(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板及び前記第２の基板からなる一対の基板間に保持された液晶と、を備えた液晶表示装置の作製方法であって、
前記第１の基板上に、前記第１の基板の外周に沿うように第１の隔壁を形成し、
前記第１の基板上の前記第１の隔壁が形成された領域の外側に、前記第１の基板の外周に沿うように第２の隔壁を形成し、
前記第１の隔壁及び前記第２の隔壁を形成した後、前記第１の基板上の前記第１の隔壁が形成された領域と前記第２の隔壁が形成された領域との間に、シールパターンを形成し、
前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせ、
前記第１の隔壁は、耐液晶性を有する材料であり、
前記第２の隔壁は、耐水性を有する材料であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置の作製方法において、
前記第１の隔壁及び前記第２の隔壁をフォトリソグラフィ法によって形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項３】
第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板及び前記第２の基板からなる一対の基板間に保持された液晶と、を備えた液晶表示装置の作製方法であって、
前記第１の基板上に、前記第１の基板の外周に沿うように第１の隔壁をフォトリソグラフィ法によって形成し、
前記第１の基板上の前記第１の隔壁が形成された領域の外側に、前記第１の基板の外周に沿うように第２の隔壁をフォトリソグラフィ法によって形成し、
前記第１の隔壁及び前記第２の隔壁を形成した後、前記第１の基板上の前記第１の隔壁で囲まれた領域に、ポリイミド又はポリアミドを有する配向膜を形成し、
前記配向膜を形成した後、前記第１の基板上の前記第１の隔壁が形成された領域と前記第２の隔壁が形成された領域との間に、シールパターンを形成し、
前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせ、
前記第１の隔壁は、耐液晶性を有する材料であり、
前記第２の隔壁は、耐水性を有する材料であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の液晶表示装置の作製方法において、
前記第１の隔壁を形成した後、前記第１の隔壁で囲まれた領域を前記液晶で満たすことを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の液晶表示装置の作製方法において、
前記シールパターンには、添加剤が含まれることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の液晶表示装置の作製方法において、
前記第１の隔壁は、アクリル樹脂であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の液晶表示装置の作製方法において、
前記液晶は強誘電性液晶であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は液晶表示装置の構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は軽量薄型で低消費電力が利点の表示装置として、ビジネス面ではノート型パーソナルコンピュータなどの携帯端末に、また家庭においてもパーソナルコンピュータのモニターや薄型テレビなどに広く利用されている。これまで表示装置の主役として活躍してきたＣＲＴに対し、着実に置き換わりつつある昨今である。
【０００３】
一般に表示装置は、電気信号に変換され移送されてきた画像などの情報を目で認識できるようにように、電気信号から光信号に逆変換し画像などに再構成できるようにした手段である。このような表示装置はこれまでにも数多く考案されてきており、液晶表示装置もその中の一つである。
【０００４】
表示装置は光の利用の仕方で大きく２つの方式に分かれる。その２つとは、ＣＲＴのように表示装置の表示部に発光する材料を適用する方式と、該表示部は非発光だが他に光源を求め、光源光の輝度を該表示部において何らかの方法で制御できるようにする方式である。通常の液晶表示装置は後者に属する。本明細書に記載の発明における液晶表示装置は基本的にはこの通常の液晶表示装置を例にしている。しかし、自発光型の液晶表示装置であっても、その技術分野において本明細書に記載の発明はそのまま利用できる。ただし、現在の技術動向では、液晶表示装置は非発光型と分類できるため、非発光型の液晶表示装置を例に説明する。
【０００５】
液晶表示装置は液晶の有する電気的、光学的な異方性を利用して、光源から発する光の透過、非透過を電気的なシャッターやバルブとして制御可能な機構としたことで、表示装置に印加した電気的な画像信号を可視化できるようにしたものである。
【０００６】
液晶表示装置の概略を図４に示したが、液晶表示装置はこれを実現するため、偏光板４０１、液晶セル４０２、バックライト４０３などを必要に応じて組み合わせ、これらを一体化したものを液晶表示装置として表示部に組み込んで活用されている。
【０００７】
図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に、従来の液晶表示装置の断面図及び上面図の構造の概略を示す。液晶を一対のいずれか一方が透光性を有する基板３０１と基板３０２とで約１０μｍ以下の一定の間隔に保持し、その間に液晶を挟持したような構成になっている。さらに一対の基板には液晶に電界を印加するため、基板表面に導電性の薄膜からなる対向電極３０８が形成されている（基板３０１上の電極及び液晶は図示せず）。
【０００８】
液晶に印加される電気信号を可視化するため、液晶の持つ光学的異方性を有効に利用できるよう、液晶表示装置において液晶分子を所定の状態に配向させる。電気信号の印加方法と液晶分子の配向は密接に関係しており、これまでに何種類かの方法が提案されている。一般的にはこれら動作方式の総称を動作モードと呼んでいる。提案されている動作モードの代表的なところでは、ネマチック液晶を利用するものでツイステッド・ネマチック（ＴＮ；Ｔwisted Ｎematic）モード、垂直配向（ＶＡ；Ｖertical Ａlignment）モード、横電界駆動（ＩＰＳ；Ｉn Ｐlane Ｓwitching）モード、また強誘電性液晶、反強誘電性液晶などのスメクチック液晶を利用するものでは、表面安定化型強誘電性液晶（ＳＳＦＬＣ；Ｓurface Ｓtabilized- Ｆerroelectric Ｌiquid Ｃrystal）モード、三安定スイッチング（ＴＳＳ；Ｔri-State Switching）モードなどが知られ広く利用されている。
【０００９】
これらの動作モードを用いる液晶表示装置では、いずれも場合も画質の均一性を実現し維持することを目的に、印加電圧に対する液晶表示装置の透過特性の面内均一性を良好にし、また液晶表示装置全体で印加電圧に対する液晶の応答特性の均一性を良好にするため、一対の基板の間隔が均一に保持できるように構成されている。
【００１０】
図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に、従来の液晶表示装置の断面図及び上面図の構造の概略を示したが、アクティブマトリクス基板３０１と対向基板３０２との間隔を均一化させるためには、基板の間隔を狭める方向の力に対抗するために均一の大きさを有する散布用のスペーサ３０５を基板上に多数存在させている。また、基板同士が離れないように基板同士をシール材で接着するのが一般的な方法である。
【００１１】
具体的には、一対の基板３０１及び基板３０２を接着するため、一対の基板が重なりあう領域の外周部に沿うようにしてなおかつ少なくとも画素部３０３を囲むように線状のシールパターン３０７を形成する。画素部は画素領域に相当する。シールパターン３０７を形成するシール材は接着剤からなる。シールパターンの線幅は一定にするのが一般的であり、線幅を１ｍｍ〜４ｍｍ程度となるようにする。シール材とは、２枚の基板を貼り合わせ、その中に液晶を封入するための接着・封止の材料であって、パネルの周辺部に配置される材料である。シールパターンとは、シールの形状、位置、幅が規程されたものである。
【００１２】
シールパターンは始めから全体を閉曲線のパターンにするのではなく、１部分切れた部分を作っておく。ここを液晶の注入口とする。液晶表示装置に液晶を配置させるために真空注入法などによりこの注入口から液晶を注入して、表示装置の中に液晶を満たす。液晶表示装置の中に液晶がすべて満たされた後、この注入口を封止材１１０などで塞ぎ、液晶が注入口から漏れてこないようにする。
【００１３】
シール材は熱硬化型のエポキシ等の樹脂や、紫外線で硬化するＵＶ樹脂等が利用されている。ただし、シール材は絶縁性の材料を利用している。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
液晶表示装置に満たされている液晶はシール材に直接接している。従って、シール材に発生する不具合は液晶への不具合として影響する場合が非常に多い。また液晶とシール材に含有される樹脂が接している部分が多ければ多いほど不具合の発生する確率は当然高くなる。液晶の不具合は結果として液晶表示装置の画質の劣化につながる。
【００１５】
しかし、シール材は熱または紫外線による硬化が完了してもシール材に含有される複数の樹脂成分のうち少なくとも１種類以上が分離してしまうことが以前にあった。
【００１６】
ＴＮ液晶の場合、液晶が使用温度領域においても流動性を有しているため、シール材から発生した不純物が溶け出してそのまま液晶の中に含まれてしまうことがあった。例えば図３のように、分離して液晶中に入ったシール材３１３が画素部３０３内に存在してしまった。
【００１７】
この不純物成分が液晶に対して溶解性が高い場合は液晶に溶け込んでしまうので、肉眼でその存在を捉えることは難しいが、液晶の電気的な絶縁性を低下させる要因となる。液晶の絶縁性が低下すると液晶に有効に電圧が印加されなくなるので、コントラスト低下など画質が低下してしまう。
【００１８】
また、不純物成分が液晶に対して溶解性がない場合には、液晶で満たされた領域に樹脂の領域が存在する。溶解性がない場合は、樹脂の領域のなかにはほとんど液晶が含まれていないと予想されるので、液晶の中に樹脂だけの領域が孤立するか、またはシールパターンと一部接するか、または分離した複数の樹脂が接するような状態で存在する。
【００１９】
シール材に含有される樹脂は非極性で、しかも誘電率異方性はほとんど０とみなせるので、この状態で駆動電界を印加すると、樹脂の電界に対する応答については、樹脂は電界に対してなんら反応しない。液晶の中に電界に対して応答しない領域が存在しているように捉えられる。これは電界を印加してないときに白表示状態とする、いわゆるノーマリーホワイト表示のＴＮ液晶では、黒点欠陥として認識される。
【００２０】
但しこれは分離した樹脂の大きさが直径で０.１〜１mm程度の比較的大きな場合で、これよりも直径が小さいと、液晶の応答による樹脂周囲の液晶の乱流により樹脂が動いているように見えることがあるかもしれない。
【００２１】
一方、強誘電性液晶、反強誘電性液晶に代表されるスメクチック液晶を用いた場合には別の問題が発生する。それは表示部の見える方向からみてシール材と液晶の境界面の直線形状が液晶の配向に影響するというものである。
【００２２】
強誘電性液晶あるいは反強誘電性液晶のような材料の場合、室温における液晶の粘度はネマチック材料に比べてかなり高く、従って液晶の流動性は非常に乏しいため、基板表面の凹凸やシール材の側面の凹凸などで液晶の配向が部分的に乱れてしまうとその箇所の配向は乱れたままとなる。配向が乱れた領域が画素部に広がると、その部分は著しくコントラストが低下してしまう。
【００２３】
このようにして、表示部の見える方向からみてシール材と液晶の境界の直線形状は非常に重要なことが分かるが、強誘電性液晶や反強誘電性液晶のように基板の間隔を１〜２μｍ程度にして使うようになると、図３に示すように本来あるべきパターンの横からひげのように不要なシール材のしみ出し３１４が広がってしまう。ひどいときにはこの不要なシール材のしみ出し３１４が画素部３０３の領域まで広がってしまうこともあった。
【００２４】
この現象は次のように考察される。重ね合せ後の熱プレス工程では一般的にパネルの温度を１５０〜２００℃まで加熱して硬化反応を進行させ、硬化が終了したところで室温までパネルの温度を下げる。１５０℃〜２００℃においては、硬化反応が始まる直前に接着剤の粘度が低下し、かなり流動的な状態になるため、毛細管現象のためにほんのすこしでも基板の間隔が薄くなっている部分により接着剤が流れていくようになり、さらに時間が経過すると今度は硬化反応が始まるので接着剤の粘度が急激に増加し、一旦広がってしまった接着剤がもとの状態に戻ることなくそのまま固まってしまう。基板の間隔が薄くなる場合、この現象は特に顕著であった。
【００２５】
この問題については、樹脂材料に平均粒径が約３μｍ〜４μｍの概略球状の材料を混入させ（以下この材料について充填材という）、みかけの粘度を増加させることで、パネルの加熱時の粘度低下を防止するという方法が取られていたが、基板の間隔をより薄くしなければならない場合は、かえって充填材が邪魔になって基板の間隔を薄くできないという矛盾が生じていた。平均粒径が小さな充填材を利用したシール材を使えばいいということにもなるかもしれないが、実際には平均粒径が３μｍ以下の充填材入りの接着剤はまだ完成しておらず使用できていない。いずれにしても根本的な解決には至らなかった。
【００２６】
このため樹脂の液晶への拡散、シール材／液晶境界の直線形状の乱れによる、画素の配向への悪影響を防止し、コントラストを向上できるような構成が望まれていた。
【００２７】
一方、外部の水分等が原因でシール材の劣化による外部引き出し配線部や外部引き出し配線部に貼りつけられるＦＰＣ等の汚染が懸念されている。
【００２８】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決すべく考案されたものである。即ち、本明細書の発明は、少なくとも一方が透明である一対の基板と、前記一対の基板の端面と平行になるようにその端面の内側にシールパターンと、前記シールパターンに囲まれた領域の内側または外側または両側に前記シールパターンと平行になるようにそれぞれ第１の隔壁及び第２の隔壁と、前記シールパターンまたは前記第１の隔壁に接するように液晶とをする液晶表示装置とする。本明細書では、隔壁とは、壁のような形をした仕切りをいい、第１の隔壁は液晶とシール材を仕切り、第２の隔壁はシール材と液晶表示装置外の空気を仕切っている。この隔壁が間隙材に相当し、第１の隔壁及び第２の隔壁はそれぞれ内間隙材及び外間隙材に相当する。また、第１の隔壁は前記液晶を配向させる材料であることを特徴とし、外側に設けられた第２の隔壁はシール材を保護することを特徴としている。シールパターンの内側に液晶の配向状態を維持するために第１の隔壁を設けることによって、液晶の配向乱れが減少することにより、コントラストを改善する事ができる。また、第２の隔壁を設けることによって、シールパターンの外側に水分等が原因でシール材の劣化による外部引き出し配線部やＦＰＣの汚染を防止できるといった効果がある。
【００２９】
また、前記問題点を解決するため、本発明の液晶表示装置の第１の隔壁の内側に柱状のスペーサを設けてもよい。第１の隔壁及び第２の隔壁に加え、柱状のスペーサを設けることにより、基板の間隔のばらつき（ギャップムラ）の少ない液晶表示装置を提供できる。この柱状のスペーサがギャップ保持材に相当する。
【００３０】
【発明の実施形態】
図１(Ａ)及び図１(Ｂ)に本発明の液晶表示装置の断面図及び上面図を示す。また、図２(Ａ)及び図２(Ｂ)に本発明の液晶表示装置の断面図及び上面図を示す。ここではアクティブマトリクス型の液晶表示装置に本発明を適用した場合を例に説明する。なお、ここでは例としてアクティブマトリクス基板に駆動回路を同一基板に形成している。１０１はアクティブマトリクス基板、１０２は対向基板である。１０３は画素部、１０４は画素部１０３を制御する駆動回路（ゲートドライバー）、１０５は散布用のスペーサ、１０６ａは第１の隔壁、１０６ｂは第２の隔壁、１０７はシールパターン、１０８は対向電極、１０９は配向膜である。図１には本発明に示す液晶表示装置の内部構造の説明のため、あえて液晶の図示をしなかったが、実際にはアクティブマトリクス基板１０１、対向基板１０２、１０６ａは第１の隔壁、シールパターン１０７、配向膜１０９、封止材１１０により形成される空間に液晶が満たされる。画素部は画素領域に相当する。
【００３１】
アクティブマトリクス基板１０１には透光性を有する基板に画素電極、信号電極が形成されている。基板としては無アルカリガラスや石英基板からなる。なお透光性を有する基板であれば可撓性を有する材料、例えばポリイミド、ポリカーボネートなどプラスチック材料でもよい。このようにアクティブマトリクスとしては公知の回路構成を有し、公知の材料により形成されるものを利用することができる。アクティブマトリクス基板としてはガラス基板上に形成するもののほか、Ｓｉウェーハ上に形成するものや金属基板上に形成する場合でも利用できる。
【００３２】
アクティブマトリクス基板１０１については能動素子を利用した画素回路が形成された基板や、画素回路の周辺に駆動回路をも同一基板上に形成された基板を利用する事が出来る。
【００３３】
また、対向基板１０２としては透光性を有する基板を利用する事が出来る。基板としては無アルカリガラス、石英基板からなる。基板としてはこのほかに可撓性を有する材料、例えばポリイミド、ポリカーボネートなどのプラスチック材料でもよい。
【００３４】
対向基板１０１には、液晶表示装置としてカラー表示をするためにカラーフィルターが基板上にパターニングされているもの、あるいは透明電極とブラックマトリクスのみのものなど、公知の技術により形成された基板を利用する事が出来る。
【００３５】
配向膜１０９はポリイミド、ポリアミドなど、一般的に液晶表示装置に利用されている材料を用いる事が出来る。配向膜の材料は利用する液晶の動作モードに対応して選択される。配向膜を基板上に塗布する場合には、印刷法によるもの、スピナーにより塗布するもの等を利用できる。
【００３６】
配向膜１０９は電気的に絶縁性を有する材料を用いることが一般的なため、基板上に形成された信号電極と外部電気回路との電気的接続が可能となるよう、電極表面を露出させるためパターニングする。配向膜をパターニングするためには印刷法による方法が望ましい。印刷法の場合には樹脂のパターンに囲まれた部分に配向膜のパターンを形成する。
【００３７】
配向膜１０９には液晶を配向させるため配向処理が施されている。配向処理は利用する液晶の動作モードに対応して選択される。たとえばＴＮモードであれば基板に対して液晶分子の長軸が平行になるように処理される。また、紫外線等を利用した光配向処理を利用してもよい。
【００３８】
次にシール材と第１の隔壁及び第２の隔壁について説明する。まずシール材は基板間の液晶を最終的に封じこめ外部に漏れないようにすることと、一対の基板同士を接着することを目的として、接着性を有する材料を用いる。
【００３９】
シール材としては接着性を有する材料としてはエポキシ樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。硬化方式としては熱硬化型、光硬化型いずれでもよい。
【００４０】
なお、基板の間隔を一定にするため、必要に応じてシール材に圧力に対する変形を受け難い添加剤を加えてもよい。これは基板の間隔がおおよそ３μm以上のときに用いると、液晶表示装置の基板の間隔について、基板の間隔のばらつきを低減するのに効果がある。このとき添加剤としては球状あるいは円柱状の形状を有し、且つ一定の直径を有するスペーサを用いる。前記添加剤にはＳｉＯ2等の無機材料、あるいはジビニルベンゼンを主成分とする有機材料を用いる事が出来る。
【００４１】
このとき添加するスペーサの直径は利用する液晶あるいは動作モードの違いにより適宜選択する。例としてＴＮモードでは４〜５μｍ前後、強誘電性液晶、反強誘電性液晶は０．５〜３μｍ前後である。
【００４２】
樹脂に対する添加量は、使用するスペーサに依存するが、多くの場合３％程度でよい。あまり多く添加すると添加したスペーサ同士が重なり合って一定の基板の間隔が取れなくなってしまう。
【００４３】
次に、第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂについて説明する。シールパターン１０７の内側に設けた第１の隔壁１０６ａは、シール材の不具合、つまり成分の分離や不要な広がりが画素部にしみ出すのを防ぐため、シール材と液晶の間に形成する。基板間にあって、かつ、シールパターン１０７と液晶の間に形成した材料を第１の隔壁１０６ａとする。第１の隔壁１０６ａが内間隙材に相当する。第１の隔壁１０６ａはシールパターンに囲まれた内側の全ての部分に液晶を囲うように形成してもよいし、一部分だけでもよい。また、液晶表示装置外の水分による劣化等を防ぐために、シールパターンの外側に設けた材料を第２の隔壁１０６ｂとする。第２の隔壁１０６ｂは外間隙材に相当する。第２の隔壁１０６ｂはシールパターン１０７の外側の全ての部分に形成してもよいし、一部分だけでもよい。
【００４４】
第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂは、所定の形状に加工できる物質であれば、無機材料または有機材料、あるいはそれらの混合物のいずれも利用できる。特に、第１の隔壁１０６ａについては耐液晶性を有すること、第２の隔壁１０６ｂについては耐水性を有することが好ましい。また、第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂの形成にはフォトリソグラフィー法、印刷法、ディスペンス法などを利用すればよい。
【００４５】
第１の隔壁１０６ａの側面がより直線の形状であることが望ましいときには、フォトリソグラフィー法によれば表示部の見える方向から見て直線形状の側面を持った第１の隔壁１０６ａを形成できる。第１の隔壁１０６ａにおいて側面とは、液晶と接する面をいう。また、アクティブマトリクス基板１０１を作製するとき利用するマスクアライナーを利用する事が出来るので、アライメント精度を高くする事が出来る。また、加工工程を簡略化するためには第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂでフォトリソグラフィー法によってパターニング可能な材料が望ましい。この場合、感光性の樹脂を利用する事が出来る。例えば、アクリル樹脂はその配向規制力により、その側面と平行に分子を配向させることが可能であり、良好な液晶配向を実現できる。また、ＳｉＯ2などの非感光性材料でも利用できるが、スペーサをパターニングするためにマスクとしてレジストなどでＳｉＯ2上に形成し、スペーサのパターニング終了後マスクを除去する工程が余分に必要になる。
【００４６】
印刷法、ディスペンスを利用すると第１の隔壁１０６ａの直線形状がフォトリソグラフィー法に比べてやや劣る場合があるが、その代わりに基板に第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂを構成する材料を塗布すると同時にそのまま所定のパターンに形成できるので、工程を簡略化できる利点がある。
【００４７】
なお配向膜に使用している材料は、現像液のようなアルカリ溶液に対する耐性が高くないので、配向膜の塗布と、第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂとを形成する順序を留意すべきである。フォトリソグラフィー法によって第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂを作製する場合は、先に第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂを形成し、その後配向膜１０９を塗布する。一方、印刷法、ディスペンスの場合は前に配向膜を基板に塗布し、その後第１の隔壁及び第２の隔壁を構成する材料を塗布すればよい。
【００４８】
また、柱状のスペーサ１１２の高さは、シール材の画素部へのしみ出しが防止できるような高さが基本的には良いが、一対の基板に形成された対向する画素電極の間隔、つまり基板の間隔を所定の間隔とすることが出来るようにも設定できる。特にアクティブマトリクス基板１０１を利用する場合、信号配線、ブラックマトリクス、補助容量、層間絶縁膜などが形成されており、場合によってはこれらの構成物による段差が発生するので段差を考慮して高さを決める。つまり、たとえば基板の間隔を４μｍにしたい場合、柱状のスペーサ１１２を立てるべき場所に画素電極よりも０．２μｍ高く段差が出来ている場合、パネル製造工程で一対の基板の間隔を縮める方向の圧力によって第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂがつぶれるような変形が無視できる大きさであるとすると、柱状のスペーサ１１２の高さは３．８μｍとすればよい。また、第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂの変形が無視できない場合は、最終目標の基板の間隔よりも柱状のスペーサ１１２の高さを高めに設定すればよい。柱状のスペーサがギャップ保持材に相当する。
【００４９】
柱状のスペーサ１１２を形成しない場合は、図１のように基板上にスペーサを散布する。スペーサは、有機物あるいは無機物からなる球状の物質で、従来の液晶表示装置で利用されているものをそのまま利用できる。スペーサはアクティブマトリクス基板と対向基板を貼り合わせる前に液晶表示装置内のスペーサの密度は一般的には２０個〜２００個／ｍｍ2であれば基板の間隔を一定に保持できる。
【００５０】
なお、柱状のスペーサを画素部内において表示に影響しない部分、たとえばソース配線、ゲート配線上やブラックマトリクス上にも設けそれを基板の間隔保持用に利用してもよい。図３に画素部に設けた柱状のスペーサ１１２を示す。このようにすれば別途スペーサを散布しないでもよい。
【００５１】
また、スペーサをアクティブマトリクス基板１０１に形成する場合を例にしているが、これに限定するものではなく対向基板１０２に形成してもよく、さらに、両方の基板に形成してもよい。ただし、スペーサを画素部にも作製する場合、基板上に形成された画素とスペーサとのアライメント精度を高くするためには、フォトリソグラフィー法によってアクティブマトリクス基板にスペーサを形成することが望ましい。これは、マスクアライナーの方が貼り合わせ装置よりもアライメント精度が高いことが一般的であるためである。
【００５２】
このようにして配向膜、シールパターン、第１の隔壁及び第２の隔壁が形成されたアクティブマトリクス基板と対向基板のいずれかにスペーサを形成し、さらにその後、液晶表示装置を作製するために貼り合わせる。貼り合わせ工程以降の工程は公知の液晶パネルの製造工程を利用すれば、図１又は図２のような液晶表示装置を得ることができる。
【００５３】
シールパターン１０７の内側に液晶の配向状態を維持するために第１の隔壁１０６ａを設けることによって、液晶の配向乱れが減少することにより、コントラストを改善する事ができる。
【００５４】
また、第２の隔壁１０６ｂを設けることによって、シールパターン１０７の外側に水分等が原因でシール劣化による外部引き出し配線部１１３やそれに貼りつけられるＦＰＣ等の汚染を防止できる。第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂに加えて柱状のスペーサ１１２により、基板の間隔のばらつきの少ない頑丈な液晶表示装置を提供できる。
【００５５】
さらに、この液晶表示装置を用いた場合、シールパターン１０７の外側で、かつ、基板間に液晶が浸入することがないので、液晶のロスを防ぎ、低コスト化を実現できる。
【００５６】
分断工程の際には分断不良が少なくなるので、歩留まりが向上する。
【００５７】
本実施の形態ではシールパターン１０７の両側にフォトリソグラフィー法により第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂを形成したが、シールパターン１０７の内側或いは外側いずれか一方のみに形成してもよい。
【００５８】
本実施の形態ではアクティブマトリクス型の液晶表示装置を例に説明したが、単純マトリクス型の液晶表示装置についても本発明を適用することできる。
【００５９】
本実施の形態で用いた第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂは、滴下注入法やラミネート法を用いた製造方法によって作製される液晶表示装置にも適用することできる。ラミネート法とは、紫外線硬化型樹脂であるシール材を基板に塗布し、次いで形成されたシールパターン内に液晶を塗布し、該基板と他方の基板とでシール材及び液晶で挟む工程である。
【００６０】
以上の構成でなる本発明について、以下に示す実施例でもってさらに詳細な説明を行うこととする。
【００６１】
【実施例】
[実施例１]
本発明の実施例について図２、図４、図５を用いて説明する。ここでは画素回路とその周辺に駆動回路を同一基板上に設けたアクティブマトリクス基板を用いた液晶表示装置に実施する例を示す。アクティブマトリクス基板の画素数は６４０×４８０画素、画素ピッチは２００μm×２００μmである。
【００６２】
アクティブマトリクス基板１０１に第１の隔壁１０６ａ、第２の隔壁１０６ｂを形成する。図２に示すように、基板の外周部に近い部分で基板の外周に沿うようにしたものを第２の隔壁とし、さらに画素部１０３，制御回路１０４及び制御回路１１１を囲むように形成したものを第１の隔壁１０６ｂとする。第１の隔壁及び第２の隔壁がそれぞれ内間隙材及び外間隙材に相当する。また、画素部が画素領域に相当する。
【００６３】
次いで、画素部１０３には複数の柱状のスペーサ１１２を形成する。この柱状のスペーサがギャップ保持材に相当する。なお、図２は画素部にも柱状のスペーサ１１２を形成した例を示したもので、実際には画素部１０３には４画素（２画素×２画素）に１つの割合で、画素を透過する光を妨げないようにＴＦＴ上に作製する。図５にこの状態を表した画素部の拡大図を示す。５０１はソース配線、５０２はゲート配線、５０３はＴＦＴを示している。
【００６４】
第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂ、柱状のスペーサ１１２はフォトリソグラフィ法によりそれぞれ所定の形状にパターニングする。まず、材料としては感光性アクリル材料を主成分としたＮＮ７００（ＪＳＲ製）を利用する。ＮＮ７００をスピナーで基板全面に塗布する。膜厚は４．２μmとする。ＮＮ７００を塗布、仮焼成した後、ＮＮ７００マスクを用いてマスクアライナーで露光する。このあとＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）が主成分の現像液で現像し、乾燥させた基板に対し、２５０℃、１時間の焼成工程を行う。その結果、図２に示したように壁状で基板の端部に囲まれた第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂ、柱状のスペーサ１１２がそれぞれ形成される。第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂの高さは４μmである。柱状のスペーサ１１２の高さについては３．８μm程度になるように、ＮＮ７００をスピナーで基板全面に膜厚は４．０μm程度塗布すればよい。
【００６５】
次に、第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂ、柱状のスペーサ１１２が形成された上述のアクティブマトリクス基板１０１に、ポリイミドを主成分とする配向膜１０９を塗布・焼成後、配向処理を行う。配向膜１０９はＳＥ５２９１（日産化学）を利用する。配向膜１０９はフレキソ印刷法により基板上に塗布する。配向膜１０９の膜厚は焼成後の厚さで８０ｎｍ程度となるようにする。配向膜は８０℃のホットプレートでプリベークを行った後、２５０℃のクリーンオーブンで１．５時間焼成する。
【００６６】
また、対向基板１０２にも同様に、配向膜１０９を塗布及び焼成を行う。
【００６７】
その後、ラビングにより、配向処理を行う。ラビングはアクティブマトリクス基板１０１に対して４５°方向となるような角度で行った。ラビング条件はロール回転数１００ｒｐｍ、押し込み０．４ｍｍ、ステージ速度は１０ｍｍ／ｓである。
【００６８】
ラビング後にラビング工程で発生したゴミを除去するため基板洗浄を行う。基板洗浄はＩＰＡ（イソプロパノール）に基板を浸漬した後ＩＰＡの蒸気により乾燥した。基板洗浄はこの他純水を利用して行うことも出来る。
【００６９】
次にシールパターン１０７を基板に形成する。シールパターンの形成はスクリーン印刷やディスペンサなどを利用できるが、ここではディスペンサを用いる。いずれか一方の基板に塗布すればよいが、本実施例では対向基板に塗布する。シール材には熱硬化型のエポキシ系接着剤、ＸＮ−２１Ｓ（三井化学製）を用いる。
【００７０】
シール材を基板に塗布した後、クリーンオーブンで仮焼成を行い、そのあと他方の基板を用意して基板同士を貼り合わせる。
【００７１】
次に熱プレスを行う。これはシール材の焼成を行うためである。貼り合わされた一対の基板には熱プレス用の治具を用いて基板面に垂直な方向にパネルをつぶすようにあらかじめ圧力を掛けておく。この時の圧力は０．１〜０．５ｋｇｆ／ｃｍ2、ここでは０．３ｋｇ／ｃｍ2である。この状態を保持したままでクリーンオーブン内に設置してシール材を熱硬化させる。熱硬化は４〜１０時間、ここでは６時間行ってシール材を硬化させる。
【００７２】
熱プレスが完了したら、貼り合わせた基板を、ダイヤモンドカッター等のガラス切断用の一般的な装置で所定の形状にガラスの分断を行う。この際、分断部と第２の隔壁１０６ｂの端を一致させることにより、分断不良が少なくなり、歩留まりが向上する。また、切断用の一般的な装置として、ダイサーを用いてもよい。ダイサーとは、硬質カッター（ダイシングソー）を高速回転させて基板を分断する装置である。
【００７３】
分断したパネルに対して液晶を注入する（液晶は図示せず）。液晶によって注入時の圧力制御、温度制御の条件は一般的に異なるものであり、それぞれの材料を注入するのに最適な条件で行えばよい。今回使用するのはネマチック液晶である。ネマチック液晶は室温で液体のように流動的であるので、室温で真空注入する。使用したネマチック液晶はＺＬＩ４７９２（メルク・ジャパン製）である。
【００７４】
液晶注入後、注入口を封止する。封止の際にはここでもＵＶ硬化型の樹脂を使うが、注入口の位置は画素部からかなり離れた位置にあることと、液晶注入後なので封止材１１０が液晶表示装置の中まで入り込むことが無いので、液晶の配向状態には特に影響を示さない。
【００７５】
注入口の封止後に、液晶の再配向処理を行う。再配向処理は、作製した液晶表示装置をクリーンオーブンで１３０℃に加熱し、３０分間保持しその後室温まで急冷する。
【００７６】
このようにして本発明の方法により作製された液晶表示装置では、シール材が第１の隔壁１０６ａで塞き止められて画素部１０３にシール材が入り込むことがない。一方、液晶が接しているのがシール材ではなく第１の隔壁１０６ａになるので、液晶の配向は第１の隔壁１０６ａの側面の平坦性を反映することとなる。第１の隔壁１０６ａの側面の直線形状はフォトリソグラフィー法で形成されていることもあり、非常に良好である。その結果、シール材が液晶に直接接している従来の液晶表示装置に比べ、本発明の液晶表示装置における液晶の配向が大幅に改善され、コントラストが向上する。さらに、第１の隔壁及び第２の隔壁に加えて、図２では画素部１０３には複数の柱状のスペーサ１１２形成するので、基板の間隔のばらつき（ギャップムラ）の少ない頑丈な液晶表示装置を提供できる。
【００７７】
また、第２の隔壁１０６ｂを設けることによって、シールパターン１０７の外側に水分等が原因でシール劣化による外部引き出し配線部１１３やそれに貼りつけられるＦＰＣ等の汚染を防止できる。
【００７８】
さらに、この液晶表示装置を用いた場合、シールパターン１０７の外側で、かつ、基板間に液晶が浸入することがないので、液晶のロスを防ぎ、低コスト化を実現できる。
【００７９】
分断工程の際には分断不良が少なくなるので、歩留まりが向上する。
【００８０】
[実施例２]
実施例１では第１の隔壁１０６ａ、第２の隔壁１０６ｂ及び柱状のスペーサ１１２をフォトリソグラフィー法で形成する場合を説明したが、本実施例では印刷法によって第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂを形成する。図１(Ａ)及び図１(Ｂ)に本実施例の方法によって作製された液晶表示装置の断面図及び上面図を示す。
【００８１】
使用したアクティブマトリクス基板１０１、対向基板１０２は実施例１に示したものと同じ構成のものである。また配向膜１０９の塗布工程、ラビング工程、ラビング後洗浄工程も実施例１に示したのと同じである。
【００８２】
次にフレキソ印刷法により感光性樹脂をラビング洗浄したアクティブマトリクス基板１０１に塗布する。ここでも使用した感光性樹脂はＮＮ７００である。印刷版には、基板上に所定の部分に第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂが形成され、それ以外の部分には形成されないように、印刷のパターンが形成されている。基板に塗布後、実施例１に示したような条件でＮＮ７００を焼成する。焼成後の第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂの高さは３．８μmである。
【００８３】
対向基板１０２に散布用のスペーサ１０５を散布する。スペーサは材質が、ジビニルベンゼンを主成分とするミクロパール（積水ファインケミカル製）を用いる。スペーサの直径４μｍである。スペーサは窒素ガスで乾式散布を行う。散布密度は１００個／ｃｍ2とする。
【００８４】
次に対向基板１０２にシール材を塗布し、シールパターン１０７を形成する。シール材の塗布方法は実施例１と同じである。また、この後の工程も実施例１と同じである。
【００８５】
以上の工程を経て、図１のような液晶表示装置を作製する。第１の隔壁１０６ａを設けることにより、シール材の分離や不要な広がりは実施例１と同様に防ぐことができる。
【００８６】
また、第２の隔壁１０６ｂを設けることによって、シールパターン１０７の外側に水分等が原因でシール材の劣化による外部引き出し配線部１１３やそれに貼りつけられるＦＰＣ等の汚染を防止できる。第１の隔壁１０６ａと第２の隔壁１０６ｂにより、基板の間隔のばらつきの少ない頑丈な液晶表示装置を提供できる。
【００８７】
さらに、この液晶表示装置を用いた場合、シールパターン１０７の外側で、かつ、基板間に液晶が浸入することがないので、液晶のロスを防ぎ、低コスト化を実現できる。
【００８８】
分断工程の際には分断不良が少なくなるので、歩留まりが向上する。
[実施例３]
実施例１及び実施例２では液晶にＴＮ用液晶を利用した場合を示したが、本実施例では液晶に強誘電性液晶を利用した例を示す。第１の隔壁１０６ａ、第２の隔壁１０６ｂ及び柱状のスペーサ１１２を形成する方法は、実施例１に示した方法を用いればよい。図２に本実施例の方法によって作製された液晶表示装置の断面図及び上面図を示す。
【００８９】
まず実施例１に示すように、第１の隔壁１０６ａ、第２の隔壁１０６ｂ及び柱状のスペーサ１１２を形成する。これらを構成するＮＮ７００は焼成後、その高さが１．５μmとなるようにする。また画素部１０３内にも柱状のスペーサ１１２を形成する。
【００９０】
次に配向膜１０９を塗布する。配向膜１０９はＲＮ１２８６（日産化学製）であり、ＲＮ１２８６（日産化学製）を用いた場合、プレチルト角を１〜３°と低くすることができる。配向膜の膜厚は１０ｎｍ〜１００ｎｍここでは５０ｎｍとする。配向膜の形成はフレキソ印刷法で行う。
【００９１】
配向膜は８０℃のホットプレートでプリベークした後、２５０℃、１．５時間クリーンオーブンで焼成する。配向膜焼成後、ラビング工程を行い、その後ラビング後洗浄を行う。
【００９２】
次にシール材を対向基板１０２に塗布し、シールパターン１０７を形成する。シール材は熱硬化型の樹脂であればよい。シール材を仮焼成したあと、アクティブマトリクス基板１０１と貼り合わせ、その後熱プレスを行う。熱プレスは実施例１と同じように行う。また、次の基板分断工程も実施例１と同じである。
【００９３】
次に液晶を分断したパネルに注入する（液晶は図示せず）。本実施例で使用する強誘電性液晶はＦＥＬＩＸ―Ｍ４８５０―１００（ヘキスト製）であるが、公知の強誘電性液晶であればよい。液晶の特性は、相系列がＩｓｏ―Ｎ*―ＳｍＡ−ＳｍＣ*−Ｃｒｙであり、相転移の温度はＩｓｏ―Ｎ*が７６℃、Ｎ*―ＳｍＡが７１℃、ＳｍＡ−ＳｍＣ*が６７℃、ＳｍＣ*−Ｃｒｙが−２０℃である。液晶がＩｓｏ相を示す温度で、分断したパネルに真空注入法により液晶を注入する。
【００９４】
液晶を注入して注入口を封止した後、再配向を行う。ここでは液晶表示装置を１００℃まで加熱して３０分温度を保持した後、室温まで冷却する。冷却は０．１℃／ｍｉｎの割合で行う。
【００９５】
本発明の構成よりシール材の分離や不要な広がりがなくなったので、液晶の均一な配向状態を得る事ができる。また、シール材における液晶と接する面の凹凸により、配向の不連続面をつくることが少なくなったので、特にスメクチック液晶で問題とされる配向の欠陥が改善される。
【００９６】
また柱状のスペーサ１１２を画素部１０３内にも形成したので、ギャップの均一性とギャップを縮めようとする圧力に対する強度をより高めることが出来る。よって、第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂに加えて、画素部１０３には複数の柱状のスペーサ１１２を形成するので、基板の間隔のばらつきの少ない頑丈な液晶表示装置を提供できる。
【００９７】
また、第２の隔壁１０６ｂを設けることによって、シールパターン１０７の外側に水分等が原因でシール材の劣化による外部引き出し配線部１１３やそれに貼りつけられるＦＰＣ等の汚染を防止できる。
【００９８】
さらに、この液晶表示装置を用いた場合、シールパターン１０７の外側で、かつ、基板間に液晶が浸入することがないので、液晶のロスを防ぎ、低コスト化を実現できる。
【００９９】
分断工程の際には分断不良が少なくなるので、歩留まりが向上する。
【０１００】
[実施例４]
本明細書の発明を実施して形成されたＣＭＯＳ回路や画素部は様々な表示装置（アクティブマトリクス型液晶ディスプレイ）に用いることができる。即ち、それら表示装置を表示部に組み込んだ電子機器全てに本発明を実施できる。
【０１０１】
その様な電子機器としては、ビデオカメラ、デジタルカメラ、プロジェクター（リア型またはフロント型）、ヘッドマウントディスプレイ（ゴーグル型ディスプレイ）、カーナビゲーション、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍等）などが挙げられる。それらの一例を図６、図７及び図８に示す。
【０１０２】
図６（Ａ）はパーソナルコンピュータであり、本体２００１、画像入力部２００２、表示部２００３、キーボード２００４等を含む。本発明を画像入力部２００２、表示部２００３やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１０３】
図６（Ｂ）はビデオカメラであり、本体２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０６等を含む。本発明を表示部２１０２やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１０４】
図６（Ｃ）はモバイルコンピュータ（モービルコンピュータ）であり、本体２２０１、カメラ部２２０２、受像部２２０３、操作スイッチ２２０４、表示部２２０５等を含む。本発明は表示部２２０５やその他の信号制御回路に適用できる。
【０１０５】
図６（Ｄ）は頭部取り付け型のディスプレイであり、本体２３０１、信号ケーブル２３０２、固定バンド２３０３、表示モニタ２３０４、光学系２３０５、表示部２３０６等を含む。本発明は表示部２３０６やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１０６】
図６（Ｅ）はプログラムを記録した記録媒体（以下、記録媒体と呼ぶ）を用いるプレーヤーであり、本体２４０１、表示部２４０２、スピーカ部２４０３、記録媒体２４０４、操作スイッチ２４０５等を含む。なお、このプレーヤーは記録媒体としてＤＶＤ（Ｄｉｇｔｉａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ）、ＣＤ等を用い、音楽鑑賞や映画鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。本発明は表示部２４０２やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１０７】
図６（Ｆ）はデジタルカメラであり、本体２５０１、表示部２５０２、接眼部２５０３、操作スイッチ２５０４、受像部（図示はしない）等を含む。本発明を表示部２５０２やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１０８】
図７（Ａ）はフロント型プロジェクターであり、投射装置２６０１、スクリーン２６０２等を含む。本発明は投射装置２６０１の一部を構成する後述の液晶表示装置２８０８やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１０９】
図７（Ｂ）はリア型プロジェクターであり、本体２７０１、投射装置２７０２、ミラー２７０３、スクリーン２７０４等を含む。本発明は投射装置２７０２の一部を構成する後述の液晶表示装置２８０８やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１１０】
なお、図７（Ｃ）は、図７（Ａ）及び図７（Ｂ）中における投射装置２６０１、２７０２の構造の一例を示した図である。投射装置２６０１、投射装置２７０２は、光源光学系２８０１、ミラー２８０２、ミラー２８０４〜２８０６、ダイクロイックミラー２８０３、プリズム２８０７、液晶表示装置２８０８、位相差板２８０９、投射光学系２８１０で構成される。投射光学系２８１０は、投射レンズを含む光学系で構成される。本実施例は三板式の例を示したが、特に限定されず、例えば単板式であってもよい。また、図７（Ｃ）中において矢印で示した光路に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルムや、位相差を調節するためのフィルム、ＩＲフィルム等の光学系を設けてもよい。
【０１１１】
また、図７（Ｄ）は、図７（Ｃ）中における光源光学系２８０１の構造の一例を示した図である。本実施例では、光源光学系２８０１は、リフレクター２８１１、光源２８１２、レンズアレイ２８１３、レンズアレイ２８１４、偏光変換素子２８１５、集光レンズ２８１６で構成される。なお、図７（Ｄ）に示した光源光学系は一例であって特に限定されない。例えば、光源光学系に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルムや、位相差を調節するフィルム、ＩＲフィルム等の光学系を設けてもよい。
【０１１２】
ただし、図７に示したプロジェクターにおいては、透過型の液晶表示装置を用いた場合を示しており、反射型の液晶表示装置での適用例は図示していない。
【０１１３】
図８（Ａ）は携帯電話であり、本体２９０１、音声出力部２９０２、音声入力部２９０３、表示部２９０４、操作スイッチ２９０５、アンテナ２９０６等を含む。本発明は音声出力部２９０２、音声入力部２９０３、表示部２９０４やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１１４】
図８（Ｂ）は携帯書籍（電子書籍）であり、本体３００１、表示部３００２、表示部３００３、記憶媒体３００４、操作スイッチ３００５、アンテナ３００６等を含む。本発明は表示部３００２、表示部３００３やその他の信号回路に適用することができる。
【０１１５】
図８（Ｃ）はディスプレイであり、本体３１０１、支持台３１０２、表示部３１０３等を含む。本発明は表示部３１０３に適用することができる。本発明のディスプレイは特に大画面化した場合において有利であり、対角１０インチ以上（特に３０インチ以上）のディスプレイには有利である。
【０１１６】
以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。また、本実施例の電子機器は実施例１〜実施例３のどのような組み合わせからなる構成を用いても実施することができる。
【０１１７】
【発明の効果】
シールパターンの内側に液晶の配向状態を維持するために第１の隔壁を設けることによって、液晶の配向乱れが減少することにより、コントラストを改善する事ができる。
【０１１８】
また、第２の隔壁を設けることによって、シールパターンの外側に水分等が原因でシール材の劣化による外部引き出し配線部やそれに貼りつけられるＦＰＣ等の汚染を防止できる。
【０１１９】
さらに、第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂに加えて、画素部１０３には複数の柱状のスペーサ１１２を形成するので、基板の間隔のばらつき（ギャップムラ）の少ない頑丈な液晶表示装置を提供できる。
【０１２０】
この液晶表示装置を用いた場合、シールパターンの外側で、かつ、基板間に液晶が浸入することがないので、液晶のロスを防ぎ、低コスト化を実現できる。
【０１２１】
分断工程の際には分断不良が少なくなるので、歩留まりが向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  （Ａ）本発明の液晶表示装置をＡ−Ａ’線で破断した時の断面図。
（Ｂ）本発明の液晶表示装置の上面図。
【図２】  （Ａ）本発明の液晶表示装置をＡ−Ａ’線で破断した時の断面図。
（Ｂ）本発明の液晶表示装置の上面図。
【図３】  従来の液晶表示装置。
【図４】  液晶表示装置の構造。
【図５】  画素部の拡大図。
【図６】  電子機器の一例を示す図。
【図７】  投影型液晶表示装置の構成を示す図。
【図８】  携帯型末端の一例を示す図。
【符号の説明】
１０１  アクティブマトリクス基板
１０２  対向基板
１０３  画素部
１０４  制御回路（ゲートドライバー）
１０５  散布用のスペーサ
１０６ａ  第１の隔壁  １０６ｂ  第２の隔壁
１０７  シールパターン
１０８  対向電極
１０９  配向膜
１１０  封止材
１１１  制御回路（ソースドライバー）
１１２  柱状のスペーサ
１１３  外部引き出し配線部
３０１  アクティブマトリクス基板
３０２  対向基板
３０３  画素部
３０５  散布用のスペーサ
３０７  シールパターン
３０８  対向電極
３１３  分離して液晶中に入ったシール材
３１４  シール材のしみ出し
４０１  偏光板
４０２  液晶セル
４０３  バックライト
５０１  ソース配線
５０２  ゲート配線
５０３  ＴＦＴ
【図１】
0004789337.tif 000002
【図２】
0004789337.tif 000003
【図３】
0004789337.tif 000004
【図４】
0004789337.tif 000005
【図５】
0004789337.tif 000006
【図６】
0004789337.tif 000007
【図７】
0004789337.tif 000008
【図８】
0004789337.tif 000009