(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
未硬化の感光性組成物の除去に用いられる除去液であって、該除去液はテルペン系炭化水素を１〜８０質量％、テルペン系炭化水素以外の溶剤を２０〜９９質量％含有し、該テルペン系炭化水素以外の溶剤が、鎖状アミド化合物、環状アミド化合物、硫黄化合物、環状エステル等、グリコールエーテル類、グリコールエーテルカルボキシレート類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アルコール類、アルコキシカルボン酸エステル類および環状エーテル類からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする感光性組成物除去液。
【請求項２】
前記テルペン系炭化水素が、二重結合を２個以上含むものであることを特徴とする請求項１に記載の感光性組成物除去液。
【請求項３】
前記テルペン系炭化水素が、ｐ−メンタジエン類であることを特徴とする請求項２に記載の感光性組成物除去液。
【請求項４】
テルペン系炭化水素を５〜８０質量％、テルペン系炭化水素以外の溶剤を２０〜９５％含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【請求項５】
テルペン系炭化水素が１〜４０質量％、テルペン系炭化水素以外の溶剤が６０〜９９質量％である組成を有し、且つ、テルペン系炭化水素以外の溶剤がプロピレングリコールモノメチルエーテル、３-メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノンおよび酢酸ブチルの少なくとも１種である組成からなる群から選ばれる組成であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【請求項６】
テルペン系炭化水素が５〜４０質量％、テルペン系炭化水素以外の溶剤が６０〜９５質量％である組成を有し、且つ、該テルペン系炭化水素以外の溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３-メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノンおよび酢酸ブチルのうち少なくとも１種である組成であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【請求項７】
顔料を含有する感光性組成物の除去に用いられる請求項１〜６のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【請求項８】
顔料を含有するアクリル系感光性組成物の除去に用いられる請求項１〜６のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【請求項９】
感光前の顔料を含有する感光性組成物の除去に用いられる請求項１〜６のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板や半導体ウエーハ等に感光性組成物皮膜を形成する工程において、これらの基板の周辺部、縁辺部または裏面部に形成される未硬化の感光性組成物皮膜の除去、または、このような感光性組成物皮膜を形成する工程において使用される装置、部材ないし器具の表面に付着した未硬化の感光性組成物を除去する際に好適に使用可能な除去液に関する。
【０００２】
本発明は、更に詳しくは、液晶や有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）等を利用したデバイスの製造工程で使用される基板上に感光性組成物皮膜を形成する工程において、基板の周辺部、縁辺部または裏面部に残存する未硬化の顔料を含有する感光性組成物皮膜の除去、またはこのような感光性組成物皮膜を形成する工程において使用される装置、部材や器具の表面に付着した未硬化の顔料を含有する感光性組成物を除去する際に、特に好適に使用可能な除去液に関する。
【背景技術】
【０００３】
従来より、液晶、有機ＥＬ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイまたは半導体を始めとする種々のデバイスの製造工程では、通常、リソグラフィー技術を用いた感光性組成物のパターン形成が行われる。
【０００４】
例えば、液晶や有機ＥＬに用いられるカラーフィルター製造におけるＲＧＢもしくは樹脂ブラックマトリックスのパターン形成方法としては、顔料分散法、染色法、印刷法、電着法等が用いられる。これらの方法のうち、顔料分散法は、顔料を含有する感光性組成物を用いたフォトリソグラフィーにより各色のパターニングを行う方法であり、安定な着色皮膜が得られることからカラーフィルター製造には好適な方法である。この方法により基板上に感光性組成物皮膜を形成する場合には、顔料を含有する感光性組成物を基板上に塗布する工程が含まれ、そのための塗布方法としては、スピンコート、スリットコート、ワイヤーバーコート、ロールコート、ディップコート、スプレーコート或いはこれらの組み合わせ等の方法が知られている。
【０００５】
例えば、スピンコートを行う場合、感光性組成物コート後の基板の周辺部、縁辺部の感光性組成物膜の盛り上がり部分や裏面に付着した感光性組成物を除去するために、感光性組成物除去液によるリンス処理、いわゆるエッジリンス、バックリンスが通常行われる。更に、スピンコーティングでは、通常はウエーハ外側に配置される感光性組成物回収用のカップに飛散した感光性組成物を除去する工程、いわゆるカップリンスにおいても、感光性組成物除去液による感光性組成物除去処理が行われる。
【０００６】
また、カラーフィルター製造における感光性組成物塗布工程としては、前述のスピンコート以外にもスリットコート法による感光性組成物塗布やワイヤーバーを用いた塗布、ロールコーターによる塗布が行われるが、これらの方法においても感光性組成物塗布後に、それぞれスリットノズルやワイヤーバー等、塗布装置の一部または全部に付着した不要な感光性組成物の除去が実施される。
【０００７】
更に、その他にも感光性組成物を移送するための装置配管等、塗布装置の部材に付着した感光性組成物の除去が実施される場合がある。通常、このような感光性組成物の除去には除去液を用いた洗浄処理が行われる。
【０００８】
このような基板および装置に付着した感光性組成物のいずれの除去工程においても、感光性組成物成分の残留が問題となる。特に、カラーフィルター製造に用いられる顔料を含有する感光性組成物、すなわちＲＧＢ形成に用いられるカラーレジストや、樹脂ブラックマトリックス形成に用いられるブラックレジストは、顔料成分が基板や装置表面へ残留しやすく、これらが僅かであっても異物の原因となってカラーフィルター製造の不良率増加、あるいはカラーフィルターの色純度変化やコントラスト低下をきたす可能性がある。近年のカラーディスプレイに用いられるカラーフィルターには基板の大画面化、高精細化、および低コスト化の要求が高くなっているが、このような状況にあってカラーフィルターの性能、歩留まりに影響を及ぼす感光性組成物成分残留の回避は、ますます重要となってきている。
【０００９】
従来より、感光性組成物除去剤としては、グリコールエーテルやそのエステル、あるいはその混合物が一般的に用いられることが多い（例えば、特許文献１、２参照）。しかしながら、これらを上記カラーレジストの洗浄除去に応用した場合は、レジスト除去性が充分でなく、大量の除去液の使用が必要となり、また、除去残が発生するという問題があった。
【００１０】
また、顔料を含有する着色組成物の除去に、感光性組成物に使用されている溶剤成分または界面活性剤や分散剤等の感光性組成物に含有される成分を用いる方法もある（例えば、特許文献３参照）。しかしながら、この場合には、感光性組成物に含有される溶剤成分のみを洗浄剤として用いた場合は顔料が沈降しやすく、充分な洗浄性が得られない。他方、界面活性剤や分散剤等、感光性組成物成分に含有される成分を洗浄液組成物中に含有させた場合は、これらの新たに添加された成分が蒸発残分として基板や装置部材上に残留しやすく、更なる洗浄工程が必要となるという課題がある。更には、蒸発残分の残留を好まない基板の端面や裏面の感光性組成物除去には、これらの添加成分を含む洗浄液組成物を、実質上用いることができないという課題を指摘することができる。
【００１１】
【特許文献１】特公平４−４９９３８号公報
【特許文献２】特開平７−１４６５６２号公報
【特許文献３】特開２０００−２７３３７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、従来技術における上記した課題を解決可能な感光性組成物除去液を提供することにある。
【００１３】
本発明の他の目的は、感光性組成物除去性能に優れた感光性組成物除去液を提供することにある。
【００１４】
本発明の更なる目的は、液晶や有機ＥＬ製造工程における基板上に感光性組成物皮膜を形成する工程において、基板の周辺部、縁辺部または裏面部に残存する顔料を含有する感光性組成物の除去に特に有効な除去液を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは鋭意研究の結果、テルペン系炭化水素を含有する除去液を用いることで、充分な感光性組成物除去性能が得られることを見出した。本発明の感光性組成物除去液は、顔料含有感光性組成物の洗浄除去においても、優れた感光性組成物除去性能を発揮することが見出されている。
【００１６】
本発明者らの知見によれば、本発明においてこのような除去性向上が得られる理由は、上記のテルペン系炭化水素が顔料含有感光性組成物の洗浄除去における顔料の分散性の低下を抑制することにより、顔料含有感光性組成物の除去性が向上するためと推定される。
【００１７】
本発明は、例えば、以下の態様を含む。
【００１８】
［１］  未硬化の感光性組成物の除去に用いられる除去液であって、該除去液はテルペン系炭化水素を１〜８０質量％、テルペン系炭化水素以外の溶剤を２０〜９９質量％含有し、該テルペン系炭化水素以外の溶剤が、鎖状アミド化合物、環状アミド化合物、硫黄化合物、環状エステル等、グリコールエーテル類、グリコールエーテルカルボキシレート類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アルコール類、アルコキシカルボン酸エステル類および環状エーテル類からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする感光性組成物除去液。
【００１９】
［２］  前記テルペン系炭化水素が、二重結合を２個以上含むものであることを特徴とする［１］に記載の感光性組成物除去液。
【００２０】
［３］  前記テルペン系炭化水素が、ｐ−メンタジエン類であることを特徴とする［２］に記載の感光性組成物除去液。
【００２１】
［４］  テルペン系炭化水素を５〜８０質量％、テルペン系炭化水素以外の溶剤を２０〜９５％含有することを特徴とする［１］〜［３］のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【００２２】
［５］  テルペン系炭化水素が１〜４０質量％、テルペン系炭化水素以外の溶剤が６０〜９９質量％である組成を有し、且つ、テルペン系炭化水素以外の溶剤がプロピレングリコールモノメチルエーテル、３-メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノンおよび酢酸ブチルの少なくとも１種である組成からなる群から選ばれる組成であることを特徴とする上記［１］〜［３］のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【００２３】
［６］  テルペン系炭化水素が５〜４０質量％、テルペン系炭化水素以外の溶剤が６０〜９５質量％である組成を有し、且つ、該テルペン系炭化水素以外の溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３-メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノンおよび酢酸ブチルのうち少なくとも１種である組成であることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【００２５】
［７］  顔料を含有する感光性組成物の除去に用いられる［１］〜［６］のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【００２６】
［８］  顔料を含有するアクリル系感光性組成物の除去に用いられる［１］〜［６］のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【００２７】
［９］  感光前の顔料を含有する感光性組成物の除去に用いられる［１］〜［６］のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の除去液は、液晶や有機ＥＬ製造工程における基板上に感光性組成物皮膜を形成する工程において、基板周辺部、縁辺部または裏面部に残存する未硬化の顔料を含有する感光性組成物皮膜の除去、または装置部材や器具の表面に付着した未硬化の顔料を含有する感光性組成物の除去に効果を発揮するので有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下に、本発明の感光性組成物除去液について説明する。
【００３４】
（感光性組成物除去液）
本発明の感光性組成物除去液（以下「除去液」という。）は、未硬化の感光性組成物の除去に用いられるものであり、テルペン系炭化水素を少なくとも１種含有し、その含有割合は１〜８０質量％である。
【００３５】
（テルペン系炭化水素）
本発明に用いるテルペン系炭化水素は、（Ｃ５Ｈ８）ｎの組成を有する炭化水素およびその誘導体（α−ピネン、ピナン等）をいう。テルペン系炭化水素の炭素数は、１０〜２０が好ましく、炭素数１０のものが特に好ましい。
【００３６】
（テルペン系炭化水素の具体例）
具体的には、ミルセン、オシメン等の鎖状モノテルペン、α−テルピネン、β−テルピネン、γ−テルピネン、α−フェランドレン、β−フェランドレン、リモネン、テルピノーレン等の単環式６員環モノテルペンを例示することができるが、本発明はこれらに限定されない。
【００３７】
これらのテルペン系炭化水素は感光性組成物除去液中に単独で含有されていてもよいし、２種以上のテルペン系化合物の組み合わせとして含有されていてもよい。
【００３８】
（好ましいテルペン系炭化水素）
これらの中でも、特に二重結合を２個以上有する炭化水素であって、且つアルキル基を有するテルペン系炭化水素（例えば、メンタジエン類）を用いることが更に望ましい。アルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、また、２個以上の基が連結して環状構造をなしていてもよい。このようなメンタジエン類の具体的な例としては、１，３−ｐ−メンタジエン、１，４−ｐ−メンタジエン、１，４（８）−ｐ−メンタジエン、１，８−ｐ−メンタジエン等のｐ−メンタジエン類が、感光性組成物の除去性能、特に、顔料を含有する感光性組成物の除去性能が高く、更に、感光性組成物除去に適した乾燥性を有する点から好ましい。
【００３９】
（調製法）
本発明の除去液を実際に使用するにあたっては、上記したテルペン系炭化水素類の調製法は特に制限されない。入手の容易性の点からは、例えば、商品名ジペンテンＴ（日本テルペン化学社製）、タービノーレン（日本テルペン化学社）、Ｄ−リモネン（日本テルペン化学社製）、ジペンテンＺ１（ヤスハラケミカル社製）等のテルペン系炭化水素の混合物が、本発明の除去液に好適に使用できる。
【００４０】
（テルペン系炭化水素の含有量）
本発明の除去液には、上記テルペン系炭化水素が（「テルペン系炭化水素」＋「テルペン系炭化水素以外の溶剤」の合計質量を基準として）１質量％〜８０質量％含有される。該テルペン系炭化水素の含有量は、５質量％〜８０質量％であることが好ましく、５質量％〜４０質量％であることが更に好ましい。テルペン系炭化水素の含有量が１質量％以上であれば、感光性組成物除去性能、特に、顔料を含む感光性組成物における顔料の分散除去性能が発揮される。一方、該含有量が８０質量％以下であれば、感光性組成物に含まれる樹脂成分の溶解性能が低下することがなく、結果として感光性組成物の除去性能低下を招くことがないため好ましい。
【００４１】
（テルペン系炭化水素以外の溶剤）
本発明の除去液には、テルペン系炭化水素以外の溶剤を２０〜９９質量％含有することで、感光性組成物の溶解除去性を高めることができる。このテルペン系炭化水素以外の溶剤の含有量は、２０〜９５質量％であることが好ましく、６０〜９５質量％であることが更に好ましい。テルペン系炭化水素以外の溶剤の具体的な種類の例としては、例えば、鎖状アミド化合物、環状アミド化合物、硫黄化合物、環状エステル等、グリコールエーテル類、グリコールエーテルカルボキシレート類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アルコール類、アルコキシカルボン酸エステル類および環状エーテル類が挙げられる。
【００４２】
（テルペン系炭化水素以外の溶剤の具体例）
テルペン系炭化水素以外の溶剤（以下「その他の溶剤」という）の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられる。
【００４３】
（１）ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−エチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラメチル尿素、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルイミダゾリジノン等の環状アミド化合物；
【００４４】
（２）ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、等のスルホキシド類、ラクトン類；
【００４５】
（３）エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；
【００４６】
（４）エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、等のグリコールエーテルカルボキシレート類；
【００４７】
（５）酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸ヘキシル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸アミル、酪酸プロピル、酪酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、蓚酸ジメチル、蓚酸ジエチル、コハク酸ジメチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル等のカルボン酸エステル類；炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の炭酸エステル類；
【００４８】
（６）アセトン、メチルエチルケトン、ジ−ｉｓｏ−ブチルケトン、メチル−ｉｓｏ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｉｓｏ−プロピルケトン、メチル−ｎ−アミルケトン、メチル−ｉｓｏ−アミルケトン、３−メチル−２−ヘキサノン、４−メチル−２−ヘキサノン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチル−ｉｓｏ−ヘキシルケトン、４−メチル−２−ヘプタノン、５−メチル−２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２，６−ジメチル−４−ヘプタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；
【００４９】
（７）ブチルアルコール、ｎ−アミルアルコール、ｉｓｏ−アミルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、フルフリルアルコール等のアルコール類；
【００５０】
（８）２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、β−メトキシイソ酪酸メチル等のアルコキシカルボン酸エステル類；
【００５１】
（９）テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン等の環状エーテル類。
【００５２】
（好ましい溶剤）
これらの中でも、「その他の溶剤」としては、本発明の除去対象物である感光性組成物の溶解性を有し、テルペン系炭化水素との相溶性がある溶剤であれば、どのようなものでも使用することが可能である。例えば、鎖状アミド化合物、環状アミド化合物、スルホキシド類、ラクトン類、環状エステル等、グリコールエーテル類、グリコールエーテルカルボキシレート類、カルボン酸エステル類、アルコキシカルボン酸エステル類、ケトン類、アルコール類は、感光性組成物の洗浄性を高め、除去液に洗浄除去に適した乾燥性を付与させるので好ましい。
【００５３】
より具体的な例としては、例えば、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシドおよびγ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ｎ−ブチルアルコール等が挙げられる。
【００５４】
より好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノンが挙げられる。このようなテルペン系以外の溶剤成分は、単独であっても、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５５】
（洗浄液の組成）
本発明の洗浄液は、テルペン系炭化水素が１〜８０質量％、その他の溶剤が２０〜９９質量％の組成を有する。本発明の洗浄液は、テルペン系炭化水素が５〜８０質量％、その他の溶剤が２０〜９５質量％であることがより好ましく、テルペン系炭化水素が５〜４０質量％、その他の溶剤が６０〜９５質量％であるであることが更に好ましい。テルペン系炭化水素は二重結合を２個以上含むものが好ましく、より好ましくは、１，３−ｐ−メンタジエン、１，４−ｐ−メンタジエン、１，４（８）−ｐ−メンタジエン、１，８−ｐ−メンタジエン等のｐ−メンタジエン類のうち少なくとも１種から選ぶことが好ましい。他方、「その他の溶剤」は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３-メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、酢酸ブチルのうち少なくとも１種から選ぶことが好ましい。
【００５６】
（感光性樹脂組成物）
次に、本発明の除去液が適用される感光性樹脂組成物について説明する。
【００５７】
本発明の除去液が好適に使用可能な感光性組成物は、通常は、液晶、有機ＥＬ、半導体等の、各種電子部品の製造に使用されている感光性組成物である。特に、本発明の除去液は液晶、有機ＥＬ等に用いられる顔料を含有する感光性組成物の洗浄除去に好適に用いられる。これら感光性組成物は、一般的にアルカリで現像可能な皮膜形成物質と感光性物質からなるものである。更に顔料を含有する感光性組成物は、これに顔料や分散剤が更に添加されるものである。感光性組成物に含まれる皮膜形成物質としては、アクリル系樹脂、ノボラック系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリビニルフェノール系樹脂等を挙げることができるが、本発明は特にアクリル系樹脂を皮膜形成物質として含有する感光性組成物の除去に好適に用いることができる。
【００５８】
本発明の除去液は、被洗浄物に塗布あるいは付着された状態の感光性組成物の除去に適応することができ、特に、感光前の感光性組成物の除去に好適に用いることができる。感光性組成物は溶剤が含有されている状態であってもよいし、溶剤が揮発した後の状態であってもよい。
【００５９】
（感光性組成物を除去する方法）
本発明の除去液を用いて、感光性組成物を除去する方法は特に制限されない。この感光性組成物を除去する方法としては、例えば、感光性組成物が塗布または付着した被洗浄物に本除去液をノズル等から棒状、液滴状あるいはミスト状に吹きかけて除去する方法、本発明の除去液に被洗浄物を浸漬する方法等が挙げられる。除去を効率的に行うために、超音波照射や、ブラシ等による物理的洗浄を併用することも可能である。
【００６０】
特に液晶、半導体、有機ＥＬ製造の感光性組成物塗布工程において、基板の周辺部、縁辺部、または裏面部に付着した不要の未硬化の感光性組成物の除去、または塗布装置の一部または全部に付着した不要の未硬化の感光性組成物の除去に用いることができる。
【００６１】
本発明の除去液は、液晶や有機ＥＬに用いられるカラーフィルター製造工程の顔料を含有する感光性組成物の塗布工程において、特に好適に使用することができる。
【００６２】
本発明の除去液は、基板上にスピンコート法で感光性組成物を塗布する際の、基板周辺部、縁辺部、あるいは裏面部の未硬化の感光性組成物の除去、いわゆるエッジリンス、バックリンスのリンス剤として、またスピンコート時にカップに飛散した感光性組成物を洗浄除去する、いわゆる、カップリンスにも好適に使用可能である。
【００６３】
スピンコート法以外に基板上に感光性組成物を塗布する方法として、スリットコート法やワイヤーバーコート法、あるいはロールコート法等が知られているが、スリットノズルやワイヤーバー、印刷版等、塗布装置の部材や器具の表面に付着した未硬化の感光性組成物を除去する際にも、本発明の除去液は好適に使用することができる。
【００６４】
（他の態様）
また、本発明の別の態様は、上記除去液を用いて上記方法により未硬化の感光性組成物が除去された液晶用、半導体用または有機ＥＬ用の基板である。
【実施例】
【００６５】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、もちろん本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【００６６】
（洗浄性の評価）
なお、洗浄性は洗浄液に３分間浸漬後、感光性着色組成物の溶解状況を目視観察により次の３段階で評価した。
【００６７】
Ａ  …  完全に除去されている
Ｂ  …  部分的に溶解している
Ｃ  …  ほとんど溶解していない
【００６８】
＜調製例１＞アクリル系共重合体の調製
滴下漏斗、温度計、冷却管、撹拌機を付した４つ口フラスコにメタクリル酸（ＭＡ） １２．０質量部、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ） １４．０質量部、メタクリル酸ｎ−ブチル（ＢＭＡ） ４３．０質量部、２−ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ） ６．０質量部、エチルセロソルブアセテート（ＥＧＡ） ２２５．０質量部を仕込み、１時間４つ口フラスコ内を窒素置換した。更にオイルバスで９０℃まで加温した後、ＭＡ １２．０質量部、ＭＭＡ １４．０質量部、ＢＭＡ ４３．０質量部、ＨＭＡ ６．０質量部、ＥＧＡ ２２５．０質量部、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ） ３．２質量部の混合液を１時間かけて滴下した。
【００６９】
温度９０℃で３時間重合を行った後、ＡＩＢＮ １．０質量部とＥＧＡ １５．０質量部の混合液を加え更に１００℃に昇温して１．５時間重合を行った後放冷した。このようにして得たアクリル系共重合体の固形分濃度は２２．１質量％、酸価（ＪＩＳ  Ｋ５６０１により測定した酸価）は９２ｍｇＫＯＨ／ｇ、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）により測定したポリスチレン換算の質量平均分子量は２２，０００であった。
【００７０】
＜調製例２＞感光性着色組成物Ａ：黒色感光性着色組成物の調製
調製例１で得られたアクリル系共重合体 ３０．０質量部、ＥＧＡ５．０質量部，フローレンＤＯＰＡ−３３（共栄社化学株式会社製 分散剤 固形分濃度３０質量％）３．３質量部、Special Black ４（デグサ社 カーボンブラック）６．６質量部を混合後１晩放置した。更に１時間撹拌した後、３本ロールミル（株式会社 小平製作所製 型式ＲIII−１ＲＭ−２）に４回通した。得られた黒色インキにＥＧＡを加えて濃度調整することにより、固形分濃度１８．０質量％の黒色着色組成物を得た。
【００７１】
このようにして得られた黒色着色組成物１００質量部に更にジペンタエルスリトールヘキサアクリレート４．４質量部、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン２．２質量部およびＥＧＡ２５質量部を添加し、充分攪拌して感光性着色組成物Ａを得た。
【００７２】
＜調製例３＞感光性着色組成物Ｂ：緑色感光性着色組成物の調製
調製例１で得られたアクリル系共重合体 ３０．０質量部（固形分 ６．６質量部）、ＥＧＡ  ５．０質量部、フローレンＤＯＰＡ−３３（商標：共栄社化学株式会社製 分散剤 
固形分濃度３０質量％）３．３質量部、Pigment Green ３６  ６．６質量部を混合後１晩放置した。更に１時間撹拌した後、３本ロールミル（株式会社小平製作所製  型式ＲIII−１ＲＭ−２）に４回通した。得られた緑色インキにＥＧＡを加えて濃度調整することにより、固形分濃度１８．０質量％の緑色着色組成物を得た。
【００７３】
このようにして得られた緑色着色組成物１００質量部に更にジペンタエルスリトールヘキサアクリレート４．４質量部、４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゾフェノン０．７質量部、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール２．３質量部、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート３．８重量部およびＥＧＡ  ４２質量部を加えて充分攪拌し、感光性着色組成物Ｂを得た。
【００７４】
＜調製例４＞感光性組成物Ｃ：赤色感光性着色組成物の調製
調製例１で得られたアクリル系共重合体 ３０．０質量部（固形分 ６．６質量部）、ＥＧＡ  ５．０質量部，フローレンＤＯＰＡ−３３（商標：共栄社化学株式会社製  分散剤
固形分濃度３０質量％）３．３重量部、Pigment Red １７７  ６．６質量部を混合後１晩放置した。更に１時間撹拌した後、３本ロールミル（株式会社 小平製作所製 型式ＲIII−１ＲＭ−２）に４回通した。得られた赤色インキにＥＧＡを加えて濃度調整することにより、固形分濃度１８．０質量％の赤色着色組成物を得た。
【００７５】
該色組成物１００質量部に、更に、ジペンタエルスリトールヘキサアクリレート４．４質量部、イルガキュア３６９（チバスペシャリティケミカルズ社製）３．０質量部、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート３．８質量部、およびＥＧＡ  ４２質量部を加えて充分攪拌し、感光性着色組成物Ｃを得た。
【００７６】
＜調製例５＞感光性組成物Ｄ：青色感光性着色組成物の調製
調製例１で得られたアクリル系共重合体 ３０．０質量部（固形分 ６．６質量部）、ＥＧＡ  ５．０質量部，フローレンＤＯＰＡ−３３（商標：共栄社化学株式会社製  分散剤固形分濃度３０質量％）３．３重量部、Pigment Blue １５：６  ６．６質量部、Pigment Violet ２３  ０．６部を混合後１晩放置した。更に１時間撹拌した後、３本ロールミル（株式会社 小平製作所製 型式ＲIII−１ＲＭ−２）に４回通した。得られた青色インキにＥＧＡを加えて濃度調整することにより、固形分濃度１８．０質量％の青色着色組成物を得た。
【００７７】
このようにして得られた青色着色組成物１００質量部に、更に、ジペンタエルスリトールヘキサアクリレート４．４質量部、２−（４−アミノフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン３．０質量部、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート３．８質量部、およびＥＧＡ  ４２質量部を加えて充分攪拌し、感光性着色組成物Ｄを得た。
【００７８】
実施例１
調製例２〜調製例５で作成した感光性着色組成物Ａ〜感光性組成物Ｄをガラス板上（２８ｍｍ×７６ｍｍ）に１滴滴下し、室温にて２４時間乾燥させた。
【００７９】
これをＤ−リモネン８０ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２０ｇを混合した除去液中に３分間浸漬、静置し、表面に塗布された感光性着色組成物の洗浄除去を行った。その結果を表１に示す。
【００８０】
実施例２〜１６、比較例１〜６
表１に示す組成の除去液を用いて、実施例１と同様に感光性着色組成物の除去を実施した。その結果を表１に示す。
【００８１】
【表１】
0004762162.tif 000002