(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データを作成する荷電粒子線描画データの作成方法において、
前記設計データに基づいて、描画する領域を複数の仮想領域に仮想分割し、仮想分割された前記複数の仮想領域の各仮想領域ごとに、複数の構成要素パターンのいずれかのパターンを配置するための配置情報を含む配置情報ファイルを前記描画データの一部として作成する配置情報ファイル作成工程と、
前記設計データに基づいて、前記複数の構成要素パターンの各パターン情報を含むパターン情報ファイルを前記描画データの一部として作成するパターン情報ファイル作成工程と、
を備え、
前記パターン情報ファイル作成工程において、複数の仮想領域から参照される複数のパターン情報を複数のグループに分けて前記パターン情報ファイルを作成することを特徴とする荷電粒子線描画データの作成方法。
【請求項２】
前記パターン情報ファイル作成工程において、前記パターン情報ファイルに含まれる前記複数の構成要素パターンの各パターン情報は１回ずつ格納され、前記複数のグループの各グループごとに別々のファイルとして作成することを特徴とする請求項１記載の荷電粒子線描画データの作成方法。
【請求項３】
前記パターン情報ファイル作成工程において、前記パターン情報ファイルに含まれる前記複数の構成要素パターンの各パターン情報は１回ずつ格納され、前記複数のグループの各グループごとに識別されたファイルとして作成することを特徴とする請求項１記載の荷電粒子線描画データの作成方法。
【請求項４】
前記パターン情報ファイル作成工程において、複数の仮想領域から参照されるパターン情報と１つの仮想領域から参照されるパターン情報とを別々のファイルとして作成することを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の荷電粒子線描画データの作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子線描画データの作成方法及び荷電粒子線描画データの変換方法に係り、特に、電子線描画装置に用いられる描画データの作成方法と電子線描画装置内で処理される描画データの変換方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。
【０００３】
図２６は、従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線描画装置（ＥＢ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｂｅａｍ）描画装置）における第１のアパーチャ４１０には、電子線４４２を成形するための矩形例えば長方形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線４４２を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線４４２は、偏向器により偏向され、第２のアパーチャ４２０の可変成形用開口４２１の一部を通過して、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動するステージ上に搭載された試料に照射される。すなわち、第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、Ｘ方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料４４０の描画領域に描画される。第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
かかる電子ビーム描画を行なうにあたり、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、レイアウトデータ（設計データ）が生成される。そして、かかるレイアウトデータが変換され、電子線描画装置に入力される描画データが生成される。そして、描画データに基づいて、さらに、電子線描画装置内のフォーマットのデータに変換されて描画される。
【０００５】
ここで、データ量を低減することを目的として、基本パターンデータとかかる基本パターンデータを配置する配置情報とを組みとした情報が１つのデータファイルに一続きに羅列された描画データを作成する技術についての記載が文献に開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２０００−５８４２４号公報
【特許文献２】特開平５−２９２０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ＬＳＩの高集積化に伴って電子線描画装置が処理するデータ量が膨大なものとなっているためデータ量の圧縮が求められている。従来、設計データを描画データに変換する際には変換対象となる全図形について逐一描画データへの変換が行なわれていたが、これでは描画データ作成にかかる処理時間が膨大なものとなってしまうといった問題があった。また、作成された描画データを電子線描画装置に転送するだけでも膨大な処理時間が必要になるといった問題もあった。
ここで、上記特許文献２に記載されている描画データのように基本パターンデータと配置情報とを組みとした情報とに分け１つの基本パターンデータに対して複数の配置情報を定義することによってデータ量低減を図ることができるが、１つのデータファイルに一続きに羅列しているため、データの自由度が低く配置情報の再構成などができないといった問題が残る。
【０００７】
ここで、公に知られてはいないが、以下のように描画データを作成することが試みられている。
図２７は、セル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図２７では、描画データを基本パターンデータとなるセルパターンデータとかかるセルの配置情報とに分けて、それぞれセルパターン情報ファイルとセル配置情報ファイルという別のファイルとして生成する。別のファイルとして生成することで、データの自由度を向上させ、配置情報の再構成などを可能としている。そして、配置情報については、１つのチップを複数の領域（エリア）に分け、領域ごとにまとめて格納（登録）している。また、セルパターンデータについては、１つのチップ内で複数の領域（エリア）から参照される共通化できるセルパターンデータについては、コモンデータとして１つのファイルに格納（登録）している。そして、共通化できないセルパターンデータについては、チップ内の領域ごとのローカルデータとしてそれぞれ１つのファイルに格納（登録）している。
【０００８】
コモンデータは、上述したように、１つのチップ内の複数領域に配置されている同一パターンを持つセルを共通化したものである。ここで、チップ内のセルパターンデータは、可能な限りコモンデータファイルに格納（登録）したほうが、チップデータのサイズを小さくすることができるが、コモンデータファイルに格納（登録）されているセルパターンデータは、各領域内に配置されるセルの順序に沿って格納されているわけではないので、セルパターンデータには連続性がない。さらには、個々のセルパターンデータへのアクセスはランダムにアクセスされる。よって、コモンデータファイルのサイズが大きくなるに従い、コモンデータファイルに対するアクセス時間が増大し、これを扱うデータ処理のスループットを低下させてしまうといった問題が生じることになる。
【０００９】
本発明は、かかる問題点を克服し、処理効率の優れた描画データを作成する手法を提供すると共に、処理効率の優れた描画データの変換手法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様の荷電粒子線描画データの作成方法は、
回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データを作成する荷電粒子線描画データの作成方法において、
前記設計データに基づいて、描画する領域を複数の仮想領域に仮想分割し、仮想分割された前記複数の仮想領域の各仮想領域ごとに、複数の構成要素パターンのいずれかのパターンを配置するための配置情報を含む配置情報ファイルを前記描画データの一部として作成する配置情報ファイル作成工程と、
前記設計データに基づいて、前記複数の構成要素パターンの各パターン情報を含むパターン情報ファイルを前記描画データの一部として作成するパターン情報ファイル作成工程と、
を備え、
前記パターン情報ファイル作成工程において、複数の仮想領域から参照される複数のパターン情報を複数のグループに分けて前記パターン情報ファイルを作成することを特徴とする。
【００１１】
描画データをパターン情報ファイルと配置情報ファイルという別のファイルとして生成することで、データの自由度を向上させ、配置情報の再構成などを可能とすることができる。さらに、パターン情報ファイルについては、複数の仮想領域から参照される複数のパターン情報が複数のグループに分かれて作成されるため、必要なパターン情報へとアクセスする場合に、ファイルを最初から参照しなくても格納されたグループにアクセスすることができる。その結果、アクセス時間を短縮することができる。
【００１２】
そして、本発明における前記パターン情報ファイル作成工程において、前記パターン情報ファイルに含まれる前記複数の構成要素パターンの各パターン情報は１回ずつ格納され、前記複数のグループの各グループごとに別々のファイルとして作成することを特徴とする。
【００１３】
各パターン情報は１回ずつ格納されることにより、データサイズを小さくすることができる。そして、各グループごとに別々のファイルとして作成することで、必要なパターン情報へとアクセスする場合に、データサイズが小さいファイルへとアクセスすることができる。その結果、アクセス時間を短縮することができる。
【００１４】
或いは、本発明における前記パターン情報ファイル作成工程において、前記パターン情報ファイルに含まれる前記複数の構成要素パターンの各パターン情報は１回ずつ格納され、前記複数のグループの各グループごとに識別されたファイルとして作成するようにしても好適である。
【００１５】
１つのファイル内でも、グループごとに識別されたことにより、ファイルを最初から参照しなくても識別されたグループへとアクセスすることができる。その結果、アクセス時間を短縮することができる。
【００１６】
そして、前記パターン情報ファイル作成工程において、複数の仮想領域から参照されるパターン情報と１つの仮想領域から参照されるパターン情報とを別々のファイルとして作成することを特徴とする。
【００１７】
複数の仮想領域から参照されるパターン情報と１つの仮想領域から参照されるパターン情報とを別々のファイルとして作成することで、１つの仮想領域から参照されるパターン情報へのアクセス時間を短縮することができる。
【００１８】
本発明の一態様の荷電粒子線描画データの変換方法は、
荷電粒子線を用いて描画するための、複数の構成要素パターンのパターン情報が含まれる描画データを入力する入力工程と、
入力された描画データを、基板とバスを介して接続された第１の記憶装置に記憶する第１の記憶工程と、
前記描画データに含まれる複数の構成要素パターンのパターン情報のうち、複数回参照される構成要素パターンのパターン情報を前記第１の記憶装置から前記基板内に配置された第２の記憶装置に記憶する第２の記憶工程と、
複数回参照される前記構成要素パターンのパターン情報を前記第２の記憶装置から読み出し、１回参照される前記構成要素パターンのパターン情報を前記第１の記憶装置から読み出して、それぞれ荷電粒子線描画装置内で用いるフォーマットのデータに変換する装置内フォーマット変換工程と、
を備えたことを特徴とする。
【００１９】
複数回参照される構成要素パターンのパターン情報を前記第１の記憶装置から前記基板内に配置された第２の記憶装置に記憶して、第２の記憶装置から読み出すようにすることで、読み出すまでにかかるアクセス時間を短縮することができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、アクセス時間を短縮することができるので、処理効率の優れた描画データの変換を行なうことができる。すなわち、本発明によれば、処理効率の優れた描画データの変換が可能な描画データを作成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、各実施の形態において、電子線描画装置用のハンドリングデータとして用いられる荷電粒子線描画データの一例となる電子線描画データについて、その作成方法と変換方法とについて説明する。
【００２２】
実施の形態１．
図１は、実施の形態１における電子線描画データの作成方法と電子線描画データの変換方法との要部工程を示すフローチャート図である。
図１に示すように、設計データ１０を描画データ作成装置にて変換して描画データ１２を作成する。そして、作成された描画データ１２を電子線描画装置内に入力して装置内部データ１４に変換する。図１において、電子線描画データの作成方法は、配置情報ファイル作成工程の一例となるセル配置情報ファイル作成工程（Ｓ１０２）と、パターン情報ファイル作成工程の一例となるセルパターン情報ファイル作成工程（Ｓ１０４）と、リンク情報ファイル作成工程（Ｓ１０６）という一連の工程を実施する。そして、電子線描画データの変換方法は、入力工程（Ｓ１０８）と、装置内フォーマット変換工程（Ｓ１１２）という一連の工程を実施する。
【００２３】
図２は、描画装置の要部構成の一例を示す概念図である。
図２において、荷電粒子線描画装置の一例となる可変成形型ＥＢ描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。制御部１６０は、制御回路１１０、描画データ処理回路１２０を備えている。描画データ処理回路１２０は、磁気ディスク装置等の記憶装置１２２、基板の一例となる複数の装置内フォーマット変換回路１２４を有している。描画部１５０は、電子鏡筒１０２、ＸＹステージ１０５、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、偏向器２０８、ファラデーカップ２０９を有している。図２では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。可変成形型ＥＢ描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。
【００２４】
また、描画データ作成装置３００において、描画データ１２を作成し、描画データ処理回路１２０に出力する。そして、描画データ処理回路１２０は、入力した描画データ１２を記憶装置１２２に記憶する。そして記憶された描画データ１２を装置内フォーマット変換回路１２４にて装置内部データ１４に変換して、かかる装置内部データ１４に沿って、制御回路１１０により描画部１５０が制御され、試料に所望する図形パターンが描画される。その際、後述するように、複数の装置内フォーマット変換回路１２４にて分散処理することにより効率良く装置内部データ１４に変換することができる。
【００２５】
電子銃２０１から出た荷電粒子線の一例となる電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形、例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず矩形、例えば長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像の位置は、偏向器２０５によって制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、偏向器２０８により偏向されて、移動可能に配置されたＸＹステージ１０５上の試料１０１の所望する位置に照射される。また、ビーム強度等はファラデーカップ２０９に電子ビーム２００を照射して測定することができる。
【００２６】
図３は、描画データ作成装置の主要構成を示すブロック図である。
図３において、描画データ作成装置３００は、セル配置情報ファイル作成回路３１０、セルパターン情報ファイル作成回路３２０、リンク情報ファイル作成回路３３０を備えている。図３では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画データ作成装置３００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。例えば、入出力手段等の図示は省略している。
【００２７】
図４は、データの階層構造の一例を示す図である。
設計データ１０では、チップ上に複数のセルが配置され、そして、各セルには、かかるセルを構成するパターンとなる図形が配置されている。そして、描画データ１２では、図４に示すように、描画領域が、チップの層、チップ領域を例えばｙ方向に向かって短冊状に複数の仮想領域に分割したフレームの層、フレーム領域を所定の大きさの領域に分割したブロックの層、上述したセルの層、かかるセルを構成するパターンとなる図形の層といった一連の複数の内部構成単位ごとに階層化されている。そして、装置内部データ１４は、さらに、クラスタの層を内部構成単位として有している。図４では、階層数が多い装置内部データ１４を一例として記載している。
【００２８】
半導体集積回路を製造するにあたって、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、設計データ１０が生成される。次に、設計データ１０が描画データ作成装置３００により変換され、電子線描画装置の一例である可変成形型ＥＢ描画装置１００において用いられる描画データ１２が生成される。かかる描画データ１２が可変成形型ＥＢ描画装置１００に入力されると、描画データ処理回路１２０において、装置内フォーマットに変換され、装置内部データ１４が生成され、描画装置がマスク等の試料にデータに含まれる図形パターンを電子線で描画することになる。
【００２９】
図５は、セル配置の一例を示す図である。
例えば、チップ内の各フレームに図５に示すようなセルＡ、セルＢ、セルＣ、セルＤ、セルＥ、セルＦが配置されているとする。具体的に言えば、エリア１となるフレーム１の領域には、Ｐ１の位置にセルＡが、Ｐ２の位置にセルＢ、Ｐ３の位置にセルＤが配置されている。各セルがフレームのどの位置に配置されるかについては各セルの基準点の位置により決めればよい。エリア２となるフレーム２の領域には、Ｐ４の位置にセルＢが、Ｐ５の位置にセルＡが配置されている。エリア３となるフレーム３の領域には、Ｐ６の位置にセルＣが、Ｐ７の位置にセルＤが、Ｐ８の位置にセルＡが配置されている。エリア４となるフレーム４の領域には、Ｐ９の位置にセルＤが、Ｐ１０の位置にセルＥが、Ｐ１１の位置にセルＦが配置されている。
【００３０】
Ｓ（ステップ）１０２において、セル配置情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セル配置情報ファイル作成回路３１０は、設計データ１０に基づいて、セル配置情報ファイルを作成する。
【００３１】
図６は、実施の形態１におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図６（ａ）に示すように、セル配置情報ファイルには、描画する領域を複数の仮想領域に仮想分割した前記複数のフレーム領域の各フレーム領域ごとに、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｆのいずれかを配置するための配置情報が含まれている。セル配置情報は、セルの基準点の位置情報等で示される。ここでは、セル配置情報ファイルのファイルヘッダに続き、エリア１ヘッダ、エリア１内に配置されたセル配置情報Ｐ１、セル配置情報Ｐ２、セル配置情報Ｐ３、エリア２ヘッダ、エリア２内に配置されたセル配置情報Ｐ４、セル配置情報Ｐ５、エリア３ヘッダ、エリア３内に配置されたセル配置情報Ｐ６、セル配置情報Ｐ７、セル配置情報Ｐ８、エリア４ヘッダ、エリア４内に配置されたセル配置情報Ｐ９、セル配置情報Ｐ１０、セル配置情報Ｐ１１が格納（定義、或いは記載）されている。
【００３２】
図７は、セル配置情報の一例を示す図である。
各セル配置情報Ｐｎには、セルサイズ（Ｘｎ，Ｙｎ）、セル配置位置（Ｘｎ，Ｙｎ）、リンク情報インデックス（ｋ）が含まれている。かかるデータにより、セル配置情報ファイルでは、各フレームに配置されるセルのサイズ、位置、そして後述するセルパターン情報へとリンクさせるための情報を把握することができる。
【００３３】
Ｓ１０４において、セルパターン情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、設計データ１０に基づいて、セルパターン情報ファイルを作成する。
図６（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイルには、前記複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｆの各パターン情報が含まれている。ここでは、複数のフレーム領域から参照される共通化できるセルパターンデータについては、コモンデータとして、共通化できないセルパターンデータについては、チップ内のフレーム領域ごとのローカルデータとしてそれぞれファイルに格納（定義、或いは記載）している。そして、図６（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、コモンデータを１つのファイルにしないで、一定の領域ごとにグループを構成して各グループごとに別々のファイルとして作成する。
ここで、ＭＰＵ（Ｍｉｃｒｏ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）等のデータ構造は、共通化できるセルがチップ全面に散らばっているわけではなく、一定の領域に固まっていることが多い。よって、かかるデータ構造の特徴を生かして、コモンデータを１つのファイルにしないで、一定の領域ごとに別々のファイルとして作成することで、ファイルサイズを小さくし、１つのファイルに格納（定義、或いは記載）されたセルパターンデータ数を低減することができる。その結果、各セルパターンデータを参照する場合に所望するセルパターンデータへのアクセス時間を短縮することができる。
【００３４】
ここでは、エリア１とエリア２用のコモンデータとして、セルＡとセルＢのパターンデータを１つのファイル（エリア１〜２用コモンデータファイル）に作成する。そして、エリア３とエリア４用のコモンデータとして、セルＤのパターンデータを１つのファイル（エリア３〜４用コモンデータファイル）に作成する。そして、エリア３用のローカルデータとして、セルＣのパターンデータを１つのファイル（エリア３用ローカルデータファイル）に作成する。また、エリア４用のローカルデータとして、セルＥとセルＦのパターンデータを１つのファイル（エリア４用ローカルデータファイル）に作成する。各ファイルは、ファイルヘッダに続き、該当するセルのパターンデータが格納（定義、或いは記載）されている。１つのセルのセルパターンデータは、いずれかのファイルに１回格納（定義、或いは記載）される。ここで、同一のセルパターンデータが複数のエリアに配置される場合、配置数がより多いエリアのコモンデータとして登録されるように格納（定義、或いは記載）すると好適である。
【００３５】
そして、図５に示すようなレイアウトでセルが配置された場合、セルＡパターンデータは、セル配置情報Ｐ１とＰ５とＰ８とで必要となり、セルパターンデータＢは、セル配置情報Ｐ２とＰ４とで必要となり、セルパターンデータＣは、セル配置情報Ｐ６で必要となり、セルパターンデータＤは、セル配置情報Ｐ３とＰ７とＰ９とで必要となり、セルパターンデータＥは、セル配置情報Ｐ１０で必要となり、セルパターンデータＦは、セル配置情報Ｐ１１で必要となる。セルパターンデータには、セルパターンを構成するデータ量が大きい図形データ等が含まれる。ここで、それぞれの配置ごとにセルパターンデータを何度も繰り返し記載するとデータ量が膨大なものになるが、特に、データ量が大きくなるセルパターンデータを何度も繰り返し記載せず、図６（ｂ）に示すように、各セルパターンデータがいずれかのファイルに１回だけ格納（定義、或いは記載）されることによりデータ量の圧縮を図ることができる。
【００３６】
Ｓ１０６において、リンク情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、リンク情報ファイル作成回路３３０は、設計データ１０に基づいて、リンク情報ファイルを作成する。
【００３７】
図８は、リンク情報ファイルの一例を示す図である。
図８に示すように、リンク情報ファイルには、前記セル配置情報と前記セルパターン情報とをリンクさせるリンク情報が含まれる。ここでは、リンク情報ファイルのファイルヘッダに続き、パターンデータ種別ごとに、ファイル識別子、パターンデータアドレスが順に格納（定義、登録、或いは記載）されている。例えば、図６に示すように、セル配置情報Ｐ１には、セルＡが配置される。そこで、図７に示したセル配置情報Ｐ１におけるリンク情報インデックス（ｋ）に、セルＡパターンデータのアドレスへとつながるセルＡパターンデータが格納（定義、登録、或いは記載）されたエリア１〜２用コモンデータファイルの識別子を格納（定義、或いは記載）しておくことにより、エリア１〜２用コモンデータファイルとリンクさせることができる。そして、リンク情報ファイルにおけるファイル識別子に続くパターンデータアドレスにより、セルパターンデータＡとリンクさせることができる。
【００３８】
以上のように、描画データ作成装置３００において、描画データ１２の一部として、セル配置情報ファイルと、複数のコモンデータファイルが構成ファイルとなるセルパターン情報ファイルとリンク情報ファイルとを作成することで、データ量を圧縮しながらアクセス時間を短縮可能に効率良くデータを読みに行くことができる描画データ１２を作成することができる。
【００３９】
また、描画装置では、近接効果補正等を行なうにあたって、隣り合うチップからの影響を考慮する必要から複数のチップを１つにまとめてセルを特定の領域に振り分けるチップマージ処理を行なうことが一般的である。ここで、チップマージ処理といった配置情報の再構成処理を行なうにあたり、セル配置情報とセルパターン情報とが混在したデータファイルでは、配置情報の再構成処理を行なうことが困難、或いは処理時間が長くなってしまう。しかしながら、本実施の形態のように、セル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルとを別のファイルとして作成することにより、配置情報の再構成を自由に行なうことができ、配置情報の再構成処理を行ない易くすることができる。
【００４０】
Ｓ１０８において、入力工程として、描画データ処理回路１２０は、描画データ作成装置３００において作成された描画データ１２を入力する。ここで、短い数値や識別子といった情報で構成可能なセル配置情報ファイルやリンク情報ファイルと比べ、上述したように、特に、データ量が大きくなるセルパターンデータを何度も繰り返し記載せず、図６（ｂ）に示すように、いずれかのファイルに１回ずつ格納（定義、或いは記載）することによりデータ量の圧縮を図っているため、入力処理（データ転送処理）にかかる時間を大きく短縮することができる。
【００４１】
図９は、実施の形態１における描画データ処理回路の主要構成を示すブロック図である。
図１０は、図９に示す描画データ処理回路の動作を説明するためのブロック図である。
図９において、描画データ処理回路１２０は、基板の一例となる複数の装置内フォーマット変換回路１２４（ａ，ｂ，・・・）を備えている。各装置内フォーマット変換回路１２４内には、それぞれ、メモリ１２６と例えばＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）等で構成される複数のデータ変換回路１２５（ａ，ｂ，・・・）が配置されている。各装置内フォーマット変換回路１２４は、バス１２８を介して記憶装置１２２に接続されている。そして、各装置内フォーマット変換回路１２４内でもバス１２９を介してメモリ１２６に接続されている。図９では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画データ処理回路１２０にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。例えば、入出力手段等の図示は省略している。
【００４２】
Ｓ１１２において、装置内フォーマット変換工程として、各装置内フォーマット変換回路１２４は、描画データ１２を装置内フォーマットに変換して装置内部データ１４を生成する。例えば、クラスタ分割処理やショットデータ作成処理といった処理を行う。１つ１つの処理を直列に順に行なっていたのでは処理時間が膨大なものとなってしまう。本実施の形態では、複数の装置内フォーマット変換回路１２４を備えているので、分散処理にて行なうことができ処理時間を短縮させることができる。例えば、エリアごとに１つの装置内フォーマット変換回路１２４を割り当てて処理を行なえばよい。さらに、本実施の形態では、各装置内フォーマット変換回路１２４内に複数のデータ変換回路１２５が配置されているので、各データ変換回路１２５を用いて並列処理を行なうことができ処理時間を短縮させることができる。例えば、配置情報ごとに１つのデータ変換回路１２５を割り当てて処理を行なえばよい。さらに、各機能が常に稼動しているように順に処理を進めていくパイプライン処理を行なえば、より効率的に短時間で描画データ１２を装置内フォーマットに変換することができ、なお好適である。
【００４３】
以上のように、本実施の形態におけるデータ構成によれば、描画データ作成装置３００において、描画データ１２の一部として、セル配置情報ファイルと、複数のコモンデータファイルが構成ファイルとなるセルパターン情報ファイルとリンク情報ファイルとを作成することで、描画データ処理回路１２０において、アクセス時間を短縮可能に効率良くデータを読みに行くことができる。
【００４４】
実施の形態２．
実施の形態１では、コモンデータを１つのファイルにしないで、一定の領域ごとに別々のファイルとして作成したが、実施の形態２では、１つのファイルとして作成する場合について説明する。可変成形型ＥＢ描画装置１００や描画データ作成装置３００の装置構成は、実施の形態１と同様で構わないため説明を省略する。
【００４５】
図１におけるＳ１０２において、セル配置情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セル配置情報ファイル作成回路３１０は、設計データ１０に基づいて、セル配置情報ファイルを作成する。
【００４６】
図１１は、実施の形態２におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図１１（ａ）に示すセル配置情報ファイルは、図６（ａ）と同様であるため、説明を省略する。また、各セル配置情報Ｐｎの内容も図７と同様で構わないため説明を省略する。
【００４７】
Ｓ１０４において、セルパターン情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、設計データ１０に基づいて、セルパターン情報ファイルを作成する。
図１１（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイルには、前記複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｆの各パターン情報が含まれている。ここでは、複数のフレーム領域から参照される共通化できるセルパターンデータについては、コモンデータとして、共通化できないセルパターンデータについては、チップ内のフレーム領域ごとのローカルデータとしてそれぞれファイルに格納（定義、或いは記載）している。そして、図１１（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、コモンデータを１つのファイルとして作成する。そして、ファイル内において、一定の領域ごとにグループを構成して各グループごとに別々のセグメント（ここでは、セグメント１、セグメント２）に分けて作成する。
ここで、上述したように、ＭＰＵ等のデータ構造は、共通化できるセルがチップ全面に散らばっているわけではなく、一定の領域に固まっていることが多い。よって、かかるデータ構造の特徴を生かして、コモンデータを１つのファイルで作成しながら、ファイル内において、一定の領域ごとに別々のセグメントとして作成することで、１つのセグメントに格納（定義、或いは記載）されたセルパターンデータ数を低減することができる。その結果、各セルパターンデータを参照する場合に所望するセルパターンデータが所属するセグメントを識別してかかるセグメントへアクセスすることにより所望するセルパターンデータへのアクセス時間を短縮することができる。
【００４８】
ここでは、コモンデータを１つのファイルに作成し、コモンデータファイル内で、エリア１とエリア２用のコモンデータとして、セルＡとセルＢのパターンデータを１つのセグメント（セグメント１）に区切る。そして、エリア３とエリア４用のコモンデータとして、セルＤのパターンデータを１つのセグメント（セグメント２）に区切る。そして、エリア３用のローカルデータとして、セルＣのパターンデータを１つのファイル（エリア３用ローカルデータファイル）に作成し、エリア４用のローカルデータとして、セルＥとセルＦのパターンデータを１つのファイル（エリア４用ローカルデータファイル）に作成する点は、実施の形態１と同様である。コモンデータファイルは、ファイルヘッダに続き、該当するセグメント番号のヘッダ、該当するセルのパターンデータが格納（定義、或いは記載）されている。１つのセルのセルパターンデータは、いずれかのセグメントに１回格納（定義、或いは記載）される。ここで、同一のセルパターンデータが複数のエリアに配置される場合、配置数がより多いエリア用のセグメントに登録されるように格納（定義、或いは記載）すると好適である。
【００４９】
そして、図５に示すようなレイアウトでセルが配置された場合、セルＡパターンデータは、セル配置情報Ｐ１とＰ５とＰ８とで必要となり、セルパターンデータＢは、セル配置情報Ｐ２とＰ４とで必要となり、セルパターンデータＣは、セル配置情報Ｐ６で必要となり、セルパターンデータＤは、セル配置情報Ｐ３とＰ７とＰ９とで必要となり、セルパターンデータＥは、セル配置情報Ｐ１０で必要となり、セルパターンデータＦは、セル配置情報Ｐ１１で必要となる。セルパターンデータには、セルパターンを構成するデータ量が大きい図形データ等が含まれる。ここで、それぞれの配置ごとにセルパターンデータを何度も繰り返し記載するとデータ量が膨大なものになるが、特に、データ量が大きくなるセルパターンデータを何度も繰り返し記載せず、図１１（ｂ）に示すように、各セルパターンデータがいずれかのセグメントに１回だけ格納（定義、或いは記載）されることによりデータ量の圧縮を図ることができる。
【００５０】
Ｓ１０６において、リンク情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、リンク情報ファイル作成回路３３０は、設計データ１０に基づいて、リンク情報ファイルを作成する。
【００５１】
図１２は、リンク情報ファイルの一例を示す図である。
図１２に示すように、リンク情報ファイルには、前記セル配置情報と前記セルパターン情報とをリンクさせるリンク情報が含まれる。ここでは、リンク情報ファイルのファイルヘッダに続き、パターンデータ種別ごとに、セグメント識別子、パターンデータアドレスが順に格納（定義、登録、或いは記載）されている。例えば、図１１に示すように、セル配置情報Ｐ１には、セルＡが配置される。そこで、図７に示したセル配置情報Ｐ１におけるリンク情報インデックス（ｋ）に、セルＡパターンデータのアドレスへとつながるセルＡパターンデータが格納（定義、登録、或いは記載）されたセグメント１の識別子を格納（定義、或いは記載）しておくことにより、コモンデータファイル内のセグメント１とリンクさせることができる。そして、リンク情報ファイルにおけるセグメント識別子に続くパターンデータアドレスにより、セルパターンデータＡとリンクさせることができる。
【００５２】
以上のように、描画データ作成装置３００において、描画データ１２の一部として、セル配置情報ファイルと、複数のセグメントで区切られたコモンデータファイルを構成ファイルに有するセルパターン情報ファイルと、リンク情報ファイルとを作成することで、データ量を圧縮しながらアクセス時間を短縮可能に効率良くデータを読みに行くことができる描画データ１２を作成することができる。可変成形型ＥＢ描画装置１００内での処理は、実施の形態１と同様で構わないため説明を省略する。
【００５３】
実施の形態３．
上述した各実施の形態では、セル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルとをリンクさせる場合に、リンク情報ファイルという別のファイルに格納（定義、登録、或いは記載）された情報を用いていたが、実施の形態３では、リンク情報ファイルという別のファイルを用いない場合について説明する。可変成形型ＥＢ描画装置１００の装置構成は、実施の形態１と同様で構わないため説明を省略する。描画データ作成装置３００の装置構成は、図３の構成の内、リンク情報ファイル作成回路３３０を省略できる点以外は、実施の形態１と同様で構わないため説明を省略する。また、図１において、電子線描画データの作成方法は、リンク情報ファイル作成工程（Ｓ１０６）を省略できる点以外は、実施の形態１と同様である。
【００５４】
図１におけるＳ１０２において、セル配置情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セル配置情報ファイル作成回路３１０は、設計データ１０に基づいて、セル配置情報ファイルを作成する。
【００５５】
図１３は、実施の形態３におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図１３（ａ）に示すように、セル配置情報ファイルには、描画する領域を複数の仮想領域に仮想分割した前記複数のフレーム領域の各フレーム領域ごとに、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｆのいずれかを配置するための配置情報が含まれている。ここでは、各セル配置情報に参照するコモンデータファイルの識別子が格納（定義、或いは記載）されている。その他は、図６（ａ）と同様であるため説明を省略する。
【００５６】
図１４は、セル配置情報の一例を示す図である。
各セル配置情報Ｐｎには、セルサイズ（Ｘｎ，Ｙｎ）、セル配置位置（Ｘｎ，Ｙｎ）、セルパターンデータアドレスが含まれている。かかるデータにより、セル配置情報ファイルでは、各フレームに配置されるセルのサイズ、位置を把握することができる。そして、識別されたコモンデータファイル内でのセルパターンデータアドレスを把握することができる。
【００５７】
Ｓ１０４において、セルパターン情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、設計データ１０に基づいて、セルパターン情報ファイルを作成する。
図１３（ｂ）に示すセルパターン情報ファイルは、図６（ｂ）と同様であるため説明を省略する。実施の形態３でも、実施の形態１と同様、コモンデータを１つのファイルにしないで、一定の領域ごとに別々のファイルとして作成することで、ファイルサイズを小さくし、１つのファイルに格納（定義、或いは記載）されたセルパターンデータ数を低減することができる。その結果、各セルパターンデータを参照する場合に所望するセルパターンデータへのアクセス時間を短縮することができる。
【００５８】
かかる構成により、各セル配置情報に格納（定義、或いは記載）されたコモンデータファイル識別子（ＩＤ）により、所望するコモンデータファイルとリンクさせることができる。そして、セル配置情報におけるパターンデータアドレスにより、所望するセルパターンデータとリンクさせることができる。例えば、図１３に示すように、セル配置情報Ｐ１には、セルＡが配置される。そこで、図１３（ａ）に示したセル配置情報Ｐ１におけるコモンデータファイル識別子（ＩＤ１）により、エリア１〜２用コモンデータファイルとリンクさせることができる。そして、セル配置情報Ｐ１におけるパターンデータアドレスにより、セルパターンデータＡとリンクさせることができる。
【００５９】
以上のように、描画データ作成装置３００において、リンク情報ファイルを作成しない場合でも、描画データ１２の一部として、セル配置情報ファイルと、複数のコモンデータファイルが構成ファイルとなるセルパターン情報ファイルを作成することで、データ量を圧縮しながらアクセス時間を短縮可能に効率良くデータを読みに行くことができる描画データ１２を作成することができる。
【００６０】
実施の形態４．
実施の形態４では、実施の形態３と同様、リンク情報ファイルという別のファイルを用いない場合の他の態様について説明する。可変成形型ＥＢ描画装置１００の装置構成は、実施の形態１と同様で構わないため説明を省略する。描画データ作成装置３００の装置構成は、図３の構成の内、リンク情報ファイル作成回路３３０を省略できる点以外は、実施の形態１と同様で構わないため説明を省略する。また、図１において、電子線描画データの作成方法は、リンク情報ファイル作成工程（Ｓ１０６）を省略できる点以外は、実施の形態１と同様である。
【００６１】
図１におけるＳ１０２において、セル配置情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セル配置情報ファイル作成回路３１０は、設計データ１０に基づいて、セル配置情報ファイルを作成する。
【００６２】
図１５は、実施の形態４におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図１５（ａ）に示すように、セル配置情報ファイルには、描画する領域を複数の仮想領域に仮想分割した前記複数のフレーム領域の各フレーム領域ごとに、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｆのいずれかを配置するための配置情報が含まれている。ここでは、各セル配置情報に参照するコモンデータファイルにおけるセグメントの識別子が格納（定義、或いは記載）されている。その他は、図１１（ａ）と同様であるため説明を省略する。各セル配置情報Ｐｎは、図１４と同様で構わないため説明を省略する。
【００６３】
Ｓ１０４において、セルパターン情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、設計データ１０に基づいて、セルパターン情報ファイルを作成する。
図１５（ｂ）に示すセルパターン情報ファイルは、図１１（ｂ）と同様であるため説明を省略する。実施の形態４でも、実施の形態２と同様、コモンデータを１つのファイルに作成し、その内部で、一定の領域ごとに別々のセグメントに区切ることで、各セルパターンデータを参照する場合に所望するセルパターンデータへのアクセス時間を短縮することができる。
【００６４】
かかる構成により、各セル配置情報に格納（定義、或いは記載）されたセグメント識別子（Ｓｅｇ）により、コモンデータファイル内の所望するセグメントとリンクさせることができる。そして、セル配置情報におけるパターンデータアドレスにより、所望するセルパターンデータとリンクさせることができる。例えば、図１５に示すように、セル配置情報Ｐ１には、セルＡが配置される。そこで、図１５（ａ）に示したセル配置情報Ｐ１におけるセグメント識別子（Ｓｅｇ１）により、コモンデータファイル内のセグメント１とリンクさせることができる。そして、セル配置情報Ｐ１におけるパターンデータアドレスにより、セルパターンデータＡとリンクさせることができる。
【００６５】
以上のように、描画データ作成装置３００において、リンク情報ファイルを作成しない場合でも、描画データ１２の一部として、セル配置情報ファイルと、複数のセグメントに区切られたコモンデータファイルを構成ファイルとするセルパターン情報ファイルを作成することで、データ量を圧縮しながらアクセス時間を短縮可能に効率良くデータを読みに行くことができる描画データ１２を作成することができる。
【００６６】
実施の形態５．
図１６は、実施の形態５における電子線描画データの作成方法と電子線描画データの変換方法との要部工程を示すフローチャート図である。
図１６に示すように、設計データ１０を描画データ作成装置にて変換して描画データ１２を作成する。そして、作成された描画データ１２を電子線描画装置内に入力して装置内部データ１４に変換する。図１６において、電子線描画データの作成方法は、上述した各実施の形態と同様で構わないため説明を省略する。そして、電子線描画データの変換方法は、入力工程（Ｓ１０８）と、データ記憶工程（１）（Ｓ１６０２）と、データ記憶工程（２）（Ｓ１６０４）と、装置内フォーマット変換工程（Ｓ１１２）という一連の工程を実施する。
可変成形型ＥＢ描画装置１００や描画データ作成装置３００の装置構成は、実施の形態１と同様で構わないため説明を省略する。また、図１６におけるＳ１０２〜Ｓ１０８までは、各実施の形態と同様であるため説明を省略する。
【００６７】
図１７は、エリア１，２における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
Ｓ１６０２において、データ記憶工程（１）として、入力工程（Ｓ１０８）で入力された描画データ１２を１つの基板となる装置内フォーマット変換回路１２４とバス１２８を介して接続された磁気ディスク装置等の記憶装置１２２に記憶する。
Ｓ１６０４において、データ記憶工程（２）として、記憶装置１２２に記憶された描画データ１２の各ファイルのうち、必要なコモンデータファイルを装置内フォーマット変換回路１２４内に配置されたメモリ１２６に一端、記憶（コピー）する。
そして、Ｓ１１２において、装置内フォーマット変換工程として、各装置内フォーマット変換回路１２４は、描画データ１２を装置内フォーマットに変換して装置内部データ１４を生成する。例えば、クラスタ分割処理やショットデータ作成処理といった処理を行う。ここで、各装置内フォーマット変換回路１２４、或いは各装置内フォーマット変換回路１２４内のデータ変換回路１２５は、コモンデータを参照する場合には、記憶装置１２２にわざわざ読みに行かず、メモリ１２６に一端、記憶（コピー）されたコモンデータを読み出して使用する。
【００６８】
図１７に示すように、各エリアのデータ処理を行なう場合に、１つの基板となる装置内フォーマット変換回路１２４とバス１２８を介して接続された磁気ディスク装置等の記憶装置１２２からその都度データを入力するよりも、同じ基板内でバス１２９を介して回路接続されたメモリ１２６から入力するほうが、読み出すまでにかかるアクセス時間を短縮することができる。例えば、図１７では、エリア１の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４（ここでは、１２４ａ）は、コモンデータとして、セルＡとセルＢのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）したファイル（エリア１〜２用コモンデータファイル）と、エリア３とエリア４用のコモンデータとして、セルＤのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）したファイル（エリア３〜４用コモンデータファイル）をメモリ１２６に記憶（コピー）する。そして、装置内フォーマット変換回路１２４内の各データ変換回路１２５は、メモリ１２６に記憶（コピー）されたコモンデータファイルから各セルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。同様に、エリア２の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４（ここでは、１２４ｂ）は、コモンデータとして、セルＡとセルＢのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）したファイル（エリア１〜２用コモンデータファイル）をメモリ１２６に記憶（コピー）する。そして、装置内フォーマット変換回路１２４内の各データ変換回路１２５は、メモリ１２６に記憶（コピー）されたコモンデータファイルから各セルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。
【００６９】
図１８は、エリア３，４における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
図１８に示すように、各エリアのデータ処理を行なう場合に、コモンデータについては、メモリ１２６から読み出し、ローカルデータについては、磁気ディスク装置等の記憶装置１２２から読み出す。コモンデータについては、データサイズが大きくなる場合が多いため、１つの基板となる装置内フォーマット変換回路１２４とバス１２８を介して接続された磁気ディスク装置等の記憶装置１２２からその都度データを入力するよりも、同じ基板内でバス１２９を介して回路接続されたメモリ１２６から入力するほうが、アクセス時間を短縮することができる。一方、ローカルデータについては、データサイズが小さくなる場合が多いため、記憶装置１２２から読み出しても処理時間はあまり変わらない。また、ローカルデータについては、磁気ディスク装置等の記憶装置１２２から読み出すことで、メモリ１２６容量が不足して、必要なコモンデータをコピーできなくなるといった事態を防止することができる。
【００７０】
例えば、図１８では、エリア３の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４（ここでは、１２４ｃ）は、コモンデータとして、セルＡとセルＢのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）したファイル（エリア１〜２用コモンデータファイル）と、エリア３とエリア４用のコモンデータとして、セルＤのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）したファイル（エリア３〜４用コモンデータファイル）をメモリ１２６に記憶（コピー）する。そして、装置内フォーマット変換回路１２４内の各データ変換回路１２５は、セルＡとセルＢとセルＤのパターンデータについてはメモリ１２６に記憶（コピー）されたコモンデータファイルから各セルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。そして、セルＣのパターンデータについては記憶装置１２２に記憶されたエリア３用ローカルデータファイルからセルＣのパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。同様に、エリア４の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４（ここでは、１２４ｄ）は、コモンデータとして、セルＤのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）したファイル（エリア３〜４用コモンデータファイル）をメモリ１２６に記憶（コピー）する。そして、装置内フォーマット変換回路１２４内の各データ変換回路１２５は、メモリ１２６に記憶（コピー）されたコモンデータファイルからセルＤのパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。そして、セルＥとセルＦのパターンデータについては記憶装置１２２に記憶されたエリア４用ローカルデータファイルから各セルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。
【００７１】
ここで、１つ１つの処理を直列に順に行なっていたのでは処理時間が膨大なものとなってしまう。本実施の形態でも、上述した各実施の形態と同様、例えば、エリアごとに１つの装置内フォーマット変換回路１２４を割り当てて処理を行なえばよい。さらに、本実施の形態でも、上述した各実施の形態と同様、各装置内フォーマット変換回路１２４内に複数のデータ変換回路１２５が配置されているので、各データ変換回路１２５を用いて並列処理を行なうことができ処理時間を短縮させることができる。例えば、配置情報ごとに１つのデータ変換回路１２５を割り当てて処理を行なえばよい。さらに、各機能が常に稼動しているように順に処理を進めていくパイプライン処理を行なえば、より効率的に短時間で描画データ１２を装置内フォーマットに変換することができ、なお好適である。
【００７２】
以上のように、本実施の形態における電子線描画データの変換方法によれば、メモリ１２６からコモンデータを読み出すことで、描画データ処理回路１２０において、アクセス時間を短縮可能に効率良くデータを読みに行くことができる。
【００７３】
実施の形態６．
実施の形態１では、一定の領域以外の領域用のコモンデータを参照していたが、実施の形態６では、一定の領域ごとにコモンデータも含めてセルパターン情報ファイルを閉じた系に構成する場合について説明する。可変成形型ＥＢ描画装置１００や描画データ作成装置３００の装置構成は、実施の形態１と同様で構わないため説明を省略する。電子線描画データの作成方法と電子線描画データの変換方法との要部工程は、図１６と同様で構わないため必要な箇所を除いて説明を省略する。
【００７４】
図１９は、実施の形態６におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図１９（ａ）に示すセル配置情報ファイルは、図６（ａ）と同様であるため、説明を省略する。また、各セル配置情報Ｐｎの内容も図７と同様で構わないため説明を省略する。また、リンク情報ファイルの内容も図８と同様で構わないため説明を省略する。
【００７５】
Ｓ１０４において、セルパターン情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、設計データ１０に基づいて、セルパターン情報ファイルを作成する。
図１９（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイルには、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｆの各パターン情報が含まれている。ここでは、一定の限られた複数のフレーム領域から参照される共通化できるセルパターンデータについては、コモンデータとして、共通化できないセルパターンデータについては、チップ内のフレーム領域ごとのローカルデータとしてそれぞれファイルに格納（定義、或いは記載）している。そして、図１９（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、コモンデータを１つのファイルにしないで、一定の領域ごとにグループを構成して各グループごとに別々のファイルとして作成する。図６（ｂ）とは、エリア３とエリア４用のコモンデータとして、格納（定義、登録、或いは記載）されていたセルＤのパターンデータを、さらに別途、エリア１用のローカルデータとして格納（定義、登録、或いは記載）した点、エリア１とエリア２用のコモンデータとして、格納（定義、登録、或いは記載）されていたセルＡのパターンデータを、さらに別途、エリア３用のローカルデータとしてセルＣのパターンデータに追加して格納（定義、登録、或いは記載）した点が異なっている。
【００７６】
そして、セル配置情報Ｐ３では、セルＤのパターンデータをエリア３とエリア４用のコモンデータファイルからではなく、エリア１用のローカルデータから参照し、セル配置情報Ｐ８では、セルＡのパターンデータをエリア１とエリア２用のコモンデータファイルからではなく、エリア３用のローカルデータから参照する。
【００７７】
図２０は、エリア１，２における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
ここで、本実施の形態６では、エリア１，２における装置内フォーマット変換を１つのノード、エリア３，４における装置内フォーマット変換を１つのノードとして処理する。例えば、エリア１，２では、同じ装置内フォーマット変換回路１２４で処理する。
Ｓ１６０２において、データ記憶工程（１）として、入力工程（Ｓ１０８）で入力された描画データ１２を１つの基板となる装置内フォーマット変換回路１２４とバス１２８を介して接続された磁気ディスク装置等の記憶装置１２２に記憶する。
Ｓ１６０４において、データ記憶工程（２）として、記憶装置１２２に記憶された描画データ１２の各ファイルのうち、各ノードに必要なコモンデータファイルを装置内フォーマット変換回路１２４内に配置されたメモリ１２６に一端、記憶（コピー）する。図２０では、エリア１，２における装置内フォーマット変換に必要なセルＡとセルＢのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）したファイル（エリア１〜２用コモンデータファイル）をメモリ１２６に記憶（コピー）する。
そして、Ｓ１１２において、装置内フォーマット変換工程として、各装置内フォーマット変換回路１２４は、描画データ１２を装置内フォーマットに変換して装置内部データ１４を生成する。例えば、クラスタ分割処理やショットデータ作成処理といった処理を行う。ここで、各装置内フォーマット変換回路１２４、或いは各装置内フォーマット変換回路１２４内のデータ変換回路１２５は、コモンデータを参照する場合には、記憶装置１２２にわざわざ読みに行かず、メモリ１２６に一端、記憶（コピー）されたコモンデータを読み出して使用する。
【００７８】
図２０に示すように、エリア１，２のデータ処理を行なう場合に、１つの基板となる装置内フォーマット変換回路１２４とバス１２８を介して接続された磁気ディスク装置等の記憶装置１２２からその都度データを入力するよりも、同じ基板内でバス１２９を介して回路接続されたメモリ１２６から入力するほうが、読み出すまでにかかるアクセス時間を短縮することができる。例えば、図２０では、エリア１の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４内の各データ変換回路１２５は、メモリ１２６に記憶（コピー）されたコモンデータファイルから各セルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。同様に、エリア２の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４は、既にメモリ１２６に記憶（コピー）されたコモンデータファイルを再利用して各セルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。言い換えれば、エリア１，２のデータ処理を行なう場合に、エリア１〜２用コモンデータファイルの記憶（コピー）回数を１度だけにして再利用する。バス１２８を介して接続された磁気ディスク装置等の記憶装置１２２から読み出す回数を１度だけにして記憶（コピー）回数を減らすことで処理速度を向上させることができる。
【００７９】
図２１は、エリア３，４における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
図２１では、エリア３，４の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４は、コモンデータとして、セルＤのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）したファイル（エリア３〜４用コモンデータファイル）をメモリ１２６に記憶（コピー）する。そして、装置内フォーマット変換回路１２４内の各データ変換回路１２５は、セルＤのパターンデータについてはメモリ１２６に記憶（コピー）されたコモンデータファイルからセルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。そして、セルＡとセルＣのパターンデータについては記憶装置１２２に記憶されたエリア３用ローカルデータファイルからパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。同様に、エリア４の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４は、既にメモリ１２６に記憶（コピー）されたコモンデータファイルからセルＤのパターンデータを読み出して再利用し装置内フォーマットに変換する。そして、セルＥとセルＦのパターンデータについては記憶装置１２２に記憶されたエリア４用ローカルデータファイルから各セルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。その他は、実施の形態５と同様であるため説明を省略する。
【００８０】
以上のように、本実施の形態における電子線描画データの変換方法によれば、限られた一定の領域で閉じた参照するためのパターンデータファイルを作成することで、他の領域が処理している間、参照できなくなるファイルが存在しないようにすることができる。また、複数の限られた領域で、メモリ１２６へ記憶（コピー）するコモンデータファイルを共有化することで記憶（コピー）回数を減らし、処理時間の短縮化を図ることができる。
【００８１】
実施の形態７．
実施の形態５，６では、メモリ１２６へコモンデータファイルを記憶（コピー）していたが、これに限るものではなく、実施の形態７では、メモリ１２６の代わりに高速アクセス磁気ディスク装置から読み出す。可変成形型ＥＢ描画装置１００や描画データ作成装置３００の装置構成は、以下の点を除いて実施の形態１と同様で構わないため異なっている箇所以外の説明を省略する。電子線描画データの作成方法と電子線描画データの変換方法との要部工程は、図１６と同様で構わないため必要な箇所を除いて説明を省略する。また、ここでは、図１９に示すセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの例を用いて説明する。
【００８２】
図２２は、実施の形態７における描画データ処理回路の主要構成を示すブロック図である。
図２２において、描画データ処理回路１２０は、基板の一例となる複数の装置内フォーマット変換回路１２４（ａ，ｂ，・・・）を備えている。各装置内フォーマット変換回路１２４内には、それぞれ、例えばＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）等で構成される複数のデータ変換回路１２５（ａ，ｂ，・・・）がバス１２９を介して配置されている。各装置内フォーマット変換回路１２４は、バス１２８を介して通常のハードディスク装置等の記憶装置１２２と、高速アクセス磁気ディスク装置１２３に接続されている。図２２では、図９と同様、本実施の形態７を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画データ処理回路１２０にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。例えば、入出力手段等の図示は省略している。
【００８３】
図２３は、エリア１，２における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
Ｓ１６０２において、データ記憶工程（１）として、入力工程（Ｓ１０８）で入力された描画データ１２を１つの基板となる装置内フォーマット変換回路１２４とバス１２８を介して接続された磁気ディスク装置等の記憶装置１２２に記憶する。
Ｓ１６０４において、データ記憶工程（２）として、記憶装置１２２に記憶された描画データ１２の各ファイルのうち、必要なコモンデータファイルを高速アクセス磁気ディスク装置１２３に記憶（コピー）する。
そして、Ｓ１１２において、装置内フォーマット変換工程として、各装置内フォーマット変換回路１２４は、描画データ１２を装置内フォーマットに変換して装置内部データ１４を生成する。例えば、クラスタ分割処理やショットデータ作成処理といった処理を行う。ここで、各装置内フォーマット変換回路１２４、或いは各装置内フォーマット変換回路１２４内のデータ変換回路１２５は、コモンデータを参照する場合には、記憶装置１２２にわざわざ読みに行かず、高速アクセス磁気ディスク装置１２３に記憶（コピー）されたコモンデータを読み出して使用する。
【００８４】
図２３に示すように、各エリアのデータ処理を行なう場合に、１つの基板となる装置内フォーマット変換回路１２４とバス１２８を介して接続された磁気ディスク装置等の記憶装置１２２からその都度データを入力するよりも、高速アクセス磁気ディスク装置１２３から入力するほうが、読み出すまでにかかるアクセス時間を短縮することができる。例えば、図２３では、エリア１の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４（ここでは、１２４ａ）は、コモンデータとして、セルＡとセルＢのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）したファイル（エリア１〜２用コモンデータファイル）を高速アクセス磁気ディスク装置１２３に記憶（コピー）する。そして、装置内フォーマット変換回路１２４内の各データ変換回路１２５は、高速アクセス磁気ディスク装置１２３に記憶（コピー）されたコモンデータファイルから各セルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。同様に、エリア２の領域のデータ処理を行う場合、装置内フォーマット変換回路１２４内の各データ変換回路１２５は、高速アクセス磁気ディスク装置１２３に記憶（コピー）されたコモンデータファイルから各セルパターンデータを読み出して装置内フォーマットに変換する。エリア３，４のデータ処理を行なう場合については、エリア１，２のデータ処理を行なう場合と同様に進めれば良いので説明を省略する。
【００８５】
以上のように、各装置内フォーマット変換回路１２４は、バス１２８を介して高速アクセス磁気ディスク装置１２３に接続されることで、各エリアのデータ処理をそれぞれ独立したノードで処理する場合、例えば、装置内フォーマット変換回路１２４ごとにエリアを分けて処理する場合でも、装置内フォーマット変換回路１２４内に配置されるメモリ１２６と異なり高速アクセス磁気ディスク装置１２３を共有ディスクとして各ノードからアクセスすることが可能となる。
【００８６】
実施の形態８．
実施の形態８では、実施の形態６，７にて説明した一定の領域ごとにセルパターンデータファイルを閉じた系に構成する場合に、隣接するエリアのセルパターンデータを含めて閉じる構成について説明する。
図２４は、実施の形態８におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図２４（ａ）に示すセル配置情報ファイルは、図６（ａ）と同様であるため、説明を省略する。また、各セル配置情報Ｐｎの内容も図７と同様で構わないため説明を省略する。また、リンク情報ファイルの内容も図８と同様で構わないため説明を省略する。
【００８７】
Ｓ１０４において、セルパターン情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、設計データ１０に基づいて、セルパターン情報ファイルを作成する。
図２４（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイルには、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｆの各パターン情報が含まれている。ここでは、一定の限られた複数のフレーム領域から参照される共通化できるセルパターンデータについては、コモンデータとして、共通化できないセルパターンデータについては、チップ内のフレーム領域ごとのローカルデータとしてそれぞれファイルに格納（定義、或いは記載）している。そして、図２４（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、コモンデータを１つのファイルにしないで、一定の領域ごとにグループを構成して各グループごとに別々のファイルとして作成する。図６（ｂ）とは、エリア３とエリア４用のコモンデータとして、格納（定義、登録、或いは記載）されていたセルＤのパターンデータを、エリア１とエリア２用のコモンデータに追加して格納（定義、登録、或いは記載）しエリア１〜３用のコモンデータとした点、エリア１とエリア２用のコモンデータとして、格納（定義、登録、或いは記載）されていたセルＡのパターンデータを、エリア３とエリア４用のコモンデータに追加して格納（定義、登録、或いは記載）しエリア２〜４用のコモンデータとした点が異なっている。さらに、エリア１とエリア２用のコモンデータとして、格納（定義、登録、或いは記載）されていたセルＢのパターンデータを、エリア２用のローカルデータとしてエリア３とエリア４用の閉じた系に追加した点が異なっている。
【００８８】
エリア１とエリア２とで一定の領域を構成する場合、エリア１より前のエリアは存在しないので、エリア２と隣接するエリア３のセルパターンデータをもエリア１とエリア２用の閉じた系の中に格納（定義、登録、或いは記載）する。同様に、エリア３とエリア４とで一定の領域を構成する場合、エリア４より後のエリアは存在しないので、エリア３と隣接するエリア２のセルパターンデータをもエリア３とエリア４用の閉じた系の中に格納（定義、登録、或いは記載）する。もしもエリア４より後のエリアが存在する場合には、エリア４と隣接するエリア５のセルパターンデータをもエリア３とエリア４用の閉じた系の中に格納（定義、登録、或いは記載）する。各一定の領域の前後１つのエリアのセルパターンデータを余分に持つことで、近接効果補正を考慮して前後のエリアのデータを参照し、自己のデータ変換に対して図形形状を補正することができる。
ここで、図２４（ｂ）では、エリア３のセルパターンデータのうち、エリア３とエリア４とのコモンデータであるセルＤのパターンデータを格納（定義、登録、或いは記載）してローカルデータを格納（定義、登録、或いは記載）していないが、ローカルデータについては、データサイズが小さくなる場合が多いため、別途、記憶装置１２２に記憶されたエリア３用のローカルデータファイルから読み出しても処理時間はあまり変わらない。
【００８９】
以上の説明において、「〜回路」或いは「〜工程」と記載したものの処理内容或いは動作内容は、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成することができる。或いは、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、ファームウェアとの組合せでも構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、磁気ディスク装置、磁気テープ装置、ＦＤ、或いはＲＯＭ（リードオンリメモリ）等の記録媒体に記録される。
【００９０】
図２５は、プログラムにより構成する場合のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。
コンピュータとなるＣＰＵ５０は、バス７４を介して、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）５２、ＲＯＭ５４、磁気ディスク（ＨＤ）装置６２、キーボード（Ｋ／Ｂ）５６、マウス５８、外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）６０、モニタ６４、プリンタ６６、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２に接続されている。ここで、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）５２、ＲＯＭ５４、磁気ディスク（ＨＤ）装置６２、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２は、記憶装置の一例である。キーボード（Ｋ／Ｂ）５６、マウス５８、外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）６０、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２は、入力手段の一例である。外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）６０、モニタ６４、プリンタ６６、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２は、出力手段の一例である。
【００９１】
また、例えば、装置内フォーマット変換回路１２４は、データ変換回路１２５として作用する複数のＣＰＵ５０とメモリ１２６として作用するＲＡＭ５２をバス７４で接続して構成した回路基板としても好適である。
【００９２】
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、各実施の形態では、内部構成要素として、セル情報を中心として記載したが、これに限るものではなく、別の階層データを中心にデータ構成しても構わない。また、各実施の形態では、描画データ作成装置３００が、可変成形型ＥＢ描画装置１００の外部にあるが、可変成形型ＥＢ描画装置１００の内部、特に、制御部１６０内にあっても構わない。
【００９３】
また、作成するファイルサイズに制限があるために、コモンデータファイルのサイズの上限を制限する必要がある場合、同一のセルパターンデータの配置数が多いセルパターンデータを優先してコモンデータファイルに格納（定義、或いは記載）することが望ましい。例えば、コモンデータファイルを記憶する磁気ディスク等の記憶装置のメモリ容量を超える場合などである。そして、溢れたセルパターンデータは、別のコモンデータファイルを作成して別の磁気ディスク等の記憶装置に記憶させてもよいし、各エリアごとのローカルデータファイルとして作成してもよい。そして、さらに望ましくは、１つのコモンデータファイルを各装置内フォーマット変換回路１２４内のメモリ１２６のメモリ容量内に収めるサイズで作成することが望ましい。メモリ１２６のメモリ容量内に収めることで、実施の形態５のようにメモリに一端コピーしてから処理することができる。
【００９４】
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、可変成形型ＥＢ描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。
【００９５】
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての荷電粒子線描画データの作成方法、荷電粒子線描画データの変換方法、及びそれらの装置は、本発明の範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】実施の形態１における電子線描画データの作成方法と電子線描画データの変換方法との要部工程を示すフローチャート図である。
【図２】描画装置の要部構成の一例を示す概念図である。
【図３】描画データ作成装置の主要構成を示すブロック図である。
【図４】データの階層構造の一例を示す図である。
【図５】セル配置の一例を示す図である。
【図６】実施の形態１におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
【図７】セル配置情報の一例を示す図である。
【図８】リンク情報ファイルの一例を示す図である。
【図９】実施の形態１における描画データ処理回路の主要構成を示すブロック図である。
【図１０】図９に示す描画データ処理回路の動作を説明するためのブロック図である。
【図１１】実施の形態２におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
【図１２】リンク情報ファイルの一例を示す図である。
【図１３】実施の形態３におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
【図１４】セル配置情報の一例を示す図である。
【図１５】実施の形態４におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
【図１６】実施の形態５における電子線描画データの作成方法と電子線描画データの変換方法との要部工程を示すフローチャート図である。
【図１７】エリア１，２における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
【図１８】エリア３，４における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
【図１９】実施の形態６におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
【図２０】エリア１，２における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
【図２１】エリア３，４における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
【図２２】実施の形態７における描画データ処理回路の主要構成を示すブロック図である。
【図２３】エリア１，２における装置内フォーマット変換工程を説明するための図である。
【図２４】実施の形態８におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
【図２５】プログラムにより構成する場合のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。
【図２６】従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
【図２７】セル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
【符号の説明】
【００９７】
１０  設計データ
１２  描画データ
１４  装置内部データ
５０  ＣＰＵ
５２  ＲＡＭ
５４  ＲＯＭ
５６  Ｋ／Ｂ
５８  マウス
６０  Ｉ／Ｆ
６２  ＨＤ装置
６４  モニタ
６６  プリンタ
６８  ＦＤ
７０  ＤＶＤ
７２  ＣＤ
７４  バス
１００  可変成形型ＥＢ描画装置
１０１，４４０  試料
１０２  電子鏡筒
１０５  ＸＹステージ
１１０  制御回路
１２０  描画データ処理回路
１２２  記憶装置
１２３  高速アクセス磁気ディスク装置
１２４  装置内フォーマット変換回路
１２５  データ変換回路
１２６  メモリ
１２８，１２９  バス
１５０  描画部
１６０  制御部
２００  電子ビーム
２０１  電子銃
２０２  照明レンズ
２０３，４１０  第１のアパーチャ
２０６，４２０  第２のアパーチャ
２０４  投影レンズ
２０５，２０８  偏向器
２０７  対物レンズ
２０９  ファラデーカップ
３００  描画データ作成装置
３１０  セル配置情報ファイル作成回路
３２０  セルパターン情報ファイル作成回路
３３０  リンク情報ファイル作成回路
４１１  開口
４２１  可変成形開口
４３０  荷電粒子ソース
４４２  電子線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図４】
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