(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの少なくとも一面にＵＶ反応性シリカ粒子を含む有機−無機ハイブリッドハードコーティング液でハードコーティング層を形成する段階と、
当該ハードコーティング層の上部に、当該有機−無機ハイブリッドハードコーティング液と、可溶性物質を含有したコーティング液を塗布し、硬化させて多孔性層用コーティング層を形成する段階と、
前記可溶性物質の全部または一部を溶媒で溶解させて多孔性層を形成する段階とを含み、
当該可溶性物質は、当該有機−無機ハイブリッドハードコーティング液と可溶性物質を含有するコーティング液１００重量部に対して２５〜３５重量部含まれ、
当該可溶性物質として、水、アルコール系溶媒のいずれかに溶解可能であり、且つ、有機物または無機物の中から選択される１以上の物質を用いることを特徴とする低反射フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記低反射フィルムの光学特性の制御のため、前記多孔性層用コーティング層が含有する可溶性物質の含有量を変化させるものである請求項１に記載の低反射フィルムの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の低反射フィルムの製造方法を用いて得られた低反射フィルムであって、
透明基材フィルム上にハードコーティング層を備え、当該ハードコーティング層上に多孔性層を備えることを特徴とする低反射フィルム。
【請求項４】
前記多孔性層は、孔隙率が１０〜５０％の範囲内である請求項３に記載の低反射フィルム。
【請求項５】
前記多孔性層は、前記ハードコーティング層より小さい屈折率を備え、当該屈折率は１．２５〜１．４５の範囲であり、且つ、反射率が２％以下である請求項３又は請求項４に記載の低反射フィルム。
【請求項６】
前記ハードコーティング層は、表面硬度が２Ｈ以上である請求項３〜請求項５のいずれかに記載の低反射フィルム。
【請求項７】
前記多孔性層は、１０〜７０ｎｍのナノサイズの孔隙を備えるものである請求項３〜請求項６のいずれかに記載の低反射フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は低反射フィルム及びその製造方法に係り、さらに具体的には可溶性物質を含む多孔性層用コーティング層を形成した後溶媒を使用して可溶性物質を溶解−抽出することにより前記多孔性層用コーティング層に孔隙を導入して多孔性層を形成した低反射フィルム及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ技術発達が急激に変わる中、ＬＣＤやＣＲＴ、ＰＤＰまたはＯＬＥＤのような画像表示装置には、一般的に外部光の反射及び画像の反射によってコントラスト（ｃｏｎｔｒａｓｔ）が減少することを防ぐため、表示装置の最外郭表面に反射防止フィルムを配置する。このような機能性が付与された反射防止フィルムには防眩（ＡＲ、Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）や、低反射（ＬＲ、Ｌｏｗ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）用物質がコーティングされている。
【０００３】
既存の反射防止フィルムは１つ以上の金属酸化物よりなる透明層を積層することによりなる。金属酸化物からなる透明層はＣＶＤ（化学的気相蒸着）法やＰＶＤ（物理的気相蒸着）法などで形成され、特にＰＶＤ法が主に使用された。この金属酸化物層は反射防止フィルムとして優れた性能を持っているが、蒸着法は生産性が低下し、生産費が高価なので大量生産は好ましくない短所があった。
【０００４】
その後、蒸着工程の代りに無機微粒子及び低屈折化合物、例えばフッ素系化合物を含有したコーティング液を用いてフィルムにコーティングすることにより反射防止フィルムを製造する方法が開発されてきた。
【０００５】
その一例として、支持体上に低屈折率層、その上に無機微粒子を用いた低屈折率層を積層して反射防止フィルムを製造する方法とＭｇＦ２やＳｉＯ２のような微粒子を２種以上使って、厚さによって混合する比率を相違にして屈折率を変わらせて反射防止フィルムを製造する方法がある。
【０００６】
また、中空微粒子を用いた低屈折率層を形成して反射防止フィルムを製造する方法が開発された。すなわち、中空シリカよりなる無機パウダーとバインダーを用いた反射防止フィルムを製造する方法がある。
【０００７】
【特許文献１】特開昭５９−５０４０１号公報
【特許文献２】特開平２−２４５７０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところが、前述した従来の技術は、無機微粒子の場合はコーティング時製造コストが高い問題があり、フッ素化合物は表面硬度が低く耐擦傷性が弱いためにディスプレイ装置に適用する際傷付きやすい問題があって、これに対する解決方策が図られている。
【０００９】
本発明は前述した問題点を解決するために案出されたもので、耐擦傷性に優れ、また低価格の低反射フィルム及びその製造方法を提供するところにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る低反射フィルムの製造方法：  前述した目的を達成するため、透明基材フィルムの少なくとも一面にＵＶ反応性シリカ粒子を含む有機−無機ハイブリッドハードコーティング液でハードコーティング層を形成する段階と、当該ハードコーティング層の上部に、当該有機−無機ハイブリッドハードコーティング液と、可溶性物質を含有したコーティング液を塗布し、硬化させて多孔性層用コーティング層を形成する段階と、前記可溶性物質の全部または一部を溶媒で溶解させて多孔性層を形成する段階とを含み、当該可溶性物質は、当該有機−無機ハイブリッドハードコーティング液と可溶性物質を含有するコーティング液１００重量部に対して２５〜３５重量部含まれ、当該可溶性物質として、水、アルコール系溶媒のいずれかに溶解可能であり、且つ、有機物または無機物の中から選択される１以上の物質を用いることを特徴とする低反射フィルムの製造方法を採用することが好ましい。
【００１１】
本発明に係る低反射フィルムの製造方法において、前記低反射フィルムの光学特性の制御のため、前記多孔性層用コーティング層が含有する可溶性物質の含有量を変化させることが好ましい。
【００１２】
本発明に係る低反射フィルム：  本発明に係る低反射フィルムは、上述の低反射フィルムの製造方法を用いて得られた低反射フィルムであって、透明基材フィルム上にハードコーティング層を備え、当該ハードコーティング層上に多孔性層を備えることを特徴とするものである。
【００１３】
本発明に係る低反射フィルムにおいて、前記多孔性層は、孔隙率が１０〜５０％の範囲内であることが好ましい。
【００１４】
本発明に係る低反射フィルムは、前記多孔性層は、前記ハードコーティング層より小さい屈折率を備え、当該屈折率は１．２５〜１．４５の範囲であり、且つ、反射率が２％以下である。
【００１５】
本発明に係る低反射フィルムのハードコーティング層は、表面硬度が２Ｈ以上であることが好ましい。
【００１６】
本発明に係る低反射フィルムの前記多孔性層は、１０〜７０ｎｍのナノサイズの孔隙を備えることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る低反射フィルム及びその製造方法は、可溶性物質を添加してコーティング層を形成し、これを溶媒に溶解させ抽出して多孔性層を製造することにより表面硬度が極めて優れ、表面反射が２％以下の優れた反射防止性能を提供する。また、可溶性物質の投入量によって屈折率を自由に制御することにより反射率の制御が容易であり、低価格の材料を使用して製造コストの低い低反射フィルムが製造可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、添付した図面及び実施例に基づき本発明をさらに詳述する。
【００１９】
図１は本発明の一実施形態に係る低反射フィルムの断面図である。この低反射フィルムは、透明基材フィルム１の上部に形成されたハードコーティング層２及びハードコーティング層２の上部に形成され、ハードコーティング層２より屈折率が小さい多孔性層３を含んでなることを特徴とする。
【００２０】
透明基材フィルム１としては、透明性のあるフィルムなら何れのフィルムであっても使用が可能でありこれに限定されない。
【００２１】
例えば、セルロース誘導体、すなわちジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、またポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタアクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシなどの熱可塑性ポリマーの未延伸、１軸または２軸延伸フィルムなどがある。
【００２２】
このうち、望ましくは透明性及び耐熱性に優れた１軸または２軸延伸ポリエステルフィルム、及び透明性及び光学的に異方性のないという点においてはトリアセチルセルロースフィルムが望ましく使用できる。透明基材フィルム１の厚さは限られないが、８〜１０００μｍ程度であり、望ましくは４０〜１００μｍが使用可能である。
【００２３】
ハードコーティング層２は、耐擦傷性に優れた材料なら特に限られず使用できる。ここで、ハードコーティング層２とは、鉛筆硬度試験においてＨ以上の硬度を有するコーティング層を意味する。ハードコーティング層２の表面硬度は、望ましくは表面硬度が２Ｈ以上、さらに望ましくは４Ｈ以上の物性を提供できるコーティング液を使用するのが望ましい。ＵＶまたは熱により硬化される反応性硬化樹脂や反応性有機ケイ素化合物が望ましく選択される。
【００２４】
一例として、有機−無機ハイブリッドタイプ（反応性シリカ粒子）のＵＶ硬化樹脂を使用でき、シリカ粒子を高分子性不飽和基を有する加水分解性シランと混合して化学的結合によって製造可能である。反応性シリカ粒子に結合された高分子性不飽和基を有する加水分解性シランの量は約０．０５〜９９重量％であり、望ましくは５〜８５重量％である。加水分解性シランの量が０．０５重量％より少ない場合は、硬化されたフィルムの透明度と耐磨耗性に影響を与え、９９重量％より多い場合は耐磨耗性が少ししか向上されない。
【００２５】
加水分解性シリル基は、アセトキシシリル基のようなカルボキシレートシリル基、メトキシまたはエトキシシリル基のようなアルコキシシリル基、クロロシリル基のようなハロゲンシリル基、アミノ及びハイドライドシリル基などが可能であり、望ましくはアルコキシシリル基が使用に最も良い。
【００２６】
前記高分子性不飽和基は、カルボキシ、ヒドロキシ、アクリロキシ、メタアクリロキシ、ビニル、プロフェニル、ブタジエニル、スチリル、シナモイル、マレート、アクリルアミド基などが可能である。これらのうちヒドロキシ基を含有した不飽和脂肪性カルボン酸とメタアクリレート化合物などが望ましい。
【００２７】
反応性シリカ粒子の平均粒径は、０．０００１〜１μｍが望ましく、硬化された透明フィルムに使用される時、０．００１〜０．０１μｍが望ましい。シリカ粒子の比表面積は望ましくは０．００１〜２ｍ２／ｇであり、さらに望ましくは０．００１〜０．１ｍ２／ｇ、そして最も望ましくは０．００１〜０．０１ｍ２／ｇである。このシリカ粒子は、乾燥粉末またはメタノールのシリカゾルのような有機溶媒に分散されたコロイドシリカを使用できる。反応性シリカ粒子の製造は２０〜１５０℃で行なわれ、５分から２４時間の範囲で行なわれる。
【００２８】
また、ハードコーティング層２には、ＵＶ硬化のために光開始剤が添加でき、本技術分野で使用される光開始剤を使用できる。
【００２９】
一例として、ジフェニルケトンベンジルジメチルケタル、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−オン、４−ヒドロキシシクロフェニルケトン、ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アントラキノン、フルオレン、トリフェニルアミン、カルバゾル、３−メチルアセトフェノン、４−クロルアセトフェノン、４、４−ジメトキシアセトフェノン、４、４−ジアミノベンゾフェノンなどを単独または混合により０．１〜１０重量％を使用できる。光開始剤が０．１重量％より少ない場合は硬化速度が遅く、１０重量％より多い場合は非経済的である。
【００３０】
光刺激剤は、光開始剤と共に使用可能であり、例えばトリエチルアミン、ジエチルアミン、メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ−ベンゾ酸、イソアミル−４−ジメチルアミノベンゾエートなどが使用される。
【００３１】
前記物質以外に抗酸化剤、ＵＶ吸収剤、光安定剤、熱的高分子化禁止剤、レべリング剤、界面活性剤、潤滑剤などと組成できる。
【００３２】
また、多孔性層３は、その表面及び内部に孔隙を有しており、その孔隙率は限定されるものではないが、１０〜５０％、望ましくは１８〜４０％が適当である。孔隙率が１０％以下であると低屈折効果及び表面反射防止効果が低下する問題があり、孔隙率が５０％以上であるとマイクロ孔隙の形成により耐擦傷性及び透過率が低下する問題点がある。多孔性層３の孔隙のサイズは、１０〜７０ｎｍのナノサイズであり、望ましくは２０〜５０ｎｍのナノサイズが望ましい。
【００３３】
また、多孔性層３の屈折率は前記ハードコーティング層２より屈折率が小さいことが望ましく、限定されるものではないが１．２５〜１．４５の範囲内であり、反射率が２％以下であることが良い。多孔性層３の屈折率は孔隙率の調節により調節が可能である。
【００３４】
また、多孔性層３の材質としては特に限定しないが、ＵＶまたは熱により硬化される反応性硬化樹脂や反応性有機ケイ素化合物が望ましく選択される。また、ハードコーティング層２と同一なＵＶ硬化樹脂など表面強度に優れた材質を使用できる。
【００３５】
そして、多孔性層３を形成する方法は、本技術分野において公知の方法を用いることができ、さらに望ましくは後述する製造方法により形成されることが良い。
【００３６】
本発明に係る低反射フィルムは、前記構成以外にも必要に応じて前述した層間にまたはその外部に別の層を積層でき、これも本発明に含まれる。また、本発明に係る低反射フィルムは、後述する低反射フィルム製造方法により製造される。
【００３７】
図２は、本発明の低反射フィルムの製造方法に関する手順図である。この低反射フィルムの製造方法は、透明基材フィルム１の少なくとも一面にハードコーティング層２を形成する段階（Ｓ１０）、ハードコーティング層２の上部に可溶性物質を含むコーティング液を塗布して多孔性層用コーティング層を形成する段階（Ｓ２０）、及び前記可溶性物質の全部または一部を溶媒で溶解させ多孔性層３を形成する段階（Ｓ３０）を含んで成ることを特徴とする。前記段階以外に必要に応じて他の段階を追加でき、これも本発明に含まれる。
【００３８】
各段階を説明する。まず、透明基材フィルム１の少なくとも一面にハードコーティング層２を形成する（Ｓ１０）。
【００３９】
ハードコーティング層２のコーティング液には前述した硬化性樹脂及び光開始剤が含まれ、その他コーティング時求められる粘度のために溶剤などが含まれる。ハードコーティング層２の形成方法は本技術分野において使われる方法を用いることができ、一例としてダイコーティング、キャスティング、グラビア及びスピンコーティングなどの適当な方式でコーティングが可能である。
【００４０】
コーティング厚さは普通約０．１〜４００μｍであり、望ましくは約１〜２００μｍである。コーティングした後、１０〜１００℃温度で１秒から２４時間、望ましくは５秒から２時間揮発物の蒸発によって乾燥させる。その後、ＵＶ光を照射して硬化させる。
【００４１】
ＵＶ光の照射量は約０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２であり、望ましくは０．１〜２Ｊ／ｃｍ２である。これより形成されるハードコーティング層２の屈折率は少なくともそのハードコーティング層２上に積層する多孔性層３の屈折率より高いことが望ましく、その表面強度は２Ｈ以上、さらに望ましくは４Ｈ以上であることが望ましい。
【００４２】
次いで、ハードコーティング層２の上部に可溶性物質を含むコーティング液を塗布して多孔性層用コーティング層を形成する（Ｓ２０）。
【００４３】
塗布方式はハードコーティング層２の方式と同様に行え、制限されるものではない。グラビア及びスピンコーティングなどの適当な方式で塗工が可能である。塗布厚さは限定されるものではないが、普通約５０〜２００ｎｍであり、望ましくは約８０〜１２０ｎｍである。
【００４４】
塗布した後、組成物は１０〜１００℃温度で１秒〜２４時間、望ましくは５秒から２時間揮発物の蒸発によって乾燥させる。その後、ＵＶ光を照射して硬化させる。ＵＶ光の照射量は約０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２であり、望ましくは０．１〜２Ｊ／ｃｍ２である。
【００４５】
また、ハードコーティング層２と多孔性層用コーティング層の硬化はそれぞれ行えるが、各層を形成した後１回に硬化させることもでき、これも本発明に含まれる。
【００４６】
また、前記可溶性物質を含むコーティング液は前述したバインダーと光開始剤が含まれる。すなわち、多孔性層３を形成するための多孔性層用コーティング液にはバインダーが含まれ、可溶性物質を溶解するために使われる溶媒に不溶性の物質ならば限定されず使用でき、多孔性層３の材質はＵＶまたは熱により硬化される反応性硬化樹脂や反応性有機珪素化合物が望ましく選択される。また、ハードコーティング層２と同一なＵＶ硬化樹脂を使用して表面強度に優れた材質を使用できる。
【００４７】
前記可溶性物質は多孔性層３の孔隙を形成するためのもので、水、アルコール系（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなど）、ケトン系（メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトンなど）などの溶媒に溶解される有機物または無機物などの物質なら限定されず、一つ以上選択される。
【００４８】
一例として、次のような単量体及びこれらの重合体物質がこれに該当する。単量体としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ｍ−クロロメチルスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔ−ブトキシスチレン、フルオロスチレン、αーメチルスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレンの芳香族ビニル系化合物と、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタアクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタアクリレート、オクチルアクリレート、オクチルメタアクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、フルオロエチルアクリレート、エチルメタアクリレート、ヘキサフルオロブチルメタアクリレート、ヘキサフルオロイソプロピルメタアクリレート、パーフルオロアルキルアクリレート、オクタフルオロフェニルメタアクリレートなどのアクリル系及びフルオロアクリル系化合物と、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、ビニルスルホン酸などの不飽和カルボキシ酸系化合物と、ビニルスルホン酸、アリールスルホン酸、ｐ−スチレンスルホン酸などの不飽和スルホン酸系化合物と、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸シクロヘキシルなどのアクリル酸エステル系化合物と、（メタ）アクリロニトリル、メタアクリロニトリルなどのシアン化ビニル系化合物と、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルアセトアミドなどのアミド系化合物などがある。
【００４９】
また、無機化合物としては、オキシ硝酸ジルコニウム水和物［ＺｒＯ（ＮＯ３）２］・Ｈ２Ｏ、オキシ塩化ジルコニウム水和物（ＺｒＯＣｌ２・Ｈ２Ｏ）、硝酸リチウム（ＬｉＮＯ３）、酢酸リチウム（ＣＨ３ＣＯＯＯＬｉ）、塩化スズ水和物（ＳｎＣｌ４・ｎＨ２Ｏ）、硝酸インジウム水和物（Ｉｎ（ＮＯ３）３・ｎＨ２Ｏ）、塩化インジウム水和物（ＩｎＣｌ２・ｎＨ２Ｏ）、１２−タングストリン酸（Ｈ３ＰＷ１２Ｏ４０）、１２−タングストシリコン酸（Ｈ４ＳｉＷ１２Ｏ４０）などがある。これらを一つまたは二つ以上の組み合わせで使用可能である。
【００５０】
また、ハードコーティング液に添加された可溶性物質の含量としてはコーティング液１００重量部に対して１０〜５０重量部、望ましくは１８〜４０重量部が良い。
【００５１】
ハードコーティング液に添加された可溶性物質は、当該有機−無機ハイブリッドハードコーティング液と可溶性物質を含有するコーティング液１００重量部に対して２５〜３５重量部が良い。可溶性物質の含量が下限値を下回る量で添加すればナノ−多孔性層が十分に形成されなくて低屈折効果及び表面反射防止効果が低下する問題点がある。また、可溶性物質の含量が上限値を上回る量で添加すれば、可溶性物質のコーティング表面残留及びマイクロ孔隙の形成により耐擦傷性及び透過率が低下する問題がある。
【００５２】
また、多孔性層３の屈折率は、ハードコーティング層２より屈折率が小さいものが望ましく、限定されるものではないが１．２５〜１．４５の範囲内であり、反射率が２％以下であることが良い。さらに、多孔性層３の屈折率は孔隙率の調節により調節できる。
【００５３】
次いで、前記可溶性物質の全部または一部を溶媒で溶解させることにより多孔性層用コーティング層に孔隙を形成させ多孔性層３を形成する（Ｓ３０）。前記製造されたフィルムを、限られないが溶媒の温度２５〜８０℃で１〜６０分、望ましくは５〜１５分間浸漬して可溶性物質を溶解−抽出した後、６０〜１５０℃で１〜１０分間乾燥させて本実施の形態の低反射フィルムを製造する。
【００５４】
なお、前記溶媒は水、アルコール系（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなど）の溶媒よりなる群から一つ以上選ばれる。この他、ケトン系（メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトンなど）などが考えられる。
【００５５】
以下、実施例を通じて本発明を具体的に説明する。本発明の実施例は、具体的な例示に過ぎず、本発明の保護範囲を限定したり制限することではない。
【実施例１】
【００５６】
ハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）をトリアセチルセルロースフィルム（以下、ＴＡＣフィルムと称する）上にコーティングし、７０℃で１分間熱乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて７００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させた。
【００５７】
多孔性層用コーティング液としては、ポリアクリル酸含量２５重量％にしてハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）と混合した。
【００５８】
次に、混合した多孔性層用コーティング液を、ハードコーティング層が形成されたＴＡＣフィルム上に１１０ｎｍの厚さでコーティングした後、７０℃で１分間熱乾燥した後高圧水銀ランプを用いて７００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させた。
【００５９】
そして、製造されたフィルムを溶媒として水を使って温度５０℃で１０分間放置して、ポリアクリル酸を除去して８０℃で５分間乾燥させた後、多孔性層を形成して低反射フィルムを製造した。形成された孔隙のサイズは約５０ｎｍほどであった。
【実施例２】
【００６０】
多孔性層用コーティング液において、ポリアクリル酸含量３０重量％にしてハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）と混合したこと以外は、実施例１と同様に製造した。
【実施例３】
【００６１】
多孔性層用コーティング液において、ポリアクリル酸含量３５重量％にしてハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）と混合したこと以外は、実施例１と同様に製造した。
【００６２】
［参考例１］
ハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）をトリアセチルセルロースフィルム（以下、ＴＡＣフィルムと称する）上にコーティングし、７０℃で１分間熱乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて７００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させた。
【００６３】
多孔性層用コーティング液としては、ポリアクリル酸含量２０重量％にしてハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）と混合した。
【００６４】
次に、混合した多孔性層用コーティング液を、ハードコーティング層が形成されたＴＡＣフィルム上に１１０ｎｍの厚さでコーティングした後、７０℃で１分間熱乾燥した後高圧水銀ランプを用いて７００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させた。
【００６５】
そして、製造されたフィルムを溶媒として水を使って温度５０℃で１０分間放置して、ポリアクリル酸を除去して８０℃で５分間乾燥させた後、多孔性層を形成して低反射フィルムを製造した。形成された孔隙のサイズは約５０ｎｍほどであった。
【００６６】
［参考例２］
ハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）をトリアセチルセルロースフィルム（以下、ＴＡＣフィルムと称する）上にコーティングし、７０℃で１分間熱乾燥した後、紫外線硬化させた。
【００６７】
多孔性層用コーティング液としては、１２−タングストリン酸含量２０重量％にしてハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）と混合した。
【００６８】
次に、混合した多孔性層用コーティング液を、ハードコーティング層が形成されたＴＡＣフィルム上に１１０ｎｍの厚さでコーティングした後、７０℃で１分間熱乾燥した後紫外線硬化させた。
【００６９】
そして、製造されたフィルムを溶媒としてエタノールを使って温度５０℃で１０分間放置して、１２−タングストリン酸を除去して８０℃で５分間乾燥させた後多孔性層を形成して低反射フィルムを製造した。形成された孔隙のサイズは約４０ｎｍほどであった。
【比較例】
【００７０】
[比較例１]
ハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）をＴＡＣフィルム上にコーティングし、７０℃で１分間熱乾燥した後、紫外線硬化させ多孔性層を排除した。
【００７１】
[比較例２]
多孔性層用コーティング液において、ポリアクリル酸含量７重量％にしてハードコーティング液（製品名：ＤＮ−００８０、製品メーカ：ＤＳＭ）と混合したこと以外は実施例１と同様に製造した。
【００７２】
そして、実施例、参考例及び比較例で製造された低反射フィルムは下記のように物性を測定、その結果を下記の表１に示した。
【００７３】
（１）屈折率及び孔隙率
分光エリプソメータ（Ｅｌｌｉ−ＳＥ、韓国エリプソテクノロジ社製）を用いて、入射角６０°、ｐｈｏｔｏｎ  ｅｎｅｒｇｙ  １．２０〜４．８０ｅＶ領域で反射光を測定し、実施例及び比較例で製造された多孔性層の屈折率及び孔隙率を測定した。
【００７４】
（２）透過率及びヘイズ
分光光度計（ＨＺ−１、日本ＳＵＧＡ社製）を用いて、実施例及び比較例で製造された低反射フィルムの全光線透過率（Ｔｏｔａｌ  Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）とヘイズ（Ｈａｚｅ）を測定した。
全光線透過率（％）
５：  ９５％以上    ４：  ９３％以上    ３：  ９０％以上
２：  ８５％以上    １：  ８０％以上
【００７５】
（３）反射率
ＵＶ分光器（ＵＶ−Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ、日本ＳＨＩＭＡＤＺＵ社製）を用いて、実施例及び比較例で製造された低反射フィルムの反射率を測定した。波長領域は３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域を測定した。得られた反射率スペクトルから低反射フィルムの最低反射率（％）を得た。
【００７６】
（４）鉛筆硬度
鉛筆硬度試験機（ＰＨＴ、韓国ソクボ科学）を用いて５００ｇ荷重を加えて前記実施例及び比較例で製造された低反射フィルムの鉛筆硬度を測定した。鉛筆は三菱社製品を使用し、一つの鉛筆硬度当り５回施した。傷が２つ以上であったものはスペックから除いた。
傷：０  ＯＫ        傷：１  ＯＫ      傷：２以上  ＮＧ
【００７７】
（５）耐擦傷性
スチールウールテスト器（ＷＴ−ＬＣＭ１００、韓国プロテック）を用いて、１ｋｇ／（２ｃｍ×２ｃｍ）下で１０回往復動かせて、実施例及び比較例で製造された低反射フィルムの耐擦傷性を試験した。スチールウールは＃００００を使用した。
Ａ   ：  スクラッチが０個
Ａ’ ：  スクラッチが１〜１０個
Ｂ   ：  スクラッチが１１〜２０個
Ｃ   ：  スクラッチが２１〜３０個
Ｄ   ：  スクラッチが３１個以上
【００７８】
（６）密着性
実施例及び比較例で製造された低反射フィルムの表面に１ｃｍ間隔で縦横それぞれ１１本の直線を描いて１００個の正方形を作った後、テープ（ＣＴ−２４、日本ＮＩＣＨＩＢＡＮ社製）を用いて３回剥離テストを施した。１００個の四角形３つをテストして平均値を記録した。密着性は次のように記録した。
密着性＝ｎ／１００
ｎ      ：  全体四角形のうち剥離されない四角形の数
１００  ：  全体四角形の個数
従って、一つも剥離されなかった時１００／１００と記録する。
【００７９】
（７）孔隙サイズ
ＦＥ−ＳＥＭ（Ｓ４３００、日本日立社製）を用いて孔隙サイズを測定した。
【００８０】
【表１】
0004762165.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【００８１】
以上説明したように、本発明に係る低反射フィルム及びその製造方法は、耐擦傷性に優れ、製造コストを低くすることができる。したがって、本発明は、低反射フィルムの技術分野において十分に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明の一実施形態による低反射フィルムの断面図である。
【図２】低反射フィルムの製造方法に関する手順図である。
【符号の説明】
【００８３】
１    透明基材フィルム
２    ハードコーティング層
３    多孔性層
【図１】
0004762165.tif 000003
【図２】
0004762165.tif 000004