(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定された被露光体を上面に載置して、前記複数の露光領域の設定方向に前記被露光体を搬送するステージと、
前記ステージの上方に配設され、所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスクを前記被露光体に近接対向させて保持するマスクステージと、
前記被露光体に対する露光期間中常時点灯し、前記マスクステージに保持されたフォトマスクに露光光を照射する光源と、
前記マスクステージと光源との間に配設され、前記フォトマスクに照射する露光光を平行光にする集光レンズと、
前記光源と集光レンズとの間に配設され、前記光源の像を前記集光レンズの手前側に結像する結像レンズと、
前記結像レンズによる前記光源の像の結像位置近傍に配設され、前記被露光体の搬送により前記複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して移動し、露光光の照射及び遮光の切換えをするシャッタと、を備え、
前記シャッタは、前記隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて露光光を遮光する幅を変更可能な構成としたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定された被露光体を上面に載置して、前記複数の露光領域の設定方向に前記被露光体を搬送するステージと、
前記ステージの上方に配設され、所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスクを前記被露光体に近接対向させて保持するマスクステージと、
前記被露光体に対する露光期間中常時点灯し、前記マスクステージに保持されたフォトマスクに露光光を照射する光源と、
前記マスクステージと光源との間に配設され、前記フォトマスクに照射する露光光の輝度分布を均一にするフォトインテグレータと、
前記マスクステージとフォトインテグレータとの間に配設され、前記フォトマスクに照射する露光光を平行光にする集光レンズと、
前記フォトインテグレータと集光レンズとの間に配設され、前記フォトインテグレータの端面像を前記集光レンズの手前側に結像する結像レンズと、
前記結像レンズによる前記フォトインテグレータの端面像の結像位置近傍に配設され、前記被露光体の搬送により前記複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して移動し、露光光の照射及び遮光の切換えをするシャッタと、を備え、
前記シャッタは、前記隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて露光光を遮光する幅を変更可能な構成としたことを特徴とする露光装置。
【請求項３】
前記シャッタは、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部を形成し、そのうちの一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向に移動させて前記遮光の幅を変更可能としたことを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記シャッタは、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部を形成し、該遮光部を前記被露光体の搬送方向に沿って複数組所定間隔で設け、前記各遮光部の複数の遮光部材のうち一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向に移動させて前記遮光の幅を変更可能としたことを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項５】
前記シャッタは、前記一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向に所定量だけ移動させた状態で、前記被露光体の隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を通過するのに同期して前記被露光体の搬送方向と反対方向に移動可能としたことを特徴とする請求項３又は４記載の露光装置。
【請求項６】
複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定された被露光体を上面に載置して、前記複数の露光領域の設定方向に前記被露光体を搬送するステージと、
前記ステージの上方に配設され、所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスクを前記被露光体に近接対向させて保持するマスクステージと、
前記被露光体に対する露光期間中常時点灯し、前記マスクステージに保持されたフォトマスクに露光光を照射する光源と、
前記マスクステージと光源との間に配設され、前記フォトマスクに照射する露光光を平行光にする集光レンズと、
前記マスクステージと集光レンズとの間に配設され、前記被露光体の搬送により前記複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して移動し、露光光の照射及び遮光の切換えをするシャッタと、を備え、
前記シャッタは、前記隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて露光光を遮光する幅を変更可能な構成としたことを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記シャッタは、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部を形成し、そのうちの一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向と反対方向に移動させて前記遮光の幅を変更可能としたことを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
前記シャッタは、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部を形成し、該遮光部を前記被露光体の搬送方向に沿って複数組所定間隔で設け、前記各遮光部の複数の遮光部材のうち一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向と反対方向に移動させて前記遮光の幅を変更可能としたことを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【請求項９】
前記シャッタは、前記一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向と反対方向に所定量だけ移動させた状態で、前記被露光体の隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を通過するのに同期して前記被露光体の搬送方向に移動可能としたことを特徴とする請求項７又は８記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被露光体を所定方向に搬送しながら、被露光体の表面に搬送方向に沿って所定間隔で設定された複数の露光領域に対して、フォトマスクを介して所定の露光パターン列を形成する露光装置に関し、詳しくは、上記複数の露光領域の外部にて隣り合う露光領域の間の部分が露光されるのを防止しようとする露光装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置は、基板が載置されたステージと露光すべき層に対応するフォトマスクとを相対移動させて上記基板の複数の露光領域のそれぞれに一層分のマスクパターンを露光するものであり、上記複数の露光領域に露光した際のフォトマスクに対する上記ステージの位置を各領域毎に測定し、基板上の所定の位置認識用マークに対して位置決めされた状態のフォトマスクを基準として、上記複数の露光領域に対する露光時の上記ステージの相対位置を取得する手段と、上記位置認識用マークを検出して上記フォトマスクを位置決めし、そのときのフォトマスクを基準として、上記取得した相対位置が再現されるように、フォトマスクに対する上記ステージの位置を測定しつつ上記ステージとフォトマスクとを相対移動させる手段と、を備え、ステージとフォトマスクとを相対移動させて基板上の複数の露光領域に対してそれぞれ位置決めして一層目のパターンを露光形成する際に、一の露光領域を基準とする他の露光領域の上記相対位置のデータを記憶しておき、二層目のパターンを露光形成する際には、上記相対位置データに基づいて上記ステージとフォトマスクとを相対移動して位置決めし、露光するようになっていた（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−２４６０２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、このような従来の露光装置においては、基板をステップ移動して基板上に設定された複数の露光領域を一つずつ切り替えてフォトマスクのマスクパターンを露光するものであり、フォトマスクに対して近接対向して配設された基板をフォトマスクに形成された複数のマスクパターンの並び方向と直交する方向に一定速度で搬送しながら複数の露光領域に対して露光するものではなかった。
【０００４】
一方、基板をフォトマスクに形成された複数のマスクパターンの並び方向と直交する方向に一定速度で搬送しながら複数の露光領域に対して露光するようにした露光装置の場合には、図１３に示すように、例えばカラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）に設定された複数の露光領域２のうち、第１番目の露光領域２ａと第２番目の露光領域２ｂとの間の部分３ａや、第２番目の露光領域２ｂと第３番目の露光領域２ｃとの間の部分３ｂや、第３番目の露光領域２ｃと第４番目の露光領域２ｄとの間の部分３ｃにも上記複数のマスクパターンによる露光パターン列４が形成されてしまい、製品の外観品位を低下させるおそれがあった。
【０００５】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、被露光体上に設定された複数の露光領域の外部にて隣り合う露光領域の間の部分が露光されるのを防止しようとする露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、第１の発明による露光装置は、複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定された被露光体を上面に載置して、前記複数の露光領域の設定方向に前記被露光体を搬送するステージと、前記ステージの上方に配設され、所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスクを前記被露光体に近接対向させて保持するマスクステージと、前記被露光体に対する露光期間中常時点灯し、前記マスクステージに保持されたフォトマスクに露光光を照射する光源と、前記マスクステージと光源との間に配設され、前記フォトマスクに照射する露光光を平行光にする集光レンズと、前記光源と集光レンズとの間に配設され、前記光源の像を前記集光レンズの手前側に結像する結像レンズと、前記結像レンズによる前記光源の像の結像位置近傍に配設され、前記被露光体の搬送により前記複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して移動し、露光光の照射及び遮光の切換えをするシャッタと、を備え、前記シャッタは、前記隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて露光光を遮光する幅を変更可能な構成としたものである。
【０００７】
このような構成により、ステージでその上面に複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定された被露光体を上面に載置して、上記複数の露光領域の設定方向に上記被露光体を搬送し、マスクステージで被露光体に近接対向させて所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスクを保持し、被露光体に対する露光期間中常時点灯する光源でマスクステージに保持されたフォトマスクに露光光を照射する。その際、結像レンズで光源の像を集光レンズの手前側に結像し、さらに集光レンズでフォトマスクに照射する露光光を平行光にする。このとき、結像レンズによる光源の像の結像位置近傍に配設されたシャッタで複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分が上記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して移動し、且つ隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて露光光を遮光する幅を変えて露光光の照射及び遮光の切換えをする。
【０００８】
また、第２の発明による露光装置は、複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定された被露光体を上面に載置して、前記複数の露光領域の設定方向に前記被露光体を搬送するステージと、前記ステージの上方に配設され、所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスクを前記被露光体に近接対向させて保持するマスクステージと、前記被露光体に対する露光期間中常時点灯し、前記マスクステージに保持されたフォトマスクに露光光を照射する光源と、前記マスクステージと光源との間に配設され、前記フォトマスクに照射する露光光の輝度分布を均一にするフォトインテグレータと、前記マスクステージとフォトインテグレータとの間に配設され、前記フォトマスクに照射する露光光を平行光にする集光レンズと、前記フォトインテグレータと集光レンズとの間に配設され、前記フォトインテグレータの端面像を前記集光レンズの手前側に結像する結像レンズと、前記結像レンズによる前記フォトインテグレータの端面像の結像位置近傍に配設され、前記被露光体の搬送により前記複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して移動し、露光光の照射及び遮光の切換えをするシャッタと、を備え、前記シャッタは、前記隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて露光光を遮光する幅を変更可能な構成としたものである。
【０００９】
このような構成により、ステージでその上面に複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定された被露光体を上面に載置して、上記複数の露光領域の設定方向に上記被露光体を搬送し、マスクステージで被露光体に近接対向させて所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスクを保持し、被露光体に対する露光期間中常時点灯する光源でマスクステージに保持されたフォトマスクに露光光を照射する。その際、フォトインテグレータでフォトマスクに照射する露光光の輝度分布を均一し、結像レンズでフォトインテグレータの端面像を集光レンズの手前側に結像し、さらに集光レンズでフォトマスクに照射する露光光を平行光にする。このとき、結像レンズによる光源の像の結像位置近傍に配設されたシャッタで複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分が上記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して移動し、且つ隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて露光光を遮光する幅を変えて露光光の照射及び遮光の切換えをする。
【００１０】
さらに、前記シャッタは、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部を形成し、そのうちの一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向に移動させて前記遮光の幅を変更可能としたものである。これにより、複数の遮光部材を重ね合わせて形成した遮光部の一の遮光部材を基準に他の遮光部材を隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて被露光体の搬送方向に移動させて遮光の幅を変更し、隣り合う露光領域の間の部分を遮光する。
【００１１】
さらにまた、前記シャッタは、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部を形成し、該遮光部を前記被露光体の搬送方向に沿って複数組所定間隔で設け、前記各遮光部の複数の遮光部材のうち一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向に移動させて前記遮光の幅を変更可能としたものである。これにより、複数の遮光部材を重ね合わせて形成した遮光部を被露光体の搬送方向に沿って複数組所定間隔で設け、各遮光部の一の遮光部材を基準に他の遮光部材を各隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて被露光体の搬送方向に移動させて遮光の幅を変更し、各隣り合う露光領域の間の部分を順次遮光する。
【００１２】
そして、前記シャッタは、前記一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向に所定量だけ移動させた状態で、前記被露光体の隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を通過するのに同期して前記被露光体の搬送方向と反対方向に移動可能としたものである。これにより、一の遮光部材に対して他の遮光部材を被露光体の搬送方向に所定量だけ移動させた状態で、シャッタを被露光体の隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を通過するのに同期して被露光体の搬送方向と反対方向に移動し、上記一の遮光部材と他の遮光部材とで被露光体上の隣り合う露光領域間の部分を遮光する。
【００１３】
また、第３の発明による露光装置は、複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定された被露光体を上面に載置して、前記複数の露光領域の設定方向に前記被露光体を搬送するステージと、前記ステージの上方に配設され、所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスクを前記被露光体に近接対向させて保持するマスクステージと、前記被露光体に対する露光期間中常時点灯し、前記マスクステージに保持されたフォトマスクに露光光を照射する光源と、前記マスクステージと光源との間に配設され、前記フォトマスクに照射する露光光を平行光にする集光レンズと、前記マスクステージと集光レンズとの間に配設され、前記被露光体の搬送により前記複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して移動し、露光光の照射及び遮光の切換えをするシャッタと、を備え、前記シャッタは、前記隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて露光光を遮光する幅を変更可能な構成としたものである。
【００１４】
このような構成により、ステージでその上面に複数の露光領域が少なくとも一列に並べて設定された被露光体を上面に載置して、上記複数の露光領域の設定方向に上記被露光体を搬送し、マスクステージで被露光体に近接対向させて所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスクを保持し、被露光体に対する露光期間中常時点灯する光源でマスクステージに保持されたフォトマスクに露光光を照射する。その際、集光レンズでフォトマスクに照射する露光光を平行光にする。このとき、マスクステージと集光レンズとの間に配設されたシャッタで複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分が上記フォトマスクの下側を順次通過するのに同期して移動し、且つ隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて露光光を遮光する幅を変えて露光光の照射及び遮光の切換えをする。
【００１５】
さらに、前記シャッタは、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部を形成し、そのうちの一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向と反対方向に移動させて前記遮光の幅を変更可能としたものである。これにより、複数の遮光部材を重ね合わせて形成した遮光部の一の遮光部材を基準に他の遮光部材を隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて被露光体の搬送方向と反対方向に移動させて遮光の幅を変更し、隣り合う露光領域の間の部分を遮光する。
【００１６】
さらにまた、前記シャッタは、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部を形成し、該遮光部を前記被露光体の搬送方向に沿って複数組所定間隔で設け、前記各遮光部の複数の遮光部材のうち一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向と反対方向に移動させて前記遮光の幅を変更可能としたものである。これにより、複数の遮光部材を重ね合わせて形成した遮光部を被露光体の搬送方向に沿って複数組所定間隔で設け、各遮光部の一の遮光部材を基準に他の遮光部材を各隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて被露光体の搬送方向と反対方向に移動させて遮光の幅を変更し、各隣り合う露光領域の間の部分を順次遮光する。
【００１７】
そして、前記シャッタは、前記一の遮光部材に対して他の遮光部材を前記被露光体の搬送方向と反対方向に所定量だけ移動させた状態で、前記被露光体の隣り合う露光領域の間の部分が前記フォトマスクの下側を通過するのに同期して前記被露光体の搬送方向に移動可能としたものである。これにより、一の遮光部材に対して他の遮光部材を被露光体の搬送方向と反対方向に所定量だけ移動させた状態で、シャッタを被露光体の隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を通過するのに同期して被露光体の搬送方向に移動し、上記一の遮光部材と他の遮光部材とで被露光体上の隣り合う露光領域間の部分を遮光する。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１に係る露光装置によれば、被露光体上にその搬送方向に沿って設定された複数の露光領域の外部にて隣り合う露光領域の間の部分が露光されるのを防止することができる。したがって、製品の外観品位を向上させることができる。この場合、シャッタの遮光の幅を隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて変えることができるので、一つのシャッタで露光領域の設定間隔の異なるあらゆる被露光体に対しても対応することができ、用途が拡大される。また、結像レンズによる光源の像の結像位置近傍にシャッタを配設しているので、シャッタを小さくすることができ、周辺の構成部品との干渉を避けてシャッタを容易に配置することができる。
【００１９】
また、請求項２に係る露光装置によれば、被露光体上にその搬送方向に沿って設定された複数の露光領域の外部にて隣り合う露光領域の間の部分が露光されるのを防止することができる。したがって、製品の外観品位を向上させることができる。この場合もまた、シャッタの遮光の幅を隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じ変えることができるので、一つのシャッタで露光領域の設定間隔の異なるあらゆる被露光体に対しても対応することができ、用途が拡大される。また、結像レンズによるフォトインテグレータの端面像の結像位置近傍にシャッタを配設しているので、シャッタを小さくすることができ、周辺の構成部品との干渉を避けてシャッタを容易に配置することができる。さらに、フォトインテグレータによりフォトマスクに照射する露光光を均一にすることができるので、被露光体の露光を均一に行なうことができる。
【００２０】
さらに、請求項３又は７に係る発明によれば、複数の遮光部材を重ね合わせて形成した遮光部の一の遮光部材に対する他の遮光部材の移動量を変えることによって、露光光の遮光の幅を容易に変えることができる。したがって、一つのシャッタで露光領域の設定間隔の異なるあらゆる被露光体に対しても容易に対応することがでる。この場合、複数の露光領域の隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を順次通過するのに同期してシャッタを移動すれば、遮光部で上記隣り合う露光領域の間の部分を遮光することができ、該隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を通過し終えるとシャッタを高速で元の位置まで戻せば、次の露光領域の露光を行なうことができる。
【００２１】
さらにまた、請求項４に係る発明によれば、複数の遮光部材を重ね合わせて形成した遮光部の一の遮光部材に対する他の遮光部材の移動量を変えることによって、露光光の遮光の幅を容易に変えることができる。したがって、一つのシャッタで露光領域の設定間隔の異なるあらゆる被露光体に対しても容易に対応することがでる。また、遮光部を被露光体の搬送方向に沿って複数組所定間隔で設けているので、シャッタを被露光体の隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を通過するのに同期して被露光体の搬送方向と反対方向に移動すれば、上記複数の遮光部で各隣り合う露光領域の間の部分を順次遮光をすることができる。この場合、隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を通過し終える度に、シャッタを高速で元の位置まで戻す必要が無いのでシャッタの高速移動に伴う振動や衝撃がなく露光精度を高精度に維持することができる。
【００２２】
そして、請求項５に係る発明によれば、シャッタを、被露光体の隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を通過するのに同期して被露光体の搬送方向と反対方向に移動し、被露光体上の隣り合う露光領域間の部分を遮光することができる。したがって、各隣り合う露光領域の間の部分を確実に遮光することができる。
【００２３】
また、請求項６に係る露光装置によれば、被露光体上にその搬送方向に沿って設定された複数の露光領域の外部にて隣り合う露光領域の間の部分が露光されるのを防止することができる。したがって、製品の外観品位を向上させることができる。この場合、シャッタの遮光の幅を隣り合う露光領域の間の部分の幅に応じて変えることができるので、一つのシャッタで露光領域の設定間隔の異なるあらゆる被露光体に対しても対応することができ、用途が拡大される。また、シャッタをマスクステージと集光レンズとの間に配設しているので、シャッタの遮光の幅を被露光体の隣り合う露光領域の間の部分の幅と同じ寸法で形成することができ、シャッタの設計を容易に行なうことができる。
【００２４】
さらに、請求項８に係る発明によれば、複数の遮光部材を重ね合わせて形成した遮光部の一の遮光部材に対する他の遮光部材の移動量を変えることによって、露光光の遮光の幅を容易に変えることができる。したがって、一つのシャッタで露光領域の設定間隔の異なるあらゆる被露光体に対しても容易に対応することがでる。また、遮光部を被露光体の搬送方向に沿って複数組所定間隔で設けているので、シャッタを被露光体の隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を通過するのに同期して被露光体の搬送方向に移動すれば、各隣り合う露光領域の間の部分を順次遮光をすることができる。この場合、隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を通過し終える度に、シャッタを高速で元の位置まで戻す必要が無いのでシャッタの高速移動に伴う振動や衝撃がなく露光精度を高精度に維持することができる。
【００２５】
そして、請求項９に係る発明によれば、シャッタを、被露光体の隣り合う露光領域の間の部分がフォトマスクの下側を通過するのに同期して被露光体の搬送方向に移動し、被露光体上の隣り合う露光領域間の部分を遮光することができる。したがって、各隣り合う露光領域の間の部分を確実に遮光することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の第１の実施形態の概略構成を示す正面図である。この露光装置は、被露光体を所定方向に搬送しながら、被露光体の表面に搬送方向に沿って所定間隔で設定された複数の露光領域に対して、フォトマスクを介して所定の露光パターン列を形成するもので、ステージ５と、マスクステージ６と、光源７と、フォトインテグレータ８と、コンデンサレンズ９と、結像レンズ１０と、シャッタ１１と、撮像手段１２と、駆動制御手段１３（図７参照）とを備えてなる。なお、以下の説明においては、被露光体がカラーレジストを塗布したカラーフィルタ用ガラス基板１の場合について述べる。
【００２７】
上記ステージ５は、図２に示すように、複数の露光領域２が少なくとも一列に例えば異なる間隔Ｇ１，Ｇ２で並べて設定されたカラーフィルタ用ガラス基板１（同図には二列で示す）を上面５ａに載置して、上記複数の露光領域２の設定方向にカラーフィルタ用ガラス基板１を搬送するものであり、搬送手段１４によって、図１に矢印Ａで示す方向に一定速度（Ｖ）で移動するようになっている。なお、図２において、符号２ａは第１番目の露光領域を示し、符号２ｂは第２番目の露光領域を、符号２ｃは第３番目の露光領域を、符号２ｄは第４番目の露光領域を示す。さらに、符号３ａは第１及び第２番目の露光領域２ａ，２ｂの間の部分（以下、「第１のセル間領域」という）を示し、符号３ｂは第２及び第３番目の露光領域２ｂ，２ｃの間の部分（以下、「第２のセル間領域」という）を、符号３ｃは第３及び第４番目の露光領域２ｃ，２ｄの間の部分（以下、「第３のセル間領域」という）を示す。
【００２８】
上記ステージ５の上方には、マスクステージ６が配設されている。このマスクステージ６は、カラーフィルタ用ガラス基板１に対して所定のギャップ、例えば100〜300μmのギャップを介して近接対向させてフォトマスク１５を保持するものであり、例えばアクチュエータ等からなる図示省略のアライメント機構により搬送方向と直交する方向に移動可能とされ、また中央部を中心に回動可能とされて、フォトマスク１５とカラーフィルタ用ガラス基板１とのアライメント調整が可能となっている。
【００２９】
ここで、上記フォトマスク１５は、露光光の照射によりそこに形成されたマスクパターンをカラーフィルタ用ガラス基板１上に塗布されたカラーレジストに転写させるものであり、図３に示すように、透明基材１６と、遮光膜１７と、マスクパターン１８と、覗き窓１９と、マスク側アライメントマーク２０とからなっている。
【００３０】
上記透明基材１６は、紫外線及び可視光を高効率で透過する透明なガラス基材であり、例えば石英ガラスからなる。図１に示すように、上記透明基材１６の一方の面１６ａには、遮光膜１７が形成されている。この遮光膜１７は、露光光を遮光するものであり、不透明な例えばクロム（Ｃｒ）の薄膜で形成されている。
【００３１】
上記遮光膜１７には、図３に示すように、一方向に並べて複数のマスクパターン１８が形成されている。この複数のマスクパターン１８は、露光光を通す所定形状の開口であり、対向して搬送されるカラーフィルタ用ガラス基板１に露光光を照射可能とし、図４に示すカラーフィルタ用ガラス基板１上に形成されたブラックマトリクス２１のピクセル２２上に転写されるものである。そして、例えば、上記ピクセル２２の幅と略一致した幅を有して上記並び方向と直交する方向に長い矩形状とされ、上記ピクセル２２の３ピッチ間隔と一致した間隔で形成されている。また、図３に示すように、例えば中央部に位置するマスクパターン１８ａの同図において上端縁部が基準位置Ｒ１として予め設定されている。
【００３２】
上記遮光膜１７には、図３に示すように、上記複数のマスクパターン１８に近接してその並び方向の側方に覗き窓１９が形成されている。この覗き窓１９は、対向して搬送される図４に示すカラーフィルタ用ガラス基板１に形成された基板側アライメントマーク２３及びブラックマトリクス２１のピクセル２２を観察するためのものであり、後述の撮像手段１２で上記基板側アライメントマーク２３の位置及びブラックマトリクス２１の例えば図４に示すように中央部に位置するピクセル２２ａの同図において右上端隅部に予め設定された基準位置Ｒ２を検出可能となっている。そして、図３に示すように、上記複数のマスクパターン１８の並び方向に平行して中央側から一方の端部１５ａに向かって延びて矩形状に形成されている。
【００３３】
上記遮光膜１７には、図３に示すように、上記覗き窓１９の一端部側方に中央側から他方の端部１５ｂに向かって並べて複数のマスク側アライメントマーク２０が形成されている。この複数のマスク側アライメントマーク２０は、上記マスクパターン１８に予め設定された基準位置Ｒ１と上記カラーフィルタ用ガラス基板１のピクセル２２に予め設定された基準位置Ｒ２との位置合わせをするためのものであり、上記マスクパターン１８に対応して形成されている。さらに、その形成位置は、図３においてマスク側アライメントマーク２０の上側縁部が対応するマスクパターン１８の上側縁部と一致するようにされている。そして、例えば、遮光膜１７の中央部側に形成されたマスク側アライメントマーク２０が基準マーク２０ａとして予め設定されている。これにより、上記基準マーク２０ａと上記カラーフィルタ用ガラス基板１の基板側アライメントマーク２３とが所定の位置関係となるように位置調整されることにより、上記マスクパターン１８の基準位置Ｒ１とカラーフィルタ用ガラス基板１の基準位置Ｒ２とが位置合わせできるようになっている。
【００３４】
そして、上記フォトマスク１５は、図１に示すように、上記遮光膜１７を形成した側を下にしてマスクステージ６に保持される。
【００３５】
上記マスクステージ６の上方には、光源７が配設されている。この光源７は、カラーフィルタ用ガラス基板１に対する露光期間中常時点灯し、上記マスクステージ６に保持されたフォトマスク１５に露光光を照射するものであり、紫外線を含んだ露光光を放射する、例えば超高圧水銀ランプ、キセノンランプ又は紫外線発光レーザ等である。
【００３６】
上記マスクステージ６と光源７との間には、フォトインテグレータ８が配設されている。このフォトインテグレータ８は、フォトマスク１５に照射する露光光の輝度分布を均一にするものであり、例えばカライドスコープ又はフライアイレンズ等である。なお、本実施形態においては、カライドスコープで示し、その端面８ａの形状は長方形をなしており、露光光がフォトマスク１５の複数のマスクパターン１８形成領域のみに照射するようにされている。なお、フォトマスク１５の覗き窓１９及びマスク側アライメントマーク２０を覆って紫外線を反射又は吸収し可視光を透過するフィルタを形成すれば、露光光がフォトマスク１５全体に照射してもよい。
【００３７】
上記マスクステージ６とフォトインテグレータ８との間には、コンデンサレンズ９が配設されている。このコンデンサレンズ９は、露光光を平行光にしてフォトマスク１５に垂直に照射させるようにするものであり、集光レンズである。
【００３８】
上記フォトインテグレータ８とコンデンサレンズ９との間には、結像レンズ１０が配設されている。この結像レンズ１０は、フォトインテグレータ８の端面８ａの像を一旦上記コンデンサレンズ９の手前側にて該コンデンサレンズ９の前焦点近傍に結像するものであり、凸レンズである。
【００３９】
上記結像レンズ１０による上記フォトインテグレータ８の端面８ａの像の結像位置近傍には、シャッタ１１が設けられている。このシャッタ１１は、カラーフィルタ用ガラス基板１の移動により複数の露光領域２が上記フォトマスク１５のマスクパターン１８の下側を順次通過するのに同期して移動し、露光光の照射及び遮光の切換えをするものであり、上記カラーフィルタ用ガラス基板１の第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃの幅に応じて露光光を遮光する幅（遮光部２４の幅）を変更可能な構成としている。
【００４０】
具体的には、シャッタ１１は、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部２４を形成し、該遮光部２４をカラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向（図１に示す矢印Ａ方向）に沿って複数組所定間隔で設け、各遮光部２４の複数の遮光部材のうち一の遮光部材に対して他の遮光部材をカラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向に移動させて遮光の幅を変更可能としたものであり、一の遮光部材に対して他の遮光部材をカラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向に所定量だけ移動させた状態で、カラーフィルタ用ガラス基板１の第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃがフォトマスク１５のマスクパターン１６の下側を通過するのに同期して、例えばモータ、ギヤ及びレール等を組み合わせた図示省略の移動手段によって、カラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向と反対方向（図１に示す矢印Ｂ方向）に移動可能となっている。そして、図５に示すように、シャッタ本体部２５と、移動遮光片２６と、移動遮光片駆動部２７とを備えている。
【００４１】
上記シャッタ本体部２５は、シャッタ１１の本体部をなすものであり、図５に示すように、不透明な板材に矢印Ｂで示す移動方向に沿って上記カラーフィルタ用ガラス基板１の第１〜第４番目の露光領域２ａ〜２ｄと同数の第１〜第４のスリット２８ａ〜２８ｄを形成している。この場合、各スリット２８ａ〜２８ｄは、その幅をｇとすると２ｇピッチで形成され、各スリット間の部分が同図において左から順に第１の固定遮光片２９ａ、第２の固定遮光片２９ｂ、第３の固定遮光片２９ｃとされる。なお、第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃは、上記一の遮光部材となるものであり、その幅は上記スリットの幅と同じｇである。
【００４２】
ここで、コンデンサレンズ９の倍率をＭとすると、図５（ａ）に示す上記第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃの幅ｇは、図２に示すカラーフィルタ用ガラス基板１の第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃのうち最も幅の狭い、例えば第２及び第３のセル間領域３ｂ，３ｃの幅Ｇ２に対応させて、ｇ＝Ｇ２／Ｍに設定される。又は、各種カラーフィルタ用ガラス基板のうち最も幅の狭いセル間領域の幅に対応させてもよい。また、第１〜第４のスリット２８ａ〜２８ｄの矢印Ｂで示す移動方向と直交方向の幅ｗは、図３に示すフォトマスク１５の複数のマスクパターン１８のトータル幅をＷとすると、少なくともｗ＝Ｗ／Ｍに形成される。また、矢印Ｂ方向への移動速度ｖは、カラーフィルタ用ガラス基板１の搬送速度をＶとすると、ｖ＝Ｖ／Ｍとされる。なお、図５（ａ）において、斜線を付して示した領域Ｑは、露光光の照射領域である。
【００４３】
上記第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃ上には、他の遮光部材としての移動遮光片２６がそれぞれ移動可能に重ね合わせて設けられている。この移動遮光片２６は、シャッタ本体部２５の上記第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃ上をカラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向に移動して、その移動量と上記第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃの幅ｇとでもって決定される遮光部２４の幅ｇｘを変更可能とするものであり、第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃの幅ｇと略同じ幅ｇに形成されている。そして、シャッタ本体部２５の上面にて矢印Ｂで示す移動方向に平行な両縁部に沿って設けたガイド部３０の溝３０ａに案内されて、図５（ｂ）に示す矢印ａ，ｂ方向に移動可能になっている。
【００４４】
上記移動遮光片駆動部２７は、上記カラーフィルタ用ガラス基板１の第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃの幅に応じて各移動遮光片２６をそれぞれ個別に所定量だけ図５（ｂ）に示す矢印ａ方向（矢印Ａで示す搬送方向と同方向）に移動させると共に、速度ｖで矢印ａと反対の矢印ｂ方向（矢印Ｂと同方向）に移動するものであり、例えばモータや電磁アクチュエータ等である。
【００４５】
そして、上記光源７、フォトインテグレータ８、結像レンズ１０、コンデンサレンズ９、マスクステージ６及びシャッタ１１を含んで露光光学系３１が構成される。
【００４６】
上記ステージ５の上方には、撮像手段１２が配設されている。この撮像手段１２は、カラーフィルタ用ガラス基板１に形成された図４に示す基板側アライメントマーク２３とフォトマスク１５に形成された図３に示すマスク側アライメントマーク２０とをミラー３２を介してそれぞれ同一視野内に捕えて撮像するものであり、光を受光する多数の受光素子を一直線状に並べて備えたラインＣＣＤ３３と、その前方に配設されてカラーフィルタ用ガラス基板１に形成された基板側アライメントマーク２３及びピクセル２２やフォトマスク１５に形成されたマスク側アライメントマーク２０をそれぞれ上記ラインＣＣＤ３３上に結像させる撮像レンズ３４と、を備えている。
【００４７】
さらに、図１に示すように、上記撮像手段１２の光路上にて、上記ラインＣＣＤ３３と撮像レンズ３４との間には、光学距離補正手段３５が配設されている。この光学距離補正手段３５は、撮像手段１２のラインＣＣＤ３３とカラーフィルタ用ガラス基板１との間の光学距離及び撮像手段１２のラインＣＣＤ３３とフォトマスク１５との間の光学距離を略合致させるものであり、空気の屈折率よりも大きい所定の屈折率を有する透明な部材からなり、例えばガラスプレートである。具体的に、この光学距離補正手段３５は、フォトマスク１５に形成された覗き窓１９を介して撮像手段１２のラインＣＣＤ３３とカラーフィルタ用ガラス基板１とを結ぶ光路上に配設されている。これにより、撮像手段１２の光軸方向にずれて位置するカラーフィルタ用ガラス基板１の基板側アライメントマーク２３等の像と、フォトマスク１５のマスク側アライメントマーク２０の像とを上記ラインＣＣＤ３３上に同時に結像させることができる。
【００４８】
上記搬送手段１４と、シャッタ本体部２５の移動手段と、移動遮光片駆動部２７と、マスクステージ６のアライメント機構とに接続して図７に示す駆動制御手段１３が設けられている。この駆動制御手段１３は、ステージ５の移動速度や、シャッタ本体部２５の移動速度及び移動量や、移動遮光片２６の移動方向及び移動量並びに移動速度、フォトマスク１５とカラーフィルタ用ガラス基板１とのアライメント等を制御するものであり、入力手段３６と、記憶部３７と、演算部３８と、搬送手段駆動制御部３９と、搬送手段の位置検出センサー４０と、シャッタ本体部駆動制御部４１と、シャッタ本体部２５の位置検出センサー４２と、移動遮光片駆動制御部４３と、移動遮光片２６の位置検出センサー４４と、マスクステージ駆動制御部４５と、制御部４６とを備えている。
【００４９】
上記入力手段３６は、オペレータが図２に示すカラーフィルタ用ガラス基板１の各露光領域２ａ〜２ｄの終端部Ｅ１〜Ｅ４の位置データや、第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃ等の露光を望まない非露光領域の幅Ｇのデータ等を入力可能とするものであり、例えばキーボードである。なお、上記非露光領域の幅Ｇは、その幅データを直接入力するのではなく、非露光領域の始端部と終端部の位置データを入力し、該位置データに基づいて後述の演算部３８で演算して上記非露光領域の幅Ｇを算出するようにしてもよい。
【００５０】
また、上記記憶部３７は、上記入力手段３６により入力された各露光領域２ａ〜２ｄの終端部Ｅ１〜Ｅ４の位置データや、非露光領域の幅Ｇのデータ等を記憶するものであり、例えばメモリである。
【００５１】
さらに、上記演算部３８は、上記非露光領域の幅Ｇをコンデンサレンズ９の倍率Ｍで除算してシャッタ１１の遮光部２４の幅ｇｘ（＝Ｇ／Ｍ）を算出するものである。なお、非露光領域の始端部と終端部の位置データが入力された場合には、上記演算部３８は、該位置データに基づいて上記非露光領域の幅Ｇを算出する。
【００５２】
また、上記搬送手段駆動制御部３９は、搬送手段１４を制御して、ステージ５を所定速度で移動させると共に、図示省略の終端センサーが図１に示す矢印Ａ方向の移動終端を検出すると移動方向を反転して矢印Ａと反対方向に高速で戻し、図示省略の始端センサーが移動始端を検出するとステージ５を停止させるものである。さらに、矢印Ａと直交方向へのステージ５の移動を制御するようにしてもよい。そして、上記搬送手段１４の位置検出センサー４０は、ステージ５の位置を検出してその位置情報を出力するものであり、例えばリニアセンサー又はロータリーエンコーダ等である。
【００５３】
また、上記シャッタ本体部駆動制御部４１は、シャッタ本体部２５の移動手段を制御し、第１〜第３番目の露光領域２ａ〜２ｃの終端部Ｅ１〜Ｅ４が検出されるとシャッタ本体部２５を図１に示す矢印Ｂ方向に速度ｖで距離２ｇだけ移動して停止させ、全ての露光が終了すると初期位置まで戻すものである。さらに、シャッタ本体部２５の位置検出センサー４２は、シャッタ本体部２５の移動距離を検出するものであり、例えばリニアセンサー又はロータリーエンコーダ等である。
【００５４】
また、上記移動遮光片駆動制御部４３は、移動遮光片駆動部２７を制御し、移動遮光片２６を予め設定された非露光領域の幅Ｇに応じて所定距離だけ図１に示す矢印ａ方向に移動し、その後矢印ｂ方向に速度ｖで戻すものである。なお、非露光領域が一部露光領域まで含む場合には、移動遮光片２６を距離ｇだけ矢印ａ方向に移動して、そのまま停止させるようになっている。そして、上記移動遮光片２６の位置検出センサー４４は、移動遮光片２６の移動距離を検出するものであり、例えばリニアセンサー又はロータリーエンコーダ等である。
【００５５】
さらに、上記マスクステージ駆動制御部４５は、マスクステージのアライメント機構を駆動制御してフォトマスク１５のマスクパターン１８をカラーフィルタ用ガラス基板１のピクセル２２に対してアライメントさせるためのものである。
そして、制御部４６は、駆動制御手段１３全体を適切に駆動制御するものである。
【００５６】
次に、このように構成された露光装置の動作について説明する。
ここで、使用されるカラーフィルタ用ガラス基板１は、図４に示すように、透明なガラス基板の一面にＣｒ等からなる不透明膜が形成され、同図に示すように露光領域２内に多数のピクセル２２がマトリクス状に形成されたものである。さらに、その一端部１ａ側の略中央部に、図３に示すフォトマスク１５に予め設定された基準位置Ｒ１と上記カラーフィルタ用ガラス基板１に予め設定された基準位置Ｒ２との位置ずれを補正してアライメントをとるために細長状の基板側アライメントマーク２３が一つ形成されている。また、上記基板側アライメントマーク２３の側方には、中央側から一方の側端部１ｂに向かって並べて複数のアライメント確認マーク４７がピクセル２２に対応させてピクセル２２の配列の３ピッチ間隔と一致した間隔で形成されている。なお、上記基板側アライメントマーク２３及びアライメント確認マーク４７は、図４においてそれぞれ各マーク４７の上側縁部と対応するピクセル２２の上側縁部とが一致するように形成されている。
【００５７】
このように形成されたカラーフィルタ用ガラス基板１は、上面に所定のカラーレジストが塗布され、上記基板側アライメントマーク２３を形成した端部１ａ側を図４に矢印Ａで示す搬送方向の先頭側に位置させてステージ５の上面５ａに載置され、搬送手段１４によって一定の速度Ｖで矢印Ａ方向に搬送される。
【００５８】
一方、フォトマスク１５は、図３に示すように、覗き窓１９が形成された端部１５ｃ側を矢印Ａで示す搬送方向の手前側に位置させ、図１に示すように遮光膜１７を形成した面を下にしてマスクステージ６に保持される。そして、搬送されるカラーフィルタ用ガラス基板１の上面に近接して対向するようにされる。
【００５９】
このような状態で、フォトマスク１５に形成された覗き窓１９を通してカラーフィルタ用ガラス基板１上の基板側アライメントマーク２３、アライメント確認マーク４７及びピクセル２２が撮像手段１２によって撮像される。この場合、フォトマスク１５に形成された覗き窓１９を介して撮像手段１２のラインＣＣＤ３３とカラーフィルタ用ガラス基板１とを結ぶ光路上に光学距離補正手段３５が配設されて、その光学距離が撮像手段１２のラインＣＣＤ３３とフォトマスク１５との間の光学距離と略合致するようにされているので、撮像手段１２の光軸方向にずれて位置するカラーフィルタ用ガラス基板１上の基板側アライメントマーク２３等の像とフォトマスク１５のマスク側アライメントマーク２０の像とが同時に撮像手段１２のラインＣＣＤ３３上に結像する。したがって、撮像手段１２で同時に撮像された基板側アライメントマーク２３等の画像とマスク側アライメントマーク２０の画像とが図示省略の画像処理部で同時に処理される。
【００６０】
ここで、先ず、撮像手段１２によって、図６に示されるようにフォトマスク１５の覗き窓１９を通して観察されるカラーフィルタ用ガラス基板１の基板側アライメントマーク２３とフォトマスク１５のマスク側アライメントマーク２０とが同時に撮像される。このとき、基板側アライメントマーク２３を検出したラインＣＣＤ３３の受光素子のセル番号と、上記フォトマスク１５の基準マーク２０ａを検出したラインＣＣＤ３３の受光素子のセル番号とが読み取られ、画像処理部に設けた図示省略の演算部でその距離Ｌが演算される。そして、予め設定して記憶された所定の距離Ｌ０と比較される。
【００６１】
そして、図６に示すように、基板側アライメントマーク２３と基準マーク２０ａとの距離ＬがＬ０又はＬ０±ｘ（ｘは許容値）となるように図７に示すマスクステージ駆動制御部４５により図示省略のアライメント機構が駆動制御されてマスクステージ６が移動され、該マスクステージ６に保持されたフォトマスク１５が矢印Ｘ，Ｙ方向に移動される。これにより、フォトマスク１５の基準位置Ｒ１とカラーフィルタ用ガラス基板１の基準位置Ｒ２とが所定の許容範囲内で合致することとなる。
【００６２】
次に、フォトマスク１５の覗き窓１９を通してカラーフィルタ用ガラス基板１のアライメント確認マーク４７が撮像手段１２によって撮像される。そして、各アライメント確認マーク４７を検出したラインＣＣＤ３３の受光素子のセル番号、及びフォトマスク１５の各マスク側アライメントマーク２０を検出したラインＣＣＤ３３の受光素子のセル番号が読み取られ、演算部３８で各セル番号の平均値が演算される。その平均値は、アライメント調整直後に上記カラーフィルタ用ガラス基板１の基板側アライメントマーク２３を検出したラインＣＣＤ３３の受光素子のセル番号と比較され、両者が所定の許容範囲内で一致した場合には、アライメントが確実に行なわれたと判断して露光光がフォトマスク１５に照射される。これにより、フォトマスク１５のマスクパターン１８の像がカラーフィルタ用ガラス基板１のピクセル２２上に転写される。なお、上記平均値とセル番号とが不一致の場合には、例えばカラーフィルタ用ガラス基板１が別種類のもの、又はブラックマトリクス２１の形成不良品と判断し、この場合には露光を停止して警報する。
【００６３】
その後は、撮像手段１３で撮像された画像データと画像処理部の図示省略の記憶部に記憶されたカラーフィルタ用ガラス基板１の基準位置Ｒ２のルックアップテーブル（ＬＵＴ）とが比較され、基準位置Ｒ２が検出される。そして、上記基準位置Ｒ２を検出したラインＣＣＤ３３の受光素子のセル番号と、フォトマスク１５の基準マーク２０ａを検出したラインＣＣＤ３３の受光素子のセル番号とが比較され、両者の距離ＬがＬ０又はＬ０±ｘとなるようにフォトマスク１５が矢印Ｘ，Ｙ方向に微動される。また、必要に応じてフォトマスク１５は、その中心を中心軸として回転調整される。これにより、カラーフィルタ用ガラス基板１が矢印Ａで示す搬送方向と直交する方向に振れながら搬送されてもフォトマスク１５はそれに追従して動く。こうして、搬送されるカラーフィルタ用ガラス基板１に対してフォトマスク１５のマスクパターン１８が転写され、カラーフィルタ用ガラス基板１の所定のピクセル２２上にストライプ状の露光パターン列４が精度よく形成されることとなる。
【００６４】
次に、本発明の露光装置において、非露光領域への露光停止動作について図８〜図１１を参照して説明する。なお、ここでは、図２に示すように、例えば非露光領域としての第１のセル間領域３ａの幅Ｇ１が第２及び第３のセル間領域３ｂ，３ｃの幅Ｇ２よりも広く、例えば、Ｇ２＜Ｇ１＜２Ｇ２の関係に形成されたカラーフィルタ用ガラス基板１を使用し、上記第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃ及び第４番目の露光領域２ｄには露光を行なわない場合を説明する。
【００６５】
先ず、図８に示すステップＳ１においては、オペレータによって図２に示すカラーフィルタ用ガラス基板１の第１〜第４番目の露光領域２ａ〜２ｄの終端部Ｅ１〜Ｅ４の位置データが図７に示す入力手段３６により入力され、記憶部３７に記憶される。さらに、図２に示す第１の非露光領域の幅Ｇ１、第２の非露光領域の幅Ｇ２及び第３の非露光領域の幅Ｇ３のデータが入力され、演算部３８において上記各非露光領域の幅Ｇ１〜Ｇ３のデータがコンデンサレンズ９の倍率Ｍで除算されて遮光部２４の幅ｇｘが算出され、記憶部３７に記憶される。
【００６６】
次に、ステップＳ２においては、カラーフィルタ用ガラス基板１がステージ５の上面５ａに載置され、所定の速度Ｖで図１に示す矢印Ａ方向に搬送される。このとき、シャッタ１１は、図９（ａ）に示すように、その第１のスリット２８ａの中心を露光光の光軸中心に一致させて停止している。
【００６７】
ステップＳ３においては、図２に示すカラーフィルタ用ガラス基板１の基板側アライメントマーク２３が検出されると、所定時間経過後に光源７が点灯されて、図１０（ｅ）又は図１１に示すように第１番目の露光領域２ａに対する露光が実行される。
【００６８】
ステップＳ４においては、露光領域の終端部を検出したか否かが判定される。この場合、制御部４６は、搬送手段１４の位置検出センサー４０から入力した位置情報を監視しながら、記憶部３７から読み出した露光領域の終端部の位置データと比較し、両者が一致したとき“ＹＥＳ”判定し、図１０（ｂ）に示す露光領域終端検出信号をシャッタ本体部駆動制御部４１及び移動遮光片駆動制御部４３に送る。ここでは、先ず、第１番目の露光領域２ａの終端部Ｅ１が検出される。そして、ステップＳ５に進む。
【００６９】
ステップＳ５においては、上記検出した終端部が最後尾のものか否かを制御部４６で判定する。即ち、上記検出した終端部が第４番目の露光領域２ｄの終端部Ｅ４か否かを判定する。この場合、図９（ａ）に示すように、上記終端部Ｅ１は、最後尾のものではないので “ＮＯ”判定となってステップＳ６に進む。
【００７０】
ステップＳ６においては、記憶部３７から非露光領域の幅Ｇに対応するシャッタ１１の遮光部２４の幅ｇｘ（＝Ｇ／Ｍ）を読み出し、ｇｘ＜２ｇか否かを制御部４６で判定する。
【００７１】
ここでは、先ず、第１の非露光領域の幅Ｇ１に対応する遮光部２４の幅ｇｘ（＝Ｇ１／Ｍ）が記憶部３７から読み出される。この場合、第１の非露光領域は、図２に示すように第１のセル間領域３ａに相当するから、その幅Ｇ１は、前述したようにＧ２＜Ｇ１＜２Ｇ２である。したがって、このときの遮光部２４の幅ｇｘ（＝Ｇ１／Ｍ）は、ｇｘ＜２ｇ（＝２Ｇ２／Ｍ）となり、“ＹＥＳ”判定となってステップＳ７に進む。
【００７２】
ステップＳ７においては、図７に示す演算部３８で移動遮光片２６の移動量（ｇｘ−ｇ）が演算される。ここでは、先ず、（Ｇ１／Ｍ−ｇ）が演算され、図９（ａ）又は図１０（ｄ）に示すように移動遮光片２６が（Ｇ１／Ｍ−ｇ）だけ矢印ａ方向に移動される。
【００７３】
ステップＳ８においては、図９（ｂ）又は図１０（ｃ）に示すように、移動遮光片２６を（Ｇ１／Ｍ−ｇ）だけ移動させた状態でシャッタ本体部２５を速度ｖ（＝Ｖ／Ｍ）で矢印Ｂ方向に移動する。これにより、第１の非露光領域（第１のセル間領域３ａ）がフォトマスク１５のマスクパターン１８の下側を通過するのに同期してシャッタ１１の遮光部２４が移動し、露光光を遮光することとなる。そして、シャッタ１１は、図９（ｃ）又は図１０（ｃ）に示すように、距離２ｇだけ移動すると停止する。そして、ステップＳ９に進む。
【００７４】
ステップＳ９においては、図９（ｄ）又は図１０（ｄ）に示すように、移動遮光片２６を速度ｖで矢印ｂ方向に移動する。そして、図９（ｅ）又は図１０（ｄ）に示すように、移動遮光片２６が距離（Ｇ１／Ｍ−ｇ）だけ移動して元の状態に戻ると移動遮光片２６を停止する。これにより、図１０（ｅ）又は図１１に示すように、第１の非露光領域（第１のセル間領域３ａ）に対する露光を停止することができる。
【００７５】
次に、再びステップＳ４が実行され、第２番目の露光領域２ｂの終端部Ｅ２が検出されるまで図１０（ｅ）又は図１１に示すように第２番目の露光領域２ｂに対して露光が行われる。そして、上記終端部Ｅ２が検出されると、ステップＳ５に進む。この場合、上記終端部Ｅ２は最後尾のものではないので、“ＹＥＳ”判定となってステップＳ６に進む。
【００７６】
ここで、第２の非露光領域は、第２のセル間領域３ｂであり、その幅はＧ２であるから、それに対応するシャッタ１１の遮光部２４の幅ｇｘはｇ（＝Ｇ２／Ｍ）となる。したがって、ｇｘ＜２ｇであるので、ステップＳ６は“ＹＥＳ”判定となる。
【００７７】
ステップＳ７においては、移動遮光片２６の移動量（ｇｘ−ｇ）が演算される。この場合、上述したようにｇｘ＝ｇであるので、移動遮光片２６の移動量（ｇｘ−ｇ）はゼロとなる。したがって、図１０（ｄ）に示すように移動遮光片２６は移動されない。そして、ステップＳ８でシャッタ本体部２５が速度ｖで矢印Ｂ方向に移動されることにより、図１０（ｅ）又は図１１に示すように、第２の非露光領域である第２のセル間領域３ｂへの露光が停止される。なお、ステップＳ７において、移動遮光片２６は移動されていないので、ステップＳ９における移動遮光片２６のｂ方向への移動もされない。
【００７８】
次に、ステップＳ４に戻って、図１０（ｅ）又は図１１に示すように、第３番目の露光領域２ｄの終端部Ｅ３が検出されるまで、上記第３番目の露光領域２ｄに対して露光が行われる。そして、上記終端部Ｅ３が検出されると、ステップＳ５に進む。この場合も、終端部Ｅ３は、最終端部ではないので、ステップＳ６に進む。
【００７９】
ここで、第３の非露光領域は、図２に示すように第３のセル間領域３ｃと第４の露光領域２ｄであり、その幅Ｇ３は、Ｇ３＞２Ｇ２となる。したがって、上記第３の非露光領域の幅Ｇ３に相当するシャッタ２５の遮光部２４の幅ｇｘ（＝Ｇ３／Ｍ）は、ｇｘ＞２ｇ（＝２Ｇ２／Ｍ）となり、ステップＳ６は、 “ＮＯ”判定となってステップＳ１０に進む。
【００８０】
ステップＳ１０においては、移動遮光片２６をｇだけ図５又は図１０（ｄ）に示すようにａ方向に移動し、第４のスリット２８ｄを完全に覆い隠す。
【００８１】
ステップＳ１１においては、シャッタ本体部２５を速度ｖで図１に示す矢印Ｂ方向に距離２ｇだけ移動して停止する。その後、第４番目の露光領域２ｄの終端部Ｅ４が検出されるまでステップＳ４が実行されて、図１０（ｅ）又は図１１に示すように、第３の非露光領域、即ち、第３のセル間領域３ｃと第４番目の露光領域２ｄに対する露光が停止されることとなる。そして、上記終端部Ｅ４が検出されると、ステップＳ５に進む。
【００８２】
この場合、上記終端部Ｅ４は最後尾のものであるので、ステップＳ５は、“ＹＥＳ”判定となってステップＳ１２に進み、光源７を消灯してカラーフィルタ用ガラス基板１に対する露光が終了する。
【００８３】
なお、ステージ５の上面５ａに平行な面内にて、搬送方向（矢印Ａ方向）に直交する方向に露光光学系３１を例えば２台並べて配設すれば、第１〜４番目の露光領域２ａ〜２ｄの隣の露光領域２に対しても同時に露光を行なうことができる。
【００８４】
また、以上の説明においては、第１のセル間領域（第１の非露光領域）３ａの幅Ｇ１が、Ｇ２＜Ｇ１＜２Ｇ２の場合について述べたが、Ｇ１＞２Ｇ２であってもよい。この場合、ｇｘ（＝Ｇ１／Ｍ）は、ｇｘ＞２ｇ（＝２Ｇ２／Ｍ）となるため、上記ステップＳ６は、“ＮＯ”判定となってステップＳ１０に進む。ステップＳ１０においては、移動遮光片２６をｇだけａ方向に移動して第１のスリット２８ａを塞ぎ、その状態でステップＳ１１においてシャッタ本体部２５を速度ｖで図１に示す矢印Ｂ方向に２ｇだけ移動して停止する。ここで、第２番目の露光領域２ｂの始端部を検出すると上記移動遮光片２６を速度ｖで矢印ｂ方向に移動させれば、第１のセル間領域３ａの露光を停止すると共に、次の第２番目の露光領域２ｂへの露光を開始することができる。
【００８５】
そして、上記実施形態においては、光源７と結像レンズ１０との間にフォトインテグレータ８を配設した場合について説明したが、これに限られず、フォトインテグレータ８はなくてもよい。この場合、結像レンズ１０は、光源７の像をコンデンサレンズ９の前焦点近傍に結像させるように配設するとよい。
【００８６】
図１２は本発明による露光装置の第２の実施形態の概略構成を示す正面図である。この露光装置は、図２に示すような複数の露光領域２ａ〜２ｄが少なくとも一列に並べて設定されたカラーフィルタ用ガラス基板１を上面５ａに載置して、上記複数の露光領域２ａ〜２ｄの設定方向にカラーフィルタ用ガラス基板１を搬送するステージ５と、該ステージ５の上方に配設され、所定の露光パターン列を形成するためのフォトマスク１５を上記カラーフィルタ用ガラス基板１に近接対向させて保持するマスクステージ６と、上記カラーフィルタ用ガラス基板１に対する露光期間中常時点灯し、上記マスクステージ６に保持されたフォトマスク１５に露光光を照射する光源７と、上記マスクステージ６と光源７との間に配設され、上記フォトマスク１５に照射する露光光の輝度分布を均一にするフォトインテグレータ８と、上記マスクステージ６とフォトインテグレータ８との間に配設され、前焦点をフォトインテグレータ８の端面８ａ近傍に位置させて上記フォトマスク１５に照射する露光光を平行光にするコンデンサレンズ９と、上記マスクステージ６とコンデンサレンズ９との間に配設され、上記カラーフィルタ用ガラス基板１の搬送により第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃが上記フォトマスク１５の下側を順次通過するのに同期して移動し、露光光の照射及び遮光の切換えをするシャッタ１１と、を備え、該シャッタ１１は、上記第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃの幅に応じて露光光を遮光する幅を変更可能な構成としたものである。なお、上記フォトインテグレータ８は、無くてもよい。この場合、コンデンサレンズ９の前焦点は、光源７の集光点近傍に位置するように配設される。
【００８７】
ここで、上記シャッタ１１は、複数の遮光部材を重ね合わせて遮光部２４を形成し、該遮光部２４を上記カラーフィルタ用ガラス基板１の矢印Ａで示す搬送方向に沿って複数組所定間隔で設け、上記各遮光部２４の複数の遮光部材のうち第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃに対して移動遮光片２６を上記カラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向と反対方向（同図に示す矢印ｂ方向）に移動させて上記遮光部２４の幅ｇｘを変更可能となっている。
【００８８】
そして、上記シャッタ１１は、上記第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃに対して移動遮光片２６をカラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向と反対方向（矢印ｂ方向）に所定量だけ移動させた状態で、第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃが上記フォトマスク１５の下側を通過するのに同期してカラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）に移動可能となっている。
【００８９】
上記シャッタ１１の具体的構成例は、図５に示すものと同じであり、不透明な板材のシャッタ本体部２５に第１〜第４のスリット２８ａ〜２８ｄを形成し、該第１〜第４のスリット２８ａ〜２８ｄ間を第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃとしてその上に移動遮光片２６をそれぞれ配設し、各移動遮光片２６を個別に移動させる図示省略の移動遮光片駆動部を備えている。
【００９０】
この場合、上記第１の実施形態と違って、シャッタ１１とカラーフィルタ用ガラス基板１との間にコンデンサレンズ９を介在させていないため、上記第１〜第３の固定側遮光片２９ａ〜２９ｃの幅ｇは、図２に示すカラーフィルタ用ガラス基板１の第１〜第３のセル間領域３ａ〜３ｃのうち最も幅の狭い、例えば第２及び第３のセル間領域３ｂ，３ｃの幅Ｇ２と同じ幅（ｇ＝Ｇ２）、又は、各種カラーフィルタ用ガラス基板のうち最も幅の狭いセル間領域の幅と同じ幅に設定される。また、第１〜第４のスリット２８ａ〜２８ｄの移動方向と直交する方向の幅ｗは、図３に示すフォトマスク１５の複数のマスクパターン１８のトータル幅Ｗと略同じ幅（ｗ＝Ｗ）に形成される。さらに、矢印Ａ方向への移動速度ｖは、カラーフィルタ用ガラス基板１の搬送速度Ｖと同じ（ｖ＝Ｖ）にされる。
【００９１】
なお、上記第１及び第２の実施形態において、シャッタ１１の移動方向の、第１〜第４のリット２８ａ〜２８ｄの幅を第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｃ及び移動遮光片２６の同方向の幅と同じ幅ｇとした場合について説明したが、これに限られず、上記スリット２８ａ〜２８ｄの幅は上記各遮光片の幅ｇよりも大きくしてもよい。
【００９２】
また、上記第１及び第２の実施形態においては、シャッタ１１がシャッタ本体部２５に複数形成したスリットの各スリット間を第１〜第３の固定遮光片２９ａ〜２９ｂとし、それに重ね合わせて移動遮光片２６を設けた場合について説明したが、これに限られず、複数の遮光部材を重ね合わせたものを一組として、カラーフィルタ用ガラス基板１の搬送方向に沿って複数組所定間隔で設けたものであってもよい。又は、シャッタ１１は、ガラス基板上に所定形状に形成されたＣｒ等の遮光膜を所定間隔で複数形成し、該遮光膜による露光光の遮光の幅がセル間領域の幅に応じて変更できるように上記ガラス基板を複数枚重ね合わせたものであってもよい。
【００９３】
さらに、シャッタ１１は、複数の遮光部材を重ね合わせたものを一組設けたものであってもよい。この場合、シャッタ１１は、カラーフィルタ用ガラス基板１のセル間領域を遮光する毎に元の位置まで高速で戻される。
【００９４】
さらにまた、以上の説明においては、シャッタ１１が複数の遮光部材を重ね合わせたもの場合について述べたが、これに限られず、シャッタ１１は、遮光の幅を変更できるように構成したものであれば、如何なる構成であってもよい。
【００９５】
そして、以上の説明においては、被露光体がカラーフィルタ用ガラス基板１である場合につい述べたが、これに限られず、複数の露光領域２にストライプ状の露光パターン列４を形成する基板であれば如何なるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】本発明による露光装置の第１の実施形態の概略構成を示す正面図である。
【図２】上記露光装置において使用されるカラーフィルタ用ガラス基板に設定された複数の露光領域の一例を示す平面図である。
【図３】上記露光装置において使用されるフォトマスクの一構成例を示す平面図である。
【図４】上記露光装置において使用されるカラーフィルタ用ガラス基板の一構成例を示す平面図である。
【図５】上記露光装置において使用されるシャッタの一構成例を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＯ−Ｏ線断面図である。
【図６】上記フォトマスクとカラーフィルタ用ガラス基板との位置合わせを示す説明図である。
【図７】上記露光装置の駆動制御手段を示すブロック図である。
【図８】上記露光装置において非露光領域への露光停止動作を説明するフローチャートである。
【図９】上記露光装置による露光動作において、カラーフィルタ用ガラス基板の第１の非露光領域に対する露光停止動作を示す説明図である。
【図１０】上記カラーフィルタ用ガラス基板の複数の露光領域がフォトマスクの下側を順次通過するのに同期したシャッタの動作及び露光・露光停止について説明するタイミングチャートである。
【図１１】上記露光装置による露光パターン列の形成例において、複数の非露光領域への露光が停止された状態を示す平面図である。
【図１２】本発明による露光装置の第２の実施形態の概略構成を示す正面図である。
【図１３】従来の露光装置による露光パターン列の形成例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００９７】
１…カラーフィルタ用ガラス基板（被露光体）
２，２ａ〜２ｄ…露光領域
３ａ〜３ｃ…第１〜第３のセル間領域（複数の露光領域にて隣り合う露光領域の間の部分）
４…露光パターン列
５…ステージ
６…マスクステージ
７…光源
８…フォトインテグレータ
９…コンデンサレンズ（集光レンズ）
１０…結像レンズ
１１…シャッタ
１５…フォトマスク
１８…マスクパターン
２４…遮光部
２５…シャッタ本体部
２６…移動遮光片（他の遮光部材）
２８ａ〜２８ｄ…第１〜第４のスリット
２９ａ〜２９ｃ…第１〜第３の固定遮光片（一の遮光部材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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