(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記平均組成式（１）で示される一分子中にアルケニル基を２個以上有する２５℃における粘度が１００〜１００，０００，０００ｃｓのオルガノポリシロキサン：１００重量部、
Ｒ1nＳｉＯ(4-n)/2                                （１）
（式中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又はハロゲン原子もしくはシアノ基置換の１価炭化水素基であり、かつ８０モル％以上がメチル基である。ｎは１．９８〜２．０２の正数である。）
（Ｂ）下記平均組成式（２）で示される２５℃における粘度が１〜１，０００ｃｓのオルガノハイドロジェンポリシロキサン：オルガノハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子結合水素原子の数と、（Ａ）成分中のケイ素原子結合アルケニル基の数との比率が０．１：１〜３：１となる量、
Ｒ2aＨbＳｉＯ(4-a-b)/2                          （２）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１０の非置換又はハロゲン原子もしくはシアノ基置換の１価炭化水素基である。また、ａは０≦ａ≦３、ｂは０＜ｂ≦３、かつａ＋ｂは０＜ａ＋ｂ≦３を満足する数である。）
（Ｃ）白金族金属系触媒：触媒量、
（Ｄ）Ｆｅ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ，Ｆｅ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ，Ｆｅ−Ｃｒ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ及びＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金から選ばれる少なくとも１種の軟磁性金属粉末：電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物全量に対して５〜８０ｖｏｌ％、
（Ｅ）非磁性の金属、金属酸化物、金属窒化物及び炭化ケイ素から選ばれる少なくとも１種の熱伝導性フィラー：電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物全量に対して８５〜１０ｖｏｌ％、
（Ｆ）下記式で示される加水分解性基含有メチルポリシロキサン：５〜７０重量部
【化２】
0004623244.tif 000006
（ｍは５〜１００の整数）
を含有してなり、その硬化物の熱伝導率が２．０ｗ／ｍｋ以上であることを特徴とする電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物。
【請求項２】
軟磁性金属粉末２０〜７５ｖｏｌ％と熱伝導性フィラー７０〜２０ｖｏｌ％とを含有し、かつ軟磁性金属粉末と熱伝導性フィラーとの合計量が４０〜９０ｖｏｌ％であることを特徴とする請求項１記載の電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物。
【請求項３】
電子機器要素に使用される請求項１又は２記載の電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＣＰＵ，ＭＰＵ，ＬＳＩ等の電子機器要素とヒートシンク等の放熱要素との間に設置され、前記電子機器要素から発生するノイズを抑制しつつ、熱を前記放熱器に伝導する放熱シート等を形成するために好適な電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、ＣＰＵ等の電子機器要素では、その動作に伴い素子が発熱することからシリコーングリス、シリコーンゴム等の放熱媒体及び金属ヒートシンク等の放熱要素を用いた冷却が行われている。
【０００３】
しかし、ＣＰＵの小型化の要請により高集積化が進み、この結果、単位面積当たりの発熱量が大きくなり、冷却を効率よく行わなければ、熱暴走などによりＣＰＵが正常に動作しない等の問題が発生する。また、ＣＰＵにおいては高速処理化の要請により動作周波数の高周波化が著しく、これに伴い高周波成分（ノイズ）が発生し、このノイズが通信線等の信号に乗って誤動作等の悪影響を及ぼすおそれがある。
【０００４】
そこで、ＣＰＵからの発熱を外部に効率よく放出する手段として、シリコーングリス、シリコーンゴムを放熱媒体として金属ヒートシンクに効率よくＣＰＵの発熱を伝達する方式が取られているが、本方式では、シリコーンゴム等に電磁波吸収効果（ノイズ抑制効果）を有しないため、ノイズによる誤動作等の問題を回避することは不可能である。
【０００５】
また、特開平１１−３３５４７２号公報のように、シリコーンゲル等にＭｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等のフェライト系を含有させた場合にはノイズ抑制効果が得られるが、その対象周波数は低周波領域に限定される場合がある。更に、フェライト系は錆び易いため、信頼性、長期保存安定性が問題となる場合もある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、かかる従来の問題に鑑みてなされたものであって、対象周波数が数１０ＭＨｚから数１０ＧＨｚであり、特に準マイクロ波領域に広帯域にわたってノイズ抑制機能を維持しつつ、放熱機能を備えた放熱シート等を形成するための電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、軟磁性金属粉末、特に鉄合金を含有させること、この場合、これら軟磁性金属粉末と熱伝導性フィラー（但し、軟磁性金属粉末を除く）とを併用することにより、ＣＰＵ，ＭＰＵ，ＬＳＩ等の電子機器要素からのノイズの発生の抑制と、前記電子機器要素からの放熱とを同時にかつ容易に行うことができる放熱シート等を形成するための電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物が得られることを見出し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は、
（Ａ）下記平均組成式（１）で示される一分子中にアルケニル基を２個以上有する２５℃における粘度が１００〜１００，０００，０００ｃｓのオルガノポリシロキサン：１００重量部、
Ｒ1nＳｉＯ(4-n)/2                                （１）
（式中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又はハロゲン原子もしくはシアノ基置換の１価炭化水素基であり、かつ８０モル％以上がメチル基である。ｎは１．９８〜２．０２の正数である。）
（Ｂ）下記平均組成式（２）で示される２５℃における粘度が１〜１，０００ｃｓのオルガノハイドロジェンポリシロキサン：オルガノハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子結合水素原子の数と、（Ａ）成分中のケイ素原子結合アルケニル基の数との比率が０．１：１〜３：１となる量、
Ｒ2aＨbＳｉＯ(4-a-b)/2                          （２）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１０の非置換又はハロゲン原子もしくはシアノ基置換の１価炭化水素基である。また、ａは０≦ａ≦３、ｂは０＜ｂ≦３、かつａ＋ｂは０＜ａ＋ｂ≦３を満足する数である。）
（Ｃ）白金族金属系触媒：触媒量、
（Ｄ）Ｆｅ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ，Ｆｅ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ，Ｆｅ−Ｃｒ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ及びＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金から選ばれる少なくとも１種の軟磁性金属粉末：電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物全量に対して５〜８０ｖｏｌ％、
（Ｅ）非磁性の金属、金属酸化物、金属窒化物及び炭化ケイ素から選ばれる少なくとも１種の熱伝導性フィラー：電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物全量に対して８５〜１０ｖｏｌ％、
（Ｆ）下記式で示される加水分解性基含有メチルポリシロキサン：５〜７０重量部
【化３】
0004623244.tif 000002
（ｍは５〜１００の整数）
を含有してなり、その硬化物の熱伝導率が２．０ｗ／ｍｋ以上であることを特徴とする電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物
を提供する。
【０００８】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物は、シリコーンゴム組成物に軟磁性金属粉末を含有させたものであり、その硬化物の熱伝導率が２．０ｗ／ｍｋ以上となるものである。更に好ましくは、軟磁性金属粉末に加えて熱伝導性フィラーを含有させたものである。なお、本発明に使用されるシリコーンゴム組成物は、硬化物がゴム弾性を示すものであれば特に制限されず、シリコーンゲル組成物も含まれる。
【０００９】
本発明の軟磁性金属粉末としては、鉄合金が好ましい。鉄合金として具体的には、Ｆｅ−Ｎｉ（パーマロイ），Ｆｅ−Ｃｏ，Ｆｅ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ａｌ，Ｆｅ−Ｃｒ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ及びＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金を用いることができる。これらの軟磁性金属粉末は１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、軟磁性金属粉末の形状としては、扁平状、粒子状のどちらを用いてもよいが、表面積が大きい点より扁平状を用いる方が望ましい。なお、扁平状の軟磁性金属粉末を使用する場合には、充填量が少なくなり易いため、粒子状の軟磁性金属粉末を併用してもよい。
【００１０】
この場合、扁平状粉末の大きさとしては、平均最大長さが０．１〜３５０μｍ、特に０．５〜１００μｍであり、アスペクト比が５〜２０のものが好ましい。
また、粒子状粉末の場合、平均粒径が０．１〜５０μｍ、特に０．５〜２０μｍのものを用いることが好ましい。
【００１１】
軟磁性金属粉末の配合量は、電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物全量に対して５〜８０ｖｏｌ％、特に２０〜７５ｖｏｌ％とすることが好ましい。５ｖｏｌ％未満では十分な電磁波吸収性を付与することが困難となることがあり、８０ｖｏｌ％を超えた場合には電磁波吸収性の向上は見られず、また硬化物の硬度も高くなってしまうことがある。中でも、本発明の電磁波吸収性シリコーンゴム組成物を硬化させて電子機器要素に適用した場合、ノイズの減衰率が５ｄＢ以上、特に１０ｄＢ以上となるようにすることが好ましい。
【００１２】
軟磁性金属粉末を配合したシリコーンゴム組成物は、それ自体熱伝導性を有するが、更に高い熱伝導性（放熱性）を得るため、軟磁性金属粉末と熱伝導性フィラーとを併用することが好ましい。
【００１３】
本発明における熱伝導性フィラーとしては、非磁性の銅やアルミニウム等の金属、アルミナ、シリカ、マグネシア、ベンガラ、ベリリア、チタニア等の金属酸化物、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の金属窒化物、あるいは炭化ケイ素を用いることができる。これらの熱伝導性フィラーは、１種単独で用いてもよいし、複数種を混合して用いてもよい。
上記フィラーの平均粒径は０．１〜５０μｍ、特に０．５〜２０μｍが好ましい。
【００１４】
本発明に係る熱伝導性フィラーは、上記軟磁性金属粉末との細密充填化を図り、熱伝導率の向上を図ることを目的として使用するものであり、その配合割合は、電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物全量に対して８５〜１０ｖｏｌ％、特に７０〜２０ｖｏｌ％とすることが好ましく、更に軟磁性金属粉末と熱伝導性フィラーとの合計量が１５〜９０ｖｏｌ％、特に３０〜８５ｖｏｌ％となることが好ましい。軟磁性金属粉末と熱伝導性フィラーとの合計量が９０ｖｏｌ％を超える場合には粘度が大きくなり、放熱シート等の作成が困難となる場合があり、また、硬化物のゴム硬度も高くなってしまうおそれがある。トルエン、キシレン等の有機溶剤に溶解させて溶液とした場合には、コーティング法により放熱シート等の作成は可能であるものの、表面粗さが大きくなるために接触熱抵抗が大きくなり、放熱特性が不十分となるおそれがある。また、軟磁性金属粉末と熱伝導性フィラーとの合計量が１５ｖｏｌ％未満では熱伝導率の向上効果が得られない場合がある。
【００１５】
本発明の電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物の硬化物の熱伝導率は２．０ｗ／ｍｋ以上であり、好ましくは３．０ｗ／ｍｋ以上、特に４．０ｗ／ｍｋ以上であることが好ましい。
【００１６】
本発明のシリコーンゴム組成物としては、シリコーンゲル組成物や付加反応型シリコーンゴム組成物又は過酸化物加硫タイプのシリコーンゴム組成物を使用することができるが、電子機器要素あるいは放熱器との密着性を向上させ、界面での接触熱抵抗を小さくする上では、硬化後のゴム硬度は低いほうが好ましく、低硬度タイプのシリコーンゴム組成物やシリコーンゲル組成物を使用することが望ましい。
【００１７】
なお、本発明の電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物の硬化物の硬度は、アスカーＣで８０以下、特に５０以下であることが、電子機器要素や放熱器との密着性を向上させ、効率よくノイズを減衰させ、放熱させるために好ましい。
【００１８】
ここで、上記シリコーンゴム又はゲル組成物のベースポリマーとしては、公知のオルガノポリシロキサンを用いることができ、このオルガノポリシロキサンとしては、下記平均組成式（１）で示されるものを用いることができる。
Ｒ1nＳｉＯ(4-n)/2                                （１）
（式中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、ｎは１．９８〜２．０２の正数である。）
【００１９】
ここで、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換の１価炭化水素基、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などの非置換の１価炭化水素基、更にはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等のハロゲン置換アルキル基、シアノ置換アルキル基などの置換の１価炭化水素基から選択することができる。中でもメチル基、フェニル基、ビニル基、トリフルオロプロピル基が好ましく、更にはメチル基が５０モル％以上、特に８０モル％以上であることが好ましい。また、ｎは１．９８〜２．０２の正数である。このオルガノポリシロキサンとしては、１分子中にアルケニル基を２個以上有するものが好ましく、特にＲ1の０．００１〜５モル％がアルケニル基であることが好ましい。
【００２０】
上記式（１）のオルガノポリシロキサンとしては、その分子構造は別に限定されないが、特にその分子鎖末端がトリオルガノシリル基等で封鎖されたものが好ましく、特にジメチルビニルシリル基等のジオルガノビニルシリル基で封鎖されたものが好ましい。また、基本的には直鎖状であることが好ましいが、分子構造の異なる１種又は２種以上の混合物であってもよい。
【００２１】
上記オルガノポリシロキサンは、平均重合度が１００〜１００，０００、特に１００〜２，０００であることが好ましく、また、２５℃における粘度が１００〜１００，０００，０００ｃｓ（センチストークス）、特に１００〜１００，０００ｃｓであることが好ましい。
【００２２】
上記シリコーンゴム組成物を付加反応硬化型として調製する場合は、上記オルガノポリシロキサンとしてビニル基等のアルケニル基を１分子中に２個以上有するものを使用すると共に、硬化剤としてオルガノハイドロジェンポリシロキサンと付加反応触媒を使用する。
【００２３】
オルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、下記平均組成式（２）
Ｒ2aＨbＳｉＯ(4-a-b)/2                          （２）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。また、ａは０≦ａ≦３、特に０．７≦ａ≦２．１、ｂは０＜ｂ≦３、特に０．００１≦ｂ≦１で、かつａ＋ｂは０＜ａ＋ｂ≦３、特に０．８≦ａ＋ｂ≦３．０を満足する数である。）
で示される常温で液体のものであることが好ましい。
【００２４】
ここで、Ｒ2は炭素数１〜１０、特に１〜８の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、上記Ｒ1で例示した基と同様の基、好ましくは脂肪族不飽和結合を含まないものを挙げることができ、特にアルキル基、アリール基、アラルキル基、置換アルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基などが好ましいものとして挙げられる。分子構造としては直鎖状、環状、分岐状、三次元網状のいずれの状態であってもよく、ＳｉＨ基は分子鎖の末端に存在しても分子鎖途中に存在してもよく、この両方に存在していてもよい。分子量に特に限定はないが、２５℃での粘度が１〜１，０００ｃｓ、特に３〜５００ｃｓの範囲であることが好ましい。
【００２５】
上記のオルガノハイドロジェンポリシロキサンとして具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、メチルハイドロジェン環状ポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、（ＣＨ3）2ＨＳｉＯ1/2単位とＳｉＯ4/2単位とからなる共重合体、（ＣＨ3）2ＨＳｉＯ1/2単位と（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2単位とＳｉＯ4/2単位とからなる共重合体、（ＣＨ3）2ＨＳｉＯ1/2単位とＳｉＯ4/2単位と（Ｃ6Ｈ5）3ＳｉＯ1/2単位とからなる共重合体などが挙げられる。
【００２６】
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、オルガノハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子結合水素原子（即ち、ＳｉＨ基）の数と、ベースポリマー中のケイ素原子結合アルケニル基の数との比率が０．１：１〜３：１となるような量が好ましく、より好ましくは０．２：１〜２：１となるような量である。
【００２７】
付加反応触媒としては白金族金属系触媒が用いられ、白金族金属を触媒金属として含有する単体、化合物、及びそれらの錯体などを用いることができる。具体的には、白金黒、塩化第２白金、塩化白金酸、塩化白金酸と１価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテートなどの白金系触媒、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム系触媒、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ロジウム等のロジウム系触媒などが挙げられる。なおこの付加反応触媒の配合量は触媒量とすることができ、通常、上記アルケニル基含有オルガノポリシロキサンに対して、好ましくは白金族金属として０．１〜１，０００ｐｐｍ、より好ましくは１〜２００ｐｐｍである。０．１ｐｐｍ未満であると組成物の硬化が十分に進行しない場合が多く、１，０００ｐｐｍを超えるとコスト高になることがある。
【００２８】
本発明においては、低硬度化し易い付加反応硬化型のシリコーンゴム組成物が好ましい。
【００２９】
一方、シリコーンゴム組成物を有機過酸化物硬化型とする場合には、硬化剤として有機過酸化物を用いる。なお、有機過酸化物硬化は、ベースポリマーのオルガノポリシロキサンの重合度が３，０００以上のガム状の場合に有用である。有機過酸化物としては、従来公知のものを使用することができ、例えばベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ｐ−メチルベンゾイルパーオキサイド、ｏ−メチルベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−ビス（２，５−ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，６−ビス（ｔ−ブチルパーオキシカルボキシ）ヘキサン等が挙げられる。
【００３０】
有機過酸化物の配合量は、上記ベースポリマーのオルガノポリシロキサン１００部に対して０．０１〜１０部とすることが好ましい。
【００３１】
上記シリコーンゴム組成物には、更に上記成分に加えて、公知の成分を配合することができる。また、軟磁性金属粉末及び熱伝導性フィラーの充填量を上げるため、ベースポリマーとの濡れ性（分散性）を向上させる目的でウェッターを使用することが好ましい。ウエッターとしては、通常シリコーンゴム組成物の配合に用いられている水酸基やアルコキシ基等の加水分解性基を有するシランや低分子量シロキサンが例示され、特に片末端３官能の加水分解性基含有メチルポリシロキサンが好ましい。
【００３２】
なお、本発明の電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物の製造方法及び硬化方法は、常法とすることができる。
【００３３】
本発明の電磁波吸収性熱伝導性シリコーンゴム組成物を硬化成形したシートを電子機器要素と放熱要素の間に設置することにより、電子機器要素から発生するノイズを抑制すると共に、優れた放熱性を有するため、放熱器への熱の伝導も可能となる。また、本発明の組成物に使用する軟軟磁性金属粉末は錆びにくく、信頼性、長期の保存、使用も可能となる。
【００３４】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００３５】
［実施例１〜１３、比較例１，２］
軟磁性金属粉末及び熱伝導性フィラー含有シリコーンゴム硬化物を以下のように作成した。液状型付加反応タイプとするため、室温での粘度が３０００Ｐａ・ｓであり、ジメチルビニルシロキシ基で両末端を封止したビニル基含有ジメチルポリシロキサン１００重量部、下記式で示される加水分解性基含有メチルポリシロキサン５〜７０重量部、軟磁性金属粉末、熱伝導性フィラーを添加し、室温にて撹拌混合後、更に撹拌混合しながら１２０℃、１時間の熱処理を行ってベース組成物を作成した。このとき、軟磁性金属粉末（大同特殊鋼（株）製）として表１に示すものを使用した。また、熱伝導性フィラーとして、アルミナ粉末はＡＯ−４１Ｒ，ＡＯ−５０２（（株）アドマテックス製）の混合物、炭化ケイ素粉末はＧＰ＃１０００（信濃電気製錬（株）製）、窒化アルミニウム及びアルミニウムは各々ＵＭ，ＡＢ−５３Ｅ９（共に東洋アルミニウム（株）製）を使用した。
【００３６】
【化１】
0004623244.tif 000003
（ｍは５〜１００の整数）
【００３７】
次に、１分子中にケイ素原子に直接結合した水素原子を２個以上含有したオルガノハイドロジェンポリシロキサン、白金族金属系触媒、アセチレンアルコール系付加反応制御剤を添加混合し、プレス成形にて１２０℃、１０分間加熱硬化させ、厚さ０．３ｍｍのシートを得た。なお、オルガノハイドロジェンポリシロキサンの添加量は、プレス成形にて１２０℃、１５分間加熱硬化させて得られた厚さ６ｍｍのシートを２枚重ねにし、その硬さが、アスカーＣ硬度計（高分子計器製）にて３０〜６０となる量に調整した。
【００３８】
【表１】
0004623244.tif 000004
【００３９】
得られたシートの熱伝導率及びノイズ減衰量を評価した。結果を表２に示す。
ここで、ノイズ減衰量（ノイズ抑制効果）を評価するためのテスト方法は下記の通りである。なお、本テスト時の測定ブロック図を図１に示す。
【００４０】
まず、電波暗室１内において、本発明の電磁波吸収性熱伝導性シリコーン組成物より形成した前記シート（幅３０ｍｍ、長さ３０ｍｍ、厚さ０．３ｍｍ）をＣＰＵ（動作周波数３００ＭＨｚ）とＡｌ製ヒートシンクの間に挟み込んだＰＣ２を設置し、更にそのＰＣ２より３ｍ離れた位置に受信アンテナ３を設置した。即ち、これはＦＣＣ準拠３ｍ法に合致するものである。なお、図中４はディスプレイ、５はキーボードである。
【００４１】
次いで、ＰＣ２を起動させ、発生したノイズを受信アンテナ３と接続したシールドルーム６内のＥＭＩレシーバー（スペクトラムアナライザ）７により測定した。なお、測定時にはＰＣ２と接続したディスプレイ４の電源をＯＦＦとし、ディスプレイ４からのノイズを受信することを防止した。
【００４２】
【表２】
0004623244.tif 000005
【００４３】
表２から判るように、熱伝導性フィラー単独ではノイズ減衰は得られず、軟磁性金属粉末単独ではノイズ減衰が得られるが、軟磁性金属粉末と熱伝導性フィラーとを併用することにより、更にノイズ減衰を維持しつつ、熱伝導率を大きくすることができる。
【００４４】
【発明の効果】
本発明の電磁波吸収性熱伝導性シリコーン組成物を用いることにより、大きなノイズ減衰効果と熱伝導性を持つ放熱シート等が得られ、ＣＰＵの誤作動等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例におけるノイズ抑制効果テスト方法を示すブロック図である。
【符号の説明】
１  電波暗室
２  ＰＣ
３  受信アンテナ
４  ディスプレイ
５  キーボード
６  シールドルーム
７  ＥＭＩレシーバー
【図１】
0004623244.tif 000007