(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射のビームを調整するように構成された放射システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、
基板上に放射の前記パターニングされたビームを投影するように構成された投影システムと、
前記基板を支持するように構成された基板テーブルと、
を備えており、
前記パターニングデバイスは、パターニングされた放射ビームを形成するために、前記放射ビームの断面にパターンを与えることができ、前記支持体は、前記支持体の移動方向に前記パターニングデバイス上に力を及ぼすための力アクチュエータデバイスを備え、前記力アクチュエータデバイスは、
（ｉ）前記支持体に接続された旋回軸を中心に旋回可能である可動部分であって、前記支持体の移動方向に前記旋回軸に対して実質的に平衡にされる、可動部分と、
（ｉｉ）前記可動部分を介して前記パターニングデバイス上に力を及ぼすためのアクチュエータとを備え、
前記可動部分は、前記旋回軸と前記可動部分が前記パターニングデバイスと接触する接触部分との間に延びる第１のアームと、前記旋回軸と印加点との間に延びる第２のアームとを備え、前記印加点で、前記アクチュエータは、前記第２のアーム上にアクチュエータ力を与え、前記第１のアームは、前記支持体の前記移動方向において前記第２のアームに対して平衡にされ、
前記アクチュエータは、前記移動方向に対して垂直方向に前記第２のアーム上にアクチュエータ力を及ぼすように構成される、
リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記移動方向における前記支持体の加速に基づいて前記アクチュエータを駆動するためのコントローラをさらに備える、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記コントローラは、前記移動方向における前記支持体の加速に実質的に比例して前記アクチュエータを駆動するように配置された、
請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記印加点から前記旋回軸への前記第２のアームの長さは、前記接触点から前記旋回軸への前記第１のアームの長さを超える、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記第２のアームの印加点は、前記支持体の前記移動方向において前記旋回軸に対してオフセットされる、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記アクチュエータは、第１の可動部分上に直接作用するように構成される、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記アクチュエータは、第２の可動部分を介して前記第１の可動部分上に作用するように構成され、前記第２の可動部分は、第２の旋回軸を中心に前記支持体に対して旋回可能である、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記第２の可動部分は、前記支持体の前記移動方向に前記第２の旋回軸に対して平衡にされる、
請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記第２の可動部分は、前記第１の可動部分に蝶番式に接続される、
請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記第２の可動部分は、前記第２の旋回軸から前記印加点へ延びる第３のアームと、前記旋回軸から前記アクチュエータへ延びる第４のアームとを備え、前記第４のアームは、前記移動方向に延び、前記第４のアームの長さは、前記第３のアームの長さを超える、
請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記アクチュエータは、圧電電気アクチュエータ、リニアモータ、流体圧アクチュエータ、および空気圧アクチュエータの少なくとも１つを備える、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記リニアモータは、ローレンツモータを備える、
請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記リニアモータは、マックスウエルモータを備える、
請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記力アクチュエータデバイスは、前記可動部分の作用範囲を変位するための変位機構体をさらに備える、
請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記変位機構体は、空気圧シリンダ、偏心部分、圧電アクチュエータ、流体圧シリンダ／膜の少なくとも１つを備える請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
実質的に平坦な表面を有する対象物を変位するためのステージ装置であって、
前記対象物を支持するように構成される支持体を備え、前記支持体の移動方向に前記対象物上に力を及ぼすための力アクチュエータデバイスを備え、前記力アクチュエータデバイスは、
（ｉ）前記支持体に接続された旋回軸を中心に旋回可能である可動部分であって、前記支持体の移動方向に前記旋回軸に対して実質的に平衡にされる、可動部分と、
（ｉｉ）前記可動部分を介して前記対象物上に力を及ぼすためのアクチュエータとを備え、
前記可動部分は、前記旋回軸と前記可動部分が前記対象物と接触する接触部分との間に延びる第１のアームと、前記旋回軸と印加点との間に延びる第２のアームとを備え、前記印加点で、前記アクチュエータは、前記第２のアーム上にアクチュエータ力を与え、前記第１のアームは、前記支持体の前記移動方向において前記第２のアームに対して平衡にされ、
前記アクチュエータは、前記移動方向に対して垂直方向に前記第２のアーム上にアクチュエータ力を及ぼすように構成される、
ステージ装置。
【請求項１７】
リソグラフィ装置のための支持体アセンブリであって、
パターニングデバイスを支持するための支持体と、
旋回軸を中心に旋回可能である可動部分であって、前記支持体の移動方向に前記旋回軸に対して実質的に平衡にされる、可動部分と、
前記可動部分を介して前記パターニングデバイス上に力を及ぼすように構成されるアクチュエータと、
を備え、
前記可動部分は、前記旋回軸と前記可動部分が前記パターニングデバイスと接触する接触部分との間に延びる第１のアームと、前記旋回軸と印加点との間に延びる第２のアームとを備え、前記印加点で、前記アクチュエータは、前記第２のアーム上にアクチュエータ力を与え、前記第１のアームは、前記支持体の前記移動方向において前記第２のアームに対して平衡にされ、
前記アクチュエータは、前記移動方向に対して垂直方向に前記第２のアーム上にアクチュエータ力を及ぼすように構成される、支持体アセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、リソグラフィ装置およびステージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上に、通常は基板のターゲット部分上に与える機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造で使用されることができる。そのような場合、代わりにマスクまたはレチクルと呼ばれるパターニングデバイスは、ＩＣの個別層上に形成されるべき回路パターンを生成するために使用されることができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、１つまたは複数のダイの一部を含む）上に転写されることができる。パターンの転写は、一般に、基板上に設けられる放射感応性材料（レジスト）の層上への結像を介する。一般に、単一の基板は、連続してパターニングされる隣接するターゲット部分のネットワークを含む。従来のリソグラフィ装置は、各ターゲット部分が、１回でターゲット部分上にパターン全体を露光することによって放射されるいわゆるステッパと、各ターゲット部分が、所定の方向（「スキャニング」方向）の放射ビームを介してパターンをスキャニングし、一方、同時にこの方向と平行または反平行に基板をスキャニングすることによって放射されるいわゆるスキャナとを含む。また、基板上のパターンをインプリントすることによって、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
[0003]  米国特許第６４６９７７３号明細書は、リソグラフィ装置にためのステージ装置を記載する。ステージ装置は、本明細書で参照される文献の文脈において、レチクルまたは他のパターニングデバイスを含むことができる基板を保持することができる。記載されるようなステージ装置は、ステージが移動するとき、加速にしたがって変化する力を発生する機構体を含む。力は、加速方向から基板上に機構体によって与えられる。それによって、加速によって生じるステージと基板との間の力を補償することを目的とする。機構体は、旋回軸を中心に旋回可能であるレバーを含む。レバーの一端部は、レチクルの側部との接触を確立し、レバーの他端部は、釣り合い重りに接続される。ステージが加速されたとき、釣り合い重りは、慣性のために、レバーによるレチクルの側部への力に変換される力をレバーに及ぼす。慣性効果は、ステージの加速に比例するので、レバーによって基板上に与えられる力も、加速に比例する。
【０００４】
[0004]  米国特許第６４６９７７３号明細書に記載されるような機構体は、ステージが速い加速を受けることを可能にすることを目的とする。これは、加速がより速いと、ステージによって保持される基板（レチクルなど）が受ける力も大きくなるからである。基板は、真空吸着、機械的なクランプ、静電クランプなどの様々な保持デバイスを使用して、ステージによって保持されることができる。任意のこれらの状況において、基板が滑る危険性が、速い加速で存在する。なぜなら、基板が保持デバイスによって保持される状態で、保持力は、ステージの加速による強い力に耐えることができるには不十分であるからである。第２の態様は、加速の間の強い力が、基板の（一時的な）変形を結果として生じる可能性があることである。そのような変形は、基板上に与えられるべきパターンの不正確さを結果として生じることがある。本明細書に参照される米国特許に記載される機構体は、これらの効果を阻止することを伴う。ステージが加速されたとき、レバーは、基板の側部上に力を及ぼし、それによってある程度まで加速力を補償する力を提供することを目的とし、それによって基板（レチクルなど）の滑りおよびその変形を防止しようとする。
【０００５】
[0005]  米国特許第６４６９７７３号明細書の機構体において、過剰補償または補償不足が生じる可能性がある。基板上にレバーによって与えられるべき力は、ステージの加速状態に実質的に比例し、かつ釣り合い質量の重量に実質的に比例する。しかしながら、加速を補償することができるべき基板上に与えられる力は、基板（レチクルなど）の質量に応じる。したがって、記載されるような機構体は、特定の質量を有する基板だけを補償することができ、より重い質量を有する基板に関しては、補償不足が得られ、一方、より軽い質量を有する基板に関しては、過剰補償が得られる。そのような補償不足または過剰補償のために、再び加速時にレチクルの変形が生じる可能性がある。同様に、滑りの危険性は、レバーによって加えられる力が小さすぎるまたは大きすぎるときに、再び与えられる。
【０００６】
[0006]  さらに、釣り合い質量は、ステージの全質量を増大する。これは、高速処理を達成することが可能であるように、ステージの加速および速度が、リソグラフィ装置設計において最大化されるとき、特に重要である。機構体によってもたらされる追加の質量は、ステージの全重量を増大し、それによって達成されるべき最大加速を低減する。再び、機構体がレチクルに対して押す加速方向とは反対方向にステージに加速を与えるときに、さらなる問題が見出されることがある。その場合、機構体は、レチクルから外れるようになる。加速方向が変化するとき、レチクルに対する機構体の衝突が生じる可能性があり、それは、レチクルを損傷することがあり、および／またはステージに対するレチクルを静的にまたは動的に変位することがあり、それによって、静的または動的なアライメントまたは変形誤差を作る。
【０００７】
[0007]  米国特許第６４６９７７３号明細書に記載される機構体のレバーは、加速力を受ける旋回軸を中心に完全に旋回可能である。一定速度の状態において、これは、レバーが、基板の側部に載ることを意味するが、レバーが、基板から所定の範囲で自由にされ、例えばそれらの間に間隔を残す場合でもあり得る。本特許出願の発明者は、不正確性の原因が、それ以降に生じることを考え出した。レバーがレチクルに対して載る場合には、これは、基板の側部上にわずかな残留する力を結果として生じるように現れ、次に基板のわずかな変形を結果として生じる。これは、放射が、ステージの一定速度の段階で行われる一般のリソグラフィ装置において特に重要である。残留する変形を結果として生じる残留する力は、それによって、リソグラフィ装置によってパターンを与えることに誤差を導入する。さらに、この誤差は、レバーが、照明の間に基板の側部に載ることができてまたは載ることができなくとも、大きな程度までは予測可能ではない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
[0008]  パターニングデバイス支持体が加速されるとき、生成される誤差を少なくとも低減することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
[0009]  本発明の実施形態によれば、パターニングデバイスを支持するように構成された支持体を含むリソグラフィ装置が提供され、パターニングデバイスは、パターニングされた放射ビームを形成するためにその断面にパターンを有する放射ビームを与えることができ、支持体は、支持体の移動方向にパターニングデバイス上に力を及ぼすための力アクチュエータデバイスを含み、力アクチュエータデバイスは、支持体に接続される旋回軸を中心に旋回可能である可動部分を含み、可動部分は、支持体の移動方向において旋回軸に対して実質的に平衡にされ、また、可動部分を介してパターニングデバイス上に力を及ぼすためのアクチュエータを含む。
【００１０】
[0010]  本発明の他の実施形態において、実質的に平坦な表面を有する対象物を変位するためのステージ装置が提供され、ステージ装置は、対象物を支持するように構成された支持体を含み、支持体は、支持体の移動方向に対象物上に力を及ぼすための力アクチュエータデバイスを含み、力アクチュエータデバイスは、支持体に接続される旋回軸を中心に旋回可能である可動部分を含み、可動部分は、支持体の移動方向において旋回軸に対して実質的に平衡にされ、また、可動部分を介して対象物上に力を及ぼすためのアクチュエータを含む。
【００１１】
[0011]  一実施形態において、リソグラフィ装置のための支持体アセンブリが提供され、支持体アセンブリは、パターニングデバイスを支持するための支持体と、支持体の移動方向において旋回軸に対して実質的に平衡にされる、旋回軸を中心に旋回可能である可動部分と、可動部分を介してパターニングデバイス上に力を及ぼすように構成されたアクチュエータとを含む。
【００１２】
[0012]  本発明の実施形態は、対応する参照符号が対応する部品を示す添付の概略図を参照する、例示だけで以下に記載される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
[0021]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。装置は、放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射または任意の他の適切な放射）を調整するように構成された照明システム（照明器）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように構成され、かつ所定のパラメータにしたがってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１の位置決めデバイスＭＡに接続されたマスク支持構造体（例えば、マスクテーブル）ＭＴとを含む。装置は、基板（例えば、レジストコートされたウェーハ）Ｗを保持するように構成され、かつ所定のパラメータにしたがって基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴまたは「基板支持体」も含む。装置は、さらに、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）上に、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを投影するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１４】
[0022]  照明システムは、放射を方向付け、成形し、または制御するための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電、または他のタイプの光学構成部品、または任意のその組み合わせなどの様々なタイプの光学構成部品を含むことができる。
【００１５】
[0023]  マスク支持構造体は、パターニングデバイスを支持する、すなわちパターニングデバイスの重量を支える。それは、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されるかどうかなどの他の状況に応じる方法でパターニングデバイスを保持する。マスク支持構造体は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電、または他のクランプ技術を使用することができる。マスク支持構造体は、必要に応じて固定または可動であり得る、例えばフレームまたはテーブルであり得る。マスク支持構造体は、パターニングデバイスが、例えば投影システムに対して所望の位置にあることを確実にすることができる。本明細書における用語「レチクル」または「マスク」の任意の使用は、より一般的な用語「パターニングデバイス」と同義語であると考えられることができる。
【００１６】
[0024]  本明細書で使用される用語「パターニングデバイス」は、基板のターゲット部分にパターンを作るように、放射ビームにその断面にパターンを与えるために使用されることができる任意のデバイスを参照すると広範に解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンは、例えば、パターンが、位相シフト特徴またはいわゆるアシスト特徴を含むなら、基板のターゲット部分に所望のパターンに正確には対応しないことがあることに留意すべきである。一般に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路など、ターゲット部分に作られるデバイス内の特定の機能層に対応する。
【００１７】
[0025]  パターニングデバイスは、透過性または反射性であり得る。パターニングデバイスの実施例は、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルを含む。マスクは、リソグラフィにおいて良く知られており、二値、Ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ位相シフト、および減衰された位相シフト、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプなどのマスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの実施例は、小型ミラーのマトリクス配置を用い、各小型ミラーは、異なる方向に入射する放射ビームを反射するように個別に傾斜されることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリクスによって反射される放射ビームにパターンを与える。
【００１８】
[0026]  本明細書で使用される用語「投影システム」は、使用される露光放射、または浸液の使用または真空の使用などの他の要因に適切なように、屈折、反射、反射屈折、磁気、電磁気、および静電光学システム、または任意のその組み合わせを含む、任意のタイプの投影システムを包含するとして広範に解釈されるべきである。本明細書における用語「投影レンズ」の任意の使用は、より一般的な用語「投影システム」と同義語として考えられることができる。
【００１９】
[0027]  本明細書で示されるように、装置は、透過タイプ（例えば、透過マスクを用いる）である。代わりに、装置は、反射タイプ（例えば、上記で参照されたようなタイプのプログラマブルミラーアレイを用いる、または反射マスクを用いる）である。
【００２０】
[0028]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）またはより多い基板テーブルまたは「基板支持体」（および／または２つ以上のマスクテーブルまたは「マスク支持体」）を有するタイプであり得る。そのような「マルチステージ」機械において、追加のテーブルまたは支持体は、並列に使用されることができ、または準備ステップが、１つ以上のテーブルまたは支持体で実行されることができ、一方、１つ以上の他のテーブルまたは支持体が、露光のために使用される。
【００２１】
[0029]  リソグラフィ装置は、少なくとも基板の一部が、投影システムと基板との間の空間を満たすように、比較的高い屈折率を有する液体、例えば水によって覆われることができるタイプであることができる。浸液は、例えば、マスクと投影システムとの間などリソグラフィ装置における他の空間に与えられることもできる。浸漬技術は、投影システムの開口数を増大するために使用されることができる。本明細書で使用される用語「浸漬」は、基板などの構造体が液体内に沈められなければならないことを意味せず、むしろ、液体が、露光の間に投影システムと基板との間に配置されることだけを意味する。
【００２２】
[0030]  図１を参照すると、照明器ＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源およびリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマレーザであるとき、別個のエンティティであり得る。そのような場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成するとは考えられず、放射ビームは、例えば適切な方向付けミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビーム送出システムＢＤを用いて、放射源ＳＯから照明器ＩＬへ通過する。他の場合において、放射源は、例えば放射源が水銀ランプであるとき、リソグラフィ装置の一体部分であり得る。放射源ＳＯおよび照明器ＩＬは、必要であればビーム送出システムＢＤとともに、放射システムと呼ばれることができる。
【００２３】
[0031]  照明器ＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するように構成された調整器ＡＤを含むことができる。一般に、照明器の瞳面の強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（一般に、それぞれσ−ｏｕｔｅｒおよびσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）は、調整されることができる。さらに、照明器ＩＬは、積分器ＩＮおよびコンデンサＣＯなどの様々な他の構成部品を含むことができる。照明器は、その断面において所望の均一性および強度分布を有するように、放射ビームを調整するために使用されることができる。
【００２４】
[0032]  放射ビームＢは、マスク支持構造体（例えば、マスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスクＭＡ）上に入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。マスクＭＡを横切って、放射ビームＢは、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第２の位置決めデバイスＰＷおよび位置決めセンサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、エンコーダ、または容量センサ）を用いて、基板テーブルＷＴは、例えば、放射ビームＢの経路内に異なるターゲット部分Ｃが位置決めされるように、正確に移動されることができる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭおよび他の位置決めセンサ（図１に明示的には示されていない）は、例えば、マスクライブラリから機械的に取り出した後またはスキャンの間に、放射ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めするために使用されることができる。一般に、マスクテーブルＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの一部を形成する、ロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現されることができる。同様に、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」の移動は、第２の位置決め装置ＰＷの一部を形成する、ロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを用いて実現されることができる。ステッパ（スキャナとは対照的に）の場合には、マスクテーブルＭＴは、ショートストロークアクチュエータだけに接続されることができ、または固定されることができる。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用してアライメントされることができる。示されるように基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占めるが、それらは、ターゲット部分間の空間（これらは、スクラブレーンアライメントマークとして知られている）に配置されることができる。同様に、１つ以上のダイがマスクＭＡ上に提供される状況において、マスクアライメントマークは、ダイ間に配置されることができる。
【００２５】
[0033]  示される装置は、少なくとも１つの以下のモードで使用されることができる。
【００２６】
[0034]  １．ステップモードにおいて、マスクテーブルＭＴまたは「マスク支持体」および基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」は、本質的に静止して維持され、一方、放射ビームに与えられるパターン全体は、一度にターゲット部分Ｃ上に投影される（すなわち、単一の静止露光）。基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」は、次に異なるターゲット部分Ｃが露光されることができるように、Ｘおよび／またはＹ方向にシフトされる。ステップモードにおいて、露光フィールドの最大サイズが、単一の静止露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズを制限する。
【００２７】
[0035]  ２．スキャンモードにおいて、マスクテーブルＭＴまたは「マスク支持体」および基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」は、同時にスキャンされ、一方、放射ビームに与えられるパターンは、ターゲット部分Ｃ上に投影される（すなわち、単一の動的露光）。マスクテーブルＭＴまたは「マスク支持体」に対する基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」の速度および方向は、投影システムＰＳの（縮小率）倍率および画像反転特徴によって決定されることができる。スキャンモードにおいて、露光フィールドの最大サイズが、単一の動的露光におけるターゲット部分の幅（非スキャニング方向）を制限し、一方、スキャニング移動の長さは、ターゲット部分の高さ（スキャニング方向）を決定する。
【００２８】
[0036]  ３．他のモードにおいて、マスクテーブルＭＴまたは「マスク支持体」は、本質的に静止してプログラマブルパターニングデバイスを保持したままであり、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」は、移動またはスキャンされ、一方、放射ビームに与えられるパターンは、ターゲット部分Ｃ上に投影される。このモードにおいて、一般にパルス駆動される放射源が用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」の各移動の後、またはスキャンの間の連続する放射パルスの間に、必要に応じて更新される。動作のこのモードは、上記に参照されたようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用してマスクレスリソグラフィに容易に与えられることができる。
【００２９】
[0037]  上述の使用モードまたは全く異なる使用モードに対する組み合わせおよび／または変形も用いられることができる。
【００３０】
[0038]  図２は、パターニングデバイスおよびレチクルＭＡ上に力を及ぼすための力アクチュエータデバイスとしても示される、レチクルＭＡの側面図を非常に概略的に示す。実際に図２において、２つの力アクチュエータデバイスが示され、力作動デバイスは、レチクルＭＡの反対側の側部に力を及ぼす。各力アクチュエータデバイスは、旋回軸ＰＡＸを中心に旋回可能である可動部分ＭＰを含む。さらに力アクチュエータデバイスは、可動部分ＭＰに力を及ぼすために、この実施例では、ローレンツモータなどのリニアモータＬＭであるアクチュエータを含む。リニアモータＬＭは、可動部分ＭＰを介して、パターニングデバイスＭＡの適切な側部に力を及ぼすことができる。加速方向は、矢印ＡＣＣによって示される。当然、逆方向の加速も行われることができる。
【００３１】
[0039]  矢印ＡＣＣによって示される方向に加速するとき、レチクルＭＡの慣性は、支持体に対して図面の面において左側に向かう方向にレチクルを滑らせる傾向を生じ、かつ／または図面の面において左側に向かう方向にレチクルＭＡを曲げるまたは変形させる傾向を生じる。アクチュエータ（したがって、この実施例においてリニアモータＬＭ）が、可動部分ＭＰを介して、加速の間に滑りおよび／または変形を生じることがある力を少なくとも部分的に補償するように、レチクルＭＡの側部に力を及ぼすことができるので、これらの効果は、本明細書に概略的に示される力アクチュエータデバイスによって少なくとも部分的に妨げられる。本明細書に概略的に示される力アクチュエータデバイスを用いて、複数の利点を得ることができる。すなわち、第１に、大きな力が、小型で軽量の力アクチュエータデバイスを使用してレチクルＭＡ上に及ぼされることができる。可動部分の第１のアームＡ１の長さ（第１のアームは、旋回軸ＰＡＸと可動部分がレチクルＭＡと接触する接触部分との間に延びる）が、この実施例では可動部分の第２のアームＡ２の長さ（第２のアームは、旋回軸ＰＡＸとアクチュエータＬＭのアクチュエータ力が第２のアームＡ２上に与えられることができる印加点との間に延びる）より短いので、これが可能にされることができる。それによって、リニアモータＬＭによって生成される力より大きい力が、パターニングデバイス上に及ぼされることができ、それによって、小型で軽量のリニアモータの使用を可能にする。可動部分ＭＰおよびリニアモータＬＭが、レチクルＭＡを保持する支持体とともに加速し、したがって支持体の速い加速を達成することを可能にする軽量設計の力印加デバイス、それによってリソグラフィ装置による露光を可能にするので、これは特に有利である。
【００３２】
[0040]  さらに、アクチュエータＬＭは、移動方向の支持体の加速に応じて駆動されることができる。より好ましくは、コントローラは、移動方向において支持体の加速に実質的に比例してアクチュエータを駆動するように配置される。レチクルＭＡを滑らせまたはその変形を生じさせようとすることがある力は、支持体の加速に応じる。より詳細には、力は、支持体の加速に実質的に比例する。したがって、加速に応じて、またはより好ましくは加速に実質的に比例してアクチュエータを駆動することによって、これら力の良好な補償が達成されることができる。
【００３３】
[0041]  図２において、２つの力アクチュエータデバイスＦＡＤ１、ＦＡＤ２が示される。加速が、矢印ＡＣＣによって示される方向に行われるとき、力アクチュエータデバイスＦＡＤ１は、レチクルＭＡ上に力を及ぼすように動作する。他の力アクチュエータデバイスＦＡＤ２は、これらの状況の下で静止状態にある。好ましくは、この力アクチュエータデバイスＦＡＤ２の可動部分ＭＰは、小さな間隔が、可動部分がレチクルＭＡと接触する印加点とレチクルＭＡ自体との間で生じるように、それぞれリニアモータＬＭによって保持される。したがって、第２の力アクチュエータデバイスＦＡＤ２によって、上述されたように支持体に対してマスクＭＡの位置決め精度に悪影響を及ぼす可能性がある力が、マスクＭＡ２上に及ぼされることを妨げる。逆に、加速が、矢印ＡＣＣによって示される方向とは反対方向に行われるとき、力アクチュエータデバイスＦＡＤ１、ＦＡＤ２の機能は、交換される。この場合、力アクチュエータデバイスＦＡＤ２は、レチクルＭＡ上に力を及ぼすことができ、一方、力アクチュエータデバイスＦＡＤ１は、レチクルＭＡから自由であるように位置決めされることができ、したがって好ましくは、可動部分ＭＰがレチクルＭＡと接触する印加点とレチクル自体との間に小さな間隔を残す。載っている状態にある力アクチュエータが、レチクルとの接触を維持し、それによって非常に小さな力をレチクル上に及ぼすことも許容されることができる。これは、レチクル汚染の危険性を低減するのに有利であり得る。
【００３４】
[0042]  図２において、支持体が特に示されていないことに留意されたい。しかしながら、レチクルＭＡが、支持体によって保持されること、旋回軸ＰＸが、支持体に対して可動部分ＭＰの旋回を可能にすること、およびリニアモータＬＭが、支持体に接続され、したがって可動部分ＭＰと支持体との間に力を生成することを、当業者は理解する。リニアモータＬＭは、支持体、および／またはレチクルとともに移動する任意の他の構造体、例えばロングストロークまたはショートストロークアクチュエータに接続されることができ、それによって電力ラインなどの準備を簡単にする。
【００３５】
[0043]  本発明の一実施形態によれば、可動部分は、移動方向に、したがって矢印ＡＣＣによって示される方向に旋回軸ＰＡＸに対して実質的に平衡にされる。移動方向は、このように、加速および減速が、リソグラフィ装置による露光前または露光の間に行われる方向として理解されるべきである。（逆方向を含む）加速方向における移動の間に、他の方向における支持体の移動も、例えばスキャン移動の間に行われ得ることが理解されるべきである。
【００３６】
[0044]  しかしながら、本明細書に記載される原理は、任意の加速方向に与えられることができ、力作動デバイスは、適切な方向にレチクルＭＡ上に力を及ぼすように位置決めされることができる。本文献において、方向との用語が使用されるとき、この用語は、同様にその反対側の方向を含むことができることを理解されたい。したがって、一実施例として、図２において矢印ＡＣＣによって示される方向を参照するとき、その方向は、矢印ＡＣＣによって示される方向とは反対方向も含むことができる。上述のように、本発明の一実施形態によって、可動部分は、支持体の移動方向に旋回軸に対して実質的に平衡にされることができる。したがって、支持体の加速（図２において矢印ＡＣＣによって示される加速など）が行われるとき、質量とアームとの積が、矢印ＡＣＣによって示される方向における支持体の移動の場合に旋回軸に対して互いに平衡であるので、可動部分ＭＰは、旋回軸ＰＡＸを中心に自体によって旋回しない。モータの可動部分（その部分は、可動部分に取り付けられる）の質量は、平衡にされたアームの平衡を悪化させるその任意の効果を考慮するために、平衡に含まれることもできる。モータの可動部分の移動方向が、図３に示されるようにステージの加速方向に対して実質的に９０度下であるように、モータを位置決めすることは有利である。それによって、可動部分は、より容易に平衡にされることができ、または加速のためにモータの可動部分上への力は、旋回されることができる。
【００３７】
[0045]  図３は、図２を参照して示されかつ記載されたように、力アクチュエータデバイスのための代替実施形態を示す。図３は、レチクルＭＡ、それぞれ旋回軸ＰＡＸを中心に旋回可能である可動部分ＭＰ、およびそれぞれ可動部分ＭＰ上に力を及ぼすためのリニアモータ、この実施例ではローレンツモータＬＭを示す。図３に示される実施形態において、アクチュエータＬＭが、可動部分（より詳細には、可動部分の第２のアームに）に力を与える印加点は、ＡＣＣによって示される支持体の移動方向において旋回軸ＰＡＸ対してオフセットされる。それによって、ＡＣＣによって示される方向における可動部分ＭＰの平衡は、容易にされることができる。これは、ＡＣＣによって示される方向における印加点のオフセットが、一方では、一般に旋回軸から可動部分がマスクＭＡに接触する接触点へのレバーに対して、リニアモータＬＭまたは任意の他のアクチュエータの比較的長いレバーを有する可動部分を構成することを可能にする。他方では、オフセットは、移動方向の平衡を容易にする。図２に示される可動部分の実施例において、可動部分ＭＰの第２のアームは、ＡＣＣによって示される方向に対して実質的に垂直方向に旋回軸ＰＡＸとリニアモータとの間に延びる。また、軸ＰＡＸと可動部分ＭＰがレチクルＭＡと接触する接触点との間に延びる可動部分ＭＰの第１のアームも、同じ方向に延びる。てこの作用の効果を達成し、それによってレチクルＭＡ上に大きな力を生成するために比較的小型のアクチュエータを可能にするために、大きなてこの作用、したがって第１のアームのレバーの長さに対して第２のアームの長いレバーが達成されるべきである。これは、移動方向に可動部分を平衡にし、困難性などは、達成されるべきてこの作用量を制限することができる。
【００３８】
[0046]  図３に示される実施形態において、旋回軸ＰＡＸに対するリニアモータＬＭのレバーは、実質的にＬ２によって提供される。旋回軸ＰＡＸに対する接触点のレバーの長さは、実質的にＬ１によって提供される。したがって、本明細書で示される構成を用いて、Ｌ２の比較的長い長さは、加速方向に対して実質的に垂直方向に、したがってＬ１によって示される方向と実質的に同じ方向に、可動部分の第２のアームを延ばし過ぎることなく、Ｌ１の長さに対して達成されることができる。それによって、可動部分の平衡は、達成されることができ、一方、同時に大きなてこの作用を得て、したがって、てこの作用の効果によってレチクルＭＡ上に大きな力を生成するために、比較的小型なリニアモータまたは他のアクチュエータの使用を可能にする。
【００３９】
[0047]  本発明のさらなる実施形態は、図３を参照して説明される。図３に示されるように、アクチュエータは、ＡＣＣによって示される移動方向である移動方向に対して実質的に垂直な方向に、可動部分Ｐの第２のアームにＦａｃｔｕａｔｏｒによって示されるアクチュエータ力を及ぼすことができる。それによって、リニアモータ（または他のアクチュエータ）は、ＡＣＣによって示される方向の加速が行われるとき（アクチュエータがそれ自体のガイドを有するとき）、それ自体の重量を保持するためにもはや必要ではないと考えられ得る。図２に示される設定において、リニアモータおよび特にその可動部分は、ＡＣＣによって示される方向に実質的に平行である移動方向を有する。それによって、ＡＣＣ方向に加速するとき、モータは、支持体の加速と同期して可動部分を加速することを可能にするために力を生成する。したがって、その場合、モータは、レチクルＭＡ上に可動部分ＭＰによって任意の力を結果として生じない加速に比例して力を生成する必要があり、それによって、静止部分が支持体に接続されるとき、リニアモータの可動部分を、支持体を加速する静止部分に対してその場所に維持する。軸によって生成される任意の力は、この実施例において、モータの可動部分の重量を保持するために必要な力に加えて生成されるべきである。このように、図２に示される実施例において、追加の力は、それ自体の重量を保持するだけの理由のために、リニアモータまたは他のアクチュエータによって生成されるべきである。これは、図３に示される構成において妨げられることができる。ここで、アクチュエータＬＭの可動部分の移動は、加速方向に対して垂直方向にあり、同様にアクチュエータによる力は、ＡＣＣによって示される加速方向に対して垂直である。図３において、アクチュエータの可動部分は、ＭＰＡで示される。アクチュエータの可動部分ＭＰＡは、ベアリング／ガイド、スライド機構体、板ばねなどの任意の適切なガイドデバイスによって、アクチュエータの静止部分ＳＰＡに対してガイドされることができる。図３に示される構成において、アクチュエータは、このように加速の間に力Ｆアクチュエータを生成するだけであり、それによって、アクチュエータがそれ自体の重量を保持するために力を生成する必要を妨げる（正確に言えば、支持体の加速の間に、このようにそれぞれのアクチュエータの静止部分ＳＰＡの加速の間にその可動部分ＭＰＡの重量を保持する）。アクチュエータの可動部分ＭＰＡは、可動部分ＭＰの第２のアームに蝶番式に（または他の方法で移動可能に）接続されることができ、それによって、その質量が可動部分によって感じられることを妨げる。
【００４０】
[0048]  図３に示される実施例において、第２のアーム上へのアクチュエータによる力は、支持体の移動方向に対して実質的に垂直である（すなわち、ＡＣＣによって示される方向）。他（すなわち、垂直ではない）の角度も、使用されることができ、可動部分の平衡は調整されることができる。
【００４１】
[0049]  図４は、図３を参照して示されかつ記載される力作動デバイスの代替実施形態を示す。本明細書で示される構成において、可動部分ＭＰの旋回は、レチクルＭＡの表面に対して実質的に垂直である旋回軸ＰＡＸを中心にし、一方、図３に示される実施形態において、および同様に図２に示される実施形態において、旋回軸ＰＡＸは、レチクルＭＡの表面に対して実質的に平行である。図４に示される構成を用いて、小型の力アクチュエータデバイスが達成されることができる。図４は、レチクルＭＡの上面図を示し、このように、レチクルが側方から見られる図２および図３とは対照的であることに留意されたい。
【００４２】
[0050]  またさらなる実施形態は、図５Ａを参照して以下に記載される。図５Ａに示される実施形態は、図２から図４を参照して示されかつ記載される実施形態とは主に異なり、図２から図４において、アクチュエータ（上に示される実施例においてリニアモータ）は、可動部分上に直にまたは直接に作用しないが、その代わりにアクチュエータは、第２の可動部分を介して可動部分上に作用する。第２の可動部分ＭＰ２は、第２の旋回軸ＰＡＸ２を中心に支持体に対して旋回可能である。それによって、アクチュエータ（リニアモータＬＭなど）によって生成される力の追加のてこの作用の効果が達成されることができる。リニアモータから第２の旋回軸ＰＡＸ２へのレバーは、第２の旋回軸ＰＡＸ２から、第２の可動部分ＭＰ２が可動部分ＭＰに接続される接触点までのレバーより長い。したがって、可動部分ＭＰへ第２の可動部分ＭＰ２によって及ぼされる力は、リニアモータＬＭによって生成される力より大きく、再び、リニアモータＬＭのサイズ、およびしたがってその重量を低減することを可能にする。第２の可動部分ＭＰ２は、支持体の移動方向（したがって、矢印ＡＣＣによって示される方向）に第２の旋回軸ＰＡＸ２に対して平衡にされることができる。平衡は、アクチュエータ（この実施例ではリニアモータＬＭ）が、矢印ＡＣＣによって示される方向における支持体の加速により、第２の可動部分ＭＰ２の回転を妨げるように力を生成することを実質的に妨げる。第２の可動部分ＭＰ２は、可動部分ＭＰに載ることができるが、第２の可動部分ＭＰ２と可動部分ＭＰとの間の蝶番式の接続が与えられ、それによって、リニアモータが、レチクルＭＡからある程度離れて可動部分を回転することを可能にし、それによって、可動部分ＭＰとレチクルＭＡとの間に間隔を提供する。それに載る可動部分によってレチクルＭＡのパターンの擾乱を防ぐために、上述の第２の可動部分のてこの作用の効果は、ここに示される実施例において達成され、その実施例において、第２の旋回軸ＰＡＸ２からアクチュエータの印加点へ延びる第２の可動部分の第３のアームは、第２の可動部分の第４のアームの長さを超える長さを含み、第４のアームは、第２の旋回軸ＰＡＸ２からアクチュエータへ延びる。
【００４３】
[0051]  図５Ａにより実施形態への変形が、図５Ｂに示される。図５Ｂに示される実施形態は、加速方向ＡＣＣに対して平行である図５Ａの第１の可動部分の一部が、図５Ｂにおいて取り除かれることが、図５Ａによる実施形態とは異なる。したがって、このより単純化された実施形態における第１の可動部分は、本質的に直線部分だけを含み、一方、第２の可動部分ＭＰ２は、第１の可動部分の端部に接続される（例えば、旋回可能であるまたはスライド機構体を介して）。図５Ｂの実施形態のさらなる機能は、図５Ａの機能と実質的に類似する。類似する効果が、このようにここでも生じる。
【００４４】
[0052]  本明細書に示される実施例において、リニアモータは、アクチュエータ（リニアモータは、例えば、ローレンツモータまたは任意の他のリニアモータを備えることができる）として示される。代替にまたはその代わりに、アクチュエータは、圧電電気アクチュエータ、流体圧アクチュエータ、および／または空気圧アクチュエータを含むことができる。特定の適用において特定のタイプのアクチュエータを選択する理由は、応答時間、重量、最大力、容積、および／または動的特性の領域に見出されることができる。ローレンツモータの代わりに、ローレンツモータに加えて、本明細書で記載される実施例で使用されるリニアモータは、マックスウエルモータも含むことができる。
【００４５】
[0053]  本発明のさらなる実施形態は、図６ａおよび図６ｂを参照して以下に記載される。図６ａは、レチクルおよび一対の力作動デバイスＦＡＤ１、ＦＡＤ２（力アクチュエータデバイスと呼ばれることもできる）の上面図を示す。力作動デバイスＦＡＤ１は、旋回軸ＰＡＸ１を中心に旋回可能である可動部分ＭＰ１と、可動部分ＭＰ１を介して、ＡＣＣによって示される加速方向にレチクルＭＡの側部上に力を及ぼすリニアモータＬＭ１とを含む。同様に、力アクチュエータデバイスＦＡＤ２は、旋回軸ＰＡＸ２を中心に旋回可能である可動部分ＭＰ２と、可動部分ＭＰ２を介して、矢印ＡＣＣによって示される方向に対して反対方向にレチクルＭＡに力を及ぼすリニアモータＬＭ２とを含む。この実施例における力作動デバイスＦＡＤ１、ＦＡＤ２は、開閉機構体も含む。開閉機構体は、力作動デバイスＦＡＤ１、ＦＡＤ２が、レチクルＭＡの位置決めの不正確さまたはサイズの不正確さに対処することを可能にする。比較的小さいリニアモータを用いてレチクルＭＡに比較的大きな力を及ぼすことを可能にするために、可動部分ＭＰ１、ＭＰ２によるてこの作用が与えられる。しかしながら、てこの作用のために、レチクルＭＡとの接触点での可動部分ＭＰ１、ＭＰ２の移動範囲は、リニアモータＬＭ１、ＬＭ２のストロークに対して減少される。示されかつ図６ａを参照して記載されるような開閉機構体は、上述の移動範囲を増加することを可能にする。それに、本明細書に示される実施例において、本実施例において空気圧シリンダなどの空気圧要素ＰＮＥなどのアクチュエータが提供される。Ｘ方向における空気圧要素の寸法は、例えば要素を加圧／減圧することによって避けられることができ、空気圧要素は、第３の旋回軸ＰＡＸ３を中心に旋回可能である第３の可動部分ＭＰ３に接続される。空気圧要素の長さを変更することによって、可動部分ＭＰ３は、その旋回軸ＰＡＸ３を中心に旋回する。可動部分ＭＰ３は、本実施形態において、レチクルＭＡの側部を接触するために接触部分ＣＮＴに接続される。支持体上にまたは支持体内にレチクルＭＡを位置付けまたは配置する間に、空気圧要素ＰＮＥは、レチクルＭＡから離れて接触部分ＣＮＴを移動するために作動され、それによって、位置公差、レチクルの寸法公差などを含む、レチクルＭＡを位置決めするために十分な空間を提供する。次に、空気圧要素ＰＮＥは、レチクルＭＡの側部に載りまたはほぼ載る接触部分を有するために、レチクルＭＡの側部に向かって接触部分ＣＮＴを移動するように作動される。保持機構体は、第１の可動部分ＭＰ１と接触部分ＣＮＴとの間の接続を確立するために提供されることができ、それによって、それらの間に接続を作り出す。そのような接続は、例えば作動ブレーキ、空気圧、流体圧、圧電などの自己制動機構体によって確立されることができる。今や、リニアモータＬＭ１、ＬＭ２が、接触部分ＣＮＴの適切な移動範囲を今や提供し、レチクルの側部上に力を及ぼすことが可能であるので、接触部分ＣＮＴの移動の適切な範囲が提供されることができる。図２から図５を参照して記載されるような任意の他の実施形態も、図６ａを参照して記載される変位機構体を有してまたは変位機構体を有さずに、接触部分Ｃ���Ｔに提供されることができることに留意されたい。
【００４６】
[0054]  代替の変位機構体が、図６ｂに示される。可動部分ＭＰの一部の詳細図が示される。より詳細には、図６ｂは、レチクルＭＡに接触する可動部分ＭＰの端部を示す。詳細には、図６ｂは、レチクルＭＡの側部に対して力を及ぼすための接触部分ＣＮＴを示す。空気圧要素などの接触部分ＣＮＴと可動部分ＭＰとの間のくさび形状の要素ＷＳＥは、矢印によって示される方向にくさび形状の要素を移動するために提供されることができ、それによって、それが接触部分ＣＮＴと接触する位置でくさび形状の要素ＷＳＥの幅が、くさび形状の要素が矢印の方向に移動されるので、それに対して垂直方向に接触部分ＣＮＴを変位する。可動部分ＭＰの接触部分ＣＮＴの移動範囲は、矢印の方向にくさび形状の要素ＷＳＥを変位することによって変更されることができる。
【００４７】
[0055]  本発明の実施形態の実際の実施例は、図７に示される。図７は、旋回軸ＰＡＸを中心に旋回可能でありかつ接触点ＣＮＴを有する可動部分ＭＰと、旋回軸ＰＡＸ２を中心に旋回可能であるリニアモータＬＭとを再び示す、力アクチュエータデバイスの実施形態の上面図を示す。加速の方向において、可動部分ＭＰは、旋回軸ＰＡＸに対して平衡にされ、それによって上述のような利点を提供する。リニアモータＬＭの可動部分を含む可動部分ＭＰ２は、旋回軸ＰＡＸに対して平衡にされる。それによって、リニアモータＬＭの可動部分を含む可動部分ＭＰ２の加速力は、旋回によって支持されることができ、それによって、旋回軸ＰＡ２に対する可動部分ＭＰ２の回転を実質的に妨げる。可動部分ＭＰ２は、可動部分ＭＰと相互作用するので、ＭＰの回転は、レチクル上の接触点ＣＮＴによって力の変化を結果として生じることができる。第１の可動部分の一部（例えば、接触部分ＣＮＴ）は、可動部分ＭＰの残りに対して可動であることができ（この実施例において、蝶番ＨＮＧまたは適切なガイド機構体を介して）、それによって、例えば、レチクルのより容易な交換を可能にし、または本明細書に示される機構体が異なるサイズのレチクルを対処することを可能にするために、接触部分がレチクルから離れて移動されることを可能にする。
【００４８】
[0056]  複数の代替解決方法が、図８ａから図８ｈおよび図９ａから図９ｈを参照して示される。図８ａから図８ｄは、図６Ａおよび図６Ｂに示される実施形態の追加のアクチュエータに関する可能な実施を示す。図６Ａによる実施例において、この追加のアクチュエータは、空気圧要素ＰＮＥを含む。図８ａは、ローレンツモータが、接触部分ＣＮＴに力を及ぼし、ローレンツモータおよび接触部分をその位置に保持するために制動機構体ＬＭを使用する機構体を示す。図８ｂは、矢印によって示される方向にくさび形状の要素ＷＳＥを変位することを可能にする空気圧シリンダＰＬＣを示す。くさび形状の要素の変位によって、それが接触部分ＣＮＴと接触する一部でその幅は変化し、それによって接触部分ＣＮＴを変位する。図８ｃは、可動部分ＭＰを備えるスピンドルと、空気圧要素ＰＮＥまたはリニアモータなどのアクチュエータとを示す。力セルＦＣは、マスクＭＡの側部と接触するために、可動部分ＭＰと接触点ＣＮＴとの間に提供されることができる。空気圧要素ＰＮＥを作動することによって、可動部分は、接触部分ＣＮＴを介してマスクＭＡに支えられるように保持されることができる。力セルは、今や接触点ＣＮＴを介してマスクＭＡの側部上に力を及ぼすために与えられることができる。図８ｄは、気体または液体などの流体が、マスクＭＡの側部上に力を及ぼすために設けられることができる空気圧解決方法を示す。ここでチャンバＣＨは、膜ＭＢＲまたは他の適切な手段を提供されることができ、膜を介するチャンバＣＨ内の流体は、レチクルＭＡの側部に力を及ぼす。
【００４９】
[0057]  図８ａから図８ｄを参照して記載される解決方法は、レチクルの側部の力のために提供されることができるが、主に本明細書に示される解決方法は、開閉機構体を提供することを目的とし、したがって、接触部分ＣＮＴの移動範囲のために提供される（図８ｄにおいて膜ＭＢＲによって示される）。これらの解決方法は、レチクルの側部上に力を及ぼすために使用されることもできる。図８ｅから図８ｈは、レチクルＭＡの側部上に力を及ぼすための複数のプッシャ概念を示す。図８ｅは、図２を参照して記載された構成に部分的に類似する構成を示す。さらに、旋回軸ＰＡＸは、力印加機構体が押すことができるレチクルＭＡの側部表面に一致して配置され、それによってレチクルＭＡの側部のサービスで牽引を妨げる。力セルは、接触点ＣＮＴと可動部分ＭＰとの間に提供されることができる。力セルは、それが受ける力の大きさの情報を提供するためのセンサを含む。これは、それが、当該アクチュエータを駆動するフィードバック制御システムなどの適切な制御システムによる力の大きさを制御することを可能にすることに有用であり得る。
【００５０】
[0058]  図８ｆから図８ｈは、上述のローレンツモータアクチュエータに関する代替実施形態を示す。図８ｆは、接触部分ＣＮＴを介してレチクルＭＡの側部を押すために力セルＦＣと組み合わされる可能性がある圧電アクチュエータＰＺを示す。図８ｇは、二重の力印加デバイスを組み合わせるマックスウエルモータを示し、旋回軸ＰＡＸを中心に旋回可能である可動部分ＭＰを介するマックスウエルモータＭＶＭは、力セルＦＣおよびレチクルＭＡ上の接触部分ＣＮＴを介して力を及ぼす。図８ｈは、液体または気体などの流体が、膜ＭＢＲを介して基板の側部に力を及ぼすために、チャンバＣＨ内にガイドされる空気圧解決方法を再び示す。サーブループが、圧力センサＰを含むことによって提供されることができ、圧力センサＰの出力信号は、膜ＭＢＲ上に流体によって及ぼされる圧力を調整するために与えられる。図８ｈにおいて、流体は、可動シリンダＭＣ上に力を及ぼすことによって加圧され、それによって流体に力を及ぼす。この特定の実施例において、円筒状要素上への力による小さな容積変化が、チャンバ内の比較的大きな圧力変化を結果として生じ、したがって、マスクＭＡの側部上の膜ＭＢＲによる力の比較的大きな変化を結果として生じるので、液体の使用が好ましい。
【００５１】
[0059]  前に議論されたような多くの実施例が提供され、当業者は、多数の組み合わせおよび修正が、それらから導かれ得ることを理解する。例えば、当業者は、例えば図６ａに示される接触部分ＣＮＴを、図２から図５による任意の解決方法に組み込む。同様に、当業者は、図２から図７を参照して記載される機構体に、図８ａから図８ｄに示される任意の開閉解決方法を与えることができる。
【００５２】
[0060]  さらに、本明細書で与えられるいくつかの実施例において、機構体は、レチクルの一方側だけに力を及ぼすことに関して示されかつ記載されるが、他の実施例において、二重の機構体が、レチクルの他方側に力を及ぼすために示されかつ記載されることができる。当業者は、本明細書に示される任意の解決方法が、単一の設置された機構体として与えられることができ、したがってレチクルの単一の側部だけに力を与え、またはレチクルの両側に実施されることができ、それによって両側に力を及ぼすことを可能にすることを理解する。さらに、本明細書で示される各解決方法は、三重または四重で使用されることもでき、各機構体は、基板の異なる側部に力を与える。それによって、実施形態において、任意の四方向における支持体の加速は、本明細書に記載される力印加機構体の適切な一部によって、レチクルＭＡの適切な側部に力を及ぼすことによって補償される、または少なくとも一部が補償されることができる。
【００５３】
[0061]  旋回軸を中心に旋回可能である可動部分の代わりに、または可動部分に加えて、レチクルの側部上に力を伝達するための他の伝達機構体は、例えば流体圧伝達機構体などへも与えられることができる。
【００５４】
[0062]  特定の参照が、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して本明細書で行われたが、本明細書に記載されるリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁気ドメインメモリのためのガイドおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造などの他の適用を有することができることは理解されるべきである。当業者は、そのような代わりの適用に関連して、本明細書における用語「ウェーハ」または「ダイ」の任意の使用は、それぞれより一般的な用語「基板」または「ターゲット部分」と同義であると考えられることができる。本明細書に参照される基板は、例えばトラック（一般的に基板にレジストの層を付け、かつ露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツール、および／またはインスペクションツールで、露光の前または後で処理されることができる。適切な場合、本明細書における開示は、そのような基板処理ツールおよび他の基板処理ツールに与えられることができる。さらに、基板は、本明細書で使用される用語基板は、既に複数の処理された層を含む基板も参照することができるように、例えば複数層ＩＣを作るために１回以上処理されることができる。
【００５５】
[0063]  特定の参照は、光学リソグラフィに関連して本発明の実施形態の使用に対して上記で行われたが、本発明は、文脈で可能である、光学リソグラフィに限定されない例えばインプリントリソグラフィなどの他の適用で使用されることができることを理解されたい。インプリントリソグラフィにおいて、パターニングデバイスにおけるトポグラフィは、基板上に作られるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、レジストが、電磁放射、熱、圧力、またはそれらの組み合わせによって硬化されたとき、基板に供給されたレジストの層に押圧されることができる。パターニングデバイスは、レジストが硬化された後、レジストを取り除き、その内にパターンを残す。
【００５６】
[0064]  本明細書に使用される用語「放射」または「ビーム」は、紫外（ＵＶ）放射（例えば、約３６５、２４８、１９３、１５７、または１２６ｎｍの波長、またはほぼそれらの波長を有する）、および極端紫外（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍから２０ｎｍ）、ならびにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを含む、全てのタイプの電磁放射を包含する。
【００５７】
[0065]  文脈が許容する場合に用語「レンズ」は、屈折、反射、磁気、電磁気、および静電光学構成部品を含む任意の１つのタイプの光学構成部品またはそれらの様々な組み合わせを参照することができる。
【００５８】
[0066]  本発明の特定の実施形態が、上述されたが、本発明は、記載されるより他の方法で実施されることができることは理解される。例えば、本発明は、上記で開示される方法を記載する機械読取可能な指示の１つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、またはそれらに格納されるコンピュータプログラムなどを有するデータ格納媒体（例えば、半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。
【００５９】
[0067]  上記記載は、限定せず例示されることを目的とする。したがって、修正は、示される請求項の範囲を逸脱することなく、記載された本発明に行われることができることは当業者には明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】[0013]本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】[0014]本発明の実施形態によるパターニングデバイスおよび力アクチュエータデバイスを概略的に示す図である。
【図３】[0015]本発明の実施形態によるパターニングデバイスおよび力アクチュエータデバイスを概略的に示す図である。
【図４】[0016]本発明の実施形態によるマスクおよび力アクチュエータデバイスを示す図である。
【図５ａ】[0017]本発明の実施形態によるマスクおよび力アクチュエータデバイスを示す図である。
【図５ｂ】[0017]本発明の実施形態によるマスクおよび力アクチュエータデバイスを示す図である。
【図６ａ】[0018]本発明の実施形態によるマスクおよび力アクチュエータデバイスを示す図である。
【図６ｂ】[0018]本発明の実施形態によるマスクおよび力アクチュエータデバイスを示す図である。
【図７】[0019]本発明の実施形態による力アクチュエータデバイスを示す図である。
【図８】[0020]ａ〜ｈは、本発明の実施形態によるパターニングデバイスに力を与えるためのブレーク概念および代替機構体を概略的に示す図である。
【図１】
0004611325.tif 000002
【図４】
0004611325.tif 000003
【図５ａ】
0004611325.tif 000004
【図５ｂ】
0004611325.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図７】
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【図８】
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