(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、電荷発生層と、電荷輸送層と、オーバーコート層とを含む電子写真用画像形成部材であって、前記オーバーコート層は、
メトキシメチル基を含まない第１の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダと、
メトキシメチル基を含む第２の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダと、
架橋用触媒と、
正孔輸送材料と、
を含み、
前記第１の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダが、
【化１】
0004633957.tif 000018
である溶液から形成することを特徴とする電子写真用画像形成部材。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、１〜１２の炭素原子を含む単位より各々選ばれるアルキレン単位であり、ｎは重量平均分子量が５０００〜１０万となるような正の整数である。）
【請求項２】
前記第２の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダが、
【化２】
0004633957.tif 000019
である、電子写真用画像形成部材。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は各々、１〜１２の炭素原子を含む単位より選ばれるアルキレン単位であり、ｎは重量平均分子量が５０００〜１０万となるような正の整数である。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一般に、電子写真用画像形成部材、より詳細には、改良されたオーバーコート層を備えた多層形感光体構造物と、画像形成部材の製造法及び使用法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真用画像形成部材、すなわち感光体は、典型的には導電性基板上に形成した光導電層を含むものである。この光導電層は、暗所においてはその表面上に電荷を保持する程度に絶縁体であるが、露光するとこの電荷は散逸する。
【０００３】
最新型の画像形成装置の多くは、直径の小さな感光体ドラムを使用するものである。小径ドラムを使用すると感光体寿命が限られる。複写機やプリンタの感光体寿命を限定する主な要因は摩耗である。例えば、１枚のレターサイズのページの画像形成には３〜１０回転する必要があるため、小径ドラムを使用する感光体では摩耗が深刻な問題となる。１枚のレターサイズのページの複写に、小径ドラム感光体は複数回回転するため、市販用装置として望ましい目標とされる１０万回の印刷を行うには、この感光体ドラムでは１００万サイクルも回転しなければならない。
【０００４】
少量用複写機やプリンタでは、画像形成サイクルでのオゾンの発生が少ない、あるいは無いことから、バイアス荷電ロール（ＢＣＲ）が望ましい。しかし、荷電の際にＢＣＲより生じるマイクロコロナは感光体を傷つけ、画像形成面、例えば電荷輸送層の露光面を早期に摩耗させてしまう。例えば、摩耗速度は１０万画像形成サイクル当たり約１６μｍにも達することがある。同様な問題はバイアス転写ロール（ＢＴＲ）装置にも起こる。感光体ドラムの寿命を長くする一つの方法は、画像形成面、例えば感光体の電荷輸送層の上に保護用オーバーコートを形成することである。このオーバーコート層は、正孔を輸送する、画像を消失させない、耐摩耗性、被覆の際に下塗り層を擾乱しないなど、多くの要求を満たすものでなければならない。
【０００５】
先行技術においては、アルコールに可溶なポリアミド類を用いる様々なオーバーコートが提案されている。最近のものは、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（別名：Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン。なお、以下「−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン」を「ベンジジン」という。）を含む、アルコールに可溶な、メトキシメチル基を持たないポリアミド（エルバミド（Ｅｌｖａｍｉｄｅ））から成るオーバーコートである。このオーバーコートについては、その内容を全て本願に引用して援用する、米国特許第５，３６８，９６７号に述べられている。このオーバーコートは、荷電にコロトロンを用いる装置では摩耗速度が非常に小さいが、ＢＣＲを用いる装置では摩耗速度が大きくなる。架橋ポリアミドオーバーコートは、この欠点を克服する。このオーバーコートは、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジンを含む、架橋ポリアミド（例えば、ラックアミド（Ｌｕｃｋａｍｉｄｅ））から成る。ポリアミドポリマーを架橋するため、メトキシメチル基を持つラックアミドをシュウ酸などの触媒と共に用いる。この強靱なオーバーコートについては、その内容を全て本件に引用して援用する、米国特許第５，７０２，８５４号に述べられている。このオーバーコートを用いれば、バイアス荷電ロール（ＢＣＲ）やバイアス転写ロール（ＢＴＲ）を用いる装置での摩耗速度を非常に小さくすることができる。
【０００６】
シュウ酸及びトリオキサンを用いて、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン（ＤＨＴＢＤ）を含んだ、架橋ポリアミド（例えば、ラックアミド）［ラックアミド−ＤＨＴＢＤ］を含む、耐久性のある感光体オーバーコートを調製すると、感光体寿命が３〜４倍以上向上する。バイアス荷電ロール（ＢＣＲ）への耐摩耗性をこのように向上させるには、加熱処理（例えば、１１０〜１２０℃で３０分間）によるラックアミドの架橋が必要である。しかし、このような乾燥条件では、ある種のポリカーボネート類（例えば、Ｚ形３００）と電荷輸送材料（例えば、Ｎ，Ｎ−ビス（３，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（４−ビフェニル）アミンや、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）ベンジジン）とを含む、ある種の感光体電荷輸送層への、このオーバーコートの接着性が著しく減少する。一方、約１１０℃以下の乾燥条件では、オーバーコートの電荷輸送層への接着性は良いが、オーバーコートの摩耗速度が大きくなる。このように、オーバーコートの接着性と摩耗速度との両方の目的をかなえるための乾燥条件範囲は非常に狭いものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、より優れた電子写真用画像形成部材と、その製造法を提供することである。
【０００８】
また本発明の目的は、輸送層への接着性のより優れた画像形成部材を提供することである。
【０００９】
更に本発明の目的は、乾燥／硬化工程における条件範囲がより広く、輸送層への接着性の優れた画像形成部材を提供することである。
【００１０】
また更に本発明の目的は、耐摩耗性である強靱なオーバーコートで上塗りした画像形成部材を提供することである。
【００１１】
更に本発明の目的は、摩耗速度が小さく、摩耗寿命のより長い画像形成部材を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
これらの目的は、本発明に従い、基板と、電荷発生層と、電荷輸送層と、オーバーコート層とを含む電子写真用画像形成部材を製造することにより達成できる。このときオーバーコート層は、メトキシメチル基を含まない第１の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダと、必要に応じて、メトキシメチル基を含む第２の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダと、架橋用触媒と、正孔輸送分子と、を含む溶液から形成する。
【００１３】
この電子写真用画像形成部材は、アルコールと混和する非アルコール性溶媒と、正孔輸送材料と、アルコールと、メトキシメチル基を含まない第１の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダと、必要に応じて、メトキシメチル基を含む第２の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダとを含む被覆用溶液を調製する工程と、電荷発生層と、電荷輸送層とを含む感光体上に、被覆用溶液を用いて被覆を形成する工程と、被覆を乾燥して、第１の架橋可能なポリアミドと必要に応じて第２の架橋可能なポリアミドとを架橋させ、オーバーコート層とする工程とにより製造される。
【００１４】
【発明の実施の形態】
電子写真用画像形成部材は、当該技術において周知であり、適当であればどのような手法でも製造できる。典型的には、導電性表面を持つ可撓性又は堅牢な基板を製造し、次にこの導電性表面に電荷発生層を塗布する。必要に応じて、電荷発生層を塗布する前に、導電性表面に電荷障壁層を塗布しても良い。所望ならば、電荷障壁層と電荷発生層との間に接着層を用いても良い。通常、障壁層上に電荷発生層を塗布し、電荷発生層上に電荷輸送層を形成する。この構造体は、電荷輸送層の上又は下に電荷発生層を備えても良い。
【００１５】
基板は不透明でもほぼ透明でも良く、必要な機械的特性を備えた適当な素材から成る。従ってこの基板は、無機又は有機組成物などの非導電性あるいは導電性材料の層を含むものでも良い。非導電性材料としては、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ポリアミド類、ポリウレタン類等の、この目的に適う様々な樹脂を用いることができ、これらは薄いウェブとすると可撓性である。導電性基板は、例えばアルミニウム、ニッケル、鋼、銅などの金属、又は、カーボン、金属性粉末等の導電性物質を充填した前述のポリマー材料、あるいは有機導電性材料である。電気絶縁性又は導電性基板は、エンドレス可撓性ベルト、ウェブ、堅牢なシリンダ、シートなどの形状である。
【００１６】
基板層の厚さは、必要とされる強度や経済的配慮など多くの要因によって決まる。このためドラムでは、この層は相当な厚さ、例えば数センチから、最小では１ｍｍ以下とすることができる。同様に、可撓性ベルトでは、相当の厚さ、例えば約２５０μｍから、最終的な電子写真装置に悪影響がなければ５０μｍ以下の最小厚さでも良い。
【００１７】
基板層が導電性ではない実施の形態では、その表面を導電性被覆によって導電性とする。導電性被覆の厚さは、光学的透明度、所望の可撓度、経済的要因により非常に広範囲に変えることができる。可撓性の感光性画像形成装置では、導電性、可撓性、光透過性の組み合わせが最適となるのは、導電性被覆の厚さが約２０〜約７５０オングストローム、より望ましくは約１００〜約２００オングストロームのときである。可撓性の導電性被覆は、例えば基板上に真空蒸着法や電着などの適当な被覆法により形成した導電性金属層である。典型的な金属としては、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム及びハフニウム、チタン、ニッケル、ステンレススチール、クロム、タングステン、モリブデン等が挙げられる。
【００１８】
必要に応じて、基板に正孔障壁層を塗布する。隣接する光導電層と基板の下塗り導電性表面との間で、正孔に対して電子障壁となり得る、適当な従来の障壁層を用いることができる。
【００１９】
必要に応じて、正孔障壁層に接着層を塗布しても良い。当該技術で公知の適当な接着層を使用する。典型的な接着層材料は、例えば、ポリエステル類、ポリウレタン類等である。接着層の厚さは、約０．０５〜約０．３μｍ（５００〜３，０００オングストローム）ならば十分な結果が得られる。接着層被覆用混合物を電荷障壁層に塗布するための従来法には、スプレー、浸漬塗布、ロール塗布、巻き線棒塗布、グラビア塗布、バード（Ｂｉｒｄ）アプリケータ塗布などがある。塗布した被覆の乾燥は、オーブン乾燥、赤外線照射乾燥、空気乾燥などの、適当な従来法で行う。
【００２０】
接着層、障壁層、又は基板上に、１層以上の電子写真画像形成層を形成する。
電子写真画像形成層は、当該技術で公知の電荷発生能と電荷輸送能の両方を持つ単一層であっても、あるいは、電荷発生層と電荷輸送層などの複数の層から成るものであっても良い。電荷発生層は、真空蒸発又は蒸着により形成した、セレンや、セレンとヒ素、テルル、ゲルマニウム等との合金、水素化無定形ケイ素、ケイ素とゲルマニウム、炭素、酸素、窒素等との化合物の無定形塗膜から成る。電荷発生層はまた、結晶性セレンとその合金類の無機顔料；グループ短周期型II〜VI（長周期型２，１２〜１６）化合物；キナクリドン類、ジブロモアントアントロン顔料などの多環式顔料、ペリレン及びペリノンジアミン類、多核芳香族キノン類、ビス−、トリス−、テトラキス−アゾ類を含むアゾ顔料などの有機顔料、等を含み、これらを塗膜形成ポリマー性バインダに分散し、溶媒被覆法により形成したものでも良い。
【００２１】
フタロシアニン類は、赤外線露光系を使用するレーザープリンタ用の光発生材料として使用されてきた。低コストの半導体レーザーダイオード光露光装置で露光を行う感光体には赤外線感度が必要である。フタロシアニン類の吸収スペクトルと感光度は化合物の中心金属原子によって決まる。多くの金属フタロシアニン類が報告されているが、オキシバナジウムフタロシアニン、クロロアルミニウムフタロシアニン、銅フタロシアニン、オキシチタンフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン、及び金属を含まないフタロシアニンなどである。フタロシアニン類には多くの結晶形があり、光発生に大きく影響する。
【００２２】
電荷発生（光発生）バインダ層のマトリックスとしては、適当であればどのようなポリマー性塗膜形成バインダ材料も使用できる。典型的なポリマー性塗膜形成材料としては、例えば、その内容を全て本件に引用して援用する、米国特許第３，１２１，００６号に記載のものなどが挙げられる。このように、典型的な有機ポリマー性塗膜形成バインダとしては、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリウレタン類、ポリスチレン類、ポリアリールエーテル類、ポリアリールスルホン類、ポリブタジエン類、ポリスルホン類、ポリエーテルスルホン類、ポリエチレン類、ポリプロピレン類、ポリイミド類、ポリメチルペンテン類、ポリフェニレンスルフィド類、ポリ酢酸ビニル、ポリシロキサン類、ポリアクリル酸エステル類、ポリビニルアセタール類、ポリアミド類、アミノ樹脂、フェニレンオキシド樹脂、テレフタル酸樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリスチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アルキド樹脂、セルロース性塗膜形成体、ポリ（アミドイミド）、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニリデン共重合体、スチレン−アルキド樹脂、ポリビニルカルバゾール等の、熱可塑性及び熱硬化性樹脂が挙げられる。これらのポリマー類は、ブロック、ランダム、又は交互共重合体でも良い。
【００２３】
樹脂状バインダ組成物中における光発生組成物又は顔料の含有量は様々であるが、一般的には、約５〜約９０容量％の光発生顔料を約１０〜約９５容量％の樹脂状バインダに、望ましくは約２０〜約３０容量％の光発生顔料を約７０〜約８０容量％の樹脂状バインダ組成物に分散する。ある実施の形態では、約８容量％の光発生顔料を約９２容量％の樹脂状バインダ組成物に分散した。バインダを用いない場合には、光発生層を真空昇華により形成することもできる。
【００２４】
光発生層被覆用混合物を混合し、次に塗布するには、適当な従来法を用いる。典型的な塗布法は、スプレー、浸漬塗布、ロール塗布、巻き線棒塗布、真空昇華などである。発生層をドット又は線状パターンに形成する場合もある。溶媒を用いて塗布した層の溶媒の除去は、オーブン乾燥、赤外線照射乾燥、空気乾燥など、適当な従来法で行う。
【００２５】
電荷輸送層には、ポリカーボネートなどの電気的に不活性な塗膜形成ポリマーに溶解又は分子状に分散した、電荷輸送小分子が含まれる。ここでいう“溶解”とは、小分子がポリマーに溶解して均一相となっているような溶液の生成のことである。“分子状に分散”とは、電荷輸送小分子が分子スケールでポリマー中に分散することである。本発明の電荷輸送層には、適当であればどのような電荷輸送又は電気的に活性な小分子も用いることができる。ここでいう電荷輸送“小分子”とは、発生層で光発生した自由電荷を、輸送層を経由して輸送するモノマーである。典型的な電荷輸送小分子は、例えば、１−フェニル−３−（４’−ジエチルアミノスチリル）−５−（４”−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリンなどのピラゾリン類、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）ベンジジンなどのジアミン類、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−９−エチルカルバゾール−３−イルヒドラゾン及び４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン類、２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾールなどのオキサジアゾール類、スチルベン類、等である。しかし、高スループット装置でのサイクルアップを防ぐため、電荷輸送層は、トリフェニルメタンを実質的に含まない（約２％以下）ものでなければならない。上記のように、電気的に活性な適当な小分子電荷輸送化合物を、電気的に不活性なポリマー性塗膜形成材料中に溶解又は分子状に分散する。顔料からの正孔を高い効率で電荷輸送層へ流入させ、これを非常に短い走行時間で電荷輸送層を通過させる小分子電荷輸送化合物は、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）ベンジジンである。所望ならば、電荷輸送層中の電荷輸送材料は、ポリマー性電荷輸送材料、又は小分子電荷輸送材料とポリマー性電荷輸送材料との組み合わせを含むものである。
【００２６】
本発明の電荷輸送層では、オーバーコート層の塗布に使用するアルコール溶媒に不溶な、適当な電気的不活性樹脂バインダを用いる。典型的な不活性樹脂バインダとしては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル、ポリアリーレート、ポリアクリル酸エステル、ポリエーテル、ポリスルホン、等が挙げられる。分子量は、例えば、約２万〜約１５万と変えることができる。望ましいバインダは、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニレン）カーボネート（別名：ビスフェノールＡ−ポリカーボネート）、ポリ（４，４’−シクロヘキシリデンジフェニレン）カーボネート（別名：ビスフェノールＺ−ポリカーボネート）、ポリ（４，４’−イソプロピリデン−３，３’−ジメチルジフェニル）カーボネート（別名：ビスフェノールＣ−ポリカーボネート）、等のポリカーボネート類である。適当な電荷輸送ポリマーも本発明の電荷輸送層に用いることができる。電荷輸送ポリマーは本発明のオーバーコート層の塗布に使用するアルコール溶媒に不溶でなければならない。これらの電気的に活性な電荷輸送ポリマー性材料は、電荷発生材料から流入する光発生正孔を保持し、これらの正孔を通過させてしまわないものでなければならない。
【００２７】
適当な従来法を用いて、電荷輸送層被覆用混合物を混合し、次にこれを電荷発生層に塗布する。典型的な塗布法は、スプレー、浸漬塗布、ロール塗布、巻き線棒塗布などである。塗布した被覆の乾燥は、オーブン乾燥、赤外線照射乾燥、空気乾燥など、適当な従来法で行う。
【００２８】
一般に、電荷輸送層の厚さは約１０〜約５０μｍであるが、この範囲を越える厚さでも良い。正孔輸送層は、正孔輸送層上に置かれた静電電荷を、照射のない状態で、静電潜像をその上に形成及び保持できないほどの速度で伝導しない程度に絶縁性でなければならない。一般に、正孔輸送層の電荷発生層に対する厚さの比は、約２：１〜約２００：１に保たれることが望ましいが、場合によっては４００：１程にもなる。電荷輸送層は、可視光又は使用される範囲の照射には実質的に吸収を持たないが、電気的には“活性”であり、光導電層、すなわち電荷発生層から光発生正孔を流入させ、これらの正孔を通過させ、活性層表面の表面電荷を選択的に放電するものである。
【００２９】
本発明のオーバーコート層の形成に使用する溶液は、正孔輸送材料と、アルコールと、メトキシメチル基を含まない第１の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダと、必要に応じて、メトキシメチル基を含む第２の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダとを含むものである。
【００３０】
メトキシメチル基を含まない第１の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダは、正孔輸送材料を溶解するアルコール溶媒にも可溶でなければならない。望ましくは、正孔輸送材料は、複数のヒドロキシ官能基を持つ小分子アミンである。本発明の第１の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダの特徴は、アミド基（−ＣＯＮＨ）の存在である。アミド基（−ＣＯＮＨ）を含む典型的なポリアミド類は、次の構造式Ａ及び構造式Ｂで示されるものである。
構造式Ａ
【化１】
0004633957.tif 000002
式中、ｎは重量平均分子量が約５０００〜約１０万となるような正の整数であり、Ｒは１〜１２の炭素原子を含むアルキレン単位である。
構造式Ｂ
【化２】
0004633957.tif 000003
式中、ｍは重量平均分子量が約５０００〜約１０万となるような正の整数であり、Ｒ1及びＲは各々、１〜１２の炭素原子を含むアルキレン単位から成るグループより選ばれる。
【００３１】
構造式ＡにおけるＲでは、炭素数６以下のアルキレン単位の数が、アルキレン単位の総数の約４０％のとき、最適の結果が得られる。構造式ＢのＲ及びＲ1では、炭素数６以下のアルキレン単位の数が、アルキレン単位総数の約４０％のとき、最適の結果が得られる。望ましくは、構造式Ａのポリアミドのアルキレン単位Ｒは、（ＣＨ2）4及び（ＣＨ2）6から成るグループより選ばれ、構造式Ｂのポリアミドのアルキレン単位Ｒ1及びＲは各々、（ＣＨ2）4及び（ＣＨ2）6から成るグループより選ばれ、また（ＣＨ2）4及び（ＣＨ2）6の割合は、構造式Ａ又は構造式Ｂのポリアミド中のアルキレン単位総数の、約４０〜約６０％である。これらの第１の架橋可能なポリアミド類は、架橋前に乾燥すると固体の塗膜となるものでなければならない。第１の架橋可能ポリアミドはまた、可橋前には、使用するアルコール溶媒に可溶でなければならない。典型的な第１の架橋可能ポリアミド塗膜形成バインダとしては、アルコールに可溶なエルバミドやエルバミド  ＴＨ樹脂などの、ナイロン複合ポリマー樹脂である様々なエルバミド樹脂が挙げられる。エルバミド樹脂は、Ｅ．Ｉ．デュポン・ド・ヌムール社（Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ）より入手可能である。他のポリアミド類の例としては、エルバミド  ８０６１、エルバミド  ８０６４、エルバミド  ８０２３が挙げられる。ここでいう“メトキシメチル基を含まない”とは、ポリマー主鎖のアミド基の窒素原子に結合したメトキシメチル基を含まないポリアミド類のことである。望ましい第１の架橋可能ポリアミドポリマーは次の構造式で示される。
【化３】
0004633957.tif 000004
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、１〜１２の炭素原子を含む単位より各々選ばれるアルキレン単位であり、ｎは重量平均分子量が約５０００〜約１０万となるような正の整数である。
上記式中におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3では、炭素数６以下のアルキレン単位の数がアルキレン単位総数の約４０％であるとき、最適の結果が得られる。
【００３２】
必要に応じて本発明のオーバーコートに使用する、第２の架橋可能なポリアミド塗膜形成バインダは、架橋前にポリマー主鎖のアミド基の窒素原子に結合したメトキシメチル基を持ち、電気絶縁性の塗膜を形成する、アルコールに可溶な架橋可能ポリアミドポリマーである。架橋前にポリマー主鎖のアミド基の窒素原子に結合したメトキシメチル基を持つ、アルコールに可溶な望ましい第２のポリアミドポリマーは、次の構造式Ｉ及び構造式IIで示される材料から成るグループより選ばれる。
構造式Ｉ
【化４】
0004633957.tif 000005
式中、ｎは重量平均分子量が約５０００〜約１０万となるような正の整数であり、Ｒは１〜１２の炭素原子を含むアルキレン単位であり、Ｒ2位の１〜９９％は−Ｈであり、残りのＲ2位は−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ3である。
構造式II
【化５】
0004633957.tif 000006
式中、ｍは重量平均分子量が約５０００〜約１０万となるような正の整数であり、Ｒ1及びＲは各々、１〜１２の炭素原子を含むアルキレン単位から成るグループより選ばれ、Ｒ3及びＲ4位の１〜９９％は−Ｈであり、残りのＲ3及びＲ4位は−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ3である。
【００３３】
構造式ＩにおけるＲでは、炭素数６以下のアルキレン単位の数が、アルキレン単位総数の約４０％のとき、最適の結果が得られる。構造式IIのＲ及びＲ1では、炭素数６以下のアルキレン単位の数が、アルキレン単位総数の約４０％のとき、最適の結果が得られる。望ましくは、構造式Ｉのポリアミドのアルキレン単位Ｒは、（ＣＨ2）4及び（ＣＨ2）6から成るグループより選ばれ、構造式IIのポリアミドのアルキレン単位Ｒ1及びＲは各々、（ＣＨ2）4及び（ＣＨ2）6から成るグループより選ばれ、また（ＣＨ2）4及び（ＣＨ2）6の割合は、構造式Ｉ又は構造式IIのポリアミド中のアルキレン単位総数の、約４０〜約６０％である。ポリアミドポリマーの繰り返し単位総数の約１〜約５０モル％は、アミド基の窒素原子に結合したメトキシメチル基を含んでいなければならない。これらのポリアミド類は、架橋前に乾燥すると固体の塗膜となるものでなければならない。このポリアミドはまた、可橋前には、使用するアルコール溶媒に可溶でなければならない。
【００３４】
望ましい第２の架橋可能なポリアミドポリマーは、次の構造式で示される。
【化６】
0004633957.tif 000007
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は各々、１〜１２の炭素原子を含む単位より選ばれるアルキレン単位であり、ｎは重量平均分子量が約５０００〜約１０万となるような正の整数である。
上記式中におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3では、炭素数６以下のアルキレン単位の数がアルキレン単位総数の約４０％であるとき、最適の結果が得られる。
【００３５】
第１及び第２のポリアミドポリマーが可溶な典型的なアルコールは、例えば、ブタノール、エタノール、メタノール等、及びそれらの混合物である。架橋前にポリマー主鎖のアミド基の窒素原子に結合したメトキシメチル基を持つ、アルコールに可溶な典型的なポリアミドポリマーは、例えば、大日本インキ製のラックアミド  ５００３、メトキシメチル側鎖の付いたナイロン８、東レ製のＣＭ４０００、東レ製のＣＭ８０００、また、ソレンソン及びキャンベル著、“Ｐｒｅｐａｒａｔｉｖｅ  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”、第２版、７６ページ、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ社、１９６８に記載の方法で調製したＮ−メトキシメチル化ポリアミド類、等、及びそれらの混合物などの、正孔絶縁性でアルコールに可溶なポリアミド塗膜形成ポリマーである。これらのポリアミド類は、例えば、ポリマー主鎖に付いたメトキシ、エトキシ、ヒドロキシ基などの極性官能基によって、アルコールに可溶である。デュポン・ド・ヌムール社製のエルバミド類などのポリアミドは、ポリマー主鎖のアミド基の窒素原子に結合したメトキシメチル基を含まないことに注意されたい。ポリマー主鎖のアミド基の窒素原子に結合したメトキシメチル基を含まないこれらのポリアミド類は、本発明のオーバーコートの“第１ポリアミド”として用いられる。本発明のオーバーコート層は、ポリアミドの乾燥及び架橋後のポリアミドバインダの総重量を基に、望ましくは約５〜約１００重量％の第１ポリアミド塗膜形成バインダと、約９５重量％までの第２ポリアミド塗膜形成バインダを含むものである。本発明のオーバーコート層は、ポリアミドの乾燥及び架橋後のオーバーコート層の総重量に対し、第１及び第２ポリアミドを合計で約３０〜約７０重量％含むことが望ましい。
【００３６】
架橋は、触媒存在下で加熱することにより行う。適当であればどのような触媒も使用できる。典型的な触媒としては、例えば、シュウ酸、マレイン酸、カルボリリックアシッド（ｃａｒｂｏｌｌｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）、アスコルビン酸、マロン酸、コハク酸、酒石酸、クエン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、等、及びそれらの混合物が挙げられる。
【００３７】
本発明のオーバーコートに用いる被覆用組成物にはまた、架橋促進剤を加えても良い。望ましい架橋促進剤は、次の構造式で示されるトリオキサンである。
【化７】
0004633957.tif 000008
【００３８】
トリオキサンは、ラックアミドでオーバーコートを生成する場合に、シュウ酸などの酸との反応により、ホルムアルデヒド源として作用する。ラックアミドは、メトキシメチル基と一部アミド基を持つ、ナイロン６ポリマーである。ナイロン６上のアミド基と、トリオキサンから生じたホルムアルデヒドとが反応して、他のナイロン６ポリマー鎖上のアミド基との架橋サイトを形成すると考えられる。同様に、エルバミドポリマー上のアミド基も、トリオキサンから生じたホルムアルデヒドと反応して、他のエルバミドポリマー鎖上のアミド基との架橋サイトを形成すると考えられる。トリオキサンを用いずにエルバミドを、あるいはエルバミドとラックアミドとを架橋する場合に比べ、架橋がより早く制御し易いことから、トリオキサンは、エルバミドの、あるいはエルバミドとラックアミドとの被覆のＢＣＲ耐摩耗性を向上させる。トリオキサンと共に又はトリオキサンの代わりに、他の架橋剤も使用できる。例えば、サイメル（Ｃｙｍｅｌ）  ３０３（アメリカン・サイアナミッド（Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｙａｎａｍｉｄ）製）である。サイメル  ３０３は、［（ＣＨ3ＯＣＨ2）6Ｎ3Ｃ3Ｎ3］又は次の構造式で示されるメトキシメチル化メラミン化合物である。
【化８】
0004633957.tif 000009
サイメル  ３０３は、メトキシメチル基からメタノールを置換することによりナイロン６のアミド基を架橋すると考えられる。
【００３９】
架橋を行う温度は、使用する特定の触媒、加熱時間や、所望の架橋度によって変わる。一般に架橋度は、最終的な感光体の希望する可撓性によって決まる。例えば、堅牢なドラム又は板状の感光体には、完全に架橋したものを用いるが、例えばウェブ又はベルトの形状をした可撓性感光体では、部分的に架橋したものが望ましい。架橋度は、使用する触媒の相対量によって制御可能である。所望の架橋度とするために必要な触媒量は、特定のポリアミド、触媒、反応温度及び時間によって変わる。望ましくは、第１及び第２ポリアミドの架橋は、約１００〜約１５０℃の温度で行う。触媒としてシュウ酸を用いる場合、第１及び第２ポリアミドの典型的な架橋温度は、約１２５℃で３０分間である。シュウ酸の典型的な濃度は、ポリアミド類の総重量（すなわち、被覆中に存在する第１ポリアミドと第２ポリアミドの重量の和）の約５〜約１０重量％である。トリオキサンの典型的な濃度は、ポリアミド類の総重量の約５〜約１０重量％である。架橋の後、このオーバーコートは架橋前には可溶であった溶媒に対して実質的に不溶でなければならない。このため、オーバーコート材料は、溶媒で湿した布でこすっても剥がれることはない。架橋によって、刺し網にかかった魚のようにヒドロキシ官能化輸送分子を捕らえた３次元網目構造体ができる。理論的に限定しようとするものではないが、先行技術によるメトキシメチル基を含む架橋ポリアミドオーバーコートに比べ、本発明での接着性が向上したのは、本発明のオーバーコートでは、第１ポリアミドが部分的に架橋し、メトキシメチル基を含む第２ポリアミドがほぼ完全に架橋しているためと考えられる。更に、エルバミドとラックアミドを組み合わせて架橋すると、その中に生じる歪みが小さく、このためラックアミドとエルバミドの割合が最適のときに摩耗速度が最も小さくなったと考えられる。ここでいう“部分的に架橋した”とは通常、使用可能な架橋サイトのごく一部が架橋することである。エルバミドの部分的な架橋は、本件に述べる架橋条件で起こる。例えば、輸送層のみのバイアス荷電ロール（ＢＣＲ）摩耗速度は、７０〜８０ｎｍ／Ｋｃ、架橋ラックアミド（第１ポリアミドを含まない第２ポリアミド）を含む、完全に架橋した塗膜のＢＣＲ摩耗速度は、１５〜２０ｎｍ／Ｋｃであり、部分的に架橋したエルバミド（第２ポリアミドを含まない第１ポリアミド）を含む、架橋塗膜のＢＣＲ摩耗速度は、約３５ｎｍ／Ｋｃである。また、オーバーコート塗膜形成バインダを完全に架橋すると、接着性が悪くなると考えられる。驚くべきことに、本発明のオーバーコートでは摩耗特性を損なうことなく接着性が向上することが分かった。
【００４０】
塗膜形成ポリアミドには、適当であればどのようなアルコール溶媒も使用できる。典型的なアルコール溶媒は、例えば、ブタノール、プロパノール、メタノール等、及びそれらの混合物である。
【００４１】
本発明のオーバーコート層には、適当であればどのような正孔輸送材料も使用できる。望ましい正孔輸送材料は、アルコールに可溶な、２つ以上のヒドロキシ官能基を持つポリヒドロキシジアリールアミン小分子電荷輸送材料である。特に望ましい小分子正孔輸送材料は、次の構造式で示される、−ＯＨ基とそれに最も近い窒素原子との間の、１つ以上の芳香環を経た直接共役を含まない、ジヒドロキシアリールアミン化合物である。
【化９】
0004633957.tif 000010
式中、ｍは０又は１であり、Ｚは次の構造式で示されるものから成るグループより選ばれる。
【化１０】
0004633957.tif 000011
ｎは０又は１であり、Ａｒは次の構造式で示されるものから成るグループより選ばれる。
【化１１】
0004633957.tif 000012
Ｒは、−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5、−Ｃ3Ｈ7，−Ｃ4Ｈ9から成るグループより選ばれる。
Ａｒ’は次の構造式で示されるものから成るグループより選ばれる。
【化１２】
0004633957.tif 000013
Ｘは次の構造式で示されるものから成るグループより選ばれる。
【化１３】
0004633957.tif 000014
ｓは０、１、又は２である。
“直接共役”とは、−ＯＨ基とそれに最も近い窒素原子との間で直接、１つ以上の芳香環中に、次の式で示されるセグメントが存在することである。
【化１４】
0004633957.tif 000015
１つ以上の芳香環を経由した−ＯＨ基とそれに最も近い窒素原子との間の直接共役の例としては、フェニレン基に結合した窒素原子に対してオルト又はパラ位（２又は４位）に−ＯＨ基を持つ、フェニレン基を含む化合物、あるいは、関連するフェニレン基に結合した窒素原子に対して末端フェニレン基上のオルト又はパラ位に−ＯＨ基を持つ、ポリフェニレン基を含む化合物である。
【００４２】
本発明のオーバーコートに用いられる、典型的なポリヒドロキシアリールアミン化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン、Ｎ，Ｎ−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−ｍ−トルイジン、１，１−ビス［４−（ジ−Ｎ，Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニル）アミノフェニル］シクロヘキサン（別名：１，１−ビス［４−ビス（３−ヒドロキシフェニル）アミノフェニル］シクロヘキサン）、１，１−ビス［４−（Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニル）−４−（Ｎ−フェニル）アミノフェニル］シクロヘキサン、ビス［Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−フェニル−４−アミノフェニル］メタン、イソプロピリデンビス［（Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−フェニル）−４−アミノフェニル］、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−［１，１’：４’，１”−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、９−エチル−３，６−ビス［Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）アミノ］カルバゾール、２，７−ビス［Ｎ，Ｎ−ビス（３−ヒドロキシフェニル）アミノ］フルオレン、１，６−ビス［Ｎ，Ｎ−ビス（３−ヒドロキシフェニル）アミノ］ピレン、１，４−ビス［Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）］フェニレンジアミン（別名：Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン）、が挙げられる。
【００４３】
必要に応じて、本オーバーコートに消失（deletion）調整剤を加えても良い。
消失は、感光体表面の伝導性を増大させる、コロトロン又はバイアス荷電ロール（ＢＣＲ）流の酸化効果によって生じることがある。消失調整剤はこの伝導性の変動を小さくする。有効な消失調整剤の種類としては、ビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタンなどの、置換基を含む窒素を持ったトリフェニルメタン類が挙げられる。他の消失調整剤としては、例えば、ブチル化ヒドロキシトルエンなどの、立体障害を持つフェノール類が挙げられる。アルコールに可溶な消失調整剤は、被覆用溶液に直接加えることができる。アルコールに不溶な消失調整剤は、初めにテトラヒドロフラン、モノクロロベンゼン等、又はそれらの混合物などの非アルコール溶媒に溶解した後、オーバーコート溶液に加えることができる。
【００４４】
本発明のオーバーコート用溶液に用いる成分は全て、オーバーコートに用いるアルコール及び非アルコール性溶媒（例えば、ビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタンを溶解するための非アルコール性溶媒）の混合物に可溶でなければならない。オーバーコート用混合物の成分が一つでも使用溶媒に不溶であると、相分離が起き、オーバーコートの透明度や最終的な感光体の電気的性能に悪影響を及ぼすおそれがある。一般に、本発明のオーバーコート用溶液中における成分の総固体に対する割合は、ヒドロキシアリールアミン化合物が３５．９〜４４．６％；ビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタンが２．８〜５．４％；ホルムアルデヒド源が２．５〜４．９％；第１ポリアミドが１５〜１６．２％；第２ポリアミドが３５〜３７．７％である。本発明のオーバーコート用溶液中の総固体濃度は、１５．２〜１７．８重量％である。しかし、使用する特定の第１ポリアミド、第２ポリアミド、ホルムアルデヒド源、アルコール、ビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタン（ビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタンは非アルコール性溶媒である）に応じて、その量は変えることができる。望ましい混合溶媒は、オーバーコート被覆用溶液中の溶媒総重量を基にして、約８５〜約９９重量％のアルコールと、約１〜約１５重量％のビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタン非アルコール性溶媒とを含むものである。典型的な組成物は、０．７ｇのラックアミドと、０．３ｇのエルバミドと、０．９ｇのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン［ＤＨＴＢＤ］と、０．１ｇのビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタンと、５．４３ｇのメタノールと、５．４３ｇの１−プロパノールと、０．４ｇのテトラヒドロフランと、０．０８ｇのシュウ酸と、０．０７５ｇのトリオキサンとを含むものである。
【００４５】
ビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタンと、ポリアミドと、ポリヒドロキシジアリールアミン小分子とを含む被覆用溶液の調製には、様々な手法が用いられる。例えば、望ましい手法は、初めに、テトラヒドロフランなどの、アルコールと混和する適当な非アルコール性溶媒にビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタンを溶解し、次にこれをアルコールに溶解したポリヒドロキシジアリールアミン（例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン）とポリアミドとの溶液に混合する。あるいは、溶媒総重量の約５〜約２０重量％の、クロロベンゼンなどの、アルコールと混和する非アルコール性溶媒（共溶媒）を、アルコールに溶解した、ポリヒドロキシジアリールアミン（例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン）と、ポリアミドとに混合し、次に暖めながらビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタンを被覆用溶液に溶解する。これらの方法を用いて良好な塗膜が被覆できる。これらの組成物の消失試験の結果、１０重量％のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン［ＤＨＴＢＤ］と同じ濃度で、ビス［２−メチル−４−（Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミノフェニル）］フェニルメタンと同程度に良好な性能を持つことが分かった。Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジンは、次の構造式で示される。
【化１５】
0004633957.tif 000016
ビス［２−メチル−４−（Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミノフェニル）］フェニルメタン［ＤＨＴＰＭ］は、次の構造式で示される。
【化１６】
0004633957.tif 000017
【００４６】
連続的なオーバーコート層の厚さは、装置に使用される荷電（例えば、バイアス荷電ロール）、クリーニング（例えば、ブレード又はウェブ）、現像（例えば、ブラシ）、転写（例えば、バイアス転写ロール）などによる摩損性によって変わり、その範囲は約１０μｍまでとすることができるが、約１〜約５μｍの厚さが望ましい。オーバーコート層被覆用混合物を混合し、次にこれを電荷輸送層へ塗布するには、適当な従来法を用いる。典型的な塗布法は、スプレー、浸漬塗布、ロール塗布、巻き線棒塗布などである。塗布した被覆の乾燥は、オーブン乾燥、赤外線照射乾燥、空気乾燥など適当な従来法で行う。本発明の乾燥オーバーコートは、画像形成の間は正孔を輸送するものでなければならず、また余り高い自由キャリア濃度であってはならない。オーバーコート中の自由キャリア濃度は暗減衰を増大させる。望ましくは、オーバーコートした層の暗減衰は、オーバーコートしていない装置のそれと同程度でなければならない。
【００４７】
以下にいくつかの例を示し、本発明の実施に用いることのできる様々な組成及び条件を述べる。特に記載のない限り、全て重量比である。先に開示したものや後に示すもののように、本発明は様々な種類の組成物で実施可能であり、また多くの異なる使用法が可能であることは明らかである。
【００４８】
【実施例】
実施例１．
８個の、直径３ｃｍ、長さ３１ｃｍのアルミニウム製ドラムの粗面上に、浸漬塗布により電荷障壁層を塗布して、電子写真用画像形成部材を調製した。障壁層被覆用混合物は、８重量％のポリアミド（ナイロン６）を９２重量％のブタノール／メタノール／水混合溶媒に溶解した溶液である。このブタノール／メタノール／水混合物の重量比は、５５：３６：９である。被覆浴から引き上げ速度３００ｍｍ／分で引き上げて被覆を塗布した。強制換気オーブンで乾燥後の各障壁層の厚さは、１．５μｍであった。この乾燥障壁層を、２．５重量％のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料粒子と、２．５重量％のポリビニルブチラール塗膜形成ポリマーと、９５重量％のシクロヘキサノン溶媒とを含む電荷発生層で被覆した。この被覆は、被覆浴から引き上げ速度３００ｍｍ／分で引き上げて塗布した。強制換気オーブンで乾燥後の各電荷発生層の厚さは、０．２μｍであった。次にこのドラムに、ポリカーボネートバインダ（三菱化学（株）製、ＰＣＺ  ３００）に分散した、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）ベンジジンを含む電荷輸送層を被覆した。電荷輸送被覆用混合物は、８重量％のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）ベンジジンと、１２重量％のバインダと、８０重量％のモノクロロベンゼン溶媒とから成るものであった。この被覆は、ツキアゲ（Ｔｓｕｋｉａｇｅ）浸漬塗布装置で塗布した。強制換気オーブン中、１１８℃で４５分間乾燥後の各輸送層の厚さは２０μｍであった。
【００４９】
実施例２．
実施例１のドラムを、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン（ヒドロキシ官能化芳香族ジアミン）と、ポリメトキシメチル化ナイロン６（大日本インキ製、ラックアミド  ５００３）と、エルバミド（Ｅ．Ｉ．デュポン・ド・ヌムール社製）とを含む、本発明のオーバーコートで上塗りした。テフロン（登録商標）製シールキャップの付いた１２０ｍｌの褐色瓶中で、４．０ｇのラックアミド  ５００３と、１．０ｇのエルバミドとを、４３．７５ｇのメタノール／プロパノール（重量比５０：５０）溶媒に溶解したものと、５．０ｇのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジンとを６０℃に加熱し、溶液となるまでマグネチックスターラーで攪拌した。次に、１ｇのビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタン［ＢＤＥＴＰＭ］を４ｇのテトラヒドロフランに溶解した溶液を２．５ｇと、０．４ｇのシュウ酸と、０．３８ｇのサイメル  ３０３とを加えて、使用するまで数時間置いた。引っ張り速度１５０ｍｍ／分の浸漬塗布装置で、厚さ４．０μｍのオーバーコートを塗布した。上塗りしたドラムを、１２０℃で３０〜３５分間乾燥した。この感光体を、ゼロックス  ３３２１装置で連続４０００回印刷を行う印刷試験に共したところ、画像鮮鋭度は低下せず、オーバーコートに起因するバックグラウンドの問題や他の欠陥も認められなかった。
【００５０】
実施例３．
実施例１のオーバーコートしていないドラムと、実施例２のオーバーコートしたドラムを、荷電用のバイアス荷電ロールを含む摩耗装置で試験した。摩耗は、ｎｍ／キロサイクル回転（ｎｍ／Ｋｃ）で計算した。校正標準の再現精度は、約±２ｎｍ／Ｋｃであった。実施例１のオーバーコートのないドラムの摩耗は、８０ｎｍ／Ｋｃ以上であった。実施例２の、本発明のオーバーコートしたドラムの摩耗は、およそ１０〜１５ｎｍ／Ｋｃであった。このように、バイアス荷電ロールでのサイクル条件において、本発明の感光体の耐摩耗性は著しく向上した。
【００５１】
比較例１．
実施例１のオーバーコートしていないドラムを、先行技術に述べられているオーバーコート層材料（その内容を全て本件に引用して援用する、１９９８年１２月２２日、レンファーらの名で登録された、米国特許出願第０９／２１８，９２８号（代理人整理番号Ｄ／９８７１３）、“ＩＭＰＲＯＶＥＤ  ＳＴＡＢＩＬＩＺＥＤ  ＯＶＥＲＣＯＡＴ  ＣＯＭＰＯＳＩＴＩＯＮＳ”の、実施例３の架橋オーバーコート）で上塗りした。このオーバーコート層は、メトキシメチル基を含むポリアミド（大日本インキ製、ラックアミド  ５００３）の、メタノール／ｎ−プロパノール（重量比９０：１０）溶媒中１０重量％溶液を１ｇと、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン（ヒドロキシ官能化芳香族ジアミン）［ＤＨＴＢＤ］を１．０ｇと、０．４ｇのテトラヒドロフランに溶解した、０．１ｇのビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタン［ＢＤＥＴＰＭ］の溶液０．５ｇとを、２時間ロールミルにかけて混合し、調製した。オーバーコート層混合物を塗布する直前に、０．０８ｇのシュウ酸を加え、得られた混合物を短時間ロールミルにかけて完全に溶解させた。浸漬塗布装置を用いてこの被覆用溶液を感光体に塗布し、オーバーコート層とした。このオーバーコート層をフード中で１５分間空気乾燥し、次にこの空気乾燥した塗膜を強制換気オーブン中１２０℃で３０分間乾燥した。乾燥後のオーバーコート層の厚さは６μｍであった。
【００５２】
実施例４．
実施例２及び比較例１のオーバーコートしたドラムの、オーバーコート層と電荷輸送層との接着性を試験した。インストルメンターズ社（Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｏｒｓ  Ｉｎｃ．）製の装置、３Ｍ９０型ステップピールテスタを用いて、接着性をｇ／ｃｍの単位で測定した。比較例１のドラムの、オーバーコート層と電荷輸送層との接着性は、９〜１３ｇ／ｃｍであった。接着性の値がこのように低いと、実施例３のような摩耗工程において電荷輸送層からオーバーコート層が部分的に剥がれてしまう。本発明の実施例２におけるドラムのオーバーコート層と電荷輸送層との接着性は、２５〜５０ｇ／ｃｍであった。この接着性値であれば実施例３のような摩耗工程においても輸送層からオーバーコート層が剥がれることはない。このように、本発明の感光体では、輸送層への接着性が著しく向上した。
【００５３】
実施例５．
実施例１の７個のドラムを、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジン（ヒドロキシ官能化芳香族ジアミン）と、ポリメトキシメチル化ナイロン６（大日本インキ製、ラックアミド  ５００３）と、エルバミド（Ｅ．Ｉ．デュポン・ド・ヌムール社製）とを含む、本発明のオーバーコート層で上塗りした。この一連のオーバーコートドラムにおいて、ラックアミド／エルバミドの相対重量比を、９０／１０、８０／２０、７５／２５、７０／３０、５０／５０、２５／７５、０／１００と広範囲に変えた。オーバーコートは、実施例２の方法で形成した。テフロン（登録商標）製シールキャップの付いた１２０ｍｌの褐色瓶中で、Ｘｇのラックアミド  ５００３と、Ｙｇのエルバミドとを（Ｘ＋Ｙ＝５ｇ）、４３．７５ｇのメタノール／プロパノール（重量比５０：５０）溶媒に溶解したものと、５．０ｇのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）ベンジジンとを６０℃に加熱し、溶液となるまでマグネチックスターラーで攪拌した。次に、１ｇのビス（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）フェニルメタン［ＢＤＥＴＰＭ］を４ｇのテトラヒドロフランに溶解した溶液を２．５ｇと、０．４ｇのシュウ酸と、０．３８ｇのサイメル  ３０３とを加えて、使用するまで数時間置いた。引っ張り速度１５０ｍｍ／分の浸漬塗布装置で、オーバーコートを塗布した。上塗りしたドラムを、１２０℃で３０〜３５分間乾燥し、厚さ４．０μｍのオーバーコートとした。この感光体を、ゼロックス  ３３２１装置で連続４０００回印刷を行う印刷試験に共したところ、画像鮮鋭度は低下せず、オーバーコートに起因するバックグラウンドの問題や他の欠陥も認められなかった。実施例４の方法で試験した接着性は、配合中のエルバミドの増加と共に指数関数的に増大した。実施例３の方法で試験した混合物の摩耗は、ラックアミド中のエルバミドが５０重量％以下の配合ならば悪影響はなかった。
【００５４】
詳細な望ましい実施の形態を参照として本発明を述べたが、これらに限定しようとするものではなく、通常の当業者ならば本発明の意図及び請求の範囲内で変更及び変形がなされることは理解されよう。