(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光層を含む複数の層からなる機能層を第１電極層と第２電極層との間に有した複数の発光素子と、前記複数の第１電極層のそれぞれを囲う絶縁層と、前記複数の発光素子を共通して囲う隔壁とを基板の素子形成面上に備えた電気光学装置において、
前記機能層は、前記第１電極層上と前記絶縁層上とに同一の厚さを有して各別に形成され、
前記第１電極層と該第１電極層上の前記機能層との境界面を第１の境界面とし、
前記絶縁層と該絶縁層上の前記機能層との境界面を第２の境界面とし、
前記絶縁層は、前記複数の第１電極層のそれぞれの縁の上に重なるように前記素子形成面上に形成されて、前記第１の境界面から前記第２電極層側への厚さが前記機能層を構成する各層の厚さ以上であり、かつ、前記素子形成面上の厚さと前記第１電極層上の厚さとが同一であり、前記第１電極層における縁の上では、前記第１電極層の厚さだけ、前記第２の境界面が前記素子形成面に対して隆起していることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記絶縁層は、前記第１電極層と前記機能層との間の境界面から前記第２電極層側への厚さが、前記機能層の厚さ以上であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の電気光学装置において、
前記絶縁層は、前記機能層を形成するための液状体を親液する親液性を有したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の電気光学装置において、
前記隔壁は、前記機能層を形成するための液状体を撥液する撥液性を有したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の電気光学装置において、
前記機能層は、少なくとも正孔輸送層、電子輸送層、正孔障壁層、電子障壁層のいずれか１つを含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の電気光学装置において、
前記機能層は、有機層であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の電気光学装置において、
前記発光素子からの光を集光する光学部材を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
基板の素子形成面に複数の第１電極層を形成し、前記複数の第１電極層のそれぞれの縁の上に重なるように前記複数の第１電極層のそれぞれを囲む絶縁層を前記素子形成面上に形成するとともに前記複数の第１電極層を共通して囲む隔壁を形成し、前記隔壁で囲まれた領域に液状体を吐出して発光層を含む複数の層からなる機能層を前記複数の第１電極層上と前記絶縁層上とに同一の膜厚で各別に形成し、前記機能層上に第２電極層を形成して複数の発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
前記第１電極層と該第１電極層上の前記機能層との境界面を第１の境界面とし、
前記絶縁層と該絶縁層上の前記機能層との境界面を第２の境界面とし、
前記第１の境界面から前記第２電極側への前記絶縁層の厚さが前記機能層を構成する各層の厚さ以上であり、かつ、前記素子形成面上の前記絶縁層の厚さと前記第１電極層上の前記絶縁層の厚さとが同一であり、前記第１電極層における縁の上では、前記第１電極層の厚さだけ、前記第２の境界面が前記素子形成面に対して隆起するようにしたことを特徴
とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記機能層を形成する前に、前記複数の第１電極層のそれぞれを囲む絶縁層を形成し、前記第１電極層と前記機能層との間の境界面から前記第２電極側への前記絶縁層の厚さが、前記機能層の厚さ以上になるようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記絶縁層に前記液状体を親液する親液性を付与するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記隔壁に前記液状体を撥液する撥液性を付与するようにしたことを特徴とする電気光
学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずれか１つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記複数の第１電極層上に、少なくとも正孔輸送層、電子輸送層、正孔障壁層、電子障壁層のいずれか１つを含む前記機能層を形成するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
像担持体の外周面を帯電させる帯電手段と、帯電した前記像担持体の外周面を露光して潜像を形成する露光手段と、前記潜像に対して着色粒子を供給して顕像を現像する現像手段と、前記顕像を転写媒体に転写する転写手段とを備えた画像形成装置において、
前記露光手段は、請求項１〜７のいずれか１つに記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を用いたプリンタには、感光ドラムを露光して潜像を形成する電気光学装置としての露光ヘッドが利用されている。この露光ヘッドの発光源には、その薄型化や軽量化等を図るために、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下単に、有機ＥＬ素子という。）を利用する提案がなされている。
【０００３】
こうした露光ヘッドの製造方法には、発光材料を含む液状体を所定の画素電極上に吐出させる、いわゆるインクジェット法が知られている。こうしたインクジェット法では、画素電極の周囲を隔壁で区画するために、吐出した液状体を画素電極上に収容することができ、高精細なパターニングを可能にしている。
【０００４】
しかし、上記インクジェット法では、画素電極上に吐出した液状体の蒸発速度が、同画素電極上方の蒸発成分の分圧に依存する。そのため、吐出した液状体の蒸発速度が、基板の面内でバラツキを生じて、有機ＥＬ素子の膜厚ムラを引き起こす、ひいては露光ヘッドの輝度ムラを招く問題があった。
【０００５】
そこで、インクジェット法では、従来より、こうした蒸発速度のバラツキに起因した膜厚ムラを解消する提案がなされている（例えば、特許文献１）。特許文献１では、基板の周囲にダミー用の吐出領域を設けて、基板上方の蒸発成分の均一化を図り、基板面内における蒸発速度の均一性を向上させている。
【特許文献１】特開２００２−２２２６９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、液状体の乾燥状態は、画素電極上方の蒸発成分の分圧に加えて、画素電極の周囲に設けられた隔壁の表面状態（親液性あるいは撥液性）によっても変動する。そのため、上記するダミーの吐出領域を設ける場合であっても、各隔壁の表面状態が均一でない場合には、各液状体の乾燥状態にバラツキを来たして、発光材料の膜厚均一性（発光輝度の均一性）を確保するには不十分であった。
【０００７】
こうした問題は、区画された多数の画素電極を１つの隔壁で囲い、同隔壁で囲まれた領域全体に共通する液状体を吐出して、各画素電極上に発光材料を積層する、すなわち、多数の有機ＥＬ素子が１つの隔壁を共有することによって解消可能と考えられる。
【０００８】
しかしながら、多数の画素電極の全体に共通する液状体を吐出すると、各画素電極の間にも発光材料が積層される。その結果、各画素電極の間でも発光材料が発光するようになり、明暗差や濃淡差（コントラスト）の低下を招く問題があった。
【０００９】
本発明は、上記する問題を解決するためになされたものであり、その目的は、コントラストの低下を回避して発光輝度の均一性を向上させた電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の電気光学装置は、発光層を含む複数の層からなる機能層を第１電極層と第２電極層との間に有した複数の発光素子と、前記複数の第１電極層のそれぞれを囲う絶縁層と、前記複数の発光素子を共通して囲う隔壁とを基板の素子形成面上に備えた電気光学装置において、前記機能層は、前記第１電極層上と前記絶縁層上とに同一の厚さを有して各別に形成され、前記第１電極層と該第１電極層上の前記機能層との境界面を第１の境界面とし、前記絶縁層と該絶縁層上の前記機能層との境界面を第２の境界面とし、前記絶縁層は、前記複数の第１電極層のそれぞれの縁の上に重なるように前記素子形成面上に形成されて、前記第１の境界面から前記第２電極層側への厚さが前記機能層を構成する各層の厚さ以上であり、かつ、前記素子形成面上の厚さと前記第１電極層上の厚さとが同一であり、前記第１電極層における縁の上では、前記第１電極層の厚さだけ、前記第２の境界面が前記素子形成面に対して隆起している。
【００１１】
本発明の電気光学装置によれば、絶縁層と第１電極層の双方に機能層を積層する場合であっても、絶縁層に積層された機能層の各層を、それぞれ第１電極層に積層された機能層の対応する各層から離間させることができる。その結果、各発光素子の間の領域（絶縁層上）での発光を回避して、絶縁層を含む複数の第１電極層上に機能層を積層することができる。従って、コントラストの低下を回避して、機能層の膜厚均一性、すなわち発光輝度の均一性を向上させることができる。
【００１２】
この電気光学装置において、前記絶縁層は、前記第１電極層と前記機能層との間の境界面から前記第２電極層側への厚さが、前記機能層の厚さ以上であってもよい。
この電気光学装置によれば、絶縁層と第１電極層の双方に機能層を積層する場合であっても、第１電極層に積層された機能層を、第１電極層に積層された機能層から離間させることができる。従って、コントラストの低下を確実に回避することができ、発光輝度の均一性を向上させることができる。
【００１３】
この電気光学装置において、前記絶縁層は、前記機能層を形成するための液状体を親液する親液性を有してもよい。
この電気光学装置によれば、絶縁層が親液性を有する分だけ、機能層の膜厚均一性を向上させることができる。従って、発光輝度の均一性を、さらに向上させることができる。
【００１４】
この電気光学装置において、前記隔壁は、前記機能層を形成するための液状体を撥液する撥液性を有してもよい。
この電気光学装置によれば、隔壁が撥液性を有する分だけ、機能層を形成する液状体の漏れを回避することができる。従って、機能層の膜厚均一性を、さらに向上させることができる。
【００１５】
この電気光学装置において、前記機能層は、少なくとも正孔輸送層、電子輸送層、正孔障壁層、電子障壁層のいずれか１つを含むようにしてもよい。
この電気光学装置によれば、機能層が、少なくとも正孔輸送層、電子輸送層、正孔障壁層、電子障壁層のいずれか１つを含む分だけ、発光素子の光学特性を向上させることができる。
【００１６】
この電気光学装置において、前記機能層は、有機層であってもよい。
この電気光学装置によれば、機能層を有機層で形成することができるため、機能層の材料選択範囲を拡張することができ、絶縁層や第１電極層等に即した構成材料を選択することができる。その結果、発光素子の光学特性を、さらに向上させることができる。
【００１７】
この電気光学装置において、前記発光素子からの光を集光する光学部材を備えるようにしてもよい。
この電気光学装置によれば、発光素子からの光を集光する分だけ、コントラストを向上させることができる。その結果、発光素子からの光の利用範囲を拡張することができる。
【００１８】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板の素子形成面に複数の第１電極層を形成し、前記複数の第１電極層のそれぞれの縁の上に重なるように前記複数の第１電極層のそれぞれを囲む絶縁層を前記素子形成面上に形成するとともに前記複数の第１電極層を共通して囲む隔壁を形成し、前記隔壁で囲まれた領域に液状体を吐出して発光層を含む複数の層からなる機能層を前記複数の第１電極層上と前記絶縁層上とに同一の膜厚で各別に形成し、前記機能層上に第２電極層を形成して複数の発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記第１電極層と該第１電極層上の前記機能層との境界面を第１の境界面とし、前記絶縁層と該絶縁層上の前記機能層との境界面を第２の境界面とし、前記第１の境界面から前記第２電極側への前記絶縁層の厚さが前記機能層を構成する各層の厚さ以上であり、かつ、前記素子形成面上の前記絶縁層の厚さと前記第１電極層上の前記絶縁層の厚さとが同一であり、前記第１電極層における縁の上では、前記第１電極層の厚さだけ、前記第２の境界面が前記素子形成面に対して隆起するようにした。
【００１９】
本発明の電気光学装置によれば、絶縁層に積層される機能層の各層を、それぞれ第１電極層に積層される機能層の対応する各層から離間させることができる。その結果、発光素子の間での発光を回避して、機能層の膜厚均一性を向上させることができる。従って、コントラストの低下を回避して、発光輝度の均一性を向上させることができる。
【００２０】
この電気光学装置の製造方法において、前記機能層を形成する前に、前記複数の第１電極層のそれぞれを囲む絶縁層を形成し、前記第１電極層と前記機能層との間の境界面から前記第２電極側への前記絶縁層の厚さが、前記機能層の各層の厚さ以上になるようにしてもよい。
【００２１】
この電気光学装置の製造方法によれば、絶縁層に積層される機能層を、第１電極層に積層される機能層から離間させることができる。従って、コントラストの低下を確実に回避することができ、発光輝度の均一性を向上させることができる。
【００２２】
この電気光学装置の製造方法において、前記絶縁層に前記液状体を親液する親液性を付与するようにしてもよい。
この電気光学装置の製造方法によれば、絶縁層が液状体を親液する分だけ、機能層の膜厚均一性を向上させることができる。従って、発光輝度の均一性を、さらに向上させることができる。
【００２３】
この電気光学装置の製造方法において、前記隔壁に前記液状体を撥液する撥液性を付与するようにしてもよい。
この電気光学装置の製造方法によれば、隔壁が液状体を撥液する分だけ、液状体の漏れを回避することができる。従って、機能層の膜厚均一性を、さらに向上させることができる。
【００２４】
この電気光学装置の製造方法において、前記複数の第１電極層上に、少なくとも正孔輸送層、電子輸送層、正孔障壁層、電子障壁層のいずれか１つを含む前記機能層を形成するようにしてもよい。
【００２５】
この電気光学装置の製造方法によれば、少なくとも正孔輸送層、電子輸送層、正孔障壁層、電子障壁層のいずれか１つを含む機能層を形成する分だけ、発光素子の光学特性を向上させることができる。
【００２６】
本発明の画像形成装置は、像担持体の外周面を帯電させる帯電手段と、帯電した前記像担持体の外周面を露光して潜像を形成する露光手段と、前記潜像に対して着色粒子を供給して顕像を現像する現像手段と、前記顕像を転写媒体に転写する転写手段とを備えた画像形成装置において、前記露光手段は、上記する電気光学装置を備えるようにした。
【００２７】
本発明の画像形成装置によれば、コントラストの低下を回避した所望する顕像を転写媒体に転写することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
図１において、電子写真方式プリンタ（以下単に、プリンタという。）１０の筐体１１内には、駆動ローラ１２、従動ローラ１３及びテンションローラ１４が設けられるとともに、各ローラ１２，１３，１４に対して転写媒体としての転写ベルト１５が張設されている。そして、駆動ローラ１２を回転すると、転写ベルト１５は、図１の矢印方向に循環駆動するようになっている。
【００２９】
転写ベルト１５の上方には、４体の像担持体としての感光ドラム１６が、図１に示す矢印方向（右回り）に回転可能に併設されている。各感光ドラム１６の外周面には、光導電性を有する感光層１６Ｓ（図２参照）が形成されるとともに、所定の波長領域の光を照射されることによって、照射された部位の電荷が消失されるようになっている。
【００３０】
各感光ドラム１６の感光層１６Ｓには、それぞれ帯電手段としての帯電ローラ１７が回転可能に密着されるとともに、感光ドラム１６の全周面（感光層１６Ｓ全体）に所定の帯電電位をそれぞれ付与するようになっている。
【００３１】
各感光ドラム１６の外周であって、帯電ローラ１７の右回り方向（感光ドラム１６の回転方向）には、露光手段を構成する電気光学装置としての露光ヘッド２０がそれぞれ配設されている。露光ヘッド２０は、感光ドラム１６の軸方向に沿って延びる直方体形状に形成されるとともに、感光ドラム１６の感光層１６Ｓに向かって所定の波長領域の光Ｌを出射するようになっている。そして、露光ヘッド２０が印刷データに基づく光Ｌを出射すると、感光層１６Ｓは、所定の波長領域の光Ｌに露光されて、露光された部位の電荷を消失する。これによって、感光ドラム１６の感光層１６Ｓに静電的な画像（静電潜像）が形成される。
【００３２】
感光ドラム１６の外周であって、対応する露光ヘッド２０の右回り方向には、現像手段としてのトナーカートリッジ２１がそれぞれ配設されている。各トナーカートリッジ２１には、それぞれ対応する色（黒、シアン、マゼンタ及びイエロ）の着色粒子（トナー）が収容されて、帯電させた着色粒子（トナー）を感光ドラム１６の感光層１６Ｓに供給するようになっている。
【００３３】
そして、各感光ドラム１６に帯電電位と略等しいバイアス電位を印加して、対応するトナーカートリッジ２１からトナーを供給すると、供給されたトナーは、感光層１６Ｓの露光された部位にのみ付着する。これによって、各感光層１６Ｓには、それぞれ前記静電潜像に対応した単色の可視像（顕像）が形成される（現像される）。
【００３４】
感光ドラム１６の外周であって、対応するトナーカートリッジ２１の右回り方向には、前記転写ベルト１５を介して、それぞれ一次転写ローラ２２がそれぞれ配設されている。一次転写ローラ２２は、直流電圧の印加によって静電吸着力を誘起する導電性のローラであって、感光ドラム１６に吸着したトナー（顕像）を吸引して転写ベルト１５に一次転写するようになっている。そして、４体の感光ドラム１６に吸着した各色のトナー（顕像）を転写ベルト１５に順次一次転写すると、各色の顕像が転写ベルト１５上で重ねられてフルカラーの画像（トナー像）を形成する。
【００３５】
感光ドラム１６の外周であって、対応する一次転写ローラ２２の右周りには、ＬＥＤ等の光源とゴムブレードを備えたクリーニング手段２３がそれぞれ配設されて、感光ドラム１６の感光層１６Ｓを除電して、残留するトナーを機械的に除去するようになっている。
【００３６】
転写ベルト１５の下側には、給紙ローラ２４が配設されて、記録紙Ｐを転写ベルト１５側に給紙するようになっている。その給紙ローラ２４の上側にあって、駆動ローラ１２と相対向する位置には、転写手段を構成する二次転写ローラ２５が配設されて、転写ベルト
１５に形成されたトナー像を静電的に吸着して、記録紙Ｐの表面に順次移動する（二次転写する）ようなっている。
【００３７】
二次転写ローラ２５の上側には、熱源を内蔵する一対のヒートローラ２６と一対の排紙ローラ２７が配設されている。一対のヒートローラ２６は、記録紙Ｐに二次転写されたトナーを加熱によって軟化させて、記録紙Ｐ内に浸透固化させるようになっている。一対の排紙ローラ２７は、ヒートローラ２６からの記録紙を筐体１１の外側に排出するようになっている。そして、トナー像の二次転写された記録紙Ｐをヒートローラ２６に供給すると、記録紙の表面に転写されたトナー像が定着して、トナー像の定着した記録紙Ｐが、排紙ローラ２７によって筐体１１の外側に排出される。
【００３８】
次に、上記プリンタ１０に備えられた電気光学装置としての露光ヘッド２０について以下に説明する。
図２において、露光ヘッド２０には、感光ドラム１６の軸方向（Ｘ矢印方向）に沿って延びるケース３１が備えられている。ケース３１は、その感光ドラム１６側を開口した箱体状に形成されている。ケース３１の内部には、ケース３１の長手方向（Ｘ矢印方向）に沿って延びるように形成された発光素子アレイ３２が配設されて、感光ドラム１６側（Ｚ矢印方向）に光Ｌを出射するようになっている。発光素子アレイ３２の感光ドラム１６側には、ケース３１に固定された光学部材３３が配設されて、発光素子アレイ３２の出射する光Ｌを感光ドラム１６側に集光して感光層１６Ｓに導くようになっている。
【００３９】
図３において、発光素子アレイ３２には、Ｘ矢印方向に延びる基板３４が備えられて、その基板３４の一側面（素子形成面３４ａ）上には、素子形成面３４ａの全体を覆うように形成された絶縁層３５が積層されている。
【００４０】
絶縁層３５は、シリコン酸化膜等の絶縁体からなる薄膜層であって、液状体Ｆａ，Ｆｂ（図８及び図９参照）に対する親液性を有している。その絶縁層３５には、素子形成面３４ａまでを貫通する多数の円形孔３５ａが形成されている。各円形孔３５ａは、Ｘ矢印方向に沿う千鳥格子状に配列形成されて、素子形成面３４ａ上に、絶縁層３５で囲まれる多数の空間（画素領域Ｓ）を区画形成している。
【００４１】
以下、この絶縁層３５の膜厚を、「絶縁層厚さＤ１」（図４参照）という。「絶縁層厚さＤ１」は、第１電極としての画素電極３６及び機能層４０の膜厚に基づいて設定されて、ここでは、２２０ｎｍにしている。
【００４２】
図３及び図４に示すように、各画素領域Ｓ内には、それぞれ対応する素子形成面３４ａの全体にわたって均一に広がる画素電極３６が形成されている。各画素電極３６は、ＩＴＯやＩＺＯ等の光透過性導電膜からなる透明電極であって、それぞれ対応する図示しないデータ線を介して画像データに基づくデータ信号が供給されるようになっている。
【００４３】
以下、この画素電極３６の膜厚を、「電極厚さＤ２」とし、５０ｎｍにしている。
絶縁層３５の上側であって、基板３４の外縁には、全ての画素領域Ｓ（画素電極３６）を囲う四角枠状に形成された隔壁としての共通バンク３７が積層されている。共通バンク３７は、アクリル樹脂やポリイミド樹脂、フッ素系樹脂等の樹脂材料によって形成される厚さが１μｍ程度の樹脂層であって、液状体Ｆａ，Ｆｂ（図８及び図９参照）に対する撥液性を有している。そして、絶縁層３５上に共通バンク３７が形成されることによって、全ての画素領域Ｓ（画素電極３６）を囲う空間（吐出領域Ｓｄ）が基板３４上に区画形成される。
【００４４】
吐出領域Ｓｄ内であって、前記絶縁層３５及び画素電極３６の上側には、その上面全体を覆う機能層４０が積層されている。尚、この機能層４０は、基板３４側から順に積層された正孔輸送層４１と発光層４２とからなる多層膜である。
【００４５】
正孔輸送層４１は、画素電極３６及び絶縁層３５の上面全体に均一な膜厚で積層された有機層であって、正孔輸送層材料としてのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（以下単に、ＰＥＤＯＴという。）で形成されている。正孔輸送層４１は、画素電極３６から注入された正孔を、対応する発光層４２の領域まで輸送するようになっている。
【００４６】
この正孔輸送層４１は、前記「ＰＥＤＯＴ」を含む液状体Ｆａ（図８参照）を吐出領域Ｓｄの全体に吐出して乾燥することによって形成されている。すなわち、各正孔輸送層４１は、共通バンク３７を共有することによって同時に成膜されて、共通バンク３７を共有する分だけ、共通バンク３７に起因する液状体Ｆａの乾燥速度のバラツキを抑制させることができる。その結果、各正孔輸送層４１は、その膜厚の均一性を向上させることができる。尚、正孔輸送層材料は、これに限らず、公知の低分子系又は高分子系の正孔輸送材料を利用することができ、低分子系の正孔輸送層材料を用いる場合には、公知の蒸着法等の気相プロセスによって正孔輸送層４１を形成してもよい。
【００４７】
以下、この正孔輸送層４１の膜厚を、「第１機能層厚さＴ１」とし、５０ｎｍにしている。
発光層４２は、正孔輸送層４１の上面全体に均一な膜厚で積層された有機層であって、発光層材料としてのフルオレン−ジチオフェンコポリマー（以下単に、Ｆ８Ｔ２という。）で形成されている。発光層４２は、前記画素電極３６側からの正孔と、後述する陰極４３側からの電子を再結合して、放出するエネルギーによってエキシトン（励起子）を生成し、このエキシトンが基底状態に戻るエネルギー放出によって、蛍光あるいは燐光を発する（発光する）ようになっている。
【００４８】
この発光層４２は、前記「Ｆ８Ｔ２」を含む液状体Ｆｂ（図９参照）を吐出領域Ｓｄの全体に吐出して乾燥することによって形成されている。すなわち、各発光層４２は、共通バンク３７を共有することによって同時に成膜されて、共通バンク３７を共有する分だけ、共通バンク３７に起因する液状体Ｆｂの乾燥速度のバラツキを抑制させることができる。その結果、各発光層４２は、その膜厚の均一性を向上させることができる。尚、発光層材料は、これに限らず、公知の低分子系又は高分子系の発光材料を利用することができ、低分子系の発光材料を用いる場合には、公知の蒸着法等の気相プロセスによって発光層４２を形成してもよい。
【００４９】
以下、この発光層４２の膜厚を、「第２機能層厚さＴ２」とし、１２０ｎｍにしている。つまり、前記「絶縁層厚さＤ１」は、「絶縁層厚さＤ１」から「電極厚さＤ２」を引いた差分（２２０−５０＝１７０ｎｍ）が、これら「第１機能層厚さＴ１」や「第２機能層厚さＴ２」、すなわち機能層４０の各層の膜厚以上になるように設定されている。しかも、前記「絶縁層厚さＤ１」は、「絶縁層厚さＤ１」から「電極厚さＤ２」を引いた差分が、これら「第１機能層厚さＴ１」と「第２機能層厚さＴ２」の和、すなわち機能層４０の膜厚以上になるように設定されている。
【００５０】
換言すると、絶縁層３５は、画素電極３６の上面（機能層４０との間の境界面）から上側への厚さが、機能層４０の膜厚以上となるように設定されて、画素電極３６上に積層した機能層４０と、絶縁層３５上に積層した機能層４０との間の接触を断っている。これによって、絶縁層３５は、絶縁層３５上に積層した機能層４０と画素電極３６との間を電気的に絶縁させている。
【００５１】
図３において、機能層４０の上側には、素子形成面３４ａの全体にわたって形成された第２電極層としての陰極４３が積層されている。陰極４３は、仕事関数の低い導電性材料（例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌの金属等）によって形成されて、各画素領域Ｓに共通する所定の共通電位が供給されるようになっている。つまり、陰極４３は、各画素電極３６上に形成された機能層４０の発光層４２に、それぞれ電子を注入するようになっている。尚、ここでは、これら画素電極３６、機能層４０及び陰極４３によって、発光素子を構成している。
【００５２】
そして、各画素電極３６に画像データに基づくデータ信号を供給して、各画素電極３６と陰極４３との間に電圧を印加すると、画素電極３６からの正孔が、正孔輸送層４１を介して、発光層４２に移動する。同時に、陰極４３からの電子が、発光層４２に移動して、正孔と電子とが発光層４２で再結合する、すなわち、発光層４２が発光する。
【００５３】
この際、絶縁層３５上に積層された各機能層４０は、絶縁層３５の膜厚「絶縁層厚さＤ１」によって、それぞれ画素電極３６から電気的に絶縁されている。そのため、画素電極３６からの正孔と陰極４３からの電子は、画素電極３６上に積層した発光層４２でのみ再結合する、すなわち、画素領域Ｓの発光層４２のみが発光する。
【００５４】
従って、吐出領域Ｓｄ内の全体に機能層４０を形成させることができ、各画素領域Ｓの間（絶縁層３５上）に位置する機能層４０（発光層４２）の発光を回避させることができる。その結果、機能層４０の膜厚均一性（発光輝度の均一性）を向上させることができ、各画素領域Ｓのコントラストの低下を回避させることができる。
【００５５】
次に、露光ヘッド２０の製造方法を図５〜図９に従って説明する。
まず、図５に示すように、基板３４の素子形成面３４ａに、公知の熱酸化法やＣＶＤ法等を利用して、膜厚が「絶縁層膜厚Ｄ１」（２２０ｎｍ）からなる絶縁層３５を成膜し、同絶縁層３５に、公知のフォトリソグラフィ法を利用して、多数の円形孔３５ａをパターニングする。これによって、素子形成面３４ａ上に、多数の画素領域Ｓを形成する。尚、この際、絶縁層３５を形成する前に、素子形成面３４ａ上（絶縁層３５下）に、画素電極３６に接続される前記データ線や各種トランジスタを先行して形成するようにしてもよい。さらに、画素領域Ｓを形成した後に、絶縁層３５を水蒸気や酸素プラズマに晒して、絶縁層３５の親液性を高めるようにしてもよい。
【００５６】
画素領域Ｓを形成すると、図６に示すように、公知のインクジェット法を利用して、ＩＴＯやＩＺＯの微粒子を含む液状体を画素領域Ｓ内にのみ吐出して、吐出した液状体を乾燥・焼成する。これによって、各画素領域Ｓに整合して、膜厚が「電極厚さＤ２」（５０ｎｍ）からなる画素電極３６を各画素領域Ｓ内にのみ形成する。
【００５７】
画素電極３６を形成すると、図７に示すように、公知のスピンコート法等を利用して、素子形成面３４ａの全体に、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等からなる樹脂膜を塗布成膜し、公知のフォトリソグラフィ法を利用して、共通バンク３７をパターニングする。これによって、各画素領域Ｓ（各画素電極３６）を共通して囲う共通バンク３７を形成し、素子形成面３４ａ上に、吐出領域Ｓｄを形成する。尚、この際、共通バンク３７を形成した後に、共通バンク３７の表面をフッ素系のプラズマに晒して、共通バンク３７の撥液性を高めるようにしてもよい。
【００５８】
共通バンク３７を形成すると、図８に示すように、公知のインクジェット法を利用して、上記「ＰＥＤＯＴ」を水系溶媒に溶解させた液状体Ｆａを、吐出領域Ｓｄの全体に吐出し、吐出した液状体Ｆａを乾燥することによって、膜厚が「第１機能層厚さＴ１」からなる正孔輸送層４１を形成する。
【００５９】
この際、吐出領域Ｓｄの全体に液状体Ｆａを吐出させるため、各画素領域Ｓ上方の溶媒分圧を略等しくさせることができ、画素領域Ｓ毎の液状体Ｆａの乾燥速度を略等しくさせることができる。また、吐出された液状体Ｆａは、共通バンク３７が撥液性を有するために、吐出領域Ｓｄ内から漏れることなく、同吐出領域Ｓｄ内に収容される。さらに、吐出された液状体Ｆａは、絶縁層３５が親液性を有するために、吐出領域Ｓｄ内の全体にわたって濡れ広がることができる。従って、各画素電極３６上と絶縁層３５上の双方に、それぞれ「第１機能層厚さＴ１」からなる均一な膜厚の正孔輸送層４１を形成させることができる。
【００６０】
しかも、画素電極３６の上面（機能層４０との間の境界面）から陰極４３側への絶縁層３５の厚さ（２２０−５０＝１７０ｎｍ）を、この「第１機能層厚さＴ１」（５０ｎｍ）よりも厚く形成させている。そのため、画素電極３６上に積層した正孔輸送層４１を、絶縁層３５上に積層した正孔輸送層４１から離間させることができ、絶縁層３５上に積層した正孔輸送層４１を画素電極３６から電気的に絶縁させることができる。
【００６１】
正孔輸送層４１を形成すると、図９に示すように、公知のインクジェット法を利用して、上記「Ｆ８Ｔ２」を無極性溶媒に溶解させた液状体Ｆｂを、吐出領域Ｓｄの全体に吐出し、吐出した液状体Ｆｂを乾燥することによって、膜厚が「第２機能層厚さＴ２」からなる発光層４２を形成する。
【００６２】
この際、吐出領域Ｓｄの全体に液状体Ｆｂを吐出するため、各画素領域Ｓ上方の溶媒分圧を略等しくさせることができ、画素領域Ｓ毎の液状体Ｆｂの乾燥速度を略等しくさせることができる。また、吐出された液状体Ｆｂは、共通バンク３７が撥液性を有するために、吐出領域Ｓｄ内から漏れることなく、同吐出領域Ｓｄ内に収容される。従って、各画素電極３６上と絶縁層３５上の双方に、それぞれ「第２機能層厚さＴ２」からなる均一な膜厚の発光層４２を形成させることができる。
【００６３】
しかも、画素電極３６上に積層した正孔輸送層４１の上面からの絶縁層３５の厚さ（１７０−５０ｎｍ）が、この「第２機能層厚さＴ２」（１２０ｎｍ）以上に形成されている。そのため、画素電極３６上に積層した発光層４２と絶縁層３５上に積層した正孔輸送層４１との間の接触を回避させることができ、絶縁層３５上に積層した機能層４０を、画素電極３６から電気的に絶縁させることができる。
【００６４】
発光層４２を形成すると、素子形成面３４ａに、公知の蒸着法やスパッタ法等を利用して、所定の膜厚からなる陰極４３を形成する。これによって、各画素領域Ｓのコントラストの低下を回避して、機能層４０の膜厚均一性（発光輝度の均一性）を向上させた露光ヘッド２０を製造することができる。
【００６５】
上記の形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）膜厚が「電極厚さＤ２」からなる複数の画素電極３６の各々を、膜厚が「絶縁層厚さＤ１」からなる絶縁層３５によって囲うようにした。また、これら複数の画素電極３６を共通して囲む共通バンク３７を絶縁層３５の外縁に形成するようにした。そして、「絶縁層厚さＤ１」から「電極厚さＤ２」を引いた差分が、画素電極３６上に形成する正孔輸送層４１及び発光層４２の各々の膜厚よりも大きくなるようにした。
【００６６】
従って、共通バンク３７内の全体に液状体Ｆａ，Ｆｂを吐出して、絶縁層３５と画素電極３６の双方に機能層４０を積層しても、絶縁層３５上に積層した機能層４０の各層（正孔輸送層４１及び発光層４２）を、それぞれ画素電極３６上に積層した機能層４０の対応する各層から離間させることができる。その結果、各画素領域Ｓの間の領域（絶縁層３５上）での発光を回避して、絶縁層３５を含む複数の画素電極３６上に機能層４０を積層することができる。従って、コントラストの低下を回避して、機能層４０の膜厚均一性、すなわち発光輝度の均一性を向上させることができる。
（２）「絶縁層厚さＤ１」から「電極厚さＤ２」を引いた差分が、画素電極３６上に形成する機能層４０の膜厚よりも大きくなるようにした。
【００６７】
従って、絶縁層３５上に積層した機能層４０を、画素電極３６上に積層した機能層４０から離間させることができる。その結果、各画素領域Ｓの間の領域（絶縁層３５上）での発光を確実に回避することができる。
（３）絶縁層３５に親液性を付与して、共通バンク３７に撥液性を付与するようにした。従って、共通バンク３７が撥液性を有する分だけ、吐出した液状体Ｆａ，Ｆｂの漏れを回避して、吐出領域Ｓｄ内に収容することができる。また、絶縁層３５が親液性を有する分だけ、液状体Ｆａを吐出領域Ｓｄ内の全体に濡れ広がらせることができる。従って、各画
素電極３６上と絶縁層３５上の双方に、それぞれ「第１機能層厚さＴ１」及び「第２機能層厚さＴ２」からなる均一な膜厚の正孔輸送層４１及び発光層４２を形成することができる。
（４）コントラストの低下を回避して、発光輝度の均一性を向上させた露光ヘッド２０をプリンタ１０に搭載するようにした。従って、輝度ムラ等の表示ムラの無い画像（トナー像）を形成することができる。
（５）吐出領域Ｓｄに液状体Ｆａ，Ｆｂを吐出して、正孔輸送層４１及び発光層４２を形成するようにした。従って、大規模な真空装置や、工程数の多いフォトリソグラフィ法等を使用することなく、所望の膜厚の正孔輸送層４１及び発光層４２を形成することができ、同正孔輸送層４１及び発光層４２を円形孔３５ａの形状に整合させることができる。
【００６８】
尚、上記の形態は以下のように変更してもよい。
・上記の形態では、画素電極３６の上面（機能層４０との間の境界面）から陰極４３側への絶縁層３５の厚さが、機能層４０の膜厚以上となるように構成した。これに限らず、例えば、画素電極３６の上面（機能層４０との間の境界面）から陰極４３側への絶縁層３５の厚さが、機能層４０の各層の膜厚以上であってもよい。
【００６９】
これによれば、画素電極３６上に積層した機能層４０の各層（正孔輸送層４１と発光層４２）を、それぞれ絶縁層３５上に積層した対応する各層から離間させることができる。従って、画素電極３６上と絶縁層３５上との間で、同一層間の接触を回避することができ、各画素領域Ｓの間における発光を抑制することができる。
・上記の形態では、画素領域Ｓを形成した後に、同画素領域Ｓに整合した画素電極３６を形成するようにした。これに限らず、実施の形態では、図１０に示すように、まず、素子形成面３４ａ上に各画素電極３６を形成して、同画素電極３６の全体を覆う絶縁層３５を形成した後に、各画素電極３６に対応する画素領域Ｓを形成するようにしてもよい。
【００７０】
これによれば、画素電極３６のサイズを画素領域Ｓよりも若干大きくするだけで、画素電極３６に対する画素領域Ｓ（機能層４０）の位置整合性を向上させることができる。
・上記の形態では、円形孔３５ａ内に画素電極３６を形成し、絶縁層３５の膜厚「絶縁層厚さＤ１」から「電極厚さＤ２」を引いた差分によって、画素電極３６上の機能層４０と絶縁層３５上の機能層４０との間の接触を回避するようにした。これに限らず、実施の形態では、図１０に示すように、円形孔３５ａの下側に画素電極３６を形成し、絶縁層３５の膜厚「絶縁層厚さＤ１」によって、画素電極３６上の機能層４０と絶縁層３５上の機能層４０との間の接触を回避するようにしてもよい。
【００７１】
これによれば、同じ「絶縁層厚さＤ１」からなる絶縁層３５を有する場合に、「電極厚さＤ２」の分だけ、機能層４０の膜厚範囲を拡大することができる。また、同じ膜厚の機能層４０を有する場合に、画素電極３６上の機能層４０と絶縁層３５上の機能層４０との間の接触を、「電極厚さＤ２」の分だけ、より確実に回避させることができる。
・上記の形態では、機能層４０を、正孔輸送層４１と発光層４２に具体化した。これに限らず、例えば、機能層４０を、少なくとも正孔輸送層、電子輸送層、正孔障壁層、電子障壁層のいずれか１つを含む積層膜に具体化してもよく、発光層４２のみからなる単層膜に具体化してもよい。
・上記の形態では、画素電極３６を円形状に具体化した。これに限らず、例えば、画素電極３６を略四角形状に具体化してもよく、その形状に限定されるものではない。
・上記の形態では、発光素子を有機層からなる有機ＥＬ素子に具体化したが、これに限らず、例えば、無機層からなる無機ＥＬ素子に具体化してもよい。
・上記の形態では、電気光学装置を露光ヘッド２０に具体化したが、これに限らず、例えば有機エレクトロルミネッセンスディスプレイであってもよく、絶縁層３５で囲まれた発光素子を有する電気光学装置であればよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】電子写真方式プリンタを説明する説明図。
【図２】同じく、露光ヘッドを説明する概略斜視図。
【図３】露光ヘッドを説明する平面図。
【図４】同じく、露光ヘッドを説明する概略断面図。
【図５】同じく、露光ヘッドの製造方法を説明する説明図。
【図６】同じく、露光ヘッドの製造方法を説明する説明図。
【図７】同じく、露光ヘッドの製造方法を説明する説明図。
【図８】同じく、露光ヘッドの製造方法を説明する説明図。
【図９】同じく、露光ヘッドの製造方法を説明する説明図。
【図１０】露光ヘッドを説明する概略断面図。
【符号の説明】
【００７３】
１０…画像形成装置としてのプリンタ、１５…転写媒体としての転写ベルト、１６…像担持体としての感光ドラム、１７…帯電手段としての帯電ローラ、２０…電気光学装置としての露光ヘッド、２１…現像手段としてのトナーカートリッジ、３３…光学部材、３４…基板、３４ａ…素子形成面、３５…絶縁層、３６…第１電極層としての画素電極、３７…隔壁、４０…機能層、４１…有機層を構成する正孔輸送層、４２…有機層を構成する発光層、Ｆａ，Ｆｂ…液状体、Ｌ…光。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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