(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一端に圧電素子を装着する石英で構成する取付端部と、該取付端部から伸びる棒状の石英で構成する振動伝達体と、該振動伝達体の前記取付端部に対向した端部に形成された傾斜面と、前記取付端部と前記傾斜面との間の振動伝達体の側部に形成され、前記圧電素子から照射された前記振動伝達体中を伝播する超音波の前記振動伝達体中における収束位置より前記傾斜面に近い位置の前記振動伝達体の側面に形成した切り込み部とからなり、該切り込み部に被洗浄物のエッジを挿入し、前記被洗浄物のエッジ近傍に洗浄液を供給して、前記圧電素子から供給された前記超音波を前記切り込み部に供給して、前記切り込み部に流れ込んだ前記洗浄液に照射することにより、前記被洗浄物のエッジを洗浄することを特徴とする洗浄用超音波振動子。
【請求項２】
前記振動伝達体の傾斜面は前記切り込み部の下方の端部から前記取付端部と平行な平面から０度〜４５度の範囲で傾斜していることを特徴とする請求項１記載の洗浄用超音波振動子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶硝子基板等の被洗浄物のエッジを洗浄するようにした洗浄用超音波振動子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の超音波洗浄装置としては、図３に示すように、ノズル１に装着した洗浄液供給管２からノズル１の内部に洗浄液を供給し、超音波発振器からリード線３を介してノズル１内の超音波振動子に発振出力を供給することにより、回転する半導体ウエハのような被洗浄物５の上にノズル１から洗浄液４が供給されるとともに、この洗浄液４に超音波振動子からの超音波を乗せて被洗浄物５に照射して洗浄するようにした洗浄装置が提案されている。
【０００３】
又、図４に示すように、超音波発生部６の下面に超音波振動子（図示せず）が装着され、超音波振動子は超音波発生部６の上部に装着したコネクタ７に電気的に接続され、このコネクタ７にケーブル８を介して超音波発振器９から発振出力が供給され、さらに、超音波発生部６の超音波振動子と対向して半導体ウエハのような被洗浄物５が微小間隙を設けて保持され、超音波発生部６の両側に洗浄液供給装置１１から洗浄液が供給されるノズル１０が装着され、このノズル１０から供給された洗浄液は超音波振動子と被洗浄物５の間隙に流入して、超音波振動子から照射された超音波によって被洗浄物５の表面を洗浄するようにした超音波洗浄装置が提案されている。
【０００４】
しかしながら、このような超音波洗浄装置では、超音波が照射される被洗浄物５の平面部は十分に洗浄されるが、表面で除去された汚れが洗浄液とともに流れ、被洗浄物５のエッジやノッチ部に引っ掛かってしまうという欠点があり、又、このような流水式の超音波洗浄装置で、流水をこのエッジ部に集中して洗浄しても、エッジ部の汚れが取れないという問題があった。
【特許文献１】特願２０００−３６９４９０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
解決しようとする問題点は、従来の超音波洗浄装置では、被洗浄物の平面部で洗浄した汚れが洗浄液とともに流れて、被洗浄物のエッジ及びノッチの部分に引っ掛かるという点である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明では、一端に圧電素子を装着する石英で構成する取付端部と、該取付端部から伸びる棒状の石英で構成する振動伝達体と、該振動伝達体の前記取付端部に対向した端部に形成された傾斜面と、前記取付端部と前記傾斜面との間の振動伝達体の側部に形成され、前記圧電素子から照射された前記振動伝達体中を伝播する超音波の前記振動伝達体中における収束位置より前記傾斜面に近い位置の前記振動伝達体の側面に形成した切り込み部とからなり、該切り込み部に被洗浄物のエッジを挿入し、前記被洗浄物のエッジ近傍に洗浄液を供給して、前記圧電素子から供給された前記超音波を前記切り込み部に供給して、前記切り込み部に流れ込んだ前記洗浄液に照射することにより、前記被洗浄物のエッジを洗浄するものであり、又、前記振動伝達体の傾斜面は前記切り込み部の下方の端部から前記取付端部と平行な平面から０度〜４５度の範囲で傾斜しているものであり、さらに、前記振動伝達体及び取付端部は石英で構成するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の超音波洗浄装置では、振動伝達体の側部に形成した切り込み部を被洗浄物のエッジと微小間隙を開けて装着し、振動伝達体の端部に接着した超音波振動子を駆動し、被洗浄物のエッジ近傍に装着された洗浄液供給部から供給される洗浄液に、振動伝達体の切り込み部から超音波を被洗浄物のエッジに照射することにより、被洗浄物のエッジを洗浄することができるという利点がある。
【実施例】
【０００８】
図１は本発明の実施例の洗浄用超音波振動子の側面図で、振動伝達体１２の一端に圧電素子１３を装着する取付端部１４が形成され、振動伝達体１２の他端の端部１２ａから対向する端部１２ｂにかけて取付端部１４の面と平行な面から０度〜４５度の範囲で傾斜された傾斜面１５が形成され、振動伝達体１２の傾斜面１５の端部１２ａと取付端部の間に切り込み１６を形成し、振動伝達体の傾斜面１５は前記切り込み部の下方の端部から前記取付端部と平行な平面から０度〜４５度の範囲で傾斜され、圧電素子１３の超音波Ａは切り込み部の上側の面に伝達され、超音波Ｂは切り込み部の上側の面に伝達せず、切り込み部１６を通過した超音波が傾斜面１５で反射して切り込み部１６の下側の面に伝播するように、切り込み部１６の距離及び傾斜部の角度を適宜設定している。
【０００９】
このように構成された本実施例の洗浄用超音波振動子では、図２に示すように、被洗浄物１７のエッジ１７ａを振動伝達体１２の切り込み部１５の間に微小間隔を開けて装着し、洗浄液供給部１８から洗浄液１９が供給することにより、洗浄液１９が被洗浄物１７のエッジ１７ａと振動伝達体１２の切り込み部１６の間に注入され、ここで、圧電素子１３を駆動すると、超音波Ａは圧電素子１３から振動伝達体１２を通って切り込み部１６の上側の面１６ａに伝播するとともに、圧電素子１３から照射された超音波Ｂは傾斜面１４で反射され、切り込み部１６の下側の面１６ｂに照射され、それによって、被洗浄物１７のエッジ１７ａが洗浄され、又、この洗浄によって除去された汚れは洗浄液１９とともに、被洗浄物１７と切り込み部１６の間を通って被洗浄物１７の下側に落下するように構成されている。
【００１０】
本実施例の超音波洗浄装置では、このように、振動伝達体１２の側部に切り込み部１６を形成し、この切り込み部１６と被洗浄物１７のエッジ１７ａの間に微小間隙を開けて挟持することにより、この切り込み部１６に集中して発生される超音波と洗浄液供給部１８から供給される洗浄液１９とにより、被洗浄物１７のエッジ１７ａに付着する汚れを効果的に速やかに除去することができる。
【産業上の利用可能性】
【００１１】
なお、上記実施例では、被洗浄物１７が半導体で構成されているので、その場合は、振動伝達体１２は石英で構成する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施例の超音波洗浄装置の斜視図である。
【図２】図１の洗浄用超音波振動子を使用した超音波洗浄装置の構成図である。
【図３】従来の超音波洗浄装置の斜視図である。
【図４】従来の他の超音波洗浄装置の斜視図である。
【符号の説明】
【００１３】
１２              振動伝達体
１３              圧電体振動子
１４              取付端部
１５              傾斜面
１６              切り込み部
１７              被洗浄物
１８              洗浄液供給部
１９              洗浄液
【図１】
0004848556.tif 000002
【図２】
0004848556.tif 000003
【図３】
0004848556.tif 000004
【図４】
0004848556.tif 000005