(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体表面に転写により形成された機能性層の表面を防汚処理する方法であって、
予め防汚処理すべき機能性層表面を親水化処理して、該表面の純水に対する接触角（温度２０℃、相対湿度６０％の雰囲気中）を１０°以下として、その後、
パーフルオロアルキル基と加水分解性基とを少なくとも有するケイ素化合物を含有する防汚剤塗布液を、防汚処理すべき親水化処理された機能性層表面に塗布することを特徴とする防汚処理方法。
【請求項２】
前記防汚剤塗布液を、防汚処理すべき親水化処理された機能性層表面に塗布し、
塗布された防汚剤の定着処理を行い、
定着されなかった余剰の防汚剤を除去し、防汚処理層を形成する、請求項１に記載の防汚処理方法。
【請求項３】
機能性層が、反射防止（ＡＲ）層、アンチグレア（ＡＧ）層又はハードコート層である、請求項１又は２に記載の防汚処理方法。
【請求項４】
機能性層が１層又は２層以上の層から構成され、機能性層の最表層はシリコーンを含む、請求項１〜３のうちのいずれか１項に記載の防汚処理方法。
【請求項５】
物体表面に機能性層が転写により設けられ、前記機能性層表面に、パーフルオロアルキル基と加水分解性基とを少なくとも有するケイ素化合物を含有する防汚剤塗布液を塗布することにより防汚処理層が形成されている、請求項１〜４のうちのいずれか１項に記載の防汚処理方法により得られる表面が防汚処理された物体。
【請求項６】
物体が表示素子用途である、請求項５に記載の表面が防汚処理された物体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、物体表面に転写により形成された機能性層の表面を防汚処理する方法及び防汚処理された物体に関する。
【０００２】
本発明において、対象となる物体には、均一厚みの機能性塗布層を形成しにくい板材のような可撓性に乏しい物体ないしは支持体、ガラスやセラミックスのような物体等が含まれる。例えば、ＣＲＴ、ＬＣＤ、リアプロジェクター用スクリーン、エレクトロルミネッセンスディスプレー、ＬＥＤ表示板に代表される表示素子の表面は、反射防止処理、アンチグレア処理、ハードコート処理等の機能性処理が求められ、同時に機能性処理表面の防汚処理が求められており、本発明における対象物体の具体例として挙げられる。
【０００３】
【従来の技術】
従来より、ＣＲＴ等の表示素子の表面には、反射防止処理がスパッタリング、スピンコート等によって行われている。また、外光の映り込みを防止するためにアンチグレア処理（またはノングレア処理とも呼ばれている）が施される場合もある。アンチグレア処理を施すことで外光の反射光を散乱させて、映り込みを低減させることができる。また、表面の耐傷性を高めるために、ハードコート処理が行われている。反射防止処理やアンチグレア処理は、ハードコート処理を兼ねている場合もある。
【０００４】
このように表示素子の表面は、反射防止処理、アンチグレア処理、ハードコート処理等の機能性処理が求められ、さらに、指紋等の汚れ、水分付着による汚れ等を防ぐために、機能性処理表面の防汚処理が求められる。
【０００５】
特開平６−３０８３２７号公報には、偏光板の表面改質法が記載され、特定構造の含フッ素シラン化合物あるいはそのオリゴマーあるいはポリマーを含む組成物を、偏光板表面に反応あるいは吸着させることが記載されている。この方法では、予め偏光板上に機能性層としてアンチグレア効果を有するハードコート層を塗布により形成したのち、防汚処理を施している。しかしながら、そもそも可撓性に乏しい板材上にハードコート層などの機能性層を塗布により形成する場合、板材表面上に均一な厚みの機能性層を形成することは困難である。
【０００６】
塗布法では、支持体がフィルムのように可撓性のあるものの場合には、容易に大面積の機能性層を形成することが可能である。しかしながら、支持体が板材のように可撓性に乏しいものの場合には、塗布は可撓性支持体の場合に比べ難しく、特に、膜厚を均一に制御することが難しい。
すなわち、可撓性フィルムの場合には、コーター部を据え付けてフィルムを移動させて塗布することができ、膜厚の制御が容易である。一方、可撓性に乏しい板材の場合には、小面積であれば板材を移動させて塗布することも可能ではあるが、大面積であれば板材を移動させるとぶれ等により膜厚の精度が悪くなりやすい。また、コーター部を移動させる方法もあるが、板材の平坦性が悪いと、膜厚の精度が悪くなる。
【０００７】
特開２０００−９４５８４号公報には、プラスチックフィルム(a) 上の一面に、直接又は他の層を介してハードコート層(b) が形成され、その上に直接又は他の層を介して珪素アルコキシド含有塗布液からの薄膜塗布層(c) が形成され、プラスチックフィルム(a) の反対面に直接又は他の層を介して粘着層(d) が形成されてなるウインドーフィルムが記載されている。薄膜塗布層(c) は防汚性を有するが、このウインドーフィルムが粘着層(d) を介して貼り付けられたウインドー上にはプラスチックフィルム(a) が存在する。支持体フィルム(a) の存在によって、表面の硬度低下、ヘイズの上昇、光線透過率の低下、表面被覆の全膜厚の増加といった弊害が生じる。これらの弊害は、ＣＲＴに代表される表示素子の表面においては、重要な問題である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、板材のように可撓性に乏しい物体表面に転写により形成された機能性層の表面を防汚処理する方法を提供すること、及び物体表面に機能性層が転写により設けられ、前記機能性層表面に防汚処理層が形成されている防汚処理された物体を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、物体表面に転写により形成された機能性層の表面を防汚処理する方法であって、
予め防汚処理すべき機能性層表面を親水化処理して、該表面の純水に対する接触角（温度２０℃、相対湿度６０％の雰囲気中）を１０°以下として、その後、
パーフルオロアルキル基と加水分解性基とを少なくとも有するケイ素化合物を含有する防汚剤塗布液を、防汚処理すべき親水化処理された機能性層表面に塗布することを特徴とする防汚処理方法である。
【００１０】
本発明は、前記防汚剤塗布液を、防汚処理すべき親水化処理された機能性層表面に塗布し、
塗布された防汚剤の定着処理を行い、
定着されなかった余剰の防汚剤を除去し、防汚処理層を形成する、前記の防汚処理方法である。
【００１２】
本発明は、機能性層が、反射防止（ＡＲ）層、アンチグレア（ＡＧ）層又はハードコート層である、前記の防汚処理方法である。
本発明は、機能性層が１層又は２層以上の層から構成され、機能性層の最表層はシリコーンを含む、前記の防汚処理方法である。
【００１３】
本発明は、物体表面に機能性層が転写により設けられ、前記機能性層表面に、パーフルオロアルキル基と加水分解性基とを少なくとも有するケイ素化合物を含有する防汚剤塗布液を塗布することにより防汚処理層が形成されている、前記の防汚処理方法により得られる表面が防汚処理された物体である。
本発明は、物体が表示素子である、前記の表面が防汚処理された物体である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図面を参照して、本発明を説明する。図１は、本発明において用いることのできる転写用反射防止フィルムの層構成例を示す断面図である。図２は、本発明において防汚処理の対象となる反射防止層が転写により表面に設けられている物体の層構成例を示す断面図である。なお、上記の転写とは、支持体上の反射防止層を接着剤層を介して他の物体へ貼り付けることを意味する。図３は、本発明の表面が防汚処理された物体の層構成例を示す断面図である。
【００１５】
まず、物体表面に機能性層を転写により設ける際に用いることのできる転写用機能性フィルムについて説明する。機能性層は、目的に応じて種々のものから選択される。例えば、機能性層として、反射防止（ＡＲ）層、アンチグレア（ＡＧ）層、ハードコート層等が挙げられる。反射防止（ＡＲ）層、アンチグレア（ＡＧ）層は、ハードコート層としての機能も有することが好ましい。
【００１６】
機能性層は１層から構成されてもよいが、転写用反射防止フィルムの例でも示すように２層以上の層から構成されてもよい。対象物体への転写後に機能性層の最表層となる層は、パーフルオロアルキル基と加水分解性基とを有するケイ素化合物を含む防汚剤化合物が密着ないしは反応しやすいように、シリコーンを含むことが好ましい。
【００１７】
転写用機能性フィルムを、転写用反射防止フィルムを例として説明する。
図１に例示する転写用反射防止フィルムにおいて、支持体(1) 上に反射防止層(2) が設けられ、反射防止層(2) 上に接着剤層(3) が設けられている。反射防止層(2) は、互いに屈折率の異なる２層の塗布層(2a)(2b)から構成され、支持体(1) に近い方の層(2a)よりも、前記支持体(1) から遠い方の層(2b)はより高い屈折率を有する。支持体(1) から対象物体表面へ反射防止層(2) を転写する際、支持体(1) は反射防止層(2) から剥離可能である。
【００１８】
図１においては、反射防止層(2) が互いに屈折率の異なる２層の塗布層(2a)(2b)から構成されている例を示した。本発明においては、反射防止層(2) が互いに屈折率の異なる２層以上の塗布層から構成される転写用反射防止フィルムを用いてもよい。
【００１９】
このように本発明で用いる転写用反射防止フィルムにおいて、反射防止層(2) を構成する２層の塗布層は、支持体(1) に近い塗布層がより低い屈折率を有し、上の塗布層がより高い屈折率を有するように設けられる。屈折率が高いか低いかは、互いに接する２層の屈折率を比べた場合の相対的なものである。このような反射防止層(2) の層構成とすることによって、支持体(1) から対象物体表面へ反射防止層(2) が転写された場合、支持体(1) が剥離され、より低い屈折率を有する塗布層(2a)が対象物体表面の最も外側に位置し、反射防止効果が向上する。
【００２０】
また、反射防止層(2) を構成する２層の塗布層のいずれの層も、その物理的膜厚ｄを０．５μｍ未満とすることにより、太陽光や照明器具等の光の可視光領域３８０〜７８０ｎｍの反射光（波長λ）が光学的に干渉して光の反射強度が低下することにより、可視光領域の光の反射防止効果が得られる。特に、反射光強度の最も低い波長が可視光領域にあることが求められる。この時の膜厚ｄは、ｄ＝ｋλ／（４×ｎ）（但しｋは１又は３）の式に、波長λとして、３８０〜７８０ｎｍとｎ＝１．３５〜２．５を当てはめることにより求められる。
【００２１】
支持体(1) として、特に限定されることなく、可撓性樹脂フィルムが好適である。樹脂フィルムは軽量であり、取扱いも容易である。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム（ＪＳＲ（株）製、アートンなど）等が挙げられる。
樹脂フィルムの他に、支持体として、布、紙等を用いることもできる。
【００２２】
支持体(1) に近い方の層(2a)の屈折率は、例えば、１．３５以上１．６未満である。層(2a)の物理的な膜厚は、好ましくは０．０５μｍ以上０．５μｍ未満、更に好ましくは０．０７μｍ以上０．２μｍ以下である。
【００２３】
層(2a)は、例えば、樹脂を主成分とするハードコート層であることが好ましい。支持体(1) から対象物体表面へ反射防止層(2) が転写された場合、このハードコート層が対象物体表面の最も外側に位置し、反射防止効果と共に耐傷性効果が得られる。
【００２４】
シリコーン樹脂を用いて形成されたハードコート層（例えば鉛筆硬度４Ｈより大きく、好ましくは５Ｈ以上に硬い）は、ＰＥＴのような樹脂フィルムとは密着性が低く、支持体(1) とハードコート層とを容易に剥離することができる。本発明においては、支持体(1) 表面を剥離剤で処理すると、ハードコート層との密着性が低くなりすぎ、その上に層(2b)を塗布する工程においてハードコート層がはがれるなどの不具合が生じる。
【００２５】
そこで本発明では支持体(1) 表面にコロナ処理を施す等して、密着性を上げることが好ましい。又、コロナ処理の代わりに、易接着剤を塗布するなどしても良い。例えば、後述のように層(2a)上に層(2b)を塗布により設ける工程において、層(2b)を形成するための塗布液中にバインダー樹脂を含まないか、含むとしても少量の場合は、支持体(1) の表面にコロナ処理を施すことが好ましい。一方、前記塗布液中にバインダー樹脂が多い場合は、支持体(1) 表面と層(2a)の間の密着性が強くなる傾向にあるため、コロナ処理は施さなくても良い。上記のような傾向が発生する理由は、高屈折率層のバインダー樹脂がハードコート層を貫通して支持体まで達し、バインダー樹脂と支持体が密着することで、ハードコート層と支持体の密着性を上げているからであると思われる。
以上のような易接着剤による処理又はコロナ処理等をされた場合には、それらの処理をされた形態を含めて支持体(1) とする。
【００２６】
ハードコート層は、ハードコート剤を必要に応じて溶剤に溶解した液を支持体上に塗布、乾燥して、硬化させることにより形成することができる。
ハードコート剤としては、特に制限されることなく、公知の各種ハードコート剤を用いることができる。例えば、シリコーン系、アクリル系、メラミン系等の熱硬化型ハードコート剤を用いることができる。
【００２７】
これらの中でも、シリコーン系ハードコート剤は、高い硬度のハードコート層が得られる点で優れている。さらに、シリコーン系ハードコート剤を用いて形成されたハードコート層は、パーフルオロアルキル基と加水分解性基とを有するケイ素化合物を含む防汚剤化合物が密着ないしは反応しやすい点でも好ましい。
【００２８】
また、不飽和ポリエステル樹脂系、アクリル系等のラジカル重合性ハードコート剤、エポキシ系、ビニルエーテル系等のカチオン重合性ハードコート剤等の紫外線硬化型ハードコート剤を用いてもよい。紫外線硬化型ハードコート剤は、硬化反応性等の製造性の点から好ましい。これらの中でも、硬化反応性、表面硬度を考慮すると、アクリル系のラジカル重合性ハードコート剤が望ましい。
【００２９】
ハードコート剤の塗布は、グラビア、リバースロール等のロールコーター、メイヤーバー、スリットダイコーター等公知の方法で行うとよい。
塗布後、適切な温度範囲で乾燥し、その後、硬化させる。熱硬化型ハードコート剤の場合には、適切な熱を与えて、例えばシリコーン系ハードコート剤の場合には６０〜１２０℃程度に、１分間〜４８時間加熱して硬化させる。紫外線硬化型ハードコート剤の場合には、紫外線照射を行い、硬化させる。紫外線照射は、キセノンランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等のランプを用いて、紫外線を２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2 程度照射するとよい。
【００３０】
ハードコート層には、紫外線吸収剤が含有されていてもよい。紫外線吸収剤としては、公知の各種紫外線吸収剤を用いるとよい。例えば、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤等が挙げられる。ハードコート層には、さらに必要に応じて、ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤等の各種公知の添加剤を含ませてもよい。紫外線吸収剤や各種添加剤は、ハードコート剤中に添加して塗布すればよい。
【００３１】
支持体(1) に遠い方の層(2b)の屈折率は、例えば、１．６以上２．５以下である。層(2b)の物理的な膜厚は、好ましくは０．０５μｍ以上０．５μｍ未満、更に好ましくは０．０６μｍ以上０．２μｍ以下である。
【００３２】
層(2b)は、高屈折率微粒子を含有する層であることが好ましい。高屈折率微粒子としては、例えば、酸化すず、酸化インジウム、アンチモンドープ酸化すず、すずドープ酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン等が挙げられる。これら微粒子の平均粒径は１０〜３０ｎｍであることが好ましい。又、これらの材料を複数用いて屈折率を調整しても良い。
【００３３】
高屈折率微粒子含有層は、高屈折率微粒子を有機溶剤などの溶剤に分散した液を、層(2a)上に塗布し、乾燥することにより設ける。この際、バインダー樹脂を用いても用いなくてもよい。バインダー樹脂を用いる場合には、バインダー樹脂の量は、バインダー樹脂と前記微粒子の合計に対して、２５重量％以下とすることが適切であり、２０重量％以下とすることが好ましい。
【００３４】
転写用反射防止フィルムにおいて、図１に示すように、反射防止層(2) 上に接着剤層(3) が塗布形成されていることが好ましい。接着剤層を形成しておくことによって、この接着剤層を介して、対象物体上に反射防止層(2) を転写することが容易になる。本発明において、反射防止フィルムに接着剤層が形成されていない場合には、転写対象物体上に予め接着剤層を設けておけばよい。もちろん、反射防止フィルムに接着剤層(3) を形成しておき、さらに転写対象物体上にも接着剤層を設けておくことも好ましい。
【００３５】
反射防止層(2) 上に接着剤層(3) が塗布されることにより、接着剤が高屈折率微粒子含有層(2b)中に含浸されると共に、接着剤が層(2b)から層(2a)に達するようになる。従って、高屈折率微粒子含有層の形成において用いる高屈折率微粒子の分散液が、少ないバインダー樹脂量であっても、あるいはバインダー樹脂が存在しない場合であっても、膜強度が強く且つ層(2a)との密着性の強い高屈折率微粒子含有層が形成される。これは、層(2b)の膜厚が前記のように０．５μｍ未満と薄いために得られる効果である。この効果は層(2b)が０．２μｍ以下の膜厚の時には、より大きくなる。
【００３６】
本発明において、反射防止フィルムの接着剤層(3) や転写対象物体上に予め設けておく接着剤層には、反射防止フィルムの反射防止層(2) と転写対象物体の表面の双方に対して親和性があり、両者を強力に接着できる接着剤であれば、特に限定されることなく、公知の種々の接着剤を用いることができる。例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、イソシアネート系接着剤、シリコーン系接着剤等が挙げられる。接着剤は、転写対象物体に転写後に紫外線又は熱により硬化可能なものでもよい。ホットメルト型でもよい。接着剤層(3) の厚みは１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍである。
【００３７】
反射防止フィルムの接着剤層(3) に用いる接着剤としては、接着剤溶液を塗布し乾燥しただけでタック感のある接着剤層が得られ、転写対象物体上に貼り付けた後に接着剤層を紫外線硬化することによって非常に硬い硬化層が得られるような接着剤が好ましい。転写対象物体上に貼り付けた後の接着剤層の軟化や劣化は好ましくない。
【００３８】
そこで、このような性質を満たす接着剤についても本発明者らは検討し、本発明の機能性フィルムの接着剤層に用いる接着剤として、次の接着剤組成物が好適であることを見出した。
１．ガラス転移温度Ｔｇが３０℃以上の高分子樹脂成分（Ｐ）と、硬化性低分子成分（Ｍ）とを、重量比率Ｐ／Ｍ＝８／２〜２／８で含む接着剤組成物。
２．前記高分子樹脂成分（Ｐ）が常温で固体であり、硬化性低分子成分（Ｍ）が常温で液体である、前記１の接着剤組成物。
３．前記高分子樹脂成分（Ｐ）がアクリル系樹脂であり、硬化性低分子成分（Ｍ）がアクリル系モノマーである、前記１又は２の接着剤組成物。
４．さらに、光重合開始剤を含む、前記１〜３のいずれかの接着剤組成物。
５．光照射によって硬化する、前記１〜４のいずれかの接着剤組成物。
【００３９】
高分子樹脂成分としては、例えばアクリル樹脂１０３Ｂや１ＢＲ−３０５（大成化工（株）製）が挙げられる。硬化性低分子成分としては、例えば、KAYARAD GPO-303 、KAYARAD TMPTA 、KAYARAD THE-330 （いずれも日本化薬（株）製）等の３官能以上のアクリル系モノマーが挙げられる。光重合開始剤としては、種々のものを用いることができ、例えば、 KAYACURE DETX-S（日本化薬（株）製）が挙げられる。また、硬化性低分子成分と光重合開始剤成分を含むものとして、ＳＤ−３１８（大日本インキ化学工業製）が挙げられる。
【００４０】
ここに用いる接着剤層(3) の屈折率は、転写対象物体の屈折率に近いことが好ましい。両者の屈折率の差が大きいと、両者間の界面で強い反射光が生じることがある。
【００４１】
さらに接着剤層には、顔料、色素等を分散あるいは溶解して添加してもよい。
顔料としてはシリカ等の公知の耐すり傷性の材料や彩色のための無機材料から選択すればよい。
【００４２】
反射防止フィルムの接着剤層(3) を設けた場合には、接着剤層上に剥離フィルムを付与し、使用時まで接着剤層面を保護してもよい。
【００４３】
以上、転写用反射防止フィルムについて説明したが、他の転写用機能性フィルムについても同様に作成することができる。
例えば、機能性層がハードコート層である場合には、反射防止層(2) の代わりに、ハードコート層とすればよい。ハードコート剤としては上述と同様のものを用いるとよい。
機能性層がアンチグレア（ＡＧ）層である場合には、反射防止層(2) の代わりに、アンチグレア層とすればよい。アンチグレア層は、支持体(1) として、アンチグレア処理表面を有するフィルムすなわち凹凸な表面をもつフィルムを用いて、支持体フィルムの凹凸表面上に上述と同様のハードコート剤を塗布して形成することができる。アンチグレア処理表面を有するフィルムは、通常マットフィルム等の名称で市販されている。また、フィルムにシリカ粒子等の粒子を含む塗料を塗布して、アンチグレア処理表面を有するフィルムを形成することも可能である。対象物体への転写後に、アンチグレア層の凹凸表面が露出する。
【００４４】
上述の転写用機能性フィルムの機能性層を、対象物体表面に接着剤層を介して転写により貼り付ける。機能性層が反射防止層の場合には、図２に示す層構成例の反射防止処理された物体となる。
【００４５】
図２は、対象物体(4) 表面に接着剤層(3) を介して反射防止層(2) が付与された層構成例を示す断面図である。この接着剤層(3) は、転写用反射防止フィルムの接着剤層(3) 及び／又は対象物体(4) 上に予め形成された接着剤層に由来する。
【００４６】
対象となる物体(4) には、特に限定されることなく、種々のものが含まれる。
例えば、均一厚みの塗布層を形成しにくい板材のような可撓性に乏しい物体ないしは支持体、ガラスやセラミックスのような物体等が含まれる。例えば、ＣＲＴ表面は、反射防止、ハードコート等の処理が求められており、ＣＲＴは本発明における対象物体の具体例として挙げられる。
【００４７】
反射防止処理された物体を得るには、上述の転写用反射防止フィルムの反射防止層(2) を支持体(1) から対象物体(4) 上に転写する。すなわち、反射防止フィルムを対象物体面に、支持体(1) が外側となるように反射防止フィルムの接着剤層（設けられている場合）及び／又は対象物体上の接着剤層を介して、貼り付ける。その後、反射防止フィルムの支持体(1) を剥離する。
【００４８】
本発明において、物体表面に転写により形成された機能性層の表面に、防汚剤塗布液を塗布することによって防汚処理する。図３は、反射防止層(2) の表面に防汚処理層(5) が形成された層構成例を示す断面図である。
【００４９】
防汚剤塗布液は、パーフルオロアルキル基を少なくとも有する化合物を含有する。パーフルオロアルキル基を有することにより、防汚処理層の撥水撥油性が得られる。防汚剤化合物は、パーフルオロアルキル基の他に加水分解性基を有するケイ素化合物であることが好ましい。加水分解性基としては、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、シラザン基が挙げられる。このような加水分解性基を有することにより、特にシリコーン系ハードコート剤を用いて形成されたハードコート層と密着ないしは反応しやすくなり好ましい。これは、シリコーン系ハードコートは硬化して硬度が得られたとしても、その硬化反応が完全には終了しておらず、未反応の水酸基が残存していることがあるためだと思われる。
【００５０】
本発明において、前記防汚剤塗布液を、防汚処理すべき機能性層表面に塗布し、塗布された防汚剤の定着処理を行い、定着されなかった余剰の防汚剤を除去し、防汚処理層を形成するとよい。
【００５１】
前記防汚剤塗布液の塗布は、通常の各種塗布方法、例えば、スプレー法、ディップ法、はけ塗り、ガーゼ塗り、スクリーン法、インクジェット法、各種ロールコート法、ノズル塗布法等により行う。この段階では通常、過剰量の防汚剤塗布液が塗布されている。
【００５２】
塗布された防汚剤の定着処理は、防汚剤化合物の種類やハードコート剤の種類により、適宜行うとよい。例えば、室温のまま０．５〜４８時間程度放置することによって、あるいは５０〜１５０℃で０．１〜６０分間保持することによって行い得る。定着処理により、防汚剤化合物がハードコート表面と密着ないしは反応して定着される。
【００５３】
定着されなかった余剰の防汚剤を除去する。除去は、例えば、布による乾拭きでも良いし、水や各種溶剤（例えば、エタノール等のアルコール）で洗い流しても良いし、拭き取ることによっても行い得る。定着された防汚剤化合物によって、超薄膜の防汚処理層が形成される。防汚処理層は防汚機能を果たせば良く、原理的には分子１層が形成されれば防汚機能は十分発揮される。このため、できる限り薄い（例えば０．０１μｍ以下）方が対象物体表面に設けられた機能性層の機能を損ねることがないので好ましい。例えば、反射防止機能の低下、表面の硬度低下、ヘイズの上昇といった弊害が生じない。
【００５４】
本発明において、予め防汚処理すべき機能性層表面を親水化処理しておき、その後前記防汚剤塗布液を親水化処理された機能性層表面に塗布することも好ましい。親水化処理とは表面の水の濡れ性を改善する処理の一種で、親水化処理を施すことで水酸基などの親水性基を有する塗布液に対して濡れ性が改善し、塗布液が表面に対して良くなじみ、表面を均一に覆うため密着強度が向上する。例えばプラズマ処理では、表面の分子結合に変化が起こり、表面に水酸基のような親水性基が発生して、親水性基を有する塗布液に対してなじみが良くなると考えられる。また、表面に付着した有機物などの非親水性基などの汚れを除去することでも親水性になる場合がある。
特に加水分解性基を有する防汚剤化合物を加水分解すると分子中に水酸基を生じるため、防汚処理すべき表面に対して親水化処理を施すことは効果がある。また、シリコーンはその構造上アクリル樹脂より、親水化処理すると表面の分子結合が変化して親水化されやすい。その結果、シリコーン系ハードコート剤を用いて形成されたハードコート層と、加水分解性基を有する防汚剤化合物との反応性が高まるので好ましい。
【００５５】
親水化処理としては、特に限定されないが、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、火炎（フレーム）処理、加熱空気法、酸処理法が挙げられる。
プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理については、空気中、窒素中、不活性ガス中、減圧化、その他各種ガス中で行うことも好ましい。
しかし、例えばプラズマ処理の場合にはプラズマ照射を行う雰囲気によっては逆に疎水化されることもあり、さらに、プラズマ照射の強度や時間によってもこのような疎水化や機能性表面にダメージを与え、例えば反射防止機能の低下や表面硬度の低下、ヘイズの上昇、ヒビ、割れ等の機能性層の機能を損ねる可能性があり、気を付ける必要がある。
【００５６】
親水化処理の度合としては、特に限定されないが、最表面の純水に対する接触角を好ましくは５０°以下、より好ましくは３０°以下、さらにより好ましくは１０°以下にすることで、防汚剤が表面に良くなじみ、表面を均一に覆うため、防汚処理性能が向上し、より良い防汚性が得られる。また、防汚剤が表面とより多く反応するため、防汚処理効果もより持続する。
【００５７】
図４は、図３に示したのと同様の本発明の防汚処理及び反射防止処理された物体における反射光の干渉について説明するための図である。
図４において、反射防止層(2) が転写され防汚処理層(5) が設けられた対象物体(4) 表面上には、反射防止層(2) を含んで３面以上の界面、すなわち、防汚処理層(5) と層(2a)との界面（界面Ｉとする）、層(2a)と層(2b)との界面（界面IIとする）、層(2b)と接着剤層(3) との界面（界面III とする）が形成される。
入射光（Ｌｉ）はこれらのいずれの界面（Ｉ、II、III ）においても反射し、反射光（ＬｒI 、ＬｒII、ＬｒIII ）が生じる。本発明においては、これら反射光が可視光領域で互いに干渉し打ち消し合う。その結果、優れた反射防止効果が得られる。防汚処理層(5) は０．０１μｍ以下という非常に薄い膜厚なので、可視光領域の波長の光にとって防汚処理層は１層と認識されない。このため反射防止機能に寄与する反射は界面（Ｉ、II、III ）での反射光（ＬｒI 、ＬｒII、ＬｒIII ）のみであり、その結果反射防止性能は防汚処理を施しても変化しない。
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００５８】
［実施例１］（参考例）
図１に示すように、支持体(1) 上に低屈折率層(2a)、高屈折率層(2b)及び接着剤層(3) をこの順で有する転写用反射防止フィルムを作製した。
【００５９】
（低屈折率層の形成）
シリコーン系ハードコート液ＫＰ−８５４（信越化学工業（株）製）１００重量部にエタノール４００重量部を加え、低屈折率層塗布液とした。この塗布液を７５μｍ厚のＰＥＴフィルム(1) 上に塗布、乾燥し、１００℃、２時間で硬化させ、０．０９μｍ厚の低屈折率層(2a)を形成した。
【００６０】
（高屈折率層の形成）
平均粒径が約３０ｎｍの酸化すず超微粒子のエタノール分散液（シーアイ化成（株）製、固形分濃度１５重量％）７５重量部と平均粒径が約３０ｎｍの酸化チタン超微粒子のエタノール分散液（シーアイ化成（株）製、固形分濃度１５重量％）２５重量部の混合液に、エタノール１１５重量部を加え、高屈折率層塗布液とした。得られた塗布液を前記低屈折率層(2a)上に塗布、乾燥し、０．０９μｍ厚の高屈折率層(2b)を形成した。
【００６１】
（接着剤層の形成）
アクリル樹脂ＵＶＨＣ−１１０１（ＧＥ東芝シリコーン製）１００重量部に、１ＢＲ−３０５（大成化工製、固形分濃度３９．５重量％）７１重量部と、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）２４５重量部とを加えて、接着剤層塗布液とした。この塗布液を前記高屈折率層(2b)上に塗布、乾燥して、１０μｍ厚の接着剤層(3) を形成した。接着材層を指で触ったところ、タック感があった。以上のようにして反射防止フィルムを得た。
【００６２】
（対象物体ポリカーボネート板への反射防止層の付与）
対象物体として、２ｍｍ厚のポリカーボネート板を用いた。
得られた反射防止フィルムを接着剤層(3) がポリカーボネート板の一方の面に接するようにラミネーターにて貼り付けた。紫外線を照射して接着剤層(3) を硬化させた。支持体ＰＥＴフィルム(1) を剥がした。接着剤層(3) は非常に強固であった。このようにして、図２に示すように、ポリカーボネート板(4) 上に接着剤層(3) を介して、反射防止層(2:2a,2b) が付与された。ポリカーボネート板の他方の面にも同様にして反射防止層を付与した。低屈折率層(2a)表面の純水の接触角は６１°であった。
【００６３】
（防汚処理）
反射防止層(2) の最表層である低屈折率層(2a)の表面に、綿棒を用いてフッ素系シリコーンコーティング剤Ｘ２４−９２７１（信越化学工業（株）製、ＫＰ−８０１Ｍ改良品、パーフルオロアルキル基及び加水分解性基含有）を塗布し、乾燥した。これを１００℃の雰囲気に５分間置いて、低屈折率層(2a)の表面とフッ素系シリコーンコーティング剤とを反応させた。その後、低屈折率層(2a)上の余剰のフッ素系シリコーンコーティング剤をエタノールを含ませた布で拭き取り、防汚処理層(5) を形成した。
【００６４】
［実施例２］（参考例）
実施例１において、反射防止層(2:2a,2b) の付与後、フッ素系シリコーンコーティング剤を塗布する前に、プラズマ照射器（（株）キーエンス製、ＳＴ−７０００）を用いて低屈折率層(2a)表面の純水の接触角が３０°になるように親水化処理を施した。その後、実施例１と同様に、低屈折率層(2a)の表面にフッ素系シリコーンコーティング剤を塗布し、防汚処理層(5) を形成した。
【００６５】
［実施例３］
実施例２において、プラズマ照射器（（株）キーエンス製、ＳＴ−７０００）を用いて低屈折率層(2a)表面の純水の接触角が５〜１０°になるように親水化処理を施した。その後、実施例１と同様に、低屈折率層(2a)の表面にフッ素系シリコーンコーティング剤を塗布し、防汚処理層(5) を形成した。
【００６６】
（防汚性の評価）
実施例１〜３で得られた各サンプルについて、以下の評価を行った。比較例として、実施例１における防汚処理が行われていないサンプルを評価した。
実施例１〜３のサンプルの防汚処理層(5) 表面、比較例の防汚処理が行われていない反射防止層(2) 表面にそれぞれ油性マジックで文字を書いた。文字を布で乾拭きした。実施例１〜３のサンプルではいずれも、文字を完全に拭き取ることができた。比較例のサンプルでは、文字をほとんど拭き取ることができなかった。
【００６７】
（純水の接触角の測定）
協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｄを用いて、温度２０℃、相対湿度６０％の雰囲気中で、実施例１〜３で得られた各サンプルの防汚処理層(5) 表面の純水の接触角を測定した。防汚処理前の純水の接触角も同条件で測定した。表１に示すように、防汚処理を施すことによって、接触角が大きくなった。実施例２、３のように、防汚処理前に親水化処理を行うことによって、接触角がより大きくなり、防汚処理効果が大きくなった。
【００６８】
（反射防止効果の評価）
各サンプルについて以下の評価を行った。
分光光度計Ｖ−５７０（日本分光製）に積分球（日本分光製）を組み合わせて、５５０ｎｍの波長の反射光と５５０ｎｍの波長の透過光を測定した。表１に示すように、いずれのサンプルも、５５０ｎｍの波長において高い透過率と低い反射率を示した。すなわち、防汚処理を施しても、優れた反射防止効果が得られた。
【００６９】
【表１】
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【００７０】
【発明の効果】
本発明によれば、板材のように可撓性に乏しい物体表面に転写により形成された機能性層の表面を防汚処理する方法が提供され、物体表面に機能性層が転写により設けられ、前記機能性層表面に防汚処理層が形成されている防汚処理された物体が提供される。
特に、本発明は、表示素子表面に均一厚みの機能性層を転写によりに付与し、その機能性層の表面を防汚処理する場合に好適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明において用いることのできる転写用反射防止フィルムの層構成例を示す断面図である。
【図２】  本発明において防汚処理の対象となる反射防止層が転写により表面に設けられている物体の層構成例を示す断面図である。
【図３】  本発明の表面が防汚処理された物体の層構成例を示す断面図である。
【図４】  本発明の防汚処理及び反射防止処理された物体における反射光の干渉について説明するための図である。
【符号の説明】
(1) ：支持体
(2) ：反射防止層
(2a)：支持体に近い方の層；低屈折率層
(2b)：支持体から遠い方の層；高屈折率層
(3) ：接着剤層
(4) ：対象物体
(5) ：防汚処理層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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