(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
直径３００ｍｍのシリコンウェーハからなる基板を複数枚整列収納可能なフロントオープンボックスタイプの容器本体と、この容器本体の内部両側に支持壁を介しそれぞれ上下方向に配列形成され、基板を支持する複数のティースと、容器本体の開口した正面に蓋体開閉装置により嵌め合わされる着脱自在の蓋体と、この蓋体に取り付けられて複数枚の基板の前部周縁を保持可能なフロントリテーナと、容器本体と蓋体との間に介在される弾性変形可能なシールガスケットとを備えた基板収納容器であって、
各ティースは、基板の側部周縁に沿う平板と、この平板の前部内側に形成される前部中肉領域と、平板の前部外側に形成されて前部中肉領域の外側に位置する前部厚肉領域と、平板の後部に形成される後部中肉領域とを含み、前部中肉領域と前部厚肉領域との間に段差を形成し、前部中肉領域と後部中肉領域とに基板を略水平に支持させ、
蓋体は、容器本体の開口した正面に着脱自在に嵌め合わされる横長で正面略矩形の嵌合プレートと、この嵌合プレートにセットされた施錠機構を内蔵し、蓋体開閉装置の施錠機構用の操作キーに貫通される貫通操作孔を備えたカバープレートとを含み、嵌合プレートの裏面に板片の強度確保リブを複数形成し、嵌合プレートの周壁には複数の水切り孔を穿孔し、
フロントリテーナは、蓋体の嵌合プレートにおける複数の強度確保リブに嵌め合わされる支持体と、この支持体の左右両側部間に変形可能に架設される複数の弾性片と、各弾性片の略両側部に所定の間隔をおいてそれぞれ形成され、基板の前部周縁を溝で挟み持つ一対の被誘導ブロックとを含んで基板の前部周縁を保持するようにし、
シールガスケットは、蓋体の嵌合プレートにおける裏面周縁部の嵌合保持溝に嵌め合わされるエンドレス体と、このエンドレス体から斜め外方向に突出して容器本体の開口した正面内周に接触する屈曲可能な屈曲片と、エンドレス体に形成されて嵌合プレートの嵌合保持溝に圧接する突部とを含み、
容器本体の基板を最大収納枚数収納した場合に、容器本体の開口した正面を蓋体により閉塞する際の蓋体押し付け力を３０〜１１２．５（Ｎ）の範囲とするとともに、フロントリテーナの各弾性片当たりの基板保持力を１．３〜４．５（Ｎ）の範囲とし、
フロントリテーナの各弾性片当たりの基板保持力をｙ（Ｎ）、基板一枚当たりの質量をｗ（ｋｇ）とした場合に、１０．８×ｗ＜ｙ＜３４．３×ｗの関係式を満たすようにしたことを特徴とする基板収納容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコンウェーハやマスクガラス等からなる基板の収納、保管、輸送、搬送に使用される基板収納容器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
シリコンウェーハは、半導体製造工場で様々な大きさに形成されるが、小口径のタイプよりも大口径のタイプのほうがより多くのＩＣチップを製造することができるという特徴がある。例えば、直径２００ｍｍ（８インチ）のシリコンウェーハからは４４個のＩＣチップしか製造できないが、直径３００ｍｍ（１２インチ）のシリコンウェーハからは１１２個ものＩＣチップを製造することが可能である。
【０００３】
このようにＩＣチップの取得数を大幅にアップさせることができるというメリットに鑑み、シリコンウェーハの大口径化が進んでいるが、それに伴い基板収納容器も従来のトップオープンボックスタイプから自動化を前提としたフロントオープンボックスタイプに移行してきている。
【０００４】
大口径のシリコンウェーハを収納する基板収納容器は、図示しないが、複数枚のシリコンウェーハを整列収納するフロントオープンボックスタイプの容器本体と、この容器本体の開口した正面内に着脱自在に嵌合される蓋体と、この蓋体に装着されて複数枚のシリコンウェーハの前部周縁を保持するフロントリテーナと、容器本体と蓋体との間に介在されるシールガスケットと、蓋体に内蔵されて容器本体の正面内に嵌合された蓋体を固定する施錠機構とから構成され、シリコンウェーハの出し入れや蓋体の開閉が専用の装置（ロボットや蓋体開閉装置）により自動的に行われる（特許文献１、２参照）。
【０００５】
係る基板収納容器は、工程内の搬送に利用されるＦＯＵＰタイプ（ＳＥＭＩ規格Ｅ４７．１で標準化されている）と、シリコンウェーハの出荷や輸送に利用されるＦＯＳＢタイプ（ＳＥＭＩ規格Ｍ３１で標準化されている）とに分類される。
【特許文献１】特開２００４‐１４０３９５号公報
【特許文献２】特開２００３‐１６８７２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の基板収納容器は、以上のように構成されているが、ＦＯＵＰタイプとＦＯＳＢタイプとでは蓋体の開閉方式が異なるので、ＦＯＳＢタイプの蓋体を開閉する際、ＦＯＵＰタイプの標準化された蓋体開閉装置をそのまま使用することができないという大きな問題がある。また、ＦＯＳＢタイプの場合、輸送時にシリコンウェーハに予想以上の強い衝撃が作用することがある（例えば、航空機輸送に伴う気圧の変化）ので、シリコンウェーハの損傷のおそれがある。
【０００７】
また、大口径のシリコンウェーハの場合、シリコンウェーハの表裏両面がそれぞれ鏡面に形成され、パーティクル（ｐａｒｔｉｃｌｅ：微粒子）に関する規格が厳しく、しかも、専用のロボットにより出し入れされるので、パーティクルの発生や位置ずれを可能な限り抑制防止する必要がある。さらに、蓋体は、繰り返し開閉操作されることがあるが、その際、シールガスケットが位置ずれしたり、必要以上に変形するという大きな問題がある。
【０００８】
本発明は上記に鑑みなされたもので、標準化された蓋体開閉装置を使用することができ、例え予想以上の強い衝撃が作用しても基板が損傷するのを抑制し、パーティクルの発生や基板の位置ずれを可能な限り防止し、しかも、シールガスケットが位置ずれしたり、必要以上に変形するのを防ぐことのできる基板収納容器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明においては上記課題を解決するため、直径３００ｍｍのシリコンウェーハからなる基板を複数枚整列収納可能なフロントオープンボックスタイプの容器本体と、この容器本体の内部両側に支持壁を介しそれぞれ上下方向に配列形成され、基板を支持する複数のティースと、容器本体の開口した正面に蓋体開閉装置により嵌め合わされる着脱自在の蓋体と、この蓋体に取り付けられて複数枚の基板の前部周縁を保持可能なフロントリテーナと、容器本体と蓋体との間に介在される弾性変形可能なシールガスケットとを備えたものであって、
各ティースは、基板の側部周縁に沿う平板と、この平板の前部内側に形成される前部中肉領域と、平板の前部外側に形成されて前部中肉領域の外側に位置する前部厚肉領域と、平板の後部に形成される後部中肉領域とを含み、前部中肉領域と前部厚肉領域との間に段差を形成し、前部中肉領域と後部中肉領域とに基板を略水平に支持させ、
蓋体は、容器本体の開口した正面に着脱自在に嵌め合わされる横長で正面略矩形の嵌合プレートと、この嵌合プレートにセットされた施錠機構を内蔵し、蓋体開閉装置の施錠機構用の操作キーに貫通される貫通操作孔を備えたカバープレートとを含み、嵌合プレートの裏面に板片の強度確保リブを複数形成し、嵌合プレートの周壁には複数の水切り孔を穿孔し、
フロントリテーナは、蓋体の嵌合プレートにおける複数の強度確保リブに嵌め合わされる支持体と、この支持体の左右両側部間に変形可能に架設される複数の弾性片と、各弾性片の略両側部に所定の間隔をおいてそれぞれ形成され、基板の前部周縁を溝で挟み持つ一対の被誘導ブロックとを含んで基板の前部周縁を保持するようにし、
シールガスケットは、蓋体の嵌合プレートにおける裏面周縁部の嵌合保持溝に嵌め合わされるエンドレス体と、このエンドレス体から斜め外方向に突出して容器本体の開口した正面内周に接触する屈曲可能な屈曲片と、エンドレス体に形成されて嵌合プレートの嵌合保持溝に圧接する突部とを含み、
容器本体の基板を最大収納枚数収納した場合に、容器本体の開口した正面を蓋体により閉塞する際の蓋体押し付け力を３０〜１１２．５（Ｎ）の範囲とするとともに、フロントリテーナの各弾性片当たりの基板保持力を１．３〜４．５（Ｎ）の範囲とし、
フロントリテーナの各弾性片当たりの基板保持力をｙ（Ｎ）、基板一枚当たりの質量をｗ（ｋｇ）とした場合に、１０．８×ｗ＜ｙ＜３４．３×ｗの関係式を満たすようにしたことを特徴としている。
【００１３】
ここで、特許請求の範囲における容器本体は、ＦＯＵＰタイプとＦＯＳＢタイプを特に問うものではなく、透明、半透明、不透明のいずれでも良い。この容器本体の背面壁、側壁、天井には、透視窓を適宜設けることができる。
【００１４】
蓋体は、単数複数のプレートを使用して透明、半透明、不透明に形成される。この蓋体には施錠機構を設けることができるが、この施錠機構としては、例えば、蓋体に支持されて蓋体の外部からの操作で回転する回転体と、蓋体にスライド可能に支持されて回転体に回転可能に接続され、この回転体の回転に基づいて蓋体の内部方向から外部方向に進退動する複数の進退動バーと、蓋体周囲の開口付近に回転可能に支持されて各進退動体の先端部に回転可能に連結され、進退動バーの進退動作に基づいて蓋体の開口から出没する係止ローラとから構成することができる。
【００１５】
また、施錠機構を、蓋体に支持されて蓋体の外部からの操作で回転する回転体と、蓋体に軸受を介しスライド可能に支持されて回転体に回転可能に直接間接に接続され、この回転体の回転に基づいて蓋体の内部方向から外部方向に進退動する複数の進退動シャフトと、各進退動シャフトに回転可能に支持され、進退動シャフトの進退動作に基づいて蓋体周囲の開口から出没するローラとから構成することができる。回転体と進退動シャフトとを間接的に接続する場合、例えば回転体と進退動シャフトとをクランク係止部等で連結することができる。
【００１６】
また、施錠機構を、塵埃の発生抑制を条件に、蓋体に支持されて蓋体の外部からの操作で回転する歯車と、蓋体にスライド可能に支持されて歯車に他の歯車を介して接続され、歯車の回転に基づいて蓋体の内部方向から外部方向に進退動する複数の進退動バーと、各進退動バーの先端部に形成され、進退動バーの進退動作に基づいて蓋体周囲の開口から出没する係止爪とから構成し、進退動バーの端部を他の歯車の中心部から偏位した箇所に回転可能に支持させることもできる。
【００１７】
支持体は、例えば枠形やＵ字形等に形成される。また、弾性片は、複数の凹部と凸部とを組み合わせた形状、複数のＵ字片を組み合わせた形状、直線的な形状等に形成され、数を増減することができる。この弾性片が複数ある場合、各弾性片に、隣接する他の弾性片に接触する突部を単数複数形成し、弾性片相互の干渉や接触を防止することができる。
【００１８】
ブロックは、断面略Ｖ字形、略皿形、略Ｙ字形、略漏斗形に形成される。ティースに基板を略水平に支持させる場合には、ティースに基板を水平に支持させる場合と、ティースに基板を約１°程度の傾きで支持させる場合のいずれもが含まれる。また、ティースの前部中肉領域は、凸部やバー等に形成することができる。
【００１９】
シールガスケットの屈曲片は、斜め外方向に直線的に突出しても良いし、湾曲しながら突出しても良い。この屈曲片は、先細りでも良いし、そうでなくても良い。突部は、断面矩形、円形、楕円形、三角形、多角形、台形に形成され、単数複数いずれでも良い。この突部は、エンドレス体の長手方向にエンドレスに形成されて良いし、略点線状に並べて形成されても良い。
【００２０】
本発明によれば、フロントリテーナの弾性片の保持力を適切な範囲に確保するので、例え基板収納容器の移動時に基板に強い衝撃や力が作用したとしても、基板損傷のおそれを排除することができる。また、ＦＯＳＢタイプの蓋体を開閉する場合、ＦＯＵＰタイプの標準化された蓋体開閉装置を使用することができる。
【００２１】
また、ティースの前部中肉領域と前部厚肉領域との間に、基板に接触する段差を設けるので、容器本体内における基板を規制してその位置ずれを防ぐことが可能になる。
また、シールガスケットの屈曲片が基板収納容器の外方向に傾き、屈曲片が基板収納容器の内外いずれの方向にも変形することがないので、シール性にムラの生じるのを抑制できる。また、蓋体の凹部にエンドレス体の突部が強く接触するので、蓋体からシールガスケットが抜けにくくなる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、フロントリテーナの各弾性片一本当たりの基板保持力を、ｙ（Ｎ）、基板一枚当たりの質量をｗ（ｋｇ）とした場合に、１０．８×ｗ＜ｙ＜３４．３×ｗの関係式を満たすように調整するので、フロントリテーナの保持力を十分に確保することができる。したがって、輸送時に基板に予想以上の強い衝撃が作用しても、基板の損傷のおそれを排除することができる。また、ＦＯＳＢタイプの蓋体を開閉する際、ＦＯＵＰタイプの標準化された蓋体開閉装置をそのまま使用することができる。また、ティースの前部中肉領域と前部厚肉領域との間に、基板に接触する段差を形成するので、基板の左右方向への位置ずれを有効に抑制することができる。
また、前部中肉領域と後部中肉領域とに基板を支持させ、基板の接触面積を可能な限り減少させるので、パーティクルの発生を抑制することが可能になる。また、シールガスケットの屈曲片が外方向に傾斜し、屈曲片が内外いずれの方向にも変形することがないので、シール性にムラの生じることがない。また、嵌合保持溝にエンドレス体の突部が圧接し、抜けにくくするので、例え蓋体が繰り返し開閉操作されても、シールガスケットが位置ずれしたり、必要以上に変形することがない。
また、蓋体の強度確保リブにフロントリテーナが嵌合するとともに、被誘導ブロックに基板の前部周縁が保持・保護されるので、簡易な構成でフロントリテーナの耐衝撃性や耐変形性を向上させることが可能になる。したがって、輸送時に基板が損傷するのを有効に抑制することが可能になる。さらに、被誘導ブロックに基板の前部周縁が高精度に保持されるので、標準化された蓋体開閉装置を使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施の形態を説明すると、本実施形態における基板収納容器は、図１ないし図１４示すように、複数枚（例えば２５枚）のシリコンウェーハＷを収納する容器本体１と、この容器本体１の開口した正面を開閉する蓋体２０と、この蓋体２０に装着されて複数枚のシリコンウェーハＷの前部周縁を保持するフロントリテーナ４０と、容器本体１と蓋体２０との間に介在されるシールガスケット６０と、蓋体２０に内蔵されて容器本体１の正面を覆う蓋体２０を施錠する左右一対の施錠機構７０とを備え、フロントリテーナ４０を構成する弾性片４４当たりの基板保持力をｙ（Ｎ）、シリコンウェーハＷ一枚当たりの質量をｗ（ｋｇ）とした場合に、１０．８×ｗ＜ｙ＜３４．３×ｗの関係式を満たすようにしている。
【００２４】
シリコンウェーハＷは、図２に示すように、直径３００ｍｍの丸いウェーハに形成され、表裏両面がそれぞれ鏡面に形成されており、専用のロボットにより左右両側部周縁がハンドリングされた状態で出し入れされる。このシリコンウェーハＷの周縁部には、結晶方向の判別や整列を容易にするノッチ（図示せず）が略半円形に切り欠かれる。
【００２５】
容器本体１は、図１ないし図３に示すように、所定の樹脂を使用して透明のフロントオープンボックスタイプに成形され、両側壁の後部が内方向にそれぞれ部分的に傾斜して背面壁の面積が横長の正面の面積よりも小さく設定されており、複数枚のシリコンウェーハＷを上下方向に並べて整列収納するよう機能する。
【００２６】
容器本体１の内部両側には図３ないし図５に示すように、平面略く字形あるいは略半円弧形の支持壁２がそれぞれ一体的、あるいは着脱自在に配設され、この左右一対の支持壁２の対向面には、平面略く字形あるいは略半円弧形のティース３が上下方向に所定のピッチ（例えば１０ｍｍ）でそれぞれ一体的に並設されており、この左右一対のティース３がシリコンウェーハＷを水平に支持搭載する。
【００２７】
各ティース３は、図３ないし図５に示すように、シリコンウェーハＷの側部周縁に沿う平面略く字形あるいは略半円弧形に形成される平板４と、この平板４の湾曲形成された前部内側上に一体形成される平坦な前部中肉領域５と、平板４の前部外側上に一体形成されて前部中肉領域５の外側、換言すれば、支持壁２寄りに位置する平坦な前部厚肉領域６と、平板４の後部に一体形成される平坦な後部中肉領域７と、平板４の後部上に一体形成されて後部中肉領域７の前方に位置し、かつ支持壁２寄りに僅かな面積で位置する平坦な後部厚肉領域８とから形成される。
【００２８】
前部中肉領域５と前部厚肉領域６との間には、シリコンウェーハＷの側部周縁に接触する垂直の段差９が僅かに形成される。前部厚肉領域６は、容器本体１の正面から背面方向に向かうにしたがい徐々に湾曲しながら細くなるよう平面略三角形状に形成され、蓋体２０の取り外し時に容器本体１からシリコンウェーハＷが飛び出すのを規制するよう機能する。また、前部中肉領域５と後部中肉領域７との間には図５に示すように、僅かに凹んだ薄肉領域１０が形成され、この薄肉領域１０がシリコンウェーハＷの側部周縁に僅かな隙間を介して対向する。
【００２９】
このようなティース３は、平坦な面状の前部中肉領域５と後部中肉領域７とにシリコンウェーハＷの側部周縁を高い精度を維持しつつ水平に支持し、シリコンウェーハＷが上下方向に傾斜してロボットのフォークによる出し入れが困難になるのを防止するよう機能する。
【００３０】
なお、収納・支持の際、シリコンウェーハＷは、一対のティース３の表面に接触しながら移動して支持されるのではなく、パーティクル防止の観点から、ロボットのフォークに保持された状態で一対のティース３上に隙間をおいて位置決めされ、その後、ロボットのフォークが一対のティース３間に垂直に下降することにより、支持壁２の対向面に接触することなく、一対のティース３に支持される。
【００３１】
容器本体１の底面の前部両側と後部中央には図示しないが、基板収納容器を搭載する加工装置に位置決めされる位置決め具がそれぞれ一体形成され、容器本体１の底面後部には、薄板で小型のボトムプレートが着脱自在に後方から装着されており、このボトムプレートの底部に嵌められた単数複数の識別体が加工装置に識別されることにより、基板収納容器のタイプやシリコンウェーハＷの枚数等が把握されることとなる。
【００３２】
各位置決め具は、図示しないが、例えば断面略逆Ｍ字形、略逆Ｙ字形、あるいは凹んだ小判形等に形成される。ボトムプレートは、平面略凹字形、略Ｙ字形、又は多角形等に形成され、必要に応じて大小が変更される。
【００３３】
容器本体１の底面両側には図１に示すように、前後方向に伸びる断面略Ｌ字形のガイドレール１１がそれぞれ張り出し形成され、この左右一対のガイドレール１１が基板収納容器の搬送時の便宜を図る。容器本体１の天井中央部には、平面略矩形のロボティックフランジ１２が一体的あるいは着脱自在に装着され、このロボティックフランジ１２がＯＨＴと呼ばれる自動搬送機に保持されることにより、基板収納容器が工程内を搬送される。
【００３４】
容器本体１の開口正面の周縁部は、断面略倒Ｌ字形に形成されることにより、外方向に張り出されてリム部１３を形成し、このリム部１３内の上下には、矩形を呈した蓋体施錠用の係止穴１４がそれぞれ複数凹み形成される。容器本体１の両側壁には、肉厚の円板形又は倒Ｕ字形の搬送ハンドルがそれぞれ選択的に装着され、この搬送ハンドルが把持されることにより基板収納容器が搬送される。
【００３５】
なお、容器本体１、支持壁２、ティース３、位置決め具、ボトムプレート、ガイドレール１１、ロボティックフランジ１２、及び搬送ハンドルは、例えばポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、又は環状オレフィン樹脂等を用いて成形される。これらの材料には、カーボンブラック、アセチレンブラック、炭素繊維、カーボンナノチューブ、金属繊維、ポリアセチレン，ポリピロール，ポリアニリン等の導電性高分子等の導電性付与剤、第四級アンモニウム塩類、脂肪族アミン塩類等のカチオン系帯電防止剤、ガラス繊維、炭素繊維、金属繊維等を補強剤として適宜添加することができる。
【００３６】
蓋体２０は、図１、図１３、図１４に示すように、容器本体１のリム部１３内に着脱自在に嵌合される嵌合プレート２１と、この嵌合プレート２１の表面にセットされた一対の施錠機構７０を着脱自在に被覆する左右一対のカバープレート３２とから構成され、容器本体１の開口した正面内に着脱自在に押圧して嵌合される。嵌合プレート２１は、基本的には断面略ハット形に形成されるとともに、四隅部が丸く面取りされた横長の正面略矩形に形成され、周壁が断面略Ｌ字形、略Ｈ字形、又は略Ｚ字形に形成されて剛性が確保される。
【００３７】
嵌合プレート２１の凹んだ裏面中央部には図２に示すように、左右横方向に伸びる複数の強度確保リブ２２が所定の間隔をおいて上下方向に並べて配列され、各強度確保リブ２２が板片に形成されて蓋体２０や嵌合プレート２１の撓みを防止し、剛性を確保するよう機能する。嵌合プレート２１の裏面周縁部には図２や図１２に示すように、嵌合保持溝２３がエンドレスに形成され、この嵌合保持溝２３に、シール性を確保するシールガスケット６０が着脱自在に嵌合される。
【００３８】
嵌合プレート２１の周壁には、洗浄時に使用される複数の水切り孔が所定の間隔をおいて穿孔され、周壁の上下には左右一対の開口２４が所定の間隔をおいて形成されており、各開口２４が容器本体１の係止穴１４に対向する。嵌合プレート２１の左右両側の周壁内には、カバープレート３２用の取付穴が所定の間隔をおいて複数穿孔される。
【００３９】
嵌合プレート２１の突出した表面中央部は、図１に示すように、開閉把持用の膨出台座２５とされ、この表面の平坦な膨出台座２５が嵌合プレート２１の左右両側の周壁との間に左右一対の設置スペース２６を凹んだ状態にそれぞれ区画形成しており、各設置スペース２６に施錠機構７０がセットされる。膨出台座２５は、その上下部の左右に蓋体２０の位置決め時に使用される位置決め穴２７がそれぞれ穿孔され、この上下一対の位置決め穴２７が蓋体２０の中心点を挟んで対角線上に配列される。
【００４０】
膨出台座２５の周囲には、カバープレート３２用の取付穴が所定の間隔をおいて複数穿孔されるが、この複数の取付穴は、設置スペース２６やその近傍部にも必要に応じ穿孔される。各設置スペース２６には図１４に示すように、略中央部に位置して蓋体２０の厚さ方向に伸びる円筒リブ２８と、この円筒リブ２８の上下（図１４の左右方向）に位置する複数のカム３１とが配設される。
【００４１】
円筒リブ２８は、例えば９０°等の所定の角度で水切り作用を営む複数のスリット３０が軸方向に切り欠かれ、この複数本のスリット３０により周方向に湾曲した複数片に分割される。各カム３１は、間隔をおいて平行に相対向する左右一対のカムレールを備え、各カムレールの表面に、滑らかな凹凸面からなるカム面が形成される。各カム３１は、その一部が嵌合プレート２１の周壁近傍における取付穴付近に選択的に形成される。
【００４２】
各カバープレート３２は、設置スペース２６に略対応する形に屈曲して形成され、左右両側部等から複数の取付片がそれぞれ突出しており、各取付片が嵌合プレート２１の取付穴に嵌合することにより、嵌合プレート２１に強固にセットされる。このカバープレート３２は、操作用の取外し片が形成され、中央部付近に、施錠機構７０用の貫通操作孔３３が正面矩形に穿孔されており、この貫通操作孔３３が図示しない蓋体開閉装置の操作キーに貫通される。
【００４３】
カバープレート３２の裏面には、設置スペース２６のカム３１に隙間をおいて対向するカム３４が配設され、このカム３４は、間隔をおいて平行に相対向する左右一対のカムレールから形成されており、各カムレールの表面に、滑らかな凹凸面からなるカム面が形成される。各カム３４は、その一部がカバープレート３２の周縁部付近に選択的に形成され、カバープレート３２の剛性を向上させるよう機能する。
【００４４】
なお、蓋体２０は、例えばポリカーボネート、フッ素含有ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、又はポリアセタール等を用いて成形される。
【００４５】
フロントリテーナ４０は、図２に示すように、蓋体２０の嵌合プレート２１に着脱自在に装着され、容器本体１の内部背面におけるリヤリテーナとの間にシリコンウェーハＷの前後部周縁を挟んで弾発的に支持するとともに、シリコンウェーハＷをティース３から浮かせ、これらシリコンウェーハＷとティース３が輸送時に擦れてパーティクルが発生するのを防止する。
【００４６】
フロントリテーナ４０は、図６ないし図９に示すように、嵌合プレート２１の複数の強度確保リブ２２に嵌合される縦長の支持枠体４１と、この支持枠体４１の左右両側部間に変形可能に架設された複数の弾性片４４と、各弾性片４４の略中央部に形成されてシリコンウェーハＷの前部周縁と嵌合する誘導ブロック４７と、各弾性片４４の略両側部に所定の間隔をおいてそれぞれ形成され、シリコンウェーハＷの前部周縁を挟持する一対の被誘導ブロック５２とを備え、誘導ブロック４７により、各被誘導ブロック５２にシリコンウェーハＷの前部周縁を誘導する。
【００４７】
支持枠体４１は、間隔をおいて左右に位置する一対の第一バー４２と、この一対の第一バー４２の上下両端部間にそれぞれ架設される一対の第二バー４３とを備え、上下方向に長く伸びる一対の第一バー４２の間に、左右横方向に伸びる複数の弾性片４４が所定の間隔をおいて上下方向に配列されており、この複数の弾性片４４の側部には所定の深さのスリット４４ａが形成される。各第一バー４２の裏面には、複数の凹溝が間隔をおいて上下方向に並べて切り欠かれ、各凹溝が嵌合プレート２１の強度確保リブ２２に着脱自在に密嵌するとともに、成形時におけるフロントリテーナ４０の変形を防止する。
【００４８】
なお、嵌合プレート２１の強度確保リブ２２と支持枠体４１の凹溝とをフロントリテーナ４０の各弾性片４４の位置精度を確保するために嵌合しても良いが、何らこれに限定されるものではない。例えば、嵌合プレート２１の裏面、特に裏面中央部付近に、複数の強度確保リブ２２の他、支持枠体４１を着脱自在に保持する複数の保持爪を形成しても良い。
【００４９】
各弾性片４４は、断面略皿形に屈曲形成される中間片４５と、第一バー４２と中間片４５との間に屈曲して一体形成される一対の側片４６とを備え、前後方向に屈曲あるいは湾曲しており、蓋体２０の剛性を向上させる。
【００５０】
各弾性片４４の厚さや幅、側部におけるスリット４４ａの深さは、シリコンウェーハＷの安定的な保持と蓋体開閉装置の取扱性の両立を図る観点から、弾性片４４一本当たりの基板保持力をｙ（Ｎ）、シリコンウェーハＷ一枚当たりの質量をｗ（ｋｇ）とした場合に、１０．８×ｗ＜ｙ＜３４．３×ｗの関係式を満たすように調整される。これは、基板保持力ｙが１０．８未満の場合には、蓋体２０を下向きにして基板収納容器を輸送する際、振動や加速度の作用に伴いシリコンウェーハＷを安定的に保持することができず、シリコンウェーハＷの回転や擦れを招いて汚染が生じるからである。
【００５１】
逆に、基板保持力ｙが３４．３を超える場合には、シリコンウェーハＷの保持は良好であるものの、容器本体１の背面側にシリコンウェーハＷが強く圧接されることになり、容器本体１のリヤリテーナが損傷するからである。また、弾性片４４の反発力が大きくなるので、容器本体１に蓋体２０を装着する際の押圧力が大きくなり過ぎ、作業性が悪化したり、使用不能となったり、特殊な仕様の装置が別に必要になるからである。
【００５２】
なお、弾性片４４一本当たりの基板保持力ｙは、容器本体１に直径３００ｍｍのシリコンウェーハＷが最大枚数フルに収納された場合、１．３〜４．５（Ｎ）の範囲に調整される。また、容器本体１に直径３００ｍｍのシリコンウェーハＷが最大枚数フルに収納され、容器本体１の開口した正面に蓋体２０が嵌合される際の蓋体押し付け力は、３０〜１１２．５（Ｎ）、好ましくは４０〜８０（Ｎ）の範囲とされる。
【００５３】
誘導ブロック４７は、弾性片４４の中間片４５に一体形成される四角いブロック４８と、このブロック４８の表面側に凹み形成されてシリコンウェーハＷの前部周縁を案内したり、掬い上げる遊嵌ガイド溝４９とから容器本体１の背面方向（シリコンウェーハＷ方向）を向く断面略倒皿形に形成され、被誘導ブロック５２よりも容器本体１の背面方向に僅かに突出しており、容器本体１に蓋体２０が嵌合された場合にシリコンウェーハＷの略中心線やその延長線上に位置する。
【００５４】
誘導ブロック４７は、遊嵌ガイド溝４９を区画する一対の対向壁５０の内面５１が容器本体１の背面方向に向かうにしたがい徐々に広がるよう傾斜形成される。一対の対向壁５０の内面５１は、その中心角が４５°〜６０°となるよう傾斜面に形成されるが、必要に応じ湾曲面にも形成される。
【００５５】
各被誘導ブロック５２は、弾性片４４の側片４６に一体形成される四角いブロック５３と、このブロック５３の表面側に凹み形成されてシリコンウェーハＷの前部周縁を案内するガイド溝５４と、このガイド溝５４の底部に切り欠かれ、案内されてきたシリコンウェーハＷの前部周縁を挟持する略矩形の位置決め溝５５とから容器本体１の背面方向（シリコンウェーハＷ方向）を向く断面略倒Ｙ字形に形成される。
【００５６】
被誘導ブロック５２は、ガイド溝５４を区画する一対の対向壁５６の内面５７が容器本体１の背面方向に向かうにしたがい徐々に広がるよう傾斜形成され、図９に示す開口部の距離Ｌ１が誘導ブロック４７の開口部の距離Ｌ２よりも小さくなるよう設定される。
【００５７】
相対向するガイド溝５４の傾斜面は中心角が４５°〜６０°となるよう形成され、相対向する位置決め溝５５の傾斜面は中心角が１０°〜４０°となるよう形成される。位置決め溝５５の傾斜面の中心角が１０°〜４０°の範囲なのは、１０°未満の場合には、シリコンウェーハＷとの嵌合がきつくなり、シリコンウェーハＷの汚染のおそれがあるからである。逆に、４０°を超える場合には、シリコンウェーハＷのがたつきが大きくなり、輸送時に溝外れ等のトラブルが懸念されるからである。
【００５８】
ガイド溝５４の開口部における最大長さ寸法は、誘導ブロック４７の底部における長さ寸法よりも広いことが好ましい。
【００５９】
なお、フロントリテーナ４０は、例えばポリカーボネート、フッ素含有ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、又はポリアセタール、熱可塑性ポリオレフィン系エラストマー、熱可塑性ポリエステル系エラストマー等、各種の熱可塑性エラストマー等を用いて成形される。
【００６０】
シールガスケット６０は、図１０ないし図１２に示すように、例えば中空枠形に形成されて嵌合プレート２１の嵌合保持溝２３に嵌入される断面略矩形のエンドレス体６１と、このエンドレス体６１の隅部から傾斜しながら突出してエンドレス体６１の内外外方向に伸び、リム部１３の内周面に接触する屈曲可能な屈曲片６２と、エンドレス体６１の表面から周方向に並んで突出し、嵌合プレート２１の嵌合保持溝２３内に圧力作用状態で強く嵌入される変形可能な複数の嵌合リブ６３とから６０°〜９０°程度の硬度（ＪＩＳ６２５３に準拠して測定）に成形される。
【００６１】
シールガスケット６０は、例えばシリコーンゴム、フッ素ゴム、熱可塑性ポリエステル系エラストマー、熱可塑性ポリオレフィン系エラストマー、ＥＰＤＭ、ＮＢＲ等を使用して弾性変形可能に成形される。これらの中でも、加熱時の有機ガス成分の発生量が少なく、シリコンウェーハＷに対する影響の小さいフッ素ゴムの選択が好ましい。シールガスケット６０の屈曲片６２は、断面略板形に形成され、先端部に断面略球形の図示しない膨出突起が必要に応じ選択的に形成されており、リム部１３の内周面に屈曲しながら接触する。
【００６２】
このようなシールガスケット６０は、蓋体２０により密封された基板収納容器の内外に圧力差が生じた場合には、基板収納容器の外部から内部に塵埃（パーティクル含む）を含有する気体が流入するのを規制し、基板収納容器の内部から外部に気体を流出させる一方向性シールとして機能する。
【００６３】
各施錠機構７０は、図１３や図１４に示すように、嵌合プレート２１の円筒リブ２８に嵌合支持されて外部からの操作キーの回転操作で回転する回転リール７１と、嵌合プレート２１とカバープレート３２のカム３１・３４間にスライド可能に挟持され、回転リール７１の回転に基づいて蓋体２０の内外方向に直線的にスライドする複数の進退動バー７２と、各進退動バー７２に形成され、進退動バー７２の進退動作に伴い蓋体周囲の開口２４から出没してリム部１３の係止穴１４に嵌合する係止爪７３とから構成される。
【００６４】
回転リール７１は、中空で断面略逆凸字の円板に形成され、表面の中心部に、貫通操作孔３３を貫通した操作キーに嵌合される操作穴が正面略矩形に形成されており、中心部と周縁部との間には、進退動バー７２用の一対の案内溝が所定の角度で半円弧形に湾曲形成される。このような構成の回転リール７１は、操作穴に操作キーが挿入され、時計方向あるいは反時計方向に９０°回転する。
【００６５】
なお、蓋体開閉装置の接続位置や寸法は、ＳＥＭＩ規格で容器のサイズ毎に規定されている。例えば、３００ｍｍのシリコンウェーハＷを整列収納する工程容器の蓋体２０を自動開閉するための装置インターフェイスの仕様に関しては、ＳＥＭＩ規格のＥ６２で標準化された蓋体開閉装置（図示せず）に対応可能に定められている。
【００６６】
各進退動バー７２は、一対のカムレールの幅に対応する略長方形の板形に形成され、長手方向の中心線が回転リール７１の中心部と一致するよう一対のカムレールに配置される。進退動バー７２は、その先端部に断面略Ｌ字形の係止爪７３が一体形成され、末端部にはピン７４が連結されており、このピン７４が回転リール７１の案内溝に直接的あるいは発塵防止用の回転ローラを介し間接的に嵌入される。
【００６７】
進退動バー７２の左右両側部には、複数のピン突起７５が所定の間隔をおいて突出形成され、各ピン突起７５がカムレールのカム面に直接的あるいは発塵防止用の回転ローラを介し間接的に接触する。
【００６８】
なお、係止爪７３の先端の一部を厚さ方向に傾斜させてリム部１３の係止穴１４内に接触する接触面積が減少するようにすれば、係止爪７３の先端が係止穴１４に嵌合する際、抵抗を低減することができる。また、施錠機構７０は、例えばポリカーボネート、フッ素含有ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、又はポリアセタール等を用いて成形される。
【００６９】
上記において、複数枚のシリコンウェーハＷを整列収納した容器本体１のリム部１３を蓋体２０により密封して閉じる場合には、蓋体開閉装置が容器本体１のリム部１３に蓋体２０を押圧嵌合して各施錠機構７０の回転リール７１を９０°回転させる。すると、各回転リール７１の回転に伴い、各進退動バー７２がカム３１・３４のカム面に案内されつつ直線的にスライドし、各進退動バー７２の係止爪７３が嵌合プレート２１の開口２４から突出して容器本体１の係止穴１４に嵌合係止し、この係止爪７３の嵌合係止により、容器本体１が蓋体２０により密封される。
【００７０】
蓋体２０を嵌合する際、シリコンウェーハＷが上下方向に多少離れていたり、上下方向に多少傾いていることがあるが、この場合には、誘導ブロック４７を構成する遊嵌ガイド溝４９の傾斜した内面５１がシリコンウェーハＷの前部周縁を遊嵌ガイド溝４９の中央に導いたり、掬い上げる。
【００７１】
この遊嵌ガイド溝４９の案内作用により、被誘導ブロック５２を構成するガイド溝５４の傾斜した内面５７がシリコンウェーハＷの前部周縁を正規の位置である位置決め溝５５に導き、シリコンウェーハＷの前部周縁が位置決め溝５５に適切に挟持される。こうしてフロントリテーナ４０は、誘導ブロック４７と一対の被誘導ブロック５２とにより、シリコンウェーハＷの前部周縁を三点支持する。
【００７２】
複数枚のシリコンウェーハＷを整列収納した容器本体１から蓋体２０を取り外す場合には、蓋体開閉装置が各施錠機構７０の回転リール７１を上記の状態から９０°回転させる。すると、各回転リール７１の回転に伴い、各進退動バー７２がカム３１・３４のカム面に案内されつつ直線的にスライドし、各進退動バー７２の係止爪７３が容器本体１の係止穴１４から嵌合プレート２１の開口２４内に後退し、この後退により容器本体１から蓋体２０が取り外し可能となる。
【００７３】
上記構成によれば、弾性片４４一本当たりの基板保持力をｙ（Ｎ）、シリコンウェーハＷ一枚当たりの質量をｗ（ｋｇ）とした場合に、１０．８×ｗ＜ｙ＜３４．３×ｗの関係式を満たすように調整するので、フロントリテーナ４０の保持力を十分に確保することができる。したがって、輸送時にシリコンウェーハＷに予想以上の強い衝撃が作用しても、シリコンウェーハＷの損傷のおそれを十分に排除することができる。また、ＦＯＳＢタイプの蓋体２０を開閉する際、ＦＯＵＰタイプの標準化された蓋体開閉装置をそのまま使用することができる。
【００７４】
また、複数のティース３を従来よりも大きい１０ｍｍ前後のピッチで上下方向に配列するので、シリコンウェーハＷに対するロボットのフォークの干渉を有効に防止することが可能になる。また、ティース３の前部中肉領域５と前部厚肉領域６との間に、シリコンウェーハＷに接触する段差９を形成するので、シリコンウェーハＷの左右方向への位置ずれを有効に抑制することが可能になる。
【００７５】
また、前部中肉領域５と後部中肉領域７とにシリコンウェーハＷを支持させ、薄肉領域１０にシリコンウェーハＷを接触させずに接触面積を可能な限り減少させるので、パーティクルの発生を大いに抑制防止することができる。
【００７６】
また、シールガスケット６０の屈曲片６２が外方向に傾斜し、屈曲片６２が内外いずれの方向にも変形することがないので、シール性にムラの生じることがない。また、嵌合保持溝２３にエンドレス体６１の各嵌合リブ６３が圧接し、抜けにくくするので、例え蓋体２０が繰り返し開閉操作されても、シールガスケット６０が位置ずれしたり、必要以上に変形することがない。また、容器本体１ではなく、蓋体２０にシールガスケット６０をセットするので、リム部１３の形状の複雑化を有効に防止することができる。
【００７７】
また、蓋体２０の強度確保リブ２２にフロントリテーナ４０の凹溝が嵌合するとともに、被誘導ブロック５２にシリコンウェーハＷの前部周縁が保持・保護されるので、簡易な構成でフロントリテーナ４０の耐衝撃性や耐変形性を著しく向上させることができる。したがって、輸送時にシリコンウェーハＷが損傷するのを有効に抑制あるいは防止することができる。
【００７８】
また、誘導ブロック４７の遊嵌ガイド溝４９がシリコンウェーハＷの中心線の延長線上に位置するよう配置され、しかも、ガイド溝５４よりも広く形成されているので、容器本体１に蓋体２０を取り付ける際、遊嵌ガイド溝４９がシリコンウェーハＷと最初に接触し、シリコンウェーハＷの位置ずれや誤差を中心線に沿って安定して修正することができる。この安定した修正により、被誘導ブロック５２にシリコンウェーハＷを確実に誘導することが可能になる。
【００７９】
また、被誘導ブロック５２は、遊嵌ガイド溝４９とは異なり、シリコンウェーハＷの中心線との間に３°〜２０°、好ましくは５°〜１５°の範囲で角度を形成するよう配置され、ガイド溝５４に導かれて位置決め溝５５内に収納されるシリコンウェーハＷを安定して保持することが可能になる。
【００８０】
また、遊嵌ガイド溝４９の存在により、ガイド溝５４が狭い範囲でもシリコンウェーハＷを位置決め溝５５に確実に導くことが可能になる。また、ガイド溝５４を広い範囲に設ける必要がなく、水平面からの傾斜角度も抵抗が少なくなるよう設定できるので、被誘導ブロック５２を成形収縮が小さく、寸法安定性が良いように厚肉部を小さく設計することが可能になる。また、被誘導ブロック５２にシリコンウェーハＷの前部周縁が高精度に保持されるので、標準化された蓋体開閉装置を使用することができる。
【００８１】
さらに、支持枠体４１の両側部間に複数の弾性片４４を架設し、支持枠体４１に少なくとも一箇所の把持用のリブ（図示せず）を設けておくことにより、フロントリテーナ４０の取り付け取り外し等の取扱性の向上が期待できる。さらにまた、容器本体１に蓋体２０が嵌合された場合に、誘導ブロック４７がシリコンウェーハＷの中心線上に位置し、各被誘導ブロック５２よりも早くシリコンウェーハＷに干渉するので、シリコンウェーハＷの誘導の確実化が大いに期待できる。
【００８２】
なお、上記実施形態では支持壁２を使用したが、支持壁２の代わりに支持枠を用意し、この支持枠に複数のティース３を縦リブを介し上下方向に並設しても良い。この際、支持枠の後部に、隣接するティース３間に位置する断面略倒Ｕ字形、略倒Ｖ字形の保持溝を形成し、この保持溝にシリコンウェーハＷの両側部後方の周縁を支持させても良い。また、ティース３の前部中肉領域５と後部中肉領域７とは、同じ面積でも良いし、そうでなくても良い。
【００８３】
また、各ティース３を、シリコンウェーハＷの周縁部に沿うよう平面略く字形に形成される平板４と、この平板４の屈曲形成された前部内側上に形成される前部中肉領域５と、平板４の前部外側上に形成されて前部中肉領域５の外側、換言すれば、支持枠寄りに位置する前部厚肉領域６と、平板４の後部に形成される後部中肉領域７とから形成し、前部中肉領域５と前部厚肉領域６との間に段差９を形成し、略平坦な前部中肉領域５と後部中肉領域７とにシリコンウェーハＷを略水平に支持させても良い。
【００８４】
また、容器本体１の底面ではなく、ボトムプレートに複数の位置決め具をそれぞれ設けることもできる。また、ボトムプレートを拡大形成してその両側部に容器本体１の両側壁に対向する対向壁を立て設け、各対向壁に把持用の搬送ハンドルを取り付けることもできる。また、ボトムプレートの後部に、容器本体１の背面側に位置する壁を立て設け、この壁に識別コードやＲＦＩＤシステム（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ：無線周波数識別）のＩＣタグ（無線タグ、ＩＣタグともいう）等を貼着、嵌合、又は支持させることもできる。
【００８５】
また、容器本体１の開口正面の周縁部を断面略倒Ｌ字形に形成してその先端部を断面略Ｕ字形に形成し、これらの凹んだ内部空間を係止穴１４として使用することも可能である。また、嵌合プレート２１の表面中央部に、正面略矩形の膨出台座２５を固定あるいは着脱自在に設けることも可能である。また、蓋体２０に、各施錠機構７０の一部を構成する回転リール７１の回転を規制する回転規制手段を設置しても良い。
【００８６】
また、上下方向に並ぶ複数の強度確保リブ２２の間に縦リブを一体形成し、蓋体２０や強度確保リブ２２の剛性を確保するようにしても良い。さらに、左右方向に伸びる一対の第二バー４３の間に縦リブを上下方向に架設し、この縦リブと複数の弾性片４４とを一体化してフロントリテーナ４０の剛性を確保することもできる。さらにまた、誘導ブロック４７と各被誘導ブロック５２の内面５１・５７は、対称でも良いし、そうでなくても良い。
【実施例】
【００８７】
以下、本発明に係る基板収納容器の実施例を比較例と共に説明する。
先ず、基板収納容器は図１〜図１４に示すタイプとし、容器本体の最大収納枚数を２５枚として直径３００ｍｍで鏡面のシリコンウェーハをフルに収納することとした。蓋体の内面に装着するフロントリテーナについては、表１に示すように材質、弾性片の幅、弾性片側部のスリット深さを変更して６種類のサンプルを製造した。
【００８８】
【表１】
0004667769.tif 000002
【００８９】
シリコンウェーハは厚さ０．７７ｍｍ、質量０．１３ｋｇであるので、弾性片一本当たりの基板保持力を、１．３〜４．５、好ましくは１．５〜３．０（Ｎ）の範囲に調整することとした。これは、基板保持力が１．３（Ｎ）未満の場合には、擦れや回転によりシリコンウェーハが汚染するからである。逆に、基板保持力が４．５（Ｎ）を超える場合には、容器本体の背面側にシリコンウェーハが強く圧接されることとなり、ティースの背面側の支持壁、リヤリテーナ、シリコンウェーハに傷や跡が残るからである。
【００９０】
また、この容器本体の開口した正面に蓋体を嵌合する際の蓋体押し付け力は、３０〜１１２．５（Ｎ）、好ましくは４０〜８０（Ｎ）の範囲とした。これは、蓋体押し付け力が３２．５（Ｎ）未満の場合には、蓋体の取り付け取り外しが容易であるものの、蓋体のシール性やシリコンウェーハの保持力が十分ではなく、シリコンウェーハの汚染を招くという理由に基づく。
【００９１】
逆に、蓋体押し付け力が１１２．５（Ｎ）を超える場合には、蓋体開閉装置の蓋体押し付け力を超えてしまい、蓋体開閉装置による蓋体の取り付けが困難になり、保持力が強すぎてシリコンウェーハが傷付くという理由に基づく。さらに、フロントリテーナの反発力が強すぎて基板収納容器のシール性能に悪影響を及ぼすおそれがあるという理由に基づく。
このような基板収納容器について、シリコンウェーハ保持力試験、振動試験、シール性試験、落下試験、及び蓋体押し付け力試験をそれぞれ実施し、その結果を表２にまとめた。
【００９２】
（１）シリコンウェーハ保持力試験
先ず、基板収納容器の容器本体の背面壁中心部に長方形の貫通口を穿孔し、この容器本体に２５枚のシリコンウェーハを収納して容器本体の開口した正面に蓋体を嵌合した。こうして容器本体に蓋体を嵌合したら、基板収納容器を図１５に示すように下向きにしてその背面壁に測定器であるテンシロンを取り付け、２５枚のシリコンウェーハの後部を押圧してシリコンウェーハの保持力を測定可能とした。
【００９３】
次いで、テンシロンを動作させてシリコンウェーハを一枚ずつ下方に１ｍｍ毎に押圧し、各シリコンウェーハの下降位置における保持力を測定して表２に記載した。表２への記載に際しては、基板収納容器の理論押し込み位置である２ｍｍの場合の値を保持力とした。
【００９４】
（２）振動試験
先ず、基板収納容器の容器本体に２５枚のシリコンウェーハを収納して容器本体の開口した正面に蓋体を嵌合した。こうして容器本体に蓋体を嵌合したら、ダンボール箱に基板収納容器を梱包資材を使用して収納・梱包するとともに、梱包したダンボール箱を振動試験機にセットし、以下の条件で振動試験を実施してシリコンウェーハの回転の有無を確認し、結果を表２に記載した。
シリコンウェーハの回転の有無は、シリコンウェーハのノッチが中心線の位置から３ｍｍ以上移動した場合に、回転有りとした。
【００９５】
〔試験条件〕
振幅      １．５ｍｍ
周波数    １０〜５５／６０秒で掃引
サイクル  １０サイクル
【００９６】
（３）シール性試験
先ず、図１６に示すように、基板収納容器の容器本体に２５枚のシリコンウェーハとワイヤレスの圧力センサをそれぞれ収納し、容器本体の開口した正面に蓋体を嵌合して密封状態とした。基板収納容器を密封状態にしたら、この基板収納容器を真空ポンプに接続された減圧チャンバ内にセットし、この減圧チャンバの圧力を変化（−１０ｋＰａ〜復圧）させて圧力センサの検出値の変化から基板収納容器のシール性、すなわち圧力の保持時間を測定し、測定結果を表２にまとめた。
【００９７】
（４）落下試験
先ず、基板収納容器の容器本体に２５枚のシリコンウェーハを収納して容器本体の開口した正面に蓋体を嵌合した。容器本体に蓋体を嵌合したら、ダンボール箱に基板収納容器を梱包資材を使用して収納・梱包するとともに、梱包したダンボール箱をＪＩＳに規定されている落下試験法にしたがい、６０ｃｍ、８０ｃｍ、１ｍの高さからそれぞれ落下させ（図１７参照）、ダンボール箱を開封してシリコンウェーハがフロントリテーナの溝から外れたか否か、シリコンウェーハの破損状況、シリコンウェーハの回転の有無を目視により確認し、結果を表２にまとめた。
【００９８】
落下試験では、６０ｃｍ、８０ｃｍ、１ｍの高さから６面３稜１角の落下を実施した。シリコンウェーハの回転の有無は、シリコンウェーハのノッチが中心線の位置から５ｍｍ以上移動した場合に、回転有りとした。
【００９９】
（５）蓋体押し付け力試験
先ず、基板収納容器の容器本体に２５枚のシリコンウェーハを収納し、容器本体を図１８に示すように上向きにした。容器本体を上向きにしたら、基板収納容器の蓋体上に測定器であるテンシロンを補強板を介して取り付け、容器本体の開口した正面（上面）に蓋体を載せてその施錠機構が施錠可能な位置まで蓋体を圧下し、蓋体押し付け力をテンシロンにより測定して表２にまとめた。
【０１００】
【表２】
0004667769.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明に係る基板収納容器の実施形態を示す斜視説明図である。
【図２】本発明に係る基板収納容器の実施形態を示す模式断面説明図である。
【図３】本発明に係る基板収納容器の実施形態における容器本体、支持壁、ティースを示す断面説明図である。
【図４】本発明に係る基板収納容器の実施形態における支持壁とティースを示す斜視説明図である。
【図５】本発明に係る基板収納容器の実施形態におけるティースとシリコンウェーハを示す要部断面説明図である。
【図６】本発明に係る基板収納容器の実施形態におけるフロントリテーナを示す正面説明図である。
【図７】本発明に係る基板収納容器の実施形態におけるフロントリテーナを示す側面図である。
【図８】本発明に係る基板収納容器の実施形態におけるフロントリテーナを示す平面図である。
【図９】本発明に係る基板収納容器の実施形態におけるフロントリテーナを示す要部斜視図である。
【図１０】本発明に係る基板収納容器の実施形態におけるシールガスケットを示す説明図である。
【図１１】本発明に係る基板収納容器の実施形態におけるシールガスケットを示す図で、（ａ）図は図１０のＸＩ−ＸＩ線断面図、（ｂ）図は（ａ）図に示す嵌合リブの説明図である。
【図１２】本発明に係る基板収納容器の実施形態における容器本体、蓋体、及びシールガスケットの関係を示す模式断面説明図である。
【図１３】本発明に係る基板収納容器の実施形態における蓋体と施錠機構を示す断面説明図である。
【図１４】本発明に係る基板収納容器の実施形態における蓋体と施錠機構を示す断面分解説明図である。
【図１５】本発明に係る基板収納容器の実施例におけるシリコンウェーハ保持力試験を示す断面説明図である。
【図１６】本発明に係る基板収納容器の実施例におけるシール性試験を示す説明図である。
【図１７】本発明に係る基板収納容器の実施例における落下試験を示す説明図である。
【図１８】本発明に係る基板収納容器の実施例における蓋体押し付け力試験を示す断面説明図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１          容器本体
２          支持壁
３          ティース
４          平板
５          前部中肉領域
６          前部厚肉領域
７          後部中肉領域
８          後部厚肉領域
９          段差
１０        薄肉領域
１３        リム部
２０        蓋体
２１        嵌合プレート
２３        嵌合保持溝（凹部）
３２        カバープレート
３３        貫通操作孔
４０        フロントリテーナ（リテーナ）
４１        支持枠体（支持体）
４２        第一バー
４３        第二バー
４４        弾性片
４４ａ      スリット
４５        中間片
４６        側片
４７        誘導ブロック（ブロック）
５２        被誘導ブロック（ブロック）
６０        シールガスケット
６１        エンドレス体
６２        屈曲片
６３        嵌合リブ（突部）
７０        施錠機構
７２        進退動バー
７３        係止爪
Ｗ          シリコンウェーハ（基板）
【図１】
0004667769.tif 000004
【図２】
0004667769.tif 000005
【図３】
0004667769.tif 000006
【図４】
0004667769.tif 000007
【図５】
0004667769.tif 000008
【図６】
0004667769.tif 000009
【図７】
0004667769.tif 000010
【図８】
0004667769.tif 000011
【図９】
0004667769.tif 000012
【図１０】
0004667769.tif 000013
【図１１】
0004667769.tif 000014
【図１２】
0004667769.tif 000015
【図１３】
0004667769.tif 000016
【図１４】
0004667769.tif 000017
【図１５】
0004667769.tif 000018
【図１６】
0004667769.tif 000019
【図１７】
0004667769.tif 000020
【図１８】
0004667769.tif 000021