(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透過領域及び前記透過領域に隣接する反射領域を含む上部基板と、
前記上部基板上に配置され、前記透過領域に対応する第１部分の厚さが、前記反射領域に対応する第２部分の厚さと互いに異なるカラーフィルタと、
前記カラーフィルタ上に配置され、前記上部基板の表面を基準に前記透過領域に対応する第３部分の高さが、前記反射領域に対応する第４部分の高さより高い共通電極と、を含む第１基板と、
前記第１基板と対向する第２基板であって、
下部基板と、
前記下部基板上の前記第１基板の前記透過領域に対応する位置に設けられた透明電極と、
前記下部基板上の前記第１基板の前記反射領域に対応する位置に設けられた反射電極と、を含む第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に介在された液晶層と、を含み、
前記共通電極と前記透明電極との間隔は、前記共通電極と前記反射電極との間隔より小さいことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記カラーフィルタの前記反射領域に対応する第２部分の厚さより、前記透過領域に対応する第１部分の厚さが更に厚いことを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記カラーフィルタの前記透過領域に対応する第１部分の厚さと、前記反射領域に対応する第２部分の厚さの比は、１.８：１〜２.２：１であることを特徴とする請求項２記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記カラーフィルタは、前記反射領域に対応する表面上に配置され、光特性を向上させる凹部及び凸部を更に含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記共通電極上に配置されたスペーサを更に含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
前記反射領域に対応する前記共通電極の第４部分上に配置されたオーバーコーティング層を更に含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記オーバーコーティング層上に配置されたスペーサを更に含むことを特徴とする請求項６記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
前記オーバーコーティング層は、表面上に配置され、光特性を向上させる凹部及び凸部を更に含むことを特徴とする請求項７記載の液晶表示パネル。
【請求項９】
前記オーバーコーティング層及び前記スペーサは、一体に形成されることを特徴とする請求項７または８に記載の液晶表示パネル。
【請求項１０】
透過領域及び前記透過領域に隣接する反射領域が画定された上部基板上に、前記透過領域に対応する第１部分の厚さが、前記反射領域に対応する第２部分の厚さと互いに異なるカラーフィルタを形成するステップと、
前記上部基板の表面を基準に前記透過領域に対応する第３部分の高さが、前記反射領域に対応する第４部分の高さより高い共通電極を前記カラーフィルタ上に形成するステップと、を有する第１基板を形成するステップと、
下部基板上の前記第１基板の前記透過領域に対応する位置に透明電極を形成するステップと、
前記下部基板上の前記第１基板の前記反射領域に対応する位置に、前記共通電極と前記透明電極との間隔より前記共通電極と反射電極との間隔が大きくなるように前記反射電極を形成するステップと、を有する第２基板を形成するステップと、
前記第１基板及び前記第２基板をアセンブリするステップと、
前記第１基板と前記第２基板との間に液晶層を形成するステップと、
を含む液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
前記カラーフィルタを形成するステップは、前記カラーフィルタの前記反射領域に対応する第２部分表面上に光特性を向上させる凹部及び凸部を形成するステップを更に含むことを特徴とする請求項１０記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
前記共通電極上にオーバーコーティング層を形成するステップを更に含むことを特徴とする請求項１０または１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
前記オーバーコーティング層を形成するステップは、
前記カラーフィルタ上にフォトレジストを含む物質を塗布するステップと、
マスクを用いて前記物質を露光するステップと、
前記露光された物質を現像するステップと、
を更に含むことを特徴とする請求項１２記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
前記オーバーコーティング層を形成するステップは、前記塗布された光重合性樹脂の表面上に光特性を向上させる凹部及び凸部を形成するステップを更に含むことを特徴とする請求項１３記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記マスクは、スリットを含むことを特徴とする請求項１４記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１６】
前記共通電極上にオーバーコーティング層及び前記オーバーコーティング上に配置されたスペーサを形成するステップを更に含むことを特徴とする請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
前記オーバーコーティング層及び前記スペーサは、一体型に形成されたことを特徴とする請求項１６記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１８】
前記オーバーコーティング層及び前記スペーサを形成するステップは、
前記カラーフィルタ上にフォトレジストを含む物質を塗布するステップと、
透明な部分、半透明な部分、及び不透明な部分を含むマスクを用いて前記塗布された光重合性樹脂を露光するステップと、
前記露光された光重合性樹脂を現像してオーバーコーティング層及びスペーサを共に形成するステップと、
を更に含むことを特徴とする請求項１７記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１９】
透過領域及び前記透過領域に隣接する反射領域を含む上部基板と、前記上部基板上に配置され、前記透過領域に対応する第１部分の厚さが、前記反射領域に対応する第２部分の厚さと互いに異なるカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に配置され、前記上部基板の表面を基準に前記透過領域に対応する第３部分の高さが、前記反射領域に対応する第４部分の高さより高い共通電極を含む第１基板と、
前記第１基板と対向する第２基板であって、下部基板と、下部基板上の前記第１基板の前記透過領域に対応する位置に設けられた透明電極と、前記下部基板上の前記第１基板の前記反射領域に対応する位置に設けられた反射電極と、を含む第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に介在された液晶層と、
前記第１基板の上部表面上に配置された上部λ／４位相差フィルムと、前記上部λ／４位相差フィルム上に配置された上部偏光板とを含む上部光学フィルムアセンブリと、
前記第２基板の下部表面上に配置された下部λ／４位相差フィルムと、前記下部λ／４位相差フィルム上に配置された下部偏光板とを含む下部光学フィルムアセンブリと、を含み、
前記共通電極と前記透明電極との間隔は、前記共通電極と前記反射電極との間隔より小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２０】
前記カラーフィルタの前記透過領域に対応する第１部分の厚さと前記反射領域に対応する第２部分の厚さの比は、１.８：１〜２.２：１であることを特徴とする請求項１９記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ基板、これを有する液晶表示パネル、これを有する液晶表示装置、及びその製造方法に関し、より詳細には、輝度均一性が向上され、製造費用が減少されるカラーフィルタ基板、これを有する液晶表示パネル、これを有する液晶表示装置、及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は、薄膜トランジスタが形成されたアレイ基板と、カラーフィルタ基板との間に注入されている異方性誘電率を有する液晶物質に電界を印加し、この電界の強度を調節して、基板に透過される光の量を調節することにより、所望する画像信号を得る表示装置である。
【０００３】
一般に、液晶は直接光を発生しないため、液晶表示装置は内部光源又は外部から提供された光を用いて映像を表示する。
【０００４】
携帯用装置で用いられる液晶表示装置において、内部光源のみを用いて映像をディスプレイする場合、光を発生させるためのバッテリのサイズが増加して、前記携帯用装置のサイズが増加する問題点が発生する。又、外部光のみを用いて映像を表示する場合、暗い環境では映像の輝度が減少する問題点が発生する。しかし、外部光を反射する反射電極領域及び光源から発生された光が透過する透過電極領域を含む反射−透過型液晶表示装置を用いる場合、液晶表示装置のサイズが減少され、暗い環境でも映像の輝度を維持することができる。
【０００５】
従来の反射−透過型液晶表示装置は、液晶表示パネル、光学フィルムアセンブリ、及びバックライトアセンブリを含む。
【０００６】
前記液晶表示パネルは、カラーフィルタ基板、アレイ基板、及び液晶層を含む。前記カラーフィルタ基板は、カラーフィルタ及び共通電極を含む。前記アレイ基板は、反射電極、透明電極、及び薄膜トランジスタを含む。前記液晶層は、所定の方向に配向され前記カラーフィルタ基板と前記アレイ基板との間に介在される。前記光学フィルムアセンブリは、偏光板（Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）及び補償フィルムを含む。前記バックライトアセンブリは、前記液晶表示パネルの下部に配置され、前記液晶表示装置に光を供給する。
【０００７】
前記液晶は、ツイスト配向（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ、ＴＮ）、スーパーツイスト配向（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ、ＳＴＮ）、ＭＴＮ配向（Ｍｉｘｅｄ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ、ＭＴＮ）、垂直配向（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ、ＶＡ）、又はＥＣＢ配向（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｇｅｎｃｅ、ＥＣＢ）モードで配向される。
【０００８】
前記カラーフィルタは、所定の波長の光のみを選択的に透過させる。従って、前記カラーフィルタを通過した光の輝度は減少する。
【０００９】
外部から前記液晶表示装置に入射された光は、前記カラーフィルタ及び前記液晶層を通過して、前記反射電極で反射される。前記反射電極で反射された光は、更に前記液晶層及び前記カラーフィルタを通過して、前記液晶表示装置の外部に放出される。前記外部光は、前記液晶層及び前記カラーフィルタを二度ずつ通過する。
【００１０】
前記バックライトアセンブリから発生された光は、前記透明電極、前記液晶層、及び前記カラーフィルタを通過して、前記液晶表示装置の外部に放出される。前記バックライトアセンブリから発生された光は、前記液晶層及び前記カラーフィルタを一度ずつ透過する。
【００１１】
前記カラーフィルタを通過する光の輝度が減少するので、前記反射電極で反射された光の輝度が、前記透明電極を通過した光の輝度に対して少なくなるという問題点が発生する。
【００１２】
特許文献１には、前記透明電極領域に対応する部分の厚さが、前記反射電極領域に対応する部分の厚さより厚いカラーフィルタが開示されている。
【特許文献１】韓国公開公報第２００１−５５６３６号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、上記した特許文献１に記載された発明において、前記反射電極から反射された光は、前記液晶層を二度通過するが、前記透明電極を通過する光は、前記液晶層を一度通過する。従って、前記反射電極領域に対応する光が、前記透過電極領域に対応する光と互いに異なる光学条件を有するので、液晶表示装置の画質が低下する問題点が発生する。
【００１４】
本発明は、前記のような問題点を解決するためのものであり、その第１目的は、輝度均一性が向上され、製造費用が減少されるカラーフィルタ基板を提供することである。
【００１５】
前記のような問題点を解決するための本発明の第２目的は、前記カラーフィルタ基板の製造方法を提供することにある。
【００１６】
前記のような問題点を解決するための本発明の第３目的は、前記カラーフィルタ基板を有する液晶表示パネルを提供することにある。
【００１７】
前記のような問題点を解決するための本発明の第４目的は、前記液晶表示パネルの製造方法を提供することにある。
【００１８】
前記のような問題点を解決するための本発明の第５目的は、前記カラーフィルタ基板を有する液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
前記第１目的を達成するための本発明の一実施例によるカラーフィルタ基板は、基板、カラーフィルタ、及び共通電極を含む。前記基板は、透過領域及び前記透過領域に隣接する反射領域を含む。前記カラーフィルタは、前記基板上に配置され、前記透過領域に対応する部分の厚さが、前記反射領域に対応する部分の厚さと互いに異なる。前記共通電極は、前記カラーフィルタ上に配置され、前記基板の表面を基準に前記透過領域に対応する部分の高さが、前記反射領域に対応する部分の高さと互いに異なる。
【００２０】
前記第２目的を達成するための本発明の一実施例によるカラーフィルタの製造方法において、まず、透過領域及び前記透過領域に隣接する反射領域が画定された基板上に、前記透過領域に対応する部分の厚さが、前記反射領域に対応する部分の厚さと互いに異なるカラーフィルタを形成する。その後、前記基板の表面を基準に前記透過領域に対応する部分の高さが、前記反射領域に対応する部分の高さと互いに異なる共通電極を前記カラーフィルタ上に形成する。
【００２１】
前記第３目的を達成するための本発明の一実施例による液晶表示パネルは、第１基板、第２基板、及び液晶層を含む。前記第１基板は、透過領域及び前記透過領域に隣接する反射領域を含む上部基板と、前記上部基板上に配置され、前記透過領域に対応する部分の厚さが、前記反射領域に対応する部分の厚さと互いに異なるカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に配置され、前記上部基板の表面を基準に前記透過領域に対応する部分の高さが、前記反射領域に対応する部分の高さと互いに異なる共通電極を含む。前記第２基板は、前記第１基板に対向する。前記液晶層は、前記第１基板と前記第２基板との間に介在される。
【００２２】
前記第４目的を達成するための本発明の一実施例による液晶表示パネルの製造方法において、まず、透過領域及び前記透過領域に隣接する反射領域が画定された上部基板上に、前記透過領域に対応する部分の厚さが、前記反射領域に対応する部分の厚さと互いに異なるカラーフィルタを形成する。その後、前記上部基板の表面を基準に前記透過領域に対応する部分の高さが、前記反射領域に対応する部分の高さと互いに異なる共通電極を前記カラーフィルタ上に形成して、第１基板を形成する。続けて、前記第１基板に対向する第２基板を形成する。最後に、前記第１基板と第２基板との間に液晶層を形成する。
【００２３】
前記第５目的を達成するための本発明の一実施例による液晶表示装置は、第１基板、第２基板、液晶層、上部光学フィルムアセンブリ、及び下部光学フィルムアセンブリを含む。
【００２４】
前記第１基板は、透過領域及び前記透過領域に隣接する反射領域を含む上部基板と、前記上部基板上に配置され、前記透過領域に対応する部分の厚さが、前記反射領域に対応する部分の厚さと互いに異なるカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に配置され、前記基板の表面を基準に前記透過領域に対応する部分の高さが、前記反射領域に対応する部分の高さと互いに異なる共通電極を含む。前記第２基板は、前記第１基板に対向する。前記液晶層は、前記第１基板と前記第２基板との間に介在される。
【００２５】
前記上部光学フィルムアセンブリは、前記第１基板の上部表面上に配置された上部λ／４位相差フィルムと前記上部λ／４位相差フィルム上に配置された上部偏光板とを含む。前記下部光学フィルムアセンブリは、前記第２基板の下部表面上に配置された下部λ／４位相差フィルムと前記下部λ／４位相差フィルム上に配置された下部偏光板とを含む。
【００２６】
従って、液晶表示装置が、透過領域に対応する部分の厚さが反射領域に対応する部分の厚さより厚いカラーフィルタ、及び前記透過領域に対応する部分の高さが前記反射領域に対応する部分の高さより高い共通電極を含み、透過電極領域に対応する光の輝度及び反射電極領域に対応する光の輝度が均一である。
【００２７】
又、オーバーコーティング層が共通電極上に配置され、製造費用が減少して、収率（生産性）が増加する。又、前記カラーフィルタがスリットを含まないので、前記反射領域内に配置された前記共通電極が均一な断面形状を有する。
【００２８】
又、前記オーバーコーティング層を省略したり、スペーサを前記オーバーコーティング層と共に形成して、製造費用が減少する。
【００２９】
又、前記オーバーコーティング層又は前記カラーフィルタが凹部及び凸部を含み、前記反射電極領域を通過する光の特性が向上される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明による好ましい実施例を添付図面を参照して詳細に説明する。
スリットを有するカラーフィルタを含む液晶表示装置
【００３１】
図１は、スリットを有するカラーフィルタ及び互いに異なる高さを有する共通電極を含む液晶表示装置を示す平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ′線の断面図である。
【００３２】
図１及び図２を参照すると、前記液晶表示装置は、液晶表示パネル、上部光学フィルムアセンブリ１３０、及び下部光学フィルムアセンブリ１３５を含む。
【００３３】
前記液晶表示パネルは、第１基板１７０、第２基板１８０、及び液晶層１０８を含む。前記第１基板１７０は、上部基板１００、ブラックマトリックス１０２、カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂ、オーバーコーティング層１０５ａ、１０５ｂ、共通電極１０６、及びスペーサ１１０を含む。前記第１基板１７０は、透過領域１５７及び反射領域１５８を含む。前記第２基板１８０は、下部基板１２０、薄膜トランジスタ１１９、ゲート絶縁膜１２６、パシベーション膜１１６、有機膜１１４、透明電極１１２、及び反射電極１１３を含む。第２基板１８０は、画素領域１４０及び遮光領域１４５を含む。
【００３４】
前記液晶表示装置は、前記画素領域１４０内に配置された液晶の配列を調節して映像を表示する。前記画素領域１４０は、外部光を反射させる反射電極領域１４９及びバックライトアセンブリ（図示せず）から発生した光が透過される透過電極領域１４７を含む。前記透過領域１５７は、前記透過電極領域１４７に対応し、前記反射領域１５８は、前記透過領域１５７に隣接して、前記遮光領域１４５及び前記反射電極領域１４９に対応する。この際、前記反射領域１５８が前記反射電極領域１４９にのみ対応されることもできる。
【００３５】
前記薄膜トランジスタ１１９及び前記透明電極１１２の一部及び前記反射電極１１３は、前記反射電極領域１４９内に配置され、前記透明電極１１２の残りの部分は、前記透過電極領域１４７内に配置される。
【００３６】
前記遮光領域１４５は、前記画素領域１４０に隣接して配置される。ソースライン１１８ａ′、ゲートライン１１８ｂ′、駆動回路（図示せず）等は、前記遮光領域１４５内に配置される。
【００３７】
前記ブロックマトリックス１０２は、前記遮光領域１４５に対応する前記上部基板１００上に配置される。
【００３８】
前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂは、前記ブラックマトリックス１０２が形成された前記上部基板１００上に形成され、所定の波長の光のみを選択的に透過させる。前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂは、前記反射電極１１３に対応して配置され、透過率を向上させるスリット１０３を含む。
【００３９】
前記オーバーコーティング層１０５ａ、１０５ｂ及び前記共通電極１０６は、前記ブラックマトリックス１０２及び前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂが形成された前記上部基板１００の全面に交互に配置される。前記透過領域１５７に対応する前記共通電極１０６ｂは、前記カラーフィルタ１０４ａ上に配置された前記オーバーコーティング層１０５ａ上に配置される。しかし、前記反射領域１５８に対応する前記共通電極１０６ａは、前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂと前記オーバーコーティング層１０５ｂとの間に配置される。
【００４０】
前記反射電極領域１４９に対応するセルギャップ、及び前記透過電極領域１４７に対応するセルギャップが同じであっても、互いに異なる高さを有する前記共通電極１０６により前記液晶層１０８に互いに異なる電界が形成される。
【００４１】
前記オーバーコーティング層１０５ａ、１０５ｂは、前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂを保護し、前記ブラックマトリックス１０２及び前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂにより形成された段差部分を平坦化する。
【００４２】
前記スペーサ１１０は、前記ブラックマトリックス１０２、前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂ、前記オーバーコーティング層１０５ａ、１０５ｂ、及び前記共通電極１０６が形成された前記上部基板１００上に形成される。
【００４３】
前記薄膜トランジスタ１１９は、前記下部基板１２０上に形成され、ソース電極１１８ａ、ゲート電極１１８ｂ、ドレイン電極１１８ｃ、及び半導体層パターンを含む。駆動回路（図示せず）は、データ電圧を出力して、前記ソースライン１１８ａ′を通じて前記ソース電極１１８ａに伝達し、選択信号を出力して前記ゲートライン１１８ｂ′を通じて前記ゲート電極１１８ｂに伝達する。
【００４４】
ストレージキャパシタ（保持容量）（図示せず）は、前記下部基板１２０上に形成され、前記共通電極１０６と前記反射電極１１３との間、又は前記共通電極１０６と前記透明電極１１２との間の電位差を維持させる。
【００４５】
前記ゲート絶縁膜１２６は、前記ゲート電極１１８ｂが形成された前記下部基板１２０の全面に配置され、前記ゲート電極１１８ｂを前記ソース電極１１８ａ及び前記ドレイン電極１１８ｃと電気的に絶縁する。
【００４６】
前記パシベーション膜１１６は、前記薄膜トランジスタ１１９が形成された前記下部基板１２０上の全面に配置され、前記ドレイン電極１１８ｃの一部を露出するコンタクトホールを含む。
【００４７】
前記透明電極１１２は、前記パシベーション膜１１６及び前記パシベーション膜１１６の一部を露出する開口部の内面上に形成され、前記ドレイン電極１１８ｃと電気的に接続される。
【００４８】
前記反射電極１１３は、前記パシベーション膜１１６及び前記透明電極１１２の一部上に配置され、外部光を反射させる。
【００４９】
前記駆動回路（図示せず）は、前記薄膜トランジスタ１１９を通じて前記透明電極１１２及び前記反射電極１１３にデータ電圧を提供して、前記共通電極１０６ｂと前記透明電極１１２との間、及び前記共通電極１０６ａと前記反射電極１１３との間に、電界を形成する。
【００５０】
前記液晶層１０８は、前記第１基板１７０と前記第２基板１８０との間に配置されシール（Ｓｅａｌ）（図示せず）により密封される。
【００５１】
前記液晶を配向するために、前記第１基板１７０及び前記第２基板１８０の表面に配向膜（図示せず）を配置し、前記配向膜（図示せず）の表面を一定の方向にラビング（Ｒｕｂｂｉｎｇ）する。
【００５２】
前記上部光学フィルムアセンブリ１３０は、上部λ／４位相差フィルム１３２及び上部偏光板１３４を含む。前記上部λ／４位相差フィルム１３２は、前記上部基板１００の上部表面上に配置され、前記上部λ／４位相差フィルム１３２を通過する光の位相をλ／４だけ遅延させる。前記上部偏光板１３４は、前記上部λ／４位相差フィルム１３２上に配置され、前記上部偏光板１３４を通過する光を偏光させる。
【００５３】
前記下部光学フィルムアセンブリ１３５は、下部λ／４位相差フィルム１３６及び下部偏光板１３８を含む。前記下部λ／４位相差フィルム１３６は、前記下部基板１２０の下部表面上に配置され、前記下部λ／４位相差フィルム１３６を通過する光の位相をλ／４だけ遅延させる。前記下部偏光板１３８は、前記下部λ／４位相差フィルム１３６上に配置され、前記下部偏光板１３８を通過する光を偏光させる。
【００５４】
図３〜図１１は、図１に図示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【００５５】
図３を参照すると、まず、前記下部基板１２０に映像を表示できる画素領域１４０及び光が遮断される前記遮光領域１４５を画定する。その後、前記画素領域１４０内に前記反射電極領域１４９及び前記透過電極領域１４７を画定する。
【００５６】
そして、前記下部基板１２０上に前記薄膜トランジスタ１１９、前記ゲートライン１１８ｂ′、及び前記ソースライン１１８ａ′を形成する。
【００５７】
その後、前記薄膜トランジスタ１１９が形成された前記下部基板１２０上に前記ドレイン電極１１８ｃの一部を露出する前記コンタクトホールを含む前記パシベーション膜１１６を形成する。
【００５８】
次いで、前記パシベーション膜１１６上に、前記透明電極１１２及び前記反射電極１１３を形成する。
【００５９】
これにより、前記下部基板１２０、前記薄膜トランジスタ１１９、前記ソースライン１１８ａ′、前記ゲートライン１１８ｂ′、前記透明電極１１２、及び前記反射電極１１３を含む前記第２基板１８０が形成される。
【００６０】
図４を参照すると、前記遮光領域１４５に対応する前記上部基板１００上に前記ブラックマトリックス１０２を形成する。以後に、前記ブラックマトリックス１０２が形成された上部基板１００上に、前記スリット１０３を含む前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂを形成する。前記スリット１０３は、前記反射電極領域１４９の上部に位置する。
【００６１】
図５を参照すると、前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂが形成された前記上部基板１００上に、フォトレジストを含む透明な熱硬化性樹脂を塗布する。次いで、マスク１０７ａを用いて前記塗布された熱硬化性樹脂１０５ａ′を露光する。前記マスク１０７ａは、前記反射領域１５８に対応する部分が開口される。この際、前記スリット１０３に対応する前記マスク１０７ａの一部は、スリット又はハーフトーンを含んで一部の光のみが透過される。
【００６２】
図６を参照すると、前記露光された熱硬化性樹脂を現像して前記スリット１０３を形成し、前記透過領域１５７内に前記オーバーコーティング層１０５ａを形成する。
【００６３】
図７を参照すると、前記ブラックマトリックス１０２、前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂ、及び前記オーバーコーティング層１０５ａが形成された上部基板１００上に透明な導電性物質を蒸着して、前記共通電極１０６を形成する。前記共通電極１０６は、前記上部基板１００の表面を基準に前記透過領域１５７に対応する部分及び前記反射領域１５８に対応する部分の高さが互いに異なる。
【００６４】
図８を参照すると、前記共通電極１０６上にフォトレジストを含む熱硬化性樹脂を塗布する。以後に、前記透過領域１５７を露出するマスク１０７ｂを用いて、前記塗布された熱硬化性樹脂１０５ｂ′を露光する。前記熱硬化性樹脂１０５ｂ′は、図５の熱硬化性樹脂１０５ａ′と同一であっても、又は同一でなくてもよい。
【００６５】
図９を参照すると、前記露光された熱硬化性樹脂を現像して、前記共通電極１０６の段差部分を平坦化するオーバーコーティング層１０５ｂを形成する。
【００６６】
図１０を参照すると、前記共通電極１０６及び前記オーバーコーティング層１０５ｂが形成された前記上部基板１００上に、前記スペーサ１１０を形成する。
【００６７】
これにより、前記ブラックマトリックス１０２、前記カラーフィルタ１０４ａ、１４０ｂ、前記オーバーコーティング層１０５ａ、１０５ｂ、前記共通電極１０６、及び前記スペーサ１１０を含む前記第１基板１７０を形成する。
【００６８】
図１１に示すように、前記第１基板１７０及び前記第２基板１８０を対向して結合し、前記第１基板１７０と前記第２基板１８０との間に前記液晶層１０８を形成して、前記液晶表示パネルを形成する。
【００６９】
次いで、前記液晶表示パネルの上部表面に前記上部λ／４位相差フィルム１３２、及び前記上部偏光板１３４を形成して、前記上部光学フィルムアセンブリ１３０を形成する。最後に、前記液晶表示パネルの下部表面に前記下部λ／４位相差フィルム１３６及び前記下部偏光板１３８を形成して、前記下部光学フィルムアセンブリ１３５を形成する。
【００７０】
従って、前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂの前記反射電極領域１４９に対応する部分に形成された前記スリット１０３により、前記反射電極領域１４９から放出された光の輝度が増加する。又、前記液晶表示装置が前記反射電極領域１４９及び前記透過電極領域１４７で互いに異なる高さを有する前記共通電極１０６を含んで、前記反射電極領域１４９ｇ及び前記透過領域領域１４７に対応する前記液晶層１０８の光学条件を最適化することができる。
【００７１】
しかし、前記オーバーコーティング層１０５ａ、１０５ｂ及び前記共通電極１０６を交互に形成する過程が複雑なので、製造費用が増加して収率が減少する問題点が発生する。又、前記カラーフィルタ１０４ａ、１０４ｂ内に形成された前記スリット１０３に隣接して配置された前記共通電極１０６の一部が不均一な断面形状を有する問題点が発生する。
【００７２】
（実施例１）
図１２は、本発明の第１実施例による液晶表示装置を示す分解斜視図であり、図１３は、本発明の第１実施例による液晶表示装置を示す平面図であり、図１４は、本発明の第１実施例による液晶表示装置の反射電極及び透明電極を示す平面図であり、図１５は、本発明の第１実施例による液晶表示装置の共通電極を示す平面図であり、図１６は、図１２のＢ−Ｂ′線の断面図である。
【００７３】
図１２〜図１６を参照すると、前記液晶表示装置は、液晶表示パネル、上部光学フィルムアセンブリ２３０、及び下部光学フィルムアセンブリ２３５を含む。
【００７４】
前記液晶表示パネルは、第１基板２７０、第２基板２８０、及び液晶層２０８を含む。前記第１基板２７０は、上部基板２００、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、オーバーコーティング層２０５ａ、共通電極２０６、及びスペーサ２１０ａを含む。前記第１基板２７０は、透過領域２５７及び反射領域２５８を含む。前記第２基板２８０は、下部基板２２０、薄膜トランジスタ２１９、ゲート絶縁膜２２６、パシベーション膜２１６、有機膜２１４、透明電極２１２、及び反射電極２１３を含む。前記第２基板２８０は、画素領域２４０及び遮光領域２４５を含む。前記画素領域２４０は、赤色画素領域、緑色画素領域、及び青色画素領域を含む。
【００７５】
前記液晶表示装置は、前記画素領域２４０内に配置された液晶の配列を調節して映像を表示する。前記画素領域２４０は、外部光を反射させる反射電極領域２４９及びバックライトアセンブリ（図示せず）から発生した光が透過される透過電極領域２４７を含む。前記透過領域２５７は、前記透過電極領域２４７に対応する。前記反射領域２５８は、前記透過領域２５７に隣接して前記遮光領域２４５及び前記反射電極領域２４９に対応する。この際、前記反射領域２５８が前記反射電極領域２４９にのみ対応されることもできる。
【００７６】
前記薄膜トランジスタ２１９及び前記透明電極２１２は、前記反射電極領域２４９内に配置され、前記反射電極２１３は、前記透過電極領域２４７内に配置される。
【００７７】
前記遮光領域２４５は、前記画素領域２４０に隣接して配置される。ソースライン２１８ａ′、ゲートライン２１８ｂ′、駆動回路（図示せず）等は、前記遮光領域２４５内に配置される。
【００７８】
前記上部基板２００及び前記下部基板２２０は、光を通過させることができる透明な材質のガラスを含む。前記ガラスは、無アルカリ特性である。前記ガラスがアルカリイオンを含む場合、前記アルカリイオンにより前記液晶層２０８内の液晶の比抵抗が低下して、表示特性が変わる。又、前記シールとガラスとの付着力を低下させ、スイッチング素子の動作に悪い影響を及ぼす。
【００７９】
この際、前記上部基板２００及び前記下部基板２２０がトリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）、ポリカーボネート（Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ；ＰＣ）、ポリエテルスルホン（Ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎｅ；ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＮ）、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）、ポリメチルメタアクリレート（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ；ＰＭＭＡ）、サイクロオレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ；ＣＯＰ）等を含むこともできる。
【００８０】
好ましくは、前記上部基板２００及び前記下部基板２２０は、光学的に等方性である。
【００８１】
前記ブラックマトリックス２０２は、前記遮光領域２４５に対応する前記上部基板２００上に配置される。前記ブラックマトリックス２０２は、液晶を制御することができない前記遮光領域２４５を通過する光を遮断して、画質を向上させる。前記ブラックマトリックス２０２は、金属又は不透明な有機物を蒸着してエッチングして形成される。前記金属は、クロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯｘ）、窒化クロム（ＣｒＮｘ）等を含み、前記不透明な有機物は、カーボンブラック（Ｃａｒｂｏｎ  Ｂｌａｃｋ）、顔料混合物、染料混合物等を含む。前記顔料混合物は、赤色、緑色、及び青色顔料を含み、前記染料混合物は、赤色、緑色、及び青色染料を含む。又、前記ブラックマトリックス２０２は、フォトレジスト成分を含む不透明な物質を塗布した後に、フォト工程を通じて形成されることもできる。この際、複数のカラーフィルタを重ねてブラックマトリックスを形成することもできる。
【００８２】
前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂは、前記ブラックマトリックス２０２が形成された前記上部基板２００上に形成され、所定の波長の光のみを選択的に透過させる。前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂは、赤色カラーフィルタ２０４ａ、緑色カラーフィルタ２０４ｂ、及び青色カラーフィルタ（図示せず）を含む。前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂは、光重合開始剤、モノマー、バインダ、顔料、分散剤、溶剤、フォトレジスト等を含む。前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂの前記透過領域２５７内に配置された部分は、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂの前記反射領域２５８内に配置された部分より厚い。好ましくは、前記透過領域２５７内に配置された部分の厚さと、前記反射領域２５８内に配置された部分の厚さの比は、１.８：１〜２.２：１である。
【００８３】
前記バックライトアセンブリ（図示せず）から発生した光は、前記透過電極領域２４７に対応する前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂを一度通過して前記液晶表示装置の外部に放出される。前記外部光は、前記透過電極領域２４７に対応する前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂより薄い厚さを有する前記反射電極領域２４９に対応する前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂを二度通過して、前記液晶表示装置の外部に放出される。従って、前記透過電極領域２４７に対応する光の輝度及び前記反射電極領域２４９に対応する光の輝度が均一である。
【００８４】
前記共通電極２０６は、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ上に配置される。前記上部基板２００の表面を基準に前記共通電極２０６の前記透過領域２５７に対応する部分は、前記共通電極２０６の前記反射領域２５８に対応する部分に対して高い。前記共通電極２０６は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、又はＺＯ（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）のような透明な導電性物質を含む。
【００８５】
前記反射電極領域２４９に対応するセルギャップと、前記透過電極領域２４７に対応するセルギャップとが同じであっても、前記上部基板２００の表面を基準に互いに異なる高さを有する前記共通電極２０６により、前記反射電極領域２４９に対応する液晶層２０８及び前記透過電極領域２４７に対応する液晶層２０８に互いに異なる電界が形成される。
【００８６】
即ち、前記反射領域２５８内に配置された共通電極２０６ａと前記反射電極２１３との間の距離が、前記透過領域２５７内に配置された共通電極２０６ｂと前記透明電極２１２との間の距離より広いので、前記反射領域２５８内に配置された共通電極２０６ａと前記反射電極２１３との間に形成される電界の強度が、前記透過領域２５７に対応する共通電極２０６ｂと前記透明電極２１２との間に形成される電界の強度より弱い。
【００８７】
従って、前記共通電極２０６ａ、２０６ｂに基準電圧が印加され、前記反射電極２１３及び前記透過電極２１２に画素電圧が加わる場合、前記反射領域２５８に対応する液晶層２０８内の液晶が、前記透過領域２５７に対応する液晶層２０８内の液晶と互いに異なる配列を有する。
【００８８】
前記バックライトアセンブリ（図示せず）から発生した光は、前記透過電極領域２４７に対応する前記液晶層２０８を一度通過して、前記液晶表示装置の外部に放出される。前記外部光は、前記反射電極領域２４９に対応する前記液晶層２０８を二度通過して、前記液晶表示装置の外部に放出される。しかし、前記反射電極領域２４９に対応する前記液晶層２０８は、前記透過電極領域２４７に対応する前記液晶層２０８と異なる配列を有する。従って、前記透過電極領域２４７に対応する光の特性及び前記反射電極領域２４９に対応する光の特性が同じになる。
【００８９】
前記オーバーコーティング層２０５ａは、前記反射領域２５８に対応する前記共通電極２０６ａ上に配置される。前記オーバーコーティング層２０５ａは前記共通電極２０６ａを保護し、前記カラーフィルタ２０４ａ、２４０ｂの段差部分を平坦化する。好ましくは、前記オーバーコーティング層２０５ａは、アクリル樹脂又はポリイミド樹脂を含む熱硬化性樹脂である。この時、前記透過領域２５７内に配置された前記共通電極２０６ｂ上にも、前記オーバーコーティング層２０５ａの一部が配置されることができる。前記透過領域２５７内に配置された前記共通電極２０６ｂ上に、前記オーバーコーティング層２０５ａの一部が配置される場合、前記反射領域２５８内に配置された前記オーバーコーティング層２０５ａの厚さは、前記オーバーコーティング層２０５ａが前記反射領域２５８内にのみ配置される場合に対して増加する。
【００９０】
前記スペーサ２１０ａは、前記ブラックマトリックス２０２、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、前記オーバーコーティング層２０５ａ、及び前記共通電極２０６が形成された前記上部基板２００上に形成される。前記スペーサ２１０ａによって、前記第１基板２７０と前記第２基板２８０との間のセルギャップが一定に維持される。好ましくは、前記スペーサ２１０ａは、前記ブラックマトリックス２０２に対応して配置される。
【００９１】
前記スペーサ２１０ａは、カラムスペーサ（Ｃｏｌｕｍｎ  Ｓｐａｃｅｒ）、ボールスペーサ（Ｂａｌｌ  Ｓｐａｃｅｒ）、又は前記カラムスペーサと前記ボールスペーサが混合されたスペーサを含む。
【００９２】
前記薄膜トランジスタ２１９は、前記下部基板２２０上に形成され、ソース電極２１８ａ、ゲート電極２１８ｂ、ドレイン電極２１８ｃ、及び半導体層パターンを含む。
【００９３】
駆動回路（図示せず）は、データ電圧を出力して前記ソースライン２１８ａ′を通じて前記ソース電極２１８ａに伝達し、選択信号を出力して前記ゲートライン２１８ｂ′を通じて前記ゲート電極２１８ｂに伝達する。
【００９４】
ストレージキャパシタ（図示せず）は、前記下部基板２２０上に形成され、前記反射領域２５８内の前記共通電極２０６ａと前記反射電極２１３との間、又は前記透過領域２５７内の前記共通電極２０６ｂと前記透明電極２１２との間の電位差を維持させる。前記ストレージキャパシタ（図示せず）は、前段ゲート方式又は独立配線方式である。
【００９５】
前記ゲート絶縁膜２２６は、前記ゲート電極２１８ｂが形成された前記下部基板２２０の全面に配置され、前記ゲート電極２１８ｂを前記ソース電極２１８ａ及び前記ドレイン電極２１８ｃと電気的に絶縁する。前記ゲート絶縁膜２２６は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）を含む。
【００９６】
前記パシベーション膜２１６は、前記薄膜トランジスタ２１９が形成された前記下部基板２２０上の全面に配置され、前記ドレイン電極２１８ｃの一部を露出するコンタクトホールを含む。前記パシベーション膜２２６は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）を含む。
【００９７】
この際、前記パシベーション膜２２６上に有機膜（図示せず）を形成することもできる。
【００９８】
前記透明電極２１２は、前記パシベーション膜２１６及び前記パシベーション膜２１６の一部を露出する開口部の内面上に形成され、前記ドレイン電極２１８ｃと電気的に接続される。前記透明電極２１２は、前記共通電極２０６との間に印加された電圧により前記液晶層２０８内の液晶を制御して、光の透過を調節する。前記透明電極２１２は、透明な導電性物質である酸化スズインジウム（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ、ＩＺＯ）、酸化亜鉛（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ、ＺＯ）等を含む。
【００９９】
前記反射電極２１３は、前記パシベーション膜２１６及び前記透明電極２１２の一部上に配置され外部光を反射させる。前記反射電極２１３は、導電性物質を含んで前記透明電極２１２を通じて、前記ドレイン電極２１８ｃと電気的に接続される。
【０１００】
前記駆動回路（図示せず）は、前記薄膜トランジスタ２１９を通じて、前記透明電極２１２及び前記反射電極２１３にデータ電圧を提供して、前記反射領域２５８内の前記共通電極２０６ａと前記透明電極２１２との間、及び前記透過領域２５７内の前記共通電極２０６ｂと前記反射電極２１３との間に電界を形成する。
【０１０１】
前記液晶層２０８は、前記第１基板２７０と前記第２基板２８０との間に配置されシール（図示せず）により密封される。
【０１０２】
前記液晶層２０８内の液晶は、ツイスト配向、スーパーツイスト配向、ＭＴＮ配向、垂直配向、又はＥＣＢ配向モードで配向される。
【０１０３】
例えば、前記液晶は、垂直配向モードで配向される。
【０１０４】
この際、前記液晶を配向するために、前記第１基板２７０及び前記第２基板２８０の表面に配向膜（図示せず）を配置し、前記配向膜（図示せず）の表面を一定の配向にラビングすることができる。前記ラビングにより前記液晶が一定の方向に配向される。
【０１０５】
前記上部光学フィルムアセンブリ２３０は、上部λ／４位相差フィルム２３２及び上部偏光板２３４を含む。前記上部λ／４位相差フィルム２３２は、前記上部基板２００の上部表面上に配置され、前記上部λ／４位相差フィルム２３２を通過する光の位相をλ／４だけ遅延させる。前記上部偏光板２３４は、前記上部λ／４位相差フィルム２３２上に配置され、前記上部偏光板２３４を通過する光を偏光させる。前記上部偏光板２３４の吸収軸と垂直な方向の光は、前記上部偏光板２３４を通過しない。
【０１０６】
この際、前記上部偏光板２３４の上部表面、前記上部偏光板２３４と前記上部λ／４位相差フィルム２３２との間、及び／又は前記上部λ／４位相差フィルム２３２と前記上部基板２００との間に保護フィルム（図示せず）が配置されることもできる。
【０１０７】
前記下部光学フィルムアセンブリ２３５は、下部λ／４位相差フィルム２３６及び下部偏光板２３８を含む。前記下部λ／４位相差フィルム２３６は、前記下部基板２２０の下部表面上に配置され、前記下部λ／４位相差フィルム２３６を通過する光の位相をλ／４だけ遅延させる。前記下部偏光板２３８は、前記下部λ／４位相差フィルム２３６上に配置され、前記下部偏光板２３８を通過する光を偏光させる。前記下部偏光板２３８の吸収軸と垂直な方向の光は、前記下部偏光板２３８を通過しない。
【０１０８】
この際、前記下部偏光板２３８の下部表面、前記下部偏光板２３４と前記下部λ／４位相差フィルム２３６との間、及び／又は前記下部λ／４位相差フィルム２３６と前記下部基板２２０との間に、保護フィルム（図示せず）を配置することもできる。
【０１０９】
前記上部光学フィルムアセンブリ２３０と前記下部光学フィルムアセンブリ２３５は、互いに向かい合う位置に配置され、前記上部偏光板２３４と前記下部偏光板２３８の吸収軸は、互いに９０°の角度を有する。
【０１１０】
図１７〜図２６は、本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【０１１１】
図１７を参照すると、まず、前記下部基板２２０に映像を表示することができる画素領域２４０及び光が遮断される前記遮光領域２４５を画定する。次いで、前記画素領域２４０内に前記反射電極領域２４９及び前記透過電極領域２４７を画定する。
【０１１２】
次いで、前記下部基板２２０上に前記薄膜トランジスタ２１９、前記ゲートライン２１８ｂ′、及び前記ソースライン２１８ａ′を形成する。
【０１１３】
その後、前記薄膜トランジスタ２１９が形成された前記下部基板２２０上に、前記ドレイン電極２１８ｃの一部を露出する前記コンタクトホールを含む前記パシベーション膜２１６を形成する。
【０１１４】
そして、前記透過電極領域２４７内のパシベーション膜２１６の一部、及び前記反射電極領域２４９内のパシベーション膜２１６の一部上にそれぞれ前記透明電極２１２及び前記反射電極２１３を形成する。
【０１１５】
このようにして、前記下部基板２２０、前記薄膜トランジスタ２１９、前記ソースライン２１８ａ′、前記ゲートライン２１８ｂ′、前記透明電極２１２、及び前記反射電極２１３を含む前記第２基板２８０が形成される。
【０１１６】
図１８を参照すると、前記遮光領域２４５に対応する前記上部基板２００上に前記ブラックマトリックス２０２を形成する。前記上部基板２００上には、前記透過電極領域２４７に対応する前記透過領域２５７と、前記遮光領域２４５及び前記反射電極領域２４９に対応する前記反射領域２５８が画定される。
【０１１７】
図１９を参照すると、前記ブラックマトリックス２０２が形成された上部基板２００の全面に、赤色カラーフィルタ組成物２０４ａ′を塗布する。前記赤色カラーフィルタ組成物２０４ａ′は、光重合開始剤、モノマー、バインダ、赤色顔料、分散剤、溶剤、フォトレジスト等を含む。その後、赤色カラーフィルタ用マスク２０７ａを用いて、前記塗布された赤色カラーフィルタ組成物２０４ａ′を露光する。前記赤色カラーフィルタ用マスク２０７ａは、透明な部分、半透明な部分、及び不透明な部分を含む。前記透明な部分は、前記緑色画素領域、前記青色画素領域、前記遮光領域２４５、周辺領域（図示せず）に対応される。前記半透明な部分は、スリット又はハーフトン物質を含み、前記赤色画素領域に隣接する前記遮光領域２４５、周辺領域（図示せず）、及び前記赤色画素領域内の反射電極領域２４９に対応される。前記不透明な部分は、前記赤色画素領域内の透過電極領域２４７に対応される。
【０１１８】
図２０を参照すると、前記露光された赤色カラーフィルタ組成物を現像して、前記赤色カラーフィルタ２０４ａを形成する。前記赤色カラーフィルタ２０４ａの前記赤色画素領域内の反射電極領域２４９に対応する部分の厚さは、前記赤色画素領域内の透過電極領域２４７に対応する部分の厚さより薄い。
【０１１９】
図２１を参照すると、前記赤色カラーフィルタ２０４ａが形成された前記上部基板２００の全面に、緑色カラーフィルタ組成物２０４ｂ′を塗布する。前記緑色カラーフィルタ組成物２０４ｂ′は、光重合開始剤、モノマー、バインダ、緑色顔料、分散剤、溶剤、フォトレジスト等を含む。その後、緑色カラーフィルタ用マスク２０７ｂを用いて、前記塗布された緑色カラーフィルタ組成物２０４ｂ′を露光する。前記緑色カラーフィルタ用マスク２０７ｂは、透明な部分、半透明な部分、及び不透明な部分を含む。前記透明な部分は、前記赤色画素領域、前記青色画素領域、及び前記遮光領域２４５、及び周辺領域（図示せず）に対応される。前記半透明な部分は、スリット又はハーフトン物質を含み、前記緑色画素領域内の反射電極領域２４９に対応される。前記不透明な部分は、前記緑色画素領域内の透過電極領域２４７に対応される。
【０１２０】
図２２を参照すると、前記露光された緑色カラーフィルタ組成物を現像して、前記緑色カラーフィルタ２０４ｂを形成する。前記緑色カラーフィルタ２０４ｂの前記緑色画素領域内の反射電極領域２４９に対応する部分の厚さは、前記緑色画素領域内の透過電極領域２４７に対応する部分の厚さより薄い。
【０１２１】
その後に、前記赤色カラーフィルタ２０４ａ及び前記緑色カラーフィルタ２０４ｂが形成された前記上部基板２００上に、前記青色カラーフィルタ（図示せず）を前述した方法で形成する。
【０１２２】
しかし、このようなカラーフィルタを製造する過程は、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、及び青色カラーフィルタの順序に固定されるものではない。
【０１２３】
図２３を参照すると、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂの全面に透明な導電性物質を塗布して、前記共通電極２０６を形成する。前記共通電極２０６は、前記上部基板２００の表面を基準に前記透過領域２５７に対応する部分の高さが、前記反射領域２５８に対応する部分の高さより高い。
【０１２４】
図２４を参照すると、前記共通電極２０６上にフォトレジストを含む透明な熱硬化性樹脂を塗布する。そして、マスク（図示せず）を用いて前記塗布された熱硬化性樹脂を露光し現像して、前記反射領域２５８内に配置された前記共通電極２０６ａ上に前記オーバーコーティング層２０５ａを形成する。
【０１２５】
図２５を参照すると、前記オーバーコーティング層２０５ａ上にフォトレジストを含む合成樹脂を塗布する。次いで、前記塗布された合成樹脂を露光し現像して、前記スペーサ２１０ａを形成する。
【０１２６】
従って、前記ブラックマトリックス２０２、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、前記オーバーコーティング層２０５ａ、前記共通電極２０６、及び前記スペーサ２１０ａを含む前記第１基板２７０を形成する。
【０１２７】
図２６を参照すると、前記第１基板２７０及び前記第２基板２８０を対向し結合して、前記第１基板２７０と前記第２基板２８０との間に前記液晶層２０８を形成して、前記液晶表示パネルを形成する。
【０１２８】
その後、前記液晶表示パネルの上部表面に、前記上部λ／４位相差フィルム２３２及び前記上部偏光板２３４を形成して、前記上部光学フィルムアセンブリ２３０を形成する。最後に、前記液晶表示パネルの下部表面に前記下部λ／４位相差フィルム２３６及び前記下部偏光板２３８を形成して、前記下部光学フィルムアセンブリ２３５を形成する。
【０１２９】
前記液晶表示装置は、前記透過領域２５７に対応する部分の厚さが、前記反射領域２５８に対応する部分の厚さより厚い前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、及び前記透過領域２５７に対応する部分の高さが、前記反射領域２５８に対応する部分の高さより高い共通電極２０６を含み、前記透過電極領域２４７に対応する光の輝度及び前記反射電極領域２４９に対応する光の輝度が均一である。
【０１３０】
又、前記オーバーコーティング層２０５ａが前記共通電極２０６上に配置され、製造費用が減少して収率が増加する。又、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂがスリットを含まないので、前記反射領域２５８内に配置された前記共通電極２０６ａが均一な断面形状を有する。
【０１３１】
（実施例２）
図２７は、本発明の第２実施例による液晶表示装置を示す断面図である。本実施例において、オーバーコーティング層及びスペーサを除いた構成要素は、実施例１と同じなので、その重複説明は省略する。
【０１３２】
図２７を参照すると、前記液晶表示装置は、液晶表示パネル、上部光学フィルムアセンブリ２３０、及び下部光学フィルムアセンブリ２３５を含む。
【０１３３】
前記液晶表示パネルは、第１基板２７０、第２基板２８０、及び液晶層２０８を含む。前記第１基板２７０は、上部基板２００、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、共通電極２０６、及びスペーサ２１０ｂを含む。
【０１３４】
前記共通電極２０６は、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ上に配置される。前記上部基板２００の面を基準に前記共通電極２０６の前記透過領域２５７に対応する部分の高さは、前記共通電極２０６の前記反射領域２５８に対応する部分の高さに対して高い。
【０１３５】
前記スペーサ２１０ｂは、前記共通電極２０６上に形成され、前記第１基板２７０と前記第２基板２８０との間のセルギャップを維持する。
【０１３６】
図２８〜図３２は、本発明の第２実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【０１３７】
図２８を参照すると、まず、下部基板２２０、薄膜トランジスタ２１９、ソースライン２１８ａ′、ゲートライン２１８ｂ′、透明電極２１２、及び反射電極２１３を含む前記第２基板２８０が形成される。
【０１３８】
図２９を参照すると、前記上部基板２００上に前記ブラックマトリックス２０２、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、及び前記共通電極２０６を順次に形成する。
【０１３９】
図３０に示すように、前記共通電極２０６上にフォトレジストを含む合成樹脂２１０ｂ′を塗布する。以後に、スペーサ用マスク２１１ｂを用いて、前記塗布された合成樹脂２１０ｂ′を露光する。前記マスク２１１ｂは、透明な部分及び不透明な部分を含む。前記不透明な部分は、前記スペーサ２１０ｂに対応される。
【０１４０】
図３１に示すように、前記露光された合成樹脂を現像して前記スペーサ２１０ｂを形成する。
【０１４１】
このようにして、前記ブラックマトリックス２０２、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、前記共通電極２０６、及び前記スペーサ２１０ｂを含む前記第１基板２７０を形成する。
【０１４２】
図３２に示すように、第１基板２７０及び第２基板２８０を互いに付着し、前記第１基板２７０と第２基板２８０との間に液晶を注入して、液晶層２０８を形成する。その後、前記液晶表示パネル上に、前記上部光学フィルムアセンブリ２３０及び前記下部光学フィルムアセンブリ２３５を前記上部基板２００の上部面と前記下部基板２２０の下部面にそれぞれ形成する。
【０１４３】
第２実施例によると、前記オーバーコーティング層２０５ａを省略して、前記遮光領域２４５に対応する前記共通電極２０６上に前記スペーサ２１０ｂを形成し、工程が単純化される。
【０１４４】
（実施例３）
図３３は、本発明の第３実施例による液晶表示装置を示す断面図である。本実施例において、オーバーコーティング層及びスペーサを除いた構成要素は、実施例１と同じなので、その重複説明は省略する。
【０１４５】
図３３を参照すると、前記液晶表示装置は、液晶表示パネル、上部光学フィルムアセンブリ２３０、及び下部光学フィルムアセンブリ２３５を含む。
【０１４６】
前記液晶表示パネルは、第１基板２７０、第２基板２８０、及び液晶層２０８を含む。前記第１基板２７０は、上部基板２００、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、オーバーコーティング層２０５ｃ、共通電極２０６、及びスペーサ２１０ｃを含む。
【０１４７】
前記共通電極２０６は、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ上に配置される。前記共通電極２０６の前記透過領域２５７に対応する部分２０６ｂは、前記共通電極２０６の前記反射領域２５８に対応する部分２０６ａに対して、前記上部基板２００を基準に高い。
【０１４８】
前記オーバーコーティング層２０５ｃは、前記反射領域２５８に対応する前記共通電極２０６ａ上に配置される。前記スペーサ２１０ｃは、前記オーバーコーティング層２０５ｃ上に前記オーバーコーティング層２０５ｃと一体に形成される。前記スペーサ２１０ｃの材質は、前記オーバーコーティング層２０５ｃの材質と同じである。好ましくは、前記オーバーコーティング層２０５ｃ及び前記スペーサ２１０ｃは、アクリル樹脂又はポリイミド樹脂を含む熱硬化性樹脂である。
【０１４９】
前記オーバーコーティング層２０５ｃにより前記第１基板２７０の表面が平坦化され、前記液晶層２０８の配向が均一になる。
【０１５０】
図３４〜図３８は、本発明の第３実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【０１５１】
図３４に示すように、まず、下部基板２２０、薄膜トランジスタ２１９、ソースライン２１８ａ′、ゲートライン２１８ｂ′、透明電極２１２、及び反射電極２１３を含む前記第２基板２８０が形成される。
【０１５２】
図３５に示すように、前記上部基板２００上に前記ブラックマトリックス２０２、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、及び前記共通電極２０６を順次に形成する。
【０１５３】
図３６に示すように、前記共通電極２０６上にフォトレジストを含む熱硬化性樹脂を塗布する。その後、マスク２１１ｃを用いて前記塗布された熱硬化性樹脂２１０ｃ′を露光する。前記マスク２１１ｃは、透明な部分、半透明な部分、及び不透明な部分を含む。前記透明な部分は、前記透過領域２５７に対応される。前記不透明な部分は、前記スペーサ２１０ｃに対応され、前記半透明な部分は前記反射領域２５８に対応される。
【０１５４】
図３７を参照すると、前記露光された合成樹脂を現像して、前記オーバーコーティング層２０５ｃ及び前記スペーサ２１０ｃを共に形成する。
【０１５５】
従って、前記ブラックマトリックス２０２、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、前記共通電極２０６、前記オーバーコーティング層２０５ｃ、前記スペーサ２１０ｃを含む前記第１基板２７０を形成する。
【０１５６】
図３８に示すように、前記第１基板２７０及び前記第２基板２８０を対向し結合して、前記第１基板２７０と前記第２基板２８０との間に、前記液晶層２０８を形成して、前記液晶表示パネルを形成する。
【０１５７】
その後、前記液晶表示パネル上に前記上部光学フィルムアセンブリ２３０及び前記下部光学フィルムアセンブリ２３５を形成する。
【０１５８】
本実施例によると、前記スペーサ２１０ｃを前記オーバーコーティング層２０５ｃと一体に形成して、前記第１基板１７０の表面を平坦化して工程が単純化される。
【０１５９】
（実施例４）
図３９は、本発明の第４実施例による液晶表示装置を示す断面図である。本実施例において、オーバーコーティング層を除いた構成要素は、実施例１と同じなので、その重複説明は省略する。
【０１６０】
図３９に示すように、前記液晶表示装置は、液晶表示パネル、上部光学フィルムアセンブリ２３０、及び下部光学フィルムアセンブリ２３５を含む。
【０１６１】
前記液晶表示パネルは、第１基板２７０、第２基板２８０、及び液晶層２０８を含む。前記第１基板２７０は、上部基板２００、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ、オーバーコーティング層２０５ｄ、共通電極２０６、及びスペーサ２１０ｄを含む。
【０１６２】
前記共通電極２０６は、前記カラーフィルタ２０４ａ、２０４ｂ上に配置される。前記共通電極２０６の前記透過領域２５７に対応する部分２０６ｂは、前記共通電極２０６の前記反射領域２５８に対応する部分２０６ａに対して、前記上部基板２００を基準（基板２００側から見て）に高い。
【０１６３】
前記オーバーコーティング層２０５ｄは、前記反射領域２５８に対応する前記共通電極２０６ａ上に配置される。前記オーバーコーティング層２０５ｄの上部表面には、複数の凹部及び凸部を含む。前記凹部及び凸部は、前記反射電極領域２４９を通過する光の特性を向上させる。
【０１６４】
以下、前記凹部及び凸部を含むオーバーコーティング層２０５ｄを形成する方法を説明する。
【０１６５】
前記凹部及び凸部を含むオーバーコーティング層２０５ｄを形成するために、まず、前記共通電極２０６上にフォトレジストを含む熱硬化性樹脂を塗布する。
【０１６６】
その後、マスク（図示せず）を用いて前記塗布された熱硬化性樹脂（図示せず）を露光する。前記マスク（図示せず）は、透明な部分及び半透明な部分を含む。前記透明な部分は、前記透過領域２５７に対応され、前記半透明な部分は、前記反射領域２５８に対応される。前記マスク（図示せず）の半透明な部分は、複数のスリットを含む。
【０１６７】
次いで、前記露光された合成樹脂を現像して、前記凹部及び前記凸部を含む前記オーバーコーティング層２０５ｄを形成する。
【０１６８】
前記スペーサ２１０ｄは、前記オーバーコーティング層２０５ｄ上に配置される。
【０１６９】
本実施例によると、前記オーバーコーティング層２０５ｄが前記凹部及び前記凸部を含み、前記反射電極領域２４９を通過する光の特性が向上される。
【０１７０】
（実施例５）
図４０は、本発明の第５実施例による液晶表示装置を示す断面図である。本実施例において、カラーフィルタを除いた構成要素は、実施例１と同じなので、その重複説明は省略する。
【０１７１】
図４０を参照すると、前記液晶表示装置は、、液晶表示パネル、上部光学フィルムアセンブリ２３０、及び下部光学フィルムアセンブリ２３５を含む。
【０１７２】
前記液晶表示パネルは、第１基板２７０、第２基板２８０、及び液晶層２０８を含む。前記第１基板２７０は、上部基板２００、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０４ｃ、２０４ｄ、オーバーコーティング層２０５ｅ、共通電極２０６、及びスペーサ２１０ｅを含む。
【０１７３】
前記カラーフィルタ２０４ｃ、２０４ｄは、前記ブラックマトリックス２０２が形成された前記上部基板上に形成され、所定の波長の光のみを選択的に透過させる。前記カラーフィルタ２０４ｃ、２０４ｄの前記透過領域２５７内に配置された部分２０４ｃは、前記カラーフィルタ２０４ｃ、２０４ｄの前記反射領域２５８内に配置された部分２０４ｄより厚い。前記反射領域２５８内に配置された前記カラーフィルタ２０４ｃ、２０４ｄの上部表面は、複数の凹部及び凸部を含む。前記凹部及び凸部は、前記反射電極領域２４９を通過する光の特性を向上させる。
【０１７４】
以下、前記凹部及び凸部を含むカラーフィルタ２０４ｃ、２０４ｄを形成する方法を説明する。
【０１７５】
前記凹部及び凸部を含むカラーフィルタ２０４ｃ、２０４ｄを形成するために、まず、前記ブラックマトリックス２０２が形成された上部基板２００の全面に赤色カラーフィルタ組成物を塗布する。その後、赤色カラーフィルタ用マスク（図示せず）を用いて、前記塗布された赤色カラーフィルタ組成物（図示せず）を露光する。前記赤色カラーフィルタ用マスク（図示せず）は、透明な部分、半透明な部分、及び不透明な部分を含む。前記透明な部分は、前記緑色画素領域、前記青色画素領域、及び前記遮光領域２４５、及び周辺領域（図示せず）に対応される。前記半透明な部分はスリットを含み、前記赤色画素領域に隣接する前記遮光領域２４５、周辺領域（図示せず）、及び前記赤色画素領域内の反射電極領域２４９に対応される。この際、前記凹部及び凸部を形成するために、前記スリットの間隔及び露光する紫外線の強度を増加させることもできる。前記不透明な部分は、前記赤色画素領域内の透過電極領域２４７に対応される。
【０１７６】
その後、前記露光された赤色カラーフィルタ組成物を現像して、前記赤色カラーフィルタ２０４ｃを形成する。
【０１７７】
次いで、前記赤色カラーフィルタ２０４ｃが形成された前記上部基板２００上に、緑色カラーフィルタ２０４ｄ及び青色カラーフィルタ（図示せず）を順次に形成する。
【０１７８】
このような赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、及び青色カラーフィルタの製造は、任意の順序に行うことができる。
【０１７９】
前記共通電極２０６は、前記カラーフィルタ２０４ｃ、２０４ｄ上に配置される。前記共通電極２０６の前記反射領域２５８に対応する部分２０６ｅは、前記凹部及び前記凸部に沿って配置される。
【０１８０】
前記オーバーコーティング層２０５ｅは、前記反射領域２５８に対応する前記共通電極２０６ｅ上に配置される。
【産業上の利用可能性】
【０１８１】
本発明によると、前記カラーフィルタ２０４ｃ、２０４ｄが前記凹部及び前記凸部を含み、前記反射電極領域２４９を通過する光の特性が向上される。又、前記第１基板２７０の表面が平坦化されるので、前記液晶層２０８の配向が均一になる。
【０１８２】
前記のような本発明によると、液晶表示装置が透過領域に対応する部分の厚さが、反射領域に対応する部分の厚さより厚いカラーフィルタ、及び前記透過領域に対応する部分の高さが前記反射領域に対応する部分の高さより高い共通電極を含み、透過電極領域に対応する光の輝度及び反射電極領域に対応する光の輝度が均一である。
【０１８３】
又、オーバーコーティング層が共通電極上に配置され、製造費用が減少し、収率が増加する。又、前記カラーフィルタがスリットを含まないので、前記反射領域内に配置された前記共通電極が均一な断面形状を有する。
【０１８４】
又、前記オーバーコーティング層を省略したり、スペーサを前記オーバーコーティング層と共に形成して、製造費用が減少する。
【０１８５】
又、前記オーバーコーティング層又は前記カラーフィルタが凹部及び凸部を含み、前記反射電極領域を通過する光の特性が向上される。
【０１８６】
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
【図面の簡単な説明】
【０１８７】
【図１】スリットを有するカラーフィルタ及び互いに異なる高さを有する共通電極を含む液晶表示装置を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ′線の断面図である。
【図３】図１に示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図４】図１に示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図５】図１に示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図６】図１に示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図７】図１に示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図８】図１に示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図９】図１に示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１０】図１に示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１１】図１に示された液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１２】本発明の第１実施例による液晶表示装置を示す分解斜視図である。
【図１３】本発明の第１実施例による液晶表示装置を示す平面図である。
【図１４】本発明の第１実施例による液晶表示装置の反射電極及び透明電極を示す平面図である。
【図１５】本発明の第１実施例による液晶表示装置の共通電極を示す平面図である。
【図１６】図１３のＢ−Ｂ′線の断面図である。
【図１７】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１８】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１９】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２０】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２１】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２２】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２３】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２４】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２５】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２６】本発明の第１実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２７】本発明の第２実施例による液晶表示装置を示す断面図である。
【図２８】本発明の第２実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２９】本発明の第２実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３０】本発明の第２実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３１】本発明の第２実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３２】本発明の第２実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３３】本発明の第３実施例による液晶表示装置を示す断面図である。
【図３４】本発明の第３実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３５】本発明の第３実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３６】本発明の第３実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３７】本発明の第３実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３８】本発明の第３実施例による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３９】本発明の第４実施例による液晶表示装置を示す断面図である。
【図４０】本発明の第５実施例による液晶表示装置を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１８８】
１００    上部基板
１０２    ブラックマトリックス
１０３    スリット
１０４ａ、１０４ｂ    カラーフィルタ
１０５ａ、１０５ｂ    オーバーコーティング層
１０５ａ′    熱硬化性樹脂
１０６    共通電極
１０７ａ    マスク
１１０    スペーサ
１１２    透明電極
１１３    反射電極
１１４    有機膜
１１６    パシベーション膜
１１８ａ    ソース電極
１１８ａ′    ソースライン
１１８ｂ    ゲート電極
１１８ｂ′    ゲートライン
１１８ｃ    ドレイン電極
１１９    薄膜トランジスタ
１２０    下部基板
１２６    ゲート絶縁膜
１３０    上部光学フィルムアセンブリ
１３２    上部λ／４位相差フィルム
１３４    上部偏光板
１３５    下部光学フィルムアセンブリ
１３６    下部λ／４位相差フィルム
１３８    下部偏光板
１４０    画素領域
１４５    遮光領域
１４７    透過電極領域
１４９    反射電極領域
１５７    透過領域
１５８    反射領域
１７０    第１基板
１８０    第２基板
１０８    液晶層
【図１】
0004700321.tif 000002
【図２】
0004700321.tif 000003
【図３】
0004700321.tif 000004
【図４】
0004700321.tif 000005
【図５】
0004700321.tif 000006
【図６】
0004700321.tif 000007
【図７】
0004700321.tif 000008
【図８】
0004700321.tif 000009
【図９】
0004700321.tif 000010
【図１０】
0004700321.tif 000011
【図１１】
0004700321.tif 000012
【図１２】
0004700321.tif 000013
【図１３】
0004700321.tif 000014
【図１４】
0004700321.tif 000015
【図１５】
0004700321.tif 000016
【図１６】
0004700321.tif 000017
【図１７】
0004700321.tif 000018
【図１８】
0004700321.tif 000019
【図１９】
0004700321.tif 000020
【図２０】
0004700321.tif 000021
【図２１】
0004700321.tif 000022
【図２２】
0004700321.tif 000023
【図２３】
0004700321.tif 000024
【図２４】
0004700321.tif 000025
【図２５】
0004700321.tif 000026
【図２６】
0004700321.tif 000027
【図２７】
0004700321.tif 000028
【図２８】
0004700321.tif 000029
【図２９】
0004700321.tif 000030
【図３０】
0004700321.tif 000031
【図３１】
0004700321.tif 000032
【図３２】
0004700321.tif 000033
【図３３】
0004700321.tif 000034
【図３４】
0004700321.tif 000035
【図３５】
0004700321.tif 000036
【図３６】
0004700321.tif 000037
【図３７】
0004700321.tif 000038
【図３８】
0004700321.tif 000039
【図３９】
0004700321.tif 000040
【図４０】
0004700321.tif 000041