(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）
［Ｍｇ（ＯＨ）２］ｘ・Ａｌ２（ＯＨ）６−２ｙ−ｚ・（ＣＯ３）ｙ・（Ｃｌ）ｚ・ｎＨ２Ｏ    （Ｉ）
（式中、ｘ、ｙ、ｚおよびｎは、１≦ｘ≦１２、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、０．１≦ｎ≦１０、０．１≦（ｙ＋ｚ）≦１．５を満足する）
で表され、
(１)水酸化マグネシウムスラリー中に、(２)アルミニウム塩水溶液および(３)炭酸アルカリ水溶液または苛性アルカリ水溶液を、
各成分のモル比を、Ｍｇ／Ａｌが０.５〜１５、炭酸アルカリ／Ａｌが０．５〜１．２、苛性アルカリ／Ａｌが１〜２．４になるようにして投入し、
反応終了時点でｐＨ６.０〜９.０となるように反応ｐＨを調整し、温度１０〜５０℃で反応させることにより得られ、
粉末Ｘ線回折法による測定に基づいて、水酸化マグネシウム結晶のパターンが認められる複合金属化合物からなる、フッ素イオンを含有する排水の処理剤。
【請求項２】
式（Ｉ）中、ｘは、２≦ｘ≦７の範囲を満足する請求項１記載の処理剤。
【請求項３】
式（Ｉ）中、（ｙ＋ｚ）は、０．１５≦（ｙ＋ｚ）≦１．２の範囲を満足する請求項１記載の処理剤。
【請求項４】
式（Ｉ）中、ｎは、０．５≦ｎ≦５の範囲を満足する請求項１記載の処理剤。
【請求項５】
複合金属化合物は、粉末Ｘ線回折法による測定に基づいて、ハイドロタルサイト、水酸化アルミニウムおよび炭酸マグネシウムの結晶パターンが認められない請求項１記載の処理剤。
【請求項６】
複合金属化合物は、レーザー光回折散乱法により測定された平均粒子径が０．１〜５０μｍの範囲である請求項１記載の処理剤。
【請求項７】
複合金属化合物は、水中におけるフッ素イオン濃度を８ｍｇ／Ｌ以下とすることが可能である請求項１記載の処理剤。
【請求項８】
複合金属化合物は、水中におけるフッ素イオン濃度を０．８ｍｇ／Ｌ以下とすることが可能である請求項１記載の処理剤。
【請求項９】
フッ素イオンを含有する排水に、下記式（Ｉ）、
［Ｍｇ（ＯＨ）２］ｘ・Ａｌ２（ＯＨ）６−２ｙ−ｚ・（ＣＯ３）ｙ・（Ｃｌ）ｚ・ｎＨ２Ｏ    （Ｉ）
（式中、ｘ、ｙ、ｚおよびｎは、１≦ｘ≦１２、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、０．１≦ｎ≦１０、０．１≦（ｙ＋ｚ）≦１．５を満足する）
で表され、
(１)水酸化マグネシウムスラリー中に、(２)アルミニウム塩水溶液および(３)炭酸アルカリ水溶液または苛性アルカリ水溶液を、
各成分のモル比を、Ｍｇ／Ａｌが０.５〜１５、炭酸アルカリ／Ａｌが０．５〜１．２、苛性アルカリ／Ａｌが１〜２．４になるようにして投入し、
反応終了時点でｐＨ６.０〜９.０となるように反応ｐＨを調整し、温度１０〜５０℃で反応させることにより得られ、
粉末Ｘ線回折法による測定に基づいて、水酸化マグネシウム結晶のパターンが認められる複合金属化合物を接触せしめることを特徴とする、排水中のフッ素イオンを低減させる方法。
【請求項１０】
フッ素イオンの濃度が０.８５〜３００ｍｇ／Ｌの排水に、複合金属化合物を接触せしめる請求項９記載の方法。
【請求項１１】
排水１００重量部当り、複合金属化合物０．１〜１０重量部を接触せしめる請求項９記載の方法。
【請求項１２】
接触は、４〜６０℃の範囲の温度で行う請求項９記載の方法。
【請求項１３】
接触と同時にあるいは接触後に、凝集剤を添加する請求項９記載の方法。
【請求項１４】
複合金属化合物１重量部当り、凝集剤０．０１〜０．５重量部を添加する請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
接触後の排水ｐＨが、５．６〜８．６である請求項９記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フッ素イオンを含有する排水の処理剤に関する。また本発明は、排水中のフッ素イオンを低減させる方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
工場排水中にはフッ素イオン（フッ素と称することがある）が含有されていることが多々あり、特に半導体製造時にシリコンウエハーのエッチング剤として多量のフッ酸が使用されている。このフッ酸は、水等で洗浄されるが排水中に高濃度のフッ素が含まれている。そして、環境庁発令の排水基準によれば検液中に８ｍｇ／Ｌ以下、また、土壌基準によれば検液中に０．８ｍｇ／Ｌ以下のフッ素濃度が定められている。
フッ素含有排水中のフッ素を除去する方法としては、フッ素含有排水にカルシウム塩を加えて難溶性のフッ化カルシウムを生成させる方法が提案されている（特許文献１参照）。
【０００３】
また、フッ素含有排水に、化学組成式Ｍ１‐ｘ２＋Ｍｘ３＋（ＯＨ‐）２＋ｘ‐ｙ（Ａｎ‐）ｙ／ｎ
［式中、Ｍ２＋は、Ｍｇ２＋、Ｎｉ２＋、Ｚｎ２＋、Ｆｅ２＋、Ｃａ２＋およびＣｕ２＋からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを示し、Ｍ３＋は、Ａｌ３＋およびＦｅ３＋からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを示し、Ａｎ‐はｎ価のアニオンを示す。また、０．１≦ｘ≦０．５であり、０．１≦ｙ≦０．５であり、ｎは１または２である。］で表される複合金属水酸化物を加える方法、および
化学組成式Ｍ１‐ｘ２＋Ｍｘ３＋Ｏ２‐ｘ／２２‐［式中、Ｍ２＋は、Ｍｇ２＋、Ｎｉ２＋、Ｚｎ２＋、Ｆｅ２＋、Ｃａ２＋およびＣｕ２＋からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを示し、Ｍ３＋はＡｌ３＋およびＦｅ３＋からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを示す。また、０．１≦ｘ≦０．５である。］で表される複合金属酸化物を加える方法が提案されている（特許文献２参照）。
しかしながら、フッ素含有排水にカルシウム塩を加えてフッ化カルシウムを生成させる方法は、フッ化カルシウムの溶解度が０．００１６ｇ／１００ｇ（１８℃）と大きく土壌基準をクリアすることができない。また、特許文献２の複合金属水酸化物および複合金属酸化物をフッ素含有排水に添加する方法も土壌基準のフッ素濃度０．８ｍｇ／Ｌ以下をクリアすることが出来ていない。
【特許文献１】特開平１０−５７９６９号公報
【特許文献２】特開２００４−４１８９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、フッ素イオンの吸着能に優れた排水処理剤を提供することを目的とする。また本発明は、排水中のフッ素イオンを除去する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、フッ素イオン吸着能に優れた物質を鋭意検討した。その結果、特定の複合金属化合物が優れたフッ素吸着能を有することを見出し本発明を完成した。また、かかる複合金属化合物を高濃度のフッ素を含有する排水に添加することにより、処理後液中のフッ素濃度を排水基準の８ｍｇ／Ｌ以下、さらには土壌基準の０．８ｍｇ／Ｌ以下とすることが可能であることを見出し本発明を完成した。
【０００６】
即ち、本発明は、下記式（Ｉ）
［Ｍｇ（ＯＨ）２］ｘ・Ａｌ２（ＯＨ）６−２ｙ−ｚ・（ＣＯ３）ｙ・（Ｃｌ）ｚ・ｎＨ２Ｏ    （Ｉ）
（式中、ｘ、ｙ、ｚおよびｎは、１≦ｘ≦１２、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、０．１≦ｎ≦１０、０．１≦（ｙ＋ｚ）≦１．５を満足する）
で表され、
(１)水酸化マグネシウムスラリー中に、(２)アルミニウム塩水溶液および(３)炭酸アルカリ水溶液または苛性アルカリ水溶液を、
各成分のモル比を、Ｍｇ／Ａｌが０.５〜１５、炭酸アルカリ／Ａｌが０．５〜１．２、苛性アルカリ／Ａｌが１〜２．４になるようにして投入し、
反応終了時点でｐＨ６.０〜９.０となるように反応ｐＨを調整し、温度１０〜５０℃で反応させることにより得られ、
粉末Ｘ線回折法による測定に基づいて、水酸化マグネシウム結晶のパターンが認められる複合金属化合物からなる、フッ素イオンを含有する排水の処理剤である。
また本発明は、フッ素イオンを含有する排水に、下記式（Ｉ）、
［Ｍｇ（ＯＨ）２］ｘ・Ａｌ２（ＯＨ）６−２ｙ−ｚ・（ＣＯ３）ｙ・（Ｃｌ）ｚ・ｎＨ２Ｏ    （Ｉ）
（式中、ｘ、ｙ、ｚおよびｎは、１≦ｘ≦１２、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、０．１≦ｎ≦１０、０．１≦（ｙ＋ｚ）≦１．５を満足する）
で表され、
(１)水酸化マグネシウムスラリー中に、(２)アルミニウム塩水溶液および(３)炭酸アルカリ水溶液または苛性アルカリ水溶液を、
各成分のモル比を、Ｍｇ／Ａｌが０.５〜１５、炭酸アルカリ／Ａｌが０．５〜１．２、苛性アルカリ／Ａｌが１〜２．４になるようにして投入し、
反応終了時点でｐＨ６.０〜９.０となるように反応ｐＨを調整し、温度１０〜５０℃で反応させることにより得られ、
粉末Ｘ線回折法による測定に基づいて、水酸化マグネシウム結晶のパターンが認められる複合金属化合物を接触せしめることを特徴とする、排水中のフッ素イオンを低減させる方法である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の処理剤は、優れたフッ素イオン吸着能を有する。本発明方法によれば、排水中のフッ素イオンを低減させることができる。また本発明方法によれば、排水中のフッ素イオン濃度を排水基準以下、さらには土壌基準以下にすることができる。また本発明方法によれば、ｐＨ４程度の高濃度フッ素イオン含有排水のｐＨを中和し排水基準内とすることができる。さらに本発明方法によれば、排水中に多量の各種陰イオン（ＳＯ４２‐、Ｃｌ‐、ＮＯ３‐等）が存在していても選択的にフッ素イオンを吸着することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
＜排水の処理剤＞
本発明は、下記式（Ｉ）、
［Ｍｇ（ＯＨ）２］ｘ・Ａｌ２（ＯＨ）６−２ｙ−ｚ・（ＣＯ３）ｙ・（Ｃｌ）ｚ・ｎＨ２Ｏ    （Ｉ）
（式中、ｘ、ｙ、ｚおよびｎは、１≦ｘ≦１２、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、０．１≦ｎ≦１０、０．１≦（ｙ＋ｚ）≦１．５を満足する）
で表される複合金属化合物からなる、フッ素イオンを含有する排水の処理剤である。
式（Ｉ）中、ｘは、１≦ｘ≦１２、好ましくは２≦ｘ≦７を満足する。ｙは、０≦ｙ≦１、好ましくは０．１≦ｙ≦０．８を満足する。ｚは、０≦ｚ≦１、好ましくは０．１≦０．５を満足する。ｎは、０．１≦ｎ≦１０、好ましくは０．５≦ｎ≦５を満足する。
ｙ＋ｚは、０．１≦（ｙ＋ｚ）≦１．５、好ましくは０．１５≦（ｙ＋ｚ）≦１．２を満足する。
【０００９】
ｘが１未満となると、理由は不明であるがフッ素イオン吸着容量が極端に低くなる。また、ｘが１２を超えると式（Ｉ）中の水酸化アルミニウム様物質生成量が極端に少なくなるので、これまたフッ素イオン吸着容量が極端に低くなる。ｙ＋ｚが０．１未満になると、フッ素イオン吸着サイトが極端に少なくなるので、フッ素イオン吸着容量が極端に低くなる。また、ｙ＋ｚは、高いほどフッ素イオン吸着容量は高くなるが、１．５を超える物質は合成することができない。ｎを０．１未満にするためには乾燥時に多大の熱エネルギーを必要とするために経済的に不利である。また、ｎが１０を超えると化合物中の固形分含有量が極端に少なくなり、フッ素イオン吸着容量が低くなる。
【００１０】
複合金属化合物として、下記式（Ｉ−１）
［Ｍｇ（ＯＨ）２］ｘ・Ａｌ２（ＯＨ）６‐２ｙ・（ＣＯ３）ｙ・ｎＨ２Ｏ    (I-1)
（式(I-1)中、ｘ、ｙ、ｎは、１≦ｘ≦１２、０≦ｙ≦１、０．５≦ｎ≦３．０を満足する）
で表される化合物が好ましい。
また下記式（Ｉ−２）
［Ｍｇ（ＯＨ）２］ｘ・Ａｌ２（ＯＨ）６‐２ｙ‐ｚ・（ＣＯ３）ｙ・（Ｃｌ）ｚ・ｎＨ２Ｏ  （Ｉ−２）
（式（Ｉ−２）中、ｘ、ｙ、ｚ、ｎは、１≦ｘ≦１２、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、０．１≦ｎ≦１０、０．１≦（ｙ＋ｚ）≦１．５を満足する）
で表される化合物が好ましい。この化合物（Ｉ−２）は、上記式（Ｉ−１）で表される化合物のＣＯ３を、塩酸を用いてＣｌにイオン交換することにより製造することができる。
【００１１】
複合金属化合物は、粉末Ｘ線回折法による測定に基づいて、水酸化マグネシウム結晶のパターンが認められる化合物であり、複合金属化合物と同様な化学組成を有する物質としてハイドロタルサイトが良く知られているが、複合金属化合物は粉末Ｘ線回折法による構造解析からハイドロタルサイトとは全く異なる物質であることが分かる。
すなわち、本発明の式（Ｉ）で表される複合金属化合物は、粉末Ｘ線回折法による測定に基づいて、ハイドロタルサイトの結晶パターンは認められない。また同様の回折法による測定に基づいて水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウム、塩化アルミニウムおよび塩化マグネシウムの結晶のパターンも実質的に認められない。
排水処理剤としての複合金属化合物は、排水中において拡散されやすい微粒子であることが好ましく、レーザー光回折散乱法による平均粒径が、好ましくは０．１〜５０μｍ、より好ましくは０．５〜２０μｍである。
【００１２】
複合金属化合物は、(１)水酸化マグネシウムスラリーと、(２)アルミニウム塩水溶液および(３)炭酸アルカリ水溶液または苛性アルカリ水溶液とを、反応させることにより製造することが出来る。
(２)アルミニウム塩としては、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等が挙げられる。また(３)炭酸アルカリとしては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム等が上げられる。(３)苛性アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム等が挙げられる。（１）水酸化マグネシウムスラリーは、Ｍｇ(ＯＨ)２スラリーであれば何の制限もない。
【００１３】
各成分のモル比は、Ｍｇ／Ａｌが好ましくは０.５〜１５、より好ましくは１．０〜４．０になるようにする。炭酸アルカリ／Ａｌが好ましくは０〜１.４、より好ましくは０．５〜１．２になるようにする。苛性アルカリ／Ａｌが好ましくは０〜２.８、より好ましくは１〜２．４になるようにする。
この反応方法の特徴は、(２)アルミニウム塩水溶液の使用量に対する(３)炭酸アルカリまたは苛性アルカリの使用量を理論等量以下とすることである。そして、不足のアルカリ源を水酸化マグネシウムから得ることである。このようにすることにより、単純な水酸化マグネシウムと単純な水酸化アルミニウムの混合物ではなく、非晶質ではあるがアルミニウムとマグネシウムの相互作用を持った水酸化物と、水酸化マグネシウムの混合物の形態となっていると推測される。
この製法では、アルミニウム塩水溶液、炭酸アルカリ水溶液の必要量を同時に、必要量の水酸化マグネシウムスラリー中に投入することにより、式（Ｉ）で表される複合金属化合物を得ることができる。反応ｐＨは、反応終了時点でｐＨ６.０〜９.０となるように調整し、反応温度は１０〜５０℃に調整することが好ましい。Ｃｌの導入は、得られた複合金属化合物を塩酸で洗浄すれば得られる。
【００１４】
＜排水中のフッ素イオン濃度を低減させる方法＞
本発明は、フッ素イオンを含有する排水に、上記複合金属化合物を接触せしめることを特徴とする、排水中のフッ素イオン濃度を低減させる方法である。半導体製造工場から排出される排水中のフッ素イオンの濃度は通常０．８５〜３００ｍｇ／Ｌであるが、複合金属化合物の添加量を調整することにより高濃度の排水にも対応することができる。
排水と複合金属化合物との接触は、排水を液全体が混ざる程度に攪拌しながら、複合金属化合物を投入することにより行うことができる。かかる接触によりフッ素イオンを処理剤に吸着させることが出来る。接触の時間は５分以内で十分である。
複合金属化合物の使用量は、排水中のフッ素イオン含有量および処理後の排水中のフッ素イオン濃度を幾らに設定するかによって異なるが、一般に、排水１００重量部当り、複合金属化合物が、好ましくは０．１〜１０重量部、より好ましくは１〜５重量部である。１０重量部以上になると、処理後の廃棄物の廃棄費用が高くなり現実的でなくなる。
【００１５】
排水に複合金属化合物を投入し、フッ素イオンを除去した上澄み液を速やかに廃棄するために、凝集剤を投入し速やかに複合金属化合物を沈降させることが工業的に有利である。この目的で凝集剤を使用する。凝集剤の種類としては、アニオン系凝集剤のポリアクリルアミド系の化合物が有効である。凝集剤の使用量は、複合金属化合物１重量部当り、好ましくは０．０１〜０．５重量部、より好ましくは０.０５〜０.３重量部である。その際、凝集剤の添加は、複合金属化合物を添加した後でも良く、これらを同時に添加しても良い。即ち、フッ素イオンを含有する排水に、複合金属化合物を接触させると同時に、あるいは接触後に、凝集剤を添加することが好ましい。
排水に、複合金属化合物および凝集剤を接触させる際の温度は、好ましくは４〜６０℃、より好ましくは１０〜２５℃である。例えば冬季を想定した液温４℃と、夏季を想定した４０℃とで、フッ素除去効率は同程度である。
本発明の処理剤を用いると、排水中のフッ素イオン濃度を８ｍｇ／Ｌ以下とすることが可能である。本発明の処理剤を用いると、排水中のフッ素イオン濃度を０．８ｍｇ／Ｌ以下とすることもできる。また、本発明の処理剤を用いると、ｐＨ３以下の排水をｐＨ５．６〜８．６にすることができる。
【実施例】
【００１６】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。尚、複合金属化合物中のアルミニウム、マグネシウムはキレート法、炭酸イオンはＪＩＳ Ｋ９１０１で、ＣｌイオンはＶＯＬＨＡＲＤ法、Ｘ線回折は理学電気（株）製のＲＩＮＰ２２００Ｖを用いてＣｕ−ｋαにて測定した。
Ｔａｒｇｅｔ：Ｃｕ，  Ｆｉｌｔｅｒ：Ｎｉ，Ｖｏｌｔａｇｅ：４０ＫＶ，Ｃｕｒｒｅｎｔ：２０ｍＡ，Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｓｐｅｅｄ：２°／ｍｉｎ．，Ｓｌｉｔ→ＤＳ  １°ＲＳ  ０．３ｍｍ    ＳＳ  １°
【００１７】
＜実施例１＞複合金属化合物Ａの合成
３Ｌ用ビーカーに、水道水６００ｍＬおよび協和化学工業株式会社製の水酸化マグネシウム(キスマＦ)１００ｇを投入し水酸化マグネシウムスラリーとし(２.８６モル／Ｌ)、攪拌下に、０.５２モル／Ｌ硫酸アルミニウム水溶液８５０ｍＬおよび０.７５モル／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液１４００ｍＬを、それぞれの定量ポンプを用いて同時に３０分間で投入した。反応温度は２０℃で実施し、また、反応終了後のｐＨは７.８であった。
反応液はろ過水洗し、６０℃で２０時間オーブンにて乾燥し、ラボスケールハンマーミルで粉砕し、複合金属化合物Ａを得た。反応条件の詳細および得られた複合金属化合物Ａの組成を表１に示す。また、得られた複合金属化合物ＡのＸ線回折図を図１に示す。図１から明らかなように、複合金属化合物ＡのＸ線回折パターンは水酸化マグネシウム結晶のパターンのみである。
【００１８】
＜実施例２＞複合金属化合物Ｂの合成
３.５Ｌ容ビーカーに、実施例１と同じ水酸化マグネシウムを用いて２.０モル／Ｌ水酸化マグネシウムスラリーを１Ｌ調製し、攪拌下に、１モル／Ｌ塩化アルミニウム水溶液７７０ｍＬおよび０.７５モル／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液１２５０ｍＬを、それぞれの定量ポンプを用いて同時に３０分間で投入した。反応温度は３０℃で実施し、また、反応終了後のｐＨは８.３であった。
反応液はろ過水洗し、６０℃で２０時間オーブンにて乾燥し、ラボスケールハンマーミルで粉砕し、複合金属化合物Ｂを得た。反応条件の詳細および得られた複合金属化合物Ｂの組成を表１に示す。
【００１９】
＜実施例３＞複合金属化合物Ｃの合成
３.５Ｌ容ビーカーに、実施例１と同じ水酸化マグネシウムを用いて２.５モル／Ｌ水酸化マグネシウムスラリーを１Ｌ調製し、攪拌下に、１モル／Ｌ硝酸アルミニウム水溶液７７０ｍＬおよび０.７５モル／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液１２００ｍＬを、それぞれの定量ポンプを用いて同時に３０分間で投入した。反応温度は４０℃で実施し、また、反応終了後のｐＨは８.７であった。反応液はろ過水洗し、６０℃で２０時間オーブンにて乾燥し、ラボスケールハンマーミルで粉砕し、複合金属化合物Ｃを得た。反応条件の詳細および得られた複合金属化合物Ｃの組成を表１に示す。
【００２０】
＜実施例４＞複合金属化合物Ｄの合成
１００ｇの複合金属化合物Ａを１Ｌの純水に懸濁後、ろ過した。続いて、０．５モル／Ｌ塩酸８６０ｍＬを通液した後、１．５Ｌの水道水を通水し、６０℃で２０時間オーブンにて乾燥した。その後、ラボスケール粉砕機で粉砕することにより塩素を含有する化合物Ｄを得た。得られた複合金属化合物Ｄの組成を表１に示す。また、得られた複合金属化合物ＤのＸ線回折図を図２に示す。
【００２１】
【表１】
0004845188.tif 000002
【００２２】
【表２】
0004845188.tif 000003
【００２３】
＜実施例５＞
１ｇの複合金属化合物Ａを表２に示すイオンを含む半導体製造工場より排出された排水１００ｍＬに添加し、５分間マグネティックスタラーを用いて攪拌した。その後、固液分離し、上澄み液中のｐＨをｐＨメータで、フッ素（Ｆ）イオン濃度をＪＩＳ  Ｋ０１０２  ３４．１に準じて測定した。測定結果を表３に示す。
【００２４】
＜実施例６＞
複合金属化合物Ａの使用量を３．５ｇとした以外は、実施例５と同じ操作を実施した。測定結果を表３に示す。
【００２５】
＜実施例７＞
複合金属化合物Ａの代わりに複合金属化合物Ｂを用いた以外は実施例６と同じ操作を実施した。測定結果を表３に示す。
【００２６】
＜実施例８＞
複合金属化合物Ｂの代わりに複合金属化合物Ｃを用いた以外は、実施例６と同じ操作を実施した。測定結果を表３に示す。
【００２７】
＜実施例９＞
複合金属化合物Ｂの代わりに複合金属化合物Ｄを用いた以外は、実施例６と同じ操作を実施した。測定結果を表３に示す。
【００２８】
＜実施例１０＞
実施例６の方法でＦイオン吸着処理後、住友アルケム（株）製アニオン性高分子凝集剤「スミフロックＦＡ−４０」を５ｐｐｍ添加し、攪拌したところ２０秒で良好なフロックが形成され容易に固液分離できた。上澄み液中のｐＨをｐＨメータで、フッ素（Ｆ）イオン濃度をＪＩＳ  Ｋ０１０２  ３４．１に準じて測定した。測定結果を表３に示す。
【００２９】
＜実施例１１＞
表２に示すイオンを含む半導体製造工場より排出された排水に、純水を加えてフッ素イオン濃度を２ｍｇ／Ｌに調整した水溶液を作成した。該水溶液１００ｍＬに、複合金属化合物Ａを０．１ｇ添加し、５分間マグネティックスタラーを用いて攪拌した。その後、固液分離し、上澄み液中のｐＨをｐＨメータで、フッ素（Ｆ）イオン濃度をＪＩＳ  Ｋ０１０２  ３４．１に準じて測定した。測定結果を表３に示す。
【００３０】
＜実施例１２＞
表２に示すイオンを含む半導体製造工場より排出された排水に、フッ化ナトリウムを加えてフッ素イオン濃度を３００ｍｇ／Ｌに調整した水溶液を作成した。該水溶液１００ｍＬに、複合金属化合物Ａを１１．０ｇ添加し、５分間マグネティックスタラーを用いて攪拌した。その後、固液分離し、上澄み液中のｐＨをｐＨメータで、フッ素（Ｆ）イオン濃度をＪＩＳ  Ｋ０１０２  ３４．１に準じて測定した。測定結果を表３に示す。
【００３１】
＜比較例１＞
消石灰１ｇを、表２に示すイオンを含む半導体製造工場より排出された排水１００ｍＬに添加し、５分間マグネティックスタラーを用いて攪拌した。その後、固液分離し、上澄み液中のｐＨをｐＨメータで、フッ素（Ｆ）イオン濃度をＪＩＳ  Ｋ０１０２  ３４．１に準じて測定した。測定結果を表３に示す。
【００３２】
＜比較例２＞
消石灰使用量を３．５ｇとした以外は比較例１と同操作を実施した。測定結果を表３に示す。
【００３３】
＜比較例３＞
協和化学工業株式会社製ハイドロタルサイト類化合物(ＤＨＴ−４)３.５ｇを、表２に示すイオンを含む半導体製造工場より排出された排水１００ｍＬに添加し、５分間マグネティックスタラーを用いて攪拌した。後、固液分離し、上澄み液中のｐＨをｐＨメータで、フッ素（Ｆ）イオン濃度をＪＩＳ  Ｋ０１０２  ３４．１に準じて測定した。測定結果を表３に示す。
【００３４】
【表３】
0004845188.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００３５】
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】複合金属化合物ＡのＸ線回折図である。
【図２】複合金属化合物ＤのＸ線回折図である。
【図１】
0004845188.tif 000005
【図２】
0004845188.tif 000006