(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性樹脂を塗布した基板を上面に載置するステージと、
前記ステージの上方に配設され、前記基板に近接対向させてフォトマスクを保持するマスクステージと、
光を受光する複数の受光素子を一直線状に並べて有するラインＣＣＤと、前記受光素子の並び方向に相互にずれて存在し、前記フォトマスクに形成された覗き窓を介して観察される前記基板に形成された基板側アライメントマーク、及び前記フォトマスクに形成されたマスク側アライメントマークをそれぞれ前記ラインＣＣＤ上の異なった位置に結像させる集光レンズとを設け、前記基板側アライメントマーク及び前記マスク側アライメントマークをそれぞれ同一視野内に捕らえて撮像する撮像手段と、
を備え、前記撮像手段により撮像された前記基板側及びマスク側アライメントマークの各画像間の距離を演算し、該距離が所定距離となるように前記ステージとマスクステージとを相対的に移動し、前記基板とフォトマスクとの位置合わせをして露光する露光装置であって、
前記撮像手段は、前記基板側アライメントマークと該基板側アライメントマークの結像位置とを結ぶ光路上にて、前記ラインＣＣＤと前記集光レンズとの間に、前記ラインＣＣＤ上の前記基板側アライメントマークが結像される部分のみをカバーするように、前記ラインＣＣＤと前記基板との間の光学距離及び前記ラインＣＣＤと前記フォトマスクとの間の光学距離を略合致させるための、所定の屈折率及び所定の厚みを有する透明なプレートから成る光学距離補正手段を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記ステージは、露光動作中に所定方向に移動して上面に載置された基板を搬送することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板及びフォトマスクのアライメントマークをそれぞれ撮像し、それらの画像に基づいて基板とフォトマスクとの位置合わせをして露光する露光装置に関し、詳しくは、撮像手段の受光面に基板及びフォトマスクの各アライメントマークを同時に結像させて、位置合わせ処理を高速に行なおうとする露光装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置は、感光性樹脂を塗布した基板を上面に載置するステージと、該基板に近接対向させてフォトマスクを保持するマスクステージと、上記基板に形成された基板側アライメントマークと上記フォトマスクに形成されたマスク側アライメントマークとをそれぞれ同一視野内に捕えて撮像する撮像手段とを備え、先ず、マスク側アライメントマークを撮像手段の受光面に結像させた状態で撮像手段を移動してその視野内中央部にマスク側アライメントマークを位置づけ、次に、基板側アライメントマークを上記受光面に結像させた状態でステージを移動して撮像手段の視野内中央部に基板側アライメントマークを位置付けて基板とフォトマスクとの位置合わせをするようになっていた（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平５−１９６４２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、このような従来の露光装置においては、基板側アライメントマークとマスク側アライメントマークとの位置が撮像手段の光軸方向にずれているため、両アライメントマークを撮像手段の受光面に同時に結像させることができなかった。したがって、上述したように基板とフォトマスクとの位置合わせをする場合には、先ずマスク側アライメントマークを撮像手段の受光面に結像させて位置調整し、次に基板側アライメントマークを上記受光面に結像させて位置調整する必要があり、位置合わせの処理時間が長くなっていた。
【０００４】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、基板及びフォトマスクの位置合わせ処理を高速に行なおうとする露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明による露光装置は、感光性樹脂を塗布した基板を上面に載置するステージと、前記ステージの上方に配設され、前記基板に近接対向させてフォトマスクを保持するマスクステージと、光を受光する複数の受光素子を一直線状に並べて有するラインＣＣＤと、前記受光素子の並び方向に相互にずれて存在し、前記フォトマスクに形成された覗き窓を介して観察される前記基板に形成された基板側アライメントマーク、及び前記フォトマスクに形成されたマスク側アライメントマークをそれぞれ前記ラインＣＣＤ上の異なった位置に結像させる集光レンズとを設け、前記基板側アライメントマーク及び前記マスク側アライメントマークをそれぞれ同一視野内に捕らえて撮像する撮像手段と、を備え、前記撮像手段により撮像された前記基板側及びマスク側アライメントマークの各画像間の距離を演算し、該距離が所定距離となるように前記ステージとマスクステージとを相対的に移動し、前記基板とフォトマスクとの位置合わせをして露光する露光装置であって、前記撮像手段は、前記基板側アライメントマークと該基板側アライメントマークの結像位置とを結ぶ光路上にて、前記ラインＣＣＤと前記集光レンズとの間に、前記ラインＣＣＤ上の前記基板側アライメントマークが結像される部分のみをカバーするように、前記ラインＣＣＤと前記基板との間の光学距離及び前記ラインＣＣＤと前記フォトマスクとの間の光学距離を略合致させるための、所定の屈折率及び所定の厚みを有する透明なプレートから成る光学距離補正手段を備えたものである。
【０００６】
このような構成により、ステージでその上面に感光性樹脂を塗布した基板を載置し、マスクステージで上記基板に近接対向させてフォトマスクを保持し、基板側アライメントマークとフォトマスクに形成された覗き窓を介して基板側アライメントマークの結像位置とを結ぶ光路上にて、撮像手段の複数の受光素子を一直線状に並べて有するラインＣＣＤと集光レンズとの間に、ラインＣＣＤ上の基板側アライメントマークが結像される部分のみをカバーするように設けられ、所定の屈折率及び所定の厚みを有する透明なプレートから成る光学距離補正手段でラインＣＣＤと基板との間の光学距離及びラインＣＣＤとフォトマスクとの間の光学距離を略合致させて撮像手段で基板側及びマスク側アライメントマークを同一視野内に捕えて撮像し、この撮像された基板側及びマスク側アライメントマークの各画像に基づいて上記ステージとマスクステージとを相対的に移動し、上記基板とフォトマスクとの位置合わせをして露光する。
【０００８】
さらに、前記ステージは、露光動作中に所定方向に移動して上面に載置された基板を搬送するものである。これにより、所定方向に移動するステージでその上面に載置された基板を露光動作中に搬送する。
【発明の効果】
【００１０】
請求項１に係る発明によれば、撮像手段の光軸方向に基板とフォトマスクとが互いにずれて配置されている場合にも、撮像手段のラインＣＣＤと集光レンズとの間に、ラインＣＣＤ上の基板側アライメントマークがフォトマスクに形成された覗き窓を介して結像される部分のみをカバーするように設けられた所定の屈折率及び所定の厚みを有する透明なプレートから成る簡単な構成の光学距離補正手段により基板に形成された基板側アライメントマークとフォトマスクに形成されたマスク側アライメントマークの像を撮像手段のラインＣＣＤに同時に結像させることができる。したがって、撮像された基板側アライメントマークとマスク側アライメントマークの画像処理を同時に、且つリアルタイムに行なうことができ、基板及びフォトマスクの位置合わせ処理を高速に行なうことができる。また、従来技術のように撮像手段をその光軸方向に移動して基板側及びフォトマスク側アライメントマークをそれぞれ撮像するものではないので、撮像手段の移動ずれによる位置ずれが生じることがない。したがって、位置合わせ精度を向上することができる。さらに、撮像手段が複数の受光素子を一直線状に並べて有するラインＣＣＤを備えたものであるので、基板側アライメントマークを検出したラインＣＣＤの受光素子のセル番号とマスク側アライメントマークを検出した受光素子のセル番号とを比較して、基板側アライメントマークとマスク側アライメントマークとの距離を容易に検出することができる。したがって、該距離が所定値となるようにステージとマスクステージとを相対的に移動すれば、基板とフォトマスクとの位置合わせを行なうことができる。
【００１２】
また、請求項２に係る発明によれば、基板を搬送しながら露光することができ、フォトマスクのサイズを小さくすることができる。したがって、フォトマスクのコストを安価にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の実施形態の概略構成を示す正面図である。この露光装置は、基板に形成された基板側アライメントマークとフォトマスクに形成されたマスク側アライメントマークとをそれぞれ撮像し、それらの画像に基づいて基板とフォトマスクとの位置合わせをして露光するもので、ステージ１と、マスクステージ２と、撮像手段３と、光学距離補正手段４と、露光光学系５とからなる。なお、以下の説明では、基板がカラーフィルタ基板の場合について述べる。
【００１５】
上記ステージ１は、その上面１ａに感光性樹脂としてのカラーレジストを塗布したカラーフィルタ基板６を載置して保持するものであり、図示省略の搬送手段によって移動されて、図１に示すようにカラーフィルタ基板６を矢印Ａ方向に一定の速度で搬送するようになっている。
【００１６】
上記ステージ１の上方には、マスクステージ２が配設されている。このマスクステージ２は、上記カラーフィルタ基板６に対して所定のギャップ、例えば100〜300μmのギャップを介して近接対向させてフォトマスク７を保持するものである。
【００１７】
ここで、上記フォトマスク７は、露光光の照射によりそこに形成されたマスクパターンをカラーフィルタ基板６上のカラーレジストに転写させるものであり、図２に示すように、透明基材８と、遮光膜９と、マスクパターン１０と、覗き窓１１と、マスク側アライメントマーク１７とからなっている。
【００１８】
上記透明基材８は、紫外線及び可視光を透過する透明なガラス基材であり、例えば石英ガラスからなる。
図３又は図４に示すように、上記透明基材８の一方の面８ａには、遮光膜９が形成されている。この遮光膜９は、露光光を遮光するものであり、不透明な例えばクロム（Ｃｒ）の薄膜で形成されている。
【００１９】
上記遮光膜９には、図２に示すように、一方向に並べて複数のマスクパターン１０が形成されている。この複数のマスクパターン１０は、露光光を通す所定形状の開口であり、対向して搬送されるカラーフィルタ基板６に露光光を照射可能とし、図５に示すカラーフィルタ基板６上に形成されたブラックマトリクス１２のピクセル１３上に転写されるものである。そして、例えば上記ピクセル１３の幅と略一致した幅を有して上記並び方向と直交する方向に長い矩形状とされ、上記ピクセル１３の３ピッチ間隔と一致した配列ピッチで形成されている。また、図２に示すように、例えば中央部に位置するマスクパターン１０ａの左端縁部が基準位置Ｓ１として予め設定されている。
【００２０】
また、図３に示すように、透明基材８の他方の面８ｂにて上記マスクパターン１０の形成領域に対応した領域１４（図２参照）には、紫外線反射防止膜１５が形成され露光光に含まれる紫外線成分の透過効率が向上されている。
【００２１】
上記遮光膜９には、図２に示すように、上記複数のマスクパターン１０に近接してその並び方向の側方に覗き窓１１が形成されている。この覗き窓１１は、対向して搬送される図５に示すカラーフィルタ基板６に形成された基板側アライメントマーク１６及びブラックマトリクス１２のピクセル１３を観察するためのものであり、後述する撮像手段３で上記基板側アライメントマーク１６の位置及びブラックマトリクス１２の例えば図５に示すように中央部に位置するピクセル１３ａの左上端隅部に予め設定された基準位置Ｓ２を検出可能となっている。そして、図２に示すように、上記複数のマスクパターン１０の並び方向に平行して中央側から一方の端部８ｃに向かって延びて矩形状に形成されている。
【００２２】
上記遮光膜９には、図２に示すように、上記覗き窓１１の一端部側方に中央側から他方の端部８ｄに向かって並べて複数のマスク側アライメントマーク１７が形成されている。この複数のマスク側アライメントマーク１７は、上記マスクパターン１０に予め設定された基準位置Ｓ１と上記カラーフィルタ基板６のピクセル１３に予め設定された基準位置Ｓ２との位置合わせをするためのものであり、上記マスクパターン１０に対応して形成されている。さらに、その形成位置は、図２においてマスク側アライメントマーク１７の左側縁部が対応するマスクパターン１０の左側縁部と一致するようにされている。そして、例えば、遮光膜９の中央部側に形成されたマスク側アライメントマーク１７が基準マーク１７ａとして予め設定されている。これにより、上記基準マーク１７ａと上記カラーフィルタ基板６の基板側アライメントマーク１６とが所定の位置関係となるように位置調整されることにより、上記マスクパターン１０の基準位置Ｓ１とカラーフィルタ基板６の基準位置Ｓ２とが位置合わせできるようになっている。
【００２３】
また、図４に示すように、透明基材８の他方の面８ｂにて上記覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７の形成領域に対応した領域１９（図２参照）には、可視光を透過し紫外線を反射する波長選択性膜２０が形成され、露光光に含まれる紫外線成分が上記覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７を通してカラーフィルタ基板６に照射し、カラーフィルタ基板６に塗布されたカラーレジストを露光するのを防止できるようになっている。
【００２４】
そして、上記フォトマスク７は、図１に示すように、上記遮光膜９を形成した側を下にしてマスクステージ２に保持される。
【００２５】
上記ステージ１の上方には、撮像手段３が配設されている。この撮像手段３は、カラーフィルタ基板６に形成された基板側アライメントマーク１６とフォトマスク７に形成されたマスク側アライメントマーク１７とをハーフミラー２１を介してそれぞれ同一視野内に捕えて撮像するものであり、光を受光する複数の受光素子を一直線状に並べて備えたラインＣＣＤ２２と、その前方に配設されてカラーフィルタ基板６に形成された基板側アライメントマーク１６及びピクセル１３やフォトマスク７に形成されたマスク側アライメントマーク１７をそれぞれ上記ラインＣＣＤ２２上の異なった位置に結像させる集光レンズ２３と、を備えている。
【００２６】
図１に示すように、上記撮像手段３の基板側アライメントマーク１６と該基板側アライメントマーク１６の結像位置とを結ぶ光路上にて、上記ラインＣＣＤ２２と集光レンズ２３との間には、光学距離補正手段４が配設されている。この光学距離補正手段４は、撮像手段３のラインＣＣＤ２２とカラーフィルタ基板６との間の光学距離及び撮像手段３のラインＣＣＤ２２とフォトマスク７との間の光学距離を略合致させるものであり、空気の屈折率よりも大きい所定の屈折率を有する透明な部材からなり、例えばガラスプレートである。
【００２７】
この場合、所定の屈折率を有する透明な部材からなる光学距離補正手段４は、図６に示すように、フォトマスク７に形成された覗き窓１１を介して撮像手段３のラインＣＣＤ２２とカラーフィルタ基板６とを結ぶ光路上に、ラインＣＣＤ２２上の基板側アライメントマーク１６が結像される部分のみをカバーするように配設されている。
【００２８】
図６に示すように、通常、集光レンズ２３からの距離が異なる二点Ｐ１，Ｐ２から発した光は、集光レンズ２３からの距離が異なる二点Ｆ１，Ｆ２に集光する。したがって、撮像手段３によりフォトマスク７のマスク側アライメントマーク１７を撮像している状態（集光点Ｆ２がラインＣＣＤ２２上に一致している状態）においては、撮像手段３の集光レンズ２３からの距離がフォトマスク７よりも遠いカラーフィルタ基板６から発した光Ｌ１は、ラインＣＣＤ２２の手前側の点Ｆ１に集光することになる。したがって、フォトマスク７のマスク側アライメントマーク１７とカラーフィルタ基板６の基板側アライメントマーク１６とは撮像手段３のラインＣＣＤ２２上に同時に結像させることができない。しかし、同図に示すように、上記フォトマスク７の覗き窓１１を介して撮像手段３のラインＣＣＤ２２とカラーフィルタ基板６とを結ぶ光路上に光学距離補正手段４を配置することにより光学距離が長くなり、光Ｌ１を上記ラインＣＣＤ２２上の点Ｆ３に集光させることができる。これにより、マスク側アライメントマーク１７と基板側アライメントマーク１６とを同時にラインＣＣＤ２２上に結像させることができる。なお、上記光学距離の調整は、光学距離補正手段４の部材の屈折率及び／又は厚みを調節して行なうことができる。
【００２９】
このように構成されたマスクステージ２及び撮像手段３は、図示省略のアライメント機構によって一体的に図１に示すステージ１の上面１ａに平行な面内にて矢印Ａで示す搬送方向と直交する方向に移動可能とされている。
【００３０】
上記ステージ１の上方には、露光光学系５が配設されている。この露光光学系５は、露光光をフォトマスク７を介してカラーフィルタ基板６上に照射してフォトマスク７のマスクパターン１０の像をカラーフィルタ基板６に塗布されたカラーレジスト上に転写させるものであり、光源２４と、コンデンサーレンズ２５とを備えている。
【００３１】
上記光源２４は、紫外線を含んだ露光光を放射するものであり、例えば超高圧水銀ランプ、キセノンランプ又は紫外線発光レーザである。そして、凹面鏡２６によってその焦点に集光するようにされている。また、上記コンデンサーレンズ２５は、光源２４とマスクステージ２との間に配設されて、光源２４から放射された露光光を平行光にしてフォトマスク７に垂直に照射させるようにするものであり、その前焦点を上記凹面鏡２６の焦点近傍に位置させている。
【００３２】
次に、このように構成された露光装置の動作について説明する。
ここで、使用されるカラーフィルタ基板６は、図５に示すように、透明なガラス基板の一面にＣｒ等からなる不透明膜が形成され、同図に示すように露光領域２６内に複数のピクセル１３がマトリクス状に形成されたものである。さらに、露光領域２６の一端部２６ａ側の略中央部に、上記フォトマスク７に予め設定された基準位置Ｓ１と上記カラーフィルタ基板６に予め設定された基準位置Ｓ２との位置ずれを補正してアライメントをとるために細長状の基板側アライメントマーク１６が一つ形成されている。また、上記基板側アライメントマーク１６の側方には、中央側から一方の端部６ａに向かって並べて複数のアライメント確認マーク２７がピクセル１３に対応させてピクセル１３の配列の３ピッチ間隔と一致した配列ピッチで形成されている。なお、上記基板側アライメントマーク１６及びアライメント確認マーク２７は、図５においてそれぞれ各マークの左側縁部と対応するピクセル１３の左側縁部とが一致するように形成されている。
【００３３】
このように形成されたカラーフィルタ基板６は、上面に所定のカラーレジストが塗布され、露光領域２６の上記基板側アライメントマーク１６を形成した端部２６ａ側を図５に矢印Ａで示す搬送方向の先頭側に位置させてステージ１の上面１ａに載置され、図示省略の搬送手段によって一定の速度で矢印Ａ方向に搬送される。
【００３４】
一方、フォトマスク７は、図２に示すように、覗き窓１１が形成された端部８ｅ側を矢印Ａで示す搬送方向の手前側に位置させ、図１に示すように遮光膜９を形成した面を下にしてマスクステージ２に保持される。そして、搬送されるカラーフィルタ基板６の上面に近接して対向するようにされる。
【００３５】
このような状態で、フォトマスク７に形成された覗き窓１１を通してカラーフィルタ基板６上の基板側アライメントマーク１６、アライメント確認マーク２７及びピクセル１３が撮像手段３によって撮像される。この場合、フォトマスク７に形成された覗き窓１１を介して撮像手段３のラインＣＣＤ２２とカラーフィルタ基板６とを結ぶ光路上に光学距離補正手段４が配設されて、その光学距離が撮像手段３のラインＣＣＤ２２とフォトマスク７との間の光学距離と略合致するようにされているので、撮像手段３の光軸方向にずれて位置するカラーフィルタ基板６上の基板側アライメントマーク１６等の像とフォトマスク７のマスク側アライメントマーク１７の像とが同時に撮像手段３のラインＣＣＤ２２上の異なる位置に結像する。したがって、撮像手段３で同時に撮像された基板側アライメントマーク１６等の画像とマスク側アライメントマーク１７の画像とが図示省略の画像処理部で同時に処理される。
【００３６】
この場合、先ず、撮像手段３によって、図７に示されるようにフォトマスク７の覗き窓１１を通して観察されるカラーフィルタ基板６の基板側アライメントマーク１６とフォトマスク７のマスク側アライメントマーク１７とが同時に撮像される。このとき、基板側アライメントマーク１６を検出したラインＣＣＤ２２の受光素子のセル番号と、上記フォトマスク７の基準マーク１７ａを検出したラインＣＣＤ２２の受光素子のセル番号とが読み取られ、図示省略の演算部でその距離Ｌが演算される。そして、予め設定して記憶された所定の距離Ｌ0と比較される。
【００３７】
ここで、図７に示すように、カラーフィルタ基板６に対してフォトマスク７が矢印Ｂ方向にずれている場合には、図８に示すように、基板側アライメントマーク１６と基準マーク１７ａとの距離ＬがＬ0又はＬ0±ｘ（ｘは許容値）となるようにフォトマスク７が矢印Ｃ方向に移動される。これにより、フォトマスク７の基準位置Ｓ１とカラーフィルタ基板６の基準位置Ｓ２とが所定の許容範囲内で合致することとなる。
【００３８】
次に、図８に示すように、フォトマスク７の覗き窓１１を通してカラーフィルタ基板６のアライメント確認マーク２７が撮像手段３によって撮像される。そして、各アライメント確認マーク２７を検出したラインＣＣＤ２２の受光素子のセル番号、及びフォトマスク７の各マスク側アライメントマーク１７を検出したラインＣＣＤ２２の受光素子のセル番号が読み取られ、演算部で各セル番号の平均値が演算される。その平均値は、アライメント調整直後に上記カラーフィルタ基板６の基板側アライメントマーク１６を検出したラインＣＣＤ２２の受光素子のセル番号と比較され、両者が所定の許容範囲内で一致した場合には、アライメントが確実に行なわれたと判断して露光光がフォトマスク７に照射される。これにより、フォトマスク７のマスクパターン１０の像がカラーフィルタ基板６のピクセル１３上に転写される。なお、上記平均値とセル番号とが不一致の場合には、例えばカラーフィルタ基板６が別種類のもの、又はブラックマトリクス１２の形成不良品と判断し、この場合には露光を停止して警報する。
【００３９】
その後は、撮像手段３で撮像された画像データと記憶部に記憶されたカラーフィルタ基板６の基準位置Ｓ２のルックアップテーブル（ＬＵＴ）とが比較され、基準位置Ｓ２が検出される。そして、図９に示すように、上記基準位置Ｓ２を検出したラインＣＣＤ２２の受光素子のセル番号と、フォトマスク７の基準マーク１７ａを検出したラインＣＣＤ２２の受光素子のセル番号とが比較され、両者の距離ＬがＬ０又はＬ０±ｘとなるようにフォトマスク７が矢印Ｂ，Ｃ方向に微動される。また、必要に応じてフォトマスク７は、その中心を軸として回動調整される。これにより、カラーフィルタ基板６が矢印Ａで示す搬送方向と直交する方向に振れながら搬送されてもフォトマスク７はそれに追従して動き、目標とする位置にフォトマスク７のマスクパターン１０の像が精度よく転写されることになる。
【００４０】
この場合、図３に示すように、フォトマスク７の透明基材８の他方の面８ｂにてマスクパターン１０の形成領域に対応した領域１４（図２参照）には、露光光に含まれる紫外線成分の反射防止膜１５が形成されているので、紫外線は該反射防止膜１５で反射が抑制されて効率よくフォトマスク７のマスクパターン１０を通り抜ける。そして、カラーフィルタ基板６上のカラーレジストを効率よく露光する。
【００４１】
一方、図４に示すように、フォトマスク７の透明基材８の他方の面８ｂにて覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７の形成領域に対応した領域１９（図２参照）には、可視光を透過し紫外線を反射する波長選択性膜２０が形成されているので、上記覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７を照射した露光光の紫外線成分は、上記波長選択性膜２０で反射される。したがって、露光光の紫外線成分が覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７を通ってカラーフィルタ基板６を照射することがない。
【００４２】
そのため、覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７がマスクパターン１０に近接して搬送方向に先後して形成されていても、上記覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７の像がカラーフィルタ基板６の露光領域２６に転写されることがない。
【００４３】
一方、可視光は、上記波長選択性膜２０を透過するので上記覗き窓１１を通してカラーフィルタ基板６の基板側アライメントマーク１６、アライメント確認マーク２７及びピクセル１３を観察することができる。したがって、カラーフィルタ基板６を搬送しながらマスクパターン１０と近接した位置で覗き窓１１を通してカラーフィルタ基板６の基板側アライメントマーク１６及びピクセル１３の位置を確認し、フォトマスク７の基準位置Ｓ１とカラーフィルタ基板６の基準位置Ｓ２との位置合わせをすることができ、両者の位置合わせ精度を従来に増して向上することができる。
【００４４】
なお、上記実施形態においては、マスク側アライメントマーク１７が覗き窓１１の隣に並べて形成された場合について説明したが、これに限られず、覗き窓１１を透明基材８の一方の端部８ｃ側から他方の端部８ｄ側まで延びて長く形成し、その内部にマスク側アライメントマーク１７を形成してもよい。この場合、マスク側アライメントマーク１７は、不透明膜で例えば細長状に形成される。
【００４５】
また、上記実施形態においては、カラーフィルタ基板６に基板側アライメントマーク１６及びアライメント確認マーク２７を形成した場合について説明したが、これに限られず、上記基板側アライメントマーク１６及びアライメント確認マーク２７はなくてもよい。この場合、露光領域２６の搬送方向両側方の所定位置に別のアライメントマークを形成し、それに対応してフォトマスク７の両端部にもアライメントマークを形成し、カラーフィルタ基板６を搬送する前に両アライメントマークによってアライメントの粗調整をし、露光実行中は、撮像手段３で覗き窓１１を通してピクセル１３の基準位置Ｓ２を検出して前述の方法により位置合わせを行なってもよい。
【００４６】
さらに、上記実施形態においては、露光光がマスクパターン１０、覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７を照射する場合について述べたが、これに限られず、露光光を絞って覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７には露光光が照射されないようにしてもよい。この場合には、可視光を透過し紫外線を反射する波長選択性膜２０は、覗き窓１１及びマスク側アライメントマーク１７を覆って形成されなくてもよい。
【００４７】
また、以上の説明においては、光学距離補正手段４として所定の屈折率を有する透明な部材をフォトマスク７の覗き窓１１を介して撮像手段３のラインＣＣＤ２２とカラーフィルタ基板６とを結ぶ光路上に配設した場合について述べたが、撮像手段３の集光レンズ２３とは別の集光レンズを撮像手段３のラインＣＣＤ２２とフォトマスク７のマスク側アライメントマーク１７とを結ぶ光路上に配設して集光点Ｆ２を手前にずらし、カラーフィルタ基板６から来る光Ｌ１の集光点Ｆ１の位置に合わせてもよい。
【００４８】
さらに、以上の説明においては、ステージ１が露光動作中に所定方向に移動して上面に載置されたカラーフィルタ基板６を搬送する場合について述べたが、これに限られず、ステージ１は、露光動作中停止されて、カラーフィルタ基板６の露光領域２６全面に所定の露光パターンを一括して露光するものであってもよい。この場合、露光領域２６の周辺に形成された上述とは別の基板側アライメントマークをフォトマスクに形成した別の覗き窓を通して撮像し、フォトマスクに上記基板側アライメントマークに対応して形成されたマスク側アライメントマークを上記基板側アライメントマークに並べて撮像し、両アライメントマークが所定の位置関係となるようにステージとフォトマスクとを相対的に移動して位置合わせをするとよい。
【００４９】
そして、以上の説明においては、基板がカラーフィルタ基板６である場合について述べたが、これに限られず、所定の露光パターンを形成するものであれば半導体基板等如何なるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明による露光装置の実施形態の概略構成を示す正面図である。
【図２】上記露光装置において使用されるフォトマスクの一構成例を示す平面図である。
【図３】図２のＸ−Ｘ線断面図である。
【図４】図２のＹ−Ｙ線断面図である。
【図５】上記露光装置において使用されるカラーフィルタ基板の一構成例を示す平面図である。
【図６】上記露光装置において使用される光学距離補正手段の原理を示す説明図である。
【図７】上記フォトマスクとカラーフィルタ基板との位置合わせを説明する図であり、調整前の状態を示す説明図である。
【図８】上記フォトマスクとカラーフィルタ基板との位置合わせを説明する図であり、調整後の状態を示す説明図である。
【図９】上記フォトマスクとカラーフィルタ基板との位置合わせを説明する図であり、露光実行中の微調整を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５１】
１…ステージ
１ａ…上面
２…マスクステージ
３…撮像手段
４…光学距離補正手段
６…カラーフィルタ基板（基板）
７…フォトマスク
１６…基板側アライメントマーク
１７…マスク側アライメントマーク
２２…ラインＣＣＤ（受光面）
２３…集光レンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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