(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理装置であって、
装置本体と、
この装置本体に設けられ上記基板を所定の角度で傾斜させて搬送する傾斜搬送手段と、
この傾斜搬送手段によって搬送される基板を処理する処理手段と、
上記装置本体の上部に設けられ上記基板を水平な状態で上記傾斜搬送手段による搬送方向と逆方向に搬送する上部搬送手段と、
上記装置本体の少なくとも一端に設けられ上記上部搬送手段によって水平に搬送された上記基板を受けると、この基板を下降させると同時に所定の角度に傾斜させて上記傾斜搬送手段に受け渡す第１の傾斜受け渡し手段を具備し、
上記装置本体は複数の処理ユニットに分割されていて、各処理ユニットは、上記処理手段及び上記傾斜搬送手段の一部を有する処理部と、この処理部の上部に設けられる上記上部搬送手段の一部を有する上部搬送部と、上記処理部の下部に設けられ基板を処理する処理液を供給するタンクとポンプ及び処理液の供給を制御する制御装置を有する機器部とに分割可能であることを特徴とする基板の処理装置。
【請求項２】
上記装置本体の他端には、上記第１の傾斜受け渡し手段によって上記傾斜搬送手段に所定の傾斜角度で受け渡され上記処理手段によって処理された基板を受けた後、この基板を所定の傾斜角度から水平に変換する水平受け渡し手段が設けられることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
【請求項３】
上記装置本体の他端には、上記第１の傾斜受け渡し手段によって上記傾斜搬送手段に所定の傾斜角度で受け渡されて上記処理手段で処理された基板を受けた後、この基板を所定の傾斜角度から水平に変換すると同時に、上記上部搬送手段に受け渡し可能な位置まで上昇させる第２の傾斜受け渡し手段が設けられることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
【請求項４】
上記第１、第２の傾斜受け渡し手段は、
上記基板を受ける受けローラを有する受け部と、この受け部を回転可能に支持するとともに上下駆動機構によって上下方向に駆動される上下可動体と、この上下可動体に設けられ上記受け部を水平な状態と所定の角度に傾斜した状態とに回転させる回転駆動機構とを備えていることを特徴とする請求項１又は請求項３記載の基板の処理装置。
【請求項５】
基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理装置であって、
装置本体と、
この装置本体に設けられ上記基板を所定の角度で傾斜させて上記装置本体の長手方向に沿って搬送する傾斜搬送手段と、
この傾斜搬送手段によって搬送される基板を処理する処理手段と、
上記装置本体の上部に設けられ上記基板を水平な状態で上記傾斜搬送手段による搬送方向と逆方向に搬送する上部搬送手段と、
上記装置本体の長手方向の一端に設けられ上記上部搬送手段の長手方向中途部から供給されて水平搬送された上記基板を受け、この基板を下降させると同時に所定の角度に傾斜させて上記傾斜搬送手段に受け渡す第１の傾斜受け渡し手段と、
上記装置本体の長手方向の他端に設けられ上記傾斜搬送手段によって搬送されながら上記処理手段によって処理された基板を受け、この基板を上昇させると同時に傾斜状態から水平にして上記上部搬送手段に受け渡すことで、上記基板を上記上部搬送手段によって搬送させてその長手方向中途部から排出させる第２の傾斜受け渡し手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。
【請求項６】
処理装置によって基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理方法であって、
上記処理装置の長手方向中途部から上記基板を供給して水平な状態で上記処理装置の長手方向一端に向かって水平方向に搬送する工程と、
水平な状態で上記処理装置の長手方向一端に搬送された基板を下降させると同時に上記所定の角度に傾斜させる工程と、
所定の角度に傾斜した基板を上記処理装置の長手方向一端から他端に向かって搬送しながら処理する工程と、
処理された基板を所定の傾斜角度から水平に戻す工程と、
水平に戻された基板を上記水平方向に搬送される高さと同じ高さまで上昇させる工程と、
上記水平方向と同じ高さに上昇させた基板を上記装置本体の他端から一端に向かって水平方向に搬送し、上記処理装置の長手方向の途中で排出する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理装置及び処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。
【０００３】
つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、基板のレジストが除去された部分をエッチングし、エッチング後にレジストを除去するなどの一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。
【０００４】
このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などの処理液によって基板を処理する工程、さらにリンス液によって洗浄する工程などがあり、洗浄後には基板に付着残留したリンス液を除去する乾燥工程が必要となる。
【０００５】
従来、基板に対して上述した一連の処理を行う場合、上記基板は軸線を水平にして配置された搬送ローラによって水平な状態でそれぞれの処理チャンバに順次搬送し、そこで処理液によって処理し、処理後に圧縮気体を噴射して乾燥処理するようにしている。
【０００６】
ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。そのため、基板を水平搬送すると、搬送ローラ間における基板の撓みが大きくなるため、各処理チャンバでの処理が基板の板面全体にわたって均一に行えなくなるということが生じる。
【０００７】
さらに、基板が大型化すると、その基板を搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸が長尺化する。しかも、基板が大型化することで、基板上に供給される処理液が増大し、基板上の処理液の量に応じて上記搬送軸に加わる荷重が大きくなるから、それらのことによって搬送軸の撓みが増大する。そのため、基板は搬送軸が撓むことによっても撓みが生じ、均一な処理が行えなくなるということがある。
【０００８】
そこで、処理液によって基板を処理する際、上記基板が処理液の重量によって撓むのを防止するため、基板を所定の傾斜角度、たとえば７５度の角度で傾斜させて搬送するということが考えられている。基板を傾斜させて搬送すれば、処理液は基板の板面に溜まらず、上方から下方へ円滑に流れるから、処理液の重量によって基板が撓むのを防止することができる。
【０００９】
ところで、基板に対して薬液処理、リンス液処理及び乾燥処理などの複数の処理を連続して行なう場合、処理装置は基板に対して複数の処理を順次行なう複数のチャンバが一列に区画形成された構造となる。
【００１０】
複数の処理チャンバが一列に設けられた処理装置は長尺化することになる。その場合、基板は処理装置の長手方向一端から供給され、その装置内を搬送されて処理された後、長手方向他端から排出される。処理装置の長手方向他端から排出された基板は次工程に受け渡される。したがって、上記処理装置に対する基板の供給と排出を、処理装置の長手方向一端と他端とでそれぞれ別々に行なわなければならないから、作業性が悪いということがある。
【００１１】
そこで、作業性を向上させるため、処理装置と平行に基板の搬送コンベアを配置し、処理装置の一端から供給されて処理され、長手方向他端から排出された基板を、上記搬送コンベアに移載し、この搬送コンベアによって処理装置の長手方向一端に戻して次工程に受け渡すということが考えられている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
処理装置の長手方向一端から供給され、この処理装置で処理されて長手方向他端から排出された基板を、処理装置の長手方向一端へ戻すようにすれば、処理装置に対する基板の供給と、処理された基板の次工程への受け渡しを同じ位置で行なうことができるから、作業性の向上を図ることが可能となる。
【００１３】
しかしながら、処理装置と平行に搬送コンベアを設置しなければならないから、搬送コンベアを設置するために専用のスペースを確保しなければならない。そのため、クリーンルーム内のスペースが上記搬送コンベアの分だけ余分に必要となり、スペース効率が低下することになる。
【００１４】
この発明は、基板を所定の傾斜角度で搬送しながら処理する場合、余分なスペースを必要とすることなく、装置本体に対する基板の供給と排出とを同じ位置で行なうことができるようにした基板の処理装置及び処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
この発明は、基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理装置であって、
装置本体と、
この装置本体に設けられ上記基板を所定の角度で傾斜させて搬送する傾斜搬送手段と、
この傾斜搬送手段によって搬送される基板を処理する処理手段と、
上記装置本体の上部に設けられ上記基板を水平な状態で上記傾斜搬送手段による搬送方向と逆方向に搬送する上部搬送手段と、
上記装置本体の少なくとも一端に設けられ上記上部搬送手段によって水平に搬送された上記基板を受けると、この基板を下降させると同時に所定の角度に傾斜させて上記傾斜搬送手段に受け渡す第１の傾斜受け渡し手段を具備し、
上記装置本体は複数の処理ユニットに分割されていて、各処理ユニットは、上記処理手段及び上記傾斜搬送手段の一部を有する処理部と、この処理部の上部に設けられる上記上部搬送手段の一部を有する上部搬送部と、上記処理部の下部に設けられ基板を処理する処理液を供給するタンクとポンプ及び処理液の供給を制御する制御装置を有する機器部とに分割可能であることを特徴とする基板の処理装置にある。
【００１６】
上記装置本体の他端には、上記第１の傾斜受け渡し手段によって上記傾斜搬送手段に所定の傾斜角度で受け渡され上記処理手段によって処理された基板を受けた後、この基板を所定の傾斜角度から水平に変換する水平受け渡し手段が設けられることが好ましい。
【００１７】
上記装置本体の他端には、上記第１の傾斜受け渡し手段によって上記傾斜搬送手段に所定の傾斜角度で受け渡されて上記処理手段で処理された基板を受けた後、この基板を所定の傾斜角度から水平に変換すると同時に、上記上部搬送手段に受け渡し可能な位置まで上昇させる第２の傾斜受け渡し手段が設けられることが好ましい。
【００１８】
上記第１、第２の傾斜受け渡し手段は、
上記基板を受ける受けローラを有する受け部と、この受け部を回転可能に支持するとともに上下駆動機構によって上下方向に駆動される上下可動体と、この上下可動体に設けられ上記受け部を水平な状態と所定の角度に傾斜した状態とに回転させる回転駆動機構とを備えていることが好ましい。
【００１９】
この発明は、基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理装置であって、
装置本体と、
この装置本体に設けられ上記基板を所定の角度で傾斜させて上記装置本体の長手方向に沿って搬送する傾斜搬送手段と、
この傾斜搬送手段によって搬送される基板を処理する処理手段と、
上記装置本体の上部に設けられ上記基板を水平な状態で上記傾斜搬送手段による搬送方向と逆方向に搬送する上部搬送手段と、
上記装置本体の長手方向の一端に設けられ上記上部搬送手段の長手方向中途部から供給されて水平搬送された上記基板を受け、この基板を下降させると同時に所定の角度に傾斜させて上記傾斜搬送手段に受け渡す第１の傾斜受け渡し手段と、
上記装置本体の長手方向の他端に設けられ上記傾斜搬送手段によって搬送されながら上記処理手段によって処理された基板を受け、この基板を上昇させると同時に傾斜状態から水平にして上記上部搬送手段に受け渡すことで、上記基板を上記上部搬送手段によって搬送させてその長手方向中途部から排出させる第２の傾斜受け渡し手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
【００２０】
この発明は、処理装置によって基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理方法であって、
上記処理装置の長手方向中途部から上記基板を供給して水平な状態で上記処理装置の長手方向一端に向かって水平方向に搬送する工程と、
水平な状態で上記処理装置の長手方向一端に搬送された基板を下降させると同時に上記所定の角度に傾斜させる工程と、
所定の角度に傾斜した基板を上記処理装置の長手方向一端から他端に向かって搬送しながら処理する工程と、
処理された基板を所定の傾斜角度から水平に戻す工程と、
水平に戻された基板を上記水平方向に搬送される高さと同じ高さまで上昇させる工程と、
上記水平方向と同じ高さに上昇させた基板を上記装置本体の他端から一端に向かって水平方向に搬送し、上記処理装置の長手方向の途中で排出する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法にある。
【発明の効果】
【００２２】
この発明によれば、水平搬送された基板を下降させると同時に傾斜させ、水平搬送方向と逆方向に搬送して処理するため、装置本体の側方に搬送コンベアを設置することなく、基板の供給と搬出とを同じ位置で行なうことが可能となる。そのため、余分なスペースを必要とせずに基板の処理を能率よく行なうことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、この発明の実施の形態を図面を参照して説明する。  
図１乃至図９はこの発明の第１の実施の形態を示し、図１はこの発明の処理装置の概略的構成を示す斜視図、図２は正面図、図３は平面図である。上記処理装置は装置本体１を有し、この装置本体１は分割された複数の処理ユニット、この実施の形態では第１乃至第５の処理ユニット１Ａ〜１Ｅを分解可能に一列に連結してなる。
【００２４】
図４に示すように、各処理ユニット１Ａ〜１Ｅは架台２を有する。この架台２の前面には箱型状の処理部３が所定の角度で傾斜して保持されている。上記架台２と処理部３の上面には上部搬送部４が設けられている。上記架台２の下端の幅方向両端には板状の一対の脚体５が分解可能に設けられる。この脚体５によって上記架台２の下面側に空間部６が形成される。
【００２５】
上記空間部６には、上記処理部３で後述するように行なわれる基板Ｗの処理に用いられる薬液やリンス液などの処理液を供給するタンクやポンプ或いは供給を制御するための制御装置などの機器７をフレーム８に載置した機器部９が収納されるようになっている。つまり、各処理ユニット１Ａ〜１Ｅは架台２を脚体５で支持して処理部３の下方に空間部６を形成することで、上下方向に位置する処理部３、上部搬送部４及び機器部９の３つの部分に分割されている。
【００２６】
上記構成の処理装置は、複数の処理ユニット１Ａ〜１Ｅに分割可能であるばかりか、各処理ユニットは処理部３、上部搬送部４及び機器部９に分割可能である。そのため、処理装置が大型化した場合であっても、運搬時などには複数の処理ユニット１Ａ〜１Ｅに分解するだけでなく、さらに各処理ユニット１Ａ〜１Ｅを処理部３、上部搬送部４及び機器部９に分割して取り扱うことができる。
【００２７】
つまり、処理装置の装置本体１は長さ寸法だけでなく、高さ寸法も小さくして取り扱えるから、トラックの荷台に積んだときに、制限高さをオーバすることなく、運搬することが可能である。
【００２８】
上記処理部３は図４に示すように前面に蓋体１１が開閉可能に設けられた筐体１２を有する。この筐体１２は上記架台２に所定の角度である、たとえば垂直線に対して７５度の角度で傾斜して保持されていて、幅方向の両側面には７５度の角度で傾斜して搬送される基板Ｗが通過するスリット１３（一方の側面のみ図示）が形成されている。
【００２９】
上記筐体１２の内部には、図９に示すように傾斜搬送手段を構成する複数の搬送軸１５（１つのみ図示）が筐体１２の幅方向に所定間隔で設けられている。この搬送軸１５には複数の搬送ローラ１４が軸方向に所定間隔で回転可能に設けられている。上記搬送軸１５は上下端が軸受１６によって回転可能に支持されていて、軸線を上記スリット１３と同じ傾斜角度で傾斜させている。
【００３０】
上記筐体１２内には上記スリット１３から基板Ｗが後述するように導入される。筐体１２内に導入された基板Ｗは上記搬送軸１５に設けられた搬送ローラ１４によって非デバイス面である背面が支持される。この基板Ｗの下端は駆動ローラ１７によって支持される。この駆動ローラ１７は駆動軸１８の一端に設けられている。この駆動軸１８は軸受１９ａによって回転可能に支持され、駆動源１９によって回転駆動される。
【００３１】
それによって、背面が搬送ローラ１４によって支持され、下端が駆動ローラ１７によって支持された基板Ｗは、この駆動ローラ１７によって後述するように上記第１の処理ユニット１Ａから第５の処理ユニット１Ｅに向かって７５度の角度で傾斜して搬送される。
【００３２】
なお、上記搬送ローラ１４を搬送軸１５に固定し、この搬送軸１５を回転駆動することで、基板Ｗを上記駆動ローラ１７とともに搬送するようにしてもよく、また駆動ローラ１７を駆動せず、搬送ローラ１４だけを駆動して基板Ｗを搬送するようにしてもよい。
【００３３】
各処理ユニット１Ａ〜１Ｅの筐体１２内には、７５度の角度で傾斜して搬送される基板Ｗの前面に対向して処理手段２０が設けられている。基板Ｗは７５で傾斜して搬送されながら上記処理手段２０によって前面が処理される。
【００３４】
第１、第２の処理ユニット１Ａ，１Ｂに設けられた処理手段２０は、基板Ｗにたとえば剥離液やエッチング液などの薬液を順次噴射する第１、第２の薬液処理手段で、第３、第４の処理ユニット１Ｃ，１Ｄに設けられた処理手段２０は、薬液によって処理された基板Ｗにそれぞれリンス液を噴射するリンス処理手段である。第５の処理ユニット１Ｅに設けられた処理手段２０は、リンス処理された基板Ｗに気体を噴射して乾燥させる乾燥処理手段である。
【００３５】
したがって、基板Ｗは第１の処理ユニット１Ａに供給されて第５の処理ユニット１Ｅに搬送されることで、薬液処理、リンス処理及び乾燥処理が順次行なわれることになる。  
図４に示すように上記上部搬送部４は平板状の基部２１を有し、この基部２１には搬送ローラ２２を有する複数の搬送軸２３が軸線を水平にして所定間隔で設けられ、図示せぬ駆動源によって回転駆動されるようになっている。基部２１は着脱可能なカバー２４によって覆われている。
【００３６】
第１乃至第５の処理ユニット１Ａ〜１Ｅの上部搬送部４は装置本体１の上部で一列に配置され、基板Ｗを水平な状態で水平方向に搬送する上部搬送手段を構成している。なお、基板Ｗは第５の処理ユニット１Ｅから第１の処理ユニット１Ａに向かって搬送される。つまり、基板Ｗは上記処理部３に設けられた傾斜搬送手段の搬送ローラ１７によって搬送される方向と逆方向に搬送される。
【００３７】
上記装置本体１の長手方向一端、つまり第５の処理ユニット１Ｅ側には水平受け渡し手段としての水平受け渡しユニット３１が設けられている。この水平受け渡しユニット３１は図５と図６に示すように枠体３２を有する。この枠体３２の上部には上部搬送部３３が形成されている。この上部搬送部３３には搬送ローラ３４を有する複数の搬送軸３５が軸線を装置本体１の長手方向に直交させて回転可能に設けられ、図示せぬ駆動源によって回転駆動されるようになっている。図６に示すように、上部搬送部３３の一端は基板Ｗが水平な状態で供給される供給部３６となっており、他端は上記搬送ローラ３４によって搬送された基板Ｗが送り出される搬出部３７となっている。
【００３８】
図示せぬロボットなどによって上記供給部３６から供給されて上記搬出部３７から水平な状態で送り出された基板Ｗは第５の処理ユニット１Ｅの上部搬送部４に送り込まれる。第５の処理ユニット１Ｅの上部搬送部４に送り込まれた基板Ｗは、上述したように各処理ユニットの上部搬送部４によって水平な状態で処理ユニット１Ａに向かって順次搬送される。
【００３９】
上記枠体３２内部には架台４１が設けられている。図６に示すように、この架台４１には一対の第１の軸受４２によって枢軸４３が回転可能に支持されている。この枢軸４３の両端部には第２の軸受４４が設けられている。一対の第２の軸受４４は平板状の姿勢変換部材４５の下面の所定方向中途部の両端部に取付けられている。
【００４０】
上記姿勢変換部材４５の上面には受けローラ４６を有する複数の受け軸４７が軸線を上記枢軸４３の軸線と直交する方向に沿わせて回転可能に設けられ、図示せぬ駆動源によって回転駆動されるようになっている。上記姿勢変換部材４５の上面の長手方向の一端部には、図５に示すように端部支持ローラ４８が回転軸線を上記姿勢変換部材４５の板面と直交させて設けられている。
【００４１】
上記姿勢変換部材４５の上記第２の軸受４４よりも他端部側には姿勢変換機構５０を構成するリンク５１の一端が枢着されている。このリンク５１の他端は可動体５２に枢着されている。この可動体５２は一対のリニアガイド５３に移動可能に支持されている。このリニアガイド５３は上記架台４１に上下方向に沿って設けられている。
【００４２】
上記可動体５２にはねじ軸５４が螺合されている。このねじ軸５４は駆動源５５によって回転駆動される。ねじ軸５４が回転駆動されれば、その回転方向に応じて上記可動体５２が上記リニアガイド５３に沿って上下動する。
【００４３】
上記可動体５２が下降位置にあるとき、上記姿勢変換部材４５は図５に実線で示すように水平な状態となっている。この状態から上記ねじ軸５４を回転させて上記可動体５２を上昇方向へ駆動すると、上記姿勢変換部材４５は水平な状態から図５に鎖線で示すように所定の角度である、７５度に傾斜するようになっている。
【００４４】
上記姿勢変換部材４５は、その上面に設けられた受けローラ４６によって７５度の傾斜角度で第５の処理ユニット１Ｅの処理部３から搬出される基板Ｗの背面を受ける。このとき、基板Ｗの下端は端部支持ローラ４８によって受けられる。
【００４５】
基板Ｗを受けた姿勢変換部材４５は水平な状態に回転駆動される。つまり、水平受け渡しユニット３１は、各処理ユニット１Ａ〜１Ｅによって７５度の角度で搬送されながら処理されて、第５の処理ユニット１Ｅから搬出された基板Ｗを受け、その角度を７５度の傾斜角度から水平に変換する。
【００４６】
上記装置本体１の長手方向他端、つまり第１の処理ユニット１Ａ側には傾斜受け渡し手段としての傾斜受け渡しユニット６１が設けられている。この傾斜受け渡しユニット６１は上部搬送部４を水平に搬送されてきた基板Ｗを受け、この基板Ｗを下降させると同時に、７５度の角度に傾斜させて上記第１の処理ユニット１Ａの処理部３に受け渡す。
【００４７】
すなわち、上記傾斜受け渡しユニット６１は図７と図８に示すように枠体６２を有する。この枠体６２内には上下可動体６３が設けられている。上下可動体６３は上下駆動機構６４によって上下方向に駆動されるようになっている。
【００４８】
上記上下駆動機構６４は、上記上下可動体６３の一側面に設けられた受け部材６５を有する。この受け部材６５は上下方向に沿って設けられたリニアガイド６６にスライド可能に係合している。
【００４９】
上記枠体６２の一側面にはナット体６７が設けられている。このナット体６７には軸線を上下方向に沿わせたねじ軸６８が螺合されている。ねじ軸６８は下端に設けられた駆動源６９によって回転駆動される。それによって、上記上下可動体６３は上記枠体６２内を上下方向に駆動される。
【００５０】
図８に示すように、上記上下可動体６３には一対の第１の軸受７５によって枢軸７６が回転可能に支持されている。この枢軸７６の両端部には第２の軸受７７が設けられている。一対の第２の軸受７７は受け部としての姿勢変換部材７８の下面の所定方向中途部に取付けられている。
【００５１】
上記姿勢変換部材７８の上面には受けローラ７９を有する複数の受け軸８１が軸線を上記枢軸７６の軸線と直交する方向に沿わせて回転可能に設けられ、図示せぬ駆動源によって回転駆動されるようになっている。図７に示すように、上記姿勢変換部材７８の上面の長手方向の一端部には端部支持ローラ８２が回転軸線を上記姿勢変換部材７８の板面と直交させて設けられている。
【００５２】
上記姿勢変換部材７８の上記第２の軸受７７よりも他端部側には姿勢変換機構８５を構成するリンク８４の一端が枢着されている。このリンク８４の他端は受け部材８６に枢着されている。この受け部材８６はリニアガイド８７に移動可能に支持されている。このリニアガイド８７は上記上下可動体６３に上下方向に沿って設けられている。
【００５３】
上記受け部材８６にはねじ軸８８が螺合されている。このねじ軸８８は駆動源８９によって回転駆動される。ねじ軸８８が回転駆動されれば、その回転方向に応じて上記受け部材８６が上記リニアガイド８７に沿って上下動する。
【００５４】
上記受け部材８６が下降位置にあるとき、上記姿勢変換部材７８は図７に実線で示すように水平な状態となっている。この状態から上記ねじ軸８８を回転して上記受け部材８６を上昇方向へ駆動すると、上記姿勢変換部材７８は水平な状態から図７に鎖線で示すように所定の角度である、７５度に傾斜するようになっている。
【００５５】
姿勢変換部材７８は、図７に実線で示すように姿勢変換機構８５によって水平な状態に維持されて上下駆動機構６４によって同図に鎖線で示す上昇位置に駆動される。上昇位置に駆動された姿勢変換部材７８は、第１の処理ユニット１Ａの上部搬送部４と同じ高さに位置決めされる。
【００５６】
それによって、第５の処理ユニット１Ｅの上部搬送部４から第１の処理ユニット１Ａの上部搬送部４に水平な状態で搬送されてきた基板Ｗは上記姿勢変換部材７８に設けられた受けローラ７９に受け渡される。
【００５７】
姿勢変換部材７８が基板Ｗを受けると、上下駆動機構６４が作動してこの姿勢変換部材７８が下降を開始するとともに、その下降に連動して姿勢変換機構８５が作動して姿勢変換部材７８を水平な状態から７５度の角度に傾斜させる。
【００５８】
７５度の角度に傾斜した基板Ｗは、背面が上記姿勢変換部材７８の受けローラ７９によって支持され、下端が端部支持ローラ８２によって支持される。そして、上記受けローラ７９が設けられた受け軸８１が回転駆動されることで、上記基板Ｗは上記傾斜受け渡しユニット６１から上記第１の処理ユニット１Ａへ搬入されるようになっている。
【００５９】
つぎに、上記構成の処理装置による基板Ｗの処理動作について説明する。  
未処理の基板Ｗは図示しないロボットなどによって水平受け渡しユニット３１の上部搬送部３３の供給部３６に供給される。上部搬送部３３に供給された基板Ｗは、この上部搬送部３３に設けられた搬送ローラ３４によって搬出部３７から搬出され、第５の処理ユニット１Ｅの上部搬送部４に送り込まれる。
【００６０】
第５の処理ユニット１Ｅの上部搬送部４に搬入された基板Ｗは、水平な状態で各処理ユニット１Ｄ〜１Ａの上部搬送部４を水平方向に搬送され、第１の処理ユニット１Ａの上部搬送部４から傾斜受け渡しユニット６１に受け渡される。
【００６１】
すなわち、傾斜受け渡しユニット６１は、その姿勢変換部材７８が水平な状態で上昇し、上記第１の処理ユニット１Ａの上部搬送部４と同じ高さで待機している。したがって、第１の処理ユニット１Ａの上部搬送部４に搬送されてきた基板Ｗは、その上部搬送部４から上記姿勢変換部材７８の受けローラ７９に受け渡される。
【００６２】
姿勢変換部材７８が基板Ｗを受けると、上記傾斜受け渡しユニット６１の上下駆動機構６４が作動して上記姿勢変換部材７８を下降させると同時に、姿勢変換機構８５が作動して上記姿勢変換部材７８を水平な状態から７５度の角度に傾斜させる。
【００６３】
上記姿勢変換部材７８とともに７５度の角度の傾斜した基板Ｗは、姿勢変換部材７８に設けられた受けローラ７９が回転駆動されることで第１の処理ユニット１Ａ内に搬入され、その処理部３内の搬送軸１５に設けられた搬送ローラ１４によって背面が支持され、下端が駆動ローラ１７によって支持される。そして、駆動ローラ１７が回転駆動されることで、基板Ｗは第１の処理ユニット１Ａから第５の処理ユニット１Ｅに向かって７５度の角度で傾斜して搬送される。
【００６４】
基板Ｗを傾斜受け渡しユニット６１によって第１の処理ユニット１Ａの上部搬送部４からその処理ユニット１Ａの処理部３へ受け渡す際、上記姿勢変換部材７８によって基板Ｗの下降と傾斜を同時に行なうことができる。そのため、基板Ｗの下降と傾斜を別々に行なう場合に比べてタクトタイムを短縮することができる。
【００６５】
第１の処理ユニット１Ａに供給された基板Ｗは、第１の処理ユニット１Ａから第５の処理ユニット１Ｅに向かって搬送される。基板Ｗは搬送の過程で、各処理ユニット１Ａ〜１Ｅの処理手段２０によって順次所定の処理が行なわれる。
【００６６】
つまり、第１、第２の処理ユニット１Ａ，１Ｂでは薬液処理が行なわれ、第３、第４の処理ユニット１Ｃ，１Ｄでは薬液をリンスするリンス処理が行なわれる。そして、第５の処理ユニット１Ｅでは基板Ｗに付着したリンス液を除去する乾燥処理が行なわれる。
【００６７】
第５の処理ユニット１Ｅで乾燥処理された基板Ｗは、水平受け渡しユニット３１に受け渡される。つまり、水平受け渡しユニット３１の姿勢変換部材４５は７５度の角度で傾斜した状態で待機している。それによって、第５の処理ユニット１Ｅから送り出された基板Ｗはその背面が上記姿勢変換部材４５の受けローラ４６によって支持される。
【００６８】
姿勢変換部材４５が基板Ｗを受けると、姿勢変換機構５０の駆動源５５が作動し、可動体５２を下降方向へ駆動する。それによって、上記姿勢変換部材４５はリンク５１を介して傾斜した状態から水平な状態に姿勢が変換される。そして、姿勢が水平に変換された基板Ｗは図示しないロボットなどによって取り出されて次工程に受け渡される。
【００６９】
このように、この実施の形態の処理装置によれば、未処理の基板Ｗは、装置本体１の上部に設けられた第５乃至第１の処理ユニット１Ｅ〜１Ａの上部搬送部４を水平に搬送されて傾斜受け渡しユニット６１の姿勢変換部材７８に受け渡される。そして、この姿勢変換部材７８とともに下降と同時に７５度の角度に傾斜されて第１の処理ユニット１Ａの処理部３に供給される。
【００７０】
７５度に傾斜した基板Ｗは、傾斜した状態で上部搬送部４によって水平に搬送された方向と逆方向、つまり第１の処理ユニット１Ａから第５の処理ユニット１Ｅに向かって搬送されながら、各処理ユニットで所定の処理が行なわれる。
【００７１】
つまり、基板Ｗに所定の処理を行なうために、この基板Ｗの搬送経路を、図２に矢印Ｘで示す装置本体１の一端上方から供給して他端で下降させながら傾斜させた後、他端から一端に向かって搬送しながら処理を行ない、同図に矢印Ｙで示すように他端から水平にして排出させる経路とした。つまり、基板Ｗの搬送経路は側面形状がほぼコ字状となる。
【００７２】
そのため、装置本体１に対する基板Ｗの供給と搬出とを、装置本体１の一端で、たとえば１台の受け渡し用のロボットで行なうことが可能となるから、作業性の向上や設備の有効利用を図ることができる。
【００７３】
しかも、装置本体１の上部に上部搬送部４を設けることで、側面形状がほぼコ字状の基板Ｗの搬送経路を確保できる。そのため、装置本体１を設置するスペース以外に、余分なスペースを必要としないから、クリーンルームのスペースを有効利用することができる。
【００７４】
上部搬送部４によって装置本体１の他端に水平に搬送された基板Ｗは、傾斜受け渡しユニット６１によって下降と傾斜とが同時に行なわれて第１の処理ユニット１Ａに受け渡される。
【００７５】
そのため、基板Ｗの下降と傾斜を別々に行なう場合に比べて受け渡しに要する時間を短縮することができるばかりか、基板Ｗの下降と傾斜を傾斜受け渡しユニット６１だけで行なえるから、装置の小型化を図ることもできる。
【００７６】
上記一実施の形態では、装置本体１の一端に水平受け渡しユニット３１を設け、他端に傾斜受け渡しユニット６１を設け、基板を装置本体１の一端から供給し、他端へ搬送して側面形状がコ字状となる搬送経路でＵターンさせて装置本体１の一端から搬出するようにした。
【００７７】
それに代わって、図１０に示す処理装置は、装置本体１の第１の処理ユニット１Ａ側の端部に第１の傾斜受け渡しユニット６１Ａを設け、第５の処理ユニット１Ｅ側の端部に第２の傾斜受け渡しユニット６１Ｂを設ける。これら、第１、第２の傾斜受け渡しユニット６１Ａ，６１Ｂは上記一実施の形態に示された傾斜受け渡しユニット６１と同じ構成である。
【００７８】
一方、未処理の基板Ｗは同図に矢印Ｓで示すように、第３の処理ユニット１Ｃの上部搬送部４からロボットなどによって供給する。第３の処理ユニット１Ｃの上部搬送部４に供給された基板Ｗは、第１の処理ユニット１Ａに向かって水平に搬送され、この第１の処理ユニット１Ａの上部搬送部４から第１の傾斜受け渡しユニット６１Ａの上昇位置で水平な状態で待機した姿勢変換部材７８に受け渡される。
【００７９】
基板Ｗを受けた姿勢変換部材７８は下降しながら傾斜して基板Ｗを７５度の角度に傾斜させ、第１の処理ユニット１Ａの処理部４に受け渡す。第１の処理ユニット１Ａの処理部４に供給された基板Ｗは第５の処理ユニット１Ｅに向かって搬送され、その搬送過程で所定の処理が行なわれる。
【００８０】
第５の処理ユニット１Ｅで処理された基板Ｗは、第２の傾斜受け渡しユニット６１Ｂの７５度の角度で傾斜して下降位置で待機する姿勢変換部材７８に受け渡される。基板Ｗを受けた姿勢変換部材７８は傾斜状態から水平方向に回動しながら上昇する。
【００８１】
上昇位置で水平になった姿勢変換部材７８に保持された基板Ｗは、第５の処理ユニット１Ｅの上部搬送部４から第３の処理ユニット１Ｃの上部搬送部４まで搬送され、ここで同図に矢印Ｏで示すように図示しないロボットなどによって搬出される。
【００８２】
すなわち、この実施の形態では、装置本体１の一端と他端とにそれぞれ傾斜受け渡しユニット６１Ａ，６１Ｂを設けるようにしたことで、装置本体１の上部に一列に設けられた上部搬送部４のうち、中途部に位置する第３の処理ユニット１Ｃの上部搬送部４で基板Ｗの供給と搬出とを行なうことができる。
【００８３】
つまり、装置本体１の長手方向の端部に、この装置本体１に対して基板Ｗを供給したり、搬出するための作業スペースが確保できない場合などに、装置本体１の長手方向中途部の側方の同一箇所で、この装置本体１に対して基板Ｗの供給と搬出とを行なうことができる。
【００８４】
なお、図１０に示す実施の形態において、未処理の基板Ｗを第２の傾斜搬送ユニット６１Ｂの上部から供給し、上部搬送部４を搬送して第１の傾斜搬送ユニット６１Ａに水平な状態で受け渡し、ついで、基板Ｗを７５度に傾斜させて第１乃至第５の処理部３を順次搬送して処理した後、第２の傾斜搬送ユニット６１Ｂで姿勢を水平に変換し、その位置或いは水平に変換すると同時に上昇させ、その上昇位置から搬出するようにしてもよい。
【００８５】
上記一実施の形態では装置本体の一端に水平受け渡しユニットを設け、この水平受け渡しユニットの上部搬送部を介して第５の処理ユニット１Ｅの上部搬送部に未処理の基板を受け渡すようにしたが、基板を第５の処理ユニット１Ｅの上部搬送部に直接供給するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】この発明の一実施の形態の処理装置の概略的構成を示す斜視図。
【図２】上記処理装置の正面図。
【図３】上記処理装置の平面図。
【図４】処理ユニットの分解斜視図。
【図５】水平受け渡しユニットの側面図。
【図６】水平受け渡しユニットの正面図。
【図７】傾斜受け渡しユニットの側面図。
【図８】傾斜受け渡しユニットの正面図。
【図９】処理ユニットの処理部内を示す図。
【図１０】この発明の他の実施の形態を示す処理装置の平面図。
【符号の説明】
【００８７】
１…装置本体、１Ａ〜１Ｅ…第１乃至第５の処理ユニット、３…処理部、４…上部搬送部、９…機器部、１４…搬送ローラ（傾斜搬送手段）、１５…搬送軸（傾斜搬送手段）、１７…駆動ローラ（傾斜搬送手段）、３１…水平受け渡しユニット（水平受け渡し手段）、４５…姿勢変換部材、５０…姿勢変換機構、６１，６１Ａ，６１Ｂ…傾斜受け渡しユニット（傾斜受け渡し手段）６３…上下可動体、６４…上下駆動機構、７８…姿勢変換部材（受け部）、８５…姿勢変換機構。
【図１】
0004643384.tif 000002
【図２】
0004643384.tif 000003
【図３】
0004643384.tif 000004
【図４】
0004643384.tif 000005
【図５】
0004643384.tif 000006
【図６】
0004643384.tif 000007
【図７】
0004643384.tif 000008
【図８】
0004643384.tif 000009
【図９】
0004643384.tif 000010
【図１０】
0004643384.tif 000011