(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって：
前記光源からの前記照明光を、第１の回折格子に照射する工程と；
前記第１の回折格子により生じた回折光を、前記第１の回折格子に対向して配置した第２の回折格子に照射する工程と；
前記第２の回折格子により生じた回折光を、前記第２の回折格子に対向して近接して配置した前記感光性の基板上に照射する工程と；
を含むとともに、
前記第１の回折格子および前記第２の回折格子として、２次元的な周期を有する回折格子を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記第１の回折格子の第１の所定方向の周期が、前記第２の回折格子の前記第１の所定方向の周期の概２倍であり、
前記第１の回折格子の第２の所定方向の周期が、前記第２の回折格子の前記第２の所定方向の周期の概２倍であることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記第１の回折格子に照射する前記照明光として、前記第２の回折格子において周期が極小となる第１の方向に直交する方向の電場成分が、前記第１の方向の電場成分よりも大きな照明光を用いることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項４】
前記第１の回折格子に照射する前記照明光の発散角が、調整可能であることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項５】
前記第１の回折格子に照射する前記照明光が通り得る光路の発散角が、調整可能であることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項６】
前記発散角の調整を、前記感光性の基板の伸縮に応じて行なうことを特徴とする請求項５に記載の露光方法。
【請求項７】
前記第１の回折格子に照射する前記照明光の強度分布と、前記第１の回折格子との相対的位置関係を時間と共に変化させることにより、前記照明光の前記第１の回折格子上における積算強度分布を、前記第１の回折格子の中心部を含む所定の領域において、概均一化することを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項８】
前記第２の回折格子と前記基板との、前記基板の面内方向における相対位置関係を、
前記第２の回折格子の第１の所定方向の周期の整数倍の長さだけ前記第１の所定方向にずらしつつ、または、前記第２の回折格子の第２の所定方向の周期の整数倍の長さだけ前記第２の所定方向にずらしつつ、前記各工程を複数回繰り返して行なうことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項９】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔は、１μｍより大きく、５００μｍより小さいことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１０】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔は、５μｍより大きく、１００μｍより小さいことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１１】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔Ｄは、前記照明光の実効波長をλ、前記第２の回折格子の有する最小周期をＴとして、
３０×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たすことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１２】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔Ｄは、前記照明光の実効波長をλ、前記第２の回折格子の有する最小周期をＴとして、
１００×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たすことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１３】
前記第２の回折格子と前記基板の間、及び前記第１の回折格子と前記第２の回折格子の間の、少なくとも一方を、前記露光波長における屈折率が１．２以上の誘電体で満たすことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１４】
前記誘電体のうちの一部は、水であることを特徴とする請求項１３に記載の露光方法。
【請求項１５】
前記第２の回折格子は、第２の透光性平板の前記基板側の表面、または第２の透光性平板内の前記基板側の表面の近傍に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１６】
前記第１の回折格子の前記光源側に、透光性の平板または薄膜を設けることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１７】
前記第２の回折格子の前記基板側に、透光性の平板または薄膜を設けることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１８】
前記照明光の時間的可干渉距離は、１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項１９】
光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって：
前記基板の前記光源側に、前記照明光の実効波長の２倍以下の周期を有する回折格子を近接して対向配置する工程と；
前記光源からの前記照明光の強度分布と前記回折格子との相対的位置関係を、時間と共に変化させつつ、前記照明光を前記回折格子に照射する工程と；
前記回折格子により生じた回折光を、前記基板上に照射する工程と；
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２０】
前記相対的位置関係の変化は、前記回折格子を固定しつつ、前記照明光の強度分布を移動することにより行なうことを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項２１】
前記回折格子として、透過光の位相を変調する位相変調型の回折格子を用いることを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項２２】
前記回折格子として、透過光の強度を変調する強度変調型の回折格子を用いることを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項２３】
前記回折格子として、２次元的な周期を有する回折格子を用いることを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項２４】
前記回折格子として、１次元的な周期を有する回折格子を用いるとともに、
前記回折格子に照射する前記照明光として、前記回折格子の前記周期方向に直交する方向の電場成分が、前記回折格子の前記周期方向の電場成分よりも大きな照明光を用いることを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項２５】
前記回折格子に照射する前記照明光として、前記回折格子において周期が極小となる第１の方向に直交する方向の電場成分が、前記第１の方向の電場成分よりも大きな照明光を用いることを特徴とする請求項２３に記載の露光方法。
【請求項２６】
前記回折格子に照射する前記照明光の発散角が、調整可能であることを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項２７】
前記回折格子に照射する前記照明光が通り得る照明光路の発散角が、調整可能であることを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項２８】
前記発散角の調整を、前記感光性の基板の伸縮に応じて行なうことを特徴とする請求項２７に記載の露光方法。
【請求項２９】
前記回折格子と前記基板との、前記基板の面内方向における相対位置関係を、
前記回折格子の前記周期の方向と直交する方向にずらしつつ、または、前記回折格子の前記周期の整数倍の長さだけ前記周期の方向にずらしつつ、
前記各工程を複数回繰り返して行なうことを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項３０】
前記回折格子と前記基板の間隔は、１μｍより大きく、５００μｍより小さいことを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項３１】
前記回折格子と前記基板の間隔は、５μｍより大きく、１００μｍより小さいことを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項３２】
前記回折格子と前記基板の間隔Ｄは、前記照明光の実効波長をλ、前記回折格子の有する最小周期をＴとして、
３０×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たすことを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項３３】
前記回折格子と前記基板の間隔Ｄは、前記照明光の実効波長をλ、前記回折格子の有する最小周期をＴとして、
１００×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たすことを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項３４】
前記回折格子と前記基板の間を、前記露光波長における屈折率が１．２以上の誘電体で満たすことを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項３５】
前記誘電体のうちの一部は、水であることを特徴とする請求項３４に記載の露光方法。
【請求項３６】
前記回折格子の前記基板側に、透光性の平板または薄膜を設けることを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項３７】
前記照明光の時間的可干渉距離は、１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１９に記載の露光方法。
【請求項３８】
光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって：
前記光源からの前記照明光を、第１の回折格子に照射する工程と；
前記第１の回折格子により生じた回折光を、前記第１の回折格子に対向して配置した第２の回折格子に照射する工程と；
前記第２の回折格子により生じた回折光を、前記第２の回折格子に対向して近接して配置した前記感光性の基板上に照射する工程と；
を含むとともに、
前記第１の回折格子に照射する前記照明光の発散角が、調整可能であることを特徴とする露光方法。
【請求項３９】
前記発散角の調整を、前記感光性の基板の伸縮に応じて行なうことを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項４０】
前記第１の回折格子に照射する前記照明光の強度分布と、前記第１の回折格子との相対的位置関係を時間と共に変化させることにより、前記照明光の前記第１の回折格子上における積算強度分布を、前記第１の回折格子の中心部を含む所定の領域において、概均一化することを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項４１】
前記第２の回折格子と前記基板との、前記基板の面内方向における相対位置関係を、
前記第２の回折格子の第１の所定方向の周期の整数倍の長さだけ前記第１の所定方向にずらしつつ、または、前記第２の回折格子の第２の所定方向の周期の整数倍の長さだけ前記第２の所定方向にずらしつつ、前記各工程を複数回繰り返して行なうことを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項４２】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔は、１μｍより大きく、５００μｍより小さいことを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項４３】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔は、５μｍより大きく、１００μｍより小さいことを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項４４】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔Ｄは、前記照明光の実効波長をλ、前記第２の回折格子の有する最小周期をＴとして、
３０×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たすことを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項４５】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔Ｄは、前記照明光の実効波長をλ、前記第２の回折格子の有する最小周期をＴとして、
１００×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たすことを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項４６】
前記第２の回折格子と前記基板の間、及び前記第１の回折格子と前記第２の回折格子の間の、少なくとも一方を、前記露光波長における屈折率が１．２以上の誘電体で満たすことを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項４７】
前記誘電体のうちの一部は、水であることを特徴とする請求項４６に記載の露光方法。
【請求項４８】
前記第２の回折格子は、第２の透光性平板の前記基板側の表面、または第２の透光性平板内の前記基板側の表面の近傍に形成されていることを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項４９】
前記第１の回折格子の前記光源側に、透光性の平板または薄膜を設けることを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項５０】
前記第２の回折格子の前記基板側に、透光性の平板または薄膜を設けることを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項５１】
前記照明光の時間的可干渉距離は、１００μｍ以下であることを特徴とする請求項３８に記載の露光方法。
【請求項５２】
電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、請求項１から５１のいずれか一項に記載の露光方法を用いることを特徴とする電子デバイス製造方法。
【請求項５３】
電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、投影露光装置を用いた投影露光方法と請求項１から５１のいずれか一項に記載の露光方法との合成露光を用いることを特徴とする電子デバイス製造方法。
【請求項５４】
請求項５２に記載の電子デバイス製造方法により製造されたことを特徴とする電子デバイス。
【請求項５５】
請求項５３に記載の電子デバイス製造方法により製造されたことを特徴とする電子デバイス。
【請求項５６】
光源からの照明光と第１の透光性平板に形成された第１の回折格子と第２の透光性平板に形成された第２の回折格子とによって生成される干渉パターンを、感光性の基板上に露光するための露光装置であって：
前記光源と前記第１の回折格子の間に配置される前記光源からの前記照明光を前記第１の回折格子に照射する照明光学系であって、前記第１の回折格子に照射する照明光の発散角を可変とする照明光学系を有することを特徴とする露光装置。
【請求項５７】
前記第１の回折格子に照射する照明光の発散角の可変は、前記照明光学系に含まれる光学部材の少なくとも一部を移動することにより行なうことを特徴とする請求項５６に記載の露光装置。
【請求項５８】
前記第１の回折格子に照射する前記照明光の強度分布の、前記第１の回折格子との相対的位置関係を時間と共に変化させる照明光分布可変機構を有し、
前記照明光の前記第１の回折格子上における積算強度分布を、前記第１の回折格子の中心部を含む所定の領域において、概均一化可能なことを特徴とする請求項５６または５７に記載の露光装置。
【請求項５９】
前記照明光分布可変機構は、前記照明光学系中に設けられた可動機構よりなることを特徴とする請求項５８に記載の露光装置。
【請求項６０】
前記照明光分布可変機構は、前記照明光学系中に設けられた少なくとも２枚の反射部材の並進可動機構よりなることを特徴とする請求項５８に記載の露光装置。
【請求項６１】
前記照明光分布可変機構は、前記照明光学系に対し、前記第１の回折格子、前記第２の回折格子、前記基板を一体的に、相対的に移動せしめる機構からなることを特徴とする請求項５８に記載の露光装置。
【請求項６２】
前記第１の透光性平板に形成された前記第１の回折格子を所定の位置に保持する第１保持機構と；
前記第２の透光性平板に形成された前記第２の回折格子を、前記第１の回折格子に対して対向する位置に整合して保持する第２保持機構と；
前記基板を前記第２の回折格子に対して近接して対向する位置に、整合して保持する基板保持機構と；
を有することを特徴とする請求項５６または５７に記載の露光装置。
【請求項６３】
前記基板保持機構は、前記第１の回折格子の周期の方向と、前記第２の回折格子の周期の方向との回転関係を整合して保持することを特徴とする請求項６２に記載の露光装置。
【請求項６４】
前記第１の透光性平板を交換する第１の交換機構、または前記第２の透光性平板を交換する第２の交換機構の少なくとも一方を有することを特徴とする請求項５６または５７に記載の露光装置。
【請求項６５】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔を、１μｍより大きく、５００μｍより小さく設定することを特徴とする請求項５６または５７に記載の露光装置。
【請求項６６】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔を、５μｍより大きく、１００μｍより小さく設定することを特徴とする請求項５６または５７に記載の露光装置。
【請求項６７】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔Ｄを、前記照明光の実効波長をλ、前記第２の回折格子の有する最小周期をＴとして、
３０×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たす様に設定することを特徴とする請求項５６または５７に記載の露光装置。
【請求項６８】
前記第２の回折格子と前記基板の間隔Ｄを、前記照明光の実効波長をλ、前記第２の回折格子の有する最小周期をＴとして、
１００×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たす様に設定することを特徴とする請求項５６または５７に記載の露光装置。
【請求項６９】
前記第２の回折格子と前記基板の間の少なくとも一部分、及び前記第１の回折格子と前記第２の回折格子の間の少なくとも一部分の、少なくとも一方を、前記露光波長における屈折率が１．２以上の誘電性液体で満たす液体供給機構を有することを特徴とする請求項５６または５７に記載の露光装置。
【請求項７０】
前記誘電性液体は水であることを特徴とする請求項６９に記載の露光装置。
【請求項７１】
前記照明光の時間的可干渉距離は、１００μｍ以下であることを特徴とする請求項５６または５７に記載の露光装置。
【請求項７２】
光源からの照明光と透光性平板に形成された回折格子とによって生成される干渉パターンを、感光性の基板上に露光するための露光装置であって：
前記光源と前記回折格子との間に設けられ、前記光源からの前記照明光を前記透光性平板に照射する照明光学系と；
前記透光性平板を所定の位置に保持する第１保持機構と；
前記基板を前記透光性平板に対して近接して対向する位置に整合して保持する基板保持機構と；
を有し、
前記照明光の強度分布の前記透光性平板との相対的位置関係を時間と共に変化させる照明光分布可変機構を有し、前記照明光の前記透光性平板における積算強度分布を、前記透光性平板の中心部を含む所定の領域において、概均一化可能なことを特徴とする露光装置。
【請求項７３】
前記照明光分布可変機構は、前記照明光学系中に設けられた可動機構よりなることを特徴とする請求項７２に記載の露光装置。
【請求項７４】
前記照明光分布可変機構は、前記照明光学系中に設けられた少なくとも２枚の反射部材の並進可動機構よりなることを特徴とする請求項７２に記載の露光装置。
【請求項７５】
前記照明光分布可変機構は、前記照明光学系に対し、前記透光性平板及び前記基板を一体的に、相対的に移動せしめる機構からなることを特徴とする請求項７２に記載の露光装置。
【請求項７６】
前記照明光学系は、前記透光性平板に照射する照明光の発散角を可変にできることを特徴とする請求項７２に記載の露光装置。
【請求項７７】
前記透光性平板と前記基板の間隔を、１μｍより大きく、５００μｍより小さく設定することを特徴とする請求項７２から７６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７８】
前記透光性平板と前記基板の間隔を、５μｍより大きく、１００μｍより小さく設定することを特徴とする請求項７２から７６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７９】
前記回折格子と前記基板の間隔Ｄを、前記照明光の実効波長をλ、前記回折格子の有する最小周期をＴとして、
３０×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たす様に設定することを特徴とする請求項７２から７６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８０】
前記回折格子と前記基板の間隔Ｄを、前記照明光の実効波長をλ、前記回折格子の有する最小周期をＴとして、
１００×Ｔ2／λ ≦ Ｄ
の関係を満たす様に設定することを特徴とする請求項７２から７６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８１】
前記透光性平板と前記基板の間の少なくとも一部分を、前記露光波長における屈折率が１．２以上の誘電性液体で満たす液体供給機構を有することを特徴とする請求項７２から７６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８２】
前記誘電性液体は水であることを特徴とする請求項８１に記載の露光装置。
【請求項８３】
前記照明光の時間的可干渉距離は、１００μｍ以下であることを特徴とする請求項７２から７６のいずれか一項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等の電子デバイス製造工程における、微細パターンの形成工程で使用される露光方法および該露光方法を用いる電子デバイス製造方法、ならびに当該方法に用いて好適な露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路等の電子デバイスの製造工程における微細パターンの形成に際しては、一般的にフォトリソグラフィー技術が使用される。これは、ウエハ等の被加工基板の表面にフォトレジスト（感光性薄膜）を形成し、形成すべきパターンの形状の応じた光量分布を有する露光光の露光工程、現像工程及びエッチング工程等により、被加工基板上に所望のパターンを形成するものである。【０００３】
現状の最先端の電子デバイスの製造の上記露光工程においては、露光方法として、主に投影露光方法が使用されている。
これは、マスク（レチクルともいう）上に、形成すべきパターンを４倍または５倍に拡大して形成しておき、これに照明光を照射し、その透過光を縮小投影光学系を用いてウエハ上に露光転写するものである。【０００４】
投影露光方法で形成可能なパターンの微細度は縮小投影光学系の解像度で決まり、これは露光波長を投影光学系の開口数（ＮＡ）で割った値に概ね等しい。従って、より微細な回路パターンを形成するためには、より短波長の露光光源とより高ＮＡの投影光学系が必要である。【０００５】
一方、マスク上に形成したパターンを、投影光学系を介することなくウエハ上に露光する露光方法（以下「プロキシミティ露光方法」という）も存在する。プロキシミティ露光方法は、転写すべきパターンが等倍で形成されたマスクをウエハに対して近接して対向して配置し、マスクに照明光を照射することにより、マスクの明暗パターンをそのままの形状を保ってウエハ上に転写するものである。【０００６】
また、等倍のマスクとウエハを密着させた状態でマスクに照明光を照射し、マスクの明暗パターンをそのままウエハに転写する「コンタクト露光方法」もある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述の従来の露光方法のうち投影露光方法においては、より高解像度を得るには、より短波長の光源と、より高ＮＡの投影光学系が必要になる。
しかしながら、現在最先端の露光装置では、露光光の波長は１９３ｎｍに短波長化されており、今後の一層の短波長化は使用可能なレンズ材料の観点から困難な状況にある。【０００８】
また、現在最先端の投影光学系のＮＡは０．９２程度に達しており、これ以上の高ＮＡ化は困難な状況にあるとともに、露光装置の製造コストを大幅に上昇させる原因となる。
一方、コンタクト露光方法は、マスクと基板を接触させつつ露光を行なうことから、露光に伴うマスクの損傷や汚染を避けることが難しい。従って、マスクの消耗に伴うランニングコストが高額化するため、量産に適用することは困難である。【０００９】
プロキシミティ露光方法では、ウエハとマスクとを１０から２０μｍ以上の間隔をもって対向して近接配置するためマスクの損傷の防止には効果がある。しかし、上記間隔に起因して転写パターンにはボケが生じるため、露光光の波長程度あるいはそれ以下の微細パターンの転写には適用困難である。【００１０】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、微細なパターン、具体的には露光光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能な露光方法の提供を目的とする。
また、本発明は、上記露光方法を用いた電子デバイスの製造方法の提供をするとともに、上記露光方法に使用して好適な露光装置を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の露光方法は、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって、その光源からのその照明光を、第１の回折格子に照射する工程と、その第１の回折格子により生じた回折光を、その第１の回折格子に対向して配置した第２の回折格子に照射する工程と、その第２の回折格子により生じた回折光を、その第２の回折格子に対向して近接して配置したその感光性の基板上に照射する工程とを含むとともに、前記第１の回折格子および前記第２の回折格子として、２次元的な周期を有する回折格子を用いるものである。
本第１の露光方法によれば、２次元的な周期を有する微細パターンを、感光性の基板上に安価に形成することができる。【００１２】
あるいは、本第１の露光方法においては、その第１の回折格子に照射するその照明光の発散角が、調整可能であるとすることもできる。
あるいは、その第１の回折格子に照射する前記照明光が通り得る光路の発散角が、調整可能であるとすることもできる。そして、その発散角の調整を、その感光性の基板の伸縮に応じて行なうこととすることもできる。【００１３】
また、本第１の露光方法では、その第１の回折格子に照射するその照明光の強度分布と、その第１の回折格子との相対的位置関係を時間と共に変化させることにより、その照明光のその第１の回折格子上における積算強度分布を、その第１の回折格子の中心部を含む所定の領域において、概均一化することもできる。【００１４】
さらに、本第１の露光方法では、その第２の回折格子とその基板との、その基板の面内方向における相対位置関係を、その第２の回折格子のその周期の方向と直交する方向にずらしつつ、または、その第２の回折格子のその周期の整数倍の長さだけその周期の方向にずらしつつ、その各工程を複数回繰り返して、その基板への露光を行なうこともできる。【００１５】
また、本第１の露光方法では、その第２の回折格子とその基板の間、及びその第１の回折格子とその第２の回折格子の間の、少なくとも一方を、その露光波長における屈折率が１．２以上の誘電体で満たすこともできる。【００１６】
本発明の第２の露光方法は、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって、その基板のその光源側に、その照明光の実効波長の２倍以下の周期を有する回折格子を近接して対向配置する工程と、その光源からのその照明光の強度分布とその回折格子との相対的位置関係を、時間と共に変化させつつ、その照明光をその回折格子に照射する工程と、その回折格子により生じた回折光を、その基板上に照射する工程とを含むものである。
本第２の露光方法によれば、微細パターンを、感光性の基板上に安価に形成することができる。【００１７】
そして、その相対的位置関係の変化は、その回折格子を固定しつつ、その照明光の強度分布を移動することにより行なうこととすることもできる。
また、その回折格子に照射するその照明光の発散角が、調整可能であるとすることもできる。
あるいは、その回折格子に照射するその照明光が通り得る照明光路の発散角が、調整可能であるとすることもできる。そして、その発散角の調整を、その感光性の基板の伸縮に応じて行なうこととすることもできる。【００１８】
また、その回折格子とその基板との、その基板の面内方向における相対位置関係を、その回折格子のその周期の方向と直交する方向にずらしつつ、または、その回折格子のその周期の整数倍の長さだけその周期の方向にずらしつつ、その各工程を複数回繰り返してその露光を行なうこともできる。
なお、その回折格子とその基板の間を、その露光波長における屈折率が１．２以上の誘電体で満たすこともできる。【００１９】
本発明の第３の露光方法は、光源からの照明光により感光性の基板上にパターンを露光する露光方法であって、その光源からの前記照明光を第１の回折格子に照射する工程と、その第１の回折格子により生じた回折光を、その第１の回折格子に対向して配置した第２の回折格子に照射する工程と、その第２の回折格子により生じた回折光を、その第２の回折格子に対向して近接して配置したその感光性の基板上に照射する工程とを含むとともに、その第１の回折格子に照射するその照明光の発散角が、調整可能であるものである。
本第３の露光方法によれば、露光すべき基板に伸縮が発生していた場合にも、その基板上に形成される干渉縞の周期を拡大または収束することにより、その基板の伸縮を補正して露光することができる。【００２０】
また、前記発散角の調整を、その基板の伸縮に応じて行なうこともできる。
さらには、その第２の回折格子とその基板の間、及びその第１の回折格子とその第２の回折格子の間の、少なくとも一方を、その露光波長における屈折率が１．２以上の誘電体で満たすものとすることもできる。
本発明の電子デバイス製造方法に関する第１の発明は、電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、本発明の露光方法を用いるものである。【００２１】
また、本発明の電子デバイス製造方法に関する第２の発明は、電子デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、投影露光装置を用いた投影露光方法と本発明の露光方法との合成露光を用いるものである。【００２２】
本発明の第１の露光装置は、光源からの照明光と第１の透光性平板に形成された第１の回折格子と第２の透光性平板に形成された第２の回折格子とによって生成される干渉パターンを、感光性の基板上に露光するための露光装置であって、その光源からのその照明光をその第１の回折格子に照射する照明光学系であって、前記第１の回折格子に照射する照明光の発散角を可変とする照明光学系を有するものである。【００２３】
本第１の露光装置によれば、微細パターンを、感光性の基板上に安価に形成することができる。そして、露光すべき基板に伸縮が発生していた場合にも、その基板上に形成される干渉縞の周期を拡大または収束することにより、その基板の伸縮を補正して露光することができる。
その第１の回折格子に照射する照明光のその発散角の可変は、その照明光学系に含まれる光学部材の少なくとも一部を移動することにより行なうものとすることもできる。【００２４】
なお、その第１の回折格子に照射するその照明光の強度分布を、その第１の回折格子との相対的位置関係を時間と共に変化させる照明光分布可変機構を有し、その照明光の前記第１の回折格子上における積算強度分布を、その第１の回折格子の中心部を含む所定の領域において、概均一化可能ならしめることもできる。【００２５】
また、その第２の回折格子とその基板の間の少なくとも一部分、及びその第１の回折格子とその第２の回折格子の間の少なくとも一部分の、少なくとも一方を、その露光波長における屈折率が１．２以上の誘電性液体で満たす液体供給機構を有するものとすることもできる。【００２６】
本発明の第２の露光装置は、光源からの照明光と透光性平板に形成された回折格子とによって生成される干渉パターンを、感光性の基板上に露光するための露光装置であって、その光源とその回折格子との間に設けられ、その光源からのその照明光をその透光性平板に照射する照明光学系と、その透光性平板を所定の位置に保持する第１保持機構と、その基板をその透光性平板に対して近接して対向する位置に整合して保持する基板保持機構とを有し、その照明光の強度分布のその透光性平板との相対的位置関係を時間と共に変化させる照明光分布可変機構を有し、その照明光のその透光性平板における積算強度分布を、その透光性平板の中心部を含む所定の領域において、概均一化可能ならしめるものである。【００２７】
本第２の露光装置によれば、微細パターンを、感光性の基板上に安価に形成することができる。
また、その照明光学系は、前記透光性平板に照射する照明光の発散角を可変とすることもできる。
また、その透光性平板と前記基板の間の少なくとも一部分を、前記露光波長における屈折率が１．２以上の誘電性液体で満たす液体供給機構を有するものとすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の露光装置の概略を示す一部を切り欠いた図であり、図１（Ａ）は光源１から偏向ミラー１１に至るまでの光路の上流を示す図、図１（Ｂ）はＹ可動ミラー１２以降の光路の下流を示す図である。
【図２】本発明の露光装置の概略を示す平面図である。
【図３】第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２と第２の回折格子Ｇ２１とウエハＷの位置関係、および回折光ＬＰ，ＬＭ，ＬＰ０，ＬＰ１を示す断面図である。
【図４】ウエハＷ上に形成される干渉縞の強度分布を示す断面図である。
【図５】照明光の入射角度ずれが、ウエハＷ上に形成される干渉縞の強度分布の位置ずれに与える影響を説明する図である。
【図６】第１の透光性平板への照明光の入射角度の面内変化を説明する図である。
【図７】第１の透光性平板への照明光の発散／収束について説明する図である。
【図８】第１の回折格子及び第２の回折格子Ｇ２１の一例について説明する図であり、図８（Ａ）は第１の透光性平板Ｐ１上に形成した第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２を示す図、図８（Ｂ）は第２の透光性平板Ｐ２上に形成した第２の回折格子Ｇ２１を示す図である。
【図９】第１の回折格子及び第２の回折格子の他の例について説明する図であり、図９（Ａ）は第１の透光性平板Ｐ１ａ上に形成した第１の回折格子Ｇ１３，Ｇ１４を示す図、図９（Ｂ）は第２の透光性平板Ｐ２ａ上に形成した第２の回折格子Ｇ２２を示す図である。
【図１０】図９（Ａ）および図９（Ｂ）に示した如き第１の回折格子及び第２の回折格子から発生する回折光の回折角度分布について説明する図であり、図１０（Ａ）は第１の透光性平板Ｐ１ａ上に形成した第１の回折格子Ｇ１３，Ｇ１４から発生する回折光の角度分布について説明する図、図１０（Ｂ）は第２の透光性平板Ｐ２ａ上に形成した第２の回折格子Ｇ２２から発生する回折光の角度分布を示す図である。
【図１１】照明光ＩＬ８の強度分布と第１の透光性平板Ｐ１との相対位置関係の変化について説明する図である。
【図１２】第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２、第２の回折格子Ｇ２１、ウエハＷと、薄膜ＰＥ１，ＰＥ２との位置関係を示す断面図である。
【図１３】第２の回折格子Ｇ２１の近傍に保護層ＰＥ３を設けた状態を示す図である。
【図１４】第１の回折格子Ｇ１５，Ｇ１６と第２の回折格子Ｇ２３を、第１の透光性平板Ｐ３の両面のそれぞれに設けた状態を示す図である。
【図１５】回折格子Ｇ１７，Ｇ１８を、透光性平板Ｐ４のウエハＷ側に設けた状態を示す図である。
【図１６】第１の透光性平板Ｐ１の保持機構３６ａ、第２の透光性平板Ｐ２の保持機構３７ａを示す図である。
【図１７】第２の透光性平板Ｐ２の交換機構４２等を示す図であり、図１７（Ａ）は交換機構４２等を示す底面図、図１７（Ｂ）は図１７（Ａ）のＡ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図１８】ウエハＷと第２の透光性平板Ｐ２の間等に液体を満たす機構の説明図であり、図１８（Ａ）はウエハＷと第２の透光性平板Ｐ２の間にのみ液体を満たす機構の説明図、図１８（Ｂ）はさらに透光性平板Ｐ２と透光性平板Ｐ１との間にも液体を満たす機構の説明図である。
【図１９】透光性平板Ｐ２と透光性平板Ｐ１との間に液体を満たす機構の説明図である。
【符号の説明】
【００２９】
１…光源、２，３，５，７…コリメーターレンズ、１２…Ｙ可動ミラー、１４…Ｘ可動ミラー、ＦＳ…視野絞り、２４，２５，２６，２７…照明系前群レンズ、２９，３０，３２，３５…照明系後群レンズ、Ｐ１…第１の透光性平板、Ｐ２…第２の透光性平板、３６ａ，３６ｂ…第１保持機構、３７ａ，３７ｂ…第２保持機構、Ｗ…基板（ウエハ），３８…ウエハステージ，４０…レーザ干渉計、Ｇ１１，Ｇ１２，Ｇ１３，Ｇ１４…第１の回折格子、Ｇ２１，Ｇ２２…第２の回折格子、ＩＬ１〜ＩＬ８…照明光
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の実施形態について説明する。
図１は、本発明の露光装置の第１の実施例を表わす側面図（断面図）であり、図１（Ａ）は、露光装置のうち光源１から偏向ミラー１１に至るまでの、光路の上流部分を表わす図であり、（Ｂ）はＹ可動ミラー１２以降の光路の下流部分を表わす図である。【００３１】
一方、図２は、上記本発明の露光装置の第１の実施例を表わす平面図である。
図１及び図２中に示したＸＹＺ座標系は、それぞれ同一の座標系（方向）を示すものであり、これは以降の各図に於いても同様である。【００３２】
以下、図１及び図２を併用して本発明の露光装置の第１の実施例について説明する。
ＡｒＦ（アルゴン・フッ素）エキシマーレーザ，ＫｒＦ（クリプトン・フッ素）エキシマーレーザ，Ｆ２（フッ素ダイマー）レーザ、または波長変換素子を使用する高調波レーザー等の光源１を発した照明光ＩＬ１は、コリメーターレンズ群２，３，５，７により、所定のビームサイズを有する平行光線束（平行ビーム）である照明光ＩＬ２に変換される。【００３３】
照明光ＩＬ２は、偏光制御素子１０により所定の偏光状態に設定され照明光ＩＬ３となり、偏向ミラー１１で反射され折り曲げられて照明光ＩＬ４となる。図２に示す通り、照明光ＩＬ４は−Ｙ方向に進行しＹ可動ミラー１２に至る。【００３４】
Ｙ可動ミラー１２を保持するＹミラー保持機構１３は、ボールネジ等のＹ伝達部材２２を介してＹ駆動機構２１によって、定盤１６上をＹ方向ガイド２３ａ，２３ｂに沿ってＹ方向に移動可能である。【００３５】
Ｙ可動ミラー１２で反射した照明光ＩＬ５は、図中−Ｘ方向に進行し、Ｘ可動ミラー１４に至る。
Ｘ可動ミラー１４を保持するＸミラー保持機構１５は、ボールネジ等のＸ伝達部材１８を介してＸ駆動機構１８によって、定盤１６上をＸ方向ガイド２０ａ，２０ｂに沿ってＸ方向に移動可能である。【００３６】
なお、Ｘミラー保持機構１５及びＹミラー保持機構１３は、リニアモーター等により駆動させることもできる。
Ｘ可動ミラー１４で反射された照明光ＩＬ６は、定盤１６上に設けられた開口部１７を通り、照明系前群レンズ２４，２５，２６，２７に入射し、これらのレンズで屈折され照明光ＩＬ７となって集光点２８上に集光する。【００３７】
その後照明光ＩＬ７は、照明系後群レンズ２９，３０，３２，３５に入射し、これらのレンズで屈折され、再度平行な照明光ＩＬ８となって第１の透光性平板Ｐ１に入射する。
なお、以上のコリメーターレンズ群２，３，５，７から照明系後群レンズ２９，３０，３２，３５に至るまでの照明光ＩＬ１〜ＩＬ８の光路上の光学部材を、以下、照明光学系という。【００３８】
なお、照明系前群レンズの最先のレンズ２４と定盤１６の間には、視野絞りＦＳが設けられる。この視野絞りＦＳは、Ｘミラー保持機構１５及びＹミラー保持機構１３によりＸＹ方向に可変となる照明光ＩＬ７が、ＸＹ面内の所定の領域以外に分布する場合にそれを遮光するものである。従って、視野絞りＦＳにより、照明光ＩＬ７及び照明光ＩＬ８が通り得る光路の外縁ＬＥａ，ＬＥｂが決定される。【００３９】
第１の透光性平板Ｐ１の下方（−Ｚ方向）には、第２の透光性平板Ｐ２が設けられる。
第２の透光性平板Ｐ２は、パターンを形成すべき加工対象である半導体ウエハ等の基板Ｗ（以降、適宜「ウエハ」ともいう）に、近接して対向して配置される。【００４０】
第１の透光性平板Ｐ１には後述する第１の回折格子が形成されており、その第１の回折格子に照明光ＩＬ８が照射されることにより発生する回折光は、第２の透光性平板Ｐ２に照射される。第２の透光性平板Ｐ２には後述する第２の回折格子が形成されており、上記回折光はその第２の回折格子に照射されることになる。そして、第２の回折格子で発生した回折光はウエハＷに照射され、ウエハＷ上に複数の回折光からなる干渉縞による明暗パターンが形成される。【００４１】
ウエハＷの表面には、上記明暗パターンを感光し記録するためのフォトレジストを形成しておく。すなわち、ウエハＷは感光性の基板とみることができる。
ウエハＷは、ウエハ定盤５０上をＸＹ方向に可動な基板保持機構であるウエハステージ３８上に保持され、これによりＸＹ方向に可動となっている。また、ウエハＷのＸ方向の位置はウエハステージ３８上に設けられた移動鏡３９の位置を介してレーザ干渉計４０により計測され、Ｙ方向の位置もウエハステージ３８上に設けられた不図示の移動鏡位置を介して不図示のレーザ干渉計により計測される。【００４２】
第２の透光性平板Ｐ２は、ウエハＷと後述する所定の間隔をもって近接して対向して配置するように、第２保持機構３７ａ，３７ｂによって保持される。また、第１の透光性平板Ｐ１は、第２の透光性平板Ｐ２と後述する所定の間隔をもって対向して配置するように、第１保持機構３６ａ，３６ｂによって保持される。【００４３】
ウエハＷの直径は一例として３００ｍｍであり、第２の透光性平板Ｐ２は一例としてウエハＷの表面の全面を覆う直径とする。同様に第１の透光性平板Ｐ１も一例として第２の透光性平板Ｐ２の表面の全面を覆う直径とする。ただし、後述する様に、第１の透光性平板Ｐ１の直径は、ウエハＷの直径よりも３０ｍｍ程度以上大きいことが望ましい。【００４４】
次に、本発明によってウエハＷ上に形成される干渉縞の明暗パターンについて、図３、図４及び図８を用いて説明する。
図３は、相互に対向して配置された第１の透光性平板Ｐ１、第２の透光性平板Ｐ２及びウエハＷの断面を表わす図である。第１の透光性平板Ｐ１、第２の透光性平板Ｐ２は合成石英等の、紫外線に対する透過性が高く、熱膨張係数（線膨張係数）の値が小さく従って露光光の吸収に伴う熱変形の小さな材料で形成する。特に光源１としてＦ２レーザを使用する場合には、フッ素の添加された合成石英を使用することが好ましい。【００４５】
第１の透光性平板Ｐ１の＋Ｚ側すなわち光源側の表面には、Ｘ方向に周期性を有する１次元の位相変調型の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２が形成されている。一方、第２の透光性平板Ｐ２の−Ｚ側すなわちウエハＷ側の表面には、Ｘ方向に周期性を有する１次元の強度変調型の回折格子Ｇ２１が形成されている。【００４６】
これらの回折格子Ｇ１１，Ｇ１２，Ｇ２１について図８を用いて説明する。
図８（Ａ）は、第１の透光性平板Ｐ１を＋Ｚ側から見た図であり、その表面にはＹ方向に長手方向を有し、Ｘ方向に１次元的な周期Ｔ１を有する、位相変調型の第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２が形成されている。第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２は、いわゆるクロムレス位相シフトレチクルの様に第１の透光性平板Ｐ１の表面部分Ｇ１２と、当該平板表面をエッチング等により掘り込んだ掘り込み部分Ｇ１１からなる。掘り込み部分Ｇ１１の深さは、その表面部Ｇ１２を透過する照明光と掘り込み部Ｇ１２を透過する照明光との間に１８０度の位相差が形成されるように設定される。その掘り込み深さは、露光光の波長λ０，第１の透光性平板Ｐ１の屈折率ｎ，任意の自然数ｍに対し、（２ｍ−１）λ０／（２（ｎ−１））である。【００４７】
また、表面部分Ｇ１２と掘り込み部分Ｇ１１の幅の比率（デューティ比）は、１：１とすることが好ましい。
図８（Ｂ）は、第２の透光性平板Ｐ２を＋Ｚ側から見た図であり、その裏面（ウエハＷ側の面）には、Ｙ方向に長手方向を有し、Ｘ方向に１次元的な周期Ｔ２を有する第２の回折格子Ｇ２１が形成されている。第２の回折格子Ｇ２１は、クロム，モリブデン，タングステン，タンタル等の金属あるいはそれらの酸化物、フッ化物または珪素化物や他の遮光性・減光性の材料の膜からなるものである。【００４８】
なお、図８（Ａ），（Ｂ）中では、説明の便宜上周期Ｔ１を第１の透光性平板Ｐ１の直径（一例として３００ｍｍ以上）の１割程度と表わしているが、実際には周期Ｔ１は例えば２４０ｎｍ程度、周期Ｔ２は例えば１２０ｎｍ程度であり、第１の透光性平板Ｐ１の直径に比して圧倒的に小さい。これは、図８（Ａ），（Ｂ）以外の各図においても同様である。【００４９】
以下、図３に戻り、照明光ＩＬ８の第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２及び第２の回折格子Ｇ２１への照射により、ウエハＷ上に干渉縞の明暗パターンが形成される原理について説明する。【００５０】
概平行な照明光ＩＬ８が照射されると、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２からはその周期Ｔ１に応じた回折光が発生する。第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２が、デューティ比１：１で位相差１８０度の位相変調型格子であれば、０次回折光は消失し発生しない。この場合、主に±１次光の２本の回折光が発生するが、±２次光等の高次回折光も発生する可能性もある。【００５１】
しかしながら、周期Ｔ１が照明光の実効波長λの２倍より短い場合には、２次光等の高次回折光は発生し得ない。従って、この場合には、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２からは、＋１次回折光ＬＰと−１次回折光ＬＭの２本のみが発生し、第１の透光性平板Ｐ１を透過して第２の透光性平板Ｐ２に入射する。【００５２】
ここで照明光の実効波長λとは、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２からウエハＷに至る照明光路上に存在する透光性媒質のうち、最低屈折率を有する媒質中における照明光の波長をいう。本例では、透光性平板Ｐ１と透光性平板Ｐ２とウエハＷの各間に空気（または窒素・希ガスでも良い）が存在するため、実効波長λ０は照明光の波長λ０を空気の屈折率（＝１）で除した値となる。【００５３】
続いて、＋１次回折光ＬＰと−１次回折光ＬＭは、第２の透光性平板Ｐ２のウエハＷ側の表面に設けられた第２の回折格子Ｇ２１に照射される。両回折光は対称であるため、以下＋１次回折光ＬＰについてのみ説明する。【００５４】
＋１次回折光ＬＰは、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２の周期Ｔ１により、第２の回折格子Ｇ２１に対して鉛直な方向（法線方向）から所定の角度だけ傾いて第２の回折格子Ｇ２１への入射する。【００５５】
その傾き角θ０は、第２の回折格子Ｇ２１が空気中に配置されていると仮定すると、
（式１）
ｓｉｎθ０＝λ／Ｔ１
により表わされる角である。
＋１次回折光ＬＰが、第２の回折格子Ｇ２１に照射されると、第２の回折格子Ｇ２１からも回折光が発生する。第２の回折格子Ｇ２１が強度変調型の回折格子であることから、当該回折光は、０次光を含む回折光となる。【００５６】
ここで、当該各回折光の発生する角度方向は、照射される照明光（＋１次回折光ＬＰ）の入射角の傾斜に応じて傾いたものとなる。すなわち、第２の回折格子Ｇ２１からは、照射された＋１次回折光ＬＰに平行な方向に進行する０次回折光ＬＰ０と、第２の回折格子Ｇ２１のＸ方向の周期Ｔ２に応じて回折される−１次回折光ＬＰ１が発生する。【００５７】
なお、第２の回折格子Ｇ２１の周期Ｔ２が、上記周期Ｔ１及び実効波長との関係で決まる所定の値より大きい場合には、不図示の＋１次回折光も発生する可能性がある。しかし、周期Ｔ２を、照明光の実効波長以下とすることで、実質的に不図示の＋１次回折光の発生を防止することができる。ここで、照明光の実効波長λとは、上記と同様である。【００５８】
この結果、ウエハＷ上には、０次回折光ＬＰ０と−１次回折光ＬＰ１の２本の回折光が照射されることとなり、これらの回折光の干渉により干渉縞の明暗パターンが形成される。
以下、図４を用いて、この干渉縞の明暗パターンについて説明する。【００５９】
図４は、０次回折光ＬＰ０と−１次回折光ＬＰ１の２本の回折光がウエハＷ上に形成する干渉縞の明暗分布を表わす断面図である。
上述の通り、０次回折光ＬＰ０は第２の回折格子Ｇ２１へ照射される＋１次回折光ＬＰと平行な方向に発生するから、０次回折光ＬＰ０はウエハＷの鉛直方向（法線方向）ＺＷに対して上述のθ０だけ傾いた入射角で照射される。【００６０】
一方、−１次回折光ＬＰ１は、Ｘ方向の周期Ｔ２によりＸ方向に回折し、入射角θ１でウエハＷに照射される。このとき、ウエハＷ上に形成される干渉縞ＩＦの明暗パターンの周期（強度分布の周期）Ｔ３は、
（式２）
Ｔ３ ＝ λ／（ｓｉｎθ０＋ｓｉｎθ１）
となる。これは干渉縞ＩＦの振幅分布の周期の半分に対応している。【００６１】
従って、ウエハＷ上には、その全面にＸ方向に周期Ｔ３を有するＹ方向に平行な明暗パターンが形成される。そして、ウエハＷ上に形成されたフォトレジストＰＲには、この明暗パターンが照射され露光される。【００６２】
一般に、干渉縞ＩＦの如く２本の光線束により形成される干渉縞は、ウエハＷがＺ方向に位置変動しても、そのコントラストの低下が極めて少なく、すなわちいわゆる焦点深度の大きな明暗パターンとなる。【００６３】
しかしながら、０次回折光ＬＰ０の入射角θ０と、−１次回折光ＬＰ１の入射角θ１が等しく無い場合（法線方向ＶＷに対して対称でない場合）には、ウエハＷのＺ方向位置ずれに応じて、干渉縞ＩＦのＸ方向位置が変動してしまう。【００６４】
そこで、干渉縞ＩＦのＸ方向位置を正確に制御したい場合には、ウエハＷに照射する０次回折光ＬＰ０の入射角θ０と、−１次回折光ＬＰ１の入射角θ１が等しくなるようにするとよい。このような条件は、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２に対して照明光ＩＬ８が垂直に入射することを前提として、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２の周期Ｔ１が第２の回折格子Ｇ２１の周期Ｔ２の概２倍であるときに実現される。そして、このときには、
（式３）
Ｔ２＝Ｔ３
の関係を満たす。【００６５】
なお、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２に及び第２の回折格子Ｇ２１の双方には製造誤差等が含まれるのものであるから、両格子の周期が厳密に２倍であることは実際には期待できない。従って、上記の概２倍とは、
（式４）
Ｔ２×２×０．９９９ ≦ Ｔ１ ≦ Ｔ２×２×１．００１
の条件を満たせば、概ね良いという意味である。上記条件を満たすことにより、ウエハＷのＺ方向の位置ずれが生じた場合であっても、ウエハＷの所定の位置に、干渉縞ＩＦの明暗パターンを照射することが可能となる。【００６６】
ここで、ウエハＷのＺ方向位置を所定の位置に厳格に制御可能であるなら、必ずしも、上記式４に示される条件を満たさなくても良い。
なお、上述の通り、照明光ＩＬ８は、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２に対して垂直に入射することが必要である。以下、この理由を、図５を用いて説明する。【００６７】
図５は、図３及び図４と同様に、第１の透光性平板Ｐ１、第２の透光性平板Ｐ２及びウエハＷと、ウエハＷ上に形成された干渉縞ＩＦａ，ＩＦｂの断面を表わす図である。ここで第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２の周期Ｔ１は、第２の回折格子Ｇ２１の周期Ｔ２の２倍であるとする。【００６８】
図５中の左側に示した干渉縞ＩＦａは、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２に対して垂直に入射する照明光ＩＬ８ａに起因して形成される干渉縞を表わす。このときには、図３及び図４に示した場合と同様に、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２からは＋１次回折光ＬＰａ及び−１次回折光ＬＭａが対称に発生し、それが第２の回折格子Ｇ２１に入射する。このうち＋１次回折光ＬＰａに着目すると、第２の回折格子Ｇ２１により発生する０次回折光ＬＰａ０と−１次回折光ＬＰａ１は等しい入射角で（対称に傾斜して）ウエハＷに入射する。【００６９】
従って、ウエハＷ上には、Ｘ方向に明暗の（強度の）周期Ｔ２を持つ干渉縞ＩＦａが、所定の位置に形成される。そしてその明部のピークのＸ方向位置は、第２の回折格子Ｇ２１の透過部の位置と正確に対応している。【００７０】
一方、図５中の右側に示した干渉縞ＩＦｂは、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２に対して角度φだけ傾いて入射する照明光ＩＬ８ｂに起因して形成される干渉縞を表わす。このときにも、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２からは＋１次回折光ＬＰｂ及び−１次回折光ＬＭｂが発生するが、その角度的な対称性は、照明光ＩＬ８ｂの入射角の傾斜に応じて崩れている。【００７１】
その結果、このうち＋１次回折光ＬＰｂの照射により、第２の回折格子Ｇ２１から発生する０次回折光ＬＰｂ０と−１次回折光ＬＰｂ１のウエハＷへの入射角度の対称性も崩れる。
この場合でも、ウエハＷ上には、Ｘ方向に明暗の（強度の）周期Ｔ２を持つ干渉縞ＩＦｂが形成されるが、その明部のピークのＸ方向位置は、第２の回折格子Ｇ２１の透過部の位置とは、ずれたものとなる。【００７２】
そのずれ量をδとすると、
（式５）
δ ＝ Ｄ２×ｔａｎφ
の関係となる。【００７３】
このような干渉縞の位置ずれが、ウエハＷ上に形成される干渉縞の全体としての位置ずれであるならば、露光すべきウエハＷの位置を所定量ずらして位置補正露光することで解決することは可能である。【００７４】
しかしながら、このような位置ずれ量が、ウエハＷの面内の各位置に応じて異なる量だけ発生する場合には、その問題を上記位置補正露光で解決することはできない。
従って、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２に、すなわち第１の透光性平板Ｐ１に照射する照明光ＩＬ８は、第１の透光性平板Ｐ１内の場所によらず第１の透光性平板Ｐ１に一定の入射角度で入射すること、すなわち平行光であることが好ましい。【００７５】
また、上記全体としての位置ずれも解消するためには、照明光ＩＬ８が第１の透光性平板Ｐ１に垂直に入射することが好ましい。
ここで、例えばウエハＷ上に露光する干渉縞パターンの周期Ｔ３（＝Ｔ２）が１２０ｎｍである場合、すなわち一般に６０ｎｍラインアンドスペースと呼ばれるパターンである場合には、その位置ずれ許容値は、一般に線幅の１／４の１５ｎｍ程度である。ここで、第２の回折格子Ｇ２１とウエハＷの表面の間隔Ｄ２を５０μｍとすると、照明光の垂直入射からのずれの許容値φ１は、
（式６）
φ１ ＝ ａｒｃｔａｎ（１０／５００００）＝０．３［ｍｒａｄ］
となる。【００７６】
従って、第１の透光性平板Ｐ１に入射する照明光ＩＬ８の平行度は、概ね±０．３［ｍｒａｄ］程度以下であることが好ましい。すなわち照明光ＩＬ８は、その収束または発散性が±０．３［ｍｒａｄ］程度以下であることが好ましい。最も、この条件は露光すべきパターンの周期Ｔ３及び第２の回折格子Ｇ２１とウエハＷの表面のＤ２により変動するものであることは言うまでもない。【００７７】
なお、以上の説明においては、第１の透光性平板Ｐ１とウエハＷが、平行に配置されることを前提として、照明光ＩＬ８の入射角が、第１の透光性平板Ｐ１内の位置によらず一定であり、あるいはさらに垂直入射することが好ましいとしたが、実際には、照明光ＩＬ８の入射角等はウエハＷの法線に対して平行であることが好ましい。【００７８】
ところで、照明光ＩＬ８がこのように厳しい平行度を達成するためには、その平行度を調整可能とする平行度微調整機構が必要である。そこで、本発明の露光装置においては、コリメーターレンズ２，３，５，７及び照明系後群レンズ２９，３０，３２，３５のうちの一部のレンズを照明光ＩＬ１，ＩＬ２，ＩＬ７，ＩＬ８の進行方向に可動として、上記微調整を行なうものとしている。【００７９】
以下、図１中の照明系後群レンズ２９，３０，３２，３５に設けられた平行度微調整機構について説明する。照明系後群レンズのうち負レンズ３０にはレンズ駆動機構３１ａ，３１ｂが取り付けられ、正レンズ３２にはレンズ駆動機構３３ａ，３３ｂが取り付けられている。そして、これらのレンズ駆動機構３１ａ，ｂ、３３ａ，ｂは、固定軸３４ａ，３４ｂ上をＺ方向に可動であり、これによりレンズ３０及びレンズ３２もそれぞれ独立してＺ方向に可動である。【００８０】
これにより照明系後群レンズ２９，３０，３２，３５は、全体としていわゆるインナーフォーカスレンズを構成することとなり、その焦点距離または焦点位置が可変となる。従って、製造誤差等により、照明光ＩＬ７の集光点２８が所定の設計位置に無い場合等にも、集光点２８からの照明光ＩＬ７を、正確に平行な照明光ＩＬ８に変換することが可能となる。【００８１】
図６は、レンズ３０及びレンズ３２の駆動による照明系後群レンズ２９，３０，３２，３５の全体としての焦点距離の変動により、照明光ＩＬ８が通り得る光路の外縁ＬＥａ，ＬＥｂが変動し、照明光ＩＬ８の第１の透光性平板Ｐ１への入射角が第１の透光性平板Ｐ１内位置に応じて変化することを表わす図である。【００８２】
図６（Ａ）は、レンズ３０及びレンズ３２が適切なＺ方向位置に設定されている場合を表わし、外縁ＬＥａ，ＬＥｂは第１の透光性平板Ｐ１に対して垂直であり、照明光ＩＬ８ｃ，照明光ＩＬ８ｄ，照明光ＩＬ８ｅは、第１の透光性平板Ｐ１内の場所によらず第１の透光性平板Ｐ１に垂直に入射する。【００８３】
一方、図６（Ｂ）は、レンズ３０及びレンズ３２を適切なＺ方向位置からずらして配置した場合を表わし、外縁ＬＥａ１，ＬＥｂ１で規定される照明光ＩＬ８が取り得る光路は全体として発散光路となる。このとき外縁ＬＥａ１，ＬＥｂ１は、鉛直方向ＬＥａ，ＬＥｂからそれぞれψｅ傾いて（発散して）いる。この光路全体の発散に伴って、照明光ＩＬ８の第１の透光性平板Ｐ１への入射角も、その位置に応じて変化することとなる。【００８４】
すなわち外縁ＬＥａ１に近い光路部分を通って照射される照明光ＩＬ８ｆは、やや外向きに傾斜して第１の透光性平板Ｐ１に入射することになる。そして傾斜角をψｍとすると、照明光ＩＬ８ｆによってウエハＷ上に形成される干渉縞の明暗パターンの位置は、第２の透光性平板Ｐ２上の第２の回折格子Ｇ２１の明暗の位置から、左に、ψｍに概比例する量だけずれた位置に形成されることとなり位置誤差が生じる。その原理は図５に示したものと同じである。【００８５】
一方、外縁ＬＥｂ１に近い光路部分を通って照射される照明光ＩＬ８ｈがウエハＷ上に形成する干渉縞の明暗パターンの位置は、照明光ＩＬ８ｈの外向きの傾斜角ψｍに概比例して、右にずれた位置に形成される。また、中心に近い光路部分を通って照射される照明光ＩＬ８ｇがウエハＷ上に形成する干渉縞の明暗パターンの位置は、照明光ＩＬ８ｈがほぼ垂直入射することから位置ずれは生じない。【００８６】
従って、ウエハＷに露光される干渉縞パターンの、第２の回折格子Ｇ２１の明暗パターンに対する大きさの関係は、外縁ＬＥａ１，ＬＥｂ１で規定される光路が、全体として発散光路となっている場合には拡大されたものとなり、全体として収束光路となっている場合には縮小されたものとなり、いずれの場合にも倍率誤差が生じることとなる。【００８７】
本発明の露光装置においては、レンズ３０及びレンズ３２を適切なＺ方向位置に設定することにより、外縁ＬＥａ，ＬＥｂで規定される照明光ＩＬ８の取り得る光路を常に平行光路とすることができるため、このような倍率誤差の発生を防止することができる。【００８８】
なお、本発明の露光装置では、以前の製造工程における熱変形等により露光すべきウエハＷに想定外の伸縮が発生していた場合に、レンズ３０及びレンズ３２の位置を調整して上記外縁ＬＥａ１，ＬＥｂ１で規定される照明光路を、全体として発散光路または収束光路とすることにより、ウエハＷ上に形成される干渉縞の周期Ｔ３を拡大または収束して、上記ウエハＷの伸縮を補正して露光することもできる。【００８９】
次に、図１中のコリメーターレンズ２，３，５，７に設けられた平行度微調整機構について説明する。コリメーターレンズ中の負レンズ５にはレンズ駆動機構６が取り付けられ、正レンズ７にはレンズ駆動機構８が取り付けられている。そして、これらのレンズ駆動機構７，８は、固定軸９上をＸ方向に可動であり、これによりレンズ５及びレンズ７もそれぞれ独立してＸ方向に可動である。【００９０】
これによりコリメーターレンズの後群を構成するレンズ５，７は、全体としていわゆるインナーフォーカスレンズを構成することとなり、その焦点距離または焦点位置が可変となる。従って、光源１の変動や照明光学系２〜３５の製造誤差等により、照明光ＩＬ８が平行光線束にならない場合であっても、レンズ駆動機構７，８の駆動により照明光ＩＬ８を完全な平行光に変換することが可能となる。【００９１】
よって、図７に示す通り、レンズ駆動機構７，８の駆動により、照明光ＩＬ８の平行度の状態（収束または発散）を変化させることができる。第１の透光性平板Ｐ１への照明光は、図７に中央に示す照明光ＩＬ８ｊの如く平行光線束であることが望ましい。従って、照明光が図７中の左側に示す照明光ＩＬ８ｉの如き収束光束となっている場合や、照明光が図７中の右側に示す照明光ＩＬ８ｉの如き発散光束となっている場合には、レンズ駆動機構７，８の駆動により、所望の平行光線束とすることが望ましい。【００９２】
以上の説明において、照明光の収束性及び発散性に関する課題とその解決策を述べた。
しかし、本発明に於いては、第１の透光性平板Ｐ１の１点を照明する照明光の入射角度に所定の幅（角度範囲）が存在する場合にも、その角度範囲がウエハＷ上に形成される干渉縞のコントラスト低下の原因となりうる。【００９３】
ここで、照明光の入射角度の角度範囲とは、すなわち照明光の開口数を意味する。例えば光源１等の空間的コヒーレンスが低い場合には、照明光学系中の集光点４，２８での照明光の集光度が弱く、集光点が広がって形成されることになる。これは、第１の透光性平板Ｐ１に照射される照明光線束の開口数の増大を意味する。【００９４】
本発明においては、照明光の入射角度のズレはウエハＷ上の干渉縞の位置ずれを生じさせるものであるから、照明光の入射角度範囲の存在は、ウエハＷ上の干渉縞を相互に位置ずれを生じさせて加算する行為に等しく、干渉縞のコントラストを減殺するものとなる。【００９５】
そこで、照明光の開口数に相当する入射角度範囲についても、上記と同様の考察から±０．３［ｍｒａｄ］程度以下であることが望ましい。すなわち照明光学系の照明光開口数（ＮＡ）を０．０００３以下とすることが望ましい。このような低ＮＡの照明光は、空間的コヒーレンスの高いレーザ光源の採用や、集光点４，２８に照明光線束を機械的に制限する絞りを設けることで実現できる。【００９６】
ここで、本発明における上記の第２の回折格子Ｇ２１とウエハＷの表面の間隔Ｄ２の最適値について説明する。上述の通り、照明光ＩＬ８の傾斜に際してのウエハＷ上での干渉縞パターンの位置ずれは、間隔Ｄ２に比例して発生するから、単純に検討するなら間隔Ｄ２は短ければ短いほど良い。それにより、照明光の傾斜に関する規格を緩めることができるためである。【００９７】
しかしながら、間隔Ｄ２をあまりに短くすると、第２の回折格子Ｇ２１とウエハＷの接触が発生し、それらの損傷を生じることとなる。そこで、接触回避のためには間隔Ｄ２はこの数値は、ウエハＷの平面度や第２の回折格子Ｇ２１を形成する第２の透光性平板Ｐ２の平面度を考慮して、最低限１μｍ以上は確保すべきである。【００９８】
また、上記接触を確実に防止するために、間隔Ｄ２は５μｍ以上であることが望ましい。
一方、間隔Ｄ２をあまりに長距離化すると、照明光の傾斜等に関する規格が厳しくなるのも勿論だが、ウエハＷ１上の１点に集光する複数の回折光が第２の回折格子Ｇ２１を発する位置の間隔も増大し、これらの複数の回折光間の空間的コヒーレンスに起因する可干渉性が低下してしまうという問題も生じるため、間隔Ｄ２は５００μｍ以下に設定することが望ましい。【００９９】
また、間隔Ｄ２が短ければ照明光の傾斜等に関する規格を緩和でき、その分だけ製造装置を安価に提供できるため、間隔Ｄ２は１００μｍ以下に設定することが、さらに望ましい。【０１００】
なお、本発明においては、第２の回折格子Ｇ２１とウエハＷを近接して対向して配置するので、両構成部材の表面間での照明光の多重干渉が生じ得る。そして、これはウエハＷ上に形成する干渉縞の明暗分布に悪影響を与えることになる。【０１０１】
そこで、本発明においては、光源１からの照明光ＩＬ１〜ＩＬ８として、その時間的な可干渉距離（光の進行方向についての可干渉距離）が、間隔Ｄ２の２倍程度以上である光を使用することが好ましい。光の時間的な可干渉距離は、その光の波長をλ、その光の波長分布における波長半値幅をΔλとしたとき、概ねλ2／Δλで表わされる距離である。従って、露光波長λがＡｒＦレーザからの１９３ｎｍの場合には、その波長半値幅Δλが３７０ｐｍ以上程度である照明光ＩＬ１〜ＩＬ８を使用することが望ましい。【０１０２】
なお、上述の如く１次元的な周期を有する干渉縞ＩＦを形成する場合、その形成に用いる照明光ＩＬ８は、その偏光方向（電場方向）が干渉縞ＩＦの長手方向（周期方向に直交する方向）に平行、すなわち周期方向に直交する方向に直線偏光光であることが好ましい。この場合に、干渉縞ＩＦのコントラストを最高にすることができるからである。【０１０３】
なお、照明光ＩＬ８は、上記の如く完全な直線偏光光でなくとも、干渉縞ＩＦの長手方向（Ｙ方向）の電場成分が、周期方向（Ｘ方向の）の電場成分よりも大きな照明光であれば、上述のコントラスト向上効果を得ることができる。【０１０４】
また、干渉縞ＩＦの周期方向とは、すなわち第２の回折格子Ｇ２１の周期Ｔ２の方向と一致するものであるから、照明光ＩＬ８の好ましい偏光状態とは、要するに第２の回折格子Ｇ２１の周期Ｔ２の方向に直交する方向（Ｙ方向）の電場成分が、周期Ｔ２の方向（Ｘ方向）の電場成分よりも大きな照明光であれば良い。【０１０５】
照明光ＩＬ８のこのような偏光特性は、照明光学系中に設けた光制御素子１０により実現される。光制御素子１０は、例えば照明光ＩＬ２，ＩＬ３の進行方向を回転軸として回転可能に設けられた偏光フィルター（ポラロイド板）や偏光ビームスプリッターであり、その回転により照明光ＩＬ３の偏光方向を所定の直線偏光とすることができる。【０１０６】
光源１がレーザ等の概ね直線偏光に偏光した照明光ＩＬ１を放射する光源である場合には、光制御素子１０として、同じく回転可能に設けられた１／２波長板を用いることもできる。また、それぞれ独自に回転可能に直列に設けられた２枚の１／４波長板を採用することもできる。この場合には、照明光ＩＬ２〜８の偏光状態を、概ね直線偏光光とするのみでなく、円偏光及び楕円偏光の偏光光とすることもできる。【０１０７】
ところで、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２と第２の回折格子Ｇ２１との間隔Ｄ１は、ウエハＷ上に形成される干渉縞ＩＦの位置ずれ等に影響を与えるものではないので、上記間隔Ｄ２のように近接して配置する必要は無い。【０１０８】
ただし、間隔Ｄ１があまり長いと、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２から発生する±１次回折光ＬＰ，ＬＭを、第２の回折格子Ｇ２１上の必要な箇所の全部に照射するために、より大きな第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２が必要となる。従って、間隔Ｄ１は、例えば１００ｍｍ程度以下に設定することが、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２に必要な大きさが縮小可能となる点で好ましい。【０１０９】
一方、間隔Ｄ１があまりに狭いと、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２から発生する±１次回折光ＬＰ，ＬＭが、第２の回折格子Ｇ２１上で相互に干渉して不要な干渉縞を形成し、最終的にはウエハＷ上においても、不要な干渉縞（明暗ムラ）を形成する恐れが生じる恐れがある。【０１１０】
このような不要な明暗ムラの発生は、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２の任意の１点から生じた±１次回折光ＬＰ，ＬＭを、第２の回折格子Ｇ２１上で、照明光ＩＬ８の空間的な可干渉距離よりも十分に離れた位置、一例として上記可干渉距離の４倍程度離れた位置に照射することで防止することができる。【０１１１】
ここで、照明光ＩＬ８の空間的な可干渉距離は、照明光ＩＬ８の開口数ＮＡと波長λにより、一般的にλ／ＮＡで表わされる距離である。照明光ＩＬ８の波長を１９３ｎｍ，開口数ＮＡを上述の０．０００３とすると、可干渉距離距離は６４３μｍであり、その４倍は２５３６μｍとなる。従って、この場合、上記±１次回折光ＬＰ，ＬＭの、第２の回折格子Ｇ２１への照射位置を、２５３６μｍ程度以上離すことにより、上記不要な明暗ムラの発生を防止できる。【０１１２】
ここで、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２の周期Ｔ１を２４０ｎｍとすると、±１次回折光ＬＰ，ＬＭの回折角θ０は、式１から５３度と求まる。この回折角で対称に発生する２本の光線束が、第２の回折格子Ｇ２１上で２５３６μｍ以上離れた位置に照射されるには、間隔Ｄ１は９４８μｍ以上であることが必要である。【０１１３】
従って、間隔Ｄ１は１ｍｍ程度以上であることが好ましい。
なお、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２は、±１次回折光ＬＰ，ＬＭを所定の方向に発生させ、それを第２の回折格子Ｇ２１上に照射するためのものであり、第２の回折格子Ｇ２１上の所定の位置に±１次回折光ＬＰ，ＬＭによる干渉縞を形成することを目的とするものではない。【０１１４】
従って、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２と第２の回折格子Ｇ２１との、ＸＹ方向の位置関係は、周期Ｔ１及びＴ２のオーダで（数１０ｎｍのオーダで）厳密に位置整合される必要は無い。ただし、第２の回折格子Ｇ２１のうちウエハＷに対向する所定の領域には、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２から発した±１次回折光ＬＰ，ＬＭが照射される必要があるので、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２と第２の回折格子Ｇ２１とは、ＸＹ方向に例えば数ｍｍ程度の位置関係をもって整合して配置される必要がある。【０１１５】
また、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２の周期Ｔ１の方向も、第２の回折格子Ｇ２１の周期Ｔ２の方向（Ｘ方向）と一致していなくても良い。ただし、この場合には、ウエハＷのＺ方向位置の変動に伴う干渉縞ＩＦの明暗パターンの移動等を防止するために、周期Ｔ１に代わり、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２の周期Ｔ１をＺＸ面内に投影した長さが、式４の条件を満たすことが望ましい。【０１１６】
ところで、本発明の露光装置においてウエハＷ上に露光可能なパターンは、上記の１次元の干渉縞パターンに限定されるわけではない。そこで、次に本発明の露光装置により２次元のパターンを露光する方法について図９，及び図１０を用いて説明する。【０１１７】
図９（Ａ）は、図８（Ａ）と同様に、第１の透光性平板Ｐ１ａの平面図を表わすが、その表面に形成された第１の回折格子Ｇ１３，Ｇ１４は、Ｘ方向に周期Ｔ１１、Ｙ方向に周期Ｔ１２の２次元的な周期を有している。なお、そのＺ方向の構造は図８（Ａ）に示した第１の透光性平板Ｐ１と同様であり、基板表面部Ｇ１４に対して、Ｘ方向の幅が０．７１×Ｔ１１、Ｙ方向の幅が０．７１×Ｔ１２の掘り込み部Ｇ１３が形成され、位相変調型の回折格子を構成している。【０１１８】
図１０（Ａ）に、このような２次元的な周期を有する回折格子Ｇ１３，Ｇ１４から発生する回折光の回折角度分布を示す。ここで、ＦＸ軸とは、発生する回折光の直進方向（−Ｚ軸方向）からの＋Ｘ方向への回折角のｓｉｎ（正弦）を表わし、ＦＹ軸とは、発生する回折光の直進方向からの＋Ｙ方向への回折角のｓｉｎを表わす。【０１１９】
回折格子Ｇ１３，Ｇ１４に＋Ｚ方方向から平行な照明光が照射されると、ＦＸ＝±λ／Ｔ１１，ＦＹ＝±λ／Ｔ１２で表示される４方向に、１次回折光ＬＰＰ，ＬＭＰ，ＬＭＭ，ＬＰＭが発生する。なお、基板表面部Ｇ１４と掘り込み部Ｇ１３の面積がほぼ等しく、両部の透過光の位相差が１８０度であることから、原点Ｏの方向に発生すべき０次回折光は消失する。また、周期Ｔ１１及び周期Ｔ１２が、照明光の実効波長λの２倍より短い場合には、２次以上の高次の回折光は発生し得ない。【０１２０】
これらの４本の回折光は、ＦＸ軸及びＦＹ軸に対称であることから、以下回折光ＬＰＰによりウエハＷ上に形成される干渉縞についてのみ説明をする。
回折光ＬＰＰは、図９（Ｂ）に示す第２の透光性平板Ｐ２ａに入射する。図９（Ｂ）は、図８（Ｂ）と同様に、第２の透光性平板Ｐ２ａの平面図を表わすが、その裏面に形成された第２の回折格子Ｇ２２は、Ｘ方向に周期Ｔ２１、Ｙ方向に周期Ｔ２２の２次元的な周期を有している。第２の回折格子Ｇ２２を構成する材料は、図８（Ｂ）に示す例で説明したのと同様である。【０１２１】
図９（Ｂ）に示す通り、回折光ＬＰＰの照射により第２の透光性平板Ｐ２ａからは０次回折光Ｋ００、Ｘ方向の−１次回折光ＫＭ０、Ｙ方向の−１次回折光Ｋ０Ｍ、そしてＸ方向に−１次でＹ方向に−１次の回折光ＫＭＭの４本の回折光が発生し、これらがウエハＷ上に照射される。【０１２２】
ウエハＷ上には、これらの４本の回折光Ｋ００，ＫＭ０，Ｋ０Ｍ，ＫＭＭによる干渉縞の明暗分布が形成されるが、その形状は、所定の閾値の下において、第２の回折格子Ｇ２２の明暗分布と概ね等しくなる。従って、ウエハＷ上のフォトレジストに第２の回折格子Ｇ２２に概等価な２次元の明暗パターンを露光し転写することが可能となる。【０１２３】
また、このときも、
（式７）
Ｔ２１×２×０．９９９ ≦ Ｔ１１ ≦ Ｔ２１×２×１．００１
（式８）
Ｔ２２×２×０．９９９ ≦ Ｔ１２ ≦ Ｔ２２×２×１．００１
の関係を満たす場合には、これらの４本の回折光Ｋ００，ＫＭ０，Ｋ０Ｍ，ＫＭＭは、ウエハＷに対して等しい入射角をもって照射されることとなり、ウエハＷのＺ方向位置が変動しても、その上に形成される干渉縞の明暗分布の位置を不変とすることができる。【０１２４】
なお、２次元的な周期を有するパターンの露光に際しても、ウエハＷのＺ方向位置を所定の位置に厳格に制御可能であるなら、必ずしも、上記式７及び式８に示される条件を満たさなくても良い。【０１２５】
また、２次元的な周期を有するパターンの露光に際しても、上述の照明光ＩＬ８の平行度や入射角の垂直性および開口数の条件、第２の回折格子とウエハＷとの間隔Ｄ２及びＸＹ位置の整合性、回転関係の整合性等の条件、並びに第１の回折格子と第２の回折格子の間隔Ｄ１の条件等は、上述の１次元的な周期からなるパターンを露光する場合と同様である。【０１２６】
なお、２次元的な周期を有するパターンの露光に際しても、照明光ＩＬ８の偏光状態により干渉縞の明暗パターンのコントラストが変化する。なお、微細な周期を有するパターン程、フォトレジスト等の解像に際し、高コントラストの明暗パターンが要求される。そこで、２次元的な周期を有するパターンでは、その周期のうち極小となる周期の方向についての干渉縞の明暗パターンのコントラストを増大させるべく、照明光ＩＬ８の偏光状態を設定することが好ましい。【０１２７】
なお、２次元的な周期性を有するパターンの場合にも、上述の１次元的な周期性を有するパターンの場合と同様に、干渉縞の周期の方向は第２の回折格子の周期の方向と一致する。従って、照明光ＩＬ８として、第２の回折格子において周期が極小となる第１の方向に直交する方向の電場成分が、その第１の方向の電場成分よりも大きい照明光を用いることが好ましい。【０１２８】
ただし、パターンの種類や使用目的によっては、明暗パターンのコントラストよりを向上するよりも、形状の忠実度が重要となる場合もある。その場合には、照明光ＩＬ８として、第２の回折格子において周期が極小となる第１の方向に直交する方向の電場成分と、その第１の方向の電場成分が、±２０％程度の範囲内でほぼ等しい照明光を用いることが好ましい。このような偏光状態は、例えば上述の偏光制御素子１０として、直列に配置されそれぞれ回転可能な２枚の１／４波長板を使用することで実現できる。【０１２９】
次に、図１１を用いて、本発明の露光装置におけるＹ可動ミラー１２、Ｘ可動ミラー１４の作用について説明する。
上述の通り、本発明の露光装置では、照明光のＮＡ（開口数）が、０．０００３程度以下であることが必要である。本発明の露光装置が露光すべきパターンは、例えば線幅が５０ｎｍ程度のパターンであり、露光領域内の照明光の強度（積算強度）の高度の均一性が要求される。【０１３０】
通常の投影露光装置等では、露光領域内の照明光の強度の均一化手段として、フライアイレンズやロッドが使用されるが、これらの手段は照明光の開口数のある程度の増大を前提として、実効的な２次光源の形状を拡大し平均化効果により被照射領域上の照明光強度の均一化を図るものである。従って、このような均一化手段は、極小ＮＡの照明光を必要とする本発明には適用困難である。その結果、本発明においては、第１の透光性平板Ｐ１上に照射される照明光ＩＬ８の照明光量分布自体が、ある程度不均一であることは回避困難である。【０１３１】
そこで、本発明に於いては、ウエハＷへの露光動作に際し、照明光ＩＬ８を第１の透光性平板Ｐ１上で走査し、当該走査による平均化により、照明光ＩＬ８による積算強度分布を平均化する方法を採用する。【０１３２】
図１１は、その具体例を表わす図であり、等高線で示される強度分布を有する照明光ＩＬ８の中心位置ＩＬ８０は、ある時点において第１の透光性平板Ｐ１上の所定の位置に照射されている。この照明光ＩＬ８の強度分布は、その後、経路ＳＰ１に沿って第１の透光性平板Ｐ１上を反復走査する。また、上記ある時間以前にも、経路ＳＰ０に沿って第１の透光性平板Ｐ１上を反復走査している。【０１３３】
このような照明光ＩＬ８の強度分布と第１の透光性平板Ｐ１との相対走査は、露光動作中にＹ可動ミラー１２及びＸ可動ミラー１４を移動させることにより照明光ＩＬ８の中心位置ＩＬ８０を反復移動することにより行なうことができる。【０１３４】
なお、照明光ＩＬ８の積算強度分布は、第１の透光性平板Ｐ１上の全面に亘って均一化される必要は無い。すなわち、第１の透光性平板Ｐ１上であって第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２が形成された領域であって、その第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２により発生する回折光が最終的にウエハＷに到達する領域において、照明光ＩＬ８の積算強度分布が均一化されていればよい。当該領域は、図１１に示す如く、第１の透光性平板Ｐ１上の中心部を含む所定の領域ＳＰ０の如き領域となる。【０１３５】
また、領域ＳＰ０内での積算強度の均一性は、その領域ＳＰ０内の積算強度の平均値に対して、±２％程度以内であることが必要である。ただし、ウエハＷ上に露光し形成すべきパターンの線幅制御要求が厳しい場合には、当該均一性として、±０．５％程度以内であることが望ましい。【０１３６】
あるいは、照明光ＩＬ８の中心位置ＩＬ８０は固定しておき、第１の透光性平板Ｐ１、第２の透光性平板Ｐ２及びウエハＷを一体的に移動することによっても当該相対走査を実現することができる。【０１３７】
なお、照明光ＩＬ８の照明光量分布自体が、ある程度不均一でも良い場合には、このような走査を行なう必要が無いことは言うまでもない。【０１３８】
ところで、本発明の露光装置は、上述の通り極小照明ＮＡの照明光を使用するものではあるが、ウエハＷ上の１点に到達する照明光（回折光）は複数であるから、第２の回折格子Ｇ２１等及び第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２等の上の複数の領域から照射されることになる。また、ウエハＷ上で干渉縞を形成する光線束は、あくまでも第２の回折格子等からの回折光であるから、第２の回折格子Ｇ２１等の上に異物等が存在した場合でも、その異物がそのままの形状を保って、ウエハＷ上に露光転写されることはない。【０１３９】
ここで、第２の回折格子Ｇ２１，Ｇ２２の上の異物及び欠陥が、ウエハＷ上に形成される干渉縞に与える悪影響をいっそう低減するには、第２の回折格子Ｇ２１，Ｇ２２との間隔Ｄ２を所定の値以上に設定することが望ましい。これにより、ウエハＷ上の１点に照射される光を、第２の回折格子Ｇ２１，Ｇ２２上のより多くの場所から回折された光とすることができ、上記異物及び欠陥の悪影響を緩和することができるからである。【０１４０】
ここで、第２の回折格子Ｇ２１からウエハＷに照射される回折光は、上述の通り角度θ０及びθ１だけ傾いてウエハＷに照射される。より好ましい条件においてはθ０＝θ１である。このとき、式２及び式３より、照明光の実効波長をλ、第２の回折格子Ｇ２１の周期をＴ２として、
（式９）
ｓｉｎθ０＝λ／（２×Ｔ２）
であるから、ｓｉｎθ０≒ｔａｎθ０の近似がある程度成り立つことを前提とすると、ウエハＷの１点に照射される回折光は、第２の回折格子Ｇ２１上において、
（式１０）
Ｄ５ ＝ ２×Ｄ２×λ／（２×Ｔ２）
で表わされる相互間隔Ｄ５だけ離れた２点を中心とする部分から照射されることとなる。【０１４１】
上記異物及び欠陥の悪影響を緩和するためには、ウエハＷ上の１点に集光する光が、例えば第２の回折格子Ｇ２１の周期Ｔ２の３０倍程度以上に広がる部分からの光で構成されその悪影響が平滑化されたものであることが好ましい。これを式で表現すると、
（式１１）
Ｄ５ ≧ ３０×Ｔ２
の如くなる。
上記式１０及び式１１から、間隔Ｄ２は、
（式１２）
Ｄ２ ≧ ３０×Ｔ２2／λ
の条件を満たすことが好ましい。【０１４２】
また、上記悪影響を、よりいっそう緩和するためには、ウエハＷ上の１点に集光する光が、例えば第２の回折格子Ｇ２１の周期Ｔ２の１００倍程度以上に広がる部分からの光で構成されその悪影響が平滑化されたものであることが好ましい。このときに間隔Ｄ２が満たすべき条件は、同様の考察から、
（式１３）
Ｄ２ ≧ １００×Ｔ２2／λ
となる。【０１４３】
また、第２の回折格子Ｇ２１上の異物・欠陥のウエハＷに露光されるパターンへの悪影響をさらに低減するために、本発明においては、ウエハＷへの露光を以下に示す複数回露光による多重露光とすることもできる。【０１４４】
すなわち、第２の回折格子Ｇ２１，Ｇ２２とウエハＷとのＸＹ方向の位置関係を所定の関係として最初の露光を行なったのち、その相対関係を第２の回折格子Ｇ２１，Ｇ２２の周期の整数倍だけ移動して２回目の露光を行ない、さらに同様の移動をしつつ、複数回の多重露光を行なうこともできる。【０１４５】
これにより、ウエハＷ上の一点には、第２の回折格子Ｇ２１，Ｇ２２上のより多くの部分から発生した回折光による干渉縞の明暗パターンが重畳して露光されることとなり、第２の回折格子Ｇ２１，Ｇ２２上に存在する異物や欠陥の悪影響が、平均化効果により、いっそう低減されることとなる。【０１４６】
なお、１次元的な周期を有する第２の回折格子Ｇ２１を用いる場合には、その周期方向と直交する方向への上記相対関係の移動は、任意の距離であっても良いことは言うまでも無い。【０１４７】
ところで、第２の回折格子Ｇ２１の上に付着した異物等による悪影響を一層低減するために、図１２に示す通り、第２の回折格子Ｇ２１とウエハＷの間に、第２の回折格子Ｇ２１への異物付着防止用の薄膜（ペリクル）ＰＥ２を設けることもできる。そして、ペリクルＰＥ２を、例えば所定枚数を枚数のウエハＷを露光する毎に交換することで、異物の除去を行なうこともできる。【０１４８】
ペリクルＰＥ２としては、例えば投影露光装置で使用されるレチクルへの異物付着防止に使用される有機樹脂製のペリクルを使用することができる。
あるいは、ペリクルＰＥ２として、合成石英等の無機材料からなる透光性の平板を使用することもできる。【０１４９】
なお、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２の光源側にペリクルＰＥ１を設け、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２への異物の付着を防止することもできる。
あるいは、第２の回折格子Ｇ２１上への異物の付着の防止のために、図１３に示す通り、第２の透光性基板Ｐ２上の第２の回折格子Ｇ２１の上に、保護層ＰＥ３を設けることのできる。この保護層ＰＥ３は、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により形成する二酸化珪素等の透光性の膜からなるものであり、必要に応じて、その表面をＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）により平坦化したものである。異物保護層ＰＥ３の厚さは、例えば１μｍ程度とする。【０１５０】
なお、保護層ＰＥ３上に付着した異物も、保護層ＰＥ３を設けずに第２の回折格子Ｇ２１上に付着した異物も、異物がウエハ上に形成すべき干渉縞へ与える悪影響の点では同等である。しかしながら、保護層ＰＥ３を設けることにより、第２の回折格子Ｇ２１の表面を、実質的に平坦化することが可能であり、従って、その表面に付着した異物，汚染等の洗浄及び検査がきわめて容易になるという点で、保護層ＰＥ３の設置は効果的である。【０１５１】
なお、以上の例においては、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２，Ｇ１３，Ｇ１４は位相変調型回折格子であり、第２の回折格子Ｇ２１，Ｇ２２は強度変調型回折格子であるとしたが、両回折格子の構成は、これに限るものではない。【０１５２】
例えば、いずれの回折格子も、ハーフトーン位相シフトレチクル（Attenuated Phase Shift Mask）の如く、透過光の位相及び強度の双方を変調する回折格子を用いることもできる。また、ウエハＷ上に形成する干渉縞にそれ程の高コントラストラスト性が要求されない場合には、第１の回折格子からの不要な回折光の発生も許容されるため、第１の回折格子として強度変調型の回折格子を使用することもできる。【０１５３】
なお、以上の例においては、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２と第２の回折格子Ｇ２１はそれぞれ別の透光性平板上に形成されるものとしたが、両回折格子を同一の透光性平板上に形成することもできる。【０１５４】
図１４は、第１の回折格子Ｇ１５，１６と第２の回折格子Ｇ２３を、それぞれ一つの透光性平板Ｐ３の光源側及びウエハＷ側に形成した例を示す図である。なお、本例においても、各回折格子の構造や製法は上述の例と同様である。また、レンズ３５およびその上流の照明光学系も、上述の例と同様である。【０１５５】
また、本発明の一つの形態に於いては、単一の回折格子のみを、ウエハＷに近接して対向配置することにより、ウエハＷ上に干渉縞の明暗パターンを露光することも可能である。【０１５６】
図１５は、ウエハＷ側の近傍に、透光性平板Ｐ４のウエハＷ側に形成された回折格子Ｇ１７，Ｇ１８を、間隔Ｄ３で近接して対向配置させた例である。本例に於いても、回折格子Ｇ１７，Ｇ１８の構造や製法は上述の例と同様である。また、レンズ３５およびその上流の照明光学系も、上述の例と同様である。さらに間隔Ｄ３の値についても上述の例における間隔Ｄ２と同様の条件を満たすことが好ましい。【０１５７】
なお、本例に於いては、実効波長λは回折格子Ｇ１７，Ｇ１８からウエハＷに至る照明光路上に存在する透光性媒質のうち、最低屈折率を有する媒質中における照明光の波長をいう。【０１５８】
本例に於いては、回折格子Ｇ１７，Ｇ１８で発生した回折光（１次回折光）が、ウエハＷ上に照射されウエハＷ上で干渉することにより、ウエハＷ上に干渉縞の明暗パターンが形成されることになる。【０１５９】
なお、上記いずれの例に於いても、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２と及び第２の回折格子Ｇ２１は、ウエハＷ上に露光すべき干渉縞の明暗パターンの周期Ｔ３に応じて、交換する必要がある。図１７は、その交換機構の一例を示す図であり、図１７（Ａ）はそれを−Ｚ方向から見た図、図１７（Ｂ）は、図１７（Ａ）中のＡ−Ｂ部分近傍の断面図を表わす。【０１６０】
第２の回折格子が設けられた第２の透光性平行板Ｐ２の周縁部Ｐ２Ｅを真空吸着等の手段により保持するチャック部４３ａ，４３ｂ，４３ｃ，４３ｄが設けられた平板ローダー４２は、Ｘ方向にスライド可能であるともに、Ｚ方向に上下動可能である。【０１６１】
交換前において、第２の透光性平行板Ｐ２は、第２の保持機構３７ａ，３７ｂ，３７ｃにより保持される。この状態に対し、平板ローダー４２がＸ方向からに第２の透光性平行板Ｐ２の下部に侵入し、上方に上昇する。そして、チャック部４３ａ，４３ｂ，４３ｃ，４３ｄが、第２の透光性平行板Ｐ２の周縁部Ｐ２Ｅを吸着する。【０１６２】
その後、第２の保持機構３７ａ，３７ｂ，３７ｃは、図中白抜き矢印で示す如き放射方向に退避し、その状態で平板ローダー４２が＋Ｘ方向に退避して第２の透光性平行板Ｐ２を持ち去る。そして、新たに装填すべき別の第２の透光性平行板は、上記と逆の動作を経て第２の保持機構３７ａ，３７ｂ，３７ｃ上に設置され、第２の透光性平行板の交換が完了する。【０１６３】
第１の透光性平行板Ｐ１の交換機構も上記と同様の構成とする。
なお、第１の透光性平行板Ｐ１と第２の透光性平行板Ｐ２の間隔が短いことから、その間隔内に上記平板ローダーを挿入することは難しい。【０１６４】
そこで、図１６に示す如く、第１の保持機構３６ａ等及び第２の保持機構３７ａ等も、支持部材４１によりＸＹ面内方向にある上記放射方向及びＺ方向に可動としておくことが好ましい。これにより上記平板ローダーの装填のためのクリアランスを確保することができる。【０１６５】
なお、第１の保持機構３６ａ等及び第２の保持機構３７ａ等の上記Ｚ駆動機構は、第２の回折格子Ｇ２１とウエハＷとの間隔Ｄ２、及び第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２と第２の回折格子Ｇ２１との間隔Ｄ１を所定値に設定する際にも使用することができる。【０１６６】
なお、図１６に示した通り、第１の透光性平行板Ｐ１の周縁部Ｐ１Ｅ及び第２の透光性平行板Ｐ２の周縁部Ｐ２Ｅは、それらの中心部に対して薄くなるように段付け加工されている。そして、第１の保持機構３６ａ等に設けられた真空吸着部Ｐ１Ｖ及び第２の保持機構３７ａ等に設けられた真空吸着部Ｐ２Ｖは、これらの段付け加工された周縁部Ｐ１Ｅ及びＰＥ２を介して第１の透光性平行板Ｐ１及び第２の透光性平行板Ｐ２を保持するものとしている。【０１６７】
ところで、以上の例においては、第２の回折格子Ｇ２１とウエハＷの間には、空気（窒素または希ガスでも良い）が存在するものとしていたが、これに代わり、所定の誘電体を満たすこととしても良い。これにより、ウエハＷに照射される照明光（回折光）の実質的な波長を、上記誘電体の屈折率分だけ縮小することができ、ウエハＷ上に形成される干渉縞の明暗パターンの周期Ｔ３を一層縮小することが可能となる。なお、そのためには、第２の回折格子Ｇ２１の周期Ｔ２及び第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２の周期Ｔ１も、それに比例して縮小する必要があることは言うまでも無い。【０１６８】
図１８（Ａ）は、これに適したウエハステージ３８ａ等の例を示す図である。ウエハステージ３８ａの周囲には、連続的な側壁３８ｂ，３８ｃが設けられ、側壁３８ｂ，ｃで囲まれた部分には水等の液体４６を保持可能となっている。これにより、ウエハＷと第２の透光性平板Ｐ２の間は水に満たされ、すなわちウエハＷと第２の回折格子Ｇ２１の間の空間は誘電体である水に満たされ、照明光の波長は、水の屈折率（波長１９３ｎｍの光に対して１．４６）だけ縮小される。【０１６９】
なお、給水機構４４及び排水機構４５も併設され、これにより側壁３８ｂ，ｃで囲まれた部分には汚染の無い新鮮な水が供給されかつ排水される。
また、図１８（Ｂ）に示す如く、ウエハステージ３８ａの側壁３８ｄ，３８ｅの最上面を第１の透光性平板Ｐ１の下面より高くし、第１の透光性平板Ｐ１と第２の透光性平板Ｐ２の間の空間にも水を満たすこともできる。給水機構４４ａ及び排水機構４５ｂの機能はは上述と同様である。【０１７０】
これにより、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２からウエハＷに至る全光路を、空気（または窒素あるいは希ガス）以外の誘電体（水）で覆うことが可能となり、上述の照明光の実効波長λを、水の屈折分だけ縮小することが可能となる。そしてこれにより、一層微細な周期を有するパターンの露光が可能となる。【０１７１】
なお、第１の透光性平板Ｐ１と第２の透光性平板Ｐ２の間にのみ水等の誘電体を満たすことが効果的である場合には、図１９に示す如き構成を採用することもできる。
これは、第１の透光性平板Ｐ１の周囲に連続的な側壁４７を設け、これによって第１の透光性平板Ｐ１と第２の透光性平板Ｐ２の間に水を貯めるものである。給水機構４４ｃ及び排水機構４５ｃの機能は上述と同様である。
なお、第１の回折格子Ｇ１１，Ｇ１２からウエハＷまでの光路、または第１の透光性平板Ｐ１と第２の透光性平板Ｐ２の間に満たすべき誘電体の屈折率は、１．２以上であることが望ましい。この屈折率が１．２以下であると、露光可能なパターンの微細度の向上を十分に達成することができないからである。【０１７２】
上記の如くして干渉縞による明暗パターンの露光されたウエハＷは、不図示のウエハローダーにより露光装置外に搬送され、現像装置に搬送させる。現像により、ウエハＷ上のフォトレジストには、露光された明暗パターンに応じたレジストパターンが形成される。そして、エッチング装置において、このレジストパターンをエッチングマスクとして、ウエハＷまたはウエハＷ上に形成された所定の膜をエッチングすることにより、ウエハＷに所定のパターンが形成される。【０１７３】
半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等の電子デバイスの製造工程は、上記の如き微細パターンを多数層に亘って形成する工程を含む。本発明の露光装置による上記露光方法を、そのような多数回のパターン形成工程の中の少なくとも１つの工程に使用して、電子デバイスを製造することができる。【０１７４】
また、上記少なくとも１つの工程において、本発明の露光装置による上記露光方法を用いて干渉縞による明暗パターンを露光したウエハＷ上のフォトレジストＰＲに対し、一般的な投影露光装置により所定形状のパターンを合成露光して、合成露光されたフォトレジストＰＲを現像し、上記パターン形成を行なうこともできる。【０１７５】
あるいはその逆に、一般的な投影露光装置により所定形状のパターンを露光したウエハＷ上のフォトレジストＰＲに対し、本発明の露光装置による上記露光方法を用いて干渉縞による明暗パターンを合成露光して、合成露光されたフォトレジストＰＲを現像し、上記パターン形成を行なうこともできる。
このように、本発明は上述の実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む２００４年１２月１７日付け提出の日本国特許出願第２００４−３６６８９６の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。
【産業上の利用可能性】
【０１７６】
本発明の露光方法は、半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等の電子デバイスの製造において実施可能であり、産業上利用することができる。
本発明の露光装置は、半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等の電子デバイスの製造において実施可能であり、産業上利用することができる。【０１７７】
また、本発明の電子デバイスの製造方法及び電子デバイスは、その製造過程における産業、すなわち半導体を生産する産業において利用可能であるとともに、その成果物としての電子デバイスは、各種電子機器産業において利用することが可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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