(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース誘導体と反応性金属化合物の重縮合物とを含有する光学フィルムの製造方法であって、固体触媒で反応性金属化合物を加水分解することによって加水分解物を調製し、これを分離して、該加水分解物を含有するセルロース誘導体溶液を支持体上に流延後、剥離し乾燥させて巻き取ることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記固体触媒が陽イオン交換樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記分離を濾過によって行うことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
支持体から剥離後、少なくとも１つの方向に１．１〜２倍延伸することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記反応性金属化合物１モルに対し水を０．５〜４モルの範囲で用い、前記固体触媒で加水分解することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記セルロース誘導体が、総アシル基置換度２．４〜２．９、数平均分子量（Ｍｎ）７００００〜２０００００、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値が１．４〜３．０であるセルロースエステルであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた偏光板及び表示装置に関し、より詳しくはヘイズが低く、異物故障が低減された歩留まりの良い光学フィルム及びその製造方法、並びに保存性に優れる偏光板、及び環境変動があってもコントラストが高い表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型軽量ノートパソコンや薄型で大画面のＴＶの開発が進み、それに伴って、液晶表示装置等の表示装置で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、大型化、高性能化への要求が強くなってきている。また、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータ、ワープロ等の液晶画像表示装置（液晶ディスプレイ等）が多く使用されるようになってきた。
【０００３】
反射防止層は用途に応じて様々な種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前面板を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせることで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能を付与する方法が用いられている。（例えば、特許文献１参照。）これら前面板として用いる光学フィルムには、塗布、蒸着法またはスパッタ法等で形成した反射防止層が設けられることが多い。
【０００４】
また、表示装置の薄型化のため、使用するフィルムの膜厚もますます薄いものが求められており、或いは、大画面化のため、光学フィルムの幅も広いものが求められている。特に大画面においては平面性に優れた光学フィルムが求められているが、従来の光学フィルムでは特に広幅、薄膜では平面性に優れたものが得られず、またヘイズや異物故障についても広い面積では十分なものが得られなかった。
【０００５】
特に、反射防止層として金属酸化物層を塗設する場合に、塗布むらが生じ易くその改善が求められていた。特に基材フィルムの幅が１．５ｍ以上の広幅になると極端に塗布むらが生じ易くなり、この為、幅１．５ｍ以上の光学フィルムは偏光板や表示装置として加工すると、保存状態や環境変動によりコントラストが劣化することがあり、その改善が求められていた。
【特許文献１】特開２００２−１８２００５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って本発明の目的は、ヘイズが低く、異物故障が低減された歩留まりの良い光学フィルム及びその製造方法を提供すること、並びに保存性に優れる偏光板、及び環境変動があってもコントラストが高い表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００１６】
（請求項１）
セルロース誘導体と反応性金属化合物の重縮合物とを含有する光学フィルムの製造方法であって、固体触媒で反応性金属化合物を加水分解することによって加水分解物を調製し、これを分離して、該加水分解物を含有するセルロース誘導体溶液を支持体上に流延後、剥離し乾燥させて巻き取ることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【００１７】
（請求項２）
前記固体触媒が陽イオン交換樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１８】
（請求項３）
前記分離を濾過によって行うことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１９】
（請求項４）
支持体から剥離後、少なくとも１つの方向に１．１〜２倍延伸することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【００２０】
（請求項５）
前記反応性金属化合物１モルに対し水を０．５〜４モルの範囲で用い、前記固体触媒で加水分解することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【００２１】
（請求項６）
前記セルロース誘導体が、総アシル基置換度２．４〜２．９、数平均分子量（Ｍｎ）７００００〜２０００００、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値が１．４〜３．０であるセルロースエステルであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
以下、好ましい態様である。
ａ．フィルムが、セルロース誘導体と反応性金属化合物を固体触媒で加水分解して形成された加水分解物またはその縮合物とを含有することを特徴とする光学フィルム。
ｂ．前記フィルムを５００℃に過熱燃焼させた後の残渣に含まれる金属酸化物の質量をＡ、燃焼前のフィルムの質量をＢとしたときにＡ／Ｂ×１００が０．５〜１０質量％であることを特徴とするａ項に記載の光学フィルム。
ｃ．前記反応性金属化合物が、Ｓｉ、Ｔｉ、ＺｒまたはＡｌから選択される少なくとも１種の金属を含有するアルコキシドであることを特徴とするａ項またはｂ項に記載の光学フィルム。
ｄ．前記セルロース誘導体が、総アシル基置換度２．４〜２．９、数平均分子量（Ｍｎ）７００００〜２０００００、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値が１．４〜３．０であるセルロースエステルであることを特徴とするａ，ｂ，ｃ項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
ｅ．前記フィルムが、非リン酸エステル系可塑剤を含有することを特徴とするａ，ｂ，ｃ，ｄ項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
ｆ．前記フィルムに少なくとも１層の金属酸化物層が塗設されていることを特徴とするａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
ｇ．ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ項のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。
ｈ．ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ項のいずれか１項に記載の光学フィルムを用いたことを特徴とする表示装置。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、ヘイズが低く、異物故障が低減された歩留まりの良い光学フィルム及びその製造方法を提供すること、並びに保存性に優れる偏光板、及び環境変動があってもコントラストが高い表示装置を提供することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２４】
本発明の光学フィルム（以下、有機−無機ハイブリッドフィルムともいう）は、フィルムが、セルロース誘導体と反応性金属化合物を固体触媒で加水分解して形成された加水分解物またはその縮合物とを含有することを特徴とする。
【００２５】
本発明者らは、上記課題に対し鋭意検討を重ねた結果、フィルムが、セルロース誘導体とも、セルロース誘導体に含まれる可塑剤等の添加剤に対しても、水素結合によって相互作用することが可能な反応性金属酸化物をナノスケールでセルロース誘導体中に分散・混合する、所謂有機−無機ハイブリッドと呼ばれる手法で光学フィルムを形成する際に、固体触媒を用いて反応性金属化合物を加水分解して形成された加水分解物またはその縮合物を含有させることによって、上記課題が達成されることを見出し、本発明を完成させるに至ったものである。
【００２６】
即ち、本発明の光学フィルムは、ヘイズや異物故障が大幅に低減出来、幅１．５ｍ以上の広幅フィルムを用いても、特に、反射防止層として金属酸化物層を塗設する場合に、塗布むらが生じ難く、この為、幅１．５ｍ以上の光学フィルムを偏光板や表示装置として加工した場合に、保存状態や環境変動によりコントラストが劣化しない光学フィルムを提供することが出来た。
【００２７】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２８】
〈有機−無機ハイブリッド〉
有機−無機ハイブリッド（または有機−無機ポリマーコンポジットまたはゾル・ゲル法などと呼ばれる手法が用いられるが、本発明では有機−無機ハイブリッドと呼称する）とは、有機ポリマーと無機化合物を組み合わせて、双方の特性を持った材料を合成する考え方であるが、有機ポリマーと無機化合物は相溶性に乏しいため、単純に両者を混合するだけでは有用な材料を得ることが難しい。近年になって、無機物を金属アルコキシドのような液体状態から合成する手法が開発されるに至り、溶液プロセスによって可視光の波長以下（〜約７５０ｎｍ以下）のナノスケールで有機物と無機物を混合することが可能となり、光学的にも透明で有用な材料が得られるようになってきている。
【００２９】
本発明においても、鋭意検討した結果、有機ポリマーであるセルロース誘導体と無機化合物である金属酸化物をある一定の条件下で混合することにより、セルロース誘導体の光学特性を保ったまま、ヘイズや異物故障を向上させることが判明し、上記課題を達成する基材フィルムを得ることが出来た。
【００３０】
〈セルロース誘導体〉
本発明においては、液晶表示用フィルムの有機材料として、低複屈折・波長分散特性が正であるセルロース誘導体が、光学フィルムの有機ポリマーとして用いられる。
【００３１】
ここで高分子化合物の波長分散特性が正であるとは、波長６００ｎｍにおける下記式（Ｉ）で表される面内リターデーション値Ｒｏ（６００）を波長４５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏ（４５０）で除した値が１より大きいことをいう。波長６００ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏ（６００）及び波長４５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒ（４５０）は、該高分子化合物を可溶な溶媒（例えば、アセトン、酢酸メチル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、塩化メチレン及びこれらの混合溶媒）に溶解し、ガラス板上にフィルム厚みが１００μｍになるように流延し乾燥させたフィルムを作製し、波長６００ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏ（６００）と波長４５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒｏ（４５０）を測定することによって求めることが出来る。
【００３２】
式（Ｉ）  Ｒｏ値＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
〔式中、ｎｘは、フィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙは、ｎｘに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｄは、フィルムの厚み（ｎｍ）を各々表す。（２５℃、５５％ＲＨで測定）〕
波長分散特性が正である光学フィルムにおいては、可視光の全波長領域で偏光の補償が可能であり、複屈折を利用した表示方法を採用している液晶パネルにおいては色ずれを防ぐことが出来、また、有機ＥＬ表示素子においては良好なコントラストを得ることが出来る。
【００３３】
本発明に用いられるセルロース誘導体としては、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、シアノエチルセルロースなどのセルロースエーテル類と、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース（ＤＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートトリメリテート、硝酸セルロース等のセルロースエステル類が挙げられるが、好ましくはセルロースエステル類である。或いは、特開２００２−１７９７０１号公報の段落番号［００１０］〜［００２７］記載の芳香族カルボン酸エステルが用いられ、特に特開２００２−１７９７９号公報の段落番号［００２８］〜［００３６］のセルロースアシレートが好ましく用いられる。
【００３４】
本発明に用いられるセルロース誘導体の原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来る。また、これらから得られたセルロース誘導体は、それぞれを単独或いは任意の割合で混合使用することが出来るが、綿花リンターを５０質量％以上使用することが好ましい。
【００３５】
セルロースエステルの分子量が大きいと弾性率が大きくなるが、分子量を上げ過ぎるとセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなり過ぎるため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で７００００〜２０００００のものが好ましく、１０００００〜２０００００のものが更に好ましい。本発明で用いられるセルロースエステルはＭｗ／Ｍｎ比が１．４〜３．０が好ましく、更に好ましくは１．４〜２．３である。
【００３６】
セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定出来るので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することが出来る。
【００３７】
測定条件は以下の通りである。
【００３８】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１，０００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００３９】
セルロースエステルの総アシル基置換度は２．４〜２．９のものが好ましく用いられ、更に好ましくは２．６〜２．９である。総アシル基置換度はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することが出来る。
【００４０】
〈加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物の重縮合物〉
次に本発明の光学フィルムを構成する無機化合物である反応性金属化合物について説明する。
【００４１】
本発明において金属とは、「周期表の化学」岩波書店  斎藤一夫著  ｐ．７１記載の金属即ち半金属性原子を含む金属である。
【００４２】
本発明に用いられる加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物としては、例えば金属アルコキシド、金属ジケトネート、金属アルキルアセトアセテート、金属イソシアネート、反応性の金属ハロゲン化物が挙げられ、好ましくは金属種が、Ｓｉ、Ｔｉ、ＺｒまたはＡｌのアルコキシドであるが好ましく、特に好ましくはＳｉのアルコキシドである。
【００４３】
このような加水分解重縮合可能な反応性金属化合物は、中心金属をＭ、その原子数をｑ、加水分解されない置換基をＡ、その置換基数をｐ、加水分解可能な置換基をＢ、その置換基数をｒとすると、理想的には下記の式（１）のように反応が完結し、金属酸化物が得られる。
【００４４】
式（１）  ＡpＭqＢr  →  ＡpＭqＯr/2
この金属酸化物の含有量は、光学フィルム材料を燃焼させた後、灰中の金属酸化物の含有量として求めることが出来る。
【００４５】
本発明では金属酸化物の含有量は、光学フィルムを５００℃に加熱燃焼させた後の残渣に含まれる金属酸化物の質量をＡ、燃焼前のフィルムの質量をＢとした時にＡ／Ｂ×１００の式で表す。金属酸化物の質量は、セイコー電子工業（株）製ＳＰＳ−４０００を用いてＩＣＰ−ＡＥＳ分析法（誘導結合プラズマ発行分光分析）により測定することが出来る。この際灰中に金属酸化物以外の成分（例えばリン等）が含まれている場合は公知の方法で灰中の金属酸化物量を測定することが出来る。
【００４６】
光学フィルムの金属酸化物の含有量としては、光学フィルムの全質量に対して、０．５〜４０質量％含有させることが出来るが、より好ましくは、０．５〜１０質量％である。特に好ましく０．５〜５質量％である。金属酸化物の添加量が０．５質量％より少ないと光学フィルムの物性改良効果が認められなくなり、４０質量％を越えると光学フィルムが脆くなってしまうためである。
【００４７】
本発明の光学フィルム中の重縮合物の平均粒子径の測定は透過型電子顕微鏡観察、Ｘ線小角散乱測定により得ることが出来る。好ましいのはＸ線小角散乱測定により求める方法である。Ｘ線小角散乱法の詳細については例えばＸ線回折ハンドブック第３版（理学電機株式会社２０００年発行）を参照することが出来る。よく知られているように試料中に電子密度の異なる領域が存在すると入射Ｘ線方向に散漫な散乱が観測される。この散乱は散乱角０〜５°程度の範囲に観測されるため、これらの散乱は小角散乱と呼ばれる。この散乱曲線に対し、Ｇｕｉｎｉｅｒプロット或いはＦａｎｋｕｃｈｅｎ法を用いて重縮合物の平均粒子径を測定する。
【００４８】
本発明における光学フィルム中の重縮合物の好ましい平均粒子径は１〜２００ｎｍである。より好ましくは１〜１００ｎｍ、更に好ましくは１〜５０ｎｍで、１〜２０ｎｍが最も好ましい。本発明の重縮合物は従来の金属酸化物微粒子をセルロースエステル溶液中に分散して添加する方法に比べて凝集体を形成しにくく、小粒径の状態を安定に得られる点で優れている。
【００４９】
加水分解重縮合可能な反応性金属化合物としては、式（１）で示されているＡpＭqＢrにおいて、ｐ＝０であるような、全てが加水分解可能な置換基で置換されていることが好ましいが、基材フィルムの透湿度を低減する観点から、加水分解されない置換基によって該金属１原子当たり１つまたは２つ、或いは３つ置換されている化合物が含まれていても良い。このような加水分解されない置換基を有する金属化合物の添加量としては、添加される金属化合物の５０モル％以下が好ましい。また、上記添加量の範囲で２種以上の異なる種類の金属アルコキシドを併用しても良い。
【００５０】
このような加水分解されない置換基としては、置換または無置換のアルキル基、または置換または無置換のアリール基が好ましく該アルキル基またはアリール基の置換基としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）、複素環基（例えばフラン、チオフェン、ピリジン等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、アシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルキルチオ基、グリシジル基、ビニル基、フッ素原子含有アルキル基またはフッ素原子含有アリール基等が挙げられる。
【００５１】
本発明に用いられる重縮合が可能な反応性金属化合物としては、ケイ素化合物として、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、テトラキス（メトキシエトキシ）シラン、テトラキス（メトキシプロポキシ）シラン、テトラクロロシラン、テトライソシアナートシラン等が挙げられる。
【００５２】
また加水分解されない置換基を有するケイ素化合物として、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジイソプロポキシシラン、ジエチルジブトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジイソプロポキシシラン、ジフェニルジブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ジクロロジメチルシラン、ジクロロジエチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、アセトキシトリエトキシシラン、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリメトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリエトキシシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリクロロシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリクロロシラン、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリクロロシラン、メチルトリイソシアナートシラン、フェニルトリイソシアナートシラン、ビニルトリイソシアナートシラン等が挙げられる。また、これらの化合物が部分的に縮合した、多摩化学製シリケート４０、シリケート４５、シリケート４８、Ｍシリケート５１のような、数量体のケイ素化合物でもよい。
【００５３】
またチタン化合物としては、チタンメトキシド、チタンエトキシド、チタンイソプロポキシド、チタン−ｎ−ブトキシド、テトラクロロチタン、チタンジイソプロポキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンジイソプロポキシド（ビス−２，４−エチルアセトアセテート）、チタンジ−ｎ−ブトキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンアセチルアセトネート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート、ブチルチタネートダイマー等が挙げられる。
【００５４】
またジルコニウム化合物としては、ジルコニウム−ｎ−プロポキシド、ジルコニウム−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムトリ−ｎ−ブトキシドアセチルアセトネート、ジルコニウムジ−ｎ−ブトキシドビスアセチルアセトネート、ジルコニウムアセチルアセトネート、ジルコニウムアセテート、等が挙げられる。
【００５５】
またアルミニウム化合物としては、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム−ｎ−ブトキシド、アルミニウム−ｓ−ブトキシド、アルミニウム−ジ−ｓ−ブトキシドエチルアセチルアセトナート、アルミニウム−ｔ−ブトキシド、アルマトラン、アルミニウムフェノキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、アルミニウムエチルアセチルアセトナート等が挙げられる。
【００５６】
またその他の金属からなる化合物としては、例えば、バリウムイソプロポキシド、カルシウムエトキシド、銅エトキシド、マグネシウムエトキシド、マンガンメトキシド、ストロンチウムイソプロポキシド、錫エトキシド、亜鉛メトキシエトキシド、トリメトキシボラン、トリエトキシボラン、アンチモンエトキシド、ヒ素トリエトキシド、ビスマスｔ−ペントキシド、クロムイソプロポキシド、エルビウムメトキシエトキシド、ガリウムエトキシド、インジウムメトキシエトキシド、鉄エトキシド、ランタンイソプロポキシド、ネオジウムメトキシエトキシド、プラセオジムメトキシエトキシド、サマリウムイソプロポキシド、バナジウムトリイソブトキシドオキシド、イットリウムイソプロポキシド、テトラメトキシゲルマン、テトラエトキシゲルマン、テトライソプロポキシゲルマン、テトラ−ｎ−ブトキシゲルマン、セリウム−ｔ−ブトキシド、ハフニウムエトキシド、ハフニウム−ｎ−ブトキシド、テルルエトキシド、モリブデンエトキシド、ニオブエトキシド、ニオブ−ｎ−ブトキシド、タンタルメトキシド、タンタルエトキシド、タンタル−ｎ−ブトキシド、タングステン（Ｖ）エトキシド、タングステン（VI）エトキシド、タングステン（VI）フェノキシド等が挙げられる。
【００５７】
また、本発明に用いられる重縮合が可能な反応性金属化合物としては、分子種内に２つの金属原子を持つダブル金属アルコキシドと呼ばれる化合物でも良い。このようなダブル金属アルコキシドとしては、例えば、ゲレスト社製のアルミニウム銅アルコキシド、アルミニウムチタンアルコキシド、アルミニウムイットリウムアルコキシド、アルミニウムジルコニウムアルコキシド、バリウムチタンアルコキシド、バリウムイットリウムアルコキシド、バリウムジルコニウムアルコキシド、インジウム錫アルコキシド、リチウムニッケルアルコキシド、リチウムニオブアルコキシド、リチウムタンタルアルコキシド、マグネシウムアルミニウムアルコキシド、マグネシウムチタンアルコキシド、マグネシウムジルコニウムアルコキシド、ストロンチウムチタンアルコキシド、ストロンチウムジルコニウムアルコキシド等が挙げられるが、少なくとも、ケイ素、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウムのいずれかの金属が含まれているものが好ましい。
【００５８】
〈加水分解触媒〉
本発明の光学フィルムにおいて、無機化合物である加水分解重縮合可能な反応性金属化合物は、加水分解触媒として固体触媒を用いることが必要である。更に水と必要に応じて他の触媒を加えて加水分解を起こさせて縮合反応を促進してよい。加水分解は、加水分解可能な基が全て加水分解される完全加水分解であっても、一部のみが加水分解された部分加水分解された状態でドープ中に添加されてもよい。特に好ましくは部分加水分解された状態でドープ中に含有されることである。
【００５９】
加水分解の為に添加する水は、反応性金属化合物１モルに対し０．５〜１０モルの範囲で用い、前記固体触媒で加水分解することが好ましい。加水分解に使用する水の量は、少ないとアルコキシ基の加水分解が不十分となり、わずかしか水酸基が生成しないといった問題が生じる。従って、水の量は反応性金属化合物１モルに対し０．５〜１０モル、好ましくは０．５〜４モルであることがよい。
【００６０】
また、水としてイオン交換水を用いることも好ましい。イオン交換水は、上記反応性金属化合物の加水分解を行うために好ましく、電気伝導度が１０10ＭΩ以上であるイオン交換水を用いる。この伝導度より低い場合、イオン交換樹脂と加水分解水に含まれているイオンがイオン交換を起こし、加水分解水のｐＨが大きく変動して、この為せっかく生成した加水分解重縮合物が安定に存在し得ず好ましくない。尚、イオン交換水の電気伝導度は１０12ＭΩ以上、より好ましくは１０15ＭΩ以上である。
【００６１】
また、疎水的な加水分解重縮合可能な反応性金属化合物に水を添加する場合には、加水分解重縮合可能な反応性金属化合物と水が混和し易いように、メタノール、エタノール、アセトニトリルのような親水性の有機溶媒も添加されていることが好ましい。また、セルロース誘導体とドープに加水分解重縮合可能な反応性金属化合物を混合する際に、ドープからセルロース誘導体が析出しないよう、後述する該セルロース誘導体の良溶媒も添加されていることが好ましい。
【００６２】
加水分解触媒としての固体触媒は、特に限定されるものではなく、以下に挙げるものが使用出来る。
【００６３】
（１）陽イオン交換樹脂：
アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）など。
【００６４】
（２）陰イオン交換樹脂：
アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）など。
【００６５】
（３）プロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体：
Ｚｒ（Ｏ3ＰＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｈ）2、Ｔｈ（Ｏ3ＰＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ）2など。
【００６６】
（４）プロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン：
スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサンなど。
【００６７】
（５）ヘテロポリ酸：
コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸など。
【００６８】
（６）イソポリ酸：
ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸など。
【００６９】
（７）単元系金属酸化物：
アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯなど。
【００７０】
（８）複合系金属酸化物：
シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類など。
【００７１】
（９）粘土鉱物：
酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイトなど。
【００７２】
（１０）金属硫酸塩：
ＬｉＳＯ4、ＭｇＳＯ4など。
【００７３】
（１１）金属リン酸塩：
リン酸ジルコニア、リン酸ランタンなど。
【００７４】
（１２）金属硝酸塩：
ＬｉＮＯ3、Ｍｎ（ＮＯ3）2など。
【００７５】
（１３）アミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体：
シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体など。
【００７６】
（１４）アミノ基を含有するポリオルガノシロキサン：
アミノ変性シリコーン樹脂など。
【００７７】
これらの中で、本発明においては特に陽イオン交換樹脂が好ましい。
【００７８】
陽イオン交換樹脂の種類としては、まず骨格はポリスチレン又はジビニルベンゼンの懸濁重合高分子体が好ましい。イオン交換樹脂のタイプとしてはゲル型とマクロポーラス型に分かれるが、ゲル型樹脂は空孔を有せず、反応に関与する物質が樹脂内部に進入しにくく、活性点が有効に利用され難い。マクロポーラス型樹脂は大きな空孔を有しており、反応に関与する物質が容易に活性点に到達することが出来活性点が有効に利用される。このため本発明に用いる陽イオン交換樹脂としては、空孔体積が水銀注入法による測定で０．１ｍｌ／ｇ以上を示すマクロポーラスであることが好ましい。また樹脂についている酸性基としてはスルホン基、アクリル基等で、Ｈ+型であることが好ましく、スルホン基がより好ましい。これらを満たすイオン交換樹脂の例としてはアンバーリスト１５（ローム・アンド・ハーズ社製）、ダイアイオンＰＫ−２０８Ｈ，ＰＫ−２１６Ｈ，ＰＫ−２２８Ｈ（以上三菱化成製）、ビュロライトＣＴ−１７５，ＣＴ−１７１，ＣＴ−１６９（以上ビュロライト社製）等を例示することが出来る。これらの中で、特にビュロライトＣＴ−１７５（ビュロライト社製）が好ましい。
【００７９】
本発明においては、上記イオン交換樹脂の添加後、撹拌し、上記反応性金属化合物を加水分解させて加水分解物またはその縮合物を得るものであるが、この場合、撹拌時間（反応時間）は３分以上、特に５分以上とすることが好ましい。また、反応温度は０℃以上とすることが好ましい。しかし、反応時間は長過ぎると縮合物の分子量が大きく成り過ぎヘイズ上昇の可能性があるるため、３時間以内の反応時間が好ましい。また、反応温度が高い場合においても、同様であり、反応温度としては０〜５０℃での実施が好ましい。
【００８０】
本発明に用いられる陽イオン交換樹脂の粒径としては、特に制限はないが、平均粒径が１０〜２０００μｍの範囲が好ましく、平均粒径が１０μｍ以下の場合は処理後の樹脂分離の際濾過性や液切れが劣化することがあり、また平均粒径が２０００μｍ以上では質量当たりの表面積が低下し、加水分解効率が低いという問題がある。粒径は揃っていた方が好ましいが、欠けたり割れたりした粒子が一部混入していてもよい。
【００８１】
また、イオン交換樹脂のイオン交換容量は、０．１ミリ等量／ｍｌ以上が好ましく、０．１ミリ等量では加水分解効率が低下し、生産性の低下を来すことがある。
【００８２】
本発明に係る固体触媒であるイオン交換樹脂の添加量は、加水分解重縮合可能な反応性金属化合物に対して、０．００００１〜３０質量％用いることが好ましく、より好ましくは０．００１〜２０質量％である。
【００８３】
イオン交換樹脂の量がこれより多過ぎると縮合が優先的に進行してしまい、縮合物の分子量が大きく成り過ぎ、また少な過ぎると加水分解に必要な十分な活性が得られず、加水分解物またはその縮合物を十分得ることが出来ない。
【００８４】
本発明における固体触媒を用いた加水分解の方法は、予め水とアルコールを混合しておき、ここに反応性金属化合物を添加混合した後、固体触媒を添加して攪拌して加水分解を進めることが好ましい。また、予め水とアルコールを混合し、ここに固体触媒を添加した後、更にここに反応性金属化合物を攪拌しながら添加して加水分解を進めることも好ましい。
【００８５】
以下に本発明における好ましいセルロース誘導体溶液ドープの調製手順を説明する。重縮合が可能な反応性金属化合物としてテトラエトキシシランを例にとって説明するが、これに限定されるものではない。例えば、テトラエトキシシランをアルコール、水と前記カチオン交換樹脂を用いて加水分解し、これを分離して予めセルロース誘導体を溶解したドープに添加する方法、テトラエトキシシランをアルコール、水とカチオン交換樹脂で加水分解し、これを分離して良溶媒に添加した後、予め溶解したセルロース誘導体を加えドープとする方法、アルコールで溶解したテトラエトキシシランに水とカチオン交換樹脂を加えて加水分解し、これを分離して更に良溶媒を添加し、これを予めセルロース誘導体を溶解したドープに添加する方法等が挙げられるがこれらの方法に限定されるものではない。
【００８６】
上記反応後は、イオン交換樹脂等の固体触媒は攪拌の際に割れ、微量かつ微小な破片が生じる場合があるので、濾過によりイオン交換樹脂を除去する。この加水分解触媒であるイオン交換樹脂は濾過等の方法により容易に反応混合物中より除去される為、上記分離の際に適当な濾過フィルターで濾過することが好ましく、濾過精度１μｍ、出来れば０．１μｍのフイルターで濾過することが好ましい。このような濾過をすることにより、加水分解、または縮合反応が停止し、アルカリ等の中和剤を添加する必要はないばかりでなく、フィルムの物性のバラツキが少なく生産安定性に優れている為好ましい。異物故障も低減される。尚、反応混合物中から分離したイオン交換樹脂は特別な処理をすることなく、更に加水分解の触媒として使用可能である。必要に応じて、酸、アルカリ、水やメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類の溶液で洗浄して再生することが出来る。
【００８７】
加水分解が終了した後は、必要に応じて反応系中に生成したアルコールＲ2ＯＨ及び過剰の水を除去することが好ましい。除去の方法としては、反応混合物を加熱して留去するか、必要に応じて減圧し、若しくは減圧下で加熱して留去すれば良い。この場合、加熱温度及び減圧度には特に制限はないが、４０〜１２０℃及び５〜２００Ｔｏｒｒとすれば十分である。またフィルムのヘイズ、平面性、製膜速度、溶剤リサイクルなどの生産性の観点から、水分は最終ドープ中に０．０１％以上２％以下の範囲内とすることが好ましい。
【００８８】
以上の様にして、反応性金属化合物の加水分解物またはその縮合物とアルコールを含有する液を添加してセルロース誘導体を含有するドープを形成し、これを流延製膜することにより本発明の光学フィルムを得ることが出来る。
【００８９】
反応性金属化合物の加水分解を促進させる他の触媒として、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸、酢酸、トリフロロ酢酸、レブリン酸、クエン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸等を必要に応じて併用してもよい。酸を添加しゾル・ゲル反応が進行した後に塩基を加え中和してもよい。塩基を加え中和する場合、乾燥工程前でのアルカリ金属の含有量が５０００ｐｐｍ未満である事が好ましい（ここでアルカリ金属とは、イオン状態のものを含む）。また、ルイス酸、例えばゲルマニウム、チタン、アルミニウム、アンチモン、錫などの金属の酢酸塩、その他の有機酸塩、ハロゲン化物、燐酸塩などを併用してもよい。
【００９０】
また触媒として、このような酸類の代りに、アンモニア、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンなど、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン−１）、ＤＢＮ（ジアザビシクロノネン）などのビシクロ環系アミン、アンモニア、ホスフィン、アルカリ金属アルコキシド、水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム等の塩基を用いることが出来る。
【００９１】
このような、酸またはアルカリ触媒の添加量としては特に制限はされないが、重縮合可能な反応性金属化合物の量に対して１．０〜２０％が好ましい。また、酸及び塩基の処理を複数回行っても良い。必要な加水分解を行った後、触媒を中和してもよいし揮発性の触媒は減圧で除去してもよいし、分液水洗等により除去しても良い。
【００９２】
尚、金属化合物の加水分解重縮合は、流延前の溶液状態で反応を完結させても良いし、フィルム状に流延してから反応を完結させても良い。加水分解重縮合の反応状態はＮＭＲにて確認することが出来る。反応性金属化合物としてシリコンアルコキシドを用いる場合は、シリコンアルコキシド或いはオルガノアルコキシシランを加水分解すると、ＯＲ基がＯＨに置換し、更に他のＳｉ−ＯＨ或いはＳｉ−ＯＲと縮合する反応が起こるが、２９−Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルには、それぞれに対応するピークが現れる。具体的には、シリコンアルコキシド（Ｓｉ（ＯＲ）4）は４つのＯＲ基を持ち、アルコキシ基が加水分解していない場合はＱ０と呼ばれるピークを有する。四つのアルコキシ基の内一つが加水分解した時にはＱ１、二つが加水分解した時にはＱ２のピークが現れる。
【００９３】
図１にＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4（テトラエトキシシラン：ＴＥＯＳ）及び、加水分解後の２９−Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルを示す。縦軸はシグナルの相対速度を、横軸は周波数を表している。周波数の間隔は用いた磁場の強さによって変わるので、試料と基準のＴＭＳとの共鳴周波数の差を装置発信器の周波数に対するｐｐｍで示した値を横軸の単位として用いるのが一般的であり、この図もそれに準じている。Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4のＳｉによるピークＱ０が見られるのに対し、加水分解後はピークＱ０が消失し、Ｑ１、Ｑ２に帰属される様々なピークが現れた。これにより反応状態の確認を行うことが好ましい。
【００９４】
〈溶媒〉
本発明のセルロース誘導体及び加水分解重縮合可能な反応性金属化合物は溶媒に溶解させてドープを形成し、これを基材上に流延しフィルムを形成させる。使用する溶媒は、反応性金属化合物や触媒等と反応せず、かつ流延用基材を溶解しないものであることが好ましい。また、２種以上の溶媒を混合して用いても良い。また、前記したようにセルロースエステルと加水分解重縮合可能な反応性金属化合物を各々別の溶媒に溶解した後に混合しても良い。
【００９５】
ここで、上記セルロース誘導体に対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主（有機）溶媒または主たる（有機）溶媒という。
【００９６】
良溶媒の例としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類の他、メチルセロソルブ、ジメチルイミダゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、ニトロエタン、塩化メチレン、アセト酢酸メチルなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨＦ、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチル及び塩化メチレンが好ましい。
【００９７】
ドープには、上記有機溶媒の他に、全溶媒に対して１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。これらは、ドープを金属支持体に流延した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くなることでウェブ（支持体上にセルロース誘導体のドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）をゲル化させ、ウェブを丈夫にし金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロース誘導体の溶解を促進したりする役割もあり、反応性金属化合物のゲル化、析出、粘度上昇を抑える役割もある。
【００９８】
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることが出来る。これらのうち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロース誘導体に対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。上記アルコール類の他にプロピレングリコールモノメチルエーテル等を用いてもよい。
【００９９】
このような条件を満たし好ましい高分子化合物であるセルロース誘導体を高濃度に溶解する溶剤として最も好ましい溶剤は塩化メチレン：炭素原子数１〜４のアルコールの比が９５：５〜８０：２０の混合溶剤である。或いは、酢酸メチル：炭素原子数１〜４のアルコール６０：４０〜９５：５の混合溶媒も好ましく用いられる。これらの溶媒にその他の溶媒を１〜１０質量％程度含有させたものも好ましく用いられる。
【０１００】
〈添加剤〉
本発明の光学フィルムには、フィルムに加工性・柔軟性・防湿性を付与する可塑剤、紫外線吸収機能を付与する紫外線吸収剤を含有し、その他フィルムに滑り性を付与する微粒子（マット剤）、フィルムの劣化を防止する酸化防止剤、フィルムのリターデーションを調整するリターデーション調整剤等を含有させても良い。
【０１０１】
〈可塑剤〉
用いられる可塑剤しては特に限定はないが、フィルムにヘイズを発生させたりフィルムからブリードアウト或いは揮発しないように、セルロース誘導体や加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物の重縮合物と水素結合などによって相互作用可能である官能基を有していることが好ましい。
【０１０２】
このような官能基としては、水酸基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられるが、好ましくはカルボニル基、エステル基、ホスホニル基である。
【０１０３】
このような可塑剤の例として、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などを好ましく用いることが出来るが、特に好ましくは多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等の非リン酸エステル系可塑剤である。
【０１０４】
多価アルコールエステルは２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。
【０１０５】
本発明に用いられる多価アルコールは次の一般式（１）で表される。
【０１０６】
一般式（１）      Ｒ1−（ＯＨ）n
（但し、Ｒ1はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数を表す）
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１０７】
本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１０８】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１０９】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロース誘導体との相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１１０】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。
【０１１１】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。
【０１１２】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来るが、特に安息香酸が好ましい。
【０１１３】
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロース誘導体との相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１１４】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１１５】
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。
【０１１６】
【化１】
0004765265.tif 000002
【０１１７】
【化２】
0004765265.tif 000003
【０１１８】
【化３】
0004765265.tif 000004
【０１１９】
【化４】
0004765265.tif 000005
【０１２０】
また、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するエステル系可塑剤を好ましく用いることが出来る。好ましいエステル系可塑剤としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（２）で表させる可塑剤が好ましい。
【０１２１】
一般式（２）  Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは０以上の整数を表す。）
一般式（２）中、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
【０１２２】
本発明で使用されるエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することが出来る。
【０１２３】
本発明のエステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。
【０１２４】
また、本発明の芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用出来る。
【０１２５】
本発明の芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。
【０１２６】
本発明で使用されるエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは２５０〜２０００、より好ましくは３００〜１５００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものが好適である。
【０１２７】
以下、本発明に係る芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。
【０１２８】
〈サンプルＮｏ．１（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、アジピン酸３６５部（２．５モル）、１，２−プロピレングリコール４１８部（５．５モル）、安息香酸６１０部（５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３０部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で１．３３×１０4〜最終的に４×１０2Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【０１２９】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；８１５
酸価                      ；０．４
〈サンプルＮｏ．２（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、アジピン酸３６５部（２．５モル）、安息香酸６１０部（５モル）、ジエチレングリコール５８３部（５．５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【０１３０】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；９０
酸価                      ；０．０５
〈サンプルＮｏ．３（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器にフタル酸４１０部（２．５モル）、安息香酸６１０部（５モル）、ジプロピレングリコール７３７部（５．５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。
【０１３１】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４３４００
酸価                      ；０．２
以下に、芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。
【０１３２】
【化５】
0004765265.tif 000006
【０１３３】
【化６】
0004765265.tif 000007
【０１３４】
本発明に用いられる芳香族末端エステル系可塑剤の含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜２０質量％含有することが好ましく、特に３〜１１質量％含有することが好ましい。
【０１３５】
本発明の光学フィルムは、上記可塑剤以外の可塑剤を含有することも好ましい。
【０１３６】
２種以上の可塑剤を含有させることによって、可塑剤の溶出を少なくすることが出来る。その理由は明らかではないが、１種類当たりの添加量を減らすことが出来ることと、２種の可塑剤同士及びセルロースエステルとの相互作用によって溶出が抑制されるものと思われる。
【０１３７】
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するグリコレート系可塑剤を好ましく用いることが出来る。好ましいグリコレート系可塑剤としては、例えばブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等を用いることが出来る。
【０１３８】
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等を用いることが出来るが、本発明ではリン酸エステル系可塑剤を実質的に含有せず、非リン酸エステル系可塑剤で構成されていることが好ましい。「実質的に含有しない」とはリン酸エステル系可塑剤の含有量が１質量％未満、好ましくは０．１質量％であり、特に好ましいのは添加していないことである。
【０１３９】
これらの可塑剤は単独或いは２種以上混合して用いることが出来る。可塑剤の使用量は、セルロース誘導体に対して１質量％未満ではフィルムの透湿度を低減させる効果が少ないため好ましくなく、２０質量％を越えるとフィルムから可塑剤がブリードアウトし、フィルムの物性が劣化するため、１〜２０質量％が好ましい。６〜１６質量％が更に好ましく、特に好ましくは８〜１３質量％である。
【０１４０】
〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収機能は、液晶の劣化防止の観点から、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムなどの各種光学フィルムに付与されていることが好ましい。このような紫外線吸収機能は、紫外線を吸収する材料をセルロース誘導体中に含ませても良く、セルロース誘導体からなるフィルム上に紫外線吸収機能のある層を設けてもよい。
【０１４１】
このような紫外線吸収機能のある紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばトリアジン系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、これらに限定されない。また、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
【０１４２】
本発明に有用な紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチル−フェノール（チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１）、２−オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（チヌビン２３４）、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール（チヌビン３２６）等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。また、上記のチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン３２６等チヌビンはいずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品で、好ましく使用出来る。
【０１４３】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を好ましく用いることが出来るが、これらに限定されない。
【０１４４】
また、本発明の光学フィルムの紫外線吸収剤として、１，３，５−トリアジン環を有する化合物を特に好ましく用いることが出来る。
【０１４５】
１，３，５−トリアジン環を有する化合物は、中でも、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
【０１４６】
【化７】
0004765265.tif 000008
【０１４７】
一般式（Ｉ）において、Ｘ1は、単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ2は単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ3は単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基であり；そして、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。一般式（Ｉ）で表される化合物は、メラミン化合物であることが特に好ましい。
【０１４８】
メラミン化合物では、一般式（Ｉ）において、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3が、それぞれ、−ＮＲ4−、−ＮＲ5−及び−ＮＲ6−であるか、或いは、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3が単結合であり、かつ、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基である。−Ｘ1−Ｒ1、−Ｘ2−Ｒ2及び−Ｘ3−Ｒ3は、同一の置換基であることが好ましい。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、アリール基であることが特に好ましい。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、水素原子であることが特に好ましい。
【０１４９】
上記アルキル基は、環状アルキル基よりも鎖状アルキル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基の方が好ましい。
【０１５０】
アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることが更に好ましく、１〜８であることが更にまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。
【０１５１】
置換基の具体例としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基）及びアシルオキシ基（例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）等が挙げられる。上記アルケニル基は、環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基の方が好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることが更に好ましく、２〜８であることが更にまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は、置換基を有していてもよい。
【０１５２】
置換基の具体例としては、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基）またはアシルオキシ基（例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等の各基）が挙げられる。
【０１５３】
上記アリール基は、フェニル基またはナフチル基であることが好ましく、フェニル基であることが特に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。
【０１５４】
置換基の具体例としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。上記アルキル基は、前述したアルキル基と同義である。
【０１５５】
アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルキル置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基とアシル基のアルキル部分も、前述したアルキル基と同義である。
【０１５６】
上記アルケニル基は、前述したアルケニル基と同義である。
【０１５７】
アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシカルボニル基、アルケニル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルケニル置換カルバモイル基、アミド基、アルケニルチオ基及びアシル基のアルケニル部分も、前述したアルケニル基と同義である。
【０１５８】
上記アリール基の具体例としては、例えば、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチル、４−メトキシフェニル、３，４−ジエトキシフェニル、４−オクチルオキシフェニルまたは４−ドデシルオキシフェニル等の各基が挙げられる。
【０１５９】
アリールオキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アリールチオ基及びアシル基の部分の例は、上記アリール基と同義である。
【０１６０】
Ｘ1、Ｘ2またはＸ3が−ＮＲ−、−Ｏ−または−Ｓ−である場合の複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。
【０１６１】
芳香族性を有する複素環基中の複素環としては、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることが更に好ましく、６員環であることが最も好ましい。
【０１６２】
複素環中のヘテロ原子は、Ｎ、ＳまたはＯ等の各原子であることが好ましく、Ｎ原子であることが特に好ましい。
【０１６３】
芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、例えば、２−ピリジルまたは４−ピリジル等の各基）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。
【０１６４】
Ｘ1、Ｘ2またはＸ3が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることが更に好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。
【０１６５】
また、複素環基中のヘテロ原子は、窒素原子以外のヘテロ原子（例えば、Ｏ原子、Ｓ原子）を有していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の具体例は、上記アリール部分の置換基の具体例と同義である。
【０１６６】
以下に、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基の具体例を示す。
【０１６７】
【化８】
0004765265.tif 000009
【０１６８】
【化９】
0004765265.tif 000010
【０１６９】
１，３，５−トリアジン環を有する化合物の分子量は、３００〜２０００であることが好ましい。該化合物の沸点は、２６０℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置（例えば、ＴＧ／ＤＴＡ１００、セイコー電子工業（株）製）を用いて測定出来る。
【０１７０】
以下に、１，３，５−トリアジン環を有する化合物の具体例を示す。
【０１７１】
尚、以下に示す複数のＲは同一の基を表す。
【０１７２】
【化１０】
0004765265.tif 000011
【０１７３】
（１）ブチル
（２）２−メトキシ−２−エトキシエチル
（３）５−ウンデセニル
（４）フェニル
（５）４−エトキシカルボニルフェニル
（６）４−ブトキシフェニル
（７）ｐ−ビフェニリル
（８）４−ピリジル
（９）２−ナフチル
（１０）２−メチルフェニル
（１１）３，４−ジメトキシフェニル
（１２）２−フリル
【０１７４】
【化１１】
0004765265.tif 000012
【０１７５】
【化１２】
0004765265.tif 000013
【０１７６】
（１４）フェニル
（１５）３−エトキシカルボニルフェニル
（１６）３−ブトキシフェニル
（１７）ｍ−ビフェニリル
（１８）３−フェニルチオフェニル
（１９）３−クロロフェニル
（２０）３−ベンゾイルフェニル
（２１）３−アセトキシフェニル
（２２）３−ベンゾイルオキシフェニル
（２３）３−フェノキシカルボニルフェニル
（２４）３−メトキシフェニル
（２５）３−アニリノフェニル
（２６）３−イソブチリルアミノフェニル
（２７）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２８）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（２９）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３０）３−メチルフェニル
（３１）３−フェノキシフェニル
（３２）３−ヒドロキシフェニル
（３３）４−エトキシカルボニルフェニル
（３４）４−ブトキシフェニル
（３５）ｐ−ビフェニリル
（３６）４−フェニルチオフェニル
（３７）４−クロロフェニル
（３８）４−ベンゾイルフェニル
（３９）４−アセトキシフェニル
（４０）４−ベンゾイルオキシフェニル
（４１）４−フェノキシカルボニルフェニル
（４２）４−メトキシフェニル
（４３）４−アニリノフェニル
（４４）４−イソブチリルアミノフェニル
（４５）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（４６）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（４７）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（４８）４−メチルフェニル
（４９）４−フェノキシフェニル
（５０）４−ヒドロキシフェニル
（５１）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（５２）３，４−ジブトキシフェニル
（５３）３，４−ジフェニルフェニル
（５４）３，４−ジフェニルチオフェニル
（５５）３，４−ジクロロフェニル
（５６）３，４−ジベンゾイルフェニル
（５７）３，４−ジアセトキシフェニル
（５８）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（５９）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（６０）３，４−ジメトキシフェニル
（６１）３，４−ジアニリノフェニル
（６２）３，４−ジメチルフェニル
（６３）３，４−ジフェノキシフェニル
（６４）３，４−ジヒドロキシフェニル
（６５）２−ナフチル
（６６）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（６７）３，４，５−トリブトキシフェニル
（６８）３，４，５−トリフェニルフェニル
（６９）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（７０）３，４，５−トリクロロフェニル
（７１）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（７２）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（７３）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（７４）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（７５）３，４，５−トリメトキシフェニル
（７６）３，４，５−トリアニリノフェニル
（７７）３，４，５−トリメチルフェニル
（７８）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（７９）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【０１７７】
【化１３】
0004765265.tif 000014
【０１７８】
（８０）フェニル
（８１）３−エトキシカルボニルフェニル
（８２）３−ブトキシフェニル
（８３）ｍ−ビフェニリル
（８４）３−フェニルチオフェニル
（８５）３−クロロフェニル
（８６）３−ベンゾイルフェニル
（８７）３−アセトキシフェニル
（８８）３−ベンゾイルオキシフェニル
（８９）３−フェノキシカルボニルフェニル
（９０）３−メトキシフェニル
（９１）３−アニリノフェニル
（９２）３−イソブチリルアミノフェニル
（９３）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（９４）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（９５）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（９６）３−メチルフェニル
（９７）３−フェノキシフェニル
（９８）３−ヒドロキシフェニル
（９９）４−エトキシカルボニルフェニル
（１００）４−ブトキシフェニル
（１０１）ｐ−ビフェニリル
（１０２）４−フェニルチオフェニル
（１０３）４−クロロフェニル
（１０４）４−ベンゾイルフェニル
（１０５）４−アセトキシフェニル
（１０６）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１０７）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１０８）４−メトキシフェニル
（１０９）４−アニリノフェニル
（１１０）４−イソブチリルアミノフェニル
（１１１）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１１２）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１１３）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１１４）４−メチルフェニル
（１１５）４−フェノキシフェニル
（１１６）４−ヒドロキシフェニル
（１１７）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（１１８）３，４−ジブトキシフェニル
（１１９）３，４−ジフェニルフェニル
（１２０）３，４−ジフェニルチオフェニル
（１２１）３，４−ジクロロフェニル
（１２２）３，４−ジベンゾイルフェニル
（１２３）３，４−ジアセトキシフェニル
（１２４）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（１２５）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（１２６）３，４−ジメトキシフェニル
（１２７）３，４−ジアニリノフェニル
（１２８）３，４−ジメチルフェニル
（１２９）３，４−ジフェノキシフェニル
（１３０）３，４−ジヒドロキシフェニル
（１３１）２−ナフチル
（１３２）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（１３３）３，４，５−トリブトキシフェニル
（１３４）３，４，５−トリフェニルフェニル
（１３５）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（１３６）３，４，５−トリクロロフェニル
（１３７）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（１３８）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（１３９）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（１４０）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（１４１）３，４，５−トリメトキシフェニル
（１４２）３，４，５−トリアニリノフェニル
（１４３）３，４，５−トリメチルフェニル
（１４４）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（１４５）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【０１７９】
【化１４】
0004765265.tif 000015
【０１８０】
（１４６）フェニル
（１４７）４−エトキシカルボニルフェニル
（１４８）４−ブトキシフェニル
（１４９）ｐ−ビフェニリル
（１５０）４−フェニルチオフェニル
（１５１）４−クロロフェニル
（１５２）４−ベンゾイルフェニル
（１５３）４−アセトキシフェニル
（１５４）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１５５）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１５６）４−メトキシフェニル
（１５７）４−アニリノフェニル
（１５８）４−イソブチリルアミノフェニル
（１５９）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１６０）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１６１）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１６２）４−メチルフェニル
（１６３）４−フェノキシフェニル
（１６４）４−ヒドロキシフェニル
【０１８１】
【化１５】
0004765265.tif 000016
【０１８２】
（１６５）フェニル
（１６６）４−エトキシカルボニルフェニル
（１６７）４−ブトキシフェニル
（１６８）ｐ−ビフェニリル
（１６９）４−フェニルチオフェニル
（１７０）４−クロロフェニル
（１７１）４−ベンゾイルフェニル
（１７２）４−アセトキシフェニル
（１７３）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１７４）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１７５）４−メトキシフェニル
（１７６）４−アニリノフェニル
（１７７）４−イソブチリルアミノフェニル
（１７８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１７９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１８０）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１８１）４−メチルフェニル
（１８２）４−フェノキシフェニル
（１８３）４−ヒドロキシフェニル
【０１８３】
【化１６】
0004765265.tif 000017
【０１８４】
（１８４）フェニル
（１８５）４−エトキシカルボニルフェニル
（１８６）４−ブトキシフェニル
（１８７）ｐ−ビフェニリル
（１８８）４−フェニルチオフェニル
（１８９）４−クロロフェニル
（１９０）４−ベンゾイルフェニル
（１９１）４−アセトキシフェニル
（１９２）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１９３）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１９４）４−メトキシフェニル
（１９５）４−アニリノフェニル
（１９６）４−イソブチリルアミノフェニル
（１９７）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１９８）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１９９）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２００）４−メチルフェニル
（２０１）４−フェノキシフェニル
（２０２）４−ヒドロキシフェニル
【０１８５】
【化１７】
0004765265.tif 000018
【０１８６】
（２０３）フェニル
（２０４）４−エトキシカルボニルフェニル
（２０５）４−ブトキシフェニル
（２０６）ｐ−ビフェニリル
（２０７）４−フェニルチオフェニル
（２０８）４−クロロフェニル
（２０９）４−ベンゾイルフェニル
（２１０）４−アセトキシフェニル
（２１１）４−ベンゾイルオキシフェニル
（２１２）４−フェノキシカルボニルフェニル
（２１３）４−メトキシフェニル
（２１４）４−アニリノフェニル
（２１５）４−イソブチリルアミノフェニル
（２１６）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２１７）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（２１８）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２１９）４−メチルフェニル
（２２０）４−フェノキシフェニル
（２２１）４−ヒドロキシフェニル
【０１８７】
【化１８】
0004765265.tif 000019
【０１８８】
（２２２）フェニル
（２２３）４−ブチルフェニル
（２２４）４−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２２５）４−（５−ノネニル）フェニル
（２２６）ｐ−ビフェニリル
（２２７）４−エトキシカルボニルフェニル
（２２８）４−ブトキシフェニル
（２２９）４−メチルフェニル
（２３０）４−クロロフェニル
（２３１）４−フェニルチオフェニル
（２３２）４−ベンゾイルフェニル
（２３３）４−アセトキシフェニル
（２３４）４−ベンゾイルオキシフェニル
（２３５）４−フェノキシカルボニルフェニル
（２３６）４−メトキシフェニル
（２３７）４−アニリノフェニル
（２３８）４−イソブチリルアミノフェニル
（２３９）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２４０）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（２４１）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２４２）４−フェノキシフェニル
（２４３）４−ヒドロキシフェニル
（２４４）３−ブチルフェニル
（２４５）３−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２４６）３−（５−ノネニル）フェニル
（２４７）ｍ−ビフェニリル
（２４８）３−エトキシカルボニルフェニル
（２４９）３−ブトキシフェニル
（２５０）３−メチルフェニル
（２５１）３−クロロフェニル
（２５２）３−フェニルチオフェニル
（２５３）３−ベンゾイルフェニル
（２５４）３−アセトキシフェニル
（２５５）３−ベンゾイルオキシフェニル
（２５６）３−フェノキシカルボニルフェニル
（２５７）３−メトキシフェニル
（２５８）３−アニリノフェニル
（２５９）３−イソブチリルアミノフェニル
（２６０）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２６１）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（２６２）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２６３）３−フェノキシフェニル
（２６４）３−ヒドロキシフェニル
（２６５）２−ブチルフェニル
（２６６）２−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２６７）２−（５−ノネニル）フェニル
（２６８）ｏ−ビフェニリル
（２６９）２−エトキシカルボニルフェニル
（２７０）２−ブトキシフェニル
（２７１）２−メチルフェニル
（２７２）２−クロロフェニル
（２７３）２−フェニルチオフェニル
（２７４）２−ベンゾイルフェニル
（２７５）２−アセトキシフェニル
（２７６）２−ベンゾイルオキシフェニル
（２７７）２−フェノキシカルボニルフェニル
（２７８）２−メトキシフェニル
（２７９）２−アニリノフェニル
（２８０）２−イソブチリルアミノフェニル
（２８１）２−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２８２）２−（３−エチルウレイド）フェニル
（２８３）２−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２８４）２−フェノキシフェニル
（２８５）２−ヒドロキシフェニル
（２８６）３，４−ジブチルフェニル
（２８７）３，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２８８）３，４−ジフェニルフェニル
（２８９）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２９０）３，４−ジドデシルオキシフェニル
（２９１）３，４−ジメチルフェニル
（２９２）３，４−ジクロロフェニル
（２９３）３，４−ジベンゾイルフェニル
（２９４）３，４−ジアセトキシフェニル
（２９５）３，４−ジメトキシフェニル
（２９６）３，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２９７）３，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２９８）３，４−ジフェノキシフェニル
（２９９）３，４−ジヒドロキシフェニル
（３００）３，５−ジブチルフェニル
（３０１）３，５−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３０２）３，５−ジフェニルフェニル
（３０３）３，５−ジエトキシカルボニルフェニル
（３０４）３，５−ジドデシルオキシフェニル
（３０５）３，５−ジメチルフェニル
（３０６）３，５−ジクロロフェニル
（３０７）３，５−ジベンゾイルフェニル
（３０８）３，５−ジアセトキシフェニル
（３０９）３，５−ジメトキシフェニル
（３１０）３，５−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３１１）３，５−ジイソブチリルアミノフェニル
（３１２）３，５−ジフェノキシフェニル
（３１３）３，５−ジヒドロキシフェニル
（３１４）２，４−ジブチルフェニル
（３１５）２，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３１６）２，４−ジフェニルフェニル
（３１７）２，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（３１８）２，４−ジドデシルオキシフェニル
（３１９）２，４−ジメチルフェニル
（３２０）２，４−ジクロロフェニル
（３２１）２，４−ジベンゾイルフェニル
（３２２）２，４−ジアセトキシフェニル
（３２３）２，４−ジメトキシフェニル
（３２４）２，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３２５）２，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（３２６）２，４−ジフェノキシフェニル
（３２７）２，４−ジヒドロキシフェニル
（３２８）２，３−ジブチルフェニル
（３２９）２，３−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３３０）２，３−ジフェニルフェニル
（３３１）２，３−ジエトキシカルボニルフェニル
（３３２）２，３−ジドデシルオキシフェニル
（３３３）２，３−ジメチルフェニル
（３３４）２，３−ジクロロフェニル
（３３５）２，３−ジベンゾイルフェニル
（３３６）２，３−ジアセトキシフェニル
（３３７）２，３−ジメトキシフェニル
（３３８）２，３−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３３９）２，３−ジイソブチリルアミノフェニル
（３４０）２，３−ジフェノキシフェニル
（３４１）２，３−ジヒドロキシフェニル
（３４２）２，６−ジブチルフェニル
（３４３）２，６−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３４４）２，６−ジフェニルフェニル
（３４５）２，６−ジエトキシカルボニルフェニル
（３４６）２，６−ジドデシルオキシフェニル
（３４７）２，６−ジメチルフェニル
（３４８）２，６−ジクロロフェニル
（３４９）２，６−ジベンゾイルフェニル
（３５０）２，６−ジアセトキシフェニル
（３５１）２，６−ジメトキシフェニル
（３５２）２，６−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３５３）２，６−ジイソブチリルアミノフェニル
（３５４）２，６−ジフェノキシフェニル
（３５５）２，６−ジヒドロキシフェニル
（３５６）３，４，５−トリブチルフェニル
（３５７）３，４，５−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３５８）３，４，５−トリフェニルフェニル
（３５９）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（３６０）３，４，５−トリドデシルオキシフェニル
（３６１）３，４，５−トリメチルフェニル
（３６２）３，４，５−トリクロロフェニル
（３６３）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（３６４）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（３６５）３，４，５−トリメトキシフェニル
（３６６）３，４，５−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３６７）３，４，５−トリイソブチリルアミノフェニル
（３６８）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（３６９）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
（３７０）２，４，６−トリブチルフェニル
（３７１）２，４，６−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３７２）２，４，６−トリフェニルフェニル
（３７３）２，４，６−トリエトキシカルボニルフェニル
（３７４）２，４，６−トリドデシルオキシフェニル
（３７５）２，４，６−トリメチルフェニル
（３７６）２，４，６−トリクロロフェニル
（３７７）２，４，６−トリベンゾイルフェニル
（３７８）２，４，６−トリアセトキシフェニル
（３７９）２，４，６−トリメトキシフェニル
（３８０）２，４，６−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３８１）２，４，６−トリイソブチリルアミノフェニル
（３８２）２，４，６−トリフェノキシフェニル
（３８３）２，４，６−トリヒドロキシフェニル
（３８４）ペンタフルオロフェニル
（３８５）ペンタクロロフェニル
（３８６）ペンタメトキシフェニル
（３８７）６−Ｎ−メチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（３８８）５−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３８９）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３９０）５−エトキシ−７−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３９１）３−メトキシ−２−ナフチル
（３９２）１−エトキシ−２−ナフチル
（３９３）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（３９４）５−メトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３９５）１−（４−メチルフェニル）−２−ナフチル
（３９６）６，８−ジ−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３９７）６−Ｎ−２−アセトキシエチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（３９８）５−アセトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３９９）３−ベンゾイルオキシ−２−ナフチル
（４００）５−アセチルアミノ−１−ナフチル
（４０１）２−メトキシ−１−ナフチル
（４０２）４−フェノキシ−１−ナフチル
（４０３）５−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（４０４）３−Ｎ−メチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−１−ナフチル
（４０５）５−メトキシ−６−Ｎ−エチルスルファモイル−１−ナフチル
（４０６）７−テトラデシルオキシ−１−ナフチル
（４０７）４−（４−メチルフェノキシ）−１−ナフチル
（４０８）６−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（４０９）３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル−４−メトキシ−１−ナフチル
（４１０）５−メトキシ−６−Ｎ−ベンジルスルファモイル−１−ナフチル
（４１１）３，６−ジ−Ｎ−フェニルスルファモイル−１−ナフチル
（４１２）メチル
（４１３）エチル
（４１４）ブチル
（４１５）オクチル
（４１６）ドデシル
（４１７）２−ブトキシ−２−エトキシエチル
（４１８）ベンジル
（４１９）４−メトキシベンジル
【０１８９】
【化１９】
0004765265.tif 000020
【０１９０】
（４２４）メチル
（４２５）フェニル
（４２６）ブチル
【０１９１】
【化２０】
0004765265.tif 000021
【０１９２】
（４３０）メチル
（４３１）エチル
（４３２）ブチル
（４３３）オクチル
（４３４）ドデシル
（４３５）２−ブトキシ２−エトキシエチル
（４３６）ベンジル
（４３７）４−メトキシベンジル
【０１９３】
【化２１】
0004765265.tif 000022
【０１９４】
【化２２】
0004765265.tif 000023
【０１９５】
本発明においては、１，３，５−トリアジン環を有する化合物として、メラミンポリマーを用いてもよい。メラミンポリマーは、下記一般式（II）で示すメラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応により合成することが好ましい。
【０１９６】
【化２３】
0004765265.tif 000024
【０１９７】
上記合成反応スキームにおいて、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。
【０１９８】
上記アルキル基、アルケニル基、アリール基及び複素環基及びこれらの置換基は前記一般式（Ｉ）で説明した各基、それらの置換基と同義である。
【０１９９】
メラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応は、通常のメラミン樹脂（例えば、メラミンホルムアルデヒド樹脂等）の合成方法と同様である。また、市販のメラミンポリマー（メラミン樹脂）を用いてもよい。
【０２００】
メラミンポリマーの分子量は、２千〜４０万であることが好ましい。メラミンポリマーの繰り返し単位の具体例を以下に示す。
【０２０１】
【化２４】
0004765265.tif 000025
【０２０２】
ＭＰ−１：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−３：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−４：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−５：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−６：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−７：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−８：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−９：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１３：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１４：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１５：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１６：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１７：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１８：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１９：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−２０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−２１：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−２２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−２３：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−２４：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−２５：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2O−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−２６：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−２７：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−２８：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−２９：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−３０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−３１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−３２：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−３３：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−３４：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−３５：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−３６：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−３７：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−３８：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−３９：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−４０：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−４１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−４２：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−４３：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−４４：Ｒ13：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−４５：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−４６：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−４７：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−４８：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−４９：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−５０：Ｒ13：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
【０２０３】
【化２５】
0004765265.tif 000026
【０２０４】
ＭＰ−５１：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−５２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−５３：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−５４：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−５５：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−５６：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−５７：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−５８：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−５９：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−６０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−６１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−６２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−６３：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−６４：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−６５：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−６６：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−６７：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−６８：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−６９：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−７０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−７１：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−７２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−７３：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−７４：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−７５：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−７６：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−７７：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−７８：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−７９：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−８０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−８１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−８２：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−８３：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−８４：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−８５：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−８６：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−８７：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−８８：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−８９：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−９０：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−９１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−９２：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−９３：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−９４：Ｒ13：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−９５：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−９６：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−９７：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−９８：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−９９：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−１００：Ｒ13：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
【０２０５】
【化２６】
0004765265.tif 000027
【０２０６】
ＭＰ−１０１：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１０２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１０３：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１０４：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１０５：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１０６：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−１０７：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１０８：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１０９：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１１０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１１１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１１２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１１３：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１１４：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１１５：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１１６：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１１７：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１１８：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１１９：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１２０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１２１：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１２２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１２３：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１２４：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１２５：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１２６：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１２７：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１２８：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１２９：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１３０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１３１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１３２：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１３３：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１３４：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１３５：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１３６：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１３７：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１３８：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１３９：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１４０：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１４１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１４２：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１４３：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１４４：Ｒ13：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１４５：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１４６：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−１４７：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１４８：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１４９：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−１５０：Ｒ13：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
【０２０７】
【化２７】
0004765265.tif 000028
【０２０８】
ＭＰ−１５１：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１５２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１５３：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１５４：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１５５：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１５６：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−１５７：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１５８：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１５９：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１６０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１６１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１６２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１６３：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１６４：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１６５：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１６６：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１６７：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１６８：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１６９：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１７０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｉ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１７１：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１７２：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１７３：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１７４：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１７５：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１７６：Ｒ13、Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１７７：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１７８：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１７９：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１８０：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１８１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１８２：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１８３：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１８４：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１８５：Ｒ13、Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2O−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１８６：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１８７：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14、Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１８８：Ｒ13、Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ
ＭＰ−１８９：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１９０：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１９１：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１９２：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１９３：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9
ＭＰ−１９４：Ｒ13：ＣＨ2Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１９５：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１９６：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−１９７：Ｒ13：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ14：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＯＣＨ3
ＭＰ−１９８：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
ＭＰ−１９９：Ｒ13：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ15：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3
ＭＰ−２００：Ｒ13：ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）7ＣＨ3；Ｒ14：ＣＨ2ＯＣＨ3；Ｒ15：ＣＨ2ＯＨ；Ｒ16：ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ2
本発明においては、上記繰り返し単位を二種類以上組み合わせたコポリマーを用いてもよい。二種類以上のホモポリマーまたはコポリマーを併用してもよい。
【０２０９】
また、二種類以上の１，３，５−トリアジン環を有する化合物を併用してもよい。二種類以上の円盤状化合物（例えば、１，３，５−トリアジン環を有する化合物とポルフィリン骨格を有する化合物）を併用してもよい。
【０２１０】
また、本発明の光学フィルムに用いることの出来る紫外線吸収剤は、特開平６−１４８４３０号及び特開２００２−４７３５７号記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）を好ましく用いることが出来る。特開平６−１４８４３０号の一般式（１）、或いは一般式（２）、或いは特開２００２−４７３５７号の一般式（３）（６）（７）記載の高分子紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０２１１】
これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して質量割合で０．１〜５．０％が好ましく、０．５〜１．５％が更に好ましい。
【０２１２】
〈マット剤〉
本発明にの光学フィルムには、滑り性を付与するためにマット剤等の微粒子を添加することが出来る。微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。
【０２１３】
無機化合物の例としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫等の微粒子が挙げられる。この中では、ケイ素原子を含有する化合物であることが好ましく、特に二酸化ケイ素微粒子が好ましい。二酸化ケイ素微粒子としては、例えばアエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ  ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、Ｒ８０５、ＯＸ５０、ＴＴ６００などが挙げられる。
【０２１４】
有機化合物の例としては、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フッ素化合物樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。
【０２１５】
本発明において、微粒子の１次粒径は、特に限定されないが、最終的にフィルム中に粒径０．１〜１．０μｍの粒子を含むことが好ましく、特に好ましくは、０．１〜０．３μｍである。
【０２１６】
微粒子の粒経は、光学フィルムを電子顕微鏡や光学顕微鏡で観察した際に、フィルムの観察場所における、粒子の長軸方向の長さを指す。フィルム中で観察される粒子であれば、一次粒子であっても、一次粒子が凝集した二次粒子であってもよいが通常観察される多くは二次粒子である。
【０２１７】
測定方法の一例としては、一つのフィルムにつき、ランダムに１０箇所の垂直断面写真を撮影し、各断面写真について、表面から１０μｍまでの場所での長軸長さが、０．１〜３μｍの範囲にある１００μｍ2中の粒子個数をカウントする。この時カウントした粒子の長軸長さの平均値を求め、１０箇所の平均値を平均した値を平均粒径とする。
【０２１８】
微粒子の場合は、１次粒径、溶媒に分散した後の粒径、フィルム中の粒径が変化する場合が多く、重要なのは最終的にフィルム中で微粒子がセルロースエステルと複合し凝集して形成される粒径をコントロールすることである。上記粒径が、１μｍを超えた場合は、ヘイズの劣化等が見られたり、異物として巻状態での故障を発生する原因にもなる。また、０．１μｍ以下の場合は、マット剤添加の改善効果が見られず、特に、光学フィルムが２０〜６５μｍの場合は顕著である。
【０２１９】
本発明において、微粒子の真比重が０．８〜４．０であることが好ましい。好ましくは０．８〜３．０、更に好ましくは０．８５〜２．５である。ここでいう真比重とは、物質を構成している元素から理論的に計算される体積に対する質量の割合という意味である。真比重が０．８以下の時は、微粒子の分散液の状態で、微粒子の浮力が大きく分離が発生し、フィルム中の微粒子の分布にムラが出来てしまい、４．０以上の時は、微粒子の分散液の状態で微粒子の沈降が発生し、フィルム中に微粒子が添加されない部分が発生してしまうため本発明の範囲であることが必要である。
【０２２０】
本発明において、フィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域において、粒径が０．１〜１．０μｍの範囲の微粒子が、セルロースエステルフィルムに垂直な断面で、１〜１００個／１００μｍ2存在していることが好ましい。特に粒径が０．１〜０．３μｍの微粒子が１〜１００個／１００μｍ2存在していることが好ましい。好ましくは、１〜３０個／１００μｍ2であり、更に好ましくは１〜２５個／１００μｍ2である。１個以下の場合は、フィルム表面粗さが平滑に成り過ぎて摩擦係数の上昇によりブロッキングが発生し易くなる。また１００個以上の場合は、フィルム表面の摩擦係数が下がり過ぎて、巻き取り時に巻きズレが発生したり、フィルムの透明度が低くヘイズが高くなる。
【０２２１】
セルロースエステルフィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域における、微粒子の個数は、例えば以下の様に測定出来る。一つのフィルムにつき、ランダムに１０箇所の垂直断面の写真を撮影し、各断面写真について、表面から１０μｍまでの場所での１００μｍ2中の個数を測定する。そして、１０箇所の平均値を出す。この際、５箇所はフィルムの横方向の断面とし、５箇所はフィルムの縦方向の断面として平均とする。
【０２２２】
本発明において、上記微粒子はセルロースエステルに対して、０．０１〜０．３質量％添加することが好ましい。好ましくは、０．０５〜０．２質量％、更に好ましくは０．０５〜０．１５質量％である。０．０１質量％以上とすることでブロッキングの発生を抑制出来る。０．３質量％以上ではフィルム表面の摩擦係数が下がり過ぎて、巻き取り時に巻きズレが発生したり、フィルムの透明度が低くヘイズが高くなる。
【０２２３】
本発明においては、微粒子と溶剤を混合した組成物を高圧分散装置で処理することが好ましい。本発明で用いる高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理することにより、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９８０Ｎ／ｃｍ2以上であることが好ましい。
【０２２４】
更に好ましくは１９６０Ｎ／ｃｍ2以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／ｓｅｃ以上に達するもの、伝熱速度が１００ｋｃａｌ／ｈｒ以上に達するものが好ましい。
【０２２５】
上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザー（商品名マイクロフルイダイザー）或いはナノマイザー社製ナノマイザーがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモゲナイザー等が挙げられる。
【０２２６】
本発明において、微粒子は、低級アルコール類を２５〜１００質量％含有する溶剤中で分散した後、セルロースエステルを溶剤に溶解したドープと混合し、該混合液を支持体上に流延し、乾燥して製膜することを特徴とするセルロースエステルフィルムを得る。低級アルコールの含有比率としては、好ましくは、５０〜１００質量％、更に好ましくは、７５〜１００質量％である。低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。
【０２２７】
低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０２２８】
本発明において、微粒子は溶媒中で１〜３０質量％の濃度で分散される。これ以上の濃度で分散すると、粘度が急激に上昇し好ましくない。分散液中の微粒子の濃度としては、好ましく、５〜２５質量％、更に好ましくは、１０〜２０質量％である。
【０２２９】
〈酸化防止剤〉
酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などがおかれた場合には、光学フィルムの劣化が起こる場合がある。酸化防止剤は、例えば、光学フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により光学フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、前記光学フィルム中に含有させるのが好ましい。
【０２３０】
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることが出来る。特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
【０２３１】
これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
【０２３２】
〈製膜〉
以下、本発明に係わる光学フィルムの好ましい製膜方法について述べる。光学フィルムは好ましくは溶液流延製膜方法により作製出来る。
【０２３３】
１）溶解工程
はじめにセルロース誘導体を含むドープの作製法から解説する。
【０２３４】
セルロース誘導体（フレーク状の）に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で該セルロース誘導体、ポリマーや添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程、或いはセルロース誘導体溶液にポリマー溶液や添加剤溶液を混合してドープを形成する工程である。
【０２３５】
セルロース誘導体の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、または特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることが出来るが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。またこの際、セルロース誘導体と共にフィルムの断裁物を加えてもよい。
【０２３６】
ドープ中のセルロース誘導体の濃度は１０〜３５質量％が好ましい。溶解中または後のドープに添加剤を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。
【０２３７】
重縮合可能な反応性金属化合物は、固体触媒、必要に応じてその他の触媒、水と混合され加水分解される。その際に、溶媒としてメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、メチルセルソルブ、酢酸メチル、メチレンクロライド等の溶媒を添加することが出来る。又、ドープに添加されるセルロース誘導体の一部を含有させてもよい。固体触媒を添加し、所定の温度、時間で加水分解させた後、濾過等によって固体触媒を除去し、反応性金属化合物の加水分解液を得る。反応性金属化合物の加水分解液には、更に、ドープに添加する前に、セルロース誘導体を溶解する良溶媒であるメチレンクロライド、酢酸メチルなどを添加して、希釈した後、ドープに添加することが好ましい。例えば、重縮合可能な反応性金属化合物の濃度が１０〜５０質量％となるように良溶媒を添加して希釈することが出来る。
【０２３８】
調製された反応性金属化合物の加水分解液は濾過した後、セルロース誘導体が溶解したドープに添加される。
【０２３９】
或いは、溶解中のセルロース誘導体と溶媒の混合物中に調整された反応性金属化合物の加水分解液を添加することも出来る。即ち、溶解釜にセルロース誘導体、良溶媒、貧溶媒、可塑剤などの添加剤などの素材を攪拌しながら加え、更にここに固体触媒で処理された反応性金属化合物溶液を攪拌しながら添加し、攪拌しながら過熱（例えば室温〜９０℃程度）してセルロース誘導体を溶解させてドープとすることが出来る。必要に応じて更にマット剤分散液や紫外線吸収剤を溶解釜に添加することが出来る。もしくはマット剤分散液や紫外線吸収剤はインライン添加によってドープに添加混合することも出来る。
【０２４０】
２）流延工程
ドープを送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレスベルト、或いは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
【０２４１】
ダイの口金部分のスリット形状を調整出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。或いは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造の光学フィルムを得ることが好ましい。
【０２４２】
３）溶媒蒸発工程
ウェブを金属支持体上で加熱し、金属支持体からウェブが剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。
【０２４３】
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び／または金属支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合は、ドープに含まれる有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。
【０２４４】
４）剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。尚、剥離する時点でのウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆に金属支持体上で充分に乾燥させ過ぎてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。
【０２４５】
ここで、製膜速度を上げる方法（残留溶媒量が出来るだけ多いうちに剥離することで製膜速度を上げることが出来る）としてゲル流延法（ゲルキャスティング）がある。例えば、ドープ中にセルロース誘導体に対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、金属支持体の温度を低くしてゲル化する方法等がある。金属支持体上でゲル化させ剥離時の膜の強度を上げておくことによって、剥離を早め製膜速度を上げることが出来る。
【０２４６】
金属支持体上でのウェブの乾燥が条件の強弱、金属支持体の長さ等により５〜１５０質量％の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。本発明においては、該金属支持体上の剥離位置における温度を−５０〜４０℃とするのが好ましく、１０〜４０℃がより好ましく、１５〜３０℃とするのが最も好ましい。
【０２４７】
また、該剥離位置におけるウェブの残留溶媒量を１０〜１５０質量％とすることが好ましく、更に１０〜１２０質量％とすることが好ましい。
【０２４８】
残留溶媒量は下記の式で表すことが出来る。
【０２４９】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、Ｎは質量Ｍのものを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。
【０２５０】
５）乾燥及び延伸工程
剥離後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置、及び／またはクリップ若しくはピンでウェブの両端を把持して搬送するテンター装置を用いて、ウェブを乾燥する。
【０２５１】
本発明の光学フィルムは、幅手方向に対して１．１〜２．０倍延伸することが好ましく、特に１．１〜１．５倍に延伸することが好ましく、テンター装置を用いて延伸することが好ましい。長尺方向に延伸することも出来、１．１〜２．０倍に延伸することが好ましく、特に１．１〜１．５倍に延伸することが好ましい。更に好ましくは縦及び横方向に２軸延伸されたものである。このように延伸された光学フィルムは、位相差フィルムとして偏光子に貼合することにより、視野角拡大機能を発現し視野角補償フィルムとして好適に使用される。
【０２５２】
本発明の光学フィルムは前記式（Ｉ）で表される５９０ｎｍで測定したＲｏが、０〜１０００ｎｍ、及び下記式（II）で表されるＲｔが０〜５００ｎｍのフィルムを得ることが出来る。
【０２５３】
式（II）  Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
〔式中、ｎｘは、フィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙは、ｎｘに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｎｚは、フィルムの厚み方向の屈折率、ｄは、フィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。（５９０ｎｍ、２５℃、５５％ＲＨで測定）〕
本発明の光学フィルムは、好ましくはＲｔが７０〜４００ｎｍ、Ｒｏが３０〜３００ｎｍであり、Ｒｔ／Ｒｏが０．８〜６の範囲であることが好ましい。
【０２５４】
乾燥の手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代りにマイクロウエーブを当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平面性を損ね易い。全体を通して、通常乾燥温度は４０〜２５０℃の範囲で行われる。使用する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使用溶媒の種類、組み合わせに応じて乾燥条件を適宜選べばよい。
【０２５５】
また、製膜工程でスリット加工して得られるフィルム端部の屑は回収され、ドープ溶解工程で原料の一部として再利用することが出来る。添加量は３〜９０質量％の範囲で適宜調整することが出来る。
【０２５６】
フィルムの厚さは特に限定されないが、例えば、１０μｍ〜１ｍｍ程度のもの等任意の厚さのフィルムを作製することが出来る。好ましくは乾燥、延伸等の処理が終わった後の膜厚で１０〜５００μｍが好ましく、特に３０〜１２０μｍが好ましい。
【０２５７】
本発明の光学フィルムは、幅１．５〜４ｍのものが好ましく用いられる。
【０２５８】
本発明の構成により、平面性にも優れた光学フィルムが得られるため、広幅のセルロースエステルフィルムで著しい効果が認められる。特に幅１．５〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．５〜２ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。
【０２５９】
〈活性線硬化樹脂層〉
本発明の光学フィルムはフィルム表面に活性線硬化樹脂層を塗設しハードコートフィルムとすることが出来る。
【０２６０】
活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。
【０２６１】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。
【０２６２】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載のものを用いることが出来る。
【０２６３】
例えば、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０２６４】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭５９−１５１１１２号に記載のものを用いることが出来る。
【０２６５】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平１−１０５７３８号に記載のものを用いることが出来る。
【０２６６】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。
【０２６７】
これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。
【０２６８】
樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。
【０２６９】
本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭電化（株）製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学（株）製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣ  Ｘ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（大日精化工業（株）製）；ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（ダイセル・ユーシービー（株）製）；ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化学工業（株）製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）；サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業（株）製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子（株）製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成（株）製）等を適宜選択して利用出来る。
【０２７０】
また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。
【０２７１】
こうして得た硬化樹脂層には滑り性、防眩性を持たせるため、また屈折率を調整するために無機或いは有機の微粒子が含まれる。
【０２７２】
無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムなどが好ましく用いられる。
【０２７３】
また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることが出来る。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子（例えば、綜研化学製ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、ポリメチルメタクリレート系粒子（例えば、綜研化学製ＭＸ１５０、ＭＸ３００）が挙げられる。
【０２７４】
これらの微粒子粉末の平均粒径としては、０．００５〜５μｍが好ましく、０．０１〜４μｍであることが特に好ましい。また、平均粒径の異なる２種の粒子を含有させることが好ましく、特に好ましくは平均粒径１μｍ未満の無機微粒子と平均粒径１〜５μｍの有機微粒子とを含有することである。
【０２７５】
紫外線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜４０質量部となるように配合することが望ましい。
【０２７６】
紫外線硬化樹脂層は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が、１〜５０ｎｍのクリアハードコート層であるか、若しくはＲａが０．１〜１μｍ程度の防眩層であることが好ましい。中心線平均粗さ（Ｒａ）は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばＷＹＫＯ社製ＲＳＴ／ＰＬＵＳを用いて測定することが出来る。
【０２７７】
活性線硬化樹脂層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することが出来る。
【０２７８】
紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は好ましくは、５〜２００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは２０〜１５０ｍＪ／ｃｍ2である。
【０２７９】
また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、若しくは２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性に優れたフィルムを得ることが出来る。
【０２８０】
紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の有機溶媒としては、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン、）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）等を５質量％以上、より好ましくは５〜８０質量％以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。
【０２８１】
また、紫外線硬化樹脂層組成物塗布液には、特にシリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、１０００〜１０００００、好ましくは、２０００〜５００００が適当であり、数平均分子量が１０００未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が１０００００を越えると、塗膜表面にブリードアウトし易くなる傾向にある。
【０２８２】
シリコン化合物の市販品としては、ＤＫＱ８−７７９（ダウコーニング社製商品名）、ＳＦ３７７１、ＳＦ８４１０、ＳＦ８４１１、ＳＦ８４１９、ＳＦ８４２１、ＳＦ８４２８、ＳＨ２００、ＳＨ５１０、ＳＨ１１０７、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７７１、ＢＸ１６−０３４、ＳＨ３７４６、ＳＨ３７４９、ＳＨ８４００、ＳＨ３７７１Ｍ、ＳＨ３７７２Ｍ、ＳＨ３７７３Ｍ、ＳＨ３７７５Ｍ、ＢＹ−１６−８３７、ＢＹ−１６−８３９、ＢＹ−１６−８６９、ＢＹ−１６−８７０、ＢＹ−１６−００４、ＢＹ−１６−８９１、ＢＹ−１６−８７２、ＢＹ−１６−８７４、ＢＹ２２−００８Ｍ、ＢＹ２２−０１２Ｍ、ＦＳ−１２６５（以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名）、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１００Ｔ、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４、ＫＦ３５５、ＫＦ６１５、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５、ＫＦ６００４、シリコーンＸ−２２−９４５、Ｘ２２−１６０ＡＳ（以上、信越化学工業社製商品名）、ＸＦ３９４０、ＸＦ３９４９（以上、東芝シリコーン社製商品名）、ディスパロンＬＳ−００９（楠本化成社製）、グラノール４１０（共栄社油脂化学工業（株）製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４１、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（ＧＥ東芝シリコーン製）、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３６１（ビックケミ−ジャパン社製）日本ユニカー（株）製のＬシリーズ（例えばＬ７００１、Ｌ−７００６、Ｌ−７６０４、Ｌ−９０００）、Ｙシリーズ、ＦＺシリーズ（ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０６、ＦＺ−２２０７）等が挙げられ、好ましく用いられる。
【０２８３】
これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。
【０２８４】
紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚として０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．１〜１５μｍ、好ましくは１〜５μｍである。
【０２８５】
紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥中または後に、紫外線を照射するのがよく、照射時間としては、０．１秒〜１分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から０．１〜１０秒がより好ましい。
【０２８６】
また、これら活性線照射部の照度は５０〜１５０ｍＷ／ｍ2であることが好ましい。
【０２８７】
〈バックコート層〉
本発明の光学フィルムの紫外線硬化樹脂層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、塗布やＣＶＤなどによって、紫外線硬化樹脂層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることが出来る。尚、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。
【０２８８】
バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０２８９】
これらの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。
【０２９０】
これらの中でもでアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられる光学フィルムは、紫外線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が０．９以下、特に０．１〜０．９であることが好ましい。
【０２９１】
バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％好ましくは０．１〜１０質量％であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は１％以下であることが好ましく０．５％以下であることが好ましく、特に０．０〜０．１％であることが好ましい。
【０２９２】
バックコート層は、具体的にはセルロースエステルフィルムを溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合物の他更に溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合いや樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。
【０２９３】
カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは（溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０〜１：９で用いられる。このような混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、或いは炭化水素類（トルエン、キシレン、シクロヘキサノール）などがある。
【０２９４】
これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚１〜１００μｍで塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであることが好ましい。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．８〜２．３、プロピオニル基置換度０．１〜１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８等（三菱レーヨン（株）製）のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することも出来る。
【０２９５】
特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。
【０２９６】
バックコート層を塗設する順番はセルロースエステルフィルムの、バックコート層とは反対側の層（紫外線硬化樹脂層或いはその他の例えば帯電防止層等の層）を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。或いは２回以上に分けてバックコート層を塗布することも出来る。
【０２９７】
〈金属酸化物層〉
本発明の光学フィルムは、塗布或いは、プラズマＣＶＤ法、大気圧プラズマ処理法によって金属化合物層等の薄膜を均一に形成するのに適しており、フィルム上に少なくとも１層の金属酸化物層が塗設されることが好ましい。
【０２９８】
大気圧プラズマ処理法としては、例えば特開平１１−１８１５７３号、特開２０００−２６６３２、同２００２−１１０３９７等に記載の高周波パルス電圧を印加する大気圧プラズマ放電処理方法を用いることが出来る。或いは特開２００１−３３７２０１記載の大気圧プラズマ放電処理方法により導電層を設けることが出来る。或いは特開２００２−２２８８０３、特願２００２−３６９６７９、特願２００２−３１７８８３、特願２００３−５０８２３記載の方法で反射防止層を設けることが出来る。或いは特願２００３−５０８２３記載の方法で防汚層を設けることが出来る。或いは特開２００３−９３９６３、特願２００２−４９７２４記載の方法で反射防止層を塗設することが出来る。
【０２９９】
本発明の光学フィルム上には、特に大部分が窒素ガスの雰囲気下で金属化合物（例えばＳｉＯx、ＳｉＯxＮy、ＴｉＯxＮy、ＳｉＯxＣz（ｘ＝１〜２、ｙ＝０．１〜１、ｚ＝０．１〜２）等の金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物）中でも金属酸化物等の薄膜を形成することが好ましい。ガス中に含まれる窒素ガスは６０〜９９．９体積％であり、好ましくは７５〜９９．９体積％であり、更に好ましくは９０〜９９．９体積％である。窒素ガス以外には、アルゴンやヘリウム等の希ガスを含有させてもよく、薄膜を形成するための金属化合物のガスが含有され、更に酸素、水素等の反応を促進させるためのガス（添加ガスまたは補助ガスともいう）等が含有される。これらによって金属化合物を含有する低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、透明導電層、帯電防止層、防汚層などを形成することが出来る。
【０３００】
次いで、これら紫外線硬化樹脂層上に形成する反射防止層について説明する。
【０３０１】
〈反射防止層〉
反射防止層は上記ハードコート層の上に設けるが、その方法は特に限定されず、塗布、スパッタ、蒸着、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、またはこれらを組み合わせて形成することが出来る。本発明では、特に塗布によって反射防止層を設けることが好ましい。
【０３０２】
反射防止層を塗布により形成する方法としては、溶剤に溶解したバインダー樹脂中に金属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方法、架橋構造を有するポリマーをバインダー樹脂として用いる方法、エチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有させ、活性線を照射することにより層を形成する方法等の方法を挙げることが出来る。
【０３０３】
本発明においては、紫外線硬化樹脂層を付与したセルロースエステルフィルムの上に反射防止層を設けることが出来る。光学フィルムの最上層に低屈折率層を形成し、その間に高屈折率層の金属酸化物層を形成したり、更に光学フィルムと高屈折率層との間に更に中屈折率層（金属酸化物の含有量或いは樹脂バインダーとの比率、金属の種類を変更して屈折率を調整した金属酸化物層）を設けることは、反射率の低減のために、好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．５５〜２．３０であることが好ましく、１．５７〜２．２０であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、基材であるセルロースエステルフィルムの屈折率（約１．５）と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０であることが好ましい。各層の厚さは、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。金属酸化物層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。金属酸化物層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で３Ｈ以上であることが好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。金属酸化物層を塗布により形成する場合は、無機微粒子とバインダーポリマーとを含むことが好ましい。
【０３０４】
中屈折率層或いは高屈折率層などの金属酸化物層に用いる無機微粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好ましく、１．９０〜２．８０であることが更に好ましい。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることが更に好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ましい。層中での無機微粒子の重量平均径は、１〜２００ｎｍであることが好ましく、５〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１０〜１００ｎｍであることが更に好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。無機微粒子の平均粒径は、２０〜３０ｎｍ以上であれば光散乱法により、２０〜３０ｎｍ以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。無機微粒子の比表面積は、ＢＥＴ法で測定された値として、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることが更に好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。
【０３０５】
無機微粒子は、金属の酸化物から形成された粒子である。金属の酸化物または硫化物の例として、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が挙げられる。中でも、二酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことが出来る。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳが挙げられる。
【０３０６】
無機微粒子は表面処理されていてもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することが出来る。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。
【０３０７】
無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、層状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。二種類以上の無機微粒子を金属酸化物層に併用してもよい。
【０３０８】
金属酸化物層中の無機微粒子の割合は、５〜９０体積％であることが好ましく、より好ましくは１０〜６５体積％であり、更に好ましくは２０〜５５体積％である。
【０３０９】
無機微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、金属酸化物層を形成するための塗布液に供される。無機微粒子の分散媒体としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
【０３１０】
無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。
【０３１１】
金属酸化物層は、架橋構造を有するポリマー（以下、「架橋ポリマー」ともいう）をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー（以下「ポリオレフィン」と総称する）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーが、アニオン性基を有することは、更に好ましい。アニオン性基は、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。
【０３１２】
低屈折率層としては、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂の架橋からなる低屈折率層、ゾルゲル法による低屈折率層、及び粒子とバインダーポリマーを用い、粒子間または粒子内部に空隙を有する低屈折率層等が用いられる。低屈折率層の屈折率は、低ければ反射防止性能が良化するため好ましいが、低屈折率層の強度付与の観点では困難となる。このバランスから、低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．５０であることが好ましく、１．３５〜１．４９であることが更に好ましい。
【０３１３】
架橋前の含フッ素樹脂として、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることが出来る。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えば、ビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー（例えば、（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等）が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう１つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入出来ることが特開平１０−２５３８８号、同１０−１４７７３９号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、もしくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤もしくはエポキシ基と熱酸発生剤等の相み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤もしくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光（好ましくは紫外線、電子ビーム等）の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。
【０３１４】
また上記モノマー加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることが出来る。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。
【０３１５】
架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは２０〜７０モル％、より好ましくは４０〜７０モル％、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは１〜２０モル％、より好ましくは５〜２０モル％、併用されるその他のモノマーが好ましくは１０〜７０モル％、より好ましくは１０〜５０モル％の割合である。
【０３１６】
含フッ素共重合体は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることが出来る。
【０３１７】
架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することが出来る。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ（旭硝子製）、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン製）、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン（旭硝子製）、オプスター（ＪＳＲ製）等が挙げられる。
【０３１８】
架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は、動摩擦係数が０．０３〜０．１５の範囲、水に対する接触角が９０〜１２０度の範囲にあることが好ましい。
【０３１９】
架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層が前述の無機粒子を含有することは、強度向上の点から好ましい。低屈折率層に用いられる無機微粒子としては、非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、なかでも金属酸化物が特に好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、Ｐｂ及びＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂ及びＳｉが更に好ましい。２種以上の金属を含む無機微粒子を用いてもよい。特に好ましい無機微粒子は、二酸化ケイ素微粒子、即ちシリカ微粒子である。無機微粒子の平均粒径は０．００１〜０．２μｍであることが好ましく、０．００５〜０．０５μｍであることがより好ましい。微粒子の粒径はなるべく均一（単分散）であることが好ましい。無機微粒子の粒径は大き過ぎると光が散乱し、フィルムが不透明になり、小さ過ぎるものは凝集しやすく合成及び取り扱いが困難である。
【０３２０】
無機微粒子の配合量は、低屈折率層の全質量の５〜９０質量％であることが好ましく、更に好ましくは１０〜７０質量％であり、特に好ましくは１０〜５０質量％である。無機微粒子は、表面処理を施して用いることも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシ金属化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤等）が好ましく用いられる。無機微粒子がシリカの場合はシランカップリング剤による処理が特に有効である。
【０３２１】
また、低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることも出来る。このようなゾルゲル素材としては、金属アルコレート（シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート）、オルガノアルコキシ金属化合物及びその加水分解物を用いることが出来る。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等）、アリールトリアルコキシシラン（フェニルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン（ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキジシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等）、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等）を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましい。
【０３２２】
低屈折率層として、無機もしくは有機の微粒子を用い、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして形成した層を用いることも好ましい。微粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｍｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがより好ましく、３〜７０ｎｍであることが更に好ましく、５〜４０ｎｍの範囲であることが最も好ましい。微粒子の粒径は、なるべく均一（単分散）であることが好ましい。
【０３２３】
無機微粒子としては、前述の非晶質である無機微粒子が好ましく、特に好ましい無機微粒子は、二酸化ケイ素、即ちシリカである。
【０３２４】
無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成することが出来る。シリカの分子を架橋させると体積が縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する（多孔質）無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭５３−１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号に記載）または析出法（ＡＰＰＬＩＥＤ  ＯＰＴＩＣＳ，２７巻，３３５６頁（１９８８）記載）により、分散物として直接合成することが出来る。また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に粉砕して分散物を得ることも出来る。市販の多孔質無機微粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）及びケトン（例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）が好ましい。
【０３２５】
有機微粒子も非晶質であることが好ましい。有機微粒子は、モノマーの重合反応（例えば乳化重合法）により合成されるポリマー微粒子であることが好ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むことが好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、３５〜８０質量％であることが好ましく、４５〜７５質量％であることが更に好ましい。また、有機微粒子内に、例えば、粒子を形成するポリマーを架橋させ、体積を縮小させることによりミクロボイドを形成させることも好ましい。粒子を形成するポリマーを架橋させるためには、ポリマーを合成するためのモノマーの２０モル％以上を多官能モノマーとすることが好ましい。多官能モノマーの割合は、３０〜８０モル％であることが更に好ましく、３５〜５０モル％であることが最も好ましい。上記有機微粒子の合成に用いられるモノマーとしては、含フッ素ポリマーを合成するために用いるフッ素原子を含むモノマーの例として、フルオロオレフィン類（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、アクリル酸またはメタクリル酸のフッ素化アルキルエステル類及びフッ素化ビニルエーテル類が挙げられる。フッ素原子を含むモノマーとフッ素原子を含まないモノマーとのコポリマーを用いてもよい。フッ素原子を含まないモノマーの例としては、オレフィン類（例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エステル類（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル）、スチレン類（例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン）、ビニルエーテル類（例えば、メチルビニルエーテル）、ビニルエステル類（例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル）、アクリルアミド類（例えば、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド）、メタクリルアミド類及びアクリルニトリル類が挙げられる。多官能モノマーの例としては、ジエン類（例えば、ブタジエン、ペンタジエン）、多価アルコールとアクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）、多価アルコールとメタクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジメタクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート）、ジビニル化合物（例えば、ジビニルシクロヘキサン、１，４−ジビニルベンゼン）、ジビニルスルホン、ビスアクリルアミド類（例えば、メチレンビスアクリルアミド）及びビスメタクリルアミド類が挙げられる。
【０３２６】
粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることにより形成することが出来る。尚、粒径が等しい（完全な単分散の）球状微粒子を最密充填すると、２６体積％の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。粒径が等しい球状微粒子を単純立方充填すると、４８体積％の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。実際の低屈折率層では、微粒子の粒径の分布や粒子内ミクロボイドが存在するため、空隙率は上記の理論値からかなり変動する。空隙率を増加させると、低屈折率層の屈折率が低下する。微粒子を積み重ねてミクロボイドを形成と、微粒子の粒径を調整することで、粒子間ミクロボイドの大きさも適度の（光を散乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じない）値に容易に調節出来る。更に、微粒子の粒径を均一にすることで、粒子間ミクロボイドの大きさも均一である光学的に均一な低屈折率層を得ることが出来る。これにより、低屈折率層は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜であるが、光学的或いは巨視的には均一な膜にすることが出来る。粒子間ミクロボイドは、微粒子及びポリマーによって低屈折率層内で閉じていることが好ましい。閉じている空隙には、低屈折率層表面に開かれた開口と比較して、低屈折率層表面での光の散乱が少ないとの利点もある。
【０３２７】
ミクロボイドを形成することにより、低屈折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する成分の屈折率の和よりも低い値になる。層の屈折率は、層の構成要素の体積当たりの屈折率の和になる。微粒子やポリマーのような低屈折率層の構成成分の屈折率は１よりも大きな値であるのに対して、空気の屈折率は１．００である。そのため、ミクロボイドを形成することによって、屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることが出来る。
【０３２８】
低屈折率層は、５〜５０質量％の量のポリマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持出来るように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の１０〜３０質量％であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、（１）微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、（２）微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、或いは（３）微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好ましい。（１）の表面処理剤に結合させるポリマーは、（２）のシェルポリマーまたは（３）のバインダーポリマーであることが好ましい。（２）のポリマーは、低屈折率層の塗布液の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ましい。（３）のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。上記（１）〜（３）のうちの二つまたは全てを組み合わせて実施することが好ましく、（１）と（３）の組み合わせ、または（１）〜（３）全てを組み合わせで実施することが特に好ましい。（１）表面処理、（２）シェル及び（３）バインダーについて順次説明する。
【０３２９】
（１）表面処理
微粒子（特に無機微粒子）には、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類出来る。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。微粒子が二酸化ケイ素からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施出来る。具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。
【０３３０】
また、ケイ素に対して２置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。
【０３３１】
これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ケイ素に対して２置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。
【０３３２】
２種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリングを用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル（例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケイ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケイ酸ｓｅｃ−ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）及びその加水分解物が挙げられる。カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０日間分散物を放置することにより実施出来る。表面処理反応を促進するため、無機酸（例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸）、有機酸（例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、またはこれらの塩（例えば、金属塩、アンモニウム塩）を、分散物に添加してもよい。
【０３３３】
（２）シェル
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーが更に好ましい。ポリアクリル酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリマーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるため、シェルポリマーは３５〜８０質量％のフッ素原子を含むことが好ましく、４５〜７５質量％のフッ素原子を含むことが更に好ましい。フッ素原子を含むポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレフィン（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、フッ素化ビニルエーテル及びフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが挙げられる。
【０３３４】
シェルを形成するポリマーは、フッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの例としては、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エステル（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート）、スチレン及びその誘導体（例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン）、ビニルエーテル（例えば、メチルビニルエーテル）、ビニルエステル（例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル）、アクリルアミド（例えば、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド）、メタクリルアミド及びアクリロニトリルが挙げられる。
【０３３５】
後述する（３）のバインダーポリマーを併用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入して、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋により化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。但し、Ｔｇが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されない（その結果、強度が低下する）場合がある。その場合は、後述する（３）のバインダーポリマーを併用し、バインダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に無機微粒子からなるコアが５〜９０体積％含まれていることが好ましく、１５〜８０体積％含まれていることが更に好ましい。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよい。
【０３３６】
（３）バインダー
バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用出来る。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、架橋基は、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダーポリマーの重合反応及び架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤や、光重合開始剤が用いられるが、光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン及び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが挙げられる。ベンゾイン類の例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。ベンゾフェノン類の例としては、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノンが挙げられる。ホスフィンオキシド類の例としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。
【０３３７】
バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に重合反応（必要ならば更に架橋反応）により形成することが好ましい。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー（例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。
【０３３８】
反射防止層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法により、塗布により形成することが出来る。
【０３３９】
また、低屈折率層を塗布する前に、密着性や塗布性を改善するために、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、アルカリ鹸化処理等を行うことが好ましい。
【０３４０】
〈偏光板〉
本発明の偏光板について述べる。
【０３４１】
偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の光学フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも該光学フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の光学フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは、本発明の光学フィルムを２軸延伸して所望の位相差特性を付与した光学補償フィルムであることが好ましい。或いは更にディスコチック液晶、棒状液晶、コレステリック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の光学フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。
【０３４２】
反対面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、ＫＣ８ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３（コニカミノルタオプト（株）製）等も好ましく用いられる。
【０３４３】
例えば、本発明の光学フィルムを表面側に用いて、反対側に上記市販のセルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして用いることが出来る。或いは本発明の光学フィルムを位相差フィルムとして偏光板の一方の面の偏光板保護フィルムとし、もう一方に上記市販のセルロースエステルフィルムを用いることも出来る。本発明の光学フィルムを両側の偏光板保護フィルムとして使用し、一方には反射防止層を設けた反射防止フィルムとし、もう一方には位相差を付与した位相差フィルムとして偏光板とすることが特に好ましい。
【０３４４】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０３４５】
偏光膜は一軸方向（通常は長手方向）に延伸されているため、偏光板を高温高湿の環境下に置くと延伸方向（通常は長手方向）は縮み、延伸と垂直方向（通常は幅方向）には伸びる。偏光板保護フィルムの膜厚が薄くなるほど偏光板の伸縮率は大きくなり、特に偏光膜の延伸方向の収縮量が大きい。通常、偏光膜の延伸方向は偏光板保護フィルムの流延方向（ＭＤ方向）と貼り合わせるため、偏光板保護フィルムを薄膜化する場合は、特に流延方向の伸縮率を抑える事が重要である。本発明に係る光学フィルムは極めて寸法安定に優れる為、このような偏光板保護フィルムとして好適に使用される。
【０３４６】
即ち６０℃、９０％ＲＨの条件での耐久性試験によっても波打ち状のむらが増加することはなく、裏面側に光学補償フィルムを有する偏光板であっても、耐久性試験後に視野角特性が変動することなく良好な視認性を提供することが出来る。
【０３４７】
（表示装置）
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の光学フィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。また、本発明の光学フィルムは、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が３０型以上の大画面の表示装置では、色むらや波打ちむらが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【実施例】
【０３４８】
以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３４９】
実施例１
《セルロースエステルフィルム１０１の作製》
用いるセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶剤について表１に示す。
【０３５０】
【表１】
0004765265.tif 000029
【０３５１】
【化２８】
0004765265.tif 000030
【０３５２】
〈酸化珪素微粒子分散液〉
酸化珪素微粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ日本アエロジル（株））        １１質量部
エタノール                                                        ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
【０３５３】
〈酸化珪素微粒子添加液〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクにセルロースエステルＡを添加し、加熱して完全に溶解させた後、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した。濾過後のセルロースエステル溶液を充分に攪拌しながら、ここに酸化珪素微粒子分散液をゆっくりと添加した。更に、アトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、酸化珪素微粒子添加液を調製した。
【０３５４】
メチレンクロライド                                                ９９質量部
セルロースエステルＡ                                                ４質量部
酸化珪素微粒子分散液                                              １１質量部
次に下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。メチレンクロライドの一部（約４０質量部）は予め分けておき、反応性金属化合物の加水分解液を添加する際に該加水分解液と混合して添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルＡを攪拌しながら投入した。更に可塑剤及び紫外線吸収剤を添加、溶解させた。更に、充分に攪拌しながら、加水分解液と溶剤の混合液をゆっくりと添加した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解させた。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
【０３５５】
主ドープ液１００質量部に対して微粒子添加液２質量部となるように加えて、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分に混合し、次いでベルト流延装置を用い、幅２ｍのステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が８５％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体から剥離した。剥離の際に張力をかけて縦（ＭＤ）延伸倍率が１．１倍となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ両端部を把持し、幅手（ＴＤ）方向の延伸倍率が１．１倍となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持し、幅方向の張力を緩和させた後幅保持を解放し、更に１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行い、幅１．５ｍ、かつ端部に幅１ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する膜厚８０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム１０１を作製した。
【０３５６】
ドープの組成を表２、表３に示したように変更した以外は同様にして本発明の光学フィルム１０２〜１２５、比較の光学フィルム１２６〜１４１を作製した。
【０３５７】
〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド                                              ３０３質量部
エタノール                                                        ５５質量部
セルロースエステルＡ                                            １００質量部
可塑剤（Ｃ）                                                        ６質量部
可塑剤（Ｄ）                                                        ５質量部
紫外線吸収剤（Ｂ）                                              ０．６質量部
紫外線吸収剤（Ｃ）                                              ０．６質量部
加水分解液Ａ                                                    ８．５質量部
〈加水分解液Ａ〉
下記の比率で材料を混合し、室温で２時間攪拌した後、濾過によって固体触媒を分離して反応性金属化合物の加水分解液Ａを調製した。
【０３５８】
エタノール                                                    ２．１９質量部
テトラメトキシシラン                                          ５．０７質量部
アンバーリスト１５（固体触媒）                                ０．９５質量部
水                                                              １．２質量部
〈加水分解液Ｂ〉
下記の比率で材料を混合し、室温で２時間攪拌した後、濾過によって固体触媒を分離して反応性金属化合物の加水分解液Ｂを調製した。
【０３５９】
エタノール                                                    ６．９３質量部
テトラエトキシシラン                                          ６．９３質量部
アンバーリスト１５（固体触媒）                                ０．９５質量部
水                                                              １．２質量部
〈加水分解液Ｃ〉
下記の比率で材料を混合し、室温で２時間攪拌した後、濾過によって固体触媒を分離して反応性金属化合物の加水分解液Ｃを調製した。
【０３６０】
エタノール                                                    ２．１９質量部
テトラメトキシシラン                                          ５．０７質量部
ダイヤイオンＰＫ２０８Ｈ（固体触媒）                          ０．９５質量部
水                                                              １．２質量部
〈加水分解液Ｄ〉
下記の比率で材料を混合し、室温で３時間攪拌した後、濾過によって固体触媒を分離して反応性金属化合物の加水分解液Ｄを調製した。
【０３６１】
エタノール                                                    ２．１９質量部
テトラメトキシシラン                                          ５．０７質量部
ピュロライトＣＴ−１７５（固体触媒）                          ０．９５質量部
水                                                              １．２質量部
〈加水分解Ｅ〉
下記の比率で材料を混合し、室温で２時間攪拌した後、濾過によって固体触媒を分離して反応性金属化合物の加水分解液Ｅを調製した。
【０３６２】
エタノール                                                    ６．９３質量部
テトラエトキシシラン                                          ６．９３質量部
ダイヤイオンＰＫ２０８Ｈ（固体触媒）                          ０．９５質量部
水                                                              １．２質量部
〈加水分解液Ｆ〉
下記の比率で材料を混合し、室温で３時間攪拌した後、濾過によって固体触媒を分離して反応性金属化合物の加水分解液Ｇを調製した。
【０３６３】
エタノール                                                    ６．９３質量部
テトラエトキシシラン                                          ６．９３質量部
ピュロライトＣＴ−１７５（固体触媒）                          ０．９５質量部
水                                                              １．２質量部
〈加水分解液Ｇ〉
下記の比率で材料を混合し、室温で３時間攪拌して、反応性金属化合物の加水分解液Ｇを調製した。
【０３６４】
エタノール                                                    ２．１９質量部
テトラメトキシシラン                                          ５．０７質量部
酢酸                                                          ０．２５質量部
水                                                              １．２質量部
〈加水分解液Ｈ〉
下記の比率で材料を混合し、室温で３時間攪拌して、反応性金属化合物の加水分解液Ｈを調製した。
【０３６５】
エタノール                                                    ６．９３質量部
テトラエトキシシラン                                          ６．９３質量部
酢酸                                                          ０．２５質量部
水                                                              １．２質量部
尚、固体触媒は事前に再生処理をして、０．１モル／Ｌ  ＨＣｌにて処理したものを使用した。
【０３６６】
【表２】
0004765265.tif 000031
【０３６７】
【表３】
0004765265.tif 000032
【０３６８】
得られた各々のサンプルについて、以下の要領でヘイズ及び異物個数を測定した。
【０３６９】
〈ヘイズ値の測定〉
フィルム試料３枚を重ねてＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って、東京電色工業（株）社製Ｔ−２６００ＤＡを使用して測定し、以下のようにヘイズをランク分けし評価する。
【０３７０】
◎  ：ヘイズ０．１％未満
○  ：ヘイズ０．１％以上０．３％未満
△  ：ヘイズ０．３％以上０．７％未満
×  ：ヘイズ０．７％以上１．０％未満
××：ヘイズ１．０％以上
〈異物故障〉
ベルト流延装置の巻取り部の直前にオンライン欠陥検査機を設置し、セルロースエステルフィルム１００ｍ2当たりの５０μｍ以上の異物故障数をカウントした。
【０３７１】
◎：異物５個未満
○：異物５個以上１０個未満
△：異物１０個以上１５個未満
×：異物１５個以上。
【０３７２】
実施例１で作製したセルロースエステルフィルムの上記評価結果を表４に示す。
【０３７３】
【表４】
0004765265.tif 000033
【０３７４】
上記表４の結果から本発明のセルロースエステルフィルム１０１〜１２５は比較例１２６〜１４１に対し、ヘイズ、異物故障が優れていることが分かった。また、セルロースエステル樹脂の総アシル基置換度、Ｍｎ、ＭＷ／Ｍｎが本発明の好ましい範囲外であるセルロースエステルを用いたセルロースエステルフィルム１１１、１１２、１１９、１２０、及び可塑剤としてトリフェニルホスフェートを用いたセルロースエステルフィルム１０７は上記性能がやや劣る結果であった。
【０３７５】
実施例２
《バックコート層の塗設》
上記で作製したセルロースエステルフィルム１０１〜１４１の各々Ａ面（流延製膜の際にステンレスバンド支持体に接していた側（Ｂ面）の反対側の面）に、下記バックコート層組成物をウェット膜厚１４μｍとなるように押し出しコーターで塗布し、８５℃にて乾燥し巻き取り、バックコート層を設けた。
【０３７６】
〈バックコート層組成物〉
アセトン                                                          ３０質量部
酢酸エチル                                                        ４５質量部
イソプロピルアルコール                                            １０質量部
ジアセチルセルロース                                            ０．６質量部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液
（日本アエロジル（株）製アエロジル２００Ｖ）                    ０．２質量部
《反射防止フィルムの作製》
バックコート層を設けたフィルムの表面（ステンレスバンド支持体に接していた側（Ｂ面））上に、下記のハードコート層用塗布液を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート用塗布液を調製し、これを押し出しコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１５０ｍＷ／ｃｍ2で照射量を１５０ｍＪ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、厚さ３μｍの屈折率１．６１のハードコート層を形成した。
【０３７７】
〈ハードコート層用塗布液〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                        １００質量部
光反応開始剤                                                        ５質量部
（イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製））
酢酸エチル                                                      １２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          １２０質量部
シリコン化合物                                                  ０．１質量部
（ＢＹＫ−３０７（ビックケミージャパン社製））
上記ハードコート層塗布液に平均粒径１０ｎｍの酸化ジルコニウム微粒子分散物を添加して屈折率１．６１となるように調整した。
【０３７８】
〈低屈折率層の形成〉
前記ハードコート層上に、下記低屈折率層組成物を押し出しコーターで塗布し、１００℃で３０秒間乾燥させた後、８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を１２ｃｍの距離から４秒間照射して、低屈折率層を設けた。低屈折率層の厚さは１００ｎｍ、塗布幅１．４５ｍであった。尚、低屈折率層の屈折率は１．３５であった。
【０３７９】
〈加水分解液Ａの調製〉
テトラエトキシシラン１７２ｇとエタノール７００ｇを混合し、これに０．４％硝酸水溶液１２９ｇを添加して、加水分解液Ａを調製した。
【０３８０】
更に、加水分解液Ａを、室温（２５℃）にて５時間攪拌することで加水分解反応を進めて調製した。
【０３８１】
（低屈折率層組成物）
上記作製した加水分解液Ａを用いて下記低屈折率層組成物を調製した。
【０３８２】
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ３６６質量部
イソプロピルアルコール                                          ３６６質量部
加水分解液Ａ（加水分解時間５時間）                              ２３２質量部
ＥＬＣＯＭ  Ｐ特殊品４（触媒化成工業製、中空シリカ分散液、固形分２０％）
２９質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製ＫＢＭ５０３）
２．１質量部
１０％ＦＺ−２２０７（日本ユニカー社製、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液）                                                            １．９質量部
《偏光板の作製》
厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
【０３８３】
次いで、下記工程１〜５に従って偏光膜と前記反射防止フィルム１０１〜１２５と裏面側には下記セルロースエステルフィルム２０１、前記反射防止フィルム１２６〜１４１と裏面側には下記セルロースエステルフィルム２０２の組み合わせで貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側のセルロースエステルフィルム２０１、２０２の位相差は、いずれも２３℃、５５％ＲＨの条件下、５９０ｎｍで測定して、面内リターデーションＲｏ＝４３ｎｍ、厚み方向のリターデーションＲｔ＝１３３ｎｍ、幅方向に遅相軸を有し、幅方向に対する遅相軸のズレが±０．３°以内であった。
【０３８４】
工程１：６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。
【０３８５】
工程２：前記偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。
【０３８６】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて配置した。
【０３８７】
工程４：工程３で積層した反射防止フィルム１０１〜１４１と偏光膜と裏面側セルロースエステルフィルムを圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ2、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
【０３８８】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した偏光膜と反射防止フィルム１０１〜１４１と裏面側セルロースエステルフィルムとを貼り合わせた試料を２分間乾燥し、偏光板１０１〜１４１を作製した。
【０３８９】
（裏面側セルロースエステルフィルム２０１、２０２の作製）
実施例１のセルロースエステルフィルム１０１で調製した主ドープ液及び微粒子添加液を使用して、実施例１と同様にしてベルト流延装置を用い、幅２ｍのステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が８５％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体から剥離した。剥離の際に張力をかけて縦（ＭＤ）延伸倍率が１．０倍となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ両端部を把持し、残留溶媒量３０％、温度１３０℃で幅手（ＴＤ）方向の延伸倍率が１．３倍となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持し幅方向の張力を緩和させ、幅保持を解放した後、両端部をスリッテイングして耳を切除した。切除した耳は回収してフィルム原料の一部として混合し再利用した。
【０３９０】
スリット後のウェブは更に１２５℃に設定された乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行い、残留溶媒量を０．１％未満に調整し、幅１．５ｍ、かつ端部に幅１．５ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する膜厚８０μｍのセルロースエステルフィルム２０１を作製した。
【０３９１】
また、加水分解液を添加しなかった以外は同様にしてセルロースエステルフィルム２０２を作製した。
【０３９２】
《液晶表示装置の作製》
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
【０３９３】
富士通製１５型ディスプレイＶＬ−１５０ＳＤの予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板１０１〜１４１をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。
【０３９４】
その際、その偏光板の貼合の向きは、前記裏面側のセルロースエステルフィルムの面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置１０１〜１４１を各々作製した。また、使用した偏光板は、性能がばらつきやすい長尺セルロースエステルフィルムの端の部分から切り出したものを使用した。
【０３９５】
得られた液晶表示装置について下記の評価を行い、結果を表５に示した。
【０３９６】
（視認性評価−１）
上記作製した各液晶表示装置について、６０℃、９０％ＲＨの条件で１００時間放置した後、２３℃、５５％ＲＨに戻した。その結果、表示装置の表面を観察すると本発明の反射防止フィルムを用いたものは、平面性に優れていたのに対し、比較の表示装置は細かい波打ち状のむらが認められ、長時間見ていると目が疲れやすかった。
【０３９７】
◎：表面に波打ち状のむらは全く認められない
○：表面にわずかに波打ち状のむらが認められる
△：表面に細かい波打ち状のむらがやや認められる
×：表面に細かい波打ち状のむらが認められる
（視認性評価−２）
６０℃、９０％ＲＨの条件で１００時間放置した後、２３℃、５５％ＲＨに戻した液晶パネル（液晶表示装置）を目視観察し、斜め方向の視認性（コントラスト）を下記のようにランク評価した。
【０３９８】
◎：黒がしまって見え、鮮明であり、像の白抜けも認められない
○：黒がしまって見え、鮮明であるが、わずかに像の白抜けが認められる
△：黒のしまりがなく、鮮明さがやや低く、像の白抜けが認められる
×：黒のしまりがなく、鮮明さが低く、像の白抜けが気になる
本発明においては、○、◎が実用可である。
【０３９９】
（反射色ムラの評価）
各液晶表示装置について、６０℃、９０％ＲＨの条件で２００時間放置した後、２３℃、５５％ＲＨに戻し、画面を黒表示として、表面の反射むらを目視で評価した。
【０４００】
◎：反射光の色むらは分らず、黒がしまって見える
○：わずかに反射光の色むらが認識される
△：反射光の色むらが認識されるが実用上問題ないレベル
×：反射光の色むらがかなり気になる
【０４０１】
【表５】
0004765265.tif 000034
【０４０２】
上記表５の結果から本発明のセルロースエステルフィルム１０１〜１２５を用いた偏光板及び液晶表示装置は比較例１２６〜１４１に対し平面性に優れ、かつコントラスト、反射色ムラにも優れた液晶表示装置を提供出来ることが確認された。また、セルロースエステル樹脂の総アシル基置換度、Ｍｎ、ＭＷ／Ｍｎが本発明の好ましい範囲外であるセルロースエステルを用いたセルロースエステルフィルム１１１、１１２、１１９、１２０、及び可塑剤としてトリフェニルホスフェートを用いたセルロースエステルフィルム１０７を各々用いた偏光板、液晶表示装置は上記性能がやや劣る結果であった。
【図面の簡単な説明】
【０４０３】
【図１】シリカアルコキシドの加水分解前後の２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルを表す図である。
【図１】
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