(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒度分布の異なる原料を、製麹装置の内部に設けたスクリュウ型搬送装置の両端の何れか一方に供給し、このスクリュウ型搬送装置を介して培養床上へ一定の厚さで原料を堆積し、前期スクリュウ型搬送装置の回転方向とこのスクリュウ型搬送装置の両端の何れか一方へ原料の供給位置を一定の時間間隔で逆転することにより原料の移動方向を逆転する、粒度分布の異なる原料の盛込方法。
【請求項２】
前記スクリュウ型搬送装置の鉛直方向の位置を一定の時間間隔で上昇すると共に、このスクリュウ型搬送装置の回転方向とこのスクリュウ型搬送装置への原料の供給位置を逆転する、請求項1記載の粒度分布の異なる原料の盛込方法。
【請求項３】
手入れ装置の撹拌可能な位置に原料を盛込み、この位置の盛込操作が終了した時点以降に、培養床上の原料を手入れ装置で撹拌する、請求項1又は2のいずれかに記載の粒度分布の異なる原料のも盛込方法。
【請求項４】
製麹装置の内部に昇降可能な前記スクリュウ型搬送装置を設け、スクリ
ュウ型搬送装置はスクリュウとスクレッパからなり、かつスクリュウ型搬送装置の両端部上方付近に、製麹装置外部から連続する原料供給シュ―トを備え、かつ、正逆転が可能なシャトルコンベアを製麹装置の上方に設け、このシャトルコンベアの両端にそれぞれ製麹装置の内部に連続する各原料供給シュートと接続する、粒度分布の異なる原料の盛込装置。
【請求項５】
前記シャトルコンベアがラップコンベアである、請求項4記載の粒度分布の異なる原料のも盛込装置。
【請求項６】
前記原料供給シュートを製麹装置に対して着脱可能とする、請求項4又は5のいずれかに記載の粒度分布の異なる原料の盛込装置。
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
この発明は、主として酵素工業、醸造工業の固体培養に使用する製麹装置における粒度分布の異なる原料の盛込方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
製麹装置の内部には培養床の上方に、盛込と出麹兼用のスクリュウ型搬送装置を設けていた。スクリュウ型搬送装置はスクリュウの背面に板状のスクレッパを設けた装置であり、スクリュウの回転によりスプレッパに沿って原料を搬送することができる。このため、スクレッパの下端部は原料堆積面の上面となる。
【0003】
スクリュウの一端に原料を供給し、搬送方向へ原料を移動することにより、スクレッパの下端部と原料堆積面の上面との間隙に原料が堆積することができる。スクリュウ型搬送装置が水平方向に移動するか培養床を移動することで、均一な高さの原料堆積層を形成していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
スクリュウ型搬送装置により培養床へ原料を盛込む場合、原料はスクリュウの回転によりスクレッパに沿って水平方向に移動する。単独の穀類が原料である場合には、粒度分布が概略均一な形状であり比重も同等であるため、盛込状態には問題が発生しない。
【0005】
穀類を割砕した原料や粒状穀類に粉体穀類を混合した原料では、微粉末から粒状穀類までの粒形が存在し粒度分布の幅が大きくなる。また、焙煎により比重が減少した原料と、蒸煮により比重が増加した原料とを混合すると、比重の大きく異なる原料を盛込むことになる。このような原料はスクリュウの回転によりスクレッパに沿って水平方向に移動する際に、粒形の相違や比重の相違により分離し、堆積した原料ん分布が不均一になる場合がある。
【0006】
この発明の課題は、粒形や比重の相違がある原料をも盛込む場合においても、各原料の粒度分布が偏ることなく均一に盛込むことができ、サニタリ性に優れた粒度分布が異なる原料の盛込方法及び装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
この発明の請求項1では、粒度分布が異なる原料を、製麹装置の内部に設けたスクリュウ型搬送装置の両端の何れか一方に供給する。このスクリュウ型搬送装置を介して、培養床上へ一定の厚さで原料を堆積する。前記スクリュウ型搬送装置の回転方向とこのスクリュウ型搬送装置の両端の何れか一方への原料の供給位置を、一定の時間間隔で逆転する。この操作により原料の移動方向が逆転する。
【0008】
この発明の請求項2では、請求項1に記載の方法において、前記スクリュウ型搬送装置の鉛直方向の位置を一定の時間間隔で上昇し、同時に、このスクリュウ型搬送装置の回転方向とこのスクリュウ型搬送装置への原料の供給位置を逆転する。
【0009】
この発明の請求項3では、請求項1又は2記載の方法において、手入れ装置の撹拌可能な位置に原料を盛込む。この位置の盛込操作が終了した時点以降に、培養床上の原料を撹拌する。
【0010】
この発明の請求項4では、製麹装置の内部に昇降可能なスクリュウ型搬送装置を設ける。スクリュウ型搬送装置はスクリュウとスクレッパからなる。スクリュウ型搬送装置の両端上方付近には、製麹装置外部から連続する原料供給シュートを備える。正逆転が可能なシャトルコンベアを製麹装置の上方に設ける。シャトルコンベアの両端と、製麹装置の内部に連続する各原料供給シュートを接続する。
【0011】
この発明の請求項5では、請求項4に記載の装置において、前記シャトルコンベアがラップコンベアである。
【0012】
この発明の請求項6では、請求項4又は5のいずれかに記載の装置において、原料供給シュートを製麹装置に対して着脱可能である。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図によりこの発明の実施例を説明する。図1は、シャトルコンベアを使用する粒度分布の異なる原料の盛込方法及び装置を採用した回転円盤型製麹装置の1例の断面図である。図2は、スクリュウ型搬送装置と培養床の拡大正面図である。図3は、盛込方法の一例を示すフロー図である。
【0014】
この実施例では、回転円盤型製麹装置を一例として説明する。保温性のある断熱構造を備えた保温壁1により構成した製麹室2の内部に、通気性のある円形の培養床3を設ける。回転する培養床3の回転中心部には固定した中心円筒4を備え、外周部には培養床3を支える支持構造5を設ける。培養床3の上方には原料を盛込排出する昇降可能なスクリュウ型搬送装置6と、原料を撹拌する昇降可能なリボンスクリュウからなる手入装置7を設ける。スクリュウ型搬送装置6は、回転するスクリュウ8とこのスクリュウ8の側面に設けたスクレッパ9から構成する。スクリュウ型搬送装置6の両端の上方には、天井部の保護壁1の穴14a,14ｂを貫通して原料供給シュート10a、10bを設ける。
【0015】
原料供給シュート10a,10b上方には正逆転が可能なシャトルコンベア11を設け、原料供給シュート10a,10bに原料を供給可能に接続する。シャトルコンベア11には、搬送側と返送側のベルトが平面である通常のコンベアを使用してもよいが、原料の飛散防止やコンベアのサニタリ性維持に優れたラップコンベアを使用することができる。
【0016】
シャトルコンベア11に使用するラップコンベアは、搬送側と返送側のベルトをパイプ状に丸めて搬送する構造のコンベアであり、搬送側のベルトを通常の平面とし返送側だけをパイプ状に丸めてもよい。
【0017】
図2と図3により、回転する培養床3に接して堆積する第1層から順次上方の第4層までのも盛込方法を説明する。なお、層厚と層数は装置の能力により異なる。図2では、第3層を盛込んでいる状態を示している。
【0018】
スクリュウ型搬送装置のスクレッパ9の下端は、培養床3から原料の第1層の高さに上昇し固定する。原料供給シュート10aから供給される原料は、培養床3の外周側であるスクリュウ8の一端に供給する。スクリュウ8の回転により原料は、半径方向である中心円筒4方向へ移動する。同時に、培養床3が中心円筒4を回転中心として回転することにより、培養床3上に、所定の堆積厚の原料を盛込む。培養床3の回転角度をエンコーダ等により測定し制御することで、任意の回転角度毎に原料供給シュート10aを他方の10b に切替え、同時にスクリュウ8の回転方向も逆転する。この盛込方法により、粒度分布の異なる原料を盛込んだ場合、図3に示すように、原料の移動方向が交互に異なる。原料の移動方向が同じ区画内で粒度分布が不均一になるが、隣り合った区画では粒度分布が逆転し、全体として粒度分布が均一になる。特に、盛込に使用する原料を複数の堆積層に分けることなく、単数の堆積層で盛込む場合にはこの方法が有効である。
【0020】
図2に示すように、複数の堆積層に分けた盛込む場合には、第1層の原料を供給シュート10ａから供給し、中心円筒4方向へ原料を移動させ、培養床３が1回転した段階で、スクリュウ型搬送装置6を上昇し、第2層の原料を供給シュート10ｂから供給する。第2層の原料は、中心円筒4から培養床32の外周方向へ移動するため、第1層とは逆の粒度分布を示すことになる。このように、培養床3が1回転しスクリュウ型搬送装置6を上昇させた時点で供給シュート10を他方に切替え、第1層から第4層まで交互に盛込むことによっても、粒度分布を均一にすることができる。
【0021】
盛込みが終了した時点で、手入装置7を下降し培養床3を回転することにより、盛込んだ原料を撹拌することができる。この手入れ操作により、水平方向の粒度分布を垂直方向の粒度分布をより均一にすることが可能である。
【0022】
盛込工程が終了した後に、原料供給シュート10a,10bを上方に引き抜き、洗浄後保管する。原料供給シュート10a,10bを引き抜いた保温壁1の穴14a,14bは、保温壁1と同等の断熱性能を持つ材質で密閉し、製麹室2の内部と外部を遮断する。次回に盛込む場合には、原料供給シュート10a.10bを保温壁1の穴14a,14bに装着し、盛込工程を開始する。  実施例として回転円盤型製麹装置を説明したが、四角形の培養床を備えたカステン型製麹装置にも使用することができる。
【0023】
【発明の効果】
スクリュウの回転方向と原料の供給位置を一定の時間間隔で逆転させることにより、単数の盛込層であっても、各原料の粒度分布が異なることなく均一に盛込むことができる。同時に、複数の盛込層では、培養床が1回転した段階でスクリュウがた搬送装置を上昇させ、スクリュウの回転方向と原料の供給位置を一定の時間間隔で逆転させることにより、各原料の粒度分布が偏ることなく、均一に盛込むことができる。
【0024】
さらに、盛込操作が終了した時点で手入れ操作を行うことにより、均一な原料の粒度分布を得ることができる。また、シャトルコンベアをラップコンベアにすることにより、異物混入を防止しサニタリ性の優れた盛込装置とすることができる。原料供給シュートを着脱可能とすることによっても、サニタリ性の優れた盛込装置とすることができる。
【0025】
以上の効果により、粒形や比重の相違がある原料を盛込む場合においても、各原料の粒度分布が偏ることなく均一に盛込み、サニタリ性に優れた、粒度分布の異なる原料の盛込方法及び装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】  シャトルコンベアを使用する粒度分布の異なる原料の盛込方法及び装置を採用した、回転円盤型製麹装置の断面図である。
【図2】  スクリュウ型搬送装置の培養床の拡大正面図である。
【図3】  盛込方法の一例を示すフロー図である。
【符号の説明】
１        保温壁
２        製麹室
３        培養床
４        中心円筒
５        支持構造
６        スクリュウ型搬送装置
７        手入装置
８        スクリュウ
９        スクレッパ
10a,10b  原料供給シュート
11        シャトルコンベア
14a,14b   穴
【図１】
0004784880.tif 000002
【図２】
0004784880.tif 000003
【図３】
0004784880.tif 000004