(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被研磨体の被研磨面をポリシングするポリシング装置であって、被研磨面が上向きとなるように前記被研磨体を保持する保持部と、この保持部に保持される前記被研磨体の被研磨面と対向状態に設けられるポリシング材と、このポリシング材を前記被研磨体側に押さえるポリシングプレートと、前記ポリシング材を前記被研磨体の被研磨面に接離自在に接触せしめ得るように前記ポリシングプレートを前記保持部に対し接離動させる接離機構と、前記被研磨体の被研磨面が前記ポリシング材に対して往復直線運動と偏心運動との複合運動をするようにこの被研磨体を移動させる複合運動機構とを備え、前記接離機構は、前記ポリシングプレートの複数箇所を夫々独立に前記保持部に対して接離動し得るように構成し、前記ポリシング材を複数並設状態に設け、前記被研磨体の被研磨面の略全面を一時にポリシングできるように前記ポリシング材の並設数及び並設間隔を設定し、この複数並設状態に設けた前記ポリシング材同士の間から前記被研磨面にポリシング液を供給するポリシング液供給部を備えたことを特徴とするポリシング装置。
【請求項２】
前記ポリシング液供給部を、前記ポリシング材の長手方向と直交する方向及び長手方向と平行な方向に夫々複数並設状態に設けたことを特徴とする請求項１記載のポリシング装置。
【請求項３】
前記ポリシングプレートは前記複数のポリシング材を前記被研磨体側に押さえ得る大きさに設定したことを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載のポリシング装置。
【請求項４】
前記ポリシング材は、一方のリールから巻き出し他方のリールへ巻き取り可能な状態でこのリール間に張設されるテープ状のポリシング材であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリシング装置。
【請求項５】
前記ポリシングプレートの前記被研磨面に対する加圧力を前記ポリシングプレートの複数箇所で測定する加圧力測定部と、この加圧力測定部による測定結果をフィードバックして前記ポリシングプレートの前記被研磨面に対する加圧力が所定の設定された加圧力となるように維持する加圧力設定部とから成る加圧力調整機構を前記接離機構に備えたことを特徴とする請求項４記載のポリシング装置。
【請求項６】
前記被研磨体を固定保持する保持部の下面に設けられこの保持部の前後左右方向への移動をガイドするガイド部と、このガイド部を介して前記保持部を偏心運動させる偏心運動機構と、前記保持部，前記ガイド部及び前記偏心運動機構を前後方向若しくは左右方向に往復直線運動させる往復直線運動機構とで前記複合運動機構を構成したことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリシング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリシング装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１に開示されるような従来の化学機械研磨装置（ＣＭＰ装置）は、ウェハ等の被研磨体が自転回転しながら回転するポリシングパッド（ヘッド）に接触してポリシングを行っているため、ウェハの内周と外周とでポリシング条件が異なり、全面均一なポリシングが困難であった。
【０００３】
そこで、例えばポリシングパッドの中心が一定量偏心した状態で（公転）運動を行うポリシング装置が提案されている。しかしながら、この場合、下方のポリシングパッドに上方から下向きに被研磨体の被研磨面を接触させてポリシングを行う所謂フェイスダウン方式であるため、ポリシングパッドに設けられるスラリー（ポリシング液）の供給孔が詰まり易く、このスラリーの均一な供給が妨げられ、やはり均一なポリシングが困難であり、また、メンテナンスを頻繁に行う必要がある等の問題点がある。
【０００４】
【特許文献１】特許第４０２０７３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上述のような問題点を解決したもので、被研磨面を短時間で全面均一にポリシングできるのは勿論、メンテナンスを頻繁に行う必要がなく、しかも、簡易な構成で実現可能なコスト性・生産性に秀れた実用的なポリシング装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【０００７】
被研磨体１の被研磨面２をポリシングするポリシング装置であって、被研磨面２が上向きとなるように前記被研磨体１を保持する保持部３と、この保持部３に保持される前記被研磨体１の被研磨面２と対向状態に設けられるポリシング材４と、このポリシング材４を前記被研磨体１側に押さえるポリシングプレート５と、前記ポリシング材４を前記被研磨体１の被研磨面２に接離自在に接触せしめ得るように前記ポリシングプレート５を前記保持部３に対し接離動させる接離機構と、前記被研磨体１の被研磨面２が前記ポリシング材４に対して往復直線運動と偏心運動との複合運動をするようにこの被研磨体１を移動させる複合運動機構９とを備え、前記接離機構は、前記ポリシングプレート５の複数箇所を夫々独立に前記保持部３に対して接離動し得るように構成し、前記ポリシング材４を複数並設状態に設け、前記被研磨体１の被研磨面２の略全面を一時にポリシングできるように前記ポリシング材４の並設数及び並設間隔を設定し、この複数並設状態に設けた前記ポリシング材４同士の間から前記被研磨面２にポリシング液７を供給するポリシング液供給部を備えたことを特徴とするポリシング装置に係るものである。
【０００８】
また、前記ポリシング液供給部を、前記ポリシング材４の長手方向と直交する方向及び長手方向と平行な方向に夫々複数並設状態に設けたことを特徴とする請求項１記載のポリシング装置に係るものである。
【０００９】
また、前記ポリシングプレート５は前記複数のポリシング材４を前記被研磨体１側に押さえ得る大きさに設定したことを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載のポリシング装置に係るものである。
【００１０】
また、前記ポリシング材４は、一方のリール６から巻き出し他方のリール６へ巻き取り可能な状態でこのリール６間に張設されるテープ状のポリシング材４であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリシング装置に係るものである。
【００１１】
また、前記ポリシングプレート５の前記被研磨面２に対する加圧力を前記ポリシングプレート５の複数箇所で測定する加圧力測定部と、この加圧力測定部による測定結果をフィードバックして前記ポリシングプレート５の前記被研磨面２に対する加圧力が所定の設定された加圧力となるように維持する加圧力設定部とから成る加圧力調整機構を前記接離機構に備えたことを特徴とする請求項４記載のポリシング装置に係るものである。
【００１２】
また、前記被研磨体１を固定保持する保持部３の下面に設けられこの保持部３の前後左右方向への移動をガイドするガイド部と、このガイド部を介して前記保持部３を偏心運動させる偏心運動機構と、前記保持部３，前記ガイド部及び前記偏心運動機構を前後方向若しくは左右方向に往復直線運動させる往復直線運動機構とで前記複合運動機構９を構成したことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリシング装置に係るものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は上述のように構成したから、被研磨面を短時間で全面均一にポリシングできるのは勿論、メンテナンスを頻繁に行う必要がなく、しかも、簡易な構成で実現可能なコスト性・生産性に秀れた実用的なポリシング装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
好適と考える本発明の実施形態（発明をどのように実施するか）を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。
【００１５】
保持部３に基板やウェハやレンズなどの被研磨体１を被研磨面２が上向きとなるように保持せしめ、この被研磨面２に対してポリシング材４が（僅かに）接触するようにポリシングプレート５を接離動せしめて、被研磨体１の被研磨面２がポリシング材４に対して往復直線運動と偏心運動との複合運動をするように被研磨体１を移動させることで、ポリシング材４により被研磨面２をポリシングする。
【００１６】
この際、往復直線運動と偏心運動との複合運動により被研磨面２がポリシングされるから、ポリシング材４が一時にポリシングできるように複数並設したことと相俟って、被研磨面２のいずれの部分でも略均一にポリシングが行われることになる。また、接離機構によりポリシングプレート５の（ポリシング材４の）被研磨面２に対する加圧力を容易に調整でき、この点においても均一な精度が高いポリシングが可能となる。
【００１７】
更に、ポリシング材４間に夫々ポリシング液７を上方より供給でき、より均一に満遍なくポリシング液７をポリシング材４と被研磨面２との間に介在せしめた状態でポリシングを行うことができ、一層良好なポリシングが可能となる。即ち、本発明はフェイスアップ方式であるため、フェイスダウン方式に比しポリシング液は詰まりにくいが、仮にいずれかの箇所でポリシング液詰まりが生じてもカバーが容易となり、それだけメンテナンス間隔を延長することが可能となる。また、本発明はフェイスアップ方式であるため、被研磨体１の取り扱い性（ハンドリング性）にも秀れることになる。
【００１８】
加えて、ポリシング材４の並設間隔及び並設数、ポリシング材４の被研磨面２と接触するポリシング面の長さ等を適宜設定することで、どのような大きさの被研磨面２であっても容易に対応可能となり、短時間で被研磨面略全面のポリシングを均一に行える構成を簡易な構造でコスト安に実現可能となる。
【００１９】
また、被研磨体１（保持部３）の上方のポリシングプレート５を接離動せしめ、下方の被研磨体１を複合運動させるため、接離機構及び複合運動機構を夫々上下に分離して設けることが可能となり、上下動と水平動を行う機構を上方若しくは下方にまとめて設ける必要がなく、この点においても構造が簡略化しコスト性・メンテナンス性に秀れるものとなる。
【００２０】
更に、ポリシング液７をポリシング材４同士の間から夫々供給することができ、それだけ均一に被研磨面２にポリシング液７を供給することが可能となる。
【００２１】
また、例えば、前記ポリシング材４は、一方のリール６から巻き出し他方のリール６へ巻き取り可能な状態でこのリール６間に張設されるテープ状のポリシング材４とした場合には、リール６による巻き出し・巻き取りだけでポリシング材４のポリシング面を容易に新規な面に交代でき、よりメンテナンス性に秀れたものとなる。
【００２２】
また、例えば、複数並設状態に設けられる前記ポリシング材４同士の間にポリシング液７を供給するポリシング液供給部を、前記ポリシング材４の長手方向と直交する方向及び長手方向と平行な方向に夫々複数並設状態に設けた場合には、ポリシング材４同士の間に夫々ポリシング液７を供給可能で且つこのポリシング材４同士の間でも複数箇所にポリシング液７を供給可能となり、より均一にポリシング液７を供給できるものとなる。
【００２３】
また、例えば、前記ポリシングプレート５は前記複数のポリシング材４を前記被研磨体２側に押さえ得る大きさに設定し、このポリシングプレート５の複数箇所を夫々独立に前記保持部３に対して接離動し得るように前記接離機構を構成した場合には、より簡易な構成にしてポリシングプレート５の被研磨面２に対する加圧力を細かく設定調整可能となる。
【００２４】
また、例えば、前記ポリシングプレート５の前記被研磨面２に対する加圧力を前記ポリシングプレート５の複数箇所で測定する加圧力測定部と、この加圧力測定部による測定結果をフィードバックして前記ポリシングプレート５の前記被研磨面２に対する加圧力が所定の設定された加圧力となるように維持する加圧力設定部とから成る加圧力調整機構を前記接離機構に備えた場合には、一層精密にポリシングプレート５（ポリシング材４）の被研磨面２に対する加圧力の設定調整が可能となる。
【実施例】
【００２５】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００２６】
本実施例は、被研磨体１の被研磨面２をポリシングするポリシング装置であって、被研磨面２が上向きとなるように前記被研磨体１を保持する保持部３と、この保持部３に保持される前記被研磨体１の被研磨面２と対向状態に設けられるポリシング材４と、このポリシング材４を支持し前記被研磨体１側に押さえるポリシングプレート５と、前記ポリシング材４を前記被研磨体１の被研磨面２に接離自在に接触せしめ得るように前記ポリシングプレート５を前記保持部３に対し接離動させる接離機構と、前記被研磨体１の被研磨面２が前記ポリシング材４に対して往復直線運動と偏心運動との複合運動をするようにこの被研磨体１を移動させる複合運動機構９とを備え、前記ポリシング材４を複数並設状態に設け、前記被研磨体１の被研磨面２の略全面を一時にポリシングできるように前記ポリシング材４の並設数及び並設間隔を設定し、この複数並設状態に設けた前記ポリシング材４同士の間から前記被研磨面２にポリシング液７を供給するポリシング液供給部を備えたものである。
【００２７】
本実施例においては、前記ポリシング材４は、一方のリール６から巻き出し他方のリール６へ巻き取り可能な状態でこのリール６間に適宜なテンションをかけて張設されるテープ状（薄く且つ細長い帯状）のポリシング材４としている。
【００２８】
図４に図示したように、このテープ状のポリシング材４の上面は、保持部３に対して接離動するポリシングプレート５の下面に真空により吸着保持され（対向する被研磨体１側に押さえられ）、このテープ状のポリシング材４の下面（ポリシング面）が、対向する被研磨体１の被研磨面２へ接触せしめられる。
【００２９】
従って、ある一部のポリシング面により所定の枚数をポリシングしたら、この既に所定枚数をポリシングした一部をリール６に巻き取り新しいポリシング面を巻き出すように設定することで、常に良好なポリシング面で被研磨面２をポリシング可能となり、リール６に巻回される略全てのポリシング材４を使い切るまでポリシング材４の交換作業（リールからの取り外し及びリールへの取り付け作業）は不要となり、それだけメンテナンス性に秀れることになる。
【００３０】
ポリシングプレート５は、複数のポリシング材４を被研磨体１側に押さえ得る大きさに設定している。本実施例においては、全てのポリシング材４を一のポリシングプレート５で押さえ得る大きさに設定している。また、このポリシングプレート５の複数箇所を夫々独立に保持部３に対して接離動し得るように接離機構を構成している。
【００３１】
更に、本実施例は、前記ポリシングプレート５の前記被研磨面２に対する加圧力を前記ポリシングプレート５の複数箇所で測定する加圧力測定部と、この加圧力測定部による測定結果をフィードバックして前記ポリシングプレート５の前記被研磨面２に対する加圧力が所定の設定された加圧力となるように維持する加圧力設定部とから成る加圧力調整機構を前記接離機構に備えた構成としている。
【００３２】
具体的には、図１，２に図示したように保持部３が設けられる基台８のこの保持部３の周囲には、４つの立設体10が立設され、この立設体10の前記保持部３表面に対して略垂直な内面には、夫々リニアガイド部12の固定部13が固定され、このリニアガイド部12の移動部14には螺子等を介して略方形状のベース部16が連設されている。更に具体的には、このリニアガイド部12の移動部14の背面と対向するベース部16の外側面角部近傍位置と夫々連設されている。
【００３３】
また、リニアガイド部12の移動部14の上側端面には、メインシリンダ18のロッド部19が螺子等を介して夫々連設されている。また、ベース部16には、略方形状のポリシングプレート５がバランスシリンダ20のロッド部21を介して支承されている。
【００３４】
具体的には、バランスシリンダ20のロッド部21の先端径大部22を、ポリシングプレート５の角部近傍の外側面にして前記立設体10の内面との対向面にポリシングプレート５と略平行に夫々連設される肉薄部23の下面に係止させることでポリシングプレート５を吊り下げ支承している。また、バランスシリンダ20は前記ベース部16の角部位置にして前記肉薄部23の直上位置に夫々計４つ設けられている。
【００３５】
従って、メインシリンダ18のロッド部19を突没動させることで、リニアガイド部12の移動部14を上下にガイド移動せしめ、この移動部14に連設されるベース部16及びポリシングプレート５を上下動（保持部３に対して接離動）させることができる。即ち、４つのメインシリンダ18のロッド部19の突没量を夫々変化させることで、ポリシングプレート５の角部の接離量を夫々変化させることができる。
【００３６】
従って、接離機構によりポリシングプレート５の夫々の角部で夫々独立に接離量を調整できることになる。尚、いずれかのメインシリンダ18によりポリシングプレート５の角部の接離量を変化させると他の角部にも影響が生じ得るが、本実施例においては説明上この影響を含めて接離機構により角部を夫々独立に保持部３に対して接離動することとしている。また、バランスシリンダ20のロッド部21の突没量を調整することで、ポリシングプレート５の引き上げ量を調整して更に調整を行うことが可能となる。
【００３７】
また、ベース部16とポリシングプレート５との間には、ポリシングプレート５の（保持部３に保持される被研磨体１の）被研磨面２に対する加圧力（ポリシング材４が被研磨面２に接触する際の接触力）を検知して電気信号に変換するロードセル24が設けられている。ロードセル24は、ポリシングプレート５の夫々の角部近傍位置で加圧力を検知するように各角部近傍位置に計４つ設けられている。このロードセル24は、加圧力微調整シリンダ25とコントローラを介して電気的に接続され、加圧力微調整シリンダ25はロードセル24からの加圧力信号に基づき、ロッド部26を突没動させてポリシングプレート５の角部を保持部３に対して接離動し得るように構成されている。図中、符号17はロードセル24とポリシングプレート５とを連結する連結体である。
【００３８】
また、ベース部16とポリシングプレート５の外周面に連設された肉薄部23との間には、ベース部16とポリシングプレート５との間隔を測定する間隔測定用センサ27が設けられている。この間隔測定用センサ27（荷重０検出センサ）は、前記バランスシリンダ20とコントローラを介して電気的に接続され、バランスシリンダ20のロッド部21によりベース部16に対し吊り下げ支承されるポリシングプレート５とベース部16との間隔を測定することで、このポリシングプレート５の荷重（ポリシングプレートの重さ）が０か否かを検出するように構成され、前記コントローラは、間隔測定用センサ27がポリシングプレート５の荷重が０となる所定間隔を維持するようにバランスシリンダ20のロッド部21の突出度を調整して肉薄部23（ポリシングプレート５）を引き上げ若しくは押し下げるように構成されている。尚、間隔測定用センサ27は肉薄部23とベース部16の角部近傍部分との間に夫々計４つ設けられている。
【００３９】
即ち、本実施例においては、加圧力微調整シリンダ25、ロードセル24及びコントローラとで加圧力調整機構が構成され、バランスシリンダ20、間隔測定用センサ27及びコントーラとで荷重０調整機構が構成され、この加圧力調整機構と荷重０調整機構とメインシリンダ18とで接離機構が構成され、設定された加圧力でポリシングプレート５に固定されたポリシング材４と被研磨面２が加圧接触する事ができるようになっている。
【００４０】
従って、荷重０調整機構によりポリシングプレート５の荷重が０となるように調整した状態で、メインシリンダ18により保持部３（に保持される被研磨体１の被研磨面２）と略平行な状態でベース部16とポリシングプレート５とを被研磨面２に対して下降させてこの被研磨面２に接触させた後、メインシリンダ18のロッド部19及びバランスシリンダ20のロッド部21を固定し、常時ポリシングプレート５の各角部における加圧力を監視しつつ加圧力微調整シリンダ25により微調整を行うことで、安定して設定した加圧力でポリシングできる。
【００４１】
また、本実施例においては、前記ポリシング材４（及び一対のリール６）が被研磨体１の被研磨面２の大きさ等に応じて複数互いの長手方向を揃えて並設されている。この複数並設状態に設けられる前記ポリシング材４同士の間には、ポリシング液７を供給するポリシング液供給部を、前記ポリシング材４の長手方向と直交する方向及び長手方向と平行な方向に夫々複数並設状態に設けている。
【００４２】
具体的には、ベース部16上にポリシング液供給用のタンク部28をポリシング材４同士の間のスペースに沿って縦横に並設し、このタンク部28からポリシング材４同士の間にポリシング液供給管29を（ポリシングプレート５を貫通するように）夫々垂下配設することで、各ポリシング液供給管29から夫々独立にポリシング液７をポリシング材４同士の間に供給し得るように構成している。即ち、ポリシング材４を挟んで複数のポリシング液供給管29が並設されると共に、ポリシング材４同士の間のスペースに沿って複数のポリシング液供給管29が並設される。図中、符号30はポリシングプレート５に穿設されるポリシング液供給孔である。
【００４３】
従って、図３に図示したように非常に多くの箇所からポリシング液７（例えば水酸化カリウム及びヒュームドシリカ粒子を含むスラリー等）が点滴供給されることになり、より均一に被研磨面２にポリシング液７を供給することが可能となる。尚、各ポリシング液供給孔30からは均一にポリシング液７を供給しても良いし、詰まった箇所があった場合にはその部分をカバーするように供給量に分布を付けても良い。
【００４４】
被研磨体１は保持部３としての真空チャックテーブル３にチャックされて固定保持され複合運動機構９により複合運動せしめられる。複合運動機構９は、前記被研磨体１を固定保持する保持部３の下面に設けられこの保持部３の前後左右方向への移動をガイドするガイド部と、このガイド部を介して前記保持部３を偏心運動させる偏心運動機構と、前記保持部３，前記ガイド部及び前記偏心運動機構を前後方向若しくは左右方向に往復直線運動させる往復直線運動機構とで前記複合運動機構９を構成している。
【００４５】
具体的には、複合運動機構９は、図５，６に図示したように、真空チャックテーブル３の下面に固定部32が固定される前後方向への移動をガイドする第一の直動ベアリング装置31と、この第一の直動ベアリング装置31の移動部33に移動部36が固定される（前記前後方向と直交する）左右方向への移動をガイドする第二の直動ベアリング装置34と、この第二の直動ベアリング装置34の固定部35が固定され、ボールねじ機構により往復直線運動する往復直線運動テーブル37と、基台８に固定される固定台38に固定部40が固定され移動部41が往復直線運動テーブル37の下面に固定され往復直線運動テーブル37の前記往復直線運動をガイドする第三の直動ベアリング装置39と、前記真空チャックテーブル３の裏面に連結される偏心軸42を有する偏心運動用モータ43とで構成されている。また、偏心運動用モータ43は往復直線運動テーブル37の下面に本体が固定されている。また、ボールねじ機構は、ボールねじ44とこのボールねじ44の回動に伴い螺動する螺動体45とボールねじ44を駆動するモータ46とで構成され、螺動体45が往復直線運動テーブル37に連結されている。また、直動ベアリング装置31，34，39は夫々一対ずつ設けられている。
【００４６】
従って、往復直線運動テーブル37をボールねじ機構により往復直線運動せしめると、この往復直線運動テーブル37は第三の直動ベアリング装置39によりガイドされて基台８（固定台38）に対して往復直線運動し、この往復直線運動テーブル37上の第二の直動ベアリング34、第一の直動ベアリング31及び真空チャックテーブル３も共に往復直線運動する。また、この往復直線運動テーブル37に本体が固定された偏心運動用モータ43の偏心軸42を駆動すると往復直線運動に加えて第一の直動ベアリング装置31と第二の直動ベアリング装置34にガイドされて真空チャックテーブル３が偏心運動する。
【００４７】
即ち、真空チャックテーブル３が基台８（固定台38）に対して往復直線運動に偏心運動を加えた複合運動をすることになり、真空チャックテーブル３に被研磨体１を固定保持した状態で上記複合運動をするとポリシング材４を十分広範囲をカバーするように並設しておけば、被研磨体１の被研磨面２を略均一に満遍なくポリシングすることが可能となり、極めて短時間で且つ均一なポリシングが可能となる。
【００４８】
本実施例は上述のように構成したから、保持部３に基板やウェハやレンズなどの被研磨体１を被研磨面２が上向きとなるように保持せしめ、この被研磨面２に対してポリシング材４が（僅かに）接触するようにポリシングプレート５を接離動せしめて、被研磨面２へのポリシング材４の接触力（加圧力）を適正値に維持しつつ、ポリシング液７を供給しながら被研磨体１の被研磨面２がポリシング材４に対して往復直線運動と偏心運動との複合運動をするように被研磨体１を移動させることで、ポリシング材４により被研磨面２をポリシングする。
【００４９】
この際、往復直線運動と偏心運動との複合運動により被研磨面２がポリシングされるから、ポリシング材４が一時にポリシングできるように複数並設したことと相俟って、被研磨面２のいずれの部分でも略均一にポリシングが行われることになる。また、接離機構によりポリシングプレート５によるポリシング材４の被研磨面２への接触力を容易に調整でき、この点においても均一なポリシングが可能となる。
【００５０】
更に、ポリシング材４間に夫々ポリシング液７を供給でき、より均一に満遍なくポリシング液７をポリシング材４と被研磨面２との間に介在せしめた状態でポリシングを行うことができ、一層良好なポリシングが可能となる。即ち、本実施例はフェイスアップ方式であるため、フェイスダウン方式に比しポリシング液は詰まりにくいが、仮にいずれかの箇所でポリシング液詰まりが生じてもカバーが容易となり、それだけメンテナンス間隔を延長することが可能となる。また、本実施例はフェイスアップ方式であるため、被研磨体１の取り扱い性（ハンドリング性）にも秀れることになる。
【００５１】
加えて、ポリシング材４の並設間隔及び並設数、ポリシング材４の被研磨面２と接触するポリシング面の長さ等を適宜設定することで、どのような大きさの被研磨面２であっても容易に対応可能となり、短時間で被研磨面略全面のポリシングを均一に行える構成を簡易な構造でコスト安に実現可能となる。
【００５２】
また、被研磨体１（保持部３）の上方のポリシングプレート５を接離動せしめ、下方の被研磨体２を複合運動させるため、接離機構及び複合運動機構を夫々上下に分離して設けることが可能となり、上下動と水平動を行う機構を上方若しくは下方にまとめて設ける必要がなく、この点においても構造が簡略化しコスト性・メンテナンス性に秀れるものとなる。
【００５３】
よって、本実施例は、被研磨面を短時間で均一にポリシングできるのは勿論、メンテナンスを頻繁に行う必要がなく、しかも、簡易な構成で実現可能なコスト性・生産性に秀れた実用的なポリシング装置となる。
【００５４】
本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本実施例の概略説明側面図である。
【図２】本実施例の要部の一部を切り欠いた概略説明平面図である。
【図３】本実施例の概略説明図である。
【図４】本実施例の概略説明図である。
【図５】本実施例の複合運動機構９の概略説明斜視図である。
【図６】本実施例の複合運動機構９の概略説明断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１  被研磨体
２  被研磨面
３  保持部
４  ポリシング材
５  ポリシングプレート
６  リール
７  ポリシング液
９  複合運動機構
【図１】
0004734353.tif 000002
【図２】
0004734353.tif 000003
【図３】
0004734353.tif 000004
【図４】
0004734353.tif 000005
【図５】
0004734353.tif 000006
【図６】
0004734353.tif 000007