(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
略鉛直方向に保持された複数の被処理基板の周縁部を洗浄する洗浄装置において、
洗浄液を収容する収容槽と、
収容槽内に配置され、被処理基板の一方の面の周縁部に当接し、当該被処理基板の面内方向で回転駆動される第一洗浄部と、
収容槽内に配置され、被処理基板の他方の面の周縁部に当接し、当該被処理基板の面内方向で回転駆動される第二洗浄部と、を備え、
第一洗浄部または第二洗浄部の少なくとも一方は、収容槽内に複数配置され、
第二洗浄部から被処理基板の他方の面に加わる摩擦力は、第一洗浄部から被処理基板の一方の面に加わる摩擦力よりも大きいことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記第一洗浄部と前記第二洗浄部とは、交互に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
第二洗浄部は、第一洗浄部よりも速い速度で回転することを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項４】
第二洗浄部が被処理基板の他方の面に当接する面積は、第一洗浄部が被処理基板の一方の面に当接する面積よりも大きいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項５】
第一洗浄部と第二洗浄部とは異なる材料からなり、
第二洗浄部を構成する材料の被処理基板に対する摩擦係数は、第一洗浄部を構成する材料の被処理基板に対する摩擦係数よりも大きいことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項６】
第二洗浄部は、所定の方向から見た場合に、第一洗浄部とは逆方向に回転することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項７】
収容槽に連結され、収容槽内に洗浄液を供給する供給部と、
収容槽に連結され、収容槽内に収容された洗浄液を排出する排出部と、
収容槽の上方部に連結され、収容槽の上方部から洗浄液を吸引して排出する吸引部と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項８】
略鉛直方向に保持された複数の被処理基板の周縁部を洗浄する洗浄方法において、
洗浄液を収容する収容槽と、収容槽内に配置されて前記被処理基板の面内方向で回転駆動される第一洗浄部と、収容槽内に配置されて前記被処理基板の面内方向で回転駆動される第二洗浄部とを有し、第一洗浄部または第二洗浄部の少なくとも一方は収容槽内に複数配置された洗浄装置を用いた洗浄方法であって、
被処理基板を第一洗浄部と第二洗浄部との間で、略鉛直方向に向かって載置する工程であって、被処理基板の一方の面の周縁部に第一洗浄部を当接させ、被処理基板の他方の面の周縁部に第二洗浄部を当接させる工程と、
第二洗浄部によって、第一洗浄部から被処理基板の一方の面に加わる摩擦力よりも大きな摩擦力を被処理基板の他方の面に加える工程と、
を備えたことを特徴とする洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、略鉛直方向に保持された複数の被処理基板の周縁部を洗浄する洗浄装置および洗浄方法に関連している。
【背景技術】
【０００２】
従来から、被処理基板であるウエハの周縁部を洗浄する洗浄方法が知られている。そして、このような洗浄方法におけるスループットを向上させるために、バッチ処理でウエハを洗浄する方法も知られている。
【０００３】
このようにバッチ処理でウエハを洗浄する方法としては、例えば、ウエハを複数枚積層し、これらのウエハの周縁部をエッチング液（洗浄液）に接触させてエッチングして、バッチ処理する方法（特許文献１参照）や、ウエハの複数枚をウエハとほぼ同じ形状の薄板で挟んで積層体とし、ウエハの露出部分の表面の実質的全域にエッチング液（洗浄液）を更新しつつ接触させるとともに、ウエハを薄板で挟んで積層した積層体をその中心軸の周りに自在に回転させ、かつ、刷毛が植え付けられた棒状ブラシをその中心軸の周りに自在に回転させて、バッチ処理する方法（特許文献２参照）などが知られている。
【特許文献１】特開平５−２４３２０８号公報
【特許文献２】特開２００３−２０３８９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一般的に、ウエハの表面にはパーティクルが付着し、ウエハの裏面にはポリマーなどの不純物（以下、このような不純物をポリマーとして表現する）が付着する傾向がある。そして、ウエハの裏面に付着するポリマーはウエハの表面に付着するパーティクルと比較して、ウエハから除去されにくくなっている。このため、バッチ処理によってウエハを洗浄しても、ウエハの裏面に付着したポリマーを除去することができない。他方、裏面に付着したポリマーを除去しようとして強い薬液を含む洗浄液を使用すると、ウエハの表面側が浸食されてしまう。
【０００５】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、被処理基板の一方の面と他方の面とで除去する対象物が異なる場合であっても各対象物を確実に除去することができ、また、バッチ処理によって被処理基板を洗浄する場合であっても、被処理基板を浸食することなく、被処理基板に付着したポリマーを確実に除去することができる洗浄装置および洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明による洗浄装置は、
略鉛直方向に保持された複数の被処理基板の周縁部を洗浄する洗浄装置において、
洗浄液を収容する収容槽と、
収容槽内に配置され、被処理基板の一方の面の周縁部に当接し、当該被処理基板の面内方向で回転駆動される第一洗浄部と、
収容槽内に配置され、被処理基板の他方の面の周縁部に当接し、当該被処理基板の面内方向で回転駆動される第二洗浄部と、を備え、
第一洗浄部または第二洗浄部の少なくとも一方は、収容槽内に複数配置され、
第二洗浄部から被処理基板の他方の面に加わる摩擦力が、第一洗浄部から被処理基板の一方の面に加わる摩擦力よりも大きくなっている。
【０００７】
このような構成によって、被処理基板の一方の面と他方の面とで除去する対象物が異なる場合であっても各対象物を確実に除去することができ、また、バッチ処理によって被処理基板を洗浄する場合であっても、被処理基板を浸食することなく、被処理基板に付着したポリマーを確実に除去することができる。
【０００８】
本発明による洗浄装置において、
前記第一洗浄部と前記第二洗浄部とは、交互に配置されていることが好ましい。
【０００９】
本発明による洗浄装置において、
第二洗浄部は、第一洗浄部よりも速い速度で回転することが好ましい。
【００１０】
本発明による洗浄装置において、
第二洗浄部が被処理基板の他方の面に当接する面積は、第一洗浄部が被処理基板の一方の面に当接する面積よりも大きいことが好ましい。
【００１１】
本発明による洗浄装置において、
第一洗浄部と第二洗浄部とは異なる材料からなり、
第二洗浄部を構成する材料の被処理基板に対する摩擦係数は、第一洗浄部を構成する材料の被処理基板に対する摩擦係数よりも大きいことが好ましい。
【００１２】
本発明による洗浄装置において、
第二洗浄部は、所定の方向から見た場合に、第一洗浄部とは逆方向に回転することが好ましい。
【００１３】
このような構成によって、第二洗浄部から被処理基板の他方の面に加わる摩擦力をさらに大きくすることができ、被処理基板の裏面に付着したポリマーをより確実に除去することができる。
【００１４】
本発明による洗浄装置において、
収容槽に連結され、収容槽内に洗浄液を供給する供給部と、
収容槽に連結され、収容槽内に収容された洗浄液を排出する排出部と、
収容槽の上方部に連結され、収容槽の上方部から洗浄液を吸引して排出する吸引部と、
をさらに備えたことが好ましい。
【００１５】
このような構成によって、被処理基板の周縁部を洗浄した洗浄液が、被処理基板が回転することに伴って、被処理基板に付着したまま上方へ移動することがなく、洗浄液が被処理基板を伝って垂れることによって、被処理基板に悪影響が出ることを防止することができる。
【００１６】
本発明による洗浄方法は、
略鉛直方向に保持された複数の被処理基板の周縁部を洗浄する洗浄方法において、
洗浄液を収容する収容槽と、収容槽内に配置されて前記被処理基板の面内方向で回転駆動される第一洗浄部と、収容槽内に配置されて前記被処理基板の面内方向で回転駆動される第二洗浄部をと有し、第一洗浄部または第二洗浄部の少なくとも一方は収容槽内に複数配置された洗浄装置を用いた洗浄方法であって、
被処理基板を第一洗浄部と第二洗浄部との間で、略鉛直方向に向かって載置する工程であって、被処理基板の一方の面の周縁部に第一洗浄部を当接させ、被処理基板の他方の面の周縁部に第二洗浄部を当接させる工程と、
第二洗浄部によって、第一洗浄部から被処理基板の一方の面に加わる摩擦力よりも大きな摩擦力を被処理基板の他方の面に加える工程と、
を備えている。
【００１７】
このような方法によって、被処理基板の一方の面と他方の面とで除去する対象物が異なる場合であっても各対象物を確実に除去することができ、また、バッチ処理によって被処理基板を洗浄する場合であっても、被処理基板を浸食することなく、被処理基板に付着したポリマーを確実に除去することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、被処理基板のポリマーが付着する傾向にある他方の面に加わる摩擦力を、パーティクルが付着する傾向にある一方の面に加わる摩擦力よりも大きくすることによって、被処理基板の一方の面と他方の面とで除去する対象物が異なる場合であっても各対象物を確実に除去することができ、また、バッチ処理によって被処理基板を洗浄する場合であっても、被処理基板を浸食することなく、被処理基板に付着したポリマーを確実に除去することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
第１の実施の形態
以下、本発明に係る洗浄装置および洗浄方法の第１の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１乃至図３は本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【００２０】
図１および図２（ａ）に示すように、本実施の形態の洗浄装置は、略鉛直方向に保持された複数の被処理基板である半導体ウエハＷ（以下、単にウエハＷとも呼ぶ）の周縁部を洗浄するためのものである。ここで、図１は、本実施の形態による洗浄装置の側方断面図である。また、図２（ａ）は、本実施の形態による洗浄装置を図１の矢印II方向から見た上方平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）を直線Ｂ−Ｂで保持部材４１（後述）を切断した縦断面図である。
【００２１】
図１に示すように、洗浄装置は、洗浄液ＣＦを収容する収容槽１と、収容槽１内に列状に配置され、ウエハＷの表面（一方の面）Ｗａの周縁部に当接し、当該ウエハＷの面内方向で回転駆動される複数の第一洗浄ブラシ（第一洗浄部）１１と、収容槽１内で第一洗浄ブラシ１１の間に配置され、ウエハＷの裏面（他方の面）Ｗｂの周縁部に当接し、当該ウエハＷの面内方向で回転駆動される複数の第二洗浄ブラシ（第二洗浄部）２１と、を備えている。ここで、ウエハＷの表面Ｗａは、一方側で隣接するウエハＷの表面Ｗａと対向するようにして配置され、他方、ウエハＷの裏面Ｗｂは、他方側で隣接するウエハＷの裏面Ｗｂと対向するようにして配置されている。
【００２２】
このうち、第一洗浄ブラシ１１は第二洗浄ブラシ２１の間に配置され、逆に、第二洗浄ブラシ２１は第一洗浄ブラシ１１の間に配置されており、第一洗浄ブラシ１１と第二洗浄ブラシ２１とは交互に配置されている。また、洗浄液ＣＦは、純水や、純水と薬液の混合液などからなっている。なお、この薬液は、ＨＦなどの酸性溶液や、ＮＨ３などのアルカリ性溶液からなっている。
【００２３】
また、図１および図２（ａ）に示すように、第二洗浄ブラシ２１は、第一洗浄ブラシ１１よりも大きさが大きくなっており、第二洗浄ブラシ２１がウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積は、第一洗浄ブラシ１１がウエハＷの表面Ｗａに当接する面積よりも大きくなっている。
【００２４】
また、図１に示すように、第一洗浄ブラシ１１は、第一回転軸１４を介して第一駆動モータ１３に連結されており、他方、第二洗浄ブラシ２１は、第二回転軸２４を介して第二駆動モータ２３に連結されている。なお、図２（ａ）に示すように、第二回転軸２４と第一回転軸１４とは水平方向にずれて配置されており、第一回転軸１４は第二洗浄ブラシ２１と接触しないようになり、かつ、第二回転軸２４は第一洗浄ブラシ１１と接触しないようになっている。
【００２５】
図２（ａ）に示すように、第二洗浄ブラシ２１は、図１に示した矢印IIの示す方向（所定の方向）から見た場合に、第一洗浄ブラシ１１と同じ方向に回転するようになっている。具体的には、図１に示した矢印IIの示す方向から見た場合に、第二洗浄ブラシ２１は、第二駆動モータ２３によって、反時計回りに回転駆動され、同様に、第一洗浄ブラシ１１は、第一駆動モータ１３によって、反時計回りに回転駆動される（図２（ａ）の矢印参照）。
【００２６】
また、図２（ａ）において、第二駆動モータ２３の回転駆動速度は第一駆動モータ１３の回転駆動速度よりも大きくなっており、第二洗浄ブラシ２１は、第一洗浄ブラシ１１よりも速い速度で回転するようになっている。
【００２７】
また、図２（ａ）に示すように、収容槽１には、収容槽１内に洗浄液ＣＦを供給する供給部３６と、この収容槽１内に収容された洗浄液ＣＦを排出する排出部３７が連結されている。また、この収容槽１の上方部には、収容槽１の上方部から洗浄液を吸引して排出する吸引部３０が連結されている。この吸引部３０は、具体的には図２（ａ）に示すように、収容槽１の上方部に連結され排出部３７へと導かれた吸引管３２と、この吸引管３２に設けられ、収容槽１から洗浄液を吸引して排出する吸引ポンプ３１とからなっている。なお、ウエハＷに付着した洗浄液ＣＦを確実に吸引するために、この吸引管３２は、第一回転軸１４および第二回転軸２４の軸方向に沿って、複数箇所に配置されていることが好ましい。
【００２８】
また、図２（ａ）に示すように、収容槽１の両側方上方には、各ウエハＷを保持するための保持部材４１が設けられている。この保持部材４１は、図２（ｂ）に示すように凹部を有しており、当該凹部内にウエハＷが配置され保持されるようになっている。
【００２９】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００３０】
まず、複数のウエハＷが第一洗浄ブラシ１１と第二洗浄ブラシ２１との間で挟持され、略鉛直方向に向かって載置される。このとき、パーティクルが付着する傾向にあるウエハＷの表面Ｗａが第一洗浄ブラシ１１に当接され、ポリマーが付着する傾向にあるウエハＷの裏面Ｗｂが第二洗浄ブラシ２１に当接される。
【００３１】
次に、第一駆動モータ１３によって第一洗浄ブラシ１１が回転駆動され、第二駆動モータ２３によって第二洗浄ブラシ２１が回転駆動される（図１および図２（ａ）参照）。具体的には、図１に示した矢印IIの示す方向から見た場合に、第二洗浄ブラシ２１は反時計回りに回転駆動され、同様に、第一洗浄ブラシ１１は反時計回りに回転駆動される（図２（ａ）の矢印参照）。
【００３２】
このように、第一洗浄ブラシ１１および第二洗浄ブラシ２１が回転駆動されることによって、第一洗浄ブラシ１１と第二洗浄ブラシ２１からの摩擦力により、ウエハＷが面内で回転される。このとき、ウエハＷは、図１に示した矢印IIの示す方向から見た場合に、時計回りに回転される（図２（ａ）参照）。
【００３３】
ここで、図１および図２（ａ）に示すように、第二洗浄ブラシ２１は第一洗浄ブラシ１１よりも大きさが大きくなっており、第二洗浄ブラシ２１がウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積は、第一洗浄ブラシ１１がウエハＷの表面Ｗａに当接する面積よりも大きくなっている。
【００３４】
このため、ウエハＷから除去されにくいポリマーの付着する傾向のある裏面Ｗｂに大きな摩擦力を加えることができ、かつ、ウエハＷから除去されやすいパーティクルの付着する傾向にある表面Ｗａに、裏面Ｗｂに加わる摩擦力よりも小さな摩擦力を加えることができる。
【００３５】
また、第二駆動モータ２３の回転駆動速度は第一駆動モータ１３の回転駆動速度よりも大きくなっており、第二洗浄ブラシ２１は、第一洗浄ブラシ１１よりも速い速度で回転するようになっている。このため、やはり、ウエハＷから除去されにくいポリマーの付着する傾向のある裏面Ｗｂに大きな摩擦力を加えることができ、かつ、ウエハＷから除去されやすいパーティクルの付着する傾向にある表面Ｗａに、裏面Ｗｂに加わる摩擦力よりも小さな摩擦力を加えることができる。
【００３６】
このように、本実施の形態によれば、第一洗浄ブラシ１１からウエハＷの裏面Ｗｂに加わる摩擦力を、第二洗浄ブラシ２１から被処理基板の表面Ｗａに加わる摩擦力よりも大きくすることができるので、ウエハＷの表面Ｗａと裏面Ｗｂとで除去する対象物が異なる場合であっても各対象物を確実に除去することができ、より具体的には、ウエハＷの表面Ｗａに付着したパーティクルと、ウエハＷの裏面Ｗｂに付着したポリマーを確実に除去することができる。また、洗浄液ＣＦに含まれる薬液の濃度を必要以上に濃くすることなく（場合によっては純水によって）、ウエハＷの裏面Ｗｂに付着したポリマーを確実に除去することができ、洗浄液ＣＦに含まれる薬液によってウエハＷの表面Ｗａが浸食されることを防止することができる。
【００３７】
また、ウエハＷの表面Ｗａには、裏面Ｗｂに加わる摩擦力よりも小さな摩擦力を加えることができるので、ウエハＷの表面Ｗａが第一洗浄ブラシ１１によって傷つけられることを防止することができる。
【００３８】
すなわち、従来技術によれば、薬液の濃度が薄い洗浄液を用いた場合には、ウエハを洗浄してもウエハの裏面に付着したポリマーを除去することができない。他方、裏面に付着したポリマーを除去しようとして強い薬液を含む洗浄液を使用すると、ウエハの表面が浸食されてしまう。
【００３９】
これに対して、本実施の形態によれば、第一洗浄ブラシ１１からウエハＷの裏面Ｗｂに加わる摩擦力を大きくしているので、薬液の濃度が薄い洗浄液を用いたとしても（場合によっては純水を用いたとしても）、ウエハＷの裏面Ｗｂに付着したポリマーを確実に除去することができる。また、このように薬液の濃度が薄い洗浄液を用いることができるので、ウエハＷの表面Ｗａが浸食されてしまうこともない。
【００４０】
また、本実施の形態では、ウエハＷの表面Ｗａに加わる摩擦力を小さくしているので、ウエハＷの表面Ｗａが第一洗浄ブラシ１１によって傷つけられることを防止することもできる。
【００４１】
上述のように、第一洗浄ブラシ１１と第二洗浄ブラシ２１からの摩擦力によって、ウエハＷが面内で回転されている間、収容槽１の上方部に連結された吸引部３０によって、収容槽１の上方部から洗浄液が吸引されて排出されている（図２（ａ）参照）。
【００４２】
この点、収容槽１の上方部から洗浄液が吸引されて排出されなければ、ウエハＷの周縁部を洗浄した洗浄液ＣＦが、ウエハＷが回転することに伴って、ウエハＷに付着したまま上方へ移動する可能性がある。このように、洗浄液ＣＦがウエハＷに付着したまま上方へ移動すると、当該洗浄液ＣＦがウエハＷの表面Ｗａや裏面Ｗｂを伝って非除去対象面（洗浄液ＣＦで洗浄する対象となっていない面）にまで垂れてきてしまい、ウエハＷに悪影響を及ぼしてしまう。
【００４３】
これに対して、本実施の形態によれば、収容槽１の上方部から洗浄液が吸引されて排出されているので、ウエハＷの周縁部を洗浄した洗浄液ＣＦが、ウエハＷが回転することに伴って、ウエハＷに付着したまま上方へ移動することがない。このため、洗浄液ＣＦがウエハＷの表面Ｗａや裏面Ｗｂを伝って垂れることによって、ウエハＷに悪影響が出ることを防止することができる。
【００４４】
なお、上記では、第二洗浄ブラシ２１がウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積が、第一洗浄ブラシ１１がウエハＷの表面Ｗａに当接する面積よりも大きくなり、かつ、第二洗浄ブラシ２１が、第一洗浄ブラシ１１よりも速い速度で回転するようになっている態様を用いて説明したが、ウエハＷの裏面Ｗｂに対するポリマーの付着力がそれほど強くない場合には、これらのうちの一方だけでもよい。
【００４５】
すなわち、図２（ａ）において、第二洗浄ブラシ２１を、第一洗浄ブラシ１１と同じ速度で回転させてもよいし、他方、図３に示すように、第二洗浄ブラシ２１を第一洗浄ブラシ１１と同じ大きさのものとして、第二洗浄ブラシ２１がウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積を、第一洗浄ブラシ１１がウエハＷの表面Ｗａに当接する面積と概ね等しくしつつ、第二洗浄ブラシ２１を、第一洗浄ブラシ１１よりも速い速度で回転させるようにしてもよい。
【００４６】
ところで、図１において、第一洗浄ブラシ１１、第一回転軸１４および第一駆動モータ１３と、第二洗浄ブラシ２１、第二回転軸２４および第二駆動モータ２３とは、モータ１９，２９やシリンダなどの上下方向駆動部材（図１ではモータ１９，２９を用いた態様を示している）によって、上下方向に昇降可能としてもよい（図１の上下両方向矢印参照）。
【００４７】
このように、第一洗浄ブラシ１１、第一回転軸１４および第一駆動モータ１３と、第二洗浄ブラシ２１、第二回転軸２４および第二駆動モータ２３とを昇降可能とすることによって、第一洗浄ブラシ１１のウエハＷの表面Ｗａに接触する面積（除去幅）と、第二洗浄ブラシ２１のウエハＷの裏面Ｗｂに接触する面積（除去幅）と、を適宜調整することができる。
【００４８】
なお、このように第一洗浄ブラシ１１、第一回転軸１４および第一駆動モータ１３と、第二洗浄ブラシ２１、第二回転軸２４および第二駆動モータ２３とを、上下方向に昇降可能とする場合には、例え第二洗浄ブラシ２１と第一洗浄ブラシ１１とが同じ大きさであったとしても、第二洗浄ブラシ２１を第一洗浄ブラシ１１よりも上方位置まで上昇させることによって、ウエハＷの裏面Ｗｂに接触する面積（除去幅）をウエハＷの表面Ｗａに接触する面積（除去幅）よりも大きくすることができ、ウエハＷの裏面Ｗｂに加わる摩擦力をウエハＷの表面Ｗａに加わる摩擦力よりも大きくすることができる。
【００４９】
第２の実施の形態
次に、図４により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図４に示す第２の実施の形態は、第一洗浄ブラシ１１と第二洗浄ブラシ２１ａとが異なる材料からなり、第二洗浄ブラシ２１ａを構成する材料のウエハＷに対する摩擦係数が、第一洗浄ブラシ１１を構成する材料のウエハＷに対する摩擦係数よりも大きくなっている。また、第二洗浄ブラシ２１ａが第一洗浄ブラシ１１と概ね同じ大きさからなり、第二洗浄ブラシ２１ａがウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積が、第一洗浄ブラシ１１がウエハＷの表面Ｗａに当接する面積と概ね等しくなっている。さらに、第二洗浄ブラシ２１ａは、第一洗浄ブラシ１１と同じ速度で回転するようになっている。その他の構成は図１および図２（ａ）（ｂ）に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００５０】
図４に示す第２の実施の形態において、図１および図２（ａ）（ｂ）に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００５１】
図４において、第一洗浄ブラシ１１と第二洗浄ブラシ２１ａとは異なる材料からなり、第二洗浄ブラシ２１ａを構成する材料のウエハＷに対する摩擦係数は、第一洗浄ブラシ１１を構成する材料のウエハＷに対する摩擦係数よりも大きくなっている。
【００５２】
このため、第１の実施の形態と同様、ウエハＷから除去されにくいポリマーの付着する傾向のある裏面Ｗｂに大きな摩擦力を加えることができ、かつ、ウエハＷから除去されやすいパーティクルの付着する傾向にある表面Ｗａに、裏面Ｗｂに加わる摩擦力よりも小さな摩擦力を加えることができる。
【００５３】
この結果、洗浄液ＣＦに含まれる薬液の濃度を必要以上に濃くすることなく（場合によっては純水によって）、ウエハＷの裏面Ｗｂに付着したポリマーを確実に除去することができ、洗浄液ＣＦに含まれる薬液によってウエハＷの表面Ｗａが浸食されることを防止することができる。
【００５４】
また、ウエハＷの表面Ｗａには、裏面Ｗｂに加わる摩擦力よりも小さな摩擦力を加えることができるので、ウエハＷの表面Ｗａが第一洗浄ブラシ１１によって傷つけられることを防止することができる。
【００５５】
なお、ウエハＷの裏面Ｗｂにポリマーが強い力で付着している場合には、第二洗浄ブラシ２１ａを第一洗浄ブラシ１１よりも大きくして、第二洗浄ブラシ２１ａがウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積を、第一洗浄ブラシ１１がウエハＷの表面Ｗａに当接する面積よりも大きくしたり、また、第二洗浄ブラシ２１ａを、第一洗浄ブラシ１１よりも速い速度で回転させるようにしたりしてもよい。
【００５６】
さらには、これらの両方を実施してもよく、第二洗浄ブラシ２１ａを第一洗浄ブラシ１１よりも大きくして、第二洗浄ブラシ２１ａがウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積を、第一洗浄ブラシ１１がウエハＷの表面Ｗａに当接する面積よりも大きくし、かつ、第二洗浄ブラシ２１ａを、第一洗浄ブラシ１１よりも速い速度で回転させるようにしてもよい。
【００５７】
第３の実施の形態
次に、図５により、本発明の第３の実施の形態について説明する。図５に示す第３の実施の形態は、第二洗浄ブラシ２１が、図１に示した矢印IIの示す方向（所定の方向）から見た場合に、第一洗浄ブラシ１１とは逆方向に回転する。また、第二洗浄ブラシ２１は、第一洗浄ブラシ１１と同じ速度で回転するようになっている。その他の構成は図１および図２（ａ）（ｂ）に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００５８】
図５に示す第３の実施の形態において、図１および図２（ａ）（ｂ）に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００５９】
本実施の形態では、図１に示した矢印IIの示す方向（所定の方向）から見た場合に、第二洗浄ブラシ２１が反時計回りに回転駆動され、第一洗浄ブラシ１１が時計回りに回転駆動されている。このように、第一洗浄ブラシ１１と第二洗浄ブラシ２１とを逆方向で回転させることによって、ウエハＷには、第一洗浄ブラシ１１によって、第二洗浄ブラシ２１による摩擦力とは逆方向の摩擦力も働くこととなる。このため、第二洗浄ブラシ２１からウエハＷの裏面Ｗｂに加わる摩擦力をさらに大きくすることができ、ウエハＷの裏面Ｗｂに付着したポリマーをより確実に除去することができる。
【００６０】
なお、本実施の形態によっても、やはり、ウエハＷから除去されにくいポリマーの付着する傾向のある裏面Ｗｂに大きな摩擦力を加えることができ、かつ、ウエハＷから除去されやすいパーティクルの付着する傾向にある表面Ｗａに、裏面Ｗｂに加わる摩擦力よりも小さな摩擦力を加えることができる。
【００６１】
このため、洗浄液ＣＦに含まれる薬液の濃度を必要以上に濃くすることなく（場合によっては純水によって）、ウエハＷの裏面Ｗｂに付着したポリマーを確実に除去することができ、洗浄液ＣＦに含まれる薬液によってウエハＷの表面Ｗａが浸食されることを防止することができる。
【００６２】
また、ウエハＷの表面Ｗａには、裏面Ｗｂに加わる摩擦力よりも小さな摩擦力を加えることができるので、ウエハＷの表面Ｗａが第一洗浄ブラシ１１によって傷つけられることを防止することができる。
【００６３】
ところで、本実施の形態において、第二洗浄ブラシ２１は、第一洗浄ブラシ１１よりも大きさが大きくなっており、第二洗浄ブラシ２１がウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積が、第一洗浄ブラシ１１がウエハＷの表面Ｗａに当接する面積よりも大きくなっているので、第二洗浄ブラシ２１からウエハＷの裏面Ｗｂに加わる摩擦力が第一洗浄ブラシ１１からウエハＷの表面Ｗａに加わる摩擦力よりも大きくなっている。このため、ウエハＷは、第二洗浄ブラシ２１の回転方向による駆動力によって回転することとなり、具体的には図５に示すように、時計回りに回転することとなる。
【００６４】
なお、上記では、第二洗浄ブラシ２１からウエハＷの裏面Ｗｂに加わる摩擦力を第一洗浄ブラシ１１からウエハＷの表面Ｗａに加わる摩擦力よりも大きくする方法として、第二洗浄ブラシ２１のウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積を、第一洗浄ブラシ１１のウエハＷの表面Ｗａに当接する面積よりも大きくする態様を用いて説明したが、これに限られない。
【００６５】
例えば、第二洗浄ブラシ２１を、第一洗浄ブラシ１１よりも速い速度で回転させるようにしてもよいし、また、第二洗浄ブラシ２１を、ウエハＷに対する摩擦係数が第一洗浄ブラシ１１を構成する材料のウエハＷに対する摩擦係数よりも大きくなる材料から生成することによって、第二洗浄ブラシ２１からウエハＷの裏面Ｗｂに加わる摩擦力を第一洗浄ブラシ１１からウエハＷの表面Ｗａに加わる摩擦力よりも大きくしてもよい。
【００６６】
さらには、ウエハＷの裏面Ｗｂに付着したポリマーをより確実に除去するために、第二洗浄ブラシ２１のウエハＷの裏面Ｗｂに当接する面積を第一洗浄ブラシ１１のウエハＷの表面Ｗａに当接する面積よりも大きくすること、第二洗浄ブラシ２１を第一洗浄ブラシ１１よりも速い速度で回転させること、および、第二洗浄ブラシ２１をウエハＷに対する摩擦係数が第一洗浄ブラシ１１を構成する材料のウエハＷに対する摩擦係数よりも大きくなる材料から生成すること、のうちの２つを適宜組み合わせても良いし、これらの全てを組み合わせても良い。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の第１の実施の形態による洗浄装置の側方断面図。
【図２】本発明の第１の実施の形態による洗浄装置を図１の矢印II方向から見た正面図と、保持部材を示す縦断面図。
【図３】本発明の第１の実施の形態による洗浄装置の別の例を示す正面図。
【図４】本発明の第２の実施の形態による洗浄装置を示す正面図。
【図５】本発明の第３の実施の形態による洗浄装置を示す正面図。
【符号の説明】
【００６８】
１      収容槽
１１    第一洗浄ブラシ（第一洗浄部）
１３    第一駆動モータ
１４    第一回転軸
２１，２１ａ  第二洗浄ブラシ（第二洗浄部）
２３    第二駆動モータ
２４    第二回転軸
３０    吸引部
３１    吸引ポンプ
３２    吸引管
３６    供給部
３７    排出部
ＣＦ    洗浄液
Ｗ      ウエハ（被処理基板）
Ｗａ    ウエハ（被処理基板）の表面（一方の面）
Ｗｂ    ウエハ（被処理基板）の裏面（他方の面）
【図１】
0004813449.tif 000002
【図２】
0004813449.tif 000003
【図３】
0004813449.tif 000004
【図４】
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【図５】
0004813449.tif 000006