(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セメント原料粉末を、か焼炉（３）を有する予熱器（１）内で予熱およびか焼し、キルン（５）内でクリンカに焼成し、後続のクリンカ・クーラ（７）内で冷却する、セメント・クリンカの製造中に可燃性廃棄物を焼却する方法であって、
廃棄物を焼却するための廃棄物焼却区画（９）であって、廃棄物入口（１１）と、セメント原料粉入口（１２）と、スラグ及び未焼却廃棄物を引き出す出口（２３）と、当該廃棄物入口（１１）から当該出口（２３）まで支持面上の円形経路に沿って廃棄物を移送する回転ディスク（２１）と、廃棄物焼却区画（９）の側壁から当該回転ディスク（２１）の回転軸（２５）まで延び且つ当該廃棄物入口（１１）から当該出口（２３）に至る円形経路中に取り付けられた気密な固定の仕切り壁（２９）と、を具備する別個の廃棄物焼却区画（９）に、当該セメント原料粉入口（１２）を通してセメント原料粉を導入し、当該廃棄物入口（１１）を通して廃棄物を導入し、且つエアダクト（１５）を通して当該クリンカ・クーラ（７）からの熱気流を導入し、当該熱気流を当該円形経路に沿って流し、
焼却中に、当該回転ディスク（２１）によって廃棄物を当該出口（２３）まで移送し、
当該廃棄物焼却区画（９）内で廃棄物を焼却することによって生成された排ガスを、セメント原料粉を加熱するための当該予熱器（１）に通気し、かつ当該廃棄物焼却区画（９）内で廃棄物を焼却することによって発生したスラグを当該廃棄物焼却区画（９）から引き出す、
方法。
【請求項２】
前記廃棄物焼却区画（９）からの排ガスが、セメント原料粉をか焼するために予熱器（１）のか焼炉（３）に供給されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記廃棄物焼却区画（９）からのスラグ、および未焼却廃棄物が、前記出口を通して前記予熱器（１）のか焼炉（３）中に導かれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
過熱および／または爆発の危険性がある場合に、セメント原料粉がセメント原料粉入口（１２）を通して前記廃棄物焼却区画（９）に供給されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記廃棄物焼却区画（９）内における廃棄物の滞留時間は、前記回転ディスク（２１）の回転速度を調節することによって制御される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
原料粉貯蔵場所（１７）と、か焼炉（３）を有する予熱器（１）と、キルン（５）と、クリンカ・クーラ（７）と、廃棄物を焼却するための廃棄物焼却区画（９）と、当該廃棄物焼却区画（９）に当該クリンカ・クーラ（７）からの熱気流を供給するためのエア・ダクト（１５）とを備えるセメント・クリンカの製造装置であって、
当該廃棄物焼却区画は、廃棄物を導入するための入口（１１）と、セメント原料粉入口（１２）と、スラグおよび未焼却廃棄物を引き出すための出口（２３）と、焼却中に廃棄物を支持し且つ円形経路に沿って当該廃棄物入口（１１）から出口（２３）まで廃棄物を移送する回転ディスク（２１）と、廃棄物焼却区画（９）の側壁から当該回転ディスク（２１）の回転軸（２５）まで延び且つ当該廃棄物入口（１１）から当該出口（２３）に至る円形経路中に取り付けられた気密な固定の仕切り壁（２９）と、を備えることを特徴とする装置。
【請求項７】
前記セメント原料粉入口（１２）には、前記予熱器（１）、前記か焼炉（３）、および／または前記原料粉貯蔵場所（１７）からセメント原料粉が導入されることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記回転ディスク（２１）は、廃棄物焼却工程中に発生したスラグならびに未焼却廃棄物を前記廃棄物焼却区画（９）の出口（２３）を通って前記か焼炉（３）中に排出するためのスクレーパ機構（２７）を具備することを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記回転ディスク（２１）が、前記廃棄物焼却区画（９）の底部に設けられていることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
前記回転ディスク（２１）は、その中心を通って延び、かつ垂直線に対して実質的に１度と１０度の間で傾斜している実質的に垂直な軸（２５）の周りを回転するように構成されていることを特徴とする請求項６記載の装置。
【請求項１１】
前記回転ディスク（２１）が、セラミック材料からなることを特徴とする請求項６〜１０のいずれか１項に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、セメント原料粉末を、予熱器内で予熱およびか焼し、キルン内でクリンカに焼成し、後続のクリンカ・クーラ内で冷却する、セメント・クリンカの製造中に可燃性廃棄物を焼却する方法に関する。より詳細には、本発明は、廃棄物を、熱気の同時供給を受ける別個の区画内で焼却し、廃棄物焼却工程中に生成された排ガスを、セメント原料粉を加熱するための予熱器に通気し、かつ廃棄物焼却工程中に発生したスラグを区画から引き出す方法に関する。
【０００２】
本発明はまた、この方法を実施する装置に関する。
【０００３】
可燃性廃棄物の非限定的な例にはタイヤ、家具、じゅうたん、木質ごみ、庭園廃棄物、厨房廃棄物、紙スラッジ、下水汚泥、漂白排土、および古い特許明細書がある。
【０００４】
デンマーク特許出願第１２０１／９２号において、その内容は参照により本明細書に組み込まれているが、廃棄物およびセメント原料粉を区画の一端で導入し、他端で引き出す方法であって、特別に配置した支持表面上で移送が行われ、かつ廃棄物スラグおよびセメント原料粉を予熱器のか焼炉に供給する方法を開示している。この周知の方法の好ましい実施形態では、支持表面は、貫通するスリットを有する火格子（ｇｒａｔｅ）表面からなり、その火格子を通ってクリンカ・クーラからの熱気流が通過し、廃棄物の流れを通って上昇に向う。
【０００５】
実際の実施において、材料を区画の一端で投入し、他端で引き出すことを含む記載されたシステムに関連して、若干の不都合な点が確認されている。これに関連して、焼却工程を開始した後、新しい材料を投入する一端における支持表面の温度が比較的低い水準のままである恐れがある一方、他端では比較的高い温度が経験される恐れがあるという特定の問題が起っている。これにより、温度サイクルの変動を伴う、異なる廃棄物のタイプに応じた装置の設定変更を行う必要があるために、熱膨張、材料の選択などに関する極めて重大な設計の問題が生じている。設計の観点から、支持表面は適正に一定した作動温度となるよう配置すべきことが有利である。また、特に水分含量が高いタイプの廃棄物の焼却に関しては、高温端から幾分かの熱を排出させて、乾燥させる必要性が極めて高い低温端でそれを利用できるようにすることが望ましいであろう。また、クリンカ・クーラからの熱気を通過させるための貫通スリットを含むこの支持表面の実施形態には、驚くことではないが、この方法によって区画内に供給される原料粉が、スリットを通って公然と落下する傾向があるので、不十分な点が内包されることが判明している。このスリットを高速で気流が通過できるようにすることによって、この問題を救済するためのあらゆる試みは、スリットを通って空気を打込むため実質的な圧力差が必要になるという望ましくない結果に終るだけであろう。周知の方法に関連する、さらなる不都合な点は、この区画における廃棄物滞留時間の全体的な制御に関するものであって、その制御には可動火格子エレメントおよび固定火格子エレメントからなるシステムが必要であり、異なるタイプの廃棄物間で操作を切り替える場合に生じる温度変動によって、そのシステムの設計が複雑になる。
【０００６】
本発明の目的は、前述の不都合な点を救済する、または著しく低減する、セメント・クリンカの製造中に廃棄物を焼却するための方法ならびに装置を提供することである。
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、導入部に記載した種類の方法であって、廃棄物入口を通して、廃棄物を廃棄物焼却区画内に組み込まれた支持表面上に導入すること、および同時に焼却しながら、円形の経路に沿って区画の出口に、区画内を通り廃棄物を移送することを特徴とする方法によって、この目的を達成する。より具体的には、セメント原料粉末を、か焼炉（３）を有する予熱器（１）内で予熱およびか焼し、キルン（５）内でクリンカに焼成し、後続のクリンカ・クーラ（７）内で冷却する、セメント・クリンカの製造中に可燃性廃棄物を焼却する方法であって、廃棄物入口（１１）と、セメント原料粉入口（１２）と、スラグ及び未焼却廃棄物を引き出す出口（２３）と、当該廃棄物入口（１１）から当該出口（２３）まで支持面上の円形経路に沿って廃棄物を移送する回転ディスク（２１）と、廃棄物焼却区画（９）の側壁から当該回転ディスク（２１）の回転軸（２５）まで延び且つ当該廃棄物入口（１１）から当該出口（２３）に至る円形経路中に取り付けられた気密な固定の仕切り壁（２９）と、を具備する別個の廃棄物焼却区画（９）に、当該セメント原料粉入口（１２）を通してセメント原料粉を導入し、当該廃棄物入口（１１）を通して廃棄物を導入し、且つエアダクト（１５）を通して当該クリンカ・クーラ（７）からの熱気流を導入し、当該熱気流を当該円形経路に沿って廃棄物の上部を流し、焼却中に、当該回転ディスク（２１）によって廃棄物を当該出口（２３）まで移送し、当該廃棄物焼却区画（９）内で廃棄物を焼却することによって生成された排ガスを、セメント原料粉を加熱するための当該予熱器（１）に通気し、かつ当該廃棄物焼却区画（９）内で廃棄物を焼却することによって発生したスラグを当該廃棄物焼却区画（９）から引き出す、方法によって、この目的を達成する。
【０００８】
本発明の第２の態様によれば、原料粉貯蔵場所（１７）と、か焼炉（３）を有する予熱器（１）と、キルン（５）と、クリンカ・クーラ（７）と、廃棄物を焼却するための廃棄物焼却区画（９）と、当該廃棄物焼却区画（９）に当該クリンカ・クーラ（７）からの熱気流を供給するためのエア・ダクト（１５）とを備えるセメント・クリンカの製造装置であって、
当該廃棄物焼却区画は、廃棄物を導入するための入口（１１）と、セメント原料粉入口（１２）と、スラグおよび未焼却廃棄物を引き出すための出口（２３）と、焼却中に廃棄物を支持し且つ円形経路に沿って当該廃棄物入口（１１）から出口（２３）まで廃棄物を移送する回転ディスク（２１）と、廃棄物焼却区画（９）の側壁から当該回転ディスク（２１）の回転軸（２５）まで延び且つ当該廃棄物入口（１１）から当該出口（２３）に至る円形経路中に取り付けられた気密な固定の仕切り壁（２９）と、を備えることを特徴とする装置を提供する。
【０００９】
したがって、設計の観点からその単純性が卓越しているだけでなく、湿った廃棄物を乾燥させ、それを通って廃棄物、およびもしかすると原料粉が落下することを回避する能力が卓越している一方、区画内の廃棄物滞留時間を制御する可能性を高めた装置が得られている。円形の動作が行われるために、区画の高温端から低温端へ熱が分流され、より一様な熱負荷の分布が得られるであろう。また、移送手段の速度を変えることにより、区画内の廃棄物滞留時間を簡単に制御できる。
【００１０】
装置の処理能力を最適化するために、廃棄物焼却区画内の温度制御を行うことを目指して、セメント原料粉入口を通して区画中に、セメント原料粉を導入することが好ましい。供給された原料粉は蓄熱体の役割を果たし、発熱過程と吸熱過程の間、およびその逆、において焼却工程中に温度変動を受け易くても、温度を確実に目標レベルに維持するであろう。したがって区画には、予熱器、か焼炉、および／または原料粉貯蔵場所から、原料粉を導入する入口を組み込むことができる。
【００１１】
確実にエネルギー消費を抑え、また気流において高酸素含量とするために、区画に供給される熱気流は、クリンカ・クーラから引き出されることが好ましい。例えばキルンが、揮発性化合物を通気させるためのバイパス・システムを備えている、ある例の場合、区画に供給する少量の熱気はまた、バイパス・システムから引き出すことができることが有利である。
【００１２】
廃棄物焼却工程中に生成された排ガスは、セメント原料粉をか焼するために、予熱器におけるか焼炉に供給するのが好ましい。その結果として、どんな望ましくない燃焼生成物、ＣＯ、すすなども、か焼炉内における普通燃料による同時焼却を受けて、か焼炉内で分解されるであろう。
【００１３】
廃棄物焼却工程中に発生したスラグ、および未焼成の廃棄物は、区画の出口を通って引き出し、か焼炉に向って送ることが好ましい。
【００１４】
過熱および／または爆発の危険性がある場合、従来のバーナで可能であるように、区画において焼却工程を瞬間的に中断することは不可能であろう。この理由で、このような状況のもとでは、原料粉貯蔵場所、または専用の非常用ホッパからの低温の原料粉を、区画に供給できることが好ましい。また、低温の原料粉は、廃棄物を冷却するのに、また熱気流の衝撃から廃棄物を遮断するのに十分な量を区画に供給するのが好ましい。
【００１５】
本発明の好ましい実施形態では、支持表面は、区画を通って廃棄物を移送するための手段の役割を同時に果たす回転ディスクを備える。
【００１６】
この好ましい実施形態では、装置はまた、廃棄物焼却工程中に発生したスラグならびに未焼却廃棄物を区画の出口から、か焼炉中に排出するスクレーパ機構を備える。
【００１７】
回転ディスクは、部分的に、または全体的に区画の底部を構成することができる。
【００１８】
回転ディスクは、その中心を通って延びる実質的に垂直な軸の周りを回転するように構成することができる。この軸は、垂直レベルに対して実質的に１度と１０度の間で傾斜させることができる。したがって、区画の出口に向って回転ディスクを傾斜させると、このことにより区画からスラグおよび廃棄物残さを引き出し、かつ、か焼炉に分流する速度が改善されるであろう。
【００１９】
区画内における空気の循環を避けるために、区画は、区画の側壁から回転ディスクの回転軸まで延びる、区画の出口と入口の間の回転経路中に取り付けられた気密な固定の仕切り壁を備えていることが好ましい。
【００２０】
回転ディスクは、セラミック材料からなることが好ましい。
【００２１】
本発明の代替実施形態では、支持表面は固定のものとすることができ、かつこの区画を通って廃棄物を移送するための手段は、支持表面に対して垂直に延びる軸の周りを回転するエレメントを備えることができる。この実施形態では、移送手段は、少なくとも２つのスコップを装備したスコップ・ホイールを備えることが好ましい。
【００２２】
本発明は、ここで添付図面を参照し、さらに詳細に記述されるであろう。
【００２３】
図１は、セメント・クリンンカ製造装置を示す。装置には、か焼炉３を有するサイクロン予熱器１、ロータリー・キルン５、クリンカ・クーラ７、および廃棄物焼却のための区画９が含まれ、この区画内の開口部１１を通して廃棄物を導入する。操業の間、セメント原料粉は、セメント原料粉貯蔵場所１７から予熱器１の原料粉入口Ｆに向って送られる。原料粉は引き続き、ロータリー・キルン５からの熱排ガスと向流で、予熱器１のサイクロン、およびか焼炉３を通ってロータリー・キルン５に向って送られ、それにより原料粉を加熱し、またか焼する。か焼した原料粉をロータリー・キルン５内でセメント・クリンカに焼成し、セメント・クリンカを、後続のクリンカ・クーラ７で大気の空気によって冷却する。このようにして加熱された空気の幾分かを、クリンカ・クーラ７からダクト１５を通して区画９に向って送る。
【００２４】
区画９内の支持表面２１（図２参照）上にある廃棄物入口１１を通して、廃棄物を導入し、後続暫時廃棄物を強熱し、かつ焼却して、同時に円形通路に沿って区画の出口２３まで廃棄物を移送する。
【００２５】
区画９内の温度を制御するために、区画はさらに、セメント原料粉を予熱器、か焼炉、および／または原料粉貯蔵場所から導入するための入口１２（図２および図３参照）を組み込んでいるのが見られる。
【００２６】
図２および３に示す実施形態では、支持表面は回転ディスク２１から構成され、回転ディスクは軸２５の周りを回転し、区画９の底部を構成する。スラグの形態にある焼却残さ、およびもしかすると未焼却廃棄物を区画からの出口２３を通って、か焼炉３に向って送るために、区画９はスクレーパ機構２７を備えている。
【００２７】
この実施形態では、廃棄物は、入口１１を通して回転ディスク２１上に投下される。この個所から廃棄物は、矢印で示すように区画９の出口２３に、円形の経路中を移送し、出口２３でスクレーパ機構２７が、確実に回転ディスク上の全ての材料を端部を越えて、か焼炉３中に押出し、か焼炉３で仕分けが行われ、その結果小さい粒子は上方に浮遊してか焼炉に入る一方、大きい粒子は下方を流れてキルンに向かい、または砕解される。したがって、廃棄物の鉱物質成分は、原料粉の成分に有効にブレンドされる。
【００２８】
例示するように、区画はまた、気密な、固定した仕切り壁２９を備え、この仕切り壁は、区画の出口２３と入口１１の間の回転経路中に取り付けられる。例示した実施形態では、スクレーパ組立て品２７の構成部分である仕切り壁は、区画の側壁から回転ディスクの回転軸を通って延びており、それによりクリンカ・クーラからの熱気流が、廃棄物を渡ってほとんど同一の経路を辿り、ただし極めて高速で確実に流れるようになっている。その結果として、焼却中に生成する排ガスを区画から排出し、か焼炉中に分流し、か焼炉でセメント原料粉のか焼に利用する。
【００２９】
区画内における廃棄物の滞留時間は、単に回転ディスクの回転速度を調節することにより制御できる。高速で短時間の期間作動させ、引き続き延長した期間では無負荷とすること、または高速で作動させるが、それをいくつかのより短期間の逆転作動モードで分割することにより、著しい好結果を得ることができる。異なった分割のモードとすることで、廃棄物の滞留時間を変化させ確実に廃棄物材料の焼却を完結させることができる。
【００３０】
図４および図５は、支持表面２１が固定している代替実施形態を示す。この実施形態では、区画を通って廃棄物を移送するための手段は、支持表面に対して垂直に延びる軸３５の周りを回転する、少なくとも２つのスコップ３３を有するスコップ・ホイール３１からなることが好ましい。
【００３１】
区画９内で過熱および／または爆発の危険性がある場合、原料粉貯蔵場所１７、または専用の非常用ホッパからの低温の原料粉を、区画に供給することができる。低温の原料粉は、廃棄物を冷却するのに、またクリンカ・クーラ７からの、熱気流の衝撃から廃棄物を遮断するのに十分な量を区画に供給すべきことが好ましい。
【００３２】
図１、図４、および図５に示すように、廃棄物、原料粉、および熱気は、１つの、同一の入口、例えば入口１１、を通して区画９に導入することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明による装置を示す図である。
【図２】  本発明の好ましい実施形態の詳細を示す図である。
【図３】  図２に示す詳細の上面を示す図である。
【図４】  本発明の代替実施形態の詳細を示す図である。
【図５】  図４に示す詳細の上面を示す図である。
【図１】
0004721601.tif 000002
【図２】
0004721601.tif 000003
【図３】
0004721601.tif 000004
【図４】
0004721601.tif 000005
【図５】
0004721601.tif 000006