(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に、フッ素を０．０１〜１０質量％の範囲で含有する、酸化マグネシウム純度が９９．８質量％以上（但し、酸化マグネシウム純度は、含まれるフッ素を除いた総量中の酸化マグネシウム含有量である）で、かつＢＥＴ比表面積が０．１〜３０ｍ2／ｇの範囲にあるフッ素含有酸化マグネシウムからなる波長変換層を介して、基本組成式がＣａＭｇＳｉ2Ｏ6：Ｅｕ2+で表される青色発光蛍光体からなる青色発光蛍光体層が形成されている交流型プラズマディスプレイパネル用の背面板。
【請求項２】
波長変換層の厚みが１〜１０μｍの範囲にある請求項１に記載の背面板。
【請求項３】
青色発光蛍光体層の厚みが１〜３０μｍの範囲にある請求項１に記載の背面板。
【請求項４】
フッ素含有酸化マグネシウムのフッ素含有量が０．０３〜５質量％の範囲にある請求項１に記載の背面板。
【請求項５】
フッ素含有酸化マグネシウムの酸化マグネシウム純度が９９．９質量％以上である請求項１に記載の背面板。
【請求項６】
フッ素含有酸化マグネシウムのＢＥＴ比表面積が０．１〜１２ｍ2／ｇの範囲にある請求項１に記載の背面板。
【請求項７】
基板の上に、アドレス電極が形成されていて、アドレス電極の上に波長変換層を介して青色発光蛍光体層が形成されている請求項１に記載の背面板。
【請求項８】
基板の上に、アドレス電極と、アドレス電極を被覆する誘電体層とが形成されていて、誘電体層の上に波長変換層を介して青色発光蛍光体層が形成されている請求項１に記載の背面板。
【請求項９】
基板の上に、隔壁が形成されていて、隔壁の壁面にも波長変換層を介して青色発光蛍光体層が形成されている請求項１に記載の背面板。
【請求項１０】
Ｘｅガスを含む放電ガスが充填された放電空間を介して、放電電極が形成されている前面板と、請求項１乃至９のうちのいずれかの項に記載の背面板とが、放電電極と青色発光蛍光体層とが互いに対向するように配置されてなる交流型プラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、交流型プラズマディスプレイパネル用の背面板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
交流型プラズマディスプレイパネル（以下、ＡＣ型ＰＤＰともいう）は、一般に、Ｘｅ（キセノン）ガスを含む放電ガスが充填された放電空間を介して、放電電極が形成されている前面板と、真空紫外線に励起されるとそれぞれ青色、緑色又は赤色の発光を示す蛍光体からなる蛍光体層が形成されている背面板とを、放電電極と蛍光体層とが互いに対向するように配置した構造となっている。このような構造のＡＣ型ＰＤＰでは、前面板の放電電極の放電によって発生したＸｅの共鳴線（波長１４７ｎｍ）とＸｅ2の分子線（波長１７２ｎｍ）を各色の蛍光体層に照射して、各色の蛍光体を励起させることにより青色、緑色、赤色の可視光を発光させて、その組み合わせにより画像を表示する。
【０００３】
ＡＣ型ＰＤＰの背面板に用いられる青色発光蛍光体としては、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+（通常、ＢＡＭ：Ｅｕ2+と云われる）の組成式で表される青色発光蛍光体が一般的である。しかし、ＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体は、ＡＣ型ＰＤＰの背面板に用いられている他の赤色発光蛍光体（例えば、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+）や緑色発光蛍光体（例えば、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ2+）と比べて、真空紫外線の照射による経時的な発光輝度の低下が大きいため、ＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体を用いたＡＣ型ＰＤＰは使用の経過と共に白色の色バランスが崩れやすいという問題がある。
【０００４】
上記の理由から、青色発光蛍光体として、真空紫外線の照射による経時的な発光輝度の低下が、ＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体よりも起こりにくいＣａＭｇＳｉ2Ｏ6：Ｅｕ2+（通常、ＣＭＳ：Ｅｕ2+と云われる）の組成式で表される青色発光蛍光体を用いることが検討されている。しかしながら、ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体は、ＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体と比べて使用初期の発光輝度が低い（特に、Ｘｅ2の分子線励起による発光輝度が低い）という問題がある。
【０００５】
特許文献１には、ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体を用いたＡＣ型ＰＤＰの青色の発光輝度を向上させる方法として、ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体からなる青色発光蛍光体層（第一蛍光体層と記載されている）の下に、Ｘｅ共鳴線及びＸｅ分子線を吸収して、Ｘｅ共鳴線及びＸｅ分子線よりも長い長波長域（波長２１０〜４００ｎｍ）の紫外線を発生する第二蛍光体からなる波長変換層（第二蛍光体層と記載されている）を配置する方法が開示されている。この特許文献１には、波長変換層用の材料（第二蛍光体）として、ガドリニウム−プラセオジウム共付活フッ化物蛍光材（Ｙ，Ｇｄ，Ｐｒ）Ｆ3等のガドリニウム−プラセオジウム共付活蛍光材、プラセオジウム付活アルミナ硼酸塩蛍光材（Ｙ，Ｐｒ）Ａｌ3（ＢＯ3）4、プラセオジウム付活フッ化物蛍光材（Ｙ，Ｐｒ）Ｆ3等のプラセオジウム付活蛍光材、ガドリニウム付活アルミナ硼酸塩蛍光材（Ｙ，Ｇｄ）Ａｌ3（ＢＯ3）4、ガドリニウム共付活フッ化物蛍光材（Ｙ，Ｇｄ）Ｆ3等のガドリニウム付活蛍光材が記載されている。
【特許文献１】特開２００６−９３０７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献１に開示されているように、ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体からなる青色発光蛍光体層の下に波長変換層を配置して、青色発光蛍光体層を通過したＸｅ2の分子線を波長変換層にてＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体の励起可能な長波長域の紫外線に変換して青色発光蛍光体層に照射すれば、青色の発光輝度は向上する。しかしながら、上記特許文献１に記載されている波長変換層用の材料（第二蛍光体）は、いずれも付活剤に希土類金属を用いた高価な材料である。
従って、本発明の目的は、ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体からなる青色発光蛍光体層の発光輝度を容易に入手可能であって工業的に安価に製造することができる材料を用いて向上させる技術を開発して、青色の発光輝度が高く、かつ経時的な発光輝度の低下が少ないＡＣ型ＰＤＰを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基板の上に、フッ素を０．０１〜１０質量％の範囲で含有する、酸化マグネシウム純度が９９．８質量％以上（但し、酸化マグネシウム純度は、含まれるフッ素を除いた総量中の酸化マグネシウム含有量である）で、かつＢＥＴ比表面積が０．１〜３０ｍ2／ｇの範囲にあるフッ素含有酸化マグネシウムからなる波長変換層を介して、基本組成式がＣａＭｇＳｉ2Ｏ6：Ｅｕ2+で表される青色発光蛍光体からなる青色発光蛍光体層が形成されている交流型プラズマディスプレイパネル用の背面板にある。
【０００８】
本発明の背面板の好ましい態様は、次の通りである。
（１）波長変換層の厚みが１〜１０μｍの範囲にある。
（２）青色発光蛍光体層の厚みが１〜３０μｍの範囲にある。
（３）フッ素含有酸化マグネシウムのフッ素含有量が０．０３〜５質量％の範囲にある。
（４）フッ素含有酸化マグネシウムの酸化マグネシウム純度が９９．９質量％以上である。
（５）フッ素含有酸化マグネシウムのＢＥＴ比表面積が０．１〜１２ｍ2／ｇの範囲にある。
（６）基板の上に、アドレス電極が形成されていて、アドレス電極の上に波長変換層を介して青色発光蛍光体層が形成されている。
（７）基板の上に、アドレス電極と、アドレス電極を被覆する誘電体層とが形成されていて、誘電体層の上に波長変換層を介して青色発光蛍光体層が形成されている。
（８）基板の上に、隔壁が形成されていて、隔壁の壁面にも波長変換層を介して青色発光蛍光体層が形成されている。
【０００９】
本発明はまた、Ｘｅガスを含む放電ガスが充填された放電空間を介して、放電電極が形成されている前面板と、上記本発明の背面板とが、放電電極と青色発光蛍光体層とが互いに対向するように配置されてなる交流型プラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の背面板を用いたＡＣ型ＰＤＰは、青色の発光が高い輝度で長期間にわたって安定に生成するので、他の発光と共同で形成される白色の色バランスが崩れにくい。
また、本発明では、特殊な材料ではなく容易に入手可能であって、工業的に安価に製造できる材料を用いて、青色の発光輝度を上げることができ、かつ経時的な発光輝度の低下も少なくできるので、そのような優れた性能を有するＡＣ型ＰＤＰを経済的にも有利に提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
添付図面の図１は、本発明に従うＡＣ型ＰＤＰの一例の斜視図である。図２は、図１に示したＡＣ型ＰＤＰのＡ−Ａ線断面図である。
図１において、ＡＣ型ＰＤＰは、Ｘｅガスを含む放電ガスが充填された放電空間１０を介して、対向配置された前面板２０と背面板３０とからなる。
【００１２】
放電空間１０に充填される放電ガスとしては、通常はＸｅガスとＮｅガスとの混合ガスが用いられる。放電ガス中のＸｅガスの濃度は、一般に５〜２０体積％の範囲である。近年の傾向である放電ガス中のＸｅガス濃度の増加に伴って、前面板２０の放電電極の放電により発生するＸｅ2の分子線の量が増加する傾向にある。但し、上記のＸｅガスの濃度範囲では、前面板２０の放電電極の放電によって発生する真空紫外線は、通常は、Ｘｅ2の分子線よりもＸｅの共鳴線の方が多い。
【００１３】
前面板２０は、透明ガラス基板２１、透明ガラス基板２１の背面板側の表面に形成された二つの列電極２４ａ、２４ｂからなる放電電極２５、放電電極２５を被覆する誘電体層２６、誘電体層２６の背面板側の表面に形成された誘電体保護層２７からなる。
【００１４】
放電電極２５を構成する二つの列電極２４ａ、２４ｂは、それぞれ幅の広い透明電極２２と幅の狭いバス電極２３とからなる。透明電極２２は、一般にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）膜や酸化スズ膜などの導電性金属酸化物膜からなる。透明電極２２は、ＣＶＤ法やスパッタ法などの成膜法により形成した導電性金属酸化物膜をエッチング法やリフトオフ法などのパターンニング法によりパターンニングする方法により形成することができる。透明電極２２の厚みは、一般に０．１〜０．２μｍの範囲にある。バス電極２３は、アルミニウム、銅及び銀などの単層金属膜、もしくはクロム／銅／クロムなどの積層金属膜からなる。バス電極２３は、金属ペースト（銀ペースト）をスクリーン印刷法により塗布する方法、あるいはスパッタ法などの成膜法により形成した金属膜をエッチング法やリフトオフ法などのパターンニング法によりパターンニングする方法により形成することができる。バス電極２３の厚みは、一般に１〜１０μｍの範囲にある。
【００１５】
前面板の誘電体層２６は、一般に低融点ガラスからなる。前面板誘電体層２６は、誘電体ペーストをスクリーン印刷法、あるいはリバースコータ、カーテンコータ、ダイコータ、スロットコータなどの各種コータを用いたコーティング法により塗布し、塗布膜を乾燥、焼成することにより形成することができる。前面板誘電体層２６の厚みは、一般に５〜２０μｍの範囲にある。
【００１６】
誘電体保護層２７は、一般に酸化マグネシウムからなる。酸化マグネシウムからなる誘電体保護層は、ＥＢ蒸着法により形成することができる。誘電体保護層２７は、一般に厚みが０．５〜１．０μｍの範囲にある。
【００１７】
背面板３０は、基板３１、基板３１の前面板２０側の表面に形成されたアドレス電極３２、アドレス電極３２を被覆する誘電体層３３、誘電体層３３の前面板側の表面に間隔を開けてストライプ状に形成された隔壁３４、隔壁３４の間に充填された青色発光蛍光体層３５Ｂ、緑色発光蛍光体層３５Ｇ及び赤色発光蛍光体層３５Ｒ、そして青色発光蛍光体層３５Ｂと誘電体層３３及び隔壁３４との間に挿入された波長変換層３６からなる。
【００１８】
背面板の基板３１は、一般に透明ガラス基板からなる。
アドレス電極（行電極とも云う）３２は、前面板２０の放電電極２５と直交する方向に配置される。アドレス電極３２は、一般にアルミニウム、銅及び銀などの単層金属膜、もしくはクロム／銅／クロムなどの積層金属膜からなる。アドレス電極３２は、金属ペースト（銀ペースト）をスクリーン印刷法により塗布する方法、あるいはスパッタ法などの成膜法により形成した金属膜をエッチング法やリフトオフ法などのパターンニング法によりパターンニングする方法により形成することができる。アドレス電極３２の厚みは、一般に１〜１０μｍの範囲にある。
【００１９】
背面板の誘電体層３３は、一般に低融点ガラスからなる。背面板誘電体層３３は、誘電体ペーストをスクリーン印刷法、あるいはリバースコータ、カーテンコータ、ダイコータ、スロットコータなどの各種コータを用いたコーティング法により塗布し、塗布膜を乾燥、焼成することにより形成することができる。背面板誘電体層３３の厚みは一般に５〜２０μｍの範囲にある。背面板誘電体層３３には白色反射剤として、酸化チタンなどの白色顔料を分散させてもよい。
【００２０】
隔壁３４は、一般に低融点ガラスからなる。隔壁３４は、サンドブラスト法、アディティブ法、感光性隔壁形成法（フォト法）、積層印刷法、型押し法、転写法などの方法を用いて形成することができる。隔壁３４のサイズは、一般に高さが１００〜１５０μｍの範囲、幅が５０〜８０μｍの範囲にある。隔壁３４のピッチは、通常は１１０〜３６０ｎｍの範囲である。
【００２１】
青色発光蛍光体層３５Ｂは、基本組成式がＣａＭｇＳｉ2Ｏ6：Ｅｕ2+で表されるＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体からなる。ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体は、波長変換層３６にて生成する波長２２０〜２７０ｎｍの真空紫外線に励起されて青色の発光を示す。ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体は、従来のＡＣ型ＰＤＰにおいて青色発光蛍光体層の材料として広く利用さられているＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体と比べて紫外線の照射による発光輝度の低下が起こりにくいという利点がある。ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体は、ディオプサイド（ＣａＭｇＳｉ2Ｏ6）のカルシウムの一部をユウロピウムに置換した化合物である。ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体は、全体量に対するユウロピウム含有量が０．００５〜０．１モル％の範囲にあることが好ましい。
【００２２】
ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体は、カルシウム源粉末、ユウロピウム源粉末、マグネシウム源粉末、及びケイ素源粉末を、カルシウム：ユウロピウム：マグネシウム：ケイ素のモル比で０．９００〜０．９９５：０．１００〜０．００５：１：１．９０〜２．１０（Ｃａ：Ｅｕ：Ｍｇ：Ｓｉ）となる割合で混合して得られた粉末混合物を還元性雰囲気下にて１０００〜１５００℃の温度にて加熱焼成することにより製造することができる。
【００２３】
緑色発光蛍光体層３５Ｇを形成する緑色発光蛍光体の例としては、基本組成式がＺｎ2ＳｉＯ：Ｍｎ2+、（Ｂａ，Ｓｒ，Ｍｇ）Ｏ・αＡｌ2Ｏ3：Ｍｎ2+、ＹＢＯ3：Ｔｂ3+、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｔｂ3+、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ2+及びＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+，Ｍｎ2+で表される蛍光体を挙げることができる。赤色発光蛍光体層３５Ｒを形成する赤色発光蛍光体の例としては、基本組成式がＹＢＯ3：Ｅｕ3+、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ3+及び（Ｙ，Ｇｄ）2Ｏ3：Ｅｕ3+で表される蛍光体を挙げることができる。
【００２４】
青色発光蛍光体層３５Ｂ、緑色発光蛍光体層３５Ｇ及び赤色発光蛍光体層３５Ｒは、各色の蛍光体が分散されているペーストをスクリーン印刷法あるいはリバースコータ、カーテンコータ、ダイコータ、スロットコータなどの各種コータを用いたコーティング法により塗布し、塗布膜を乾燥することにより形成することができる。各色の蛍光体層３５Ｂ、３５Ｇ、３５Ｒの厚みは、一般に１〜３０μｍの範囲、好ましくは５〜２０μｍの範囲にある。なお、緑色発光蛍光体層３５Ｇを形成する緑色発光蛍光体、及び赤色発光蛍光体層３５Ｒを形成する赤色発光蛍光体が、波長２２０〜２７０ｎｍの真空紫外線に励起されて発光を示す蛍光体である場合には、緑色発光蛍光体層及び赤色発光蛍光体層と誘電体層３３及び隔壁３４との間にフッ素含有酸化マグネシウムからなる波長変換層を介在させてもよい。
【００２５】
本発明において、波長変換層３６は、フッ素を０．０１〜１０質量％の範囲で含有する、酸化マグネシウム純度が９９．８質量％以上（但し、酸化マグネシウム純度は、含まれるフッ素を除いた総量中の酸化マグネシウム含有量である）で、かつＢＥＴ比表面積が０．１〜３０ｍ2／ｇの範囲にあるフッ素含有酸化マグネシウムからなる。フッ素含有酸化マグネシウムは、フッ素の含有量が０．０３〜５質量％の範囲にあることが好ましく、酸化マグネシウム純度が９９．９質量％以上であることが好ましく、ＢＥＴ比表面積が０．１〜１２ｍ2／ｇの範囲にあることが好ましい。なお、酸化マグネシウム純度は、フッ素含有酸化マグネシウム粉末の全体量に対して０．００１質量％以上含まれる、フッ素とマグネシウムとを除いた元素の総含有量を１００から減じた値である。
【００２６】
フッ素含有酸化マグネシウムからなる波長変換層３６は、前面板２０の放電電極２５の放電により発生するＸｅの共鳴線（波長１４７ｎｍ）及びＸｅ2の分子線（波長１７２ｎｍ）によって励起されると波長２２０〜２７０ｎｍの範囲に最大ピークをもつ発光パターンを示す真空紫外線を生成する。すなわち、波長変換層３６は、ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体に吸収されずに、青色発光蛍光体層３５Ｂを通過したＸｅの共鳴線及びＸｅ2の分子線を波長２２０〜２７０ｎｍの真空紫外線に変換して、青色発光蛍光体層３５Ｂに照射し、青色発光蛍光体層３５Ｂを励起させて青色の光を発光させる機能がある。
【００２７】
波長変換層３６は、フッ素含有酸化マグネシウムが分散されているペーストをスクリーン印刷法あるいはリバースコータ、カーテンコータ、ダイコータ、スロットコータなどの各種コータを用いたコーティング法により塗布し、塗布膜を乾燥することにより形成することができる。波長変換層３６の厚みは、一般に１〜１０μｍの範囲、好ましくは２〜８μｍの範囲にある。
【００２８】
波長変換層３６を形成するフッ素含有酸化マグネシウムは、純度が９９．９５質量％以上で、ＢＥＴ比表面積が５〜１５０ｍ2／ｇの範囲、好ましくは７〜５０ｍ2／ｇの範囲にある酸化マグネシウム原料粉末を、フッ素源の存在下、もしくはフッ素含有気体の雰囲気下にて焼成することからなる方法により製造することができる。
【００２９】
フッ素含有酸化マグネシウムの製造に用いる酸化マグネシウム原料粉末としては、気相合成酸化法により製造された酸化マグネシウム粉末であることが好ましい。気相合成酸化法とは、金属マグネシウム蒸気と酸素含有気体とを気相中にて接触させ、金属マグネシウム蒸気を酸化させて酸化マグネシウム粉末を製造する方法である。
【００３０】
フッ素源としては、フッ化マグネシウム粉末を用いることが好ましい。フッ素源として用いるフッ化マグネシウム粉末は、純度が９９質量％以上あることが好ましい。フッ素源の存在下にて、酸化マグネシウム原料粉末の焼成を行なう場合は、焼成を行なう前に酸化マグネシウム原料粉末とフッ素源とを混合しておくことが好ましい。
【００３１】
フッ素含有気体としては、フッ化水素ガス、あるいはフッ化マグネシウム粉末を加熱して気化させたガスを用いることが好ましい。
【００３２】
酸化マグネシウム原料粉末を、フッ素源の存在下、もしくはフッ素含有気体の雰囲気下に、８５０℃以上の温度で１０分以上焼成すると、酸化マグネシウム原料粉末の一次粒子がフッ素を結晶内に取り込みながら粒成長する。このため、得られるフッ素含有酸化マグネシウム粉末は、酸化マグネシウム原料粉末よりもＢＥＴ比表面積が低減する。得られるフッ素含有酸化マグネシウム粉末のＢＥＴ比表面積は、酸化マグネシウム原料粉末に対して、好ましくは１〜５０％の範囲、特に好ましくは３〜３０％の範囲にある。
【００３３】
フッ素源の存在下、もしくはフッ素含有気体の雰囲気下にて酸化マグネシウム原料粉末を焼成する際の焼成温度は、８５０℃以上、好ましくは９００〜１５００℃の範囲、特に好ましくは１０００〜１５００℃の範囲にある。焼成時間は、１０分以上、好ましくは２０分〜１時間の範囲にある。
【００３４】
図１及び図２においては、波長変換層３６が青色発光蛍光体層３５Ｂと誘電体層３３及び隔壁３４との間に挿入されているＡＣ型ＰＤＰの例を示したが、本発明においては、青色発光蛍光体層と基板との間に波長変換層が介在していればよく、例えば、アドレス電極の上に波長変換層を設けてもよい。アドレス電極の上に波長変換層を設けた、本発明に従うＡＣ型ＰＤＰの一例の断面図を図３に示す。なお、図３において、図１及び図２に示したＡＣ型ＰＤＰと同一の構成構成部分については、図１及び図２と同一の符号を付して、その説明を省略する。
【００３５】
図３に示したＡＣ型ＰＤＰは、図１及び図２に示したＡＣ型ＰＤＰのアドレス電極の上に形成した誘電体層を波長変換層とし、青色発光蛍光体層と誘電体層及び隔壁との間に挿入した波長変換層を省略した構成となっている。図３に示したＡＣ型ＰＤＰにおいて、アドレス電極層を覆う形で形成されたフッ素含有酸化マグネシウムからなる波長変換層４０は、フッ素含有酸化マグネシウム単独で形成してもよいし、フッ素含有酸化マグネシウムと酸化チタンなどの白色顔料との混合物として形成してもよい。また、波長変換層４０をフッ素含有酸化マグネシウムを低融点ガラスに分散した形で形成してもよい。フッ素含有酸化マグネシウムを低融点ガラスに分散させて波長変換層を形成する場合、波長変換層中のフッ素含有酸化マグネシウムの含有量は、一般に１〜３０質量％の範囲、好ましくは５〜２０質量％の範囲にある。
【００３６】
波長変換層４０は、フッ素含有酸化マグネシウムが分散されているペーストをスクリーン印刷法あるいはリバースコータ、カーテンコータ、ダイコータ、スロットコータなどの各種コータを用いたコーティング法により塗布し、塗布膜を乾燥することにより形成することができる。波長変換層４０の厚みは、一般に５〜２０μｍの範囲にある。
【実施例】
【００３７】
［実施例１］
（１）フッ素含有酸化マグネシウムペーストの製造
気相合成酸化法により製造された酸化マグネシウム（２０００Ａ、宇部マテリアルズ（株）製、純度：９９．９８質量％、ＢＥＴ比表面積：８．７ｍ2／ｇ）５ｇとフッ化マグネシウム（純度：９９．１質量％、ＢＥＴ比表面積：６．４ｍ2／ｇ）０．０５ｇとを混合して、粉末混合物を得た。得られた粉末混合物を容量２５ｍＬのアルミナ坩堝に投入し、蓋をして電気炉に入れ、２４０℃／時間の昇温速度で１２００℃まで上昇させ、ついで該温度で３０分間焼成した。その後、炉内温度を２４０℃／時間の降温速度で室温まで冷却した。得られた焼成物は、ＢＥＴ比表面積が１．８１ｍ2／ｇ、フッ素含有量が０．０４９６質量％、酸化マグネシウムの純度が９９．９質量％以上のフッ素含有酸化マグネシウムであった。
【００３８】
上記のようにして得られたフッ素含有酸化マグネシウム２．５ｇを、イソプロピルアルコール３００ｍＬにエチルセルロース２１ｇを加え、マグネチックスターラーにて１５時間撹拌して調製したペーストに添加し、脱泡機を用いて７分間混合して、フッ素含有酸化マグネシウムペーストを調製した。
【００３９】
（２）ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体ペーストの製造
炭酸カルシウム粉末（純度：９９．９９質量％、レーザ回折散乱法により測定された平均粒子径：３．８７μｍ）、酸化ユウロピウム粉末（純度：９９．９質量％、レーザ回折散乱法により測定された平均粒子径：２．７１μｍ）、酸化マグネシウム（気相酸化反応により製造したもの、純度９９．９９質量％、ＢＥＴ比表面積より換算された平均粒子径：０．０５μｍ）、そして二酸化ケイ素粉末（純度：９９．９質量％、レーザ回折散乱法により測定された平均粒子径：３．８７μｍ）を、Ｃａ：Ｅｕ：Ｍｇ：Ｓｉのモル比が、０．９８：０．０２：１：２．００となるようにそれぞれ秤量し、エタノール溶媒中にて、ボールミルを用いて２４時間湿式混合した。得られた粉末混合物を乾燥してエタノールを蒸発させた。乾燥後の粉末混合物をアルミナ坩堝に入れ、２体積％水素−９８体積％アルゴンの混合ガス雰囲気中にて１０５０℃の温度で３時間焼成した。得られた焼成物を、アルミナ坩堝に入れたまま、さらに大気中６００℃の温度で１時間加熱した。得られた焼成物は、ディオプサイド結晶構造を有するＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体であった。
【００４０】
上記のようにして得られたＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体２．５ｇを、イソプロピルアルコール３００ｍＬにエチルセルロース２１ｇを加え、マグネチックスターラーにて１５時間撹拌して調製したペーストに添加し、脱泡機を用いて７分間混合して、ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体ペーストを調製した。
【００４１】
（３）基板の上に、フッ素含有酸化マグネシウム層を介してＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層が形成された積層板の製造
直径１９．８ｍｍ、厚み２．０ｍｍの石英基板に、フッ素含有酸化マグネシウムペーストをスクリーン印刷機にて塗布し、７０℃の温度で乾燥した後、５８０℃の温度で１時間アニールして、厚み４μｍのフッ素含有酸化マグネシウム層を形成した。次いで、このフッ素含有酸化マグネシウム層の上に、ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体ペーストをスクリーン印刷機にて塗布し、７０℃の温度で乾燥した後、５８０℃の温度で１時間アニールして、厚み６μｍのＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層を形成した（フッ素含有酸化マグネシウム層とＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層との合計層厚は１０μｍ）。
【００４２】
得られた積層板のＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層の上から、波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍの真空紫外線とを照射して、分光蛍光光度計を用いて波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍの真空紫外線励起による青色光の発光スペクトルを測定した。得られた発光スペクトルの最大ピーク値を最大輝度として、下記表１に示す。
【００４３】
［比較例１］
直径１９．８ｍｍ、厚み２．０ｍｍの石英基板に、実施例１で調製したＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体ペーストをスクリーン印刷機にて塗布し、７０℃の温度で乾燥した後、５８０℃の温度で１時間アニールして、基板の上に厚み１０μｍのＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層が形成された積層板を製造した。
【００４４】
得られた積層板のＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層に実施例１と同様に波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍの真空紫外線とを照射して、波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍの真空紫外線励起による青色光の発光スペクトルを測定した。得られた発光スペクトルの最大ピーク値を最大輝度として、下記表１に示す。
【００４５】
［参考例１］
ＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体２．５ｇを、イソプロピルアルコール３００ｍＬにエチルセルロース２１ｇを加え、マグネチックスターラーにて１５時間撹拌して調製したペーストに添加し、脱泡機を用いて７分間混合して、ＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体ペーストを調製した。
直径１９．８ｍｍ、厚み２．０ｍｍの石英基板に、上記のようにして調製したＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体ペーストをスクリーン印刷機にて塗布し、７０℃の温度で乾燥した後、５８０℃の温度で１時間アニールして、基板の上に厚み１０μｍのＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層が形成された積層板を製造した。
【００４６】
得られた積層板のＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層に実施例１と同様に波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍの真空紫外線とを照射して、波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍの真空紫外線励起による青色光の発光スペクトルを測定した。得られた発光スペクトルの最大ピーク値を最大輝度として、下記表１に示す。
【００４７】
表１
────────────────────────────────────────
励起波長１４６ｎｍ  励起波長１７２ｎｍ
での最大輝度        での最大輝度
────────────────────────────────────────
実施例１（ＣＭＳ：Ｅｕ2+＋ＭｇＯ：Ｆ）      １２９              １５２
────────────────────────────────────────
比較例１（ＣＭＳ：Ｅｕ2+）                  １００              １００
参考例１（ＢＡＭ：Ｅｕ2+）                  １０５              ２００
────────────────────────────────────────
なお、表１中の値は、比較例１で得られた最大輝度を１００とした相対値である。
【００４８】
表１に示す結果から明らかなように、フッ素含有酸化マグネシウム層を介して形成されたＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層（実施例１）は、ＣＭＳ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層単独（比較例１）と比較して波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍのいずれの真空紫外線においても輝度が向上することが分かる。また、ＢＡＭ：Ｅｕ2+青色発光蛍光体層単独（参考例１）と比較しても、通常のＡＣ型ＰＤＰにおいて放電ガスから中心的に発生する波長１４６ｎｍの真空紫外線に対しては高い輝度を示すことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明に従うＡＣ型ＰＤＰの一例の斜視図である。
【図２】図１に示したＡＣ型ＰＤＰのＡ−Ａ線断面図である。
【図３】本発明に従うＡＣ型ＰＤＰの別の一例の断面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１０  放電空間
２０  前面板
２１  透明ガラス基板
２２  透明電極
２３  バス電極
２４ａ、２４ｂ  列電極
２５  放電電極
２６  誘電体層
２７  誘電体保護層
３０  背面板
３１  基板
３２  アドレス電極
３３  誘電体層
３４  隔壁
３５Ｂ  青色発光蛍光体層
３５Ｇ  緑色発光蛍光体層
３５Ｒ  赤色発光蛍光体層
３６  波長変換層
４０  波長変換層
【図１】
0004741420.tif 000002
【図２】
0004741420.tif 000003
【図３】
0004741420.tif 000004