(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光又は熱により重合する重合性成分と液晶とを混合した液晶組成物の脱泡処理を行う第１の工程と、
前記液晶組成物を一方の基板上に滴下又は転写する第２の工程と、
前記第１及び第２の工程の後に、前記一方の基板と他方の基板とを真空中で貼り合わせ、大気圧に戻すことにより前記液晶組成物を注入する第３の工程と、
前記第３の工程の後に、前記重合性成分を重合させて、前記液晶の液晶分子の配向方向及びプレチルト角を規定するポリマーを形成する第４の工程とを有し、
前記第１の工程の後に前記第２の工程を行うこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第１の工程は、前記液晶組成物周囲の雰囲気を所定圧力に減圧して前記脱泡処理を行うこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記所定圧力は１Ｔｏｒｒ以下であること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
光又は熱により重合する重合性成分と液晶とを混合した液晶組成物の脱泡処理を行う第１の工程と、
前記液晶組成物を一方の基板上に滴下又は転写する第２の工程と、
前記第１及び第２の工程の後に、前記一方の基板と他方の基板とを真空中で貼り合わせ、大気圧に戻すことにより前記液晶組成物を注入する第３の工程と、
前記第３の工程の後に、前記重合性成分を重合させて、前記液晶の液晶分子の配向方向及びプレチルト角を規定するポリマーを形成する第４の工程とを有し、
前記第２の工程の後に前記第１の工程を行い、
前記第１の工程は、前記液晶組成物周囲の雰囲気を所定圧力に減圧して前記脱泡処理を行い、
前記第１の工程と前記第３の工程との間に、前記液晶組成物周囲の雰囲気を大気圧付近に戻す工程をさらに有すること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
光又は熱により重合する重合性成分と液晶とを混合した液晶組成物を一方の基板上に滴下又は転写する第１の工程と、
前記第１の工程の後に、大気圧未満であって前記液晶組成物が発泡しない所定圧力の雰囲気中で前記一方の基板と他方の基板とを貼り合わせ、大気圧に戻すことにより前記液晶組成物を注入する第２の工程と、
前記第２の工程の後に、前記重合性成分を重合させて、前記液晶の液晶分子の配向方向及びプレチルト角を規定するポリマーを形成する第３の工程と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記所定圧力は１Ｔｏｒｒ以上であること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、特に、負の誘電率異方性を有する液晶を垂直配向させ、光又は熱により重合するポリマーを用いて液晶分子のプレチルト角及び電圧印加時の傾斜方向を規定する液晶表示装置を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式の液晶表示装置（以下、「ＭＶＡ−ＬＣＤ」という）は、負の誘電率異方性を有する垂直配向型の液晶と、基板上に設けられた線状突起やスリット等の配向規制用構造物とを備えている。ＭＶＡ−ＬＣＤは、配向規制用構造物を利用することにより、ラビングレスで電圧印加時の液晶配向方位を画素内で複数の方位に制御できるようになっている。
【０００３】
ＭＶＡ−ＬＣＤは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードの液晶表示装置に比較すると、視角特性に優れているという長所を有しているとともに、白輝度が低く表示が暗いという短所を有している。この短所の主な原因は、配向規制用構造物上の領域が液晶配向の分割境界となり、当該領域が光学的に暗く視認されるため、画素全体の光の透過率が低くなることにある。これを改善するには、配向規制用構造物間の間隙を十分広くすればよい。ところがこの場合、配向規制用構造物が相対的に少なくなるため、配向が安定するまでに時間がかかるようになり、応答時間が長くなってしまう。
【０００４】
高輝度で高速応答可能なＭＶＡ−ＬＣＤを実現するために、ポリマーを用いて液晶分子のプレチルト角及び電圧印加時の傾斜方向を規定する方法が提案されている。この方法では、光又は熱により重合するモノマー（重合性成分）と液晶とを混合した液晶組成物を２枚の基板間に封止する。基板間に所定の電圧を印加し、液晶分子が傾斜して配向が定まった状態で液晶層にＵＶ光を照射し、モノマーを重合してポリマーを形成する。基板の表面近傍に形成されるポリマーによって、電圧印加を取り去っても液晶分子の配向方向及びプレチルト角が規定される。ポリマーにより液晶分子の配向方向及びプレチルト角を規定することによって、高輝度で高速応答可能なＭＶＡ−ＬＣＤが得られる。
【０００５】
また近年では、基板の貼合せと液晶の注入とが同時に行われる滴下注入法が注目されている。滴下注入法では、まず一方の基板の周囲に枠状にシール材が塗布される。次に、例えば他方の基板上に規定量の液晶を滴下する。このとき液晶は、ディスペンサにより基板上の複数箇所に滴下される。次に、両基板を真空中で貼り合わせ、大気圧に戻すことによって両基板間に液晶が注入される。滴下注入法を用いることにより、液晶注入時間を大幅に短縮でき、液晶表示装置の製造工程が簡略化する。
【０００６】
ところが、ポリマーにより液晶分子の配向方向及びプレチルト角を規定するＭＶＡ−ＬＣＤを滴下注入法を用いて作製すると、液晶組成物を滴下した箇所のそれぞれの外周に沿って円状に連なる輝点が視認されることがあり、良好な表示品質が得られないという問題が生じている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、表示品質の良好な液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的は、光又は熱により重合する重合性成分と液晶とを混合した液晶組成物の脱泡処理を行う第１の工程と、前記液晶組成物を一方の基板上に滴下又は転写する第２の工程と、前記一方の基板と他方の基板とを真空中で貼り合わせ、大気圧に戻すことにより前記液晶組成物を注入する第３の工程と、前記重合性成分を重合させる第４の工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法によって達成される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、表示品質の良好な液晶表示装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
〔第１の実施の形態〕
本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の製造方法について図１乃至図４を用いて説明する。ポリマーにより液晶分子の配向方向及びプレチルト角を規定するＭＶＡ−ＬＣＤにおいて、液晶組成物を滴下した箇所の外周に沿って円状に連なる輝点が視認されるのは、当該箇所の外周部にモノマーが析出し、液晶の配向が乱れることが原因と考えられる。モノマーが析出するのは、基板を貼り合わせる際に液晶組成物が真空中で発泡し、モノマー濃度が不均一になることに起因すると考えられる。このため本実施の形態では、液晶組成物内に溶け込んでいる空気や低沸点物質等を除去し、真空中での液晶組成物の発泡を抑制することによりモノマーの析出を防いでいる。
【００１１】
図１は、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法を模式的に示す図である。図２は、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。まず、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、画素電極、ゲートバスライン及びドレインバスライン等がガラス基板上に形成されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタ（ＣＦ；Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）、共通電極等がガラス基板上に形成された対向基板とをそれぞれ所定の工程により作製する。
【００１２】
次に、図１（ａ）に示すように、液晶組成物１０を所定の容器１２に入れ、真空チャンバ１４内に配置する。液晶組成物１０は、負の誘電率異方性を有するネガ型液晶（メルク製）に、ネマティック液晶性を示し光（又は熱）により重合するアクリル系重合性成分（メルク製）を０．３ｗｔ％混合して製造されている。続いて、真空ポンプ１６を用い、真空チャンバ１４内の液晶組成物１０周囲の雰囲気を１×１０-2Ｔｏｒｒ（１Ｔｏｒｒ＝１３３．３２２Ｐａ）又はそれ以下の圧力（真空度）に減圧し、液晶組成物１０内に溶け込んでいる空気や低沸点物質等を除去する脱泡（脱気）処理を行う（図２のステップＳ１）。脱泡処理終了後、ガス導入系１８を用いて不活性ガス等を真空チャンバ１４内に導入して大気圧に戻し、液晶組成物１０の入った容器１２を取り出す。
【００１３】
次に、図１（ｂ）に示すように、脱泡処理が行われた液晶組成物１０を大気圧中でＴＦＴ基板２上（又は対向基板４上）に滴下する液晶組成物滴下工程を行う（ステップＳ２）。図３は、液晶組成物を滴下する際に用いるディスペンサの構成を示している。図３に示すように、フランジャーポンプ式のディスペンサ３０は、中空の円筒形状の筐体３２を有しており、円筒形状の中心軸をほぼ鉛直方向に向けて使用するようになっている。筐体３２内には、円筒形状の中心軸に沿って細長い棒状のピストン３４が鉛直方向に移動可能に支持されている。ピストン３４の先端部は、筐体３２の鉛直下方端に設けられたノズル３６内方を移動することができるようになっている。筐体３２のノズル３６近傍の側壁の開口からは、液晶組成物収納容器３８内の液晶組成物が供給管４０を介して図示の矢印に沿ってノズル３６にまで流入できるようになっている。ノズル３６内に達した液晶組成物は、ノズル３６でのピストン３４先端の移動量に依存してノズル３６から滴下するようになっており、外力を受けない限り液晶組成物自身の表面張力によりノズル３６から吐出しないようになっている。
【００１４】
筐体３２内の空気室の側壁には、鉛直方向に離れて設けられた２つの空気流入口４２、４４が取り付けられている。ピストン３４には、空気室内を２つに分離する隔壁４６が固定されている。隔壁４６は、ピストン３４と共に、空気流入口４２、４４の間の空気室内壁を摺動することができるようになっている。したがって、隔壁４６は、空気流入口４２から空気室内に空気が流入すると鉛直下方に圧力を受けて下方に移動し、空気流入口４４から空気室内に空気が流入すると鉛直上方に圧力を受けて上方に移動する。これにより、ピストン３４を鉛直方向に所定量移動させることができるようになっている。
【００１５】
空気流入口４２、４４は、ポンプコントローラ４８に接続されている。ポンプコントローラ４８は、空気を吸入して所定のタイミングで空気流入口４２、４４のいずれかに空気を送り込むようになっている。以上説明した構成のディスペンサ３０は、１ショット当り例えば５ｍｇの液晶組成物１０を滴下するようになっている。１ショット当りの滴下量は、筐体３２上方に突出したピストン３４に固定されたマイクロゲージ５２を用いて、ピストン３４の鉛直方向の移動量を制御することにより調整することができるようになっている。
【００１６】
この工程では、脱泡処理が行われた液晶組成物１０に再び空気等が溶け込むのを防ぐために、基板表面からの高さが例えば２０ｍｍ以下の位置から液晶組成物１０を滴下するようにする。すなわち本例では、ノズル３６先端のＴＦＴ基板２（又は対向基板４）表面からの高さｈが２０ｍｍ以下になるようにする（ｈ≦２０（ｍｍ））。なお、液晶組成物１０を滴下する工程に代えて、液晶組成物１０を基板上に転写するようにしてもよい。
【００１７】
図１（ｂ）に戻り、液晶組成物１０が滴下されたＴＦＴ基板２と、外周部に切れ目なくシール材２０が塗布された対向基板４とを真空貼合せ装置を用いて真空中で貼り合わせる基板貼合せ工程を行う（ステップＳ３）。図４は、基板貼合せ工程での真空貼合せ装置内の圧力の時間変化の例を示すグラフである。横軸は真空貼合せ装置内の減圧を開始してからの経過時間（ｓｅｃ）を表し、縦軸は真空貼合せ装置内の圧力（Ｐａ）を対数で表している。図４に示すように、減圧開始から約５０ｓｅｃ経過後に両基板２、４の貼合せを開始する。このときの真空貼合せ装置内の圧力は約２．５Ｐａ（≒１．９×１０-2Ｔｏｒｒ）である。引き続き減圧しながら約２００ｓｅｃ経過後（貼合せ開始から約１５０ｓｅｃ後）に両基板２、４の貼合せを終了する。このときの真空貼合せ装置内の圧力は約０．８Ｐａ（≒６×１０-3Ｔｏｒｒ）である。その後、真空貼合せ装置内に不活性ガス等を導入し、５ｓｅｃ程度で基板２、４周囲の雰囲気を大気圧に戻すことにより、図１（ｃ）に示すように両基板２、４間の液晶組成物１０が拡散する。続いてシール材２０を硬化させて基板貼合せ及び液晶注入が完了する。
【００１８】
次に、基板２、４間に所定の電圧を印加し、液晶分子が傾斜して配向が定まった状態で液晶組成物１０にＵＶ光を照射（あるいは液晶組成物１０を加熱）し、液晶組成物１０内のモノマーを重合してポリマーを形成する重合化工程を行う（ステップＳ４）。基板２、４の表面近傍に形成されるポリマーによって、電圧印加を取り去っても液晶分子の配向方向及びプレチルト角が規定される。以上の工程を経て、液晶表示装置が完成する。
【００１９】
本実施の形態では、液晶組成物１０をＴＦＴ基板２上に滴下する前に液晶組成物１０の脱泡処理を行っている。このため、基板貼合せ工程で液晶組成物１０が発泡することがなく、液晶組成物１０内のモノマー濃度が不均一になることがないため、モノマーの析出を抑制できる。したがって本実施の形態によれば、液晶の配向不良による輝点が視認されず、表示品質の良好な液晶表示装置を実現できる。
【００２０】
〔第２の実施の形態〕
次に、本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の製造方法について図５を用いて説明する。図５は、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。図５に示すように、本実施の形態では第１の実施の形態と異なり、脱泡処理が行われていない液晶組成物１０を大気圧中でＴＦＴ基板２上（又は対向基板４上）に滴下又は転写する（ステップＳ１１）。液晶組成物１０は、負の誘電率異方性を有するネガ型液晶（メルク製）に、ネマティック液晶性を示し光（又は熱）により重合するアクリル系重合性成分（メルク製）を０．３ｗｔ％混合して製造されている。
【００２１】
次に、液晶組成物１０が滴下されたＴＦＴ基板２と、外周部に切れ目なくシール材２０が塗布された対向基板４とを例えば真空貼合せ装置内に配置する。続いて、真空貼合せ装置内の液晶組成物１０周囲の雰囲気を１×１０-2Ｔｏｒｒ又はそれ以下の圧力に減圧し、液晶組成物１０内に溶け込んでいる空気や低沸点物質等を除去する脱泡処理を行う（ステップＳ１２）。このとき、液晶組成物１０が減圧雰囲気中で発泡するため、モノマー濃度は不均一になっている。次いで、真空貼合せ装置内に不活性ガス等を導入し、真空貼合せ装置内の圧力を大気圧付近に戻す。これにより、液晶組成物１０内のモノマー濃度は均一になる。なお、液晶組成物１０の脱泡処理は、真空貼合せ装置でなく他の真空チャンバを用いて行ってもよい。
【００２２】
次に、真空貼合せ装置内を再び減圧しながら両基板２、４を貼り合わせる（ステップＳ１３）。このとき、既に脱泡処理が行われた液晶組成物１０が発泡することはない。その後、真空貼合せ装置内に不活性ガス等を導入し、基板２、４周囲の雰囲気を大気圧に戻すことにより、両基板２、４間の液晶組成物１０が拡散する。続いてシール材２０を硬化させて基板貼合せ及び液晶注入が完了する。
【００２３】
次に、基板２、４間に所定の電圧を印加し、液晶分子が傾斜して配向が定まった状態で液晶組成物１０にＵＶ光を照射（あるいは液晶組成物１０を加熱）し、液晶組成物１０内のモノマーを重合してポリマーを形成する（ステップＳ１４）。基板２、４の表面近傍に形成されるポリマーによって、電圧印加を取り去っても液晶分子の配向方向及びプレチルト角が規定される。以上の工程を経て、液晶表示装置が完成する。
【００２４】
本実施の形態では、真空貼合せ装置内を減圧して液晶組成物１０の脱泡処理を行った後に、真空貼合せ装置内を大気圧付近に戻して液晶組成物１０内のモノマー濃度を均一にしている。このため、基板貼合せ工程で液晶組成物１０が発泡することがなく、液晶組成物１０内のモノマー濃度が不均一になることがないため、モノマーの析出を抑制できる。したがって本実施の形態によれば、液晶の配向不良による輝点が視認されず、表示品質の良好な液晶表示装置を実現できる。
【００２５】
〔第３の実施の形態〕
次に、本発明の第３の実施の形態による液晶表示装置の製造方法について、図５を参照しつつ説明する。本実施の形態では第２の実施の形態と同様に、脱泡処理が行われていない液晶組成物１０を大気圧中でＴＦＴ基板２上（又は対向基板４上）に滴下又は転写する（図５のステップＳ１１）。液晶組成物１０は、負の誘電率異方性を有するネガ型液晶（メルク製）に、ネマティック液晶性を示し光（又は熱）により重合するアクリル系重合性成分（メルク製）を０．３ｗｔ％混合して製造されている。
【００２６】
次に、液晶組成物１０が滴下されたＴＦＴ基板２（及び液晶組成物１０）を８０℃で５分間加熱して脱泡処理を行う（図５のステップＳ１２）。常温中に比べて高温中では気体が液晶組成物１０に溶け込み難いため、加熱された液晶組成物１０中の空気や低沸点物質等が除去される。なお、この工程ではモノマー濃度が不均一になることはない。
【００２７】
次に、ＴＦＴ基板２と、外周部に切れ目なくシール材２０が塗布された対向基板４とを真空貼合せ装置内に配置する。続いて、真空貼合せ装置内を減圧しながら両基板２、４を貼り合わせる（図５のステップＳ１３）。その後、真空貼合せ装置内に不活性ガス等を導入して大気圧に戻すことにより、両基板２、４間の液晶組成物１０が拡散する。続いてシール材２０を硬化させて基板貼合せ及び液晶注入が完了する。
【００２８】
次に、基板２、４間に所定の電圧を印加し、液晶分子が傾斜して配向が定まった状態で液晶組成物１０にＵＶ光を照射（あるいは液晶組成物１０を加熱）し、液晶組成物１０内のモノマーを重合してポリマーを形成する（図５のステップＳ１４）。基板２、４の表面近傍に形成されるポリマーによって、電圧印加を取り去っても液晶分子の配向方向及びプレチルト角が規定される。以上の工程を経て、液晶表示装置が完成する。
【００２９】
本実施の形態では、液晶組成物１０の滴下されたＴＦＴ基板２を加熱して脱泡処理を行っている。このため、基板貼合せ工程で液晶組成物１０が発泡することがなく、液晶組成物１０内のモノマー濃度が不均一になることがないため、モノマーの析出を抑制できる。したがって本実施の形態によれば、液晶の配向不良による輝点が視認されず、表示品質の良好な液晶表示装置を実現できる。
【００３０】
ここで、脱泡処理におけるＴＦＴ基板２の加熱温度をそれぞれ４０℃、４５℃、５０℃、５５℃、６０℃、７０℃としたこと以外は上記と同様の製造方法を用い、６つの液晶表示装置を作製した。脱泡処理におけるＴＦＴ基板２の加熱温度を５０℃、５５℃、６０℃、７０℃として作製した液晶表示装置は、上記と同様に良好な表示品質が得られた。脱泡処理におけるＴＦＴ基板２の加熱温度を４０℃、４５℃として作製した液晶表示装置は、液晶組成物１０を滴下した箇所のそれぞれの外周に沿って円状に連なる輝点が視認され、良好な表示品質が得られなかった。このように、脱泡処理においてＴＦＴ基板２を５０℃以上で加熱することによって、表示品質の良好な液晶表示装置が得られる。なお、本実施の形態で使用した液晶組成物１０の耐熱温度が１５０℃であるため、実際には５０℃以上１５０℃以下で加熱することになる。
【００３１】
〔第４の実施の形態〕
次に、本発明の第４の実施の形態による液晶表示装置の製造方法について説明する。本実施の形態では第２の実施の形態と同様に、脱泡処理が行われていない液晶組成物１０を大気圧中でＴＦＴ基板２上（又は対向基板４上）に滴下又は転写する。液晶組成物１０は、負の誘電率異方性を有するネガ型液晶（メルク製）に、ネマティック液晶性を示し光（又は熱）により重合するアクリル系重合性成分（メルク製）を０．３ｗｔ％混合して製造されている。
【００３２】
次に、ＴＦＴ基板２と、外周部に切れ目なくシール材２０が塗布された対向基板４とを真空貼合せ装置内に配置する。続いて、真空貼合せ装置内を減圧しながら両基板２、４を貼り合わせる。本実施の形態では、真空貼合せ装置内の圧力が約１Ｔｏｒｒ（＝１３３．３２２Ｐａ）になったときに基板２、４の貼合せを開始する。このとき、液晶組成物１０周囲の雰囲気は比較的低真空であるため、液晶組成物１０が発泡することはない。引き続き減圧しながら所定時間経過後に両基板２、４の貼合せを終了する。その後、真空貼合せ装置内に不活性ガス等を導入して大気圧に戻すことにより、両基板２、４間の液晶組成物１０が拡散する。続いてシール材２０を硬化させて基板貼合せ及び液晶注入が完了する。
【００３３】
次に、基板２、４間に所定の電圧を印加し、液晶分子が傾斜して配向が定まった状態で液晶組成物１０にＵＶ光を照射（あるいは液晶組成物１０を加熱）し、液晶組成物１０内のモノマーを重合してポリマーを形成する。基板２、４の表面近傍に形成されるポリマーによって、電圧印加を取り去っても液晶分子の配向方向及びプレチルト角が規定される。以上の工程を経て、液晶表示装置が完成する。
【００３４】
本実施の形態では、比較的低真空で基板２、４の貼合せを開始している。このため、基板貼合せ工程で液晶組成物１０が発泡することがなく、液晶組成物１０内のモノマー濃度が不均一になることがないため、モノマーの析出を抑制できる。したがって本実施の形態によれば、液晶の配向不良による輝点が視認されず、表示品質の良好な液晶表示装置を実現できる。
【００３５】
ここで、基板貼合せ開始時の真空貼合せ装置内の圧力を変えたこと以外は上記と同様の製造方法を用い、複数の液晶表示装置を作製した。真空貼合せ装置内の圧力が高い状態で基板貼合せを開始した液晶表示装置ほど輝点の発生率が少なく、真空貼合せ装置内の圧力が１Ｔｏｒｒ以上の状態で基板貼合せを開始した液晶表示装置では輝点が視認されなかった。このように、１Ｔｏｒｒ以上（大気圧未満）の比較的低真空で基板２、４の貼合せを開始することによって、表示品質の良好な液晶表示装置が得られる。
【００３６】
以上説明した本実施の形態による液晶表示装置の製造方法は、以下のようにまとめられる。
（付記１）
光又は熱により重合する重合性成分と液晶とを混合した液晶組成物の脱泡処理を行う第１の工程と、
前記液晶組成物を一方の基板上に滴下又は転写する第２の工程と、
前記一方の基板と他方の基板とを真空中で貼り合わせ、大気圧に戻すことにより前記液晶組成物を注入する第３の工程と、
前記重合性成分を重合させる第４の工程と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記２）
付記１記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第１の工程の後に前記第２の工程を行うこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記３）
付記２記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第１の工程は、前記液晶組成物周囲の雰囲気を所定圧力に減圧して前記脱泡処理を行うこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記４）
付記３記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記所定圧力は１Ｔｏｒｒ以下であること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記５）
付記２乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第２の工程は、前記一方の基板からの高さが２０ｍｍ以下の位置から前記液晶組成物を滴下すること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記６）
付記１記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第２の工程の後に前記第１の工程を行うこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記７）
付記６記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第１の工程は、前記液晶組成物周囲の雰囲気を所定圧力に減圧して前記脱泡処理を行い、
前記第１の工程と前記第３の工程との間に、前記液晶組成物周囲の雰囲気を大気圧付近に戻す工程をさらに有すること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記８）
付記７記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記所定圧力は１Ｔｏｒｒ以下であること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記９）
付記６記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第１の工程は、前記液晶組成物を所定温度に加熱して前記脱泡処理を行うこと
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記１０）
付記９記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記所定温度は５０℃以上であること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記１１）
付記９又は１０に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記所定温度は１５０℃以下であること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記１２）
光又は熱により重合する重合性成分と液晶とを混合した液晶組成物を一方の基板上に滴下又は転写する第１の工程と、
前記液晶組成物が発泡しない所定圧力の雰囲気中で前記一方の基板と他方の基板とを貼り合わせ、大気圧に戻すことにより前記液晶組成物を注入する第２の工程と、
前記重合性成分を重合させる第３の工程と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（付記１３）
付記１２記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記所定圧力は１Ｔｏｒｒ以上大気圧未満であること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の製造方法を模式的に示す図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図３】液晶組成物を滴下するディスペンサの構成を示す図である。
【図４】基板貼合せ工程での圧力の時間変化の例を示すグラフである。
【図５】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００３８】
２  ＴＦＴ基板
４  対向基板
１０  液晶組成物
１２  容器
１４  真空チャンバ
１６  真空ポンプ
１８  ガス導入系
２０  シール材
３０  ディスペンサ
３２  筐体
３４  ピストン
３６  ノズル
３８  液晶組成物収納容器
４２、４４  空気流入口
４６  隔壁
４８  ポンプコントローラ
５２  マイクロゲージ
【図１】
0004744090.tif 000002
【図２】
0004744090.tif 000003
【図３】
0004744090.tif 000004
【図４】
0004744090.tif 000005
【図５】
0004744090.tif 000006