(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂（ａ）及びガラスフィラー（ｂ）から構成される透明複合シートであり、前記透明複合体を偏向軸が９０°に交差した偏向顕微鏡に設置し、透過モードで透過する光量が最大値を示す角度において透過する光量の温度依存性を測定した場合に、光量の最小値を示す温度が１５０℃以下である透明複合シートであって、
前記透明樹脂（ａ）が化学式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂および
化学式（２）で示されるオキセタニルシリケートを含む化合物である屈折率調整可能な成分を含むことを特徴とする透明複合シート。
【化１】
0004821252.tif 000008
【化２】
0004821252.tif 000009
【請求項２】
前記光量の最小値を示す温度が１２０℃以下である請求項１記載の透明複合シート。
【請求項３】
前記光量の最小値を示す温度が１００℃以下である請求項１記載の透明複合シート。
【請求項４】
前記光量の最小値を示す温度が８０℃以下である請求項１記載の透明複合シート。
【請求項５】
透明樹脂（ａ）のガラス転移温度が２００℃以上である請求項１〜４いずれか記載の透明複合シート。
【請求項６】
透明樹脂（ａ）の３０℃から２５０℃における平均線膨張係数が７０ｐｐｍ以下である請求項１〜５いずれか記載の透明複合シート。
【請求項７】
透明樹脂（ａ）の屈折率とガラスフィラー（ｂ）の屈折率との差が０．０１以下である請求項１〜６いずれか記載の透明複合シート。
【請求項８】
ガラスフィラー（ｂ）の屈折率が１．４５〜１．５５である請求項１〜７いずれか記載の透明複合シート。
【請求項９】
ガラスフィラー（ｂ）がガラス繊維布である請求項1〜８いずれか記載の透明複合シート。
【請求項１０】
請求項１〜９いずれか記載の透明複合シートから構成され、厚さが５０〜２０００μｍである光学シート。
【請求項１１】
３０〜１５０℃の平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である請求項１０記載の光学シート。
【請求項１２】
波長４００ｎｍでの光線透過率が８０％以上である請求項１０又は１１記載の光学シート。
【請求項１３】
請求項１０〜１２いずれか記載の光学シートを用いた表示素子用プラスチック基板。
【請求項１４】
請求項１０〜１２いずれか記載の光学シートを用いた太陽電池基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は線膨張係数が小さく、耐熱性、透明性、および光学特性に優れた透明複合体およびそれを備えた電子デバイスに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示素子や有機EL表示素子用基板（特にアクティブマトリックスタイプ）、カラーフィルター基板、太陽電池基板等としてはガラス板が広く用いられている。しかしながらガラス板は割れ易い、曲げられない、比重が大きく軽量化に不向きなどの理由から近年その代替としてプラスチック素材が検討されている。
表示素子用プラスチック基板に用いられている樹脂としては、例えば特許文献１には脂環式エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤、アルコール、硬化触媒からなる組成物、特許文献２には脂環式エポキシ樹脂、アルコールで部分エステル化した酸無水物系硬化剤、硬化触媒からなる樹脂組成物が、特許文献３には脂肪環式エポキシ樹脂、カルボン酸を有する酸無水物系硬化剤、硬化触媒からなる樹脂組成物が示されている。
しかしながら特許文献１から３に示された従来のガラス代替プラスチック材料はガラスと比較して線膨張係数が大きく、特にアクティブマトリックス表示素子基板に用いるとその製造工程において反りやアルミ配線の断線などの問題が生じ、これらの用途への展開は困難である。
【０００３】
このような問題を解決するため特許文献４や特許文献５には無機酸化物が分散された粒子分散系樹脂シートが、特許文献６にはフィラー分散系樹脂シートが、また、特許文献７にはエステル基を有する脂環式エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤、及び触媒とガラスクロスからなる透明複合光学シート、特許文献８にはエステル基を有する脂環式エポキシ樹脂とジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤とガラスクロスからなる透明複合光学シート、特許文献９にはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤及びガラスクロスからなる透明基板が示されている。
特許文献７から９に示されているガラスクロス複合体においては特許文献１から６に示されたプラスチック材料よりは大幅な線膨張率の低下が見られるが耐熱性が不十分である。さらに、複合基板の光学異方性が大きいため表示性能を低下させる可能性がある。
【０００４】
液晶用表示素子のような、偏光板と液晶駆動との光シャッター機能を用いた表示素子は、透明基板を通過する透過光の偏光状態の変化から、素子の表示性能に影響を受ける。透明基板の光学異方性が大きい場合、偏光板を通過した入射直線偏光が透明基板内の光学異方性により楕円偏光になり、液晶を駆動した時の出射側偏光板を通過する透過光の透過と不透過のスイッチング性能が低下することがある。つまり、高コントラストの表示素子を得るためには、光学異方性の小さい透明基板を適用する必要がある。
【０００５】
更に、ガラスクロス複合体は、熱線膨張率の異なる材料を複合化するため、基板作製時のプロセス温度や熱膨張率差に起因する熱応力が複合材料中で分布を持って発生する。ガラス繊維と樹脂マトリックス複合材料中の熱応力分布は、複合材料の軸対称性からガラス繊維径方向、周方向、軸方向の３つの主応力方向が考えられる（非特許文献１）。つまり、樹脂およびガラス繊維は、熱応力によりガラス繊維に沿った光学異方性やガラス繊維に直行した光学異方性が発現する可能性がある。例えば、ガラス繊維を縦と横に織ったガラス織布と樹脂の複合基板では、ガラス繊維軸に沿った方向および直行方向に局所的な光学異方性が発現するため、偏光子と検光子を偏向軸が９０°に交差した（クロスニコル状態にした）偏光顕微鏡下で格子状に透過光のパターンが見える。また、ガラスクロス複合体の光学異方性がガラスクロス繊維軸に平行な方向と直行する方向に発現することから、格子状の透過光パターンは偏光子からガラス繊維軸が４５°傾いた状態で最も明るくなる。つまり、ガラスクロス複合体を透明基板として用いた表示素子の場合、偏光板と複合体基板のガラスクロス繊維軸の配置次第では、透過光の偏光状態の乱れにより表示素子のコントラストが低下する可能性がある。
【０００６】
微小かつ局所的な偏光状態の乱れは表示素子の性能に強く影響する。例えば、染料系カラーフィルターより耐熱性、耐光性を優れた顔料分散系カラーフィルターは、顔料の凝集により光散乱に起因する表示コントラストの低下があるため、顔料の分散安定性を改善する検討が成されている（特許文献１０，１１，１２）。つまり、ガラスクロス複合体に生じる微小な光学異方性から生じる偏光状態の乱れも、高コントラストな高精細表示素子を作製する際には無視できない特性となる。
【０００７】
【特許文献１】特開平６−３３７４０８号公報
【特許文献２】特開２００１−５９０１５号公報
【特許文献３】特開２００１−５９０１４号公報
【特許文献４】特開２００２−３４７１５５号公報
【特許文献５】特開２００２−３４７１６１号公報
【特許文献６】特開２００３−２６０７６８号公報
【特許文献７】特開２００４−５１９６０号公報
【特許文献８】特開２００５−１４６２５８号公報
【特許文献９】特開２００４−２３３８５１号公報
【特許文献１０】特開平８−９４８２３号公報
【特許文献１１】特開平８−２５９８７６号公報
【特許文献１２】特開平８−２９５８２０号公報
【非特許文献１】H.Poristsky, Physics, 5, [12] (1934) 406-411.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、線膨張率が小さく、透明性・耐熱性に優れ、かつ光学異方性が小さいことから表示品位を低下させることのないガラスに代替可能な透明複合体および電子デバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、
（１）透明樹脂（ａ）及びガラスフィラー（ｂ）から構成される透明複合体であって、前記透明複合体を偏向軸が９０°に交差した偏向顕微鏡に設置し、透過モードで透過する光量が最大値を示す角度において透過する光量の温度依存性を測定した場合に、光量の最小値を示す温度が１５０℃以下であることを特徴とする透明複合体、
（２）前記光量の最小値を示す温度が１２０℃以下である（１）記載の透明複合体、
（３）前記光量の最小値を示す温度が１００℃以下である（１）記載の透明複合体。
（４）前記光量の最小値を示す温度が８０℃以下である（１）記載の透明複合体。
（５）透明樹脂（ａ）のガラス転移温度が２００℃以上である（１）〜（４）いずれか記載の透明複合体、
（６）透明樹脂（ａ）の３０℃から２５０℃における平均線膨張係数が７０ｐｐｍ以下である（１）〜（５）いずれか記載の透明複合体、
（７）透明樹脂（ａ）が化学式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂を含む樹脂組成物を硬化させて得られるものである（１）〜（６）いずれか記載の透明複合体、
【化３】
0004821252.tif 000002
（８）透明樹脂（ａ）が屈折率調整可能な成分を少なくとも１種類以上含有するものである（１）〜（７）いずれか記載の透明複合体、
（９）前記屈折率調整可能な成分が化学式（２）で示されるオキセタニルシリケートを含む化合物を硬化させて得られるものである（８）記載の透明複合体、
【化４】
0004821252.tif 000003
（式中ｎは1〜５の整数）
（１０）前記屈折率調整可能な成分がナノ微粒子を含むものである（８）又は（９）記載の透明複合体、
（１１）前記ナノ微粒子の平均分散粒子径が１００ｎｍ以下である（８）〜（１０）いずれか記載の透明複合体、
（１２）透明樹脂（ａ）の屈折率とガラスフィラー（ｂ）の屈折率との差が０．０１以下である（１）〜（１１）いずれか記載の透明複合体、
（１３）ガラスフィラー（ｂ）の屈折率が１．４５〜１．５５である（１）〜（１２）いずれか記載の透明複合体。
（１４）ガラスフィラー（ｂ）がガラス繊維布である（１）〜（１３）いずれか記載の透明複合体、
（１５）（１）〜（１４）いずれか記載の透明複合体から構成され、厚さが５０〜２０００μｍである光学シート、
（１６）３０〜１５０℃の平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である（１５）記載の光学シート、
（１７）波長４００ｎｍでの光線透過率が８０％以上である（１５）又は（１６）記載の光学シート、
（１８）（１５）〜（１７）いずれか記載の光学シートを用いた表示素子用プラスチック基板、
（１９）（１５）〜（１７）いずれか記載の光学シートを用いた太陽電池基板、
である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の透明複合体は低線膨張で透明性や耐熱性に優れ、かつ複屈折性に優れるため表示品位を低下させることなく、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子用基板、有機EL表示素子基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池基板などの光学シート、透明板、光学レンズ、光学素子、光導波路、LED封止材料等に好適に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の透明複合体は偏向軸が９０°に交差した（クロスニコル状態にした）偏向顕微鏡に設置し、透過モードで透過する光量の温度依存性を測定した場合に、光量の極小値を示す温度が１５０℃以下、好ましくは１２０℃以下、より好ましくは１００℃以下、更に好ましくは８０℃以下であることを特徴とするものである。
【００１２】
ガラスクロス複合体は、熱線膨張率の異なる材料を複合化するため、基板作製時のプロセス温度や熱膨張率差に起因する熱応力が複合材料中で分布を持って発生する。
例えばガラス繊維と樹脂マトリックス複合材料中の熱応力分布は、複合材料の軸対称性からガラス繊維径方向、周方向、軸方向の３つの主応力方向が考えられる。つまり、樹脂およびガラス繊維は、熱応力によりガラス繊維に沿った光学異方性やガラス繊維に直行した光学異方性が発現する可能性がある。例えば、ガラス繊維を縦と横に織ったガラス織布と樹脂の複合基板では、ガラス繊維軸に沿った方向および直行方向に局所的な光学異方性が発現するため、偏光子と検光子を偏向軸が９０°に交差した（クロスニコル状態にした）偏光顕微鏡下で格子状に透過光のパターンが見える。また、ガラスクロス複合体の光学異方性がガラスクロス繊維軸に平行な方向と直行する方向に発現することから、格子状の透過光パターンは偏光子からガラス繊維軸が４５°傾いた状態で最も明るくなる。つまり、ガラスクロス複合体を透明基板として用いた表示素子の場合、偏光板と複合体基板のガラスクロス繊維軸の配置次第では、透過光の偏光状態の乱れにより表示素子のコントラストが低下する可能性がある。
【００１３】
ガラスクロス及びマトリックス樹脂複合材料において生じる偏光状態の乱れ、つまり
光学異方性は応力複屈折が主要因として考えられ、応力複屈折は、下式（１）で表すことができる。
【数１】
0004821252.tif 000004
ここでＥは樹脂の弾性率、Ｔminは歪み最小温度、αｍは樹脂の線膨張係数、αｆはガラスクロスの線膨張係数、ＣＲは樹脂の光弾性定数を意味する。
【００１４】
このような応力複屈折を抑制する方法としては式（１）から明らかなように樹脂の線膨張係数αｍを低くし界面に生じる歪み量を小さくする方法、マトリックス樹脂の光弾性定数ＣＲを小さくする方法が考えられる。
また、Ｔminと室温との温度差をできるだけ低くする方法が考えられる。なぜならば、９０°に交差したクロスニコル偏向顕微鏡に透明複合体基板を設置し、透過モードで透過する光量の温度依存性を測定し、光量をＹ、測定温度をＸとすると、光量Ｙは光学異方性（応力複屈折）と相関性があり、光量Ｙは、Ｙ＝ａＸ２＋ｂＸ＋ｃ（ａ、ｂ、ｃは定数、ａ＞０）で示される２次曲線で近似できるため、光学的異方性（応力複屈折性）を小さくする、つまりＸ＝室温でのＹ値を小さくするには、Ｙ極小値を示す歪み最小温度（Ｔmin）と室温との差の絶対値ができるだけ小さいことが望ましいからである。
【００１５】
以上のような理由から９０°に交差したクロスニコル偏向顕微鏡に設置し、透過モードで透過する光量の温度依存性を測定した場合に、光量の最小値を示す温度が１５０℃以下であり、好ましくは１２０℃以下、より好ましくは１００℃以下、更に好ましくは８０℃以下であることが望ましい。
【００１６】
本発明に用いられる透明樹脂（ａ）としては、各種の樹脂を使用できるが、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物を硬化させた樹脂であること好ましい。エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、またはこれらの水添化物、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート骨格を有するエポキシ樹脂、カルド骨格を有するエポキシ樹脂、脂環式多官能エポキシ樹脂、水添ビフェニル骨格を有する脂環式エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ骨格を有する脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。また1，4−ビス[(3-エチル−３オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、２−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、オキセタニルシリケート等のオキセタン化合物、ビニルエーテル化合物も用いることができる。
【００１７】
中でも水添ビフェニル構造を有する脂環式エポキシ樹脂が好ましい。なぜならば硬化性が優れているため光量の極小値を示す温度と室温との温度差が小さく、さらに分子の光学的異方性が小さく、かつ硬化物の線膨張係数が低いため、クロスと樹脂界面のひずみを小さくでき、複合材料の光学異方性を抑制できるからである。
特に化学式（１）で示される脂環式エポキシ樹脂を含むことが好ましい。
【００１８】
【化５】
0004821252.tif 000005
【００１９】
また、これらの樹脂及び化合物を硬化させるには、単独で硬化させる場合においてはカチオン触媒、またはアニオン触媒を用いて硬化させることができる。一方、種々の硬化剤を用いて硬化させることも可能である。例えばエポキシ樹脂の場合、酸無水物や脂肪族アミンを用いて硬化させることができる。
【００２０】
しかしながらガラスクロスとマトリックス樹脂界面の歪みをできるだけ小さくするにはカチオン系硬化触媒を用いて硬化できる樹脂が好ましい。なぜならば前記エポキシ樹脂をカチオン系硬化触媒とを用いると、得られる樹脂材料を低温で硬化させることができるからであり、低温で硬化できると光量の最小値を示す温度と室温との温度差が小さく、かつ複合材料の光学異方性を抑制できるからである。
【００２１】
前記エポキシ樹脂を酸無水物等の硬化剤を用いて硬化させた場合は、カチオン重合系と異なり、低温での硬化は困難であり、光量の極小値を示す温度と室温との温度差が大きくなり、さらに線膨張係数がカチオン重合系と比較し大きくなるため、ひずみが大きくなり、その結果光学異方性が悪化する。
【００２２】
また前記カチオン系硬化触媒を用いて前記エポキシ樹脂を硬化した硬化物の耐熱性（例えばガラス転移温度）が、他の硬化剤（例えば酸無水物）を用いて硬化した硬化物のそれよりも高くなるからである。カチオン系硬化触媒を用いた硬化物の耐熱性が、他の触媒を用いたものよりも高くなり理由は、前記カチオン系硬化触媒を用いて前記エポキシ樹脂を硬化した硬化物の架橋密度が、他の硬化剤（例えば酸無水物）を用いて硬化した硬化物の架橋密度と比較して高くなるためと考えられる。
【００２３】
前記カチオン系硬化触媒としては、例えば加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出するもの（例えばオニウム塩系カチオン硬化触媒、またはアルミニウムキレート系カチオン硬化触媒）や、活性エネルギー線によってカチオン重合を開始させる物質を放出させるもの（例えばオニウム塩系カチオン系硬化触媒等）が挙げられる。これらの中でも、熱カチオン系硬化触媒が好ましい。これにより、より耐熱性に優れる硬化物を得ることができる。
【００２４】
前記熱カチオン系硬化触媒としては、例えば芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が挙げられる。具体的には、芳香族スルホニウム塩として三新化学工業製のＳＩ-６０Ｌ、ＳＩ-８０Ｌ、ＳＩ-１００Ｌ、旭電化工業製のＳＰ-６６やＳＰ-７７等のヘキサフルオロアンチモネート塩挙げられ、アルミニウムキレートとしてはエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられ、三フッ化ホウ素アミン錯体としては、三フッ化ホウ素モノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素イミダゾール錯体、三フッ化ホウ素ピペリジン錯体等が挙げられる。
【００２５】
前記カチオン系触媒の含有量は、特に限定されないが、例えば前記式（１）で示されるエポキシ樹脂を使用する場合は、該エポキシ樹脂１００重量部に対して０．１〜３重量部が好ましく、特に０．５〜１．５重量部が好ましい。含有量が前記下限値未満であると硬化性が低下する場合があり、前記上限値を超えると透明複合体が脆くなる場合がある。必要に応じて硬化反応を促進させるため増感剤、および酸増殖剤等もあわせて用いることが可能である。
【００２６】
透明樹脂（ａ）中にガラスクロスと屈折率をあわせて透明性を向上させるため、屈折率調整成分を添加することができる。屈折率調整成分は、主成分の樹脂の屈折率が使用するガラスクロスの屈折率よりも高い場合は、ガラスクロスの屈折率よりも低い成分を添加することができ、逆に主成分の屈折率が使用するガラスクロスよりも低い場合は、ガラスクロスの屈折率よりも高い成分を添加することができる。
【００２７】
樹脂の屈折率がガラスクロスの屈折率よりも高い場合、屈折率調整成分として添加が可能な低屈折率成分としては特に限定されるものではないが、例えば低屈折率樹脂、低屈折率の無機又は有機微粒子などが挙げられる。
低屈折樹脂成分を添加する場合にはマトリックス樹脂と架橋反応する官能基を有することが望ましい。なぜなら、硬化物の線膨張係数が大きくなりガラスクロスと樹脂マトリックスとの線膨張率差が大きくなり歪みが増大し複合体の光学異方性が悪化するからである。
【００２８】
具体的にはシルセスキ骨格を有する脂環式エポキシモノマー、シルセスキ骨格を有するオキセタンモノマー、シリケート構造を有するオリゴマー（小西化学製：ＰＳＱレジン、東亜合成製：オキセタニルシルセスキオキサン、オキセタニルシリケート）、β−（３,４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のカップリング剤が挙げられる。特に化学式（２）で示されるオキセタニルシリケートが好ましい。
【００２９】
【化６】
0004821252.tif 000006
（式中ｎは1〜５の整数）
【００３０】
無機微粒子としてはたとえばナノ粒子、ガラスビーズ等が挙げられ、平均分散粒子径が１００ｎｍ以下となるような粒子が好ましい。何故ならば粒子径が上限値を超えると透明複合体の散乱が大きくなるからである。
具体的にはシリケート構造を有するシリカ微粒子、または酸化チタン微粒子、酸化ジルコニア微粒子、アルミナ微粒子等が挙げられる。これらの粒子は屈折率の調整のために適宜用いることができる。
【００３１】
例えば主成分である樹脂の屈折率がガラスクロスの屈折率よりも高い場合には、ガラスクロスより屈折率の低いシリカ微粒子が好ましい。これにより耐熱性、線膨張係数等の硬化物の物性を低下させずに高い透明性を得ることができる。
また同じシリカ微粒子の中でも表面処理が施されているシリカ微粒子がより好ましい。なぜなら微粒子表面にはカチオン重合を促進する活性水素（シラノール基）が存在し、表面処理がない場合、硬化反応が進行し保存安定性が低いからである。
【００３２】
本発明に用いるガラスフィラー（ｂ）の屈折率は、特に限定されないが、１．４〜１．６が好ましく、特に１．５〜１．５５が好ましい。屈折率が前記範囲内であると、ガラスのアッベ数に近い透明樹脂を選択することができるので特に好ましい。透明樹脂のアッベ数とガラスのアッベ数が近いほど広い波長領域で屈折率が一致し、広範囲で高い光線透過率が得られるからである。
【００３３】
本発明に用いるガラスフィラー（ｂ）としては、ガラス繊維、ガラスクロスやガラス不織布などのガラス繊維布、ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスパウダー、ミルドガラスなどがあげられ、中でも線膨張係数の低減効果が高いことからガラス繊維、ガラスクロス、ガラス不織布が好ましく、さらにガラスクロスが最も好ましい。
【００３４】
ガラスの種類としてはEガラス、Cガラス、Aガラス、Sガラス、Tガラス、Dガラス、NEガラス、クオーツ、低誘電率ガラス、高誘電率ガラスなどが上げられ、中でもアルカリ金属などのイオン性不純物が少なく入手の容易なEガラス、Sガラス、TガラスNEガラスが好ましい。
【００３５】
ガラスフィラー（ｂ）の配合量は透明複合体に対して１〜９０重量％が好ましく、より好ましくは１０〜８０重量％、さらに好ましくは３０〜７０重量％である。ガラスフィラーの配合量がこの範囲であれば成形が容易で、複合化による線膨張の低下の効果が認められる。
【００３６】
本発明の透明複合体には必要に応じて、透明性、耐溶剤性、耐熱性、複屈折性などの特性を損なわない範囲で、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂のオリゴマーやモノマーを併用してもよい。これらのオリゴマーやモノマーを使用する場合は全体の屈折率がガラスフィラーの屈折率に合うように組成比を調整する必要がある。また、本発明の透明複合体には必要に応じて、透明性、耐溶剤性、耐熱性、複屈折性などの特性を損なわない範囲で、少量の酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料、他の無機フィラなどの充填材を含んでいてもよい。
【００３７】
本発明の透明複合体の成形方法には制限はなく、例えば未硬化の樹脂組成物とガラスフィラーとを直接混合し、必要な方に注型した後に架橋させてシートなどとする方法、未硬化の樹脂組成物を溶剤に溶解しガラスフィラーを分散させてキャストした後、架橋させてシートなどとする方法、未硬化の樹脂組成物または樹脂組成物を溶剤に溶解させたワニスをガラスクロスやガラス不織布に含浸させた後架橋させてシートなどとする方法等が挙げられる。
【００３８】
本発明の透明複合体を、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機EL表示素子用プラスチック基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、タッチパネル等の光学用途として用いる場合、シート状の基板形状であることが好ましい。基板の厚さは、好ましくは５０〜２０００μｍであり、より好ましくは５０〜１０００μｍ、最も好ましくは５０〜２００μｍである。基板の厚さがこの範囲にあると平坦性に優れ、ガラス基板と比較して基板の軽量化を図ることができる。
【００３９】
本発明の透明複合体を前記光学用途として用いる場合、３０℃〜１５０℃における平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０ｐｐｍ以下、最も好ましくは２０ｐｐｍ以下である。例えば、この複合体組成物をアクティブマトリックス表示素子用基板に用いた場合、この上限を超えると、その製造工程において反りやアルミ配線の断線などの問題が生じる恐れがある。  
【００４０】
本発明の透明複合体を表示素子用プラスチック基板として用いる場合、波長４００ｎｍにおける光線透過率は８０％以上が必要であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは８８％以上である。波長４００ｎｍにおける光線透過率が８０％未満であると表示性能が十分でない。
【００４１】
更に本発明の透明複合体を表示素子用プラスチック基板として用いる場合、ガラス転移温度は２００℃以上が好ましく、より好ましくは２５０℃以上である。ガラス転移温度が２００℃未満であると高温プロセスにおいて、高温での基板の強度や弾性率が不十分で基板が変形するおそれがある。
【００４２】
本発明の透明複合体を表示素子用プラスチック基板として用いる場合、表面平滑性を向上させるため基板の両面に樹脂のコート層を設けてもよい。用いる樹脂としては優れた耐熱性、透明性、耐薬品性を有していることが好ましく、具体的には多官能アクリレート樹脂や、エポキシ樹脂などが好ましい。コート層の厚みは０.１μｍ〜３０μｍが好ましく、より好ましくは０．５〜３０μｍである。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明の内容を実施例により詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の例に限定されるものではない。
【００４４】
（実施例１）ＮＥガラス系ガラスクロス（厚さ９０μｍ、屈折率１．５１０、日東紡製）に水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学工業性、Ｅ−ＢＰ）７０重量部、オキセタニルシリケート（東亜合成製、ＯＸＴ−１９１）３０重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学製、ＳＩ−１００Ｌ）1重量部を混合した樹脂を含浸させ脱泡した。このガラスクロスを銅箔に挟み込んで８０℃で２時間加熱後、２５０℃で更に２時間加熱し厚さ０，１ｍｍの透明シートを得た。
【００４５】
（実施例２）ＮＥガラス系ガラスクロス（厚さ９０μｍ、屈折率１．５１０、日東紡製）に水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学工業性、Ｅ−ＢＰ）１００重量部、ナノ粒子としてＳｉＯ２を主成分とする表面処理したナノシリカ（平均粒子径２０ｎｍ）の溶剤分散液（固形分量２０ｗｔ％）６０重量部を混合し、溶剤を揮発させた後に芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒（三新化学製ＳＩ−１００Ｌ）1重量部を混合した樹脂を含浸させ脱泡した。このガラスクロスを銅箔に挟み込んで８０℃で２時間加熱後、２５０℃で更に２時間加熱し厚さ０，１ｍｍの透明シートを得た。
【００４６】
（比較例１）ＮＥガラス系ガラスクロス（厚さ９０μｍ、屈折率１．５１０、日東紡製）に多官能脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学工業性、ＥＨＰＥ−３１５０）８０重量部、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂（大日本インキ化学社製、ＥＸＡ−１５１４）２０重量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸（新日本理化社製、ＭＨ−７００Ｇ）７７重量部、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール（四国化成製）1重量部を混合した樹脂を含浸させ脱泡した。このガラスクロスを銅箔に挟み込んで８０℃で２時間加熱後、２００℃で更に２時間加熱し厚さ０，１ｍｍの透明シートを得た。
【００４７】
実施例、比較例の配合及び評価結果を表１に示す。評価方法は以下の通りである。
（ａ）光量の温度依存性
偏光顕微鏡をクロスニコル状態にした後、透明基板をステージ上で回転させながら、透過モードで最も光漏れが強くなる位置でサンプルを固定し、透過する光量の温度依存性を測定した。
（ｂ）平均線膨張係数
ＳＥＩＫＯ電子（株）製ＴＭＡ／ＳＳ６０００型熱応力歪み測定装置を用いて、窒素雰囲気下、1分間に５℃の割合で昇温させ、求めた。荷重を５ｇにし引っ張りモードで測定を行い、所定温度範囲における平均線膨張係数を算出した。
（ｃ）耐熱性
ＳＥＩＫＯ電子（株）製ＤＮＳ２１０型動的粘弾性測定装置を用いて、１Ｈｚでのtanδの最大値をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
（ｄ）光線透過率
分光光度計Ｕ３２００（島津製作所製）で４００ｎｍにおける全光線透過率を測定した。
（ｅ）光学異方性
（ａ）と同様に得られた透明基板の光漏れの有無を評価した。評価方法は、偏光顕微鏡を用いクロスニコル状態にした後、透明基板をステージ上で回転させながら、最も光漏れが強くなる位置で評価を行った。各符号は、以下の通りである。
○：良好（光漏れが若干観測されるが、実用上問題ない）
×：不良（光漏れが多く観測され、実用上問題あり）
【００４８】
【表１】
0004821252.tif 000007
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明の透明複合体は、例えば透明板、光学レンズ、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネル、導光板、光学素子、光導波路、ＬＥＤ封止材等に好適に利用できる。