(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
0004706225.tif 000045
〔式中、
Ｒ1はＣ３−Ｃ７アルキニル基を表し、
Ｘは１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン、１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレン、１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレン又は１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−チオ−エチレンを表し、
Ｒ2はハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ4はフッ素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。〕
で示される１，２，４−チアジアゾール化合物。
【請求項２】
式（Ｉ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物を有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除剤。
【請求項３】
式（Ｉ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物の有効量を有害生物又は有害生物の生息場所（但し、人体を除く）に施用することを特徴とする有害生物の防除方法。
【請求項４】
式（ＩＩ）
0004706225.tif 000046
〔式中、
Ｌ1はメチルスルフィニル基又はメチルスルホニル基を表し、
Ｘは１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン、１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレン、１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレン又は１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−チオ−エチレンを表し、
Ｒ2はハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ4はフッ素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。〕
で示される１，２，４−チアジアゾール化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は１，２，４−チアジアゾール化合物とその有害生物防除用途ならびにその中間体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、有害生物に対して防除活性を有する化合物が有害生物防除剤の有効成分として見出され、開発されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−３３８５５７号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、有害生物に対して優れた防除活性を有する化合物とその有害生物防除用途ならびにその製造中間体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、有害生物に対して優れた防除活性を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（Ｉ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物が有害生物に対して優れた防除活性を有することを見出した。
即ち、本発明は式（Ｉ）
0004706225.tif 000002
〔式中、Ｒ1はＣ３−Ｃ７アルキニル基を表し、Ｘは１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン、１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレン、１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレン又は１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−チオ−エチレンを表し、Ｒ2はハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ4はフッ素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。〕で示される１，２，４−チアジアゾール化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分とする有害生物防除剤及び本発明化合物の有効量を有害生物又は有害生物の生息場所に施用することを特徴とする有害生物の防除方法を提供する。
また本発明は、本発明化合物の製造中間体として有用な式（ＩＩ）
0004706225.tif 000003
〔式中、Ｌ1はメチルスルフィニル基又はメチルスルホニル基を表し、Ｘは１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン、１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレン、１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレン又は１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−チオ−エチレンを表し、Ｒ2はハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ4はフッ素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。〕で示される１，２，４−チアジアゾール化合物（以下、本発明中間体と記す。）も提供する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明化合物は有害生物に対して優れた防除活性を有することから、有害生物防除剤の有効成分として有用である。また、本発明中間体は本発明化合物の製造において有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明において、
Ｒ1で示されるＣ３−Ｃ７アルキニル基としては、例えば２−プロピニル基、２−ブチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、２−ペンチニル基、４，４−ジメチル−２−ペンチニル基、１−メチル−２−プロピニル基及び１，１−ジメチル−２−プロピニル基が挙げられ、
Ｒ2で示されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ、
Ｒ4で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基が挙げられ、
直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレンとしては、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン及びヘプタメチレンが挙げられ、
直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンとしては、例えば２−ブテニレン、２−ペンテニレン、２−ヘキセニレン及び３−ヘキセニレンが挙げられる。
【０００８】
Ｘが２〜４個のＲ2で置換された直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン或いは２〜４個のＲ2で置換された直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンである場合において、Ｒ2は同一であっても相異なっていてもよい。
Ｘが２〜４個のＲ4で置換されたエチレン−オキシ−エチレン或いは２〜４個のＲ2で置換されたエチレン−チオ−エチレンである場合において、Ｒ4は同一であっても相異なっていてもよい。
【０００９】
本発明の式（Ｉ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物において、下記
0004706225.tif 000004
で示される基としては、例えばピロリジン−１−イル基、２−メチルピロリジン−１−イル基、２−エチルピロリジン−１−イル基、２−ｎ−プロピルピロリジン−１−イル基、２−イソプロピルピロリジン−１−イル基、２−tert−ブチルピロリジン−１−イル基、２−フルオロピロリジン−１−イル基、２−トリフルオロメチルピロリジン−１−イル基、３−メチルピロリジン−１−イル基、３−エチルピロリジン−１−イル基、３−トリフルオロメチルピロリジン−１−イル基、２，５−ジメチルピロリジン−１−イル基、３，４−ジメチルピロリジン−１−イル基、３，３−ジメチルピロリジン−１−イル基、ピペリジノ基、２−メチルピペリジノ基、２−エチルピペリジノ基、２−ｎ−プロピルピペリジノ基、２−イソプロピルピペリジノ基、２-tert−ブチルピペリジノ基、２−sec−ブチルピペリジノ基、２−フルオロピペリジノ基、２−ブロモピペリジノ基、２−トリフルオロメチルピペリジノ基、３−メチルピペリジノ基、３−エチルピペリジノ基、３−ｎ−プロピルピペリジノ基、３−イソプロピルピペリジノ基、３-tert−ブチルピペリジノ基、３−sec−ブチルピペリジノ基、３−フルオロピペリジノ基、３−ブロモピペリジノ基、３−トリフルオロメチルピペリジノ基、４−メチルピペリジノ基、４−エチルピペリジノ基、４−ｎ−プロピルピペリジノ基、４−イソプロピルピペリジノ基、４-tert−ブチルピペリジノ基、４−トリフルオロメチルピペリジノ基、２，６−ジメチルピペリジノ基、２,４-ジメチルピペリジノ基、２，５−ジメチルピペリジノ基、３，５−ジメチルピペリジノ基、２，２、−ジメチルピペリジノ基、３，３−ジメチルピペリジノ基、４，４−ジメチルピペリジノ基、３−エチル−６−メチルピペリジノ基、３−エチル−５−メチルピペリジノ基、３，５−ジエチルピペリジノ基、３，５−ジ−ｎ−プロピルピペリジノ基、３，５−ジイソプロピルピペリジノ基、２，３−ジメチルピペリジノ基、３,３,５−トリメチルピペリジノ基、２,３,５,６−テトラメチルピペリジノ基、３，３，５，５−テトラメチルピペリジノ基、３，３−ジフルオロピペリジノ基、４，４−ジフルオロピペリジノ基、３−フルオロ−３−メチルピペリジノ基、ヘキサメレンイミノ基、２−メチルヘキサメレンイミノ基、２−エチルヘキサメレンイミノ基、２−ｎ−プロピルヘキサメレンイミノ基、２−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、２−tert−ブチルヘキサメレンイミノ基、３−メチルヘキサメレンイミノ基、３−エチルヘキサメレンイミノ基、３−ｎ−プロピルヘキサメレンイミノ基、３−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、４−メチルヘキサメレンイミノ基、４−エチルヘキサメレンイミノ基、４−ｎ−プロピルヘキサメレンイミノ基、４−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、ヘプタメチレンイミノ基、３−ピロリン−１−イル基、３−メチル−３−ピロリン−１−イル基、３，４−ジメチル−３ピロリン−１−イル基、２，５−ジメチル−３−ピロリン−１−イル基、１，２，３，６−テトラヒドロピリジル基、６−メチル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジル基、５−メチル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジル基、４−メチル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジル基、３−メチル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジル基、２−メチル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジル基、２，６−ジメチル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジル基、２，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−イル基、２，３，６，７−テトラヒドロ−１−アゼピノ基、モルホリノ基、２−メチルモルホリノ基、３−メチルモルホリノ基、２−エチルモルホリノ基、３−エチルモルホリノ基、２、６−ジメチルモルホリノ基、２、６−ジエチルモルホリノ基、２、２、６、６−テトラメチルモルホリノ基、チオモルホリノ基、２−メチル（チオモルホリノ）基、３−メチル（チオモルホリノ）基及び２，６−ジメチル（チオモルホリノ）基が挙げられる。
【００１０】
本発明化合物の態様としては、例えば以下の１，２，４−チアジアゾール化合物が挙げられる。
式（Ｉ）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が２−ブチニル基で示される１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が２−ペンチニル基で示される１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン、１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレン又は1個若しくは２個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレンであり、Ｒ2がハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はＣ１−Ｃ４アルキル基をであり、Ｒ4がＣ１−Ｃ３アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
【００１１】
式（Ｉ）において、Ｘが１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレン又は１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−チオ−エチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンであり、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンであり、Ｒ2がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンであり、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンであり、Ｒ2がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
【００１２】
式（Ｉ）において、Ｘが２，３−ジメチルテトラメチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが２，４−ジメチルペンタメチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘがエチレン−オキシ−エチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレンであり、Ｒ4がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘがエチレン−チオ−エチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−チオ−エチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ）において、Ｘが１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−チオ−エチレンであり、Ｒ4がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
【００１３】
式（Ｉ−１）
0004706225.tif 000005
〔式中、ｍは０〜４の整数を表し、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
で示される１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−１）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−１）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが０である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−１）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−１）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−１）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ2がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
【００１４】
式（Ｉ−２）
0004706225.tif 000006
〔式中、ｍ、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
で示される１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−２）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−２）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが０である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−２）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−２）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−２）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ2がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
【００１５】
式（Ｉ−３）
0004706225.tif 000007
〔式中、ｍ、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
で示される１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−３）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−３）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが０である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−３）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−３）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−３）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ2がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
【００１６】
式（Ｉ−４）
0004706225.tif 000008
〔式中、ｍ、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
で示される１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−４）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−４）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが０である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−４）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−４）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−４）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ2がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
【００１７】
式（Ｉ−５）
0004706225.tif 000009
〔式中、ｎは０〜４の整数を表し、Ｒ1及びＲ4は前記と同じ意味を表す。〕
で示される１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−５）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−５）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｎが０である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−５）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｎが１又は２である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−５）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ4がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
【００１８】
式（Ｉ−６）
0004706225.tif 000010
〔式中、ｎ、Ｒ1及びＲ4は前記と同じ意味を表す。〕
で示される１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−６）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−６）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｎが０である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−６）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｎが１又は２である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（Ｉ−６）において、Ｒ1が2位の炭素原子と3位の炭素原子との間に３重結合を有するＣ３−Ｃ７アルキニル基であり、ｍが１又は２であり、Ｒ4がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物。
【００１９】
式（ＩＩ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物の態様としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
式（ＩＩ）において、Ｌ1がメチルスルフィニル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｌ1がメチルスルホニル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン、１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレン又は１個若しくは２個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレンであり、Ｒ2がハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はＣ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ4がＣ１−Ｃ３アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１個若しくは２個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンであり、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１〜４個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンであり、Ｒ2がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンであり、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン又は１個若しくは２個のＲ2で置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレンであり、Ｒ2がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘがエチレン−オキシ−エチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、Ｘが１〜４個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレンであり、Ｒ4がメチル基である１，２，４−チアジアゾール化合物；
式（ＩＩ）において、１個若しくは２個のＲ4で置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレンである１，２，４−チアジアゾール化合物。
【００２０】
本発明化合物の製造について、以下に説明する。
製造法
式（Ｉ）で示される本発明化合物は、式（ＩＩ）で示される本発明中間体と式（ＩＩＩ）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
0004706225.tif 000011
〔式中、Ｒ1、Ｌ1及びＸは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（ＩＩ）で示される本発明中間体１モルに対して、式（ＩＩＩ）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（Ｉ）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（Ｉ）で示される本発明化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２１】
次に、本発明中間体の製造法について（中間体製造法）で説明する。
中間体製造法
式（ＩＩ）で示される本発明中間体のうち、式（ＩＩ−１ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物及び式（ＩＩ−２ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物は、例えば以下の方法により製造することができる。
0004706225.tif 000012
〔式中、Ｘaは１〜４個のＲ2aで置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルキレン、１〜４個のＲ2aで置換されていてもよい直鎖のＣ４−Ｃ７アルケニレン又は１〜４個のＲ4aで置換されていてもよいエチレン−オキシ−エチレン、Ｒ2aはハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ4aはフッ素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表す。〕
（工程１−１）
式（Ｖ）で示される化合物は、３−メチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾールと式（ＩＶ）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、３−メチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール１モルに対して、式（ＩＶ）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作により、式（Ｖ）で示される化合物を単離することができる。単離された式（Ｖ）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２２】
（工程１−２）
式（ＩＩ−１ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物及び式（ＩＩ−２ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物は、式（Ｖ）で示される化合物を酸化剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類及び水が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば３−クロロ過安息香酸等のカルボン酸の過酸化物及び過酸化水素水が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤の量は、式（Ｖ）で示される化合物１モルに対して、式（ＩＩ−１ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物を製造する場合の理論量は１モルの割合であり、式（ＩＩ−２ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物を製造する場合の理論量は２モルの割合であるが、通常は式（ＩＩ−１ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物及び式（ＩＩ−２ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物の混合物として製造される。当該混合物は必要に応じて、クロマトグラフィー等により各々を単離することができる。
該反応の反応温度は、通常−２０〜３０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、得られた有機層を必要に応じて還元剤（例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム）の水溶液、塩基（例えば炭酸水素ナトリウム）の水溶液で洗浄し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（ＩＩ−１ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物及び式（ＩＩ−２ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物の混合物を単離することができる。単離された式（ＩＩ−１ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物及び式（ＩＩ−２ａ）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物の混合物はそのまま本発明化合物の製造に用いることもできる。
【００２３】
式（ＩＩ）で示される本発明中間体は、式（ＩＩ−１）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物及び式（ＩＩ−２）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物として、以下の方法により製造することもできる。
0004706225.tif 000013
〔式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。〕
（工程２−１）
式（ＶＩ−１）で示される化合物及び式（ＶＩ−２）で示される化合物は、５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾールを酸化剤と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類及び水が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば３−クロロ過安息香酸等のカルボン酸の過酸化物及び過酸化水素水が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤の量は、５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール１モルに対して、式（ＶＩ−１）で示される化合物を製造する場合の理論量は１モルの割合であり、式（ＶＩ−２）で示される化合物を製造する場合の理論量は２モルの割合であるが、通常は式（ＶＩ−１）で示される化合物及び式（ＶＩ−２）で示される化合物の混合物として製造される。当該混合物は必要に応じて、クロマトグラフィー等よりに各々を単離することができる。
該反応の反応温度は、通常−２０〜３０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、得られた有機層を必要に応じて還元剤（例えば亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム）の水溶液、塩基（例えば炭酸水素ナトリウム）の水溶液で洗浄し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（ＶＩ−１）で示される化合物及び式（ＶＩ−２）で示される化合物の混合物を単離することができる。単離された式（ＶＩ−１）で示される化合物及び式（ＶＩ−２）で示される化合物の混合物は、そのまま次の工程に用いることができる。
【００２４】
（工程２−２）
式（ＩＩ−１）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物は、式（ＶＩ−１）で示される化合物を式（ＶＩＩ）で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（ＶＩ−１）で示される化合物１モルに対して、式（ＶＩＩ）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作により、式（ＩＩ−１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（ＩＩ−１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２５】
（工程２−３）
式（ＩＩ−２）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物は、式（ＶＩ−２）で示される化合物を式（ＶＩＩ）で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（ＶＩ−２）で示される化合物１モルに対して、式（ＶＩＩ）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作により、式（ＩＩ−２）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物を単離することができる。単離された式（ＩＩ−２）で示される１，２，４−チアジアゾール化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２６】
次に本発明化合物の具体例を以下に示す。
式（Ｉ）において、Ｒ1が２−プロピニル基であり、Ｘが下記群（Ａ）より選ばれるいずれかである１，２，４−チアジアゾール化合物。
群（Ａ）
テトラメチレン、１−メチルテトラメチレン、１−エチルテトラメチレン、１−ｎ−プロピルテトラメチレン、１−イソプロピルテトラメチレン、１−tert−ブチルテトラメチレン、１−フルオロテトラメチレン、１−トリフルオロメチルテトラメチレン、２−メチルテトラメチレン、２−エチルテトラメチレン、２−トリフルオロメチルテトラメチレン、１，４−ジメチルテトラメチレン、２，３−ジメチルテトラメチレン、２，２−ジメチルテトラメチレン、ペンタメチレン、１−メチルペンタメチレン、１−エチルペンタメチレン、１−ｎ−プロピルペンタメチレン、１−イソプロピルペンタメチレン、１−tert−ブチルペンタメチレン、１−sec−ブチルペンタメチレン、１−フルオロペンタメチレン、１−ブロモペンタメチレン、１−トリフルオロメチルペンタメチレン、２−メチルペンタメチレン、２−エチルペンタメチレン、２−ｎ−プロピルペンタメチレン、２−イソプロピルペンタメチレン、２−tert−ブチルペンタメチレン、２−sec−ブチルペンタメチレン、２−フルオロペンタメチレン、２−ブロモペンタメチレン、２−トリフルオロメチルペンタメチレン、３−メチルペンタメチレン、３−エチルペンタメチレン、３−ｎ−プロピルペンタメチレン、３−イソプロピルペンタメチレン、３−tert−ブチルペンタメチレン、３−トリフルオロメチルペンタメチレン、１，５−ジメチルペンタメチレン、１，３−ジメチルペンタメチレン、１，４−ジメチルペンタメチレン、２，４−ジメチルペンタメチレン、１，１−ジメチルペンタメチレン、２，２−ジメチルペンタメチレン、３，３−ジメチルペンタメチレン、２−エチル−５−メチルペンタメチレン、２−エチル−４−メチルペンタメチレン、２，４−ジエチルペンタメチレン、２，４−ジ−ｎ−プロピルペンタメチレン、２，４−ジイソプロピルペンタメチレン、１，２−ジメチルペンタメチレン、２，２，４−トリメチルペンタメチレン、１，２，４，５−ジメチルペンタメチレン、２，２，４，４−テトラメチルペンタメチレン、２，２−ジフルオロペンタメチレン、３，３−ジメチルペンタメチレン、２−フルオロ−２−メチルペンタメチレン、ヘキサメチレン、１−メチルヘキサメチレン、１−エチルヘキサメチレン、１−ｎ−プロピルへキサメチレン、１−イソプロピルへキサメチレン、１−tert−ブチルヘキサメチレン、２−メチルヘキサメチレン、２−エチルヘキサメチレン、２−ｎ−プロピルへキサメチレン、２−イソプロピルへキサメチレン、３−メチルへキサメチレン、３−エチルへキサメチレン、３−ｎ−プロピルへキサメチレン、３−イソプロピルへキサメチレン、ヘプタメチレン、エチレン−オキシ−エチレン、１−メチルエチレン−オキシ−エチレン、１−エチルエチレン−オキシ−エチレン、２−メチルエチレン−オキシ−エチレン、２−エチルエチレン−オキシ−エチレン、１−メチルエチレン−オキシ−２−メチルエチレン、１−エチルエチレン−オキシ−２−エチルエチレン、２，２−ジメチルエチレン−オキシ−１，１−ジメチルエチレン、エチレン−チオ−エチレン及び２，２−ジメチルエチレン−チオ−１，１−ジメチルエチレン。
式（Ｉ）において、Ｒ1が２−ブチニル基であり、Ｘが前記群（Ａ）から選ばれるいずれかである１，２，４−チアジアゾール化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ1が１−メチル−２−ブチニル基であり、Ｘが前記群（Ａ）から選ばれるいずれかである１，２，４−チアジアゾール化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ1が２−ペンチニル基であり、Ｘが前記群（Ａ）から選ばれるいずれかである１，２，４−チアジアゾール化合物。
【００２７】
本発明化合物が効力を有する有害生物としては、例えば昆虫やダニ等の節足動物および線虫等の線形動物があげられ、具体的には例えば以下に示すものがあげられる。
【００２８】
半翅目害虫：ヒメトビウンカ(Laodelphax  striatellus)、トビイロウンカ(Nilaparvata  lugens)、セジロウンカ(Sogatella  furcifera)等のウンカ類、ツマグロヨコバイ(Nephotettix  cincticeps)、チャノミドリヒメヨコバイ(Empoasca  onukii)等のヨコバイ類、ワタアブラムシ(Aphis  gossypii)、モモアカアブラムシ(Myzus  persicae)等のアブラムシ類、カメムシ類、オンシツコナジラミ(Trialeurodes  vaporariorum)、タバココナジラミ(Bemisia  tabaci)、シルバーリーフコナジラミ(Bemisia  argentifolii)等のコナジラミ類、カイガラムシ類、グンバイムシ類、キジラミ類等；
【００２９】
鱗翅目害虫：ニカメイガ(Chilo  suppressalis)、コブノメイガ(Cnaphalocrocis  medinalis)、ヨーロピアンコーンボーラー(Ostrinia  nubilalis)、シバツトガ(Parapediasia  teterrella)等のメイガ類、ハスモンヨトウ(Spodoptera  litura)、シロイチモジヨトウ(Spodoptera  exigua)、アワヨトウ(Pseudaletia  separata)、ヨトウガ(Mamestra  brassicae)、タマナヤガ(Agrotis  ipsilon)、トリコプルシア属(Trichoplusia  spp.)、ヘリオティス属(Heliothis  spp.)、ヘリコベルパ属(Helicoverpa  spp.)、エアリアス属(Earias  spp.)等のヤガ類、モンシロチョウ(Pieris  rapae  crucivora)等のシロチョウ類、リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes  orana  fasciata)、ナシヒメシンクイ(Grapholita  molesta)、コドリングモス(Cydia  pomonella)等のハマキガ類、モモシンクイガ(Carposina  niponensis)等のシンクイガ類、モモハモグリガ(Lyonetia  clerkella)等のチビガ類、キンモンホソガ(Phyllonorycter  ringoniella)等のホソガ類、ミカンハモグリガ(Phyllocnistis  citrella)等のコハモグリガ類、コナガ(Plutela  xylostella)等のスガ類、ピンクボールワーム(Pectinophora  gossypiella)等のキバガ類、ヒトリガ類、ヒロズコガ類等；
【００３０】
双翅目害虫：アカイエカ（Culex pipiens pallens）、コガタアカイエカ（Culex tritaeniorhynchus）、ネッタイイエカ（Culex quinquefasciatus）等のイエカ類、（Aedes aegypti）、（Aedes albopictus）等のエーデス属、（Anopheles sinensis）等のアノフェレス属、ユスリカ類、イエバエ（Musca domestica）、オオイエバエ（Muscina stabulans）等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、ヒメイエバエ類、タネバエ（Delia platura）、タマネギバエ（Delia antiqua）等のハナバエ類、ミバエ類、ショウジョウバエ類、チョウバエ類、ブユ類、アブ類、サシバエ類、ハモグリバエ類等；
【００３１】
鞘翅目害虫：ウエスタンコーンルートワーム（Diabrotica virgifera virgifera）、サザンコーンルートワーム（Diabrotica undecimpunctata howardi）等のコーンルートワーム類、ドウガネブイブイ（Anomala cuprea）、ヒメコガネ（Anomala rufocuprea）等のコガネムシ類、メイズウィービル（Sitophilus zeamais）、イネミズゾウムシ（Lissorhoptrus oryzophilus）、アズキゾウムシ（Callosobruchuys chienensis）等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシ（Tenebrio molitor）、コクヌストモドキ（Tribolium castaneum）等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシ（Oulema oryzae）、ウリハムシ（Aulacophora femoralis）、キスジノミハムシ（Phyllotreta striolata）、コロラドハムシ（Leptinotarsa decemlineata）等のハムシ類、シバンムシ類、ニジュウヤホシテントウ（Epilachna vigintioctopunctata）等のエピラクナ類、ヒラタキクイムシ類、ナガシンクイムシ類、カミキリムシ類、アオバアリガタハネカクシ（Paederus fuscipes）等；
【００３２】
アザミウマ目害虫：ミナミキイロアザミウマ(Thrips  palmi)等のスリップス属、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella  occidentalis)等のフランクリニエラ属、チャノキイロアザミウマ(Sciltothrips  dorsalis)等のシルトスリップス属等のアザミウマ類、クダアザミウマ類等；
【００３３】
膜翅目害虫：ハバチ類、アリ類、スズメバチ類等；
網翅目害虫：ゴキブリ類、チャバネゴキブリ類等；
直翅目害虫：バッタ類、ケラ類等；
隠翅目害虫：ヒトノミ等；
シラミ目害虫：ヒトジラミ等；
シロアリ目害虫：シロアリ類等；
【００３４】
ダニ目害虫：ナミハダニ（Tetranychus urticae）、カンザワハダニ（Tetranychus kanzawai）、ミカンハダニ（Panonychus citri）、リンゴハダニ（Panonychus ulmi）、オリゴニカス属等のハダニ類、ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）、リンゴサビダニ（Aculus schlechtendali）等のフシダニ類、チャノホコリダニ（Polyphagotarsonemus latus）等のホコリダニ類、ヒメハダニ類、ケナガハダニ類、フタトゲチマダニ（Haemaphysalis longicornis）、ヤマトチマダニ（Haemaphysalis flava）、タイワンカクマダニ（Dermacentor taiwanicus）、ヤマトマダニ(Ixodes ovatus)、シュルツマダニ(Ixodes persulcatus) 、オウシマダニ(Boophilus microplus)、イヌマダニ（Rhipicephalus sanguineus）等のマダニ類、ケナガコナダニ（Tyrophagus putrescentiae）等のコナダニ類、コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae)、ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoides ptreronyssinus)等のヒョウヒダニ類、ホソツメダニ(Cheyletus eruditus)、クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis)、ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)等のツメダニ類、ワクモ類等；
【００３５】
線虫類：ミナミネグサレセンチュウ（Pratylenchus coffeae）、キタネグサレセンチュウ（Pratylenchus fallax）、ダイズシストセンチュウ（Heterodera glycines）、ジャガイモシストセンチュウ（Globodera rostochiensis）、キタネコブセンチュウ（Meloidogyne hapla）、サツマイモネコブセンチュウ（Meloidogyne incognita）等。
【００３６】
本発明の有害生物防除剤は、本発明化合物そのものであってもよいが、通常は、本発明化合物と固体担体、液体担体、ガス状担体及び／又は餌とを混合し、必要により界面活性剤その他の製剤用補助剤を添加して、油剤、乳剤、フロアブル剤、粒剤、粉剤、毒餌、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。
これらの製剤は、本発明化合物を通常０．０１〜９５重量％含有する。
【００３７】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類（カオリンクレー、珪藻土、合成含水酸化珪素、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等）、タルク類、セラミック、その他の無機鉱物（セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等）、化学肥料（硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば水、アルコール類（メタノール、エタノール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ニトリル類（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、エーテル類（ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等）、酸アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素等）、ジメチルスルホキシド、及び植物油（大豆油、綿実油等）が挙げられる。
ガス状担体としては、例えばフルオロカーボン、ブタンガス、ＬＰＧ（液化石油ガス）、ジメチルエーテル、及び炭酸ガスが挙げられる。
【００３８】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、並びに糖アルコール誘導体が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、多糖類（でんぷん粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ターシャリーブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ターシャリーブチル−４−メトキシフェノールと３−ターシャリーブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、及び脂肪酸又はそのエステルが挙げられる。
【００３９】
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等の餌成分、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ粉末等の子どもやペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料、ピーナッツオイルなどの害虫誘引性香料等が挙げられる。
【００４０】
本発明の有害生物防除方法は、通常本発明の有害生物防除剤を有害生物又は有害生物の生息場所に施用することにより行われる。
【００４１】
本発明の有害生物防除剤を農林用として用いる場合、その施用量は通常１０００ｍ2あたり本発明化合物の量で０．１〜１００００ｇである。本発明の有害生物防除剤が乳剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されたものである場合は、通常有効成分濃度が１０〜１００００ｐｐｍとなるように水で希釈して散布することにより施用し、本発明の有害生物防除剤が粒剤、粉剤等に製剤化されたものである場合には、通常そのまま施用する。
【００４２】
本発明の有害生物防除剤は有害生物から保護すべき作物等の植物に対して茎葉処理することにより使用することができ、作物の苗を植え付ける前の苗床や植付けの時に植穴や株元に処理することにより使用することもできる。さらに、耕作地の土壌に生息する有害生物を防除する目的で該土壌に処理することにより使用してもよい。また、シート状やひも状等に加工した樹脂製剤を作物に巻き付ける、作物の近傍に張り渡す及び／又は株元の土壌表面に敷く等の方法で使用することもできる。
【００４３】
また、本発明の有害生物防除剤は他の殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌改良剤、動物用飼料等と混用または併用することもできる。
かかる殺虫剤、殺ダニ剤及び／又は殺線虫剤としては、例えばフェニトロチオン、フェンチオン、ピリダフェンチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、クロルピリホスメチル、アセフェート、メチダチオン、ジスルホトン、ＤＤＶＰ、スルプロホス、プロフェノホス、シアノホス、ジオキサベンゾホス、ジメトエート、フェントエート、マラチオン、トリクロルホン、アジンホスメチル、モノクロトホス、ジクロトホス、エチオン、ホスチアゼート等の有機リン系化合物、ＢＰＭＣ、ベンフラカルブ、プロポキスル、カルボスルファン、カルバリル、メソミル、エチオフェンカルブ、アルジカルブ、オキサミル、フェノチオカルブ、チオジカルブ、アラニカルブ等のカーバメート系化合物；
【００４４】
エトフェンプロックス、フェンバレレ−ト、エスフェンバレレ−ト、フェンプロパトリン、シペルメトリン、α−シペルメトリン、Ｚ−シペルメトリン、ペルメトリン、シハロトリン、λ−シハロトリン、シフルトリン、β−シフルトリン、デルタメトリン、シクロプロスリン、τ−フルバリネ−ト、フルシトリネート、ビフェンスリン、アクリナスリン、トラロメスリン、シラフルオフェン、ハルフェンプロクス等のピレスロイド化合物；
【００４５】
チアメトキサム、ジノテフラン、アセタミプリド、クロチアニジン等のネオニコチノイド化合物、クロルフルアズロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、ルフェニュロン等のベンゾイルフェニルウレア系化合物、テブフェノジド、ハロフェノジド、メトキシフェノジド、クロマフェノジド等のベンゾイルヒドラジド化合物、ブプロフェジン等のチアジアジン誘導体、カルタップ、チオシクラム、ベンスルタップ等のネライストキシン誘導体、エンドスルファン、γ−ＢＨＣ、１，１−ビス（クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタノ−ル等の塩素化炭化水素化合物、アミトラズ、クロルジメホルム等のホルムアミジン誘導体、ジアフェンチウロン等のチオ尿素誘導体、エチプロール、アセトプロール等のフェニルピラゾ−ル系化合物、クロルフェナピル、ピメトロジン、スピノサッド、インドキサカルブ、ピリダリル、ピリプロキシフェン、フェノキシカルブ、ジオフェノラン、シロマジン、ブロモプロピレート、テトラジホン、キノメチオネート、プロパルゲイト、フェンブタティンオキシド、ヘキシチアゾクス、エトキサゾール、クロフェンテジン、ピリダベン、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェナザキン、アセキノシル、ビフェナゼート、フルアクリピリム、ミルベメクチン、アヴェルメクチン、エマメクチン安息香酸塩、アザジラクチン〔ＡＺＡＤ〕、ポリナクチンコンプレックス〔テトラナクチン、ジナクチン、トリナクチン〕が挙げられる。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
なお、実施例中のシリカゲルクロマトグラフィーは、メルク社製シリカゲル６０を用いて、ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒で展開させることにより確認した。
【００４７】
まず、本発明化合物の製造例を以下に示す。
【００４８】
製造例１
５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール３３３ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに溶解し、ここに室温でピロリジン１４２ｍｇを滴下し、６時間撹拌した。反応混合物をtert-ブチルメチルエーテルで希釈し、１０％塩酸を加えてtert-ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、得られた残渣にクロロホルム４ｍｌを混合した。該混合液に氷冷下で３−クロロ過安息香酸（含量；６５重量％）１．５２ｇを加え、室温で６時間撹拌した。反応混合物を１０％−亜硫酸ナトリウム水溶液及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、得られた残渣にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌ及び２−ブチン−１−オール１４０ｍｇを混合した。ここに氷冷下で水素化ナトリウム（油性、含量；６０重量％）１２０ｍｇを加えて１５分間撹拌し、さらに室温で６時間撹拌した。反応混合物に飽和食塩水を加え、tert-ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−（２−ブチニルオキシ）−５−ピロリジノ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１）と記す。）１５８ｍｇを得た。
本発明化合物（１）
0004706225.tif 000014
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９０（ｓ、２H），３．４２（ｂｒ、４H），２．０６（ｍ、４H），１．８５（ｓ、３H）
EI-Mass：m/e＝２２３（Ｍ+）
【００４９】
製造例２
２−ブチン−１−オールの代わりに２−ペンチン−１−オール１６８ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ペンチニルオキシ）−５−ピロリジノ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（２）と記す。）１７３ｍｇを得た。
本発明化合物（２）
0004706225.tif 000015
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９１（ｓ、２Ｈ），３．４３（ｂｒ、４Ｈ），２．２２（ｍ、２Ｈ），２．０５（ｍ、４Ｈ），１．１５（ｔ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２３７（Ｍ+）
【００５０】
製造例３
ピロリジンの代わりにピペリジン１７０ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ブチニルオキシ）−５−ピペリジノ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（３）と記す。）１４７ｍｇを得た。
本発明化合物（３）
0004706225.tif 000016
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｓ、２Ｈ），３．４３（ｓ、４Ｈ），１．８５（ｓ、３Ｈ），１．６７（ｓ、６Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２３７（Ｍ+）
【００５１】
製造例４
２−ブチン−１−オールの代わりに２−ペンチン−１−オール１６８ｍｇ、ピロリジンの代わりにピペリジン１７０ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ペンチニルオキシ）−５−ピペリジノ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（４）と記す。）１５５ｍｇと記す。
本発明化合物（４）
0004706225.tif 000017
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９０（ｓ、２Ｈ），３．４３（ｓ、４Ｈ），２．２１（ｍ、２Ｈ），１．６６（ｓ、６Ｈ），１．１３（ｔ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２５１（Ｍ+）
【００５２】
製造例５
ピロリジンの代わりに２−メチルピペリジン１９８ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ブチニルオキシ）−５−（２−メチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（５）と記す。）１３３ｍｇを得た。
本発明化合物（５）
0004706225.tif 000018
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｓ、２Ｈ）４．１１（ｂｒ、１Ｈ）３．６３（ｂｒ、１Ｈ）３．２１（ｔ、１Ｈ）１．８６（ｓ、３Ｈ）１．８５−１．４７（ｍ、６Ｈ）１．２６（ｄ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２５１（Ｍ+）
【００５３】
製造例６
２−ブチン−１−オールの代わりに２−ペンチン−１−オール１６８ｍｇ、ピロリジンの代わりに２−メチルピペリジン１９８ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ペンチニルオキシ）−５−（２−メチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（６）と記す。）１４４ｍｇを得た。
本発明化合物（６）
0004706225.tif 000019
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９１（ｓ、２Ｈ），４．１２（ｂｒ、１Ｈ），３．６１（ｂｒ、１Ｈ），３．２０（ｔ、１Ｈ），２．２４（ｍ、２Ｈ），１．８２−１．４７（ｍ、４Ｈ），１．２６（ｄ、３Ｈ），１．１３（ｔ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２６５（Ｍ+）
【００５４】
製造例７
ピロリジンの代わりに３−メチルピロリジン１９８ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ブチニルオキシ）−５−（３−メチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（７）と記す。）１４１ｍｇを得た。
本発明化合物（７）
0004706225.tif 000020
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｓ、２Ｈ），３．７２（ｂｒ、２Ｈ），３．０６（ｔ、１Ｈ），２．７２（ｔ、１Ｈ），１．８６−１．５５（ｍ、７Ｈ），１．１５（ｍ、１Ｈ），０．９４（ｄ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２５１（Ｍ+）
【００５５】
製造例８
２−ブチン−１−オールの代わりに２−ペンチン−１−オール１６８ｍｇを用い、ピロリジンの代わりに３−メチルピペリジン１９８ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ペンチニルオキシ）−５−（３−メチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（８）と記す。）１４５ｍｇを得た。
本発明化合物（８）
0004706225.tif 000021
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９１（ｓ、２Ｈ），３．７３（ｂｒ、２Ｈ），３．０５（ｔ、１Ｈ），２．７２（ｔ、１Ｈ），２．２２（ｍ、２Ｈ），１．８９−１．５４（ｍ、４Ｈ），１．２１−１．０６（ｍ、４Ｈ），０．９４（ｄ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２６５（Ｍ+）
【００５６】
製造例９
ピロリジンの代わりにモルホリン１７４ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ブチニルオキシ）−５−モルホリノ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（９）と記す。）８２ｍｇを得た。
本発明化合物（９）
0004706225.tif 000022
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｄ、２Ｈ），３．７８（ｔ、４Ｈ），３．４７（ｔ、４Ｈ），１．８５（ｔ、３Ｈ）
【００５７】
製造例１０
２−ブチン−１−オールの代わりに２−ペンチン−１−オール１６８ｍｇを用い、ピロリジンの代わりにモルホリン１７４ｍｇを用いた以外は同様の操作を行い、３−（２−ペンチニルオキシ）−５−モルホリノ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１０）と記す。）８３ｍｇを得た。
本発明化合物（１０）
0004706225.tif 000023
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９１（ｄ，２Ｈ），３．７８（ｔ，４Ｈ），３．４８（ｔ，４Ｈ），２．２２（ｍ，２Ｈ），１．１５（ｔ，３Ｈ）
【００５８】
製造例１１
ピロリジンの代わりに４−メチルピペリジン１９８ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ブチニルオキシ）−５−（４−メチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１１）と記す。）１７５ｍｇを得た。
本発明化合物（１１）
0004706225.tif 000024
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｓ、２Ｈ），３．８１（ｂｒ、２Ｈ），３．０９（ｔ、２Ｈ），１．８７（ｓ、３Ｈ），１．７６−１．５６（ｍ、３Ｈ），１．２８（ｍ、２Ｈ），０．９８（ｄ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２５１（Ｍ+）
【００５９】
製造例１２
２−ブチン−１−オールの代わりに２−ペンチン−１−オール１６８ｍｇ、ピロリジンの代わりに４−メチルピペリジン１９８ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ペンチニルオキシ）−５−（４−メチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１２）と記す。）２０７ｍｇを得た。
本発明化合物（１２）
0004706225.tif 000025
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９０（ｓ、２Ｈ），３．８０（ｂｒ、２Ｈ），３．０８（ｔ、２Ｈ），２．２４（ｍ、２Ｈ），１．７８−１．５８（ｍ、３Ｈ），１．２６（ｍ、２Ｈ），１．１３（ｔ、３Ｈ），０．９８（ｄ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２６５（Ｍ+）
【００６０】
製造例１３
ピロリジンの代わりにヘキサメチレンイミン１９８ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ブチニルオキシ）−５−ヘキサメチレンイミノ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１３）と記す。１５１ｍｇを得た。
本発明化合物（１３）
0004706225.tif 000026
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｓ、２Ｈ），３．７１（ｂｒ、２Ｈ），３．２８（ｂｒ、２Ｈ），１．８６−１．７４（ｍ、７Ｈ），１．６１（ｍ、４Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２５１（Ｍ+）
【００６１】
製造例１４
２−ブチン−１−オールの代わりに２−ペンチン−１−オール１６８ｍｇ、ピロリジンの代わりにヘキサメチレンイミン１９８ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ペンチニルオキシ）−５−ヘキサメチレンイミノ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（１４）と記す。）１５０ｍｇを得た。
本発明化合物（１４）
0004706225.tif 000027
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９０（ｓ、２Ｈ），３．９２−３．０８（ｂｒ、４Ｈ），２．２３（ｍ、２Ｈ），１．８３（ｓ、４Ｈ），１．６２（ｍ、４Ｈ），１．１５（ｔ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２６５（Ｍ+）
【００６２】
製造例１５
ピロリジンの代わりに３，５−ジメチルピペリジン（８：２の異性体混合物）２２６ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ブチニルオキシ）−５−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾールのシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル）において低極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１５ａ）と記す。）５５ｍｇ及び高極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１５ｂ）と記す。）２２ｍｇを得た。
本発明化合物（１５ａ）及び（１５ｂ）
0004706225.tif 000028
本発明化合物（１５ａ）
融点  １０４．４℃
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｓ、２Ｈ），３．７４（ｂｒ、２Ｈ），２．５７（ｔ、２Ｈ），１．９２−１．７０（ｍ、６Ｈ），０．９２（ｄ、６Ｈ），０．８１（ｑ、１Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２６５（Ｍ+）
本発明化合物（１５ｂ）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８８（ｓ、２Ｈ），３．５０（ｂｒ、２Ｈ），３．０６（ｂｒ、２Ｈ），２．０３（ｍ、２Ｈ），１．８６（ｓ、３Ｈ），１．４８（ｍ、２Ｈ），０．９５（ｍ、６Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２６５（Ｍ+）
【００６３】
製造例１６
２−ブチン−１−オールの代わりに２−ペンチン−１−オール１６８ｍｇを用い、ピロリジンの代わりに３，５−ジメチルピペリジン（８：２の異性体混合物）２２６ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ペンチニルオキシ）−５−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾールのシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル）において低極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１６ａ）と記す。）５７ｍｇ及び高極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１６ｂ）と記す。）２４ｍｇを得た。
本発明化合物（１６ａ）及び（１６ｂ）
0004706225.tif 000029
本発明化合物（１６ａ）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９０（ｓ、２Ｈ），３．７５（ｂｒ、２Ｈ），２．５７（ｔ、２Ｈ），２．２３（ｍ、２Ｈ），１．８８−１．６８（ｍ、３Ｈ），１．１３（ｔ、３Ｈ），０．９３（ｄ、６Ｈ），０．８０（ｑ、１Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２７９（Ｍ+）
本発明化合物（１６ｂ）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９０（ｓ、２Ｈ），３．５０（ｂｒ、２Ｈ），３．０６（ｂｒ、２Ｈ），２．２５（ｍ、２Ｈ），２．０３（ｍ、２Ｈ），１．４８（ｔ、２Ｈ），１．１４（ｔ、３Ｈ），０．９３（ｄ、６Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２７９（Ｍ+）
【００６４】
製造例１７
ピロリジンの代わりに２，６−ジメチルモルホリン（異性体混合物）２３０ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ブチニルオキシ）−５−（２，６−ジメチルモルホリノ）−１，２，４−チアジアゾールのシリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル）において低極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１７ａ）と記す。）１６０ｍｇ及び高極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１７ｂ）と記す。）７６ｍｇを得た。
本発明化合物（１７ａ）及び（１７ｂ）
0004706225.tif 000030
本発明化合物（１７ａ）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｓ、２Ｈ），３．７５−３．４６（ｍ、４Ｈ），２．８５（ｄｄ、２Ｈ），１．８５（ｓ、３Ｈ），１．２１（ｄ、６Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２６７（Ｍ+）
本発明化合物（１７ｂ）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｓ、２Ｈ），４．０８（ｍ、２Ｈ），３．５４（ｄ、２Ｈ），３．１６（ｄ、２Ｈ），１．８６（ｓ、３Ｈ），１．２４（ｄ、６Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２６７（Ｍ+）
【００６５】
製造例１８
２−ブチン−１−オールの代わりに２−ペンチン−１−オール１６８ｍｇ、ピロリジンの代わりに２，６−ジメチルモルホリン（異性体混合物）２３５ｍｇを用いた以外は製造例１と同様の操作を行い、３−（２−ペンチニルオキシ）−５−（２，６−ジメチルモルホリノ）−１，２，４−チアジアゾールの低極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１８ａ）と記す。）１７２ｍｇ及び高極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１８ｂ）と記す。）６６ｍｇを得た。
本発明化合物（１８ａ）及び（１８ｂ）
0004706225.tif 000031
本発明化合物（１８ａ）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９１（ｄ、２Ｈ），３．７７−３．４４（ｍ、４Ｈ），２．８５（ｔ、２Ｈ），２．２１（ｍ、２Ｈ），１．２３（ｍ、６Ｈ），１．１２（ｔ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２８１（Ｍ+）
本発明化合物（１８ｂ）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９１（ｔ、２Ｈ），４．１２（ｍ、２Ｈ），３．５６（ｍ、２Ｈ），３．１７（ｍ、２Ｈ），２．２４（ｍ、２Ｈ），１．２５（ｄ、６Ｈ），１．１４（ｔ、３Ｈ）
EI-Mass：m/e＝２８１（Ｍ+）
【００６６】
製造例１９
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６ｍｌに、参考製造例１により得られたジエチルピペリジンの粗生成物１．２ｇ、５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール５００ｍｇ及び炭酸カリウム４９５ｍｇを混合して、室温で３時間撹拌した。反応混合物をtert-ブチルメチルエーテルで希釈し、１０％塩酸を加えてｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をクロロホルム６ｍｌと混合し、該混合液に氷冷下で３−クロロ過安息香酸（含量；６５重量％）１．７６ｇを加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物を１０％−亜硫酸ナトリウム水溶液及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌ及び２−ブチン−１−オール７８ｍｇを混合し、ここに氷冷下で水素化ナトリウム（油性、含量；６０重量％）５５ｍｇを加えて１５分間撹拌し、さらに室温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和食塩水を加え、tert-ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−（２−ブチニルオキシ）−５−（３，５−ジエチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾールの低極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１９ａ）と記す。）１０６ｍｇ及び高極性成分の化合物（以下、本発明化合物（１９ｂ）と記す。）２７ｍｇを得た。
本発明化合物（１９ａ）及び（１９ｂ）
0004706225.tif 000032
本発明化合物（１９ａ）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８０（ｓ，２Ｈ），３．８１（ｂｒ，２Ｈ），２．６１（ｔ、２Ｈ），１．９８（ｄ、１Ｈ），１．８７（ｓ、３Ｈ），１．５８−１．４４（ｍ、２Ｈ），１．３６−１．２１（ｍ、４Ｈ），０．９４（ｔ、６Ｈ），０．７２（ｑ、１Ｈ）
融点  ４７．７℃
本発明化合物（１９ｂ）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８８（ｓ、２H），３．５２（ｂｒ、２H），３．１３（ｂｒ、２H），１．８７（ｓ、３H），１．７６−１．６６（ｍ、２H），１．５７−１．５２（ｍ、２H），１．４２−１．２２（ｍ、４H），０．９３（ｔ、６H）
【００６７】
製造例２０
３−メチルスルホニル−５−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール３７３ｍｇ及び２−プロピン−１−オール８４ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解し、氷冷下で水素化ナトリウム（油性、含量；６０重量％）７１ｍｇを加え、１５分間撹拌し、さらに室温で１.５時間撹拌した。反応混合物を水に加え、tert-ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−（２−プロピニルオキシ）−５−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（２０）と記す。）３２６ｍｇを得た。
本発明化合物（２０）
0004706225.tif 000033
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９３（ｓ、２Ｈ），３．７４（ｂｒ、１．６Ｈ），３．５１（ｂｒ、０．４Ｈ），３．０６（ｂｒ、０．４Ｈ），２．６０（ｔ、１．６Ｈ），２．４９（ｓ、１Ｈ），２．０５（ｍ、０．４Ｈ），１．８３（ｍ、０．８Ｈ），１．７５（ｍ、１．６Ｈ），１．５０（ｔ、０．４Ｈ），０．９８（ｄ、１．８Ｈ），０．９５（ｄ、４Ｈ），０．８７（ｑ、０．８Ｈ）
【００６８】
製造例２１
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに３−メチルスルフィニル−５−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール２８７ｍｇ及び３−ペンチン−２−オール１０３ｍｇを溶解し、氷冷下でここに水素化ナトリウム（油状、含量；６０％）５８ｍｇを加え、１５分間撹拌した後、さらに室温で１．５時間撹拌した。該混合液に水素化ナトリウム（油状、含量；６０％）３０ｍｇ及び３−ペンチン−２−オール１００ｍｇを加え、室温で３０分間撹拌した。反応混合液をtert-ブチルメチルエーテルで希釈してから水を加え、tert-ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−（３−ペンチニル−２−オキシ）−５−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チジアゾール（以下、本発明化合物（２１）と記す。）２９７ｍｇを得た。
本発明化合物（２１）
0004706225.tif 000034
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：５．４７（ｍ、１Ｈ），３．７６（ｂｒ、１．６Ｈ），３．５２（ｂｒ、０．４Ｈ），３．０５（ｂｒ、０．４Ｈ），２．５７（ｔ、１．６Ｈ），２．０２（ｍ、０．４Ｈ），１．８７−１．６７（ｍ、２．４Ｈ），１．８４（ｓ、３Ｈ），１．５９（ｄ、３Ｈ），１．４９（ｔ、０．４Ｈ），０．９６（ｄ、１．２Ｈ），０．９２（ｄ、４．８Ｈ），０．８１（ｑ、０．８Ｈ）
【００６９】
製造例２２
テトラヒドロフラン４ｍｌに参考製造例４で製造された３−メチルスルホニル−５−（３−トリフルオロメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾールの粗生成物４６８ｍｇ及び２−ブチン−１−オール１０５ｍｇを溶解し、氷冷下でここに水素化ナトリウム（油状、含量；６０％）７２ｍｇを加え、室温で１.５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−（２−ブチニルオキシ）−５−（３−トリフルオロメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（２２）と記す。）３６６ｍｇを得た。
本発明化合物（２２）
0004706225.tif 000035
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．９１（ｑ、２H）４．９０（ｂｒ、１H）４．８９（ｂｒ、１H）３．１０（ｍ、２H）２．４０（ｍ、１H）２．１２（ｂｒ、１H）１．８７（ｍ、４H）１．７３−１．２２（ｍ、２H）
【００７０】
製造例２３
テトラヒドロフラン３ｍｌに３−メチルスルホニル−５−モルホリノ−１，２，４−チアジアゾール３９８ｍｇ及び２−ブチン−１−オール１８０ｍｇを溶解し、室温で水素化ナトリウム（油状、含量；６０％）１０２ｍｇを加え、１時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた濃縮物をヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒で再結晶させることにより３−（２−ブチニルオキシ）−５−チオモルホリノ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物（２３）と記す。）２４６ｍｇを得た。
本発明化合物（２３）
0004706225.tif 000036
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．８９（ｓ、２H）３．７９（ｍ、４H）２．７１（ｍ、４H）１．８６（ｓ、３H）
【００７１】
次に、製造中間体の製造について参考製造例に示す。
参考製造例１
５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール７４０ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９ｍｌに溶解し、ここに氷冷下、３，５−ジメチルピペリジン（８：２の異性体混合物）１．２５ｇを滴下し、室温で２０分間撹拌した。反応混合物をtert-ブチルメチルエーテルで希釈し、１０％塩酸を加えてtert-ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−メチルチオ−５−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール８６０ｍｇを得た。
３−メチルチオ−５−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール
0004706225.tif 000037
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：３．７６（ｂｒ、１．６H），１．５７（ｂｒ、０．４H），３．０６（ｍ、０．４H），２．６２（ｔ、１．６H），２．５９（ｓ、３H），２．０４（ｍ、０．４H），１．８８−１．６８（ｍ、２．４H），１．４９（ｔ、０．４H），０．９８（ｄ、１．２H），０．９３（ｄ、４．８H），０．８１（ｑ、０．８H）
【００７２】
参考製造例２
クロロホルム１０ｍｌに参考製造例１で製造された３−メチルチオ−５−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾールを混合し、氷冷下で３−クロロ過安息香酸（含量；６５重量％）１．４１ｇを加え、室温で２時間撹拌した。その後、１６時間放置し、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−メチルスルホニル−３−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール３７３ｍｇ及び３−メチルスルフィニル−３−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール２８７ｍｇを得た。
３−メチルスルホニル−３−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール
0004706225.tif 000038
白色固体
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：３．６８（ｂｒ），３．２３（ｓ、３H），３．１０（ｂｒ），２．７０（ｂｒ），２．０８（ｍ），１．９２−１．６４（ｍ），１．４９−１．４３（ｍ），１．０１−１．７０（ｍ）
３−メチルスルフィニル−３−（３，５−ジメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール
0004706225.tif 000039
油状物質
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：３．７６（ｂｒ），３．１４（ｂｒ），２．９６（ｓ、３H），２．６８（ｍ），２．０８（ｍ），１．９２−１．７０（ｍ），１．５３（ｔ），１．０１−０．９５（ｍ），０．８５（ｑ）
【００７３】
参考製造例３
テトラヒドロフラン３ｍｌに室温で３−トリフルオロメチルピペリジン２３０ｍｇ、トリエチルアミン１．５２ｇ及び５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール３７６ｍｇを加え、加熱還流下で１．５時間撹拌した後、室温で１４時間静置した。反応混合物に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−メチルチオ−５−（３−トリフルオロメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール３９８ｍｇを得た。
３−メチルチオ−５−（３−トリフルオロメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール
0004706225.tif 000040
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．１７（ｂｒ、１H）３．７４（ｂｒ、１H）３．１３（ｍ、２H）２．５９（ｓ、３H）２．４０（ｍ、１H）２．１２（ｍ、１H）１．９０（ｍ、１H）１．７４−１．２３（ｍ、２H）
【００７４】
参考製造例４
３−メチルチオ−５−（３−トリフルオロメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール３９８ｍｇをクロロホルム４ｍｌと混合し、氷冷下で３−クロロ過安息香酸（含量；７０−７５重量％品）８７０ｍｇを加え、室温で１．２５時間撹拌した。反応混合物に１０％亜硫酸ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮して３−メチルスルホニル−５−（３−トリフルオロメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾールの粗生成物４６８ｍｇを得た。
３−メチルスルホニル−５−（３−トリフルオロメチルピペリジノ）−１，２，４−チアジアゾール
0004706225.tif 000041
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：４．２３（ｂｒ、１H）３．８３（ｂｒ、１H）３．２９（ｍ、５H）２．４５（ｍ、１H）２．１７（ｍ、１H）１．９７（ｍ、１H）１．７８−１．２７（ｍ、２H）
【００７５】
参考製造例５
３−メチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール１．０ｇをクロロホルム１２ｍｌと混合し、氷冷下で３−クロロ過安息香酸（含量；７０−７５重量％品）２．５９ｇを加え、室温で２．２５時間撹拌した後、１５時間静置して３−メチルスルホニル−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾールと３−メチルスルフィニル−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾールとを含有する混合液を得た。
0004706225.tif 000042
上記の３−メチルスルホニル−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾールと３−メチルスルフィニル−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾールとを含有する混合液に氷冷下でチオモルホリン２．４６ｇを滴下し、室温で１時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−メチルスルホニル−５−チオモルホリノ−１，２，４−チアジアゾール１．０８ｇと３−メチルスルフィニル−５−チオモルホリノ−１，２，４−チアジアゾール６ｍｇとを得た。
３−メチルスルホニル−５−チオモルホリノ−１，２，４−チアジアゾール
0004706225.tif 000043
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：３．９０（ｂｒ、４H）３．２８（ｓ，３H）２．７６（ｍ、４H）
３−メチルスルフィニル−５−チオモルホリノ−１，２，４−チアジアゾール
0004706225.tif 000044
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：３．８９（ｂｒ、４H）２．７７（ｓ、３H）２．７６（ｍ、４H）
【００７６】
本発明化合物の製剤例について示す。部とは重量部を示す。
製剤例１
本発明化合物（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５ａ）、（１５ｂ）、（１６ａ）、（１６ｂ）、（１７ａ）、（１７ｂ）、（１８ａ）、（１８ｂ）、（１９ａ）、（１９ｂ）、（２０）、（２１）、（２２）及び（２３）の各々９部を、キシレン３７．５部およびジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく攪拌混合して乳剤を得る。
【００７７】
製剤例２
本発明化合物（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５ａ）、（１５ｂ）、（１６ａ）、（１６ｂ）、（１７ａ）、（１７ｂ）、（１８ａ）、（１８ｂ）、（１９ａ）、（１９ｂ）、（２０）、（２１）、（２２）及び（２３）の各々９部を、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪素土６５部を混合した中に加え、よく攪拌混合して水和剤を得る。
【００７８】
製剤例３
本発明化合物（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５ａ）、（１５ｂ）、（１６ａ）、（１６ｂ）、（１７ａ）、（１７ｂ）、（１８ａ）、（１８ｂ）、（１９ａ）、（１９ｂ）、（２０）、（２１）、（２２）及び（２３）の各々３部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく攪拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに攪拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
【００７９】
製剤例４
本発明化合物（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５ａ）、（１５ｂ）、（１６ａ）、（１６ｂ）、（１７ａ）、（１７ｂ）、（１８ａ）、（１８ｂ）、（１９ａ）、（１９ｂ）、（２０）、（２１）、（２２）及び（２３）の各々４．５部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ（三共社製）１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで攪拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分攪拌混合し、粉剤を得る。
【００８０】
製剤例５
本発明化合物（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５ａ）、（１５ｂ）、（１６ａ）、（１６ｂ）、（１７ａ）、（１７ｂ）、（１８ａ）、（１８ｂ）、（１９ａ）、（１９ｂ）、（２０）、（２１）、（２２）及び（２３）の各々１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
【００８１】
次に、本発明化合物が有害生物に防除効力を有することを試験例で示す。
【００８２】
試験例１
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用散布液を調製した。
一方、ポリエチレンカップにキュウリを植え、第１本葉が展開するまで生育させ、そこにワタアブラムシ約２０頭を寄生させた。１日後、そのキュウリに上記の試験用散布液を２０ｍｌ／カップの割合で散布した。散布６日後にワタアブラムシの数を調査し、次の式により防除価を求めた。
防除価（％）＝｛１−（Ｃｂ×Ｔａｉ）／（Ｃａｉ×Ｔｂ）｝×１００
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Ｃｂ：無処理区の処理前の虫数
Ｃａｉ：無処理区の観察時の虫数
Ｔｂ：処理区の処理前の虫数
Ｔａｉ：処理区の観察時の虫数
その結果、本発明化合物（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１４）、（１５a）、（１５ｂ）、（１６a）、（１７ａ）、（１７ｂ）、（１８ａ）、（１８ｂ）、（１９）、（２０）、（２１）及び（２２）は各々防除価９０％以上を示した。
【００８３】
試験例２
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用散布液を調製した。
一方、ポリエチレンカップにキャベツを植えて第一本葉が展開するまで生育させ、第一本葉を残して他の葉は切除し、これにシルバーリーフコナジラミ成虫を放して約２４時間産卵させた。こうして８０〜１００卵程度産卵されたキャベツを８日間温室内に保持し、産卵された卵から幼虫が孵化してきた状態のところに上記の試験用散布液を２０ｍｌ／カップの割合で散布した。散布７日後に生存幼虫数を数えた。
その結果、本発明化合物（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５ａ）、（１５ｂ）、（１６ａ）、（１６ｂ）、（１７ａ）、（１８ａ）、（１９）、（２０）、（２１）及び（２２）を処理したキャベツ葉における生存幼虫数は１０頭以下であった。
【００８４】
試験例３
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように希釈し、試験用散布液を調製した。
一方、ポリエチレンカップに培土ボンソル２号（住友化学工業（株）製）５０ｇを入れて種子を１０〜１５粒播種し、第２本葉が展開するまで生育させた後、高さを５cmに切り揃えたイネに対し、上記の試験用散布液を２０ｍｌ／カップの割合で散布した。イネに散布処理された薬液が乾燥した後、トビイロウンカの初齢幼虫を３０頭放し、温室内〈２５℃〉に静置した。トビイロウンカの幼虫を放してから６日後に当該イネに寄生するトビイロウンカの数を調査した。
その結果、本発明化合物（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（１２）、（１７ａ）及び（１８ａ）の処理においては各々処理６日後に寄生するトビイロウンカの数は３頭以下であった。