(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ可溶性ノボラック樹脂、感光剤、および炭素数１０〜２０の脂肪酸と炭素数１〜５のアルコールとのエステルを含んでなり、２５℃における動粘度が２〜１０ｃＳｔであることを特徴とするスリットコート用感光性樹脂組成物。
【請求項２】
感光剤がキノンジアジド基を含むものである、請求項１に記載のスリットコート用感光性樹脂組成物。
【請求項３】
界面活性剤をさらに含んでなる、請求項１または２に記載のスリットコート用感光性樹脂組成物。
【請求項４】
フェノール性化合物をさらに含んでなる、請求項１〜３のいずれか１項に記載のスリットコート用感光性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載された感光性樹脂組成物をスリットコート法により基板上に塗布することを含んでなることを特徴とするレジスト基板の製造法。
【請求項６】
請求項５に記載の製造法により製造されたことを特徴とするレジスト基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はスピンレス、スリットコート用感光性樹脂組成物、さらに具体的には、スピンレス、スリットコート法により塗布した際に従来よりも膜厚均一性の良いレジスト塗膜を形成することができるスピンレス、スリットコート用感光性樹脂組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路素子、カラーフイルター、液晶表示素子等の製造においては、従来微細加工を行なうためにリソグラフィー技術が用いられており、近年ではサブミクロンオーダーの微細加工を可能にする技術の開発が進められている。このようなリソグラフィー技術においては、基板上に必要に応じ反射防止膜が形成された後、ポジ型あるいはネガ型の感光性樹脂組成物が塗布され、プリベークされて感光性レジスト膜が形成される。その後、この感光性レジスト膜は紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の各種放射線により例えばパターン露光された後現像されて、レジストパターンが形成される。
【０００３】
感光性樹脂組成物の塗布方法としては、スピンコート法、ロールコート法、ランドコート法、流延塗布法、ドクターコート法、浸漬塗布法など種々の方法が知られている。具体的には半導体集績回路素子や液晶表示素子の製造においては、レジスト素材としてはポジ型の感光性樹脂組成物が、また塗布方法としてはスピンコート法が多く用いられている。一方、液晶表示素子の製造においては、塗布法としてスピンコート法とともにロールコート法も一般に採用されている。
【０００４】
ところで、感光性樹脂組成物を基板に塗布する方法としてスピンコート法が用いられる場合には、基板上に滴下されたレジスト溶液は基板の回転にともない遠心力により基板外周方向に流延された後、大部分のレジスト溶液は過剰のレジスト溶液として基板外周から飛散除去され、この飛散除去されたレジスト溶液は廃棄されている。このスピンコート法においては、均一な膜厚を有するレジスト膜を容易に形成することができる反面、前記するように廃棄されるレジストの量が多く、高コストとなる欠点を有している。これに対し、ロールコート法は、使用するレジストの大部分をレジスト膜として利用することができるため低コスト化が可能となるが、感光性樹脂組成物の塗布時にすじ状やゆず肌状等の塗布ムラが生じるという欠点を有する。例えば、このような塗布ムラの存在するレジスト膜を用いて製造した液晶表示素子においては、光の濃淡が発生し、商品としての価値が低くなる傾向にあるため、改良されたロールコート法も提案されている（特許文献１）。
【０００５】
一方で、近年の基板サイズの大型化に対応するため、スピンコート法の代わりに、スリットコート法が主流となってきている。このような塗布方法を用いる場合でも、組成物の構成は一般に同じである。例えば、フラットパネルディスプレイ作成に用いられる感光性樹脂組成物は従来、ノボラック樹脂とキノンジアジド感光剤を主成分とする感光性樹脂組成が一般的に知られており、スリットコート法により塗膜を形成する場合も、粘度を調製する必要がある場合が多いがこのような組成物が用いられる。しかし、一般的なスリットコート法（例えば感光性樹脂組成物の塗工速度が１００ｍｍ／ｓｅｃ程度）において、塗布面の端部に盛り上がりが生じる傾向が高く、膜厚の厚い端部は削除する必要があり、歩留まりが悪くなることがあった。生産性の観点から、さらに塗工速度を上げた高速スキャン塗布（例えば感光性樹脂組成物の塗工速度が１５０ｍｍ／ｓｅｃ程度）ではさらにその傾向が強く、スピンレス、スリットコート法に用いたときに十分均一な膜厚を得られる感光性樹脂組成物が望まれていた。
【特許文献１】特開２０００−２６７２７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、スピンレス、スリットコート法において、従来より問題となっている欠点を有さない、感光性樹脂組成物を提供することである。具体的には、スピンレス、スリットコート法により塗布した際に膜厚のばらつきを押さえ、塗布膜厚均一性の高い感光性樹脂組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、従来のレジスト組成ではスピンレス、スリットコート法で塗布した場合、基板端面の膜厚均一性に問題があるとされてきたが、アルカリ可溶性ノボラック樹脂などのアルカリ可溶性樹脂とナフトキノンジアジド化合物などの感光剤を含有する感光性樹脂組成物に、脂肪酸をアルコールでエステル化した特定の化合物を含有させることにより、良好な塗布特性を有する感光性樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を成したものである。すなわち、本発明による感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、感光剤、および炭素数１０〜２０の脂肪酸と炭素数１〜５のアルコールとのエステルを含んでなることを特徴とするものである。
【０００８】
また、本発明によるレジスト基板の製造法は、前記の感光性樹脂組成物をスリットコート法で基板上に塗布することを含んでなることを特徴とするものであり、さらに本発明によるレジスト基板はそれにより製造されたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のスピンレス、スリットコートに適した感光性樹脂組成物を用いることにより、従来より塗布膜厚均一性の優れる塗膜を形成することができ、これにより液晶表示素子などの製造において、光の濃淡の無い高品質の製品を安価に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明による感光性樹脂組成物はアルカリ可溶性ノボラック樹脂、感光剤、および脂肪酸とアルコールとのエステルを必須成分とする。これらの各成分について説明すると以下の通りである。
【００１１】
本発明の感光性樹脂組成物において用いられるアルカリ可溶性ノボラック樹脂は、フェノール類の少なくとも１種とホルマリンなどのアルデヒド類とを重縮合することによって得られるノボラック型のフェノール樹脂である。
【００１２】
このアルカリ可溶性ノボラック樹脂を製造するために用いられるフェノール類としては、例えばｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールおよびｍ−クレゾール等のクレゾール類、３，５−キシレノール、２，５−キシレノール、２，３−キシレノール、３，４−キシレノール等のキシレノール類、２，３，４−トリメチルフェノール、２，３，５−トリメチルフェノール、２，４，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール等のトリメチルフェノール類、２−ｔ−ブチルフェノール、３−ｔ−ブチルフェノール、４−ｔ−ブチルフェノール等のｔ−ブチルフェノール類、２−メトキシフェノール、３−メトキシフェノール、４−メトキシフェノール、２，３−ジメトキシフェノール、２，５−ジメトキシフェノール、３，５−ジメトキシフェノール等のメトキシフェノール類、２−エチルフェノール、３−エチルフェノール、４−エチルフェノール、２，３−ジエチルフェノール、３，５−ジエチルフェノール、２，３，５−トリエチルフェノール、３，４，５−トリエチルフェノール等のエチルフェノール類、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クロロフェノール，ｐ−クロロフェノール，２，３−ジクロロフェノール等のクロロフェノール類、レゾルシノール、２−メチルレゾルシノール、４−メチルレゾルシノール、５−メチルレゾルシノール等のレゾルシノール類、５−メチルカテコール等のカテコール類、５−メチルピロガロール等のピロガロール類、ビスフェノールＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ等のビスフェノール類、２，６−ジメチロール−ｐ−クレゾール等のメチロール化クレゾール類、α−ナフトール、β−ナフトール等のナフトール類などを挙げることができる。これらは、単独でまたは複数種の混合物として用いられる。
【００１３】
また、アルデヒド類としては、ホルマリンの他、サリチルアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロアセトアルデヒドなどが挙げられ、これらは単独でまたは複数種の混合物として用いられる。
【００１４】
ここで用いるアルカリ可溶性ノボラック樹脂としては、低分子量成分を分別除去したものも用いることができる。低分子量成分を分別除去する方法としては、例えば、異なる溶解性を有する２種の溶剤中で樹脂を分別する液−液分別法や、低分子量成分を遠心分離により除去する方法、薄膜蒸留法等を挙げることができる。
【００１５】
感光剤としては、キノンジアジド基を含む感光剤が好ましいものとして挙げられる。このキノンジアジド基を含む感光剤としては、従来キノンジアジド−ノボラック系レジストで用いられている公知の感光剤のいずれのものをも用いることができる。このような感光剤としては、ナフトキノンジアジドスルホン酸クロライドやベンゾキノンジアジドスルホン酸クロライド等と、これら酸クロライドと縮合反応可能な官能基を有する低分子化合物または高分子化合物とを反応させることによって得られた化合物が好ましいものである。ここで酸クロライドと縮合可能な官能基としては水酸基、アミノ基等があげられるが、特に水酸基が好適である。水酸基を含む酸クロライドと縮合可能な化合物としては、例えばハイドロキノン、レゾルシン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン等のヒドロキシフェニルアルカン類、４，４’，３”，４”−テトラヒドロキシ−３，５，３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタン、４，４’，２”，３”，４”−ペンタヒドロキシ−３，５，３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタン等のヒドロキシトリフェニルメタン類などを挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、また２種以上を組合わせて用いてもよい。
【００１６】
また、ナフトキノンジアジドスルホン酸クロライドやベンゾキノンジアジドスルホン酸クロライドなどの酸クロライドとしては、例えば、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライド、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルフォニルクロライドなどが好ましいものとして挙げられる。キノンジアジド基を合む感光剤の配合量は、アルカリ可溶性樹脂１００重量部当たり、通常５〜５０重量部、好ましくは、１０〜４０重量部である。これよりも少なくと、感光性樹組成物として十分な感度が得られないことがあり、またこれよりも多いと成分の析出の問題が起こることがあるので注意が必要である。
【００１７】
本発明の感光性樹脂組成物は脂肪酸とアルコールとのエステルを含んでなる。ここで脂肪酸は炭素数が１０〜２０、好ましくは１４〜１８の鎖状炭化水素のカルボン酸、特にモノカルボン酸またはジカルボン酸であり、飽和脂肪酸であっても、不飽和脂肪酸であってもよく、炭化水素が分岐鎖を有していてもよい。また、本発明の効果を損なわない範囲で、水酸基、アミノ基などにより置換されていてもよい。アルコールは炭素数１〜５、好ましくは１〜３の低級アルコールが用いられ、特にモノアルコールが好ましい。これらの脂肪酸とアルコールとを通常のエステル化反応条件において反応させることにより、本発明の感光性樹脂組成物に用いられるエステルを得ることができる。
【００１８】
本発明の感光性樹脂組成物に好ましいエステルの具体例として、例えば、飽和脂肪酸エステルとしては、ラウリン酸メチル、ラウリン酸エチル、ミリスチン酸メチル、ミリスチン酸エチル、パルミチン酸メチル、パルミチン酸エチル、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチルが挙げられ、不飽和脂肪酸エステルとしては、オレイン酸メチル、オレイン酸エチル、リシノレイン酸メチル、リシノレイン酸エチル、リノール酸メチル、リノール酸エチル、リノレン酸メチル、リノレン酸エチルなどが挙げられる。これらのエステルは必要に応じて単独でまたは２種以上を混合して用いることもできる。
【００１９】
エステルの添加量はノボラック樹脂と感光剤の合計重量１００重量部に対して、通常１〜２０重量部、好ましくは１〜１０重量部である。エステルの含有量は、これよりも少ないと本発明の効果が十分発現しない、すなわち塗布膜厚均一性が損なわれることがあり、またこれよりも多いと感度が低下する傾向にあり、十分な感度が得られないこともあるので注意が必要である。
【００２０】
本発明による感光性樹脂組成物は、必要に応じて溶剤を含むことができる。溶剤は通常、前記した各成分、および後述する添加剤を溶解させることができる溶剤を含有する。用いることができる溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエテレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、γ−ブチロラクトン等のラクトン類などを挙げることができる。これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００２１】
本発明による感光性樹脂組成物は、必要に応じてさらに界面活性剤を含んでなることができる。感光性樹脂組成物を基材に塗布した際、表面にうろこ状の模様（以下、「モヤムラ」という）が発生することがあるが、本発明による感光性樹脂組成物に界面活性剤を用いることにより、このモヤムラが抑制される。本発明の感光性樹脂組成物には特にノニオン系界面活性剤を用いるのが好ましい。ノニオン系界面活性剤としてはフッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤などがあり特にフッ素系界面活性剤を用いるのが好ましい。これら界面活性剤の配合量は、アルカリ可溶性樹脂と感光剤の合計量１重量部に対し、通常２００〜１００００ｐｐｍ添加される。界面活性剤の含有量が多すぎると、現像不良などの問題が起こることがあるので注意が必要である。
【００２２】
また、本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じてさらにフェノール性化合物を含んでなることができる。本発明による感光性樹脂組成物にフェノール性化合物を用いることで、感度改良の効果を得ることができる。このようなフェノール性化合物は例えば下記一般式（Ｉ）であらわされるものである：
【化１】
0004813193.tif 000002
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｃ１−Ｃ４のアルキル基または
【化２】
0004813193.tif 000003
（ここでＲ８はＨ、Ｃ１−Ｃ４のアルキル基である）
を表し、ｍおよびｎはそれぞれ独立して０〜２の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ及びｈは、ａ＋ｂ≦５、ｃ＋ｄ≦５、ｅ＋ｆ≦５、ｇ＋ｈ≦５を満たす０〜５の整数であり、ｉは０〜２の整数である。）
このようなフェノール性化合物の具体例としては、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、ビスフェノール Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｅ、Ｆ及びＧ、４，４’，４”−メチリジントリスフェノール 、２，６−ビス［（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル］−４−メチルフェノール 、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール 、４，４’−［１−［４−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール 、４，４’，４”−エチリジントリスフェノール 、４−［ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル］−２−エトキシフェノール 、４，４’−［（２−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２，３−ジメチルフェノール ］、４，４’−［（３−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２，６−ジメチルフェノール ］、４，４’−［（４−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２，６−ジメチルフェノール ］、２，２’−［（２−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［３，５−ジメチルフェノール ］、２，２’−［（４−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［３，５−ジメチルフェノール ］、４，４’−［（３，４−ジヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２，３，６−トリメチルフェノール ］、４−［ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−６−メチルフェニル）メチル］−１，２−ベンゼンジオール、４，６−ビス［（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル］−１，２，３−ベンゼントリオール、４，４’−［（２−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［３−メチルフェノール ］、４，４’，４”−（３−メチル−１−プロパニル−３−イリジン）トリスフェノール 、４，４’，４”，４’’’−（１，４−フェニレンジメチリジン）テトラキスフェノール 、２，４，６−トリス「（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル］−１，３−ベンゼンジオール、２，４，６−トリス「（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）メチル］−１，３−ベンゼンジオール、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシ−３，５−ビス［（ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メチル］フェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビス［２，６−ビス（ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メチル］フェノール などを挙げることができる。また好ましい化合物として、４，４’，４”−メチリジントリスフェノール 、２，６−ビス［（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル］−４−メチルフェノール 、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール 、４，４’−［１−［４−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール 、４，４’，４”−エチリジントリスフェノール などが挙げられる。
【００２３】
このようなフェノール性化合物のうち、下記一般式（Ｉａ）または（Ｉｂ）のものが特に好ましい。
【化３】
0004813193.tif 000004
【００２４】
フェノール性化合物の添加量は、添加する場合にはアルカリ可溶性ノボラック樹脂と感光剤１００重量部に対して通常１〜２５重量部、好ましくは１〜２０重量部である。
【００２５】
本発明による感光性樹脂組成物は、上記の各成分を含んでなるものであるが、その性状は溶液または分散液である。一般に、粘度はその組成物を塗布する塗布条件に合わせて調製されるが、本発明による感光性樹脂組成物は２５℃における動粘度が２〜１０ｃＳｔであることが好ましく、２〜５ｃＳｔであることがより好ましい。動粘度がこの範囲外であると、高すぎても低すぎても塗布膜厚均一性が損なわれることがあるので注意が必要である。
【００２６】
本発明を例にしたがって説明すると以下の通りである。
【００２７】
実施例１
ノボラック樹脂：重量平均分子量がポリスチレン換算で約１００００のノボラック樹脂。
感光剤：平均エステル化率が７５％で２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンアジド−５−スルフォニルクロライドとのエステル化合物をノボラック樹脂１００重量部に対して２５重量部添加。
活性剤：フッ素系界面活性剤メガファック（大日本インキ化学社製）を全固形分に対し、６０００ｐｐｍ添加。
上記組成の全固形分１００重量部に対して、ステアリン酸メチルを１０部添加後、再度撹拌溶解し、キャノンフェンスケ自動粘度計（株式会社離合社製）により、２５℃における動粘度が４ｃＳｔになるように固形分濃度を調整して組成物を得た。
【００２８】
実施例２
ノボラック樹脂：重量平均分子量がポリスチレン換算で約１００００のノボラック樹脂。
感光剤：平均エステル化率が７５％で２，３，４，４’−テトラヒドロキベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライドとのエステル化合物をノボラック樹脂１００重量部に対して２５重量部添加。
活性剤：フッ素系界面活性剤メガファック（大日本インキ化学社製）を全固形分に対し、６０００ｐｐｍ添加。
上記組成の全固形分１００重量部に対して、ステアリン酸エチルを１０部添加後、再度撹拌溶解し、キャノンフェンスケ自動粘度計により、２５℃における動粘度が４ｃＳｔになるように固形分濃度を調整して組成物を得た。
【００２９】
比較例１
ノボラック樹脂：重量平均分子量がポリスチレン換算で約１００００のノボラック樹脂。
感光剤：平均エステル化率が７５％で２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライドとのエステル化合物をノボラック樹脂１００重量部に対して２５重量部添加。
溶剤で固形組成物を溶解させた後、キャノンフェンスケ自動粘度計により、２５℃における動粘度が４ｃＳｔになるように固形分濃度を調整して組成物を得た。
【００３０】
比較例２
ノボラック樹脂：重量平均分子量がポリスチレン換算で約１００００のノボラック樹脂。
感光剤：平均エステル化率が７５％で２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライドとのエステル化合物をノボラック樹脂１００重量部に対して２５重量部添加。
活性剤：フッ素系界面活性剤メガファック（大日本インキ化学社製）を全固形分に対し、６０００ｐｐｍ添加。
溶剤で固形組成物を溶解させた後、キャノンフェンスケ自動粘度計により、２５℃における動粘度が４ｃＳｔになるように固形分濃度を調整して組成物を得た。
【００３１】
実施例３
ノボラック樹脂：重量平均分子量がポリスチレン換算で約１００００のノボラック樹脂。
感光剤：平均エステル化率が７５％で２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライドとのエステル化合物をノボラック樹脂１００重量部に対して２５重量部添加。
上記組成の全固形分１００重量部に対して、ステアリン酸メチルを１０部添加後、再度撹拌溶解し、キャノンフェンスケ自動粘度計により、２５℃における動粘度が４ｃＳｔになるように固形分濃度を調整。
【００３２】
実施例４
ノボラック樹脂：重量平均分子量がポリスチレン換算で約１００００のノボラック樹脂。
感光剤：平均エステル化率が７５％で２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライドとのエステル化合物をノボラック樹脂１００重量部に対して２５重量部添加。
フェノール性化合物：ＴｒｉｓＰ−ＰＡ（本州化学工業株式会社製：一般式（Ｉａ））をノボラック樹脂と感光剤１００重量部に対して５重量部添加
活性剤：フッ素系界面活性剤メガファック（大日本インキ化学社製）を全固形分に対し、６０００ｐｐｍ添加。
上記組成の全固形分１００重量部に対して、ステアリン酸メチルを１０部添加後、再度撹拌溶解し、キャノンフェンスケ自動粘度計により、２５℃における動粘度が４ｃＳｔになるように固形分濃度を調整して組成物を得た。
【００３３】
塗布均一性評価
各感光性樹脂組成物をスリットコーター（基板サイズ１１００×１２５０ｍｍ）を用いてガラス基板上に塗布し、減圧乾燥し、その後ホットプレートによりプリベークを行うことにより、約１．５μｍの感光性樹脂膜を形成した。
光学式膜厚測定器を用いて、塗布方向と垂直方向に基板左端部から右端部まで９０ポイント測定し、基板端部から５０ｍｍ除外、２０ｍｍ除外、１５ｍｍ除外、１０ｍｍ除外したものに関して平均膜厚と最大値、最小値を算出し、下式：
（最大値−最小値）／平均膜厚／２×１００
により面内均一性（％）を求めた。その後、差が２％未満のものを◎、２％以上３％未満を○、３％以上４％未満を△、４％以上を×として評価した。得られた結果は表１に示すとおりであった。
【００３４】
【表１】
0004813193.tif 000005
【００３５】
塗膜面の性状の評価
また、塗布膜の性状をナトリウムランプ下目視観察をおこない評価した。比較例１の試料の塗布面にはモヤムラが見えたが、エステルと界面活性剤との両方を含む実施例１、２、および４の試料の塗布面にはモヤムラは全く観察されなかった。