(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクフィルムのパターンが露光される基板を基板吸着手段より吸着して載置し、かつ前記マスクフィルムに当接あるいは近接するように移動可能な載置テーブルと、
前記基板に対面するように、前記マスクフィルムの周縁部を保持するマスク保持溝を有する透光板を支持する支持枠と、
前記マスクフィルムの周縁部を前記透光板のマスク保持溝より吸着するマスク吸着手段と、
前記マスクフィルムの周縁部の内側で前記透光板に設けた貫通孔から、当該マスクフィルムと前記透光板の間に気体の供給および排気を行う気体供給排気手段とを備えた露光装置において、
前記マスクフィルムのマスク保持溝に対面する位置で、前記載置テーブルの周縁に設けられ、前記マスクフィルムと前記基板とを真空密着させる空間を形成するためのシール部材と、
このシール部材の内側となる前記空間の空気を前記載置テーブルに設けた真空密着用孔から排気する排気手段とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記シール部材は、中空状に形成されていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記シール部材は、前記マスクフィルムの前記マスク保持溝位置に対面する側が平面に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子回路基板や液晶基板に用いる基板に、回路パターンを有するマスクフィルムを密着させて露光する露光装置に係り、特に、基板にマスクフィルムを加圧密着させて露光する露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子回路基板用の０.０５ｍｍ程度の薄い基板や、液晶基板の製造工程においては、回路パターンの原画であるマスクフィルムを基板に密着して、正確に回路パターンを転写する露光装置が採用されるようになっている。
この露光装置で取り扱われる電子回路基板の回路は、基板の厚みが薄くなることと、回路パターンが精細になることが同時に進行している。そのために、露光工程においては、０.０５ｍｍの極薄い基板を載置テーブル上面に設置した上で、マスクフィルムを確実に基板に密着することが難しくなってきている。
【０００３】
このように基板が薄くなってくると、載置テーブルに設置しても基板の素材の特性が出て変形し易いことや、また、前工程の処理のための変形が残る等の理由で、十分な平面性を確保することができないため、マスクフィルムとの相互の密着性が低下してしまうことが分かっている。
【０００４】
通常、マスクフィルムは、ガラスやアクリル樹脂等の透光板に固定して、この透光板を焼枠(支持枠)に支持した状態で、載置テーブルの移動により基板が当接して押し付けられる。そして、マスクフィルムと基板とが当接するとき、基板を固定した載置テーブルとマスクフィルムを固定した焼枠とが平行して対峙し、相互に押し付けて密着する場合、載置テーブルの中央部に大気が残り易い傾向があり、基板とマスクフィルムが部分的に密着しない部位が発生してしまうという問題点があった。この状態で露光すると、光源の光が、介在する空気で屈折することになるので、この部分における露光後の回路パターンの解像度が低下してしまう。
【０００５】
このような従来の問題点を解決するため、マスクフィルムと基板とを強制的に加圧密着させて露光する露光装置が提案されている。例えば、特許文献１においては、マスクフィルムを保持する基材の最外郭のシール部材と基板とに囲まれて密閉された空間内に中空の弾性管を設けて、これを二重の密閉空間とした露光装置が提案されている。この露光装置は、前記密閉空間内を排気してマスクと基板を密着させようとする際に、この弾性管が膨張してマスクフィルムや基材の変形を抑えるようにしたものである。
【０００６】
特許文献２および３においては、マスクフィルム(または別のフィルム材)と、これを保持する透光板との間に気体(または流体)を供給してマスクフィルムを基板側に強制的に加圧密着することにより、基板面に対して全面的に均一に密着するようにしている。特に、特許文献３の露光装置においては、マスクフィルムと基板を挟み込むように配置した２枚の光透過性板の相対する焼枠の間にパッキンを取り付けて密閉空間を形成した構成になっている。
【特許文献１】特開２００１−３０５７４４号公報
【特許文献２】特開平５−１４２７７９号公報
【特許文献３】特開平８−５０３５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来の前記露光装置の内、特許文献１の装置においては、構造が複雑になるのに加えて、弾性管の膨張によって基板側のシール部材が加圧されることから、マスクフィルムが変形して固定される恐れがあり、それが原因でマスクフィルムの平面性が損なわれ、密着性が低下し易くなってしまう。
また、特許文献２あるいは特許文献３では、マスクフィルムの周縁を金具で挟持する構成としているため、マスクフィルムと透光板の間に空気を挿入排気する動作を繰り返し行うことで、マスクフィルムの固定位置がずれる可能性があった。
【０００８】
本発明は、前記した従来の問題点に鑑み創案されたものであり、マスクフィルムの固定位置がずれることなく、また、基板に対してマスクフィルムを全面的に均等に密着させることができ、高解像度の露光条件を確保することができる露光装置を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を達成するために、本発明に係る露光装置は、マスクフィルムのパターンが露光される基板を基板吸着手段より吸着して載置し、かつ前記マスクフィルムに当接あるいは近接するように移動可能な載置テーブルと、前記基板に対面するように、前記マスクフィルムを配置しその周縁部を保持するマスク保持溝を有する透光板を支持する支持枠と、前記マスクフィルムの周縁部を前記透光板のマスク保持溝より吸着するマスク吸着手段と、前記マスクフィルムの周縁部の内側で前記透光板に設けた貫通孔から、当該マスクフィルムと前記透光板の間に気体の供給および排気を行う気体供給排気手段とを備えた露光装置において、前記マスクフィルムのマスク保持溝に対面する位置で、前記載置テーブルの周縁に設けられ、前記マスクフィルムと前記基板とを真空密着させる空間を形成するためのシール部材と、このシール部材の内側となる前記空間の空気を前記載置テーブルに設けた真空密着用孔から排気する排気手段とを備えた構成とした。
【００１０】
このように構成した露光装置では、載置テーブルが移動して基板とマスクフィルムが近接あるいは当接した状態で、マスクフィルムと透光板の間に気体が供給されマスクフィルムが基板に強制的に加圧密着する。さらに、載置テーブルの真空密着用孔から排気手段により、シール部材、マスクフィルム、載置テーブル面により囲繞された空間の空気が排気されることで、基板とマスクフィルムが真空密着する。このとき、マスクフィルムを透光板に保持しているマスク保持溝に載置テーブルのシール部材が対面しているので、常に、シール部材がマスクフィルムをマスク保持溝に押圧するようになる。
【００１１】
また、前記露光装置は、前記シール部材が、中空状に形成されている構成とした。
このように構成した露光装置は、マスクフィルムと基板とが加圧密着しているときに、マスク保持溝に押圧するシール部材が、押圧する力で扁平して接触面積が大きくなる。
【００１２】
さらに、前記露光装置は、前記シール部材が、前記マスクフィルムの前記マスク保持溝位置に対面する側が平面に形成されている構成とした。
このように構成した露光装置は、マスクフィルムと基板とが加圧密着したときに、マスク保持溝に対面する位置のマスクフィルムに、シール部材の平面の部分が当接してマスクフィルムをマスク保持溝に押圧する状態となる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る露光装置は、以下のような優れた効果を奏するものである。
露光装置は、マスク保持溝を介してマスクフィルムを吸着して保持するマスク吸着手段による吸着力と、載置テーブルのシール部材による押圧力で、強固にマスクフィルムが透光板に固定されるので、マスクフィルムの固定位置がずれることがない。また、露光装置は、気体供給排気手段により当該マスクフィルムと透光板の間に気体を供給してマスクフィルムを基板に加圧密着させ、排気手段によりシール部材の内側の空間を排気すると、マスクフィルムと基板が全面的に均等に密着することができる。したがって、露光装置は、高解像度を有するパターンを露光することができる。
【００１４】
また、露光装置は、シール部材が、その中空部の圧縮空気による弾性効果を有するので、シール部材の上下方向における弾性変形の範囲でマスクフィルムに当接する所定幅を確実に確保することができると共に、マスクフィルムに対する圧接効果を高めることができる。
【００１５】
さらに、露光装置は、シール部材に平面部を設けることで、その平面部がマスクフィルムに対する圧接効果に寄与すると共に、真空密着させる空間のシール度が高まるという効果も期待できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明に係る露光装置を実施するための最良の形態について、図面を参照して説明する。
図１は、露光装置の支持枠および載置テーブルの一部を切欠いて模式的に示す側断面図、図２は、露光装置の全体を模式的に示す模式図、図３（ａ）は、露光装置における支持枠を載置テーブル側から見上げた状態の正面図、（ｂ）は、露光装置における載置テーブルを支持枠側から見下ろして示す平面図、図４は、露光装置の支持枠を分解して載置テーブルの一部を合わせて示す分解斜視図、図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は、露光装置における支持枠のマスクフィルムおよび載置テーブルのシール部材の状態を示す断面図、図６は基板およびマスクフィルムの整合マークの状態を模式的に示す平面図である。
【００１７】
図２において、露光装置Ａは、投入された基板Ｗを予備位置基めするプリアライメント部Ｒ１と、マスクフィルムＭの回路パターンを基板Ｗに露光するための露光部Ｒ２とを備えている。そして、プリアライメント部Ｒ１には、予備位置決め機構３０（搬送ローラ３１および端面押動機構３２）を備えている。また、露光部Ｒ２には、マスクフィルムＭの支持枠１０と、基板Ｗの載置テーブル２０とを備えている。
【００１８】
プリアライメント部Ｒ１は、予備位置決め機構３０を備えており、この予備位置決め機構３０が、搬入された基板Ｗを所定位置まで搬送する搬送ローラ３１と、この搬送ローラ３１の所定位置に配置された端面押動機構３２とを備えている。そして、端面押動機構３２は、搬送ローラ３１の間に配置され基板Ｗの端面を押動する押動ピン３３と、この押動ピン３３を移動させる移動手段３４とを備えており、ここでは、基板Ｗの各端面を押動してその基板Ｗの中心側に位置合せするため、基板Ｗの四方に押動ピン３３が配置されている。なお、基板Ｗの端面合せによる予備位置決め作業は、少なくとも基板Ｗの２辺を固定して（基準ピンに押し付け）他の辺の端面を押動することで行うことができる。
【００１９】
光学系４０は、所定波長の紫外線を含む光を照射するランプ４１と、このランプ４１の光を集光するように反射する楕円反射鏡４２と、この楕円反射鏡４２およびランプ４１からの光を所定方向に反射する第１反射鏡４３と、この第１反射鏡４３からの光をさらに反射する第２反射鏡４４と、この第２反射鏡４４からの光の照度分布を調整するフライアイレンズ４６と、このフライアイレンズ４６からの光を基板Ｗ側に平行光として反射する曲面反射鏡（コリメーション反射鏡）４７とを備え、フライアイレンズ４６および第２反射鏡４４との間にシャッタ機構４５とを有している。
【００２０】
なお、露光部Ｒ２には、曲面反射鏡４７が設置され、残りの光学系４０の各部材は、図示しない露光室に設置されている。また、基板Ｗの整合マークＷｍ（図６参照）およびマスクフィルムＭの整合マークＭｍ（図６参照）を撮像するＣＣＤカメラ等の撮像手段４８は、露光時には退避位置に、撮像時には撮像位置に移動できるように設けられている。
【００２１】
そして、プリアライメント部Ｒ１の基板Ｗは、所定位置に設置されたハンドラ等の搬送機構３５により搬送ローラ３１から載置テーブル２０に搬送さる。搬送機構３５は、載置テーブル２０と搬出口側にも設置されている。また、載置テーブル２０の前後には、送りローラを設置する構成としても構わない。
【００２２】
図１および図４に示すように、載置テーブル２０は、搬送されて来る基板Ｗを載置して後記するマスクフィルムＭと当接して露光作業を行うためのものである。この載置テーブル２０は、基板Ｗを載置する載置面板２１と、この載置面板２１の周囲に配置されるシール設置面板２２と、このシール設置面板２２に設けたシール部材２３と、シール設置面板２２および載置面板２１とを支持する基台２４と、この基台２４のシール部材２３の内側となる位置に設けた真空密着用孔２５と、基台２４に適宜設けた整合移動機構２６と、この整合移動機構２６ごと垂直方向（Ｚ軸方向）に移動するＺ軸移動機構２７とを備えている。
【００２３】
載置面板２１は、基板Ｗを載置して吸着保持するものである。この載置面板２１は、基板Ｗを真空吸着するための吸着孔２１ａを複数形成されている。
シール設置面板２２は、載置面板２１の周縁に所定間隔をあけて取り付けられており、シール部材２３を設置するためのものである。
【００２４】
図１、図３（ｂ）および図４に示すように、シール部材２３は、当該シール部材２３、マスクフィルムＭおよび載置テーブル２０の上面側とで囲繞される空間を形成して、マスクフィルムＭおよび基板Ｗを真空密着させるためのものである。このシール部材２３は、後記する支持枠１０に支持された透光板１５に形成されるマスク保持溝１５ａに対面（対向）する位置に配置されている。シール部材２３は、例えば、ゴムあるいは合成ゴムのような弾性変形可能な素材で中実あるいは中空に形成され、ここでは、中空部２３ａを有するチューブ状に形成されている。
【００２５】
なお、シール部材２３は、幅寸法および高さ寸法が、支持枠１０のマスクフィルムＭの周縁に当接して密閉空間を形成でき、かつ、真空密着させる基板ＷとマスクフィルムＭが適切に当接することができる密閉空間を形成できるように設定されている。そして、シール部材２３が中空部２３ａを有するチューブ状に形成されることにより、上下方向における変形範囲が、中実に形成したものと比較して大きく取れるため、都合がよい。
【００２６】
基台２４は、載置面板２１およびシール設置面板２２を支持して整合移動機構２６により整合移動自在に支持されている。この基台２４は、載置面板２１の吸着孔２１ａとの流路を構成するように形成した流路２４ａと、この流路２４ａと連通する中央に形成した開口２４ｂと、載置面板２１とシール設置面板２２との間の溝２５ａの所定位置に設けた真空密着用孔２５と、を備えている。そして、基台２４の流路２４ａは、中央の開口２４ｂから接続ホースおよびリーク弁を介して基板用真空ポンプ２８に接続されている。
【００２７】
基台２４に設けた真空密着用孔２５は、シール部材２３の内側の空間における空気を排気することで、基板ＷとマスクフィルムＭとを真空密着させるためのものであり、真空密着用ポンプ２９に接続ホース２９ａおよびリーク弁２９ｂを介して接続されている。
【００２８】
整合移動機構２６は、基板Ｗの整合作業を行うものであり、Ｘ、Ｙ、θ方向に整合移動させる各機構を備えている。また、Ｚ軸移動機構２７は、載置された基板ＷをＺ軸方向（垂直方向）に移動させるものである。なお、この整合移動機構２６は、ここでは、載置テーブル２０側に設けた構成としているが、支持枠１０側に各辺を押動する機構として配置しても構わない。
【００２９】
図１、図３（ａ）および図４に示すように、この載置テーブル２０に対面する位置にマスクフィルムＭを保持する支持枠１０は、四角縁形状に形成された枠体１１と、この枠体１１に支持される透光板１５と、を備えている。枠体１１は、中央に枠開口部１１ａが形成され、枠面板１１ｂに透光板１５を真空密着するための透光板保持溝１４ａと、この透光板保持溝１４ａの所定位置に連通するように形成された第３貫通孔１４と、透光板保持溝１４ａの内側で後記する透光板１５のマスク保持溝に対面する位置に形成された第２貫通孔１３と、この第２貫通孔１３の内側に形成された第１貫通孔１２と、を備えている。
【００３０】
そして、第１貫通孔１２は、接続ホース１６ａおよび三方弁１６ｂを介して第１送風ポンプ１６に接続されている。そして、第１送風ポンプ１６は、大気よりも高い気圧の気体を供給するものである。したがって、支持枠１０では、第１送風ポンプ１６からマスクフィルムＭと透光板１５の間に気体が供給され、その後、基板Ｗにより押圧され、所定の気圧より高くなると三方弁１６ｂからマスクフィルムＭおよび透光板１５の間の気体が排出されることになる。第２貫通孔１３および第３貫通孔１４は、それぞれ接続ホースおよびリーク弁を介して第２真空ポンプ１７および第３真空ポンプ１８に接続されている。
【００３１】
また、マスクフィルムＭと透光板１５の間には、加圧用貫通孔１５ｃから第１送風ポンプ１６を介して気体が供給されたときに、マスクフィルムＭがマスク保持溝１５ａにより保持されて透光板１５から外れることがないように、常にマスク保持溝１５ａからの真空吸引が行われるように構成されている。なお、第１送風ポンプ１６は、マスクフィルムＭと透光板１５の間に気体（空気）を供給するものであり、マスクフィルムＭと透光板１５の間に供給した気体を排気する場合には、ここでは三方弁１６ｂにより行っているがその他の構成であってもよい。例えば、第１送風ポンプ１６は、図示しない排気ポンプと供給ポンプを、切替弁を介して接続する構成としてもよく、マスクフィルムＭと透光板の間に気体の供給および供給した気体の排気を行うことができる構成であればよい。
【００３２】
透光板１５は、石英ガラスあるいは合成石英ガラスまたは樹脂により形成されており、所定波長の紫外線を含む光を透過するように形成されている。この透光板１５は、その周縁にマスクフィルムＭを吸着保持するためのマスク保持溝１５ａと、このマスク保持溝１５ａの所定位置に形成した貫通孔１５ｂと、この貫通孔１５ｂ（マスク保持溝１５ａ）より中央側で露光作業の邪魔にならない位置に形成した加圧用貫通孔１５ｃと、を備えている。
【００３３】
なお、透光板１５は、枠体１１に仮保持として使用される取付部１５ｄを介して枠体１１に支持される。つまり、透光板１５は、はじめに取付部１５ｄに仮保持させておき、その後、透光板保持溝１４ａに吸着保持させる構成であっても構わない。取付部１５ｄが設けられていることで、何らかの原因で透光板保持溝１４ａからの真空吸引が停止しても、当該透光板１５が取付部１５ｄに支持され落下することがない。
【００３４】
マスクフィルムＭは、透光板１５に対面してマスク保持溝１５ａにより第２真空ポンプ１７の動作により当該透光板１５に吸着保持されている。このマスクフィルムＭは、基板Ｗに露光するためのパターン、位置決め用の整合マーク、他のマスクフィルムＭと識別するための識別マークが形成されている。なお、マスクフィルムＭは、基板Ｗより大きな面積となるように形成されている。また、マスクフィルムＭは、図面では、厚さを示すように記載されているが、厚みは１ｍｍより薄い。さらに、マスクフィルムＭの周縁部とは、回路パターン、整合マークおよび識別マーク等が形成されていない部分である。
【００３５】
マスクフィルムＭは、露光装置Ａにおいて予め位置を調整して支持枠１０に設置されることになる。つまり、マスクフィルムＭは、透光板１５が枠体１１に吸着保持された状態で、その透光板１５にマスク保持溝１５ａを介して保持して準備される。
なお、基板Ｗは、マスクフィルムＭより面積が小さく形成されており、０．０５〜３．０ｍｍの厚みの範囲が主流として使用されている。
【００３６】
図１に示すように、ここでは、マスクフィルムＭが基板Ｗに加圧密着するときに、マスクフィルムＭのマスク保持溝１５ａに対面するようにシール部材２３が設置されているため、マスクフィルムＭと透光板１５との間に気体が供給され、かつ、基板ＷとマスクフィルムＭとが真空密着するときに、シール部材２３がマスクフィルムＭの上からマスク保持溝１５ａ側に押圧することになり、マスクフィルムＭの位置は、ずれることがなく、マスク保持溝１５ａに保持されることになる。
【００３７】
なお、図１に示すように、第１送風ポンプ１６、第２真空ポンプ１７、第３真空ポンプ１８、基板用真空ポンプ、および、真空密着用ポンプ２９は、リーク弁等のポンプとして必要な構成を流体経路中に備え、かつ、一つあるいは複数のポンプを、制御弁（図示せず）により制御する構成としてもよく、また、それぞれ別のポンプを用いて設置してそれぞれ制御する構成としても構わない。
【００３８】
つぎに、露光装置Ａの動作について説明する。
図２に示すように、マスクフィルムＭは、はじめに支持枠１０に支持された透光板１５に沿って設置されている。つまり、図５（ａ）に示すように、支持枠１０の透光板１５が第３真空ポンプ１８により枠体１１に吸着された状態で、かつ、当該透光板１５のマスク保持溝１５ａにマスクフィルムＭが第２真空ポンプ１７により吸着保持されている。
【００３９】
基板Ｗは、搬入口からプリアライメント部Ｒ１に搬入されると、搬送ローラ３１上により所定位置まで送られる。基板Ｗが所定位置に送られると、端面押動機構３２の押動ピン３３が移動手段３４により基板Ｗの各辺における端面を押動することで予備位置決め作業が行われる。
【００４０】
基板Ｗの予備位置決め作業が終了すると、ハンドラ等の搬送機構３５により基板Ｗは、載置テーブル２０の上に搬送される。基板Ｗが載置テーブルに載置されると、基板用真空ポンプ２８の作動により基板Ｗを載置面板２１上に吸着保持する。そして、載置テーブル２０は、Ｚ軸移動機構２７により基板ＷをマスクフィルムＭに近接させるように移動させる（図５（ａ）参照）。このとき第１送風ポンプ１６から気体（空気）が送られ、マスクフィルムＭと透光板１５との間に気体が供給されてマスクフィルムＭの弾性変形の範囲で膨らんだ状態となる（図５（ｂ）参照）。なお図１、図５（ｂ）、（ｃ）では、マスクフィルムＭと透光板１５の間に気体が供給された状態を分かり易いように誇張した状態で示している。
【００４１】
図５（ｂ）に示すように、基板ＷがマスクフィルムＭに近接あるいは当接する状態になると、載置テーブル２０のシール部材２３と支持枠１０の透光板１５に保持されたマスクフィルムＭの周縁とが当接して、マスクフィルムＭ、シール部材２３および載置面板２１とで囲繞される空間が形成され、その空間の空気が真空密着用孔２５から真空密着用ポンプ２９により排気されることで、マスクフィルムＭと基板Ｗとが真空密着する。
【００４２】
基板とマスクフィルムＭとが真空密着するときには、シール部材２３がマスクフィルムＭの上からマスク保持溝１５ａに向かって押圧し、マスクフィルムＭの周縁を透光板１５側に密着させるように押圧することになる。また、シール部材２３は、その中空部２３ａの圧縮空気による弾性効果を有するので、上下方向における弾性変形の範囲で当接する所定幅を確保することができ、マスクフィルムＭを保持するときの保持強さを高めることができる。そのため、マスクフィルムＭは、その周縁が強固に透光板１５側に固定されているので、均一にピンと張った状態で、その中央が基板Ｗと最初に接触するように基板Ｗ側に膨張し、透光板１５から外れることがないのは勿論のこと、透光板１５の設置位置からずれることはない。
【００４３】
図５（ｃ）に示すように、マスクフィルムＭと基板Ｗとが真空密着（基板ＷはマスクフィルムＭの中央から周縁に向かって徐々に密着するようになる）して、かつ、マスクフィルムＭと透光板１５との間に供給された気体により加圧密着された状態で、さらに、基板ＷによりマスクフィルムＭが押圧される。そして、図５（ｄ）に示すように、基板Ｗに押圧されてマスクフィルムＭが透光板１５に当接した状態となる。このとき、マスクフィルムＭと透光板１５の間に供給された気体は、三方弁１６ｂにより排気された状態となる。三方弁１６ｂは、所定圧力以上がかかると気体を放出するように構成されている。そして、マスクフィルムＭに基板Ｗが真空密着した状態になると、図２および図６に示すように、撮像手段４８により基板ＷとマスクフィルムＭの整合マークＷｍ、Ｍｍが撮像される。そして、撮像した画像を解析し、整合マークＷｍ、Ｍｍからアライメント量を図示しない演算制御部が演算する。
【００４４】
整合マークＷｍ、Ｍｍが許容範囲から外れている場合には、真空密着用ポンプ２９のリーク弁２９ｂを解除して基板ＷとマスクフィルムＭとの真空密着状態を解除すると共に、マスクフィルムＭと透光板１５とを一度離間させる。
【００４５】
そして、基板ＷとマスクフィルムＭとが離間すると、図１に示すように、整合移動機構２６により、Ｘ、Ｙ、θ方向に適宜基板Ｗを整合移動させて整合作業を行う。整合作業が行われたら、再び、Ｚ軸移動機構２７により基板ＷとマスクフィルムＭとを近接あるいは当接する図５（ｂ）の状態とし、真空密着させるように、先ほどと同様に図５（ｄ）の状態とする。
【００４６】
そして、撮像手段４８により基板ＷとマスクフィルムＭとの整合マークＷｍ、Ｍｍを図６の仮想線で示すように許容範囲である状態が確認されたら、図２に示すように、撮像手段４８を退避位置に退避させ、シャッタ機構４５を開放することで、ランプ４１からの所定波長の紫外線を含む光を、楕円反射鏡４２、第１反射鏡４３、第２反射鏡４４、フライアイレンズ４６および曲面反射鏡４７により、マスクフィルムＭおよび基板Ｗに平行光として照射して露光作業を行う。露光作業が終了すると、シャッタ機構４５が閉鎖して光を遮断する。
【００４７】
露光作業を行っているときには、基板Ｗは、マスクフィルムＭが、マスクフィルムＭと透光板１５との間に供給された気体により強制的に加圧密着させられて余計な気体が介在しないため、基板ＷとマスクフィルムＭが均等な状態で接触して精密な露光作業を行うことができるものである。整合作業および露光作業のときに、基板Ｗとマスクフィルムとが真空密着するときに、マスクフィルムＭと透光板１５との間に気体が供給されることにより基板Ｗがマスクフィルムに当接する際、中央から周縁に向かって徐々に接触することになり、基板ＷとマスクフィルムＭとの間に気体が取り残されることがほとんどなくなる。
【００４８】
露光作業が終了すると、真空密着用ポンプ２９のリーク弁２９ｂにより、基板ＷとマスクフィルムＭとの真空密着状態が解消され、Ｚ軸移動機構２７の移動により基板ＷはマスクフィルムＭから離間する。そして、搬送機構３５により保持されて搬出側に搬送される。あらたにプリアライメントされた基板Ｗが搬送機構３５により載置テーブル２０の上に搬送され、再び整合作業および露光作業が行われることになる。
【００４９】
以上、説明したように、加圧密着する露光装置Ａにおいて、マスクフィルムＭの周縁のマスク保持溝１５ａの位置にシール部材２３が押圧するように設置されているため、マスクフィルムＭと透光板１５との間に気体が供給あるいは排気される動作が行われても、マスクフィルムＭは、透光板１５との設置位置がずれることなく保持される。
【００５０】
また、マスクフィルムＭと基板Ｗとの間の空気、特に、マスクフィルムＭの中央部の空気を残すことなく完全に排気することができるため、マスクフィルムＭを基板Ｗに対して全面的に均一に密着させることができる。したがって、この状態で露光を実施することにより、基板Ｗに高解像度を有する回路パターンを形成することができる。
【００５１】
なお、シール部材２３は、その形状を図７に示すようにしても構わない。図７は、露光装置の載置テーブルに設置されるシール部材の他の形態を模式的に示す断面図である。
図７に示すように、シール部材５３は、マスクフィルムＭとの接触する接触面５３ｂが平面に形成されると共に、内部を中空部５３ａとするチューブ状に形成されている。そして、シール部材５３は、曲面がない多角形に形成されている。また、シール部材５３の接触面５３ｂは、マスク保持溝１５ａより幅広に形成されていることが望ましい。
【００５２】
このようにシール部材５３は、接触面５３ｂが平面に形成さることにより、確実にマスク保持溝１５ａに対面してマスクフィルムＭを押圧するため、安定的にマスクフィルムＭを押圧することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明に係る露光装置の支持枠および載置テーブルの一部を切欠いて模式的に示す側断面図である。
【図２】本発明に係る露光装置の全体を模式的に示す模式図である。
【図３】（ａ）は、本発明に係る露光装置における支持枠を載置テーブル側から見上げた状態の正面図、（ｂ）は、本発明に係る露光装置における載置テーブルを支持枠側から見下ろして示す平面図である。
【図４】本発明に係る露光装置の支持枠を分解して載置テーブルの一部を合わせて示す分解斜視図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は、本発明の露光装置における支持枠のマスクフィルムおよび載置テーブルのシール部材の状態を示す断面図である。
【図６】本発明の基板およびマスクフィルムの整合マークの状態を模式的に示す平面図である。
【図７】本発明の露光装置の載置テーブルに設置されるシール部材の他の構成を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
Ａ        露光装置
Ｍ        マスクフィルム
Ｗ        基板
Ｍｍ      整合マーク
Ｗｍ      整合マーク
１０      支持枠
１１      枠体
１１ａ    枠開口部
１１ｂ    枠面板
１２      第１貫通孔（貫通孔）
１３      第２貫通孔
１４      第３貫通孔
１４ａ    透光板保持溝
１５      透光板
１５ａ    マスク保持溝
１６      第１送風ポンプ（気体供給排気手段）
１６ａ    接続ホース（気体供給排気手段）
１６ｂ    三方弁（気体供給排気手段）
１７      第２真空ポンプ（マスク吸着手段）
１８      第３真空ポンプ
２０      載置テーブル
２１      載置面板
２２      シール設置面板
２３      シール部材
２４      基台
２５      真空密着用孔
２６      整合移動機構
２７      Ｚ軸移動機構
２８      基板用真空ポンプ（基板吸着手段）
２９      真空密着用ポンプ（排気手段）
３０      予備位置決め機構
３１      搬送ローラ
３２      端面押動機構
３３      押動ピン
３４      移動手段
４０      光学系
４１      ランプ
４２      楕円反射鏡
４３      第１反射鏡
４４      第２反射鏡
４５      シャッタ機構
４６      フライアイレンズ
４７      曲面反射鏡
４８      撮像手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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