(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
周辺をシール材で囲まれた配向膜を有する第１の電極基板を除電する工程と、前記第１の電極基板を除電する工程と同時に行われて前記第１の電極基板に液晶を滴下する工程と、配向膜を有する第２の電極基板にスペーサを散布する工程と、第１の電極基板と第２の電極基板を真空中で貼り合わせた後、シール材を硬化する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１の電極基板を除電する工程は軟Ｘ線照射により行われることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置の製造方法、特に、映像表示機器、パーソナルコンピュータやワードプロセッサなどのＯＡ機器、産業分野のハンディ端末機器、携帯型情報通信機器などに用いられる液晶表示装置の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は、省スペース化，省電力化等が図れるという特徴により、パーソナルコンピュータのディスプレイや携帯機器端末として市場に幅広く応用展開されるようになってきている。現在の液晶表示装置の方式として大きく分けて２つの方式があり、その１つは基板上にスイッチング素子を形成したアクティブマトリックス型液晶表示装置で、他の１つは表示電極を交差させている単純マトリックス型液晶表示装置である。
【０００３】
ＳＴＮ（スーパーツイステッドネマチック）に代表される単純マトリクスでは、大画面、高精細化に伴ない表示の均一性が要求されているが、この表示の均一性は液晶分子の並び方の指標となる配向の均一性と、液晶を挟持する基板間のギャップの均一性により決定される。特に、近年ではアクティブマトリックス方式に近い均一性が要求されているので、従来以上の配向の均一性を実現する必要があり、このような表示の均一な液晶表示装置を製造する方法として基板上に液晶を滴下した後、真空中で基板を貼り合わせる滴下工法と、基板を貼り合わせた後、基板間の間隙に液晶を注入する真空注入工法が知られている。
【０００４】
以下、図面を参照しながら従来の液晶表示装置の製造方法について説明する。
図３は従来の液晶表示装置の製造方法における製造工程の説明図であり、上記滴下工法によるものである。
【０００５】
製造工程は、まず、図３（ａ）に示すように、第１の電極基板１と第２の電極基板２を用意し、第１の電極基板１上に配向膜３およびこれを囲むようにシール材４を形成すると共に、第２の電極基板２上に配向膜５を形成する。なお、６，７は第１および第２の電極基板１，２の透明表示電極である。
【０００６】
次に図３（ｂ）に示すように、第１の電極基板１上のシール材４の内側に液晶材料８を滴下すると共に、第２の電極基板２上には基板間隙を制御するスペーサ９を散布し、基板表面に固定させる。次に図３（ｃ）に示すように、第１および第２の電極基板１，２を真空中で一定時間保持した後、真空中で貼り合わせ、その後、図３（ｄ）に示すように、シール材４を硬化して液晶表示装置１０として完成する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような製造方法では、液晶を滴下した部分において配向むらが発生する場合が多々あり、ここで発生する配向むらは、液晶を滴下した基板の界面付近で発生していることが解析により確認されている。このような配向むらが面内に存在すると、むらがある部分と無い部分に置いてしきい値電圧に差が生じ、結果として透過率の差となり表示むらとなって観測されるという問題点がある。
【０００８】
本発明は上記従来の問題点を解決するものであり、液晶の配向むらの発生を防ぐことができる液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、周辺をシール材で囲まれた配向膜を有する第１の電極基板を除電する工程と、前記第１の電極基板を除電する工程と同時に行われて前記第１の電極基板に液晶を滴下する工程と、配向膜を有する第２の電極基板にスペーサを散布する工程と、第１の電極基板と第２の電極基板を真空中で貼り合わせた後、シール材を硬化する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、前記第１の電極基板を除電する工程は軟Ｘ線照射により行われることを特徴とする。
【００１０】
この発明によれば、液晶滴下時の基板に対する軟Ｘ線照射による除電により、液晶の配向むらの一因である液晶中のイオン成分の基板界面への吸着が防止され、これに起因する配向むらを防ぐことが可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の各実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、前記従来のものと同一の部分および各実施の形態間において共通の部分については同一符号を用いるものとする。
【００１２】
（実施の形態１）
図１は本発明の液晶表示装置の製造方法の実施の形態１における製造工程の説明図である。
【００１３】
図１において、まず、図１（ａ）に示すように、第１の電極基板１と第２の電極基板２を用意し、第１の電極基板１上にＩＴＯからなる透明表示電極６を形成して、その上に配向膜３を塗布すると共にこれを囲むようにシール材４を印刷する。同様に、第２の電極基板２上にＩＴＯからなる透明表示電極７を形成し、その上に配向膜５を塗布する。
【００１４】
次に図１（ｂ）に示すように、第１の電極基板１上のシール材４の内側に液晶材料８を滴下するが、滴下ポイントは例えば５００点に分けて行い、滴下総量は所望のギャップとなるように制御する。この滴下と同時に第１の電極基板１に軟Ｘ線１１の照射を行い、第１の電極基板１の除電を行う。この点が本発明の骨子となる部分であり、この除電により、液晶の配向むらの一因である液晶中のイオン成分の基板界面への吸着が防止される。なお、この軟Ｘ線は軟Ｘ線照射装置１２（飯沼ゲージ製）を用いて行っている。
【００１５】
一方、第２の電極基板２上には基板間隙を制御するスペーサ９を散布し、この第２の電極基板２を加熱することによりこれを基板上に固定する。スペーサとしては例えば粒径は６．０μｍのもの（日本触媒：ＧＰ−ＨＣ）を用い、散布個数は約１５０個／ｍｍ2としている。
【００１６】
次に図１（ｃ）に示すように、第１および第２の電極基板１，２を真空中で一定時間保持した後、アライメントを行い真空中で貼り合わせ、その後、図１（ｄ）に示すように、第１および第２の電極基板１，２を大気中に取り出し、シール材４を硬化して液晶表示装置１０として完成させる。
【００１７】
実際に、このようにして製造された液晶表示装置を点灯して、その表示品位を確かめたところ、滴下ポイントに対応する配向むらがなく均一な液晶表示装置が実現できていることが確認されている。
【００１８】
以上のように、本実施の形態によれば、液晶滴下時の基板の除電により、液晶の配向むらの一因である液晶中のイオン成分の基板界面への吸着が防止され、これに起因する配向むらを防ぐことが可能となり、液晶滴下工法においても美しい表示ができる液晶表示装置を提供することができる。
【００１９】
（実施の形態２）
図２は本発明の液晶表示装置の製造方法の実施の形態２における製造工程の説明図である。
【００２０】
図２において、まず、図２（ａ）に示すように、第１の電極基板１と第２の電極基板２を用意し、第１の電極基板１上にＩＴＯからなる透明表示電極６を形成して、その上に配向膜３を塗布すると共にこれを囲むようにシール材４を印刷する。同様に、第２の電極基板２上にＩＴＯからなる透明表示電極７形成し、その上に配向膜５を塗布する。
【００２１】
次に図２（ｂ）に示すように、第１の電極基板１上のシール材４の内側に液晶材料８を滴下するが、滴下ポイントは例えば５００点に分けて行い、滴下総量は所望のギャップとなるように制御する。この滴下の際に第１の電極基板１の除電を行うため、この第１の電極基板１の端部にカーボンブラシ１３を接触させてアース電位に落としている。この点が本発明の骨子となる部分であり、この除電により、液晶の配向むらの一因である液晶中のイオン成分の基板界面への吸着が防止される。
【００２２】
一方、第２の電極基板２上には基板間隙を制御するスペーサ９を散布し、この第２の電極基板２を加熱することによりこれを基板上に固定する。スペーサとしては例えば粒径は６．０μｍのもの（日本触媒：ＧＰ−ＨＣ）を用い、散布個数は約１５０個／ｍｍ2としている。
【００２３】
次に図２（ｃ）に示すように、第１および第２の電極基板１，２を真空中で一定時間保持した後、アライメントを行い真空中で貼り合わせ、その後、図２（ｄ）に示すように、第１および第２の電極基板１，２を大気中に取り出し、シール材４を硬化して液晶表示装置１０として完成させる。
【００２４】
実際に、このようにして製造された液晶表示装置を点灯して、その表示品位を確かめたところ、滴下ポイントに対応する配向むらがなく均一な液晶表示装置が実現できていることが確認されている。
【００２５】
以上のように、本実施の形態によれば、液晶滴下時の基板の除電により、液晶の配向むらの一因である液晶中のイオン成分の基板界面への吸着が防止され、これに起因する配向むらを防ぐことが可能となり、液晶滴下工法においても美しい表示ができる液晶表示装置を提供することができる。
【００２６】
なお、上記の各実施の形態においては液晶を滴下する基板として基板上に表示電極を形成したものについて説明したが、透明基板上にカラーフィルター層が形成されているものや表示電極上に絶縁膜が形成されているものに本発明方法を適用しても同様の効果が得られることが確認されている。
【００２７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、液晶滴下時の基板に対する軟Ｘ線照射による除電により、液晶の配向むらの一因である液晶中のイオン成分の基板界面への吸着が防止され、これに起因する配向むらを防ぐことができるという有利な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施の形態１における製造工程の説明図
【図２】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施の形態２における製造工程の説明図
【図３】従来の液晶表示装置の製造方法における製造工程の説明図
【符号の説明】
１  第１の電極基板
２  第２の電極基板
３，５  配向膜
４  シール材
６，７  透明表示電極
８  液晶材料
９  スペーサ
１０  液晶表示装置
１１  軟Ｘ線
１２  軟Ｘ線照射装置
１３  カーボンブラシ
【図１】
0004643057.tif 000002
【図２】
0004643057.tif 000003
【図３】
0004643057.tif 000004