(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる複数のサイズのフォトマスク基板に所定の洗浄処理を施すスピン洗浄装置であって、
洗浄槽と、
前記フォトマスク基板を保持した基板保持部材を前記洗浄槽に投入するための投入手段と、
前記投入手段に備えられた、前記フォトマスク基板のサイズ情報を読み取る基板情報読取手段と、
前記基板情報読取手段により読み取られた前記フォトマスク基板のサイズ情報にもとづき、所定の制御対象を制御する制御部と、
前記洗浄槽内に備えられた、フォトマスク基板の裏面に処理液を吹き付ける裏面シャワー手段と、
前記裏面シャワー手段に備えられた、それぞれが三方弁に接続された複数の裏面ノズルと、を備え、
前記フォトマスク基板のサイズ情報が付された前記基板保持部材が前記投入手段に投入されることによって、
前記基板情報読取手段が前記フォトマスク基板のサイズ情報を読み取り、
前記制御部が、読み取った前記フォトマスク基板のサイズ情報にもとづいて、
前記三方弁を開閉することにより、
前記処理液を噴出する前記裏面用ノズルを選択する
ことを特徴とするスピン洗浄装置。
【請求項２】
前記フォトマスク基板のサイズ情報がコード化された情報であり、前記基板情報読取手段がコードリーダーであり、さらに、前記コードリーダーが前記投入手段に設けられていることを特徴とする請求項１記載のスピン洗浄装置。
【請求項３】
前記制御部により制御される前記所定の制御対象に、前記基板保持部材を搬送するために、該基板保持部材を挟持するチャックの挟持位置、接触洗浄するためのロールブラシの高さ位置、処理液噴出手段の処理液を供給する供給経路に設けられた電磁バルブの開閉、及び、前記フォトマスク基板を反転するための基板反転手段の挟持アームが前記基板を挟持する挟持位置の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１又は２記載のスピン洗浄装置。
【請求項４】
前記フォトマスク基板が、表示パネル用のフォトマスク基板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のスピン洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スピン洗浄装置に関し、特に、基板保持部材から基板サイズ情報を読み取る基板情報読取手段と、読み取った基板サイズ情報にもとづいて、所定の制御対象を制御する制御部を備え、基板サイズ情報を自動的に入力することによって、基板サイズ情報の手入力ミスを防止するとともに、生産性を向上させることができるスピン洗浄装置に関する
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ用フォトマスクやＬＣＤ用大型フォトマスク等のフォトマスクは、製造プロセス中にさまざまな汚染にさらされるため、製造プロセス中又は最終製品において洗浄される。この洗浄方法としては、一般的に、ディップ式の洗浄方法が用いられていた。
ディップ式の洗浄方法は、並列に配置された洗浄液槽，リンス槽及び乾燥槽に、垂直方向に支持されたフォトマスク基板を順次浸漬させる方法である。なお、これらの槽において使用する薬液の種類やリンス、乾燥方法は、様々な組合せが用いられる。
【０００３】
上記ディップ式の洗浄方法は、例えばＬＳＩ用フォトマスク等のマスクサイズが小さい基板に対しては、一度に複数枚の基板を処理することができるため、スループットも高く適しているが、ＬＣＤ用大型フォトマスク等の大型基板に対しては、各槽が大型化し、薬液も大量に必要となるなどの問題があった。ましてや、近年、液晶表示パネル等の表示パネルやそれらを製造するためのフォトマスクの基板サイズは、さらに大型化する傾向にある。すなわち、例えば、液晶パネルの製造においては、多面取りや大画面化の傾向にあることから液晶パネル基板が大型化し、それにともない、液晶パネルを製造するためのフォトマスクも大型化している。このように基板が大型化し、また高精度化する傾向にあるなか、大型の薬液槽において清浄な洗浄液で洗浄しようとすると、多大な量の薬液が必要となるため、ディップ方式の洗浄を行うのが困難となってきたのが実状である。
【０００４】
上記実情を解決する技術として、枚葉式スピン洗浄法が注目され開発されている。この枚葉式スピン洗浄法は、回転する基板保持部材にフォトマスク基板等を保持し、回転させながら、洗浄、リンス、乾燥を連続的に行う方法である。すなわち、まず処理室内において水平に保持した基板を回転させながら、該基板に対し、処理液として洗浄液を噴出するなどして洗浄する薬液洗浄、ブラシ等によるスクラブ洗浄（接触洗浄）、供給する処理液や超純水に超音波を与える超音波洗浄等の洗浄を行った後、超純水等でリンスを行い、次いで、基板を所定時間だけ高速回転させることにより乾燥を行う。この方法によれば、上記のディップ方式に比べ、同じ処理室内で一連の処理が可能となるため装置が小型化でき、洗浄液が少なくてすみ、かつ洗浄時間も短くてすむという利点がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、基板は、上述したように大型化するとともに、基板サイズ（一般的な矩形基板においては、縦寸法，横寸法及び厚さをいう。）が多様化しており、様々なサイズの基板が使用されている。そのため、洗浄装置は、様々なサイズの基板を効果的にあるいは効率よく洗浄するために、基板サイズに応じた洗浄を行うようになってきた。
たとえば、特許文献２に開示された基板洗浄装置は、処理対象である基板のサイズを入力する入力手段を備え、入力された基板のサイズに応じたデータと超音波の周波数とから決定される洗浄液の入射角で、洗浄液を基板に吹き付ける構成としてある。
【０００６】
ところで、本発明者は、様々なサイズの大型基板を効率よくかつ優れた洗浄品質で洗浄することが可能な洗浄装置を開発した。この洗浄装置は、複数のスピン洗浄装置を連結することにより、大型基板に対して高品質な洗浄を行うとともに、生産効率を向上させることができる。また、各スピン洗浄装置は、ロールブラシと、裏面シャワー手段と、表面用の処理液噴出手段を備えている。
上記ロールブラシは、矩形基板の対角長の１／２より長いブラシを備えており、回転する基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接させて、基板表面を接触洗浄する。また、裏面シャワー手段は、基板の回転中心から異なる距離だけ離れた位置に設けられた複数の裏面用ノズルと、裏面用ノズルに処理液を供給する処理液供給手段と、複数の裏面用ノズルのうち、基板のサイズに応じた位置に設けられた裏面用ノズルに、処理液を供給する裏面シャワー制御手段を備えている。さらに、処理液噴出手段は、基板の中央部に処理液をスポット状に吹き付けるスポット用噴出孔及び基板の中央部より外周側に処理液をライン状に吹き付ける複数のライン用噴出孔を有している。
【特許文献１】特開２００４−２９０９３４号公報
【特許文献２】特開平１１−３００３０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記特許文献２の基板洗浄装置は、基板サイズを入力するための入力手段を備えているものの、入力手段の具体的な構成については特に記載されていない。また、この基板洗浄装置は、基板の厚さに関する情報を入力すればよいので、基板サイズの入力に対して、特に課題が発生していなかった。
一方、本発明者は、様々なサイズの大型基板を効率よくかつ優れた洗浄品質で洗浄することを目的として、上述した洗浄装置を開発した。この洗浄装置は、基板サイズ情報にもとづいて、複数の制御を行うことから、基板サイズ情報を確実かつ容易に入力する必要があった。また、大型基板がフォトマスク基板である場合には、基板が非常に高額であるなどの理由から、作業者は大きなプレッシャーを受ける。このため、効率よくかつ優れた洗浄品質で洗浄を行うためには、不必要なプレッシャーから作業者を開放するとともに、基板サイズ情報の手入力ミスによるトラブルを未然に防止しなければならないといった問題があった。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決すべくなされたものであり、予め得てある基板サイズ情報を自動的に読み取ることによって、基板サイズ情報の手入力ミスを防止するとともに、生産性を向上させることができるスピン洗浄装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明のスピン洗浄装置は、異なる複数のサイズのフォトマスク基板に所定の洗浄処理を施すスピン洗浄装置であって、洗浄槽と、前記フォトマスク基板を保持した基板保持部材を前記洗浄槽に投入するための投入手段と、前記投入手段に備えられた、前記フォトマスク基板のサイズ情報を読み取る基板情報読取手段と、前記基板情報読取手段により読み取られた前記フォトマスク基板のサイズ情報にもとづき、所定の制御対象を制御する制御部と、前記洗浄槽内に備えられた、フォトマスク基板の裏面に処理液を吹き付ける裏面シャワー手段と、前記裏面シャワー手段に備えられた、それぞれが三方弁に接続された複数の裏面ノズルと、を備え、前記フォトマスク基板のサイズ情報が付された前記基板保持部材が前記投入手段に投入されることによって、前記基板情報読取手段が前記フォトマスク基板のサイズ情報を読み取り、前記制御部が、読み取った前記フォトマスク基板のサイズ情報にもとづいて、前記三方弁を開閉することにより、前記処理液を噴出する前記裏面用ノズルを選択する構成としてある。
このように、基板サイズ情報の備えた基板保持部材を用いることにより、基板に基板サイズ情報を付与するといった処理を行わなくてもすみ、基板へダメージを与えたり、異物が付着するなどといった不具合の心配を排除することができる。特に、洗浄する基板がフォトマスク基板である場合には有効である。
【００１０】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記フォトマスク基板のサイズ情報がコード化された情報であり、前記基板情報読取手段がコードリーダーであり、さらに、前記コードリーダーが前記投入手段に設けられた構成としてある。
このようにすると、基板保持部材が投入手段に投入された際、コードリーダーが、コード化された基板サイズ情報を自動的に読み込むので、手入力による入力ミスといった不具合を確実に排除することができる。
【００１１】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記制御部により制御される前記所定の制御対象に、前記基板保持部材を搬送するために、該基板保持部材を挟持するチャックの挟持位置、接触洗浄するためのロールブラシの高さ位置、処理液噴出手段の処理液を供給する供給経路に設けられた電磁バルブの開閉、及び、前記フォトマスク基板を反転するための基板反転手段の挟持アームが前記基板を挟持する挟持位置の少なくとも一つを含む構成としてある。
このようにすると、洗浄品質の低下や、基板の搬送エラーを防止することができる。
【００１２】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記フォトマスク基板が、表示パネル用のフォトマスク基板である。
このようにすると、様々なサイズの表示パネル用のフォトマスク基板に効果的に対応することができる。
なお、ここで、フォトマスク基板とは、フォトマスク用ガラス基板，フォトマスクブランク及びフォトマスクを含むものとする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のスピン洗浄装置によれば、基板サイズ情報が自動的に入力されるので、基板サイズ情報の手入力ミスを防止するとともに、生産性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１ａは、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略平面図を示している。
また、図１ｂは、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略正面図を示している。
図１ａ，１ｂにおいて、洗浄装置１は、第一洗浄槽２，第二洗浄槽３，第一投入回収手段４，第二投入回収手段５，連結用搬送部６及び制御部７とからなっており、左から右に向かって、第一投入回収手段４，第一洗浄槽２，連結用搬送部６，第二洗浄槽３及び第二投入回収手段５が直線的に並設された構成としてある。また、洗浄装置１は、基板情報読取手段として、第一投入回収手段４及び第二投入回収手段５に、バーコードリーダー１０１を備えている。
【００１５】
また、洗浄装置１は、被処理体を、表示パネル用のフォトマスク基板８としてある。近年、様々なサイズの表示パネルを有する表示装置が商品化されているが、洗浄装置１によれば、様々なサイズの表示パネル用のフォトマスク基板８に効果的に対応することができる。
なお、フォトマスク基板８は、一般的に、矩形状としてあるが、この形状に限定されるものではない。
【００１６】
（第一投入回収手段）
第一投入回収手段４は、直方体状の筐体構造としてあり、洗浄装置１の左端に配置されている。この第一投入回収手段４は、第一洗浄槽２の第一搬送口２１と隣接して設けられており、第一搬送口２１に対して、被処理体であるフォトマスク基板８を搬送（すなわち、搬入及び／又は搬出）する。これにより、フォトマスク基板８を第一洗浄槽２に投入したり、第一洗浄槽２から回収する。
【００１７】
基板保持部材８１は、図２に示すように、円形の被載置板８１２と、この被載置板８１２に対して直交するように形成された四本のＴ字状の保持板８１３と、保持板８１３から上方に突設され、フォトマスク基板８を支持する支持部材８１６及びフォトマスク基板８を位置決めする規制部材８１７とからなっている。
なお、支持部材８１６及び規制部材８１７は、円筒状としてあるが、この形状に限定されるものではない。
【００１８】
また、基板保持部材８１は、被載置板８１２の対向する周縁部の裏面に、フォトマスク基板８の基板サイズ（縦寸法，横寸法及び厚さ）を記載したバーコードラベル８１８が貼り付けられている。すなわち、基板サイズ情報（基板のサイズ情報）として、フォトマスク基板８の縦寸法，横寸法及び厚さが、バーコードラベル８１８に記載されている。このように、基板サイズ情報の付された基板保持部材８１を用いることにより、フォトマスク基板８に基板サイズ情報を付与するといった処理を行わなくてもすみ、フォトマスク基板へダメージを与えたり、異物が付着するなどといった不具合の心配を排除することができる。
また、本実施形態の基板保持部材８１は、フォトマスク基板８のサイズにかかわらず、板状チャック８１５の大きさ及び形状を同じにしてあるので、基板保持部材８１を挟持するチャック４３１，５３１が、基板保持部材８１を挟持する位置は、変動しない。これに対し、たとえば、フォトマスク基板８のサイズに応じて、基板保持部材８１の大きさ及び形状が異なる場合には、チャック（図示せず）が基板保持部材８１を挟持する位置をバーコードラベル８１８に記載し、制御部７が、チャック駆動部（図示せず）を制御し、チャックが基板保持部材８１を挟持する位置を制御する。
【００１９】
また、第一投入回収手段４は、基板保持部材８１が装着された際、上記バーコードラベル８１８の真下方向の位置に、バーコードリーダー１０１を備えている。なお、本実施形態では、被載置板８１２に点対象となるように二枚のバーコードラベル８１８を貼り付けてあるので、基板保持部材８１の向きにかかわらず、バーコードリーダー１０１の上方にどちらかのバーコードラベル８１８が位置する。
上記バーコードリーダー１０１は、図３に示すように、制御部７と接続されており、制御部７によって制御され、基板保持部材８１が装着されると、基板保持部材８１に貼り付けられたバーコードラベル８１８を自動的に読み込み、基板情報を制御部７に出力する。
【００２０】
第一投入回収手段４は、上部の正面側及び背面側に、左右方向に沿って対向する一対のレール２４が設けられており、レール２４の上部に、左右方向に移動自在にクレーン（図示せず）が掛けられている。第一投入回収手段４は、クレーンを移動させるための第一移動手段（図示せず）を備えており、この第一移動手段は、制御部７によって制御され、クレーンを第一投入回収手段４の搬入・搬出位置Ａ，第一洗浄槽２の洗浄位置Ｂ，連結用搬送部６の受渡し位置Ｃ及び第二洗浄槽３の洗浄位置Ｄの間で移動する。
また、図示してないが、クレーンは、正面側及び背面側に、対向する一対のチャックが、前後方向に移動自在に設けてある。このチャックは、制御部７によって制御され、チャックどうしが、基板保持部材８１を挟持する。
【００２１】
（第一洗浄槽）
第一洗浄槽２は、第一搬送口２１，第二搬送口２２及びレール２４を備えた直方体状のスピン洗浄槽としてあり、洗浄装置１の左側に配置してある。第一洗浄槽２をスピン洗浄槽とすることにより、フォトマスク基板８が大型基板であっても、薬液などの処理液の使用量が低減される。また、第一洗浄槽２は、複数の洗浄処理（たとえば、薬液洗浄，純水洗浄，スクラブ洗浄，リンス，乾燥など）を実施する。
【００２２】
第一洗浄槽２は、フォトマスク基板８を搬送する、第一搬送口２１及び第二搬送口２２がそれぞれ左側面上部及び右側面上部に設けられており、また、上部の正面側及び背面側に、左右方向に沿って対向する一対のレール２４が設けられている。このレール２４上を、上記クレーンが左右方向に自在に移動する。
【００２３】
第一洗浄槽２は、通常、処理カップ２５、処理液噴出手段２６及びロールブラシ２８などが設けられており、クレーンにて搬送されるフォトマスク基板８及び基板保持部材８１を処理カップ内に収容した状態で、フォトマスク基板８をスピン洗浄する。処理液噴出手段２６やロールブラシ２８は、各種薬液や純水が供給され、洗浄条件に応じた洗浄（各種の薬液や純水などによる洗浄，スクラブ洗浄，リンスなど）を行う。
【００２４】
（ロールブラシ）
図４は、本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の、洗浄槽のロールブラシが回動した状態を説明するための要部の概略平面図を示している。
ロールブラシ２８は、図４に示すように、長手方向の長さが、矩形のフォトマスク基板８の対角長（対角線の長さ）の１／２より長く、かつ、回転板２３によって回転されるフォトマスク基板８の外周部から、回転されるフォトマスク基板８の回転中心を越える部分にまで当接し、フォトマスク基板８の表面を接触洗浄する。すなわち、ロールブラシ２８は、フォトマスク基板８の外周部から、回転されるフォトマスク基板８の回転中心を通り、フォトマスク基板８の回転中心を通りすぎた部分にまで当接する。このようにすると、フォトマスク基板８が一回転すると、フォトマスク基板８の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止する。特に、フォトマスク基板８の中央部分（中心部分）に対しても、接触洗浄が行われるので、フォトマスク基板８の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止する。
【００２５】
上記ロールブラシ２８は、両端に設けられた長手軸（長手方向の軸）が軸受（図示せず）を介して、アーム２８１に回転自在に軸支されており、さらに、駆動手段（図示せず）によって回転される。この駆動手段は、回転方向及び回転速度が制御可能な構成としてあり、制御部７によって制御される。これにより、長手軸を回転中心として、ロールブラシ２８を所定の一方向に回転させながら洗浄したり、前記回転方向と反対方向に回転させながら洗浄することができ、フォトマスク基板８上に形成された、異物が除去されにくい複雑なパターンに対して、接触洗浄性が大幅に向上する。
【００２６】
アーム２８１は、ロールブラシ２８の軸支された側と反対側の端部が、回動軸２８４と連結されており、昇降自在かつ回動自在に支持されている。この回動軸２８４は、図示してないが、下方端部が、アーム２８１を水平方向に回動させるための回動手段（図示せず）と連結されている。また、この回動手段は、図示してないが、アーム２８１を昇降させるための昇降用駆動部（図示せず）によって昇降される。
【００２７】
上記昇降用駆動部は、制御部７によって制御され、フォトマスク基板８の板厚や指定されたロールブラシ２８の押圧力などに応じて、ロールブラシ２８をフォトマスク基板８に対する最適な当接高さに位置決めする。この際、バーコードリーダー１０１が読み込んだ基板サイズ情報（この場合は、フォトマスク基板８の厚さ）にもとづいて、制御部７が、制御部７と接続されたロールブラシ２８の昇降用駆動部（図３参照）を制御し、ロールブラシ２８をフォトマスク基板８に対する最適な当接高さに位置決めするので、生産性を向上させることができるとともに、手入力ミスによる洗浄品質の低下などといった不具合を回避することができる。
【００２８】
（処理液噴出手段）
図４に示す処理液噴出手段２６は、図示してないが、スポットノズル，中心側シャワーパイプ，外周側シャワーパイプ，取付けアーム及び回動軸を備えている。この処理液噴出手段２６は、ロールブラシ２８がフォトマスク基板８の上方から移動すると、フォトマスク基板８の上方に移動し、スポットノズル，中心側シャワーパイプ及び外周側シャワーパイプに、各種薬液や純水が供給され、洗浄条件に応じた洗浄（各種の薬液による洗浄，リンスなど）を行う。
【００２９】
また、処理液噴出手段２６は、上記スポットノズルがフォトマスク基板８の中央部を洗浄し、中心側シャワーパイプが中央部の外周側（円環部）を洗浄し、さらに、外周側シャワーパイプがさらに外周側（フォトマスク基板８の外周部）を洗浄する。すなわち、処理液噴出手段２６は、フォトマスク基板８が一回転すると、フォトマスク基板８の中央部から外周部までの全表面に対して、処理液を吹きかけることができるので、効率よくフォトマスク基板８を洗浄する。
【００３０】
また、スポットノズル，中心側シャワーパイプ及び外周側シャワーパイプは、それぞれ独立した配管を介して、処理液が供給される。このように、スポットノズル，中心側シャワーパイプ及び外周側シャワーパイプに処理液を供給する供給経路が、それぞれ独立していることによって、たとえば、フォトマスク基板８が小型の場合、スポットノズルだけに処理液を供給して洗浄することができ、フォトマスク基板８が中型の場合、スポットノズルと中心側シャワーパイプだけに処理液を供給して洗浄することができるので、処理液を有効利用することができる。
【００３１】
本実施形態では、スポットノズル，中心側シャワーパイプ及び外周側シャワーパイプに処理液を供給する供給経路に設けられた各電磁バルブが、制御部７と接続されており（図３参照）、バーコードリーダー１０１が読み込んだ基板サイズ情報（この場合は、フォトマスク基板８の縦寸法及び横寸法）にもとづいて、制御部７が、各電磁バルブをオンオフすることにより、中心側シャワーパイプや外周側シャワーパイプに処理液を供給するか否かを制御する。これにより、基板サイズに応じて自動的に処理液が供給されるので、生産性を向上させることができるとともに、手入力ミスによる洗浄品質の低下などといった不具合を回避することができる。
【００３２】
（裏面シャワー手段）
図５は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、洗浄槽の裏面シャワー手段を説明するための要部の概略平面図を示している。
また、図６は、裏面シャワー手段の構成を説明するための概略ブロック図を示している。
図５，６において、裏面シャワー手段２９は、裏面用ノズル群２９１０，一次超純水タンク２９４，ポンプ２９５及び超超純水製造装置２９６を備えている。
【００３３】
裏面用ノズル群２９１０は、それぞれ四個の裏面用ノズル（第一列裏面用ノズル２９１１，第二列裏面用ノズル２９１２，第三列裏面用ノズル２９１３，第四列裏面用ノズル２９１４）が、処理カップ２５の底面から突設してある。また、各裏面用ノズル（２９１１，２９１２，２９１３，２９１４）は、突設された位置の内側かつフォトマスク基板８の裏面方向に処理液（本実施形態では、超純水を使用する。）を噴出する。
【００３４】
上記裏面用ノズル（合計４個のノズル）は、処理カップ２の中心（すなわち、フォトマスク基板８の回転中心）から任意の一つの半径方向に、順に配設されている。たとえば、第一列裏面用ノズル２９１１は処理カップ２の中心からｒ１だけ離れた位置に、第二列裏面用ノズル２９１２は同じくｒ２だけ離れた位置に、第三列裏面用ノズル２９１３は同じくｒ３だけ離れた位置に、第四列裏面用ノズル２９１４は同じくｒ４（本実施形態では、ｒ４>ｒ３>ｒ２>ｒ１）だけ離れた位置に配設されている。さらに、上記裏面用ノズルは、設置された位置の上方及び処理カップ２５の中心側の斜め上方に向けて、処理液を噴出する。
【００３５】
また、裏面シャワー手段２９は、各裏面用ノズルに超純水を供給する処理液供給手段として、一次純水タンク２９４，ポンプ２９５及び超純水製造装置２９６を備えている。一次純水タンク２９４は、各回収管２９３３から未使用の超純水を回収するとともに、不足分として水が供給され、これらの水を貯蔵する。ポンプ２９５は、一次純水タンク２９４からの水を超純水製造装置２９６に供給するとともに、各裏面用ノズルからシャワー状に超純水を噴出されるための水圧を加圧する。
【００３６】
また、制御部７は、裏面シャワー手段２９を制御し、フォトマスク基板８のサイズに応じて、回転中のフォトマスク基板８の裏面に処理液を吹き付ける位置に設けられた裏面用ノズル（２９１１，２９１２，２９１３，２９１４など）に、処理液を供給する。すなわち、制御部７は、超純水製造装置２９６と裏面用ノズルとの間に設けられた複数の三方弁２９３と接続されており、バーコードリーダー１０１から入力した基板サイズ情報にもとづいて、各三方弁２９３をオンオフすることにより、各裏面用ノズル（２９１１，２９１２，２９１３，２９１４など）に、処理液を供給するか否かを制御する。このようにすると、制御部７が、基板サイズ情報にもとづいて、超純水を噴出する裏面用ノズルを自動的に選択し、たとえば、あらかじめ設定された裏面用ノズルの三方弁２９３に制御信号を出力し、超純水をフォトマスク基板８の裏面に吹き付ける。したがって、オペレータが超純水を噴出する裏面用ノズルを選択し直接的に制御（オンオフスイッチの操作など）を行わなくてもすむので、人為的ミスを防止するとともに、洗浄作業の作業性を向上させることができる。
【００３７】
上記三方弁２９３は、供給管２９３１を介して超純水製造装置２９６と接続され、噴出管２９３２を介して裏面用ノズルと接続され、さらに、回収管２９３３を介して、未使用の処理液を回収するための一次純水タンク２９４と接続されている。したがって、各三方弁２９３は、供給管２９３１を介して超純水製造装置２９６と接続されており、超純水製造装置２９６から超純水が供給される。そして、たとえば、第一列裏面用ノズル２９１１の三方弁２９３が開かれた場合、噴出管２９３２及びバルブ２９２を介して超純水が第一列裏面用ノズル２９１１に供給され、第一列裏面用ノズル２９１１は、超純水をシャワー状に噴出し、フォトマスク基板８の裏面に吹き付ける。また、三方弁２９３が閉じられた場合、回収管２９３３を介して超純水が一次純水タンク２９４に回収される。
【００３８】
（第二投入回収手段）
第二投入回収手段５は、直方体状の筐体構造としてあり、洗浄装置１の左端に配置されている。この第二投入回収手段５は、第二洗浄槽３の第一搬送口３１と隣接して設けられており、第一搬送口３１に対して、被処理体であるフォトマスク基板８を搬送（すなわち、搬入及び／又は搬出）する。これにより、フォトマスク基板８を第二洗浄槽３に投入したり、第二洗浄槽３から回収する。
また、第二投入回収手段５は、基板保持部材８１が装着された際、上記バーコードラベル８１８の真下方向の位置に、バーコードリーダー１０１を備えている。
【００３９】
第二投入回収手段５は、上部の正面側及び背面側に、左右方向に沿って対向する一対のレール２４が設けられており、レール２４の上部に、左右方向に移動自在にクレーン（図示せず）が掛けられている。第二投入回収手段５は、クレーンを移動させるための第二移動手段（図示せず）を備えており、この第二移動手段は、制御部７によって制御され、クレーンを第二投入回収手段５の搬入・搬出位置Ｅ，第二洗浄槽３の洗浄位置Ｄ，連結用搬送部６の受渡し位置Ｃ及び第一洗浄槽２の洗浄位置Ｂとの間で移動する。すなわち、洗浄装置１は、第一投入回収手段４と第二投入回収手段５が、それぞれクレーンを備えている。
また、図示してないが、クレーンは、正面側及び背面側に、対向する一対のチャックが、前後方向に移動自在に設けてある。このチャックは、制御部７によって制御され、チャックどうしが、基板保持部材８１を挟持する。
なお、第二投入回収手段５のその他の構成は、第一投入回収手段４とほぼ同様としてある。
【００４０】
（第二洗浄槽）
第二洗浄槽３は、フォトマスク基板８を搬送する、第一搬送口３１及び第二搬送口３２がそれぞれ左側面上部及び右側面上部に設けられており、また、上部の正面側及び背面側に、左右方向に沿って対向する一対のレール２４が設けられている。このレール２４上を、上記クレーンが左右方向に自在に移動する。
【００４１】
第二洗浄槽３は、通常、処理カップ２５、処理液噴出手段２６及びロールブラシ２８などが設けられており、クレーンにて搬送されるフォトマスク基板８及び基板保持部材８１を処理カップ内に収容した状態で、フォトマスク基板８をスピン洗浄する。処理液噴出手段２６やロールブラシ２８は、各種薬液や純水が供給され、洗浄条件に応じた洗浄（各種の薬液や純水などによる洗浄，スクラブ洗浄，リンスなど）を行う。
なお、第二洗浄槽３のその他の構成は、第一洗浄槽２とほぼ同様としてある。
【００４２】
（連結用搬送部）
連結用搬送部６は、レール２４と基板反転手段６３を備えた直方体状の筐体構造としてあり、第一洗浄槽２と第二洗浄槽３の間に配置されている。この連結用搬送部６は、レール２４上を二つのクレーンが移動することにより、第一洗浄槽２の第二搬送口２２及び第二洗浄槽３の第二搬送口３２に対して、フォトマスク基板８が搬送される。
【００４３】
図７は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の基板反転手段における要部の概略平面図を示している。
同図において、基板反転手段６３は、載置板６１と反転部６３０とからなっている。
載置板６１は、連結用搬送部６のほぼ中央部に、昇降自在に設けられた基板保持部材８１の載置される円板である。連結用搬送部６は、載置板６１を昇降させるための昇降手段（図示せず）を備えている。この昇降手段は、制御部７によって制御され、左右方向に移動する反転部６３０の挟持アーム６３３がフォトマスク基板８を挟持すると、降下し、続いて、反転部６３０が反転し、フォトマスク基板８を反転させる。反転されたフォトマスク基板８は、上昇する基板保持部材８１に、反転された状態で保持される。
上記反転アーム６３２は、挟持アーム６３３を中央方向や反中央方向に移動させるリニアモータやボールねじ付きステッピングモータなどの挟持アーム用駆動部（図示せず）を備えている。
【００４４】
この挟持アーム用駆動部は、制御部７によって制御され、挟持アーム６３３を、フォトマスク基板８を挟持する方向（中央方向）とフォトマスク基板８を放す方向（反中央方向）に移動する。すなわち、図３に示すように、制御部７は、挟持アーム用駆動部と接続されており、バーコードリーダー１０１から入力した基板サイズ情報にもとづいて、挟持アーム用駆動部を制御し、フォトマスク基板８を挟持する位置まで、挟持アーム６３３を移動させる。このようにすると、制御部７が、基板サイズ情報にもとづいて、挟持アーム６３３の挟持位置を制御するので、挟持ミスによりフォトマスク基板８が落下するなどといった不具合を確実に防止することができる。
【００４５】
（制御部）
洗浄装置１は、正面右端に制御部７が設けてある。この制御部７は、シーケンサやコンピュータなどの情報処理装置であり、洗浄装置１を制御し、複数の洗浄工程（たとえば、薬液洗浄，スクラブ洗浄，リンス，乾燥など）を自動的に実施する。また、制御部７は、上述したように、バーコードリーダー１０１，ロールブラシ２８の昇降用駆動部，処理液噴出手段の処理液を供給する供給経路に設けられた電磁バルブ，裏面シャワー手段２９の三方弁２９３，及び，基板反転手段６３の挟持アーム用駆動部と接続されており、バーコードリーダー１０１から入力した基板サイズ情報にもとづいて、これらを制御する。
【００４６】
また、制御部７は、フォトマスク基板８の洗浄処理に応じて、フォトマスク基板８の搬送経路を制御する。すなわち、制御部７は、第一投入回収手段４の回動駆動手段，昇降手段，第一移動手段及びチャック駆動部と、第二投入回収手段５の回動駆動手段，昇降手段，第二移動手段及びチャック駆動部と、連結用搬送部６の昇降手段，反転手段及び挟持アーム用駆動部を制御する。これにより、洗浄装置１は、フォトマスク基板８の搬送経路として、フォトマスク基板８が、投入回収手段４（５）から第一の搬送口２１（３１）を経由して洗浄槽２（３）に搬送され、洗浄処理が終了すると、第一の搬送口２１（３１）を経由して投入回収手段４（５）に搬送される経路と、被処理体が、投入回収手段４から第一の搬送口２１を経由して洗浄槽２に搬送され、洗浄処理が終了すると、連結用搬送部６を経由して他の洗浄槽５に搬送され、他の洗浄槽５にて洗浄処理が終了すると、他の洗浄槽５における第一の搬送口３１を経由して投入回収手段５に搬送される経路とを有することができる。すなわち、各洗浄槽２，３が独立した状態で洗浄したり、各洗浄槽２，３が連結された状態で洗浄することができるので、生産効率を向上させることができる。
【００４７】
このように、本実施形態の洗浄装置１は、基板サイズ情報を自動的に入力することによって、基板サイズ情報の手入力ミスを防止するとともに、生産性を向上させることができる。また、洗浄基板が、大型基板のフォトマスク基板８である場合には、基板が非常に高額であるなどの理由から、作業者は大きなプレッシャーを受けるが、不必要なプレッシャーから作業者を開放するとともに、効率よくかつ優れた洗浄品質で洗浄を行うことができる。
【００４８】
以上、本発明のスピン洗浄装置について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るスピン洗浄装置は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、基板サイズ情報をコード化したバーコードは、二次元バーコードでもよい。また、基板保持部材８１にバーコードラベル８１８を貼り付ける代わりに、バーコードを切削加工やレーザ加工などによって直接的に基板保持部材８１に形成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明のスピン洗浄装置は、フォトマスク基板を洗浄する構成に限定されるものではなく、セラミック板や、金属板などの洗浄装置及び洗浄方法に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１ａ】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略平面図を示している。
【図１ｂ】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略正面図を示している。
【図２】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、基板保持部材を説明するための概略拡大平面図を示している。
【図３】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、基板サイズ情報による制御状態を説明するための、要部の概略ブロック図を示している。
【図４】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、洗浄槽のロールブラシが回動した状態を説明するための要部の概略平面図を示している。
【図５】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、洗浄槽の裏面シャワー手段を説明するための要部の概略平面図を示している。
【図６】裏面シャワー手段の構成を説明するための概略ブロック図を示している。
【図７】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の基板反転手段における要部の概略平面図を示している。
【符号の説明】
【００５１】
１  洗浄装置
２  第一洗浄槽
３  第二洗浄槽
４  第一投入回収手段
５  第二投入回収手段
６  連結用搬送部
７  制御部
８  フォトマスク基板
２１  第一搬送口
２２  第二搬送口
２３  回転板
２４  レール
２５  処理カップ
２６  処理液噴出手段
２８  ロールブラシ
２９  裏面シャワー手段
３１  第一搬送口
３２  第二搬送口
６１  載置板
６３  基板反転手段
８１  基板保持部材
１０１  バーコードリーダー
２８１  アーム
２９２  バルブ
２９３  三方弁
２９４  一次超純水タンク
２９５  ポンプ
２９６  超超純水製造装置
６３３  挟持アーム
８１２  被載置板
８１３  保持板
８１６  支持部材
８１７  規制部材
８１８  バーコードラベル
２９１０  裏面用ノズル群
２９１１  第一列裏面用ノズル
２９１２  第二列裏面用ノズル
２９１３  第三列裏面用ノズル
２９１４  第四列裏面用ノズル
２９３１  供給管
２９３２  噴出管
２９３３  回収管
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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