(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の観察画像を取得する観察装置において、
前記観察画像を取得するときの観察条件が登録された複数の既存レシピと、前記既存レシピ毎に設定された前記観察条件を構成する複数の設定項目、および前記設定項目ごとの仕様を規定する設定内容とを保存する記憶装置と、
前記複数の既存レシピから解析対象とするレシピと、該解析対象とするレシピに対応する設定項目および設定内容の選択を行うレシピ解析を実行する処理装置と、
前記レシピ解析の結果を一覧表示する表示装置と、を有し、
前記解析対象とするレシピ毎の設定内容が、互いに共通である頻度を算出する共通性解析を前記処理装置で行い、
前記共通性解析の結果に基づき、共通である頻度が低い設定内容がある場合は、該頻度が低い設定内容を、頻度が高い設定内容に入れ換えて初期設定とし新規レシピを作成する手段を有することを特徴とする観察装置。
【請求項２】
前記表示装置に表示する設定項目の選択、あるいは表示の順番を設定する手段を有することを特徴とする請求項１記載の観察装置。
【請求項３】
前記共通性解析の結果が、設定内容の共通性が高いか低いかを識別可能な形式で前記表示装置に表示されることを特徴とする請求項１記載の観察装置。
【請求項４】
前記表示装置に表示された前記レシピ解析の結果一覧に基づいて、少なくとも１つ以上のレシピ設定の変更を行うことを特徴とする請求項１記載の観察装置。
【請求項５】
前記レシピ解析から得られたレシピの設定内容に基づいて、前記観察画像の取得を自動で実施する際のスループットを推算し、該推算結果を前記レシピ解析結果の一覧に一要素として表示することを特徴とする請求項１記載の観察装置。
【請求項６】
前記レシピの設定内容に基づいて、自動で前記観察画像の取得を行った時のスループットを実測し、該実測結果を前記レシピ解析結果の一覧に一要素として表示することを特徴とする請求項１記載の観察装置。
【請求項７】
前記設定項目として、プロセス名称、光学条件、ADRモード、低倍画像の倍率、低倍画像のオートフォーカス条件、低倍画像のフレーム加算枚数、高倍画像の倍率、高倍画像のオートフォーカス条件、および高倍画像のフレーム加算枚数が少なくとも一つ以上設定されていることを特徴とする請求項１記載の観察装置。
【請求項８】
前記設定項目に加えて、ユーザーが登録したコメント、ADR機能を有する場合のキャプチャーレート、レシピ作成者、作成日時、レシピ更新者、更新日時、およびレシピバージョンのうち少なくとも一つ以上を、前記レシピ解析結果の一覧に一要素として表示することを特徴とする請求項７記載の観察装置。
【請求項９】
前記レシピの設定内容に基づいて、自動で観察し取得した取得画像を、前記レシピ解析結果の一覧と対応させて表示することを特徴とする請求項１記載の観察装置。
【請求項１０】
試料の観察画像を取得する観察装置を備え、
前記観察画像を取得するときの観察条件が登録された複数の既存レシピと、前記既存レシピ毎に設定された前記観察条件を構成する複数の設定項目、および前記設定項目ごとの仕様を規定する設定内容とを記憶装置に保存するステップと、
前記複数の既存レシピから解析対象とするレシピと、該解析対象とするレシピに対応する設定項目および設定内容の選択を行うレシピ解析を、処理装置で実行するステップと、
前記レシピ解析の結果を表示装置に一覧表示するステップと、
前記処理装置を用いて、前記解析対象とするレシピ毎の設定内容が、互いに共通である頻度を算出する共通性解析を実行するステップと、
前記共通性解析の結果に基づき、共通である頻度が低い設定内容がある場合は、該頻度が低い設定内容を、頻度が高い設定内容に入れ換えて初期設定とし新規レシピを作成するステップとを有することを特徴とする観察装置のレシピ設定方法。
【請求項１１】
前記表示装置に表示する設定項目の選択、あるいは表示の順番を設定するステップを有することを特徴とする請求項１０記載の観察装置のレシピ設定方法。
【請求項１２】
前記共通性解析の結果が、設定内容の共通性が高いか低いかを識別可能な形式で前記表示装置に表示されることを特徴とする請求項１０記載の観察装置のレシピ設定方法。
【請求項１３】
前記表示装置に表示された前記レシピ解析の結果一覧に基づいて、少なくとも１つ以上のレシピ設定の変更を行うステップを有することを特徴とする請求項１０記載の観察装置のレシピ設定方法。
【請求項１４】
前記レシピ解析から得られたレシピの設定内容に基づいて、前記観察画像の取得を自動で実施する際のスループットを推算するステップを有し、
該推算結果を前記レシピ解析結果の一覧に一要素として表示することを特徴とする請求項１０記載の観察装置のレシピ設定方法。
【請求項１５】
前記レシピの設定内容に基づいて、自動で前記観察画像の取得を行った時のスループットを実測するステップを有し、
該実測結果を前記レシピ解析結果の一覧に一要素として表示することを特徴とする請求項１０記載の観察装置のレシピ設定方法。
【請求項１６】
前記設定項目として、プロセス名称、光学条件、ADRモード、低倍画像の倍率、低倍画像のオートフォーカス条件、低倍画像のフレーム加算枚数、高倍画像の倍率、高倍画像のオートフォーカス条件、および高倍画像のフレーム加算枚数が少なくとも一つ以上設定されていることを特徴とする請求項１０記載の観察装置のレシピ設定方法。
【請求項１７】
前記設定項目に加えて、ユーザーが登録したコメント、ADR機能を有する場合のキャプチャーレート、レシピ作成者、作成日時、レシピ更新者、更新日時、およびレシピバージョンのうち少なくとも一つ以上を、前記レシピ解析結果の一覧に一要素として表示することを特徴とする請求項１６記載の観察装置のレシピ設定方法。
【請求項１８】
前記レシピの設定内容に基づいて、自動で観察し取得した取得画像を、前記レシピ解析結果の一覧と対応させて表示することを特徴とする請求項１０記載の観察装置のレシピ設定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、観察条件を登録したレシピに基づき、様々な観察条件で試料の観察を行う観察装置に関するものである。特に、ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）式欠陥観察装置のように、試料の特性に応じて最適な光学条件が異なり、条件の最適化が必要な装置、さらに、欠陥自動観察（ADR：Automatic Defect Review）のように、キャプチャーレートとスループットを両立するために、条件の最適化が必要な装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造において、高い歩留りを確保するためには、製造工程で発生する欠陥を早期に発見して、対策を施すことが重要である。近年、半導体の微細化に伴い、微小な欠陥であっても、歩留りに与える影響を無視できなくなり、観察対象となる欠陥の多様化が進んでいる。
【０００３】
ＳＥＭ式欠陥観察装置は、このような多様な欠陥を観察するための装置であり、一般に上位の検査装置で検出した欠陥位置をもとに、欠陥を観察するものである。手動で観察する場合には、上位の検査装置が出力した座標に試料ステージを移動して、試料が視野内に入る程度の低倍率で撮像し、欠陥位置を目視で確認した後、欠陥位置が視野中心に来るように試料ステージを移動させ、高倍率で観察用の欠陥画像を取得する。この工程を自動化したものがＡＤＲである。
【０００４】
ＡＤＲでは、試料に対応した光学条件、ADRモード、低倍画像の取得条件、高倍画像の取得条件などを、キャプチャーレートとスループットを両立させるために最適化する必要があるが、設定項目の組み合わせが膨大であるため、経験を積んだ熟練者であっても、試行錯誤を要する、最適化困難な作業である。このため、設定内容の最適化作業の容易化が求められている。
【０００５】
特許文献１では、欠陥検査装置において、複数の検査条件を設定し、設定条件毎に検査を実行し、最も多く欠陥が検出できる条件を最終的なレシピ設定として採用するレシピ設定方法が開示されている。
【０００６】
特許文献２では、半導体製造装置において、製造プロセスを記述したレシピのパラメータを一括で編集する方法が開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−０１７１５９号公報
【特許文献２】特開平０５−２８３３０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に開示されている方法により、レシピ条件最適化のための試行錯誤を効率よく行うことが可能であるが、条件を変えて試行錯誤することには変わりがないため、処理時間がかかるという課題がある。また、条件を変える際に、どのように変化させるのが良いかを、初心者が的確に判断することは困難である。さらに、ＳＥＭ式欠陥観察装置の場合、同一試料を繰り返し観察することで、試料にダメージを蓄積させる可能性があるため、条件を変えて繰り返し画像取得することは回避するのが好ましい。
【０００９】
特許文献２に開示されている方法により、半導体製造装置におけるレシピパラメータの一括編集が可能であり、目的である、編集作業の効率化、および設定ミスの低減には効果があるが、設定条件をどのように変化させるのが最適であるかを判断するための、解析方法に関する具体的な記述はない。また、新規にレシピを作成する際に、既存のレシピを解析した結果を、有効に活用する方法に関しても、具体的な記述はない。
本発明は、観察装置において、初心者であっても、試行錯誤することなく、既存のレシピ設定内容を解析でき、解析結果に基づき、新規のレシピを短時間で作成できる、レシピ解析方法、レシピ設定方法、および観察装置を提供することを主要な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
観察条件を登録したレシピに基づき、登録した観察条件で試料の観察を行う機能を有する観察装置であって、複数のレシピを対象として、複数の設定項目の設定内容を一覧形式で表示し、共通性を解析した結果に基づき、共通性が高い設定内容を初期設定として、新たなレシピを作成することを主要な特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、初心者であっても、試行錯誤することなく、既存のレシピ設定内容を解析でき、特に共通性を容易に判別できるので、共通性が低い項目のみ設定内容を吟味すればよく、新規のレシピを短時間で作成できる。また、作成したレシピのスループットを予測できるので、設定項目の妥当性の確認、および設定内容を変更した場合の影響を確認しながら、レシピ設定を最適化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の実施例を説明する。図１は、本発明の一実施形態であるSEM式欠陥観察装置の構成を示す断面図である。図１に示すSEM式欠陥レビュー装置は、電子銃（１０１）、レンズ（１０２）、偏向器（１０３）、対物レンズ（１０４）、試料（１０５）、ステージ（１０６）、二次粒子検出器（１０９）、電子光学系制御部（１１０）、A／D変換部（１１１）、ステージ制御部（１１２）、全体制御部（１１３）、画像処理部（１１４）、ディスプレイ（１１５）、キーボード（１１６）、記憶装置（１１７）、マウス（１１８）、光学式顕微鏡（１１９）で構成されている。電子銃（１０１）から発射された電子ビーム（１０７）は、レンズ（１０２）で集束され、偏向器（１０３）で偏向された後、対物レンズ（１０４）で集束されて、試料（１０５）に照射される。電子ビーム（１０７）が照射された試料（１０５）から、試料の形状や材質に応じて二次電子や反射電子等の二次粒子（１０８）が発生する。発生した二次粒子（１０８）は、二次粒子検出器（１０９）で検出され、A／D変換部（１１１）でデジタル信号に変換されて、SEM画像が形成される。生成したSEM画像を使用して、欠陥検出などの画像処理が画像処理部（１１４）で実行される。レンズ（１０２）、偏向器（１０３）、対物レンズ（１０４）の制御は、電子光学系制御部（１１０）で行われる。試料の位置制御は、ステージ制御部（１１２）で制御されたステージ（１０６）で実行される。全体制御部（１１３）は、キーボード（１１６）、マウス（１１８）、記憶装置（１１７）からの入力を解釈し、電子光学系制御部（１１０）、ステージ制御部（１１２）、画像処理部（１１４）等を制御して、必要に応じてディスプレイ（１１５）、記憶装置（１１７）に処理内容を出力する。
【００１３】
図２は、レシピの解析結果の一例である。ここでは一覧の構成要素として、レシピー設定内容一覧２０１に、プロセス名称（Process）、光学条件（SEM Cond）、ADRモード（ADR Mode）、低倍画像の倍率（Low Mag）、低倍画像のオートフォーカス条件（Low AF）、低倍画像のフレーム加算枚数（Low Frame）、高倍画像の倍率（High Mag）、高倍画像のオートフォーカス条件（High AF）、高倍画像のフレーム加算枚数（High Frame）を表示している。光学条件は、図２では番号で表示しているが、例えば、光学条件が加速電圧（Vac）やプローブ電流（Ip）などの複数の条件の組み合わせで定義される場合、各条件を独立した解析項目として扱っても良い。また、ユーザーが登録したコメント、ADR機能を有する場合のキャプチャーレート、レシピ作成者、作成日時、レシピ更新者、更新日時、レシピバージョンも解析項目として登録可能である。ADRモードはADRのアルゴリズムを試料に応じて切り換えるものであり、図２では、３つのモードを示す。すなわち、（１）参照画像の取得が必要であるためスループットは遅いが、任意の背景パターンに対応可能なダイ比較モード（Die）、（２）参照画像を必要としないためスループットは早いが、周期性がある背景パターンでしか使用できないセル比較モード（Cell）、および（３）背景パターンがない試料でのみ有効なベアモード（Bare）を例示している。低倍画像の倍率は、高いほど欠陥検出し易くなるが、欠陥が視野内に入ってこない確率が高くなるため、検出対象の欠陥サイズと座標精度とのトレードオフを考慮して最適化しなければならない。低倍画像のオートフォーカス条件は、標準的なアルゴリズムを使用する（Standard）、処理速度は速いが精度は標準的なアルゴリズムに劣る（Fast）、処理速度は遅いが精度は標準的なアルゴリズムに勝る（Slow）などがある。低倍画像のフレーム加算枚数は、加算枚数が増えるほどノイズが低減されるため、スループットよりもキャプチャーレートを重視する場合には、大きな値に設定する。高倍画像の倍率は観察対象の欠陥サイズに応じて決定する。高倍画像のオートフォーカス条件、フレーム加算枚数は、それぞれ低倍画像の倍率、オートフォーカス条件、フレーム加算枚数と同様の意味を持つが、最終的な欠陥画像の確認に使用されるものであるため、低倍画像と比較すると、スループットよりも画質の良さを重視して設定することが多い。また、図２には記述していないが、デバイス名称、欠陥自動分類（ADC：Automatic Defect Classification）の設定内容などが解析対象項目となる。
【００１４】
図３は、解析対象項目を選択するGUIの一例である。Displayリスト（３０１）に登録された項目は、図２に示すような解析結果表示の対象とし、non-Displayリスト（３０２）に登録された項目は、解析結果表示の対象としない。リスト（３０１）からリスト（３０２）への移動は、右矢印ボタン（３０３）を押すことで実行し、リスト（３０２）からリスト（３０１）への移動は、左矢印ボタン（３０４）を押すことで実行する。各リスト内で登録順を変更する場合は、移動させたい項目を選択して（３０５）、一つ上の項目と入れ替えたい場合はUpボタン（３０６）を、一つ下の項目と入れ替えたいときはDownボタン（３０７）を押下する。
【００１５】
図４ａ、ｂを例に、設定項目の共通性解析の手順を説明する。図４ａの一覧表示エリア（４０１）には、図４ｂのようにレシピ設定内容を一覧表示する。図４ｂは、図２の一部分を抜き出したものである。
【００１６】
ここで、設定項目の共通性は、レシピ毎に設定された種々の設定内容が同じである場合の数が多いとき、共通性が高いとし、その場合の数が少ないとき、共通性が低いとする。
【００１７】
まず、共通性を解析したいＩｔｅｍ（４０２）を、マウス等のポインティングデバイスを用いて選択する。ここでは、Ｐｒｏｃｅｓｓを選択した例を示している。Ｉｔｅｍを選択したら、キーボード等の入力デバイスを用いてＫｅｙｗｏｒｄを入力し、Ｓｅａｒｃｈボタン（４０４）を押下する。例では、ＫｅｙｗｏｒｄとしてＡで始まる文字列を指定しているので、Ｐｒｏｃｅｓｓ名称がＡで始まるレシピ（４０５）を一覧表示エリア（４０１）に表示する。ここでは、Ｓｅａｒｃｈ機能を使用して、一覧に表示するレシピを限定したが、特にレシピが少ない場合は、必ずしも表示するレシピを限定する必要はない。また、解析項目であるＩｔｅｍに基づき一覧をソートすることもできる。図４ｂはＰｒｏｃｅｓｓ（４０７）を基準にソートを実行した結果を示している。このように、必要に応じて、ソートまたはＳｅａｒｃｈ機能を利用して、解析したいレシピを選択するための準備を行い、解析対象となるレシピを選択する。一例として、ＰｒｏｃｅｓｓがＡで始まるレシピ（４０５）を選択したものとする。選択後、Ａｎａｌｙｚｅボタン（４０８）を押下して解析を実行する。解析した結果 、共通性が低いと判断されたもの（４０９）は強調表示する。例では、共通性が低いもののみ強調表示することで、共通性の程度を表現しているが、共通性が高いものを他と区別して強調表示しても良い。あるいは、発生頻度を予め段階的に範囲を決めておき、その範囲に応じて、段階的に区別しても良い。４０９の例では、Ｐｒｏｃｅｓｓ名がＡ３のレシピのみ、Ｌｏｗ Ｍａｇが低く設定されていることが分かる。この設定を他のＡ１、Ａ２、Ａ４にあわせて高く設定することで、欠陥検出画像である低倍画像を拡大することになるため、欠陥検出性能すなわちキャプチャーレートを向上できる可能性がある。同様に、Ｐｒｏｃｅｓｓ名がＢで始まるレシピ（４１０）の共通項を解析すると、Ｂ３のＨｉｇｈ ＡＦ（４１１）と、Ｂ２のＨｉｇｈ Ｆｒａｍｅ（４１２）の共通性が低いことが分かる。この解析結果から、Ｂ３の高倍画像におけるオートフォーカス設定は、Ｂ１やＢ２と同じ高速モードに設定して、スループットを向上できる可能性があること、Ｂ２の高倍画像のフレーム加算枚数をＢ１やＢ３と同じ値に設定して、より高画質な画像が取得したほうが好まれる可能性があることが分かる。設定を変更 する場合には、一覧上で変更したい要素をマウス等のポインティングデバイスを用いて選択し、キーボード等の入力デバイスを用いて設定を変更することができる。複数の要素を選択して、一括で設定を変更することも可能である。次に、解析結果に基づき、共通性が高い設定内容を初期値として、レシピを作成 する手順を説明する。例として、Ｐｒｏｃｅｓｓ名がＢで始まるレシピ（４１０）を解析対象とする。Ａｎａｌｙｚｅボタン（４０８）を押下して、解析を実行すると、共通項表示エリア（４１３）には、共通性が高い項目が表示される。本例では、Ｐｒｏｃｅｓｓ：Ｂ＊、ＡＤＲ Ｍｏｄｅ：Ｃｅｌｌ、Ｌｏｗ Ｍａｇ：２０ｋ、Ｌｏｗ ＡＦ：Ｆａｓｔ、Ｌｏｗ Ｆｒａｍｅ：４、Ｈｉｇｈ Ｍａｇ：６０ｋ、Ｈｉｇｈ ＡＦ：Ｎａｒｒｏｗ、Ｈｉｇｈ Ｆｒａｍｅ：１２が初期表示される。必要に応じて設定��容を更新して、例えば、新たにＰｒｏｃｅｓｓ名がＢ４のレシピを新規に作成する場合には、Ｐｒｏｃｅｓｓ名をＢ＊からＢ４に更新し、Ｓａｖｅ ａｓ …ボタン（４１４）を押下することで、容易にレシピを作成することができる。
【００１８】
図５は、レシピ解析の結果に、ＡＤＲスループットの計算値（５０１）と実測値（５０２）を追加表示した一例を示している。Ｐｒｏｃｅｓｓ名がＡで始まるＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４を比較すると、Ａ３のみＨｉｇｈ Ｍａｇの値（５０３）が異なるが、高倍画像の倍率はＡＤＲのスループットに影響を与えないため、スループットの計算値（５０４）は、Ａ１、Ａ２、Ａ４と同じ値となる。一方、Ｐｒｏｃｅｓｓ名がＢで始まるＢ１、Ｂ２、Ｂ３を比較すると、Ｂ３のＨｉｇｈ ＡＦの設定（５０５）は、Ｂ１、Ｂ２と比較して精度を重視した処理速度が遅いモードに設定されているため、スループットの計算値（５０６）は遅く、また、Ｂ２のＨｉｇｈ Ｆｒａｍｅの値（５０７）は、Ｂ１、Ｂ３と比較して画質よりスループットを重視した処理速度が速いモードに設定されているため、スループットの計算値（５０８）は速くなる。スループットの実測値（５０２）は、実際に該当のレシピを使用してＡＤＲを実行した場合のスループットの測定結果を表示する。この際、最新の測定結果でも、複数の測定結果の平均値でも、両方を表示しても良い。このように、スループットが表示されることで、レシピ更新の効果を素早く確認することができ、効率よくレシピの最適化が実行できる。
【００１９】
図６は、レシピ解析結果の一覧と、一覧で指定したレシピで取得した画像とを、対応付けて表示するＧＵＩの一例であり、図４ａのＧＵＩ例に、画像表示部（６０２）と画像更新ボタン（６０３）を追加したものである。レシピ解析結果一覧表示で選択したレシピ（６０１）を使って取得した画像を、画像表示部（６０２）に表示する。表示する画像は、画像更新ボタン（６０３）を使って更新することができる。＞ボタンは一つ次の画像へ、＜ボタンは一つ前の画像へ、＞＞は一定量、例えば１０画像飛ばして次の画像へ、＜＜は一定量、例えば１０画像飛ばして前の画像へ更新する。画像表示形式は、一覧で選択したレシピと、その選択したレシピで取得した画像との対応が取れれば、複数のウィンドウを開く形式でも良い。このように、レシピと画像の対応が簡単にとれるため、例えば、デバイス名称やプロセス名称だけでは、類似性解析の対象として含めるべきか判断がつかないレシピでも、画像を確認することで、容易に類似性解析の対象に含めるべきか否かの判断ができる。
【００２０】
図７ａ―７ｃは、レシピ解析機能の解析対象となるレシピを保持する観察装置が、複数台ネットワーク接続された観察システムである。図７ａは、観察装置が複数台（７０１、７０２、７０３）、ネットワーク（７０４）に接続されている。ネットワーク（７０４）は、データの受け渡しが可能であれば、有線、無線等の形態は問わない。観察装置（７０３）には、レシピ解析機能が搭載されていないため、レシピ解析することはできないが、観察装置（７０１）または観察装置（７０２）のレシピ解析機能を使って、観察装置（７０３）に保存されたレシピを解析することができる。図７ｂは、観察装置にはレシピ解析機能を持たずに、レシピ管理サーバ（７０５）で一括管理する、観察システムである。作成したレシピはレシピ管理サーバで一括管理され、必要に応じて、観察装置およびレシピ管理クライアント（７０６、７０７）に転送することができる。各観察装置にはレシピ解析機能がないため、レシピ解析することはできないが、レシピ管理サーバ（７０５）、あるいはレシピ管理クライアント（７０６、７０７）でレシピ解析をすることができる。図７ｃは、レシピ管理サーバでレシピの一括管理が可能であると共に、各観察装置にもレシピ解析機能を有しているため、レシピ管理サーバ、レシピ管理クライアント、各観察装置のどこからでも、レシピ解析をすることができる、観察システムである。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】ＳＥＭ式半導体欠陥観察装置の基本構成を示す断面図である。
【図２】レシピ解析結果の一覧表示の一例を示す図である。
【図３】レシピ解析の対象項目を設定するGUIの一例を示す図である。
【図４ａ】レシピ解析を実行するＧＵＩの一例を示す図である。
【図４ｂ】レシピ解析を実行するＧＵＩの一例を示す図である。
【図５】レシピ解析結果にスループットの計算値および実測値を追加表示した一例を示す図である。
【図６】レシピ解析結果と取得した画像を対応付けて表示するＧＵＩの一例を示す図である。
【図７ａ】レシピを保持する観察装置が複数台ネットワーク接続された観察システムの一例を示す図である。
【図７ｂ】レシピを保持する観察装置が複数台ネットワーク接続された観察システムの別の一例を示す図である。
【図７ｃ】レシピを保持する観察装置が複数台ネットワーク接続された観察システムの別の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００２２】
１０１…電子銃、１０２…レンズ、１０３…偏向器、１０４…対物レンズ、１０５…試料、１０６…ステージ、１０７…電子ビーム、１０８…二次粒子、１０９…二次粒子検出器、１１０…電子光学系制御部、１１１…Ａ／ Ｄ変換部、１１２…ステージ制御部、１１３…全体制御部、１１４…画像処理部、１１５…ディスプレイ、１１６…キーボード、１１７…記憶装置、１１８…マウス、１１９…光学顕微鏡部、７０１,７０２,７１２,７１３,７１４…レシピ解析機能を有する観察装置、７０３…レシピ解析機能を持たない観察装置、７０４,７０８,７１５…ネットワーク、７０５,７０９…レシピ管理サーバ、７０６,７０７,７１０,７１１…レシピ管理クライアント。
【図１】
0004607157.tif 000002
【図２】
0004607157.tif 000003
【図３】
0004607157.tif 000004
【図４ａ】
0004607157.tif 000005
【図４ｂ】
0004607157.tif 000006
【図５】
0004607157.tif 000007
【図６】
0004607157.tif 000008
【図７ａ】
0004607157.tif 000009
【図７ｂ】
0004607157.tif 000010
【図７ｃ】
0004607157.tif 000011