(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルの一部を画像として表示するものである画像モザイクについて、前記画像モザイクが変倍され、かつ、サンプル座標空間に整列される複数の前記画像モザイクを分析し、前記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルのデザインやレイアウト情報を抽出するためのマン・マシン・インターフェースにおいて、
ａ）ディスプレイ座標空間を規定するディスプレイ領域と、
ｂ）ディスプレイ座標空間内に位置を有するシステム・ポインターと、
ｃ）前記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルに関する前記画像モザイクの一部を表示する複数個のモザイク・ビューであって、ディスプレイ座標空間内にそれぞれが個別に表示されるように各ビュー境界を有し、かつ、各モザイク・ビューは前記画像モザイクの１個について少なくとも一部を表示するようになされたモザイク・ビューと、
ｄ）サンプル座標空間に関して、複数のモザイク・ビュー内において、別画面上に表示されている後述するマスター・カーソルの位置に相当する位置で表示されるように位置座標を共有する複数個のロック・ステップ・カーソルと
を有することを特徴とし、
さらに、前記システム・ポインターに対して、前記各モザイク・ビュー内で相当する位置が、それ以外のモザイク・ビューの各１個の各ディスプレイ座標空間内に存在するという条件で、前記システム・ポインターが、ビュー境界を超えて複数個のモザイク・ビューのうちの１個に入るように横切ると、
前記システム・ポインターはカーソル・イベントに制御され、その動きが前記ロック・ステップ・カーソルに反映されるマスター・カーソルとして表示されるようになり、そして、前記ロック・ステップ・カーソルがサンプル座標空間に関して前記マスター・カーソルの位置に相当するようにそれ以外のモザイク・ビュー内に表示される
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項２】
請求項１に記載のマン・マシン・インターフェースにおいて、
各モザイク・ビューは、倍率係数の対象となる画像モザイクの一部を表示し、そして、マスター・カーソルについて移動が行われた場合、新たに前記マスターカーソルが位置する場所のサンプル座標をディスプレイ座標に変換した座標をもとに、サンプル座標空間とディスプレイ座標空間との間の前記ロック・ステップ・カーソルの位置の座標としてトランスレーションを行うものである
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項３】
請求項２に記載のマン・マシン・インターフェースにおいて、
複数のモザイク・ビューのうち、いずれか１つのモザイク・ビューが拡大されると、他の全てのモザイク・ビューが同一の倍率係数をもって連動して拡大される
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項４】
請求項２に記載のマン・マシン・インターフェースにおいて、
複数のモザイク・ビューのうち、いずれか１つがパンされると、他の全てのモザイク・ビューが連動して同様にパンされる
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項５】
請求項１、請求項２、請求項３または請求項４のいずれか１項に記載のマン・マシン・インターフェースにおいて、さらに、
前記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルの所定の領域であるサンプルＩＣダイの低倍率画像を表示するようにした画面であるナビゲーション・ウィンドウを有し、前記ナビゲーション・ウィンドウ上においては前記サンプルＩＣダイの後述するような条件で指定された領域であるスライスを選択することが可能であり、前記スライスは各画像モザイクの関心ある領域を規定し、各関心のある領域は複数個のモザイク・ビューの一つにおいて任意に表示される
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項６】
請求項５に記載のマン・マシン・インターフェースにおいて、前記ナビゲーション・ウィンドウ上に、前記サンプル座標空間上に座標を規定し、前記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルの一部を前記ナビゲーション・ウィンドウ上に表示する領域たるスライスを設定するための、関連するスライス生成ツールを起動して表示する
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項７】
請求項６に記載のマン・マシン・インターフェースにおいて、
前記スライス生成ツールが、前記スライスの生成に引き続いて複数個のモザイク・ビューを生成する
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項８】
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６または請求項７のいずれか１項に記載のマン・マシン・インターフェースにおいて、
前記システム・ポインターが第一の特徴的形状および寸法を有する
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項９】
請求項８に記載のマン・マシン・インターフェースにおいて、
前記マスター・カーソルが第二の特徴的形状および寸法を有する
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項１０】
請求項９に記載のマン・マシン・インターフェースにおいて、
前記ロック・ステップ・カーソルが第三の特徴的形状および寸法を有する
ことを特徴とするマン・マシン・インターフェース。
【請求項１１】
解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルの一部を画像として表示するものである画像モザイクについて、前記画像モザイクが変倍され、かつ、サンプル座標空間に整列される複数の前記画像モザイクを分析する方法において、
ａ）前記画像モザイクを分析するために用いられるマン・マシン・インターフェースのディスプレイ座標空間上に表示される、前記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルに関する前記画像モザイクの一部を表示する複数個のモザイク・ビューにおいて、各モザイク・ビュー内の複数個の前記画像モザイクの、各１個について関心のある領域を表示する工程と、
ｂ）前記１個のモザイク・ビュー内で表示されるマスター・カーソルおよびそれ以外のモザイク・ビュー内で表示され、かつ、前記マスター・カーソルの位置に相当する位置で表示されるように位置座標を共有するロック・ステップ・カーソルを用いて、少なくとも２個のモザイク・ビューにまたがるＩＣの特徴を追跡する工程と
を有することを特徴とし、
さらに、前記マスター・カーソルに対して、前記モザイク・ビュー内で相当する位置が、それ以外の各モザイク・ビューの各ディスプレイ座標空間内に存在するという条件で、前記マスター・カーソルがカーソル・イベントを制御し、そして前記ロック・ステップ・カーソルがサンプル座標空間に関するマスター・カーソルの位置に相当するようにそれ以外のモザイク・ビュー内に表示される方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法において、
前記サンプル座標空間上に座標を規定し、前記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルの一部を前記ナビゲーション・ウィンドウ上に表示する領域たるスライスを設定するためのスライス生成ツールを用いることによる、関心のある領域を規定する工程をさらに有する方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法において、
前記ディスプレイ空間内に位置を有するシステム・ポインターを長方形を作成するように斜めの通路に沿ってドラッグして、長方形の関心ある領域を前記半導体集積回路（ＩＣ）サンプル画像の所定の領域である低解像度ダイ・フォト上に規定することにより前記スライスを生成する工程をさらに有する方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法において、
前記スライスを生成した後に、関心のある領域についてのモザイク・ビュー内に表示すべき画像モザイクを選択する工程をさらに有する方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法において、
前記スライスに関連する全ての画像モザイクのリストから、関心のある領域についてのモザイク・ビュー内に表示すべき画像モザイクを選択する工程をさらに有する方法。
【請求項１６】
請求項１１、請求項１２、請求項１３、請求項１４または請求項１５のいずれか１項に記載の方法において、
前記マスター・カーソルがモザイク・ビューの１個から取り除かれたとき、前記マスター・カーソルはマン・マシン・インターフェースの表示面上で前記システム・ポインターとなり、そして前記ロック・ステップ・カーソルはそれ以外のモザイク・ビューのそれぞれから消去される方法。
【請求項１７】
解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルの一部を画像として表示するものである画像モザイクについて、前記画像モザイクが変倍され、かつ、サンプル座標空間に整列される複数の前記画像モザイクを分析し、前記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルのデザインやレイアウト情報を抽出するための装置において、
ａ）ディスプレイ座標空間を規定するディスプレイ領域を有するワークステーションと、
ｂ）ディスプレイ座標空間内を移動可能であるシステム・ポインターを制御するポインティング・デバイスと、
ｃ）前記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルに関する前記画像モザイクの一部を表示する複数個のモザイク・ビューを記憶するためのメモリーであって、前記モザイク・ビューはディスプレイ座標空間内に表示されたときにそれぞれが個別に表示されるように各ビュー境界を有し、かつ、各モザイク・ビューは前記画像モザイクの１個について少なくとも一部を表示する手段と、
ｄ）各モザイク・ビュー内に複数のモザイク・ビュー内において、別画面上に表示されている後述するマスター・カーソルの位置に相当する位置で表示されるロック・ステップ・カーソルを表示するための手段であって、ロック・ステップ・カーソルはサンプル座標空間に関して位置座標を共有する手段と
を有することを特徴とし、さらに、前記システム・ポインターに対して、前記各モザイク・ビュー内で相当する位置が、それ以外のモザイク・ビューの各１個の各ディスプレイ座標空間内に存在するという条件で、前記ポインティング・デバイスの操作によりビュー境界をまたがって複数個のモザイク・ビューの１個内に移動されると、前記システム・ポインターはカーソル・イベントを制御し、かつ、その動きが前記ロック・ステップ・カーソルに反映されるマスター・カーソルとして表示され、そして前記ロック・ステップ・カーソルはサンプル座標空間に関する前記マスター・カーソルの位置に相当するようにそれ以外のモザイク・ビュー内に表示される装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の装置において、
前記ロック・ステップ・カーソルを表示させるための手段がイベントを駆動するきっかけとなる装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載の装置において、
カーソルの動きを指示するカーソル・イベントが検出されたとき、もし、前記ディスプレイ座標空間内の前記システム・ポインターの座標が前記モザイク・ビューの１個内に存在するならば、前記表示させるための手段は前記ディスプレイ座標空間内の前記システム・ポインターの座標を前記サンプル座標空間内の座標に変換し、そして前記サンプル座標空間内のその座標をそれ以外のモザイク・ビューのそれぞれに送出するために反復処理を行う装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の分野】
本発明は、一般に、半導体集積回路の分析に関し、特に、集積回路から設計およびレイアウト情報を抽出するために、分解された半導体集積回路（ＩＣ）の表面を表す複数個の画像を操作するためのマン・マシン・インターフェースに関する。
【０００２】
【発明の背景】
半導体産業において、製品信頼性の保証、設計の妥当性検査およびデバイス構成パターンの同定を目的として、半導体集積回路（ＩＣｓ）を物理的に分析することは屡々必要である。ＩＣｓは、それから設計および／またはレイアウト情報を抽出するために分析される。このプロセスは、リバース・エンジニアリングとして知られている。リバース・エンジニアリングはまた、大規模なＩＣｓの製造における試験および開発プロセスの部分でもある。一般に、あるＩＣをリバース・エンジニアリングするためには、膨大な時間と手作業を必要とする。
【０００３】
ＩＣは単結晶シリコン・ダイであって、その上に多数のトランジスタおよびその他の電子部品が組み立てられ、かつ、相互接続されて、有用な回路を形成する。製造の間において、それぞれのダイは、大きなシリコン・ウェハー基板の部分であって、これは複数個のＩＣｓの取り扱いおよび同時処理を容易にするものである。
【０００４】
ＩＣ製造工程は、シリコン基板にドープしてその導電特性を変化させるとともに、異なった技術を用いてシリコン基板上に層のシーケンスを形成する工程を包含する。ドーピング層は、イオン打ち込み法を用いて生成される。拡散層は、ドーパントを基板の表面に堆積させ、そして、そのウェハーを加熱することによって生成される。各堆積層に関して、異なった物質が堆積され、そして、所定のパターンに従った選択的エッチングによって選択的に除去される。シリコン・ウェハー上に作成されたコンポーネントは、多層に及ぶ。酸化物層は、絶縁のために利用される。堆積金属層は、そのように形成されたコンポーネントの個別の端子を相互接続するために用いられる。
【０００５】
金属層によって提供されるこれらコンポーネントおよび相互接続についての同定は、そこからＩＣの設計および／またはレイアウトを抽出し、かつ、検証することができる基本的情報をもたらす。
【０００６】
サンプルＩＣのリバース・エンジニアリングに際して、そのダイは解体される。このＩＣサンプルのダイは、厳しい一連の処理、例えば、酸腐食液であって、それらの各々はそのときの単一層を除去するために具体的に選択されたものを用いて、漸進的な層除去シーケンスを受けるものである。その他の解体処理は、ドライ・エッチング、研磨などを含む。こうした処理を利用して、相互接続した金属層、多結晶シリコン層、酸化物層などは、逐次的に除去される。各解体工程において、部分的に解体されたＩＣの表面が点検される。
【０００７】
点検技術は、光学顕微鏡、走査電子顕微鏡およびその他の表面点検装置の使用を含む。一般に、走査電子顕微鏡は精確であるが、所有および操作するには高価である。光学顕微鏡は、照明の明視野、明暗比干渉（contrast interference）および暗視野モードにおいて使用可能である。明視野または明暗比干渉モードにおいて、ダイ上のコンポーネントの物理的限界は、フリンジ効果により歪曲される。これらのフリンジ効果は、経験を積んだ人間である分析家によって解釈可能であるが、コンピュータによる分析のためには膨大な量の計算を要する。
【０００８】
ススズコ（Suszko）に対して１９８６年１１月１８日に発行された米国特許第４，６２３，２５５号中には、「超小型回路パターンの検査方法（METHOD OF EXAMINING MICROCIRCUIT PATTERNS）」が記載されている。この方法は、解体工程の合間にＩＣダイを撮影することを包含する。フィルムの透明度がプリントされて、エンジニア分析家によって使用され、撮影されたＩＣから設計およびレイアウト情報が抽出される。ススズコの教示は利点を有する一方で、嵩高な透明度の取り扱いおよびその相互相関によって、設計およびレイアウトの抽出が妨げられる。
【０００９】
別の「集積回路から設計およびレイアウト情報を抽出するための自動化システム（AUTOMATED SYSTEM FOR EXTRACTING DESIGN AND LAYOUT INFORMATION FROM AN INTEGRATED CIRCUIT）」が、１９９２年２月４日に発行された米国特許第５，０８６，４７７号の中に、ユー（Yu）他によって記載されている。デジタル・カメラおよび制御されたステージが用いられて、各解体工程後に重なっているタイル状の画像を取り込む。取り込まれたデジタル画像は、コンピュータ・メモリー内に記憶され、そして、各タイル画像の境界における重複に基づく画像モザイク内に再構成される。ユー他は、解体工程の画像モザイクに対して行われるパターン・マッチングを説明しており、そして、タイル画像からレイアウト情報を抽出する際に伴う困難性を指摘している。ユー他による自動化システムは、リバース・エンジニアにとって困難である複合ＩＣｓから設計情報を抽出するには適しているように思われる。これを遂行するために、「セル」ライブラリーが形成される。このセル・ライブラリーは、特定の機能を遂行することが知られているコンポーネントの特定の配置の画像を含んでいる。セル・ライブラリーは、例えば、特定用途向け半導体集積回路（ＡＳＩＣｓ）のリバース・エンジニアリングを容易にするために、自動化パターン・マッチング用に利用される。しかしながら、ユー他は、多様な画像モザイクであって、それぞれがあるＩＣの解体に際して異なった工程を表すものが、それらから設計およびレイアウト情報を同時に抽出するためにどのように操作されるのかを説明していない。シリコン・ウェハー上に作成された個別のコンポーネントは多層に及ぶ可能性があるので、画像モザイクの同時分析は望ましい。
【００１０】
従って、ＩＣからの設計およびレイアウト情報の同時抽出を容易にするために、そのＩＣの多数の画像の操作を可能とするマン・マシン・インターフェースに関してニーズが存在している。
【００１１】
【発明の目的】
従って、本発明の目的は、ＩＣからの設計およびレイアウト情報の同時抽出を容易にするために、そのＩＣの多数の画像の操作を可能とするマン・マシン・インターフェースを提供することである。
【００１２】
本発明の他の目的は、半導体集積回路（ＩＣ）の１個以上の表面を表す多数の画像にまたがる特徴認識および分析を容易とするようにしたマン・マシン・インターフェースを提供することである。
【００１３】
本発明の他の目的は、多数のビューであって、各ビューが画像モザイクの一部および複数個の多重ロック・ステップ・カーソルの１個を表示するものをサポートするマン・マシン・インターフェースを提供することである。
【００１４】
本発明の他の目的は、ＩＣの写真画像を用いてそのＩＣの構造を確定する際に、分析家を補助するための装置を提供することである。
【００１５】
本発明の別の目的は、ＩＣの１個以上の画像について関心のある領域を確定するに際し分析家を補助して、関心のある領域の複数個のモザイク・ビューを生成するための装置を提供することである。
【００１６】
本発明のさらに別の目的は、モザイク・ビューの１個におけるマスター・カーソルおよび他のモザイク・ビューのそれぞれにおけるマスター・カーソルの相対的位置を自動的に追跡するロック・ステップ・カーソルを用いて、各モザイク・ビューにおける特徴を関連させるに際し、分析家を補助するための装置を提供することである。
【００１７】
本発明の他の目的は、マスター・カーソルおよびＩＣの画像モザイクの異なったものの特徴を相互に関連させる際に分析家を補助する複数個のロック・ステップ・カーソルを用いて、ＩＣを分析する方法を提供することである。
【００１８】
本発明の別な特徴は、ＩＣサンプルの低倍率の画像のスライスを作成する方法を提供することであり、このスライスはＩＣを分析するために分析家によって使用される複数個の画像モザイクを規定するものである。
【００１９】
【発明の要約】
本発明の一つの特徴によれば、解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルの一部を画像として表示するものである画像モザイクについて、上記画像モザイクが変倍され、かつ、サンプル座標空間に整列される複数の上記画像モザイクを分析し、上記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルのデザインやレイアウト情報を抽出するためのマン・マシン・インターフェースにおいて、
ａ）ディスプレイ座標空間を規定するディスプレイ領域と、
ｂ）ディスプレイ座標空間内に位置を有するシステム・ポインターと、
ｃ）上記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルに関する上記画像モザイクの一部を表示する複数個のモザイク・ビューであって、ディスプレイ座標空間内にそれぞれが個別に表示されるように各ビュー境界を有し、かつ、各モザイク・ビューは上記画像モザイクの１個について少なくとも一部を表示するようになされたモザイク・ビューと、
ｄ）サンプル座標空間に関して、複数のモザイク・ビュー内において、別画面上に表示されている後述するマスター・カーソルの位置に相当する位置で表示されるように位置座標を共有する複数個のロック・ステップ・カーソルと
を有することを特徴とし、さらに、上記システム・ポインターに対して、上記各モザイク・ビュー内で相当する位置が、それ以外のモザイク・ビューの各１個の各ディスプレイ座標空間内に存在するという条件で、上記システム・ポインターが、ビュー境界を超えて複数個のモザイク・ビューのうちの１個に入るように横切ると、上記システム・ポインターはカーソル・イベントに制御され、その動きが上記ロック・ステップ・カーソルに反映されるマスター・カーソルとして表示されるようになり、そして、上記ロック・ステップ・カーソルがサンプル座標空間に関して上記マスター・カーソルの位置に相当するようにそれ以外のモザイク・ビュー内に表示されることを特徴とするマン・マシン・インターフェースが提供される。
【００２０】
本発明は、さらに、解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルの一部を画像として表示するものである画像モザイクについて、上記画像モザイクが変倍され、かつ、サンプル座標空間に整列される複数の上記画像モザイクを分析する方法において、
ａ）上記画像モザイクを分析するために用いられるマン・マシン・インターフェースのディスプレイ座標空間上に表示される、上記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルに関する上記画像モザイクの一部を表示する複数個のモザイク・ビューにおいて、各モザイク・ビュー内の複数個の上記画像モザイクの、各１個について関心のある領域を表示する工程と、
ｂ）上記１個のモザイク・ビュー内で表示されるマスター・カーソルおよびそれ以外のモザイク・ビュー内で表示され、かつ、上記マスター・カーソルの位置に相当する位置で表示されるように位置座標を共有するロック・ステップ・カーソルを用いて、少なくとも２個のモザイク・ビューにまたがるＩＣの特徴を追跡する工程と
を有することを特徴とし、さらに、上記マスター・カーソルに対して、上記モザイク・ビュー内で相当する位置が、それ以外の各モザイク・ビューの各ディスプレイ座標空間内に存在するという条件で、上記マスター・カーソルがカーソル・イベントを制御し、そして上記ロック・ステップ・カーソルがサンプル座標空間に関するマスター・カーソルの位置に相当するようにそれ以外のモザイク・ビュー内に表示される方法を提供する。
【００２１】
本発明は、さらに、解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルの一部を画像として表示するものである画像モザイクについて、上記画像モザイクが変倍され、かつ、サンプル座標空間に整列される複数の上記画像モザイクを分析し、上記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルのデザインやレイアウト情報を抽出するための装置において、
ａ）ディスプレイ座標空間を規定するディスプレイ領域を有するワークステーションと、
ｂ）ディスプレイ座標空間内を移動可能であるシステム・ポインターを制御するポインティング・デバイスと、
ｃ）上記解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルに関する上記画像モザイクの一部を表示する複数個のモザイク・ビューを記憶するためのメモリーであって、上記モザイク・ビューはディスプレイ座標空間内に表示されたときにそれぞれが個別に表示されるように各ビュー境界を有し、かつ、各モザイク・ビューは上記画像モザイクの１個について少なくとも一部を表示する手段と、
ｄ）各モザイク・ビュー内に複数のモザイク・ビュー内において、別画面上に表示されている後述するマスター・カーソルの位置に相当する位置で表示されるロック・ステップ・カーソルを表示するための手段であって、ロック・ステップ・カーソルはサンプル座標空間に関して位置座標を共有する手段とを有することを特徴とし、さらに、上記システム・ポインターに対して、上記各モザイク・ビュー内で相当する位置が、それ以外のモザイク・ビューの各１個の各ディスプレイ座標空間内に存在するという条件で、上記ポインティング・デバイスの操作によりビュー境界をまたがって複数個のモザイク・ビューの１個内に移動されると、上記システム・ポインターはカーソル・イベントを制御し、かつ、その動きが上記ロック・ステップ・カーソルに反映されるマスター・カーソルとして表示され、そして上記ロック・ステップ・カーソルはサンプル座標空間に関する上記マスター・カーソルの位置に相当するようにそれ以外のモザイク・ビュー内に表示される装置を提供する。
【００２２】
本発明によれば、マン・マシン・インターフェースは、ディスプレイ領域と、システム・ポインターと、複数個のモザイク・ビューと、対応する複数個のロック・ステップ・カーソルとを有する。画像モザイクは、サンプル座標空間に対し整列される。ディスプレイ領域はディスプレイ座標空間を規定し、そして、システム・ポインターはディスプレイ座標空間に関してある位置を有する。複数個のモザイク・ビューの各１個は、ディスプレイ座標空間内にビュー境界を有し、そして複数個の画像モザイクの１個を表示する。各ロック・ステップ・カーソルはディスプレイ座標空間内にある位置を有し、そしてサンプル座標空間内の位置座標を全ての他のロック・ステップ・カーソルと共有する。システム・ポインターは、少なくとも１個のビュー境界内に位置するときに、カーソル・イベントを制御するマスター・カーソルを表示する。ロック・ステップ・カーソルは、サンプル座標空間内のマスター・カーソルの位置における他のビュー内に表示される。画像モザイクは、例えば、解体された半導体集積回路（ＩＣ）サンプルを表している。
【００２３】
本発明の一つの特徴によれば、マン・マシン・インターフェースは、さらに、ディスプレイ座標空間内にビュー境界を有し、かつＩＣサンプルを表す低倍率画像を表示するナビゲーション・ウィンドウを有する。このナビゲーション・ウィンドウはまた、複数個のモザイク・ビュー内に表示し得る少なくとも１個の関心ある領域の選択を可能とする。
【００２４】
本発明はまた、サンプル座標空間内に変倍されかつ整列された画像モザイクを分析する方法を提供する。この方法は、画像モザイクを分析するために用いられるマン・マシン・インターフェースのディスプレイ座標空間上に表示される各モザイク・ビュー内の複数個の画像モザイクの、各１個について関心のある領域を表示する工程を有している。この方法はさらに、モザイク・ビューの１個におけるマスター・カーソルおよびそれ以外のモザイク・ビューにおけるロック・ステップ・カーソルを用いて、少なくとも２個のモザイク・ビューにまたがるＩＣの特徴を追跡する工程を有している。相対的位置が、それ以外のモザイク・ビューの各ディスプレイ座標空間内に存在するという条件で、マスター・カーソルがカーソル・イベントを制御し、そしてロック・ステップ・カーソルがサンプル座標空間に関するマスター・カーソルの相対的位置においてそれ以外のモザイク・ビュー内に表示される。
【００２５】
これらの画像モザイクは、例えば、半導体集積回路（ＩＣ）サンプルを解体することによって生成される。画像モザイクの関心ある領域は、スライス生成ツールを利用してサンプル座標空間上に座標を規定することによって生成される。このスライスは、好ましくは、システム・ポインターを斜めの通路に沿ってドラッグして、長方形の関心ある領域をＩＣサンプルの低解像度ダイ・フォト上に規定することにより生成される。スライスが生成された後に、関心のある領域についてのモザイク・ビュー内に表示すべき画像モザイクが選択される。関心のある領域のモザイク・ビュー内に表示されるべき画像モザイクは、そのスライスに関連する全ての画像モザイクのリストから選択されてもよいし、あるいは装置によって自動的に選択されてもよい。マスター・カーソルが画像モザイクの１個から取り除かれると、マスター・カーソルはマン・マシン・インターフェースのディスプレイ面上でシステム・ポインターとなり、そしてロック・ステップ・カーソルはそれ以外のモザイク・ビューのそれぞれから消去される。
【００２６】
本発明はさらに、画像モザイクを分析するための装置であって、その画像モザイクが変倍され、かつサンプル座標空間に整列されるものを提供する。この装置は、ディスプレイ座標空間を規定するディスプレイ領域を有するワークステーションと、ディスプレイ座標空間内を移動可能であるシステム・ポインターを制御するポインティング・デバイスとを有する。ディスプレイ座標空間内に表示されたときに各ビュー境界を有する複数個のモザイク・ビューを記憶するためのメモリーであって、各モザイク・ビューは画像モザイクの１個について少なくとも一部を表示する。アルゴリズムは、各モザイク・ビュー内にロック・ステップ・カーソルを表示するが、ロック・ステップ・カーソルはサンプル座標空間に関して位置座標を共有する。相対的位置が、それ以外のモザイク・ビューの各１個の各ディスプレイ座標空間内に存在するという条件で、システムポインターがポインティング・デバイスの操作によりビュー境界をまたがって複数個のモザイク・ビューの１個内に移動されるとき、システム・ポインターはカーソル・イベントを制御するマスター・カーソルとして表示され、そしてロック・ステップ・カーソルはサンプル座標空間に関するマスター・カーソルの相対的位置においてそれ以外のモザイク・ビュー内に表示される。
【００２７】
カーソルの移動を指示するカーソル・イベントが検出されるとき、もし、ディスプレイ座標空間内のシステム・ポインターの座標がモザイク・ビューの１個内に存在するならば、表示させるための手段はディスプレイ座標空間内のシステム・ポインターの座標をサンプル座標空間内の座標に変換し、そしてサンプル座標空間内のその座標をそれ以外のモザイク・ビューのそれぞれに送出するために反復処理を行う。
【００２８】
このシステムの有利な点には、画像モザイクにまたがる特徴マッチングの容易化および一つの画像から他のそれへとコンポーネントを追跡しながらの移行エラーの回避に起因する、増加した生産量ならびに分析家における疲労の減少が含まれる。
【００２９】
【実施態様の詳細な説明】
本発明のさらなる特徴および効果は、添付の図面と組み合わせた下記の詳細な説明から明らかとなるであろう。
【００３０】
添付の図面の全体を通じて、同様な参照数字によって同様な特徴が同定されるものであることが留意されるべきである。
【００３１】
図１は、模範的な従来技術によるプロセスの概要を示す作業フロー図であり、これによって、半導体集積回路（ＩＣ）の解体の際における工程を表す画像モザイクが得られる。ＩＣｓ１０は、ウェハー１２上に作成される。ウェハー１２は、自然の絶縁体である単結晶シリコン基板よりなる。シリコン基板に他の化学元素をドーピングすると、そのシリコン基板を半導体または導体にすることを含んで、シリコンの特性を変化させることができる。このような基板処理は、チップ１６の製造工程１４の一部として行われる。チップ１６のパッケージングに際し、ダイ２０は工程１８においてウェハー１２から切断され、そして、工程２２において内部に封入されてチップ１６を形成する。
【００３２】
集積回路の製造は、一般的には、検証工程２４を含み、それによって、ウェハー１２、切断されたダイ２０あるいはそれらの部分は、マイクロ・イメージング・システム２６を使用して検査され、設計の確認あるいは競合分析の目的のために設計およびレイアウト情報が抽出される。
【００３３】
製品品質の保証または競合分析の目的で、例えば、リバース・エンジニアリング２８のプロセスがチップ１６上で遂行される。リバース・エンジニアリング工程２８における第一工程は、チップ１６を開封３０してダイ２０を取り除くことである。ダイ２０はマイクロ・イメージング・システム２６を用いて検査され、設計およびレイアウト情報が抽出される。このマイクロ・イメージング・システム２６は、高倍率の光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電界放出型電子顕微鏡などを含んでいてもよい。ダイ２０またはその部分からの設計およびレイアウトの抽出は、図３に関連して以下で説明されるように、解体工程３２を含んでおり、それによって製造工程１４の間に形成された層は逐次取り除かれる。
【００３４】
サンプル・ダイ２０の高倍率タイル画像３４は、コンピューター・ワークステーション３６の制御下において、各解体工程３２の間で得られる。このコンピューター・ワークステーション３６は、制御信号３８を用いてマイクロ・イメージング・システム２６を制御する。コンピューター・ワークステーション３６は、マイクロ・イメージング・システム２６からタイル画像データ４０を受けて、そして、そのタイル画像データ４０をメモリー、一般には物理的記憶装置４２、例えば、ハードディスクに保存する。
【００３５】
保存されたタイル画像３４は、画像モザイク４４に組み立てられるが、各画像モザイク４４は解体工程３２におけるダイ２０の表面を表している。ダイ２０のタイル画像３４の獲得の間に、サンプル座標空間４６が規定される。このサンプル座標空間４６が使用されて、タイル画像３４および画像モザイク４４が整列される。
【００３６】
図２は、ＩＣの製造の間に引き続く模範的な従来技術による工程を示す工程図である。この図は、シリコン基板を介する横断面の経過を示し、それらはジャンクションのようなコンポーネントを製造する際の模範的な工程を表している。経過の工程５２において、シリコン基板は、拡散および／またはイオン打ち込み技術を利用してドープされてその特性を変更され、そして、特に当該技術において周知のＰ−井戸（Ｐ−ｗｅｌｌｓ）を形成する。工程５４において、打ち込み技術が用いられて、ｎ型ソースおよびドレインが形成される。工程５６において、ゲート酸化物層がソースとドレインとの間に堆積され、そして、フィールド酸化物層は他の領域を覆って堆積される。ポリシリコン・ゲート層が工程５８において堆積され、また、工程６０および６２において、二つの酸化物層の堆積が行われる。シリコン基板上のゲート、ソースおよびドレイン間の接続性を提供するための金属層が、工程６４において堆積される。工程６６は、不活性化層を示しており、一般的にそれは、工程２２（図１）において内部に封入される前に塵埃粒による物理的損傷および／または汚染からＩＣを保護するために使用される。
【００３７】
図３は、サンプルＩＣをリバース・エンジニアするために利用する解体工程の模範的な従来技術による経過を示すプロセス図である。工程７０は、工程３０（図１）における開封後のダイ２０のシリコン基板を介した横断面を示している。工程７２、７４、７６、７８、８０および８２は、堆積物層、例えば、不活性化層、金属化層、ポリシリコン層、ベース・コンタクト層、フィールド酸化物層などの逐次的除去を示している。このことが、工程５２および５４（図２）の間に製造された井戸構造を含む露出されたシリコン基板をもたらす（工程８２）。井戸構造を明らかにするために、ダイ２０の裏面をもまた解体してもよい。工程８４および８６は、ダイ２０裏面を逐次的に解体して、Ｐ−井戸およびＮ−井戸を露出することを示している。設計およびレイアウト情報の抽出において、ダイ２０の両面が好ましくはマイクロ・イメージされ、従って双方が関心ある表面を表すものである。
【００３８】
図４は、集積回路（ＩＣｓ）を分析するための本発明によるマン・マシン・インターフェースを示す概略図である。ＩＣｓを分析して設計およびレイアウト情報を抽出するに際して、エンジニア分析家２１０は、視覚的ディスプレイ２２２、キーボード２２４およびこれに限定されるものでは無いが、例えば、マウスのようなポインティング・デバイス２２６を有するワークステーション２２０を利用する。視覚的ディスプレイ２２２は、対応するディスプレイ座標空間を規定するディスプレイ領域２２８を有している。ディスプレイ領域２２８内に表示されているシステム・ポインターは、ポインティング・デバイス２２６により制御される。このシステム・ポインターは、特徴的な形状、寸法および色彩を有するものである。
【００３９】
視覚的ディスプレイ２２２は、典型的に、陰極線管（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、イメージ・プロジェクターにより投影された画像などである。代替的に、マン・マシン・インターフェースは、多重ヘッドを備えた視覚的ディスプレイ（図示せず）によってもたらされた分散型視覚的ディスプレイ、複数台のワークステーション２２０の分散型ウィンドウ環境スパニング視覚的ディスプレイ２２２などを含んでいてもよい。分散型ウィンドウ環境は、ＸＣｏｎｓｏｒｔｉｕｍ（商標）、ＮｅＸＴＳｔｅｐ（商標）／ＯｐｅｎＳｔｅｐ（商標）などから商業的に利用可能である。
【００４０】
図５は、図４に示されたマン・マシン・インターフェースのディスプレイ領域の詳細を示す概略図である。ディスプレイ領域２２８は、ナビゲーション・ウィンドウ２３０ならびにモザイク・ビュー２３２、２３４、２３６および２３８を表示し、それぞれはビュー境界を有している。ナビゲーション・ウィンドウ２３０は、分析下のサンプルの全体的ビューを提供する。このナビゲーション・ウィンドウ２３０は、サンプルの低倍率デジタル画像を表示する。分析下のサンプルが単一のＩＣダイまたはその実質的な部分である場合には、ナビゲーション・ウィンドウ２３０内に表示された低倍率画像は、ダイ・フォトと呼ばれる。スライス２４０は、ナビゲーション・ウィンドウ２３０内において選択され、そして、ダイフォト上で関心のある領域を規定する。それによってスライスが生成される模範的プロセスが、図７および図９を参照して以下に説明されるであろう。
【００４１】
モザイク・ビュー２３２、２３４、２３６および２３８はそれぞれ、ＩＣを解体する処理における特有の解体工程の後に得られた画像モザイクの一部を示している。スライス２４０は、各モザイク・ビュー２３２〜２３８内に示された関心ある領域を規定している。それによってモザイク・ビューが生成される模範的プロセスが、図８および図９を参照しながら以下に説明されるであろう。
【００４２】
適切なときに、ロック・ステップ・カーソル２５２、２５４、２５６および２５８は、各モザイク・ビュー内に示される。対応するロック・ステップ・カーソル２５０が、ナビゲーション・ウィンドウ２３０内に示されてもよい。好ましくは、２５８で示されるマスター・カーソルを除き、ロック・ステップ・カーソルは、形状、寸法および色彩において類似である。システム・ポインターがモザイク・ビュー内に位置するとき、マスター・カーソル２５８は、ポインティング・デバイス２２６により制御されるシステム・ポインター２５０の現在位置を指示する。マスター・カーソルは、システム・ポインターと同様な外観を有してもよいし、あるいは特有の形状、寸法および／または色彩を有していてもよい。ロック・ステップ・カーソル２５０、２５２、２５４、２５６および２５８は、マスター・カーソルとサンプル座標空間内において位置座標を共有するので、ロック・ステップ・カーソル２５０、２５２、２５４、２５６および２５８は、マスター・カーソルの制御下において一斉に動く。ロック・ステップの動きは、トレーリング効果（ｔｒａｉｌｉｎｇ  ｅｆｆｅｃｔ）として図中に示されている。それによってロック・ステップ動作が実現される模範的なプロセスが、図１０を参照して以下に説明されるであろう。
【００４３】
本発明の好ましい実施態様によれば、モザイク・ビュー２３２、２３４、２３６および２３８は、一斉にズームおよび／またはパンして、スライス２４０をズームまたはパンさせる。この目的のために、ナビゲーション・ウィンドウ２３０は、パンニング・スライダーを備えて示される。
【００４４】
図６は、本発明の他の実施態様によるマン・マシン・インターフェースのディスプレイ領域２２８についての他の概略図である。スライス２６０は、関連するモザイク・ビュー２６２、２６４、２６６および２６８を有して示されている。この実施態様によれば、モザイク・ビューのいずれか１個がズームまたはパンされると、全てのモザイク・ビューがズームまたはパンする。これに適応するために、モザイク・ビュー２６２、２６４、２６６および２６８はそれぞれ、パンニング・スライダー２４１を備えている。
【００４５】
ナビゲーション・ウィンドウ２３０もまた、規定された他のスライス２７０を有して示されている。スライス２７０は、モザイク・ビュー２７２、２７４、２７６および２７８と関連している。本発明の実施態様によれば、モザイク・ビュー２７２、２７４、２７６および２７８は、同じではない寸法で示されており、そして、各々は独自に寸法変更されかつズームされる。
【００４６】
図７は、本発明の好ましい実施態様によるスライスの生成を示す概略図である。スライス２４０は、ポインティング・デバイス２２６を用いてナビゲーション・ウィンドウ２３０内にシステム・ポインターを位置することによって、ナビゲーション・ウィンドウ２３０内に生成される。システム・ポインターが、マスター・カーソル２５８として再構成されかつ表示されるナビゲーション・ウィンドウ２３０内に位置された後に、例えば、参照数字３００によって示されるマウスのクリックなどのトリガー・イベントが、エンジニア分析家２１０（図４）により遂行される。このトリガー・イベントは、ツール選択メニュー３０２を作動させる。このツール選択メニューは、例えば、ポップ・アップ・メニューであってもよい。ツール選択メニュー３０２内に出現するメニュー項目３０４は、エンジニア分析家２１０がスライス生成ツール３０６を作動することを許容する。スライス生成ツール３０６は、ポインティング・デバイスをクリックすることにより関心のある領域の一角３０８を特定し、そしてマスター・カーソル２５８を斜めにドラッグして長方形スライス２４０を生成することによって、ダイ・フォト上の関心ある領域を選択するために使用される。ツール選択メニューはまた、プル・ダウンメニューとして実施してもよい。スライス生成ツールは、スライス生成装置の一つのタイプを示している。本発明の代替的実施態様によれば、スライス生成ツールは、スライス生成コマンドを発することによって作動させることができる。別の実施態様によれば、スライスの生成は、「ホット・キー」を用いることにより作動させることができる。当業者により理解されるように、その他のスライス生成を作動させる方法もまた、利用可能である。
【００４７】
図８は、本発明の模範的実施態様によるモザイク・ビューの生成を示す概略図である。本発明の好ましい実施態様によれば、スライス２４０は、モザイク・ビューの生成を可能にする関連のモザイク・ビュー生成装置を備えている。
【００４８】
図９は、それにより本発明の好ましい実施態様に従いスライスが生成されるプロセスを示すフロー図であって、そのプロセスは、ダイフォト上の関心ある領域を選択し、そしてモザイク・ビューをスライスのために生成するというものである。このスライス生成プロセスは、ステップ３１０において開始される。本発明による好ましい実施態様によれば、マン・マシン・インターフェースは、イベント駆動インターフェースであって、それは、エンジニア分析家２１０の活動に応答して生成されたイベントを再調査する。当業者にはよく理解されているように、インターフェース・イベントは、マン・マシン・インターフェースの設計ならびにエンジニア分析家２１０の選択に依存して、複数の方法において生成させることができる。例えば、上記において説明したように、スライスの生成は、ポップ・アップ・メニュー、プル・ダウン・メニュー、ホット・キーまたは操作のコマンド・モードの利用によってできるようにしてもよい。本発明に従って、これらのオプションのいずれか１種またはそれ以上を行えるようにしてもよい。
【００４９】
あるイベントは、ステップ３１２において検出される。ステップ３１４において、そのイベントが分析されて、それがスライス生成の要求か否かを決定する。上で述べたように、スライスの生成は、例えば、メニューの選択、コマンド・ラインまたはホット・キーを用いて開始させることができる。もし、そのイベントがスライス生成の要求でなければ、そのイベントを処理し（ステップ３１５）、そしてイベントの監視がステップ３１２で再び続けられる。もし、イベントがステップ３１４においてスタート・スライス・イベントであると決定されれば、スライス生成プロセスは、ダイ・フォト上の関心ある領域を規定するスライス座標の復帰を監視する。もし、座標が、例えば、予め定めた時間間隔（図示せず）内に復帰しなければ、システム・ポインターの位置がステップ３１８においてテストされ、そのシステム・ポインターがダイ・フォト上に存在するか否かを決定することができる。もし、システム・ポインターがダイ・フォト上に存在するならば、プロセスは関心のある領域の選択のための監視へ戻る。もし、システム・ポインターがダイ・フォト上に存在しなければ、ステップ３２０において、エンジニア分析家２１０にダイ・フォト上の関心ある領域の選択を指示するメッセージが表示されるようにすればよい。
【００５０】
スライス座標が入手されると、そのスライス座標はステップ３２２のメモリ内に記憶され、そしてスライス生成パラメータはステップ３２４において検討されて、自動モザイク・ビューの生成が可能か否か決定される。自動モザイク・ビューの生成は、本発明の好ましい実施態様によって提供される特徴であり、それはスライスと関連する各画像モザイクのためのモザイク・ビューを自動的に生成するものである。代替的に、スライスに関して表示すべきモザイク・ビューが、スライスと関連する全ての画像モザイクのリストから選択されるようにしてもよい。もし、スライス生成パラメータが自動モザイク・ビューの生成は可能であると表示するならば（工程３２４）、画像モザイク・リストがステップ３２６において検索され、そしてスライス座標により規定される一つのモザイク・ビューが各画像モザイクのために生成され、かつディスプレイ空間２２８に表示される。
【００５１】
もし、スライス生成パラメータが、自動モザイク・ビューの生成が作動態勢にあることを表示すれば（ステップ３２４）、画像モザイク・リストはステップ３２６において検索され、かつ、スライス座標により規定される一つのモザイク・ビューが各画像モザイクのために生成され、そして、それらのモザイク・ビューは表示スペース２２８（図４）上に表示される（ステップ３２８）。
【００５２】
もし、自動モザイク・ビュー生成が不可能であると決定されるならば（ステップ３２４）、スライスに関連する画像モザイクのリストが表示領域２２８上に表示され、エンジニア分析家２１０が、画像モザイクであり、それのためにモザイク・ビューが生成されるべきものを選択することを可能にする（ステップ３３０）。ステップ３３２において、スライス生成プロセスは、ステップ３３０において表示されたリストから少なくとも１個の画像モザイクが選択されたか否かを決定する。もし、選択されていなければ、画像モザイクが選択されるべきであることか、あるいは、そのプロセスがキャンセルされるべきであることを要求するメッセージが、ステップ３３４において表示される（ステップ３３４）。ステップ３３６において、モザイク・ビューが、選択された各画像モザイクについて生成され、そして、スライス生成プロセスは、ステップ３４０において終結する。
【００５３】
図１０は、それにより本発明の好ましい実施態様に従ってロック・ステップ・カーソルの動きが制御される方法を示すフロー図である。この処理はステップ４００において開始され、そして、これはカーソル・イベント・プロセッシング・グループの一部であり、ここにおいてカーソル・イベントはステップ４０２において検出され、このカーソル・イベントはステップ４０４において分析されて、カーソル・イベントがカーソルの運動を示しているか否かを決定する。もし、カーソルの運動を示していないならば、カーソル・イベントはステップ４０６において処理される。カーソル・イベント、例えば、「エグジット・ボタンをクリック」は、ステップ４０８において処理を終結する。
【００５４】
もし、ステップ４０４において、受け取ったカーソル・イベントがカーソルの運動を示しているものと決定されるならば、そのプロセスはステップ４１０において、システム・ポインターがディスプレイ座標に関してモザイク・ビューの１個のビュー境界と交差しているか否かを決定する。もし、ステップ４１０において、システム・ポインターがビュー境界と交差していると確定されるならば、そのプロセスはステップ４１２において、そのシステム・ポインターはビュー内で交差したか、あるいはビューを去ったか否かを決定する。もし、ステップ４１２において、システム・ポインターがビュー内で交差したと決定されるならば、ステップ４１４において、そのシステム・ポインターはディスプレイ領域上に描かれてマスター・カーソルを表す。そのシステム・ポインターのディスプレイ座標は、ステップ４１６においてサンプル座標に変換される。全ての現在登録されたビューのリストがステップ４１８において得られ、そしてステップ４２０において、そのプロセスはリスト内の全てのビューを繰り返し、システム・マスター・カーソルのサンプル座標を含むカーソル・イベントを各ビューに送出する。サンプル座標を受け取るときに各ビューによって行われるプロセスのステップは、ダッシュで表した境界によって示される。ステップ４２２において、各ビューはマスター・カーソルのサンプル座標をビューのディスプレイ座標に変換し、そしてビュー座標におけるビュー内にロック・ステップ・カーソルを描出する（ステップ４２４）。それから、このプロセスは、ステップ４０２に戻る。
【００５５】
もし、ステップ４１２において、システム・ポインターはビューから移動したものと決定されるならば、ステップ４２６において、そのシステム・ポインターの表示はそのオペレーティング・システム表示に復帰される。ステップ４２８において、このプロセスは登録されたビューのリストを獲得し、そしてリストを繰り返し、カーソル・イベントを登録されたビューのそれぞれに送出する（ステップ４３０）。カーソル・イベントを受け取ると、各ビューはそのビューからロック・ステップ・カーソルを消去し、そして、そのプロセスをステップ４０２から再び始める。
【００５６】
もし、カーソル・イベントがカーソルの運動を示し（ステップ４０４）、そして、システム・ポインターがビュー境界と交差していない（ステップ４１０）と決定されたならば、このプロセスはシステム・ポインターがビュー内に存在するか否かを決定する（ステップ４３４）。存在しなければ、そのプロセスはステップ４０２から続行される。
【００５７】
システム・ポインターがビュー内にあるときにカーソル運動イベント受け取るならば、マスター・カーソルのディスプレイ座標はサンプル座標に変換される（ステップ４３６）。ステップ４３８において、登録されたビューのリストが検索され、そしてステップ４４０において、カーソル・イベントおよびサンプル座標空間に関するマスター・カーソルの新しい位置が、各登録ビューに対する反復プロセスに送られる。新しい座標を受け取ったときに、それに占有されると、各ビューはその位置においてそのロック・ステップ・カーソルを消去し（ステップ４４２）、そしてステップ４４４において、マスター・カーソルのサンプル座標をビューのディスプレイ座標に変換する。それから、そのディスプレイ座標がビュー内にあるならば、ビューは新規なディスプレイ座標においてロック・ステップ・カーソルを再び描出する。
【００５８】
代替的実施態様においては、ロック・ステップ・カーソルの運動は、全てのビューに及ぶ範囲を有する全体的データ構造を利用して可能とされる。全体的データ構造は、調査下の物理的サンプルＩＣにより規定されるサンプル座標空間に関する少なくともマスター・カーソルの位置を記憶する。マン・マシン・インターフェースは、ポインティング・デバイス２２６から受け取ったシステム・ポインター・イベントを処理する。典型的にはシステム割り込みによってそれぞれのシステム・ポインター・イベントが受け取られると、マン・マシン・インターフェースは現在位置におけるシステム・ポインターを表示し、そして、そのマスター・カーソルの位置をアップデートする。もし、システム・ポインターがあるビューのビュー境界内にあれば、それはマスター・カーソルの形状および配置においてディスプレイ面２２８上に描かれ、そして、そのサンプル座標空間内のマスター・カーソルの位置が算出され、全体的データ構造中に記憶される。割り込み処理の役割として、他のビューの各１個は、サンプル座標空間に関するマスター・カーソルの位置がそのビューのビュー境界内に表示可能か否かを決定する。もし、そうならば、そのビューは、表示されたロック・ステップ・カーソルのサンプル座標空間の位置と全体的データ構造内に記憶された位置との比較を行い、必要に応じてビュー内のロック・ステップ・カーソルを消去し、かつ再描出する。
【００５９】
それぞれがシステム・ポインターを有する複数個のワークステーションが、サンプルＩＣを表す複数個の画像モザイクから設計およびレイアウト情報を同時に抽出するに際し使用されるならば、マスター・カーソルの争いの問題は、どのシステム・ポインターがマスター・カーソルであるかを決定するという選択基準を用ることによって解決することができる。その選択基準は、特定ワークステーションの特定システム・ポインターに対する制限、カーソル・イベントを発生させた最後のシステム・ポインターを選択することなどを含んでいてもよい。
【００６０】
【産業上の利用可能性】
本発明は一式のツールを提供し、これは製品の信頼性保証、設計の確認およびデバイスの構造パターンの同定の目的で半導体集積回路（ＩＣ）画像を分析するに際して有用なものである。これらのツールは、マスター・カーソルおよび複数個のロック・ステップ・カーソルであって、マスター・カーソルが画像から生成されたモザイク・ビューの境界内に存在するときに、マスター・カーソルの相対的位置を追跡するものを含んでいる。
【００６１】
このマスター・カーソルおよびロック・ステップ・カーソルは、ＩＣの異なった層を表す異なった画像に出現する特徴を関連づけることにおいて、分析家を補助する。このことは、分析家がＩＣの構造および機能を決定するのを容易にする。ロック・ステップ・カーソルは分析家の疲労を減少させ、そして、特徴の相互相関を単純化し、かつ、トランスレーション・エラーを減少させることによって、生産性を上昇させるものである。
【００６２】
上記した本発明の実施態様は、模範的であることのみを意図するものである。それゆえに、発明の範囲は、添付した特許請求の範囲よってのみ限定されるべきことを意図している。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、半導体集積回路（ＩＣ）の解体における工程を表す画像モザイクが得られる模範的なプロセスの概要を示す作業フロー図である。
【図２】  図２は、ＩＣを製造する際の工程の模範的な経過を示す工程図である。
【図３】  図３は、リバース・エンジニアリングのためにＩＣを解体する際の工程の模範的な経過を示す工程図である。
【図４】  図４は、本発明の好ましい実施態様による多様なビューを表示するための視覚的ディスプレイおよび関連するロック・ステップ・カーソルを有するマン・マシン・インターフェースを示す概略図である。
【図５】  図５は、本発明の好ましい実施態様による多様なビューおよびロック・ステップ・カーソルを示すマン・マシン・インターフェースのディスプレイ領域の概略図である。
【図６】  図６は、本発明の他の実施態様による多様なビューおよびロック・ステップ・カーソルを例示する図５に示されたディスプレイ領域の概略図である。
【図７】  図７は、本発明の好ましい実施態様によるスライスの生成を示す概略図である。
【図８】  図８は、本発明の好ましい実施態様によるモザイク・ビューの生成を示す概略図である。
【図９】  図９は、本発明の好ましい実施態様によるプロセスを示すフロー図であって、それによってスライスが生成され、関心のある領域が規定され、そしてモザイクビューが生成されるものである。
【図１０】  図１０は、本発明の好ましい実施態様によるプロセスを示すフロー図であって、それによってロック・ステップ・カーソルの運動が制御されるものである。
【図１】
0004700890.tif 000002
【図２】
0004700890.tif 000003
【図３】
0004700890.tif 000004
【図４】
0004700890.tif 000005
【図５】
0004700890.tif 000006
【図６】
0004700890.tif 000007
【図７】
0004700890.tif 000008
【図８】
0004700890.tif 000009
【図９】
0004700890.tif 000010
【図１０】
0004700890.tif 000011