(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つのテーブルと、
該テーブルを直線方向に案内する一対のテーブル用リニアガイドと、
該一対のテーブル用リニアガイドを支持する支持部とを備え、
前記一対のテーブル用リニアガイドの一方は、前記支持部及び前記テーブルに対して、前記直線方向と直交する方向に移動不可状態で固定され、
前記一対のテーブル用リニアガイドの他方について、前記テーブルを前記直線方向と直交する方向に移動自在としてテーブルの変位を補償する補償用リニアガイドを備えることを特徴とするステージ機構。
【請求項２】
上下方向に重ねて配置する上テーブル及び下テーブルと、
前記上テーブル又は下テーブルを直線方向に案内する一対のテーブル用リニアガイドと、
前記下テーブルに対して、一方の上テーブル用リニアガイドを固定すると共に、他方の上テーブル用リニアガイドを前記直線方向と直交する方向に移動自在として上テーブルの変位を補償する上補償用リニアガイド、
及び／又は、
前記下テーブルを案内する一対の下テーブル用リニアガイドを支持する支持部に対して、一方の下テーブル用リニアガイドを固定し、他方の下テーブル用リニアガイドを前記直線方向と直交する方向に移動自在として下テーブルの変位を補償する下補償用リニアガイドとを備える、ステージ機構。
【請求項３】
前記上テーブルの上方に設けたθテーブルと、
当該θテーブルに設けた加熱機構と、
前記θテーブルと前記加熱機構との間に設けた反射板とを備え、
前記補償用リニアガイドは、前記加熱機構によるテーブルの変位を補償する、請求項２に記載のステージ機構。
【請求項４】
前記上下テーブルは、Ｘステージが備えるＸテーブル又はＹステージが備えるＹテーブルであり、Ｘ−Ｙステージを形成する、請求項２又は３に記載のステージ機構。
【請求項５】
前記補償用リニアガイドは、前記直線方向のレール部に対して直交する方向に、テーブルの変位に従って移動するスライダ部を備える、請求項１から４のいずれか一つに記載のステージ機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ機構に関し、特に、真空装置、特に加熱機構を備えた真空装置内に設けるステージ機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空室内にステージ機構を備え、このステージ機構上に載置した対象物を真空状態で加工や検査を行う真空装置が知られている。このような真空装置として、液晶製造装置や検査装置があり、例えば、電子ビームやイオンビーム等の荷電粒子ビームを対象物に照射することによって、対象物の測定、分析、検査を行う他、対象物に加工が施される。【０００３】
このような荷電粒子ビーム装置の一例として、例えば、ＴＦＴ基板に電子ビームを照射し、ＴＦＴ基板から放出される二次電子を検出することによってＴＦＴ基板の欠陥検査を行うＴＦＴ基板検査装置が知られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ＴＦＴ基板検査装置の他、荷電粒子ビームを用いた測定装置や検査装置、あるいは加工装置など、上記した真空状態での加工や検査は一般に常温で行っている。【０００５】
このような真空装置において、対象物を高温状態として測定や加工を行うことが検討されている。例えば、ＴＦＴ基板の検査を高温状態で行うことによって、常温では検出が困難であったＴＦＴ基板の欠陥についても、容易に検出を行うことができ、欠陥検出の効率を高めることが期待される。【０００６】
このように、真空装置においてステージを高温状態として加工や検査を行う場合には、高温によってステージの構造体が熱膨張し、ステージの円滑な駆動や耐久性に影響を与える要因となるおそれがある。【０００７】
図８は、加熱装置を備える真空装置の一構成例を説明するための図である。図８（ａ）は真空装置１０１の概略断面を示している。真空装置１０１は、真空室１０２内に基板１０５等の対象物を載置するステージ機構１０４、及び基板１０５を加熱する加熱装置１０３を備える。【０００８】
ステージ機構１０４は、傾き（θ）を調整するθステージ１０４ａと、Ｘ方向及びＹ方向の移動を行うＸ−Ｙステージ１０４ｂを備え、これらの移動を組み合わせることで基板１０５の位置調整を行う。θステージ１０４ａは加熱装置１０３を備え、ステージのテーブル上に載置した基板１０５を加熱する。【０００９】
図８（ｂ）は真空装置が備える加熱装置によるステージ機構への熱の伝わりを説明するための図である。図８（ｂ）において、加熱装置１０３が発熱した熱は、熱伝導によってθステージ１０４ａのテーブル上に載置した基板１０５を加熱する他、熱輻射によってＸ−Ｙステージ１０４ｂを加熱する。θステージ１０４ａとＸ−Ｙステージ１０４ｂとの間は、断熱材を挟むことで熱伝導を低減させることができるが、輻射熱は真空中であっても伝わるため、Ｘ−Ｙステージ１０４ｂはθステージ１０４ａからの熱輻射によって加熱されることになる。【００１０】
このように、ステージ機構が高温となると、ステージ機構を構成する構造物が熱膨張し、ステージの円滑な駆動が困難となる。近年、基板の大型化に伴って真空室内に設けるステージ機構も大型化している。このステージ機構の大型化は、ステージ機構の高温による熱膨張の影響がより顕著となると考えられる。【００１１】
図９は、ステージ機構の高温による影響を説明するための概略図である。図９（ａ）は加熱前の状態を示し、図９（ｂ）は加熱後の状態を示している。なお、ここでは、Ｙテーブルに対してＸテーブルを駆動する機構を示している。【００１２】
ステージ機構100は、一対の第１のリニアガイド111と第２のリニアガイド112を備え、Ｘテーブル100aは、この一対のリニアガイド111，112によってＹテーブル100bに対してＸ方向にスライド可能に支持され、駆動機構１１３によって駆動される。【００１３】
第１のリニアガイド111は、Ｙテーブル100bにＸ方向に沿って固定されたレール部111aと、Ｘテーブル100aにＸ方向に沿って固定されたスライダ部111bとを備え、スライダ部111bをレール部111aに対してスライド自在とすることで構成される。【００１４】
また、第２のリニアガイド112は、Ｙテーブル100bにＸ方向に沿って固定されたレール部112aと、Ｘテーブル100aにＸ方向に沿って固定されたスライダ部112bとを備え、スライダ部112bをレール部112aに対してスライド自在とすることで構成される。【００１５】
このステージ機構１００の構成において、Ｘテーブル100aが加熱装置によって加熱されると、加熱により熱膨張する。図９（ｂ）は熱膨張によるステージ機構に対する影響を示している。図９（ｂ）において、Ｘテーブル100aはＸ方向に対して第１、第２のリニアガイド111,112によってスライド自在であるため、Ｘ方向の熱膨張による影響は受けない。【００１６】
一方、Ｘテーブル100aはＹ方向に対して第１、第２のリニアガイド111,112によってＹテーブル100bに固定されているため、Ｙ方向の熱膨張は、Ｘテーブル100a、ステージ第１，第２のリニアガイド111,112、Ｙテーブル100bに歪を生じさせる。図９（ａ）中のａ〜ｇは各部分に発生する歪を概略的に示している。【００１７】
この歪は、リニアガイドの円滑な駆動に影響を与える他、応力によってテーブル自体を歪ませるおそれがある。【００１８】
そこで、本発明は上記課題を解決して、高温によるステージ機構の熱膨張の影響を低減することを目的とし、さらに詳細には、ステージ機構のリニアガイドの熱膨張によって円滑な駆動の妨げられること防ぐことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明のステージ機構は、少なくとも一つのテーブルと、このテーブルを直線方向に案内する一対のテーブル用リニアガイドと、テーブルが熱膨張することによる変位を補償する補償用リニアガイドとを備える。【００２０】
補償用リニアガイドは、一対のテーブル用リニアガイドを支持する支持部に対して、一方のテーブル用リニアガイドを固定し、他方のテーブル用リニアガイドをその直線方向と直交する方向に移動自在とする。【００２１】
熱膨張によって、テーブルは種々の方向に変位する。この変位をテーブル用リニアガイドが案内する直線方向とこの直線方向と直交する方向に分解したとき、テーブル用リニアガイドが案内する直線方向の変位は、テーブル用リニアガイドと同じ移動方向であるため、リニアガイドの駆動を妨げない。一方、直線方向と直交する方向の変位は、テーブル用リニアガイドが駆動する方向と直交し、その駆動を妨げる方向である。【００２２】
本発明のステージ機構は、一対のテーブル用リニアガイドの内、一方のテーブル用リニアガイドは支持部に固定されているが、他方のテーブル用リニアガイドは支持部に対して直線方向と直交する方向、つまり駆動を妨げる方向に移動自在であるため、変位は妨げることなく移動し、歪は吸収されることになる。この歪の吸収によって、テーブル用リニアガイドやテーブルには応力は発生せず、ステージは妨げられることなく円滑に駆動する。【００２３】
このステージ機構は、ＸテーブルとＹテーブルのように、上下方向に２つのテーブルを重ねた構成のＸ−Ｙステージに適用することができる。補償用リニアガイドは、Ｘテーブル又はＹテーブルのいずれか一方のテーブルに設ける構成とするほかに、Ｘテーブル及びＹテーブルの両方のテーブルに設ける構成としてもよい。【００２４】
補償用リニアガイドは、一方のテーブル用リニアガイドを固定すると共に、他方のテーブル用リニアガイドを直線方向と直交する方向に移動自在とすることで、テーブルの変位を補償する。補償用リニアガイドは、直線方向のレール部に対して直交する方向に、テーブルの変位に従って移動するスライダ部とを備え構成とすることができる。【００２５】
補償用リニアガイドを、上方のテーブルに適用する場合には、下テーブルに対して、一方の上テーブル用リニアガイドを固定すると共に、他方の上テーブル用リニアガイドを直線方向と直交する方向に移動自在とする。【００２６】
また、補償用リニアガイドを、下方のテーブルに適用する場合には、下テーブルを案内する一対の下テーブル用リニアガイドを支持する支持部に対して、一方の下テーブル用リニアガイドを固定し、他方の下テーブル用リニアガイドを前記直線方向と直交する方向に移動自在とする。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、高温によるステージ機構の熱膨張の影響を低減することができる。また、ステージ機構のリニアガイドの熱膨張による円滑な駆動の妨げを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明のステージ機構の一構成例を説明するための図である。
【図２】本発明の補償用リニアガイドの第１の形態を説明するための概略斜視図である。
【図３】本発明の補償用リニアガイドの第１の形態を説明するための概略斜視図である。
【図４】本発明の補償用リニアガイドの第１の形態を説明するための下面から見た図である。
【図５】本発明の補償用リニアガイドの第１の形態を説明するための下面から見た図である。
【図６】本発明の補償用リニアガイドの第２の形態を説明するための概略斜視図である。
【図７】本発明の補償用リニアガイドの第３の形態を説明するための概略斜視図である。
【図８】加熱装置を備える真空装置の一構成例を説明するための図である。
【図９】ステージ機構の高温による影響を説明するための概略図である。
【図１０】本発明の補償用リニアガイドの２つの実施態様を説明するための図である。
【符号の説明】
【００２９】
１…ステージ機構、２…真空室、３…θステージ、４…Ｘステージ、４ａ…Ｘテーブル、４ｂ…Ｘ駆動モータ、４ｃ…ボールネジ、４ｄ…Ｘ軸、５…Ｙステージ、５ａ…Ｙテーブル、５ｂ…Ｙ駆動モータ、５ｃ…ボールネジ、５ｄ…Ｙ軸、６…加熱装置、７…反射板、８…スペーサ、９…基板、１１…第１Ｘリニアガイド、１１ａ…第１レール、１１ｂ…第１スライダ、１２…第２Ｘリニアガイド、１２ａ…第２レール、１２ｂ…第２スライダ、１３…第３Ｘリニアガイド、１３ａ…溝、１３ｂ…隙間、１４…第３Ｘリニアガイド、１４ａ…溝、１４ｂ…スライダ、１５…第３Ｘリニアガイド、１５ａ…凸部、１５ｂ…溝、２１…第１Ｙリニアガイド、２１ａ…第１レール、２１ｂ…第１スライダ、２２…第２Ｙリニアガイド、２２ａ…第２レール、２２ｂ…第２スライダ、２３…第３Ｙリニアガイド、２３ａ…溝、１００…ステージ機構、１００ａ…Ｘテーブル、１００ｂ…Ｙテーブル、１０１…真空装置、１０２…真空室、１０３…加熱装置、１０４…ステージ機構、１０４ａ…θステージ、１０４ｂ…Ｘ−Ｙステージ、１０５…基板、１１１…第１リニアガイド、１１１ａ…レール部、１１１ｂ…スライダ部、１１２…第２リニアガイド、１１２ａ…レール、１１２ｂ…スライダ。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の実施の形態について、図を参照しながら詳細に説明する。【００３１】
図１は本発明のステージ機構の一構成例を説明するための図であり、真空室内に設けた例を示している。【００３２】
図１において、ステージ機構１は真空室２内に設置され、基板９等の対象物を載置する。ステージ機構１は、Ｘ−Ｙ方向に移動可能とするＸ−Ｙステージ機構や、傾きを調整するθステージ機構、あるいはθステージとＸ−Ｙステージを組み合わせたθ及びＸ−Ｙステージ機構とすることができる。ここでは、θステージ機構とＸ−Ｙステージ機構を組み合わせた構成について説明する。【００３３】
ステージ機構１は、傾き（θ）を調整するθステージ３と、Ｘ方向及びＹ方向の移動を行うＸ−Ｙステージ４を備え、θ方向の移動とＸ，Ｙ方向の移動とを組み合わせることで基板９の位置を調整する。各ステージは、上方からθステージ３、Ｘステージ４、Ｙステージ５の順に重ねた構成としている。基板９はθステージ３上に載置され、このθステージにより傾き調整が行われ、Ｘステージ４によりＸ方向の位置合わせが行われ、Ｙステージ５によりＹ方向の位置合わせが行われる。【００３４】
ここで、θステージ３は加熱装置６を備える。加熱装置６は、θステージ３内に設けることにより、θステージ３上に載置した基板９を加熱する。この加熱装置６は、例えばＩＲランプ等のヒータとすることができる。なお、加熱装置６は、ここではθステージ３内に設ける構成としているが、加熱装置６の設定位置はθステージ３内に限られるものはなく、加熱装置６をステージ機構１から分離した構成としてもよく、例えば、θステージ３の上方に設けた光源を加熱装置としてもよい。光源により加熱装置を構成する場合には、θステージ３上に載置された基板９は、光源（図示していない）から発せられた輻射熱によって上方から加熱される。【００３５】
加熱装置６で発せられた熱は、熱伝導によりθステージ３のテーブル上に載置した基板９を所定温度に加熱する、加熱装置６の加熱温度は、加熱する基板９の温度や、熱伝導中の温度低下を考慮して設定することができる。【００３６】
また、θステージ３とＸステージ４との間は、ステージ間の熱伝導を低減するために、セラミック材等の断熱素材から成るスペーサ８が挟まれて設置される。また、θステージ３からの輻射熱がＸステージ４に達しないように、反射板７が設置される。【００３７】
Ｘステージ４は、Ｘテーブル４ａ、Ｘテーブル４ａをＸ方向に案内する一対のリニアガイド（第１Ｘリニアガイド１１及び第２Ｘリニアガイド１２）、Ｘテーブル４ａを駆動するためのＸ駆動モータ４ｂ，ボールネジ４ｃ，Ｘ軸４ｄを備える。また、Ｙステージ５は、Ｙテーブル５ａ、Ｙテーブル５ａをＹ方向に案内する一対のリニアガイド（第１Ｙリニアガイド２１及び第２Ｙリニアガイド２２）、Ｙテーブル５ａを駆動するためのＹ駆動モータ５ｂ，ボールネジ５ｃ，Ｙ軸５ｄを備える。したがって、Ｘステージ４はＹテーブル５ａを支持部としてＸ方向に移動自在とし、Ｙステージ５は真空室２等のベース部分を支持部としてＹ方向に移動自在としている。【００３８】
本発明のステージ機構１は、Ｘテーブル４ａをＸ方向に案内する一対のリニアガイドの何れか一方に、このリニアガイド（第１Ｘリニアガイド１１又は第２Ｘリニアガイド１２）の案内方向と直交する方向にこのリニアガイド（第１Ｘリニアガイド１１又は第２Ｘリニアガイド１２）を案内する第３のリニアガイド１３を備える。【００３９】
また、Ｙテーブル５ａをＹ方向に案内する一対のリニアガイドの何れか一方に、このリニアガイド（第１Ｙリニアガイド２１又は第２Ｙリニアガイド２２）の案内方向と直交する方向にこのリニアガイド（第１Ｙリニアガイド２１又は第２Ｙリニアガイド２２）を案内する第３のリニアガイド２３を備える。【００４０】
第３のリニアガイド２３を設置するか否かは、加熱装置６によるＹテーブル５ａに対する熱膨張の影響の程度に応じて定めることができる。図１に示す例では、Ｘステージ４及びＹステージ５は共に第３のリニアガイドを備えている。【００４１】
Ｘステージ４において、第２Ｘリニアガイド１２は、第２レール１２ａと第２スライダ１２ｂを備える。第２レール１２ａはＹテーブル５ａの上面にＸ方向に沿って取り付けられ、第２スライダ１２ｂはＸテーブル４ａの下面にＸ方向に沿って取り付けられる。第２スライダ１２ｂは第２レール１２ａ上をＸ方向にスライド自在とし、Ｙ方向に対しては固定されている。【００４２】
一方、第１Ｘリニアガイド１１は、第１レール１１ａと第１スライダ１１ｂを備える。第１レール１１ａはＹテーブル５ａの上面にＸ方向に沿って取り付けられ、第１スライダ１１ｂはＸテーブル４ａの下面に、第３リニアガイド１３によってＸ方向に沿って取り付けられる。第１スライダ１１ｂは、この第３リニアガイド１３によって、第１レール１１ａ上をＸ方向にスライド自在とすると共に、Ｙ方向に対しては熱膨張によるＸステージ４の変位を吸収する程度に移動可能としている。【００４３】
Ｙステージについても、Ｘ方向とＹ方向の点で相違するが、Ｘステージと同様の構成としている。【００４４】
Ｙステージ５において、第２Ｙリニアガイド２２は、第２レールと第２スライダを備える。第２レールはベース部（図示していない）上にＹ方向に沿って取り付けられ、第２スライダはＹテーブル５ａの下面にＹ方向に沿って取り付けられる。第２スライダは第２レール上をＹ方向にスライド自在とし、Ｘ方向に対しては固定されている。【００４５】
一方、第１Ｙリニアガイド２１は、第１レールと第１スライダを備える。第１レールはベース部（図示していない）上にＹ方向に沿って取り付けられ、第１スライダはＹテーブル５ａの下面に、第３リニアガイド２３によってＹ方向に沿って取り付けられる。第１スライダは、この第３リニアガイド２３によって、第１レール上をＹ方向にスライド自在とすると共に、Ｘ方向に対しては熱膨張によるＹステージ５の変位を吸収する程度に移動可能としている。【００４６】
上記した第１Ｘリニアガイド１１及び第２Ｘリニアガイド１２は、Ｙテーブル５ａに対してＸテーブル４ａをＸ方向に案内するテーブル用リニアガイドを構成し、第１Ｙリニアガイド２１及び第２Ｙリニアガイド２２は、ベース部に対してＹテーブル５ａをＹ方向に案内するテーブル用リニアガイドを構成している。【００４７】
また、第３Ｘリニアガイド１３はＸテーブル４ａのＹ方向の変位を吸収する補償用リニアガイドを構成し、第３Ｙリニアガイド２３はＹテーブル５ａのＸ方向の変位を吸収する補償用リニアガイドを構成している。【００４８】
本発明の補償用リニアガイドは、取り付けられたリニアガイドのスライド方向と直交する方向の変位を吸収する機構を、種々の形態によって実現することができる。以下、図２〜図５を用いて補償用リニアガイドの第１の形態について説明し、図６を用いて補償用リニアガイドの第２の形態について説明し、図７を用いて補償用リニアガイドの第３の形態について説明する。【００４９】
以下、補償用リニアガイドの第１の形態について図２〜図５を用いて説明する。図２，図３において、第１Ｘリニアガイド１１は、第１レール１１ａをＹテーブル５ａの上面に固定し、この第１レール１１ａに対して第１スライダ１１ｂをＸ方向にスライド自在に保持させる。【００５０】
図２（ａ），（ｂ）は、Ｘテーブル４ａのＸ方向への移動状態の前後を示している。Ｘテーブル４ａのＸ方向（図２（ａ）の矢印Ａ）の移動は、Ｘ駆動モータ４ｂによってＸ軸４ｄを回転させ、このＸ軸４ｄに取り付けられたボールネジ４ｃを駆動させることで行うことができる。ボールネジ４ｃはＸテーブル４ａに固定されて、ボールネジ４ｃがＸ軸４ｄに対して移動することで、Ｘテーブル４ａの移動が行われる。図２（ｂ）はＸテーブル４ａをＸ方向（図２（ｂ）の矢印Ｂ）に移動した状態を示している。【００５１】
第３Ｘリニアガイド１３は、第１スライダ１１ｂをレール部とし、Ｘテーブル４ａ側をスライダ部とし、Ｘテーブル４ａを第１スライダ１１ｂに対してＹ方向にスライド自在として補償用リニアガイドを構成する。【００５２】
第３Ｘリニアガイド１３において、Ｘテーブル４ａには、第１スライダ１１ｂと対向する部分にＸ方向に沿って形成した溝１３ａを備え、この溝１３ａのＹ方向の幅を第１スライダ１１ｂの幅よりも大きく形成して、第１スライダ１１ｂとの間に隙間１３ｂを設ける。この隙間１３ｂは、Ｘテーブル４ａがＹ方向に変位した際に、Ｘテーブル４ａの溝１３ａの側面と第１スライダ１１ｂの側面との当接を回避することで、第１スライダ１１ｂの第１レール１１ａに沿ったＸ方向への円滑な移動を補償する。【００５３】
図３は、Ｘテーブル４ａが熱膨張した状態を示している。なお、図３（ａ）は熱膨張前の状態を示し、図３（ｂ）は熱膨張後の状態を示している。【００５４】
熱膨張によってＸテーブル４ａがＹ方向（図３（ｂ）の矢印Ｃ）に変位すると、溝１３ａと第１スライダ１１ｂとの間にある隙間１３ｂによって、溝１３ａ内の側面は第１スライダ１１ｂの側面と当接しないため、第１スライダ１１ｂに対してＹ方向の応力は印加されず、第１スライダ１１ｂと第１レール１１ａとの間にも応力は生ぜず、第１スライダ１１ｂの第１レール１１ａに沿ったＸ方向への円滑な移動が補償される。この隙間１３ｂの大きさは、Ｘテーブル４ａの熱膨張による変位に応じて設定することができる。【００５５】
なお、このとき、第２Ｘリニアガイド１２の第２スライダ１２ｂは、Ｘテーブル４ａに固定されているが、第１Ｘリニアガイド１１に設けた第３Ｘリニアガイド１３によって変位が吸収されるため、第２Ｘリニアガイド１２の円滑な移動は補償される。【００５６】
図４は、Ｘテーブル４ａを裏面側（Ｙテーブル５ａ側）から見た図であり、図４（ａ）はＸテーブル４ａが変位する前の状態を示し、図４（ｂ）はＸテーブル４ａが変位した後状態を示している。【００５７】
図４において、第１Ｘリニアガイド１１は、第１レール１１ａに対して一対の第１スライダ１１ｂ設けた構成とし、各第１スライダ１１ｂ対して、Ｘテーブル４ａには一対の溝１３ａが形成され、第３Ｘリニアガイド１３を構成している。また、第２Ｘリニアガイド１２は、第２レール１２ａに対して一対の第２スライダ１２ｂを設け、この第２スライダ１２ｂをＸステージ４ａの下面に固定している。【００５８】
Ｘテーブル４ａが変位する（図４（ｂ）中の矢印Ｄ）と、Ｘテーブル４ａの一方は第２スライダ１２ｂによってＸステージ４で固定されるが、他方は第１スライダ１１ｂが溝１３ａ内で移動する（図４（ｂ）中の矢印Ｅ，Ｆ）ことによって、第１リニアガイド１１に対する応力や変形等の影響が補償される。【００５９】
図２〜図４は、Ｘステージ４に設けた第３Ｘリニアガイドについてのみ示しているが、Ｙステージ５についても同様に第３Ｙリニアガイドを設けることができる。【００６０】
図５（ａ）は図４と同様にＸテーブル４ａの下面を示し、図５（ｂ）はＹテーブル５ａの下面を示している。Ｙテーブル５ａの下面に設ける第１Ｙリニアガイド２１及び第２Ｙリニアガイド２２は、移動方向がＹ方向である点、スライダ部がＹテーブル５ａに取り付けられる点、レール部が真空室等のベース部で支持される点で相違するのみで、その他の構成は、前記した第１Ｘリニアガイド１１，１２とほぼ同様である。【００６１】
図５（ｂ）において、第１Ｙリニアガイド２１は、第１レール２１ａに対して一対の第１スライダ２１ｂを設けた構成とし、各第１スライダ２１ｂに対して、Ｙテーブル５ａには一対の溝２３ａが形成され、第３Ｙリニアガイド２３を構成している。また、第２Ｙリニアガイド２２は、第２レール２２ａに対して一対の第２スライダ２２ｂを設け、この第２スライダ２２ｂをＹテーブル５ａの下面に固定している。【００６２】
Ｙテーブル４ａが変位する（図５（ｂ）中の矢印Ｇ）と、一方は第２スライダ２２ｂによってＹステージ５で固定されるが、他方は第１スライダ２１ｂが溝２３ａ内で移動する（図５（ｂ）中の矢印Ｈ，Ｉ）ことによって、第１リニアガイド２１に対する応力や変形等の影響が補償される。【００６３】
次に、本発明の補償用リニアガイドの第２の形態について図６を用いて説明する。【００６４】
図６において、第１Ｘリニアガイド１１は、第１レール１１ａをＹテーブル５ａの上面に固定し、この第１レール１１ａに対して第１スライダ１１ｂをＸ方向にスライド自在に保持させる。【００６５】
第３Ｘリニアガイド１４は、第１スライダ１１ｂにＹ方向に溝１４ａを設けてレール部とし、Ｘテーブル４ａ側にこの溝１４ａをスライド自在とするスライダ１４ｂを取り付け、Ｘテーブル４ａを第１スライダ１１ｂに対してＹ方向にスライド自在として補償用リニアガイドを構成する。【００６６】
第３Ｘリニアガイド１４において、Ｘテーブル４ａがＹ方向に変位した際には、Ｘテーブル４ａに取り付けられたスライダ１４ｂが、第１スライダ１１ｂに設けた溝１４ａ内をＹ方向にスライドすることによって、Ｘテーブル４ａの変位が第１スライダ１１ｂの伝わることを回避し、これによって、第１スライダ１１ｂの第１レール１１ａに沿ったＸ方向への円滑な移動を補償する。【００６７】
次に、本発明の補償用リニアガイドの第３の形態について図７を用いて説明する。
図７において、第１Ｘリニアガイド１１は、第１レール１１ａをＹテーブル５ａの上面に固定し、この第１レール１１ａに対して第１スライダ１１ｂをＸ方向にスライド自在に保持させる。【００６８】
第３Ｘリニアガイド１５は、第１スライダ１１ｂにＹ方向に凸部１５ａを設けてレール部とし、Ｘテーブル４ａ側にこの凸部１５ａをスライド自在とするための溝スライダ１５ｂを形成し、Ｘテーブル４ａを第１スライダ１１ｂに対してＹ方向にスライド自在として補償用リニアガイドを構成する。【００６９】
第３Ｘリニアガイド１５において、Ｘテーブル４ａがＹ方向に変位した際には、Ｘテーブル４ａに形成した溝１５ｂが、第１スライダ１１ｂに設けた凸部１５ａをＹ方向に案内することによって、Ｘテーブル４ａの変位が第１スライダ１１ｂの伝わることを回避し、これによって、第１スライダ１１ｂの第１レール１１ａに沿ったＸ方向への円滑な移動を補償する。【００７０】
次に本発明に係る補償用リニアガイド１３の２つの態様について説明する。
【００７１】
まず、第１の態様として、図１０（ａ）に示すように、第１Ｘリニアガイド１１の第１レール１１ａ及び第２Ｘリニアニガイド１２の第２スライダ１２ｂは、Ｘテーブル４ａの下面に固定され、第１Ｘリニアガイド１１の第１スライダ１１ｂは、Ｙテーブル５ａに対してＸ方向と直交する方向（矢印方向）に移動可能とされ、一方、第２Ｘリニアガイド１２の第２レール１２ａはＹテーブル５ａの上面に固定されている。これにより、補償用リニアガイド１３は、Ｘテーブル４ａがＸ方向と直交する方向に変位した場合、その変位を吸収することができる。【００７２】
次に、第２の態様として、図１０（ｂ）に示すように、第１Ｘリニアガイド１１の第１スライダー１１ｂ及び第２Ｘリニアガイド１２の第２スライダ１２ｂは、Ｘテーブル４ａの下面に固定され、第１Ｘリニアガイド１１の第１レール１１ａ及び第２Ｘリニアガイド１２の第２レール１２ａは、Ｙテーブル４ａの上面に固定されている。第１Ｘリニアガイド１１の第１スライダ１１ｂは、第１レール１１ａに対してＸ方向を直交する方向（矢印方向）に移動可能とされている。これにより、補償用リニアガイド１３は、Ｘテーブル４ａがＸ方向と直交する方向に変位した場合、その変位を吸収することができる。【００７３】
なお、本発明は以上に詳述した実施形態に限られるものではない。各部の具体的な構成は上記実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。【００７４】
本願は、２００５年６月９日に出願された日本特許出願番号２００５−１６９９７３に基づき優先権主張をするものであり、同出願の明細書、図面及び特許請求の範囲を含む出願内容は、すべてを参照してここに含める。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明は、荷電粒子ビームを用いた測定装置、検査装置、あるいは加工装置等の真空装置において加熱を伴う装置に適用することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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