(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の情報信号部、中間層、第２の情報信号部、光透過層が基板上に順次積層された光記録媒体の製造方法において、
上記基板と、該基板の外周とほぼ同じ高さの平面を有する延長部とを回転させて、光硬化性樹脂を上記第１の情報信号部上から上記基板の外周部を超えて上記延長部まで延伸し、上記基板の外周部および上記延長部を遮光部により覆いながら、延伸された上記光硬化性樹脂に光を照射して半硬化させ、上記基板と上記延長部とを再び回転させて上記外周部および上記延長部の余剰な光硬化性樹脂を除去して上記延長部上の光硬化性樹脂の厚さを低減し、半硬化された上記光硬化性樹脂上にスタンパを押し当てるとともに上記光硬化性樹脂に光を照射して上記光硬化性樹脂を硬化することにより、
上記中間層は形成されることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
上記基板と上記延長部との間には、５μｍ以上９０μｍ以下の隙間が設けられていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光記録媒体およびその製造方法に関する。詳しくは、光透過性の樹脂層を備える光記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、動画像や静止画像の高画質化に伴って、光記録媒体の大容量化が要求されるようになっている。この要求に応えるために、レーザ光の短波長化および対物レンズの高ＮＡ化により、スポットサイズを微少化することが提案されている。例えば、ブルーレイディスク（Blu-ray Disc（登録商標）、以下ＢＤ）では、青紫色のレーザ光を、高ＮＡ（例えば、０．８５）の対物レンズにより集光し、この集光したレーザ光を光透過層側から反射膜あるいは記録層に照射することにより、２５ＧＢ程度の記録容量が実現されている。
【０００３】
さらに、近年では、記録膜の多層化によって更に大容量化を図ることも検討されている。例えば、片面に２層の反射膜または記録膜を有するＢＤ（Dual Layer ＢＤ）では、記録膜の２層化によって、５０ＧＢ程度の記録容量が実現可能となっている。
【０００４】
ところで、上述した光透過層や中間層の形成には、スピンコート法を用いることが検討されている。しかしながら、スピンコート法により、光透過層や中間層を形成した場合には、外周部において表面張力により紫外線硬化樹脂の盛り上がりができてしまう。例えば、スピンコート法により光透過層を形成する場合には、このような樹脂の盛り上がりは、例えば光透過層の厚さの変動を招いてしまうため、レーザ光の光路長が変動し、反射膜または記録膜上でのスポット形状が変動してしまう。すなわち、安定した記録再生特性を実現することが困難となる。
【０００５】
また、スピンコート法により中間層を形成する場合には、延伸された紫外線硬化樹脂上にスタンパを載置したときに、外周部における紫外線硬化樹脂の盛り上がりによって、スタンパと、延伸された紫外線硬化樹脂との間に隙間ができてしまう。このように隙間ができると、紫外線硬化樹脂とスタンパとの間にエアが巻き込まれてしまい、スタンパの成形面を転写することが困難となる。
【０００６】
そこで、基板とほぼ同一形状の窪みをスピントレーに設け、この窪みに基板を載置し、スピントレーを回転させて紫外線硬化樹脂の延伸させる方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−２８８２７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、本発明者の知見によれば、上述の方法であっても外周部の紫外線硬化樹脂の盛り上がりや基板側面への樹脂の回り込みを十分に抑えることはできず、均一性に優れた光透過層を有する光記録媒体や、基板側面に樹脂の回り込みのない光記録媒体などを実現することは難しい。このような光透過層の不均一性や、基板側面への紫外線硬化樹脂の周り込みは、ＢＤやＨＤ  ＤＶＤ(High Definition Digital Versatile Disc)などの高密度の光記録媒体では特に問題となる。
【０００９】
したがって、この発明の目的は、スピンコート法により光硬化性樹脂を延伸した場合に、外周部における光硬化性樹脂の盛り上がりや回り込みを抑制することができる光記録媒体の製造方法およびその製造方法により製造された光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述の課題を解決するために、この発明は、
第１の情報信号部、中間層、第２の情報信号部、光透過層が基板上に順次積層された光記録媒体の製造方法において、
上記基板と、該基板の外周とほぼ同じ高さの平面を有する延長部とを回転させて、光硬化性樹脂を上記第１の情報信号部上から上記基板の外周部を超えて上記延長部まで延伸し、上記基板の外周部および上記延長部を遮光部により覆いながら、延伸された上記光硬化性樹脂に光を照射して半硬化させ、上記基板と上記延長部とを再び回転させて上記外周部および上記延長部の余剰な光硬化性樹脂を除去して上記延長部上の光硬化性樹脂の厚さを低減し、半硬化された上記光硬化性樹脂上にスタンパを押し当てるとともに上記光硬化性樹脂に光を照射して上記光硬化性樹脂を硬化することにより、
上記中間層は形成されることを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
【００１２】
この発明では、基板側面への光硬化性樹脂の回りこみは、基板側面の一部への回り込みならず、基板側面の全体への回りこみも含むものとする。
【００１３】
この発明では、基板と、該基板の外周とほぼ同じ高さの平面を有する延長部とを回転させて、光硬化性樹脂を第１の情報信号部上に延伸するので、基板の外周部を越えて延長部の平面上まで光硬化性樹脂を連続的に延伸させることができる。
【００１４】
また、基板上に延伸された光硬化性樹脂に弱い光を照射して、ゲル状の半硬化状態に変化させ、基板を再び回転させて外周部の余剰な光硬化性樹脂を除去するので、半硬化された光硬化性樹脂上にスタンパを押し当てたときに、基板の外周側の側面から光硬化性樹脂が外側に向けて広がることを抑制できる。したがって、光硬化性樹脂の回り込みやバリの発生を抑制できる。
【００１５】
また、基板上に延伸された光硬化性樹脂に弱い光を照射して、ゲル状の半硬化状態に変化させ、その後、基板を再び回転させるので、外周部の余剰な光硬化性樹脂を除去できる。
【００１６】
この発明では、基板と延長部との間には、５μｍ以上９０μｍ以下の隙間が設けられていることが好ましい。この数値範囲に隙間を設定することで、光硬化性樹脂を延伸したときに、基板と延長部との間に光硬化性樹脂が入り込むことを抑制できる。すなわち、基板の外周に光硬化性樹脂が回りこむことを抑制できる。
【００１７】
この発明では、延長部の平面の下方に貫通孔を設けることが好ましい。この貫通孔を設けることで、光硬化性樹脂を延伸したときに、基板と延長部との間に入り込んだ光硬化性樹脂を貫通孔を介して外部に排出することができる。したがって、基板と延長部との間に光硬化性樹脂が残留することを抑制できる。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように、この発明によれば、基板上に紫外線硬化性樹脂を塗布したとき、外周部における紫外線硬化性樹脂の盛り上がりや回り込みを抑制できる。したがって、均一性に優れた光透過層を有する光記録媒体や、優れた成形面が設けられた中間層を有する光記録媒体を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、この発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。
【００２０】
（１）第１の実施形態
（１−１）光記録媒体の構成
図１は、この発明の第１の実施形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。この光記録媒体１０は、２層の記録膜を有する書換型、追記型または再生専用型の光記録媒体であり、第１の記録膜（Ｌ０膜）２、中間層３、第２の記録膜（Ｌ１膜）４、光透過層５が基板１上に順次積層されて構成される。
【００２１】
この第１の実施形態による光記録媒体１０では、光透過層５の側からレーザ光７を第１の記録膜２または第２の記録膜４に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザ光７を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズ６により集光し、光透過層５の側から第１の記録膜２または第２の記録膜４に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような光記録媒体１０としては、例えばＢＤ−ＲＥ（Blu-ray Disc-REwritable）が挙げられる。
【００２２】
以下、光記録媒体１０を構成する基板１、第１の記録膜２、中間層３、第２の記録膜４、光透過層５について順次説明する。
【００２３】
（基板）
基板１は、中央に開口（以下、センターホールと称する）が形成された円環形状を有する。この基板１の一主面は、凹凸面１ａとなっており、この凹凸面１ａ上に第１の記録膜２が成膜される。以下では、凹凸面１ａの凹部をイングルーブ、凹凸面１ａの凸部をオングルーブと称する。
【００２４】
このイングルーブおよびオングルーブの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブおよび／またはオングルーブが、アドレス情報を付加するためウォブル（蛇行）されている。
【００２５】
基板１の直径は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下から選ばれ、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下から選ばれ、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（半径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
【００２６】
基板１の材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂若しくはアクリル系樹脂などのプラスチック材料、またはガラスなどを用いることができる。なお、コストを考慮した場合には、基板１の材料として、プラスチック材料を用いることが好ましい。また、基板１の外周面には、紫外線硬化樹脂が回り込んでいる。この紫外線硬化樹脂の回り込み量、すなわち紫外線硬化樹脂の厚さｄは、好ましくは２５μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下である。
【００２７】
（第１の記録膜）
第１の記録膜２は、レーザ光の照射により情報信号を記録または再生できる記録膜である。この第１の記録膜は、例えば、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を基板１上に順次積層してなる積層膜である。相変化材料膜を形成する材料としては、レーザ光の照射を受けて可逆的な状態変化を生じる相変化材料を用いることができる。かかる相変化材料としては、例えば、アモルファス状態と結晶状態との可逆的相変化を生じる共晶系相変化材料または化合物系相変化材料を用いることができる。
【００２８】
（中間層）
中間層３は、透明性を有する樹脂材料からなり、このような材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂などのプラスチック材料を用いることができる。中間層３の光透過層５側となる面は、基板１と同様に、イングルーブおよびオングルーブからなる凹凸面２ａとなっている。この凹凸面２ａ上に第２の記録膜４が成膜される。また、中間層３の外周面には、微小な段差が設けられている。この段差は、後述する光記録媒体の製造方法に起因するものである。
【００２９】
（第２の記録膜）
第２の記録膜４は、レーザ光の照射により情報信号を記録または再生できる記録膜である。この第２の記録膜４は、例えば、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を中間層３上に順次積層してなる積層膜である。相変化材料膜を形成する材料としては、レーザ光の照射を受けて可逆的な状態変化を生じる相変化材料を用いることができる。かかる相変化材料としては、例えば、アモルファス状態と結晶状態との可逆的相変化を生じる共晶系相変化材料または化合物系相変化材料を用いることができる。
【００３０】
（光透過層）
光透過層５は、例えば、円環形状を有する光透過性シート（フィルム）と、この光透過性シートを基板１に対して貼り合わせるための接着層とから構成される。接着層は、例えば紫外線硬化樹脂または感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）からなる。光透過層５の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば７５μｍに選ばれる。このような薄い光透過層５と、例えば０．８５程度の高ＮＡ(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
【００３１】
光透過性シートは、記録および／または再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えばポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））が挙げられる。また、光透過層５の内径（直径）は、例えば２２．７ｍｍに選ばれる。
【００３２】
（１−２）スピンコート装置の構成
次に、図２および図３を参照して、上述の中間層３の形成に用いられるスピンコート装置の構成について説明する。図２は、スピンコート装置の一構成例を示す断面図である。図３は、スピンコート装置の一構成例を示す上面図である。
【００３３】
スピンコート装置は、スピントレー２１と、紫外線照射装置（以下、ＵＶ照射装置）２３とを備える。スピントレー２１の下方には、図示を省略したスピンドルモータが備えられ、このスピンドルモータを駆動することによりスピントレー２１が回転する。また、スピントレー２１は、上下方向に移動可能な構成を有する。ＵＶ照射装置２３は、基板１の内周から外周に渡って紫外光（以下、ＵＶ光）を一様に照射して、基板１上に延伸された紫外線硬化樹脂を硬化させるためのものである。図２では、１つのＵＶ照射装置２３により基板１の全面を照射する例について示しているが、ＵＶ照射装置２３は、この例に限定されるものではない。例えば、基板１の径方向に直列するように配置された複数のＵＶ照射装置２３を用いてもよい。
【００３４】
スピントレー２１は、光記録媒体１０を載置するための載置面２１ａを有する。この載置面２１ａの中央部には、この載置面２１ａから突出するセンターピン２２が設けられている。このセンターピン２２に光記録媒体１０のセンターホール１ｂを嵌合することで、基板１の位置決めがなされる。
【００３５】
スピントレー２１には、載置面２１ａを囲むように外周リング２４が設けられ、この外周リング２４の中心に上述のセンターピン２２が位置する。この外周リング２４は、延長部の一例であって、スピンコート法により紫外線硬化樹脂を基板１上に延伸した場合に、紫外線硬化樹脂の延伸を基板１の外周を越えて連続的に延長するためのものである。外周リング２４は、スピントレー２１と同期して回転するようになっている。
【００３６】
外周リング２４は、載置面２１ａから基板１の厚さ程度突出し、その突出面は載置面２１ａと平行な平面状となっている。したがって、基板１を載置面２１ａに載置したときに、この基板１の一主面と外周リング２４の上面とがほぼ同じ高さとなる。これにより、紫外線硬化樹脂を基板１の一主面に延伸したときに、紫外線硬化樹脂の延伸を基板１の外周を越えて外周リング２４の突出面まで連続的に延長することができる。
【００３７】
外周リング２４の内径は載置面２１ａに載置される基板１の径とほぼ同一に選ばれる。外周リング２４の内周面と、載置面２１ａに載置された基板１の外周面との間の隙間（クリアランス）は、好ましくは５μｍ〜９０μｍ、さらに好ましくは２２μｍ〜６０μｍに設定される。クリアランスを５μｍ〜９０μｍの数値範囲に設定することで、中間層３を形成する際に、基板１の外周面に紫外線硬化樹脂などが回り込むことを抑制できる。クリアランスを２２μｍ〜６０μｍの数値範囲に設定することで、中間層３を形成する際に、基板１の外周面に紫外線硬化樹脂などが回り込むことをさらに抑制できる。
【００３８】
また、外周リング２４には、その内周面から外周面に向かって貫通する複数の排出孔２４ａが、例えば周方向に均等に設けられている。この排出孔２４ａを設けることで、スピントレー２１を回転して基板１上に紫外線硬化樹脂を延伸させた場合に、基板１と外周リング２４との間に入り込んだ紫外線硬化樹脂を外周リング２４の外側に排出できる。したがって、基板１と外周リング２４との間に紫外線硬化樹脂が残留することを抑制できる。排出孔２４ａの形状は特に限定されるものではないが、紫外線硬化樹脂の排出を良好にする点からすると、周方向に細長く広がっていることが好ましい。
【００３９】
スピンコート装置には外周マスク２５がさらに設けられている。ＵＶ光を基板１に照射するときには、外周マスク２５により基板１の外周部を覆うことが可能なようにスピンコート装置は構成されている。外周マスク２５は、ＵＶ照射装置２３から出射されたＵＶ光から基板１の外周部を遮光する遮光部である。この外周マスク２５は、ＵＶ光を遮光可能な金属などの材料から構成されている。外周マスク２５は、その載置面２１ａと対向する側の先端に突出部２５ａを有する。この突出部２５ａを設けることで、基板１の外周部に対するＵＶ光の漏れ込みを低減できる。
【００４０】
外周マスク２５の内径が狭すぎると、基板１の外周部の未硬化部が多くなり、この未硬化部がスピンコート時に振り切られてしまう。したがって、信号領域が狭くなってしまい、例えば規格で要求される信号領域を確保できなくなる。一方、外周マスク２５の内径が大きすぎると、基板１の外周部またはそれより外側の部分まで、延伸された紫外線硬化樹脂が半硬化状態となってしまう。したがって、光記録媒体の外径が大きくなってしまい、例えば規格で要求される基板外径を越えてしまう。以上の点を考慮すると、所望とする光記録媒体の規格を満たすように、外周マスク２５の内径、すなわち基板側面からの外周マスク２５の突出幅を適宜選択することが好ましい。
【００４１】
（１−３）光記録媒体の製造方法
次に、図４および図５を参照しながら、この発明の第１の実施形態による光記録媒体の製造方法について説明する。
【００４２】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面１ａが形成された基板１を成形する。基板１の成形の方法としては、例えば射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００４３】
（第１の記録膜の成膜工程）
次に、例えばスパッタリング法により、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を基板１上に順次積層する。これにより、第１の記録膜２が基板１上に成膜される。
【００４４】
（中間層の形成工程）
次に、図４Ａに示すように、基板１のセンターホール１ｂを、センターピン２２に嵌合するようにして、基板１をスピントレー２１の載置面２１ａに載置する。次に、図４Ａに示すように、基板１を回転させながらノズル（図示省略）から紫外線硬化樹脂３ａをセンターホール１ｂの回りに、例えば１周に渡って滴下する。
【００４５】
次に、図４Ｂに示すように、例えば２５００〜３５００ｒｐｍの範囲の回転数で、１〜４秒間、スピントレー２１を高速で回転させる。これにより、基板１および外周リング２４が高速で回転され、紫外線硬化樹脂３ａが基板１全面に延伸されるとともに、余分な紫外線硬化樹脂が振り切られる。
【００４６】
また、紫外線硬化樹脂３ａは、基板１の外周部を越えて外周リング２４の突出面まで延伸されるので、基板１の外周側の側面における紫外線硬化樹脂３ａの回り込み、および基板１の外周部における樹脂の盛り上がりが低減される。
【００４７】
次に、図４Ｃに示すように、外周マスク２５により基板１の外周部を覆う。これにより、外周リング２４の外周部にて盛り上がった紫外線硬化樹脂が外周マスク２５により覆われる。次に、基板１を回転させて、例えば基板１の径方向に直列するように配置された複数のＵＶ照射装置２３により、弱いＵＶ光を基板１の上面に一様に照射する。これにより、基板１の上面の紫外線硬化樹脂３ｂは、ゲル状の半硬化状態のものとされ、外周リング２４の上面の紫外線硬化樹脂３ｃは、未硬化状態のものとされる。
【００４８】
次に、図４Ｄに示すように、例えば３０００〜４５００ｒｐｍの範囲の回転数で、１〜４秒間、スピントレー２１を高速で回転させる。これにより、基板１および外周リング２４が高速で回転され、余剰な紫外線硬化樹脂が振り切られ、外周リング２４の上面の紫外線硬化樹脂３ｃの厚さが低減される。次に、例えば載置面２１ａに対して垂直な方向に向けて基板１を搬出する。これにより、中間層３の外周面に微小な段差が形成される。また、この際、紫外線硬化樹脂が基板１の外周面に回り込むと考えられる。なお、この基板外周面に回り込んだ紫外線硬化樹脂の厚さは、従来の光記録媒体におけるものと比べて極めて薄いものである。
【００４９】
次に、中間層３を形成するための図５Ａに示すテーブル３３上に基板１を搬送し、光透過性を有するスタンパ２７を、基板１の上面に一様に延伸された紫外線硬化樹脂３ｂに対して押し合わせる。スタンパ２７は、例えば差圧ラミネート法で、紫外線硬化樹脂３ｂに対して押し合わせる。ここで、差圧ラミネート法とは、紫外線硬化樹脂３ｂに対するスタンパ２７の押し合わせを、真空状態と大気圧が加わる状態とで生じる圧力差を利用して行う方法をいう。
【００５０】
図５Ａに示すように、差圧ラミネート法では、基板１に押し合わせる前の状態のスタンパ２７は、その中心開口が内周側の支持機構３２を構成するセンタリングピンの先端側の小径部に嵌合され、スタンパ２７の外周側は、外周側の支持機構２８によって支持され、内周側の支持機構３２および外周側の支持機構２８によって、基板１に対して、適当な間隔を有し、且つスタンパ２７の一主面と、基板１の一主面とがほぼ平行に対面するように、真空状態の真空チャンバＴ内に配置される。
【００５１】
次に、真空チャンバＴ内の真空を破って大気圧の開放を行い真空と大気圧との差圧をスタンパ２７に対して加える。この際、大気圧の開放と同期して、スタンパ２７と、基板１との間隔を保持するための内周側の支持機構３２および外周側の支持機構２８の保持状態を解除する。大気圧の開放および大気圧の開放と同期した内周側の支持機構３２および外周側の支持機構２８の解除によって、スタンパ２７の中周部が下方にたわみながら基板１に押し合わされ、これにより気泡の発生を低減できる。
【００５２】
次に、図５Ｂに示すように、基板１を、例えば基板１の径方向に直行するように配置されたＵＶ照射装置２９によりＵＶ光をスタンパ２７び中央部付近から外周部付近まで照射する。これにより、スタンパ２７を透過したＵＶ光により半硬化状態の紫外線硬化樹脂３ｂが完全硬化した紫外線硬化樹脂とされる。
【００５３】
次に、基板１を、スタンパ２７を基板１から剥離するための他のテーブル（図示省略）に搬送し、図５Ｃに示すように、スタンパ２７を除去する。これにより、イングルーブおよびオングルーブが設けられた中間層３が得られる。
【００５４】
（第２の記録膜の成膜工程）
次に、例えばスパッタリング法により、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を中間層３上に順次積層する。これにより、第２の記録膜４が中間層３上に成膜される。
【００５５】
（光透過層の形成工程）
次に、円環形状の光透過性シートを、例えば、このシート一主面に予め均一に塗布された感圧性粘着剤（ＰＳＡ）を用いて、基板１上の凹凸面２ａ側に貼り合わせる。これにより、基板１上に積層された積層膜を覆うように、光透過層５が形成される。
以上の工程により、図１に示す光記録媒体１０が得られる。
【００５６】
（２）第２の実施形態
（２−１）光記録媒体の構成
図６は、この発明の第２の実施形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。この光記録媒体１０は、単層の記録膜を有する書換型の光記録媒体であり、記録膜４１、光透過層５を基板１上に順次積層して構成される。基板１は上述の第１の実施形態と同様であり、記録膜４１は上述の第１の実施形態における第２の記録膜４と同様であるので説明を省略する。光透過層５は、紫外線硬化樹脂を硬化してなる。光透過層５の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば１００μｍに選ばれる。
【００５７】
（２−２）光記録媒体の製造方法
次に、図７を参照しながら、この発明の第２の実施形態による光記録媒体１０の製造方法について説明する。なお、光透過層５の形成に用いるスピンコート装置の構成は、上述の第１の実施形態と同様であるので説明を省略する。
【００５８】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面１ａが形成された基板１を成形する。基板１の成形の方法としては、例えば射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００５９】
（記録膜の成膜工程）
次に、例えばスパッタリング法により、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を基板１上に順次積層する。これにより、記録膜４１が基板１上に成膜される。
【００６０】
（光透過層の形成工程）
次に、図７Ａに示すように、基板１のセンターホール１ｂを、センターピン２２に嵌合するようにして、基板１をスピントレー２１の載置面２１ａに載置する。次に、図４Ａに示すように、基板１を回転させながらノズル（図示省略）から紫外線硬化樹脂５ａをセンターホール１ｂの回りに、例えば１周に渡って滴下する。
【００６１】
次に、図７Ｂに示すように、例えば２５００〜３５００ｒｐｍの範囲の回転数で、１〜４秒間、スピントレー２１を高速で回転させる。これにより、基板１および外周リング２４が高速で回転され、紫外線硬化樹脂５ａが基板１全面に延伸されるとともに、余分な紫外線硬化樹脂５ａが振り切られる。また、紫外線硬化樹脂５ａは、基板１の外周部を越えて外周リング２４の突出面まで延伸されるので、基板１の外周側の側面における紫外線硬化樹脂５ａの回り込み、および基板１の外周部における樹脂の盛り上がりが低減される。
【００６２】
次に、図７Ｃに示すように、外周マスク２５により基板１の外周部を覆う。これにより、基板１の外周部にて盛り上がった紫外線硬化樹脂５ａが外周マスク２５により覆われる。次に、基板の径方向に直列するように配置された複数のＵＶ照射装置２３によりＵＶ光を基板１の上面に一様に照射する。これにより、基板１上の上面の紫外線硬化樹脂５ｂは、半硬化状態のものとされ、外周リング２４の上面の紫外線硬化樹脂３ｃは、未硬化状態のものとされる。
【００６３】
次に、図７Ｄに示すように、例えば３０００〜４５００ｒｐｍの範囲の回転数で、１〜４秒間、スピントレー２１を高速で回転させる。これにより、基板１および外周リング２４が高速で回転され、余剰な紫外線硬化樹脂が振り切られ、外周リング２４の上面の紫外線硬化樹脂５ｃの厚さが低減される。次に、ＵＶ照射装置２３によりＵＶ光を基板１の上面に照射する。これにより、基板１の上面に延伸された半硬化状態の紫外線硬化樹脂５ｂが完全硬化され、光透過層５が形成される。
以上の工程により、図６に示す光記録媒体１０が得られる。
【実施例】
【００６４】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００６５】
まず、上述のスピンコート装置と従来のスピンコート装置とにより紫外線硬化樹脂を延伸・硬化させて、樹脂層の厚みの均一性を評価した。
【００６６】
実施例１
まず、射出成形法により、一主面にイングルーブおよびオングルーブが設けられた基板１を成形した。樹脂材料としては、ポリカーボネート樹脂を用いた。次に、スパッタリング法により、第１の記録膜２を基板１上に成膜した。
【００６７】
次に、図２に示すスピンコート装置に基板１を搬送し、基板１のセンターホール１ｂを、センターピン２２に嵌合するようにして、基板１をスピントレー２１の載置面２１ａに載置した。次に、基板１を回転させながらノズルから紫外線硬化樹脂３ａをセンターホール１ｂの回りに１周に渡って滴下した。
【００６８】
次に、２５００〜３５００ｒｐｍの範囲の回転数で、１〜４秒間、スピントレー２１を高速で回転させて、紫外線硬化樹脂３ａを基板１上に延伸させた。なお、基板１と外周リング２４とのクリアランスは、５μｍとした。
【００６９】
次に、外周マスク２５により基板１の外周部を覆った後、ＵＶ照射装置２３によりＵＶ光を基板１の上面に一様に照射して、基板１の上面に延伸された紫外線硬化樹脂３ｂを半硬化させた。なお、円環状を有する外周マスク２５の径は、１１８ｍｍとした。次に、３０００〜４５００ｒｐｍの範囲の回転数で、１〜４秒間、スピントレー２１を高速で回転させて、基板１の外周部の余剰な紫外線硬化樹脂を振り切って、紫外線硬化樹脂３ｃの厚さを低減させた。
【００７０】
次に、基板１を中間層を形成するためのテーブルに移動し、基板１の外周部を外周マスク３１により覆った後、基板１の上面に対してＵＶ光を照射し、基板１の上面に延伸された半硬化状態の紫外線硬化樹脂３ｂを、完全硬化状態の紫外線硬化樹脂とした。
【００７１】
比較例１
図８に、比較例の光記録媒体１０の作製に用いたスピンコート装置の構成を示す。図８に示すように、このスピンコート装置は、外周リング２４および外周マスク２５が省略されている以外のことは、上述の実施例１で用いたスピンコート装置と同様である。このスピンコート装置を用いて、以下のようにしてサンプルを作製した。
【００７２】
まず、実施例１と同様にして、基板１を成形し、この基板１上に第１の記録膜２を成膜した。次に、図８に示すスピンコート装置に基板１を搬送し、基板１のセンターホール１ｂを、センターピン２２に嵌合するようにして、基板１をスピントレー２１の載置面２１ａに載置した。次に、基板１を回転させながらノズルから紫外線硬化樹脂３ａをセンターホール２ｂの回りに１周に渡って滴下した。
【００７３】
次に、例えば２５００〜３５００ｒｐｍの範囲の回転数で、１〜４秒間、スピントレー２１を高速で回転させて、紫外線硬化樹脂３ａを基板１の上面に延伸させた。次に、ＵＶ照射装置２３によりＵＶ光を基板１の上面に一様に照射して、延伸された紫外線硬化樹脂３ａを完全硬化させた。
【００７４】
次に、上述のようにして得られた実施例１および比較例１の外周部の形状を評価した。この評価には、ＫＬＡ  ＴＥＮＣＯＲ社製  Ｐ−１５を用いた。図９は、実施例１の外周部の形状を示す。図１０は、比較例１の外周部の形状を示す。
【００７５】
図９〜図１０から、比較例１では、基板１の外周部における紫外線硬化樹脂３ａの盛り上がりは１７μｍ程度に達してしまっているのに対して、実施例１では、基板１の外周部における紫外線硬化樹脂３ａの盛り上がりが２μｍ程度に低減されていることが分かる。
【００７６】
次に、実施例２〜実施例７のサンプルを作製し、基板１と外周リング２４とのクリアランスについて検討を行った。
【００７７】
実施例２
まず、実施例１と同様にして、基板１を成形し、この基板１上に第１の記録膜２を成膜した。次に、図２に示すスピンコート装置に基板１を搬送し、基板１のセンターホール１ｂを、センターピン２２に嵌合するようにして、基板１をスピントレー２１の載置面２１ａに載置した。次に、基板１を回転させながらノズルから紫外線硬化樹脂３ａをセンターホールの回りに１周に渡って滴下した。
【００７８】
次に、例えば２５００〜３５００ｒｐｍの範囲の回転数で、２秒間、スピントレー２１を高速で回転させて、紫外線硬化樹脂３ａを基板１上に延伸させた。なお、基板１と外周リング２４とのクリアランスは、４μｍとした。
【００７９】
次に、外周マスク２５により基板１の外周部を覆った後、ＵＶ照射装置２３によりＵＶ光を基板１の上面に一様に照射して、基板１の上面に延伸された紫外線硬化樹脂３ｂを半硬化させた。なお、円環状を有する外周マスク２５の径は、１１８ｍｍとした。次に、３０００〜４５００ｒｐｍの範囲の回転数で、４秒間、スピントレー２１を高速で回転させて、基板１の外周部の余剰な紫外線硬化樹脂を振り切り紫外線硬化樹脂ｃの厚さを低減させた。
【００８０】
次に、基板１を、中間層３を形成するためのテーブル３３上に搬送し、光透過性を有するスタンパ２７を、基板１の上面に一様に延伸された紫外線硬化樹脂３ｂに対して押し合わせた。なお、スタンパ２７の押し合わせは、差圧ラミネート法により行った。次に、ＵＶ照射装置２９により、基板１の上面に対してＵＶ光を照射し、基板１の上面に延伸された半硬化状態の紫外線硬化性樹脂３ｂを、完全硬化状態の紫外線硬化樹脂とした。次に、基板１を、スタンパ２７を基板１から剥離するための他のテーブルに搬送し、スタンパ２７を除去した。これにより、イングルーブおよびオングルーブが設けられた中間層３が得られた。
【００８１】
次に、スパッタリング法により、第２の記録膜４を中間層３の凹凸面２ａ上に成膜した。次に、円環形状の光透過性シートを、例えば、このシート一主面に予め均一に塗布された感圧性粘着剤（ＰＳＡ）を用いて、中間層３の凹凸面２ａ側に貼り合わせた。これにより、基板１上に積層された積層膜を覆うように、光透過層５が形成された。以上の工程により、目的とするサンプルが得られた。
【００８２】
実施例３
基板１と外周リング２４とのクリアランスを５μｍとする以外のことは、上述の実施例２とすべて同様にしてサンプルを得た。
【００８３】
実施例４
基板１と外周リング２４とのクリアランスを２２μｍとする以外のことは、上述の実施例２とすべて同様にしてサンプルを得た。
【００８４】
実施例５
基板１と外周リング２４とのクリアランスを６０μｍとする以外のことは、上述の実施例２とすべて同様にしてサンプルを得た。
【００８５】
実施例６
基板１と外周リング２４とのクリアランスを９０μｍとする以外のことは、上述の実施例２とすべて同様にしてサンプルを得た。
【００８６】
実施例７
基板１と外周リング２４とのクリアランスを１００μｍとする以外のことは、上述の実施例２とすべて同様にしてサンプルを得た。
【００８７】
次に、上述のようにして得られた実施例２〜７の基板１の外周部における紫外線硬化樹脂の回り込み量を測定した。図１１は、実施例２〜７の基板１の外周部における紫外線硬化樹脂の回り込み量を示す模式図である。図１１では、便宜上紫外線硬化樹脂が基板１の外周面の一部に回り込んでいる場合を図示しているが、実際には、紫外線硬化樹脂は基板１の外周面の全体に回り込んでいる。なお、回り込み量は、実施例２〜７の基板それぞれについて８箇所の位置にて測定を行った。また、クリアランスの測定には、ＣＮＣ画像測定器（ミツトヨ社製、商品名：Quick Vision PRO）を用い、回り込み量の測定には、ＣＮＣ画像測定器（ミツトヨ社製：商品名：Quick Vision PRO）を用いた。
【００８８】
表１に、実施例２〜７の回り込み量の測定結果を示す。表１において、判定結果「○」、「△」、「×」は、回り込み量ｄが以下の範囲であることを示す。
「○」：０≦ｄ≦１５μｍ、「△」：１５μｍ＜ｄ≦２５μｍ、「×」：２５μｍ＜ｄ
【００８９】
【表１】
0004618111.tif 000002
【００９０】
実施例２（クリアランス４μｍ）および実施例７（クリアランス１００μｍ）では、測定位置によっては判定結果が「△」および「×」となるのに対して、実施例３〜７（クリアランス５μｍ〜９０μｍ）では、全ての測定位置において判定結果が「○」であることが分かる。すなわち、クリアランスを５μｍ〜９０μｍの範囲にすることにより、基板１の外形への回り込み量を１５μｍ以下にできることが分かる。
【００９１】
また、実施例３〜６（クリアランス５μｍ〜９０μｍ）に着目すると、実施例４〜５（クリアランスを２２μｍ〜６０μｍ）では、実施例３（クリアランス５μｍ）および実施例６（クリアランス９０μｍ）に比して、基板１の外形への回り込み量をさらに低減できることが分かる。すなわち、クリアランスを２２μｍ〜６０の範囲にすることにより、基板１の外形への回り込み量をさらに低減できることが分かる。
【００９２】
以上、この発明の第１〜第２の実施形態について具体的に説明したが、この発明は、上述の第１〜第２の実施形態に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【００９３】
例えば、上述の第１〜第２の実施形態において挙げた数値はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値を用いてもよい。
【００９４】
また、上述の第１〜第２の実施形態では、２層の記録膜を有する光記録媒体に対してこの発明を適用したが、この発明は３層以上の記録膜を有する光記録媒体に対して適用することも可能である。
【００９５】
また、上述の第１〜第２の実施形態では、中間層または光透過層を有する光記録媒体の製造方法に対してこの発明を適用する例について説明したが、ハードコード層を有する光記録媒体の製造方法にこの発明を適用してもよい。
【００９６】
また、第１の実施形態では、光透過性シートを感圧性粘着剤により基板１に貼り合わせて光透過層５を作製する場合について説明したが、上述の第２の実施形態と同様に、紫外線硬化樹脂３ａを延伸・硬化して光透過層５を形成するようにしてもよい。
【００９７】
また、上述の第１の実施形態では、光透過性シートを感圧性粘着剤により基板１に貼り合わせて光透過層５を作製する場合について説明したが、紫外線硬化樹脂により光透過性シートを基板１に貼り合わせて光透過層５を形成するようにしてもよい。この光透過層５は、例えば以下のようにして形成される。
【００９８】
まず、例えば１０μｍ〜２０μｍ程度の厚さに紫外線硬化樹脂を第２の記録膜２上に延伸する。この際、上述の第２の実施形態と同様にして、図２に示したスピンコート装置を用いて紫外線硬化樹脂を延伸する。次に、基板１上に延伸された紫外線硬化樹脂の上に光透過性シートを載置した後、例えば光透過性シート側からＵＶ光を紫外線硬化樹脂に照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる。以上により光透過層５が形成される。
【００９９】
また、上述の第１〜第２の実施形態では、基板１上に光透過層５を形成する構成を有する単板型の光記録媒体１０に対してこの発明を適用した場合について説明したが、第１および第２の基板を貼り合わせる構成を有する貼り合わせ型の光記録媒体に対してこの発明を適用するようにしてもよい。この発明を適用可能な貼り合わせ型の光記録媒体としては、例えば、ＤＶＤ、ＨＤ  ＤＶＤなどを挙げることができる。
【０１００】
また、上述の第１〜第２の実施形態では、基板１とは反対の側からＵＶ光を照射する場合について説明したが、第１の記録膜２および記録膜４１の透過率が高い場合には、基板１側からＵＶ光を照射することも可能である。例えば、追記型光記録媒体の場合には、記録膜が高い透過率を有するので、基板１の側からＵＶ光を照射することが可能である。このように、基板１側からＵＶ光を照射することで、金属などからスタンパを用いることができる。したがって、スタンパの耐久性が向上するので、１つのスタンパを用いて複数の中間層３を形成できるようになる。すなわち、光記録媒体のコストを低減できる。
【０１０１】
また、上述の第１〜第２の実施形態では、書換型の光記録媒体に対してこの発明を適用する場合を例として説明したが、この発明はこの例に何ら限定されるものではなく、追記型および再生専用型の光記録媒体に対しても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】この発明の第１の実施形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。
【図２】スピンコート装置の一構成例を示す断面図である。
【図３】スピンコート装置の一構成例を示す上面図である。
【図４】この発明の第１の実施形態による光記録媒体の製造方法を説明するための模式図である。
【図５】この発明の第１の実施形態による光記録媒体の製造方法を説明するための模式図である。
【図６】この発明の第２の実施形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。
【図７】この発明の第２の実施形態による光記録媒体の製造方法を説明するための模式図である。
【図８】比較例１の光記録媒体１０の作製に用いたスピンコート装置の構成を示す断面図である。
【図９】実施例１の外周部の形状を示す略線図である。
【図１０】比較例１の外周部の形状を示す略線図である。
【図１１】実施例２〜７の基板１の外周部における紫外線硬化樹脂の回り込み量を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１・・・基板
１ａ，２ａ・・・凹凸面
１ｂ・・・センターホール
２・・・記録膜
２ｂ・・・センターホール
３・・・中間層
３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ・・・紫外線硬化樹脂
４・・・記録膜
５・・・光透過層
５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｂ・・・紫外線硬化樹脂
６・・・対物レンズ
７・・・レーザ光
１０・・・光記録媒体
２１・・・スピントレー
２１ａ・・・載置面
２２・・・センターピン
２３・・・照射装置
２４・・・外周リング
２４ａ・・・排出孔
２５，３１・・・外周マスク
２５ａ・・・突出部
２６・・・赤外線照射装置
２７・・・スタンパ
２８，３２・・・支持機構
２９，３０・・・ＵＶ照射装置
３３・・・テーブル
４１・・・記録膜
【図１】
0004618111.tif 000003
【図２】
0004618111.tif 000004
【図３】
0004618111.tif 000005
【図４】
0004618111.tif 000006
【図５】
0004618111.tif 000007
【図６】
0004618111.tif 000008
【図７】
0004618111.tif 000009
【図８】
0004618111.tif 000010
【図９】
0004618111.tif 000011
【図１０】
0004618111.tif 000012
【図１１】
0004618111.tif 000013