(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンを除去するイオン除去方法において、
イオンを含む溶液と純水とを貯溜する貯溜手段を設け、
該貯溜手段に設けられたインレットポートの液体吐出方向を異ならせ、
一方のインレットポートは斜め上方に向けて形成し、他方のインレットポートは斜め下方に向けて形成する一方、
上記貯溜手段の外部には該貯溜手段から吸込んだ液体を、その内部構造により撹拌する送液ポンプを設け、
該送液ポンプで撹拌した後の液体を上記各インレットポートに送液し、異なる方向から吐出される液体の吐出方向および吐出力により、上記イオンを含む溶液と純水とを撹拌接触させ、
上記溶液からイオンを除去する
イオン除去方法。
【請求項２】
イオンを除去するイオン除去装置において、
イオンを含む溶液と純水とを貯溜する貯溜手段と、
上記貯溜手段に形成された液体吐出方向が異なる複数のインレットポートとを備え、
一方のインレットポートは斜め上方に向けて形成し、他方のインレットポートは斜め下方に向けて形成する一方、
貯溜手段の外部には該貯溜手段から吸込んだ液体を、その内部構造により撹拌する送液ポンプを設け、
該送液ポンプで撹拌した後の液体を上記各インレットポートに送液し、異なる方向から吐出される液体の吐出方向および吐出力により、上記イオンを含む溶液と純水とを撹拌接触させて、上記溶液からイオンを除去する
イオン除去装置。
【請求項３】
上記イオンを含む溶液が流通する溶液経路の一部に、アルミナを充填したフィルタが介設された
請求項２記載のイオン除去装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、フッ素イオン、ギ酸イオン、塩素イオン、硫酸イオン、亜硝酸イオン、リン酸イオン、シュウ酸イオン、硝酸イオン、パーフロロラク酸イオンなどのイオン（陽イオンと結合して酸となり得る陰イオン）を除去するようなイオン除去方法およびその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば、ワークを洗浄処理する場合、洗浄溶液として化学式Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３で示されるＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテルのことで、フッ素系不活性溶剤の１つ）を用い、ワークの水切り性を向上させるためアルコール系洗浄剤としてのＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を用いて、ＨＦＥ溶液をヒータで加熱して、ＨＦＥ液面にワーク乾燥用のＨＦＥ蒸気層を形成し、ワークの洗浄、水分除去、乾燥が実行される。
【０００３】
この場合、上述のＨＦＥ溶液が過熱され、またアルカリ性分（ＩＰＡ参照）の混入により、フッ素イオンが発生し、このフッ素イオンはＨ＋（陽イオン）と反応してＨＦ（フッ酸）となるため、金属を腐食させる問題点があった。
このことは、上述したフッ素イオン以外の他のイオンについても同様であって、類似した問題点が発生する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
この発明の請求項１記載の発明は、機械的なアジテータを設ける必要がなく、イオンを含む溶液と純水とを撹拌接触させ、上記溶液からイオンを除去することで、撹拌により接触面積の拡大を図って、イオンを純水に移行させて、このイオンを確実に除去することができるイオン除去方法の提供を目的とする。
【０００５】
この発明の請求項２記載の発明は、機械的なアジテータを設ける必要がなく、イオンを含む溶液と純水とを貯溜する貯溜手段と、液体吐出方向が異なるインレットポートとを備え、異なる方向から吐出される液体の吐出方向、吐出力により、溶液と純水を充分に撹拌接触させて、イオンを確実に除去することができるイオン除去装置の提供を目的とする。
【０００６】
この発明の請求項３記載の発明は、上記請求項２記載の発明の目的と併せて、上述のイオンを含む溶液が流通する溶液経路の一部に、アルミナが充填されたフィルタを介設することで、イオンをアルミナ（化学式Ａｌ２Ｏ３で示されるアルカリ系の物質）により吸着除去することができるイオン除去装置の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この発明の請求項１記載の発明は、イオンを除去するイオン除去方法において、イオンを含む溶液と純水とを貯溜する貯溜手段を設け、該貯溜手段に設けられたインレットポートの液体吐出方向を異ならせ、一方のインレットポートは斜め上方に向けて形成し、他方のインレットポートは斜め下方に向けて形成する一方、上記貯溜手段の外部には該貯溜手段から吸込んだ液体を、その内部構造により撹拌する送液ポンプを設け、該送液ポンプで撹拌した後の液体を上記各インレットポートに送液し、異なる方向から吐出される液体の吐出方向および吐出力により、上記イオンを含む溶液と純水とを撹拌接触させ、上記溶液からイオンを除去するイオン除去方法であることを特徴とする。
ここで、上記イオンとは、フッ素イオン、ギ酸イオン、塩素イオン、硫酸イオン、亜硝酸イオン、リン酸イオン、シュウ酸イオン、硝酸イオン、パーフロロラク酸イオンなどのイオンであって、陽イオンと結合して酸となり得る陰イオンのことである。
【０００８】
この発明の請求項２記載の発明は、イオンを除去するイオン除去装置において、イオンを含む溶液と純水とを貯溜する貯溜手段と、上記貯溜手段に形成された液体吐出方向が異なる複数のインレットポートとを備え、一方のインレットポートは斜め上方に向けて形成し、他方のインレットポートは斜め下方に向けて形成する一方、貯溜手段の外部には該貯溜手段から吸込んだ液体を、その内部構造により撹拌する送液ポンプを設け、該送液ポンプで撹拌した後の液体を上記各インレットポートに送液し、異なる方向から吐出される液体の吐出方向および吐出力により、上記イオンを含む溶液と純水とを撹拌接触させて、上記溶液からイオンを除去するイオン除去装置であることを特徴とする。
ここで、上記イオンとは、フッ素イオン、ギ酸イオン、塩素イオン、硫酸イオン、亜硝酸イオン、リン酸イオン、シュウ酸イオン、硝酸イオン、パーフロロラク酸イオンなどのイオンであって、陽イオンと結合して酸となり得る陰イオンのことである。
【０００９】
この発明の請求項３記載の発明は、上記請求項２記載の発明の構成と併せて、上記イオンを含む溶液が流通する溶液経路の一部に、アルミナを充填したフィルタが介設されたイオン除去装置であることを特徴とする。
【００１０】
【発明の作用及び効果】
この発明の請求項１記載の発明によれば、イオンを含む溶液と純水（不純物を一切含まない水）とを撹拌して、接触させ、上述の溶液からイオンを除去する方法であるから、撹拌により広い接触面積が確保でき、これによりイオンを純水に移行させて、溶液からイオンを確実に除去することができる効果がある。しかも、機械的な撹拌部材（アジテータ）を設ける必要がなく、イオン除去を行なうことができる。
【００１１】
この発明の請求項２記載の発明によれば、上述の貯溜手段はイオンを含む溶液と純水とを貯溜し、この貯溜手段に設けられた液体吐出方向の異なるインレットポートから吐出される液体により、イオンを含む溶液と純水とを撹拌して、両者を接触面積が大きい条件下にて充分に接触させることができる。
このため溶液中のイオンが純水に移行して、溶液からイオンを確実に除去することができる効果がある。しかも、機械的な撹拌部材（アジテータ）を設ける必要がなく、イオン除去を行なうことができる。
【００１２】
この発明の請求項３記載の発明によれば、上記請求項２記載の発明の効果と併せて、溶液経路の一部に介設されたアルミナ充填フィルタに対してイオンを含む溶液を流通させると、このイオンはアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）により吸着除去される。このため上述の溶液からイオンを除去することができる効果がある。
【００１３】
【実施例】
この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳述する。
図面はイオン除去方法およびその装置の一例としてフッ素イオン除去方法およびその装置を示す。
【００１４】
図１はフッ素イオン除去装置を備えたワーク洗浄システムの全体を示す系統図で、図１において、１はワーク洗浄装置、２は水分離槽、３は蒸溜槽、４はイオンの一例としてのフッ素イオンを含む溶液ａｆと純水ｂとを貯溜する貯溜手段としてのプールタンク、５はフッ素イオンが除去された溶液ａと、フッ素イオンが移行された純水ｂｆとを比重分離する分離槽（分離手段）、６は受けタンク（受け手段）、７は溶液ａｆを加熱気化および液化して蒸溜する蒸溜機である。
【００１５】
上述のワーク洗浄装置１は、タンク本体８の上部にワーク出入口９を有し、下部には超音波洗浄部１０と水分離部１１と溶液タンク１２とが形成されている。また、上下方向中間部には冷却ジャケット１３（冷却手段）および冷却コイル１４（冷却手段）を設け、超音波洗浄部１０に貯溜されたＨＦＥ等の溶液ａをヒータ１５（加熱手段）で加熱して、この液面と冷却コイル１４との間にＨＦＥ蒸気層（溶剤蒸気層）ｃを形成するように構成している。
【００１６】
上述の超音波洗浄部１０には超音波振動子１６，１６を設ける一方、この超音波洗浄部１０の上方にはＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を供給する供給部１７が設けられている。
【００１７】
上述の超音波洗浄部１０に隣接する水分離部１１は冷却コイル１８および仕切板１９を有し、フッ素イオンを含む溶液ａｆとワークから分離処理した水ｄとを比重分離する。なお水の比重＝１、溶剤としてのＨＦＥの比重＝１．５２である。
【００１８】
水ｄが比重差により分離除去された溶液ａｆはタンク壁２０をオーバフローして隣接する溶液タンク１２に貯溜される。
【００１９】
一方、冷却コイル１４の下部には液化させた溶液を受ける受け部２１が形成され、この受け部２１からの液化溶液を水分離槽２に導いて、水分を除去し、除去した水分は槽２外へ排出し、水分が除去された溶液ａは超音波洗浄部１０に還流させるように構成している。なお、上述の冷却ジャケット１３および冷却コイル１４は図示しない冷凍サイクルに接続されている。
【００２０】
ところで、溶液タンク１２の下部および超音波洗浄部１０の一側（図示右側）と、水分離槽２および超音波洗浄部１０（図示左側）上下部との間には循環ライン２２を接続している。
【００２１】
この循環ライン２２は、サクションライン２３，２４と、送液ポンプ２５と吐出側の主流ライン２６と、分岐ライン２７，２８，２９とを備え、一つの分岐ライン２７を水分離槽２に接続し、他の分岐ライン２８を超音波洗浄部１０の他側上部に接続し、残りの分岐ライン２９を超音波洗浄部１０の他側下部に接続している。
【００２２】
また、上述の主流ライン２６には流量調整弁３０を介設し、この流量調整弁３０が介設された部分と並行になるようにバイパスライン３１を設け、このバイパスライン３１にはフィルタ３２と流量調整弁３３とを介設している。
【００２３】
ここで、上述のフィルタ３２のフィルタケース内にはアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）が充填されており、溶液ａｆ中のフッ素イオンを吸着除去すべく構成している。溶液ａｆの流速が遅い程、イオン除去能力が大となるので、２つの流量調整弁３０，３３により、溶液ａｆの流速をコントロールする。
【００２４】
一方、溶液タンク１２の液面部と蒸溜槽３との間を、オーバフローライン３４で接続している。上述の蒸溜槽３にはオーバフローライン３４を介して溶液ａｆが流入貯溜される。この蒸溜槽３は加熱手段としてのヒータ３５を有し、ヒータ３５への通電により蒸溜された溶液蒸気はリターンライン３６を介してワーク洗浄装置１の蒸気層ｃに還流されて、再利用される。
【００２５】
また、上述の蒸溜槽３には１つのインレットポート３ａと２つのアウトレットポート３ｂ，３ｃとが形成され、アウトレットポート３ｂはライン３７を介して前述の蒸溜機７に接続され、この蒸溜機７で蒸溜された溶液を、リターンライン３８を介してワーク洗浄装置１における超音波洗浄部１０上方の蒸気層ｃに還流すべく構成している。
【００２６】
上述の蒸溜機７と送液ポンプ３９のサクション側とを結ぶライン４０を設け、蒸溜槽３下部のアウトレットポート３ｃはライン４１を介して上述のライン４０における送液ポンプ３９のサクション側に接続されている。
【００２７】
上述の送液ポンプ３９の吐出側には主流ライン４２を接続し、この主流ライン４２を分岐点４３において一方の分岐ライン４４と、他方の分岐ライン４５とに分岐している。
【００２８】
上述の主流ライン４２には流量調整弁４６（流量調整手段）を介設し、この流量調整弁４６が介設された部分と並行になるようにバイパスライン４７を設け、このバイパスライン４７にはフィルタ４８と流量調整弁４９（流量調整手段）とを介設している。
【００２９】
ここで、上述のフィルタ４８のフィルタケース内にはアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）が充填されており、溶液ａｆ中のフッ素イオンを吸着除去すべく構成している。溶液ａｆの流速が遅い程、イオン除去能力が大となるので、２つの流量調整弁４６，４９により、溶液ａｆの流速をコントロールする。
【００３０】
而して、通常時においては上述の溶液ａｆを、図１に矢印で示すように、各要素３ｂ，３７，７，４０，３９，４６，４７，４８，４９，４２，４３，４４，３ａ，３並びに各要素３ｃ，４１，３９に循環させる閉ループ状の循環経路５０（溶液経路）が構成される。
【００３１】
上述の一方の分岐ライン４４には自動開閉バルブ５１（電動モータにより全閉から全開までの範囲に開度調整される開閉弁で、以下単にバルブと略記する）を介設している。
ところで、上述の他方の分岐ライン４５はプールタンク４の最下部に接続し、この分岐ライン４５にもバルブ５２を介設している。
【００３２】
上述のプールタンク４は、図２に示すように、３つのインレットポート４ａ，４ｂ，４ｃと、３つのアウトレットポート４ｄ，４ｅ，４ｆと、２つのフロートスイッチ５３，５４とを有し、上部のインレットポート４ａにはバルブ５５を介設した純水供給ライン５６（純水供給手段）を接続している。
【００３３】
また、異なる高さ位置に形成されたアウトレットポート４ｄ，４ｅには、それぞれバルブ５７，５８を介設したサクションライン５９，６０を接続し、これらの各サクションライン５９，６０を送液ポンプ６１（送液手段）のサクション側に接続している。
【００３４】
この送液ポンプ６１の吐出側主流ライン６２にはバルブ６３を介設し、バルブ６３下流部を２つの分岐ライン６４，６５に分岐し、一方の分岐ライン６４をインレットポート４ｂに接続し、他方の分岐ライン６５を別のインレットポート４ｃに接続している。
【００３５】
上述のインレットポート４ｂ，４ｃはその開口方向（または、これらポート４ｂ，４ｃに取付けるノズルの取付け方向）によりプールタンク４内の液体を撹拌（図４参照）すべく、一方のインレットポート４ｂは斜め上方に向けて形成され、他方のインレットポート４ｃは斜め下方に向けて形成されている。
【００３６】
このように構成すると、機械的な撹拌部材（アジテータ）を設ける必要がなく、各ポート４ｂ，４ｃからの液体の吐出方向および吐出力によって、プールタンク４内の液体を撹拌することができる。
【００３７】
なお、上述の送液ポンプ６１の吐出側に、図２に仮想線で示すように、撹拌ノズル６６（液体をノズル噴射させ、その流路方向を強制的に変えて、液同志を衝突させながら撹拌を行なう装置）を介設して、この撹拌ノズル６６を撹拌手段と成してもよいが、この実施例では送液ポンプ６１それ自体および、各ライン５９，６０，６２，６４，６５と各ポート４ｂ，４ｃの液体吐出方向および吐出力とによって撹拌手段Ａを構成している。
【００３８】
上述のプールタンク４における液体ａｆまたは液体ａの液面よりやや低位置に形成されたアウトレットポート４ｆと分離槽５との間を液抜きライン６７で接続し、この液抜きライン６７にバルブ６８を介設している。
【００３９】
上述の分離槽５は仕切り板６９を有し、図５に示す如く、プールタンク４での撹拌および比重分離の後に、バルブ６８を開いて液抜きライン６７からフッ素イオンが移行された純水ｂｆを主として流入（流下）させ、この分離槽５の仕切板６９の一側（図示左側）において溶液ａと純水ｂｆとを比重分離するものである。なお、純水の比重＝１．０、ＨＦＥの比重＝１．５２である。
【００４０】
比重分離された溶液ａ（フッ素イオンを含まない溶液）は、リターンライン７０を介して図１のワーク洗浄装置１における水分離槽１１の上方にリターンされて、再利用される。
【００４１】
また比重分離されて溶液ａの上部に浮上する純水ｂｆ（フッ素イオンが移行された純水）は、図５に示すように、仕切板６９の上部をオーバフローして該仕切板６９の他側（図示右側）に貯溜され、抜取りライン７１を介して受けタンク６へ排出する。この抜取りライン７１には開閉弁７２を介設している。
【００４２】
このように構成したフッ素イオン除去装置を用いて、溶液ａｆからフッ素イオンを除去する方法について以下に詳述する。
【００４３】
まず、プールタンク４内の純水を全て抜き取った後に、図２に示すようにバルブ５１を閉弁し、バルブ５２を開弁して、送液ポンプ３９を駆動し、分岐ライン４５からプールタンク４内にフッ素イオンを含む溶液ａｆを供給し、下位のフロートスイッチ５３がＯＮになった時点で、溶液ａｆの供給を停止する。
【００４４】
次に、図３に示すようにバルブ５１を開弁し、バルブ５２を閉弁して、循環経路５０を通常作動態様と成した後に、バルブ５５を開いて純水供給ライン５６から純水ｂをプールタンク４内に供給し、上位のフロートスイッチ５４がＯＮになった時点で、バルブ５５を閉弁して、純水ｂの供給を停止する。
【００４５】
ここで、フッ素イオンを含む溶液ａｆと純水ｂとの割合は、純水ｂの分量が多い程望ましい。また、高さ位置の異なる２つのフロートスイッチ５３，５４で、これら両者ａｆ，ｂの割合を決定することができるので、２つのフロートスイッチ５３，５４を高さ調整し得るように取付けてもよい。或は、溶液ａｆの供給時間と純水ｂの供給時間とにより両者ａｆ，ｂの割合を決定すべく供給時間をタイマ制御してもよい。
【００４６】
次に、図４に示すように、３つのバルブ５７，５８，６３を開弁し、上側のアウトレットポート４ｄからサクションライン５９に純水ｂを吸込み、下側のアウトレットポート４ｅからサクションライン６０に溶液ａｆを吸込み、これら両者ｂ，ａｆを、まず送液ポンプ６１の内部構造により撹拌し、撹拌された液体を２つの分岐ライン６４，６５および２つのインレットポート４ｂ，４ｃからプールタンク４内に噴出させ、液体噴出方向および吐出力により該プールタンク４内で再度撹拌する。
【００４７】
溶液ａｆと純水ｂとをこのように撹拌すると、両者の接触面積が大になり、溶液ａｆ中に含まれるフッ素イオンは純水ｂに移行し、溶液ａｆからフッ素イオンを除去することができる。
【００４８】
次に、図５に示すように送液ポンプ６１の駆動を停止すると、フッ素イオンが除去された溶液ａ（比重は約１．５２）と、フッ素イオンが移行した純水ｂｆ（比重＝１）とは自然に比重分離される。
【００４９】
この比重分離後、バルブ６８を開いてアウトレットポート４ｆより上側の液体を全て分離槽５に流下させ、この分離槽５においてフッ素イオンが除去された溶液ａと、フッ素イオンが移行した純水ｂｆとを再度比重分離する。
【００５０】
而して、仕切板６９の一側室（図示の左側室）において比重差により底部に溜った溶液ａはリターンライン７０を介して図１のワーク洗浄装置１へ還流して、再利用する一方、比重差により溶液ａの上部に浮上したフッ素イオンを含む純水ｂｆは他側室（図示の右側）にオーバフローさせた後、開閉弁７２を開いて抜取りライン７１を介して受けタンク６へ回収する。
【００５１】
一方、図２、図３で示す状態下においてフッ素イオンを含む溶液ａｆがアルミナ充填フィルタ４８を所定流速にて通過する時、上述のフッ素イオンはアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）により吸着除去される。この溶液ａｆの流速は２つの流量調整弁４６，４９の開度調整により任意に制御することができる。
【００５２】
このように、上記実施例のフッ素イオン除去方法によれば、イオン（フッ素イオン参照）を含む溶液ａｆと純水ｂ（不純物を一切含まない水）とを撹拌して、接触面積の大なる条件下にて接触させ、上述の溶液ａｆからイオン（フッ素イオン参照）を除去する方法であるから、イオン（フッ素イオン参照）を純水ｂに移行させて、溶液からイオン（フッ素イオン参照）を確実に除去することができる効果がある。なお、フッ素イオン以外のイオンについても同一の方法により除去することができる。
【００５３】
また上記実施例のフッ素イオン除去装置によれば、上述の貯溜手段（プールタンク４参照）はイオン（フッ素イオン参照）を含む溶液ａｆと純水ｂとを貯溜し、上述の撹拌手段Ａはイオン（フッ素イオン参照）を含む溶液ａｆと純水ｂとを撹拌して、両者ａｆ，ｂを接触面積が大きい条件下にて充分に接触させる。
このため溶液ａｆ中のイオン（フッ素イオン参照）が純水ｂに移行して、溶液ａｆからイオン（フッ素イオン参照）を確実に除去することができる効果がある。なお、フッ素イオン以外のイオンについても同一の装置により除去することができる。
【００５４】
さらに、溶液経路（バイパスライン４７参照）の一部に介設されたアルミナ充填フィルタ４８に対してイオン（フッ素イオン参照）を含む溶液ａｆを流通させると、このイオン（フッ素イオン参照）はアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）により吸着除去される。このため上述の溶液ａｆからイオン（フッ素イオン参照）を除去することができる効果がある。なお、フッ素イオン以外のイオンについてもアルミナ充填フィルタ４８により同様に吸着除去することができる。
【００５５】
また、実施例で示したように撹拌手段Ａを、送液ポンプ６１と各ポート４ｂ，４ｃからの液体吐出方向および液体吐出力により構成すると、別途撹拌部材（アジテータ）を設ける必要がなく、その構成の簡略化を図ることができると共に、プールタンク４の外部（送液ポンプ６１参照）とプールタンク４の内部との双方で両者ａｆ，ｂを充分に撹拌して、その接触面積の拡大を図るので、短時間にてイオン（フッ素イオン参照）を純水ｂ側へ移行させて、イオンをより一層良好に除去することができる。
【００５６】
図６はイオン除去装置（フッ素イオン除去装置）の他の実施例を示す。なお、図６において前図と同一の部分には同一符号を付して、その詳しい説明を省略している。
【００５７】
この図６に示す実施例においては、バルブ５２の下流を分岐点７５およびライン７６を介してプールタンク４底部のポート４ｇに接続する一方、分岐点７５と分離槽５との間を、バルブ６８を有する液抜きライン６７で接続している。
【００５８】
また、純水供給ライン５６を分岐点７７にて２つのライン７８，７９に分岐し、プールタンク４のインレットポート４ａに接続されたライン７８にはバルブ８０を介設し、分離槽５の一側室に接続されたライン７９にはバルブ８１を介設している。
【００５９】
さらに、プールタンク４におけるインレットポート４ａ近傍のアウトレットポート４ｈとバルブ７２上流側の抜取りライン７１との間を、水抜きライン８２で接続し、このライン８２にバルブ８３を介設している。
【００６０】
図６の実施例においては、まず、バルブ５２を開いて溶液ａｆをプールタンク４内に所定量供給し、次に、バルブ８１を閉じ、バルブ５５，８０を開いて純水ｂをプールタンク４内に供給し、プールタンク４内の純水ｂが過剰になった時、バルブ８１を開いて純水ｂを分離槽５に導く。
【００６１】
次に、プールタンク４内において撹拌手段Ａにて先の実施例同様に溶液ａｆと純水ｂとを撹拌して、フッ素イオンを純水ｂへ移行させる。その後、プールタンク４内で溶液ａと純水ｂｆとを比重分離する。
【００６２】
次に、比重分離された上層側の純水ｂｆを水抜きライン８２、バルブ８３，７２を介して排出する。その後、プールタンク４内の溶液ａを各要素４ｇ，７６，７５，６８，６７を介して分離槽５に導く。この分離槽５での比重分離およびそれ以降の作用については先の実施例と同様である。
このように構成しても、先の実施例とほぼ同様の作用、効果を奏するものである。
【００６３】
この発明の構成と、上述の実施例との対応において、
この発明のイオンは、実施例のフッ素イオンに対応し、
以下同様に、
イオンを含む溶液ａｆは、ＩＰＡが少量添加されるＨＦＥの溶液に対応し、
貯溜手段は、プールタンク４に対応し、
溶液経路は、バイパスライン４７に対応し、
アルミナを充填したフィルタは、アルミナ充填フィルタ４８に対応するも、
この発明は、上述の実施例の構成のみに限定されるものではない。
【００６４】
例えば、イオンとしてはフッ素系イオンの他にギ酸イオン、塩酸イオン、硫酸イオン、亜硝酸イオン、リン酸イオン、シュウ素イオン、硝酸イオン、パーフロロラク酸（Ｃ３ＦｎＣＯＯ）イオンなどの他のイオンであってもよい。
【００６５】
またイオンを含む溶液ａｆとしては、ＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）の他にＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）などの他のフッ素系不活性溶液やイオンを発生させる可能性があるその他の溶液であってもよい。
【００６６】
さらには、イオンを含む溶液ａｆは、ワーク洗浄用の溶液に限定されるものではなく、他の産業分野において用いられるイオン発生の可能性がある溶液であればよい。
【００６７】
加えて、実施例で示したように、上述の貯溜手段（プールタンク４参照）を溶液ａｆの経路（ライン４５参照）に接続すると共に、貯溜手段の次段にイオンが除去された溶液ａと、イオンが移行した純水ｂｆとを比重分離する分離手段（分離槽５参照）を接続すると、該分離手段で比重分離された溶液ａの再利用と、イオンを含む純水ｂｆの回収との両立を容易に達成することができる。
【００６８】
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明のイオン除去装置を備えたワーク洗浄システム全体の系統図。
【図２】  図１の要部拡大図。
【図３】  純水の供給時の説明図。
【図４】  本発明のイオン除去方法を示す説明図。
【図５】  比重分離後の作用を示す説明図。
【図６】  本発明のイオン除去装置の他の実施例を示す系統図。
【符号の説明】
Ａ…撹拌手段
ａｆ…溶液
ｂ…純水
４…プールタンク（貯溜手段）
４ｂ，４ｃ…インレットポート
４７…バイパスライン（溶液経路）
４８…アルミナ充填フィルタ
６１…送液ポンプ
【図１】
0004834209.tif 000002
【図２】
0004834209.tif 000003
【図３】
0004834209.tif 000004
【図４】
0004834209.tif 000005
【図５】
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【図６】
0004834209.tif 000007