(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
各画素に色番号が定められたマスク画像を入力する工程と、
マスク画像に定められた色番号と、互いに異なる方向に方向性を有する、少なくとも２つの梨地調パターンとが対応付けられた割り付け対応関係テーブル、作成画像サイズ等の所定のパラメータを入力する工程と、
入力されたパラメータ値に基づいて、方向性を有していない梨地調パターンを生成する工程と、
方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異なる方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向性を有する梨地調パターンを作成する工程と、
割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付けられた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素について行ってエンボスパターンを作成する工程と
を備えることを特徴とするエンボスパターンの作成方法。
【請求項２】
各画素に色番号が定められたマスク画像を入力するマスク画像入力手段と、
マスク画像に定められた色番号と、互いに異なる方向に方向性を有する、少なくとも２つの梨地調パターンとが対応付けられた割り付け対応関係テーブル、作成画像サイズ等の所定のパラメータを入力する入力手段と、
入力されたパラメータ値に基づいて、方向性を有していない梨地調パターンを生成する梨地調パターン生成手段と、
方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異なる方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向性を有する梨地調パターンを作成する変倍手段と、
割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付けられた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素について行ってエンボスパターンを作成する画像合成手段と
を備えることを特徴とするエンボスパターン作成装置。
【請求項３】
各画素に色番号が定められたマスク画像を入力する工程と、
マスク画像に定められた色番号と、互いに異なる方向に方向性を有する、少なくとも２つの梨地調パターンとが対応付けられた割り付け対応関係テーブル、作成画像サイズ等の所定のパラメータを入力する工程と、
入力されたパラメータ値に基づいて、方向性を有していない梨地調パターンを生成する工程と、
方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異なる方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向性を有する梨地調パターンを作成する工程と、
割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付けられた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素について行ってエンボスパターンを作成する工程と、
作成したエンボスパターンに基づいてエンボス版を作成する工程と、
その作成したエンボス版によって樹脂シートにエンボス加工を施す工程と
を備えることを特徴とする化粧シート作成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、樹脂シートにエンボス加工を施すために用いるエンボスパターンの作成方法、その作成装置、及び、エンボス加工を施した化粧シートの作成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、無地あるいは適宜な絵柄を印刷した樹脂シート（以下、単に樹脂シートと称することにする）にエンボス加工を施してなる化粧シートは広く知られている。このような化粧シートは内装材等、種々の用途に用いられている。
【０００３】
ところで、樹脂シートにエンボス加工を施すためのパターンは様々であるが、その中に、一般に梨地調と称されるパターンがある。図１０に梨地調パターンの例の拡大図を示すが、図１０に示すように、梨地調パターンは、白地に黒点を撒き散らした柄ということができるものである。黒点は画像全体にわたって一様に存在していてもよいことは勿論であるが、図１０に示すように、局所的には黒点が集中して存在したり、黒点が存在しない箇所があってもよいものである。
【０００４】
従って、梨地調パターンを作成し、その梨地調パターンに基づいて、エンボス版を作成して、樹脂シートにエンボス加工を施すことによって、梨地調の表面形状を有する化粧シートを作成することができる。このようにして作成された化粧シートの表面には小さな凹凸が形成されており、その凹凸の様子が梨の切断面の状態と似ているために梨地調と称されているものである。
【０００５】
ここで、梨地調パターンの作成について付言しておくと次のようである。
梨地調パターンの作成は、市販の画像作成用のアプリケーションソフトウェアを用いて行うことができる。即ち、図１０に示す画像は、別の見方をすればノイズ画像ということもでき、従って、ノイズ画像を生成することが可能なソフトウェアを用いれば、梨地調パターンを作成することができる。なお、梨地調パターンは最終的には２値画像であるが、アプリケーションソフトウェアで作成できるノイズ画像が多階調である場合には、作成したノイズ画像に対して、ある適宜な閾値を設定して２値化の処理を施せばよい。
【０００６】
また、本出願人が、例えば特開平１１−１４９５６１号公報、特開２０００−２１８７１９号公報で開示している方法を用いて梨地調パターンを作成することも可能である。即ち、中点変位法等の周知の方法によってフラクタルな２次元スカラ場を生成したり、あるいは上記公報記載の方法によって非フラクタルな多階調の２次元スカラ場を生成し、その２次元スカラ場の各画素の値を適宜な閾値によって２値化し、値が０の画素を白、値が１の画素を黒として画像化すれば、図１０に示すような梨地調パターンを作成することができる。特に、特開平１１−１４９５６１号公報に開示している方法によれば、揺らぎのパワースペクトルを所望のように制御できる。
【０００７】
以下、特開平１１−１４９５６１号公報に開示している非フラクタルな２次元スカラ場の生成方法について概略説明しておく。
まず、次のようなスカラ値からなる揺らぎ幅Ｚの数列を定義する。
Ｚ20，Ｚ21，…，Ｚ2m，…            …(1)
ここで、各揺らぎ幅の値は任意に定めることができる。この数列は、第０段階で定義される格子点に与えられるスカラ値、第１段階で定義される格子点に与えるスカラ値を計算する際に用いる揺らぎ幅となるスカラ値、…、第ｎ段階で定義される格子点に与えるスカラ値を計算する際に用いる揺らぎ幅となるスカラ値からなる数列である。
【０００８】
従って、第０段階で図１１に示すように正方形の４頂点に格子点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを定義したとすると、例えば格子点Ａには上記数列の初項のスカラ値Ｚ20（図１１ではａ）を与え、格子点Ｂには上記数列の第２項のスカラ値Ｚ21（図１１ではｂ）を与え、格子点Ｃには上記数列の第３項のスカラ値Ｚ22（図１１ではｃ）を与え、格子点Ｄには上記数列の第４項のスカラ値Ｚ23（図１１ではｄ）を与えるようにする。
【０００９】
次に、第１段階として図１２に示すように、格子点ＡＢ間、ＢＣ間、ＣＤ間、ＤＡ間のそれぞれの中点に格子点Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈを定義するとともに、４つの格子点ＡＢＣＤの２つの対角線の交点に、もうひとつの第１段階の格子点Ｉを定義し、これらの格子点Ｅ〜Ｉに対してスカラ値を計算する。この場合には揺らぎ幅として上記数列の第５項〜第９項のスカラ値を与え、次の式によって計算する。
【００１０】
ｅ＝（Ｚ20＋Ｚ21）／２＋Ｚ24・ＲＮＤ              …(2)
ｆ＝（Ｚ21＋Ｚ22）／２＋Ｚ25・ＲＮＤ              …(3)
ｇ＝（Ｚ22＋Ｚ23）／２＋Ｚ26・ＲＮＤ              …(4)
ｈ＝（Ｚ23＋Ｚ20）／２＋Ｚ27・ＲＮＤ              …(5)
ｉ＝（Ｚ20＋Ｚ21＋Ｚ22＋Ｚ23）／４＋Ｚ28・ＲＮＤ  …(6)
ここで、ＲＮＤは乱数である。乱数としては適宜な分布を有するもの、例えば、−１≦ＲＮＤ≦＋１となる範囲の乱数を用いればよい。
【００１１】
以下、同様にして第２段階から第ｎ段階まで計算を行っていけば、所望の特性を有する非フラクタルな２次元スカラ場を生成することができる。なお、上記数列の各項のスカラ値は所望の特性のスカラ場が得られるような値となされることは当然である。
【００１２】
また、ある段階で複数の格子点が定義される場合には、上記数列の中から当該段階で定義される格子点の数だけのスカラ値が揺らぎ幅として用いられることになるが、それらの各スカラ値をどの格子点に対応させるか、その順序は予め任意に定めておけばよい。
【００１３】
以上のようであるので、従来用いられていた中点変位法では第１段階以降に定義される格子点のスカラ値を計算する場合の揺らぎ幅は最大半振幅値によって自動的に決定されてしまうのに対して、この非フラクタルなスカラ場の生成方法によれば、第１段階以降に定義される各格子点のスカラ値を計算する場合の揺らぎ幅は任意に定めることができるので、所望の特性を持つ非フラクタルなスカラ場を生成することができるのである。
【００１４】
例えば、第０段階で最初に定義される格子点については適宜なスカラ値を与えるとして、第１段階で定義される格子点に与えるスカラ値を計算する際に用いる揺らぎ幅となるスカラ値としては任意の値αを与え、第２段階で定義される格子点に与えるスカラ値を計算する際に用いる揺らぎ幅となるスカラ値としてはα／３を与え、第３段階で定義される格子点に与えるスカラ値を計算する際に用いる揺らぎ幅となるスカラ値としてはα／ｎn を与えるというようにすると、図１３のロで示すように空間周波数の増加に伴って急速に揺らぎのパワーが減少する特性のスカラ場を生成することができる。
【００１５】
また、第１段階〜第ｉ段階までで定義される格子点に与えるスカラ値を計算する際に用いる揺らぎ幅は 0とし、第（ｉ＋１）段階以降で定義される格子点に与えるスカラ値を計算する際に用いる揺らぎ幅として 0でない適宜な値を与えれば、図１３のハで示すような特性を持つスカラ場を生成することができる。
【００１６】
なお、図１３において、横軸は空間周波数ｆ、縦軸は揺らぎのパワーを示している。また、図１３においてイで示すものは、中点変位法によって生成されたフラクタルなスカラ場の特性であり、双曲線状の曲線である。従って、図１３のイに示すものは、１／ｆn で表現されるフラクタルなスカラ場の揺らぎパワースペクトルということができる。これに対して、図１３のロで示すように、揺らぎのパワースペクトルが空間周波数ｆの増加に伴って急速に小さくなるような特性、及び図１３のハで示すように、ある空間周波数までは揺らぎのパワーを 0となる特性は、１／ｆn で表現できないスカラ場であり、非フラクタルなスカラ場となる。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、梨地調の表面形状を有する化粧シートは艶消し効果があることが知られているが、化粧シートに形成される一つ一つの凸部は略半球状となるので、巨視的に見れば、化粧シートの艶は、どの方向から見ても全面にわたって均一なものとなる。つまり、梨地調の表面形状を有する化粧シートは艶の方向性が無いということができる。
【００１８】
一方、光線の方向と、視線の方向との関係で、艶のある部分、即ち明るく輝いて見える部分が変化する化粧シートも知られている。このような化粧シートは、例えば、こうせん彫りと称されるパターンを用いてエンボス加工することによって作成することができる。こうせん彫りパターンは、図１４に示すように、作成する画像サイズを適宜な形状の閉領域で分割し、各閉領域にそれぞれ適宜な角度、適宜な間隔で平行なストライプを描画したものである。そして、このようなこうせん彫りパターンに基づいてエンボス版を作成し、樹脂シートにエンボス加工を施して化粧シートを作成する。
【００１９】
このような化粧シートでは、光線の方向と、視線の方向、及びエンボス加工されたストライプの角度によって、艶のある領域と艶のない領域、即ち明るく輝いて見える領域と暗く見える領域とが生じる。このように、艶のある領域と、艶の無い領域があることを艶差があるという。
【００２０】
つまり、こうせん彫りパターンがエンボス加工された化粧シートは、領域による艶差が出現し、またこの艶差が、照明環境や見る角度によって変化するのであり、このことによって、明暗の逆転、即ち艶差の変化が生じるという意匠上の効果が得られるのである。
しかし、こうせん彫りパターンがエンボス加工された化粧シートでは、光の反射が非常に強いので、いわゆるギラギラ感が強いという問題がある。
【００２１】
そこで、本発明は、梨地調の表面形状を有する化粧シートの有する艶消し感を備えると共に、艶差があって、しかもその艶差が見る方向による変化する化粧シートを作成できるエンボスパターンの作成方法、及びエンボスパターン作成装置、更にそのような効果がある化粧シートの作成方法を提供することを目的とするものである。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明に係るエンボスパターンの作成方法は、請求項１記載のように、各画素に色番号が定められたマスク画像を入力する工程と、マスク画像に定められた色番号と、互いに異なる方向に方向性を有する、少なくとも２つの梨地調パターンとが対応付けられた割り付け対応関係テーブル、作成画像サイズ等の所定のパラメータを入力する工程と、入力されたパラメータ値に基づいて、方向性を有していない梨地調パターンを生成する工程と、方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異なる方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向性を有する梨地調パターンを作成する工程と、割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付けられた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素について行ってエンボスパターンを作成する工程とを備えることを特徴とする。
本発明に係るエンボスパターン作成装置は、請求項２記載のように、各画素に色番号が定められたマスク画像を入力するマスク画像入力手段と、マスク画像に定められた色番号と、互いに異なる方向に方向性を有する、少なくとも２つの梨地調パターンとが対応付けられた割り付け対応関係テーブル、作成画像サイズ等の所定のパラメータを入力する入力手段と、入力されたパラメータ値に基づいて、方向性を有していない梨地調パターンを生成する梨地調パターン生成手段と、方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異なる方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向性を有する梨地調パターンを作成する変倍手段と、割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付けられた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素について行ってエンボスパターンを作成する画像合成手段とを備えることを特徴とする。
本発明に係る化粧シート作成方法は、請求項３記載のように、各画素に色番号が定められたマスク画像を入力する工程と、マスク画像に定められた色番号と、互いに異なる方向に方向性を有する、少なくとも２つの梨地調パターンとが対応付けられた割り付け対応関係テーブル、作成画像サイズ等の所定のパラメータを入力する工程と、入力されたパラメータ値に基づいて、方向性を有していない梨地調パターンを生成する工程と、方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異なる方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向性を有する梨地調パターンを作成する工程と、割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付けられた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素について行ってエンボスパターンを作成する工程と、作成したエンボスパターンに基づいてエンボス版を作成する工程と、その作成したエンボス版によって樹脂シートにエンボス加工を施す工程とを備えることを特徴とする。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ発明の実施の形態について説明するが、先ず、以下の実施形態の説明の理解を容易にするために、作成しようとする化粧シートについて、その概念を簡単に説明する。
【００２４】
いま、図１に示すように２つの領域Ａ，Ｂがあり、領域Ａに形成される凸部は横長であり、領域Ｂに形成される凸部は縦長とする。なお、領域Ａに形成される凸部の全てが横長である必要はなく、数的に横長の凸部が多数を占めていればよく、同様に、領域Ｂでは縦長の凸部が数的に多数を占めていればよい。
【００２５】
そして、図の矢印Ｃの方向の斜め上から光が照明が当たっているとき、図の矢印Ｄの方向の斜め上から見るとする。この状態で各凸部からの視線方向への反射光を考えると、視線方向に向いている面積は横長の凸部の方が縦長の凸部より大きいので、領域Ａからの反射光量は領域Ｂからの反射光量よりも多くなる。従って、この場合には、領域Ａは領域Ｂより明るく見える。つまり、領域Ａと領域Ｂに艶差が生じる。
【００２６】
しかし、照明の方向を同じにしたまま、視線を図の矢印Ｅに変えると、同様な理由によって、今度は逆に領域Ｂは領域Ａより明るく見える。つまり、視線の方向を変えることによって、艶差が逆転するのである。
【００２７】
このように、領域分割して、隣接する領域に形成される凸部の方向を異ならせることによって、艶差があり、しかも見る方向を変えることで艶差が変化する化粧シートを作成することができる。そして、凸部の長さをあまり長くせず、ある程度の範囲に収めることによって、梨地調と同様な艶消し感を備えることができる。
【００２８】
このように、横長の絵柄と、縦長の絵柄という、互いに異なる方向性を有する絵柄が領域分割された２値画像を作成して、その画像に基づいてエンボス版を作成し、樹脂シートにエンボス加工を施せば、艶差があり、しかも見る方向を変えることで艶差が変化する化粧シートを作成することができることが分かる。
【００２９】
そして、このことを一般化すれば、縦方向と横方向に限らず、少なくとも２つの、互いに異なる方向性を有する絵柄が領域分割された画像をエンボスパターンとすればよいということができる。
【００３０】
本発明に係るエンボスパターン作成装置ではそのようなエンボスパターンを作成しようとするのであり、以下、実施形態について説明する。
【００３１】
図２は本発明に係るエンボスパターン作成装置の一実施形態を示す図であり、図中、１は入力手段、２は梨地調パターン生成手段、３は変倍手段、４はマスク画像入力手段、５は画像合成手段、６は画像出力手段を示す。
【００３２】
この図２に示すエンボスパターン作成装置は、コンピュータシステムにより構成することができる。即ち、入力手段１はキーボード、ポインティングデバイスで構成することができ、梨地調パターン生成手段２、変倍手段３、及び画像合成手段５は、ＣＰＵを含む制御装置に、以下に説明する処理を行うソフトウェアを搭載することで構成することができる。
【００３３】
まず、図２に示すエンボスパターン作成装置の各部について概略説明する。
入力手段１は、目的とするエンボスパターンを作成するための種々のパラメータ値を入力するためのものである。
【００３４】
入力手段１から入力するパラメータとしては、まず、最終的に作成する画像のサイズ（以下、これを作成画像サイズと称す）、その解像度がある。また、変倍手段３で得られる、後述する縦方向梨地調パターンと、横方向梨地調パターンとをマスク画像を用いて合成する際に、作成画像のどこに縦方向梨地調パターンを割り付け、作成画像のどこに横方向梨地調パターンを割り付けるかを定める、割り付け対応関係テーブルを入力する。この割り付け対応関係テーブルは入力手段１から画像合成手段５に与えられる。
【００３５】
また、梨地調パターン生成手段２で梨地調パターンを生成するについて入力すべきパラメータがある場合にはそれを入力する。例えば、上述した特開平１１−１４９５６１号公報に開示している非フラクタルな２次元スカラ場の生成方法を用いて梨地調パターンを生成する場合には、(1)式に示すような揺らぎ幅Ｚの数列を入力する。また、梨地調パターンを生成する際の２値化のための閾値がパラメータで指定するようになされている場合には、その閾値を入力する。ここでは、２値化を行うために用いる閾値は、予め梨地調パターン生成手段２に登録されているものとする。
【００３６】
更に、変倍手段３で梨地調パターンを変倍するときの変倍率は、変倍手段３に固定的に登録しておくことも可能であるが、変倍率をパラメータで指定するようになされている場合には、その変倍率を入力する。なお、ここでは、変倍手段３で梨地調パターンを変倍するときの変倍率は、変倍手段３に予め登録されているものとする。
【００３７】
梨地調パターン生成手段２は、入力手段１で入力された作成画像サイズ、解像度で梨地調パターンを生成するものである。この梨地調パターン生成手段２は、上述したように、市販のノイズ画像を生成できるソフトウェアを用いて、先ずノイズ画像を生成し、そのノイズ画像の各画素の値を適宜な閾値によって２値化して、画像化する手段で構成することもでき、あるいは、中点変位法等の周知の方法によってフラクタルな２次元スカラ場を生成し、その２次元スカラ場の各画素の値を適宜な閾値によって２値化し、画像化する手段で構成することもでき、また、上述した方法により非フラクタルな２次元スカラ場を生成し、その２次元スカラ場の各画素の値を適宜な閾値によって２値化し、画像化する手段で構成することもでき、何れの手段を用いてもよい。
【００３８】
変倍手段３は、梨地調パターン生成手段２によって生成された梨地調パターンを、縦方向と横方向に、それぞれ予め設定されている変倍率で変倍するものである。縦方向の変倍率と横方向の変倍率はそれぞれ任意に定めることができるが、ここでは両者とも３倍に設定されているものとする。
【００３９】
この変倍手段３により、縦方向に所定倍率で変倍された梨地調パターンと、横方向に所定倍率で変倍された梨地調パターンの２つの梨地調パターンができる。本明細書では、前者を縦方向梨地調パターンと称し、後者を横方向梨地調パターンと称する。
【００４０】
マスク画像入力手段４は、縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パターンを合成するために用いるマスク画像を入力するためのものである。マスク画像データがフレキシブルディスク等の適宜な記憶媒体に記憶されているのであれば、マスク画像入力手段４は、当該記憶媒体からマスク画像データを読み取る手段で構成することができ、マスク画像データが他のコンピュータシステムに記憶されている場合には、マスク画像入力手段４は、そのコンピュータシステムと通信によりマスク画像データを取り込むことができる手段で構成することができ、あるいはマスク画像入力手段４を線画を描画できるソフトウェアで構成することもでき、この場合には当該エンボスパターン作成装置において所望のマスク画像を作成することができる。
【００４１】
そして、マスク画像の各画素には色番号が定められる。この実施形態では、縦方向梨地調パターンと、横方向梨地調パターンの２つのパターンを合成するので、マスク画像の各画素に定められる色番号は２種類でよいが、Ｍ種類の方向に変倍された梨地調パターンを合成する場合には、マスク画像の各画素に定められる色番号はＭ種類となる。例えば、縦方向梨地調パターンと、横方向梨地調パターンと、４５°の方向に変倍された３つの梨地調パターンを合成するのであれば、色番号は３種類必要となる。
【００４２】
画像合成手段５は、変倍手段３から渡された縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パターンとを、マスク画像入力手段４から渡されたマスク画像データ及び入力手段１から与えられた割り付け対応関係テーブルに基づいて合成してエンボスパターンを作成するものである。その動作については後述する。
【００４３】
画像出力手段６は、画像合成手段５で得られたエンボスパターンの画像データを出力するものであり、表示装置やプリンタ、あるいはフィルム出力装置、またはハードディスク装置等の外部記憶装置で構成することができる。勿論、画像出力手段６として、これらのものを全て備えてもよい。
【００４４】
［動作の説明］
以上、図２に示すエンボスパターン作成装置の各部について概略説明したが、次に、動作について、エンボスパターン作成方法の処理手順と共に説明する。
［パラメータの入力］
まず、オペレータは入力手段１により所定のパラメータの値を入力する。パラメータについては上述したとおりである。
なお、ここでは、縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パターンとの割り付け対応関係テーブルは図３のように入力され、画像合成手段５に与えられるとする。図３に示すように、割り付け対応関係テーブルは、マスク画像の画素に定められる色番号と、変倍手段３で変倍され、方向性を持たされた梨地調パターンとが対応付けられたテーブルであり、図３に示す割り付け対応関係テーブルによれば、作成画像上の画素位置と対応するマスク画像上の画素の色番号が１である場合、作成画像上の当該画素位置には、横方向梨地調パターン上の、作成画像上の当該画素位置に対応する位置の画素値が割り付けられ、マスク画像上の対応する画素の色番号が２である場合、作成画像上の当該画素位置には、縦方向梨地調パターン上の、作成画像上の当該画素位置に対応する位置の画素値が割り付けられることになる。
【００４５】
［マスク画像データの入力］
また、オペレータは、マスク画像入力手段５により、画像合成手段５において縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パターンを合成する際に用いるマスク画像の画像データを入力する。マスク画像のサイズは、作成画像サイズと同じとするのが実用上便利であるが、マスク画像の各画素と作成画像の各画素との一対一対応がとれればサイズは任意である。
ここでは、マスク画像は図４に示すようであるとし、図４のＡで示す領域の各画素の色番号は「１」となされ、Ｂで示す領域の各画素の色番号は「２」となされているものとする。
【００４６】
［梨地調パターンの生成］
梨地調パターン生成手段２は、入力手段１から入力されたパラメータ値が与えられると、そのパラメータ値に基づいて、指定された作成画像サイズで、指定された解像度の梨地調パターンを生成する。そして、生成した梨地調パターンの画像データを変倍手段３に渡す。ここで生成される梨地調パターンは図１０に示すようであって従来と同じであり、その絵柄は方向性を有していないから、この梨地調パターンに基づいてエンボス加工された化粧シートは、艶の方向性が無いものである。
【００４７】
［変倍］
変倍手段３は、梨地調パターン生成手段２から与えられた梨地調パターンを、縦方向と横方向のそれぞれに予め設定されている変倍率で変倍して縦方向梨地調パターンと、横方向梨地調パターンの２つのパターンを生成する。そして、生成した縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パターンとを画像合成手段５に与える。
【００４８】
縦方向梨地調パターンの例を図５に示し、横方向梨地調パターンの例を図６に示す。図５は、図１０に示す梨地調パターンを縦方向に３倍に変倍したものの拡大図の一部を示し、図６は、図１０に示す梨地調パターンを横方向に３倍に変倍したものの拡大図の一部を示している。
【００４９】
例えば、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示す黒円を横方向に３倍だけ変倍したものであり、図７（ｃ）は図７（ａ）に示す黒円を縦方向に３倍だけ変倍したものであるが、このことからも、図１０に示す梨地調パターンを横方向に変倍した画像では、横長の黒の略楕円状の絵柄が多数を占め、縦方向に変倍した画像では、縦長の黒の略楕円状の絵柄が多数を占めることが分かる。実際、図５、図６と図１０とを比較すると、明らかに、図５のパターンでは絵柄は縦方向の方向性を有し、図６のパターンでは絵柄は横方向の方向性を有している。
【００５０】
［画像合成］
画像合成手段５は、変倍手段３から縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パターンが、マスク画像入力手段４からマスク画像データが、そして入力手段１から割り付け対応関係テーブルが与えられると、画像合成を開始する。このときの動作を図８を参照して説明すると次のようである。
【００５１】
まず、作成画像上の一つの画素Ｐ（ｘ，ｙ）に着目し、当該作成画像上の着目画素Ｐの位置（ｘ，ｙ）に対応するマスク画像上の画素Ｑ（ｘ，ｙ）を求めて、その画素Ｑの色番号を認識する。
【００５２】
なお、上述したようにマスク画像のサイズは任意としてよい。従って、マスク画像のサイズと作成画像サイズとが異なっている場合、作成画像上の着目画素Ｐ（ｘ，ｙ）と対応するマスク画像上の画素を求めるには、両者のサイズを正規化するなどして、一対一に対応する画素位置を求めるようにすればよい。作成画像上の着目画素Ｐ（ｘ，ｙ）と対応する縦方向梨地調パターンの画素を求める場合、及び作成画像上の着目画素Ｐ（ｘ，ｙ）と対応する横方向梨地調パターンの画素を求める場合についても同様である。
【００５３】
さて、いま、図８（ａ）の作成画像上の画素Ｐに対応するマスク画像上の画素が図８（ｂ）に示すようにＱであり、当該画素Ｑの色番号が「１」であるとする。この場合には、画像合成手段５は、割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像上の当該画素Ｐに割り付けるパターンが縦方向梨地調パターンか、横方向梨地調パターンかを認識する。図３によれば、この場合には横方向梨地調パターンを割り付ける用に設定されている。そこで、画像合成手段５は、次に、作成画像上の着目画素Ｐに対応する横方向梨地調パターン上の画素を求める。その画素が図８（ｄ）のＳで示す位置であるとすると、画像合成手段５は、横方向梨地調パターンの当該画素Ｓの値を取り込み、作成画像上の着目画素Ｐの画素値とする。横方向梨地調パターンは２値画像であるから、当該着目画素Ｐの画素値は「０」または「１」である。
【００５４】
マスク画像上の、着目画素Ｐに対応する画素Ｑの色番号が「２」である場合も同様であり、画像合成手段５は、割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像上の当該画素Ｐに割り付けるパターンが縦方向梨地調パターンであることを認識し、作成画像上の着目画素Ｐに対応する縦方向梨地調パターン上の画素を求める。その画素が図８（ｃ）のＲで示す位置であるとすると、画像合成手段５は、縦方向梨地調パターンの当該画素Ｒの値を取り込み、作成画像上の着目画素Ｐの画素値とする。縦方向梨地調パターンは２値画像であるから、当該着目画素Ｐの画素値も「０」または「１」である。
【００５５】
以上の動作を、作成画像の全ての画素について行う。これによって、目的とする、横長の絵柄が数的に多数を占める領域と、縦長の絵柄が数的に多数を占める領域とを有するエンボスパターンが作成できる。そのエンボスパターンの例を図９に示す。図９では、図４のＡで示す領域には横方向梨地調パターンの絵柄が割り付けられ、Ｂで示す領域には縦方向梨地調パターンの絵柄が割り付けられている。
【００５６】
［画像出力］
以上のようにしてエンボスパターンが作成されるが、その後はエンボスパターンを画像出力手段６の表示装置やプリンタに出力して、出来映えを確認し、所望のようであれば外部記憶装置に記憶するようにすればよい。
【００５７】
［化粧シートの作成］
化粧シートの作成は、作成したエンボスパターンに基づいてエンボス版を作成し、樹脂シートにエンボス加工を施すことによって行う。そのための手法は周知であるが、例えば、作成したエンボスパターンを用いてシリンダにレジストを形成した後、ダイレクトエッチングによりエンボス版を作成し、そのエンボス版で樹脂シートにエンボス加工を施せばよい。
【００５８】
このようにして作成された化粧シートでは、例えば図９の黒の部分を凸になるようにエンボス加工したとすると、内部の丸と四角の領域では、縦長の絵柄が数的に多数を占め、それ以外の背景の領域では横長の絵柄が数的に多数を占めることになるので、照明の方向と視線の方向、及び絵柄の方向、即ち縦長の絵柄であるか横長の絵柄であるかによって、明るく見える領域と、暗く見える領域が生じる。つまり、艶差が生じる。
【００５９】
また、照明の方向を一定にして視線の方向を変えていくと、明るく見える領域と暗く見える領域が変化していく。つまり、艶差が変化するのである。
【００６０】
以上のようであるので、このエンボスパターン作成装置によれば、樹脂シートにエンボス加工を施した場合に、こうせん彫りの艶の変化と、梨地調パターンの艶消し感を兼ね備えた化粧シートを作成することができるエンボスパターンを作成することができる。
【００６１】
以上、本発明に係るエンボスパターン作成装置、及びエンボスパターン作成方法、そして化粧シートの作成方法について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
【００６２】
例えば、上記の実施形態では、縦方向の方向性を有する縦方向梨地調パターンと、横方向の方向性を有する横方向梨地調パターンを作成するものとしたが、上述したように、これに限るものではなく、少なくとも２つの、互いに異なる方向性を有する梨地調パターンを作成し、それらの方向性を有する梨地調パターンを、マスク画像の各画素の色番号に基づいて合成すればよいものである。即ち、より具体的にいえば、少なくとも２つの、互いに異なる方向性を有する梨地調パターンを作成し、割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付けられた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素について行なえばよい。その際、マスク画像の画素に与える色番号の種類は、作成される方向性を有する梨地調パターンの数だけ必要となることは上述した通りである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るエンボスパターン作成装置で作成しようとする化粧シートの概念を簡単に説明する図である。
【図２】本発明に係るエンボスパターン作成装置の一実施形態を示す図である。
【図３】縦方向梨地調パターンと、横方向梨地調パターンとをマスク画像を用いて合成する際に、作成画像のどこに縦方向梨地調パターンを割り付け、どこに横方向梨地調パターンを割り付けるかを定める、割り付け対応関係テーブルの例を示す図である。
【図４】マスク画像の例を示す図である。
【図５】縦方向梨地調パターンの例を示す図である。
【図６】横方向梨地調パターンの例を示す図である。
【図７】梨地調パターンを横方向に変倍した画像では横長の絵柄が数的に多数を占め、梨地調パターンを縦方向に変倍した画像では縦長の絵柄が数的に多数を占めることを示すための図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）に示す黒円を横方向に３倍だけ変倍したものを示し、図７（ｃ）は図７（ａ）に示す黒円を縦方向に３倍だけ変倍したものを示す。
【図８】画像合成手段５の動作を説明するための図である。
【図９】画像合成手段５で作成されるエンボスパターンの例を示す図である。
【図１０】梨地調パターンの例を示す図である。
【図１１】特開平１１−１４９５６１号公報に開示している非フラクタルな２次元スカラ場の生成方法を説明するための図である。
【図１２】特開平１１−１４９５６１号公報に開示している非フラクタルな２次元スカラ場の生成方法を説明するための図である。
【図１３】特開平１１−１４９５６１号公報に開示している非フラクタルな２次元スカラ場の生成方法によって、種々の所望の特性を持つスカラ場を生成できることを説明するための図である。
【図１４】こうせん彫りパターンの例を示す図である。
【符号の説明】
１…入力手段、２…梨地調パターン生成手段、３…変倍手段、４…マスク画像入力手段、５…画像合成手段、６…画像出力手段。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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