(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空状態の蒸着槽内において蒸発セル内の成膜材料を加熱蒸発させて矩形の蒸着エリアに配した基板に蒸着させる真空蒸着装置であって、
前記蒸着エリアに対向する同一面内の前記蒸着エリアの周辺に、それぞれ回転軸を中心とした同一円周上に互いに所定の間隔をおいて第１の成膜材料を収容する複数個の第１の蒸発セルを備えた複数個の第１の回転テーブルが設けられ、前記各第１の回転テーブルを回転させることにより、該各第１の回転テーブルに設けられた複数個の前記第１の蒸発セルのうち１個の蒸発セルが前記蒸着エリア四隅近傍の所定の位置に対向して配置され得るように設定されているとともに、
前記蒸着エリアに対向するように第２の成膜材料を収容する複数個の第２の蒸発セルを有する第２の回転テーブルが前記蒸着エリアの中心に対向するように配置されており、
前記第２の蒸発セルが、前記四隅近傍の所定の位置にそれぞれ対向する位置近傍に配置され得るように設定され、
前記第1の蒸発セルと第２の蒸発セルが同時に蒸着処理に供せられるように構成されていることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】
前記回転テーブルの各々を上記蒸着槽から出し入れする出入手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空状態の蒸着槽内において成膜材料を加熱蒸発させて基板に蒸着させる真空蒸着装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
真空蒸着によって基板に成膜材料を蒸着する装置は種々の分野で使用されているが、近年、医療用放射線撮影にＸ線等の放射線に感応する光導電体を用いた放射線固体検出器が用いられるようになり、この検出器の製造にも真空蒸着装置が使われるようになった。
【０００３】
この放射線固体検出器は、被験者の受ける放射線被爆量の減少と診断性能の向上のために、セレン等の放射線に感応する光導電体を感光体として用い、照射された放射線量に応じた量の電荷を電荷蓄積層に蓄積し、その電荷を電気的に読み出すものである。この種の放射線固体検出器は数年前から特許出願され広く知られているが、例えば、特許文献１では、検出器の応答性と読取効率を向上させるために複数材料を使用した多層構造の放射線画像検出器が提案されている。これは、記録用の放射線または放射線の励起により発せられる光に対して透過性を有する第１の電極層と、記録用の放射線または前記光の照射を受けることにより導電性を呈する記録用光導電層と、読取用の電磁波の照射を受けることにより導電性を呈する読取用光導電層と、読取用の電磁波に対して透過性を有する第２の電極層をこの順に有し、記録用光導電層と読取用光導電層との間に形成される蓄電部に蓄積された潜像電荷の量に応じたレベルの電気信号を出力させるための導電部材が第２の電極層内ないし第１の電極層と第２の電極層との間に設けられているもので、多数の層が基板上に成膜されて形成されるものである。
【０００４】
このような、多数かつ多種類の材料の層を基板上に成膜してなる放射線固体検出器を製造するためには多層成膜装置が必要となる。多層成膜装置としては、例えば特許文献２に示されているように、大きな第１の回転テーブルの回転軸を中心とした同一円周上に複数の小さな第２の回転テーブルを設け、その各第２の回転テーブル上に配置された複数の蒸発セルを、第１および第２の回転テーブルの回転の組み合わせにより順次蒸発位置に移動する真空蒸着装置が知られている。この装置は、真空状態を保持したまま全ての蒸着処理を終えるよう、多数の蒸着材料に対応できる数の蒸発セルを配設することができるもので、多種類の蒸着材料を成膜順に蒸着処理する多層成膜に適している。
【特許文献１】特開２０００−２８４０５６号公報
【特許文献２】実開平５−３０１５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、胸部Ｘ線検査等においては、大型の放射線画像変換パネルを用いて広範囲の画像を一度に撮影することが要望されている。さらに、放射線に対する量子効率を高め、放射線検出器の感度を上げるためには、放射線画像変換層の膜厚を大きくすることが望まれる。従って、胸部Ｘ線検査等に使用される大型の放射線画像変換パネルを製造するためには、例えば１７インチ等の大きな基板に、多数の成膜材料を厚く蒸着することが必要となり、一度の蒸着に使用される成膜材料の量が従来に比べ非常に増大する。このように、大型の放射線画像変換パネルを製造する多層成膜装置においては、多種類の蒸着材料を大量に使って蒸着処理することが要求される。
【０００６】
しかしながら、特許文献２に記載されているような従来の多層成膜装置では、成膜材料を全て一つの蒸発源テーブルだけに配置する構造であるため、蒸着膜の厚膜化および蒸着面積の大型化により量的に増大した蒸発源の量と数に対応するためには、蒸発源テーブルが大型化してしまい、装置全体の設置スペースが非常に大きくなるという問題がある。これは、複数の蒸発セルを隣接して配置すると、隣接する蒸発セル同士が干渉して蒸着膜の純度を損なうことになるので、これを防ぐため、隣接する蒸発セルを十分な距離をおいて配置する必要があるからである。
【０００７】
また、一般的に大面積基板に蒸着を行う場合は、蒸発源から放射状に偏って現れる膜厚分布の影響が大きくなり、小面積基板に蒸着する場合より膜の均一性が損なわれやすい。
【０００８】
上記従来装置では、一度に一個の蒸発源を用いて蒸着を行うので、大基板面全体に均一な膜を作るためには、基板を回転移動または直線移動させる必要があり、基板の温度調節が容易ではない。特に蒸着膜が厚くなるほど基板の温度が上昇して蒸着膜の性質が不均一になりやすく、基板を移動させながら精密な温度調節を行うのは極めて困難である。この種の放射線検出器では、診断に使用される医用画像の診断性能を向上させるため、均一性は極めて重要な特性であり、蒸着の際の温度調節が十分でないと膜厚の均一性が損なわれ、画質が低下して診断性能を低下させることになる。
【０００９】
また、蒸発源の加熱蒸発においては、一般的に蒸発セル容器を加熱して容器内の成膜材料を溶かして蒸発させるが、成膜材料の溶融液面よりも溶液内部の温度が高くなると、突沸の発生により蒸発面に揺らぎが生じ、蒸着面に欠陥を発生させる原因となるので、成膜材料および蒸発セルの温度調節は極めて大切である。しかし、上記従来装置では、一度に一個の蒸発源を用いて蒸着を行うため、蒸着膜の厚膜化および蒸着面積の大型化に比例して蒸発セルも大きくなってしまい、蒸発セル内の成膜材料の温度調節はさらに難しくなる。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑み、放射線画像変換器における蒸着層の厚膜化および蒸着面積の大型化を容易に達成するとともに、装置の設置スペースを小さくする真空蒸着装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の真空蒸着装置は、真空状態の蒸着槽内において蒸発セル内の成膜材料を加熱蒸発させて蒸着エリアに配した基板に蒸着させる真空蒸着装置であって、蒸着エリアに対向する同一面内の蒸着エリアの周辺に配置された複数個の第１の回転テーブルを備え、各第１の回転テーブルの回転軸を中心とした同一円周上に互いに所定の間隔をおいて複数個の第１の蒸発セルが設けられ、各第１の回転テーブルに設けられた複数個の第１の蒸発セルのうち一個以上が、前記蒸着エリア周縁の所定の位置に対向して配置されていることを特徴とするものである。各第１の回転テーブルを回転させることにより、蒸発源として利用する第１の蒸発セルを順次蒸発源の配置位置に移動させることができる。
【００１２】
ここで「所定の位置」とは、蒸着エリアに対して複数個の蒸発源を同時に用いて最も均一な蒸着膜が得られる蒸発源の配置位置に対向する位置を意味するものである。従って、均一な蒸着膜が得られる蒸着エリアに配した基板には、基板の形には関係なく均一な蒸着膜が得られる。すなわち、蒸着エリア内であれば基板の形は、例えば円形等どんな形であってもよい。
【００１３】
また、本発明の真空蒸着装置は、蒸着エリアに対向するように複数個の第２の蒸発セルを有する第２の回転テーブルを蒸着エリアの中心に対向するように設けることができる。
【００１４】
また、本発明の真空蒸着装置は、蒸着エリアが矩形である場合、前記所定の位置は該蒸着エリアの四隅近傍とすることが望ましい。
【００１５】
また、本発明の真空蒸着装置は、蒸着エリアが長方形である場合、前記所定の位置を該蒸着エリアの両端近傍とすることができる。
【００１６】
また、本発明の真空蒸着装置は、回転テーブルの各々を蒸着槽から出し入れする出入手段をさらに備えることが望ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の真空蒸着装置によれば、蒸着エリアに対向する同一面内の蒸着エリアの周辺に複数個の第１の回転テーブルを備え、各第１の回転テーブルの回転軸を中心とした同一円周上に互いに所定の間隔をおいて第１の複数個の蒸発セルが設けられ、各第１の回転テーブルに設けられた複数個の第１の蒸発セルのうち一個以上が、前記蒸着エリア周縁の所定の位置に対向して配置されているものであるから、多数及び多量の成膜材料を複数個の回転テーブルの蒸発セルに分散配置することができ、複数個の蒸発セルを同時に用いて蒸着を行うことができるので、蒸発源を配置する同一面内のスペースを、有効に活用することが可能であり、装置全体のスペースを小さくすることができる。また、複数個の蒸発セルを同時に加熱蒸発させ蒸着を行うことができるので、それにより大面積の基板に対して、基板を静止又は回転軸を固定した回転させてあまり動かさず蒸着処理を行うことが可能であり、基板の温度調節が容易になる。さらに、大量の成膜材料を複数の蒸発セルに分散させ、各々の蒸発セルの大きさを小さくすることができるので、各々の蒸発セル内成膜材料の温度調節も容易になる。
【００１８】
また、蒸着エリアに対向するように複数個の第２の蒸発セルを有する第２の回転テーブルを蒸着エリアの中心に対向するように設ける場合、各第１の回転テーブルに設けられた第１の蒸発セルによる蒸着処理と同時に異なる成膜材料を収める第２の蒸発セルを用いることができ、複数の材料を同時に用いる蒸着処理の際、それぞれの成膜材料の量を容易に制御することが可能である。
【００１９】
また、本発明の真空蒸着装置は、蒸着エリアが矩形である場合、蒸発源の配置位置を蒸着エリアに対向する同一面内の蒸着エリアの四隅近傍の４か所にすることにより、矩形の蒸着エリアに配した基板に均一な蒸着膜を成膜することが可能である。
【００２０】
また、本発明の真空蒸着装置は、蒸着エリアが長方形である場合、蒸発源の配置位置を蒸着エリアに対向する同一面内の蒸着エリアの両端近傍の２か所にすることにより、長方形の蒸着エリアに配した基板に均一な蒸着膜を成膜することが可能である。
【００２１】
また、回転テーブルを蒸着槽から出し入れする出入手段をさらに備えた場合には、成膜材料の補給と蒸発源の保守性が向上する。多種類の材料を使うほど、また蒸着する膜が厚くなるほど蒸着時に蒸発セル周辺にたまってしまう蒸着又は溶融した成膜材料が増大するので、蒸発源回転テーブルの保守を頻繁に行うことにより、蒸着処理を常に高い純度で行うことが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明による真空蒸着装置の第１の実施の形態について説明する。図１は本発明による第１の実施の形態の真空蒸着装置の平面図、図２は図１に示す真空蒸着装置の概略構成を示す正面図である。
【００２３】
本実施形態は、真空状態の蒸着槽１１内において、複数の蒸発セル１４内の成膜材料１５を加熱蒸発させて矩形の蒸着エリア１２に配した基板１２ａに蒸着させる真空蒸着装置１０において、回転軸１６を中心とした同一円周上に８個の蒸発セル１４がお互いに一定の間隔をおいて配設された２つの回転テーブル１３、１３を、各回転テーブル１３上に設けられた８個の蒸発セル１４のうち、間に一つの蒸発セル１４ａをおいて一つおきに並んだ２個の蒸発セル１４ｂ、１４ｂが蒸発源の８か所の配置位置のうち蒸着エリア１２の四隅近傍の４か所Ｐａに配置されるように、蒸着エリア１２に対向する同一面内の２か所に配置したものである。
【００２４】
蒸着エリア１２に対向する同一面内に配置された２つの回転テーブル１３，１３における上記蒸発源の配置位置Ｐａは、蒸着エリア１２に対して最も均一な蒸着膜が得られるよう数値計算等の方法により求めた配置位置であり、蒸着エリア１２の大きさ、形、蒸着源から蒸着エリアまでの距離等の条件によって蒸発源の最適な配置位置の数と位置は異なるが、本実施形態の正方形に近い矩形の蒸着エリア１２に対して数値計算により求められた蒸発源の配置位置Ｐａは、図１に示すように、蒸着エリア１２の四隅近傍の４か所である。
【００２５】
また、上記各回転テーブル１３の下部には一対のガイドレール１９、１９を設け、そのガイドレール１９、１９に沿って２つの回転テーブル１３を往復移動し得るように移動手段が設けられている。図３は、その例として、図１のA方向から見た回転テーブル１３，１３の移動手段を示す側面図である。この移動手段は、回転テーブル１３の軸１６の下部に台車１７を設け、その両側面に、ガイドレール１９、１９に沿って転動する２対の車輪１８、１８を取り付けたもので、蒸着セル１４や回転テーブル１３の保守作業等のために２つの回転テーブル１３、１３を蒸着槽１１から外へ出すことができるようにしている。
【００２６】
上記の構成により、蒸着の際には、静止又は同一面内で回転する基板１２ａに対して、上記各回転テーブル１３、１３を図外の回転駆動手段により回転軸１６を中心に回転させ、各回転テーブル１３上に配置された８個の蒸発セル１４のうち蒸発源として用いられる蒸発セルを２個ずつ計４個を配置位置Ｐａへ順次移動させることが可能であり、蒸着槽１１の真空状態を保持したまま、所望の蒸着処理に応じて、各回転テーブル１３、１３上に配置された複数の蒸発セル１４内の１種類以上の成膜材料全てについて連続成膜処理をすることが可能である。各回転テーブル１３上に８個の蒸発セル１４が配置されたこの実施形態では、蒸発セル１４を一度に２個ずつ使うので、最大４種類の成膜材料１５を用いて成膜することができる。
【００２７】
また、上記移動手段により、図１および図２に２点鎖線で示すように、各回転テーブル１３をガイドレール１９に沿って蒸着槽１１から出し入れすることも可能であり、蒸発源又は蒸発源テーブルの保守を容易にすることができる。
【００２８】
なお、上記第１の実施形態で対象とした蒸着エリア１２は図示のように正方形に近い矩形であるが、これは正方形でもよい。特に正方形の場合には、蒸着エリア１２の４隅すなわち頂点付近の対等な位置に４つの蒸発セル１４を配置することにより、良好に均一な膜厚で成膜することができる。
【００２９】
次に、本発明による真空蒸着装置の第２の実施の形態について図４を参照して説明する。図４は本発明による第２の実施の形態の真空蒸着装置の平面図である。
【００３０】
この真空蒸着装置２０は、真空状態の蒸着槽２１内において蒸発セル２４内の成膜材料２５を加熱蒸発させて比較的細長い長方形の蒸着エリア２２に配した基板２２ａに蒸着させるものである。この真空蒸着装置２０においては、回転軸２６を中心とした同一円周上に６個の蒸発セル２４が一定の間隔をおいて配設された回転テーブル２３を、各回転テーブル２３上に設けられた６個の蒸発セル２４のうち各１個の蒸発セル２４ａが２か所の蒸発源の配置位置Ｐｂに配置されるように、蒸着エリア２２に対向する同一面内の２か所に配置したものである。ここで、蒸発源の配置位置Ｐｂは、数値計算等の方法により求めた蒸着エリア２２に対して最も均一な蒸着膜が得られる蒸発源の配置位置である。
【００３１】
また、上記各回転テーブル２３の下部に、同一方向に２組のガイドレール２９、２９を設け、そのガイドレール２９、２９に沿って回転テーブル２３、２３をメンテナンスの作業のために蒸着槽２１の外まで移動し得るように移動手段を備え、蒸着槽２１の同じ側方向両方の回転テーブル２３、２３を蒸着槽２１から出し入れできるようにしたものである。
【００３２】
上記の構成により、蒸着の際には、静止又は同一面内で回転する基板２２ａに対して、各回転テーブル２３、２３を図外の回転駆動手段により回転軸２６を中心に回転させ、各回転テーブル２３上に配置された複数の蒸発セル２４のうち蒸発源として用いられる蒸発セルを蒸発源の配置位置Ｐｂへ順次移動させることが可能であり、蒸着槽２１の真空状態を保持したまま、所望の蒸着処理に応じて、各回転テーブル２３上に配置された複数の蒸発セル２４内の１種類以上の成膜材料２５全てについて連続成膜処理をすることが可能である。
【００３３】
即ち、各回転テーブル２３、２３上に配置された同一成膜材料２５を収める蒸発セル２４を１個ずつ、全部で２個の蒸発セルを同時に蒸発源として使用し、多種類の成膜材料で連続蒸着処理を行う場合、最大６種類の異なる成膜材料からなる多層膜の成膜が可能である。
【００３４】
次に、本発明による真空蒸着装置の第３の実施の形態について図５を参照して説明する。図５は本発明による第３の実施の形態の真空蒸着装置の平面図である。
【００３５】
この真空蒸着装置３０は、真空状態の蒸着槽３１において蒸発セル３４内の成膜材料３５を加熱蒸発させて正方形の蒸着エリア３２に配した基板３２ａに蒸着させるものである。この真空蒸着装置３０において、回転軸３６を中心とした同一円周上に５個の蒸発セル３４がお互いに一定の間隔をおいて配設された回転テーブル３３を、その回転テーブル３３上に設けられた５個の蒸発セル３４のうち１個の蒸発セルが蒸発源の配置位置Ｐｃの４か所のうちどれかに配置されるように、蒸着エリア３２に対向する同一面内の４か所に配置したものである。ここで、蒸発源の配置位置Ｐｃは、数値計算等の方法により求めた蒸着エリア３２に対して最も均一な蒸着膜が得られる蒸発源の配置位置である。
【００３６】
また、上記回転テーブルの４個のうち２個ずつの下部を通るようにガイドレール３９を設け、そのガイドレール３９に沿って各回転テーブル３３を往復移動し得るように移動手段を備えたものである。
【００３７】
上記の構成により、蒸着の際には、静止又は同一面内で回転する基板３２に対して、上記各回転テーブル３３を図外の回転駆動手段により回転軸３６を中心に回転させ、該各回転テーブル３３上に配置された複数の蒸発セル３４のうち蒸発源として用いられる蒸発セルを蒸発源の配置位置Ｐｃへ順次移動させることが可能であり、蒸着槽３１の真空状態を保持したまま、所望の蒸着処理に応じて、各回転テーブル３３上に配置された複数の蒸発セル３４内の１種類以上の成膜材料全てについて連続成膜処理をすることが可能である。
【００３８】
また、各回転テーブル３３の下部に設けたガイドレール３９に沿って、蒸着槽３１の同じ方向から全ての回転テーブル３３を蒸着槽３１から出し入れすることができる。さらに、同一ガイドレール３９に沿って２個の回転テーブル３３を同時に移動させることも可能である。
【００３９】
次に、本発明による真空蒸着装置の第４の実施の形態について図６を参照して説明する。図６は本発明による第４の実施の形態の真空蒸着装置の平面図である。
【００４０】
この真空蒸着装置４０は、真空状態の蒸着槽４１において蒸発セル４４内の成膜材料４５を加熱蒸発させて蒸着エリア４２に配した基板４２ａに蒸着させるものである。この真空蒸着装置４０において、回転軸４６ａを中心とした同一円周上に５個の第１の蒸発セル４４ａがお互いに一定の間隔をおいて配設された第１の回転テーブル４３ａを、その第１の回転テーブル４３ａ上に設けられた５個の第１の蒸発セル４４ａのうち１個の蒸発セルが蒸発源の配置位置Ｐｄの４か所のうちどれかに配置されるように、基板４２に対向する同一面内の４か所に配置したものである。ここで、蒸発源の配置位置Ｐｄは、数値計算等の方法により求めた蒸着エリア４２に対して最も均一な蒸着膜が得られる蒸発源の配置位置である。
【００４１】
また、回転軸４６ｂを中心とした同一円周上に８個の第２の蒸発セルが互いに一定の間隔をおいて配設された第２の回転テーブル４３ｂを蒸着エリア４２の中心に対向するように配置したものである。
【００４２】
また、上記各回転テーブル４３の下部に、同一方向に２組のガイドレール４９、４９を設け、そのガイドレール４９、４９に沿って各回転テーブル４３を蒸着槽４１から出し入れできるようにしたものである。
【００４３】
上記の構成により、蒸着の際には、静止又は同一面内で回転する基板４２ａに対して、上記各第１の回転テーブル４３ａを図外の回転駆動手段により回転軸４６ａを中心に回転させ、該第１の各回転テーブル４３ａ上に配置された複数の第１の蒸発セル４４ａのうち蒸発源として用いられる蒸発セルを蒸発源の配置位置Ｐｄへ順次移動させることが可能であり、蒸着槽４１の真空状態を保持したまま、所望の蒸着処理に応じて、各第１の回転テーブル４３ａ上に配置された複数の第１の蒸発セル４４ａ内の１種類以上の成膜材料全てについて連続成膜処理をするが可能である。
【００４４】
また、各第１の回転テーブル４３ａに設けられた第１の蒸発セル４４ａによる蒸着処理と同時に異なる成膜材料を収める第２の回転テーブル４３ｂ上に配置された複数の第２の蒸発セル４４ｂを蒸着処理用いることができ、複数の材料を同時に用いる蒸着処理の際、それぞれの成膜材料の量を容易に制御することが可能である。例えば、厚膜形成時に他元素を微小ドーピングさせる場合、蒸発源の配置位置Ｐｄに配置された各第１の回転テーブル４３ａ上の第１の蒸発セル４４ａによる厚膜の蒸着処理の際に、第２の回転テーブル４３ｂを図外の回転駆動手段により回転軸４６ｂを中心に回転させ、該第２の回転テーブル４３ｂ上に配置された８個の第２の蒸発セル４４ｂのうち間に一つの蒸発セルをおいて一つおきに並んだ４個の蒸発セル４４ｂを蒸発源の配置位置Ｐｄの近傍に移動させ、その４個の蒸発セル４４ｂ内の微小の他元素の成膜材料を同時に用いることができ、均質な膜厚の蒸着処理をすることが可能である。
【００４５】
なお、上記各実施形態において、複数の回転テーブル上の蒸発セルを同時に用いる蒸着処理において、蒸着処理に用いる回転テーブル１３，２３，３３、４３および回転テーブル上に配置された蒸発セル１４，２４，３４、４４の数のおよび大きさの組み合わせに特に制限はない。
【００４６】
また、各蒸発セル１４，２４，３４、４４の間隔は一定となっているが、これは、同時に使用されるセルが蒸発源の配置位置Ｐａ，Ｐｂ，Ｐｃ、Ｐｄの位置に同時に移動され得るようになっていれば、一定間隔でなくてもよい。
【００４７】
また、各蒸着エリア１２，２２，３２、４２に配した基板１２ａ、２２ａ、３２ａ、４２ａは蒸着エリア１２，２２，３２、４２と一致するように設けられているが、これは均一な蒸着膜が得られる各々の蒸着エリア１２，２２，３２、４２の同一面内に収まる大きさであれば、例えば円形等どんな形であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明による第１の実施の形態の真空蒸着装置の平面図
【図２】図１に示す真空蒸着装置の概略構成を示す正面図
【図３】図１のＢ方向から見た回転テーブルの移動手段を示す側面図
【図４】本発明による第２の実施の形態の真空蒸着装置の平面図
【図５】本発明による第３の実施の形態の真空蒸着装置の平面図
【図６】本発明による第４の実施の形態の真空蒸着装置の平面図
【符号の説明】
【００４９】
１０、２０、３０、４０      真空蒸着装置
１１、２１、３１、４１      蒸着槽
１２、２２、３２、４２      蒸着エリア
１２ａ、２２ａ、３２ａ、４２ａ      基板
１３、２３、３３、４３      回転テーブル
１４、２４、３４、４４      蒸発セル
１５、２５、３５、４５      成膜材料
１６、２６、３６、４６      回転軸
１９、２９、３９、４９      ガイドレール
Ｐａ，Ｐｂ，Ｐｃ、Ｐｄ      蒸発源配置位置
【図１】
0004762763.tif 000002
【図２】
0004762763.tif 000003
【図３】
0004762763.tif 000004
【図４】
0004762763.tif 000005
【図５】
0004762763.tif 000006
【図６】
0004762763.tif 000007