(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液を供給する塗布液供給手段と、
前記塗布液供給手段より塗布液を供給しながら、前記塗布液供給手段と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状支持体に所定膜厚の塗布膜を形成する塗布手段と、
能動除振装置と、
を備え、
前記塗布手段は、前記能動除振装置の上に固定され、
前記能動除振装置のベースの上には、エアアクチュエータを介して荷重受け部が支持され、
前記荷重受け部の上には、加速度を検出可能な第１の加速度センサが固定され、
前記ベースと前記荷重受け部との間には、前記荷重受け部の変位を測定可能な変位センサが設けられ、
前記ベースの上には、前記ベースの振動を検知し、前記荷重受け部が振動する前に予めそれに対応するフィードフォワード制御を行うための、加速度が検出可能な第２の加速度センサが固定され、
前記塗布手段の一次固有周波数が８０Hz以上である、
塗布装置。
【請求項２】
前記能動除振装置が、前記第１の加速度センサと、前記変位センサとで検知した振動成分をフィードバック制御して前記エアアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う装置である請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記能動除振装置が防爆構造となっている請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布手段の振動加速度が０．２Ｇａｌ以下となっている請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布装置を使用した塗布方法であって、
前記塗布装置が設置される床面の一次固有振動数を１０Ｈｚ以上とすることを特徴とする塗布方法。
【請求項６】
請求項１から４のいずれか１項に記載の塗布装置を使用して塗布膜付きウエブを製造する塗布膜付きウエブの製造方法であって、
ウエブを連続的に搬送する工程と、
前記塗布液供給手段により塗布液を供給しながら、前記塗布手段により前記ウエブに所定膜厚の塗布膜を形成する工程と、
前記能動除振装置により、前記第１の加速度センサと、前記変位センサとで検知した振動成分をフィードバック制御して前記エアアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う工程と、
を備えた塗布膜付きウエブの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布装置及び塗布方法に係り、特に、連続走行するウエブ（帯状可撓性支持体）に各種液状組成物を塗布して長尺で広幅な塗布膜面を形成するのに好適な塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、写真感光材料や磁気記録媒体等の分野において、連続走行する帯状の可撓性支持体（以下、「ウエブ」という）上に所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程が採用されている。近年、これらの分野において、塗布膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることのできる塗布技術が求められている。
【０００３】
同様に、光学補償フィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム等の各種の機能を有する光学フィルムの製造に適用される塗布工程においても、上記のような塗布技術が求められている。
【０００４】
従来より、塗布液をウエブ面に塗布する塗布装置としては、たとえば、ロールコータ型、グラビアコート型、ロールコートプラスドクター型、リバースロールコータ型、エクストルージョン型、スライドコート型等があり、用途に応じて使い分けられているのが現状である。
【０００５】
これらのいずれの塗布装置においても、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得るために、塗布時の振動除去が重要である。このため、ベースレベル（通常は建屋の１階）に独立した大規模な基礎を設け、この上に塗布装置を設置するのが一般的であった。これにより、基礎自身の振動を抑制し、塗布膜へ悪影響が及ばないようにしていた。
【０００６】
ところが、このような方法は、塗布装置のベースレベルへの設置が原則であり、非常に設置費用がかかるうえに、設計上及びレイアウト上も制約を受けるといった不具合があった。
【０００７】
このような問題点を解消する提案として、リバースロール塗布装置にウエブの振動を抑えるための制振部を設ける提案がなされている（特許文献１参照。）。また、円筒状の基材に塗布する際に、１以上の駆動系を防振台上に設置する提案もなされている（特許文献２参照。）。
【特許文献１】特開２００２−２３９４３２号公報
【特許文献２】特開平９−２０６６６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記従来より公知の各種手段を採用しても、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得るには、設備面においても、条件設定等の面においても最適な範囲を得るのは容易ではなく、改善が求められていた。
【０００９】
また、従来においては、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得るのに、塗布装置のどのパラメータを最適範囲に制御すべきかが不詳であり、主に経験とカンによる管理のみなされており、最適化の糸口がつかめない状態であった。
【００１０】
更に、塗布液には引火性の溶媒が使用されることが多く、安全面での懸念も解消されていなかった。
【００１１】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、塗布液供給手段より塗布液を供給しながら、この塗布液供給手段と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状可撓性支持体に所定膜厚の塗布膜を形成する技術分野において、設置に多額の費用を要せず、設計上及びレイアウト上の制約が少なく、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するために、本発明は、塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記塗布液供給手段より塗布液を供給しながら、前記塗布液供給手段と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状支持体に所定膜厚の塗布膜を形成する塗布手段と、能動除振装置と、を備え、前記塗布手段は、前記能動除振装置の上に固定され、前記能動除振装置のベースの上には、エアアクチュエータを介して荷重受け部が支持され、前記荷重受け部の上には、加速度を検出可能な第１の加速度センサが固定され、前記ベースと前記荷重受け部との間には、前記荷重受け部の変位を測定可能な変位センサが設けられ、前記ベースの上には、前記ベースの振動を検知し、前記荷重受け部が振動する前に予めそれに対応するフィードフォワード制御を行うための、加速度が検出可能な第２の加速度センサが固定され、前記塗布手段の一次固有周波数が８０Hz以上である、塗布装置を提供する。
【００１３】
本発明によれば、塗布手段が能動除振装置上に固定されているので、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。その結果、容易に、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。また、設置に多額の費用を要せず、設計上及びレイアウト上の制約が少ない。すなわち、塗布装置のベースレベルへの設置は必ずしも必要ではなく、たとえば、４階への設置も可能である。
【００１４】
なお、能動除振装置とは、アクティブ除振装置とも称呼されており、積層ゴム、空気ばね等を使用した通常の除振装置（いわゆる、パッシブ除振装置）と異なり、空気圧アクチュエータ等を使用してフィードバック制御により能動的に除振を行う装置である。市販のものとしては、たとえば、特許機器社製の装置、商品名：アクティブ微振動制御装置が使用できる。
【００１５】
また、被塗布物体である帯状支持体は、通常は、帯状の可撓性支持体（ウエブ）である場合が多いが、帯状の板状体、たとえば、ガラス基板、シリコンウエハ等であっても本発明が適用でき、同様の効果が得られる。
【００１６】
本発明において、前記能動除振装置が、前記第１の加速度センサと、前記変位センサとで検知した振動成分をフィードバック制御して前記エアアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う装置であることが好ましい。このような構成の能動除振装置であれば、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。
【００１７】
また、本発明において、前記能動除振装置が防爆構造となっていることが好ましい。このような除振装置が防爆仕様であれば、安全面においても優れている。
【００１８】
また、本発明において、前記塗布手段の振動加速度が０．２Ｇａｌ以下となっていることが好ましい。本願出願人による各種の実験により、このような振動加速度の塗布手段であれば、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得られることが確認された。この詳細については後述する。
【００２０】
また、本発明は、上記の塗布装置を使用して塗布膜付きウエブを製造する塗布膜付きウエブの製造方法であって、ウエブを連続的に搬送する工程と、前記塗布液供給手段により塗布液を供給しながら、前記塗布手段により前記ウエブに所定膜厚の塗布膜を形成する工程と、前記能動除振装置により、前記第１の加速度センサと、前記変位センサとで検知した振動成分をフィードバック制御して前記エアアクチュエータを作動させ、能動的に除振を行う工程と、を備えた塗布膜付きウエブの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２１】
以上説明したように、本発明によれば、塗布手段が能動除振装置上に固定されているので、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。その結果、容易に、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、添付図面に従って、本発明に係る塗布装置及び塗布方法の好ましい実施の形態について詳説する。図１は、本発明に係る塗布装置及び塗布方法が適用される光学補償シートの製造ラインを説明する説明図である。図２は、この製造ラインのうち、塗布装置１０の実施の態様を示す要部拡大概念図であり、図３は、塗布装置１０のうち塗布ヘッド１８の一部を切り欠いた斜視図である。図４は、塗布装置１０の設置された状態を示す斜視図である。
【００２３】
光学補償シートの製造ラインは、図１に示されるように、送り出し機６６から予め配向膜形成用のポリマー層が形成された透明支持体であるウエブ１６が送り出されるようになっている。ウエブ１６はガイドローラ６８によってガイドされてラビング処理装置７０に送り込まれようになっている。ラビングローラ７２は、ポリマー層にラビング処理を施すべく設けられている。ラビング処理装置７０の下流には除塵機７４が設けられており、ウエブ１６の表面に付着した塵を取り除くことができるようになっている。
【００２４】
除塵機７４の下流には塗布装置１０が設けられており、ディスコネマティック液晶を含む塗布液がウエブ１６に塗布できるようになっている。この下流には、乾燥ゾーン７６、加熱ゾーン７８が順次設けられており、ウエブ１６上に液晶層が形成できるようになっている。更に、この下流には紫外線ランプ８０が設けられており、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーを形成できるようになっている。そして、この下流に設けられた巻取り機８２により、ポリマーが形成されたウエブ１６が巻き取られるようになっている。
【００２５】
図２に示されるように、塗布装置１０は、塗布液タンク１４と、この塗布液タンク１４より塗布液を送液するポンプ１５と、ポンプ１５から送液された塗布液をウエブ１６に塗布する塗布ヘッド１８と、これらを繋ぐ配管と、塗布ヘッド１８に対向して設けられ、塗布時のウエブ１６を支持するバックアップローラ２０と、より構成される。
【００２６】
ポンプ１５としては、塗布液の供給流量が安定化することより、定量ポンプを使用することが好ましい。定量ポンプとしては、たとえば、ギアポンプ、ローラポンプ等、各種のポンプが使用できるが、本発明の塗布には、特にギアポンプが好適に使用できる。
【００２７】
塗布ヘッド１８は、塗布ヘッド先端が連続走行するウエブ１６と近接された状態で対向配置される。図３に示されるように、塗布ヘッド１８内には、筒状のポケット部１８Ｂがウエブ１６の幅方向に平行に形成されるとともに、塗布用ポケット部１８Ｂは供給ライン１８Ａに接続される。また、塗布ヘッド１８内には、塗布ヘッド先端に吐出口を有する塗布用スリット１８Ｃが形成されるとともに、塗布用スリット１８Ｃが塗布用ポケット部１８Ｂに連通される。
【００２８】
塗布用スリット１８Ｃは、ポケット部１８Ｂと塗布ヘッド先端とを繋ぐ狭隘な流路であり、ウエブ１６の幅方向に延長される。そして、供給ライン１８Ａからウエブ１６に塗布する所望の塗布量の塗布液が塗布ヘッド１８の塗布用ポケット部１８Ｂに供給される。
【００２９】
なお、図３では、塗布用ポケット部１８Ｂに塗布液を送液する方法として、塗布用ポケット部１８Ｂの一方側から供給するようにしたが、この他にも塗布用ポケット部１８Ｂの一方側から供給して他方側から引き抜くタイプ、又は塗布用ポケット部１８Ｂの中央部から供給して両側に分流させるタイプがあり、いずれを適用してもよい。
【００３０】
図２に示されるように、塗布装置１０は、バックアップローラ２０の時計回りで９時の位置に塗布ヘッド１８の先端が対向するように構成されている。そして、塗布ヘッド１８の先端とウエブ１６の表面との距離ｔが設定される。図示のように、塗布ヘッド１８により塗布液が塗布されたウエブ１６には、塗布膜２８が形成され、このウエブ１６はバックアップローラ２０に支持されて時計回りに搬送される。
【００３１】
なお、塗布ヘッド１８の先端の位置は、バックアップローラ２０の時計回りで９時の位置に限定されるものではない。均一な塗布が行なえるのであれば、塗布ヘッド１８の先端の位置に制限はない。
【００３２】
バックアップローラ２０の外径サイズに特に制限はなく、均一な塗布が行なえるのであればよい。また、図示のようなバックアップローラ２０に代えて、複数の小径のバックアップローラを円周状に配する構成も採用できる。
【００３３】
なお、塗布ヘッド１８としては、エクストルージョン型に限定されるものではなく、スリットより塗布液を供給してウエブ１６に塗布液を塗布する構成のものであれば、任意の形式の塗布ヘッドを使用することができる。また、塗布ヘッド１８を使用しない方式の塗布手段、たとえば、ロールコータ方式の塗布手段、リバースロールコータ方式の塗布手段等、各種の方式の塗布手段を採用することができる。
【００３４】
また、図示は省略したが、ウエブ１６のテンションをコントロールするテンションローラや、ウエブ１６の搬送を制御する駆動ローラを設けることも任意である。
【００３５】
次に、本発明の特徴部分である防爆仕様の能動除振装置に関する構成について、図４により説明する。この構成において、塗布ヘッド１８は、塗布ヘッド架台３０の上に固定されており、この塗布ヘッド架台３０の下面の４隅には能動除振装置３２、３２…が配され、この能動除振装置３２、３２…を介して床面Ｆに支持されている。
【００３６】
なお、バックアップローラ２０の下方には減圧チャンバ３４が設けられており、この減圧チャンバ３４内を減圧状態にして、ウエブ１６と塗布ヘッド１８との間に形成される塗布液のビードを安定化させることができるようになっている。
【００３７】
この塗布ヘッド架台３０は、ウエブ１６の幅等によっては大型サイズのものとなり、たとえば、平面サイズで２．４×１．５ｍであり、総重量で６．５トンにもなるものである。このような塗布ヘッド架台３０上に固定された塗布ヘッド１８に対して、能動除振装置３２、３２…が配されることにより、各種の振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくい。
【００３８】
図５は、能動除振装置３２のシステム構成を説明する概念図である。能動除振装置３２のベース４０上にエアアクチュエータ４２を介して荷重受け部４４が支持されている。この荷重受け部４４上には加速度が検出可能な加速度センサ４６が固定されており、また、ベース４０と荷重受け部４４との間には、荷重受け部４４の変位が測定可能な変位センサ４８が設けられており、更に、ベース４０上にも、加速度が検出可能な加速度センサ５０が固定されている。
【００３９】
荷重受け部４４の制御は、エア源５２より供給される圧縮空気の流量をサーボバルブ５４で調整してエアアクチュエータ４２に供給することにより行う。このサーボバルブ５４には、加速度センサ４６からの信号が振動コントローラ５６を介してフィードバックされ、また、変位センサ４８からの信号が位置コントローラ５８を介してフィードバックされる。なお、既述の加速度センサ５０はフィードフォワード制御に使用される。
【００４０】
このような系に外乱Ｆが加わった場合、質量Ｍ、減衰Ｚ、ばねＫで代表される制御対象がエアアクチュエータ４２で制御され、床からの振動除去と同時に、荷重受け部４４に加えられる外乱Ｆに対しても制振効果を有するアクティブ除振系が構成される。
【００４１】
その結果、図４の塗布装置１０によれば、容易に、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる。また、塗布装置１０の設置に多額の費用を要せず、設計上及びレイアウト上の制約が少ない。すなわち、塗布装置１０のベースレベル（１階）への設置は必ずしも必要ではなく、たとえば、４階への設置も可能である。更に、能動除振装置３２が防爆仕様であることより、安全面においても優れている。
【００４２】
次に、塗布装置１０の一次固有振動数が８０Ｈｚ以上となっていることが好ましい理由について説明する。塗布時に振動が抑制され、塗布膜へ悪影響が及びにくくするには、塗布装置１０における振動加速度を極力抑制することが好ましい。その際、塗布装置１０の一次固有振動数が８０Ｈｚ未満であっても、振動加速度を小さくすることはできる。
【００４３】
ただし、塗布装置１０の一次固有振動数を８０Ｈｚ以上とした場合、加振があった際に塗布装置１０が強く振動するのがこの一次固有振動数の周波数域となる。そして、塗布時に生じる段ムラ等のピッチは、この周波数に対応する。ところが、光学フィルム（光学補償フィルム、反射防止フィルム、等）の塗布膜は、この周波数であれば段ムラを生じにくく、塗布膜へ悪影響が及びにくい。
【００４４】
その意味では、塗布装置１０の一次固有振動数が１００Ｈｚ以上となっていることがより好ましく、１２０Ｈｚ以上となっていることが更に好ましい。
【００４５】
次に、塗布装置１０が設置される床面の一次固有振動数を１０Ｈｚ以上とすることが好ましい理由について説明する。上述の能動除振装置３２を使用した場合、床面の一次固有振動数が１０Ｈｚ未満であれば、殆ど除振効果が得られない。たとえば、振動周波数が１００Ｈｚの振動であれば、約１／１００に減衰させることができるが、振動周波数が１０Ｈｚ未満の振動になると、わずかに減衰させることができる効果しか得られない。
【００４６】
その意味では、塗布装置１０が設置される床面の一次固有振動数が２０Ｈｚ以上となっていることがより好ましく、３０Ｈｚ以上となっていることが更に好ましい。
【００４７】
次に、塗布装置１０を使用した塗布膜の形成について説明する。塗布液としては、たとえば、粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、有機溶剤が含まれるものが使用できる。但し、これ以外の粘度のもの、有機溶剤が含まれないものも使用できる。
【００４８】
ウエブ１６としては、一般に、所定幅、所定長さで、厚さが２〜２００μｍ程度のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−2,6 −ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフイルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙、金属板等からなる可撓性帯状物又は該帯状物を基材としてその表面に加工層を形成した帯状物が使用できる。
【００４９】
図１の光学補償シートの製造ラインにおいて、送り出し機６６よりウエブ１６を繰出しながら、塗布装置１０の塗布ヘッド１８のスリット１８Ｃ中における塗布液の平均流速を１００〜５００ｍｍ／秒となるようにポンプ１５（図２参照）の流量を制御し、また、塗布直後の塗布膜２８の膜厚が２〜４０μｍとなるようにウエブ１６の搬送速度を制御して塗布を行なう。
【００５０】
塗布後の乾燥等において、塗布膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑な塗布膜２８が得られるように乾燥ゾーン７６、加熱ゾーン７８、紫外線ランプ８０等の設定を行なう。塗布、乾燥後のウエブ１６は巻取り機８２により巻取る。
【００５１】
上記一連の工程は、良好な無塵度及び最適な温湿度の環境下で実施されることが好ましい。したがって、クリーンルーム内で行なわれるのが好ましく、特に、塗布装置１０は、クラス１００以下の環境下に設置されるのが好ましい。このためには、ダウンフローのクリーンルーム又はクリーンベンチを併用する形態が採用できる。
【００５２】
以上、本発明に係る塗布装置及び塗布方法の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００５３】
たとえば、本実施形態では、塗布装置１０としてエクストルージョン型のコータが採用されているが、これ以外のコータ、たとえば、バーコータ（「ロッドコータ」とも称され、メイヤーバーコータをも含む）、グラビアコータ（ダイレクトグラビアコータ、グラビアキスコータ等）、ロールコータ（トランスファロールコータ、リバースロールコータ等）、ダイコータ、ファウンテンコータ、スライドホッパ等にも好適に適用できる。
【００５４】
また、塗布装置１０の用途としても、光学補償フィルム等の光学フィルムのみならず各種の塗布に適用できる。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明に係る塗布装置及び塗布方法の実施例について説明する。図１に示される光学補償シートの製造ラインの塗布装置１０を使用してウエブ１６に塗布膜を形成し、塗布面の状態を評価した。
【００５６】
塗布装置１０は、ＳＲＣ梁構造を有する建屋内の２階部分に設けられた塗布ステーション上に設置された。この建屋２階の塗布ステーション設置床面の一次固有振動数は１５Ｈｚであった。この床面上に、図４に示されるように、四隅に防爆型能動除振装置３２、３２…を組み込んだ塗布装置１０を設置した。塗布装置１０全体の一次固有振動数は１２０Ｈｚであった。
【００５７】
図３に示される塗布装置１０の、塗布用スリット１８Ｃの開口部幅（ウエブ１６走行方向における長さ）は１５０μｍであり、開口部長さは５０ｍｍである。塗布ヘッド１８の上流側リップランド長さは１ｍｍであり、下流側リップランド長さが５０μｍである。
【００５８】
図２に示される、塗布ヘッド１８の先端とウエブ１６の表面との距離ｔを５０μｍになように設定し、図４に示される、減圧チャンバ３４内部の負圧を１６００Ｐａとした。
【００５９】
塗布装置１０による塗布を実施している際に、建屋脇を重量物を積載した大型トラックを走行させ、塗布装置１０における振動加速度を測定した。
【００６０】
ウエブ１６として厚さ１００μｍのセルロースアセテートフイルム（商品名：フジタック、フジ写真フイルム（株）製）を用い、塗布液を塗布する前に長鎖アルキル変性ポリビニルアルコール（商品名：ポバールＭＰ−２０３、クラレ（株）製）の２重量％溶液を２５ｍｌ／ｍ2 塗布し、６０°Ｃで１分間乾燥させて配向用樹脂層を形成した。
【００６１】
配向膜用樹脂層を予め形成したウエブ１６を送り出し機６６から送り出し、ラビング処理装置７０により配向膜用樹脂層の表面にラビング処理を施して配向膜を形成し、塗布装置１０に搬送して塗布を実施した。なお、ラビング処理におけるラビングローラ７２の回転速度を５．０ｍ／秒とし、ウエブ１６に対する押し付け力を９．８×１０-3Ｐａに設定した。
【００６２】
塗布液として、ディスコティツク化合物ＴＥ−（１）とＴＥ−（２）の重量比率４：１の混合物に光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、日本チガイギー（株）製）を１重量部を添加した４０重量％添加したメチルエチルケトン溶液である、液晶性化合物を含む溶液を用いた。更に、塗布後の表面状態を確認しやすくするために、塗布液に染料を添加した。
【００６３】
ウエブ１６の搬送速度を５０ｍ／分に設定し、塗布装置１０では、塗布時の湿潤膜厚が５μｍとなるように調整して塗布した。
【００６４】
乾燥ゾーン７６の設定温度を１００°Ｃとし、加熱ゾーン７８の設定温度を１３０°Ｃとした。乾燥ゾーン７６及び加熱ゾーンを通過したウエブ１６は、紫外線ランプ８０により紫外線照射された。これにより、液晶が架橋し、所望のポリマーが形成された。そして、巻取り機８２により、ポリマーが形成されたウエブ１６が巻き取られた。
【００６５】
［実施例１］
以上の条件により処理されたウエブ１６を実施例１とし、巻き取った後の、ウエブ１６の表面に形成されている塗布膜の表面状態を目視による官能検査で評価した。
【００６６】
塗布時における、積載大型トラック走行中の、塗布装置１０における最大振動加速度は、０．２Ｇａｌであった。その振動に対応する部分のウエブ１６（塗布サンプル）の目視検査結果では、塗布ムラ等は検出されず、良好な表面状態を呈していることが確認された。
【００６７】
［比較例１］
実施例１に対し、防爆型能動除振動装置を作動させない以外は、同様の条件にして塗布を行った。このときの塗布装置１０における最大振動加速度の測定値は、０．４Ｇａｌであった。その振動に対応する部分のウエブ１６（塗布サンプル）の目視検査結果では、塗布膜に細かな塗布ムラが検出された。
【００６８】
［比較例２］
比較例１に対し、トラックの積載量を軽くした以外は、同様の条件にして塗布を行った。このときの塗布装置１０における最大振動加速度の測定値は、０．３Ｇａｌであった（比較例１の７５％）。その振動に対応する部分のウエブ１６（塗布サンプル）の目視検査結果では、比較例１よりは軽微であるが、塗布膜に微細ながら塗布ムラが検出された。
【００６９】
以上の実施例１、比較例１及び比較例２の結果より、塗布装置１０の振動加速度が０．２Ｇａｌ以下であれば、良好な塗布膜を得ることができることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明に係る塗布方法及び塗布装置が適用される光学補償シートの製造ラインを説明する説明図
【図２】塗布装置の実施の態様を示す要部拡大概念図
【図３】塗布ヘッドの一部を切り欠いた斜視図
【図４】塗布装置の設置された状態を示す斜視図
【図５】能動除振装置のシステム構成を説明する概念図
【符号の説明】
【００７１】
１０…塗布装置、１４…塗布液タンク、１５…ポンプ、１６…ウエブ（帯状可撓性支持体）、１８…塗布ヘッド、２０…バックアップローラ、２８…塗布膜、３０…塗布ヘッド架台、３２…能動除振装置、３４…減圧チャンバ、６６…送り出し機、６８…ガイドローラ、７６…乾燥ゾーン、７８…加熱ゾーン、８０…紫外線ランプ、８２…巻取り機
【図１】
0004764615.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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