(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層と、
該液晶層を挟んで配置され、それぞれ偏光膜と該偏光膜の少なくとも外側の面に設けられた保護膜とを有する、光源側に配置される第一偏光板と、視認側に配置される第二偏光板とを有する液晶表示装置において、
前記第二偏光板の視認側の保護膜は、下記式（Ｉ）を満たす透明支持体と、λ／４機能を有する光学異方性層を含み、
前記第二偏光板の視認側の保護膜のＲｔｈが｜Ｒｔｈ｜≦２０
である液晶表示装置。
（Ｉ）    ０≦｜Ｒｅ（５５０）｜≦１０
ここで、前記Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、前記Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり、ある対象物に対して下記式により定義されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘは前記対象物面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは該面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは前記ｎｚの方向での前記対象物の膜厚である。
【請求項２】
前記第二偏光板の視認側の保護膜において、
前記透明支持体のＲｔｈをＲｔｈ１、前記光学異方性層のＲｔｈをＲｔｈ２と表したときに、Ｒｔｈ１とＲｔｈ２の合計Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２の絶対値が｜Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２｜≦２０である請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
液晶層と、
該液晶層を挟んで配置され、それぞれ偏光膜と該偏光膜の少なくとも外側の面に設けられた保護膜とを有する、光源側に配置される第一偏光板と、視認側に配置される第二偏光板とを有する液晶表示装置において、
前記第二偏光板の視認側の保護膜は、下記式（Ｉ）を満たす透明支持体と、λ／４機能を有する光学異方性層を含み、
前記透明支持体のＲｔｈをＲｔｈ１、前記光学異方性層のＲｔｈをＲｔｈ２と表したときに、Ｒｔｈ１とＲｔｈ２の合計Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２の絶対値が｜Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２｜≦２０
である液晶表示装置。
（Ｉ）    ０≦｜Ｒｅ（５５０）｜≦１０
ここで、前記Ｒｅ(５５０)は波長５５０ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、前記Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり、ある対象物に対して下記式により定義されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘは前記対象物面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは該面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは前記ｎｚの方向での前記対象物の膜厚である。
【請求項４】
前記第二偏光板の視認側保護膜が、更に最表面に１層以上の反射防止フィルムを有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
紫外線吸収剤が、前記第二偏光板の保護膜を構成する透明支持体、光学異方性層、反射防止フィルム、又はそれら同士を接着する接着剤のいずれかに含まれている請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第二偏光板の保護膜を構成する透明支持体が熱可塑性樹脂を主成分とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法であって、前記第二偏光板の保護膜は、共流延法で製造する液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
視認側に、偏光板を有する画像表示装置であって、
前記偏光板が、偏光膜と少なくともその視認側に保護膜とを有し、
前記偏光板の視認側の保護膜は、下記式（Ｉ）を満たす透明支持体と、λ／４機能を有する光学異方性層を含み、
前記偏光板の視認側の保護膜のＲｔｈが｜Ｒｔｈ｜≦２０
である画像表示装置。
（Ｉ）    ０≦｜Ｒｅ（５５０）｜≦１０
ここで、前記Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、前記Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり、ある対象物に対して下記式により定義されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘは前記対象物面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは該面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは前記ｎｚの方向での前記対象物の膜厚である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３Ｄ（立体画像，３次画像）表示性能に優れ、かつ広視野角特性、広い色再現性を有する液晶表示装置及びその製造方法、並びに画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
３Ｄディスプレイには（１）眼鏡式と（２）裸眼式の２方式に大分類できる。（１）眼鏡方式は、通常の２Ｄディスプレイで、右目用画像と左目用画像を時分割で交互に表示し、偏光板が配置された眼鏡で左目用と右目用の画像を合成して３Ｄ（立体画像，３次画像）表示を擬似的に人間の脳に合成させる。一方（２）裸眼式は２Ｄディスプレイで右目用画像と左目用画像を同時に表示し、レンズやスリットなどの光学部材を用いて幾何光学的に画像を合成して３Ｄ画像を認識させる。
【０００３】
（１）眼鏡式には（ｉ）偏光眼鏡方式（ｉｉ）シャッター眼鏡方式に分類できる。（ｉ）は２Ｄディスプレイ上に縦方向に１ライン毎に右目画像と左目画像を交互に表示かつ、時分割で交互に右目画像、左目画像を交互に単独に表示する。１ライン毎に右目画像と左目画像を交互に表示させる方式としては、液晶表示装置の視認側偏光板の上にガラス上にλ／４位相差膜を遅相軸方向を９０°交差させて配置する方式が提案されている（特許文献１参照）。また、（ｉｉ）シャッター眼鏡方式は右目画像と左目画像を２Ｄディスプレイ上に時分割で交互に表示させ、右目画像が表示させているときはシャッター付の眼鏡の左目をオフにして遮断して右目のみの画像を認識できるようにする方式が提案されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２１５３２６号公報
【特許文献２】特開平１０−２３４６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
（２）裸眼式には（ｉｉｉ）レンチキュラ方式や（ｉｖ）パララックスバリヤ方式などがある。眼鏡を使用しないで３Ｄ画像が視認できる手軽さはあるが、３Ｄ画像を見るために適した位置があり、その位置を外れると３Ｄ画像として視認できない可能性があり、更なる改善が必要である。
【０００６】
本発明では、前記（１）眼鏡方式に着目している。その際、（１）眼鏡方式では、液晶表示装置における視認側偏光板と眼鏡に形成される偏光板の間に配置された保護フィルムが位相差を有しているため、頭を傾けて見たり斜めから見たりしたときの３Ｄ映像のクロストーク（画像のだぶり）や外光反射によるフリッカが発生してしまう。
本発明は、これらを低減した液晶表示装置及びその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）
液晶層と、
該液晶層を挟んで配置され、それぞれ偏光膜と該偏光膜の少なくとも外側（液晶層に面する側と反対側）の面に設けられた保護膜とを有する、光源側に配置される第一偏光板と、視認側に配置される第二偏光板とを有する液晶表示装置において、
前記第二偏光板の視認側の保護膜は、下記式（Ｉ）を満たす透明支持体と、λ／４機能を有する光学異方性層を含み、
前記第二偏光板の視認側の保護膜のＲｔｈが｜Ｒｔｈ｜≦２０
である液晶表示装置。
（Ｉ）    ０≦｜Ｒｅ（５５０）｜≦１０
ここで、前記Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、前記Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり、ある対象物に対して下記式により定義されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘは前記対象物面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは該面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは前記ｎｚの方向での前記対象物の膜厚である。
（２）
前記第二偏光板の視認側の保護膜において、
前記透明支持体のＲｔｈをＲｔｈ１、前記光学異方性層のＲｔｈをＲｔｈ２と表したときに、Ｒｔｈ１とＲｔｈ２の合計Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２の絶対値が｜Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２｜≦２０である上記（１）に記載の液晶表示装置。
（３）
液晶層と、
該液晶層を挟んで配置され、それぞれ偏光膜と該偏光膜の少なくとも外側（液晶層に面する側と反対側）の面に設けられた保護膜とを有する、光源側に配置される第一偏光板と、視認側に配置される第二偏光板とを有する液晶表示装置において、
前記第二偏光板の視認側の保護膜は、下記式（Ｉ）を満たす透明支持体と、λ／４機能を有する光学異方性層を含み、
前記透明支持体のＲｔｈをＲｔｈ１、前記光学異方性層のＲｔｈをＲｔｈ２と表したときに、Ｒｔｈ１とＲｔｈ２の合計Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２の絶対値が｜Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２｜≦２０
である液晶表示装置。
（Ｉ）    ０≦｜Ｒｅ（５５０）｜≦１０
ここで、前記Ｒｅ(５５０)は波長５５０ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、前記Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり、ある対象物に対して下記式により定義されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘは前記対象物面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは該面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは前記ｎｚの方向での前記対象物の膜厚である。
（４）
前記第二偏光板の視認側保護膜が、更に最表面に１層以上の反射防止フィルムを有する上記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（５）
紫外線吸収剤が、前記第二偏光板の保護膜を構成する透明支持体、光学異方性層、反射防止フィルム、又はそれら同士を接着する接着剤のいずれかに含まれている上記（４）に記載の液晶表示装置。
（６）
前記第二偏光板の保護膜を構成する透明支持体が熱可塑性樹脂を主成分とする上記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（７）
上記（１）〜（６）のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法であって、前記第二偏光板の保護膜は、共流延法で製造する液晶表示装置の製造方法。
（８）
視認側に、偏光板を有する画像表示装置であって、
前記偏光板が、偏光膜と少なくともその視認側に保護膜とを有し、
前記偏光板の視認側の保護膜は、下記式（Ｉ）を満たす透明支持体と、λ／４機能を有する光学異方性層を含み、
前記偏光板の視認側の保護膜のＲｔｈが｜Ｒｔｈ｜≦２０
である画像表示装置。
（Ｉ）    ０≦｜Ｒｅ（５５０）｜≦１０
ここで、前記Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、前記Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり、ある対象物に対して下記式により定義されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘは前記対象物面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは該面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは前記ｎｚの方向での前記対象物の膜厚である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、視野角特性や、外光反射映り込みによる３Ｄ映像の乱れであるクロストークが減少できる液晶表示装置を提供することができる。また、本発明によれば、高いコントラスト比を有し、視野角特性が改善された３Ｄ表示装置、特に液晶表示装置を提供することができる。本発明の液晶表示装置は、黒表示時において、部材内での透過率ロスや迷光が少なくコントラスト比が顕著に改善される。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下において、本発明の液晶表示装置の一実施形態及びその構成部材について順次説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１０】
本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。また、「実質的に垂直」とは、厳密な垂直の角度よりも±２０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±１５゜未満であることが好ましく、±１０゜未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。更に屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１１】
本明細書において、「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶表示装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
【００１２】
［積層フィルム］
本発明の液晶表示装置においては、液晶セルの両側に配置される第一偏光板、第二偏光板の構成要素のうち、視認側に配置される第二偏光板の保護膜（視認側保護膜）の厚み方向の位相差を実質的に０（｜Ｒｔｈ｜≦２０）にすることで、斜め観察したときのクロストークやコントラスト比低下を抑えることを特徴としている。ここで、液晶セルは、少なくとも液晶層を含み、その代表的な態様としては、少なくとも一方に電極を有し対向配置された一対の基板と、該一対の基板間の液晶層とを含む態様が挙げられる。特に、第二偏光板の視認側にある、偏光膜と少なくとも一枚の保護膜とを有する第三偏光板（３Ｄ用メガネ）を通じて画像を視認する液晶表示装置の場合にその効果が顕著である。
この第二偏光板の保護膜には、通過することで円偏光を作り出すλ／４機能を有する光学異方性層）（λ／４層）を全面若しくはパターニングすることにより形成し、眼鏡に形成されたλ／４層との相互作用で右目用画像と左目用画像を区別する。
λ／４層のような、光学異方性層（位相差層）を設けても、視認側保護膜を形成するフィルム全体の厚み方向に位相差がほとんどないので、３Ｄ用メガネを通して斜め観察したときのクロストークやコントラスト低下を抑えることができる。
また、λ／４層の支持体として位相差があるものを用いた場合でも、例として反射防止フィルムのように別に積層するフィルムとの全体の厚み方向位相差を実質的に０とすることで、３Ｄ用メガネを通して斜め観察したときのクロストークやコントラスト低下を抑えることができる。
厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の求め方は後述してある式（１）、式（２）より求めることができる。
厚み方向の位相差を実質的に０にすることは、どの角度（極角）からみても位相差が略同等になることを意味する。よって、ある偏光がこの視認側保護膜通過時、その変化量がどの角度（極角）を通っても略同等になるため、概ね同一の偏光状態になる。なので、正面での観察と斜めでの観察の差を少なくすることが可能である。
また、上記はフィルム一層での場合であるが、積層フィルムでも全体としての厚み方向の位相差を実質的に０にすることで、同様の効果が得られる。もちろん厳密にいえば非対称性の観点から変化量はやや異なるが、それを考慮して設計すれば上記の説明を覆すものではない。
本発明の液晶表示装置においては、更に、透明支持体のＲｔｈと光学異方性層のＲｔｈの合計が｜Ｒｔｈ｜≦２０である（即ち、透明支持体のＲｔｈをＲｔｈ１、光学異方性層のＲｔｈをＲｔｈ２と表したときに、Ｒｔｈ１とＲｔｈ２の合計Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２の絶対値が｜Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２｜≦２０である）ことも好ましい。
【００１３】
保護膜上に、反射防止フィルムなど他の表面フィルムなどを設けない場合や、設けてあっても実質的にＲｔｈが０に等しい場合には、透明支持体のＲｔｈと光学異方性層のＲｔｈの合計を｜Ｒｔｈ｜≦２０とする（即ち、透明支持体のＲｔｈをＲｔｈ１、光学異方性層のＲｔｈをＲｔｈ２と表したときに、Ｒｔｈ１とＲｔｈ２の合計Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２の絶対値が｜Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２｜≦２０である）ことでクロストークやコントラスト低下を抑えることができる。したがって、透明支持体のＲｔｈと前記光学異方性層のＲｔｈの合計が｜Ｒｔｈ｜≦２０である液晶表示装置は、本発明の液晶表示装置の好ましい一態様である。
【００１４】
［偏光板］
本発明に係る第一偏光板及び第二偏光板は、それぞれ、偏光膜と保護膜とを有する。保護膜は偏光膜の少なくとも外側の面（液晶表示装置に配置されたときに、偏光膜の液晶セルに対向する面とは反対側の面）に設けられるが、偏光膜の両側の面に保護膜を有することが好ましい。
偏光板の偏光膜としては、公知のものを特に制限なく使用することができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の厚さは、通常の偏光板で採用されている厚さを特に制限無く採用できる。
偏光板の保護膜としては、通常、以下で述べる第二偏光板の視認側保護膜の透明支持体と挙げるものを用いることができる。
第二偏光板の視認側保護膜は、透明支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を有する。以下、第二偏光板の視認側保護膜について詳細に説明する。
【００１５】
［透明支持体］
前述の第二偏光板の層構成が、液晶セル側から、少なくとも偏光子、透明支持体、λ／４層を有する構成の場合において、支持体にReがあり、かつ、偏光子の吸収軸又は透過軸と支持体の遅相軸又は進相軸とが０°若しくは９０°以外の場合、いわゆる軸ズレがある場合、偏光子を通過して出射した直線偏光は支持体通過後に楕円偏光となる。その偏光状態でλ／４層を通過するので、設計したとおりの偏光状態にならない。そのため、クロストーク増大や輝度低下の原因となる。
また、第二偏光板の層構成が、液晶セル側から、少なくとも偏光子、λ／４層、支持体を有する構成の場合において、支持体にReがあると、軸ズレがなくとも、λ／４層通過後の円偏光が楕円偏光になり、クロストークが輝度低下の原因となる。
よって、本発明においては、透明支持体の波長５５０ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ（５５０）の絶対値は、１０ｎｍ以下、即ち式（I）（０≦｜Ｒｅ（５５０）｜≦１０）を満足させることにより、クロストーク増大や輝度低下を抑えたＲｅ（５５０）の絶対値は、好ましくは７ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下である。
また、後述するλ／４機能を有する光学異方性層（λ／４層）との関係では、透明支持体のＲｔｈと該λ／４層のＲｔｈ、更に他の層を有する場合には該層のＲｔｈとの合計が｜Ｒｔｈ｜≦２０を満たすために、透明支持体は、−１５０≦Ｒｔｈ（５５０）≦１００を満たすことが好ましく、−１５０≦Ｒｔｈ（５５０）≦５０を満たすことがより好ましい。
なお、ここに、Ｒｅ(λ)は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。
【００１６】
［透明支持体の材質］
本発明の透明支持体を形成する材料としては、光学性能、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましく、上述のＲｅ、Ｒｔｈが、上述した式（I）を満たす範囲であればどのような材料を用いても良い。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また本発明の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
【００１７】
また、本発明の透明支持体を形成する材料としては、熱可塑性樹脂も好ましい。熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂や熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等があげられる。
【００１８】
また、本発明の透明支持体を形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を好ましく用いることが出来る。以下に、本発明の透明支持体の例として、主にセルロースアシレートについて詳細を説明するが、その技術的事項は、他の高分子フィルムについても同様に適用できることは明らかである。
【００１９】
[セルロースアシレート原料綿]
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載されているが、本発明は、該記載に制限されるものではない。
【００２０】
[セルロースアシレート置換度]
次に上述のセルロースを原料に製造される本発明のセルロースアシレートについて記載する。本発明のセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。
【００２１】
上述のように本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることがのぞましい。更には置換度が２．７５〜３．００であることがのぞましく、２．８５〜３．００であることがよりのぞましい。
【００２２】
セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でも芳香族基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。これらによりアシル化されたセルロースエステルとしては、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれ更に置換された基を有していてもよい。好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
【００２３】
本発明者が鋭意検討した結果、上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィル
ムの光学異方性が低下できることがわかった。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、更にのぞましくは２．６５〜３．００である。また、セルロースの水酸基に置換するアシル置換基がアセチル基のみからなる場合には、フィルムの光学異方性が低下できる事に加え、更に添加剤との相溶性、使用する有機溶剤への溶解性の観点で置換度が２．８０〜２．９９であることが好ましく、２．８５〜２．９５であることがより好ましい。
【００２４】
[セルロースアシレートの重合度]
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることが更に好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【００２５】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明のセルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、更に好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％の含水率が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートの合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
【００２６】
本発明のセルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【００２７】
[セルロースアシレートへの添加剤]
本発明のセルロースアシレートには、種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについては一般的な光学フィルムと同様に各種公知のものを使用できる。またその添加する時期はドープ作製工程（セルロースアシレート溶液の作製工程）における何れでも良いが、ドープ作製工程の最後に添加剤を添加し調製する工程を行ってもよい。
【００２８】
本発明のセルロースアシレートフィルムには、光学的異方性、とくにフィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を、少なくとも一種含有することがのぞましい。
【００２９】
［セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物の構造的特徴］
セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物について説明する。本発明者らは、鋭意検討した結果、フィルム中のセルロースアシレートが面内方向に配向するのを抑制する化合物を用いて光学的異方性を十分に低下させ、Ｒｅがゼロに近くなるようにした。このためには光学的異方性を低下させる化合物はセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【００３０】
（ｌｏｇＰ値）
本発明のセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のようにフィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制して光学的異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０ないし７である化合物が好ましい。ｌｏｇＰ値が７を超える化合物は、セルロースアシレートとの相溶性に乏しく、フィルムの白濁や粉吹きを生じやすい。また、ｌｏｇＰ値が０よりも小さな化合物は親水性が高いために、セルロースアセテートフィルムの耐水性を悪化させる場合がある。ｌｏｇＰ値として更に好ましい範囲は１ないし６であり、特に好ましい範囲は１．５ないし５である。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）、Viswanadhan's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29,163(1989).）、Broto's fragmentation法（Eur.J.Med.Chem.- Chim.Theor.,19,71(1984).）などが好ましく用いられるが、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Crippen's fragmentation法により判断することが好ましい。なお本明細書に記載のｌｏｇＰの値は、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）により求めたものである。
【００３１】
［光学的異方性を低下させる化合物の物性］
光学的異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有しても良いし、含有しなくても良い。また光学的異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
光学的異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、更に好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学的異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
光学的異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートに対し０．０１ないし３０質量％であることが好ましく、１ないし２５質量％であることがより好ましく、５ないし２０質量％であることが特に好ましい。
光学的異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学的異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ作製工程の最後に行ってもよい。
【００３２】
光学的異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０−９９％である。当該化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【００３３】
本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物の具体例としては、たとえば特開2006-199855、［００３５］から［００５８］記載の化合物が挙げられるが、本発明はこれら化合物に限定されない。
【００３４】
［透明支持体の添加剤］
（ＵＶ吸収剤）
本発明において特徴である第二偏光板の保護膜は、視認側であるので、外光の影響、特に紫外線の影響を受けやすい。そのために保護膜を構成するいずれかの部材にUV吸収剤（紫外線吸収剤）を含有することが望ましい。好ましくは、保護膜を構成する透明支持体、光学異方性層、反射防止フィルム、又はそれら同士を接着する接着剤のいずれかに、UV吸収剤を含有する。
【００３５】
ＵＶ吸収剤は、中でも、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜及び｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜の双方を低下させる化合物が好ましく、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％使用するのがよい。
【００３６】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるために、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜及び｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜を低下させる化合物をセルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れていることが要求される。本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることがのぞましい。
【００３７】
上述のような、本発明で好ましく用いられるUV吸収剤は揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
【００３８】
ＵＶ吸収剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【００３９】
本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムのＵＶ吸収剤の具体例としては、たとえば特開2006-199855、［００５９］から［０１３５］記載の化合物が挙げられる。
【００４０】
透明支持体の厚みは、２０〜２００μｍが好ましく、４０〜１００μｍがより好ましい。
【００４１】
［光学異方性層］
本発明の光学異方性層は、λ／４機能を有するλ／４層であり、即ち直線偏光を円偏光に変換する機能を有する。λ／４機能を有する光学異方性層の形成には種々の方法があるが、特に本発明では、液晶化合物を配向させた状態で重合させ、固定化して形成する。
液晶性化合物は、光学性能や製造適性等を最適化するために種々組み合わせることができる。
液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物を用いることができる。
一般に、液晶性高分子化合物は、同種のメソゲンを有する液晶性低分子化合物よりもΔｎが高いため、薄い膜厚で必要なレターデーションを達成でき、また粘度が高いため、配向欠陥の原因となる塗布時のハジキも起こり難いので、好ましい。
【００４２】
本発明の光学異方性層に使用可能な棒状液晶性化合物としては、前記のとおり重合性基を有する化合物が好ましい。例えば、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．  Ｃｈｅｍ．，  １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、同１１−５１３０１９号及び特願２００１−６４６２７号などの各公報及び明細書に記載の化合物の中から選んで用いることができる。
【００４３】
前記低分子棒状液晶性化合物としては、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
一般式（ＩＩ）
Ｑ１−Ｌ１−Ｃｙ１−Ｌ２−（Ｃｙ２−Ｌ３） ｎ−Ｃｙ３−Ｌ４−Ｑ２
式中、Ｑ１及びＱ２はそれぞれ独立に重合性基を表し、Ｌ１及びＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基を表し、Ｌ２及びＬ３はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し、Ｃｙ１、Ｃｙ２及びＣｙ３はそれぞれ独立に二価の環状基を表し、ｎは０、１又は２である。
式中、Ｑ１及びＱ２はそれぞれ独立に重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。
一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば、特開２００４−２４００１２号の段落［００３５］〜［００５０］に記載のものが挙げられる。
【００４４】
本発明の光学異方性層に用いるディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ    ｅｔ    ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ    １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ    ｅｔ    ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ    １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ    ｅｔ    ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ    ２６５５（１９９４））に記載されているものが使用できる。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００４５】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表される化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは１〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、３０〜３００℃が好ましく、３０〜１７０℃が更に好ましい。
【００４６】
本発明における光学異方性層は、λ／４層を全面に塗布するタイプでも、複数の右眼用位相差領域と複数の左眼用位相差領域がたとえば１ラインごとに交互に形成され、前記右眼用位相差領域と前記左眼用位相差領域を生み出すようパターン化されて形成されるパターニング位相差層でも、どちらでも適用が可能である。
λ／４層を全面に塗布するタイプの場合には、シャッター眼鏡方式に適用される。１ライン毎に右目画像と左目画像を交互に表示させるために、視認側偏光膜にλ／４層をパターニングして配置する方式は、偏光眼鏡方式に適用できる。
【００４７】
偏光眼鏡を用いた３Ｄ表示の場合、画質を左右する重要な特性としてクロストークなる指標がある。眼鏡を通して右眼に入るべき右眼用画像光（情報光）の光量に対して、右眼に入って欲しくない左眼用画像光の光量の割合を示すものであり、０％であることが理想である。
本発明は、液晶ディスプレイなどの映像表示装置に設置して偏光眼鏡と適切に組み合わせて３Ｄ表示を行った場合に、位相差の絶対値のズレや位相差の波長分散に起因するクロストークを低減することができる。
【００４８】
光学異方性層の厚みは、０．５〜６μｍが好ましく、１〜４μｍがより好ましい。
【００４９】
［セルロースアシレートフィルムの製造工程］
［溶解工程］
本発明のセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよく更には冷却溶解法あるいは高温溶解方法、更にはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、更には溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、
２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【００５０】
（ドープ溶液の透明度）
本発明のセルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることがのぞましい。より好ましくは８８％以上であり、更に好ましくは９０％以上であることがのぞましい。本発明においてはセルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出した。
【００５１】
［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、本発明のセルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来のセルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明のセルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
また、セルロースアシレートフィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍが更に好ましい。
【００５２】
［反射防止フィルム］
（反射防止層）
第二偏光板の、液晶セルと反対側に配置される視認側保護膜には、最表面に１層以上の反射防止フィルムを有することが好ましい。反射防止フィルムには反射防止層以外に他の機能性膜を設けることができる。特に、本発明では少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止フィルム、又は中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層を有する反射防止フィルムが好適に用いられる。これは、特に３Ｄ画像を表示する場合に、外光反射によるフリッカが発生してしまうのを効果的に防ぐことができるからである。
反射防止フィルムは透明支持体上に反射防止層を設けたものを、第二偏光板の視認側保護膜上に設けてもよいし、第二偏光板の視認側保護膜が反射防止フィルムの支持体を兼ねてもよい。後者の場合には、第二偏光板の視認側保護膜に直接反射防止層などの機能性層を設ければよい。
以下にそれらの好ましい例を記載する。
【００５３】
第二偏光板の視認側保護膜上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層の好ましい例について述べる。
本発明の光散乱層にはマット粒子が分散しており、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．３５〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明においては光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。
【００５４】
反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８μｍ〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１μｍ〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０度〜５度の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。
また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ*値−２〜２、ｂ*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ*値が０〜３とす
ることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。 
また、面光源上と本発明の反射防止フィルムの間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明のフィルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。
【００５５】
本発明の反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０度光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０．５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値（比）が０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２度傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。
【００５６】
（低屈折率層）
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９であり、好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。更に、低屈折率層は下記数式（IX）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（IX）：（ｍλ／４）×０．７＜ｎ１ｄ１＜（ｍλ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
【００５７】
本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含む。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０°〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下の熱又は電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【００５８】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【００５９】
含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【００６０】
架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【００６１】
また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【００６２】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
【００６３】
（光散乱層）
光散乱層は、表面散乱及び／又は内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、及び必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。
【００６４】
光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する観点並びにカールの発生及び脆性の悪化の抑制の観点から、１μｍ〜１０μｍが好ましく、１．２μｍ〜６μｍがより好ましい。
【００６５】
散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖又はポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。
【００６６】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
【００６７】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【００６８】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。
【００６９】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。
【００７０】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに又はそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。 
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００７１】
光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が１μｍ〜１０μｍ、好ましくは１．５μｍ〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ２粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。
【００７２】
また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。
【００７３】
更に、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、更に好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。
【００７４】
上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜
１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１００ｍｇ／ｍ2〜７００ｍｇ／ｍ2となるように光
散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【００７５】
光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。  また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯとＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2及び
ＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング
処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０％〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０％〜８０％であり、特に好ましくは３０％〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
【００７６】
光散乱層のバインダー及び無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【００７７】
光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
【００７８】
第二偏光板の視認側保護膜が｜Ｒｔｈ｜≦２０を満たすために、光散乱層は、│Ｒｔｈ│≦２を満たすことが好ましい。
【００７９】
次に第二偏光板の視認側保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層について述べる。
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい（例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等参照）。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好
ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００８０】
（高屈折率層及び中屈折率層）
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（：特開２００１−１６６１０４２００１−３１０４３２号公報等）、特定の分散剤併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。
【００８１】
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性及び／又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個有する多官能性化合物含有組成物と、加水分解性基を有する有機金属化合物及びその部分縮合体を含有する組成物とから選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の組成物が挙げられる。    また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
【００８２】
高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることが更に好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０ｍμであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることが更に好ましい。
【００８３】
（低屈折率層）
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５質量％〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
【００８４】
架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
【００８５】
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１ｎｍ〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが更に好ましく、６０ｎｍ〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【００８６】
（反射防止層の他の層）
更に、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。 
【００８７】
［画像表示装置］
本発明に係る前記第二偏光板は、画像表示装置の視認側に用いることで、該画像表示装置のクロストークを低減することができる。第二偏光板が用いられる画像表示装置の表示パネルとしては特に制限はなく、ＣＲＴであってもフラットパネルディスプレイであってもよいが、フラットパネルディスプレイであることが好ましい。フラットパネルディスプレイとしては、ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬＤなどを用いることができるが、本発明は前記映像表示パネルが液晶表示パネルである場合に特に好ましく適用することができる。前記映像表示パネルを液晶表示パネルとすることで、フラットパネルディスプレイの中でも高画質かつ安価な画像表示装置とすることができる。
【００８８】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、様々な表示モードの液晶セル、液晶表示装置に用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）
及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードに好ましく用いることができる。
【００８９】
［第三偏光板］
本発明は、特に３Ｄ映像とよばれる立体画像を視認者に認識させるため、眼鏡形状の偏光板を通して画像を認識する態様が好ましい態様である。
【００９０】
［偏光眼鏡］
＜偏光眼鏡＞
本発明の映像表示システムは、右眼鏡と左眼鏡の遅相軸が直交する偏光眼鏡を含み、前記パターニング位相差層の前記第一領域又は前記第二領域のいずれか一方から出射された右眼用画像光が右眼鏡を透過し、かつ、左眼鏡で遮光され、前記パターニング位相差層の前記第一領域又は前記第二領域の残りの一方から出射された左眼用画像光が左眼鏡を透過し、かつ、右眼鏡で遮光されるように構成されていることが好ましい。
当然ではあるが、前記偏光眼鏡は、本発明において詳細説明がなされている前記パターニング位相差に対応する配置の位相差機能層と直線偏光子を含むことで偏光眼鏡を形成している。なお、直線偏光子と同等の機能を有するその他の部材を用いてもよい。
【００９１】
偏光眼鏡を含め、本発明の映像表示システムの具体的な構成について説明する。まず、前記パターニング位相差層は映像表示パネルの交互に繰り返されている複数の第一ライン上と複数の第二ライン上（例えば、ラインが水平方向であれば水平方向の奇数ライン上と偶数ライン上であり、ラインが垂直方向であれば垂直方向の奇数ライン上と偶数ライン上でもよい）に偏光変換機能が異なる前記第一領域と前記第二領域が設けられている。円偏光を表示に利用する場合には、上述の前記第一領域と前記第二領域の位相差はともにλ／４であることが好ましく、前記第一領域と前記第二領域は遅相軸が直交していることがより好ましい。
【００９２】
円偏光を利用する場合、前記第一領域と前記第二領域の位相差値をともにλ／４とし、映像表示パネルの奇数ラインに右眼用画像を表示し、奇数ライン位相差領域の遅相軸が４５度方向であるならば、偏光眼鏡の右眼鏡と左眼鏡にともにλ／４板を配置することが好ましく、偏光眼鏡の右眼鏡のλ／４板の遅相軸は具体的には略４５度に固定すればよい。また、上記の状況であれば、同様に、映像表示パネルの偶数ラインに左眼用画像を表示し、偶数ライン位相差領域の遅相軸が１３５度方向であるならば、偏光眼鏡の左眼鏡の遅相軸は具体的には略１３５度に固定すればよい。
更に、一度前記パターニング位相差層において円偏光として画像光を出射し、偏光眼鏡により偏光状態を元に戻す観点からは、上記の例の場合の右眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平方向４５度に近いほど好ましい。また、左眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平１３５度（又は−４５度）に近いほど好ましい。
【００９３】
また、例えば前記映像表示パネルが液晶表示パネルである場合、液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向が通常、水平方向であり、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸が該フロント側偏光板の吸収軸方向に直交する方向であることが好ましく、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸は鉛直方向であることがより好ましい。
また、前記液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向と、前記パターニング位相差層の奇数ライン位相差領域と偶数ライン位相差領域の各遅相軸は、偏光変換の効率上、４５度をなすことが好ましい。
なお、このような偏光眼鏡と、パターニング位相差層及び液晶表示装置の好ましい配置については、例えば特開２００４−１７０６９３号公報に開示がある。
【００９４】
偏光眼鏡の例としては、特開２００４−１７０６９３号公報に記載のものや、市販品として、Ｚａｌｍａｎ製、ＺＭ−Ｍ２２０Ｗの付属品を挙げることができる。
【００９５】
［レターデーション］
Ｒｅ及びＲｔｈは、ある対象物に対して、下記式により定義される。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ（後述の式（２））
式中、ｎｘは対象物の面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは該面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはｎｚ方向での対象物の膜厚である。
【００９６】
［測定法］
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA  21ADH又はWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、又は測定値をプログラム等で変換して測定することができる。
測定されるフィルムが1軸又は2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA  21ADH又はWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADH又はWRが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA  21ADH又はWRが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
式（１）
【００９７】
【数１】
0004825934.tif 000002
【００９８】
上記のＲｅ(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
式（１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚である。
【００９９】
式（２）：Ｒｔｈ＝(（ｎｘ+ｎｙ)/２ - ｎｚ) x ｄ
式（２）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚である。
【０１００】
測定されるフィルムが1軸や2軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（optic axis）がないフィルムの場合には、以下の方法によりRth（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA  21ADH又はWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−50度から＋50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて11点測定し、その測定されたレ
ターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADH又はWRが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA  21ADH又はWRはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ,ｎｙ,ｎｚよりＮｚ=（ｎｚ-ｎｚ）/(ｎｘ-ｎｙ)が更に算出される。
【実施例】
【０１０１】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１０２】
以下、実施例１〜１３及び比較例１〜９においては、本発明の液晶表示装置を構成する偏光板であって、液晶セルの両側に配置される１対の偏光板のうち、視認者側の偏光板である第二偏光板の作製に関する。
【０１０３】
[実施例１]
《セルロースアシレートフィルム００１の作製》
（セルロースアシレートの調製）
全置換度2.97（内訳：アセチル置換度0.45、プロピオニル置換度2.52）のセルロースアシレートを調製した。触媒としての硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）とカルボン酸無水物との混合物を−２０℃に冷却してからパルプ由来のセルロースに添加し、４０℃でアシル化を行った。この時、カルボン酸無水物の種類及びその量を調整することで、アシル基の種類及びその置換比を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行って全置換度を調整した。
【０１０４】
（セルロースアシレート溶液の調製）
１）セルロースアシレート
調製したセルロースアシレートを１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした後、３０質量部を溶媒と混合させた。 
２）溶媒
ジクロロメタン／メタノール／ブタノール（８１／１５／４質量部）を溶媒として用いた。なお、これらの溶媒の含水率は、いずれも０．２質量％以下であった。 
３）添加剤
全ての溶液調製に際し、トリメチロールプロパントリアセテート０．９質量部を添加した。また、全ての溶液調製に際し、二酸化ケイ素微粒子（粒径２０ｎｍ、モース硬度  約７）０．２５質量部を添加した。
４）膨潤、溶解
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する４００リットルのステンレス製溶解タンクに、上記溶媒、添加剤を投入して撹拌、分散させながら、上記セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。 
なお、攪拌には、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０４ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ２）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸及び中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０４ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ２）で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。 
５）ろ過
上記で得られたセルロースアシレート溶液を、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過し、更に絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ＦＨ０２５、ポール社製）にて濾過してセルロースアシレート溶液を得た。
【０１０５】
（セルロースアシレートフィルムの作製）
上記セルロースアシレート溶液を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは１５ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、更に１４０℃で１０分乾燥して、セルロースアシレートフィルム００１を得た（膜厚８１μｍ）。
得られたセルロースアシレートフィルム００１のＲｅは−２ｎｍ、Ｒｔｈは−７５ｎｍであった。ここで、Ｒｅ及びＲｔｈは自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて測定した値を用いた。
【０１０６】
（光学異方性層を塗布した光学フィルム１０１の作製）
上記で作成したセルロースアシレートフィルム００１の表面をアルカリ溶液でケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にセルロースアシレートフィルム００１の長手方向に対して、４５°方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。
【０１０７】
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール                  １０質量部
水                                            ３７１質量部
メタノール                                    １１９質量部
グルタルアルデヒド                            ０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１０８】
【化１】
0004825934.tif 000003
【０１０９】
次に、下記の組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーで塗布した。
【０１１０】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物                                      １．８ｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                        ０．２ｇ
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）      ０．０６ｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            ０．０２ｇ
メチルエチルケトン                                          ３．９ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１１１】
これを１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射し棒状液晶性化合物を架橋した。ＵＶ硬化時の温度を８０℃として、光学異方性層０１１を得た。光学異方性層の厚さは、２．０μｍであった。その後、室温まで放冷した。このようにして、セルロースアシレートフィルム００１上に光学異方性層０１１を塗布した光学フィルム１０１を製作した。形成した光学異方性層０１１の状態を調べ、塗布ムラ（塗布液が配向膜にはじかれて生じたムラ）や配向の乱れがないことを確認した。光学異方性層０１１の光学特性を表１に示す。ここで、光学異方性層０１１単独の光学性能を測定するため、セルロースアシレートフィルム００１の上ではなく、別途、Ｒｅ及びＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって光学異方性層０１１を作製して測定した。また作製した光学フィルム１０１の光学特性を表２に示す。以上の光学測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて測定した値を用いた。
【０１１２】
【化２】
0004825934.tif 000004
【０１１３】
【表１】
0004825934.tif 000005
【０１１４】
【表２】
0004825934.tif 000006
【０１１５】
[実施例２]
実施例１のセルロースアシレートフィルム００１を用い、光学異方性層０１１を形成する代わりに、下記の光学異方性層０１２を形成した。
【０１１６】
《光学異方性層０１２の形成》
（ポリイミド塗布液の調製）
２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン酸二無水物（６ＦＤＡ）及び２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＰＦＭＢ）を用いて、下記式で表される繰り返し単位から構成されるポリイミド（Ｍｗ＝１５０，０００）を合成した。このポリイミドを、１５重量％のＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）溶液とし、ポリイミド溶液を調製した。なお、６ＦＤＡ及びＰＦＭＢの合成方法は、特許第３７３５３６１号に詳細がある。
【０１１７】
【化３】
0004825934.tif 000007
【０１１８】
（光学フィルム１０２の作製）
上記のポリイミド溶液を、実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム００１に、バーコーターを用いて厚み調整をして直接塗布した後、これを１００℃で１０分間乾燥し、更に150℃で20分間乾燥厚さ3.7μｍのポリイミドからなる光学異方性層０１２を形成し、セルロースアシレートフィルム００１と一体化した光学フィルム１０２を得た。ポリイミドによる光学異方性層０１２の光学特性（表３）は、別途、Ｒｅ及びＲｔｈがゼロとみなせる、ガラス基板の上に上記と同様の操作によって上記の光学異方性層０１２を作製して測定した。また作製した光学フィルム１０２の光学特性を表４に示す。以上の光学測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて測定した。
【０１１９】
【表３】
0004825934.tif 000008
【０１２０】
【表４】
0004825934.tif 000009
【０１２１】
[比較例１]
（光学フィルム１０３の作製）
実施例１で、セルロースアシレートフィルム００１を用いる代わりに、富士フイルム社製のタックTD80UL（厚み８０μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ＝４ｎｍ、Ｒｔｈ＝４６ｎｍ）を用い、実施例１の光学異方性層０１１の形成方法と同一の方法で、光学異方性層０１３を形成し、光学フィルム１０３を得た。光学異方性層０１３の光学性能は実施例１の光学異方性層０１１と同等であることを確認した。
また、光学フィルム１０３について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。結果を表５に示す。
【０１２２】
【表５】
0004825934.tif 000010
【０１２３】
[比較例２]
（光学フィルム１０４の作製）
実施例１で、セルロースアシレートフィルム００１を用いる代わりに、富士フィルム社製のZRD60S（厚み６０μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ＝０ｎｍ、Ｒｔｈ＝１ｎｍ）を用い、実施例１の光学異方性層０１１の形成方法と同一の方法で、光学異方性層０１４を形成し、光学フィルム１０４を得た。光学異方性層０１４の光学性能は実施例１の光学異方性層０１１と同等であることを確認した。
また、光学フィルム１０４について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。結果を表６に示す。
【０１２４】
【表６】
0004825934.tif 000011
【０１２５】
[比較例３]
（セルロースアシレートフィルム００２の作製）
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム００１と同様にして、厚みを倍にして、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ＝−４ｎｍ、Ｒｔｈ＝−１５０ｎｍの本発明のセルロースアシレートフィルム００２を作製した。Ｒｅ及びＲｔｈについては、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。
【０１２６】
（光学フィルム１０５の作製）
実施例１で、セルロースアシレートフィルム００１を用いる代わりに、上記で作製したセルロースアシレートフィルム００２を用い、実施例１の光学異方性層０１１の形成方法と同一の方法で、光学異方性層０１５を形成し、光学フィルム１０５を得た。光学異方性層０１５の光学性能は実施例１の光学異方性層０１１と同等であることを確認した。また、光学フィルム１０５について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。結果を表７に示す。
【０１２７】
【表７】
0004825934.tif 000012
【０１２８】
[実施例３]
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム００１を長辺方向に対して４５度方向にラビングし、実施例１で使用した配向膜をバーコートで塗布し、１００℃、２分乾燥させた。更に実施例１で用いた棒状液晶性化合物をバーコートで塗布し、１００℃、２分置いた後、ＵＶを照射し、光学異方性層０１６を形成し（膜厚２．０μｍ）、光学フィルム１０６を作製した。ここで、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおけるＲｅは１３８ｎｍ、Ｒｔｈは７０ｎｍ、光学フィルム１０６の波長５５０ｎｍにおけるＲｅは１３７．５ｎｍ、Ｒｔｈは−５ｎｍであり、光学異方性層１０６の遅相軸は長辺方向に対して４５度であった。
【０１２９】
[比較例４]
特開２００９−６９７９３を参考に、１００μｍ周期で波長５５０ｎｍにおけるＲｅが２７５ｎｍ、Ｒｔｈは１３８ｎｍであるパターン１と、Ｒｅが０ｎｍ、Ｒｔｈは１４０ｎｍであるパターン２とが交互になるようにパターニング位相差層をガラス基板上に作製した。これを上記で作製したＲｅ＝１３７．５ｎｍの光学フィルム１０６上に転写して、パターニング位相差フィルム（光学フィルム１０７）を作成した。このとき、お互いの軸方向が水平になるようにした。また光学フィルム１０７全体の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈは１３４ｎｍであった。
【０１３０】
[比較例５]
特開２００９−２２３００１を参考に、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ＝１３７．５ｎｍ、Ｒｔｈ＝６９ｎｍ、遅相軸の向きが１００μ周期で４５度、−４５度となるようにパターニング位相差層をガラス基板上に作製した。これを富士フィルム社製のZRD60S（厚み６０μｍ）上に転写して、パターニング位相差フィルム（光学フィルム１０８）を作成した。また光学フィルム１０８全体の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈは７６ｎｍであった。
【０１３１】
[実施例４]
（ハードコート層用塗布液の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
メチルエチルケトン９００質量部に対して、シクロヘキサノン１００質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製）７５０質量部、シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）２００質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
【０１３２】
（中屈折率層用塗布液Ａの調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【０１３３】
（中屈折率層用塗布液Ｂの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．１４質量部、メチルエチルケトン６６．５質量部、メチルイソブチルケトン９．５質量部及びシクロヘキサノン１９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【０１３４】
中屈折率用塗布液Ａと中屈折率用塗布液Ｂとを適量混合し、中屈折率塗布液を調製した。
【０１３５】
（高屈折率層用塗布液の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、光重合開始剤含有、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）１４．４質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．７５質量部、メチルエチルケトン６２．０質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液Ｃを調製した。
【０１３６】
（低屈折率層用塗布液の調製）
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０１３７】
【化４】
0004825934.tif 000013
【０１３８】
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
【０１３９】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ２）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ２）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。
【０１４０】
（中空シリカ粒子分散液Ａの調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シエル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。
【０１４１】
（低屈折率層用塗布液の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分濃度５質量％の低屈折率層用塗布液を作製した。下記各成分の質量％は、塗布液の全固形分に対する、各成分の固形分の比率である。
【０１４２】
・Ｐ−１：パーフルオロオレフィン共重合体（１）：１５質量％
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）：７質量％
・ＭＦ１：国際公開第２００３／０２２９０６号パンフレットの実施例記載の下記含フッ素不飽和化合物（重量平均分子量１６００）：５質量％
【０１４３】
【化５】
0004825934.tif 000014
【０１４４】
・Ｍ−１：日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ：２０質量％
・分散液Ａ：前記中空シリカ粒子分散液Ａ（アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度１８．２％）：５０質量％
・Ｉｒｇ１２７：光重合開始剤イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）：３質量％
【０１４５】
実施例１で作成した光学フィルム１０１の光学異方性層０１１上に、前記組成のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａを形成した。
更に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を形成した。
中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。中屈折率層の膜厚は６５．５ｎｍ、屈折率１．６３８はであった。
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。高屈折率層の膜厚は１１０ｎｍ、屈折率は１．８４５であった。
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は８６ｎｍ、屈折率は１．４２であった。
上記のようにして光学異方性層上にハードコート層及び反射防止層を有する光学フィルム１１０を作製した。光学フィルム１１０について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。Ｒｅ＝１５０ｎｍ、Ｒｔｈ＝−１ｎｍであった。
【０１４６】
［実施例５］
実施例１で作成した光学フィルム１０１の支持体であるセルロースアシレートフィルム００１上に、前記組成のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａを形成した。
更に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を形成し、光学フィルム１１１を作製した。
中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。中屈折率層の膜厚は６５．５ｎｍ、屈折率１．６３８はであった。
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。高屈折率層の膜厚は１１０ｎｍ、屈折率は１．８４５であった。
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は８６ｎｍ、屈折率は１．４２であった。
上記のようにして光学異方性層上にハードコート層及び反射防止層を有する光学フィルム１１１を作製した。光学フィルム１１１について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。Ｒｅ＝１５０ｎｍ、Ｒｔｈ＝−１ｎｍであった。
【０１４７】
[実施例６]
(光学フィルム１１２の作製)
富士フイルム社製のZRD60S（厚さ６０μｍ）上に、前記組成のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａを形成した。
更に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。中屈折率層の膜厚は６５．５ｎｍ、屈折率１．６３８はであった。
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。高屈折率層の膜厚は１１０ｎｍ、屈折率は１．８４５であった。
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は８６ｎｍ、屈折率は１．４２であった。
以上のように作製した反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、反射防止フィルムの支持体側（ZRD60S）が、実施例1で作製した光学フィルム101の光学異方性層側となるように光学フィルム101に貼り付けた。
以上のようにして光学フィルム１１２を作製した。光学フィルム１１２について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。Ｒｅ＝１５０ｎｍ、Ｒｔｈ＝−１ｎｍであった。
【０１４８】
［実施例７］
（セルロースアシレートフィルム００３の作製）
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム００１と同様にして、厚みを１．５倍にして、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ＝−３ｎｍ、Ｒｔｈ＝−１１２ｎｍの本発明のセルロースアシレートフィルム００３を作製した。
【０１４９】
（光学フィルム１１３の作製）
実施例１で、セルロースアシレートフィルム００１を用いる代わりに、上記で作製したセルロースアシレートフィルム００３を用い、実施例１の光学異方性層０１１の形成方法と同一の方法で、光学異方性層を形成した。光学異方性層の光学性能は実施例１の光学異方性層０１１と同等であることを確認した。
続いて富士フイルム社製のタックTD80UL（厚み８０μｍ）上に、前記組成のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａを形成した。
更に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。中屈折率層の膜厚は６５．５ｎｍ、屈折率１．６３８はであった。
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。高屈折率層の膜厚は１１０ｎｍ、屈折率は１．８４５であった。
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は８６ｎｍ、屈折率は１．４２であった。
以上のように作製した反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、反射防止フィルムの支持体側（TD80UL）が、上記光学異方性層側となるように貼り付けた。以上のようにして光学フィルム１１３を作製した。光学フィルム１１３について、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて面内のレターデーションＲｅ及び傾斜角を変えてＲｅを測定することで得られる膜厚方向のレターデーションＲｔｈを求めた。Ｒｅ＝１５０ｎｍ、Ｒｔｈ＝３ｎｍであった。
【０１５０】
[実施例８]
（セルロースアシレートフィルム００４の作製）
実施例１におけるセルロースアシレートフィルム００１の作製において、セルロースアシレート溶液中に下記のＵＶ吸収剤Ａを１．２質量％添加し、更に下記のＲｔｈ低減Ｂを４質量％入れた以外は、実施例１におけるセルロースアシレートフィルム００１の作製と同様にしてセルロースアシレートフィルム００４を作製した。得られたセルロースアシレートフィルム００４のＲｅは−２ｎｍ、Ｒｔｈは−７５ｎｍであった。
【０１５１】
【化６】
0004825934.tif 000015
【０１５２】
【化７】
0004825934.tif 000016
【０１５３】
（光学フィルム１１４の作製）
実施例１で、セルロースアシレートフィルム００１を用いる代わりに、上記で作製したセルロースアシレートフィルム００４を用い、実施例１の光学異方性層０１１の形成方法と同一の方法で、光学異方性層を形成し、光学フィルム１１４を得た。ここで、光学異方性層の光学性能は実施例１の光学異方性層０１１と同等であることを確認した。実施例１と同様の手法で光学フィルム１１４のＲｅ及びＲｔｈを求めた。結果を表８に示す。
【０１５４】
【表８】
0004825934.tif 000017
【０１５５】
[比較例６]
（セルロースアシレートフィルム００５の作製）
実施例１におけるセルロースアシレートフィルム００１の作製において、原料となるセルロースをアセチル置換度2.86のものに変更し、セルロースアシレート溶液中に前記ＵＶ吸収剤Ａを１．２質量％添加し、更に下記の可塑剤を併せて１１質量％入れた以外は、実施例１におけるセルロースアシレートフィルム００１の作製と同様にしてセルロースアシレートフィルム００５を作製した。得られたセルロースアシレートフィルム００５の波長５５０ｎｍにおけるＲｅは２ｎｍ、Ｒｔｈは４８ｎｍであった。
【０１５６】
【化８】
0004825934.tif 000018
【０１５７】
【化９】
0004825934.tif 000019
【０１５８】
（光学フィルム１１５の作製）
実施例１で、セルロースアシレートフィルム００１を用いる代わりに、上記で作製したセルロースアシレートフィルム００５を用い、実施例１の光学異方性層０１１の形成方法と同一の方法で、光学異方性層を形成し、光学フィルム１１５を得た。ここで、光学異方性層の光学性能は実施例１の光学異方性層０１１と同等であることを確認した。実施例１と同様の手法で光学フィルム１１５のＲｅ及びＲｔｈを求めた。結果を表９に示す。
【０１５９】
【表９】
0004825934.tif 000020
【０１６０】
[比較例７]
（セルロースアシレートフィルム００６の作製）
実施例１におけるセルロースアシレートフィルム００１の作製において、原料となるセルロースをアセチル置換度2.94のものに変更し、ドープを８０℃で３０分過熱溶融した。セルロースアシレート溶液中に前記ＵＶ吸収剤Ａを１．２質量％添加し、前記のＲｔｈ低減Ｂを１１質量％入れた以外は、実施例１におけるセルロースアシレートフィルム００１の作製と同様にしてセルロースアシレートフィルム００６を作製した。得られたセルロースアシレートフィルム００６の波長５５０ｎｍにおけるＲｅは−１ｎｍ、Ｒｔｈは−１ｎｍであった。
【０１６１】
【化１０】
0004825934.tif 000021
【０１６２】
【化１１】
0004825934.tif 000022
【０１６３】
（光学フィルム１１６の作製）
実施例１で、セルロースアシレートフィルム００１を用いる代わりに、上記で作製したセルロースアシレートフィルム００６を用い、実施例１の光学異方性層０１１の形成方法と同一の方法で、光学異方性層を形成し、光学フィルム１１６を得た。ここで、光学異方性層の光学性能は実施例１の光学異方性層０１１と同等であることを確認した。実施例１と同様の手法で光学フィルム１１６のＲｅ及びＲｔｈを求めた。結果を表１０に示す。
【０１６４】
【表１０】
0004825934.tif 000023
【０１６５】
[比較例８]
（セルロースアシレートフィルム００７の作製）
実施例８で作製したセルロースアシレートフィルム００４と同様にして、厚みのみを倍にして、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ＝−３ｎｍ、Ｒｔｈ＝−１４９ｎｍの本発明のセルロースアシレートフィルム００７を作製した。
【０１６６】
（光学フィルム１１７の作製）
実施例１で、セルロースアシレートフィルム００１を用いる代わりに、上記で作製したセルロースアシレートフィルム００７を用い、実施例１の光学異方性層０１１の形成方法と同一の方法で、光学異方性層を形成し、光学フィルム１１７を得た。ここで、光学異方性層の光学性能は実施例１の光学異方性層０１１と同等であることを確認した。実施例１と同様の手法で光学フィルム１１７のＲｅ及びＲｔｈを求めた。結果を表１１に示す。
【０１６７】
【表１１】
0004825934.tif 000024
【０１６８】
[実施例９]
（セルロースアセテートフィルム００８の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート                  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                                ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）                        ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                                    ３３６質量部
メタノール（第２溶媒）                                              ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                                          １１質量部
【０１６９】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤（Ａ）１６質量部、メチレンクロライド９２質量部及びメタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、６．０質量部であった。
【０１７０】
【化１２】
0004825934.tif 000025
【０１７１】
得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルムＴ１を作製した。
【０１７２】
得られた長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ１の幅は１４９０ｍｍであり、厚さは８０μｍであった。また、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション（Ｒｅ）は８ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は７８ｎｍであった。
【０１７３】
(アルカリ鹸化処理）
セルロースアシレートフィルムＴ１を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
【０１７４】
（アルカリ溶液組成）
────────────────────────────────────
アルカリ溶液組成（質量部）
────────────────────────────────────
水酸化カリウム                                          ４．７質量部
水                                                    １５．８質量部
イソプロパノール                                      ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ              １．０質量部
プロピレングリコール                                  １４．８質量部
────────────────────────────────────
【０１７５】
（配向膜の形成）
上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアセテートフィルムに、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
実施例１で用いた変性ポリビニルアルコール                      １０質量部
水                                                          ３７１質量部
メタノール                                                  １１９質量部
グルタルアルデヒド                                          ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、チバ・ジャパン製）    ０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７６】
（ディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層の形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸は時計回りに４５°の方向とした。
【０１７７】
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液を上記作製した配向膜上に＃２．７のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、更に１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層０１７（膜厚１．６μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅは１３７ｎｍ、Ｒｔｈは−５８ｎｍ）を形成し、光学フィルム１１８を得た。実施例１と同様の手法で光学フィルム１１８のＲｅ及びＲｔｈを求めた。結果を表１２に示す。
【０１７８】
光学異方性層塗布液（Ｃ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶性化合物                                ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                                ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）              ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                    １質量部
下記のピリジニウム塩                                            ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ２）                                ０．４質量部
メチルエチルケトン                                              １９５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７９】
ディスコティック液晶性化合物
【０１８０】
【化１３】
0004825934.tif 000026
【０１８１】
ピリジニウム塩
【０１８２】
【化１４】
0004825934.tif 000027
【０１８３】
【化１５】
0004825934.tif 000028
【０１８４】
【表１２】
0004825934.tif 000029
【０１８５】
[実施例１０]
（アクリル樹脂の作成）
特開２００８−１４６００３を参考に、メタクリル酸メチル８９．２質量部、アクリル酸メチル５．８質量部、及びキシレン５質量部からなる単量体混合物に、１，１−ジ−ｔ−ブチルパ−オキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン０．０２９４質量部、及びｎ−オクチルメルカプタン０．１１５質量部を用いたメタクリル酸メチル／アクリル酸メチル共重合体（Ｐ−１）のペレット、及び、スチレン７５．２質量％、メタクリル酸４．８質量％、エチルベンゼン２０質量％を調合液とし、重合開始剤として１，１−ｔｅｒｔ−ブチルパ−オキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンを用いたスチレン／メタクリル酸共重合体（Ｐ−２）のペレットを得た。
【０１８６】
（アクリルフィルム００９の作成）
上記Ｐ−１：６０質量部、上記Ｐ−２：４０質量部、旭電化（株）社製、アデカスタブＬＡ−３１（ＵＶ吸収剤）：１質量部と調整した樹脂組成物を用い、特開２００８−１４６００３の実施例２１を参考に、膜厚４０μｍのアクリルフィルム００９を得た。得られたアクリルフィルム００９のＲｅ及びＲｔｈは自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて測定した。結果を下記表１３示す。
【０１８７】
【表１３】
0004825934.tif 000030
【０１８８】
（光学フィルム１１９の作成）
実施例１の光学異方性層０１１の作製において、配向膜及び光学異方性層０１１をセルロースアシレートフィルム００１上ではなく、ガラス上に作製した。作製した光学異方性層０１１を剥がし、上記で作成したアクリルフィルム００９上に、粘着剤を用いて貼り付け、光学フィルム１１９とした。この時、アクリルフィルム００９の遅相軸と光学異方性層の遅相軸は４５°で交差するように配置した。また、光学異方性層の光学性能（Ｒｅ及びＲｔｈ）は自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて測定したところ、Ｒｅ＝１３４ｎｍ、Ｒｔｈ＝７５ｎｍであった。
実施例１と同様の手法で光学フィルム１１９のＲｅ及びＲｔｈを求めた。結果を表１４に示す。
【０１８９】
【表１４】
0004825934.tif 000031
【０１９０】
[比較例９]
［セルロースフィルム０１０の作製］
富士フイルム社製のタックＴＤ８０ＵＬ（厚み８０μｍ）を、１８０℃条件下で２０％延伸し、膜厚６８μｍのフィルム０１０を作製した。得られたフィルム０１０のＲｅ及びＲｔｈは自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて測定した。結果を下記表１５示す。
【０１９１】
【表１５】
0004825934.tif 000032
【０１９２】
[光学フィルム１２０の作成]
上記で作成したセルロースフィルム０１０上に、実施例９の光学異方性層０１７の作製と同様にして、光学異方性層０１８を作製し、光学フィルム１２０を作成した。ここで、光学異方性層０１８の光学性能は実施例９の光学異方性層０１７と同等であることを確認した。
実施例１と同様の手法で光学フィルム１２０のＲｅ及びＲｔｈを求めた。結果を表１６に示す。
【０１９３】
【表１６】
0004825934.tif 000033
【０１９４】
［実施例１１］
富士フイルム社製のタックTD80UL（厚み８０μｍ）上に、実施例９の光学異方性層０１７と同様にして光学異方性層を作製し、光学フィルム１２１を作製した。ここで、光学異方性層の光学性能は実施例９の光学異方性層０１７と同等であることを確認した。
実施例１と同様の手法で光学フィルム１２１のＲｅ及びＲｔｈを求めた。結果を表１７に示す。
【０１９５】
【表１７】
0004825934.tif 000034
【０１９６】
［実施例１２］
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム００１上に、実施例９の光学異方性層０１７と同様にして光学異方性層を作製し、複合支持体Ａとした。ここで、光学異方性層の光学性能は実施例９の光学異方性層０１７と同等であることを確認した。複合支持体Ａの波長５５０ｎｍにおけるＲｅは１３８ｎｍ、Ｒｔｈは１３５ｎｍであった。更に、比較例４と同様に、ガラス基板上にパターニング位相差層を形成し、上記光学異方性層上にパターニング位相差層を転写して、パターニング位相差フィルム（光学フィルム１２２）を作成した。このとき、お互いの軸方向が水平になるようにした。また光学フィルム１２２全体の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈは２ｎｍであった。
【０１９７】
［実施例１３］
比較例５と同様にガラス基板上にパターニング位相差層を形成し、実施例１のセルロースアシレートフィルム００１上に転写して、パターニング位相差フィルム（光学フィルム１２３）を作成した。また光学フィルム１２３全体の波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈは５ｎｍであった。
【０１９８】
[偏光板の作製]
上記の実施例１〜１３及び比較例１〜９にて作製したフィルムに、下記の粘着剤塗布液及び上層塗布液Ｂを、透明支持体側（実施例４〜７のフィルム１１０〜１１３については光学異方性層０１１上）にそれぞれ２０ｍｌ／ｍ２塗布し、１００℃で５分乾燥して粘着剤付きフィルム試料とした。
【０１９９】
（粘着剤塗布液）
下記水溶性ポリマー（ｍ）          ０．５ｇ
アセトン    ４０ｍｌ
酢酸エチル  ５５ｍｌ
イソプロパノール  ５ｍｌ
【０２００】
（上層塗布液Ｂ）
ポリビニルアルコール（日本合成化学工業株式会社製ゴーセノールＮＨ−２６）
０．３ｇ
サポニン（メルク社製界面活性剤）  ０．０３ｇ
純水        ５７ｍｌ
メタノール  ４０ｍｌ
メチルプロピレングリコール  ３ｍｌ
【０２０１】
【化１６】
0004825934.tif 000035
【０２０２】
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ３０μｍの偏光膜を得た。上記の粘着剤付きフィルムに対し粘着剤を塗設した側に偏光膜がくるように貼り付け、更に偏光膜のもう一方の側に市販のセルロールアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、Ｒｅ(550)は３ｎｍ、｜Ｒｔｈ(630)｜は５０ｎｍ）をアルカリケン化処理を行った後、粘着剤層を塗設してから貼り合わせ、偏光板１〜２２を作製した。
【０２０３】
（液晶表示装置への実装評価）
［評価１］
液晶シャッター眼鏡方式の３Ｄ−ＴＶ(ＳＨＡＲＰ製 ＬＣ４６ＬＶ３)のフロント偏光板をはがし、実施例１〜１１の偏光板と、比較例１〜３及び６〜９の偏光板を貼合した。また、液晶シャッター眼鏡に使われているＴＶ側の偏光板を剥がした。次に、左目／右目側の偏光板と液晶層の間に、液晶の遅相軸と遅相軸が垂直になるよう、λ／４板を配置した。
眼鏡を通した位置に分光放射輝度計（ＳＲ−３  トプコン製）をおき、それぞれの偏光板が貼り合わされたときの白輝度を、正面及び極角６０度方位角４５度方向(以下斜め方向)からそれぞれ測定した。斜め方向からの輝度測定時、液晶シャッター眼鏡を画面中央部に向けた。
偏光板貼合前後を比較して、正面では比較例７を除いた全ての偏光板で、白輝度が５％以上向上した。斜め方向においては、比較例１〜３及び６〜８は白輝度が５％以上低下したが、実施例１〜１１は同等であった。
【０２０４】
次に、右目画像を白、左目画像を黒とした合成画像を３Ｄ表示させ、右目用／左目用のメガネを通して輝度を測定し、以下の式でクロストークの評価（ＣＲＯ）を行った。
（このときの輝度をそれぞれＹ_ＲＲ、Ｙ_ＲＬとしたとき、ＣＲＯ = （ＹＲＲ−ＹＲＬ）／（ＹＲＲ ＋ ＹＲＬ）とした。）
クロストークが低いほど、立体感を維持できることを示す。
正面におけるクロストークは、顔を傾けた時のクロストークである。斜め方向におけるクロストークは、斜め方向においた液晶シャッター眼鏡を画面中央部に向けた時のクロストークである。
偏光板貼合前後を比較して、正面では全ての偏光板でクロストークは無くなった。また斜め方向においては、比較例１〜３及び６〜８のクロストークは１０％以上高くなったのに対し、実施例１〜１１と比較例９は１０％以上低くなった。
【０２０５】
［評価２］
HPL02065（HP製）のフロント偏光板をはがし、実施例１２と１３及び比較例４と５の偏光板を貼合した。
同様に、眼鏡を通した位置に分光放射輝度計（ＳＲ−３  トプコン製）をおき、それぞれの偏光板が貼り合わされたときの白輝度とクロストークを測定した。
正面及び極角６０度方位角４５度方向(以下斜め方向)からそれぞれ測定した。斜め方向からの輝度測定時、眼鏡を画面中央部に向けた。
偏光板貼合前後を比較して、正面では全ての偏光板で、白輝度が同等であった。斜め方向においては、比較例４及び５の白輝度は同等だったが、実施例１２及び１３は５％以上向上した。
偏光板貼合前後を比較して、正面では全ての偏光板でクロストークは同等であった。斜め方向においては、比較例４及び５のクロストークは同等であったのに対し、実施例１２及び１３では１０％以上低下した。
【要約】
【課題】３Ｄ映像のクロストーク（画像のだぶり）や外光反射によるフリッカを低減した液晶表示装置の提供。
【解決手段】少なくとも一方に電極を有し対向配置された一対の基板と、該一対の基板間の液晶層と、該液晶層を挟んで配置される光源側に配置される第一偏光板と視認側に配置される第二偏光板とを有する液晶表示装置において、
第二偏光板の視認側の保護膜は、０≦｜Ｒｅ（５５０）｜≦１０を満たす透明支持体と、λ／４機能を有する光学異方性層を有し、第二偏光板の視認側の保護膜のＲｔｈが｜Ｒｔｈ｜≦２０である液晶表示装置。
【選択図】なし