(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の種類に渡る特定ガスの漏洩を検知するガス漏洩検知システムであって、
複数の採取位置から個別にガスを採取する採取手段と、
フーリエ変換赤外分光器を含み、採取したガスの成分を分析する分析手段と、
前記採取手段により複数の採取位置から個別に採取されたガスを同時に前記ガス分析手段に供給し、前記分析手段による分析の結果、少なくとも一つの種類の前記特定ガスがガス中に所定量以上含まれている場合には、前記複数の採取位置から採取したガスを個別に前記分析手段に順次供給するように制御する制御手段と、
該分析手段による分析の結果、少なくとも一つの種類の前記特定ガスが採取したガス中に所定量以上含まれている場合には、所定量以上含まれる前記一つの種類の特定ガスが漏洩したと判定する判定手段と
を有することを特徴とするガス漏洩検知システム。
【請求項２】
請求項１に記載のガス漏洩検知システムであって、
前記複数の採取位置には、複数の種類に渡る特定ガスに含まれる有害物質を除去する除害手段の排気口が含まれ、
前記判定手段は、前記分析手段による分析の結果、前記除害手段の排気口からのガス中に前記有害物質が所定量以上含まれている場合には、前記除害手段が破過したと判定することを特徴とするガス漏洩検知システム。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のガス漏洩検知システムであって、
前記フーリエ変換赤外分光器のゼロ校正のため前記フーリエ変換赤外分光器へ窒素ガスを導入する窒素ガス供給手段と、
前記ゼロ校正を所定間隔で行うよう前記窒素ガス供給手段を制御する制御手段と
を更に有することを特徴とするガス漏洩検知システム。
【請求項４】
請求項１に記載のガス漏洩検知システムであって、
前記採取手段は、少なくとも一つの前記採取位置から前記分析手段へ流れるガスの流量を調整する流量調整手段を有することを特徴とするガス漏洩検知システム。
【請求項５】
請求項１に記載のガス漏洩検知システムであって、
前記分析手段による分析の結果、所定の種類の前記特定ガスが採取されたガス中に所定量以上含まれている場合には、前記分析手段から排気される前記所定の種類の特定ガスを希釈する希釈手段を更に有することを特徴とするガス漏洩検知システム。
【請求項６】
複数の種類に渡る特定ガスの漏洩を検知するガス漏洩検知方法であって、
複数の採取位置から個別にガスを採取する工程と、
フーリエ変換赤外分光器を用いて、複数の採取位置で採取されたガスを同時に分析する工程と、
前記同時に分析する工程の結果に基づいて、少なくとも一つの前記特定ガスが採取されたガス中に所定量以上含まれている場合には、前記フーリエ変換赤外分光器を用いて、前記複数の採取位置で採取されたガスを個別に順次分析する工程と、
採取したガスを個別に順次分析する工程の結果、少なくとも一つの種類の前記特定ガスが所定量以上含まれているか否かを判定する工程と、
採取したガスに少なくとも一つの種類の前記特定ガスが所定量以上含まれていると判定された場合には、前記一つの種類の前記特定ガスが漏洩したと判定する工程と
を有することを特徴とするガス漏洩検知方法。
【請求項７】
請求項６に記載のガス漏洩検知方法であって、
前記複数の採取位置には、複数の種類に渡る特定ガスに含まれた有害物質を除去する除害手段の排気口が含まれ、
前記採取したガスを個別に順次分析する工程の結果に基づいて、前記除害手段の排気口からのガスに、少なくとも一つの種類の前記特定ガスが所定量以上含まれているか否かを判定する工程と、
前記除害手段の排気口からのガスに少なくとも一つの種類の前記特定ガスが所定量以上含まれていると判定された場合に、前記除害手段に破過が発生したと判定する工程と
を有することを特徴とするガス漏洩検知方法。
【請求項８】
請求項６又は７に記載のガス漏洩検知方法であって、
前記フーリエ変換赤外分光器のゼロ校正を所定間隔で行う工程と、
前記ゼロ校正の際に前記フーリエ変換赤外分光器へ窒素ガスを供給する工程と
を更に有することを特徴とするガス漏洩検知方法。
【請求項９】
請求項６又は７に記載のガス漏洩検知方法であって、
分析するガスの量を所定の値に調整する工程を更に有することを特徴とするガス漏洩検知方法。
【請求項１０】
請求項６又は７に記載のガス漏洩検知方法であって、
前記分析の結果、所定の種類の前記特定ガスが採取されたガス中に所定量以上含まれている場合には、前記分析後に排気される前記所定の種類の特定ガスを希釈する工程を更に有することを特徴とするガス漏洩検知方法。
【請求項１１】
複数の種類に渡る特定ガスを使用する半導体製造装置であって、
半導体製造装置筐体と、
該半導体製造装置筐体内の採取位置を含む複数の採取位置から個別にガスを採取する採取手段と、
フーリエ変換赤外分光器を含み、採取したガスの成分を分析する分析手段と、
前記複数の採取位置から採取したガスを同時に前記分析手段に供給し、前記分析手段による分析の結果、少なくとも一つの種類の前記特定ガスがガス中に所定量以上含まれている場合には、前記複数の採取位置から採取したガスを個別に前記分析手段に順次供給するように制御する制御手段と、
該分析手段による分析の結果、少なくとも一つの種類の特定ガスが採取したガス中に所定量以上含まれている場合には、所定量以上含まれる前記一つの種類の特定ガスが漏洩したと判定する判定手段と
を有することを特徴とする複数種類に渡る特定ガスの漏洩を検知するガス漏洩検知機能を有する半導体製造装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の半導体製造装置であって、
前記フーリエ変換赤外分光器のゼロ校正のため前記フーリエ変換赤外分光器へ窒素ガスを導入する窒素ガス供給手段と、
前記ゼロ校正を所定間隔で行うよう前記窒素ガス供給手段を制御する制御手段と
を更に有することを特徴とする半導体製造装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の半導体製造装置であって、
前記採取手段は、少なくとも一つの前記採取位置から前記分析手段へ流れるガスの流量を調整する流量調整手段を有することを特徴とする半導体製造装置。
【請求項１４】
請求項１１に記載の半導体製造装置であって、
前記分析手段による分析の結果、所定の種類の前記特定ガスが採取されたガス中に所定量以上含まれている場合には、前記分析手段から排気される前記所定の種類の特定ガスを希釈する希釈手段を更に有することを特徴とする半導体製造装置。
【発明の詳細な説明】
枝術分野
本発明はガス漏洩検知技術に係わり、特に複数種類のガスの漏洩を検知するガス漏洩検知システム、ガス漏洩検知方法及びガス検知システムを有する半導体装置に関する。
背景技術
図１は、従来のガス漏洩検知システムの構成図である。図１に示されるように、従来のガス漏洩検知システムは、ボンベが収納されるシリンダキャビネット（Ｃ／Ｃ）１と、半導体製造装置のプロセスチャンバへ供給するガスの流量等を制御するガスボックス３と、上記半導体製造装置のプロセスチャンバを含む半導体製造装置筐体（Ｍ／Ｃ）５と、真空ポンプを含むポンプボックス７と、除害装置を含む除害ボックス９と、排気配管１０，２４と、シリンダキャビネット筐体排気用ガス漏洩検知器１１と、装置筐体排気用ガス漏洩検知器１３と、ガス採取部１５と、ルーム雰囲気用ガス漏洩検知器１７と、ポンプ筐体排気用ガス漏洩検知器１９と、除害装置筐体排気用ガス漏洩検知器２１と、除害装置破過検知用ガス検知器２３とを備える。
シリンダキャビネット（Ｃ／Ｃ）１は排気配管１０に接続され、シリンダキャビネット筐体排気用ガス漏洩検知器１１がシリンダキャビネット（Ｃ／Ｃ）１と排気配管１０との間に接続される。ガスボックス３のガス接続口は開閉弁２を介してシリンダキャビネット（Ｃ／Ｃ）１に接続される。また、ガスボックス３の排気口は排気配管１０に接続される。半導体製造装置筐体（Ｍ／Ｃ）５は排気配管１０に接続される。装置筐体排気用ガス漏洩検知器１３は、ガスボックス３及び半導体製造装置筐体（Ｍ／Ｃ）５と排気配管１０との間に接続される。
ポンプボックス７の真空ポンプ吸入口は半導体製造装置筐体（Ｍ／Ｃ）５に接続され、排気口は排気配管２４に接続される。ポンプ筐体排気用ガス漏洩検知器１９は、ポンプボックス７と排気配管２４との間に接続される。また、除害ボックス９の真空ポンプ排気接続口はポンプボックス７の真空ポンプに接続される。除害ボックス筐体排気は排気配管２４に接続される。そして、除害装置筐体排気用ガス漏洩検知器２１は、除害ボックス９と排気配管２４との間に接続される。除害ボックス９の除害装置の排気口からはプロセス排気が行われる。除害装置の排気口には除害装置破過検知用ガス検知器２３が接続される。
ガス漏洩検知システムが設置される室内にはガス採取部（サンプルポート）１５が配設され、ルーム雰囲気用ガス漏洩検知器１７はガス採取部１５に接続される。ここで、上記の各ガス漏洩検知器は、それぞれの検知箇所で検知すべきガスの種類に応じた数だけ、該検知箇所に並設される。なお、上記排気配管１０，２４を通じて筐体排気が行われる。
半導体回路の製造過程で可燃性ガスや毒性ガスを消費する半導体製造装置を含む従来のシステムにおいては、一般に、プロセスチャンバを囲む筐体などのガスが漏洩する恐れがある箇所では、強制的に排気すると共に、漏洩する恐れがあるガスの種類に応じたガス漏洩検知警報設備を吸引口に設置する。
また、半導体製造装置システムに設けられた除害装置にもガス漏洩検知警報設備が設置されることが一般的である。すなわち、除害装置には排ガス中の有害物質を除去するための薬剤などが充填されており、破過点を検知するためにもガス漏洩検知警報設備が設置される。破過点とは有害物質を吸収して除去する薬剤が飽和してそれ以上除害ができなくなる点を意味する。
なお、一般的に現在のガス漏洩検知器及び破過検知器においては、分解しづらい安定したガスの検知は難しい。従って、たとえばＰＦＣ系やＮＦ３等のガスにおいては、熱分解した上で検知する２次検知等が行われる。ここで、除害装置内の破過検知器は主としてドライ雰囲気からガスを採取しているため、加水分解等を施した後に検知すべき安定したガス種については、破過検知器で検知しにくい場合があるという問題がある。
なお、加水分解を施した後に検知すべきガスとして、ＷＦ６、ＢＣｌ３、ＳｉＨ２Ｃｌ２等がある。ＷＦ６は加水分解によりＨＦを生成した上で検知し、ＳｉＨ２Ｃｌ２は同様にＨＣｌを生成した上で検知する。
また、上記のようなドライ雰囲気中におけるガス漏洩の検知では、破過検知器に内蔵されるセンサー内部液の液減りが著しく、安定した稼動が難しいという問題もある。
さらには、多種類のガスを使用する従来の半導体製造装置システム全体としては、上記のように検知対象とするガスの種類毎に対応するガス漏洩検知警報設備が必要であるため、管理項目数が多いという問題がある。
また、上記ガス漏洩検知警報設備は、日常点検や六ヶ月に一回の定期校正、警報試験などの点検を必要とするのみならず、半導体回路の製造を行う工場では管理項目数が数百項目に及ぶため、管理に要する工数や管理費用が増大しているという問題がある。
最近では、半導体製造システムにおいて使用するガスの種類が多様化すると共に、新種のガスも開発されている。しかし、対応するガス検知器の開発が追いついておらず、検知対象とするガスに類似する干渉ガスのデータも十分得られていない。従って、従来におけるガス検知器においては、種々の予期せぬトラブルが発生することがあるという問題もある。
なお、ＳｉＨ４検知器やＣＩＦ３検知器などは、一台の検知器で複数のガスを検知することができる。このような検知は代表検知と呼ばれ、一台の検知器で干渉性のあるガス種を検知できるというメリットがある。すなわち、ＳｉＨ４検知器では、ＳｉＨ４やＰＨ３、Ｓｉ２Ｈ６、Ｂ２Ｈ６、ＡｓＨ３等水素化物が検知され、ＣＩＦ３検知器では、ＣＩＦ３やＣＬ２、ＨＣｌ、ＨＦ、ＢＣｌ３等ハロゲン化物及びＯ３が検知される。
しかしながら、上記代表検知においてはガス種を選択的に検知することができず、どの種類のガスが検知されたのかは特定することができない。また、代表検知の対象とされるガスは、大気中に含まれるオキシダントやＮＯＸ等と反応しやすいといった性質を有するため、ガス漏洩の検知において大気からのの干渉を受けやすいという問題もある。また、検知対象とするガスの種類によって許容濃度が異なるにもかかわらず、漏洩していると判断する際の基準設定値は一つしか設定できないため、該設定値を決めるのが難しいという問題がある。
発明の開示
本発明の総括的な目的は、上述の問題を解消した改良された有用なガス漏洩検知システム及びガス漏洩検知方法を提供することである。
本発明のより具体的な目的は、漏洩するガスの種類によらず精度の高い検知をガスの種類毎に行なうことのできるガス漏洩検知システム及びガス漏洩検知方法を提供することである。
上述の目的を達成するために、本発明の一つの面によれば、複数の種類に渡る特定ガスの漏洩を検知するガス漏洩検知システムであって、採取したガスの成分を分析する分析手段と、分析手段による分析の結果、少なくとも一つの種類の特定ガスが採取したガス中に所定量以上含まれている場合には、所定量以上含まれる一つの種類の特定ガスが漏洩したと判定する判定手段とを有することを特徴とするガス漏洩検知システムが提供される。
上述の本発明によれば、分析手段において複数の特定ガスの漏洩を種類別に精度良く検知することができる。
本発明によるガス漏洩検知システムは、複数の種類に渡る特定ガスに含まれる有害物質を除去する除害手段から排気されたガスを採取すると採取手段を有すると共に、判定手段は、除害手段から排気されたガス中に有害物質が所定量以上含まれている場合には、除害手段が異常であると判定することとしてもよい。これにより、除害手段の破過点を精度良く検知することができる。また、分析手段は、フーリエ変換赤外分光器とすることができる。
また、上記ガス漏洩検知システムは、フーリエ変換赤外分光器のゼロ校正のためフーリエ変換赤外分光器へ窒素ガスを導入する窒素ガス供給手段と、ゼロ校正を所定間隔で行うよう窒素ガス供給手段を制御する制御手段とをさらに備えたものとすることとしてもよい。このような手段によれば、フーリエ変換赤外分光器による分析の精度を維持することができる。
本発明によるガス漏洩検知システムは、複数の採取位置から個別にガスを採取する採取手段を有し、採取したガスを分析手段に順次供給することとしてもよい。また、本発明によるガス漏洩検知システムは、複数の採取位置から個別にガスを採取する採取手段を有し、複数の採取位置から採取したガスを同時にガス分析手段に供給し、分析手段による分析の結果、少なくとも一つの種類の特定ガスがガス中に所定量以上含まれている場合には、複数の採取位置から採取したガスを個別に分析手段に順次供給するように制御する制御手段を有することとしてもよい。これにより、特定ガスが漏洩している場所を特定することができる。
また、採取手段は、少なくとも一つの前記採取位置から分析手段へ流れるガスの流量を調整する流量調整手段を有することとしてもよい。これにより、分析手段による分析の精度を高めることができる。また、所定の範囲を外れた流量で分析手段へガスが供給されるとき、警報を発する警報手段をさらに備えたものとすることができる。このような手段によれば、分析手段による分析の精度を維持することができる。
また、分析手段による分析の結果、所定の種類の特定ガスが採取されたガス中に所定量以上含まれている場合には、分析手段から排気される所定の種類の特定ガスを希釈する希釈手段をさらに有することとしてもよい。このような手段によれば、特定ガスの危険性を回避することができる。
また、判定手段は、少なくとも一つの種類の特定ガスが漏洩したと判定したとき、漏洩したと判定した一つの種類の特定ガスの漏洩を示す信号を出力することとしてもよい。これにより、例えばホストコンピュータ等の上位機へ漏洩を示す信号を伝達することができる。
また、判定手段は、除害手段が異常であると判定したとき、除害手段が異常であることを示す信号を出力することとしてもよい。これにより、例えばホストコンピュータ等の上位機へ除害手段の異常を示す信号を伝達することができる。
また、本発明の別の面によれば、複数の種類に渡る特定ガスの漏洩を検知するガス漏洩検知方法であって、採取したガスの成分を分析する分析工程と、採取したガスに少なくとも一つの種類の特定ガスが所定量以上含まれているか否かを判定する工程と、採取したガスに少なくとも一つの種類の特定ガスが所定量以上含まれていると判定された場合には、一つの種類の特定ガスが漏洩したと判定するする工程とを有することを特徴とするガス漏洩検知方法が提供される。
本発明のさらに別の面によれば、漏洩した複数の種類に渡る特定ガスに含まれた有害物質を除去する除害手段の動作状態を監視するためのガス漏洩検知方法であって、除害手段から排気されたガスの成分を分析する分析工程と、記除害手段から排気されたガスに、少なくとも一つの種類の特定ガスが所定量以上含まれているか否かを判定する工程と、除害手段から排気されたガスに少なくとも一つの種類の特定ガスが所定量以上含まれていると判定された場合には、除害手段に異常が発生したと判定する工程とを有することを特徴とするガス漏洩検知方法が提供される。
本発明のガス漏洩検知方法において、ガスに含まれる成分の分析は、フーリエ変換赤外分光器により行うものとすることができる。
また、フーリエ変換赤外分光器のゼロ校正を所定間隔で行うと共に、ゼロ校正の際にフーリエ変換赤外分光器へ窒素ガスを供給することとすることができる。また、複数の採取位置で採取されたガスの成分を、順次分析するようにしてもよい。また、分析の結果、少なくとも一つの種類の特定ガスがガス中に所定量以上含まれている場合には、ガスの採取位置を一箇所ずつ順次選択して、再度分析を行うこととすることができる。ここで、分析の対象とするガスの量を任意に調整することとすることができる。
また、分析の対象とされるガスの流量が所定値を超えたとき、警報を発するようにしてもよく、分析の結果、所定の特定ガスがガス中に所定量以上含まれている場合には、分析後に排気される所定の特定ガスを希釈することとしてもよい。
また、本発明の別の面によれば、上述のガス漏洩検知システムが組み込まれた半導体製造装置が提供される。
本発明の他の目的、特徴及び利点は添付の図面を参照しながら以下の詳細な説明を読むことにより、一層明瞭となるであろう。
発明を実施するための最良の形態
以下に、本発明の実施例について図面を参照しつつ説明する。なお、図中同等の構成部品には同じ符号を付す。
図２は、本発明によるガス漏洩検知システムの全体構成図である。図２に示されるように、本発明によるガス漏洩検知システムは、図１に示された従来のガス漏洩検知システムにおいて、シリンダキャビネット筐体排気用ガス漏洩検知器１１、装置筐体排気用ガス漏洩検知器１３、ルーム雰囲気用ガス漏洩検知器１７、ポンプ筐体排気用ガス漏洩検知器１９、除害装置筐体排気用ガス漏洩検知器２１及び除害装置破過検知用ガス検知器２３が削除され、その代わりにガス漏洩検知装置２５が新たに設けられた点で相違する。
また、以下の点でも相違する。すなわち、ガス採取部（サンプルポート）１５及び窒素供給部２６がガス漏洩検知装置２５に接続される。さらに、サンプルポート１６がシリンダキャビネット１と排気配管１０とを接続する配管に設けられる。また、サンプルポート１８が半導体製造装置筐体５と排気配管１０とを接続する配管に設けられる。また、サンプルポート２０がポンプボックス７と排気配管２４とを接続する配管に設けられる。サンプルポート２２が除害ボックス９と排気配管２４とを接続する配管に設けれられる。サンプルポート２７が除害ボックス９の排気口に設けられる。そして、上記サンプルポート１６，１８，２０，２２，２７はそれぞれテフロンチューブ等の吸引配管によりガス漏洩検知装置２５に接続される。
［第１実施例］
図３は、本発明の第１実施例によるガス漏洩検知システムに設けられるガス漏洩検知装置の構成図である。図３に示されるように、ガス漏洩検知装置２５はフーリエ変換赤外分光計２８と、制御コントローラ３０と、操作・表示モニタ３１と、追加機能部３３と、バルブ切り替え部３５とを備える。バルブ切り替え部３５には測定ポイント３６及び窒素供給部２６が接続される。なお、測定ポイント３６には図２に示されたサンプルポート１５，１６，１８，２０，２２が含まれる。
ここで、フーリエ変換赤外分光計２８には分析部３７と、光路部３８と、ガス導入部（ガスセル）４０と、コントローラ４２とが含まれる。分析部３７にはコントローラ４２が接続される。なお、コントローラ４２には検知対象とするガスのスペクトルが予め記憶され、コントローラ４２においてガスセル４０に導入されたガスのスペクトルは記憶されたスペクトルと比較される。
追加機能部３３にはインタフェース４６，４７が含まれる。インタフェース４６はコントローラ４２に接続される。インタフェース４７はインタフェース４６と制御コントローラ３０との間に接続される。また、制御コントローラ３０は、操作・表示モニタ３１、ホスト監視モニタ３２及びコントローラ４２に接続される。
バルブ切り替え部３５は、電磁弁ユニット４８と、ポンプ５８と、流量計５９〜６５，６９と、圧力調整器６６と、空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ１０と、逆止弁７５〜８１とを有する。電磁弁ユニット４８には、制御コントローラ３０から供給されるバルブ開閉信号に応じて開閉する電磁弁４９〜５７，７０が設けられる。なお、空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ１０は、供給されるバルブ駆動空気の圧力に応じて任意に開閉が可能である。また、逆止弁７５が空気駆動バルブＡＶ１０と排気配管６８との間に接続される。また、逆止弁７６〜８１がそれぞれ空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ６と空気駆動バルブＡＶ８との間に接続される。
ガスセル４０には、ポンプ５８及び空気駆動バルブＡＶ７が接続される。また、ガスセル４０には、流量計６９を介して空気駆動バルブＡＶ８も接続される。空気駆動バルブＡＶ７には流量計５９〜６４が接続される。そして、各流量計５９〜６４には対応する空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ６が一つずつ接続される。
また、ガスセル４０には流量計６５が接続され、流量計６５には空気駆動バルブＡＶ９が接続される。そして、逆止弁７５及び空気駆動バルブＡＶ１０が、ポンプ５８の排気口に接続された排気配管６８に直列に接続される。なお、空気駆動バルブＡＶ９，ＡＶ１０は共に圧力調整器６６に接続される。
一方、電磁弁４９〜５７，７０にはバルブ駆動用空気が供給されると共に、各電磁弁４９〜５７，７０からは対応する空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ１０へバルブ駆動用空気が供給される。なお、逆止弁７５，７６〜８１は、ガスの逆流を防止するために備えられる。
次に、上記のような構成を有する本実施例によるガス漏洩検知システムの動作を、図４に示されたフローチャートを参照しつつ説明する。
本実施例によるガス漏洩検知システムは、初期状態においては制御コントローラ３０により電源がオンされ、全ての空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ１０が閉じられる。また、ポンプ５８はオフとされ、全ての操作を手動により行う手動モードが設定される。
まず、最初にポンプ５８が稼働される。フーリエ変換赤外分光計２８の測定準備が完了したことを示す信号がコントローラ４２から制御コントローラ３０へ供給されると、制御コントローラ３０は、操作・表示モニタ３１から供給された設定信号に基づいて、ガス漏洩検知システムを自動モードに設定するか手動モードに設定するかを判断する。なお、自動モードとは、以下の処理がシーケンス制御により自動的に実行されるモードを意味する。
次に、上記自動モードに設定された時の動作を図４を参照しながら説明する。なお、以下の動作は手動モードでも実行することができる。
図４において、ステップＳ１において、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５０から供給されるバルブ駆動空気の圧力を増大することにより、空気駆動バルブＡＶ９が開かれる。次に、ステップＳ２において、制御コントローラ３０に含まれたタイマーによって３０秒〜１２０秒の間の任意に設定された時間が計時される。この計時の間にゼロ校正のための窒素がガスセル４０へ注入される。
そして、ステップＳ３では、ゼロ点調整開始を命令する信号が制御コントローラ３０から追加機能部３３を介してコントローラ４２へ供給され、フーリエ変換赤外分光計２８においてゼロ点調整が開始される。そして、ステップＳ４において、制御コントローラ３０に設けられたタイマーによって８０秒の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりゼロ点調整が行われる。そして、ステップＳ５では、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５０から供給されるバルブ駆動空気の圧力が減少されることにより、空気駆動バルブＡＶ９が閉じられる。
次に、ステップＳ６では、測定ポイント３６において採取されたガスの分析を開始するよう命令する信号が、制御コントローラ３０から追加機能部３３を介してコントローラ４２へ供給される。これにより、採取されたガスの分析が開始される。そして、ステップＳ７において制御コントローラ３０からバルブ開閉信号が供給された電磁弁５１〜５７により、空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ７が開かれる。これにより、測定ポイント３６において採取されたガスが、空気駆動バルブＡＶ７を介してガスセル４０へ導入される。
ここで、各空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ６に直列接続された少なくとも一つの流量計５９〜６４へ、予め設定された設定値の範囲を外れた流量でガスが流れた場合には、流量異常信号が制御コントローラ３０に供給される。制御コントローラ３０は操作・表示モニタ３１を通じて警報を発し、ガスサンプリングにおける異常を操作者に通知する。
また、本実施例によるシステムは、サンプリングポイント数を任意の数に設定することができる。すなわち、制御コントローラ３０は、空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ６に開閉信号を供給することによって、空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ６を開閉すると共に、該開閉したバルブ数に応じて各測定ガスの検知濃度が最適になるように自動的に検出濃度を換算する。
ステップＳ８では、制御コントローラ３０に含まれたタイマーによって時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれたガスの成分分析が行われる。スペクトル分析の結果として検出された特定のガスの濃度は、制御コントローラ３０へ供給される。
そして、ステップＳ９において、制御コントローラ３０に予め記憶されたスペクトルとフーリエ変換赤外分光計２８による分析で得られたスペクトルとを比較することにより、特定のガスの漏洩が発生したか否かが判定される。すなわち、検出された特定のガスの濃度が予め設定された所定値より高い場合は、該特定のガスが漏洩したと判断し、そうでない場合はガスの漏洩は発生していないと判断する。漏洩の判定は連続で行なってもよく、任意に設定された間隔で行なってもよい。
ステップＳ９において、特定のガスが漏洩したと判断された場合は、処理はステップＳ１０へ進む。一方、ガスの漏洩は発生していないと判断された場合は、処理はステップＳ４１へ進む。
ステップＳ４１において、制御コントローラ３０により６時間が経過したか否か判断される。６時間が経過したと判断された場合にはステップＳ４０を経てステップＳ１へ進む。経過していないと判断された場合にはステップＳ８へ戻る。ステップＳ４０では、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５１〜５７から供給されるバルブ駆動空気の圧力を減少することにより、空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ７が閉じられる。
一方、ステップＳ１０においても、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５１〜５７から供給されるバルブ駆動空気の圧力が下げられ、空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ７が閉じられる。そして、ステップＳ１１では、制御コントローラ３０からバルブ開閉信号が供給された電磁弁７０により空気駆動バルブＡＶ８が開かれる。同様に制御コントローラ３０からバルブ開閉信号が供給された電磁弁４９により空気駆動バルブＡＶ１０が開かれる。上記のように空気駆動バルブＡＶ１０が開かれることにより、排気を希釈するための窒素が排気配管６８へ供給される。これにより、毒性を有するガスが漏洩した場合であっても、漏洩したガスが希釈され、安全性が確保される。
そして、ステップＳ１２において、制御コントローラ３０からバルブ開閉信号が供給された電磁弁５１により、空気駆動バルブＡＶ１だけが開かれる。これにより、空気駆動バルブＡＶ１に接続されたサンプルポートにおいて採取されたガスだけが、空気駆動バルブＡＶ８を介してガスセル４０へ導入される。ステップＳ１３では、制御コントローラ３０により６０秒の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれたガスの成分分析が行われる。
ここで、制御コントローラ３０は、ステップＳ１３におけるスペクトル分析の結果において特定のガスの濃度が予め設定された所定値より高いと判断した場合には、該特定のガスが空気駆動バルブＡＶ１に接続されたサンプルポートから漏洩していることを示す信号を操作・表示モニタ３１へ供給する。これにより、操作・表示モニタ３１上には、漏洩したガスの種類と漏洩した箇所が表示される。この際、操作・表示モニタ３１にブザー等を付設することにより、上記信号に応じて該ブザー等を鳴らし警報を発するようにすることもできる。なお、このような警報は、ガスの漏洩が検知された全ての場合に同様に適用できる。
次に、ステップＳ１４では、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５０から供給されるバルブ駆動空気の圧力が下げられ空気駆動バルブＡＶ１が閉じられると共に、ポンプ５８によりガスセル４０内のガスが排気される。
以下同様に、ステップＳ１５では制御コントローラ３０からバルブ開閉信号が供給された電磁弁５２により、空気駆動バルブＡＶ２だけが開かれる。これにより、空気駆動バルブＡＶ２に接続されたサンプルポートにおいて採取されたガスだけが、空気駆動バルブＡＶ８を介してガスセル４０へ導入される。ステップＳ１６では、制御コントローラ３０により６０秒の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれた上記ガスの成分分析が行われる。
制御コントローラ３０は、ステップＳ１６における分析の結果において特定のガスの濃度が予め設定された所定値より高いと判断した場合には、該特定のガスが空気駆動バルブＡＶ２に接続されたサンプルポートから漏洩していることを示す信号を操作・表示モニタ３１へ供給する。これにより、操作・表示モニタ３１上には、漏洩したガスの種類と漏洩した該箇所が表示される。次に、ステップＳ１７では、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５２から供給されるバルブ駆動空気の圧が下げられ空気駆動バルブＡＶ２が閉じられると共に、ポンプ５８によりガスセル４０内のガスが排気される。
ステップＳ１８では制御コントローラ３０からバルブ開閉信号が供給された電磁弁５３により、空気駆動バルブＡＶ３だけが開かれる。これにより、空気駆動バルブＡＶ３に接続されたサンプルポートにおいて採取されたガスだけが、空気駆動バルブＡＶ８を介してガスセル４０へ導入される。ステップＳ１９では、制御コントローラ３０により６０秒の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれた上記ガスの成分分析が行われる。
制御コントローラ３０は、ステップＳ１９におけるスペクトル分析の結果において特定のガスの濃度が予め設定された所定値より高いと判断した場合には、該特定のガスが空気駆動バルブＡＶ３に接続されたサンプルポートから漏洩していることを示す信号を操作・表示モニタ３１へ供給する。これにより、操作・表示モニタ３１上には、漏洩したガスの種類と漏洩した該箇所が表示される。次に、ステップＳ２０では、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５２から供給されるバルブ駆動空気の圧が下げられ空気駆動バルブＡＶ３が閉じられると共に、ポンプ５８によりガスセル４０内のガスが排気される。
ステップＳ２１では制御コントローラ３０からバルブ開閉信号が供給された電磁弁５４により、空気駆動バルブＡＶ４だけが開かれる。これにより、空気駆動バルブＡＶ４に接続されたサンプルポートにおいて採取されたガスだけが、空気駆動バルブＡＶ８を介してガスセル４０へ導入される。ステップＳ２２では、制御コントローラ３０により６０秒の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれた上記ガスの成分分析が行われる。
制御コントローラ３０は、ステップＳ２２におけるスペクトル分析の結果において特定のガスの濃度が予め設定された所定値より高いと判断した場合には、該特定のガスが空気駆動バルブＡＶ４に接続されたサンプルポートから漏洩していることを示す信号を操作・表示モニタ３１へ供給する。これにより、操作・表示モニタ３１上には、漏洩したガスの種類と漏洩した該箇所が表示される。次に、ステップＳ２３では、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５４から供給されるバルブ駆動空気の圧が下げられ空気駆動バルブＡＶ４が閉じられると共に、ポンプ５８によりガスセル４０内のガスが排気される。
ステップＳ２４では制御コントローラ３０からバルブ開閉信号が供給された電磁弁５５により、空気駆動バルブＡＶ５だけが開かれる。これにより、空気駆動バルブＡＶ５に接続されたサンプルポートにおいて採取されたガスだけが、空気駆動バルブＡＶ８を介してガスセル４０へ導入される。ステップＳ２５では、制御コントローラ３０により６０秒の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれた上記ガスの成分分析が行われる。
制御コントローラ３０は、ステップＳ２５におけるスペクトル分析の結果において、特定のガスの濃度が予め設定された所定値より高いと判断した場合には、該特定のガスが空気駆動バルブＡＶ５に接続されたサンプルポートから漏洩していることを示す信号を操作・表示モニタ３１へ供給する。これにより、操作・表示モニタ３１上には、漏洩したガスの種類と漏洩した該箇所が表示される。次に、ステップＳ２６では、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５５から供給されるバルブ駆動空気の圧が下げられ空気駆動バルブＡＶ５が閉じられると共に、ポンプ５８によりガスセル４０内のガスが排気される。
ステップＳ２７では制御コントローラ３０からバルブ開閉信号が供給された電磁弁５６により、空気駆動バルブＡＶ６だけが開かれる。これにより、空気駆動バルブＡＶ６に接続されたサンプルポートにおいて採取されたガスだけが、空気駆動バルブＡＶ８を介してガスセル４０へ導入される。ステップＳ２８では、制御コントローラ３０により６０秒の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれた上記ガスの成分分析が行われる。
制御コントローラ３０は、ステップＳ２８におけるスペクトル分析の結果、特定のガスの濃度が予め設定された所定値より高いと判断した場合には、該特定のガスが空気駆動バルブＡＶ６に接続されたサンプルポートから漏洩していることを示す信号を操作・表示モニタ３１へ供給する。これにより、操作・表示モニタ３１上には、漏洩したガスの種類と漏洩した該箇所が表示される。次に、ステップＳ２９では、制御コントローラ３０により制御された電磁弁５６から供給されるバルブ駆動空気の圧が下げられ空気駆動バルブＡＶ６が閉じられると共に、ポンプ５８によりガスセル４０内のガスが排気される。
そして、ガス漏洩が波及する等の経時変化の有無を調べるために、処理はステップＳ１２に戻り、ステップＳ１２からステップＳ２９が繰り返される。
一方、ステップＳ３０においては、ガスの漏洩が発生している異常な状態が回復されて正常状態に戻ったか否かが判断される。回復していないと判断された場合には処理はステップＳ３１へ進めない。ステップＳ３０において異常が回復されたと判断された場合には、処理はステップＳ３１へ進む。ここで、ステップＳ３０における判断は、スペクトル分析の結果得られたガスの濃度が上記所定値より低下しているか否かにより行なわれる。すなわち、漏洩していると判断されたガスの濃度が所定値より低下している場合には異常が回復されたと判断される。  ステップＳ３１では、操作者がリセット動作を行うことにより、ガス漏洩検知システムは測定待機状態に入る。すなわち、制御コントローラ３０は、ガス漏洩検知システムを全ての操作が手動で行われる手動モードに切り替え、全ての空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ１０を閉じる。また、このとき、ポンプ５８によりガスセル４０に含まれたガスが排気される。
なお、ステップＳ７においては、全ての流量計５９〜６４が等量のガスが流れるよう設定され、空気駆動バルブＡＶ７を介して測定ポイント３６に含まれた複数のサンプルポートで採取されたガスが同時にガスセル４０へ導入される。このため、常時精度の高いガス漏洩の検知及び警報が可能である。なお、データ処理の方法によっては、流量計５９〜６４を流れるガスの流量が均一でない場合には、流量の偏りに起因して濃度測定値の精度が低下することがある。
そして、複数のサンプルポートから採取されたガスを同時にガスセル４０へ導入している場合において、上記のようにガス漏洩が検知され警報が発せられた後には、空気駆動バルブＡＶ１〜ＡＶ８を切り換えることにより、個別のサンプルポートにおいて採取されたガスを自動的に順次ガスセル４０へ導入する。したがって、どこの箇所から所定のガスが漏洩しているかを特定することができる。
［第２実施例］
図５は、本発明の第２実施例によるガス漏洩検知システムに設けられるガス漏洩検知装置の構成図である。図５に示されるガス漏洩検知装置は、図３に示された第１実施例によるガス漏洩検知装置と同様な構成を有するが、バルブ切り替え部８５の構成が相違するものである。
バルブ切り替え部８５は空気駆動バルブＡＶ１１〜ＡＶ１９と、圧力調整器７１と、流量計（ＦＭ）７３と、逆止弁７５とを有する。流量計７３はガス導入部（ガスセル）４０に接続され、空気駆動バルブＡＶ１１〜ＡＶ１８はそれぞれ流量計７３に接続される。空気駆動バルブＡＶ１９は逆止弁７５を介して排気配管６８に接続される。また、空気駆動バルブＡＶ１８，ＡＶ１９の入力端は共に圧力調整器７１に接続される。そして、空気駆動バルブＡＶ１７の入力ポートは、除害ボックス９のプロセス排気口に取り付けられたサンプルポート２７に接続される。
次に、本実施例によるガス漏洩検知装置の動作を、図６を参照しつつ説明する。なお、以下に説明する動作は、自動モードに設定された時の動作であるが、かかる動作は手動モードでも実行できる。
まず、ステップＳ１では、制御コントローラ８０によりバルブ駆動空気の圧力が高められ、空気駆動バルブＡＶ１８が開かれる。次に、ステップＳ２において制御コントローラ８０により任意に設定された時間が計時される。この計時の間にゼロ校正のための窒素がガスセル４０へ注入される。
そして、ステップＳ３では、ゼロ点調整開始を命令する信号が制御コントローラ８０から追加機能部３３を介してコントローラ４２へ供給され、フーリエ変換赤外分光計２８においてゼロ点調整が開始される。そして、ステップＳ４において制御コントローラ８０により所定の時間が計時され、その間フーリエ変換赤外分光計２８によりゼロ点調整が行われる。そして、ステップＳ５では、制御コントローラ８０によりバルブ駆動空気の圧力が下げられ、空気駆動バルブＡＶ１８が閉じられる。
次に、ステップＳ６では、測定ポイント３６において採取されるガスの分析を開始するよう命令する信号が、制御コントローラ８０から追加機能部３３を介してコントローラ４２へ供給され、これによりガスの分析が開始される。そして、ステップＳ７において制御コントローラ８０により、空気駆動バルブＡＶ１１だけが開かれる。これにより測定ポイント３６において採取されたガスが、空気駆動バルブＡＶ１１を介してガスセル４０へ導入される。
ここで、予め設定された設定値の範囲を外れた流量でガスが流量計７３へ流れた場合には、流量計から供給される流量異常信号に基づいて、制御コントローラ８０は、操作・表示モニタ３１を通じて警報を発し、ガスサンプリングにおける異常を通知する。
次に、ステップＳ８では、制御コントローラ８０により所定の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれたガスの成分分析が行われる。そして、ステップＳ８ａにおいて、予め制御コントローラ８０へスペクトルが記憶された特定のガスの漏洩が発生したか否かにつき、上記特定のガスの検出濃度を参照することにより、連続又は任意に設定された間隔で判断される。
上記特定のガスの漏洩が発生したと判断された場合には、処理はステップＳ２９へ進み、漏洩が発生していないと判断された場合にはステップＳ９へ進む。なお、ステップＳ２９では、スペクトル分析の結果得られたガスの濃度が所定値より低下しているか否かにより、異常が回復したかどうか判断される。異常が回復したと判断された場合には、処理はステップＳ３０へ進む。
ステップＳ３０において操作者がリセット動作を行うことにより、ガス漏洩検知システムは測定待機状態に入る。すなわち制御コントローラ８０は、ガス漏洩検知システムを全ての操作が手動で行われる手動モードに切り替え、全ての空気駆動バルブＡＶ１１〜ＡＶ１９を閉じる。また、このときポンプ５８によりガスセル４０に含まれたガスが排気される。
一方、処理がステップＳ９に進んだ場合は、制御コントローラ８０によりバルブ駆動空気の圧が下げられ、空気駆動バルブＡＶ１１が閉じられる。そして、ステップＳ１０からステップＳ２４までは、空気駆動バルブＡＶ１２〜ＡＶ１６に関して、ステップＳ７からステップＳ９までの動作が順次繰り返される。そして、ステップＳ２５において、制御コントローラ８０により、空気駆動バルブＡＶ１７だけが開かれる。これにより、サンプルポート２７において採取されたガスが、空気駆動バルブＡＶ１７及び流量計７３を介してガスセル４０へ導入される。
ここで、予め設定された設定値の範囲を外れた流量で、流量計７３へガスが流れた場合には、流量計から供給される流量異常信号に基づいて、制御コントローラ８０は操作・表示モニタ３１を通じて警報を発し、ガスサンプリングにおける異常を通知する。
次に、ステップＳ２６では、制御コントローラ８０により所定の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれたガスの成分分析が行われる。そして、ステップＳ２６ａにおいては、上記特定ガスの検出濃度を参照することにより、連続又は任意に設定された間隔で、除害装置において破過が生じたか否かが判断される。
破過が生じたと判断された場合には処理はステップＳ２６ｂへ進み、除害破過が生じたことが操作・表示モニタ３１に表示警報され、処理はステップＳ２７へ進む。一方、ステップＳ２６ａにおいて除害破過が生じていないと判断された場合には処理はステップＳ２７へ進む。ステップＳ２７では、制御コントローラ８０によりバルブ駆動空気の圧力が下げられ、空気駆動バルブＡＶ１７が閉じられる。
そして、ステップＳ２８では、制御コントローラ８０により予め設定された時間が経過したか否か判断される。予め設定された時間が経過していると判断された場合には、処理はステップＳ１へ戻る。予め設定された時間が経過していないと判断された場合には、処理はステップＳ７へ戻る。
なお、上記スペクトル分析の結果、特定ガスの濃度が予め設定された所定値より高いと判断された場合には、制御コントローラ８０は特定ガスが採取されたサンプルポートを特定する信号を操作・表示モニタ３１へ供給する。これにより、操作・表示モニタ３１上には、漏洩したガスの種類と漏洩した箇所が表示される。このとき、操作・表示モニタ３１にブザー等を付設することにより、上記信号に応じて該ブザー等を鳴らし警報を発するようにすることもできる。なお、このような警報は、ガスの漏洩が検知される全ての場合に同様に適用できる。
上述のように、本実施例によるガス漏洩検知システムによれば、測定ポイント３６及び除害ボックス９の排気口で採取されるガスを順次フーリエ変換赤外分光計２８へ導入することにより特定ガスの漏洩を検知するため、簡易な構成により漏洩したガスの種類と漏洩箇所を迅速に特定することができる。
ここで、空気駆動バルブＡＶ１７に接続されたサンプルポート２７は、薬剤等が充填された排ガス除害装置の排気口に接続された排気配管に備えられるため、薬剤の飽和を検知することができる。排ガス除害装置において薬剤が飽和する破過点においては、除害ができなくなるという問題が生じるため、上記のような方法により破過点を検知することは有用である。ただし、除害装置における破過点の検知や警報は、ガス漏洩の検知や警報とは区別可能な態様でなされる。
［第３実施例］
図７は、本発明の第３実施例によるガス漏洩検知システムに設けられたれガス漏洩検知装置の構成図である。図７に示されるガス漏洩検知装置は、図３に示された第１実施例によるガス漏洩検知装置と同様な構成を有するが、バルブ切り替え部１０５の構成が相違するものである。
バルブ切り替え部１０５は、流量計８３と空気駆動バルブＡＶ２０とを有する。空気駆動バルブＡＶ２０の入力端は、図２に示された除害ボックス９のプロセス排気口に取り付けられたサンプルポート２７に接続され、出力端は流量計８３を介してガスセル４０に接続される。
以上のような構成を有した本実施例によるガス漏洩検知装置の動作を、図８を参照しつつ説明する。なお、以下に説明する動作は自動モードに設定された時の動作であるが、かかる動作は手動モードでも実行できる。
本実施例によるガス漏洩検知装置は、ステップＳ１からステップＳ３１までとステップＳ４０，Ｓ４４の処理が、上述の第１実施例によるガス漏洩検知装置と同様の処理であり、ステップＳ４１からステップＳ４３までの処理が相違する。以下においては相違点について説明する。
ステップＳ４１では、制御コントローラ１００により、空気駆動バルブＡＶ２０が開かれる。これにより、空気駆動バルブＡＶ２０に接続されたサンプルポート２７において除害ボックス９の排気から採取されたガスが、ガスセル４０へ導入される。ステップＳ４２では、制御コントローラ１００に内蔵されたタイマーにより所定の時間が計時される。その計時の間にフーリエ変換赤外分光計２８によりガスセル４０へ導かれたガスの成分分析が行われる。
そして、ステップＳ４２ａにおいて、制御コントローラ１００は、ステップＳ４２におけるスペクトル分析の結果、特定のガスの濃度が予め設定された所定値より高い場合は、除害破過が生じたと判断する。除外破過が生じたと判断した場合には、処理はステップＳ４２ｂへ進み、制御コントローラ１００は除害破過が生じたことを示す信号を操作・表示モニタ３１へ供給する。これにより、操作・表示モニタ３１上には、除害破過の発生及び破過を起こしたガスの種類が表示される。この際、操作・表示モニタ３１にブザー等を付設することにより、除害ボックス９が異常であるとして該ブザー等を鳴らし、警報を発するようにすることもできる。一方、ステップＳ４２ａにおいて除害破過が生じていないと判断された場合には、処理はステップＳ４３へ進む。
ステップＳ４３では、制御コントローラ１００によりバルブ駆動空気の圧力が下げられ、空気駆動バルブＡＶ２０が閉じられると共に、ポンプ５８によりガスセル４０内のガスが排気されて、処理はステップＳ４４へ進む。
以上のように、本実施例によるガス漏洩検知装置によれば、上記第１実施例によるガス漏洩検知装置と同様な効果を奏すると共に、薬剤等が充填された除害ボックス９における薬剤等の飽和を精度よく検知することができる。
本実施例によるガス漏洩検知システムによれば、多種類のガスの漏洩を種類別に同時に検知することができる。また、多くの箇所におけるガスの漏洩を、フーリエ変換赤外分光計２８一台による吸引測定方法によって検知することができ、漏洩が想定される箇所毎にガス検知器を配設する必要がなくなるため、ガス漏洩検知システムの管理項目を大幅に削減することができる。
また、新たなガスを検知対象とする場合には、フーリエ変換赤外分光計２８へそのガスのスペクトルを予め記憶させるだけでよいため、ガス漏洩検知システムの設定を簡易に行うことができる。さらに、フーリエ変換赤外分光計２８によるスペクトル分析においては、検知対象とするガスとその他のガスとの干渉は生じにくいため、ガスの漏洩を誤検知する等といったトラブルの発生を回避することができる。
上述の各実施例では、ガス漏洩検知装置２５は、半導体製造装置からのガス漏洩を検知する他に、半導体製造装置筐体（Ｍ／Ｃ）５の周囲に配置される装置からのガス漏洩を検知する構成である。したがって、上述の各実施例においては、漏洩検知装置２５を半導体製造装置筐体（Ｍ／Ｃ）５とは別の位置に配置している。しかし、本発明によるガス漏洩検知装置２５を半導体製造装置の一部として半導体製造装置筐体（Ｍ／Ｃ）５の内部に組み込むこととしてもよい。あるいは、半導体製造装置筐体（Ｍ／Ｃ）５に取り付けられることとしてもよい。この場合、ガス漏洩検知装置２５は、半導体製造装置筐体（Ｍ／Ｃ）５内のガス漏洩のみを検知することとしてもよく、あるいは、他の周辺装置からのガス漏洩も検知する構成としてもよい。
上述の実施例のように、採取したガスの成分を分析した結果、少なくとも一つの特定ガスがガス中に所定量以上含まれている場合に、該特定ガスの漏洩を検知することとすれば、複数の特定ガスの漏洩を種類別に精度良く検知することができる。このため、システムの規模を縮小しながら高精度なガス漏洩検知システムを実現することができる。
また、除害手段から排気されたガス中に有害物質が所定量以上含まれている場合に、除害手段が異常であると判定することにより、除害手段の破過点を精度良く検知することができる。これにより、除害手段の信頼性を高めることができる。また、フーリエ変換赤外分光器によりガスの成分を分析することにより、精度の良い分析を行うことができ、ガス漏洩検知システムの信頼性を確保することができる。
また、フーリエ変換赤外分光器のゼロ校正のためフーリエ変換赤外分光器へ窒素ガスを導入し、ゼロ校正を所定間隔で行うことにより、フーリエ変換赤外分光器による分析の精度を維持できる。これにより、ガス漏洩検知システムの動作の信頼性をさらに高めることができる。
また、分析の結果、少なくとも一つの特定ガスがガス中に所定量以上含まれている場合には、一つのガス採取手段から供給されるガスを順次分析することにより、特定ガスが漏洩している場所を特定することができる。これにより、ガスの漏洩状態を迅速に把握することができる。
また、ガス採取手段から分析手段へ流れるガスの流量を調整する流量調整手段を設けることにより、分析手段による分析の精度を高めることができる。これにより、ガス漏洩検知システムの精度をさらに向上させることができる。また、所定の範囲を外れた流量で分析手段へガスが供給されるとき、警報を発することとすれば、分析手段による分析の精度を維持することができるため、ガス漏洩検知システムの動作の信頼性を高めることができる。
また、分析の結果、所定の特定ガスがガス中に所定量以上含まれている場合には、排気される所定の特定ガスを希釈すれば、特定ガスの漏洩による危険性を回避することができる。これにより、安全性に配慮したガス漏洩検知システムを得ることができる。また、所定量以上含まれる特定ガスの漏洩を示す信号を出力することとすれば、例えば、ホストコンピュータ等の上位機へ特定ガスの漏洩を示す信号を伝達することができるため、ガス漏洩に関する対策の自由度を高めることができる。
また、除害手段が異常であることを示す信号を出力することとすれば、例えばホストコンピュータ等の上位機へ除害手段の異常を示す信号を伝達することができるため、除害手段の異常に関する対策の自由度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
図１は従来のガス漏洩検知システムの構成図である。
図２は本発明によるガス漏洩検知システムの全体構成図である。
図３は本発明の第１実施例によるガス漏洩検知システムに設けられるガス漏洩検知装置の構成図である。
図４は本発明の第１実施例によるガス漏洩検知システムの動作を示すフローチャートである。
図５は本発明の第２実施例によるガス漏洩検知システムに設けられるガス漏洩検知装置の構成図である。
図６は本発明の第２実施例によるガス漏洩検知システムの動作を示すフローチャートである。
図７は本発明の第３実施例によるガス漏洩検知システムに設けられるガス漏洩検知装置の構成図である。
図８は本発明の第３実施例によるガス漏洩検知システムの動作を示すフローチャートである。
【図１】
0004804692.tif 000002
【図２】
0004804692.tif 000003
【図３】
0004804692.tif 000004
【図４】
0004804692.tif 000005
【図５】
0004804692.tif 000006
【図６】
0004804692.tif 000007
【図７】
0004804692.tif 000008
【図８】
0004804692.tif 000009