(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ、
Ｈ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨ、
Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ、
Ｈ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚ）−ＯＨ、または
Ｈ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＯＨ
から成る群から選択された線状ペンタペプチドの環化、それに続く保護基除去により、環状ペンタペプチド
シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）
を調製する方法。
【請求項２】
Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ、
Ｈ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨ、
Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ、
Ｈ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚ）−ＯＨ、または
Ｈ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＯＨ
から成る群から選択された線状ペンタペプチドの環化、それに続く保護基除去、および生理的に許容可能な塩へさらに変換することを特徴とする、請求項１に記載の環状ペンタペプチド
シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）
を調製する方法。
【請求項３】
線状ペンタペプチド、Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨを環化することを特徴とする、請求項１または２に記載の環状ペンタペプチド
シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）
を調製する方法。
【請求項４】
線状ペプチド、Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨの合成が、Ｒ1がアミノ保護基であるトリペプチド、Ｒ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨと、Ｒ2がカルボキシル保護基であるジペプチド、Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ｒ2との断片縮合によって集束的に実行され、次いで保護基Ｒ1およびＲ2を除去することを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
Ｒ1がアミノ保護基であるトリペプチド、Ｒ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨが、Ｚ−ＤＰｈｅ−ＯＨ（Ｚはベンジルオキシカルボニルである）をＨ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅと反応させることによりＨ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅを与える線状合成によって調製され、次いでこれを活性化Ｒ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＯＨ誘導体と反応させ、かつそのメチルエステルを開裂させることを特徴とする、請求項１から４に記載の方法。
【請求項６】
Ｒ2をカルボキシル保護基とするジペプチド、Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ｒ2が、Ｚ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨをＨ−Ｇｌｙ−Ｒ2と反応させ、保護基Ｚを除去することによる線状合成によって調製されることを特徴とする、請求項１から４に記載の方法。
【請求項７】
シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の合成中間体としての、
Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ、
Ｈ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨ、
Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ、
Ｈ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚ）−ＯＨ、または
Ｈ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＯＨ
から成る群から選択される線状ペンタペプチド。
【請求項８】
請求項１から６のいずれかに記載の方法により得られる、シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の内部塩。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は環状ペンタペプチド、シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の新規調製方法に関する。
【０００２】
シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）およびその生理的に許容される塩を含む環状ペンタペプチドは、欧州特許第０７７０６２２号に開示されている。本発明は、欧州特許第０７７０６２２号に関する選択発明とみなすことができる。
【０００３】
一般に環状ペプチドは、ペプチド合成の通常の条件下で、線状前駆体分子を環化することによって得られる。
【０００４】
２個のアミノ酸、または幾つかのアミノ酸から成る２個のセグメントの選択的結合、あるいは線状ペプチドの環化を保証し得るためには、その反応に関与しないアミノ酸の対応する官能基を、適当な保護基によってブロックすることである。したがって、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、チオール基またはカルボキサミド基、さらにグアニジン基またはイミダゾール窒素に対する様々なタイプの保護基が開発され、その組合せによって、前記反応の最適化に関して広範に可能な多様性を実現している。その上、一方は固相ペプチド合成により、他方は溶液中、の二つの方法によって、線状前駆体分子即ち線状ペプチドの合成を実行することができる。この場合、アミノ酸の段階的結合またはアミノ酸セグメントの断片縮合が可能である。カルボジイミド、カルボジイミダゾール等の様々な縮合剤、ＴＢＴＵ等のウロニウム型縮合剤を用い、または混合酸無水物法や活性エステル法に従って、個々の結合段階を順に実行することができる。
【０００５】
本発明は、既知の方法と比較して、シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の新規で改良された調製法を開発する目的に基づいていた。
【０００６】
驚くべきことに、線状前駆体分子の環化による環状ペプチド、シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の合成において、アルギニン側鎖中のグアニジノ基に対し２，２，４，６，７−ペンタメチルジヒドロベンゾフラン−５−スルホニル（Ｐｂｆ）、アスパラギン酸側鎖中のカルボキシル基に対しベンジル（Ｂｚｌ）、と両保護基を組み合わせることによって、収率が最適化されることが判明した。
【０００７】
したがって、本発明は
Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ、
Ｈ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨ、
Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ、
Ｈ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚ）−ＯＨ、または
Ｈ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＯＨ
から成る群から選択された線状ペンタペプチドの環化、それに続く保護基の除去、および適当であるならば、生理的に許容可能な塩へさらに変換し、環状ペンタペプチド
シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）
の調製方法に関する。
【０００８】
本発明はさらに、線状ペンタペプチドＨ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨを環化する前記の環状ペンタペプチド
シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）
の調製方法に関する。
【０００９】
Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ、
Ｈ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨ、
Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ、
Ｈ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＯＨ、または
Ｈ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＯＨ
から成る群から選択した線状ペプチドの環化の反応条件は、脱水剤、不活性溶媒、反応温度の選択および生理的に許容可能な塩へさらに変換すること関して、欧州特許第０７７０６２２号に既に開示されている。
【００１０】
通例の条件下で（これに対して次を参照。Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第２版、Ｗｉｌｅｙ、Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ、１９９１年、またはＰ．Ｊ．Ｋｏｃｉｅｎｓｋｉ、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ  Ｇｒｏｕｐｓ、第１版、Ｇｅｏｒｇｅ  Ｔｈｉｅｍｅ  Ｖｅｒｌａｇ、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ−Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ、１９９４年、Ｈ．Ｋｕｎｚ、Ｈ．Ｗａｌｄｍａｎｎ  ｉｎ  Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、６巻（Ｂ．Ｍ．Ｔｒｏｓｔ、Ｉ．Ｆｌｅｍｉｎｇ、Ｅ．Ｗｉｎｔｅｒｆｅｌｄｔ編）、Ｐｅｒｇａｍｏｎ、Ｏｘｆｏｒｄ、１９９１年、ｐｐ．６３１〜７０１）、例えば触媒（例えば便宜的に炭素のような支持体上の、パラジウムのような貴金属触媒）の存在下で水素で処理することによって、アスパラギン酸側鎖上のベンジル保護基を除去することができる。適当な溶媒は、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、またはＤＭＦ等のアミド、あるいは例えば水との混合物等の別の不活性溶媒との混合物である。概して水素化分解は、約０から１００℃の間の温度および約１から２００バールの間の圧力、好ましくは２０〜３０℃の温度および１〜１０バールの圧力で実行される。
【００１１】
Ｌ．Ａ．Ｃａｒｐｉｎｏ等、Ｔｅｔ．Ｌｅｔｔ．１９９３、３４、７８２９〜７８３２によってペプチド化学に導入されたＰｂｆ保護基は、例えば９５％トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）で処理することにより除去される。この場合のＰｂｆ保護基は、構造上類似の保護基である、４−メトキシ−２，３，６−トリメチルフェニルスルホニル（Ｍｔｒ）および２，２，５，７，８−ペンタメチルクロマン−６−スルホニル（Ｐｍｃ）よりＴＦＡに対して不安定であり、後者の保護基もシクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の合成に関する側鎖保護基として使用可能である。ＴＦＡは、さらに溶媒を添加することなく過剰に使用されるのが好ましい。ＴＦＡは、例えば比６：４のＴＦＡ／ジクロロメタンの組合せ等、不活性溶媒との混合物として使用することもできる。その上、１〜１０％、好ましくは２％の水を添加してＴＦＡを使用することもできる。その開裂のための反応温度は便宜上約０から約５０℃の間であり、１５から３０℃の間（室温）で反応を実行するのが好ましい。
【００１２】
以上および以下に列挙するアミノ酸の略号は、次のアミノ酸の基を表す。
Ａｓｐ    アスパラギン酸
Ａｒｇ    アルギニン
Ｇｌｙ    グリシン
Ｐｈｅ    フェニルアラニン
Ｖａｌ    バリン
さらに、以上および以下では次の略号は示したとおりの意味を有する。
Ｂｏｃ    ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
Ｂｚｌ    ベンジル
ＣＨＡ    シクロヘキシルアミン
Ｄ        Ｄ−アミノ酸の特徴づけ
ＤＣＣＩ  ジシクロヘキシルカルボジイミド
ＤＭＡＰ  ジメチルアミノピリジン
ＤＭＦ    ジメチルホルムアミド
ＥＤＣＩ  Ｎ−エチル−Ｎ′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
Ｅｔ      エチル
Ｆｍｏｃ  ９−フルオレニルメトキシカルボニル
ＨＯＢｔ  １−ヒドロキシベンゾトリアゾール
Ｍｅ      メチル
ＭＴＢＥ  メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル
Ｍｔｒ    ４−メトキシ−２，３，６−トリメチルフェニルスルホニル
ＮＭｅ    Ｎ−メチル化α−アミノ基
ＮＭＰ    Ｎ−メチルピロリドン
ＯｔＢｕ  ｔｅｒｔ−ブチルエステル
ＯＭｅ    メチルエステル
ＯＥｔ    エチルエステル
Ｐｂｆ    ２，２，４，６，７−ペンタメチルジヒドロベンゾフラン−５−スルホニル
Ｐｍｃ    ２，２，５，７，８−ペンタメチルクロマン−６−スルホニル
ＰＯＡ    フェノキシアセチル
Ｐｒ      プロピル
Ｓｕ      コハク酸イミド
ＴＢＴＵ  ２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロホウ酸
ＴＦＡ    トリフルオロ酢酸
Ｚ        ベンジルオキシカルボニル
さらに驚くべきことに、前記のようにシクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）合成の中間体である線状ペプチドの合成においても、ＡｒｇにＰｂｆ、ＡｓｐにＢｚｌの側鎖保護基を特別に選択することによって、各合成段階の収率が改善されることが判明した。その結果、シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の収率が全体として増加し、その結果合成コストが低下する。
【００１３】
この場合の収率改善は、各線状ペプチド
Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ、
Ｈ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨ、
Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ、
Ｈ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＯＨ、または
Ｈ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＯＨ、
特に、Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ
の固相ペプチド合成、溶液中合成の両方においても実現される。
【００１４】
２種の合成法で使用される保護アミノ酸または保護アミノ酸断片は、通常はＰｒｉｎｃｉｐｌｅｓ  ｏｆ  Ｐｅｐｔｉｄｅ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｍ．Ｂｏｄａｎｓｋｙ編、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ  Ｖｅｒｌａｇ  Ｂｅｒｌｉｎ  １９８４年；Ｈｏｕｂｅｎ  Ｗｅｙｌ、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ  ｄｅｒ  ｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ［Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ］、１９７４年  １５／１１巻、１から８０６ページ中の引用箇所、Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ  Ｖｅｒｌａｇ、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ；Ｃａｌｂｉｏｃｈｅｍ／Ｎｏｖａｂｉｏｃｈｅｍ  Ｃａｔａｌｏｇｕｅ  ａｎｄ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  １９９９年；Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｉｎ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｉｏｌｏｇｙ、３５巻、Ｈｕｍａｎａ  Ｐｒｅｓｓ  Ｔｏｔｏｗａ  Ｎ．Ｊ．１９９４年中のＳｙｎｔｈｅｓｉｓ  Ｎｏｔｅｓ  ｏｒ  Ｐｅｐｔｉｄｅ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  Ｐｒｏｔｏｃｏｌｓ、Ｍ．Ｗ．ＰｅｎｎｉｎｇｔｏｎおよびＢ．Ｍ．Ｄｕｎｎ編に記載の、アミノ酸やペプチド合成の方法によって、即ち公知で前記反応に適当な反応条件下で調製される。この場合、公知ではあるが、本明細書でより詳細に説明していない変法も用いることができる。
【００１５】
固相ペプチド合成の基本原理はＢ．Ｆ．ＧｙｓｉｎおよびＲ．Ｂ．Ｍｅｒｒｉｆｉｅｌｄ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７２年、９４、３１０２以降）によって記載されている。前記の線状ペプチドの固相合成、その除去および精製は、Ｐｅｐｔｉｄｅｓ、Ｐｒｏｃ．８ｔｈ  Ａｍ．Ｐｅｐｔ．Ｓｙｍｐ．、Ｖ．ＨｒｕｂｙおよびＤ．Ｈ．Ｒｉｃｈ編、Ｐｉｅｒｃｅ  Ｃｏｍｐ．ＩＩＩ、７３〜７７ページ、１９８３年においてＡ．ＪｏｎｃｚｙｋおよびＪ．Ｍｅｉｅｎｈｏｆｅｒに記載のように、またはＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．１９９２、１０４、３７５〜３９１に記載の技法と同様にして実行される。
【００１６】
特に好ましくは、前記のような線状ペプチドのいずれかの合成を断片縮合によって集束的に行うことである。
【００１７】
したがって、本発明はさらに、線状ペプチドＨ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨの合成が、Ｒ1をアミノ保護基とするトリペプチドＲ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨと、Ｒ2をカルボキシル保護基とするジペプチドＨ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ｒ2の断片縮合によって集束的に実行され、次いで保護基Ｒ1およびＲ2が除去されることを特徴とする、環状ペンタペプチド、シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の調製法に関する。
【００１８】
前記のＲ1はアミノ保護基である。「アミノ保護基」という表現は公知であり、化学反応からアミノ基を保護（またはブロック）するために適当な基に関する。このタイプの典型的な基は、特に、未置換の、または置換されたアシル、アリール、アラルコキシメチルまたはアラルキルの各基である。所望の反応（または一連の反応）の後にアミノ保護基は除去されるので、その性質や大きさは他の点では重大なものではない。しかし、１〜２０個のＣ原子を有するアミノ保護基が好ましい。「アシル基」という表現は、本発明の方法に関してはできる限り広い意味で解釈される。脂肪族、芳香脂肪族、脂環族、芳香族または複素環族のカルボン酸やスルホン酸から誘導されるアシル基、および特に、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、特にアラルコキシカルボニルの各基も、その表現の中に含まれる。このタイプのアシル基の例は、ホルミル、またはアセチル、プロピオニル、ブチリル等のアルカノイル、フェニルアセチル等のアラルカノイル、ベンゾイル、トルイル等のアロイル、フェノキシアセチル等のアリールオキシアルカノイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、Ｂｏｃ、２−ヨードエトキシカルボニル等のアルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル（Ａｌｏｃ）等のアルケニルオキシカルボニル、ＣＢＺ（Ｚと同義）、４−メトキシベンジルオキシカルボニル（ＭＯＺ）、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、または９−フルオレニルメトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）等のアラルキルオキシカルボニル、２−（フェニルスルホニル）エトキシカルボニル、トリメチルシリルエトキシカルボニル（Ｔｅｏｃ）、または４−メトキシ−２，３，６−トリメチルフェニルスルホニル（Ｍｔｒ）等のアリールスルホニルである。さらに、トリチル（Ｔｒｔ）もアミノ保護基として知られている。好ましいアミノ保護基は、Ｂｏｃ、ＦｍｏｃおよびＡｌｏｃであり、さらにＺ、ベンジルおよびアセチルである。Ｂｏｃは特に好ましい。
【００１９】
前記のＲ2はカルボキシル保護基である。「カルボキシル保護基」という表現も公知であり、化学反応からカルボン酸のヒドロキシル基を保護するために適当な基に関する。このタイプの典型的な基は、前述の未置換か、または置換されたアリール、アラルキル、アロイルまたはアシルの各基、さらにまたアルキル基、アルキルシリル基、アリールシリル基またはアラルキルシリル基である。所望の化学反応や一連の反応後に再び除去されるので、カルボキシル保護基およびそれと同義になるがヒドロキシル保護基の性質および大きさは重大なものではない。しかし、１〜２０個、特に１〜１０個のＣ原子を有する基が好ましい。ヒドロキシル保護基の例は、とりわけ、ベンジル、４−メトキシベンジル、２，４−ジメトキシベンジル等のアラルキル基、ベンゾイルまたはｐ−ニトロベンゾイル等のアロイル基、アセチル、ピバロイル等のアシル基、ｐ−トルエンスルホニル、メチルまたはｔｅｒｔ−ブチル等のアルキル基だけでなく、さらにアリル、トリメチルシリル（ＴＭＳ）、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）またはトリエチルシリル等のアルキルシリル基、トリメチルシリルエチル、またはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）等のアラルキルシリル基である。好ましいヒドロキシル保護基は、メチル、ベンジル、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルまたはＴＢＳである。メチルおよびｔｅｒｔ−ブチルが特に好ましい。
【００２０】
一般に、アスパラギン酸側鎖のカルボキシル基に対する好ましい保護基は、メチル、エチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の線状または分岐アルキル基、またはベンジル等のアリールアルキル基である。本発明による方法ではベンジル基である。
【００２１】
一般に、アルギニン側鎖のグアニジノ基に対する好ましい保護基は、Ｚ、Ｂｏｃ、ＭｔｒまたはＰｍｃである。本発明による方法ではＰｂｆである。
【００２２】
各場合に使用される保護基の遊離は、文献から公知である（例えば、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第２版、Ｗｉｌｅｙ、Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ、１９９１年、またはＰ．Ｊ．Ｋｏｃｉｅｎｓｋｉ、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ  Ｇｒｏｕｐｓ、第１版、Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ  Ｖｅｒｌａｇ、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ−Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ、１９９４年）。この場合、それ自体公知ではあるが、本明細書でより詳細には説明していない変法も用いることができる。
【００２３】
本発明は、Ｒ1がアミノ保護基であるトリペプチドＲ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨが、Ｚ−ＤＰｈｅ−ＯＨをＨ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅと反応させることによりＨ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅを与え、次いでこれを活性化Ｒ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＯＨ誘導体と反応させ、かつそのメチルエステルを開裂させることによる線状合成によって調製される前記の方法に関する。
【００２４】
Ｒ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＯＨの好ましい誘導体は、コハク酸イミドＲ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＯＳｕである。使用可能なその他の活性エステルは、前記のようなペプチド合成に関する通常の文献から知られている。
【００２５】
さらに、本発明は、Ｒ2がカルボキシル保護基であるジペプチドＨ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ｒ2が、Ｚ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨを反応させることによる線状合成によって調製され、保護基Ｚが除去される、前記のような方法に関する。
【００２６】
同様に、本発明は、シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮｍｅＶａｌ）の合成中間体としての、
Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ、
Ｈ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨ、
Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ、
Ｈ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＯＨ、または
Ｈ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＯＨ
から成る群から選択される線状ペンタペプチドに関する。
【００２７】
本発明は、
ａ）Ｚ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨのＨ−Ｇｌｙ−Ｒ2との線状合成と、その後の保護基Ｚの除去によって調製されるジペプチドＨ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ｒ2を
ｂ）Ｚ−ＤＰｈｅ−ＯＨのＨ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅとの線状合成および保護基Ｚの除去によってＨ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅを与え、その後にこのペプチドをＲ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＯＨの活性エステルに結合させ、さらにメチルエステルを除去することによって調製されるトリペプチドＲ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨと反応させることによって、集束的に線状ペンタペプチドＲ1−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ｒ2を与え、
ｃ）保護基Ｒ1およびＲ2を除去し、
ｄ）遊離したペンタペプチドＨ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨを環化することによって、シクロ（Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）を与え、
ｅ）ベンジル保護基を除去し、
ｆ）Ｐｂｆ保護基をＴＦＡで除去し、
任意選択的に、段階ａ〜ｆ）によって生成された、シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）のトリフルオロ酢酸塩を、さらに別の生理的に許容可能な塩に変換すること
によって、環状ペンタペプチド
シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）
を調製する方法に関する。
【００２８】
さらに生理的に許容可能な塩は、例えば、硫酸、亜硫酸、ジチオン酸、硝酸、塩酸や臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、たとえばオルトリン酸等のリン酸、スルファミン酸等の無機酸の塩、さらに、有機酸の塩、とりわけ脂肪族、脂環族、芳香脂肪族、芳香族、複素環族の一塩基や多塩基のカルボン酸、スルホン酸または硫酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、ヘキサン酸、オクタン酸、デカン酸、ヘキサデカン酸、オクタデカン酸、ピバル酸、ジエチル酢酸、マロン酸、コハク酸、ピメリン酸、フマール酸、マレイン酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸、グルコン酸、アスコルビン酸、ニコチン酸、イソニコチン酸、メタンスルホン酸やエタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリメトキシ安息香酸、アダマンタンカルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、グリコール酸、エンボン酸、クロロフェノキシ酢酸、アスパラギン酸、グルタミン酸、プロリン、グリオキシル酸、パルミチン酸、パラクロロフェノキシイソ酪酸、シクロヘキサンカルボン酸、グルコース−１−リン酸、ナフタレンモノスルホン酸やナフタレンジスルホン酸、またはラウリル硫酸の塩である。
【００２９】
特に好ましい生理的に許容可能な塩は、シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の塩酸塩または内部塩である。
【００３０】
Ｒ1がＢｏｃでＲ2がｔｅｒｔ−ブチルの場合、側鎖保護基のＰｂｆとＢｚｌを攻撃することなく、これらのｔｅｒｔ−ブチル様末端保護基をギ酸で開裂することができる。
【００３１】
以下の実施例では、個々の合成段階に関する特定の実施形態を記載する。
【００３２】
以上および以下では、全ての温度を℃で示してある。
【００３３】
実施例１
Ｂｏｃ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨの合成
１．Ｚ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ  ２６．５ｇのメタノール２００ｍｌ溶液に、トリメチルクロロシラン２５．３ｍｌを滴下して加え、混合物を終夜撹拌する。反応混合物を溶媒から取出し、残渣をメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）中に溶解し、５％  Ｎａ2ＣＯ3および水で洗浄する。溶媒を除去後、残渣をメタノールおよび１Ｎ  ＨＣｌに溶解し、水で濡らしたＰｄ／Ｃ（１０％）と混合し、穏やかなＨ2気流中で水素化する。反応終了後、触媒をろ過して除き、ろ過物を溶媒から取出し、残渣を酢酸エチルから再結晶する。Ｈ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅ塩酸塩が７５％の収率で得られる。
【００３４】
２．Ｚ−ＤＰｈｅ−ＯＨ  １６．１ｇ、Ｈ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅ塩酸塩１０ｇおよびジイソプロピルエチルアミン１０．１ｍｌのジクロロメタン１００ｍｌ溶液を０〜５℃に冷却し、ＥＤＣＩ  １１．３５ｇを添加する。まず混合物を０〜５℃で１時間撹拌し、次いで室温で終夜撹拌する。溶媒を除去し、残渣をＭＴＢＥ中に溶解し、Ｎａ2ＣＯ3（５％）、１Ｎ  ＨＣｌおよび水で洗浄後、乾燥する。溶媒を除去後、Ｚ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅが８４．５％の収率で得られる。
【００３５】
３．Ｚ−ＣＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＭｅ  １２ｇをＴＨＦ  ８０ｍｌと水２０ｍｌの溶液に溶解し、チモールフタレイン１０ｍｇと混合し、その指示薬が青く発色するまで、１０Ｍ  ＮａＯＨで滴下処理する。指示薬が脱色したとき、混合物を１０Ｍ  ＮａＯＨで繰返し滴下処理する。指示薬の脱色がそれ以上認められなくなったら、１０％  ＫＨＳＯ4水溶液でそれをｐＨ２に調節し、メタノールを除去し、生成物をＭＴＢＥで抽出する。Ｎａ2ＳＯ4で乾燥後、ＣＨＡ  ２．９ｍｌを添加することによって、ろ液からＣＨＡ塩を沈殿させる。Ｚ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ・ＣＨＡが９０％の収率で得られる。
【００３６】
４．Ｚ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ・ＣＨＡ（シクロヘキシルアンモニウム塩）１６．４ｇを完全に溶解するまで、ＭＴＢＥ２５０ｍｌとＨ3ＰＯ4（１０％）１００ｍｌの中で撹拌する。水相を除去後、有機相を水および飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、乾燥する。溶媒を除去し、残渣を２ＮのＮａＯＨ  １５．２ｍｌとＴＨＦ  １５０ｍｌに溶解し、湿った触媒（Ｐｄ／Ｃ（１０％）１ｇ）を添加後、穏やかなＨ2気流中で水素化する。触媒をろ過除去し、透明溶液をＢｏｃ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＯＳｕ  １２．１ｇとトリエチルアミン４．５ｍｌで処理し、室温で終夜撹拌する。溶媒を除去後、残渣をＭＴＢＥに溶解し、Ｈ3ＰＯ4（１０％）、水および飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄する。有機相をＣＨＡ３．３ｍｌで処理する。生成した塩、Ｂｏｃ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ・ＣＨＡをろ過して取出し、真空乾燥する。収率は９３％である。
【００３７】
実施例２
Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯｔＢｕの合成
１．Ｚ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−ＯＨ・ＣＨＡ  ３３．０ｇを完全に溶解するまで、酢酸３００ｍｌとＨ3ＰＯ4 ３００ｍｌの中で撹拌する。水相を除去後、有機相を水および飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、乾燥する。溶媒を除去後、残渣をＨ−Ｇｌｙ−ＯｔＢｕ・ＨＣｌ  ８．３８ｇと共にジクロロメタン２５０ｍｌ中に溶解し、０°に冷却する。次いでジイソプロピルエチルアミン１７．１２ｍｌとＴＢＴＵ  １６．０５ｇを添加し、混合物を０°で６０分、さらに室温で終夜撹拌する。溶媒を除去し、酢酸エチル２５０ｍｌで置換する。Ｎａ2ＣＯ3溶液（５％）、水および飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄後、溶媒を除去する。Ｚ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯｔＢｕが８６％の収率で得られる。
【００３８】
２．Ｚ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯｔＢｕ  ３０ｇのＴＨＦ３５０ｍｌ溶液を水で濡れたＰｄ／Ｃ（１０％）３ｇと混合し、穏やかなＨ2気流下での水素化によってＺ基を除去する。次いで触媒をろ過除去し、溶媒を除去する。残渣を酢酸エチルに溶解し、実施例２．１と同様にさらに処理する。Ｈ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯｔＢｕは８６％の収率で得られる。
【００３９】
実施例３
Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨの合成
１．Ｂｏｃ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−ＯＨ・ＣＨＡ  １．２３ｇを通常法で遊離酸に変換し、これをＨ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯｔＢｕ  ０．８１ｇおよびＤＭＡＰ  ０．２２ｇと共にジクロロメタン１２．５ｍｌの中に溶解する。溶液を０〜５℃に冷却し、ＥＤＣＩ  ０．３４５ｇで処理する。それを０〜５℃で２時間、さらに室温で終夜撹拌する。溶媒を除去し、残渣をＭＴＢＥに溶解し、さらに実施例２．１と同様にさらに処理する。Ｂｏｃ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯｔＢｕが８２％の収率で得られる。
【００４０】
２．末端保護基を除去するために、Ｂｏｃ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯｔＢｕ  ２．３ｇを９５％ギ酸２３ｍｌに溶解し、３０分後に真空で濃縮する。生成物をエーテルと共に粉砕し、ろ過し、真空乾燥する。Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ・ＨＣＯＯＨが９５％の収率で得られる。
【００４１】
実施例４
シクロ（Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の合成
Ｈ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ−Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−ＯＨ・ＨＣＯＯＨ  １１．９ｇのＮＭＰ  ６０ｍｌ溶液を、ＴＢＴＵ  ７．２５ｇとＮ−メチルモルホリン７．４５ｍｌのＮ−メチルピロリドン１８０ｍｌの撹拌溶液に滴下して加える。反応溶液を２０時間撹拌し、次いでＮａＨＣＯ3４７．５ｇの水１８００ｍｌ溶液に滴下する。沈殿ろ過し、真空乾燥する。シクロ（Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）が７３．４％の収率で得られる。
【００４２】
実施例５
シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）の合成
１．シクロ（Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）  ２ｇのＴＨＦ  ２６ｍｌ溶液を、Ｐｄ／Ｃ（１０％）０．５ｇと混合する。水素を２時間流通させ、混合物から触媒を除去し、溶媒を真空で除去する。アセトン３２ｍｌを添加した後、生成物を結晶化し、ろ過、乾燥する。シクロ（Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）が８３％の収率で得られる。
【００４３】
２．シクロ（Ａｒｇ（Ｐｂｆ）−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）  １．５ｇを９５％ＴＦＡ  １５ｍｌに溶解する。１時間後、溶液をイソプロピルエーテル１５０ｍｌに滴下して加え、固体をろ過し、乾燥する。乾燥した生成物を３０ｍｌのイソプロパノール／水１：２の中に溶解し、イオン交換樹脂ＩＩＩ（酢酸塩型、Ｍｅｒｃｋ  ＫＧａＡ）で処理する。ろ過した溶液を濃縮し、凍結乾燥する。シクロ（Ａｒｇ−Ｇｌｙ−Ａｓｐ−ＤＰｈｅ−ＮＭｅＶａｌ）が内部塩として９６％の収率で得られる。