(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学要素を通して光線を検出器に照射する装置であって、
前記光線のための光源を含む第１のモジュールと、
前記検出器を含む第２のモジュールと、
前記第１および第２のモジュールから隔離されたチャンバを有し、前記第１および第２のモジュール間の試料モジュールと、
前記チャンバ内に在る、前記光学要素のためのホルダと、
前記チャンバから汚染物質を除去するための浄化手段とを含み、
前記浄化手段は、浄化ガス供給源に接続され、前記ホルダに近接した位置で開口端を有するガス導管を含み、前記管内のガスが該管から前記光線が通る前記ホルダの一部に向けられる浄化手段とを含み、
前記管は伸縮自在である、光線照射装置。
【請求項２】
前記管には実質的に不活性ガスが供給され、前記浄化手段は、また、前記試料モジュールの前記チャンバから排気をする排気手段を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ガスは窒素である、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記管は、前記光線が前記管を通り抜けるように、前記光線に整列している、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
光学要素を通して光線を検出器に照射する装置であって、
前記光線のための光源を含む第１のモジュールと、
前記検出器を含む第２のモジュールと、
前記第１および第２のモジュールから隔離されたチャンバを有し、前記第１および第２のモジュール間の試料モジュールと、
前記チャンバ内に在る、前記光学要素のためのホルダと、
前記チャンバから汚染物質を除去するための浄化手段とを含み、
前記浄化手段は、前記チャンバ内に配置される一対の管であって前記ホルダの互いに反対の両側のそれぞれに各管が位置して整列する一対の管と、該管を通して前記ホルダの両側へ向けてガスを方向付けるガス配送手段とを含む、光線照射装置。
【請求項６】
前記管は、前記光線が前記両管を通り抜けるように、整列して配置されている、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
さらに、前記試料モジュールに取り付けられた密封可能のアクセスドアであって該ドアが開いたとき前記チャンバ内へのアクセスを許すアクセスドアを含む、請求項５に記載の装置。
【請求項８】
前記ドアは、前記試料モジュールの前記チャンバが開放されたとき前記第１および第２のモジュールからの分離を保持するように配置されている、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記光源は、約１５７ｎｍの波長を有する光を提供する、請求項１又は５に記載の装置。
【請求項１０】
前記ガス導管に関して前記ホルダを移動させるステージ手段と、前記ホルダの移動に関連して前記ガス導管の長さを変更する調整手段とを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記ステージ手段は、前記ホルダ内で光線に関して傾斜する配置で光学要素を固定するための機構である、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記ホルダ内で光学要素を固定しまた前記管に関して前記ホルダを移動させるためのステージ手段と、前記ホルダの移動に関連して前記管の長さを変更するための調整手段とを含む、請求項５に記載の装置。
【請求項１３】
前記ステージ手段は、光線に関して傾斜する配置で前記光学要素を固定するための機構である、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記ガス導管による配送に加えて、前記チャンバに浄化ガスを配送するための第２の浄化手段を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
さらに、前記ガス導管内の浄化ガスの供給および前記第２の浄化手段による浄化ガスの供給を独立的に制御するための制御手段を含む、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
光源、試料ホルダおよび検出器を含む多数の光学要素を有する光学的セットアップの一部である光線が通り抜ける前記試料ホルダの近傍で前記光線の経路を浄化する方法であって、
前記試料ホルダを他の光学要素から隔離されたチャンバ内に配置するステップであって前記チャンバから分離された包囲体内に前記他の要素が封止されている、配置ステップと、前記チャンバ内に浄化ガスを案内するステップとを含み、
前記案内ステップは、前記チャンバ内に管状部材を配置することを含み、前記ガスおよび前記光線が前記管状部材を通り抜ける、光線経路の浄化方法。
【請求項１７】
前記案内ステップは、前記試料ホルダの互いに対向する両側に管状部材を配置すること、および前記チャンバを通る光線経路がガスで満たされるように前記管状部材に浄化ガスを案内することを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記管状部材の少なくとも一つの長さを調整するステップを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記チャンバに向けられる浄化ガスから前記光源を熱的に隔離するステップを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記チャンバから浄化ガス源を熱的に隔離するステップを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
さらに、前記チャンバおよび前記光源から隔離された区画室内のソースを加熱するためのソース加熱手段を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
試料の光学特性を分析するための組立体であって、
光源を提供するための、また前記試料を通過するように指向される偏光を変調するための、第１の組の光学要素を含む第１のモジュールと、
前記偏光を変調するための、また該変調を受けた偏光の前記試料を通過した後の特性を検出するための、第２の組の光学要素を含む第２のモジュールと、
前記試料を保持するための、前記第１および第２のモジュールから封止された試料チャンバと、
前記チャンバ内の大気を除去するための浄化システムとを含み、
前記浄化システムは、浄化ガスを前記試料へ向ける少なくとも一つの伸縮自在である管を含む、組立体。
【請求項２３】
前記浄化システムは、また浄化ガスを前記試料へ向ける第２の管であって前記光線が該管を通り抜けるように配列された第２の管を含む、請求項２２に記載の組立体。
【請求項２４】
前記第１および第２の組の光学要素は、前記試料の複屈折特性の決定に適する、請求項２２に記載の組立体。
【請求項２５】
さらに前記試料チャンバから前記光源を熱的に隔離するための手段を含む、請求項２２に記載の組立体。
【請求項２６】
さらに、前記光源および試料チャンバの近傍にあるがこれらから熱的に隔離されたガス加熱室を含む、請求項２２に記載の組立体。
【請求項２７】
光学要素を通して光線を方向付ける方法であって、
チャンバ内に光学要素を配置するステップと、
前記光学要素に近接する開放端を有する管を通して浄化ガスを方向付けるステップと、
前記チャンバを排気するステップと、
前記管を前記光線が通り抜けるように前記管を前記光線に整列させるステップとを含む、光線を方向付ける方法。
【請求項２８】
さらに、前記光学要素に近接する開放端を有する第２の管を通して浄化ガスを方向付けるステップを含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記光学要素の両側に両管のそれぞれが開放しかつ前記光線に整列するように前記両管を配列することを含む、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記光学要素の寸法に応じて、該光学要素に関する選択された位置に前記管の前記開放端を位置させるべく前記光学要素の近傍で前記管の長さを調整するステップを含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】
第２の浄化ガスを前記チャンバ内に案内しかつ前記管内への浄化ガスの前記供給および前記第２の浄化ガスの供給を独立的に制御するステップを含む、請求項２９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィあるいは光学要素の特性の測定に用いることのできる短波長光線のような光線経路からの汚染物質の除去に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学リソグラフィは、集積回路の性能向上のために、集積回路内の線重量（導体等）の低減を目的として、現在、極めて短い露出波長の使用に移行している。この点で、次世代の光学リソグラフィシステムは、しばしば遠紫外線すなわちＤＵＶと称されている約１５７ナノメートルの波長を有するレーザ光を使用するであろう。
【０００３】
ＤＵＶ光を使用するシステムで用いられる光学要素の光学特性を正確に決定することは重要である。そのような光学要素は、例えば、スキャナあるいはステッパのフッ化カルシウム（ＣａＦ２）レンズである。複屈折は、そのような光学要素の特性の一つである。
【０００４】
複屈折は多くの光学材料に固有の特性であり、また外力により導入することができる。遅延(retardation)あるいは遅延特性（retadance）の用語は、光学要素試料を通過する光線の経路に沿って作用する複屈折の統合された結果を表す。入射光線が前記試料の速軸と異なる偏光方向で直線偏光を受けると、該直線偏光の２つの直交成分はリターダンスと称される位相差で試料から出る。リターダンスの単位はナノメートル（ｎｍ）のような長さである。それは、また、しばしば位相角（波長、ラジアンまたは度）の単位で表現され、その角度は、光の波長（ｎｍ）で除したリターダンス（ｎｍ）に直接比例する。試料についての「平均」複屈折経路は、測定されたリターダンスの大きさを試料の厚さで除することにより、算出されることがある。「複屈折」という用語は、しばしば、「リターダンス（retardance）」という用語と互換性を持って使用され、また同じ意味を持つ。 したがって、別段の場合を除き、それらの用語は、互換性を持って以下で使用されている。
【０００５】
光学要素のリターダンスは、光学材料と、該光学材料を通り抜ける光の波長との双方の特性であることから、ＤＵＶ光学的セットアップで使用される光学的要素のリターダンス特性測定システム（以下、通常は、複屈折測定システムと称される。）は、関連する光信号を正確に検出し、処理するために、また、ＤＵＶ光源およびその関連部品と共に動作しなければならない。
【０００６】
ＤＵＶ光を複屈折測定およびフォトリソグラフィのような応用に使用することに関連して、幾つかの問題がある。 一つの問題は、システム環境、特に光線経路での酸素の存在によるＤＵＶ光の吸収に関係する。これに関して、(水蒸気または微量の炭化水素のような他の汚染物質と同様に)酸素分子はＤＵＶ光を吸収し、その結果、光を減衰させて、試料の正確な複屈折測定に必要な信号を減少させてしまう。
【０００７】
システム環境で(他の汚染物質と同様に)酸素を排除する一つの方法は、窒素(Ｎ２)でシステムを浄化する（purge）ことである。しかしながら、浄化および浄化システムの維持は、特に、多くの光学部品が含まれあるいは光学要素を組み込む設備が大きい場合、しばしばスループットの減少を招き、あるいは大きくて高価な浄化（パージ）システムを必要とする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、光線経路の効果的な浄化と共に、システムのスループットへの浄化の影響を最小とすることに向けられている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
一実施例では、本発明は複屈折測定システムに組み込まれ、該複屈折測定システムは、試料を通り抜けるようにＤＵＶ光を方向付け、その後この光を検出し、分析するための複数の構成要素を備える。前記試料を通過する経路を含む光線経路の一部分は、絶え間ない浄化を必要とする設備の容量の低減のために、チャンバで隔離される。さらに、浄化ガス（purging gas）は、浄化された低酸素の光線経路を維持する、局所化されたすなわち集中化した方法で方向付けられる。前記チャンバは、試料の設置および取り外しの間のように、前記チャンバが時折周囲の酸素に晒されたとき、浄化環境を迅速に回復できるように、作られる。
【００１０】
本発明の他の利点および特徴は、本明細書の以下の記載および図面の検討により、明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の光線経路の浄化を組み込んだシステムが図１に示されている。そのようなシステムは、前記したように、試料の光学要素を通り抜けた光信号を検出し処理するために、遠紫外線（ＤＵＶ）光源と、関連する部品と共に動作する複屈折測定システムであるかもしれない。
【００１２】
次に検討される複屈折測定システムは、本発明の光線路浄化システムの多数の実施例の一つに過ぎず、該複屈折測定システムの特定の構成要素は、発明の基本を示すために記載されていることに留意すべきである。また、発明は光線路の浄化として特徴付けられているが、試料を取り囲む隔離されたチャンバ内のシステム環境が浄化されることが理解できよう。
【００１３】
対象としている複屈折測定システム１００では、３つの主要な区画室すなわちモジュールが配列されている。上方モジュール１０２、下方モジュール１０４、および試料モジュール１０６である。
【００１４】
上方モジュール１０２はDUV光源１２０を含み、該ＤＵＶ光源は例えばモノクロメータと結合された重水素放電管である。 前記放電管は、広範囲の波長光を放射する。モノクロメータは、複屈折測定に望まれる特定の波長(157nm＋／−10nmなどの)を選択するように設定される。異なるスペクトル領域の複屈折測定のために、水銀灯およびキセノンランプのようなその他のランプを用いることができる。この点に関し、有効な浄化の重要性は、前記スペルトルのＤＵＶ部分の波長で増大するが、本発明の以下に記載の光線経路浄化の特徴は、１５７ｎｍのような特定の波長を有する光線に限定されることはない。
【００１５】
また、エキシマすなわちフッ素タイプのレーザのようなレーザ光源により光線を発生することが考えられる。
【００１６】
光源１２０から発散する光線１２１は、偏光子１２４を通り、次に、第１の光弾性変調器（ＰＥＭ１）１２６に向けられ、該変調器は、前記光線が試料光学要素１３６（以下、「試料」と称す）を通すための試料モジュール１０６に向けられる前に、前記光線の偏光を変調する。前記試料は、例えば、リターダンス特性を決めるべきレンズ半加工品である。試料１３６は、該試料を光線１２１が通るように、試料ホルダ１３４に取り付けられる。前記ホルダは、前記試料表面の交差する複数の位置での複屈折データを集めることができるように、直交（ＸおよびＹ）軸に沿った並進の意味で前記試料の移動が制御可能なＸ／Ｙステージタイプである。前記試料を通り抜けた後、前記光線は下方モジュール１０４に進む。試料モジュール１０６とその内容の記載に戻る前に、次に下方モジュール１０４の詳細を検討する。
【００１７】
下方モジュール１０４は、試料１３６から出てくる偏光した光線１２１を変調する第２の光弾性変調器（ＰＥＭ１）１２８を含む。光線１２１は、近接する検出器１３２に到達する前に、分析器１３０を通り抜ける。
【００１８】
本発明の一態様として、前記システムは、絶えず酸素の追い出しを図る容積（該容積を前記光線が通過する）が最小となるように、構成され、配置されている。これを達成するのに、前記システムの部品の前記モジュール配列が好都合である。特に、前記した上方モジュール１０２の構成要素は、図１に符号１４０で示されているように、ケーシング内で封止されている。ケーシング１４０は、雰囲気から上方モジュールの光学部品のすべてを包囲するように構成し得る、金属シートのような、如何なる適正な材料であってもよい。コントロールケーブル(参照符号１２２で示されている)およびケーシング１４０の壁を貫通する他のコネクタは、該ケーシング内に密封容積が維持されるように、従来方法によりケーシング壁に封止されている。
【００１９】
上方モジュール１０２は、キャビネットを含むことができ、該キャビネットは、ケーシング１４０、および光源１２０と第１の光弾性変調器（ＰＥＭ１）１２６との双方を制御するためのコントローラ１２３のような如何なる関連設備をも格納する。
【００２０】
上方モジュールケーシング１４０は、単一の包囲体または各構成要素の分離した多数の包囲体の積み重ねとすることができる。酸素が単一または複数のケーシング１４０から追い出され、またこのケーシングは環境大気から密閉される。これに代えて、ケーシング１４０を真空とすることができる。ケーシング１４０は、試料モジュール１０６（図１）の頂壁１０５へ気密的な方法で取り付けられる。光弾性変調器１２６の開口は、光線１２１が試料モジュール１０６に入って試料１３６を通り抜けるように、頂壁１０５の開口に整合する。
【００２１】
同様に、前記した下方モジュール１０４の構成要素は、図１の符号１４２で示されるケーシング内に封止されている。ケーシング１４２は、雰囲気から下方モジュールの構成要素のすべてを包囲するように構成し得る、金属シートのような、如何なる適正な材料であってもよい。コントロールケーブル(参照符号１３３で示されている)およびケーシング１４０の壁を貫通する他のコネクタは、該ケーシング壁に従来の方法により封止されている。
【００２２】
下方モジュール１０４は、キャビネットを含むことができ、該キャビネットは、下方モジュールケーシング１４２、および検出器１３２によって集められた信号データを処理するためのコンピュータ１３５のような如何なる関連設備をも収容する。
【００２３】
下方モジュールケーシング１４２は、前記上方モジュールケーシングと同様に、単一の包囲体または各構成要素の分離した多数の包囲体の積み重ねとすることができる。環境大気はケーシング１４２から追い出され、このケーシング１４２は封止され、試料モジュール１０６の底壁１０７へ気密的な方法で取り付けられる。下方モジュール１０４の第２の光弾性変調器１２８の開口は、試料１３６を伝搬する光線１２１が下方モジュール１０４の光学部品セット内に入るように、その壁１０７の開口に整合する。
【００２４】
光線１２１は３つのすべてのモジュールを通り抜けるが、試料モジュール１０６により規定される隔離されたチャンバは、本システムの他の２つのモジュールから密封されている。試料モジュール１０６は、試料ホルダ１３４と試料１３６とを包囲し、また、試料を交換あるいは配置し直すために、（以下に説明するとおり）当該モジュールへのアクセスを提供する必要性があるので、酸素に晒すことができる。すなわち、時々必要となる試料モジュール内部へのアクセスは、システムを囲む大気中の酸素にそのチャンバを晒す。 したがって、このモジュール１０６は、前記した局所的すなわち集中的な浄化（パージング）を受ける。一つには、試料モジュール１０６を隔離することによって、光学系（光線が通過する光学要素のすべてを含むシステム）の全体のうちの比較的わずかな容量が絶え間ない浄化（パージング）を必要とされるに過ぎないことを認識できる。
【００２５】
浄化（purging）のための好ましい一メカニズムは、窒素１５０の供給を含み、該窒素は液体の形態で蓄えることができる。液体窒素は膨張して気相状態になり、供給源１５０と試料モジュール１０６との間で相互に連結された温度制御を受ける熱交換器１５２により大気温度に加熱される。窒素に代えてヘリウムのような他のガスを用いることができる。熱交換器１５２は、試料モジュール１０６から熱的に分離された区画室に収容される。
【００２６】
浄化ガスを集中する応用は、一対のガス導管１５４、１５６を含み、該各ガス導管は、熱交換器１５２から各管１５４、１５６に浄化ガスを導く二股配管１５８によって提供される浄化ガスで加圧される。二股配管１５８へのガスの流れは、コンピュータ１３５の制御を受ける電子弁１５５であって光線が使用されていないときはいつでも閉鎖することができる電子弁１５５によって制御できる。
【００２７】
上方管１５６は、該管の軸線方向が光線１２１に一致するように、試料モジュール１０６の壁１０５に取り付けられている。したがって、光線１２１は、密封された上方モジュールケーシング１４０を出た後に、前記管１５６の窒素で飽和した内部を通って試料１３６に伝わる。
【００２８】
ここで、使用の間、多量の熱を発生する光源１２０が、浄化ガスの配送を受ける配管を含む試料モジュール１０６の前記試料チャンバ内から熱的に隔離されていることは注目に値する。また、区画された温度制御を受ける熱交換器１５２は、前記試料チャンバと同様に、前記光源から熱的に隔離される。この熱的隔離の結果、前記試料に配送される浄化ガスの温度が安定して保持されるので、前記試料の光学特性を変化させる温度変化が前記試料に引き起こされることは全くない。
【００２９】
望ましくは、上方管１５６は、伸縮自在の延長管１６０を有する。延長管１６０を引っ込めて、試料１３６の置き換えを容易とするための間隔を得ることができ、また、試料ホルダ１３４上の適正位置に前記試料があると、延長管１６０を伸長させてその開放端を前記試料の上面に近接させることができる。前記管に供給されるガスの圧力が選択されることから、延長管１６０から出る浄化ガスは、前記管と前記試料表面との間の前記間隔に正圧を作用させ、これにより、この正圧がなければ露出する前記光線経路の一部への酸素の入り込みを防止する。
【００３０】
下方の浄化ガス導管１５４は、該導管が軸方向へ光線１２１に整列するように、試料モジュール１０６の底壁１０７に取り付けられている。したがって、光線１２１は、試料１３６内を伝搬した後、前記管１５４の内部を通り、前記したように、下方モジュールケーシング１４２に至る。それにより、光線１２１は前記経路の前記管１５４の窒素で飽和した内部を通って、下方モジュール１０４に伝わる。
【００３１】
望ましくは、前記下方管１５４下側の開放端は、試料ホルダ１３４の下面に隣接して（したがって前記試料に隣接して）伸びる。前記浄化ガスの圧力が選択されることから、前記管１５４を出るガスは、該管と前記試料の下面との間の間隔に正圧を供給し、これにより、前記光線経路のこの部分への酸素の入り込みが防止される。
【００３２】
伸縮自在な延長管の有無に拘わらず、単一の集中ガス導管で充分であると考えられる。また、いくつかの複屈折測定システムでは、光線は、分離された一組の検出構成要素に向けて、試料からすべてあるいは一部が反射される。当業者にとっては、本発明が、他の（前記したケーシング１４０、ケーシング１４２と同様な）構成要素を封止し、反射光の光軸に一致させて他の浄化ガス導管を配置することにより、そのようなシステムで使用できることが明らかであろう。
【００３３】
また、前記浄化ガス管をある大きさに作り、これを光線の軸線と直角な軸線で配置し、これにより前記光線が前記導管の内部を通り抜けることが望ましくないあるいは不可能である場合、前記光線を横切るように前記浄化ガスを方向付けることが考えられる。
【００３４】
前記浄化ガスは、その存在が最も重要である箇所で集中されているが、光線の経路に沿って、試料モジュール１０６の内部のチャンバ全体が酸素を除去されている点に注意されたい。このために、本発明の好適な一実施例は、分離ポート１５９により加熱された窒素源からの供給を受け、またコンピュータ制御の電子バルブ１５７により制御を受ける付加すなわち第２のガス導管を含む。第２の浄化ガスの供給は、浄化への二元的すなわち段階的な方法を可能にする。例えば、（ポート１５９を通る）第２の浄化は、前記システム１００の動作中、実質的に連続的に適用することができ、これにより前記供給チャンバ内を極めて低い酸素濃度に維持することができる。浄化ガスの効率的な使用のために、（導管１５４、１５６を通る）第１すなわち集中浄化は、前記光線が前記試料チャンバに向けられるときにのみ使用することができる。
【００３５】
単一のポート１５９およびバルブ１５７のみが描かれているが、ここに述べた第２の浄化の効果的な使用のために、そのようなポートおよびバルブの複数組を使用することを理解することができるであろう。
【００３６】
排気口１６４には、関連ファンの有無に拘わらず、該排気口から排気ガスが試料モジュール１０６の前記チャンバに戻るのを防止する一方向フラップすなわち逆止弁が設けられている。
【００３７】
図２は、好適な実施例において、試料モジュール１０６の前記チャンバを、閉じられているとき、封止するヒンジドア１７０、１７２を経て、オペレータは、試料モジュール１０６にアクセス可能であることを示す。前記したように、試料モジュール１０６へのそのようなアクセスは、該モジュールへの望まない酸素の導入を許す。いずれにしても、前記試料モジュールの容積は、前記光学システムの他のモジュールから隔離されているために、比較的小さいことから、モジュールドア１７０、１７２が再び閉じられた後、密封された前記試料モジュール内で充分に浄化されたチャンバを早急に復帰させることができる。試料モジュール１０６を経る前記光線経路は、前記した前記浄化ガス配送（管１５４、１５６およびポート１５９）の効果により、直ちに浄化される。
【００３８】
前記したポート１５９を通して提供される第２の浄化（あるいは如何なる同様な第２の浄化ガス配送システムも）は、選択可能である。すなわち、試料モジュール１０６の内部のチャンバが実用上できる限り小さな容積に構成されて、そのチャンバが(しっかりと密封されたアクセスドアを含んでいて)確実に隔離される例では、管１５４、１５６を経るようなガスの集中した配送は、前記試料チャンバ内のかなり低い酸素濃度を維持するのに十分である。
【００３９】
また、試料モジュール１０６は最小限の構成要素を備えているので、該構成要素(材料の風化あるいはガスの発生)が与える汚染源は同様に最小にできることを指摘できる。
【００４０】
いくつかの画像光学系では、光学リソグラフィの反復スキャン（step-and-scan）システムを含み、フッ化カルシウムレンズが、ある開口数を実現して光線を曲げるのに、通常使用される。それ故、入射光線に関してフッ化カルシウムの試料内の複屈折の角度依存を研究することは重要である。この角度依存を分析する一方法は、光学試料の表面を光線の所望の入射角を定めるための傾斜すなわち傾き角で配置することである。
【００４１】
図３の図形は、前記した複屈折測定システム１００（隔離され浄化された試料チャンバ等）に匹敵するシステムで、傾斜した光学要素試料２３６がいかにして光線２２１の固定経路を横切る（ここでは、線形の「Ｙ」方向）かの例を概略的に示す。試料２３６は、該試料の表面を横切る複数の位置で複屈折データを収集できるように、Ｘ／Ｙステージの試料ホルダ２３４により、徐々に横断する。
【００４２】
当然のことながら、光線２２１に関して傾けられた試料２３６が移動する結果、前記試料の表面と前記光線を取り巻く両浄化ガス導管の開放端との間の距離が変化する。本発明の一態様として、前記光線に関して傾斜する前記試料の移動のために調整可能でありかつ前記試料表面に近接して配管が開口するように前記浄化ガスの配管を維持するガス配送システムが設けられる。この実施例は、図３および図４に示され、次に議論される。
【００４３】
図３（ａ）は光線２２１に関して傾斜した試料２３６の一つの位置を示し、ここでは、前記試料の比較的低い前縁２３７が光線２２１の経路を横切る。本実施例では、図３および図４に概略的に示されているように、伸縮自在の上方浄化ガス導管２５６が設けられている。前記試料下には、同様な伸縮自在な下方浄化ガス導管２５４が存在する。
【００４４】
図３（ａ）ないし図３（ｃ）の一連の図面は、試料２３６が図中左方から右方へ横断するに伴い、いかにして上方ガス導管２５６が引っ込み、また下方ガス導管２５４が伸長するかを示す。前記図から、前記浄化ガス導管の端部は、前記試料の表面に近接近して維持され、これにより前記管と前記試料との間に存在する隙間が前記管の浄化ガスからの正圧下に維持されることが理解できよう。
【００４５】
図４を参照するに、調整可能な浄化ガス管２５６および２５４は、多くの方法のいずれによっても形成することができる。一実施例では、伸縮自在の上方ガス管２５６は試料モジュールの頂壁１０５に取り付けられ、前記したように二股配管１５８に対応する二股管２５８により、その一方の支管を経て浄化ガスが供給される。
【００４６】
前記上方管２５６の延長部分２６０は、前記管２５６に隣接して取り付けられた線形アクチュエータ２６２に接続されている。前記アクチュエータ２６２は、コンピュータ１３５の制御下で、接続された延長部分２６０を図４に矢印２６４で示される反対方向へ伸長および収縮させるべく、動作可能である。前記下方の伸縮可能の管２５４は、コンピュータ抑制を受ける線形のアクチュエータ２６３により、同様に、伸長されまた収縮される。
【００４７】
試料ホルダ２３４は、入射光線２２１に関して特定の角度で試料２３６を保持するように構成することができる。そのような例では、コンピュータ１３５は、前記試料ホルダのＹ位置を前記試料表面の位置に関連付ける情報でプログラムされており、その結果、前記線形アクチュエータは、前記試料の横断に伴って該試料の各表面にそれぞれ近接して前記管２５６、２５４の端部を保持するように、制御される。例えば、図３では、前記線形アクチュエータは、該図の左方から右方へ前記試料が横断するに伴って前記上方管２５４を徐々に収縮させ、また前記下方管２５６を徐々に伸長させるように、制御を受ける。
【００４８】
前記管は、（本実施例では、）前記下方管と前記試料の前縁２３７との間または前記上方管２５４と前記試料の後端２３９との間に接触が生じないことを確実にするに充分な量まで引き込まれる。
【００４９】
さらに、試料ホルダ２３４は、例えば、前記光線の多数の異なる入射角での試料の複屈折特性の分析を容易とするために、前記試料を回転させるように設計することが考えられる。例えば、図４に示される試料ホルダ２３４は、整列した枢軸ポスト２４０、２４１の周りに試料２３６を取り付ける。サーボモータ２３５が一方のポストすなわちシャフト２４１に接続され、分析のために前記試料を所望角へ回転させるように前記コンピュータにより操作可能である。一実施例では、前記サーボモータは、前記コンピュータにシャフト２４１の位置情報を提供するエンコーダを備える。前記位置情報は、前記試料表面の相対位置の決定のために処理され、前記浄化ガス管２５４、２５６が前記したように前記各管末が前記試料表面への近接近を維持するように（前記線形アクチュエータ２６２、２６３を介して）適時調整される。
【００５０】
例えば、サーボモータ２３５は、図４に実線で示される角度配置から破線２４３で示される水平位置へ試料２３６を回転させるように、駆動できる。したがって、前記上方管は該管の端末が前記試料表面に近接するまで矢印２４５で示される方向へ伸長する。下方管２５４はこれに対応して収縮する。
【００５１】
本発明の好適な複数の実施例を記載したが、本発明の精神および範囲は、それらによって制限を受けないことは言うまでもなく、また種々の変更および添付の特許請求の範囲の記載と均等なところに及ぶ。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の光線経路の浄化システムを組み込んだ好適な一システムの概略図である。
【図２】図１に示したシステムを図式化した側面図である。
【図３】傾きすなわち傾斜配置が保持された光学要素から成る試料が光線経路に関して移動する本発明の実施例を示す３部からなる図面である。
【図４】移動可能の傾斜試料に関して浄化ガス導管の動きを示す、図３の実施例を拡大して詳細を示す図面である。
【符号の説明】
【００５３】
１００  複屈折測定システム
１０２  第１のモジュール（上方モジュール）
１０４  第２のモジュール（下方モジュール）
１０６  試料モジュール
１２０  光源
１２１、２２１  光線
１３２  検出器
１３４、２３４  試料ホルダ
１３５  制御手段（コンピュータ）
１３６、２３６  光学要素（試料）
１４０、１４２  包囲体（ケーシング）
１５０  ソース（窒素）
１５２  加熱手段（熱交換器）
１５４、１５６、１５８、１５８、１５９、１６４、２５８  浄化手段（浄化ガス導管、二股配管、ポート、排気口）
１６４  排気手段（排気口）
１７０、１７２  ドア
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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