(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを出射する光源と、
前記光源から出射された光ビームを集光された光束にする集光手段と、
集光された光束を偏向走査する光束偏向手段と、
少なくとも１以上の凹面鏡を有し且つ前記光束偏向手段によって偏向走査された光束を結像面上に結像させる結像光学手段とを備え、
前記集光手段は、透過する光束の形状が規制され且つ副走査方向に扁平な開口部を有する光束規制部材を具備し、
前記光束規制部材は、前記結像光学手段の凹面鏡のコマ収差の影響が低減される方向に前記開口部の中心が光軸中心から変位するように配設されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
光ビームを出射する光源と、
前記光源から出射された光ビームを集光された光束にする集光手段と、
集光された光束を偏向走査する光束偏向手段と、
少なくとも１以上の凹面鏡を有し且つ前記光束偏向手段によって偏向走査された光束を結像面上に結像させる結像光学手段とを備え、
前記集光手段は、透過する光束の形状が規制され且つ副走査方向に扁平な開口部を有する光束規制部材と、
前記結像光学手段の凹面鏡のコマ収差の影響が低減されるように前記光束規制部材の前記開口部の中心が前記光源の光軸中心から変位可能にする移動調整手段とを具備することを特徴とする光走査装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の光走査装置において、
前記光束規制部材は、その開口部の中心が前記光源の光軸中心から副走査方向の開口長さの３０％以上副走査方向に沿って変位して配置されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項４】
請求項１又は２記載の光走査装置において、
前記集光手段は、前記光源から出射された光ビームを平行光束にするコリメータレンズと、平行光束を副走査方向に集光するシリンドリカルレンズとを備え、前記光束規制部材を前記コリメータレンズと前記シリンドリカルレンズとの間に設けたものであることを特徴とする光走査装置。
【請求項５】
静電潜像が担持される像担持体と、
この像担持体上に結像可能な請求項１乃至４のいずれかに記載の光走査装置とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複写機やプリンタ等の画像形成装置に用いられる光走査装置に係り、特に、電子写真方式にて潜像を形成するための露光光源として光源から出射された光ビームを偏向走査する光走査装置及びこれを用いた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に電子写真方式による画像形成装置では、半導体レーザを用いた光源からの光ビームを帯電された感光体上に偏向走査して所望の静電潜像を形成する方式が知られている。このような方式では光ビームのビーム径が直接潜像の画質を大きく左右するため、近年の高画質化の要請に伴って、ビーム径を小径化することが実施されてきている。
一方、光ビームのビーム径を小径化すると、その焦点深度（ＤＯＦ：Depth of Focus）は浅くなる傾向にあり、ビーム径とＤＯＦとが相反する特性にあることから、ビーム径を小径化すると共に画像形成エリア全面に亘って良好な画質を得るためのＤＯＦの必要な深さを同時に確保することが重要となる。
【０００３】
このような問題に対し、ＤＯＦが光路長以上の極めて深いベッセルビームを用いる光走査装置が知られている（例えば特許文献１参照）。ここでは、ベッセルビームを用いることで、ポリゴンミラーによる収差の制限を要しない光学系が実現できるものとしている。また、絞りのアパーチャにおける副走査方向の寸法が主走査方向で異なるように設定し、中心より周辺を広くすることで、特にオーバーフィールド走査光学系（ＯＦＳ）でのポリゴンミラーによる反射光量を均一化することができ、結像面でのビームの均一化を図ろうとした提案がなされている（例えば特許文献２参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１７９２３１号公報（実施例、図１）
【特許文献２】特開２００１−１２５０３３号公報（第１の実施形態、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のようにベッセル分布を有する光ビームを出射する装置は複雑な構成を必要としているため、高価になり易いという欠点がある。また、特許文献２の方式では、主走査方向で中央と周辺とで寸法の異なる正確なアパーチャ形状を持った絞りを精度よく作製するのが困難であり、高価になり易い。
本発明は、以上の技術的課題を解決するためになされたものであって、ビーム径の小径化と必要な深さのＤＯＦを有する光束を簡単な構成で実現することができる光走査装置及びこれを用いた画像形成装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述の課題を解決するために、本件発明者らは、先に、特願２００５−０８７２０７にて、主走査方向でのアパーチャの透過率を変え、アパーチャ中央の透過率を周辺より低下させることで、結像面に照射する光束のＤＯＦを維持したままビーム径を小さくすることが可能な光走査装置を提案した。
しかしながら、この方式にあっても、アパーチャでの透過率変動を持たせるために絞りの構成が複雑になる懸念がある。そのため、本件発明者らは、更に、構成の簡素化について検討を重ね、本件発明を案出するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明の第一の態様としては、図１に示すように、光ビームを出射する光源１と、前記光源１から出射された光ビームを集光された光束にする集光手段２と、集光された光束を偏向走査する光束偏向手段３と、少なくとも１以上の凹面鏡４ａを有し且つ前記光束偏向手段３によって偏向走査された光束を結像面５上に結像させる結像光学手段４とを備え、前記集光手段２は、透過する光束の形状が規制され且つ副走査方向に扁平な開口部２ｂを有する光束規制部材２ａを具備し、前記光束規制部材２ａは、前記結像光学手段４の凹面鏡４ａのコマ収差の影響が低減される方向に前記開口部２ｂの中心が光軸中心から変位するように配設されていることを特徴とするものである。
【０００８】
このような技術的手段において、光源１としては光ビームを出射できるものであればよく、代表的態様としては半導体レーザが挙げられる。尚、半導体レーザとしては端面発光タイプでも面発光タイプでもよい。また、集光手段２としては、光源１から出射された光ビームを集光するものであればよく、代表的態様としては光源１からの光ビームを平行光化するコリメータレンズが含まれる。更に、光束偏向手段３としては、入射された光束を偏向走査できる態様であればよく、代表的には、回転するポリゴンミラーが挙げられる。
また、本発明における結像光学手段４は、光束偏向手段３によって偏向走査された光束を結像面５上に結像させるようになっていればよく、少なくとも１以上の凹面鏡４ａと、トーリックレンズ等を含むように構成される。このように、本発明においては、結像光学手段４の一部に凹面鏡４ａを使用することで、結像面５での光束のビーム径及びＤＯＦの双方を良好に保ちながら、小型化、低コスト化が可能な光走査装置を実現することが可能になる。
【０００９】
通常、光源１からの平行光が光束規制部材２ａによって規制され、この光束規制部材２ａを透過した光束が光束偏向手段３によって偏向され、結像面５上に結像される態様においては、光束規制部材２ａによって所定のビーム径が得られるように規制される。一方、ＤＯＦは結像面５に入る光束の絞り込み角度で決まり、この角度が小さいほどＤＯＦを深くすることができるようになる。この角度は光束規制部材２ａの開口部２ｂの最外郭で決まり、開口部２ｂを小さくする程ＤＯＦを深くすることができる。一方、ビーム径は、回折限界で決まる第一近似としては、ＤＯＦと逆の特性を示し、光束の絞り込み角度を大きくするほどビーム径を小さくすることができる。
【００１０】
しかし、このような光走査装置では、ビーム径は、更に、結像光学手段４での収差や組立誤差の影響を受ける。特に、例えばシリンドリカルミラーのような凹面鏡４ａを使用すると、光束を結像面５に照射するには、凹面鏡４ａの法線方向（光軸）に対し光束が斜行するようになり、凹面鏡４ａによるコマ収差の影響が強く現れ、像面湾曲（偏向方向で結像位置が異なる）が現れるようにもなる。
本発明においては、凹面鏡４ａのコマ収差が大きい側、すなわち、凹面鏡４ａの光軸から離れた側の光束を少なくすることで、コマ収差を減ずることが可能になる。
【００１１】
図２は、その様子を示したもので、光束規制部材２ａの開口部２ｂが実線の位置では、開口部２ｂを透過した光線（図中、ａ，ｂ，ｃで示す光線）の中で、特にａの光線は凹面鏡４ａで反射するとコマ収差の大きい光線となる。そこで、例えば光束規制部材２ａを図の上方（副走査方向の一方側）に移動させ、開口部２ｂが図の二点鎖線のようになったと仮定すると、当初の光線のうち、ａが遮蔽され、新たにｄの光線が光束規制部材２ａの開口部２ｂを透過するようになる。このｄの光線は、凹面鏡４ａの中心に近い（光軸に近い）光線となることから、凹面鏡４ａで反射された光線ｄはコマ収差の小さい光線となる。したがって、光束規制部材２ａを副走査方向に移動させることで、コマ収差の大きい光線（図中ａで示す）が遮蔽され、コマ収差の小さい光線（図中ｄの二点鎖線で示す）が代わりに透過するようになる。そのため、光束規制部材２ａを移動させることで、凹面鏡４ａによって反射された光束のコマ収差を小さくすることができるようになり、結像面５に照射される光束での好ましいビーム径及びＤＯＦを実現することができるようになる。
尚、図では凹面鏡４ａを１個の例で示したが、複数備える場合には、相互の影響によるコマ収差を小さくする方向に光束規制部材２ａを移動させるようにすればよい。
【００１２】
以上のように、本発明における光束規制部材２ａは単なる開口部２ｂのみを有するようにすればよく、開口部２ｂの形状が容易に実現できることから、低コスト化を図ることも可能になる。また、この開口部２ｂの形状としては、矩形、楕円形等、特に制限されないが、結像面５に照射される光束のビーム径を小さく且つＤＯＦを深くする観点から、副走査方向に扁平な（走査方向に延びた）矩形とすることが好ましい。
【００１３】
更に、本発明の第二の態様としては、図１に示すように、光ビームを出射する光源１と、前記光源１から出射された光ビームを集光された光束にする集光手段２と、集光された光束を偏向走査する光束偏向手段３と、少なくとも１以上の凹面鏡４ａを有し且つ前記光束偏向手段３によって偏向走査された光束を結像面５上に結像させる結像光学手段４とを備え、前記集光手段２は、透過する光束の形状が規制され且つ副走査方向に扁平な開口部２ｂを有する光束規制部材２ａと、前記結像光学手段４の凹面鏡４ａのコマ収差の影響が低減されるように前記光束規制部材２ａの前記開口部２ｂの中心が前記光源１の光軸中心から変位可能にする移動調整手段６とを具備することを特徴とする。すなわち、第一の態様における前記光束規制部材２ａが副走査方向に変位可能な前記移動調整手段６を備えたものとなっている。
【００１４】
このように、移動調整手段６を備えることで、光走査装置の組立誤差等に対する実機でのコマ収差の調整が一層容易になり、結像面５に照射される光束のビーム径を所望の大きさにすることが可能になる。
【００１５】
また、本発明では、いずれの態様にあっても、前記光束規制部材２ａは、その開口部２ｂの中心が前記光源１の光軸中心から副走査方向の開口長さの３０％以上副走査方向に沿って変位して配置されていることが好ましく、これによれば、結像光学手段４でのコマ収差の影響を明らかに低減する効果が確認されるようになる。尚、３０％未満でも原理的にはコマ収差の低減がなされるようになるが、前記結像面５での具体的な画像上の影響を考慮すると３０％以上の変位が好ましい。
【００１６】
そして、本発明における前記集光手段２は、前記光源１から出射された光ビームを平行光束にするコリメータレンズと、平行光束を副走査方向に集光するシリンドリカルレンズとを備え、前記光束規制部材２ａを前記コリメータレンズと前記シリンドリカルレンズとの間に設けたものとすることが好ましく、これによれば、前記光源１から出射された光ビームが前記コリメータレンズによって平行光束になり、前記光束規制部材２ａによって規制された光束が前記シリンドリカルレンズによって集光されることで、前記光束偏向手段３及び前記結像光学手段４を経由した後、前記結像面５に照射される光束のビーム径を小さくすることができるようになる。
【００１７】
更に、本発明は光走査装置に限らず、画像形成装置をも対象とするものであり、この場合、静電潜像が担持される像担持体と、この像担持体上に結像可能な光走査装置として、上述の光走査装置を備えるようにすればよい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、光源、集光手段、光束偏向手段及び結像光学手段とを備え、集光手段は、透過する光束の形状が規制され且つ副走査方向に扁平な開口部を有する光束規制部材を具備し、光束規制部材は、前記結像光学手段の凹面鏡のコマ収差の影響が低減される方向に前記開口部の中心が光軸中心から変位するように配設したので、結像面に照射される光束にてコマ収差の影響を低減させると共にビーム径の小径化とＤＯＦの必要な深さとを兼ね備えた光走査装置を簡単な構成で容易に実現できる。また、画像領域全面に亘って良好な画質を維持することができるようになる。
更に、このような光走査装置を用いることで、構成が簡単で画像領域全面に亘って良好な画質が確保された画像形成装置を実現できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付図面に示す実施の形態に基づいてこの発明を詳細に説明する。
図３は本発明が適用された画像形成装置の実施の形態を示す。
同図において、本実施の形態の画像形成装置は、装置本体５０内に、感光体ドラム２０と、この感光体ドラム２０からトナー像を転写させるために感光体ドラム２０に対向配置される中間転写ベルト３０とを備え、４色のカラー画像を得るために中間転写ベルト３０上に４回の多重転写を行う所謂４サイクル方式の中間転写型カラー画像形成装置である。
本実施の形態において、感光体ドラム２０は光の照射によって抵抗値が低下する感光層を備えたものであり、この感光体ドラム２０の周囲には、感光体ドラム２０を帯電する帯電装置２１と、帯電された感光体ドラム２０上に各色成分（本例ではブラック（Ｋ）、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ））の静電潜像を書込む光走査装置（露光装置）６０と、感光体ドラム２０上に形成された各色成分潜像を各色成分トナーにて可視像化するロータリ型現像装置２３と、中間転写ベルト３０と、感光体ドラム２０上の残留トナーを清掃するクリーニング装置２７とが配設されている。
【００２０】
ここで、帯電装置２１としては、例えば帯電ロールが用いられるが、コロトロン等の帯電器を用いてもよい。また、ロータリ型現像装置２３は各色成分トナーが収容された現像器２３ａ〜２３ｄを回転可能に搭載したものであり、例えば感光体ドラム２０上で露光によって電位が低下した部分に各色成分トナーを付着させるものであれば適宜選定して差し支えなく、使用するトナーも形状、粒径等特に制限はなく、感光体ドラム２０上の静電潜像上に正確に載るものであればよい。尚、本例では、ロータリ型現像装置２３が用いられているが、４台の現像装置を用いるようにしてもよい。更に、クリーニング装置２７は、感光体ドラム２０上の残留トナーを清掃するものであれば、ブレードクリーニング方式を採用したもの等適宜選定して差し支えない。ただし、転写率の高いトナーを使用する場合にはクリーニング装置２７を使用しない態様もあり得る。
【００２１】
また、中間転写ベルト３０は、３つの張架ロール３１〜３３に掛け渡されるものであって、例えば張架ロール３１を駆動ロールとして循環移動するようになっている。
ここで、中間転写ベルト３０は、ポリイミド樹脂等の樹脂材を適宜選定して差し支えないが、ホロキャラクター等の画質欠陥を有効に抑えるには、感光体ドラム２０との接触面圧を下げることが必要であり、また、ウォークレス及びテンショナーレスという観点を考慮すれば、弾性ゴムを基体（弾性層）としたウレタンゴム等のゴム製ベルト材を使用することが好ましい。
【００２２】
更に、本実施の形態において、中間転写ベルト３０の感光体ドラム２０に対向する部位では、中間転写ベルト３０の裏面側に一次転写部材としての一次転写ロール２５が接触配置されており、所定の一次転写バイアスが印加されている。
更にまた、中間転写ベルト３０の張架ロール３２に対向した部位には、二次転写部材としての二次転写ロール３５が張架ロール３２をバックアップロールとして対向配置されており、例えば二次転写ロール３５に所定の二次転写バイアスが印加され、バックアップロールを兼用する張架ロール３２が接地されている。
尚、中間転写ベルト３０の張架ロール３１に対向した部位にはベルトクリーニング装置３６が配設され、中間転写ベルト３０上の残留トナーを清掃するようになっている。
また、用紙などの記録材４０は、図示外の供給トレイ内に収容されており、フィードロール４１にて供給された後、レジストロール４２を経て二次転写部位に導かれ、二次転写ロール３５によって中間転写ベルト３０上に多重転写されたトナー像が記録材上に一括転写される。トナー像が一括転写された記録材は搬送ベルト４３を介して定着装置４５へと搬送され、しかる後、搬送ロール４６、排出ロール４７を経て装置本体５０上部に形成された排出トレイ４８へ収容されるようになっている。
【００２３】
特に、本実施の形態における光走査装置６０は、図４に示すように、光ビームを出射する半導体レーザ６１、半導体レーザ６１から出射された光ビームを集光する集光装置７０、集光装置７０によって集光された光束を偏向走査するポリゴンミラー８０、ポリゴンミラー８０によって偏向走査された光束を感光体ドラム２０に結像する結像光学装置９０とで構成されている。
【００２４】
集光装置７０は、半導体レーザ６１から出射された光ビームを平行光化（コリメート）し平行光束にするコリメータレンズ７１、コリメータレンズ７１による平行光束の断面形状を整形する光束規制部材としての絞り７２、整形された光束を副走査方向に沿って集光するシリンドリカルレンズ７３とで構成されている。
【００２５】
また、ポリゴンミラー８０は、側面に複数の反射面が設けられた正多角形状（例えば正六角形）となっており、図示外のポリゴンモータに軸着されており、ポリゴンモータの駆動力によって図中矢印Ｒ方向に所定の回転速度で回転するようになっている。そのため、反射面に入射された光束は、ポリゴンミラー８０の回転に伴って、結像光学装置９０内を主走査方向、すなわち、感光体ドラム２０の軸線方向に偏向走査するようになる。
【００２６】
結像光学装置９０は、ポリゴンミラー８０によって偏向走査された光束を感光体ドラム２０表面での走査速度を一定にするための結像レンズ系として、例えばシリンドリカルレンズ９１、トーリックレンズ９２、結像レンズ９３で構成される。尚、本実施の形態では、結像レンズ系としてこのような構成を示したが、これに限定されず、感光体ドラム２０表面での走査速度が一定になる結像レンズ系であれば他の構成によっても差し支えない。
また、本実施の形態における結像光学装置９０では、結像レンズ系を透過した光束を凹面鏡としてのシリンドリカルミラー９４で集光反射させた後、反射ミラー９５を経由して感光体ドラム２０表面に照射されるようになっている。
更に、結像光学装置９０には、結像レンズ系を透過した光束の一部（ポリゴンミラー８０の各反射面によって走査開始位置に相当する光束）を反射するミラー９６と、このミラー９６からの反射光を検知するフォトディテクタ等からなるＳＯＳ（Start of Scan）受光部９７が設けられている。そのため、このＳＯＳ受光部９７によって感光体ドラム２０へのライン毎（主走査方向）の走査開始タイミングが検知されるようになっている。尚、ＳＯＳ受光部９７はポリゴンミラー８０によって偏向走査される光束の領域外に設けられていることは云うまでもない。
【００２７】
また、本実施の形態における集光装置７０内に設置された絞り７２は、図５（ａ）に示すように、副走査方向に扁平な矩形のアパーチャ７２ａ（例えば主走査方向の辺寸法を４ｍｍ、副走査方向の辺寸法を０．５ｍｍとする長方形状）を略中央部に有している。そして、この絞り７２は、（ｂ）に示すように、アパーチャ７２ａの副走査方向の中心軸が光軸よりＤだけ変位して配置されている。また、このＤの寸法がアパーチャ７２ａの副走査方向の辺寸法Ｌの３０％以上となるようになっている。
【００２８】
次に、本実施の形態に係る画像形成装置の作動について、光走査装置６０を中心に説明する。図４において、半導体レーザ６１から出射された光ビームは、コリメータレンズ７１によって平行光の光束になり、絞り７２のアパーチャ７２ａによって平行光束の一部は遮蔽され、整形された光束のみが透過する。この絞り７２を透過した光束は、シリンドリカルレンズ７３によって光束の副走査方向がポリゴンミラー８０の反射面にて結像される。そのため、ポリゴンミラー８０の反射面での光束は、副走査方向は結像され、主走査方向はアパーチャ７２ａ（図４参照）の幅（主走査方向の辺寸法）と同様の幅を持つように結像される。そして、ポリゴンミラー８０で反射された光束は、結像光学装置９０を経由して、感光体ドラム２０上にて所望のビーム径になるように結像される。
【００２９】
ここで、本実施の形態におけるコマ収差について、図６を基に説明する。シリンドリカルミラー９４の光軸Ｏに対し、光軸から離れた光束Ａと光軸Ｏに近い光束Ｂが照射されると、シリンドリカルミラー９４の境界面（反射面）にて反射された光束は、理想的には焦点Ｆを通過する点線のようになるが、実線で示すように焦点からずれた光束Ａ’及び光束Ｂ’となる。シリンドリカルミラー９４を用いた場合には、シリンドリカルミラー９４の反射面に対し、法線方向からの光束の照射はできないため、コマ収差が発生するようになる。このとき、光束Ａはシリンドリカルミラー９４の光軸Ｏからずれた方向にあることから、光束Ａ’の方が光束Ｂ’よりコマ収差が大きくなる。したがって、このようなコマ収差を踏まえた絞り７２の位置調整が必要となる。
尚、シリンドリカルミラーを２個備える場合には、上述したシリンドリカルミラー９４によって反射された光束を、もう一つのシリンドリカルミラーによって反射させるため、コマ収差が増加する方向になる。したがって、このような場合には、シリンドリカルミラーの相互の位置関係並びに両者のコマ収差を総合的に判定して、最適位置を求めるようになる。
【００３０】
次に、絞り７２の位置調整について図４、図５を中心に説明する。
第一近似として、ＤＯＦについては、感光体ドラム２０表面に入射する光束の絞り込み角度で決まることから、この角度を小さくするほど深いＤＯＦが得られる。この角度はアパーチャ７２ａによって決まり、アパーチャ７２ａの形状が小さい程ＤＯＦを深くすることができる。一方、ビーム径は、ＤＯＦと逆の関係になり、光束の絞り込み角度が大きい程小さなビーム径が実現できる。
しかしながら、結像光学装置９０では、組立誤差や各種収差があり、上述の第一近似で求まるＤＯＦやビーム径と実際に感光体ドラム２０表面に照射される光束とでは一致しない。特に、本実施の形態では、結像光学装置９０内にシリンドリカルミラー９４を使用し、この反射面では、反射面の法線方向とは斜行する方向から光束を入射させているため、コマ収差が大きく現れるようになる。
【００３１】
そこで、感光体ドラム２０表面と共役関係にある位置に測定面を準備して、そこでのビーム径を計測し、この共役位置から測定面を前後させてビーム径を計測する。このように測定面を前後させることでビームのＤＯＦの程度が判明する。そして、ポリゴンミラー８０の偏向方向を変えてこのような計測を繰り返す。更に、絞り７２の位置を副走査方向に変位させて同様にビーム径の計測を繰り返す。
このようにして、ビーム径が小さく、ＤＯＦの深い光束を確保できる位置に絞り７２を固定する。本実施の形態では、絞り７２のアパーチャ７２ａの副走査方向の中心が光軸より副走査方向の辺寸法の３０％以上変位させるようにしたので、シリンドリカルミラー９４によるコマ収差の影響を除くことができ、感光体ドラム２０表面に照射される光束に対し、所望のビーム径並びにＤＯＦを実現することができる。
以上のように、本実施の形態における光走査装置６０は、絞り７２の副走査方向の位置を光軸からずらし、シリンドリカルミラー９４を含む結像光学装置９０で生じる収差の影響が最小限になるようにして絞り７２の位置を固定するようにしたので、感光体ドラム２０に照射される光束のビーム径を小さく且つＤＯＦを必要深さとする光走査装置６０を簡単な構成で実現できる。また、感光体ドラム２０での画像の全面に亘って良好な画質を得ることが可能になる。
更に、アパーチャ７２ａ形状を単なる長方形状としたので、絞り７２の作製も容易になり、低コストの光走査装置６０が可能になる。尚、本実施の形態では、アパーチャ７２ａの形状として長方形状を示したが、特に限定されず、例えば主走査方向を長軸、副走査方向を短軸とする楕円形状であっても差し支えなく、また、例えば長円形状であってもよい。
【００３２】
また、本実施の形態では、光源として半導体レーザ６１を使用したが、半導体には限定されず、更に、半導体レーザ６１の場合には、端面発光タイプでも面発光タイプでも差し支えない。
【００３３】
図７は、本実施の形態の変形例を示すもので、絞り７２の下方には絞り７２を副走査方向に変位可能な移動調整機構１００を備えている。
同図において、本例での移動調整機構１００は、光走査装置６０内に固定された台座１０１の上部に、上下方向（副走査方向）に移動可能なテーブル１０２が設けられ、台座１０１とテーブル１０２の間には、テーブル１０２に固定された支持軸１０３が台座１０１に対し、副走査方向に摺動できるようになっている。また、テーブル１０２上には、絞り７２を固定する固定台１０４が一体的に載置され、テーブル１０２の移動に伴って絞り７２が移動できるようになっている。
【００３４】
このような移動調整機構１００を備えることで、上述した実施の形態同様、シリンドリカルミラー９４を含む結像光学装置９０で生じる収差の影響が最小限になるようにして絞り７２の位置を画像形成装置内で調整することができる。
尚、移動調整機構１００としては、このような構成に限らず、例えばねじとスプリングのような部材を使用して、絞り７２を上下させるようにしてもよい。この場合、一方向にスプリングで付勢し、反対方向からねじで移動させるようにすればよい。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明に係る光走査装置の概要を示す説明図である。
【図２】本発明の作用を示す説明図である。
【図３】本発明が適用された実施の形態に係る画像形成装置を示す説明図である。
【図４】実施の形態の光走査装置の概要を示す説明図である。
【図５】（ａ）は実施の形態で用いられる絞りの概要を示し、（ｂ）は絞りのレイアウトを示す説明図である。
【図６】シリンドリカルミラーでのコマ収差を示す説明図である。
【図７】実施の形態の変形例として、絞りの移動調整機構を示す説明図である。
【符号の説明】
【００３６】
１…光源，２…集光手段，２ａ…光束規制部材，２ｂ…開口部，３…光束偏向手段，４…結像光学手段，４ａ…凹面鏡，５…結像面，６…移動調整手段
【図１】
0004788286.tif 000002
【図２】
0004788286.tif 000003
【図３】
0004788286.tif 000004
【図４】
0004788286.tif 000005
【図５】
0004788286.tif 000006
【図６】
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【図７】
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