(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スプロケットからの力を伝達するゴム突起形成用キャビテイを備えた下モールドと、ゴムラグ形成用キャビテイを備えた上モールドを準備し、下モールドのキャビテイ内にゴム突起用未加硫ゴムを充填し、これにゴムクローラの基体を構成する下ゴム用未加硫ゴム、スチールコード、ゴムクローラの基体を構成する上ゴム用未加硫ゴムを重ね合わせ、上モールドにて加圧し、これを加熱することによって各未加硫ゴムを加硫してなるゴムクローラの製法であって、
下モールドのキャビテイ内に充填された未加硫ゴムブロックを、キャビテイ内から取り出し各部材のゴム材と同じ流動性になるまで冷却してゴムの流動性を低下させた後、再度キャビテイ内にセットして各部材を重ね合せることで前記スチールコードにウェーブを生じることがなくなるようにすることを特徴とする内周駆動型ゴムクローラの製法。
【請求項２】
スプロケットからの力を伝達するゴム突起形成用キャビテイを備えた下モールドと、ゴムラグ形成用キャビテイを備えた上モールドを準備し、下モールドのキャビテイ内にゴム突起用未加硫ゴムを充填し、これにゴムクローラの基体を構成する下ゴム用未加硫ゴム、スチールコード、ゴムクローラの基体を構成する上ゴム用未加硫ゴムを重ね合わせ、上モールドにて加圧し、これを加熱することによって各未加硫ゴムを加硫してなるゴムクローラの製法であって、
下モールドのキャビテイ内に充填された未加硫ゴムブロック中に硬質部材としてのロッドを埋設し、このロッドにて前記スチールコードにウェーブが生じるのを阻止することを特徴とする内周駆動型ゴムクローラの製法。
【請求項３】
硬質部材が合成樹脂部材である請求項第２項記載の内周駆動型ゴムクローラの製法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は内周駆動型ゴムクロ−ラの製法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
内周駆動型ゴムクロ−ラはゴムクロ−ラの基本となる無端状のゴム弾性体と、この内周面より一定ピッチをもって形成したゴム突起とよりなり、このゴム突起を機体側のスプロケットとかみ合せて駆動力を伝達するものである。
【０００３】
この種のゴムクロ−ラは、長尺の上下モ−ルド内に未加硫ゴムを充填し、これを加硫することによって得られるが、通常は下モ−ルドにゴム突起形成用キャビテイを備え、このキャビテイ内にまずゴム突起用未加硫ゴムを充填し、更にこれに各部材を載置してこれらを加硫一体化するものである。
【０００４】
その製作手順の概略は先ず下モ−ルド面にゴム突起用の未加硫ゴムを置き、これを２〜３分間プレスしてキャビテイ内にこの未加硫ゴムを充填し、この工程が終了した後にゴムクロ−ラの基体となる下ゴム（未加硫ゴム）、スチ−ルコ−ド、バイアスコ−ド、同様にゴムクロ−ラの基体となる上ゴム（未加硫ゴム）等を置き、ラグ形成用キャビテイを備えた上モ−ルドにて加圧し、これを加熱することによって全体を加硫成形するものである。
【０００５】
しかるに、ゴム突起形成用キャビテイ内に予め充填された未加硫ゴムブロックは他の部材と異なり、一度プリプレスされているためゴムに熱が入っており、他の部材と比べてやわらかい状態であり、かかるゴムは圧力を受けた際には動きやすい状態となっている。従って、加圧加硫成形の際にゴム突起部分のゴムブロックが流動し易くなり抗張体として本来ゴム中に直線的に埋設されるべきスチ−ルコ−ドがこの柔らかいゴムブロック部分に向って曲がるといういわゆるスチ−ルコ−ドのウエ−ブ現象が起こってしまう。
【０００６】
図４は従来のゴムクロ−ラを示すものであり、この従来のゴムクロ−ラ２０にあってはスチ−ルコ−ド２１がゴム突起２２に至るにつれてゴム突起２２側に曲がって（２１ａ）、全体としてウエ−ブのかかったような構造となっている。
【０００７】
このため、場合によっては所定の抗張力を有しないゴムクロ−ラが得られることとなるという問題点が指摘されていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこの種ゴムクロ−ラのスチ−ルコ−ドのウエ−ブ現象を取り除くことを目的としたゴムクロ−ラの製法を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は以上の課題を解決するものであって、その第１はスプロケットからの力を伝達するゴム突起形成用キャビテイを備えた下モールドと、ゴムラグ形成用キャビテイを備えた上モールドを準備し、下モールドのキャビテイ内にゴム突起用未加硫ゴムを充填し、これにゴムクローラの基体を構成する下ゴム用未加硫ゴム、スチールコード、ゴムクローラの基体を構成する上ゴム用未加硫ゴムを重ね合わせ、上モールドにて加圧し、これを加熱することによって各未加硫ゴムを加硫してなるゴムクローラの製法であって、下モールドのキャビテイ内に充填された未加硫ゴムブロックを、キャビテイ内から取り出し各部材のゴム材と同じ流動性になるまで冷却してゴムの流動性を低下させた後、再度キャビテイ内にセットして各部材を重ね合せることで前記スチールコードにウェーブを生じることがなくなるようにすることを特徴とするものである。
【００１０】
そして第２は、スプロケットからの力を伝達するゴム突起形成用キャビテイを備えた下モールドと、ゴムラグ形成用キャビテイを備えた上モールドを準備し、下モールドのキャビテイ内にゴム突起用未加硫ゴムを充填し、これにゴムクローラの基体を構成する下ゴム用未加硫ゴム、スチールコード、ゴムクローラの基体を構成する上ゴム用未加硫ゴムを重ね合わせ、上モールドにて加圧し、これを加熱することによって各未加硫ゴムを加硫してなるゴムクローラの製法であって、下モールドのキャビテイ内に充填された未加硫ゴムブロック中に硬質部材としてのロッドを埋設し、このロッドにて前記スチールコードにウェーブが生じるのを阻止することを特徴とするものであり、通常は硬質部材が合成樹脂部材である。

【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の第１発明にあっては、下モ−ルドのキャビテイ内にて成形した、或いは他のモ−ルドにてほぼ同形状に形成した未加硫ゴムブロックをゴムクロ−ラを構成する他の部材を重ね合せて加圧、加熱するに際して他の部材とほぼ同じ挙動レベルにまでこの未加硫ゴムブロックを冷却して適用するものであり、与えられた熱をうばった状態で製造するものである。こうすることにより加圧、加熱の際、キャビテイ内の未加硫ゴムブロックの流動性をおさえられ、他の部材とほぼ同じ流動性となるため配置されたスチ−ルコ−ドにウエ−ブを生じることがなくなるものである。
【００１２】
第２発明にあっては、他の部材を重ね合せて加圧、加熱する際、下モ−ルドのキャビテイ内に充填された未加流ゴムブロック内に硬質部材、例えばナイロンや超高分子量ポリエチレン等の合成樹脂製のロッドを埋入しておくものである。
このロッドは下モ−ルドのキャビテイ内に予め設置して置き、これに未加硫ゴムを充填してなるのがよい。この場合、加圧、加熱の際スチ−ルコ−ドはこのロッドにてウエ−ブを生じるのを阻止されることとなる。
【００１３】
【実施例】
以下、本発明のゴムクロ−ラの製造を図面をもって更に詳細に説明する。
図１は第１発明を示す工程図である。下モ−ルド１０はゴムクロ−ラの内周形状を区画すると共に内同駆動型ゴムクロ−ラのゴム突起を形成するためのキャビテイ１１が一定ピッチをもって備えられている。又、上モ−ルド１５はゴムクロ−ラの外周形状を区画すると共に、ゴムラグ８を形成するためのキャビテイ１６が備えられている。
【００１４】
そして下モ−ルド１０のキャビテイ１１にゴム突起用の未加硫ゴム１を加圧充填するものであり、これは例えば未加硫ゴム材１を下モ−ルド上に置きこれをプレスすることによって充填してブロック１ａを形成する。次いでこのブロック１ａをキャビテイ１１内より取り出し、これを任意の手段で冷却して熱分を取り除き、このブロック１ａを再度このキャブテイ１１内にセットすることとなる。そして下ゴム２（未加硫ゴム）、スチ−ルコ−ド３、要すればバイアスコ−ド４、上ゴム５（未加硫ゴム）を重ね合せ、最後に上モ−ルド１５にて加圧し、この状態で加熱して全体を加硫してゴムクロ−ラを得るものである。
【００１５】
得られたゴムクロ−ラは図２に示すようにスチ−ルコ−ド３はゴム突起６の部位に至ってもほぼ直線的な形状を保ってゴム弾性体中に埋設され、所定の抗張力を発揮することとなる。
【００１６】
図３は第２発明の主要部を示す図であり、キャビテイ内に充填される未加硫ゴムブロック１ａ内に超高分子量ポリエチレンよりなるロッド７を埋入したものである。かかるロッド７は予めキャビティ１１内にセットされたものであり、これにゴム突起用未加硫ゴムが加圧されてブロック１ａ内にロッド７が埋入されたものであり、このブロック１ａを用いることにより他の部材が重ね合され加圧加熱されても、スチ−ルコ−ド３はこのロッド７にさまたげられてスチ−ルコ−ド３の曲げは阻止されてスチ−ルコ−ド３はほぼ直線状となるものである。尚、ロッド７は丸棒をもって示したがこれに限定されるものではなく、中央が細いダンベル状のものやゴム突起の形状に合わせた台形の挿入物であってもよい。
【００１７】
【発明の効果】
本発明は以上の通りであり、ゴムクロ−ラ中にスチ−ルコ−ドがほぼ直線状に埋設されたものであり、所期の抗張力をもたらすゴムクロ−ラが得られることとなったものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は第１発明を示す工程図である。
【図２】図２は本発明によって得られたゴムクロ−ラの断面図である。
【図３】図３は第２発明の主要部を示す工程図である。
【図４】図４は従来のゴムクロ−ラを示す断面図である。
【符号の説明】
１‥ゴム突起用の未加硫ゴム、
１ａ‥ゴム突起用の未加硫ゴムブロック、
２‥下ゴム、
３‥スチ−ルコ−ド、
４‥バイアスコ−ド、
５‥上ゴム、
６‥ゴム突起、
７‥ロッド、
８‥ゴムラグ、
１０‥下モ−ルド、
１１‥ゴム突起を形成するキャビテイ、
１５‥上モ−ルド。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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