(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板上に互いに交差して画素領域を定義するように、ゲートライン及びデータラインを形成する段階と、
前記画素領域に、所定部位に各透過部を備えた画素電極を形成する段階と、
前記各透過部と交互に位置する第２基板上の所定部位にレーザーを照射することで、前記第２基板面に傾斜角を３０〜８０°である溝を形成する段階と、
前記溝を含む前記第２基板上に共通電極を形成する段階と、
前記第１及び第２基板を合着する段階と、
前記第１及び第２基板の間に液晶層を形成する段階とを含んで、
前記レーザー照射時、前記第２基板面に入射される角は、前記第２基板の垂直方向を基準にして５０〜８０°であることを特徴とするマルチドメイン液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記レーザー照射時に用いられるレーザーガスは、ＡｒＦであることを特徴とする請求項１に記載のマルチドメイン液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記レーザー照射時に用いられるレーザー光の波長は、１９３nmであることを特徴とする請求項１に記載のマルチドメイン液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記レーザー照射のエネルギーは、１．６〜１８Ｊ／cm2であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記溝の形成後、前記画素領域を除いた領域に対応して第２基板上にブラックマトリックス層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のマルチドメイン液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記溝の形成後、前記画素領域に対応して第２基板上にカラーフィルタ層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のマルチドメイン液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関するもので、レーザー光を用いてバレー（ｖａｌｌｅｙ）を形成することで、工程を単純化できるマルチドメイン液晶表示装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、情報化社会が発展するにつれて、表示装置に対する要求も多様な形態で漸増している。さらに、このような要求に応じて、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、ＥＬＤ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＶＦＤ（Ｖａｃｕｕｍ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ）などの多様な平板表示装置が研究されつつあり、その一部は、既に多様な装置において表示装置として活用されている。
【０００３】
上記の平板表示装置のうち、現在、優れた画質、軽量、薄型、低消費電力などの特徴及び長所により、移動型画像表示装置の用途として、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）の代わりにＬＣＤが最も多く用いられており、ＬＣＤは、ノートブックコンピュータのモニターなどの移動型の用途以外に、放送信号を受信してディスプレイするテレビ及びコンピュータのモニターなどにも開発されている。
【０００４】
上記の液晶表示装置は、一般的な画面表示装置として多様な装置に用いられるために、軽量、薄型、低消費電力などの特徴を維持しながら、高精細度、高輝度、大面積などの高品位画像を実現しなければならない。
【０００５】
一般的な液晶表示装置は、画像を表示する液晶パネルと、この液晶パネルに駆動信号を印加するための駆動部とに大きく区分される。また、前記液晶パネルは、所定の空間を有して合着された第１及び第２ガラス基板と、これら第１及び第２ガラス基板の間に注入された液晶層とから構成される。
【０００６】
ここで、前記第１ガラス基板（ＴＦＴアレイ基板）には、所定の間隔を有して一方向に配列される複数個のゲートラインと、これらゲートラインに垂直な方向に所定の間隔を有して配列される複数個のデータラインとが含まれる。また、各画素領域には、マトリックス状に複数個の画素電極が形成され、前記ゲートラインとデータラインとの交差部には、前記ゲートラインの信号によってスイッチングされることで、前記データラインの信号を前記各画素電極に伝達する複数個の薄膜トランジスタが形成される。
【０００７】
また、前記第２ガラス基板（カラーフィルタ基板）には、前記画素領域を除いた部分の光を遮断するための遮光層と、カラー色相を表現するためのＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルタ層と、画像を実現するための共通電極とが形成される。
【０００８】
一般的な液晶表示装置の駆動原理は、液晶の光学的異方性及び分極性質を用いている。液晶は、その構造が細くて長いため、分子配列に方向性を有しており、人為的に液晶に電場を印加することで分子配列の方向を制御できる。
【０００９】
したがって、前記液晶の分子配列方向を任意に調節すると、液晶の分子配列が変わるようになり、光学的異方性によって前記液晶の分子配列方向に光が屈折することで画像を表現できる。
【００１０】
一方、前記第１基板と第２基板との間に注入される液晶は、正の誘電率異方性であるか、または、負の誘電率異方性であるかによって配向方向が変わるが、液晶の誘電率異方性が正であるときはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードに、負であるときは垂直配向（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードにそれぞれ区分される。
【００１１】
さらに、前記液晶表示装置は、一つの画素領域を複数個のドメインに区分し、どの方向から画面を見ても視感特性の良い広視野角を確保する。
【００１２】
上述した垂直配向モードにおいて、複数個のドメインに区分して広視野角を実現するモードを、マルチドメイン垂直配向（Ｍｕｌｔｉ−Ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ：ＭＶＡ）モードという。
【００１３】
以下、従来のマルチドメイン液晶表示装置を図面に基づいて説明する。
【００１４】
図１は、従来のマルチドメイン液晶表示装置を示した平面図で、図２は、ブラック状態の構造を示した図１のI〜I'線断面図で、図３は、ホワイト状態の構造を示した図１のI〜I'線断面図である。
【００１５】
図１乃至図３に示すように、従来のＭＶＡモードの液晶表示装置において、下板１上には、縦横に交差して形成されて画素領域を定義するゲートライン１１及びデータライン１２と、これらゲートライン１１とデータライン１２との交差部に形成された薄膜トランジスタ（図示せず）と、前記画素領域内に所定間隔だけ離隔された一つ以上の透過部１４を備えた画素電極１３とが含まれる。
【００１６】
そして、上板２には、前記画素領域以外の部分（ゲートライン及びデータライン部位）に対応するブラックマトリックス（図示せず）と、画素領域部分に対応するＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルタ層６と、このカラーフィルタ層６を含む上板２の全面に形成された共通電極７と、前記画素電極１３の各透過部１４の間に対応して形成されたバレー１５と、を含んでカラーフィルタアレイが形成される。ここで、前記バレー１５は、前記カラーフィルタ層６の表面にパターニングされて定義された部位であり、前記カラーフィルタ層６の上部に形成される共通電極７は、前記バレー１５の形成により前記カラーフィルタ層６が有するステップカバレッジ（ｓｔｅｐ  ｃｏｖｅｒａｇｅ）を反映して形成される。
【００１７】
上記のような従来のＭＶＡモードの液晶表示装置において、下板１と上板２とが対向する最上面には、配向膜２１がそれぞれ形成されるか、あるいは、一つの基板上のみに配向膜が形成される。このとき、前記配向膜２１は、垂直なプレチルト角を有するようにラビングされる。図２及び図３には、前記配向膜２１が前記下板１のみに形成される場合を示している。
【００１８】
ここで、未説明の図面符号１６は、絶縁膜であり、前記下板１上において、前記ゲートライン１１とデータライン１２との間の層間に形成されるゲート絶縁膜と、データライン１２と画素電極１３との間の層間に形成される保護膜を意味する。
【００１９】
上記のような従来のＭＶＡモードの液晶表示装置では、誘電率異方性が負である液晶３を用いている。以下、薄膜トランジスタを通して前記画素電極１３に電圧を印加し、ブラック及びホワイトの状態を示したときの液晶配向を説明する。
【００２０】
従来のＭＶＡモードの液晶表示装置は、ノーマリブラックモードで実現され、図２に示すように、電圧オフ状態では、ブラック状態を示している。すなわち、下板１または上板２上で垂直方向にラビングされた前記配向膜２１により、液晶が垂直方向に配向されることで、ブラック状態を示すようになる。
【００２１】
また、図３に示すように、従来のＭＶＡモードの液晶表示装置は、電圧オン状態では、上下板２，１の共通電極７と画素電極１３との間に垂直電界が形成され、液晶３が前記電界に垂直な方向に配向されるので、液晶３は、水平面に近くなるように斜めに横たわった形状の配向を有する。ところが、バレー１５及び前記透過部１４の介在により前記上下板２，１の間の垂直電界に歪曲が生じると、前記バレー１５及び透過部１４を基準にして水平より傾いた等電位を有する電場が形成され、この等電位線に垂直な方向に液晶３が配向される。ここで、前記透過部１４及びバレー１５は、液晶３の配向方向が変わる各ドメインの間の境界として作用する。
【００２２】
図４は、従来のマルチドメイン液晶表示装置におけるバレーの傾斜角及び液晶の初期傾斜角を示した図である。
【００２３】
図４に示すように、従来のマルチドメイン液晶表示装置における上板２上に形成されるバレー１５は、前記カラーフィルタ層６を形成する露光工程において、前記カラーフィルタ層６を形成するマスクの形状のうち、バレー１５の形成部位を半透過部に定義し、残りの部位を透過部または遮光部に定義することで、前記バレー１５の形成部位が所定厚さだけ除去されるようにパターニングし、残りの画素領域に対応する部位にはカラーフィルタ層６を残し、画素領域を除いた領域に対応する部位のカラーフィルタ層６を除去する。例えば、前記カラーフィルタ層６の厚さが１〜２μｍであるとき、前記バレー１５の形成部位は、カラーフィルタ層６の形成部位に比べると、前記カラーフィルタ層６の厚さの半分以上が除去され、このとき、前記カラーフィルタ層６の表面での前記バレー１５の幅は、７μｍにする。
【００２４】
前記バレー１５の上板２の表面に対する傾斜角は、約６０°にする。このとき、前記バレー１５内に注入される液晶３は、前記共通電極７と前記画素電極３（図１を参照）との間にかかる電界により、バレー１５の形成面に垂直な方向を基準にして一致（Ｂ）するか、一側方向に傾くように（Ａ、Ｃ）配向される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２５】
しかしながら、従来のマルチドメイン液晶表示装置においては、次のような問題点があった。
【００２６】
高速応答を実現するための液晶表示装置として、バレーを用いて液晶を駆動する垂直配向モードの液晶表示装置は、バレー形成のためにカラーフィルタ層を形成するとき、一般的なカラーフィルタ層を形成するストライプ状の透過部または遮光部を備えたマスクとは異なり、別途にバレーに対応する部位に所定の半透過部が定義されるマスクを備えるべきである。そのため、バレー形成のために、マスクを別途に製作するという負担が大きくなり、前記マスクによるフォト工程の介入により、バレー形成後の収率が低下するという問題点があった。
【００２７】
また、一般的な露光工程を用いた場合、半透過部を備えるとしても、基板の各領域別に同じ幅及び深さのバレーを形成することが困難であるという問題点があった。
【００２８】
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、レーザー光を用いてバレーを形成することで、工程を単純化できるマルチドメイン液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２９】
上記目的を達成するための本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置は、互いに対向した第１基板及び第２基板と、前記第１基板上に形成され、互いに交差して画素領域を定義するゲートライン及びデータラインと、前記第１基板上の画素領域に形成された画素電極と、前記第２基板の表面に所定幅及び深さを有して形成された溝と、前記第２基板の表面及び溝が有するステップカバレッジを反映して前記第２基板上に形成された共通電極と、前記第１及び第２基板の間に形成された液晶層とを含んで構成されることを特徴とする。
【００３０】
前記溝は、一つ以上形成される。
【００３１】
また、前記画素電極は、前記溝と交互に形成される透過部をさらに備える。このとき、前記透過部は、前記隣接する、対向した溝に対して所定間隔を有して離隔される。
【００３２】
また、前記第２基板上に、前記溝及び前記第２基板の表面が有するステップカバレッジを反映して形成されたカラーフィルタ層がさらに形成される。
【００３３】
また、前記第２基板上には、前記画素領域を除いた領域に対応してブラックマトリックス層がさらに形成される。
【００３４】
一方、前記第２基板表面での前記溝の幅は、１〜３μｍである。そして、前記溝の第２基板表面に対する傾斜角は、３０〜８０°である。前記溝の深さは、１〜１．５μｍである。
【００３５】
前記溝は、レーザー光を照射して形成される。
【００３６】
また、前記ゲートラインとデータラインとの交差部には、薄膜トランジスタがさらに形成される。
【００３７】
前記第２基板は、石英ガラスまたは水晶のうちいずれか一つである。または、前記第２基板は、ソーダライムガラスである。
【００３８】
上記目的を達成するための本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置の製造方法は、第１基板上に互いに交差して画素領域を定義するように、ゲートライン及びデータラインを形成する段階と、前記画素領域に、所定部位に各透過部を備えた画素電極を形成する段階と、前記各透過部と交互に位置する第２基板上の所定部位にレーザーを照射することで、溝を形成する段階と、前記溝を含む前記第２基板上に共通電極を形成する段階と、前記第１及び第２基板を合着する段階と、前記第１及び第２基板の間に液晶層を形成する段階とを含んで構成されることを特徴とする。
【００３９】
前記レーザー照射時に用いられるレーザーガスは、ＡｒＦである。前記レーザー照射時に用いられるレーザー光の波長は、１９３nmである。前記レーザー照射のエネルギーは、１．６〜１８Ｊ／cm2である。
【００４０】
一方、前記溝の形成後、前記画素領域を除いた領域に対応して第２基板上にブラックマトリックス層を形成する段階をさらに含む。
【００４１】
そして、前記溝の形成後、前記画素領域に対応して第２基板上にカラーフィルタ層を形成する段階をさらに含む。
【発明の効果】
【００４２】
本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置及びその製造方法には、次のような効果がある。
【００４３】
垂直配向のマルチドメインにおいて、カラーフィルタアレイ基板上にバレーを形成するとき、基板上にレーザー光を用いて溝を形成することで、所望の深さ及び幅で形成することができる。この場合、レーザー光を用いるため、基板の全体厚さに対して相対的に非常に薄い厚さ、及び所望の幅を有する溝を周期的に形成すると、領域別に均一な高さ及び溝を有するバレーを形成することができるという効果がある。
【００４４】
したがって、領域別に均一な電界形成及び液晶配向が可能になり、視野角特性が均一になるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４５】
以下、本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置及びその製造方法を、図面に基づいて詳細に説明する。
【００４６】
図５は、本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置を示した平面図で、図６は、ブラック状態の構造を示した図５のII〜II'線断面図で、図７は、ホワイト状態の構造を示した図５のII〜II'線断面図である。
【００４７】
図５乃至図８に示すように、本発明に係るＭＶＡモードの液晶表示装置において、第１基板１００上には、縦横に交差して形成されて画素領域を定義するゲートライン１１１及びデータライン１１２と、これらゲートライン１１１とデータライン１１２との交差部に形成された薄膜トランジスタ（図示せず）と、前記画素領域内に所定間隔だけ離隔された一つ以上の透過部１１４を備える画素電極１１３とが含まれる。
【００４８】
そして、第２基板１１０には、前記画素領域以外の部分（ゲートライン１１１及びデータライン１１２部位）に対応するブラックマトリックス（図示せず）と、画素領域部分に対応するＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルタ層１２１と、このカラーフィルタ層１２１を含む第２基板１１０の全面に形成された共通電極１２２とを含んでカラーフィルタアレイが形成される。ここで、前記バレー１１５は、前記第２基板１１０表面に所定のエネルギーのレーザー光を照射して形成した溝であり、前記カラーフィルタ層１２１及び共通電極１２２は、前記第２基板１１０の表面に形成されたバレー１１５が有するステップカバレッジを反映して形成される。
【００４９】
上記のような本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置において、第１基板１００と第２基板１１０とが対向する最上面には、配向膜１４１がそれぞれ形成されるか、あるいは、一つの基板上のみに配向膜が形成される。このとき、前記配向膜１４１は、垂直なプレチルト角を有するようにラビングされる。図６及び図７には、前記配向膜１４１が前記第１基板１００のみに形成された場合を示している。
【００５０】
ここで、未説明の図面符号１１６は、絶縁膜であり、前記第１基板１００上に、前記ゲートライン１１１とデータライン１１２との間の層間に形成されるゲート絶縁膜と、データライン１１２と画素電極１１３との間の層間に形成される保護膜を意味する。
【００５１】
上記のように、本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置は、前記バレー１１５を形成するために、カラーフィルタアレイ形成時に別途のマスクを必要とせず、前記バレー１１５に対応する前記第２基板１１０上の所定部位に周期的に溝を形成する。このとき、精密なレーザーを通して、微細な幅及び深さを有するバレー１１５を周期的に形成することで、工程管理が容易になる。
【００５２】
また、レーザー光の入射角及びエネルギー強さなどの条件を調節することで、バレーの幅及び厚さの調整が容易になり、最適の条件を導出できる。
【００５３】
レーザー光を第２基板１１０上の所定部位のみに対応させることで、第２基板１１０の厚さに比べて相対的に非常に小さい厚さ及び幅を容易に形成することができ、大型基板に適用するとき、バレーの形成による基板損傷の憂いが少ない。このときに形成される前記バレー１１５は、厚さは約１〜１．５μｍに、幅は１〜３μｍに、傾斜角は約３０〜８０°にする。
【００５４】
上記のような本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置は、誘電率異方性が負である液晶１３０を用いている。以下、薄膜トランジスタを通して前記画素電極１１３に電圧を印加し、ブラック及びホワイト状態を示したときの液晶配向を説明する。
【００５５】
本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置は、ノーマリブラックモードで実現され、図６に示すように、電圧オフ状態では、ブラック状態を示している。すなわち、第１基板１００または第２基板１１０上で垂直方向にラビングされた前記配向膜１４１により、液晶が垂直方向に配向されることで、ブラック状態を示すようになる。
【００５６】
また、図７に示すように、本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置において、電圧オンになると、第１及び第２基板１００，１１０の共通電極１２２と画素電極１１３との間に垂直電界が形成され、液晶１３０が前記電界に垂直な方向に配向されるので、液晶１３０は、水平面に近くなるように斜めに横たわった形状の配向を有する。ところが、バレー１１５及び前記透過部１１４の介在により、前記第１及び第２基板１００，１１０の間の垂直電界に歪曲が生じると、前記バレー１１５及び透過部１１４を基準にして水平より傾いた等電位を有する電場が形成され、この等電位線に垂直な方向に液晶１３０が配向される。ここで、前記透過部１１４及びバレー１１５は、液晶１３０の配向方向が変わる各ドメインの間の境界として作用する。
【００５７】
以下、前記第２基板上にバレーを形成するためのレーザー装置に対して説明する。
【００５８】
図８は、本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置の製造におけるバレー形成のためのレーザー装置を示した概略図である。
【００５９】
図８に示すように、本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置の製造で用いられるレーザー装置は、所定のエネルギーのレーザービームを発生する光源（図示せず）と、前記レーザービームのエネルギー大きさを調節して減速させる減衰器２１０と、前記レーザービームを分散させる望遠レンズ（図示せず）と、前記レーザービームの形状をレーザービームパターンマスクの入射水準に適切に変更するフィールドレンズ２２０と、パターンを備えて前記レーザービームを所定のパターン（形成しようとするバレー（溝）に対応する形状）で透過させるレーザービームパターンマスク２３０と、このレーザービームパターンマスク２３０から透過されるレーザービームを縮小比率で縮小させて基板上に照射するプロジェクションレンズ２４０とを含んで構成される。
【００６０】
前記レーザー装置は、エキシマレーザーとして波長１９３nmのレーザー光が主に用いられる。前記レーザー装置は、加工されてないレーザービームを放出させ、この放出されたレーザービームは、前記減衰器２１０、多様な機能のレンズ２２０，２４０及びレーザービームパターンマスク２３０を通過しながら、所定のレーザービームパターンで基板１１０上に照射される。
【００６１】
このとき、前記レーザービームパターンマスク２３０は、前記第２基板１１０の表面に形成されるバレー１１５を定義するための溝に対応する部位に透過部を備えており、縮小レンズ２４０の縮小比を考慮して、前記レーザービームパターンマスク２３０に形成される透過部の間隔及び幅を調節する。
【００６２】
前記レーザー照射時に用いられるレーザーガスは、ＡｒＦである。前記レーザー照射時に用いられるレーザー光の波長は、１９３nmである。前記レーザー照射のエネルギーは、１．６〜１８Ｊ／cm2である。そして、レーザー照射時、前記第２基板１１０面に入射される角は、第２基板１１０の垂直方向を基準にして約５０〜８０°にし、前記第２基板１１０面に形成される溝が有する傾斜角を約３０〜８０°に調節する。ここで、前記第２基板１１０面に入射される角は、可能な限り垂直に近いほど（照射時、入射されるレーザー光が第２基板１１０面に近くなるように横たわるほど）、溝の形成を一層容易に観察できる。
【００６３】
上記のように、前記レーザー照射を通して溝が形成される第２基板１１０は、石英ガラスまたは水晶であるか、あるいは、ソーダライムである。
【００６４】
この場合、ソーダライムガラスで前記レーザー照射を進行するときは、前記ソーダライムガラスの吸収係数が石英ガラスや水晶に比べて相対的に大きいので、レーザーエネルギー強さまたはレーザー光の波長及び照射時間を調節することで、所望の深さの幅を有する溝が形成される。
【００６５】
また、上記のように前記第２基板１１０の所定部位に形成される溝は、次の順に形成される。
【００６６】
図９Ａ乃至図９Ｃは、本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置の製造方法を示した工程断面図である。
【００６７】
図９Ａに示すように、まず、第２基板１１０を準備した後、前記第２基板１１０の所定部位に、図８に示したレーザー装置を用いてレーザーを照射する。ここで、前記レーザー照射は、所定部位に選択的に進行し、傾斜角は３０〜８０°に、その臨界寸法（ＣＤ）は１〜３μｍに、厚さは１〜１．５μｍにする。このときの照射パルス数は１〜５０パルスであり、照射時のエネルギー強さは、フラックス（Ｅ）１．６〜１８Ｊ／cm2で用いられる。このように、上述したパルス数やエネルギー強さによって微細な溝の幅及び深さを調節できる。
【００６８】
実験でレーザーを照射するとき、前記第２基板１１０に入射される照射角度を第２基板１１０に垂直な方向に近くするほど、前記第２基板１１０で微細な溝がよく観察される。
【００６９】
次いで、前記レーザー照射によって溝が形成された第２基板１１０の表面に、画素領域を除いた領域（第１基板上のゲートライン及びデータライン形成部位）に対応してブラックマトリックス層（図示せず）を形成する。
【００７０】
次いで、図９Ｂに示すように、前記ブラックマトリックス層を含む第２基板１１０上にカラーフィルタ層１２１を形成する。このカラーフィルタ層１２１は、少なくとも画素領域の上部に形成されるもので、前記溝の形成部位にも形成され、前記第２基板１１０の表面及び前記溝が有するステップカバレッジを反映して形成される。
【００７１】
次いで、図９Ｃに示すように、前記ブラックマトリックス層及びカラーフィルタ層１２１を含む第２基板１１０上の全面に、共通電極１２２を形成する。
【００７２】
前記共通電極１２２の形成後、残っている前記溝の形成部位は、バレー１１５として定義される。
【００７３】
以上、前記第２基板１１０上に形成されるカラーフィルタアレイの形成方法を説明した。
【００７４】
前記カラーフィルタアレイの形成過程と並列に、前記第１基板１００上には、互いに交差して画素領域を定義するゲートライン１１１及びデータライン１１２と、前記画素領域に対応して形成され、前記バレー１１５と交互に形成される透過部１１４を備えた画素電極１１３と、前記ゲートライン１１１とデータライン１１２との交差部に形成された薄膜トランジスタ（図示せず）と、を含む薄膜トランジスタアレイを形成する。
【００７５】
次いで、上述したように、それぞれのアレイが対向するように前記第１及び第２基板１００，１１０を合着した後、前記第１及び第２基板１００，１１０の間に液晶層を形成することで、マルチドメイン液晶表示装置を製造する。ここで、液晶注入方式または滴下方式のいずれを適用しても構わないが、滴下方式を適用する場合は、液晶層を形成した後で合着を進行する。
【００７６】
以上説明した本発明は、上述した実施形態及び図面に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で多様な置換、変形及び変更が可能であることは、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者にとって明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】従来のマルチドメイン液晶表示装置を示した平面図である。
【図２】ブラック状態の構造を示した図１のＩ〜Ｉ'線断面図である。
【図３】ホワイト状態の構造を示した図１のＩ〜Ｉ'線断面図である。
【図４】従来のマルチドメイン液晶表示装置におけるバレーの傾斜角及び液晶の初期傾斜角を示した図である。
【図５】本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置を示した平面図である。
【図６】ブラック状態の構造を示した図５のII〜II'線断面図である。
【図７】ホワイト状態の構造を示した図５のII〜II'線断面図である。
【図８】本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置の製造におけるバレー形成のためのレーザー装置を示した概略図である。
【図９Ａ】本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置の製造方法を示した工程断面図である。
【図９Ｂ】本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置の製造方法を示した工程断面図である。
【図９Ｃ】本発明に係るマルチドメイン液晶表示装置の製造方法を示した工程断面図である。
【符号の説明】
【００７８】
１００  第１基板
１１０  第２基板
１１１  ゲートライン
１１２  データライン
１１３  画素電極
１１４  透過部
１１５  バレー
１１６  絶縁膜
１２１  カラーフィルタ層
１２２  共通電極
１３０  液晶層
１４１  配向膜
２００  レーザー装置
２１０  光源
２２０  フィールドレンズ
２３０  マスク
２４０  プロジェクションレンズ
２５５  ステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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