(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理液で処理する処理装置であって、
前面壁を有し、この前面壁に開口部が形成されたチャンバと、
このチャンバ内に設けられ上記基板を所定の角度で傾斜させて搬送する搬送手段と、
この搬送手段によって搬送される基板に上記処理液を噴射する処理液噴射手段と、
上記開口部を液密に閉塞した点検用カバーと、
上記チャンバの前面壁の外面に設けられ上記点検用カバーとの間に空間部を形成する外部カバーと、
上記空間部に気体を供給しこの空間部を陽圧にして上記チャンバ内を搬送される基板に噴射された処理液が上記開口部から上記空間部内に漏れ出るのを阻止する加圧手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。
【請求項２】
上記チャンバの前面壁の外面の上記外部カバーの下方には、上記点検用カバーを外したときに上記前面壁の外面を伝わって流れる処理液を受ける液受け部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
【請求項３】
上記点検用カバーは透明部材によって形成されていて、上記外部カバーは少なくとも上記点検用カバーに対向する部分が透明部材によって形成されていることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
【請求項４】
上記加圧手段は、上記チャンバ内に設けられ一端を上記空間部に開口させ他端を上記チャンバの底部に開口させた導入管と、この導入管の他端に接続され上記空間部に上記導入管を介して気体を供給する給気管とによって構成されていることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理液で処理する基板の処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。
【０００３】
つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、基板のレジストが除去された部分をエッチングする。そして、エッチング後にレジストを除去するという一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。
【０００４】
このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などの処理液によって基板を処理する工程、さらにリンス液によって洗浄する工程、洗浄後に基板に付着残留したリンス液を除去する乾燥工程が必要となる。
【０００５】
従来、基板に対して上述した一連の処理を行う場合、上記基板は、軸線を水平にして配置された搬送ローラによってほぼ水平な状態でそれぞれの処理を行なう処理チャンバに順次搬送され、各処理チャンバで処理液によって処理され、処理液による処理後に圧縮気体が噴射されて乾燥処理される。
【０００６】
ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。そのため、基板を水平搬送すると、搬送ローラ間における基板の撓みが大きくなるため、各処理チャンバでの処理が基板の板面全体にわたって均一に行えなくなるということがある。
【０００７】
さらに、基板が大型化すると、その基板を搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸が長尺化する。しかも、基板が大型化することで、基板上に供給される処理液が増大し、基板上の処理液の量に応じて上記搬送軸に加わる荷重が大きくなって搬送軸の撓みが増大する。搬送軸の撓みが増大すると、基板にも撓みが生じるから、そのことによっても基板の処理が均一に行えなくなるということがある。
【０００８】
そこで、処理液によって基板を処理する際、上記基板が処理液の重量によって撓むのを防止するため、基板を所定の傾斜角度、たとえば７５度の角度で傾斜させて搬送するということが考えられている。基板を傾斜させて搬送すれば、処理液は基板の板面に溜まらず、上方から下方へ円滑に流れるから、処理液の重量によって基板が撓むのを防止することができる。
【０００９】
基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する処理装置は縦長のチャンバを有する。このチャンバ内には、基板の傾斜方向の下側となる面を支持する支持ローラ及び基板の下端を支持してこの基板を所定方向に駆動する駆動ローラからなる搬送手段が設けられている。
【００１０】
上記チャンバ内には、上記搬送手段によってチャンバ内を搬送される基板に処理液を噴射するノズルが設けられている。そして、チャンバ内を搬送される基板は上記ノズルから噴射される処理液によって板面が処理されることになる。
【００１１】
チャンバ内に設けられた搬送機構の修理点検などを行なうために、上記チャンバの前面壁には開口部が形成されている。この開口部は処理液が外部に漏れ出るのを阻止するために点検用カバーによって液密に閉塞される。そして、チャンバの内部を修理点検する場合には、上記点検用カバーを上記チャンバの前面壁から取り外して行なわれる。
【００１２】
基板を処理する処理液としては人体に有害な薬液が用いられることがある。そのため、上記点検用カバーは周辺部を上記チャンバの前面壁の開口部の周辺部にＯリングなどのパッキングを介して液密な状態で着脱可能に取付け、基板に噴射された処理液が上記開口部を通じてチャンバ内部から外部に漏れ出るのを防止するようにしている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
チャンバの前面壁に形成された開口部を、パッキングを介して点検用カバーで液密に閉塞すれば、基板に供給された処理液がチャンバの外部に漏れ出るのを防止することができる。しかしながら、基板に噴射された処理液がチャンバ内でミスト状となって飛散し、チャンバの前面壁と点検用カバーとの間に設けられたパッキングに付着することが避けられない。
【００１４】
上記パッキングは通常、耐薬品性の材料で作られている。しかしながら、上記パッキングに処理液が付着することが長期にわたって繰り返されると、そのパッキングが耐薬品性の材料で作られていても、劣化損傷することが避けられない。そのため、パッキングの劣化した部分から処理液が外部に漏れ出るということがある。
【００１５】
さらに、上記パッキングは上記点検用カバーの着脱を繰り返して行なうことによっても劣化損傷するということがあり、そのような場合にも処理液が外部に漏れ出るということがある。
【００１６】
この発明はチャンバの前面壁と点検用カバーとの間に設けられたパッキングが劣化損傷するようなことがあっても、処理液がチャンバ内から外部に漏れ出るのを防止することができるようにした処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
この発明は、基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理液で処理する処理装置であって、
前面壁を有し、この前面壁に開口部が形成されたチャンバと、
このチャンバ内に設けられ上記基板を所定の角度で傾斜させて搬送する搬送手段と、
この搬送手段によって搬送される基板に上記処理液を噴射する処理液噴射手段と、
上記開口部を液密に閉塞した点検用カバーと、
上記チャンバの前面壁の外面に設けられ上記点検用カバーとの間に空間部を形成する外部カバーと、
上記空間部に気体を供給しこの空間部を陽圧にして上記チャンバ内を搬送される基板に噴射された処理液が上記開口部から上記空間部内に漏れ出るのを阻止する加圧手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
【００１８】
上記チャンバの前面壁の外面の上記外部カバーの下方には、上記点検用カバーを外したときに上記前面壁の外面を伝わって流れる処理液を受ける液受け部が設けられていることが好ましい。
【００１９】
上記点検用カバーは透明部材によって形成されていて、上記外部カバーは少なくとも上記点検用カバーに対向する部分が透明部材によって形成されていることが好ましい。
【００２０】
上記加圧手段は、上記チャンバ内に設けられ一端を上記空間部に開口させ他端を上記チャンバの底部に開口させた導入管と、この導入管の他端に接続され上記空間部に上記導入管を介して気体を供給する給気管とによって構成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
この発明によれば、点検用カバーの前面側に外部カバーを設け、この外部カバーと点検用カバーとの間に空間部を形成し、この空間部を陽圧にするようにした。そのため、チャンバの前面壁と点検用カバーとの液密状態が損なわれても、空間部の圧力によってチャンバ内のミスト状の処理液が外部に漏れ出るのを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。  
図１はこの発明の処理装置の概略的構成を示す斜視図であって、この処理装置は装置本体１を有する。この装置本体１は分割された複数の処理ユニット、この実施の形態では第１乃至第５の処理ユニット１Ａ〜１Ｅを分解可能に一列に連結してなる。
【００２３】
各処理ユニット１Ａ〜１Ｅは架台２を有する。この架台２の前面には箱型状の処理部３が所定の角度で傾斜して保持されている。上記架台２と処理部３の上面には上部搬送部４が設けられている。上記架台２の下端の幅方向両端には板状の一対の脚体５（一方のみ図示）が分解可能に設けられる。この脚体５によって上記架台２の下面側に空間部６が形成される。
【００２４】
上記空間部６には、上記処理部３で後述するように行なわれる基板Ｗの処理に用いられる薬液やリンス液などの処理液を供給するタンクやポンプ或いは処理液の供給を制御するための制御装置などの機器７をフレーム８に載置した機器部９が収納されるようになっている。つまり、各処理ユニット１Ａ〜１Ｅは架台２を脚体５で支持して処理部３の下方に空間部６を形成することで、上下方向に位置する処理部３、上部搬送部４及び機器部９の３つの部分に分割されている。
【００２５】
上記構成の処理装置は、複数の処理ユニット１Ａ〜１Ｅに分割可能であるばかりか、各処理ユニットは処理部３、上部搬送部４及び機器部９に分割可能である。そのため、処理装置が大型化した場合であっても、運搬時などには複数の処理ユニット１Ａ〜１Ｅに分解するだけでなく、さらに各処理ユニット１Ａ〜１Ｅを処理部３、上部搬送部４及び機器部９に分割して取り扱うことができる。
【００２６】
つまり、処理装置の装置本体１は長さ寸法だけでなく、高さ寸法も小さくして取り扱えるから、トラックの荷台に積んだときに、制限高さをオーバすることなく、運搬することが可能である。
【００２７】
上記処理部３は図２に示すようにチャンバ１２を有する。このチャンバ１２は上記架台２に所定の角度である、たとえば垂直線に対して７５度の角度で傾斜して保持されていて、幅方向の両側面には７５度の角度で傾斜して搬送される基板Ｗが通過するスリット１３（図１に一箇所のだけ図示）が形成されている。
【００２８】
上記チャンバ１２の内部には、図２に示すように傾斜搬送手段を構成する複数の搬送軸１５（１つのみ図示）がチャンバ１２の幅方向に所定間隔で設けられている。この搬送軸１５には複数の支持ローラ１４が軸方向に所定間隔で回転可能に設けられている。上記搬送軸１５は、軸線が上記スリット１３と同じ角度で傾斜するよう、上下端及び中途部がそれぞれブラケット１５ａ（上下端のブラケットのみ図示）によって支持されている。
【００２９】
上記チャンバ１２内には上記スリット１３から基板Ｗが図１に鎖線で示す第１の姿勢変換部１６によって水平状態から７５度の角度に変換されて搬入される。チャンバ１２内に搬入された基板Ｗは上記搬送軸１５に設けられた支持ローラ１４によって非デバイス面である背面が支持される。この基板Ｗの下端は駆動ローラ１７（図２に示す）によって支持される。この駆動ローラ１７は駆動機構１８によって回転駆動さるようになっている。それによって、駆動ローラ１７に下端が支持され背面が上記支持ローラ１４に支持された上記基板Ｗは上記駆動ローラ１７の回転方向に搬送される。
【００３０】
各処理ユニット１Ａ〜１Ｅのうち、基板Ｗを処理液で処理する処理部３内には、図２に示すように基板Ｗの両面と平行に離間した２本で対をなす、処理液噴射手段を構成する複数対のノズルパイプ１９（一対だけ図示）が設けられている。
【００３１】
各ノズルパイプ１９には軸方向に所定間隔で複数のノズル２１が先端を上記基板Ｗの板面に向けて設けられている。各ノズルパイプ１９は処理液の供給管２２に接続されている。それによって、上記ノズル２１からは基板Ｗの板面に、この基板Ｗを処理する処理液が噴射されるようになっている。
【００３２】
各処理ユニット１Ａ〜１Ｅを順次通過して処理された基板Ｗは７５度の角度で傾斜した状態で搬出される。最終段の処理ユニット１Ｅから搬出された基板Ｗは、図１に鎖線で示す第２の姿勢変換部２３で傾斜状態から水平状態に姿勢が変換されて次工程に受け渡される。
【００３３】
図２と図３に示すように、上記チャンバ１２の前面壁１２ａには開口部２５が形成されている。この開口部２５は着脱可能な点検用カバー２６によって液密に閉塞されている。上記点検用カバー２６は、取付け枠２７によって前面壁１２ａの開口部２５に以下に説明するように着脱可能に取付けられている。なお、点検用カバー２６は透明部材としての強化ガラスによって形成されている。
【００３４】
上記取付け枠２７は断面形状がクランク状に形成されていて、その径方向内方に位置する一端部の外面には第１の環状溝２８が形成されている。この第１の環状溝２８にはＯリングからなる第１のパッキング２９が装着されている。
【００３５】
上記取付け枠２７の径方向外方に位置する他端部には挿通孔３１が厚さ方向に穿設されている。上記取付け枠２７は他端部の内面をチャンバ１２の前面壁１２ａの外面の上記開口部２５の周辺部に接触させて設けられる。
【００３６】
上記前面壁１２ａの開口部２５の周辺部には第２の環状溝３２が形成されている。この第２の環状溝３２にはＯリングからなる第２のパッキング３３が装着されている。上記前面壁１２ａの第２の環状溝３２よりも径方向外方には、周方向に上記挿通孔３１と対応する間隔で複数のねじ孔３４（１つだけ図示）が形成されている。
【００３７】
上記挿通孔３１から上記ねじ孔３１には枠固定ねじ３５が螺合される。それによって、取付け枠２７は上記チャンバ１２の前面壁１２ａに第２のパッキング３３によって液密に固定される。なお、上記ねじ孔３１のチャンバ１２内に開放した一端は前面壁１２ａの内面に固着された閉塞板３５によって液密に閉塞されている。
【００３８】
上記点検用カバー２６は周辺部の内面を上記取付け枠２７の一端部の外面に設けられた上記第１のパッキング２９に接触させて設けられる。点検用カバー２６の周辺部外面には、枠状に形成された帯板状の第３のパッキング３６を介して同じく枠状で帯板状の押え板３７が周方向全長にわたって重合されている。
【００３９】
第３のパッキング３６と押え板３７との対応する位置には、周方向に所定間隔で複数の挿通孔３８（１つのみ図示）が形成されている。上記取付け枠２７の一端部の上記挿通孔３８と対応する位置には取付け枠２７の外面に開口し、内面には開口していないねじ孔３９が形成されている。
【００４０】
上記ねじ孔３９には上記挿通孔３８からカバー固定ねじ４１が螺合される。それによって、上記点検用カバー２６の周辺部の内面が上記第１のパッキング２９によって上記取付け枠２７の一端部の外面に液密に取付け固定される。つまり、上記チャンバ１２の開口部２５が上記点検用カバー２６によって液密に閉塞される。
【００４１】
上記チャンバ１２の前面壁１２ａの上記点検用カバー２６が設けられた部分は外部カバー４３によって覆われている。すなわち、図１に示すように１つのチャンバ１２に対して２つの上記外部カバー４３が観音開きとなるよう、幅方向の一端を上記前面壁１２ａに図示しないヒンジによって回動可能に取付けられている。
【００４２】
上記外部カバー４３はチャンバ１２の前面壁１２ａに対向する面が開放した箱型状に形成されていて、その端縁には上記前面壁１２ａに気密に接触する第４のパッキング４２が取着されている。
【００４３】
上記外部カバー４３の上記点検用カバー２６に対向する部分には開口部４４が形成されている。この開口部４４にはガラスや樹脂などの透明部材４５が第５のパッキング４６によって気密に取着されている。それによって、透明部材４５及び上記点検用カバー２６を介してチャンバ１２内を覗くことができるようになっている。
【００４４】
上記チャンバ１２の前面壁１２ａの前面には、上記外部カバー４３によって覆われた部分に空間部４８が形成される。上記前面壁１２ａの上記空間部４８に対応する部分には給気孔４９が穿設されている。この給気孔４９のチャンバ１２内に開口した一端にはＬ字状の導入管５１の一端が接続されている。
【００４５】
上記導入管５１の他端は上記チャンバ１２の底部壁１２ｂに穿設された接続孔５２に接続されている。この接続孔５２には給気管５３が一端を接続して設けられている。この給気管５３の他端は図示しない圧縮空気の供給源に接続されている。それによって、上記給気管５３からの圧縮空気は上記導入管５１を通じて上記給気孔４９から上記空間部４８に供給されるようになっている。つまり、上記挿入管５１と給気管５３とで上記空間部４８の圧力を陽圧に上昇させる加圧手段を構成している。
【００４６】
なお、図２に示すように、上記チャンバ１２の底部壁１２ｂには排液孔４４ａが形成されている。この排液孔４４ａにはノズル２１から基板Ｗに噴射された処理液を外部に排出する排液管４４ｂが接続されている。
【００４７】
上記チャンバ１２の前面壁１２ａの前面の、上記外部カバー４３の下端側には樋状の液受け部５５がチャンバ１２の幅方向全長にわたって設けられている。この液受け部５５は上面が開放し、底部には排液孔５６が形成されている。この排液孔５６には排液管５７が接続されている。
【００４８】
それによって、たとえば点検用カバー２６を取り外した際などに、チャンバ１２内から前面壁１２ａを伝わって処理液が滴下したような場合、その処理液を上記液受け部５５によって受けることができるようになっている。
【００４９】
さらに、チャンバ１２の前面壁１２ａの外部カバー４３と液受け部５５との間の部分には、作業者がチャンバ１２内部を点検し易くするための作業台５８（図３に鎖線で示す）がチャンバ１２の幅方向に沿って設けられている。
【００５０】
このような構成の処理装置において、チャンバ１２内に供給された基板Ｗは、駆動ローラ１７によって所定方向に搬送されながら、ノズル２１から噴射される処理液によって一対の板面が処理されることになる。
【００５１】
基板Ｗを処理液によって処理する際、チャンバ１２の前面壁１２ａの外面と外部カバー４３にとによって形成された空間部４８に、給気管５３及び挿入管５１を通じて圧縮空気を供給する。それによって、上記空間部４８はチャンバ１２の内部よりも圧力が高くなるよう、陽圧に維持される。
【００５２】
処理液がノズル２１から基板Ｗに噴射されると、その処理液はミスト状となってチャンバ１２内に充満し、点検用カバー２６の周辺部と取付け枠２７との液密を維持する第１のパッキン２９及び取付け枠２７と前面壁１２ａとの気密を維持する第２のパッキング３３に付着する。処理液が第１、第２のパッキング２９，３３に付着するということが長期間にわたって繰り返されると、上記第１、第２のパッキング２９，３３が劣化損傷し、その液密を維持する機能が損なわれてチャンバ１２内のミスト状の処理液が前面壁１２ａの開口部２５から外部に漏れ出る虞がある。
【００５３】
しかしながら、前面壁１２ａの外面の点検用カバー２６に対応する部分は外部カバー４３によって覆われ、この外部カバー４３によって形成された空間部４８は給気管５３から供給される圧縮空気によって陽圧に維持されている。
【００５４】
そのため、上記第１、第２のパッキング２９，３３が劣化損傷し、これらパッキング２９，３３による液密を維持する機能が損なわれるようなことがあっても、上記空間部４８とチャンバ１２の内部空間部４８との圧力差によってチャンバ１２内のミスト状の処理液が上記空間部４８に流出するのが阻止される。つまり、チャンバ１２の前面壁１２ａに点検用カバー２６を設けるために開口部２５を形成しても、この開口部２５から処理液が外部に漏れ出るのを確実に防止することができる。
【００５５】
上記チャンバ１２の内部を修理点検する場合、外部カバー４３を開き、開口部２５から点検用カバー２６を取り外す。点検用カバー２６を取り外すとき、この点検用カバー２６の内面に付着した処理液や開口部２５の内周面に付着した処理液が前面壁１２ａの外面を伝わって流れ落ちることがある。前面壁１２ａを流れ落ちる処理液は、前面壁１２ａの下部に設けられた液受け部５５に流れ込む。
【００５６】
そのため、修理点検時に処理液がチャンバ１２内から外部に流れ出ても、その処理液がチャンバ１２の周辺部を汚すようなことがないから、作業者が有害な処理液に不用意に触れるのを防止することができる。
【００５７】
空間部４８に圧縮空気を導入するための導入管５１をチャンバ１２の内部に設けるようにした。そのため、上記導入管５１が空間部４８を形成するために開閉可能に設けられた外部カバー４３と干渉することがないから、たとえば外部カバー４３に導入管５１を逃げるための余計な加工を行なわずにすむばかりか、導入管５１がチャンバ１２の前面に露出しないため、外観的にも良好である。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】この発明の一実施の形態の処理装置の概略的構成を示す斜視図。
【図２】上記処理装置のチャンバの断面図。
【図３】チャンバの前面壁の下端部を示す拡大断面図。
【符号の説明】
【００５９】
１２…チャンバ、１４…支持ローラ（搬送手段）、１７…駆動ローラ（搬送手段）、２１…ノズル（処理液噴射手段）、２５…開口部、２６…点検用カバー、４３…外部カバー、５１…導入管（加圧手段）、５３…給気管（加圧手段）、５５…液受け部。
【図１】
0004685618.tif 000002
【図２】
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【図３】
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