)に流入し、プロセスガス用開閉弁(13)のアクチュエータ(13b)が閉とされていることによって、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(15)の通路(15a)を経てマスフローコントローラ(3)に供給される。【００６５】
この後、プロセスガスを流す場合には、手動弁(12)およびプロセスガス用開閉弁(13)を開、パージガス用開閉弁(14)を閉として、プロセスガスを入口管継手(33)から導入する。プロセスガスは、入口管継手接続用通路ブロック(11)の通路(11a)、手動弁(12)の通路(12d)(12c)、プロセスガス用開閉弁(13)の通路(13d)(13c)およびパージガス用開閉弁(14)の本体(14a)を入口方向から出口方向に貫通してのびる貫通通路(14c)を経てマスフローコントローラ(3)に供給される。この際、パージガス用開閉弁(14)の本体(14a)内のパージガス排出用通路(14d)がデッドボリュームとなるが、その大きさは非常に小さく（デッドボリュームが実質的にゼロ）、プロセスガスの純度が確保される。【００６６】
図６に示した第３実施形態の入口側遮断開放器(4)に設けられた通路(51b)(51c)(52c)(52d)(52e)(53c)(53d)(53e)(54c)(54d)によると、パージガスは、プロセスガス用開閉弁(53)を閉、パージガス用開閉弁(54)を開として、二流体導入部材(51)のパージガス導入用管継手(51e)から導入される。パージガスは、二流体導入部材(51)、手動弁(52)およびプロセスガス用開閉弁(53)の各下段通路(51c)(52e)(53e)を経てパージガス用開閉弁(54)の下段通路である大きい入口側Ｌ字形通路(54d)に流入し、プロセスガス用開閉弁(53)のアクチュエータ(53b)が閉、パージガス用開閉弁(54)のアクチュエータ(54b)が開とされていることによって、本体(54a)内の出口側Ｌ字形通路(54e)に流入し、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(55)の通路(55a)を経てマスフローコントローラ(3)に供給される。【００６７】
この後、プロセスガスを流す場合には、手動弁(52)およびプロセスガス用開閉弁(53)を開、パージガス用開閉弁(54)を閉として、プロセスガスを二流体導入部材(51)のプロセスガス導入用管継手(51d)から導入する。プロセスガスは、二流体導入部材(51)、手動弁(52)およびプロセスガス用開閉弁(53)の各上段通路(51b)(52d)(52c)(53d)(53c)を経てパージガス用開閉弁(54)の上段通路である小さい入口側Ｌ字形通路(54c)に流入し、小さい入口側Ｌ字形通路(54c)と出口側Ｌ字形通路(54e)とが常時連通させられていることによって、本体(54a)内の出口側Ｌ字形通路(54e)に流入し、マスフローコントローラ接続用通路ブロック(55)の通路(55a)を経てマスフローコントローラ(3)に供給される。【００６８】
こうして、第３実施形態によると、第１および第２実施形態の入口側遮断開放器(4)では、厳密には、パージガス用開閉弁(14)の本体(14a)内の第３通路(14d)がデッドボリュームとなり、これがプロセスガスの純度低下要因となりうるのに対し、上下２段の通路を有する構成により、デッドボリュームが完全にゼロとなっている。【００６９】
上記の第１から第３までの実施形態の流体制御装置によると、上段層の流体制御機器を接続するための多数の継手部材が必要な従来の流体制御装置に比べて、部品点数削減によるコストダウンが可能となり、また、この流体制御装置で使用されるおねじ部材(20)(21)(32)の数は、支持部材固定用(20)に計４つ、流体制御機器本体固定用(21)に計２つ、マスフローコントローラ固定用(32)に計４つおよび継手固定用(32)に計４つで済み、通路ブロック、手動弁、開閉弁をそれぞれ２つまたは４つのおねじ部材を使用して取り付けていた従来の流体制御装置に比べて、組立て作業効率が向上する。【００７０】
なお、上記実施形態では、流体としてプロセスガスとパージガスとを例にとって説明したが、この流体制御装置で使用される流体は、これらのガスに限られるものではない。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
半導体製造装置で使用される流体制御装置に適用可能であり、装置の占有スペースおよび通路のボリュームに関しては、従来と同等の性能を維持して、部品点数削減によるコストダウンおよび組立て作業効率の向上を図ることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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