(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら前記ワーク上に機能液滴を吐出して描画を行う描画手段と、
機能液滴の吐出に伴って相対的に移動する前記機能液滴吐出ヘッドに後行して前記ワークに臨み、前記ワーク上に機能液を乾燥させるために所定の温度および湿度に調整されたドライエアーを吹き付けるエアー吹出し口と、
前記ワークに吹き付けた前記ドライエアーを吸引するエアー吸込み口と、
前記描画手段、前記エアー吹出し口および前記エアー吸込み口を収容するチャンバルームと、送気側を前記チャンバルームの天井内送気室に連通すると共に、吸気側を前記チャンバルームの排気口に連通し、前記チャンバルームに前記ドライエアーを供給する清浄エアー供給ユニットと、を有するチャンバ装置と、を備え、
前記エアー吹出し口は、前記天井内送気室に連通し、
前記エアー吸込み口は、専用のエアー排気口を介して前記チャンバルームの外部に連通していることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記エアー吹出し口と前記天井内送気室とを連通するエアー吹出し流路には、吹出し流量調整手段が介設されていることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記エアー吸込み口と前記エアー排気口とを接続するエアー吸込み流路には、エアー吸引手段が介設されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
ワークに対し機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら前記ワーク上に機能液滴を吐出して描画を行う描画手段と、
機能液滴の吐出に伴って相対的に移動する前記機能液滴吐出ヘッドに後行して前記ワークに臨み、前記ワーク上に機能液を乾燥させ且つ前記ワークや吐出した前記機能液への熱的影響の排除するために、所定の温度および湿度に調整されたドライエアーを吹き付けるエアー吹出し口と、
前記エアー吹出し口に前記ドライエアーを供給するエアー供給手段と、
前記ワークに吹き付けた前記ドライエアーを吸引するエアー吸込み口と、
前記エアー吸込み口に連なるエアー吸引手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
前記描画手段、前記エアー吹出し口、前記エアー供給手段、前記エアー吸込み口および前記エアー吸引手段を収容すると共に、内部雰囲気を前記ドライエアーで構成したチャンバ装置を、更に備え、
前記エアー供給手段の上流側は、前記チャンバ装置の内部に連通し、
前記エアー吸引手段の下流側は、専用のエアー排気口を介して前記チャンバ装置の外部に連通していることを特徴とする請求項４に記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記ワークはセットテーブルにセットされ、
前記エアー吹出し口および前記エアー吸込み口は、前記セットテーブルにセット可能な最大ワークを横断するように配設されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
前記エアー吹出し口の内部には、吹出し方向に延在する複数の隔板が設けられていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記エアー吹出し口と前記エアー吸込み口とは、共通のケースの内部を仕切板で仕切って一体に形成されていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
前記エアー吹出し口は、複数の吹出しノズルを有し、
前記エアー吸込み口は、複数の吸込みノズルを有し、
前記複数の吹出しノズルと前記複数の吸込みノズルとは、前記相対的移動の移動方向に交互に配設されていることを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能液滴吐出ヘッドにより基板等のワークに描画を行いながら、ワークに描画した機能液滴の溶媒を強制的に気化させる液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の液滴吐出装置として、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドから機能液滴を吐出して基板に描画を行いつつ、送風機により基板上に温風を吹き付けることで、機能液滴の溶媒を気化（機能液を乾燥）させるものが知られている（特許文献１参照）。これに用いられる送風機は、基板の上面を覆うフードと、フード内に設けられた送風口および排気口と、を有しており、送風口から吹き出された温風は、基板へ吹きつけられて溶媒を気化させ、その後、気化した溶媒を含む温風は排気口から排気される。
【特許文献１】特開２００２−２０７１１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、このような従来の液滴吐出装置では、温風を吹き付ける構成であるため、基板の温度が上昇し、基板が熱変形してしまう。このため、冷却時に表面乾燥状態の機能液にシワが生じ描画不良となる問題があった。また、熱により変質する機能液には、適用不能となる問題があった。
【０００４】
本発明は、ワークや機能液への熱的影響を排除しつつ、ワークに描画された機能液滴の溶媒を適切に気化させることができる液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の液滴吐出装置は、ワークに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながらワーク上に機能液滴を吐出して描画を行う描画手段と、機能液滴の吐出に伴って相対的に移動する機能液滴吐出ヘッドに後行してワークに臨み、ワーク上に機能液を乾燥させるために所定の温度および湿度に調整されたドライエアーを吹き付けるエアー吹出し口と、ワークに吹き付けたドライエアーを吸引するエアー吸込み口と、描画手段、エアー吹出し口およびエアー吸込み口を収容するチャンバルームと、送気側をチャンバルームの天井内送気室に連通すると共に、吸気側をチャンバルームの排気口に連通し、チャンバルームにドライエアーを供給する清浄エアー供給ユニットと、を有するチャンバ装置と、を備え、エアー吹出し口は、天井内送気室に連通し、エアー吸込み口は、専用のエアー排気口を介してチャンバルームの外部に連通していることを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、清浄エアー供給ユニットから送気口を介してエアー吹出し口へ常温ドライエアーが送気され、エアー吹出し口から常温ドライエアーがワーク上の機能液に吹き付けられる。これにより、ワークには、チャンバルーム内と同じ温度のドライエアーが吹き付けられるため、ワークは熱変形することなく、機能液滴の溶媒を気化させることができる。また、常温ドライエアーを用いることで、機能液滴の温度上昇が生ずることがなく、機能液の熱による変質を防止することができる。更に、気化した溶媒がエアー吸込み口から吸引され排気されることで、チャンバルーム内に漂うことなく、チャンバルームの溶媒による汚染を防止することができる。なお、エアー吹出し口およびエアー吸込み口は、板金等で一体に形成してもよいし、別体に形成してもよい。
【０００７】
この場合、エアー吹出し口と天井内送気室とを連通するエアー吹出し流路には、吹出し流量調整手段が介設されていることが、好ましい。
【０００８】
この構成によれば、天井内送気室から送気される常温ドライエアーの流量を調整することで、エアー吹出し口から機能液滴の溶媒の気化に適した風圧で常温ドライエアーを吹き出すことができる。
【０００９】
この場合、エアー吸込み口とエアー排気口とを接続するエアー吸込み流路には、エアー吸引手段が介設されていることが、好ましい。
【００１０】
この構成によれば、エアー吸引手段によりエアー吸込み口から気化した溶媒を強制的に吸い込むことができる。これにより、吹出しエアーおよび吸込みエアーが円滑に流れ、気化した溶媒によりチャンバルーム内が汚染されることを防止することができる。
【００１１】
本発明の他の液滴吐出装置は、ワークに対し機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながらワーク上に機能液滴を吐出して描画を行う描画手段と、機能液滴の吐出に伴って相対的に移動する機能液滴吐出ヘッドに後行してワークに臨み、ワーク上に機能液を乾燥させ且つワークや吐出した機能液への熱的影響の排除するために、所定の温度および湿度に調整されたドライエアーを吹き付けるエアー吹出し口と、エアー吹出し口にドライエアーを供給するエアー供給手段と、ワークに吹き付けたドライエアーを吸引するエアー吸込み口と、エアー吸込み口に連なるエアー吸引手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
この構成によれば、エアー供給手段からエアー吹出し口を介してワークに常温ドライエアーが吹き付けられる。これにより、ワークには、雰囲気中と同じ温度のドライエアーが吹き付けられるため、ワークは熱変形することなく、機能液滴の溶媒を気化させることができる。また、常温ドライエアーを用いることで、機能液滴の温度上昇が生ずることがなく、機能液の熱による変質を防止することができる。さらに、溶媒を含むエアーを強制的に排気することができる。なお、溶媒が強酸性、強アルカリ性である場合や毒性を有する場合には、エアー吸引手段の排気側を排気処理設備に接続することが、好ましい。
【００１３】
この場合、描画手段、エアー吹出し口、エアー供給手段、エアー吸込み口およびエアー吸引手段を収容すると共に、内部雰囲気を常温ドライエアーで構成したチャンバ装置を、更に備え、エアー供給手段の上流側は、チャンバ装置の内部に連通し、エアー吸引手段の下流側は、専用のエアー排気口を介してチャンバ装置の外部に連通していることが、好ましい。
【００１４】
この構成によれば、エアー供給手段はチャンバ装置内部の雰囲気を取り込むことにより、チャンバ装置内部の温度と同じ温度の常温ドライエアーを吹き出すことができ、ドライエアー源をチャンバ装置と兼用することができる。
【００１５】
この場合、ワークはセットテーブルにセットされ、エアー吹出し口およびエアー吸込み口は、セットテーブルにセット可能な最大ワークを横断するように配設されていることが、好ましい。
【００１６】
この構成によれば、相対的にワークを一方向に移動させることで、ワーク全面に常温ドライエアーを吹き付けると共に吸い込むことができる。
【００１７】
この場合、エアー吹出し口の内部には、吹出し方向に延在する複数の隔板が設けられていることが、好ましい。
【００１８】
この構成によれば、エアー吹出し口から吹き出される常温ドライエアーを層流とすることができ、エアー吹出し口がフードのような下部拡開形状であっても、ワークにあたる常温ドライエアーの風圧を均一にすることができる。
【００１９】
この場合、エアー吹出し口とエアー吸込み口とは、共通のケースの内部を仕切板で仕切って一体に形成されていることが、好ましい。
【００２０】
この構成によれば、エアー吹出し口とエアー吸込み口とを近接させて形成することができると共に、部品点数を削減することができる。
【００２１】
この場合、エアー吹出し口は、複数の吹出しノズルを有し、エアー吸込み口は、複数の吸込みノズルを有し、複数の吹出しノズルと複数の吸込みノズルとは、相対的移動の移動方向に交互に配設されていることが、好ましい。
【００２２】
この構成によれば、ワークの全面にむらなく常温ドライエアーを吹き出すことができると共に、ワークの全面に吹き付けられた常温ドライエアーを吸い込むことができるため、ワークの全面に吐出された機能液を一様に乾燥させることができる。
【００２３】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２５】
この構成によれば、上記の液滴吐出装置を用いているため、ワークに描画した機能液滴の溶媒をワークが変形することなく気化させることができ、電気光学装置を効率よく製造することができる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field
Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付の図面を参照して、本発明の液滴吐出装置について説明する。液滴吐出装置は、フラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、インクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドを用いた印刷技術（インクジェット法）により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を基板上に形成するものである。具体的には、本実施形態の液滴吐出装置は、基板上の多数の画素領域に発光素子等を構成する機能液を吐出・着弾させ、さらにこの機能液を乾燥（半乾燥）させるものである。
【００２９】
図１および図２に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置され、機能液滴吐出ヘッド１７を搭載すると共に基板Ｗ（ワーク）をセットした描画装置３と、セットされた基板Ｗに対峙するエアー吸込み口５およびエアー吹出し口６を一体形成した吸込み・吹出しフード８と、描画装置３のメンテナンスに供するメンテナンス装置４と、描画装置３、吸込み・吹出しフード８およびメンテナンス装置４を収容し、内部雰囲気（ドライエアー）を所定のクリーン度に維持するチャンバ装置７と、を備えている。吸込み・吹出しフード８は、機能液滴吐出ヘッド１７を挟んでホーム位置にある基板Ｗの反対側に配設され、描画後に吸込み・吹出しフード８の直下に臨んだ基板Ｗを上側から覆うよう配設されている。
【００３０】
液滴吐出装置１は、メンテナンス装置４により機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理（機能維持・回復）を行うと共に、描画装置３によりチャンバ装置７外部から搬入された基板Ｗ（ワーク）上に機能液滴を吐出させる描画動作を行うようにしている。また、図示しないが、液滴吐出装置１には、各構成部品へ駆動・制御用の圧縮エアーを供給するエアー供給装置や、パソコン等で構成され、液滴吐出装置１の各部を制御する制御装置等が組み込まれている。
【００３１】
描画装置３は、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３（ヘッド移動手段）から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたキャリッジ１４と、キャリッジ１４に垂設したヘッドユニット１５とを有している。そして、ヘッドユニット１５には、機能液滴吐出ヘッド１７が搭載されている。一方、基板Ｗは、Ｘ軸テーブル１２の端部に臨む一対の基板認識カメラ（図示省略）により、Ｘ軸テーブル１２に位置決めされた状態で搭載されている。なお、本実施形態では、単一の機能液滴吐出ヘッド１７を搭載しているが、その個数は任意である。
【００３２】
Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ２１を有し、これに吸着テーブル２３および基板θテーブル２４等から成るセットテーブル２２を移動自在に搭載して、構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル１３は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ２６を有し、これに上記のキャリッジ１４を介してヘッドユニット１５を移動自在に搭載して、構成されている。Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に立設した４本のＸ軸支柱２８に支持される一方、Ｙ軸テーブル１３も同様に、機台２上に立設した４本のＹ軸支柱２７に支持されており、Ｘ軸テーブル１２とメンテナンス装置４とを跨ぐように延在している。
【００３３】
そして、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット１５を、Ｘ軸テーブル１２の直上部に位置する描画エリア９１と、メンテナンス装置４の直上部に位置するメンテナンスエリア９２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２にセットした基板Ｗに描画動作を行う場合には、ヘッドユニット１５を描画エリア９１に臨ませ、機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理を行う場合には、ヘッドユニット１５をメンテナンスエリア９２に臨ませる。また、Ｘ軸テーブル１２は、図示左側に位置し、基板Ｗがセットされる基板セットエリア９３と、描画エリア９１と、吸込み・吹出しフード８の直下部に位置する乾燥エリア９４との相互間で、適宜移動させる。すなわち、基板Ｗの搬入搬出の際には、基板セットエリア９３に臨ませて基板Ｗの交換を行い、セットした基板Ｗに描画動作を行う場合には、基板Ｗを描画エリア９１に臨ませる。また、基板Ｗに吐出された機能液滴の溶媒を気化させる場合には、乾燥エリア９４に臨ませる。
【００３４】
チャンバ装置７は、上記の描画装置３、吸込み・吹出しフード８およびメンテナンス装置４を収容するチャンバルーム３０と、チャンバルーム３０に併設され、チャンバルーム３０内に常温ドライエアーを供給する清浄エアー供給ユニット３１と、を備えている。
【００３５】
チャンバルーム３０は、四方を囲む側壁３３、床壁３４および天壁３５で略長方体に形成され、基板セットエリア９３側の側壁３３には、基板Ｗを搬入搬出するためのシャッタ付きの基板搬入出口３６が形成されている（点検口等は省略）。チャンバルーム３０の天面の略全域には複数のＨＥＰＡフィルタ３７が設けられており、ＨＥＰＡフィルタ３７の背面側空間である天井内送気室３８には、清浄エアー供給ユニット３１の送気側に連通する円形の送気口３９が形成されている。また、チャンバルーム３０の側壁下部には、清浄エアー供給ユニット３１の吸気側に連通する円形の排気口４０が形成されている。さらに、チャンバルーム３０の側壁上部には、吸込み・吹出しフード８のエアー吸込み口５から吸い込まれたエアーが排気されるエアー排気口４２が設けられている。なお、同図に示すように、天井内送気室３８に、送気口３９からＨＥＰＡフィルタ３７に向かって延びる複数枚の天井内風向板４１を設け、エアーをＨＥＰＡフィルタ３７に均一に導くようにしてもよい。これにより、ＨＥＰＡフィルタ３７から構成装置に向かって流れるエアーは、均一なダウンフローとなる。
【００３６】
清浄エアー供給ユニット３１は、図示しないがファン、コイルおよびフィルタを内蔵し、適宜外気を取り入れると共に、所定の温度および湿度に調整したクリーンエアーを生成し送気する。清浄エアー供給ユニット３１の送気側は、送気ダクト４５を介して上記の送気口３９に接続され、吸気側は、吸気ダクト４６を介して上記の排気口４０に接続されている。すなわち、清浄エアー供給ユニット３１は、チャンバルーム３０内の雰囲気を所定の換気回数で循環させ、チャンバルーム３０内を、所定の温度、湿度およびクリーン度に且つ正圧に維持する。実施形態の清浄エアー供給ユニット３１は、チャンバルーム３０内に、いわゆる常温ドライクリーンエアー（ドライエアー）を供給するが、使用する機能液によっては、常温ドライエアーに代えて、常温の不活性ガス（窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンおよびラドン）を供給するようにしてもよい。
【００３７】
ここで、図２および図３を参照して、吸込み・吹出しフード８について詳細に説明する。吸込み・吹出しフード８は、エアー吹出し口６およびエアー吸込み口５を複数の仕切板５０で仕切って形成した直方体形状のフード本体５１と、フード本体５１から上方に延びるエアー吹出し流路５２と、フード本体５１から側方に延びるエアー吸込み流路５３と、を有し、板金等で一体に形成されている。
【００３８】
エアー吹出し流路５２は、変形ダクト状に形成され、その上流端は上記の送気口３９近傍の天井内送気室３８に開放されている。エアー吹出し流路５２の下流端は、上記のＨＥＰＡフィルタ３７を取り付けるための格子枠５４（の１マス）に上側から固定される一方、この格子枠５４の下側にはフード本体５１の上端部が固定されている。これにより、エアー吹出し流路５２の下流側が、フード本体５１のエアー吹出し口６に連通している。なお、エアー吹出し流路５２内に取り込まれるＨＥＰＡフィルタ３７を省略してもよい。
【００３９】
天井内送気室３８に開放されたエアー吹出し流路５２の上流端部には、送気ダンパー５５（吹出し流量調整手段）が介設されており、送気ダンパー５５はボリュームダンパーで構成されている。送気ダンパー５５の羽根板を角度調整することにより、全閉から全開の間で、吹出しエアーの流量が調整される。このため、基板Ｗに吐出された機能液滴の溶媒の気化に適した風圧で常温ドライエアーを吹き出すことができる。一方、エアー吸込み流路５３は、フード本体５１の側面全域からロート状に側方に延びており、専用のエアー排気口４２を介してチャンバルーム３０の外部に連通している。
【００４０】
フード本体５１には、複数の仕切板５０により、吹出しエアー（常温ドライエアー）を上から下に導くエアー吹出し口６と、吸込みエアー（常温ドライエアー）に下から側方に導くエアー吸込み口５と、が作りこまれている。また、この複数の仕切板５０により、エアー吹出し口６の下流端部となる４つの吹出しノズル６０が画成され、且つエアー吸込み口５の上流端部となる３つの吸込みノズル６１が画成されている。４つの吹出しノズル６０と３つの吸込みノズル６１とは、Ｘ軸方向に交互に配設され、且つスリット状のそれぞれのノズル口６２は、セットテーブル２２にセット可能な最大基板Ｗよりも幅広（Ｙ軸方向に長い）に形成されている。これにより、各吹出しノズル６０は、基板ＷをＸ軸方向に走査したときに、基板Ｗの全面に各吹出しノズル６０から常温ドライエアーを吹き付けることができると共に、各吸込みノズル６１から気化して溶媒を含む常温ドライエアーを吸い込むことができるようになっている。
【００４１】
また、各吹出しノズル６０のノズル口６２側下部には、エアーの吹出し方向を規制する複数枚の隔板６３が設けられている（図３（ｂ）参照）。この複数枚の隔板６３により、ノズル口６２はその延在方向（Ｙ軸方向）において均一な正圧状態となり、基板Ｗに向けて常温ドライエアーを一様に吹き付けることができる。同様に、各吸込みノズル６１のノズル口６２側下部には、エアーの吸込み方向を規制する複数枚の隔板６３が設けられている（図３（ａ）参照）。この複数枚の隔板６３により、ノズル口６２はその延在方向（Ｙ軸方向）において均一な負圧状態となり、基板Ｗから常温ドライエアーを一様に吸い込むことができる。
【００４２】
実施形態における基板Ｗの乾燥動作は、基板Ｗへの描画に引き続いて行われる。すなわち、Ｘ軸テーブル１２による基板ＷのＸ軸方向への移動に同期して機能液滴吐出ヘッド１７による描画（液滴吐出）が行われるが、描画後の基板Ｗは、そのまま機能液滴吐出ヘッド１７を通過して吸込み・吹出しフード８の直下位置に移動する。そして、基板Ｗが、吸込み・吹出しフード８の直下位置に達する直前に、閉塞状態の送気ダンパー５５を開放する。送気ダンパー５５を開放すると、天井内送気室３８から常温ドライエアーが４つの吹出しノズル６０に向かって送気され、基板Ｗに常温ドライエアーが吹き付けられる。常温ドライエアーが吹き付けられると、基板Ｗに描画した機能液滴の溶媒は気化する。気化した溶媒は３つの吸込みノズル６１から吸い込まれ、エアー排気口４２を介してチャンバルーム３０外に排気される。なお、基板Ｗが、吸込み・吹出しフード８に完全に覆われる大きさの場合には、基板Ｗが吸込み・吹出しフード８の直下に達したところで基板Ｗを停止させ、送気ダンパー５５を開放することが、好ましい。逆に、基板Ｗが、吸込み・吹出しフード８より大きい（長い）場合には、送気ダンパー５５を開放しておいて、基板Ｗを、吸込み・吹出しフード８の直下を往復動で通過するように移動させることが、好ましい。
【００４３】
以上の構成によれば、常温ドライエアーを用いているため、基板Ｗに描画された機能液滴の溶媒を気化する場合は、基板Ｗの熱変形および機能液の熱による変質を防止することができる。また、気化した機能液滴の溶媒をチャンバルーム３０外に排気することができるため、基板Ｗの直上およびチャンバルーム３０内に機能液滴の溶媒が漂うことがない。なお、本実施形態では、エアー吹出し口６とエアー吸込み口５とを一体の構成にしたが、別体としてもよい。
【００４４】
次に、図４を参照して、本発明の第２実施形態について説明する。なお、重複した記載を避けるため、異なる部分についてのみ説明する。この実施形態の液滴吐出装置は、第１実施形態のエアー吸込み流路５３の下流部に、排気用送風機７０が介設されている。排気用送風機７０は、軸流ファン等で構成され、吸込みエアーをエアー排気口４２から強制排気する。
【００４５】
排気用送風機７０が駆動すると、吸込みノズル６１から気化した機能液滴の溶媒を含むエアーが強制的に吸い込まれ、これをチャンバルーム３０の外部に排気する。この構成によれば、より円滑に気化した溶媒を吸込みノズル６１に導入することができ、気化した溶媒によりチャンバルーム３０内が汚染されることがない。
【００４６】
次に、図５を参照して、本発明の第３実施形態について説明する。この実施形態の液滴吐出装置は、第２実施形態のエアー吸込み流路５３が、フード本体５１の側面に連通している。すなわち、フード本体５１の図示手前の側面にエアー吸込み流路５３が接続され、図示先方の側面にエアー吹出し流路５２が接続している。これにより、吹出しエアーは、手前から下方に導かれ、吸込みエアーは、下から側方に導かれる。そして、エアー吸込み流路５３の上流端には、エアー吹出し口６にエアーを送気する送気用送風機７１およびフィルタ７２が設けられており、送気用送風機７１の吸気側は、チャンバルーム３０内に開放されている。
【００４７】
排気用送風機７０および送気用送風機７１を駆動すると、送気用送風機７１は、チャンバルーム３０内から常温ドライエアーを取り込むと共に、所定の風量で各吹出しノズル６０に送気し、各吹出しノズル６０から常温ドライエアーを吹き付ける。この後、吹出しエアーにより気化した機能液の溶媒を、吸込みノズル６１から強制的に吸い込み、これをチャンバルーム３０外に排気する。
【００４８】
以上の構成によれば、送気ダンパー５５を用いずに、送気用送風機７１によりエアーの流量をコントロールすることができると共に、チャンバルーム３０内の常温ドライエアーを用いて、機能液滴の溶媒を気化させることができる。これにより、機能液および基板Ｗに吹き付けられるエアーは、チャンバルーム３０内と同じ温度であるため、機能液および基板Ｗの熱による変質や変形を防止することができる。
【００４９】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００５０】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図６は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図７は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図７（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００５１】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図７（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図７（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００５２】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００５３】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図７（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００５４】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図７（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００５５】
図８は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図７に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００５６】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００５７】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図８において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００５８】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００５９】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００６０】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。
【００６１】
図９は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００６２】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００６３】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００６４】
図１０は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００６５】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００６６】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００６７】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００６８】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００６９】
次に、図１１は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００７０】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００７１】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００７２】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００７３】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００７４】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００７５】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００７６】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【００７７】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００７８】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【００７９】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【００８０】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【００８１】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１２〜図２０を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１２に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【００８２】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１３に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１４に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【００８３】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【００８４】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【００８５】
図１５に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１６に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【００８６】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【００８７】
そして次に、図１７に示すように、各色のうちのいずれか（図１７の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【００８８】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図１８に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【００８９】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図１９に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００９０】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【００９１】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２０に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【００９２】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【００９３】
次に、図２１は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【００９４】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【００９５】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【００９６】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【００９７】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【００９８】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【００９９】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１００】
次に、図２２は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１０１】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１０２】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１０３】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１０４】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１０５】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２３（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２３（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１０６】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】本実施形態に係る液滴吐出装置の上面図である。
【図２】本実施形態に係る液滴吐出装置の側面図である。
【図３】（ａ）は、吸込み・吹出しフードの上面図であり、（ｂ）は、吸込み・吹出しフードのＡ−Ａ´断面図である。
【図４】第２実施形態に係る液滴吐出装置の上面図である。
【図５】第３実施形態に係る液滴吐出装置の上面図である。
【図６】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図７】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図８】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図９】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１１】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１２】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１３】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１４】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１５】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１６】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１７】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１８】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１９】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２０】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２１】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２２】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２３】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１０８】
１…液滴吐出装置  ３…描画装置  ５…エアー吸込み口  ６…エアー吹出し口  ７…チャンバ装置  ８…吸込み・吹出しフード  １７…機能液滴吐出ヘッド  ２２…セットテーブル  ３０…チャンバルーム  ３１…清浄エアー供給ユニット  ３７…ＨＥＰＡフィルタ  ３９…送気口  ４０…排気口  ４２…エアー排気口  ５０…仕切板  ５２…エアー吹出し流路  ５３…エアー吸込み流路  ５５…送気ダンパー  ６０…吹出しノズル  ６１…吸込みノズル  ６３…隔板  ７０…排気用送風機  ７１…送気用送風機  ７２…フィルタ  Ｗ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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