(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に遮光部と、ＲＧＢ画素部とを形成したカラーフィルタのうち、Ｒ、Ｇ、若しくはＢ画素のパターン欠陥の色修正方法において、
パターン欠陥を検出した後に、
パターン欠陥座標値の中心近傍にレーザ光による開口部を形成し、ガラス基板面が露出した前記開口部の中心のパターン欠陥座標値の位置へ捨て打ちインキ皮膜を形成した後、
捨て打ちインキ皮膜の中心座標値を測定して、
パターン欠陥座標値の位置から捨て打ちインキ皮膜の中心座標値の位置までの距離を算出し、
該距離のズレ量を補正した更新パターン欠陥座標値の位置へ色修正インキ皮膜を形成することを特徴とする色修正方法。
【請求項２】
前記捨て打ちインキ皮膜の厚さは、０．５μｍ〜０．１μｍに形成することを特徴とする請求項１記載の色修正方法。
【請求項３】
前記色修正インキ皮膜は、捨て打ちインキ皮膜の上から直接色修正インキを塗布し、形成することを特徴とする請求項１、又は２記載の色修正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板上に遮光部と、ＲＧＢ画素部とを形成したカラーフィルタの画素のパターン欠陥の色修正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置用のカラーフィルタの製造方法では、ＲＧＢ画素の形成後、必要な範囲内の欠陥部位、例えば画素皮膜の未形成の部位等へ色修正インキ塗布による色修正が行われている。従来の色修正方法は、色修正用装置を用いて欠陥位置へ色修正インキを塗布し修正する方法である。
【０００３】
図４は、カラーフィルタの色画素の色修正用装置の上面図である。
【０００４】
色修正用装置は、装置表面にＸＹθ駆動のステージ１と、該ステージと向き合うようにレビューヘッド２及び色修正ヘッド３が装備され、レビューヘッド及び色修正ヘッドはＹ軸方向に平行移動するようにガントリ４の表面上に固着され、このガントリの底面下ではガントリをＸ軸方向に平行移動するように装置表面に装備された装置である。ステージ１上には、生産基板１０及びインキ捨て打ち用基板２０が載置され、生産基板１０及びインキ捨て打ち用基板２０はＸＹθ駆動のステージ機能によりＸ軸及びＹ軸に平行移動と、Ｘ軸と平行となるように基板傾きを微調整するθ度の回転移動をすることができる。同様にガントリ４上のレビューヘッド２及び色修正ヘッド３は、Ｘ軸及びＹ軸方向の平行移動と、その移動距離を同時に測定する測定機能を備えた装置である。色修正用装置では、欠陥を検出する欠陥検出手順のソフトウエア機能と、移動距離を自動算出する測定手順のソフトウエア機能と、インキを塗布する塗布手順のソフトウエア機能と、そのデータの処理及び出入力等の管理機能を備えている。
【０００５】
レビューヘッド２は、検出した部位を観察、又は視認する顕微鏡を具備するレビュー画面と、レーザリペア用のレーザ光照射部とを備えている。
【０００６】
色修正ヘッド３は、指示した座標値の位置へ所定のインキを塗布する機能を備えている。
【０００７】
以下に、従来の色修正方法を説明する。図５は、従来の色修正方法を説明する側断面図である。
【０００８】
従来の色修正方法は、インキの塗布位置、すなわち色修正の位置精度を保つため工夫がされており、装置のステージ１上に生産基板１０及びインキ捨て打ち用基板２０（以下捨て打ち用基板と記す）を載置する。
【０００９】
次いで、前記捨て打ち用基板２０上の捨て打ち位置２１をレビューヘッド系座標軸により位置座標を測定し、該捨て打ち位置２１の座標値（図上ではＢ）を色修正ヘッド系座標軸へ指示する。
【００１０】
次いで、捨て打ち用基板上の指示した捨て打ち位置（Ｂ）の直上まで色修正ヘッド３を移動した後、塗布針からインキを吐出し、捨て打ち用基板２０上に捨て打ちインキを塗布する。
【００１１】
前記捨て打ちインキ皮膜２２の位置は、捨て打ちインキ皮膜の中心座標をレビューヘッ
ド系座標軸により測定する。
【００１２】
次いで、前記捨て打ちインキ皮膜２２の座標値の位置７２（図上ではＢ’）と、捨て打ち位置の座標値（Ｂ）とのズレ量を算出する。なお、ズレ量は、装置内の自動計算ソフトウエアを用いて算出する。
【００１３】
前記ズレ量２３（図上では△Ｂ）では、欠陥等の位置を測定するレビューヘッド系座標軸と、色修正の位置を制御する色修正ヘッド系座標軸との位置誤差（オフセット）と認識し、当該ズレ量を色修正ヘッド系座標軸へ補正をかけることで位置精度を調整している。
【００１４】
次いで、生産基板１０上の欠陥を検出し、レビューヘッド系座標軸を用いて前記欠陥位置１１を測定し、欠陥座標値とする。
【００１５】
次いで、前記欠陥座標値１１の四方、例えば左右及び上下方向へ５０μｍの１００μｍ角の領域内のパターンをレーザ光線により基板表面が露出した開口部３０を形成する。
【００１６】
次いで、前記欠陥座標値にズレ量（図上では△Ｂ）を補正し、更新欠陥座標値を算出し、当該更新欠陥座標値の位置１２を色修正ヘッド系座標軸へ指示し、前記開口部に露出した基板表面に塗布針からインキを吐出し、生産基板上に所定の色修正インキを塗布し、色修正インキ皮膜１３を形成する。
【００１７】
以上の方法により、生産基板上の欠陥は修正され、無欠陥の生産基板となる。なお、従来の方法では、捨て打ち用基板を用いる方法であり、その載置場所の確保と、捨て打ち用基板の更新が必要であり、且つ生産基板及び捨て打ち用基板の載置の精度、特に基板傾きのバラツキの低減が重要となる。
【００１８】
図６は、従来の色修正方法の工程フロー図である。図６を用いて色修正の工程フローを説明する。
【００１９】
工程フロー（ｂ１）は、捨て打ち用基板２０上の捨て打ち位置の座標値（Ｂ）をレビューヘッドから読み込む（図５左側参考図参照）。
【００２０】
（ｂ２）は、前記座標値（Ｂ）を色修正ヘッドへ指示し、該位置に捨て打ちインキを塗布し、捨て打ちインキ皮膜２２を形成する。
【００２１】
（ｂ３）は、前記捨て打ちインキ皮膜２２の中心位置をレビューヘッドから読み込み、捨て打ちインキ皮膜の座標値（Ｂ’）とする。
【００２２】
（ｂ４）は、捨て打ち位置の座標値（Ｂ）と、捨て打ちインキ皮膜の座標値（Ｂ’）との位置ずれを自動計算し、ズレ量（△Ｂ）を算出する。
【００２３】
（ｂ５）は、捨て打ち用基板での色修正ヘッドへの指示座標値（Ｂ）と捨て打ちインキ皮膜の座標値（Ｂ’）とのズレ量（△Ｂ）を確定する。以上（ｂ１）〜（ｂ５）により、レビューヘッド系と色修正ヘッド系との位置精度の誤差を算出する。
【００２４】
（ａ）は、生産基板１０上の欠陥検査を実行し、レビューヘッドから欠陥位置１１の座標値（Ａ）を読み込む（図５右側参考図参照）。
【００２５】
（ｂ）は、レビューヘッドのレビュー画面を欠陥位置１１へ移動する。
【００２６】
（ｃ）は、レビューヘッドのレーザ加工を用いて欠陥位置を中心に上下左右均等距離、例えば各々５０μｍ、すなわち、１辺１００μｍの開口部を形成し、基板面が露出した開口部を形成する。
【００２７】
（ｄ）は、前記欠陥座標値（Ａ）へズレ量（△Ｂ）をソフトウエアにより自動補正を実行する。
【００２８】
（ｅ）は、前記補正した欠陥座標値（Ａ’）、すなわち更新欠陥座標値（Ａ’）を色修正ヘッドへ指示し、該位置に色修正インキを塗布し、色修正インキ皮膜１３を形成する。以上（ａ）〜（ｅ）により、開口部内に色修正インキ皮膜１３を形成することができる。
【００２９】
上述した従来の色修正方法では、色修正用装置では、ステージ上に生産基板の載置のほか、捨て打ち用基板を予め所定位置に載置する必要があり、その場所の確保が問題となる。捨て打ち用基板では、生産基板の色修正毎に捨て打ちインキが塗布されるため、定期的に基板交換する必要があり、その交換時間の増加が問題となる。
【００３０】
捨て打ち用基板上でズレ量を算出し後、該ズレ量を生産基板上で欠陥位置へ補正するため、実際に欠陥位置への色修正インキを塗布した場合、塗布位置ズレが発生する問題があった。そのため、従来の色修正方法では、修正インキの未塗布部が発生したり、正常なＲＧＢ画素に修正用塗布針が接触することによる画素崩れが発生するという問題があった。
【００３１】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開２００４−１３１３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３２】
本発明の課題は、カラーフィルタの色修正方法において、捨て打ち用基板の準備時間及び載置のスペース確保の必要を無くすこと、生産基板への色修正インクの塗布時、その色修正インク皮膜の形成の位置精度の向上と、それに伴い修正成功率（良品率）が向上する色修正方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００３３】
本発明の請求項１に係る発明は、ガラス基板上に遮光部と、ＲＧＢ画素部とを形成したカラーフィルタのうち、Ｒ、Ｇ、若しくはＢ画素のパターン欠陥の色修正方法において、パターン欠陥を検出した後に、
パターン欠陥座標値の中心近傍にレーザ光による開口部を形成し、ガラス基板面が露出した前記開口部の中心のパターン欠陥座標値の位置へ捨て打ちインキ皮膜を形成した後、
捨て打ちインキ皮膜の中心座標値を測定して、
パターン欠陥座標値の位置から捨て打ちインキ皮膜の中心座標値の位置までの距離を算出し、
該距離のズレ量を補正した更新パターン欠陥座標値の位置へ色修正インキ皮膜を形成することを特徴とする色修正方法である。
【００３４】
本発明の請求項２に係る発明は、前記捨て打ちインキ皮膜の厚さは、０．５μｍ〜０．１μｍに形成することを特徴とする請求項１記載の色修正方法である。
【００３５】
本発明の請求項３に係る発明は、前記色修正インキ皮膜は、捨て打ちインキ皮膜の上から直接色修正インキを塗布し、形成することを特徴とする請求項１、又は２記載の色修正方法である。
【発明の効果】
【００３６】
本発明のカラーフィルタの色修正方法によれば、捨て打ち用基板を使用しないため、準備時間及び精度維持のためのメィンテナンス時間等の作業時間が減少し、装置稼働率も向上する。
【００３７】
本発明のカラーフィルタの色修正方法によれば、捨て打ち用基板を使用しないため、捨て打ち用基板の載置スペースが不要となり、色修正方法が簡素化され、工程時間が短縮し、装置稼働率も向上する。
【００３８】
本発明のカラーフィルタの色修正方法によれば、捨て打ち用基板を使用しないため、色修正インキの塗布位置精度が大幅に向上する。
【００３９】
本発明のカラーフィルタの色修正方法によれば、色修正インキの塗布位置精度が大幅に向上することにより、色修正成功率が向上し、画素崩れ等の発生率が削減され、生産コストが減少する効果もある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
本発明の色修正方法を一実施形態に基づいて以下説明する。
【００４１】
図１は、本発明の色修正方法の工程フロー図である。
【００４２】
図１（ａ）は、生産基板１０上の欠陥検査を実行し、レビューヘッドから欠陥位置６１の座標値（Ｘ０）を読み込む（図２参照）。
【００４３】
（ｂ）は、レビューヘッドのレビュー画面を欠陥位置６１へ移動する。
【００４４】
（ｃ）は、レビューヘッドのレーザ光照射部を用いて欠陥位置を中心に上下左右均等距離、例えば各々５０μｍ、すなわち、１辺１００μｍの開口部を形成し、基板面が露出した開口部を形成する。
【００４５】
（ｄ）は、生産基板１０上の欠陥位置の座標値（Ｘ０）を色修正ヘッドへレビューヘッドから読み込み、該欠陥位置（Ｘ０）に捨て打ちインキを塗布し、捨て打ちインキ皮膜５２を形成する（図２参照）。
【００４６】
（ｅ）は、前記捨て打ちインキ皮膜５２の中心位置をレビューヘッドから読み込み、捨て打ちインキ皮膜の座標値（Ｘ１）とする（図２参照）。
【００４７】
（ｆ）は、欠陥位置の座標値（Ｘ０）と、捨て打ちインキ皮膜の座標値（Ｘ１）との位置ずれを自動計算し、ズレ量（△Ｂ）を算出する（図２参照）。
【００４８】
（ｇ）は、生産基板での色修正ヘッドへの指示座標値（Ｘ０）と捨て打ちインキ皮膜の座標値（Ｘ１）とのズレ量（△Ｂ）を確定する。以上（ａ）〜（ｇ）により、生産基板上でのレビューヘッド系と色修正ヘッド系との位置精度の誤差を算出する。
【００４９】
（ｈ）は、前記欠陥座標値（Ｘ０）にズレ量（△Ｂ）をソフトウエアにより自動補正を実行する。
【００５０】
（ｉ）は、前記補正した欠陥座標値（Ｘ０’）、すなわち更新欠陥座標値（Ｘ０’）を色修正ヘッドへ指示し、該更新欠陥位置（Ｘ０’）に色修正インキを塗布し、色修正イン
キ皮膜５３を形成する。
【００５１】
（ｊ）は、前記色修正のインキ皮膜を所定の方法、例えばＵＶ／ＩＲ等の照射により固化する。以上（ｈ）〜（ｊ）により、開口部内に色修正インキ皮膜５３を形成することができる（図２参照）。
【００５２】
以下に、本発明の色修正方法の一実施例を説明する。図２は、本発明の色修正方法を説明する側断面図である。
【００５３】
本発明の色修正は、インキの塗布位置、すなわち色修正の位置精度を保つため工夫がされており、欠陥位置上に重なるように色修正インキを塗布することができるカラーフィルタの色修正方法である。
【００５４】
最初に、生産基板１０上の欠陥を検出し、レビューヘッド系座標軸を用いて前記欠陥位置を測定し、欠陥座標値の位置６１とする。図２では、欠陥座標値の位置６１は、Ｘ０の座標値を持つ位置とした。
【００５５】
次いで、前記欠陥座標値（Ｘ０）の四方、例えば左右及び上下方向へ５０μｍの１００μｍ角の領域内のパターンをレーザ光線により基板表面が露出した開口部３０を形成する（図上では破線枠内）。
【００５６】
次いで、前記生産基板１０上の欠陥位置の座標位置、すなわち開口部の中心位置（Ｘ０）を色修正ヘッド座標軸系へ指示する。
【００５７】
次いで、生産基板１０上の開口部３０内へ塗布針からインキを吐出し、捨て打ちインキを所定膜厚、例えば０．５μｍ厚に塗布し、捨て打ち塗布部５２を形成する。
【００５８】
前記捨て打ち塗布部５２の中心座標をレビューヘッド座標軸系により測定し、その捨て打ち塗布部の中心位置の座標値７１はＸ１とする。
【００５９】
次いで、前記捨て打ち塗布部の中心位置の座標値（Ｘ１）と、欠陥位置の座標値（Ｘ０）とのズレ量を算出する。なお、ズレ量（△Ｂ）は、装置内の自動計算ソフトウエアを用いて算出する。
【００６０】
前記ズレ量では、欠陥等の位置を測定するレビューヘッド系座標軸と、色修正の位置を制御する色修正ヘッド系座標軸との位置誤差（オフセット）と認識し、当該ズレ量を色修正ヘッド系座標軸へ補正することで位置精度を調整している。
【００６１】
次いで、前記欠陥座標値（Ｘ０）にズレ量（△Ｂ）を補正し、更新欠陥座標値６２を算出し、当該更新座標値（Ｘ０’）を色修正ヘッド系座標軸へ再度指示し、前記開口部に露出した基板表面に塗布針からインキを吐出し、生産基板上に所定のインキを所定膜厚、例えば１．７μｍ厚に塗布し、色修正塗布部５３を形成する。なお、開口部内では、０．５μｍ厚の捨て打ち塗布部を含む面があり、捨て打ち塗布部上から色修正塗布部を形成しても、開口部内のインキ皮膜の膜厚を所定膜厚、例えば１．７μｍ厚に均一に塗布すれば品質上問題は無い。
【００６２】
次いで、前記捨て打ちインキ皮膜及び色修正のインキ皮膜を所定の方法、例えばＵＶ／ＩＲ等の照射により固化する。
【００６３】
以上の方法により、生産基板上の欠陥は修正され、無欠陥の生産基板となる。なお、本
発明の方法では、捨て打ち用基板は使用しない方法であり、その載置場所の確保と、捨て打ち用基板の更新が不要となり、且つ生産基板のみ載置するため載置の精度の合わせ込みが不要となる。
【００６４】
次に、本発明の色修正方法では、捨て打ちインキ皮膜の厚さは、０．５μｍ〜０．１μｍに極薄に形成する方法を採用した。捨て打ちインキ皮膜は、その形成位置を測定するためのものであり、位置測定が可能な濃度であればよく、その濃度範囲の下限、すなわち、０．５μｍ〜０．１μｍの極薄膜厚に制限した。
【００６５】
また、本発明の色修正方法では、色修正インキ皮膜は、捨て打ちインキ皮膜の上から直接色修正インキを塗布し、形成する方法を採用した。捨て打ちインキ皮膜が０．５μｍ〜０．１μｍの極薄膜厚であれば、除去せず重ねて色修正インキを塗布しても品質問題は発生しない。さらに、捨て打ちインキ皮膜を除去する工程が省略できる効果もある。
【００６６】
図３（ａ）〜（ｄ）は、本発明の色修正方法の一実施例を説明する平面図である。以下に、本発明の実施例を説明する。
【実施例１】
【００６７】
図３（ａ）では、カラーフィルタのＲ画素３１に欠陥３２を検出した。該欠陥３２を本発明の色修正方法を用いて修正した。最初に、色修正用装置のステージの所定の位置に生産基板を載置し、基板位置及び基板傾き等の調整した後、レビューヘッドにより欠陥３２の位置を計測し、欠陥座標値を確定した。
【００６８】
図３（ｂ）では、前記欠陥座標を中心に左右上下均等距離のエリアを決め、該エリア内のＲ画素皮膜をレーザ光照射により除去し、基板面が露出した一辺が２００μｍの開口部３０を形成した。なお、開口部内の破線は、レビュー画面にソフトウエアが表示する目安線である。
【００６９】
図３（ｃ）では、前記欠陥座標値を色修正ヘッドへ指示し、その欠陥座標位置に捨て打ち塗布部３４を形成した。捨て打ち塗布部３４は、直径８０μｍで塗布厚は０．２μｍに形成した。捨て打ち塗布部３４の中心位置は、図上左下側へ移動、すなわち距離のズレ量が発生している。
【００７０】
図３（ｄ）では、前記ズレ量を計測し、自動計算ソフトウエアによる位置補正した更新欠陥座標を色修正ヘッドへ再指示し、その更新座標位置に色修正塗布部３５を形成した。色修正塗布部３５の塗布厚は、２．０μｍに形成した。次いで、前記捨て打ちインキ塗布部及び色修正塗布部を所定の方法のＵＶの照射により固化する。色修正塗布部は、Ｒ画素の皮膜厚と同等の１．８５μｍに形成した。なお、捨て打ち及び色修正のインキは同じ色修正インキを使用した。
【００７１】
実施例１の試料の品質を評価した。なお、試料数は１０欠陥とした。欠陥修正成功率は、１０／１０の１００％である。修正したＧ画素内の透過率を測定した結果、全て社内規格内であり合格とした。固化前に、色修正塗布部の中心位置を目視確認し、そのズレ量は、正常と判断した。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の色修正方法の工程フロー図である。
【図２】本発明の色修正方法を説明する側断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の色修正方法の一実施例を説明する平面図である。
【図４】カラーフィルタの色修正に用いる色修正用装置を説明する平面図である。
【図５】従来の色修正方法を説明する側断面図である。
【図６】従来の色修正方法の工程フロー図である。
【符号の説明】
【００７３】
１…ステージ
２…レビューヘッド
３…色修正ヘッド
４…ガントリ
１０…生産基板
１１…欠陥位置（欠陥座標値の位置）
１２…更新欠陥座標値の位置
１３…色修正インキ皮膜
２０…捨て打ち用基板
２１…捨て打ち位置（捨て打ち座標値の位置）
２２…捨て打ちインキ皮膜
２３…ズレ量
３０…開口部
３１…Ｒ画素
３２…欠陥
３３…遮光部
３４…捨て打ち塗布部
３５…色修正塗布部
３６…Ｇ画素
５２…捨て打ち塗布部（捨て打ちインキ皮膜）
５３…色修正塗布部（色修正インキ皮膜）
６１…欠陥座標値の位置（欠陥位置）
６２…更新欠陥座標値の位置（補正した欠陥座標値の位置）
７１…捨て打ち塗布部の中心点位置（捨て打ちインキ皮膜の中心点位置）
７２…捨て打ちインキ皮膜２２の座標値の位置
【図１】
0004706490.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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