(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
流通する処理液にウェハとウェハを支持する支持糸が浸漬された状態で前記ウェハをウェット処理するにあたり、ウェハを支持する方法であって、前記ウェハの少なくとも側面に対応する位置に張架した複数の細い支持糸にて支持するとともに、当該支持糸は前記処理液に対する耐薬品性を有し、かつ当該支持糸の断面が中空円状またはだ円形状または流線形状またはひし形形状であることを特徴とするウェハの支持方法。
【請求項２】
前記支持糸が立体的なマトリクス状に構成され、当該マトリクス内にウェハが支持されていることを特徴とする請求項１記載のウェハの支持方法。
【請求項３】
前記支持糸がウェハの側面のみに接するよう張架されたことを特徴とする請求項１記載のウェハの支持方法。
【請求項４】
前記支持糸に突起部を設け、当該突起部にてウェハの少なくとも一部を支持することを特徴とする請求項１記載乃至請求項３のいずれかに記載のウェハの支持方法。
【請求項５】
流通する処理液にウェハとウェハを支持する支持糸が浸漬された状態で前記ウェハをウェット処理する際に用いるウェハ支持治具であって、前記ウェハの少なくとも側面に対応する位置に張架した複数の細い支持糸を設けることにより、当該ウェハを立設する支持領域を形成するとともに、当該支持領域の外周に支持枠を設け、当該支持糸を支持枠に固着し、また当該支持糸は前記処理液に対する耐薬品性を有し、かつ当該支持糸の断面が中空円状またはだ円形状または流線形状またはひし形形状であることを特徴とするウェハの支持治具。
【請求項６】
前記支持領域に収納されるウェハが１層からなる請求項５記載のウェハの支持治具を複数段に重ねることにより多段構成としたことを特徴とするウェハ支持治具。
【請求項７】
請求項５または請求項６記載のウェハ支持治具が周囲に外壁を有する構成であり、当該支持治具を流通する処理液に浸漬することにより、前記外壁により区画された閉じた処理系を作り出したことを特徴とするウェハ処理装置。
【請求項８】
請求項５または請求項６記載のウェハ支持治具により支持されたウェハを流通する処理液に浸漬するウェハ処理装置であって、当該ウェハ処理装置は前記支持領域に対し処理液の供給路切り替え機構を有し、異なる処理液を供給しウェハを浸漬することにより、複数工程の処理を行うことを特徴とするウェハ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は携帯型通信機器、あるいはマイクロコンピュータのクロック源として用いられる水晶振動子、水晶フィルタ等の圧電振動デバイスに用いるウェハに関するもので、特に洗浄、エッチング等におけるウェット処理時のウェハの支持方法およびウェハの支持治具およびウェハ処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
水晶振動子、水晶フィルタ等に用いられる水晶振動板は水晶ウェハを小割り切断して得られる。水晶振動板に加工する方法は機械的な切断方法やフォトリソグラフィ技術を用いた化学的処理方法が用いられるが、いずれの場合も水晶ウェハの状態で薬液や流水に浸漬することによりエッチング、洗浄等のいくつかのウェット処理工程を経る。このようなウェット処理工程においては、水晶ウェハは保持カセットあるいはキャリアと呼ばれる支持治具にて、保持された状態で処理されるのが一般的である。
【０００３】
特開平３−２０９８２２号には被処理基板を保持する保持カセットが開示されている。被処理基板は本公報においては半導体ウェハであり、当該保持カセットは上部が開口し、かつウェハが複数枚平行に整列可能なようにウェハ案内溝が形成されている。ウェハをセットした保持カセットを処理槽へ浸漬し、エッチングあるいは洗浄等の処理を実行する。処理槽内では熱対流やオーバーフロー方式等により処理液を循環させたり、あるいは保持カセットを積極的に動作させて処理効率を高めている。通常このような保持カセットは処理液に対する耐腐食性を有する材料で構成されるが、ウェハ保持部分や保持カセット構造体全体の影響で処理液のウェハへの接触が部分的に阻害されることがあった。例えば保持カセットに設置されたウェハの設置位置によって処理液が均等に接触しないことがあったり、あるいは１枚のウェハにおいても処理液が均等に接触しないことがあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、処理液が均等にウェハに接触し、洗浄、エッチング等の処理においてバラツキを極力低減し、安定した品質のウェハを得ることを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は複数の細い支持糸を三次元的に張架することにより支持領域を造り出し、当該支持領域にてウェハを支持することを基本的構成としており、次の支持方法および支持治具および処理装置により課題を解決することができる。
【０００６】
すなわち請求項１に示すように、流通する処理液にウェハとウェハを支持する支持糸が浸漬された状態で前記ウェハをウェット処理するにあたり、ウェハを支持する方法であって、前記ウェハの少なくとも側面に対応する位置に張架した複数の細い支持糸にて支持するとともに、当該支持糸は前記処理液に対する耐薬品性を有し、かつ当該支持糸の断面が中空円状またはだ円形状または流線形状またはひし形形状であることを特徴としている。
【０００７】
この支持糸の張架構成は例えば請求項２に示すように、前記支持糸が立体的なマトリクス状すなわち縦横高さの３方向に支持糸を張架し、当該マトリクス内にウェハが支持されている構成であってもよい。すなわち例えばウェハの底辺並びに両側辺に対応するよう支持糸を張架するとともに、各ウェハ毎に仕切る支持糸をウェハの主面側に配設し、立体形状の支持領域を形成してもよい。各辺に対応させる支持糸は１本でもよいが、より安定した支持を必要とする場合は複数本の支持糸を張架してもよい。
【０００８】
支持糸はその占有体積が小さく、これを張架することによりウェハ支持領域に対する相対的な占有体積比率が小さくなる。これにより洗浄液、エッチング液等の処理液の循環流を阻害することがなく、また支持の際に循環流が充分に行き渡らない陰部が形成されることもない。なお、支持糸は多種多様の構成を採用できるが、例えば断面が円形のものや中空円形のもの、あるいは多角形のもの、あるいは流線型のもの等をあげることができる。支持糸の断面が中空円形の構成においては支持糸を軽量化できその取扱が容易になり、また断面がだ円形状または流線形状またはひし形形状の構成においては処理液の流れを整え、乱流発生を抑制しスムーズな流れを促進することができる。
【０００９】
また請求項３に示すように前記支持糸がウェハの側面に接するよう張架された支持方法であってもよい。例えば平面で見て菱形が連続するよう支持糸を構成し、当該菱形の対角部分にウェハを配設してもよい。このようにウェハの側面にのみ接触するような支持方法により、ウェハの主面側には支持糸が接触することがなく、処理時のバラツキを抑制できる。
【００１０】
さらに請求項４に示すように、前記支持糸に突起部を設け、当該突起部にてウェハの少なくとも一部を支持する構成としてもよい。ウェハが突起部と接触するような構成とすることにより、支持糸の多くの部分がウェハに接触する状態になることを防止できる。特にウェハの主面側に張架された支持糸において突起部を形成することにより、ウェハ主面の一部のみが小面積で接触することになり好ましい。突起部は支持糸に結び目を形成したり、あるいは支持糸の貫通孔を有するビーズ状のものであってもよい。
【００１１】
請求項５は本支持方法を適用した支持治具に関するものである。すなわち、流通する処理液にウェハとウェハを支持する支持糸が浸漬された状態で前記ウェハをウェット処理する際に用いるウェハ支持治具であって、前記ウェハの少なくとも側面に対応する位置に張架した複数の細い支持糸を設けることにより、当該ウェハを立設する支持領域を形成するとともに、当該支持領域の外周に支持枠を設け、当該支持糸を支持枠に固着し、また当該支持糸は前記処理液に対する耐薬品性を有し、かつ当該支持糸の断面が中空円状またはだ円形状または流線形状またはひし形形状であることを特徴としている。このように複数の支持糸を支持枠内に張架し、支持領域を形成することにより、支持治具化することができ、ウェハの設置が容易となる。支持治具内に１層の支持領域を形成してもよいし、多層の支持領域を形成してもよい。多層の支持領域を形成する場合は、下層から順に支持糸を張架することにより支持領域を形成し、その後ウェハを設置する。その後当該下層と次の上層を区切る支持糸を張架するとともに、その上部に次の上層用の支持糸を張架し支持領域を形成する。これを繰り返すことにより多層化された支持治具を得ることができる。支持糸の断面が中空円形の構成においては支持糸を軽量化できその取扱が容易になり、また断面がだ円形状または流線形状またはひし形形状の構成においては処理液の流れを整え、乱流発生を抑制しスムーズな流れを促進することができる。
【００１２】
このような支持治具の多層化は請求項６に示すように支持治具の多段接続によっても実現できる。すなわち、支持領域に収納されるウェハが１層からなる前記支持治具のウェハの支持治具を複数段に重ねることにより多段構成としてもよい。１層の支持領域からなる支持治具は支持糸の張架による支持領域の形成が容易であり、このような支持治具を複数用意しておき処理槽（処理装置）側の処理能力に応じて多段構成を選択することにより、フレキシブルな処理を行うことができる。
【００１３】
また請求項７に示すように、請求項５または請求項６記載のウェハ支持治具を周囲に外壁を有する構成とし、当該支持治具を流通する処理液に浸漬することにより、前記外壁により区画された閉じた処理系を作り出したことを特徴とするウェハ処理装置であってもよい。例えばエッチング液の入った広い開口部のエッチング槽を用いてエッチング処理を行う場合、同一槽内において温度あるいは流体速度等のバラツキによりエッチング速度にバラツキが生じることがあった。上述のようにウェハ支持治具毎に外壁を形成することにより閉じられた処理系を作り出し、上記バラツキを低減することができる。
【００１４】
さらに請求項８に示すように、請求項５または請求項６記載のウェハ支持治具により支持されたウェハを流通する処理液に浸漬する処理装置であって、当該ウェハ処理装置は前記支持領域に対し処理液の供給路切り替え機構を有し、異なる処理液を供給しウェハを浸漬することにより、複数工程の処理を行うことを特徴とする構成であってもよい。供給路の切り替えを任意に行うことにより、例えば洗浄、エッチング、リンス、乾燥等の一連の処理をウェハの支持状態を変更することなく実施することができる。なお上記処理は処理液に浸漬するウェット処理のみならず、乾燥等の気体による処理も含むことが可能である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の第１の実施の形態についてＡＴカット水晶ウェハのエッチング作業を例にとり、図面を参照して説明する。図１は水晶ウェハの支持構成を説明する斜視図であり、図２は当該支持構成を適用した支持治具を用いたエッチング処理装置を示す分解斜視図である。
【００１６】
図１に示すように、本発明は支持糸２を張力をかけた状態に架設する張架状態にし、これを三次元マトリクス状に張り渡す構成（以下支持糸の３次元マトリクスという）により、ボックス状の支持領域を造り出すものであり、水晶ウェハ１を当該支持領域に設置し、この状態で処理を実行する。支持糸２は処理液に対する耐薬品性を有する材料が選ばれ、例えばフッ酸やフッ化アンモニウム溶液によるエッチングを行う場合は、テフロン（商品名），ＰＦＡ（四フッ化エチレン−パーフロロアルキルビニルエーテル共重合樹脂）、ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン樹脂）を用いる。当該支持糸の直径は基本的には可能な限りその断面積の小さい方がよいが、取り扱い性あるいは耐薬品性を考慮して決定され、例えばＰＦＡを用いた場合は０.１３mmφ程度を選べばよい。
【００１７】
水晶ウェハ１の下辺部分には支持糸２ｃ，２ｄが平行して張架され、また水晶ウェハ１の側辺には支持糸２ａ，２ｂ，２ｅ，２ｆがそれぞれ平行して張架されている。これにより水晶ウェハの外周を支持している。また支持糸２ｇ，２ｈ，２ｉ，２ｊ，２ｋ，２ｌ，２ｍ，２ｎ，２ｏ、２ｐが各々の水晶ウェハ間に張架されており、これにより各水晶ウェハを分離収納している。
【００１８】
なお、上記水晶ウェハの下辺あるいは側辺に配置される支持糸はウェハのエッジによる切断を防ぐために、前記ウェハ間に張架された支持糸よりも太いものあるいは切断強度の高い材料を用いることが支持を確実にするためにも好ましい。
【００１９】
このような支持構成は例えば図２に示すような支持治具にて実現できる。すなわち支持治具３０は上下に貫通した四角枠形状であり、枠内には上述した支持糸の３次元マトリクスが構成されている。これにより水晶ウェハの下辺（底辺）および側辺（左右辺）を支持するとともに、各水晶ウェハ同士を分離する機能を有しており、これにより水晶ウェハ支持領域を形成している。
【００２０】
また支持治具３０には支持糸１を係止する支持糸固定部３０ａが各支持糸毎に枠状の周囲に設けられている。当該支持固定部３０ａは支持糸を枠内に張力を持って固定する機能が求められるが、当該張力を調整する機能を備えることが好ましい。本実施の形態においては、支持固定部３０ａは張力を調整する機能を有している。すなわち支持固定部３０ａにはツマミ状の回転可能な構成で、かつ支持糸を巻回する機能が設けられており、当該支持固定部を回転させることにより支持糸の巻回状態を調整し、これにより支持糸の張力を調整することができる構成となっている。
【００２１】
上記支持治具３０の支持領域に複数の水晶ウェハ１が立設状態に収納され、当該支持治具はエッチング液の満たされたエッチング槽に所定時間浸漬される。エッチングにおいては、処理液に熱対流やあるいはポンプ等を用いた循環流を生ぜしめたり、あるいは支持治具自体を処理液中にて揺動させることにより、その処理効率を高めることがあるが、このような処理効率促進手段を用いてもよい。
【００２２】
なお、支持糸の支持治具への架設方法あるいは張架状態を保持する方法は上記例に限定されるものではなく、例えば図３，図４に示すような構成であってもよい。図３，図４は支持治具において、支持糸取り付け部分の拡大図である。この例においては支持治具に２つの貫通孔３１，３１を設け、支持糸を２つの貫通孔に複数回巻き付けるようにして取り付けている。このように取り付け部分において複数回巻き付けることにより、支持糸取り付け部分の切断を防止している。また図３において、矢印方向に張力をかけることにより張架状態を保持することができる。さらに図４に示すように張架状態を保持するために、係止具Ｋ１を支持糸と支持治具間に取り付けてもよい。また係止具Ｋ２を貫通孔３１に挿入することにより支持糸の張架状態を保持してもよい。
【００２３】
ところで水晶ウェハ支持構成については上述の構成のほかに例えば図５や図６に示すような構成をあげることができる。図５は図１のような支持糸の３次元マトリクス状の張架構成を用いて水晶ウェハを斜めに支持する構成を示しており、上方の支持糸２に対して下方の支持糸２部分には１ブロックずらせた支持を行っている。このような斜めの配置により水晶ウェハの表裏主面いずれかの加工量を変化させることができる。
【００２４】
また図６に示す構成は平面視ひし形のマトリクス状に張架された支持糸の構成を示している。このような支持糸張架構成においては水晶ウェハの側辺部分のみに支持糸が配置された構成となっている。従って、処理液の流れが主面部分において滞ることがなく、均一なエッチング等の処理を行うことができる。なお図６において図示はしていないが水晶ウェハの下辺にも支持糸が配設されている。
【００２５】
ところで本発明は支持糸の張架構成のみならず支持糸自体の構成についても各種の提案を行っている。例えば図７に示すように支持糸に突起を設けることにより処理のバラツキを抑制することができる。図７は支持糸の３次元マトリクスの一部平面図であり、ウェハの主面側に突起５１，５２，５３，５４を設けている。当該突起は例えば支持糸の結び目により形成しても良いし、処理液に対し耐食性を有する材料からなり貫通孔を有するビーズ状の部材を用いてもよい。突起により水晶ウェハの主面に位置する支持糸との最低間隔を確保することができ、処理液の流通を滞らせることなく均一な処理を行うことができる。
【００２６】
またこのような支持糸の断面形状は図８に示すように各種形状を採用することができる。図８において、（ａ）は円形状であり、（ｂ）は中空円状である。中空形状は支持糸を軽量化し取り扱いを容易にする。また（ｃ）はだ円形状、（ｄ）は流線形状、（ｅ）はひし形形状である。これら異形タイプは例えば（ｄ）の矢印で示したように、処理液の流通方向が定まっている場合に処理液の流れを整え、乱流発生を抑制しスムーズな流れを促進することができる。
【００２７】
第２の実施の形態を図９とともに説明する。図９においては一層からなる支持内枠を複数用意し、これを積み重ねた多段構成の支持治具を示している。支持内枠３２，３３，３４は各々全体として立方枠体あるいは円柱枠体形状であり、上下に貫通している。枠内には第１の実施の形態で説明したような支持糸の３次元マトリクスが形成されており、これにより形成された支持領域に複数のウェハを１層分立設する。支持外枠３１の下方には係止部３１ａが設けられ、水晶ウェハの収納された前記支持内枠３２，３３，３４が多段に積み重ねられる。このように１層に水晶ウェハ支持領域を形成した支持内枠を用いることにより水晶ウェハの支持内枠への収納作業は多層配置に較べて容易になる。そしてこのような支持内枠を多段に積み重ねることにより量産性も向上させることができる。このような積み重ね段数は処理装置の能力によって適宜選択すればよい。
【００２８】
第３の実施の形態を図１０とともに説明する。図１０においては一層の支持枠の積み重ね構成による支持治具の変形例を示している。すなわち、本実施の形態は支持外枠３５、支持中枠３６，支持内枠３７とから構成され、これらを順に積み重ねる構成である。各支持枠には第２の実施の形態と同様に１層の水晶ウェハ支持領域が形成され、支持領域の各区画に従って水晶ウェハが立設配置されている。支持外枠３５は支持糸が張架された支持領域とその上方に薄肉化された支持枠３５ａが伸長形成されている。さらに支持中枠３６は係止部３５ｂに係止されるとともに、その上方に薄肉化された支持枠３６ａが伸長形成され、最後に支持内枠３７が係止部３６ｂに係止されている。これにより各支持枠が一体化されるとともに、その肉厚は全体として一定となるよう調整されている。すなわち、支持外枠の支持領域３５ｃの外周部分の厚さと、支持中枠の支持領域３６ｃ外周部分の厚さ（外枠と中枠の重なり部分）と、支持内枠の支持領域３７ｃ外周部分の厚さ（外枠と中枠と内枠の重なり部分）との厚さは等しく形成されている。以上の構成により複数の支持枠を一体化することができる。
【００２９】
なお、図１１に示すように例えば第２の実施の形態で示した支持枠を積み重ねるにあたり、各支持枠に嵌合部を設けてもよい。図１１は支持枠の嵌合部分を拡大表示した図であり、支持枠３８と支持枠３９とに各々嵌合部３８ａ，３９ａを設け、これを嵌め合わせる構成としてもよい。嵌合部には嵌合状態を維持するための止めネジＮにより締結固定してもよいが必ずしも必要ではない。このような止めネジによる固定は第３の実施の形態で示した支持枠の固定に適用することも可能である。また図示していないが、このような結合方法として嵌合部に相互にかみ合うネジ溝を形成し、支持枠同士を螺合する構成としてもよい。
【００３０】
次に支持治具をエッチングの処理槽に浸漬した処理装置についての実施の形態について説明する。図１２は第４の実施の形態を示す断面図であり、エッチング槽４にエッチング液４１（処理液）を所定量貯液し、支持治具６０，６１を浸漬した構成を示している。各支持治具６０，６１内には小さな単位からなる支持糸の３次元マトリクスが形成されているが、当該３次元マトリクスは治具の外壁６１ａにより外部と概ね遮断できるよう構成されている。このような構成によりエッチング槽４において各治具毎に処理系を作り出すことができ、例えば熱対流によりエッチング液を循環させる場合等において、図１２において矢印で示すように治具内で循環させることができ、均一な処理条件下におくことができる。これにより各支持治具内での処理条件のバラツキを抑制することができ、安定な品質のウェハを得ることができる。
【００３１】
第５の実施例を図１３とともに説明する。本実施の形態においては比較的小さなエッチング槽４に対し、当該エッチング槽４の内壁形状にほぼ対応した外形形状の支持治具６２を用いている。エッチング槽に浸漬する際にエッチング液の支持治具内へのエッチング液の流通を促進する孔部６２ａを有するとともに、上面にはフタ６２ｂを設けており、エッチング槽内の温度変化、バラツキを最小限に抑制するよう構成している。
【００３２】
次に第６の実施の形態として、支持治具をオーバーフロー式のエッチング装置に適用した例を示す。図１４はオーバーフロー循環式のエッチング装置を示す内部断面図である。オーバーフロー循環式のエッチング装置は、周知のとおりエッチング内槽７２とその外側にあるエッチング外槽７１を有する構成であり、エッチング内槽７２に供給されたエッチング液のオーバーフロー分をエッチング外槽７１に受け、これを循環ポンプＰにより再度エッチング内槽に供給するものである。エッチング内槽７２には支持糸の３次元マトリクスを有する支持治具６３が係止部７３に係止された状態で収納されている。当該支持治具は複数層構成であってもよいし、１層構成の支持治具を多段に積み重ねた構成であってもよい。
【００３３】
支持治具内の支持領域には水晶ウェハが立設されるとともに、支持治具の下面には整流下板７４が、上面には整流上板７５がそれぞれ設けられている。これら整流下板７４，整流上板７５はそれぞれ複数の貫通孔が設けられた構成であり、支持治具をエッチング液に浸漬する際の液の流通と、オーバーフロー循環させる際のエッチング液の整流機能を有しており、処理条件を均一にすることができる。
【００３４】
エッチング内槽７２とエッチング外槽７１は配管７６により接続されており、この間に循環ポンプＰとエッチング液に含まれる異物を除去するフィルタＦが設けられている。エッチング内槽７２の底部から供給されたエッチング液は整流下板７４で整流され、支持治具内を通過し、整流上板７５を通ってエッチング外槽７１にオーバーフローする。エッチング外槽７１に落下したエッチング液は配管７６により再度エッチング内槽７２に循環供給される。
【００３５】
オーバーフロー循環式のエッチング装置においては、エッチング液の流速が比較的速いが、このような場合特に支持治具の影響が生じやすくなる。本発明においてはこのような場合においても支持糸の３次元マトリクスを用いているので治具によるエッチングの影響を極力抑制することができる。
【００３６】
本発明はさらに複数の処理を行う装置についても提案を行っている。図１５は第７の実施の形態を示す模式図である。本装置は循環式の洗浄、エッチングあるいはその他の処理を段階的に連続して行うものである。本実施の形態による処理装置は支持治具８１の設置された処理槽８と、処理槽８内に選択された処理液を循環させる配管８２と、配管８２の途中に設けられた循環ポンプＰ、フィルタＦと、同じく配管８２の途中に設けられ必要な処理液を選択的に配管に供給する切換部８３と、切換部８３につながり、各々異なった処理液の入った貯槽８４，８５，８６とからなる。また支持治具８１には支持糸の３次元マトリクスが構成されている。
【００３７】
本装置による処理は次のような手順で行われる。自動あるいは手動によって切り換えられる切換部８３により特定の貯槽が選択され、当該選択された貯槽から処理液を配管８２を介し処理槽に流通させる。そして、ポンプＰにより所定条件で循環させ必要な処理を行った後当該処理液を排出し、切換部８３により次の選択された処理液を流通させ順次処理を進める。例えば貯槽８４，８５，８６それぞれに洗浄液、エッチング液、リンス液が貯液され、この順に処理を行う場合、まず切換部８３の操作により貯槽８４から支持治具の配置された処理槽に洗浄液を循環させ、所定時間後洗浄液を排出する。次に切換部８３の切換によりエッチング液を処理槽に循環させ同様の処理を行い、さらにリンス液についても同様の作業を行う。これにより支持治具を同一場所に配置した状態で段階的に一連の処理を行うことができる。また図示していないが、必要に応じて上記ウェット環境での処理を行った後、処理槽に乾燥エアを供給することにより、乾燥処理までを行わせることも可能である。
【００３８】
本実施の形態によれば、支持糸の３次元マトリクスを同一の場所に固定した状態で一連の処理を行うことができるので、処理の効率化、自動化を行うことができる。
【００３９】
上記各実施の形態では水晶ウェハのウェット処理について例示したが、半導体ウェハ等ウェット処理の必要な材料について適用することが可能である。
【００４０】
【発明の効果】
本発明によれば、支持糸の３次元マトリクスにより水晶ウェハを支持する構成であるので相対的な占有体積比率が小さくなり、これにより洗浄液、エッチング液等の処理液の循環流を阻害することがなく、また支持の際に循環流が充分に行き渡らない陰部が形成されることもなくなる。よって、処理液が均等にウェハに接触し、洗浄、エッチング等の処理においてバラツキを極力低減し、安定した品質のウェハを得ることができる。また支持糸の断面が中空円形の構成においては支持糸を軽量化できその取扱が容易になり、また断面がだ円形状または流線形状またはひし形形状の構成においては処理液の流れを整え、乱流発生を抑制しスムーズな流れを促進することができる。
【００４１】
また請求項３によれば、上記効果に加えて、このようにウェハの側面にのみ接触するような支持方法により、ウェハの主面側には支持糸が接触することがなく、処理時のバラツキを抑制できる。
【００４２】
また請求項４によれば、上記効果に加えて、ウェハが突起部と接触するような構成とすることにより、支持糸の多くの部分がウェハに接触する状態になることを防止できる。
【００４３】
また請求項５によれば、上記効果に加えて、複数の支持糸を支持枠内に張架し、支持糸による３次元マトリクスによる支持領域を形成することにより、支持治具化することができ、ウェハの設置が容易となる。また支持糸の断面が中空円形の構成においては支持糸を軽量化できその取扱が容易になり、また断面がだ円形状または流線形状またはひし形形状の構成においては処理液の流れを整え、乱流発生を抑制しスムーズな流れを促進することができる。
【００４４】
さらに請求項６によれば、上記効果に加えて、支持治具へのウェハの設置が容易で、かつ支持治具を多段にすることにより生産性を向上させることができ、また処理数量もフレキシブルに調整することができる。
【００４５】
また請求項７によれば、上記効果に加えて、ウェハ支持治具毎に外壁を形成することにより閉じられた処理系を作り出し、上記バラツキを低減することができ、安定した品質のウェハを得ることができる。
【００４６】
また請求項８によれば、上記効果に加えて、供給路の切り替えを任意に行うことにより、例えば洗浄、エッチング、リンス、乾燥等の一連の処理をウェハの支持状態を変更することなく実施することができ、生産性に優れたウェハ処理装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  第１の実施の形態によるウェハ支持方法を示す図。
【図２】  第１の実施の形態を示す斜視図。
【図３】  支持糸の架設構成を示す図。
【図４】  支持糸の架設構成を示す図。
【図５】  第１の実施の形態による他の支持方法を示す図。
【図６】  第１の実施の形態による他の支持方法を示す図。
【図７】  第１の実施の形態による他の支持方法を示す図。
【図８】  第１の実施の形態による支持糸の構成例を示す図。
【図９】  第２の実施の形態を示す図。
【図１０】  第３の実施の形態を示す図。
【図１１】  支持治具の連結方法を示す図。
【図１２】  第４の実施の形態を示す図。
【図１３】  第５の実施の形態を示す図。
【図１４】  第６の実施の形態を示す図。
【図１５】  第７の実施の形態を示す図。
【符号の説明】
１  水晶ウェハ（ウェハ）
２  支持糸
３０，３８，３９，６０，６１，６２，６３  支持治具
【図１】
0004764584.tif 000002
【図２】
0004764584.tif 000003
【図３】
0004764584.tif 000004
【図４】
0004764584.tif 000005
【図５】
0004764584.tif 000006
【図６】
0004764584.tif 000007
【図７】
0004764584.tif 000008
【図８】
0004764584.tif 000009
【図９】
0004764584.tif 000010
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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