(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の複屈折特性を測定する装置であって、
光源と、
前記光源の光を偏光する手段と、
変換器により振動させられた棒状の光学素子を備える、前記光の偏光を変調する変調手段と、
前記変調手段により変調された光のビームが入射経路に沿って通過するように配置された試料と、
前記試料を通過した前記ビームを該ビームの第１の部分と第２の部分とに分割するビーム分割要素であって、前記ビームの第１の部分を通しかつ前記ビームの第２の部分を反射経路に沿って反射するビーム分割要素と、
前記ビームの第１の部分が入射する、偏光方向を有する第１の検光子と、
前記ビームの第２の部分が入射する、前記第１の検光子の偏光方向と異なる偏光方向を有する第２の検光子と、
前記ビームの第１の部分および第２の部分の強度を検出し、検出された該強度に基いて前記試料の複屈折特性の計算に適した情報を与える検出手段とを含み、
前記光源の光は、前記入射経路に沿って進む前記光のビームが単色であるように制御され、
前記変換器は前記光学素子の各端部に取り付けられ、かつ前記変換器は該変換器に設けられた支持部材によりハウジングに懸架されて該ハウジングに取り付けられている、複屈折特性測定装置。
【請求項２】
前記ビーム分割要素は前記入射経路と垂直であるように配置された反射面を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記反射面は前記入射経路と前記反射経路との間の角度が５度未満であるように配置されている、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記光源の光の偏光を変調する手段は光弾性変調器を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記ビーム分割要素を取り付け、該ビーム分割要素の残余の複屈折を最小にする変調手段を取り付ける手段を含む、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記試料に指向された前記ビームは断面領域を有し、前記複屈折特性測定装置は前記ビームが前記試料を通って進む前に前記ビームの断面領域を変化させるために前記光源と前記試料との間に配置されたレンズ部材を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記試料は、反射可能に被覆され、前記変調された光のビームが前記試料を通過し、前記入射経路に沿って前記試料を通って後方側へ反射するように配置されている、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記ビーム分割要素は、前記変調手段から前記試料へ通る前記変調された光のビームに隣接して配置された平坦な端部を有する半円形状である、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記ビームの第１の部分および第２の部分のビーム強度の変動の影響を除去する手段を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
試料の複屈折特性を測定する装置であって、
光源と、
前記光源の光を偏光する手段と、
２つの変換器により振動させられた棒状の光学素子を備える、前記光の偏光を変調する変調器と、
前記変調器により変調された光のビームが入射経路に沿って通過するように配置された試料と、
前記試料を通過した前記ビームを該ビームの第１の部分と第２の部分とに分割するビーム分割要素であって、前記ビームの第１の部分を通しかつ前記ビームの第２の部分を反射経路に沿って反射するビーム分割要素と、
前記ビームの第１の部分が入射する、偏光方向を有する第１の検光子と、
前記ビームの第２の部分が入射する、前記第１の検光子の偏光方向と異なる偏光方向を有する第２の検光子と、
前記ビームの第１の部分および第２の部分の強度を検出し、検出された該強度に基いて前記試料の複屈折特性の計算に適した情報を与える検出手段とを含み、
前記変換器は前記光学素子の各端部に取り付けられ、かつ前記変換器は該変換器に設けられた支持部材によりハウジングに懸架されて該ハウジングに取り付けられている、複屈折特性測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】
本発明は、透明な試料の線形複屈折特性の精密な測定方法および装置に関する。
【０００２】
【背景技術】
多くの重要な光学材料は複屈折を示す。複屈折は、異なる直線偏光は異なる速さで材料を通って進むことを意味する。これらの異なる偏光は、偏光された光の２つの成分であって一方が他方に対して直交する成分であると最もしばしば考えられている。
【０００３】
複屈折は多くの光学材料の固有の特性であり、外力によりもたらすこともできる。リターデーション（retardation）またはリターダンス（retardance）は、試料を進む光ビームの経路に沿って行動する複屈折の統合的な結果を示す。入射光ビームが直線偏光されると、偏光された光の２つの直交成分はリターダンスと呼ばれる位相差を有して試料から出る。リターダンスの基本単位は、ナノメーター（ｎｍ）のような長さの単位である。リターダンスを、光の波長（ｎｍ）で割ったリターダンス（ｎｍ）に比例する位相角の単位（波長、ラジアンまたは度）で表すことはしばしば好都合である。試料の「平均」複屈折は、測定されたリターデーションの大きさを試料の厚さで割ることによって計算されることがある。
【０００４】
前記した直交する２つの偏光成分は、試料によって決定されかつ「速い軸」および「遅い軸」と呼ばれる２つの直交軸に平行である。速い軸は、試料を通って偏光された光の速い運動成分と一直線な材料の軸である。それゆえ、所定の光路に沿って試料のリターダンスを完全に記述するには、リターダンスの大きさおよび速い（または遅い）軸の相対的な角度方向を特定することを必要とする。
【０００５】
複屈折特性の精密な測定の必要性は、多くの技術的な応用においてますます重要となっている。たとえば、半導体または他の産業で用いられる高精度な測定で用いられる光学素子または光学要素の残余の線形複屈折（それゆえ付随的にもたらされるリターダンス）を特定しかつ制御することは重要である。このように光学産業は光学構成要素の線形複屈折を測定するための高感度な装置の要求を有している。この要求は、特に低レベルのリターダンスの測定に関して十分には満足されていない。
【０００６】
【発明の開示】
本発明は、光学材料の低レベル複屈折特性を精密に測定する実用的な方法および装置を提供することを目的とする。リターダンスの大きさおよび速い軸の方向は精密に計算される。本装置は、試料領域にわたるリターダンスの変化を検出し図表的に表示するために試料の領域にわたり行う複数の測定を可能にする。
【０００７】
好適な実施例において、本装置は、試料を通過する偏光された光を変調するために光弾性変調器を組み入れる。試料から伝播するビームは２つの部分に分離される。これらの分離されたビーム部分は、別個の経路として異なった偏光方向で通過させられ、検出されおよび処理される。各経路に関係する検出機構は、ビームの２つの部分のそれぞれに対応する光の強度を検出する。この情報は、試料によってもたらされたリターダンスおよび速い軸の方向の精密かつ無曖昧な値を計算するためにアルゴリズムにおいて用いられる。
【０００８】
この発明の一形態として、本装置は、ビームにもたらされたリターダンスへの寄与を最小限にしてビームを２つの部分に分割することを可能にする、ビーム分割要素および検出器の配置を含む。さらに、光学系の残余の複屈折の存在（光弾性変調器または本装置の光学構成要素に静的複屈折として存在するような）は多くの方法で補償される。たとえば、特定の構成要素は、応力によってもたらされる複屈折が光学要素に加えられる可能性を最小限にするように配置または取り付けられている。また、信頼できる校正技術が設けられている。
【０００９】
本装置は、試料の領域にわたり複数の位置のどの位置でも行われるように低レベル複屈折の測定を可能にする。測定された結果は、データ・ファイルに収集され、迅速な分析のために図表的に表示される。
【００１０】
本発明の一実施例において、本装置の光学構成要素は、１つの側が反射可能に被覆された試料の複屈折特性を測定するために配置され、試料が光の伝達が完全でない場合でも複屈折特性の測定を可能にする。
【００１１】
本発明の他の利点および特徴は、以下に述べる詳細な説明および図を研究することにより明らかになる。
【００１２】
【発明を実施するための最良の形態】
図１のブロック図は、本発明によりなされた装置の主要な光学構成要素を示している。構成要素として、６３２．８ナノメーター（ｎｍ）の波長を有する光源２０としてのヘリウム・ネオン・レーザーを含む。光源から発出したビーム「Ｂ」は、約１ミリメートル（ｍｍ）の断面積または「スポット・サイズ」を有する。
【００１３】
光源ビーム「Ｂ」は、基準軸に対して＋４５度の偏光方向に向けられた偏光子２２に入射するように指向される。グラン・トムソン方解石偏光子のような消光性の高い偏光子が好ましい。また、偏光子２２は精密かつ累進的な回転体に取り付けられるのが好ましい。
【００１４】
偏光子２２からの偏光された光は、光弾性変調器２４の光学素子２５に入射する（図１および図５）。好適な実施例において、光弾性変調器（以下、「ＰＥＭ」という）は、オレゴン州ヒルズボロのハインズ・インスツルメンツ（Hinds Instruments）社製のモデルPEM-90 I/FS50である。ＰＥＭが好適であるが、光源の偏光を変調するために他の機構を代わりに用いることができることは注目すべき点である。
【００１５】
ＰＥＭは、０度に向けられた複屈折軸を有し、発振複屈折を好ましくは公称周波数５０ｋＨｚで光学素子２５に加える制御器８４によって制御される。この点について、制御器８４は、光学素子２５が２つのクォーツ変換器２９間に接着剤で結合されている２つのクォーツ変換器２９を駆動する。
【００１６】
ＰＥＭの発振複屈折は、ＰＥＭを通って伝播する偏光された光の直交成分間に時変の位相差を発生させる。どの瞬間においても、位相差はＰＥＭによってもたらされたリターデーションである。リターデーションは、ナノメーターのような長さの単位で測定できる。ＰＥＭによってもたらされたリターデーションの大きさを変化させることができるように、ＰＥＭは調整が可能である。手近な場合において、リターデーションの大きさは、０．３８３波長（２４２．４ｎｍ）であるように選択される。
【００１７】
ＰＥＭから伝播する光のビームは、透明な試料２６を通過する。試料は、直交（ＸおよびＹ）軸に沿って試料を並進運動的意味で運動させるように制御できる試料ステージ２８によってビームの経路に支持されている。この試料ステージ２８は、東京都のＴＨＫ株式会社によって製造されたモデルKR2602A-250のような、多くの従来設計のものとすることができる。明らかなように、試料ステージ２８の運動制御器は、試料の領域にわたるリターダンスおよび方向の複数の測定に到達するためにビームで試料２６を走査できるように駆動される。
【００１８】
試料２６は、この試料を通るビームにリターダンスを発生させる。後述するように、本発明によって提供される処理によって決定される値が、このリターダンスの値である。本装置は、リターダンスの低レベルを決定するのに特に適している。低リターダンス・レベルは、±０．０１ｎｍ未満の感度で決定される。
【００１９】
試料によってもたらされるリターダンスの無曖昧な測定値を得るために、試料を通って出るビーム「Ｂｉ」は、異なる偏光方向を有する２つの部分に分離され、後続する処理のための情報の２つの経路を形成する。
【００２０】
最初に、ビーム「Ｂｉ」を分離するために好適な機構を着目するに、そのビームの経路（以下、入射経路という）にビーム分割ミラー３０が配置されている。ビーム「Ｂｉ」の部分「Ｂ１」は、ビーム分割ミラー３０を完全に通り、検出のための検出器組立体３２に入る。
【００２１】
図３は、ビーム分割ミラー３０を支持するために好適な機構を示している。特に、ミラー３０は、腕３３によって据付けの垂直な柱３６に堅く支持されているハウジング３１の中央の開口に配置されている。柱３６は、光路が全体として垂直となるように本装置の光学構成要素のすべてを支持するために用いられている。
【００２２】
ミラー３０の直径は、ハウジングの開口の直径よりわずかに小さい。開口は、平坦で丸いミラー３０の外周を支持するために、開口の最下端部に突出する環状の肩部を除いて、ねじ山が形成されている。保持環４０は、肩部に対してハウジング３１の代わりにミラー３０を保持するために開口にねじ山が形成されている。
【００２３】
好適な実施例において、応力によってもたらされる複屈折がミラーに実質的に発生しないようにミラー３０を選択し取り付けるために、注意が払われる。この点について、ミラーは、好ましくは、スコット・ガラス型（Schott Glass type）SF-57ガラスで作られる。このガラスは、極端に低い（ゼロに近い）応力光学係数を有する。保持環４０は、ガラスに応力を与えることなくミラーを固定するために注意深く置かれる。選択的に、ミラーを固定するために可撓性の接着剤を用いることができる。止めねじまたは他の応力をもたらす機構はミラーを取り付けることに用いられない。
【００２４】
ビーム分割ミラーが好適であるが、ビーム「Ｂｉ」を２つの部分に分離するために他の機構（フリッパー状ミラー配置のような）を代わりに用いることができる。
【００２５】
ミラー３０を通るビーム「Ｂｉ」の部分は、偏光方向が基準軸から−４５度であるように配置されている小型のグラン・テイラー型（Glan-Taylor type）検光子４２を含む検出器組立体３２（図１）に入る。検光子４２からビーム「Ｂｉ」は検出器４４に入り、その詳細はさらに以下に記載する。
【００２６】
ビーム分割ミラー３０の反射面３５（図３）は、上向きに試料２６の方を向いて面している。ミラーは、入射経路（すなわち、試料２６から伝播するビーム「Ｂｉ」の光路）が反射面３５とほぼ垂直になるように取り付けられている。この方向付けは、好ましくは、ビームの経路を数度より大きく再方向付けすることを要求される光学構成要素によって別な方法でもたらされるリターダンスを実質的に除くためである。
【００２７】
図１は、入射経路に沿って進むビーム「Ｂｉ」とミラー３０から反射されたビーム部分「Ｂｒ」との間に形成された角度「Ａ」を示している。角度「Ａ」は、説明の目的のために非常に拡大して示している。好適な実施例において、この角度は０度より大きく、１０度より小さい。最も好適な実施例においては、角度「Ａ」は５度未満である。
【００２８】
反射された部分であるビーム「Ｂｒ」は、他方の検出器組立体５０に入射する。組立体５０は、柱３６（図３）に取り付けられ、組立体が入射ビーム「Ｂｉ」に隣接され反射ビーム「Ｂｒ」を受けるために配置されるように構成されている。さらに、特に、組立体５０は、腕５４によって柱３６に保持されている基板５２を含む。図４に最もよく示しているように、この基板は、基板に回動可能に取り付けられかつ基板５２の底部に環状の肩部５８を形成するために皿穴形状になっている大きな中央の開口５６を有する内環５７を含む。
【００２９】
検出器の構成要素は、小型に統合され、平坦な前面側６２を有するハウジング６０に包含されている。ハウジングの残りの側面は、基板５２の中央の開口５６の曲率と一致するように曲線状に曲げられている。さらに、ハウジング６０のこの部分は、ハウジングの曲線状の側面が基板５２に適合し基板に不動に固定されるステップ部分６４を含む。
【００３０】
副ハウジング７０は検出器の構成要素のハウジング６０の内部の平坦側６２に対して固定されている。副ハウジング７０は、底部に形成された開口７２を有する全体として円筒形の部材である。開口７２のちょうど上方に、偏光方向がＰＥＭ２４の偏光方向と平行な０度であるように配置されている小型のグラン・テイラー型検光子７４が存在している。
【００３１】
検光子７４の上方に、偏光されたレーザー光の通過を許すが不必要な室内光が検出器７６に到達することを妨げる狭帯域干渉フィルター７７が積み重ねられている。検出器は、好ましくは、フィルター上方に積み重ねられるフォトダイオードである。フォトダイオード検出器７６は好適な検出機構であり、受けたレーザー光の時変強度を表す電流信号を出力として発生させる。この組立体５０に関して、レーザー光は、試料２６を通って伝播するビームの反射された部分「Ｂｒ」であるビーム「Ｂ２」の光である。
【００３２】
フォトダイオード出力は、ハウジング６０内に取り付けられている関係するプリント回路基板７８上に支持されているプレ増幅器に配達される。プレ増幅器７５（図２）は、低インピーダンス強度信号ＶACおよび検出器信号の時間平均を表すＤＣ強度信号ＶDCの形をとって位相感知装置（好ましくはロック・イン増幅器８０）に出力を供給する。
【００３３】
ここで、ビーム「Ｂｉ」の非反射部分「Ｂ１」が指向される検出器組立体３２（図３）は、２つの点を除いて、前記の組立体５０と同じ構造であることは注目すべきである。図３に示すように、検出器組立体３２は、検出器組立体５０の方向に対して相対的に全体として逆の方向で柱３６に取り付けられている。さらに、その組立体３２の検光子４２は、偏光方向が検出器組立体５０の検光子７４の偏光方向に対して斜めであるように配置されている。具体的には、検光子４２は−４５度の偏光方向を有して配置されている。好適な検光子の位置は、前記の内環５７によって検出器組立体を回動させることによって確定される。
【００３４】
検出器組立体３２のフォトダイオードは、受けたレーザー光の時変強度を表す電流信号を出力として発生させる。この組立体３２に関して、レーザー光は、試料２６を通って伝播するビーム「Ｂｉ」の非反射部分であるビーム「Ｂ１」の光である。
【００３５】
検出器組立体３２のフォトダイオード出力は、低インピーダンス強度信号ＶACおよび検出器信号の時間平均を表すＤＣ強度信号ＶDCの形をとってロック・イン増幅器８０（図２）に出力を供給するプレ増幅器７９に配達される。
【００３６】
要約すると、ロック・イン増幅器８０は２つの入力経路が設けられている。すなわち、検出器組立体３２の出力に対応する経路１および検出器組立体５０の出力に対応する経路２である。−４５度検光子４２の配置の理由のために、経路１についてロック・イン増幅器が受けた強度の情報は、試料２６によってもたらされたリターダンスの０度または９０度の成分に関係する。０度検光子７４の配置の結果として、ロック・イン増幅器８０が経路２について受けた強度の情報は、試料によってもたらされたリターダンスの４５度および−４５度の成分に関係する。以下に説明するように、この情報は、試料（または試料の一位置）の速い軸の方向はもちろん試料（または試料の一位置）にもたらされた総体的なリターダンスの大きさの無曖昧な決定をもたらすアルゴリズムに結合される。
【００３７】
ロック・イン増幅器８０は、マサチューセッツ州ウェルズレイ（Wellesley）のイー・ジー・アンド・ジー・インク（EG&G Inc）社製のモデル・ナンバー7265のようなものとすることができる。ロック・イン増幅器は、その参照信号８２として、ＰＥＭ２４の光学素子２５を駆動する変換器２９にＰＥＭ制御器８４によって適用される発振周波数を受け取る。ロック・イン増幅器８０は、ＲＳ２３２シリアル・インターフェースによってデジタル・コンピュータ９０で通信する。
【００３８】
試料の複数の位置を走査する間に行われるような、リターダンスの特別な測定のために、コンピュータ９０は経路１の値を得る。コンピュータは次に経路２の値を得る。検出器に示される経路１および２の強度信号は、以下のように導かれる。
【００３９】
【数１】
0004629869.tif 000002
【００４０】
ここで、ΔはＰＥＭの時変位相リターデーションであり、δは試料のリターダンスの大きさであり、ρは試料のリターダンスの速い軸の方位角である。導出において用いられる線形複屈折標本（δ、ρ）のためのミュラー行列は以下のようになる。
【００４１】
【数２】
0004629869.tif 000003
【００４２】
式（１）において、ｓｉｎΔ（Δ＝Δ0ｓｉｎωｔ、ここで、ωはＰＥＭの変調周波数、Δ0はＰＥＭの最大ピーク・リターダンスである）は、第１種のベッセル関数で展開される。すなわち、以下のようになる。
【００４３】
【数３】
0004629869.tif 000004
【００４４】
ここで、ｋは０または正の整数であり、Ｊ2k+1は第（２ｋ＋１）次のベッセル関数である。同様に、ｃｏｓΔは偶数高調波のベッセル関数で展開することができる。すなわち、以下のようになる。
【００４５】
【数４】
0004629869.tif 000005
【００４６】
ここで、Ｊ0は、０次のベッセル関数であり、Ｊ2kは第（２ｋ）次のベッセル関数である。
【００４７】
式（１）ないし式（３）からわかるように、ＰＥＭの第１高調波での信号を用いてリターダンスの大きさおよび角度方向を決定することは好ましい。ＰＥＭの第２高調波で線形複屈折を測定するための有用な信号は、ｓｉｎδより非常に小さいｓｉｎ2（δ／２）によって修正される。検出器に示される１Ｆ電子信号は式（４）で表現される。すなわち、以下のようになる。
【００４８】
【数５】
0004629869.tif 000006
【００４９】
前記のように、１Ｆ信号は、ＰＥＭの第１高調波で参照されるロック・イン増幅器８０を用いて決定される。ロック・イン増幅器は、１Ｆとは異なるすべての高調波からの寄与を遮断する。２つの経路のためのロック・イン増幅器８０からの出力は、以下のようになる。
【００５０】
【数６】
0004629869.tif 000007
【００５１】
低レベルの線形複屈折のためのｓｉｎδ≒δの近似を用いる。大きさの代わりに、ロック・イン増幅器が信号の二乗平均を測定するという事実から√２が結果として生じる。
【００５２】
ＰＥＭの第１高調波とは異なる周波数で発現したすべての項は式（５）を得ることにおいて無視される。１ＦのＶAC信号を得るための式（５）の妥当性は、δが小さいときｓｉｎ2（δ／２）≒０であるという近似からさらに保証される。このことは、たとえば２０ｎｍより小さい低レベル・リターダンスに適用される。
【００５３】
光源の強度変動または吸収、反射損失もしくは拡散による伝達における変化の影響を除去するために、１ＦのＶAC信号のＶDC信号に対する比が用いられる。（選択的に、ＤＣ信号を単一に動的正規化するような同様の方法を用いることができる。）式（１）におけるｃｏｓΔ項の除外は、高品質なロック・イン増幅器を用いた１ＦのＶAC信号の決定に対して最小限の影響を有するものであるが、経路１のＶDC信号に大いに影響を及ぼす可能性がある。式（１）における項ｃｏｓ2（δ／２）ｃｏｓΔは、小文字δに対してｃｏｓΔにほぼ等しい。式（３）からわかるように、ｃｏｓΔは、「ＤＣ」項であるＪ0（Δ0）に依存する。結果として、このＤＣ項は、式（７）において補正される。
【００５４】
【数７】
0004629869.tif 000008
【００５５】
ここで、ＲchlとＲch2とは、２つの経路から実験的に決定される量である。
【００５６】
経路１におけるｃｏｓΔ項によって生じた「ＤＣ」項を補正するために、Ｊ0（Δ0）＝０（Δ0＝２．４０５ラジアンまたは０．３８３波長のとき）であるように、ＰＥＭリターデーションを適切に設定する。このＰＥＭの設定で、１Ｆ信号を生じさせるためのＰＥＭの効率はその最大の約９０％である。
【００５７】
最終的に、線形複屈折の大きさおよび角度方向は、以下のように、式（８）に表される。
【００５８】
【数８】
0004629869.tif 000009
【００５９】
式（８）は、コンピュータ９０で作動するプログラムにおいて機械語に翻訳され、試料の選択された点でのリターダンスの大きさおよび角度方向を決定することに用いられる。
【００６０】
式（８）は、小さな線形複屈折のために具体的に展開される。式（８）を導出する際に用いられたｓｉｎδ≒δの近似は、波長が６３２．８ｎｍであるときδ＝２０ｎｍに対して〜１％の誤差を有する。いかなる大きなリターデーションに対して、ｓｉｎδは、δの代わりに用いられる。
【００６１】
前記したように、リターダンスの最も良い測定結果は、本装置の光学構成要素に存在する残余の複屈折を最小限にするとき達成される。この最後に、本装置は、ＰＥＭ２４（図５）を用いる。ハウジング２７（図５の破線で示されている）内でＰＥＭの光学素子２５を支持することに帰因するような残余の複屈折を除去するために特に構成されている。棒形状の光学素子は、各端部で変換器２９に結合されている。各変換器２９は支持部材２３によってＰＥＭのハウジング２７に取り付けられており、光学素子は、ＰＥＭハウジング２７に発振光学素子２５を直接的に取り付けることに帰因するいかなる残余の複屈折から自由であるように実質的に懸架されている。
【００６２】
装置の構成要素の残余の複屈折を除去するための前記のような試みにかかわらず、残余の複屈折の少なくとも数レベルの存在は避けられない。本装置において、高精度な結果は、装置に存在する残余の複屈折を説明するために式（８）の結果を補正することによって得られ、残余は装置のオフセットとして参照することができる。実際において、光弾性変調器の光学素子およびビーム分割ミラー基板に存在する残余の複屈折は、結果としての測定に誤差をもたらす可能性がある。そのような誤差は、試料が置かれていない状態で装置を最初に作動させることによって測定できる。誤差の補正は、各経路に対する誤差の値を減じることによって行われる。
【００６３】
装置のオフセットは、試料が置かれていない状態で測定を行うことによって得られる。両経路１および２からの結果はそれぞれ０度および４５度での装置のオフセットである。
【００６４】
【数９】
0004629869.tif 000010
【００６５】
ここで、上付きの「0」は試料がないことを示す。項ρ＝０を生む式は経路１に対応する（−４５度検光子４２）。ρ＝π／４を生む式は経路２に対応する（０度検光子７４）。装置のオフセットは試料が測定されたとき両経路のために補正される。経路１および２のための装置のオフセットは、固定された機器構成で一定である（測定誤差の範囲内で）。装置の構成要素または周囲の圧力もしくは温度にいかなる変化もなければ、装置は校正された状態を持続する。
【００６６】
原理において、この手順は装置の自己校正の方法を提供する。しかしながら、本装置の試料測定を、他の方法を用いて得られた測定と比較することは賢明である。
【００６７】
そのような校正試料は、複合ゼロ次波長板によって提供される。複合波長板は、相互間で非常に小さなリターダンスの相違（たとえば０．０３波長未満）を有するように選択された２つの複数次波長板（例えばクォーツ）または２つのゼロ次波長板（例えばマイカ）を含む。それらは、校正で用いるための必要とされる低レベル・リターダンスの複合ゼロ次波長板を作成するために一方のリターダンスが他方から減じられるように、直角な軸を有して結合される。そのような構成は、リターダンスの低温度係数を有して表面にわたり均一のリターダンスを提供する。
【００６８】
本装置の構成要素が正しく設定されたとき、試料によってもたらされる実測のリターダンスの大きさは、試料の角度方向と独立である。この角度独立性は次の場合には失われる。すなわち、（１）偏光子２２および検光子４２、７４の偏光方向が精密に確定されていない場合、および、（２）ＰＥＭの最大ピーク・リターダンスが精密に校正されていない場合である。以下に続くことは、今述べた、可能性のある「角度依存性」の誤差の２つの原因を除去するための正しい方法の記載である。
【００６９】
偏光子２２および検光子４２、７４の偏光方向の精密な確定の点について、偏光子２２に適用される補正方法は、以下のステップを含む。
【００７０】
１．ＰＥＭ作動によって、偏光子２２および経路１検光子／検出器組立体３２をそれぞれ４５度および−４５度にほぼ方向付ける。
【００７１】
２．経路１から２Ｆ（１００ｋＨｚ）ロック・イン増幅器信号を監視する間、偏光子２２を適切な増量で回転させる。２Ｆ信号が「０」に達したとき（実際には、ロック・イン増幅器の可能な最も高い感度での雑音レベル）、偏光子の回転体の角度を精密に読む。
【００７２】
３．偏光子２２を、偏光子の正しい位置である精密に４５度の位置へ回転させる。
【００７３】
４．偏光子２２の位置がいったん正しく確定されたら、ＰＥＭを停止させ、経路１からのロック・イン増幅器のＶDC信号を監視しながら、検光子／検出器組立体３２を回転させる。最小のＶDC信号に達したとき、検光子／検出器組立体３２の位置は正しく設定される。
【００７４】
５．偏光子２２の位置がいったん正しく確定されたら、経路２からのロック・イン増幅器の２Ｆ（１００ｋＨｚ）信号を監視しながら、検光子／検出器組立体５０を回転させる。この２Ｆ信号が「０」（実際には、ロック・イン増幅器の可能な最も高い感度での雑音レベル）に達したとき、検光子／検出器組立体５０の位置は正しく設定される。
【００７５】
ＰＥＭの校正の点について、以下の方法が用いられる。
【００７６】
１．偏光子２２が＋４５度であるとき、経路１検光子／検出器組立体３２を−４５度に設定する。
【００７７】
２．ＰＥＭリターダンスがＰＥＭの所定のピーク・リターダンスの例えば±１０％の付近で変化する間、精密な電圧計でＶDC信号を記録する。
【００７８】
３．経路１検光子／検出器組立体３２を＋４５度に設定する。
【００７９】
４．ＰＥＭリターダンスが所定の付近で変化する間、精密な電圧計でＶDC信号を記録する。
【００８０】
５．所定のピーク・リターダンスの周りのＰＥＭリターデーションに対して２つのＶDC曲線をプロットする。２つの曲線の交点はＪ0＝０のリターダンスである。
【００８１】
６．ステップ５の交点値でＰＥＭリターダンスの値を設定する。
【００８２】
前記のように、試料ステージ２８の運動制御器は試料２６を直交軸（Ｘ、Ｙ）に関して増加的に移動させるための従来からの方法で制御され、それによって、試料の領域にわたって複数の測定を容易にする。これらの測定の空間分解能は、要求される分解能が試料に当たるビームの断面より細くならないように設けられ、所望に（例えば３．０ｍｍ）確定されることができる。この点に関して、もし必要ならば、光源２０と偏光子２２との間の図１に示す線９６として示されているような適切な焦点距離を有する凸レンズの精密な配置によって、レーザー・ビームの断面領域または「スポット・サイズ」は最小となる。例えば、レンズは偏光子２２の上部に可動に取り付けられている。レンズ９６は、例えば０．１ｍｍ（および対応する空間分解能）の非常に小さなスポット・サイズが特別な試料のために設計された例において配される。
【００８３】
数例において、レーザー源によって与えられるスポット・サイズを拡大することが望ましい。この最後に、通常のビーム拡大器によって与えられるようなレンズまたはレンズ装置は、レーザー２０と偏光子２２との間の装置に導入されることができる。
【００８４】
測定されたリターダンスの値は多くの方法で扱われる。好適な実施例において、試料の複数の走査から収集されたデータは、データ・ファイルに蓄積され、コンピュータ・ディスプレイ９２上にプロットとして表示される。プロット１００のようなものは図６に示されている。プロットにおける格子状セルの各セル１０２は、試料の個々の位置を示す。リターダンスの大きさは、カラーコーディングによって描写される。ここで、セルの異なる濃淡は、異なる色を示す。図６において、明瞭のために数個の異なる色とセルのみを表示している。しかしながら、多くのセルが表示可能であることがわかる。ディスプレイ上の凡例１０４は、色を、セル１０２に関係する特定の測定が起こるリターダンスの値の所定の範囲に関係づける（色の濃淡は凡例から省略した）。各セル１０２に配置された線１０６は、各セルの中央を越えて伸び、各試料位置で試料の速い軸の方向の最大物理的範囲（−９０度から＋９０度まで）の無曖昧な視覚的表示を表している。このように、速い軸の方向およびリターダンスの大きさの測定は各位置のために同時的かつ図表的に表示される。完全で図表的な表示を用いて、無経験な操作の使用者は、表示されたデータを分析することにおける誤差を作る可能性が少ない。
【００８５】
好適な実施例において、前記のリターダンスの測定は、セルの情報が計算されるとすぐに各セルのために表示される。この即時の表示方法の結果として、操作者は、試料のすべてのセルのリターダンスの値が計算されるまで待つ必要を有することなく、各セルのリターダンスの値を観察する。このことは、例えばもし試料のいかなる部分の複屈折の値が確定された閾値を越えたとき操作者が試料を拒絶する義務があるような例において、情報量を最大にするための利点である。
【００８６】
また、図６にはリターデーションの大きさの共通測定範囲に追従する等高線の例として位置された等高線が示されている。簡単のために、複数の等高線の１つのみが図６の低解像度プロットのために示されている。
【００８７】
測定されたデータを表示するためのいかなる多くの変更は満足させることが理解される。また、図６から、試料がどのように走査されるかのパラメーター（走査境界、格子空間試料の厚み、その他）を設定する手段と結果として得られたデータとが都合よく対話処理で表示されることは明らかである。
【００８８】
本発明の装置によって提供されたリターダンスの大きさおよび方向の情報を図表的に表示する他の方法は、三次元等高線図の対応する領域によって試料の複数の位置のためのリターダンスの大きさを示すことである。関係する方向は、三次元等高線図の平面投影画の対応するセルにおける線または色として同時に示される。
【００８９】
図７は、１つの側が反射可能に被覆されている試料１２４のリターダンスの大きさおよび方向を測定するための配置を示している。異なる試料１２４と光学構成要素の関係する位置とを除いて、図７の装置の構成要素は、図１の実施例のそれと一致し、以下に記載するようにいくつかの例外を有して同じ参照番号を付す。
【００９０】
試料１２４（図７）は、クロムの非常に薄い層のような反射面が１つの側に被覆されている。試料は、底部に被覆面を有する試料ステージに置かれている。ビーム「Ｂ」は試料１２４を通るように指向されている。ビームが被覆面から、この実施例においては図示されているように試料ステージ２８の上方に支持されているビーム分割ミラー３０および検出器組立体３２の方へ反射するように、試料ステージはわずかに傾斜させられている（または、選択的に、試料は平面ステージに取り付けられた傾斜保持部材に固定されている）。好ましくは、これらの構成要素は、試料１２４から反射されたビーム「Ｂｉ」がＰＥＭ２４から伝播するビーム「Ｂ」からわずかに遠ざかってのみの角度「Ｒ」で曲げられている（例えば２度から５度）。試料によって反射されたビーム（ミラー３０によって反射されたビーム「Ｂｒ」から区別されるように）は、処理する観点から、図１の実施例のミラー３０に衝突するビーム「Ｂｉ」に対応する。このように、２つのビーム部分「Ｂ１」および「Ｂ２」の処理は、両実施例にとって同じである。もちろん、試料１２４の測定されたリターダンスの大きさは、試料を通るビームの２つの経路を必ず含む。それゆえ、測定された値は２つに分割される。
【００９１】
前記のように、試料１２４から反射されたビーム「Ｂｉ」がＰＥＭ２４から伝播するビーム「Ｂ」からわずかに遠ざかってのみの角度「Ｒ」で曲げられる（例えば２度から５度）ように、ビーム分割ミラー３０をビーム「Ｂ」に実際に接近させて配置することは望ましい。この終わりに、ハウジング３１は、ミラーの平坦端部がビーム「Ｂ」に隣接して配置されるように半円形状のミラーを支持するために変更することができる。それゆえ、ビーム「Ｂｉ」は、前記端部このゆえ所望のビーム「Ｂ」に非常に近いミラーの位置に反射されることができる。
【００９２】
本発明を好適な実施例に関して述べたが、前記の教示や精神から逸脱することなく変更を行えることは、当該技術分野における通常の知識を有する者は理解することができる。例えば、データがコンピュータに供給される速度を増加させるために第２のロック・イン増幅器を用いる（各経路ごとに）ことができる。
【００９３】
また、通常の知識を有する者は、単一の検出器を用いた連続的な測定は、異なる２つの偏光方向の強度信号を測定し、これにより連続処理のための情報の２つの経路を形成するために用いられることが理解できる。例えば、単一の検出器組立体を用いることができる。このことは、第２の検出器組立体およびビーム分割ミラーを用いることなく行える。しかしながら、そのような設定は、検光子を回転させる、または、無曖昧なリターダンスの測定を保証し、速い軸の方向を確かめるために異なる方向の２つの偏光子の間で切り替えをする必要がある。選択的に、試料と検光子とは４５度回転させられる。
【００９４】
本発明の好適な実施例は、安定した純粋な単色の光源のためにヘリウム・ネオン・レーザーを用いる。ヘリウム・ネオン・レーザーは、６３２．８ｎｍの波長を有するビームを発生する。いくつかの事例においては、他の周波数を有する光源を用いたリターダンスの大きさの測定が望ましい。
【００９５】
本発明の他の点として、ヘリウム・ネオン・レーザーによって測定されるような試料のリターダンスの大きさの測定を、他の光源波長で試料に発生するリターダンスの値に変換するために、補正係数を展開および適用することができる。この点に関して、図８は、溶融石英型の光学素子を用いるＰＥＭのために異なる光源波長に対してプロットされた所定のピーク・リターデーション（半波のような）を発生させることを必要とする発振振幅を示している実験結果をグラフにしたものである。
【００９６】
図９は、１つの波長（ヘリウム・ネオン・レーザーの６３２．８ｎｍ波長のような）で測定された試料のリターダンスの大きさの値に適用される補正係数を示す曲線を発生させるために、１５７ｎｍのＵＶ波長のような他の波長で試料に発生するリターダンスの大きさに到達する（直接にまたは外挿法によって）ために、図８のプロットを部分的に用いて展開させられている。図９のデータは、同様の溶融石英材料を用いるための溶融石英の光学素子を有するＰＥＭを含む実験から生成された。
【００９７】
溶融石英のための前記の波長補正の方法は他の材料にも適用できる。例えば、図１０は、フッ化カルシウムの光学素子を用いるＰＥＭのための異なる光源波長に対してプロットされた所定のピーク・リターデーション（半波長のような）をＰＥＭによって発生させることを要求された発振振幅を示している測定結果を図表に作る。
【００９８】
図１１は、１つの波長（ヘリウム・ネオン・レーザーの６３３ｎｍの波長のような）で測定されたリターダンスの大きさに適用される補正係数を表す曲線を描き、１５７ｎｍのＵＶ波長のような他の波長で試料に発生するリターダンスの大きさに到達する（直接にまたは外挿法によって）ために、図１０のプロットを用いて示されている。図１１のデータは、同様のフッ化カルシウム材料の試料を用いるためのフッ化カルシウム型の光学素子を有するＰＥＭを含む実験から生成された。
【００９９】
他の波長でのリターデーションの大きさと関係するように光源の波長で測定されたリターデーションの大きさを補正するための他の方法として、係数が波長の関数として知られている試験済の試料材料の応力光学係数を参照できる。２つの異なる波長で測定されたリターダンスの大きさは、材料の応力光学係数に直接に比例する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  光学構成要素の好適な配置を示す本発明の装置の好適な実施例のブロック図。
【図２】  本発明の処理構成要素のブロック図。
【図３】  本装置の検出およびビーム分割の構成要素の斜視図。
【図４】  本装置の検出器組立体の一例の断面図。
【図５】  本発明の装置に統合された光弾性変調器の主要な構成要素の斜視図。
【図６】  本発明の装置によって与えられた図表的な表示を描写する図。
【図７】  本発明の選択的な実施例のブロック図。
【図８】  好適な型の光学素子を用いる偏光変調器のための、所定のリターダンスに関して多くの光源波長に対する偏光変調器の発振振幅をプロットしたグラフ。
【図９】  １つの光源波長で測定された光学材料試料のリターダンス値を他の光源波長で前記試料に発生するリターダンス値に変換するのに適用される補正係数を示す、図８に示されたデータに部分的に基づいたグラフ。
【図１０】  選択可能な型の光学素子を用いる偏光変調器のための、多くの光源波長に対する偏光変調器の発振振幅を所定のリターダンスに対してプロットしたグラフ。
【図１１】  １つの光源波長で測定された光学材料試料のリターダンス値を他の光源波長で前記試料に発生するリターダンス値に変換するのに適用される補正係数を示している、図９と同様の他のグラフ。
【符号の説明】
２２  偏光子
２４  光弾性変調器
２５  光学素子
２６  試料
２８  試料ステージ
２９  クォーツ変換器
３０  ビーム分割ミラー
３１、６０  ハウジング
３２、５０  検出器組立体
３６  垂直柱
４０  保持環
４２、７４  検光子
３５  反射面
５２  基板
５８  肩部
５６、７２  開口
５７  内環
７０  副ハウジング
７７  狭帯域干渉フィルター
７６  検出器
７８  プリント回路基板
７５、７９  プレ増幅器
８０  ロック・イン増幅器
８４  制御器
８２  参照信号
９０  コンピュータ
９６  レンズ
９２  ディスプレイ
１００  プロット
１０２  セル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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