(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ波を発生するマイクロ波発生部と、
前記マイクロ波発生部により発生されたマイクロ波を伝搬する導波管と、
プラズマ化されるガスを供給するガス供給部と、
前記マイクロ波を受信し、受信したマイクロ波のエネルギーを基に、前記ガス供給部から供給されるガスをプラズマ化して放出するプラズマ発生ノズルが前記導波管に複数個配列して取り付けられたプラズマ発生部と、
前記プラズマ発生ノズルから放出されるプラズマ化されたガスからなるプルームの画像を撮影する撮影部と、
前記撮影部により撮影されたプルームの画像を表示する状態監視部と、
前記撮影部により撮影されたプルームの画像を基に、前記複数個配列されたプラズマ発生ノズルのうち、所定の状態でプラズマが放出されていないプラズマ発生ノズルである欠陥ノズルを検出する欠陥ノズル検出部とを備えことを特徴とするプラズマ発生装置。
【請求項２】
前記欠陥ノズル検出部により、前記複数個配列されたプラズマ発生ノズルのうち、欠陥ノズルが少なくとも１本検出された場合、全てのプラズマ発生ノズルからのプラズマの放出を停止させる稼働制御部を更に備えることを特徴とする請求項１記載のプラズマ発生装置。
【請求項３】
前記稼働制御部は、前記マイクロ波発生部によるマイクロ波の発生、及び前記ガス供給部によるガスの供給のうちの少なくともいずれか一方を停止させることにより、プラズマ発生ノズルからのプラズマの放出を停止させることを特徴とする請求項２記載のプラズマ発生装置。
【請求項４】
前記稼働制御部は、プラズマ発生ノズルからのプラズマの放出を所定時間停止させた後、プラズマ発生ノズルからプラズマの放出を再開させ、プラズマの放出の再開を所定回数行っても、前記欠陥ノズル検出部により欠陥ノズルとして検出されたプラズマ発生ノズルが少なくとも１本存在する場合、プラズマ発生装置が故障していると判定することを特徴とする請求項２又は３記載のプラズマ発生装置。
【請求項５】
前記状態監視部は、前記稼働制御部によりプラズマ発生装置が故障していると判定された場合、プラズマ発生装置の故障を報知することを特徴とする請求項４記載のプラズマ発生装置。
【請求項６】
前記撮影部に前記複数個配列されたプラズマ発生ノズルから放出される全プルームを撮影させるために、前記撮影部の撮影方向を前記複数個配列の方向に移動させる撮影方向移動部を更に備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマ発生装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマ発生装置を備え、前記プラズマ発生装置から放出されたプラズマをワークに照射することを特徴とするワーク処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板等の被処理ワークなどに対してプラズマを照射することで、前記ワークの表面の清浄化や改質などを図ることが可能なプラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体基板等の被処理ワークに対してプラズマを照射し、その表面の有機汚染物の除去、表面改質、エッチング、薄膜形成または薄膜除去等を行う技術が知られている。また、特許文献１には、反応ガスをプラズマで活性化させる低温プラズマ処理装置において、プラズマ又は反応ガスの放射光スペクトルに基づいて、プラズマ又は反応ガスの放電状態を一定に制御する技術が開示されている。
【特許文献１】特開昭６２−２２８４８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１には、プラズマを放出するプラズマ発生ノズルの状態を監視することに関しての記載が何らなされておらず、この点改良の余地がある。特に、プラズマを照射するプラズマ発生ノズルが複数存在しており、この中に、正常な状態のプラズマを放出することができない欠陥ノズルが含まれる場合、処理対象物に対してプラズマを照射すると一定の効果を得るケースもあることから、欠陥ノズルの存在に気づかないケースも想定される。そして、この場合、プラズマ発生装置の能力をフルに発揮してプラズマを照射することができず、効率良いプラズマ処理を実現することが困難となる。
【０００４】
また、光を検出するフォトダイオードを複数のプラズマ発生ノズルに配置して、各プラズマ発生ノズルのプルームの発生の有無を検出してプラズマ発生ノズルの状態を監視することも考えられるが、フォトダイオードから出力される電流信号は数μＡオーダーといった極めて微弱な値であるため、当該電流信号を本体制御部に伝送する伝送回路上で、当該電流信号がマイクロ波によるノイズの影響を受けてしまい、プラズマ発生ノズルを精度良く監視できないという問題がある。更に、フォトダイオードを複数設けると、フォトダイオードの数だけ本体制御部を構成するＣＰＵのＩＯポートが必要となり、装置構成が煩雑化し、コストが嵩むという問題もある。
【０００５】
本発明の目的は、簡便な構成により複数のプラズマ発生ノズルの状態を直接監視することができるプラズマ発生装置及びワーク処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によるプラズマ発生装置は、マイクロ波を発生するマイクロ波発生部と、前記マイクロ波発生部により発生されたマイクロ波を伝搬する導波管と、プラズマ化されるガスを供給するガス供給部と、前記マイクロ波を受信し、受信したマイクロ波のエネルギーを基に、前記ガス供給部から供給されるガスをプラズマ化して放出するプラズマ発生ノズルが前記導波管に複数個配列して取り付けられたプラズマ発生部と、前記プラズマ発生ノズルから放出されるプラズマ化されたガスからなるプルームの画像を撮影する撮影部と、前記撮影部により撮影されたプルームの画像を表示する状態監視部と、前記撮影部により撮影されたプルームの画像を基に、前記複数個配列されたプラズマ発生ノズルのうち、所定の状態でプラズマが放出されていないプラズマ発生ノズルである欠陥ノズルを検出する欠陥ノズル検出部とを備えことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、撮影部は、プラズマ発生ノズルから発生するプルームの画像を撮影し、状態監視部は、撮影されたプルームの画像を表示するため、ユーザはプラズマ発生ノズルの状態を直接監視することができる。また、プラズマ発生ノズルの全域を撮影できるように撮影部を配置することで、プラズマ発生ノズル毎に撮影部を設けなくとも、プルームの画像を撮影することが可能となり、簡素な構成によりプラズマ発生ノズルの状態を監視することができる。
【０００９】
また、この構成によれば、欠陥ノズルは、プルームを放出しない、或いは、正常なプラズマ発生ノズルが放出するプルームに比べて形状が小さなプルームを放出するため、プルームの画像を撮影することにより、プラズマ発生ノズルの欠陥を精度よく検出することが可能となる。
【００１０】
また、上記構成において、前記欠陥ノズル検出部により、前記複数個配列されたプラズマ発生ノズルのうち、欠陥ノズルが少なくとも１本検出された場合、全てのプラズマ発生ノズルからのプラズマの放出を停止させる稼働制御部を更に備えることが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、複数のプラズマ発生ノズルのうち、欠陥ノズルが少なくとも１本検出された場合、プラズマ発生装置の稼働が停止されるため、不効率なプラズマの照射を防止することができる。
【００１２】
また、上記構成において、前記稼働制御部は、前記マイクロ波発生部によるマイクロ波の発生、及び前記ガス供給部によるガスの供給のうちの少なくともいずれか一方を停止させることにより、プラズマ発生ノズルからのプラズマの放出を停止させることが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、マイクロ波の発生及びガスの供給のうち、少なくともいずれか一方が停止されることでプラズマの放出が停止されているため、プラズマの放出を確実に停止させることができる。
【００１４】
また、上記構成において、前記稼働制御部は、プラズマ発生ノズルからのプラズマの放出を所定時間停止させた後、プラズマ発生ノズルからプラズマの放出を再開させ、プラズマの放出の再開を所定回数行っても、前記欠陥ノズル検出部により欠陥ノズルとして検出されたプラズマ発生ノズルが少なくとも１本存在する場合、プラズマ発生装置が故障していると判定することが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、プラズマ発生ノズルを所定回数稼働させても欠陥ノズルとして検出されたプラズマ発生ノズルが少なくとも１本存在した場合に、プラズマ発生装置が故障していると判定されるため、プラズマ発生装置の故障をより精度良く検出することができる。
【００１６】
また、上記構成において、前記状態監視部は、前記稼働制御部によりプラズマ発生装置が故障していると判定された場合、プラズマ発生装置の故障を報知することが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、ユーザは速やかにプラズマ発生装置の故障を認識することができる。
【００１８】
また、上記構成において、前記撮影部に前記複数個配列されたプラズマ発生ノズルから放出される全プルームを撮影させるために、前記撮影部の撮影方向を前記複数個配列の方向に移動させる撮影方向移動部を更に備えること
【００１９】
この構成によれば、撮影部のフレームがプラズマ発生ノズル全体を一度に撮影できる範囲より小さい場合であっても、プラズマ発生ノズルの全域が撮影されるように撮影部の撮影方向が移動されるため、導波管におけるプラズマ発生ノズルの配列領域が広範囲にわたる場合であっても、全てのプラズマ発生ノズルから発生するプルームを撮影することができる。
【００２０】
また、本発明によるワーク処理装置は、請求項１〜７のいずれかに記載のプラズマ発生装置を備え、前記プラズマ発生装置から放出されたプラズマをワークに照射することを特徴とする。
【００２１】
この構成によれば、プラズマ発生ノズルの状態を精度よく監視することが可能となり、ワークに対して効率良くプラズマを照射することができるワーク処理装置を提供することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、簡素な構成でありながら複数のプラズマ発生ノズルの状態を直接監視することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
（実施の形態１）
以下、本発明の実施の形態１によるワーク処理装置Ｓについて図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明に係るワーク処理装置Ｓの全体構成を示す斜視図である。このワーク処理装置Ｓは、プラズマを発生し被処理物となるワークＷに前記プラズマを照射するプラズマ発生ユニットＰＵ（プラズマ発生装置）と、ワークＷを前記プラズマの照射領域を経由する所定のルートで搬送する搬送手段Ｃとから構成されている。図２は、図１とは視線方向を異ならせたプラズマ発生ユニットＰＵの斜視図、図３は一部透視側面図である。なお、図１〜図３において、Ｘ−Ｘ方向を前後方向、Ｙ−Ｙ方向を左右方向、Ｚ−Ｚ方向を上下方向というものとし、−Ｘ方向を前方向、＋Ｘ方向を後方向、−Ｙを左方向、＋Ｙ方向を右方向、−Ｚ方向を下方向、＋Ｚ方向を上方向として説明する。
【００２４】
プラズマ発生ユニットＰＵは、マイクロ波を利用し常温常圧でのプラズマ発生が可能なユニットであって、大略的に、マイクロ波を伝搬させる導波管１０、この導波管１０の一端側（左側）に配置され所定波長のマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置２０、導波管１０に設けられたプラズマ発生部３０、導波管１０の他端側（右側）に配置されマイクロ波を反射させるスライディングショート４０、導波管１０に放出されたマイクロ波のうち反射マイクロ波がマイクロ波発生装置２０に戻らないよう分離するサーキュレータ５０、サーキュレータ５０で分離された反射マイクロ波を吸収するダミーロード６０及びインピーダンス整合を行うスタブチューナ７０、及びプラズマ発生部３０から発生するプラズマを撮影する撮影部１００を備えて構成されている。また搬送手段Ｃは、図略の駆動手段により回転駆動される搬送ローラ８０を含んで構成されている。本実施形態では、平板状のワークＷが搬送手段Ｃにより搬送される例を示している。
【００２５】
導波管１０は、例えば非磁性金属（アルミニウム等）からなり、断面矩形の長尺管状を呈し、マイクロ波発生装置２０により発生されたマイクロ波をプラズマ発生部３０へ向けて、その長手方向に伝搬させるものである。導波管１０は、分割された複数の導波管ピースが互いのフランジ部同士で連結された連結体で構成されており、一端側から順に、マイクロ波発生装置２０が搭載される第１導波管ピース１１、スタブチューナ７０が組み付けられる第２導波管ピース１２及びプラズマ発生部３０が設けられている第３導波管ピース１３が連結されてなる。なお、第１導波管ピース１１と第２導波管ピース１２との間にはサーキュレータ５０が介在され、第３導波管ピース１３の他端側にはスライディングショート４０が連結されている。
【００２６】
また、第１導波管ピース１１、第２導波管ピース１２及び第３導波管ピース１３は、それぞれ金属平板からなる上面板、下面板及び２枚の側面板を用いて角筒状に組み立てられ、その両端にフランジ板が取り付けられて構成されている。なお、このような平板の組み立てによらず、押し出し成形や板状部材の折り曲げ加工等により形成された矩形導波管ピース若しくは非分割型の導波管を用いるようにしても良い。また、断面矩形の導波管に限らず、例えば断面楕円の導波管を用いることも可能である。さらに、非磁性金属に限らず、導波作用を有する各種の部材で導波管を構成することができる。
【００２７】
マイクロ波発生装置２０は、例えば２．４５ＧＨｚのマイクロ波を発生するマグネトロン等のマイクロ波発生源と、このマイクロ波発生源にて発生されたマイクロ波の強度を所定の出力強度に調整するアンプとを具備する装置本体部２１と、装置本体部２１で発生されたマイクロ波を導波管１０の内部へ放出するマイクロ波送信アンテナ２２とを備えて構成されている。本実施形態に係るプラズマ発生ユニットＰＵでは、例えば１Ｗ〜３ｋＷのマイクロ波エネルギーを出力できる連続可変型のマイクロ波発生装置２０が好適に用いられる。
【００２８】
図３に示すようにマイクロ波発生装置２０は、装置本体部２１からマイクロ波送信アンテナ２２が突設された形態のものであり、第１導波管ピース１１に載置される態様で固定されている。詳しくは、装置本体部２１が第１導波管ピース１１の上面板１１Ｕに載置され、マイクロ波送信アンテナ２２が上面板１１Ｕに穿設された貫通孔１１１を通して第１導波管ピース１１内部の導波空間１１０に突出する態様で固定されている。このように構成されることで、マイクロ波送信アンテナ２２から放出された例えば２．４５ＧＨｚのマイクロ波は、導波管１０により、その一端側（左側）から他端側（右側）に向けて伝搬される。
【００２９】
プラズマ発生部３０は、第３導波管ピース１３の下面板１３Ｂ（矩形導波管の一つの側面；処理対象ワークとの対向面）に、左右方向へ一列に整列して突設された８個のプラズマ発生ノズル３１を具備して構成されている。このプラズマ発生部３０の幅員、つまり８個のプラズマ発生ノズル３１の左右方向の配列幅は、平板状のワークＷの搬送方向と直交する幅方向のサイズｔと略合致する幅員とされている。これにより、ワークＷを搬送ローラ８０で搬送しながら、ワークＷの全表面（下面板１３Ｂと対向する面）に対してプラズマ処理が行えるようになっている。なお、８個のプラズマ発生ノズル３１の配列間隔は、導波管１０内を伝搬させるマイクロ波の波長λＧに応じて定めることが望ましい。例えば、波長λＧの１／２ピッチ、１／４ピッチでプラズマ発生ノズル３１を配列することが望ましく、２．４５ＧＨｚのマイクロ波を用いる場合は、λＧ＝２３０ｍｍであるので、１１５ｍｍ（λＧ／２）ピッチ、或いは５７．５ｍｍ（λＧ／４）ピッチでプラズマ発生ノズル３１を配列すれば良い。
【００３０】
図２に示すように撮影部１００は、ＣＣＤ等の光電変換素子を用いて動画像又は静止画像を撮影することができる公知のカメラから構成され、レンズ部１０１及び本体部１０２を備える。本体部１０２は、直方体状の筐体を有し、筐体の底面には、撮影部１００の撮影方向を移動させるための撮影方向移動部２００が配設されている。撮影方向移動部２００は、本体部１０２が載置されるカメラ台２０１と、本体部１０２の底面に取り付けられ、カメラ台２０１を貫通する軸２０２と、軸２０２に取り付けられ、撮影部１００を扇状にスイングさせるモータ２０３とを備えている。モータ２０３は、図１０に示す全体制御部９４の制御の下、図２に示すように撮影部１００が左端に配設されたプラズマ発生ノズル３１から右端に配設されたプラズマ発生ノズル３１までを撮影することができるように、撮影部１００をプラズマ発生ノズル３１の配列方向に沿ってスイングさせる。
【００３１】
図４は、２つのプラズマ発生ノズル３１を拡大して示す側面図（一方のプラズマ発生ノズル３１は分解図として描いている）、図５は、図４のＡ−Ａ線側断面図である。プラズマ発生ノズル３１は、中心導電体３２、ノズル本体３３、ノズルホルダ３４、シール部材３５及び保護管３６を含んで構成されている。
【００３２】
中心導電体３２は、良導電性の金属から構成された棒状部材からなり、その上端部３２１の側が第３導波管ピース１３の下面板１３Ｂを貫通して導波空間１３０に所定長さだけ突出（この突出部分を受信アンテナ部３２０という）する一方で、下端部３２２がノズル本体３３の下端縁３３１と略面一になるように、上下方向に配置されている。この中心導電体３２には、受信アンテナ部３２０が導波管１０内を伝搬するマイクロ波を受信することで、マイクロ波エネルギー（マイクロ波電力）が与えられるようになっている。当該中心導電体３２は、長さ方向略中間部において、シール部材３５により保持されている。
【００３３】
ノズル本体３３は、良導電性の金属から構成され、中心導電体３２を収納する筒状空間３３２を有する筒状体である。また、ノズルホルダ３４も良導電性の金属から構成され、ノズル本体３３を保持する比較的大径の下部保持空間３４１と、シール部材３５を保持する比較的小径の上部保持空間３４２とを有する筒状体である。一方、シール部材３５は、テフロン（登録商標）等の耐熱性樹脂材料やセラミック等からなる絶縁性部材からなり、前記中心導電体３２を固定的に保持する保持孔３５１をその中心軸上に備える筒状体からなる。
【００３４】
ノズル本体３３は、上方から順に、ノズルホルダ３４の下部保持空間３４１に嵌合される上側胴部３３Ｕと、後述するガスシールリング３７を保持するための環状凹部３３Ｓと、環状に突設されたフランジ部３３Ｆと、ノズルホルダ３４から突出する下側胴部３３Ｂとを具備している。また、上側胴部３３Ｕには、所定の処理ガスを前記筒状空間３３２へ供給させるための連通孔３３３が穿孔されている。
【００３５】
このノズル本体３３は、中心導電体３２の周囲に配置された外部導電体として機能するもので、中心導電体３２は所定の環状空間Ｈ（絶縁間隔）が周囲に確保された状態で筒状空間３３２の中心軸上に挿通されている。ノズル本体３３は、上側胴部３３Ｕの外周部がノズルホルダ３４の下部保持空間３４１の内周壁と接触し、またフランジ部３３Ｆの上端面がノズルホルダ３４の下端縁３４３と接触するようにノズルホルダ３４に嵌合されている。なお、ノズル本体３３は、例えばプランジャやセットビス等を用いて、ノズルホルダ３４に対して着脱自在な固定構造で装着されることが望ましい。
【００３６】
ノズルホルダ３４は、第３導波管ピース１３の下面板１３Ｂに穿孔された貫通孔１３１に密嵌合される上側胴部３４Ｕ（上部保持空間３４２の位置に略対応する）と、下面板１３Ｂから下方向に延出する下側胴部３４Ｂ（下部保持空間３４１の位置に略対応する）とを備えている。下側胴部３４Ｂの外周には、処理ガスを前記環状空間Ｈに供給するためのガス供給孔３４４が穿孔されている。図示は省略しているが、このガス供給孔３４４には、所定の処理ガスを供給するガス供給管の終端部が接続するための管継手等が取り付けられる。かかるガス供給孔３４４と、ノズル本体３３の連通孔３３３とは、ノズル本体３３がノズルホルダ３４への定位置嵌合された場合に互いに連通状態となるように、各々位置設定されている。なお、ガス供給孔３４４と連通孔３３３との突き合わせ部からのガス漏洩を抑止するために、ノズル本体３３とノズルホルダ３４との間にはガスシールリング３７が介在されている。
【００３７】
シール部材３５は、その下端縁３５２がノズル本体３３の上端縁３３４と当接し、その上端縁３５３がノズルホルダ３４の上端係止部３４５と当接する態様で、ノズルホルダ３４の上部保持空間３４２に保持されている。すなわち、上部保持空間３４２に中心導電体３２を支持した状態のシール部材３５が嵌合され、ノズル本体３３の上端縁３３４でその下端縁３５２が押圧されるようにして組み付けられているものである。
【００３８】
保護管３６（図５では図示省略している）は、所定長さの石英ガラスパイプ等からなり、ノズル本体３３の筒状空間３３２の内径に略等しい外径を有する。この保護管３６は、ノズル本体３３の下端縁３３１での異常放電（アーキング）を防止して後述するプルームＰを正常に放射させる機能を有しており、その一部がノズル本体３３の下端縁３３１から突出するように、前記筒状空間３３２に内挿されている。なお、保護管３６は、その先端部が下端縁３３１と一致するように、或いは下端縁３３１よりも内側へ入り込むように、その全体が筒状空間３３２に収納されていても良い。
【００３９】
プラズマ発生ノズル３１は上記のように構成されている結果、ノズル本体３３、ノズルホルダ３４及び第３導波管ピース１３（導波管１０）は導通状態（同電位）とされている一方で、中心導電体３２は絶縁性のシール部材３５で支持されていることから、これらの部材とは電気的に絶縁されている。従って、図６に示すように、導波管１０がアース電位とされた状態で、中心導電体３２の受信アンテナ部３２０でマイクロ波が受信され中心導電体３２にマイクロ波電力が給電されると、その下端部３２２及びノズル本体３３の下端縁３３１の近傍に電界集中部が形成されるようになる。
【００４０】
かかる状態で、ガス供給孔３４４から例えば酸素ガスや空気のような酸素系の処理ガスが環状空間Ｈへ供給されると、前記マイクロ波電力により処理ガスが励起されて中心導電体３２の下端部３２２付近においてプラズマ（電離気体）が発生する。このプラズマは、電子温度が数万度であるものの、ガス温度は外界温度に近い反応性プラズマ（中性分子が示すガス温度に比較して、電子が示す電子温度が極めて高い状態のプラズマ）であって、常圧下で発生するプラズマである。
【００４１】
このようにしてプラズマ化された処理ガスは、ガス供給孔３４４から与えられるガス流によりプルームＰとしてノズル本体３３の下端縁３３１から放射される。このプルームＰにはラジカルが含まれ、例えば処理ガスとして酸素系ガスを使用すると酸素ラジカルが生成されることとなり、有機物の分解・除去作用、レジスト除去作用等を有するプルームＰとすることができる。本実施形態に係るプラズマ発生ユニットＰＵでは、プラズマ発生ノズル３１が複数個配列されていることから、左右方向に延びるライン状のプルームＰを発生させることが可能となる。
【００４２】
因みに、処理ガスとしてアルゴンガスのような不活性ガスや窒素ガスを用いれば、各種基板の表面クリーニングや表面改質を行うことができる。また、フッ素を含有する化合物ガスを用いれば基板表面を撥水性表面に改質することができ、親水基を含む化合物ガスを用いることで基板表面を親水性表面に改質することができる。さらに、金属元素を含む化合物ガスを用いれば、基板上に金属薄膜層を形成することができる。
【００４３】
スライディングショート４０は、各々のプラズマ発生ノズル３１に備えられている中心導電体３２と、導波管１０の内部を伝搬されるマイクロ波との結合状態を最適化するために備えられているもので、マイクロ波の反射位置を変化させて定在波パターンを調整可能とするべく第３導波管ピース１３の右側端部に連結されている。従って、定在波を利用しない場合は、当該スライディングショート４０に代えて、電波吸収作用を有するダミーロードが取り付けられる。
【００４４】
図７は、スライディングショート４０の内部構造を示す透視斜視図である。図７に示すように、スライディングショート４０は、導波管１０と同様な断面矩形の筐体構造を備えており、導波管１０と同じ材料で構成された中空空間４１０を有する筐体部４１と、前記中空空間４１０内に収納された円柱状の反射ブロック４２と、反射ブロック４２の基端部に一体的に取り付けられ前記中空空間４１０内を左右方向に摺動する矩形ブロック４３と、この矩形ブロック４３に組み付けられた移動機構４４と、反射ブロック４２にシャフト４５を介して直結されている調整ノブ４６とが備えられている。
【００４５】
反射ブロック４２は、マイクロ波の反射面となる先端面４２１が第３導波管ピース１３の導波空間１３０に対向するよう左右方向に延在する円柱体である。この反射ブロック４２は、矩形ブロック４３と同様な角柱状を呈していても良い。前記移動機構４４は、調整ノブ４６の回転操作により矩形ブロック４３及びこれと一体化された反射ブロック４２を左右方向に推進若しくは後退させる機構であって、調整ノブ４６を回転させることで反射ブロック４２が中空空間４１０内において矩形ブロック４３にてガイドされつつ左右方向に移動可能とされている。かかる反射ブロック４２の移動による先端面４２１の位置調整によって、定在波パターンが最適化される。なお、調整ノブ４６の回転操作を、ステッピングモータ等を用いて自動化することが望ましい。
【００４６】
サーキュレータ５０は、例えばフェライト柱を内蔵する導波管型の３ポートサーキュレータからなり、一旦はプラズマ発生部３０へ向けて伝搬されたマイクロ波のうち、プラズマ発生部３０で電力消費されずに戻って来る反射マイクロ波を、マイクロ波発生装置２０に戻さずダミーロード６０へ向かわせるものである。このようなサーキュレータ５０を配置することで、マイクロ波発生装置２０が反射マイクロ波によって過熱状態となることが防止される。
【００４７】
図８は、サーキュレータ５０の作用を説明するためのプラズマ発生ユニットＰＵの上面図である。図示するように、サーキュレータ５０の第１ポート５１には第１導波管ピース１１が、第２ポート５２には第２導波管ピース１２が、さらに第３ポート５３にはダミーロード６０がそれぞれ接続されている。そして、マイクロ波発生装置２０のマイクロ波送信アンテナ２２から発生されたマイクロ波は、矢印ａで示すように第１ポート５１から第２ポート５２を経由して第２導波管ピース１２へ向かう。一方、第２導波管ピース１２側から入射する反射マイクロ波は、矢印ｂで示すように、第２ポート５２から第３ポート５３へ向かうよう偏向され、ダミーロード６０へ入射される。
【００４８】
ダミーロード６０は、上述の反射マイクロ波を吸収して熱に変換する水冷型（空冷型でも良い）の電波吸収体である。このダミーロード６０には、冷却水を内部に流通させるための冷却水流通口６１が設けられており、反射マイクロ波を熱変換することにより発生した熱が前記冷却水に熱交換されるようになっている。
【００４９】
スタブチューナ７０は、導波管１０とプラズマ発生ノズル３１とのインピーダンス整合を図るためのもので、第２導波管ピース１２の上面板１２Ｕに所定間隔を置いて直列配置された３つのスタブチューナユニット７０Ａ〜７０Ｃを備えている。図９は、スタブチューナ７０の設置状況を示す透視側面図である。図示するように、３つのスタブチューナユニット７０Ａ〜７０Ｃは同一構造を備えており、第２導波管ピース１２の導波空間１２０に突出するスタブ７１と、該スタブ７１に直結された操作棒７２と、スタブ７１を上下方向に出没動作させるための移動機構７３と、これら機構を保持する外套７４とから構成されている。
【００５０】
スタブチューナユニット７０Ａ〜７０Ｃに各々備えられているスタブ７１は、その導波空間１２０への突出長が各操作棒７２により独立して調整可能とされている。これらスタブ７１の突出長は、例えばマイクロ波電力パワーをモニターしつつ、中心導電体３２による消費電力が最大となるポイント（反射マイクロ波が最小になるポイント）を探索することで決定される。なお、このようなインピーダンス整合は、必要に応じてスライディングショート４０と連動させて実行される。このスタブチューナ７０の操作も、ステッピングモータ等を用いて自動化することが望ましい。
【００５１】
搬送手段Ｃは、所定の搬送路に沿って配置された複数の搬送ローラ８０を備え、図略の駆動手段により搬送ローラ８０が駆動されることで、処理対象となるワークＷを、前記プラズマ発生部３０を経由して搬送させるものである。ここで、処理対象となるワークＷとしては、プラズマディスプレイパネルや半導体基板のような平型基板、電子部品が実装された回路基板等を例示することができる。また、平型形状でないパーツや組部品等も処理対象とすることができ、この場合は搬送ローラに代えてベルトコンベア等を採用すれば良い。
【００５２】
次に、本実施形態に係るワーク処理装置Ｓの電気的構成について説明する。図１０は、ワーク処理装置Ｓの制御系９０を示すブロック図である。この制御系９０はＣＰＵ（中央演算処理装置）等からなり、機能的にマイクロ波出力制御部９１、ガス流量制御部９２、モータ制御部９３、全体制御部９４が備えられている。さらに、全体制御部９４に対して所定の操作信号を与える操作部９５、モータ２０３を制御するモータ制御部９６、ユーザに装置の故障を報知すると共に、撮影部１００により撮影された画像を表示する状態監視部９７を備えている。
【００５３】
マイクロ波出力制御部９１は、マイクロ波発生装置２０から出力されるマイクロ波のＯＮ−ＯＦＦ制御、出力強度制御を行うもので、所定のパルス信号を生成してマイクロ波発生装置２０の装置本体部２１によるマイクロ波発生の動作制御を行う。具体的には、マイクロ波出力制御部９１は、後述する稼働制御部９４２からマイクロ波停止信号を受信したとき、マイクロ波発生装置２０にマイクロ波の出力を停止させ、稼働制御部９４２からマイクロ波出力信号を受信したとき、マイクロ波発生装置２０にマイクロ波の出力を開始させる。
【００５４】
ガス流量制御部９２は、プラズマ発生部３０の各プラズマ発生ノズル３１へ供給する処理ガスの流量制御を行うものである。具体的には、ガスボンベ等の処理ガス供給源９２１とプラズマ発生ノズル３１との間を接続するガス供給管９２２に設けられた流量制御弁９２３の開閉制御乃至は開度調整を行う。また、ガス流量制御部９２は、稼働制御部９４２から閉信号を受信した場合、流量制御弁９２３を閉じ、開信号を受信した場合、流量制御弁を開け、開信号のレベルに応じて、流量制御弁９２３の開度を調整する。なお、図１０においては、１つのガス流量制御部９２と流量制御弁９２３としか示していないが、実際には、８本のプラズマ発生ノズル３１の各々に対応する８つのガス流量制御部９２と流量制御弁９２３とが存在する。そして、８つのガス流量制御部９２は、全体制御部９４によって個別に制御される。また、ガス流量制御部９２と流量制御弁９２３の個数は、８つに限定されず、プラズマ発生ノズル３１の個数に応じて適宜変更される。
【００５５】
モータ制御部９３は、搬送ローラ８０を回転駆動させる駆動モータ９３１の動作制御を行うもので、ワークＷの搬送開始及び停止、搬送速度の制御等を行うものである。
【００５６】
全体制御部９４は、当該ワーク処理装置Ｓの全体的な動作制御を司るもので、操作部９５から与えられる操作信号に応じて、上記マイクロ波出力制御部９１、ガス流量制御部９２及びモータ制御部９３を、所定のシーケンスに基づいて動作制御する。すなわち、予め与えられた制御プログラムに基づいて、ワークＷの搬送を開始させてワークＷをプラズマ発生部３０へ導き、所定流量の処理ガスを各プラズマ発生ノズル３１へ供給させつつマイクロ波電力を与えてプラズマ（プルームＰ）を発生させ、ワークＷを搬送しながらその表面にプルームＰを放射させるものである。これにより、複数のワークＷを連続的に処理することができる。
【００５７】
特に、実施の形態１において、全体制御部９４は、欠陥ノズル検出部９４１、及び稼働制御部９４２の機能を備えている。欠陥ノズル検出部９４１は、撮影部１００により撮影された画像に対して所定の画像処理を施すことで、プラズマ発生部３０を構成する８個のプラズマ発生ノズル３１のうち、正常な状態のプラズマを放出することができないプラズマ発生ノズル３１である欠陥ノズルを検出する。
【００５８】
稼働制御部９４２は、欠陥ノズル検出部９４１により、８個のプラズマ発生ノズル３１のうち、少なくとも１本の欠陥ノズルが検出された場合、マイクロ波発生装置２０によるマイクロ波の出力が停止されるようにマイクロ波出力制御部９１にマイクロ波停止信号を出力する。
【００５９】
また、稼働制御部９４２は、欠陥ノズル検出部９４１により、８個のプラズマ発生ノズル３１のうち、少なくとも１本の欠陥ノズルが検出された場合、流量制御弁９２３が閉じられるようにガス流量制御部９２に閉信号を出力する。
【００６０】
また、稼働制御部９４２は、マイクロ波出力制御部９１にマイクロ波停止信号を通知すると共に、ガス流量制御部９２に閉信号を出力した後、一定時間経過したときに、プラズマの発生を再開させるために、マイクロ波出力制御部９１にマイクロ波発生信号を出力すると共に、ガス流量制御部９２に開信号を出力する。
【００６１】
更に、稼働制御部９４２は、欠陥ノズル検出部９４１により３回連続して欠陥ノズルとして検出されたプラズマ発生ノズルが少なくとも１本存在する場合、装置が故障したと判定し、状態監視部９７に装置の故障を報知させる。
【００６２】
モータ制御部９６は、全体制御部９４の制御の下、モータ２０３を制御する。
【００６３】
状態監視部９７は、液晶表示パネル、陰極線管ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の表示装置から構成され、撮影部１００により撮影された画像を表示すると共に、装置の故障をユーザに報知する。
【００６４】
次に、ワーク処理装置Ｓによるプラズマ発生ノズル３１の欠陥を検出する処理について説明する。図１１は、プラズマ発生ノズル３１の欠陥を検出する処理を示すフローチャートである。まず、ステップＳ１において、ユーザにより図略の電源スイッチがオンされると、稼働制御部９４２は、装置を構成する各回路に対して商用電源からの電力の供給を開始する。
【００６５】
ステップＳ２において、稼働制御部９４２は、ガス流量制御部９２に開信号を出力して流量制御弁を開け、処理ガス供給源９２１からのガスを、プラズマ発生ノズル３１に供給する。ここで、稼働制御部９４２は、８個のプラズマ発生ノズル３１に対応する８個のガス流量制御部９２の全てに対して、開信号を出力する。
【００６６】
ステップＳ３において、稼働制御部９４２は、マイクロ波発生信号をマイクロ波出力制御部９１に出力し、マイクロ波発生装置２０からマイクロ波を発生させる。これにより、８個のプラズマ発生ノズル３１は、プラズマを発生し、搬送手段Ｃによって搬送されるワークＷに対してプラズマを照射する。
【００６７】
ステップＳ４において、欠陥ノズル検出部９４１は、マイクロ波出力信号をマイクロ波出力制御部９１に出力すると共に、開信号をガス流量制御部９２に出力してから３秒経過した場合（Ｓ４でＹＥＳ）、撮影部１００にプラズマ発生ノズル３１から出力されるプルームＰを撮影させる（ステップＳ５）。一方、ステップＳ４において、３秒経過しない場合（Ｓ４でＮＯ）、処理がステップＳ４に戻される。
【００６８】
図１２は、撮影部１００がプルームＰを撮影する様子を説明する図である。図１２の例では、撮影部１００のフレームは、一度に２個のプルームＰを撮影することが可能なサイズを有しているものとする。また、撮影部１００は、撮影方向移動部２００によって、フレームＦが一定の速度ｖでスライドするようにスイングされているものとする。また、撮影部１００が、スイング範囲の左端に位置する場合、左から１個目及び２個目のプラズマ発生ノズル３１から放出される２個のプルームＰが、フレームＦ内に存在するように、撮影部１００が設置されているものとする。
【００６９】
まず、欠陥ノズル検出部９４１は、撮影部１００が左端に位置するときに、撮影部１００にプルームＰの画像を撮影させる。次に、欠陥ノズル検出部９４１は、左から１個目及び２個目のプラズマ発生ノズル３１から放出される２個のプルームＰを撮影してから、フレームＦ内に左から３個目及び４個目のプラズマ発生ノズル３１が放出する２個のプルームＰが入るまでの所定の撮影待機時間が経過したときに、撮影部１００にプルームＰの画像を撮影させる。このように、欠陥ノズル検出部９４１は、左端のプラズマ発生ノズル３１から順番に２個ずつ、合計４枚のプルームＰの画像を撮影部１００に撮影させる。なお、上記撮影待機時間は、撮影部１００の移動速度と、プラズマ発生部３０の全長とから予め定められた値が採用される。
【００７０】
なお、撮影部１００が一度に撮影するプルームＰの個数は、２個に限定されず、１個ずつ撮影してもよいし、４個ずつ撮影してもよいし、一度に８個を撮影してもよい。
【００７１】
ステップＳ６において、欠陥ノズル検出部９４１は、撮影部１００により撮影された４枚の各画像に対して、所定の画像処理を施し、全てのプラズマ発生ノズル３１が点灯しているか否かを検出する。具体的には、欠陥ノズル検出部９４１は、撮影部１００により撮影された各画像からプルームＰを示す画像を抽出する処理を行い、各画像において、プルームＰを示す画像が２個抽出することができた場合は、これらのプルームＰを発生させているプラズマ発生ノズル３１は正常であると判定する。一方、各画像において、プルームＰを示す画像を１個しか抽出することができなかった場合、又は、プルームＰを示す画像を１個も抽出することができなかった場合は、プルームＰを放出することができなかったプラズマ発生ノズル３１を欠陥ノズルとして判定する。
【００７２】
更に、各画像において、プルームＰが２個抽出された場合であっても、抽出したプルームの面積が規定値より小さい場合、当該プルームＰを放出するプラズマ発生ノズル３１は、欠陥ノズルであると判定する。規定値としては、実験的に予め得られた値が採用される。
【００７３】
ここで、欠陥ノズル検出部９４１は、撮影部１００により撮影された４枚の画像のうち、例えば１枚目の画像において、右側の領域にプルームを示す画像が１つ表れている場合は、左端に位置するプラズマ発生ノズル３１からプラズマが発生されていないと判定し、左側の領域にプルームを示す画像が１つ表れている場合は、左から２番目のプラズマ発生ノズル３１に欠陥が生じていると判定する。残り３枚の画像についても同様にして、プラズマを発生していないプラズマ発生ノズル３１を特定する。
【００７４】
また、欠陥ノズル検出部９４１は、例えば、撮影部１００により撮影された画像に対して、基準プルーム画像を用いたテンプレートマッチングを施すことでプルームＰを示す画像を抽出する。或いは、撮影部１００により撮影された画像に対して、ＹＵＶ変換を施し、彩度がプルームＰの彩度に基づいて予め定められた範囲内にある画素をラベリングし、ラベリングした画素からなる領域が一定の面積以上連続して存在する場合、当該画素からなる領域を、プルームＰを示す画像として抽出する。
【００７５】
ステップＳ６において、欠陥ノズル検出部９４１により欠陥ノズルが検出されなかった場合（Ｓ６でＹＥＳ）、処理がステップＳ４に戻され、再度、撮影部１００による撮影が実行される。一方、欠陥ノズル検出部９４１により少なくとも１本の欠陥ノズルが検出された場合（Ｓ６でＮＯ）、稼働制御部９４２は、マイクロ波停止信号をマイクロ波出力制御部９１に出力し、マイクロ波発生装置２０によるマイクロ波の出力を停止させる（ステップＳ７）。
【００７６】
ステップＳ８において、稼働制御部９４２は、全てのガス流量制御部９２に閉信号を出力し、全てのプラズマ発生ノズル３１へのガスの供給を停止させる。
【００７７】
ステップＳ９において、稼働制御部９４２は、欠陥ノズル検出部９４１により３回連続して欠陥ノズルとして判定されたプラズマ発生ノズル３１が少なくとも１本存在する場合、（ステップＳ９でＮＯ）、稼働制御部９４２は、プラズマ発生装置ＰＵが故障していると判定し、マイクロ波の出力の停止と、ガスの供給の停止とを継続させ、プラズマ発生装置ＰＵの駆動の停止を継続させる（ステップＳ１１）。
【００７８】
ステップＳ１２において、稼働制御部９４２は、状態監視部９７に、プラズマ発生装置ＰＵが故障していることをユーザに報知するための所定の画像を表示させる。この場合、例えば状態監視部９７には「左から１番目のプラズマ発生ノズルと４番目のプラズマ発生ノズルからプラズマが放出されていません。」、「１番目のプラズマ発生ノズルからプラズマが放出されていません。４番目のプラズマ発生ノズルが劣化しています。」というように、８個のプラズマ発生ノズル３１のうち、どのプラズマ発生ノズル３１が欠陥ノズルであるかを示す語句が表示される。また、図３に示すようなプラズマ発生ノズル３１の全体を示す画像を状態監視部９７に表示し、欠陥ノズルを例えば赤色で点滅させる等して、グラフィカルに欠陥ノズルの存在を報知してもよい。
【００７９】
ステップＳ９において、欠陥ノズル検出部９４１により３回連続して欠陥ノズルとして判定されたプラズマ発生ノズル３１が１本も存在しない場合（ステップＳ９でＮＯ）、稼働制御部９４２は、ステップＳ９の処理が終了してから３秒経過したか否かを判定し、３秒経過した場合（ステップＳ１０でＹＥＳ）、処理をステップＳ２に戻し、３秒経過していない場合（ステップＳ１０でＮＯ）、処理をステップＳ１０に戻す。
【００８０】
以上説明したようにワーク処理装置Ｓによれば、撮影部１００で撮影された画像が状態監視部９７に表示されているため、プラズマ発生ノズル３１毎に撮影部１００を設けなくとも、プルームＰの画像の画像を撮影することが可能となり、簡素な構成によりプラズマ発生ノズルの状態を監視することができる。
【００８１】
また、プラズマ発生ノズル３１から発生するプルームＰの画像を撮影し、撮影されたプルームＰの画像を基に、欠陥ノズルが検出されている。ここで、欠陥ノズルからはプルームＰが放出されていない、或いは正常なプルームよりも小さなプルームＰが放出されているため、プルームＰの画像を撮影することにより、欠陥ノズルを精度よく検出することが可能となる。
【００８２】
（実施の形態２）
次に、本発明の実施の形態２によるワーク処理装置Ｓａについて説明する。図１３は、実施の形態２によるワーク処理装置Ｓａの制御系９０ａを示すブロック図である。実施の形態２によるワーク処理装置Ｓａは、全体制御部９４をシステム制御基板９８及びパソコン９９により構成し、撮影部１００ａにより撮影された画像を、通信回線ＮＴを介してパソコン９９が受信することを特徴とする。なお、実施の形態２によるワーク処理装置Ｓａにおいて、実施の形態１によるワーク処理装置Ｓと同一のものは同一の符号を付して説明を省略し、相違点のみ説明する。
【００８３】
撮影部１００ａは、公知のウェブカメラから構成され、システム制御基板９８の制御の下、プルームＰの画像を撮影し、通信回線ＮＴを介してパソコンに送信する。通信回線ＮＴとしては、インターネット通信網、公衆電話回線網、専用線網、及びＬＡＮ等の通信回線を採用することができる。
【００８４】
システム制御基板９８は、当該ワーク処理装置Ｓの全体的な動作制御を司るもので、操作部９５から与えられる操作信号に応じて、上記マイクロ波出力制御部９１、ガス流量制御部９２及びモータ制御部９３を、所定のシーケンスに基づいて動作制御する。すなわち、予め与えられた制御プログラムに基づいて、ワークＷの搬送を開始させてワークＷをプラズマ発生部３０へ導き、所定流量の処理ガスを各プラズマ発生ノズル３１へ供給させつつマイクロ波電力を与えてプラズマ（プルームＰ）を発生させ、ワークＷを搬送しながらその表面にプルームＰを放射させるものである。これにより、複数のワークＷを連続的に処理することができる。
【００８５】
パソコン９９は、公知の通信機能を備えるパーソナルコンピュータから構成され、状態監視部９７ａ、欠陥ノズル検出部９４１ａ、及び稼働制御部９４２ａを備えている。欠陥ノズル検出部９４１ａは、図１０に示す欠陥ノズル検出部９４１と同一の機能を有しているため、説明を省略する。パソコン９９とシステム制御基板９８とはＲＳ−２３２等の所定の通信ケーブルを介して接続されている。或いは、インターネット、ＬＡＮ、専用線等の通信回線を介して接続されている。
【００８６】
稼働制御部９４２ａは、欠陥ノズル検出部９４１ａにより、８個のプラズマ発生ノズル３１のうち、少なくとも１本の欠陥ノズルが検出された場合、システム制御基板９８がマイクロ波出力制御部９１にマイクロ波停止信号を出力するように、システム制御基板９８を制御する。
【００８７】
また、稼働制御部９４２ａは、欠陥ノズル検出部９４１ａにより、８個のプラズマ発生ノズル３１のうち、少なくとも１本の欠陥ノズルが検出された場合、システム制御基板９８が閉信号を出力するように、システム制御基板９８を制御する。
【００８８】
また、稼働制御部９４２ａは、マイクロ波出力制御部９１にマイクロ波停止信号を通知すると共に、ガス流量制御部９２に閉信号を通知した後、一定時間経過したときに、プラズマの発生を再開させるために、システム制御基板９８がマイクロ波出力制御部９１にマイクロ波発生信号を出力すると共に、ガス流量制御部９２に開信号を出力するように、システム制御基板９８を制御する。
【００８９】
更に、稼働制御部９４２ａは、マイクロ波の発生を所定回数再開させても、欠陥ノズル検出部９４１ａにより連続して３回欠陥ノズルとして検出されたプラズマ発生ノズル３１が少なくとも１本存在する場合、プラズマ発生装置ＰＵが故障したと判定し、状態監視部９７ａにプラズマ発生装置ＰＵの故障を報知させる。状態監視部９７ａはパソコン９９が備える表示装置により構成される。
【００９０】
以上説明したように、実施の形態２によるワーク処理装置Ｓａによれば、全体制御部９４をパソコンとシステム制御基板９８とにより構成し、パソコンと撮影部１００ａとを通信回線ＮＴを介して接続したため、パソコン９９により、プラズマ発生装置ＰＵの故障を遠隔的に監視することができる。また、状態監視部９７ａには、撮影部１００ａにより撮影された画像が表示されるため、プラズマ発生ノズル３１を遠隔監視することができる。
【００９１】
以上、本発明の実施の形態１及び２に係るワーク処理装置Ｓ及びＳａについて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば下記の実施形態を取ることができる。
（１）上記実施形態では、複数のプラズマ発生ノズル３１を一列に整列配置した例を示したが、ノズル配列はワークの形状やマイクロ波電力のパワー等に応じて適宜決定すれば良く、例えばワークの搬送方向に複数列プラズマ発生ノズル３１をマトリクス整列したり、千鳥配列したりしても良い。
（２）上記実施形態では、搬送手段Ｃとして搬送ローラ８０の上面に平板状のワークＷを載置して搬送する形態を例示したが、この他に例えば上下の搬送ローラ間にワークをニップさせて搬送させる形態、搬送ローラを用いず所定のバスケット等にワークを収納し前記バスケット等をラインコンベア等で搬送させる形態、或いはロボットハンド等でワークを把持してプラズマ発生部３０へ搬送させる形態であっても良い。
（３）上記実施形態では、マイクロ波発生源として２．４５ＧＨｚのマイクロ波を発生するマグネトロンを例示したが、マグネトロン以外の各種高周波電源も使用可能であり、また２．４５ＧＨｚとは異なる波長のマイクロ波を用いるようにしても良い。
（４）導波管１０内におけるマイクロ波電力を測定するために、パワーメータを導波管１０の適所に設置することが望ましい。例えば、マイクロ波発生装置２０のマイクロ波送信アンテナ２２から放出されたマイクロ波電力に対する反射マイクロ波電力の比を知見するために、サーキュレータ５０と第２導波管ピース１２との間に、パワーメータを内蔵する導波管を介在させるようにすることができる。
（５）また、実施の形態１及び２では説明しなかったが、状態監視部９７，９７ａは、撮影部１００，１００ａにより撮影された画像をサーモグラフィ化して表示してもよい。
（６）更に、複数のプラズマ発生ノズル３１がそれぞれ点灯しているかどうかの状態を確認するために、ワーク処理装置Ｓの筐体（図略）に、プラズマ発生装置ＰＵを観察する観察窓を設けるようにしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明にかかるプラズマ発生装置及びワーク処理装置は、半導体ウエハ等の半導体基板に対するエッチング処理装置や成膜装置、プラズマディスプレイパネル等のガラス基板やプリント基板の清浄化処理装置、医療機器等に対する滅菌処理装置、タンパク質の分解装置等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】本発明に係るワーク処理装置Ｓの全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１とは視線方向を異ならせたプラズマ発生ユニットＰＵの斜視図である。
【図３】ワーク処理装置Ｓの一部透視側面図である。
【図４】２つのプラズマ発生ノズル３１を拡大して示す側面図（一方のプラズマ発生ノズル３１は分解図として描いている）である。
【図５】図４のＡ−Ａ線側断面図である。
【図６】プラズマ発生ノズル３１におけるプラズマの発生状態を説明するための透視側面図である。
【図７】スライディングショート４０の内部構造を示す透視斜視図である。
【図８】サーキュレータ５０の作用を説明するためのプラズマ発生ユニットＰＵの上面図である。
【図９】スタブチューナ７０の設置状況を示す透視側面図である。
【図１０】ワーク処理装置Ｓの制御系９０を示すブロック図である。
【図１１】プラズマ発生ノズル３１の欠陥を検出する処理を示すフローチャートである。
【図１２】撮影部１００がプルームＰを撮影する様子を説明する図である。
【図１３】実施の形態２によるワーク処理装置Ｓａの制御系９０ａを示すブロック図である。
【符号の説明】
【００９４】
１０  導波管
２０  マイクロ波発生装置（マイクロ波発生部）
３０  プラズマ発生部
３１  プラズマ発生ノズル
９０、９０ａ  制御系
９１  マイクロ波出力制御部
９２  ガス流量制御部
９３  モータ制御部
９４  全体制御部
９５  操作部
９６  モータ制御部
９７，９７ａ  状態監視部
９８  システム制御基板
９９  パソコン
１００，１００ａ  撮影部
１０１  レンズ部
１０２  本体部
２００  撮影方向移動部
２０１  カメラ台
２０２  軸
２０３  モータ
９２１  処理ガス供給源
９２２  ガス供給管
９２３  流量制御弁
９３１  駆動モータ
９４１，９４１ａ  欠陥ノズル検出部
９４２，９４２ａ  稼働制御部
Ｓ，Ｓａ  ワーク処理装置
ＰＵ  プラズマ発生ユニット（プラズマ発生装置）
【図１】
0004680091.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
0004680091.tif 000009
【図９】
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【図１０】
0004680091.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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