(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一基板上に、画素部と、駆動回路と、を有し、
前記駆動回路は、前記画素部が有する画素電極の下に設けられたＴＦＴを有し、
前記ＴＦＴは、活性層と、前記活性層上のゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上のゲート電極と、を有し、
前記ゲート絶縁膜上であって、前記ゲート電極と同一の層で設けられた接続配線と、
前記ゲート電極と前記接続配線とを覆う層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に設けられ、前記接続配線と重なるデータ配線と、
前記接続配線を介して、前記活性層と電気的に接続する電流供給線と、を有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記ＴＦＴは、前記駆動回路が有するシフトレジスタ、レベルシフタ、バッファ、ラッチ、Ａ／Ｄコンバータ、又はサンプリング回路に用いられていることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項３】
同一基板上に、画素部と、駆動回路と、を有し、
前記駆動回路は、前記画素部が有する画素電極の下に設けられた第１のＴＦＴと、第２のＴＦＴと、を有し、
前記第１のＴＦＴは、活性層と、前記活性層上のゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上のゲート電極と、を有し、
前記ゲート絶縁膜上であって、前記ゲート電極と同一の層で設けられた第１の接続配線と、
前記ゲート電極と前記第１の接続配線とを覆う第１の層間絶縁膜と、
前記第１の層間絶縁膜上に設けられ、前記第１の接続配線と重なるデータ配線と、
前記第１の接続配線を介して、前記活性層と電気的に接続する電流供給線と、
前記データ配線上と前記電流供給線上とに設けられた第２の層間絶縁膜と、
前記データ配線上に設けられ、前記第２の層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して、前記第１のＴＦＴと前記第２のＴＦＴとを電気的に接続する第２の接続配線と、
を有し、
前記第１のＴＦＴと前記第２のＴＦＴは、前記電流供給線と前記データ配線とを挟んで隣接していることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記第１のＴＦＴは、前記駆動回路が有するシフトレジスタ、レベルシフタ、バッファ、ラッチ、Ａ／Ｄコンバータ、又はサンプリング回路に用いられていることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項５】
同一基板上に、画素部と、駆動回路と、信号処理部と、を有し、
前記信号処理部は、前記画素部が有する画素電極の下に設けられたＴＦＴを有し、
前記ＴＦＴは、活性層と、前記活性層上のゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上のゲート電極と、を有し、
前記ゲート絶縁膜上であって、前記ゲート電極と同一の層で設けられた接続配線と、
前記ゲート電極と前記接続配線とを覆う層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に設けられ、前記接続配線と重なるデータ配線と、
前記接続配線を介して、前記活性層と電気的に接続する電流供給線と、を有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記ＴＦＴは、前記信号処理部が有する分周波回路又は昇圧回路に用いられていることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項７】
同一基板上に、画素部と、駆動回路と、信号処理部と、を有し、
前記信号処理部は、前記画素部が有する画素電極の下に設けられた第１のＴＦＴと、第２のＴＦＴと、を有し、
前記第１のＴＦＴは、活性層と、前記活性層上のゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上のゲート電極と、を有し、
前記ゲート絶縁膜上であって、前記ゲート電極と同一の層で設けられた第１の接続配線と、
前記ゲート電極と前記第１の接続配線とを覆う第１の層間絶縁膜と、
前記第１の層間絶縁膜上に設けられ、前記第１の接続配線と重なるデータ配線と、
前記第１の接続配線を介して、前記活性層と電気的に接続する電流供給線と、
前記データ配線上と前記電流供給線上とに設けられた第２の層間絶縁膜と、
前記データ配線上に設けられ、前記第２の層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して、前記第１のＴＦＴと前記第２のＴＦＴとを電気的に接続する第２の接続配線と、
を有し、
前記第１のＴＦＴと前記第２のＴＦＴは、前記電流供給線と前記データ配線とを挟んで隣接していることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項８】
請求項７において、
前記第１のＴＦＴは、前記信号処理部が有する分周波回路又は昇圧回路に用いられていることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項９】
請求項１、請求項２、請求項５、又は請求項６において、
ドレイン領域側のみにＬＤＤ領域を有し、前記データ配線及び前記電流供給線を挟んで前記ＴＦＴと隣接するＴＦＴと、
前記データ配線上に設けられ、前記ＴＦＴと前記隣接するＴＦＴとを電気的に接続する配線と、を有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項１０】
請求項３、請求項４、請求項７、又は請求項８において、
前記第２のＴＦＴは、ドレイン領域側のみにＬＤＤ領域を有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、
前記電流供給線と前記データ配線とは、同一の層で設けられていることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一項において、
前記電流供給線は、前記画素部が有する電流制御用ＴＦＴと電気的に接続されていることを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記電流制御用ＴＦＴは、前記画素電極と電気的に接続されたドレイン領域と、前記ドレイン領域側のみに設けられたＬＤＤ領域と、を有し、
前記電流制御用ＴＦＴのＬＤＤ領域は、ゲート絶縁膜を介してゲート電極と重なっている領域と重なっていない領域とを有することを特徴とするＥＬ表示装置。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３のいずれか一に記載されたＥＬ表示装置を備えたことを特徴とする電子装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体素子（半導体薄膜を用いた素子）を基板上に作り込んで形成されたＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置及びそのＥＬ表示装置を表示ディスプレイとして有する電子装置（電子デバイス）に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、基板上にＴＦＴを形成する技術が大幅に進歩し、アクティブマトリクス型表示装置への応用開発が進められている。特に、ポリシリコン膜を用いたＴＦＴは、従来のアモルファスシリコン膜を用いたＴＦＴよりも電界効果移動度（μFE）が高いので、高速動作が可能である。そのため、従来、基板外の駆動回路で行っていた画素の制御を、画素と同一の基板上に形成した駆動回路で行うことが可能となっている。
【０００３】
このようなアクティブマトリクス型表示装置は、同一基板上に様々な回路や素子を作り込むことで製造コストの低減、表示装置の小型化、歩留まりの上昇、スループットの低減など、様々な利点が得られるとして注目されている。
【０００４】
同一基板上に画素部とその画素部を駆動する駆動回路とを有するモノリシック型表示装置では駆動回路が画素部の周辺に形成されるため、画素部のみを基板上に形成するよりも駆動回路の分だけ必要とする基板サイズが大きくなる。従って、駆動回路の専有面積を如何に小さくするかで１枚の基板から切り出せる表示装置の枚数が変わってくる。
【０００５】
特に、画素部が対角１インチ以下の表示装置になると非常に小さな基板上に駆動回路を搭載しなくてはならず、駆動回路の専有面積が基板サイズに大きく影響を与えてしまう。しかしながら、画素部の大小に拘わらず駆動回路の機能は同じであり、同一機能の回路をより狭い範囲に形成するためには、ＴＦＴ特性の向上や微細化技術等、様々な要素が律速点となりうる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題点を鑑みてなされたものであり、アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置のさらなる小型化及び製造コストの低減を課題とする。そして、そのようなアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置を表示用ディスプレイとして具備する電子装置（電子デバイス）のさらなる小型化及び製造コストの低減を課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置では、一画素毎にＥＬ素子が設けられている。ここでいうＥＬ素子は、陰極、ＥＬ層及び陽極でなる発光素子である。このＥＬ素子の出力光（以下、ＥＬ光という）は基板側か基板と反対側かのどちらかに出力される。この様子を図６に示す。
【０００８】
図６（Ａ）の構造は、ＥＬ素子が下から順に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）でなる画素電極（陽極）／ＥＬ層／ＭｇＡｇ電極（陰極）で形成されている。また、陰極自体は薄いので陰極の機能を保護すると同時に補助するための保護電極（ここではアルミ電極）を設けている。この場合、ＥＬ光はＴＦＴが形成された基板側に出力される。従って、画素電極の全面積のうち、その下にＴＦＴや配線のない部分が有効発光領域となる。
【０００９】
一方、図６（Ｂ）の構造は、ＥＬ素子が下から順に、アルミ膜でなる画素電極／ＭｇＡｇ電極（陰極）／ＥＬ層／ＩＴＯ電極（陽極）で形成されている。この場合、ＥＬ光は画素電極を透過しないので全て基板とは反対側（ＥＬ表示装置の上面側）に出力される。従って、画素電極の全面積が有効発光領域となる。
【００１０】
以上のように、図６（Ａ）の場合には画素電極の下に極力素子や配線を形成しないことが重要である。ところが図６（Ｂ）の場合には、画素電極の下にどのようなものが形成されていても関係なく、完全なデッドスペースとなっている。
【００１１】
本発明の主旨は、図６（Ｂ）のような方式でＥＬ素子を発光させるアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置において、画素電極の下のデッドスペースを有効に活用することを目的とする。具体的には、画素部においてマトリクス状に配列された各画素の画素電極の下に、画素部を駆動するための駆動回路を形成する。さらには、駆動回路だけでなくその他の信号処理部（分周波回路、昇圧回路、γ補正回路、メモリ若しくは差動増幅回路など）をも形成しうる。
【００１２】
即ち、従来、画素部の周辺に設けられていた回路又は素子を、画素部内のデッドスペースに配置し、基板面積の有効活用を図るものである。なお、画素部の周辺に設けられていた素子としてはＥＳＤ（静電破壊）対策用の保護素子なども含むものとする。
【００１３】
また、本発明はアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置のみに適用されるものではなく、同一基板上に駆動回路を有し、画素部が単純マトリクス型であるようなＥＬ表示装置にも適用できる。即ち、画素部においてＥＬ光が基板とは反対側に出力されるＥＬ表示装置であって、且つ、基板上に他の回路又は素子が形成される場合において、本発明は有効である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
まず本発明のアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置について、断面構造の概略を図１に示す。図１において、１１は基板、１２は下地となる絶縁膜（以下、下地膜という）である。基板１１としてはガラス基板、石英基板、結晶化ガラス基板、セラミックス基板、シリコン基板、金属基板又はプラスチック基板を用いることができる。
【００１５】
また、下地膜１２は特に可動イオンを含む基板や導電性を有する基板を用いる場合に有効であるが、石英基板には設けなくても構わない。下地膜１２としては、珪素（シリコン）を含む絶縁膜を用いれば良い。なお、本明細書において「珪素を含む絶縁膜」とは、具体的には酸化珪素膜、窒化珪素膜若しくは窒化酸化珪素膜（ＳｉＯｘＮｙ：ｘ、ｙは任意の整数、で示される）など珪素に対して酸素若しくは窒素を所定の割合で含ませた絶縁膜を指す。
【００１６】
２０１はスイッチング用ＴＦＴ、２０２は電流制御用ＴＦＴであり、ここではどちらもｎチャネル型ＴＦＴで形成されている。ｎチャネル型ＴＦＴの電界効果移動度はｐチャネル型ＴＦＴの電界効果移動度よりも大きいため、動作速度が早く大電流を流しやすい。また、同じ電流量を流すにもＴＦＴサイズはｎチャネル型ＴＦＴの方が小さくできる。そのため、ｎチャネル型ＴＦＴを電流制御用ＴＦＴとして用いた方が画素電極の下のデッドスペースをより有効に活用することができる。
【００１７】
ただし、本発明において、スイッチング用ＴＦＴと電流制御用ＴＦＴをｎチャネル型ＴＦＴに限定する必要はなく、両方又はどちらか片方にｐチャネル型ＴＦＴを用いることも可能である。
【００１８】
スイッチング用ＴＦＴ２０１は、ソース領域１３、ドレイン領域１４、ＬＤＤ領域１５a〜１５d、分離領域１６及びチャネル形成領域１７a、１７bを含む活性層、ゲート絶縁膜１８、ゲート電極１９a、１９b、第１層間絶縁膜２０、ソース配線２１並びにドレイン配線２２を有して形成される。なお、ゲート絶縁膜１８又は第１層間絶縁膜２０は基板上の全ＴＦＴに共通であっても良いし、回路又は素子に応じて異ならせても良い。
【００１９】
また、図２に示すスイッチング用ＴＦＴ２０１はゲート電極１９a、１９bが電気的に接続されており、いわゆるダブルゲート構造となっている。勿論、ダブルゲート構造だけでなく、トリプルゲート構造などいわゆるマルチゲート構造（直列に接続された二つ以上のチャネル形成領域を有する活性層を含む構造）であっても良い。
【００２０】
マルチゲート構造はＴＦＴのオフ電流を低減する上で極めて有効であり、スイッチング用ＴＦＴのオフ電流を十分に低くすれば、スイッチング用ＴＦＴのドレインにコンデンサ（電流制御用ＴＦＴのゲート電圧を維持するためのコンデンサ）を設けない構成とすることも可能である。その結果、画素内のデッドスペースのさらなる有効活用が可能となる。
【００２１】
さらに、スイッチング用ＴＦＴ２０１においては、ＬＤＤ領域１５a〜１５dは、ゲート絶縁膜１８を介してゲート電極１９a、１９bと重ならないように設ける。このような構造はオフ電流を低減する上で非常に効果的である。また、ＬＤＤ領域１５a〜１５dの長さ（幅）は０．５〜３．５μｍ、代表的には２．０〜２．５μｍとすれば良い。
【００２２】
なお、チャネル形成領域とＬＤＤ領域との間にオフセット領域（チャネル形成領域と同一組成の半導体層でなり、ゲート電圧が印加されない領域）を設けることはオフ電流を下げる上でさらに好ましい。また、二つ以上のゲート電極を有するマルチゲート構造の場合、チャネル形成領域の間に設けられた分離領域１６（ソース領域又はドレイン領域と同一の濃度で同一の不純物元素が添加された領域）がオフ電流の低減に効果的である。
【００２３】
次に、電流制御用ＴＦＴ２０２は、ソース領域２６、ドレイン領域２７、ＬＤＤ領域２８及びチャネル形成領域２９を含む活性層、ゲート絶縁膜１８、ゲート電極３０、第１層間絶縁膜２０、ソース配線３１並びにドレイン配線３２を有して形成される。なお、ゲート電極３０はシングルゲート構造となっているが、マルチゲート構造であっても良い。
【００２４】
スイッチング用ＴＦＴ２０１のドレインは電流制御用ＴＦＴ２０２のゲートに接続されている。具体的には電流制御用ＴＦＴ２０２のゲート電極３０はスイッチング用ＴＦＴ２０１のドレイン領域１４とドレイン配線（接続配線とも言える）２２を介して電気的に接続されている。また、ソース配線３１は所定の電圧を供給する電流供給線に接続される。
【００２５】
電流制御用ＴＦＴ２０２はＥＬ素子２０３に注入される電流量を制御するための素子であるが、ＥＬ素子の劣化を考慮するとあまり多くの電流を流すことは好ましくない。そのため、電流制御用ＴＦＴ２０２に過剰な電流が流れないように、チャネル長（Ｌ）は長めに設計することが好ましい。望ましくは一画素あたり０．５〜２μＡ（好ましくは１〜１．５μＡ）となるようにする。
【００２６】
以上のことを踏まえると、図９に示すように、スイッチング用ＴＦＴのチャネル長をＬ１（但しＬ１＝Ｌ１a＋Ｌ１b）、チャネル幅をＷ１とし、電流制御用ＴＦＴのチャネル長をＬ２、チャネル幅をＷ２とした時、Ｗ１は０．１〜５μm（代表的には０．５〜２μm）、Ｗ２は０．５〜１０μm（代表的には２〜５μm）とするのが好ましい。また、Ｌ１は０．２〜１８μm（代表的には２〜１５μm）、Ｌ２は１〜５０μm（代表的には１０〜３０μm）とするのが好ましい。但し、本発明は以上の数値に限定されるものではない。
【００２７】
また、図１に示したＥＬ表示装置は、電流制御用ＴＦＴ２０２において、ドレイン領域２７とチャネル形成領域２９との間にＬＤＤ領域２８が設けられ、且つ、ＬＤＤ領域２８がゲート絶縁膜１８を挟んでゲート電極３０に重なっている領域と重なっていない領域とを有する点にも特徴がある。
【００２８】
電流制御用ＴＦＴ２０２は、ＥＬ素子２０３を発光させるために比較的多くの電流を流すため、ホットキャリア注入による劣化対策を講じておくことが望ましい。また、黒色を表示する際は、電流制御用ＴＦＴ２０２をオフ状態にしておくが、その際、オフ電流が高いときれいな黒色表示ができなくなり、コントラストの低下等を招く。従って、オフ電流も抑える必要がある。
【００２９】
ホットキャリア注入による劣化に関しては、ゲート電極に対してＬＤＤ領域が重なった構造が非常に効果的であることが知られている。しかしながら、ＬＤＤ領域全体を重ねてしまうとオフ電流が増加してしまうため、本出願人は上記構造に加えてゲート電極に重ならないＬＤＤ領域を直列に設けるという新規な構造によって、ホットキャリア対策とオフ電流対策とを同時に解決している。
【００３０】
この時、ゲート電極に重なったＬＤＤ領域の長さは０．１〜３μm（好ましくは０．３〜１．５μm）にすれば良い。長すぎては寄生容量を大きくしてしまい、短すぎてはホットキャリアを防止する効果が弱くなってしまう。また、ゲート電極に重ならないＬＤＤ領域の長さは１．０〜３．５μｍ（好ましくは１．５〜２．０μｍ）にすれば良い。長すぎると十分な電流を流せなくなり、短すぎるとオフ電流を低減する効果が弱くなる。
【００３１】
また、上記構造においてゲート電極とＬＤＤ領域とが重なった領域では寄生容量が形成されてしまうため、ソース領域２６とチャネル形成領域２９との間には設けない方が好ましい。電流制御用ＴＦＴはキャリア（ここでは電子）の流れる方向が常に同一であるので、ドレイン領域側のみにＬＤＤ領域を設けておけば十分である。
【００３２】
但し、電流制御用ＴＦＴ２０２の駆動電圧（ソース領域とドレイン領域との間にかかる電圧）が１０Ｖ以下となるとホットキャリア注入は殆ど問題にならなくなってくるため、ＬＤＤ領域２８を省略することも可能である。その場合、活性層はソース領域２６、ドレイン領域２７およびチャネル形成領域２９からなる。
【００３３】
また、流しうる電流量を多くするという観点から見れば、電流制御用ＴＦＴ２０２の活性層（特にチャネル形成領域）の膜厚を厚くする（好ましくは５０〜１００ｎｍ、さらに好ましくは６０〜８０ｎｍ）ことも有効である。逆に、スイッチング用ＴＦＴ２０１の場合はオフ電流を小さくするという観点から見れば、活性層（特にチャネル形成領域）の膜厚を薄くする（好ましくは２０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは２５〜４０ｎｍ）ことも有効である。
【００３４】
以上は画素内に設けられたＴＦＴの構造について説明したが、このとき同じ画素内には同時に駆動回路（厳密には駆動回路の一部）も形成される。図１には駆動回路を形成する基本単位となるＣＭＯＳ回路が図示されている。
【００３５】
図１においては極力動作速度を落とさないようにしつつホットキャリア注入を低減させる構造を有するＴＦＴをＣＭＯＳ回路のｎチャネル型ＴＦＴ２０４として用いる。なお、ここでいう駆動回路は、データ信号駆動回路（シフトレジスタ、レベルシフタ、バッファ、ラッチ、Ｄ／Ａコンバータ、サンプリング回路を含む）、ゲート信号駆動回路（シフトレジスタ、レベルシフタ、バッファを含む）を指す。勿論、他の信号処理回路（分周波回路、昇圧回路、γ補正回路、メモリ若しくは差動増幅回路など）を形成することも可能である。
【００３６】
ｎチャネル型２０４の活性層は、ソース領域３５、ドレイン領域３６、ＬＤＤ領域３７及びチャネル形成領域３８を含み、ＬＤＤ領域３７はゲート絶縁膜１８を挟んでゲート電極３９と重なっている。
【００３７】
ドレイン領域側のみにＬＤＤ領域を形成しているのは、動作速度を落とさないための配慮である。また、このｎチャネル型ＴＦＴ２０４はオフ電流値をあまり気にする必要はなく、それよりも動作速度を重視した方が良い。従って、ＬＤＤ領域３７は完全にゲート電極に重ねてしまい、極力抵抗成分を少なくすることが望ましい。即ち、いわゆるオフセットはなくした方がよい。
【００３８】
また、ＣＭＯＳ回路のｐチャネル型ＴＦＴ２０５は、ホットキャリア注入による劣化が殆ど気にならないので、特にＬＤＤ領域を設けなくても良い。従って活性層はソース領域４０、ドレイン領域４１及びチャネル形成領域４２を含み、その上にはゲート絶縁膜１８とゲート電極４３が設けられる。勿論、ｎチャネル型ＴＦＴ２０４と同様にＬＤＤ領域を設け、ホットキャリア対策を講じることも可能である。
【００３９】
また、ｎチャネル型ＴＦＴ２０４及びｐチャネル型ＴＦＴ２０５はそれぞれ第１層間絶縁膜２０に覆われ、ソース配線４４、４５が形成される。また、ドレイン配線４６によって両者は電気的に接続される。
【００４０】
次に、４７は第１パッシベーション膜であり、膜厚は１０ｎｍ〜１μm（好ましくは２００〜５００ｎｍ）とすれば良い。材料としては、珪素を含む絶縁膜（特に窒化酸化珪素膜又は窒化珪素膜が好ましい）を用いることができる。このパッシベーション膜４７は形成されたＴＦＴをアルカリ金属や水分から保護する役割をもつ。最終的にＴＦＴの上方に設けられるＥＬ層にはナトリウム等のアルカリ金属が含まれている。即ち、第１パッシベーション膜４７はこれらのアルカリ金属（可動イオン）をＴＦＴ側に侵入させない保護層としても働く。
【００４１】
また、４８は第２層間絶縁膜であり、ＴＦＴによってできる段差の平坦化を行う平坦化膜としての機能を有する。第２層間絶縁膜４８としては、有機樹脂膜が好ましく、ポリイミド、ポリアミド、アクリル、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）等を用いると良い。これらの有機樹脂膜は良好な平坦面を形成しやすく、比誘電率が低いという利点を有する。ＥＬ層は凹凸に非常に敏感であるため、ＴＦＴによる段差は第２層間絶縁膜で殆ど吸収してしまうことが望ましい。また、ゲート配線やデータ配線とＥＬ素子の陰極との間に形成される寄生容量を低減する上で、比誘電率の低い材料を厚く設けておくことが望ましい。従って、膜厚は０．５〜５μm（好ましくは１．５〜２．５μm）が好ましい。
【００４２】
また、４９は遮光性の導電膜でなる画素電極であり、第２層間絶縁膜４８及び第１パッシベーション膜４７にコンタクトホール（開孔）を開けた後、形成された開孔部において電流制御用ＴＦＴ２０２のドレイン配線３２に接続されるように形成される。なお、図１のように画素電極４９とドレイン領域２７とが直接接続されないようにしておくと、ＥＬ層のアルカリ金属がたとえ画素電極中を拡散したとしても、画素電極を経由して活性層へ侵入するようなことがない。
【００４３】
画素電極４９の上には酸化珪素膜、窒化酸化珪素膜または有機樹脂膜でなる第３層間絶縁膜５０が０．３〜１μmの厚さに設けられる。この第３層間絶縁膜５０は画素電極４９の上にエッチングにより開口部が設けられており、その開口部の縁はテーパー形状となるようにエッチングされる。テーパーの角度は１０〜６０°（好ましくは３０〜５０°）とすると良い。
【００４４】
第３層間絶縁膜５０の上には陰極５１が設けられる。陰極５１としては、仕事関数の小さいマグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）若しくはカルシウム（Ｃａ）を含む材料を用いる。好ましくはＭｇＡｇ（ＭｇとＡｇをＭｇ：Ａｇ＝１０：１で混合した材料）でなる電極を用いれば良い。他にもＭｇＡｇＡｌ電極、ＬｉＡｌ電極、また、ＬｉＦＡｌ電極が挙げられる。
【００４５】
陰極５１の上にはＥＬ層５２が設けられる。このとき、ＥＬ層５２は陰極５１よりも大きいパターンとなるように形成し、陰極５１が完全にＥＬ層５２で覆われた状態とすることが必要である。こうすることで陰極５１が後に形成する陽極と短絡することを防ぐことができる。
【００４６】
また、陰極５１とＥＬ層５２はマルチチャンバー方式（クラスターツール方式ともいう）の真空蒸着機を用いて大気解放しないで連続的に形成することが望ましい。これはＥＬ層５２が水分を含んで劣化することを避けるためである。陰極５１及びＥＬ層５２の形成方法に関しては公知の技術を用いれば良い。
【００４７】
例えば、まず第１マスクで全画素に対応する陰極５１を形成し、次いで第２マスクで赤色に対応する画素に赤色発光のＥＬ層を形成する。そして、第２マスクを精密に制御しながらずらして順次緑色発光のＥＬ層、青色発光のＥＬ層を形成すればよい。なお、ＲＧＢに対応する画素がストライプ状に並んでいる時はこのような方法で第２マスクをずらすだけで良いが、いわゆるデルタ配置と呼ばれる画素構造を実現するには、緑色発光のＥＬ層用に第３マスク、青色発光のＥＬ層用に第４マスクを別途用いても構わない。
【００４８】
また、上記説明はマスクを用いた蒸着法により各色に発光するＥＬ層を形成する例を示したが、インクジェット法、スクリーン印刷法またはイオンプレーティング法を用いても良い。また、画素を囲むようにリブを形成して、各色のＥＬ層を区分けしても良い。
【００４９】
さらに、上記説明は赤、緑、青の三原色を用いてカラー表示を行う例を示したが、単色の発光を示すＥＬ表示装置であれば、赤、緑または青のいずれかの発光を示すＥＬ層を全面的に形成しても良い。勿論、白色発光のＥＬ層を形成してモノクロ表示のＥＬ表示装置とすることも可能である。
【００５０】
ＥＬ層５１は単層又は積層構造で用いられるが、積層構造で用いた方が発光効率が良いので好ましい。一般的には画素電極上に正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層の順に形成されるが、正孔輸送層／発光層／電子輸送層、または正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層のような構造でも良い。本発明では公知のいずれの構造を用いても良いし、ＥＬ層に対して蛍光性色素等をドーピングしても良い。
【００５１】
有機ＥＬ材料としては、例えば、以下の米国特許又は公開公報に開示された材料を用いることができる。米国特許第４，３５６，４２９号、  米国特許第４，５３９，５０７号、  米国特許第４，７２０，４３２号、  米国特許第４，７６９，２９２号、  米国特許第４，８８５，２１１号、  米国特許第４，９５０，９５０号、  米国特許第５，０５９，８６１号、  米国特許第５，０４７，６８７号、  米国特許第５，０７３，４４６号、  米国特許第５，０５９，８６２号、  米国特許第５，０６１，６１７号、  米国特許第５，１５１，６２９号、  米国特許第５，２９４，８６９号、  米国特許第５，２９４，８７０号、特開平１０−１８９５２５号公報、特開平８−２４１０４８号公報、特開平８−７８１５９号公報。
【００５２】
具体的には、正孔注入層としての有機材料は次のような一般式で表されるものを用いることができる。
【００５３】
【化１】
0004666722.tif 000002
【００５４】
ここでＱはＮ又はＣ−Ｒ（炭素鎖）であり、Ｍは金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物であり、Ｒは水素、アルキル、アラルキル、アリル又はアルカリルであり、Ｔ１、Ｔ２は水素、アルキル又はハロゲンのような置換基を含む不飽和六員環である。
【００５５】
また、正孔輸送層としての有機材料は芳香族第三アミンを用いることができ、好ましくは次のような一般式で表されるテトラアリルジアミンを含む。
【００５６】
【化２】
0004666722.tif 000003
【００５７】
ここでＡｒｅはアリレン群であり、ｎは１から４の整数であり、Ａｒ、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9はそれぞれ選択されたアリル群である。
【００５８】
また、ＥＬ層、電子輸送層又は電子注入層としての有機材料は金属オキシノイド化合物を用いることができる。金属オキシノイド化合物としては以下のような一般式で表されるものを用いれば良い。
【００５９】
【化３】
0004666722.tif 000004
【００６０】
ここでＲ2−Ｒ7は置き換え可能であり、次のような金属オキシノイド化合物を用いることもできる。
【００６１】
【化４】
0004666722.tif 000005
【００６２】
ここでＲ2−Ｒ7は上述の定義によるものであり、Ｌ1−Ｌ5は１から１２の炭素元素を含む炭水化物群であり、Ｌ1、Ｌ2又はＬ2、Ｌ3は共にベンゾ環を形成することができる。また、次のような金属オキシノイド化合物でも良い。
【００６３】
【化５】
0004666722.tif 000006
【００６４】
ここでＲ2−Ｒ6は置き換え可能である。このように有機ＥＬ材料としては有機リガンドを有する配位化合物を含む。但し、以上の例は本発明のＥＬ材料として用いることのできる有機ＥＬ材料の一例であって、これに限定する必要はまったくない。
【００６５】
また、ＥＬ材料としてポリマー系材料を用いても良い。代表的なポリマー系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン（ＰＰＶ）系やポリフルオレン系などの高分子材料が挙げられる。カラー化するには、例えば、赤色発光材料にはシアノポリフェニレンビニレン、緑色発光材料にはポリフェニレンビニレン、青色発光材料にはポリフェニレンビニレン及びポリアルキルフェニレンが好ましい。
【００６６】
なお、ＥＬ表示装置には大きく分けて四つのカラー化表示方式があり、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）に対応した三種類のＥＬ素子を形成する方式、白色発光のＥＬ素子とカラーフィルターを組み合わせた方式、青色又は青緑発光のＥＬ素子と蛍光体（蛍光性の色変換層：ＣＣＭ）とを組み合わせた方式、陰極（対向電極）に透明電極を使用してＲＧＢに対応したＥＬ素子を重ねる方式、がある。
【００６７】
図１の構造はＲＧＢに対応した三種類のＥＬ素子を形成する方式を用いた場合の例である。なお、図１には一つの画素しか図示していないが、同一構造の画素が赤、緑又は青のそれぞれの色に対応して形成され、これによりカラー表示を行うことができる。しかし本発明は発光方式に関わらず実施することが可能であり、上記四つの全ての方式を本発明に用いることができる。
【００６８】
こうしてＥＬ層５２まで形成したら、その上に透明導電膜（酸化物導電膜）でなる陽極５３を形成する。膜厚は８０〜３００ｎｍ（好ましくは１００〜２００ｎｍ）とすれば良い。本発明の場合、ＥＬ層で発生した光は図１の上方向（基板と反対側の方向）に出力されるので陽極５３はＥＬ層５２から発した光に対して透明でなければならい。
【００６９】
なお、本明細書中では、陰極５１（画素電極４９と併せて陰極と考えても良い）、ＥＬ層５２及び陽極５３で形成される発光素子をＥＬ素子と呼ぶ。図１においてＥＬ素子は符号２０３で示す。
【００７０】
また、５４は第２パッシベーション膜であり、膜厚は１０ｎｍ〜１μm（好ましくは２００〜５００ｎｍ）とすれば良い。第２パッシベーション膜５４を設ける目的は、ＥＬ層５２を水分から保護する目的が主であるが、放熱効果をもたせることも有効である。但し、上述のようにＥＬ層は熱に弱いので、なるべく低温（好ましくは室温から１２０℃までの温度範囲）で成膜するのが望ましい。従って、プラズマＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法又は溶液塗布法（スピンコーティング法）が望ましい成膜方法と言える。
【００７１】
こうして図１に示すような構造の画素部が完成する。本発明の画素部はｎチャネル型ＴＦＴ２０４とｐチャネル型ＴＦＴ２０５とでなるＣＭＯＳ回路が画素電極４９の下に形成されており、このＣＭＯＳ回路を基本単位として様々な素子、駆動回路又は信号処理部が形成される。なお、図１は一画素に一つＣＭＯＳ回路が形成されているという意味ではなく、画素内に駆動回路など従来画素部の周辺に設けられていた回路が形成されることを意味している。
【００７２】
従って、従来、画素部の周辺に設けられていた素子、駆動回路又は信号処理部は、各画素において画素電極の下に形成されたＴＦＴで形成され、全体として画素部の内部（画素部の内側）に形成される。
【００７３】
なお、本発明の主旨は、基板と反対側に光を出力させるＥＬ表示装置において、従来、画素部の周辺に設けられていた回路又は素子を、画素部内のデッドスペース（画素電極の下）に配置し、基板面積の有効活用を図る点にある。従って、図１のＴＦＴ構造に限定されるものではない。
【００７４】
〔実施例１〕
本発明の実施例について図２〜図５を用いて説明する。ここでは、図１に示した画素部を作製する方法について説明する。但し、説明を簡単にするために、駆動回路に関しては基本単位であるＣＭＯＳ回路を図示することとする。
【００７５】
まず、図２（Ａ）に示すように、下地膜（図示せず）を表面に設けた基板５０１を用意する。本実施例では結晶化ガラス上に下地膜として１００ｎｍ厚の窒化酸化珪素膜を２００ｎｍ厚の窒化酸化珪素膜とを積層して用いる。この時、結晶化ガラス基板に接する方の窒素濃度を１０〜２５ｗｔ％としておくと良い。勿論、下地膜を設けずに石英基板上に直接素子を形成しても良い。
【００７６】
次に基板５０１の上に４５ｎｍの厚さのアモルファスシリコン膜５０２を公知の成膜法で形成する。なお、アモルファスシリコン膜に限定する必要はなく、非晶質構造を含む半導体膜（微結晶半導体膜を含む）であれば良い。さらに非晶質シリコンゲルマニウム膜などの非晶質構造を含む化合物半導体膜でも良い。
【００７７】
ここから図２（Ｃ）までの工程は本出願人による特開平１０−２４７７３５号公報を完全に引用することができる。同公報ではＮｉ等の元素を触媒として用いた半導体膜の結晶化方法に関する技術を開示している。
【００７８】
まず、開口部５０３a、５０３bを有する保護膜５０４を形成する。本実施例では１５０ｎｍ厚の酸化珪素膜を用いる。そして、保護膜５０４の上にスピンコート法によりニッケル（Ｎｉ）を含有する層（Ｎｉ含有層）５０５を形成する。このＮｉ含有層の形成に関しては、前記公報を参考にすれば良い。
【００７９】
次に、図２（Ｂ）に示すように、不活性雰囲気中で５７０℃１４時間の加熱処理を加え、アモルファスシリコン膜５０２を結晶化する。この際、Ｎｉが接した領域（以下、Ｎｉ添加領域という）５０６a、５０６bを起点として、基板と概略平行に結晶化が進行し、棒状結晶が集まって並んだ結晶構造でなるポリシリコン膜５０７が形成される。
【００８０】
次に、図２（Ｃ）に示すように、保護膜５０５をそのままマスクとして１５族に属する元素（好ましくはリン）をＮｉ添加領域５０６a、５０６bに添加する。こうして高濃度にリンが添加された領域（以下、リン添加領域という）５０８a、５０８bが形成される。
【００８１】
次に、図２（Ｃ）に示すように、不活性雰囲気中で６００℃１２時間の加熱処理を加える。この熱処理によりポリシリコン膜５０７中に存在するＮｉは移動し、最終的には殆ど全て矢印が示すようにリン添加領域５０８a、５０８bに捕獲されてしまう。これはリンによる金属元素（本実施例ではＮｉ）のゲッタリング効果による現象であると考えられる。
【００８２】
この工程によりポリシリコン膜５０９中に残るＮｉの濃度はＳＩＭＳ（質量二次イオン分析）による測定値で少なくとも２×１０17atoms/cm3にまで低減される。Ｎｉは半導体にとってライフタイムキラーであるが、この程度まで低減されるとＴＦＴ特性には何ら悪影響を与えることはない。また、この濃度は殆ど現状のＳＩＭＳ分析の測定限界であるので、実際にはさらに低い濃度（２×１０17atoms/cm3以下）であると考えられる。
【００８３】
こうして触媒を用いた結晶化され、且つ、その触媒がＴＦＴの動作に支障を与えないレベルにまで低減されたポリシリコン膜５０９が得られる。その後、このポリシリコン膜５０９を用いた活性層５１０〜５１３をパターニング工程により形成する。なお、この時、後のパターニングにおいてマスク合わせを行うためのマーカーを、上記ポリシリコン膜を用いて形成すると良い。（図２（Ｄ））
【００８４】
次に、図２（Ｅ）に示すように、５０ｎｍ厚の窒化酸化シリコン膜をプラズマＣＶＤ法により形成し、その上で酸化雰囲気中で９５０℃１時間の加熱処理を加え、熱酸化工程を行う。なお、酸化雰囲気は酸素雰囲気でも良いし、ハロゲン元素を添加した酸素雰囲気でも良い。
【００８５】
この熱酸化工程では活性層と上記窒化酸化シリコン膜との界面で酸化が進行し、約１５ｎｍ厚のポリシリコン膜が酸化されて約３０ｎｍ厚の酸化シリコン膜が形成される。即ち、３０ｎｍ厚の酸化シリコン膜と５０ｎｍ厚の窒化酸化シリコン膜が積層されてなる８０ｎｍ厚のゲート絶縁膜５１４が形成される。また、活性層５１０〜５１３の膜厚はこの熱酸化工程によって３０ｎｍとなる。
【００８６】
次に、図３（Ａ）に示すように、レジストマスク５１５を形成し、ゲート絶縁膜５１４を介してｐ型を付与する不純物元素（以下、ｐ型不純物元素という）を添加する。ｐ型不純物元素としては、代表的には１３族に属する元素、典型的にはボロンまたはガリウムを用いることができる。この工程（チャネルドープ工程という）はＴＦＴのしきい値電圧を制御するための工程である。
【００８７】
なお、本実施例ではジボラン（Ｂ2Ｈ6）を質量分離しないでプラズマ励起したイオンドープ法でボロンを添加する。勿論、質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いても良い。この工程により１×１０15〜１×１０18atoms/cm3（代表的には５×１０16〜５×１０17atoms/cm3）の濃度でボロンを含む不純物領域５１６〜５１８が形成される。
【００８８】
次に、図３（Ｂ）に示すように、レジストマスク５１９a、５１９bを形成し、ゲート絶縁膜５１４を介してｎ型を付与する不純物元素（以下、ｎ型不純物元素という）を添加する。なお、ｎ型不純物元素としては、代表的には１５族に属する元素、典型的にはリン又は砒素を用いることができる。なお、本実施例ではフォスフィン（ＰＨ3）を質量分離しないでプラズマ励起したプラズマドーピング法を用い、リンを１×１０18atoms/cm3の濃度で添加する。勿論、質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いても良い。
【００８９】
この工程により形成されるｎ型不純物領域５２０、５２１には、ｎ型不純物元素が２×１０16〜５×１０19atoms/cm3（代表的には５×１０17〜５×１０18atoms/cm3）の濃度で含まれるようにドーズ量を調節する。
【００９０】
次に、図３（Ｃ）に示すように、添加されたｎ型不純物元素及びｐ型不純物元素の活性化工程を行う。活性化手段を限定する必要はないが、ゲート絶縁膜５１４が設けられているので電熱炉を用いたファーネスアニール処理が好ましい。また、図６（Ａ）の工程でチャネル形成領域となる部分の活性層／ゲート絶縁膜界面にダメージを与えてしまっている可能性があるため、なるべく高い温度で加熱処理を行うことが望ましい。
【００９１】
本実施例の場合には耐熱性の高い結晶化ガラスを用いているので、活性化工程を８００℃１時間のファーネスアニール処理により行う。なお、処理雰囲気を酸化性雰囲気にして熱酸化を行っても良いし、不活性雰囲気で加熱処理を行っても良い。
【００９２】
この工程によりｎ型不純物領域５２０、５２１の端部、即ち、ｎ型不純物領域５２０、５２１の周囲に存在するｎ型不純物元素を添加していない領域（図３（Ａ）の工程で形成されたｐ型不純物領域）との境界部（接合部）が明確になる。このことは、後にＴＦＴが完成した時点において、ＬＤＤ領域とチャネル形成領域とが非常に良好な接合部を形成しうることを意味する。
【００９３】
次に、２００〜４００ｎｍ厚の導電膜を形成し、パターニングしてゲート電極５２２〜５２５を形成する。なお、ゲート電極は単層の導電膜で形成しても良いが、必要に応じて二層、三層といった積層膜とすることが好ましい。ゲート電極の材料としては公知の導電膜を用いることができる。（図３（Ｄ））
【００９４】
具体的には、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、クロム（Ｃｒ）、導電性を有するシリコン（Ｓｉ）から選ばれた元素でなる膜、または前記元素の窒化物でなる膜（代表的には窒化タンタル膜、窒化タングステン膜、窒化チタン膜）、または前記元素を組み合わせた合金膜（代表的にはＭｏ−Ｗ合金、Ｍｏ−Ｔａ合金）、または前記元素のシリサイド膜（代表的にはタングステンシリサイド膜、チタンシリサイド膜）を用いることができる。勿論、単層で用いても積層して用いても良い。
【００９５】
本実施例では、５０ｎｍ厚の窒化タングステン（ＷＮ）膜と、３５０ｎｍ厚のタングステン（Ｗ）膜とでなる積層膜を用いる。これはスパッタ法で形成すれば良い。また、スパッタガスとしてＸｅ、Ｎｅ等の不活性ガスを添加すると応力による膜はがれを防止することができる。
【００９６】
またこの時、ゲート電極５２３、５２５はそれぞれｎ型不純物領域５２０、５２１の一部とゲート絶縁膜５１４を挟んで重なるように形成する。この重なった部分が後にゲート電極と重なったＬＤＤ領域となる。なお、ゲート電極５２４は断面では二つに見えるが、実際は電気的に接続されている。
【００９７】
次に、図４（Ａ）に示すように、ゲート電極５２２〜５２５をマスクとして自己整合的にｎ型不純物元素（本実施例ではリン）を添加する。こうして形成される不純物領域５２６〜５３２にはｎ型不純物領域５２０、５２１の１／２〜１／１０（代表的には１／３〜１／４）の濃度でリンが添加されるように調節する。具体的には、１×１０16〜５×１０18atoms/cm3（典型的には３×１０17〜３×１０18atoms/cm3）の濃度が好ましい。
【００９８】
次に、図４（Ｂ）に示すように、ゲート電極等を覆う形でレジストマスク５３３a〜５３３dを形成し、ｎ型不純物元素（本実施例ではリン）を添加して高濃度にリンを含む不純物領域５３４〜５４０を形成する。ここでもフォスフィン（ＰＨ3）を用いたイオンドープ法で行い、この領域のリンの濃度は１×１０20〜１×１０21atoms/cm3（代表的には２×１０20〜５×１０20atoms/cm3）となるように調節する。
【００９９】
この工程によってｎチャネル型ＴＦＴのソース領域若しくはドレイン領域が形成されるが、スイッチング用ＴＦＴは、図４（Ａ）の工程で形成したｎ型不純物領域５２９〜５３１の一部を残す。この残された領域が、図１におけるスイッチング用ＴＦＴのＬＤＤ領域１５a〜１５dに対応する。
【０１００】
次に、図４（Ｃ）に示すように、レジストマスク５３３a〜５３３dを除去し、新たにレジストマスク５４１を形成する。そして、ｐ型不純物元素（本実施例ではボロン）を添加し、高濃度にボロンを含む不純物領域５４２、５４３を形成する。ここではジボラン（Ｂ2Ｈ6）を用いたイオンドープ法により３×１０20〜３×１０21atoms/cm3（代表的には５×１０20〜１×１０21atoms/cm3ノ）濃度となるようにボロンを添加する。
【０１０１】
なお、不純物領域５４２、５４３には既に１×１０16〜５×１０18atoms/cm3の濃度でリンが添加されているが、ここで添加されるボロンはその少なくとも３倍以上の濃度で添加される。そのため、予め形成されていたｎ型の不純物領域は完全にＰ型に反転し、Ｐ型の不純物領域として機能する。
【０１０２】
次に、図４（Ｄ）に示すように、レジストマスク５４１を除去した後、第１層間絶縁膜５４４を形成する。第１層間絶縁膜５４４としては、珪素を含む絶縁膜を単層で用いるか、その中で組み合わせた積層膜を用いれば良い。また、膜厚は４００ｎｍ〜１．５μmとすれば良い。本実施例では、２００ｎｍ厚の窒化酸化珪素膜の上に８００ｎｍ厚の酸化珪素膜を積層した構造とする。
【０１０３】
その後、それぞれの濃度で添加されたｎ型またはｐ型不純物元素を活性化する。活性化手段としては、ファーネスアニール法が好ましい。本実施例では電熱炉において窒素雰囲気中、５５０℃、４時間の熱処理を行う。
【０１０４】
さらに、３〜１００％の水素を含む雰囲気中で、３００〜４５０℃で１〜１２時間の熱処理を行い水素化処理を行う。この工程は熱的に励起された水素により半導体膜の不対結合手を水素終端する工程である。水素化の他の手段として、プラズマ水素化（プラズマにより励起された水素を用いる）を行っても良い。
【０１０５】
なお、水素化処理は第１層間絶縁膜５４４を形成する間に入れても良い。即ち、２００ｎｍ厚の窒化酸化珪素膜を形成した後で上記のように水素化処理を行い、その後で残り８００ｎｍ厚の酸化珪素膜を形成しても構わない。
【０１０６】
次に、図５（Ａ）に示すように、第１層間絶縁膜５４４に対してコンタクトホールを形成し、ソース配線５４５〜５４８と、ドレイン配線５４９〜５５１を形成する。なお、本実施例ではこの電極を、チタン膜を１００ｎｍ、チタンを含むアルミニウム膜を３００ｎｍ、チタン膜１５０ｎｍをスパッタ法で連続形成した３層構造の積層膜とする。勿論、他の導電膜でも良い。
【０１０７】
次に、５０〜５００ｎｍ（代表的には２００〜３００ｎｍ）の厚さで第１パッシベーション膜５５２を形成する。本実施例では第１パッシベーション膜５５２として３００ｎｍ厚の窒化酸化シリコン膜を用いる。これは窒化シリコン膜で代用しても良い。
【０１０８】
この時、窒化酸化シリコン膜の形成に先立ってＨ2、ＮＨ3等水素を含むガスを用いてプラズマ処理を行うことは有効である。この前処理により励起された水素が第１層間絶縁膜５４４に供給され、熱処理を行うことで、第１パッシベーション膜５５２の膜質が改善される。それと同時に、第１層間絶縁膜５４４に添加された水素が下層側に拡散するため、効果的に活性層を水素化することができる。
【０１０９】
次に、図５（Ｂ）に示すように、有機樹脂からなる第２層間絶縁膜５５３を形成する。有機樹脂としてはポリイミド、アクリル、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）等を使用することができる。特に、第２層間絶縁膜５５３はＴＦＴが形成する段差を平坦化する必要があるので、平坦性に優れたアクリル膜が好ましい。本実施例では２．５μmの厚さでアクリル膜を形成する。
【０１１０】
次に、第２層間絶縁膜５５３、第１パッシベーション膜５５２にドレイン配線５５１に達するコンタクトホールを形成し、画素電極５５４を形成する。本実施例では画素電極５５４として２００ｎｍ厚のアルミニウム合金膜（１wt%のチタンを含有したアルミニウム膜）を形成する。
【０１１１】
次に、珪素を含む絶縁膜（本実施例では酸化珪素膜）を５００ｎｍの厚さに形成し、画素電極５５４に対応する位置に開口部を形成して第３層間絶縁膜５５５を形成する。開口部を形成する際、ウェットエッチング法を用いることで容易にテーパー形状の側壁とすることができる。開口部の側壁が十分になだらかでないと段差に起因するＥＬ層の劣化が顕著な問題となってしまう。
【０１１２】
次に、陰極（ＭｇＡｇ電極）５５６及びＥＬ層５５７を、真空蒸着法を用いて大気解放しないで連続形成する。なお、陰極５５６の膜厚は１８０〜３００ｎｍ（典型的には２００〜２５０ｎｍ）、ＥＬ層５５７の厚さは８０〜２００ｎｍ（典型的には１００〜１２０ｎｍ）とすれば良い。
【０１１３】
この工程では、まず赤色に対応する画素、緑色に対応する画素及び青色に対応する画素に対して順次陰極５５６を形成する。このとき、陰極５５６をパターニングするとなると大気解放しなくてはならず、次に形成するＥＬ層との連続形成ができなくなってしまう。そのため、陰極５５６はメタルマスク等を用いた真空蒸着法により成膜時に物理的にパターン化することが望ましい。
【０１１４】
そして各画素に設けられた陰極５５６を覆うような形で真空蒸着法により各色に発光するＥＬ層５５７を形成する。但し、ＥＬ層は溶液に対する耐性に乏しいためフォトリソグラフィ技術を用いずに各色個別に形成しなくてはならない。そこでメタルマスク等を用いて所望の画素以外を隠して選択的に形成する。
【０１１５】
即ち、まず赤色に対応する画素以外を全て隠すマスクをセットし、そのマスクを用いて赤色発光のＥＬ層及び陰極を選択的に形成する。次いで、緑色に対応する画素以外を全て隠すマスクをセットし、そのマスクを用いて緑色発光のＥＬ層及び陰極を選択的に形成する。次いで、同様に青色に対応する画素以外を全て隠すマスクをセットし、そのマスクを用いて青色発光のＥＬ層及び陰極を選択的に形成する。なお、ここでは全て異なるマスクを用いるように記載しているが、同じマスクを使いまわしても構わない。
【０１１６】
本実施例のように真空蒸着法を用いて成膜時にパターン化されるような形成方法とすれば、陰極５５６とＥＬ層５５７を大気解放しないで連続的に形成することが可能となり、ＥＬ素子の発光効率を高めることができる。
【０１１７】
なお、ＥＬ層５５７としては公知の材料を用いることができる。公知の材料としては、駆動電圧を考慮すると有機材料を用いるのが好ましい。例えば正孔注入層、正孔輸送層、発光層及び電子注入層でなる４層構造をＥＬ層とすれば良い。また、本実施例ではＥＬ素子の陰極としてＭｇＡｇ電極を用いた例を示すが、公知の他の材料であっても良い。
【０１１８】
次に、ＥＬ層５５７を覆って透明導電膜でなる陽極５５８を形成する。本実施例では酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）膜を１１０ｎｍの厚さに形成し、パターニングを行って陽極とする。また、酸化インジウムに２〜２０％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）を混合した透明導電膜や酸化スズを用いても良い。
【０１１９】
最後に、窒化珪素膜でなる第２パッシベーション膜５５９を３００ｎｍの厚さに形成する。この第２パッシベーション膜５５９によりＥＬ層５５７を水分等から保護する。また、ＥＬ層５５７で発生した熱を逃がす役割も果たす。
【０１２０】
こうして図５（Ｃ）に示すような構造のアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置が完成する。なお、本実施例の作製工程は一例に過ぎない。例えば、本実施例では特開平１０−２４７７３５号公報に記載された手段で活性層となる半導体膜を形成しているが、他の公知の手段を用いても構わない。
【０１２１】
また、ＬＤＤ領域の配置等は好ましい一例を示したものであり、本実施例の構造に限定する必要はない。但し、活性層としてポリシリコン膜を用いる場合は信頼性を高め、且つ、ポリシリコン膜を活性層として用いる利点を生かす上でも本実施例の構造が好ましい。
【０１２２】
〔実施例２〕
実施例１に従って図５（Ｃ）まで完成したら、さらに外気に曝されないように気密性の高い保護フィルム（ラミネートフィルム、紫外線硬化樹脂フィルム等）やセラミックス製シーリングカンなどのハウジング材でパッケージング（封入）することが好ましい。その際、ハウジング材の内部を不活性雰囲気にしたり、内部に吸湿性材料（例えば酸化バリウム）を配置することでＥＬ層の信頼性（寿命）が向上する。
【０１２３】
また、パッケージング等の処理により気密性を高めたら、基板上に形成された素子又は回路から引き回された端子と外部信号端子とを接続するためのコネクター（フレキシブルプリントサーキット：ＦＰＣ）を取り付けて製品として完成する。このような出荷できる状態にまでしたＥＬ表示装置を本明細書中ではＥＬモジュールという。
【０１２４】
ここで本発明のＥＬモジュールの構成を図７（Ａ）、（Ｂ）を用いて説明する。基板７０１上には画素部７０２、ゲート信号側駆動回路７０３、データ信号側駆動回路７０４、信号処理部（分周波回路、昇圧回路など、駆動回路以外の回路群）７０５が形成されている。本発明ではゲート信号側駆動回路７０３、データ信号側駆動回路７０４、又は信号処理部７０５が画素部の内部（内側）に形成されている。また、図示されないがそれぞれの駆動回路又は信号処理部からの各種配線はＦＰＣ７０６に至り外部機器へと接続される。
【０１２５】
このとき画素部を囲むようにしてハウジング材７０７を設ける。なお、ハウジング材７０７は画素部７０２の外寸（高さ）よりも内寸（奥行き）が大きい凹部を有する形状又はシート形状であり、透明な部材で形成される。
【０１２６】
また、ハウジング材７０７は図７（Ｂ）に示すように接着剤７０８によって、基板７０１と共同して密閉空間７０９を形成するようにして基板７０１に固着される。このとき、ＥＬ素子は完全に前記密閉空間に封入された状態となり、外気から完全に遮断される。なお、ハウジング材７０７は複数設けても構わない。
【０１２７】
また、ハウジング材７０７の材質はガラス、ポリマー等の絶縁性物質が好ましい。例えば、非晶質ガラス（硼硅酸塩ガラス、石英等）、結晶化ガラス、セラミックスガラス、有機系樹脂（アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂等）、シリコーン系樹脂が挙げられる。
【０１２８】
また、接着剤７０８の材質は、エポキシ系樹脂、アクリレート系樹脂等の接着剤を用いることが可能である。さらに、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂を接着剤として用いることもできる。但し、可能な限り酸素、水分を透過しない材質であることが必要である。
【０１２９】
さらに、ハウジング材７０７と基板７０１との間の空隙７０９は不活性ガス（アルゴン、ヘリウム、窒素等）を充填しておくことが望ましい。また、ガスに限らず不活性液体（パーフルオロアルカンに代表されるの液状フッ素化炭素等）を用いることも可能である。不活性液体に関しては特開平８−７８５１９号で用いられているような材料で良い。
【０１３０】
また、空隙７０９に乾燥剤を設けておくことも有効である。乾燥剤としては特開平９−１４８０６６号公報に記載されているような材料を用いることができる。典型的には酸化バリウムを用いれば良い。
【０１３１】
また、画素部には個々に孤立したＥＬ素子を有する複数の画素が設けられ、それらは全て陽極７１０を共通電極として有している。陽極７１０は７１１で示される領域において、画素電極と同一材料でなる接続配線７１２を介して入出力配線７１３に接続される。入出力配線７１３は陽極７１０に所定の電圧を与えるための配線であり、導電性ペースト７１４を介してＦＰＣ７０６に接続される。
【０１３２】
ここで領域７１１におけるコンタクト構造を実現するための作製工程について図８を用いて説明する。
【０１３３】
まず、実施例１の工程に従って図５（Ａ）の状態を得る。このとき、基板端部にあるコンタクト部（図７（Ｂ）において７１１で示される領域）において第１層間絶縁膜５４４及びゲート絶縁膜５１４を除去し、その上に入出力配線７１３を形成する。勿論、図５（Ａ）のソース配線やドレイン配線と同時に形成される。（図８（Ａ））
【０１３４】
次に、図５（Ｂ）において第２層間絶縁膜５５３及び第１パッシベーション膜５５２をエッチングする際に、８０１で示される領域を除去し、且つ開孔部８０２を形成する。そして、開孔部８０２を覆うようにして接続配線７１２を形成する。勿論、この接続配線７１２は図５（Ｂ）において画素電極５５４と同時に形成される。（図８（Ｂ））
【０１３５】
この状態で画素部ではＥＬ素子の形成工程（第３層間絶縁膜、陰極及びＥＬ層の形成工程）が行われる。この際、図８に示される領域ではマスク等を用いて第３層間絶縁膜やＥＬ素子が形成されないようにする。そして、ＥＬ層５５７を形成した後、別のマスクを用いて陽極５５８を形成する。これにより陽極５５８と入出力配線７１３とが接続配線７１２を介して電気的に接続される。さらに、第２パッシベーション膜５５９を設けて図８（Ｃ）の状態を得る。
【０１３６】
以上の工程により図７（Ｂ）の７１１で示される領域のコンタクト構造が実現される。そして、入出力配線７１３はハウジング材７０７と基板７０１との隙間（但し接着剤７０８で充填されている。即ち、接着剤７０８は入出力配線の段差を十分に平坦化しうる厚さが必要である。）を通ってＦＰＣ７０６に接続される。なお、接着剤７０８が設けられる部分はハウジング材７０７と基板７０１とで圧迫されるため、素子や回路が存在すると破壊される可能性があるが、図７（Ｂ）のように配線が通っているだけならば問題はない。
【０１３７】
なお、本実施例に示したアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置の作製方法は実施例１に従えば良い。
【０１３８】
〔実施例３〕
本実施例では本発明のアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置における画素部の断面構造について図１０を用いて説明する。なお、図１０において図１と同一の部分に関しては図１と同一の符号を引用する。
【０１３９】
図１０において、１００１は電流供給線であり、電流制御用ＴＦＴ（図示せず）のソース領域へと接続されている。また、１００２はデータ配線であり、スイッチング用ＴＦＴ（図示せず）のソース領域に接続されている。
【０１４０】
ゲート配線と平行な方向において隣接する画素間には、上記電流供給線１００１とデータ配線１００２とが存在する。従って、異なる画素内に形成された駆動回路用ＴＦＴ（駆動回路の一部を形成するＴＦＴ）を相互に接続するためには、電流供給線１００１とデータ配線１００２とをまたぐことになる。
【０１４１】
この場合、本実施例に示すような方法が挙げられる。一つ目は、ゲート電極３９、４３と同時に第１接続配線１００３を形成し、この第１接続配線１００３によりデータ配線等の下をくぐる方式である。本実施例では電流供給線１００１とＣＭＯＳ回路１０００bとを接続するためにこの方式を用いている。
【０１４２】
また、二つ目は第２接続配線１００４を形成し、この第２接続配線１００４により電流供給線１００１及び／又はデータ配線１００２をまたぐ方式である。本実施例ではＣＭＯＳ回路１０００ａとＣＭＯＳ回路１０００ｂとを接続するためにこの方式を用いている。
【０１４３】
この場合、図５（Ｂ）の工程において、第２層間絶縁膜５５３にコンタクトホールを開けた後に、画素電極ではなく第２接続配線１００４を形成すれば良い。そして、次に第２接続配線１００４を覆う層間絶縁膜を形成し、コンタクトホールを開けて画素電極を形成すれば良い。
【０１４４】
なお、本実施例では電流供給線１００１及びデータ配線１００２が同一の層で形成されているが、別々の層であっても良い。即ち、電流供給線１００１又はデータ配線１００２を、図１０の第２接続配線１００４の層に形成すれば良い。その場合、電流供給線及びデータ配線を超えるには、ゲート配線と同一の層で第２接続配線を形成すれば良い。
【０１４５】
以上のように、本実施例では電流供給線及びデータ配線とは異なる層に形成された接続配線を用い、それにより上記電流供給線及びデータ配線を乗り越える点に特徴がある。本実施例の接続配線としては、ゲート配線と同一の配線、又はデータ配線と画素電極との間の層に設けた配線を用いることができる。
【０１４６】
なお、本実施例の構造は、実施例１を参照すれば容易に作製することができる。また、実施例２に示したＥＬ表示装置に本実施例の構成を組み合わせて実施することは可能である。
【０１４７】
〔実施例４〕
本実施例では、実施例３の構成を用いて画素内に駆動回路を形成した場合の例について説明する。具体的には、画素部の内部（内側）にシフトレジスタを形成した例について示す。
【０１４８】
図１１（Ａ）は画素部のある一画素を拡大した上面図、図１１（Ｂ）はその回路図である。スイッチング用ＴＦＴ２０１と電流制御用ＴＦＴ２０２は図１の同符号のＴＦＴに相当する。１１０１は保持容量であり、電流制御用ＴＦＴ２０２のゲートにかかる電圧を１フレーム期間保持する役割を果たす。但し、スイッチング用ＴＦＴ２０１をマルチゲート構造としてＴＦＴのオフ電流を極力低減すれば、保持容量１１０１を省略することも可能である。
【０１４９】
本実施例ではこの保持容量１１０１を電流制御用ＴＦＴ２０２のゲート電極と電流供給線１１０２との間で形成している。勿論、電流制御用ＴＦＴのソース領域と電流制御用ＴＦＴ２０２のゲート電極（ゲート配線も含む）との間で容量を形成しても良い。
【０１５０】
また、画素内にはシフトレジスタの一部（フリップフロップ回路）が示されており、インバータ１１０３、クロックドインバータ１１０４、１１０５の三つで一つのフリップフロップ回路を形成している。実際のシフトレジスタはこのフリップフロップ回路が直列に接続されている。
【０１５１】
また、Ｖgはゲート信号、Ｖsはソース信号（データ信号）、Ｖdd1（電流供給線１１０２）はＥＬ素子２０３の陰極に与える陰極信号、Ｖckはクロック信号（Ｖckの上にバーが付してあるものはＶckの反転信号を意味する）、Ｖdd2はクロックドインバータの正側信号、Ｖdd3はクロックドインバータの負側信号である。なお、本実施例ではＶdd1には接地電位が与えられる。
【０１５２】
本実施例のような構造では、一画素に一つのフリップフロップ回路が形成され、隣接する画素内に設けられて別のフリップフロップ回路と直列に接続される。そして、Ｖck等が画素間をまたぐ時、図１０において１００４で示したような接続配線１１０６〜１１１５を用いれば良い。
【０１５３】
なお、接続配線１１１４、１１１５はデータ配線や電流供給線と同時に形成しても良い。即ち、交差する際に同一層でなければ問題はなく、ある配線が他の配線をまたぐ時に他の配線をどの層で形成するかは実施者が適宜設計すれば良い。
【０１５４】
なお、本実施例の構成は、実施例１〜３のいずれの構成とも自由に組み合わせて実施することが可能である。
【０１５５】
〔実施例５〕
本実施例では、アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置の画素構造を実施例４とは異なる構造とした場合の一例を説明する。具体的には、図１１に示した画素構造において、ゲート配線の材料を異なるものとした例を図１２に示す。なお、図１２は図１１の構造とほぼ同じであるので異なる部分だけを説明する。
【０１５６】
なお、本実施例ではスイッチング用ＴＦＴをトリプルゲート構造としてオフ電流を１０pＡ以下（好ましくは１pＡ以下）にしている。そのため、図１１に示した保持容量１１０１は省略している。
【０１５７】
図１２において、６１a〜６１cは実施例１のゲート電極と同様に窒化タングステン膜とタングステン膜の積層膜で形成されたゲート電極である。これらは図１２に示すように各々孤立したパターンとしても良いし、各々電気的に接続されたパターンとしても良いが、形成された時点では電気的にフローティング状態にある。
【０１５８】
ゲート電極６１a〜６１cとしては窒化タンタル膜とタンタル膜の積層膜やモリブデンとタングステンの合金膜など他の導電膜を用いても良い。しかしながら、３μm以下（好ましくは２μm以下）の微細な線幅を形成しうる加工性に優れた膜であることが望ましい。また、ゲート絶縁膜を拡散して活性層中へ侵入するような元素を含む膜でないことが望ましい。
【０１５９】
これに対して、ゲート配線６２としてゲート電極６１a〜６１cよりも低抵抗な導電膜、代表的にはアルミニウムを主成分とする合金膜や銅を主成分とする合金膜を用いる。ゲート配線６２には特に微細な加工性は要求されない。また、活性層と重なることもないので絶縁膜中を拡散しやすいアルミニウムや銅を含んでいても問題とはならない。
【０１６０】
本実施例の構造とする場合、実施例１の図４（Ｄ）の工程において第１層間絶縁膜５４４を形成する前に活性化工程を行えば良い。この場合、ゲート電極６１a〜６１cが露呈した状態で熱処理を加えることになるが、十分に不活性な雰囲気、好ましくは酸素濃度が１ppm以下である不活性雰囲気で熱処理を行う分にはゲート電極６１a〜６１cが酸化されることはない。即ち、酸化により抵抗値が増加することもないし、除去の困難は絶縁膜（酸化膜）で覆われてしまうようなこともない。
【０１６１】
そして、活性化工程が終了したら、アルミニウム又は銅を主成分とする導電膜を形成し、パターニングによりゲート配線６２を形成すればよい。この時点でゲート電極６１a〜６１cとゲート配線６２との接触する部分では良好なオーミックコンタクトが確保され、ゲート電極６１a〜６１cに所定のゲート電圧を加えることが可能となる。
【０１６２】
本実施例のような構造によってゲート配線の配線抵抗を極力低減することは、配線遅延を低減する上で非常に有効である。なお、本実施例において図１２に示した画素構造は本発明を何ら限定するものではなく、好ましい一例に過ぎない。また、本実施例は、実施例１〜３のいずれの構成とも自由に組み合わせて実施することが可能である。
【０１６３】
〔実施例６〕
図１に示した構造において、活性層と基板１１との間に設けられる下地膜１２として、放熱効果の高い材料を用いることは有効である。特に電流制御用ＴＦＴは長時間に渡って比較的多くの電流を流すことになるため発熱しやすく、自己発熱による劣化が問題となりうる。そのような場合に、本実施例のように下地膜が放熱効果を有することでＴＦＴの熱劣化を抑制することができる。
【０１６４】
放熱効果をもつ透光性材料としては、Ｂ（ホウ素）、Ｃ（炭素）、Ｎ（窒素）から選ばれた少なくとも一つの元素と、Ａｌ（アルミニウム）、Ｓｉ（珪素）、Ｐ（リン）から選ばれた少なくとも一つの元素とを含む絶縁膜が挙げられる。
【０１６５】
例えば、窒化アルミニウム（ＡｌｘＮｙ）に代表されるアルミニウムの窒化物、炭化珪素（ＳｉｘＣｙ）に代表される珪素の炭化物、窒化珪素（ＳｉｘＮｙ）に代表される珪素の窒化物、窒化ホウ素（ＢｘＮｙ）に代表されるホウ素の窒化物、リン化ホウ素（ＢｘＰｙ）に代表されるホウ素のリン化物を用いることが可能である。また、酸化アルミニウム（ＡｌｘＯｙ）に代表されるアルミニウムの酸化物は透光性に優れ、熱伝導率が２０Ｗｍ-1Ｋ-1であり、好ましい材料の一つと言える。なお、上記透光性材料において、ｘ、ｙは任意の整数である。
【０１６６】
また、上記化合物に他の元素を組み合わせることもできる。例えば、酸化アルミニウムに窒素を添加して、ＡｌＮｘＯｙで示される窒化酸化アルミニウムを用いることも可能である。この材料にも放熱効果だけでなく、水分やアルカリ金属等の侵入を防ぐ効果がある。なお、上記窒化酸化アルミニウムにおいて、ｘ、ｙは任意の整数である。
【０１６７】
また、特開昭６２−９０２６０号公報に記載された材料を用いることができる。即ち、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎ、Ｏ、Ｍを含む絶縁膜（但し、Ｍは希土類元素の少なくとも一種、好ましくはＣｅ（セリウム），Ｙｂ（イッテルビウム），Ｓｍ（サマリウム），Ｅｒ（エルビウム），Ｙ（イットリウム）、Ｌａ（ランタン）、Ｇｄ（ガドリニウム）、Ｄｙ（ジスプロシウム）、Ｎｄ（ネオジウム）から選ばれた少なくとも一つの元素）を用いることもできる。これらの材料にも放熱効果だけでなく、水分やアルカリ金属等の侵入を防ぐ効果がある。
【０１６８】
また、少なくともダイヤモンド薄膜又はアモルファスカーボン膜（特にダイヤモンドに特性の近いもの、ダイヤモンドライクカーボン等と呼ばれる。）を含む炭素膜を用いることもできる。これらは非常に熱伝導率が高く、放熱層として極めて有効である。但し、膜厚が厚くなると褐色を帯びて透過率が低下するため、なるべく薄い膜厚（好ましくは５〜１００ｎｍ）で用いることが好ましい。
【０１６９】
また、上記放熱効果をもつ材料からなる薄膜を単体で用いることもできるが、これらの薄膜と、珪素を含む絶縁膜とを積層して用いても良い。
【０１７０】
なお、本実施例の構成は、実施例１〜５のいずれの構成とも自由に組み合わせて実施することが可能である。
【０１７１】
〔実施例７〕
実施例１ではＥＬ層として有機ＥＬ材料を用いることが好ましいとしたが、本発明は無機ＥＬ材料を用いても実施できる。但し、現在の無機ＥＬ材料は非常に駆動電圧が高いため、そのような駆動電圧に耐えうる耐圧特性を有するＴＦＴを用いなければならない。
【０１７２】
または、将来的にさらに駆動電圧の低い無機ＥＬ材料が開発されれば、本発明に適用することは可能である。
【０１７３】
また、本実施例の構成は、実施例１〜６のいずれの構成とも自由に組み合わせることが可能である。
【０１７４】
〔実施例８〕
本発明を実施して形成されたアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置（ＥＬモジュール）は、自発光型であるため液晶表示装置に比べて明るい場所での視認性に優れている。そのため本発明は直視型のＥＬディスプレイ（ＥＬモジュールを組み込んだ表示ディスプレイを指す）に対して実施することが可能である。ＥＬディスプレイとしてはパソコンモニタ、ＴＶ放送受信用モニタ、広告表示モニタ等が挙げられる。
【０１７５】
また、本発明は上述のＥＬディスプレイも含めて、表示ディスプレイを部品として含むあらゆる電子装置に対して実施することが可能である。
【０１７６】
そのような電子装置としては、ＥＬディスプレイ、ビデオカメラ、デジタルカメラ、頭部取り付け型ディスプレイ（ヘッドマウントディスプレイ等）、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍等）、記録媒体を備えた画像再生装置（具体的にはコンパクトディスク（ＣＤ）、レーザーディスク（ＬＤ）又はデジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置）などが挙げられる。それら電子装置の例を図１３に示す。
【０１７７】
図１３（Ａ）はパーソナルコンピュータであり、本体２００１、筐体２００２、表示部２００３、キーボード２００４を含む。本発明は表示部２００３に用いることができる。
【０１７８】
図１３（Ｂ）はビデオカメラであり、本体２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０６を含む。本発明を表示部２１０２に用いることができる。
【０１７９】
図１３（Ｃ）は頭部取り付け型のＥＬディスプレイの一部（右片側）であり、本体２３０１、信号ケーブル２３０２、頭部固定バンド２３０３、表示モニタ２３０４、光学系２３０５、表示装置２３０６を含む。本発明は表示装置２３０６に用いることができる。
【０１８０】
図１３（Ｄ）は記録媒体を備えた画像再生装置（具体的にはＤＶＤ再生装置）であり、本体２４０１、記録媒体（ＣＤ、ＬＤまたはＤＶＤ等）２４０２、操作スイッチ２４０３、表示部（ａ）２４０４、表示部（ｂ）２４０５を含む。表示部（ａ）は主として画像情報を表示し、表示部（ｂ）は主として文字情報を表示するが、本発明はこれら表示部（ａ）、（ｂ）に用いることができる。なお、記録媒体を備えた画像再生装置としては、ＣＤ再生装置、ゲーム機器などに本発明を用いることができる。
【０１８１】
図１３（Ｅ）は携帯型（モバイル）コンピュータであり、本体２５０１、カメラ部２５０２、受像部２５０３、操作スイッチ２５０４、表示部２５０５を含む。本発明は表示部２５０５に用いることができる。
【０１８２】
図１３（Ｆ）はＥＬディスプレイであり、筐体２６０１、支持台２６０２、表示部２６０３を含む。本発明は表示部２６０３に用いることができる。ＥＬディスプレイは視野角が広いため液晶ディスプレイに比べて大画面化した場合において有利であり、対角１０インチ以上（特に対角３０インチ以上）のディスプレイにおいて有利である。
【０１８３】
また、将来的にＥＬ材料の発光輝度が高くなれば、出力した画像情報を含む光をレンズ等で拡大投影してフロント型若しくはリア型のプロジェクターに用いることも可能となる。
【０１８４】
以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子装置に適用することが可能である。また、本実施例の電子装置は実施例１〜７のどのような組み合わせからなる構成を用いても実現することができる。
【０１８５】
【発明の効果】
本発明を実施することにより基板と反対側に光を出力する動作をするアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置において、画素部の内部（画素部と同一の領域）に駆動回路や他の信号処理部を形成することが可能となり、アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置の小型化が実現される。
【０１８６】
また、基板上に形成されるＴＦＴ自体も各回路又は素子が必要とする性能に併せて最適な構造のＴＦＴを配置することで、信頼性の高いアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置を実現している。
【０１８７】
そして、そのようなアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置を表示ディスプレイとして具備することで、小型で信頼性の高い高性能な電子装置を生産することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】    ＥＬ表示装置の断面構造を示す図。
【図２】    ＥＬ表示装置の作製工程を示す図。
【図３】    ＥＬ表示装置の作製工程を示す図。
【図４】    ＥＬ表示装置の作製工程を示す図。
【図５】    ＥＬ表示装置の作製工程を示す図。
【図６】    ＥＬ表示装置の光の出力方向を説明するための図。
【図７】    ＥＬモジュールの外観を示す図。
【図８】    コンタクト構造の作製工程を示す図。
【図９】    ＥＬ表示装置の画素部の構成を示す図。
【図１０】  ＥＬ表示装置の断面構造を示す図。
【図１１】  ＥＬ表示装置の画素部の上面構造を示す図。
【図１２】  ＥＬ表示装置の画素部の上面構造を示す図。
【図１３】  電子装置の具体例を示す図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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