(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体有機金属化合物を固体有機金属化合物用充填容器に充填する方法において、粒径２．３６ｍｍ未満の固体有機金属化合物の粒のみからなり、さらに粒径０．２５ｍｍ未満の固体有機金属化合物の粒が固体有機金属化合物当たり１５重量％以下（０重量％を除く）含むであることを特徴とする固体有機金属化合物用充填容器への固体有機金属化合物の充填方法。
【請求項２】
請求項１記載の粒径２．３６ｍｍ未満の固体有機金属化合物の粒のみからなり、さらに粒径０．２５ｍｍ未満の固体有機金属化合物の粒が固体有機金属化合物当たり１５重量％以下（０重量％を除く）である固体有機金属化合物に、さらに充填材を共存させることを特徴とする請求項１に記載の固体有機金属化合物用充填容器への固体有機金属化合物の充填方法。
【請求項３】
固体有機金属化合物がトリメチルインジウムである請求項１または請求項２に記載の固体有機金属化合物用充填容器への固体有機金属化合物の充填方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、固体有機金属化合物の充填容器への充填方法およびその充填方法で充填された固体有機金属化合物の充填容器に関する。さらに詳しくは、化合物半導体等の電子工業用材料を製造する際に用いられるMetalorganicChemical Vapor Deposition（以下、「ＭＯＣＶＤ」と略称する）法等による気相エピタキシャル成長用の材料である固体有機金属化合物を、長期間一定の濃度で安定的に気相エピタキシャル成長用装置へ供給可能とする充填容器への固体有機金属化合物の充填方法およびその充填方法で固体有機金属化合物を充填した充填容器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
トリメチルインジウム等の有機金属化合物は、電子工業用材料を製造する際の原料として幅広く使用されている。
【０００３】
有機金属化合物を用いた電子工業用材料の製造方法として、近年、ＭＯＣＶＤ法等による気相エピタキシャル成長が多く用いられている。例えば、化合物半導体の薄膜がＭＯＣＶＤ法によって製造されており、その際、トリメチルアルミニウム、トリメチルガリウム、トリメチルインジウム等の有機金属化合物を原料に用いる。
【０００４】
ＭＯＣＶＤ法でこれら有機金属化合物を使用する際にその有機金属化合物が使用する条件において固体の場合は、通常、有機金属化合物を図５に示すようなキャリアガス導入口（２ａ）およびキャリアガス排出口（３ａ）を備えた充填容器（以下、充填容器Ａと呼ぶ）に充填し、水素ガス等のキャリアガスをキャリアガス導入口（２ａ）より容器内に導入し、キャリアガス排出口（３ａ）より有機金属化合物をキャリアガス中に飽和したガスとして取り出してＭＯＣＶＤ装置へ供給する方法を用いる。
【０００５】
その際、この有機金属化合物が上記の供給において使用する温度で固体の場合には、充填容器Ａ内において固体有機金属化合物中にキャリアガスが固体有機金属化合物と十分な接触をしないまま通過してしまう流路が形成されてしまうこと等によりキャリアガスと固体有機金属化合物との接触状態を均一に保つことが難しく、キャリアガスによって長期間一定の濃度で安定的にＭＯＣＶＤ装置に充填容器Ａから固体有機金属化合物を供給することが困難であるという問題点がある。また、前述のようなキャリアガスを用いた方法による固体有機金属化合物の供給においては、充填容器Ａに充填する固体有機金属化合物の量を増加させていくと、ＭＯＣＶＤ装置へ安定的に供給可能な固体有機金属化合物の量の割合が充填した固体有機金属化合物の量に対して減少し、結果的に固体有機金属化合物の充填容器内への残存量が多くなり固体有機金属化合物を有効に使用できないという問題点がある。
【０００６】
これら問題点を解決するために、固体有機金属化合物を充填容器Ａに充填する際の方法について種々の提案がなされている。例えば特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４および特許文献５等においては固体有機金属化合物を充填材とともに充填容器に充填する方法が提案されている。また、例えば特許文献６等においては固体有機金属化合物を不活性な担体に被覆し充填容器Ａに充填する方法等が提案されている。
【０００７】
このほかに、前述の問題点を解決する方法において、固体有機金属化合物を充填する充填容器自身の構造について種々の提案がなされている。例えば特許文献７等においては、図６に示すようにキャリアガス導入口にガスを均一化するためのディフューザー（２０ａ）を設け、固体有機金属化合物に対してキャリアガスを均一に流通させる構造とする充填容器（以下、充填容器Ｂと呼ぶ）が提案されている。
【０００８】
また、例えば特許文献８等においては、図７に示すような通気性を有する固体有機金属化合物配置室（２１ａ）を有する、充填容器（以下、充填容器Ｃと呼ぶ）が提案されている。
【０００９】
さらに、例えば特許文献９等においては、図８に示すような多孔質インレットチャンバーを固体有機金属化合物の充填部分とする、充填容器（以下、充填容器Ｄと呼ぶ）が提案されている。
【００１０】
一方、特許文献１０等においては、固体有機金属化合物の供給の安定化に関して、ルテニウム化合物を用いた場合において、粒径を制御する方法が提案されている。
【特許文献１】特公平５−３９９１５号公報
【特許文献２】特公平６−２００５１号公報
【特許文献３】特開平７−５８０２３号公報
【特許文献４】特開平８−２５０４４０号公報
【特許文献５】特開平８−２９９７７８号公報
【特許文献６】特許第２６５１５３０号公報
【特許文献７】特公平２−１２４７９６号公報
【特許文献８】特開平１０−２２３５４０号公報
【特許文献９】特開２００２−８３７７７号公報
【特許文献１０】特開２００３−１６０８６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１ないし９における充填方法および充填容器の提案においては、充填容器へ充填する固体有機金属化合物自身の粒径についての検討はなされていない。
【００１２】
また、特許文献１０等におけるルテニウム化合物の粒径制御の供給安定性への影響については、数回の製膜の検討により供給初期状態の効果についても述べられているものの、ルテニウム化合物について長期間一定の濃度で安定的に供給する効果については明らかではない。本発明者が検討した結果、キャリアガスを用いた固体有機金属化合物の供給において長期安定性を得るための粒径制御方法は、特許文献１０等が示すような初期安定性が得られる粒径制御方法とは粒径の大きさおよびその粒度分布が異なること見出した。
【００１３】
本発明は、前述の問題点を解決するものであり、本発明が解決しようとする課題は固体有機金属化合物を、長期間一定の濃度で安定的にＭＯＣＶＤ装置等の気相エピタキシャル成長用装置へ供給可能とする固体有機金属化合物用充填容器への固体有機金属化合物の充填方法およびその充填方法で固体有機金属化合物を充填した充填容器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前述の問題点を解決するために、本発明者らが検討した結果、充填容器に固体有機金属化合物を充填し、キャリアガスを流通することで長期間一定の濃度で固体有機金属化合物を供給するためには、固体有機金属化合物を固体有機金属化合物用充填容器に充填する際において、固体有機金属化合物の粒径がある特定の大きさ以下の粒において、その含有率を制限することで、初期の供給安定性を確保できるだけでなく、その供給安定性を長期間維持できることを見出し、本発明を完成させた。
【００１５】
すなわち、粒径０．２５ｍｍ以上２．３６ｍｍ未満（ただし、粒径が０．４〜０．６ｍｍのものは除く）の固体金属化合物のみからなる有機金属化合物の粒を必須として含み、さらに粒径０．２５ｍｍ未満の固体有機金属化合物の粒が固体有機金属化合物当たり１５重量％以下含むことを特徴とする固体有機金属化合物用充填容器への固体有機金属化合物の充填方法に関するものである。
【００１６】
さらに、本発明の充填方法においては、上記のように粒径を制御した固体有機金属化合物とともに充填材を共存させて使用することが出来る、
すなわち、本発明は、前記固体有機金属化合物に、さらに充填材を共存させることを特徴とする固体有機金属化合物用充填容器への固体有機金属化合物の充填方法に関するものである。
【００１７】
また、本発明の固体有機金属化合物用充填容器への固体有機金属化合物の充填方法においては、固体有機金属化合物としてトリメチルインジウムを使用することができる。
【００１８】
さらに本発明は、前述の充填方法で固体有機金属化合物を充填した充填容器に関するものである。
【００１９】
充填容器に固体有機金属化合物を充填し、キャリアガスを流通する方法において、粒径０．２５ｍｍ以上２．３６ｍｍ未満（ただし、粒径が０．４〜０．６ｍｍのものは除く）の固体金属化合物のみからなる有機金属化合物の粒を必須として含み、さらに粒径０．２５ｍｍ未満の粒を固体有機金属化合物中に１５重量％以下含むようにすることで、長期間一定の濃度で固体有機金属化合物を供給できる効果が得られる理由としては、０．２５ｍｍ未満の粒が１５重量％を超えて多く含まれるものは、その小さい粒同士から形成される空間においてはキャリアガスが通りにくく、それ以上の大きさの粒から形成される空間からキャリアガスがより流通されやすくなるようになり、固体有機金属化合物中にキャリアガスが固体有機金属化合物と十分な接触をしないまま通過してしまう流路が形成されやすくなるためと考えられる。
【００２０】
従って、キャリアガスを用いた固体有機金属化合物の供給において、固体有機金属化合物の粒径が０．２５ｍｍ未満のものの割合が１５重量％を超えて多くなると、初期の供給安定性では問題がないものの、長期間の安定性においては不具合が生じる。本発明のように、粒径０．２５ｍｍ以上２．３６ｍｍ未満（ただし、粒径が０．４〜０．６ｍｍのものは除く）の固体金属化合物のみからなる有機金属化合物の粒を必須として含み、さらに粒径０．２５ｍｍ未満の粒を固体有機金属化合物中に１５重量％以下含むものを用いることで、流路が形成されにくくなくなり、短期的に供給量が安定するだけでなく、長期間安定に固体有機金属化合物の充填層中をキャリアガスが流通することができ、固体有機金属化合物の供給安定性が向上すると考えられる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明により、固体有機金属化合物を固体有機金属化合物用充填容器に充填する際において、固体有機金属化合物の粒径がある特定の大きさ未満の粒の含有率を制限することで、初期の安定性を確保できるだけでなく、長期間安定的に固体有機金属化合物をＭＯＣＶＤ装置等の気相エピタキシャル成長用装置へ供給することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下に本発明の充填方法およびその充填方法で固体有機金属化合物を充填した充填容器についてさらに詳しく述べる。
【００２３】
本発明の充填方法においては、固体有機金属化合物を固体有機金属化合物用充填容器に充填する際において、粒径０．２５ｍｍ以上２．３６ｍｍ未満（ただし、粒径が０．４〜０．６ｍｍのものは除く）の固体金属化合物のみからなる有機金属化合物の粒を必須として含み、さらに粒径０．２５ｍｍ未満の粒を固体有機金属化合物中に１５重量％以下としたものとすることを特徴とする。
【００２４】
【００２５】
本発明において、固体有機金属化合物の粒の大きさとしては、例えば、固体で充填容器に充填する場合には、充填容器に備えた充填口の開口部の大きさを通過する大きさとすることができ、通常、１０ｍｍ以下、好ましくは８ｍｍ以下、さらに好ましくは６ｍｍ以下のものを用いることが出来る。
【００２６】
この固体有機金属化合物の粒を成形する方法としては、特に限定されず、これまで知られている成形方法をそのまま用いることが出来る。この成形方法の例として、例えば、固体有機金属化合物の固まりを粉砕する方法や、また、例えば、固体有機金属化合物を液化し、それを固化する方法等を用いることが出来る。
【００２７】
また、固体有機金属化合物の粒径の制御の方法も、特に限定されず、これまで知られている粒径を揃える方法をそのまま用いることが出来る。この粒径制御の方法として、例えば、固体有機金属化合物の固まりを粉砕する方法においては、固体有機金属化合物を粉砕した後、篩で、一定の大きさの篩目を通過したものを回収する方法等、また、例えば、固体有機金属化合物を液化し、それを固化する方法においては、液滴重量を制御する方法あるいは型枠を使用し液体の形状を型枠の大きさで制御する方法等を例示することが出来る。
【００２８】
前述の方法で、粒径０．２５ｍｍ以上２．３６ｍｍ未満（ただし、粒径が０．４〜０．６ｍｍのものは除く）の固体金属化合物のみからなる有機金属化合物の粒を必須として含み、さらに粒径０．２５ｍｍ未満の粒を固体有機金属化合物中に１５重量％以下含むようにしたものを得るための方法としては、特に制限はないが、具体的には、例えば、適度に粉砕した固体有機金属化合物を０．２５ｍｍの大きさの篩目をもつ篩を通過したものとしないものとに篩い分けを行い、篩い分けされた０．２５ｍｍ未満の固体有機金属化合物の粒と０．２５ｍｍ以上の固体有機金属化合物の粒とを分離し、例えば、０．２５ｍｍ以上の固体有機金属化合物の粒とを分離したものを全量用いるか、あるいは、０．２５ｍｍ未満の粒の割合が固体有機金属化合物中に１５重量％以下含むように混合する方法等を用いることが出来る。
【００２９】
本発明の充填方法において、適用可能な固体有機金属化合物用充填容器は、特にその構造は限定されず、例えば、先に示したようなこれまで知られている容器をそのまま用いることができる。
【００３０】
本発明の固体有機金属化合物用充填容器への固体有機金属化合物の充填方法によって固体有機金属化合物を充填容器に充填し、ＭＯＣＶＤ装置への有機金属化合物の供給に使用する場合には、充填容器内部の空間に固体有機金属化合物を充填する。
【００３１】
本発明の固体有機金属化合物用充填容器への固体有機金属化合物の充填方法において、充填容器の内部の空間へ固体有機金属化合物を充填する方法としては、これまで知られている方法をそのまま使用することが可能であり、例えば、固体有機金属化合物を昇華により充填容器内に導入し充填する方法や、また、例えば、有機金属化合物をキャリアガス中の飽和蒸気として充填容器内に導入し充填する方法や、さらに、例えば、有機金属化合物を融点以上に加熱して液状にして充填容器内に導入する方法等を用いることができるが、これらの方法は固体有機金属化合物の粒径の制御が困難な場合が多い。
【００３２】
通常、本発明の粒径を制御した固体有機金属化合物の固体有機金属化合物用充填容器への充填においては、前述のような特殊な操作を必要とせず、充填容器内部の空間に固体有機金属化合物を充填するための充填口を設けた充填容器を使用することで、充填容器の外部で粒径を制御した固体有機金属化合物を固体のまま投入することができる。
【００３３】
この固体有機金属化合物が、例えば、空気中で発火するような物質の場合、前記の固体有機金属化合物の充填口からの充填作業を、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等の固体有機金属化合物に対して不活性なガスの雰囲気下で行うことが出来る。
【００３４】
本発明の充填容器に充填して使用できる固体有機金属化合物については、これまで知られている充填容器で使用されている固体有機金属化合物はもちろんのこと、その他の固体有機金属化合物であっても、キャリアガスを用いた供給使用温度・圧力において、キャリアガスに対して所望の供給に足りうる飽和蒸気圧がありかつ供給条件下において固体であるものが適用可能である。これら固体有機金属化合物の代表的な例として、アルキル金属化合物、メタロセン化合物、β−ジケトン錯体、アダクト化合物があり、具体的には例えば、トリメチルインジウム、ジメチルクロルインジウム、トリフェニルアルミニウム、トリフェニルビスマス、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等のアルキル金属化合物、シクロペンタジエニルインジウム、ビスシクロペンタジエニルマグネシウム、ビスシクロペンタジエニルマンガン、フェロセン等のメタロセン化合物、バリウムアセチルアセトナート錯体、ストロンチウムアセチルアセトナート錯体、銅アセチルアセトナート錯体、カルシウムアセチルアセトナート錯体、バリウムジピバロイルメタナート錯体、ストロンチウムジピバロイルメタナート錯体、銅ジピバロイルメタナート錯体、イットリウムジピバロイルメタナート錯体、カルシウムジピバロイルメタナート錯体等のβ−ジケトン錯体、トリメチルインジウム・トリメチルアルシンアダクト、トリメチルインジウム・トリメチルホスフィンアダクト、バリウムジピバロイルメタナート・１，１０−フェナントロリンアダクト等のアダクト化合物等が挙げられる。
【００３５】
また、本発明の充填方法で固体有機金属化合物を充填した充填容器を使用する際の圧力は、これまで知られている充填容器で用いられている条件を変更することなく使用可能であり、長期間安定的に固体有機金属化合物がＭＯＣＶＤ装置に供給されるような条件であれば特に制限はなく、加圧、常圧、減圧いずれでも使用可能であるが、通常常圧付近から減圧の条件で使用する。
【００３６】
さらに、本発明の充填方法で固体有機金属化合物を充填した充填容器を使用する際の温度についても、これまで知られている充填容器で用いられている条件を変更することなく適用可能であり、通常使用する固体有機金属化合物がキャリアガスに対して所望の供給に足りうる飽和蒸気圧が得られかつ供給条件下において固体となっている条件が適用可能である。
【００３７】
本発明の充填方法で固体有機金属化合物を充填した充填容器において、キャリアガスもこれまで知られている充填容器で用いられているものがすべて使用可能であり、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスあるいは水素ガス等が用いられる。
【００３８】
また、本発明の充填方法で固体有機金属化合物を充填した充填容器においては、これまで知られている充填容器において固体有機金属化合物とともに充填して使用されている既知の充填材を使用可能である。この充填材としてはその材質として、例えばステンレススチール、ガラス、セラミックス、フッ素樹脂等が用いられ、好ましくはステンレススチールを用いることができる。また、充填材の形状としては、丸型、角型、円筒状、コイル状、スプリング状、球状等の各種形状のものが使用でき、例えばこれらの例として、蒸留用各種パッキング、例えばディクソンパッキング、ヘリパック、フェンスケ等を使用できる。また、繊維状の充填材も使用できる。
【００３９】
これらの充填材は、本発明の充填容器においても、これまで知られている方法で充填容器に充填して固体有機金属化合物とともに使用することができる。
【００４０】
なお、本発明の充填方法は固体有機金属化合物だけでなく、その他蒸気圧をもつ固体無機化合物、固体有機化合物または固体金属等の一般的な固体物質の充填方法にも転用可能である。このように固体有機金属化合物のかわりにその他の固体物質をキャリアガスを用いキャリアガスに飽和したガスとして取り出すための充填方法としても本発明の充填方法は使用可能である。
【００４１】
以下、実施例によって本発明を詳しく説明する。
【参考例１】
【００４２】
固体有機金属化合物として、トリメチルインジウムを用いた。
【００４３】
トリメチルインジウムを窒素雰囲気下において粉砕し、２．３６ｍｍの篩目を有する篩を用い、トリメチルインジウムの粒径が２．３６ｍｍ未満の粒とした。さらに、この粒径が２．３６ｍｍ未満のトリメチルインジウムを粒から０．２５ｍｍの篩目を有する篩を用いてトリメチルインジウムの粒径を０．２５ｍｍ未満のものをカットし、トリメチルインジウムの粒径が０．２５ｍｍ未満の粒がトリメチルインジウム中に含まないようにしたトリメチルインジウムを調製した。
【００４４】
このトリメチルインジウムの粒径が０．２５ｍｍ未満の粒がトリメチルインジウム中に含まないようにしたトリメチルインジウムを用い、供給安定性をテストした。
【００４５】
供給安定性のテストは以下の方法で行った。
【００４６】
窒素雰囲気下において、図１に示すような、外径３０．７ｍｍφのＳＵＳ製充填容器に、前述の方法で粒径を制御したトリメチルインジウムの粒径が０．２５ｍｍ未満の粒がトリメチルインジウム中に含まないようにしたトリメチルインジウム１００ｇとステンレス製充填材１７６ｇとを充填口（９）から充填した。この充填操作においては、接続部品（２６）部分で切り離し、そこを充填口（９）として充填した。
【００４７】
次に、キャリアガス排出口（３）をトリメチルインジウム捕集用のドライアイス−メタノールで冷却したトラップに接続した。キャリアガス排出口（３）とドライアイス−メタノールで冷却したトラップとを接続する配管は加温して、この配管内をトリメチルインジウムが析出しないようにした。トリメチルインジウムと充填材が入った充填容器を２５℃の恒温槽につけ、供給安定性テストの装置系内の圧力を大気圧付近にした条件下で、充填容器のキャリアガス導入口（２）より窒素ガスを毎分５００ｃｃ流し、８時間毎にドライアイス−メタノールで冷却したトラップに捕集されたトリメチルインジウムの重量を測定した。あわせてトリメチルインジウムの蒸気を含むキャリアガスのガス相のガス濃度について、超音波式ガス濃度計（商品名エピソン：トーマススワン社製）にて測定した。
【００４８】
その結果を図２に示す。図２に示すグラフの縦軸には１時間あたりのトリメチルインジウムの供給量を、横軸には供給したトリメチルインジウムの使用割合を重量％で示した。
【００４９】
供給安定性のテストの結果、トリメチルインジウムの供給速度は使用割合の７９重量％まで安定していた。
【００５０】
このように、固体有機金属化合物の粒径が０．２５ｍｍ未満の粒を０重量％にカットしたものを用いることで、固体有機金属化合物の供給を一定の濃度で安定的に行うことができ、さらに、安定した供給速度が得られた条件下において固体有機金属化合物の使用割合を増加させることが可能となる。その結果、固体有機金属化合物を安定的に供給する期間を向上することができる。
【比較例１】
【００５１】
参考例１において、トリメチルインジウムを粉砕後、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒を除去しなかったこと以外は、参考例１と同様の操作を行い、固体有機金属化合物の供給安定性をテストした。なお、この場合の０．２５未満以下の粒の割合は、トリメチルインジウム当たり１９重量％であった。
【００５２】
その結果を図３に示す。図３に示すグラフの縦軸には１時間あたりのトリメチルインジウムの供給量を、横軸には供給したトリメチルインジウムの使用割合を重量％で示した。供給安定性のテストの結果、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒をカットしなかったトリメチルインジウムの供給速度は使用割合の５４重量％まで安定していた。
【００５３】
このように、粒径が０．２５ｍｍ未満のトリメチルインジウムの粒をカットしなかったトリメチルインジウムを充填して使用した場合には、参考例１のように長期間安定して供給速度を得ることができなかった。
【実施例１】
【００５４】
参考例１において、トリメチルインジウムを粉砕し、粒径が２．３６ｍｍ未満の粒とし、さらに粒径が０．２５ｍｍ未満の粒と粒径が０．２５ｍｍ以上〜２．３６ｍｍ未満の粒を分割した後、粒径が０．２５ｍｍ以上〜２．３６ｍｍの粒のトリメチルインジウムに、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒のトリメチルインジウムが混合後のトリメチルインジウム中の１５重量％となるように混合し、これを粒径を制御したトリメチルインジウムとして５０ｇ充填して用いたこと、ステンレス充填材の量を１４０ｇとしたこと、およびＳＵＳ製充填容器として図４のような容器上部外径が６１ｍｍφおよび容器下部外径が２６ｍｍφであるＳＵＳ製充填容器を用いたこと以外は、参考例１と同様の操作を行い、固体有機金属化合物の供給安定性をテストした。供給安定性のテストの結果、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒を１５重量％含むトリメチルインジウムを用いた場合の供給速度は使用割合の５８重量％まで安定していた。
【００５５】
このように、粒径が０．２５ｍｍ未満のトリメチルインジウムの粒が１５重量％含まれるトリメチルインジウムを充填して使用した場合には、実施例１のように長期間安定して供給速度を得ることができた。
【比較例２】
【００５６】
実施例１において、トリメチルインジウムを粉砕後、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒を除去した後、粒径が０．２５ｍｍ以上〜２．３６ｍｍ未満の粒のトリメチルインジウムに、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒のトリメチルインジウムが混合後のトリメチルインジウム中の２０重量％となるように混合し、これを粒径を制御したトリメチルインジウムとして５０ｇ充填して用いたこと以外は、実施例１と同様の操作を行い、固体有機金属化合物の供給安定性をテストした。供給安定性のテストの結果、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒を２０重量％含むトリメチルインジウムの供給速度は使用割合の３４重量％まで安定していた。
【００５７】
このように、粒径が０．２５ｍｍ未満のトリメチルインジウムの粒が２０重量％含まれるトリメチルインジウムを充填して使用した場合には、実施例１のように長期間安定して供給速度を得ることができなかった。
【比較例３】
【００５８】
実施例１において、トリメチルインジウムを粉砕後、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒を除去した後、粒径が０．２５ｍｍ以上〜２．３６ｍｍ未満の粒のトリメチルインジウムに、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒のトリメチルインジウムが混合後のトリメチルインジウムの４０重量％となるように混合し、これを粒径を制御したトリメチルインジウムとして５０ｇ充填して用いたこと以外は、実施例２と同様の操作を行い、固体有機金属化合物の供給安定性をテストした。供給安定性のテストの結果、粒径が０．２５ｍｍ未満の粒を４０重量％含むトリメチルインジウムの供給速度は使用割合の３２重量％まで安定していた。
【００５９】
このように、粒径が０．２５ｍｍ未満のトリメチルインジウムの粒が４０重量％含まれるトリメチルインジウムを充填して使用した場合には、実施例１のように長期間安定して供給速度を得ることができなかった。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明は、初期の安定性を確保できるだけでなく、長期間安定的に固体有機金属化合物をＭＯＣＶＤ装置等の気相エピタキシャル成長用装置へ供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】参考例１で使用した充填容器を示す模式断面図
【図２】参考例１におけるトリメチルインジウムの供給安定性のテストの結果（供給したトリメチルインジウムの使用割合と１時間あたりのトリメチルインジウムの供給量との関係）を示す図
【図３】比較例１におけるトリメチルインジウムの供給安定性のテストの結果（供給したトリメチルインジウムの使用割合と１時間あたりのトリメチルインジウムの供給量との関係）を示す図
【図４】本実施例１で使用した充填容器を示す模式断面図
【図５】従来の充填容器Ａを示す模式断面図
【図６】従来の充填容器Ｂを示す模式断面図
【図７】従来の充填容器Ｃを示す模式断面図
【図８】従来の充填容器Ｄを示す模式断面図
【符号の説明】
【００６２】
２：キャリアガス導入口
３：キャリアガス排出口
９：充填口
２２：バルブ
２６：接続部品
２ａ：キャリアガス導入口
３ａ：キャリアガス排出口
７ａ：下部開口部
８ａ：流路
９ａ：充填口
２０ａ：ディフューザー
２１ａ：固体有機金属化合物配置室
２２ａ：バルブ
２３ａ：カラム型容器
２４ａ：フィルター
２５ａ：インレットチャンバー
２７ａ：多孔質部材
【図１】
0004748928.tif 000002
【図２】
0004748928.tif 000003
【図３】
0004748928.tif 000004
【図４】
0004748928.tif 000005
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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