(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の論理セルが配置されていない未使用領域に補助セルを配置するレイアウト方法であって、
サイズが異なる複数のダミーセルと、前記複数のダミーセルの何れかと同一サイズで且つ複数種類の機能セル群の何れかに含まれる複数の機能セルとが、セルライブラリに登録され、
前記複数種類の機能セル群のそれぞれは、前記機能セル群毎に異なる単一機能を有する複数サイズの機能セルを備え、
（ａ）前記未使用領域にサイズの異なる複数のダミーセルをサイズの降順に仮配置するステップと、
（ｂ）前記配置されたダミーセルの各サイズ毎の配置数及び合計面積を計数するステップと、
（ｃ）前記配置数及び合計面積と、半導体装置の仕様とに基づいて、前記未使用領域に配置する機能セルの種類及びサイズの組み合わせを決定するステップと、
（ｄ）前記仮配置したダミーセルと同一サイズの機能セルとを入れ替えるステップと、
を備えたことを特徴とする半導体装置のレイアウト方法。
【請求項２】
半導体装置の論理セルが配置されていない未使用領域に補助セルを配置するレイアウト装置であって、
サイズが異なる複数のダミーセルと、前記複数のダミーセルの何れかと同一サイズで且つ複数種類の機能セル群の何れかに含まれる複数の機能セルとが登録されるセルライブラリを備え、
前記複数種類の機能セル群のそれぞれは、前記機能セル群毎に異なる単一機能を有する複数サイズの機能セルを備え、
（ａ）前記未使用領域にサイズの異なる複数のダミーセルをサイズの降順に仮配置する手段と、
（ｂ）前記配置されたダミーセルの各サイズ毎の配置数及び合計面積を計数する手段と、
（ｃ）前記配置数及び合計面積と、半導体装置の仕様とに基づいて、前記未使用領域に配置する機能セルの種類及びサイズの組み合わせを決定する手段と、
（ｄ）前記仮配置したダミーセルと同一サイズの機能セルとを入れ替える手段と、
を備えたことを特徴とする半導体装置のレイアウト装置。
【請求項３】
半導体装置の論理セルが配置されていない未使用領域に補助セルを配置するプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
セルライブラリに、サイズが異なる複数のダミーセルと、前記複数のダミーセルの何れかと同一サイズで且つ複数種類の機能セル群の何れかに含まれる複数の機能セルとが登録され、
前記複数種類の機能セル群のそれぞれは、前記機能セル群毎に異なる単一機能を有する複数サイズの機能セルを備え、
（ａ）前記未使用領域にサイズの異なる複数のダミーセルをサイズの降順に仮配置するステップと、
（ｂ）前記配置されたダミーセルの各サイズ毎の配置数及び合計面積を計数するステップと、
（ｃ）前記配置数及び合計面積と、半導体装置の仕様とに基づいて、前記未使用領域に配置する機能セルの種類及びサイズの組み合わせを決定するステップと、
（ｄ）前記仮配置したダミーセルと同一サイズの機能セルとを入れ替えるステップと、
を備えたことを特徴とするプログラムを記録した記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置のレイアウト方法、レイアウト装置及び記録媒体に関するものである。
【０００２】
近年、半導体装置（ＬＳＩ）においては、大規模化・高集積化が進められるとともに、多様化するユーザの仕様や製造プロセス等の要望に応じたセルレイアウトのＬＳＩを短期間で開発することが求められている。そのため、要望に対応する種類のセルを短期間でレイアウトするレイアウト方法が要求されている。
【０００３】
【従来の技術】
従来、スタンダードセル方式の半導体装置のレイアウトにおいては、論理機能を備えたセル（以下、論理セルという）の配置及び配線によるレイアウトを終了した後、未使用領域には論理セルの電源を接続するためのセル（以下、スペーサセルという）を配置していた。
【０００４】
図６は、半導体装置のレイアウト図である。
半導体装置１は複数のセル列２を備え、各セル列２には複数の論理セルＡがそれぞれ配置されている。そして、論理セルＡが配置されていない未使用領域には、スペーサセルＢが配置されている。スペーサセルＢは、外形データと電源配線データを持ち、未使用領域の大きさに合わせて複数配置され、これにより論理セルＡの電源配線が接続される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、近年の半導体装置には、その大規模化に伴って、論理セルＡに対して補助的な機能を持つセル（以下、補助セルという）を搭載することが望まれている。補助セルには、途中の論理変更や配線遅延の改善等の改版を目的としたマスタースライス型の基本セル、プロセスにおける特性劣化を防ぐためにアンテナ効果対策を目的としたダイオードセル、電源ノイズ対策を目的とした容量セル、等がある。
【０００６】
これら補助セルは、種類によって外形サイズの異なるものがあり、また半導体装置の仕様によって機能の異なる複数の補助セルを搭載しなければならない。しかしながら、未使用領域は位置によって大きさが限定されているため、その未使用領域に複数種類かつ複数の異なる外形サイズの補助セルを配置するかを設計者が決定するのは難しく、設計期間の長期化を招くという問題があった。
【０００７】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は半導体装置の未使用領域に複数種類の補助セルを仕様に合わせて配置することのできるレイアウト方法、レイアウト装置及び記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１，２，３に記載の発明によれば、未使用領域にサイズの異なる複数のダミーセルを仮配置し、前記配置されたダミーセルの各サイズ毎の配置数及び合計面積を計数し、前記配置数及び合計面積と、半導体装置の仕様とに基づいて、前記未使用領域に配置する機能セルの種類及びサイズの組み合わせを決定し、前記仮配置したダミーセルと同一サイズの機能セルとを入れ替える。これにより、複数種類、複数サイズの機能セルが未使用領域に容易に配置される。
【０００９】
上記構成では、前記複数のダミーセルは、サイズの降順に仮配置され、サイズの異なるダミーセルが効率よく配置される。
また、サイズが異なる複数のダミーセルが登録されたセルライブラリには、前記複数のダミーセルの何れかと同一サイズで且つ複数種類の機能セル群の何れかに含まれる複数の機能セルが登録される。複数種類の機能セル群のそれぞれは、前記機能セル群毎に異なる単一機能を有する複数サイズの機能セルを備える。ダミーセルを仮配置することで、各サイズ毎の配置個数及び合計面積の計数が容易になる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した一実施の形態を図１〜図５に従って説明する。
図２は、レイアウト処理を実行するコンピュータシステム１１の概略構成図である。このシステム１１は、処理装置１２に、入力装置１３、表示装置１４、記憶装置１５〜１８が接続されて構成されている。
【００１３】
入力装置１３は、キーボードおよびマウス装置（図示せず）を含み、プログラムの起動、設計者からの要求や指示，パラメータの入力等に用いられる。表示装置１４は、ＶＤＴ，モニタ等とプリンタ等の出力装置を含み、半導体装置のパターン表示、レイアウト処理の結果の表示、パラメータ入力画面表示、等に用いられる。
【００１４】
記憶装置１５〜１８は、通常、磁気テープ装置、磁気ディスク装置、光ディスク装置、光磁気ディスク装置を含み、これらは各記憶装置１５〜１８に格納されるデータの種類，状態等に応じて適宜用いられる。尚、図２は記憶装置１５〜１８を機能的に分割して示しており、分割しない状態、又は複数の記憶装置にデータ等を分割して格納する構成としても良い。
【００１５】
第１記憶装置１５には、複数種類の補助セルを配置するレイアウト処理を実行するためのプログラムデータ１５ａが格納されている。尚、このプログラムデータ１５ａは、複数のプログラム（モジュール）から構成されていても良い。また、このプログラムデータ１５ａが１つのモジュールとして利用されるＣＡＤプログラムデータが第１記憶装置１５に格納されていてもよい。
【００１６】
プログラムデータ１５ａは、記録媒体１９により提供される。処理装置１２は、図示しないドライブ装置を駆動し、記録媒体１９に記録されたプログラムデータ１５ａを記憶装置１５にロードし、それを実行する。尚、記録媒体１９に記録されたプログラムデータ１５ａを直接実行する構成としても良い。
【００１７】
第２記憶装置１６には、セルライブラリ１６ａが格納され、そのセルライブラリ１６ａには、予め複数種類の補助セル群が登録されている。
各補助セル群は、単一機能を持つ少なくとも１つの補助セルから構成され、各補助セル群に含まれる補助セルはその機能における特性に応じて、予め設定された複数の外形サイズの内の１つを持つ（外形サイズを表すデータがライブラリ１６ａに記録されている）。
【００１８】
また、セルライブラリ１６ａには、複数の外形サイズのみをそれぞれ持つ複数の補助セル（以下、ダミーセルという）が予め登録されている。従って、セルライブラリ１６ａには、外形サイズ毎に、同一外形サイズを持つダミーセルと少なくとも１つの補助セルが登録されている。
【００１９】
図３は、セルライブラリ１６ａに登録された補助セルの外形を示す。
セルライブラリ１６ａには単一機能を持つ複数の補助セル群２１〜２６が登録されている。
【００２０】
第１補助セル群２１は、補助セルとして外形データと電源配線データを持つスペーサセルＢから構成されている。
第２補助セル群２２は、配線改版を目的とする機能を持つ補助セルとして第１及び第２マスタバルクセルＣ１，Ｃ２から構成され、各マスタバルクセルＣ１，Ｃ２は特性（トランジスタ数）に応じた外形サイズを持つ。
【００２１】
第３補助セル群２３は、アンテナ効果対策のための機能を持つ補助セルとして第１及び第２ダイオードセルＤ１，Ｄ２から構成され、各ダイオードセルＤ１，Ｄ２は特性に応じた外形サイズを持つ。そして、第２ダイオードセルＤ２は第１マスタバルクセルＣ１と実質的に同一の外形サイズを持つ。
【００２２】
第４補助セル群２４は、電源ドロップを緩和する機能を持つ補助セルとして第１〜第４容量セルＥ１〜Ｅ４から構成され、各容量セルＥ１〜Ｅ４は特性（容量）に応じた外形サイズを持つ。更に、第１及び第２容量セルＥ１，Ｅ２はそれぞれ第１及び第２ダイオードセルＤ１，Ｄ２と実質的に同じ外形サイズを持ち、第３容量セルＥ３は第２マスタバルクセルＣ２と実質的に同じ外形サイズを持つ。
【００２３】
第５補助セル群２５は、電源ノイズの高周波成分を除去する機能を持つ補助セルとして第１〜第４フィルターセルＦ１〜Ｆ４から構成され、各フィルターセルＦ１〜Ｆ４は特性（容量及び抵抗）に応じた外形サイズを持つ。更に、第１〜第４フィルターセルＦ１〜Ｆ４はそれぞれ第１〜第４容量セルＥ１〜Ｅ４と実質的に同じ外形サイズを持つ。
【００２４】
第６補助セル群２６は、補助セルとして第１〜第５ダミーセルＸ１〜Ｘ５から構成され、第１ダミーセルＸ１はスペーサセルＢと実質的に同じ外形サイズを持ち、第２〜第５ダミーセルＸ２〜Ｘ５はそれぞれ第１〜第４フィルターセルＦ１〜Ｆ４と実質的に同じ外形サイズを持つ。
【００２５】
第３記憶装置１７には、論理セルが配置された半導体装置のレイアウトデータ（被処理データ）１７ａ及び半導体装置の仕様データ１７ｂが格納されている。レイアウトデータ１７ａは、仕様データ１７ｂに基づいて論理セルが処理装置１２によって配置されたデータである。尚、このレイアウトデータ１７ａは、他のＣＡＤシステムにより予め作成され格納されたものでもよい。
【００２６】
処理装置１２は、レイアウトデータ１７ａに対して仕様データ１７ｂに基づいてセルライブラリ１６ａに登録された補助セルを配置し、第４記憶装置１８に補助セルを配置した後のレイアウトデータ（処理済データ）１８ａを格納する。
【００２７】
次に、補助セルのレイアウト処理を、図１のフローチャート及び図４，５のレイアウト図に従って説明する。
図１のステップ３１〜３５はレイアウト処理のサブステップである。図２の処理装置１２は、論理セル配置処理にて生成された半導体装置のレイアウトデータ１７ａと、その半導体装置の仕様データ１７ｂに基づいて、半導体装置の仕様に適した割合で補助セルを配置する。
【００２８】
ステップ３１は補助セル仮配置処理であり、処理装置１２は、代表する１種類の補助セル（例えば、ダミーセルＸ１〜Ｘ５）をサイズの降順で未使用領域に配置する。即ち、処理装置１２は、先ず大きなサイズのダミーセルＸ５を配置し、ダミーセルＸ５が配置できなかった若しくは配置されて残った未使用領域に対して次に大きなサイズのダミーセルＸ４を配置する。
【００２９】
このことにより、論理セルが配置されていない広い未使用領域から順に補助セルが配置され、最終的には、図４に示すように、全ての未利用領域が補助セル（図４ではダミーセルＸ１，Ｘ３，Ｘ４）で満たされた半導体装置のレイアウト４１が得られる。これにより、サイズの異なる補助セル（ダミーセル）を短時間で効率よく配置できる。
【００３０】
ステップ３２は補助セルの計数処理であり、処理装置１２は、ステップ３１において配置した補助セルの各々のサイズについて挿入セル数及び総面積を計数する。即ち、処理装置１２は、ステップ３１において配置した各ダミーセルＸ１〜Ｘ５の数及び各サイズ毎の合計面積を計数する。図４の場合、処理装置１２はダミーセルＸ１，Ｘ３，Ｘ４についてそれらの数（３個，１０個，４個）と、各サイズ毎の合計面積（６，２０，８：但しスペーサセルＢの面積を「１」とした場合の値）を得る。
【００３１】
ステップ３３は使用セルの選定処理であり、処理装置１２は、ステップ３２にて得た各サイズ毎の使用セル数及び合計面積と、各補助セルの特性の総和（＝特性値×使用セル数）を考慮し、半導体装置の仕様を満足する組み合わせを選択する。
【００３２】
ステップ３２では、例えば、論理セルの使用率が低いと大きなサイズの補助セルの数・総面積ともに多く、小さいサイズの補助セルの数は多いが総面積は少ない傾向が得られる。逆に、論理セルの使用率が高いと、大きなサイズの補助セルの数・総面積ともに少なく、小さいサイズの補助セルは数・総面積ともに多い傾向が得られる。
【００３３】
この傾向を基に、処理装置１２は、使用する補助セルの組み合わせを決定する。例えば、補助セルの数もしくは面積がセルサイズの降順に従い減少する傾向のレイアウトにおいて、容量セルを挿入したい場合には、大きなサイズの容量セルＥ３，Ｅ４と、小さいサイズの他の補助セル（例えばマスタバルクセルＣ１）とを組み合わせて使用することを決定する。逆に、補助セルの数もしくは面積がセルサイズの降順に従い増加する傾向のレイアウトにおいては、小さいサイズの容量セルＥ１，Ｅ２と、大きいサイズの他の補助セル（例えばマスタバルクセルＣ２）を組み合わせて使用することを決定する。
【００３４】
そして、処理装置１２は、半導体装置の仕様に基づいて、搭載する補助セルの数及び面積（必要とする補助セルの特性に面積が対応する）を決定する。例えば、マスタバルクセルの数は、半導体装置の論理回路規模によって決定される。全体の回路規模や新たに設計した部分の回路規模が大きければ修正に必要なマスタバルクセルも多く必要となる。また、ダイオードセルの数は、平均配線長により必要数が決定される。更に、容量セル及びフィルターセルの数は、半導体装置の回路規模や電源配線容量に応じて決定される。
【００３５】
ステップ３４は補助セル再配置処理であり、処理装置１２は、ステップ３３において決定した各サイズ別の使用セルに基づいて、補助セルの自動配置処理を実施する。即ち、処理装置１２は、ステップ３１において仮配置したダミーセルＸ１，Ｘ３，Ｘ４を一旦全て取り除き、各種類及び外形サイズの補助セルに対して配置順序を設定し、配置プログラムを実行する。
【００３６】
また、ステップ３５は補助セルの入れ替え処理であり、処理装置１２は、仮配置した各々のサイズのダミーセルＸ１，Ｘ３，Ｘ４と、ステップ３３において決定した補助セル（例えば容量セルＥ３，Ｅ４）を同じサイズ同士で交換する（ダミーセルＸ４を容量セルＥ３と交換する）。これにより、図５に示すように、任意の組み合わせ及び数の補助セルを配置した半導体装置のレイアウト４２が得られる。
【００３７】
処理装置１２は、ステップ３２において得た半導体装置に必要な補助セルの種類及びサイズごとの数及び合計面積、即ち半導体装置の論理セルと未使用領域の状態に応じて、ステップ３４及びステップ３５のうち、処理時間が短い方、処理が容易な方のステップを実行する。
【００３８】
以上記述したように、本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）処理装置１２は、ダミーセルＸ１〜Ｘ５をサイズの降順で未使用領域に仮配置し、その仮配置した各ダミーセルＸ１〜Ｘ５の数及び各サイズ毎の合計面積を計数する。次に、処理装置１２は、各サイズ毎の使用セル数及び合計面積と、各補助セルの特性の総和を考慮し、半導体装置の仕様を満足する組み合わせを選択する。そして、処理装置１２は、決定した各サイズ別の使用セルに基づいて、補助セルを配置するようにした。その結果、半導体装置の仕様に適したサイズの異なる複数種類の補助セルで未使用領域を容易に満たすことができる。
【００３９】
（２）処理装置１２は、半導体装置に必要な補助セルの種類及びサイズごとの数及び合計面積によって、決定した複数種類の補助セルの自動配置を実行するか、又はダミーセルＸ１〜Ｘ５と決定した複数種類の補助セルと同一サイズ毎に入れ替えを行うようにした。その結果、半導体装置の未使用領域の状態に応じて補助セルを容易に配置することができる。
【００４０】
尚、前記実施形態は、以下の態様に変更してもよい。
・上記実施形態では、ダミーセルＸ１〜Ｘ５を仮配置して未使用領域に配置可能な補助セルの数及び総面積を計数したが、単一機能を持つ複数種類の補助セル（容量セルＥ１〜Ｅ４，フィルターセルＦ１〜Ｆ４等）のうちの１種類を仮配置するようにしてもよい。
【００４１】
・上記実施形態において、処理装置１２は、各ステップ３１〜３５を実行する複数のコンピュータから構成されてもよい。また、上記処理装置１２を各ステップの処理を実行するハードウェアにて構成してもよい。
【００４２】
・上記実施形態において、各種類の補助セルの種類及び各種類の補助セルのサイズを特定したが、これら以外の種類及びサイズが設定された補助セルを備える構成としてもよい。例えば、上記実施形態では１サイズのスペーサセルＢのみをセルライブラリ１６ａに備えたが、サイズの異なる１つ以上のスペーサセルを更に備えるようにしてもよい。
【００４３】
・上記実施形態において、上記したような処理を行うコンピュータプログラムをユーザに提供する媒体として、メモリカード、フロッピーディスク、光ディスク（CD-ROM,DVD-ROM,… ）、光磁気ディスク（MO,MD,…）等、任意のコンピュータ読み取り可能な記録媒体１９の他、各種ネットワーク、衛星など、及びそれらを介して伝送されるプログラムデータを重畳した搬送波などの伝送媒体を利用することができる。
【００４４】
以上の様々な実施の形態をまとめると、以下のようになる。
（付記１）  半導体装置の論理セルが配置されていない未使用領域に補助セルを配置するレイアウト方法であって、
（ａ）前記未使用領域にサイズの異なる複数の補助セルを仮配置するステップと、
（ｂ）前記配置された補助セルの各サイズ毎の配置数及び合計面積を計数するステップと、
（ｃ）前記配置数及び合計面積と、半導体装置の仕様とに基づいて、前記未使用領域に配置する補助セルの種類及びサイズの組み合わせを決定するステップと、
（ｄ）前記組み合わせが決定した複数の補助セルを前記未使用領域に配置するステップと、
を備えたことを特徴とする半導体装置のレイアウト方法。
（付記２）  前記ステップ（ａ）において、前記複数の補助セルをサイズの降順に仮配置することを特徴とする付記１記載のレイアウト方法。
（付記３）  前記複数種類の補助セルが登録されたセルライブラリには複数サイズのダミーセルが登録され、前記ステップ（ａ）において、前記ダミーセルを仮配置することを特徴とする付記１又は２記載のレイアウト方法。
（付記４）  前記ステップ（ｄ）では、（ｅ）前記組み合わせが決定した複数の補助セルを自動配置するステップ、又は、（ｆ）前記仮配置した補助セルと同一サイズの機能セルを入れ替えるステップ、を実行することを特徴とする付記１〜３の何れか一項に記載のレイアウト方法。
（付記５）  前記ステップ（ｅ）では前記仮配置したダミーセルを除いた後に前記複数の補助セルの自動配置を実行し、前記ステップ（ｆ）では前記仮配置したダミーセルと同一サイズの補助セルとを入れ替える
ことを特徴とする付記４記載のレイアウト方法。
（付記６）  半導体装置の論理セルが配置されていない未使用領域に補助セルを配置するレイアウト装置であって、
（ａ）前記未使用領域にサイズの異なる複数の補助セルを仮配置する手段と、
（ｂ）前記配置された補助セルの各サイズ毎の配置数及び合計面積を計数する手段と、
（ｃ）前記配置数及び合計面積と、半導体装置の仕様とに基づいて、前記未使用領域に配置する補助セルの種類及びサイズの組み合わせを決定する手段と、
（ｄ）前記組み合わせが決定した複数の補助セルを前記未使用領域に配置する手段と、
を備えたことを特徴とする半導体装置のレイアウト装置。
（付記７）  前記手段（ａ）は、前記複数の補助セルをサイズの降順に仮配置することを特徴とする付記６記載のレイアウト装置。
（付記８）  前記複数種類の補助セルが登録されたセルライブラリには複数サイズのダミーセルが登録され、前記手段（ａ）において、前記ダミーセルを仮配置することを特徴とする付記６又は７記載のレイアウト装置。
（付記９）  前記手段（ｄ）では、（ｅ）前記組み合わせが決定した複数の補助セルを自動配置する手段、又は、（ｆ）前記仮配置した補助セルと同一サイズの機能セルを入れ替える手段、を実行することを特徴とする付記６〜８の何れか一つに記載のレイアウト装置。
（付記１０）  前記手段（ｅ）では前記仮配置したダミーセルを除いた後に前記複数の補助セルの自動配置を実行し、前記手段（ｆ）では前記仮配置したダミーセルと同一サイズの補助セルとを入れ替える
ことを特徴とする付記９記載のレイアウト装置。
（付記１１）  半導体装置の論理セルが配置されていない未使用領域に補助セルを配置するプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
（ａ）前記未使用領域にサイズの異なる複数の補助セルを仮配置するステップと、
（ｂ）前記配置された補助セルの各サイズ毎の配置数及び合計面積を計数するステップと、
（ｃ）前記配置数及び合計面積と、半導体装置の仕様とに基づいて、前記未使用領域に配置する補助セルの種類及びサイズの組み合わせを決定するステップと、
（ｄ）前記組み合わせが決定した複数の補助セルを前記未使用領域に配置するステップと、
を備えたことを特徴とするプログラムを記録した記録媒体。
（付記１２）  前記ステップ（ａ）において、前記複数の補助セルをサイズの降順に仮配置することを特徴とするプログラムを記録した付記１１記載の記録媒体。
（付記１３）  前記複数種類の補助セルが登録されたセルライブラリには複数イズのダミーセルが登録され、前記プログラムは、前記ステップ（ａ）において、前記ダミーセルを仮配置することを特徴とする付記１１又は１２記載の記録媒体。
（付記１４）  前記プログラムは、前記ステップ（ｄ）では、（ｅ）前記組み合わせが決定した複数の補助セルを自動配置するステップ、又は、（ｆ）前記仮配置した補助セルと同一サイズの機能セルを入れ替えるステップ、を実行することを特徴とする付記１１〜１３の何れか一つに記載の記録媒体。
（付記１５）  前記プログラムは、前記ステップ（ｅ）では前記仮配置したダミーセルを除いた後に前記複数の補助セルの自動配置を実行し、前記ステップ（ｆ）では前記仮配置したダミーセルと同一サイズの補助セルとを入れ替えることを特徴とする付記１４記載の記録媒体。
（付記１６）  付記１〜５のうちの何れか一つに記載の方法を実行するプログラムを提供することを特徴とする伝送媒体。
【００４５】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、半導体装置の未使用領域に複数種類の補助セルを仕様に合わせて配置することの可能なレイアウト方法、レイアウト装置及び記録媒体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  一実施形態のセル配置手順のフローチャートである。
【図２】  コンピュータシステムの概略構成図である。
【図３】  補助セルの外形の説明図である。
【図４】  ダミーセルを配置した半導体装置の一部レイアウト図である。
【図５】  補助セルを配置した半導体装置の一部レイアウト図である。
【図６】  従来のセル配置の説明図である。
【符号の説明】
１２  処理装置
１６ａ  セルライブラリ
３１〜３５  ステップ
Ｂ  補助セルとしてのスペーサセル
Ｃ１，Ｃ２  補助セルとしてのマスタバルクセル
Ｄ１，Ｄ２  補助セルとしてのダイオードセル
Ｅ１〜Ｅ４  補助セルとしての容量セル
Ｆ１〜Ｆ４  補助セルとしてのフィルターセル
ｘ１〜Ｘ５  補助セルとしてのダミーセル
【図１】
0004629189.tif 000002
【図２】
0004629189.tif 000003
【図３】
0004629189.tif 000004
【図４】
0004629189.tif 000005
【図５】
0004629189.tif 000006
【図６】
0004629189.tif 000007