(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される多官能性（メタ）アクリレート、下記式（２）で表される化合物又はその部分縮合物である重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物、光酸発生剤および光ラジカル開始剤で構成された重合性組成物。
【化１】
0004756977.tif 000007
（式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａおよびＲ２ｂは置換基を示し、Ｒ３ａおよびＲ３ｂはアルキレン基を示し、Ｒ４ａおよびＲ４ｂは水素原子又はメチル基を示す。ｋ１及びｋ２は同一又は異なって０〜４の整数を示し、ｍ１及びｍ２は同一又は異なって０〜３の整数を示し、ｎ１およびｎ２は同一又は異なって０又は１以上の整数を示し、ｐ１およびｐ２は同一又は異なって１〜４の整数を示す。ただし、ｍ１＋ｐ１及びｍ２＋ｐ２は、それぞれ、１〜５の整数である）
Ｘ−（Ａ）ｃ−Ｓｉ(ＯＲ４)ａ(Ｒ５)３−ａ      （２）
［式中、Ｘは、ビニル基又は（メタ）アクリロイル基である重合性基、Ａは連結基を示し、Ｒ４は、炭化水素基又は基−［（Ｒ６Ｏ）ｂ−Ｒ７］（式中、Ｒ６は、アルキレン基であり、Ｒ７は炭化水素基であり、ｂは１以上の整数を示す）であり、Ｒ５は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。ａは１〜３の整数、ｃは０又は１を示す。］
【請求項２】
式（１）において、Ｒ３ａおよびＲ３ｂがＣ２−３アルキレン基、ｎ１およびｎ２がそれぞれ１又は２、かつｐ１およびｐ２がそれぞれ１〜３である請求項１記載の重合性組成物。
【請求項３】
式（２）において、重合性基が（メタ）アクリロイル基である請求項１記載の重合性組成物。
【請求項４】
式（２）で表される化合物が、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ１−４アルコキシシラン、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリ（Ｃ１−４アルコキシＣ２−４アルコキシ）シラン、（メタ）アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリＣ１−４アルコキシシラン、および（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ６−１０アリールオキシシランから選択された少なくとも１種である請求項１記載の重合性組成物。
【請求項５】
光酸発生剤が、トリアリールスルホニウム塩、ビス（アルキルアリール）ヨードニウム塩、および下記式（６）で表される化合物から選択された少なくとも１種である請求項１記載の重合性組成物。
【化２】
0004756977.tif 000008
（式中、Ｒ１７、Ｒ１８およびＲ１９は置換基、ｐ、ｑおよびｒは同一又は異なってそれぞれ０〜４の整数、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又はアルキル基を示す。）
【請求項６】
重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物の割合が、式（１）で表される多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、５０〜７００重量部であり、光酸発生剤の割合が、式（１）で表される多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、０．５〜５重量部である請求項１記載の重合性組成物。
【請求項７】
さらに、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物を含む請求項１記載の重合性組成物。
【請求項８】
重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物が、下記式（３）で表される化合物、下記式（３）で表される化合物のオリゴマー、又は下記式（３）で表される化合物の部分縮合物で構成されている請求項７記載の重合性組成物。
Ｓｉ(ＯＲ８)ｄ(Ｒ９)４−ｄ      （３）
［式中、Ｒ８は、炭化水素基又は基−［（Ｒ１０Ｏ）ｅ−Ｒ１１］（式中、Ｒ１０は、アルキレン基であり、Ｒ１１は炭化水素基であり、ｅは１以上の整数を示す）であり、Ｒ９は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。ｄは１〜４の整数を示す。］
【請求項９】
重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物が、Ｃ６−８アリールトリＣ１−４アルコキシシラン、テトラＣ１−４アルコキシシラン、テトラＣ６−８アリールオキシシラン、およびテトラＣ１−４アルコキシシランのオリゴマーから選択された少なくとも１種の化合物又はその部分縮合物で構成されている請求項７記載の重合性組成物。
【請求項１０】
さらに、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、および亜鉛から選択された非ケイ素系金属のアルコキシドを含む請求項１記載の重合性組成物。
【請求項１１】
請求項１記載の重合性組成物を、基材上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射し、前記重合性組成物の硬化物を製造する方法。
【請求項１２】
光照射後、さらに加熱する請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物が部分的に縮合した重合性組成物を基材上に塗布する請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
請求項１記載の重合性組成物が硬化した硬化物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れた光学的特性（例えば、高屈折率、高透明性（可視光線に対する透明性）など）を有し、かつ基板に対する高い密着性、ハードコート性、高耐熱性などの特性を有する硬化物を得るのに有用な重合性組成物（特に、光重合性組成物）、この組成物が硬化した硬化物（ハイブリッド硬化物）、およびこの硬化物を形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、アルコキシシランの加水分解による縮合反応を利用して、基材表面にシロキサン結合からなる硬化塗膜を得る方法が知られている。例えば、テトラエチルシリケートやテトラメチルシリケートなどのアルコキシシランを、酸または塩基の存在下で加水分解により縮合反応させた後、基板に塗布し、加熱処理することにより基板にシリカ薄膜を形成させることができる。
【０００３】
この方法は、通常、ゾルゲル法と呼ばれている方法であって、近年、分子オーダーで制御した新しい組成を有するガラスやセラミック材料の製造法として注目されている。一方、部分的に有機官能基を有するアルコキシシランは、シランカップリング剤としてガラス基板や繊維の表面処理剤として使用されているだけでなく、加水分解による縮合反応によって、プラスチック等に対して比較的表面硬度の高い塗膜が得られることから、高硬度塗料（ハードコーティング）として、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂及びジアリルカーボネート樹脂などの皮膜の耐擦傷性を付与させるために利用されている。
【０００４】
このようなアルコキシシランを含む多くのコーティング組成物は、熱硬化性であり、保存安定性、硬化時間及び硬化時の加熱条件の設定等に問題を有し、硬化に際しては、浴管理、加熱温度・加熱時間等の工程管理に注意が必要とされている。
【０００５】
一方、光硬化性のアルコキシシランを光硬化させる方法も提案されている。例えば、特開平８−３０２２８４号公報（特許文献１）には、３−（メタ）アクリルオキシプロピル基、ビニル基、フェニル基、またはメチル基を有する特定のアルコキシシラン化合物及び光酸発生剤を含有する光硬化性コーティング組成物が開示されている。この文献では、光硬化性コーティング組成物に、紫外線を照射することにより加熱工程を設けることなく硬化被膜を形成できる。また、この文献の光硬化性コーティング組成物では、基材に対する密着性および表面硬度において比較的高い硬化皮膜を得ることができる。
【０００６】
しかしながら、近年、電子材料用途などでは、この文献に記載の方法などの従来の方法では付与できない特性（例えば、高屈折率、高透明性など）を有するコーティング被膜が求められており、このような特性を付与できるさらなる材料の開発が望まれている。
【特許文献１】特開平８−３０２２８４号公報（特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、基板に対する高い密着性、ハードコート性、耐熱性などの特性に優れるとともに、高透明性、高屈折率などの特性（光学的特性）にも優れた硬化物を生成可能な重合性組成物、この重合性組成物が硬化した硬化物（ハイブリッド硬化物）、およびこの硬化物の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、フルオレン骨格を有する特定の多官能性（メタ）アクリレートと、重合性基を有するアルコキシシラン類と、光酸発生剤とを組み合わせ、前記多官能性（メタ）アクリレートと前記アルコキシシラン類とを共重合させるととともに、発生する酸により前記アルコキシシラン類のゾルゲル反応を生じさせることにより、基板に対する高い密着性などの特性と、光学的特性（高透明性、高屈折率など）とを両立できる硬化物又は硬化塗膜（ハイブリッド膜）を形成できることを見いだし、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち、本発明の重合性組成物（光重合性組成物）は、下記式（１）で表される多官能性（メタ）アクリレート、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物、および光酸発生剤で構成されている。
【００１０】
【化１】
0004756977.tif 000002
【００１１】
（式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ2aおよびＲ2bは置換基を示し、Ｒ3aおよびＲ3bはアルキレン基を示し、Ｒ4aおよびＲ4bは水素原子又はメチル基を示す。ｋ１及びｋ２は同一又は異なって０〜４の整数を示し、ｍ１及びｍ２は同一又は異なって０〜３の整数を示し、ｎ１およびｎ２は同一又は異なって０又は１以上の整数を示し、ｐ１およびｐ２は同一又は異なって１〜４の整数を示す。ただし、ｍ１＋ｐ１及びｍ２＋ｐ２は、それぞれ、１〜５の整数である）
前記組成物において、前記多官能性（メタ）アクリレートは、例えば、前記式（１）において、Ｒ3aおよびＲ3bがＣ2-4アルキレン基、ｎ１およびｎ２がそれぞれ１以上の整数、かつｐ１およびｐ２がそれぞれ１〜３である化合物、特に、Ｒ3aおよびＲ3bがＣ2-3アルキレン基、ｎ１およびｎ２がそれぞれ１又は２、かつｐ１およびｐ２がそれぞれ１〜３（特に１）である化合物であってもよい。
【００１２】
また、前記組成物において、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物が、下記式（２）で表される化合物又はその部分縮合物であってもよい。
【００１３】
Ｘ−（Ａ）c−Ｓｉ(ＯＲ4)a(Ｒ5)3-a      （２）
［式中、Ｘは、重合性基、Ａは連結基を示し、Ｒ4は、炭化水素基又は基−［（Ｒ6Ｏ）b−Ｒ7］（式中、Ｒ6は、アルキレン基であり、Ｒ7は炭化水素基であり、ｂは１以上の整数を示す）であり、Ｒ5は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。ａは１〜３の整数、ｃは０又は１を示す。］
前記式（２）において、重合性基は（メタ）アクリロイル基であってもよく、前記式（２）で表される化合物は、例えば、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ1-4アルコキシシラン、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリ（Ｃ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ）シラン、（メタ）アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリＣ1-4アルコキシシラン、および（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ6-10アリールオキシシランから選択された少なくとも１種であってもよい。
【００１４】
前記組成物において、光酸発生剤は、トリアリールスルホニウム塩、ビス（アルキルアリール）ヨードニウム塩、および下記式（６）で表される化合物から選択された少なくとも１種であってもよい。
【００１５】
【化２】
0004756977.tif 000003
【００１６】
（式中、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19は置換基、ｐ、ｑおよびｒは同一又は異なってそれぞれ０〜４の整数、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又はアルキル基を示す。）
また、前記組成物において、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物の割合は、式（１）で表される多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、例えば、５０〜７００重量部程度であってもよく、光酸発生剤の割合は、式（１）で表される多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、０．５〜５重量部程度であってもよい。
【００１７】
本発明の組成物は、さらに、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物を含んでいてもよい。このような有機ケイ素化合物は、例えば、下記式（３）で表される化合物、下記式（３）で表される化合物のオリゴマー、又は下記式（３）で表される化合物の部分縮合物で構成してもよい。
【００１８】
Ｓｉ(ＯＲ8)d(Ｒ9)4-d      （３）
［式中、Ｒ8は、炭化水素基又は基−［（Ｒ10Ｏ）e−Ｒ11］（式中、Ｒ10は、アルキレン基であり、Ｒ11は炭化水素基であり、ｅは１以上の整数を示す）であり、Ｒ9は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。ｄは１〜４の整数を示す。］
前記重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物は、例えば、Ｃ6-8アリールトリＣ1-4アルコキシシラン、テトラＣ1-4アルコキシシラン、テトラＣ6-8アリールオキシシラン、およびテトラＣ1-4アルコキシシランのオリゴマーから選択された少なくとも１種の化合物又はその部分縮合物で構成してもよい。
【００１９】
前記組成物は、さらに、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物、例えば、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、および亜鉛から選択された非ケイ素系金属のアルコキシド（金属アルコキシド）を含んでいてもよい。このような非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物は、前記重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物と組み合わせて本発明の組成物を構成してもよい。
【００２０】
本発明の組成物は、さらに、光ラジカル開始剤を含んでいてもよい。
【００２１】
本発明は、前記重合性組成物を、基材（例えば、基板）上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射し、前記重合性組成物の硬化物を製造する方法を含む。この方法では、光照射後、さらに加熱してもよい。また、この方法では、効率よく加水分解縮合させるため、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物が部分的に縮合した重合性組成物を基材上に塗布してもよい。さらに、本発明は、前記重合性組成物が硬化した硬化物（硬化塗膜など）を含む。
【００２２】
なお、本明細書において、「フルオレン類」とは、「置換基を有さないフルオレン」と「置換基を有するフルオレン」とを含み、「置換基を有していてもよいフルオレン」を意味する。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の重合性組成物は、フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレートと重合性基を有するアルコキシシラン類と光酸発生剤とを組み合わせるので、基板に対する高い密着性、ハードコート性、耐熱性などの特性に優れるとともに、高透明性、高屈折率などの特性（光学的特性）にも優れた硬化物を生成又は形成可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の重合性組成物（特に、光重合性組成物、以下、単に組成物などということがある）は、フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレート、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物および光酸発生剤で少なくとも構成されている。
【００２５】
（フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレート）
フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレート樹脂（以下、単にフルオレン（メタ）アクリレートなどということがある）は、化合物中にフルオレン骨格（９，９−ビスフェニルフルオレン骨格）を有する多官能性（メタ）アクリレートであればよく、通常、下記式（１）で表される化合物である。本発明の組成物は、このようなフルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレートで構成されているため、高透明性、高屈折率などの特性を効率よく硬化物（ハイブリッド硬化物）に付与できる。
【００２６】
【化３】
0004756977.tif 000004
【００２７】
（式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ2aおよびＲ2bは置換基を示し、Ｒ3aおよびＲ3bはアルキレン基を示し、Ｒ4aおよびＲ4bは水素原子又はメチル基を示す。ｋ１及びｋ２は同一又は異なって０〜４の整数を示し、ｍ１及びｍ２は同一又は異なって０〜３の整数を示し、ｎ１およびｎ２は同一又は異なって０又は１以上の整数を示し、ｐ１およびｐ２は同一又は異なって１〜４の整数を示す。ただし、ｍ１＋ｐ１及びｍ２＋ｐ２は、それぞれ、１〜５の整数である）
Ｒ1aおよびＲ1bで表される置換基としては、特に限定されないが、通常、アルキル基である場合が多い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基などのＣ1-6アルキル基（例えば、Ｃ1-4アルキル基、特にメチル基）などが例示できる。基Ｒ1aおよびＲ1bは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、基Ｒ1a（又はＲ1b）が、同一のベンゼン環に複数存在する場合、それぞれの基は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。なお、フルオレン骨格を構成するベンゼン環に対する基Ｒ1a（又はＲ1b）の結合位置（置換位置）は、特に限定されない。好ましい置換数ｋ１およびｋ２は、０又は１、特に、０である。なお、置換数ｋ１及びｋ２は、異なっていてもよいが、通常、同一である。
【００２８】
置換基Ｒ2aおよびＲ2bとしては、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基などのＣ1-20アルキル基、好ましくはＣ1-8アルキル基、さらに好ましくはＣ1-6アルキル基など）、シクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロへキシル基などのＣ5-10シクロアルキル基、好ましくはＣ5-8シクロアルキル基、さらに好ましくはＣ5-6シクロアルキル基など）、アリール基［フェニル基、アルキルフェニル基（メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）など）などのＣ6-10アリール基、好ましくはＣ6-8アリール基、特にフェニル基など］、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基などのＣ6-10アリール−Ｃ1-4アルキル基など）などの炭化水素基；アルコキシ基（メトキシ基などのＣ1-4アルコキシ基など）；ヒドロキシル基；ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基（ヒドロキシ（ポリ）Ｃ2-4アルキレンオキシ基など）；アシル基（アセチル基などのＣ1-6アシル基など）；アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基などのＣ1-4アルコキシカルボニル基など）；ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子など）；ニトロ基；シアノ基などが挙げられる。なお、前記ヒドロキシル基又はヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基は、後述する製造方法において、原料となる多価アルコールの残基（（メタ）アクリル酸又はその誘導体と反応しなかった基）である場合が多い。
【００２９】
好ましい置換基Ｒ2a（又はＲ2b）は、アルキル基（Ｃ1-6アルキル基）、シクロアルキル基（Ｃ5-8シクロアルキル基）、アリール基（Ｃ6-10アリール基）、アラルキル基（Ｃ6-8アリール−Ｃ1-2アルキル基）である。これらのうち、特に、Ｃ1-4アルキル基（特に、メチル基）、Ｃ6-8アリール基（特に、フェニル基）が好ましい。基Ｒ2aおよびＲ2bは互いに同一又は異なっていてもよいが、通常、同一である。また、基Ｒ2a（又はＲ2b）が、同一のベンゼン環に複数存在する場合、それぞれの基は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。
【００３０】
また、置換基Ｒ2a（又はＲ2b）の置換位置は、特に限定されず、後述する置換数ｐ１（又はｐ２）などに応じて、フェニル基の２〜６位（例えば、２位、３位、５位、６位、３，５−位など）の適当な位置に置換できる。
【００３１】
好ましい置換数ｍ１およびｍ２は、０〜３、さらに好ましくは０〜２である。なお、置換数ｍ１およびｍ２は、異なっていてもよいが、通常、同一である場合が多い。
【００３２】
Ｒ3aおよびＲ3bで表されるアルキレン基（又はアルキリデン基）としては、限定されないが、例えば、Ｃ1-6アルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−１，２−ジイル基など）などが例示でき、好ましくはＣ2-4アルキレン基、特に、Ｃ2-3アルキレン基（特に、エチレン基、プロピレン基）が好ましい。なお、Ｒ3aおよびＲ3bは互いに同一の又は異なるアルキレン基であってもよいが、通常、同一のアルキレン基である。
【００３３】
オキシアルキレン基（又はアルコキシ基）の繰り返し数（付加数）ｎ１およびｎ２は、特に限定されないが、同一又は異なって、それぞれ、０〜１５程度の範囲から選択でき、例えば、０〜１２（例えば、１〜１２）、好ましくは０〜８（例えば、１〜８）、さらに好ましくは０〜６（例えば、１〜６）であってもよく、通常、１以上［例えば、１〜４（例えば、１〜３）、特に１又は２程度］であってもよい。なお、ｎ１（又はｎ２）が２以上の場合、ポリアルコキシ（ポリアルキレンオキシ）基は、同一のアルコキシ基（オキシアルキレン基）で構成されていてもよく、異種のアルコキシ基（例えば、エトキシ基とプロピレンオキシ基）が混在して構成されていてもよいが、通常、同一のアルコキシ基で構成されている場合が多い。
【００３４】
（メタ）アクリロイルオキシ基又は（メタ）アクリロイルオキシ（ポリ）アルコキシ基（以下、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基という場合がある）の置換数ｐ１およびｐ２は、それぞれ、１〜３が好ましく、特に１又は２が好ましい。また、ｐ１とｐ２との和（ｐ１＋ｐ２）は、例えば、２〜６、好ましくは２〜４（特に２又は４）であってもよい。なお、置換数ｐ１およびｐ２は、異なっていてもよいが、通常、同一である場合が多い。（メタ）アクリロイルオキシ基含有基の置換位置は、特に限定されず、ｐ１（又はｐ２）の数に応じて、フルオレンの９位に置換するフェニル基の２〜６位から選択でき、例えば、ｐ１（又はｐ２）が１の場合、例えば、２〜６位（好ましくは２又は４位、特に４位）であってもよく、ｐ１（又はｐ２）が２の場合、例えば、３，４−位、３，５−位などであってもよく、ｐ１（又はｐ２）が３の場合、例えば、３，４，５−位、２，３，４−位、２，３，５−位、２，３，６−位などであってもよい。
【００３５】
なお、同一のベンゼン環に置換する複数の（メタ）アクリロイルオキシ基含有基は、同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、複数の（メタ）アクリロイルオキシ基含有基が、（i）ｎ１＝０（ｎ２＝０）である（メタ）アクリロイルオキシ基単独で構成されていてもよく、（ii）ｎ１＝０（ｎ２＝０）である（メタ）アクリロイルオキシ基とｎ１≠０（ｎ２≠０）である（メタ）アクリロイルオキシ（ポリ）アルコキシ基（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基など）とで構成されていてもよく、（iii）ｎ１≠０（ｎ２≠０）である同一の（メタ）アクリロイルオキシ（ポリ）アルコキシ基単独で構成されていてもよく、（iv）ｎ１≠０（ｎ２≠０）である異なる（メタ）アクリロイルオキシ（ポリ）アルコキシ基［例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基と２−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）エトキシ基］で構成されていてもよい。
【００３６】
前記式（１）で表される代表的な多官能性（メタ）アクリレートには、例えば、９，９−ビス（モノ乃至トリヒドロキシフェニル）フルオレン類の（メタ）アクリレート、９，９−ビス（モノ乃至トリヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド（Ｃ2-4アルキレンオキシド）付加体の（メタ）アクリレートなどが含まれる。
【００３７】
９，９−ビス（モノ乃至トリヒドロキシフェニル）フルオレン類の（メタ）アクリレートとしては、９，９−ビス（モノ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン類、９，９−ビス（ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン類、９，９−ビス（トリ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン類などが挙げられる。
【００３８】
９，９−ビス（モノ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン類には、９，９−ビス（（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、置換基を有する９，９−ビス（（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン｛例えば、９，９−ビス（アルキル−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−（メタ）アクリロイルオキシ−６−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシ−４−メチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ1-4アルキル−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（ジアルキル−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，６−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（ジＣ1-4アルキル−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（シクロアルキル−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ5-8シクロアルキル−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アリール（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ−３−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ6-8アリール−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなど］など｝などが挙げられる。
【００３９】
９，９−ビス（ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン類には、上記９，９−ビス（モノ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン類に対応するフルオレン類、例えば、９，９−ビス（ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（３，４−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，５−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，６−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，５−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなど］、置換基を有する９，９−ビス（ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン｛例えば、９，９−ビス（アルキル−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（３，４−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−５−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，４−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−６−メチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ1-4アルキル−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４−ジ（メタ）アクリロイルオキシ３，６−ジメチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（ジＣ1-4アルキル−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アルコキシ−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（３，４−ジ（メタ）アクリロイルオキシ５−メトキシフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ1-4アルコキシ−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アリール−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（３，４−ジ（メタ）アクリロイルオキシ５−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ6-8アリール−ジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなど］など｝などが挙げられる。
【００４０】
９，９−ビス（トリ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン類には、上記９，９−ビス（モノ又はジ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン類に対応するフルオレン類、例えば、９，９−ビス（２，４，６−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４，５−トリ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，４，５−トリ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３，４−トリ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３，５−トリ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３，６−トリ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（トリ（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレンなどが含まれる。
【００４１】
９，９−ビス（モノ乃至トリヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド付加体の（メタ）アクリレートには、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド付加体の（メタ）アクリレート（特に、ジ（メタ）アクリレート）、例えば、９，９−ビス（（メタ）アクリロイルオキシアルコキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレンなど］、置換基を有する９，９−ビス（（メタ）アクリロイルオキシアルコキシフェニル）フルオレン｛例えば、９，９−ビス（アルキル−（メタ）アクリロイルオキシアルコキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ−３−エチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ1-4アルキル−（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（ジＣ1-4アルキル−（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（シクロアルキル−（メタ）アクリロイルオキシアルコキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ5-8シクロアルキル−（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレン］、９，９−ビス（アリール−（メタ）アクリロイルオキシアルコキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ−３−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ6-8アリール−（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシフェニル）フルオレンなど］、これらの化合物に対応する９，９−ビス（（メタ）アクリロイルオキシポリアルコキシフェニル）フルオレン類［例えば、９，９−ビス｛４−［２−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）エトキシ］フェニル｝フルオレンなどの９，９−ビス｛（（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシ）Ｃ2-4アルコキシフェニル｝フルオレンなど］など；これらの化合物に対応する９，９−ビス［ジ（ヒドロキシ）フェニル］フルオレン類のアルキレンオキシド付加体（Ｃ2-4アルキレンオキシド付加体）の（メタ）アクリレート（ジ乃至テトラ（メタ）アクリレート、特にテトラ（メタ）アクリレート）｛例えば、９，９−ビス［３，４−ジ（２−（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシ）フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［ジ（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フルオレン類のジ乃至テトラ（メタ）アクリレート、９，９−ビス｛３，４−ジ［２−（２−（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシ）Ｃ2-4アルコキシ］フェニル｝フルオレンなどの９，９−ビス［ジ（ヒドロキシポリアルコキシ）フェニル］フルオレンのジ乃至テトラ（メタ）アクリレートなど｝；これらの化合物に対応する９，９−ビス［トリ（ヒドロキシ）フェニル］フルオレン類のアルキレンオキシド付加体（Ｃ2-4アルキレンオキシド付加体）の（メタ）アクリレート（ジ乃至ヘキサ（メタ）アクリレート、特にヘキサ（メタ）アクリレート）｛例えば、９，９−ビス［３，４，５−トリ（２−（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシ）フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［トリ（ヒドロキシアルコキシ）フェニル］フルオレン類のジ乃至ヘキサ（メタ）アクリレート、９，９−ビス｛３，４，５−トリ［２−（２−（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルコキシ）Ｃ2-4アルコキシ］フェニル｝フルオレンなどの９，９−ビス［トリ（ヒドロキシポリアルコキシ）フェニル］フルオレンのジ乃至ヘキサ（メタ）アクリレートなど｝などが挙げられる。
【００４２】
フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレートは、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００４３】
なお、フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレートは、市販品を用いてもよく、製造したものを用いてもよい。このような多官能性（メタ）アクリレートは、対応する９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類［すなわち、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類、９，９−ビス（ジヒドロキシフェニル）フルオレン類、又は９，９−ビス（トリヒドロキシフェニル）フルオレン類］又はそのアルキレンオキシド付加体と、（メタ）アクリル酸又はその誘導体［例えば、（メタ）アクリル酸低級アルキルエステル（例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチルなどのＣ1-4アルキル（メタ）アクリレートなど）、（メタ）アクリル酸ハライド（（メタ）アクリル酸クロライドなど）など］とを反応させることにより製造できる。
【００４４】
代表的な９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類には、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類｛例えば、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アルキル−ヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−ヒドロキシ−６−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（モノ又はジＣ1-4アルキル−ヒドロキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（シクロアルキル−ヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ5-8シクロアルキル−モノヒドロキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アリール−ヒドロキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ6-8アリール−ヒドロキシフェニル）フルオレンなど］など｝；９，９−ビス（ジヒドロキシフェニル）フルオレン類｛例えば、９，９−ビス（ジヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（３，４−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，５−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，５−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３−ジヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，６−ジヒドロキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アルキル−ジヒドロキシフェニル）フルオレン［９，９−ビス（３，４−ジヒドロキシ−５−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４−ジヒドロキシ−３，６−ジメチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（モノ又はジＣ1-4アルキル−ジヒドロキシフェニル）フルオレンなど］、９，９−ビス（アリール−ジヒドロキシフェニル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（３，４−ジヒドロキシ−５−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ6-8アリール−ジヒドロキシフェニル）フルオレンなど］など｝；９，９−ビス（トリヒドロキシフェニル）フルオレン類［例えば、９，９−ビス（３，４，５−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４，６−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，４，５−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３，５−トリヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２，３，６−トリヒドロキシフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（トリヒドロキシフェニル）フルオレンなど］が含まれる。
【００４５】
なお、ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類は、種々の合成方法、例えば、（a）塩化水素ガス及びメルカプトカルボン酸の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させる方法（文献［J. Appl. Polym. Sci., 27(9), 3289, 1982］、特開平６−１４５０８７号公報、特開平８−２１７７１３号公報）、（b）酸触媒（及びアルキルメルカプタン）の存在下、９−フルオレノンとアルキルフェノール類とを反応させる方法（特開２０００−２６３４９号公報）、（c）塩酸及びチオール類（メルカプトカルボン酸など）の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させる方法（特開２００２−４７２２７号公報）、（d）硫酸及びチオール類（メルカプトカルボン酸など）の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させ、炭化水素類と極性溶媒とで構成された晶析溶媒で晶析させてビスフェノールフルオレンを製造する方法（特開２００３−２２１３５２号公報）などを利用して製造できる。
【００４６】
また、９，９−ビス（ジ又はトリヒドロキシフェニル）フルオレン類は、上記９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類の製造方法において、フェノール類の代わりに、対応する多価アルコール類（ジヒドロキシフェノール類、トリヒドロキシフェノール類）を使用することにより製造できる。
【００４７】
さらに、９，９−ビス（モノヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド付加体の製造方法は、特に限定されないが、例えば、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類と、対応するアルキレンオキサイド（Ｃ2-4アルキレンオキシド）又はアルキレンカーボネート（Ｃ2-4アルキレンカーボネート）を、必要に応じて触媒（塩基触媒など）の存在下で反応させる方法や、フルオレノンと対応するフェノキシＣ2-4アルコール類とを反応させる方法（例えば、特開平１１−３４９６５７号公報）などにより製造してもよい。また、９，９−ビス（ジ又はトリヒドロキシフェニル）フルオレン類のアルキレンオキシド付加体は、上記製造方法において、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類又はフェノキシＣ2-4アルコール類に代えて、対応するアルコール類［９，９−ビス（ジ又はトリヒドロキシフェニル）フルオレン類、ジ又はトリ（ヒドロキシＣ2-4アルコキシ）ベンゼン類など］を使用することにより製造できる。
【００４８】
（重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物）
重合性基（重合性官能基、ラジカル重合性基、光重合性基）を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物（以下、単に、有機ケイ素化合物などということがある）は、重合性基（詳細には、前記多官能性（メタ）アクリレートと共重合可能な重合性基）を有し、かつケイ素原子に直接結合した加水分解縮合性基（例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、塩素原子などのハロゲン原子）を少なくとも１つ有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、下記式（２）で表される化合物などが挙げられる。
【００４９】
Ｘ−（Ａ）c−Ｓｉ(ＯＲ4)a(Ｒ5)3-a      （２）
［式中、Ｘは、重合性基、Ａは連結基を示し、Ｒ4は、炭化水素基又は基−［（Ｒ6Ｏ）b−Ｒ7］（式中、Ｒ6は、アルキレン基であり、Ｒ7は炭化水素基であり、ｂは１以上の整数を示す）であり、Ｒ5は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。ａは１〜３の整数、ｃは０又は１を示す。］
上記式（２）において、重合性基（又は重合性基を含む基）としては、例えば、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基などのＣ2-6アルケニル基、好ましくはＣ2-4アルケニル基、さらに好ましくはＣ2-3アルケニル基）、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。重合性の観点から、（メタ）アクリロイル基、特に、アクリロイルオキシ基が好ましい。
【００５０】
前記重合性基は、連結基を介してケイ素原子に結合していてもよい。式（２）において、連結基Ａとしては、二価の炭化水素基［例えば、アルキレン基（メチレン基などのアルキリデン基を含む、以下同じ）（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基などのＣ1-10アルキレン基、好ましくはＣ1-6アルキレン基、さらに好ましくはＣ2-4アルキレン基など）、シクロアルキレン基（例えば、シクロヘキシレン基などのＣ5-8シクロアルキレン基など）、アリーレン基（例えば、フェニレン基などのＣ6-10アリーレン基など）など］、オキシアルキレン基［例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基（オキシトリメチレン基）、オキシブチレン基などのオキシＣ1-10アルキレン基、好ましくはオキシＣ1-6アルキレン基、さらに好ましくはオキシＣ2-4アルキレン基など］、イミノ基（−ＮＨ−）、イミノアルキレン基（イミノメチレン基、イミノエチレン基、イミノトリメチレン基などのイミノＣ1-10アルキレン基、好ましくはイミノＣ1-6アルキレン基、さらに好ましくはイミノＣ2-4アルキレン基など）、オキシアルキレンイミノアルキレン基（例えば、オキシトリメチレンイミノトリメチレン基などのオキシＣ2-6アルキレン−イミノ−Ｃ2-6アルキレン基、好ましくはオキシＣ2-4アルキレン−イミノ−Ｃ2-4アルキレン基など）などが挙げられる。これらの連結基は、ヒドロキシル基などの置換基を有していてもよい。連結基の数ｃは、０又は１であればよく、連結基の種類などに応じて適宜選択できる。重合性基が（メタ）アクリロイル基である場合、通常、ｃは１である場合が多い。
【００５１】
前記式（２）において、代表的なユニット［Ｘ−（Ａ）c］−としては、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基など）、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基、（メタ）アクリロイルオキシアルキルアミノアルキル基などが挙げられ、特に、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基（例えば、（メタ）アクリロイルオキシプロピル基などの（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキル基）などの（メタ）アクリロイル基を含む基が好ましい。
【００５２】
前記式（２）において、基Ｒ4（及び基Ｒ7）で表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのＣ1-6アルキル基、好ましくはＣ1-4アルキル基、さらに好ましくはＣ1-2アルキル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、トリル基などのＣ6-10アリール基、好ましくはＣ6-8アリール基）などが例示できる。また、基−Ｏ−［（Ｒ6Ｏ）b−Ｒ7］において、基Ｒ6で表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、Ｃ2-4アルキレン基（エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−１，２−ジイル基など）などが例示でき、特に、Ｃ2-3アルキレン基（特に、エチレン基、プロピレン基）が好ましい。アルキレンオキシ（Ｒ6Ｏ）単位の付加数ｂは、１以上であればよく、例えば、１〜４、好ましくは１〜２、さらに好ましくは１であってもよい。また、好ましい基−Ｏ−［（Ｒ6Ｏ）b−Ｒ7］には、２−メトキシエトキシ基、２−エトキシエトキシ基などのＣ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ基（特に、Ｃ1-2アルコキシエトキシ基）などが含まれる。
【００５３】
また、好ましい置換数ａは、２〜３、さらに好ましくは３である。なお、置換数ａが複数である場合、複数の基Ｒ4は、同一又は異なっていてもよい。
【００５４】
基Ｒ5で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示できる。また、基Ｒ5で表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などのＣ1-8アルキル基、好ましくはＣ1-6アルキル基、さらに好ましくはＣ1-4アルキル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基などのＣ2-6アルケニル基、好ましくはＣ2-4アルケニル基、さらに好ましくはＣ2-3アルケニル基）、シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基などのＣ5-8シクロアルキル基）、アリール基（例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基などのＣ6-15アリール基、好ましくはＣ6-10アリール基、さらに好ましくはＣ6-8アリール基）などが挙げられる。これらのうち、好ましい炭化水素基（置換基を有していてもよい炭化水素基）には、アルキル基（Ｃ1-6アルキル基など）、アリール基（Ｃ6-10アリール基など）などが含まれる。
【００５５】
なお、基Ｒ5で表される炭化水素基は、置換基を有していてもよい。炭化水素基（上記例示の炭化水素基など）に置換する置換基としては、例えば、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子など、特に、塩素原子）、アミノ基又はＮ−置換アミノ基［例えば、アミノアルキルアミノ基（２−アミノエチルアミノ基などのアミノＣ2-4アルキルアミノ基など）、アルケニルアミノ基（アリルアミノ基などのＣ2-4アルケニルアミノ基など）、アルケニルアミノアルキル基（アリルアミノプロピル基など）など］、メルカプト基（又は置換メルカプト基）、エポキシ基含有基［エポキシシクロアルキル基（３，４−エポキシシクロヘキシル基などのエポキシＣ3-8シクロヘキシル基、好ましくはエポキシＣ5-8シクロアルキル基、さらに好ましくはエポキシＣ5-6シクロアルキル基）、グリシジルオキシ基など］、（メタ）アクリロイルオキシ基などが挙げられる。これらの置換基は、単独で又は２種以上組み合わせて炭化水素基に置換していてもよい。これらの置換基のうち、なお、置換数（３−ａ）が複数である場合、複数の基Ｒ5は、同一又は異なっていてもよい。
【００５６】
前記式（２）で表される代表的な有機ケイ素化合物としては、例えば、重合性基を有するモノアルコキシシラン類｛例えば、アルケニル基を有するモノアルコキシシラン［例えば、アルケニルジアルキルアルコキシシラン（例えば、ビニルジメチルエトキシシランなどのＣ2-4アルケニル−ジＣ1-4アルキル−Ｃ1-4アルコキシシランなど）など］など｝、重合性基を有するジアルコキシシラン類｛例えば、アルケニル基を有するジアルコキシシラン［例えば、アルケニルアルキルジアルコキシシラン（例えば、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルジエトキシメチルシランなどのＣ2-4アルケニルＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシラン）、ジアルケニルジアルコキシシラン（例えば、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシランなどのジＣ2-4アルケニルジＣ1-4アルコキシシラン）など］、（メタ）アクリロイルオキシ基を有するジアルコキシシラン［例えば、（メタ）アクリロイルオキシアルキルジアルコキシシラン（例えば、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランなどの（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキルＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシランなど）など］など｝、重合性基を有するトリアルコキシシラン類、重合性基を有するトリアリールオキシシラン類、これらに対応するモノ乃至トリハロシラン類などが挙げられる。
【００５７】
重合性基を有するトリアルコキシシラン類としては、アルケニル基を有するトリアルコキシシラン｛例えば、アルケニルトリアルコキシシラン［例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリ（ｔ−ブトキシ）シラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシランなどのＣ2-4アルケニルトリＣ1-4アルコキシシラン］、アルケニルトリ（アルコキシアルコキシ）シラン［例えば、ビニルトリ（２−メトキシエトキシ）シランなどのＣ2-4アルケニルトリ（Ｃ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ）シラン］など｝、（メタ）アクリロイルオキシ基を有するトリアルコキシシラン｛例えば、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシラン［例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリプロポキシシランなどの（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ1-4アルコキシシラン、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシラン、さらに好ましくは（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキルトリＣ1-2アルコキシシランなど］、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリ（アルコキシアルコキシ）シラン［例えば、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリス（２−メトキシエトキシ）シランなどの、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキルトリ（Ｃ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ）シラン、さらに好ましくは（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキルトリ（Ｃ1-2アルコキシＣ2-4アルコキシ）シランなど］、（メタ）アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリアルコキシシラン［例えば、Ｎ−（３−（メタ）アクリロイルオキシ２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどの（メタ）アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリＣ1-4アルコキシシラン、好ましくは［（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキル］アミノＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど］、さらに好ましくは［（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキル］アミノＣ2-4アルキルトリＣ1-2アルコキシシランなど］など｝などが挙げられる。
【００５８】
重合性基を有するトリアリールオキシシラン類としては、例えば、アルケニル基を有するトリアリールオキシシラン［例えば、アルケニルトリアリールオキシシラン（例えば、ビニルトリフェノキシシランなどのＣ2-4アルケニルトリＣ6-10アリールオキシシラン）など］、（メタ）アクリロイルオキシ基を有するトリアリールオキシシラン｛例えば、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリアリールオキシシラン［例えば、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリフェノキシシシランなどの（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ6-10アリールオキシシラン、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシＣ2-4アルキルトリＣ6-8アリールオキシシランなど］など｝などが挙げられる。
【００５９】
これらの有機ケイ素化合物は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００６０】
これらの有機ケイ素化合物のうち、重合性の観点から、（メタ）アクリロイル基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物［例えば、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ1-4アルコキシシラン、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリ（Ｃ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ）シラン、（メタ）アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリＣ1-4アルコキシシランなどの（メタ）アクリロイル基を有するトリアルコキシシラン；（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ6-10アリールオキシシランなどの（メタ）アクリロイル基を有するトリアリールオキシシランなど］が好ましい。
【００６１】
なお、前記のように、重合性基を有する有機ケイ素化合物には、加水分解縮合性基が部分的に縮合した部分縮合物も含まれる。すなわち、本発明の組成物において、重合性基を有する有機ケイ素化合物は、前記有機ケイ素化合物（前記例示の有機ケイ素化合物）が部分的に縮合した部分縮合物（縮合物、オリゴマー）の形態で本発明の組成物を構成していてもよい。このような部分縮合物は、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物の部分縮合物であってもよく、重合性基を有する有機ケイ素化合物と、後述する他の加水分解性化合物（重合性基を有しない有機ケイ素化合物、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物など）とが部分的に縮合した部分縮合物の形態で組成物を構成していてもよい。
【００６２】
このような部分縮合物は、硬化前において、ゾル状を保持できる（又は加水分解縮合性基が残存している）限り、縮合の程度（部分縮合）は特に限定されない。なお、部分縮合物は、網目状の部分縮合物（又は部分縮合物）であってもよく、鎖状又は直鎖状の部分縮合物であってもよい。通常、重合性基を有するトリアルコキシシランや重合性基を有するトリアリールオキシシランなどの部分縮合物は、網目状（又は三次元網目状）の縮合物であってもよい。
【００６３】
重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物の割合［部分縮合物である場合は、加水分解前のモノマー又はオリゴマー換算、以下、部分縮合物の割合について同じ］は、フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、１０〜２０００重量部程度の範囲から選択でき、例えば、３０〜１０００重量部、好ましくは４０〜８００重量部（例えば、５０〜７００重量部）、さらに好ましくは５０〜５００重量部（例えば、１００〜４５０重量部）程度であってもよい。
【００６４】
本発明の組成物は、必要に応じて、さらに、前記重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物に含まれない加水分解縮合性有機金属化合物を含んでいてもよい。このような有機金属化合物としては、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物などが挙げられる。本発明の組成物は、これらの重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物と、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物とを組み合わせて含んでいてもよい。
【００６５】
（重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物）
重合性基を有しない（又は非ラジカル重合性の）加水分解縮合性有機ケイ素化合物（以下、単に重合性基を有しない有機ケイ素化合物などということがある）は、ケイ素原子に直接結合した加水分解縮合性基を少なくとも１つ有する化合物であればよく、通常、下記式（３）で表される化合物、下記式（３）で表される化合物のオリゴマー、下記式（３）で表される化合物の部分縮合物を好適に使用できる。
【００６６】
Ｓｉ(ＯＲ8)d(Ｒ9)4-d      （３）
［式中、Ｒ8は、炭化水素基又は基−［（Ｒ10Ｏ）e−Ｒ11］（式中、Ｒ10は、アルキレン基であり、Ｒ11は炭化水素基であり、ｅは１以上の整数を示す）であり、Ｒ9は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。ｄは１〜４の整数を示す。］
上記式（３）において、基Ｒ8（および基Ｒ11）で表される炭化水素基としては、前記式（２）で表される化合物の項で例示した炭化水素基（例えば、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ6-10アリール基など）などが例示できる。また、基−Ｏ−［（Ｒ10Ｏ）e−Ｒ11］において、アルキレン基Ｒ10は前記式（２）で表される化合物の項で例示したアルキレン基と同様であり、ｅもまた前記式（２）におけるｂと同様である。
【００６７】
前記式（３）において、基Ｒ9で表されるハロゲン原子及び炭化水素基もまた、前記式（２）で表される化合物の項で例示したハロゲン原子及び炭化水素基と同様である。ただし、基Ｒ9が炭化水素基である場合、炭化水素基は、置換基として重合性基（アルケニルアミノ基、（メタ）アクリロイルオキシ基など）を有しない。好ましい置換数ｄは、２〜４、さらに好ましくは３又は４である。なお、置換数ｄが複数である場合、複数の基Ｒ9は、同一又は異なっていてもよい。
【００６８】
前記式（３）で表される代表的な有機ケイ素化合物としては、モノアルコキシシラン類（例えば、ビニルジメチルエトキシシランなどのアルケニルジアルキルアルコキシシランなど）、ジアルコキシシラン類、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類、テトラアリールオキシシラン類などが挙げられる。
【００６９】
ジアルコキシシラン類としては、例えば、ジアルキルジアルコキシシラン（例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランなどのジＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシランなど）；ジアリールジアルコキシシラン（例えば、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジＣ6-10アリールジＣ1-4アルコキシシランなど）；エポキシ基を有するジアルコキシシラン｛例えば、（グリシジルオキシアルキル）アルキルジアルコキシシラン［例えば、３−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシランなどの（グリシジルオキシＣ2-4アルキル）Ｃ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシランなど］など｝、アミノ基を有するジアルコキシシラン（例えば、３−アミノプロピルメチルジメトキシシランなどのアミノＣ2-4アルキルＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシラン；３−［Ｎ−（２−アミノエチル）アミノ］プロピルメチルジメトキシシランなどの（アミノＣ2-4アルキルアミノ）Ｃ1-4アルキル−Ｃ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシランなど）、メルカプト基を有するジアルコキシシラン（例えば、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどのメルカプトＣ2-4アルキルＣ1-4アルキルジＣ1-4アルコキシシラン）などの置換基（例えば、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、およびハロゲン原子から選択された少なくとも１種の置換基）を有するジアルコキシシランが挙げられる。
【００７０】
トリアルコキシシラン類としては、例えば、トリアルコキシシラン（例えば、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシランなどのトリＣ1-4アルコキシシランなど）；アルキルトリアルコキシシラン（例えば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシランなどのＣ1-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）；アリールトリアルコキシシラン（例えば、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシランなどのＣ6-10アリールトリＣ1-4アルコキシシラン、好ましくはＣ6-8アリールトリＣ1-4アルコキシシラン、さらに好ましくはＣ6-8アリールトリＣ1-2アルコキシシランなど）；ハロアルキルトリアルコキシシラン（例えば、２−クロロエチルトリメトキシシラン、２−クロロエチルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシランなどのクロロＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）、エポキシ基を有するトリアルコキシシラン｛例えば、（グリシジルオキシアルキル）トリアルコキシシラン（例えば、２−グリシジルオキシエチルトリメトキシシラン、２−グリシジルオキシエチルトリエトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシランなどのグリシジルオキシＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）、エポキシシクロアルキルトリメトキシシラン［例えば、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランなどのエポキシＣ5-8シクロアルキルＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど］など｝、アミノ基を有するトリアルコキシシラン（例えば、２−アミノエチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシランなどのアミノＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシラン；２−［Ｎ−（２−アミノエチル）アミノ］エチルトリメトキシシラン、３−［Ｎ−（２−アミノエチル）アミノ］プロピルトリメトキシシランなどのＮ−（アミノＣ2-4アルキル）アミノＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシランなど）、メルカプト基を有するトリアルコキシシラン（例えば、２−メルカプトエチルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどのメルカプトＣ2-4アルキルトリＣ1-4アルコキシシラン）などの置換基（例えば、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、およびハロゲン原子から選択された少なくとも１種の置換基）を有するトリアルコキシシランが挙げられる。
【００７１】
テトラアルコキシシラン類としては、上記例示のジ又はトリアルコキシシラン類に対応するテトラアルコキシシラン、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどのテトラＣ1-4アルコキシシランなどが挙げられる。テトラアリールオキシシラン類としては、例えば、テトラアリールオキシシラン［例えば、テトラフェノキシシランなどのテトラＣ6-10アリールオキシシラン、好ましくはテトラＣ6-8アリールオキシシランなど］などが挙げられる。
【００７２】
前記式（３）で表される化合物のオリゴマーとしては、前記式（３）で表されるアルコキシシラン（例えば、前記例示のジアルコキシシラン類、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類など）のオリゴマー（又は縮合物）などが挙げられる。このようなオリゴマーは、単一の有機ケイ素化合物のオリゴマーであってもよく、複数の有機ケイ素化合物の縮合物（例えば、トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類とのオリゴマー、異種のテトラアルコキシシラン類のオリゴマーなど）であってもよい。前記オリゴマーは、通常、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類、およびテトラアリールオキシシラン類から選択された少なくとも１種で少なくとも構成された有機ケイ素化合物の縮合物であってもよい。
【００７３】
前記オリゴマーの数平均重合度は、例えば、２〜１０、好ましくは２〜８、さらに好ましくは３〜６程度であってもよい。
【００７４】
前記オリゴマーは、通常、鎖状又は直鎖状の縮合物（又は部分縮合物）であってもよい。
【００７５】
代表的なオリゴマーとしては、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類（前記例示のテトラアルコキシシラン類）、テトラアリールオキシシラン類の縮合物（部分縮合物）などが挙げられる。テトラアルコキシシランの縮合物（オリゴマー）には、下記式（４）で表される直鎖状のアルコキシシラン縮合物などが含まれる。
【００７６】
【化４】
0004756977.tif 000005
【００７７】
（式中、Ｒ12はアルキル基を示し、ｆは２以上の整数を示す）
上記式（４）において、基Ｒ12としては、前記例示のアルキル基が挙げられ、好ましい基Ｒ12には、メチル基、エチル基、プロピル基などのＣ1-4アルキル基（特にＣ1-2アルキル基）などが含まれる。なお、前記のように、複数の基Ｒ12は、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。また、好ましい縮合度（重合度）ｆは、例えば、２〜８、好ましくは２〜６、さらに好ましくは３〜５程度であってもよい。
【００７８】
好ましい重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物としては、トリアルコキシシラン［例えば、アリールトリアルコキシシラン（例えば、Ｃ6-8アリールトリＣ1-4アルコキシシランなど）など］、テトラアルコキシシラン［例えば、テトラアルコキシシラン（テトラＣ1-4アルコキシシランなど）など］、テトラアリールオキシシラン（例えば、テトラフェノキシシランなどのテトラＣ6-8アリールオキシシラン）、これらの化合物のオリゴマー［例えば、テトラアルコキシシラン（例えば、テトラＣ1-4アルコキシシランなど）のオリゴマー］などが挙げられる。
【００７９】
なお、重合性基を有する有機ケイ素化合物の場合と同様に、重合性基を有しない有機ケイ素化合物には、加水分解縮合性基が部分的に縮合した部分縮合物も含まれる。すなわち、本発明の組成物において、重合性基を有しない有機ケイ素化合物は、前記有機ケイ素化合物（前記例示の有機ケイ素化合物）が部分的に縮合した部分縮合物（縮合物、オリゴマー）の形態で本発明の組成物を構成していてもよい。このような部分縮合物は、前記重合性基を有しない有機ケイ素化合物の部分縮合物であってもよく、前記重合性基を有しない有機ケイ素化合物と、他の加水分解性化合物（前記重合性基を有する有機ケイ素化合物、後述の非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物など）とが部分的に縮合した部分縮合物の形態で組成物を構成していてもよい。
【００８０】
このような部分縮合物は、硬化前において、ゾル状を保持できる（又は加水分解縮合性基が残存している）限り、縮合の程度（部分縮合）は特に限定されない。
【００８１】
重合性基を有しない有機ケイ素化合物は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００８２】
本発明の組成物が、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物を含む場合、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、１０〜２０００重量部程度の範囲から選択でき、例えば、３０〜１０００重量部、好ましくは４０〜８００重量部（例えば、５０〜７００重量部）、さらに好ましくは５０〜５００重量部（例えば、１００〜４５０重量部）程度であってもよい。
【００８３】
（非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物）
非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物（以下、単に非ケイ素系有機金属化合物ということがある）としては、例えば、非ケイ素系金属アルコキシド又はその部分縮合物などが挙げられる。非ケイ素系金属アルコキシドとしては、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、および亜鉛から選択された非ケイ素系金属の金属アルコキシド、例えば、下記式（５）で表される金属アルコキシドなどが挙げられる。
【００８４】
Ｍ(ＯＲ13)m(Ｒ14)n          （５）
［式中、Ｍはチタン、ジルコニウム、アルミニウム又は亜鉛を表す。Ｒ13は、アルキル基又は基−［（Ｒ15Ｏ）g−Ｒ16］（式中、Ｒ15は、アルキレン基であり、Ｒ16はアルキル基であり、ｇは１以上の整数を示す）、Ｒ14は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、ｍは１以上の整数、ｎは０又は１以上の整数を表す。］
前記式（５）において、基Ｒ13（および基Ｒ16）で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのＣ1-18アルキル基、好ましくはＣ1-10アルキル基、さらに好ましくはＣ1-6アルキル基（例えば、Ｃ1-4アルキル基）などが例示できる。基Ｒ14で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示できる。また、基−Ｏ−［（Ｒ15Ｏ）g−Ｒ16］で表されるポリアルコキシ基において、基Ｒ15で表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、Ｃ2-4アルキレン基（エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−１，２−ジイル基など）などが例示でき、特に、Ｃ2-3アルキレン基（特に、エチレン基、プロピレン基）が好ましい。アルキレンオキシ（Ｒ15Ｏ）単位の付加数ｇは、１以上であればよく、例えば、１〜４、好ましくは１〜２、さらに好ましくは１であってもよい。好ましいポリアルコキシ基には、２−メトキシエトキシ基、２−エトキシエトキシ基などのＣ1-4アルコキシＣ2-4アルコキシ基（特に、Ｃ1-2アルコキシエトキシ基）などが含まれる。
【００８５】
また、好ましいアルコキシ基の置換数ｍは、金属原子Ｍの種類に応じて、例えば、２〜４程度である。なお、置換数ｍが複数である場合、複数の基Ｒ13は、同一又は異なっていてもよい。
【００８６】
基Ｒ14で表される炭化水素基としては、前記式（２）で表される化合物の項で例示の前記基Ｒ5と同様の炭化水素基、例えば、アルキル基（例えば、Ｃ1-6アルキル基など）、アリール基（例えば、Ｃ6-10アリール基など）などが含まれる。また、基Ｒ14で表される炭化水素基は、前記基Ｒ5と同様の置換基を有していてもよい。なお、好ましい置換数ｎは、０〜２である。また、置換数ｎが複数である場合、複数の基Ｒ14は、同一又は異なっていてもよい。
【００８７】
代表的な非ケイ素系金属アルコキシドとしては、アルミニウムアルコキシド類［例えば、トリアルコキシアルミニウム（トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリプロポキシアルミニウム、トリｎ−ブトキシアルミニウム、トリｓ−ブトキシアルミニウム、トリｔ−ブトキシアルミニウムなどのトリＣ1-4アルコキシアルミニウムなど）など］、チタンアルコキシド類［例えば、ジアルキルジアルコキシチタン（ジエチルジエトキシチタンなどのジアルキルジＣ1-4アルコキシチタン）などのジアルコキシチタン；トリアルコキシチタン（例えば、トリメトキシチタンなどのトリＣ1-4アルコキシチタン）、アルキルトリアルコキシチタン（例えば、エチルトリメトキシチタンなどのアルキルトリＣ1-4アルコキシチタン）、アリールトリアルコキシチタン（例えば、フェニルトリメトキシチタンなどのアリールトリＣ1-4アルコキシチタン）などのトリアルコキシチタン；テトラアルコキシチタン（例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラｎ−ブトキシチタン、テトラｔ−ブトキシチタン、テトラノニルオキシチタン、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）チタン、テトラキス（メトキシプロポキシ）チタン、テトラステアリルオキシチタン、テトライソステアリルオキシチタンなどのテトラＣ1-18アルコキシチタンなど）など］、ジルコニウムアルコキシド類［例えば、テトラアルコキシジルコニウム（例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトライソブトキシジルコニウム、テトラｎ−ブトキシジルコニウム、テトラｔ−ブトキシジルコニウム、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）ジルコニウム、テトラキス（２−メチル−２−ブトキシ）ジルコニウムなどのテトラＣ1-18アルコキシジルコニウムなど）など］、亜鉛アルコキシド類（例えば、ビスメトキシエトキシ亜鉛など）などが挙げられる。
【００８８】
なお、非ケイ素系金属アルコキシドは、錯体（金属錯体）を形成していていもよい。錯体において、配位子（又は配位子を形成する化合物）としては、特に制限されないが、特に、有機化合物［キレート形成性有機化合物（例えば、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのβ−ジケトン構造を有する化合物など）など］を配位子とする錯体が好ましい。このような金属錯体は、溶媒に対する溶解性に優れているため、好適に用いることができる。
【００８９】
なお、非ケイ素系有機金属化合物は、前記と同様に、加水分解縮合性基が部分的に縮合した部分縮合物の形態で本発明の組成物を構成していてもよい。このような部分縮合物は、前記ケイ素系有機金属化合物の部分縮合物であってもよく、前記非ケイ素系有機金属化合物と、他の加水分解性化合物（前記重合性基を有する有機ケイ素化合物、重合性基を有しない有機ケイ素化合物など）とが部分的に縮合した部分縮合物の形態で組成物を構成していてもよい。
【００９０】
このような部分縮合物は、硬化前において、ゾル状を保持できる（又は加水分解縮合性基が残存している）限り、縮合の程度（部分縮合）は特に限定されない。
【００９１】
非ケイ素系有機金属化合物は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【００９２】
本発明の組成物が、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物を含む場合、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、５０〜５０００重量部程度の範囲から選択でき、例えば、１００〜４０００重量部、好ましくは１５０〜３０００重量部、さらに好ましくは２００〜２０００重量部（例えば、３００〜１０００重量部）程度であってもよい。
【００９３】
また、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物と、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物とを組み合わせる場合、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物と、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物との割合は、前者／後者＝９０／１０〜１／９９、好ましくは８０／２０〜３／９７、さらに好ましくは６０／４０〜５／９５（例えば、４０／６０〜７／９３）、特に３０／７０〜８／９２程度であってもよい。
【００９４】
（光酸発生剤）
光酸発生剤としては、光の作用により酸を発生する化合物（成分）であれば特に限定されず、慣用の化合物を用いることができ、例えば、オニウム塩、メタロセン錯体などを好適に使用できる。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩などが例示でき、これらの対イオンとしては、ＣＦ3ＳＯ3-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-およびＳｂＦ6-などのアニオンが用いられる。
【００９５】
代表的な光酸発生剤としては、スルホニウム塩｛例えば、トリアリールスルホニウム塩［トリフェニルスルホニウムトリフレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、（４−フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、（４−フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートなどのトリフェニルスルホニウム塩など］、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、（４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート）など｝、ジアゾニウム塩（４−クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなど）、ヨードニウム塩｛例えば、ビス（アルキルアリール）ヨードニウム塩［例えば、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどのビス（アルキルフェニル）ヨードニウム塩など］、アルコキシカルボニルアルコキシ−トリアルキルアリールヨードニウム塩［例えば、４−［（１−エトキシカルボニル−エトキシ）フェニル］−（２，４，６−トリメチルフェニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなど］、ビス（アルコキシアリール）ヨードニウム塩［例えば、（４−メトキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのビス（アルコキシフェニル）ヨードニウム塩など］など｝、ホスホニウム塩（ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネートなど）、セレニウム塩（トリフェニルセレニウムヘキサフルオロホスフェートなど）、メタロセン錯体［例えば、（η5又はη6−イソプロピルベンゼン）（η5−シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェートなど］などが挙げられる。
【００９６】
また、光酸発生剤には、光ラジカル開始剤の機能を備えた化合物も含まれる。このような光酸発生剤には、下記式（６）で表される化合物などが挙げられる。
【００９７】
【化５】
0004756977.tif 000006
【００９８】
（式中、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19は置換基、ｐ、ｑおよびｒは同一又は異なってそれぞれ０〜５の整数、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又はアルキル基を示す。）
上記式（６）において、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19で表される置換基としては、例えば、炭化水素基［例えば、アルキル基（例えば、メチル基などのＣ1-4アルキル基など）など］、アルコキシ基（例えば、メトキシ基などのＣ1-4アルコキシ基）、ハロゲン原子（塩素原子など）、官能基（ヒドロキシル基、アミノ基、置換アミノ基など）などが挙げられる。Ｒ17、Ｒ18およびＲ19はそれぞれ同一又は異なっていてもよい。なお、ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ好ましくは０〜３、さらに好ましくは０又は１、特に０であってもよい。
【００９９】
また、前記式（６）の基Ｙにおいて、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、特に塩素原子が好ましい。また、基Ｙにおいて、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などのＣ1-10アルキル基、好ましくはＣ1-6アルキル基、さらに好ましくはＣ1-4アルキル基などが挙げられる。特に好ましい基Ｙにはメチル基が含まれる。
【０１００】
これらの光酸発生剤のうち、オニウム塩［特に、スルホニウム塩（トリアリールスルホニウム塩など）、ヨードニウム塩（ビス（アルキルアリール）ヨードニウム塩など）］、前記式（６）で表される化合物などが好ましい。光酸発生剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用してもよい。
【０１０１】
光酸発生剤の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、０．１〜１０重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．５〜１０重量部（例えば、１〜１０重量部）、好ましくは０．５〜５重量部、さらに好ましくは１〜５重量部（例えば、１〜３重量部）程度であってもよい。また、光酸発生剤の割合は、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物１００重量部に対して、０．０１〜８重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．０２〜５重量部（例えば、０．０３〜３重量部）、好ましくは０．０５〜３重量部、さらに好ましくは０．０８〜２重量部（例えば、０．１〜１重量部）程度であってもよい。さらに、前記組成物が重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物以外の加水分解縮合性有機金属化合物を含む場合、光酸発生剤の割合は、加水分解縮合性有機金属化合物の総量（例えば、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物と、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物及び／又は非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物との総量）１００重量部に対して、例えば、０．００１〜５重量部、好ましくは０．００５〜３重量部、さらに好ましくは０．００１〜２重量部程度であってもよい。なお、前記光酸発生剤の使用量は、溶媒を含む前記組成物（塗布液）全体の１０重量％以下、好ましくは1〜５重量％であってもよい。
【０１０２】
本発明では、前記多官能性（メタ）アクリレートと重合性基（ラジカル重合性基）を有する有機ケイ素化合物と光酸発生剤とを組み合わせるので、ゾルゲル反応による加水分解縮合およびラジカル重合により、硬化物を得ることができる。そのため、本発明の組成物は、前記ラジカル重合を促進するため、重合開始剤（ラジカル重合開始剤）を含んでいてもよい。
【０１０３】
このような重合開始剤には、光ラジカル開始剤、熱重合開始剤などが含まれる。本発明の組成物は、特に、光酸発生剤により加水分解縮合を生じさせるという観点から、少なくとも光ラジカル開始剤を含む組成物（光重合性組成物）であるのが好ましい。光ラジカル発生剤と光酸発生剤とを組み合わせることにより、光照射により、加水分解縮合及びラジカル重合を生じさせることができ、効率よく優れた光学的特性（高透明性など）および機械的特性（高硬度など）を有する硬化物を得ることできる。
【０１０４】
（光ラジカル開始剤）
光ラジカル開始剤（光重合開始剤、光ラジカル発生剤）としては、例えば、ベンゾイン類（ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル類など）、アセトフェノン類（アセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなど）、アミノアセトフェノン類｛２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１など｝、アントラキノン類（アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノンなど）、（チオ）キサントン類（チオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントンなど）、ケタール類（アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなど）、ベンゾフェノン類（ベンゾフェノンなど）、安息香酸エステル類（ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステルなど）、スルフィド類（ベンジルジフェニルサルファイド）、アシルフォスフィンオキサイド類、カンファーキノン類などが例示できる。これらの光ラジカル開始剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて所望の性能に応じて配合して使用することができる。
【０１０５】
光ラジカル開始剤の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレート１００重量部に対して、例えば、０．１〜１０重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．５〜１０重量部（例えば、１〜１０重量部）、好ましくは０．５〜５重量部、さらに好ましくは１〜５重量部（例えば、１〜３重量部）程度であってもよい。また、光ラジカル開始剤の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレート及び重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物の総量１００重量部に対して、０．０１〜８重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．０２〜５重量部（例えば、０．０３〜３重量部）、好ましくは０．０５〜３重量部、さらに好ましくは０．０８〜２重量部（例えば、０．１〜１重量部）程度であってもよい。なお、前記光ラジカル開始剤の使用量は、溶媒を含む前記組成物（塗布液）全体の１０重量％以下、好ましくは1〜５重量％であってもよい。
【０１０６】
なお、光ラジカル開始剤は、光増感剤と組み合わせてもよい。光増感剤としては、第３級アミン類｛例えば、トリアルキルアミン、トリアルカノールアミン（トリエタノールアミンなど）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチル［ｐ−（ジメチルアミノ）安息香酸エチルなど］、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸アミル［ｐ−（ジメチルアミノ）安息香酸アミルなど］などのジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（ミヒラーズケトン）などのビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン、４−（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンなどのジアルキルアミノベンゾフェノンなど｝などの慣用の光増感剤などが挙げられる。光増感剤は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【０１０７】
なお、熱重合開始剤としては、ジアルキルパーオキサイド類（ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなど）、ジアシルパーオキサイド類［ジアルカノイルパーオキサイド（ラウロイルパーオキサイドなど）、ジアロイルパーオキサイド（ベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルトルイルパーオキサイド、トルイルパーオキサイドなど）など］、過酸エステル類［過酢酸ｔ−ブチル、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエートなどの過カルボン酸アルキルエステルなど］、ケトンパーオキサイド類、パーオキシカーボネート類、パーオキシケタール類などの有機過酸化物；アゾニトリル化合物［２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）など］、アゾアミド化合物｛２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝など｝、アゾアミジン化合物｛２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）二塩酸塩、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］二塩酸塩など｝、アゾアルカン化合物［２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）など］、オキシム骨格を有するアゾ化合物［２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドオキシム）など］などのアゾ化合物などが含まれる。熱重合開始剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用してもよい。
【０１０８】
なお、本発明の組成物は、必要に応じて、添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、顔料、着色剤、増粘剤、増感剤、消泡剤、レベリング剤、塗布性改良剤、滑剤、安定剤（酸化防止剤、熱安定剤、耐光安定剤、光安定剤など）、紫外線吸収剤、可塑剤、界面活性剤、溶解促進剤、充填剤、帯電防止剤、硬化剤、ポリシラン（特開２００２−３４８３５７号公報に記載のポリシランなど）などが挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。
【０１０９】
また、前記組成物は、溶媒を含んでいてもよい。このような溶媒を含む組成物は、例えば、基材上に塗膜（硬化塗膜）を形成するためのコーティング液として好適に用いることができる。このような塗布液を構成する溶媒としては、特に限定されず、慣用の溶媒、例えば、炭化水素類（ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など）、ハロゲン系溶媒（ジクロロメタンなどのハロアルカン、モノクロロベンゼンなどのハロアレーンなど）、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルキルアルコール類など）、ジオール類（エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルカンジオール類、ジエチレングリコール、ポリオキシエチレングリコールなどの（ポリ）オキシアルキレングリコールなど）、エーテル類（ジエチルエーテルなどの鎖状エーテル類、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類など）、エステル類（エチルアセテートなどの酢酸エステル類、乳酸エチルなど）、ケトン類（アセトン、エチルメチルケトン、２−ブタノンなどのジアルキルケトン類、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどの環状ケトン類など）、グリコールエーテルエステル類（エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルアセテート、セロソルブアセテートなど）、グリコールエーテル類［例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジグライム、ジメトキシエタンなど）などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて用いてもよい。なお、溶媒を含む前記組成物において、各固形成分（多官能性（メタ）アクリレート、重合性基を有する有機ケイ素化合物、光酸発生剤など）は、溶媒に溶解又は分散していてもよい。また、溶媒の割合は、塗布液の粘度に応じて適宜調整できる。
【０１１０】
本発明の組成物は、慣用の方法、例えば、前記フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレートと、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物と、前記光酸発生剤と、必要に応じて他の成分（重合性基を有しない有機ケイ素化合物、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物、溶媒など）とを混合することにより調製できる。
【０１１１】
例えば、本発明の組成物を塗布液として使用する場合、前記フルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレートと、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物と、前記光酸発生剤と（必要に応じて他の成分と）を、溶媒に混合（又は溶解又は分散）させることにより調製してもよい。
【０１１２】
また、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物、前記重合性基を有しない有機ケイ素化合物、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物などの加水分解縮合性有機金属化合物が部分的に縮合した部分縮合物（部分縮合ゾル）は、例えば、部分縮合物に対応するモノマー及び／又はオリゴマーを、適当な溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどの前記例示の溶媒）に分散又は溶解させ、酸触媒（塩酸、などの無機酸、ギ酸、シュウ酸などの有機酸）の存在下で、加熱（加熱処理）することにより調製できる。加熱処理において、加熱温度および加熱時間は適当に選択でき、加熱温度は、例えば、４０℃〜１００℃、好ましくは６０〜８０℃程度であってもよい。このような部分縮合物の調製においては、必要に応じて、水などを混合して加水分解縮合を促進させてもよい。
【０１１３】
また、部分縮合物を用いる場合、上記のようにして予め調製した部分縮合物と、他の成分（多官能性（メタ）アクリレートなど）とを混合して本発明の組成物を調製してもよく、各成分（多官能性（メタ）アクリレート、光酸発生剤、部分縮合していない重合性基を有する有機ケイ素化合物、および溶媒など）を混合後、前記と同様にして、部分縮合させてもよい。
【０１１４】
［硬化物およびその製造方法］
本発明の硬化物（前記重合性組成物が硬化（又は架橋）した硬化物）は、前記組成物に光を照射して硬化反応（又は架橋反応）により硬化（又は架橋）させることにより製造又は調製できる。実用的な方法では、前記重合性組成物を、基材上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射する（又は必要に応じて光照射後、さらに加熱）ことにより、本発明の硬化物（硬化膜、硬化パターンなど）を調製してもよい。すなわち、本発明では、光照射により発生する酸（又は酸触媒）（及びラジカル）により、重合性基を有する有機ケイ素化合物を加水分解縮合させるとともに、多官能性（メタ）アクリレートと有機ケイ素化合物とを重合させることによって、硬化物（ハイブリッド硬化物）を製造する。
【０１１５】
硬化物（有機無機ハイブリッド硬化物）は、特に限定されず、三次元的硬化物、硬化膜や硬化パターンなどの一次元又は二次元的硬化物、点又はドット状硬化物などであってもよい。本発明の重合性組成物は、特に、基材上での薄膜を製造するのに適している。このような方法により得られる硬化物は、前記のように、基板に対する密着性、ハードコート性（又は硬度）、耐熱性、可視光の透明性などに優れ、耐溶剤性、低収縮率、低吸水性を有し、さらに、屈折率が高く、良好な撥水性を有している。
【０１１６】
例えば、本発明の硬化物の屈折率は、１．５０以上（例えば、１．５１〜１．９程度）、好ましくは１．５２以上（例えば、１．５３〜１．８７程度）、さらに好ましくは１．５４以上（例えば、１．５５〜１．８５程度）であり、１．６以上［例えば、１．６２〜１．８４、好ましくは１．６３〜１．８３、さらに好ましくは１．６４〜１．８２程度］にすることもできる。
【０１１７】
基材の塗布に供する前記組成物において、加水分解縮合性有機金属化合物（少なくとも重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物）は、部分的に縮合していない化合物であってもよく、基材における加水分解縮合をより一層効率よく進行させるため、前記のように、予め、部分的に縮合した加水分解縮合性有機金属化合物（少なくとも重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物）であってもよい。このような部分縮合物（部分縮合ゾル）は、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物の部分縮合物であってもよく、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物と他の加水分解縮合性有機金属化合物（例えば、重合性基を有しない有機ケイ素化合物及び／又は非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物）との部分共縮合物であってもよい。
【０１１８】
塗布方法としては、例えば、フローコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法などを挙げることができる。
【０１１９】
塗膜の厚みは、硬化物の用途によって応じて、０．０１μｍ〜１０ｍｍ程度の範囲から選択でき、例えば、フォトレジストの場合、０．０５〜１０μｍ（特に０．１〜５μｍ）程度であってもよく、プリント配線基板の場合、１０μｍ〜５ｍｍ（特に１００μｍ〜１ｍｍ）程度であってもよく、光学薄膜の場合、０．１〜１００μｍ（特に０．３〜５０μｍ）程度であってもよい。
【０１２０】
照射又は露光する光は、例えば、ガンマー線、Ｘ線、紫外線、可視光線などであってもよく、通常、可視光又は紫外線、特に紫外線である場合が多い。光の波長は、例えば、１５０〜８００ｎｍ、好ましくは１５０〜６００ｎｍ、さらに好ましくは２００〜４００ｎｍ（特に３００〜４００ｎｍ）程度である。照射光量は、塗膜の厚みにより異なるが、例えば、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは５００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2、さらに好ましくは１０００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2程度であってもよい。光源としては、露光する光線の種類に応じて選択でき、例えば、紫外線の場合は、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、重水素ランプ、ハロゲンランプ、レーザー光（ヘリウム−カドミウムレーザー、エキシマレーザーなど）などを用いることができる。このような光照射により、前記組成物の硬化（および重合）反応が進行する。
【０１２１】
塗膜（又は被膜）は、加熱工程により加熱（加熱処理）すると、硬化又は架橋反応（およびゾル−ゲル反応）及びラジカル重合反応が促進され、高度の三次元架橋が起こり、より一層高硬度の硬化物（硬化塗膜）を得ることができる。塗膜の加熱は、通常、光照射後、又は光照射とともに行われ、通常、光照射後（アフターキュア）に行われる場合が多い。加熱温度は、例えば、６０〜２５０℃、好ましくは１００〜２００℃程度であってもよい。加熱時間は、例えば、５秒以上（例えば、１０秒〜５時間程度）、１分〜４時間、好ましくは１０分〜３時間程度であってもよく、通常、２０分〜２．５時間（例えば、３０分〜２時間）程度であってもよい。
【０１２２】
さらに、パターンや画像を形成する場合（例えば、プリント配線基板などを製造する場合）、基材上に形成した塗膜をパターン露光してもよく、このパターン露光は、レーザ光の走査により行ってもよく、フォトマスクを介して光照射することにより行ってもよい。このようなパターン露光により生成した非照射領域（未露光部）を現像剤で現像（又は溶解）することによりパターン又は画像を形成できる。現像剤としては、水、アルカリ水溶液、親水性溶媒（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、セロソルブ類、セロソルブアセテート類など）や、これらの混合液などを用いることができる。
【０１２３】
露光後に被膜を加熱する場合、現像工程は、加熱工程の前に行ってもよく、加熱工程の後で行ってもよい。このような方法では、小さな露光量でも、基材上に、精細で高精度のパターンを形成できる。従って、本発明の樹脂組成物は、精密なパターンを必要とする用途、例えば、電子機器のプリント配線基板などの製造に適している。
【０１２４】
光学薄膜を形成する場合には、前記光重合性樹脂組成物を、基材上に複数層形成してもよい。また、基材上に他の機能層などを形成した後、その機能層の上に、前記光重合性樹脂組成物で形成された層を形成してもよい。本発明の硬化物は、可視光の透過性やハードコート性に優れ、高い屈折率を有し、光学的特性にも優れるため、特に、液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板などの光学薄膜に適している。
【０１２５】
基材の材質は、用途に応じて選択され、例えば、プリント配線基板や光学薄膜の場合には、シリコン、ガリウム砒素、窒化ガリウム、炭化シリコンなどの半導体、アルミニウム、銅などの金属、酸化ジルコニウム、酸化チタン、ＰＺＴなどのセラミック、透明無機材料（ガラス、石英、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムなど）、透明樹脂（ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリスチレンなど）などが用いられる。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の重合性組成物は、塗料、電気機器の絶縁材、電線被覆材、電子機器の封止材、プリント配線基板、保護膜、フォトレジスト、印刷製版材、インキ、接着剤、粘着材、液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板などの広範な用途に用いることができる。
【実施例】
【０１２７】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【０１２８】
（実施例１）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのアクリル酸エステル［すなわち、９，９−ビス（４−アクリロイルオキシエトキシフェニル）フルオレン］０．１ｇ、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン０．４ｇ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１ｇ、光ラジカル開始剤（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「ダロキュア１１７３」）２ｍｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル−２’，４’，６’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達（株）製］２ｍｇを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射（１３００ｍＪ／ｃｍ2）で、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。さらに、得られたハイブリッド膜を１５０℃で１．５時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜が得られた。得られた膜の屈折率は１．５５であり、耐熱性も高かった。
【０１２９】
（実施例２）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのアクリル酸エステル０．１ｇ、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン０．２ｇ、フェニルトリメトキシシラン０．２ｇ、ＴＨＦ１ｇ、光ラジカル開始剤（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「ダロキュア１１７３」）２ｍｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル−２’，４’，６’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達（株）製］２ｍｇを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射（１３００ｍＪ／ｃｍ2）し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。さらに、得られたハイブリッド膜を１５０℃で１．５時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜が得られた。得られた膜の屈折率は１．５７であり、耐熱性も高かった。
【０１３０】
（実施例３）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのアクリル酸エステル０．１ｇ、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン０．２ｇ、フェニルトリメトキシシラン０．２ｇ、ＴＨＦ１ｇ、テトライソプロポキシチタン２ｇ、および光ラジカル開始剤（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「ダロキュア１１７３」）２ｍｇ、光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル−２’，４’，６’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達（株）製］２ｍｇを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射（１３００ｍＪ／ｃｍ2）し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。さらに、得られたハイブリッド膜を１５０℃で１．５時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜が得られた。得られた膜の屈折率は１．６５であり、耐熱性も高かった。
【０１３１】
（実施例４）
・部分縮合ゾルの調製
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのアクリル酸エステル１ｇ、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＴＭＳ）４ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５ｍｌに溶解し、水０．５ｇおよびギ酸４０．５ｍｇを加えた後、６０℃で２時間攪拌し、冷却後、部分縮合したシリカゾル（固形分２５％）を調製した。
【０１３２】
・硬化膜の作成
前記部分縮合ゾル０．４ｇ（固形分換算０．１ｇ）、ＴＨＦ１０ｇ、光ラジカル開始剤（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「ダロキュア１１７３」）２ｍｇ、光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル−２’，４’，６’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達（株）製］２ｍｇを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射（１３００ｍＪ／ｃｍ2）し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を、１５０℃で１．５時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜（膜厚８６ｎｍ）が得られた。得られた膜の屈折率は１．５６であり、耐熱性も高かった。
【０１３３】
（実施例５）
・部分縮合ゾルの調製
３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＴＭＳ）４ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５ｍｌに溶解し、水０．５ｇおよびギ酸４０．５ｍｇを加えた後、６０℃で２時間攪拌し、冷却後、部分縮合したシリカゾル（固形分２５％）を調製した。
【０１３４】
・硬化膜の作成
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのアクリル酸エステル０．１ｇ、前記部分縮合ゾル０．４ｇ（固形分換算０．１ｇ）、ＴＨＦ１０ｇ、光ラジカル開始剤（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「ダロキュア１１７３」）２ｍｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル−２’，４’，６’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達（株）製］２ｍｇを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射（１３００ｍＪ／ｃｍ2）し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を、１５０℃で１．５時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜（膜厚８６ｎｍ）が得られた。得られた膜の屈折率は１．５６であり、耐熱性も高かった。
【０１３５】
（実施例６）
・部分縮合ゾルの調製
３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＴＭＳ）２．０７ｇ、フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）１．９８ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５ｍｌに溶解し、水０．５ｇおよびギ酸４０．５ｍｇを加えた後、６０℃で２時間攪拌し、冷却後、部分縮合したシリカゾル（固形分２７．２％）を調製した。
【０１３６】
・硬化膜の作成
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのアクリル酸エステル０．１ｇ、前記部分縮合ゾル０．３７（固形分換算０．１ｇ）、ＴＨＦ１０ｇ、光ラジカル開始剤（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「ダロキュア１１７３」）２ｍｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル−２’，４’，６’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達（株）製］２ｍｇを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射（１３００ｍＪ／ｃｍ2）し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を、１５０℃で１．５時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜（膜厚８６ｎｍ）が得られた。得られた膜の屈折率は１．５８であり、耐熱性も高かった。
【０１３７】
（実施例７）
・部分縮合ゾルの調製
３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＴＭＳ）２ｇ、フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）２ｇおよびテトライソプロポキシチタン２０ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１０ｍｌに溶解し、ギ酸６０ｍｇを加えた後、６０℃で２時間攪拌し、冷却後、部分縮合したゾルを調製した（固形分約１７％）。
【０１３８】
・硬化膜の作成
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのアクリル酸エステル０．１ｇ、前記部分縮合ゾル０．５６ｇ（固形分換算０．１ｇ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）４ｇ、光ラジカル開始剤（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「ダロキュア１１７３」）２ｍｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル−２’，４’，６’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達（株）製］２ｍｇを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射（１３００ｍＪ／ｃｍ2）し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を、１５０℃で１．５時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜（膜厚２８０ｎｍ）が得られた。得られた膜の屈折率は１．６５であり、耐熱性も高かった。
【０１３９】
（実施例８）
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンのアクリル酸エステル０．１ｇ、実施例７で調製した部分縮合ゾル１．３８ｇ（固形分換算０．２３ｇ）、ＰＧＭＥＡ４ｇ、光ラジカル開始剤（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「ダロキュア１１７３」）４ｍｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル−２’，４’，６’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達（株）製］４ｍｇを加え、さらにＴＨＦで１０倍希釈して得られた塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射（１３００ｍＪ／ｃｍ2）し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を１５０℃で１．５時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜（膜厚５５ｎｍ）が得られた。得られた膜の屈折率は１．８１であり、耐熱性も高かった。
【０１４０】
（比較例１）
ペンタエリスリトールトリアクリレート０．１ｇ、実施例５で調製した部分縮合ゾル０．４ｇ（固形分換算０．１ｇ）、ＴＨＦ１０ｇ、光ラジカル開始剤（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名「ダロキュア１１７３」）２ｍｇ、および光酸発生剤［４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル−２’，４’，６’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達（株）製］２ｍｇを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射（１３００ｍＪ／ｃｍ2）し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でのハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を１５０℃で１．５時間アフターキュアし、透明な膜（膜厚８６ｎｍ）が得られた。得られた膜の屈折率は１．４８であった。