(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材の表面に直接または下塗り膜を介して被覆されたアモルファス状膜とを備えており、
前記アモルファス状膜は、
前記基材の表面に直接または下塗り膜を介して被覆され、炭素と水素とを主成分とし、金属又は半金属の超微粒子を含有した第１アモルファス状膜と、
第１アモルファス状膜の表面に形成され、炭素と水素とを主成分とし、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を含有した第２アモルファス状膜とを有し、
前記アモルファス状膜の硬さがＨＶ８００〜２２００の範囲にあることを特徴とする圧縮機翼。
【請求項２】
前記アモルファス状膜の厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の圧縮機翼。
【請求項３】
前記アモルファス状膜の表面の算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、且つ、十点平均粗さＲｚが２．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の圧縮機翼。
【請求項４】
前記アモルファス状膜における炭素原子の割合が８５原子％〜６９原子％、水素原子の割合が１５原子％〜３１原子％の範囲で組成されているものであるとともに、前記アモルファス状膜に対する該炭素原子及び該水素原子の組成割合が１００原子％未満であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の圧縮機翼。
【請求項５】
前記金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子が、Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒから選ばれる一種類以上のものの酸化物であり、
前記第２アモルファス状膜における前記金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子の割合が、３原子％〜３５原子％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の圧縮機翼。
【請求項６】
前記金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子の粒子径が、５Å（５×１０−１０ｍ）未満であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の圧縮機翼。
【請求項７】
前記基材が、Ｔｉ、Ａｌの単体およびその合金、炭素を含み、クロムを必須成分とする構造用鋼、並びにＮｉとＣｒとを必須成分とするステンレス鋼およびＮｉ基合金のうちから選ばれる１種の金属材料であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の圧縮機翼。
【請求項８】
前記下塗り膜が、Ｔｉ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉの単体またはそれらの合金から選ばれる１種以上の膜厚０．１〜３μｍの膜であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の圧縮機翼。
【請求項９】
Ｃ、Ｔｉ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉから選ばれる１種以上の元素を、前記基材の表面部に注入することによって形成された注入層をさらに有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の圧縮翼部材。
【請求項１０】
前記基材の表面の算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚが２．０μｍであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の圧縮機翼。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の圧縮機翼を備えた圧縮機を有していることを特徴とする火力発電用ガスタービン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、火力発電用ガスタービンや航空機用ジェットエンジンなどの圧縮機に装着される圧縮機翼（動静翼・翼根部を含む）およびこの圧縮機翼を備えた火力発電用ガスタービンに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガスタービンは、軸流圧縮機、タービン軸、タービン動静翼および燃焼機器などを基本構成要素とし、これらを保持する軸受け、ケーシングなどが一体となっている回転構造物である。このうち、軸流圧縮機は空気を圧縮するための圧縮機翼を有しており、この圧縮機翼は、ガスタービンの運転に必要な空気を外部から吸入して圧縮する。これにより、最終的には０．８〜１．５ＭＰａの圧縮空気を発生させ、これを燃焼器へ送り出し、燃料の燃焼に用いるとともに、燃焼器およびその付属部材や動翼・静翼などの冷却用空気としても使用する。
【０００３】
上述のような軸流圧縮機の回転軸の周囲には、回転にともなって吸入空気が次第に圧縮されるように、流体力学的に工夫された形状を有する多数の圧縮機翼が最適な角度で取り付けられている。現在採用されている圧縮機翼には、運転にともなう高い機械的応力に耐えるとともに長期間安定した運転を維持する材料、具体的には高強度、疲れ強さ、減衰率が大きい特性を有する１２％Ｃｒ鋼に属するＳＵＳ４０３、ＳＵＳ４１０、Lapelloy合金鋼（１２％Ｃｒ−２．７５％Ｍｏ）、Greek Ascoloy合金鋼（１３％Ｃｒ−３％Ｗ−２％Ｎｉ）、析出硬化型二層ステンレス鋼（１７％Ｃｒ−４％Ｎｉ−３％Ｃｕ）などが使用されている。また圧縮機翼後段の空気温度の高いところでは、Ａ−２８６（２６％Ｎｉ−１５％Ｃｒ−２％Ｔｉ−１％Ｍｏ）、Inconel  ７１８（１６％Ｃｒを含むＮｉ基合金）などが適用されている。また、小型のガスタービン用圧縮機翼には、Ｔｉ合金が適用されることもある。
【０００４】
なお、ガスタービンの高温部、とくにＮｉ基合金やＣｏ基合金などで製造されている動静翼に対しては、特許文献１〜５に示されるような各種耐熱金属および合金皮膜の施工による耐高温酸化性の向上をはじめ、特許文献６〜１０に代表されるような熱遮蔽皮膜の適用が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特公昭５１−４９４１号公報
【特許文献２】特公昭６１−１００３４号公報
【特許文献３】特開平９−１９５０４９号公報
【特許文献４】特開平１１−０６１４３９号公報
【特許文献５】特開２００５−０４２１８６号公報
【特許文献６】特開平４−３６４５４号公報
【特許文献７】特開２００３−２０１８０３号公報
【特許文献８】特開２００４−１６９５５８号公報
【特許文献９】特開２００５−３４３１０７号公報
【特許文献１０】特開２００５−４２１８６号公報
【特許文献１１】特開２００５−２７３５３８号公報
【特許文献１２】特開２００７−２３１７８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
軸流圧縮機の入口空気の温度はほぼ外気温に等しい低温であるが、加圧・圧縮空気の温度は３００℃〜６００℃となるので、圧縮機翼全体としては大気温度（−５℃〜６００℃程度の温度域にさらされることとなる。したがって、圧縮機の入口付近では、吸入空気中に含まれている水分（湿度）は軸流圧縮機入口近傍に配置されている低段の圧縮機翼面では凝縮水となって付着し、空気中に含まれている海塩粒子（海水が飛沫となって空気中を浮遊中、水分のみが蒸発し、ＮａＣｌ、ＭｇＣｌ２などの塩類などが微細な粒子となっているもの）、油煙（主にディーゼルエンジンの排気ガス中に含まれている未燃焼物）、ＳＯ２、ＳＯ３、ＮＯｘなどの腐食性ガス成分などが共存して圧縮機翼面が腐食される環境にある。また、吸入空気中にふくまれる固形粉じん（砂埃）は圧縮機翼に付着してその効率を低下させるほか、圧縮機翼に接触してエロージョン損傷の原因となるなどの問題がある。さらに重要なことは圧縮機翼の腐食が孔食となって現れると、圧縮機翼の折損を招いて大きな事故を誘発する。また、さびの発生、異物の付着、エロージョン損傷などにおいては、圧縮機翼の形状を変化させて圧縮効率を低下させることが予想されるので、以上の問題点を解決することは、ガスタービンプラント全体の発電効率の向上にも寄与する重要な研究課題となっている。また、昨今では、このガスタービンプラント全体の発電効率の向上が、地球温暖化対策としても注目されている。
【０００７】
以上のような圧縮機翼の課題を解決するため、従来から種々の技術が提案されているが、それぞれ下記のような問題点がある。
（１）  圧縮機翼表面にＣｒめっき、Ｎｉめっきなどの皮膜を施工した際、めっき膜に存在するピンホールを通って圧縮機翼の基材面に浸入した水分および海塩粒子、ＳＯｘ、ＮＯｘなどの環境汚染ガスによって、基材が優先的に腐食されて孔食が発生し、圧縮機翼の折損を誘発する。
（２）  現行のＡｌを含むクロム酸化物の皮膜では、無処理の圧縮機翼に比較すると耐食性は向上するものの、吸入空気中に含まれている微細な粉じん類の付着は依然として防げず、しばしば圧縮機の水による洗浄を余儀なくされている。
（３）  無処理の圧縮機翼をはじめ上記（１）〜（２）などの既存技術によって施工された表面処理皮膜の形成翼においても、ガスタービンの運転に伴って圧縮機翼表面に粉じん類が堆積して、圧縮効率が低下してくる。この対策として、ガスタービンの運転中に硬質の木の実あるいは殻の粉砕片を吸入空気中に投入し、圧縮機翼と機械的に接触させることによって除去する方法があるが、粉砕片による圧縮機翼の損傷とともに、圧縮空気とともにタービン部へ搬送された粉砕片が冷却用空気孔を閉塞してタービン翼などの高温部材を過熱損傷させる可能性がある。
（４）  吸入空気中に含まれている微細な粉じんを除去するために設置されている多段式の空気フィルターは、それなりに効果は認められるものの、設備費が大となるほか、あまり完全な空気フィルターの設置では吸入空気の抵抗が大きくなるためその効果には一定の限界がある。
（５）  圧縮機翼表面で発生する腐食、粉じんによるエロージョン損傷の発生は、圧縮機翼表面を粗面化したり、圧縮機翼形状の変化を伴うことが多くなったりするとともに、圧縮効率の低下の原因となっている。
（６）  上記（１）〜（５）が原因となる障害の早期発見、及び、その保守点検を行うために実施する作業時間の短縮化とともに、長期間無点検で使用できる信頼性の高い圧縮機翼が要望されている。
【０００８】
しかし、圧縮機翼に対しては、前述のような課題があるにも拘らず、ガスタービンの高温部に比べると環境温度が低く、腐食およびエロージョン損傷の程度が軽微なこともあって、新しい対策技術の提案は殆どない状況にある。僅かに特許文献１１において圧縮機翼のディスクへの植込部に対し、軟質のＣｕ−Ｎｉ−Ｉｎ合金を形成してディスクとの焼き付きを防ぐ技術が開示されている程度である。これに対して、本発明者は、上記特許文献１２に開示したように、圧縮機翼の表面に炭素と水素とを主成分とするアモルファス状態の皮膜を形成して、耐食性、耐エロージョン性に加え、異物付着を抑制して、圧縮機の性能低下を抑制する技術を提案した。しかしながら、現在は、特許文献１２に開示したものの効果よりもさらに高い効果が得られるものが要求されている。
【０００９】
そこで、本発明は、上記特許文献１２のものよりもさらに圧縮機の性能低下を抑制する圧縮機翼と、この圧縮機翼を備えた圧縮機を有している火力発電用ガスタービンを提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の圧縮機翼は、基材と、前記基材の表面に直接または下塗り膜を介して被覆されたアモルファス状膜とを備えており、前記アモルファス状膜は、前記基材の表面に直接または下塗り膜を介して被覆され、炭素と水素とを主成分とし、金属又は半金属の超微粒子を含有した第１アモルファス状膜と、第１アモルファス状膜の表面に形成され、炭素と水素とを主成分とし、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を含有した第２アモルファス状膜とを有するものである。
【００１１】
本発明の圧縮機翼においては、前記アモルファス状膜の厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲にあることが好ましい。
【００１２】
【００１３】
本発明の圧縮機翼においては、前記アモルファス状膜の表面の算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、且つ、十点平均粗さＲｚが２．０μｍ以下であることが好ましい。
【００１４】
本発明の圧縮機翼においては、前記アモルファス状膜における炭素原子の割合が８５原子％〜６９原子％、水素原子の割合が１５原子％〜３１原子％の範囲で組成されているものであるとともに、前記アモルファス状膜に対する該炭素原子及び該水素原子の組成割合が１００原子％未満であることが好ましい。
【００１５】
本発明の圧縮機翼においては、前記金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子が、Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒから選ばれる一種類以上のものの酸化物であり、前記第２アモルファス状膜における前記金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子の割合が、３原子％〜３５原子％であることが好ましい。
【００１６】
本発明の圧縮機翼においては、前記金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子の粒子径が、５Å（５×１０−１０ｍ）未満であることが好ましい。
【００１７】
本発明の圧縮機翼においては、前記基材が、Ｔｉ、Ａｌの単体およびその合金、炭素を含み、クロムを必須成分とする構造用鋼、並びにＮｉとＣｒとを必須成分とするステンレス鋼およびＮｉ基合金のうちから選ばれる１種の金属材料であることが好ましい。
【００１８】
本発明の圧縮機翼においては、前記下塗り膜が、Ｔｉ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉの単体またはそれらの合金から選ばれる１種以上の膜厚０．１〜３μｍの膜であることが好ましい。
【００１９】
本発明の圧縮機翼においては、Ｃ、Ｔｉ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉから選ばれる１種以上の元素を、前記基材の表面部に注入することによって形成された注入層をさらに有することが好ましい。
【００２０】
本発明の圧縮機翼においては、前記基材の表面の算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚが２．０μｍであることが好ましい。
【００２１】
【００２２】
【００２３】
【００２４】
【００２５】
本発明の火力発電用ガスタービンは、上述した圧縮機翼のうちいずれか１つを備えた圧縮機を有しているものである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明における炭素と水素とを主成分とし、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜は、緻密で化学的に安定な性質によって優れた耐摩耗性、耐食性、及び耐熱性を発揮し、鏡面のような平滑性や適度に高い硬さなどの性状を有する。また、本発明におけるアモルファス状膜は、基材の変形に追随できるほどの硬さ及び厚さで均一に形成される。したがって、本発明によると、異物の付着を防ぎつつ、耐エロージョン性に著しい効果を発揮するとともに、衝撃や曲げ応力に強いので、破壊されたり剥離したりしにくいアモルファス状膜を有する圧縮機翼を提供できる。また、下塗り膜又は注入層を介して基材にアモルファス状膜が形成されている場合には、単に基材表面に形成するよりもアモルファス状膜の密着性が増すことになる。したがって、特許文献１２のものより破壊されたり剥離したりしにくいアモルファス状膜を有する圧縮機翼を提供できる。
【００２７】
また、上述の圧縮機翼を用いた圧縮機翼を備えた圧縮機を有している本発明の火力発電用ガスタービンによると、吸入空気中に含まれている水分、海塩粒子、ＳＯｘ、ＮＯｘ及び油煙などに起因する腐食、エロージョン損傷をはじめ異物の付着に伴う性能低下を特許文献１２のものより抑制することができる。この結果、特許文献１２のものに比べて、火力発電用ガスタービンの圧縮機翼の保守点検およびその補修工程が軽減短縮されるほか、火力発電用ガスタービン全体の発電効率の低下を抑制して化石燃料の消費を節減する一方、単位発電量あたりのＣＯ２発生量を少なくし、地球温暖化対策としても貢献することが期待できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下に本発明の実施形態に係る圧縮機翼及びその製造方法、並びに火力発電用ガスタービンを説明する。
【００２９】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る圧縮機翼を示す断面図である。図２は、図１の圧縮機翼の表面付近の一部拡大図である。
【００３０】
圧縮機翼１は、図示しないが、一般的な圧縮機翼と同様の外形をしている。圧縮機翼１の表面付近の一部拡大部分１１は、金属製の基材１２と、この基材１２の表面に形成されたアモルファス状膜１３とを備えてなる。
【００３１】
基材１２としては、Ｔｉ、Ａｌの単体およびその合金、炭素を含み、クロムを必須成分とする構造用鋼、ＮｉとＣｒとを必須成分とするステンレス鋼およびＮｉ基合金等が挙げられる。また、基材１２の表面の算術平均粗さＲａは０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚは２．０μｍである。
【００３２】
アモルファス状膜１３は、炭素と水素とを主成分とし、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子（粒子径が、５Å（５×１０−１０ｍ）未満）を分散含有しているものであり、厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲にある。特に５〜２０μｍが好適である。１μｍより薄い膜では耐食性、耐エロージョン性が十分ではなく、また５０μｍより厚い皮膜では、圧縮機の運転環境などで翼が変形した場合、皮膜にひび割れが発生するおそれがある。金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子の例としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒを酸化してなる粒子が挙げられる。なお、超微粒子は、１種類の金属酸化物又は半金属酸化物に限られず、複数種からなるものであってもよいし、金属酸化物と半金属酸化物とが混合しているものであってもよい。
【００３３】
また、アモルファス状膜１３の硬さは、マイクロビッカース硬さでＨＶ８００〜２２００の範囲にある。１２ｍａｓｓ％Ｃｒ鋼の硬さ（ＨＶ２００〜２５０）に比較すると格段に硬く、優れた耐エロージョン性を発揮する。また、アモルファス状膜１３に含まれる金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子は、硬質であり且つ耐食性をも有しているので、耐摩耗性、耐熱性も良好である。
【００３４】
さらに、アモルファス状膜１３においては、炭素原子の割合が８５〜６９原子％、水素原子の割合が１５〜３１原子％の範囲で組成されているものであるとともに、アモルファス状膜１３に対する該炭素原子及び該水素原子の組成割合が１００原子％未満となるように調整されているが、より好ましくは、アモルファス状膜１３における超微粒子の割合を、３原子％〜３５原子％とし、アモルファス状膜１３に対する炭素原子、水素原子、及び超微粒子の組成割合を１００原子％とすることである。なお、水素原子含有量が１５％未満のアモルファス状膜１３は硬質であるものの、延性に乏しいため基材１２の熱膨張や変形に追随できず、またアモルファス状膜１３の形成時に大きな内部応力を潜在するようになるので、圧縮機の運転環境では、はく離しやすいという欠点がある。一方、水素原子含有量が３１％より大きくなると、アモルファス状膜１３の硬さおよび機械的強度が低下するので好ましくない。また、アモルファス状膜１３中の金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子の含有量が３原子％未満では、該超微粒子の添加効果が少なく、一方、３５原子％を超えている場合には、アモルファス状膜１３が環境によっては割れやすくなることがあるので好ましくない。
【００３５】
また、アモルファス状膜１３の表面の算術平均粗さＲａは０．５μｍ以下、且つ、十点平均粗さＲｚは２．０μｍ以下である。
【００３６】
このようなアモルファス状膜１３は、緻密であるうえ、酸、アルカリ、などの水溶液中に浸漬してもまったく腐食されず、気孔が無いため、気孔部分のみが優先的に腐食されて顕在化する孔食の発生がない。また、基材１２表面に形成されるアモルファス状膜１３は比重が約２．０前後であるので、圧縮機が運転中に何らかの原因で圧縮機翼１のアモルファス状膜１３がはく離しても、後段に配設されている他の翼などに障害を与えず、また５５０℃以上の温度では二酸化炭素（ＣＯ２）、水蒸気（Ｈ２Ｏ）に分解されてしまうので、タービン部の冷却孔などの閉塞原因にならない。さらに、アモルファス状膜１３中に含まれている金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子の直径は極めて小さい（５Å（５×１０−１０ｍ）未満）ので、該超微粒子も上記冷却孔などの閉塞原因にならない。
【００３７】
次に、圧縮機翼１の製造方法について工程ごとに説明する。
【００３８】
（１：基材表面の仕上げ工程）
アモルファス状膜１３を形成するための基材１２表面においては、機械的、化学的および電気化学的方法によって、算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚが２．０μｍ以下の鏡面状態となるように仕上げる。このような表面仕上げを行わないと、基材１２表面は粗いので、突起物などが存在する場合がある。従って、基材１２表面に形成するアモルファス状膜１３の厚さが１０μｍと比較的薄い場合、突起物のある部分のアモルファス状膜１３が早期に破壊されたり、腐食発生の起点となったりすることがある。
【００３９】
機械的に研磨する場合は細粒の＃６００の研磨ベルトを用いて算術平均粗さＲａを１〜３μｍ程度にしたあと、ラッピング加工やバフ研磨によって表面の突起物を除去し、十点平均粗さＲｚを０．８以下に仕上げることができる。また、細粒の研磨ベルト加工を終えた面を化学研磨法（例えば硝酸、塩酸、リン酸などの混合液）またはこれらの研磨液中で基材１２を陽極として電解研磨法を適用すれば、算術平均粗さＲａが０．１μｍ、十点平均粗さＲｚが０．５μｍ以下の程度の鏡面が得られ、特に好適な前処理面を形成できる。ただし、アモルファス状膜１３の厚さが１０μｍ〜５０μｍの場合には、機械的研磨（算術平均粗さＲａが１〜３μｍ）だけでも密着性および性能のよいアモルファス状膜１３が形成されるとともに、アモルファス状膜の表面粗さが、基材の粗さの影響を受けがたくなって、平滑化する傾向があるので、特に仕上げ程度を規定しなくともよい。
【００４０】
（２：金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を分散含有してなるアモルファス状膜の形成工程）
次に、上述の仕上げ工程を経た基材１２表面に、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を分散含有してなるアモルファス状膜を形成する工程について説明する。まず、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を形成する前工程である、所定の超微粒子（Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒなどから選ばれる一種類以上のもの）を分散含有してなるアモルファス状膜の形成工程について説明し、その後に、上記所定の超微粒子を酸化する工程について説明する。
【００４１】
（２−１：所定の超微粒子を分散含有してなるアモルファス状膜の形成工程）
図３は、上記所定の超微粒子を分散含有してなるアモルファス状膜を形成するための装置の概略構成図である。この装置は、接地された反応容器２と、この反応容器２内部空間とそれぞれバルブ７ａ、バルブ７ｂを介して接続されている成膜用の有機系ガス導入装置（図示せず）及び反応容器を真空引きする真空装置（図示せず）と、反応容器２内の所定の位置に配設される圧縮機翼１の基材１２に接続する導体３に導入端子９を介して高電圧パルスを印加するための高電圧パルス発生電源４と、高電圧導入部９を介して導体３に高周波を印加し、圧縮機翼１の基材１２周囲にプラズマを発生させるプラズマ発生用電源５と、パルスおよび高周波の印加を一つの導体３で共用するために、高電圧パルス発生電源４及びプラズマ発生用電源５との間に設けられるとともに、高電圧導入部９と電気的に接続されている重乗装置６と、反応容器２及び地表と電気的に接続されているアース線８とを備えている。
【００４２】
上述の構成の装置を用いてアモルファス状膜１３を基材１２表面に形成するには、被処理体としての基材１２を所定の位置に設置し、真空装置を稼動させ、バルブ７ｂを介して反応容器２中の空気を排出させたあと、ガス導入装置によってバルブ７ａを介して有機化合物ガスを反応容器２に導入する。
【００４３】
ここで、本実施形態において使用できる有機化合物ガスの種類について説明する。反応容器２内に導入するガスの種類は、炭素と水素とからなる炭化水素およびこれに所定の元素（Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒなどから選ばれる一種類以上のもの）を結合させた有機化合物ガスである。
【００４４】
有機化合物ガスの例としては、例えば、Ｓｉの微粒子を析出させたい場合には、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）４Ｓｉ、（ＣＨ３Ｏ）４Ｓｉ、［（ＣＨ３）３Ｓｉ］などが好適である。なお、他のＡｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒなどを析出させるには、前記有機化合物ガス中のＳｉの代わりに、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒを付加した組成のガスを使用すればよい。また、（Ｃ１１Ｈ１９Ｏ２）基又は（Ｃ１２Ｈ２１Ｏ２）基に、Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒなどの元素を付加した有機化合物を使用しても、炭素と水素とを主成分とし、Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒなどの元素を分散含有したアモルファス状膜を形成できる。なお、常温で気相状態の有機化合物ガスは、そのままの状態で反応容器２に導入できるが、液相状態の化合物はこれを加熱してガス化させ、この蒸気を反応容器２中へ供給する。有機Ｓｉ化合物を用いてアモルファス状膜を形成すると、この膜中にＳｉが混入し、その一部のＳｉは炭素と強く結合し、ＳｉＣｘを生成している可能性があるが、本実施形態において使用するための妨げとはならない。
【００４５】
上述のような有機金属化合物ガスを反応容器２に導入後、プラズマ発生用電源５からの高周波電力を基材１２に印加する。反応容器２は、アース線８によって電気的に中性状態にあるため、基材１２は、相対的に負の電位を有することとなる。このため印加によって発生する、導入ガスのプラズマ中の＋イオンは負に帯電した基材１２の形状に沿って発生する特徴がある。さらに高電圧パルス発生源４からの高電圧パルス（負の高電圧パルス）を基材１２に印加しプラズマ中の＋イオンを基材１２の表面に衝撃的に誘引させることができる。この操作によって基材１２の表面に均等な厚さのアモルファス状膜１３を形成することができる。このプラズマ中では下記（１）〜（４）に示すような現象が発生し、最終的には炭素と水素を主成分とする固形状態のアモルファス状膜中に、Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒなどの超微粒子が共析する。なお、これらの超微粒子は、粒子径が、Ｓｉ＝１．３４Å（１．３４×１０−１０ｍ）、Ａｌ＝２．８６Å（２．８６×１０−１０ｍ）、Ｙ＝３．６４Å（３．６４×１０−１０ｍ）、Ｍｇ＝３．２０Å（３．２０×１０−１０ｍ）、Ｃｒ＝２．５０Å（２．５０×１０−１０ｍ）であるため、光学顕微鏡はもとより、電子顕微鏡でさえも判別困難なほどである。
【００４６】
（１）導入されたガス（炭化水素）のイオン化（ラジカルと呼ばれる活性な中性粒子も存在する）。
（２）ガスから変化したイオンおよびラジカルは、負の電圧が印加された翼面に衝撃的に衝突する。
（３）衝突時の衝撃によって結合エネルギーの小さいＣ−Ｈ間が切断されＨがスパッタされる。
（４）翼表面に水素を含んだアモルファス状膜が形成される。
【００４７】
なお、パルス幅を１μＳｅｃ〜１０ｍＳｅｃ、パルス数を１〜複数回としたパルスの繰り返しも可能である。また、プラズマ発生用電源５の高周波電力の出力周波数は数十ｋＨｚ〜数ＧＨｚの範囲で変化させることができる。以上のような方針でアモルファス状膜を形成する方法を、ここでは高周波プラズマＣＶＤ法と呼ぶこととする。
【００４８】
（２−２：アモルファス状膜中の所定の超微粒子を酸化する工程）
アモルファス状膜中の所定の超微粒子を酸化するには、（ａ）酸素ガスを含む雰囲気中で加熱する、（ｂ）酸素ガスプラズマによって酸化させる、のいずれかの方法を用いることができる。これらの方法を順次、説明する。
【００４９】
〔（ａ）酸素ガスを含む雰囲気中で加熱する〕
所定の超微粒子（Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒなどから選ばれる一種類以上のもの）を含むアモルファス状膜を空気中または酸素ガスを含む雰囲気路などの環境で加熱すると、このアモルファス状膜に含まれている超微粒子は、膜の表面から酸化して酸化物に変化する。具体的には、Ｓｉ→Ｓｉ０２，Ａｌ→Ａｌ２Ｏ３，Ｙ→Ｙ２Ｏ３など化学的に安定な酸化物に変化して、耐食性と耐プラズマ性とを発揮することとなる。この場合の加熱温度は、上限を５００℃とする。５００℃以上に加熱すると、炭素と水素とを主成分とするアモルファス状膜が劣化するからである。加熱時間はアモルファス状膜に含まれている微粒子の酸化物の変化速度に応じて決定されるが、たとえば０．１ｈｒ〜１０ｈｒ程度である。なお、アモルファス状膜に含まれている超微粒子がすべて酸化物に変化している場合は、それ以上加熱時間を長くするとアモルファス状膜が熱的に劣化するおそれがある。
【００５０】
〔（ｂ）酸素ガスプラズマによって酸化させる〕
たとえば図３のプラズマＣＶＤ装置を用い、雰囲気ガスとして、酸素ガスまたはＡｒ，Ｈｅなどに酸素ガスを含ませたガスを導入し、所定の超微粒子（Ｓｉ、Ａｌ、Ｙ、Ｍｇ、Ｃｒなどから選ばれる一種類以上のもの）を含むアモルファス状膜を有する基材を負に帯電させてプラズマを発生させるとアモルファス状膜に含まれる超微粒子は、励起された酸素イオンの衝撃を受け、表面から次第に酸化物へと変化する。この方法はアモルファス膜の形成後、直ぐに製品に実施できるうえアモルファス状膜が加熱されるおそれがないため、加熱酸化法に比較すると品質が安定しており、また生産性の向上につながるので有利である。
【００５１】
上記構成によれば、従来よりも、異物の付着を防ぎつつ、耐エロージョン性に著しい効果を発揮するとともに、衝撃や曲げ応力に強いので、破壊されたり剥離したりしにくいアモルファス状膜１３を有する圧縮機翼１及びその製造方法を提供できる。
【００５２】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態に係る圧縮機翼について説明する。なお、第１実施形態の符合１１、１３の部位と、本実施形態の符合２１、２３の部位とは順に同様のものであり、その説明を省略することがある。図４は、本発明の第２実施形態に係る圧縮機翼の表面付近の一部拡大断面図である。
【００５３】
本実施形態の圧縮機翼は、図示しないが、一般的な圧縮機翼と同様の外形をしている。圧縮機翼の表面付近の一部拡大部分２１は、基材２２と、この基材２２の表面に形成されたアモルファス状膜２３とを備えてなる。
【００５４】
基材２２は、基材主部２２ａと、基材主部３２ａの表面上（基材３２の表面部）に形成された注入層２２ｂとを有する。注入層２２ｂは、Ｃ、Ｔｉ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉから選ばれる１種以上の元素を、基材２２の表面部に注入することによって形成されたものである。なお、一変形例として、注入層２２ｂとアモルファス状膜２３との間に金属薄膜を形成してもよい。
【００５５】
次に、本実施形態に係る圧縮機翼の製造方法について説明する。なお、基材２２表面の仕上げ工程及びアモルファス状膜２３の形成工程は、第１実施形態と同様であるので簡略化した説明とし、基材２２の注入層２２ｂの形成工程について詳細に説明する。
【００５６】
まず、第１実施形態において説明した図３の装置を用いて、高電圧パルス発生源４の出力電圧を変化させることによって、基材２２表面に対して金属をふくめたイオン注入を実施して注入層２２ｂを形成する。そして、注入層２２ｂの表面に第１実施形態と同様にしてアモルファス状膜２３を形成する。
【００５７】
なお、上述した一変形例において、注入層２２ｂとアモルファス状膜２３との間に金属薄膜を形成する場合にも、図３の装置は用いることができる。例えば、以下の（１）〜（４）の条件で、基材２２表面部又は表面上の各層の形成に使用できる。
（１）基材２２表面部にイオン注入を重点的に行う場合：１０〜４０ｋＶ
（２）イオン注入と金属薄膜形成とを行う場合：５〜２０ｋＶ
（３）基材２２上に金属薄膜形成を行う場合：数百Ｖ〜数ｋＶ
（４）基材２２上にスパッタリングなどで金属薄膜形成を重点的に行う場合：数百Ｖ〜数ｋＶ
したがって基材２２表面部又は表面上にＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉなどの炭素と化学的親和力の強い金属イオン注入や金属の薄膜を形成した後、その上にアモルファス状膜２３を積層させることが可能である。
【００５８】
上記構成によれば、第１実施形態と同様の効果を奏すると共に、注入層２２ｂを介して基材２２上にアモルファス状膜２３が形成されているので、単に基材２２表面に形成するよりもアモルファス状膜２３の密着性が増す。したがって、より破壊されたり剥離したりしにくいアモルファス状膜２３を有する圧縮機翼及びその製造方法を提供できる。
【００５９】
＜第３実施形態＞
次に、本発明の第３実施形態に係る圧縮機翼について説明する。なお、第１実施形態の符合１１〜１３の部位と、本実施形態の符合３１〜３３の部位とは順に対応しており、その説明を省略することがある。図５は、本発明の第３実施形態に係る圧縮機翼の表面付近の一部拡大断面図である。
【００６０】
本実施形態の圧縮機翼は、図示しないが、一般的な圧縮機翼と同様の外形をしている。圧縮機翼の表面付近の一部拡大部分３１は、金属製の基材３２と、この基材３２の表面に形成されたアンダーコート３４（下塗り膜）と、このアンダーコート３４の表面に形成されたアモルファス状膜３３とを備えてなる。
【００６１】
アンダーコート３４は、Ｔｉ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉの単体またはそれらの合金から選ばれる１種以上の膜厚０．１〜３μｍの膜である。
【００６２】
次に、本実施形態に係る圧縮機翼の製造方法について説明する。なお、基材３２表面の仕上げ工程及びアモルファス状膜３３の形成工程は、第１実施形態と同様であるので簡略化した説明とし、アンダーコート３４の形成工程について詳細に説明する。
【００６３】
まず、第１実施形態と同様にして基材３２表面を仕上げ処理し、この基材３２表面に、電気めっき法、ＣＶＤ法またはＰＶＤ法から選ばれる１種以上の方法を用いて、アンダーコート３４を形成する。そして、アンダーコート３４の表面に第１実施形態と同様にしてアモルファス状膜３３を形成する。
【００６４】
上記構成によれば、第１実施形態と同様の効果を奏すると共に、アンダーコート３４を介して基材３２上にアモルファス状膜３３が形成されているので、単に基材３２表面に形成するよりもアモルファス状膜３３の密着性が増す。したがって、より破壊されたり剥離したりしにくいアモルファス状膜３３を有する圧縮機翼及びその製造方法を提供できる。
【実施例】
【００６５】
以下、実施例を示しながら、本発明を具体的に説明する。
【００６６】
（実施例１）
この実施例では、上記第１実施形態と同様の構成で、表面粗さの異なる各炭素鋼基材の表面に、厚さを０．０５μｍから最大で７０μｍの範囲に制御したアモルファス状膜（ＳｉＯ２の超微粒子を全体に対して１８．２原子％分散含有しているもの）をコーティングした試験片を作成し、ＪＩＳＺ２３７１規定の塩水噴霧試験方法を連続９６時間実施して、各試験片の外観を目視観察して赤錆の発生状況を調査した。なお、炭素鋼基材の寸法は幅２５ｍｍ×長さ６０ｍｍ×厚さ１．０μｍである。また、該炭素鋼基材の表面粗さは、Ｒａ １μｍ〜１０μｍのものについては砥粒の大きさを変えたエメリー紙による研磨によって調製し、Ｒａ ０．３μｍ以下の表面粗さのものについては、＃１０００エメリー紙による研磨後電解研磨によって仕上げた。またＲａ １０μｍ以上の表面粗さの炭素鋼基材については、Ａｌ２Ｏ３粒子を用いたブラスト処理によって調製した。下記表１は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
【００６７】
【表１】
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【００６８】
表１の結果から明らかなように、ＳｉＯ２の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜の厚さが０．９０μｍ以下では、炭素鋼基材の表面粗さを鏡面状態（０．０１μｍ以下）に仕上げても赤錆の発生が多く、耐食性に乏しいことが確認された。しかし、該アモルファス状膜の厚さを１．０μｍ以上にすると耐食性は向上し、厚さを６０〜７０μｍにすると炭素鋼基材の表面粗さがＲａ １０〜１５μｍに達しても、優れた耐食性を発揮した。これらの結果から、本発明に係るアモルファス状膜の耐食性はその膜厚及び基材表面粗さに大きな影響を受けることがわかった。
【００６９】
（実施例２）
実施例１と同じ試験片をそれぞれ用いて、中央部を９０°に曲げたあとＪＩＳＺ２３７１規定の塩水噴霧試験方法によって連続９６時間の試験をおこなった。試験後の各試験片の外観、特に曲げ部における赤錆の発生の有無について調査した。下記表２は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
【００７０】
【表２】
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【００７１】
表２の結果から明らかなように、炭素鋼基材表面のＲａを０．３μｍ以下、アモルファス状膜の厚さを１μｍ（Ｎｏ．３）から５０μｍ（Ｎｏ．６）のもので曲げ加工を行ったが、赤錆の発生は認められなかった。すなわち、この条件を満足する、ＳｉＯ２の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜であれば、曲げ加工を行っても試験片表面にひび割れなどの欠陥が発生せず優れた耐食性を維持していることが確認された。一方、該アモルファス状膜が６０〜７０μｍ（Ｎｏ．７）の厚さでは炭素鋼基材の表面粗さが０．１μｍ未満であっても曲げ加工によってアモルファス状膜にひび割れが発生し、この欠陥部を通して浸入した塩水によって試験片が腐食されつつある状況が観察された。
【００７２】
以上の実施例１及び２の結果から、軸流圧縮機のように運転中に大きな曲げモーメントが付加される部材に対しては、炭素鋼基材のＲａが０．５μｍ以下、Ｒｚが０．８μｍ以下となるように仕上げれば、ＳｉＯ２の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜の厚さが１μｍでも優れた耐食性を発揮することが判明するとともに、該アモルファス状膜の厚さが２５〜５０μｍになると、炭素鋼基材の表面粗さを特に規定しなくても十分な耐食性を保持することが確認された。
【００７３】
（実施例３）
この実施例では、第２実施形態と同様の構成で、基材として、実施例１で使用した炭素鋼基材と同一寸法のＳＳ４００鋼板（Ｒａ＝０．１２μｍ、Ｒｚ＝０．８８μｍ）を用い、その片面に対して高周波プラズマＣＶＤ法により各種の元素を注入した後、その表面に形成したＳｉＯ２の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜を１５μｍの棒鋼を支点にして９０°に曲げた状態でアモルファス状膜の表面を拡大鏡で観察記録した。その後、さらにこの試験片を１８０°に曲げ同じ位置を拡大鏡で観察記録し、ＳＳ４００鋼板の表面部への注入層形成によるアモルファス状膜の密着性向上の有無を調査した。なお、この実施例の注入層に注入された元素は、Ｃ、Ｃと化学的親和力の高いＮ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉ、の９種類で注入濃度は１×１０１２〜１×１０１４イオン濃度である。なお、比較例としてＣとの化学的親和力の小さいＣｕ、Ｎｉ、Ｓｎを同濃度の注入処理を施した。また、それぞれの注入層の上に形成したアモルファス状膜中のＳｉＯ２超微粒子の含有量は１３原子％、水素量は１２原子％、残りは炭素の主要組織を有するものである。下記表３は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
【００７４】
【表３】
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【００７５】
表３の結果から明らかなように、比較例のＣｕ、Ｎｉ、Ｓｎ（Ｎｏ．９、１０、１１）を注入した試験片では９０°曲げただけでも完全にはく離したが、ＣおよびＣと化学的親和力の強い金属イオンを注入して注入層を形成した試験片（Ｎｏ．１〜８）では、１８０°曲げてもアモルファス状膜にはく離が認められなかった。したがって、ＳＳ４００鋼板基材の表面部に注入層を形成することによって、ＳＳ４００鋼板基材へのアモルファス状膜の密着力が大きく向上するという効果が認められた。
【００７６】
（実施例４）
この実施例では、炭素鋼、ＳＵＳ４１０鋼（寸法：幅５０ｍｍ×長さ１００ｍｍ×厚さ３．２ｍｍ）の試験片の表面に、ＳｉＯ２の超微粒子を３０原子％の割合で分散含有しているアモルファス状膜を１５μｍの厚さで形成した後、このアモルファス状膜表面に対し、高さ１００ｍｍの距離から６０メッシュのＡｌ２Ｏ３粉末を含む０．５ＭＰａの空気を３０°の角度で吹き付けアモルファス状膜の耐エロージョン性を調査した。図６は、本実施例に用いたエロージョン装置の概略構成図である。このエロージョン装置の使用方法は以下の通りである。試験片４９を試験片ホルダー４１に固定した後、この直上に設置したノズル４２から６０メッシュのＡｌ２Ｏ３粉末を含む５ｋｇ・ｃｍ−２気圧の圧縮空気を試験片の表面にＡｌ２Ｏ３種として５００ｇを吹き付け、試験後のアモルファス状膜表面を目視（拡大鏡観察を含む）およびエロージョン部の触針式表面粗さ計によってエロージョンによる表面形態の変化を測定することによって侵食深さを推定した。なお図６における４３は空気式の圧縮機、４４は水分除去機、４５は圧力調整機、４６は空気流量調製機、４７はＡｌ２Ｏ３粉末の供給用ホッパー、４８はＡｌ２Ｏ３粉末を搬送するための空気孔である。この実施例では比較用の試験片として、無処理のＳＳ４００、ＳＵＳ４１０とともに硬度の高いアモルファス状膜を用いた。下記表４は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
【００７７】
【表４】
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【００７８】
表４の結果から明らかなように、比較例の無処理（Ｎｏ．１）とＳＵＳ４１０鋼（Ｎｏ．２）は目視で判別可能なほど摩耗痕が認められた。一方、ＳｉＯ２の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜でも硬度が高いもの（Ｎｏ．３、４、７、８）ではＡｌ２Ｏ３粉末の衝撃エネルギーによって、皮膜が破壊され、基材が露出するとともに基材にもエロージョンの発生が認められた。これに対し、本発明に係るアモルファス状の皮膜（Ｎｏ．５、６）はいずれも皮膜は残存するとともに、表面粗さ計によるエロージョン深さは２μｍ以下を示し、優れた耐エロージョン性を示した。以上の結果から、硬質のアモルファス状膜は成膜時に高い残留応力を有しているため、衝撃が連続して付加される環境では破壊されやすいことが判明した。
【００７９】
（実施例５）
この実施例では、上記第３実施形態と同構成で、基材として、ＳＳ４００鋼（寸法：幅１０ｍｍ×長さ５０ｍｍ×厚さ１．５ｍｍ）の試験片を用い、その表面に電気めっき法、ＣＶＤ法およびＰＶＤ法によって各種の金属の薄膜をアンダーコートとして施工した後、その表面に本発明にかかるＳｉＯ２の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜を１５μｍ厚で形成した後、この試験片を実施例３と同じように１８０°の曲げ試験を行って、該アモルファス状膜の密着性について拡大鏡を使って調査した。アンダーコートの形成法及び金属薄膜の種類は下記の通りである。
電気めっき法  ：Ｃｒ、Ｃｕ−Ｎｉ
ＣＶＤ法      ：Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉ
ＰＶＤ法      ：Ｔｉ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ
下記表５は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
【００８０】
【表５】
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【００８１】
この結果から明らかなように、Ｔｉ、Ｗ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉのように炭素との化学的親和力の強い金属薄膜をアンダーコートとして形成した試験片では、電気めっき法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法のいずれの方法で施工しても、ＳｉＯ２の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜ははく離せず、優れた密着力をしめした。これに対して、比較例の電気めっき法で形成したＣｕ（Ｎｏ．８）、およびＮｉ（Ｎｏ．９）はアモルファス状膜との密着性が弱く、完全にはく離した。
【００８２】
（実施例６）
この実施例では２種類の酸化物粒子を含むアモルファス状膜の耐熱衝撃性とその試験後の試験片を用いて塩水噴霧試験を行い熱衝撃後の耐食性を調査した。
【００８３】
（１）供試基材と供試膜
供試基材として実施例４と同じＳＵＳ４１０を用い、この試験片の全面に下記表６に記載した２種類の酸化物粒子を含むアモルファス状膜（１２μｍ）を形成した試験片（表６のＮｏ．１〜６のもの）を準備した。
【００８４】
（２）試験方法と条件
３５０℃×１５分加熱の後、２０℃水道水で冷却するという工程を５回繰り返す熱衝撃試験を実施した試験片を外観観察したのち、同じ試験片をＪＩＳＺ２３７１規定の塩水噴霧試験を９６時間実施し、その耐食性を比較した。
【００８５】
（３）試験結果
試験結果を表６に示した。この結果から金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を含まないアモルファス状膜（Ｎｏ．１）は熱衝撃試験によって膜の一部が割れているため、塩水噴霧試験によって多量の赤さびを発生した。しかし、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を含むアモルファス状膜（Ｎｏ．２〜６）は、熱衝撃試験後も優れた耐食性を維持していることが確認された。したがって、上記特許文献１２のものより優れた耐食性を有していることがわかった。
【００８６】
【表６】
0004764868.tif 000007
【００８７】
（実施例７）
この実施例では、下記表７に示した試験片における金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を含むアモルファス状膜の耐熱衝撃性を調査した後、耐熱試験後の試験片について、ＪＩＳＺ２３７１規定の塩水噴霧試験を実施し、アモルファス状膜の耐食性も調べた。
【００８８】
（１）供試基材と供試膜
供試基材としてＳＵＳ４１０（寸法：幅２５ｍｍ×長さ５０ｍｍ×厚さ１．５ｍｍ）を用い、この全表面に表７の金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を分散含有しているアモルファス皮膜を８μｍの厚さで形成し、各試験片（表７のＮｏ．１〜２６のもの）を作製した。ここで、Ｎｏ．１の試験片におけるアモルファス状膜中の炭素含有量は８４原子％、水素含有量は１６原子％である。Ｎｏ．２〜２６の試験片においては、水素含有量が１７原子％、超微粒子の含有量が下記表７の通りであり、残りが炭素の含有量となっている。
【００８９】
（２）試験方法と条件
熱衝撃試験は、電気を用いて各試験片を下記（ａ）、（ｂ）の条件で行った。塩水噴霧試験については、下記（ｃ）の条件で行った。
（ａ）「２００℃×１５分加熱→２０℃水中投入」を５回繰り返し
（ｂ）「３５０℃×１５分加熱→２０℃水中投入」を５回繰り返し
（ｃ）（ｂ）の熱衝撃試験後の試験片について、ＪＩＳＺ２３７１規定の塩水噴霧試験を４８時間行った。
【００９０】
（３）試験結果
試験結果を表７に示した。この結果から明らかなように、比較例の酸化物粒子を含まないアモルファス状膜（Ｎｏ．１）は２００℃−２０℃間の熱衝撃試験には耐えるが、３５０℃−２０℃間の熱衝撃試験ではアモルファス状膜に割れが発生した。これに対して金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子（全体に対して３〜３５％のいずれかの割合）を含むアモルファス状膜（Ｎｏ．３〜５、８〜１０、１３〜１５、１８〜２０、２３〜２５）には、２００℃−２０℃間及び３５０℃−２０℃間の両条件の熱衝撃試験に耐え、優れた耐熱衝撃性を示した。この原因は比較例のアモルファス状膜が成膜時に大きい残留応力を有するのに対して、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜は残留応力が比較的低いうえに、共存するＳｉＯ２，Ｙ２Ｏ３，Ａｌ２Ｏ３，ＭｇＯ，Ｃｒ２Ｏ３がそれぞれ耐酸化物であるので、耐酸化性を十分に発揮したためと考えられる。これに対して、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子の含有量が３原子％未満のアモルファス状膜（Ｎｏ．２、７、１２、１７、２２）は、２００℃−２０℃間の熱衝撃試験には耐えるが、３５０℃−２０℃間の熱衝撃試験ではアモルファス状膜に微細な割れが発生し、熱衝撃性が十分でなかった。一方、金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子を、３５原子％を超えて含むアモルファス状膜（Ｎｏ．６、１１、１６、２１、２６）も、２００℃−２０℃間の熱衝撃試験には耐えるものの、３５０℃−２０℃間の熱衝撃試験ではアモルファス状膜に比較的大きな割れが発生した。また、３５０℃−２０℃間の熱衝撃試験後の試験片について行った塩水噴霧試験の結果、アモルファス状膜に割れが発生したものについては、すべて赤錆が発生し、耐食性が劣化していることが認められた。これらの結果から、本発明は、従来の圧縮機翼と同等以上の耐熱性及び防食効果を有するものであることがわかった。
【００９１】
【表７】
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【００９２】
（実施例８）
ここで、実際に作製した圧縮機翼表面部の断面を撮影した電子顕微鏡写真を図７に示す。具体的に説明すると、図７の写真は、ＳＵＳ４１０基材の表面に中間層として絶縁性を有する炭素と水素とを主成分とするアモルファス状膜（金属酸化物又は半金属酸化物の超微粒子は含有していない）を形成したのち、その上に超微粒子のＳｉＯ２をアモルファス状膜中に共析（分散含有）させた層を形成してなる圧縮機翼表面部の断面を示したものである。なお、本実施例のアモルファス状膜の炭素含有量は６２原子％、水素含有量は１８原子％、ＳｉＯ２超微粒子の含有量は２０原子％である。
【００９３】
図７の写真から、中間層である通常のアモルファス状膜とＳｉＯ２の微粒子を含む酸化粒子含有のアモルファス状間膜の接合部分は、ほとんど確認できないほどよく密着していることがわかる。また、ＳｉＯ２粒子の大きさは、高倍率の電子顕微鏡で観察しても明らかではないほど微細（文献値として直径３．５７×１０−１０ｍ）であり、これらの粒子が無数に層状に集合して耐食性を発揮している状況が分かる。
【００９４】
なお、本発明は、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で設計変更できるものであり、上記実施形態や実施例に限定されるものではない。例えば、本発明のアモルファス状膜は、親油性（疎水性）に属するが、酸化処理工程後にプラズマＣＶＤ法によってアモルファス状の膜の表面にＯＨ基を注入したり、Ｓｉを混在させたりすると親水性になるので、目的によって変化させることができる。また、本発明は、上記実施形態や実施例において示された圧縮機翼を軸流圧縮機などに用いた火力発電用ガスタービンを提供できる。この火力発電用ガスタービンであれば、吸入空気中に含まれている水分、海塩粒子、ＳＯｘ、ＮＯｘ及び油煙などに起因する腐食、エロージョン損傷をはじめ異物の付着に伴う性能低下を抑制することができる。この結果、火力発電用ガスタービンの圧縮機翼の保守点検およびその補修工程が軽減短縮されるほか、火力発電用ガスタービン全体の発電効率の低下を抑制して化石燃料の消費を節減する一方、単位発電量あたりのＣＯ２発生量を少なくし、地球温暖化対策としても貢献することが期待できる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明の技術は、ジェットエンジンの圧縮機翼又は最先端に取り付けられているファンブレードをはじめ、石油・石炭などの燃焼ガス、化石燃料を原料とする炭化水素系の分解ガスなどを搬送したり、排気したりするための送風機及び排気ファンなどの翼表面、並びに、その付属部材にも適用できるとともに、水蒸気タービンの低段翼についても利用することができる。さらに地熱タービン翼などへの耐食性の付与および、付着物の堆積防止策としても使用することができる。その他、微量の腐食性ガスを含む排気用の真空系のポンプインペラー及びその付属部材にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る圧縮機翼を示す断面図である。
【図２】図１の圧縮機翼の表面付近の一部拡大断面図である。
【図３】図１の圧縮機翼の製造工程において使用する装置の概略構成図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る圧縮機翼の表面付近の一部拡大断面図である。
【図５】本発明の第３実施形態に係る圧縮機翼の表面付近の一部拡大断面図である。
【図６】実施例４の試験に用いたエロージョン装置の概略構成図である。
【図７】実施例８に係る圧縮機翼表面部の断面を撮影した電子顕微鏡写真である。
【符号の説明】
【００９７】
１  圧縮機翼
２  反応容器
３  導体
４  高電圧パルス発生源
５  プラズマ発生用電源
６  重乗装置
７ａ、７ｂ  バルブ
８  アース線
９  導入端子
１２、２２、３２  基材
１１、２１、３１  （圧縮機翼の表面付近の）一部拡大部分
１３、２３、３３  アモルファス状膜
４１  試験片ホルダー
４２  ノズル
４３  圧縮機
４４  水分除去機
４５  圧力調整機
４６  空気流量調製機
４７  供給用ホッパー
４８  空気孔
４９  試験片
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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