(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光束を放射する光源と、光源からの光束をカップリングする第１光学系と、第１光学系からの光束を主走査対応方向に長く略線状に集光する第２光学系と、上記略線状の集光部の近傍に有する偏向反射面により光束を偏向する光偏向器と、該光偏向器による偏向光束を被走査面上に光スポットとして集光する第３光学系とを有し、前記第３光学系は、少なくとも、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ１、及び副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２を有し、前記第３光学系の副走査方向の倍率の像高における変動幅は１０％以内であり、かつ、前記Ｌ１の副走査方向のパワーの像高における変動量は３％以内であることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記Ｌ１の副走査方向のパワーをＰ１、前記Ｌ２の副走査方向のパワーをＰ２とし、前記Ｌ１の副走査方向のパワーの偏向角に依存する変化において、前記Ｌ１の副走査方向のパワーの最大値と最小値の差をΔＰ１、前記Ｌ２の副走査方向のパワーの偏向角に依存する変化において、前記Ｌ２の副走査方向のパワーの最大値と最小値の差をΔＰ２とした場合に、下記の式を満足することを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
０≦ΔＰ１／ΔＰ２＜０．１
【請求項３】
前記Ｌ１は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することを特徴とする請求項１又は２記載の光走査装置。
【請求項４】
前記Ｌ２は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することを特徴とする請求項１乃至３記載の光走査装置。
【請求項５】
前記Ｌ２は、副走査断面内の曲率が主走査方向の位置に応じて変化することを特徴とする請求項１乃至４の記載の光走査装置。
【請求項６】
前記Ｌ１及びＬ２のうちの少なくとも１面は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立で、且つ主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化していることを特徴とする請求項５記載の光走査装置。
【請求項７】
前記Ｌ１及びＬ２のうちの少なくとも１面は、副走査断面内の形状が非円弧面であることを特徴とする請求項５または６記載の光走査装置。
【請求項８】
前記第３光学系は、２つの光学素子からなることを特徴とする請求項１乃至７の光走査装置。
【請求項９】
前記第３光学系は、２つのレンズからなることを特徴とする請求項８記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β(0) は下記式を満足することを特徴とする請求項１乃至９の光走査装置。
０．５＜｜β(0) ｜＜１．５
【請求項１１】
前記第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β0 、及び偏向角θにおける副走査方向の横倍率β( θ) は下記式を満足することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光走査装置。
０．８＜｜β( θ) ／β(0) ｜＜１．２
【請求項１２】
前記光源は、複数の光束を発するマルチビーム光源であることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の光走査装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２記載の光走査装置を有する画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光走査装置に関し、特に複写機、プリンタ、ＦＡＸ等の画像形成装置に用いられる感光体上でのビームスポット径の変化を抑える光走査技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、デジタル複写機やレーザープリンタにおいて高密度化が進んでいるが、それに伴い感光体上でのビームスポット径は小径化が望まれている。そこで、収差を補正するために回転軸を持たない曲面など、いわゆる自由曲面を持った光学素子などが種々提案されている。
【０００３】
従来技術である、特開平１０−５４９５２号公報において提案されている光走査装置では、走査光学系が、第１のアナモフィック光学素子及び第２のアナモフィック光学素子の２枚の光学素子で構成されており、第１のアナモフィック光学素子の副走査方向のパワーは、第１、第２のアナモフィック光学素子により構成される走査光学系の副走査方向の倍率が偏向角度によらず一定になるように主走査方向の位置に応じて変化させることで、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えるとともに、マルチビーム走査光学系に利用するときには像高による走査線の間隔の変化を抑えることができるようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、副走査方向のパワーが主走査方向の位置に応じて変化していると、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化が大きくなり、加工精度や組み付け精度が厳しくなるという問題がある。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、第一に、Ｌ１の副走査方向のパワーを、偏向角によらず略一定にしつつ、走査光学系の副走査方向の倍率を偏向角度によらず略一定になるようにすることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる光走査装置を提供することにある。
【０００６】
第ニに、ΔＰ１／ΔＰ２を０≦ΔＰ１／ΔＰ２＜０．１の範囲に抑えることで光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる光走査装置を提供することにある。
【０００７】
第三に、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ１が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にしつつ、Ｌ１の副走査方向のパワーを、偏向角度θによらず略一定にすることができるので光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる光走査装置を提供することにある。
【０００８】
第四に、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことができるので、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にできるので、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる光走査装置を提供することにある。
【０００９】
第五に、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２の副走査断面内の曲率が、第３光学系の副走査方向の横倍率が偏向角度によらず一定になるように、主走査方向の位置に応じて変化する面を有するので、設計上の自由度を増すことができるので、収差を良好に補正すると共に、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる光走査装置を提供することにある。
【００１０】
第六に、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立で且つ、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化しているので、偏向器４によって発生するサグ（偏向角度によって反射点がずれる）の影響で副走査の像面湾曲が傾くという問題を、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化させることで傾きを補正することができる光走査装置を提供することにある。
【００１１】
第七に、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の形状が非円弧面にすることで、副走査方向の波面収差を補正することができるので、副走査方向のビームスポット径を３０μm 程度の小径に絞ろうとした時に絞りきれないという問題を解決することができる光走査装置を提供することにある。
【００１２】
第八に、第３光学系を２つの光学素子で構成することで３つ以上の光学素子で構成する場合に比べてコストを低減でき、また、加工誤差や組み付け誤差等の誤差の積み上がりを低減できる光走査装置を提供することにある。
【００１３】
第九に、第３光学系を２つのレンズで構成することで、反射結像素子を用いたときのように、光束を分離するために偏心させることで発生する波面収差の劣化（コマ収差の発生）を抑えることができる光走査装置を提供することにある。
【００１４】
第十に、第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β（０）を０．５＜｜β(0) ｜＜１．５の範囲にする。β(0) が０．５より小さくなると、光学素子が被走査面に近づくので、光学素子が大型化してしまい光走査装置全体が大型化する。また、β(0) が１．５より大きくなると、光学素子は偏向器側に近づくので小型化できるが、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化が大きくなる。上記範囲にすることで、光学素子の大型化を防ぎ、且つ光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えることができる光走査装置を提供することにある。
【００１５】
第十一に、第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β(0) 、及び偏向角θにおける副走査方向の横倍率β( θ) を、０．８＜｜β( θ) ／β(0) ｜＜１．２の範囲にすることで、複数の発光点を持つＬＤＡ、または、ＬＤをプリズム等で合成したマルチビーム等を用いたときの走査線の間隔が、偏向角度によらず略一定に保つことができる光走査装置を提供することにある。
【００１６】
第十二に、光源に複数の発光点を持つＬＤＡ、または、ＬＤをプリズム等で合成したマルチビーム等を用いることで、偏向器の回転数を低減することができるのでコストの削減及び、消費電力を抑えることができる光走査装置を提供することにある。
【００１７】
第十三、請求項１３によれば、請求項１記載の光走査装置を用いた画像形成装置を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項１記載の発明は、光束を放射する光源と、光源からの光束をカップリングする第１光学系と、第１光学系からの光束を主走査対応方向に長く略線状に集光する第２光学系と、上記略線状の集光部の近傍に有する偏向反射面により光束を偏向する光偏向器と、該光偏向器による偏向光束を被走査面上に光スポットとして集光する第３光学系とを有し、前記第３光学系は、少なくとも、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ１、及び副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２を有し、前記第３光学系の副走査方向の倍率の像高における変動幅は１０％以内であり、かつ、前記Ｌ１の副走査方向のパワーの像高における変動量は３％以内である光走査装置であることを最も主要な特徴とする。
【００１９】
請求項２記載の発明は、前記Ｌ１の副走査方向のパワーをＰ１、前記Ｌ２の副走査方向のパワーをＰ２とし、前記Ｌ１の副走査方向のパワーの偏向角に依存する変化において、前記Ｌ１の副走査方向のパワーの最大値と最小値の差をΔＰ１、前記Ｌ２の副走査方向のパワーの偏向角に依存する変化において、前記Ｌ２の副走査方向のパワーの最大値と最小値の差をΔＰ２とした時、下記の式を満足する請求項１記載の光走査装置を主要な特徴とする。
０≦ΔＰ１／ΔＰ２＜０．１
【００２０】
請求項３記載の発明は、前記Ｌ１は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有する請求項１又は２記載の光走査装置を主要な特徴とする。
【００２１】
請求項４記載の発明は、前記Ｌ２は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有する請求項１又は２記載の光走査装置を主要な特徴とする。
【００２２】
請求項５記載の発明は、前記Ｌ２は、副走査断面内の曲率が主走査方向の位置に応じて変化する請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光走査装置を主要な特徴とする。
【００２３】
請求項６記載の発明は、前記Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立で且つ、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化している請求項５記載の光走査装置を主要な特徴とする。
【００２４】
請求項７記載の発明は、前記Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の形状が非円弧面である請求項５または６記載の光走査装置を主要な特徴とする。
【００２５】
請求項８記載の発明は、前記第３光学系は、２つの光学素子からなる請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光走査装置を主要な特徴とする。
【００２６】
請求項９記載の発明は、前記第３光学系は、２つのレンズからなる請求項８記載の光走査装置を主要な特徴とする。
【００２７】
請求項１０記載の発明は、前記第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β(0) は下記式を満足する請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光走査装置を主要な特徴とする。
０．５＜｜β(0) ｜＜１．５
【００２８】
請求項１１記載の発明は、前記第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β0 、及び偏向角θにおける副走査方向の横倍率β( θ) は下記式を満足する請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光走査装置を主要な特徴とする。
０．８＜｜β( θ) ／β(0) ｜＜１．２
【００２９】
請求項１２記載の発明は、前記光源は、複数の光束を発するマルチビーム光源である請求項５または請求項６に記載の光走査装置を主要な特徴とする。
【００３０】
請求項１３記載の発明は、請求項１乃至１２記載の光走査装置を用いた画像形成装置を最も主要な特徴とする。
【００３１】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。
図１は本発明に係る光走査装置の概略構成図である。光源１から射出した光束は、カップリングレンズ２によって所望の光束状態にカップリングされる。ここでは、略平行光束にカップリングしている。光源としては、ＬＤや複数の発光点を持つＬＤＡ、または、ＬＤをプリズム等で合成したマルチビーム等が使用できる。複数光源を用いることで光偏向器等の回転数を下げることができ寿命を延ばすことができると同時に、消費電力を低減することができる。
【００３２】
カップリングレンズ２は単玉の非球面レンズ等が使用でき、カップリングレンズ単独での波面収差は良好に補正されている。カップリングレンズ２から射出した光束は、副走査方向にのみパワーを有するシリンドリカルレンズ３により線状に結像させ、結像位置近傍に配置された偏向器４により偏向され、偏向された光束は、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子１０（Ｌ１）、及び主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子２０（Ｌ２）からなる第３光学系によって、主走査、副走査それぞれの像面湾曲、及びｆθ特性等光学特性を補正しつつ、被走査面５上に結像する。
【００３３】
主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子１０（Ｌ１）、及び主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子２０（Ｌ２）からなる第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定で、且つ前記Ｌ１の副走査方向のパワーは、偏向角度θによらず略一定にする。図２に実施例１の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２を示す。
【００３４】
【表１】
0004834251.tif 000002
【００３５】
表１に、実施例１の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２の数値を示す。表１からも分かるように、Ｌ１のパワーの変動量は約３％であり、略一定であることが分かる。また、表１の副走査横倍率は、偏向角度による倍率の変化を示しており、変動幅は約１０％程度で実使用上問題ないレベルである。こうすることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。表１のΔＰ１とは、Ｐ１の最大値から最小値を引いた値である（ΔＰ２も同様）。
【００３６】
次に、ΔＰ１／ΔＰ２を０≦ΔＰ１／ΔＰ２＜０．１の範囲に抑えることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００３７】
又、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ１が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にしつつ、Ｌ１の副走査方向のパワーを、偏向角度θによらず略一定にすることができるので光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００３８】
次に、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にできるので、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００３９】
又、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２の副走査断面内の曲率が、第３光学系の副走査方向の横倍率が偏向角度によらず一定になるように、主走査方向の位置に応じて変化する面を有するので、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００４０】
更に、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立で且つ、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化しているので、偏向器４によって発生するサグ（偏向角度によって反射点がずれる）の影響で副走査の像面湾曲が傾くという問題を、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化させることで傾きを補正することができる。
【００４１】
又、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の形状が非円弧面にすることで、副走査方向の波面収差を補正することができるので、副走査方向のビームスポット径を３０μm 程度以下の小径に絞ろうとした時に絞りきれないという問題を解決することができる。
【００４２】
図３に実施例２の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２を示す。
【００４３】
【表２】
0004834251.tif 000003
【００４４】
表２に、実施例２の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２の数値を示す。表２からも分かるように、Ｌ１のパワーの変動量は約２％であり、略一定であることが分かる。また、表２の副走査横倍率は、偏向角度による倍率の変化を示しており、変動幅は約１０％程度で実使用上問題ないレベルである。こうすることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。表２のΔＰ１とは、Ｐ１の最大値から最小値を引いた値である（ΔＰ２も同様）。
【００４５】
次に、ΔＰ１／ΔＰ２を０≦ΔＰ１／ΔＰ２＜０．１の範囲に抑えることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００４６】
又、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ１が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にしつつ、Ｌ１の副走査方向のパワーを、偏向角度θによらず略一定にすることができるので光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００４７】
次に、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にできるので、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００４８】
又、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２の副走査断面内の曲率が、第３光学系の副走査方向の横倍率が偏向角度によらず一定になるように、主走査方向の位置に応じて変化する面を有するので、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００４９】
更に、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立で且つ、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化しているので、偏向器４によって発生するサグ（偏向角度によって反射点がずれる）の影響で副走査の像面湾曲が傾くという問題を、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化させることで傾きを補正することができる。
【００５０】
又、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の形状が非円弧面にすることで、副走査方向の波面収差を補正することができるので、副走査方向のビームスポット径を３０μm 程度以下の小径に絞ろうとした時に絞りきれないという問題を解決することができる。
【００５１】
図４に、実施例３の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２を示す。
【００５２】
【表３】
0004834251.tif 000004
【００５３】
表３に、実施例３の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２の数値を示す。表３からも分かるように、Ｌ１のパワーの変動量は約２％であり、略一定であることが分かる。また、表３の副走査横倍率は、偏向角度による倍率の変化を示しており、変動幅は約１０％程度で実使用上問題ないレベルである。こうすることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。表３のΔＰ１とは、Ｐ１の最大値から最小値を引いた値である（ΔＰ２も同様）。
【００５４】
次に、ΔＰ１／ΔＰ２を０≦ΔＰ１／ΔＰ２＜０．１の範囲に抑えることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００５５】
又、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ１が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にしつつ、Ｌ１の副走査方向のパワーを、偏向角度θによらず略一定にすることができるので光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００５６】
次に、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にできるので、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００５７】
又、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２の副走査断面内の曲率が、第３光学系の副走査方向の横倍率が偏向角度によらず一定になるように、主走査方向の位置に応じて変化する面を有するので、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００５８】
更に、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立で且つ、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化しているので、偏向器４によって発生するサグ（偏向角度によって反射点がずれる）の影響で副走査の像面湾曲が傾くという問題を、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化させることで傾きを補正することができる。
【００５９】
又、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の形状が非円弧面にすることで、副走査方向の波面収差を補正することができるので、副走査方向のビームスポット径を３０μm 程度以下の小径に絞ろうとした時に絞りきれないという問題を解決することができる。
【００６０】
図５に実施例４の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２を示す。
【００６１】
【表４】
0004834251.tif 000005
【００６２】
表４に、実施例４の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２の数値を示す。表４からも分かるように、Ｌ１のパワーの変動量は約２％であり、略一定であることが分かる。また、表４の副走査横倍率は、偏向角度による倍率の変化を示しており、変動幅は約１０％程度で実使用上問題ないレベルである。こうすることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。表４のΔＰ１とは、Ｐ１の最大値から最小値を引いた値である（ΔＰ２も同様）。
【００６３】
次に、ΔＰ１／ΔＰ２を０≦ΔＰ１／ΔＰ２＜０．１の範囲に抑えることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００６４】
又、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ１が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にしつつ、Ｌ１の副走査方向のパワーを、偏向角度θによらず略一定にすることができるので光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００６５】
次に、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にできるので、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００６６】
又、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２の副走査断面内の曲率が、第３光学系の副走査方向の横倍率が偏向角度によらず一定になるように、主走査方向の位置に応じて変化する面を有するので、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【００６７】
更に、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立で且つ、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化しているので、偏向器４によって発生するサグ（偏向角度によって反射点がずれる）の影響で副走査の像面湾曲が傾くという問題を、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化させることで傾きを補正することができる。
【００６８】
又、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の形状が非円弧面にすることで、副走査方向の波面収差を補正することができるので、副走査方向のビームスポット径を３０μm 程度以下の小径に絞ろうとした時に絞りきれないという問題を解決することができる。
【００６９】
特に、実施例４においては、Ｌ２の第２面に副非円弧面を用いている。図１１に実施例４の光軸上（偏向角０）の波面収差を示し、図１０にＬ２第２面の副非円弧面の形状からＺ＾４の項とＺ＾６の項をはずして円弧面にした場合の光軸上（偏向角０）の波面収差を示す。波面収差量が約半分に改善されていることが明かである。
【００７０】
又、第３光学系を２つの光学素子で構成することで３つ以上の光学素子で構成する場合に比べてコストを低減でき、また、加工誤差や組み付け誤差等の誤差の積み上がりを低減できる。
【００７１】
具体的には、第３光学系を２つのレンズで構成することで、反射結像素子を用いたときのように、光束を分離するために偏心させることで発生する波面収差の劣化（コマ収差の発生）を抑えることができる。
【００７２】
本発明では、第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β(0) を０．５＜｜β(0) ｜＜１．５の範囲にした。β(0) が０．５より小さくなると、光学素子が被走査面に近づくので、光学素子が大型化してしまい光走査装置全体が大型化する。また、β(0) が１．５より大きくなると、光学素子は偏向器側に近づくので小型化できるが、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化が大きくなる。
【００７３】
又、第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β(0) 、及び偏向角θにおける副走査方向の横倍率β( θ) を、０．８＜｜β( θ) ／β(0) ｜＜１．２の範囲にすることで、複数の発光点を持つＬＤＡ、または、ＬＤをプリズム等で合成したマルチビーム等を用いたときの走査線の間隔が、偏向角度によらず略一定に保つことができる。
【００７４】
本発明では、光源に複数の発光点を持つＬＤＡ、または、ＬＤをプリズム等で合成したマルチビーム等を用いることとした。これにより、偏向器の回転数を低減することが出来、コストの削減及び、消費電力を抑えることができる。
【００７５】
更に本発明では、請求項１記載の光走査装置を画像形成装置に用いることとした。これにより、安定した潜像を形成する画像形成装置を提供できる。
【００７６】
次に、第３光学系の光学素子の形状の説明をする。先ず主走査非円弧式について説明する。主走査面内における面形状は非円弧形状をなしており、 光軸における主走査面内の近軸曲率半径をＲｍ, 光軸からの主走査方向の距離をY,円錐常数をＫ, 高次の係数をＡ1 ，Ａ2 ，Ａ3 ，Ａ4 ，Ａ5 ，Ａ6 ，…とするとき光軸方向のデプスをX として次の多項式で表している。
0004834251.tif 000006
ここで奇数次のＡ1,Ａ3,Ａ5 …をゼロ以外の数値を代入した場合、主走査方向に非対称形状を有する。 実施例１，２，３，４ともに偶数次のみを用いており、主走査方向に対称系である。
【００７７】
次に副走査非円弧式について説明する。副走査方向の形状：光軸から距離：Ｙの位置における副走査断面における形状、主走査方向の座標：Ｙ、副走査方向の座標：Ｚを用い、次式で表す。
0004834251.tif 000007
【００７８】
（２）式の右辺第１項において、
0004834251.tif 000008
「Ｃｓ( Ｙ) 」は、座標：Ｙにおける副走査断面形状の近軸曲率、「Ｋｓ( Ｙ) 」は、座標：Ｙにおける副走査断面形状の円錐定数、「Ｒｓ０」は光軸（Ｘ＝０）を含む副走査断面における近軸曲率半径である。
【００７９】
ここでＹの奇数乗係数のＢ1,Ｂ３, Ｂ５…がゼロ以外の数値を代入した場合、 副走査の曲率半径が主走査方向に非対称となる。 なお、（２）式において、Ｚ＝０とすると、fs(Y, ０)=０となるが、この部分は、主走査断面内においては、前記（１）式に従う形状となっている。従って、レンズ面の３次元的な形状は、式（１）と式（２）の和で表されることになる。
【００８０】
以下、本発明の具体的実施例について、数値を用いて更に詳細に説明することとする。
【００８１】
（実施例１）
「光源」としては、波長７８０ｎｍのＬＤを用いた。「カップリングレンズ」としては、単玉の焦点距離２７ｍｍのレンズを用いた。カップリングレンズのカップリング作用はコリメート作用である。「ポリゴンミラー」としては、偏向反射面数が５で、内接円半径１８ｍｍのものを用いた。ここで、光源側からのビームの入射角と走査光学系の光軸とがなす角は６０度であり、書き込み幅は±１５０ｍｍである。又、画角は±３８度である。
【００８２】
図１上、ｄ１＝７１．６ｍｍ、ｄ２＝３０ｍｍ、ｄ３＝６６．３２ｍｍ、ｄ４＝８．５ｍｍ、ｄ５＝１５９．３４５ｍｍ、ｄ６＝０．２７４ｍｍ、ｄ７＝０．２７４ｍｍである。
【００８３】
又、レンズ１０、２０の屈折率は、１．５２３９７８（λ＝７８０ｎｍ、２５℃時）である。
【００８４】
１０ａの形状としては、
Rm＝-1030.233346、Rs= -90.423157
A00  -4.041619E+02
A04   6.005017E-08
A06  -7.538155E-13
A08  -4.036824E-16
A10   4.592164E-20
A12  -2.396524E-24
B02   4.569621E-07
B04  -7.269420E-11
B06   -2.742376E-14
B08   -2.247470E-18
B10   1.081308E-23
【００８５】
１０b の形状としては、
Rm＝-109.082474 、Rs= -110.038458
A00  -5.427642E-01
A04   9.539024E-08
A06   4.882194E-13
A08  -1.198993E-16
A10   5.029989E-20
A12  -5.654269E-24
B01   -9.090081E-08
B02   -4.717025E-07
B03   4.838215E-11
B04   -8.464538E-11
B05   3.927505E-14
B06   8.104561E-15
B07   -2.932558E-19
B08   -2.004113E-19
B09   -7.504837E-22
B10   -1.411586E-21
【００８６】
２０ａの形状としては、
Rm＝1493.654587 、Rs= -69.099723
A00   5.479389E+01
A04  -7.606757E-09
A06  -6.311203E-13
A08   6.133813E-17
A10  -1.482144E-21
A12   2.429275E-26
A14  -1.688771E-30
B02  -4.232444E-08
B04   2.350202E-11
B06   -1.860155E-15
B08   1.482961E-20
B10   2.785776E-27
B12  -4.740142E-28
B14    1.543834E-33
【００８７】
２０b の形状としては、
Rm＝1748.583900 、Rs= -27.934602
A00  -5.488740E+02
A04  -4.978348E-08
A06   2.325104E-12
A08  -7.619465E-17
A10   3.322730E-21
A12  -3.571328E-26
A14  -2.198782E-30
B01  -5.944793E-07
B02    3.797718E-07
B03   -3.384574E-11
B04  -3.480486E-11
B05  -2.174181E-15
B06   2.182283E-15
B07   1.108834E-18
B08   -6.174644E-20
B09  -1.150807E-22
B10  -4.950043E-24
B11   5.563203E-27
B12   -9.153840E-29
B13  -1.182178E-31
B14  -7.639809E-33
【００８８】
図６に上記実施例１の像面湾曲及びｆθ特性結果を示す。また、実施例１のΔＰ１／ΔＰ２，｜β(0) ｜及び｜β( θ) ／β(0) ｜を下記に示す。
ΔＰ１／ΔＰ２＝１．３９５Ｅ−０２
｜β(0) ｜＝０．９２１
｜β( θ) ／β(0) ｜＝０．８９７
【００８９】
（実施例２）
「光源」としては、波長７８０ｎｍのＬＤを用いた。「カップリングレンズ」としては、焦点距離２７ｍｍレンズを用いた。カップリングレンズのカップリング作用はコリメート作用である。「ポリゴンミラー」としては、偏向反射面数が５で、内接円半径１８ｍｍのものを用いた。ここで、光源側からのビームの入射角と走査光学系の光軸とがなす角は６０度であり、書き込み幅は±１５０ｍｍである。又、画角は±３８度である。
図１上、ｄ１＝７１．６ｍｍ、ｄ２＝３０ｍｍ、ｄ３＝６６．３２ｍｍ、ｄ４＝８．５ｍｍ、ｄ５＝１５９．３４５ｍｍ、ｄ６＝０．２７４ｍｍ、ｄ７＝０．２７４ｍｍである。
【００９０】
又、レンズ１０、２０の屈折率は、１．５２３９７８（λ＝７８０ｎｍ、２５℃時）である。
【００９１】
１０ａの形状としては、
Rm＝-1030.233346  、Rs=-83.3777
A00  -4.041619E+02
A04   6.005017E-08
A06  -7.538155E-13
A08  -4.036824E-16
A10   4.592164E-20
A12  -2.396524E-24
B02   5.157543E-07
B04  -6.755189E-11
B06  -2.742019E-14
B08  -2.109276E-18
B10   6.756230E-23
【００９２】
１０b の形状としては、
Rm＝-109.082474 、Rs= -118.657036
A00  -5.427642E-01
A04   9.539024E-08
A06   4.882194E-13
A08  -1.198993E-16
A10   5.029989E-20
A12  -5.654269E-24
B01  -7.808458E-08
B02  -4.189053E-07
B03   7.218398E-11
B04  -9.329020E-11
B05   2.625744E-14
B06   8.282850E-15
B07   1.879697E-18
B08   8.995450E-20
B09  -7.781569E-22
B10  -1.330777E-21
【００９３】
２０ａの形状としては、
Rm＝1493.654587   、Rs= -70.374394
A00   5.479389E+01
A04  -7.606757E-09
A06  -6.311203E-13
A08   6.133813E-17
A10  -1.482144E-21
A12   2.429275E-26
A14  -1.688771E-30
B02  -4.748030E-08
B04   2.352347E-11
B06  -1.851507E-15
B08   1.527506E-20
B10   3.085263E-27
B12  -4.785098E-28
B14   6.995809E-34
【００９４】
２０b の形状としては、
Rm＝1748.583900 、Rs= -27.8255
A00  -5.488740E+02
A04  -4.978348E-08
A06   2.325104E-12
A08  -7.619465E-17
A10   3.322730E-21
A12  -3.571328E-26
A14  -2.198782E-30
B01  -5.344320E-07
B02   3.849713E-07
B03  -3.785591E-11
B04  -3.487464E-11
B05  -2.389335E-15
B06   2.169365E-15
B07   1.135268E-18
B08  -6.289325E-20
B09  -1.118479E-22
B10  -5.020606E-24
B11   5.637323E-27
B12  -9.388938E-29
B13  -1.465510E-31
B14  -7.456119E-33
【００９５】
図７に上記実施例２の像面湾曲及びｆθ特性結果を示す。また、実施例２のΔＰ１／ΔＰ２，｜β(0) ｜及び｜β( θ) ／β(0) ｜を下記に示す。
ΔＰ１／ΔＰ２＝２．５３５Ｅ−０２
｜β(0) ｜＝０．８９４
｜β( θ) ／β(0) ｜＝０．８９
【００９６】
（実施例３）
「光源」としては、波長７８０ｎｍのＬＤを用いた。「カップリングレンズ」としては、焦点距離２７ｍｍレンズを用いた。カップリングレンズのカップリング作用はコリメート作用である。「ポリゴンミラー」としては、偏向反射面数が５で、内接円半径１８ｍｍのものを用いた。ここで、光源側からのビームの入射角と走査光学系の光軸とがなす角は６０度であり、書き込み幅は±１５０ｍｍである。又、画角は±３８度である。
図１上、ｄ１＝７１．６ｍｍ、ｄ２＝３０ｍｍ、ｄ３＝６６．３２ｍｍ、ｄ４＝８．５ｍｍ、ｄ５＝１５９．３４５ｍｍ、ｄ６＝０．２７４ｍｍ、ｄ７＝０．２７４ｍｍである。
【００９７】
又、レンズ１０、２０の屈折率は、１．５２３９７８（λ＝７８０ｎｍ、２５℃時）である。
【００９８】
１０ａの形状としては、
Rm＝-1030.233346  、Rs=-79.097375
A00  -4.041619E+02
A04   6.005017E-08
A06  -7.538155E-13
A08  -4.036824E-16
A10   4.592164E-20
A12  -2.396524E-24
B02   8.363888E-07
B04   1.565569E-10
B06   2.478261E-14
B08   4.912169E-18
B10   9.106908E-22
【００９９】
１０b の形状としては、
Rm＝-109.082474 、Rs= -63.348142
A00  -5.427642E-01
A04   9.539024E-08
A06   4.882194E-13
A08  -1.198993E-16
A10   5.029989E-20
A12  -5.654269E-24
B01   3.714749E-07
B02  -7.114309E-07
B03   7.235196E-11
B04   3.216674E-11
B05   1.419916E-13
B06   2.610073E-14
B07  -2.625060E-17
B08   5.805904E-18
B09  -1.502202E-21
B10   8.931588E-22
【０１００】
２０ａの形状としては、
Rm＝1493.654587 、Rs= -62.690366
A00   5.479389E+01
A04  -7.606757E-09
A06  -6.311203E-13
A08   6.133813E-17
A10  -1.482144E-21
A12   2.429275E-26
A14  -1.688771E-30
B02  -5.203245E-08
B04   1.830862E-11
B06  -1.951662E-15
B08  -1.214349E-20
B10  -3.579368E-24
B12  -8.245156E-28
B14  -2.290574E-32
【０１０１】
２０b の形状としては、
Rm＝1748.583900 、Rs= -28.67101
A00  -5.488740E+02
A04  -4.978348E-08
A06   2.325104E-12
A08  -7.619465E-17
A10   3.322730E-21
A12  -3.571328E-26
A14  -2.198782E-30
B01  -9.267064E-07
B02   2.796982E-07
B03  -3.639291E-11
B04  -3.558108E-11
B05  -3.218427E-15
B06   1.830124E-15
B07   1.103838E-18
B08  -1.037411E-19
B09  -1.128466E-22
B10  -7.476996E-24
B11   6.277306E-27
B12  -2.706136E-28
B13   2.115775E-32
B14  -2.857513E-32
【０１０２】
図８に上記実施例３の像面湾曲及びｆθ特性結果を示す。また、実施例３のΔＰ１／ΔＰ２，｜β(0) ｜及び｜β( θ) ／β(0) ｜を下記に示す。
ΔＰ１／ΔＰ２＝７．１９１Ｅ−０２
｜β(0) ｜＝１．０４３
｜β( θ) ／β(0) ｜＝０．９３４
【０１０３】
（実施例４）
「光源」としては、波長７８０ｎｍのＬＤを用いた。「カップリングレンズ」としては、焦点距離２７ｍｍレンズを用いた。カップリングレンズのカップリング作用はコリメート作用である。「ポリゴンミラー」としては、偏向反射面数が５で、内接円半径１８ｍｍのものを用いた。ここで、光源側からのビームの入射角と走査光学系の光軸とがなす角は６０度であり、書き込み幅は±１５０ｍｍである。又、画角は±３８度である。
【０１０４】
図１上、ｄ１＝６７．９５ｍｍ、ｄ２＝２９ｍｍ、ｄ３＝６９．９９ｍｍ、ｄ４＝８．４ｍｍ、ｄ５＝１５９．３４５ｍｍ、ｄ６＝０．６１７ｍｍ、ｄ７＝０．６９２ｍｍである。
【０１０５】
又、レンズ１０、２０の屈折率は、１．５２３９７８（λ＝７８０ｎｍ、２５℃時）である。
【０１０６】
１０ａの形状としては、
Rm＝-879.523031 、Rs=-86.708318
A00  -2.999565E+02
A04   5.840226E-08
A06  -7.031731E-13
A08  -4.076569E-16
A10   4.233901E-20
A12  -4.814312E-25
B01  -2.501931E-05
B02   1.653737E-07
B03  -7.668693E-09
B04  -3.347034E-10
B05  -2.949933E-12
B06   3.136104E-14
B07  -4.389653E-16
B08  -1.427572E-17
B09  -1.465159E-19
B10  -7.094010E-21
B11   8.733177E-24
B12   1.130805E-24
【０１０７】
１０b の形状としては、
Rm＝-109.919165 、Rs=-111.992196
A00  -5.405613E-01
A04   9.549366E-08
A06   5.978332E-13
A08  -1.512165E-16
A10   5.141645E-20
A12  -3.738053E-24
B01  -1.605404E-05
B02  -7.162447E-07
B03  -5.180572E-09
B04  -1.778869E-10
B05  -1.281277E-12
B06   2.814741E-14
B07  -2.750303E-16
B08  -1.201453E-17
B09  -7.436758E-20
B10  -1.740300E-21
B11  -1.798361E-23
B12  -1.081383E-25
【０１０８】
２０ａの形状としては、
Rm＝2883.084679 、Rs= -70.343210
A00   0.000000E+00
A04  -1.017323E-08
A06  -8.249685E-13
A08   5.922099E-17
A10  -1.488225E-21
A12   1.726797E-26
A14  -2.547787E-30
B02   1.586755E-08
B04   2.850690E-11
B06  -1.520013E-15
B08   9.541961E-20
B10   6.832355E-24
B12   1.140863E-29
【０１０９】
２０b の形状としては、
Rm＝13794.470317  、Rs= -27.973086
A00   0.000000E+00
A04  -6.171793E-08
A06   2.273852E-12
A08  -8.120726E-17
A10   2.944331E-21
A12  -4.952200E-26
A14  -2.224465E-30
B01   1.039242E-06
B02   4.265436E-07
B03  -6.419878E-11
B04  -3.400559E-11
B05   7.084184E-15
B06   2.615682E-15
B07   1.471965E-18
B08  -7.145501E-21
B09  -6.625463E-23
B10   1.494741E-24
B11   1.040072E-28
B12   4.325510E-28
I00   9.435458E-06
I01  -8.721213E-08
I02  -6.165176E-09
I03   9.895040E-11
I04   1.178927E-12
I05  -3.186398E-14
I06  -1.196914E-16
I07   3.615834E-18
I08  -1.321509E-21
I09  -8.339640E-23
I10   2.415787E-24
I11  -4.959413E-27
I12  -1.910252E-28
K00  -1.977390E-07
K01   1.224927E-09
K02   3.838264E-10
K03  -2.288362E-12
K04  -1.681843E-14
K05   7.708433E-16
K06  -5.309053E-18
K07  -3.425891E-20
K08  -1.170404E-22
K09  -1.130785E-23
K10   7.484206E-26
K11   9.291051E-28
K12  -1.681956E-30
【０１１０】
図９に上記実施例４の像面湾曲及びｆθ特性結果を示す。また、実施例４のΔＰ１／ΔＰ２，｜β(0) ｜及び｜β( θ) ／β(0) ｜を下記に示す。
ΔＰ１／ΔＰ２＝１．３４２Ｅ−０２
｜β(0) ｜＝０．９２２
｜β( θ) ／β(0) ｜＝０．９4
【０１１１】
【発明の効果】
請求項１によれば、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子１０（Ｌ１）、及び主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子２０（Ｌ２）からなる第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定で、且つ前記Ｌ１の副走査方向のパワーは、偏向角度θによらず略一定にすることで、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【０１１２】
請求項２によれば、ΔＰ１／ΔＰ２を０≦ΔＰ１／ΔＰ２＜０．１の範囲に抑えることで光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【０１１３】
請求項３によれば、主走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ１が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にしつつ、Ｌ１の副走査方向のパワーを、偏向角度θによらず略一定にすることができるので光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えつつ、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【０１１４】
請求項４によれば、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２が、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立に変化している面を有することで、設計上の自由度を増すことができるので、収差を良好に補正すると共に、第３光学系の副走査方向の倍率は偏向角度θによらず略一定にできるので、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【０１１５】
請求項５によれば、主に副走査方向に正のパワーを有するアナモフィック光学素子Ｌ２の副走査断面内の曲率が、主走査方向の位置に応じて変化する面を有するので、設計上の自由度を増すことが出来、収差を良好に補正すると共に、像高による副走査方向のビームスポット径の変化を抑えることができる。
【０１１６】
請求項６によれば、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の曲率が主走査方向の形状とは独立で且つ、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化しているので、偏向器４によって発生するサグ（偏向角度によって反射点がずれる）の影響で副走査の像面湾曲が傾くという問題を、主走査方向の位置に応じて左右非対称に変化させることで傾きを補正することができる。
【０１１７】
請求項７によれば、Ｌ１、及びＬ２のうち、少なくとも１面は、副走査断面内の形状が非円弧面にすることで、副走査方向の波面収差を補正することができるので、副走査方向のビームスポット径を３０μm 程度の小径に絞ろうとした時に絞りきれないという問題を解決することができる。
【０１１８】
請求項８によれば、第３光学系を２つの光学素子で構成することで３つ以上の光学素子で構成する場合に比べてコストを低減でき、また、加工誤差や組み付け誤差等の誤差の積み上がりを低減できる。
【０１１９】
請求項９によれば、第３光学系を２つのレンズで構成することで、反射結像素子を用いたときのように、光束を分離するために偏心させることで発生する波面収差の劣化（コマ収差の発生）を抑えることができる。
【０１２０】
請求項１０によれば、第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β(0) を０．５＜｜β(0) ｜＜１．５の範囲にする。β(0) が０．５より小さくなると、光学素子が被走査面に近づくので、光学素子が大型化してしまい光走査装置全体が大型化する。また、β(0) が１．５より大きくなると、光学素子は偏向器側に近づくので小型化できるが、光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化が大きくなる。上記範囲にすることで、光学素子の大型化を防ぎ、且つ光学素子の加工誤差や組み付け誤差による収差の劣化を抑えることができる。
【０１２１】
請求項１１によれば、第３光学系の光軸上の副走査方向の横倍率β(0) 、及び偏向角θにおける副走査方向の横倍率β( θ) を、０．８＜｜β( θ) ／β(0) ｜＜１．２の範囲にすることで、複数の発光点を持つＬＤＡ、または、ＬＤをプリズム等で合成したマルチビーム等を用いたときの走査線の間隔が、偏向角度によらず略一定に保つことができる。
【０１２２】
請求項１２によれば、光源に複数の発光点を持つＬＤＡ、または、ＬＤをプリズム等で合成したマルチビーム等を用いることで、偏向器の回転数を低減することができるのでコストの削減及び、消費電力を抑えることができる。
【０１２３】
請求項１３によれば、請求項１記載の光走査装置を用いることで、安定した潜像を形成する画像形成装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光走査装置の概略構成図である。
【図２】実施例１の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２を示す説明図である。
【図３】実施例２の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２を示す説明図である。
【図４】実施例３の偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２を示す説明図である。
【図５】実施例４偏向角によるＬ１のパワー変化Ｐ１、Ｌ２のパワー変化Ｐ２を示す説明図である。
【図６】実施例１の像面湾曲及びｆθ特性結果を示す収差図である。
【図７】実施例２の像面湾曲及びｆθ特性結果を示す収差図である。
【図８】実施例３の像面湾曲及びｆθ特性結果を示す収差図である。
【図９】実施例４の像面湾曲及びｆθ特性結果を示す収差図である。
【図１０】Ｌ２第２面の副非円弧面の形状からＺ＾４の項とＺ＾６の項をはずして円弧面にした場合の光軸上（偏向角０）の波面収差図である。
【図１１】実施例４の光軸上（偏向角０）の波面収差図である。
【符号の説明】
１  光源
２  カップリングレンズ
３  シリンドリカルレンズ
４  偏向器
５  感光体（被走査面）
１０  アナモフィック光学素子（Ｌ１）
１０a   偏向器の面
１０ｂ  感光体の面
２０  アナモフィック光学素子（Ｌ２）
２０a   偏向器側の面
２０ｂ  感光体側の面
【図１】
0004834251.tif 000009
【図２】
0004834251.tif 000010
【図３】
0004834251.tif 000011
【図４】
0004834251.tif 000012
【図５】
0004834251.tif 000013
【図６】
0004834251.tif 000014
【図７】
0004834251.tif 000015
【図８】
0004834251.tif 000016
【図９】
0004834251.tif 000017
【図１０】
0004834251.tif 000018
【図１１】
0004834251.tif 000019