(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基板と、当該基板に支持されたパターン状の第一電極と、発光層と、第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
当該有機エレクトロルミネッセンス素子の具備する発光層を、有機発光材料を有機溶剤に溶解、または分散させた有機エレクトロルミネッセンスインキをインキとして用い、金属基材上に水現像タイプの感光性樹脂層からなるパターンを備えた樹脂凸版を印刷版とした凸版印刷法により前記第一電極の上方に配置して形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項２】
前記樹脂凸版を構成する金属基材が、鉄、アルミニウム、ニッケル、銅のいずれか一つ、または複数を主成分とすることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項３】
前記樹脂凸版を構成する金属基材が、鉄とニッケルの合金からなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項４】
前記樹脂凸版を構成する金属基材が、熱膨張係数１．７×１０−５ ／Ｋ以下の金属からなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項５】
前記樹脂凸版を構成する金属基材が、熱膨張係数３×１０−６ ／Ｋ以下の金属からなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項６】
前記樹脂凸版を構成する金属基材の厚みが０．１〜０．２ｍｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光層が高分子材料からなるエレクトロルミネッセンス素子およびエレクトロルミネッセンスディスプレイおよびその製造方法に関し、特に発光層を印刷法によって形成するエレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロルミネッセンス素子は、ふたつの対向する電極の間に有機発光材料を含む発光層が形成され、発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには発光層の膜厚が重要であり、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。
【０００３】
前記発光層を形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成する。この薄膜形成時では、被蒸着基板上に微細パターンのマスクを載置してパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題がある。
【０００４】
そこで、最近では有機発光材料として高分子材料を用いたり、低分子発光材料と高分子材料を混合したりして、有機発光材料を溶剤に分散、または溶解させて塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりＲＧＢ３色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け・パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。
【０００５】
さらに、各種印刷法のなかでも、被印刷基板としてガラス等を用いるエレクトロルミネッセンス素子では、基板のキズや応力集中によるゆがみが好ましくないことから、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きであり、弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や樹脂版を用いる凸版印刷法が適正である。実際にこれらの印刷法による試みとして、オフセット印刷法による方法（特許文献１参照）や、凸版印刷法による方法（特許文献２参照）などが提案されている。
【０００６】
一方、高分子材料、特に高分子発光材料は、水、アルコール系の溶剤に対する溶解性が悪く、塗工液（以下インキと記す）化するには、有機溶剤を用いて溶解、または分散させる必要があり、中でも、トルエンやキシレン、その他の有機溶剤が好適である。したがって、有機発光材料をインキ化したもの（以下エレクトロルミネッセンスインキと記す）は有機溶剤のインキとなっている。
【０００７】
ところが、オフセット印刷に用いるゴムブランケットはトルエンやキシレン有機溶剤によって膨潤や変形を起こしやすいという問題がある。オフセット印刷は、画線が形成されている版にインキを付け、そのインキを弾性のブランケットに転移させ、さらにブランケットから被印刷基板にインキを転写することで印刷する方式であるが、インキの転移を仲介するブランケットは弾性をもつことが要求され、一般にゴム製のものが使われる。使用されるゴムの種類はオレフィン系のゴムからシリコーン系のゴムまで多様であるが、いずれのゴムもトルエン、キシレンその他の溶剤に対して耐性がなく、膨潤や変形が起こりやすく、よってエレクトロルミネッセンスインキの印刷には不適切である。
【０００８】
そこで、エレクトロルミネッセンスインキの溶剤であるトルエン、キシレン、その他の有機溶媒に対する耐性の高い水現像タイプの感光性樹脂版を用いる樹脂凸版印刷がエレクトロルミネッセンスインキの印刷に最適な印刷方式といえる。水現像タイプの感光性の樹脂凸版とは、未硬化状態では水に対する溶解性が高く、硬化後には不溶化する光硬化性の感光性樹脂材料から成り、画線部にのみ光が透過するマスクを利用して感光性樹脂を露光し画線部を硬化させ、未硬化部分を水で洗い流すことで凸版を形成する版である。
【０００９】
版材の構成は、基材の上に感光性樹脂を積層した構成となっており、版は円筒状のシリンダーに巻き付けて用いることから、基材としてはフレキシブル性のあるプラスチックシートを用いるのが一般的である。
【００１０】
前述したように、エレクトロルミネッセンスインキの印刷においては、水現像タイプの感光性樹脂からなる樹脂凸版を用いた印刷が適する。この感光性樹脂は親水性のポリマーと架橋性モノマー及び光開始剤を主成分とし、露光した部分でポリマー及びモノマーの架橋が進んで硬化するが、露光現像を終えた後も、自然光や室内光等で多少は未架橋部分の架橋が進むと考えられ、よって経時で徐々に収縮する傾向が見られる。また親水性ポリマーを含んでいることから、環境湿度の影響でも多少の寸法変化が起こり得るし、当然環境温度によっても寸法変化する。
【００１１】
感光性樹脂版は、基材の上に感光性樹脂を積層した構成になっており、樹脂部分の寸法変動は基材の剛性や疎水性、熱膨張率等である程度抑えることができるが、円筒状の印刷シリンダーへの取り付けの容易性からフレキシブル性のあるポリエチレンテレフタレートシートを基材として用いたものが一般的である。しかし、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチック基材では樹脂部分の寸法変化を完全に抑えるには剛性が不十分であり、また基材自身の温度変化による寸法変化も起こる。
【００１２】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
そこで、本発明の課題は、樹脂版の寸法変化を極力抑えることができ、かつ印刷シリンダーへの取り付けもある程度容易な版を得るための最適な樹脂版用の基材を選定し、これを基材にして構成された樹脂凸版を用いることで、エレクトロルミネッセンス素子の発光層がエレクトロルミネッセンスを用いた印刷法によって高精細に形成できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明者等は、エレクトロルミネッセンスインキを用いて凸版印刷法により被印刷基板上に発光層を形成する際に、どのような基材で支持される樹脂凸版を用いると、寸法変動が少なく、エレクトロルミネッセンス素子を製造する上で要求される寸法精度を満たすかを検討した結果、次のような手段が有効であることを見出した。
【００１５】
本発明の請求項１に係る発明は、少なくとも基板と、当該基板に支持されたパターン状の第一電極と、発光層と、第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子の製
造方法において、当該有機エレクトロルミネッセンス素子の具備する発光層を、有機発光材料を有機溶剤に溶解、または分散させた有機エレクトロルミネッセンスインキをインキとして用い、金属基材上に水現像タイプの感光性樹脂層からなるパターンを備えた樹脂凸版を印刷版とした凸版印刷法により前記第一電極の上方に配置して形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
【００１６】
本発明の請求項２に係る発明は、前記樹脂凸版を構成する金属基材が、鉄、アルミニウム、ニッケル、銅のいずれか一つ、または複数を主成分とすることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
【００１７】
本発明の請求項３に係る発明は、前記樹脂凸版を構成する金属基材が、鉄とニッケルの合金からなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
【００１８】
本発明の請求項４に係る発明は、前記樹脂凸版を構成する金属基材が、熱膨張係数１．７×１０-5／Ｋ以下の金属からなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
【００１９】
本発明の請求項５に係る発明は、前記樹脂凸版を構成する金属基材が、熱膨張係数３×１０-6／Ｋ以下の金属からなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
【００２０】
本発明の請求光６に係る発明は、前記樹脂凸版を構成する金属基材の厚みが０．１〜０．２ｍｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のエレクトロルミネッセンス素子製造方法を用いたエレクトロルミネッセンス素子では、金属製の基材からなる樹脂凸版を用いたことにより、印刷した発光層の位置ずれによる混色発光などが生じず、経時での寸法変化は起こらず、またパネル化して発光状態を観察しても混色等は生じない。
【００２３】
本発明のエレクトロルミネッセンス素子製造方法では、樹脂版の寸法変化を極力抑えることができ、かつ印刷シリンダーへの取り付けも容易となるための最適な樹脂版用の基材を選定し、これを基材にして構成された樹脂凸版を用いることにより、エレクトロルミネッセンス素子の発光層がエレクトロルミネッセンスを用いた印刷法によって高精細に形成できること、さらに樹脂凸版の基材として金属系の基材を用いているため、クリーンルームなどの温度管理された環境で印刷を行う場合であれば、寸法変化による印刷ずれなどは問題が生じない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の好適な実施の形態を、パッシブマトリックスタイプのエレクトロルミネッセンス素子を作成する場合を事例に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではなく、例えば基板上に薄膜トランジスタを備えた，例えば各画素電極に対応して駆動回路
を設けた、いわゆるアクティブマトリクス型のエレクトロルミネッセンス素子の製造も同様に行うことができる。
【００２５】
図１は、本発明におけるエレクトロルミネッセンス素子の一実施例の側断面図である。本発明におけるエレクトロルミネッセンス素子は、ガラス基板１上に第一電極の画素電極２が形成と、該画素電極を囲むように絶縁層３を形成と、画素電極２上に正孔輸送層４を形成と、正孔輸送層４上に有機発光層５を形成後、絶縁層３から有機発光層５までの全面に第二電極の陰極層６を形成と、ガラスキャップ７の端部とガラス基板１を接着剤８を介して封止した構成である。
【００２６】
本発明のエレクトロルミネッセンス素子は、少なくとも基板と、当該基板に支持されたパターン状の第一電極と、発光層と、第二の電極を具備する。さらに、発光層を、外部の酸素や水分の浸入から保護するパッシベーション層や外部応力から保護する保護層、あるいはその両方の機能備えた封止基材を備えてもよく、エレクトロルミネッセンス素子の具備する発光層を画像、又は文字パターン状に形成発光可能な駆動回路を有するものであってもよい。
【００２７】
図１を用いてパッシブマトリックス型のエレクトロルミネッセンス素子の製造方法を説明する。
【００２８】
エレクトロルミネッセンス素子は、ガラス基板１の上に形成される。最初に、ガラス基板１の上には、当該基板に支持された第一電極として陽極であるパターニングされた画素電極（陽極、第一電極）２を形成する。画素電極の材料としては、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、亜鉛アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が使用できる。なお、低抵抗であること、溶剤耐性があること、透明性が高いことなどからＩＴＯが好ましい。ＩＴＯはスパッタ法によりガラス基板上に形成され、フォトリソ法によりパターニングされてライン状の画素電極２となる。
【００２９】
次いで、ライン状の画素電極を形成後、隣接する画素電極の間には、感光性材料を用いてフォトリソ法により絶縁層３を形成する。
【００３０】
次いで、絶縁層３形成後に、画素電極上に正孔輸送層４を形成する。正孔輸送層４を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）等が挙げられる。これらの材料は溶媒に溶解、または分散させて正孔輸送材料インキとし、スピンコート法やダイコート法を用いて、画素電極および絶縁層が形成された基板に全面塗布して正孔輸送層を形成することもでき、また凸版印刷法を用いて、画素電極パターンに合わせてパターン形成することもできる。
【００３１】
次いで、正孔輸送層形成後に、有機発光層５を形成する。有機発光層を形成する有機発光材料は、例えばクマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクドリン系、Ｎ，Ｎ‘−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ‘−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリオレフィン系の高分子材料が挙げられる。
【００３２】
これらの有機発光材料は、溶媒に溶解、または分散させて有機発光インキとなる。有機発光材料を溶解、または分散させる溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニ
ソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でもトルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶媒が有機発光材料の溶解性の面から好適である。
【００３３】
前記有機発光層の形成方法は、本発明による水現像タイプの樹脂凸版を用いて凸版印刷法で行う。本発明における樹脂凸版を構成する水現像タイプの感光性樹脂としては、例えば親水性のポリマーと不飽和結合を含むモノマー、いわゆる架橋性モノマー、及び光重合開始剤を構成要素とするタイプが挙げられる。このタイプでは、親水性ポリマーとしてポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体等が用いられる。また、架橋性モノマーとしては、例えばビニル結合を有するメタクリレート類が挙げられ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物が挙げられる。中でも、印刷適正の面からポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂が好適である。
【００３４】
一方、本発明に使用する樹脂版を構成する基材としては、樹脂部分の寸法変化を抑えるのに十分な剛性をもっていることと、基材自身も寸法変化しにくいことが要求される。本発明に用いる樹脂版は親水性ポリマーを主体とするから、吸湿しやすく、よって吸湿や乾燥による寸法変化も起こしやすい。この寸法変化をなるべく抑えるためには、基材側に剛性を持たせて樹脂層の寸法変化を抑えるのが有効であり、基材自身は水分による寸法変化を全く起こさないものであることが望まれる。このような要件を満たす基板としては、金属基材が望ましいが、加工性、経済性からスチール基材やアルミ基材が好適である。
【００３５】
さらに、樹脂版が寸法変化を起こす要因として、温度変化による寸法変化が考えられるが、これについても基材自身が温度による寸法変化起こしにくいものであれば、版としての寸法変化も抑えることが可能であり、よって使用する基材としては熱膨張係数の小さいものが望ましい。ちなみに鉄等の金属は、熱膨張係数１．００×１０-4／Ｋ以上のポリエステルフィルムに比べると十分に低い熱膨張係数を示し、この点からも本発明の樹脂版の基材として適する。ちなみに鉄の熱膨張係数は１．２１×１０-5／Ｋである。さらに、鉄とニッケル系の合金は鉄よりも低い熱膨張率を示し、中でも鉄６４％、ニッケル３６％の比率の合金は、鉄や一般的な金属の１０分の１以下の熱膨張率を示し、最も好適な合金である。また、本発明における樹脂凸版は、円筒状のシリンダーに巻きつけて使用するため、フレキシブル性を持つことが要求され、よって金属板を基材として使用するには、なるべく薄い板にする必要があり、鉄や鉄とニッケル系の合金等を用いる場合、０．１〜０．２ｍｍの厚さが望ましい。
【００３６】
有機発光層の形成に用いる印刷機は、平板の被印刷基板に印刷する方式の凸版印刷機であれば使用可能であるが、以下に示すような印刷機が望ましい。
【００３７】
図２に印刷機の概略図を示した。本製造装置は、インキタンク１０とインキチャンバー１２とアニロックスロール１４と樹脂凸版１６を取り付けした版胴１８を有している。インキタンク１０には、溶剤で希釈された有機発光インキが収容されており、インキチャンバー１２にはインキタンク１０より有機発光インキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール１４は、インキチャンバー１２のインキ供給部及び版胴１８に接して回転するようになっている。
【００３８】
アニロックスロール１４の回転にともない、インキチャンバーから供給された有機発光インキ１４ａは、アニロクスロール表面に均一に保持されたあと、版胴に取り付けされた樹脂凸版１６の凸部に均一な膜厚で転移する。さらに、被印刷基板２４は摺動可能な基板固定台上に固定され、樹脂凸版のパターンと被印刷基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動して、版胴の回転に合わせて樹脂凸版の凸部が基板に接しながらさらに移動し、基板の所定位置にパターニングしてインキを転移する。
【００３９】
次いで、有機発光層５の形成後、画素電極のラインパターンと直交するラインパターンで陰極（第二電極）層６を形成する。陰極（第二電極）層６の材料としては、有機発光層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウム等の金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。なお、陰極（第二電極）層６の形成方法としては、被蒸着基板上にパターン形状のマスクを載置する真空蒸着法による形成方法が挙げられる。
【００４０】
次いで、最後にこれらのエレクトロルミネッセンス構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップ７と接着剤８を用いて密封封止し、エレクトロルミネッセンスディスプレイ用の素子パネルを得ることができる。
【００４１】
以下、本発明の実施例について具体的に説明する。
【実施例１】
【００４２】
実施例１においては、有機発光層を形成するための印刷に用いる凸版は、ポリアミド系の感光性樹脂層と厚さ０．２ｍｍのスチール板製の基材で構成される水現像タイプの樹脂凸版を用い、これを画線部に光が透過するマスクすなわちネガマスクを用いてＵＶ露光後、水で現像して凸版を形成したものを使用した。この樹脂凸版を前述した印刷装置に取り付けて、有機発光層の印刷を行った。
【００４３】
次に、本発明の実施例１〜３及び比較例の実施例４〜６のエレクトロルミネッセンス素子におけるエレクトロルミネッセンスディスプレイ用素子パネルの試作方法の詳細を以下に示す。
【００４４】
３００ｍｍ角のガラス基板の上に、スパッタ法を用いてＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）薄膜を形成し、フォトリソ法と酸溶液によるエッチングでＩＴＯ膜をパターニングして、対角５インチサイズのディスプレイが２面取れるように画素電極を形成した。ディスプレイ１面当たりの画素電極のラインパターンは、線幅４０μｍ、スペース２０μｍでラインが１９５０ライン形成されるパターンとした。
【００４５】
その上に正孔輸送層として、ＰＥＤＯＴから成る高分子膜をスピンコート法で形成した。さらに、有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体を濃度１％になるようにトルエンに溶解させた有機発光インキを用い、画素電極の上にそのラインパターンにあわせて有機発光層を凸版印刷法で印刷行った。このとき、１５０線／インチのアニロックスロールおよび水現像タイプの感光性樹脂版を使用した。印刷、乾燥後の有機発光層の膜厚は８０ｎｍとなった。
【００４６】
その上にＣａ、Ａｌからなる陰極（第二電極）層を画素電極のラインパターンと直交するようなラインパターンで抵抗過熱蒸着法によりマスク蒸着して形成した。最後にこれらのエレクトロルミネッセンス構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、エレクトロルミネッセンスディスプレイ用素子パネルを作成した。
【００４７】
得られたパネルの表示部の周縁部には、各画素電極に接続されている陽極（画素電極、第一電極）側および陰極（第二電極）側それぞれの取り出し電極があり、これらを電源に接続することでパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。
【００４８】
また、本実施例で使用したスチール板を基材とした樹脂版について、製版後の２５℃一
定温度下での寸法変化を経時的に測定した。さらに、２０℃、３０℃と温度を変えた場合での寸法変化も測定した。本実施例に用いたスチール基材の熱膨張係数は１．２１×１０-5／Ｋである。
【実施例２】
【００４９】
実施例２における有機発光層を形成するための印刷に用いる凸版は、ポリアミド系の感光性樹脂層と厚さ０．２ｍｍの銅板からなる基材で構成される水現像タイプの樹脂凸版を用い、実施例１と同様にして製版した。実施例２におけるパネル試作も実施例１と同様にして行った。
【００５０】
また、実施例２で使用した銅を基材とした樹脂版についても、実施例１と同様に寸法変化の測定を行った。実施例２に用いた銅基材の熱膨張係数は約１．６８×１０−5／Ｋである。
【実施例３】
【００５１】
実施例３における有機発光層を形成するための印刷に用いる凸版は、ポリアミド系の感光性樹脂層と基材部分は鉄とニッケル合金でニッケル含有率３６％である厚さ０．２ｍｍの合金板からなる基材で構成される水現像タイプの樹脂凸版を用い、実施例１と同様にして製版した。実施例３におけるパネル試作も実施例１と同様にして行った。
【００５２】
また、実施例３で使用した鉄とニッケルの合金板を基材とした樹脂版についても、実施例１と同様に寸法変化の測定を行った。実施例３に用いた鉄とニッケルの合金基材の熱膨張係数は３×１０-6／Ｋである。
【００５３】
以下に、本発明の実施例１〜３に対する比較例１〜３を実施した。実施例４は、比較例１であり、実施例５は、比較例２、実施例６は、比較例３とした。
【実施例４】
【００５４】
実施例４（比較例１）における有機発光層を形成するための印刷に用いる凸版は、ポリアミド系の感光性樹脂層と厚さ０．５ｍｍのポリエステルシートからなる基材で構成される水現像タイプの樹脂凸版を用い、実施例１と同様にして製版した。実施例４（比較例１）におけるパネル試作も実施例１と同様にして行った。
【００５５】
また、実施例４で使用したポリエステルシートを基材とした樹脂版についても、実施例１と同様に寸法変化の測定を行った。実施例４に用いたポリエステル基材の熱膨張係数は約９．０×１０-5／Ｋである。
【実施例５】
【００５６】
実施例５（比較例２）における有機発光層を形成するための印刷に用いる凸版は、ポリアミド系の感光性樹脂層と厚さ０．２ｍｍのアルミニウムからなる基材で構成される水現像タイプの樹脂凸版を用い、実施例１と同様にして製版した。実施例５（比較例２）におけるパネル試作も実施例１と同様にして行った。
【００５７】
また、実施例５で使用したアルミニウムを基材とした樹脂版についても、実施例１と同様に寸法変化の測定を行った。実施例５に用いたアルミニウム基材の熱膨張係数は約２．５×１０-5／Ｋである。
【実施例６】
【００５８】
実施例６（比較例３）における有機発光層を形成するための印刷に用いる凸版は、ポリアミド系の感光性樹脂層と厚さ０．５ｍｍのスチールからなる基材で構成される水現像タ
イプの樹脂凸版を用い、実施例１と同様にして製版した。実施例６（比較例３）では、印刷できなかった。
【００５９】
実施例１〜３及び実施例４〜６（比較例１〜３）で使用した版の寸法変化の測定結果と、それぞれの版で作成したパネル素子の発光状態の評価結果を表１に示す。
【００６０】
【表１】
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なお、表１では、試料は、実施例１〜３及び比較例１〜３とした。
【００６１】
寸法変化は前述したように、製版後２５℃環境下に保存しながら、経時的に寸法を測定したときの１パネル当たり（１１７ｍｍ当たり）の最大変化量と経時変化が平衡に達したあと、保存環境を５℃上昇させて２４時間放置後の変化量を測定した。
【００６２】
発光状態の評価は、各パネル素子の取り出し電極に電源をつないで発光させ、印刷した発光層の位置ずれによる混色発光などが生じていないかを確認して行った。
【００６３】
その結果、実施例４のようにＰＥＴシートを基材とする樹脂凸版を用いた場合には、１パネル当たり６０μｍの寸法変化が起こり、これを用いてパネル化した素子の発光状態を確認した場合にも、印刷ずれによる発光時の混色がみられた。試作したパネルの画素電極（第一電極）ラインは１ラインの幅が４０μｍであり、スペース幅が２０μｍであるから、１パネル当たり６０μｍの寸法変化があれば、当然印刷ずれは生じる。
【００６４】
それに対して、実施例１〜３および実施例５のように金属製の基材からなる樹脂凸版を用いた場合には、経時での寸法変化は起こらず、またパネル化して発光状態を観察しても混色等は生じていなかった。
【００６５】
よって、本発明におけるように、樹脂版の基材として金属系の基材を用いて、クリーンルームなどの温度管理された環境で印刷を行う場合であれば、寸法変化による印刷ずれなどは問題がほとんど生じないといえる。
【００６６】
ただし、環境の温度管理をできない場所で印刷する場合などを考慮すると、金属材料でも熱膨張係数のできるだけ小さいものが好ましく、実施例３で用いたような鉄−ニッケル合金でニッケル含有量が３６％のものなど、ガラス並みの熱膨張率であり、温度変化があってもほとんど寸法変化を起こさず、良好である。
【００６７】
さらに、実施例６のように、金属基板の厚みが０．５ｍｍ程度あるとフレキシブル性がほとんどないため、シリンダー状の版胴への巻き付けが困難である。本実施例６における樹脂版も結局版胴への取り付けができず、印刷できなかった。それに対して、実施例１〜３及び実施例５のように、金属基板であっても、０．２ｍｍ程度の厚みであれば十分に版胴への取り付け可能であった。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明のエレクトロルミネッセンス素子の側断面図である。
【図２】本発明のエレクトロルミネッセンス素子の製造に用いた印刷機の概略の側断面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１…ガラス基板
２…画素電極（陽極，第一電極）
３…絶縁層
４…正孔輸送層
５…有機発光層
６…陰極層（第二電極層）
７…ガラスキャップ
８…接着剤
１０…インキタンク
１２…インキチャンバー
１４…アニロックスロール
１４ａ…有機発光インキ
１６…樹脂凸版
１８…版胴
２４…被印刷基板
【図１】
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【図２】
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