(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工対象物を収容した収容槽内における磁性砥粒を該加工対象物を中心とした周方向に移動させる回転磁場を発生させて、前記磁性砥粒を加工対象物に衝突させることにより、前記加工対象物に粗面化処理を施す磁場発生部を備えた表面処理装置において、
（イ）前記加工対象物の外表面の粗面化処理が施される面を露出させて着脱自在に保持する保持手段と、
（ロ）前記収容槽内に該加工対象物を位置付けて粗面化処理を施す加工位置と、前記収容槽外に該加工対象物を位置付けて外表面を測定する測定位置と、に亘って該加工対象物の軸心に沿って前記保持手段をスライドさせるスライド手段と、
（ハ）前記測定位置に位置付けられた該加工対象物を前記軸心を中心として回転させる回転手段と、
（ニ）前記粗面化処理を施した後の該加工対象物の外表面の凹凸を測定する測定手段と、
（ホ）前記測定手段によって得られた外表面の凹凸を表す断面曲線に周波数解析を施して周波数スペクトルを算出する周波数解析手段と、
（へ）前記周波数解析手段によって算出された周波数スペクトルのうち、予め定める特定の波長のみのスペクトル強度に基づいて前記加工対象物の良否を判定する判定手段と、
備えたことを特徴とする表面処理装置。
【請求項２】
前記周波数スペクトルに基づいて、前記磁場発生部に供給する電圧および電流を変更することにより、前記磁場発生部の発生する回転磁場の強さを変更させる制御手段を有していることを特徴とする請求項１に記載の表面処理装置。
【請求項３】
前記周波数スペクトルに基づいて、前記磁場発生部に供給する電力の周波数を変更することにより、前記磁場発生部の発生する回転磁場の強さを変更させる制御手段を有していることを特徴とする請求項１に記載の表面処理装置。
【請求項４】
前記測定手段が、前記加工対象物の円周方向の外表面の凹凸を測定する光学式な測定手段であることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項に記載の表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、画像形成装置の現像スリーブなどの加工対象物の外表面に磁性砥粒を衝突させることで、該加工対象物の表面を粗面化する表面処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、画像形成装置の外表面に付着した現像剤を感光体ドラムに搬送する現像ローラの現像スリーブなどの加工対象物の外表面を粗面化するために、磁性砥粒と加工対象物を収容槽内に封入し、磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、回転磁場と磁性砥粒との間に働く電磁力によって、磁性砥粒をランダムに励磁させて、加工対象物に衝突させることによって、その外表面を粗面化する表面処理装置（例えば、特許文献１ないし５参照）が知られている。
【０００３】
この種の表面処理装置は、砥粒を空気圧又は水圧で噴出させて、該砥粒を加工対象物に衝突させるサンドブラスト装置やショットブラスト装置に比べ、加工効率が良いことが知られている。
【特許文献１】特開２００５−０４６９９９号公報
【特許文献２】特開２００３−３０５６３４号公報
【特許文献３】特開２００１−１３８２０７号公報
【特許文献４】特許第３４８６２２１号
【特許文献４】特開昭６１−３８８６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前述した特許文献１ないし５に記載されている表面処理装置は、従来のサンドブラスト装置やショットブラスト装置に比べ、加工効率は良いが、粗面化処理後に処理面の形状を評価する場合、表面粗さ測定器を用いて別途表面粗さを測定する必要があった。また、表面粗さ測定器を用いた測定に要する時間は加工時間よりも長いため生産効率が低下するという問題があった。
【０００５】
また、前述した特許文献１ないし５に記載されている表面処理装置は、従来のサンドブラスト装置やショットブラスト装置と異なり、磁性砥粒が加工対象物の円周方向に衝突するので、加工対象物の円周方向と軸方向では表面形状が異なり、特に円周方向の表面形状を重要視する必要がある。しかし従来の表面粗さ測定器による測定では、加工対象物の軸心方向を測定していたので適切な測定とは言えず測定結果の信頼性が高くなかった。
【０００６】
本発明は、以上の背景に鑑みてなされたものであり、粗面化処理後の加工対象物の評価を高速かつ高精度に行い、高い信頼性の測定結果を得て、加工対象物の良否を容易に判定できる表面処理装置および、その表面処理装置によって得られる現像スリーブと現像スリーブを備えた現像装置および画像形成装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
加工対象物を収容した収容槽内における磁性砥粒を該加工対象物を中心とした周方向に移動させる回転磁場を発生させて、前記磁性砥粒を加工対象物に衝突させることにより、前記加工対象物に粗面化処理を施す磁場発生部を備えた表面処理装置において、前記加工対象物の外表面の粗面化処理が施される面を露出させて着脱自在に保持する保持手段と、前記収容槽内に該加工対象物を位置付けて粗面化処理を施す加工位置と、前記収容槽外に該加工対象物を位置付けて外表面を測定する測定位置と、に亘って該加工対象物の軸心に沿って前記保持手段をスライドさせるスライド手段と、前記測定位置に位置付けられた該加工対象物を前記軸心を中心として回転させる回転手段と、前記粗面化処理を施した後の該加工対象物の外表面の凹凸を測定する測定手段と、前記測定手段によって得られた外表面の凹凸を表す断面曲線に周波数解析を施して周波数スペクトルを算出する周波数解析手段と、前記周波数解析手段によって算出された周波数スペクトルのうち、予め定める特定の波長のみのスペクトル強度に基づいて前記加工対象物の良否を判定する判定手段と、を備えたことを特徴としている。
【００１０】
請求項２に記載の表面処理装置は、請求項３に記載の表面処理装置において、前記周波数スペクトルに基づいて、前記磁場発生部に供給する電圧および電流を変更することにより、前記磁場発生部の発生する回転磁場の強さを変更させる制御手段を有していることを特徴としている。
【００１１】
請求項３に記載の表面処理装置は、請求項３に記載の表面処理装置において、前記周波数スペクトルに基づいて、前記磁場発生部に供給する電力の周波数を変更することにより、前記磁場発生部の発生する回転磁場の強さを変更させる制御手段を有していることを特徴としている。
【００１２】
請求項４に記載の表面処理装置は、請求項１乃至５のうちいずれか一項に記載の表面処理装置において、前記測定手段が、前記加工対象物の円周方向の外表面の凹凸を測定する光学式な測定手段であることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１に記載の表面処理装置によれば、保持手段によって保持された加工対象物をスライド手段によって加工位置から測定位置までスライドさせることができるので、粗面化処理終了後直ちに加工対象物を測定手段によって測定することができる。したがって粗面化処理から加工対象物の測定までを短時間に行え、測定結果に応じた判定も迅速に行うことが可能となるので、加工対象物の生産性が高まる。また、測定手段から得られた断面曲線に周波数解析を行い算出した周波数スペクトルを基に加工対象物の良否を判定手段において行うので、表面粗さの大小から判定するよりもより高精度に加工対象物の良否を判定することが可能となる。さらに、判定手段が周波数スペクトルのうち予め定める特定の波長のみのスペクトル強度に基づいて加工対象物の良否を判定するので、判定条件が単純化され判定が容易になる。
【００１９】
請求項２に記載の表面処理装置によれば、制御手段が、加工対象物の周波数スペクトルに応じて磁場発生部に供給する電圧や電流を変更することで、磁場発生部が発生する回転磁場の強さを変更することができ、加工対象物の加工の状態に応じて適切な加工が行えるように補正を行うことが可能となる。
【００２０】
請求項３に記載の表面処理装置によれば、制御手段が、加工対象物の周波数スペクトルに応じて磁場発生部に供給する電力の周波数を変更することで、磁場発生部が発生する回転磁場の強さを変更することができ、加工対象物の加工の状態に応じて適切な加工が行えるように補正を行うことが可能となる。
【００２１】
請求項４に記載の表面処理装置によれば、光学的な測定手段で加工対象物の円周方向の凹凸を測定することで、磁性砥粒を加工対象物を中心とした周方向に移動させる回転磁場を発生させて、回転磁場により磁性砥粒を加工対象物に衝突させる外表面の粗面化処理方法に合った適切な測定方法となるため測定結果である断面曲線の信頼性を高くすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の一実施形態を、図１、図２、図３ないし図８に基づいて説明する。図１は、本発明の一実施形態にかかる表面処理装置の構成を示す斜視図である。図２は、図１に示された表面処理装置の収容槽などの断面図である。
【００２６】
表面処理装置１は、図２に示された円筒状の加工対象物２の外表面に粗面化処理を施して、例えば、複写機、ファクシミリ、プリンター等の画像形成装置に用いられる現像ローラ１１５の現像スリーブ１３２（図６に示す）を製造する装置である。加工対象物２の外径は、１７ｍｍ〜１８ｍｍ程度であるのが望ましい。加工対象物２の軸芯Ｐ（図２中に一
点鎖線で示す）方向の長さは、２３０ｍｍ〜３２０ｍｍ程度であるのが望ましい。現像スリーブ１３２の外表面の表面粗さは、該現像スリーブ１３２の軸芯方向の中央部から両端部に向かうにしたがって、徐々に大きく（粗く）なっている。
【００２７】
表面処理装置１は、図１に示すように、ベース３と、固定保持部４と、電磁コイル移動部５と、スライド手段としての移動保持部６と、移動チャック部７と、磁場発生部としての電磁コイル８と、収容槽９と、回収部１０と、冷却部１１と、リニアエンコーダ７５と、制御手段および周波数解析手段および判定手段としての制御装置７６（図２に示す）と、測定手段としてのレーザ測長センサ８０（図２に示す）とを備えている。
【００２８】
ベース３は、平板状に形成されて、工場のフロアやテーブル上等に設置される。ベース３の上面は、水平方向と平行に保たれる。ベース３の平面形状は、矩形状に形成されている。
【００２９】
固定保持部４は、ベース３の長手方向（以下、矢印Ｘで示す）の一端部から立設した複数の支柱１２と、保持ベース１３と、立設ブラケット１４と、円筒保持部材１５と、保持チャック１６と、を備えている。
【００３０】
保持ベース１３は、平板状に形成され、支柱１２の上端に取り付けられている。立設ブラケット１４は、平板状に形成され、保持ベース１３から立設している。円筒保持部材１５は、円筒状に形成され、立設ブラケット１４と保持ベース１３とに取り付けられている。円筒保持部材１５は、その軸芯が水平方向と矢印Ｘとの双方と平行な状態でかつ前記立設ブラケット１４よりベース３の中央部寄りに配置されている。円筒保持部材１５は、内側に収容槽９の後述する一端部９ａに取り付けられた後述するフランジ部材５１ｂ，５１ｃ，５１ｄ（即ち一端部９ａ）を収容する。
【００３１】
保持チャック１６は、前述した円筒保持部材１５即ち保持ベース１３の近傍に配され、前述したベース３に取り付けられている。保持チャック１６は、円筒保持部材１５内に一端部９ａが収容された収容槽９をチャックして、該収容槽９の一端部９ａを保持する。前述した構成の固定保持部４は、収容槽９の一端部９ａを保持する。
【００３２】
電磁コイル移動部５は、一対のリニアガイド１７と、電磁コイル保持ベース１８と、電磁コイル移動用アクチュエータ１９と、を備えている。リニアガイド１７は、レール２０と、スライダ２１とを備えている。レール２０は、ベース３上に設置されている。レール２０は、直線状に形成されているとともに、その長手方向がベース３の長手方向即ち矢印Ｘと平行に配されている。スライダ２１は、レール２０に該レール２０の長手方向即ち矢印Ｘに沿って移動自在に支持されている。一対のリニアガイド１７は、レール２０がベース３の幅方向（以下、矢印Ｙで示す）に沿って互いに間隔をあけて配されている。なお、矢印Ｘと矢印Ｙとは、勿論、互いに直交しているとともに、それぞれ水平方向と平行である。
【００３３】
電磁コイル保持ベース１８は、平板状に形成され、前述したスライダ２１上に取り付けられている。電磁コイル保持ベース１８の上面は、水平方向と平行に配されている。電磁コイル保持ベース１８は、電磁コイル８を表面上に設置する。電磁コイル移動用アクチュエータ１９は、ベース３に取り付けられているとともに、前述した電磁コイル保持ベース１８を矢印Ｘに沿って、スライド移動させる。前述した電磁コイル移動部５は、電磁コイル移動用アクチュエータ１９により電磁コイル保持ベース１８即ち電磁コイル８を矢印Ｙに沿ってスライド移動させる。また、電磁コイル移動部５による電磁コイル８の移動速度は、０ｍｍ／秒〜３００ｍｍ／秒の間で変更可能である。さらに、電磁コイル移動部５の電磁コイル８の移動範囲は、６００ｍｍ程度である。
【００３４】
移動保持部６は、一対のリニアガイド２２と、保持ベース２３と、第１アクチュエータ２４と、第２アクチュエータ２５と、移動ベース２６と、軸受け回転部２７と、保持チャック２８と、を備えている。
【００３５】
リニアガイド２２は、レール２９と、スライダ３０とを備えている。レール２９は、ベース３上に設置されている。レール２９は、直線状に形成されているとともに、その長手方向が矢印Ｘ即ちベース３の長手方向と平行に配されている。スライダ３０は、レール２９に該レール２９の長手方向即ち矢印Ｘに沿って移動自在に支持されている。一対のリニアガイド２２は、レール２９が矢印Ｙ即ちベース３の幅方向に沿って互いに間隔をあけて配されている。
【００３６】
保持ベース２３は、平板状に形成され、前述したスライダ３０上に取り付けられている。保持ベース２３の上面は、水平方向と平行に配されている。第１アクチュエータ２４は、ベース３に取り付けられているとともに、前述した保持ベース２３を矢印Ｘに沿って、スライド移動させる。
【００３７】
第２アクチュエータ２５は、保持ベース２３に取り付けられているとともに、移動ベース２６を矢印Ｙに沿って、スライド移動させる。移動ベース２６は、平板状に形成され、その上面が水平方向と平行に配されている。
【００３８】
軸受け回転部２７は、一対の軸受３１と、芯軸としての中空保持部材３２と、回転手段としての駆動用モータ３３と、チャック用シリンダ３４とを備えている。一対の軸受３１は、矢印Ｘに沿って、互いに間隔をあけて配置されているとともに、移動ベース２６上に設置されている。中空保持部材３２は、磁性材料で構成され、かつ円筒状に形成されているとともに、前述した軸受３１により軸芯回りに回転自在に支持されている。中空保持部材３２は、その軸芯が前述した矢印Ｘ即ち固定保持部４の円筒保持部材１５の軸芯と平行に配置されている。中空保持部材３２は、一端部３２ａが収容槽９内に位置するように移動ベース２６上から固定保持部４に向かって突出した格好で、かつ、他端部３２ｃが移動ベース２６上に位置した状態に配されている。中空保持部材３２は、図２に示すように、円筒状の加工対象物２内に通される。また、中空保持部材３２の移動ベース２６上に位置付けられた他端部３２ｃには、プーリ３５が固定されている。プーリ３５は、中空保持部材３２と同軸に配置されている。
【００３９】
駆動用モータ３３は、移動ベース２６に設置されているとともに、その出力軸にプーリ３６が取り付けられている。駆動用モータ３３の出力軸の軸芯は、矢印Ｘと平行である。前述したプーリ３５，３６には、無端状のタイミングベルト３７が掛け渡されている。駆動用モータ３３は、中空保持部材３２を軸芯回りに回転させる。駆動用モータ３３は、中空保持部材３２を軸芯回りに回転させることで、加工対象物２を収容槽９の長手方向と平行な中空保持部材３２の軸芯回りに回転させる。すなわち、駆動用モータ３３が特許請求の範囲に記載した回転手段をなしている。
【００４０】
チャック用シリンダ３４は、移動ベース２６に設置されたシリンダ本体３８と、該シリンダ本体３８にスライド自在に設けられたチャック軸３９とを備えている。チャック軸３９は、円柱状に形成されその長手方向が矢印Ｘと平行に配されている。チャック軸３９は、中空保持部材３２内に収容されているとともに、該中空保持部材３２と同軸に配置されている。チャック軸３９には、一対のチャック爪４０が複数取り付けられている。
【００４１】
一対のチャック爪４０は、チャック軸３９の外周面から該チャック軸３９の外周方向に突出する格好で、該チャック軸３９に取り付けられている。また、チャック爪４０は、中空保持部材３２の外周面から該中空保持部材３２の外周に向かって突出可能となっている。チャック爪４０は、チャック軸３９及び中空保持部材３２からの突出量が変更自在に設
けられている。複数対のチャック爪４０は、前述したチャック軸３９の長手方向即ち矢印Ｘに沿って、間隔をあけて配置されている。一対のチャック爪４０は、チャック用シリンダ３４のチャック軸３９がシリンダ本体３８に近づく方向に縮小すると、前述したチャック軸３９及び中空保持部材３２からの突出量が増加する。
【００４２】
前述したチャック用シリンダ３４は、チャック軸３９がシリンダ本体３８に縮小することで、チャック爪４０をよりチャック軸３９の外周方向に突出させて、該チャック爪４０を中空保持部材３２の外周に取り付けられた加工対象物２の内周面に押圧させて、チャック軸３９と中空保持部材３２と加工対象物２とを固定する。すなわち、加工対象物２の害表面の粗面化処理が施される面は露出されたまま保持される。このとき、勿論、チャック軸３９と中空保持部材３２と加工対象物２と後述の円筒部材５０即ち収容槽９は、同軸になる。
【００４３】
前述したチャック用シリンダ３４とチャック爪４０は、中空保持部材３２と収容槽９と同軸となるように加工対象物２を保持する。即ち、チャック用シリンダ３４とチャック爪４０は、加工対象物２を収容槽９の中心に加工対象物２の外表面の粗面化処理が施される面を露出して保持する。前述したチャック用シリンダ３４とチャック爪４０と、中空保持部材３２とは、特許請求の範囲に記載された保持手段をなしている。
【００４４】
保持チャック２８は、前述した移動ベース２６上に設置されている。保持チャック２８は、収容槽９の他端部９ｂに取り付けられた後述のフランジ部材５１ａをチャックして、該収容槽９の他端部９ｂを保持する。保持チャック２８は、収容槽９がその軸芯回りに回転することを規制する。
【００４５】
前述した構成の移動保持部６は、保持チャック２８及び中空保持部材３２などをアクチュエータ２４，２５により互いに直交する矢印Ｘ，Ｙに沿って移動させる。即ち、移動保持部６は、保持チャック２８で保持した収容槽９を矢印Ｘ，Ｙに沿って移動させる。
【００４６】
移動チャック部７は、保持ベース４１と、リニアガイド４２と、保持チャック４３とを備えている。保持ベース４１は、リニアガイド２２のレール２９の固定保持部４寄りの端部に固定されている。保持ベース４１は、平板状に形成され、その上面が水平方向と平行に配されている。
【００４７】
リニアガイド４２は、レール４４と、スライダ４５とを備えている。レール４４は、保持ベース４１上に設置されている。レール４４は、直線状に形成されているとともに、その長手方向が矢印Ｙ即ちベース３の幅方向と平行に配されている。スライダ４５は、レール４４に該レール４４の長手方向即ち矢印Ｙに沿って移動自在に支持されている。
【００４８】
保持チャック４３は、スライダ４５上に設置されている。保持チャック４３は、前述した保持チャック１６，２８間に位置付けられている。保持チャック４３は、収容槽９の他端部９ｂ寄りの箇所をチャックして、該収容槽９を保持する。前述した移動チャック部７は、保持チャック４３が収容槽９を保持することで、該収容槽９を位置決めする。また、移動チャック部７は、保持チャック４３が収容槽９を保持することで、収容槽９が軸芯に沿って移動する際に、前述した保持チャック２８と協働して収容槽９を保持して、該収容槽９が軸受け回転部２７即ち表面処理装置１から脱落することを防止する。
【００４９】
電磁コイル８は、図２に示すように、円筒状に形成された外皮４６と該外皮４６内に配された複数のコイル部４７とを備えて、全体として円環状に形成されている。電磁コイル８の内径は、収容槽９の外径より大きい。即ち、電磁コイル８の内周面と収容槽９の外周面との間には、空間が形成されている。また、電磁コイル８の軸芯方向の全長は、収容槽９の軸芯方向の全長より十分に短い。電磁コイル８の軸芯方向の全長は、収容槽９の軸芯
方向の全長の２／３以下であるのが望ましい。図示例では、電磁コイル８の内径は、９０ｍｍであるとともに、電磁コイル８の軸芯方向の長さは、８５ｍｍである。
【００５０】
外皮４６は、その軸芯即ち電磁コイル８自身の軸芯が矢印Ｘと平行な状態で前述した電磁コイル保持ベース１８に取り付けられている。電磁コイル８は、中空保持部材３２、チャック軸３９及び収容槽９と同軸に配置されている。複数のコイル部４７は、外皮４６即ち電磁コイル８の周方向に沿って互いに並設されている。コイル部４７は、図２に示す三相交流電源４８により印加される。複数のコイル部４７には互いに位相のずれた電力が印加されて、これらの複数のコイル部４７が互いに位相のずれた磁場を発生する。そして、電磁コイル８は、これらの磁場を合成して形成される該電磁コイル８の軸芯回りの回転方向の磁場（回転磁場）を内側に生じさせる。
【００５１】
前述した電磁コイル８は、三相交流電源４８から印加されて、回転磁場を発生するとともに、電磁コイル移動部５によりその軸芯即ち収容槽９の長手方向に沿って移動される。そして、電磁コイル８は、前述した回転磁場により、後述の磁性砥粒６５を加工対象物２の外周に位置付け、該磁性砥粒６５を収容槽９及び加工対象物２の軸芯回りに回転（移動）させる。そして、電磁コイル８は、前述した回転磁場により磁性砥粒６５を加工対象物２の外表面に衝突させる。
【００５２】
また、三相交流電源４８と電磁コイル８との間には、インバータ４９が設けられている。則ち、表面処理装置１は、インバータ４９を備えている。インバータ４９は、三相交流電源４８が電磁コイル８に印加する電力の周波数、電流値、電圧値を変更自在である。インバータ４９は、電磁コイル８に印加する電力の周波数、電流値、電圧値を変更することで、三相交流電源４８が電磁コイル８に印加する電力を増減させて、該電磁コイル８が発生する回転磁場の強さを変更する。
【００５３】
収容槽９は、図２に示すように、外壁が一重構造（外壁が一枚の壁からなること）の円筒部材５０と、複数のフランジ部材５１と、一対の削り屑封止ホルダ５２と、一対の削り屑封止板５３と、一対の位置決め部材５４と、複数の仕切手段としての仕切部材５５とを備えている。
【００５４】
円筒部材５０は、円筒状に形成されており、収容槽９の外殻を構成している。このため、収容槽９は、円筒部材５０が一重構造に形成されていることで、外壁が一重構造に形成されているとともに、円筒状に形成されている。円筒部材５０即ち収容槽９の外径は、４０ｍｍ〜８０ｍｍ程度であるのが望ましい。さらに、円筒部材５０の肉厚は、０．５ｍｍ〜２．０ｍｍ程度であるのが望ましい。円筒部材５０の軸芯方向の長さは、６００ｍｍ〜８００ｍｍ程度であるのが望ましい。円筒部材５０は、非磁性体で構成されている。
【００５５】
円筒部材５０には、複数の砥粒供給孔５７が設けられている。砥粒供給孔５７は、勿論、円筒部材５０を貫通して、該円筒部材５０の内外を連通している。砥粒供給孔５７には、封止キャップ５８が取り付けられている。砥粒供給孔５７は、内側に磁性砥粒６５を通して、該磁性砥粒６５を円筒部材５０即ち収容槽９に出し入れする。また、封止キャップ５８は、砥粒供給孔５７を塞いで、磁性砥粒６５が円筒部材５０即ち収容槽９の外部に流出することを規制する。
【００５６】
複数のフランジ部材５１は、円環状又は円柱状に形成されている。複数のフランジ部材５１のうち一つを除く大多数のフランジ部材５１（図示例では、三つ）は、円筒部材５０の一端部９ａに取り付けられ、一つのフランジ部材５１（以下、符号５１ａで示す）は、円筒部材５０の他端部９ｂに取り付けられている。
【００５７】
円筒部材５０の一端部９ａに取り付けられた複数のフランジ部材５１のうち一つのフランジ部材５１（以下、符号５１ｂで示す）は、円環状に形成され、かつ円筒部材５０の外周に嵌合している。他の一つのフランジ部材５１（以下、符号５１ｃで示す）は、円環状に形成され、かつ前述したフランジ部材５１ｂの外周に嵌合している。残りのフランジ部材５１（以下、符号５１ｄで示す）は、円環状のリング部５９と、円柱状の円柱部６０とを一体に備えている。リング部５９は、円柱部６０の外縁から立設した格好となっている。フランジ部材５１ｄは、リング部５９がフランジ部材５１ｃの外周に嵌合している。
【００５８】
前述したフランジ部材５１ｄには、軸受７４により従動軸７３が回転自在に支持されている。従動軸７３は、円柱状に形成され、かつ収容槽９の円筒部材５０と同軸に配されている。従動軸７３は、端面に中空保持部材３２が押し付けられる。従動軸７３は、中空保持部材３２とともに回転するとともに、該中空保持部材３２の自由端としての一端部３２ａを支持する。
【００５９】
前述した一つのフランジ部材５１ａは、円環状に形成され、かつ円筒部材５０の他端部９ｂの外周に嵌合している。フランジ部材５１ａは、内側に中空保持部材３２を通している。なお、円筒部材５０の一端部９ａは、収容槽９の一端部をなしているとともに、円筒部材５０の他端部９ｂは、収容槽９の他端部をなしている。
【００６０】
一対の削り屑封止ホルダ５２は、それぞれ、円環状に形成されている。一方の削り屑封止ホルダ５２は、円筒部材５０の一端部９ａの内周に嵌合し、他方の削り屑封止ホルダ５２は、円筒部材５０の他端部９ｂの内周に嵌合している。該他方の削り屑封止ホルダ５２は、内側に中空保持部材３２を通している。
【００６１】
一対の削り屑封止板５３は、それぞれ、メッシュ状に形成されている。一方の削り屑封止板５３は、円板状に形成され、かつ円筒部材５０の一端部９ａの内周に配されているとともに、前述した一方の削り屑封止ホルダ５２に取り付けられている。さらに、一方の削り屑封止板５３は、内側に従動軸７３を通している。他方の削り屑封止板５３は、円環状に形成され、かつ円筒部材５０の他端部９ｂの内周に配されているとともに、前述した他方の削り屑封止ホルダ５２に取り付けられている。他方の削り屑封止板５３は、内側に中空保持部材３２を通している。削り屑封止板５３は、後述の磁性砥粒６５が加工対象物２の外表面に衝突して、該加工対象物２から削りとられて形成される削り屑が円筒部材５０即ち収容槽９外に漏れ出ることを規制する。
【００６２】
一対の位置決め部材５４は、円筒状に形成されている。一方の位置決め部材５４は、中空保持部材３２の自由端である一端部３２ａの外周に嵌合している。他方の位置決め部材５４は、円筒部材５０内に位置しかつ他端部９ｂ寄りの中空保持部材３２の中央部３２ｂの外周に嵌合している。一対の位置決め部材５４は、互いの間に加工対象物２を挟んで、該加工対象物２を中空保持部材３２に位置決めする。なお、一端部３２ａは、中空保持部材３２の固定保持部４寄りでかつ移動保持部６から離れた側の端部をなしている。中央部３２ｂは、収容槽９内でかつ中空保持部材３２の固定保持部４から離れた側であるとともに移動保持部６寄りの端部をなしている。
【００６３】
仕切部材５５は、円環状に形成された本体部６１と、メッシュ部６２とを備えている。本体部６１即ち仕切部材５５は、円筒部材５０の内周に嵌合して、該円筒部材５０に取り付けられているとともに、内側に中空保持部材３２を通している。本体部６１即ち複数の仕切部材５５は、一対の削り屑封止板５３間に配されている。また、本体部６１即ち複数の仕切部材５５は、円筒部材５０の軸芯Ｐ即ち長手方向に沿って、互いに間隔をあけて、並設されている。図示例では、仕切部材５５は、７つ設けられている。
【００６４】
本体部６１には、貫通孔６３が設けられている。メッシュ部６２は、貫通孔６３を塞ぐ格好で本体部６１に取り付けられている。メッシュ部６２は、メッシュ状に形成されており、気体と削り屑が通ることを許容するとともに、磁性砥粒６５が通ることを規制する。
【００６５】
前述した複数の仕切部材５５は、円筒部材５０内即ち収容槽９内の空間を、該円筒部材５０即ち収容槽９の軸芯即ち加工対象物２の軸芯Ｐに沿って、仕切っている。また、軸芯Ｐは、収容槽９の軸芯と中空保持部材３２の軸芯との双方をなしているとともに、収容槽９の長手方向をなしている。即ち、軸芯Ｐと収容槽９の長手方向とは、互いに平行である。さらに、前述した本体部６１とメッシュ部６２との双方即ち仕切部材５５は、非磁性体で構成されている。
【００６６】
前述した構成の収容槽９は、複数の仕切部材５５間に磁性体で構成される砥粒（以下、磁性砥粒と呼ぶ）６５を収容するとともに、中空保持部材３２に取り付けられた加工対象物２を円筒部材５０内に収容する。即ち、収容槽９は、加工対象物２と磁性砥粒６５との双方を収容する。また、磁性砥粒６５は、前述した回転磁場により加工対象物２の外周を回転（移動）するなどして、加工対象物２の外表面に衝突する。磁性砥粒６５は、加工対象物２の外表面に衝突して、加工対象物２の外表面から該加工対象物２の一部を削り取り、該加工対象物２の外表面を粗面化する。なお、図示例では、磁性砥粒６５は、円柱状に形成され、その大きさは、外径が０．５ｍｍ〜１．４ｍｍでかつ全長が３．０ｍｍ〜１４．０ｍｍ程度である。
【００６７】
回収部１０は、図２に示すように、気体流入管６６と、気体排出用孔６７と、メッシュ部材６８と、気体排出用ダクト６９と、集塵機７０（図１に示す）とを備えている。気体流入管６６は、他方の削り屑封止ホルダ５２より円筒部材５０即ち収容槽９の端（移動保持部６）寄りに設けられ、円筒部材５０即ち収容槽９の内部に開口している。気体流入管６６は、図示しない加圧気体供給源から加圧された気体などが供給される。気体流入管６６は、加圧された気体を円筒部材５０即ち収容槽９内に導く。
【００６８】
気体排出用孔６７は、円筒部材５０を貫通して、収容槽９の内外を連通しているとともに、一方の削り屑封止ホルダ５２より円筒部材５０即ち収容槽９の端寄り（移動保持部６から離れた側）に設けられている。メッシュ部材６８は、気体排出用孔６７を塞いだ格好で、円筒部材５０に取り付けられている。メッシュ部材６８は、削り屑と気体とが通ることを許容し、磁性砥粒６５が通ることを規制する。メッシュ部材６８は、磁性砥粒６５が円筒部材５０即ち収容槽９の外部に流出することを規制する。
【００６９】
気体排出用ダクト６９は、配管であるとともに、気体排出用孔６７の近傍に取り付けられている。気体排出用ダクト６９は、気体排出用孔６７の外縁を囲んでいる。気体排出用孔６７及び気体排出用ダクト６９は、気体流入管６６から円筒部材５０即ち収容槽９内に供給された気体を、円筒部材５０即ち収容槽９の外部に導く。
【００７０】
集塵機７０は、気体排出用ダクト６９に接続しているとともに、該気体排出用ダクト６９内の気体を吸引する。集塵機７０は、気体排出用ダクト６９内の気体を吸引することで、円筒部材５０即ち収容槽９内の気体を前述した削り屑とともに吸引する。集塵機７０は、削り屑を回収する。前述した回収部１０は、気体流入管６６を通して円筒部材５０即ち収容槽９内に気体を供給し、該気体と集塵機７０により気体排出用孔６７と気体排出用ダクト６９を通して、削り屑を円筒部材５０即ち収容槽９の外部に導く。そして、回収部１０は、集塵機７０に削り屑を回収する。
【００７１】
冷却部１１は、図１に示すように、冷却用ファン７１と、冷却用ダクト７２とを備えている。冷却用ファン７１は、加圧された気体を冷却用ダクト７２に供給する。冷却用ダクト７２は、配管である。冷却用ダクト７２は、冷却用ファン７１から供給された加圧された気体を電磁コイル８に導く。冷却用ダクト７２は、冷却用ファン７１から供給された加圧された気体を、電磁コイル８に吹き付ける。冷却部１１は、加圧された気体を電磁コイル８に吹き付けて、該電磁コイル８を冷却する。
【００７２】
リニアエンコーダ７５は、図２に示すように、本体部７７と、該本体部７７に移動自在に設けられた検出子７８とを備えている。本体部７７は、直線状に延在しており、ベース３に取り付けられている。本体部７７は、レール２０と平行に、該一対のレール２０間に配置されている。本体部７７の全長は、前述した収容槽９より長い。本体部７７は、長手方向の両端部が前述した収容槽９より該収容槽９の長手方向に沿って外側に突出した位置に配置されている。
【００７３】
検出子７８は、本体部７７則ち収容槽９の長手方向に沿って移動自在に設けられている。検出子７８は、電磁コイル保持ベース１８に取り付けられている。則ち、検出子７８は、電磁コイル保持ベース１８を介して、電磁コイル８に取り付けられている。
【００７４】
前述したリニアエンコーダ７５は、本体部７７則ち収容槽９に対する検出子７８の位置を検出して、該検出した結果を制御装置７６に向かって出力する。このように、リニアエンコーダ７５は、電磁コイル８の収容槽９則ち加工対象物２に対する相対的な位置を検出して、検出結果を制御装置７６に向かって出力する。
【００７５】
制御装置７６は、周知のＲＡＭ、ＲＯＭ、ＣＰＵなどを備えたコンピュータである。制御装置７６は、電磁コイル移動部５と、移動保持部６と、移動チャック部７と、電磁コイル８と、インバータ４９と、回収部１０と、冷却部１１と、リニアエンコーダ７５と、レーザ測長センサ８０などと接続しており、これらを制御して、表面処理装置１全体の制御を司る。
【００７６】
制御装置７６は、リニアエンコーダ７５の検出した電磁コイル８の加工対象物２に対する相対的な位置に応じた電磁コイル８の回転磁場の強さを記憶している。則ち、制御装置７６は、電磁コイル８の加工対象物２に対する相対的な位置に応じたインバータ４９が電磁コイル８に印加する電力を記憶している。また、制御装置７６は、前述した電力を加工対象物２則ち現像スリーブ１３２の品番毎に記憶している。
【００７７】
図示例では、制御装置７６は、電磁コイル８が加工対象物２の長手方向（軸方向）の中央部から両端部に向かうにしたがって、インバータ４９が電磁コイル８に印加する電力を徐々に大きくするパターンを予め記憶している。そして、制御装置７６は、予め記憶した前述した電力のパターン通りにインバータ４９に電磁コイル８の発生する回転磁場の強さを変更させる。このように、図示例では、制御装置７６は、加工対象物２の両端部を加工する際の回転磁場が、加工対象物２の中央部を加工する際の回転磁場より強くなるように、インバータ４９に電磁コイル８の発生する磁場の強さを変更させる。前述したように、制御装置７６は、リニアエンコーダ７５が検出した電磁コイル８の収容槽９則ち加工対象物２に対する相対的な位置に基づいて、インバータ４９に電磁コイル８の発生する回転磁場の強さを変更させる。
【００７８】
また、制御装置７６は、粗面化処理が終了した加工対象物２の外表面の凹凸の測定結果としての断面曲線を周波数解析としてのフーリエ解析を行う。さらに制御装置７６には、フーリエ解析によって算出される断面曲線の凹凸を周波数（波長）ごとに分解して各周波数（波長）成分の大きさを表した周波数スペクトルのうち、加工対象物２の良否判定をするための所定の周波数成分とその大きさが予め設定されている。
【００７９】
さらに、制御装置７６には、キーボードなどの各種の入力装置や、ディスプレイなどの各種の表示装置が接続している。
【００８０】
レーザ測長センサ８０は、反射型のレーザ測長器であり、外表面の粗面化処理が終了した加工対象物２の外表面の凹凸を光学的手段により測定するものである。レーザ測長センサ８０は、外表面の粗面化処理が終了した加工対象物２を収容槽９外へスライド移動させた所定の測定位置に位置付けられている。
【００８１】
次に、前述した構成の表面処理装置１を用いて加工対象物２の外表面を処理（粗面化）して、現像スリーブ１３２を製造する工程を、以下説明する。
【００８２】
まず、制御装置７６に入力装置から加工対象物２則ち現像スリーブ１３２の品番などを入力する。そして、加工対象物２の長手方向（軸方向）の両端の外周に円筒状のキャップ６４を嵌合させる。そして、前述した他方の位置決め部材５４を中空保持部材３２の外周に嵌合させる。そして、両端にキャップ６４が取り付けられた加工対象物２内に中空保持部材３２を通す。その後、前述した一方の位置決め部材５４を中空保持部材３２の外周に嵌合させる。そして、チャック用シリンダ３４のチャック軸３９を縮小させて、中空保持部材３２に加工対象物２を固定する。このとき、中空保持部材３２と加工対象物２などが同軸になる。こうして、加工対象物２を中空保持部材３２に取り付ける。
【００８３】
そして、加工位置としての収容槽９内に加工対象物２及び中空保持部材３２を収容するとともに、収容槽９の円筒部材５０内に磁性砥粒６５を供給する。こうして、収容槽９内に磁性砥粒６５及び加工対象物２を収容する。さらに、収容槽９を保持チャック２８，４３でチャックする。こうして、移動保持部６に加工対象物２と収容槽９とを取り付ける。すると、収容槽９の円筒部材５０と中空保持部材３２と加工対象物２などが同軸になる。
【００８４】
前述した作業は、勿論、アクチュエータ２４，２５で移動ベース２６の位置を調整しながら行われる。さらに、前述した作業は、勿論、保持ベース４１の位置を調整しながら行われる。保持チャック１６で収容槽９の一端部９ａをチャックさせるなどして、固定保持部４に収容槽９の一端部９ａを保持させる。
【００８５】
そして、回収部１０の気体流入管６６を通して収容槽９内に気体を供給するとともに、集塵機７０で収容槽９内の気体を吸引するとともに、冷却部１１に加圧された気体を電磁コイル８に吹き付けさせる。
【００８６】
そして、駆動用モータ３３で中空保持部材３２とともに加工対象物２を軸芯Ｐ回りに回転させる。その後、電磁コイル８に三相交流電源４８からの電力を印加して、電磁コイル８に回転磁場を発生させる。すると、電磁コイル８の内側に位置する磁性砥粒６５が自転しながら軸芯Ｐ回りに公転（回転即ち移動）して、該磁性砥粒６５が加工対象物２の外表面に衝突して、該加工対象物２の外表面を粗面化する。
【００８７】
そして、電磁コイル移動部５が、適宜、電磁コイル８を軸芯Ｐに沿って移動する。すると、電磁コイル８の内側に侵入した磁性砥粒６５が前述した回転磁場により移動（自転及び公転）するとともに、電磁コイル８の内側から抜け出た磁性砥粒６５が停止する。また、仕切部材５５が収容槽９内の空間を仕切っているので、磁性砥粒６５が仕切部材５５を越えて移動することが規制され、電磁コイル８の内側から抜け出た磁性砥粒６５が前述した回転磁場内から抜け出ることとなる。さらに、電磁コイル移動部５が予め定められた所定の回数電磁コイル８を矢印Ｘに沿って往復移動させると、加工対象物２の外表面の粗面化が終了する。
【００８８】
さらに、電磁コイル８が加工対象物２の中央部から両端部に向かうにしたがって、電磁コイル８の発生する回転磁場が強くなる。 回転磁場が強くなるにしたがって、磁性砥粒
６５の動きが激しくなる。すると、回転磁場が強くなるのにしたがって、磁性砥粒６５がより勢い良く加工対象物に衝突して、該加工対象物２の外表面の表面粗さがより粗くなる。
【００８９】
前述した加工対象物２の外表面の粗面化処理が終了すると、電磁コイル８への電力の印加を停止するとともに、駆動用モータ３３を停止する。さらに、回収部１０と冷却部１１とを停止する。そして、移動保持部６の保持チャック２８の収容槽９の保持を解除するとともに、固定保持部４の保持チャック１６と移動チャック部７の保持チャック４３とが収容槽９を保持したまま、第１アクチュエータ２４で移動ベース２６を矢印Ｘに沿って収容槽９の他端部９ｂから離れる方向へスライド移動させる。すると、加工対象物２は中空保持部材３２に保持されたまま収容槽９から取り出される。
【００９０】
そして、移動ベースを加工対象物２の収容槽９外の所定の測定位置までスライド移動させ停止させた後に、移動保持部６の駆動用モータ３３を回転させ中空保持部材３２とともに加工対象物２を軸芯Ｐ回りに回転させる。そして、レーザ測長センサ８０を加工対象物２の外表面の凹凸が測定できる位置まで近づけ、加工対象物２の円周方向１周分の外表面の凹凸を測定する。
【００９１】
レーザ測長センサ８０で測定された加工対象物２の外表面の凹凸は制御装置７６へ送信される。加工対象物２の円周方向１周分の凹凸が送信されると、制御装置７６ではその凹凸から表される断面曲線を周波数解析としてのフーリエ解析を実施する。フーリエ解析を実施して得られる周波数スペクトルの例を図８に示す。図８の横軸は外表面の断面曲線の波長すなわち外表面に形成された凹凸の波長を表している。図８の縦軸は、外表面の断面曲線の各波長の振幅の絶対値を示している。図８の実線はフーリエ解析を実施して得られた値を示し、図８の一点鎖線はフーリエ解析を実施して得られた値の平均値を示している。
【００９２】
そして、得られた周波数スペクトルのうち、所定の周波数（波長）成分の大きさが制御装置７６に予め設定された上限および下限の範囲内にあるか否かを判断することにより加工対象物２の良否を判定する。
【００９３】
良品と判定された場合は良品として識別し、加工対象物２を取り外して、新たな加工対象物２を取り付けて加工を行う。不良と判定された場合は、測定した断面曲線から算出された周波数スペクトルの結果に応じてインバータ４９から電磁コイル８に印加する電圧か電流または周波数を変化させる。例えば、所定の周波数（波長）成分が予め設定された下限値より下回っていた場合は、インバータ４９から電磁コイル８に印加する電圧か電流または周波数を大きくし電磁コイル８が発生する回転磁場を強くして再度粗面化処理を施す。所定の周波数（波長）成分が予め設定された上限値より上回っていた場合は、インバータ４９から電磁コイル８に印加する電圧か電流または周波数を小さくし電磁コイル８が発生する回転磁場を弱くして再度粗面化処理を施す。
【００９４】
本実施形態によれば、移動保持部６が、表面の粗面化処理の終了した加工対象物２を、中空保持部材３２で保持したまま直ちに表面粗さを測定する測定位置まで移動させることができる。
【００９５】
これにより、表面の粗面化処理の終了した加工対象物２の表面粗さの測定を表面の粗面化処理の終了後直ちに行えるので、表面の粗面化処理から測定までの期間を短縮することができる。したがって、従来のように専用の測定器を用いるよりも現像スリーブ１３２の生産性を高めることができる。
【００９６】
駆動用モータ３３で加工対象物２を中空保持部材３２に保持したまま軸芯Ｐを中心に回転させてレーザ測長センサ８０で外表面の凹凸を測定する。これにより測定結果は、加工対象物２の円周方向の測定結果を得ることができるので、高い信頼性の測定結果を得ることができる。
【００９７】
レーザ測長センサ８０で加工対象物の外表面の凹凸を測定することにより高分解能で高精度な加工対象物２の断面曲線を得ることができる。
【００９８】
制御手段７６は、レーザ測長センサ８０で測定された加工対象物２の円周方向の断面曲線をフーリエ変換を実施して、得られた周波数スペクトルのうち予め設定した所定の周波数成分の大きさに基づいて加工対象物２の良否を判定する。これにより、表面粗さの大小で良否の判定を行うよりも高精度に判定でき、さらに、予め判定する周波数成分と大きさを設定しておくことで良否の判定を容易に行うことができる。
【００９９】
表面の粗面化処理後にレーザ測長センサ８０で測定した断面曲線をフーリエ変換して得られた周波数スペクトルから不良品と判定された場合に、制御装置７６がインバータ４９に対して三相交流電源４８が電磁コイル８に印加する電圧や電流や周波数を変更させることで電磁コイル８が発生する回転磁場の強さを変更して再度粗面化処理を施す。これによって粗面化処理後の状態に合わせて回転磁場の強さを微調整しながら再粗面化処理を施すことができる。
【０１００】
また、制御装置７６が加工対象物２の測定結果に応じてインバータ４９に対して三相交流電源４８が電磁コイル８に印加する電圧や電流や周波数を変更させて繰り返し加工を行い、現像スリーブ１３２の品番ごとの最適な粗面化処理の時間や電力および周波数などの条件を求めてもよい。
【０１０１】
さらに、リニアエンコーダ７５に限定されることなく種々のセンサを用いて、電磁コイル８の位置を検出しても良い。
【０１０２】
さらに、本発明では、制御装置７６は、リニアエンコーダ７５の検出した電磁コイル８の位置を時間で微分して該電磁コイル８の移動速度を求めて、加工対象物２の加工中に回転磁場の強さを変更することなく、電磁コイル８の移動速度を変更しても良い。
【０１０３】
この場合、制御装置７６は、リニアエンコーダ７５の検出した電磁コイル８の加工対象物２に対する相対的な位置に応じた電磁コイル８の移動速度を記憶している。則ち、制御装置７６は、電磁コイル８の加工対象物２に対する相対的な位置に応じた電磁コイル移動部５が電磁コイル８を移動する速度を記憶している。また、制御装置７６は、前述した移動速度を加工対象物２則ち現像スリーブ１３２の品番毎に記憶している。
【０１０４】
制御装置７６は、電磁コイル８が加工対象物２の長手方向（軸方向）の中央部から両端部に向かうにしたがって、電磁コイル移動部５が電磁コイル８を移動する速度を徐々に遅くするパターンを予め記憶している。そして、制御装置７６は、予め記憶した前述した移動速度のパターン通りに、電磁コイル移動部５に電磁コイル８の移動する速度を変更させる。このように、制御装置７６は、加工対象物２の両端部を加工する際の電磁コイル８の移動速度が、加工対象物２の中央部を加工する際の電磁コイル８の移動速度より遅くなるように、電磁コイル移動部５に電磁コイル８の移動する速度を変更させる。前述したように、制御装置７６は、リニアエンコーダ７５が検出した電磁コイル８の収容槽９則ち加工対象物２に対する相対的な位置に基づいて、電磁コイル移動部５に電磁コイル８の移動する速度を変更させる。
【０１０５】
このように、制御装置７６が電磁コイル移動部５の電磁コイル８を移動する速度を変更する際には、前述したインバータ４９を利用しなくても良い。
【０１０６】
制御装置７６が電磁コイル移動部５の電磁コイル８を移動する速度を変更する際には、電磁コイル８の移動する速度が早くなると磁性砥粒６５が加工対象物２に衝突する回数が減り加工対象物２の外表面の表面粗さが小さくなる。一方、電磁コイル８の移動する速度が遅くなると磁性砥粒６５が加工対象物２に衝突する回数が増えて加工対象物２の外表面の表面粗さが大きくなる。これにより、加工対象物２の長手方向（軸方向）の任意の位置の外表面の表面粗さを、任意に変更できる。
【０１０７】
また、制御装置７６が予め定められたパターンにしたがって電磁コイル８の移動する速度を変更するので、常に一定のパターンに加工対象物２の表面粗さを形成できる。
【０１０８】
さらに、制御装置７６が両端部を加工する際の移動速度を、中央部を加工する際の移動速度より遅くするので、汲み上げ量の少ない両端部の表面粗さを汲み上げ量の多い中央部の表面粗さより粗くすることができる。このため、現像スリーブ１３２の汲み上げ量の少ない両端部の表面粗さを粗くして、該両端部の汲み上げ量を増やすことができ、該現像スリーブ１３２を備えた画像形成装置１０１の形成する画像にムラが生じることを確実に防止できる。したがって、画像のムラが生じることを防止できるように現像スリーブ１３２の外表面に粗面化処理を確実に施すことができる。
【０１０９】
さらに、本発明では、制御装置７６が加工対象物２の両端部に向かうにしたがって、段階的に電磁コイル８の移動する速度を遅くして、加工対象物２の両端部を加工する際の電磁コイル８の移動速度を加工対象物２の中央部を加工する際の電磁コイル８の移動速度より遅くしても良い。
【０１１０】
また、本発明では、加工対象物２の両端部を加工する際の電磁コイル８の移動速度を加工対象物２の中央部を加工する際の電磁コイル８の移動速度より遅くせずに、加工対象物２の任意の部分を加工する際の電磁コイル８の移動速度を加工対象物２の他の部分を加工する際の電磁コイル８の移動速度より早くしても良い。
【０１１１】
前述した現像スリーブ１３２は、図３に示す画像形成装置１０１を構成する。画像形成装置１０１は、イエロー（Ｙ）、マゼンダ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、黒（Ｋ）の各色の画像則ちカラー画像を、一枚の転写材としての記録紙１０７（図３に示す）に形成する。なお、イエロー、マゼンダ、シアン、黒の各色に対応するユニットなどを、以下、符号の末尾に各々Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋを付けて示す。
【０１１２】
画像形成装置１０１は、図３に示すように、装置本体１０２と、給紙ユニット１０３と、レジストローラ対１１０と、転写ユニット１０４と、定着ユニット１０５と、複数のレーザ書き込みユニット１２２Ｙ，１２２Ｍ，１２２Ｃ，１２２Ｋと、複数のプロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋとを少なくとも備えている。
【０１１３】
装置本体１０２は、例えば、箱状に形成され、フロア上などに設置される。装置本体１０２は、給紙ユニット１０３と、レジストローラ対１１０と、転写ユニット１０４と、定着ユニット１０５と、複数のレーザ書き込みユニット１２２Ｙ，１２２Ｍ，１２２Ｃ，１２２Ｋと、複数のプロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋを収容している。
【０１１４】
給紙ユニット１０３は、装置本体１０２の下部に複数設けられている。給紙ユニット１０３は、前述した記録紙１０７を重ねて収容するとともに装置本体１０２に出し入れ自在な給紙カセット１２３と、給紙ローラ１２４とを備えている。給紙ローラ１２４は、給紙カセット１２３内の一番上の記録紙１０７に押し当てられている。給紙ローラ１２４は、前述した一番上の記録紙１０７を、転写ユニット１０４の後述する搬送ベルト１２９と、プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋの後述する現像装置１１３の感光体ドラム１０８との間に送り出す。
【０１１５】
レジストローラ対１１０は、給紙ユニット１０３から転写ユニット１０４に搬送される記録紙１０７の搬送経路に設けられており、一対のローラ１１０ａ，１１０ｂを備えている。レジストローラ対１１０は、一対のローラ１１０ａ，１１０ｂ間に記録紙１０７を挟み込み、該挟み込んだ記録紙１０７をトナー像を重ね合わせ得るタイミングで、転写ユニット１０４とプロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋとの間に送り出す。
【０１１６】
転写ユニット１０４は、給紙ユニット１０３の上方に設けられている。転写ユニット１０４は、駆動ローラ１２７と、従動ローラ１２８と、搬送ベルト１２９と、転写ローラ１３０Ｙ，１３０Ｍ，１３０Ｃ，１３０Ｋとを備えている。駆動ローラ１２７は、記録紙１０７の搬送方向の下流側に配置されており、駆動源としてのモータなどによって回転駆動される。従動ローラ１２８は、装置本体１０２に回転自在に支持されており、記録紙１０７の搬送方向の上流側に配置されている。搬送ベルト１２９は、無端環状に形成されており、前述した駆動ローラ１２７と従動ローラ１２８との双方に掛け渡されている。搬送ベルト１２９は、駆動ローラ１２７が回転駆動されることで、前述した駆動ローラ１２７と従動ローラ１２８との回りを図中半時計回りに循環（無端走行）する。
【０１１７】
転写ローラ１３０Ｙ，１３０Ｍ，１３０Ｃ，１３０Ｋは、それぞれ、プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋの感光体ドラム１０８との間に搬送ベルト１２９と該搬送ベルト１２９上の記録紙１０７とを挟む。転写ユニット１０４は、転写ローラ１３０Ｙ，１３０Ｍ，１３０Ｃ，１３０Ｋが、給紙ユニット１０３から送り出された記録紙１０７を各プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋの感光体ドラム１０８の外表面に押し付けて、感光体ドラム１０８上のトナー像を記録紙１０７に転写する。転写ユニット１０４は、トナー像を転写した記録紙１０７を定着ユニット１０５に向けて送り出す。
【０１１８】
定着ユニット１０５は、転写ユニット１０４の記録紙１０７の搬送方向の下流に設けられ、互いの間に記録紙１０７を挟む一対のローラ１０５ａ，１０５ｂを備えている。定着ユニット１０５は、一対のローラ１０５ａ，１０５ｂ間に転写ユニット１０４から送り出されてきた記録紙１０７を押圧加熱することで、感光体ドラム１０８から記録紙１０７上に転写されたトナー像を、該記録紙１０７に定着させる。
【０１１９】
レーザ書き込みユニット１２２Ｙ，１２２Ｍ，１２２Ｃ，１２２Ｋは、それぞれ、装置本体１０２の上部に取り付けられている。レーザ書き込みユニット１２２Ｙ，１２２Ｍ，１２２Ｃ，１２２Ｋは、それぞれ、一つのプロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋに対応している。レーザ書き込みユニット１２２Ｙ，１２２Ｍ，１２２Ｃ，１２２Ｋは、プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋの後述の帯電ローラ１０９により一様に帯電された感光体ドラム１０８の外表面にレーザ光を照射して、静電潜像を形成する。
【０１２０】
プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋは、それぞれ、転写ユニット１０４と、レーザ書き込みユニット１２２Ｙ，１２２Ｍ，１２２Ｃ，１２２Ｋとの間に設けられている。プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋは、装置本体１０２に着脱自在である。プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋは、記録紙１０７の搬送方向に沿って、互いに並設されている。
【０１２１】
プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋは、図４に示すように、カートリッジケース１１１と、帯電装置としての帯電ローラ１０９と、感光体（像担持体ともいう）としての感光体ドラム１０８と、クリーニング装置としてのクリーニングブレード１１２と、現像装置１１３と、を備えている。このため、画像形成装置１０１は、帯電ローラ１０９と、感光体ドラム１０８と、クリーニングブレード１１２と、現像装置１１３と、を少なくとも備えている。
【０１２２】
カートリッジケース１１１は、装置本体１０２に着脱自在で、かつ帯電ローラ１０９と、感光体ドラム１０８と、クリーニングブレード１１２と、現像装置１１３と、を収容している。帯電ローラ１０９は、感光体ドラム１０８の外表面を一様に帯電する。感光体ドラム１０８は、現像装置１１３の後述する現像ローラ１１５と間隔をあけて配されている。感光体ドラム１０８は、軸芯を中心として回転自在な円柱状又は円筒状に形成されている。感光体ドラム１０８は、対応するレーザ書き込みユニット１２２Ｙ，１２２Ｍ，１２２Ｃ，１２２Ｋにより、外表面上に静電潜像が形成される。感光体ドラム１０８は、外表面上に形成されかつ担持する静電潜像にトナーが吸着して現像し、こうして得られたトナー像を搬送ベルト１２９との間に位置付けられた記録紙１０７に転写する。クリーニングブレード１１２は、記録紙１０７にトナー像を転写した後に、感光体ドラム１０８の外表面に残留した転写残トナーを除去する。
【０１２３】
現像装置１１３は、図４に示すように、現像剤供給部１１４と、ケース１２５と、現像剤担持体としての現像ローラ１１５と、規制部材としての規制ブレード１１６とを少なくとも備えている。
【０１２４】
現像剤供給部１１４は、収容槽１１７と、攪拌部材としての一対の攪拌スクリュー１１８と、を備えている。収容槽１１７は、感光体ドラム１０８と長さが略等しい箱状に形成されている。また、収容槽１１７内には、該収容槽１１７の長手方向に沿って延びた仕切壁１１９が設けられている。仕切壁１１９は、収容槽１１７内を第１空間１２０と、第２空間１２１とに区画している。また、第１空間１２０と第２空間１２１とは、両端部が互いに連通している。
【０１２５】
収容槽１１７は、第１空間１２０と第２空間１２１との双方に現像剤１２６を収容する。現像剤１２６は、トナーと、磁性キャリア（磁性粉ともいい、図７に断面を示す）１３５とを含んでいる。トナーは、第１空間１２０と、第２空間１２１とのうち現像ローラ１１５から離れた側の第１空間１２０の一端部に、適宜供給される。トナーは、乳化重合法又は懸濁重合法により製造された球状の微粒子である。なお、トナーは、種々の染料又は顔料を混入・分散した合成樹脂で構成される塊を粉砕して得られても良い。トナーの平均粒径は、３μｍ以上でかつ７μｍ以下である。また、トナーは、粉砕加工などにより形成されても良い。
【０１２６】
磁性キャリア１３５は、第１空間１２０と第２空間１２１との双方に収容されている。磁性キャリア１３５の平均粒径は、２０μｍ以上でかつ５０μｍ以下である。磁性キャリア１３５は、図７に示すように、芯材１３６と、該芯材１３６の外表面を被覆した樹脂コート膜１３７と、樹脂コート膜１３７に分散されたアルミナ粒子１３８と、を備えている。
【０１２７】
芯材１３６は、磁性材料としてのフェライトで構成されているとともに、球形に形成されている。樹脂コート膜１３７は、芯材１３６の外表面全体を被覆している。樹脂コート膜１３７は、アクリルなどの熱可塑性樹脂とメラミン樹脂とを架橋させた樹脂成分と、帯電調整剤とを含有している。この樹脂コート膜１３７は、弾力性と強い接着力を有している。アルミナ粒子１３８は、外径が樹脂コート膜１３７の厚みより大きな球形に形成されている。アルミナ粒子１３８は、樹脂コート膜１３７の強い接着力で保持されている。アルミナ粒子１３８は、樹脂コート膜１３７より磁性キャリア１３５の外周側に突出している。
【０１２８】
攪拌スクリュー１１８は、第１空間１２０と第２空間１２１それぞれに収容されている。攪拌スクリュー１１８の長手方向は、収容槽１１７、現像ローラ１１５及び感光体ドラム１０８の長手方向と平行である。攪拌スクリュー１１８は、軸芯周りに回転自在に設けられており、軸芯周りに回転することで、トナーと磁性キャリア１３５とを攪拌するとともに、該軸芯に沿って現像剤１２６を搬送する。
【０１２９】
図示例では、第１空間１２０内の攪拌スクリュー１１８は、現像剤１２６を前述した一端部から他端部に向けて搬送する。第２空間１２１内の攪拌スクリュー１１８は、現像剤１２６を他端部から一端部に向けて搬送する。
【０１３０】
前述した構成によれば、現像剤供給部１１４は、第１空間１２０の一端部に供給されたトナーを、磁性キャリア１３５と攪拌しながら、他端部に搬送し、この他端部から第２空間１２１の他端部に搬送する。そして、現像剤供給部１１４は、第２空間１２１内でトナーと磁性キャリア１３５とを攪拌し、軸芯方向に搬送しながら、現像ローラ１１５の外表面に供給する。
【０１３１】
ケース１２５は、箱状に形成され、前述した現像剤供給部１１４の収容槽１１７に取り付けられて、該収容槽１１７とともに、現像ローラ１１５などを覆う。また、ケース１２５の感光体ドラム１０８と相対する部分には、開口部１２５ａが設けられている。
【０１３２】
現像ローラ１１５は、円柱状に形成され、第２空間１２１と、感光体ドラム１０８との間でかつ前述した開口部１２５ａの近傍に設けられている。現像ローラ１１５は、感光体ドラム１０８と収容槽１１７との双方と平行である。現像ローラ１１５は、感光体ドラム１０８と間隔をあけて配されている。現像ローラ１１５と感光体ドラム１０８との間の空間は、現像剤１２６のトナーを感光体ドラム１０８に吸着させて、静電潜像を現像してトナー像を得る現像領域１３１をなしている。現像領域１３１では、現像ローラ１１５と感光体ドラム１０８とが相対する。
【０１３３】
現像ローラ１１５は、図４及び図５に示すように、芯金１３４と、円筒状のマグネットローラ（磁石体ともいう）１３３と、前述した円筒状の現像スリーブ１３２とを備えている。芯金１３４は、長手方向が感光体ドラム１０８の長手方向と平行に配され、前述したケース１２５に回転することなく固定されている。
【０１３４】
マグネットローラ１３３は、磁性材料で構成され、かつ円筒状に形成されているとともに、図示しない複数の固定磁極が取り付けられている。マグネットローラ１３３は、芯金１３４の外周に軸芯回りに回転することなく固定されている。
【０１３５】
固定磁極は、長尺で棒状の磁石であり、マグネットローラ１３３に取り付けられている。固定磁極は、マグネットローラ１３３則ち現像ローラ１１５の長手方向に沿って延びており、該マグネットローラ１３３の全長に亘って設けられている。前述した構成のマグネットローラ１３３は、現像スリーブ１３２内に収容されている（内包されている）。
【０１３６】
一つの固定磁極は、前述した攪拌スクリュー１１８と相対している。該一つの固定磁極は、汲み上げ磁極をなしており、現像スリーブ１３２即ち現像ローラ１１５の外表面上に磁気力を生じて、収容槽１１７の第２空間１２１内の現像剤１２６を現像スリーブ１３２の外表面に吸着する。
【０１３７】
他の一つの固定磁極は、前述した感光体ドラム１０８と相対している。この固定磁極は、現像磁極をなしており、現像スリーブ１３２即ち現像ローラ１１５の外表面上に磁気力を生じて、現像スリーブ１３２と感光体ドラム１０８との間に磁界を形成する。この固定磁極は、該磁界によって磁気ブラシを形成することで、現像スリーブ１３２の外表面に吸着された現像剤１２６のトナーを感光体ドラム１０８に受け渡すようになっている。
【０１３８】
前述した汲み上げ磁極と現像磁極との間には、少なくとも一つの固定磁極が設けられている。この少なくとも一つの固定磁極は、現像スリーブ１３２即ち現像ローラ１１５の外表面上に磁気力を生じて、現像前の現像剤１２６を感光体ドラム１０８に向けて搬送するとともに、現像済みの現像剤１２６を感光体ドラム１０８から収容槽１１７内まで搬送する。
【０１３９】
前述した固定磁極は、現像スリーブ１３２の外表面に現像剤１２６を吸着すると、現像剤１２６の磁性キャリア１３５が該固定磁極が生じる磁力線に沿って複数重ねさせて、該現像スリーブ１３２の外表面上に立設（穂立ち）させる。このように、磁性キャリア１３５が磁力線に沿って複数重なって現像スリーブ１３２の外表面上に立設する状態を、磁性キャリア１３５が現像スリーブ１３２の外表面上に穂立ちするという。すると、この穂立ちした磁性キャリア１３５に前述したトナーが吸着する。則ち、現像スリーブ１３２は、マグネットローラ１３３の磁力により外表面に現像剤１２６を吸着する。
【０１４０】
現像スリーブ１３２は、図６に示すように、円筒状に形成されている。現像スリーブ１３２は、マグネットローラ１３３を内包し（収容し）て、軸芯回りに回転自在に設けられている。現像スリーブ１３２は、その内周面が固定磁極に順に相対するように回転される。現像スリーブ１３２は、アルミニウム合金、ステンレス鋼（ＳＵＳ）などの非磁性材料で構成されており、外周面が表面粗さとしての十点平均粗さ（Ｒｚ）が８μｍ以上でかつ１５μｍ以下となるように粗面化処理が施されている。
【０１４１】
アルミニウム合金は、加工性、軽さの面で優れている。アルミニウム合金を用いる場合には、Ａ６０６３、Ａ５０５６及びＡ３００３を用いるのが好ましい。ＳＵＳを用いる場合には、ＳＵＳ３０３、ＳＵＳ３０４及びＳＵＳ３１６を用いるのが好ましい。
【０１４２】
規制ブレード１１６は、現像装置１１３の感光体ドラム１０８寄りの端部に設けられて
いる。規制ブレード１１６は、現像スリーブ１３２の外表面と間隔をあけた状態で、前述したケース１２５に取り付けられている。規制ブレード１１６は、所望の厚さを越える現像スリーブ１３２の外表面上の現像剤１２６を収容槽１１７内にそぎ落として、現像領域１３１に搬送される現像スリーブ１３２の外表面上の現像剤１２６を所望の厚さにする。
【０１４３】
前述した構成の現像装置１１３は、現像剤供給部１１４でトナーと磁性キャリア１３５とを十分に攪拌し、この攪拌した現像剤１２６を固定磁極により現像スリーブ１３２の外表面に吸着する。そして、現像装置１１３は、現像スリーブ１３２が回転して、複数の固定磁極により吸着した現像剤１２６を現像領域１３１に向かって搬送する。現像装置１１３は、規制ブレード１１６で所望の厚さになった現像剤１２６を感光体ドラム１０８に吸着させる。こうして、現像装置１１３は、現像剤１２６を現像ローラ１１５に担持し、現像領域１３１に搬送して、感光体ドラム１０８上の静電潜像を現像して、トナー像を形成する。
【０１４４】
そして、現像装置１１３は、現像済みの現像剤１２６を、収容槽１１７に向かって離脱させる。さらに、そして、収容槽１１７内に収容された現像済みの現像剤１２６は、再度、第２空間１２１内で他の現像剤１２６と十分に攪拌されて、感光体ドラム１０８の静電潜像の現像に用いられる。
【０１４５】
前述した構成の画像形成装置１０１は、以下に示すように、記録紙１０７に画像を形成する。まず、画像形成装置１０１は、感光体ドラム１０８を回転して、この感光体ドラム１０８の外表面を一様に帯電ローラ１０９により帯電する。感光体ドラム１０８の外表面にレーザ光を照射して、該感光体ドラム１０８の外表面に静電潜像を形成する。そして、静電潜像が現像領域１３１に位置付けられると、現像装置１１３の現像スリーブ１３２の外表面に吸着した現像剤１２６が感光体ドラム１０８の外表面に吸着して、静電潜像を現像し、トナー像を感光体ドラム１０８の外表面に形成する。
【０１４６】
そして、画像形成装置１０１は、給紙ユニット１０３の給紙ローラ１２４などにより搬送されてきた記録紙１０７が、プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋの感光体ドラム１０８と転写ユニット１０４の搬送ベルト１２９との間に位置して、感光体ドラム１０８の外表面上に形成されたトナー像を記録紙１０７に転写する。画像形成装置１０１は、定着ユニット１０５で、記録紙１０７にトナー像を定着する。こうして、画像形成装置１０１は、記録紙１０７にカラー画像を形成する。
【０１４７】
前述した画像形成装置１０１によれば、磁性キャリア１３５の平均粒径が２０μｍ以上でかつ５０μｍ以下の現像剤１２６を用いているので、粒状度に優れ、ムラの少ない優れた画像を得ることができる。磁性キャリア１３５の平均粒径が２０μｍ未満であると、磁性キャリア１３５一つ一つの磁化の大きさが小さくなるために、磁性キャリア１３５の現像ローラ１１５からの磁気的拘束力が弱くなり、該磁性キャリア１３５が感光体ドラム１０８に吸着しやすくため、望ましくない。磁性キャリア１３５の平均粒径が５０μｍを越えると、磁性キャリア１３５と感光体ドラム１０８上の静電潜像との間の電界が疎になるため、均一な画像を得ることができない（画質が劣化する）ため、望ましくない。
【０１４８】
さらに、現像スリーブ１３２と感光体ドラム１０８との間隔が、０．１ｍｍ以上でかつ０．４ｍｍ以下であるので、現像スリーブ１３２に穂立ちした現像剤１２６からトナーを確実に感光体ドラム１０８に供給でき、高品質な画像を得ることができる。現像スリーブ１３２と感光体ドラム１０８との間隔が、０．１ｍｍ未満であると、現像スリーブ１３２と感光体ドラム１０８との間の電界が強くなりすぎて、感光体ドラム１０８上に磁性キャリア１３５が移動してしまい、望ましくない。現像スリーブ１３２と感光体ドラム１０８との間隔が、０．４ｍｍを越えると、現像スリーブ１３２と感光体ドラム１０８との間の
電界が弱くなりすぎて、感光体ドラム１０８に供給できるトナーの量が現像して、現像効率が低下するとともに、画像のエッジにおいて電界のエッジ効果が大きくなり均一な画像を得ることができないため、望ましくない。
【０１４９】
また、芯材１３６の表面を熱可塑性樹脂とメラミン樹脂とを架橋させた樹脂成分に帯電調整剤を含有させた樹脂コート膜１３７で被覆した磁性キャリア１３５を有した現像剤１２６を用いている。このように、芯材１３６を弾力性を有した樹脂コート膜１３７で被覆した磁性キャリア１３５を用いているため、樹脂コート膜１３７が弾力性を有するので衝撃を吸収して、磁性キャリア１３５が削られることを防止する。このため、従来の磁性キャリアより長寿命化を図ることができる。
【０１５０】
さらに、前述した樹脂コート膜１３７に、該樹脂コート膜１３７の厚みより大きなアルミナ粒子１３８分散している。このように、樹脂コート膜１３７の外表面より突出したアルミナ粒子１３８を設けた磁性キャリア１３５を有した現像剤１２６を用いている。このため、該アルミナ粒子１３８が、樹脂コート膜１３７への衝突を阻止し、しかもスペント物のクリーニングを行うことができる。
【０１５１】
したがって、樹脂コート膜１３７の削れスペント化を阻止できるので、従来の磁性キャリアに比べ、より長寿命化を図ることができる。したがって、長期間に亘って、トナーの汲み上げ量の安定化則ち高画質化を得ることができる。
【０１５２】
トナーが乳化重合法又は懸濁重合法によるものに選定されたことにより、トナーの球形度が良好であるので、画像上に残留する濃度ムラが視認的に改善されるという効果が奏される。
【０１５３】
現像スリーブ１３２の外周面の表面粗さとしての十点平均粗さが８μｍ以上であるので、該現像スリーブ１３２の外周面に現像剤１２６を確実に汲み上げることができる。現像スリーブ１３２の外周面の表面粗さとしての十点平均粗さが８μｍ未満であると、該現像スリーブ１３２の外周面に現像剤１２６を吸着しておくことが困難となり、現像スリーブ１３２の回転中に該現像スリーブ１３２の外周面がら現像剤１２６が脱落してしまうためである。
【０１５４】
また、現像スリーブ１３２の外周面の表面粗さとしての十点平均粗さが１５μｍ以下であるので、該現像スリーブ１３２の外周面の凹みに現像剤１２６の磁性キャリア１３５が詰まってしまうことを防止できる。現像スリーブ１３２の外周面の表面粗さとしての十点平均粗さが１５μｍを越えると、該現像スリーブ１３２の外周面の凹み内に磁性キャリア１３５などが詰まってしまい、該磁性キャリア１３５などが詰まった該現像スリーブ１３２の外周面の凹みが現像剤１２６を搬送できなくなって、該磁性キャリア１３５などが詰まった該現像スリーブ１３２の外周面の凹みが対応する部分が画像上で印刷されなくなる。すなわち、画像に印刷されない部分が生じる。また、表面粗さとしての十点平均粗さが１５μｍを越えると、経年変化によって現像スリーブ１３２の外周面の凹みの外縁部などが磨耗してしまい、現像剤１２６の搬送力が低下するためである。
【０１５５】
また、前述した現像装置１１３を有しているため、長期間に亘って高品質な画像が得られるプロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋ及び画像形成装置１０１を提供することができる。
【０１５６】
つぎに、本発明者は、本発明の表面処理装置を用い、表面粗さとしての十点表面粗さが異なる現像スリーブを複数製造し比較を行った。
【０１５７】
（本発明品１）
比較例１では、現像スリーブの表面粗さとしての十点表面粗さを１２μｍに設定して製造した（外表面の断面曲線をフーリエ解析して得た周波数スペクトルを図８に示す）。
【０１５８】
（本発明品２）
比較例２では、現像スリーブの表面粗さとしての十点表面粗さを１０μｍに設定して製造した（外表面の断面曲線をフーリエ解析して得た周波数スペクトルを図９に示す）。
【０１５９】
（比較例）
比較例３では、現像スリーブの表面粗さとしての十点表面粗さを６．５μｍに設定して製造した（外表面の断面曲線をフーリエ解析して得た周波数スペクトルを図１０に示す）。
【０１６０】
ここで、例えば良否を判定する波長（周波数波長成分）を０．３ｍｍとしたときに、本発明品１では図８における一点鎖線のフーリエ解析を実施して得られた平均値の波長０．３ｍｍにおけるスペクトル強度は約８となることが明らかとなり、本発明品２では図９における一点鎖線のフーリエ解析を実施して得られた平均値の波長０．３ｍｍにおけるスペクトル強度は約７となることが明らかとなり、比較例では図１０における一点鎖線のフーリエ解析を実施して得られた平均値の波長０．３ｍｍにおけるスペクトル強度は約３であることが明らかとなった。この場合に、良品と判定するスペクトル強度の範囲を５から１５に設定すると、本発明品１および本発明品２は良品と判定され、比較例は不良品と判定される。不良品と判定された比較例は、スペクトル強度が小さい、すなわち微細な凹凸が少ないため、粗面化処理を行う際の回転磁場を強くするように電磁コイルに印加する電圧や電流および周波数を大きくするように制御装置から制御して再度粗面化処理を行い微細な凹凸が増加するようにする。
【０１６１】
前述した画像形成装置１０１では、プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋはカートリッジケース１１１と帯電ローラ１０９と感光体ドラム１０８とクリーニングブレード１１２と現像装置１１３とを備えている。しかしながら、本発明ではプロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋは少なくとも現像装置１１３を備えていれば良く、カートリッジケース１１１と帯電ローラ１０９と感光体ドラム１０８とクリーニングブレード１１２を必ずしも備えていなくても良い。また、前述した実施形態では画像形成装置１０１は装置本体１０２に着脱自在なプロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋを備えている。しかしながら本発明では画像形成装置１０１は現像装置１１３を備えていれば良く、プロセスカートリッジ１０６Ｙ，１０６Ｍ，１０６Ｃ，１０６Ｋを必ずしも備えていなくても良い。
【０１６２】
前述した実施形態では、加工対象物２の外径と、磁性砥粒６５の大きさと、収容槽９の円筒部材５０の外径を適宜変更しても良いことは勿論である。また、加工対象物２の両端の形状に関しても、面取りの曲率半径や面取りの形状の大きさなども目標とする粗面の粗さ、加工時間（加工条件）、電磁コイル８の往復回数及び磁性砥粒６５の耐久性などから適切な形状を選定するのが望ましい。また、収容槽９内に収容する磁性砥粒６５の総量も、目標とする粗面の粗さ、加工時間（加工条件）、電磁コイル８の往復回数及び磁性砥粒６５の耐久性などから適切な量に定められるのが望ましい。
【０１６３】
また、前述した実施形態では、仕切部材５５を設けている。しかしながら、本発明では、磁性砥粒６５の質量と電磁コイル８の発生する回転磁場の強さなどにより、該回転磁場に磁性砥粒６５が吸引されることなく、電磁コイル８の移動により磁性砥粒６５が回転磁場から抜け出るのであれば、仕切部材５５を設けなくても良い。また、本発明では、例えば板状などの円筒状以外の種々の形状の加工対象物２の外表面の粗面化を図っても良い。
【０１６４】
さらに、前述した実施形態では、電磁コイル８が発生する回転磁場の強さを変更したり、該電磁コイル８の移動速度を変更したり、中空保持部材３２の外径を変更することで、現像スリーブ１３２の外表面の表面粗さを適宜変更している。しかしながら、本発明は、現像スリーブ１３２の外表面の表面粗さを、該現像スリーブ１３２の長手方向に一様にするために、電磁コイル８が発生する回転磁場の強さを変更したり、該電磁コイル８の移動速度を変更したり、中空保持部材３２の外径を変更しても良い。
【０１６５】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。即ち、保持手段とスライド手段と回転手段と測定手段は、実施形態に記載された構成及び配置に限定されることなく、種々の構成及び配置にしても良い。
【図面の簡単な説明】
【０１６６】
【図１】本発明の一実施形態にかかる表面処理装置の概略の構成を示す斜視図である。
【図２】図１中のＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図である。
【図３】図１に示された表面処理装置で得られた現像スリーブを備えた画像形成装置の構成を正面からみた説明図である。
【図４】図３に示された画像形成装置のプロセスカートリッジの断面図である。
【図５】図４中のＶ−Ｖ線に沿う断面図である。
【図６】図５に示された現像装置の現像スリーブの斜視図である。
【図７】図４に示された現像装置の現像剤の磁性キャリアの断面図である。
【図８】本発明品の外表面にフーリエ解析によって得られる周波数スペクトルの第１の例を示す説明図である。
【図９】本発明品の外表面にフーリエ解析によって得られる周波数スペクトルの第２の例を示す説明図である。
【図１０】比較例の外表面にフーリエ解析によって得られる周波数スペクトルの第２の例を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１６７】
１  表面処理装置
２  加工対象物
６  移動保持部（スライド手段）
８  電磁コイル（磁場発生部）
９  収容槽
３２  中空保持部材（保持手段）
３３  駆動用モータ（回転手段）
３４  チャック用シリンダ（保持手段）
４０  チャック爪（保持手段）
４９  レーザ測長センサ（測定手段）
６５  磁性砥粒
７６  制御装置（周波数解析手段、判定手段、制御手段）
１０１  画像形成装置
１１３  現像装置
１３２  現像スリーブ
【図１】
0004778790.tif 000002
【図２】
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【図３】
0004778790.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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