(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁膜を介して設けられる第１導電部と第２導電部とを導通させる導電性材料を、埋設するためのコンタクトホールの形成方法であって、
前記第１導電部上のコンタクトホールの形成領域にマスク材を設けるマスク材形成工程と、
前記マスク材形成工程の後、得られたマスク材の表面部を撥液処理する撥液処理工程と、
前記基板上の少なくとも前記第１導電部を形成した位置に、前記マスク材の形成位置を除いた前記第１導電部上を覆った状態で、かつ前記マスク材に接した状態に、絶縁膜形成用の液状体を配する液状体配置工程と、
前記液状体配置工程で基板上に配置した液状体を乾燥し、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記マスク材を除去して前記絶縁膜にコンタクトホールを形成するマスク材除去工程と
を有してなり、
前記絶縁膜形成用の液状体として、前記マスク材に対する接触角が９０°以上であるものを用いることを特徴とするコンタクトホールの形成方法。
【請求項２】
前記液体配置工程における雰囲気温度が０〜４００℃であることを特徴とする請求項１に記載のコンタクトホールの形成方法。
【請求項３】
前記マスク材は、前記液状体と接触する表面部の表面自由エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以下のものであることを特徴とする請求項１〜２のいずれか一項に記載のコンタクトホールの形成方法。
【請求項４】
前記マスク材は、芯部と、該芯部の表面側に設けられた表面層とを有してなるものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のコンタクトホールの形成方法。
【請求項５】
前記表面層は、含フッ素化合物及び／又はシリコン系化合物を主成分として形成された撥液膜であることを特徴とする請求項４記載のコンタクトホールの形成方法。
【請求項６】
前記撥液膜は、プラズマ重合により形成されたものであることを特徴とする請求項５記載のコンタクトホールの形成方法。
【請求項７】
前記撥液膜は、気相成膜法により形成されたものであることを特徴とする請求項５記載のコンタクトホールの形成方法。
【請求項８】
前記撥液膜は、塗布法により形成されたものである請求項５記載のコンタクトホールの形成方法。
【請求項９】
前記液状体が溶液あるいは分散液であり、該溶液あるいは分散液を形成する溶媒あるいは分散媒が、５０ｍＮ／ｍ以上の表面張力を有するものであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のコンタクトホールの形成方法。
【請求項１０】
前記溶媒あるいは分散媒が水であることを特徴とする請求項９記載のコンタクトホールの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コンタクトホールの形成方法とこれによって得られたコンタクトホール、およびこのコンタクトホールを備えた電子デバイス、液晶パネル、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子デバイスである半導体装置では、高集積化を実現するために配線の多層化が行なわれている。多層配線を有する半導体装置では、層間絶縁膜を介して配設される上下の配線パターンを電気的に接続する場合、通常は層間絶縁膜にコンタクトホールを形成し、このコンタクトホールに導電性材料を埋め込んでプラグを形成することにより、このプラグを介して電気的接続をなすようにしている。このようなコンタクトホールは、従来では例えば特許文献１に記載されているように、次のようにして形成されている。
【０００３】
まず、基板上に金属などの導電性材料を成膜し、これをエッチングして下層配線層を形成する。次に、下層配線層の上に層間絶縁膜を形成する。次いで、層間絶縁膜の上にフォトレジスト膜を塗布し、これをフォトリソグラフィー法によって露光、現像し、コンタクトホールと対応した部分を開口させたレジスト膜を形成する。次に、レジスト膜をマスクとして層間絶縁膜をドライエッチングし、層間絶縁膜に貫通した開口を設けることにより、コンタクトホールを形成する。そして、このようにしてコンタクトホールを形成した後、レジスト膜を除去し、コンタクトホールに導電性材料を埋め込んでプラグを形成し、さらにこのプラグに接するようにして前記層間絶縁膜上に上層配線層を形成することにより、前記コンタクトホール内のプラグを介して下層配線層と上層配線層とを電気的に接続させている。
【特許文献１】特開２００１−２６７３２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前記したように従来では、絶縁膜の上にフォトレジストを塗布してパターニングし、パターニングしたレジスト膜をマスクとして絶縁膜をドライエッチングし、絶縁膜に貫通孔を設けることによってコンタクトホール形成していた。したがって、従来のコンタクトホールの形成方法では、絶縁膜をドライエッチングするために高価な真空装置を必要とすることから、製造にあたってのイニシャルコストが高く、しかも真空装置を用いた処理であるためコンタクトホール形成に多くの時間と手間およびエネルギーを必要とし、真空装置の保守も容易でないなどの理由でランニングコストも高いといった課題があった。
【０００５】
また、ドライエッチング時には、荷電粒子の基板への衝撃や基板表面の電荷蓄積などによるプラズマダメージが発生し、例えば基板に形成された半導体素子の電気的特性を劣化させるといった課題があった。
さらに、ドライエッチングでは絶縁膜と下層の導電膜とのエッチングにおける選択比を十分確保することが難しいことから、下層の導電膜がエッチングされ、良好な電気的導通が得られなくなるといった課題もあった。また、ドライエッチング時にフォトレジストが硬化し、エッチング後フォトレジストが除去しにくくなるといった課題もあった。
【０００６】
本発明は前記課題に鑑みてなされたもので、ドライエッチングを不要にすることによって真空装置も不要にし、これによりコスト低減化を可能にするとともに、良好な形状のコンタクトホール形成を可能とする、コンタクトホールの形成方法とこれによって得られたコンタクトホール、およびこのコンタクトホールを備えた電子デバイス、液晶パネル、電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するため本発明者等は、第１導電部と第２導電部とを導通させるためのコンタクトホールの形成方法として、特にドライエッチングを必要とせず、したがって真空装置を不要とする形成方法を考えた。
この形成方法は、図１０（ａ）に示すように基板１上の第１導電部２上にマスク材３を形成し、次に、図１０（ｂ）に示すように前記マスク材３の部分を除いた基板１上に、第１導電部２上を覆った状態で、かつ前記マスク材に接した状態に絶縁膜形成用の液状体４を配し、続いて液状体４を乾燥して絶縁膜４ａとした後、図１０（ｃ）に示すようにマスク材３を除去することにより、コンタクトホール５を形成する方法である。
【０００８】
この方法によれば、従来のようにコンタクトホール形成するために絶縁膜をドライエッチングする必要がなく、したがって高価な真空装置を必要としないため、コンタクトホールの形成を安価にしかも迅速に行なうことができるなど効果を奏する。
ところが、前記の方法では、図１０（ｂ）に示したように液状体４を配してこれの薄膜を形成した際、特に膜厚が比較的小さい膜（薄い膜）を形成した場合に、形成される膜が図１１（ａ）に示すようにマスク材３と接する部分において外側（上側）に盛り上がったメニスカス形状となってしまう。したがって、そのまま乾燥して絶縁膜４ａとし、マスク材３を除去してコンタクトホール５を形成すると、図１１（ｂ）に示すようにコンタクトホール５の周辺部にメニスカス形状がそのまま残ってしまい、尖鋭な（鋭角の）縁部６が外表面側に盛り上がってしまうことがある。
【０００９】
すると、（１）均一な厚さの絶縁膜４ａの形成が困難になる。（２）前記縁部６によってこれの上に積層される他の膜が損傷を受ける。（３）この積層される膜との間の密着性が低下する。（４）上層配線（膜）との間で短絡が起こる。（５）前記縁部６が欠けてパーティクルとなり、特性低下をもたらす。などの問題が生じてしまう。
【００１０】
そこで、前記目的を達成すると同時にこのような問題も解消するため、本発明のコンタクトホールの形成方法は、絶縁膜を介して設けられる第１導電部と第２導電部とを導通させる導電性材料を、埋設するためのコンタクトホールの形成方法であって、
前記第１導電部上のコンタクトホールの形成領域にマスク材を設けるマスク材形成工程と、
前記基板上の少なくとも前記第１導電部を形成した位置に、前記マスク材の形成位置を除いた前記第１導電部上を覆った状態で、かつ前記マスク材に接した状態に、絶縁膜形成用の液状体を配する液状体配置工程と、
前記液状体配置工程で基板上に配置した液状体を乾燥し、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記マスク材を除去して前記絶縁膜にコンタクトホールを形成するマスク材除去工程と、を有してなり、
前記絶縁膜形成用の液状体として、前記マスク材に対する接触角が９０°以上であるものを用いることを特徴としている。
【００１１】
このコンタクトホールの形成方法によれば、コンタクトホールの形成領域にマスク材を設け、その周囲に絶縁膜を形成した後、マスク材を除去してコンタクトホールを形成するので、従来のようにコンタクトホール形成するために絶縁膜をドライエッチングする必要がなくなり、したがって高価な真空装置を必要としないため、コンタクトホールの形成を安価にしかも迅速に行なうことが可能になる。
また、絶縁膜形成用の液状体として、前記マスク材に対する接触角が９０°以上であるものを用いるので、この液状体を配した際に該液状体のマスク材への接触部分が外側（上側）に大きく盛り上がることなく、ほぼ平坦な状態で接するようになる。したがって、この状態で乾燥し、絶縁膜を形成した後マスク材を除去してコンタクトホールを形成することにより、得られたコンタクトホールの周辺部は尖鋭な（鋭角の）縁部となって外表面側に盛り上がることがなく、絶縁膜の表面に沿ってほぼ平坦に形成される。よって、尖鋭な（鋭角の）縁部が形成されることによる前記の（１）〜（５）に挙げたような問題が解消される。
【００１２】
また、前記コンタクトホールの形成方法においては、前記液体配置工程における雰囲気温度が０〜４００℃であるのが好ましい。
このようにすれば、絶縁膜形成工程において熱処理が必要な場合であっても、コンタクトホールの周辺部が尖鋭な（鋭角の）縁部となるのをより効果的に防止することができる。
【００１３】
また、前記コンタクトホールの形成方法においては、前記マスク材形成工程の後、得られたマスク材の表面部を撥液処理する撥液処理工程を有しているのが好ましい。
このようにすれば、液状体のマスク材に対する接触角が大きくなってこれが９０°以上になり易くなることから、コンタクトホールの周辺部が尖鋭な（鋭角の）縁部となるのをより効果的に防止することができるとともに、液状体の選択自由度が大きくなる。
【００１４】
また、前記コンタクトホールの形成方法においては、前記マスク材は、前記液状体と接触する表面部の表面自由エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以下のものであるのが好ましい。
このようにすれば、液状体のマスク材に対する接触角が大きくなってこれが９０°以上になり易くなることから、コンタクトホールの周辺部が尖鋭な（鋭角の）縁部となるのをより効果的に防止することができるとともに、液状体の選択自由度も大きくなる。
【００１５】
また、前記コンタクトホールの形成方法においては、前記マスク材が、芯部と、該芯部の表面側に設けられた表面層とを有してなるものであってもよい。
このようにすれば、芯部の構成材料の特性を生かしつつ、コンタクトホールの周辺部が尖鋭な（鋭角の）縁部となるのを防止することができる。
【００１６】
なお、このコンタクトホールの形成方法においては、前記表面層が、含フッ素化合物及び／又はシリコン系化合物を主成分として形成された撥液膜であるのが好ましい。
このようにすれば、コンタクトホールの周辺部が尖鋭な（鋭角の）縁部となるのをより効果的に防止することができるとともに、マスク材の安定性および信頼性が向上する。
【００１７】
また、このコンタクトホールの形成方法においては、前記撥液膜が、プラズマ重合により形成されたものであってもよい。
このようにすれば、芯部と表面層との密着性が特に優れたものとなり、マスク材の安定性および信頼性がより向上する。
【００１８】
また、このコンタクトホールの形成方法においては、前記撥液膜が、気相成膜法により形成されたものであってもよい。
このようにしても、芯部と表面層との密着性が特に優れたものとなり、マスク材の安定性および信頼性がより向上する。
【００１９】
また、このコンタクトホールの形成方法においては、前記撥液膜が、塗布法により形成されたものであってもよい。
このようにすれば、マスク材の形成が容易になる。
【００２０】
また、前記コンタクトホールの形成方法においては、前記液状体が溶液あるいは分散液であり、該溶液あるいは分散液を形成する溶媒あるいは分散媒が、５０ｍＮ／ｍ以上の表面張力を有するものであるのが好ましい。
このようにすれば、コンタクトホールの周辺部が尖鋭な（鋭角の）縁部となるのをより効果的に防止することができる。
【００２１】
なお、このコンタクトホールの形成方法においては、前記溶媒あるいは分散媒が水であるのが好ましい。
このようにすれば、液状体がより安価で取り扱い易いものとなる。
【００２２】
また、本発明のコンタクトホールは、前記の方法によって得られたことを特徴としている。
このコンタクトホールによれば、前述したように安価にしかも迅速に形成されたものとなり、さらに、その周辺部に尖鋭な（鋭角の）縁部が形成されないことにより、前記の（１）〜（５）に挙げたような問題が生じないものとなる。
【００２３】
また、本発明の電子デバイスは、前記のコンタクトホールを備えたことを特徴としている。
この電子デバイスによれば、安価にかつ迅速に形成され、しかも前記（１）〜（５）に挙げたような問題が生じないコンタクトホールを備えているので、コストの低減化および信頼性の向上が図られたものとなる。
【００２４】
また、本発明の液晶パネルは、前記のコンタクトホールを備えたことを特徴としている。
この液晶パネルによれば、安価にかつ迅速に形成され、しかも前記（１）〜（５）に挙げたような問題が生じないコンタクトホールを備えているので、コストの低減化および信頼性の向上が図られたものとなる。
【００２５】
また、本発明の電子機器は、前記のコンタクトホールを備えたことを特徴としている。
この電子機器によれば、安価にかつ迅速に形成され、しかも前記（１）〜（５）に挙げたような問題が生じないコンタクトホールを備えているので、コストの低減化および信頼性の向上が図られたものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を詳しく説明する。 
まず、本発明のコンタクトホールの形成方法の一実施形態を、図１（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。
まず、図１（ａ）に示すように基板１０を用意し、この基板１０上に金属やシリコン等の導電性材料による第１導電部１１を形成しておく。基板１０の形成材料としては、特に限定されることなく任意のものが使用可能である。具体的には、石英ガラス、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、各種低誘電率材料（いわゆる、ｌｏｗ−Ｋ材）等の各種絶縁材料（誘電体）や、シリコン（例えば、アモルファスシリコン、多結晶シリコン等）、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、アンチモンティンオキサイド（ＡＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ等の導電性材料を用いることができる。また、このような基板１０の上に、各種の絶縁膜等からなる下地膜を形成して用いてもよい。
【００２７】
「マスク材形成工程」
次に、前記第１導電部１１上の所定位置、すなわちコンタクトホールの形成領域に、図１（ｂ）に示すようにマスク材１２を設ける。このマスク材１２は、目的とするコンタクトホールに対応した寸法・形状のもので、特にこのコンタクトホールを有した状態に形成される層間絶縁膜の厚さより十分に高い高さに形成される。このようなマスク材１２の形成方法としては、特に限定されることなく任意の方法が採用可能であるが、例えばマスク材１２の形成材料としてレジスト等の感光性材料を用いた場合では、この感光性材料を第１導電部１１を覆った状態に設け、続いて遮光マスクを用いてこれを露光処理し、さらにアルカリ液などの現像液によって現像することにより、図１（ｂ）に示したように柱状のマスク材１２を得る。
【００２８】
ここで、このマスク材１２としては、後述するようにこのマスク材１２に接した状態に配置され、さらに乾燥によって絶縁膜とされる液状体が、このマスク材１２に対してその接触角が９０°以上となるように、その表面が比較的大きな撥液性を有したものとなるように形成される。なお、マスク材１２に対する液状体の接触角とは、図１２に示すように、マスク材１２の表面と同じ表面を有する水平面Ｘを形成し、この水平面Ｘに対して対象となる液状体の液滴Ｙを配したときの、液滴Ｙの水平面Ｘに対する静的接触角θが、本発明でいうところの接触角とされる。そして、本発明では、この接触角θが９０°以上となるように規定されているのである。
【００２９】
マスク材１２と液状体との接触角は、液状体の組成、マスク材１２の組成およびその表面形状（表面性状）や、これらの温度等、各種条件に依存するものであり、これらを適宜選択することにより、前述したような関係（接触角θ≧９０°）を満足するようになる。そして、前記関係を満足させるためのマスク材１２側の条件としては、特に、後述する液体配置工程において液状体と接触する表面部の表面自由エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以下であるのが好ましく、１５ｍＮ／ｍ以下であるのがより好ましい。
【００３０】
このような条件を満足する材料としては、含フッ素化合物やシリコン系化合物からなる撥液性材料、具体的にはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体等の含フッ素系樹脂、含フッ素系界面活性剤（炭化水素系界面活性剤の疎水基の水素原子をフッ素原子で全部あるいは一部置換したもの。）等の含フッ素化合物、アルキル系シランカップリング剤（一般式：Ｙ−ＳｉＸ３［ただし、Ｙ：有機官能基全般、特にアルキル基 ＣＨ３−（ＣＨ２）ｎ−、Ｘ：加水分解性基（−ＯＲ、−Ｃｌ、−ＮＲ２等）］、含フッ素シランカップリング剤（シランカップリング剤を形成する有機官能基の水素原子をフッ素原子で全部あるいは一部置換したもの。）等のシリコン系化合物、など撥液性材料が挙げられる。このような撥液性材料によってマスク材１２の少なくとも表層部を形成すれば、前述したような関係（接触角θ≧９０°）がより得易くなる。
【００３１】
すなわち、前述した関係を得るためには、マスク材１２として、特にその表層部のみを撥液性にしておけば、このマスク材１２に接する液状体の接触角がより大きくなり、結果として９０°以上になり易くなる。そこで、マスク材１２の形成方法としては、前述したように感光性材料を露光・現像することでパターニングし、この感光性材料パターンをそのままマスク材１２とする以外にも、図１（ｂ）に示すように芯部１２ａを形成し、その後、この芯部１２ａに対して撥液処理を施し、芯部１２ａの表面側に撥液性の表面層１２ｂ、すなわち撥液膜を形成するといった方法を採用することもできる。
芯部１２ａの形成材料としては、特に限定されないものの、例えばノボラック系樹脂や、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、エポキシ系樹脂等が好適に用いられ、特に一般的なレジスト材料としての感光性樹脂が好適に用いられる。なお、アルミニウムやクロム、銅、銀、金、タンタル、タングステン、インジウム、スズ、亜鉛等の金属材料、前記金属材料の酸化物、窒化物、合金等を用いることもできる。
【００３２】
撥液処理としては、例えば前記の撥液性材料によって表面層１２ｂを形成する方法が好適に採用される。このような方法によれば、芯部１２ａを形成した後、これに撥液処理を施すことにより、芯部１２ａの形成材料の特性、例えば機械的強度や加工性（加工のし易さ）、第１導電部１１との密着性等を十分に活かされるようになる。また、表面層１２ｂが前記撥液性材料によって形成されることにより、この表面層１２ｂは含フッ素化合物及び／又はシリコン系化合物を含む材料で形成されたものとなり、したがって前述したような関係（接触角θ≧９０°）がより得やすくなる。
【００３３】
また、撥液膜となる表面層１２ｂの形成方法としては、前記の撥液性材料を用いた撥液処理方法を含め、従来公知の各種の手法が採用可能である。具体的には、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、イオンプレーティング等の気相成膜法（乾式めっき法）、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法、溶射、金属箔の接合や、表面層１２ｂの形成材料に対応する前駆体（モノマー、ダイマー、トリマー、オリゴマー、プレポリマー等）を芯部１２ａ上で重合反応（特に、プラズマ重合）させる方法等が挙げられる。
【００３４】
中でも、気相成膜法（特に、各種化学蒸着法や真空蒸着法）で表面層６２を形成した場合、芯部１２ａと表面層１２ｂとの密着性が特に優れたものとなり、得られるマスク材１２の信頼性が向上する。また、塗布法（特に、スピンコート、ディップコート）で表面層１２ｂを形成した場合には、比較的容易にマスク材１２を形成することができる。また、プラズマ重合によって表面層１２ｂを形成した場合、芯部１２ａと表面層１２ｂとの密着性が特に優れたものとなり、マスク材１２の信頼性を向上することができる。
なお、プラズマ重合を採用する場合、より詳しくは、以下のような方法によって表面層１２ｂを形成することができる。すなわち、四フッ化炭素等のフッ素原子を含むガスを大気圧プラズマにより分解して活性なフッ素原子（フッ素単原子）やフッ素イオン（以下、これらを総称して「活性フッ素」とも言う）を発生させ、この活性フッ素に、芯部１２ａを晒すことにより、芯部１２ａ上に表面層１２ｂを形成することができる。
【００３５】
このような表面層１２ｂの形成は、第１導電部１１上に芯部１２ａを形成した後に行うものであり、したがって芯部１２ａの外表面、すなわち側面および上面に表面層１２ｂが形成される。ここで、芯部１２ａの上面に形成される表面層１２ｂは、後工程において液状体を配した際、液状体がこの芯部１２ａの上に載ってしまうのを防ぐものとして機能する。
なお、表面層１２ｂの形成材料（またはその前駆体）としては、芯部１２ａとの親和性に優れ、かつ、基板１０や第１導電部１１との親和性に劣るもの、例えば、フッ素プラズマ重合膜を用いるのが好ましい。このように芯部１２ａに対して選択的に親和する材料および手法を採用することにより、芯部１２ａの外表面に選択的に表面層１２ｂを形成することができるとともに、基板１０の外表面や第１導電部１１の外表面に表面層１２ａの形成材料による被膜が形成されるのを防止することができる。
ただし、芯部１２ａの外表面と、基板１０の外表面および第１導電部１１の外表面に、表面層１２ｂの形成材料による被膜を形成し、その後、基板１０の外表面および第１導電部１１の外表面に形成された被膜を選択的にエッチングすることで除去し、芯部１２ａの外表面にのみ前記被膜を残してこれを表面層１２ｂとしてもよい。
【００３６】
また、マスク材１２の形成方法としては、前記した方法以外にも、例えば一般的なフォトリソグラフィー法による手法を採用することもできる。すなわち、マスク材１２の形成材料を前述したような各種の成膜法で成膜し、さらにこの上にレジスト層を形成し、このレジスト層をフォトリソグラフィー法、エッチング法によってパターニングしてレジストパターンを形成し、その後、このレジストパターンを用いて前記のマスク材１２の形成材料からなる膜をパターニングすることにより、マスク材１２を形成することができる。このような形成方法によれば、特に微細形状のマスク材１２を容易かつ確実に形成することができる。
【００３７】
さらに、マスク材１２の形成方法としては、マスク材１２の形成材料を前述したような各種の成膜法で成膜した後、得られた膜の一部を除去することによって所望のパターンからなるマスク材１２としてもよい。膜の一部を除去する方法としては、例えば前記膜の除去したい部位に、紫外線やＮｅ−Ｈｅレーザー、Ａｒレーザー、ＣＯ２レーザー、ルビーレーザー、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザー、ＹＶＯ４レーザー、エキシマレーザー等の各種レーザーを照射する方法が挙げられる。
【００３８】
「液状体配置工程」
このようにしてマスク材１２を形成したら、図１（ｃ）に示すように前記基板１０上の、前記マスク材１２の形成位置を除いた位置、すなわちマスク材１２の形成位置を除いた基板１０上の全面に、層間絶縁膜形成用の液状体１３を配する。この層間絶縁膜形成用の液状体１３としては、前記マスク材１２に対する接触角（表層部１２ｂを形成した場合にはこの表層部１２ｂに対する接触角）が９０°以上、すなわち、前述したように図１２に示した状態での接触角θが９０°以上であるものを用いる。
【００３９】
このような接触角で液状体１３がマスク材１２に接触すると、マスク材１２に接する部分の液状体１３の液面形状が、マスク材１２の側面に沿って盛り上がることなく、図２（ａ）に示すようにマスク材１２の側面に沿って凹んだ形状となったり、あるいは図２（ｂ）に示すようにほぼ水平な状態となる。すなわち、図１２に示した状態で接触角θが９０°以上、好ましくは９０°以上１２０°以下であれば、図２（ａ）または図２（ｂ）では液状体１３はその自重によって接触部分が、図１２に示した状態に比べさらに下方に向かうようになり、その結果、マスク材１２に接する部分の液状体１３の液面形状はマスク材１２の側面に沿って盛り上がることなく、むしろ図２（ａ）に示したように凹む傾向となるのである。
【００４０】
なお、接触角θの好ましい範囲の上限値を１２０°としたのは、これより大きくなると、図２（ａ）に示したような液状体１３の液面形状の、マスク材１２の側面に接する部分の凹みが大きくなり、得られる層間絶縁膜の平坦性が損なわれるおそれがあるからである。ただし、マスク材１２の側面に接する部分がある程度の凹みを形成することは、後述するようにマスク材１２を除去してコンタクトホールを形成した際、このコンタクトホールの開口部が前記凹みによって拡がっていることで、内部への導電性材料の埋め込み性を良好にするといった作用を奏するため、好ましい。
【００４１】
このような液状体１３としては、少なくとも、これから形成される層間絶縁膜の形成材料またはその前駆体（以下、これらを総称して「層間絶縁膜の形成材料」とも言う。）を含むものであれば、特に限定されることはないものの、層間絶縁膜の形成材料が溶媒中に溶解した溶液、あるいは層間絶縁膜の形成材料が分散媒中に分散した分散液であるのが好ましい。このような溶液あるいは分散液とすることにより、溶媒あるいは分散媒を適宜選択することによって液状体１３の粘度や表面張力（表面自由エネルギー）等の特性を容易に調整することができるからである。
【００４２】
このように液状体１３が溶液あるいは分散液である場合、その溶媒あるいは分散媒としては、液状体１３を基板１０上に配する条件下において、表面張力（表面自由エネルギー）が５０ｍＮ／ｍ以上であるのが好ましく、５０〜７５ｍＮ／ｍであるのがより好ましい。このようなものを用いることにより、液状体１３のマスク材１２に接する部分での液面形状が、マスク材１２の側面に沿ってメニスカス状に盛り上がることがより確実に抑えられるからである。
また、このような液状体１３の溶媒あるいは分散媒としては、水を用いるのが好ましい。このようにすれば、マスク材１２に対する接触角を９０°以上に調整し易くなり、また、液状体１３がより安価で取り扱い易いものとなるからである。
また、水を分散媒として用いる場合、例えば層間絶縁膜の形成材料として絶縁材料のナノ微粒子（５ｎｍ〜１００ｎｍ）を用い、これを水中に分散させた分散液を用いることができる。この分散媒は、例えばレジストからなるマスク材に対して、その接触角が１１０°であった。
【００４３】
液状体１３を基板１０上に配置する方法としては、例えばディッピング、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法が挙げられるが、いわゆるインクジェットプリンタのプリンタヘッドのような定量吐出装置によって行うこともできる。この定量吐出装置を用いれば、所望の部分にだけ塗布することが可能であるので、材料を節減することができる。
また、本工程における雰囲気温度としては、０〜４００℃とするのが好ましく、２０〜３５０℃とするのがより好ましい。このようにすれば、絶縁膜形成工程において熱処理が必要な場合であっても、液状体１３のマスク材１２に接する部分での液面形状が、マスク材１２の側面に沿ってメニスカス状に盛り上がることが抑えられるからである。
また、本工程は、酸化性雰囲気、還元性雰囲気、不活性雰囲気等、いかなる雰囲気下で行うものであってもよい。
【００４４】
「絶縁膜形成工程（液状体１３の薄膜化（固化）工程）」
次いで、前記液状体１３を乾燥し、図１（ｄ）に示すようにその固形分である層間絶縁膜の形成材料を固化して層間絶縁膜１３ａを形成する。
このような層間絶縁膜１３ａの形成方法としては、液状体１３が配置された基板１０を加熱処理することによって行うが、必要に応じて基板１０を減圧（真空）下に置き、加熱処理と減圧乾燥処理とを併用するようにしてもよい。
基板１０上の液状体１３の加熱処理温度としては、液状体１３の材料やその組成によっても異なるものの、２５〜９００℃程度とするのが好ましく、６０〜５００℃程度とするのがより好ましい。また、加熱処理の処理時間としては、やはり液状体１３の材料やその組成によっても異なるものの、１〜９０分程度とするのが好ましく、２〜６０分程度とするのがより好ましい。
【００４５】
また、前記の加熱熱処理は、異なる条件で２回以上に分けて行うようにしてもよい。例えば、液状体１３中に含まれる溶媒あるいは分散媒の除去を主目的とする、比較的低温（例えば２５〜１５０℃程度）での第１の熱処理を行い、その後、非酸化性雰囲気下（不活性雰囲気下）で、焼成、焼結を主目的とする、比較的高温（例えば、２００〜５００℃程度）での第２の熱処理を行ってもよい。このように複数回の熱処理を行うことにより、例えば層間絶縁膜１３ａの形成材料が高温での加熱処理を必要とする場合に、高温によるマスク材１２の変形を抑えることができ、したがって得られるコンタクトホールの形状変化を防止することができる。
【００４６】
「マスク材除去工程」
次いで、前記マスク材１２を除去し、図１（ｅ）に示すように前記層間絶縁膜１３ａにコンタクトホール１４を形成する。マスク材１２の除去方法としては、特に限定されることなく従来公知の種々の方法が採用可能である。具体的には、酸素プラズマやオゾンを用いた大気圧下または減圧下でのアッシング法、紫外線やＮｅ−Ｈｅレーザー、Ａｒレーザー、ＣＯ２レーザー、ルビーレーザー、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザー、ＹＶＯ４レーザー、エキシマレーザー等の各種レーザーの照射法、有機溶剤あるいは無機溶液を用いたマスク材１２の溶解または分解による方法などが採用可能である。
【００４７】
このようにしてマスク材１２を除去すると、基板１０上の層間絶縁膜１３ａには、マスク材１２の大きさ・形状に対応したコンタクトホール１４が、第１導電部１１の表面に通じた状態で形成される。すると、前述したように液状体１３を配した際に、これのマスク材１２に接する部分での液面形状が、マスク材１２の側面に沿ってメニスカス状に盛り上がることなく配置され、さらにその状態で乾燥されて固化され、層間絶縁膜１３ａが形成されているので、この層間絶縁膜１３ａに形成されたコンタクトホール１４は、その周辺部が尖鋭な（鋭角の）縁部となって外表面側に盛り上がることがなく、層間絶縁膜１３ａの表面に沿ってほぼ平坦に形成される。よって、尖鋭な（鋭角の）縁部が形成されることによる前記の（１）〜（５）に挙げたような問題が解消されたものとなる。
また、コンタクトホール１４の形成のために、従来のように層間絶縁膜１３ａをドライエッチングする必要がないことから、特に高価な真空装置が必須とならず、したがってコンタクトホール１４の形成を安価にしかも迅速に行なうことができる。
【００４８】
このようにしてコンタクトホール１４を形成したら、従来と同様にしてコンタクトホール１４内に導電性材料を埋め込んでプラグを形成し、さらにこのプラグに接するようにして前記層間絶縁膜１３ａ上に上層配線層を形成することにより、前記コンタクトホール１４内のプラグを介して下層配線層（第１導電層１１）と上層配線層（第２導電層）とを電気的に接続させる。
【００４９】
次に、前述したような本発明のコンンタクトホールの形成方法を適用して得られる電子デバイスとしての液晶パネルと、この液晶パネルの製造方法（液晶パネルを構成するＴＦＴ（薄膜トランジスタ）の形成方法）について説明する。
図３は、本発明の液晶パネルの一実施形態を示す模式的な縦断面図、図４は、図３に示した液晶パネルの薄膜トランジスタ近傍の拡大断面図である。
図３に示すように、液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）１００は、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）２０と、ＴＦＴ基板２０に接合された配向膜２１と、液晶パネル用対向基板４０と、液晶パネル用対向基板４０に接合された配向膜４１と、配向膜２１と配向膜４１との空隙に封入された液晶よりなる液晶層６０と、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）２０の外表面側（配向膜２１と対向する面とは反対の面側）に接合された偏光膜２２と、液晶パネル用対向基板４０の外表面側（配向膜４１と対向する面とは反対の面側）に接合された偏光膜４２とを有している。
【００５０】
液晶層６０は、主として液晶分子で構成されている。この液晶層６０を構成する液晶分子としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶など配向し得るものであればいかなる液晶分子を用いても構わないが、ＴＮ型液晶パネルの場合、ネマチック液晶を形成させるものが好ましく、例えば、フェニルシクロヘキサン誘導体液晶、ビフェニル誘導体液晶、ビフェニルシクロヘキサン誘導体液晶、テルフェニル誘導体液晶、フェニルエーテル誘導体液晶、フェニルエステル誘導体液晶、ビシクロヘキサン誘導体液晶、アゾメチン誘導体液晶、アゾキシ誘導体液晶、ピリミジン誘導体液晶、ジオキサン誘導体液晶、キュバン誘導体液晶等が挙げられる。さらに、これらネマチック液晶分子にモノフルオロ基、ジフルオロ基、トリフルオロ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基などのフッ素系置換基を導入した液晶分子も含まれる。
【００５１】
液晶層６０の両面には、配向膜２１、４１が配置されている。これら配向膜２１、４１は、液晶層２を構成する液晶分子の（電圧無印加時における）配向状態を規制する機能を有したものである。このような配向膜２１、４１は、通常、主にポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルアルコール、ポリテトラフルオロエチレン等の高分子材料で構成されたものである。前記高分子材料の中でも特に、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂が好ましい。配向膜２１、４１が、主にポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂で構成されたものであれば、製造工程において簡便に高分子膜を形成できるとともに、耐熱性、耐薬品性などに優れた特性を有するものとなる。
【００５２】
また、配向膜２１、４１としては、通常、前記のような材料で構成された膜に、液晶層６０を構成する液晶分子の配向を規制する配向機能を付与するための処理が施されたものが用いられる。配向機能を付与するための処理法としては、例えば、ラビング法、光配向法等が挙げられる。
ラビング法は、ローラ等を用いて、膜の表面を一定の方向に擦る（ラビングする）方法である。このような処理を施すことにより、膜はラビングした方向に異方性を有するものとなり、液晶層を構成する液晶分子の配向方向を規制することが可能となる。
光配向法は、直線偏光紫外線等の光を膜の表面付近に照射することにより、膜を構成する高分子のうち、特定方向を向いている分子のみを選択的に反応させる方法である。このような処理を施すことにより、膜は異方性を有するものとなり、液晶層を構成する液晶分子の配向方向を規制することが可能となる。
【００５３】
前記のような配向処理は、通常、基板（マイクロレンズ基板５０とブラックマトリックス４３との接合体、ＴＦＴ基板２０）上に形成された電極（透明導電膜４４、画素電極２３）の表面に、前記材料で構成された膜を形成した後、該膜に対して施される。電極上に成膜を行う方法としては、例えばディッピング、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法、溶射法、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、イオンプレーティング等の乾式めっき法等が挙げられるが、中でもスピンコート法が好ましい。スピンコート法を用いることにより、均質で均一な厚さの膜を、容易かつ確実に形成することができる。
【００５４】
このような配向膜は、その平均厚さが２０〜１２０ｎｍであるのが好ましく、３０〜８０ｎｍであるのがより好ましい。
配向膜の平均厚さが前記下限値未満であると、配向膜に十分な配向機能を付与するのが困難になる可能性がある。一方、配向膜の平均厚さが前記上限値を超えると、駆動電圧が高くなり、消費電力が大きくなる可能性がある。
【００５５】
液晶パネル用対向基板４０は、マイクロレンズ基板５０と、このマイクロレンズ基板５０の表層５１上に設けられ、開口５２が形成されたブラックマトリックス４３と、表層５１上にブラックマトリックス４３を覆うように設けられた透明電極（共通電極）４４とを有している。
マイクロレンズ基板５０は、凹曲面を有する複数（多数）の凹部（マイクロレンズ用凹部）５３が設けられたマイクロレンズ用凹部付き基板５４と、このマイクロレンズ用凹部付き基板５４の凹部５３が設けられた面に樹脂層（接着剤層）５５を介して接合された表層５１とを有しており、また、樹脂層５５では、凹部５３内に充填された樹脂によりマイクロレンズ５６が形成されている。
【００５６】
マイクロレンズ用凹部付き基板５４は、平板状の母材（透明基板）より製造され、その表面には、複数（多数）の凹部５３が形成されている。凹部５３は、例えば、マスクを用いた、ドライエッチング法、ウェットエッチング法等により形成することができる。
このマイクロレンズ用凹部付き基板５４は、例えば、石英ガラス等のガラスやポリエチレンテレフタレート等のプラスチック材料等で構成されている。
【００５７】
前記母材の熱膨張係数は、後述するガラス基板２４の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）であることが好ましい。これにより、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。
このような観点からは、マイクロレンズ用凹部付き基板５４とガラス基板２４とは、同種類の材質で構成されているのが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違による反り、撓み、剥離等が効果的に防止される。
【００５８】
特に、マイクロレンズ基板５０を高温ポリシリコンＴＦＴ液晶パネル（ＨＴＰＳ）に用いる場合には、マイクロレンズ用凹部付き基板５４は、石英ガラスで構成されているのが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。このようなＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好適に用いられている。このため、これに対応させて、マイクロレンズ用凹部付き基板５４を石英ガラスで形成することにより、反り、撓み等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。
【００５９】
マイクロレンズ用凹部付き基板５４の上面には、凹部５３を覆う樹脂層（接着剤層）５５が設けられている。凹部５３内には、樹脂層５５の形成材料が充填されることにより、マイクロレンズ５６が形成されている。
樹脂層５５は、例えば、マイクロレンズ用凹部付き基板５４の形成材料の屈折率より高い屈折率の樹脂（接着剤）で形成することができ、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリルエポキシ系のような紫外線硬化樹脂等で好適に形成することができる。
【００６０】
樹脂層５５の上面には、平板状の表層５１が設けられている。
表層（ガラス層）５１は、例えばガラスで構成することができる。この場合、表層１１４の熱膨張係数は、マイクロレンズ用凹部付き基板５４の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）とすることが好ましい。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板５４と表層５１との熱膨張係数の差により生じる反り、撓み、剥離等が防止される。このような効果は、マイクロレンズ用凹部付き基板５４と表層５１とを同種類の材料で構成すると、より効果的に得られる。
【００６１】
表層５１の厚さは、マイクロレンズ基板５０が液晶パネルに用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、５〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは１０〜１５０μｍ程度とされる。なお、この表層５１は、例えばセラミックスで形成することもできる。セラミックスとしては、例えば、ＡｌＮ、ＳｉＮ、ＴｉＮ、ＢＮ等の窒化物系セラミックス、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２等の酸化物系セラミックス、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＴａＣ等の炭化物系セラミックスなどが挙げられる。表層５１をセラミックスで構成する場合、表層５１の厚さは、特に限定されないが、２０ｎｍ〜２０μｍ程度とすることが好ましく、４０ｎｍ〜１μｍ程度とすることがより好ましい。なお、このような表層５１は、必要に応じて省略することができる。
【００６２】
ブラックマトリックス４３は、遮光機能を有し、例えばＣｒ、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ等の金属、カーボンやチタン等を分散した樹脂等で構成されている。
透明電極４４は、導電性を有し、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、アンチモンティンオキサイド（ＡＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）等で構成されている。
【００６３】
ＴＦＴ基板２０は、液晶層６０の液晶を駆動する基板であり、ガラス基板２４と、ガラス基板２４上に設けられた下地絶縁膜２５と、かかる下地絶縁膜２５上に設けられ、マトリックス状（行列状）に配設された複数（多数）の画素電極２３と、各画素電極２３に対応する複数（多数）の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）３０とを有している。なお、図３では、シール材、配線等の記載は省略した。
ガラス基板２４は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
【００６４】
下地絶縁膜２５の形成材料は、特に限定されないものの、例えばＳｉＯ２、ＴＥＯＳ（ケイ酸エチル）、ポリシラザン、ポリイミド、Ｌｏｗ−Ｋ材等を用いることができる。この下地絶縁膜２５は、シロキサン結合を有するＳＯＧ（Spin On Glass）などの液体絶縁材料をガラス基板２４に塗布し、これを焼成して加熱分解させて形成することができる。これにより、高価な真空装置などを使用する必要がなく、成膜に必要な投入エネルギーや時間などを節減することができる。液体絶縁材料の塗布は、例えば、スピンコート、ディップコート、液体ミスト化学堆積法（Liquid Source Misted Chemical Deposition：ＬＳＭＣＤ）、スリットコートなどにより行うことができる。また、液体絶縁材料の塗布は、いわゆるインクジェットプリンタのプリンタヘッドのような定量吐出装置によって行うこともできる。この定量吐出装置を用いれば、所望の部分にだけ塗布することが可能であるので、材料を節減することができる。
【００６５】
画素電極２３は、透明電極（共通電極）４４との間で充放電を行うことにより、液晶層２の液晶分子を駆動する（液晶の配向を変化させる）。この画素電極２３は、例えば前述した透明電極４４と同様の材料で構成されている。
薄膜トランジスタ３０は、近傍の対応する画素電極２３に接続されている。また、薄膜トランジスタ３０は、図示しない制御回路に接続され、画素電極２３へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極２３の充放電が制御される。
【００６６】
この薄膜トランジスタ３０は、図４に示すように、下地絶縁膜２５上に設けられ、チャネル領域３１ａとソース領域３１ｂとドレイン領域３１ｃとを備える半導体層３１と、半導体層３１を覆うように設けられたゲート絶縁膜３２、絶縁層３３と、ゲート絶縁膜３２を介してチャネル領域３１ａと対向するように設けられたゲート電極３４と、ゲート電極３４上方の絶縁層３３上に設けられた導電部３５と、ソース領域３１ｂ上方の絶縁層３３上に設けられ、ソース電極として機能する導電部３６と、ドレイン領域３１ｃ上方の絶縁層３３上に設けられ、ドレイン電極として機能する導電部３７と、ゲート電極（第１導電部）３４と導電部（第２導電部）３５とを電気的に接続するプラグ３８ａと、ソース領域（第１導電部）３１ｂと導電部（第２導電部）３６とを電気的に接続するプラグ３８ｂと、ドレイン領域（第１導電部）３１ｃと導電部（第２導電部）３７とを電気的に接続するプラグ３８ｃとを有している。
【００６７】
本実施形態では、下地絶縁膜２５上に、半導体層３１が設けられている。この半導体層３１は、例えば多結晶シリコン、アモルファスシリコン等のシリコン、ゲルマニウム、ヒ素化ガリウム等の半導体材料で構成されている。この半導体層３１には、チャネル領域３１ａとソース領域３１ｂとドレイン領域３１ｃとが形成されている。図４に示すように、半導体層３１は、チャネル領域３１ａの一方の側にソース領域３１ａが形成され、チャネル領域３１ａの他方の側にドレイン領域３１ｃが形成されている。
【００６８】
チャネル領域３１ａは、例えば真性半導体材料で構成されている。ソース領域３１ｂおよびドレイン領域３１ｃは、例えばリン等のｎ型不純物が導入（ドープ）された半導体材料で形成される。なお、半導体層３１はこのような構成に限定されることなく、例えばソース領域３１ｂおよびドレイン領域３１ｃは、ｐ型不純物が導入された半導体材料で形成されていてもよい。また、チャネル領域３１ａは、例えばｐ型またはｎ型不純物が導入された半導体材料で形成されていてもよい。
【００６９】
このような半導体層３１は、絶縁膜（ゲート絶縁膜３２、絶縁層３３）で覆われている。このような絶縁膜のうち、チャネル領域３１ａと導電部３５との間に介在している部分は、チャネル領域９３２０と導電部９３５６との間に生じる電界の経路となるゲート絶縁層として機能する。
ゲート絶縁膜３２、絶縁層３３の形成材料としては、特に限定されず、例えばＳｉＯ２、ＴＥＯＳ（ケイ酸エチル）、ポリシラザン等のケイ素化合物が用いられるが、これら以外にも、例えば樹脂やセラミックス等を用いることもできる。
絶縁層３３上には、導電部３５、導電部３６、および導電部３７が設けられている。
【００７０】
絶縁層３３のゲート電極３４が形成された領域内には、ゲート電極３４に連通するコンタクトホール３９ａが形成されており、導電部３５は、このコンタクトホール３９ａ内のプラグ３８ａを介して、ゲート電極３４に電気的に接続している。
また、ゲート絶縁膜３２および絶縁層３３のソース領域３１ｂが形成された領域内には、ソース領域３１ｂに連通するコンタクトホール３９ｂが形成されており、導電部３６は、このコンタクトホール３９ｂ内のプラグ３８ｂを介して、ソース領域３１ｂに電気的に接続している。同様に、ゲート絶縁膜３２および絶縁層３３のドレイン領域３１ｃが形成された領域内には、ドレイン領域３１ｃに連通するコンタクトホール３９ｃが形成されており、導電部３７は、このコンタクトホール３９ｃ内のプラグ３８ｃを介して、ドレイン領域３１ｃに電気的に接続している。
なお、前記のコンタクトホール３９ａ、３９ｂ、３９ｃは、後述するように、本発明のコンタクトホールの形成方法によって形成されたものである。
【００７１】
本実施形態の液晶パネル１００では、導電部３７は画素電極２３に電気的に接続されている。また、導電部３６は、図示しない部分において互いに電気的に接続されている。さらに、導電部３５は、他の回路に並列に接続可能となっている。
これら導電部３６、導電部３７、および導電部３５は、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、アンチモンティンオキサイド（ＡＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ等の導電性材料で構成されている。なお、これらの導電部上には、例えばＳｉＯ２、ＳｉＮ等の材料で形成されたパッシベーション膜（図示せず）が必要に応じて形成される。
【００７２】
図３に示したように、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）２０の外表面側（配向膜２１と対向する面とは反対の面側）には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）２２が配置されている。同様に、液晶パネル用対向基板４０の外表面側（配向膜４１と対向する面とは反対の面側）には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）４２が配置されている。
偏光膜２２、４２の形成材料としては、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）や、これにヨウ素をドープしたものなどが用いられる。
【００７３】
偏光膜としては、例えば、前記材料で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いることができる。このような偏光膜２２、４２を配置することにより、通電量の調節による光の透過率の制御をより確実に行うことができる。偏光膜２２、４２の偏光軸の方向は、通常、配向膜２１、４１の配向方向に応じて決定される。
このような液晶パネル１００では、通常、１個のマイクロレンズ５６と、このマイクロレンズ５６の光軸Ｑに対応したブラックマトリックス４３の１個の開口５２と、１個の画素電極２３と、この画素電極２３に接続された１個の薄膜トランジスタ３０とが、１画素に対応している。
【００７４】
液晶パネル用対向基板４０側から入射した入射光Ｌは、マイクロレンズ用凹部付き基板５４を通り、マイクロレンズ５６を通過する際に集光されつつ、樹脂層５５、表層５１、ブラックマトリックス４３の開口５２、透明電極４４、液晶層６０、画素電極２３、ガラス基板２４を透過する。このとき、マイクロレンズ基板５０の入射側に偏光膜４２が設けられているため、入射光Ｌが液晶層６０を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層６０の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル１００を透過した入射光Ｌを偏光膜２２に透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。
【００７５】
このように、液晶パネル１００は、マイクロレンズ５６を有しており、しかもマイクロレンズ５６を通過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス４３の開口５２を通過する。一方、ブラックマトリックス４３の開口５２が形成されていない部分では、入射光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１００では、画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。このため、液晶パネル１００は、画素部で高い光の透過率を有する。
【００７６】
この液晶パネル１００は、後述するような方法によって製造されたＴＦＴ基板２０と、液晶パネル用対向基板４０とにそれぞれ配向膜２１、４１を接合し、続いてシール材（図示せず）を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔（図示せず）から液晶を空隙部内に注入し、その後、前記封入孔を塞ぐことによって製造することができる。
【００７７】
次に、本発明のコンタクトホールの形成方法を適用した前記薄膜トランジスタ３０の形成方法の一例について、図５〜図８を参照して説明する。なお、以下の説明では、図５〜図８の上側を「上」、図５〜図８の下側を「下」として説明する。
まず、下地絶縁膜２５の上に半導体層（多結晶シリコン膜）３１を次のようにして形成する。下地絶縁膜２５の上に例えばフッ素樹脂膜などの撥液性の膜を形成する。そして、この撥液膜の素子形成領域に紫外線などを照射し、素子形成領域の撥液膜を分解除去してパターニングし、図５（ａ）に示すようにマスク（パターン形状制御マスク）７０を形成する。
【００７８】
次に、素子形成領域に液体水素化ケイ素（膜形成用の液体）を塗布して乾燥させ、さらに乾燥させた水素化ケイ素の膜を焼成して熱分解し、図５（ｂ）に示すようにマスク７０、７０間にアモルファスシリコン膜３１ｄを設ける。次いで、ガラス基板２４の全体に紫外線を照射してマスク（撥液バンク）７０を分解し、図５（ｃ）に示すようにこれを除去した後、アモルファスシリコン膜３１ｄにＸｅＣｌなどのエキシマレーザーを照射してアニールし、アモルファスシリコン膜３１ｄを多結晶化して半導体層（多結晶シリコン膜）３１とする。
【００７９】
その後、半導体層（多結晶シリコン膜）３１のチャネルドープを行う。すなわち、全面に適宜の不純物（例えば、ｎ型導電層を形成する場合はＰＨ３イオン）を打ち込んで拡散させる。この半導体層（多結晶シリコン膜）３１は、本発明における第１導電部となる。次に、半導体層（多結晶シリコン膜）３１を覆うようにして、液体有機材料であるフォトレジストを塗布する。そして、塗布したフォトレジストを７０〜９０℃の温度で乾燥（プレベーク）し、図５（ｄ）中２点鎖線に示すようにレジスト膜（マスク材膜）７１を形成する。なお、液体有機材料は、感光性の樹脂（例えば、ポリイミド）であってもよい。また、液体有機材料の塗布法としては、前記の液体絶縁材料の塗布法と同様に、スピンコート、ディップコート、ＬＳＭＣＤ、スリットコート、定量吐出装置による塗布法などを用いることができる。
【００８０】
次に、フォトリソグラフィー法によりレジスト膜７１を露光、現像し、第１導電部となる半導体層（多結晶シリコン膜）３１のソース領域３１ｂ、ドレイン領域３１ｃとなるべき領域上の、コンタクトホールの形成領域にのみレジストパターンを残す。そして、このレジストパターンに撥液処理を施し、図５（ｄ）中実線で示すようにコンタクトホール形成用のマスク材７１ａを形成する。
撥液処理としては、例えば四フッ化炭素などのフッ素原子を含むガスを大気圧プラズマによって分解して活性なフッ素単原子やイオンを生成し、この活性なフッ素に前記レジストパターンを晒すことによって行うことができる。なお、レジストパターンを、フッ素原子を含む撥液性のフォトレジストによって形成した場合には、その撥液処理は不要である。このようにして得られるマスク材７１ａとしては、図５（ｅ）に示すゲート絶縁膜３２を形成するための液状体、すなわちゲート絶縁膜３２の形成材料を含有する溶液または分散液の塗布厚と同等もしくは高く形成しておく。
【００８１】
また、これらマスク材７１ａについては、必要に応じて以下のような硬化処理を行ってもよい。
まず、マスク材７１ａを形成したガラス基板２４を図示しない真空チャンバに搬入し、真空チャンバ内を例えば１３３３ｋＰａ（１０Ｔｏｒｒ）以下に減圧する。そして、マスク材７１ａを所定の温度、例えば１００〜１３０℃程度の、通常のフォトレジストのポストベーク温度に加熱するとともに、マスク材７１ａに紫外線を照射する。これにより、マスク材７１ａは、溶存している水分が脱水されるとともに、紫外線により架橋反応が促進される。しかも、マスク材７１ａは、脱水されて水分の影響を受けないため、架橋反応が進んで緻密となり、耐熱性、耐薬品性が向上する。さらに、マスク材７１ａの硬化処理は、必要に応じてマスク材７１ａをポストベーク温度以上に加熱する熱処理を行う。この熱処理は、例えば３００℃〜４５０℃の温度で１０分間程度行う。これにより、非常に耐熱性、耐薬品性に優れたマスクとすることができ、各種の液体成膜材料（膜形成用の液体）の使用が可能となる。
【００８２】
その後、図５（ｅ）に示すように、マスク材７１ａが被覆された領域を除く半導体層３１上、および下地絶縁層２５上に、ゲート絶縁膜３２を形成する。このゲート絶縁膜３２の形成については、前述した液体絶縁材料による下地絶縁膜２５形成と同様にして行うことができる。ただし、ゲート絶縁膜３２の形成材料を含有する液状体（溶液あるいは分散液）については、マスク材７１ａに対してその接触角が９０°以上となるようなものを選択し、用いる。このような液状体を用いることにより、前述したようにマスク材７１ａに接する部分の液状体の液面形状が、マスク材７１ａの側面に沿って盛り上がることなく、マスク材７１ａの側面に沿って凹んだ形状となったり、あるいはほぼ水平な状態となる。したがって、形成されたゲート絶縁膜３２には、マスク材７１ａと接する部分に尖鋭な（鋭角の）縁部が形成されなくなる。
次いで、マスク材７１ａをアッシングして除去し、図６（ａ）に示すようにゲート絶縁膜３２を貫通してなる下部コンタクトホール３９ｄ、３９ｅを形成する。マスク材７１ａのアッシングについては、大気圧下または減圧下における酸素プラズマやオゾン蒸気によって行うことができる。
【００８３】
次に、ゲート絶縁膜３２を覆って撥液膜（図示せず）を形成する。さらに、該撥液膜にマスクを介して紫外線を照射し、チャネル領域３１ａと対応した位置にゲート電極用トレンチ３９ｆを形成し、開口部を有するマスク（パターン形状制御マスク）７２とする（５ｂ）。そして、有機金属化合物を主成分とする液状体パターン材料（膜形成用の液状体）をゲート電極用トレンチ３９ｆに配し、これを熱処理して図６（ｃ）に示すようにゲート電極３４を形成する。その後、マスク７２に紫外線を照射し、これを分解して図６（ｄ）に示すように除去する。
【００８４】
なお、液状体パターン材料については、ＬＳＭＣＤやスピンコート、スリットコートなどによってゲート電極用トレンチ３９ｆに配してもよいが、例えばインクジェットプリンタにおけるプリンタヘッドのような定量吐出装置により、ゲート電極用トレンチ３９ｆに選択的に配してもよい。これにより、液状体パターン材料の節約が図れるとともに、トレンチ周辺への液状体パターン材料の付着を防止することができ、また所望の厚さのゲート電極３４を容易に形成することができる。このゲート電極３４は、半導体層３１（ソース領域３１ｂ、ドレイン領域３１ｃ）とともに第１導電部となる。
【００８５】
次に、ゲート電極３４をマスクとして、ソース領域３１ｂとドレイン領域３１ｃとに不純物（例えば、ｐ型導電層を形成する場合にはＢ２Ｈ６イオン）の打ち込みを行う。これにより、図６（ｅ）に示すようにゲート電極３４の下部をチャネル領域３１ａとするＴＦＴ素子が得られる。その後、図７（ａ）に示すようにゲート絶縁膜３２上にマスク材であるレジスト膜７３を形成する。
さらに、フォトリソグラフィー法を用いてレジスト膜７３を露光、現像し、図７（ｂ）に示すようにコンタクトホール形成領域となる下部コンタクトホール３９ｄ、３９ｅと対応した位置、およびゲート電極３４上の所定位置に、レジスト膜７３からなるコンタクトホール形成用のマスク材７３ａを形成する。これらのマスク材７３ａのうち、半導体層（多結晶シリコン膜）３１のソース領域３１ｂに対応した位置のものは、下端部が下部コンタクトホール３９ｄを通ってソース領域３１ｂの上面に接している。同様に、マスク材７３ａのうち、半導体層（多結晶シリコン膜）３１のドレイン領域３１ｃに対応した位置のものは、下端部が下部コンタクトホール３９ｅを通ってドレイン領域３１ｃの上面に接している。マスク材７３ａには、必要に応じて前記マスク材７１ａと同様に、撥液処理や硬化処理を行う。
【００８６】
さらに、マスク材７３ａは、図７（ｂ）の右側に示してあるように、ゲート絶縁膜３２の上の部分が下部コンタクトホール３９ｅより大きくなるように形成してもよい。これにより、後述するように７３ａを除去して形成したコンタクトホールに段差が形成され（図７（ｄ）参照）、コンタクトホールのステップカバレッジが向上してコンタクトホール内での断線が防止されるからである。
【００８７】
次に、マスク７３ａが被覆された領域を除く、ゲート絶縁膜３２上およびゲート電極３２上に、図７（ｃ）に示すように二酸化ケイ素などからなる絶縁層３３を形成する。この絶縁層３３は、下地絶縁膜２５などと同様に、液状体絶縁材料（膜形成用の液状体）をＬＳＭＣＤやスピンコート、スリットコートなどによって塗布し、それを熱処理して形成することができる。これにより、形成される絶縁層３３の表面をより平坦なものとすることができる。なお、この液状体絶縁材料については、前述したゲート絶縁膜３２の形成材料を含有する液状体の場合と同様に、マスク材７３ａに対してその接触角が９０°以上となるようなものを選択し、用いる。このような液状体を用いることにより、前述したようにマスク材７３ａに接する部分の液状体の液面形状が、マスク材７３ａの側面に沿って盛り上がることなく、マスク材７３ａの側面に沿って凹んだ形状となったり、あるいはほぼ水平な状態となる。したがって、形成された絶縁層３３には、マスク材７３ａと接する部分に尖鋭な（鋭角の）縁部が形成されなくなる。
【００８８】
その後、マスク７３ａをアッシングして除去し、図７（ｄ）に示すように絶縁層３３に上部コンタクトホール（図示せず）を形成する。これにより、前記下部コンタクトホール３９ｄに上部コンタクトホールが連通してコンタクトホール３９ｂとなり、前記下部コンタクトホール３９ｅに上部コンタクトホールが連通してコンタクトホール３９ｃとなる。また、ゲート電極３４に通じる上部コンタクトホールが、コンタクトホール３９ａとなる。
【００８９】
次に、図示しない定量吐出装置を用いてコンタクトホール３９ａ、３９ｂ、３９ｃ内に有機金属化合物を主成分とした導電性液状体材料を供給する。その後、コンタクトホール３９ａ、３９ｂ、３９ｃ内の導電性液状体材料を焼成して固化する。これにより、図７（ｅ）に示すようにソース領域３１ｂに接続するプラグ３８ｂと、ドレイン領域３１ｃに接続するプラグ３８ｃと、チャネル領域３１ａに接続するプラグ３８ａとがそれぞれ形成される。コンタクトホール３９ａ、３９ｂ、３９ｃをそれぞれ完成させた後に、基板１０全体に紫外線を照射し、第１導電部となるソース領域３１ｂ、ドレイン領域３１ｃ、ゲート電極３１ａのプラグ形成領域を親液処理してもよい。このような親液処理を施すことにより、プラグ３８ａ、３８ｂ、３８ｃとの密着性、接合性を向上して電気抵抗を小さくすることができる。
【００９０】
さらに、図８（ａ）に示すように絶縁層３３を覆って撥液膜７４を形成する。そして、撥液膜７４に図示しないマスクを介して紫外線を照射し、図８（ｂ）に示すように開口部としての導電部用溝（配線溝）７５を有するマスク７６とする。その後、例えば透明導電膜となるＩＴＯを溶解または分散させた液状体配線材料（膜形成用の液体）を、定量吐出装置を用いて導電部用溝（配線溝）７５に配し、さらにこれを熱処理して図８（ｃ）に示すように導電部（第２導電部）３５、３６、３７を形成する。これにより、ソース領域（第１導電部）３１ｂがコンタクトホール３９ｂ内のプラグ３８ｂを介して導電部（第２導電部）３６と電気的に接続し、ドレイン領域（第１導電部）３１ｃがコンタクトホール３９ｃ内のプラグ３８ｃを介して導電部（第２導電部）３７と電気的に接続し、ゲート電極（第１導電部）３４がコンタクトホール３９ａ内のプラグ３８ａを介して導電部（第２導電部）３８ａと電気的に接続する。なお、導電部３７は画素電極２３に接続される。
さらに、マスク７６に紫外線を照射し、図８（ｄ）に示すようにこれを分解、除去する。その後、導電部３５、３６、３７を覆って二酸化ケイ素、窒化ケイ素（ＳｉＮ）等からなるパッシベーション膜（図示せず）を形成する。
【００９１】
このように本実施形態では、前述した本発明のコンタクトホールの形成方法を用いて、電子デバイスの一種である薄膜トランジスタ３０を形成している。したがって、得られた薄膜トランジスタ３０は、特にコンタクトホール３９ａ、３９ｂ、３９ｃの形成が安価でかつ迅速になされ、しかも前記の（１）〜（５）に挙げたような問題が解消された信頼性の高いものとなっているので、この薄膜トランジスタ３０自体が安価でしかも特性についての信頼性が高いものとなる。
なお、マスク材７１ａ、７３ａについては、図１に示した実施形態におけるマスク材１２と同様のものを用いることができ、もちろんこれを芯部１２ａと表面層１２ｂとによって構成することもできる。
【００９２】
次に、本発明の電子機器の一例として、前記液晶パネル１００を用いた投射型表示装置（液晶プロジェクター）について説明する。
図９は、本発明の電子機器（投射型表示装置）の光学系を模式的に示す図である。
図９に示すように、投射型表示装置３００は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）８４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）８５と、青色に対応した（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）８６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム（色合成光学系）８１と、投射レンズ（投射光学系）８２とを有している。
【００９３】
また、照明光学系は、インテグレータレンズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有している。
【００９４】
液晶ライトバルブ８５は、前述した液晶パネル１００を備えている。液晶ライトバルブ８４および８６も、液晶ライトバルブ８５と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ８４、８５および８６を備えている液晶パネル１００は、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
なお、投射型表示装置３００では、ダイクロイックプリズム８１と投射レンズ８２とで、光学ブロック２０が構成されている。また、この光学ブロック８０と、ダイクロイックプリズム８１に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ８４、８５および８６とで、表示ユニット８３が構成されている。
【００９５】
以下、投射型表示装置３００の作用を説明する。
光源３０１から出射された白色光（白色光束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグレータレンズ３０２および３０３により均一にされる。光源３０１から出射される白色光は、その光強度が比較的大きいものであるのが好ましい。これにより、スクリーン３２０上に形成される画像をより鮮明なものとすることができる。
【００９６】
インテグレータレンズ３０２および３０３を透過した白色光は、ミラー３０４で図９中左側に反射し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図９中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラー３０５を透過する。
ダイクロイックミラー３０５を透過した赤色光は、ミラー３０６で図９中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ８４に入射する。
ダイクロイックミラー３０５で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー３０７で図９中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー３０７を透過する。
【００９７】
ダイクロイックミラー３０７で反射した緑色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ８５に入射する。
また、ダイクロイックミラー３０７を透過した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）３０８で図９中左側に反射し、その反射光は、ミラー３０９で図９中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用の液晶ライトバルブ８６に入射する。
このように、光源３０１から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。
【００９８】
この際、液晶ライトバルブ８４が有する液晶パネル１００の各画素（薄膜トランジスタ３０とこれに接続された画素電極２３）は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。
同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ８５および８６に入射し、それぞれの液晶パネル１００で変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ８５が有する液晶パネル１００の各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ８６が有する液晶パネル１００の各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。
これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ８４、８５および８６で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。
【００９９】
前記液晶ライトバルブ８４により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ８４からの赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム８１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図９中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出射面２１６から出射する。
また、前記液晶ライトバルブ８５により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ８５からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。  また、前記液晶ライトバルブ８６により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ８６からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図９中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過して、出射面２１６から出射する。
【０１００】
このように、前記液晶ライトバルブ８４、８５および８６からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ８４、８５および８６により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム８１により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ８２により、所定の位置に設置されているスクリーン３２０上に投影（拡大投射）される。
【０１０１】
以上、本発明のコンタクトホールの形成方法、コンタクトホール、電子デバイス、液晶パネルおよび電子機器を、その実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、前述した実施形態では、薄膜トランジスタを構成するコンタクトホールを形成する方法について説明したが、本発明の方法はこれに限定されず、他の電子デバイス（半導体装置）におけるコンタクトホールの形成方法に適用してもよい。
また、前述した実施形態では、液晶パネルを構成する液晶駆動基板として、ＴＦＴ基板を用いる構成について説明したが、本発明はこれに限定されることなく、構造上コンタクトホールを有するいかなる液晶駆動基板を用いてもよい。
【０１０２】
「実施例」
［ＴＦＴ基板の製造］
以下のようにして、図３、図４に示すような液晶パネルを構成するＴＦＴ基板を製造した。
まず、石英ガラス製のガラス基板２４を用意し、このガラス基板２４の表面に、ＳＯＧで構成される液状体絶縁材料をスピンコートにより塗布し、その後、焼成することにより、下地絶縁層２５を形成した。
【０１０３】
次に、下地絶縁層２５の表面に、図５〜図８に示した実施形態での方法に従い、薄膜トランジスタ３０を形成することにより、ＴＦＴ基板２０を得た。
ここで、コンタクトホール形成用のマスク材７１ａとしては、ノボラック樹脂で形成したｉ線用フォトレジストに対し乾燥、露光、現像の各処理を施した後、四フッ化炭素ガス、大気圧プラズマを用いて発生させた活性フッ素に晒すことにより撥液処理を行って表面層を形成し、その後、１０Ｔｏｒｒ以下の真空チャンバ内で１００〜１３０℃に加熱するとともに、紫外線を照射して硬化処理を施したものを用いた。このようにして形成したマスク材７１ａは、高さが０．５μｍであり、ポリシラザンで構成される液状体絶縁材料（ゲート絶縁膜３２形成用の材料、膜形成用の液状体）との接触角が９３°であった。
【０１０４】
また、マスク材７３ａについても、マスク材７１ａと同様にして形成し、その膜厚を１．０μｍとした。このマスク材７３ａに対して、ポリシラザンで構成される液状体絶縁材料（絶縁層３３形成用の材料、膜形成用の液状体）との接触角が９３°であった。
このようにして得られたＴＦＴ基板２０における薄膜ランジスタ３０にあっては、特にマスク材７１ａ、７３ａを用いて形成されたコンタクトホールが、尖鋭な（鋭角の）縁部を形成せず、ほぼ平坦な形状を有するものとなっているのが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明のコンタクトホール形成方法の好適な実施形態を示す断面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）はマスク材に接する部分の液状体の液面形状を示す図である。
【図３】本発明の液晶パネルの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】図３に示す液晶パネルの薄膜トランジスタ付近の拡大断面図である。
【図５】薄膜トランジスタの形成方法の一実施形態を示す断面図である。
【図６】薄膜トランジスタの形成方法の一実施形態を示す断面図である。
【図７】薄膜トランジスタの形成方法の一実施形態を示す断面図である。
【図８】薄膜トランジスタの形成方法の一実施形態を示す断面図である。
【図９】本発明の電子機器（投射型表示装置）の光学系を模式的に示す図である。
【図１０】本発明に係るコンタクトホール形成方法を説明するための断面図である。
【図１１】図１０の方法における課題を示す図である。
【図１２】マスク材に対する液状体の接触角を模式的に説明するための図である。
【符号の説明】
【０１０６】
１０…基板、１１…第１導電部、１２…マスク材、１２ａ…芯材、１２ｂ…表面層、
１３…液状体、１３ａ…層間絶縁膜（絶縁膜）、１４…コンタクトホール、
２０…ＴＦＴ基板、３０…薄膜トランジスタ、３１…半導体層、
３１ａ…チャネル領域、３１ｂ…ソース領域、３１ｃ…ドレイン領域、
３２…ゲート絶縁膜、３３…絶縁膜、３４…ゲート電極、３５、３６、３７…導電部、
３８ａ、３８ｂ、３８ｃ…プラグ、３９ａ、３９ｂ、３９ｃ…コンタクトホール、
３９ｄ、３９ｅ…下部コンタクトホール、７１ａ、７３ａ…マスク材、
１００…液晶パネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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