(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状セラミック体の一方の主面を、ウエハを載せる載置面とするとともに、上記板状セラミック体中に帯状の導体膜を埋設したウエハ支持部材であって、上記帯状の導体膜は発熱用であり、該導体膜は同心円状に配置された複数の円弧形状の導体膜と、同心円間で上記円弧形状の導体膜の端同士を連結する直線形状の導体膜とを備え、該直線形状の導体膜とそれにより連結された上記円弧形状の導体膜とでコーナー部を形成しており、上記同心円の同じ円上で外側同士が相対向する一方の上記コーナー部と他方の上記コーナー部との最短距離が２５ｍｍ以下であるとともに、一方の上記コーナー部および他方の上記コーナー部は曲率半径が０．２ｍｍ〜１５ｍｍの円弧状であることを特徴とするウエハ支持部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に、プラズマＣＶＤ、減圧ＣＶＤ、光ＣＶＤ、ＰＶＤ等の成膜装置や、プラズマエッチング、光エッチング等のエッチング装置に用いられるウエハ支持部材に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置の製造工程で使用されるプラズマＣＶＤ、減圧ＣＶＤ、光ＣＶＤ、ＰＶＤ等の成膜装置や、プラズマエッチング、光エッチング等のエッチング装置においては、シリコンウエハ等のウエハを支持するためにウエハ支持部材が使用されている。
【０００３】
図４に一般的なウエハ支持部材の構造を示すように、このウエハ支持部材３１は、板状セラミック体３２の一方の主面を、ウエハＷを載せる載置面３３としたもので、板状セラミック体３２中の同一深さには、内部電極３４としての導体膜３５を埋設してあり、板状セラミック体３２の他方の主面に備える給電端子３６より内部電極３４へ通電するようになっていた。
【０００４】
そして、このウエハ支持部材３１をヒータとして用いる場合には、導体膜３５に電圧を印加して発熱させることにより、載置面３３に載せたウエハＷを加熱することができるようになっており、また、静電チャックとして用いる場合には、導体膜３５に電圧を印加し、内部電極３５とウエハＷとの間に静電吸着力を発現させることにより、ウエハＷを載置面３３に強制的に固定することができるようになっており、さらに、プラズマ発生用サセプタとして用いる場合には、内部電極３４と載置面３３の上方に設けた別の電極（不図示）との間に高周波電力を印加してプラズマを発生させることにより、載置面３３に載せたウエハＷに対してプラズマを照射することができるようになっていた。
【０００５】
ところで、このようなウエハ支持部材３１を構成する板状セラミック体３２中に埋設する内部電極３４としては、内部電極３５がヒータ用である場合、例えば、図５（ａ）に示すように、円弧形状をした帯状の導体膜３５ａを同心円状に配置するとともに、隣り合う導体膜３５ａ間を直線形状をした帯状の導体膜３５ｂで結んだパターン形状を有するものが用いられており、また、内部電極３５が静電チャック用やプラズマ発生用である場合、例えば、図５（ｂ）に示すように、櫛歯形状をした二つの導体膜３５ａを互いの歯部が交互に位置するように配置したパターン形状をしたものや図５（ｃ）に示すように、半円形状をした二つの導体膜３５ａを円を構成するように配置したパターン形状をしたものが用いられていた。
【０００６】
そして、内部電極３４がヒータ用である場合、ウエハＷを均一に加熱するためには隣り合う導体膜３５ａ，３５ｂ間をできるだけ短くする必要があり、また、内部電極３４が静電チャック用やプラズマ発生用である場合、ウエハＷに均一な静電吸着力を発現させたり、均一なプラズマを発生させたりするためには二つの導体膜３５ａ，３５ｂ間をできるだけ短くする必要があり、いずれのパターン形状を有する内部電極３４も隣り合う導体膜３５ａ，３５ｂ間はできるだけ狭くするように設計されていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、図５（ａ）〜（ｃ）に示すようなパタ―ン形状を有する内部電極３４を埋設してなり、隣り合う導体膜３５ａ，３５ｂ間の間隔が狭いウエハ支持部材３１を熱サイクルが加わる環境下で使用すると、板状セラミック体３２中に、導体膜３５ａ，３５ｂのコーナー部を起点としたクラックが発生し、酷いときには板状セラミック体３２が破損するといった課題があった。
【０００８】
また、このような課題はウエハ支持部材３１の使用中だけに限らず、ウエハ支持部材３１の製造工程中でも発生していた。即ち、導体膜３５ａ，３５ｂを埋設したセラミック成形体を焼成して板状セラミック体３２を製作する過程においても熱サイクルが加わるため、焼成を終えた板状セラミック体３２中には導体膜３５ａ，３５ｂのコーナー部を起点としたクラックが発生し、破損するといった課題があった。
【０００９】
そして、板状セラミック体３２内にクラックが発生したウエハ支持部材３１をヒータとして用いると、クラックがあるセラミック部とクラックのないセラミック部とでは熱の伝わり方に差ができるため、ウエハＷを均一に加熱することができず、また、静電チャックとして用いると、クラックがあるセラミック部とクラックのないセラミック部とでは静電吸着力に差ができ、ウエハＷを均一な吸着力でもって載置面３３に固定することができず、また、ウエハＷの離脱時には、クラックがあるセラミック部の電荷が逃げ難いため、ウエハＷの離脱応答性が損なわれるといった課題があり、さらに、プラズマ発生用のサセプタとして用いると、クラックがあるセラミック部とクラックのないセラミック部とではプラズマ密度に差ができ、ウエハＷに対して均一なプラズマを照射することができないといった課題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
そこで、本発明は上記課題に鑑み、請求項１に係る発明は、板状セラミック体の一方の主面を、ウエハを載せる載置面とするとともに、上記板状セラミック体中に帯状の導体膜を埋設したウエハ支持部材であって、上記帯状の導体膜は発熱用であり、該導体膜は同心円状に配置された複数の円弧形状の導体膜と、同心円間で上記円弧形状の導体膜の端同士
を連結する直線形状の導体膜とを備え、該直線形状の導体膜とそれにより連結された上記円弧形状の導体膜とでコーナー部を形成しており、上記同心円の同じ円上で外側同士が相対向する一方の上記コーナー部と他方の上記コーナー部との最短距離が２５ｍｍ以下であるとともに、一方の上記コーナー部および他方の上記コーナー部は曲率半径が０．２ｍｍ〜１５ｍｍの円弧状であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
以上のように、本発明によれば、板状セラミック体の一方の主面を、ウエハを載せる載置面とするとともに、上記板状セラミック体中に帯状の導体膜を埋設したウエハ支持部材であって、上記帯状の導体膜は発熱用であり、該導体膜は同心円状に配置された複数の円弧形状の導体膜と、同心円間で上記円弧形状の導体膜の端同士を連結する直線形状の導体膜とを備え、該直線形状の導体膜とそれにより連結された上記円弧形状の導体膜とでコーナー部を形成しており、上記同心円の同じ円上で外側同士が相対向する一方の上記コーナー部と他方の上記コーナー部との最短距離が２５ｍｍ以下であるとともに、一方の上記コーナー部および他方の上記コーナー部を曲率半径が０．２ｍｍ〜１５ｍｍの円弧状としたことによって、上記導体膜のコーナー部近傍におけるセラミック部の強度低下を抑制することができるため、繰り返し熱サイクルが加わる環境下で使用したとしても板状セラミック体にクラックが発生したり、破損したりすることを防止することができるため、長期間にわたって使用することができる。
【００１３】
その為、本発明のウエハ支持部材をヒータとして用いれば、ウエハを均一に加熱することができ、また、静電チャックとして用いれば、ウエハを均一な静電吸着力によって吸着固定することができ、また、プラズマ発生用サセプタとして用いれば、ウエハに対して均一なプラズマを照射することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【００１５】
図１は本発明に係るウエハ支持部材の一例であるヒータを示す図で、（ａ）はその斜視図、（ｂ）は（ａ）のＸ−Ｘ線断面図、（ｃ）は内部電極のパターン形状を示す平面図である。
【００１６】
このヒータとしてのウエハ支持部材１は、円盤状をした板状セラミック体２の上面を、ウエハＷを載せる載置面３とするとともに、板状セラミック体２中には、同図（ｃ）に示すような、円弧形状をした帯状の導体膜５ａを同心円状に配置するとともに、隣り合う帯状の導体膜５ａ同士を直線形状をした帯状の導体膜５ｂで結んだパターン形状を有する内部電極４を同一深さに埋設したもので、上記板状セラミック体２の下面には上記導体膜５ａ，５ｂと電気的に接続される給電端子６をそれぞれ接合してある。
【００１７】
また、内部電極４をなす導体膜５ａ，５ｂは、載置面３に載せたウエハＷを均一に加熱するため、隣り合う導体膜５ａ間及び隣り合う導体膜５ｂ間の距離ができるだけ狭くなるように設計してあり、少なくとも相対向する一方の導体膜５ｂのコーナー部から他方の導体膜５ｂまでの最短距離Ｌを２５ｍｍ以下とするとともに、上記最短距離Ｌが２５ｍｍ以下である部位に位置する導体膜５ｂのコーナー部の角部を円弧状Ｐに形成してある。
【００１８】
そして、このウエハ支持部材１を用いて載置面３に載せたウエハＷを加熱するには、給電端子６間に電圧を印加して内部電極４を発熱させ、板状セラミック体２を加熱することにより、ウエハＷを加熱するようになっている。
【００１９】
図２は本発明に係るウエハ支持部材の他の例である静電チャックを示す図で、（ａ）はその斜視図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線断面図、（ｃ）は内部電極のパターン形状を示す平面図である。
【００２０】
この静電チャックとしてのウエハ支持部材１１は、円盤状をした板状セラミック体１２の上面を、ウエハＷを載せる載置面１３とするとともに、板状セラミック体１２中の載置面１３側近傍には、同図（ｃ）に示すような、櫛歯形状をした一対の導体膜１５ａ，１５ｂを互いの歯部が交互に配置されたパターン形状を有する内部電極１４を同一深さに埋設したもので、上記板状セラミック体１２の下面には上記一対の導体膜１５ａ，１５ｂと電気的に接続される給電端子１６をそれぞれ接合してある。
【００２１】
また、内部電極１４をなす一対の導体膜１５ａ，１５ｂは、載置面１３において均一な静電吸着力を発現させるため、導体膜１５ａ，１５ｂ間の距離はできるだけ狭くなるように設計してあり、少なくとも相対向する一方の導体膜１５ｂのコーナー部から他方の導体膜１５ａまでの最短距離Ｌを２５ｍｍ以下とするとともに、上記最短距離Ｌが２５ｍｍ以下である部位に位置する導体膜１５ｂのコーナー部の角部を円弧状Ｐに形成してある。
【００２２】
そして、このウエハ支持部材１１を用いてウエハＷを載置面１３に吸着させるには、給電端子１６間に電圧を印加すると、ウエハＷと載置面１３の間に静電吸着力が発現するため、この静電吸着力によりウエハＷを載置面１３に強制的に吸着固定するようになっている。
【００２３】
図３は本発明に係るウエハ支持部材の他の例であるプラズマ発生用サセプタを示す図で、（ａ）はその斜視図、（ｂ）は（ａ）のＺ−Ｚ線断面図、（ｃ）は内部電極のパターン形状を示す平面図である。
【００２４】
このプラズマ発生用サセプタとしてのウエハ支持部材２１は、円盤状をした板状セラミック体２２の上面を、ウエハＷを載せる載置面２３とするとともに、板状セラミック体２２中の載置面２３側近傍には、同図（ｃ）に示すような、半円形状をした一対の導体膜２５ａ，２５ｂを円を構成するように配置したパターン形状を有する内部電極２４を同一深さに埋設したもので、上記板状セラミック体２２の下面には上記一対の導体膜２５ａ，２５ｂと電気的に接続される給電端子２６をそれぞれ接合してある。
【００２５】
また、内部電極２４をなす一対の導体膜２５ａ，２５ｂは、載置面２３上のウエハＷに対して均一なプラズマを照射するため、導体膜２５ａ，２５ｂ間の距離はできるだけ狭くなるように設計してあり、少なくとも一方の導体膜２５ｂのコーナー部から他方の導体膜２５ａまでの最短距離Ｌを２５ｍｍ以下とするとともに、上記最短距離Ｌが２５ｍｍ以下である部位に位置する導体膜２５ｂのコーナー部の角部を円弧状Ｐに形成してある。
【００２６】
そして、このウエハ支持部材２１を用いてウエハＷに対してプラズマを照射するには、載置面２３の上方に別に設けた電極（不図示）と内部電極２４との間に電圧を印加すると、電極間にプラズマが発生し、ウエハＷに対してプラズマを照射することができるようになっている。
【００２７】
そして、これらのウエハ支持部材１，１１，２１はいずれも内部電極４，１４,２４を
なす導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部から隣り合う導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂまでの最短距離Ｌを２５ｍｍ以下とするとともに、最短距離Ｌが２５ｍｍ以下である部位における導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部の角部を円弧状Ｐに形成してあることから、熱サイクルが加わる環境下での使用時や、板状セラミック体２，１２，２２の製作時において、上記導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部を起点として板状セラミック体２，１２，２２にクラックが発生することがないため、長期間にわたり使用することができる。
【００２８】
即ち、本件発明者は板状セラミック体２，１２，２２にクラックが発生する原因について研究を重ねたところ、内部電極４，１４，２４を形成する導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部から隣り合う導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂまでの最短距離Ｌが２５ｍｍを超えると、熱応力によって板状セラミック体２，１２，２２にクラックが発生し易く、また、最短距離Ｌを２５ｍｍ以下としてもその部位にある導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部が鋭利な角を有するものである場合、このコーナー部を起点としてクラックが発生し易いことを知見した。
【００２９】
この理由は、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂが板状セラミック体２，１２，２２中に埋設されていることにあり、例えば、複数枚のセラミックグリーンシートの間に内部電極４，１４，２４を挟んで積層することにより板状セラミック体２，１２，２２を製作する場合、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂ間の距離が狭い部分があると導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂの厚みによってその導体膜５ａ，５ｂ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近におけるセラミックグリーンシート同士が密着し難く、特にコーナー部外形が鋭利な角を有するものであると、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近におけるセラミックグリーンシート同士の密着性が悪く、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近におけるセラミック部の強度が低下していることに起因するものと思われる。また、セラミック成形体上に内部電極４，１４，２４を載せ、さらにセラミック粉体を充填して一軸加圧成形することにより板状セラミック体２，１２，２２を製作する場合、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂ間の距離が狭い部分があると、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近におけるセラミック粉体の充填密度が小さくなり易く、特にコーナー部外形が鋭利な角を有するものであると、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近におけるセラミック粉体の充填密度が小さいため、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近におけるセラミック部の強度が低下していることに起因するものと思われる。しかも、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部外形が鋭利な角を有するものは形状的にも応力が集中し易いことから繰り返し熱サイクルが加わる環境下で使用すると導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部を起点とするクラックが発生するものと思われる。
【００３０】
そこで、本件発明者は、クラックの発生し難い構造について鋭意研究を重ねたところ、内部電極４，１４，２４を形成するある導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部から隣り合う導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂまでの最短距離Ｌを２５ｍｍ以下とするとともに、この最短距離Ｌが２５ｍｍ以下である部位にある導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部外形を曲線Ｐとすることで、複数枚のセラミックグリーンシートの間に内部電極４，１４，２４を挟んで積層することにより板状セラミック体２，１２，２２を製作する場合には、導体膜５ａ,５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近におけるセラミックグリーンシート同士の密着性を高めることができ、また、セラミック成形体上に内部電極４，１４，２４を載せ、さらにセラミック粉体を充填して一軸加圧成形することにより板状セラミック体２，１２，２２を製作する場合には、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近におけるセラミック粉体の充填密度を高めることができるため、いずれの製法においても導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近におけるセラミック部の強度低下を防止することができるため、熱サイクルが加わる環境下で使用したとしても板状セラミック体２，１２，２２にクラックが発生することを大幅に低減することができる。
【００３１】
かくして、本発明のウエハ支持部材１，１１，２１をヒータとして用いれば、長期間にわたってウエハＷを均一に加熱することができ、また、静電チャックとして用いれば、長期間にわたりウエハＷを均一な吸着力でもって吸着固定することができ、さらにプラズマ発生用サセプタとして用いれば、長期間にわたってウエハＷに対して均一なプラズマを安定して照射することができる。
【００３２】
なお、クラックの発生を効果的に防止するには、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部を形成する曲線Ｐの曲率半径Ｒを０．２ｍｍ〜１５ｍｍとすることが好ましい。
【００３３】
なぜなら、この曲率半径Ｒが０．２ｍｍ未満であると、コーナー部外形を曲線Ｐにした効果が小さく、熱サイクルが加わると板状セラミック体２，１２，２２にクラックが発生するからであり、逆に曲率半径Ｐが１５ｍｍを超えると、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂのコーナー部付近における抵抗値が他の部分より小さくなり過ぎ、電流の流れを阻害して異常発熱する恐れがあるからである。
【００３４】
ところで、このようなウエハ支持部材１，１１，２１を構成する板状セラミック体２，１２，２２の材質としては、耐摩耗性、耐熱性に優れた、アルミナ、窒化珪素、サイアロン、窒化アルミニウムを主成分とするセラミック焼結体を用いることができ、この中でも特に窒化アルミニウムを主成分とするセラミック焼結体は熱伝導率５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上、さらには１００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の高い熱伝導率を有するとともに、フッ素系や塩素系等の腐食性ガスに対する耐蝕性及び耐プラズマ性を有することから、ウエハ支持部材１を構成する板状セラミック体２，１２，２２の材質として好適に用いることができる。
【００３５】
また、内部電極４，１４，２４をなす導体層５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂは、セラミック焼結体との密着性を高める観点から板状セラミック体２，１２，２２を形成するセラミック焼結体との熱膨張差が近似した材質により形成することが好ましく、例えば、板状セラミック体２，１２，２２を形成するセラミック焼結体が窒化珪素、サイアロン、窒化アルミニウムを主成分とするものである場合、タングステン、モリブデン、レニュウム、白金等の高融点金属やこれらの合金、あるいは上記高融点金属の炭化物や窒化物を用いれば良い。
【００３６】
また、導体膜５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂの性状としては、金属箔や金属板あるいは金属粒子が焼き固められた膜からなるものなど、どのような性状を有するものでも構わない。
【００３７】
なお、本発明は上記実施形態に示したものだけに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で改良や変更したものでも良いことは言うまでもない。
【実施例１】
【００３８】
ここで、導体膜の各コーナー部の角部を円弧状に形成した内部電極と、導体膜の各コーナー部を直角とした内部電極を有し、一方の導体膜のコーナー部から他方の導体膜までの最短距離を異ならせたウエハ支持部材を用意し、熱サイクル試験を繰り返した時の板状セラミック体の破損の有無について調べる実験を行った。
【００３９】
本実験にあたっては、板状セラミック体２を形成するセラミック焼結体に、ＡｌＮ含有量が９９．９重量％の窒化アルミニウム質焼結体を用い、その形状を直径１２インチ（約３００ｍｍ）、厚さ１２ｍｍの円板状とした。また、内部電極をなす導体膜には、タングステンを用い、そのパターン形状としては図１（ｃ）に示すものを用いた。
【００４０】
そして、最短距離を異ならせたものをそれぞれ２０個ずつ準備し、板状セラミック体の製作時における破損の有無と、各ウエハ支持部材をＣＶＤ装置の真空処理室内に気密に設置し、４０℃／分の昇温速度で常温から５００℃まで加熱した後に冷却する熱サイクル試験を行ない、板状セラミック体にクラックが発生するまでの回数を測定した。
【００４１】
結果は表１に示す通りである。
【表１】
0004619326.tif 000002
【００４２】
この結果、一方の導体膜のコーナー部から他方の導体膜までの最短距離を２５ｍｍ以下とするとともに、この最短距離が２５ｍｍ以下である部位にある導体膜のコーナー部の角部を円弧状に形成すれば、最短距離が２５ｍｍである時に、５００回の熱サイクル試験で一つの板状セラミック体に破損が見られたものの、それ以外では板状セラミック体の製作時及び熱サイクル試験において板状セラミック体の破損が全く見られなかった。
【００４３】
このことから、板状セラミック体中に埋設する一方の導体膜のコーナー部から他方の導体膜までの最短距離は２５ｍｍ以下とするとともに、この最短距離が２５ｍｍ以下である部位にある導体膜のコーナー部の角部を円弧状とすれば良いことが判る。
【００４４】
なお、本実施例ではヒータとしてのウエハ支持部材を例にとって示したが、静電チャックやプラズマ発生用サセプタとしてのウエハ支持部材でも同様の結果であった。
【実施例２】
【００４５】
次に、一方の導体膜のコーナー部から他方の導体膜までの最短距離を１５ｍｍとし、この最短距離が１５ｍｍである部位に位置する導体膜の円弧状をしたコーナー部の曲率半径を異ならせる以外は実施例１と同様の条件にて熱サイクル試験を繰り返した時の板状セラミック体の破損の有無について調べる実験を行った。
【００４６】
結果は表２に示す通りである。
【表２】
0004619326.tif 000003
【００４７】
この結果、導体膜の円弧状をしたコーナー部の曲率半径を０.２ｍｍ〜１５ｍｍの範囲で設定することにより、板状セラミック体の破損が全く見られず、特に優れていることが判る。
【００４８】
このことから、導体膜の円弧状をしたコーナー部の曲率半径は０.２ｍｍ〜１５ｍｍの範囲で設定することが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明に係るウエハ支持部材の一例であるヒータを示す図で、（ａ）はその斜視図、（ｂ）は（ａ）のＸ−Ｘ線断面図、（ｃ）は内部電極のパターン形状を示す平面図である。
【図２】本発明に係るウエハ支持部材の他の例である静電チャックを示す図で、（ａ）はその斜視図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線断面図、（ｃ）は内部電極のパターン形状を示す平面図である。
【図３】本発明に係るウエハ支持部材の他の例であるプラズマ発生用サセプタを示す図で、（ａ）はその斜視図、（ｂ）は（ａ）のＺ−Ｚ線断面図、（ｃ）は内部電極のパターン形状を示す平面図である。
【図４】従来のウエハ支持部材を示す斜視図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は従来のウエハ支持部材に備える内部電極のさまざまなパターン形状を示す平面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１，１１，２１，３１：ウエハ支持部材
２，１２，２２，３２：板状セラミック体
３，１３，２３，３３：載置面
４，１４，２４，３４：内部電極
５，５ａ，５ｂ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂ：導体膜
６，１６，２６，３６：給電端子
Ｗ：ウエハ
Ｐ：円弧状
Ｒ：曲率半径
【図１】
0004619326.tif 000004
【図２】
0004619326.tif 000005
【図３】
0004619326.tif 000006
【図４】
0004619326.tif 000007
【図５】
0004619326.tif 000008