(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対向する内壁に基板の両端部が差し込まれる基板保持溝が上下方向に形成された中箱と、該中箱を着脱するための上部開口を備えた外箱と、該外箱に収納された前記中箱の前記基板保持溝内に保持された前記基板の上端部を押さえるように前記外箱の上部開口に被せられた蓋とを備えた基板収納ケースを用いる基板の搬送方法において、
前記基板収納ケースをケース収納袋に収納するとともに、該ケース収納袋の上から前記外箱および前記蓋の双方に掛けたバンドで前記基板収納ケースを縛った状態で前記基板を搬送するものであり、
前記中箱、前記外箱および前記蓋は、いずれも合成樹脂製であり、
前記ケース収納袋は、クッション材層の外側表面に金属層が積層されたシート材料からなり、
前記基板は主表面に転写パターン形成用金属層を有するマスクブランクスであり、
前記基板収納ケースにおいて前記蓋の外周面と前記外箱の外周面との接合部分を粘着テープで塞いだ状態で前記基板を搬送することを特徴とする基板の搬送方法。
【請求項２】
前記基板は、前記転写パターン形成用金属層上にレジスト層が積層されていることを特徴とする請求項１に記載の基板の搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路や液晶表示装置などの製造に使用されるフォトマスク、マスクブランクス、サブストレートなどの基板を基板収納ケースに収納した状態で搬送する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路や液晶表示装置等を製造する際、フォトリソグラフィ技術を用いて薄膜をパターニングする工程では、透光性基板に遮光性膜などからなる転写パターンが形成された転写マスクが用いられる。このような転写マスクを製造するには、まず、透光性基板の全面に遮光性膜を形成した後、遮光性膜の表面全体にレジスト層を積層する。次に、レジスト層に対して選択的露光、ベーク処理、現像処理を行い、レジストパターンを形成した後、レジストパターンをマスクとして遮光性膜をパターニングし、透光性基板の表面に転写パターンを備えた転写マスクを製造する。ここで、透光性基板の全面に遮光性膜などの金属層を形成した段階のもの、透光性基板の全面に金属層およびレジスト層を積層した段階のもののいずれについてもマスクブランクス（あるいはマスクブランク）と称する。
【０００３】
このようなマスクブランクス、フォトマスクあるいはサブストレートなどの基板については、製造後、出荷する際、あるいは各製造工程間を搬送する際、例えば、図１および図２に示すように、相対向する内壁に基板の両端部が差し込まれる基板保持溝３２が上下方向に形成された合成樹脂製の中箱３０と、この中箱３０を着脱するための上部開口２１を備えた合成樹脂製の外箱２０と、この外箱２０の上部開口２１に被せられた合成樹脂製の蓋４０とを備えた基板収納ケース１０が用いられる（特許文献１、２参照）。
【０００４】
また、基板収納ケース１０を用いて基板１を搬送する際には、図１０（ａ）に示すように、蓋４０の外周面と外箱２０の外周面との接合部分を粘着テープ６０で塞いだ後、図１０（ｂ）に示すように、基板収納ケース１０をケース収納袋５０に収納した状態で搬送される。
【特許文献１】特開２００５−６４２７９号公報
【特許文献２】特開２００１−１５４３４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、図１０（ａ）、（ｂ）に示す方法で基板１を搬送した場合には、搬送中に部材同士が擦れることにより塵埃が発生し、基板１表面に多数の塵埃が付着するという問題点がある。また、このような塵埃はクリーンルームを汚染する原因ともなる、さらに、塵埃がフォトマスクやマスクブランクスなどといった基板１に付着すると、パターン欠陥や転写特性の低下などといった重大な欠陥を発生させてしまう。
【０００６】
本発明は、このような課題に鑑み、創案されたもので、搬送中に基板表面に塵埃が付着することを確実に防止できるようにした基板の搬送方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明では、相対向する内壁に基板の両端部が差し込まれる基板保持溝が上下方向に形成された中箱と、該中箱を着脱するための上部開口を備えた外箱と、該外箱に収納された前記中箱の前記基板保持溝内に保持された前記基板の上端部を押さえるように前記外箱の上部開口に被せられた蓋とを備えた基板収納ケースを用いる基板の搬送方法において、前記基板収納ケースをケース収納袋に収納するとともに、該ケース収納袋の上から前記外箱および前記蓋の双方に掛けたバンドで前記基板収納ケースを縛った状態で前記基板を搬送するものであり、前記中箱、前記外箱および前記蓋は、いずれも合成樹脂製であり、前記ケース収納袋は、クッション材層の外側表面に金属層が積層されたシート材料からなり、前記基板は主表面に転写パターン形成用金属層を有するマスクブランクスであり、前記基板収納ケースにおいて前記蓋の外周面と前記外箱の外周面との接合部分を粘着テープで塞いだ状態で前記基板を搬送することを特徴とする。
【０００８】
本発明では、基板収納ケースをケース収納袋に収納するとともに、ケース収納袋の上から外箱および蓋の双方に掛けたバンドで基板収納ケースを縛った状態で基板を搬送するため、搬送中、外箱、中箱、基板および蓋がずれて擦れることがない。従って、搬送中に基板に塵埃が付着することを確実に防止することができる。
【０００９】
また、ケース収納袋がクッション材層に金属層が積層されたシート材料からなるので、外部から基板収納ケース内に水分が侵入することも確実に防止できる。
【００１０】
さらに、基板を収納した基板収納ケースの外箱と蓋との接合部分を粘着テープで塞いで外箱と蓋との接合部を隙間なく密封できるため、外部から基板収納ケース内に異物が侵入することを確実に防止できる。
【００１１】
本発明は、基板として、前記転写パターン形成用金属層上にレジスト層が積層されているマスクブランクスを搬送する際に適用すると効果的である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明では、外箱および蓋の双方に掛けたバンドで基板収納ケースを縛った状態で基板を搬送するため、搬送中、外箱、中箱、基板、蓋がずれて擦れることがない。従って、搬送中に基板に塵埃が付着することを確実に防止することができる。それ故、搬送中に発生した塵埃によってクリーンルームを汚染することがない。また、塵埃がフォトマスクやマスクブランクスに付着することがないので、パターン欠陥や転写特性の低下などといった不具合を発生させることがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。なお、以下の説明では、基板としてマスクブランクスを搬送する例を中心に説明する。また、本発明は、基本的な構成が図１０を参照して説明した従来技術と共通するので、共通する部分については同一の図面を用いて説明する。
【００１４】
［実施の形態］
（基板収納ケースの構成）
図１は、本発明が適用される基板収納ケースおよびケース収納袋の斜視図である。図２は、図１に示す中箱に基板を収納する様子を示す斜視図である。図３（ａ）、（ｂ）は、蓋の内面を示す斜視図、およびこの蓋に形成した基板押さえを拡大して示す説明図である。
【００１５】
図１に示すように、基板収納ケース１０は、その内部で基板１を垂直姿勢に保持する中箱３０と、この中箱３０を着脱するための上部開口２１を上部に備えた外箱２０と、外箱２０の上部開口２１を覆う蓋４０とを備えている。基板１としては、フォトマスクや、その材料となるマスクブランクス、サブストレートなどが挙られる。ここで、中箱３０、外箱２０および蓋４０は、ポリプロピレン、アクリル、ポリエチレン、ポリアミド、ＡＢＳなどの各種樹脂成形品により構成されている。
【００１６】
外箱２０は、上部開口２１の周縁部２５がやや肉厚の嵌合部になっており、外箱２０の外周部と蓋４０の外周部とが嵌合するようになっている。外箱２０において、相対向する側面の外側には突起２７が形成されている一方、蓋４０の外周部の下端部には、突起２７に係合するフック４７が形成されている。なお、蓋４０および外箱２０の双方に突起を各々形成しておき、別体のフックで蓋４０と外箱２０とを固定することもある。
【００１７】
また、本形態では、基板収納ケース１０を用いて基板１を搬送する際、基板収納ケース１０は、ケース収納袋５０に収納される。ここで、ケース収納袋５０は、シート状の発泡樹脂やエアークッションシートなどのクッション材層の外側表面にアルミニウムなどの金属層３が積層されたシート材料から構成されており、耐湿機能を備えている。
【００１８】
図１および図２に示すように、中箱３０において、相対向する内壁３１には、上下方向に延びた基板保持溝３２が形成されており、これらの基板保持溝３２に沿って基板１を挿入することにより、基板１の左右両端部が基板保持溝３２に保持される。本形態では、中箱３０において相対向する内壁３１には基板保持溝３２が複数本ずつ、例えば５本ずつ並列状に形成されており、中箱３０は、５枚の基板１を収納可能になっている。なお、中箱３０に収納される基板１は一枚であってもよい。ここで、基板保持溝３２の溝幅は、保持する基板１の厚さ寸法よりもやや大きく設定されており、基板１と基板保持溝３２との間には、所定のクリアランスが確保されている。これにより、基板保持溝３２に対する基板１の挿入や基板１の引き出しが容易であるとともに、摩擦による基板１の損傷や基板保持溝３２の磨耗が抑制される。
【００１９】
図３（ａ）に示すように、蓋４０において、その内面には、蓋４０が外箱２０の上部開口２１を覆った際、中箱３０の基板保持溝３２に保持された基板１の上端部を押さえる基板押さえ４１が形成されている。本形態では、５枚の基板１の上端部が位置する箇所の各々に５つの基板押さえ４１が２列、形成されており、１枚の基板１当たり、２つの基板押さえ４１で基板１を押さえるようになっている。このような基板押さえ４１として、本形態では、図３（ｂ）に示すように、蓋４０の内面に固定されたＬ字形状の樹脂成形品が用いられており、基板押さえ４１のうち、基板１と接する下端部４１１には基板１の上端部が嵌る断面台形形状の溝４１０が形成されている。また、本形態の基板押さえ４１は、Ｌ字形状の樹脂成形品の両方の端部４１１、４１２に溝が形成されているので、蓋４０の内面に対して基板押さえ４１を固定する際、その向きを変えるだけで、２列に配置される基板押さえ４１を共通の樹脂成形品で構成することができる。
【００２０】
（基板１の搬送方法）
図４は、本発明に係る基板収納ケース１０において外箱２０に蓋４０を被せた様子を示す斜視図である。図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、基板収納ケース１０内の基板１の様子を示す縦断面図である。図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明を適用した基板１の搬送方法を示す斜視図である。
【００２１】
本発明を適用した基板収納ケース１０を用いて、製造した基板１を出荷する際、あるいは各製造工程間を搬送する際には、図２に示すように、中箱３０の基板保持溝３２内に基板１の両端部を差し込んで複数枚の基板１を中箱３０に収納した後、中箱３０を外箱２０に収納するとともに、外箱２０の上部開口２１を蓋４０で覆う。また、図４に示すように、蓋４０のフック４７を外箱２０の突起２７に係合させて、蓋４０を外箱２０に固定する。
【００２２】
この状態で、図５（ａ）に示すように、中箱３０の基板保持溝３２に保持された基板１の下端部は、基板保持溝３２の底部に形成された断面台形形状の凹部からなる受け部３２０で支持される一方、基板１の上端部は、基板押さえ４１に形成された断面台形形状の溝４１０に保持される。ここで、基板１がバイナリータイプのフォトマスク形成用のマスクブランクスであれば、合成石英や弗素ドープ石英ガラスなどからなる絶縁性の透光性基板２の主表面には、転写マスクを形成するためのクロム系材料などからなる金属層３が形成されているとともに、アクリル樹脂などといった感光性レジスト層４が形成されている。なお、透光性基板１の端部１ａ、１ｂには面取り部が形成されている。
【００２３】
図５（ａ）に示すマスクブランクスは、感光性レジスト層４が電子線描画されるタイプであるため、描画の際のチャージアップを防止するために、金属層３は透光性基板２の側端面にまで形成されている。これに対して、感光性レジスト層４は、基板１の外端部から所定の距離だけ隔てた内側領域のみに形成されている。
【００２４】
ここで、基板１がレーザ描画されるタイプのマスクブランクスであれば、チャージアップを防止する必要がないため、図５（ｂ）に示すように、金属層３は透光性基板２の側端面から除去されている。また、ハーフトーンマスクを形成するためのマスクブランクスの場合には、図５（ｃ）に示すように、透光性基板２上にハーフトーン膜５、金属層３、および感光性レジスト層４が形成されている。なお、図示を省略するが、反射型マスクブランクスの場合には、低膨張基板上に、多層反射膜やバッファ層の上層に金属層やレジスト層が形成される。
【００２５】
なお、図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示す例では、感光性レジスト層４が透光性基板２の外端部から除去されているが、透光性基板２の外端部に残っている場合もある。
【００２６】
これらいずれの場合にも、絶縁性の基板１に対して、中箱３０の基板保持溝３２、および蓋４０の基板押さえ４１に接することになる。このため、基板１の搬送中に静電気が発生し、搬送中、基板１を基板保持溝３２から取り出す際、あるいは蓋４０を外す際、それまでに溜まった静電気により放電が起こり、中箱３０の基板保持溝３２、および蓋４０の基板押さえ４１から塵埃が発生するおそれがあるので、中箱３０および基板押さえ４１には導電性を付与しておくことが好ましい。このような導電性は、中箱３０や基板押さえ４１を構成する樹脂に対して、カーボンなどの導電性フィラーを添加することにより実現することができる。また、感光性レジスト層４も一部が中箱３０の基板保持溝３２、および蓋４０の基板押さえ４１に接している。
【００２７】
このようにして基板１を基板収納ケース１０に収納した後は、まず、図６（ａ）に示すように、蓋４０の外周面と外箱２０の外周面との接合部分を粘着テープ６０で塞ぐ。次に、図６（ｂ）に示すように、基板収納ケース１０をケース収納袋５０に収納する。次に、図６（ｃ）に示すように、ケース収納袋５０の上から外箱２０および蓋４０の双方に掛けたポリプロピレンテープなどからなるバンド７０で基板収納ケース１０を十字に縛る。この状態で基板１を搬送する。
【００２８】
そして、クリーンルーム内に基板１を搬入する際には、まず、クリーンルーム外でバンド７０を切断した後、基板収納ケース１０をケース収納袋５０から出して、基板収納ケース１０をクリーンルーム内に搬入する。そして、基板１を使用する時点で、基板収納ケース１０から粘着テープ６０を剥がした後、フック４７を外して蓋４０をあける。次に、外箱２０から中箱３０を取り出してローダーのステージにセットすると、ロボットが基板１を中箱３０から１枚ずつ取り出す。
【００２９】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の基板１の搬送方法では、基板１を収納した基板収納ケース１０において、外箱２０の上部開口２１を覆う蓋４０の外周面と外箱２０の外周面との接合部分を粘着テープ６０で塞いで外箱２０と蓋４０との接合部を隙間なく密封する。また、基板収納ケース１０をケース収納袋５０に収納した状態とする。このため、搬送中に外部から基板収納ケース１０内に異物が侵入することを確実に防止できる。また、ケース収納袋５０は、クッション材層の表面に金属層３が積層されたシート材料からなるため、耐湿性能が高い。それ故、搬送中に外部から基板収納ケース１０内に水分が侵入することも確実に防止できる。
【００３０】
さらに、本形態の基板１の搬送方法では、蓋４０の外周面と外箱２０の外周面との接合部分を粘着テープ６０で塞いだ状態で基板収納ケース１０をケース収納袋５０に収納するとともに、ケース収納袋５０の上から外箱２０および蓋４０の双方に掛けたバンド７０で基板収納ケース１０を縛った状態で基板１を搬送する。このため、図１０（ａ）、（ｂ）に示す方法と比較して、搬送中に基板１の主表面に塵埃が付着することを確実に防止することができる。
【００３１】
例えば、感光性レジスト層を形成したマスクブランクスを、図６（ａ）〜（ｃ）を参照して説明した本形態の方法と、図１０（ａ）、（ｂ）  を参照して説明した従来方法とにより梱包した状態で各々、振動を加え、その前後における基板１枚当たりの塵埃の増加数を繰り返し評価したところ、本形態の方法によれば、塵埃の増加数が平均で１．２個であったのに対して、従来の方法では平均で３０個であった。なお、上記の値は、同時に試験に供した複数枚の基板１の１枚当たりの塵埃の数である。また、本試験は複数回行ったので、上記の値は、各試験で得られた数の平均値である。
【００３２】
このように本形態の方法によれば、搬送中に基板１の主表面に塵埃が付着することを確実に防止することができる。その理由としては、本形態では、ケース収納袋５０の上から外箱２０および蓋４０の双方に掛けたバンド７０で基板収納ケース１０を縛った状態とするため、搬送中に振動が加わっても、外箱２０、蓋４０、中箱３０および基板１は、相互に確実に固定され、ずれないので、蓋４０と外箱２０との擦れ、基板１と基板押さえ４１との擦れ、基板１と中箱３０との擦れを確実に防止できるためと考えられる。
【００３３】
また、本形態では、ケース収納袋５０の上からバンド７０で基板収納ケース１０を縛っているため、図９（ａ）〜（ｃ）を参照して以下に説明する参考例（基板収納ケース１０をバンド７０で直接縛る方法）と比較して、搬送中に振動が加わっても、バンド７０が位置ずれして緩むことがなく、かつ、たとえバンド７０が位置ずれしても、蓋４０や外箱２０と接していないので発塵しないという利点がある。
【００３４】
また、本形態では、基板収納ケース１０をクリーンルーム内に搬送する際には、クリーンルームの外でバンド７０を外す。このため、基板収納ケース１０がバンド７０で縛られた状態から解放される際に基板収納ケース１０に振動や衝撃が加わって塵埃が発生した場合でも、かかる塵埃でクリーンルーム内が汚染されることを確実に防止することができる。
【００３５】
（基板収納ケース１０の別の形態）
上記形態では、外箱２０と蓋４０とをフック４７により固定したが、クリーンルーム内でフック４７を外す際の振動、衝撃により塵埃が発生するおそれがある。その一方で、外箱２０と蓋４０とを粘着テープ６０で密封し、固定している。従って、図７に示すように、基板収納ケース１０からフック４７を省き、外箱２０と蓋４０とを粘着テープ６０のみで固定する構成を採用すると、クリーンルーム内でフック４７を外す際の塵埃の発生を防止することができる。
【００３６】
（バンド７０の掛け方）
上記形態では、ケース収納袋５０の上からバンド７０で基板収納ケース１０を縛るにあたって、バンド７０を十字に交差するように掛けたが、バンド７０が外箱２０および蓋４０の双方に掛かるのであれば、図８に示すように、ケース収納袋５０の上から基板収納ケース１０の角部分を縛ってもよい。
【００３７】
［参考例］
図９（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、参考例に係る基板の搬送方法を示す斜視図である。なお、本形態は、基本的な構成が実施の形態と共通するので、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
【００３８】
本形態でも、図１〜図４を参照して説明したように、基板収納ケース１０を用いて、製造した基板１を出荷する際、あるいは各製造工程間を搬送する際には、中箱３０の基板保持溝３２内に基板１の両端部を差し込んで複数枚の基板１を中箱３０に収納した後、中箱３０を外箱２０に収納するとともに、外箱２０の上部開口２１を蓋４０で覆う。また、図４に示すように、蓋４０のフック４７を外箱２０の突起２７に係合させて、蓋４０を外箱２０に固定する。
【００３９】
さらに、図９（ａ）に示すように、蓋４０の外周面と外箱２０の外周面との接合部分を粘着テープ６０で塞いだ後、図９（ｂ）に示すように、外箱２０および蓋４０の双方に掛けたバンド７０で基板収納ケース１０を縛った状態で、図９（ｃ）に示すように、ケース収納袋５０に収納し、基板１を搬送する。
【００４０】
このような方法で基板１を搬送した場合も、外箱２０および蓋４０の双方に掛けたバンド７０で基板収納ケース１０を縛った状態で基板１を搬送するため、搬送中に振動が加わっても、外箱２０、蓋４０、中箱３０および基板１は、相互に確実に固定され、ずれない。それ故、蓋４０と外箱２０との擦れ、基板１と基板押さえ４１との擦れ、基板１と中箱３０との擦れを防止できるので、搬送中に基板１の主表面に塵埃が付着することを防止することができる。
【００４１】
また、クリーンルーム内に基板１を搬入する際、クリーンルーム外で基板収納ケース１０をケース収納袋５０から出した後、バンド７０を切断してから、基板収納ケース１０をクリーンルーム内に搬入すれば、基板収納ケース１０がバンド７０で縛られた状態から解放される際に基板収納ケース１０に振動や衝撃が加わって塵埃が発生した場合でも、かかる塵埃でクリーンルーム内が汚染されることを確実に防止することができる。
【００４２】
なお、本形態でも、図７を参照して説明したように、基板収納ケース１０からフック４７を省いてもよく、また、図８を参照して説明したような方法で基板収納ケース１０をバンド７０で縛ってもよい。
【００４３】
（他の実施の形態）
上記形態では、基板１としてマスクブランクスを搬送する例を中心に説明したが、マスクブランクスの他、フォトマスクやサブストレートなどの基板１を搬送する場合に本発明を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明が適用される基板収納ケースおよびケース収納袋の斜視図である。
【図２】図１に示す中箱に基板を収納する様子を示す斜視図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は、図１に示す蓋の内面を示す斜視図、およびこの蓋に形成した基板押さえを拡大して示す説明図である。
【図４】図１に示す基板収納ケースにおいて外箱に蓋を被せた様子を示す斜視図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、図１に示す基板収納ケース内の基板の様子を示す縦断面図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施の形態に係る基板の搬送方法を示す斜視図である。
【図７】本発明を適用した基板の搬送方法において基板収納ケースからフックを省略した構成を示す斜視図である。
【図８】本発明を適用した基板の搬送方法においてバンドの別の掛け方を示す斜視図である。
【図９】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、参考例に係る基板の搬送方法を示す斜視図である。
【図１０】（ａ）、（ｂ）は、従来の基板の搬送方法を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４５】
１  基板
３  金属層
４  レジスト層
１０  基板収納ケース
２０  外箱
２１  外箱の上部開口
３０  中箱
３２  基板保持溝
４０  蓋
４１  基板押さえ
５０  ケース収納袋
６０  粘着テープ
７０  バンド
【図１】
0004773216.tif 000002
【図２】
0004773216.tif 000003
【図３】
0004773216.tif 000004
【図４】
0004773216.tif 000005
【図５】
0004773216.tif 000006
【図６】
0004773216.tif 000007
【図７】
0004773216.tif 000008
【図８】
0004773216.tif 000009
【図９】
0004773216.tif 000010
【図１０】
0004773216.tif 000011