(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ素子を１次元又は２次元に配置した有機ＥＬアレイと、該有機ＥＬアレイから出射された光を感光材料上に結像する光学手段とを備えた画像形成装置において、
前記有機ＥＬ素子の発光面積率の変化に応じて変化するビームプロファイルの特徴量を記憶する記憶手段と、
前記有機ＥＬ素子の現在のビームプロファイルを測定する測定手段と、
前記記憶されたビームプロファイルの特徴量と前記測定された現在のビームプロファイルに基づいて、前記有機ＥＬ素子の現在の発光面積率を決定する決定手段と、
該決定された発光面積率に基づいて、前記感光材料上における前記光の照射面積を一定に保つように前記有機ＥＬアレイと前記光学手段の間の距離及び／又は前記光学手段と前記感光材料の間の距離を変化させる制御手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記記憶手段が前記有機ＥＬ素子の初期のビームプロファイルの特徴量を記憶し、
前記制御手段によって前記距離が変化された後、前記測定手段が前記有機ＥＬ素子のビームプロファイルを測定し、前記制御手段が前記測定されたビームプロファイルと前記初期のビームプロファイルの特徴量とを比較して、該比較結果に基づいて前記距離を変化させるものであることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記制御手段が、前記感光材料及び／又は前記有機ＥＬ素子を前記光学手段の光軸方向に移動させる駆動手段を有するものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記有機ＥＬ素子の発光面積率に対する光量補正係数を記憶する係数記憶手段と、
前記有機ＥＬ素子の発光量を補正する光量補正手段と、
を更に備え、該光量補正手段が前記決定手段によって決定された発光面積率に基づいて、前記係数記憶手段から光量補正係数を決定し、該決定された光量補正係数に基づいて、前記有機ＥＬ素子の発光量を補正するものであることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記有機ＥＬ素子の発光量を補正する光量補正手段を更に備え、
該光量補正手段が、前記現在のビームプロファイルと前記初期のビームプロファイルの特徴量を比較して光量の変化量を算出し、該算出された光量の変化量に基づいて、前記有機ＥＬ素子の発光量を補正するものであることを特徴とする請求項２又は３に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記測定手段が、前記有機ＥＬ素子の主走査方向の長さより短い幅の１つ又は複数の開口部を有する受光手段を有し、該受光手段を主走査方向に走査させて、前記有機ＥＬアレイのうち所定の１つ又は複数の前記有機ＥＬ素子のビームプロファイルを測定するものであり、
前記決定手段が、該測定されたビームプロファイルのビーム広がり量に基づいて前記発光面積率を決定するものであることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記測定手段が、前記有機ＥＬ素子の主走査方向の長さより短い幅の１つ又は複数の開口部を有する受光手段を有し、該受光手段を主走査方向に走査させて、前記有機ＥＬアレイのうち、主走査方向に連続して配置された複数の前記有機ＥＬ素子のビームプロファイルを測定するものであり、
前記決定手段が、該測定されたビームプロファイルの極小値に基づいて前記発光面積率を決定するものであることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子が１次元又は２次元に配列されてなる有機ＥＬアレイを備えた画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、発光素子が１次元又は２次元に配列されてなる発光素子アレイを備えた露光ヘッドを用いて感光材料を露光する画像形成装置が知られている。また、近年、発光素子として有機ＥＬ素子を用いた画像形成装置が多く開発されている。しかし、有機ＥＬ素子は経時的に発光面積が縮小することが知られており、安定した露光光を長時間確保することが困難であった。そのため、有機ＥＬ素子の経時的な特性変化を抑制するために特許文献１に開示されている技術のような対策を施すことが必要であった。
【特許文献１】特開２００３−１４２３８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１に開示されている技術は、ディスプレイ用途の有機ＥＬ素子に対しては効果的であるが、画像形成装置に用いる有機ＥＬ素子の場合は更に厳密に発光面積の縮小化を抑える必要があった。画像形成装置において有機ＥＬ素子の発光面積が縮小すると、感光材料に照射される露光光の照射面積の縮小及び露光量の減少が発生し、更にプリント階調濃度の軟調化が生じる。また、感光材料上に未露光領域が発生し、未露光領域の濃度が最大濃度又は最小濃度となることにより、発光幅が狭小化する現象が確認されている。図１４は、有機ＥＬ素子の露光量に対するプリント濃度の変化を発光面積率毎に示したグラフである。発光面積率が小さくなるほど、プリント階調が軟調化し、露光量を増減してもプリント濃度の濃淡の差が出にくくなっていることが分かる。
【０００４】
また、従来より画像形成装置の光量補正に用いられている方法は、光量偏差に基づいて単純に光量補正を行なうのみで、有機ＥＬ素子の発光面積の縮小による輝度の低下と、性能劣化による輝度の低下を判別できないため、感光材料上における未露光領域に対する露光光補正は何ら行なわれなかった。
【０００５】
本発明は、長時間安定した露光光を感光材料上に照射することのできる画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の画像形成装置は、有機ＥＬ素子を１次元又は２次元に配置した有機ＥＬアレイと、該有機ＥＬアレイから出射された光を感光材料上に結像する光学手段とを備えた画像形成装置において、前記有機ＥＬ素子の発光面積率の変化に応じて変化するビームプロファイルの特徴量を記憶する記憶手段と、前記有機ＥＬ素子の現在のビームプロファイルを測定する測定手段と、前記記憶されたビームプロファイルの特徴量と前記測定された現在のビームプロファイルに基づいて、前記有機ＥＬ素子の現在の発光面積率を決定する決定手段と、該決定された発光面積率に基づいて、前記感光材料上における前記光の照射面積を一定に保つように前記有機ＥＬアレイと前記光学手段の間の距離及び／又は前記光学手段と前記感光材料の間の距離を変化させる制御手段と、を備えることを特徴とするものである。
【０００７】
ここで、「前記有機ＥＬ素子の発光面積率の変化に応じて変化するビームプロファイルの特徴量」とは、例えば、有機ＥＬ素子の発光面積率を変化させたときのビームプロファイルの半値幅又は極小値等の値のことを言う。
【０００８】
また、請求項２に記載の画像形成装置は、請求項１に記載の画像形成装置であって、前記記憶手段が前記有機ＥＬ素子の初期のビームプロファイルの特徴量を記憶し、前記制御手段によって前記距離が変化された後、前記測定手段が前記有機ＥＬ素子のビームプロファイルを測定し、前記制御手段が前記測定されたビームプロファイルと前記初期のビームプロファイルの特徴量とを比較して、該比較結果に基づいて前記距離を変化させるものであることを特徴とするものである。
【０００９】
請求項３に記載の画像形成装置は、請求項１又は２に記載の画像形成装置であって、前記制御手段が、前記感光材料及び／又は前記有機ＥＬ素子を前記光学手段の光軸方向に移動させる駆動手段を有するものであることを特徴とするものである。
【００１０】
請求項４に記載の画像形成装置は、請求項１〜３の何れか一項に記載の画像形成装置であって、前記有機ＥＬ素子の発光面積率に対する光量補正係数を記憶する係数記憶手段と、前記有機ＥＬ素子の発光量を補正する光量補正手段と、を更に備え、該光量補正手段が、前記決定手段によって決定された発光面積率に基づいて、前記係数記憶手段から光量補正係数を決定し、該決定された光量補正係数に基づいて、前記有機ＥＬ素子の発光量を補正するものであることを特徴とするものである。
【００１１】
請求項５に記載の画像形成装置は、請求項２又は３に記載の画像形成装置であって、前記有機ＥＬ素子の発光量を補正する光量補正手段を更に備え、該光量補正手段が、前記現在のビームプロファイルと前記初期のビームプロファイルの特徴量を比較して光量の変化量を算出し、該算出された光量の変化量に基づいて、前記有機ＥＬ素子の発光量を補正するものであることを特徴とするものである。
【００１２】
請求項６に記載の画像形成装置は、請求項１〜５の何れか一項に記載の画像形成装置であって、前記測定手段が、前記有機ＥＬ素子の主走査方向の長さより短い幅の１つ又は複数の開口部を有する受光手段を有し、該受光手段を主走査方向に走査させて、前記有機ＥＬアレイのうち所定の１つ又は複数の前記有機ＥＬ素子のビームプロファイルを測定するものであり、前記決定手段が、該測定されたビームプロファイルのビーム広がり量に基づいて前記発光面積率を決定するものであることを特徴とするものである。
【００１３】
請求項７に記載の画像形成装置は、請求項１〜５の何れか一項に記載の画像形成装置であって、前記測定手段が、前記有機ＥＬ素子の主走査方向の長さより短い幅の１つ又は複数の開口部を有する受光手段を有し、該受光手段を主走査方向に走査させて、前記有機ＥＬアレイのうち、主走査方向に連続して配置された複数の前記有機ＥＬ素子のビームプロファイルを測定するものであり、前記決定手段が、該測定されたビームプロファイルの極小値に基づいて前記発光面積率を決定するものであることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１４】
測定された現在のビームプロファイルより有機ＥＬ素子の発光面積率を求め、感光材料上における露光光の照射面積を一定に保つように有機ＥＬアレイと光学手段の間の距離及び／又は光学手段と感光材料の間の距離を発光面積率に応じて変化させることによって、感光材料上における露光光の照射面積を常に一定に保つことができる。更に、発光面積率に応じて有機ＥＬ素子の光量を補正することによって、露光画像の階調の軟調化を抑えることができる。このように、有機ＥＬ素子の発光面積率の変化に応じて、有機ＥＬアレイと光学手段の間の距離及び／又は光学手段と感光材料の間の距離を変化させ、有機ＥＬ素子の光量補正を行なうことによって、稼働時間経過により有機ＥＬ素子の発光面積が縮小されることによって引き起こされる露光画質の悪化を防ぐことができ、長時間に渡って安定した露光画像を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。尚、以下の実施の形態では、本発明をプリントシステム（露光装置）に適用した場合を例に説明する。
【００１６】
〔実施例１〕
（１）装置構成
図１はプリントシステム１００の概略正面図、図２はプリントシステム１００の概略側面図である。プリントシステム１００は、露光ヘッド９と、露光ヘッド９から出射された露光光の照射を受ける位置に感光材料３１が保持されるように配設されたステージ３と、感光材料３１をステージ３上で図２の矢印Ｙ方向に定速搬送する副走査手段３２（ニップローラ等）とを備えて構成されている。
【００１７】
露光ヘッド９は、露光光照射部１と、結像レンズアレイ２とを備えている。露光光照射部１から出射された露光光は結像レンズアレイ２を構成する結像レンズ２１によって感光材料３１の照射面上に等倍で結像される。
【００１８】
本実施の形態のプリントシステム１００は、フルカラーポジ型銀塩写真感光材料である感光材料３１にカラー画像を露光する露光装置として以下説明するが、これに限らず、白黒画像を露光する露光装置であってもよい。図２に示すように、有機ＥＬアレイ１１は、赤色ライン状有機ＥＬアレイ１５Ｒ、緑色ライン状有機ＥＬアレイ１５Ｇ及び青色ライン状有機ＥＬアレイ１５Ｂを備えて構成されている。赤色ライン状有機ＥＬアレイ１５Ｒは、複数の赤色有機ＥＬ素子が主走査方向（図１の矢印Ｘ方向）に並設されて構成されている。同様に、緑色ライン状有機ＥＬアレイ１５Ｇは複数の緑色有機ＥＬ素子が主走査方向に並設されて構成され、青色ライン状有機ＥＬアレイ１５Ｂは複数の青色有機ＥＬ素子が主走査方向に並設されて構成されている。尚、複数の有機ＥＬ素子のうち、１つに有機ＥＬ素子１２の符号を付して、以下説明する。
【００１９】
有機ＥＬ素子１２は、ガラス等からなる透明基板１４上に透明陽極１２ｃと、発光層を含む有機化合物層１２ｂと、金属陰極１２ａとが順次蒸着により積層されてなるものである。そして、上記発光層として赤色光、緑色光及び青色光を発するものが適用されることにより、赤色有機ＥＬ素子、緑色有機ＥＬ素子及び青色有機ＥＬ素子が形成されている。
【００２０】
各有機ＥＬ素子１２を構成する要素は、例えばステンレス製の缶等からなる封止部材１３内に配置されている。具体的には、透明基板１４上に有機ＥＬ素子１２を形成した後、乾燥窒素ガス雰囲気中において封止部材１３の縁部と透明基板１４とを接着し、封止部材１３内に有機ＥＬ素子１２が封止された状態とする。
【００２１】
有機ＥＬ素子１２において、金属陰極１２ａと、金属陰極１２ａと直交する方向に延びる透明陽極１２ｃとの間に電圧が印加されると、電圧が印加された両電極の交差部分毎に有機化合物層１２ｂに電流が流れ、そこに含まれる発光層が発光する。この発光光は透明陽極１２ｃ及び透明基板１４を透過して、露光光として露光光照射部１の外部に出射される。
【００２２】
図３は、各結像レンズ２１の配置を説明するための図である。図３に示すように、主走査方向に複数の結像レンズ２１が並設され、該並設されたレンズ列が副走査方向に２列配設されて構成される。この結像レンズアレイ２において、結像レンズ２１は千鳥配列されている。つまり、一方のレンズ列を構成する結像レンズ２１と他方のレンズ列を構成する結像レンズ２１は最密となるように接触して配置されている。
【００２３】
本実施形態のプリントシステム１００は、感光材料３１に照射される露光光のビームプロファイルを測定し、測定されたビームプロファイルに基づいて露光光照射部１やステージ３の位置を移動し、有機ＥＬ素子１２の光量を補正して、感光材料３１上に対して安定した露光光を照射することが特徴である。従って、プリントシステム１００は、露光光のビームプロファイルを測定するためのビームプロファイル検査部を備えている。図４はビームプロファイル検査部が有する測光部８２（測定手段）の概略正面図、図５は概略平面図である。図１及び２において測光部８２の図示は省略しているが、測光部８２はステージ３上における感光材料３１の配置領域以外で露光光が照射される位置に配設されている。測光部８２は、感光材料３１が配置される高さと同じ高さに配置される受光素子８２１と、この受光素子８２１を保持してガイド８２２に装荷された移動手段８２３と、受光素子８２１の受光面の一部に露光光が照射されるように該受光面を覆う遮光部材８２４とを備えて構成されている。
【００２４】
移動手段８２３は、ガイド８２２に沿って集光レンズアレイ２の集光レンズ２１の並設方向に間欠移動可能に形成されている。また、本実施の形態において、有機ＥＬ素子１２の主走査方向の並びピッチ（以下「素子ピッチＰ１」と表記する）は例えば１００［μｍ］であり、それに対して移動手段８２３の間欠移動ピッチ（以下「測光ピッチＬ１」と表記する）は例えば５［μｍ］である。また遮光部材８２４は移動手段８２３の移動方向と直角の方向（副走査方向）に延びる細長いスリット８２５を有し、このスリット８２５の部分において受光素子８２１の受光面が露出されている。このスリット８２５の幅、即ち測光開口長は、測光ピッチＬ１と同じく５［μｍ］程度である。移動手段８２３は外部からの指示信号に応じてガイド５２に沿って間欠移動し、移動手段８２３が停止する毎に受光素子８２１が露光光の光量の検出を行う。
【００２５】
また、副走査方向の測光開口長は有機ＥＬ素子１２が全て入る長さであることが望ましい。即ち、有機ＥＬアレイ１１が３列の場合、受光素子８２を副走査方向に移動させなくても光量検出が行なえるように、測光開口長を「（有機ＥＬ素子１２の副走査方向長×３）＋（有機ＥＬ素子１２の隙間長）」よりも長くする。
【００２６】
尚、本実施の形態の測光部８２は上述の形態に限らず、図６に示すような細長い受光素子８２１ａが有機ＥＬ素子１２の並設方向に沿って配置されてなる受光素子アレイ８２ａを用いてもよい。この場合、受光素子８２１ａの素子幅Ｌ２が測光開口長に相当し、受光素子８２１ａの配置ピッチＰ２が測光ピッチＰ１に相当する。
【００２７】
（２）システム構成
次に、プリントシステム１００のシステム構成について説明する。図７はプリントシステム１００の構成を示したブロック図である。プリントシステム１００は、有機ＥＬアレイ１１を含む露光光照射部１と、結像レンズアレイ２と、ステージ３と、システム制御部（決定手段、制御手段、光量補正手段）４と、発光制御部５と、有機ＥＬドライバ６と、駆動部（駆動手段）７と、ビームプロファイル検査部８とを備えている。露光光照射部１、結像レンズアレイ２及びステージ３については上述にて説明したため、説明は省略する。
【００２８】
システム制御部４はプリントシステム１００の各構成要素に各種データや各種指示信号を出力する等、システム全体を制御する。具体的には、システム制御部４は、発光タイミング制御回路５１に対して発光タイミング信号の出力を指示するための指示信号を出力し、階調変換用ＬＵＴ５２に画像データを出力する。また、システム制御部４は、メモリ（係数記憶手段）４１に予め記憶された有機ＥＬ素子１２の発光面積率に対する光量補正係数のデータに基づいて光量補正係数を決定し、光量補正係数メモリ５４に格納する。
【００２９】
光量補正係数は、予め記憶された有機ＥＬ素子１２の発光面積率に対する光量補正係数のデータに基づいて決定されてもよいし、測定されたビームプロファイルの積分強度と、初期（工場出荷時等）の有機ＥＬ素子１２のビームプロファイルの積分強度とを比較して光量の変化量を求め、該変化量に基づいて光量補正係数が決定されるようにしてもよい。この場合、初期のビームプロファイルはメモリ４１に予め記憶される。
【００３０】
ここで、通常、有機ＥＬ素子１２の非発光部分は絶縁状態となり、発光部分は電流の密度が増加することによって輝度が上がるため、有機ＥＬ素子１２の発光光の光量は変化しない。しかし、使用する有機ＥＬ素子１２の素子構成によっては、非発光部分が完全に絶縁状態にならず、発光部分に流れる電流が減少して発光光の光量が減少し、感光材料３に対する露光量が減少する場合がある。このように有機ＥＬ素子１２の非発光部分が完全に絶縁状態にならない場合は、発光面積率の変化に応じて光量補正を行うことにより、感光材料３に長期的に安定な露光光を照射させることができる。
【００３１】
また、システム制御部４はＣＰＵ８５から出力された有機ＥＬ素子１２のビームプロファイルより有機ＥＬ素子１２の発光面積率を算出する。具体的には、システム制御部４はメモリ４１を有し、メモリ４１には有機ＥＬ素子１２の発光面積率に対するビーム広がり幅（半値幅）に関する発光面積率対応データ９１が記憶されている。発光面積率対応データ９１の一例を図８に示す。発光面積率対応データ９１は、有機ＥＬ素子１２の発光面積率を変化させてビームプロファイルを測定し、測定されたビームプロファイルのビーム広がり幅と発光面積率との関係をグラフ化したものである。図９に有機ＥＬ素子１２の発光面積率が６０％及び８０％の時の主走査方向におけるビームプロファイルの一例を示す。有機ＥＬ素子１２の発光面積率が小さくなるとビーム広がり幅が狭くなっていることが分かる。このようなビームプロファイルにおいて夫々の発光面積率における半値幅を求め、発光面積率と半値幅（ビーム広がり幅）の関係を示す発光面積率対応データ９１を作成し、予めメモリ４１に記憶させる。
【００３２】
尚、ビーム広がり幅を示す値は図９のグラフにおける半値幅を用いなくてもよく、光量の最大値部分を除いた主走査方向のビーム広がり幅であればいずれの値でもよい。また、発光面積率対応データ９１は例えばプリントシステム１００の工場出荷時にメモリ４１に予め記憶される。
【００３３】
更に、メモリ４１には図１０に示すような有機ＥＬ素子１２の発光面積率に対する露光光照射部１又はステージ３の焦点位置からの移動距離に関する移動量データ９２が記憶されている。この移動量データ９２に基づいて、システム制御部４が露光光照射部１及び／又はステージ３の移動量を決定し、移動量係数メモリ５５に格納する。尚、移動量データ９２は、感光材料３における露光光の照射面積が一定に保たれるように有機ＥＬ素子１２の発光面積率に応じて露光光照射部１及び／又はステージ３の移動量が設定されたものであり、例えば、プリントシステム１００の工場出荷時にメモリ４１に予め記憶される。
【００３４】
発光制御部５は、有機ＥＬドライバ６及び測光タイミング制御回路８１に発光タイミング信号を出力する発光タイミング制御回路５１と、画像データに基づいて露光量を設定する階調変換用ＬＵＴ５２と、設定された露光量及び光量補正係数メモリ５４に記憶された光量補正係数に従って光量偏差補正演算を行い有機ＥＬ素子１２毎の発光時間を求めて有機ＥＬドライバ６に出力する光量補正回路（光量補正手段）５３と、システム制御部４から出力された有機ＥＬ素子１２の光量補正係数を格納する光量補正係数メモリ５４と、システム制御部４から出力された露光光照射部１及び／又はステージ３の移動量を格納する移動量係数メモリ５５とを備えている。光量偏差補正演算とは、光量補正係数と目標露光量を乗算して、有機ＥＬ素子１２毎の発光時間を求める演算である。
【００３５】
有機ＥＬドライバ６は、発光タイミング制御回路５１から出力される発光タイミング信号と、光量補正回路５３から出力される露光量に基づいて有機ＥＬアレイ１１を駆動する。具体的には、有機ＥＬドライバ６は、走査電極となる金属陰極１２ａに所定の周期で順次選択状態となるように所定の電圧を印加する陰極ドライバ（不図示）と、信号電極となる透明陽極１２ｃを定電流によるＰＷＭ制御を行って発光時間の制御を行う陽極ドライバ（不図示）を備えて構成される。また有機ＥＬドライバ６は有機ＥＬアレイ１１を所謂パッシブマトリクス線順次選択駆動方式により駆動させる。
【００３６】
駆動部７は、移動量係数メモリ５５に記憶された移動量に応じて、露光光照射部１及び／又はステージ３を結像レンズ２１の光軸方向に移動させる。
【００３７】
ビームプロファイル検査部８は、測光部８２に測光タイミング信号を出力する測光タイミング制御回路８１と、ステージ３上で露光光の光量を測定する測光部８２と、測光部８２から出力された信号（測定された光量に対応した信号）を増幅させる増幅器８３と、増幅器８３から出力されたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡＤＣ８４と、ＡＤＣ８４から出力された信号に基づいて有機ＥＬ素子１２のビームプロファイルのデータを作成し、システム制御部４に出力するＣＰＵ８５とを備えて構成されている。
【００３８】
（３）露光光の補正方法
次に、露光光の補正方法について説明する。図１１は露光光の補正方法の流れを説明するためのフローチャートである。まず、システム制御部４は、光量補正係数メモリ５４及び移動量係数メモリ５５に格納された光量補正係数及び移動量をクリアし、露光光照射部１及びステージ３の位置を初期位置に戻すための指示信号を駆動部７に出力する（ステップＳ１）。次に、システム制御部４はビームプロファイルを測定する所定の有機ＥＬ素子１２を点灯させるための画像データを階調変換用ＬＵＴ５２に出力し、発光タイミング制御回路５１に発光タイミング信号を出力させるための指示信号を出力する。有機ＥＬドライバ６は入力される各種信号に基づいて所定の有機ＥＬ素子１２を点灯させる。そして、測光部８２は該有機ＥＬ素子１２から出射された露光光の光量を検出して光量に応じた信号を出力し、ＣＰＵ８５によってビームプロファイルのデータが作成される（ステップＳ２）。
【００３９】
ここで、ビームプロファイルを測定する有機ＥＬ素子１２は１つでもよいし、複数の有機ＥＬ素子１２のビームプロファイルを測定し、その平均値をビームプロファイルとして利用してもよい。
【００４０】
ＣＰＵ８５はビームプロファイルをシステム制御部４に出力する。システム制御部４はビームプロファイルの半値幅を求め、発光面積率対応データ９１より発光面積率を決定する（ステップＳ３）。
【００４１】
システム制御部４は決定した発光面積率に基づいて、移動量データ９２より露光光照射部１及び／又はステージ３の移動距離を決定し、移動量係数メモリ５５に出力する。更に、システム制御部４は決定した発光面積率に基づいて光量補正係数を決定し、光量補正係数メモリ５４に出力する。光量補正回路５３は階調変換用ＬＵＴ５２において決定された露光量及び光量補正係数メモリ５４に格納された光量補正係数に基づいて、有機ＥＬ素子１２の露光量を決定し、有機ＥＬドライバ６に出力する（ステップＳ４）。
【００４２】
続いて、駆動部７は移動量係数メモリ５５に格納された移動量に応じて露光光照射部１及び／又はステージ３を結合レンズ２１の光軸方向に沿って移動させる（ステップＳ５）。
【００４３】
このように、有機ＥＬ素子１２の発光面積率の変化に応じて変化するビームプロファイルの半値幅や、発光面積率に対する感光材料３上における露光光の照射面積を一定に保つような露光光照射部１及び／又はステージ３の移動量をメモリ４１等に予め記憶させておき、プリントシステム１００の稼動後、定期的に有機ＥＬ素子１２のビームプロファイルを測定して、有機ＥＬ素子１２の発光面積率を測定し、該発光面積率に応じて露光光照射部１及び／又はステージ３を移動させることによって、有機ＥＬ素子１２の発光面積が縮小しても感光材料３上における露光光の照射面積を常に一定に保つことができる。また、発光面積率に応じて有機ＥＬ１２の光量を補正することによって、露光画像の階調の軟調化を抑えることができる。このように、有機ＥＬ素子１２の発光面積率の変化に応じて露光光の補正を行なうことにより、有機ＥＬ素子１２の稼働時間経過によって発光面積や露光量が減少することによって引き起こされる露光画質の悪化を防ぐことができ、長時間に渡って安定した露光画像を提供することができる。
【００４４】
尚、本実施の形態は上記説明に限らず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、ＣＰＵ８５は測光部８２から出力された有機ＥＬ素子１２の光量からビームプロファイルを作成し、システム制御部４に出力することとしたが、ＣＰＵ８５の備えるメモリに発光面積率対応データ９１を記憶させ、ＣＰＵ８５が発光面積率を決定してシステム制御部４へ出力してもよい。この場合、ＣＰＵ８５が決定手段に相当する。
【００４５】
また、発光面積率対応データ９１及び移動量データ９２は、有機ＥＬ素子１２や結像レンズ２１を含む各種光学素子の特性に応じて変化するため、メモリ４１にアクセス可能な入力手段（不図示）によってユーザが両データを適宜入力するようにしてもよいし、両データをメモリカード等に記憶させ、システム制御部４と電気的に接続されているスロット等（不図示）等を介して該メモリカードに記憶された両データをシステム制御部４が読み出し可能なように構成してもよい。
【００４６】
また、メモリ４１は初期（例えば、工場出荷時）の有機ＥＬ素子１２のビームプロファイルを記憶し、上記の方法で露光光照射部１及び／又はステージ３の位置補正及び有機ＥＬ素子１２の光量補正が行なわれた後、測光部８２が再度有機ＥＬ素子１２のビームプロファイルを測定し、システム制御部４が該測定されたビームプロファイルと初期のビームプロファイルを比較して、初期のビーム広がり量と同等のビーム広がり量となるように有機ＥＬ素子１２の光量補正を繰り返すようにしてもよい。
【００４７】
また、有機ＥＬ素子１２の発光面積の縮小率が主走査方向と副走査方向とで異なる場合は、主走査方向に対する副走査方向の比率を予め求めておき、算出した発光面積率に対して該比率を乗算することによって最適な露光光照射部１及び／又はステージ３の移動量の算出と有機ＥＬ素子１２の光量補正に対応することができる。
【００４８】
〔実施例２〕
実施例１では、ビームプロファイルを測定する際に、有機ＥＬアレイ１１のうち所定の有機ＥＬ素子１２を点灯させてビームプロファイルを測定し、該ビームプロファイルの半値幅に基づいて発光面積率を算出することとして説明した。実施例２では、有機ＥＬアレイ１１のうち主走査方向に連続して配置された複数の有機ＥＬ素子１２のビームプロファイルを測定して発光面積率を算出し、露光光の補正を行うプリントシステム１００について説明する。尚、実施例２におけるプリントシステム１００の構成要素、動作内容等は実施例１において説明した内容と同一であるため、説明を省略する。
【００４９】
図１２（ａ）は、主走査方向に連続して配置された複数の有機ＥＬ素子１２の発光面積率が６０％の時のビームプロファイルの一例、図１２（ｂ）は発光面積率が８０％の時のビームプロファイルの一例を示した図である。有機ＥＬ素子１２の発光面積率の減少に伴って、互いに隣り合う有機ＥＬ素子１２の中間位置の光量（ビームプロファイルの極小値）が減少していることが分かる。このようにビームプロファイルから発光面積率毎の光量の極小値を求め、発光面積率と光量の極小値の関係を示す発光面積率対応データを作成する。図１３に発光面積率対応データ９３の一例を示す。
【００５０】
発光面積率対応データ９３はプリントシステム１００の工場出荷時にメモリ４１に予め記憶されてもよいし、プリントシステム１００の稼動前に測光部８２によって有機ＥＬ素子１２のビームプロファイルが測定され、システム制御部４によって発光面積率対応データ９３が作成されるようにしてもよい。又は、メモリ４１にアクセス可能な入力手段（不図示）によってユーザが発光面積率対応データ９３を入力するようにしてもよい。
【００５１】
露光光の補正処理において、有機ＥＬ素子１２の発光面積率を決定する際は（図１１におけるステップＳ３）、システム制御部４が測定されたビームプロファイルより極小値を求め、発光面積率対応データ９３に基づいて発光面積率を決定する。そして、システム制御部４が決定した発光面積率に基づいて、光量補正係数及び移動量係数を設定し、光量補正回路５３によって有機ＥＬ素子１２の光量が補正され、駆動部７によって露光光照射部１及び／又はステージ３の位置が移動される。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】プリントシステムの概略正面図
【図２】プリントシステムの概略側面図
【図３】結像レンズの配置を説明するための図
【図４】ビームプロファイル検査部が有する測光部の概略正面図
【図５】ビームプロファイル検査部が有する測光部の概略平面図
【図６】測光部の一例を示す概略平面図
【図７】プリントシステムの構成を示したブロック図
【図８】実施例１における発光面積率対応データの一例を示す図
【図９】有機ＥＬ素子の発光面積率が６０％及び８０％の時の主走査方向におけるビームプロファイルの一例を示す図。
【図１０】移動量データの一例を示す図
【図１１】露光光の補正方法の流れを説明するためのフローチャート
【図１２】主走査方向に連続して配置された複数の有機ＥＬ素子の発光面積率が６０％及び８０％の時のビームプロファイルの一例
【図１３】実施例２における発行面積率対応データの一例を示す図
【図１４】有機ＥＬ素子の露光量に対するプリント濃度の変化を発光面積率毎に示したグラフ
【符号の説明】
【００５３】
１００    プリントシステム
１        露光光照射部
１１      有機ＥＬパネル
１２      有機ＥＬ素子
２        結像レンズアレイ
２１      結像レンズ
３        ステージ
３１      感光材料
４        システム制御部
４１      メモリ
５        発光制御部
５１      発光タイミング制御回路
５２      階調変換用ＬＵＴ
５３      光量補正回路
５４      光量補正係数メモリ
５５      移動量係数メモリ
６        有機ＥＬドライバ
７        駆動部
８        ビームプロファイル検査部
８１      測光タイミング制御回路
８２      測光部
８５      ＣＰＵ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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