(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
キセノンクロライドエキシマ放電ランプを備え、皮膚疾患の患部にＵＶ−Ｂ光を照射するエキシマ光治療器において、患部に照射されるＵＶ−Ｂ光の中の、キセノンクロライドエキシマ放電ランプの放射光のピーク波長である３０８ｎｍより短波長側の光の割合を低減させる光学フィルタ部を備え、該光学フィルタ部は、複数枚の光学フィルタを備えてなり、徐々に短波長の光の割合が増える方向にシフトするように光学フィルタを交換しながら治療を行なうためのものであることを特徴とするエキシマ光治療器。
【請求項２】
キセノンクロライドエキシマ放電ランプを備え、皮膚疾患の患部にＵＶ−Ｂ光を照射するエキシマ光治療器において、患部に照射されるＵＶ−Ｂ光の中の、キセノンクロライドエキシマ放電ランプの放射光のピーク波長である３０８ｎｍより短波長側の光の割合を低減させる光学フィルタ部を備え、該光学フィルタ部には、前記エキシマ光治療器とは別に準備された複数枚の光学フィルタの中から一以上選択して設置され、該光学フィルタ部は徐々に短波長の光の割合が増える方向にシフトするように光学フィルタを交換しながら治療を行なうためのものであることを特徴とするエキシマ光治療器。
【請求項３】
前記複数枚の光学フィルタは同一の材料からなり、各々厚みを変えたものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のエキシマ光治療器。
【請求項４】
前記光学フィルタは硼珪酸ガラスからなることを特徴とする請求項３に記載のエキシマ光治療器。
【請求項５】
前記光学フィルタの種類に応じて照射時間を変更して照射する照射量制御機構を備えたことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のエキシマ光治療器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＵＶ−Ｂ領域（２８０ｎｍ〜３２０ｎｍ）の紫外線を照射することにより、皮膚疾患を治療する光線治療器に関する。
【背景技術】
【０００２】
皮膚疾患には乾癬やアトピー性皮膚炎、白斑など種々の疾患がある。ここでは乾癬を代表例として記す。乾癬の発症メカニズムは未だに解明されていない。その治療方法はいくつか提案、実施されているが、すべての患者の患部を完治させる究極の方法は見つかっておらず、発症を抑える治療方法にすぎない。その治療方法は大きく３つに分類され、外用療法、光線療法、内服療法である。
【０００３】
外用療法では、ステロイド外用薬やビタミンＤ３外用薬などが一般的に用いられる。ステロイド外用薬は長期間使用すると皮膚の萎縮などが起こり、またビタミンＤ３外用薬も一日の使用回数など注意して使用されなければならない。
内服療法では、レチノイドやシクロスポリンなどが用いられる。これらの内服薬は皮膚の異常増殖を抑制し、免疫反応を低下させるものである。したがって患部のみに有効に働くだけでなく、患部以外にも作用してしまう欠点を有する。そのため特に重症の患部をもつ患者の治療への適用は困難である。
【０００４】
光線療法には長波長紫外線（ＵＶ−Ａ、320nm〜400nm）を用いるものと中波長紫外線（ＵＶ−Ｂ）を用いる方法がある。ＵＶ−Ａ領域の紫外線を用いる治療方法は一般的にプーバ（ＰＵＶＡ）療法と呼ばれ、ソラレンと呼ばれる光増感性の薬と併用して行われる。ソラレンを内服・外用またはソラレンを含む液体に入浴したあとにＵＶ−Ａ領域の紫外線を照射する。そのため治療後は日光に当たることができないなどの日常生活の不便さをともなう。これに対し、ＵＶ−Ｂ領域を用いる治療方法はソラレンを用いずに治療できる簡便な方法である。そして、特に効果の高いＵＶ−Ｂ波長域のみを患部に照射するナローバンドＵＶ−Ｂ療法が最近注目されている。
【０００５】
ナローバンドＵＶ−Ｂ療法の紫外線光源には３１１ｎｍ〜３１３ｎｍにスペクトルを有する蛍光ランプが用いられている。その概観と基本構造は一般の照明用途の蛍光ランプと同じであり、蛍光ランプ内に含まれる水銀蒸気からの紫外線を別波長に変換する蛍光体の種類が異なるだけである。その蛍光体にはガドリニウム付活の蛍光体が用いられている。逆に言えば、ガドリウム付活の蛍光体が用いられているために３１１ｎｍ〜３１３ｎｍのシャープな発光スペクトルを放射する。もう少し短波長、例えば３０５ｎｍ付近の発光の方が治療効果は高くなる可能性も一部では指摘されているようだが、その付近で強く発光する蛍光体が存在しないため、３１１ｎｍ〜３１３ｎｍにスペクトルを有する蛍光ランプを用いたナローバンドＵＶ−Ｂ療法が行われているのが実情である。
【０００６】
そういった事情を鑑み、新しいナローバンドＵＶ−Ｂ療法用の光源が提案されている。 ３０８ｎｍを単一ピーク波長とするキセノンクロライド（ＸｅＣｌ）エキシマ放射を利用したキセノンクロライドエキシマ放電ランプがある。この光源の発光スペクトル例を図５に示す。３０８ｎｍをピークとし、３００ｎｍ以下といった短波長も放射し、ナローバンドＵＶ−Ｂ療法用蛍光ランプでは放射されない短波長の光も放射されることが特徴的である。
この短波長の光が効果的に作用しているかどうかは完全に解明されていないが、従来の蛍光ランプでは治療効果が確認されなかった患部がキセノンクロライドエキシマ放電ランプでは治療効果が確認されたという報告も一部なされている。キセノンクロライドエキシマ放電ランプによる光線治療については特許文献１や特許文献２に開示されている。
【０００７】
以上に記載したような治療効果に加え、キセノンクロライドエキシマ放電ランプは以下のような特長もあわせ有する。蛍光ランプ内では、点灯中に放電により加熱気化された水銀からの紫外線が蛍光体により３１１ｎｍ〜３１３ｎｍの発光へと変換されるため、点灯前は液体である水銀の蒸発加減により発光強度が変化してしまう。ナローバンドＵＶ−Ｂ療法では一回の照射時間は高々数分の照射であり、ランプ点灯開始後の数分間では発光強度が数１０％も変化してしまい、患部への照射時間の制御が困難である。一方、キセノンクロライドエキシマ放電ランプは点灯前からガス状であるため、ランプ点灯開始後の発光強度変化は小さく、患部への照射時間制御が容易である。
【０００８】
更には、蛍光ランプに比べ、キセノンクロライドエキシマ放電ランプはより高い電力密度での点灯が可能であり、患部への高照度照射が可能である。すなわち治療時間の短時間化も期待される。一定の照射量を制御良く患部に照射するため、患者は治療時間中に患部を動かすことを禁じられている。そのため治療時間の短縮化は、患者の負担を低減する重要な改善項目である。
【特許文献１】ＷＯ  ０３／０２４５２６号公報
【特許文献２】ＵＳ  ５９５５８４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このように、キセノンクロライドエキシマ放電ランプを光源にしたＵＶ−Ｂ領域の光線治療器（以降エキシマ光治療器）は、エキシマ発光を利用しているためランプからの放射光が単一のピーク波長３０８ｎｍを有しており、治療に効率よい光線治療器としてその可能性に注目されている。
【００１０】
ところで、皮膚疾患の治療に有効と言われるＵＶ−Ｂ領域の光は、治療効果と副作用（有害性）の二面性を持ち合わせることが言われている。副作用というのは、皮膚に紅班を生じるというものである。前記のエキシマ光治療器も、単一のピーク波長を有するスペクトルには半値幅２０ｎｍ以上と幅広の発光領域を単一のピーク波長前後に有するため、その治療効果と副作用（有害性）の二面性を併せ持つ放射をすることになる。一方、３１０ｎｍ付近の発光は治療効果が弱いものの、副作用も無視できるほど小さいため、長時間の照射により治療が行われてきたのだが、近年、より短波長の紫外線の方が治療効果が高いことが明らかになりつつあり、さらには皮膚疾患の症状の個体差により３１０ｎｍ付近のＵＶ−Ｂ領域の紫外線では治療効果が殆どないという事例が発生していることがわかってきた。
【００１１】
そこで、本発明の課題は、３０８ｎｍの単一波長ピークとその短波長側の発光域をうまく使用することにより、治療効果をあげながら、なおかつ有害性を抑えることを可能にするエキシマ光治療器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、キセノンクロライドエキシマ放
電ランプを備え、皮膚疾患の患部にＵＶ−Ｂ光を照射するエキシマ光治療器において、患
部に照射されるＵＶ−Ｂ光の中の、キセノンクロライドエキシマ放電ランプの放射光のピーク波長である３０８ｎｍより短波長側の光の割合を低減させる光学フィルタ部を備え、該光学フィルタ部は、複数枚の光学フィルタを備えてなり、徐々に短波長の光の割合が増える方向にシフトするように光学フィルタを交換しながら治療を行なうためのものであることを特徴とするエキシマ光治療器とするものである。
【００１３】
請求項2に記載の発明は、キセノンクロライドエキシマ放電ランプを備え、皮膚疾患の患部にＵＶ−Ｂ光を照射するエキシマ光治療器において、患部に照射されるＵＶ−Ｂ光の中の、キセノンクロライドエキシマ放電ランプの放射光のピーク波長である３０８ｎｍより短波長側の光の割合を低減させる光学フィルタ部を備え、該光学フィルタ部には、前記エキシマ光治療器とは別に準備された複数枚の光学フィルタの中から一以上選択して設置され、該光学フィルタ部は徐々に短波長の光の割合が増える方向にシフトするように光学フィルタを交換しながら治療を行なうためのものであることを特徴とするエキシマ光治療器とするものである。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、前記複数枚の光学フィルタは同一の材料からなり、各々厚みを変えたものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のエキシマ光治療器とするものである。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、  前記光学フィルタは硼珪酸ガラスからなることを特徴とする請求項３に記載のエキシマ光治療器とするものである。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、  前記光学フィルタの種類に応じて照射時間を変更して照射する照射量制御機構を備えたことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のエキシマ光治療器とするものである。
【００１８】
従来の蛍光ランプを用いたナローバンドＵＶ−Ｂ療法での照射時間は下記のようにして決められている。その制限は紅斑の発生による。紅斑が発生するＵＶ−Ｂ照射量は皮膚の種類やそれまでの被照射量などにより異なる。そのため各患者に対し、治療を行う前にパッチテストが行われる。一辺２ｃｍ程度の正方形穴が５〜１０個程度開けられたパッチテスト板を患部付近の皮膚に置く。その皮膚にナローバンドＵＶ−Ｂ光を照射し、例えば照射開始後５秒ごとにパッチテスト板の正方形穴を１個ずつ塞いでいく。そして２４時間後に皮膚を観察し、紅斑が生じている最小照射時間から最小紅斑量（ＭＥＤ）が求められる。以上のように各患者に対し、副作用である紅斑が発生しないような最適な放射量を求め、治療を進める。
【００１９】
ナローバンドＵＶ−Ｂ療法用蛍光ランプは半値幅の狭いシャープな発光スペクトルを有するため、これまで問題とはならなかったが、ＭＥＤ値は光源の発光波長によって変化する。なぜなら紅斑の発生しやすさが波長により変化するためである。すなわち蛍光ランプで求められた紅斑特性は、キセノンクロライドエキシマ放電ランプで求められる紅斑特性と異なる。
【００２０】
波長に対するＭＥＤ値と治療効果の特性は図７のようになることが一般的に知られている。ここで治療に使用可能な波長は治療作用より副作用（ＭＥＤ）が勝っている領域である。更に好ましい波長は、治療作用の値が大きい波長である。治療作用の大きい波長では、より少ない照射時間でより大きい治療効果が得られることを示すので、より短時間での治療が可能となり、患者への負担を小さくすることができるからである。
【００２１】
図７に示された治療作用特性および副作用特性は、ＭＥＤ値同様、皮膚の種類などにより異なり、各患者・各患部により異なっている。キセノンクロライドエキシマ放電ランプからの放射光をそのまま患部に照射すると、２８０ｎｍ程度の短波長光まで患部に照射することになる。図７の特性曲線は一般的なものであるが、患者・患部によっては副作用が治療作用を上回ってしまうことがある。
【００２２】
そこで実際の医療現場においては下記のような手順での照射治療が望ましい。
まずランプと患部との間にフィルタなどを設け、できる限り短波長成分がカットされた照射光を患部に照射する。この条件でのＭＥＤ値を求め、紅斑が発生してしまわない照射時間で治療を行う。このようにして決定された照射時間が長すぎ、患者に苦痛を伴う、もしくは治療効果がほとんど確認されないようであれば、少し短波長成分を透過するフィルタに交換する。以下、同様にＭＥＤ値を求め、より短い照射時間での治療を行う。以上を繰り返すことにより、皮膚に照射可能な最低波長を決定し、フィルタを選択してゆけば、短時間で効果的な治療が可能となる。最適フィルタを決定するまでに非常に時間がかかるように思われるが、乾癬などを完治するのではなく発症を抑制する治療方法なので、長期間の治療が必要であり、結果的には治療時間は短くなる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明により、患者や皮膚疾患の特性差を考慮した皮膚治療に適するエキシマ光治療器が提供され、そして最適かつ安全な光線治療が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
図面を用いて発明の実施形態を説明する。
図１は本発明のエキシマ光治療器の一例の概略構成図を示す。
エキシマ光治療器１はキセノンクロライドエキシマ放電ランプを内蔵し、ＵＶ−Ｂ光を放射する開口部８を具備した光照射ユニット10を備え、光照射ユニット１０を台座１５上のスタンド１１に沿って矢印方向に上下に移動させてエキシマ光を照射することができる。台座１５にはキャスター１４を備え、床を自在に移動できる。台座１５上には電源部１２があり、給電コード１６により光照射ユニット１０へ電力を供給する。１３は操作パネル部である。
【００２５】
図４には、光照射ユニット１０に内蔵されたエキシマ放電ランプの構成の一例を示す説明用断面図を示す。これは、円筒外部放射型のエキシマ放電ランプである。この図において、記号８０は放電容器であって、石英ガラスなどの誘電体よりなる円筒状の一方の壁部８１と、この一方の壁部８１の内側にその筒軸に沿って配置された、当該一方の壁部８１の内径より小さい外径を有する誘電体よりなる筒状の他方の壁部８２とを有し、一方の壁部８１および他方の壁部８２の各々の両端が封止壁部８３、８４によって接合され、一方の壁部８１と他方の壁部８２との間には、円筒状の放電空間Ｓが形成されている。
【００２６】
記号８６は導電性材料よりなる網状の一方の電極であって、放電容器８０における一方の壁部８１の外面８５に密接した状態に設けられている。記号８８はアルミニウムよりなる膜状の他方の電極であって、他方の壁部８２の外面８７を覆うよう設けられている。記号８９は、一方の電極８６と他方の電極８８とに接続された高周波電源である。
上記のエキシマ放電ランプにおいては、電源８９により、一方の電極８６と他方の電極８８との間に高周波電圧が印加されると、放電容器８０における一方の壁部８１と他方の壁部８２との間の放電空間Ｓにおいて、誘電体バリア放電による直径０．０２〜０．２ｍｍ程度の多数のマイクロプラズマが発生し、これにより、放電空間Ｓにおいてエキシマが生成されてエキシマ光が放出される。そして、このエキシマ光は、一方の壁部８１を介して一方の電極８６の網目から外部に放射される。
放電用ガスとしてキセノンクロライド（ＸｅＣｌ）が封入され３０８ｎｍにピークを有するＵＶ−Ｂ域のエキシマ光を放射する。
【００２７】
図２は光照射ユニット１０の概略構造を説明する図である。
図２（ａ）は光照射ユニット１０を正面から見た図である。図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ―Ａ断面図である。この図の例では、４種類のフィルタを切り替えてランプ４の前面に配置するものである。なお、ランプの保持機構については図示を省略してある。ランプ４から放射する光はフィルタ２を通り、開口部８から光照射ユニット１０外部へと放射する。４枚のフィルタ２は、円形をしたフィルタ保持板７に設けられた溝に固定されている。フィルタ保持板７はその中心軸に接続されたステッピングモータ５により、回転する。エキシマ光治療器の制御部（図示せず）からは制御信号がステッピングモータ５へ送信され、所望のフィルタ２が開口部８の位置、すなわちランプ４の位置にくるよう、ステッピングモータ５を回転させる。このように、作業者が自らフィルタを交換することなく、制御部によりフィルタが自動的に選択される。
【００２８】
図３は光照射ユニット１０´の別の概略構造を説明する図である。
図３（ａ）は光照射ユニット１０´を正面から見た図である。図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ―Ａ断面図である。フィルタ２２はスロット２９に納められる。本実施例ではスロットは３つあり、計３枚までのフィルタを同時に装着することができる。スロット２９はスロット枠２８に固定され、マグネット２１によりエキシマ光治療器に固定されたスロット枠２８には取っ手２５が設けられている。また、回転機構２７も備え、右下図のように、ユーザーは取っ手２５を引くことにより、フィルタ２２にアクセスすることが可能となる。フィルタ奥の記号２３の破線で囲んだ部分には図３（ｄ）のように、基台１０´Ａに凹部Ｇを備え、フィルタ２２を交換すると、スロット２９からフィルタ２２に対応して別個の凸部Ｈが突出し、基台１０´Ａの対応する凹部Ｇに嵌合する機構が設けられており、フィルタ種類を検知する機構が配置されている。ここでは突起形状を例示したが、突起方向はフィルタ面に対し平行に限らず、フィルタ面に対し垂直でも本質的には同一である。
【００２９】
図示されないが、この凹部Ｇには電気的スイッチが配設され、どのスイッチが反応したかにより、どの嵌合部のスイッチが反応したか、すなわちどの種類のフィルタが装着されたのか外部へ電気信号が送出される。この原理からすると、凹凸部の嵌合に限らず、例えばフィルタのうち接触部一部に金属配線を施し、それ自身にスイッチ機能を持たせ、接触部に設けられた電気回路を短絡させるなどの方法でも本質的には同一である。
【００３０】
図６は本発明のエキシマ光治療器の照射量制御機構を説明するブロック図を示す。フィルタセレクタ回路３０は、エキシマ光治療器のマイコン部４０の入力部Ａに接続される。フィルタが照射ユニットに正しく装着されると、マイコン部４０は入力部Ａよりどのフィルタが装着されているのか電気的に検知する。
【００３１】
マイコン部４０にはメモリが装着され、事前にフィルタ種類と照射時間を増減させる係数が事前に記憶されている。これはフィルタ種類により、発光スペクトル形状の相対的変化および絶対的変化をともに鑑みる係数を与える。作業者（例えば看護婦・看護士など）がユーザーインターフェース６０を介し、照射量（単位Ｊなど）を入力すると、その信号は作業者による入力確認スイッチのＯＮとともにマイコン部４０の入力部Ｂに送出される。
【００３２】
マイコン部４０の演算部は、フィルタの種類・照射量・フィルタ種類による換算係数より、適切な照射時間を算出する。算出された照射時間は、マイコン部４０の出力部Ａ・出力部Ｂに送出される。出力部Ａに送出された照射時間は、ユーザーインターフェース部６０の照射時間表示部に送出され、作業者が確認できるよう表示される。出力部Ｂに送出された照射時間は、電源部５０の入力部Ｃに送出される。入力部Ｃに送出された照射時間はタイマー回路５１に送出される。
【００３３】
作業者がユーザーインターフェース６０にある点灯スイッチＳＷをＯＮすると、そのＯＮ信号は電源部入力部Ｄを経由してタイマー回路５１をトリガーする。トリガーした時点から、入力部Ｃを経て受信した照射時間分だけ出力を出す。出力は電源部の出力部Ｃよりランプ４へと給電することになる。以上のように、フィルタ種類を変えても、適切な照射時間を自動的に決定するエキシマ光治療器が得られる。
【００３４】
治療作用を有効に活用するには、２９０ｎｍ程度の短波長光を積極的に利用することが望まれるが、このあたりの波長は副作用も大きく、危険でもある。これらの波長依存性は過去何人もの研究者が調査しているが、決定的なデータは未だ得られていない状況である。これはこれらの作用が、皮膚の色や、皮膚の状態など個人差による違いがあることと、さらに個人でも皮膚部位によっても異なることが原因であると考えられている。したがって実際の臨床現場では、患者に対しテスト照射を行い、副作用を確認しながらの治療となる。
【００３５】
図７に示される作用曲線は部位・個人によって大きく変化する。ここで、その変化がどのような影響を及ぼすか考える。治療作用の感度が高いと、治療作用曲線は全体に上に上がる。そうすると、より短波長の光に対しても副作用を抑えながら治療作用を高めることが可能になる。一方、治療作用の感度が低ければ、より長波長の光でないと副作用が激しく、患者に対して負担ばかりを強いることになる。また、副作用の作用曲線についても同様に、感度の高低により最適な治療波長域が変化することは容易に推察される。
【００３６】
そこで、ランプから放射される発光スペクトルをそのまま患者に照射すると、患者の患部部位・個人差での違いに十分に対応できず、常に最適な治療を施すことができない。そのため特に２９０ｎｍ付近の短波長光強度を制御することのできるエキシマ光治療器はとても望ましい。図５（ａ）には２ｍｍ〜１０ｍｍまで厚みを変えた硼珪酸ガラスフィルタを使い、キセノンクロライドエキシマ放電ランプからの光がどのように変化するかを示している。図５（ｂ）には図５（ａ）を規格化した結果を示す。このように特性が異なるフィルタを選択できるエキシマ光治療器は、臨床上非常に好ましい形態である。徐々に短波長の光の割合が増える方向にシフトするようにフィルタを交換しながら治療を行うのが良い。本発明のエキシマ光治療器であれば、長波長側から徐々に短波長側へとシフトすることにより、副作用を押さえることのできる最適な波長を照射することが可能となる。
但し、フィルタの厚みが増すにつれて、光強度は弱くなるので、必要波長域の光の照射量は時間で管理することになる。
【００３７】
フィルタの具体例として、ガラス中に硼素・珪素を含有する吸収特性を利用した場合を考えた。その組成比を微妙に変化させることにより、吸収特性を変化させることが可能である。より簡単には、上述のように、その厚みを変化させることにより相対的に吸収特性を変化させることができる。
【００３８】
図８に厚みを変化させたガラスの透過率特性を示す。フィルタは、ランプと患者患部との間に装着され、ランプからの発光スペクトルを変化させることを目的とする。フィルタは光照射ユニットの前面に前面ガラスに兼ねた形で装着されても良いし、光照射ユニット１０内のランプと光照射ユニットの前面ガラスの間に装着されても良い。とにかくランプからの発光スペクトルを変化させることができれば何ら問題はない。
【００３９】
本発明のエキシマ光治療器に使用されるフィルタには、硼珪酸ガラス以外にも、例えば、無水・無酸素フッ化アルミニウムガラスも使用できる。具体的な組成として、ＢａＦ２、ＣａＦ２、ＡｌＦ３の含有モル％比率がそれぞれ１４．００〜２４．００の範囲、２８．２５〜３８．２５の範囲、３７．２５〜４７．２５の範囲であるガラスであって、ＹＦ３、ＳｒＦ２、ＬａＦ３のうちのいずれか一つを含み、その含有量は、ＹＦ３が２．５〜２０モル％、ＳｒＦ２が２．５〜７．５モル％、ＬａＦ３が２．５〜７．５モル％、さらに、Ｃｅを含み、無水・無酸素である。好ましくは、Ｃｅの含有量は、１〜１０ａｔ．％である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明のエキシマ光治療器の一例の概略構成図を示す。
【図２】フィルタ自動交換を行うエキシマ光治療器の照射ユニットを示す。
【図３】作業者がフィルタを交換するエキシマ光治療器の照射ユニットを示す。
【図４】本発明のエキシマ光治療器に使用されるエキシマ放電ランプの概略断面図である。
【図５】本発明のエキシマ光治療器からの放射光を硼珪酸ガラス製フィルタを通した場合のスペクトル変化を示す。
【図６】本発明のエキシマ光治療器の照射量制御機構を説明するブロック図を示す。
【図７】乾癬の治療作用を示す波長依存性と、その副作用として考えられている紅斑発生の波長依存性を示した図を示す。
【図８】本発明のエキシマ光治療器に使用される一例である硼珪酸ガラスフィルタのＵＶ−Ｂ領域の光透過率を示す。
【符号の説明】
【００４１】
１  エキシマ光治療器
２、２´  フィルタ
３  フィルタ保持枠
４  ランプ
５  ステッピングモータ
６  基台
７  フィルタ保持板
８  開口部
１０、１０´  光照射ユニット
１０´Ａ  基台
１１  スタンド
１２  電源部
１３  操作パネル部
１４  キャスター
１５  台座
１６  給電コード
２１  マグネット
２２  フィルタ
２５  取っ手
２７  回転機構
２８  スロット枠
２９  スロット
３０  フィルタセレクタ回路
４０  マイコン部
５０  電源部
５１  タイマー回路
６０  ユーザーインターフェース
Ｇ  凹部
Ｈ  凸部
８０  放電容器
８１  一方の壁部
８２  他方の壁部
８３  封止壁部
８４  封止壁部
８５  外面
８６  電極
８７  外面
８８  電極
８９  電源
Ｓ  放電空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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