(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられた層間絶縁膜と、
ボンディングパッドと、
複数の配線層と、
各配線層が有する複数の配線と、
前記ボンディングパッドの下に配置された第１のダミーパターンと、
前記複数の配線の間に配置された第２のダミーパターンと、
を有し、
上記各配線層が、前記層間絶縁膜を有し、
前記第１のダミーパターンは前記第２のダミーパターンよりも、前記半導体基板に垂直な方向から見た場合の面積が大きく、
前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンとは、エッチングにより前記層間絶縁膜に形成されたトレンチに埋め込まれており、
前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンとは、同一層内に形成されており、
前記第２のダミーパターンは、前記ボンディングパッドの下以外の領域に形成されていること、
を特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記第２のダミーパターンと前記複数の配線とが同一層内に形成されていること、を特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記複数の配線のうち少なくとも一つが前記ボンディングパッドの下に配置されていること、を特徴とする請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記ボンディングパッドの下に配置された前記配線が電源配線もしくはグランド配線であること、を特徴とする請求項３に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記ボンディングパッドと前記第１のダミーパターンとが、電気的に絶縁されていること、を特徴とする請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記ボンディングパッドがアルミニウムを主成分とし、
前記複数の配線と、前記第１のダミーパターンと、前記第２のダミーパターンとが銅を主成分とすること、
を特徴とする請求項５に記載の半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ボンディングパッドを有する半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置の組み立てにおいて、ワイヤボンディング技術が用いられている。
【０００３】
一方、近年、配線間隔が狭くなるにつれて。配線間の寄生容量が増加し信号の伝送速度が低下するという問題が顕在化した。そこで、多層配線層内の層間絶縁膜に低誘電率膜が用いられるようになってきた。
【０００４】
しかし、低誘電率膜は、その強度が低く、ワイヤボンディング時にボンディングパッドに印加される衝撃によってダメージを受けてしまう。
【０００５】
そこで、かかるダメージから低誘電率膜を守る技術が開発され、特許文献１に開示されている。この特許文献1の技術では、ボンディングパッドの下に、銅のダミーパターン（例えば、同文献図１の下部Ｃｕ層２００）を配置している。銅の方が低誘電率膜よりも強度が大きいため、低誘電率膜をワイヤボンディング時の衝撃から保護できるのである。
【０００６】
一方、配線の間にダミーパターンを配置する技術が、特許文献２に開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−２３５４１６号公報
【特許文献２】特開２００４−３９９５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者らは、上記従来技術には、次のような課題があることを見出した。
【０００９】
半導体装置が扱う信号の高速化に伴い、層間絶縁膜の誘電率をさらに下げることが望まれている。一方、膜の誘電率が低くなる程、その強度が低下する傾向にある。従って、今後さらに誘電率の低い膜を使用する場合には、強度を確保するためのダミーパターンのサイズを大きくする必要がある。
【００１０】
ダミーパターンのサイズを大きくすると、ダミーパターンを埋め込むために層間絶縁膜に形成されるトレンチのサイズが大きくなる。（尚、本願中で「サイズ」というときは、半導体基板に垂直な方向から見た場合の面積の大きさを言うものとする。）
このとき、半導体基板の全面に亘ってダミーパターンのサイズを大きくすると、トレンチを形成するためにエッチングされる面積が著しく増大する。その結果、必要なエッチングガスの量が増加し、エッチングの最適条件が変わってしまう。
【００１１】
通常、半導体装置は複数の配線層を有しており、配線層毎に一配線層内におけるダミーパターンの占める割合が大きく異なる場合がある。その場合に、ダミーパターンのサイズを半導体基板の全面に亘って大きくすると、ダミーパターンの占める割合が大きい配線層のエッチング条件と、割合が小さい配線層のエッチング条件とを変えなければならないという問題が生じる
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、ワイヤボンディング時の衝撃から低誘電率膜を守るためにダミーパターンのサイズを大きくするに際して、ボンディングパッドの下に配置されるダミーパターンを選択的に大きくするものである。
【００１３】
ダミーパターンのサイズを大きくすることによって、ワイヤボンディング時の衝撃の大部分がダミーパターン上に印加されることになり、低誘電率膜にダメージが生じるのを防止することができる。
【００１４】
また、半導体装置上に形成される全てのボンディングパッドの面積を合計しても、半導体基板全体の面積の数％から十数％程度である。よって、ボンディングパッドの下に配置されるダミーパターンのサイズを大きくしても、エッチングの最適条件はほとんど変動しない。
【００１５】
本発明にかかる半導体装置は、例えば、半導体基板と、前記半導体基板上に設けられた層間絶縁膜と、ボンディングパッドと、複数の配線層と、各配線層が有する複数の配線と、前記ボンディングパッドの下に配置された第１のダミーパターンと、前記複数の配線の間に配置された第２のダミーパターンと、を有し、上記各配線層が、前記層間絶縁膜を有し、前記第１のダミーパターンは前記第２のダミーパターンよりも、前記半導体基板に垂直な方向から見た場合の面積が大きく、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンとは、エッチングにより前記層間絶縁膜に形成されたトレンチに埋め込まれており、前記第１のダミーパターンと前記第２のダミーパターンとは、同一層内に形成されており、前記第２のダミーパターンは、前記ボンディングパッドの下以外の領域に形成されていること、を特徴とする半導体装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ボンディングパッドの下の低誘電率膜をワイヤボンディング時の衝撃から守ることができ、かつ、エッチングの最適条件が変動するのを最小限に抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１は、本発明にかかる半導体装置１００の断面図である。図２は、第4配線層Ｍ４の平面図である。図２（ａ）は、図１の領域Ａの平面図であり、図２（ｂ）は、図１の領域Ｂの平面図である。図１の領域Ｂは、ボンディングパッドが形成されている場所の周辺の領域であり、領域Ａはボンディングパッドが形成されていない領域である。
【００１８】
図１を参照して、半導体装置１００は半導体基板１０と、半導体基板１０上に形成された多層配線層２０と、多層配線層２０上に形成されたボンディングパッド３０とを有する。ボンディングパッド３０はアルミニウム（Ａｌ）を主成分とする。半導体基板１０と多層配線層２０との間には、コンタクト層４０が形成され、その内部に、半導体基板１０に形成されたトランジスタ１２と多層配線層２０内に形成された配線とを電気的に接続するコンタクト４が形成されている。
【００１９】
半導体基板１０には、所望の機能を発揮する回路を構成するトランジスタ１２が形成されている。  多層配線層２０は、第1から第6配線層（Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６）を有している。各々の配線層は、層間絶縁膜２２を有している。第１から第５配線層の層間絶縁膜には、低誘電率の膜が用いられる。例えば、ＳｉＯＣ膜、ＳｉＣ膜、ＳｉＯＦ膜、ポーラスＳｉＯ２膜、ポーラスＳｉＯＣ膜などである。一方、第６配線層Ｍ６の層間絶縁膜は、低誘電率膜である必要が無く、強度確保の観点などから、ＳｉＯ２膜などが用いられる。
【００２０】
層間絶縁膜内には、配線２４と、ダミーパターン２６２，２６４とが形成されている。配線２４とダミーパターン２６２，２６４は、共に、銅（Ｃｕ）を主成分とする。
【００２１】
ボンディングパッド３０の下に配置されているダミーパターン（第1のダミーパターン２６２）は、ボンディングパッド３０の下以外の場所に配置されているダミーパターン（第2のダミーパターン２６４）よりもサイズが大きい。
【００２２】
第６配線層Ｍ６には、ボンディングパッド３０をその上に配置するための銅パッド２４０と、銅パッド２４０から信号を引き出すための引き出し配線２４２が形成されている。引き出し配線２４２は、ボンディングパッド３０に入力される信号をボンディングパッド３０から離れた位置まで引き出す。引き出し配線２４２により引き出された信号は、第５配線層Ｍ５から第１配線層Ｍ１内に形成される配線２４およびビア２４６を介して、半導体基板１０内に形成されているトランジスタ１２等に伝送される。
【００２３】
銅パッド２４０の下の第５配線層Ｍ５内に第２の銅パッド２４４が配置されている。この第２の銅パッド２４４は、ビア２４６により銅パッド２４０に接続している。このような構造にすることにより、ボンディングパッド３０に印加されるワイヤボンディングの衝撃をある程度吸収することができる。
【００２４】
次いで、図２を参照して、第４配線層Ｍ４を例にして本発明の半導体装置の配線層の構造について説明する。
【００２５】
図２（ａ）は、ボンディングパッド３０が形成されていない位置（領域Ａ）の平面図であり、図２（ｂ）は、ボンディングパッド３０が形成されている位置（領域Ｂ）の平面図である。図２（ｂ）中の破線で囲まれた領域３２は、ボンディングパッド３０と重なる領域（ボンディングパッド３０の下の領域）、を表している。
【００２６】
図２（ａ）を参照して、領域Ａには、複数の配線２４１が配置されている。この配線２４１は、主に、半導体装置１００で演算対象となる論理信号を伝送するために用いられる。そして、配線２４１の間の空いている場所には、ダミーパターン２６４（第２のダミーパターン）が配置されている。
【００２７】
次いで、図２（ｂ）を参照して、領域Ｂにも、配線２４３、２４５が配置されている。配線２４３，２４５の一部は、領域３２を横断している。配線２４３，２４５は電源電圧を供給するために用いられる。配線２４３と２４５が共に同じ電圧を供給してもよいし、別々の電圧を供給してもよい。図２（ｂ）には、配線２４３がＶｄｄ電圧を供給し、配線２４５がグランド電圧を供給する例を示した。
【００２８】
領域Ｂには、ダミーパターン２６２，２６４が配置されている。ここで、ボンディングパッドに重なる領域３２内に配置されているダミーパターン２６２（第１のダミーパターン）のサイズは、領域３２の外に形成されているダミーパターン２６４（第２のダミーパターン）のサイズよりも大きい。
【００２９】
また、第１のダミーパターン２６２のサイズは、領域Ａに配置されている第２のダミーパターン２６４のサイズよりも大きい。さらに、領域Ａに配置されている第２のダミーパターン２６４のサイズと、領域Ｂに配置されている第２のダミーパターン２６４のサイズは実質的に同じである。すなわち、領域３２の外に配置されているダミーパターンのサイズは、実質的に（製造ばらつきを除けば）、全て同じである。
【００３０】
本実施の形態のもう一つの効果について、ダミーパターンにより生じる寄生容量の点から説明する。
【００３１】
ダミーパターンは、配線およびボンディングパッド３０から絶縁されており、その電圧がフローティングの状態である。そのため、何らかの原因によりダミーパターンに電荷が蓄積されると、そのダミーパターンは、寄生容量として周辺の配線内を伝送される信号に影響を及ぼす。この現象は、ダミーパターンのサイズが大きくなるほど顕著となる。
【００３２】
従って、タイミングが重要である信号を伝送する配線が多く配置されている領域Ａのダミーパターンのサイズを大きくすると、予期せぬタイミング異常が生じる場合があり、問題である。
【００３３】
一方、本実施の形態の領域Ｂには、主に、タイミングが問題とならない電源電圧を供給する配線が配置されているので、ボンディングパッド３０と重なる領域３２内のダミーパターンのサイズを大きくしても、タイミング異常の問題は生じない。
【００３４】
すなわち、ボンディングパッド３０に重なる領域３２内のダミーパターン２６２を選んで、そのサイズを大きくすれば、ワイヤボンディング時の衝撃に対する強度を確保しつつ、タイミング異常が発生することを抑制することができるという効果を得ることができる。
【００３５】
次に、図３から図６を用いて、第４配線層M４のレイアウトデータを作成する手順について説明する。
【００３６】
始めに、図３に示すように、所望の回路を構成するように、配線２４１，２４３，２４５を配置する。このとき、配線が配置されていない場所は空いている。
【００３７】
次に、図４に示すように、半導体基板１０の全面に、全て同じ大きさのダミーパターン２６０を仮配置する。このとき配置されるダミーパターンのサイズは、第２のダミーパターン２６４のサイズと同じである。
【００３８】
次いで、図５に示すように、配線２４１，２４３，２４５の上、および、配線２４１，２４３，２４５から所定の距離内に配置されたダミーパターン２６０を削除する。
【００３９】
次いで、図６に示すように、ボンディングパッドと重なる領域３２内にあるダミーパターンのサイズのデータを、大きいサイズとなるように書き換え、第１のダミーパターン２６２とする。尚、領域３２のデータは、予めレイアウトデータに与えておく。これにより、レイアウトツールが、どのダミーパターンが領域３２内に配置されているのかを認識することができる。そして、サイズを大きくしなかったダミーパターン２６０が第２のダミーパターン２６４となる。
【００４０】
ここで、領域３２の境界上にあるダミーパターン２６６は、大きいサイズとしても、仮配置時のサイズのままでも、いずれでもよい。図６には、仮配置時のサイズのままとする例を示した。
【００４１】
以上の手順により、ボンディングパッド３０に重なる領域３２内のダミーパターン２６２のサイズを選択的に大きくしたレイアウトデータを作成することができる。このレイアウトデータに基づき、マスクを作成し、第４配線層Ｍ４の製造を行なう。
【００４２】
ここまで、第４配線層Ｍ４の構造、およびそのレイアウトデータの作成方法について説明したが、第１から第３配線層Ｍ１〜Ｍ３の構造およびそのレイアウトデータの作成方法についても同様である。
【００４３】
本発明は、上記実施の形態に限定されることはなく、発明の範囲や思想から逸脱することなく、修正や変更を伴うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明にかかる半導体装置の断面図である。
【図２】本発明にかかる半導体装置内の第４配線層の平面図である。
【図３】本発明にかかる半導体装置内の第４配線層のレイアウトデータの作成方法を説明するための図である。
【図４】本発明にかかる半導体装置内の第４配線層のレイアウトデータの作成方法を説明するための図である。
【図５】本発明にかかる半導体装置内の第４配線層のレイアウトデータの作成方法を説明するための図である。
【図６】本発明にかかる半導体装置内の第４配線層のレイアウトデータの作成方法を説明するための図である。
【符号の説明】
【００４５】
１０            半導体基板
１２            トランジスタ
１００            本発明の半導体装置
２０            多層配線層
２２            層間絶縁膜
２４，２４１，２４３，２４５              配線
２６０，２６２，２６４，２６６            ダミーパターン
３０            ボンディングパッド
３２            ボンディングパッドに重なる領域（ボンディングパッドの下の領域）
４            コンタクト
４０            コンタクト層
【図１】
0004610008.tif 000002
【図２】
0004610008.tif 000003
【図３】
0004610008.tif 000004
【図４】
0004610008.tif 000005
【図５】
0004610008.tif 000006
【図６】
0004610008.tif 000007