(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板のスピン洗浄・乾燥装置（１）の中央に設けられた水平方向にサーボモータ（４）により回転可能でシリンダ（５）で上下方向に昇降可能な回転軸（３）、
該回転軸（３）の頭頂部（３ｂ）に設けられた３本のア−ム（７１，７１，７１）を有する治具（７０）の前記ア−ム先端に起立して設けられた把持具（７２，７２，７２）に基板（ｗ）の少なくとも３箇所の端面を当接させて基板を前記ア−ム（７１，７１，７１）より浮かして保持する第２基板保持手段（７）、
基板（ｗ）の端面に当接して基板を保持しつつ回転することができ、回転駆動源によって駆動される一対の駆動ロ−ラ（８１，８１）と、一対の遊転抑えロ−ラ（８２，８２）と、基板の中心点とロ−ラ（８３，８３）間を結ぶ直線の中間点とを結ぶ直線上を移動できる一対の遊転抑えロ−ラ（８３，８３）よりなる保持ロ−ラ（８１，８１，８２，８２，８３，８３）を含む第１基板保持手段（８）、
前記第１基板保持手段（８）に端面を保持された基板（ｗ）の上面および下面をスクラブ洗浄する両面洗浄手段（９）、
前記両面洗浄手段（９）の一対の回転ブラシ（９ｃ，９ｃ）を基板面に移動および基板面より後退させる移動手段、
前記第１基板保持手段（８）に端面を保持された基板（ｗ）の上面および下面に洗浄液を供給する一対（１０ａ，１０ｂ）の洗浄液供給機構（１０）、
および、
前記第２基板保持手段（７）に端面を保持された基板（ｗ）の上面および下面に気体を供給する乾燥気体供給機構（１１）、
を備える基板のスピン洗浄・乾燥装置（１）であって、
前記第２基板保持手段（７）の３本のア−ム（７１，７１，７１）を有する治具（７０）を上下に昇降させた際、治具（７０）に固定された複数のア−ム（７１，７１，７１）は、第１基板保持手段（８）の保持ロ−ラ（８１，８１，８２，８２，８３，８３）に衝突しない空間を通過するものであり、
また、前記第１基板保持手段（８）の保持ロ−ラ（８１，８１，８２，８２，８３，８３）の各中心点は、回転軸（３）の軸心を中心点とする円の同一円周上位置に在り、駆動ロ−ラ（８１，８１）間を結ぶ直線の中間点、遊転抑えロ−ラ（８２，８２）間を結ぶ直線の中間点、および、遊転抑えロ−ラ（８３，８３）間を結ぶ直線の中間点の、これら３つの中間点を結んだ仮想直線はこれら３つの中間点を頂点とする正三角形を示す、
ことを特徴とする、基板のスピン洗浄・乾燥装置（１）。
【請求項２】
請求項１に記載の基板のスピン洗浄・乾燥装置（１）を用い、次ぎの１）から４）の工程を経て基板（ｗ）を洗浄、ついで基板を乾燥する方法。
１）第１基板保持手段（８）に端面を保持され、水平方向に回転されている基板（ｗ）の上面および下面に洗浄液供給機構（１０）より洗浄液を供給しつつ回転するブラシ（９ｃ，９ｃ）を当接して基板（ｗ）をスクラブ洗浄する。
２）洗浄液の供給および基板の回転を止め、ブラシ（９ｃ，９ｃ）を基板面より後退させた後、保持ロ−ラの一部（８３，８３）を後退させて基板端面の保持ロ−ラ（８１，８１，８２，８２，８３，８３）による抑えを開放する。
３）第２基板保持手段（７）を上昇させ、治具（７０）に固定されているア−ム（７１，７１，７１）先端に起立している把持具（７２，７２，７２）に基板の端面を当接させて基板を前記ア−ム（７１，７１，７１）より浮かして保持する。
４）回転軸（３）を回転させることにより第２基板保持手段（７）の把持具（７２，７２，７２）に保持された基板を回転させ、回転している基板の上面および下面に乾燥気体供給機構（１１）より気体を供給して基板をスピン乾燥させる。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体基板、ガラス基板、磁気ディスク基板等の製造過程において、研削された基板あるいは研磨された基板を洗浄して基板表面より残砥粒や研削、研磨屑をスクラブ洗浄し、ついで基板をスピン乾燥させることが１台の装置で可能な洗浄・乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板をスクラブ洗浄し、ついでスピン乾燥をなす洗浄・乾燥方法としては、例えば次ぎの方法が知られており、かつ、実用化されている。
▲１▼一台の洗浄・乾燥装置を用い、回転軸に軸承されたポ−ラスセラミック置台上に基板を載せ、回転軸を回転させることにより回転する基板の上面または基板の下面をブラシでスクラブ洗浄し、ついで乾燥空気を基板表面に吹き付けてスピン乾燥させる方法（特開平７−１１５０７８号、特開２０００−１８８２７４号、同２０００−２０８４６１号）。
【０００３】
▲２▼図１０で示す両面スクラブ洗浄装置（月刊  Semiconductor  World  １９９７年３月号：８９−９１頁）を用い、端面に当接して基板を保持しつつ回転することができ、回転駆動源によって駆動される駆動ロ−ラを少なくとも１つ含む３つの保持ロ−ラを含む基板保持手段に端面を保持された基板の上面および下面に洗浄液を供給しつつ、回転するブラシを基板の上下面に当接して基板をスクラブ洗浄し、ついでブラシを基板面より後退させ、搬送ロボットで基板をスピン乾燥装置に移送し、端面を保持された基板の上下面に乾燥空気を吹き付けながら基板をスピン乾燥する２台の装置を用いる方法。
【０００４】
▲３▼上記▲２▼の方法において、両面スクラブ洗浄装置とスピン乾燥装置の間に第２の基板表面洗浄装置を設け、両面スクラブ洗浄装置で基板両面をスクラブ洗浄した後、基板を第２の基板表面洗浄装置のスピンチャッグに移送し、保持させて基板上面をスクラブ洗浄し、ついで基板をスピン乾燥装置に移送して基板をスピン乾燥する３台の装置を用いる方法（特開平１０−３０３１７０号）。
【０００５】
上記▲１▼の方法は、一台の洗浄・乾燥装置を用いるので、フットプリント(FootPrint）が狭くできる利点を有するが、ポ−ラスセラミック置台に接していた基板部分の洗浄、乾燥が充分でない欠点がある。
【０００６】
両面スクラブ洗浄装置とスピン乾燥装置を併用する上記▲２▼および▲３▼の方法は、洗浄効果よく、かつ、スピン乾燥時間が短い利点を有するが、２台以上の装置を並設するため、フットプリント(Foot  Print）を広くとる欠点がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
両面スクラブ洗浄装置とスピン乾燥装置が一体化した洗浄・スピン装置であるとフットプリント(Foot  Print）を狭くすることができる。しかし、従来の両面スクラブ洗浄装置に空気吹き付けノズルを付属させるのでは、基板スピン乾燥時の基板のスピン（回転）が基板端面に当接する保持ロ−ラの駆動回転数が３０ｍｉｎ−１と遅い故に、スピン乾燥時間が長くなる。
本発明は、スピン乾燥時間が短くて済む両面スクラブ洗浄装置とスピン乾燥装置が一体化した洗浄・スピン装置の提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１は、  基板のスピン洗浄・乾燥装置（１）の中央に設けられた水平方向にサーボモータ（４）により回転可能でシリンダ（５）で上下方向に昇降可能な回転軸（３）、
該回転軸（３）の頭頂部（３ｂ）に設けられた３本のア−ム（７１，７１，７１）を有する治具（７０）の前記ア−ム先端に起立して設けられた把持具（７２，７２，７２）に基板（ｗ）の少なくとも３箇所の端面を当接させて基板を前記ア−ム（７１，７１，７１）より浮かして保持する第２基板保持手段（７）、
基板（ｗ）の端面に当接して基板を保持しつつ回転することができ、回転駆動源によって駆動される一対の駆動ロ−ラ（８１，８１）と、一対の遊転抑えロ−ラ（８２，８２）と、基板の中心点とロ−ラ（８３，８３）間を結ぶ直線の中間点とを結ぶ直線上を移動できる一対の遊転抑えロ−ラ（８３，８３）よりなる保持ロ−ラ（８１，８１，８２，８２，８３，８３）を含む第１基板保持手段（８）、
前記第１基板保持手段（８）に端面を保持された基板（ｗ）の上面および下面をスクラブ洗浄する両面洗浄手段（９）、
前記両面洗浄手段（９）の一対の回転ブラシ（９ｃ，９ｃ）を基板面に移動および基板面より後退させる移動手段、
前記第１基板保持手段（８）に端面を保持された基板（ｗ）の上面および下面に洗浄液を供給する一対（１０ａ，１０ｂ）の洗浄液供給機構（１０）、
および、
前記第２基板保持手段（７）に端面を保持された基板（ｗ）の上面および下面に気体を供給する乾燥気体供給機構（１１）、
を備える基板のスピン洗浄・乾燥装置（１）であって、
前記第２基板保持手段（７）の３本のア−ム（７１，７１，７１）を有する治具（７０）を上下に昇降させた際、治具（７０）に固定された複数のア−ム（７１，７１，７１）は、第１基板保持手段（８）の保持ロ−ラ（８１，８１，８２，８２，８３，８３）に衝突しない空間を通過するものであり、
また、前記第１基板保持手段（８）の保持ロ−ラ（８１，８１，８２，８２，８３，８３）の各中心点は、前記回転軸（３）の軸心を中心点とする円の同一円周上位置に在り、駆動ロ−ラ（８１，８１）間を結ぶ直線の中間点、遊転抑えロ−ラ（８２，８２）間を結ぶ直線の中間点、および、遊転抑えロ−ラ（８３，８３）間を結ぶ直線の中間点の、これら３つの中間点を結んだ仮想直線はこれら３つの中間点を頂点とする正三角形を示す、
ことを特徴とする、基板のスピン洗浄・乾燥装置（１）を提供するものである。
【０００９】
両面スクラブ洗浄時は第１基板保持手段に保持されていた基板を、第２基板保持手段を上昇させることにより第２基板保持手段の把持具で保持し、これを回転軸を回転（回転数は１０００〜６０００ｍｉｎ−１）させることにより基板のスピン乾燥時間が短縮できる。
【００１１】
第１基板保持手段の一対の遊転抑えロ−ラを基板の端面より１〜１０ｍｍ後退させて抑えロ−ラにより基板の拘束を開放することにより、第２基板保持手段の把持具による基板の保持を容易とすることができる。
【００１２】
本発明の請求項２は、前記請求項１に記載の基板のスピン洗浄・乾燥装置（１）を用い、次ぎの１）から４）の工程を経て基板（ｗ）を洗浄、ついで基板を乾燥する方法を提供するものである。
１）第１基板保持手段（８）に端面を保持され、水平方向に回転されている基板（ｗ）の上面および下面に洗浄液供給機構（１０）より洗浄液を供給しつつ回転するブラシ（９ｃ，９ｃ）を当接して基板（ｗ）をスクラブ洗浄する。
２）洗浄液の供給および基板の回転を止め、ブラシ（９ｃ，９ｃ）を基板面より後退させた後、保持ロ−ラの一部（８３，８３）を後退させて基板端面の保持ロ−ラ（８１，８１，８２，８２，８３，８３）による抑えを開放する。
３）第２基板保持手段（７）を上昇させ、治具（７０）に固定されているア−ム（７１，７１，７１）先端に起立している把持具（７２，７２，７２）に基板の端面を当接させて基板を前記ア−ム（７１，７１，７１）より浮かして保持する。
４）回転軸（３）を回転させることにより第２基板保持手段（７）の把持具（７２，７２，７２）に保持された基板を回転させ、回転している基板の上面および下面に乾燥気体供給機構（１１）より気体を供給して基板をスピン乾燥させる。
【００１３】
１台のスピン洗浄・乾燥装置で基板の両面スクラブ洗浄、スピン乾燥を行うことができ、基板の研削または研磨における洗浄・乾燥工程のスル−プット時間を短縮することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
【実施例】
以下、図面を用いて本発明のスピン洗浄・乾燥装置を詳細に説明する。
図１は、スピン洗浄・乾燥装置の平面図、図２は図１におけるＩ−Ｉ断面図、図３は第２基板保持手段の部分拡大断面図、図４は、第１基板保持手段の駆動ロ−ラ頭部部分の断面図、図５は第１基板保持手段の駆動ロ−ラ駆動部分の断面図、図６は第１基板保持手段の一対の遊転抑えロ−ラの平面図、図７はその遊転抑えロ−ラ頭部部分の断面図、図８はその遊転抑えロ−ラの移動手段の断面図、図９は移動手段の一構成要素であるピコテ−ブルの平面図である。
【００１５】
図１、図２および図３に示すスピン洗浄・乾燥装置１おいて、２はスピン洗浄・乾燥装置が据え付けられるベ−スで、図示されていない研削盤または研磨盤もこのベ−スに据え付けられる。
３はスピン洗浄・乾燥装置１の中央に設けられた回転軸、３ａは筒状の回転軸カバ−、４はサ−ボモ−タで前記回転軸３を水平方向に回転させる。４ａはブレ−キである。
【００１６】
５はエアシリンダで、固定プレ−ト５ａにシャフト５ｂを介して固定され、ロッド５ｂにボルトで固定された移動プレ−ト５ｃの昇降により移動プレ−ト５ｃにボルト固定されたシャフト５ｄを昇降（実線部分は上昇位置を、仮想線部分は待機時の下降位置を示す）させることにより前記回転軸３を上下方向に昇降させる。５ｆはスライダ機構で、ブラケット５ｇに固定されている。
シャフト５ｄは略円板状のトッププレ−ト５ｈに固定され、トッププレ−ト５ｈを突き抜けた頭部５ｉは筒状の外套上部６ａを支持板５ｊで固定し、外套上部６ａも昇降可能となっている。この外套上部６ａの下端部は前記トッププレ−ト５ｈにボルト５ｋで固定された支持板５ｌに固定される円筒状の下部固定外套６ｂ内に嵌る構造となっている。
【００１７】
７は第２基板保持手段で、前記回転軸３の頭頂部３ｂにフランジ３ｃとトップカバ−３ｄにより固定された３個の支持ア−ム７１，７１，７１を有する治具７０の前記支持ア−ム先端に円筒状の基台７３を起立し、その上に設けられた把持具７２，７２，７２に基板の少なくとも３箇所の端面を当接させて基板（図１で円板状の仮想線で示されるｗ、図２で仮想線で示されるｗ''）をア−ム７１，７１，７１より浮かして保持する。３ｅはベアリングである。
【００１８】
８は第１基板保持手段で、基板端面に当接して基板（図１で円板状の仮想線で示されるｗ、図２で仮想線で示されるｗ'）を保持しつつ、回転駆動源によって駆動される駆動ロ−ラ８１，８１と、一対の遊転抑えロ−ラ８２，８２と、基板の中心点とロ−ラ８３，８３間を結ぶ直線の中間点を結ぶ線上を移動できる一対の遊転抑えロ−ラ８３，８３を含む。
図１に示すように、前記第１基板保持手段８の保持ロ−ラ８１，８１，８２，８２，８３，８３の各中心点は、回転軸３の軸心を中心点とする円の同一円周上位置に在り、駆動ロ−ラ８１，８１間を結ぶ直線の中間点、遊転抑えロ−ラ８２，８２間を結ぶ直線の中間点、および、遊転抑えロ−ラ８３，８３間を結ぶ直線の中間点の３つの中間点を結んだ仮想直線はこれら中間点を頂点とする正三角形を示す。
前記第２基板保持手段７の複数のア−ムを有する治具７０を上下に昇降させた際、治具の複数のア−ム７１，７１，７１は、第１基板保持手段８の保持ロ−ラ８１，８２，８３に衝突しない空間を通過するような位置に第１基板保持手段は設けられる。
【００１９】
９は基板両面スクラブ洗浄手段（図１では仮想線で示す）で、図１０に示すブラシ９ｃ，９ｃを装着する把持部９ａ，９ａとブラシを回転させるモ−タ９ｂ，９ｂと基板両面スクラブ洗浄手段のブラシを基板上下面に移動もしくは上下面より後退させる移動手段（図示されていない）を備える。
ブラシの移動は、前後方向移動であっても振り子状揺動であってもよい。
ブラシ素材としてはポリビニルアルコ−ルスポンジ、ウレタン発泡スポンジ等が使用できる。
【００２０】
１０は洗浄液供給ノズルで、基板の上面に洗浄液を供給する上ノズル１０ａと、基板の下面に洗浄液を供給する下ノズル１０ｂよりなる。上ノズル１０ａ、下ノズル１０ｂとも複数個設けてもよい。
洗浄液としては、純水が一般に使用される。
洗浄液供給ノズルに切り替え弁を付属させ、フッ酸水やアルカリ水の薬剤を基板に供給して薬剤洗浄した後、弁を切り替えて純水を基板に供給し、基板をリンス洗浄してもよい。また、複数のノズルを使用し、薬液洗浄と純水によるリンス洗浄を振り分けてもよい。
【００２１】
１１は気体供給ノズルで、基板の上面に気体を吹き付ける上ノズル１１ａと、基板の下面に気体を吹き付ける下ノズル１１ｂよりなる。上ノズル１１ａ、下ノズル１１ｂとも複数個設けてもよい。
気体は、ベ−ス２を刳り貫いた空所に設けられた配管１１ｅにメイルコネクタ１１ｄを介して結合されたパイプ１１ｃより供給される。配管１１ｅの先は、図示されていないコンプレッサに接続され、圧縮気体が供給され、基板の乾燥を促進する。
気体は、空気、ヘリウム、アルゴン、窒素ガス、炭酸ガス等が使用でき、一般には安価な空気が使用される。
【００２２】
前記第１基板保持手段８の一対の駆動ロ−ラ８１，８１は、基板の端面に当接して基板に水平方向の回転力を付与するもので、図４および図５に示すように基板の端面に当接する円柱部８１ａとこの円柱部を支える台形錘状部８１ｂを有し、このロ−ラ８１，８１の台形錘状部８１ｂ中央は、ロ−ラ軸８１１，８１１に支持され、ロ−ラ軸８１１の下部には歯車８１２，８１２が装着され、歯車８１２，８１２にはシャフト８１３上部に備え付けられた駆動歯車８１４が噛み合わされている。これら歯車８１２，８１２，８１４はギヤボックス８１５内に収納されている。
シャフト８１３は円筒状シャフトカバ−８１７に保護され、シャフト８１３下部はカップリング材８１８を介してレバ−シブルモ−タ８１９の駆動軸８１９ａに接続されている。
レバ−シブルモ−タ８１９の駆動力をシャフト８１３に装着された駆動歯車８１４を介して歯車８１２，８１２に伝達し、駆動ロ−ラ８１，８１は回転し、基板を水平方向に回転させる。
【００２３】
前記第１基板保持手段８の基板の中心点と一対の遊転抑えロ−ラ８３，８３間を直線で結んだ直線の中間点とを結ぶ線上を移動できる一対の遊転抑えロ−ラ８３，８３は、上記一対の駆動ロ−ラ８１，８１の駆動により回転する基板の回転力を受けて連れ回りするもので、図６，図７，図８および図９に示すように基板の端面に当接する円柱部８３ａとこの円柱部を支える台形錘状部８３ｂを有し、このロ−ラ８３，８３の台形錘状部８３ｂ中央は、ボルト８３１，８３１によりロ−ラア−ム８３２，８３２に固定され、ロ−ラア−ム８３２，８３２はボルト８３３，８３３を介してブラケット８３４に固定されている。
【００２４】
このブラケット８３４の端部の底面は鉛直方向に起立する固定シャフト８３５の上端部に固定され、固定シャフト８３５の下端部はブラケット８３６を介してＮＯＫエフテック株式会社販売のピコテ−ブル８３７に固定される。
ピコテ−ブル８３７は、小型エアシリンダ８３９を備えたアクチュエ−タで小型リニアガイド８３８上を１〜１５ｍｍ程度スライドする構造を採る。
８３６ａはカバ−である。
【００２５】
前記ブラケット８３４の端部からは引張バネ８４０を固定するポスト８４１，８４１を起立して設け、引張バネ８４０の端部を固定する。引張バネ８４０の一方の端部はロ−ラア−ム８３２，８３２の端部に設けたＨ型窪みの上部に設けた孔８４２に引っ掛けて固定する。ロ−ラア−ム８３２，８３２はボルト８３３，８３３を支点として円弧状に移動でき、それ故、ロ−ラ８３，８３の中心点は図６でｒで示す円弧上を移動できる。
引っ張りバネ６４０によりロ−ラア−ム８３２，８３２は装置の中心に向く力を受けるので、基板は円柱部の端面に当接する。
基板の端面をロ−ラ８３，８３の端面より離れさすには、ピコテ−ブル８３７をリニアガイド上に１〜１５ｍｍ、好ましくは引っ張りバネの張力の影響を受けない５〜１０ｍｍ程度装置の中心より遠ざかる方向に移動させる。
【００２６】
他の遊転抑えロ−ラ８２，８２は、上記遊転抑えロ−ラ８３，８３において、ピコテ−ブルと引っ張りバネによる移動機構を設けない外は同様な構造を採るので詳細な説明を省く。
【００２７】
かかる本発明のを用いて、研削または研磨処理された基板を洗浄・乾燥させるには、次ぎの１）から４）の工程を経て行う。
【００２８】
１）図示されていない搬送ロボットにより、洗浄・乾燥装置１の基板保持手段８のロ−ラ８１，８１，８２，８２，８３，８３の台形錐上に基板を搬送し、載せ、ピコテ−ブル８３８を装置１の中心部方向にスライドさせて基板ｗ端面をロ−ラ８１，８１，８２，８２，８３，８３の円柱部に当接させてることにより保持する。
ついで、レバ−シブルモ−タ８１９を駆動させて駆動ロ−ラ８１を回転させることにより基板を水平方向に回転させ、この基板の上面および下面に洗浄液をノズル１０ａ，１０ｂより供給しつつ回転するブラシ９ｃ，９ｃを基板に当接して基板両面をスクラブ洗浄する。
【００２９】
２）洗浄液の供給および基板の回転を止め、ブラシを基板面より後退させた後、ピコテ−ブル８３８を装置１の中心部から遠ざかる方向にスライドさせることによりロ−ラ８３，８３を後退させて基板ｗ端面をロ−ラ８３，８３より引き離し、基板端面の保持ロ−ラによる抑えを開放する。
【００３０】
３）第２基板保持手段７をシリンダ５により上昇させ、治具７０のア−ム７１，７１，７１先端に起立している把持具７２，７２，７２に基板の端面を当接させて基板をア−ムより浮かして保持する。
【００３１】
４）サ−ボモ−タ４を駆動し、回転軸３を回転させることにより第２基板保持手段７の把持具７２，７２，７２に保持された基板を回転させ、回転している基板の上面および下面に乾燥気体供給ノズル１１ａ，１１ｂより気体を供給して基板をスピン乾燥させる。
【００３２】
以上により洗浄、乾燥の行われた後、サ−ボモ−タ４の駆動を停止し、図示されていないアンロ−ド搬送ロボッドにより基板は次ぎの工程（例えばエッチング工程、研磨工程あるいは、ダイシング工程）に搬送、または収納カセット内に搬入される。
第２基板保持手段７をシリンダ５により図２に仮想線Ｗ０で示す位置まで下降させ、次ぎの新しい基板の搬入を待つ。
【００３３】
【発明の効果】
本発明の基板の洗浄・乾燥装置１は、１台の装置で基板の両面スクラブ洗浄、スピン乾燥を行うことができるので、フットプリントをコンパクトにすることができる。また、基板のスピン乾燥は、従来のスピンチャックをモ−タで１０００〜６０００ｍｉｎ−１で回転させるスピン乾燥装置と同様の回転数で回転させて短時間で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  スピン洗浄・乾燥装置の平面図である。
【図２】  図１におけるＩ−Ｉ断面図である。
【図３】  第２基板保持手段の部分拡大断面図である。
【図４】  第１基板保持手段の駆動ロ−ラ頭部部分の断面図である。
【図５】  第１基板保持手段の駆動ロ−ラ駆動部分の断面図である。
【図６】  第１基板保持手段の一対の遊転抑えロ−ラの平面図である。
【図７】  遊転抑えロ−ラ頭部部分の断面図である。
【図８】  遊転抑えロ−ラの移動手段の断面図である。
【図９】  移動手段の一構成要素であるピコテ−ブルの平面図である。
【図１０】  公知の基板両面スクラブ洗浄装置の部分斜視図である。
【符号の説明】
１      スクラブ洗浄・スピン乾燥装置
３      回転軸
４      モ−タ
５      エアシリンダ
７      第２基板保持手段
７０    治具
７１    ア−ム
７２    把持具
８      第１基板保持手段
８１    駆動ロ−ラ
８２    遊転ロ−ラ
８３    遊転ロ−ラ
８１９  リバ−シブルモ−タ
８３８  ピコテ−ブル（スライダ）
【図１】
0004755348.tif 000002
【図２】
0004755348.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0004755348.tif 000008
【図８】
0004755348.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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