(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の孔部を有する一対の多孔支持体と、該多孔支持体で挟持された水素透過樹脂膜と、を備え、前記水素透過樹脂膜は、前記多孔支持体と接していない部位の表面が、前記多孔支持体と接している部位の表面よりも平滑であることを特徴とする水素精製フィルタ。
【請求項２】
前記多孔支持体は、厚みが１０〜１００μｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載の水素精製フィルタ。
【請求項３】
前記多孔支持体は、水素透過樹脂膜側の前記孔部の開口の合計面積が多孔支持体の孔部形成領域の２０〜７０％を占めることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の水素精製フィルタ。
【請求項４】
前記水素透過樹脂膜は、厚みが１〜２０μｍの範囲であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の水素精製フィルタ。
【請求項５】
前記多孔支持体は、水素透過樹脂膜側の表面粗さＲａが０．０２〜２μｍの範囲であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の水素精製フィルタ。
【請求項６】
前記多孔支持体は、前記孔部形成領域の外側に保持用縁部を有することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の水素精製フィルタ。
【請求項７】
水素精製フィルタの製造方法において、
水素透過樹脂膜用の樹脂組成物を一対の支持体の各々の一方の面に塗布して、表面が未乾燥な状態の薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記一対の支持体を前記薄膜が対向して当接するように重ね合わせ、その後、前記薄膜を乾燥して水素透過樹脂膜を形成する密着乾燥工程と、
前記水素透過樹脂膜を挟持する各支持体にエッチングにより複数の孔部を形成して多孔支持体とし、該孔部に前記水素透過樹脂膜を露出させる孔部形成工程と、を有することを特徴とする水素精製フィルタの製造方法。
【請求項８】
前記薄膜形成工程で用いる一対の前記支持体の前記薄膜を形成する面は、前記孔部形成工程にて形成する孔部に対応した部位が平滑面であり、他の部位が粗面化されていることを特徴とする請求項７に記載の水素精製フィルタの製造方法。
【請求項９】
前記平滑面の表面粗さＲａは０．１μｍ以下であり、粗面化された部位の表面粗さＲａは０．０２〜２μｍの範囲であることを特徴とする請求項８に記載の水素精製フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水素精製用フィルタとその製造方法に係り、特に各種の炭化水素系燃料を水蒸気改質して水素リッチガスを生成するための改質器等に使用する水素精製フィルタと、これを簡便に製造することができる製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、地球規模の環境やエネルギー・資源の問題が顕在化し、これらと産業との調和を図るエネルギー供給システムの一つとして燃料電池が注目されている。燃料電池は、予め用意した水素ガスや、天然ガス、ガソリン、ブタンガス、メタノール等の炭化水素系燃料を改質して得られる水素リッチガスを、空気中の酸素と電気化学的に反応させて直接電気を取り出す発電装置である。上記の水素リッチガスを用いる燃料電池は炭化水素系燃料を水蒸気改質して水素リッチガスを生成する改質器と、電気を発生させる燃料電池本体と、発生した直流電気を交流に変換する変換器等で構成されている。
このような燃料電池は、燃料電池本体に使用する電解質、反応形態等により、リン酸型燃料電池（ＰＡＦＣ）、溶融炭酸塩型燃料電池（ＭＣＦＣ）、固体電解質型燃料電池（ＳＯＦＣ）、アルカリ型燃料電池（ＡＦＣ）、固体高分子型燃料電池（ＰＥＦＣ）の５種類がある。このうち、固体高分子型燃料電池（ＰＥＦＣ）は、リン酸型燃料電池（ＰＡＦＣ）、アルカリ型燃料電池（ＡＦＣ）等の他の燃料電池と比較して、電解質が固体である点において有利な条件を備えている。
【０００３】
しかし、固体高分子型燃料電池（ＰＥＦＣ）は触媒に白金を使用し、かつ、作動温度が低いため、電極触媒が少量のＣＯによって被毒し、特に高電流密度領域において性能劣化が著しいという欠点がある。このため、改質器で生成された改質ガス（水素リッチガス）に含有されるＣＯ濃度を１０ｐｐｍ程度まで低減する必要がある。
改質ガスからＣＯを除去して水素を精製する手段の一つとして、スルホン化ポリイミド等の水素のみが透過可能な水素分離膜を備えた水素精製フィルタが開発されている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００３−２６５９３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記の水素分離膜は、塗布した水素分離膜の塗膜が未乾燥の状態にある一対のガラス基板を積層し、その後、乾燥して水素分離膜を成膜し、これを温水に浸漬して水素分離膜を剥離して回収し、支持体上に載置して乾燥して製造するものであり、工程が煩雑で作業性が悪いという問題があった。
また、水素分離膜における水素の透過速度は膜厚に反比例する。このため水素分離膜の薄膜化が要求されるが、薄い水素分離膜を温水中で剥離して回収する際に、水面との張力等により水素分離膜が破損し易いという問題があった。
【０００５】
また、カーボンペーパー等の多孔質の支持体上に水素分離膜を固定する際に、支持体と水素分離膜との密着性を確保することが難しく、水素精製フィルタとして使用する際に水素分離膜と支持体との擦れが生じて、水素分離膜の劣化が生じ易いという問題があった。
さらに、水素精製フィルタを構成するには、支持体に支持された水素分離膜を挟持するためのラビリンス溝を備えた一対のセルと、支持体と水素分離膜の周囲をシールするためのシール枠とが必要であり、水素分離膜以外の構成部材が多く必要であるという問題があった。
本発明は上述のような実情に鑑みてなされたものであり、水素精製において優れた水素透過効率を示す水素精製フィルタと、このようなフィルタを簡便に製造するための製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的を達成するために、本発明の水素精製フィルタは、複数の孔部を有する一対の多孔支持体と、該多孔支持体で挟持された水素透過樹脂膜と、を備え、前記水素透過樹脂膜は、前記多孔支持体と接していない部位の表面が、前記多孔支持体と接している部位の表面よりも平滑であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記多孔支持体は、厚みが１０〜１００μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記多孔支持体は、水素透過樹脂膜側の前記孔部の開口の合計面積が多孔支持体の孔部形成領域の２０〜７０％を占めるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記水素透過樹脂膜は、厚みが１〜２０μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記多孔支持体は、水素透過樹脂膜側の表面粗さＲａが０．０２〜２μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記多孔支持体は、前記孔部形成領域の外側に保持用縁部を有するような構成とした。
【０００７】
本発明の水素精製フィルタの製造方法は、水素透過樹脂膜用の樹脂組成物を一対の支持体の各々の一方の面に塗布して、表面が未乾燥な状態の薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記一対の支持体を前記薄膜が対向して当接するように重ね合わせ、その後、前記薄膜を乾燥して水素透過樹脂膜を形成する密着乾燥工程と、前記水素透過樹脂膜を挟持する各支持体にエッチングにより複数の孔部を形成して多孔支持体とし、該孔部に前記水素透過樹脂膜を露出させる孔部形成工程と、を有するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記薄膜形成工程で用いる一対の前記支持体の前記薄膜を形成する面は、前記孔部形成工程にて形成する孔部に対応した部位が平滑面であり、他の部位が粗面化されているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記平滑面の表面粗さＲａは０．１μｍ以下であり、粗面化された部位の表面粗さＲａは０．０２〜２μｍの範囲であるような構成とした。
【発明の効果】
【０００８】
このような本発明の水素精製フィルタは、水素透過樹脂膜を両面から多孔支持体で挟持しているため機械的強度が高く、水素透過樹脂膜を薄くして水素透過性能を向上させることができるとともに、取り扱い性が極めて良好であり、また、セルやシール枠等の他の部材が不要で構造が簡便でありながら、例えば、多孔支持体の保持用縁部（孔部形成領域の外側の部位）を挟み込むようにして装着するだけで使用することができ、使用時の利便性が高いものである。
また、本発明の水素精製フィルタの製造方法は、水素透過樹脂膜を形成した支持体に直接孔部を形成して多孔支持体とするので、従来の製造方法に比べて工程数が少なく、また、水素透過樹脂膜を剥離することがないので水素透過樹脂膜の破損を防止することができ、生産効率が高いものなり、さらに、水素透過樹脂膜が多孔支持体に直接形成されているので、両者の密着性が高く、高性能で高耐久性の水素精製フィルタの製造が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
［水素精製フィルタ］
図１は、本発明の水素精製フィルタの一実施形態を示す部分平面図であり、図２は図１に示される水素製造フィルタのＡ−Ａ線における断面図である。図１および図２において、本発明の水素精製フィルタ１は、水素透過樹脂膜２と、この水素透過樹脂膜２を両面から挟持する一対の多孔支持体４，４と、を備えるものである。また、各多孔支持体４，４は、複数の孔部５を水素透過樹脂膜２を介して対向するように有している。
【００１０】
水素精製フィルタ１を構成する水素透過樹脂膜２は、例えば、スルホン化ポリイミド、芳香族ポリイミド、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリベンゾイミダゾール、酢酸セルロール、ポリグルタミン酸等の樹脂からなるものを使用することができる。このような水素透過樹脂膜２の厚みは、例えば、１〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍの範囲とすることができる。水素透過樹脂膜２の厚みが１μｍ未満であると、膜強度が不十分であり、また、２０μｍを超えると水素透過性能が低下して好ましくない。
このような水素透過樹脂膜２は、多孔支持体４，４と接していない部位（孔部５に露出している部位）の表面が、多孔支持体４，４と接している部位の表面よりも平滑であることが好ましい。
【００１１】
水素精製フィルタ１を構成する一対の多孔支持体４，４の材質は、例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ４３０等のオーステナイト系、フェライト系のステンレス、アルミニウム、銅等であってよい。また、各多孔支持体４，４の厚みは、例えば、１０〜１００μｍ、好ましくは２０〜５０μｍの範囲内で適宜設定することができる。各多孔支持体４，４の厚みが１０μｍ未満であると、水素精製フィルタ１の強度が不十分となり、１００μｍを超えると、微細な孔部５，５を高い精度で形成することが困難となり好ましくない。このような多孔支持体４，４の水素透過樹脂膜２と接合している面４ａは、その表面粗さＲａが０．０２〜２μｍ、好ましくは０．０２〜１μｍの範囲であることが望ましい。多孔支持体４，４の面４ａの表面粗さＲａが０．０２μｍ未満であると、水素透過樹脂膜２と多孔支持体４との密着強度が不十分となり、表面粗さＲａが２μｍを超えると、水素透過樹脂膜２が薄い場合に膜破断等を生じるおそれがあり好ましくない。
尚、本発明における表面粗さＲａは、ＳＬＯＡＮ社製の触針式表面形状測定器ＤＥＫＴＡＫを用いて、長さ２５０μｍの測定部位を荷重２０ｍｇにて２０秒間で測定する。
【００１２】
また、上記の多孔支持体４，４の複数の孔部５，５は、多孔支持体４，４の全域に設けられてもよく、また、図３に示されるように、多孔支持体４，４の孔部形成領域６（図３で斜線を付した領域）に設けられ、この孔部形成領域６の外側に保持用縁部７を配してもよい。このような孔部５，５は、水素透過樹脂膜２側の開口（図１で斜線を付した部位）の合計面積が、孔部形成領域６（多孔支持体４，４の全域に孔部を備える場合には、多孔支持体４，４の全面が孔部形成領域となる）の２０〜７０％、好ましくは３０〜６０％の範囲となることが望ましい。孔部５，５の上記開口の合計面積が孔部形成領域６の２０％未満であると、水素精製フィルタ１の水素透過性能は不十分となり、７０％を超えると、多孔支持体４，４の機械的強度が低下して好ましくない。
このような本発明の水素精製フィルタ１は、水素透過樹脂膜２を両面から多孔支持体４，４で挟持した構造であり、機械的強度が高いものとなっている。このため、水素透過樹脂膜２を薄くして水素透過性能を向上させても、取り扱い性が極めて良好である。
【００１３】
上述の例では、孔部５，５は、水素透過樹脂膜２側の開口が狭くなっているテーパー形状の円形開口であるが、孔部５，５の開口形状や配列等に制限はなく、例えば、開口形状は楕円形状、長円形状、ストライプ形状等であってもよい。また、楕円形状、長円形状の長軸方向、ストライプ形状のライン方向が表裏の多孔支持体４，４で同一方向であってもよく、異なる方向であってもよい。例えば、図４に示すように、ストライプ形状のライン方向（矢印ａ方向）が表裏の多孔支持体４，４で９０°をなすように設定してもよい。この例では、水素透過樹脂膜を介して直交するストライプ形状の孔部の交差部位が水素透過部位となる。尚、図４のストライプ形状の孔部は、便宜的に直線で示してあり、また、本数、ピッチも便宜的に示してある。
尚、上述の例では、水素精製フィルタ１の外形形状は方形であるが、これに限定されるものではなく、円形、楕円形、三角形、五角形以上の多角形等、任意に外形形状を設定することができる。
【００１４】
図５は、本発明の水素精製フィルタ１の使用状態の一例を示すための図である。図５において、改質ガス供給管１１の接続部１２の端面１２ａと、水素排出管２１の接続部２２の端面２２ａとが当接した状態で固定部材３１により固定接続されている。そして、接続部１２の端面１２ａに形成された凹部１３と、接続部２２の端面２２ａに形成された凹部２３との間に保持用縁部７を挟持された状態で水素精製フィルタ１が装着されている。凹部１３，２３には保持用縁部７に対応するように溝部１４，２４が形成され、この溝部１４，２４内には、多孔支持体４，４（保持用縁部７）よりも硬度の低い金属からなるガスケット（あるいはゴム製Ｏリング）１５，２５が配設されている。このように、本発明の水素精製フィルタ１は、セルやシール枠等の他の部材が不要で構造が簡便でありながら、図示のように、保持用縁部７を挟み込むようにして装着するだけで使用することができる。
尚、図５の水素精製フィルタ１の孔部５は、便宜的に直線で示してあり、また、個数、ピッチも便宜的に示してある。
上述の水素精製フィルタの実施形態は例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１５】
［水素精製フィルタの製造方法］
次に、本発明の水素精製フィルタの製造方法を説明する。
図６は、本発明の水素精製フィルタの製造方法の一実施形態を、上述の本発明の水素精製フィルタ１を例として示す工程図である。
本発明の製造方法は、まず、薄膜形成工程において、一対の支持体３，３の一方の面に水素透過樹脂膜用の樹脂組成物を塗布し、表面２′ａが未乾燥状態の薄膜２′を形成する（図６（Ａ））。
支持体３，３としては、例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ４３０等のオーステナイト系、フェライト系のステンレス基板、アルミニウム基板、銅基板等を使用することができる。この支持体３，３の厚みは、例えば、１０〜１００μｍ、好ましくは２０〜５０μｍの範囲内で適宜設定することができる。
【００１６】
水素透過樹脂膜用の樹脂組成物は、例えば、スルホン化ポリイミド、芳香族ポリイミド、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリベンゾイミダゾール、酢酸セルロール、ポリグルタミン酸等の樹脂を含有したものを使用することができる。薄膜２′の成膜は、例えば、流延法、ラビング法、気液界面展開成膜法、蒸着重合法等の方法により行うことができ、通常は、複数回の塗布により、支持体３側は固化しているが、表面２′ａが未乾燥である薄膜２′を成膜することができる。このような薄膜２′の厚みは、後述する密着乾燥工程で形成される水素透過樹脂膜２の厚みが、１〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍの範囲となるように設定することができる。
【００１７】
次に、密着乾燥工程において、一対の支持体３，３を薄膜２′，２′が対向して当接するように重ね合わせ（図６（Ｂ））、その後、一体化された薄膜２′を乾燥して水素透過樹脂膜２を形成する（図６（Ｃ））。薄膜２′の乾燥は、支持体３，３の両側から加圧（例えば、１００〜３００ｋｇ／ｃｍ2）した状態で行うことができ、また、真空下で乾燥することにより、水素透過樹脂膜２にピンホールが発生することとを抑制することができる。
次いで、孔部形成工程において、まず、水素透過樹脂膜２を挟持している支持体３，３の表面に、複数の開口部８ａ，９ａを有するレジストパターン８，９を形成する（図６（Ｄ））。次に、上記のレジストパターン８，９をマスクとして支持体３，３を両面からエッチングして、複数の微細な孔部５，５を備えた多孔支持体４，４を形成する（図６（Ｅ））。形成した孔部５には、水素透過樹脂膜２が露出しており、レジストパターン８，９を除去することにより、本発明の水素精製フィルタ１が得られる。
【００１８】
レジストパターン８，９は、例えば、従来公知のポジ型、ネガ型の感光性レジスト材料から選択した材料を塗布し、所定のマスクを介して露光、現像することにより形成することができる。レジストパターン８の各開口部８ａは、支持体３，３を介してレジストパターン９の各開口部９ａに対向している。この開口部８ａ，９ａの開口面積が、多孔支持体４，４の孔部５，５を決定するものであり、エッチング条件、支持体３，３の材質、厚み等を考慮して適宜設定することができる。
上記のように製造された水素精製フィルタ１は、水素透過樹脂膜２を形成した支持体３，３に直接孔部５，５を形成して多孔支持体４，４とするので、従来の製造方法に比べて工程数が少ないものとなる。また、水素透過樹脂膜２を剥離する工程が不要であり、水素透過樹脂膜２の破損を防止することができる。さらに、水素透過樹脂膜２が多孔支持体４，４（支持体３，３）に直接形成されているので、両者の密着性が高ものとなる。
【００１９】
本発明の水素精製フィルタの製造方法では、上記の薄膜形成工程で用いる一対の支持体３，３の薄膜２′，２′を形成する面に、予め粗面化処理を施すことにより、支持体３，３と水素透過樹脂膜２の密着性を更に向上させることができる。すなわち、図７に示されるように、支持体３，３の表面のうち、孔部形成工程にて形成する孔部５，５に対応した部位３ｂを除く面３ａ（図７で斜線を付した部位）に粗面化処理を施すことができる。この粗面化処理は、上記の部位３ｂにレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして、ソフトエッチング、サンドブラスト、粗化めっき等により行うことができ、例えば、粗面化処理した部位３ａの表面粗さＲａを０．０２〜２μｍの範囲とすることができる。粗面化処理した部位３ａの表面粗さＲａが０．０２μｍ未満では、支持体３，３と水素透過樹脂膜２の密着性の向上が得られず、また、２μｍを超えると、水素透過樹脂膜２の厚みが不均一となり好ましくない。
【００２０】
一方、粗面化処理を施さない部位３ｂは孔部５，５の位置に対応しており、水素透過樹脂膜２の露出面に部位３ｂの表面形状が転写される。このため、粗面化処理を施さない部位３ｂの表面粗さＲａ′は０．１μｍ以下の平滑面であることが好ましい。勿論、表面粗さＲａ′は上記の表面粗さＲａよりも小さいものとなる。部位３ｂの表面粗さＲａ′が０．１μｍを超えると、後工程の孔部形成工程において孔部５，５が形成されたときに、この孔部５，５に露出する水素透過樹脂膜２の表面が粗面状態となり、膜厚の大きな部位が存在して水素透過性能が低下するので好ましくない。
尚、上記の表面粗さＲａ、Ｒａ′の測定は、上述の表面粗さＲａの測定と同様に行うものである。
上述の水素精製フィルタの製造方法の実施形態は例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【００２１】
次に、より具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
支持体として厚み３０μｍのＳＵＳ３０４基板（５０ｍｍ×５０ｍｍの正方形状）を２枚準備し、このＳＵＳ３０４基板の一方の面に下記組成の水素透過樹脂膜用の樹脂組成物を流延法により４回塗布（総塗布量：固形分５０ｇ／ｍ2）して、表面が未乾燥状態の薄膜を形成した。（以上、薄膜形成工程）
次に、上記のＳＵＳ３０４基板を、薄膜が対向して当接するように重ね合わせ、ＳＵＳ３０４基板の両側から加圧（３００ｋｇ／ｃｍ2）した状態で乾燥（１００℃、６時間）した。これにより、ＳＵＳ３０４基板で挟持された厚み５．０μｍの水素透過樹脂膜を形成した。（以上、密着乾燥工程）
【００２２】
次いで、水素透過樹脂膜を挟持した各ＳＵＳ３０４基板上に感光性レジスト材料（東京応化工業（株）製  ＯＦＰＲ）をディップ法により塗布（塗布量７μｍ（乾燥時））した。次に、４０ｍｍ×４０ｍｍの正方形領域に、開口寸法（開口直径）が９０μｍである円形の開口部を、一辺１２０μｍの正三角形の頂点に位置するような配列で複数備えたフォトマスクＭ１を両面のレジスト塗膜上に配し、これらのフォトマスクＭ１を介してレジスト塗布膜を露光し、炭酸水素ナトリウムを使用して現像した。尚、対向するフォトマスクＭ１の各開口部の中心がＳＵＳ３０４基板（水素透過樹脂膜）を介して一致するように位置合わせを行った。これにより、開口寸法（開口直径）が９５μｍである円形状の開口部を有するレジストパターンを各ＳＵＳ３０４基板上に形成した。上記のようにＳＵＳ３０４基板に形成された円形状の各開口部の中心は、ＳＵＳ３０４基板（水素透過樹脂膜）を介して対向する開口部の中心と一致するものであった。
【００２３】
次に、上記のレジストパターンをマスクとして、下記の条件で各ＳＵＳ３０４基板をスプレー方式でエッチングした。
（エッチング条件）
・温度          ：  ５０℃
・塩化第二鉄濃度：  ４５ボーメ
・圧力          ：  ０．３０ＭＰａ
上記のエッチング処理が終了した後、水酸化ナトリウムを用いてレジストパターンを除去し、水洗した。これにより、各ＳＵＳ３０４基板に複数の孔部が形成されて多孔支持体となった。（以上、孔部形成工程）
【００２４】
上述のようにして本発明の水素精製フィルタが得られた。この水素精製フィルタを構成する多孔支持体の孔部は、表面側の開口直径が９５μｍ、内部側（水素透過樹脂膜側）の開口直径が８０μｍであるテーパー形状であった。また、上記の内部側の開口の合計面積は、４０ｍｍ×４０ｍｍの正方形状の孔部形成領域の４０％を占めるものであった。
【００２５】
［実施例２］
薄膜形成工程において、表面が未乾燥状態の薄膜を形成する前に、ＳＵＳ３０４基板に下記の粗面化処理を施した他は、実施例１と同様にして、本発明の水素精製フィルタを作製した。
粗面化処理は、まず、各ＳＵＳ３０４基板の一方の面に感光性レジスト材料（東京応化工業（株）製  ＯＦＰＲ）をディップ法により塗布（塗布量７μｍ（乾燥時））した。次に、開口部の開口寸法（開口直径）が９５μｍである他は実施例１で使用したフォトマスクＭ１と同様であるフォトマスクＭ２を一方のレジスト塗膜上に配し、このフォトマスクＭ２を介してレジスト塗布膜を露光し、炭酸水素ナトリウムを使用して現像した。これにより、直径が９５μｍである円形状のレジストパターンをＳＵＳ３０４基板上に形成した。
【００２６】
次に、上記のレジストパターンをマスクとして、下記の条件で各ＳＵＳ３０４基板をソフトエッチングした。
（エッチング条件）
・温度          ：  ４０℃
・塩化第二鉄濃度：  ４５ボーメ
・圧力          ：  ０．１ＭＰａ
【００２７】
上記のエッチング処理が終了した後、水酸化ナトリウムを用いてレジストパターンを除去し、水洗した。これにより、各ＳＵＳ３０４基板に、直径が９５μｍである円形状の平滑面を残すように粗面化処理がなされた。この粗面化処理を施した面の表面粗さＲａを下記の測定条件で測定した結果、０．０８μｍであった。また、平滑面の表面粗さＲａ′は０．０３μｍであった。
（表面粗さＲａ，Ｒａ′の測定条件）
ＳＬＯＡＮ社製の触針式表面形状測定器ＤＥＫＴＡＫを使用し、長さ２５０μｍ
の測定部位を荷重２０ｍｇにて２０秒間で測定した。
【産業上の利用可能性】
【００２８】
高純度の水素リッチガスを必要とする種々の分野に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の水素精製フィルタの一実施形態を示す部分平面図である。
【図２】図１に示される水素精製フィルタのＡ−Ａ線における断面図である。
【図３】本発明の水素精製フィルタの平面図である。
【図４】本発明の水素精製フィルタを構成する多孔基板の平面図である。
【図５】本発明の水素精製フィルタの使用状態の一例を示すための図である。
【図６】本発明の水素精製フィルタの製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図７】本発明の水素精製フィルタの製造方法における粗面化処理を説明するための図である。
【符号の説明】
【００３０】
１…水素精製フィルタ
２…水素透過樹脂膜
３…支持体
４…多孔支持体
５…孔部
６…孔部形成領域
７…保持用縁部
２′…薄膜
【図１】
0004815901.tif 000002
【図２】
0004815901.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
0004815901.tif 000006
【図６】
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【図７】
0004815901.tif 000008