(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタ層を形成する着色フィルタ層形成工程と、透明電極形成工程とを有するカラーフィルタ基板の製造方法において、
前記ブラックマトリクス形成工程のパターン露光に使用する露光マスクの特定部位に隣接するブラックマトリクス露光パターンのパターン幅が補正され、
前記補正が、ブラックマトリクスの線幅細りを無くすよう、パターン幅を増設する補正であることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２】
前記特定部位はブラックマトリクス露光パターンの所定位置に所定サイズの透過領域が隣接して形成された部位であって、前記特定部位の上下にδｈμｍを加えた範囲で、前記特定部位に隣接するブラックマトリクス露光パターンのパターン幅が補正されていることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの製造方法に関し、特に、６μｍ以下のブラックマトリクスの細線化に対応したカラーフィルタ基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型カラーテレビ、ノートパソコン、携帯用電子機器の増加に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイパネルの需要の増加はめざましいものがある。
一般に、液晶表示ディスプレイパネルにおいて、現在最も広く使用されている液晶セル駆動方式は、ＴＮ（ねじれネマティック）方式とＳＴＮ（超ねじれネマティック）方式による縦電界駆動型であり、近年、横電界駆動型（ＩＰＳ）による液晶セル駆動方式の開発も進んでいる。
【０００３】
カラー液晶ディスプレイパネルに用いられるカラーフィルタ基板は、透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタからなる着色フィルタ層及び透明電極層が形成されたもので、カラー液晶ディスプレイパネルに用いられるカラーフィルタ基板は、透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ等からなる着色フィルタ層及び透明電極等がフォトリソグラフィーを用いた各種のプロセスを経て形成される。
【０００４】
以下カラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
図１（ａ）〜（ｆ）は、カラーフィルタ基板の製造方法の一例を示す部分模式構成断面図である。
まず、透明基板１１上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色の感光性樹脂をスピンナーにて塗布し、黒色感光性樹脂層２１を形成し（図１（ａ）参照）、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、ブラックマトリクス２１ａを形成する（図１（ｂ）参照）。
【０００５】
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料（例えば、ジアントラキノン系顔料）を分散した赤色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス２１ａが形成された透明基板上にスピンナーを用いて塗布し、赤色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、赤色フィルタ３１Ｒを形成する（図１（ｃ）参照）。
【０００６】
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料（例えば、フタロシアニングリーン系顔料）を分散した緑色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス２１ａ及び赤色フィルタ３１Ｒが形成された透明基板上にスピンナーを用いて塗布し、緑色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、緑色フィルタ３１Ｇを形成する（図１（ｄ）参照）。
【０００７】
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料（例えば、フタロシアニンブルー系顔料）を分散した青色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス２１ａ、赤色フィルタ３１Ｒ及び緑色フィルタ３１Ｇが形成された透明基板上にスピンナーを用いて塗布し、青色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使って露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ３１Ｂを形成し、ブラックマトリクス２１ａが形成された透明基板上に赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３１Ｇ及び緑色フィルタ３１Ｂからなる着色フィルタ層３０が所定個数配置されたカラーフィルタを形成する（図１（ｅ）参照）。
【０００８】
次に、酸化インジウム錫系の合金ターゲットをスパッタリングして、透明基板１１上のブラックマトリクス２１ａ、赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３１Ｇ及び緑色フィルタ３１Ｂ上に透明電極４１を形成して、カラーフィルタ基板を得ることができる（図１（ｆ）参照）。
【０００９】
上記カラーフィルタ基板の製造工程のパターン露光工程において、パターン露光時の共通欠陥発生の防止したり、スループットを向上させるために、近接露光法（プロキシミティー）が採用されている。
このため、一定幅のパターンの一部にある大きさの露光領域が付加されていると、その付加された露光領域の端部の一定幅のパターン幅が、付加された露光領域以外のパターン幅と異なるという現象が発生している。
【００１０】
以下、具体的に説明する。
図６にブラックマトリクスを形成する際に使用する露光マスクの一例を、図７にブラックマトリクス基板の一例をそれぞれ示す。
露光マスク５０ｇは、透明基板上に遮光領域５１と透過領域からなるブラックマトリクス露光パターン５２とブラックマトリクス露光パターン５２に隣接した状態で所定サイズの開口領域５３ｄが形成されたものである（図６参照）。
ブラックマトリクス基板６０ｇは、透明基板１１上に黒色感光性樹脂層を形成し、上記露光マスク５０ｇを用いて、近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像等のパターニング処理を行って、透明基板１１上にブラックマトリクス２１ａとブラック領域２１ｃとを形成したものである（図３（ａ）参照）。
図７（ａ）は、ブラックマトリクス基板６０ｇの模式平面図を、図７（ｂ）は、図７（ａ）の模式平面図をＡ−Ａ’線で切断した模式構成断面図を、図７（ｃ）は、図７（ａ）の模式平面図をＢ−Ｂ’線で切断した模式構成断面図をそれぞれ示す。
【００１１】
図７（ａ）の模式平面図のＣ部を拡大した模式平面図を図８に示す。
【００１２】
ブラックマトリクス２１ａの線幅をｗとした場合、ブラック領域２１ｃが付加されたブラックマトリクス２１ａの端部では、ブラックマトリクス２１ａの線幅ｗよりδｗだけ細っている。
これは、細い線幅のブラックマトリクス露光パターン５２に隣接した状態で所定サイズの開口領域５３ｄが形成されると、露光光がその隣接した開口領域５３ｄに集まってしまい、相対的に光強度の弱い部分が、隣接したブラックマトリクス露光パターン５２の端部に出来るのが主要因と推定している。
【００１３】
最近のカラーフィルタ基板は高密度、高精細化の流れからブラックマトリクス２１ａの線幅も６μｍ前後になっており、ブラックマトリクス２１ａの線幅変位量δｗは０．５〜２μｍ程度になっている。
このようなブラックマトリクス２１ａの線幅細りが発生すると着色フィルタ層形成工程で白抜け等の不具合が発生する。
図９（ａ）は、着色フィルタ形成工程を経てブラックマトリクス２１ａ間に、赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３１Ｇ及び緑色フィルタ３１Ｂが形成されたカラーフィルタ基板１００ａの模式平面図を、図９（ｂ）は、図９（ａ）の模式平面図をＡ−Ａ’線で切断した模式構成断面図を、図１０は、図９（ａ）の模式平面図のＣ部を拡大した模式平面図をそれぞれ示す。
図９及び図１０のカラーフィルタ基板１００ａでは、ブラック領域２１ｃに隣接したブラックマトリクス２１ａの端部でδｗの細りが発生した状態で、カラーフィルタ形成を行い、緑色フィルタ３１Ｇの形成工程で位置ズレが発生し、緑色フィルタ３１Ｇの右端とブラックマトリクス２１ａとのオーバーラップ量がわずかとなり、緑色フィルタ３１Ｇの右端
とδｗの線幅細りが発生したブラックマトリクス２１ａとの間で白抜けが発生した状態を示す。
【００１４】
この白抜けが発生した状態を具体的に説明する。
もし、ブラックマトリクス２１ａの線幅を６μｍとすると、各着色フィルタのオーバーラップ量は計算上は３μｍとなるが、実際はガラスの熱膨張、転写精度のバラツキ等により、各着色フィルタとブラックマトリクス２１ａとのオーバーラップマージン量は、３μｍ以下となる。
このような状況の中で、ブラック領域２１ｃに隣接するブラックマトリクス２１ａで変位量δｗが１．５μｍの線幅細りが発生し、緑色フィルタ３１Ｇの右端とブラックマトリクス２１ａとのオーバーラップ量が０．５μｍで緑色フィルタ３１Ｇが形成されたとすると、ブラックマトリクス２１ａで１．５μｍの線幅細りδｗが発生した領域では、約１．０μｍの白抜けが発生したことになる。
【００１５】
上記したように、ブラックマトリクス２１ａに１μｍ以上の線幅細りδｗが発生すると、各着色フィルタとブラックマトリクス２１ａとのオーバーラップマージン量は少なくなり、線幅細りδｗが発生した領域のブラックマトリクス２１ａには白抜け発生の確率が高くなり、カラーフィルタ基板の不良を発生させることになり、問題となっている。
【００１６】
上記ブラックマトリクス２１ａの露光マスクのパターンを補正するために、設計パターンのパターン外周に沿って、複数の評価点を配置し、評価点が付された設計パターンの露光マスクを用いて得られた転写イメージをシミュレーションし、シミュレーションされた転写イメージと、前設計パターンとの差を前記各評価点毎に比較し、露光マスクのマスクパターンを補正する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、この方法では、データ数もかなりの量になり、露光マスクのパターン補正としては、必ずしも最善の方法とは思われない。
【特許文献１】特開平９−０３４０９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、透明基板上の黒色感光性樹脂層に近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像処理等の一連のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成する工程において、簡易的にブラックマトリクス露光パターンのパターン補正を行って露光マスクを作製してブラックマトリクスを形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタ層を形成する着色フィルタ層形成工程と、透明電極形成工程とを有するカラーフィルタ基板の製造方法において、
前記ブラックマトリクス形成工程のパターン露光に使用する露光マスクの特定部位に隣接するブラックマトリクス露光パターンのパターン幅が補正され、
前記補正が、ブラックマトリクスの線幅細りを無くすよう、パターン幅を増設する補正であることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法としたものである。
【００１９】
また、請求項２においては、前記特定部位はブラックマトリクス露光パターンの所定位置に所定サイズの透過領域が隣接して形成された部位であって、前記特定部位の上下にδｈμｍを加えた範囲で、前記特定部位に隣接するブラックマトリクス露光パターンのパタ
ーン幅が補正されていることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製造方法したものである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によると、特定部位に隣接するブラックマトリクスのパターン幅を補正した露光マスクを用いて、ブラックマトリクスを形成し、着色フィルタ層を形成することにより、細りの無いブラックマトリクスを形成でき、結果として白抜け等の欠陥が発生しないカラーフィルタ基板を作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
請求項１〜３に係る本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、図１（ａ）〜（ｆ）に示すように、まず、透明基板１１上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色感光性樹脂溶液をスピンナー等により塗布、乾燥して、黒色感光性樹脂層２１を形成する（図１（ａ）参照）。
ここで、透明基板１１としては、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス等のガラス基板及びプラスチックフィルム等が利用できる。
【００２３】
次に、パターン補正された露光マスクを使って近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行って、透明基板１１上の所定位置にブラックマトリクス２１ａを形成する（図１（ｂ）参照）。
ここで、近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行って、透明基板１１上にブラックマトリクスを形成する場合のブラックマトリクス形状再現について説明する。
【００２４】
図２（ａ）〜（ｃ）は、パターン補正なしのブラックマトリクス露光パターンを用いた露光マスクの一例を、図３（ａ）〜（ｃ）は、パターン補正なしの露光マスクを使ってパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行って、得られたブラックマトリクス基板の一例を、図４（ａ）〜（ｃ）は、パターン補正された露光マスクのブラックマトリクス基板の一例を、図５（ａ）〜（ｃ）に、パターン補正された露光マスクを使ってパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行って、作製されたブラックマトリクス基板の一例を、それぞれ示す。
【００２５】
図２（ａ）に示す露光マスク５０ａは、遮光層５１と透過領域からなるブラックマトリクス露光パターン５２とブラックマトリクス露光パターン５２の所定位置に透過領域からなる特定部位５３ａが隣接した状態で形成されたものである。
図２（ｂ）に示す露光マスク５０ｂは、遮光層５１と透過領域からなるブラックマトリクス露光パターン５２とブラックマトリクス露光パターン５２の所定位置に透過領域からなる特定部位５３ｂが隣接した状態で形成されたものである。
図２（ｃ）に示す露光マスク５０ｃは、遮光層５１と透過領域からなるブラックマトリクス露光パターン５２とブラックマトリクス露光パターン５２の所定位置に透過領域からなる特定部位５３ｃが隣接した状態で形成されたものである。
【００２６】
ここで、黒色感光性樹脂層２１が形成された透明基板１１上に露光マスク５０ａを使って近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行った結果、特定部位５３ａが露光されて形成された特定ブラック領域２１ｂに隣接
するブラックマトリクス２１ａの端部がδＢだけ細ったブラックマトリクス基板６０ａが得られる（図３（ａ）参照）。
同様に、露光マスク５０ｂを使った場合果特定部位５３ｂが露光されて形成された特定ブラック領域２１ｂに隣接するブラックマトリクス２１ａの端部がδＢだけ細ったブラックマトリクス基板６０ｂが得られる（図３（ｂ）参照）。
同様に、露光マスク５０ｃを使った場合果特定部位５３ｃが露光されて形成された特定ブラック領域２１ｂに隣接するブラックマトリクス２１ａの端部がδＢだけ細ったブラックマトリクス基板６０ｃが得られる（図３（ｃ）参照）。
特定ブラック領域２１ｂに隣接するブラックマトリクス２１ａ端部の細り量δＢは、線幅６μｍのブラックマトリクス露光パターンを有する露光マスクを用いた場合、特定部位のサイズ等によっても変わってくるが、１００〜１８０μｍの露光ギャップの近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行うことにより、０．５〜２μｍとなる。
【００２７】
このように、透過領域からなるブラックマトリクス露光パターン５２に透過領域からなる特定部位５３ａ、５３ｂ及び５３ｃが形成された露光マスク５０ａ、５０ｂ及び５０ｃを使ってパターン露光すると、特定ブラック領域２１ｂに隣接するブラックマトリクス２１ａは、端部がδＢだけ細った形状になることが判明し、本発明者らは、特定ブラック領域２１ｂに隣接するブラックマトリクス２１ａの線幅細り量δＢと露光マスクのブラックマトリクス露光パターン幅との関係を求めることにより、露光マスクの特定部位に隣接するブラックマトリクス露光パターンのパターン補正が容易にできることを見いだした。
カラーフィルタ基板のブラックマトリクスに形成される特定部位は１枚の基坂内では一定であるため、ブラックマトリクス端部の細り量δＢをパターンシミュレーションすることにより、容易にパターン補正量に反映できる。
【００２８】
図４（ａ）〜（ｃ）は、露光マスクのブラックマトリクス露光パターンのパターン補正の事例を示したもので、図４（ａ）に示す露光マスク５０ｄは、遮光層５１と透過領域からなるブラックマトリクス露光パターン５２とブラックマトリクス露光パターン５２の所定位置に透過領域からなる特定部位５３ａとで構成されており、透過領域からなる特定部位５３ａに隣接するブラックマトリクス露光パターン５２は、特定部位５３ａの高さをｈとしたとき、特定部位５３ａの上下に変位量δｈを加えた範囲で変位量δｗだけ出っ張らしたパターン補正をしたものである。
ここで、変位量δｈは２μｍ前後、変位量δｗは１〜２μｍとなる。
【００２９】
同様にして、図４（ｂ）に示す露光マスク５０ｅは、透過領域からなる特定部位５３ｂに隣接するブラックマトリクス露光パターン５２は、特定部位５３ｂの高さをｈとしたとき、特定部位５３ｂの上下に変位量δｈを加えた範囲で変位量δｗだけ出っ張らしたパターン補正をしたものである。
ここで、変位量δｈは２μｍ前後、変位量δｗは１〜２μｍとなる。
【００３０】
同様にして、図４（ｂ）に示す露光マスク５０ｆは、透過領域からなる特定部位５３ｃに隣接するブラックマトリクス露光パターン５２は、特定部位５３ｃの高さをｈとしたとき、特定部位５３ｃの上下に変位量δｈを加えた範囲で変位量δｗだけ出っ張らしたパターン補正をしたものである。
ここで、変位量δｈは２μｍ前後、変位量δｗは１〜２μｍとなる。
【００３１】
図５（ａ）〜（ｃ）は、上記特定部位５３ａ、５３ｂ及び５３ｃに隣接するブラックマトリクス露光パターン５２のパターン補正を行った露光マスクを用いて、１００〜１８０μｍの露光ギャップの近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行った特定ブラック領域２１ｂに隣接するブラックマトリクス２
１ａの形状再現状態を示す。
特定ブラック領域２１ｂに隣接するブラックマトリクス２１ａの線幅は、ほぼ所定（６μｍ）幅の形状再現性を示すブラックマトリクス基板６０ａ、６０ｂ及び６０ｃが得られる。
【００３２】
次に、アクリル系の感光性樹脂に着色顔料（例えば、ジアントラキノン系顔料）を分散した赤色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス基板６０上に塗布して赤色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使って露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、赤色カラーフィルタ３１Ｒを形成する（図３（ｃ）参照）。
【００３３】
次に、アクリル系の感光性樹脂に着色顔料（例えば、フタロシアニングリーン系顔料）を分散した緑色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いて赤色カラーフィルタ３１Ｒが形成されたブラックマトリクス基板６０上に塗布して緑色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、緑色カラーフィルタ３１Ｇを形成する（図３（ｄ）参照）。
【００３４】
次に、アクリル系の感光性樹脂に着色顔料（例えば、フタロシアニンブルー系顔料）を分散した青色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いて赤色カラーフィルタ３１Ｒ及び緑色カラーフィルタ３１Ｇが形成されたブラックマトリクス基板６０上に塗布して青色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、青色カラーフィルタ３１Ｂを形成し、ブラックマトリクス２１ａが形成された透明基板１１上に赤色カラーフィルタ３１Ｒ、緑色カラーフィルタ３１Ｇ及び緑色カラーフィルタ３１Ｂからなる着色カラーフィルタ層３０を形成する（図３（ｅ）参照）。
【００３５】
次に、酸化インジウム錫系の合金ターゲットをスパッタリングして、赤色カラーフィルタ３１Ｒ、緑色カラーフィルタ３１Ｇ及び緑色カラーフィルタ３１Ｂ及び透明基板１１上に酸化インジウム錫膜からなる所定厚の透明導電膜４１を形成し、カラーフィルタ基板１００を作製する（図３（ｆ）参照）。
【００３６】
上記したように、特定部位に隣接するブラックマトリクス露光パターンのパターン補正を行って、ブラックマトリクス基板及びカラーフィルタ基板を作製することにより、特定ブラック領域に隣接するブラックマトリクスの細りをなくすことができ、白抜けのないカラーフィルタ基板を得ることができる。
【実施例１】
【００３７】
ブラックマトリクスパターン５２の線幅が６μｍ、ピッチ１５０μｍ、特定部位５３ｂが２０×３０μｍのブラックマトリクスパターンを用いて、まず、高さ３０μｍの特定部位５３ｂの上下にδｈ＝２μｍを加えた範囲でδｗを１μｍだけ出っ張らしたブラックマトリクスパターンを有する露光マスク５０ｅを作製した（図４（ｂ）参照）。
【００３８】
次に、ＡＮ１００ガラスからなる透明基板１１上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色感光性樹脂溶液をスピンナー等により塗布、乾燥して、１．５μｍ厚の黒色感光性樹脂層２１を形成した（図１（ａ）参照）。
【００３９】
次に、露光マスク５０ｅを使って近接露光法（プロキシミティー）にて１００μｍの露光ギャップでパターン露光し、現像等の一連のパターニング処理を行って、透明基板１１上にブラックマトリクス２１ａ及び特定ブラック領域２１ｂを形成し、ブラックマトリクス基板６０を作製した（図１（ｂ）及び図５（ｂ）参照）。
ここで、特定ブラック領域２１ｂに隣接するブラックマトリクス２１ａの線幅は６μｍであった。
【００４０】
次に、アクリル系の感光性樹脂にジアントラキノン系顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス基板６０上にスピンナーを用いて塗布して赤色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、赤色カラーフィルタ３１Ｒを形成した（図３（ｃ）参照）。
【００４１】
次に、アクリル系の感光性樹脂にフタロシアニングリーン系顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液を赤色カラーフィルタ３１Ｒが形成されたブラックマトリクス基板６０上にスピンナーを用いて塗布して緑色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、緑色カラーフィルタ３１Ｇを形成した（図３（ｄ）参照）。
【００４２】
次に、アクリル系の感光性樹脂にフタロシアニンブルー系顔料を分散した青色感光性樹脂溶液を赤色カラーフィルタ３１Ｒ及び緑色カラーフィルタ３１Ｇが形成されたブラックマトリクス基板６０上にスピンナーを用いて塗布して青色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、青色カラーフィルタ３１Ｂを形成し、ブラックマトリクス２１ａが形成された透明基板１１上に赤色カラーフィルタ３１Ｒ、緑色カラーフィルタ３１Ｇ及び緑色カラーフィルタ３１Ｂからなる着色カラーフィルタ層３０を形成した（図３（ｅ）参照）。
【００４３】
次に、酸化インジウム錫系の合金ターゲットをスパッタリングして、赤色カラーフィルタ３１Ｒ、緑色カラーフィルタ３１Ｇ及び緑色カラーフィルタ３１Ｂ及び透明基板１１上に酸化インジウム錫膜からなる所定厚の透明導電膜４１を形成し、カラーフィルタ基板１００を作製した（図３（ｆ）参照）。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】（ａ）〜（ｆ）は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の工程を示す模式構成断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、露光マスクの一例を示す模式平面図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は、ブラックマトリクス基板の一例を示す模式平面図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、パターン補正した露光マスクの一例を示す模式平面図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、ブラックマトリクス基板の一例を示す模式平面図である。
【図６】露光マスクの一例を示す模式平面図である。
【図７】（ａ）は、ブラックマトリクス基板の一例を示す模式平面図である。（ｂ）は、（ａ）の模式平面図をＡ−Ａ’線で切断したブラックマトリクス基板の模式構成断面図である。（ｃ）は、（ａ）の模式平面図をＢ−Ｂ’線で切断したブラックマトリクス基板の模式構成断面図である。
【図８】図７（ａ）の模式平面図のＣ部を拡大した模式平面図である。
【図９】（ａ）は、カラーフィルタ基板の一例を示す模式平面図である。（ｂ）は、（ａ）の模式平面図をＡ−Ａ’線で切断したカラーフィルタ基板の模式構成断面図である。
【図１０】図９（ａ）の模式平面図のＣ部を拡大した模式平面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１１……透明基板
２１……黒色感光性樹脂層
２１ａ……ブラックマトリクス
２１ｂ……特定ブラック領域
２１ｃ……ブラック領域
３０……着色カラーフィルタ層
３１Ｒ……赤色フィルタ
３１Ｇ……緑色フィルタ
３１Ｂ……青色フィルタ
４１……透明導電膜
５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄ、５０ｅ、５０ｆ、５０ｇ……露光マスク
５１……遮光層
５２……ブラックマトリクス露光パターン
５３ａ、５３ｂ、５３ｃ……特定部位
５３ｄ……開口領域
６０、６０ａ、６０ｂ、６０ｃ、６０ｄ、６０ｅ、６０ｆ、６０ｇ……ブラックマトリクス基板
Ｂ……ブラックマトリクス露光パターンのパターン幅
δＢ……変位量
ｈ……特定部位の高さ
δｈ……変位量
ｗ……ブラックマトリクスの線幅
δｗ……変位量
【図１】
0004706374.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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