(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素を飽和量まで吸蔵させて低保磁力化させた希土類磁石合金を粉末化し、保磁力を回復しない程度の温度に加熱して脱水素を行い、次いで該粉末をパルス磁場によって配向させた後、静水圧プレスにて成形体とし、さらに該成形体を脱水素処理して、その後成形体の焼結および時効処理を行う希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項２】
水素を飽和量まで吸蔵させて低保磁力化させた希土類磁石合金を粉末化し、２５０℃以下の温度に加熱して脱水素を行い、次いで該粉末をパルス磁場によって配向させた後、静水圧プレスにて成形体とし、さらに該成形体を脱水素処理して、その後成形体の焼結および時効処理を行う希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項３】
希土類磁石合金が、合金主相がＲ２Ｔ１４Ｂ相（但し、ＲはＹを含む希土類元素、Ｔは遷移金属元素を表わす。）からなり、かつＲ成分中のＲ’（Ｒ’はＤｙ、Ｔｂのうち少なくとも１種以上を表わす。）の質量比率Ｒ’／Ｒが５％以上である希土類磁石合金からなることを特徴とする請求項１または２に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項４】
合金主相のＲ成分中のＲ’の質量比率Ｒ’／Ｒが１０％以上であることを特徴とする請求項３に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項５】
水素を吸蔵させて低保磁力化させた希土類磁石合金の粉末の保磁力が１６０ｋＡ／ｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項６】
静水圧プレスを、粉末をゴムモールドに充填して金型内でプレスする擬似静水圧プレス（ＲＩＰ）で行うことを特徴とする請求項１〜５に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
【請求項７】
成形体の脱水素処理として、成形体を真空中あるいは不活性ガスフロー中で７００〜９００℃の温度で１時間以上保持する加熱処理を、焼結の前に行うことを特徴とする請求項１〜６に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高保磁力の磁石合金粉末を用いて高配向率の焼結磁石を製造するための粉末冶金法による希土類焼結磁石の製造方法、および保磁力が大きく高配向率の希土類焼結磁石に関する。
【０００２】
【従来の技術】
Ｒ−Ｔ−Ｂ系（但し、ＲはＹを含む希土類元素、Ｔは遷移金属元素）磁石を代表とする希土類元素を主成分とする希土類磁石は、ハードディスク向けボイスコイルモーター（ＶＣＭ）用、医療用磁気共鳴画像装置（ＭＲＩ）用途から、さらにモーター用途の需要が増大し、それに伴い、高保磁力タイプの磁石の需要がさらに伸びつつあるのが現状である。
【０００３】
焼結磁石を製造する工程は、合金を作る工程、合金を粉砕する工程、粉末を磁場配向させて成形する工程、成形体を焼結して焼結体とする工程、さらに加工および表面処理を行う工程に分けられる。
【０００４】
一般的には、希土類磁石合金の粉末の磁場配向は成形時あるいは成形前に行われる。磁場配向の目的は、合金粉末に強力な磁場を加えることにより、強磁性体からなる各粉末粒子の磁化容易軸方向を磁場の方向にそろえることである。この工程により磁石を構成する粉末粒子の結晶粒の磁化容易軸が所望の方向に整列し、特定方位に磁気エネルギー積を集中させることが可能となる。
高性能の焼結磁石を製造するためには、磁場配向工程で如何に粉末の粒子を配向させ、その配向を如何に乱さず圧縮（プレス）成形するかが重要となる。
【０００５】
粉末の成形方法は、一般的に金型を用いる一軸プレスによる金型成形と、静水圧プレス（擬似静水圧プレスを含む）による成形に大別できる。そのうち、従来から焼結磁石の製造には、生産性に優れる金型成形の方が多く使用されてきた。
【０００６】
金型成形は、プレス方向と磁場配向の方向の関係によって、平行磁場プレスと垂直磁場プレスとの２種類に分類できる。
平行磁場プレスではプレス方向と磁場配向方向とが一致しており、加圧の際に磁場配向に整列した粉末の方位が乱されることによって磁石の配向率が低くなる傾向がある。その反面、薄型でなおかつ厚さ方向に配向しているような磁石を作る場合、ニアネットシェイプで作製可能であり、生産性に優れている。
一方、垂直磁場プレスでは、磁場配向方向に垂直にプレスを行うため、成形時の粉末の配列は乱されにくく、平行磁場プレスよりも磁石の配向率は高くなる。しかしながら、厚さ方向に配向した薄型形状とするには、ブロックを配向方向と垂直に薄板状に切り出す必要があり、切りしろのロスが大きいため歩留まりが悪く、加工コストも高い。
【０００７】
一方、静水圧プレスによる成形は、等方的にプレスを行うことで、プレスに伴う配向の乱れを抑制するという方法である。静水圧プレスの具体的な方法として、粉末を柔軟なモールドに充填して全体を等方的に圧縮する冷間静水圧プレス（以下、ＣＩＰ）や、粉末を特殊なゴムモールドに充填して金型内で上下方向から圧縮することで、水平方向からも同じようなプレス圧がかかり、擬似静水圧プレスがなされる方法（以下、ＲＩＰ）などが挙げられる。そのうち、特にＲＩＰは、ＣＩＰの欠点であった生産性の問題を解決し、ＣＩＰ同様の高配向率を得ることができるため、高特性磁石の製造方法として急速に普及してきた。
【０００８】
従来の金型を用いた一軸プレスによる成形法では、成形中に圧力が一方向にかかり粉末の方位が乱れてしまうため、高い配向率を得るためには成形加圧中は常に静磁界をかけ続ける必要があった。しかし、高い配向率を得るには大きな磁界が必要となり、そのための磁場発生装置は極めて大掛りなものとなった。
【０００９】
一方、ＣＩＰあるいはＲＩＰでは成形中の圧力はほぼ等方的にかかるため、プレス成形中の配向の乱れは少ない。そのため、成形前に粉末粒子を磁場配向させておけば、通常プレス成形中に静磁界をかける必要はない。さらに、この成形前の磁場配向にはパルス磁場が利用できる。パルス磁場は、簡単な装置で静磁界では発生出来ないような大きな磁界を容易に発生できるため、配向率を容易に高めることができるという利点がある。
【００１０】
また、静水圧プレス（ＣＩＰあるいはＲＩＰ）で加圧成形中に磁界をかけるためには、非常に大掛かりな装置が必要となる。そのため、生産性やコスト面からみて、静水圧プレスで成形する際はパルス磁場で粉末粒子の磁場配向をし、静磁界をかけずにプレス成形を行うという手段が好ましい。
【００１１】
磁場配向は、強磁性体粒子の磁化容易軸方向が、外部磁場の方向に平行となることによってもたらされ、粒子の形状、粒子間の摩擦のような、粒子の回転を妨げる要素の他に、粒子の磁性によっても左右される。強磁性体は外部磁場で磁化されるが、この磁化が大きいほど、さらには磁気モーメントを磁化容易軸方向に向けようとする力である異方性磁界が大きいほど、外部磁場の方向に回転する力が大きくなる。特に異方性磁界の配向への寄与が大きいことは良く知られている。また、磁場配向の過程で合金粉末の粒子は多少なりとも着磁される。成形体が大きな磁化を有すると、各粒子の磁極間の相互作用により、配向を乱して静磁エネルギーを低くしようとする力が働くようになる。
【００１２】
上述した通り、一般の金型成形では配向に静磁界が用いられ、成形中も静磁界をかけ続けている。静磁界中で成形される方法では、たとえ大きな磁化が残存しても、加圧により高密度の成形体となるまで磁界が加えられるため、外部磁場がなくなっても各粒子はもはや動くことはできない。
【００１３】
一方、ＣＩＰ、ＲＩＰでは、配向にパルス磁場を用いているため、強磁界による配向率の向上が可能である。しかし、配向にパルス磁場を使用すると、強力なパルス磁場によって瞬間的に粒子は配向するが、磁場は短時間しか働かない。ＣＩＰ、ＲＩＰによる成形の場合、磁場配向した後、磁場のない条件下でプレス成形を行っている。そのため、粒子に比較的大きな磁化が残存することにより配向が乱れる可能性がある。
【００１４】
従来、ＣＩＰ、ＲＩＰのような静水圧プレスは、主に高磁化材について行われて来た。ＣＩＰ、ＲＩＰでは、磁場配向の際の充填密度が材料の真密度に対して、２５％程度以上と比較的高く、粒子の回転、再配列を妨げる粒子間の摩擦力が大きいため、プレス成形の際の配向の低下は少なく、従来は配向の乱れは見逃されていた。
【００１５】
しかし、近年、モーター用途への需要が伸びていることから、高磁化材だけでなく、高保磁力材についても同様に静水圧プレスによる成形が行われつつある。しかし、静水圧プレスを高保磁力の磁石合金粉末に用いて磁石を作ると、配向率が金型成形よりも低くなることが判明している。これは、高保磁力材料の希土類磁石合金粉末の粒子の回転、再配列による配向率の低下が原因であると考えられる。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
近年、希土類系高保磁力磁石、特にＲ-Ｔ-Ｂ系磁石では、強磁性相の異方性磁界を高めることにより保磁力を増加している。例えば最も一般的な希土類元素であるＮｄの一部をＤｙ或いはＴｂと言った重希土類で置換すると、強磁性相のＲ２Ｔ１４Ｂ系磁石合金の異方性磁界が増大し、磁石の保磁力の増加が可能となる。他にもＣｕ、Ａｌ、Ｇａ等の添加元素も有効で、これらは粒界の微細構造の変化に寄与しているが、これらの保磁力増加効果は限界がある。そのため実用上用いられる高保磁力Ｒ−Ｔ−Ｂ系磁石は、Ｄｙ或いはＴｂと言った重希土類を必ず一定量（数質量％）含有し、Ｒ２Ｔ１４Ｂ化合物の異方性磁界が増加している。
【００１７】
Ｒ２Ｔ１４Ｂ系磁石合金の異方性磁界が増加すると磁石だけでなく、原料合金の粉末の保磁力も同様に増大する。粉末の保磁力は磁石と比較すると、大きくても約３００ｋＡ／ｍと極めて小さい。しかし、ＣＩＰ、ＲＩＰのような静水圧プレスを行う前にパルス磁場で配向させる際には、この原料合金粉末の約３００ｋＡ／ｍ程度の保磁力が大きな問題となる。つまり、粉末自体の保磁力が増加することによって、粉末の残留磁化が増大し、粒子の回転、再配列をもたらし、配向率を低下させる。そのため、高保磁力材は、パルス磁場配向を行い、静水圧プレスで成形する希土類焼結磁石の製造方法により製造するのが困難であった。
【００１８】
本発明は、パルス磁場で配向させた後で静水圧プレスにより成形体を得る希土類焼結磁石の製造方法において、高保磁力の希土類磁石合金を用いた場合も配向率を向上させ、高性能の磁石を得ることを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は
（１）水素を吸蔵させて低保磁力化させた希土類磁石合金を粉末化し、該粉末をパルス磁場によって配向させた後静水圧プレスにて成形体とし、さらに該成形体を脱水素処理して、その後成形体の焼結および時効処理を行う希土類焼結磁石の製造方法。
（２）希土類磁石合金が、合金主相がＲ２Ｔ１４Ｂ相（但し、ＲはＹを含む希土類元素、Ｔは遷移金属元素を表わす。）からなり、かつＲ成分中のＲ’（Ｒ’はＤｙ、Ｔｂのうち少なくとも１種以上を表わす。）の質量比率Ｒ’／Ｒが５％以上である希土類磁石合金からなることを特徴とする前記（１）に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
（３）合金主相のＲ成分中のＲ’の質量比率Ｒ’／Ｒが１０％以上であることを特徴とする前記（２）に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
（４）希土類磁石合金の水素吸蔵量の制御を、希土類磁石合金に水素を飽和量まで吸蔵させ、その後の脱水素工程の加熱温度を２５０℃以下とすることで行うことを特徴とする前記（１）〜（３）に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
（５）水素を吸蔵させて低保磁力化させた希土類磁石合金の粉末の保磁力が１６０ｋＡ／ｍ以下であることを特徴とする前記（１）〜（４）に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
（６）静水圧プレスを、粉末をゴムモールドに充填して金型内でプレスする擬似静水圧プレス（ＲＩＰ）で行うことを特徴とする前記（１）〜（５）に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
（７）成形体の脱水素処理として、成形体を真空中あるいは不活性ガスフロー中で７００〜９００℃の温度で１時間以上保持する加熱処理を、焼結の前に行うことを特徴とする前記（１）〜（６）に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
である。
【００２０】
また、本発明は、
（８）前記（１）〜（７）に記載の製造方法によって得られた希土類焼結磁石。
（９）配向率が９０％以上であることを特徴とする前記（８）に記載の希土類焼結磁石。
（１０）保磁力が９５０ｋＡ／ｍ以上であることを特徴とする前記（８）または（９）に記載の希土類焼結磁石。
である。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、希土類磁石合金の原料粉末の特性と磁石の配向率の関係を詳細に調査し、焼結磁石の配向率の低下には磁石の原料合金粉末の保磁力の影響が大きいことを見出した。そして、鋭意研究の結果、従来は原料合金粉末の保磁力が高いために、ＣＩＰあるいはＲＩＰのような静水圧プレスにおいて高配向率が得られなかった高保磁力のＲ−Ｔ−Ｂ系合金を用いた磁石に関し、合金組成、組織を全く変えずに、パルス磁場配向とプレス成形の間だけ、原料粉末の保磁力を低下させる方法を見出した。
【００２２】
本発明は静水圧プレスを用いる高配向率を有する希土類焼結磁石の製造方法において、Ｒ−Ｔ−Ｂ系合金の原料粉末の保磁力を合金に水素を吸蔵させることで低下させた後、それの粉末を用いてパルス磁場配向を行い、さらに静水圧プレスにより成形体を形成することにより、得られた磁石の配向率の向上をもたらしたものである。
【００２３】
そして、静水圧プレスにより形成された成形体を焼結することで、保磁力が高く、かつ配向率も高い希土類焼結磁石を製造するものである。
【００２４】
本発明の構成を以下に詳細に記す。
（１）粉末の保磁力
本発明でＣＩＰあるいはＲＩＰなどの静水圧プレスに用いる希土類磁石用合金粉末は、水素を吸蔵させることにより保磁力を好ましくは１６０ｋＡ／ｍ以下に低下させる。さらにパルス磁場配向および静水圧プレスにより成形された後は、脱水素処理を施した後で燒結させて、焼結磁石の保磁力を９５０ｋＡ／ｍ以上とするものである。
【００２５】
先に説明したように、ＣＩＰやＲＩＰのような静水圧プレスの場合、パルス磁場で配向させる際には、原料粉末の保磁力が大きいと磁石の配向率が低下する。これは、粉末の残留磁化の増大による粒子の回転や再配列のためであるものと考えられる。一般に磁石の保磁力が大きいほど、粉末の保磁力も大きくなるが、磁石の保磁力が９５０ｋＡ／ｍ以上で、粉末の保磁力が１６０ｋＡ／ｍ以上と高い場合に配向率の低下が著しい。そこで本発明では、原料粉末の保磁力を好ましくは１６０ｋＡ／ｍ以下に低下させて、パルス磁場による磁場配向と静水圧プレスによる成形体加工を行う。
【００２６】
（２）合金主相と主相中のＤｙ，Ｔｂ濃度
本発明に用いる希土類磁石合金は、合金主相がＲ２Ｔ１４Ｂ相（但し、ＲはＹを含む希土類元素、Ｔは遷移金属元素を表す。）であり、Ｒ成分中のＲ’（Ｒ’はＤｙ、Ｔｂのうち少なくとも１種以上を表す。）の質量比率Ｒ’／Ｒが５％以上であることを特徴とする。強磁性Ｒ２Ｔ１４Ｂ相を主相とすることにより、磁場配向が可能となり、配向率の高い磁石を作製することができる。この際、特にＲ’（Ｄｙ、Ｔｂのうち少なくとも１種以上）の質量比率Ｒ’／Ｒが５％以上であると、磁石の保磁力増加に伴い、合金粉末の保磁力も増加するため、本発明の効果が明確となる。さらにＲ’／Ｒが１０％以上になると、本発明は極めて有効である。
【００２７】
（３）希土類磁石合金中の水素吸蔵量を制御する方法
本発明は、希土類磁石合金の水素吸蔵量の制御を、希土類磁石合金に水素を飽和量まで吸蔵させ、その後の脱水素工程の加熱温度を２５０℃以下とすることで行う。この水素吸蔵量の制御は、例えば希土類磁石合金の水素解砕処理およびそれに引き続く脱水素処理を兼ねて行うことができる。水素解砕処理はＲ−Ｔ−Ｂ系合金の粉砕工程の一部として利用されている。以下に水素解砕処理について説明する。
【００２８】
希土類磁石合金の水素解砕処理においては、まず原料合金を適当に破砕した後、真空引き且つガス加圧のできる炉に挿入して、密閉状態とする。合金をセットしてから、炉内を真空引きした後、炉内に水素ガスを導入する。この際、一般に安全上の理由と効率を考慮し、内部圧を大気圧以上（例えば、０．１４ＭＰａ程度）に加圧する。処理温度は１５０℃以下で行うのが望ましい。１５０℃以上になると、Ｒリッチ相の一部が３水素化物になるまで水素を吸蔵しなくなることから、合金の膨張に伴う割れの発生が遅くなる傾向になる。作業効率の面も考慮すると、約１０〜３５℃程度の室温で行うが好ましい。
【００２９】
合金は、水素ガスを吸蔵して膨張し、自ら割れを生じて解砕していく。この時、炉内の圧力は水素ガスが減少していくため下がっていくので、適宜補充する。合金の水素吸蔵に伴う解砕現象は、炉内圧力の低下が見られなくなったところで終了したものと判断する。この状態で希土類磁石合金に水素を飽和量まで吸蔵させることができたとみなす。
【００３０】
水素を飽和量まで吸蔵させた後、合金を加熱して脱水素を行う。ここで、従来の方法における加熱温度は３００℃以上である。加熱脱水素により、主相から水素が放出される。また、主相中の残存水素は主相の異方性磁界を低下させるため、従来の静磁界による磁場配向方法においては、この脱水素処理の段階で３００℃以上に加熱することによって主相から水素を放出させて残存水素をなくすように処理されていた。
【００３１】
しかし、本発明では、原料粉末の保磁力が回復しない程度の温度に加熱して脱水素を行う。そのため、脱水素温度は２５０℃以下にすることが好ましい。加熱時間は、処理装置の特性によって決まってくるが、Ｒリッチ相がより安定な状態となるために水素原子を放出する反応時間を考慮して、試料全体が加熱されるようになった時点からの経過時間を３０分以上とするのが望ましく、また、作業効率の面から、２時間を超えない方が望ましい。
【００３２】
（４）磁場配向
本発明は、１６０ｋＡ／ｍ以下の保磁力を有する希土類磁石用合金粉末を、パルス磁場を用いて配向させる。先に説明した通り、１６０ｋＡ／ｍ以下の低い保磁力を有する希土類磁石用合金粉末は、パルス磁場を配向工程に使用することによっても、高配向率を有する磁石の作製が可能である。
【００３３】
（５）成形方法
本発明は成形体の成形方法が静水圧プレス（ＣＩＰまたはＲＩＰ）であることを特徴とする。ＣＩＰ、ＲＩＰなどの静水圧プレス又は擬似静水圧プレスでは、成形中のプレス圧による配向の乱れを抑制できる。特にＲＩＰは、ＣＩＰの欠点であった生産性の問題を解決し、ＣＩＰ同様の高配向率を得ることができるためこのましい成形方法である。
【００３４】
（６）脱水素処理方法
成形体の形成後、焼結処理する前に脱水素処理を行う。この脱水素処理は、通常は８００℃付近で長時間、例えば３０分程度加熱すれば完了するが、同様の処理を本発明の原料粉末から作られた成形体に対して行うと、脱水素が不充分な状態で焼結温度近傍まで成形体を加熱することになり、それによって、結晶粒の異常粒成長が起こりやすくなり、且つ、磁石特性を低下させる。これは、本発明の原料粉末から作られた成形体が、従来と異なり主相中にも一定量以上の水素を含有していることによるものである。そこで、本発明では、成形体の脱水素処理として、成形体を真空中あるいは不活性ガスフロー中で７００〜９００℃の温度で１時間以上さらに望ましくは３時間以上保持する加熱処理を行う。
【００３５】
上記の脱水素処理の後は、従来同様、燒結、時効処理を施し、必要に応じて加工、表面処理を経て、焼結磁石の製品とする。
【００３６】
【作用】
本発明によって、従来、パルス磁場で配向させた後でＣＩＰ、ＲＩＰなどの静水圧プレスあるいは擬似静水圧プレスを行うような方法では高配向率が得られなかった高保磁力材料用粉末においても、高配向率が得られるようになった。
【００３７】
【実施例】
（実施例１）
合金組成がＮｄ＝２３．０質量％、Ｄｙ＝７．０質量％、Ｂ＝０．９８質量％、Ａｌ＝０．３質量％、Ｃｕ＝０．０３質量％、残部＝Ｆｅとなるように、原料としてＮｄメタル、Ｄｙメタル、純鉄、フェロボロン、Ａｌ、Ｃｕを配合し、真空雰囲気中あるいは不活性ガス雰囲気中にて溶湯とした。その後、ストリップキャスティング法にて急冷合金とした。
【００３８】
得られた合金について、水素解砕装置にて水素解砕を行った。水素吸蔵の条件としては、実施温度＝３０℃、初期水素圧力＝０．１４ＭＰａとした。その後、装置内を真空引きしながら１７０℃程度に２時間加熱することで脱水素を行った。
【００３９】
水素解砕処理がなされた上記合金について、窒素雰囲気中でブラウンミルにて粗粉砕、さらにジェットミルにて微粉砕を行って粉末を得た。粉末の粒度はフィッシャーサブシーブサイザーで、３．１μｍであった。また、粉末の保磁力をＶＳＭ(振動型磁力計)で測定した結果、１０４ｋＡ／ｍであった。
なお、ステアリン酸亜鉛０．０３質量％をブラウンミル粉砕後に添加、混合した。
【００４０】
上記粉末について、ＲＩＰ法にて成形体を作製した。
粉末をゴムモールドに、約２．８×１０3ｋｇ／ｍ3の密度に充填した後、３Ｔのパルス磁場で配向させ、さらに約１００ＭＰａの圧力で成形体を得た。
【００４１】
上記の成形体について、焼結炉にセット、真空雰囲気中１０３７℃で３時間焼結を行った。
焼結温度に到達する前に、粉末に入っていた水素を除去するために７９０℃で５時間加熱した。得られた焼結体については、さらに７９０℃×１時間、引き続いて５７０℃×１時間の時効処理を施した。
【００４２】
上記の処理によって得られた焼結体を切断、研磨して約７ｍｍ角の立方体に加工し、磁気測定を行った。その結果、得られた磁気特性は、残留磁束密度（以下、Ｂｒ略す）＝１．２３Ｔ、保磁力（以下、ｉＨｃと略す）＝１．８３×１０3ｋＡ／ｍ、磁気エネルギー積（以下、ＢＨｍａｘと略す）＝２９４ｋＪ／ｍ3、配向率＝９５．３％となった。
【００４３】
（比較例１）
実施例１と同様の組成と鋳造条件によって得られた合金について、水素解砕装置にて水素解砕を行った。水素吸蔵の条件は、実施例１と同様とした。その後、装置内を真空引きしながら５００℃程度に２時間加熱することで脱水素を行った。
【００４４】
上記で得られた合金について、実施例１と同様に粉砕を行った。その結果、得られた粉末の粒度は、フィッシャーサブシーブサイザーにて約３．０μｍであった。また、粉末の保磁力をＶＳＭ(振動型磁力計)で測定した結果、２５５ｋＡ／ｍであった。
【００４５】
上記の粉末について、実施例１と同様にＲＩＰ法にて成形体を作製し、焼結体を得た。その結果、得られた磁気特性は、Ｂｒ＝０．７２Ｔ、ｉＨｃ＝１．８５×１０3ｋＡ／ｍ、ＢＨｍａｘ＝９６ｋＪ／ｍ3、配向率＝５８．９％となった。
【００４６】
実施例１と比較例１で得られた磁気特性を図１に示す。縦軸は磁化、横軸は保磁力を表している。両者を比較すると、比較例１では曲線の角型が良好でなく磁石として好ましくないのに対し、実施例１では曲線の角型がより良好であり、磁石として好ましいことが判明した。
【００４７】
（比較例２）
比較例1で得られた粉末を金型モールドに充填して、上パンチがモールドに挿入された時点からプレス方向に垂直な方向に１．２Ｔの静磁界を発生させたまま約７８ＭＰａの圧力でプレスを行い、成形体を作製した。その後、実施例１と同様の加熱処理によって、焼結体を得た。この焼結体を実施例１と同じ形状に加工して、磁気測定をおこなった。その結果、得られた磁気特性は、Ｂｒ＝１．１７Ｔ、ｉＨｃ＝１．７７×１０3ｋＡ／ｍ、ＢＨｍａｘ＝２８０ｋＪ／ｍ3、配向率＝９３．５％となった。
【００４８】
【発明の効果】
従来、高保磁力材ではパルス磁場配向と静水圧プレスによって高い配向率が得られなかったのに対し、本発明によって、高保磁力材において、パルス磁場配向と静水圧プレスから高配向率の成形体が得られるようになった。これによって作製された焼結磁石は、金型プレスによって得られた磁石よりも高い配向率となり、従来では得られなかった高配向の高保磁力型薄型磁石を製造することができるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１と比較例１で得られた焼結磁石の磁気特性を示す図である。
【図１】
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