(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にドライ処理を施すドライ処理部と、
前記ドライ処理部に対して並設され、前記基板に液処理を施す複数の液処理ツールを有する液処理部と、
前記ドライ処理部から前記液処理部の各液処理ツールにかけて基板を相対移動させる移動手段と、
前記ドライ処理部と前記液処理部との間における、前記移動手段による基板の移動経路を含む空間を、前記ドライ処理部側と前記液処理部側とに仕切る第１流体カーテンを形成するための第１カーテン形成手段と、
前記液処理部内における各液処理ツール間の少なくとも一つにおける、前記移動手段による基板の移動経路を含む空間を、基板移動方向上流側と下流側に仕切る第２流体カーテンを形成するための第２カーテン形成手段とを備え、
前記第１カーテン形成手段は、前記ドライ処理部及び前記液処理部に対する前記基板の相対移動方向に互いに隣接し、かつ、前記第１流体カーテンとして前記空間を仕切る液カーテン及びこの液カーテンよりも前記ドライ処理部側の位置で前記空間を仕切るエアカーテンをそれぞれ形成する液カーテン形成部及びエアカーテン形成部を備えており、
前記第２カーテン形成手段は、前記第２流体カーテンとして、前記空間を仕切る液カーテンを形成することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記第２カーテン形成手段が、前記基板の有効部領域を含む主面側にのみ設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１カーテン形成手段の前記液カーテン形成部及び前記エアカーテン形成部のうち少なくとも一つは、基板の前記移動経路に対して接離可能に構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
接離可能なカーテン形成部は、他のカーテン形成部に対して平行移動することを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第１カーテン形成手段は、前記液処理部側に向かうように前記液カーテン及び前記エアカーテンを形成することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記ドライ処理部及び前記液処理部は、前記移動手段によって移動される一枚の基板に対して同時に処理が可能となる位置に配設されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
基板に紫外線を照射する紫外線照射部と、
前記基板にブラシ処理を施すブラシ処理部と、
前記基板に気体と液体とを含む二流体を供給する二流体供給部と、
前記基板の主面を濯ぐリンス部と、
前記基板の主面に対して気体を吹き付ける気体吹付部と、
前記紫外線照射部、前記ブラシ処理部、前記二流体供給部、前記リンス部及び前記気体吹付部に対してその順番で基板を相対移動させる移動手段と、
前記紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切る第１流体カーテンを形成するための第１カーテン形成手段と、
前記ブラシ処理部と前記二流体供給部との間及び前記リンス部と気体吹付部との間をそれぞれ仕切る第２流体カーテンを形成するための第２カーテン形成手段とを少なくとも備え、かつ、前記移動手段によって移動される一枚の基板に対して、前記紫外線照射部、前記ブラシ処理部、前記二流体供給部、前記リンス部及び前記気体吹付部による各処理を同時に実行するようにされ、
前記第１カーテン形成手段は、前記紫外線照射部及び前記ブラシ処理部に対する前記基板の相対移動方向に互いに隣接し、かつ、前記第１流体カーテンとして前記紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切る液カーテン及びこの液カーテンよりも前記紫外線照射部側の位置で当該紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切るエアカーテンをそれぞれ形成する液カーテン形成部及びエアカーテン形成部を備えており、
前記第２カーテン形成手段は、前記第２流体カーテンとして液カーテンを形成するものであることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板や液晶ガラス基板等の薄板状基板（以下、「基板」と称する）に対して、予め定められた一連の処理を連続して行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、プラズマディスプレイ等の平板ディスプレイを洗浄する装置として、下記特許文献１に示される装置が提案されている。この洗浄装置では、エキシマ紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアナイフが基板搬送方向に並設されて各処理を連続して行い、これら各処理部の間がエアカーテンで仕切られた構成が採用されている。この洗浄装置によれば、各処理部間を仕切るエアカーテンが、各処理部間に生じ得る相互干渉を排除するため、各処理部を近接して配設することができ、装置の設置面積を小さくすることができる。
【特許文献１】特開２００２−１７２３６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記特許文献１に示された洗浄装置のように、上記各処理部間をエアカーテンで仕切る構成を採用する場合、カーテン形成のために大量のエアを供給しなければならず大容量排気設備が必要になり、設備コスト及びランニングコストが高くなるという問題がある。また、基板表面を物理的な力を利用してウェット洗浄するツールは、高性能化するほど基板表面に作用するエネルギーが高くなり、処理時に発生するミスト発生量が増加するが、このように高性能なウェット洗浄ツールを用いる場合は、エアカーテンによって得られるシール効果よりも更に高いシール効果が要求される。
【０００４】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、コストを低減しつつ、シール効果を更に高めた基板処理装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の請求項１に記載の発明は、基板にドライ処理を施すドライ処理部と、前記ドライ処理部に対して並設され、前記基板に液処理を施す複数の液処理ツールを有する液処理部と、前記ドライ処理部から前記液処理部の各液処理ツールにかけて基板を相対移動させる移動手段と、前記ドライ処理部と前記液処理部との間における、前記移動手段による基板の移動経路を含む空間を、前記ドライ処理部側と前記液処理部側とに仕切る第１流体カーテンを形成するための第１カーテン形成手段と、前記液処理部内における各液処理ツール間の少なくとも一つにおける、前記移動手段による基板の移動経路を含む空間を、基板移動方向上流側と下流側に仕切る第２流体カーテンを形成するための第２カーテン形成手段とを備え、前記第１カーテン形成手段は、前記ドライ処理部及び前記液処理部に対する前記基板の相対移動方向に互いに隣接し、かつ、前記第１流体カーテンとして前記空間を仕切る液カーテン及びこの液カーテンよりも前記ドライ処理部側の位置で前記空間を仕切るエアカーテンをそれぞれ形成する液カーテン形成部及びエアカーテン形成部を備えており、前記第２カーテン形成手段は、前記第２流体カーテンとして、前記空間を仕切る液カーテンを形成するものである。
【０００６】
この構成によれば、第１カーテン形成手段（エアカーテン形成部）によって形成するエアカーテンでドライ処理部と液処理部との間を仕切り、液処理部内に配置された各液処理ツール間の少なくとも一つを第２カーテン形成手段により液カーテンを形成して仕切ることによって、ドライ処理部に近接する箇所ではエアカーテンによりドライ処理部への水滴浸入が確実に防止され、ウェット洗浄ツールが用いられて高いシール効果が求められる箇所では液カーテンにより高いシール効果が確保される。また、第１カーテン形成手段（液カーテン形成部）によりドライ処理部と液処理部との間に液カーテンを形成することにより高いシール性を得るようにした上で、この液カーテンよりもドライ処理部側に上記エアカーテンを形成するようにしているので、ドライ処理部と液処理部との間を液カーテンにより確実に仕切る一方で、当該液カーテンの水滴がドライ処理部に侵入することを防止することができる。しかも、液処理部の前段階で液カーテンを形成するので、液処理の下準備としての液を基板に供給する役割を持たせて液処理の効率を高めることができ、液処理前に液を供給する別個の機構を設ける必要をなくすことが可能になる。また、エアカーテンの形成は、ドライ処理部の近接箇所のみとして、エアカーテン形成用の設備及びエア使用量を比較的少なくしたので、エアカーテン形成に必要なコストを低減することができる。
【０００７】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記第２カーテン形成手段が、前記基板の有効部領域を含む主面側にのみ設けられているものである。
【０００８】
基板の有効部領域を含む主面とは、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等の素子やカラーフィルタのフィルタエレメントなどが形成される有効部領域を含む主面のことであるが、洗浄時のミストの付着で処理不良が発生するのは当該有効部領域部分であるため、この構成では、当該有効部領域を含む主面に対しては第２カーテン形成手段を設けて、ミスト付着による処理不良発生を確実に防止しつつ、ミスト付着による不具合が問題視されない有効部領域を含まない主面には第２カーテン形成手段を設けないこととして設備コストの低減を図る。
【００１５】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の基板処理装置において、前記第１カーテン形成手段の前記液カーテン形成部及び前記エアカーテン形成部のうち少なくとも一つは、基板の前記移動経路に対して接離可能に構成されているものである。
【００１６】
この構成では、必要に応じてカーテン形成部と基板とのギャップを変更することが可能となり、その結果、シール性能を調節することが可能となる。
【００１７】
また、請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の基板処理装置において、接離可能なカーテン形成部は、他のカーテン形成部に対して平行移動するものである。
【００１８】
この構成では、簡単な構成で基板に対してカーテン形成部を接離させることが可能となる。
【００１９】
また、請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板処理装置おいて、前記第１カーテン形成手段は、前記液処理部側に向かうように前記液カーテン及び前記エアカーテンを形成するものである。
【００２０】
この構成では、第１カーテン形成手段が液処理部側に向かう液カーテン及びエアカーテンを形成するので、これらカーテンが発生する気流や液流は液処理部側に向かうことになり、ミストや塵等のドライ処理部への浸入を確実に防止する。
【００２１】
また、請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の基板処理装置において、前記ドライ処理部及び前記液処理部は、前記移動手段によって移動される一枚の基板に対して同時に処理が可能となる位置に配設されているものである。
【００２２】
この構成によれば、ドライ処理部及び液処理部による各処理を一枚の基板に対して同時に実行可能な位置にドライ処理部及び液処理部を配設するので、各処理を短時間で終了できると共に、当該基板処理装置の設置面積を小さくすることができる。
【００２３】
また、請求項７に記載の発明は、基板処理装置であって、基板に紫外線を照射する紫外線照射部と、前記基板にブラシ処理を施すブラシ処理部と、前記基板に気体と液体とを含む二流体を供給する二流体供給部と、前記基板の主面を濯ぐリンス部と、前記基板の主面に対して気体を吹き付ける気体吹付部と、前記紫外線照射部、前記ブラシ処理部、前記二流体供給部、前記リンス部及び前記気体吹付部に対してその順番で基板を相対移動させる移動手段と、前記紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切る第１流体カーテンを形成するための第１カーテン形成手段と、前記ブラシ処理部と前記二流体供給部との間及び前記リンス部と気体吹付部との間をそれぞれ仕切る第２流体カーテンを形成するための第２カーテン形成手段とを少なくとも備え、かつ、前記移動手段によって移動される一枚の基板に対して、前記紫外線照射部、前記ブラシ処理部、前記二流体供給部、前記リンス部及び前記気体吹付部による各処理を同時に実行するようにされ、前記第１カーテン形成手段は、前記紫外線照射部及び前記ブラシ処理部に対する前記基板の相対移動方向に互いに隣接し、かつ、前記第１流体カーテンとして前記紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切る液カーテン及びこの液カーテンよりも前記紫外線照射部側の位置で当該紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切るエアカーテンをそれぞれ形成する液カーテン形成部及びエアカーテン形成部を備えており、前記第２カーテン形成手段は、前記第２流体カーテンとして液カーテンを形成するものである。
【００２４】
この構成では、紫外線照射部とブラシ処理部との間をエアカーテンで仕切り、少なくともブラシ処理部と二流体供給部との間、及びリンス部と気体吹付部との間を液カーテンで仕切ることによって、ドライ処理が行われる紫外線照射部に近接する箇所ではエアカーテンにより、紫外線照射部への水滴浸入を確実に防止し、ウェット洗浄ツールが用いられて高いシール効果が求められる箇所では液カーテンで高いシール効果を確保することができる。また、紫外線照射部とブラシ処理部との間を液カーテンで仕切ることで高いシール性を得るようにした上で、この液カーテンよりも紫外線照射部側を前記エアカーテンで仕切るようにしているので、紫外線照射部とブラシ処理部との間を液カーテンで確実に仕切りながら当該液カーテンの水滴が紫外線照射部に侵入することが防止される。また、エアカーテンの形成は、紫外線照射部の近接箇所のみとして、エアカーテン形成用の設備及びエア使用量を比較的少なくしたので、エアカーテン形成に必要なコストを低減することができる。また、紫外線照射部、ブラシ処理部、二流体供給部、リンス部及び気体吹付部による各処理を一枚の基板に対して同時に実行可能な位置にこれら各処理部を配設するので、各処理を短時間で終了できると共に、当該基板処理装置の設置面積を小さくすることができる。
【発明の効果】
【００２５】
請求項１に記載の発明によれば、ドライ処理部に近接する箇所ではエアカーテンを形成して仕切ることで、ドライ処理部への水滴浸入を確実に防止し、ウェット洗浄ツールが用いられて高いシール効果が求められる箇所では液カーテンで高いシール効果を確保することができる。しかも、ドライ処理部と液処理部との間を液カーテンで仕切ることで液処理部のミストに対する高いシール性を得るようにした上で、この液カーテンよりもドライ処理部側を前記エアカーテンで仕切ることにより当該液カーテンの水滴がドライ処理部に侵入することが防止されるようになているので、液処理部のミストに対する高いシール性を確保しつつドライ処理部への水滴浸入を確実に防止することがきる。しかも、液処理の下準備としての液を基板に供給する役割を液カーテン形成部に持たせて液処理の効率を高めることができ、液処理前に液を供給する別の機構を設ける必要をなくすことが可能になる。また、エアカーテンの形成は、ドライ処理部の近接箇所のみであるため、エアカーテン形成用の設備及びエア使用量も比較的少なくて足り、エアカーテン形成に必要なコストを低減することができる。これにより、カーテン形成のためのコスト低減と、シール効果の向上とを両立させることができる。
【００２６】
請求項２に記載の発明によれば、当該有効部領域を含む主面に対しては第２カーテン形成手段を設けてミスト付着による処理不良発生を防止でき、一方、ミスト付着による不具合が問題視されない有効部領域を含まない主面に対しては第２カーテン形成手段を設けないので、設備コストの低減を図ることができる。
【００３０】
請求項３に記載の発明によれば、カーテン形成部と基板のギャップを必要に応じて調節することにより、より最適なシール性を達成することが可能となる。
【００３１】
請求項４に記載の発明によれば、簡単な構成でカーテンの状態を良好に保ちつつカーテン形成部を基板に対して接離させることができる。
【００３２】
請求項５に記載の発明によれば、第１カーテン形成手段が液処理部側に向かう液カーテン及びエアカーテンを形成するので、これらカーテンにより発生する気流や液流は液処理部側に向かうことになり、ミストや塵等のドライ処理部への浸入を確実に防止することができる。
【００３３】
請求項６に記載の発明によれば、ドライ処理部及び液処理部による各処理を一枚の基板に対して同時に実行可能な位置にドライ処理部及び液処理部を配設するので、各処理を短時間で終了できると共に、当該基板処理装置の設置面積を小さくすることができる。
【００３４】
請求項７に記載の発明によれば、ウェット洗浄ツールが用いられて高いシール効果が求められる箇所では液カーテンで高いシール効果を確保し、ドライ処理が行われる紫外線照射部に近接する箇所ではエアカーテンにより、紫外線照射部への水滴浸入を確実に防止することができる。また、紫外線照射部とブラシ処理部との間をさらに液カーテンで仕切ることで高いシール性を得るようにした上で、この液カーテンよりも紫外線照射部側を前記エアカーテンで仕切るようにしているので、紫外線照射部とブラシ処理部との間を液カーテンで確実に仕切る一方で、当該液カーテンの水滴が紫外線照射部に侵入することが防止される。また、エアカーテンの形成は、紫外線照射部の近接箇所のみであるため、エアカーテン形成用の設備及びエア使用量も比較的少なくて足り、エアカーテン形成に必要なコストを低減することができる。また、紫外線照射部、ブラシ処理部、二流体供給部、リンス部及び気体吹付部による各処理を一枚の基板に対して同時に実行可能な位置にこれら各処理部を配設するので、各処理を短時間で終了できると共に、当該基板処理装置の設置面積を小さくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の一実施形態に係る基板処理装置について図面を参照して説明する。図１は、本発明に係る基板処理装置の一実施形態を概念的に示した側面図である。基板処理装置１は、装置本体１０内に、紫外線照射部１１と、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３及びリンス部１４からなる洗浄機構１２０と、気体吹付部１５とを備えている。これら紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５は、この順で基板搬送方向Ａに並べて配置されている。
【００３６】
紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５の各部内には、基板を搬送する複数の搬送ローラからなる基板搬送機構（移動手段）１６が設けられている。基板搬送機構１６をなす搬送ローラは、基板Ｂの幅方向（図１の基板搬送方向Ａに交差する方向）に延びる回転軸に複数のコロが取り付けられてなり、図略のモータ等の駆動源により回転軸と共に回転する。搬送ローラ上に載置された基板Ｂは、基板搬送方向Ａに並べて設けられている複数の搬送ローラによって次々に受け渡し搬送され、紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５の順に搬送されていくようになっている。
【００３７】
紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５のそれぞれ基板搬送方向上流端となる側壁には、基板通過口となる開口が設けられている。基板Ｂは、基板通過口付近の搬送ローラが回転駆動されることにより、基板搬送方向上流側の処理部から下流側の処理部に次々に搬送される。なお、上記開口には、開閉自在のシャッタが設けられていてもよい。
【００３８】
なお、各基板搬送機構１６は、上下一対で設けられた搬送ローラにより基板Ｂを上下から挟持して搬送する機構と、基板Ｂの裏面のみを搬送ローラで支持して基板Ｂを搬送する機構とが、各処理部の処理内容に応じて採用されている。
【００３９】
紫外線照射部（ドライ処理部の一例）１１は、紫外線ランプ１１１から放射される紫外線を基板Ｂに照射して当該基板Ｂに付着している有機物を分解除去（ドライ処理の一例）するものである。
【００４０】
洗浄機構（液処理部の一例）１２０は、紫外線照射部１１から搬送されてきた基板Ｂに対して洗浄処理（液処理の一例）を施すものである。上述したように、洗浄機構１２０は、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３及びリンス部１４（これらはウェット洗浄ツールの一例）からなる。
【００４１】
ブラシ処理部１２は、基板Ｂの両主面に当接して揺動することで基板Ｂの両主面を洗浄する複数の揺動ブラシ１２１と、これら揺動ブラシ１２１による基板Ｂの洗浄前後において、基板Ｂの両主面に純水からなる洗浄液を供給する上下一対の洗浄液供給ノズル１２２とを備えている。ブラシ処理部１２に導入された基板Ｂは、各洗浄液供給ノズル１２２からの洗浄液供給を受け、揺動する上下一対の揺動ブラシ１２１間を通過することで両主面が洗浄され、比較的大きめのパーティクルが除去される。なお、洗浄液は、純水に限られるものではなく、薬液等であってもよい。
【００４２】
二流体供給部１３は、純水からなる液体に圧力をかけて霧吹き状に基板に噴射することで液流体と気流体の二流体を噴射して基板Ｂの主面を洗浄する二流体ノズル１３１を、基板Ｂの両主面側に備える。二流体供給部１３は、仕上げの洗浄処理を施すものであり、二流体ノズル１３１からの二流体の噴射により、先の洗浄処理で除去し得なかった比較的小さめのパーティクルを基板Ｂから取り除く。
【００４３】
リンス部１４は、二流体供給部１３を通過後の基板Ｂの両主面に対して純水からなるリンス液を供給するリンス液供給ノズル１４１を、基板Ｂの両主面側に備える。このリンス液供給ノズル１４１から供給されるリンス液により基板Ｂの主面上に残存する汚れ及び洗浄液を洗い流すようになっている。なお、リンス液は、純水に限られるものではなく、薬液等であってもよい。
【００４４】
気体吹付部１５は、洗浄機構１２０による洗浄処理後に基板Ｂの主面上に残留しているリンス液を取り除いて乾燥処理を施すものである。気体吹付部１５は、基板搬送路を挟んで上下で対向した一対のエアナイフ１５１を有している。かかる一対のエアナイフ１５１は、基板幅方向（基板搬送方向に交差する方向）に延びる細いスリットを有し、このスリットから基板Ｂの両主面（表裏面）にカーテン状に気体が高圧で吹き付けられることにより、基板Ｂの両主面に残留したリンス液が取り除かれる。これによって基板Ｂに対する乾燥処理が完了する。
【００４５】
紫外線照射部１１と洗浄機構１２０の間には、当該空間を基板Ｂの搬送方向上流側と下流側に仕切るエアカーテンを形成するエアカーテン形成ノズル（カーテン形成手段の一例）２１が、基板Ｂの両主面に対する位置に設けられている。このエアカーテン形成ノズル２１は、基板Ｂの幅方向に亘って設けられ、同幅方向に延びる空気噴射スリットを有している。エアカーテン形成ノズル２１は、空気噴射スリットから、基板Ｂの主面に対してカーテン状に空気流を噴射することにより、エアカーテン形成ノズル２１から基板Ｂの主面にかけてエアカーテンを形成する。このエアカーテンにより、紫外線照射部１１と洗浄機構１２０の間における、基板搬送機構１６による基板Ｂの搬送経路を含む空間が、基板搬送方向上流側と下流側（すなわち、紫外線照射部１１側と洗浄機構１２０側）とに仕切られる。エアカーテン形成ノズル２１は、エアカーテンにより、紫外線照射部１１と洗浄機構１２０との間での気流の行き来を遮断し、洗浄機構１２０で発生したミスト等が紫外線照射部１１に浸入することを防止する。
【００４６】
ブラシ処理部１２及び二流体供給部１３の間には、当該空間を基板Ｂの搬送方向上流側と下流側に仕切る液カーテンを形成する液カーテン形成ノズル（液カーテン形成手段）２２が設けられている。この液カーテン形成ノズル２２は、基板Ｂの幅方向に亘って設けられ、同幅方向に延びる液吐出スリットを有している。液カーテン形成ノズル２２は、基板Ｂの主面に対してカーテン状に、純水からなる洗浄液を噴射することにより、液カーテン形成ノズル２２から基板Ｂの主面にかけて液カーテンを形成する。なお、液カーテンを形成する洗浄液は純水に限られず、他の洗浄液であってもよい。しかし、液カーテン形成ノズル２２の配設位置の直近の下流側に配設されている処理部で用いられる液と同種であることが好ましい。この液カーテンにより、ブラシ処理部１２と二流体供給部１３の間であって、基板搬送機構１６による基板Ｂの搬送経路を含む空間が、基板搬送方向上流側と下流側とに仕切られる。液カーテン形成ノズル２２は、（１）液カーテンにより、ブラシ処理部１２と二流体供給部１３との間での気流の行き来を遮断し、一方の処理部で発生したミスト等が他方の処理部に浸入することを防止する。また、液カーテン形成ノズル２２は、（２）基板の主面上を流れる液を液カーテンで遮り、当該主面上の液が液カーテンの上流側又は下流側の処理部に流出することを防止して、隣り合う各処理部の液同士の干渉により洗浄効果に悪影響を与えることを防止する。
【００４７】
同様に、二流体供給部１３とリンス部１４との間、リンス部１４と気体吹付部１５との間にも、リンス液を吐出して液カーテンを形成する液カーテン形成ノズル２２が設けられている。この二流体供給部１３とリンス部１４との間に配設された液カーテン形成ノズル２２も、上記（１）（２）に示した作用を発揮する。
【００４８】
上記のように、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５のそれぞれの間の位置に、液カーテン形成ノズル２２を配設して液カーテンを形成することにより、エアカーテンによる場合よりも高いミスト遮断性を確保することで、上記ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５として、基板Ｂの主面に作用するエネルギーが高くミスト発生量が多い高性能ツールを用いることが可能になる。また、液カーテンの形成のために使用した洗浄液又はリンス液は、図略の排液回収タンクにより回収して再利用することが可能であるため、上記位置にエアカーテン形成部を設置してエアカーテンによりミストを遮断する構成を採用する場合と比較してランニングコストを低減することができる。
【００４９】
上記各液カーテン形成ノズル２２は、基板Ｂの有効部領域を含む主面側に設けられている。基板Ｂの有効部領域を含む主面とは、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等の素子やカラーフィルタのフィルタエレメントなどが形成される有効部領域を含む主面のことであり、図１に示す本実施形態では、基板Ｂの上面が、基板Ｂの有効部領域を含む主面である。
【００５１】
また、図１に示すように、紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５は、基板搬送機構１６によって搬送される１枚の基板Ｂに対して各部の処理を同時に実行できる位置に近接させて配置されている。かかる近接配置は、上記エアカーテン形成ノズル２１によって形成されるエアカーテン、及び各液カーテン形成ノズル２２によって形成される液カーテンによって、各処理部同士が互いに干渉しない状態となることで実現可能となるものである。
【００５２】
次に、エアカーテン形成ノズル２１を説明する。図２は、エアカーテン形成ノズル２１の概略を示す側面図である。エアカーテン形成ノズル２１は、紫外線照射部１１と洗浄機構１２０とを仕切る側壁１２５に、取付板１２５ａを介して取り付けられている。取付板１２５ａは、その下端部が基板搬送方向Ａに向けて傾斜されている。そのため、エアカーテン形成ノズル２１の先端部に設けられている空気噴射スリット２１ａは、基板搬送方向Ａに向けられている。エアカーテン形成ノズル２１は、上述したように、洗浄機構１２０で発生したミストの紫外線照射部１１への浸入を防止するものであるため、エアナイフほどの高圧力でのエア噴射性能は必要とされない。また、基板Ｂの裏面側にも、下端部が基板搬送方向Ａに向けて傾斜された取付板１２５ａにエアカーテン形成ノズル２１が取り付けられている。なお、図２では、エアカーテン形成ノズル２１にエアカーテン形成用のエアを供給するエア配管の図示は省略している。
【００５３】
基板Ｂの両主面側に配設された各エアカーテン形成ノズル２１が、基板搬送方向Ａに向けてエアを噴射して同方向に向かうエアカーテンを形成することによって、エアカーテン自体が発生させる気流は、基板搬送方向Ａの下流側にある洗浄機構１２０に向かうので、エアカーテンの気流によって運ばれるミスト等が紫外線照射部１１に浸入することは確実に防止される。
【００５４】
図３（ａ）は、エアカーテン形成ノズル２１の他の実施形態を示している。この図に示すエアカーテン形成ノズル２１は、先端端部が基板搬送方向Ａの下流側に向けられた取付板１２５ａの上下両側に、互いに平行な空気噴射スリット２１ａを備えた２つのノズル（第１、第２エアカーテン形成部）２１１，２１２が設けられた構成となっている。
【００５５】
これらノズル２１１，２１２のうち下側（上流側）に位置するノズル２１１（第１ノズル２１１という）は取付板１２５ａに対して固定的に設けられている。これに対して上側（下流側）に位置するノズル２１２（第２ノズル２１２という）は、基板Ｂの移動経路に対して接近した位置と離間した位置との間で移動可能（接離可能）に構成されている。すなわち取付板１２５ａに対してスライド可能に、具体的にはエアの噴射方向（空気噴射スリット２１ａに対して直交する方向）に、第１ノズル２１１に対して平行移動可能に設けられており、これによって同図に示すように両ノズル２１１，２１２のノズル先端が並ぶ状態、図３（ｂ）に実線で示すように第２ノズル２１２が第１ノズル２１１よりも前方に迫り出す状態、および同図中一点鎖線で示すように第２ノズル２１２が第１ノズル２１１よりも後方に引き下がる状態とに亘って第２ノズル２１２の配置を変更できるように構成されている。
【００５６】
なお、第２ノズル２１２は、取付板１２５ａに形成されるフラットな案内面に沿ってスライド可能に支持されており、図示を省略するが、例えば取付板１２５ａにボルトで固定されている。そして、そのボルト孔が長孔とされることにより、この長孔の範囲内で前記スライド方向の任意の位置に第２ノズル２１２を固定できるようになっている。
【００５７】
このようなエアカーテン形成ノズル２１の構成によると、第１、第２のノズル２１１，２１２からエアが噴射されて二重のエアカーテンが形成されることによりシール性が向上し、紫外線照射部１１へのミスト等の浸入がより確実に防止される。特に、第２ノズル２１２を第１ノズル２１１に対してオフセットすることにより、基板Ｂに作用するエア圧等を微妙に変化させることが可能となり、従って、基板Ｂの搬送速度等の処理条件に応じたより最適なエアカーテンを形成することができ、その結果、ミスト等の紫外線照射部１１への浸入をより確実に防止できるようになる。
【００５８】
なお、図３に示すエアカーテン形成ノズル２１では、第２ノズル２１２がスライド可能に構成されているが、逆に、取付板１２５ａに対して第１ノズル２１１だけをスライド可能に設けた構成としてもよい。また、図４に示すように、取付板１２５ａに対して両方のノズル２１１，２１２をそれぞれ個別にスライド可能に設けた構成としてもよい。このように両方のノズル２１１，２１２をスライド可能にした構成によると、基板Ｂに対するエア圧等の調節の自由度が向上するため、基板Ｂの処理条件に応じてよりシール性の高いエアカーテンを形成できるようになるというメリットがある。
【００５９】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。図５は、カーテン形成ノズルの概略を示す側面図である。上述した基板処理装置１では、紫外線照射部１１と洗浄機構１２０の間の位置には、エアカーテンを形成するエアカーテン形成ノズル２１が設けられているが、これに代えて、エアカーテン及び液カーテンの両方を形成するカーテン形成手段（本発明の第１カーテン形成手段に相当する）２３を当該位置に設けるようにしてもよい。なお、この施形態では、前記液カーテン形成ノズル２２が本発明の第２カーテン形成手段に相当する。
【００６０】
この実施形態では、先端端部が基板搬送方向Ａの下流側に向けられた取付板１２５ａに、上述した液カーテン形成ノズル２２と同等の性能を有する液カーテン形成ノズル（液カーテン形成部）２３１と、上述したエアカーテン形成ノズル２１と同等の性能を有するエアカーテン形成ノズル（エアカーテン形成部）２３２とを有するカーテン形成部２３が取り付けられている。液カーテン形成ノズル２３１は、エアカーテン形成ノズル２３２よりも基板搬送方向Ａにおいて下流側、すなわち、洗浄機構１２０側に設けられ、エアカーテン形成ノズル２３２は、液カーテン形成ノズル２３１と紫外線照射部１１との間に配設される。
【００６１】
この実施形態の構成では、液カーテン形成ノズル２３１が形成する液カーテンによって、（１）洗浄機構１２０が発生させるミストを高いシール性で遮断すると共に、（２）エアカーテン形成部２３２が形成するエアカーテンによって、洗浄機構１２０からのミストを更に確実に遮断し、かつ、液カーテン形成ノズル２３１が形成した液カーテンの水滴等が紫外線照射部１１に浸入することを防止する。これにより、紫外線照射部１１に水滴等が浸入することを防ぎつつ、洗浄機構１２０からのミストを更に高いシール性をもって遮断できる。また、洗浄機構１２０の基板搬送方向Ａにおける上流において、基板Ｂに対して洗浄液を供給して液カーテンを形成するため、洗浄機構１２０による洗浄前に、その下準備としての洗浄液を基板Ｂに供給しておくことができ、洗浄処理の効率を高めることができる。
【００６２】
また、基板Ｂがカーテン形成部２３に差し掛かっている状態で、基板Ｂの搬送が何らかの事情により停止した場合には、図略の制御部が、エアカーテン形成ノズル２３２からの空気噴射量を増大させる制御を行うようにしてもよい。例えば、エアカーテン形成ノズル２３２に空気を供給する供給路を２つ設けておき、各供給路にそれぞれ設けられているバルブを、基板Ｂが正常に搬送されている場合はいずれか１つの供給路のバルブを開けて当該供給路から空気を供給し、基板Ｂが停止した場合には、２つの供給路の両方のバルブを開けて２つの供給路から空気を供給して、エアカーテン形成ノズル２３２に供給する空気量を増やすようにする。
【００６３】
基板Ｂがカーテン形成部２３に差し掛かっている状態で搬送停止すると、基板Ｂの主面上に存在する液が基板Ｂと共に下流側に搬送されないことになるので、停止状態の基板Ｂの主面上を、液が上流側に向かって移動する事態が生じ得る。特に、基板Ｂを、基板搬送方向に直交する方向に基板Ｂを傾けた姿勢で搬送している場合は、基板Ｂの主面上の液が、下側となる基板Ｂ側端部に流れ、当該側端部を伝って紫外線照射部１１側に進入しやすくなることが考えられる。このような場合に、エアカーテン形成ノズル２３２からの空気噴射量を増大させ、カーテンの上流側と下流側の遮断性を向上させることで、基板Ｂの主面上の液が上流側の紫外線照射部１１に進入することを確実に防止する。
【００６４】
上記基板Ｂが搬送停止されたとして、エアカーテン形成ノズル２３２からの空気噴射量を増大させるタイミングは、（１）基板Ｂが洗浄機構１２０に進入した後の経過時間、又は基板Ｂが洗浄機構１２０に進入してから洗浄機構１２０を搬出されるまでの時間が、図略のタイマによるカウントで予め定められた時間に達した時、或いは、（２）基板搬送方向における紫外線照射部１１と洗浄機構１２０との間、すなわち、カーテン形成部２３の近傍に基板検出センサ（光センサ等）を設け、このセンサにより基板Ｂの存在が検出されている状態が、予め設定した時間継続した時、とすればよい。
【００６５】
なお、図示を省略が、図５に示す上記カーテン形成部２３についても、図３，図４に示したエアカーテン形成ノズル２１と同様に、液カーテン形成ノズル２３１およびエアカーテン形成ノズル２３２の何れか一方側、あるいは両方を取付板１２５ａに対してスライド可能な構成としてもよい。この構成によれば、液カーテン形成ノズル２３１又はエアカーテン形成ノズル２３２と基板Ｂとのギャップ調整を個別に行うことが可能となるので、基板Ｂの処理条件に応じたよりシール性の高いカーテンを形成することが可能となる。
【００６６】
ところで、本発明は上記実施の形態の構成に限られず種々の変形が可能である。例えば、上記各実施形態では、基板搬送機構１６による基板Ｂの搬送姿勢を特に限定していないが、基板Ｂの搬送姿勢は、水平姿勢であっても、傾斜姿勢（例えば、基板搬送方向に直交する方向に基板Ｂを傾けた姿勢等である。但し、当該傾斜姿勢に限定する趣旨ではない）であっても構わない。
【００６７】
また、上記実施形態では、エアカーテン形成ノズル２１及びカーテン形成部２３が、基板搬送方向Ａの下流側に向かうカーテンを形成するものとしているが、本発明は当該構成に限定されるものではなく、例えば、基板Ｂの主面に対して他の角度（垂直に近い角度等）でカーテンが形成されるようにしてもよい。
【００６８】
また、上記実施形態では、紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５は、基板搬送機構１６によって搬送される１枚の基板Ｂに対して各部の処理を同時に実行できる位置に近接させて配置されているが、本発明は当該構成に限定されるものではなく、例えば、１枚の基板に対して、紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５による各処理が別々のタイミングで行われるようにすることも可能である。
【００６９】
また、上記実施形態では、基板搬送機構１６によって基板Ｂを、紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５の各処理部に対して移動させるようにしているが、これに代えて、紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５を移動させる搬送機構を設け、かかる機構により、基板Ｂに対して、紫外線照射部１１、ブラシ処理部１２、二流体供給部１３、リンス部１４及び気体吹付部１５が移動する構成を採用してもよい。
【００７０】
また、上記実施形態では、液カーテン形成ノズル２２が、二流体供給部１３及びリンス部１４の間に設けられているが、この二流体供給部１３及びリンス部１４の間に設けられる液カーテン形成ノズル２２は、設置を省略することも可能である。
【００７１】
また、上記実施形態では、ドライ処理部を、紫外線照射部１１を例にして説明しているが、ドライ処理部は紫外線照射部１１に限定されるものではなく、常圧状態でプラズマ化したガスを供給するプラズマ処理部や、オゾンガス供給部等であっても、本発明の適用が可能である。
【００７２】
また、上記実施形態では、洗浄機構１２０に備えられる処理部として、二流体供給部１３を採用しているが、これを、超音波洗浄処理部や、高圧水流（高圧ジェット）処理部等とした場合であっても、本発明の適用が可能である。上記実施形態で示したように、液カーテン形成ノズル２２による液カーテンにより、これら処理部と、隣接する他の処理部とを遮断するようにすれば、これらの処理部が発生させる多量のミストを効果的に遮断して隣接する処理部へのミストの浸入を確実に防止することができる。
【００７３】
また、図３，図４に示すエアカーテン形成ノズル２１では、ノズル２１１，２１２を相対的に平行移動させるように構成されているが、必ずしも平行移動である必要はない。但し、実施形態のように平行移動させる構成によれば、構造的に簡単で、また、エアの噴射方向および位置を一定に保ったままでノズル２１１，２１２の配置を変更できるため、簡単な構成で、エアカーテンの状態を良好に保ちつつノズル２１２等と基板Ｂとのギャップ調整を行うことができるという利点がある。
【００７４】
また、図３，図４に示すエアカーテン形成ノズル２１は、一対のノズル２１１，２１２を有する構成となっているが、勿論、必要に応じて３つ以上のノズルを並べてより多重のエアカーテンを形成するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施形態を概念的に示した側面図である。
【図２】エアカーテン形成ノズルの概略を示す側面図である。
【図３】エアカーテン形成ノズルの他の例を模式的に示す図である（（ａ）は第１ノズルと第２ノズルが並んだ状態、（ｂ）は第１ノズルに対して第２ノズルがオフセットされた状態をそれぞれ示す）。
【図４】エアカーテン形成ノズルの他の例を模式的に示す図である。
【図５】カーテン形成ノズルの概略を示す側面図である。
【符号の説明】
【００７６】
１          基板処理装置
１１        紫外線照射部
１２０      洗浄機構
１２        ブラシ処理部
１３        二流体供給部
１４        リンス部
１５        気体吹付部
１５１      エアナイフ
１６        基板搬送機構
２１        エアカーテン形成ノズル
２１ａ      空気噴射スリット
２１１      第１ノズル
２１２      第２ノズル
２２        液カーテン形成ノズル
２３        カーテン形成部
２３１      液カーテン形成ノズル
２３２      エアカーテン形成ノズル
１１１      紫外線ランプ
１２５      側壁
１２５ａ    取付板
１４１      リンス液供給ノズル
Ｂ          基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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