(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向するように設けられた第１及び第２基板と、それらの間に挟まれるように設けられた表示媒体層と、を有する表示パネルを備えた表示装置であって、
各々、表示領域とその外周に沿うように設けられた遮光領域とに形成されると共に、上記第１及び第２基板の一方側から他方に達するように形成された複数の支持体を備え、
上記表示領域には、色層が設けられ、
上記遮光領域には、遮光層上に設けられて上記色層と同じ厚さを有する段差部が形成され、
上記遮光領域の遮光層と該遮光層上に形成された上記段差部と該段差部上に形成された上記支持体とは、それらの高さの和が上記表示領域の色層と該色層上に形成された上記支持体との高さの和より大きく形成されると共に、
上記段差部と上記表示領域との間にパネル厚さ緩衝領域が設けられ、
上記パネル厚さ緩衝領域は、上記表示領域に隣接して上記遮光領域に設けられると共に、上記第１基板と第２基板との基板間隔を規制しないように上記色層と上記段差部との間に凹部が形成されている表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
上記段差部は、上記表示領域に形成された色層と同一の色層で形成されている表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載された表示装置において、
上記遮光領域の外縁部には、上記第１基板と上記第２基板とを接着する接着手段が設けられていると共に、
上記接着手段と上記段差部とが離間して設けられている表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載された表示装置において、
上記パネル厚さ緩衝領域は、上記表示領域外周端から上記接着手段内周端までの幅の０．０５倍以上０．８倍以下である表示装置。
【請求項５】
請求項１に記載された表示装置において、
上記表示領域及び上記遮光領域に形成された上記支持体は、それぞれ同一基板上に形成されている表示装置。
【請求項６】
請求項１に記載された表示装置において、
上記支持体は、それぞれ等間隔に配置されている表示装置。
【請求項７】
請求項１に記載された表示装置において、
上記表示領域に光透過領域と光反射領域とを有する表示装置。
【請求項８】
請求項１に記載された表示装置において、
上記遮光領域にドライバが設けられた表示装置。
【請求項９】
請求項３に記載された表示装置において、
上記表示領域は、該表示領域の周囲に連続して配置された上記接着手段によって囲まれている表示装置。
【請求項１０】
請求項１に記載された表示装置において、
上記第１基板と上記第２基板との基板厚が異なる表示装置。
【請求項１１】
請求項１に記載された表示装置において、
上記第１及び第２基板の少なくとも一方の基板厚が０．５ｍｍ以下である表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ基板を用いた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、一般的に用いられている液晶表示装置は、電極が設けられた一対の基板間に液晶層が狭持されることにより構成されている。カラー表示用の液晶表示装置では、対向する基板のいずれか一方に、マトリクス状に配置された画素が設けられており、その画素毎に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）にそれぞれ着色された着色樹脂材料からなる色層が配置されている。
【０００３】
このような構成の液晶表示装置では、その対向する一対の基板が、画像を表示する表示領域において柱状又はビーズ状スペーサを介在させた状態で貼り合わせられることにより、一定の基板間隔を維持するように構成されている。これは、主に基板間隔がパネル製造におけるプレス工程や使用時の外部荷重等により変化することで表示領域に表示ムラが生じるのを規制するためである。
【０００４】
一方、遮光領域においては遮光層が配置されるのみであるため、一対の基板間の間隔を十分均一に保持することができない。このような場合、遮光部に近い表示部の周縁部では、基板間隔の急な変化が原因で生じる表示ムラを発生するおそれがある。このような表示ムラの発生は、表示品位を著しく低下させるだけでなく、製造歩留まりも低下させてしまう。これは、特に近年開発が進む、ドライバを遮光領域に内蔵するＬＣＤや超薄型ＬＣＤ等について顕著である。ドライバを遮光領域に内蔵するＬＣＤは、遮光領域をその分広く設ける必要があるためより基板表面にかかる荷重に対して基板間隔の変化の不均一性が増大するからである。また、例えば基板の厚さが０．７ｍｍ以下であるような超薄型ＬＣＤは、それだけ基板表面にかかる荷重によって、基板間隔の保持という点でより影響を受けやすいからである。
【０００５】
このような問題に対処するため、従来より、図１０〜１２に示すように遮光部にも同様の柱状又はビーズ状スペーサを設けたものがある。ここで、図１０は表示領域に反射領域と透過領域とを備え、柱状スペーサ１８０を設けた半透過型の液晶表示装置１３０、図１１は柱状スペーサ１８５を設けた反射型又は透過型の液晶表示装置１３１、そして図１２はビーズ状スペーサ１８８を設けた反射型又は透過型の液晶表示装置１３２を示す。また、これらの液晶表示装置１３０〜１３２は、対向する薄膜トランジスタ基板１３５と色層１６０を設けたカラーフィルタ基板１４０とがシール剤１４１で貼り合わされて液晶層１５０を狭持するように構成されている。図１０〜１２に示すような従来の液晶表示装置１３０〜１３２は、いずれも遮光領域１９０には表示領域のように色層が設けられておらず、このため表示領域と同様のスペーサを設けても、スペーサが対向基板に到達しない。従って、パネル製造における加圧プレス工程の際等にかかる荷重によって遮光領域１９０において一方の基板は容易に沈み込んでしまう。このため、表示ムラを規制するという目的に対し、十分な効果が期待できない。
【０００６】
一方、遮光領域１９０のスペーサを表示領域のスペーサより色層の分だけ高く形成して、表示領域と同様の基板厚に保つということも考えられるが、遮光領域１９０のスペーサだけ別工程で形成する必要があり、製造コスト及び製造歩留まりの観点から適当な解決手段とはいえない。
【０００７】
そこで、このような問題を解決するために、例えば、特許文献１では、画素電極および画素電極を駆動するスイッチング能動素子を有するアレイ基板と、着色膜および遮光膜のパターン上に画素電極の対向電極を有するカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板上に所定パターン形状、所定高さ、所定密度で形成された柱状スペーサとを備え、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間隙に液晶を封入し、カラーフィルタ基板上の表示領域外に形成された柱状スペーサを少なくとも１色以上の着色膜および遮光膜上に積層させるものが開示されている。そして、これによれば、表示領域外に柱状スペーサを形成する構成において、パネル周辺部近傍の表示むらをなくすことができると記載されている。
【０００８】
また、特許文献２では、一対の基板間に液晶組成物を挟持して構成された液晶表示装置であって、画像を表示する表示部は、画素毎に配置され少なくとも１種類の着色樹脂材料によって形成されたカラーフィルタ層を備え、表示部の外周に沿った遮光部は、遮光性を有する樹脂材料によって形成された遮光層と、一対の基板間のセルギャップを保持する遮光部柱状スペーサと、を備え、遮光部柱状スペーサは、着色樹脂材料によって形成された第１層と、遮光性を有する樹脂材料によって形成された第２層とを重ねることによって形成されたことを特徴とするものが開示されている。そして、これによれば、セルギャップを均一化することが可能であり、しかも、表示品位及び製造歩留まりの低下を防止することが可能な液晶表示装置を提供することができる、と記載されている。
【特許文献１】特開2002-277865
【特許文献２】特開2005-070442
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記特許文献１及び２に開示されるような基板間隔制御技術の概略は、図１３〜１５のように示される。図１３は表示領域に反射領域と透過領域とを備え、柱状スペーサ１８０を設けた半透過型の液晶表示装置１５１、図１４は柱状スペーサ１８５を設けた反射型又は透過型の液晶表示装置１５２、そして図１５はビーズ状スペーサ１８８を設けた反射型又は透過型の液晶表示装置１５３を示す。
【００１０】
ここで、図１３〜１５は、いずれもスペーサ等と遮光層との間に、表示領域に設けられたものと同一の色層１６０を備えている。これにより、表示領域と同様に対向基板にスペーサが達することが可能になり、図１３〜１５に示したような遮光領域１９１での荷重に対する沈み込みを規制している。
【００１１】
しかしながら、図１３〜１５の液晶表示装置１５１〜１５３において、遮光領域１９１には遮光層が存在するため、遮光層上に色層１６０を設けてスペーサを配置させると、その分表示領域よりも基板間隔が大きくなる。このため基板表面に荷重がかかると遮光領域１９１のみ盛り上がるおそれがある。このような場合、遮光領域１９１に近い表示領域の周縁部では、基板間隔の急な変化が原因で生じる表示ムラを発生するおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、表示ムラの発生を良好に規制するカラーフィルタ基板を用いた表示装置を提供することである。
【００１３】
本発明に関連するカラーフィルタ基板は、透明基板と、透明基板上に設けられて表示領域を構成する色層と、透明基板上の表示領域の外周に沿って設けられて遮光領域を構成する遮光層と、透明基板の表示領域及び遮光領域に各々起立するように形成された支持体と、を備えた表示パネルに用いられるカラーフィルタ基板であって、遮光領域には、遮光層上に設けられて色層と同じ厚さを有する段差部が形成され、遮光領域の遮光層と遮光層上に形成された段差部と段差部上に形成された支持体とは、それらの高さの和が表示領域の色層と色層上に形成された支持体との高さの和より大きく形成されると共に、段差部と表示領域との間にパネル厚さ緩衝領域が設けられていることを特徴とする。
【００１４】
ここで、このような構成によるカラーフィルタ基板と従来のカラーフィルタ基板とをそれぞれ用いた表示装置について、パネル製造における加圧プレス工程の際等にかかる荷重による基板厚の変化の様子を図を用いて説明する。
【００１５】
図６に、従来のカラーフィルタ基板を用いた表示装置を示す。この表示装置に上下から荷重を加えた場合、図７のように遮光領域全体に亘り沈み込みが発生するため、表示領域の外周部分１００に急激なパネル厚ギャップが生じる。このため、表示部の外周に亘って表示ムラが発生する。ところが、図８に示す本発明に係るカラーフィルタ基板を用いた表示装置であれば、パネル製造における加圧プレス工程の際等にかかる荷重が加わってもそのような急激なパネル厚ギャップが表示領域の外周部分１０９に発生することはない。すなわち、図９に示すように、遮光層９４を備えている分表示領域よりもパネル厚が大きくなっている遮光領域１０２の表示領域側縁部１０３において、対向基板９０と９１とに亘ってそれらを支持するような支持体が形成されていない。このため、パネル厚の異なった領域間（つまり、表示領域１０１と遮光領域１０２の段差部９３との間）に介在するこの表示領域側縁部１０３が緩衝領域（パネル厚さ緩衝領域１０３）となり、パネルへの液晶注入、貼合等における加圧工程を経た後の局所的なセル厚変動やパネルの段差歪を効果的に吸収することが可能となり、表示領域端部に発生しやすい色ムラやセル厚ムラの抑制が可能となる。
【００１６】
本発明に係る表示装置は、互いに対向するように設けられた第１及び第２基板と、それらの間に挟まれるように設けられた表示媒体層と、を有する表示パネルを備えた表示装置であって、各々、表示領域とその外周に沿うように設けられた遮光領域とに形成されると共に、第１及び第２基板の一方から他方に達するように形成された複数の支持体を備え、表示領域には、色層が設けられ、遮光領域には、遮光層上に設けられて色層と同じ厚さを有する段差部が形成され、遮光領域の遮光層と遮光層上に形成された段差部と段差部上に形成された支持体とは、それらの高さの和が表示領域の色層と色層上に形成された支持体との高さの和より大きく形成されると共に、段差部と表示領域との間にパネル厚さ緩衝領域が設けられ、パネル厚さ緩衝領域は、表示領域に隣接して遮光領域に設けられると共に、第１基板と第２基板との基板間隔を規制しないように色層と段差部との間に凹部が形成されていることを特徴とする。
【００１７】
このような構成によれば、上述したように、遮光層を備えている分表示領域よりもパネル厚が大きくなっている遮光領域の表示領域側縁部において、対向基板間に亘ってそれらを支持するような支持体が表示装置に形成されていない。このため、パネル厚の異なった領域間（つまり、表示領域と段差部との間）に介在するこの表示領域側縁部が緩衝領域となり、パネルへの液晶注入、貼合等における加圧工程を経た後の局所的なセル厚変動やパネルの段差歪を効果的に吸収することが可能となり、表示領域端部に発生しやすい色ムラやセル厚ムラの抑制が可能となる。
【００１８】
また、遮光領域の表示領域側縁部にパネル厚さ緩衝領域を設けるにあたり、同一工程で色層を表示領域及び遮光領域に形成する際に、選択的に遮光領域の表示領域側縁部のみ色層を形成しないでおけばよい。すなわち、色層を形成していない分そこが周囲より凹んだ凹部を構成する。このため、その後同一工程でスペーサを形成すれば遮光領域の表示領域側縁部のみ対向基板に到達しない支持体を形成することができる。従って、簡単な製造工程で効率よくパネル厚さ緩衝領域を形成することができる。
【００１９】
さらに、本発明に係る表示装置は、段差部が、表示領域に形成された色層と同一の色層で形成されていてもよい。
【００２０】
このような構成によれば、表示領域に色層を形成する際、同一の工程で一度に遮光領域に色層を形成できる。従って、段差部を別工程で形成する必要がなく、装置の製造効率が良好となる。
【００２１】
また、本発明に係る表示装置は、遮光領域の外縁部に、第１基板と第２基板とを接着する接着手段が設けられていると共に、接着手段と段差部とが離間して設けられていてもよい。
【００２２】
基板接着手段に基板間隙保持材を混在させて基板間のギャップ制御を行う場合には、所定の間隙部を設けることが好ましい。この間隙部は、ギャップ制御時の緩衝作用を示すだけでなく、シール樹脂の広がりや段差部のパターニングマージンを確保することにも効果を有する。即ち、基板間隙保持材が混在したシール樹脂と段差部とに重なりが生じた場合には、当該重畳部が局所的に厚くなり、その影響を受けて近接する表示部にセル厚ムラが発生しやすくなるためである。
【００２３】
さらに、本発明に係る表示装置は、パネル厚さ緩衝領域が、表示領域外周端から接着手段内周端までの幅の０．０５倍以上０．８倍以下であってもよい。
【００２４】
パネル厚さ緩衝領域は、表示領域外周端から接着手段内周端までの幅との関係で、適当な幅に形成するのがよい。特に表示領域外周端から接着手段内周端までの幅の０．０５倍以上０．８倍以下であれば、その表示ムラの規制効果がより発揮される。
【００２５】
さらに、本発明に係る表示装置は、表示領域及び遮光領域に形成された支持体が、それぞれ同一基板上に形成されていてもよい。
【００２６】
このような構成によれば、表示領域及び遮光領域の支持体をそれぞれ同一工程で形成することができるため、装置の製造効率がより良好となる。
【００２７】
また、本発明に係る表示装置は、支持体が、それぞれ等間隔に配置されていてもよい。
【００２８】
このような構成によれば、支持体がそれぞれ等間隔に配置されているため、遮光領域及び表示領域に加わる加圧プレス工程等に伴う外部荷重をそれらが均等に支持する。このため、表示ムラの局所的な発生を効果的に規制することができる。
【００２９】
さらに、本発明に係る表示装置は、表示領域に光透過領域と光反射領域とを有していてもよい。
【００３０】
このような構成によれば、遮光領域の遮光層が厚いときなど、遮光領域に色層と同一厚の段差部を設けなくてもよい場合がある。このときは遮光領域にスペーサを形成させるだけでよいため、装置の製造効率等が良好となる。
【００３１】
また、本発明に係る表示装置は、遮光領域にドライバが設けられていてもよい。
【００３２】
ドライバが内蔵される薄膜トランジスタ基板を用いた表示装置は、その遮光領域をその分広く設ける必要がある。即ち、ドライバ形成部では表示領域の端部から基板接着手段（シール）端部までの間隔がドライバ非形成部のそれに比べて小さくなり、表示領域と基板接着手段のシールまでの間隔が非対称となる。このために、表示媒体注入後の加圧封止時などに、加圧等の影響によって、上記間隔が大きくなったドライバ形成部の表示領域側縁部にセル厚変動が大きくなり、表示ムラ発生が認められやすい。さらに、そのような表示装置は、より基板表面にかかる荷重に対して基板間隔の変化の不均一性が増大するおそれがあるが、このような構成によれば基板間隔の変化による表示ムラをより顕著に規制することができる。
【００３３】
さらに、本発明に係る表示装置は、表示領域がその周囲に連続して配置された接着手段によって囲まれていてもよい。
【００３４】
一般に、表示領域がその周囲に連続して配置された接着手段によって囲まれているもの、すなわち無封口の表示装置の製造工程では、第１基板と第２基板とを接着手段によって固着固定する際に、通常、光（紫外線）硬化型もしくは光（紫外線）硬化／熱硬化併用型の樹脂を用いて、紫外線（ＵＶ）光照射と基板の加圧プレスによる固着均一化処理工程を経る。
【００３５】
とりわけ、表示媒体として流動体である液晶組成物を用いた場合には、基板上に配向層を形成した後、未硬化の光硬化性樹脂を含有した接着樹脂を切れ目なく表示領域を包囲して基板外周に形成し、次いで、液晶組成物をワンドロップ滴下する。次に、上下基板を真空中で貼り合わせると共に大気開放しながらパネル加圧を行う。また、所定の加熱工程を経る場合もある。この場合には、表示媒体の液晶材料が、本硬化前の樹脂と接して加圧プレスされると共に固着されるために、基板面内で局所的に応圧歪に対して弱い領域に圧力が集中することになる。このため、既にパネルの貼合工程を経た後に液晶材料を注入口から真空下で注入する注入法に比べて、パネル周辺部のシール近傍のセル圧ムラが顕著になる傾向がある。
【００３６】
このような場合に、本発明の技術を導入した場合には、パネル厚さ緩衝領域が有効に厚みムラを吸収することから表示ムラの発生を効果的に抑制することが可能となる。
【００３７】
また、本発明に係る表示装置は、第１基板と第２基板との基板厚が異なっていてもよい。
【００３８】
このような構成によれば、薄膜トランジスタ基板を第１基板として対向するカラーフィルタ基板を第２基板として相対的に薄板化すると、薄膜トランジスタ基板に直接的に接続端子やドライバを実装する際の基板端部の局所的な加熱及び加圧に対し、所定の厚みよりも薄型化することによる薄膜トランジスタ基板の破損を防ぐことができる。また、薄膜トランジスタ基板は端子及び配線等の多層薄膜積層工程において基板単体にも温度縮小や圧力縮小に伴う歪みや履歴が加わっており、薄膜トランジスタ基板の薄型化により機械的強度が低下するのを防ぐことができる。
【００３９】
さらに、本発明に係る表示装置は、第１及び第２基板の少なくとも一方の基板厚が０．５ｍｍ以下であってもよい。
【００４０】
このような構成によれば、パネル全体の薄型化や軽量化を図るためにガラス厚を薄く設計する必要がある場合に、第１及び第２基板を同一のガラス厚設計として薄型化を行うだけでなく、第１及び第２基板のガラス厚を非対称に設計することも可能となる。
【発明の効果】
【００４１】
以上説明したように、本発明によれば、表示ムラの発生を良好に規制するカラーフィルタ基板を用いた表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示装置１０及びカラーフィルタ基板３０の断面図である。
【図２】透明誘電体層を設けずに柱状スペーサ５１のみを配置した反射型又は透過型の液晶表示装置７０の断面図である。
【図３】透明誘電体層及び柱状スペーサを設けずにビーズ状スペーサ５２のみを配置した反射型又は透過型の液晶表示装置８０の断面図である。
【図４】（ａ）は試験評価用液晶表示装置１１０の平面図、（ｂ）は液晶表示装置１１０の端部周辺領域の拡大図である。
【図５】試験評価用液晶表示装置１１０の断面図である。
【図６】従来のカラーフィルタ基板を用いた表示装置の断面図である。
【図７】従来のカラーフィルタ基板を用いた表示装置にプレス加工に伴う外部荷重が加わった様子を示す図である。
【図８】本発明に係るカラーフィルタ基板を用いた表示装置の断面図である。
【図９】本発明に係るカラーフィルタ基板を用いた表示装置にプレス加工に伴う外部荷重が加わった様子を示す図である。
【図１０】表示領域３５に反射領域と透過領域とを備え、柱状スペーサ１８０を設けた半透過型の液晶表示装置１３０の断面図である。
【図１１】柱状スペーサ１８５を設けた反射型又は透過型の液晶表示装置１３１の断面図である。
【図１２】ビーズ状スペーサ１８８を設けた反射型又は透過型の液晶表示装置１３２の断面図である。
【図１３】表示領域３５に反射領域と透過領域とを備え、柱状スペーサ１８０を設けた半透過型の液晶表示装置１５１の断面図である。
【図１４】柱状スペーサ１８５を設けた反射型又は透過型の液晶表示装置１５２の断面図である。
【図１５】ビーズ状スペーサ１８８を設けた反射型又は透過型の液晶表示装置１５３である。
【符号の説明】
【００４３】
１０  液晶表示装置
２０  薄膜トランジスタ基板
２１，３１  ガラス基板
３０  カラーフィルタ基板
３２  色層
３３  ブラックマトリクス
３４  透明誘電体層
３５  表示領域
３６  遮光領域
３７  表示領域側縁部（パネル厚さ緩衝領域）
３９  凹部
４０  液晶層
５０  柱状スペーサ
５２  ビーズ状スペーサ
６０  シール剤
８８  ドライバ
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
以下、本発明の実施形態に係るカラーフィルタ基板３０及びそれを用いた液晶表示装置１０を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００４５】
また、本発明の実施形態では、特に携帯電話のような携帯電子機器に用いられる薄型の液晶表示装置について説明する。
【００４６】
（実施形態）
（カラーフィルタ基板３０及びそれを用いた液晶表示装置１０の構成）
図１は液晶表示装置１０の断面図を表す。この液晶表示装置１０は、透過モードの表示と反射モードの表示の両方を行うことのできる半透過型のものである。
【００４７】
液晶表示装置１０は、対向する薄膜トランジスタ基板２０及びカラーフィルタ基板３０、それらの間に設けられた液晶層４０（表示媒体層）、対向する両基板２０，３０の間に設けられた柱状スペーサ５０（支持体）を備えた液晶パネル及び不図示のバックライトユニット等により構成されている。
【００４８】
例えば、非ラビング処理プロセスによるノーマリーブラック（ＮＢ）モードの場合には、薄膜トランジスタ基板２０は、ガラス基板２１の表面にアクティブ素子及びアクティブ素子に接続されたゲート配線やソース配線等の回路要素及びドライバ８８が設けられている。薄膜トランジスタ基板２０は、その反射領域となるべき領域に樹脂層の凹凸形状及びＡｌやＡｌ含有の金属膜を有する反射層が形成されており、反射層を覆うように透明絶縁層が形成されて反射層の凹凸形状を表面において平坦化している。透明絶縁層の平坦な表面上に、透明な画素電極及び垂直配向膜がこの順に形成されている。画素電極は、複数の画素パターンに分割されている。液晶層４０に所定の電圧を印加すると、複数の画素パターンのそれぞれに放射状傾斜配向を施す液晶ドメインが形成される。この放射状傾斜配向の液晶ドメインの作用により広視野角が実現するという特徴を有している。
【００４９】
尚、ラビング処理工程により一様に液晶層を配向制御したツイスティッドネマティック（ＴＮ）モードや電界制御複屈折（ＥＣＢ）モードのノーマリーホワイト（ＮＷ）モードやノーマリーブラック（ＮＢ）モードの液晶表示装置の場合にも、本発明の技術が適用可能である。
【００５０】
カラーフィルタ基板３０は、薄膜トランジスタ基板２０のガラス基板２１より薄く形成されたガラス基板３１上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３原色からなる色層３２が形成されている。色層３２は、その外周に、コントラストを得るための縁取りとしてブラックマトリクス３３（遮光層）が設けられて遮光領域３６が形成されている。また、色層３２を構成するものとしては、ＲＧＢの組合せ以外に、シアン、マゼンタ、イエローの補色を用いてもよい。色層３２は、ブラックマトリクス３３上にも形成されており、これが段差部３２を構成している。ただし、色層３２は、遮光領域の表示領域側縁部（パネル厚さ緩衝領域）３７には形成されていない。
【００５１】
柱状スペーサ５０は、カラーフィルタ基板３０から透明誘電体層３４を挟んで薄膜トランジスタ基板２０に達するように延びて形成されている。柱状スペーサ５０と透明誘電体層３４とが支持体を構成している。柱状スペーサ５０は、カラーフィルタ基板３０の表示領域３５に等間隔に配置されている。また、柱状スペーサ５０は、遮光領域３６にも色層３２を介してブラックマトリクス３３上に形成されている。柱状スペーサ５０は、透明誘電体層３４上に形成されているため、ブラックマトリクス３３上に色層３２が形成された領域では、両基板２０，３０の間隔が表示領域３５よりもブラックマトリクス３３の厚さ分だけ大きくなっている。さらに、柱状スペーサ５０は、ブラックマトリクス３３上の色層３２のない領域である表示領域側縁部３７の透明誘電体層３４上にも配置されている。この表示領域側縁部３７は、色層３２が形成されていないため、柱状スペーサ５０が対向基板２０に到達しておらず、基板間隔の保持に貢献していない。すなわち、柱状スペーサ５０により基板間隔が所定の厚さに保持されている表示領域３５と、ブラックマトリクス３３上に色層３２が形成されてなおかつ柱状スペーサ５０が形成されることでより基板間隔が大きくなっている遮光領域３６と、の間に基板間隔を規制しない領域３７が存在する構成となっている。
【００５２】
柱状スペーサ５０は、その形状はどのようなものであってもよく、例えば、円柱状、角柱状又はそれらの先細形状等に形成されている。柱状スペーサ５０は、本実施形態では樹脂製材料で形成されているが、基板に対する押圧力に対抗できるものであれば特に限定さず、セラミック製又は金属製のものであってもよい。
【００５３】
配向制御体は、カラーフィルタ基板３０の透過領域となるべき領域に形成されている。配向制御体は、垂直配向膜の液晶層４０側に形成されており、対向する薄膜トランジスタ基板２０へ延びるように形成されている。また、透明誘電体層３４は、カラーフィルタ基板３０の反射領域となるべき領域に形成されている。透明誘電体層３４は、所定の厚さをもって垂直配向膜の液晶層４０側に形成されている。
【００５４】
シール剤６０は、ブラックマトリクス３３の外周領域であって、薄膜トランジスタ基板２０及びカラーフィルタ基板３０の間に設けられており、両基板を接着している。シール剤６０は、液晶封入口が形成されておらず、表示領域３５を囲むように途切れることなく連続して配置されている。シール剤６０は、紫外線（ＵＶ）照射又はＵＶ照射と熱との併用により硬化される。シール剤６０は、基板間隔保持材が混入されている。基板間隔保持材は、シリカ含有の粒子やファイバ等の高硬度、高圧縮強度の素材等で構成されている。
【００５５】
ブラックマトリクス３３上の色層３２の外側端部とシール剤６０の内側端部との間には、０．５〜１．５ｍｍ程度の幅の間隙部６１が設けられている。間隙部６１の幅は、０．５ｍｍより小さければ十分なマージン確保が困難となり、１．５ｍｍより大きければ緩衝効果が抑制されてしまうからである。ただし、シール剤６０に基板間隔保持材を混入させないのであれば、ブラックマトリクス３３上の色層３２の外側端部とシール剤６０の内側端部との間に間隙部６１を設けなくてもよく、それらが接触していてもよい。シール剤６０に基板間隙保持材を混入させなければ、柱状スペーサ５０や段差部３２等のパターニング形成物の仕上がりバラツキの緩和が容易となる。また、設計仕様の異なる多機種の表示装置を同一ラインで製造する場合にシール剤６０の材料切り替え時の工程効率が大幅に改善し、コスト低減に大きく寄与する。さらに、シール剤６０が同一の種類（基板間隙保持材の違いのみ）の場合に材料ロスの大幅な低減となる。
【００５６】
尚、本実施形態のようにブラックマトリクス３３上の色層３２のない領域である表示領域側縁部３７には、柱状スペーサ５０が配置されていなくてもよい。また、この場合、表示領域側縁部３７にはブラックマトリクス３３上に色層３２のみ形成されていてもよい。さらに、色層３２がなく、その領域に凹部３９が形成されていてもよく、透明誘電体層３４のみが形成されているものであってもよい。さらに、ブラックマトリクス３３上に形成された色層３２は、これに限られず、それと同厚の別の段差構造体が形成されていてもよい。すなわち、表示領域側縁部３７に一対の基板２０，３０の一方から他方へ達して基板間隔の変化を規制するような支持体が形成されていなければよい。
【００５７】
また、柱状スペーサ５０は、本実施形態ではそれぞれカラーフィルタ基板３０上に形成されているが、これに限らず、それぞれ薄膜トランジスタ基板２０上に形成されていてもよいし、それぞれが別々の基板上に形成されていてもよい。
【００５８】
さらに、カラーフィルタ基板３０のガラス基板３１及び薄膜トランジスタ基板２０のガラス基板２１は、それぞれその厚さは特に限定されず、薄膜トランジスタ基板２０のほうが薄く形成されていてもよく、また、同じ厚さに形成されていてもよい。
【００５９】
また、遮光領域３６は、本実施形態のようにカラーフィルタ基板３０上におけるシール剤６０の位置まで到達していなくてもよい。すなわち、カラーフィルタ基板３０上においてシール剤６０がブラックマトリクス３３の外周端から離間して設けられていてもよい。
【００６０】
尚、本実施形態では透明誘電体層３４を挟んでカラーフィルタ基板３０上に柱状スペーサ５０を配置した半透過型の液晶表示装置１０について示したが、これに限られず、図２に示すように透明誘電体層を設けずに柱状スペーサ５１のみを配置した反射型又は透過型の液晶表示装置７０を用いてもよい。また、図３に示すように透明誘電体層及び柱状スペーサを設けずにビーズ状スペーサ５２のみを配置した反射型又は透過型の液晶表示装置８０を用いてもよい。
【００６１】
（カラーフィルタ基板３０の製造方法）
次に、本実施形態のカラーフィルタ基板３０の製造方法の一例について詳細に説明する。
【００６２】
まず、基板３１（ガラス基板）を用意する。そして、基板３１上の遮光領域３６に幅５〜５０μｍのブラックマトリクス３３をスパッタリング法により形成する。次に、基板３１上の表示領域３５及び遮光領域３６に赤の顔料が分散された樹脂フィルム（ドライフィルム）を全面にラミネートし、露光、現像及びベーク（熱処理）を行って、第１色層３２（赤）を形成する。次に、第１色層３２に重ねて、緑色の顔料が分散された樹脂フィルムを全面にラミネートし、露光、現像及びベーク（熱処理）を行って、第２色層３２（緑）を形成する。同様に、第３色層３２（青）を形成する。ここで、遮光領域３６の色層３２については、所定の幅を有する表示領域側縁部３７には形成していない。
【００６３】
尚、色層３２は、ストライプ配列となるように形成してもよく、デルタ配列であってもよい。また、色層３２の形成方法は、ドライフィルムをラミネートする代わりに、顔料が分散された感光性樹脂材料をスピン、スリットコートにより全面に塗布してもよい。更に、着色層３２の各色の形成順序は、特に限定されず、他の順序でもよい。
【００６４】
次に、色層３２の上層にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を蒸着し、不図示の透明電極を形成する。
【００６５】
次いで、透明電極上であって、表示領域３５の反射領域に透明誘電体層３４を形成する。
【００６６】
次に、感光性樹脂等からなる柱状スペーサ５０を透明誘電体層３４上に形成する。柱状スペーサ５０は、フォトリソグラフィ法により、表示領域３５及び遮光領域３６に同一工程で形成される。これにより、カラーフィルタ基板３０が完成する。
【００６７】
尚、本実施形態では、遮光領域３６の段差部として色層３２を用いたが、これの代わりに透明誘電体層３４を用いる場合は、上記の遮光領域３６に色層３２を設ける工程を実施せずに、表示領域３５の反射領域に透明誘電体層３４を形成する工程と同一工程で遮光領域３６に透明誘電体層３４を形成する。この場合も、遮光領域３６の透明誘電体層３４については、所定の幅を有する表示領域側縁部３７には形成していない。
【００６８】
また、本実施形態では、柱状スペーサを設ける液晶表示装置のためのカラーフィルタ基板について説明したが、ビーズ状スペーサを設けるものの場合、スペーサはカラーフィルタ基板には形成されない。
【００６９】
（液晶表示装置１０の製造方法）
次に、本実施形態の液晶表示装置１０の製造方法の一例について詳細に説明する。
【００７０】
（カラーフィルタ基板３０の製造方法）
まず、上記と同様の工程で、上記と同様のカラーフィルタ基板３０を製造する。
【００７１】
（薄膜トランジスタ基板２０の製造工程）
続いて、基板２１（ガラス基板）を用意し、Ｔａ又はＡｌ／Ｔｉからなるゲート電極をスパッタ法により形成し、パターニングする。次に、ゲート絶縁膜としてＳｉＮｘ、薄膜として半導体ａ−Ｓｉを形成する。次いで、エッチング保護膜としてＳｉＮｘを形成し、パターン形成を行った後、層間絶縁膜を形成する。次に、ＩＴＯを真空蒸着して透明電極を形成する。次いで、コンタクトホール、ドレイン電極及びソース電極を形成する。さらに、同一工程又は別工程によって、基板２１端部にドライバ８８を設け、薄膜トランジスタを形成する。
【００７２】
（スペーサの配置工程）
スペーサとして、柱状のものを用いる代わりにビーズ状のものを用いるのであれば、ここでスペーサの配置工程が必要となる。この場合、直径３〜１０μｍの球状プラスチックビーズを例えば水／ＩＰＡ、水／エチレングリコール、エチレングリコール等の溶媒に分散させた分散液をインクジェット法により基板上に散布することにより、スペーサを配置する。
【００７３】
また、上記の位置選択的にビーズスペーサを配置する定点散布法以外に、スペーサ分散液をスプレーノズルから噴霧中に揮発・分散させる湿式散布法やドライ気流によってスペーサ部材（帯電処理する場合も含む）を基板上に分散・散布させる乾式散布法などによって配置することができる。
【００７４】
（液晶セルの形成工程）
次に、ディスペンサ等を用いて、例えば１ショット当り２ｍｇの液晶材料を薄膜トランジスタ基板２０に滴下する。この際、液晶材料は薄膜トランジスタ基板２０の遮光領域３６外周囲に枠状に塗布されたシール剤６０の内方に滴下する。続いて、液晶材料が滴下された薄膜トランジスタ基板２０にカラーフィルタ基板３０を位置合わせして貼り付ける。この工程は真空中で行われる。次いで、貼り合わせた基板を大気中に戻すと貼り合わされた薄膜トランジスタ基板２０及びカラーフィルタ基板３０間の液晶材料が大気圧により拡散する。次に、シール剤６０の塗布領域に沿ってＵＶ光源を移動させながらＵＶ光をシール剤６０に照射し、シール剤６０を硬化させる。このようにして、拡散した液晶材料は２枚の基板間に封止されて液晶セルを形成し、これを用いて液晶表示装置１０を完成させる。
【００７５】
また、液晶セルは、本実施形態のように形成されなくてもよく、液晶パネルの側方に液晶注入口を設けて、そこへ液晶材料を注入し、その後液晶注入口を紫外線硬化樹脂等で封止するものであってもよい。
【００７６】
尚、本実施形態で適用可能な柱状スペーサ５０については、フォトリソグラフィ工程を経てパネル内の所定の位置に構成することが極めて有効である。このようなものとしては、パターニング形成時の解像度、現像性に優れ、且つ、機械的強度や液晶に対する汚染性や透明性が高い素材を適用することが必要となる。
【００７７】
具体的には、露光により材料の硬化が進行するタイプのネガ型感光材料や露光により材料が結合開列し、現像工程で選択的な溶解が進行するタイプのポジ型感光材料が適用可能である。例えば、材料の透明性や機械的強度を保つ観点からは、アクリレート系材料、ウレタンアクリレート系材料、エポキシアクリレート系材料、メタクリレート系材料などを含む樹脂系を基本構成とした感光性樹脂を用いてパターニング形成することが可能となる。
【００７８】
また、本実施形態では、表示装置及びそれに用いられるカラーフィルタ基板として、ＬＣＤ（liquid crystal display；液晶表示ディスプレイ）に係るものについて示したが、ＰＤ（plasma display；プラズマディスプレイ）、ＰＡＬＣ（plasma addressed liquid crystal display；プラズマアドレス液晶ディスプレイ）、有機ＥＬ（organic electroluminescence ）、ＦＥＤ（field emission display；電界放出ディスプレイ）、又は、ＳＥＤ（surface-conduction electron-emitter display；表面電界ディスプレイ）等の表示装置及びそれに用いられるカラーフィルタ基板であってもよい。
【実施例】
【００７９】
次に、本実施形態に示す液晶表示装置について、外部荷重が加わったときの表示ムラへの影響を検討した。  
【００８０】
（試験評価）
表示基板側縁部、段差構造体及び間隙部の各幅と、液晶表示装置の荷重付加による表示ムラとの関係を調べるための評価試験を、実施形態に示したのと同一構成の液晶表示装置を用いて行った。
【００８１】
（試験評価用液晶表示装置１１０の構成）
図４（ａ）は液晶表示装置１１０の平面図、図４（ｂ）は図４（ａ）の点線の枠で示した液晶表示装置１１０の端部周辺領域の拡大図、図５は液晶表示装置１１０の断面図をそれぞれ示す。液晶表示装置１１０は、図４（ａ）及び（ｂ）に示すように、表示領域３５の外周に配置されたブラックマトリクス３３が形成された遮光領域３６を有しており、遮光領域３６の外周にはシール剤６０が設けられた接合領域１２０が形成されている。また、液晶表示装置１１０は、図５に示すように、基板厚が０．５ｍｍの薄膜トランジスタ基板２０、基板厚が０．５ｍｍ及び０．１ｍｍのカラーフィルタ基板３０、及び、柱状スペーサ１１１で構成されており、所定のプレス工程を経て作製されている。
【００８２】
液晶表示装置１１０は、表示領域側縁部３７すなわちその表示領域３５の外周端から遮光領域に形成された段差構造体（色層３２）までの幅（ａとする）、色層３２の幅（ｂとする）及び色層３２の外周端からシール剤６０の内周端までの幅（ｃとする）がそれぞれ異なったものを数種用意した。
【００８３】
〈試験評価方法〉
所定のプレス工程を経て製造した上記数種の液晶パネルについて、基板両面に所定の位相差板付き偏光板を貼付して、評価用の液晶表示装置１１０を準備した。
【００８４】
次いで、パネル点灯装置を用いて室温（２５℃）下で、目視により、有効表示領域端部とパネル全面（有効表示領域を除く全体）についての正面視での白表示及び中間調表示（Ｖ３０；透過率３０％の電圧印加）の表示ムラの有無及びその程度（ＮＤ１０％、ＮＤ５％光学フィルタを用いての判定）を観察した。
【００８５】
評価では、直視観察（ＮＤフィルタなし）及びＮＤフィルタ観察で表示品位の判定を行い、直視で表示ムラを認めない場合を評価合格、ＮＤ５％フィルタ越しで表示ムラ発生を認めない場合を評価暫定合格とした。
【００８６】
〈評価結果〉
表１に、液晶表示装置の評価結果一覧を示す。
【００８７】
【表１】
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【００８８】
尚、従来の構成パネル（本発明に係る支持体構造物を非配置）を用いた予備評価により、顕著な表示ムラの発生を認めない好適な表示領域の端部から基板接着手段（シールの画素側）端部までの間隔（ｄ）は、０．７〜１．７ｍｍの範囲であることが確認できた。
【００８９】
また、この傾向は、通常注入でも、滴下注入法においても同様の傾向を示した。これらの結果を参考にして、間隔（ｄ）が５ｍｍ以下のパネルにおいて、上記緩衝領域（ａ）の間隔の目安として１〜１．５ｍｍを基準として本発明の支持体について設計した。この際、表示領域外でのカラーフィルタ色層のパターニング精度の点から間隔（ａ）が１ｍｍよりも小さく設計することは難しくなる傾向があった。
【００９０】
ここで、表１はシール材料に基板間隙保持材を混入させた基板接着手段を用いて行った評価試験に関するものであるが、シール材料に基板間隙保持材を混入させず、且つ、間隔（ｃ）を空けない（ｃ＝０）場合にもムラ評価での改善効果があることが確認できた。
【００９１】
（作用効果）
次に、作用効果について説明する。
【００９２】
本発明に係るカラーフィルタ基板３０は、ガラス基板３１と、ガラス基板３１上に設けられて表示領域３５を構成する色層３２と、ガラス基板３１上の表示領域３５の外周に沿って設けられて遮光領域３６を構成する遮光層３３（ブラックマトリクス）と、ガラス基板３１の表示領域３５及び遮光領域３６に各々起立するように形成された支持体（透明誘電体層３４及び柱状スペーサ５０）と、を備えた表示パネルに用いられるカラーフィルタ基板３０であって、遮光領域３６には、遮光層３３上に設けられて色層３２と同じ厚さを有する段差部が形成され、遮光領域３６の遮光層３３と遮光層３３上に形成された段差部３２と段差部３２上に形成された支持体３４，５０とは、それらの高さの和が表示領域３５の色層３２と色層３２上に形成された支持体３４，５０との高さの和より大きく形成されると共に、段差部３２と表示領域３５との間にパネル厚さ緩衝領域が設けられていることを特徴とする。
【００９３】
このような構成によれば、遮光層３３を備えている分表示領域３５よりもパネル厚が大きくなっている遮光領域３６の表示領域側縁部３７において、対向する基板間に亘ってそれらを支持するような支持体３４，５０が形成されていない。このため、パネル厚の異なった領域間（段差部３２と表示領域３５との間）に介在するこの表示領域側縁部３７が緩衝領域となり、パネルへの液晶注入、貼合等における加圧工程を経た後の局所的なセル厚変動やパネルの段差歪を効果的に吸収することが可能となり、表示領域端部に発生しやすい色ムラやセル厚ムラの抑制が可能となる。
【００９４】
本発明に係る表示装置１０は、互いに対向するように設けられた第１及び第２基板２０，３０と、それらの間に挟まれるように設けられた液晶層４０と、を有する表示パネルを備えた表示装置１０であって、各々、表示領域３５とその外周に沿うように設けられた遮光領域３６とに形成されると共に、第１及び第２基板２０，３０の一方から他方に達するように形成された複数の支持体３４，５０を備え、表示領域３５には、色層３２が設けられ、遮光領域３６には、遮光層３３上に設けられて色層３２と同じ厚さを有する段差部３２が形成され、遮光領域３６の遮光層３３と遮光層３３上に形成された段差部３２と段差部３２上に形成された支持体３４，５０とは、それらの高さの和が表示領域３５の色層３２と色層３２上に形成された支持体３４，５０との高さの和より大きく形成されると共に、段差部３２と表示領域３５との間にパネル厚さ緩衝領域が設けられていることを特徴とする。
【００９５】
このような構成によれば、上述したように、遮光層３３を備えている分表示領域３５よりもパネル厚が大きくなっている遮光領域３６の表示領域側縁部３７において、対向基板間に亘ってそれらを支持するような支持体３４，５０が表示装置１０に形成されていない。このため、パネル厚の異なった領域間（段差部３２と表示領域３５との間）に介在するこの表示領域側縁部３７が緩衝領域となり、パネルへの液晶注入、貼合等における加圧工程を経た後の局所的なセル厚変動やパネルの段差歪を効果的に吸収することが可能となり、表示領域端部に発生しやすい色ムラやセル厚ムラの抑制が可能となる。
【００９６】
さらに、本発明に係る表示装置１０は、段差部３２が、表示領域３５に形成された色層３２と同一の色層３２で形成されていてもよい。
【００９７】
このような構成によれば、表示領域３５に色層３２を形成する際、同一の工程で一度に遮光領域３６に色層３２を形成できる。従って、段差部３２を別工程で形成する必要がなく、装置の製造効率が良好となる。
【００９８】
また、本発明に係る表示装置１０は、遮光領域３６の外縁部に、第１基板と第２基板とを接着する接着手段６０が設けられていると共に、接着手段６０と段差部３２とが離間して設けられていてもよい。
【００９９】
接着手段６０に基板間隙保持材を混在させて基板間のギャップ制御を行う場合には、所定の間隙部６１を設けることが好ましい。この間隙部６１は、ギャップ制御時の緩衝作用を示すだけでなく、接着手段６０の広がりや段差部３２のパターニングマージンを確保することにも効果を有する。即ち、基板間隙保持材が混在した接着手段６０と段差部３２とに重なりが生じた場合には、当該重畳部が局所的に厚くなり、その影響を受けて近接する表示領域３５にセル厚ムラが発生しやすくなるためである。
【０１００】
さらに、本発明に係る表示装置１０は、パネル厚さ緩衝領域３７が、表示領域３５の外周端から接着手段６０の内周端までの幅に対して０．０５倍以上０．８倍以下であってもよい。
【０１０１】
パネル厚さ緩衝領域３７は、表示領域３５の外周端から接着手段６０の内周端までの幅との関係で、適当な幅に形成するのがよい。特に表示領域３５の外周端から接着手段６０の内周端までの幅の０．０５倍以上０．８倍以下であれば、その表示ムラの規制効果がより発揮される。
【０１０２】
また、本発明に係る表示装置１０は、遮光領域３６の表示領域側縁部３７に凹部３９が形成されていてもよい。
【０１０３】
このような構成によれば、遮光領域３６の表示領域側縁部３７にパネル厚さ緩衝領域を設けるにあたり、同一工程で色層３２を表示領域３５及び遮光領域３６に形成する際に、選択的に遮光領域３６の表示領域側縁部３７のみ色層３２を形成しないでおけばよい。すなわち、色層３２を形成していない分そこが周囲より凹んだ凹部３９を構成する。このため、その後同一工程でスペーサを形成すれば遮光領域３６の表示領域側縁部３７のみ対向基板に到達しない支持体３４，５０を形成することができる。従って、簡単な製造工程で効率よくパネル厚さ緩衝領域を形成することができる。
【０１０４】
さらに、本発明に係る表示装置１０は、表示領域３５及び遮光領域３６に形成された支持体３４，５０が、それぞれ同一基板上に形成されていてもよい。
【０１０５】
このような構成によれば、表示領域３５及び遮光領域３６の支持体３４，５０をそれぞれ同一工程で形成することができるため、装置の製造効率がより良好となる。
【０１０６】
また、本発明に係る表示装置１０は、支持体３４，５０が、それぞれ等間隔に配置されていてもよい。
【０１０７】
このような構成によれば、支持体３４，５０がそれぞれ等間隔に配置されているため、遮光領域３６及び表示領域３５に加わる加圧プレス工程等に伴う外部荷重をそれらが均等に支持する。このため、表示ムラの局所的な発生を効果的に規制することができる。
【０１０８】
さらに、本発明に係る表示装置１０は、表示領域３５に光透過領域と光反射領域とを有していてもよい。
【０１０９】
このような構成によれば、遮光領域３６の遮光層３３が厚いときなど、遮光領域３６に色層３２と同一厚の段差部３２を設けなくてもよい場合がある。このときは遮光領域３６にスペーサを形成させるだけでよいため、装置の製造効率等が良好となる。
【０１１０】
また、本発明に係る表示装置１０は、遮光領域３６にドライバ８８が設けられていてもよい。
【０１１１】
ドライバ８８が内蔵される薄膜トランジスタ基板を用いた表示装置１０は、その遮光領域３６をその分広く設ける必要がある。即ち、ドライバ形成部では表示領域の端部から基板接着手段（シール剤６０）端部までの間隔がドライバ非形成部のそれに比べて小さくなり、表示領域３５とシール剤６０までの間隔が非対称となる。このために、表示媒体注入後の加圧封止時などに、加圧等の影響によって、上記間隔が大きくなったドライバ形成部の表示領域側縁部３７にセル厚変動が大きくなり、表示ムラ発生が認められやすい。さらに、そのような表示装置１０は、より基板表面にかかる荷重に対して基板間隔の変化の不均一性が増大するおそれがあるが、このような構成によれば基板間隔の変化による表示ムラをより顕著に規制することができる。
【０１１２】
さらに、本発明に係る表示装置１０は、表示領域３５がその周囲に連続して配置された接着手段６０によって囲まれていてもよい。
【０１１３】
このような構成によれば、表示媒体注入口を設けない表示装置１０のパネル貼合工程において、パネル周辺部のシール剤６０近傍のセル圧ムラが顕著になる傾向がある場合に、パネル厚さ緩衝領域３７が有効に厚みムラを吸収することから表示ムラの発生を効果的に抑制することが可能となる。
【０１１４】
また、本発明に係る表示装置１０は、第１基板２０と第２基板３０との基板厚が異なっていてもよい。
【０１１５】
このような構成によれば、薄膜トランジスタ基板を第１基板２０として対向するカラーフィルタ基板を第２基板３０として相対的に薄板化すると、薄膜トランジスタ基板に直接的に接続端子やドライバ８８を実装する際の基板端部の局所的な加熱及び加圧に対し、所定の厚みよりも薄型化することによる薄膜トランジスタ基板の破損を防ぐことができる。また、薄膜トランジスタ基板は端子及び配線等の多層薄膜積層工程において基板単体にも温度縮小や圧力縮小に伴う歪みや履歴が加わっており、薄膜トランジスタ基板の薄型化により機械的強度が低下するのを防ぐことができる。
【０１１６】
さらに、本発明に係る表示装置１０は、第１及び第２基板２０，３０の少なくとも一方の基板厚が０．５ｍｍ以下であってもよい。
【０１１７】
このような構成によれば、パネル全体の薄型化や軽量化を図るためにガラス厚を薄く設計する必要がある場合に、第１及び第２基板２０，３０を同一のガラス厚設計として薄型化を行うだけでなく、第１及び第２基板２０，３０のガラス厚を非対称に設計することも可能となる。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
以上説明したように、本発明は、カラーフィルタ基板を用いた表示装置について有用である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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