(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機粒子と、アルカリ可溶性樹脂と、１分子中に少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し、かつ、アセタール結合、ヘミアセタールエステル結合およびモノチオアセタール結合から選ばれる結合を少なくとも１つ有する光硬化剤と、光重合開始剤とを含有し、前記アルカリ可溶性樹脂が、下記条件（１）〜（３）：
（１）重量平均分子量が５，０００〜１００，０００であること、
（２）ガラス転移温度が０℃〜１２０℃であること、
（３）熱重量分析で重量変化がなくなるところを重量減少率１００％としたときに、重量減少率が１０％となる温度が１５０℃以上であり、かつ、４５０℃における重量減少率が９０％以上であること、
を満たすことを特徴とするディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記光硬化剤が、下記式（１）および（２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基を有することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物。
【化１】
0004697031.tif 000014
［式（１）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は有機残基を表し、Ｒ3は水素原子または有機残基を表し、＊は分子骨格に結合する部位を表す。］
【化２】
0004697031.tif 000015
［式（２）中、Ｒ4は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ5は有機残基を表し、Ｒ6は水素原子または有機残基を表し、＊は分子骨格に結合する部位を表す。］
【請求項３】
前記式（１）中のＲ2および前記式（２）中のＲ5が、重合度が１〜１５のポリエチレングリコール骨格、ポリプロピレングリコール骨格もしくはポリブチレングリコール骨格であることを特徴とする請求項２に記載のディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記光硬化剤が、下記式（３）で表される化合物と、水酸基、チオール基および／またはカルボキシル基を有する化合物とを、酸触媒の存在下で付加反応させることにより得られた化合物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物。
【化３】
0004697031.tif 000016
［式（３）中、Ｒ7は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ8は有機残基を表し、Ｒ9は水素原子または有機残基を表す。］
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物から得られる無機粒子含有感光性樹脂組成層を有することを特徴とする感光性フィルム。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物からなる無機粒子含有感光性樹脂層を基板上に形成する工程、
該無機粒子含有感光性樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
該無機粒子含有感光性樹脂層を、水を含有する現像液で現像処理してパターンを形成する工程、および
該パターンを焼成処理する工程
を含むことを特徴とする無機パターン形成方法。
【請求項７】
請求項５に記載の感光性フィルムを用いて、該感光性フィルムを構成する無機粒子含有感光性樹脂層を基板上に転写する工程、
該無機粒子含有感光性樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
該無機粒子含有感光性樹脂層を、水を含有する現像液で現像処理してパターンを形成する工程、および
該パターンを焼成処理する工程
を含むことを特徴とする無機パターン形成方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の無機パターン形成方法によって、誘電体、電極、抵抗体、蛍光体、隔壁、カラーフィルターおよびブラックマトリスクから選ばれる少なくとも１種のディスプレイ部材を形成する工程を含むことを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項９】
前記フラットパネルディスプレイがプラズマディスプレイパネルであることを特徴とする請求項８に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機粒子含有感光性樹脂組成物、感光性フィルムおよび無機パターン形成方法に関する。より詳細には、フラットパネルディスプレイの各表示セルを構成する誘電体、電極、抵抗体、蛍光体、隔壁、カラーフィルターおよびブラックマトリスクを有するディスプレイパネルにおいて、有機成分の熱分解性に優れ、精度の高いパターンを形成するのに好適に使用することができる無機粒子含有感光性組成物、該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性フィルム、および該組成物もしくは感光性フィルムを用いた無機パターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、回路基板やディスプレイにおけるパターン加工に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。このような要求が高まっているディスプレイの中でも、特にプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は対抗配置されたガラス基板、１０３および１１１は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、背面隔壁１０３および前面隔壁１１１によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光物質であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の表面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の表面に形成された誘電体層であり、１１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＦＰＤにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００４】
ＦＰＤ部材である隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックス等の形成方法としては、（１）基板上に、無機粒子含有非感光性樹脂を所望のパターンとなるようにスクリーン印刷し、これを焼成するスクリーン印刷法、（２）基板上に無機粒子含有感光性樹脂層を形成し、所望のパターンが描かれたフォトマスクを介して、前記感光性樹脂層に赤外線または紫外線を照射した上で現像することにより、基板上に所望のパターンを残存させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法などが知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００５】
前記スクリーン印刷法ではパネルの大型化および高精細化に伴い、パターン精度の要求が非常に厳しくなり、通常のスクリーン印刷では対応できないという問題がある。また、前記フォトリソグラフィー法ではパターンの精度には優れているものの、焼成工程における感光性組成物の熱分解性不良や大幅な収縮が観察されるという問題があった。
【特許文献１】特開平１１−４４９４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決しようとするものであり、精度の高いパターンを形成するこ
とができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ないディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性組成物を提供することを目的とする。
【０００７】
また、本発明は、上記無機粒子含有感光性樹脂組成物から形成され、精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れる無機粒子含有樹脂層を有する感光性フィルムを提供すること、ならびに、本発明の組成物もしくは感光性フィルムを用いた無機パターン形成方法および該無機パターン形成方法を含むフラットパネルディスプレイの製造方法を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の光硬化剤を含む無機粒子含有樹脂組成物を用いることで、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明に係るディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物は、無機粒子と、アルカリ可溶性樹脂と、１分子中に少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し、かつ、アセタール結合、ヘミアセタールエステル結合およびモノチオアセタール結合から選ばれる結合を少なくとも１つ有する光硬化剤と、光重合開始剤とを含有することを特徴とする。
【００１０】
前記アルカリ可溶性樹脂は、下記条件（１）〜（３）：
（１）重量平均分子量が５，０００〜１００，０００であること、
（２）ガラス転移温度が０℃〜１２０℃であること、
（３）熱重量分析で重量変化がなくなるところを重量減少率１００％としたときに、重量減少率が１０％となる温度が１５０℃以上であり、かつ、４５０℃における重量減少率が９０％以上であること
を満たすことが好ましい。
【００１１】
前記光硬化剤は、下記式（１）および（２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基を有することが好ましい。
【００１２】
【化１】
0004697031.tif 000002
【００１３】
式（１）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は有機残基を表し、Ｒ3は水素
原子または有機残基を表し、＊は分子骨格に結合する部位を表す。
【００１４】
【化２】
0004697031.tif 000003
【００１５】
式（２）中、Ｒ4は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ5は有機残基を表し、Ｒ6は水素
原子または有機残基を表し、＊は分子骨格に結合する部位を表す。
前記式（１）中のＲ2および前記式（２）中のＲ5は、重合度が１〜１５のポリエチレングリコール骨格、ポリプロピレングリコール骨格もしくはポリブチレングリコール骨格であることが好ましい。
【００１６】
前記光硬化剤は、下記式（３）で表される化合物と、水酸基、チオール基および／またはカルボキシル基を有する化合物とを、酸触媒の存在下で付加反応させることにより得られた化合物であることが好ましい。
【００１７】
【化３】
0004697031.tif 000004
【００１８】
式（３）中、Ｒ7は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ8は有機残基を表し、Ｒ9は水素
原子または有機残基を表す。
本発明に係る感光性フィルムは、上記本発明のディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物から得られる無機粒子含有感光性樹脂組成層を有することを特徴とする。
【００１９】
本発明に係る第１の無機パターン形成方法は、上記本発明のディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物からなる無機粒子含有感光性樹脂層を基板上に形成する工程、該無機粒子含有感光性樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、該無機粒子含有感光性樹脂層を水現像処理してパターンを形成する工程、および該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする。
【００２０】
本発明に係る第２の無機パターン形成方法は、上記本発明の感光性フィルムを用いて、該感光性フィルムを構成する無機粒子含有感光性樹脂層を基板上に転写する工程、該無機粒子含有感光性樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、該無機粒子含有感光性樹脂層を水現像処理してパターンを形成する工程、および該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする。
【００２１】
本発明に係るフラットパネルディスプレイの製造方法は、上記本発明の無機パターン形成方法によって、誘電体、電極、抵抗体、蛍光体、隔壁、カラーフィルターおよびブラックマトリスクから選ばれる少なくとも１種のディスプレイ部材を形成する工程を含むことを特徴とする。前記フラットパネルディスプレイの好ましい例としてプラズマディスプレイパネルが挙げられる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の無機粒子含有感光性組成物および感光性フィルムは、精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ないことから、フラットパネルディスプレイの各表示セルを構成する部材形成に好適に使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明に係るディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性組成物、感光性フィルムおよび無機パターン形成方法について、詳細に説明する。
〔ディスプレイ部材形成用無機粒子含有感光性樹脂組成物〕
本発明のディスプレイ部材形成用無機粉体含有感光性樹脂組成物は、無機粒子と、アルカリ可溶性樹脂と、１分子中に少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し、かつ、アセタール結合、ヘミアセタールエステル結合およびモノチオアセタール結合から選ばれる結合を少なくとも１つ有する光硬化剤と、光重合開始剤とを含有する。
【００２４】
＜無機粒子＞
本発明の組成物に用いられる無機粒子は、形成材料の種類によって異なる。特にＦＰＤを構成する誘電体および隔壁形成材料に使用される無機粒子としては、ガラス粉末などが挙げられる。
【００２５】
本発明の組成物に用いられるガラス粉末としては、熱軟化点が３００〜６５０℃、好ましくは３５０〜６００℃の低融点ガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の熱軟化点が上記範囲よりも低いと、上記組成物から形成された無機粒子含有感光性樹脂層の焼成工程において、樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまう。そのため、形成される部材中に有機物質の一部が残留し、その結果、誘電体層や隔壁などの部材が着色されて、その光透過率が低下するおそれがある。一方、ガラス粉末の熱軟化点が上記範囲を超えると、高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
【００２６】
上記ガラス粉末としては、たとえば、（１）Ｂｉ2Ｏ3−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3系、（２）Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系、（３）Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ｌｉ2Ｏ系、（４）Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏ系、（５）Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系、（６
）Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、（７）Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｎａ2Ｏ系、（８）Ｂｉ2
Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ系、（９）Ｂｉ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｎＯ系、（１０）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ｌｉ2Ｏ系、（１１）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏ系、（１２）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系、(１３）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＭｇＯ系、（１４）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＣａＯ系、（１５）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＭａＯ系、（１６）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｒＯ系、（１７）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−Ｌｉ2Ｏ系、（１８）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−Ｎａ2Ｏ系、（１９）ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｒＯ2−Ｋ2Ｏ系、（２０）Ａｌ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ−Ｌｉ2Ｏ−ＭｇＯ−Ｎａ2Ｏ−Ｓ
ｒＯ−ＴｉＯ2−ＺｎＯ系、（２１）Ａｌ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ−Ｌｉ2Ｏ−ＭｇＯ−Ｎａ2Ｏ−ＴｉＯ2−ＺｎＯ系、（２２）Ａｌ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ−Ｌｉ2Ｏ−ＭｇＯ−Ｎａ2Ｏ−Ｆｅ2Ｏ3−ＴｉＯ2−ＺｎＯ系などのガラス粉
末を挙げることができる。
【００２７】
上記ガラス粉末の形状としては特に限定されない。上記ガラス粉末は１種単独で用いても、異なるガラス粉末組成、異なる軟化点、異なる形状、異なる平均粒子径を有するガラス粉体を２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００２８】
上記ガラス粉末は、より高精細化のパターニングを得るために、酸化珪素を５〜５０重量％の範囲で含有することが好ましく、１０〜３０重量％の範囲で含有することがより好ましい。酸化珪素は、ガラスの緻密性、強度および安定性を向上させる働きを有するとともに、ガラスの低屈折率化にも効果がある。また、熱膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチによる剥離等を防ぐこともできる。酸化珪素の含有量が５重量％以上であることにより、熱膨張係数を小さく抑え、ガラス基板に焼き付けた時に起こるクラックの発生を低減することができるとともに、屈折率を低く抑えることができる。また、酸化珪素の含有量が５０重量％以下であることにより、ガラス転移点および荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付け温度を低くすることができる。
【００２９】
上記ガラス粉末は、酸化ホウ素を１０〜５０重量％の範囲で含有することが好ましく、２０〜４５重量％の範囲で含有することがより好ましい。酸化ホウ素の含有量が１０重量％以上であることにより、ガラス転移点および荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付けを容易にすることができる。また、酸化ホウ素の含有量が５０重量％以下であることにより、ガラスの化学的安定性を維持することができる。なお、酸化ホウ素は低屈折率化にも有効である。
【００３０】
上記ガラス粉末は、酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムのうち少なくとも１種を、その合計量が１〜３０重量％の範囲となるように含有することが好ましく、２〜２０重量％の範囲となるように含有することがより好ましい。これらの成分は、熱膨張係数の調整に有効であり、焼成時の基板の変形を防止する効果、電気絶縁性を付与する効果、形成される隔壁の安定性および緻密性を向上する効果などを有する。これらの含有量が１重量％以上であることにより、ガラスの結晶化による失透を防ぐこともでき、また、３０重量％以下であることにより、熱膨張係数および屈折率を小さく抑えることができるとともに、化学的安定性を維持することができる。
【００３１】
上記ガラス粉末は、酸化アルミニウムを１〜４０重量％の範囲で含有することが好ましい。酸化アルミニウムは、ガラス化範囲を広げてガラスを安定化する効果があり、組成物のポットライフ延長にも有効である。酸化アルミニウムの含有量が前記範囲内であることにより、ガラス転移点および荷重軟化点を低く保ち、基板への密着性を向上することができる。
【００３２】
上記ガラス粉末は、酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムのうち少なくとも１種を、その合計量が１〜２０重量％となるように含有することが好ましい。これらの成分は、ガラスを溶融しやすくするとともに、熱膨張係数を制御する効果を有する。これらの含有量が１重量％以上であることにより、ガラスの結晶化による失透を防ぐことができ、また、１５重量％以下であることにより、ガラスの化学的安定性を維持することができる。
【００３３】
上記ガラス粉末は、酸化リチウム、酸化ナトリウムおよび酸化カリウムのアルカリ金属酸化物を１〜２０重量％の範囲で含有することが好ましい。アルカリ金属酸化物は、ガラスの熱軟化点および熱膨張係数のコントロールを容易にするとともに、ガラス粉末としての屈折率を低くする効果を有する。アルカリ金属酸化物は、イオンのマイグレーションや拡散を促進することがあるので、合計量を２０重量％以下とすることにより、ガラスの化学的安定性を維持するとともに熱膨張係数を小さく抑えることができる。
【００３４】
上記ガラス粉末は、上記成分に加えて、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム等を含有してもよい。
上記ガラス粉末の平均粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、パターン形成上、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜５μｍである。また、ガラス粉末の比表面積は０．５〜３００ｍ2／ｇであることが、パターン形
成上好ましい。
【００３５】
上記ガラス粉末は、ＦＰＤの誘電体および隔壁以外の構成要素（例えば電極・抵抗体・蛍光体・カラーフィルター・ブラックマトリスク）を形成するための組成物中に含有されていてもよい。この場合のガラス粉末の含有量は、用途によって異なるが、ガラス粉末を含む無機粒子全量１００重量部に対して、通常８０重量以下であり、好ましくは６０重量以下である。
【００３６】
ＦＰＤ、ＬＣＤ、有機ＥＬ、プリント回路基板、多層回路基板、モジュール、インダクタおよびＬＳＩなどの電極形成材料に使用される無機粒子としては、Ａｌ、Ａｇ、Ａｇ−
Ｐｄ合金、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕなどを挙げることができる。これらの中では、大気中で焼成した場合においても酸化による導電性の低下が生じず、比較的安価なＡｇを用いることが好ましい。電極形成材料に使用される無機粒子の形状としては、粒状、球状、フレーク状等特に限定されず、同じ形状の無機粒子を用いても、異なる２種以上の形状の無機粒子を混合して用いてもよい。また、平均粒径としては、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．０５〜５μｍであり、異なる平均粒径を有する無機粒子を混合して使用することもできる。
【００３７】
ＦＰＤ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などの透明電極形成材料に使用される無機粒子としては、酸化インジウム、酸化錫、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素添加酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素添加酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素添加酸化亜鉛（ＦＺＯ）、ならびに、Ａｌ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｉｎ、ＳｎおよびＴｉから選ばれた１種もしくは２種以上の金属を含有する酸化亜鉛微粒子などを挙げることができる。ＰＤＰの抵抗体形成材料に使用される無機粒子としては、ＲｕＯ2などからなる粒子を挙
げることができる。
【００３８】
ＰＤＰの蛍光体形成材料に使用される無機粒子は、
赤色用としては、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ3+、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｅｕ3+、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｅｕ3+、ＹＶＯ4：Ｅｕ3+、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+、Ｚｎ3（ＰＯ4）2：Ｍｎなどが挙げられ、
緑色用としては、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｍｎ、ＬａＰＯ4：（Ｃｅ，Ｔｂ）、Ｙ3（Ａｌ，Ｇａ）5Ｏ12：Ｔｂなどが挙げられ、
青色用としては、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｃｅ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、（Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）10（ＰＯ4）6Ｃｌ2：Ｅｕ2+、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ
などが挙げられる。
【００３９】
ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などのカラーフィルター形成材料に使用される無機粒子は、赤色用としてはＦｅ2Ｏ3など、緑色用としてはＣｒ2Ｏ3など、青色用としてはＣｏＯ・Ａｌ2Ｏ3などを挙げることができる。
【００４０】
ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などのブラックストライプ（マトリックス）形成材料に使用される無機粒子としては、例えば、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎなどの金属およびその酸化物、複合酸化物、炭化物、窒化物、硫化物、けい化物、ほう化物やカーボンブラック、グラファイトなどを挙げることができ、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。これらの中では、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、ＮｉおよびＴｉの群から選ばれた金属粒子、金属酸化物粒子および複合酸化物粒子が好ましい。また、平均粒径としては、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．０５〜５μｍ、特に好ましくは０．１〜２μｍである。
【００４１】
＜アルカリ可溶性樹脂＞
本発明の組成物に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ可溶性であれば特に限定されず、種々の樹脂を用いることができる。ここで、「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、アルカリ性の現像液に溶解する性質をいう。
【００４２】
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、下記モノマー（i）から選ばれるモ
ノマーと、下記モノマー（ii）および（iii）から選ばれるモノマーとの共重合体が好ま
しい。モノマー（i）を共重合させることにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与すること
ができる。なお、モノマー（i）由来の構成単位の含有量は、全構成単位中、通常、５〜
９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１５〜７０重量％である。
【００４３】
上記モノマー（i）としては、たとえば、
（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレート
等の水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類
などに代表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類が挙げられる。
【００４４】
特に好ましいモノマー（i）としては、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシ
エチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルが挙げられる。
【００４５】
上記モノマー（ii）としては、たとえば、
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の上記モノマー（i）以外のエステル（メタ）ア
クリレート類；
スチレン、α−メチルスチレン、α−メチルクロロスチレン、α−メチルブロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどの芳香族ビニル系モノマー類；
ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類
などに代表される、モノマー（i）と共重合可能なモノマー類が挙げられる。
【００４６】
上記モノマー（iii）としては、たとえば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー類などが挙げられる。
【００４７】
上記アルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（以下「Ｍｗ」ともいう。）は、５，０００〜１００，０００、好ましくは１０，０００〜５０，０００である。Ｍｗは、上記モノマーの共重合割合、組成、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することにより制御することができる。Ｍｗが前記範囲よりも低いと、現像後の膜荒れが発生しやすくなり、また、Ｍｗが前記範囲を超えると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下し、解像度が低下する場合がある。
【００４８】
上記アルカリ可溶性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、０〜１２０℃、好ましくは１０〜９０℃である。ガラス転移温度が前記範囲よりも低いと、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を超えると、支持体であるガラス基板との密着性が悪くなり、転写できないことがある。なお、前記ガラス
転移温度は、上記モノマー（i）、（ii）、（iii）の量を変更することによって適宜調節することがでる。
【００４９】
上記アルカリ可溶性樹脂は、熱重量分析で重量変化がなくなるところを重量減少率１００％とした場合、重量減少率が１０％となる温度が１５０℃以上であることが好ましく、１６０〜３００℃であることがより好ましく、１８０〜２５０℃であることが特に好ましい。また、上記アルカリ可溶性樹脂は、４５０℃における重量減少率が９０％以上であることが好ましく、９５〜１００％であることがより好ましい。これにより、上記無機粒子含有感光性樹脂組成物を焼成した際に、樹脂分を良好に焼失させることができる。
【００５０】
本発明の組成物における上記アルカリ可溶性樹脂の含有量は、上記無機粒子１００重量部に対して、５〜１００重量部、好ましくは１０〜７５重量部の範囲である。アルカリ可溶性樹脂の含有量が前記範囲内であることにより、形状が良好なパターンを形成することができる。
【００５１】
上記アルカリ可溶性樹脂の酸価は、好ましくは２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲である。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下では露光後の未露光部分が速やかにアルカリ現像液で除去しにくく、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。また、酸価が２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上になると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像液に浸食されやすくなり、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。
【００５２】
＜光硬化剤＞
本発明の組成物に用いられる光硬化剤は、１分子中に少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し、かつ、アセタール結合、ヘミアセタールエステル結合およびモノチオアセタール結合から選ばれる結合を少なくとも１つ有する。エチレン性不飽和基として少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し、かつ、アセタール結合、ヘミアセタールエステル結合および／またはモノチオアセタール結合を有する光硬化剤を用いることにより、パターン焼成後に大幅な収縮が生じず、高精細のパターンを形成することができるとともに、熱分解性に優れた無機粒子含有感光性樹脂組成物が得られる。
【００５３】
このような光硬化剤の具体例としては、下記一般式（１）で表される（メタ）アクリロイル基とアセタール結合とを有する基（以下「特定基（１）」ともいう。）および下記一般式（２）で表される（メタ）アクリロイル基とモノチオアセタール結合とを有する基（以下「特定基（２）」ともいう。）から選ばれる少なくとも１つの基、好ましくは２以上の基を含有する化合物が挙げられる。
【００５４】
【化４】
0004697031.tif 000005
【００５５】
式（１）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は有機残基を表し、Ｒ3は水素
原子または有機残基を表し、＊は分子骨格に結合する部位を表す。なお、本明細書中において、有機残基とは、基や化合物を構成する基本構造に結合している有機基を意味する。
【００５６】
【化５】
0004697031.tif 000006
【００５７】
式（２）中、Ｒ4は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ5は有機残基を表し、Ｒ6は水素
原子または有機残基を表し、＊は分子骨格に結合する部位を表す。
上記一般式（１）および（２）において、Ｒ2およびＲ5で表される有機残基としては、例えば、炭素数２〜１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルコキシアルキレン基、炭素数２〜８のハロゲン化（例えば、塩素化、臭素化またはフッ素化）アルキレン基、末端水酸基を除くポリエチレングリコール骨格、末端水酸基を除くポリプロピレングリコール骨格、末端水酸基を除くポリブチレングリコール骨格、アリール基などが挙げられる。これらの中では、重合度が１〜１万のポリエチレングリコール骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ポリブチレングリコール骨格、炭素数２〜４のアルキレン基が好ましく、重合度が１〜１００のポリエチレングリコール骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ポリブチレングリコール骨格、炭素数２のアルキレン基（−ＣＨ2
ＣＨ2−）、炭素数３のアルキレン基（−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−）がより好ましく、重合度が１〜１５のポリエチレングリコール骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ポリブチレングリコール骨格が特に好ましい。
【００５８】
また、Ｒ3およびＲ6で表される有機残基としては、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基、炭素数６〜１１の置換されていてもよい芳香族基などが挙げられる。これらの中では、炭素数１〜２のアルキル基、炭素数６〜８の芳香族基が好ましい。
【００５９】
なお、上記光硬化剤１分子が、上記特定基（１）および／または（２）を複数有する場合には、上記有機残基は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
上記特定基（１）および（２）は、下記反応式に示すように、（メタ）アクリロイル基とビニルエーテル基とを共に有する化合物（ａ）中のビニルエーテル基と、水酸基、チオール基および／またはカルボキシル基を有する化合物（ｂ）中の水酸基、チオール基またはカルボキシル基とが付加反応することにより形成された基であることが好ましい。この場合、上記光硬化剤は、上記特定基（１）および／または（２）が、化合物（ｂ）を構成する分子骨格に結合した構造を有することになる。
【００６０】
【化６】
0004697031.tif 000007
【００６１】
上記反応式中、Ｒ7は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ8は有機残基を表し、Ｒ9は水
素原子または有機残基を表し、＊は化合物（ｂ）を構成する分子骨格に結合する部位を表す。
【００６２】
上記特定基（１）および（２）の形成に、（メタ）アクリロイル基とビニルエーテル基
とを共に有する化合物（ａ）を用いると、該化合物（ａ）中のビニルエーテル基と、化合物（ｂ）中の水酸基、チオール基および／またはカルボキシル基との付加反応を穏やかな条件で行うことができるので、生成物が着色することなく、簡便に上記特定基（１）および（２）を形成することができる。なお、化合物（ｂ）中の水酸基、チオール基および／またはカルボキシル基は、その全部が化合物（ａ）中のビニルエーテル基と付加反応してもよく、その一部が付加反応してもよい。また、これらの化合物はそれぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６３】
上記化合物（ａ）と化合物（ｂ）との付加反応における該化合物（ａ）および（ｂ）の添加方法としては、例えば、反応初期に一括して仕込んでもよく、どちらかまたは両方を連続的もしくは断続的に反応系中に添加してもよい。また、上記付加反応は、触媒の存在下に行うことが好ましい。
【００６４】
上記（メタ）アクリロイル基とビニルエーテル基とを共に有する化合物（ａ）としては、例えば、下記一般式（３）で表される（メタ）アクリル酸エステル類であることが好ましい。
【００６５】
【化７】
0004697031.tif 000008
【００６６】
式（３）中、Ｒ7は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ8は有機残基を表し、Ｒ9は水素
原子または有機残基を表す。なお、前記Ｒ8で表される有機残基としては、上記Ｒ2および上記Ｒ5で表される有機残基と同様であり、前記Ｒ9で表される有機残基としては、上記Ｒ3および上記Ｒ6で表される有機残基と同様である。
【００６７】
上記一般式（３）で表される（メタ）アクリル酸エステル類としては、たとえば、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−ビニロキシメチルプロピル、（メタ）アクリル酸２−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１，１−ジメチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｍ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｏ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ
イソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（プロペノキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（プロペノキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（プロペノキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（プロペノキシエトキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコールモノビニルエーテルなどが挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
上記水酸基、チオール基および／またはカルボキシル基を有する化合物（ｂ）としては、低分子化合物、オリゴマーまたは重合体のいずれの形態であってもよく、例えば、以下の（ｂ１）〜（ｂ３）に記載する化合物等が挙げられる。なお、これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６９】
（ｂ１）水酸基またはチオール基を有する化合物として、たとえば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２−エチル−１，４−ブタンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，４−ペンタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−ブタンジオール、４，５−ノナンジオール、トリエチレングリコール、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ポリグリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテル等の多価アルコール類；ソルビトール、キシリトール、キシリロース、グルコース、フルクトース、マンニット等の糖類；不飽和ポリエステル、飽和ポリエステル、エポキシアクリレート等の水酸基含有重縮合体；水酸基を有する重合体；セルロース、でんぷん、デキストラン；フェノール、クレゾール、ビスフェノール等のフェノール化合物；β−プロピオン酸、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）などが挙げられる。
【００７０】
（ｂ２）カルボキシル基を有する化合物として、たとえば、アジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ダイマー酸、ブタンテトラカルボン酸等の多価カルボン酸；カルボキシル基を有するエポキシアクリレート、不飽和ポリエステル、飽和ポリエステル等のカルボキシ
ル基含有重縮合体；カルボキシル基を有する重合体；カルボキシメチルセルロースなどが挙げられる。
【００７１】
（ｂ３）水酸基およびカルボキシル基を共に有する化合物として、たとえば、ヒドロキシ酢酸、乳酸、グリセリン酸、酒石酸、クエン酸、ジメチロールプロピオン酸等のヒドロキシ酸類；ヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシナフトエ酸；不飽和ポリエステル、飽和ポリエステル等の水酸基とカルボキシル基とを有する重縮合体；水酸基とカルボキシル基とを有する重合体などが挙げられる。
【００７２】
上記化合物（ｂ）の中でも、１分子中に水酸基、チオール基および／またはカルボキシル基を２個以上含む化合物；エポキシアクリレート；カルボキシル基を有するエポキシアクリレート；不飽和ポリエステル、飽和ポリエステル等の水酸基および／またはカルボキシル基を２個以上含む重縮合体；水酸基および／またはカルボキシル基を有する重合体が好適である。
【００７３】
上記エポキシアクリレートは、１分子中に２個以上エポキシ基を有するエポキシ化合物と不飽和一塩基酸とを開環付加反応させて得られる。この開環付加により水酸基が生成される。
【００７４】
上記エポキシアクリレートの製造原料となるエポキシ化合物としては、たとえば、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリグリセリンポリグリシジルエーテル等の多価アルコールのグリシジルエーテル化物；アジピン酸ジグリシジルエステル、セバシン酸ジグリシジルエステル、アゼライン酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエステル等の多価カルボン酸のグリシジルエステル化物；ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、ジシクロペンタジエンジオキサイド、２，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロパン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−（３，４−エポキシ）シクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート等の脂環式エポキシ化合物；ビスフェノール型エポキシ樹脂などが挙げられる。
【００７５】
また、これらのエポキシ樹脂の２分子以上を、多塩基酸、ポリフェノール化合物、多官能アミノ化合物、多価チオール等の鎖延長剤との反応によって結合して鎖延長したものも用いることができる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
上記エポキシアクリレートの製造原料となる不飽和一塩基酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、これらカルボン酸の誘導体等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７７】
上記不飽和ポリエステルは、不飽和多塩基酸を主成分とする酸成分と、多価アルコールおよび／またはエポキシ化合物を主成分とする多価アルコール成分とを縮重合して得られる重合体である。
【００７８】
上記不飽和ポリエステルの製造原料となる酸成分は、必要に応じて、脂肪族飽和多塩基酸や芳香族飽和多塩基酸などの飽和多塩基酸、あるいは、アクリル酸、メタクリル酸、ケ
イ皮酸、これらカルボン酸の誘導体等の不飽和一塩基酸や飽和一塩基酸などの一塩基酸を含んでいてもよい。
【００７９】
また、上記不飽和ポリエステルとしては、不飽和ポリエステルの末端カルボキシル基にグリシジル（メタ）アクリレートを開環付加させて得られる（メタ）アクリレート変性不飽和ポリエステル等も用いることができる。
【００８０】
上記酸成分の主成分である不飽和多塩基酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、アコニット酸、イタコン酸等のα，β−不飽和多塩基酸；ジヒドロムコン酸等のβ，γ−不飽和多塩基酸などが挙げられる。また、不飽和多塩基酸の代わりに、不飽和多塩基酸の誘導体を用いることもできる。このような誘導体としては、例えば、上記不飽和多塩基酸の無水物；上記不飽和多塩基酸のハロゲン化物；上記不飽和多塩基酸のアルキルエステル等が挙げられる。これら不飽和多塩基酸や誘導体は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８１】
上記飽和多塩基酸としては、例えば、マロン酸、コハク酸、メチルコハク酸、２，２−ジメチルコハク酸、２，３−ジメチルコハク酸、ヘキシルコハク酸、グルタル酸、２−メチルグルタル酸、３−メチルグルタル酸、２，２−ジメチルグルタル酸、３，３−ジメチルグルタル酸、３，３−ジエチルグルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族飽和多塩基酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等の芳香族飽和多塩基酸；ヘット酸、１，２−テトラヒドロフタル酸、１，２−ヘキサヒドロフタル酸、１，１−シクロブタンジカルボン酸、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族飽和多塩基酸などが挙げられる。また、飽和多塩基酸の代わりに、飽和多塩基酸の誘導体を用いることもできる。このような誘導体としては、例えば、上記飽和多塩基酸の無水物；上記飽和多塩基酸のハロゲン化物；上記飽和多塩基酸のアルキルエステル等が挙げられる。これら飽和多塩基酸や誘導体は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８２】
上記多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２−エチル−１，４−ブタンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，４−ペンタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−ブタンジオール、４，５−ノナンジオール、トリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８３】
上記飽和ポリエステルは、不飽和多塩基酸を用いない以外は、上述の不飽和ポリエステルと全く同様に得られる。
上記水酸基を有する重合体を得る方法としては、例えば、
（１）水酸基を有する単量体を単独重合もしくは共重合する方法、
（２）カルボキシル基を有する単量体を単独重合もしくは共重合した後、そのカルボキシル基にグリシジル基を有する化合物を付加反応して水酸基を生成させる方法、
（３）グリシジル基を有する単量体を単独重合もしくは共重合した後、そのグリシジル基
にカルボキシル基を有する化合物を付加反応して水酸基を生成させる方法、
（４）酢酸ビニルのようなビニルエステル化合物の単独重合もしくは共重合により得られた重合体の全部あるいは部分ケン化する方法、
（５）水酸基を有する重合開始剤もしくは連鎖移動剤を使用する方法
などが挙げられるが、これらの方法に限定されるものではない。これらの方法は単独で用いてもよいし、２つ以上の方法を組合せて用いることも可能である。
【００８４】
上記カルボキシル基を有する重合体を得る方法としては、例えば、
（１）カルボキシル基を有する単量体を単独重合もしくは共重合する方法、
（２）酸無水物基を有する単量体を単独重合もしくは共重合した後、その酸無水物基に水酸基を有する化合物を付加反応してカルボキシル基を生成させる方法、
（３）水酸基を有する単量体を単独重合もしくは共重合した後、その水酸基に酸無水物基を有する化合物を付加反応してカルボキシル基を生成させる方法、
（４）カルボキシル基を有する重合開始剤もしくは連鎖移動剤を使用する方法
などが挙げられるが、これらの方法に限定されるものではない。これらの方法は単独で用いてもよいし、２つ以上の方法を組合せて用いることも可能である。
【００８５】
上記水酸基およびカルボキシル基を含有する重合体を得る方法としては、例えば、上記の水酸基を有する重合体を得る方法と、上記のカルボキシル基を有する重合体を得る方法とを、適宜組合せる方法がある。
【００８６】
上記水酸基を有する単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ｐ−ヒドロキシスチレン、ブテン−２−ジオール−１，４などが挙げられる。
【００８７】
上記カルボキシル基を有する単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等が挙げられるが、これらに限定されるものでない。
【００８８】
上記水酸基を有する単量体やカルボキシル基を有する単量体と共重合させる単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸グリシジル等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステルモノマー類；Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニル化合物類；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；エチレン、プロピレン、ブチレン等のオレフイン類などが挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８９】
上記化合物（ａ）と化合物（ｂ）との付加反応に用いられる触媒としては、酸が好適である。酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、ピルビン酸、グリコール酸等の脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マレイン酸、オキサロ酢酸、マロン酸、フマル酸、酒石酸、クエン酸等の脂肪族多価カルボン酸；安息香酸、テレフタル酸等の芳香族カルボン酸；ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、ｐ−トルエンスルホン酸キノリニウム
塩等の芳香族スルホン酸またはその塩；硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸ニッケル、硫酸銅、硫酸ジルコニウム等の硫酸塩；硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム等の硫酸水素塩；硫酸、塩酸、リン酸、ポリリン酸等の鉱酸；リンバ等のモリブデン酸、リンタングストモリブデン酸、ケイタングストモリブデン酸等のヘテロポリ酸；酸性ゼオライト；ベースレジンがフェノール系樹脂またはスチレン系樹脂であり、ゲル型、ポーラス型またはマクロポーラス型の何れかの形態を示し、かつ、スルホン酸基およびアルキルスルホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも一種のイオン交換基を有する酸性イオン交換樹脂などが挙げられる。
【００９０】
上記触媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。上記の中でも、シュウ酸、マレイン酸、硫酸水素カリウム、塩酸が好ましい。他の酸触媒の場合、付加反応の触媒として作用するほか、ビニルエーテルのカチオン重合開始剤として作用することがある。したがって、温度コントロールを厳密に行う必要があるが、なかでも塩酸の場合、カチオン重合開始剤としては作用せず、付加反応にのみ選択的に効くため、温度コントロール幅が広く、製造面で非常に有利であり、特に好ましい触媒である。
【００９１】
上記触媒の使用量としては、付加反応に用いる化合物（ａ）や化合物（ｂ）の種類や組み合わせ等に応じて適宜設定すればよいが、収率、触蝶の安定性、生産性および経済性の点から、例えば、上記化合物（ａ）１００重量部に対して、好ましくは０．０００５重量部以上、より好ましくは０．００１重量部以上である。また、好ましくは１重量部以下、より好ましくは０．５重量部以下である。
【００９２】
上記光硬化剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の組成物における上記光硬化剤の含有量は、上記アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、通常２０〜２００重量部、好ましくは３０〜１００重量部の範囲である。光硬化剤の含有量が少なすぎると、露光部が現像液によって浸食されやすくなり、パターンを形成することができない。含有量が多すぎると、長時間の現像工程となり生産上好ましくない。さらに、焼成時に収縮が大きくなり、剥れの原因となる。
【００９３】
＜光重合開始剤＞
本発明の組成物に用いられる光重合開始剤としては、後述する露光工程においてラジカルを発生し、上記エチレン性不飽和基を有する光硬化剤の重合反応を開始せしめる化合物である限り特に限定されない。
【００９４】
具体的には、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（
ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２，２’−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、および、エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組合せなどが挙げられる。
【００９５】
上記光重合開始剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記光重合性開始剤は、上記アルカリ可溶性樹脂および光硬化剤の合計量１００重量部に対して、通常０．１〜５０重量部、好ましくは０．５〜４０重量部の範囲で用いられる。０．１重量部未満では、光感度を向上させる効果が発揮されないことがあり、５０重量部を超えると、露光部の残存率が小さくなりすぎることがある。
【００９６】
＜紫外線吸収剤＞
本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物には、紫外線吸収剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸収剤としては、有機系染料または無機系顔料を用いることができ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料または無機顔料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などの有機系染料、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムなどの無機顔料を用いることができる。これらにおいて、有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないため、絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましいが、フラットディスプレイパネルの信頼性の観点から酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムのような無機顔料がより好ましい。
【００９７】
上記無機顔料は、上記無機粒子１００重量部に対して、０．００１〜１０重量部、好ましくは０．０１〜５重量部の範囲となる量で添加することができる。無機顔料の添加量が少なすぎると、紫外線吸光剤の添加効果が減少し、添加量が多すぎると、焼成後の絶縁膜特性が低下することや、成膜強度が保てないことがある。
【００９８】
＜増感剤＞
本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物には、感度を向上させるために、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、たとえば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３
−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。
【００９９】
上記増感剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。上記増感剤は、上記光硬化剤１００重量部に対して、通常０．０１〜１０重量部、より好ましくは０．０５〜５重量部の範囲となる量で添加することができる。増感剤の量が少なすぎると、光感度を向上させる効果が発揮されないことがあり、増感剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなりすぎることがある。
【０１００】
＜重合禁止剤＞
本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤は、組成物中に、通常０．００１〜５重量％の範囲となる量で添加することができる。
【０１０１】
＜酸化防止剤＞
本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物には、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤は、組成物中に、通常０．００１〜５重量％の範囲となる量で添加することができる。
【０１０２】
＜有機溶媒＞
本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物には、溶液の粘度を調整するために、有機溶媒を加えてもよい。有機溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ｎ−ペンタノール、ジアセトンアルコール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどが挙げられる。上記有機溶媒は、１種単独で用いても、２種以上を混
合して用いてもよい。
【０１０３】
＜密着助剤＞
本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物には、支持体との密着性を向上させるために、密着助剤を加えてもよい。密着助剤としては、シランカップリング剤が好適に用いられる。シランカップリング剤の具体例としては、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシラン、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシラン、ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシ
ルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンなどが挙げられる。これらは、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０４】
上記無機粒子含有感光性組成物における接着助剤の含有量としては、上記無機粒子１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜１０重量部、より好ましくは０．００１〜５重量部である。
【０１０５】
＜溶解促進剤＞
本発明の組成物は、後述する現像液への十分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤を含有することが好ましい。溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用いられる。このような界面活性剤としては、たとえば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤などが挙げられる。
【０１０６】
上記フッ素系界面活性剤としては、たとえば、ＢＭ  ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」、大日本インキ化学工業（株）社製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」、住友スリーエム（株）社製「フロラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１」、旭硝子（株）社製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」等の市販品を挙げることができる。
【０１０７】
上記シリコーン系界面活性剤としては、たとえば、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」、信越化学工業（株）社製「ＫＰ３４１」、新秋田化成（株）社製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「同ＥＦ３５２」等の市販品を挙げることができる。
【０１０８】
上記ノニオン系界面活性剤としては、たとえば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類などが挙げられる。
【０１０９】
上記ノニオン系界面活性剤の市販品としては、たとえば、花王（株）社製「エマルゲンＡ−６０」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」、共栄社化学（株）社製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」などを挙げることができる。
【０１１０】
上記界面活性剤の中では、現像時に未露光部の無機粉体含有樹脂層の除去が容易である
ことから、ノニオン系界面活性剤、具体的にはポリオキシエチレンアリールエーテル類が好ましく、特に下記式（ｉ）で表される化合物が好ましい。
【０１１１】
【化８】
0004697031.tif 000009
【０１１２】
上記式（４）中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり、ｐは１〜５の整数であり、ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり、ｔは１〜１００の整数、好ましくは１０〜２０の整数である。
【０１１３】
本発明の組成物における溶解促進剤の含有量は、上記アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部である。溶解促進剤の含有量が上記範囲にあることにより、現像液への溶解性に優れた組成物が得られる。
【０１１４】
＜無機粒子含有樹脂組成物の調製＞
本発明の組成物は、通常、無機粒子、アルカリ可溶性樹脂、光硬化剤、光重合開始剤および溶剤等の各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散して調製する。
【０１１５】
組成物の粘度は、無機粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができるが、その範囲は１００〜２００，０００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。
【０１１６】
〔感光性フィルム〕
本発明の感光性フィルムは、通常、支持フィルムと、この上に形成された無機粒子含有感光性樹脂層とを有し、該無機粒子含有感光性樹脂層の表面に保護フィルムが設けられていてもよい。
【０１１７】
＜支持フィルム＞
本発明の感光性フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、無機粒子含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存および供給することができる。なお、支持フィルムの厚さとしては、使用に適した範囲であればよく、たとえば２０〜１００μｍである。
【０１１８】
支持フィルムを形成する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどが挙げられる。
【０１１９】
上記支持フィルムにおける無機粒子含有感光性樹脂層が形成される面には、離型処理が施されていることが好ましい。これにより、ディスプレイ部材を形成する際に、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【０１２０】
さらに、無機粒子含有感光性樹脂層の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、上記支持フィルムと同様の可撓性を有する樹脂フィルムを用いることができ、その表面（無機粒子含有感光性樹脂層と接する面）には離型処理が施されていてもよい。
【０１２１】
＜感光性フィルムの製造方法＞
本発明の感光性フィルムは、上記支持フィルム上に、本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて無機粒子含有感光性樹脂層を形成することにより得られる。乾燥後は、ロール状に巻くか、保護フィルムをラミネートする。また、本発明の感光性フィルムは、支持フィルムおよび保護フィルムのそれぞれに組成物を塗布して樹脂層を形成し、互いの樹脂層面を重ね合わせて圧着する方法によっても、好適に形成することができる。
【０１２２】
上記組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば１０μｍ以上）、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコーターによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などが挙げられる。
【０１２３】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、５０〜１５０℃の乾燥温度で０．５〜６０分間程度である。
上記のようにして形成された無機粒子含有感光性樹脂層の厚みは、３０〜３００μｍ、好ましくは５０〜２００μｍである。
【０１２４】
〔無機パターン形成方法〕
本発明の第１の無機パターン形成方法は、上記本発明の無機粒子含有感光性樹脂組成物からなる無機粒子含有感光性樹脂層を基板上に形成する工程（樹脂層形成工程）、該無機粒子含有感光性樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該無機粒子含有感光性樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含むことを特徴とする。
【０１２５】
また、本発明の第２の無機パターン形成方法は、上記樹脂層形成工程において、上記本発明の感光性フィルムを用いて、該感光性フィルムを構成する無機粒子含有感光性樹脂層を基板上に転写することにより、基板上に無機粒子含有感光性樹脂層を形成することを特徴とする。
【０１２６】
＜樹脂層形成工程＞
この工程では、上記本発明の無機粒子含有樹脂組成物からなる無機粒子含有樹脂層を基板上に形成する。樹脂層の形成方法としては、たとえば、本発明の組成物を基板上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて形成する方法や、本発明の感光性フィルムを用いて、該感光性フィルムを構成する樹脂層を基板上に転写して形成する方法などが挙げられる。
【０１２７】
上記組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば１０μｍ以上）、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコーターによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などが挙げられる。
【０１２８】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調
整すればよく、例えば、５０〜１５０℃の乾燥温度で０．５〜６０分間程度である。
上記のようにして形成された無機粒子含有感光性樹脂層の厚みは、３０〜３００μｍ、好ましくは５０〜２００μｍである。なお、組成物の塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。
【０１２９】
また、本発明の感光性フィルムの無機粒子含有感光性樹脂層を、ラミネートによって基板に転写して形成してもよい。感光性フィルムを用いることにより、基板上に膜厚均一性に優れた樹脂層を容易に形成することができ、形成されるパターンの膜厚均一化を図ることができる。また、上記感光性フィルムを用いてｎ回転写を繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。あるいは、ｎ層の樹脂層からなる積層体が支持フィルム上に形成された感光性フィルムを用いて基板上に一括転写することにより、前記積層体を形成してもよい。
【０１３０】
感光性フィルムを用いた転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必要に応じて用いられる感光性フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に樹脂層の表面が当接するように感光性フィルムを重ね合わせ、この感光性フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に樹脂層が転写されて密着した状態となる。
【０１３１】
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が４０〜１４０℃、加熱ローラによるロール圧が０．１〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分で
ある。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【０１３２】
本発明で用いられる基板材料としては、例えば、ガラス、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。この板状部材の表面には、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理などの前処理が施されていてもよい。
【０１３３】
なお、本発明においては、基板として、耐熱性を有するガラス基板を用いることが好ましい。このようなガラス基板としては、例えば、旭硝子（株）製「ＰＤ２００」などが挙げられる。
【０１３４】
＜露光工程＞
上記のようにして基板上に無機粒子含有感光性樹脂層を形成後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。
【０１３５】
用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。露光用マスクの露光パターンは、目的によって異なるが、たとえば、１０〜５００μｍ幅のストライプもしくは格子である。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
【０１３６】
無機粒子含有樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）して、樹脂層にパターンの潜像を形成する。なお、樹脂層上に被覆されている支持フィルムを剥離しない状態で露光を行うのが好ましい。
【０１３７】
露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基
板上に無機粒子含有樹脂組成物を塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【０１３８】
露光の際に使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としては、たとえば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用できる。これらの中では超高圧水銀灯が好適である。
【０１３９】
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀
灯を用いて０．０５〜１分間露光を行なう。この場合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上することができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上することができる。
【０１４０】
＜現像工程＞
上記露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、樹脂層を現像して樹脂層のパターンを形成する。現像方法（例えば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、無機粒子含有樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
【０１４１】
現像工程で用いられる現像液としては、無機粒子含有樹脂層中の有機成分を溶解可能な有機溶媒を使用できる。また、前記有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。無機粒子含有樹脂層中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。
【０１４２】
上記無機粒子含有樹脂層に含まれる無機粒子は、アルカリ可溶性樹脂により均一に分散されているため、該樹脂を現像液で溶解させて洗浄することにより、無機粒子も同時に除去される。
【０１４３】
上記アルカリ水溶液としては、たとえば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。
【０１４４】
上記アルカリ水溶液の濃度は、通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあることから好ましくない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【０１４５】
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【０１４６】
＜焼成工程＞
上記現像後の樹脂層残留部における有機物質を焼失させるために、焼成炉にて、形成された樹脂層のパターンを焼成処理する。
【０１４７】
焼成雰囲気は、組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【０１４８】
焼成処理条件は、無機粒子含有樹脂層（残留部）中の有機物質が焼失されることが必要であり、通常、焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間である。ガラス基板上にパターン加工する場合は、３５０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。
【０１４９】
なお、上記転写、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入してもよい。
上記工程を含む本発明の無機パターン形成方法により、誘電体、電極、抵抗体、蛍光体、隔壁、カラーフィルター、ブラックマトリックス等のディスプレイ部材や、電子部品の回路パターン等を形成することができる。
【０１５０】
本発明のフラットディスプレイパネルの製造方法は、上記のようにして誘電体、電極、抵抗体、蛍光体、隔壁、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくとも１種のディスプレイ部材を形成する工程を含み、プラズマディスプレイパネルの製造方法に適している。
【０１５１】
［実施例］
以下、実施例に基づいて、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
【０１５２】
まず、重量平均分子量（Ｍｗ）の測定方法、ガラス転移温度の測定方法、重量減少分析、現像後のパターン評価、焼成後のパターン評価の測定方法について説明する。なお、実施例および比較例中の濃度（％）は、特にことわらない限り「重量％」であり、「部」は「重量部」のことである。
【０１５３】
（重量平均分子量（Ｍｗ）の測定方法）
Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。なお、ＧＰＣによる測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ
ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、溶媒としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、測定温度４０℃の条件で行った。
【０１５４】
（ガラス転移温度の測定方法）
精製したポリマーを試料ホルダーに封入し、示差走査熱量計（TA Instruments製「２９２０NDSC」）を用い、１０℃／分で-３０〜３５０℃まで昇温した。得られた吸熱ピーク
トップの温度をガラス転移温度とした。
【０１５５】
（重量減少分析の測定方法）
精製したポリマーのＰＧＭＥ溶液をＰＥＴシートに塗布し、これを１００℃で１０分間乾燥し、膜厚約１０μｍの塗膜を作製した。乾燥後の塗膜の状態を残留溶媒等がないと考えられる重量減少率０％とした。試料を試料ホルダーに封入し、示差走査熱量計（TA Ins
truments製「２９２０NDSC」）を用い、空気雰囲気下、空気流量６０ｍｌ/分、昇温１０
℃/分にて３０〜６００℃まで昇温し、重量変化がなくなったところを重量減少率１００
％とした。重量減少率が１０％となる温度と、４５０℃における重量減少率の測定を行った。
【０１５６】
（現像後のパターンの評価）
パネルを切断して小片にし、図２に示すパターン断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察し、パターンの幅および高さを計測した。幅および高さが所望の規格±３μｍ以内であれば◎、規格内；規格±３μｍを超えて５μｍ以内であれば○、規格から一部外れるもの；規格±５μｍを超えて１０μｍ以内であれば△、規格±１０μｍを超えるものは×とした。なお、ピッチ幅２００μｍ、一辺１５０μｍの格子状パターンを有するマスクを用いて評価した。
【０１５７】
（焼成後のパターンの評価）
パネルを切断して小片にし、図２に示すパターン断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察し、パターンの幅および高さを計測した。幅および高さが所望の規格であれば◎、規格内であれば○、規格から一部外れるものは△、規格外であるものは×とした。
【０１５８】
＜合成例１＞
メチルメタクリレート（ＭＭＡ）、ベンジルメタクリレート（ＢｚＭＡ）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、メタクリル酸（ＭＡＡ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を、表１に示す重量割合で計量および混合した溶液を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）１５０部中で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してアルカリ可溶性樹脂（Ａ１）を得た。アルカリ可溶性樹脂（Ａ１）の収率、重量平均分子量、ガラス転移温度、１０％重量減少温度および４５０℃における重量減少の測定結果を表２に示す。
【０１５９】
＜合成例２＞
アクリルモノマーの比率を、表１に示すように変更したこと以外は、合成例１と同様に反応を行い、アルカリ可溶性樹脂（Ａ２）を得た。得られたアルカリ可溶性樹脂（Ａ２）の収率、重量平均分子量、ガラス転移温度、１０％重量減少温度および４５０℃における重量減少の測定結果を表２に示す。また、アルカリ可溶性樹脂（Ａ２）の重量減少分析チャートを図３に示す。
【０１６０】
＜合成例３＞
アクリルモノマーの比率を、表１に示すように変更したこと以外は、合成例１と同様に反応を行い、アルカリ可溶性樹脂（Ａ３）を得た。得られたアルカリ可溶性樹脂（Ａ３）の収率、重量平均分子量、ガラス転移温度、１０％重量減少温度および４５０℃における重量減少の測定結果を表２に示す。また、アルカリ可溶性樹脂（Ａ３）の重量減少分析チャートを図４に示す。
【０１６１】
＜合成例４＞
アクリルモノマーの比率を、表１に示すように変更したこと以外は、合成例１と同様に反応を行い、アルカリ可溶性樹脂（Ａ４）を得た。得られたアルカリ可溶性樹脂（Ａ４）の収率、重量平均分子量、ガラス転移温度、１０％重量減少温度および４５０℃における重量減少の測定結果を表２に示す。
【０１６２】
＜合成例５＞
アクリルモノマーの比率を、表１に示すように変更したこと以外は、合成例１と同様に反応を行い、アルカリ可溶性樹脂（Ａ５）を得た。得られたアルカリ可溶性樹脂（Ａ５）の収率、重量平均分子量、ガラス転移温度、１０％重量減少温度および４５０℃における重量減少の測定結果を表２に示す。
【０１６３】
＜合成例６＞
アクリルモノマーの比率を、表１に示すように変更したこと以外は、合成例１と同様に反応を行い、アルカリ可溶性樹脂（Ａ６）を得た。得られたアルカリ可溶性樹脂（Ａ６）の収率、重量平均分子量、ガラス転移温度、１０％重量減少温度および４５０℃における重量減少の測定結果を表２に示す。
【０１６４】
＜合成例７＞
アクリルモノマーの比率を、表１に示すように変更したこと以外は、合成例１と同様に反応を行い、アルカリ可溶性樹脂（Ａ７）を得た。得られたアルカリ可溶性樹脂（Ａ７）の収率、重量平均分子量、ガラス転移温度、１０％重量減少温度および４５０℃における重量減少の測定結果を表２に示す。
【０１６５】
【表１】
0004697031.tif 000010
【０１６６】
表１中、ＭＭＡはメチルメタクリレート、ＢｚＭＡはベンジルメタクリレート、ＨＥＭＡは２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ＬＭＡはラウリル酸メタクリレート、ＭＡＡはメタクリル酸、ＥＦＭＡは２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、ＡＩＢＮはアゾビスイソブチロニトリルを示す。
【０１６７】
【表２】
0004697031.tif 000011
【０１６８】
＜合成例８＞
攪拌装置、温度計、コンデンサーおよび窒素ガス導入管を備えた１リットルのフラスコに、トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテル（Ｍｗ３００）（和光純薬工業（株））３００ｇ（水酸基＝３ｍｏｌ）および塩酸１．５６ｇ（３５％水溶液、ＨＣｌ成分として０．００５ｍｏｌ）を入れて攪拌し、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル６００ｇ（３ｍｏｌ）を発熱に注意しながらゆっくり滴下した。発熱が緩やかになったところで６０℃に昇温し、４時間反応を行った。このようにして得られた反応物をＩＲにより分析したところ、水酸基に起因する３５００ｃｍ-1付近のピークはほぼ消失しており、目的とするアセタール系の光硬化剤（Ｂ１）を得た。
【０１６９】
＜合成例９＞
攪拌装置、温度計、コンデンサーおよび窒素ガス導入管を備えた２リットルのフラスコに、トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテル（Ｍｗ７００）（和光純薬工業（株））７００ｇ（水酸基＝３ｍｏｌ）および塩酸１．５６ｇ（３５％水溶液、ＨＣｌ成分として０．０１ｍｏｌ）を入れて攪拌し、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル６００ｇ（３ｍｏｌ）を発熱に注意しながらゆっくり滴下した。発熱が緩やかになったところで６０℃に昇温し、４時間反応を行った。このようにして得られた反応物をＩＲにより分析したところ、水酸基に起因する３５００ｃｍ-1付近のピークはほぼ消失しており、目的とするアセタール系の光硬化剤（Ｂ２）を得た。
【０１７０】
＜合成例１０＞
攪拌装置、温度計、コンデンサーおよび窒素ガス導入管を備えた３リットルのフラスコに、トリス（ポリオキシプロピレン）グリセリルエーテル（Ｍｗ１５００）（和光純薬工業（株））１５００ｇ（水酸基＝３ｍｏｌ）および塩酸１．５６ｇ（３５％水溶液、ＨＣｌ成分として０．０１ｍｏｌ）を入れて攪拌し、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル６００ｇ（３ｍｏｌ）を発熱に注意しながらゆっくり滴下した。発熱が緩やかになったところで６０℃に昇温し、４時間反応を行った。このようにして得られた反応物をＩＲにより分析したところ、水酸基に起因する３５００ｃｍ-1付近のピークはほぼ消失しており、目的とするアセタール系の光硬化剤（Ｂ３）を得た。
【０１７１】
＜合成例１１＞
攪拌装置、温度計、コンデンサーおよび窒素ガス導入管を備えた３リットルのフラスコに、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（和光純薬工業（株））４００ｇ（チオール基＝３ｍｏｌ）および塩酸１．５６ｇ（３５％水溶液、ＨＣｌ
成分として０．０１ｍｏｌ）を入れて攪拌し、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル６００ｇ（３ｍｏｌ）を発熱に注意しながらゆっくり滴下した。発熱が緩やかになったところで６０℃に昇温し、４時間反応を行った。このようにして得られた反応物をＩＲにより分析したところ、水酸基に起因する３５００ｃｍ-1付近のピークはほぼ消失し、目的とするモノチオアセタール系の光硬化剤（Ｂ４）を得た。
【０１７２】
〔実施例１〜１２〕
無機粒子、有機成分、溶媒、界面活性剤および紫外線吸収剤からなる無機粒子含有感光性樹脂組成物（以下「感光性ペースト」ともいう。）を次のようにして調製した。表３に示す有機成分（アルカリ可溶性樹脂、光硬化剤、光重合開始剤および増感剤）１００ｇを溶媒ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）３０ｇに溶解した後、ガラス粉末からなる無機粒子成分３００ｇ、界面活性剤（花王（株）製Ａ−６０）５ｇおよび紫外線吸収剤（チバガイギ（株）製IRGANOX1010）０．０５ｇを添加し、混練機で混練する
ことによって感光性ペーストを調製した。
【０１７３】
予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）を２枚用意し、該支持フィルム上に、得られた感光性ペーストをロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を９０℃で１０分間乾燥して溶媒を除去することにより、厚さ９０μｍの感光性樹脂層を形成した。次いで、２枚のＰＥＴフィルム上に形成した感光性樹脂層を互いに貼り合せて、加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を速度０．５ｍ／分とした。このようにして、無
機粒子含有感光性樹脂層（厚さ１８０μｍ）を有する感光性フィルムを作製した。
【０１７４】
次に、６インチパネル用のガラス基板の表面に、保護フィルムを剥離した感光性フィルムを重ね合わせ、この感光性フィルムを加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５
ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に無機粒子含有感光性樹脂層が転写されて密着した状態となった。転写された無機粒子含有感光性樹脂層の厚みを測定したところ、１８０μｍ±３μｍの範囲にあった。
【０１７５】
次に、ネガ型クロムマスクを用いて、上面から２５ｍＪ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯に
より、無機粒子含有感光性樹脂層を紫外線露光した。露光量は２００ｍJ／ｃｍ2であった。
【０１７６】
次に、露光した無機粒子含有感光性樹脂層に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を、シャワーで１８０秒間かけることにより現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去して背面板用ガラス基板上に格子状のパターンを形成した。
【０１７７】
次に、得られた無機粒子含有感光性樹脂パターンを焼成することにより、隔壁パターンを形成した。
現像後および焼成後のパターンをＳＥＭ観察により評価した。結果を表３に示す。表３に示すように、現像後のパターン評価では、実施例１、２、４〜６、８、９および１１のパターンが特に優れていた。また、焼成後の評価では実施例１〜１２すべてが良好であり、焼成後のパターンの欠けや剥がれ等は見られなかった。
【０１７８】
【表３】
0004697031.tif 000012
【０１７９】
表３中、ＭＴＰＭＰは２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、ＤＭＭＰＢは２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、ＤＥＴＸは２，４−ジエチルチオキサントン、ＰＧＭＥはプロピレングリコールモノメチルエーテルを示す。
【０１８０】
〔比較例１〜３〕
表４に示すように、アルカリ可溶性樹脂（Ａ５）、（Ａ６）または（Ａ７）を用いたこと以外は実施例１と同様にしてパターンを作製し、評価を行った。結果を表４に示す。現像後の評価では、比較例１はハンドリング不良、パターン不良であった。比較例２では転写不良が起因の不良パターンとなった。比較例３ではアスペクト比不足や現像残渣が見られる等の不良のパターンを観察した。焼成後の評価では、比較例１〜３において焼成後のパターンの欠けや剥がれ等が見られた。
【０１８１】
〔比較例４〜６〕
表４に示すように、アルカリ可溶性樹脂（Ａ６）、ならびに光硬化剤（Ｂ２）、（Ｂ３）または（Ｂ４）を用いたこと以外は実施例１と同様にしてパターンを作製し、評価を行った。結果を表４に示す。現像後の評価では、比較例４〜６において転写不良が起因の不
良パターンを観察した。焼成後の評価では、比較例４〜６において焼成後のパターンの欠けや剥がれ等が見られた。
【０１８２】
〔比較例７〜９〕
表４に示すように、光硬化剤（Ｃ１）、（Ｃ２）または（Ｃ３）を用いたこと以外は実施例１と同様にして評価を行った。なお、光硬化剤（Ｃ１）はトリプロピレングリコールジアクリレート、光硬化剤（Ｃ２）はトリメチロールプロパントリアクリレート、光硬化剤（Ｃ３）はジペンタエリスリトールヘキサアクリレートである。結果を表４に示す。現像後の評価では、比較例８および９は良好なパターンが得られたが、比較例７はパターン不良であった。焼成後の評価では、比較例７〜９において焼成後のパターンの欠けや剥がれ等が見られた。
【０１８３】
【表４】
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【０１８４】
表４中、ＭＴＰＭＰは２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、ＤＥＴＸは２，４−ジエチルチオキサントン、ＰＧＭＥはプロピレングリコールモノメチルエーテルを示す。
【図面の簡単な説明】
【０１８５】
【図１】交流型ＦＰＤ（具体的には、ＰＤＰ）の断面形状を示す模式図である。
【図２】実施例におけるパターンの評価において、評価箇所を示す模式図である。
【図３】合成例２で得られたポリマーの重量減少分析チャートである。
【図４】合成例３で得られたポリマーの重量減少分析チャートである。
【符号の説明】
【０１８６】
１０１  ガラス基板
１０２  ガラス基板
１０３  背面隔壁
１０４  透明電極
１０５  バス電極
１０６  アドレス電極
１０７  蛍光物質
１０８  誘電体層
１０９  誘電体層
１１０  保護層
１１１  前面隔壁
【図１】
0004697031.tif 000017
【図２】
0004697031.tif 000018
【図３】
0004697031.tif 000019
【図４】
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