(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶化合物を含む液晶組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、前記液晶組成物が、下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される繰り返し単位および下記一般式［２］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体の少なくとも一種を含有する、前記光学補償フィルム；
【化１】
0004619913.tif 000104
（一般式［１］において、Ｒ0は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１〜１８の範囲の整数を表す。）
【化２】
0004619913.tif 000105
（一般式［２］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌ11は２価の連結基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基または芳香族へテロ環基を表す。）
【請求項２】
前記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが、下記一般式［３］で表されることを特徴とする、請求項１に記載の光学補償フィルム。
【化３】
0004619913.tif 000106
（一般式［３］において、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子または‐Ｎ（Ｒａ）‐を表し、ｍは１〜６の範囲整数を表し、ｎは１〜１８の範囲の整数を表す。ここで、Ｒａは水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
【請求項３】
液晶化合物を含む液晶組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、前記液晶組成物が、下記一般式［４］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される繰り返し単位および下記一般式［２］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体の少なくとも一種を含有する、前記光学補償フィルム；
【化４】
0004619913.tif 000107
（一般式［４］において、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌ2は２価の連結基を表し、ｎは１〜６の範囲の整数を表す）。
【化５】
0004619913.tif 000108
（一般式［２］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌ11は２価の連結基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基、または芳香族へテロ環基を表す。）
【請求項４】
前記一般式［４］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが、下記一般式［５］で表されることを特徴とする、請求項３に記載の光学補償フィルム。
【化６】
0004619913.tif 000109
（一般式［５］においてＲ3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒｂ）−を表し、ｍは１〜６の範囲の整数を表し、ｎは１〜６の範囲の整数を表す。ここでＲｂは水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
【請求項５】
前記一般式［２］で表されるモノマーが、下記一般式［７］で表されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【化７】
0004619913.tif 000110
（一般式［７］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｘ1は酸素原子、イオウ原子または‐Ｎ（Ｒｃ）‐を表し、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25はそれぞれ独立に炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基を表す。ここで、Ｒｃは水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
【請求項６】
前記液晶化合物が棒状液晶化合物であり、該液晶化合物が、実質的に垂直配向していることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償フィルムと、偏光膜とを有することを特徴とする偏光板。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償フィルム、または請求項７に記載の偏光板を有することを特徴とする、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与する光学補償フィルム、およびそれを用いた偏光板に関する。更に、本発明は、液晶表示装置に関し、特に水平方向に配向した液晶分子に横方向の電界を印加することにより表示を行う、インプレーンスイッチングモードの液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置としては、二枚の直交した偏光板の間に、ネマチック液晶をツイスト配列させた液晶層を挟み、電界を基板に対して垂直な方向にかける方式、いわゆるＴＮモードが広く用いられている。この方式では、黒表示時に液晶が基板に対して立ち上がるために、斜めから見ると液晶分子による複屈折が発生し、光漏れが起こる。この問題に対して液晶性分子がハイブリッド配向したフィルムを用いることで、液晶セルを光学的に補償し、この光漏れを防止する方式が実用化されている。しかし、液晶性分子を用いても液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しく、画面下方向での諧調反転が抑えきれないという問題を生じていた。
【０００３】
かかる問題を解決するため、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードによる液晶表示装置や、誘電率異方性が負の液晶を垂直配向してパネル内に形成した突起やスリット電極によって配向分割した垂直配向（ＶＡ）モードが提案され、実用化されている。近年、これらのパネルはモニター用途に留まらず、ＴＶ用途として開発が進められており、それに伴って画面の輝度が大きく向上してきている。このため、これらの動作モードで従来問題とされていなっかった、黒表示時の対角位斜め入射方向での僅かな光漏れが表示品質の低下の原因として顕在化してきた。
【０００４】
この色調や黒表示の視野角を改善する手段の一つとして、液晶層と偏光板の間に複屈折特性を有する光学補償材料を配置することがＩＰＳモードにおいても検討されている。例えば、傾斜時の液晶層のレターデーションの増減を補償する作用を有する光軸を互いに直交した複屈折媒体を基板と偏光板との間に配置することで、白表示または中間調表示を斜め方向から直視した場合の色付きが改善できることが開示されている（特許文献１参照）。また、負の固有複屈折を有するスチレン系ポリマーやディスコティック液晶化合物からなる光学補償フィルムを使用した方法（特許文献２、３、４参照）や、光学補償フィルムとして複屈折が正で光学軸がフィルムの面内にある膜と複屈折が正で光学軸がフィルムの法線方向にある膜とを組み合わせる方法（特許文献５参照）、レターデーションが二分の一波長の二軸性の光学補償シートを使用する方法（特許文献６参照）、偏光板の保護膜として負のレターデーションを有する膜を使い、この表面に正のレターデーションを有する光学補償層を設ける方式（特許文献７参照）が提案されている。
【０００５】
しかし、提案された方式の多くは、液晶セル中の液晶の複屈折の異方性を打ち消して視野角を改善する方式であるために、直交偏光板を斜めから見た場合の偏光軸交差角度の直交からのズレに基づく光漏れを十分に解決できないという問題がある。また、この光漏れを補償できるとされる方式でも、液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しい。さらに、延伸複屈折ポリマーフィルムで光学補償を行うＩＰＳモード液晶セル用光学補償シートでは、複数のフィルムを用いる必要があり、その結果、光学補償シートの厚さが増し、表示装置の薄形化に不利である。また、延伸フィルムの積層には粘着層を用いるため、温湿度変化により粘着層が収縮してフィルム間の剥離や反りといった不良が発生することがあった。
【０００６】
一方、正の複屈折性を有し光軸が法線方向にある位相差膜を組み合わせることでＩＰＳの光学補償を達成する方法が検討されており、かかる位相差膜を実現するには液晶材料を垂直に配向させ、その配向状態を固定化する方法が知られている（例えば、特許文献８〜１０参照）。
【０００７】
また、棒状液晶化合物を垂直に配向させる方法としては、配向膜に垂直配向膜を用いる方法、または、垂直配向剤（例えば、４級アンモニウム置換のシランカップリング剤等）を基板上に形成させた上に液晶化合物の層を形成する方法が提案されている（例えば、非特許文献１および２）。しかしながら、近年モニターの表示特性に対する要求が厳しくなってきており、従来知られている垂直配向方式で固定化した異方性材料ではミクロな均一性が十分ではなく、その改善が求められていた。
【０００８】
一方、従来の技術では、主に、１５インチ以下の小型あるいは中型の液晶表示装置を想定して、光学補償シートが開発されていた。しかし、最近では、１７インチ以上の大型、かつ輝度の高い液晶表示装置も想定する必要がある。
【０００９】
乾燥時のムラを低減させるためにはレベリング性を向上させることが有効であることが知られている。レベリング性を向上させる一つの手段として、塗布組成物中に界面活性剤を添加する方法が提案されている。これは、塗布物に界面活性剤を添加すると表面張力が低下して被塗布物への濡れが改良され、塗膜形成過程での表面張力変化を小さく、または低下させて熱対流を防止して膜の均一性を改良するという機構に基づいている（非特許文献３参照）。目的とする塗布組成物中の溶剤、樹脂、各種添加剤との相溶性などにより最適な界面活性種は異なるが、溶剤を用いて塗布する場合には溶剤に可溶で表面張力低下能力が最も高いフッ素系界面活性剤を用いることが有効である。
【００１０】
一般に、フッ素系界面活性剤は表面張力低下機能を実現するためのフルオロ脂肪族基と、例えば該活性剤を添加剤として使用したときに、コーティング用、成形材料用等の各種組成物に対する親和性に寄与する親媒性基とを同一分子内に有する化合物からなるものである。このような化合物は、フルオロ脂肪族基を有するモノマーと親媒性基を有するモノマーとを共重合させて得られる。
フルオロ脂肪族基を有するモノマーと共重合される、親媒性基を有するモノマーの代表的な例としては、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート、ポリ（オキシアルキレン）メタクリレート等が挙げられる。また、特許文献１１には、ω−Ｈ型フッ素系ポリマー界面活性剤により、風ムラの良化と光学性能の両立した光学フィルムの報告がある。
【００１１】
しかしながら、従来のフッ素系界面活性剤を用いると乾燥ムラや風ムラは良化するものの、塗布ムラが発生し、塗布された光学補償フィルムの品位を低下させる問題があった。また、特許文献１２に分岐状脂肪族炭化水素基を有するエチレン性不飽和単量体を含有するフッ素系界面活性剤に関する報告があるが光学補償フィルムに関しての記述はなく、効果についても明らかとなっていなかった。
【特許文献１】特開平９−８０４２４号公報
【特許文献２】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献３】特開平１１−２０２３２３号公報
【特許文献４】特開平９−２９２５２２号公報
【特許文献５】特開平１１−１３３４０８号公報
【特許文献６】特開平１１−３０５２１７号公報
【特許文献７】特開平１０−３０７２９１号公報
【特許文献８】特表２０００−５１４２０２号公報
【特許文献９】特開平１０−３１９４０８号公報
【特許文献１０】特開平６−３３１８２６号公報
【特許文献１１】特開２００４−３３３８５２号公報
【特許文献１２】特開平１０−３０９４５５号公報
【非特許文献１】岡野光治等、「液晶」・応用編、培風館、１９８５年発行、６１頁
【非特許文献２】苗村昌平、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．３３巻、１号、１９７８年、１〜３頁
【非特許文献３】コーティング用添加剤の最新技術、桐生春雄監修、シーエムシー、２００１年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、
（１）乾燥ムラや風ムラの低減と、塗布ムラを悪化させないことを両立できるフルオロ脂肪族基含有重合体を含む光学フィルムを提供すること、
（２）そのような光学フィルムを用いた、表示品位の良好な偏光板や液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、フッ素系界面活性剤の構成成分であるフルオロ脂肪族基含有モノマーにおけるフルオロ脂肪族基の構造やフッ素系界面活性剤におけるフルオロ脂肪族基含有モノマーおよびフルオロ脂肪族基非含有モノマーの組成について精査した結果、環式炭化水素を有するフルオロ脂肪族基非含有モノマーと、ある特定の構造を持つフルオロ脂肪族基含有モノマーを含むフッ素系界面活性剤を用いることにより、塗布時に生じる乾燥ムラや風ムラを低減し、かつ塗布ムラも悪化させない組成物を得ることができることを見出した。
【００１４】
すなわち、本発明の上記目的は、下記の手段によって達成された。
[１]  液晶化合物を含む液晶組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、前記液晶組成物が、下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される繰り返し単位および下記一般式［２］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体の少なくとも一種を含有する、前記光学補償フィルム；
【００１５】
【化１】
0004619913.tif 000002
（一般式［１］において、Ｒ0は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１〜１８の範囲の整数を表す。）
【００１６】
【化２】
0004619913.tif 000003
（一般式［２］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌ11は２価の連結基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基または芳香族へテロ環基を表す。）
[２]  前記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが、下記一般式［３］で表されることを特徴とする、[１]に記載の光学補償フィルム。
【００１７】
【化３】
0004619913.tif 000004
（一般式［３］において、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子または‐Ｎ（Ｒａ）‐を表し、ｍは１〜６の範囲整数を表し、ｎは１〜１８の範囲の整数を表す。ここで、Ｒａは水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
[３]  液晶化合物を含む液晶組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、前記液晶組成物が、下記一般式［４］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される繰り返し単位および下記一般式［２］で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体の少なくとも一種を含有する、前記光学補償フィルム；
【００１８】
【化４】
0004619913.tif 000005
（一般式［４］において、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌ2は２価の連結基を表し、ｎは１〜６の範囲の整数を表す）。
【００１９】
【化５】
0004619913.tif 000006
（一般式［２］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌ11は２価の連結基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基、または芳香族へテロ環基を表す。）
[４]  前記一般式［４］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが、下記一般式［５］で表されることを特徴とする、[３]に記載の光学補償フィルム。
【００２０】
【化６】
0004619913.tif 000007
（一般式［５］においてＲ3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒｂ）−を表し、ｍは１〜６の範囲の整数を表し、ｎは１〜６の範囲の整数を表す。ここでＲｂは水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
[５]  前記一般式［２］で表されるモノマーが、下記一般式［７］で表されることを特徴とする、[１]〜[４]のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【００２１】
【化７】
0004619913.tif 000008
（一般式［７］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｘ1は酸素原子、イオウ原子または‐Ｎ（Ｒｃ）‐を表し、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25はそれぞれ独立に炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基を表す。ここで、Ｒｃは水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
[６]  前記液晶化合物が棒状液晶化合物であり、該液晶化合物が、実質的に垂直配向していることを特徴とする、[１]〜[５]のいずれかに記載の光学補償フィルム。
[７]  [１]〜[６]のいずれかに記載の光学補償フィルムと、偏光膜とを有することを特徴とする偏光板。
[８]  [１]〜[６]のいずれかに記載の光学補償フィルム、または[７]に記載の偏光板を有することを特徴とする、液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、塗布ムラを悪化させることなく乾燥ムラや風ムラを低減し得る光学補償フィルムを提供することができる。さらに、本発明によれば、そのような光学補償フィルムを用いた、表示品位の良好な偏光板や液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００２４】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。波長λとしては、通常４５０〜７５０ｎｍの範囲の値が用いられる。本願においては５８９ｎｍの値を用いている。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
【００２５】
本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。また、「実質的に垂直」とは、厳密な垂直の角度よりも±２０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±１５゜未満であることが好ましく、±１０゜未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００２６】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板および液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」および「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」および「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
【００２７】
以下、本発明の光学補償フィルム、偏光板、および液晶表示装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２８】
光学補償フィルム
まず、本発明の光学補償フィルムについて説明する。
本発明の光学補償フィルムは、液晶化合物を含む液晶組成物からなる光学異方性層を有し、前記液晶組成物は、フルオロ脂肪族基を有する共重合体（以下、「フルオロ脂肪族基含有共重合体」と略記することもある）の少なくとも一種を含有することを特徴とする。以下、本発明の種々の態様について説明する。
【００２９】
本発明の第一の態様は、下記（ｉ）のモノマーから誘導される繰り返し単位および下記（ｉｉ）のモノマーから誘導される繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体の少なくとも一種を含有する液晶組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムに関する。
（ｉ）下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
（ｉｉ）下記一般式［２］で表されるモノマー
【００３０】
【化８】
0004619913.tif 000009
（一般式［１］において、Ｒ0は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１〜１８の範囲の整数を表す。）
【００３１】
【化９】
0004619913.tif 000010
（一般式［２］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、Ｌ11は２価の連結基を表し、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基または芳香族へテロ環基を表す。）
【００３２】
本発明で使用される、一般式［２］で示されるモノマーは３級炭素を有しており、不飽和二重結合に近い位置に導入されていることがより好ましい。ここで言う３級炭素とは−Ｃ（Ｒ13）（Ｒ14）（Ｒ15）で表される炭素のことである。
【００３３】
上記一般式［２］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）またはアルキル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。Ｌ11は２価の連結基を表し、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を含む２価の連結基が好ましい。Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基を表し、炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基が好ましい。また、フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式［２］で表されるモノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていてもよい。
【００３４】
前記一般式［２］で表されるモノマーの中でも、下記一般式［６］で表されるモノマーが好ましい。
【００３５】
【化１０】
0004619913.tif 000011
【００３６】
前記一般式［６］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。Ｌ12は酸素原子、窒素原子、イオウ原子のいずれかを含んでいる２価の連結基を表し、−ＣＯＯ−、−ＣＯＳ−、−ＣＯＮ（Ｒｄ）−、等が好ましい。ここでＲｄは水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。
Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ置換基を有してもよい、炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状の炭化水素基、または芳香族へテロ環基を表し、炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基が好ましい。また、フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式［６］で表されるモノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。
【００３７】
前記一般式［２］で表されるモノマーの中でも、下記一般式［７］で表されるモノマーも好ましい。
【００３８】
【化１１】
0004619913.tif 000012
【００３９】
前記一般式［７］において、Ｒ11は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。Ｘ1は酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒｃ）−を表し、酸素原子が好ましい。ここでＲｃは水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表し、炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25はそれぞれ独立に炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基を表し、炭素数１〜８の直鎖、分岐、または環状のアルキル基が好ましい。また、フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式［７］で表されるモノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。
【００４０】
前記一般式［２］、一般式［６］、または一般式［７］で表されるモノマーのより具体的なモノマーの例を以下に挙げるが、一般式［２］、一般式［６］または一般式［７］で表されるモノマーは、以下に示すモノマーに限定されるものではない。
【００４１】
【化１２】
0004619913.tif 000013
【００４２】
【化１３】
0004619913.tif 000014
0004619913.tif 000015
【００４３】
次に一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーについて説明する。
前記一般式［１］においては、Ｒ0は水素原子、ハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）またはアルキル基を表し、水素原子、またはメチル基がより好ましい。Ｌは２価の連結基を表し、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を含む２価の連結基が好ましい。ｎは１〜１８の範囲の整数を表し、４〜１２の範囲の整数がより好ましく、６〜８の範囲の整数がさらに好ましく、６であることが最も好ましい。
また、前記フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。
【００４４】
前記一般式［１］で表されるモノマーの中でも、下記一般式［３］で表されるモノマーが好ましい。
【化１４】
0004619913.tif 000016
【００４５】
前記一般式［３］においては、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）またはアルキル基を表し、水素原子、またはメチル基がより好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒａ）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒａ）−がより好ましく、酸素原子がさらに好ましい。ここで、Ｒａは水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基がさらに好ましい。ｍは１〜６の範囲の整数を表し、１〜３の範囲の整数がより好ましく、１であることがさらに好ましい。ｎは１〜１８の範囲の整数を表し、４〜１２の範囲の整数がより好ましく、６〜８の範囲の整数がさらに好ましく、６であることが最も好ましい。
また、前記フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式［３］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。
【００４６】
以下に一般式［１］または［３］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの具体例を挙げるが、一般式[１]または[３]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーは、下記具体例に限定されるものではない。
【００４７】
【化１５】
0004619913.tif 000017
【００４８】
【化１６】
0004619913.tif 000018
【００４９】
【化１７】
0004619913.tif 000019
【００５０】
【化１８】
0004619913.tif 000020
【００５１】
本発明の第二の態様は、下記（ｉ）のモノマーから誘導される繰り返し単位、および下記（ｉｉ）のモノマーから誘導される繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体の少なくとも一種を含有する液晶組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムに関する。
（ｉ）下記一般式［４］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
（ｉｉ）前記一般式［２］で表されるモノマー
【００５２】
【化１９】
0004619913.tif 000021
【００５３】
前記一般式［４］においては、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）またはアルキル基を表し、水素原子、またはメチル基がより好ましい。Ｌ2は２価の連結基を表し、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を含む２価の連結基が好ましい。ｎは１〜６の範囲の整数を表し、４〜６の範囲の整数がより好ましく、６がさらに好ましい。
フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式［４］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。
【００５４】
前記一般式[４]で表されるモノマーの中でも、下記一般式[５]で表されるモノマーが好ましい。
【００５５】
【化２０】
0004619913.tif 000022
【００５６】
前記一般式［５］においては、Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒｂ）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒｂ）−がより好ましく、酸素原子がさらに好ましい。ここで、Ｒｂは水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基がさらに好ましい。ｍは１〜６の範囲の整数を表し、１〜３の範囲の整数がより好ましく、１であることがさらに好ましい。ｎは１〜６の範囲の整数を表し、４〜６の範囲の整数がより好ましく、６がさらに好ましい。
フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式［５］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。
【００５７】
一般式［４］または［５］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーのより具体的なモノマーの例を以下に挙げるが、一般式[４]または[５]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーは、以下に示すモノマーに限定されるものではない。
【００５８】
【化２１】
0004619913.tif 000023
【００５９】
【化２２】
0004619913.tif 000024
0004619913.tif 000025
0004619913.tif 000026
【００６０】
また、本態様における前記一般式［２］で表されるモノマーの好ましい範囲は、前記第一の態様における好ましい範囲と同様であり、その具体例も同様である。
【００６１】
前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、フルオロ脂肪族基の末端が水素原子であるか、また末端がフッ素原子でもフルオロアルキル鎖長がＣ6以下と短いため、より環境安全性の高い物質であるということも産業上有利な点であるといえる。
【００６２】
本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有共重合体は共重合可能な他の種類のモノマーとの共重合体であっても良い。このような共重合可能な他の種類のモノマーとしては、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２、Ｐａｇｅ  １〜４８３記載のものを用いることができる。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等を挙げることができる。
【００６３】
具体的には、以下の単量体を挙げることができる。
アクリル酸エステル類：
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等、
メタクリル酸エステル類：
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロロエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等、
【００６４】
アクリルアミド類：
アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミドなど。
メタクリルアミド類：
メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルメタクリルアミドなど。
アリル化合物：
アリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど
【００６５】
ビニルエーテル類：
アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど
ビニルエステル類：
ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。
【００６６】
イタコン酸ジアルキル類：
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類またはモノアルキルエステル類：
ジブチルフマレートなど
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。
【００６７】
本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有共重合体を構成する前記一般式［１］、一般式［３］、一般式［４］または一般式［５］で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位の量は、該フルオロ脂肪族基含有共重合体を構成する全重合単位に基づいて、８０質量％以下であることが好ましく、６０質量％で以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることがさらに好ましい。
本発明で好ましく用いられる一般式［２］、一般式［６］、一般式［７］で表されるモノマーの重合単位の量は、該フルオロ脂肪族基含有共重合体を構成する全重合単位に基づいて、２０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％であることがさらに好ましい。
【００６８】
本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有共重合体の好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、６０００〜８０,０００がより好ましく、８，０００〜６０，０００がさらに好ましい。
【００６９】
ここで、質量平均分子量および分子量は、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
【００７０】
前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は公知慣用の方法で製造することができる。例えば先に挙げたフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、直鎖、分岐または環状のアルキル基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を有機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。もしくは場合によりその他の付加重合性不飽和化合物とを、添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。例えば、ビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、あるいは、アニオン重合等の重合方法を採ることができ、これらの中ではラジカル重合が汎用に利用できる点で特に好ましい。ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤や、ラジカル光重合開始剤等の公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシエステル類（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００７１】
ラジカル重合方法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法等を採ることが可能である。典型的なラジカル重合方法である溶液重合についてさらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子科学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）等に記載されている。
【００７２】
溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機化合物が好ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類；ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、１種単独または２種以上を組み合わせて用いることが可能である。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。
【００７３】
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度範囲内で、１０分〜３０時間加熱することが好ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも、不活性ガスパージを行うことが好ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。
【００７４】
前記フルオロ脂肪族基含有共重合体を好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法が特に有効である。連鎖移動剤としてはメルカプタン類（例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、ｐ−ノニルチオフェノール等）、ポリハロゲン化アルキル（例えば、四塩化炭素、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，１−トリブロモオクタンなど）、低活性モノマー類（α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマー等）のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数４〜１６のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され精密な制御が必要であるが、通常は使用するモノマーの全モル数に対して０．０１モル％〜５０モル％程度であり、好ましくは０．０５モル％〜３０モル％、特に好ましくは０．０８モル％〜２５モル％である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。
【００７５】
以下、本発明において使用され得るフルオロ脂肪族基含有共重合体の具体的な構造の例を示すが、前記フルオロ脂肪族基含有共重合体は以下に示す例に限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分の質量比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【００７６】
【化２３】
0004619913.tif 000027
【００７７】
【化２４】
0004619913.tif 000028
【００７８】
【化２５】
0004619913.tif 000029
【００７９】
【化２６】
0004619913.tif 000030
【００８０】
本発明において光学異方性層を構成する液晶組成物は、前述のフルオロ脂肪族基含有共重合体を含有する。
組成物中における上記フルオロ脂肪族基含有共重合体の添加量は、０．００１質量％〜５．０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１質量％〜１．０質量％である。
また、組成物中におけるフルオロ脂肪族基含有共重合体のフッ素原子の質量の割合は、０．０００３質量％〜３．０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．００３質量％〜０．６質量％である。
液晶組成物は、面状向上の点から、水の含率が３０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは１０質量％以下である。
【００８１】
《オニウム塩》
前記組成物はオニウム塩を含有することが好ましい。本発明においてオニウム塩は配向膜界面側において棒状液晶化合物の分子を垂直配向させるために寄与する。前記オニウム塩の例には、アンモニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩等のオニウム塩が含まれる。好ましくは、４級オニウム塩であり、特に好ましくは第４級アンモニウム塩である。
【００８２】
第４級アンモニウム塩は、一般に第３級アミン（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルエチレンジアミンなど）あるいは含窒素複素環（ピリジン環、ピコリン環、２，２'−ビピリジル環、４，４'−ビピリジル環、１，１０−フェナントロリン環、キノリン環、オキサゾール環、チアゾール環、Ｎ−メチルイミダゾール環、ピラジン環、テトラゾール環など）をアルキル化（メンシュトキン反応）、アルケニル化、アルキニル化あるいはアリール化して得られる。
【００８３】
第４級アンモニウム塩としては、含窒素複素環からなる第４級アンモニウム塩が好ましく、特に好ましくは第４級ピリジニウム塩である。
より具体的には、前記第４級アンモニウム塩は、下記一般式（３ａ）または後述する一般式（３ｂ）で表される第４級ピリジニウム塩から選ばれることが好ましい。
【００８４】
【化２７】
0004619913.tif 000031
式（３ａ）中、Ｒ8は置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｄは水素結合性基を表し、ｍは１〜３の範囲の整数を表し、Ｘ―はアニオンを表す。
【００８５】
まず、前記一般式（３ａ）について説明する。
上記Ｒ8で表されるアルキル基は、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１〜８の置換もしくは無置換のアルキル基である。これらは、直鎖状、分岐鎖状、あるいは環状であってもよい。これらの例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ネオペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基およびシクロプロピル基等が挙げられる。
【００８６】
本発明における炭化水素基、特にアルキル基の置換基の例としては、以下のものを挙げることができる。炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルケニル基（例、ビニル基）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルキニル基（例、エチニル基）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基（例、フェニル基、ナフチル基）；ハロゲン原子（例、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例、フェノキシ基、ビフェニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールチオ基（例、フェニルチオ基）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシル基（例、アセチル基、プロピオニル基）；
【００８７】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基（例、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）；炭素数７〜１１の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例、ナフトキシカルボニル基）；無置換のアミノ基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換アミノ基（例、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基、メトキシフェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基、メチルカルバモイルアミノ基、エチルチオカルバモイルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ基、アセチルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、エチルチオカルバモイルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、クロロアセチルアミノ基、メチルスルホニルアミノ基）；
【００８８】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ｎ−ブチルカルバモイル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルバモイル基、ピロリジノカルバモイル基）；無置換のスルファモイル基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換スルファモイル基（例、メチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基）；シアノ基；ニトロ基；カルボキシ基；水酸基；ヘテロ環基（例、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環）。アルキル基の置換基としては、特に好ましくは、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基である。
【００８９】
上記Ｒ8で表されるアルケニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは炭素数２〜８の置換もしくは無置換のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、１，３−ブタジエニル基等が挙げられる。アルケニル基の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。
【００９０】
上記Ｒ8で表されるアルキニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換のアルキニル基が好ましく、より好ましくは炭素数２〜８の置換もしくは無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニル基、２−プロピニル基等が挙げられる。アルキニル基の置換基は、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。
【００９１】
上記Ｒ8で表されるアラルキル基は、炭素数７〜１８の置換もしくは無置換のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、ビフェニルメチル基、ナフチルメチル基等が好ましい。アラルキル基の置換基は前記アルキル基の置換基として挙げたものが挙げられる。
【００９２】
上記Ｒ8で表されるアリール基は、炭素数６〜１８の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基等が挙げられる。アリール基の置換基は前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。またこれらの他に、アルキル基（例えば、メチル、エチル等）、アルキニル基、ベンゾイル基も好ましい。
【００９３】
上記Ｒ8で表される複素環基は、炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和または不飽和の複素環であることができる。これらの例としては、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、およびクマリン環が挙げられる。複素環基は置換されていてもよく、その場合の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。Ｒ8で表される複素環基としては、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環が特に好ましい。
【００９４】
上記Ｒ8は好ましくは、置換もしくは無置換の、アルキル基、アラルキル基、アリール基または複素環基である。
【００９５】
Ｄは水素結合性基を表す。水素結合は、電気的に陰性な原子（例えば、Ｏ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ）と、同じように電気的に陰性な原子に共有結合した水素原子間に存在する。水素結合の理論的な解釈としては、例えば、Ｈ．  Ｕｎｅｙａｍａ  ａｎｄ  Ｋ．Ｍｏｒｏｋｕｍａ、Ｊｏｕｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ、第９９巻、第１３１６〜１３３２頁、１９７７年に報告がある。具体的な水素結合の様式としては、例えば、Ｊ．Ｎ．イスラエスアチヴィリ著、近藤保、大島広行訳、分子間力と表面力、マグロウヒル社、１９９１年の第９８頁、図１７に記載の様式が挙げられる。具体的な水素結合の例としては、例えば、Ｇ．Ｒ．Ｄｅｓｉｒａｊｕ、Ａｎｇｅｗａｎｔｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｅｄｉｔｉｏｎ  Ｅｎｇｌｉｓｈ、第３４巻、第２３１１頁、１９９５年に記載のものが挙げられる。
【００９６】
好ましい水素結合性基としては、メルカプト基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、酸アミド基、ウレイド基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルホ基、含窒素複素環基（例えば、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、１，３，５−トリアジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、キノリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、コハクイミド基、フタルイミド基、マレイミド基、ウラシル基、チオウラシル基、バルビツール酸基、ヒダントイン基、マレイン酸ヒドラジド基、イサチン基、ウラミル基などが挙げられる）を挙げることができる。さらに好ましい水素結合性基としては、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルホ基、ピリジル基を挙げることができ、特に好ましくは、アミノ基、カルバモイル基、ピリジル基を挙げることができる。
【００９７】
Ｘ-で表されるアニオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、ハロゲン陰イオン（例え、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、スルホネートイオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオンなど）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロほう酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、リン酸イオン（例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン）、水酸イオンなどが挙げられる。Ｘ-は、好ましくは、ハロゲン陰イオン、スルホネートイオン、水酸イオンである。なおＸ-は１価のアニオンである必要はなく、２価以上のアニオンであってもよく、かかる場合は、前記化合物中のカチオンとアニオンとの比率も１：１である必要はなく、適宜決定される。
【００９８】
前記一般式（３ａ）中、ｍは１〜３の範囲の整数を表し、好ましくは１である。
【００９９】
また、前記一般式（３ａ）としてより好ましい４級アンモニウム塩は、下記一般式（４）で表される。
【０１００】
【化２８】
0004619913.tif 000032
【０１０１】
一般式（４）中、Ｌ1およびＬ2はそれぞれ独立に、２価の連結基もしくは単結合を表す。２価の連結基としては、炭素数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、１，４−ブチレン基等）、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、―ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｓ−、―ＮＲ'−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ"−、−Ｓ（＝Ｏ）2−またはこれらをさらに２つ以上連結した２価の連結基を表し、Ｒ'およびＲ"は水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基を表す。尚、これら２価の連結基が左右非対称の場合（例えば−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−等）は、どちらの向きで連結していてもよい。
【０１０２】
Ｙは、フェニル基に置換可能な水素原子以外の置換基を表す。Ｙで表される置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、スルファモイルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、が例として挙げられる。
【０１０３】
Ｒ11およびＲ12は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、水酸基、もしくは、アミノ基を表す。また、Ｒ11およびＲ12は連結して環を形成してもよい。
Ｚは水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基（例えば、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のアルケニル基等）、または置換もしくは無置換のアリール基（例えば、炭素数６〜３０のフェニル基等）を表し、ｎおよびｐは１〜１０の整数を表し、ｑは０〜４の整数を表す。ただし、ｐが２以上の場合、それぞれの繰り返し単位に含まれるＬ2、Ｙ、およびｑは、同じであっても異なっていてもよい。
【０１０４】
以下に一般式（４）で表される好ましい４級アンモニウムについて詳細に記載する。
一般式（４）中、Ｌ1で表される２価の連結基としては、―Ｏ−もしくは、単結合が好ましく、Ｌ2で表される２価の連結基としては、―Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、―ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−または単結合が好ましい。
一般式（４）中、Ｙで表される好ましい置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表し、より好ましくは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、シアノ基を表す。
一般式（４）中、Ｒ11およびＲ12として好ましくは、置換もしくは無置換のアルキル基であり、最も好ましくはメチル基である。
一般式（４）中の、ｐは１〜５が好ましく、２〜４がより好ましく、ｎは１〜４が好ましく、１もしくは２がより好ましく、ｑは０もしくは１が好ましい。ただし、ｐが２以上の場合は、少なくとも一つの構成単位においてｑが１以上であることがより好ましい。
【０１０５】
次に、前記一般式（３ｂ）について説明する。
【０１０６】
【化２９】
0004619913.tif 000033
式（３ｂ）中、Ｒ9およびＲ10は各々置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｘ―はアニオンを表す。
Ｒ9およびＲ10で各々表される置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基または複素環基は、前記一般式（３ａ）中、Ｒ8で表される基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｘ-で表されるアニオンは、前記一般式（３ａ）中、Ｘ-で表されるアニオンと同義であり、その好ましい範囲も同一である。前記した様に、Ｘ-は１価のアニオンである必要はなく、２価以上のアニオンであってもよく、かかる場合は、前記化合物中のカチオンとアニオンとの比率も１：２である必要はなく、適宜決定される。
【０１０７】
本発明に使用可能なオニウム塩の具体例を以下に示すが、本発明に用いられるオニウム塩はこれらに限定されるものではない。下記の具体例中、Ｎｏ．II−１〜１２は一般式（３ｂ）、Ｎｏ．II−１３〜３２は一般式（３ａ）で表される化合物の例である。
【０１０８】
【化３０】
0004619913.tif 000034
【０１０９】
【化３１】
0004619913.tif 000035
【０１１０】
【化３２】
0004619913.tif 000036
【０１１１】
【化３３】
0004619913.tif 000037
【０１１２】
また、下記（１）〜（６０）の第４級アンモニウム塩も好ましい。
【０１１３】
【化３４】
0004619913.tif 000038
【０１１４】
【化３５】
0004619913.tif 000039
【０１１５】
【化３６】
0004619913.tif 000040
【０１１６】
【化３７】
0004619913.tif 000041
【０１１７】
【化３８】
0004619913.tif 000042
【０１１８】
【化３９】
0004619913.tif 000043
【０１１９】
【化４０】
0004619913.tif 000044
【０１２０】
【化４１】
0004619913.tif 000045
【０１２１】
【化４２】
0004619913.tif 000046
【０１２２】
【化４３】
0004619913.tif 000047
【０１２３】
【化４４】
0004619913.tif 000048
【０１２４】
【化４５】
0004619913.tif 000049
【０１２５】
【化４６】
0004619913.tif 000050
【０１２６】
【化４７】
0004619913.tif 000051
【０１２７】
【化４８】
0004619913.tif 000052
【０１２８】
【化４９】
0004619913.tif 000053
【０１２９】
【化５０】
0004619913.tif 000054
【０１３０】
【化５１】
0004619913.tif 000055
【０１３１】
【化５２】
0004619913.tif 000056
【０１３２】
【化５３】
0004619913.tif 000057
【０１３３】
【化５４】
0004619913.tif 000058
【０１３４】
【化５５】
0004619913.tif 000059
【０１３５】
【化５６】
0004619913.tif 000060
【０１３６】
【化５７】
0004619913.tif 000061
【０１３７】
【化５８】
0004619913.tif 000062
【０１３８】
上記のピリジニウム誘導体は、一般にピリジン環をアルキル化（メンシュトキン反応）して得られる。
【０１３９】
前記液晶組成物中のオニウム塩の含有量は、その種類によって好ましい含有量が変動するが、通常は、併用される棒状液晶化合物の含有量に対して、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．０５〜７質量％であることがより好ましく、０．０５〜５質量％であることがさらに好ましい。オニウム塩は二種類以上用いてもよいが、かかる場合は、使用する全種類のオニウム塩の含有量の合計が前記範囲であることが好ましい。
【０１４０】
《液晶化合物》
前記液晶組成物は、液晶化合物の少なくとも一種を含有している。該液晶化合物は、棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物等、特に制限されるものではないが、棒状液晶化合物であることが好ましい。前記棒状液晶化合物は、正の屈折率異方性を有することがより好ましい。本発明に用いる棒状液晶化合物は、高分子化合物であっても低分子化合物であってもよい。また、棒状液晶化合物は、光学異方性層中において固定された状態では、もはや液晶性を失っていてもよい。前記棒状液晶化合物の好ましい例としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が挙げられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。液晶分子には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は１〜６個、好ましくは１〜３個である。本発明に可能な棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有する重合性棒状液晶化合物であることが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基またはカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報中の段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。
【０１４１】
《空気界面垂直配向剤》
前記液晶組成物は、棒状液晶化合物の空気界面での垂直配向を促進する添加剤（以下、「空気界面垂直配向剤」という場合がある）を含有することが好ましい。通常、棒状液晶化合物は、空気界面側では傾斜して配向する性質を有するので、均一に垂直配向した状態を得るために、空気界面側において液晶化合物を垂直に配向制御することが必要である。この目的のために、空気界面側に偏在して、その排除体積効果や静電気的な効果によって液晶化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を組成物に含有させて、光学異方性層を形成することが好ましい。
【０１４２】
空気界面垂直配向剤としては、特開２００２−２０３６３号公報、特開２００２−１２９１６２号公報に記載されている化合物を用いることができる。また、特開２００４−５３９８１号公報の段落番号［００７２］〜［００７５］、特開２００４−４６８８号公報の段落番号［００７１］〜［００７８］、特開２００４−１３９０１５号公報の段落番号［００５２］〜［００５４］、［００６５］〜［００６６］、［００９２］〜［００９４］、に記載される事項も本発明に適宜適用することができる。また、空気界面垂直配向剤の例には、以下の化合物Ｂ−１〜Ｂ−３３、および化合物Ｃ−１〜Ｃ−４５が含まれる。
【０１４３】
【化５９】
0004619913.tif 000063
【０１４４】
【化６０】
0004619913.tif 000064
【０１４５】
【化６１】
0004619913.tif 000065
【０１４６】
【化６２】
0004619913.tif 000066
【０１４７】
【化６３】
0004619913.tif 000067
【０１４８】
【化６４】
0004619913.tif 000068
【０１４９】
空気界面垂直配向剤は、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝およびそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含む化合物から選ばれることが好ましい。かかる構造の化合物は、棒状液晶化合物の空気界面側のダイレクターの傾斜角度を大きくさせるとともに、組成物の塗布性を改善させ、ムラ、弾きの発生の低減にも寄与する。なお、前記フルオロ脂肪族基および親水性基の少なくとも一種を有する化合物（高分子および低分子化合物を含む）は、重合性基を有していてもよく、かかる場合は、併用される液晶性分子の配向の固定化にも寄与する。
【０１５０】
本発明に用いられる空気界面垂直配向剤は、フルオロ脂肪族基および親水性基をそれぞれ少なくとも一種有するポリマー（以下、「フッ素系ポリマー」という場合がある）；または下記一般式（２）で表される化合物であることが好ましい。
まず、本発明において空気界面垂直配向剤として使用可能なフッ素系ポリマーについて説明する。
《フッ素系ポリマー》
前記液晶組成物には、空気界面垂直配向剤として、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝およびそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを有するフッ素系ポリマーを用いてもよい。ポリマーの種類としては、「改訂  高分子合成の化学」（大津隆行著、発行：株式会社化学同人、１９６８）１〜４ページに記載があり、例えば、ポリオレフィン類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスルホン類、ポリカーボナート類、ポリエーテル類、ポリアセタール類、ポリケトン類、ポリフェニレンオキシド類、ポリフェニレンスルフィド類、ポリアリレート類、ＰＴＦＥ類、ポリビニリデンフロライド類、セルロース誘導体などが挙げられる。前記フッ素系ポリマーは、ポリオレフィン類であることが好ましい。
【０１５１】
前記フッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基を側鎖に有するポリマーである。前記フルオロ脂肪族基は、炭素数１〜１２であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。脂肪族基は、鎖状であっても環状であってもよく、鎖状である場合は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、直鎖状の炭素数６〜１０のフルオロ脂肪族基が好ましい。フッ素原子による置換の程度については特に制限はないが、脂肪族基中の５０％以上の水素原子がフッ素原子に置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましい。フルオロ脂肪族基は、エステル結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、エーテル結合、チオエーテル結合、芳香族環などを介してポリマー主鎖と結合した側鎖に含まれる。フルオロ脂肪族基の一つは、テロメリゼーション法（テロマー法ともいわれる）またはオリゴメリゼーション法（オリゴマー法ともいわれる）により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれるものである。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ  １８７，Ｅｄ  ｂｙ  Ｍｉｌｏｓ  Ｈｕｄｌｉｃｋｙ  ａｎｄ  Ａｔｔｉｌａ  Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９９５）の７４７−７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（Ｓｃｈｅｍｅ−１に例を示した）。
【０１５２】
【化６５】
0004619913.tif 000069
【０１５３】
得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば［Ｓｃｈｅｍｅ２］のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換され、フッ素系ポリマーの製造に使用される。
【０１５４】
【化６６】
0004619913.tif 000070
【０１５５】
本発明において空気界面垂直配向剤として使用可能なフッ素系ポリマーの製造に利用可能なフルオロ脂肪族基含有モノマーの具体例を以下に挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【０１５６】
【化６７】
0004619913.tif 000071
【０１５７】
【化６８】
0004619913.tif 000072
【０１５８】
【化６９】
0004619913.tif 000073
【０１５９】
【化７０】
0004619913.tif 000074
【０１６０】
【化７１】
0004619913.tif 000075
【０１６１】
【化７２】
0004619913.tif 000076
【０１６２】
【化７３】
0004619913.tif 000077
【０１６３】
前記フッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位と、下記一般式（１）で表される親水性基を含有する繰り返し単位とを有する共重合体から選ばれることが好ましい。
【０１６４】
【化７４】
0004619913.tif 000078
【０１６５】
上記一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）またはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）またはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝またはその塩を表す。Ｌは下記の連結基群から選ばれる任意の基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−（Ｒ4は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ5）−（Ｒ5はアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基。
【０１６６】
一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に、水素原子または下記の置換基群Ｙから選ばれる置換基を表す。
（置換基群Ｙ）
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【０１６７】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０１６８】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１６９】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、または後述する−Ｌ−Ｑで表される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましく、水素原子、炭素数１〜２のアルキル基であることが最も好ましい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は、適当な置換基を有していてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。なお、上記のアルキル基の炭素数には、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【０１７０】
Ｌは、上記連結基群から選ばれる２価の連結基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。上記連結基群中、−ＮＲ4−のＲ4は、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水素原子またはアルキル基である。また、−ＰＯ（ＯＲ5）−のＲ5はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくはアルキル基である。Ｒ4およびＲ5がアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す場合の炭素数の好ましい範囲は、「置換基群Ｙ」中で説明したものと同じである。Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、アルキレン基またはアリーレン基を含むことが好ましく、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲ4−、アルキレン基またはアリーレン基を含んでいることがより好ましい。Ｌがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラブチレン、ヘキサメチレン基等が挙げられる。Ｌが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン、ナフタレン基等が挙げられる。Ｌが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、特に好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｌとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。このような置換基としては先にＲ1〜Ｒ3における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
【０１７１】
以下にＬの具体的構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１７２】
【化７５】
0004619913.tif 000079
【０１７３】
【化７６】
0004619913.tif 000080
【０１７４】
前記式（１）中、Ｑはカルボキシル基、カルボキシル基の塩（例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩（例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、ジメチルフェニルアンモニウムなど）、ピリジニウム塩など）、スルホ基、スルホ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）、ホスホノキシ基、ホスホノキシ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）を表す。より好ましくはカルボキシル基、スルホ基、ホスホ基であり、特に好ましいのはカルボキシル基またはスルホ基である。
【０１７５】
前記フッ素系ポリマーは、前記一般式（１）で表される繰り返し単位を１種含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。また、前記フッ素系ポリマーは、上記各繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を１種または２種以上有していてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。以下、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げる。前記フッ素系ポリマーは、下記モノマー群から選ばれる１種または２種以上のモノマーから誘導される繰り返し単位を含有していてもよい。
【０１７６】
モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど；
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエンおよび２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
【０１７７】
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
【０１７８】
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
【０１７９】
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
【０１８０】
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミドなど；
【０１８１】
（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレンおよびその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
【０１８２】
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；および
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど。
【０１８３】
前記フッ素系ポリマー中、フルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、３０質量％以上であることがさらに好ましい。前記フッ素系ポリマーにおいて、前記一般式（１）で表される繰り返し単位の量は、該フッ素ポリマーの構成モノマー総量の０．５質量％以上であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。上記の質量百分率は使用するモノマーの分子量によって、好ましい範囲が変動し易いため、ポリマーの単位質量当たりの官能基モル数で表す方が、一般式（１）で表される繰り返し単位の含有量を正確に規定できる。該表記を用いた場合、前記フッ素系ポリマー中に含有される親水性基（式（１）中のＱ）の好ましい量は、０．１ｍｍｏｌ／ｇ〜１０ｍｍｏｌ／ｇであり、より好ましい量は０．２ｍｍｏｌ／ｇ〜８ｍｍｏｌ／ｇである。
【０１８４】
本発明に用いる前記フッ素系ポリマーの質量平均分子量は、１，０００，０００以下であることが好ましく、５００，０００以下であることがより好ましく、１００，０００以下であることがさらに好ましく、２，０００〜５０，０００が最も好ましい。質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定可能である。
【０１８５】
前記フッ素系ポリマーの製造方法は、特に限定されるものではなく、公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有するモノマー、水素結合性基を有するモノマー等を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。前記フッ素系ポリマーの製造方法の詳細は、先にフルオロ脂肪族基含有共重合体について説明した通りである。前記フッ素系ポリマーは、棒状液晶化合物の分子の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【０１８６】
以下に、空気界面垂直配向剤として本発明に好ましく用いられるフッ素系ポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によってなんら限定されるものではない。ここで式中の数値（ａ、ｂ、ｃ、ｄ等の数値）は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはＧＰＣにより測定されたＰＳ換算の質量平均分子量である。
【０１８７】
【化７７】
0004619913.tif 000081
【０１８８】
【化７８】
0004619913.tif 000082
【０１８９】
【化７９】
0004619913.tif 000083
【０１９０】
【化８０】
0004619913.tif 000084
【０１９１】
【化８１】
0004619913.tif 000085
【０１９２】
前記液晶組成物中における前記フッ素系ポリマーの含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、光学異方性層の形成に用いる場合は、組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であることが好ましく、０．０１〜５質量％であることがより好ましく、０．０５〜１質量％であることがさらに好ましい。前記フッ素系ポリマーの添加量が０．００５質量％未満では効果が不十分であり、また８質量％より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、光学フィルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）に悪影響を及ぼすおそれがある。
【０１９３】
次に、一般式（２）で表される含フッ素化合物について説明する。
《一般式（２）で表される含フッ素化合物》
一般式（２）
（Ｒ0）m−Ｌ0−（Ｗ）n
式中、Ｒ0はアルキル基、末端にＣＦ3基を有するアルキル基、または末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、ｍは１以上の整数を表す。複数個のＲ0は同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ3基またはＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表す。
Ｌ0は（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｗはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表し、ｎは１以上の整数を表す。
【０１９４】
式（２）中、Ｒ0で表されるアルキル基は置換もしくは無置換のアルキル基であり、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくは４〜１６のアルキル基であり、特に好ましくは６〜１６のアルキル基である。該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示した置換基のいずれかを適用できる。
【０１９５】
Ｒ0で表される末端にＣＦ3基を有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０であり、さらに好ましくは４〜１６であり、特に好ましくは４〜８である。前記末端にＣＦ3基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましく、７０％以上が置換されていることが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。Ｒ0で表される末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０であり、さらに好ましくは４〜１６であり、特に好ましくは４〜８である。前記末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましく、７０％以上が置換されていることが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。Ｒ0で表される末端にＣＦ3基を有するアルキル基、または末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
【０１９６】
Ｒ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−
Ｒ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−
Ｒ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−
Ｒ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−
Ｒ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−
Ｒ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−
Ｒ７：Ｈ−（ＣＦ2）8−
Ｒ８：Ｈ−（ＣＦ2）6−
Ｒ９：Ｈ−（ＣＦ2）4−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−
【０１９７】
式（２）において、Ｌ0で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、芳香族基、ヘテロ環基、−ＣＯ−、−ＮＲ−（Ｒは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−およびＳＯ2−からなる群より選ばれる基を少なくとも二種を組み合わせた連結基であることが好ましい。
【０１９８】
式（２）において、Ｗはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。Ｗの好ましい範囲は、一般式（１）におけるＱと同一である。
【０１９９】
前記一般式（２）で表される含フッ素化合物の中でも、下記一般式（２ａ）または後述する一般式（２ｂ）で表される化合物が好ましい。
【０２００】
【化８２】
0004619913.tif 000086
【０２０１】
式（２ａ）中、Ｒ5およびＲ6は各々アルキル基、末端にＣＦ3基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表すが、Ｒ5およびＲ6が同時にアルキル基であることはない。Ｗ1およびＷ2は各々水素原子、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有する、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルアミノ基を表すが、Ｗ1およびＷ2が同時に水素原子であることはない。
【０２０２】
Ｒ5およびＲ6は前記一般式（２）におけるＲ0と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｗ1およびＷ2で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩は前記一般式（２）におけるＷと同義でありその好ましい範囲も同一である。Ｗ1およびＷ2で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくは１〜８のアルキル基であり、特に好ましくは１〜３のアルキル基である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、スルファト基およびホスホノキシ基としては、前記一般式（２）中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、スルファト基およびホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示した置換基のいずれかを適用できる。Ｗ1およびＷ2で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましくは１〜８のアルコキシ基であり、特に好ましくは１〜４のアルコキシ基である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、スルファト基およびホスホノキシ基としては、前記一般式（２）中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、スルファト基およびホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記カルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示した置換基のいずれかを適用できる。Ｗ1およびＷ2で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキルアミノ基であり、さらに好ましくは１〜８のアルキルアミノ基であり、特に好ましくは１〜４のアルキルアミノ基である。前記カルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、スルファト基およびホスホノキシ基としては、前記一般式（２）中のＷが表すカルボキシル基���スルホ基、スルファト基およびホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記カルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示した置換基のいずれかを適用できる。
【０２０３】
Ｗ1およびＷ2は、特に好ましくはそれぞれ水素原子または（ＣＨ2）nＳＯ3Ｍ（ｎは０または１を表す。）である。Ｍはカチオンを表すが、分子内で荷電が０になる場合はＭはなくてもよい。Ｍで表されるカチオンとしては、例えばプロトニウムイオン、アルカリ金属イオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなど）、アルカリ土類金属イオン（バリウムイオン、カルシウムイオンなど）、アンモニウムイオンなどが好ましく適用される。このうち、特に好ましくはプロトニウムイオン、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオンである。
【０２０４】
次に、下記一般式（２ｂ）について説明する。
一般式（２ｂ）
（Ｒ7−Ｌ1−）m2（Ａｒ1）−Ｗ3
式（２ｂ）中、Ｒ7はアルキル基、末端にＣＦ3基を有するアルキル基、または末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、ｍ２は１以上の整数を表し、複数個のＲ7は同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ3基またはＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表す。Ｌ1は、アルキレン基、芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ−（Ｒは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、複数個のＬ1は同一でも異なっていてもよい。Ａｒ1は芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環を表し、Ｗ3はカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基、アルコキシ基、またはアルキルアミノ基を表す。
【０２０５】
Ａｒ1が表す芳香族炭化水素環は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環が好ましく、例えば、ベンゼン環およびナフタレン環が好ましい。また、Ａｒ1が表す芳香族へテロ環は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子の少なくとも１種および炭素原子を環構成原子とする芳香族へテロ環であることが好ましく、例えば、ピリジン環、チオフェン環、フラン環、ピリミジン環等が好ましい。Ａｒ1としては芳香族炭化水素環が好ましく、中でもベンゼン環及びナフタレン環がより好ましく、ベンゼン環がさらに好ましい。
【０２０６】
Ｒ7は前記一般式（２）におけるＲ0と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｌ1は、好ましくは炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数６〜１２の芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる総炭素数０〜４０の連結基を表し、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキレン基、フェニル基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる総炭素数０〜２０の連結基を表す。Ｗ3で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基、アルコキシ基、またはアルキルアミノ基は、前記一般式（２ａ）におけるＷ1およびＷ2で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基、スルホ基、スルファト基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基、アルコキシ基、またはアルキルアミノ基と同義でありその好ましい範囲も同一である。
【０２０７】
Ｗ3は、好ましくはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩又はスルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩を有するアルキルアミノ基であり、特に好ましくはＳＯ3Ｍ、またはＣＯ2Ｍである。Ｍはカチオンを表すが、分子内で荷電が０になる場合はＭはなくてもよい。Ｍで表されるカチオンとしては、例えばプロトニウムイオン、アルカリ金属イオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなど）、アルカリ土類金属イオン（バリウムイオン、カルシウムイオンなど）、アンモニウムイオンなどが好ましく適用される。このうち、特に好ましくはプロトニウムイオン、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオンである。
【０２０８】
本明細書において、置換基群Ｄには、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる）、
【０２０９】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２アシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、
【０２１０】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０２１１】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０２１２】
なお、前記含フッ素化合物は棒状液晶化合物の分子の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【０２１３】
本発明に使用可能な前記一般式（２）で表される含フッ素化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる含フッ素化合物はこれらに限定されるものではない。下記の具体例中、Ｎｏ．Ｉ−１〜３８は一般式（２ａ）、Ｎｏ．Ｉ−３９〜６２は一般式（２ｂ）で表される化合物の例である。
【０２１４】
【化８３】
0004619913.tif 000087
【０２１５】
【化８４】
0004619913.tif 000088
【０２１６】
【化８５】
0004619913.tif 000089
【０２１７】
【化８６】
0004619913.tif 000090
【０２１８】
【化８７】
0004619913.tif 000091
【０２１９】
前記液晶組成物中における前記含フッ素化合物の含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、光学異方性層の形成に用いる場合は、組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であることが好ましく、０．０１〜５質量％であることがより好ましく、０．０５〜１質量％であることがさらに好ましい。
【０２２０】
《組成物中の他の材料》
前記液晶組成物は、液晶化合物（好ましくは棒状液晶化合物）、前記フルオロ脂肪族基含有共重合体を含み、更に、前述のオニウム塩、および空気界面垂直配向剤を含むことができる。上記成分と共に、重合開始剤、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を含有していてもよい。これらの材料は、種々の目的、例えば、配向の固定化、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶化合物の配向性の向上等を目的として添加される。これらの材料は、併用する棒状液晶化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
【０２２１】
重合開始剤としては、熱重合開始剤および光重合開始剤のいずれを用いてもよい。光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
【０２２２】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性もしくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、液晶化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０２２３】
液晶化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
【０２２４】
《光学異方性層の作製方法》
前記光学異方性層は、前記液晶組成物を塗布液として調製し、該塗布液を、支持体等の表面に塗布して、好ましくは棒状液晶化合物の分子を垂直配向させ、該配向状態を固定することで形成することができる。仮支持体上に光学異方性層を形成した場合は、形成された光学異方性層は、支持体上に転写される。さらに、１層の光学異方性層のみならず複数の光学異方性層を積層して、後述する好ましい光学特性を示す第２位相差領域を構成することもできる。また、支持体と光学異方性層との積層体全体で後述の好ましい光学特性を満たすようにして、第２位相差領域を作製してもよい。
【０２２５】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０２２６】
塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【０２２７】
棒状液晶化合物の分子を垂直配向させた後、その配向状態に分子を固定することが好ましい。固定化は、棒状液晶化合物が重合性基を有する場合は棒状液晶化合物および／又は別途重合性モノマーを添加した場合は重合性モノマーの重合反応により実施することが好ましい。固定化のために実施する重合反応には、光重合開始剤を用いた光重合反応を利用することが好ましい。棒状液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０２２８】
前記光学異方性層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、１〜５μｍであることが最も好ましい。
【０２２９】
（配向膜）
本発明の光学補償フィルムは、透明支持体上に配向層と光学異方性層とをこの順に有するものであることができる。配向膜は、棒状液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、棒状液晶化合物の分子をホメオトロピック配向させる場合は、面内の配向方向はないため、配向膜は本発明において必須ではない。また、前記液晶組成物は、オニウム塩および空気界面垂直配向剤を含有すると、垂直配向膜を用いなくても、棒状液晶化合物の分子を安定的に垂直配向させることができるので、光学異方性層を形成するのに垂直配向膜は必須ではない。しかし、配向膜は液晶性組成物の配向の均一性を向上させたり、ポリマー基材と光学異方性層との間の密着性を向上させることができるために、必要であれば用いることができる。また、棒状液晶化合物の分子を配向させ、その配向状態に固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、除去することも可能である。例えば、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを、偏光膜上に転写して光学異方性層を有する偏光板を作製することも可能である。
【０２３０】
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０２３１】
配向膜は、必要であればラビング処理することができる。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。
【０２３２】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系重合体、スチレン系重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。
【０２３３】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。
【０２３４】
液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。
例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【０２３５】
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償フィルムの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【０２３６】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［０２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０２３７】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【０２３８】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む塗布液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、必要であればラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で、水：メタノールが０より大きく９９以下：１００未満１以上が好ましく、０より大きく９１以下：１００未満９以上であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０２３９】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０度〜１１０度で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０度〜１００度が好ましく、特に８０度〜１００度が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【０２４０】
配向膜は、透明支持体上または透明支持体上に形成した下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、必要であれば表面をラビング処理することにより得ることができる。
【０２４１】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０２４２】
配向膜上で液晶性分子を配向させた後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させてもよい。配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
【０２４３】
［支持体］
本発明では、前記光学異方性層を、支持体上に形成してもよい。支持体は透明であることが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であることが好ましい。支持体は、波長分散が小さいことが好ましく、具体的には、Ｒｅ４００／Ｒｅ７００の比が１．２未満であることが好ましい。中でも、ポリマーフィルムが好ましい。前記光学異方性層の支持体は、後述の第２位相差領域の一部であってもよく、また、後述の第１位相差領域の一部または全部であってもよい。また、前記光学異方性層の支持体は、偏光膜の保護膜としても機能していてもよい。
【０２４４】
支持体の光学異方性は小さいことが好ましく、Ｒｅ（λ）が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５ｎｍ以下であることが最も好ましい。また、後述の第１位相差領域を兼ねる場合は、Ｒｅ（λ）が２０ｎｍ〜１５０ｎｍであって、４０ｎｍ〜１１５ｎｍであることがより好ましく、６０ｎｍ〜９５ｎｍであることがさらに好ましい。また、Ｎｚが１．５〜７であって、２．０〜５．５であることがより好ましく、２．５〜４．５であることがさらに好ましい。
【０２４５】
支持体となるポリマーフィルムの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレートのフィルムが含まれる。セルロースエステルフィルムが好ましく、アセチルセルロースフィルムがさらに好ましく、トリアセチルセルロースフィルムが最も好ましい。ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、垂直配向膜あるいは位相差層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒子サイズが１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
【０２４６】
偏光板
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、前述の本発明の光学補償フィルムと偏光膜を有する。偏光板は、一般的には、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって偏光膜を得、その両面に保護膜を積層して作製することができる。本発明の光学補償フィルムが光学異方性層を支持するポリマーフィルム等からなる支持体を有する場合、この支持体を保護膜の少なくとも一方にそのまま用いることができる。また、本発明では、前記光学異方性層が該保護膜を兼ねることもできる。
【０２４７】
［偏光膜用保護膜］
偏光膜用保護膜としては、可視光領域に吸収が無く、光透過率が８０％以上であり、複屈折性に基づくレターデーションが小さいものが好ましい。具体的には、Ｒｅ（λ）が０〜３０ｎｍが好ましく、０〜１５ｎｍがより好ましく、０〜５ｎｍが最も好ましい。さらに、Ｒｔｈ（λ）は０〜４０ｎｍであることが好ましく、０〜２０ｎｍがより好ましく、０〜１０ｎｍであることが最も好ましい。この特性を有するフィルムであれば好適に用いることができるが、偏光膜の耐久性の観点からはセルロースアシレートやノルボルネン系のフィルムがより好ましい。セルロースアシレートフィルムのＲｔｈを小さくする方法として、特開平１１−２４６７０４号公報、特開２００１−２４７７１７号公報、特願２００３−３７９９７５号明細書に記載の方法などが挙げられる。また、セルロースアシレートフィルムの厚みを小さくすることによっても、Ｒｔｈを小さくすることができる。偏光膜用保護膜としてのセルロースシレートフィルムの厚みは１０〜１００μｍであることが好ましく、１０〜６０μｍであることがより好ましく、２０〜４５μｍであることがさらに好ましい。
【０２４８】
液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、本発明の光学補償フィルムまたは本発明の偏光板を有するものである。本発明の液晶表示装置は、２つの位相差領域（第１位相差領域、第２位相差領域）を含み、少なくともその一方の領域に本発明の光学補償フィルムを含むことが好ましい。
【０２４９】
以下、図面を用いて本発明の液晶表示装置の好ましい態様について説明する。図１は、本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す模式図である。図２および図３は、本発明の液晶表示装置の一実施形態の模式図である。
【０２５０】
［液晶表示装置］
図２に示す液晶表示装置は、偏光膜８および２０と、第１位相差領域１０と、第２位相差領域１２と、基板１３および１７と、該基板に挟持される液晶層１５とを有する。偏光膜８及２０は、それぞれ保護膜７ａと７ｂおよび１９ａと１９ｂによって挟持されている。
【０２５１】
図２の液晶表示装置では、液晶セルは、基板１３および１７と、これらに挟持される液晶層１５からなる。液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは透過モードにおいて、ねじれ構造を持たないＩＰＳ型では０．２〜０．４μｍの範囲が最適値となる。この範囲では白表示輝度が高く、黒表示輝度が小さいことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。基板１３および１７の液晶層１５に接触する表面には、配向膜（不図示）が形成されていて、液晶分子を基板の表面に対して略平行に配向させるとともに配向膜上に施されたラビング処理方向１４および１８等により、電圧無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子配向方向が制御されている。また、基板１３若しくは１７の内面には、液晶分子に電圧印加可能な電極（図２中不図示）が形成されている。
【０２５２】
図１に、液晶層１５の１画素領域中の液晶分子の配向を模式的に示す。図１は、液晶層１５の１画素に相当する程度の極めて小さい面積の領域中の液晶分子の配向を、基板１３および１７の内面に形成された配向膜のラビング方向４、および基板１３および１７の内面に形成された液晶分子に電圧印加可能な電極２および３とともに示した模式図である。電界効果型液晶として正の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いてアクティブ駆動を行った場合の、電圧無印加状態若しくは低印加状態での液晶分子配向方向は５ａおよび５ｂであり、この時に黒表示が得られる。電極２および３間に電圧が印加されると、電圧に応じて液晶分子は６ａおよび６ｂ方向へとその配向方向を変える。通常、この状態で明表示を行なう。
【０２５３】
図２において、偏光膜８の透過軸９と、偏光膜２０の透過軸２１は直交して配置されている。第１位相差領域１０の遅相軸１１は、偏光膜８の透過軸９および黒表示時の液晶層１５中の液晶分子の遅相軸方向１６に平行である。
図２に示す液晶表示装置では、偏光膜８が二枚の保護膜７ａおよび７ｂに挟持された構成を示しているが、保護膜７ｂはなくてもよい。保護膜７ｂがない場合は、第１位相差領域１０の一部または全部が、偏光膜の保護膜７ｂとしても機能し得る特性を有していることが好ましい。また、偏光膜２０も二枚の保護膜１９ａおよび１９ｂに挟持されているが、液晶層１５に近い側の保護膜１９ａはなくてもよい。なお、図２の態様では、第１位相差領域１０および第２位相差領域１２は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと視認側の偏光膜との間に配置されていてもよいし、液晶セルと背面側の偏光膜との間に配置されていてもよい。本実施形態では、いずれの構成においても、第２位相差領域が液晶セルにより近くなるように配置する。
【０２５４】
本発明の他の実施形態を図３に示す。図３の液晶表示装置は、第２位相差領域１２が偏光膜８および第１位相差領域１０の間に配置されている。図３の液晶表示装置において、保護膜７ｂはなくてもよい。保護膜７ｂがない場合は、第２位相差領域１２の一部または全部が、偏光膜の保護膜７ｂとしても機能し得る特性を有していることが好ましい。また、偏光膜２０も二枚の保護膜１９ａおよび１９ｂに挟持されているが、液晶層１５に近い側の保護膜１９ａはなくてもよい。図３に示す態様では、第１位相差領域１０は、その遅相軸１１が、偏光膜８の透過軸９と黒表示時の液晶層１５中の液晶分子の遅相軸方向１６に直交になるように配置される。なお、図３の態様では、第１位相差領域１０および第２位相差領域１２は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと視認側の偏光膜との間に配置されていてもよいし、液晶セルと背面側の偏光膜との間に配置されていてもよい。本実施形態では、いずれの構成においても、第１位相差領域が液晶セルにより近くなるように配置する。
【０２５５】
なお、図３および図２には、上側偏光板および下側偏光板を備えた透過モードの表示装置の態様を示したが、本発明は一の偏光板のみを備える反射モードの態様であってもよく、かかる場合は、液晶セル内の光路が２倍になることから、最適Δｎ・ｄの値は上記の１／２程度の値になる。また、本発明に用いられる液晶セルはＩＰＳモードに限定されることなく、黒表示時に液晶分子が前記一対の基板の表面に対して実質的に平行に配向する液晶表示装置であれば、いずれも好適に用いることができる。この例としては強誘電性液晶表示装置、反強誘電性液晶表示装置、ＥＣＢ型液晶表示装置がある。
【０２５６】
本発明の液晶表示装置は、図１〜図３に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶層と偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、偏光膜の保護膜の表面に反射防止処理やハードコートを施しても良い。また、構成部材に導電性を付与したものを使用してもよい。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。この場合、バックライトの配置は図２および図３の上側であっても下側であっても良い。また、液晶層とバックライトとの間に、反射型偏光板や拡散板、プリズムシートや導光板を配置することもできる。また、上記した様に、本発明の液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を配置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。
【０２５７】
本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子または２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。
【０２５８】
以下、本発明の液晶表示装置に使用可能な種々の部材の好ましい光学特性や部材に用いられる材料、その製造方法等について、詳細に説明する。
【０２５９】
［第１位相差領域］
本発明の液晶表示装置に含まれる第１位相差領域は、Ｒｅ（λ）が２０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましい。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＲｅ（λ）は、４０ｎｍ〜１１５ｎｍであることがより好ましく、６０ｎｍ〜９５ｎｍであることがさらに好ましい。また、面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ＞ｎｙ）、および厚さ方向の屈折率ｎｚを用いてＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で定義されるＮｚが１．５〜７であることが好ましく、斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＮｚは、２．０〜５．５であることがより好ましく、２．５〜４．５であることがさらに好ましい。
【０２６０】
前記第１位相差領域は、前記光学特性を有する限り、基本的にその材料および形態については特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、透明支持体上に高分子化合物を塗布後に加熱塩した膜、および透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【０２６１】
複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるものが好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、セルロースアシレート、または、それらポリマーの２種または３種以上を混合したポリマーなどが挙げられる。
【０２６２】
フィルムの二軸配向は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造した当該熱可塑性樹脂からなるフィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより達成することができる。前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜な加熱方法を採ることができる。またテンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜な方法を採ることができる。
また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より、例えば１〜３００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、特に２０〜１５０μｍとされる。
【０２６３】
ノルボルネン系高分子としては、ノルボルネンおよびその誘導体、テトラシクロドデセンおよびその誘導体、ジシクロペンタジエンおよびその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレンおよびその誘導体などのノルボルネン系モノマーの主成分とするモノマーの重合体であり、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、およびの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体または環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の質量平均分子量で、通常５，０００〜５００，０００、好ましくは８，０００〜２００，０００、より好ましくは１０，０００〜１００，０００の範囲であるときに、フィルムの機械的強度、および成形加工性とが高度にバランスされて好適である。代表的なポリマーとして、特開２００３−３２７８００号公報、特開２００４−２３３６０４号公報に記載されたポリマーが挙げられる。
【０２６４】
セルロースアシレートのアシル基としては、脂肪族基でも芳香族基でもよく、特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよく、総炭素数が２２以下のエステル基が好ましい。これらの好ましいセルロースアシレートとしては、エステル部の総炭素数が２２以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、バレル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基など）、アリールカルボニル基（アクリル基、メタクリル基など）、アリルカルボニル基（ベンゾイル基、ナフタロイル基など）、シンナモイル基を挙げることができる。これらの中でも、好ましくは、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートステアレート、セルロースアセテートベンゾエートなどであり、混合エステルの場合はその比率は特に限定されないが、アセテートが総エステルの３０モル％以上であることが好ましい。
【０２６５】
これらの中でも、セルロースアシレートが好ましく、特に写真用グレードのものが好ましく、市販の写真用グレードのものは粘度平均重合度、置換度等の品質を満足して入手することができる。写真用グレードのセルローストリアセテートのメーカーとしては、ダイセル化学工業（株）（例えばＬＴ−２０，３０，４０，５０，７０，３５，５５，１０５など）、イーストマンケミカル社（例えば、ＣＡＢ−５５１−０．０１、ＣＡＢ−５５１−０．０２、ＣＡＢ−５００−５、ＣＡＢ−３８１−０．５、ＣＡＢ−３８１−０２、ＣＡＢ−３８１−２０、ＣＡＢ−３２１−０．２、ＣＡＰ−５０４−０．２、ＣＡＰ−４８２−２０、ＣＡ−３９８−３など）、コートルズ社、ヘキスト社等があり、何れも写真用グレードのセルロースアシレートを使用できる。また、フィルムの機械的特性や光学的な特性を制御する目的で、可塑剤、界面活性剤、レターデーション調節剤、ＵＶ吸収剤などを混合することができる。これらの添加剤の詳細については、例えば、特開２００２−２７７６３２号公報、特開２００２−１８２２１５号公報に記載がある。
【０２６６】
透明樹脂をシートまたはフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法、およびプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。上記シートまたはフィルムの厚みは、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは３０〜２００μｍである。
上記シートまたはフィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくはＴｇ−３０℃からＴｇ＋６０℃の温度範囲、より好ましくはＴｇ−１０℃からＴｇ＋５０℃の温度範囲にて、少なくとも一方向に好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことができる。
【０２６７】
［第２位相差領域］
本発明の液晶表示装置が有する第２位相差領域は、面内屈折率ｎｘとｎｙが実質的に等しく、厚さ方向の屈折率ｎｚが、ｎｘ＜ｎｚを満足することが好ましい。さらに、第２位相差領域のＲｔｈ（λ）は、−８０ｎｍ〜−４００ｎｍであることが好ましい。
前記第２位相差領域のＲｔｈ（λ）のより好ましい範囲は、他の光学部材の光学特性に応じて変動し、特に、より近くに位置する偏光膜の保護膜（例えば、トリアセチルセルロースフィルム）のＲｔｈ（λ）に応じて変動するが、斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第２位相差領域のＲｔｈ（λ）は、−１００ｎｍ〜−３４０ｎｍであることが好ましく、−１２０ｎｍ〜−２７０ｎｍであることがより好ましい。一方、第２位相差領域のｎｘとｎｙは、上記した様に、実質的に同一であり、その場合、Ｒｅ（λ）は０近傍の値になる。具体的には、面内レターデーションＲｅ（λ）は、０〜５０ｎｍであることが好ましく、０〜２０ｎｍであることがより好ましい。
【０２６８】
前記第２位相差領域は、前述の液晶組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償フィルムを含むことができる。前記組成物は、液晶化合物を含有している。該液晶化合物は、棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物等、特に制限されるものではないが、棒状液晶化合物であることが好ましい。前記組成物は、棒状液晶化合物を含有し、該光学異方性層中において、棒状液晶化合物の分子は実質的に垂直配向した状態に固定されていることがより好ましい。これらの液晶化合物は斜め配向させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するように（ハイブリッド配向）させてもよい。斜め配向またはハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜角は７０°〜９０°であることが好ましく、８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°が最も好ましい。
【０２６９】
前記第２位相差領域は、前記光学異方性層のみからなっていても、複数の光学異方性層からなっていてもよい。また、支持体と光学異方性層との積層体全体で上記光学特性を満たすようにして、第２位相差領域を構成してもよい。用いる棒状液晶化合物としては、配向固定させる温度範囲で、ネマチック液晶相、スメクチック液晶相、リオトロピック液晶相状態をとるものが好適に用いられる。均一な配向状態を得るためにネマチック相を示す液晶が好ましい。特にまた、添加剤の存在下において、適切な配向温度範囲で、上記液晶状態となる棒状液晶化合物については、該添加剤と棒状液晶化合物を含有する組成物を用いて層を形成することも好ましい。
【実施例】
【０２７０】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０２７１】
（フルオロ脂肪族基含有共重合体（Ｐ−３）の合成）
【０２７２】
【化８８】
0004619913.tif 000092
【０２７３】
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート  ３１．９４ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート  ７．９９ｇ、ジメチル２，２'−アゾビスイソブチレート１．１ｇ、２−ブタノン  ３０ｇを加え窒素雰囲気下で６時間７８℃に加熱して反応を完結させ、Ｐ−３を得た。質量平均分子量は２．０×１０4であった。
【０２７４】
（フルオロ脂肪族基含有共重合体（Ｐ−６）の合成）
【０２７５】
【化８９】
0004619913.tif 000093
【０２７６】
１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルメタクリレート  ２３．９６ｇ、４−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン  １５．９７ｇ、ジメチル２，２'−アゾビスイソブチレート１．１ｇ、２−ブタノン  ３０ｇを用いてフルオロ脂肪族基含有共重合体（Ｐ−３）と同様な方法でＰ−６を得た。質量平均分子量は１．９×１０4であった。
（Ｐ−９）、（Ｐ−１２）、（Ｐ−１５）、（Ｐ−２７）についてもフルオロ脂肪族基含有共重合体（Ｐ−３）と同様の方法で合成した。
【０２７７】
＜ＩＰＳモード液晶セル１の作製＞
一枚のガラス基板上に、図１に示す様に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極（図１中２および３）を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。図１中に示す方向４に、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９および誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。
【０２７８】
＜第１位相差領域１、第１位相差領域２、第１位相差領域３の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。該溶液を保留粒子サイズ４μｍ、濾水時間３５秒の濾紙（Ｎｏ．６３、アドバンテック製）を０．５ＭＰａ（５ｋｇ／ｃｍ2）以下で用いてろ過した。
【０２７９】
──────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
──────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５）                  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）        ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                              ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                          １１質量部
──────────────────────────────────
【０２８０】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤Ａを８質量部、レターデーション上昇剤Ｂを１０質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒子サイズ：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レターデーション上昇剤溶液４０質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
【０２８１】
【化９０】
0004619913.tif 000094
【０２８２】
【化９１】
0004619913.tif 000095
【０２８３】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後クリップを外してセルロースアセテートフィルムを作製した。延伸終了時の残留溶媒量は５質量％であり、さらに乾燥して残留溶媒量を０．１質量％未満としてフィルムを作製した。
【０２８４】
このようにして得られたフィルム（第１位相差領域１）の厚さは８０μｍであった。作製した第１位相差領域１について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することによって、Ｒｅが７０ｎｍ、Ｒｔｈが１７５ｎｍであり、これからＮｚが３．０であることが分かった。
【０２８５】
別のミキシングタンクに、前記のレターデーション上昇剤Ａを１６質量部、レターデーション上昇剤Ｂを８質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒子サイズ：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レターデーション上昇剤溶液４５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製し、前述の第１位相差領域１同様に製膜した。このようにして得られたフィルム（第１位相差領域２）の厚さは８０μｍであった。作製した第１位相差領域２について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することによって、Ｒｅが６０ｎｍ、Ｒｔｈが２１０ｎｍであり、これからＮｚが４．０であることが分かった。
【０２８６】
別のミキシングタンクに、前記のレターデーション上昇剤Ａを１８質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒子サイズ：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製し、延伸倍率を２３％にした以外は前述の第１位相差領域１同様に製膜した。このようにして得られたフィルム（第１位相差領域３）の厚さは８０μｍであった。作製した第１位相差領域３について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することによって、Ｒｅが３５ｎｍ、Ｒｔｈが１３５ｎｍであり、これからＮｚが４．４であることが分かった。
【０２８７】
＜第２位相差領域１〜１０の作製＞
製作した第１位相差領域１、第１位相差領域２、および第１位相差領域３の表面にケン化処理を行い、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで３０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にフィルムの遅相軸方向と平行の方向にラビング処理を施して、配向膜を得た。
配向膜塗布液の組成
下記の変性ポリビニルアルコール                      １０質量部
水                                                ３７１質量部
メタノール                                        １１９質量部
グルタルアルデヒド                                ０．５質量部
【０２８８】
【化９２】
0004619913.tif 000096
【０２８９】
次に、下記の棒状液晶化合物３．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇ、フルオロ脂肪族基含有ポリマー０．０２ｇ、下記のオニウム塩、０．０７６ｇ、下記の空気界面側垂直配向剤０．００２ｇを９．２ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液（表１中に示すＮｏ．２−１〜２−９の塗布液）をそれぞれ調製した。この塗布液を前記配向膜の表面に、表２に示す番手のワイヤーバーでそれぞれ塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１００℃の恒温槽中で２分間加熱し、棒状液晶化合物を配向させた。次に、８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯により、２０秒間ＵＶ照射し棒状液晶化合物を架橋して、その後、室温まで放冷して光学異方性層を作製した。
【０２９０】
【化９３】
0004619913.tif 000097
【０２９１】
【化９４】
0004619913.tif 000098
【０２９２】
【化９５】
0004619913.tif 000099
【０２９３】
【表１】
0004619913.tif 000100
【０２９４】
【表２】
0004619913.tif 000101
【０２９５】
【化９６】
0004619913.tif 000102
【０２９６】
光学補償フィルム表面の状態を目視観察した結果を表２に示す。本発明で得られた組成物を含む塗布液を塗設した光学補償フィルムは風ムラがいずれも良好であった。ここで、風ムラとは乾燥条件を変更した際に変化する面状故障、塗布ムラとは塗布条件を変更した際に変化する面状故障とし、面状故障が目視で確認できるときに×と判断した。
また、位相差６および７は、消光位を示さず、それぞれの第２位相差領域にシュリーレン欠陥が観察され垂直配向しなかった。第２位相差領域６および７はそれぞれ、オニウム塩および空気界面垂直配向剤のいずれか一方が添加されていない塗布液を用いて形成された光学異方性層であり、この結果より、棒状液晶化合物の垂直配向にはオニウム塩と空気界面垂直配向剤の双方が必要であることが判った。
なお、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、製作したフィルムのＲｅの光入射角度依存性を測定し、予め測定した支持体の寄与分を差し引くことによって、第２位相差領域のみの光学特性を算出したところ、それぞれ第２位相差領域１はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２２５ｎｍ、第２位相差領域２はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−１８０ｎｍ、第２位相差領域３はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２９５ｎｍ、第２位相差領域４はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−１７０ｎｍ、第２位相差領域５はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２９２ｎｍ、第２位相差領域８はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２２６ｎｍ、第２位相差領域９はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２９７ｎｍ、第２位相差領域１０および１１はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２９６ｎｍであって、いずれも棒状液晶が略垂直に配向していることを確認した。
【０２９７】
＜偏光板保護膜１の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
＜セルロースアセテート溶液Ａ組成＞
置換度２．８６のセルロースアセテート              １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）        ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                              ５４質量部
１−ブタノール                                      １１質量部
【０２９８】
別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂ−１を調製した。
＜添加剤溶液Ｂ−１組成＞
メチレンクロライド                                  ８０質量部
メタノール                                          ２０質量部
下記のレターデーション低下剤                        ４０質量部
【０２９９】
【化９７】
0004619913.tif 000103
【０３００】
セルロースアセテート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂ−１の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み８０μｍの偏光板保護膜１を作製した。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定し、光学特性を算出したところ、Ｒｅが１ｎｍ、Ｒｔｈが６ｎｍであることが確認できた。
【０３０１】
＜偏光板Ａの作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝４５ｎｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付け偏光板Ａを形成した。
【０３０２】
＜偏光板Ｂの作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の両面に貼り付け偏光板Ｂを形成した。
【０３０３】
＜偏光板Ｃの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の偏光板保護膜１を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｃを形成した。
【０３０４】
＜偏光板Ｄの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴ４０ＵＺ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝３５ｎｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｄを形成した。
【０３０５】
<偏光板Ｅの作製＞
偏光板Ｃにおいて、偏光板保護膜１の代わりにゼオノアＺＦ１４（日本ゼオン（株）製、Ｒｅ＝５ｎｍ，Ｒｔｈ＝５ｎｍ）を用いて偏光板Ｅを形成した。
【０３０６】
［実施例１］
偏光板Ａにポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製したフィルム位相差１を、第１位相差領域１側が偏光膜側となるように、且つ偏光膜の透過軸と第１位相差領域１の遅相軸が平行になるように偏光膜のセルロースアセテートフィルムを貼合していない側に貼り付け偏光板１を形成した。
【０３０７】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、第１位相差領域１の遅相軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域１の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第２位相差領域１面側が液晶セル側になるように偏光板１を貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板Ｃを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ偏光板１とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０６％であった。
【０３０８】
［実施例２］
偏光板Ａにポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製したフィルム位相差２を、第１位相差領域１側が偏光膜側となるように、且つ偏光膜の透過軸と第１位相差領域１の遅相軸が平行になるように偏光膜のセルロースアセテートフィルムを貼合していない側に貼り付け偏光板２を形成した。
【０３０９】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、第１位相差領域１の遅相軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域１の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第２位相差領域２面側が液晶セル側になるように偏光板２を貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板ＤをＴ４０ＵＺ側が液晶セル側になるように、且つ偏光板２とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０６％であった。
【０３１０】
［実施例３］
偏光板Ｂにフィルム位相差３を、第２位相差領域３側が偏光膜側となるように、且つ偏光膜の透過軸と第１位相差領域２の遅相軸が直交になるようにアクリル樹脂系接着剤を用いて、貼り付け偏光板３を形成した。
【０３１１】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、第１位相差領域２の遅相軸が液晶セルのラビング方向と直交になるように（即ち、第１位相差領域２の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第１位相差領域２面側が液晶セル側になるように偏光板３を貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板Ｃを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ偏光板３とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０５％であった。
【０３１２】
［実施例４］
偏光板Ｃにフィルム位相差４を、第２位相差領域４側が偏光膜側となるように、且つ偏光膜の透過軸と第１位相差領域１の遅相軸が直交になるようにアクリル樹脂系接着剤を用いて、偏光板保護膜１側に貼り付け偏光板４を形成した。
【０３１３】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、第１位相差領域１の遅相軸が液晶セルのラビング方向と直交になるように（即ち、第１位相差領域１の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第１位相差領域１面側が液晶セル側になるように偏光板４を貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板Ｂを偏光板４とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０９％であった。
【０３１４】
［実施例５］
偏光板Ｅにフィルム位相差６を、第２位相差領域６側が偏光膜側になるように、かつ偏光膜の透過軸と第１位相領域１の遅相軸が直交になるようにアクリル樹脂系接着剤を用いて、ゼオノア側に貼り付けて偏光板６を形成した。
これを、実施例４と同様に液晶表示装置を作成しモレ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際のモレ光は０．１６％であった。
【０３１５】
［実施例６］
偏光板Ａに、第１位相差領域３を、その遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。次に、この偏光板Ａに貼り付けた第１位相差領域３に、フィルム位相差５を、第１位相差領域３を、貼り付けた第１位相差領域３側にして、且つ偏光板Ａの偏光膜の透過軸と第１位相差領域３の遅相軸を平行にして、アクリル樹脂系接着剤を用いて貼り付け、偏光板５を形成した。この場合、第１位相差領域は、２枚の第１位相差領域３（Ｒｅ＝３５ｎｍ、Ｒｔｈ＝１３５ｎｍ）の積層体からなり、位相差領域としてＲｅ＝７０ｎｍ、Ｒｔｈ＝２７０ｎｍ、Ｎｚ＝４．４の光学特性を有する。
【０３１６】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、第１位相差領域３の遅相軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域３の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第２位相差領域３面側が液晶セル側になるように偏光板５を貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板ＤをＴ４０ＵＺ側が液晶セル側になるように、且つ偏光板２とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．１４％であった。
【０３１７】
［比較例１］
実施例１に記載した偏光板１の形成において用いたフィルム位相差１をフィルム位相差８に変更したこと以外は同様にして偏光板７を作製した。さらに実施例１に記載の方法と同様に液晶セルに貼り付け液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．１４％であった。
【０３１８】
［比較例２］
実施例１に記載した偏光板１の形成において用いたフィルム位相差１をフィルム位相差９に変更したこと以外は同様にして偏光板７を作製した。さらに実施例１に記載の方法と同様に液晶セルに貼り付け液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０９％であった。
【０３１９】
［比較例３］
実施例１に記載した偏光板１の形成において用いたフィルム位相差１をフィルム位相差１０に変更したこと以外は同様にして偏光板８を作製した。さらに実施例１に記載の方法と同様に液晶セルに貼り付け液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０９％であった。
【０３２０】
［比較例４］
実施例１に記載した偏光板１の形成において用いたフィルム位相差１をフィルム位相差１１に変更したこと以外は同様にして偏光板９を作製した。さらに実施例１に記載の方法と同様に液晶セルに貼り付け液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．０９％であった。
【０３２１】
［比較例５］
前記作製したＩＰＳモード液晶セル１の両側に市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）を、クロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置を作製した。光学補償フィルムは用いなかった。上記液晶表示装置では、実施例１と同様に、上側の偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように偏光板を貼り付けた。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。左斜め方向６０°から観察した際の漏れ光は０．５５％であった。
【０３２２】
以上示したように、本発明の光学補償フィルムは、風ムラ、塗布ムラの良化と光学性能を両立できる。本発明の光学補償フィルムを用いることにより、斜め方向からの光漏れの少ない液晶表示装置を作製することができた。
【産業上の利用可能性】
【０３２３】
本発明の光学補償フィルムは、特に水平方向に配向した液晶分子に横方向の電界を印加することにより表示を行う、インプレーンスイッチングモードの液晶表示装置に好適である。
【図面の簡単な説明】
【０３２４】
【図１】本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す概略図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の他の例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０３２５】
１    液晶素子画素領域
２    画素電極
３    表示電極
４    ラビング方向
５ａ、５ｂ  黒表示時の液晶化合物のダイレクター
６ａ、６ｂ  白表示時の液晶化合物のダイレクター
７ａ，７ｂ、１９ａ，１９ｂ  偏光膜用保護膜
８、２０    偏光膜
９、２１    偏光膜の偏光透過軸
１０    第１位相差領域
１１    第１位相差領域の遅相軸
１２    第２位相差領域
１３、１７    セル基板
１４、１８    セル基板ラビング方向
１５    液晶層
１６    液晶層の遅相軸方向
【図１】
0004619913.tif 000111
【図２】
0004619913.tif 000112
【図３】
0004619913.tif 000113