(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明絶縁基板と、
前記透明絶縁基板上に積層された６色の色パターンを有する単一層のカラーフィルタ層とを備え、
前記カラーフィルタ層は、レッド、グリーン、及びブルーの３原色の色パターン部分と、前記３原色の色パターンのうち２色を隣接させて構成される３原色の補色の色パターン部分とを含み、
前記３原色の色パターン部分のカラーフィルタ層と、前記３原色の補色の色パターン部分のカラーフィルタ層とは、膜厚が異なり、
前記３原色の補色の色パターン部分のカラーフィルタ層は、前記３原色の色パターン部分のカラーフィルタ層よりも膜厚が厚いことを特徴とする液晶表示素子用カラーフィルタ基板。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示素子用カラーフィルタ基板において、
前記透明絶縁基板上に、前記３原色の色パターン部分のカラーフィルタ層と重なり合って積層された透明樹脂層を更に備え、
前記透明樹脂層は、前記３原色の色パターン部分のカラーフィルタ層と、前記3原色の補色の色パターン部分のカラーフィルタ層との膜厚の差に等しい厚さであることを特徴とする液晶表示素子用カラーフィルタ基板。
【請求項３】
透明絶縁基板上に透明樹脂を塗布し、マスク露光により、前記塗布した透明樹脂の一部を除去し、透明樹脂層を形成する工程と、
透明絶縁基板上にレッドの着色材を塗布し、マスク露光により、前記塗布したレッドの着色材の一部を除去し、レッドのカラーフィルタ層を形成する工程と、
透明絶縁基板上にグリーンの着色材を塗布し、マスク露光により、前記塗布したグリーンの着色材の一部を除去し、グリーンのカラーフィルタ層を形成する工程と、
透明絶縁基板上にブルーの着色材を塗布し、マスク露光により、前記塗布したブルーの着色材の一部を除去し、ブルーのカラーフィルタ層を形成する工程とを含み、
前記透明絶縁基板上の前記透明樹脂層を積層した部分には、前記レッド、グリーン、ブルーのうち何れか１色のカラーフィルタ層を重なり合わせるように積層し、前記透明樹脂層を積層した部分以外の部分には、前記レッド、グリーン、ブルーのうち何れか２色のカラーフィルタ層を隣接させて積層し、
前記カラーフィルタ層は透明絶縁基板上に積層された６色の色パターンを有する単一層であり、
前記レッド、グリーン、ブルーのうち何れか２色のカラーフィルタ層を隣接させて積層された前記カラーフィルタ層は、前記レッド、グリーン、ブルーのうち何れか１色のカラーフィルタ層を重なり合わせるように積層されたカラーフィルタ層よりも膜厚が厚いことを特徴とする液晶表示素子用カラーフィルタ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い色純度を実現する液晶表示素子用カラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平板表示装置（ＦＰＤ）分野において、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）及び真空蛍光表示装置（ＶＦＤ）等が活発に研究されている。量産化技術、駆動手段の容易性及び高画質等の理由から、現在は、液晶表示装置（以下、「ＬＣＤ」という。）が脚光を浴びている。ＬＣＤは、液晶の屈折率異方性を利用して画面に情報を表示する装置である。
【０００３】
そして、色純度に優れた表示を行う従来技術として、ここで、次の２つを挙げる。
【０００４】
１つ目の従来技術は、反射型のＬＣＤに用いられるカラーフィルタとして、補色系の３色であるイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）の何れか一つの色パターンに対応する各３つの領域を有する一層部分と、これら補色系の３色のうち何れか２つの色パターンを重ね合わせて３つの原色であるレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）の何れか一つの色パターンに対応する各３つの領域を有する二層部分とからなり、この６色パネルにより色純度に優れた色を表示するものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
２つ目の従来技術は、ゲストホストモードを用いてフルカラー表示を行うＬＣＤの表示素子であるが、３つの原色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）をそれぞれ表す第１着色領域と、３つの補色（Ｃ、Ｍ、Ｙ）をそれぞれ表す第２着色領域とからなり、第２の着色領域は第１の着色領域で表わされる原色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する補色が重なり合うように積層され、色純度に優れた色を表示するものである（例えば、特許文献２参照）。
【０００６】
これら２つの従来技術は、基本色として３色を使用し、これら３色のカラー層のうち２色を組み合わせ、この２色のカラー層を２層に重ね合わせることにより、６色以上のカラー表示を実現しているものである。
【特許文献１】特開平１０−３０７２０５号公報
【特許文献２】特開２００５−１０７２２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記の従来技術のように、ＬＣＤの表示パネルにおいて表示方向に２色のカラー層を２層に重ね合わせてしまう場合には、入射光の有するスペクトルのうち透過した各２色に対応するスペクトルが吸収されてしまうため、１色の単一層を透過した光に比べて、表示方向に出射する光の透過率は低下してしまう。
【０００８】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであって、液晶カラー表示用６色パネルにおいて、高い色純度を実現するとともに、低コストで製造できる液晶表示素子用カラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、透明絶縁基板と、透明絶縁基板上に積層された少なくとも６色の色パターンを有する単一層のカラーフィルタ層とを備え、カラーフィルタ層は、レッド、グリーン、及びブルーの３原色の色パターン部分と、３原色の色パターンのうち少なくとも２色を隣接させて構成される３つの色パターン部分とを含み、３原色の色パターン部分のカラーフィルタ層と、３原色の補色の色パターン部分のカラーフィルタ層とは、膜厚が異なることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明は、３原色の補色の色パターン部分のカラーフィルタ層が、３原色の色パターン部分のカラーフィルタ層よりも膜厚が厚いことを特徴とする。
【００１１】
また、本発明は、透明絶縁基板上に、３原色の色パターン部分のカラーフィルタ層と重なり合って積層された透明樹脂層を更に備え、透明樹脂層は、３原色の色パターン部分のカラーフィルタ層と、３原色の補色の色パターン部分のカラーフィルタ層との膜厚の差に等しい厚さであることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、透明絶縁基板上に透明樹脂を塗布し、マスク露光により、塗布した透明樹脂の一部を除去し、透明樹脂層を形成する工程と、透明絶縁基板上にレッドの着色材を塗布し、マスク露光により、塗布したレッドの着色材の一部を除去し、レッドのカラーフィルタ層を形成する工程と、透明絶縁基板上にグリーンの着色材を塗布し、マスク露光により、塗布したグリーンの着色材の一部を除去し、グリーンのカラーフィルタ層を形成する工程と、透明絶縁基板上にブルーの着色材を塗布し、マスク露光により、塗布したブルーの着色材の一部を除去し、ブルーのカラーフィルタ層を形成する工程とを含み、透明絶縁基板上の透明樹脂層を積層した部分には、レッド、グリーン、ブルーのうち何れか１色のカラーフィルタ層を重なり合わせるように積層し、透明樹脂層を積層した部分以外の部分には、レッド、グリーン、ブルーのうち何れか２色のカラーフィルタ層を隣接させて積層することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、少なくとも６色の色パターンを有する単一層のカラーフィルタ層に、レッド、グリーン、及びブルーの３原色の色パターン部分と、この３原色の色パターンのうち少なくとも２色を隣接させて構成する３原色の補色の色パターン部分とを含み、３原色の補色の色パターン部分のカラーフィルタ層が３原色の色パターン部分のカラーフィルタ層よりも膜厚が厚くなるように構成することにより、液晶カラー表示用６色パネルにおいて、高い色純度を実現するとともに、低コストで製造できる液晶表示素子用カラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することができる。
【００１４】
更に、本発明は、３原色の色パターン部分と重なり合うように透明樹脂層を設けて液晶層に接する側の表面を平らな平面とすることにより、液晶カラー表示用６色パネルにおいて、パネルの透過率を低下させることなく高い色純度を実現する液晶表示素子用カラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図１〜図１０を参照しながら本発明を適用した実施例について説明する。図１は、本発明を適用した液晶表示素子用カラーフィルタ基板の構造を説明するための平面図を示しており、図２（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ図１に示した破線Ｉ−Ｉ’、破線II−II’、及び破線III−III’に沿って切断した断面図を示している。また、図３は、本発明を適用した液晶表示素子用カラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置による表示画面における色純度を説明するためのｘｙ色度図を示している。そして、図４〜図１０は、図１及び図２に示したカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための各製造工程における断面図を示している。
【００１６】
＜実施例＞
図１は、本実施例におけるカラーフィルタ基板の概略的な全体構造を示している。図１に示したように、カラーフィルタ基板１００は、複数の画素がマトリックス状に規則正しく並べられて構成されている。そして、各画素は６色のサブ画素領域を含んでいる。具体的には、Ｒ（レッド）画素領域２、Ｇ（グリーン）画素領域４、Ｂ（ブルー）画素領域６、Ｙ（イエロー）画素領域８、Ｍ（マゼンダ）画素領域１０、及びＣ（シアン）画素領域１２の６つのサブ画素領域である。ただし、Ｙ画素領域８、Ｍ画素領域１０、及びＣ画素領域１２は、Ｒ画素領域２のカラーフィルタとＧ画素領域４のカラーフィルタとの組み合わせ、Ｒ画素領域２のカラーフィルタとＢ画素領域６のカラーフィルタとの組み合わせ、及びＧ画素領域４のカラーフィルタとＢ画素領域６のカラーフィルタとの組み合わせにより、それぞれ構成されるものとする。
【００１７】
尚、これらＹ画素領域８、Ｍ画素領域１０、及びＣ画素領域１２の各画素を構成する際の、Ｒ画素領域２のカラーフィルタ、Ｇ画素領域４のカラーフィルタ、及びＢ画素領域６のカラーフィルタの各組み合わせ比率については、設計上における表示画面の色再現性に応じて決定すればよい。また、これら６色のサブ画素領域は、図１には決まったパターンで配置されているが、その他の配置パターンとして、モザイク（ダイアゴナル）型又はデルタ（トライアングル）型等が適用可能である。
【００１８】
次に、図２を参照しながら、図１に示した上記６つのサブ画素領域２、４、６、８、１０、１２の断面構造について説明する。ただし、カラーフィルタ基板１００の断面構造は、図２（ａ）〜（ｃ）において共通しており、ガラス等の透明な絶縁物質から成る透明絶縁基板２０、透過率に影響を与えないアクリル樹脂等の透明な物質から成る透明樹脂層１６、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）の３色の各着色層（カラーフィルタ層）、及び各着色層の隙間から入射する光を遮蔽するためのブラックマトリクス１４から構成されている。以下に、図２の（ａ）〜（ｃ）に示した各断面構造について詳細に説明する。
【００１９】
図２（ａ）は、図１に示した破線Ｉ−Ｉ’に沿って切断した断面図である。図２（ａ）は、Ｒ画素領域２及びＹ画素領域８の構造を示している。図２（ａ）に示したように、Ｒ画素領域２の断面構造は、透明樹脂層１６とレッド（Ｒ）の着色層とが積層された構成となっており、Ｙ画素領域８の断面構造は、グリーン（Ｇ）の着色層とレッド（Ｒ）の着色層とを隣接させて配置した構成となっている。そして、これら２つの着色層を組み合わせたＹ画素領域８は、Ｒ画素領域２と同じように１つのサブ画素領域に相当する。ただし、本実施例においては、Ｙ画素領域８におけるレッド（Ｒ）の着色層とグリーン（Ｇ）の着色層との組み合わせ比率は１対１であるものとする。
【００２０】
ここで、レッド（Ｒ）の着色層の膜厚をｄ１、透明樹脂層の膜厚をｄ２とした場合、Ｙ画素領域８におけるレッド（Ｒ）の着色層及びグリーン（Ｇ）の着色層の膜厚は、ともに（ｄ１＋ｄ２）である。すなわち、Ｙ画素領域８の着色層の膜厚は、Ｒ画素領域２の膜厚よりも透明樹脂層１６の膜厚分だけ厚くなっている。そして、本実施例においては、Ｒ画素領域２の膜厚とＹ画素領域８の着色層の膜厚とが異なる構造であっても、透明樹脂層１６を設けて膜厚の差をなくすことにより、Ｒ画素領域２とＹ画素領域８との境界部分は平らな平面となっており、表示の輝度むらの要因となるリタデーションを発生させることもない。
【００２１】
図２（ｂ）は、図１に示した破線II−II’に沿って切断した断面図である。図２（ｂ）は、Ｇ画素領域４及びＭ画素領域１０の断面構造を示している。図２（ｂ）に示したように、Ｇ画素領域４は、透明樹脂層１６とグリーン（Ｇ）の着色層とを積層させた構成となっており、Ｍ画素領域１０は、ブルー（Ｂ）の着色層とレッド（Ｒ）の着色層とを隣接させて配置した構成となっている。すなわち、上記図２（ａ）の場合と異なるのは各着色層の色のみであって、断面構造については全く同じであるため、ここでのＧ画素領域４及びＭ画素領域１０の断面構造の詳細な説明は省略する。
【００２２】
図２（ｃ）は、図１に示した破線III−III’に沿って切断した断面図である。図２（ｃ）は、Ｂ画素領域６及びＣ画素領域１２の断面構造を示している。図２（ｃ）に示したように、Ｂ画素領域６は、透明樹脂層１６とブルー（Ｂ）の着色層とを積層させた構成となっており、Ｃ画素領域１２は、ブルー（Ｂ）の着色層とグリーン（Ｇ）の着色層とを隣接させて配置した構成となっている。上記図２（ｂ）の場合と同様にして、上記図２（ａ）及び（ｂ）の場合と異なるのは各着色層の色のみであって、断面構造については全く同じであるため、ここでのＢ画素領域６及びＣ画素領域１２の断面構造の詳細な説明は省略する。
【００２３】
次に、図３を参照しながら、本実施例におけるカラーフィルタ基板１００を備えた液晶表示装置における表示画面のシミュレーション結果に基づいた色純度について詳細に説明する。
【００２４】
図３は、カラーフィルタ基板１００を使用した液晶表示素子のシミュレーション結果を示すｘｙ色度図である。この液晶表示素子のシミュレーションは、従来から一般的に用いられている３波長管である蛍光管をバックライトとして使用している。尚、蛍光管よりも低電力消費かつ出力光の波長調節が柔軟に行えるＬＥＤを使用しても同様の結果が得られる。
【００２５】
図３に示したｘｙ色度図上において、Ｒ点、Ｇ点、Ｂ点の３つを結び、破線で描画されている三角形は、ＲＧＢの３原色の色度を示しており、最外周に描画されている馬蹄形の部分が、国際照明委員会（ＣＩＥ）が規定した可視領域の境界を示している。ｘｙ色度図上においては、この馬蹄形部分の内側に進む程、鮮やかさ（色純度）が低下することを表す。
【００２６】
また、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、及びブルー（Ｂ）の３原色による加色混合により色を表現する場合、複数の基準色がｘｙ色度図に示される点が形成する多角形で囲まれた部分の色のみが再現できる。
【００２７】
例えば、上述した本実施例のような断面構造とは異なり、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、及びブルー（Ｂ）の各サブ画素領域２、４、６を構成する着色層の膜厚と、シアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、及びイエロー（Ｙ）の各サブ画素領域８、１０、１２を、ＲＧＢの３原色の着色層を組み合わせることにより構成する着色層の膜厚とを同じ厚さで構成した場合には、バックライトとして従来から用いられている蛍光管を使用して表示できる色の範囲は、ｘｙ色度図上の三角形ＲＧＢで囲まれた範囲内となる。
【００２８】
一方、本実施例のような断面構成とした場合には、バックライトに従来の蛍光管を使用して表示できる色の範囲は、ｘｙ色度図上の六角形ＲＹＧＣＢＭで囲まれた範囲内となる。すなわち、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、及びイエロー（Ｙ）の各サブ画素領域８、１０、１２を構成する着色層の膜厚を、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、及びブルー（Ｂ）の各サブ画素領域２、４、６を構成する着色層の膜厚よりも厚くした構成とすることによって、ＬＣＤの画面表示において高い色純度を実現している。これは、シアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、及びイエロー（Ｙ）の各サブ画素領域８、１０、１２を構成する着色層の膜厚を従来の構成に比べて厚くした分、これらの色パターンをより鮮やかに表示できるとともに、表示可能な色全体の色純度を高めることを可能にしたことを示している。
【００２９】
次に、図４〜図１０を参照しながら、図１及び図２に示した本実施例におけるカラーフィルタ基板１００の製造方法について詳細に説明する。
【００３０】
先ず、図４の（ａ）〜（ｃ）は、図１に示した破線Ｉ−Ｉ’、II−II’、III−III’に沿って切断した断面にそれぞれ対応し、カラーフィルタ基板１００の製造工程の第１段階における断面図を示している。この第１段階の工程において、ガラス等の透明絶縁基板２０の上のＲ、Ｇ、及びＢのサブ画素領域２、４、６と、それぞれ、Ｃ、Ｍ、及びＹのサブ画素領域８、１０、１２との境界地点にブラックマトリクス（以下、「ＢＭ」という。）１４を形成した後、更に透明絶縁基板２０の上に透明樹脂層１６を積層させる。
【００３１】
ここで、ＢＭ１４の構成材料としては、従来から用いられている金属クローム（Cr）や、または表面の反射を低くする目的で酸化クローム（CrOx）や樹脂ＢＭ等を使用する。そして、ＢＭ１４の形成工程は、従来と同様に、フォトリソグラフィー（以下、「ＰＥＰ」という。）法により行えばよい。また、透明樹脂層１６の構成材料としては、アクリル樹脂等の透明な樹脂を使用し、図４の（ａ）〜（ｃ）に示したように、透明絶縁基板２０の上の全面に透明樹脂層１６を積層する。
【００３２】
次に、図５の（ａ）〜（ｃ）は、図１に示した破線Ｉ−Ｉ’、II−II’、III−III’に沿って切断した断面にそれぞれ対応し、カラーフィルタ基板１００の製造工程の第２段階における断面図を示している。この第２段階の工程において、上述した第１段階の工程で透明絶縁基板２０の上に積層した透明樹脂層１６の不要な部分をＰＥＰ法により除去する。
【００３３】
本実施例において、Ｒ、Ｇ、及びＢのサブ画素領域２、４、８を構成する着色層の表面と、Ｃ、Ｍ、及びＹのサブ画素領域８、１０、１２を構成する着色層の表面との高さを等しくするために、Ｒ、Ｇ、及びＢのサブ画素領域２、４、８にのみ透明樹脂層１６を残せばよい。すなわち、Ｃ、Ｍ、及びＹのサブ画素領域８、１０、１２に対応する部分の透明樹脂層１６を不要な部分として除去すればよい。この不要な部分を除去した結果、図５の（ａ）〜（ｃ）に示したように、透明樹脂層１６が必要な部分は、Ｒ、Ｇ、及びＢのサブ画素領域２、４、８のみとなる。
【００３４】
次に、図６の（ａ）〜（ｃ）は、図１に示した破線Ｉ−Ｉ’、II−II’、III−III’に沿って切断した断面にそれぞれ対応し、カラーフィルタ基板１００の製造工程の第３段階における断面図を示している。この第３段階の工程においては、図６の（ａ）〜（ｃ）に示したように、透明絶縁基板２０の上の全面にレッド（Ｒ）の着色層２２を積層する。この際、レッド（Ｒ）の着色層２２の表面が平らになるように積層する。尚、レッド（Ｒ）の着色層２２に使用する染料又は顔料（着色材）は、従来から用いられるものと同じものである。
【００３５】
次に、図７の（ａ）〜（ｃ）は、図１に示した破線Ｉ−Ｉ’、II−II’、III−III’に沿って切断した断面にそれぞれ対応し、カラーフィルタ基板１００の製造工程の第４段階における断面図を示している。この第４段階の工程において、上述した第３段階の工程で透明絶縁基板２０の上に積層したレッド（Ｒ）の着色層２２の不要な部分をＰＥＰ法により除去する。
【００３６】
図７（ａ）は図２（ａ）に対応する断面図である。図７（ａ）に示したように、Ｒ画素領域２とＹ画素領域８の半分の画素領域とにレッド（Ｒ）の着色層２２を残し、Ｙ画素領域８の残り半分の画素領域のレッド（Ｒ）の着色層２２を除去する。
【００３７】
図７（ｂ）は図２（ｂ）に対応する断面図である。図７（ｂ）に示したように、Ｍ画素領域１０の半分の画素領域にレッド（Ｒ）の着色層２２を残し、Ｍ画素領域１０の残り半分の画素領域のレッド（Ｒ）の着色層２２を除去する。
【００３８】
図７（ｃ）は図２（ｃ）に対応する断面図である。図７（ｃ）に示したように、Ｂ画素領域６及びＣ画素領域１２にはレッド（Ｒ）の着色層２２が不要であるため、Ｂ画素領域６及びＣ画素領域１２のレッド（Ｒ）の着色層２２を全て除去する。
【００３９】
次に、図８の（ａ）〜（ｃ）は、図１に示した破線Ｉ−Ｉ’、II−II’、III−III’に沿って切断した断面にそれぞれ対応し、カラーフィルタ基板１００の製造工程の第５段階における断面図を示している。この第５段階の工程においては、図８の（ａ）〜（ｃ）に示したように、上述した第４段階の工程を終了した状態の透明絶縁基板２０の上の全面にグリーン（Ｇ）の着色層２４を積層する。この際、グリーン（Ｇ）の着色層２４の表面が平らになるように積層する。尚、グリーン（Ｇ）の着色層２４に使用する染料又は顔料は、従来から用いられるものと同じものである。
【００４０】
次に、図９の（ａ）〜（ｃ）は、図１に示した破線Ｉ−Ｉ’、II−II’、III−III’に沿って切断した断面にそれぞれ対応し、カラーフィルタ基板１００の製造工程の第６段階における断面図を示している。この第６段階の工程において、上述した第５段階の工程で透明絶縁基板２０の上に積層したグリーン（Ｇ）の着色層２４の不要な部分をＰＥＰ法により除去する。
【００４１】
図９（ａ）は図２（ａ）に対応する断面図である。図９（ａ）に示したように、Ｙ画素領域８の半分の画素領域にグリーン（Ｇ）の着色層２４を残し、Ｙ画素領域８の残り半分の画素領域のグリーン（Ｇ）の着色層２４を除去する。
【００４２】
図９（ｂ）は図２（ｂ）に対応する断面図である。図９（ｂ）に示したように、Ｇ画素領域４にグリーン（Ｇ）の着色層２４を残し、Ｍ画素領域１０のグリーン（Ｇ）の着色層２４を除去する。
【００４３】
図９（ｃ）は図２（ｃ）に対応する断面図である。図９（ｃ）に示したように、Ｃ画素領域１２の半分の画素領域にグリーン（Ｇ）の着色層２４を残し、Ｃ画素領域１２の残り半分の画素領域のグリーン（Ｇ）の着色層２４を除去する。
【００４４】
次に、図１０の（ａ）〜（ｃ）は、図１に示した破線Ｉ−Ｉ’、II−II’、III−III’に沿って切断した断面にそれぞれ対応し、カラーフィルタ基板１００の製造工程の第７段階における断面図を示している。この第７段階の工程においては、図１０の（ａ）〜（ｃ）に示したように、上述した第６段階の工程を終了した状態の透明絶縁基板２０の上の全面にブルー（Ｂ）の着色層２６を積層する。この際、ブルー（Ｂ）の着色層２６の表面が平らになるように積層する。尚、ブルー（Ｂ）の着色層２６に使用する染料又は顔料は、従来から用いられるものと同じものである。
【００４５】
最後に、図１０に示した第７段階の工程で透明絶縁基板２０の上に積層したブルー（Ｂ）の着色層２６の不要な部分をＰＥＰ法により除去する。
【００４６】
具体的には、図１０（ａ）に示したＲ画素領域２及びＹ画素領域８のブルー（Ｂ）の着色層２６は全て除去する。図１０（ｂ）に示したＭ画素領域１０の半分の画素領域にブルー（Ｂ）の着色層２６を残すとともに、Ｇ画素領域４及びＭ画素領域１０の残り半分の画素領域のブルー（Ｂ）の着色層２６を除去する。図１０（ｃ）に示したＢ画素領域６とＣ画素領域１２の半分の画素領域とにブルー（Ｂ）の着色層２６を残すとともに、Ｃ画素領域１２の残り半分の画素領域のブルー（Ｂ）の着色層２６を除去する。
【００４７】
以上の工程を行うことにより、図２に示した断面構造が完成される。
【００４８】
尚、本実施例において第１段階〜第７段階として製造工程を説明したが、第１段階の工程におけるＢＭ１４の形成を除き、透明樹脂層１６、レッド（Ｒ）の着色層２２、グリーン（Ｇ）の着色層２４、及びブルー（Ｂ）の着色層２６を形成する各工程を行う順番を様々な順序パターンに入れ替えた製造工程により行うこともできる。
【００４９】
以上から、本実施例によれば、３原色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）のサブ画素領域２、４、８の着色層の膜厚よりも、３原色のうち２色の着色層を隣接させ配置して表示させる３原色の補色（Ｃ、Ｍ、Ｙ）のサブ画素領域８、１０、１２の着色層の膜厚を厚く構成し、また、これらの膜厚の差を相殺するために光の透過率に影響を及ぼすことのない透明樹脂層１６を設けて液晶層に接する側の表面を平らな平面とすることにより、液晶カラー表示用６色パネルにおいて、パネルの透過率を低下させることなく高い色純度を実現することができる。また、従来の３原色の着色層を用いればよいため、低コストで製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明を適用した液晶表示素子用カラーフィルタ基板の平面図である。
【図２】図１に示した破線Ｉ−Ｉ’、破線II−II’、及び破線III−III’に沿って切断した断面図である。
【図３】本発明のカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置による表示画面における色純度を説明するためのｘｙ色度図である。
【図４】図１及び図２に示したカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図５】図１及び図２に示したカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図６】図１及び図２に示したカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７】図１及び図２に示したカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８】図１及び図２に示したカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図９】図１及び図２に示したカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図１０】図１及び図２に示したカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００５１】
１００  カラーフィルタ基板
２  Ｒ（レッド）画素領域
４  Ｇ（グリーン）画素領域
６  Ｂ（ブルー）画素領域
８  Ｙ（イエロー）画素領域
１０  Ｍ（マゼンタ）画素領域
１２  Ｃ（シアン）画素領域
１４  ブラックマトリクス
１６  透明樹脂層
２０  透明絶縁基板
【図１】
0004648165.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0004648165.tif 000008
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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