(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平坦な表面に開口部を有する画素電極を含む第１基板と、
その一部分が重畳するようにブラックマトリックスが形成された溝を有するカラーフィルタ及び前記カラーフィルタ上に形成された共通電極を含み、前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、かつ電界が印加されていないときに垂直に配向された液晶層とを含み、
前記カラーフィルタは前記第２基板上にのみ形成されてなる液晶表示装置用基板。
【請求項２】
前記カラーフィルタに形成されている前記溝は、前記画素電極と重畳する部分に配置されてなる請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項３】
前記溝を各々の画素電極に対して少なくとも２つ含む請求項２に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項４】
開口部を有する画素電極を含んでいる第１基板と、
その一部分が重畳するようにブラックマトリックスが形成された溝を有しているカラーフィルタ及び前記カラーフィルタ上に形成されている共通電極を含み前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第１基板及と前記第２基板との間に位置し、かつ電界が印加されていないときに垂直に配向される液晶層とを含み、
前記画素電極の上面は平坦である液晶表示装置。
【請求項５】
前記カラーフィルタに形成されている溝は、前記画素電極と重畳する部分に位置する請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記溝の深さは前記カラーフィルタの厚さより薄い請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記画素電極に形成されている開口部と、カラーフィルタに形成されている溝とは、平面視で実質的に閉鎖領域を形成する請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記溝と開口部とは互いに対称的に配置されている請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記開口部は、第１方向に延長されている第１部分と、前記第１方向とは異なる第２方向に延長されている第２部分とを含む請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第１方向と前記第２方向とは互いに直交する請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記液晶層に含まれる液晶分子は、電場が印加されない状態において長軸が前記第１および第２基板と直交するように配向される請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記液晶層の前記液晶物質は負の誘電率異方性を有する請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記液晶層の前記液晶物質は不斉分子を有する請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第１および第２基板の外面にそれぞれ取り付けられている第１および第２偏光板をさらに含み、前記第１および第２偏光板の偏光軸は互いに交差する請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記溝および開口部によって一つの画素領域内に複数のドメインが形成されている請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記ドメイン内における前記液晶分子の平均長軸方向は、一つの画素領域内において２つまたは４つである請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記平均長軸方向は、前記第１および第２偏光板の偏光軸と４０度ないし５０度をなす請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
第１基板と、
前記第１基板上に形成されており、開口部を有する複数の画素電極と、
前記第１基板と対向している第２基板と、
前記第２基板上に形成されている共通電極と、
前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、かつ電界が印加されていないときに垂直に配向される液晶層とを含み、
前記共通電極は、前記画素電極と対応する部分に凹凸形状を有し、
前記第２基板と前記共通電極との間に形成され、その一部分が重畳するようにブラックマトリックスが形成された溝を有するカラーフィルタをさらに含み、
前記共通電極の凸凹は前記カラーフィルタの溝によって形成され、
前記カラーフィルタは前記第２基板にのみ形成され、前記画素電極の上面は平坦である液晶表示装置。
【請求項１９】
前記溝を各々の画素電極に対して少なくとも２つ含む請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記第２基板に形成されており、前記共通電極の凹凸部と一部が重畳するブラックマトリックスをさらに含む請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
第１基板に開口部を有する画素電極を形成する段階と、
第２基板上にブラックマトリックスを形成する段階と、
前記第２基板上に溝を有するカラーフィルタを形成する段階と、
前記第２基板上に共通電極を形成する段階と、
前記第１基板と前記第２基板との間に、電界が印加されていないときに垂直に配向される液晶層を形成する段階とを含み、
前記カラーフィルタは前記第２基板にのみ形成され、前記画素電極の上面は平坦であり、
前記共通電極はＩＴＯを２回蒸着して形成する液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２２】
前記カラーフィルタを形成する段階は、
赤色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマトリックスにより定義される画素領域の内部に位置する溝を有する赤色カラーフィルタを形成する段階と、
緑色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマトリックスにより定義される画素領域の内部に位置する溝を有する緑色カラーフィルタを形成する段階と、
青色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマトリックスにより定義される画素領域の内部に位置する溝を有する青色カラーフィルタを形成する段階とを含む請求項２１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２３】
前記カラーフィルタを形成する段階は、
赤、緑及び青色のレジストを順に塗布し、パタニングし、赤、緑及び青色カラーフィルタをそれぞれ形成する段階と、
前記赤、緑及び青色カラーフィルタをパタニングして溝を形成する段階とを含む請求項２１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は広視野角液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に、液晶表示装置は二枚の基板の間に液晶を注入し、ここに加える電場の強さを調節し光透過量を調節する構造からなっている。
【０００３】
垂直配向ツイストネマチック(vertically  aligned  twisted  nematic；VATN）方式の液晶表示装置は、内側面に透明電極が形成されている１対の透明基板と、二つの透明基板の間の液晶物質と、それぞれの透明基板の外側面に取り付けられて光を偏光させる二枚の偏光板とで構成される。電場を印加しない状態においては、液晶分子は二つの基板に対し垂直に配向されている。電場を印加すると、二つの基板の間に詰められた液晶分子が基板に平行になり一定のピッチを有して螺旋状にねじれる。
【０００４】
ＶＡＴＮ液晶表示装置の場合、電界が印加されない状態において液晶分子が基板に対し垂直に配向されているので、直交する偏光板を用いる場合電界が印加されない状態において完全に光を遮断することができる。すなわち、ノーマルブラックモードにおいてオフ状態の輝度が非常に低いので、従来のツイストネマチック液晶表示装置に比べて高いコントラスト比を得られる。しかしながら、電界が印加された状態、特に階調電圧が印加された状態においては、通常のツイストネマチックモードと同様に液晶表示装置をみる方向によって光の遅延（retardation）に大きい差異を生じ、視野角が狭いという問題点がある。
【０００５】
かかる問題点を解決するために電極をパタニングしこれに従うフリンジフィールド（fringe  field）を用いて多重領域を形成する各種の方法が提示されている。米国特許第5,309,264号において、Lienは共通電極にＸ字状の開口部を形成する方法を提示している。また、Histakeなどは米国特許第5,434,690号において、上及び下基板に形成されている電極に、交互に開口部を形成する方法を提示している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような方法を用いて分割配向を形成する場合、共通電極をパタニングするために別途のマスクが必要になる。カラーフィルタ上に保護膜がない構造においてはカラーフィルタの顔料が液晶物質に影響を与えることになるので、カラーフィルタ上に保護膜を形成しなければならない。さらに、パタニングされた電極のエッジにおいてテクスチャーが激しく発生するなどの問題点がある。
【０００７】
従って、本発明の目的は、かかる問題点を解決するためのものであって、液晶表示装置の視野角を広げることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置においてはカラーフィルタに溝を形成し、その上に共通電極を形成し液晶分子を分割配向する。
【０００９】
具体的には、本願発明は、
平坦な表面に開口部を有する画素電極を含む第１基板と、
その一部分が重畳するようにブラックマトリックスが形成された溝を有するカラーフィルタ及び前記カラーフィルタ上に形成された共通電極を含み、前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、かつ電界が印加されていないときに垂直に配向された液晶層とを含み、
前記カラーフィルタは前記第２基板上にのみ形成されてなる液晶表示装置用基板を提供する。
前記カラーフィルタに形成されている前記溝は、前記画素電極と重畳する部分に配置されてなることが好ましい。
前記溝を各々の画素電極に対して少なくとも２つ含むことが好ましい。
また、本願発明は、
開口部を有する画素電極を含んでいる第１基板と、
その一部分が重畳するようにブラックマトリックスが形成された溝を有しているカラーフィルタ及び前記カラーフィルタ上に形成されている共通電極を含み前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第１基板及と前記第２基板との間に位置し、かつ電界が印加されていないときに垂直に配向される液晶層とを含み、
前記画素電極の上面は平坦である液晶表示装置を提供する。
前記カラーフィルタに形成されている溝は、前記画素電極と重畳する部分に位置することが好ましい。
前記溝の深さは前記カラーフィルタの厚さより薄いことが好ましい。
前記画素電極に形成されている開口部と、カラーフィルタに形成されている溝とは、平面視で実質的に閉鎖領域を形成することが好ましい。
前記溝と開口部とは互いに対称的に配置されていることが好ましい。
前記開口部は、第１方向に延長されている第１部分と、前記第１方向とは異なる第２方向に延長されている第２部分とを含むことが好ましい。
前記第１方向と前記第２方向とは互いに直交することが好ましい。
前記液晶層に含まれる液晶分子は、電場が印加されない状態において長軸が前記第１および第２基板と直交するように配向されることが好ましい。
前記液晶層の前記液晶物質は負の誘電率異方性を有することが好ましい。
前記液晶層の前記液晶物質は不斉分子を有することが好ましい。
前記第１および第２基板の外面にそれぞれ取り付けられている第１および第２偏光板をさらに含み、前記第１および第２偏光板の偏光軸は互いに交差することが好ましい。
前記溝および開口部によって一つの画素領域内に複数のドメインが形成されていることが好ましい。
前記ドメイン内における前記液晶分子の平均長軸方向は、一つの画素領域内において２つまたは４つであることが好ましい。
前記平均長軸方向は、前記第１および第２偏光板の偏光軸と４０度ないし５０度をなすことが好ましい。
さらに、本願発明は、
第１基板と、
前記第１基板上に形成されており、開口部を有する複数の画素電極と、
前記第１基板と対向している第２基板と、
前記第２基板上に形成されている共通電極と、
前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、かつ電界が印加されていないときに垂直に配向される液晶層とを含み、
前記共通電極は、前記画素電極と対応する部分に凹凸形状を有し、
前記第２基板と前記共通電極との間に形成され、その一部分が重畳するようにブラックマトリックスが形成された溝を有するカラーフィルタをさらに含み、
前記共通電極の凸凹は前記カラーフィルタの溝によって形成され、
前記カラーフィルタは前記第２基板にのみ形成され、前記画素電極の上面は平坦である液晶表示装置を提供する。
前記溝を各々の画素電極に対して少なくとも２つ含むことが好ましい。
前記第２基板に形成されており、前記共通電極の凹凸部と一部が重畳するブラックマトリックスをさらに含むことが好ましい。
また、本願発明は、
第１基板に開口部を有する画素電極を形成する段階と、
第２基板上にブラックマトリックスを形成する段階と、
前記第２基板上に溝を有するカラーフィルタを形成する段階と、
前記第２基板上に共通電極を形成する段階と、
前記第１基板と前記第２基板との間に、電界が印加されていないときに垂直に配向される液晶層を形成する段階とを含み、
前記カラーフィルタは前記第２基板にのみ形成され、前記画素電極の上面は平坦であり、
前記共通電極はＩＴＯを２回蒸着して形成する液晶表示装置用基板の製造方法を提供する。
【００２４】
前記カラーフィルタを形成する段階は、赤色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマトリックスにより定義される画素領域の内部に位置する溝を有する赤色カラーフィルタを形成する段階と、緑色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマトリックスにより定義される画素領域の内部に位置する溝を有する緑色カラーフィルタを形成する段階と、青色レジストを塗布し、パタニングし、前記ブラックマトリックスにより定義される画素領域の内部に位置する溝を有する青色カラーフィルタを形成する段階と、を含むとよい。
【００２５】
または、前記カラーフィルタを形成する段階は、赤、緑及び青色のレジストを順に塗布し、パタニングし、赤、緑及び青色カラーフィルタをそれぞれ形成する段階と、前記赤、緑及び青色カラーフィルタをパタニングして溝を形成する段階と、を含むとよい。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態例について詳細に説明する。
図１（Ａ）および（Ｂ）は、本発明の実施形態例に従う垂直配向液晶表示装置を概略的に示す図面である。図１（Ａ）は、電場が印加されない状態における液晶分子の配列を示すものである。図１（Ｂ）は、電場が十分に印加された状態における液晶分子の配列を示すものである。
【００２７】
図１（Ａ）および（Ｂ）においては、ガラスや石英などからなる二つの絶縁基板１０，２０が互いに向かい合っており、二つの基板１０，２０の内側面には導電物質、特にＩＴＯ（indium  tin  oxide）などの透明導電物質からなる電極１１，２１および垂直配向膜１２，２２が順に形成されている。二つの配向膜１２，２２の間には負の誘電率異方性を有する液晶物質からなる液晶層１００が介在している。ここで、液晶層１００は、不斉分子を有すると、配向膜の処理などを通じて電界が印加されるとねじれる。それぞれの基板１０，２０の外側面には液晶層１００を通過して出力する光および液晶層１００に入射する光を偏光させる偏光板１３，２３がそれぞれ取り付けられており、二つの偏光板１３，２３の偏光軸は互いに９０度の角をなしている。図１（Ｂ）において、配向膜１２，２２にはラービング処理が施されていても施されていなくても良い。
【００２８】
図１（Ａ）に示すように、二つの電極１１，２１の電位差がない場合、すなわち、液晶層１００に電場が印加されない場合には、液晶層１００の液晶分子１１０の長軸方向が配向膜１２，２２の配向力によって二つの基板１０，２０の表面に対し垂直方向に配列されている。
【００２９】
かかる状態において、下部基板２０に取り付けられている偏光板２３を通過して偏光された光は偏光方向を変更せず液晶層１００を通過する。従って、この光は上部基板１０に取り付けられている偏光板１３により遮断され、これによって液晶表示装置はブラック状態を示す。
【００３０】
二つの電極１１，２１に電位差を与えると、基板１０，２０の表面に対し垂直である電場が生成され、これによって液晶分子１１０が再配列される。
図１（Ｂ）に示すように、二つの電極１１，２１の電位差が非常に大きくて液晶層１００に十分な大きさの電場が生成されると、誘電率異方性によって液晶分子１１０の長軸方向は電場に対し垂直である方向または基板１０，２０に対し平行な方向に配列する。ただし、配向膜１２，２２の付近の液晶分子１１０は誘電率異方性による力により配向膜１２，２２の配向力による力をもっと多く受けるために初期状態を保持する。一方、液晶分子１１０は不斉分子などにより互いにツイストされて螺旋状にねじれることになる。液晶層１００の不斉分子を適切に調節すると、下部配向膜２２から上部配向膜１２に至るまで液晶方向子が９０度ほど回転するようにすることができる。
【００３１】
このとき、下部基板２０に取り付けられた偏光板２３を通過して偏光された光は、液晶層１００を通過しながらその偏光軸が液晶方向子のツイストに沿い９０度回転し、これによって反対側の基板１０に取り付けられている偏光板１３を通過する。従って、液晶表示装置はホワイト状態を表示することになる。
【００３２】
図２は、本発明の第１実施形態例に従う垂直配向液晶表示装置のカラーフィルタ基板を示す平面図である。図３は、図２におけるIII−III’方向からみたカラーフィルタ基板の断面図である。
【００３３】
図２および図３に示すように、透明な絶縁基板１０上に画素領域を定義するブラックマトリックス１４がクロムなどの金属や有機ブラックレジストなどで形成されており、ブラックマトリックス１４の間の画素領域には赤、緑、青色のカラーフィルタ１５が形成されている。カラーフィルタ１５はその中に縦方向に長い開口部１５０を有している。カラーフィルタ１５上には、全面にわたってＩＴＯなどの透明導電物質からなる共通電極１１が形成されている。
【００３４】
図４は、図３に示す実施形態例に従うカラーフィルタ基板を、反対側の基板である薄膜トランジスタ基板と結合したとき、二つの基板の間の液晶分子の動きを示す断面図である。
【００３５】
液晶表示装置に電界を印加しない状態においては、図１（Ａ）に示すように、液晶分子１１０は二つの基板１０，２０に垂直に配列された状態を保持するので、カラーフィルタをパタニングしないときと同一のブラック状態を示す。
【００３６】
電界を印加すると、図４に示すように、大部分においては基板１０，２０に垂直である電場が形成される。しかし、カラーフィルタ１５が除去されて形成された開口部１５０の近辺においては、共通電極１１がカラーフィルタ１５のパターンによって屈曲形態で形成されているので、二つの基板の間の電場は二つの基板１０，２０に対し完全に垂直に形成せず共通電極１１の形状によって曲がった等電位面を有する電場が生成される。
【００３７】
液晶が負の誘電率異方性を有するので、液晶分子１１０の配列方向は電場の方向と垂直になることになる。従って、開口部１５０の近辺の液晶分子１１０の長軸は、二つの基板１０，２０の表面に対し傾いたままツイストされることになる。このようになると、開口部１５０の中心線を基準に両側において液晶分子の傾く方向が反対になる二つの領域が生じることになり、二つの領域の光学的特性が互いに補償されて視野角が広くなることになる。
【００３８】
図２ないし図４に示すように、カラーフィルタ１５の一部を除去して開口部１５０を形成すると、ラビングなどの方法に比べ簡単な工程で分割配向を形成することができるばかりでなく、液晶分子の配列が異なる領域を非常に微細に調整するか各種の形状につくることができるという利点がある。
【００３９】
一方、カラーフィルタ１５の厚さのうち、一部のみを除去し一部は残っている状態に形成することもできる。
また、上板のカラーフィルタに開口部を形成する以外に下板の画素電極にも開口部を形成することができる。
【００４０】
図５は、本発明の第２実施形態例に従う液晶表示装置の平面図である。図６は、図５におけるVI−VI’方向から見た液晶表示装置の断面図である。図５において、両側を矢印で示したものは偏光板の偏光軸を示す。
【００４１】
液晶表示装置は、通常、多数の画素領域からなるが、図５および図６においては一つの画素領域３００のみを示しており、薄膜トランジスタと配線などその他の構成要素は省略し、上板のカラーフィルタおよび下板の電極に形成されている開口部のパターンのみを示している。
【００４２】
図５および図６において、一つの長方形の画素領域３００内に多数の線形開口部２１１，２１２，２１６，２１７が形成されている。すなわち、上板１０のカラーフィルタ１５には横および縦方向の第１および第２開口部２１１，２１２が形成されており、下板２０の電極２１には縦方向の第１方向の第１部分２１６と横方向の第２部分２１７からなる十字形状の開口部２１６，２１７が形成されている。
【００４３】
上板１０上の第１開口部２１１と第２開口部２１２とは、互いに分離されており、ほぼ閉じている四つの大きい正四角形を形成している。
下板１０上の開口部２１６，２１７の第１部分２１６は、画素３００の中央を縦方向に貫通することにより、第１および第２開口部２１１，２１２がなす大きい正四角形領域の中央を縦方向に貫通している。さらに、第１部分２１６は、両端が第２開口部２１２にほぼ接触している。反面、横方向の多数の第２部分２１７は第１および第２開口部２１１，２１２がなすそれぞれの正四角形領域の中央を横方向に貫通しており、両端は第１開口部２１１にほぼ接触している。
【００４４】
従って、二つの基板１０，２０に形成されている開口部２１１，２１２，２１６，２１７は小さい正四角形状の微細領域をつくり、四角形の四辺のうち、隣り合う二辺は上板１０に形成された開口部２１１，２１２になり、残りの隣り合う二辺は下板２０に形成された開口部２１６，２１７になる。
【００４５】
そこで、かかる液晶表示装置において液晶分子の配列について図６を参照して説明する。
図６に示すように、液晶分子１１０は開口部付近のフリンジフィールドにより傾く。このとき、互いに隣接した上板１０と下板２０との開口部２１１，２１６は、両者の間に位置する液晶分子を同一の方向、すなわち、下板２０の開口部２１６において上板１０の開口部２１１に向く方向に配列することにするフリンジフィールドをつくる。これにより、各開口部２１１，２１６を境界に液晶分子の配列方向が異なることになる。
【００４６】
ところが、微細領域を定義する開口部のうち、隣接した開口部は互いに垂直をなしているので、位置に従って液晶分子の長軸方向が異なることになる。しかし、正四角形領域内において液晶分子の平均長軸方向は、図５において矢印で示すように、下板２０の開口部２１６，２１７の二つの部分２１６，２１７の交差点において上板１０の第１および第２開口部２１１，２１２が隣接する地点に向く方向、言い換えると、上板の第１および第２開口部２１１，２１２がなす大きい正四角形の中心から正方形の頂点に向く方向になる。
【００４７】
このように開口部を配置すると、１画素に総数１６個の小さい正四角形の微細領域が生じ、各微細領域における液晶分子の平均長軸方向は四つの方向のうちの一つになる。また、隣接した二つの微細領域における液晶分子の平均長軸方向は、基板上からみるとき、互いに９０度をなす。
【００４８】
また、横方向と縦方向とに互いに垂直になるように二つの偏光板の透過軸Ｐ１、Ｐ２を配置すると、電場を印加したとき、各微細領域における液晶分子の平均長軸方向と偏光板の透過軸が４５度をなす。
【００４９】
下板と上板に形成される開口部の形状は様々な形状にすることができ、図７に示す形態でも可能である。
すなわち、下板の画素電極にはＸ字形状の開口部４００が形成されており、上板のカラーフィルタには開口部４００の中央を縦に横切る開口部５００が形成されている。
【００５０】
一方、次の第３実施形態例は、カラーフィルタ基板に形成されるブラックマトリックスを、分割配向を形成するための溝と重畳するように形成して溝により発生する光漏れを減少させることができる構造について図８を参照して説明する。
【００５１】
図８に示すように、透明な絶縁基板１０上にクロムなどの金属や黒色レジストのような不透明な物質からなるブラックマトリックス１４が形成されている。ブラックマトリックス１４は、画素領域を定義する周り部分だけではなく、カラーフィルタに形成された溝１５０と重畳する部分にも形成されている。その上には溝１５０を有するカラーフィルタ１５が形成されており、その上に共通電極１１が形成されている。
【００５２】
本発明の実施形態例に従う液晶表示装置用カラーフィルタ基板を製造する方法について説明する。
まず、クロムなどの金属や黒色レジストを基板上に１層形成し、パタニングしてブラックマトリックスを形成する。
【００５３】
次に、赤、緑、青色のうち、一色のレジストを塗布し、パタニングして溝を有するカラーフィルタを形成する。順に、残りの二色のレジストを塗布し、パタニングする過程を経て三つの色のカラーフィルタを完成する。
【００５４】
または、赤、緑、青色のレジストを順に塗布し、パタニングしカラーフィルタを形成した後、一度に三色のカラーフィルタに溝を形成することができる。
最後に、ブラックマトリックスとカラーフィルタとの上に、ＩＴＯなどの透明導電物質を蒸着して共通電極を形成する。共通電極を形成するときには、カラーフィルタに形成された溝の近辺において段差によって共通電極が切れる恐れがあるので、薄く２回にわたって蒸着することが好ましい。
【００５５】
【発明の効果】
以上のように、本発明の実施形態例でのように、カラーフィルタに溝を形成して分割配向の液晶表示装置を形成すると、単純な工程で液晶表示装置の視野角を広くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ），（Ｂ）本発明の実施形態例に従う垂直配向液晶表示装置において液晶分子の配向をブラックモードおよびホワイトモードによって示す概念図。
【図２】本発明の実施形態例に従う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の平面図。
【図３】  III−III’線方向から見た図２のカラーフィルタ基板の断面図。
【図４】本発明の他の実施形態例に従う液晶表示装置用カラーフィルタ基板を含む液晶表示装置の断面図。
【図５】本発明の他の実施形態例に従う液晶表示装置の平面図。
【図６】  VI−VI’線方向から見た図５の液晶表示装置の断面図。
【図７】本発明の他の実施形態例に従う液晶表示装置の平面図。
【図８】本発明の他の実施形態例に従う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の断面図。
【符号の説明】
１０、２０  絶縁基板
１１、２１  電極
１２、２２  配向膜
１３、２３  偏光板
１４  ブラックマトリックス
１５  カラーフィルタ
１００  液晶層
１１０  液晶分子
３００  画素領域
【図１】
0004621318.tif 000002
【図２】
0004621318.tif 000003
【図３】
0004621318.tif 000004
【図４】
0004621318.tif 000005
【図５】
0004621318.tif 000006
【図６】
0004621318.tif 000007
【図７】
0004621318.tif 000008
【図８】
0004621318.tif 000009