(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂（ａ−１）、光酸発生剤又は光塩基発生剤（ｂ−１）、架橋性化合物（ｃ−１）、染料（ｄ）、及びケトール系溶剤（ｅ）を含有するネガ型レジスト組成物。
【請求項２】
溶剤が、溶媒全体に対してケトールを少なくとも１重量％含有するものである請求項１又は請求項２に記載のレジスト組成物。
【請求項３】
ケトールがβ−ヒドロキシケトンである請求項１又は請求項２に記載のレジスト組成物。
【請求項４】
ケトールが４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンである請求項１又は請求項２に記載のレジスト組成物。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のレジスト組成物を基板上に塗布、乾燥、露光、そして現像する工程を含むカラーフィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
固体撮像素子または液晶表示素子等の撮像素子用カラーフィルターは、主に、微細なパターン形成ができることにより高精細なカラーフィルターを作製することが可能であることから、色素を添加したフォトレジストによりパターンを形成する方法を用いて作製されている。この方法では、色素と高分子樹脂とを含むレジスト組成物を用いて、それを基板上に塗布成膜した後、着色層をフォトリソグラフィー法でパターニング、現像することで一つの着色パターンを形成し、各色毎にこの工程を繰り返し行い、カラーフィルターを作製する。
【０００３】
その際、着色剤として用いられる色素には、一般的に耐熱性や耐光性に優れる顔料が用いられ、顔料を分散させたレジストが提案されている。例えば、酸により硬化し得る樹脂系材料と、光酸発生剤と、顔料とを含有してなることを特徴とする感光性着色樹脂組成物が開示されている。そこには樹脂系材料がフェノールを含む樹脂とＮ−メチロール構造を持つ架橋剤が開示されている。（例えば、特許文献１）
しかしながら、顔料は顔料自体が１μｍ前後の粒子を含んでいるため、その粒子が影響して微細なパターンを形成することができない。そのため、高解像度が要求される電荷結合素子（ＣＣＤ）用カラーフィルターの作製が困難な状況となってきている。
これに対して、色素として染料を用いた場合、染料は有機溶剤に対して可溶であることから均一なレジスト組成物が得られる。そのため、顔料を分散させたレジスト組成物に比べて微細なパターンを形成することが可能である。例えば、酸により硬化し得る樹脂、架橋剤、光酸発生剤、染料及び溶剤を含有してなるネガ型レジスト組成物が開示されている。上記の溶剤としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ピルピン酸エチル、ジメチルホルムアミド等が例示されている。（例えば、特許文献２）。
【特許文献１】特開平４−１６３５５２号公報
【特許文献２】特開平６−５１５１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
染料は一般的に有機溶剤への溶解性が低いため、レジスト組成物中の染料濃度を高めることが困難である。特にカラーフィルターの薄膜化がさらに進んだ場合、所定の分光スペクトルを発現させるためにはレジスト組成物中の染料濃度を高める必要がある。加えて、染料と樹脂との相溶性が低い場合、染料、樹脂および有機溶剤を用いてレジスト組成物を調整中に染料が不溶化または析出し、さらに、レジスト組成物を保存中に有機溶剤への溶解性が低い染料が再沈殿、再結晶しやすくなり異物が発生しやすくなる等の問題がある。
【０００５】
本願発明はカラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めても異物発生等の問題が発生しないカラーレジスト組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願発明は第１観点として、ケトール系溶剤を含む染料含有レジスト組成物、
第２観点として、樹脂（ａ−１）、光酸発生剤又は光塩基発生剤（ｂ−１）、架橋性化合物（ｃ−１）、染料（ｄ）、及びケトール系溶剤（ｅ）を含有するネガ型レジスト組成物、
第３観点として、樹脂（ａ−２）、光ラジカル発生剤（ｂ−２）、架橋性化合物（ｃ−２）、染料（ｄ）及びケトール系溶剤（ｅ）を含有するネガ型レジスト組成物、
第４観点として、樹脂（ａ−３）、光酸発生剤（ｂ−３）、架橋性化合物（ｃ−３）、染料（ｄ）及びケトール系溶剤（ｅ）を含有するポジ型レジスト組成物、
第５観点として、溶剤が、溶媒全体に対してケトールを少なくとも１重量％含有するものである第１観点乃至第４観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物、
第６観点として、ケトールがβ−ヒドロキシケトンである第１観点乃至第５観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物、
第７観点として、ケトールが４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンである第１観点乃至第５観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物、
第８観点として、第１観点乃至第７観点のいずれか一つに記載のレジスト組成物を基板上に塗布、乾燥、露光、そして現像する工程を含むカラーフィルターの製造方法、
第９観点として、第８観点に記載の方法で製造されたカラーフィルター、
第１０観点として、第８観点に記載の方法で製造されたカラーフィルターを有する固体撮像素子、
第１１観点として、第８観点に記載の方法で製造されたカラーフィルターを有する液晶表示素子、及び
第１２観点として、第８観点に記載の方法で製造されたカラーフィルターを有する発光ダイオード表示素子である。
【発明の効果】
【０００７】
本願発明はカラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めても充分な染料の溶解性を確保し、長期保存下でも染料の沈殿に伴う異物発生等の問題がなく、保存安定性の高いカラーレジスト組成物を提供するために、溶剤としてケトール系溶剤、好ましくはβ−ヒドロキシケトン、特に好ましくは４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを用いることをみいだした。
【０００８】
ケトールはヒドロキシケトンとも呼ばれ、水酸基を有するケトンの総称である。ケトールの中でも特にβ−ヒドロキシケトンが好ましい。分子内で水酸基とケトンのカルボニル基とが特定の位置関係（β位）に存在することで染料分子との相互作用が高まり溶解性が向上し、温度変化や長期間の保存に対しても染料成分の沈殿に伴う異物等の発生がないものである。β−ヒドロキシケトンの中でも特に４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンがこれらの効果の点で優れている。
【０００９】
その結果、染料の溶解性および染料と樹脂との相溶性が高まり、所定の染料濃度を確保する事ができるので、所望の分光スペクトルを発現できるカラーフィルターを作製できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本願発明は、ケトール系溶剤を含む染料含有レジスト組成物である。
【００１１】
更に詳しくは、本願発明のレジスト組成物はネガ型とポジ型に適用可能である。
【００１２】
ネガ型レジスト組成物としては第一に、樹脂（ａ−１）、光酸発生剤又は光塩基発生剤（ｂ−１）、架橋性化合物（ｃ−１）、染料（ｄ）、及びケトール系溶剤（ｅ）を含有するネガ型レジスト組成物であり、第二に樹脂（ａ−２）、光ラジカル発生剤（ｂ−２）、架橋性化合物（ｃ−２）、染料（ｄ）及びケトール系溶剤（ｅ）を含有するネガ型レジスト組成物である。
【００１３】
また、ポジ型レジスト組成物としては、樹脂（ａ−３）、光酸発生剤（ｂ−３）、架橋性化合物（ｃ−３）、染料（ｄ）及びケトール系溶剤（ｅ）を含有するポジ型レジスト組成物である。
【００１４】
ネガ型レジスト組成物に使用される樹脂は、熱又は光照射により発生する酸若しくは塩基により硬化する樹脂（ａ−１）、熱又は光照射により架橋する感光性樹脂（ａ−２）であり、該樹脂中の未露光部の塗膜が現像液により除去できるものであれば特に限定されない。
【００１５】
樹脂（ａ−１）としては、例えば水酸基、又はカルボキシル基を有する樹脂等が挙げられる。
【００１６】
例えばポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸およびポリメタクリル酸等のアクリル系樹脂、ポリアミド酸、ポリヒドロキシスチレン、ポリヒドロキシスチレン誘導体、ポリメタクリレートとマレイン酸無水物との共重合体、フェノール樹脂、ノボラック樹脂、水酸基および／またはカルボキシル基を含むポリイミド、セルロース、セルロース誘導体、スターチ、キチン、キトサン、ゼラチン、ゼイン、糖骨格高分子化合物、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタンおよびポリシロキサンが挙げられる。これらの樹脂は、単独で、または２種類以上組み合わせて用いられる。
【００１７】
特に好ましくは、ポリヒドロキシスチレン、ポリヒドロキシスチレン誘導体、フェノール樹脂およびノボラック樹脂である。
【００１８】
カルボキシル基含有アクリル系樹脂としては、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とし、エチレン性不飽和カルボン酸と必要に応じて他のモノマーを共重合したアクリル系共重合体が挙げられる。
【００１９】
（メタ）アクリル酸エステルとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２０】
エチレン性不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、およびそれらの酸無水物やハーフエステルが用いられる。これらのなかでは、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸が好ましい。
【００２１】
上記アクリル系共重合体は重量平均分子量で１０００〜１０万であり、好ましくは、現像性、密着性の点から、２０００〜３万である。これらは必要に応じて組み合わせることができ、単独で用いることも、２種類以上組み合わせて用いることもできる。
【００２２】
ポリヒドロキシスチレンおよびポリヒドロキシスチレン誘導体としては、ビニルフェノールの単独重合体、ビニルフェノールと他化合物とを共重合して得られる共重合体がある。この際の他化合物としては、アクリル酸誘導体、アクリロニトリル、メタクリル酸誘導体、メタクリロ二トリル、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−クロロスチレン等のスチレン誘導体が挙げられる。
【００２３】
上記ポリヒドロキシスチレンおよびポリヒドロキシスチレン誘導体は重量平均分子量で１０００〜１０万であり、好ましくは、現像性、密着性の点から、２０００〜３万である。これらは必要に応じて組み合わせることができ、単独で、又は２種類以上組み合わせて用いる事が出来る。
【００２４】
ノボラック樹脂としては、フェノール化合物とアルデヒド化合物またはケトン化合物とを酸触媒の存在下で縮合して得られるものが挙げられる。
【００２５】
フェノール化合物としては、フェノール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−エチルフェノール、２，３，５−トリメチルフェノール、２，３，５−トリエチルフェノール、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−tert−ブチル−５−メチルフェノール、ｐ−メトキシフェノール、ｍ−メトキシフェノール、ｐ−エトキシフェノール、ｍ−エトキシフェノール、ｐ−プロポキシフェノール、ｍ−プロポキシフェノール、ｏ−イソプロペニルフェノール、ｐ−イソプロペニルフェノール、２−メチル−４−イソプロペニルフェノール、２−エチル−４−イソプロペニルフェノール、２，３−キシレノール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、３，４−キシレノール、レゾルシノ−ル、ヒドロキノン、４，４−ジヒドロキシビフェニル、フェ二ルフェノール、カテコール、ピロガノール、ナフトール、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェノール化合物は、単独で、または２種類以上組み合わせて用いることができる。
【００２６】
アルデヒド化合物としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、トリオキサン、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、トリメチルアセトアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド、シクロヘキサンアルデヒド、フルフラール、フリルアクロレイン、ベンズアルデヒド、テレフタルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、α−フェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピルアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｏ−メチルベンズアルデヒド、ｍ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズアルデヒド、ｏ−クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンズアルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、ケイ皮酸アルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド化合物は、単独で、または２種類以上組み合わせて用いることができる。
【００２７】
ケトン化合物としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジフェニルケトン等が挙げられる。これらのケトン化合物は、単独で、または２種類以上組み合わせて用いることができる。
【００２８】
縮合反応時に用いられる酸触媒としては、塩酸、硫酸、蟻酸、シュウ酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
【００２９】
上記ノボラック樹脂は重量平均分子量で１０００〜１０万であり、好ましくは、現像性、密着性の点から、２０００〜３万である。これらは必要に応じて組み合わせることができ、単独で用いても、２種類以上組み合わせて用いても良い。
【００３０】
熱または光照射により架橋する感光性基を有する樹脂（ａ−２）としては、カルボキシル基含有アクリル系樹脂を用いることができる。すなわち、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とし、エチレン性不飽和カルボン酸と必要に応じて他のモノマーを共重合したアクリル系共重合体である。
【００３１】
（メタ）アクリル酸エステルとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３２】
エチレン性不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、およびそれらの酸無水物やハーフエステルが用いられる。これらのなかでは、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸が好ましい。
【００３３】
他のモノマーとしては、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロ二トリル、スチレン、αーメチルスチレン、酢酸ビニル、アルキルビニルエーテル等が挙げられる。
【００３４】
上記アクリル系共重合体は重量平均分子量で１０００〜１０万であり、好ましくは、現像性、密着性の点から、２０００〜３万である。これらは必要に応じて組み合わせることができ、単独で用いても、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。
【００３５】
樹脂（ａ−１）を用いた際に使用する光開始剤（ｂ−１）の中で、光酸発生剤としては、光照射により直接もしくは間接的に酸を発生するものであれば特に限定されない。具体例としては、トリアジン系化合物、アセトフェノン誘導体化合物、ジスルホン系化合物、ジアゾメタン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリールホスホニウム塩、鉄アレーン錯体などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。具体的には、例えばジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムメシレート、ジフェニルヨードニウムトシレート、ジフェニルヨードニウムブロミド、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムメシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムクロリド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムクロライド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムクロリド、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルホスホニウムクロリド、トリフェニルホスホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレートが挙げられる。
【００３６】
また式（１）〜式（６８）に挙げられる光酸発生剤も使用する事が出来る。
【００３７】
【化１】
0004614054.tif 000002
【００３８】
【化２】
0004614054.tif 000003
【００３９】
【化３】
0004614054.tif 000004
【００４０】
【化４】
0004614054.tif 000005
【００４１】
【化５】
0004614054.tif 000006
【００４２】
【化６】
0004614054.tif 000007
【００４３】
【化７】
0004614054.tif 000008
【００４４】
【化８】
0004614054.tif 000009
【００４５】
【化９】
0004614054.tif 000010
【００４６】
これら光酸発生剤は単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。また、その導入量は、樹脂（ａ−１）成分１００重量部に対して１〜１００重量部の範囲で選ばれる。この量が１重量部未満の場合では、架橋反応が十分に進行せず、所望のレジストパターンを得にくくなり、また１００重量部を超えた場合では、レジスト組成物の保存安定性に劣る。そのため、光酸発生剤の導入量は樹脂（ａ−１）成分１００重量部に対して１〜１００重量部であることが好ましい。
【００４７】
光塩基発生剤としては、光照射により直接もしくは間接的に塩基を発生するものであれば特に限定されない。例えば、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメート、および以下の式（６９）〜式（７１）の構造の化合物が挙げられる。
【００４８】
【化１０】
0004614054.tif 000011
【００４９】
ただし、式（６９）〜式（７１）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は水素原子、置換または無置換のアルキル基、および置換または無置換のフェニル基を示す。
【００５０】
これら光塩基発生剤は光酸発生剤と同様に、単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。またその導入量は、上記と同様の理由で、樹脂（ａ−１）成分１００重量部に対して１〜１００重量部であることが好ましい。
【００５１】
樹脂（ａ−２）に用いられる光ラジカル発生剤（ｂ−２）は、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−iso−ブタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）へキサン、１，４−ビス［α−（tert−ブチルジオキシ）−iso−プロポキシ］ベンゼン、ジ−tert−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（tert−ブチルジオキシ）へキセンヒドロペルオキシド、α−（isoープロピルフェニル）−iso−プロピルヒドロペルオキシド、２，５−ジメチルへキサン、tert−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（tert−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン、ブチル−４，４−ビス（tert−ブチルジオキシ）バレレート、シクロへキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（tert−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（tert−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（tert−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（tert−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（tert−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、tert−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−tert−ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物や、９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン等のキノン類や、ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体などを挙げることができる。
【００５２】
これら光ラジカル発生剤は単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。また、その導入量は、上記と同様の理由で樹脂（ａ−２）成分１００重量部に対して１〜１００重量部であることが好ましい。
【００５３】
さらに光増感剤として、従来から公知の光増感剤を用いることができる。例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ぺリレン系、メロシアニン系、ケトクマリン系、フマリン系、ボレート系が挙げられる。これらは、単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。
【００５４】
樹脂（ａ−１）に用いられる架橋性化合物（ｃ−１）としては、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋形成基を有する化合物であれば特に限定されない。
【００５５】
例えば、ヒドロキシル基またはアルコキシル基を有するアミノ樹脂、例えばメラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド−ホルムアルデヒド樹脂、エチレン尿素−ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。
【００５６】
この架橋性化合物（ｃ−１）は例えば、アミノ基の水素原子がメチロール基又はアルコキシメチル基又はその両方で置換されたメラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体又はグリコールウリルを用いることができる。このメラミン誘導体及びベンゾグアナミン誘導体は二量体又は三量体として存在していても良い。これらはトリアジン環１個当たり、メチロール基又はアルコキシメチル基を平均３個以上６個以下有するものが好ましい。
【００５７】
このようなメラミン誘導体又はベンゾグアナミン誘導体の例としては、市販品のトリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均３．７個置換されているＭＸ−７５０、トリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均５．８個置換されているＭＷ−３０（以上、三和ケミカル製）や、サイメル３００、３０１、３０３、３５０、３７０、７７１、３２５、３２７、７０３、７１２などのメトキシメチル化メラミン、サイメル２３５、２３６、２３８、２１２、２５３、２５４などのメトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン、サイメル５０６、５０８などのブトキシメチル化メラミン、サイメル１１４１のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン、サイメル１１２３のようなメトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２３−１０のようなメトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２８のようなブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２５−８０のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン（以上、三井サイテック製）が挙げられる。また、グリコールウリルの例として、サイメル１１７０のようなブトキシメチル化グリコールウリル、サイメル１１７２のようなメチロール化グリコールウリル等が挙げられる。
【００５８】
また、ヒドロキシル基またはアルコキシル基を有するベンゼンまたはフェノール性化合物、例えば１，３，５−トリス（メトキシメトキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（イソプロポキシメトキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ｓｅｃ−ブトキシメトキシ）ベンゼン、２，６−ジヒドロキシメチル−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等が挙げられる。
【００５９】
また、エポキシ基、イソシアネート基を含み、架橋形成基を有する化合物を用いる事ができる。具体例としては、例えばビスフェノールアセトングリシジルエーテル、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルアミノジフェニレン、テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビス（アミノエチル）シクロヘキサン、テトラフェニルグリシジルエーテルエタン、トリフェニルグリシジルエーテルエタン、ビスフェノールヘキサフルオロアセトジグリシジルエーテル、１，３−ビス（１−（２，３−エポキシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロメチル）ベンゼン、４，４−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフェニル、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、２−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−２−（４−（１，１−ビス（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）エチル）フェニル）プロパン、１，３−ビス（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシフェニル）−１−メチルエチル）フェニル）エチル）フェノキシ）−２−プロパノール等が挙げられる。
【００６０】
これらの架橋性化合物（ｃ−１）は単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事もできる。また、その導入量は樹脂（ａ−１）成分１００重量部に対して１〜２００重量部の範囲で選ばれる。この量が１重量部未満の場合では、架橋反応が十分に進行せず、所望のレジストパターンを得にくくなり、また２００重量部を超えた場合では、レジスト組成物の保存安定性に劣る。そのため、架橋性化合物の導入量は樹脂成分１００重量部に対して１〜２００重量部であることが好ましい。
【００６１】
樹脂（ａ−２）に用いられる架橋性化合物（ｃ−２）としては、次の重合性不飽和基を有する化合物が挙げられる。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート等の重合性不飽和基を分子内に３個有する化合物、さらに、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイドビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイドビスフェノール型ジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の重合性不飽和基を分子内に２個有する化合物、加えて、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸エステル、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等の重合性不飽和基を分子内に１個有する化合物が挙げられる。
【００６２】
これらの架橋性化合物は単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。また、その導入量は、樹脂（ａ−２）成分１００重量部に対して１〜２００重量部の範囲で選ばれる。この量が１重量部未満の場合では、架橋反応が十分に進行せず、所望のレジストパターンを得にくくなり、また２００重量部を超えた場合では、レジスト組成物の保存安定性に劣る。そのため、架橋性化合物の導入量は樹脂（ａ−２）成分１００重量部に対して１〜２００重量部であることが好ましい。
【００６３】
ポジ型レジスト組成物に用いられる樹脂（ａ−３）は、熱により硬化する樹脂であり、熱又は光照射により発生する酸により樹脂が分解することで、極性や分子量が変化し、現像液に対して溶解性を示すようになるものであり、該樹脂中の露光部の塗膜が現像液により除去できるものであれば特に限定されない。
【００６４】
樹脂（ａ−３）は、例えば水酸基又はカルボキシル基を有する樹脂等が挙げられる。具体的には、例えばポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアミド酸、ポリヒドロキシスチレン、ポリヒドロキシスチレン誘導体、ポリメタクリレートとマレイン酸無水物との共重合体、フェノール樹脂およびノボラック樹脂、水酸基および／またはカルボキシル基を含むポリイミド、セルロース誘導体、糖骨格高分子化合物、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタンおよびポリシロキサンが挙げられる。より具体的には、上述した樹脂（ａ−１）で示した樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、単独で、または２種類以上組み合わせて用いる事が出来る。
【００６５】
また、カルボキシル基含有アクリル系樹脂を用いることもできる。すなわち、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とし、エチレン性不飽和カルボン酸と必要に応じて他のモノマーを共重合したアクリル系共重合体である。具体的には、上述した樹脂（ａ−２）で示した樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、単独で、または２種類以上組み合わせて用いられる。
【００６６】
ポジ型レジスト組成物に用いられる光酸発生剤（ｂ−３）は、ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。一般的に１，２−キノンジアジド化合物が用いられる。例えば、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、および１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド等が挙げられる。より具体的には、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸アミド等が挙げられる。
【００６７】
これらナフトキノンジアジド化合物は単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事も出来る。また、その導入量は、樹脂（ａ−３）成分１００重量部に対して１〜５０重量部の範囲で選ばれる。この量が１重量部未満の場合では、架橋反応が十分に進行せず、所望のレジストパターンを得にくくなり、また５０重量部を超えた場合では、レジスト組成物の保存安定性に劣る。そのため、ナフトキノンジアジド化合物の導入量は樹脂成分１００重量部に対して１〜５０重量部であることが好ましい。
【００６８】
ポジ型レジスト組成物に用いられる架橋性化合物（ｃ−３）としては、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、及び低級アルコキシアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の架橋形成基を有する化合物、または、エポキシ基、イソシアネート基を含み、架橋形成基を有するもの、さらに重合性不飽和基を有する化合物を使用することができる。具体的には上述のネガ型レジスト組成物で示した（ｃ−１）が挙げられる。
【００６９】
これらの架橋性化合物（ｃ−３）は単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事もできる。また、その導入量は樹脂（ａ−３）成分１００重量部に対して１〜２００重量部の範囲で選ばれる。この量が１重量部未満の場合では、架橋反応が十分に進行せず、所望のレジストパターンを得にくくなり、また２００重量部を超えた場合では、レジスト組成物の保存安定性に劣る。そのため、架橋性化合物の導入量は樹脂成分１００重量部に対して１〜２００重量部であることが好ましい。
【００７０】
本願発明のネガ型及びポジ型レジスト組成物に用いられる染料（ｄ）は、カラーフィルターとして望ましい分光スペクトルを有し、かつ溶剤にそのまま溶解する、あるいは染料を変性した形で溶解するものを用いることができる。これらの染料としては、酸性染料、油溶性染料、分散染料、反応性染料、直接染料等が挙げられる。例えば、アゾ系染料、ベンゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料、メロシアニン系染料、スチルベン系染料、ジフェニルメタン系染料、トリフェニルメタン系染料、フルオラン系染料、スピロピラン系染料、フタロシアニン系染料、インジゴ系染料、フルギド系染料、ニッケル錯体系染料、及びアズレン系染料が挙げられる。具体的には、カラーインデックス番号で以下のものが挙げられる。Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ２、３、７、１２、１３、１４、１６、１８、１９、２１、２５、２５：１、２７、２８、２９、３０、３３、３４、３６、４２、４３、４４、４７、５６、６２、７２、７３、７７、７９、８１、８２、８３、８３：１、８８、８９、９０、９３、９４、９６、９８、１０４、１０７、１１４、１１６、１１７、１２４、１３０、１３１、１３３、１３５、１４１、１４３、１４５、１４６、１５７、１６０：１、１６１、１６２、１６３、１６７、１６９、１７２、１７４、１７５、１７６、１７９、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１８６、１８７、１８９、１９０、１９１、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Orange１、２、３、４、５、７、１１、１４、２０、２３、２５、３１、４０：１、４１、４５、５４、５６、５８、６０、６２、６３、７０、７５、７７、８０、８１、８６、９９、１０２、１０３、１０５、１０６、１０７、１０８、１０９、１１０、１１１、１１２、１１３、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Red１、２、３、４、８、１６、１７、１８、１９、２３、２４、２５、２６、２７、３０、３３、３５、４１、４３、４５、４８、４９、５２、６８、６９、７２、７３、８３：１、８４：１、８９、９０、９０：１、９１、９２、１０６、１０９、１１０、１１８、１１９、１２２、１２４、１２５、１２７、１３０、１３２、１３５、１４１、１４３、１４５、１４６、１４９、１５０、１５１、１５５、１６０、１６１、１６４、１６４：１、１６５、１６６、１６８、１６９、１７２、１７５、１７９、１８０、１８１、１８２、１９５、１９６、１９７、１９８、２０７、２０８、２１０、２１２、２１４、２１５、２１８、２２２、２２３、２２５、２２７、２２９、２３０、２３３、２３４、２３５、２３６、２３８、２３９、２４０、２４１、２４２、２４３、２４４、２４５、２４７、２４８、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Violet２、８、９、１１、１３、１４、２１、２１：１、２６、３１、３６、３７、３８、４５、４６、４７、４８、４９、５０、５１、５５、５６、５７、５８、５９、６０、６１、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Blue２、３、４、５、７、１８、２５、２６、３５、３６、３７、３８、４３、４４、４５、４８、５１、５８、５９、５９：１、６３、６４、６７、６８、６９、７０、７８、７９、８３、９４、９７、���８、１００、１０１、１０２、１０４、１０５、１１１、１１２、１２２、１２４、１２８、１２９、１３２、１３６、１３７、１３８、１３９、１４３、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Green１、３、４、５、７、２８、２９、３２、３３、３４、３５、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Brown１、３、４、５、１２、２０、２２、２８、３８、４１、４２、４３、４４、５２、５３、５９、６０、６１、６２、６３、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Black３、５、５：２、７、１３、２２、２２：１、２６、２７、２８、２９、３４、３５、４３、４５、４６、４８、４９、５０、C．I．Acid  Red  ６、１１、２６、６０、８８、１１１、１８６、２１５、Ｃ．Ｉ．Acid  Green  ２５、２７、C．I．Acid  Blue  ２２、２５、４０、７８、９２、１１３、１２９、１６７、２３０、Ｃ．Ｉ．Acid  Yellow  １７、２３、２５、３６、３８、４２、４４、７２、７８、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ  Ｒｅｄ  １、２、１３、１４、２２、２７、２９、３９、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ  Ｇｒｅｅｎ  ３、４、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ  Ｂｌｕｅ  ３、９、４１、６６、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ  Ｖｉｏｌｅｔ  １、３、１８、３９、６６、Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ  Ｙｅｌｌｏｗ  １１、２３、２５、２８、４１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ４、２３、３１、７５、７６、７９、８０、８１、８３、８４、１４９、２２４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ２６、２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ７１、７８、９８、１０６、１０８、１９２、２０１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２６、２７、２８、３３、４４、５０、８６、１４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ２６、２９、３４、３７、７２、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ  Ｒｅｄ  ５、６、７、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ  Ｇｒｅｅｎ  ２、３、６、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ  Ｂｌｕｅ  ２、３、７、９、１３、１５、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２、３、４、Ｃ．Ｉ．Ｓｕｌｐｈｕｒ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ  Ｒｅｄ  １３、２１、２３、２８、２９、４８、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３、５、８、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ  Ｂｌｕｅ  ６、１４、２６、３０、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １、３、９、１３、１５、１６、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２、１２、２０、３３、Ｃ．Ｉ．Ｖａｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ２、５、１１、１５、１８、２０、Ｃ．Ｉ．Ａｚｏｉｃ  Ｃｏｕｐｌｉｎｇ  Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ  ２、３、４、５、７、８、９、１０、１１、１３、３２、３７、４１、４８、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｒｅｄ  ８、２２、４６、１２０、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｂｌｕｅ  １、２、７、１９、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２、４、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｙｅｌｌｏｗ  １、２、４、１４、１６、Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｏｒａｎｇｅ  １、４、７、１３、１６、２０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｒｅｄ  ４、１１、５４、５５、５８、６５、７３、１２７、１２９、１４１、１９６、２１０、２２９、３５４、３５６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｂｌｕｅ  ３、２４、７９、８２、８７、１０６、１２５、１６５、１８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｖｉｏｌｅｔ  １、６、１２、２６、２７、２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒ���ｅ  Ｙｅｌｌｏｗ  ３、４、５、７、２３、３３、４２、６０、６４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｏｒａｎｇｅ  １３、２９、３０。これらの染料は、所望の分光スペクトルを発現させるために、単独で用いる事も、２種類以上組み合わせて用いる事もできる。
【００７１】
染料含有ネガ型レジスト組成物では、染料（ｄ）の導入量は、樹脂（ａ−１））、光酸発生剤又は光塩基発生剤（ｂ−１）、架橋性化合物（ｃ−１）および染料（ｄ）からなる固形分全体（１００％）に対して、１〜９０重量％の範囲で選ばれる。染料の導入量が少ない場合、レジスト膜が薄膜化した際に所望の分光スペクトルを発現することが困難となり、染料の導入量が多い場合、レジスト組成物の保存安定性に劣る。しかし、本願発明のネガ型レジスト組成物においては、ケトール系溶剤（ｅ）を用いた事により、上記の染料の導入量（固形分中の染料濃度）が数重量％の低濃度で使用できることはもちろんであるが、３０〜９０重量％の高濃度に設定しても染料は充分に溶解性を確保できる。
また、同様に、樹脂（ａ−２）、光ラジカル発生剤（ｂ−２）、架橋性化合物（ｃ−２）および染料（ｄ）からなる染料含有ネガ型レジスト組成物では、染料（ｄ）の導入量は、上記からなる固形分全体（１００％）に対して、１〜９０重量％の範囲で選ばれる。染料の導入量が少ない場合、レジスト膜が薄膜化した際に所望の分光スペクトルを発現することが困難となり、染料の導入量が多い場合、レジスト組成物の保存安定性に劣る。しかし、本願発明のネガ型レジスト組成物においては、ケトール系溶剤（ｅ）を用いた事により、上記の染料の導入量（固形分中の染料濃度）が数重量％の低濃度で使用できることはもちろんであるが、３０〜９０重量％の高濃度に設定しても染料は充分に溶解性を確保できる。
【００７２】
さらに、染料含有ポジ型レジスト組成物では、染料（ｄ）の導入量は、樹脂（ａ−３）、光酸発生剤（ｂ−３）、架橋性化合物（ｃ−３）および染料（ｄ）からなる固形分全体（１００％）に対して、１〜９０重量％の範囲で選ばれる。染料の導入量が少ない場合、レジスト膜が薄膜化した際に所望の分光スペクトルを発現することが困難となり、染料の導入量が多い場合、レジスト組成物の保存安定性に劣る。しかし、本願発明のポジ型レジスト組成物においては、ケトール系溶剤（ｅ）を用いた事により、上記の染料の導入量（固形分中の染料濃度）が数重量％の低濃度で使用できることはもちろんであるが、３０〜９０重量％の高濃度に設定しても染料は充分に溶解性を確保できる。
【００７３】
本願発明のネガ型及びポジ型レジスト組成物に用いられる溶剤（ｅ）は、ケトール系溶剤である。その中でも、β−ヒドロキシケトンが好ましく、β−ヒドロキシケトンとしては、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−エチル−２−ヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ヘプタノン、４−ヒドロキシ−４−エチル−２−ヘプタノン、４−ヒドロキシ−４−プロピル−２−ヘプタノン、２−メチル−２−ヒドロキシ−４−ヘキサノン、２−メチル−２−ヒドロキシ−４−ペンタノン、２,３−ジメチル−３−ヒドロキシ−５−ヘキサノン及び２,６−ジメチル−２−ヒドロキシ−４−ヘプタノン等が挙げられる。
【００７４】
中でも染料の溶解性および入手性という点で、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンが最も好ましい。
【００７５】
本願発明でケトール系溶剤とは、ケトール、好ましくはβ−ヒドロキシケトン、特に好ましくは４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン（ジアセトンアルコール）を単独で用いることを基本とするが、これらケトールにその他の溶剤を混合して使用する事を意味するものである。染料の溶解性および染料と樹脂との相溶性を高める点から、溶剤全体を１００％とした時に、ケトール、好ましくはβ−ヒドロキシケトン、特に好ましくは４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンの導入量は、１〜１００重量％であり、好ましくは１０〜１００重量％である。
【００７６】
ケトールに混合するその他の溶剤としては、例えばアセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ｎ−へキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライムなどが挙げられる。これらはケトールと単独で、また２種類以上の組み合わせで使用することができる。
【００７７】
本願発明の染料含有ネガ型及びポジ型レジスト組成物において、樹脂（ａ−１、ａ−２またはａ−３）、光開始剤（ｂ−１、ｂ−２またはｂ−３）、架橋性化合物（ｃ−１、ｃ−２またはｃ−３）および染料（ｄ）の含有割合、すなわち固形分濃度は、５〜５０重量％であり、好ましくは、１０〜３０重量％である。
【００７８】
この割合が５重量％未満である場合には、塗膜の膜厚が過小になり、ピンホールの発生が問題となる。また、５０重量％を超える場合には、レジスト組成物の粘度が過大となり、塗膜の膜厚均一性が損なわれる。
【００７９】
本願発明の染料含有ネガ型レジスト組成物およびポジ型レジスト組成物には、レジスト膜の塗れ性や平坦化性を高める目的で、界面活性剤を含有する事が出来る。このような界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤等が挙げられる。
【００８０】
より具体的には、例えばエフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ製））、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０（大日本インキ製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ1０５、ＳＣ１０６（旭硝子製）等が挙げられる。
これらの界面活性剤の使用割合は、樹脂成分１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜２重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部である。界面活性剤の含有量が２重量部よりも多くなるとレジスト膜がムラになりやすく、０．０１重量部未満では、レジスト膜にストリエーションが発生しやすくなる。
【００８１】
また、現像後の基板との密着性を向上させる目的で、密着促進剤を含有する事が出来る。このような密着促進剤の具体例としては、例えばトリメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン等のクロロシラン類、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルビニルエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類、ヘキサメチルジシラザン、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチルシリル）ウレア、ジメチルトリメチルシリルアミン、トリメチルシリルイミダゾール類のシラザン類、ビニルトリクロロシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン類、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、インダゾール、イミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、ウラゾール、チオウラシル、メルカプトイミダゾール、メルカプトピリミジン等の複素環状化合物や、１，１−ジメチレンウレア、１，３−ジメチルウレア等の尿素、またはチオ尿素化合物を挙げることができる。
【００８２】
これらの密着促進剤の使用割合は、樹脂成分１００重量部に対して、通常、２０重量部以下、好ましくは０．０５〜１０重量部、特に好ましくは１〜１０重量部である。
【００８３】
本願発明の染料含有ネガ型及びポジ型レジスト組成物には、さらにレジスト組成物と混和性のある添加物類を加えることができる。例えば、耐光性を高める紫外線吸収剤や酸化防止剤、染料の析出を抑制する相溶化剤などが挙げられる。染料の析出を抑制する相溶化剤の具体例としては、ポリオキシエチレンオクチルエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリルエーテル化合物、ポリオキシエチレンアルキル（炭素数12〜13）エーテル化合物、ポリオキシエチレン２級アルキル（炭素数12〜14）エーテル化合物、ポリオキシエチレンアルキル（炭素数13）エーテル化合物、ポリオキシエチレンセチルエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリルエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物、ポリオキシエチレンデシルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキル（炭素数11〜15）エーテル化合物、ポリオキシアルキレン２級アルキル（炭素数12〜14）エーテル化合物、ポリオキシアルキレンセチルエーテル化合物等のアルキルエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイルアミノエーテル化合物等のアルキルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリン酸アミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリン酸アミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイン酸アミドエーテル化合物、ラウリン酸ジエタノールアミド化合物、ステアリン酸ジエタノールアミド化合物、オレイン酸ジエタノールアミド化合物等のアルキルアミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンポリスチルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンポリスチルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンポリスチルフェニルエーテルホルムアミド縮合物、ポリオキシエチレンモノスチリルフェニルエーテル化合物、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル化合物、ポリオキシエチレンナフチルエーテル化合物等のアリルフェニルエーテル化合物、グリセリンモノラウレート化合物、グリセリンモノステアレート化合物、グリセリンモノオレート化合物、グリセリントリオレート化合物等のグリセリン脂肪酸エステル化合物、ソルビタンモノラウレート化合物、ソルビタンモノパルミテート化合物、ソルビタンモノステアレート化合物、ソルビタントリステアレート化合物、ソルビタンモノオレート化合物、ソルビタントリオレート化合物等のソルビタン酸エステル化合物、ポリオキシエチレンジラウレート化合物、ポリオキシエチレンラウレート化合物、ポリオキシエチレンステアレート化合物、ポリオキシエチレンジステアレート化合物、ポリオキシエチレンジオレート化合物、ポリオキシエチレンオレート化合物等の脂肪酸エーテルエステル化合物、ポリオキシエチレンヒマシ油エーテル化合物、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油エーテル化合物等の植物油エーテルエステル化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート化合物、ポリオキシエチレンスルビタントリオレート化合物等のソルビタンエーテルエステル化合物、ポリオキシアルキレンブチルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンオクチルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキル（炭素数14〜15）エーテル化合物、ポリオキシアルキレンオレイルエーテル化合物等のモノオール型ポリエーテル化合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン縮合物等のジオール型ポリエーテル化合物、トリメチロールプロパントリス（ポリオキシアルキレン）エーテル化合物、ポリオキシアルキレングリセリルエーテル化合物等のポリオール型ポリエーテル化合物、メチルラウレート化合物、メチルオレート化合物、イソプロピルミリステート化合物、ブチルステアレート化合物、オクチルパルミテート化合物、オクチルステアレート化合物、ラウリルオレート化合物、イソトリデシルステアレート化合物、オレイルオレート化合物、ジオレイルアジペート化合物、トリメチロールプロパントリデカノエート化合物、トリメチロールプロパントリラウレート化合物、ペンタエリスリトールジオレート化合物、ペンタエリスリトールモノステアレート化合物、ペンタエリスリトールジステアレート化合物等の脂肪酸アルキルエステル化合物、アルキルスルホネート化合物、長鎖アルキルベンゼンスルホン酸化合物、分岐アルキルベンゼンスルホン酸化合物、長鎖アルキルベンゼンスルホネート化合物、分岐アルキルベンゼンスルホネート化合物、分岐アルキルジフェニルエーテルジスルホネート化合物、モノイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、ジイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、トリイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、ジブチルナフタレンスルホネート化合物、ジオクチルスルホサクシネート化合物等のスルホン酸型化合物、オレイン酸硫酸化油化合物、ヒマシ硫酸化化合物、オクチルサルフェート化合物、ラウリルサルフェート化合物、アルキルサルフェート化合物、アルキルエーテルサルフェート化合物等の硫酸エステル化合物、セルロース、セルロース誘導体、糖骨格高分子化合物が挙げられる。
【００８４】
これら相溶化剤の使用割合は、樹脂成分１００重量部に対して、０．００１〜２０重量部である。使用量が少ない場合は多く使用した場合に比べて染料の析出の抑制能に劣り、多い場合は良好なパターン形状が得られにくくなる。しかしながら、相溶化剤がパターン形状を阻害しない場合は２０重量部以上使用できる。
【００８５】
次に本願発明のカラーフィルター用染料含有ネガ型レジスト組成物およびポジ型レジスト組成物を用いたカラーフィルター作製方法を説明する。
【００８６】
本願発明の染料含有ネガ型レジスト組成物およびポジ型レジスト組成物を、スピンコート法などで所望のレジスト膜厚を得る回転数でシリコンウエハーやガラス基板上に塗布し、ソフトベーク（焼成）を行う。ソフトベークは溶剤を蒸発させれば良く、５０〜１５０℃の温度範囲で、３０秒〜１０分間で行うことが好ましい。その後、マスクを介して、露光量１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２程度で露光する。露光には、例えば水銀ランプ等の紫外線、遠紫外線、電子線、もしくはＸ線等が用いられる。露光後、染料含有ネガ型レジスト組成物を用いてネガ型のパターを形成する場合、加熱（ＰＥＢ（ポストエクスポージャーベーク））を行うことが好ましい。ＰＥＢにより、露光により発生した酸または塩基による架橋がさらに進行し、より未露光部との現像液溶解度に対する差が広がり、コントラストが向上する。ＰＥＢは５０〜１５０℃の温度範囲で、３０秒から５分間行うのが好ましい。
【００８７】
次に、現像を行う。現像方法としては、特に制限はなく、パドル法、ディップ法、スプレー法等の公知の方法により行うことができる。現像温度は２０℃〜３０℃の間が好ましく、現像液に１０秒〜１０分間浸漬することが好ましい。
【００８８】
現像液としては、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などを用いることができる。具体的には、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチルアミン水溶液、ｎ−プロピルアミン水溶液、ジエチルアミン水溶液、ジ−ｎ−プロピルアミン水溶液、トリエチルアミン水溶液、メチルジエチルアミン水溶液、ジエタノールアミン水溶液、トリエタノールアミン水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、重炭酸ナトリウム水溶液、ケイ酸ナトリウム水溶液、メタケイ酸ナトリウム水溶液などが挙げられる。
【００８９】
さらに、現像液には未露光部の除去性を高めるために、界面活性剤を添加することが好ましい。具体例としては、ポリオキシエチレンオクチルエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリルエーテル化合物、ポリオキシエチレンアルキル（炭素数12〜13）エーテル化合物、ポリオキシエチレン２級アルキル（炭素数12〜14）エーテル化合物、ポリオキシエチレンアルキル（炭素数13）エーテル化合物、ポリオキシエチレンセチルエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリルエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物、ポリオキシエチレンデシルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキル（炭素数11〜15）エーテル化合物、ポリオキシアルキレン２級アルキル（炭素数12〜14）エーテル化合物、ポリオキシアルキレンセチルエーテル化合物等のアルキルエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイルアミノエーテル化合物等のアルキルアミノエーテル化合物、ポリオキシエチレンラウリン酸アミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンステアリン酸アミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンオレイン酸アミドエーテル化合物、ラウリン酸ジエタノールアミド化合物、ステアリン酸ジエタノールアミド化合物、オレイン酸ジエタノールアミド化合物等のアルキルアミドエーテル化合物、ポリオキシエチレンポリスチルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンポリスチルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンポリスチルフェニルエーテルホルムアミド縮合物、ポリオキシエチレンモノスチリルフェニルエーテル化合物、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル化合物、ポリオキシエチレンナフチルエーテル化合物等のアリルフェニルエーテル化合物、グリセリンモノラウレート化合物、グリセリンモノステアレート化合物、グリセリンモノオレート化合物、グリセリントリオレート化合物等のグリセリン脂肪酸エステル化合物、ソルビタンモノラウレート化合物、ソルビタンモノパルミテート化合物、ソルビタンモノステアレート化合物、ソルビタントリステアレート化合物、ソルビタンモノオレート化合物、ソルビタントリオレート化合物等のソルビタン酸エステル化合物、ポリオキシエチレンジラウレート化合物、ポリオキシエチレンラウレート化合物、ポリオキシエチレンステアレート化合物、ポリオキシエチレンジステアレート化合物、ポリオキシエチレンジオレート化合物、ポリオキシエチレンオレート化合物等の脂肪酸エーテルエステル化合物、ポリオキシエチレンヒマシ油エーテル化合物、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油エーテル化合物等の植物油エーテルエステル化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート化合物、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート化合物、ポリオキシエチレンスルビタントリオレート化合物等のソルビタンエーテルエステル化合物、ポリオキシアルキレンブチルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンオクチルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキル（炭素数14〜15）エーテル化合物、ポリオキシアルキレンオレイルエーテル化合物等のモノオール��ポリエーテル化合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン縮合物等のジオール型ポリエーテル化合物、トリメチロールプロパントリス（ポリオキシアルキレン）エーテル化合物、ポリオキシアルキレングリセリルエーテル化合物等のポリオール型ポリエーテル化合物、メチルラウレート化合物、メチルオレート化合物、イソプロピルミリステート化合物、ブチルステアレート化合物、オクチルパルミテート化合物、オクチルステアレート化合物、ラウリルオレート化合物、イソトリデシルステアレート化合物、オレイルオレート化合物、ジオレイルアジペート化合物、トリメチロールプロパントリデカノエート化合物、トリメチロールプロパントリラウレート化合物、ペンタエリスリトールジオレート化合物、ペンタエリスリトールモノステアレート化合物、ペンタエリスリトールジステアレート化合物等の脂肪酸アルキルエステル化合物、アルキルスルホネート化合物、長鎖アルキルベンゼンスルホン酸化合物、分岐アルキルベンゼンスルホン酸化合物、長鎖アルキルベンゼンスルホネート化合物、分岐アルキルベンゼンスルホネート化合物、分岐アルキルジフェニルエーテルジスルホネート化合物、モノイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、ジイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、トリイソプロピルナフタレンスルホネート化合物、ジブチルナフタレンスルホネート化合物、ジオクチルスルホサクシネート化合物等のスルホン酸型化合物、オレイン酸硫酸化油化合物、ヒマシ硫酸化化合物、オクチルサルフェート化合物、ラウリルサルフェート化合物、アルキルサルフェート化合物、アルキルエーテルサルフェート化合物等の硫酸エステル化合物が挙げられる。アルカリ現像液の好ましい濃度は、アルカリ成分が０．００１〜１０重量％、界面活性剤成分が０．００１〜１０重量％である。アルカリ成分が高すぎると現像能力が強すぎ、ネガ型では未露光部、ポジ型では露光部まで浸透してしまいパターン表面の荒れが起こりやすく、低すぎると現像能力が得られない。また、界面活性剤成分が高すぎると泡立ちやすく現像ムラが発生しやすくなり、低すぎると現像能力が得られない。
【００９０】
現像後、水あるいは一般有機溶剤でリンスすることが好ましい。その後、乾燥することでパターンが形成される。染料含有ネガ型レジスト組成物を用いた場合には、露光部が硬化し未露光部が溶解するネガ型のパターンが形成され、染料含有ポジ型レジスト組成物を用いた場合には、露光部が溶解するポジ型のパターンが形成される。
以上の一連の工程を、各色およびマスクを替え、必要な数だけ繰り返すことで必要な色数が組み合わされた着色パターンを得ることができる。また、パターン形成後、パターン中に残存する重合あるいは縮合可能な官能基を完全に反応させるために、加熱（ポストベーク）を行っても良い。ポストベークは各色のパターンを形成する毎に行っても、すべての着色パターンを形成した後に行っても良く、１５０〜５００℃の温度範囲で、３０分〜２時間行うのが好ましい。
【実施例】
【００９１】
（染料含有ネガ型レジスト組成物の調整）
ノボラック樹脂：フェノールとホルムアルデヒドを縮合させて得られたフェノールノボラック樹脂Ａ（数平均分子量９０００（ポリスチレン換算））
ポリヒドロキシスチレン樹脂：ＶＰ８０００（日本曹達製）
ポリヒドロキシスチレン共重合体：マルカーリンカーＣＨＭ（ｐ−ビニルフェノールおよびメタクリル酸２−ヒドロキシエチルの共重合体でモル比が１：１）（丸善石油製）
アクリル系樹脂：アクリル樹脂Ａ（（メタ）アクリル酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートおよびメチル（メタ）アクリレートの共重合体でモル比が９：２５．５：６５．５のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液、固形分濃度：２２．０重量％、重量平均分子量６０００（ポリスチレン換算））
実施例１
５０ｍｌナス型フラスコに、ノボラック樹脂としてフェノールノボラック樹脂Ａを１．７６ｇ、赤系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＲｅｄ１３５５（オリエント化学製）を１．１０ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．４３ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３、三井サイテック製）を０．１８ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８、みどり化学製）を０．０９ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０、大日本インキ化学製）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（１）を得た。溶液中には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【００９２】
実施例２
５０ｍｌナス型フラスコに、ノボラック樹脂としてフェノールノボラック樹脂Ａを１．７６ｇ、赤系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＲｅｄ１３５５を１．１０ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．４３ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてブトキシメチル化グリコールウリル系架橋性化合物（商品名サイメル１１７０、三井サイテック製）を０．３５ｇ、光酸発生剤としてスルホネート系光酸発生剤（商品名ＮＡＩ−１０５、みどり化学製）を０．１８ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．０１２ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（２）を得た。溶液中には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（２）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【００９３】
実施例３
５０ｍｌナス型フラスコに、ノボラック樹脂としてフェノールノボラック樹脂Ａを１．７６ｇ、赤系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＲｅｄ１３５５を１．１０ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．４３ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてエポキシ系架橋性化合物（商品名ＧＴ−４０１、ダイセル化学製）を０．２５ｇ、光酸発生剤としてスルホニウム塩型光酸発生剤（商品名ＤＴＳ−１０５、みどり化学製）を０．１２ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．０１０ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（３）を得た。溶液中には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（３）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【００９４】
実施例４
５０ｍｌナス型フラスコに、ノボラック樹脂としてフェノールノボラック樹脂Ａを１．００ｇ、赤系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＲｅｄ１３５５を２．００ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを４．１４ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．２１ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．３０ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０７、みどり化学製）を０．１５ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（４）を得た。溶液中には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（４）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【００９５】
実施例５
５０ｍｌナス型フラスコに、ノボラック樹脂としてフェノールノボラック樹脂Ａを１．００ｇ、赤系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＲｅｄ１３５５を２．００ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを３．１１ｇおよびエチルラクテートを７．２５ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．１５ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．０７ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（５）を得た。溶液中には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（５）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【００９６】
実施例６  
１００ｍｌナス型フラスコに、アクリル系樹脂としてアクリル樹脂Ａを７．０７ｇ、赤系染料としてＲｅｄＧＳ（日成化成製）を０．２７ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを３６．８０ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物（商品名ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ−４０Ｈ、日本化薬製）を３．３１ｇ、光ラジカル発生剤（商品名Ｉ−３６９、チバスペシャリティーケミカルズ製）を０．３０ｇ、光増感剤（商品名ＩＴＸ、ファーストケミカルコーポレーション製）を０．２０ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．０１５ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（６）を得た。溶液中には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（６）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【００９７】
実施例７
５０ｍｌナス型フラスコに、ノボラック樹脂としてフェノールノボラック樹脂Ａを１．００ｇ、赤系染料としてＳａｖｉｎｙｌＦｉｒｅＲｅｄＧＬＳ（クラリアント製）を２．００ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを１０．３５ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．３０ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０７）を０．１５ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（７）を得た。溶液中には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（７）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【００９８】
実施例８
５０ｍｌナス型フラスコに、ノボラック樹脂としてフェノールノボラック樹脂Ａを１．００ｇ、赤系染料としてＳａｖｉｎｙｌＦｉｒｅＲｅｄＧＬＳを５．８０ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを１３．５１ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．４０ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．１８ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．０１ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（８）を得た。溶液中には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（８）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【００９９】
実施例９
５０ｍｌナス型フラスコに、ポリヒドロキシスチレンとしてＶＰ８０００を１．７６ｇ、緑系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＧｒｅｅｎ１５０１（オリエント化学製）を１．１０ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．４３ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．１８ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．０９ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（９）を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（９）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【０１００】
実施例１０
５０ｍｌナス型フラスコに、ポリヒドロキシスチレンとしてＶＰ８０００を１．００ｇ、緑系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＧｒｅｅｎ１５０１を２．００ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを４．１４ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを６．２１ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン化合物（商品名サイメル３０３）を０．５０ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０７）を０．２５ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（１０）を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１０）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【０１０１】
実施例１１
５０ｍｌナス型フラスコに、ポリヒドロキシスチレン共重合体としてマルカーリンカーＣＨＭを１．７６ｇ、青系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＢｌｕｅ１６２１（オリエント化学製）を１．１０ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを９．４３ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．１８ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．０９ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（１１）を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１１）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【０１０２】
実施例１２
５０ｍｌナス型フラスコに、ポリヒドロキシスチレン共重合体としてマルカーリンカーＣＨＭを１．００ｇ、青系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＢｌｕｅ１６２１を５．８０ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを１３．５１ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．５０ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．２０ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．０１ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（１２）を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１２）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【０１０３】
実施例１３
５０ｍｌナス型フラスコに、ポリヒドロキシスチレン共重合体としてマルカーリンカーＣＨＭを１．００ｇ、青系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＢｌｕｅ２６２０（オリエント化学製）を２．００ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを１０．３５ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．３０ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．１５ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．０１２ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（１３）を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１３）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【０１０４】
実施例１４
５０ｍｌナス型フラスコに、ポリヒドロキシスチレン共重合体としてマルカーリンカーＣＨＭを１．００ｇ、青系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＢｌｕｅ２６２０を２．００ｇ、溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを４．１４ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルを６．２１ｇ入れ、室温で攪拌した。反応溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液であった。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．３０ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０７）を０．１５ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに室温で攪拌し、染料含有ネガ型レジスト組成物（１４）を得た。溶液中に不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１４）の一部を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で１週間放置したところ、目視観察において異物は見られなかった。
【０１０５】
比較例１
５０ｍｌナス型フラスコに、ノボラック樹脂としてフェノールノボラック樹脂Ａを１．７６ｇ、赤系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＲｅｄ１３５５を１．１０ｇ、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを９．４３ｇ入れ、室温で攪拌したところ、反応溶液中に染料が析出した。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．１８ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．０９ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに、室温で攪拌したが染料が溶解せずに均一な溶液が得られなかった。さらに、得られた不均一な染料含有ネガ型レジスト組成物（１５）中に析出した染料を濾取したところ、染料０．５４ｇが得られた。結果、所定の染料濃度を含む染料含有ネガ型レジスト組成物を得ることができなかった。さらに、同様の調整方法で得られた不均一な染料含有ネガ型レジスト組成物（１５）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に放置したところ、１日目で目視観察において異物が見られた。
【０１０６】
比較例２
５０ｍｌナス型フラスコに、ポリヒドロキシスチレンとしてＶＰ８０００を１．７６ｇ、緑系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＧｒｅｅｎ１５０１を１．１０ｇ、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを９．４３ｇ入れ、室温で攪拌したところ、反応溶液中に染料が析出した。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．１８ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．０９ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに、室温で攪拌したが染料が溶解せずに均一な溶液が得られなかった。さらに、得られた不均一な染料含有ネガ型レジスト組成物（１６）中に析出した染料を濾取したところ、染料０．４６ｇが得られた。結果、所定の染料濃度を含む染料含有ネガ型レジスト組成物を得ることができなかった。さらに、同様の調整方法で得られた不均一な染料含有ネガ型レジスト組成物（１６）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に放置したところ、１日目で目視観察において異物の発生が見られた。
【０１０７】
比較例３
５０ｍｌナス型フラスコに、ポリヒドロキシスチレン共重合体としてマルカーリンカーＣＨＭを１．７６ｇ、青系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＢｌｕｅ１６２１を１．１０ｇ、溶媒としてエチルラクテートを９．４３ｇ入れ、室温で攪拌したところ、反応溶液中に染料が析出した。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．１８ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．０９ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００６ｇ加え、さらに、室温で攪拌したが染料が溶解せずに均一な溶液が得られなかった。さらに、得られた不均一な染料含有ネガ型レジスト組成物（１７）中に析出した染料を濾取したところ、染料０．５５ｇが得られた。結果、所定の染料濃度を含む染料含有ネガ型レジスト組成物を得ることができなかった。さらに、同様の調整方法で得られた不均一な染料含有ネガ型レジスト組成物（１７）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で放置したところ、１日目で目視観察において異物の発生が見られた。
【０１０８】
比較例４
５０ｍｌナス型フラスコに、ポリヒドロキシスチレン共重合体としてマルカーリンカーＣＨＭを１．７６ｇ、青系染料としてＶａｌｉｆａｓｔＢｌｕｅ１６２１を１．１０ｇ、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを４．７２ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを４．７２ｇ入れ、室温で攪拌したところ、反応溶液中に染料が析出した。その後、架橋性化合物としてメトキシメチル化メラミン系架橋性化合物（商品名サイメル３０３）を０．１８ｇ、光酸発生剤としてトリアジン系光酸発生剤（商品名ＴＡＺ−１０８）を０．０９ｇ、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲ−３０）を０．００９ｇ加え、さらに、室温で攪拌したが染料が溶解せずに均一な溶液が得られなかった。さらに、得られた不均一な染料含有ネガ型レジスト組成物（１８）中に析出した染料を濾取したところ、染料０．６５ｇが得られた。結果、所定の染料濃度を含む染料含有ネガ型レジスト組成物を得ることができなかった。さらに、同様の調整方法で得られた不均一な染料含有ネガ型レジスト組成物（１８）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で放置したところ、１日目で目視観察において異物の発生が見られた。
【０１０９】
（カラーフィルターの作製）
実施例１５乃至実施例２８および比較例５乃至比較例８で用いたシリコンウエハーはすべて同じサイズであった。
【０１１０】
なお、シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上に存在する異物の有無の観察において、ナトリウムランプでの目視観察は、暗室においてシリコンウエハー面から３０ｃｍ離れた位置からの観察により異物の確認を行った。異物が確認できれば、シリコンウエハー上に見られた総数をカウントした。また、光学顕微鏡での観察は、倍率１０００倍で行い、異物が確認できればその大きさを測定する方法で行った。
【０１１１】
実施例１５
実施例１で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９５μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｒｅｄネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１１２】
実施例１６
実施例２で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（２）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚１．００μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｒｅｄネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで５μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１１３】
実施例１７
実施例３で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（３）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に２日間放置した、その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９８μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｒｅｄネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで５μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１１４】
実施例１８
実施例４で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（４）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９６μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｒｅｄネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１１５】
実施例１９
実施例５で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（５）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚１．０３μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｒｅｄネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１１６】
実施例２０
実施例６で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（６）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚１．０５μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｒｅｄネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで１０μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１１７】
実施例２１
実施例７で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（７）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚１．００μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、５００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｒｅｄネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１１８】
実施例２２
実施例８で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（８）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９４μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｒｅｄネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１１９】
実施例２３
実施例９で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（９）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚１．１０μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｇｒｅｅｎネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１２０】
実施例２４
実施例１０で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１０）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９８μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１２０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｇｒｅｅｎネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１２１】
実施例２５
実施例１１で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１１）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚１．００μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１３０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｂｌｕｅネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１２２】
実施例２６
実施例１２で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１２）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９４μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１３０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｂｌｕｅネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１２３】
実施例２７
実施例１３で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１３）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９４μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１３０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｂｌｕｅネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１２４】
実施例２８
実施例１４で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１４）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９５μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１３０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｂｌｕｅネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成された。シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ、異物は見られなかった。また、光学顕微鏡観察を行ったところ異物は見られなかった。
【０１２５】
比較例５
比較例１で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１５）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚１．０４μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１３０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｒｅｄネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成できた。しかしながら、シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ５０個以上の異物がみられた。また、光学顕微鏡観察を行ったところ２〜３μｍの大きさの異物が見られた。
【０１２６】
比較例６
比較例２で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１６）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚１．００μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１３０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｇｒｅｅｎネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成できた。しかしながら、シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ５０個以上の異物がみられた。また、光学顕微鏡観察を行ったところ２〜４μｍの大きさの異物が見られた。
【０１２７】
比較例７
比較例４で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１７）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９４μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１３０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｂｌｕｅネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成できた。しかしながら、シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ５０個以上の異物がみられた。また、光学顕微鏡観察を行ったところ２〜４μｍの大きさの異物が見られた。
【０１２８】
比較例８
比較例５で得られた染料含有ネガ型レジスト組成物（１８）を０．２μｍのフィルターを用いて濾過を行い、洗浄した試料瓶中に室温で２日間放置した。その後、組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間ホットプレート上でソフトベーク（焼成）して、膜厚０．９９μｍの塗膜を形成した。この塗膜にテストマスクを通して、キャノン製紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）により、３６５ｎｍにおける照射量が、３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射した。ついで、１３０℃で１分間ホットプレート上でＰＥＢを行った。その後、２３℃のＮＭＤ−３現像液（東京応化製）で一定時間浸漬して現像し、さらに純水流水洗浄を行った。その後、１５０℃で５分間ホットプレート上でポストベークを行い、Ｂｌｕｅネガ型のパターンを形成した。パターンの解像度はライン／スペースで２μｍまでパターン剥離なく形成できた。しかしながら、シリコンウエハー上に形成されたパターン塗膜上には、ナトリウムランプの下で目視観察を行ったところ５０個以上の異物がみられた。また、光学顕微鏡観察を行ったところ２〜４μｍの大きさの異物が見られた。
【産業上の利用可能性】
【０１２９】
本願発明は、熱または光照射により架橋、重合または解重合によって形成される染料含有ネガ型レジスト組成物またはポジ型レジスト組成物において、ケトール系溶剤、好ましくはβ−ヒドロキシケトン、特に好ましくは４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを含むことで、染料の溶解性および染料と樹脂との相溶性が高まり、所定の染料濃度を確保することができる。その結果、所定の分光スペクトルを発現できるカラーフィルターを作製することができ、これらカラーフィルターを用いて固体撮像素子、液晶表示素子および発光ダイオード表示素子を製造することができる。さらに、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンを含むことで、レジスト組成物保存時の異物の発生を抑制することができる。