(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学変換部材を用いた装置の製造方法であって、
（ａ）少なくとも第１の電極を有した第１の基板と、少なくとも第２の電極、及び光透過部を有した光反射部材を有する第２の基板を、前記電気光学変換部材が充填される間隙を設けてシール材で接着してセルを構成する段階、
（ｂ）前記セルの第２の基板の前記間隙と反対側の面に光硬化樹脂層を形成する段階、
（ｃ）前記第１の基板側から、前記間隙、前記光透過部、及び前記第２の基板を透過して前記光硬化樹脂層に光を照射し、該第２の基板から前記間隙に向かう光を前記光透過部に集光するマイクロレンズを形成する段階、
を有する方法。
【請求項２】
電気光学変換部材を用いた装置の製造方法であって、
（ａ）少なくとも第１の電極を有した第１の基板と、少なくとも第２の電極、及び光透過部を有した光反射部材を有する第２の基板を、前記電気光学変換部材が充填される間隙を設けてシール材で接着してセルを構成する段階、
（ｂ）前記セルの第２の基板の前記間隙と反対側の面に光硬化樹脂層を形成する段階、
（ｃ）前記間隙に前記電気光学変換部材を充填して封止する段階、
（ｄ）前記第１の基板側から、前記電気光学変換部材が充填された間隙、前記光透過部、及び前記第２の基板を透過して前記光硬化樹脂層に光を照射し、該第２の基板から前記電気光学変換部材が充填された間隙に向かう光を前記光透過部に集光するマイクロレンズを形成する段階、
を有する方法。
【請求項３】
前記第２の基板にカラーフィルタが設けられている、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の基板の第１の電極と第２の基板の第２の電極によって規定される画素部の中心と、前記光透過部の中心が、前記第１の基板の垂直方向において略一致している、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
前記光反射部材には、前記第１の基板の第１の電極と第２の基板の第２の電極によって規定される画素部の各々に対して前記光透過部が複数設けられており、各画素部に対して複数のマイクロレンズが形成される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項６】
前記マイクロレンズを形成する段階の後に、さらに、
（ｅ）前記第１の基板の前記間隙と反対側の面に第１の偏光板を設ける段階、及び、
（ｆ）前記マイクロレンズの側に第２の偏光板及びバックライトを設ける段階、
を有する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項７】
前記充填される電気光学変換部材は液晶である、請求項２に記載の方法。
【請求項８】
前記光硬化樹脂層に光を照射し、マイクロレンズを形成する段階（ｄ）において、前記第１の電極及び第２の電極に電圧を印加して前記充填された液晶を駆動することにより、照射される前記光の透過光量を制御する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
電気光学変換部材を用いた装置の製造方法であって、
（ａ）複数のセルを形成する部分をを含む第１の母基板であって、該セルを形成する部分のそれぞれに少なくとも第１の電極を有した第１の母基板と、
複数のセルを形成する部分を含む第２の母基板であって、該セルを形成する部分のそれぞれに少なくとも第２の電極、及び光透過部を有した光反射部材を有する第２の母基板を、
前記第１及び第２の母基板の周縁に沿って設けられた第１のシール材、及び前記セルを形成する部分をそれぞれ囲うように設けた第２のシール材で電気光学変換部材が充填される間隙を設けて接着し、複数のセルを構成する段階、
（ｂ）前記第２の母基板の前記間隙と反対側の面に光硬化樹脂層を形成する段階、
（ｃ）前記第１の母基板側から、前記間隙、前記光透過部、及び前記第２の母基板を透過して前記光硬化樹脂層に光を照射し、前記第２の母基板から前記間隙に向かう光を前記光透過部に集光するマイクロレンズを形成する段階、
を有する方法。
【請求項１０】
前記第１及び第２の母基板の前記セルを形成する部分以外の部分には遮光材を設け、マイクロレンズが形成されないようにした、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の母基板の第１の電極と第２の母基板の第２の電極によって規定される画素部の中心と、前記光透過部の中心が、前記第１の母基板の垂直方向において略一致している、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１のシール材は、前記母基板の周縁の一部において二重シールを構成しており、該二重シールが第１及び第２の母基板が形成する間隙と外部との連絡通路を形成する、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記マイクロレンズを形成する段階の後に、さらに、
（ｄ）前記マイクロレンズが形成された複数のセルを有する第１及び第２の母基板を短冊状に切断し、前記第２のシール材に設けられた注入口から前記電気光学変換部材を充填して封止する段階、
を有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記電気光学変換部材を充填して封止する段階の後に、さらに、
（ｅ）前記電気光学変換部材が充填され封止された複数のセルを単体のセルに切断し分割する段階、
を有する、請求項１３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２枚の基板間に電気光学変換部材、例えば、液晶を用いた装置の製造方法に関する。特に、このような装置にマイクロレンズを形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルや携帯電話などの電子機器の表示部には、液晶表示装置が広く利用されている。そして、このような液晶表示装置においては、従来から、表示の輝度を向上させることが要求されている。
【０００３】
反射膜又は反射板を備えた反射型液晶表示装置は、周囲の外光を利用して画像を表示するのでバックライトを使用する必要はない。しかし、反射型液晶表示装置は、自然光や室内照明光などの外光のみを利用して表示するため、周囲の光が不足すると表示が暗くなる。
一方、透過型液晶装置は、液晶装置の下方に設けられたバックライトの光を用いて表示するので消費電力が多く、携帯用電子機器に適さない。
そこで反射型液晶装置と透過型液晶装置の両方の特徴を有する半透過反射型液晶装置が開発された。
【０００４】
半透過反射型液晶装置は、液晶表示装置を構成する液晶パネルの背面にバックライトを設け、明るい場所では、反射型液晶装置と同様に外光のみを利用して表示を行い、暗い場所では、バックライトから照射される照明光を利用して表示を行っている。半透過反射型液晶装置は、周囲の明るさに応じて外光と照明光とを利用することにより、消費電力を低減しつつ周囲が暗い場合でも明瞭な表示ができる。
【０００５】
一方、バックライトを備えた液晶装置において、さらに表示の輝度を向上させるため、マクロレンズを設けることが行われている。
特許文献１には、透明な平板基板上に硬化エネルギー線によって硬化する樹脂組成物によってマイクロレンズアレイを形成する方法が開示されている。
特許文献２には、透明基板上に反射膜を形成し、該反射膜に透明基板を露出する複数の微小孔を形成し、この反射膜をマスクとして該複数の微小孔から透明基板内に該基板と屈折率を異にする材料を拡散してマイクロレンズアレイを形成することが開示されている。
【０００６】
特許文献３には、ガラス基板の一方の面に画素毎に光透過部を設けた光反射膜を形成し、該ガラス基板の反対の面に感光性レジスト材料を塗布し、前記光反射膜をフォトマスクとして前記感光性レジスト材料に露光を行い、現像により未感光部分のレジストを除去し、光透過部に対応した部分にマイクロレンズを形成する方法が開示されている。
特許文献４には、２枚の母基板を間隙を持たせてシール材により接着し、複数の空のセルが形成された一対の母基板を構成し、該母基板を研磨して厚さを減じ、該母基板間に液晶を注入する、液晶装置の製造方法が開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平９−１６６７０１号公報（図１）
【特許文献２】特開２００３−８４２７６号公報（図１、図６、段落（００２３）〜（００２７）、（００４５）〜（００４８））
【特許文献３】特開２００４−１８１０６号公報（図１、図３、段落（００４９）〜（００５７））
【特許文献４】特開２００１−１３３７６２号公報（図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来の液晶装置等の電気光学変換部材を用いた装置にマイクロレンズを形成す方法においては、特許文献１〜３に開示されているように、まず一方の基板にマイクロレンズを形成し、しかる後に他方の基板とシール材により接着してセルを形成している。
しかしながら、従来の方法では基板にマイクロレンズを形成した後に基板をシール材により接着する工程を行っているため、マイクロレンズが形成された後の工程が多くなり、マイクロレンズに傷をつける危険性が高くなる。また、マイクロレンズの製造工程において、基板に塵などの不純物が付着し、画質が低下する恐れがある。
従って、本発明は従来の問題を解消した、液晶等の電気光学変換部材を用いた装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明による電気光学変換部材を用いた装置の製造方法によれば、
（ａ）少なくとも第１の電極を有した第１の基板と、少なくとも第２の電極、及び光透過部を有した光反射部材を有する第２の基板を、前記電気光学変換部材が充填される間隙を設けてシール材で接着してセルを構成する段階、
（ｂ）前記セルの第２の基板の前記間隙と反対側の面に光硬化樹脂層を形成する段階、
（ｃ）前記第１の基板側から、前記間隙、前記光透過部、及び前記第２の基板を透過して前記光硬化樹脂層に光を照射し、該第２の基板から前記間隙に向かう光を前記光透過部に集光するマイクロレンズを形成する段階、を有する。
【００１０】
また、本発明によれば、
（ａ）少なくとも第１の電極を有した第１の基板と、少なくとも第２の電極、及び光透過部を有した光反射部材を有する第２の基板を、前記電気光学変換部材が充填される間隙を設けてシール材で接着してセルを構成する段階、
（ｂ）前記セルの第２の基板の前記間隙と反対側の面に光硬化樹脂層を形成する段階、
（ｃ）前記間隙に前記電気光学変換部材を充填して封止する段階、
（ｄ）前記第１の基板側から、前記電気光学変換部材が充填された間隙、前記光透過部、及び前記第２の基板を透過して前記光硬化樹脂層に光を照射し、該第２の基板から前記電気光学変換部材をが充填された間隙に向かう光を前記光透過部に集光するマイクロレンズを形成する段階、
を有する。
【００１１】
本発明によれば、前記第１の基板と第２の基板の間にカラーフィルタを設けてもよい。
また、前記第１の基板の第１の電極と第２の基板の第２の電極によって規定される画素部の中心と、前記光透過部の中心が、前記第１の基板の垂直方向において略一致している。
本発明によれば、第１の基板の第１の電極と第２の基板の第２の電極によって規定される画素部の各々に対して光透過部が複数設けられ、各画素部に対して複数のマイクロレンズが形成される。
【００１２】
本発明によれば、前記マイクロレンズを形成する段階の後に、さらに、
（ｅ）前記第１の基板の前記間隙と反対側の面に第１の偏光板を設ける段階、及び、
（ｆ）前記マイクロレンズの側に第２の偏光板及びバックライトを設ける段階、
を有する。
【００１３】
本発明によれば、前記充填される電気光学変換部材は液晶とすることができる。そして、前記光硬化樹脂層に光を照射し、マイクロレンズを形成する段階（ｄ）において、前記第１の電極及び第２の電極に電圧を印加して前記充填された液晶を駆動することにより、照射される光の透過光量を制御することができる。
【００１４】
本発明の方法によれば、
（ａ）複数のセルを形成する部分を含む第１の母基板であって、該セルを形成する部分のそれぞれに少なくとも第１の電極を有した第１の母基板と、
複数のセルを形成する部分を含む第２の母基板であって、該セルを形成する部分のそれぞれに少なくとも第２の電極、及び光透過部を有した光反射部材を有する第２の母基板を、
前記第１及び第２の母基板の周縁に沿って設けられた第１のシール材、及び前記セルを形成する部分をそれぞれ囲うように設けた第２のシール材で電気光学変換部材が充填される間隙を設けて接着し、複数のセルを構成する段階、
（ｂ）前記第２の母基板の前記間隙と反対側の面に光硬化樹脂層を形成する段階、
（ｃ）前記第１の母基板側から、前記間隙、前記光透過部、及び前記第２の母基板を透過して前記光硬化樹脂層に光を照射し、前記第２の母基板から前記間隙に向かう光を前記光透過部に集光するマイクロレンズを形成する段階、を有する。
【００１５】
その際、前記第１及び第２の母基板の前記セルを形成する部分以外の部分には遮光材を設け、マイクロレンズが形成されないようにすることができる。
また、前記第１の母基板の第１の電極と第２の母基板の第２の電極によって規定される画素部の中心と、前記光透過部の中心が、前記第１の母基板の垂直方向において略一致している。
また、前記第１のシール材は、前記母基板の周縁の一部において二重シールを構成しており、該二重シールが第１及び第２の母基板が形成する間隙と外部との連絡通路を形成している。
【００１６】
本発明によれば、前記マイクロレンズを形成する段階の後に、さらに、
（ｄ）前記マイクロレンズが形成された複数のセルを有する第１及び第２の母基板を短冊状に切断し、前記第２のシール材に設けられた注入口から前記電気光学変換部材を充填して封止する段階、
を有する。
また、さらに、
（ｅ）前記電気光学変換部材が充填され封止された複数のセルを単体のセルに切断し分割する段階、
を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
電気光学変換部材を用いた装置として、半透過反射型液晶装置を例に本発明の説明を行う。
図１において、１１は第１の電極、２４は第２の電極であり、第１及び第２の電極間に液晶層が挟持され、第１と第２の電極１１と２４が重なる部分に画素部２８が形成される。図１において、第２の電極の２４の下側の全面に光反射材となる反射膜２１が設けられ、該反射膜２１の画素部２８に対向する部分に光透過部となる開口部２２が設けられている。開口部２２は図においては矩形であるが、ストライプ、多角形、円形等の任意の形状としてもよい。
３０は反射膜２１のさらに下側に設けられたマイクロレンズで、開口部２２に対向して配置されている。
【００１８】
図２は、図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。図２において、１０は第１の電極１１と第１の配向膜１２を有した透明の第１の基板である。２０は一方の側にマイクロレンズ３０を有し、他方の側に開口部２２が設けられた反射膜２１、絶縁膜２３、第２の電極２４、及び第２の配向膜２５を有した透明の第２の基板である。第１と第２の基板１０と２０は間隙１５を設けて対向して配設され、シール材１７で接着されている。この間隙１５にはシール材１７に設けられた注入口より液晶１６が注入され、該注入口は封口材１８で封止されている。
上記第１の電極１１と第２の電極２４の間に電圧を印加し、液晶１６を駆動して画像を形成する。
【００１９】
図２において、第１の基板１０の観察者側には第１の偏光板１が接着される。また、第１の基板１０の液晶層１６側には、例えば、インジウム錫酸化物よりなるストライプ状の第１の電極１１が複数本互いに平行に配設され、該第１の電極１１上には第１の配向膜１２が配設されている。
一方、透明の第２の基板２０の液晶層１６側には、複数の開口部２２が設けられた導電性の反射層あるいは反射膜２１が配設される。この開口部２２の面積は、画素部２８の面積に対して２５％〜６０％とされており、好ましくは４０％〜５０％とされる。この比率は製品を使用する顧客の好みにより変えることができる。
また、第２の基板２０のマイクロレンズ３０側には第２の偏光板２及びバックライト４０が設けられる。
【００２０】
図２に示された半透過反射型液晶装置には、光が反射される部分（反射膜２１）と透過する部分（開口部２２）が設けられているので、開口部が大きければ透過光量が増し、バックライトの光をより多く利用することができる。開口部が小さければ、反射される光量が増し、反射光をより多く利用することができる。
図２に示す半透過反射型液晶装置において、マイクロレンズ３０はバックライト４０の集光機能を高めるために設けられている。そのため、開口部２２をマイクロレンズがない場合より小さくすることができ、それにより反射領域の割合を前記割合より大きくして、より多くの反射光を利用することができる。
【００２１】
反射膜２１として、例えば、アルミニュウム（Ａｌ）、アルミニウムネオジウム合金等のアルミニウム合金が用いられる。反射膜２１の上には、例えば、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：以下、「ＩＴＯ」と記す。）よりなる第２の電極２４が、絶縁膜２３を介して配設される。絶縁膜２３は、導電性の反射膜２１と第２の電極２４が短絡するのを防ぐために配設される。第２の電極２４上には第２の配向膜２５が設けられる。
【００２２】
図２では、反射膜２１を第２の基板２０の全面に設けた場合を示したが、第２の電極２４に沿って該電極２４の幅とほぼ同じ幅を有する反射膜としてもよい。
あるいは図３に示すように、画素部２８に対向し、又は画素部２８を覆うように島状の反射膜２１ａとしてもよい。なお、このような形状の反射膜を設ける場合には、絶縁膜を設けなくてもよい。その場合、製造工程数を削減できるため費用を低減できる。なお、反射膜２１として絶縁性の反射膜を用いた場合も、絶縁膜を設ける必要はない。
【００２３】
ここで、反射膜２１に設けられた開口部２２に関して説明を行う。先に説明したように、反射型液晶装置は周囲の外光を利用して画像を形成するので、バックライトを使用せず済む。バックライトを使用する場合でもバックライトの輝度を下げて使用することができる。そのため、消費電力が少なく、電子機器の連続使用時間を長くすることができる。しかし、反射型液晶装置は暗い場所では反射光の輝度が十分ではなく、使用しにくいという問題がある。一方、透過型液晶装置は、反射膜あるいは反射板を備えておらず、液晶装置の下方に設けられたバックライトの光のみを用いて表示するので消費電力が多く、携帯用電子機器に適さない。そこで反射型液晶装置と透過型液晶装置の両方の特徴を有する半透過反射型液晶装置が開発された。
【００２４】
半透過反射型液晶装置には、半透過反射膜として誘電体多層膜、あるいはＡｌ、Ａｇ、Ａｌ合金等のメタルハーフミラーよりなる半透過反射部材を用いたものと、図１及び２に示されたようなＡｌ、Ａｇ、Ａｌ合金等のメタルよりなる反射膜の一部に開口部を設けてバックライトの光を透過させる半透過反射膜を用いたものがある。本願では、反射膜の一部に開口部を設けた半透過反射膜を用いた半透過反射型液晶装置を例にとって本発明の説明を行う。
【００２５】
図１及び図２において反射膜２１には、光を透過するための開口部２２が設けられている。開口部２２は、画像を形成するための画素部２８の略中央に設けられる。開口部２２は、必ずしも画素部２８の中央に設けなくても良いが、後述するマイクロレンズを効率よく製造するためには、画素部２８の中央に設けるのが好ましい。
また、開口部２２の形状は、平面的に見て図１に示す如く正方形、又は長方形でもよいが、円形あるいは多角形としても良い。また、１つの液晶装置に複数の異なる形状を採用しても良い。
開口部２２は、平面的に見て図１に示す如く、１つの画素部２８に対して１つの開口部２２を設けることが好ましいが、１つの画素部に複数の開口部を設けても良い。
【００２６】
本発明による方法は、ストライプ電極が交差して画素部２８を形成するパッシブ液晶装置に限ることなく、ＴＦＴ、ＭｉＭ、ＤＴＦなどの素子を用いたアクティブ液晶装置の画素に適用することができる。
この時、画素部が反射電極（例えば、ＡｇあるいはＡｌ材よりなる）の場合は、この反射電極の一部に開口部を設ける。
【００２７】
先に説明した開口部２２に絶縁膜あるいは平坦化膜を設け、第２の電極２４が配設される面を平らにするのが好ましい。特に、ＳＴＮ（スーパツイストネマチック）液晶装置の場合、凹凸による画質の劣化が著しいので、平坦化膜あるいは絶縁膜が必要になる。後述するが、開口部２２にカラーフィルターを設けても良い。
【００２８】
第２の基板２０の下には複数のマイクロレンズ３０が第２の基板２０と一体に、又は第２の基板２０に直接に配設されている。一体の場合でも、第２の基板２０および第１の基板１０にはガラス材が用いられており、マイクロレンズ３０には樹脂材が用いられているため、同一材料による一体化ではない。なお、前記第２の基板２０に樹脂材を用いても良い。
またマイクロレンズ３０は、第２の基板２０の液晶層と反対側の面に接触して設けてもよい。例えば、マイクロレンズ３０は第２の基板２０に形成されるが、第２の基板２０に完全に密接させる必要はない。
【００２９】
図１及び図２に示されているように、画素部２８のそれぞれに１個のマイクロレンズ３０が配設される。しかも、マイクロレンズ３０の中央は、反射膜２１の開口部２２の中央と一致している。
すなわち、第１の基板１０と第２の基板２０が画素部２８の位置を規定する第１の電極１１と第２の電極２４を備え、画素部２８の中心、光透過部である反射膜２１の開口部２２の中心、及びマイクロレンズ３０の集光中心（断面が半円のレンズの場合、レンズの中央）が略一致している。
このように、１つの画素部２８の反射膜２１の開口部２２と１個のマイクロレンズの中央が一致しているので、マイクロレンズ３０の後方に配置したバックライト４０からの光がマイクロレンズ３０で集光され開口部２２を透過するので、透過光の量が増え画像の明るさが向上する。
【実施例１】
【００３０】
以下、図１及び図２に示した半透過反射型液晶装置の場合を例に、本発明による液晶装置のマイクロレンズ３０の製造方法の実施例を説明する。
図４及び図５は、本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例１を示す要部工程図である。
【００３１】
図４及び図５は、第１の電極１１、第１の配向膜１２を備えた第１の基板１０と、第２の電極２４、第２の配向膜２５、光透過部となる開口部２２を有した反射部材となる反射膜２１を備えた第２の基板２０を、両基板間に液晶が充填される間隙１５を設けてシール材１７で接着した「空のセル」を示している。なお、図４及び図５は、図２に示されたものと上下が反対に描かれている。
上記空のセルは、第１の基板１０と第２の基板２０が液晶注入口が設けられたシール材１６で接着されているが、液晶は充填されていない。
【００３２】
次に、上記空のセルにマイクロレンズ３０を形成する本発明の実施例１による方法を説明する。
先ず、図４に示すように、第２の基板２０の間隙１５とは反対側の全面に、スピナー法などの従来用いられている塗布方法を用いて光硬化樹脂材を塗布し、光硬化樹脂層３０ａを形成する。次に、第１の基板１０の側から第２の基板２０を透過する紫外線や可視光等の光（矢印）を照射する。この光が、第１の基板１０、第１の電極１１、第１の配向膜１２、間隙１５、第２の配向膜２５、第２の電極２４、絶縁膜２３（又は平坦化膜）、反射膜２１の開口部２２、第２の基板２０を透過して、マイクロレンズ３０となる光硬化樹脂層３０ａを照射する。照射される光は、反射膜２１の開口部２２でパターン化されるため、光硬化樹脂層３０ａは開口部２２を中央とするマイクロレンズの形状となるように露光される。
次に、現像により非露光部分（光が照射されない部分）の光硬化樹脂を除去すると、図５に示すように第２の基板２０の上にマイクロレンズ３０が形成される。その後、シール材１７に設けられた注入口より間隙１５に液晶が注入され、該注入口は封口材１８で封止される。
【００３３】
上記のようにマクロレンズ３０が形成されるため、従来の如く、露光用マスクパターンを必要としない。また、第１の電極１１と第２の電極２４によって規定される画素部２８の中心と、前記光透過部２２の中心が、前記第１の基板１０の垂直方向において略一致しているので、マイクロレンズ用のマスクパターンと開口部２２の正確な位置合わせのための作業、及び位置合わせのための治具又は装置を必要としない。そのため、マイクロレンズ付き半透過反射型液晶装置の製造歩留まりが向上し、製造費用を従来に比べ安価にすることが出来る。
【００３４】
従来の製造方法では、基板にマイクロレンズ３０を形成した後に第１及び第２の基板をシール材１７により接着する工程を行っている。そのため、マイクロレンズが形成された後の工程が多くなり、マイクロレンズに傷をつける危険性が高くなる。また、マイクロレンズ３０の製造工程において、第２の基板２０に塵などの不純物が付着し、塵により画質が低下する恐れがある。
【００３５】
しかしながら、実施例１に示された製造方法によれば、第１及び第２の基板を液晶の注入口が設けられたシール材１６により接着した空のセルにマイクロレンズを形成するため、その後の工程が少なくなる。そのため、マイクロレンズに傷をつける危険性が低くなり、製造に際して歩留まりが大きく改善される。
また、マイクロレンズを形成する段階では、第１及び第２の基板が接着された状態にあるので塵や汚れに対して強い。そのため、その取り扱いが容易であり、作業がしやすいという効果を有する。また、マイクロレンズ３０の製造工程において、第２の基板２０に塵などの不純物が付着し、塵により画質が低下するのを防ぐことができる。
【実施例２】
【００３６】
図６及び図７は、本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例２を示す要部工程図である。
実施例１の場合は、液晶が注入されていないセルにマイクロレンズ３０を形成しているが、図６及び図７に示した実施例２においては、液晶１６を注入した後のセルにマイクロレンズ３０を形成している。
【００３７】
図６及び図７は、第１の電極１１、第１の配向膜１２を備えた第１の基板１０と、第２の電極２４、第２の配向膜２５、光透過部となる開口部２２を有した反射部材となる反射膜２１を備えた第２の基板２０を、両基板間に間隙１５を設けてシール材１７で接着し、間隙１５に液晶１６が充填されたセルを示している。液晶１６はシール材１７に設けられた注入口から注入され、該注入口は樹脂材よりなる封口材１８で封止されている。
なお、図６及び図７は、図２に示されたものと上下が反対に描かれている。
【００３８】
次に、上記液晶が注入され封止されたセルにマイクロレンズ３０を形成する本発明による方法を説明する。
先ず、図６に示すように、第２の基板２０の液晶層１６とは反対側の全面に、スピナー法などの従来用いられている塗布方法を用いて光硬化樹脂材を塗布して光硬化樹脂層３０ａを形成する。次に、第１の基板１０の側から第２の基板２０を透過する紫外線や可視光等の光（矢印）を照射する。この光が、第１の基板１０、第１の電極１１、第１の配向膜１２、液晶層１６、第２の配向膜２５、第２の電極２４、絶縁膜２３（又は平坦化膜）、反射膜２１の開口部２２、第２の基板２０を透過して、マイクロレンズ３０となる光硬化樹脂層３０ａを照射する。照射される光は、反射膜２１の開口部２２でパターン化されているため、光硬化樹脂３０ａは開口部２２を中央とするマイクロレンズの形状となるように露光される。
次に、現像により非露光部分（光が照射されない部分）の光硬化樹脂を除去すると、図７に示すように第２の基板２０の上にマイクロレンズ３０が形成される。
【００３９】
上記のようにマクロレンズ３０が形成されるため、実施例１で述べたような利点及び効果を有する。
また、実施例２では、実施例１と比べ、液晶注入工程が終了しているため、マイクロレンズに傷が付く確率がさらに低くなり、歩留り及び品質が向上する。
さらに、実施例２では、第１の基板１０を透過した光が、第１の電極１１、第２の電極２４、反射膜２１の開口部２２を通って第２の基板２０に形成された光硬化樹脂層３０ａを露光するため、第１の電極１１と第２の電極２４に電圧を印加して液晶１６を駆動することにより、照射される光の透過光量を制御し、最適な光量で露光をすることが出来る。そのため、複雑な調整機構を用いる必要がなく、光照射装置を安価にでき、更なるコストダウンが得られる。
【実施例３】
【００４０】
図８は、マイクロレンズを備えたカラー液晶装置の断面図の一例である。図８に示すカラー液晶装置の断面図の構成は図２に示す構成とほぼ同じであるが、開口部２２を設けた反射膜２１と第２の電極２４の間にカラーフィルタ２６と保護膜２７を設けた点が図２の構成と異なる。
図８において、１０は第１の電極１１と第１の配向膜１２を有した透明の第１の基板である。２０は一方の側にマイクロレンズ３０を有し、他方の側に開口部２２が設けられた反射膜２１、カラーフィルタ２６、保護膜２７、第２の電極２４、及び第２の配向膜２５を有した透明の第２の基板である。第１の基板１０と第２の基板２０は間隙１５を設けて対向して配設され、シール材１７により接着されている。この間隙１５にはシール材１７に設けられた注入口より液晶１６が注入され、該注入口は封口材１８で封止されている。
【００４１】
上記第１の電極１１と第２の電極２４の間に電圧を印加し、液晶１６を駆動して画像を形成する。
【００４２】
反射膜２１の上にカラーフィルター２６が設けられており、赤、緑、青（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の三原色のカラーフィルタの１つが各画素に対応するように設けられている。例えば、Ｒのフィルタが設けられた画素の隣の画素にはＧのフィルタを設け、Ｇのフィルタが設けられた画素の隣の画素にはＢのフィルタを設け、Ｂのフィルタが設けられた画素の隣の画素にはＲのフィルタが設けられる。
【００４３】
カラーフィルタ２６の上には該フィルタの上面を平面にするため樹脂材からなる平坦化膜又は保護膜２７が設けられる。なお、図２に示された絶縁膜２３は、絶縁機能を有するカラーフィルタ２６と保護膜２７が設けられているため必要はない。
図８に示した例では、反射膜２１は第２の基板２０の全面に設けられているが、第２の電極２４に沿って第２の電極２４の幅とほぼ同じ幅の反射膜を設けてもよい。または画素に対向し又は画素を覆う島状の反射膜としてもよい。
【００４４】
図８において、第１の基板１０の観察者側には第１の偏光板１が接着される。また、第１の基板１０の液晶層１５側には、例えば、インジウム錫酸化物よりなるストライプ状の第１の電極１１が複数本互いに平行に配設され、該第１の電極１１上には第１の配向膜１２が配設されている。
一方、透明の第２の基板２０の液晶１６側には、複数の開口部２２が設けられた導電性の反射層あるいは反射膜２１が配設される。また、第２の基板２０のマイクロレンズ３０側には第２の偏光板２及びバックライト４０が設けられる。
その他、図８に示された構成及び反射膜等の材料は図２に示されたものと同じであるので、説明を省略する。
【００４５】
図９及び図１０は、本発明によるマイクロレンズを有するカラー液晶装置の製造方法の実施例（実施例３）を示す要部工程図である。
図９及び図１０は、第１の電極１１、第１の配向膜１２を備えた第１の基板１０と、第２の電極２４、第２の配向膜２５、保護膜２７、カラーフィルタ２６、及び光透過部となる開口部２２を有した反射部材となる反射膜２１を備えた第２の基板２０を、両基板間に液晶が充填される間隙１５を設けてシール材で接着した「空のセル」を示している。なお、図９及び図１０は、図８に示されたものと上下が反対に描かれている。
上記空のセルは、第１の基板１０と第２の基板２０が液晶注入口が設けられたシール材１７で接着されているが、液晶は充填されていない。
【００４６】
次に、上記空のセルにマイクロレンズ３０を形成する本発明の実施例３による方法を説明する。
先ず、図９に示すように、第２の基板２０の間隙１５とは反対側の全面に、スピナー法などの従来用いられている塗布方法を用いて光硬化樹脂材を塗布し、光硬化樹脂層３０ａを形成する。次に、第１の基板１０の側から第２の基板２０を透過する紫外線や可視光等の光（矢印）を照射する。この光が、第１の基板１０、第１の電極１１、第１の配向膜１２、間隙１５、第２の配向膜２５、第２の電極２４、絶縁膜２７、カラーフィルタ２６、反射膜２１の開口部２２、第２の基板２０を透過して、マイクロレンズ３０となる光硬化樹脂層３０ａを照射する。照射される光は、反射膜２１の開口部２２でパターン化されるため、光硬化樹脂層３０ａは開口部２２を中央とするマイクロレンズの形状となるように露光される。
次に、現像により非露光部分（光が照射されない部分）の光硬化樹脂を除去すると、図１０に示すように第２の基板２０の上にマイクロレンズ３０が形成される。その後、シール材１７に設けられた注入口より間隙１５に液晶が注入され、該注入口は封口材１８で封止される。
【００４７】
上記のようにマクロレンズ３０が形成されるため、従来の如く、露光用マスクパターンを必要としない。また、第１の電極１１と第２の電極２４によって規定される画素部２８の中心と、前記光透過部２２の中心が、前記第１の基板１０の垂直方向において略一致しているので、マイクロレンズ用のマスクパターンと開口部２２の正確な位置合わせのための作業、及び位置合わせのための治具又は装置を必要としない。そのため、マイクロレンズ付き半透過反射型液晶装置の製造歩留まりが向上し、製造費用を従来に比べ安価にすることが出来る。
【００４８】
従来の製造方法では、基板にマイクロレンズ３０を形成した後に第１及び第２の基板をシール材により接着する工程を行っている。そのため、マイクロレンズが形成された後の工程が多くなり、マイクロレンズに傷をつける危険性が高くなる。また、マイクロレンズ３０の製造工程において、第２の基板２０に塵などの不純物が付着し、塵により画質が低下する恐れがある。
【００４９】
しかしながら、実施例３に示された製造方法によれば、第１及び第２の基板を液晶注入口が設けられたシール材１７により接着した空のセルにマイクロレンズを形成するため、その後の工程が少なくなりマイクロレンズに傷をつける危険性が低くなり、製造に際して歩留まりが大きく改善される。
また、マイクロレンズを形成する段階では、第１及び第２の基板が接着された状態にあるので塵や汚れに対して強い。そのため、その取り扱いが容易であり、作業がしやすいという効果を有する。また、マイクロレンズ３０の製造工程において、第２の基板２０に塵などの不純物が付着し、塵により画質が低下するのを防ぐことができる。そのため、第１及び第２の基板間に電極間ショートが発生する確率が減少し、液晶装置の信頼性が向上する。
【実施例４】
【００５０】
図１１及び図１２は、本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例４を示す要部工程図である。
実施例３の場合は、液晶が注入されていないセルにマイクロレンズを形成しているが、図１１及び図１２に示した実施例４においては、液晶を注入した後のセルにマイクロレンズを形成している。
【００５１】
図１１及び図１２は、第１の電極１１、第１の配向膜１２を備えた第１の基板１０と、第２の電極２４、第２の配向膜２５、保護膜２７、カラーフィルタ２６、及び光透過部となる開口部２２を有した反射部材となる反射膜２１を備えた第２の基板２０を、両基板間に間隙１５を設けてシール材１７で接着し、間隙１５に液晶１６が充填されたセルを示している。液晶１６はシール材１７に設けられた注入口から注入され、該注入口は樹脂材よりなる封口材１８で封止されている。
なお、図１１及び図１２は、図８に示されたものと上下が反対に描かれている。
【００５２】
次に、上記液晶が注入され封止されたセルにマイクロレンズ３０を形成する本発明による方法を説明する。
先ず、図１１に示すように、第２の基板２０の液晶層１６とは反対側の全面に、スピナー法などの従来用いられている塗布方法を用いて光硬化樹脂材を塗布して光硬化樹脂層３０ａを形成する。次に、第１の基板１０の側から第２の基板２０を透過する紫外線や可視光等の光（矢印）を照射する。この光が、第１の基板１０、第１の電極１１、第１の配向膜１２、液晶層１５、第２の配向膜２５、第２の電極２４、保護膜２７、カラーフィルタ２６、反射膜２１の開口部２２、第２の基板２０を透過して、マイクロレンズ３０となる光硬化樹脂層３０ａを照射する。照射される光は、反射膜２１の開口部２２でパターン化されるため、光硬化樹脂層３０ａは開口部２２を中央とするマイクロレンズの形状となるように露光される。
次に、現像により非露光部分（光が照射されない部分）の光硬化樹脂を除去すると、図１２に示すように第２の基板２０の上にマイクロレンズ３０が形成される。
【００５３】
上記のようにマクロレンズ３０が形成されるため、実施例３で述べたような利点及び効果を有する。
また、実施例４では、実施例１と比べ、液晶注入工程が終了しているため、マイクロレンズに傷が付く確率がさらに低くなり、歩留り及び品質が向上する。
さらに、実施例４では、第１の基板１０を透過した光が、第１の電極１１、第２の電極２４、反射膜２１の開口部２２を通って第２の基板２０に形成された光硬化樹脂層３０ａを露光するため、第１の電極１１と第２の電極２４に電圧を印加して液晶１６を駆動することにより、照射される光の透過光量を制御し、最適な光量で露光をすることが出来る。そのため、複雑な調整機構を用いる必要がなく、光照射装置を安価でき、更なるコストダウンが得られる。
【実施例５】
【００５４】
図１３、図１４、図１５は、本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例５を示す要部工程図である。
図１３は、大型基板に複数の空のセル１３０が形成された構成１００を示したものである。図１３において、上部は複数の空のセル１３０が形成された大型基板（以下、「母基板」と記す。）の平面透視図であり、下部は上部の平面透視図のＢ−Ｂ線の断面図である。
【００５５】
図１３において、第１の母基板１０５ａと第２の母基板１０５ｂが第１のシール材１１０と第２のシール材１２０で接着されている。第１のシール材１１０は母基板の周縁に沿って設けられており、該シール材の端部１１１と１１２はほぼ平行に配置され、二重シールを構成している。そして、二重シール部の外側と内側にそれぞれ開口部１１３と１１４が設けられて連絡通路を形成している。
第２のシール材１２０で囲まれた部分が個々のセル１３０を形成する。なお、第１の母基板１０５ａと第２の母基板１０５ｂのセル１３０が形成される部分には、図２及び図８に示されているように、それぞれ第１の電極、第２の電極、その他の構成要素が設けられているが、図では省略してある。
図１３において、第２のシール材１２０には液晶注入口１２１が設けられており、ここから液晶が注入される。
【００５６】
図１３において、第１のシール１１０が端部において二重シールを構成し、二重シール部の外側と内側にそれぞれ開口部１１３と１１４が設けられ、連絡通路が形成されている理由を以下に説明する。
第１の母基板１０５ａと第２の母基板１０５ｂを対向させ、基板の間にスペーサ材を配設して間隙を設けると共に、第１の母基板１０５ａと第２の母基板１０５ｂを第１のシール材１１０と第２のシール材１２０により熱圧着する。このとき前記間隙が第１のシール材１１０により密封されていると、母基板１０５ａと１０５ｂの内側中央部の空気が熱膨張し、母基板が割れてしまう。そこで、膨張した空気が母基板を破壊しないように、実施例５では開口部１１３と１１４を備えた連絡通路を設け、膨張した空気を逃がしている。
なお、シール材を紫外線硬化樹脂にすれば熱圧着を行う必要はないので、第１のシール材１１０に連絡通路を設けなくても良い。しかし、エポキシ等のシール材で熱圧着したほうが信頼性は高まる。
【００５７】
また、第１のシール材１１０の二重シールの部分（１１１、１１２）は、シール接着後の後工程において、洗浄やウエット現像工程を行うときに不要な液体が第１のシール材１１０の内側に入り、さらにこの液体が液晶セル部１３０の空の液晶層に入るのを防ぐ機能を有している。
なお、第１のシール材１１０の二重シール部は、現像液や洗浄液の進入を防ぐ形状であればよく、図１３の形状に限らず任意の形状でよい。例えば、図１３に示す形状では、第１のシール材１１０を１周＋約１／４周に配設したが、これを１周＋約２／４周、１周＋３／４周、２周としてもよい。
【００５８】
図１４は、前記複数の空のセル１３０が形成された母基板１００が、横方向切断線Ｘ（Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４）で切断された短冊形状の基板１０１を示している。
この短冊形状の基板１０１には、空のセル１３０が横方向に複数個形成されている。各セルには同じ方向に向いた液晶注入口１２１が設けられており、この注入口から真空注入法により各セル１３０に液晶を一括注入する。液晶を空セルの中に注入した後、注入口１２１を樹脂材で封止する。樹脂材として、例えば紫外線硬化型樹脂あるいは熱硬化型樹脂が用いられる。
【００５９】
このようにして、第２のシール材１２０の中に液晶が注入されたセルが短冊状につながった短冊状セルが得られる。
次に、前記短冊状セルが縦方向の切断線Ｙ（Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３）で切断され、図１５に示す単体のセル１０２が得られる。
【００６０】
次に、複数の空のセルが形成された母基板にマイクロレンズ３０を形成する工程を図１６及び図１７を参照して説明する。図１６は、図１３に示した母基板のＢ−Ｂ線断面図と同じ図である。ただし、図１６に示された断面図は図１３に示された断面図と上下が反対になっている。
図１６において、第１の母基板と１０５ａと第２の母基板と１０５ｂが第１のシール材１１０と第２のシール材１２０で接着されている。第１のシール材１１０は母基板の周縁に沿って設けられており、該シール材の端部１１１と１１２はほぼ平行に配置され、二重シールを構成している。そして、図１３に示されているように、二重シール部の外側と内側にそれぞれ開口部１１３と１１４が設けられて連絡通路を形成している。
【００６１】
第２のシール材１２０で囲まれた部分が個々のセル１３０を形成する。なお、第１の母基板１０５ａと第２の母基板１０５ｂのセル１３０が形成される部分には、図２に示すように、それぞれ第１の電極、第２の電極、その他の構成要素が設けられているが、図では省略してある。また図８に示すようにカラーフィルタを設けてもよい。
図１６において、第２の母基板１０５ｂの液晶層とは反対側の全面に、スピンナー法などの従来用いられている塗布方法を用いて、光硬化樹脂材を全面に塗布し光硬化樹脂層３０ａを形成する。塗布方法として、スピンナー法以外の方法、例えば、スキージ法、印刷法を用いることもできる。
【００６２】
次に第１の母基板１０５ａの側から第２の母基板１０５ｂを透過する紫外線や可視光等の光（矢印）を照射する。この光が第１の母基板１０５ａ、第１の電極１１、第１の配向膜１２、間隙１５、第２の配向膜２５、第２の電極２４、絶縁膜２３、反射膜２１の開口部２２、第２の母基板１０５ｂを透過して、マイクロレンズ３０となる光硬化樹脂層３０ａに照射される。
【００６３】
照射される光は、反射膜２１の開口部２２でパターン化されるため、光硬化樹脂層３０ａは開口部２２を中央とするマイクロレンズの形状に露光される。
次に、現像により非露光部分（光が照射されない部分）の光硬化樹脂を除去すると、図１７に示すようにマイクロレンズが形成される。
このようにして第２の母基板１０５ｂにマイクロレンズ３０が形成される。
【００６４】
図１８は、マイクロレンズ３０が形成された後の図１３のＺで示した部分の拡大透視平面図である。図１８において、１１は第１の電極、２４は第２の電極であり、第１及び第２の電極間に液晶層が挟持され、第１と第２の電極１１と２４が重なる部分に画素部２８が形成される。図１８において、第２の電極の２４の下側の全面に反射膜２１が設けられ、該反射膜２１の画素部２８に対応する部分に光透過部となる開口部２２が設けられる。開口部２２は図においては矩形であるが、ストライプ、多角形、円形としてもよい。
３０は反射膜２１のさらに下側に設けられたマイクロレンズで、開口部２２に対向して配置されている。
１１０は第１のシール材、１２０は第２のシール材である。第２のシール材１２０で囲まれた部分が個々のセル１３０を形成する。
【００６５】
なお、図１３及び図１８において、反射層が全面に配設されていないときには、切断線Ｘ及びＹの部分を含むセル１３０を構成しない部分には遮光材を設け、露光用の光が透過しないようにすれば、マイクロレンズ３０はこの部分に形成されない。このため、マイクロレンズがすでに形成された母基板及び短冊状母基板を切断する場合、切断位置にマイクロレンズが無いために、従来の切断方法をそのまま用いることができ、切断のための新たな条件設定を不要とし、コストを軽減することができる。
【００６６】
図１７に示したように、母基板にマクロレンズ３０が形成された後、母基板は図１５に示すようにセル単位に切断される。そして、図２に示すように、マイクロレンズ３０の面に第２の偏光板２及びバックライト４０設けられ、第１の基板１０には第１の偏光板１が設けられる。
【００６７】
バックライトに関しては、近年技術が進み、管状蛍光管、フラット蛍光管、発光ダイオード（ＬＥＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）が光源として用いられている。管状蛍光管とＬＥＤはサイドライトと称するバックライトの構成を採り導光板を用いることが主に行われている。
マイクロレンズと偏光板は、直接接着しても良いが、空隙あるいは間隙充填部材を設けて離間した状態で配設しても良い。
また、マイクロレンズの基板と反対側の面にレンズの機能を失わせない材料よりなるレンズ平坦化材を用いてマイクロレンズの先端を平らな面として、偏光板を配設しても良い。
【実施例６】
【００６８】
図１９は、本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例６を示す要部工程図である。実施例６は実施例１の変形である。
図１９は、第１の電極１１、第１の配向膜１２を備えた第１の基板１０と、第２の電極２４、第２の配向膜２５、光透過部となる開口部２２を有した反射部材となる反射膜２１を備えた第２の基板２０を、両基板間に液晶が充填される間隙１５を設けてシール材１７（図２参照）で接着した「空のセル」を示している。なお、図１９は、図２に示されたものと上下が反対に描かれている。
上記空のセルは、第１の基板１０と第２の基板２０が液晶注入口が設けられたシール材１６で接着されているが、液晶は充填されていない。
【００６９】
図１９に示された空のセルの場合、第１の基板１０の第１の電極１１と第２の基板２０の第２の電極２４によって規定される画素部２８（図１参照）のそれぞれには複数の光透過部２２が設けられている。図１９において、ｐ１、ｐ２、ｐ３、−−−が１つの画素部を示しており、各画素部２８に複数の開口部２２はが設けられている。
【００７０】
そのため、図４に示されているように、第１の基板１０の側から第２の基板２０を透過する紫外線や可視光線等の光を照射すると、この光が第１の基板１０、第１の電極１１、第１の配向膜１２、間隙１５、第２の配向膜２５、第２の電極２４、絶縁膜２３（又は平坦化膜）、反射膜２１の開口部２２、第２の基板２０を透過し、開口部２２に対応した箇所にマイクロレンズ３０が形成される。
図１９に示されているように、各画素部ｐ１、ｐ２、ｐ３、−−−に複数の開口部２２が設けられているので、各画素部に対して複数のマイクロレンズ３０が形成される。その後の工程は実施例１の場合と同じである。
【実施例７】
【００７１】
図２０は、本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例７を示す要部工程図である。実施例７は実施例２の変形である。
実施例６の場合は、液晶が注入されていないセルにマイクロレンズを形成しているが、図２０に示した実施例７においては、液晶１６を注入した後のセルにマイクロレンズ３０を形成している。
【００７２】
図２０は、第１の電極１１、第１の配向膜１２を備えた第１の基板１０と、第２の電極２４、第２の配向膜２５、光透過部となる開口部２２を有した反射部材となる反射膜２１を備えた第２の基板２０を、両基板間に間隙１５を設けてシール材１７で接着し、間隙１５に液晶１６が充填されたセルを示している。液晶１６はシール材１７に設けられた注入口から注入され、該注入口は樹脂材よりなる封口材１８で封止されている。
なお、図２０は図２に示されたものと上下が反対に描かれている。
【００７３】
図２０に示された液晶１６が注入されたセルの場合、第１の基板１０の第１の電極１１と第２の基板２０の第２の電極２４によって規定される画素部２８（図１参照）のそれぞれには複数の光透過部２２が設けられている。図２０において、ｐ１、ｐ２、ｐ３、−−−が１つの画素部を示しており、各画素部２８に複数の開口部２２はが設けられている。
【００７４】
そのため、図２０に示されているように、第１の基板１０の側から第２の基板２０を透過する紫外線や可視光線等の光を照射すると、この光が第１の基板１０、第１の電極１１、第１の配向膜１２、液晶層１６、第２の配向膜２５、第２の電極２４、絶縁膜２３（又は平坦化膜）、反射膜２１の開口部２２、第２の基板２０を透過し、開口部２２に対応した箇所にマイクロレンズ３０が形成される。
図２０に示されているように、各画素部ｐ１、ｐ２、ｐ３、−−−に複数の開口部２２が設けられているので、各画素部に対して複数のマイクロレンズ３０が形成される。その後の工程は実施例２の場合と同じである。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】半透過反射型液晶装置の構成の一例を示した図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図３】半透過反射型液晶装置の構成の一例を示した図である。
【図４】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例１を示す要部工程図である。
【図５】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例１を示す要部工程図である。
【図６】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例２を示す要部工程図である。
【図７】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例２を示す要部工程図である。
【図８】マイクロレンズを備えたカラー液晶装置の断面図の一例を示した図である。
【図９】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例３を示す要部工程図である。
【図１０】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例３を示す要部工程図である。
【図１１】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例４を示す要部工程図である。
【図１２】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例４を示す要部工程図である。
【図１３】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例５を示す要部工程図である。
【図１４】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例５を示す要部工程図である。
【図１５】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例５を示す要部工程図である。
【図１６】複数の空セルが形成された母基板にマイクロレンズを形成する工程を示した図である。
【図１７】複数の空セルが形成された母基板にマイクロレンズを形成する工程を示した図である。
【図１８】マイクロレンズが形成された後の図１３のＺで示した部分の拡大透視平面図である。
【図１９】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例６を示す要部工程図である。
【図２０】本発明によるマイクロレンズを有する液晶装置の製造方法の実施例７を示す要部工程図である。
【符号の説明】
【００７６】
１    第１の偏光板
２    第２の偏光板
１０    第１の基板
１１    第１の電極
１２    第１の配向膜
１５    間隙
１６    液晶
１７    シール材
１８    封口材
２０    第２の基板
２１    反射膜
２０    第２の基板
２１    反射膜
２２    反射膜の開口部
２３    絶縁膜
２４    第２の電極
２５    第２の配向膜
２６    カラーフィルタ
２７    保護膜
２８    画素部
４０    バックライト
１００    大型基板に複数の空セルが形成された構成
１０１    複数の空セルが形成された短冊状基板
１０２    単体の空セル
１０５ａ    第１の母基板
１０５ｂ    第２の母基板
１１０    第１のシール材
１２０    第２のシール材
１２１    液晶注入口
１３０    セル部
Ｘ、Ｙ    切断線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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