(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心穴を備えた磁気記録ディスク用基板の表面に浸漬法によって潤滑層を成膜する浸漬成膜工程を備えた磁気記録ディスクの製造方法において、
前記浸漬成膜工程では、前記中心穴に挿通させた基板支持具により複数枚の前記磁気記録ディスク用基板を支持した状態で、前記潤滑層を形成するための薬液の液面と前記磁気記録ディスク用基板とを相対移動させて当該磁気記録ディスク用基板の前記薬液中への浸漬操作および当該薬液からの引き上げ操作を行い、
少なくとも前記引き上げ操作を行う際には、振れ防止具において前記複数枚の磁気記録ディスク用基板の下側を通るように延びた腕部に設けた受け部を、前記磁気記録ディスク用基板の両面双方の下端部に当該磁気記録ディスク用基板の面外方向で近接する位置のうち、当該磁気記録ディスク用基板の真下位置を挟む両側に配置しておき、かつ、
前記受け部は、磁気記録ディスク用基板に対して非接触状態にあることを特徴とする磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項２】
前記磁気記録ディスク用基板は、外径寸法が２．５インチ以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項３】
前記磁気記録ディスク用基板の外周端部には、該外周端部と当該磁気記録ディスク用基板の両面との境界が面取りされて外周壁面の両側に面取り部分が形成されており、
前記受け部は、前記磁気記録ディスク用基板の両面双方の下端部のうち、前記外周壁面と前記面取り部分との境界部分に対して当該磁気記録ディスク用基板の面外方向で近接していることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項４】
前記振れ防止具は、前記腕部の上側に長手方向に沿って複数の谷部を交差部分で形成するように当該腕部に張設された線状体を備え、
前記磁気記録ディスク用基板の下端部は前記線状体の谷部の内側に位置し、
前記線状体において当該谷部を両側で挟む稜線部分が前記受け部として前記磁気記録ディスク用基板の両面双方の下端部に近接していることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項５】
前記振れ防止具は、前記磁気記録ディスク用基板の真下位置を挟む両側に一対並列配置されることにより、前記磁気記録ディスク用基板の真下位置を挟む両側に前記受け部が配置され、
少なくとも前記引き上げ操作を行う際、前記一対の振れ防止具の間には、前記複数枚の磁気記録ディスク用基板の真下位置を通るように延びて前記複数枚の磁気記録ディスク用基板の各下端部から前記薬液を除去する液溜まり除去具を前記磁気記録ディスク用基板と非接触状態で配置しておくことを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項６】
前記基板支持具は、前記中心穴を貫通するように延びた支持腕と、該支持腕の上部に当該支持腕の長手方向に沿って複数の谷部を交差部分で形成するように当該支持腕に張設された支持糸とを備え、
前記複数枚の磁気記録ディスク用基板は各々、前記中心穴の内周端部が前記谷部で前記支持腕から浮いた状態に支持されていることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項７】
前記引き上げ操作を行う際には、前記薬液の液面を降下させることにより当該液面から前記複数枚の磁気記録ディスク用基板を引き上げることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録ディスク用基板の表面に潤滑層などの薄膜を形成する際、浸漬成膜法を採用した磁気記録ディスク（光磁気記録ディスクも含む）の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録ディスクは、中心穴を備えたガラス基板や金属基板などの非磁性基板の表面に少なくとも磁性層、保護層、および潤滑層がこの順に積層された構造になっており、これらの薄膜のうち、潤滑層は浸漬成膜法により形成されることが多い。このような浸漬成膜法を採用する際には、複数枚の基板を一括処理できるように、中心穴に挿通させた基板支持具により複数枚の磁気記録ディスク用基板を一括して支持した状態で薬液中へ浸漬操作および薬液からの引き上げ操作を行うのが一般的である（特許文献１、２参照）。
【特許文献１】特開平１０−３１０８７１号公報
【特許文献２】特開２０００−６７４３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
磁気記録ディスクについては、外径寸法が３．５インチや３．０インチから２．５インチ、さらには近年、１．０インチのものが採用されるようになっている。このような磁気記録ディスクのうち、外径寸法が比較的、小さな磁気記録ディスクを製造する際に、特許文献１、２に記載の基板支持具を用いた浸漬成膜法で潤滑層を形成すると、基板上に細かい横線模様が無数に発生するという問題が発生することがあり、このような横線模様は、潤滑層の厚さむらに起因するものである。ここで、潤滑層の厚さむらは、磁気ヘッドが浮上走行するのに必要な空気圧に変動を起こす原因となり、磁気ヘッドの浮上姿勢や浮上量に変調をきたす。このような不具合は、フライスティクション障害と呼ばれ、不規則な再生出力変動を伴うため、好ましくない。また、場合によっては浮上走行中の磁気ヘッドと磁気記録ディスクが接触し、クラッシュを起こすこともある。また、このような厚さむらは、潤滑層を形成する場合に限らず、浸漬成膜法で保護膜などを形成しようとした場合にも同様に発生する問題である。
【０００４】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、外径寸法が比較的、小さな磁気記録ディスク用基板の表面に浸漬成膜法により薄膜を形成する際、膜厚むらの発生を確実に防止可能な磁気記録ディスクの製造方法を提案することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願発明者は上記問題点の原因を解明するために各種検討を重ねた結果、外径寸法が比較的、小さな磁気記録ディスク用基板に浸漬成膜法で薄膜を形成する際、中心穴に挿通させた基板支持具により磁気記録ディスク用基板を支持しただけの状態で磁気記録ディスク用基板を薬液から引き上げると、磁気記録ディスク用基板が軽いため、磁気記録ディスク用基板において下端部の面外方向への揺れや、基板支持具による支持位置を垂直に通る軸線周りの揺れなどが発生しやすく、このような揺れにより、薄膜に膜厚のむらが発生するという知見を得た。また、薬液の比重が大きいほど、このような揺れが発生しやすいという知見も得た。
【０００６】
本発明はかかる新たな知見に基づいて達成されたものであり、中心穴を備えた磁気記録ディスク用基板の表面に浸漬法によって潤滑層を成膜する浸漬成膜工程を備えた磁気記録ディスクの製造方法において、前記浸漬成膜工程では、前記中心穴に挿通させた基板支持具により複数枚の前記磁気記録ディスク用基板を支持した状態で、前記潤滑層を形成するための薬液の液面と前記磁気記録ディスク用基板とを相対移動させて当該磁気記録ディスク用基板の前記薬液中への浸漬操作および当該薬液からの引き上げ操作を行い、少なくとも前記引き上げ操作を行う際には、振れ防止具において前記複数枚の磁気記録ディスク用基板の下側を通るように延びた腕部に設けた受け部を、前記磁気記録ディスク用基板の両面双方の下端部に当該磁気記録ディスク用基板の面外方向で近接する位置のうち、当該磁気記録ディスク用基板の真下位置を挟む両側に配置しておき、かつ、前記受け部は、磁気記録ディスク用基板に対して非接触状態にあることを特徴とする。
【０００７】
本発明では、薬液からの磁気記録ディスク用基板の引き上げ操作を行う際、磁気記録ディスク用基板の両面の下端部に対しては、振れ防止具の受け部が近接しているので、外径寸法が小さいために軽い磁気記録ディスク用基板であっても、磁気記録ディスク用基板に下端部の面外方向への揺れや、基板支持具による支持位置を垂直に通る軸線周りの揺れが発生しない。それ故、磁気記録ディスク用基板の表面に浸漬成膜法によって薄膜を形成した場合でも、薄膜に膜厚のむらが発生しない。また、薬液の比重が大きい場合でも磁気記録ディスク用基板に大きな揺れが発生しないので、使用可能な薬液の選択幅が広くなるという利点もある。
【０００８】
また、磁気記録ディスク用基板の表面に形成される各種薄膜のうち、潤滑層の厚さむらは、磁気ヘッドが浮上走行するのに必要な空気圧に変動を起こす原因となるため、磁気ヘッドの浮上距離が短くなればなるほど潤滑層の厚さむらを抑える必要があることから、前記浸漬成膜工程において前記磁気記録ディスク用基板の表面に前記薄膜として潤滑層を形成する場合に本発明を適用するとその効果が大きい。また、受け部を磁気記録ディスク用基板の真下位置を挟む両側に配置しておくため、磁気記録ディスク用基板の下端部が面外方向に揺れることを確実に防止できるとともに、基板支持具による支持位置を垂直に通る軸線周りの揺れも確実に防止できる。
【０００９】
前記磁気記録ディスク用基板が軽い場合に発生しやすいことから、外径寸法が２．５インチ以下の磁気記録ディスク用基板の表面に浸漬成膜法によって薄膜を形成する場合に本発明を適用すると、その効果が顕著である。
【００１０】
本発明において、前記磁気記録ディスク用基板の外周端部には、該外周端部と当該磁気記録ディスク用基板の両面との境界が面取りされて外周壁面の両側に面取り部分が形成されており、前記受け部は、前記磁気記録ディスク用基板の両面双方の下端部のうち、前記外周壁面と前記面取り部分との境界部分に対して当該磁気記録ディスク用基板の面外方向で近接していることが好ましい。
【００１１】
本発明において、前記振れ防止具は、前記腕部の上側に長手方向に沿って複数の谷部を交差部分で形成するように当該腕部に張設された線状体を備え、前記磁気記録ディスク用基板の下端部は前記線状体の谷部の内側に位置し、前記線状体において当該谷部を両側で挟む稜線部分が前記受け部として前記磁気記録ディスク用基板の両面双方の下端部に近接していることが好ましい。このように構成すると、磁気記録ディスク用基板が振れた際に接触するのは線状体であり、接触部分が極めて微小である。このため、磁気記録ディスク用基板と線状体との間に薬液が保持された場合でも、磁気記録ディスク用基板に液溜まりを発生させることがない。また、振れ防止具が近接している外周端部が薬液の液面から出る際、その外周端部に溜まろうとする液滴は線状体の方に引っ張られて外周端部に液溜まりとして残らない。それ故、磁気記録ディスク用基板の外周端部に液溜まりが形成されるのを確実に防止することができる。
【００１２】
本発明において、前記振れ防止具は、前記磁気記録ディスク用基板の真下位置を挟む両側に一対並列配置されることにより、前記磁気記録ディスク用基板の真下位置を挟む両側に前記受け部が配置されている構成を採用でき、この場合、少なくとも前記引き上げ操作を行う際、前記一対の振れ防止具の間には、前記複数枚の磁気記録ディスク用基板の真下位置を通るように延びて前記複数枚の磁気記録ディスク用基板の各下端部から前記薬液を除去する液溜まり除去具を前記磁気記録ディスク用基板と非接触状態で配置しておくことが好ましい。磁気記録ディスク用基板の真下位置に液溜まり除去具を配置しておけば、磁気記録ディスク用基板の下端部が薬液の液面から出る際、磁気記録ディスク用基板の下端部に溜まろうとする液滴は液溜まり除去具の方に引っ張られて磁気記録ディスク用基板に液溜まりとして残らない。それ故、磁気記録ディスク用基板の外周縁に液溜まりが形成されるのを確実に防止することができる。
【００１４】
本発明において、前記基板支持具は、前記中心穴を貫通するように延びた支持腕と、該支持腕の上部に当該支持腕の長手方向に沿って複数の谷部を交差部分で形成するように当該支持腕に張設された支持糸とを備え、前記複数枚の磁気記録ディスク用基板は各々、前記中心穴の内周端部が前記谷部で前記支持腕から浮いた状態に支持されていることが好ましい。磁気記録ディスク用基板をその中心穴に挿通させた基板支持具によって支持した際、磁気記録ディスク用基板の内周壁が支持腕から浮いた状態にあれば、磁気記録ディスク用基板が接するのは支持糸であり、接触部分が極めて微小である。このため、磁気記録ディスク用基板と線状体との間に薬液が保持された場合でも、磁気記録ディスク用基板に液溜まりを発生させることがない。また、基板支持具によって支持されている部分の内周端部が薬液の液面から出る際、その内周縁部分に溜まろうとする液滴は支持糸の方に引っ張られて内周端部に液溜まりとして残らない。それ故、磁気記録ディスク用基板の内周端部に液溜まりが形成されるのを確実に防止することができる。
【００１５】
本発明において、前記引き上げ操作を行う際には、前記磁気記録ディスク用基板の方を上昇させることにより当該液面から前記磁気記録ディスク用基板を引き上げる構成、前記薬液の液面の方を下降させることにより当該液面から前記磁気記録ディスク用基板を引き上げる構成を採用できる。これらの構成のうち、後者の場合には、駆動部分の振動が磁気記録ディスク用基板に直接、伝わることがないので、潤滑層に膜厚むらが発生しにくいという利点がある。
【発明の効果】
【００１６】
本発明では、薬液からの磁気記録ディスク用基板の引き上げ操作を行う際、磁気記録ディスク用基板の両面の下端部に対して、その近傍で振れ防止具の受け部が対向しているため、外径寸法が比較的、小さな磁気記録ディスク用基板であっても、磁気記録ディスク用基板に下端部の面外方向への揺れや、基板支持具による支持位置を垂直に通る軸線周りの揺れがほとんど発生しない。それ故、磁気記録ディスク用基板の表面に浸漬成膜法によって薄膜を形成した場合でも、薄膜に膜厚のむらが発生しない。また、薬液の比重が大きい場合でも磁気記録ディスク用基板に大きな揺れが発生しないので、使用可能な薬液の選択幅が広くなるという利点もある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。なお、参照する各図において、図面上で認識容易とするために各層や各部材ごとに縮尺や倍率を相違させてある。
【００１８】
（磁気記録ディスクおよびその製造方法の概略）
図１（ａ）および（ｂ）はそれぞれ、磁気記録ディスクを示す平面図、および磁気記録ディスクの概略断面図である。これらの図に示すように、本形態の磁気記録ディスク１は、中心穴１１１を備えた円形の非磁性基板１１の表面１１０に下地層１２、磁性層１３、保護層１４、および潤滑層１５をこの順に積層した構造を有している。非磁性基板１１は、例えば、アルミノシリケートガラスなどの化学強化ガラスからなり、非磁性基板１１の表面１１０は、例えば、表面粗さがＲａで０．３ｎｍ以下、Ｒｍａｘで３ｎｍ以下となるように鏡面研磨が施されている。また、非磁性基板１１において内周端部１１２および外周端部１１３は各々、面取り加工が施されている。
【００１９】
このような磁気記録ディスク１の製造工程の概略を説明しながら、各薄膜の構成を以下に説明する。磁気記録ディスク１を製造するには、まず、非磁性基板１１の表面１１０に対してスパッタ法などにより下地層１２を形成する。下地層１２は、例えば厚さが１０ｎｍのＣｒＷ薄膜であり、磁性層１３の結晶構造を良好にするために形成される。
【００２０】
次に、下地層１２の上層に対してスパッタ法などにより磁性層１３を形成する。磁性層１３は、例えば厚さが１５ｎｍのＣｏＣｒＰｔＢ合金からなる。この磁性層１３のＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｂの各含有量は、例えば、Ｃｏ：６２ａｔ％、Ｃｒ：２０ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｂ：６ａｔ％である。
【００２１】
次に、磁性層１３の上層に対してＣＶＤ法やスパッタ法により保護層１４を形成する。保護層１４は、例えば、厚さが５ｎｍの水素化カーボンからなり、耐摩耗性を向上させて磁性層１３を保護する機能を担っている。
【００２２】
次に、詳しくは後述するように、保護層１４の表面に潤滑層１５を浸漬成膜法により形成する。潤滑層１５は、磁気ヘッドとの接触した際の衝撃を緩和するなどの機能を担っており、厚さが３ｎｍ以下の薄いパーフルオロポリエーテル層などから構成されている。ここで、潤滑層１５は、２ｎｍ以下、例えば、１．０ｎｍ位まで薄膜化される傾向にある。
【００２３】
（潤滑層形成の浸漬成膜装置）
図２は、本発明に係る浸漬成膜法に用いた浸漬成膜装置の構成を模式的に示す説明図である。図３（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明に係る浸漬成膜装置に用いた基板処理具に複数枚の磁気記録ディスク用基板を搭載した状態を正面からみたときの説明図、および側方からみたときの説明図である。
【００２４】
本形態においては、非磁性基板１１の表面１１０に下地層１２、磁性層１３および保護層１４を順に積層した製造途中品（以下、磁気記録ディスク用基板１０という）に潤滑層１５を形成するにあたって、以下に説明する浸漬成膜装置が用いられる。図２に示すように、浸漬成膜装置１００は、潤滑層１５を形成するための薬液２２を貯留しておく薬液槽２１と、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を一括処理するための基板処理具２００とを備えている。ここで、浸漬成膜装置１００は、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の薬液２２中へ浸漬操作、および薬液２２からの引き上げ操作を行うために、基板処理具２００を上下方向に駆動する昇降装置、薬液槽２１を上下方向に駆動する昇降装置、および薬液槽２１内の液面を上下させる液面上下装置のうちの少なくとも１つの装置が構成されている。但し、薬液槽２１を上下方向に駆動する昇降装置や、薬液槽２１内の液面を上下させる液面上下装置の場合には、駆動部分の振動が磁気記録ディスク用基板１０に直接、伝わることがないので、潤滑層１５に膜厚むらが発生しにくいという利点がある。
【００２５】
図２、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、基板処理具２００は、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入される基板支持具３００を備えており、この基板支持具３００により複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を支持した状態で薬液２２中へ浸漬操作および薬液２２からの引き上げ操作を行う。また、基板処理具２００は、基板支持具３００に平行に延びて複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の下方位置を通る振れ防止具４００を備えている。ここで、振れ防止具４００は、磁気記録ディスク用基板１０の真下位置を挟む左右両側に一対並列配置されている。さらに、基板処理具２００は、一対の振れ防止具４００の間で複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の真下位置を通るように延びた液溜まり除去具５００を備えており、この液溜まり除去具５００は、基板支持具１００および振れ防止具４００と平行に固定されている。従って、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０は、中心穴１１１の内周端部１１２が基板支持具３００により支持された状態で薬液２２中へ浸漬操作および薬液からの引き上げ操作が行われる間、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の下方位置には２本の振れ防止具４００と１本の液溜まり除去具５００が配置された状態にある。
【００２６】
（基板支持具の構成）
図４（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明に係る浸漬成膜装置に用いた基板支持具の側面図および平面図である。図５（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、図４に示す基板支持具に用いた支持腕の側面図、およびこの支持腕への支持糸の張設方法を示す説明図である。
【００２７】
図２および図３（ａ）、（ｂ）に示す基板支持具３００は、図３（ａ）、（ｂ）および図４（ａ）、（ｂ）に示すように、磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入される一対の支持腕３１０と、この支持腕３１０に張設されて、磁気記録ディスク用基板１０の中心穴１１１の内周端部１１２が載置されることにより、磁気記録ディスク用基板１０の内周端部１１２を支持腕３１０から浮かした状態で支持する支持糸３２０とを備えている。より詳細に説明すれば、まず、一対の支持腕３１０はいずれも、図３（ｂ）、図４（ａ）、（ｂ）および図５（ａ）、（ｂ）に示すように上端部が鋸刃状に形成されており、三角形状の山部３１１と逆台形状の谷部３１２が長手方向に交互に形成されている。また、各山部３１１の頂部には、図４（ｂ）に示すように、支持腕３１０の厚さ方向の略中間部に切り欠き３１３が形成されている一方、谷部３１２の下方位置には、支持腕３１０を厚さ方向に貫通する貫通孔３１４が形成されている。支持糸３２０は、支持腕３１０の内側（他方の支持腕３１０に対向させられた側）から外側へ向けて挿通された後に、この貫通孔３１４の間近の山部３１１の次の山部３１１に形成された切り欠き３１３へ掛け止めされ、次にこの山部３１１の間近の谷部３１２の次の谷部３１２に対応して形成されている貫通孔３１４に支持腕３１０の外側から挿通され、さらに一つ戻った位置にある貫通孔３１４に内側から挿通されることにより、山部３１１の切り欠き３１３に一つおきに掛け渡されている。さらに、このような掛け止め操作を、別の支持糸３２０を用いて山部３１１に対して１ピッチずらして行なうことにより、支持糸３２０が谷部３１２の支持腕３１０の外側寄りにおいて交差部３２５を形成するように掛け渡されている。その結果、支持腕３１０の上部には、支持糸３２０により、長手方向に沿って、切り欠き３１３への掛け止め部分を頂部とする山部３２１と、交差部３２５を谷底とする谷部３２２とが交互に配置されている。
【００２８】
従って、基板支持具３００を磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入すると、谷部３２２の内側で磁気記録ディスク用基板１０の内周端部１１２が載置されるので、磁気記録ディスク用基板１０の内周端部１１２は支持腕３１０から浮いた状態に支持され、磁気記録ディスク用基板１０は、自重により垂直な姿勢にある。ここで、非磁性基板１１において内周端部１１２は、面取り加工が施されているため、磁気記録ディスク用基板１０の内周端部１１２には、内周壁面１１２ａの厚さ方向の両側に面取り部分１１２ｂ、１１２ｃが形成されており、内周壁面１１２ａと面取り部分１１２ｂ、１１２ｃとの境界部分が支持糸３２０に当接している。
【００２９】
支持糸３２０は、ナイロン製釣糸、フロロカーボン製釣糸、金属製釣糸や針金等が用いられ、その太さは０．０５〜０．５ｍｍの範囲が用いられる。特に望ましい範囲は、ナイロン製釣糸やフロロカーボン釣糸の場合、０．２〜０．３ｍｍが望ましく、金属製釣糸や針金の場合、０．０５〜０．１ｍｍが望ましい。ここで、支持糸３２０と磁気記録ディスク用基板１０との接触部分は、この接触部分に溜まる薬液２２が支持糸３２０によって引きつけられて磁気記録ディスク用基板１０から除去される作用が生じるが、この引きつけ作用は支持糸３２０の太さに依存し、細すぎると余剰の薬液２２の除去が不十分となるばかりでなく、糸切れを生じてしまう。これに対して、太くなるにつれて引きつけ作用が大きく、磁気記録ディスク用基板１０からの余剰の薬液の除去が良好に行なわれる。なお、交差部３２５の間隔は、支持する磁気記録ディスク用基板１０の間隔を決定するものであり、広すぎると処理枚数が少なくなって生産効率が悪くなり、狭すぎると付着した薬液の乾燥速度が遅くなって製造サイクルが長くなることから、これらを勘案して、３〜９ｍｍの範囲が好適である。一方、支持糸３２０と磁気記録ディスク用基板１０とのなす角度θ１（図３（ｂ）参照）が大きすぎると交差部３２５に載せた磁気記録ディスク用基板１０が移動し易くなり、また、小さくしすぎると磁気記録ディスク用基板１０が山部３１１に接触したり、あるいは、幾何的に支持腕１１が磁気記録ディスク用基板１０の中心穴１１１内に挿入できなくなることから、角度θ１は３０°〜８０°の範囲、４５°〜７０°の範囲が好適である。
【００３０】
（振れ防止具の構成）
図６（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明に係る浸漬成膜装置に用いた振れ防止具の側面図、および振れ防止具の平面図である。なお、図６（ａ）、（ｂ）に示す振れ防止具に用いた腕部および線状体の張設方法は、図５（ａ）、（ｂ）を参照して説明した基板支持具の支持腕および支持糸の張設方法と同様であるため、腕部および線状体の張設方法については、同じく図５（ａ）、（ｂ）を参照して説明する。
【００３１】
図２および図３（ａ）、（ｂ）に示す振れ防止具４００は、図５（ａ）、（ｂ）および図６（ａ）、（ｂ）に示すように、磁気記録ディスク用基板１０の下方位置を通るように延びた一対の腕部４１０と、この腕部４１０に張設されて、磁気記録ディスク用基板１０の外周端部１１３のうち、両面双方の下端部に近接する受け部を構成する線状体４２０とを備えている。より詳細に説明すれば、まず、一対の腕部４１０はいずれも、図３（ｂ）、図５（ａ）、（ｂ）、および図６（ａ）、（ｂ）に示すように上端部が鋸刃状に形成されており、三角形状の山部４１１と逆台形状の谷部４１２が長手方向に交互に形成されている。また、各山部４１１の頂部には、図６（ｂ）に示すように、腕部４１０の厚さ方向の中央位置に切り欠き４１３が形成されている一方、谷部４１２の下方位置には、腕部４１０を厚さ方向に貫通する貫通孔４１４が形成されている。線状体４２０は、腕部４１０の内側（他方の腕部４１０に対向させられた側）から外側へ向けて挿通された後に、この貫通孔４１４の間近の山部４１１の次の山部４１１に形成された切り欠き４１３へ掛け止めされ、次にこの山部４１３の間近の谷部４１２の次の谷部４１２に対応して形成されている貫通孔４１４に腕部４１０の外側から挿通され、さらに一つ戻った位置にある貫通孔４１４に内側から挿通されることにより、山部４１１の切り欠き４１３に一つおきに掛け渡されている。さらに、このような掛け止め操作を、別の線状体４２０を用いて山部４１１に対して１ピッチずらして行なうことにより、線状体４２０が谷部４１２の腕部４１０の外側寄りにおいて交差部４２５を形成するように掛け渡されている。その結果、腕部４１０の上部には、線状体４２０により、長手方向に沿って、切り欠き４１３への掛け止め部分を頂部とする山部４２１と、交差部４２５を谷底とする谷部４２２とが交互に配置されている。
【００３２】
従って、振れ防止具４００を磁気記録ディスク用基板１０の下方位置に配置し、かつ、谷部４２２の内側に磁気記録ディスク用基板１０の外周端部１１３を配置すると、この谷部４２２を両側で挟む稜線部分４２３（受け部）が磁気記録ディスク用基板１０の両面双方の下端部に近接した状態となる。従って、磁気記録ディスク用基板１０は、下端部が面外方向に揺れることがなく、かつ、基板支持具３００による支持位置を垂直に通る軸線周りに揺れることもない。ここで、非磁性基板１１において外周端部１１３は、面取り加工が施されているため、磁気記録ディスク用基板１０の外周端部１１３は、外周壁面１１３ａの両側に面取り部分１１３ｂ、１１３ｃが形成されており、外周壁面１１３ａと面取り部分１１３ｂ、１１３ｃとの境界部分付近に線状体４２０が位置している。但し、振れ防止具４００の線状体４２０は、磁気記録ディスク用基板１０の下端部の近傍に位置し、接してはいない。
【００３３】
ここで、線状体４２０も、支持糸３２０と同様、ナイロン製釣糸、フロロカーボン製釣糸、金属製釣糸や針金等が用いられ、その太さは、０．０５〜０．５ｍｍの範囲が用いられる。特に望ましい範囲は、ナイロン製釣糸、フロロカーボン釣糸の場合、０．２〜０．３ｍｍが望ましく、金属製釣糸、針金の場合、０．０５〜０．１ｍｍが望ましい。また、線状体４２０と磁気記録ディスク用基板１０との近接部分は、この近接部分に溜まる薬液２２が線状体４２０によって引きつけられて磁気記録ディスク用基板１０から除去される作用が生じるが、この引きつけ作用は線状体４２０の太さに依存し、細すぎると余剰の薬液２２の除去が不十分となるばかりでなく、磁気記録ディスク用基板１０が振れた際、糸切れを生じてしまう。これに対して、太くなるにつれて引きつけ作用が大きく、磁気記録ディスク用基板１０からの余剰の薬液の除去が良好に行なわれる。なお、交差部４２５の間隔は、基板支持部材３００の交差部３２５と同一間隔に設定され、３〜９ｍｍの範囲が好適である。一方、線状体４２０と磁気記録ディスク用基板１０とのなす角度θ２（図３（ｂ）参照）を大きくしすぎると、磁気記録ディスク用基板１０の揺れが大きくなることから、角度θ２は、３０°〜８０°の範囲で４５°〜７０°の範囲が好適である。
【００３４】
（液溜まり除去具の構成）
図２および図３に示す液溜まり除去具５００は、棒材や板材から構成されており、図６（ｂ）に示すように、ディスク用基板１０の真下位置において、振れ防止具４００の間に配置されている。この状態で、液溜まり除去具５００は、磁気記録ディスク用基板１０の下端部の近傍に位置し、接してはいない。
【００３５】
（浸漬成膜工程）
図２に示した浸漬成膜装置１００を用いて磁気記録ディスク用基板１０の表面に潤滑層１５を形成するにあたって、薬液２２としては、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤などをＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）、ＰＦＣ（パーフルオロカーボン）等のフッ素系溶媒に分散溶解させた溶液を用いる。ここで、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤としては、例えば、Ｓｏｌｖａｙ  Ｓｏｌｅｘｉｓ社製のＦｏｍｂｌｉｎ−Ｚ−ＤＯＬ（商品名）、Ｆｏｍｂｌｉｎ−Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ（商品名）などを用いる。
【００３６】
一方、基板処理具２００において、基板支持具３００を複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入し、この基板支持具３００により複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を支持した状態とする。この状態で、振れ防止具４００は、磁気記録ディスク用基板１０および液溜まり除去具５００は、磁気記録ディスク用基板１０の下方位置に配置される。
【００３７】
次に、薬液槽２１において薬液２２の液面を低下させた状態で、基板処理具２００を駆動して、基板処理具２００に搭載された複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を薬液槽２１に配置する。
【００３８】
次に、薬液槽２１に薬液２２を導入し、薬液２２に複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を浸漬した状態とする（浸漬操作）。その際、基板支持具３００、振れ防止具４００、および液溜まり除去具５００も薬液２２に浸漬される。
【００３９】
次に、所定の時間経過後、薬液槽２１から薬液２２を一定の速度、例えば、薬液２２の液面が０．５ｍｍ／ｓｅｃの速度で低下する速度で排出し、薬液２２の液面から複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を引き上げる（引き上げ操作）。その結果、基板支持具３００、振れ防止具４００、および液溜まり除去具５００も薬液２２から引き上げられることになる。その際、磁気記録ディスク用基板１０では、薬液２２の液面から出た部分で溶媒の蒸発が起こる。また、磁気記録ディスク用基板１０に引き上げ操作を行う際、磁気記録ディスク用基板１０は揺れようとしても、振れ防止具４００の線状体４２０の稜線部分４２３が受け部として磁気記録ディスク用基板１０の揺れを阻止する。従って、磁気記録ディスク用基板１０は、下端部が面外方向に揺れることがなく、かつ、基板支持具３００による支持位置を垂直に通る軸線周りに揺れることもない。
【００４０】
このようにして引き上げた磁気記録ディスク用基板１０に対しては所定の条件で加熱処理が施され、潤滑層１５が磁気記録ディスク用基板１０に定着する。
【００４１】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、薬液２２からの磁気記録ディスク用基板１０の引き上げ操作を行う際、磁気記録ディスク用基板１０の両面双方の下端部に振れ防止具４００の線状体４２０の稜線部分４２３が受け部として近接しているため、外径寸法が例えば、１インチと小さいため軽い磁気記録ディスク用基板１０であっても、磁気記録ディスク用基板１０に下端部の面外方向への揺れや、基板支持具３００による支持位置を垂直に通る軸線周りの揺れが発生しない。それ故、磁気記録ディスク用基板１０の表面に浸漬成膜法によって潤滑層１５を形成した場合でも、潤滑層１５の膜厚のむらが発生しない。
【００４２】
また、薬液２２の比重が大きい場合でも磁気記録ディスク用基板１０に大きな揺れが発生しないので、使用可能な薬液の選択幅が広くなるという利点もある。また、本形態では、引き上げ操作を行う際、液面を低下させる方式を採用したが、振れ防止具４００によって磁気記録ディスク用基板１０の揺れを防止する構成を採用しているため、薬液２２の液面を下げず、磁気記録ディスク用基板１０を上昇させる方式を採用した場合でも、磁気記録ディスク用基板１０の揺れによって潤滑層１５の膜厚にむらが発生するのを回避できる。
【００４３】
また、本形態では、潤滑層１５の形成に本発明を適用したため、潤滑層１５の厚さむらが磁気ヘッドの浮上距離をさらに短くする際の妨げになることがない。
【００４４】
さらに、本形態において、振れ防止具４００は、磁気記録ディスク用基板１０の真下位置を挟む両側に一対並列配置されているため、磁気記録ディスク用基板１０の下端部が面外方向に揺れることを確実に防止できるとともに、基板支持具３００による支持位置を垂直に通る軸線周りの揺れも確実に防止できる。しかも、振れ防止具４００の間に液溜まり防止具５００を配置するのを妨げることもない。
【００４５】
さらに、本形態では、磁気記録ディスク用基板１０が振れた際に接触するには線状体４２０であり、接触部分が極めて微小である。このため、磁気記録ディスク用基板１０と線状体４２０が接触した部分で液溜まりが発生することがない。また、振れ止め具４００によって支持されている部分の外周端部１１３が薬液２２の液面から出る際、その外周端部１１３に溜まろうとする液滴は線状体４２０の方に引っ張られて外周端部１１３に液溜まりとして残らない。それ故、磁気記録ディスク用基板１０の外周端部１１３に液溜まりが形成されるのを確実に防止することができる。
【００４６】
さらにまた、基板支持具３００において、磁気記録ディスク用基板１０の内周端部１１２が接するのは支持糸３２０であり、接触部分が極めて微小である。このため、磁気記録ディスク用基板１０と支持糸３２０との間に薬液２２が保持された場合でも、磁気記録ディスク用基板１０に液溜まりを発生させることがない。また、基板支持具３００によって支持されている部分の内周端部１１２が薬液２２の液面から出る際、その内周端部１１２に溜まろうとする液滴は支持糸３２０の方に引っ張られて内周端部１１２に液溜まりとして残らない。それ故、磁気記録ディスク用基板１０の内周端部１１２に液溜まりが形成されるのを確実に防止することができる。
【００４７】
（その他の実施の形態）
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記形態では、浸漬成膜法により磁気記録ディスク用基板表面に潤滑層１５を形成する場合を説明したが、保護層１４を浸漬成膜法により形成する場合に本発明を適用してもよい。また、非磁性基板１１としてガラス基板の他、金属基板を用いた場合に本発明を適用してもよい。さらに、上記形態では、磁気記録ディスク用基板に対する浸漬操作の段階でその下方位置に振れ防止具４００および液溜まり除去具５００を配置したが、引き上げ操作のときのみ、磁気記録ディスク用基板１０の下方位置に振れ防止具４００および液溜まり除去具５００を配置してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、磁気記録ディスクを示す平面図、および磁気記録ディスクの概略断面図である。
【図２】本発明に係る浸漬成膜法に用いた浸漬成膜装置の構成を模式的に示す説明図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明に係る浸漬成膜装置に用いた基板処理具に複数枚の磁気記録ディスク用基板を搭載した状態を正面からみたときの説明図、および側方からみたときの説明図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明に係る浸漬成膜装置に用いた基板支持具の側面図および平面図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、図４に示す基板支持具に用いた支持腕の側面図、およびこの支持腕への支持糸の張設方法を示す説明図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明に係る浸漬成膜装置に用いた振れ防止具の側面図および平面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１  磁気記録ディスク
１０  磁気記録ディスク用基板
１１  非磁性基板
１２  下地層
１３  磁性層
１４  保護層
１５  潤滑層
１００  浸漬成膜装置
２００  基板処理具
３００  基板支持具
４００  振れ防止具
４１０  腕部
４２０  線状体
４２１  山部
４２２  谷部
４２３  稜線部分（受け部）
４２５  交差部
５００  液溜まり除去具
【図１】
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【図２】
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【図３】
0004623652.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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