(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子銃から発生した電子ビームを、電子光学系を介して試料に照射する電子ビーム装置において、真空にされた電子ビーム装置の電子光学系外側に近接する大気中に配置され、大気圧や低周波音を含む圧力に比例した信号を発生する圧力検出器と、該圧力検出器によって検出された圧力変動信号の内、前記電子ビーム装置内の真空にされた容器の対向する面において圧力変動による変形の位相ずれが１５°になるような周波数を上限として、これ以上の周波数を除去するローパスフィルタとを設け、前記圧力検出器からの検出信号を前記ローパスフィルタに送り、該ローパスフィルタからの信号に基づいて、前記電子光学系に含まれる電子ビームの偏向器に供給する偏向信号を変化させ、該外側圧力の変動に伴う電子ビームの照射位置変動を補正するように構成した電子ビーム装置。
【請求項２】
電子ビーム装置は、電子ビームを偏向させ試料上の所望の照射位置に移動させるためのＸ方向偏向器とＹ方向偏向器を有しており、圧力検出器によって検出された外側圧力に対応した信号に基づきあらかじめ定めた割合を持つＸ方向補正信号とＹ方向補正信号を作成し、それぞれの補正信号を前記電子ビームを偏向するためのＸ方向偏向器とＹ方向偏向器に供給される偏向信号に加算するように構成した請求項１記載の電子ビーム装置。
【請求項３】
電子ビーム装置は、電子ビームを偏向させ試料上の所望の照射位置に移動させるためのＸ方向偏向器とＹ方向偏向器を有しており、圧力検出器によって検出された外側圧力に対応した信号に基づきあらかじめ定めた割合を持つＸ方向補正信号とＹ方向補正信号を作成し、それぞれの補正信号を前記電子ビームを偏向するためのＸ方向偏向器とＹ方向偏向器以外に設けられた、補正用Ｘ方向偏向器と補正用Ｙ方向偏向器に供給するように構成した請求項１記載の電子ビーム装置。
【請求項４】
電子ビーム装置の外側圧力の変動による電子ビームの照射位置の変動量δをあらかじめ測定し、変動量δのＸ方向成分δｘとY方向成分δｙを求め、外側圧力に対応した信号を増幅する第１の増幅器によって増幅し、増幅された信号をＸ方向の補正信号とし、第１の増幅器によって増幅された信号を、ゲインがδｙ／δｘの第２の増幅器に供給し、第２の増幅器の出力信号をＹ方向の補正信号とした請求項２記載の電子ビーム装置。
【請求項５】
電子ビーム装置の外側圧力の変動による電子ビームの照射位置の変動量δをあらかじめ測定し、変動量δのＸ方向成分δｘとＹ方向成分δｙを求め、外側圧力に対応した信号を第１と第２の増幅器に供給し、ゲインＫ１の第１の増幅器によって増幅された信号をＸ方向の補正信号とし、ゲインＫ２[＝Ｋ１・（δｘ／δｙ）]の第２の増幅器に供給し、第２の増幅器の出力信号をＹ方向の補正信号とした請求項２記載の電子ビーム装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ビーム描画装置や走査電子顕微鏡などの電子ビーム装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の電子ビーム描画装置や走査電子顕微鏡などの電子ビーム装置を図１に示す。図１において、試料チャンバ１と鏡筒２とからなる電子ビーム装置本体は、内部が真空雰囲気にされている。鏡筒２の上部には、電子源３が設けられ、電子源３から発生し加速された電子ビーム４は、図示していないコンデンサレンズと鏡筒下部に配置された対物レンズ５によって、試料チャンバ１内に導入されている試料６上に細く集束される。
【０００３】
図１の電子ビーム装置が走査電子顕微鏡の場合、試料６上の電子ビーム４の照射位置７は、偏向コイル８による偏向により移動し、試料６上の任意の領域が電子ビーム４によって走査されることになる。この電子ビーム４によって試料上を走査することに伴って、試料６から発生した２次電子や反射電子は、図示していない検出器によって検出される。その検出信号は、電子ビーム４の走査に同期した陰極線管などのディスプレイに供給される。その結果ディスプレイ画面には試料の所望領域の走査像が表示されることとになる。
【０００４】
図１の電子ビーム装置が電子ビーム描画装置の場合、電子ビーム４の照射位置７を偏向コイル８によって制御することにより、試料上に任意のパターンを描画することができる。なお、試料６は、試料ステージ９上に取り付けられ、図示していない移動機構により、少なくともＸ、Ｙの２方向に移動できるように構成されている。
【０００５】
上記した鏡筒２や試料チャンバ１内部は、電子ビーム４が大気中では直ぐに減衰するため、電子ビームの軌道内の全ては真空状態に保たれており、鏡筒２や試料チャンバ１は、常に外側から内側に大気圧によって押されている状態にある。この大気圧と電子ビーム装置との関係については、大気圧変動に起因した悪影響を除去する例が知られている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−３４２９５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
先に説明したように、鏡筒２や試料チャンバ１は、常に外側から内側に大気圧によって押されている状態にあり、例えば、周囲の大気圧が増加した場合には、図２の２点鎖線の変形線Ｃで示すように、試料チャンバ１はより大きく内側に変形させられることになる。なお、図２の２点鎖線の変形線Ｃで示した変形量は、発明の理解を容易にするために誇張して描かれており、実際にマクロ的に見ると、何らの変形も確認できない微量なものである。
【０００７】
上記した変形線Ｃのように試料チャンバ１の上面が変形することに伴い、鏡筒２がある角度傾く。また、試料ステージ９の取り付けられている試料チャンバ１の側面が変形することにより、試料６の位置が移動する。このような鏡筒２の傾斜や、試料６の位置の移動により、結果として、電子ビーム７の試料６上の照射位置が変化してしまう。このような現象は、大気圧が減少する場合にも同様に発生する。
【０００８】
また、走査電子顕微鏡の装置サイズに対して、波長が十分長いと見なされる低周波音が、装置設置環境内に十分に大きなレベルで存在している場合にも、同じ現象が生じる。上記した鏡筒２の傾斜や試料６の位置変動による電子ビームの照射位置の変動は、走査電子顕微鏡においては像ノイズとして観察される。また、電子ビーム描画装置でこのような電子ビームの試料上の照射位置変動は、パターンの描画精度の悪化につながる。
【０００９】
本発明は上記課題に鑑みてなされたもので、大気圧の変動、低周波音による影響を除去した走査電子顕微鏡や電子ビーム描画装置等の電子ビーム装置を実現する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１の発明に基づく電子ビーム装置は、電子銃から発生した電子ビームを、電子光学系を介して試料に照射する電子ビーム装置において、真空にされた電子ビーム装置の電子光学系外側に近接する大気中に配置され、大気圧や低周波音を含む圧力に比例した信号を発生する圧力検出器と、該圧力検出器によって検出された圧力変動信号の内、前記電子ビーム装置内の真空にされた容器の代表長さに基づいて設定された周波数より高い周波数の信号を除去するローパスフィルタとを設け、前記圧力検出器からの検出信号を前記ローパスフィルタに送り、該ローパスフィルタからの信号に基づいて、前記電子光学系に含まれる電子ビームの偏向器に供給する偏向信号を変化させ、該外側圧力の変動に伴う電子ビームの照射位置変動を補正するように構成したことを特徴としている。
【００１１】
請求項２の発明に基づく電子ビーム装置は、電子ビーム装置は、電子ビームを偏向させ試料上の所望の照射位置に移動させるためのＸ方向偏器とＹ方向偏向器を有しており、圧力検出器によって検出された外側圧力に対応した信号に基づきあらかじめ定めた割合を持つＸ方向補正信号とＹ方向補正信号を作成し、それぞれの補正信号を前記電子ビームを偏向するためのＸ方向偏向器とＹ方向偏向器以外に設けられた、補正用Ｘ方向偏向器とＹ方向偏向器に供給するように構成したことを特徴としている。
【００１２】
請求項３の発明に基づく電子ビーム装置は、電子ビーム装置は、電子ビームを偏向させ試料上の所望の照射位置に移動させるためのＸ方向偏器とＹ方向偏向器を有しており、圧力検出器によって検出された外側圧力に対応した信号に基づきあらかじめ定めた割合を持つＸ方向補正信号とＹ方向補正信号を作成し、それぞれの補正信号を前記電子ビームを偏向するためのＸ方向偏向器とＹ方向偏向器以外に設けられた、補正用Ｘ方向偏向器とＹ方向偏向器に供給するように構成したことを特徴としている。
【００１３】
請求項４の発明に基づく電子ビーム装置は、電子ビーム装置の外側圧力の変動による電子ビームの照射位置の変動量δをあらかじめ測定し、変動量δのＸ方向成分δｘとＹ方向成分δｙを求め、外側圧力に対応した信号を増幅する第１の増幅器によって増幅し、増幅された信号をＸ方向の補正信号とし、第１の増幅器によって増幅された信号を、ゲインがδｙ／δｘの第２の増幅器に供給し、第２の増幅器の出力信号をＹ方向の補正信号としたことを特徴としている。
【００１４】
請求項５の発明に基づく電子ビーム装置は、電子ビーム装置の外側圧力の変動による電子ビームの照射位置の変動量δをあらかじめ測定し、変動量δのＸ方向成分δｘとＹ方向成分δｙを求め、外側圧力に対応した信号を第１と第２の増幅器に供給し、ゲインＫ１の第１の増幅器によって増幅された信号をＸ方向の補正信号とし、ゲインＫ２[＝Ｋ１・（δｘ／δｙ）]の第２の増幅器に供給し、第２の増幅器の出力信号をＹ方向の補正信号としたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１の発明に基づく電子ビーム装置は、電子銃から発生した電子ビームを、電子光学系を介して試料に照射する電子ビーム装置において、真空にされた電子ビーム装置の外側の大気中に配置され、大気圧や低周波音を含む圧力に比例した信号を発生する圧力検出器と、該圧力検出器によって検出された圧力変動信号の所定の周波数より高い周波数の信号を除去するローパスフィルタとを設け、前記圧力検出器からの検出信号を前記ローパスフィルタに送り、該ローパスフィルタからの信号に基づいて、前記電子光学系に含まれる電子ビームの偏向器に供給する偏向信号を変化させ、該外側圧力の変動に伴う電子ビームの照射位置変動を補正するように構成したことを特徴としている。その結果、気圧が変化しても、低周波音が発生しても、それに基づく電子ビームの照射位置の変動を常に補正することができ、電子ビーム描画装置に本発明を適用すれば、パターン描画の精度を向上させることができる。また、走査電子顕微鏡に本発明を適用すれば、走査ノイズの低減の効果がある。更に、高い周波数の圧力変動による不適切な電子ビームの照射位置補正を防止することができる。
【００１９】
請求項２及び３の発明に基づく電子ビーム装置は、電子ビームの照射位置の補正信号を電子ビームの偏向器に供給する具体的構成を特徴としており、請求項１の発明と同様な効果を有する。
請求項４の発明に基づく電子ビーム装置は、電子ビーム装置の外側圧力の変動による電子ビームの照射位置の変動量δをあらかじめ測定し、変動量δのＸ方向成分δｘとＹ方向成分δｙを求め、外側圧力に対応した信号を増幅する第１の増幅器によって増幅し、増幅された信号をＸ方向の補正信号とし、第１の増幅器によって増幅された信号を、ゲインがδｙ／δｘの第２の増幅器に供給し、第２の増幅器の出力信号をＹ方向の補正信号としたことを特徴としている。この結果、個々の電子ビーム装置固有の変形に対応した電子ビームの照射位置変動の補正を行うことができる。
【００２０】
請求項５の発明に基づく電子ビーム装置は、電子ビーム装置外側の圧力の変動による電子ビームの照射位置の変動量δをあらかじめ測定し、変動量δのＸ方向成分δｘとＹ方向成分δｙを求め、外側圧力に対応した信号を第１と第２の増幅器に供給し、ゲインＫ１の第１の増幅器によって増幅された信号をＸ方向の補正信号とし、ゲインＫ２[＝Ｋ１・（δｘ／δｙ）]の第２の増幅器に供給し、第２の増幅器の出力信号をＹ方向の補正信号としたことを特徴としており、請求項４の発明と同様な効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図３は本発明に基づく電子ビーム装置における電子ビームの偏向補正系のブロック図を示している。この図３に示した電子ビームの偏向補正系は、例えば、図１に示した従来装置の偏向コイル８に接続される。なお、図３において、偏向コイル８は、Ｘ方向の偏向コイル８ｘ、Ｙ方向の偏向コイル８ｙとによって構成されている。
【００２３】
図３の電子ビーム偏向補正系が走査電子顕微鏡に用いられる場合、試料上の電子ビームの照射位置は、偏向コイル８ｘ、８ｙによる偏向により移動し、試料上の任意の領域が電子ビームによって２次元走査されることになる。この電子ビームによって試料上を走査することに伴って、試料から発生した２次電子や反射電子は、検出器によって検出される。その検出信号は、偏向コイル８に供給される電子ビームの走査信号に同期した陰極線管などのディスプレイに供給される。その結果ディスプレイ画面には試料の所望領域の走査像が表示される。
【００２４】
図３の電子ビーム偏向補正系が電子ビーム描画装置に用いられる場合、パターンデータに基づいて電子ビーム４の照射位置７を偏向コイル８ｘ、８ｙによって制御することにより、試料上に任意のパターンを描画することができる。
【００２５】
図３の電子ビーム偏向補正系は、Ｘ走査電圧発生回路１０ｘからＸ偏向コイル８ｘに印加される偏向電圧と、Ｙ走査電圧発生回路１０ｙからＹ偏向コイル８ｙに印加される偏向電圧とを補正するために設けられる。偏向補正系は、圧力変動量測定装置１１と、圧力変動量測定装置１１で測定された圧力変動量に比例した電圧信号が供給されるローパスフィルタ１２と、ローパスフィルタ１２を通過した信号を増幅する増幅器１３ｘと１３ｙと、増幅器１３ｘの出力信号電圧とＸ走査電圧発生回路１０ｘからの偏向電圧とを加算する加算器１４ｘと、増幅器１３ｙの出力信号電圧とＹ走査電圧発生回路１０ｙからの偏向電圧とを加算する加算器１４ｙとから構成されている。
【００２６】
圧力変動量測定装置１１内には、気圧計や低周波音レベル系などが含まれており、圧力変動量測定装置１１は、電子ビームの照射位置を補正する対象の電子ビーム装置が設置された部屋内であって、できる限り電子ビーム装置の鏡筒に接近した位置に配置される。このような構成の動作を次に説明する。
【００２７】
図３の電子ビーム偏向補正系が走査電子顕微鏡に用いられる場合、図示していない倍率制御つまみで所望の倍率を指定すると、Ｘ走査電圧発生回路１０ｘとＹ走査電圧発生回路１０ｙからは、倍率に応じた電圧が発生され、それぞれＸ偏向コイル８ｘ、Ｙ偏向コイル８ｙに供給され、試料上の電子ビームの照射位置は、偏向コイル８ｘ、８ｙによる偏向により移動し、試料上の任意の領域が電子ビームによって２次元走査されることになる。
【００２８】
この電子ビームによって試料上を走査することに伴って、試料から発生した２次電子や反射電子は、検出器によって検出される。その検出信号は、偏向コイル８に供給される電子ビームの走査信号に同期した陰極線管などのディスプレイに供給される。その結果ディスプレイ画面には、指定した倍率で試料の所望領域の走査像が表示される。
【００２９】
図３の電子ビーム偏向補正系が電子ビーム描画装置に用いられる場合、パターンデータに基づいて電子ビーム４の照射位置７を、Ｘ走査電圧発生回路１０ｘとＹ走査電圧発生回路１０ｙから発生する電圧を制御することにより、偏向コイル８ｘ、８ｙによる電子ビームの偏向量を変化させることにより、試料上に任意のパターンを描画することができる。
【００３０】
さて、走査電子顕微鏡や電子ビーム描画装置では、構造上弱い部分と強い部分とがある。そのため、電子ビーム装置の周囲の大気圧が変動すると、電子ビーム装置の構造上弱い部分にその影響が及び、その部分が変形することになる。そのため、電子ビーム装置の特定部分の変形、例えば、試料チャンバ１の上面の変形にともない、鏡筒２が傾斜したり、試料ステージ９が取り付けられている試料チャンバ１の側面が変形することにより、試料６の位置が移動する。この結果、大気圧の変化にともなって電子ビームの試料上の照射位置が変動し、したがって、ディスプレイ上に表示された像も移動することになる。
【００３１】
ところで、大気圧の変動量と電子ビーム装置の特定構造部分の変形量は、それぞれの電子ビーム装置においては、リニアーな関係を有し、大気圧の変動量に対する像の移動量（電子ビームの照射位置の変動量）は、図４に示すようにベクトルδとして表すことができる。この像移動量δは、Ｘ成分δｘとＹ成分δｙに分けられるが、このＸ成分δｘとＹ成分δｙの比（像の移動方向に対応）は、個々の電子ビーム装置に固有のものである。
【００３２】
したがって、大気圧の変動があれば、大気圧の変動量に応じて電子ビームの偏向量を像の変動を打ち消すように変化させれば、大気圧変動による電子ビームの試料上の照射位置の補正を行うことができる。この際、大気圧変動にともなう像の移動方向は、それぞれの電子ビーム装置においては常に一定であるため、Ｘ方向の電子ビーム偏向量補正量に対し、Ｙ方向の電子ビーム偏向補正量を、像移動量δのＸ成分δｘとＹ成分δｙとの比δｙ／δｘとすればよい。
【００３３】
このような点に鑑み、図３の偏向補正系では、気圧計１１で大気圧７や低周波音に対応した信号が発生され、その信号は、ローパスフィルタ１２を介してゲインがＫ１の第１の増幅器１３ｘにより、電子ビームの偏向補正が可能な値にまで増幅される。第１の増幅器１３ｘにより増幅された信号（Ｘ方向補正信号）は、加算器１４ｙによって、Ｘ走査電圧と加算され、Ｘ偏向コイル８ｘに供給される。
【００３４】
第１の増幅器１３ｘにより増幅された信号は、第２の増幅器１３ｙにも供給される。この増幅器１３ｙのゲインは、像移動量δのＸ成分δｘとＹ成分δｙとの比δｙ／δｘとされている。第２の増幅器１３ｙの出力は、Ｙ走査電圧発生回路１０ｙからのＹ走査電圧と加算器１４ｙにおいて加算され、Ｙ方向偏向コイル８ｙに供給される。このようにして、大気圧の変化に応じて電子ビームの偏向量は補正され、大気圧の変動により、電子ビームの試料上の照射位置が変化し、観察している像が移動することは防止される。
【００３５】
なお、上記した像移動量δのＸ成分δｘとＹ成分δｙとの比δｙ／δｘは、個々の装置固有の値であり、電子ビーム装置が製造された段階であらかじめ実験的に求めて増幅器１３ｙの調整を行う必要がある。このためには、あらかじめ圧力をコントロールできる設置室内に電子ビーム装置を導入し、設置室内の圧力を変動させたときに、試料上の電子ビーム照射位置の変動量δをベクトルとして測定を行う。そして、電子ビーム照射位置の変動量δのＸＹ成分をそれぞれ求め、増幅器１３ｙのゲイン、すなわち、像移動量δのＸ成分δｘとＹ成分δｙとの比δｙ／δｘを求める。
【００３６】
また、気圧計１０で測定された大気圧や低周波音の変動量と、電子ビームの試料上の移動量とは比例することは既に述べた。そして、大気圧や低周波音変動と、電子ビーム照射位置の移動量との関係は、大気圧や低周波音変動の程度が小さい範囲内では、線形と見なすことができる。そこで、設置室内の圧力を変動させた場合に、試料上の電子ビームの照射位置が変動しないように、増幅器１３ｘの増幅率を調整することにより、圧力変動の大きさに応じて、電子ビームの照射位置の変動を常に補正することができる。
【００３７】
ところで、図３の偏向補正系では、気圧計１１で検出された大気圧に対応した電圧信号がローパスフィルタ１２に供給され、所定の周波数以上の周波数を有した信号をカットするように構成している。このような構成とすることで、低周波音の周波数が直流に近い場合には、波長が試料チャンバ１１の代表長さに対して充分長いことから、単純な圧力変動と見なすことができる。しかしある程度以上に周波数が高くなると、例えば、試料チャンバ１の対向する面において位相のずれが大きくなり、単純な圧力変動とは見なすことができなくなる。
【００３８】
そのため、高い周波数成分の圧力変動に相当する電圧が、電子ビームの照射位置の変動の補正に用いられる電圧に含まれていると、かえって不適切な補正を行ってしまい都合が悪い。例えば、試料チャンバ１の代表長さが２ｍであった場合、この長さを１／２波長とする低周波音の周波数は、常温１気圧では、約８５Ｈｚとなる。このとき、試料チャンバ１の対向面において音の位相が逆になり、この周波数成分を有した低周波音の影響は、試料チャンバ１を押しつぶす力より、むしろ試料チャンバ１を剛体的に揺するような力として働くことになる。
【００３９】
この際電子ビームの照射位置補正に用いられる低周波音の周波数の上限を、仮に試料チャンバ１の代表長さが、位相として１５°程度の位相差になるように設定する場合は、上限周波数は約７Ｈｚということになる。これ以上の周波数を有した電圧信号をローパスフィルタ１２でカットすることになる。実際の応用としては、ローパスフィルタ１２の設定周波数を可変とし、装置の大きさ、設置室の音圧レベルの周波数分布に応じて、調整できるようにしておくことが望ましい。
【００４０】
以上、本発明の一実施の形態を説明したが、本発明は上記した実施の形態に限定されず、幾多の変形が可能である。例えば、図５に示すように、ローパスフィルタ１２の出力電圧を増幅器１３ｘと１３ｙの両者に供給し、増幅器１３ｙの増幅率Ｋ２を、増幅器１３ｘの増幅率をＫ１とした場合、次に示す式により求められた値とし、それぞれの増幅器１３ｘと１３ｙの出力電圧を加算器１４ｘ、１４ｙに供給するように構成しても良い。
【００４１】
Ｋ２＝（δｙ／δｘ）・Ｋ１
また、電子ビームを走査するためのＸ偏向コイル８ｘ、Ｙ偏向コイル８ｙに電子ビームの照射位置補正電圧を加算して供給するように構成したが、電子ビームを走査するためのＸ偏向コイル８ｘ、Ｙ偏向コイル８ｙとは別に、電子ビーム照射位置補正用の偏向コイルを新たに設け、増幅器１３ｘと１３ｙの出力電圧を補正用偏向コイルに供給するようにしても良い。更に、電子ビームを偏向するために電磁型の偏向コイルを用いたが、静電型の偏向器を用いても良い。
【００４２】
更にまた、上記した実施の形態では、大気圧の変動にともなう電子ビームの試料上の照射位置の変動を補正する例について詳説したが、電子ビーム装置の周囲の電磁場の変化に対しても同様に本発明を適用することができる。その場合、電磁場を検出する検出器を設け、検出された電磁場の強度と方向に応じて補正信号を作成し、この補正信号を電子ビームの偏向器に供給することにより、外部電磁場の変動による電子ビームの不正な偏向がキャンセルされる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明は、半導体デバイスの検査用の走査電子顕微鏡な透過電子顕微鏡、更にはマスク生産の分野で主として用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】走査電子顕微鏡や電子ビーム描画装置等の電子ビーム装置を示す図である。
【図２】大気圧によって変形する電子ビーム装置を示す図である。
【図３】本発明に基づく電子ビーム装置における電子ビームの偏向補正系の第１の実施の形態を示すブロック図である。
【図４】電子ビームの移動量δとそのＸＹ成分を説明するための図である。
【図５】本発明に基づく電子ビーム装置における電子ビームの偏向補正系の第２の実施の形態を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００４５】
１  試料チャンバ
２  鏡筒
３  電子源
４  電子ビーム
５  対物レンズ
６  試料
７  ビーム照射位置
８  偏向コイル
９  試料ステージ
１０  走査電圧発生回路
１１  気圧計／低周波音レベル計
１２  ローパスフィルタ
１３  増幅器
１４  加算器
【図１】
0004725947.tif 000002
【図２】
0004725947.tif 000003
【図３】
0004725947.tif 000004
【図４】
0004725947.tif 000005
【図５】
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