(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの画素領域を画成すべき一対のガラス基板のうち、一方のガラス基板の表面に、画素領域の外周を包囲する液晶注入口を備えた第一のシールパターンを形成する工程と、
上記一方のガラス基板または他方のガラス基板の表面に、すべての画素領域を包囲するように、上記第一のシールパターンの周辺に、注入口を備えた第二のシールパターンを形成する工程と、
上記一対のガラス基板を、第一及び第二のシールパターンを内側にして、互いに所定間隔で重ね合わせて、第一及び第二のシールパターンを硬化させる貼り合わせ工程と、
上記第一のシールパターン及び第二のシールパターン内に上記注入口から液晶を注入する液晶注入工程と、
続いて、第一のシールパターンと第二シールパターンの間の領域のみにて、液晶を排出すると共に、第二のシールパターンの注入口から、硬化性材料が添加された液体を注入する液体注入工程と、
その後、少なくとも第一のシールパターンの液晶注入口付近にて、上記液体を硬化させて、第一のシールパターンの内側を封止する封止工程と、
を含んでいることを特徴とする、液晶装置の製造方法。
【請求項２】
上記第一及び第二のシールパターンが、ガラス基板の所定間隔に対応する粒径のギャップコントロール剤を添加したシール剤により形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
上記第一のシールパターンの液晶注入口と第二のシールパターンの注入口が、同じ方向を向いていることを特徴とする、請求項１または２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
上記液晶注入工程が、真空注入法により行なわれ、液体注入工程が、加圧減圧法により行なわれることを特徴とする、請求項１から３の何れかに記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
上記第二のシールパターンの注入口が、液晶を注入するための液晶注入口と液体を注入するための液体注入口とから成ることを特徴とする、請求項４に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項６】
上記液体注入口が、液晶注入工程では閉じられていることを特徴とする、請求項５に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項７】
液体注入工程において、第一のシールパターンの液晶注入口が上を向くように、第一及び第二のガラス基板から成る液晶セルが配置されることを特徴とする、請求項１から６の何れかに記載の液晶装置の製造方法。
【請求項８】
上記液体に添加される硬化性材料が、ＵＶ硬化樹脂であって、封止工程における液体の硬化が、紫外線照射により行なわれることを特徴とする、請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項９】
上記紫外線照射が、フォトマスクを使用することにより、第一のシールパターンの液晶注入口付近のみに対して行なわれることを特徴とする、請求項８に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１０】
上記液体に添加される硬化性材料が、熱硬化性材料であって、封止工程における液体の硬化が、熱処理により行なわれることを特徴とする、請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１１】
さらに、封止工程の後に、各第一のシールパターンの外側にて、一対のガラス基板を切断して、画素領域毎に分離する分離工程を含んでいることを特徴とする、請求項１から１０の何れかに記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１２】
第一のシールパターンにより画成される液晶セルが、２インチ以下の対角線長を有することを特徴とする、請求項１から１１の何れかに記載の液晶装置の製造方法。
【請求項１３】
第一のシールパターンにより画成される液晶セルが、１ｃｍ以下の対角線長を有することを特徴とする、請求項１から１１の何れかに記載の液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置の製造方法に関し、特に小型の液晶装置の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶装置は、以下に図４から図９に示す方法により製造されている。
先ず、二枚のガラス基板１０１，１３１を用意して、図４（ａ）に示すように、第一のガラス基板１０１上に、例えばディペンサＤを使用して所定の粒径を有するギャップコントロール剤（以下、ＧＣ剤という）１０１ａを散布する。
尚、このガラス基板１０１の点線で示す画素領域には、少なくとも一つの画素電極１０３が形成されている。
【０００３】
これに対して、図４（ｂ）に示すように、第二のガラス基板１３１上には、上記第一のガラス基板１０１の画素領域に対応する共通電極１３３が形成されていると共に、この共通電極１３３の外周を包囲するように、所定の粒径を有するＧＣ剤１３５ａを添加したシール剤を塗布して、シールパターン１３５を形成する。
ここで、このシールパターン１３５は、液晶注入口としての開口１３５ｂを有している。
【０００４】
そして、図５（ａ）に示すように、上記第一のガラス基板１０１と第二のガラス基板１３１を、上記画素電極１０３及び共通電極１３３が互いに対向するようにして、重ね合わせて、図５（ｂ）に示すように、例えばプレス機Ｐを使用して、第一のガラス基板１０１及び第二のガラス基板１０３を互いに接近するように押圧する。
【０００５】
その後、第一のガラス基板１０１及び第二のガラス基板１０３を互いに押圧した状態にて、例えばヒータＨＴにより熱処理して、上記シールパターン１３５を硬化させることにより、第一のガラス基板１０１及び第二のガラス基板１０３が互いに固定保持されることになる。
ここで、上記画素領域に対応して、第一のガラス基板１０１及び第二のガラス基板１０３の間には、シールパターン１３５により、空セルＥＣが画成される。
尚、上記シール剤は、熱硬化性材料から構成されており、熱処理によって硬化されるようになっているが、シール剤として紫外線硬化樹脂を含むシール剤を使用してもよく、その場合には、熱処理の代わりに、紫外線を照射することにより、シール剤が硬化される。
【０００６】
実際には、図６（ａ）に示すように、第一のガラス基板１０１及び第二のガラス基板１０３の間には、多数の空セルＥＣが画成されており、各空セルＥＣの境界に沿って、例えばダイヤモンドカッターＤを使用して、第一のガラス基板１０１及び第二のガラス基板１０３の表面に対して、スクライブラインＳＬを形成する。ここで、各スクライブラインＳＬのうち、図６（ａ）にて横方向に延びるスクライブラインＳＬは、各空セルＥＣの液晶注入口１３５ｂの開口面と揃うように形成される。
そして、これらのスクライブラインＳＬに沿って、第一のガラス基板１０１及び第二のガラス基板１０３を切断することにより、図６（ｂ）に示すように、各空セルＥＣ毎に分離する。
【０００７】
続いて、図７に示すように、複数の空セルＥＣを、その液晶注入口１３５ｂが一平面上に揃うように、注入治具１５０にセットし、図８（ａ）に示すように、液晶Ｅを充填した液晶タンク１５５と共に、真空チャンバＶＣ内に収容して、真空チャンバＶＣ内を真空引きする。
次に、真空チャンバＶＣ内が所定の真空度に達した時点で、図８（ｂ）に示すように、注入治具１５０を移動させて、各空セルＥＣの液晶注入口１３５ｂが液晶タンク１５５内の液晶Ｅ内に浸かる状態にする。
その後、真空チャンバＶＣ内を大気圧に戻すと、各空セルＥＣ内に、液晶Ｅが充填され、液晶セルＬＣとなる。
【０００８】
そして、図９（ａ）に示すように、各液晶セルＬＣを、その液晶注入口１３５ｂが上に僅かにはみだした状態で、プレス治具１６１にセットし、所定の圧力で各液晶セルＬＣを一定時間押圧して、液晶注入口１３５ｂから出た余分な液晶ＥＡを拭き取り、図９（ｂ）に示すように、液晶注入口１３５ｂを塞ぐように、例えばエンドシール剤ＥＳを塗布し、紫外線の照射または熱処理等によってエンドシール剤を硬化させる。
このようにして、液晶セルＬＣすなわち液晶装置が完成する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した液晶装置の製造方法においては、以下のような問題があった。
【００１０】
第一には、液晶注入口１３５ｂを有する第一のガラス基板１０１及び第二のガラス基板１３１の辺は、各液晶注入口１３５ｂの開口面を揃えるように切断する必要があり、この辺では、ガラス基板の表面に取出し電極を形成することができないため、液晶装置の設計上の自由度が低くなってしまう。
【００１１】
第二には、非常に多くの（自動化が困難な）工程があり、製造工程が複雑になることから、製造コストが高くなると共に、製造時間が長くなる。特に、小さな液晶セルを製造する場合、注入治具やプレス治具への空セルＥＣや液晶セルＬＣのセットに時間がかかる。
また、注入治具への空セルＥＣのセットが適切でない場合（液晶注入口１３５ｂが一平面上に揃っていない場合）には、各液晶注入口１３５ｂが液晶Ｅに浸からなくなり、液晶注入不良が発生してしまう。しかも、これらの工程は、自動化が困難であり、手作業においても熟練を要する。
【００１２】
第三には、注入治具やプレス治具へのセット工程や、プレス工程が多く含まれているため、空セルＥＣまたは液晶セルＬＣの表面が傷つきやすい。特に、ガラス基板のスクライブラインＳＬ形成やブレイキングによる切断後は、ガラス基板の切り粉（切断の際の屑）がガラス基板の表面に多く付着するため、その後の工程においてガラス基板の表面等がより一層傷つきやすい。
これに対して、切り粉を除去するために、洗浄工程を追加する場合もあるが、工程数が増えてしまうと共に、洗浄工程によっても切り粉を完全に除去することは困難である。
【００１３】
本発明は、以上の点に鑑み、少ない工程により、短時間で製造することができると共に、ガラス基板の表面の傷付きを低減するようにした、液晶装置の製造方法を提供することを目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、請求項１の発明によれば、少なくとも一つの画素領域を画成すべき一対のガラス基板のうち、一方のガラス基板の表面に、画素領域の外周を包囲する液晶注入口を備えた第一のシールパターンを形成する工程と、上記一方のガラス基板または他方のガラス基板の表面に、すべての画素領域を包囲するように、上記第一のシールパターンの周辺に、注入口を備えた第二のシールパターンを形成する工程と、上記一対のガラス基板を、第一及び第二のシールパターンを内側にして、互いに所定間隔で重ね合わせて、第一及び第二のシールパターンを硬化させる貼り合わせ工程と、上記第一のシールパターン及び第二のシールパターン内に上記注入口から液晶を注入する液晶注入工程と、続いて、第一のシールパターンと第二シールパターンの間の領域のみにて、液晶を排出すると共に、第二のシールパターンの注入口から、硬化性材料が添加された液体を注入する液体注入工程と、その後、少なくとも第一のシールパターンの液晶注入口付近にて、上記液体を硬化させて、第一のシールパターンの内側を封止する封止工程と、を含んでいることを特徴とする、液晶装置の製造方法により、達成される。
【００１５】
請求項１の構成によれば、第一のシールパターンにより画成される各液晶セルに対する液晶注入が、各液晶セル毎の分離の前に一括して行なわれるので、注入治具により各液晶セルの液晶注入口の開放面を整列させて保持する必要がない。
従って、工程数が少なくて済み、製造コストが低減され、製造時間が短縮され得ると共に、各液晶セルの取扱いが容易であることから、特に小型の液晶セルの製造に好適である。
また、各液晶セルの液晶注入口の封止が、第一及び第二のシールパターンの間に注入された液体の硬化によって行なわれるので、従来のプレスエンドシール工程が不要となると共に、液晶注入口付近の取出し電極の形成も可能となり、液晶セルの全周にて取出し電極を形成することができるので、設計の自由度が高くなる。
さらに、各工程におけるプレスが、気圧あるいは液体圧による非接触式プレスにより行なうことができるので、ガラス基板表面の傷付きがより一層低減され得る。
また、封止工程は、液体の硬化によって行なわれるので、従来のような各液晶セルのプレス治具へのセットが不要となり、液晶の押し出しも不要であることから、封止工程に要する時間が大幅に短縮されることになり、液晶装置の製造時間も短縮されるので、液晶装置の生産効率が向上することになる。
【００１６】
請求項２の発明は、請求項１の構成において、上記第一及び第二のシールパターンが、ガラス基板の所定間隔に対応する粒径のギャップコントロール剤を添加したシール剤により形成されていることを特徴とする。
請求項２の構成によれば、貼り合わせ工程にて、ガラス基板間を容易に保持することができる。
【００１７】
請求項３の発明は、請求項１または２の構成において、上記第一のシールパターンの液晶注入口と第二のシールパターンの注入口が、同じ方向を向いていることを特徴とする。
請求項３の構成によれば、液晶注入工程にて、第二のシールパターンの注入口から進入した液晶が、第一のシールパターンの液晶注入口に容易に進入し得ることになる。
【００１８】
請求項４の発明は、請求項１から３の何れかの構成において、上記液晶注入工程が、真空注入法により行なわれ、液体注入工程が、加圧減圧法により行なわれることを特徴とする。
請求項４の構成によれば、液晶注入工程にて、真空注入法により液晶が第一のシールパターン内まで十分に充填されることになると共に、液体注入工程にて、液体が加圧されて第二のシールパターン内に注入されることにより、注入圧によって内部の液晶が外部に押し出されることになる。
【００１９】
請求項５の発明は、請求項４の構成において、上記第二のシールパターンの注入口が、液晶を注入するための液晶注入口と液体を注入するための液体注入口とから成ることを特徴とする。
請求項５の構成によれば、液体注入工程にて、液体注入口から液体が加圧されて第二のシールパターン内に注入されることにより、注入圧によって内部の液晶が液晶注入口から外部に押し出されることになる。
【００２０】
請求項６の発明は、請求項５の構成において、上記液体注入口が、液晶注入工程では閉じられていることを特徴とする。
請求項６の構成によれば、液晶注入工程にて、液体注入口が閉じられているので、真空注入法により、液晶注入口から第一のシールパターン内に確実に液晶が充填され得ることになる。
【００２１】
請求項７の発明は、請求項１から６の何れかの構成において、液体注入工程において、第一のシールパターンの液晶注入口が上を向くように、第一及び第二のガラス基板から成る液晶セルが配置されることを特徴とする。
請求項７の構成によれば、液体注入工程にて、液体注入口から液体が加圧されて第二のシールパターン内に注入されることにより、注入圧によって内部の液晶が液晶注入口から外部に押し出される際に、第二のシールパターン内に空気が進入するようなことがなく、第一のシールパターンと第二のシールパターンの間の領域に、液体が確実に充填され得ることになる。
【００２２】
請求項８の発明は、請求項１の構成において、上記液体に添加される硬化性材料が、ＵＶ硬化樹脂であって、封止工程における液体の硬化が、紫外線照射により行なわれることを特徴とする。
請求項８の構成によれば、封止工程において、全体に紫外線を照射することによって、液体が硬化して、各液晶セルの液晶注入口が硬化した液体により封止されることになり、従来のプレス工程によるエンドシール剤による封止と比較して、容易に且つ短時間で封止が行なわれ得ることになる。
【００２３】
請求項９の発明は、請求項８の構成において、上記紫外線照射が、フォトマスクを使用することにより、第一のシールパターンの液晶注入口付近のみに対して行なわれることを特徴とする。
請求項９の構成によれば、各液晶セルの液晶注入口付近のみで、紫外線照射によって液体が硬化することにより、液晶注入口が封止されるので、その後に各液晶セル毎に分離する際、スクライブラインにおいて液体が硬化していないので、各液晶セル毎の分離が容易に行なわれ得ることになる。
【００２４】
請求項１０の発明は、請求項１の構成において、上記液体に添加される硬化性材料が、熱硬化性材料であって、封止工程における液体の硬化が、熱処理により行なわれることを特徴とする。
請求項１０の構成によれば、封止工程において、全体に熱処理を行なうことによって、液体が硬化して、各液晶セルの液晶注入口が硬化した液体により封止されることになり、従来のプレス工程によるエンドシール剤による封止と比較して、容易に且つ短時間で封止が行なわれ得ることになる。
【００２５】
請求項１１の発明は、請求項１から１０の何れかの構成において、さらに、封止工程の後に、各第一のシールパターンの外側にて、一対のガラス基板を切断して、画素領域毎に分離する分離工程を含んでいる。
請求項１１の構成によれば、分離工程にて、各液晶セル毎に分離することによって、複数個の液晶装置が製造されることになり、生産性が向上することになる。
【００２６】
請求項１２の発明は、請求項１から１０の何れかの構成において、第一のシールパターンにより画成される液晶セルが、２インチ以下の対角線長を有することを特徴とする。
請求項１３の発明は、請求項１から１１の何れかの構成において、第一のシールパターンにより画成される液晶セルが、１ｃｍ以下の対角線長を有することを特徴とする。
請求項１２または１３の構成によれば、小型の液晶セルから成る液晶装置が製造されることになり、その際、各液晶セルは、画素領域を包囲する第一のシールパターンにより画成されており、各ガラス基板の間隔（以下、セル厚という）は、第一のシールパターンに添加されるギャップコントロール剤により保持されているが、全体が小型であることから、画素領域全体においてほぼ均一なセル厚が得られることになる。
【００２７】
このようにして、本発明によれば、各液晶セルを画成する第一のシールパターンの外側に、すべての液晶セルを包囲する第二のシールパターンを形成して、各液晶セル内に液晶を注入した後、第一のシールパターンと第二のシールパターンの間の領域を、硬化性材料を添加した液体で充填し、この液体を硬化させることによって、各液晶セルを画成する第一のシールパターンの液晶注入口を封止する。これにより、各液晶セル毎に分離して、個々の液晶セル内に液晶を注入せず、全液晶セル内に液晶を一括して注入した後、各液晶セルの液晶注入口を液体の硬化によって封止する。従って、各液晶セルの液晶注入口の封止のために、従来のようにプレス治具により余分の液晶を押し出して、エンドシール剤により封止を行なう場合に比較して、容易に且つ短時間で液晶装置を製造することができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態による液晶装置の製造方法について説明する。
本発明による液晶装置の製造方法の一実施形態においては、図１のフローチャートに示すように、以下のような工程により、液晶装置を製造することができる。
【００２９】
先ず、予備段階として、以下の工程を行なう。
ステップ１にて、一対のガラス基板のうち、一方のガラス基板の表面に、実際の液晶セルのギャップに応じた粒径を有するＧＣ剤（スペーサ）を添加したシール剤を塗布して、各画素領域の外周を包囲するように、少なくとも一箇所の注入口を備える第一のシールパターンを形成すると共に、ステップ２にて、上記と同じＧＣ剤を添加したシール剤を一方または他方のガラス基板の表面の周縁領域にて、上記第一のシールパターンの外側に塗布して、少なくとも一つ以上の注入口を備える第二のシールパターンを形成する。
ここで、第二のシールパターンの注入口は、後述する液晶注入工程にて液晶注入口として使用される注入口と、液体注入工程にて液体注入口として使用される注入口を含んでおり、この液体注入口は閉じられている。
また、双方のガラス基板の表面には、上記シール剤を除いて、ＧＣ剤は散布されない。
【００３０】
その後、ステップ３にて、双方の基板を互いに対向配置して重ね合わせて、プレス工程によりプレスした状態で、熱処理することにより、第一のシールパターン及び第二のシールパターンを硬化させる。
これにより、各第一のシールパターンにより画成された空セルが形成されることになる。
この場合、各空セルは、第一のシールパターンを構成するシール剤に含まれるＧＣ剤により、その粒径により各ガラス基板が所定間隔に保持されることになる。その際、各液晶セルが例えば２インチ以下、好ましくは１ｃｍ以下の対角線長の場合には、ほぼ均一なセル厚が得られる。
【００３１】
次に、第一注入工程（液晶注入工程）として、以下の工程を行なう。
ステップ４にて、第二のシールパターンの液晶注入工程用の注入口から、第二のシールパターン及び第一のシールパターン内に、液晶を注入する。
液晶注入方法としては、従来と同様の真空注入法を利用する。尚、第二のシールパターンに液晶注出口を備えておけば、液晶注入口から加圧した液晶を注入すると共に、液晶注出口から内部の空気を排気して減圧することにより、第二のシールパターン及び第一のシールパターンの内部に液晶を充填する、所謂加圧減圧法を利用することも可能である。
ここで、第二のシールパターンに設けられた液体注入口を、液晶注出口として利用してもよい。
【００３２】
その後、第二注入工程（液体注入工程）として、以下の工程を行なう。
ステップ５にて、上記第一注入工程では閉鎖されていた第二のシールパターンの液体注入工程用の液体注入口を開放する。そして、液体注入口及び液晶注入口をそれぞれ液体注入口及び液体注出口として加圧減圧法により、液体注入口から、第二のシールパターン内に硬化性液体を加圧注入すると共に、液体注出口から液晶を排出する。
このとき、第一のシールパターン及び第二のシールパターンは、上記硬化性液体が、第一のシールパターンと第二のシールパターンの間の領域のみに充填され、この領域のみの液晶が排出され得るように、その形状及び配置が構成されている。
これにより、第一のシールパターン内に液晶を充填し、且つ第一のシールパターンと第二のシールパターンとの間の領域に硬化性液体を充填した、液晶セルが形成されることになる。
【００３３】
ここで、硬化性液体は、例えばＵＶ硬化樹脂や熱硬化性材料を添加した液体であって、紫外線照射や熱処理によって硬化するように構成されている。
ただし、液晶注入工程にて真空注入法により液晶の注入を行なう場合、第一のシールパターンの液晶注入口は基本的に一箇所であるので、液体注入工程にて加圧減圧法により液体を注入したときには、液体は第一のシールパターンと第二のシールパターンの間の領域のみに注入されることになる。
【００３４】
続いて、封止工程として、以下の工程を行なう。
ステップ６にて、上記液晶セルを再びプレス工程によりプレスした状態にて、液晶セルに対して紫外線を照射し、または熱処理を行なうことにより、第一のシールパターンと第二のシールパターンとの間に充填された硬化性液体を硬化させる。
【００３５】
最後に、分離工程として、以下の工程を行なう。
ステップ７にて、上記液晶セルを、各第一のシールパターンの外側にて一対のガラス基板をスクライブ及びブレイキングにより切断することにより、各画素領域毎に分離する。
これにより、それぞれ一つの画素領域を備えた液晶装置が完成する。
【００３６】
このようにして、本発明による液晶装置の製造方法によれば、実際のシールパターンとして作用する第一のシールパターンの液晶注入口の封止が、第一のシールパターンと第二のシールパターンとの間に注入された硬化性液体の硬化により行なわれるので、従来のような液晶の押出しを含むプレスエンドシール工程が不要になるので、液晶装置の製造時間が短縮され得ると共に、液晶注入口付近での取出し電極の形成も可能となるので、液晶装置の設計の自由度が高くなる。
【００３７】
図２は、本発明による液晶装置の製造方法の第一の具体例を示している。
予備段階にて、図２（ａ）に示すように、１５０ｍｍ角で厚さ０．５ｍｍの大きさであって、各画素領域にＩＴＯ膜による複数個の画素パターン電極を備えたガラス基板１０を用意して、このガラス基板１０の表面に、ＧＣ剤として例えば５μｍの粒径を有するグラスファイバーを添加したシール剤を、例えばディスペンサにより第一のシールパターン１１及び第二のシールパターン１２を形成する。
【００３８】
ここで、第一のシールパターン１１は、ガラス基板１０上のＩＴＯ膜による各画素パターン電極の領域（画素領域）を包囲するように、図２（ａ）にて縦横に複数個並んで配設され、例えば８ｍｍ角に形成されており、図２（ａ）にて下縁に開放した一つの液晶注入口１１ａを備えている。
【００３９】
これに対して、第二のシールパターン１２は、上記すべての第一のシールパターン１１を包囲するように、ガラス基板１０の外周付近に沿って形成されており、図２（ａ）に示すように、下縁に形成された第一の注入口（液晶注入口）１２ａと、上縁に形成された第二の注入口（液体注入口）１２ｂと、を備えている。
ここで、液晶注入口１２ａは、開放しており、また液体注入口１２ｂは、さらに外側にシールパターン１２ｃが形成されることにより、閉じられている。
【００４０】
このようにして第一のシールパターン１１及び第二のシールパターン１２が形成されたガラス基板１０は、図示しない各画素領域に共通電極を有するガラス基板（対向基板）と重ね合わされ、プレス工程によりプレスした状態にて、例えば１５０℃で２時間の熱処理を行なうことにより、上記第一のシールパターン１１及び第二のシールパターン１２が硬化されると共に、ガラス基板１０及び対向基板が互いに貼り合わされ、固定保持されることにより、第一のシールパターン１１により画成される空セルが形成される。
この場合、各空セルのセル厚分布は、５μｍ±０．１μｍ以内に収まっており、十分な均一性を有している。
【００４１】
次に、第一のシールパターン１１の内部に、真空注入法により液晶を注入する。
貼り合わせたガラス基板１０及び対向基板を、図２（ｂ）に示すように真空チャンバ２０内に収容し、さらにこの真空チャンバ２０内に、液晶ＬＣを充填した液晶タンク２１を収容して、真空チャンバ２０内を真空引きする。
尚、真空チャンバ２０の代わりに、真空パック等を使用することも可能である。
そして、真空チャンバ２０内が所定の真空度に達した時点で、図２（ｂ）に示すように、第二のシールパターン１２の液晶注入口１２ａが液晶タンク２１内の液晶ＬＣ内に浸かる状態にする。
その後、真空チャンバ２０内を大気圧に戻すと、第二のシールパターン１２内に液晶ＬＣが充填される。その際、第一のシールパターン１１の内部を真空引きされていることから、液晶ＬＣは、各空セル内にも確実に充填されることになる。
【００４２】
続いて、第一のシールパターン１１と第二のシールパターン１２との間の領域に、加圧減圧法により、硬化性液体２２を充填する。
先ず、図２（ａ）におけるＡ−Ａ線に沿って、第二のシールパターン１２の液体注入口１２ｂを閉じている部分１２ｃを、スクライバ等により、ガラス基板１０及び対向基板ごと切断して、液体注入口１２ｂを開放する。
そして、図２（ｃ）に示すように、液体注入口１２ｂから加圧した硬化性液体２２を注入すると共に、内部の液晶ＬＣを、液晶注入口１２ａを注出口として排出させる。その際、好ましくは液晶注入口１２ａを減圧することにより、液晶ＬＣの排出が促進されることになる。
ここで、上記硬化性液体２２は、例えばＵＶ硬化樹脂を添加した液体から成り、液体としては液晶ＬＣと相溶性の低い材料、例えば共栄社化学のＡＴ−６００が使用される。
この場合、第一のシールパターン１１はただ一つの液晶注入口１１ａのみを有しているので、上述した加圧減圧法による硬化性液体２２の加圧注入の際にも、第一のシールパターン１１内の液晶ＬＣは、そのまま保持される。
また、硬化性液体２２の注入が液晶注入口１１ａから行なわれ、液晶の排出が液体注入口１１ｂから行なわれるようにしてもよい。
これにより、第一のシールパターン１１内に液晶ＬＣが充填され、第一のシールパターン１１と第二のシールパターン１２との間に硬化性液体２２が充填されることになり、液晶セルが形成される。
【００４３】
その後、第一のシールパターン１１の液晶注入口１１ａを封止する。
図２（ｄ）に示すように、液晶セルをプレス工程によりプレスすることにより、第一のシールパターン１１により画成される個々の液晶セルのセル厚を均一に制御した状態にて、液晶セルの全面に対して紫外線を照射することにより、第一のシールパターン１１と第二のシールパターン１２との間に充填された硬化性液体２２を硬化させる。これにより、第一のシールパターン１１の液晶注入口１１ａが硬化性液体２２の硬化によって封止されることになる。
尚、紫外線照射において、第一のシールパターン１１の液晶注入口１１ａ付近にのみ紫外線を照射させるように、フォトマスクを使用してもよい。その場合、個々の液晶セルを構成する第一のシールパターン１１の液晶注入口１１ａが確実に封止されると共に、それ以外の領域では、硬化性液体２２が硬化しないので、その後の分離工程にて、分離が容易に行なわれる。
【００４４】
最後に、第一のシールパターン１１により画成される個々の液晶セル毎に分離する。
液晶セルを、第一のシールパターン１１の外側に沿って、例えばダイヤモンドカッターを使用して、ガラス基板１０及び対向基板のスクライブ及びブレイキングすることにより、図２（ｅ）に示すように、個々の液晶セル毎に分離して、個々の液晶装置１３が完成する。
【００４５】
図３は、本発明による液晶装置の製造方法の第二の具体例を示している。
予備段階にて、図３（ａ）に示すように、１５０ｍｍ角で厚さ０．５ｍｍの大きさであって、各画素領域にＩＴＯ膜による複数個の画素パターン電極を備えたガラス基板３０を用意して、このガラス基板３０の表面に、ＧＣ剤として例えば５μｍの粒径を有するグラスファイバーを添加したシール剤を、例えばディスペンサにより第一のシールパターン３１及び第二のシールパターン３２を形成する。
【００４６】
ここで、第一のシールパターン３１は、ガラス基板３０上のＩＴＯ膜による各画素パターン電極の領域（画素領域）を包囲するように、図３（ａ）にて縦横に複数個並んで配設され、例えば８ｍｍ角に形成されており、図３（ａ）にて下縁に開放した一つの液晶注入口３１ａを備えている。
【００４７】
これに対して、第二のシールパターン３２は、上記すべての第一のシールパターン３１を包囲するように、ガラス基板３０の外周付近に沿って形成されており、図３（ａ）に示すように、下縁に形成された第一の注入口（液晶注入口）３２ａと、上縁に形成された第二の注入口（液体注入口）３２ｂと、を備えている。
ここで、液晶注入口３２ａ及び液体注入口３２ｂは、開放している。
【００４８】
このようにして第一のシールパターン３１及び第二のシールパターン３２が形成されたガラス基板３０は、図示しない各画素領域に共通電極を有するガラス基板（対向基板）と重ね合わされ、プレス工程によりプレスした状態にて、例えば１５０℃で２時間の熱処理を行なうことにより、上記第一のシールパターン３１及び第二のシールパターン３２が硬化されると共に、ガラス基板３０及び対向基板が互いに貼り合わされ、固定保持されることにより、第一のシールパターン３１により画成される空セルが形成される。
この場合、各空セルのセル厚分布は、５μｍ±０．１μｍ以内に収まっており、十分な均一性を有している。
【００４９】
次に、第一のシールパターン３１の内部に、真空注入法により液晶を注入する。
貼り合わせたガラス基板３０及び対向基板を、注入治具４０により保持すると共に、液体注入口３２ｂを例えばゴム製の閉鎖部材４１により気密的に閉じた状態で、図３（ｂ）に示すように真空チャンバ２０内に収容し、さらにこの真空チャンバ２０内に、液晶ＬＣを充填した液晶タンク２１を収容して、真空チャンバ２０内を真空引きする。
尚、真空チャンバ２０の代わりに、真空パック等を使用することも可能である。
そして、真空チャンバ２０内が所定の真空度に達した時点で、図３（ｂ）に示すように、第二のシールパターン３２の液晶注入口３２ａが液晶タンク２１内の液晶ＬＣ内に浸かる状態にする。
その後、真空チャンバ２０内を大気圧に戻すと、第二のシールパターン３２内に液晶ＬＣが充填される。その際、第一のシールパターン３１の内部を真空引きされていることから、液晶ＬＣは、各空セル内にも確実に充填されることになる。
この場合、第二のシールパターン３２の液体注入口３２ｂの気密性を向上させるために、閉鎖部材４１の液体注入口３２ｂの接触部分に、真空グリース等を塗布するようにしてもよい。
【００５０】
続いて、第一のシールパターン３１と第二のシールパターン３２との間の領域に、加圧減圧法により、硬化性液体２２を充填する。
図３（ｃ）に示すように、液体注入口３２ｂから加圧した硬化性液体２２を注入すると共に、内部の液晶ＬＣを、液晶注入口３２ａを注出口として排出させる。その際、好ましくは液晶注入口３２ａを減圧することにより、液晶ＬＣの排出が促進されることになる。
ここで、上記硬化性液体２２は、例えばＵＶ硬化樹脂を添加した液体から成り、液体としては液晶ＬＣと相溶性の低い材料、例えば長瀬チバ製のフォトレック（低粘度品）が使用される。
尚、硬化性液体２２の注入が液晶注入口１１ａから行なわれ、液晶の排出が液体注入口１１ｂから行なわれるようにしてもよい。
これにより、第一のシールパターン３１内に液晶ＬＣが充填され、第一のシールパターン３１と第二のシールパターン３２との間に硬化性液体２２が充填されることになり、液晶セルが形成される。
【００５１】
その後、第一のシールパターン３１の液晶注入口３１ａを封止する。
図３（ｄ）に示すように、液晶セルをプレス工程によりプレスすることにより、第一のシールパターン３１により画成される個々の液晶セルのセル厚を均一に制御した状態にて、液晶セルの全面に対して紫外線を照射することにより、第一のシールパターン３１と第二のシールパターン３２との間に充填された硬化性液体２２を硬化させる。これにより、第一のシールパターン３１の液晶注入口３１ａが硬化性液体２２の硬化によって封止されることになる。
尚、紫外線照射において、第一のシールパターン３１の液晶注入口３１ａ付近にのみ紫外線を照射させるように、フォトマスクを使用してもよい。その場合、個々の液晶セルを構成する第一のシールパターン３１の液晶注入口３１ａが確実に封止されると共に、それ以外の領域では、硬化性液体２２が硬化しないので、その後の分離工程にて、分離が容易に行なわれる。
【００５２】
最後に、第一のシールパターン３１により画成される個々の液晶セル毎に分離する。
液晶セルを、第一のシールパターン３１の外側に沿って、例えばダイヤモンドカッターを使用して、ガラス基板３０及び対向基板のスクライブ及びブレイキングすることにより、図３（ｅ）に示すように、個々の液晶セル毎に分離して、個々の液晶装置３３が完成する。
【００５３】
上述した実施形態及び具体例においては、ＧＣ剤として、粒径５μｍのグラスファイバーが使用されているが、これに限らず、球形，円柱形，角柱形，楕円球形，無定形等のガラス基板及び対向基板の間隔を所定寸法に保持することができるものであればよい。ただし、強度の面からも、前述した円柱状のグラスフィイバが望ましい。
また、上述した実施形態及び具体例においては、第一のシールパターン及び第二のシールパターンが一方のガラス基板１０，３０に形成されており、他方のガラス基板には形成されていないが、これに限らず、一方のガラス基板に第一のシールパターンを、且つ他方のガラス基板に第二のシールパターンを形成するようにしてもよいことは明らかである。
さらに、上述した実施形態及び具体例においては、第一のシールパターン及び第二のシールパターンは、実質的に四角形に形成されているが、これに限らず、必要に応じて、他の形状に形成されていてもよい。
【００５４】
また、上述した実施形態及び具体例において、液晶ＬＣは真空注入法により、また硬化性液体２２は加圧減圧法により、それぞれ注入されるように構成されているが、これに限らず、他の任意の注入方法、例えば加圧減圧法や真空注入法そして毛細管現象を利用した方法等を利用するようにしてもよい。
さらにまた、プレス工程は、一般的にはプレス治具やプレス機を利用したり、これらのプレス面にウレタンゴム等のクッション部材を設ける方法が採用されるが、これに限らず、少なくとも一側ではエアーや窒素等の気体圧力や水等の液体圧力により非接触にて圧力を加える方法、さらには真空パック等により圧力を加える方法も可能である。
【００５５】
上述した実施形態及び具体例においては、個々の液晶装置１３，３３の分離は、ガラス基板１０及び対向基板を例えばダイヤモンドカッターを使用してスクライブ及びブレイキングにより行なうようになっているが、これに限らず、ピエゾ等によりダイヤモンドカッターに超音波振動を付与したり、高出力レーザカッターによりガラス基板及び対向基板を切断するようにしてもよい。この場合、切断加工時に、ほとんど切り粉が発生せず、またブレイキングが不要であることから、より一層傷付きの少ない液晶装置を製造することが可能である。
【００５６】
さらに、上述した実施形態及び具体例においては、第一及び第二のシールパターンを構成するシール剤は、熱硬化性材料から構成されており、熱処理によって硬化されるようになっているが、この熱処理は、ヒータだけでなく、オーブンやホットプレートを使用してもよい。
また、シール剤として紫外線硬化樹脂を含むシール剤を使用してもよく、その場合には、熱処理の代わりに、紫外線を照射することにより、シール剤が硬化される。
【００５７】
本発明による液晶装置の製造方法により製造された液晶装置は、例えば液晶ディスプレイ、特に小型の液晶ディスプレイや、インスタントフィルム・印画紙用書き込み光源，光ピックアップ，カメラの絞り・シャッタ，レーザプリンタ用等の液晶光シャッタ，液晶レンズ，液晶光ヘッド，液晶センサ等を備えた製品全般が対象となる。
【００５８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明による液晶装置の製造方法によれば、以下に示す利点が得られる。
１）工程数が少なくなり、製造コストの削減，製造時間の短縮が可能になる。
特に、表示（または光制御）部分の面積が小さい小型液晶セルの製造方法として好適である。
２）従来のようなプレスエンドシール工程が不要であることから、取出し電極の設計の自由度が高くなる。従って、例えば液晶セルの全周縁に取出し電極を設けることができる。（実際には、第一のシールパターンの液晶注入口付近では、取出し電極を設けることはできない。）
３）傷発生の主原因となる切り粉を発生させる分離工程におけるスクライブ及びブレイキングが、液晶装置の製造工程における最終工程であることから、液晶セルのガラス基板表面の傷付きを最小限に抑えることができる。
４）すべてのプレス工程を、気圧または液体圧による非接触プレス工程により行なうことができる。従って、液晶セルのガラス基板表面の傷付きをより一層抑えることができる。
５）液晶注入口の封止が、硬化性液体２２の紫外線照射や熱処理による硬化によって行なわれるので、従来のような液晶の押出しやプレス治具へのセットが不要となり、液晶装置の製造時間が短縮される。
【００５９】
このようにして、本発明によれば、少ない工程により、短時間で製造することができると共に、ガラス基板の表面の傷付きを低減するようにした、極めて優れた液晶装置の製造方法が提供され得ることになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による液晶装置の製造方法の一実施形態における各工程を示すフローチャートである。
【図２】本発明による液晶装置の製造方法の第一の具体例を順次に示す概略図である。
【図３】本発明による液晶装置の製造方法の第一の具体例を順次に示す概略図である。
【図４】一般的な液晶表示装置の製造工程を示す図であり、（ａ）は第一の基板上にスペーサ剤を配置する工程を、（ｂ）は第二の基板上にシール剤を配置する工程を示す図である。
【図５】一般的な液晶表示装置の製造工程の図４に続く工程を示す図であり、（ａ）は双方の基板を重ね合わせた状態を、（ｂ）はその後にプレスする状態を示す図である。
【図６】一般的な液晶表示装置の製造工程の図５に続く工程を示す図である。
【図７】一般的な液晶表示装置の製造工程の図６に続く工程を示す図である。
【図８】一般的な液晶表示装置の製造工程の図７に続く工程を示す図であり、（ａ）は液晶装置を真空チャンバ内に入れた様子を、（ｂ）は液晶セル内に液晶を注入する様子を示す図である。
【図９】一般的な液晶表示装置の製造工程の図８に続く工程を示す図であり、（ａ）は余分な液晶を拭き取る工程を、（ｂ）は液晶装置の注入口を封止する工程を示す図である。
【符号の説明】
１０，３０    ガラス基板
１１，３１    第一のシールパターン
１１ａ，３１ａ  液晶注入口
１２，３２    第二のシールパターン
１２ａ，３２ａ  液晶注入口
１２ｂ，３２ｂ  液体注入口
１３，３３    液晶装置
２０    真空チャンバ
２１    液晶タンク
２２    硬化性液体
４０    注入治具
４１    閉鎖部材
【図１】
0004648521.tif 000002
【図２】
0004648521.tif 000003
【図３】
0004648521.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
0004648521.tif 000007
【図７】
0004648521.tif 000008
【図８】
0004648521.tif 000009
【図９】
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