(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報データを書き込むための記録媒体であって、
半反射性層（３２）と無機活性層（３０）とから構成された２層積層体を具備し、
前記無機活性層（３０）は、前記半反射性層（３２）を通して導かれた書込用光放射（３４）の作用によって変形を起こすのに適したものとされ、
前記変形が、前記積層体の反射係数を低減するものであり、
前記半反射性層（３２）が、金属から形成されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項２】
情報データを読み取るための記録媒体であって、
半反射性層（３２）と無機活性層（３０）とから構成された２層積層体を具備し、
前記無機活性層（３０）は、領域（Ｚｅ）のところにおいて変形を有しており、
前記積層体の反射係数は、前記領域（Ｚｅ）の内部においては、前記領域（Ｚｅ）の外部領域（Ｚｎｅ）よりも、小さいものとされており、
前記半反射性層（３２）が、金属から形成されていることを特徴とする記録媒体。
いることを特徴とする記録媒体。
【請求項３】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記２層積層体が、透明基板（４０）上に成膜され、
前記半反射性層（３２）が、前記基板（４０）と前記無機活性層（３０）との間に配置されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項４】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記２層積層体が、基板上に成膜され、
前記無機活性層（３０）が、前記基板と前記半反射性層（３２）との間に配置されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項５】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記半反射性層（３２）をなす前記金属が、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｔｉ、および、これらのいずれかを含有した合金からなるグループの中から選択されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項６】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記半反射性層が、２つの金属層を有していることを特徴とする記録媒体。
【請求項７】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記無機活性層（３０）が、Ｔｅ、Ｓｂ、Ｓｅ、および、これらのいずれかを含有した合金からなるグループの中から選択された材料から形成されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項８】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記無機活性層（３０）が、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ａｓからなるグループの中から選択された元素を含有したＳｂＴｅ合金から形成されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項９】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記無機活性層（３０）が、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ａｓからなるグループの中から選択された元素を含有したＳｂＳｅ合金から形成されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項１０】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記無機活性層（３０）が、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ａｓからなるグループの中から選択された元素を含有したＳｅＴｅ合金から形成されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項１１】
請求項７〜９のいずれか１項に記載の記録媒体において、
前記無機活性層（３０）をなす無機材料が、比例量の窒素を含有していることを特徴とする記録媒体。
【請求項１２】
請求項１または２記載の記録媒体において、
保護層（４６）が、前記２層積層体上に成膜されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項１３】
請求項１２記載の記録媒体において、
さらに、中間介在誘電体層（４４）を、前記２層積層体と前記保護層（４６）との間に具備していることを特徴とする記録媒体。
【請求項１４】
請求項１２または１３記載の記録媒体において、
前記保護層（４６）が、エラストマー−シリコンから形成されていることを特徴とする記録媒体。
【請求項１５】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記半反射性層（３２）の厚さが、４〜１０ｎｍとされていることを特徴とする記録媒体。
【請求項１６】
請求項１または２記載の記録媒体において、
前記無機活性層（３０）の厚さが、１０〜１００ｎｍとされていることを特徴とする記録媒体。
【請求項１７】
請求項１に記載された記録媒体に対して書込を行うための方法であって、
光ビームを、前記半反射性層（３２）を通して前記活性層（３０）上に導き、その際、前記光ビームのパワーを、前記活性層（３０）の変形を引き起こし得るようなものとすることを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項２に記載された記録媒体から読取を行うための方法であって、
光ビームを、前記半反射性層（３２）を通して前記活性層（３０）上に導き、その際、前記光ビームのパワーを、前記活性層（３０）の前記変形に応じた強度を有した反射ビームを生成し得るようなものとすることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報データの書込および読取のための不可逆的光記録媒体に関するものである。記録は、１度だけ書込を行うことができかつ消去も再書込もできないという意味において、不可逆的である。これに対し、読取は、繰り返し行うことができる。
【０００２】
本発明は、例えば、ＣＤ−Ｒ（Compact Disc Recordable）や、ＷＯＲＭ（Write-Once Read Many）や、ＤＲＡＷ（Direct Read After Write）や、ＤＶＤ−Ｒ（Digital Versatile Disc Recordable）といったようなタイプの光ディスク記録に対して応用することができる。
【０００３】
しかしながら、本発明は、ディスクという応用に限定されるものではない。本発明は、任意の形態とされた（テープ、カード、等）すべての媒体を対象としている。
【０００４】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
不可逆的光記録の分野においては、ＣＤ（Compact Disk）と互換性のあるＣＤ−Ｒが、急速に世界標準となった。世界中にわたっての進展は、１９９８年においては８６２，０００，０００個というディスクであり、１９９９年においては２，０７８，０００，０００個というディスクであるという現象から明らかである。ＣＤ−Ｒの現在の価格は、少なくとも１＄であり、２年以内に３０％下がるであろうと予測されている。よって、ＣＤ−Ｒは、もはや個人的な記録に対してのみ使用されるだけではなく、ＣＤやＣＤ−ＲＯＭをプレス加工する代わりに一連のディスクを製造するためにも使用される。製品の経済的寿命の長さは、評価が困難である。最も楽観的な見方では、ＣＤ−Ｒが、ＣＤ−ＲＷ（Compact Disk Readable Writable）やＤＶＤ系統とは競合しないとされている。特に、コンピュータ分野においては、ＣＤ−Ｒは、ディスケットを決定的に代替することができる。それは、ディスケットの４００倍以上の容量を有しているからである。
【０００５】
現在では、かなり大部分のディスクが、有機色素をベースとした技術を使用している。ディスクの構造が、図１に示されている。
【０００６】
図示されている記録媒体は、
−透明基板（１０）（例えば、ポリカーボネート）と、
−７７５０〜７９５０オングストローム（７７５〜７９５ｎｍ）という波長に対して敏感な色素層（１２）と、
−例えば金や銀合金から形成された、反射層（１４）と、
−１つまたは２つの保護層（１６）と、
を備えている。
【０００７】
データは、高出力レーザーから放出された光ビーム（１８）を焦点合わせすることによって、ディスク上に書き込まれる。光ビームは、透明基板（１０）を通過して色素層（１２）へと到達する。色素によって吸収された光は、色素を加熱し、光学構造の不可逆的変化を引き起こす。この変化は、色素層に限定する限定することができるものの、透明基板（１０）や反射層（１４）といったような周囲材料に対して到達することもできる。
【０００８】
データは、高反射特性を有した非書込領域と、低反射特性を有した書込領域と、の交互配置という形態で記録される。データの符号化は、彫刻されるマークの長さの変化によって、得られる。
【０００９】
データの読取は、低出力レーザーダイオードからの光ビーム読取によって得られる。
【００１０】
データは、ディスク表面上において螺旋経路に沿って書き込まれる。この螺旋経路に対する追従は、透明基板内に予め彫刻されたグルーブの存在により、読取と書込との双方に関して可能とされる。データは、グルーブ内においてのみ書き込まれる。螺旋経路の未使用領域は、ランドと称される。
【００１１】
この技術は、有機物質の経時劣化（例えば光や温度）に関連した問題点や、色素の波長選択性が大きいことに関連した問題点（例えば、ＣＤのフォーマットとＤＶＤのフォーマットとの間における互換性という問題点）や、色素の成膜ステージに関するコストに関連した問題点（成膜時間、メンテナンス、原料コスト）、を有している。
【００１２】
特に、後者の問題点が、製造コストを低減し得るような他の手段に対しての興味を増加させている。特に、労働時間単価の高い国においては、市場トレンドに追従することが困難である。よって、１９９８年においては、世界総生産の中の台湾製の割合が３７％であったのに対し、１９９９年においては、それが６０％となっている。興味のある手段は、有機物質を無機物質によって代替することであろう。しかしながら、その場合には、以下のような他の問題点が発生する。
−未使用領域に関する高反射から書込済みポイントに関する低反射への移行が、現存の材料（彫刻手段および読取手段）との互換性を可能とするように保存されなければならないこと。
−書込パワーが、与えられた彫刻速度において現存の彫刻手段において実現可能な範囲内に留まっていられるように、十分な感度が保存されなければならないこと。
−満足のいく書込および読取を保証し得るよう、適切な書込品質（大きな信号雑音比、小さなジッター、小さな非対称性）が得られなければならないこと。
−温度や日照や衝撃や引っ掻きによる劣化にかかわらず、サービス寿命が十分なものでなければならないこと。
【００１３】
これらすべての問題点を同時に解決することは、困難である。さらに、工業的実用性の点からは、実証済みの迅速な成膜技術の使用が要求される。通常は、例えば蒸発が多くの場合遅すぎることから、霧化が使用される。同じく、コスト削減化のために、霧化ステーションの数が最小化され、したがって、材料数や層数が最小化され、層厚さまでもが最小化される。
【００１４】
不可逆的記録に際しての無機材料の使用は、ずっと前から考慮されている。テルルおよびその合金が、色素の出現前から研究されている。色素が使用されて以来、新たな材料が、この範疇において定期的に出現している。このような手段の中で、いくつかのものは、彫刻および読取に関して現存材料と互換性を有している。それでもなお、参考文献［１］に記載されているように、様々な手段が研究されてきた。
【００１５】
ホール形成、参考文献［２］。これは、１９８０年代において最も研究された方法に関するものである。この方法においては、強力な光パルスを使用することによって、活性層内にホールを形成する。この技術において最も使用されている材料は、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｔｅ、および、様々なカルコゲニドである（有機材料の使用を除く）。これらすべての材料は、共通して、溶融温度が低く、吸収性が大きい。
【００１６】
バブル形成、参考文献［３］。従来より、活性層は、金属層（金または白金合金）と、有機ポリマー層と、を備えている。金属層の温度上昇は、ポリマー層に伝達され、ポリマー層の分解を引き起こし、ガスが放出される。このガスが、金属層を、基板から剥がしてしまう。バブルの破裂は、活性層のパラメータを最適化することによって避けることができる。ＡｇＯｘ上のワークも、また、このカテゴリーに分類することができる。
【００１７】
分離、参考文献［４］。層の構成要素は、レーザー照射によって分解する。例えば、ＴｅＯ1.1 といったような亜酸化物が、適切な候補である。この材料は、照射後には、ＴｅＯ2 およびＴｅへと分解する。Ｔｅが反射性であることにより、書込箇所は、周囲よりもさらに反射性となる。
【００１８】
結晶とアモルファスとの間の相変化。蒸発のフレームワーク内において研究されたある種の材料は、相変化材料に近いものである。よって、相変化によって記録のために通常使用される材料を、蒸発のフレームワーク内において不可逆的に使用することができると結論づけることができる。しかしながら、相変化によるデータ書込が高レベルから低レベルへの反射特性変化を示すことを保証するためには、材料は、結晶状態からアモルファス状態へと変化しなければならない。しかしながら、材料は、基板上に成膜された直後においては、アモルファスである。したがって、相変化による書込に関しては、ディスクの表面全体にわたって材料を結晶化するという初期化ステージが必要となる。この初期化ステージは、このタイプのディスクの製造における無視できないコスト要因となってしまう。最後に、ディスク内における熱効果の制御には、多くの場合、３〜４個の層の存在が必要とされ、それら層の中のいくつかは、比較的厚い誘電体層とされる。したがって、相変化に基づく不可逆的書込の使用は、経済的観点からは、興味を持てないもののように思われる。
【００１９】
組織（テクスチャー）の変化、参考文献［５］。この技術は、一般に、ゲルマニウムベースやシリコンベースの活性層に関するものである。層がなす粗表面は、レーザー照射後には、円滑表面となる。したがって、反射は、低レベルから高レベルへと変化する。これは、変化の方向性として求められているものとは逆である。さらに、このようなディスクは、多くの場合、大きなノイズレベルを有している。
【００２０】
本出願人らが知る限りにおいては、無機材料からなる単一層によって６０％を超える反射を有したディスクは、厚い層および／または貴金属類似材料を使用した場合にだけ得ることができる。しかしながら、このような材料における書込は、特に吸収性が低いこと熱伝導度が大きいことおよび溶融温度が高いことに基づいて、標準的なものとは適合していないような高パワーにおいてしか行うことができない。例えば、良好な信号雑音比でもって（この比は、パワーにかかわらず２０ｄＢ未満に維持されるべきである）、６０％という反射率を有した２０ｎｍ厚さの金層内に、いわゆる“３Ｔ−３Ｔ”信号（ここで、３Ｔとは、ディスク上に書き込まれるマークの長さおよびマークどうしの間のインターバルの長さを意味している）を書き込むことはできない。４０％の付近の反射率を有した１０ｎｍ厚さの層において同じことを試みても、同じ結果となる。一般に、感度を上げるために、例えばテルルといったような、貴金属よりも感度の大きな材料が、使用される。うまくないことに、感応性材料からなる単一層では、通常、十分な初期反射を得ることはできない。これは、また、図２に示すように、本出願人らによって使用された例えばテルルといったような材料についても当てはまる。図２においては、横軸は、書込領域における反射率（Ｒ）を単位を％として示しており、縦軸は、最小書込パワー（Ｐ）（単位：ｍＷ）を示している。研究した材料に関して得られた反射率は、厚さや成膜条件にかかわらず、５０％を超えることがなかった。
【００２１】
反射率を増大させるための従来的手法においては、感光層の背面に金層または銀層を追加する、参考文献［６］（光の入射方向に関しての背面に追加する。これは、有機材料をベースとしたディスクの場合と同様の手法）。この反射層は、通常は、誘電体層を介することによって、感光層からは隔離される。例えばホール形成といったようなある種の書込機構においては、この誘電体層の存在のために、多くの場合、感度が低減してしまい、信号雑音比が低下してしまう。したがって、しきい値パワーを低減するためには、感光層の厚さを低減する必要がある。うまくないことに、一般に、非常に薄い層においては、信号雑音比が悪く、かつ、反射率も小さい。
【００２２】
本発明の目的は、上記すべての欠点を克服することである。
【００２３】
【課題を解決するための手段】
したがって、本発明は、有機材料を使用していないような、かつ、公知技術や公知材料に適合した操作によって得られるような、非常に単純な構造の使用を提案する。本質的に、本発明による構造は、半反射性層と無機層とから構成された２層積層体を具備している。書込は、半反射性層を通して行われる。読取は、同じ面を通して行われる。光放射の作用により、無機層は、中空やクラックやバブルやキャビティやクレータやバルジやスプリットや膨潤やカールや部分的蒸発または全体的蒸発や材料の流出等といったような多種多様な性質の変形を受ける。半反射性層内において、また、基板内において、変形を起こしても良い。変形の出現のために必要なパワーレベルは、現在の彫刻装置において使用されているパワーレベルと適合している。いずれにしても、変形は、２層積層体の反射係数を低減させるという効果を有している。そのため、変形を受けた領域の外部に位置した外部領域における反射係数は、６５％に到達することができる。変形の起源をなす無機層は、以下『活性層』と称する。活性層自体としては、変形を受けていない場合には、不十分な反射係数しか有していない。半反射性層は、無機層と一緒に使用されることによって、反射係数を増大させるように作用する。
【００２４】
より詳細には、本発明の目的は、情報データを書き込むための記録媒体であって、半反射性層と無機活性層とから構成された２層積層体を具備し、無機活性層は、半反射性層を通して導かれた書込用光放射の作用によって変形を起こすのに適したものとされ、変形が、積層体の反射係数を低減するものとされていることを特徴としている。
【００２５】
本発明のさらなる目的は、情報データを読み取るための記録媒体であって、半反射性層と無機活性層とから構成された２層積層体を具備し、無機活性層は、いくつかの領域のところにおいて変形を有しており、積層体の反射係数は、領域の内部においては、それら領域の外部領域よりも、小さいものとされていることを特徴としている。
【００２６】
好ましくは、２層積層体は、基板上に成膜される。半反射性層は、基板と無機活性層との間に配置することができる。逆に、無機活性層を、基板と半反射性層との間に配置することもできる。前者の場合には、基板は、透明でなければならない。この基板は、螺旋グルーブの形態で彫刻することができる。
【００２７】
より好ましくは、半反射性層は、金属から形成される。半反射性層をなすこの金属は、アルミニウム、銀、銅、金、亜鉛、チタン、および、これらのいずれかを含有した合金からなるグループの中から選択することができる。
【００２８】
半反射性層は、２つの（あるいはそれ以上の）互いに異なる材料から形成することができる。例えば、半反射性層は、薄い金層と薄い銀層とを有することができる。
【００２９】
好ましくは、無機活性層は、テルル、アンチモン、セレン、インジウム、ビスマス、ヒ素、および、これらのいずれかを含有した合金からなるグループの中から選択された材料から形成されている。
【００３０】
無機活性層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ａｓからなるグループの中から選択された金属を含有しているような、ＳｂＴｅ合金またはＳｂＳｅ合金から形成することができる。
【００３１】
さらに、無機活性層をなす材料は、ある種の比例量の窒素を含有することができる。
【００３２】
有利な実施形態においては、保護層が、２層積層体上において、無機活性層側に成膜されている。保護層は、エラストマー−シリコンから形成することができる。可能であれば、有機材料または無機材料からなるような中間介在誘電体層を、活性層と保護層との間に介装することができる。この中間介在層は、熱的特性および／または化学的特性および／または機械的特性に基づいて、記録媒体の書込および／またはサービス寿命を補助する。
【００３３】
本発明の他の目的は、上述したような記録媒体に対しての書込方法であって、光ビームを、半反射性層を通して活性層上に導き、光ビームのパワーを、活性層の変形を引き起こし得るようなものとする。
【００３４】
本発明のさらに他の目的は、上述したような記録媒体からの読取方法であって、光ビームを、半反射性層を通して活性層上に導き、光ビームのパワーを、活性層の変形に応じた強度を有した反射ビームを生成し得るようなものとする。
【００３５】
【発明の実施の形態】
図３Ａは、本発明による２層積層体を示している。この積層体は、以降『活性層』と称することとする無機層（３０）と、例えば金属製のものといったような半反射性層（３２）と、から構成されている。この積層体は、半反射性層（３２）上に導かれかつ半反射性層（３２）を通過した光ビーム（３４）によって、書き込むことができる。半反射性層（３２）を通過した後の光ビームによってもたらされるエネルギーは、上述したのと同様にして活性層を変形させる。半反射性層（３２）は、同様に変形することも、あるいは、変形しないことも、できる。
【００３６】
図３Ｂは、書込後の読取操作時における積層体を示している。書込ビーム（３４）よりも強度の小さな読取ビーム（３６）が、半反射性層（３２）に向けて導かれる。活性層（３０）の変形のために（この場合には、ホール（３３）の出現という例で図示されている）、および、場合によっては付加的な半反射性層（３２）の変形のために、積層体の反射係数は、非書込領域（Ｚｎｅ）におけるよりも、書込領域（Ｚｅ）における方が、小さい。したがって、反射ビーム（３８）の強度は、非書込領域（Ｚｎｅ）におけるよりも、書込領域（Ｚｅ）における方が、小さい。これにより、当業者に公知の光学手段によって、各領域の相違を認識することができ、記録されたデータを読み取ることができる。
【００３７】
上述した２層積層体は、あらゆる基板上に成膜することができ、特に、彫刻されたグルーブを有したディスクの形態とされた基板上に成膜することができる。これは、いくつかのオプションも含めて、図４に示されている。図４においては、グルーブ（４２）が彫刻されている透明基板（あるいは、透明基体）（４０）と、本発明による２層積層体（３０，３２）と、が示されている。
【００３８】
さらに、図示した実施形態においては、媒体は、誘電体層（４４）と保護層（４６）とを備えている。
【００３９】
基板（４０）は、プラスチック（例えば、ポリカーボネート、あるいは、ＰＭＭＡ）から形成することができ、グルーブは、幅を４００〜８００ｎｍ、深さを２０〜６０ｎｍ、とすることができる。
【００４０】
図４においては、半反射性層（３２）は、基板上に成膜されている。このことは、基板が透明であることが想定されていることを意味している。なぜなら、書込と読取との双方が、基板を通して行われるからである。しかしながら、構成をひっくり返すこともでき、活性層を基板上に形成することができる。その場合には、保護層（４６）が透明でなければならない。この場合、基板は、不透明なものとすることができる。
【００４１】
半反射性層をなす材料は、その材料の反射特性に基づいて選択される（例えば、Ａｌ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、あるいは、これらの合金）。半反射性層は、わずかしか光を吸収しないことが好ましい。半反射性層が、まず最初に光ビームが照射される部分であることにより、半反射性層の厚さは、書込しきい値を過度に増大させることなく反射率を増大させ得るように、できる限り正確に調節されなければならない。半反射性層の厚さは、例えば、４〜１０ｎｍとすることができる。
【００４２】
活性層は、書込機構のベースに位置しているばかりでなく、積層体の反射にも寄与する。活性層の厚さは、１０〜１００ｎｍの程度とされ、適切な反射率を示しつつも安価な書込パワーを維持し得るように、調節されなければならない。活性層の成膜条件は、一定の反射を有した最適の厚さでもって動作するように、調節される。実際、形成されるホールやバブルやキャビティ等は、コントラストが良好であるように十分に大きなものである必要がある一方、読取ノイズを制限し得るようあまり大きすぎても良くない。しかしながら、ホールやバブルやキャビティ等のサイズは、ある種の場合には、活性層の厚さに比例するように思われる。活性層をなす材料は、例えば、Ｔｅ、Ｓｂ2Ｔｅ3、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｂｉ2Ｔｅ3、ＳｅＴｅ、Ｓｅ、Ａｓ3Ｓｅ3、Ａｓ2Ｔｅ3、…とすることができる。
【００４３】
測定結果が、図５に示されている。この図は、横軸に示されているような単位をｍＷとしたときの光学パワー（Ｐ）の関数として、縦軸として示されているような単位をｄＢとしたときの信号雑音比（Ｓ／Ｂ）の変化を示している。曲線群は、１．２ｍ／ｓという参照速度の４倍に等しいようなすなわち４．８ｍ／ｓという線速度でもってディスクを回転させつつ、３Ｔという幅の書込領域と同じ幅の非書込領域とを連続して形成した場合に対応している。活性層の厚さは、２５ｎｍとされた。半反射性層は、様々な厚さのアルミニウム層とされた。アルミニウム層の厚さは、６ｎｍ、７ｎｍ、８ｎｍ、および、９ｎｍとされ、それぞれ、曲線（５１，５２，５３，５４）に対応している。非書込領域における積層体の反射係数は、それぞれ、４６，４８，５０，５１％であった（一方、半反射性層がない場合には、反射率は、４０％でしかなかった）。
【００４４】
本発明による２層積層体は、情報データの書込および読取に際して十分なものである。それでもなお、変形例（オプション）として、材料の物理的化学的変化（例えば、酸化）からディスクを保護するために、また、引っ掻きや衝撃による損傷を防止するために、また、存在すれば読取や書込を阻害してしまうとともに除去時にはディスクの損傷を招きかねないような汚れや様々なトレースを防止するために、積層体に対してさらなる層を追加することができる。したがって、１つまたは２つの層を、追加することができる。あるいは、追加する層数が多くなればなるほどコスト的に不利になることを勘案しつつ、それ以上の数の層を、追加することもできる。一般に、成膜される最後の層は、機械的保護を確保するためのものとされる。多くの場合、ターンテーブルを使用してワニスが成膜され、紫外線照射によって固化され、数ミクロン厚さの層とされる。ディスクシール技術を使用することもできる。
【００４５】
様々な理由のために、中間介在誘電体層（４４）を、図４に示すように活性層（３０）と保護層（４６）との間に追加することができる。これは、特に、活性層の変形を機械的にかつ熱的に助長するためであり、また、抵抗力を強化するためである。中間介在層は、また、活性層を保護層から化学的に絶縁させることができる。
【００４６】
好ましくは、活性層と半反射性層とは、霧化によって成膜される。これら２つの層の成膜条件は、市場から購入可能なたいていの彫刻装置に適合した書込パワーしきい値をなおも維持しつつ十分な反射特性が得られるように、選択される。中間介在層および保護層は、材料の性質に応じてまた層厚さに応じて、霧化によってもターンテーブル成膜によっても、形成することができる。
【００４７】
以下、いくつかの実験例について説明する。それら実験例が本発明の範囲を何ら限定するものではないことは、明瞭に理解されるであろう。
【００４８】
［実験例１］
基板は、ポリカーボネートとされた。半反射性層は、６〜９ｎｍという厚さのアルミニウム層とされた。半反射性層は、３×１０-3ｍｂａｒというアルゴン圧力下において５００ｍＡというターゲット電流でもって霧化によって成膜された。活性層は、２５ｎｍ（成膜時間に基づき計算された）という厚さのＳｂ2Ｔｅ3から構成された。活性層は、１０-3ｍｂａｒというアルゴン圧力下において１００ｍＡというターゲット電流でもって霧化によって成膜された。市場で利用可能なＣＤ−Ｒテスターを使用して測定された焦点合わせビームの反射率は、以下のようである。
【表１】
0004619616.tif 000002
【００４９】
アルミニウム層を有した試料について、４．８ｍ／ｓという速度の場合の、書込パワーの関数としての信号雑音比の変化が、図６に示されている。１．２ｍ／ｓという速度においては、信号雑音比は、試料２，３に関しては５．５ｍＷよりも大きなパワーにおいて、試料４に関しては７ｍＷよりも大きなパワーにおいて、４５ｄＢよりも大きくなる。信号雑音比は、試料５に関しては８ｍＷよりも大きなパワーにおいて、４３ｄＢよりも大きくなる。２倍の速度（２．４ｍ／ｓ）においては、信号雑音比は、試料２，３に関しては７．５ｍＷよりも大きなパワーにおいて、試料４に関しては１０ｍＷよりも大きなパワーにおいて、４７ｄＢよりも大きくなる。
【００５０】
［実験例２］
基板は、ポリカーボネートとされた。半反射性層は、６〜９ｎｍという厚さのアルミニウム層とされた。半反射性層は、３×１０-3ｍｂａｒというアルゴン圧力下において５００ｍＡというターゲット電流でもって霧化によって成膜された。活性層は、３０ｎｍ（成膜時間に基づき計算された）という厚さのＳｂ2Ｔｅ3から構成された。活性層は、１０-3ｍｂａｒというアルゴン圧力下において２５０ｍＡというターゲット電流でもって霧化によって成膜された。市場で利用可能なＣＤ−Ｒテスターを使用して測定された焦点合わせビームの反射率は、以下のようである。
【表２】
0004619616.tif 000003
【００５１】
試料２は、１．２ｍ／ｓという速度においては、４ｍＷ以上において４２ｄＢよりも大きな信号雑音比を有しており、２．４ｍ／ｓという速度においては、６ｍＷ以上において４６ｄＢよりも大きな信号雑音比を有しており、さらに、４．８ｍ／ｓという速度においては、１０ｍＷ以上において４８ｄＢよりも大きな信号雑音比を有している。試料３は、１．２ｍ／ｓという速度においては６．５ｍＷ以上において、２倍速度においては８．５ｍＷ以上において、４倍速度においては１２ｍＷ以上において、４５ｄＢよりも大きな信号雑音比を有している。すべての試験は、互いに同じ長さを有した両領域の交互的連続からなる信号に関して行われた。
【００５２】
［実験例３］
基板は、ポリカーボネートとされた。半反射性層は、７ｎｍという厚さのアルミニウム層とされた。活性層は、４０ｎｍという厚さとされ、Ｓｂ2Ｔｅ3から構成された。４０ｎｍ厚さのシリカからなる保護層が、設けられた。非書込領域におけるディスクの反射率は、６０％であった。この積層体を、７７００〜７９００オングストロームという波長の光ビームによって照射し、その結果を、ＡＦＭ（Automatic Force Microscope）によって観測した。ディスク表面（シリコン層側）を、低パワーおよび高パワーにおいて観測した様子が、それぞれ図６Ａおよび図６Ｂに示されている。
【００５３】
［実験例４］
基板は、ポリカーボネートとされた。活性層は、２０ｎｍという厚さとされ、Ｓｂ2Ｔｅ3から構成された。活性層は、霧化によって形成された。半透明層は、７ｎｍという厚さのアルミニウム−クロム合金から形成された。保護ワニスが、ターンテーブルによって成膜され、ＵＶランプによって固化された。図７は、ディスク上において彫刻された複数のポイントを示している。
【００５４】
［実験例５］
基板は、ポリカーボネートとされた。活性層は、２８ｎｍという厚さとされ、Ｓｂ2Ｔｅ3から構成された。活性層は、霧化によって形成された。半透明層は、６ｎｍという厚さのアルミニウムから形成された。保護層の形成前に、信号雑音比を測定した。しきい値パワーは、２．４ｍ／ｓという速度において４ｍＷ、４．８ｍ／ｓという速度において５ｍＷ、９．６ｍ／ｓという速度において８ｍＷ、というＣＤ−Ｒ基準に適合していた。
【００５５】
エラストマー層を追加した状態においては、しきい値パワーは、２．４ｍ／ｓという速度において４ｍＷ、４．８ｍ／ｓという速度において５ｍＷ、９．６ｍ／ｓという速度において９ｍＷ、というＣＤ−Ｒ基準に適合したままであった。
【００５６】
１４５．４ｍ／ｓという速度においては、しきい値パワーは、エラストマー層付きの状態において、４７ｄＢという信号雑音比に対して１３ｍＷであった。
【００５７】
データの書込および読取に使用した光の波長に関しては、いくらかの情報を提示することができる。ＣＤ系統（ＣＤ−Ｒ）においては、８０００オングストローム（赤外に近い）付近において動作する。波長範囲は、規格において決められている。波長は、読取と書込とでは相違している。ＤＶＤ系統（例えば、ＤＶＤ−Ｒ）においては、６３００〜６５００オングストローム付近という赤色領域において動作する。緑色や青色といったような他の波長範囲を使用することもできる。
【００５８】
［参考文献］
１．“Principles of optical disk systems”, G. Buowhuis et al., Adam
Hilger Ltd, Chapter 6,“Materials for on-line optical recording”,
p. 210-227
２．“Ablative hole formation process in thin tellurium-alloy films”,
M. Chen et al., Appl. Phys. Lett. 41(9), 894-896 (1982)
３．“Thin films for optical data storage”, W.-Y. Lee, J. Vac. Sci.
Technol. A3(3) 640-646 (1985)
４．“Laser recording in tellurium suboxide thin films”, Y-S Tyan et
al., J. Appl. Phys. 59(3) p. 716 (1986)
５．“Textured germanium optical storage medium”, H.G. Craighead, Appl.Phys. Lett. 40(8) p. 662 (1982)
６．欧州特許出願公開明細書第０６０５８９１号および欧州特許出願公開明細書第０７４７８９５号
【図面の簡単な説明】
【図１】  有機色素を有したディスクにおける原理を示す図である。
【図２】  Ｓｂ2Ｔｅ3からなる無機単一層の反射係数と、書込に必要な光パワーと、の関係を示す図である。
【図３】  本発明による２層積層体を概略的に示す図であって、図３Ａは、書込前の様子を示しており、図３Ｂは、書込後の様子を示している。
【図４】  保護層付きの基板内に彫刻された複数のグルーブを備えているディスクの場合における、本発明による媒体製造の特別の実施形態を示す図である。
【図５】  半反射性層の様々な厚さに関して、書込パワーと信号雑音比との間の関係を示す図である。
【図６】  図６Ａは、低パワーレーザーによる照射後における媒体の像を示す図であり、図６Ｂは、高パワーレーザーによる照射後における媒体の像を示す図である。
【図７】  上塗りされたディスク上に彫刻された複数のポイントを示す図である。
【符号の説明】
３０    無機活性層
３２    半反射性層
３３    ホール（変形）
３４    書込ビーム（書込用光放射、光ビーム）
３６    読取ビーム（光ビーム）
３８    反射ビーム
４０    透明基板
４４    中間介在誘電体層
４６    保護層
Ｚｅ    書込領域（領域）
Ｚｎｅ  非書込領域（外部領域）
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図７】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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