(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明導電性薄膜層を有する１対の積層体からなるパネルを、スペーサを介して、所定の間隔をあけて透明導電性薄膜層同士が対向するように配置してなるタッチパネルにおいて、
少なくとも一方のパネルが、少なくとも基材と前記基材上の片側の面にＴｉＯ２層（光学膜厚＝６７ｎｍ）とＳｉＯ２層（光学膜厚＝３２ｎｍ）とＴｉＯ２層（光学膜厚＝１１０ｎｍ）とＳｉＯ２層（光学膜厚＝１４０ｎｍ）とを基材側から順に積層させてなる反射防止膜とからなる反射防止積層体と、前記基材上の前記反射防止膜を設けていない側の面に設けた透明導電性薄膜層とからなり、
前記反射防止積層体の標準光源Ｃにおける透過色をＬ＊ａ＊ｂ＊系で表したときのｂ＊の値が１．５以上３以下であることを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
前記反射防止積層体の標準光源Ｃにおける透過色をＬ＊ａ＊ｂ＊系で表したときのｂ＊の値が１．５以上２．５以下であることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記基材が、プラスチックフィルムであることを特徴とする請求項１または２記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記反射防止積層体が、前記基材と前記反射防止膜の間に形成されたヘイズの値が１以下であるクリアハードコート層を有し、標準光源Ｃにおける視感反射率Ｙ値が０．７５以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記反射防止積層体が、前記基材と前記反射防止膜の間に形成されたヘイズの値が５以上である防眩性ハードコート層を有し、標準光源Ｃにおける視感反射率Ｙ値が０．５以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記基材の反射防止膜を形成している側の面またはハードコート層面上に、コロナ処理あるいはプラズマ処理が施されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記基材の反射防止膜を形成している側の面またはハードコート層面上に、金属の亜酸化物あるいは亜窒化物からなるグルー層が形成されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記反射防止膜の最表面に防汚層が形成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記基材の反射防止膜を形成していない側の面に、ヘイズの値が１以下のクリアハードコート層が形成されていることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記基材の反射防止膜を形成していない側の面またはハードコート層面上に、コロナ処理あるいはプラズマ処理が施されていることを特徴とすることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記基材の反射防止膜を形成していない側の面またはハードコート層面上に、金属の亜酸化物あるいは亜窒化物からなるグルー層が形成されていることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光線の反射を低減させることを目的とした反射防止機能を有する積層体及びそれを用いた光学機能性積層体及びそれを用いたタッチパネル等の表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、ＣＲＴなどでは、表面の反射を防止する手段および表示画面が帯電することを防止する手段として、多層膜を真空蒸着法などによりコーティングしている。さらに液晶画面においては、それらの表面に凹凸を設けることで乱反射をさせている。
【０００３】
タッチパネルのペン入力による透明導電性薄膜のクラックや剥離の対策として特開平１１−２２４５３９号公報に記載されているように、基材と透明導電性薄膜の間にハードコートを設けることが提案されている。
【０００４】
近年、普及している携帯端末は屋外で使用されることが多く、反射防止機能を付与する必要性が高まっている。しかしながら、通常、成膜されている反射防止膜の構成では透過色がやや黄色味を帯びていること、ペン入力タイプのタッチパネルでは反射防止積層体のペン入力耐性が劣ること、指圧入力タイプでは最表面の防汚性に劣ること等の問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、ペン入力による傷等が付き難く、十分な機械強度特性を有し、反射防止機能および指紋等に対する防汚性に優れたタッチパネル等の表示装置用途の透過色が無色透明な反射防止積層体および光学機能性積層体およびそれを用いた表示装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明はこれらの課題を解決するため、請求項１の発明は、透明導電性薄膜層を有する１対の積層体からなるパネルを、スペーサを介して、所定の間隔をあけて透明導電性薄膜層同士が対向するように配置してなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方のパネルが、少なくとも基材と前記基材上の片側の面にＴｉＯ２層（光学膜厚＝６７ｎｍ）とＳｉＯ２層（光学膜厚＝３２ｎｍ）とＴｉＯ２層（光学膜厚＝１１０ｎｍ）とＳｉＯ２層（光学膜厚＝１４０ｎｍ）とを基材側から順に積層させてなる反射防止膜とからなる反射防止積層体と、前記基材上の前記反射防止膜を設けていない側の面に設けた透明導電性薄膜層とからなり、前記反射防止積層体の標準光源Ｃにおける透過色をＬ＊ａ＊ｂ＊系で表したときのｂ＊の値が１．５以上３以下であることを特徴とするタッチパネルである。
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１記載のタッチパネルにおいて、前記反射防止積層体の標準光源Ｃにおける透過色をＬ＊ａ＊ｂ＊系で表したときのｂ＊の値が１．５以上２．５以下であることを特徴とする。
【０００９】
請求項３の発明は、請求項１または２記載のタッチパネルにおいて、前記基材がプラスチックフィルムであることを特徴とする。
【００１０】
請求項４の発明は、請求項１から３のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、前記反射防止積層体が、前記基材と前記反射防止膜の間に形成されたヘイズの値が１以下であるクリアハードコート層を有し、標準光源Ｃにおける視感反射率Ｙ値が０．７５以下であることを特徴とする。
【００１１】
請求項５の発明は、請求項１から３のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、前記反射防止積層体が、前記基材と前記反射防止膜の間に形成されたヘイズの値が５以上である防眩性ハードコート層を有し、標準光源Ｃにおける視感反射率Ｙ値が０．５以下であることを特徴とする。
【００１２】
請求項６の発明は、請求項１から５のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、前記基材の反射防止膜を形成している側の面またはハードコート層面上に、コロナ処理あるいはプラズマ処理が施されていることを特徴とする。
【００１３】
請求項７の発明は、請求項１から５のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、前記基材の反射防止膜を形成している側の面またはハードコート層面上に、金属の亜酸化物あるいは亜窒化物からなるグルー層が形成されていることを特徴とする。
【００１４】
請求項８の発明は、請求項１から７のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、前記反射防止膜の最表面に防汚層が形成されていることを特徴とする。
【００１５】
請求項９の発明は、請求項１から８のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、前記基材の反射防止膜を形成していない側の面に、ヘイズの値が１以下のクリアハードコート層が形成されていることを特徴とする。
【００１７】
請求項１０の発明は、請求項１から９のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、前記基材の反射防止膜を形成していない側の面またはハードコート層面上に、コロナ処理あるいはプラズマ処理が施されていることを特徴とすることを特徴とする。
【００１８】
請求項１３の発明は、請求項１から１０のいずれか１項に記載のタッチパネルにおいて、前記基材の反射防止膜を形成していない側の面またはハードコート層面上に、金属の亜酸化物あるいは亜窒化物からなるグルー層が形成されていることを特徴とする。
【００２０】
＜作用＞
本発明において、基材上の片側に、透明なセラミック等からなる高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層を交互に積層させてなる反射防止膜を設け、標準光源Ｃにおける透過色をＬ*ａ*ｂ* 系で表したときのｂ*の値が３以下さらに好ましくは２．５以下とすることにより、透過色が無色透明な反射防止積層体を提供できる。
【００２１】
本発明において、基材がプラスチックフィルムであることにより、二次曲面への貼り付けが可能な反射防止積層体を提供できる。
【００２２】
本発明において、基材と反射防止防止膜の間にハードコート層および／またはグルー層を形成することにより、ペン入力等の日常の使用に耐えられる十分な機械強度特性を有する反射防止積層体を提供できる。
【００２３】
本発明において、反射防止膜の最外面に防汚層を形成することにより防汚効果が発現し、指紋などが付着し難く、付着しても拭き取りやすい反射防止積層体を提供できる。
【００２４】
本発明において、上記反射防止積層体の反射防止膜とは反対側に透明導電性薄膜層を形成することにより、上記機能を有するタッチパネル等の表示装置の部材に使用できる光学機能性積層体が提供でき、この光学機能性積層体を用いた上記同様の機能を有するタッチパネル等の表示装置を提供できる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施例としての反射防止積層体の層構成の断面図である。本発明の反射防止積層体１０は、基材１２上の片側に、透明な高屈折率セラミック薄膜層１１ａと低屈折率セラミック薄膜層１１ｂを交互に積層させてなる反射防止膜１３を積層した層構成からなる。
【００２６】
本発明の反射防止積層体１０は、標準光源Ｃにおける透過色を、ＪＩＳ  Ｚ８７２９-1994に記載されたＬ*ａ*ｂ*系で表したときのｂ* の値が３以下以下さらに好ましくは２．５以下とすることにより、透過色が無色透明な反射防止積層体を提供できる。
【００２７】
透過色をＬ*ａ*ｂ* 系で表した場合、波長５５０ｎｍ付近の透過率が高いとｂ* は大きくなり、波長４５０ｎｍ付近の透過率が高いとｂ*は小さくなる。ＴｉＯ2やＳｉＯ2等の一般的なセラミック薄膜を用いた反射防止積層体は可視光の長波長域の透過率はほとんど減衰しないため、ｂ*値が大きいと透過色は黄色くなる。
ｂ*を３以下にすることにより、反射防止積層体の透過光が無色(透明)に近づき、さらに２．５以下にするとほとんど黄色味が感じられなくなる。
【００２８】
本発明で用いられる基材１２としては、透明性を有し、かつ表面が平滑なものであれば良く、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等の高分子フィルムやガラスなどが挙げられ、目的・用途により適宜選択される。
【００２９】
本発明における反射防止膜１３を構成する材料としては、有機材料でも無機材料であっても屈折率の関係を満足するものであれば特に限定されないが、セラミック薄膜が好ましく、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物などの材料が使用可能である。上記無機化合物からなる薄膜は、その材料により屈折率が異なり、その屈折率の異なるセラミック薄膜を特定の膜厚で複数層積層することにより、反射防止膜とすることが可能となる。
【００３０】
屈折率の低い材料としては、酸化マグネシウム（１．６）、二酸化珪素（１．５）、フッ化マグネシウム（１．４）、フッ化カルシウム（１．３〜１．４）、フッ化セリウム（１．６）、フッ化アルミニウム（１．３）などが挙げられる。
また、屈折率の高い材料としては、二酸化チタン（２．４）、二酸化ジルコニウム（２．０）、硫化亜鉛（２．３）、酸化タンタル（２．１）、酸化亜鉛（２．１）、酸化インジウム（２．０）が挙げられる。但し、上記括弧内の数値は屈折率を表す。
【００３１】
本発明におけるセラミック薄膜層の製造方法としては、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法でも良く、なかでも薄膜の生成には乾式法が優れている。これには真空蒸着法等の物理的気相析出法やＣＶＤ法のような化学的気相析出法を用いることができる。
【００３２】
図２は、本発明の反射防止積層体の他の例の層構成を示す断面図である。図２に示すように、基材２２上にハードコート層２４、グルー層２５を順次積層し、グルー層２５の上に透明な高屈折率セラミック薄膜層と低屈折率セラミック薄膜層を交互に積層させてなる反射防止膜２３を設け、最表面に防汚層２６を設けた層構成からなる。本発明の射防止積層体は、上記層構成に限定されるものではなく、目的・用途により、必要に応じてハードコート層２４、グルー層２５、防汚層２６のいずれか、またはそれらの２層もしくは３層を設けた、例えば、基材／ハードコート層／反射防止膜、基材／ハードコート層／グルー層／反射防止膜、基材／ハードコート層／反射防止膜／防汚層等の構成であっても良い。
【００３３】
ハードコート層２４としては、大きく分類してクリアタイプあるいは表面に凹凸を設ける等により、反射光を散乱させて、それ自体で、ある程度反射率を低減できる防眩性タイプの２種類存在し、適宜用途により使い分けられる。材料は全体の透明度を阻害しない程度に透明なものが使用可能である。例えば、紫外線硬化型のアクリル等が挙げられる。膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となるが、透明性、塗工精度や取り扱いから５〜２０μｍの範囲が好ましい。
【００３４】
本発明の反射防止積層体において、基材とセラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が１以下である上記のクリアハードコート層が形成され、標準光源Ｃにおける視感反射率Ｙ値が０．７５以下であることを特徴とするものである。
【００３５】
また、防幻性ハードコート層の凹凸は、平均粒子径０．０１〜３μｍ程度の透明な無機または有機の超微粒子を混合分散させることによって形成できる。または、エンボス加工等により表面に凹凸を形成させることもできる。上記の超微粒子は、透明であれば特に限定されるものではないが、低屈折率材料が好ましく、無機の酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等で適している。上記ハードコート層は均一に塗布されるものであれば、塗工方法としては特に限定されるものではない。
【００３６】
本発明の反射防止積層体において、基材とセラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が５以上である上記の防眩性ハードコート層が形成され、標準光源Ｃにおける視感反射率Ｙ値が０．５以下であることを特徴とするものである。
【００３７】
本発明の反射防止積層体を用いてタッチパネル等の表示装置とした場合、ペン入力に対する反射防止積層体の機械強度特性を向上させるためには、基材またはハードコートとセラミック薄膜層の間の密着性を高める必要があり、そのために基材あるいはハードコート表面にコロナ処理もしくはプラズマ処理を施すことが好ましい。
【００３８】
グルー層２５は、基材２２あるいはハードコート層２４と反射防止膜２３のセラミック薄膜層との密着性を高めるものであり、密着性の仕様を満たすものであれば、特に材料は制限されるものではない。例えば、金属の亜酸化物あるいは亜窒化物からなる材料が用いられるが、代表的な例として、クロムやシリコン等の金属の亜酸化物からなるものが挙げられる。膜厚は、透明度を阻害しないように設定しなければならず、５〜２０ｎｍの範囲が好ましい。
【００３９】
防汚層２６は、撥水性および／または撥油性を有し、反射防止膜２３のセラミック薄膜層の表面を保護し、さらに防汚性を高めるものであり、要求性能を満たすものであれば、特に材料は制限されるものではない。代表的な例として、有機化合物、好ましくはフッ素系含有有機化合物が適している。撥水性を示すものとして、例えば疎水基を有する化合物がよく、フルオロカーボンやパーフルオロシラン等が、またこれらの高分子化合物等が適している。指紋ふき取り防汚向上などには、メチル基の様な撥油性を有する高分子化合物が適している。
【００４０】
これらの材料は、材料に応じて真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスや、マイクログラビア、スクリーン等のウェットプロセスの各種コーティング方法を用いて、防汚層２６を形成することができる。膜厚は、反射防止積層体としての機能を損なわないように設定しなければならず、５０ｎｍ以下、さらには１０ｎｍ以下にすることが好ましい。
【００４１】
図３は、本発明の光機能性積層体の一例の構成を示す断面図である。反射防止積層体２０の反射防止膜２３とは反対側に透明導電性薄膜層３７を形成した光学機能性積層体３０はタッチパネル等の表示装置の部材として使用できる。このとき透明導電性薄膜層３７のクラックを防ぐためにハードコート層３４、グルー層３５を基材２２と透明導電性薄膜層３７の間に形成した構成を示した。
【００４２】
ハードコート層３４、グルー層３５のいずれかの層、またはその両方の層を基材２２と透明導電性薄膜層３７の間に形成しても良い。グルー層３５を設けない場合は、基材２２、またはハードコート３４の透明導電性薄膜層３７を積層する面に、コロナ処理あるいはプラズマ処理を施すことが好ましい。
【００４３】
透明導電性薄膜層３７は、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズのいずれか、または、それらの２種類もしくは３種類の混合酸化物が挙げられるが、目的・用途により種々の材料が使用でき、特に限定されるものではないる。
【００４４】
図４は、本発明の表示装置の一例としてタッチパネルの構成を示す断面図である。透明導電性薄膜層を有する１対の積層体３０、５０からなるパネルを、スペーサＳを介して、所定の間隔をあけて透明導電性薄膜層３７、５７同士が対向するように配置してなるタッチパネルにおいて、一方のパネルが、本発明の光学機能性積層体３０であることを特徴とするタッチパネルの構成である。
【００４５】
上記タッチパネルは、ペン入力による傷等が付き難く、十分な機械強度特性を有し、反射防止および指紋等に対する防汚性に優れたタッチパネルとなる。
【００４６】
【実施例】
次に、本発明を具体的な実施例を図３を参照しながら詳細に説明する。
＜実施例１＞
透明プラスチック基材２２のＰＥＴフィルム７５μｍの両面に、紫外線硬化性のクリアタイプのアクリル系ハードコート層２４、３４を５μｍの膜厚で塗布し、グルー層２５、３５としてＳｉＯｘ（ｘ＜２）を膜厚１０ｎｍで成膜した後に、反射防止膜２３としてＴｉＯ2とＳｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロアルキルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、
１層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５  ｎｄ＝６７ｎｍ）
２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６  ｎｄ＝３２ｎｍ）
３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５  ｎｄ＝１１０ｎｍ）
４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６  ｎｄ＝１４０ｎｍ）
とした。
【００４７】
積層体は標準光源Ｃにおける透過色のｂ＊および視感反射率Ｙがそれぞれ１．５および０．７の光学特性が得られた。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で１０万字の文字を書く試験を行った結果、キズは殆ど認められず良好な結果が得られた。また、反射防止積層体表面に指紋を付着させたが、ティッシュペーパーで容易に拭き取れた。
【００４８】
＜実施例２＞
透明プラスチック基材２２のＰＥＴフィルム７５μｍの両面に、紫外線硬化性のクリアタイプのアクリル系ハードコート層２４、３４を５μｍの膜厚で塗布し、ハードコート表面を１Ｐａの酸素雰囲気下で基材１ｃｍ2当たり１Ｗのｒｆプラズマにより処理を行った後に、反射防止膜２３としてＴｉＯ2とＳｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロアルキルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、
１層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５  ｎｄ＝６７ｎｍ）
２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６  ｎｄ＝３２ｎｍ）
３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５  ｎｄ＝１１０ｎｍ）
４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６  ｎｄ＝１４０ｎｍ）
とした。
【００４９】
積層体は標準光源Ｃにおける透過色のｂ＊および視感反射率Ｙがそれぞれ１．５および０．７の光学特性が得られた。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で５万字の文字を書く試験を行った結果、キズは殆ど認められず良好な結果が得られた。また、反射防止積層体表面に指紋を付着させたが、ティッシュペーパーで容易に拭き取れた。
【００５０】
＜実施例３＞
透明プラスチック基材２２のＰＥＴフィルム７５μｍの片側に、紫外線硬化性の防眩性タイプ（ヘイズ７）のアクリル系ハードコート層２４、および基材の反対側にクリアタイプのアクリル系ハードコート層３４をそれぞれ５μｍの膜厚で塗布し、グルー層２５、３５としてＳｉＯｘ（ｘ＜２）を膜厚１０ｎｍで成膜した後に、反射防止膜２３としてＴｉＯ2とＳｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロアルキルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、
１層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５  ｎｄ＝６７ｎｍ）
２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６  ｎｄ＝３２ｎｍ）
３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５  ｎｄ＝１１０ｎｍ）
４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６  ｎｄ＝１４０ｎｍ）
とした。
【００５１】
積層体は標準光源Ｃにおける透過色のｂ＊および視感反射率Ｙがそれぞれ２．５および０．５の光学特性が得られた。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で１０万字の文字を書く試験を行った結果、キズは殆ど認められず良好な結果が得られた。また、反射防止積層体表面に指紋を付着させたが、ティッシュペーパーで容易に拭き取れた。
【００５２】
さらに基材の反射防止膜とは反対側に透明導電性薄膜３７として５００Ω／□のＩＴＯ薄膜を成膜した光機能性積層体を用いてタッチパネルを作製し、タッチペンを用いて２ｃｍ×２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で１０万字の文字を書く試験を行った結果、反射防止積層体と同様にキズは殆ど認められず良好な結果が得られた。
【００５３】
＜比較例１＞
透明プラスチック基材２２のＰＥＴフィルム７５μｍの両面に、紫外線硬化性のクリアタイプのアクリル系ハードコート層２４、３４を５μｍの膜厚で塗布し、反射防止膜２３としてＴｉＯ2とＳｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロアルキルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、
１層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５  ｎｄ＝６５ｎｍ）
２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６  ｎｄ＝４３ｎｍ）
３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５  ｎｄ＝９５ｎｍ）
４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６  ｎｄ＝１３９ｎｍ）
とした。
【００５４】
積層体は標準光源Ｃにおける透過色のｂ＊および視感反射率Ｙがそれぞれ３．５および０．７の光学特性が得られ、透過色がやや黄色くなった。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で１０万字の文字を書く試験を行った結果、反射防止膜剥がれによる顕著なキズが観察された。
【００５５】
【発明の効果】
以上のように、基材上の片側に透明な高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層を交互に積層させてなる反射防止膜を設けた反射防止積層体において、標準光源Ｃの透過色をＬ*ａ*ｂ*系で表したときのｂ* の値を３以下さらに好ましくは２．５以下とすることにより、透過色が無色透明な反射防止積層体を提供することが可能となった。
【００５６】
また、基材がプラスチックフィルムであることにより、二次曲面への貼り付けが可能な反射防止積層体を提供することが可能となった。
【００５７】
また、基材と反射防止膜の間にハードコート層および／またはグルー層を設けるか、ないしはコロナ処理・プラズマ処理等を施すことにより、ペン入力等、日常の使用に耐えられる十分な機械強度特性を有する反射防止積層体を提供することが可能となった。
【００５８】
また、反射防止膜の最外面にに防汚層を形成することにより、指紋等などが付着し難く、付着しても拭き取り易い反射防止積層体を提供することが可能となった。
【００５９】
また、上記反射防止積層体の反射防止膜とは反対側に透明導電性薄膜を形成して光機能性積層体とし、これを使用して上記同様の機能を有するタッチパネル等の表示装置を提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止積層体の一例の構成を示す断面図である。
【図２】本発明の反射防止積層体の他の例の構成を示す断面図である。
【図３】本発明の光機能性積層体の一例の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の表示装置としてタッチパネルの一例の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１０、２０…反射防止積層体
１１ａ、２１ａ…高屈折率薄膜層
１１ｂ、２１ｂ…低屈折率薄膜層
１２、２２…基材
１３、２３…反射防止膜
２４、３４…ハードコート層１１
２５、３５…グルー層
２６…防汚層
３０…光機能性積層体（パネル）
３７、５７…透明導電性薄膜層
４０…タッチパネル
５０…パネル
Ｓ…スペーサー
【図１】
0004826007.tif 000002
【図２】
0004826007.tif 000003
【図３】
0004826007.tif 000004
【図４】
0004826007.tif 000005