(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布基板上に塗布液を塗布する塗布装置において、
塗布液を吐出する塗布ノズルと、
前記塗布ノズルを被塗布基板に対向させた状態で前記塗布ノズルと前記被塗布基板とを相対的に移動させる塗布用移動機構と、
前記被塗布基板に並列して配設され、前記被塗布基板上に塗布液を塗布するのに先立って、前記塗布ノズルから吐出された塗布液を吸収することで該被塗布基板上に塗布される塗布液の量を調節する塗布液吸収部とを備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記被塗布基板に対する前記塗布液吸収部の相対位置を調整する調整機構をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
前記塗布液吸収部は、前記被塗布基板が載置されているステージに対して脱着自在に取り付けられていることを特徴とする請求項１または２記載の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布液吸収部は、前記塗布ノズルから吐出された塗布液を吸収する吸収体と、
前記吸収体を洗浄する洗浄機構とを有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか記載の塗布装置。
【請求項５】
前記塗布液吸収部は、前記吸収体を塗布液の塗布位置と洗浄位置との間で移動させる洗浄用移動機構をさらに有することを特徴とする請求項４記載の塗布装置。
【請求項６】
前記吸収体は塗布液を吸収する複数の吸収面を有し、
前記洗浄用移動機構は、前記各吸収面が塗布液の塗布位置または洗浄位置に位置するよう前記吸収体を移動させることを特徴とする請求項５記載の塗布装置。
【請求項７】
前記洗浄機構は、前記吸収体に対して洗浄液を供給する手段と、前記吸収体から洗浄液とともに除去された塗布液を回収する手段とを有することを特徴とする請求項４乃至６のいずれか記載の塗布装置。
【請求項８】
前記被塗布基板としてカラーフィルター用の基板を用い、前記塗布液としてカラーフィルター用の着色液を用いることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか記載の塗布装置。
【請求項９】
塗布ノズルと被塗布基板とを相対的に移動させて被塗布基板上に塗布液を塗布する塗布方法において、
塗布ノズルから吐出された塗布液を、被塗布基板に並列して配設された塗布液吸収部にて吸収して塗布液の量を調節するステップと、
塗布液の量が調節された塗布ノズルにより前記被塗布基板上に塗布液を塗布するステップとを含むことを特徴とする塗布方法。
【請求項１０】
前記被塗布基板としてカラーフィルター用の基板を用い、前記塗布液としてカラーフィルター用の着色液を用いることを特徴とする請求項９記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被塗布基板上に塗布液を塗布する塗布装置および塗布方法に係り、とりわけ、大型のガラス基板やプラスチック基板等の枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液を均一かつ効率的に塗布するための塗布装置および塗布方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、ＬＣＤ（liquid crystal display）用のカラーフィルター等で用いられる大型のガラス基板上に塗布液を塗布する方式として、スピン塗布方式が多く用いられている。
【０００３】
スピン塗布方式には大気開放型および密閉カップ式があるが、いずれの方式でも、塗布材料の使用効率が１０％程度と低く、また被塗布基板の回転中心部分および周辺部分の塗布膜厚がその中間部分に比べて厚くなりすぎるという欠点がある。このため、例えば、塗布膜厚として数μｍ±３％程度の範囲が要求される場合には、スピン塗布方式により形成された塗膜をそのまま用いることが困難であり、被塗布基板の回転中心部分と周辺部分との間の中間部分であって塗布膜厚が比較的均一な部分のみを用いる必要がある。すなわち、スピン塗布方式には、塗布液の使用量、および被塗布基板の有効利用等の点で問題がある。
【０００４】
このようなスピン塗布方式の欠点を解消するための方式として、ナイフ塗布方式やロール塗布方式等が提案されている。ナイフ塗布方式およびロール塗布方式はいずれも、被塗布基板上に塗布用クリアランスを設け、その設定値によって塗布膜厚を決定して塗布面の平滑性を得る方式であるが、この方式では、被塗布基板の表面の平滑度（凹凸度）が塗布精度以上に低い（凹凸度が大きい）場合に均一な膜厚を得ることが困難であるという欠点である。
【０００５】
そこで、上述したような各塗布方式の欠点を解消して、枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液の物性等の影響を受けることなく安定した状態で均一な塗膜を形成することのできる方式として、ダイ塗布方式やエクストルージョン塗布方式、ビード塗布方式が提案されている（特願平０５−１４６７５７号参照）。
【０００６】
これらの塗布方式に基づく塗布装置としては、例えば、一定の塗布用クリアランスをとって被塗布基板上に塗布ノズルから塗布液を吐出し、これと同時に被塗布基板を一定速度でスライドさせることにより、被塗布基板上に塗膜を形成するものが知られている。このとき、塗布ノズルには、塗布液供給機構から連続して塗布液の供給が行われ、塗布ノズルから吐出される塗布液の吐出量が一定に保たれるようになっている。なお、被塗布基板上に塗膜が形成されるとき、塗布ノズルと被塗布基板との間には一定量のビードが形成され、そのうちの一定量が被塗布基板上に塗布される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の塗布装置では、塗布ノズルから吐出された塗布液（ビード）が被塗布基板に確実に接触するようにするため、被塗布基板上に塗布液が最初に塗布される塗膜形成開始時の状態（図７(a)参照）では、被塗布基板上に塗布液が連続して塗布されている定常状態（図７(b)参照）よりも多量の塗布液が必要となる。なお、図７(a)(b)において、符号５は塗布ノズル、符号５ａは塗布液が吐出されるスリット、符号８は被塗布基板、符号２０は塗布液を示している。
【０００８】
このため、従来の塗布装置では、被塗布基板のスライド速度が一定で、かつ塗布ノズルから吐出される塗布液の量が一定であっても、被塗布基板上に形成される塗布膜厚は均一にはならない。すなわち、塗膜形成開始時の状態から定常状態へ移行するまでの過渡期に形成された塗膜の部分は、その膜厚が正規の値から外れた不良部分となってしまうという問題がある。
【０００９】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、被塗布基板上への塗膜形成開始時に形成される膜厚不良部分を減少させ、大型のガラス基板やプラスチック基板等の枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液を均一かつ効率的に塗布することができる塗布装置および塗布方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、その第１の解決手段として、被塗布基板上に塗布液を塗布する塗布装置において、塗布液を吐出する塗布ノズルと、前記塗布ノズルを被塗布基板に対向させた状態で前記塗布ノズルと前記被塗布基板とを相対的に移動させる塗布用移動機構と、前記被塗布基板に並列して配設され、前記被塗布基板上に塗布液を塗布するのに先立って、前記塗布ノズルから吐出された塗布液を吸収する塗布液吸収部とを備えたことを特徴とする塗布装置を提供する。
【００１１】
なお、上述した第１の解決手段においては、前記被塗布基板に対する前記塗布液吸収部の相対位置を調整する調整機構をさらに備えることが好ましい。また、前記塗布液吸収部は、前記被塗布基板が載置されているステージに対して脱着自在に取り付けられていることが好ましい。さらに、前記塗布液吸収部は、前記塗布ノズルから吐出された塗布液を吸収する吸収体と、前記吸収体を洗浄する洗浄機構とを有することが好ましい。さらにまた、前記塗布液吸収部は、前記吸収体を塗布液の塗布位置と洗浄位置との間で移動させる洗浄用移動機構をさらに有することが好ましい。なお、前記吸収体は塗布液を吸収する複数の吸収面を有し、前記洗浄用移動機構は、前記各吸収面が塗布液の塗布位置または洗浄位置に位置するよう前記吸収体を移動させることが好ましい。また、前記洗浄機構は、前記吸収体に対して洗浄液を供給する手段と、前記吸収体から洗浄液とともに除去された塗布液を回収する手段とを有することが好ましい。
【００１２】
本発明は、その第２の解決手段として、塗布ノズルと被塗布基板とを相対的に移動させて被塗布基板上に塗布液を塗布する塗布方法において、塗布ノズルから吐出された塗布液を、被塗布基板に並列して配設された塗布液吸収部にて吸収して塗布液の量を調節するステップと、塗布液の量が調節された塗布ノズルにより前記被塗布基板上に塗布液を塗布するステップとを含むことを特徴とする塗布方法を提供する。
【００１３】
本発明の第１および第２の解決手段によれば、被塗布基板に並列して配設された塗布液吸収部により、被塗布基板上に塗布液を塗布するのに先立って、塗布ノズルから吐出された塗布液を吸収するので、塗膜形成開始時において、被塗布基板に対するビードの接触のために吐出される過剰な塗布液を取り除き、定常状態と同様の量に調節することができる。このため、塗膜形成開始時の状態から定常状態までの塗布液の量の変化（過渡期）をなくすことができ、被塗布基板への塗膜形成開始直後から、所望の膜厚を有する均一な塗膜を被塗布基板上に形成することができ、ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられるガラス基板等のような大面積の基板に対しても、所望の膜厚を有する均一な塗膜を形成することができる。
【００１４】
また、本発明の第１の解決手段によれば、調整機構により被塗布基板に対する塗布液吸収部の相対位置を調整することにより、塗布液の吐出量および物性等に応じて、塗膜形成開始時の塗布液の量が定常状態と同様の量となるよう容易に調節することができる。さらに、塗布液吸収部を、被塗布基板が載置されているステージに対して脱着自在に取り付けることにより、塗布液の物性に応じて、適切な吸収力を有する塗布液吸収部への交換を容易に行うことができ、多様な物性の塗布液に柔軟に対応することができるとともに、塗布液吸収部のメンテナンスおよび洗浄を容易に行うことができる。さらにまた、塗布液吸収部のうち塗布液が吸収された吸収体を洗浄機構により洗浄液によって洗浄することにより、塗布液吸収部のメンテナンスおよび洗浄を容易に行うことができる。なお、吸収体として、塗布液を吸収する複数の吸収面を有するものを用い、洗浄用移動機構により、各吸収面が塗布位置または洗浄位置に位置するよう吸収体を移動させることにより、塗布液が吸収された吸収面を簡易かつ迅速に洗浄および再利用することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１および図２は本発明による塗布装置の一実施の形態を説明するための図である。
【００１６】
図１に示すように、本実施の形態に係る塗布装置は、被塗布基板８上に塗布液を塗布するものであり、塗布液を吐出する塗布ノズル５を備えている。
【００１７】
塗布ノズル５は、被塗布基板８が載置されるステージ３のスライド（移動）方向（図１の左右方向）と直交する方向（図１の紙面に直交する方向）に延びる帯状のスリット５ａを有し、塗布液供給機構（図示せず）から供給される塗布液をスリット５ａを介して下方に吐出することができるようになっている。
【００１８】
また、塗布ノズル５は、被塗布基板８に対する塗布ノズル５の水平状態を調整することが可能なダイホルダ４に支持されている。ダイホルダ４は、昇降機構１５を介して支柱１６に取り付けられており、被塗布基板８に対する塗布ノズル５の高さを任意に調整することができるようになっている。なお、支柱１６は基台１上に固定されている。
【００１９】
一方、被塗布基板８は、基板ホルダ６を介してステージ３上に載置されており、基板ホルダ６の上面にて真空吸着により保持されるようになっている。ステージ３上には、基板ホルダ６（被塗布基板８）に並列して塗布液吸収部７が配設されており、被塗布基板８上に塗布液を塗布するのに先立って、塗布ノズル５から吐出された塗布液を吸収することができるようになっている。なお、塗布液吸収部７は、調整台（調整機構）９を介してステージ３上に配設されており、被塗布基板８に対する塗布液吸収部７の相対位置（被塗布基板８との距離、高さおよび平行度）を調整することができるようになっている。
【００２０】
ここで、ステージ３は、エアースライドリニアモータ（塗布用移動機構）２を介して基台１上にてスライド（移動）自在に設置されており、塗布ノズル５のスリット５ａを被塗布基板８に対向させた状態で塗布ノズル５と被塗布基板８とを相対的に移動させることができるようになっている。また、エアースライドリニアモータ２は、ステージ３の移動を適宜制御することにより、被塗布基板８上に塗布液を塗布するのに先立って、塗布ノズル５を塗布液吸収部７に対向させ、塗布ノズル５から吐出された塗布液を吸収することができるようになっている。
【００２１】
次に、図２により、図１に示す塗布液吸収部７の詳細について説明する。
【００２２】
図２に示すように、塗布液吸収部７は、塗布ノズル５から吐出された塗布液を吸収する吸収体１０と、吸収体１０を洗浄する洗浄機構１７とを有している。吸収体１０は、塗布液を吸収する複数の吸収面を有する四角柱形状をなしている。吸収体１０は、洗浄機構１７の洗浄槽１１に回転軸１０ａを介して配設されており、図示しない駆動部（洗浄用移動機構）により吸収体１０を図２の矢印方向に回転移動させることができるようになっている。これにより、吸収体１０の各吸収面は、塗布液の塗布位置（塗布ノズル５に対向する位置）または洗浄位置（洗浄液供給ノズル１２に対向する位置）に位置するようになっている。なお、洗浄機構１７は、吸収体１０の各吸収面を洗浄するよう吸収体１０に対して洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル１２と、吸収体１０から洗浄液とともに除去された塗布液を回収する洗浄槽１１とを有している。なお、洗浄液供給ノズル１２は、洗浄槽１１に取り付けられている。また、洗浄槽１１には、洗浄液および塗布液を除去するための洗浄液ドレン１３と、吸収体１０の洗浄後の各吸収面を空気等の循環により乾燥させるための排気ポート１４とが取り付けられている。
【００２３】
なお、吸収体１０としては、被塗布基板８上に形成される塗膜の目標膜厚に応じた塗布プロセスによる塗布速度、塗布液供給レート、および塗布クリアランス等のパラメータに応じて、適当な吸収レートを有するものを選択することができる。このような適当な吸収レートを有する吸収体１０の一例としては、ポリエチレンやポリビニルアルコール、セルロース、ポリプロピレン等からなる高分子多孔質体や高分子フィルター、およびそれらを組み合わせたもの、Ａｌ２Ｏ３やＳｉＯ２、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＺｒＯ２等を主成分とする無機多孔質体、アルミニウムや銅、ステンレス、鉄、各種耐食合金等の金属メッシュ構造等、適当な気孔率を有するものを選択することができる。なお、以上のものの積層体や組み合わせたものであってもよい。
【００２４】
また、被塗布基板８としては、ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられるガラス基板等の任意のものを用いることができる。また、塗布ノズル５から吐出される塗布液としては、カラーフィルター用の着色液等の任意のものを用いることができる。具体的には例えば、溶剤系感光性樹脂、水系感光性樹脂、またはこれらの感光性樹脂に顔料等の着色材を分散させた着色感光性樹脂、各種接着剤、保護膜等を形成するための樹脂、各種インキ等を用いることができる。
【００２５】
次に、図１および図２により、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。
【００２６】
まず、図１に示すように、ステージ３上に配設された基板ホルダ６上にて真空吸着により被塗布基板８を保持するとともに、ステージ３上に配設された塗布液吸収部７の上方に塗布ノズル５のスリット５ａがくるようステージ３の左右方向の位置を調整する。なおこのとき、被塗布基板８に対する塗布ノズル５の平行度および高さはそれぞれダイホルダ４および昇降機構１５により調整される。また、被塗布基板８に対する塗布液吸収部７（吸収体１０の洗浄済みの吸収面）の相対位置（被塗布基板８との距離、高さおよび平行度）は調整台９により調整される。
【００２７】
この状態で、塗布液供給機構（図示せず）から塗布液を塗布ノズル５に連続して供給し、塗布ノズル５のスリット５ａから下方に塗布液を吐出する。
【００２８】
同時に、エアースライドリニアモータ２によりステージ３を図１の位置から右方向にスライドさせ、塗布ノズル５から吐出された塗布液を塗布液吸収部７にて吸収して塗布液の量を調節した後、被塗布基板８上に塗布液を塗布する。
【００２９】
その後、被塗布基板８の全面に亘って塗布液を塗布した後、エアースライドリニアモータ２によりステージ３を図１の左方向にスライドさせ、図１の位置へ戻す。
【００３０】
なお、以上のようにして所定枚数の被塗布基板８に対して塗布液を塗布した後は、吸収体１０のうち塗布液が吸収された吸収面を洗浄する。具体的には、図２に示すように、図示しない駆動部（洗浄用移動機構）により吸収体１０を回転移動させ、塗布ノズル５に対向する位置に配置されていた吸収面を洗浄液供給ノズル１２に対向する位置に移動させ、洗浄液供給ノズル１２から供給された洗浄液により当該吸収面を洗浄する。なお、吸収体１０から洗浄液とともに除去された塗布液は、洗浄槽１１を介して洗浄液ドレン１３により除去される。また、吸収体１０の洗浄後の吸収面は排気ポート１４を介して空気等を循環させることにより乾燥される。
【００３１】
このように本実施の形態によれば、被塗布基板８に並列して配設された塗布液吸収部７により、被塗布基板８上に塗布液を塗布するのに先立って、塗布ノズル５から吐出された塗布液を吸収するので、塗膜形成開始時において、被塗布基板８に対するビードの接触のために吐出される過剰な塗布液を取り除き、定常状態と同様の量に調節することができる。このため、塗膜形成開始時の状態から定常状態までの塗布液の量の変化（過渡期）をなくすことができ、被塗布基板８への塗膜形成開始直後から、所望の膜厚を有する均一な塗膜を被塗布基板８上に形成することができ、ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられるガラス基板等のような大面積の基板に対しても、所望の膜厚を有する均一な塗膜を形成することができる。
【００３２】
また、本実施の形態によれば、塗布液吸収部７が調整台９を介してステージ３上に取り付けられ、被塗布基板８に対する塗布液吸収部７の相対位置（被塗布基板８との距離、高さおよび平行度）を調整することができるので、塗布液の吐出量および物性等に応じて、塗膜形成開始時の塗布液の量が定常状態と同様の量となるよう容易に調節することができる。
【００３３】
さらに、本実施の形態によれば、塗布液吸収部７の吸収体１０がステージ３（洗浄槽１１）に対して脱着自在に取り付けられているので、塗布液の物性に応じて、適切な吸収力を有する吸収体への交換を容易に行うことができ、多様な物性の塗布液に柔軟に対応することができるとともに、塗布液吸収部７のメンテナンスおよび洗浄を容易に行うことができる。
【００３４】
さらにまた、本実施の形態によれば、塗布液吸収部７のうち塗布液が吸収された吸収体１０を洗浄機構１７により洗浄液によって洗浄しているので、塗布液吸収部７のメンテナンスおよび洗浄を容易に行うことができる。なお、吸収体１０は、塗布液を吸収する複数の吸収面を有し、図示しない駆動部（洗浄用移動機構）により、各吸収面が塗布ノズル５に対向する位置または洗浄液供給ノズル１２に対向する位置に位置するよう吸収体１０を回転移動させるので、塗布液が吸収された吸収面を簡易かつ迅速に洗浄および再利用することができる。
【００３５】
なお、上述した実施の形態においては、塗布液吸収部７として、複数の吸収面を有する吸収体１０を用い、これら各吸収面が塗布ノズル５に対向する位置と洗浄液供給ノズル１２に対向する位置との間で切り替えられるよう、吸収体１０を回転移動させているが、これに限らず、図３に示すように、一つの吸収面のみを有する吸収体１０を用い、この吸収面を塗布液の塗布位置と洗浄位置との間で移動させるようにしたり、図４に示すように、表裏両面の２つの吸収面を有する吸収体１０を用い、これらの吸収面が塗布ノズル５に対向する位置と洗浄液供給ノズル１２に対向する位置との間で切り替えられるよう、吸収体１０を適宜反転させるようにしてもよい。なお、図３および図４において、図２に示す塗布液吸収部７と同一の機能を果たす部材には同一の符号が付されている。
【００３６】
また、上述した実施の形態においては、スリット５ａを下方に向けて開口させた状態で塗布ノズル５を固定し、この固定されている塗布ノズル５に対してステージ３をスライドさせて被塗布基板８への塗布を行っているが、これに限らず、(1)スリット５ａを上方に向けて開口させた状態で塗布ノズル５を固定し、この固定されている塗布ノズル５に対してステージ３をスライドさせて被塗布基板８への塗布を行ったり、(2)スリット５ａを下方に向けて開口させた状態の塗布ノズル５を、固定されているステージ３に対してスライドさせて被塗布基板８への塗布を行ったり、(3)スリット５ａを上方に向けて開口させた状態の塗布ノズル５を、固定されているステージ３に対してスライドさせて被塗布基板８への塗布を行うようにしてもよい。
【００３７】
さらに、上述した実施の形態においては、塗布液吸収部７の吸収体１０を洗浄槽１１に対して脱着自在に取り付けているが、これに限らず、塗布液吸収部７全体をステージ３に対して脱着自在に取り付けるようにしてもよい。
【００３８】
【実施例】
次に、図１および図２に示す塗布装置の具体的実施例について述べる。
【００３９】
本実施例では、被塗布基板８として、ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられるガラス基板を用いた。ガラス基板の寸法は、幅方向（塗布方向）の長さが６７０ｍｍ、横方向の長さが５５０ｍｍである。また、塗布ノズル５から吐出される塗布液としては、カラーフィルター用の着色液として、富士フィルムオーリン（株）製カラーモザイクＣＲ−７００１を用いた。
【００４０】
一方、エアスライドリニアモータ２の移動速度（塗布速度）は、５０ｍｍ／ｓｅｃとし、塗布ノズル５からの塗布液供給レートは、０．２ｍｌ／ｓｅｃとした。また、塗布ノズル５と被塗布基板８との間の塗布用クリアランスは７５μｍとした。
【００４１】
さらに、被塗布基板８と塗布液吸収部７（吸収体１０）とは次のような関係で設置した。すなわち、被塗布基板８の端部と吸収体１０の吸収用の吸収面の端部との間の離間距離を２ｍｍとし、被塗布基板８の塗布面を吸収体１０の吸収用の吸収面より２５μｍ高く設置した。なお、被塗布基板８の塗布面と吸収体１０の吸収用の吸収面とは互いに平行になるように設置した。
【００４２】
なお、吸収体１０としては、富士フィルター工業（株）製積層金属メッシュフィルター“フジプレート”（濾過精度０．５μｍ）を用い、被塗布基板８上に塗布液を塗布するのに先立って、吸収体１０を前記塗布速度と同一の速度で移動させた状態で、塗布ノズル５を吸収体１０上で２０ｍｍの距離に亘って接触させた。
【００４３】
以上のような条件で、被塗布基板８上に塗布液を塗布した結果、被塗布基板８上に形成される塗膜の膜厚は、図５に示すように、被塗布基板８の全面に亘って略均一（膜厚：１．５μｍ）となった。すなわち、ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられる大面積の基板であっても、被塗布基板８への塗膜形成開始直後から均一な塗膜を形成することができた。なお、図６に、予備塗布部７を用いることなく、上述した実施例と同一の条件で塗布液の塗布を行った比較例の結果を示す。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、被塗布基板上への塗膜形成開始時に形成される膜厚不良部分を減少させ、大型のガラス基板やプラスチック基板等の枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液を均一かつ効率的に塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による塗布装置の一実施の形態を示す全体構成図。
【図２】図１に示す塗布装置のII部分の詳細を示す拡大図。
【図３】図２に示す塗布液吸収部の変形例を示す図。
【図４】図２に示す塗布液吸収部の他の変形例を示す図。
【図５】図１に示す塗布装置により塗布液を塗布した場合の被塗布基板の膜厚分布を示す図。
【図６】図５に示す実施例に対応する比較例の結果を示す図。
【図７】塗布ノズルと被塗布基板との間の塗布液（ビード）の状態を説明するための図。
【符号の説明】
１  基台
２  エアスライドリニアモータ（塗布用移動機構）
３  ステージ
４  ダイホルダ
５  塗布ノズル
５ａ  スリット
６  基板ホルダ
７  塗布液吸収部
８  基板
９  調整台（調整機構）
１０  吸収体
１０ａ  回転軸
１１  洗浄槽
１２  洗浄液供給ノズル
１３  洗浄液ドレン
１４  排気ポート
１５  昇降機構
１６  支柱
１７  洗浄機構
【図１】
0004614508.tif 000002
【図２】
0004614508.tif 000003
【図３】
0004614508.tif 000004
【図４】
0004614508.tif 000005
【図５】
0004614508.tif 000006
【図６】
0004614508.tif 000007
【図７】
0004614508.tif 000008