(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）金属粒子、（ｂ）結着樹脂、（ｃ）多官能性（メタ）アクリレートおよび（ｄ）下記式（１）または下記式（２）で表される化合物を含有する、電極形成用樹脂組成物。
【化１】
0004639770.tif 000003
〔式（１）および式（２）において、Ｒ1およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子から選ばれる少なくとも１種で置換されてもよい。）、フェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子から選ばれる少なくとも１種で置換されてもよい。）、炭素数４〜２０の含酸素複素環含有基、炭素数４〜２０の含窒素複素環含有基または炭素数４〜２０の含硫黄複素環含有基であり（但し、Ｒ1およびＲ２がいずれも水素原子である場合を除く）、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。〕
【請求項２】
支持フィルム上に、請求項１記載の電極形成用樹脂組成物からなる層が形成されてなることを特徴とする、転写フィルム。
【請求項３】
請求項１記載の電極形成用樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を基板上に形成し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、無機パターンを有するパネル部材を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機粉体含有樹脂組成物およびそれを用いて得られる転写フィルムに関する。詳しくは、プラズマディスプレイパネルを構成するパネル材料の形成に好適な、無機粉体含有樹脂組成物および転写フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう）の断面形状を示す模式図である。同図において、１および２は対抗配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極４の抵抗を下げる目的で、当該透明電極４上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光物質、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、９はアドレス電極６を被覆するようガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＰＤＰにあっては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００３】
このようなＰＤＰの誘電体層、隔壁、電極、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックストライプ（マトリクス）等の製造方法としては、感光性無機粒子含有樹脂層を基板上に形成し、この膜にフォトマスクを介して紫外線を照射する方法やレーザー光を走査して直接描画する方法などで露光した上で現像することにより基板上にパターンを残存させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法などが好適に用いられている。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−１６２３３９号公報
【特許文献２】特開２００１−８４８３３号公報
【特許文献３】特開２００２−２４５９３２号公報
【特許文献４】特開２００３−５１２５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記フォトリソグラフィー法では、原理的にパターン精度に優れており、特に転写フィルムを用いる方法においては、膜厚の均一性および表面の均一性に優れたパターンを形成することができる。しかしながら、従来のフォトリソグラフィー法では、形成するパネル材料に必要な無機粉体含有樹脂層の膜厚を確保しつつパターニングを行うためには、無機粉体含有樹脂層の感度が不十分であり、得られるパターンの形状が良好なものになりにくいという問題があった。また、感度を確保するために光開始剤を増量すると、焼成処理における有機物の燃焼性が低下して、電極を形成した場合に抵抗値が高いものになってしまったり、隔壁を形成した場合に得られる隔壁が着色したりする原因になりやすいという問題があった。また、現像処理における現像速度が低下して、作業性が悪くなったりパターンに亀裂が生じたりする原因になりやすいという問題があった。
【０００６】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものである。
本発明の第１の目的は、燃焼性や現像速度を低下させることなく、パターン形状に優れたＰＤＰの構成要素（例えば誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）を好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物を提供することにある。
本発明の第２の目的は、作業性に優れ、パターン形状に優れたＰＤＰの構成要素が形成できる転写フィルムを提供することにある。
本発明の第３の目的は、作業性に優れ、パターン形状に優れたＰＤＰの構成要素が形成できるＰＤＰの製造方法を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、下記説明で明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物（以下、単に「本発明の組成物」ともいう）は、（ａ）無機粉体、（ｂ）結着樹脂、（ｃ）多官能性（メタ）アクリレートおよび（ｄ）下記式（１）または下記式（２）で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」ともいう）を含有することを特徴とする。
【０００８】
【化１】
0004639770.tif 000002
【０００９】
〔式（１）および式（２）において、Ｒ1およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子から選ばれる少なくとも１種で置換されてもよい。）、フェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子から選ばれる少なくとも１種で置換されてもよい。）、炭素数４〜２０の含酸素複素環含有基、炭素数４〜２０の含窒素複素環含有基または炭素数４〜２０の含硫黄複素環含有基であり（但し、Ｒ1およびＲ２がいずれも水素原子である場合を除く）、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基であり、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。〕
【００１０】
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、本発明の無機粉体含有樹脂組成物からなる層が形成されてなることを特徴とする。
本発明のＰＤＰの製造方法は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を基板上に形成し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、無機パターンを有するパネル部材を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、作業性に優れ、かつ優れたパターン形状を有するとともに良好な密着性を有する無機パターンを形成することができる。本発明の無機粉体含有樹脂組成物および転写フィルムは、プラズマディスプレイパネルのパネル部材の形成に好適に使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。
＜無機粉体含有樹脂組成物＞
（ａ）無機粉体
本発明の組成物を構成する無機粉体を構成する無機物質としては金属粒子を使用することができる。
ここに、ＰＤＰを構成する「誘電体層」および「隔壁」を形成するための組成物に含有される無機粉体については、軟化点が３５０〜７００℃（好ましくは４００〜６２０℃）の範囲内にあるガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化点が４００℃未満である場合には、当該組成物による膜形成材料層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成されるガラス焼結体中に有機物質の一部が残留し、この結果、得られる隔壁（ガラス焼結体）が着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末の軟化点が６２０℃を超える場合には、６２０℃より高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
好適なガラス粉末の具体例としては、Ｉ．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−B2O3−SiO2系）の混合物、II．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、III．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（PbO−B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、IV．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物などを例示することができる。
これらガラス粉末は、隔壁以外の構成要素（例えば誘電体層・電極・抵抗体・蛍光体・カラーフィルター・ブラックマトリックス）を形成するための組成物中に含有（併用）されていてもよい。これらの構成要素を得るための無機粉体含有樹脂組成物におけるガラス粉末の含有量は、無機粉体全量に対して、通常、９０質量％以下、好ましくは、５〜９０質量％である。
【００１３】
ＰＤＰを構成する「電極」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Ag、Au、Al、Ni、Ag−Pd合金、CuおよびCrなどからなる金属粒子を挙げることができる。
ＰＤＰを構成する「抵抗体」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、RuO2などからなる粒子を挙げることができる。
ＰＤＰを構成する「蛍光体」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Y2O3：Eu3+、Y2SiO5：Eu3+、Y3Al5O12：Eu3+、YVO4：Eu3+、(Y, Gd)BO3：Eu3+、Zn3(PO4)2：Mnなどの赤色用蛍光物質；Zn2SiO4：Mn、BaAl12O19：Mn、BaMgAl14O23：Mn、LaPO4：(Ce, Tb)、Y3(Al, Ga)5O12：Tbなどの緑色用蛍光物質；Y2SiO5：Ce、BaMgAl10O17：Eu2+、BaMgAl14O23：Eu2+、(Ca, Sr, Ba)10(PO4)6Cl2：Eu2+、(Zn, Cd)S：Agなどの青色用蛍光物質などからなる粒子を挙げることができる。
ＰＤＰを構成する「カラーフィルター」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Fe2O3、Pb3O4などの赤色用物質、Cr2O3などの緑色用物質、2（Al2Na2Si3O10）・Na2S4などの青色用物質などからなる粒子を挙げることができる。
ＰＤＰを構成する「ブラックマトリックス」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Mn、Fe、Cr、Coなどからなる粒子を挙げることができる。
【００１４】
（ｂ）結着樹脂
本発明の無機粉体含有樹脂組成物を構成する結着樹脂としては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ可溶性樹脂を３０〜１００質量％の割合で含有する樹脂を用いることが好ましい。ここに、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ性の現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
かかるアルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができる。
このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下記のモノマー（イ）とモノマー（ハ）との共重合体、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体などのアクリル樹脂を挙げることができる。
【００１５】
モノマー（イ）：カルボキシル基含有モノマー類
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなど。
モノマー（ロ）：ＯＨ含有モノマー類
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどの水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類など。
モノマー（ハ）：その他の共重合可能なモノマー類
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ラウリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルなどのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；メチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレート、ｎ−ブチル−α−（ヒドロキシメチル）アクリレートなどのα−ヒドロキシメチル基を有するアクリレート；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類；ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマー類など。
【００１６】
上記モノマー（イ）とモノマー（ハ）との共重合体や、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体は、モノマー（イ）に由来する共重合成分の存在により、アルカリ可溶性を有するものとなる。中でもモノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体は、（Ａ）無機粉体の分散安定性や後述するアルカリ現像液への溶解性の観点から特に好ましい。
この共重合体におけるモノマー（イ）に由来する共重合成分の含有率は、好ましくは５〜６０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％であり、モノマー（ロ）に由来する共重合成分の含有率は、好ましくは１〜５０質量％、特に好ましくは５〜３０質量％である。
【００１７】
本発明の組成物に用いられる結着樹脂として特に好ましい組成としては、メタクリル酸／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸ｎ−ブチル共重合体や、メタクリル酸／コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸ｎ−ブチル共重合体が挙げられる。
【００１８】
上記アルカリ可溶性樹脂の分子量としては、Ｍｗが５，０００〜５，０００，０００であることが好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜３００，０００とされる。
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物における結着樹脂の含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、通常、１〜２００質量部とされ、好ましくは、５〜１００質量部、特に好ましくは、１０〜８０質量部とされる。
【００１９】
（ｃ）多官能性（メタ）アクリレート
本発明の組成物を構成する多官能性（メタ）アクリレートは、露光により重合し、露光部分をアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性にする性質を有する。
多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
これらのうち、トリメチロールプロパントリアクリレート等が特に好ましく用いられる。
上記多官能性（メタ）アクリレートの分子量としては、１００〜２，０００であることが好ましい。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物における光重合性モノマーの含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、通常、５〜５０質量部とされ、好ましくは、１０〜４０質量部とされる。
【００２０】
（ｄ）化合物（Ｉ）
本発明の組成物を構成する化合物（Ｉ）は、光重合開始剤として含有される。化合物（Ｉ）を用いることにより、高感度で硬化深度の良好な組成物を得ることができ、従って得られる構成要素のパターン形状が良好なものになるという効果を有する。また、光重合開始剤全体の含有量を少なくすることができることから、燃焼性や現像性に優れた組成物を得ることができる。
【００２１】
化合物（Ｉ）を示す上記式（１）および上記式（２）中、Ｒ1およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子から選ばれる少なくとも１種で置換されてもよい。）、フェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、フェニル基およびハロゲン原子から選ばれる少なくとも１種で置換されてもよい。）、炭素数４〜２０の含酸素複素環含有基、炭素数４〜２０の含窒素複素環含有基または炭素数４〜２０の含硫黄複素環含有基である（但し、Ｒ1およびＲ２がいずれも水素原子である場合を除く）。
炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基、スピロアルキル基、ｔｅｒ−シクロアルキル基、テルペン骨格含有基、アダマンチル骨格含有基等が挙げられる。また、炭素数４〜２０の含窒素複素環含有基、炭素数４〜２０の含酸素複素環含有基、炭素数４〜２０の含硫黄複素環含有基としては、たとえば、チオラニル基、アゼピニル基、ジヒドロアゼピニル基、ジオキソラニル基、トリアジニル基、オキサチアニル基、チアゾーリル基、オキサジアジニル基、ジオキサインダニイル基、ジヒアナフタレニル基、フラニル基、チオフェニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ピラゾリル基、フラザニル基、ピラニル基、ピリジニル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピロリニル基、モルホニル基、ピペラジニル基、キヌクリジニル基、インドーリル基、イソインドーリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、インドリジニル基、クロメニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、プリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、プテリジニル基、カルバゾーリル基、アクリジニル基、フェナントリジニル基、チオキサンテニル基、フェナジニル基、フェノチアジニル基、フェノキサチイニル基、フェノキサジニル基、チアントレニル等が挙げられる。
【００２２】
かかる化合物（Ｉ）の具体例としては、１−[９−エチル−６−ベンゾイル−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−ノナン−１,２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−[９−エチル−６−ベンゾイル−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−ノナン−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−アセタート、１−[９−エチル−６−ベンゾイル−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−ペンタン−１，２−ペンタン−２−オキシム−Ｏ−アセタート、１−[９−エチル−６−ベンゾイル−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−[９−エチル−６−（１，３，５−トリメチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−[９−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−ビシクロヘプチルメタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−ビシクロヘプチル−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−アダマンチルメタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−アダマンチルメタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−テトラヒドロフラニルメタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−テトラヒドロフラニルメタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−チオフェニルメタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−チオフェニルメタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−モロフォニルメタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−モロフォニルメタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ビシクロヘプタンカルボキシレート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−トリシクロデカンカルボシキレート、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタ��−１−オンオキシム−Ｏ−アダマンタンカルボシキレート等を挙げることができる。これらは同時に２種以上を使用しても良い。
これらのうち、特に１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタートが好ましい。当該化合物は、上記式（１）で表され、Ｒ１がメチル基、Ｒ２がメチル基、Ｒ３がエチル基、Ｒ４がメチル基、Ｒ５およびＲ６が水素原子である化合物である。
本発明の組成物における化合物（Ｉ）の含有割合としては、多官能性（メタ）アクリレート１００質量部に対して、通常、０．１〜５０．０質量部とされ、好ましくは、１．０〜３０．０質量部とされる。
【００２３】
本発明の組成物には、化合物（Ｉ）以外の光重合開始剤を併用しても良い。その他の光重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
その他の光重合開始剤の含有割合としては、光重合開始剤全量に対して５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下とされる。
【００２４】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、通常、適当な流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために溶剤が含有される。用いられる溶剤としては、無機粉体との親和性、結着樹脂の溶解性が良好で、無機粉体含有樹脂組成物に適度な粘性を付与することができると共に、乾燥されることにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。
また、特に好ましい溶剤として、標準沸点（１気圧における沸点）が１００〜２００℃であるケトン類、アルコール類およびエステル類（以下、これらを「特定溶剤」という。）を挙げることができる。
【００２５】
かかる特定溶剤の具体例としては、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを例示することができ、これらのうち、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定溶剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
特定溶剤以外の溶剤の具体例としては、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールなどを挙げることができる。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
【００２６】
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、任意成分として、可塑剤、分散剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、レベリング剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、連鎖移動剤などの各種添加剤が含有されてもよい。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、上記無機粉体、結着樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤および溶剤と必要に応じて上記任意成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、ボールミル、ビーズミルなどの混練機を用いて混練することにより調製することができる。
上記のようにして調製される無機粉体含有樹脂組成物は、塗布に適した流動性を有するペースト状の組成物であり、その粘度は、通常１００〜１，０００，０００ｃｐ、好ましくは５００〜３００，０００ｃｐとされる。
【００２７】
＜転写フィルム＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を塗布し、塗膜を乾燥して得られる層が形成されてなる。転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、無機粉体含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
【００２８】
無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚の均一性に優れた膜厚の大きい（例えば１０μｍ以上）塗膜を効率よく形成することができるものであることが必要とされ、具体的には、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などを好ましいものとして挙げることができる。
なお、無機粉体含有樹脂組成物が塗布される支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、ＰＤＰ構成要素形成の際に、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００２９】
塗膜の乾燥条件としては、例えば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度とされ、乾燥後における溶剤の残存割合（無機粉体含有樹脂層中の含有率）は、通常２質量％以内とされる。
上記のようにして支持フィルム上に形成される無機粉体含有樹脂層の厚さとしては、無機粉体の含有率やサイズなどによっても異なるが、例えば５〜５００μｍとされる。
なお、無機粉体含有樹脂層の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。
【００３０】
＜ＰＤＰの製造方法＞
本発明のＰＤＰの製造方法は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物または本発明の転写フィルムを用いて無機粉体含有樹脂層を基板上に形成し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、無機パターンを有するパネル部材を形成することを特徴とする。以下に、各工程について説明する。
【００３１】
（ｉ）無機粉体含有樹脂層の形成工程
無機粉体含有樹脂層は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を基板上に塗布するか、本発明の転写フィルムを用い、基板上に当該転写フィルムにおける無機粉体含有樹脂層を転写することによって形成することができる。転写フィルムを用いる方法によれば、膜厚均一性に優れた無機粉体含有樹脂層を容易に形成することができ、形成されるパターンの膜厚均一化を図ることができる。さらに、上記転写フィルムを用いてｎ回転写を繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の無機粉体含有樹脂層を有する積層体を形成してもよい。また、ｎ層の無機粉体含有樹脂層からなる積層体を支持フィルム上に形成した転写フィルムを用いて基板上に一括転写することにより、上記積層体を形成してもよい。
無機粉体含有樹脂組成物の塗布方法としては、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法など種々の方法が挙げられ、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を塗布した後、塗膜を乾燥する方法により、無機粉体含有樹脂層Ａを形成することができる。なお、上記工程をｎ回繰り返すことでｎ層の積層体を形成してもよい。
また、転写フィルムを用いる転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必要に応じて使用される転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に、無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、無機粉体含有樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に無機粉体含有樹脂層が転写されて密着した状態となる。ここで、転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が４０〜１４０℃、加熱ローラによるロール圧が０．１〜１０ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分を示すことができる。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１４０℃とすることができる。
【００３２】
（ｉｉ）露光工程
無機粉体含有樹脂層の表面に、露光用マスクを介して紫外線などの放射線の選択的照射（露光）を行う方法や、レーザー光を走査する方法などで、パターンの潜像を形成する。ここに、放射線照射装置としては、フォトリソグラフィー法で一般的に使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置、レーザー装置などが用いられるが、特に限定されるものではない。
なお、無機粉体含有樹脂層を転写により形成した場合には、当該樹脂層上に被覆されている支持フィルムを剥離しない状態で露光を行うのが好ましい。
【００３３】
（ｉｉｉ）現像工程
露光された無機粉体含有樹脂層を現像して、無機粉体含有樹脂層のパターンを形成する。ここに、現像処理条件としては、無機粉体含有樹脂層の種類に応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法など）、現像装置などを適宜選択することができる。
【００３４】
（ｖｉ）焼成工程
無機粉体含有樹脂層のパターンを焼成処理して、無機粉体含有樹脂層の残留部における有機物質を焼失させる。この工程により、無機粉体含有樹脂層のパターンから、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス等のＰＤＰ構成要素が形成される。
ここに、焼成処理の温度としては、無機粉体含有樹脂層（残留部）中の有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常、４００〜６００℃とされる。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間とされる。
【００３５】
以下、上記各工程に用いられる材料、各種条件などについて説明する。
＜基板＞
基板材料としては、例えばガラス、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。この板状部材の表面に対しては、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理のような適宜の前処理を施されていてもよい。
なお、本発明においては、基板として、耐熱性を有するガラスを用いることが好ましい。ガラス基板としては、例えば旭硝子（株）製ＰＤ２００を好ましいものとして挙げることができる。
【００３６】
＜露光用マスク＞
本発明の製造方法による露光工程において使用される露光用マスクの露光パターンとしては、材料によって異なるが、一般的に１０〜５００μｍ幅のストライプである。
【００３７】
＜現像液＞
本発明の製造方法による現像工程で使用される現像液としては、アルカリ現像液を好ましく使用することができる。
なお、無機粉体含有樹脂層に含有される無機粉体は、アルカリ可溶性樹脂により均一に分散されているため、アルカリ性溶液で結着樹脂であるアルカリ可溶性樹脂を溶解させ、洗浄することにより、無機粉体も同時に除去される。
アルカリ現像液の有効成分としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙げることができる。
アルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または２種以上を水などに溶解させることにより調製することができる。ここに、アルカリ性現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常０．００１〜１０質量％とされ、好ましくは０．０１〜５質量％とされる。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において「部」は「質量部」を示す。
また、Ｍｗは、東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。
【００３９】
＜実施例１＞
（１）無機粉体含有樹脂組成物の調製
（ａ）無機粉体としてＡｇ粉体（平均粒径２．２μm）１００部およびガラスフリット（Ｂｉ2 Ｏ3 −Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系、平均粒径３μｍ、不定形、軟化点５２０℃、熱膨張係数α300＝８７×１０−７／℃）１０部、（ｂ）結着樹脂として、メタクリル酸／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸−ｎ−ブチル＝２５／２５／５０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝５０，０００）３０部、（ｃ）多官能性（メタ）アクリレートとして、トリメチロールプロパントリアクリレート３０部、（ｄ）化合物（Ｉ）として１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート３部、分散剤としてオレイン酸１部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１００部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（５００メッシュ、２５μｍ径）でフィルタリングすることにより、無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）を調製した。
（２）無機粉体含有樹脂層の形成
ガラス基板上に無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）を厚さ１０μｍでスクリーン印刷により塗布したのち、１００℃のクリーンオーブンで５分乾燥して、無機粉体含有樹脂層を形成した。
（３）無機粉体含有樹脂層の露光工程
ガラス基板上に形成された無機粉体含有樹脂層に対して、ライン幅１００μｍ、スペース幅４００μｍのストライプ状ネガ用露光用マスクを介して、超高圧水銀灯によりｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）およびｉ線（３６５ｎｍ）の混合光を照射した。その際の露光量は、３６５ｎｍのセンサーで測定した照度換算で４００ｍＪ／ｃｍ２とした。
（４）現像工程
露光処理された無機粉体含有樹脂層に対して、液温３０℃の０．３質量％の炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法による現像処理を６０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の無機粉体含有樹脂層を除去し、無機粉体含有樹脂層パターンを形成した。
（５）焼成工程
無機粉体含有樹脂層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で５９０℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これによりガラス基板の表面にパターン幅１００μｍ、厚み６μｍの電極が形成されてなるパネル材料を得ることができた。得られた電極はパターン形状および形状の均一性に優れ、亀裂は認められなかった。
【００４０】
＜実施例２＞
（１）無機粉体含有樹脂組成物の調製
（ａ）無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2 Ｏ3 −Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系、平均粒径３μｍ、不定形、軟化点５２０℃、熱膨張係数α300＝８７×１０−７／℃）１００部、（ｂ）結着樹脂として、メタクリル酸／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸−ｎ−ブチル＝２５／２５／５０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝５０，０００）２０部、（ｃ）多官能性（メタ）アクリレートとして、トリメチロールプロパントリアクリレート２０部、（ｄ）化合物（Ｉ）として、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート３部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート４部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１００部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（５００メッシュ、２５μｍ径）でフィルタリングすることにより、無機粉体含有樹脂組成物（II）を調製した。
（２）無機粉体含有樹脂層の形成
ガラス基板上に無機粉体含有樹脂組成物（II）を厚さ２００μｍでスクリーン印刷により塗布したのち、１００℃のクリーンオーブンで３０分乾燥して、無機粉体含有樹脂層を形成した。
（３）無機粉体含有樹脂層の露光工程
ガラス基板上に形成された無機粉体含有樹脂層に対して、ライン幅１００μｍ、スペース幅４００μｍのストライプ状ネガ用露光用マスクを介して、超高圧水銀灯によりｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）の混合光を照射した。その際の露光量は、３６５ｎｍのセンサーで測定した照度換算で１Ｊ／ｃｍ２とした。
（４）現像工程
露光処理された無機粉体含有樹脂層に対して、液温３０℃の１．０質量％の炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法による無機粉体含有樹脂層の現像処理を４５０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。  これにより、紫外線が照射されていない未硬化の無機粉体含有樹脂層を除去し、無機粉体含有樹脂層パターンを形成した。
（５）焼成工程
無機粉体含有樹脂層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で５９０℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これによりガラス基板の表面にパターン幅１００μｍ、厚み１３５μｍの隔壁が形成されてなるパネル材料を得ることができた。得られた隔壁はパターン形状および形状の均一性に優れ、亀裂は認められなかった。
【００４１】
＜比較例１＞
無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）の（ｄ）成分の代わりに２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンを用いた以外は無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）と同様に調製することにより、無機粉体含有樹脂組成物（III）を調製した。
無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）の代わりに無機粉体含有樹脂組成物（III）を用いた以外は、実施例１と同様にして無機粉体含有樹脂層を形成し、露光・現像を行ったところ、現像工程でパターン部（紫外線照射部）が溶解し、パターンを得ることができなかった。
【００４２】
＜比較例２＞
無機粉体含有樹脂組成物（II）の（ｄ）成分の代わりに２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンを用いた以外は無機粉体含有樹脂組成物（II）と同様に調製することにより、無機粉体含有樹脂組成物（IV）を調製した。
無機粉体含有樹脂組成物（II）の代わりに無機粉体含有樹脂組成物（IV）を用いた以外は、実施例１と同様にして無機粉体含有樹脂層を形成し、露光・現像を行ったところ、現像工程でパターン部（紫外線照射部）が溶解し、パターンを得ることができなかった。
【００４３】
＜実施例３＞
（１）転写フィルムの製造工程
無機粉体含有樹脂組成物（II）を予め離型処理したＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にダイレクトリバースコーターを用いて塗布して、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ２５μｍの無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム（Ｉ）を形成した
（２）転写フィルムの転写工程
ガラス基板上に無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるよう転写フィルム（Ｉ）を重ね合わせ、加熱ローラーにて熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラーの表面温度９０℃、ロール圧を２ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラーの移動速度を０．５ｍ／ｍｉｎとした。
（３）露光工程
ガラス基板上に圧着した転写フィルム（Ｉ）に対して、ライン幅１００μｍ、スペース幅４００μｍのストライプ状ネガ用露光用マスクを介して、超高圧水銀灯によりｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）の混合光を照射した。その際の露光量は、３６５ｎｍのセンサーで測定した照度換算で１Ｊ／ｃｍ２とした。露光後、無機粉体含有樹脂層上の支持フィルムを剥離した。
（４）現像工程
露光処理された無機粉体含有樹脂層に対して、液温３０℃の１．０質量％の炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法による無機粉体含有樹脂層の現像処理を４５０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の無機粉体含有樹脂層を除去し、無機粉体含有樹脂層パターンを形成した。
（５）焼成工程
無機粉体含有樹脂層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で５９０℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これによりガラス基板の表面にパターン幅１００μｍ、厚み１２０μｍの隔壁が形成されてなるパネル材料を得ることができた。得られた隔壁はパターン形状および形状の均一性に優れ、亀裂は認められなかった。
【００４４】
＜比較例３＞
無機粉体含有樹脂組成物（II）の代わりに無機粉体含有樹脂組成物（IV）を用いた以外は、実施例３と同様にして転写フィルムを形成し、転写・露光・現像を行ったところ、現像工程でパターン部（紫外線照射部）が溶解し、パターンを得ることができなかった。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】交流型プラズマディスプレイパネルの断面形状を示す模式図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  ガラス基板                        ２  ガラス基板
３  隔壁                              ４  透明電極
５  バス電極                          ６  アドレス電極
７  蛍光物質                          ８  誘電体層
９  誘電体層                        １０  保護層
【図１】
0004639770.tif 000004