(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に電離放射線硬化型樹脂とマット化剤を含む塗料を硬化させて形成した樹脂層を有し、
前記樹脂層の最表面がマット化されてなり、当該マット化面のぬれ張力が２５ｍＮ／ｍ以上であり、前記マット化面の表面粗さが十点平均粗さＲｚで０．２〜２．０μｍであることを特徴とする指紋消去性フィルム。
【請求項２】
基材上に電離放射線硬化型樹脂とマット化剤を含む塗料を硬化させて形成した樹脂層を有し、
前記樹脂層の最表面がマット化されてなり、当該マット化面のぬれ張力が２５ｍＮ／ｍ以上であり、フィルム全体のヘーズが１．５〜３５．０％であることを特徴とする指紋消去性フィルム。
【請求項３】
フィルム全体のヘーズが１．５〜３５．０％であることを特徴とする請求項１記載の指紋消去性フィルム。
【請求項４】
前記樹脂層は、平均粒子径の異なる２種類のマット化剤を含むことを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項記載の指紋消去性フィルム。
【請求項５】
前記樹脂層は、マット化剤としてシリカ粒子を含むことを特徴とする請求項１ないし４いずれか１項記載の指紋消去性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶モニタ、テレビ、ショーケース、時計や計器のカバーガラスなどの表面に貼着されるフィルム、その他タッチパネル用のフィルムなどに関し、指紋消去性に優れるものに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶モニタ、テレビ、ショーケース、時計や計器のカバーガラスなどの表面には、表面を保護するために透明フィルムが貼着されることが多い。また、近年、銀行のＡＴＭ、切符の券売機に代表されるように、タッチパネル方式の電子機器が増えている。
【０００３】
このような液晶モニタなどの表面保護用の透明フィルム、およびタッチパネルに使用される透明フィルムなどは、高透明性を有することから指紋が付着すると非常に目立ち、また、指紋が付着した部分を布などで拭いてもきれいにならないという問題があった。
【０００４】
このような指紋の成分は体内から分泌される皮脂、汗などであり、これを消去しやすくするものとして、透明フィルム表面の接触角を大きくしたもの（言い換えると、透明フィルム表面のぬれ張力を小さくしたもの、あるいは透明フィルム表面のエネルギーを小さくしたもの）が提案されている（例えば、特開２００１−９８１９０号公報（実施例）参照）。即ち、透明フィルム表面のぬれ張力を小さくすることにより、透明フィルム表面に付着した指紋成分ははじかれた状態となり、除去しやすくなるというものである。
【０００５】
ところで上述した透明フィルムは、外光の映り込みを防止するなどの目的で、表面がマット化されることがある。しかし、表面をマット化し、かつ表面のぬれ張力を小さくした透明フィルムは、指紋消去性が良好でないことが判明した。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明は、表面がマット化されたフィルムであって且つ指紋消去性に優れる指紋消去性フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の指紋消去性フィルムは、一方の面の最表面がマット化されてなり、当該マット化面のぬれ張力が、２５ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とするものである。
【０００８】
好ましくは、前記マット化面の表面粗さが、十点平均粗さＲｚで０．２〜２．０μｍであることを特徴とするものである。
【０００９】
好ましくは、フィルム全体のヘーズが１．５〜３５．０％であることを特徴とするものである。
【００１０】
好ましくは、基材上に樹脂層を有し、前記マット化面を前記樹脂層表面に有することを特徴とするものである。
【００１１】
好ましくは、前記樹脂層は、電離放射線硬化型樹脂を含む塗料から形成されてなるものであることを特徴とするものである。樹脂層は、鉛筆硬度が好ましくはＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上である。
【００１２】
好ましくは、前記樹脂層は、マット剤を含み、より好ましくはマット剤として平均粒子径の異なる２種類のマット剤を含む。最も好ましくはマット剤はシリカである。
【００１３】
なお、本発明でいう、ぬれ張力とは、JIS-K6768:1999で規定されているぬれ張力のことをいい、十点平均粗さＲｚとは、JIS-B0601:1994（ＲｚJIS94）で規定されている十点平均粗さＲｚのことをいう。またヘーズとは、JIS-K7105:1981で規定されているヘーズのことをいう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の指紋消去性フィルムの実施の形態を詳述する。
本発明の指紋消去性フィルムは、液晶モニタ、テレビ、ショーケース、時計や計器のカバーガラスなどの表面に貼着されるフィルム、その他タッチパネル用のフィルムとして使用することが可能なフィルムであり、最上面にマット化された面（マット化面）を有し、その表面のぬれ張力が２５ｍＮ/ｍ以上であることを特徴としている。本発明において、マットとはJIS-B0601:1994で規定する算術平均粗さＲａで０．０５μｍ以上の表面状態をいう。
【００１５】
マット化面の表面粗さの程度は特に制限されることはないが、必要以上に粗さないことが好ましく、算術平均粗さＲａで好ましくは０．７μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下である。また下限は０．０５μｍ以上、好ましくは０．１μｍ以上の範囲である。このような範囲とすることにより、外光の映り込みなどを防止することができる。
【００１６】
さらに本発明の指紋消去性フィルムは、表面の十点平均粗さＲｚの下限が、好ましくは０．２μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上であって、上限が好ましくは２．０μｍ以下、より好ましくは１．５μｍ以下である。一般に指紋成分はフィルム表面に凹凸があると付着しにくい反面、付着すると拭き取ったときに凹凸内に指紋成分が入り込み、拭き取りにくくなる。本発明ではＲｚを０．２〜２．０μｍの範囲とすることにより、指紋成分の拭き残りを殆どなくすことができ、また、若干拭き残った場合でも、拭き残った指紋成分を見えなくすることができる。
【００１７】
なお、十点平均粗さＲｚとは、カットオフ値と等しいサンプリング長さのＮ倍の評価長さの粗さ曲線をＮ等分し、各区間毎に第１位から第５位までの高さの山頂の平均標高と第１位から第５位までの深さの谷底の平均標高の間隔Ｒｚ'を求めたときのＮ個のＲｚ'の算術平均値をいう。したがって、算術平均粗さＲａでは、Ｒａ値よりも極端に標高が高い山が含まれてしまう一方で、十点平均粗さＲｚでは、Ｒｚ値よりも極端に標高が高い山が含まれることがない。したがって、Ｒｚ値を上述した範囲とすることにより、極端に標高が高い山の存在によって指紋成分が拭き取りづらくなることがなくなり、指紋消去性をより良好なものとすることができる。
【００１８】
また本発明の指紋消去性フィルムは、マット化面のぬれ張力を２５ｍＮ／ｍ以上、好ましくは３０ｍＮ／ｍ以上とする。従来ぬれ張力を低くして指紋消去性を付与していたものを、逆にぬれ張力を高くし、かつマット化することにより指紋消去性を良好にしたものである。かかる効果が得られる原因は必ずしも明らかではないが、ぬれ張力を２５ｍＮ／ｍ以上にすることで非常に薄い膜として広面積に塗り広げやすくなるためと考えられる。本発明者らの実験によれば、指紋成分を見えなくなるまで拭き取った後、ニンヒドリン試薬を用いた指紋発色試験を行っても発色しないことが確認されており、指紋成分は、試薬で反応しないレベルまで薄く塗り広げられている、あるいは完全に拭き取られていると考えられる。この指紋消去性の効果は、特にマット化面のＲｚを０．２〜２．０μｍの範囲としたときにさらに良好であり、これはマット効果により塗り広げられた指紋成分が見えなくなるものと考えられる。
【００１９】
これに対し、従来のようにぬれ張力を低くして指紋消去性を良好にしたものは、表面がマット化されていると指紋成分を十分に除去することができない。この原因は、はじかれた指紋成分が凹凸の隙間に入り込むなどして拭き取りづらくなっているためと考えられる。
【００２０】
本発明の指紋消去性フィルムの光学特性は、その用途によって異なり特に限定されないが、全体として透明性が高いものであることが好ましい。具体的には、JIS-K7105:1981でいう全光線透過率が８２％以上であることが好ましい。またヘーズは好ましくは３５．０％以下、より好ましくは１０％以下、さらに好ましく５．０％以下とする。ヘーズの下限値は１．５％以上であることが好ましい。ヘーズを１．５〜３５．０％の範囲とすることにより、透明性を維持しつつ、拭き残った指紋成分を見えなくすることができる。
【００２１】
また少なくともマット化面を構成する樹脂成分は、屈折率が１．４６〜１．５２の範囲であることが好ましい。このような範囲とすることにより、指紋成分の屈折率との差がほぼなくなるため、拭き残った指紋成分を見えにくくする効果がある。
【００２２】
次に本発明の指紋消去性フィルムの各要素について詳述する。本発明の指紋消去性フィルムの構造は、例えば、図１及び図２に示すように、基材１の上に樹脂層２を形成したものでも、図３に示すように、基材１のみからなるものでもよく、樹脂層２表面或いは基材１表面がマット化されている。
【００２３】
基材としては、透明性の高いものであれば特に材質を問わないが、例えばポリエステルフィルム、アクリルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリプロピレンフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、各種フッ素系樹脂フィルムなどのプラスチックフィルムが使用できる。
【００２４】
基材の厚みは特に限定されるものではないが、取り扱い性などの観点から５〜３００μｍのものが好適に使用される。
【００２５】
本発明の指紋消去性フィルムが図１に示すように基材のみからなる場合、即ちマット化面を基材表面にて形成する場合には、基材を構成する材料はぬれ張力が高いものが好ましい。ぬれ張力が高い基材としては、ポリエステルフィルム、アクリルフィルムなどがあげられる。
【００２６】
基材自体をマット化する手段としては、基材に細かい砂を高速で吹き付けるサンドブラスト加工、基材を金属彫刻ロールと弾性ロールとの間を通すことによってなされるエンボス加工、基材表面を化学薬品で処理するケミカルエッチング法などがあげられる。図１、図２に示すように、基材上に樹脂層を設ける場合には、基材はマット化されていてもよいし、マット化されていなくてもよい。
【００２７】
基材上に樹脂層を形成し、この樹脂層表面にマット化面を形成する場合、樹脂層は、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂などの熱硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂などを含む塗料から形成することができる。これらの樹脂の中でも、指紋消去性の観点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、電離放射線硬化型樹脂が好ましく、特に電離放射線硬化型樹脂が好ましい。このような樹脂層は、フィルムに対し耐擦傷性などを付与するものでもあり、ハードコート性の観点からも電離放射線硬化型樹脂が好ましい。また指紋消去性およびハードコート性の両方の観点から、樹脂層の硬度は高い方がよく、好ましくは鉛筆硬度Ｈ以上、より好ましくは２Ｈ以上とする。
【００２８】
電離放射線硬化型樹脂としては、電離放射線（紫外線若しくは電子線）の照射により架橋硬化するものを使用することができる。このような電離放射線硬化型樹脂としては、光カチオン重合可能な光カチオン重合性樹脂、光ラジカル重合可能な光重合性プレポリマー若しくは光重合性モノマーなどの１種又は２種以上を混合したものを使用することができる。
【００２９】
光カチオン重合性樹脂としては、ビスフェノール系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等のエポキシ系樹脂やビニルエーテル系樹脂などをあげることができる。
【００３０】
また光重合性プレポリマーとしては、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレートなどの各種（メタ）アクリレート類などを使用することができる。
【００３１】
また光重合性モノマーとしては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマー類、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートなどの（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミドなどの不飽和カルボン酸アミド、（メタ）アクリル酸−２−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)エチル、（メタ）アクリル酸−２−(Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ)エチルなどの不飽和酸の置換アミノアルコールエステル類、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリス−(２−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エステル(メタ)アクリレート、３−フェノキシ−２−プロパノイルアクリレート、１，６−ビス（３−アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）−ヘキシルエーテルなどの多官能性化合物、およびトリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレートなどの分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物などを使用することができる。
【００３２】
樹脂層として電離放射線硬化型樹脂を用いる場合には、電離放射線硬化型樹脂を含む塗料中に、光重合開始剤、紫外線増感剤などを添加することが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシロキシムエステル、チオキサンソン類などの光ラジカル重合開始剤や、オニウム塩類、スルホン酸エステル、有機金属錯体などの光カチオン重合開始剤があげられ、紫外線増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなどがあげられる。
【００３３】
また熱硬化性樹脂或いは電離放射線硬化性樹脂から樹脂層を形成する場合、指紋消去性を向上するために十分に硬化することが好ましい。これにより指紋成分と結合しやすい官能基が表面に残らないようにすることができる。
【００３４】
樹脂層中にはマット剤を含有させることが好ましい。マット剤を含有せしめることにより、樹脂層表面に容易に所定の表面粗さのマット化面を形成することができる。マット剤の平均粒径は特に制限されることはないが、平均粒径１〜１５μｍの粒子を用いることが好ましく、さらに平均粒径１〜１５μｍの粒子と平均粒径が５〜５０ｎｍの粒子を組み合わせて使用することが好ましい。このような微粒子を組み合わせて使用することにより、表面形状の制御が容易となるとともに、指紋消去性を向上することができる。これは、粒径の大きい粒子によって指紋が付着しにくい表面粗さが形成されるとともに、粒径の小さい粒子がぬれ張力を高くし、付着した指紋を広がりやすくするためと考えられる。
【００３５】
マット剤としては、公知の無機微粉末および有機微粉末があげられる。無機微粉末としては、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、シリカ、硫酸バリウム、酸化亜鉛、酸化チタン、クレー、アルミナなどが、有機微粉末としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ナイロン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂などがあげられる。これらマット剤は、単独であるいは２種以上混合して使用することができる。これらマット剤の中でも、耐擦傷性、指紋消去性の観点から無機微粉末が好適に使用され、その中でもシリカが特に好適に使用される。
【００３６】
マット剤の総添加量は、樹脂層を構成する樹脂１００重量部に対して０．１〜３０．０重量部であることが好ましい。マット剤の総添加量をかかる範囲とすることにより、樹脂層の表面状態を調整しやすくすることができる。具体的にはＲｚを０．２〜２．０μｍの範囲に容易に調整できる。また、上述したように、平均粒径が１〜１５μｍの粒子と、平均粒径が５〜５０ｎｍの粒子を組み合わせて使用する場合には、何れの粒子ともに、樹脂層を構成する樹脂１００重量部に対して０．０５〜１５．０重量部であることが好ましい。
樹脂層の厚みは特に制限されることはないが、２〜１５μｍ程度である。
【００３７】
本発明の指紋消去性フィルムでは、一方の面がマット化され且つマット化面のぬれ張力が２５ｍＮ／ｍ以上であれば、反対側の面はいかなる構成からなっていてもよい。例えば、反対側の面は平滑であってもよいし、マット化されていてもよい。マット化面とは反対側の面には、液晶モニタなどに貼着するための接着剤層、セパレータを有していてもよい。この場合、接着剤層は、アクリル系、ウレタン系、ゴム系などの公知の接着剤などから構成される。接着剤層の厚みは、通常１〜５０μｍの範囲で使用される。
【００３８】
セパレータは、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどのプラスチックフィルムや、紙等の表面をシリコーンなどで適宜離型処理を施したものが使用できる。セパレータの厚みとしては、作業性を考慮して４〜２００μｍ、好ましくは２０〜１００μｍの範囲である。
【００３９】
以上のような樹脂層、接着剤層は、各層を構成する材料を塗料化した塗布液を、バーコーター法、ロールコーター法、カーテンフロー法などの公知の塗布方法により塗布、乾燥することにより形成することができる。
【実施例】
【００４０】
以下、実施例により本発明を更に説明する。なお、「部」、「％」は特に示さない限り、重量基準とする。
【００４１】
［実施例１］
厚み１００μｍのポリエステルフィルム（コスモシャインＡ４３００：東洋紡績社）の一方の表面に、下記組成の樹脂層塗布液を塗布、６０℃・５分で加熱乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を１〜２秒照射することにより約５μｍの樹脂層を形成して、指紋消去性フィルムを得た。
【００４２】
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（アクリル系）    ３０．０部
（ＢＳ−５７５：荒川化学社、固形分100％）
・光ラジカル重合開始剤                   
１．５部
（ダロキュア1173：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
社）
・シリカ（平均粒径：５．７μｍ）         
３．０部
（サイリシア250：富士シリシア化学社）
・シリカ（平均粒径：３０ｎｍ）            ３．０部
（アエロジル50：日本アエロジル社）
・酢酸エチル                            ２０．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル１０．０部
【００４３】
［実施例２］
実施例１の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、実施例１と同様にして指紋消去性フィルムを得た。
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（アクリル系）    ３０．０部
（ＢＳ−５７５：荒川化学社、固形分100％）
・光ラジカル重合開始剤                   
１．５部
（ダロキュア1173：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
社）
・シリカ（平均粒径：５．７μｍ）          ４．５部
（サイリシア250：富士シリシア化学社）
・酢酸エチル                            ２０．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル１０．０部
【００４４】
［実施例３］
実施例１の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、実施例１と同様にして指紋消去性フィルムを得た。
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（アクリル系）    ３０．０部
（ＢＳ−５７５：荒川化学社、固形分100％）
・光ラジカル重合開始剤                   
１．５部
（ダロキュア1173：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
社）
・シリカ（平均粒径：３０ｎｍ）           
７．０部
（アエロジル50：日本アエロジル社）
・酢酸エチル                            ２０．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル１０．０部
【００４５】
［実施例４］
実施例１の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、実施例１と同様にして指紋消去性フィルムを得た。
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（アクリル系）    ３０．０部
（ＢＳ−５７５：荒川化学社、固形分100％）
・シリカ（平均粒径：２．７μｍ）          ７．５部
（サイリシア530：富士シリシア化学社）
・光ラジカル重合開始剤                    １．５部
（ダロキュア1173：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
社）
・酢酸エチル                            ２０．０部
プロピレングリコールモノメチルエーテル１０．０部
【００４６】
［実施例５］
実施例１の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、実施例１と同様にして指紋消去性フィルムを得た。
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（エポキシ系）    ３０．０部
（アデカオプトマーKRM-2410：旭電化工業社、
固形分100％）
・光カチオン重合開始剤                    ２．０部
（アデカオプトマーSP-170：旭電化工業社）
・シリカ（平均粒径：１４．１μｍ）      ０．１５部
（サイリシア470：富士シリシア化学社）
・酢酸エチル                            ２０．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル１０．０部
【００４７】
［実施例６］
実施例１の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、実施例１と同様にして指紋消去性フィルムを得た。
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（エポキシ系）    ３０．０部
（アデカオプトマーKRM-2410：旭電化工業社、
固形分100％）
・光カチオン重合開始剤                   
２．０部
（アデカオプトマーSP-170：旭電化工業社）
・アクリル樹脂ビーズ（平均粒径：５μｍ）  ２．０部
（ＧＢ−０５Ｓ：ガンツ化成社）
・酢酸ブチル                            ２５．０部
・シクロヘキサノン                      １０．０部
【００４８】
［実施例７］
実施例１の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、実施例１と同様にして指紋消去性フィルムを得た。
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（エポキシ系）    ３０．０部
（アデカオプトマーKRM-2410：旭電化工業社、
固形分100％）
・光カチオン重合開始剤                   
２．０部
（アデカオプトマーSP-170：旭電化工業社）
・シリカ（平均粒径：６．４μｍ）         
４．５部
（サイリシア３７０：富士シリシア化学社）
・シリカ（平均粒径：３０ｎｍ）           
２．５部
（アエロジル50：日本アエロジル社）
・酢酸エチル                            ２０．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル１０．０部
【００４９】
［比較例１］
実施例１の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、実施例１と同様にして指紋消去性フィルムを得た。
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（アクリル系）    ３０．０部
（ＫＲＭ６０３４：ダイセルＵＣＢ社、固形分100％）
・シリカ（平均粒径：５．７μｍ）         
８．０部
（サイリシア250：富士シリシア化学社）
・酢酸エチル                            ２０．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル１０．０部
【００５０】
［比較例２］
実施例１の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、実施例１と同様にして指紋消去性フィルムを得た。
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（エポキシ系）    ３０．０部
（アデカオプトマーKRM-2410：旭電化工業社、
固形分100％）
・光カチオン重合開始剤                   
２．０部
（アデカオプトマーSP-170：旭電化工業社）
・シリカ（平均粒径：４．７μｍ）        １０．５部
（サイリシア436：富士シリシア化学社）
・酢酸エチル                            ２０．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル１０．０部
【００５１】
［比較例３］
実施例１の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、実施例１と同様にして指紋消去性フィルムを得た。
＜樹脂層塗布液＞
・電離放射線硬化型樹脂（エポキシ系）    ３０．０部
（アデカオプトマーKRM-2410：旭電化工業社、
固形分100％）
・光カチオン重合開始剤                   
２．０部
（アデカオプトマーSP-170：旭電化工業社）
・シリカ（平均粒径：２．７μｍ）      ０．０１５部
（サイリシア530：富士シリシア化学社）
・酢酸エチル                            ２０．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル１０．０部
【００５２】
実施例および比較例で得られた指紋消去性フィルムにつき、以下の項目の評価を行った。結果を表１に示す。
【００５３】
（１）耐指紋付着性
樹脂層表面に指の腹を押しあて指紋をつけ、黒地にのせて目視で指紋の付着度合いを観察した。その結果、指紋が目立つものを「×」、若干目立つものを「△」、比較的目立たないものを「○」とした。
【００５４】
（２）指紋消去性
樹脂層表面に指の腹を押しあて指紋をつけた。次いで、ティッシュペーパーで拭き取りを行い、１回拭き取るごとに黒地にのせて目視で観察を行い、指紋が見えなくなるまでの回数を評価した。なお、１０回以上拭き取っても指紋が見えるものは「×」とした。
【００５５】
（３）防眩性
画像を表示させた液晶モニタ上に指紋消去性フィルムを積層した際に、外部光の映り込みによって表示画像が見づらくなるかどうかについて目視にて評価を行った。その結果、表示画像が良好に観察されたものを「○」、表示画像が見づらかったものを「×」とした。
【００５６】
（４）ぬれ張力
JIS-K6768:1999に基き、ぬれ張力を測定した（単位は「ｍＮ／ｍ」）。
【００５７】
（５）十点平均粗さＲｚ
触針式表面粗さ測定器（ＳＡＳ−２０１０
ＳＡＵ−ＩＩ：明伸工機社）を用い、JIS-B0601:1994に基き、算術平均粗さＲａ及び十点平均粗さＲｚを測定した（単位は「μｍ」）。
【００５８】
（６）ヘーズ
ＳＭカラーコンピューターUGV-5K（スガ試験機社）を用い、JIS-K7105:1981に基き、ヘーズを測定した（単位は「％」）。なお、光は樹脂層側から入射させて測定を行った。
【００５９】
（７）鉛筆硬度
JIS K5600-5-4:1999に基づき、樹脂層の鉛筆硬度を測定した。
【００６０】
【表１】
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【００６１】
表１の結果を見て明らかなように、実施例１から７のものは、何れも表面のぬれ張力が２５ｍＮ／ｍ以上であり、指紋が付着しにくく、付着した場合にも見えにくく、容易に消去できることがわかった。ただし比較的Ｒｚが小さい実施例３、４のフィルム及び比較的ぬれ張力の小さい実施例５、７のフィルムでは、その他の実施例に比べ耐指紋付着性が劣っていた。さらに実施例１から７のものについて、指紋消去性の評価で指紋が見えなくなった後、ニンヒドリン試薬を用いて指紋発色試験を行ったところ、何れのものも発色することはなかった。
【００６２】
一方、比較例１、２のものは、表面がマット化されており防眩性は良好であるが、表面のぬれ張力が２５ｍＮ／ｍ未満であり、耐指紋付着性、指紋消去性ともに劣るものであった。
【００６３】
また、比較例３のものは、表面のぬれ張力が２５ｍＮ／ｍ以上であるものの、Ｒｚが０．０８μｍと低く表面がマット化されておらず、良好な耐指紋付着性、指紋消去性および防眩性が得られなかった。
また比較例１から３のフィルムについても指紋消去性の評価で指紋を拭き取った後、ニンヒドリン試薬を用いて指紋発色試験を行ったところ、薄い赤紫色の発色が見られた。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の指紋消去性フィルムの一実施例を示す断面図
【図２】本発明の指紋消去性フィルムの他の実施例を示す断面図
【図３】本発明の指紋消去性フィルムの他の実施例を示す断面図
【図１】
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【図２】
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【図３】
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