(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア部とそれを同心円状に取り囲むクラッド部を有する光ファイバを複数本所定の間隔をおいて固定した第１の基板と、前記光ファイバを複数本所定の間隔をおいて固定した第２の基板とを有し、
前記第１の基板と第２の基板は、前記光ファイバのコア部とそのコア部の外周の一部に所定厚さのクラッド部を残して、前記コア部と外周のクラッド部が基板の反対側へ突出するようにクラッド部の一部を削除した形状をしており、
前記第１の基板側における光ファイバのコア部とその隣の光ファイバのコア部との間に、前記第２の基板側における光ファイバのコア部が挿入されて、前記第１の基板側における光ファイバのコア部と第２の基板側における光ファイバのコア部が略一直線上に配置されるように、前記第１の基板と第２の基板を重ね合わせて接合したことを特徴とする多ビーム光源。
【請求項２】
コア部とそれを同心円状に取り囲むクラッド部を有する光ファイバを１本固定した第１の基板と、前記光ファイバを１本固定した第２の基板とを有し、
前記第１の基板と第２の基板は、前記光ファイバのコア部とそのコア部の外周の一部に所定厚さのクラッド部を残して、前記コア部と外周のクラッド部が基板の反対側へ突出するようにクラッド部の一部を削除した形状をしており、
前記第１の基板側における光ファイバのコア部と前記第２の基板側における光ファイバのコア部を近接して並べて、第１の基板と第２の基板とを接合したことを特徴とする多ビーム光源。
【請求項３】
請求項１または２記載の多ビーム光源において、前記基板上にそれぞれＶ溝が形成され、各Ｖ溝にそれぞれ前記光ファイバが１本ずつ挿入固定されていることを特徴とする多ビーム光源。
【請求項４】
請求項１または２記載の多ビーム光源において、前記第１の基板の光ファイバのコア部と第２の基板の光ファイバのコア部を接近配置した状態で、前記第１の基板側の光ファイバと第２の基板側の光ファイバとの対向部に隙間を形成して、その隙間に接合材を充填して、第１の基板と第２の基板を一体に接合したことを特徴とする多ビーム光源。
【請求項５】
請求項１または２記載の多ビーム光源において、前記第１の基板側の光ファイバのコア部と第２の基板の光ファイバのコア部を接近配置した状態で、前記第１の基板と第２の基板の外周部に隙間を形成して、その隙間に接合材を充填して第１の基板と第２の基板を一体に接合したことを特徴とする多ビーム光源。
【請求項６】
請求項１または２記載の多ビーム光源において、前記クラッド部の一部を削除して残ったクラッド部の残存層の最も薄い個所の厚さが光源波長の４倍以上であることを特徴とする多ビーム光源。
【請求項７】
コア部とそれを同心円状に取り囲むクラッド部を有し、そのクラッド部が露出した光ファイバを１本ずつ、基板上に所定の間隔をおいて複数本形成されたＶ溝に挿入する挿入工程と、
前記基板と光ファイバの間に接合材を充填して光ファイバを基板上に固定する固定工程と、
前記基板の反対側から、前記光ファイバのクラッド部と表面側の接合材層を、光ファイバのコア部とそのコア部の外周の一部に所定厚さのクラッド部を残して、コア部と外周のクラッド部が基板の反対側へ突出するように削除する削除工程と、
この削除工程によって得られた第１の基板と第２の基板を、第１の基板側における光ファイバのコア部とその隣の光ファイバのコア部との間に、前記第２の基板側における光ファイバのコア部が挿入されて、第１の基板側のコア部と第２の基板側のコア部が略一直線上に配置するように位置決めして、第１の基板と第２の基板を接合材で一体に接合する接合工程とを
備えたことを特徴とする多ビーム光源の製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の多ビーム光源の製造方法において、前記挿入工程と固定工程の間に、Ｖ溝に挿入された光ファイバを周方向に回転して当該光ファイバのコア部の位置を調整する調整工程を設けたことを特徴とする多ビーム光源の製造方法。
【請求項９】
請求項７記載の多ビーム光源の製造方法において、前記削除工程が、
前記基板の反対側から、前記光ファイバの表面側のクラッド部と表面側の接合材層を一様に削除するフラット削除工程と、
光ファイバのコア部と隣のコア部との間に有るクラッド部を一部削除して、コア部とその外周に残したクラッド部が基板の反対側へ突出するためのピッチ送り削除工程を有していることを特徴とする多ビーム光源の製造方法。
【請求項１０】
多ビーム光源と、その多ビーム光源から出射された各光束を略平行光束とする結合光学素子と、その結合光学素子からの光束を被走査面上に偏向走査する光偏向素子と、前記結合光学素子からの光束を前記被走査面上に結像する結像光学素子とを備えた光走査装置において、
前記多ビーム光源が請求項１ないし６のいずれか１項記載の多ビーム光源であることを特徴とする光走査装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の光走査装置において、前記多ビーム光源と前記被走査面が光学的に略共役関係に配置されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項１２】
感光体と、その感光体を帯電する帯電装置と、その帯電装置によって帯電された感光体に光走査により静電潜像を形成する光走査装置と、前記静電潜像をトナーによって現像する現像装置と、その現像装置によって形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置と、記録媒体上に転写されたトナー像を定着する定着装置とを備えた画像形成装置において、
前記光走査装置が請求項１０記載の光走査装置であることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多ビームを用いた光走査装置等に好適な多ビーム光源およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光走査装置用の光源として、複数本配列した光ファイバを用いる技術が開示されており（特開２００４−２５８５６６号公報、特開２００１−６６４３８号公報参照）、高精度な光走査を行うためにはコア部の配列精度が重要な課題である。
【０００３】
光走査装置用の光源として複数本配列した光ファイバを用いた場合、一般にクラッド部の径に比べてコア部の径が相当小さいことが問題となる。図１３および図１４に開口径とビームスポット径の関係を示す。
【０００４】
これらの図において１１はコア部、１２はクラッド部、９１は光源部、９２は被走査面、９３はレンズ系、９４および９５はビームスポット、９６は開口部材である。光源部９１と被走査面９２は、一般に後述の理由のためレンズ９３により光学的共役関係に配置されている。
【０００５】
光源部９１において各クラッド部１２を隣接配置した場合のクラッド部１２の径とコア部１１の径の比は、被走査面９２における走査線間隔とビームスポット９４および９５の径の比と同一となる。従って、クラッド部１２の径に比べてコア部１１の径が相当小さいと、走査線間隔に比べてビームスポット９４の径が相当小さくなり、図１３に示すように隣接した走査線が形成できない。
【０００６】
これを改善するため、図１４に示すようにコア部１１から出射されたビームの径を開口部材９６により小さく絞って、等価的にコア部１１の径を大きくする方法が採られている。しかし、開口部材９６によりビームの一部が遮蔽されるため、光量を損失するという問題がある。
【０００７】
この問題を解決するため、クラッド部の外側円周部をエッチング等により所定の厚み分除去して、クラッド部の外径を小さくする方法が提案されている（特開２０００−１４７２９６号公報参照）。これにより各光ファイバのコア部の間隔を小さくすることが可能である。
【０００８】
しかし、エッチングでは除去する厚みにバラツキが生じ易いという問題がある。また、エッチングにより細径化されたクラッド部を基板の溝部に接着などの方法で個々に固定する際、作業性が悪いという問題もある。
【０００９】
光導波路部品の小型化のため、２枚の基板に夫々光ファイバを固定して、それらを重ね合せて光ファイバを２段配列する提案もある（特開２００１−８３３６１号公報、特開２００４−１２２４００号公報参照）。この方法により単一の基板に光ファイバを配置する場合に比べて、光導波路部品が小型化できる。
【００１０】
しかし、光導波路部品を光走査装置用光源として用いる場合、光源の配列が２段であると、光源から出射される光束がポリゴンミラーなどの光偏向手段に入射する時に位置がずれるという問題がある。この問題を解決するために、レンズ等を用いて位置ずれを補正する方法があるが（特開昭５６−６９６１１号公報参照）、構成が複雑になり、光路長が長くなるなどの課題がある。
【００１１】
また、光源部と被走査面が光学的共役関係に配置されていない場合は、被走査面におけるビームスポット径の走査線間隔に対する比は、光源部におけるコア部の径のクラッド部の径に対する比より大きくなるため、隣接した走査線を形成できる条件は存在する。しかしこれはビームが被走査面上で焦点を結んでいない状態を意味しており、ビーム径が空間的に不安定となるため、現実的でない。
【特許文献１】特開２００４−２５８５６６号公報
【特許文献２】特開２００１−６６４３８号公報
【特許文献３】特開２０００−１４７２９６号公報
【特許文献４】特開２００１−８３３６１号公報
【特許文献５】特開２００４−１２２４００号公報
【特許文献６】特開昭５６−６９６１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の主な課題は、コア部が２段配列とならずに、コア部の間隔を小さくできる多ビーム光源およびその製造方法ならびにその多ビーム光源を用いた光走査装置、画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の第1の手段は、コア部とそれを同心円状に取り囲むクラッド部を有する光ファイバを複数本所定の間隔をおいて固定した第１の基板と、前記光ファイバを複数本所定の間隔をおいて固定した第２の基板とを有し、
前記第１の基板と第２の基板は、前記光ファイバのコア部とそのコア部の外周の一部に所定厚さのクラッド部を残して、前記コア部と外周のクラッド部が基板の反対側へ突出するようにクラッド部の一部を削除した形状をしており、
前記第１の基板側における光ファイバのコア部とその隣の光ファイバのコア部との間に、前記第２の基板側における光ファイバのコア部が挿入されて、前記第１の基板側における光ファイバのコア部と第２の基板側における光ファイバのコア部が略一直線上に配置されるように、前記第１の基板と第２の基板を重ね合わせて接合したことを特徴とするものである。
【００１５】
本発明の第２の手段は、コア部とそれを同心円状に取り囲むクラッド部を有する光ファイバを１本固定した第１の基板と、前記光ファイバを１本固定した第２の基板とを有し、
前記第１の基板と第２の基板は、前記光ファイバのコア部とそのコア部の外周の一部に所定厚さのクラッド部を残して、前記コア部と外周のクラッド部が基板の反対側へ突出するようにクラッド部の一部を削除した形状をしており、
前記第１の基板側における光ファイバのコア部と前記第２の基板側における光ファイバのコア部を近接して並べて、第１の基板と第２の基板とを接合したことを特徴とするものである。
【００１６】
本発明の第３の手段は前記第1または第２の手段において、前記基板上にそれぞれＶ溝が形成され、各Ｖ溝にそれぞれ前記光ファイバが１本ずつ挿入固定されていることを特徴とするものである。
【００１７】
本発明の第４の手段は前記第1または第２の手段において、前記第１の基板の光ファイバのコア部と第２の基板の光ファイバのコア部を接近配置した状態で、前記第１の基板側の光ファイバと第２の基板側の光ファイバとの対向部に隙間を形成して、その隙間に接合材を充填して、第１の基板と第２の基板を一体に接合したことを特徴とするものである。
【００１８】
本発明の第５の手段は前記第1または第２の手段において、前記第１の基板側の光ファイバのコア部と第２の基板の光ファイバのコア部を接近配置した状態で、前記第１の基板と第２の基板の外周部に隙間を形成して、その隙間に接合材を充填して第１の基板と第２の基板を一体に接合したことを特徴とするものである。
【００１９】
本発明の第６の手段は前記第1または第２の手段において、前記クラッド部の一部を削除して残ったクラッド部の残存層の最も薄い個所の厚さが光源波長の４倍以上であることを特徴とするものである。
【００２０】
本発明の第７の手段は、コア部とそれを同心円状に取り囲むクラッド部を有し、そのクラッド部が露出した光ファイバを１本ずつ、基板上に所定の間隔をおいて複数本形成されたＶ溝に挿入する挿入工程と、
前記基板と光ファイバの間に接合材を充填して光ファイバを基板上に固定する固定工程と、
前記基板の反対側から、前記光ファイバのクラッド部と表面側の接合材層を、光ファイバのコア部とそのコア部の外周の一部に所定厚さのクラッド部を残して、コア部と外周のクラッド部が基板の反対側へ突出するように削除する削除工程と、
この削除工程によって得られた第１の基板と第２の基板を、第１の基板側における光ファイバのコア部とその隣の光ファイバのコア部との間に、前記第２の基板側における光ファイバのコア部が挿入されて、第１の基板側のコア部と第２の基板側のコア部が略一直線上に配置するように位置決めして、第１の基板と第２の基板を接合材で一体に接合する接合工程とを備えたことを特徴とするものである。
【００２１】
本発明の第８の手段は前記第７の手段において、前記挿入工程と固定工程の間に、Ｖ溝に挿入された光ファイバを周方向に回転して当該光ファイバのコア部の位置を調整する調整工程を設けたことを特徴とするものである。
【００２２】
本発明の第９の手段は前記第７の手段において、前記削除工程が、
前記基板の反対側から、前記光ファイバの表面側のクラッド部と表面側の接合材層を一様に削除するフラット削除工程と、
光ファイバのコア部と隣のコア部との間に有るクラッド部を一部削除して、コア部とその外周に残したクラッド部が基板の反対側へ突出するためのピッチ送り削除工程を有していることを特徴とするものである。
【００２３】
本発明の第１０の手段は、多ビーム光源と、その多ビーム光源から出射された各光束を略平行光束とする結合光学素子と、その結合光学素子からの光束を被走査面上に偏向走査する光偏向素子と、前記結合光学素子からの光束を前記被走査面上に結像する結像光学素子とを備えた光走査装置において、前記多ビーム光源が前記第１ないし第６の手段のいずれかの多ビーム光源であることを特徴とするものである。
【００２４】
本発明の第１１の手段は前記第１０の手段において、前記多ビーム光源と前記被走査面が光学的に略共役関係に配置されていることを特徴とするものである。
【００２５】
本発明の第１２の手段は、感光体と、その感光体を帯電する帯電装置と、その帯電装置によって帯電された感光体に光走査により静電潜像を形成する光走査装置と、前記静電潜像をトナーによって現像する現像装置と、その現像装置によって形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置と、記録媒体上に転写されたトナー像を定着する定着装置とを備えた画像形成装置において、前記光走査装置が前記第１０の手段の光走査装置であることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明は前述のような構成になっており、クラッド径に対してコア部を小さい間隔で、かつ高い精度で配置できるので、光量の損失を最小限に抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
図２は、本実施形態に使用される光ファイバの基本構造を示す斜視図である。同図において、１は光ファイバ、１１はコア部、１２はクラッド部、１３は被覆部、１４は光ファイバ１の端面である。光ファイバ１は比較的屈折率の高いコア部１１、それを同心円状に取り囲むクラッド部１２、さらにその外周の被覆部１３から構成されている。また、コア部１１およびクラッド部１２の伸延する方向に対して垂直な端面１４を有しており、図示しないもう一方の端面から入射された光（レーザビーム）が、この端面１４のコア部１１から射出される。端面１４の近傍では被覆部１３は除去され、クラッド部１２が露出している。この露出したクラッド部１２は長さが例えば３〜６ｍｍ程度で、その部分が後述する基板２に接着固定される。
【００２８】
図１は、本実施形態に係る多ビーム光源の断面図である。同図において１は光ファイバ、２は例えばシリコンウェハ、セラミック、ガラスなどからなる基板、１１はコア部、１２はクラッド部、１６は基板１上に複数本（本実施形態では５本）等間隔にかつ平行に形成されたＶ溝である。同図は１０本の光ファイバ１を配置した状態を端面１４側から見た様子を示しており、１０本のコア部１１は略一直線１５上に配置されている。本実施形態の場合、コア部１１の径は３．６μｍ〜４．０μｍ（３．８±０．２μｍ）、クラッド部１２の径は１２３．５μｍ〜１２６．５μｍ（１２５±１．５μｍ）、コア部１１とコア部１１の間隔は１４９．２２μｍ〜１５０．７８μｍ（１５０±０．７８μｍ）、Ｖ型溝１６の深さは９８μｍ〜１００μｍ（９９±１μｍ）が適当である。
【００２９】
この多ビーム光源の製造方法について図３ないし図８を用いて説明する。図３に光ファイバ１を配置した状態を端面１４側から見た様子を示している。図において、２は基板、３は例えば紫外線硬化樹脂やエポキシ樹脂などからなる接合材である。基板２は等間隔に形成された複数本のＶ溝１６を有しており、Ｖ溝１６はＳｉウェハの異方性エッチング、或いはダイヤモンドブレードソーを用いたＳｉウェハ、セラミック、ガラス材のダイシング加工などによって精密に形成される。Ｖ溝１６は、基板２の手前側から奥側に向けて貫通している。
【００３０】
図２に示すようにクラッド部１２が露出した各光ファイバ１の先端部が、１つのＶ溝１６に１本ずつ落し込まれる。ここで必要に応じて、コア部１１を一直線１５上に配置するため、すなわちコア部１１の上下の位置を揃えるため、クラッド部１２の外周面がＶ溝１６に接した状態を維持しつつ回転調整を行う。
【００３１】
その後に各光ファイバ１と基板２との間に例えば紫外線硬化樹脂などからなる硬化型の接合材３が注入、充填されて、紫外線照射による硬化処理がなされ、各光ファイバ１の先端部が基板２のＶ溝１６内に接着固定され、各光ファイバ１の先端部が接合材層１７に埋設される。
【００３２】
次に図４に示すように、クラッド部１２と接合材層１７を基板２の反対側（表面側）から砥石４で一様にフラットに削る。コア部１１の外周部（上部）にクラッド部１２の一部が残る状態まで研摩する。
【００３３】
次に図５に示すように、ピッチ方向の溝加工は、ダイサーなどのダイヤモンド砥石５をピッチ送りし、コア部１１間のクラッド部１２、接合材層１７、および基板２の一部を研削加工により削除する。この研削加工は、光ファイバ１の軸方向に沿って所定の長さ直線状に施される。このときの砥石５の幅は、コア部１１の間隔の１／２より若干広くし、コア部１１の外周部（左右側面）にクラッド部１２が所定量残存するようにしている。
【００３４】
図６に示すようにクラッド部１２の残存層１８の最も薄い個所の厚さｔ（ｔ1、ｔ２、ｔ３）は光源波長の４倍以上であれば、伝搬損失は実用上十分小さい範囲に抑えられる。本実施形態ではクラッド部１２の残存層１８の最も薄い個所はコア部１１の上部で、その厚さｔ1を３２μｍ〜３４μｍに設定している。研削加工の仕方によれば、クラッド部１２の残存層１８の厚さｔ２や厚さｔ３が最も薄い個所の厚さｔとなることもある。
【００３５】
このようにしてコア部１１とそのコア部１１の外周の一部にクラッド部１２を残して、コア部１１とクラッド部１２の残存層１８が基板２の反対側に突出した基板付きの光ファイバアレイを製作する。
【００３６】
この光ファイバアレイを２枚一組にして図７に示すように、第１の基板２ａ側における光ファイバ１のコア部１１とその隣のコア部１１との間（中間位置）に、第２の基板２ｂ側における光ファイバ１のコア部１１が挿入されるように、第１の基板２ａと第２の基板２ｂとを重ね合わせ、各コア部１１が略一直線１５上に配置されるように、第１の基板２ａと第２の基板２ｂの位置調整を行なう。
【００３７】
この調整は具体的には、第１の基板２ａと第２の基板２ｂをそれぞれ治具（図示せず）に保持して、各光ファイバ１のコア部１１に光を通して、各光ファイバ１の端面１４（図２参照）を顕微鏡で観察しながら、前記治具間の調整ネジを回して、各コア部１１が略一直線１５上に並ぶように第１の基板２ａと第２の基板２ｂの相対的な位置関係を調整する。
【００３８】
第１の基板２ａと第２の基板２ｂの位置調整が終了すると、第１の基板２ａと第２の基板２ｂとの間の対向部に形成された隙間に例えば紫外線硬化樹脂などの接合材６を注入、充填し、硬化処理して一体に接合する。
【００３９】
図８は、基板接合の変形例を示す断面図である。この例では、第１の基板２ａと第２の基板２ｂの間の対向部に形成された隙間１９には接合材６を充填しないで、第１の基板２ａと第２の基板２ｂの対向外周部に隙間を形成し、その隙間に接合材６を充填して、第１の基板２ａと第２の基板２ｂを直接接合している。
【００４０】
図７に示しているように、クラッド部１２の外径の最大値Ｄよりもコア部１１の間隔Ｌの方が小さくなるように設計されており、そうすることによりコア部１１の近接配置が可能となる。本実施形態の場合、クラッド部１２の外径の最大値Ｄは１２３．５μｍ〜１２６．５μｍ、コア部１１の間隔Ｌは７４．５μｍ〜７５．５μｍに設計されている。
【００４１】
図１では１０本の光ファイバを一直線上に配置した例を示したが、図９では１本の光ファイバ１を固定した第１の基板２ａと、１本の光ファイバ１を固定した第２の基板２ｂとを重ね合わせて接合した２本の光ファイバ１を有する多ビーム光源の例を示している。この場合もクラッド部１２の外径の最大値Ｄよりもコア部１１の間隔Ｌが小さくなるようにして、第１の基板２ａ側における光ファイバ１のコア部１１と第２の基板２ｂ側における光ファイバ１のコア部１１を近接して並べて、第１の基板２ａと第２の基板２ｂとを接合している。この多ビーム光源の製造方法も前述の例と同様である。
【００４２】
図１０に本発明の多ビーム光源を用いた光走査装置の例を示す。同図において７１は多ビーム光源、７２はその多ビーム光源７１から出射された各光束を略平行光束とする結合光学素子であるカップリングレンズ、７３はそのカップリングレンズ７２からの光束を被走査面上に偏向走査する光偏向素子である回転多面鏡、７４は前記カップリングレンズ７２からの光束を前記被走査面上に結像する結像光学素子であるＦθレンズ、７５は被走査媒体である感光体ドラム、７６は光束、７７は感光体ドラム７５上の光束の軌跡である。感光体ドラム７５の外周面は光導電性媒体で被覆されている。これはレーザプリンタ等に用いられる外面円筒型光走査装置である。
【００４３】
図１１に本発明の多ビーム光源を用いた光走査装置のその他の例を示す。同図において８１は多ビ―ム光源、８２は結合光学素子であるカップリングレンズ、８３は光偏向素子であるスピナミラー、８４は結像光学素子である結像レンズ、８５は被走査媒体である感光体ドラム、８６は光束、８７はドラム上の光束の軌跡である。感光体ドラム８５の内面には光感光性媒体が保持されている。これはフイルム製版等に用いられる内面円筒型光走査装置である。
【００４４】
図１２に本発明の光走査装置を用いたレーザプリンタ等の画像形成装置の例を示す。同図において６１は感光体ドラム、６２は感光体ドラム６１の周面を一様に帯電する帯電装置、６３はその帯電装置６２によって帯電された感光体ドラム６１に光走査により静電潜像を形成する光走査装置、６４は前記静電潜像をトナーによって現像する現像装置、６５はその現像装置６４によって形成されたトナー像を用紙などの記録媒体６６に転写する転写装置、６７は記録媒体６６上に転写されたトナー像を定着する定着装置、６８は記録媒体６６を搬送する搬送装置、６９は感光体ドラム６１上に残ったトナーを除去する清掃装置である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施形態に係る多ビーム光源の断面図である。
【図２】本発明の実施形態で使用する光ファイバの斜視図である。
【図３】本発明の実施形態に係る多ビーム光源の製造方法の説明図である。
【図４】本発明の実施形態に係る多ビーム光源の製造方法の説明図である。
【図５】本発明の実施形態に係る多ビーム光源の製造方法の説明図である。
【図６】本発明の実施形態に係る多ビーム光源の製造方法の説明図である。
【図７】本発明の実施形態に係る多ビーム光源の製造方法の説明図である。
【図８】本発明の実施形態に係る多ビーム光源の製造方法の説明図である。
【図９】本発明の他の実施形態に係る多ビーム光源の断面図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る光走査装置の概略構成図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る他の光走査装置の概略構成図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る画像形成装置の概略構成図である。
【図１３】開口径とビームスポット径の関係を示す図である。
【図１４】開口径とビームスポット径の関係を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
１：光ファイバ、２：基板、２ａ：第１の基板、２ｂ：第２の基板、３：接合材、４：砥石、５：ダイヤモンド砥石、６：接合材、１１：コア部、１２：クラッド部、１３：被覆部、１４：端面、１５：一直線、１６：Ｖ溝、１７：接合材層、１８：残存層、１９：隙間、６１：感光体ドラム、６２：帯電装置、６３：光走査装置、６４：現像装置、６５：転写装置、６６：記録媒体、６７：定着装置、６８：搬送装置、６９：清掃装置、７１：多素子光源、７２：カップリングレンズ、７３：回転多面鏡、７４：Ｆθレンズ、７５：感光体ドラム、７６：光束、７７：光束の軌跡、８１：多ビーム光源、８２：カップリングレンズ、８３：スピナミラー、８４：結像レンズ、８５：感光体ドラム、８６：光束、８７：光束の軌跡、ｔ：残存層の最も薄い個所の厚さ、Ｄ：クラッド部の外径の最大値、Ｌ：コア部の間隔。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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