(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、廃水または下水が送られる貯留槽と、
該貯留槽から導出される水、廃水または下水をオゾンガスと混合する気液混合装置と、
該気液混合装置で処理した水、廃水または下水を上記貯留槽内に送り返す返送経路と、
上記気液混合装置で処理した水、廃水または下水を上記貯留槽外へ送り出す送出経路と、
上記返送経路と送出経路の切り替えを行う制御手段と、
を備えており、
上記返送経路または／及び上記送出経路は、ガス溜りを有していることを特徴とする、
オゾン処理装置。
【請求項２】
水、廃水または下水が送られる貯留槽と、
該貯留槽から導出される水、廃水または下水をオゾンガスと混合する気液混合装置と、
該気液混合装置で処理した水、廃水または下水を上記貯留槽内に送り返す返送経路と、
上記気液混合装置で処理した水、廃水または下水を上記貯留槽外へ送り出す送出経路と、
上記貯留槽内の液量を検知する液量検知手段と、
上記液量検知手段が検知した液量に基づいて、上記返送経路と送出経路の切り替えを行う制御手段と、
を備えており、
上記制御手段は、
上記貯留槽内の液量が所定の上限に達したことを上記液量検知手段が検知した場合に、上記返送経路から上記送出経路に切り替え、
上記貯留槽の液量が所定の下限に達したことを上記液量検知手段が検知した場合に、上記送出経路から上記返送経路に切り替えるようにしてあり、
上記返送経路または／及び上記送出経路は、ガス溜りを有していることを特徴とする、
オゾン処理装置。
【請求項３】
原水から固形物を除去する手段と、
固形物が除去された被処理液をオゾン処理する請求項１または２記載のオゾン処理装置と、
を備えていることを特徴とする、
水、廃水または下水処理システム。
【請求項４】
原水から固形物を除去する手段と、
固形物が除去された被処理液をオゾン処理する請求項１または２記載のオゾン処理装置と、
オゾン処理された被処理液をセラミックス焼結体に接触させる装置と、
を備えていることを特徴とする、
水、廃水または下水処理システム。
【請求項５】
水、廃水または下水から固形物を除去する沈殿槽と、
該沈殿槽で送られる水、廃水または下水の残余固形物を除去する固液分離装置と、
該固液分離装置により処理された水、廃水または下水をオゾン処理する請求項１または２記載のオゾン処理装置と、
オゾン処理された水、廃水または下水をセラミックス焼結体に接触させる装置と、
を備えていることを特徴とする、
水、廃水または下水処理システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はオゾン処理装置とそれを使用した水、廃水または下水処理システムに関する。
更に詳しくは、従来の気泡接触方式と比べ、より短い処理時間で被処理液を大量に処理することができるオゾン処理装置とそれを使用した水、廃水または下水処理システムに関する。
また装置全体の小型化により、設備コストを抑えることができると共に、狭い面積で設置できるオゾン処理装置とそれを使用した水、廃水または下水処理システムに関する。
更に、より少ないオゾンガス量でオゾン処理を行うことができるオゾン処理装置とそれを使用した水、廃水または下水処理システムに関する。
【０００２】
【従来技術】
例えば廃水処理や上水道の殺菌や脱色などに、オゾン処理が行われている。オゾンガスを被処理液と接触させる方式としては、図６に示すような気泡接触方式が一般的である。気泡接触方式では、オゾン発生装置１０で発生したオゾンガスを、反応槽１０１下部から気泡として噴き出して反応させるものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、オゾンガスは水に極めてわずかしか溶解しない。このため、単にオゾンガスを気泡として噴き出して反応させる従来の気泡接触方式で、オゾンガスの十分な溶解効率を得るためには、オゾンガスの十分な接触時間と反応槽の十分な水深が必要であった。
更に大規模な処理場では、例えば反応槽を直列に接続して数を増やし、接触効率を更に向上させる必要性があった。
【０００４】
このように、従来の気泡接触方式ではオゾン処理に時間がかかり、また必然的に装置全体が大型化していた。更に、装置全体の大型化により設備コストが高くなると共に、広い施設敷地面積も必要であった。
また更に、被処理液への溶解が十分でないため、オゾンガスの利用率が低く、結果的に多くの量のオゾンガスが必要であった。
【０００５】
（発明の目的）
そこで本発明の目的は、従来の気泡接触方式と比べ、より短い処理時間で被処理液を大量に処理することができるオゾン処理装置とそれを使用した水、廃水または下水処理システムを提供することにある。
また本発明の他の目的は、装置全体の小型化により、設備コストを抑えることができると共に、狭い面積で設置できるオゾン処理装置とそれを使用した水、廃水または下水処理システムを提供することにある。
更に本発明の他の目的は、より少ないオゾンガス量でオゾン処理を行うことができるオゾン処理装置とそれを使用した水、廃水または下水処理システムを提供することにある。
その他の本発明の目的は、以下の説明によって明らかになるであろう。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
第１の発明にあっては、
水、廃水または下水が送られる貯留槽と、
該貯留槽から導出される水、廃水または下水をオゾンガスと混合する気液混合装置と、
該気液混合装置で処理した水、廃水または下水を上記貯留槽内に送り返す返送経路と、
上記気液混合装置で処理した水、廃水または下水を上記貯留槽外へ送り出す送出経路と、
上記返送経路と送出経路の切り替えを行う制御手段と、
を備えており、
上記返送経路または／及び上記送出経路は、ガス溜りを有していることを特徴とする、
オゾン処理装置である。
【０００７】
第２の発明にあっては、
水、廃水または下水が送られる貯留槽と、
該貯留槽から導出される水、廃水または下水をオゾンガスと混合する気液混合装置と、
該気液混合装置で処理した水、廃水または下水を上記貯留槽内に送り返す返送経路と、
上記気液混合装置で処理した水、廃水または下水を上記貯留槽外へ送り出す送出経路と、
上記貯留槽内の液量を検知する液量検知手段と、
上記液量検知手段が検知した液量に基づいて、上記返送経路と送出経路の切り替えを行う制御手段と、
を備えており、
上記制御手段は、
上記貯留槽内の液量が所定の上限に達したことを上記液量検知手段が検知した場合に、上記返送経路から上記送出経路に切り替え、
上記貯留槽の液量が所定の下限に達したことを上記液量検知手段が検知した場合に、上記送出経路から上記返送経路に切り替えるようにしてあり、
上記返送経路または／及び上記送出経路は、ガス溜りを有していることを特徴とする、
オゾン処理装置である。
【０００８】
（削除）
【０００９】
第３の発明にあっては、
原水から固形物を除去する手段と、
固形物が除去された被処理液をオゾン処理する第１または第２の発明に係るオゾン処理装置と、
を備えていることを特徴とする、
水、廃水または下水処理システムである。
【００１０】
第４の発明にあっては、
原水から固形物を除去する手段と、
固形物が除去された被処理液をオゾン処理する第１または第２の発明に係るオゾン処理装置と、
オゾン処理された被処理液をセラミックス焼結体に接触させる装置と、
を備えていることを特徴とする、
水、廃水または下水処理システムである。
【００１１】
第５の発明にあっては、
水、廃水または下水から固形物を除去する沈殿槽と、
該沈殿槽で送られる水、廃水または下水の残余固形物を除去する固液分離装置と、
該固液分離装置により処理された水、廃水または下水をオゾン処理する第１または第２の発明に係るオゾン処理装置と、
オゾン処理された水、廃水または下水をセラミックス焼結体に接触させる装置と、
を備えていることを特徴とする、
水、廃水または下水処理システム。
【００１２】
（削除）
【００１３】
水、廃水または下水のうちの廃水としては、例えば、家畜の糞尿や洗浄水等を含む畜産廃水を挙げることができるが、特にこれに限定するものではない。
【００１４】
固液分離装置としては、例えばスクリーンを用いて液状物から固形分を分離するものが挙げることができるが、特にこれに限定しない。
【００１５】
セラミックス焼結体に接触させる装置による処理は、例えば直径１０〜２０ｍｍ程度のセラミックス焼結体を充填したパイプに被処理液を流すことで行われる。また、セラミックス焼結体を充填するパイプの形状は、特に限定されない。
【００１６】
上記したセラミックス焼結体は、例えば次のようにして得ることができる。
即ち、コア材料として、例えば陶器用の陶土からなる材料を用い、コアを被覆する材料として、例えばゼオライト、シラス等の岩石、土壌を粉砕して２〜５ｍｍ程度の粒度にした粉砕物にカルシウム等の無機物を添加したものを用いる。そうして、コアの表面を上記した被覆材料で被覆した後、高温で焼結することにより、目的とする球状のセラミックス焼結体を得る。
【００１７】
焼結時の温度は、好ましくは１０００℃以上である。焼結温度が１０００℃より低い場合は、コア表面に対する被覆材料の固着を十分に行うことができない傾向がある。
【００１８】
セラミックス焼結体の形状は、例えばパイプなどの充填物に充填でき、被処理液の通水に支障がないものであれば、特に球体に限定するものではない。
このようにして得られたセラミックス焼結体の表面は、長い波長を含む遠赤外線の効率のよい放射体であると同時に、活性酸素を発生させる触媒としての効果を有している。
【００１９】
そうして、被処理液をセラミックス焼結体に接触させることで、被処理液中のアンモニア等の有機物の濃度を減少させることができる。この原理は定かではないが、被処理液を遠赤外線効果を有するセラミックス焼結体に接触させることで、被処理液中の水の分子集団が細分され活性化し、その活性化した水が被処理液中のアンモニアと反応することによって、無臭、無害のアンモニウムイオンに変化するためだと思われる。
【００２０】
セラミックス焼結体の主成分は、ケイ酸、アルミナ、カルシウムであり、主要な成分元素は、ケイ素、アルミニウム、鉄、カリウム、マンガン、チタン、カルシウム等である。
【００２１】
（作  用）
本発明に係るオゾン処理装置は次のように作用する。
水、廃水または下水である被処理液を貯留槽内に送り、気液混合装置を作動させる。
貯留槽から導出された被処理液は、気液混合装置によってオゾンガスと混合される。気液混合装置では、攪拌（場合によっては攪拌と加圧）によって多量のオゾンガスが被処理液に効果的に混ざり合い、被処理液は効率的にオゾン処理される。
被処理液は、気液混合装置でオゾン処理された後、返送経路を経て、再び貯留内に戻る。このようにして、貯留槽内の被処理液は、貯留槽と気液混合装置との間で循環しながら、次第にオゾン処理される。
そして、貯留槽内の液量が所定の上限に達すると、液量検知手段が検知して制御手段が作動し、返送経路が送出経路に切り替わる。
これにより、オゾン処理された貯留槽内の被処理液は、気液混合装置でオゾン処理された後、処理液となって送出経路から送り出される。
【００２２】
また送出経路から被処理液が送り出されることにより、貯留槽の液量は減っていく。そして、液量が所定の下限に達すると、液量検知手段が検知して制御手段が作動し、送出経路が返送経路に切り替わる。これにより、貯留槽内の被処理液は再び循環しながら気液混合装置でオゾン処理される。
このようにして、貯留槽内の被処理液は、気液混合装置との間で循環しながら繰り返しオゾンガスと接触し、効果的にオゾン処理される。したがって、従来の気泡接触方式と比べ、より短い処理時間で被処理液を大量に処理することができる。
【００２３】
そして、返送経路または／及び送出経路がガス溜りを有しているので、オゾンガスがその立ち上げ部分に滞留しやすくなり（留まりやすくなり）、オゾンガスは水、廃水または下水と良く混ざり合う。したがって、同じオゾンガス量でも、オゾンガスの利用率が高く、より少ないオゾンガス量でオゾン処理を行うことができる。
【００２４】
本発明に係る水、廃水または下水処理システムは、次のように作用する。
水、廃水または下水である被処理液は、例えば沈殿槽や固液分離装置等の固形物を除去する手段によって、固形物が除去される。
固形物が除去された被処理液は、上記したオゾン処理装置によって処理される。
オゾン処理された被処理液は、セラミックス焼結体に接触させる装置で処理される。被処理液をセラミック焼結体に接触させることで、被処理液に含まれるアンモニア等の有機物の濃度を低下させることができる。
以上のような処理によって、被処理液を例えば河川や下水等に直接放流できる水質まで分解処理することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
本発明を図面に示した参考例及び実施の形態に基づき更に詳細に説明する。
［オゾン処理装置］
図１はオゾン処理装置の参考例を示す概略構成図である。
【００２６】
オゾン処理装置１は、貯留槽２、気液混合装置である気液混合ポンプ３、返送経路４、送出経路５、液量検知手段である液位センサ６、制御装置７等により主に構成される。なお、返送経路４、送出経路５及び後述する各経路は管で形成されている。
【００２７】
貯留槽２には、流入経路１１から水、廃水または下水である被処理液が送られる（流入する）。
【００２８】
気液混合ポンプ３は、貯留槽２内から導出経路１２を通って導出される被処理液を吸引する（吸い込む）。そして、気液混合ポンプ３は、オゾンガス発生装置８から供給されるオゾンガスと上記被処理液を混合する。
【００２９】
気液混合ポンプ３で処理された被処理液は、返送経路４を経て貯留槽２内に送り返されるか、返送経路４から分岐する送出経路５を通って貯留槽２外へ送り出される。
【００３０】
液位センサ６は、貯留槽２内の液位（液量）を検知する。
制御装置７は、液位センサ６が検知した液位に基づいて、返送経路４と送出経路５の切り替えを行う。
【００３１】
オゾン処理装置１は、大まかに以上のような構成・作用を有し、貯留槽２と気液混合ポンプ３との間で被処理液を循環させながらオゾン処理を行う。
【００３２】
以下、オゾン処理装置１の各構成部材について、順を追って詳しく説明する。
貯留槽２には、流入経路１１から被処理液が所定の流量をもって連続的に（または間欠的に）送られてくる。流入経路１１は、貯留槽２の中程（液中）に導かれている。流入経路１１の先部側には、流入口１１１,・・・が複数箇所設けられている。
【００３３】
これにより、流入経路１１から送られた被処理液が、貯留槽２内の被処理液と良く混ざり合うようになっている。なお、流入口１１１は一箇所だけ設けるようにしても良い。
【００３４】
また以上のように、流入経路１１から送られてくる被処理液を、液面の上部からではなく液中に導くことで、流入された被処理液によって液面が波立つことを防止している。これにより、液位センサ６による液位の検知精度に悪影響が生じないように工夫されている。
【００３５】
なお、被処理液の流量や貯留槽２の構造等によって、液位の測定に悪影響が生じないようであれば、液面の上方から被処理液を流入するようにしても良い。
【００３６】
貯留槽２内上部の所定の高さ位置には、例えばフロート式の液位センサ６が設けてある。液位センサ６は、液面の低位（Low)を検知する低位検知部６１と、液面の高位（High）を検知する高位検知部６２を備えている。
【００３７】
液位センサ６としては、上記したフロート式センサの他、超音波センサ、反射型光学センサ、静電容量式センサ、圧力式センサ等を挙げることができるが、特にこれらに限定するものではなく、公知のものを採用することができる。
【００３８】
気液混合ポンプ３としては、例えば渦流ポンプを使用することができるが、特にこれに限定されない。
また、気液混合ポンプ３で処理される被処理液の単位時間当たりの量は、流入経路１１より貯留槽２内に流入する被処理液の量よりも多く設定されている。これにより、貯留槽２内の被処理液は、気液混合ポンプ３によって次第にオゾン処理されていく。
【００３９】
返送経路４の返送口４１は、貯留槽２の底部ではなく、貯留槽２の中程（液中）に導かれている。これにより、返送経路４から送り返された被処理液が、導出経路１２の導出口１２１から直接的に流れ出すことを防止している。またこれにより、流入経路１１から貯留槽２内に流入する被処理液と良く混ざり合うようになっている。
【００４０】
返送経路４の途中には、液位センサ６に連動して作動する返送弁４２が設けてある。なお、返送弁４２と後述する送出弁５１は、電磁弁構造となっている。
【００４１】
一方、送出経路５の途中には、液位センサ６に連動して作動する送出弁５１が設けてある。送出経路５から送り出される被処理液の量は、流入経路１１より貯留槽２内に流入する被処理液の量よりも多く設定されている。この流量についての作用は、後述する。
【００４２】
（作  用）
図２はオゾン処理時における貯留槽内の液位変化を示す要部拡大説明図である。
図１及び図２を参照して、オゾン処理装置１の作用を説明する。
【００４３】
オゾン処理装置１の作動開始前において、例えば液位は図２(ａ)の実線で示すLow（Ｌ）の位置にあるものとする。
またこの状態では、図１に示す返送弁４２は開いており、送出弁５１は閉じているものとする。これにより、返送経路４は開いた状態となっており、送出経路５は閉じた状態となっている。
【００４４】
そして、以下のようにしてオゾン処理を行う。
流入経路１１から貯留槽２内に被処理液を送り、気液混合ポンプ３を作動させる。
【００４５】
貯留槽２内の被処理液は、導出経路１２を経て、によって吸引される。そして、気液混合ポンプ３は、オゾンガス発生装置８から供給されるオゾンガスと被処理液を混合する。気液混合装置では、攪拌と加圧によって多量のオゾンガスが被処理液に効果的に混ざり合い、被処理液は効率的にオゾン処理される。
【００４６】
そして上記したように、返送経路４は開いた状態となっており、送出経路５は閉じた状態となっている。したがって、被処理液は、気液混合ポンプ３でオゾン処理された後、返送経路４を経て、再び貯留槽２内に戻る。このようにして、貯留槽２内の被処理液は、貯留槽２と気液混合ポンプ３と間で循環しながら、次第にオゾン処理される。
【００４７】
また、流入経路１１から被処理液が送られてくるため、貯留槽２内の液位は、図２(ａ)から図２(ｂ)に示すように上昇していく。
【００４８】
そして、図２(ｃ)で示すように、液位がHigh（Ｈ）の位置まで上昇すると、液位センサ６の高位検知部６２が検知して制御装置７が作動し、返送弁４２が閉まり、送出弁５１が開く。よって、返送経路４は閉じた状態となり、送出経路５は開いた状態となる。したがって、オゾン処理された貯留槽２内の被処理液は、気液混合ポンプ３でオゾン処理された後、処理液となって送出経路５から送り出される。
【００４９】
また上記したように、送出経路５から送り出される処理液の単位時間当たりの量は、流入経路１１から入る被処理液のその量よりも多い。したがって、図２(ｃ)から図２(ｄ)に示すように、液位は次第に下がっていく。
【００５０】
そして、図２(ａ)に示すように液位がLowの位置まで下降すると、液位センサ６の低位検知部６１が検知して制御装置７が作動し、返送弁４２が再び開き、送出弁５１が閉じる。よって、返送経路４は開いた状態となり、送出経路５は閉じた状態となる。これにより、貯留槽２内の被処理液は、再び循環しながら気液混合ポンプ３でオゾン処理される。
このようにして、貯留槽２内の被処理液は、循環・排出を繰り返しながらオゾン処理されていく。
【００５１】
以上説明したように、オゾン処理装置１を使用したオゾン処理方法では、気液混合ポンプ３を使用することにより、単にオゾンガスを反応槽下部から気泡として噴き出す従来の気泡接触方式と比べ、多量のオゾンガスを効果的に攪拌・混合させることができ、被処理液を効率的にオゾン処理することができる。
しかも、貯留槽２内の被処理液を気液混合ポンプ３との間で循環させながら、繰り返しオゾンガスと接触させるので、貯留槽２内の被処理液は滞留することがなく、連続して効果的にオゾン処理される。
このようにオゾン装置１によれば、オゾン処理を連続して効果的に行うことができるので、従来の気泡接触方式と比べ、より短い処理時間で被処理液を大量に処理することができる。
【００５２】
また被処理液にオゾンガスを接触させる機構そのものが、従来の気泡接触方式と異なるため、従来のような大きな反応槽は必要ではなく、被処理液を一時的に貯留する貯留槽２があれば良い。
したがって、従来の気泡接触方式と比べて、同じ量の被処理液を処理する場合でも貯留槽２の容積は小さくて済み、必然的に装置全体を小型化することができる。これにより、設備コストを抑えることができると共に、狭い面積で設置できる。
【００５３】
更に、従来の気泡接触方式と比べて、オゾンガスを被処理液に高濃度で溶解させることができるので、オゾンガスの利用率が高く、より少ないオゾンガス量でオゾン処理を行うことができる。
【００５４】
図３は本発明に係るオゾン処理装置の一実施の形態を示す概略構成図である。
なお、上記参考例と同一または同等箇所には同一の符号を付して示している。また、上記参考例で示してある箇所については、説明を省略し、主に相異点を説明する。
【００５５】
オゾン処理装置１ａでは、気液混合ポンプ３から導出される返送経路４ａの一部を立ち上げて逆Ｕ字状に形成し、ガス溜りを構成している。これにより、上記参考例と相違して、オゾンガスがその立ち上がり部分に滞留しやすくなり（留まりやすくなり）、オゾンガスは被処理液と良く混ざり合う。したがって、同じオゾンガス量でも、オゾンガスの利用率が高く、より少ないオゾンガス量でオゾン処理を行うことができる。
【００５６】
なお、本実施の形態では、立ち上げた返送経路４ａを下ろすことで逆Ｕ字状にガス溜りを構成しているが、少なくとも立ち上がった部分があればガス溜りを構成することができるので、立ち上げた返送経路４ａをそのまま下ろさずＬ字状に形成することもできる。
その他の構成及び作用は、上記参考例と同じであるため、説明を省略する。
【００５７】
［オゾン処理装置を使用した尿汚水処理システム］
図４はオゾン処理装置を尿汚水処理システムに採用した場合の概略構成図、
図５は溜槽とセラミックス接触装置を示す概略説明図である。
【００５８】
既に説明した実施の形態に係るオゾン処理装置１ａを、豚舎等から出る廃水である尿汚水を処理する尿汚水処理システムに採用した場合を例にとって説明する。
【００５９】
豚舎等から出る糞尿混合物は、まず、例えばバーンクリーナ等（図示省略）によって糞と尿汚水に分離される。糞尿分離後、糞は堆肥化して肥料として利用され、尿汚水は以下に示す尿汚水処理システムにより分解処理され、河川等に放流される。
【００６０】
尿汚水処理システムは、図４に示すように、原尿槽２１、沈殿槽２２、固液分離槽２３、オゾン処理装置１ａ、セラミックス接触装置２４、オゾン除去槽２５、放流槽２６等から主に構成されている。
以下、尿汚水処理システムの各槽及び装置について、順を追って詳しく説明する。
【００６１】
豚舎から排出された尿汚水は、原尿槽２１に一時貯留される。
その後、尿汚水は、オーバーフローによって沈殿槽２２に供給される。沈殿槽２２では、比重の高い糞などの固形分が沈殿除去される。分離後の固形分は堆肥化され、肥料として利用される。
【００６２】
続いて、尿汚水は、精密ろ過膜（ＭＦ膜：Micro Filtration Membrane)を用いた浸漬法による固液分離槽２３により固液分離され、残余固形分が除去される。
分離後の固形分は堆肥化され、肥料として利用される。
なお、固液分離槽２３は、公知技術のものを使用したので、詳細な説明は省略する。
【００６３】
固液分離槽２３によって処理された尿汚水は、既に説明した実施の形態に係るオゾン処理装置１ａ（図３参照）によって処理される。オゾン処理によって、尿汚水はＣＯＤ成分や色度や臭気度が除去される。
【００６４】
オゾン処理された尿汚水は、溜槽７１（図４では図示省略、図５参照）に一旦貯留され、その後、揚水ポンプＰによってセラミックス接触装置２４に供給される。セラミックス接触装置２４は、例えばステンレス製のパイプで構成されている。
【００６５】
本実施例ではパイプの大きさは、例えば直径が約１０ｃｍ、長さが約１．５ｍである。セラミックス接触装置２４には、約１５ｍｍの球状のセラミックス焼結体２４１（例えば、商品名「バイオセラミック」、有限会社アイセラテック製）が多数充填されている。
【００６６】
このセラミックス焼結体２４１の主成分は、ケイ酸、アルミナ、カルシウムであり、主要な成分元素は次の通りである。ケイ素２２．９％、アルミニウム８．８２％、鉄５．８４％、カリウム３．５４％、チタン０．３９％、カルシウム０．１４％、マンガン０．０７２％、ルビジウム０．０３７％、ジルコニウム０．０３０％、バリウム０．０２５％、セシウム０．０２２％、アンチモン０．０１８％、亜鉛０．０１４％、クロム０．０１２％、ストロンチウム０．００５％、ニッケル０．００３％、ランタン０．００３％、銅０．００２％、イットリウム０．００２％、鉛０．００２％。
【００６７】
なお、図５中で、符号７２は溜槽７１から送られる尿汚水をセラミックス接触装置２４に供給する配管を示している。
【００６８】
そして、圧力２．５〜３kg/cm2の下で、セラミックス接触装置２４に尿汚水を通過させる。尿汚水をセラミック焼結体２４１に接触させることで、アンモニアの濃度を低下させることができる。
【００６９】
なお、セラミックス接触装置２４を構成するパイプの大きさ（直径と長さ）やセラミックス焼結体２４１の数は、処理する尿汚水の量によって任意に変更される。また、パイプの形状も特に限定されない。
【００７０】
また、図３に示すオゾン処理装置１ａにおいて、一部立ち上げて構成した返送経路４ａに、上記した多数のセラミックス焼結体２４１を充填することもできる。これのより、尿汚水をオゾン処理する共に、セラミックス焼結体２４１と接触させることができるので、尿汚水に含まれるアンモニア等の有機物の濃度をオゾン処理時に効果的に低下させることができる。
【００７１】
セラミックス接触装置２４で処理された尿汚水は、その後、図４に示すオゾン除去槽２５に送られる。そして、オゾン除去槽２５内に設けてある活性炭を通過させることにより、尿汚水中に残るオゾンを除去する。処理された尿汚水は、放流槽２６に送られ、河川や下水等に放流される。
【００７２】
図４に示すように、各処理段階(1)〜(4)で採取した尿汚水について水質分析を行った。その結果を表１に示す。
【００７３】
【表１】
0004763185.tif 000002
【００７４】
その結果、化学的酸素要求量（ＣＯＤ）、生物化学的酸素要求量（ＢＯＤ）、浮遊物質（ＳＳ）、全窒素（Ｔ-Ｎ）、リンいずれについても、水質汚濁防止法の排水基準以下の値が得られ、表１中の放流基準値と比べても充分満足できる値であった。
【００７５】
なお、本明細書で使用している用語と表現はあくまで説明上のものであって、限定的なものではなく、上記用語、表現と等価の用語、表現を除外するものではない。また、本発明は図示の実施の形態に限定されるものではなく、技術思想の範囲内において種々の変形が可能である。
【００７６】
【発明の効果】
本発明は上記構成を備え、次の効果を有する。
（ａ）本発明によれば、気液混合装置を使用することによって、単にオゾンガスを反応槽下部から気泡として噴き出させた従来の気泡接触方式と比べ、被処理液（水、廃水または下水）に多量のオゾンガスを効果的に攪拌・混合させることができ、被処理液を効率的にオゾン処理することができる。
しかも、貯留槽内の被処理液を気液混合装置との間で循環させながら、繰り返しオゾンガスと接触させるので、貯留槽内の被処理液は滞留することがなく、連続して効果的にオゾン処理される。
このように本発明によれば、オゾン処理を連続して効果的に行うことができるので、従来の気泡接触方式と比べ、より短い処理時間で被処理液を大量に処理することができる。
【００７７】
（ｂ）また、従来の気泡接触方式でオゾンガスの十分な溶解効率を得るためには、反応槽の水深を大きくする必要があり、装置全体が大型化していた。これに対し、本発明では被処理液にオゾンガスを接触させる機構そのものが異なるため、従来のような大きな反応槽は必要ではなく、被処理液を一時的に貯留する貯留槽があれば良い。
したがって、従来の気泡接触方式と比べて、同じ量の被処理液を処理する場合でも貯留槽の容積は小さくて済み、必然的に装置全体を小型化することができる。これにより、設備コストを抑えることができると共に、狭い面積で設置できる。
【００７８】
（ｃ）更に、従来の気泡接触方式と比べて、オゾンガスを被処理液に高濃度で溶解させることができるので、オゾンガスの利用率が高く、より少ないオゾンガス量でオゾン処理を行うことができる。
【００７９】
（ｄ）返送経路または／及び送出経路が、立ち上げられて構成されたガス溜りを有しているので、オゾンガスがその立ち上げ部分に滞留しやすくなり（留まりやすくなり）、オゾンガスは水、廃水または下水と良く混ざり合う。したがって、同じオゾンガス量でも、オゾンガスの利用率が高く、より少ないオゾンガス量でオゾン処理を行うことができる。
【００８０】
（ｅ）本発明に係る水、廃水または下水処理システムでは、オゾン処理装置を使用することで、水、廃水または下水を例えば河川や下水等に直接放流できる水質まで分解処理することができる。
【００８１】
【図面の簡単な説明】
【図１】  オゾン処理装置の参考例を示す概略構成図。
【図２】  オゾン処理時における貯留槽内の液位変化を示す要部拡大説明図。
【図３】    本発明に係るオゾン処理装置の一実施の形態を示す概略構成図。
【図４】    オゾン処理装置を尿汚水処理システムに採用した場合の概略構成図。
【図５】  溜槽とセラミックス接触装置を示す概略説明図。
【図６】  従来の気泡接触方式を採用したオゾン処理装置を示す概略構成図。
【符号の説明】
１，１ａ  オゾン処理装置
２  貯留槽
３  気液混合ポンプ
４，４ａ  返送経路
４１  返送口
４２  返送弁
５  送出経路
５１  送出弁
６  液位センサ
６１  低位検知部
６２  高位検知部
７  制御装置
８  オゾンガス発生装置
１１  流入経路
１１１  流入口
１２  導出経路
１２１  導出口
２１  原尿槽
２２  沈殿槽
２３  固液分離槽
２４  セラミックス接触装置
２４１  セラミックス焼結体
２５  オゾン除去槽
２６  放流槽
７１  溜槽
７２  配管
Ｐ  揚水ポンプ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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