(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電空間を介して対向配置された一対の基板と、これら一対の基板のうち一方の基板の内面上に形成された複数の電極対と、これら電極対上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層とを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記保護層を形成する保護層形成工程には、スプレーガンを用いたスプレー法により、酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた塗工液を塗布する工程が含まれ、
前記酸化マグネシウム粉体は粒径が５００Å以上５０００Å以下の単結晶粉体であり、
前記塗工液には、前記溶剤よりも高い粘度を有する分散剤を添加し、
前記溶剤および前記分散剤は水酸基を有する物質であって、前記分散剤として、濃度が１〜２０ｗｔ％の１−オクタノールを使用し、かつ、前記分散剤の水酸基の価数は、前記溶剤の水酸基の価数以上であり、
前記塗工工程は、前記酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた塗工液を貯留する塗工液タンクと、この塗工液タンクに第一配管を介して接続された液送ポンプと、この液送ポンプに第二配管を介して接続され、かつ、第三配管を介して前記塗工液タンク内に接続された三方弁と、この三方弁と前記スプレーガンとを接続する第四配管とを備えた塗工装置を用い、前記液送ポンプは駆動させておき、スプレー塗布を実施する場合にのみ前記三方弁を前記スプレーガン側に切り換えて前記塗工液タンク内の塗工液を前記スプレーガンに供給し、スプレー塗布を実施しない間は、前記塗工液タンク、前記第一配管、前記液送ポンプ、前記第二配管、前記三方弁、前記第三配管及び前記塗工液タンクと順に塗工液を循環させる
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記溶剤は１価の水酸基を有するアルコールである
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの保護層をスプレー法により形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）は、プラズマ放電による発光を利用して画像を表示する装置であり、放電空間を介して互いに対向配置された一対の平面ガラス基板である前面基板および背面基板を備えている。
このような前面基板の内面側には、複数の透明電極およびこれら透明電極の一端部に積層したバス電極からなる複数の表示電極対と、これら表示電極対間に設けられた複数のブラックストライプと、これら表示電極対およびブラックストライプ上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層と、などがそれぞれ設けられている。
【０００３】
上記保護層は、誘電体層が放電によりスパッタリングされることを防ぐと共に、低電圧で放電を発生させるための二次電子の放出層として機能する。この保護層には、放電セル内での発光は保護層を通して前面基板側から観察されるため、可視光を透過させる光透過性が要求される。このため、保護層の材料としては、低スパッタ率、高二次電子放出係数、可視光透過性などの特性を有する酸化マグネシウム（以下ＭｇＯと記す）が広く用いられている。特に、単結晶ＭｇＯは、さらに放電確率を増加させる効果を奏するため、保護層の材料に適している。
【０００４】
従来、このような保護層の形成方法として、スプレーガンを用いたスプレー法により、ＭｇＯの微結晶粉末を溶剤に分散させた塗工液を基板上に塗布するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
この特許文献１に記載の構成では、直径が１〜２μｍのＭｇＯの微結晶粉末をエタノールを分散溶媒として分散させたものを、吹付用の懸濁液としている。そして、スプレーガンに懸濁液と霧化用の高圧エアを供給し、懸濁液をガラス基板上にスプレー塗布した後、ガラス基板を２００℃に加熱しエタノールを充分に蒸発させて、ＭｇＯ微結晶が積層したＭｇＯ膜を得るという構成が採用されている。
【０００５】
ここで、この特許文献１に記載の構成のようにスプレー法によりＭｇＯ膜を形成した場合、完成したＰＤＰにおいて、ＭｇＯ粉体が保護層として充分な厚さをもって堆積していない場合、放電遅れが大きくなり、選択不良等の特性不良を引き起すおそれがある。また、ＭｇＯ粉体の塗布量にバラツキが生じた場合、輝度ムラや放電確率のバラツキ、スキャン不良等の特性不良を引き起こしてしまう。このため、スプレー法によるＭｇＯ膜の形成に当たっては、ＭｇＯ粉体を充分な厚さをもって堆積させ、ＭｇＯ粉体を基板上にできるだけ均一に分散させる必要がある。
【０００６】
ここにおいて、ＭｇＯ粉体を基板上に均一に分散させるには、塗工液を霧化させた際の液滴を微小化することが有効である。このような液滴の微小化は、霧化用のエア圧力を上げることや、スプレーガンからの塗工液の吐出圧力を上げること等により達成することができる。
【０００７】
【特許文献１】特開平７−２９６７１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、霧化用のエア圧力あるいは塗工液の吐出圧力を増加させると、塗工液の噴射速度が増加するために基板表面において霧状の塗工液が反射して、当該霧状の塗工液が舞上がってしまう。このため、塗工液の基板への付着効率が低下し、所定の膜厚のＭｇＯ膜を形成するに当たり、使用する塗工液の量が増加する。この結果、ＰＤＰの製造コストが上昇してしまう問題がある。また、当該霧状の塗工液が舞上がってしまうことにより、塗工装置におけるスプレーブースやスプレーチャンバー内に配設したバグフィルター等の粒子捕獲体や装置内壁等の清掃頻度が増加してしまい、塗工装置のメンテナンスに要するコストも上昇してしまう問題が発生する。
【０００９】
ここで、塗工液中の溶剤の粘度を上げて、塗工液の基板への塗着効率を向上させるという方法も考えられるが、溶剤の粘度を上げることにより溶剤の沸点も高くなり、塗工後の基板を常温で乾燥することが困難となってしまう。しかも、塗工後の基板の乾燥時に、ＭｇＯ粉体が溶剤の表面張力により島状に凝集してしまい、ＭｇＯ粉体を基板上に均一に分散できなくなる問題が生じるおそれがある。
【００１０】
本発明は、上述したような問題点に鑑みて、好適に製造できかつパネルの表示特性を向上できるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載の発明は、放電空間を介して対向配置された一対の基板と、これら一対の基板のうち一方の基板の内面上に形成された複数の電極対と、これら電極対上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層とを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護層を形成する保護層形成工程には、スプレーガンを用いたスプレー法により、酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた塗工液を塗布する工程が含まれ、前記酸化マグネシウム粉体は粒径が５００Å以上５０００Å以下の単結晶粉体であり、前記塗工液には、前記溶剤よりも高い粘度を有する分散剤を添加し、前記溶剤および前記分散剤は水酸基を有する物質であって、前記分散剤として、濃度が１〜２０ｗｔ％の１−オクタノールを使用し、かつ、前記分散剤の水酸基の価数は、前記溶剤の水酸基の価数以上であり、前記塗工工程は、前記酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた塗工液を貯留する塗工液タンクと、この塗工液タンクに第一配管を介して接続された液送ポンプと、この液送ポンプに第二配管を介して接続され、かつ、第三配管を介して前記塗工液タンク内に接続された三方弁と、この三方弁と前記スプレーガンとを接続する第四配管とを備えた塗工装置を用い、前記液送ポンプは駆動させておき、スプレー塗布を実施する場合にのみ前記三方弁を前記スプレーガン側に切り換えて前記塗工液タンク内の塗工液を前記スプレーガンに供給し、スプレー塗布を実施しない間は、前記塗工液タンク、前記第一配管、前記液送ポンプ、前記第二配管、前記三方弁、前記第三配管及び前記塗工液タンクと順に塗工液を循環させることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明は、溶剤の粘度よりも高い粘度の分散剤を塗工液に添加することによって、塗工液の基板への塗着効率を向上でき、ＭｇＯ粉を基板上に均一に分散できるという知見に基づいて案出されたものである。
以下、本発明の一実施形態について図面に基づいて説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した分解斜視図である。図２は、当該プラズマディスプレイパネルを模式的に示した正面図である。図３は、図２におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った側断面図である。図４は、図２におけるＩＶ−ＩＶ線に沿った側断面図である。
【００１３】
（１）プラズマディスプレイパネルの構成
図１において、１はプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）であり、このＰＤＰ１は、例えば略平面長方形状に形成され、プラズマ放電による発光を利用して画像を表示する装置である。このＰＤＰ１は、画像表示領域を構成する放電空間Ｈを介して、互いに対向配置された背面基板２および前面基板３を備えている。
これら背面基板２および前面基板３は、それぞれの外周縁部に図示しないシールフリットが設けられて封着されている。そして、封着された当該空間内部は例えば６．７×１０４Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）程度の減圧状態とされ、当該空間にはＨｅ−Ｘｅ（ヘリウム−キセノン）系やＮｅ−Ｘｅ（ネオン−キセノン）系の不活性ガスが充填されている。
【００１４】
背面基板２は、例えば板状ガラス材にて平面長方形状に形成されている。この背面基板２の内面上には、図１に示すように、複数の直線状のアドレス電極２１と、これらアドレス電極２１上を覆うアドレス電極保護層２２と、このアドレス電極保護層２２上に一体的に設けられた隔壁２３と、この隔壁２３の放電セル２３１内部に充填された蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）と、などがそれぞれ設けられている。
【００１５】
具体的には、アドレス電極２１は、例えばＡｌ（アルミニウム）などにて形成され、図１に示すように、背面基板２の長手方向に略直交して一定の間隔で配設されている。それぞれのアドレス電極２１の一端には図示しないアドレス電極引出部が形成されて、このアドレス電極引出部を介して各アドレス電極２１に図示しない列電極駆動部からの電圧パルスが印加されるようになっている。
【００１６】
アドレス電極保護層２２は、例えばガラスペーストなどにて形成され、図１，３および４に示すように、背面基板２の内面上におけるアドレス電極引出部を除いた略全面に亘り設けられている。このアドレス電極保護層２２は、パネル駆動時において、放電によるアドレス電極２１の損耗を防止するとともに、駆動に必要な電荷を蓄積する誘電体層として機能する。なお、アドレス電極保護層２２の外周縁部上には前述のシールフリットが設けられている。
【００１７】
隔壁２３は、図１および３に示すように、例えばアドレス電極保護層２２と同一成分のガラスペーストにて略梯子状に形成されている。そして、アドレス電極保護層２２上において、アドレス電極２１と略直交する複数の直線状の隙間Ｓ（図３参照）をそれぞれ間に挟んで、複数並列して設けられている。この隔壁２３により放電空間Ｈが複数に区画され、これにて複数の矩形状の放電セル２３１が形成されている。そして、隔壁２３は、その基端部から頂部までの高さがそれぞれ所定の高さ寸法に設定されており、背面基板２と前面基板３との間隙寸法を規定する。
【００１８】
蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）は、図１，３および４に示すように赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペーストが放電セル２３１内部に順に充填され、これが焼成されることにより形成される。これら蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）は、それぞれの放電セル２３１で発生した紫外光により励起され、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の可視光を発光する。
【００１９】
前面基板３は、ＰＤＰ１の表示面を構成し、例えば背面基板２と同一材料にて略同一形状に形成されている。この前面基板の内面上には、図１に示すように、アドレス電極２１と略直交して一定の間隔で配列された複数の表示電極対３１と、これら表示電極対３１間にそれぞれ設けられた複数のブラックストライプ３２と、これら表示電極対３１およびブラックストライプ３２上を覆う誘電体層３３と、この誘電体層３３を覆う保護層３４と、などがそれぞれ設けられている。
【００２０】
具体的には、表示電極対３１は、図２および３に示すように、放電ギャップＧ（図２参照）を介して対向する複数対の透明電極３１１ａ，３１１ｂと、これら透明電極３１１ａ，３１１ｂの一端部に積層する一対の直線状のバス電極３１２ａ，３１２ｂとを備えて構成されている。
【００２１】
透明電極３１１ａ，３１１ｂは、図２に示すように、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜で略Ｔ字形状に形成されており、所定の放電セル２３１に対応して一対ずつ設けられている。
【００２２】
バス電極３１２ａ，３１２ｂは、一対の透明電極３１１ａ，３１１ｂにおける放電ギャップＧ（図２参照）に対して反対側の端部に、それぞれ積層して設けられている。これらバス電極３１２ａ，３１２ｂのそれぞれの一端には図示しないバス電極引出部が形成され、このバス電極引出部を介して各透明電極３１１ａ，３１１ｂに図示しない行電極駆動部からの電圧パルスが印加されるようになっている。
このようなバス電極３１２ａ，３１２ｂは、図３に示すように、透明電極３１１ａ，３１１ｂ上に積層して設けられた黒色無機顔料などからなるバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂと、これらバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂに積層して設けられたＡｇ（銀）などを主成分とする金属材料からなる主導電層３１４ａ，３１４ｂとを備えた２層構造となっている。
【００２３】
ブラックストライプ３２は、図２および３に示すように、バス電極黒層３１３ａ，３１３ｂと同質の材料にて、直線状に形成されている。このブラックストライプ３２およびバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂにて、前面基板３の外方から照射された可視光が吸収されるようになっている。
【００２４】
誘電体層３３は、図１および３に示すように、例えばガラスペーストなどにて形成され、背面基板２のアドレス電極保護層２２と対向して設けられている。この誘電体層３３は、パネル駆動時において、放電による表示電極対３１の損耗を防止するとともに、駆動に必要な電荷を蓄積する。
【００２５】
保護層３４は、図１，３および４に示すように、誘電体層３３の内周面の全面を被覆するＭｇＯ（酸化マグネシウム）からなる薄膜ＭｇＯ層３４１と、この薄膜ＭｇＯ層３４１を被覆する結晶ＭｇＯ層３４２とを備えた２層構造となっている。
薄膜ＭｇＯ層３４１は、例えば蒸着法やスパッタリング法などにより形成される。結晶ＭｇＯ層３４２は、後述するスプレー法にて形成される。
このような保護層３４は、誘電体層３３が放電によりスパッタリングされることを防ぐと共に、低電圧で放電を発生させるための二次電子の放出層として機能する。
【００２６】
（２）ＰＤＰ１の製造方法の概略構成
次に、上述した構成のＰＤＰ１の製造方法の概略構成について図面に基づいて説明する。図５は、スプレー法による単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程を示した模式図である。
【００２７】
まず、ＰＤＰ１の背面基板２の製造ラインにおいて、ガラス基板の内面側を超音波洗浄処理や中性洗剤を用いた水洗処理などにより十分に洗浄しておく。
この後、当該ガラス基板の内面側の全面に金属薄膜を形成して、フォトリソグラフィ法によりアドレス電極２１のパターンを形成する。
このアドレス電極２１上にガラスペーストを塗布して、当該ガラスペーストを成形・焼成することによりアドレス電極保護層２２および隔壁２３を形成する。
そして、放電セル２３１内部にスクリーン印刷法などにより赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペーストを塗布し、これを焼成して蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）を形成する。
以上により、ＰＤＰ１の背面基板２が完成する。
【００２８】
次に、ＰＤＰ１の前面基板３の製造ラインにおいて、ガラス基板の内面側を超音波洗浄処理や中性洗剤を用いた水洗処理などにより十分に洗浄しておく。
この後、当該ガラス基板の内面側の全面に透明電極材料層を形成して、フォトリソグラフィ法などにより複数の透明電極３１１ａ，３１１ｂを形成する。この透明電極対上にスクリーン印刷法などにより黒色無機顔料のペーストパターンを積層形成し、更にこのパターン上にＡｇペーストのパターンを積層形成する。そして、これらのパターンを焼成して、バス電極黒層３１３ａ，３１３ｂおよび主導電層３１４ａ，３１４ｂからなる２層構造のバス電極３１２ａ，３１２ｂを形成する。
この後、これらバス電極３１２ａ，３１２ｂ間にスクリーン印刷法などにより黒色無機顔料のペーストパターンを塗布して、これを焼成して複数のブラックストライプ３２を形成する。
さらに、透明電極３１１ａ，３１１ｂ、バス電極３１２ａ，３１２ｂおよびブラックストライプ３２を被覆する状態にダイコータなどによりガラスペーストを塗布して誘電体層３３を形成する。
【００２９】
この後、誘電体層３３の上に、薄膜ＭｇＯ層３４１を蒸着法やスパッタリング法などにより成膜形成する。
さらに、図５に示すように、スプレー法により単結晶ＭｇＯ粉体３４２Ａを溶剤に分散させた塗工液を薄膜ＭｇＯ層３４１上にスプレー塗布し、これを焼成して、結晶ＭｇＯ層３４２を形成する（結晶ＭｇＯ層３４２の形成工程）。本実施形態におけるスプレー法では、図６および７に示す塗工装置８００，９００を使用し、以下に示す各種霧化方式を採用することができる。また、塗工液には、以下に示すＭｇＯ粉体、溶剤および分散剤を混合したものを使用する。
以上により、ＰＤＰ１の前面基板３が完成する。
【００３０】
（３）塗工装置の構成
上記した結晶ＭｇＯ層３４２をスプレー法により形成する塗工装置について、図６および７に基づいて説明する。図６は第一の塗工装置を示す模式図である。図７は第二の塗工装置を示す模式図である。
【００３１】
図６に示すように、第一の塗工装置８００は、単結晶ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液ＬＱを貯留する塗工液タンク８１０と、この塗工液タンク８１０に配管８１１を介して接続された液送ポンプ８２０と、この液送ポンプ８２０に配管８２１を介して接続されたスプレーガン８３０とを備えている。
このような第一の塗工装置８００は、塗工液タンク８１０内の塗工液ＬＱを液送ポンプ８２０にて吸引し、前面基板３の上方においてスプレーガン８３０を移動させながら、スプレーガン８３０より当該塗工液ＬＱを前面基板３の塗工面に対して吐出させる。
なお、この第一の塗工装置８００では、スプレー塗布を実施する場合にのみ、液送ポンプ８２０を駆動させて、塗工液ＬＱをスプレーガン８３０に供給する。
【００３２】
図７に示すように、第二の塗工装置９００は、単結晶ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液ＬＱを貯留する塗工液タンク９１０と、この塗工液タンク９１０に配管９１１を介して接続された液送ポンプ９２０と、この液送ポンプ９２０に配管９２１を介して接続され、かつ、配管９３１を介して塗工液タンク９１０内に接続された三方弁９３０と、この三方弁９３０に配管９３２を介して接続されたスプレーガン９４０とを備えている。
このような第二の塗工装置９００では、液送ポンプ９２０は常に駆動させておき、スプレー塗布を実施する場合にのみ、三方弁９３０をスプレーガン９４０側に切り換えて塗工液タンク９１０内の塗工液ＬＱをスプレーガン９４０に供給する。そして、前面基板３の上方においてスプレーガン９４０を移動させながら、スプレーガン９４０より当該塗工液ＬＱを前面基板３の塗工面に対して吐出させる。
一方、スプレー塗布を実施しない間は、塗工液タンク９１０、配管９１１、液送ポンプ９２０、配管９２１、三方弁９３０、配管９３２、塗工液タンク９１０と順に塗工液ＬＱを循環させる。このようにして、スプレー塗布の実施の有無に関わらず、塗工液ＬＱを絶えず循環させて、装置の各部において単結晶ＭｇＯ粉体が沈降することを防止している。
【００３３】
（４）霧化方式
上記した図６および７に示す塗工装置８００，９００を使用してスプレー塗布する場合、塗工液を霧化した上で基板上にスプレー塗布する。本実施形態では、この塗工液の霧化には、１流体霧化方式や２流体霧化方式、ベル方式等を採用することができる。
【００３４】
１流体霧化方式は、塗工液に対して圧力を印加し、噴射の際の剪断力を利用して塗工液を霧状とするものである。すなわち、例えば図６および７に示す液送ポンプ８２０，９２０よりスプレーガン８３０，９４０より吐出される塗工液ＬＱに対して圧力を印加して、塗工液ＬＱを霧化する。
このような１流体霧化方式において、形成される液滴の粒径は、ノズル先端形状に影響され、また、塗工液に加える圧力が大きい程当該粒径が小さくなる。なお、本方式は、塗工液に対して圧力を印加するため、配管を細くした場合でも塗工液の吐出量が増大してしまい、少量の塗工には適さない。
【００３５】
２流体霧化方式は、塗工液に対して圧縮空気を送り込み、この圧縮空気により塗工液を剪断して霧状とするものである。すなわち、例えば図６および７に示すスプレーガン８３０，９４０に図示しない圧縮空気供給手段を接続し、スプレーガン８３０，９４０に供給された塗工液ＬＱに対して圧縮空気供給手段より圧縮空気を送り込んで、塗工液ＬＱを霧化する。また、スプレーガン８３０，９４０の内部には図示しないパターンエア供給手段を接続しておき、このパターンエア供給手段からパターンエアを送り込むことにより、発生した霧状の塗工液ＬＱをスプレーガン８３０，９４０から吐出させる。
このような２流体霧化方式において、形成される液滴の粒径は、ノズル先端形状に影響され、また、圧縮空気の圧力が大きい程当該粒径が小さくなる。なお、塗工液には吐出量調整のために圧力を与える場合もあるが、当該圧力は１流体霧化方式のものと比べて遥かに低い。
【００３６】
ベル方式は、高速回転するカップにより塗工液を剪断して霧状とするものである。すなわち、例えば、カップとして例えばφ２０ｍｍのコマを使用し（図示しない）、このコマを図６および７に示すスプレーガン８３０，９４０内部の流路上に回転可能に配設する。また、スプレーガン８３０，９４０内部におけるカップの外周側には図示しないパターンエア供給手段を接続しておく。そして、当該コマを高速回転（例えば回転数７２０００ｒｐｍ）させているところに液送ポンプ８２０，９２０より塗工液ＬＱを供給して、霧状の塗工液ＬＱを発生させる。これと同時に、パターンエア供給手段からパターンエアを送り込むことにより、発生した霧状の塗工液ＬＱをスプレーガン８３０，９４０から吐出させる。
通常、このようなベル方式は、上記１流体霧化方式あるいは２流体霧化方式の噴射速度に比べてカップの周速が低いために塗工液の剪断力が小さく、形成される液滴の粒径は流体霧化式のものと比べて大きくなる。
【００３７】
（５）ＭｇＯ粉体の構成
ＭｇＯ粉体には、ＢＥＴ法によって測定した平均粒径が５００Å以上（好ましくは２０００Å以上）の気相法酸化マグネシウム単結晶粉体を使用する。
このような単結晶ＭｇＯ粉体を用いて結晶ＭｇＯ層３４２を形成することにより、ＰＤＰ１の放電特性が改善（放電遅れの減少、放電確率の向上）されることになる。すなわち、放電によって発生する電子線の照射によって結晶ＭｇＯ層３４２に含まれる粒径の大きな単結晶ＭｇＯ粒から、３００〜４００ｎｍにピークを有するＣＬ発光に加えて、波長域２００〜３００ｎｍ（特に、２３５ｎｍ付近、２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するＣＬ発光が励起される。そして、当該単結晶ＭｇＯ粒は、そのピーク波長に対応したエネルギー準位を有し、そのエネルギー準位によって電子を長時間（数ｍｓｅｃ以上）トラップすることができる。この電子が電界によって取り出されることで、放電開始に必要な初期電子が得られ、結果として、放電遅れが減少し、放電確率が向上する。
【００３８】
なお、単結晶ＭｇＯではＭｇＯ粒子のＢＥＴ換算粒径が５０００Å以上であると、指数関数的に塗着効率が低下し、これに伴って塗工液の使用量が増大する。このようなＭｇＯ粒子を用いて塗工を実施すると、大量に溶剤やＭｇＯを消費するために、生産コストや環境負荷の増大に繋がる。そのため、通常は粒径５０００Å以下の粒子を使用する。
また、通常、単結晶ＭｇＯは真比重が約３でかつ溶剤の比重が１以下であるため、ＭｇＯ粉体の沈降速度は大きくなる。特に、沈降速度は粒径の２乗に比例するため、ＭｇＯ粉体の粒径が大きくなる程沈降しやすくなる。さらに、ＭｇＯ粉体は凝集性が高いために、塗工液タンク８１０，９１０内部や、各配管内で沈降が生じたときに、ＭｇＯ粉体同士が凝集して成長する。これにより塗工液ＬＱの流路にＭｇＯ粉体の凝集物が付着し、固着や閉塞を引き起こす。このため、塗工液ＬＱ中においてＭｇＯ粉体をできるだけ分散させておく必要がある。
【００３９】
（６）溶剤の構成
溶剤には、極性が強くかつ沸点が低いものを使用する。このような溶剤としては、例えばエタノールや、グリコール、ＩＰＡ（２−プロパノール）などの水酸基を有する物質が挙げられ、特にエタノールなどの１価の水酸基を有するアルコールを使用することが好ましい。この他、溶剤としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル化合物、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物、ジメチルホルムアミド等の窒素化合物を使用することもできる。
このような水酸基、カルボキシル基、スルホン基、アミン基等の親水基を有した極性の強い溶剤によれば、ＭｇＯ粉体のＭｇまたはＯと溶剤中の親水基による水素結合もしくは静電引力（極性によるもの）により、溶剤分子がＭｇＯ粉体の外周を取り囲み、ＭｇＯ粉体を溶剤中に分散させることが可能となる。また、溶剤に沸点の低いものを使用することにより、塗工後の溶剤を常温においても基板上から揮発させることが可能となる。
【００４０】
（７）分散剤の構成
分散剤には、溶媒よりも粘度の高いものを使用する。このような分散剤を使用することで、分散剤がＭｇＯと基板表面との接着剤として機能するため、粒径の大きなＭｇＯ粉体でも基板表面に付着させることができ、塗工液の基板への付着効率を向上できる。また、溶剤自体は粘度が低いものであるので塗工後に揮発し易く、塗工後の基板を常温でも乾燥可能となり、基板上におけるＭｇＯ粉体の凝集が防止される。したがって、基板表面でのＭｇＯ粉体の分散状態を良化させることが可能となる。
【００４１】
特に、溶剤にアルコール等の水酸基を有する物質を使用する場合、分散剤には溶剤の水酸基の価数よりも水酸基の価数が高い物質を使用することが好ましい。このように、分散剤の水酸基の価数を溶媒の水酸基の価数よりも高くすることで、塗工液中におけるＭｇＯ粉体の分散性を向上できるようになる。つまり、分散剤は溶剤よりも多くの水酸基を有しているので、分散剤は溶剤よりもさらにＭｇＯ粉体に吸着し易く、塗工液中において分散剤がＭｇＯ粉体の外周をより確実に取り囲むようになる。このため、塗工液中において、ＭｇＯ粉体同士が凝集することが防止され、ＭｇＯ粉体の分散性が向上される。
【００４２】
以上のような分散剤としては、具体的にはグリセリン、エチレングルコール、および１−オクタノールが例示できる。特に、グリセリンを用いた場合にはその濃度を１〜９ｗｔ％とし、エチレングリコールを用いた場合にはその濃度を１〜１８ｗｔ％とし、１−オクタノールを用いた場合にはその濃度を１〜２０ｗｔ％とすることが好ましい。これら分散剤では、塗着率、塗工表面粒子分散性ならびに液の分散性において、水酸化基が３価であるグリセリンが最も優れており、次いで水酸化基が２価であるエチレングリコール、水酸化基が１価である１−オクタノールの順となっている。
なお、グリセリン、エチレングリコールおよび１−オクタノールの濃度が１ｗｔ％よりも低い場合、グリセリンの濃度が９ｗｔ％よりも高い場合、エチレングリコールの濃度が９ｗｔ％よりも高い場合、１−オクタノールの濃度が２０ｗｔ％よりも高い場合は、塗工表面の粒子分散性を向上できない。
【００４３】
（８）実施例
本実施形態の効果を確認するための実施例を以下に示す。
(8-1)種々の分散剤の使用による分散性評価
まず、スプレー法によるＭｇＯ粉体の塗工において、種々の分散剤の使用による分散性評価について説明する。
塗工装置としては図７に示す第二の塗工装置９００を使用し、霧化方式は上記（４）に示したベル方式を採用した。具体的には、塗工液タンク９１０の内部は、φ４０の攪拌羽根を約３００ｒｐｍで回転させて、タンク内でのＭｇＯ粒子の沈降を防ぐようにした。液送ポンプ９２０にはギヤ式の定量（定積）ポンプを使用し、交流モーターにより駆動した。交流モーターはインバーターによりその回転数を制御した。配管９２１および配管９３１の長さはそれぞれ約１０ｍ、配管９３２の長さは約０．５ｍとし、それぞれ内径２ｍｍのＰＦＡチューブを用いた。スプレーガン９４０にはベル方式のものを用いた。カップとしてはφ２０ｍｍのコマを使用し、カップ回転数は７２０００ｒｐｍとした。スプレーガン９４０内部におけるカップの外周側には、図示しない空気供給手段を接続し、この空気供給手段からスプレーガン９４０内部にエア圧力０．５Ｍｐａのパターン形成エアを送り込んだ。また、スプレーガン９４０からの塗工液ＬＱの吐出量は１０ｃｃ/ｍｉｎとした。
【００４４】
被塗工基板としてはソーダライムガラスを使用した。
塗工液のＭｇＯ粉体としてはＭｇＯ単結晶粒子を用い、ＢＥＴ換算粒径は５０００Å、粉体重量比は５ｗｔ％とした。
塗工液の溶剤としては、エタノール（水酸基１価、２０℃での粘度０．００１２Ｐａ・Ｓ（１．２ｃＰ））を使用した。
塗工液の分散剤としては、溶剤に比べて高粘度かつ水酸基の価数が溶剤の価数以上である、グリセリン（水酸基３価、２０℃での粘度１．４１２Ｐａ・Ｓ（１４１２ｃＰ））と、エチレングリコール（水酸基２価、２０℃での粘度０．０２３２Ｐａ・Ｓ（２３．２ｃＰ）と、１−オクタノール（水酸基１価、２０℃での粘度０．００８９３Ｐａ・Ｓ（８．９３ｃＰ））を使用した。分散剤濃度は、塗工液の全重量に対して１〜２０ｗｔ％に調整した。
【００４５】
以上の条件で、基板上に塗工液ＬＱをスプレー塗布した後、溶媒および分散剤を完全に乾燥するために、乾燥炉において２００℃で１０分間乾燥を行なった。
そして、各試料の分散状態をＣＣＤカメラによって画像を撮像し、表面分散状態を目視により確認した。なお、撮像の際は粒の状態を明確に浮き上がらせるために、基板に対して４５°の斜光を照射した。
【００４６】
その結果、分散剤としてグリセリンを使用した場合は濃度が３ｗｔ％のときに、エチレングリコールを使用した場合は濃度が５ｗｔ％のときに、１−オクタノールを使用した場合は濃度が１０ｗｔ％のときに、それぞれ基板上に塗布されたＭｇＯ粉体の分散状態が最良となることが確認できた。
また、各分散剤における上記の最良状態での分散状態（以下、最良分散状態と称す）を比較すると、グリセリン、エチレングリコール、１−オクタノールの順で、最良分散状態が良好となることが確認できた。これは、水酸基の価数の作用であると思われる。
また、グリセリンでは濃度１〜９ｗｔ％の範囲で、エチレングルコールでは濃度１〜１８ｗｔ％の範囲で、１−オクタノールでは濃度１〜２０ｗｔ％の範囲で、分散材を添加しない場合に比べて分散状態が良化した。また、それぞれの分散剤において、分散剤の添加量が上記上限値よりも多くなるほど、ＭｇＯ粉体の分散状態が悪化した。これは、塗工後に基板表面上で揮発していない分散剤が凝集することに伴って、ＭｇＯ粉体が凝集して島が形成されたことによるものと考えられる。
【００４７】
以上の結果を考察すると、分散剤としてグリセリンを添加した場合、グリセリンの粘度が高いため基板へのＭｇＯ粉体の付着性が向上し、ＭｇＯ粉体の最良分散状態が最も良好となったものと考えられる。しかし、逆にグリセリンの粘度が高いため乾燥凝集が生じ易く、良好な結果が得られる濃度の上限値がエチレングルコールおよび１−オクタノールと比較して低くなったものと考えられる。
また、分散剤としてエチレングリコールあるいは１−オクタノールを添加した場合は、グリセリンを添加した場合ほど基板への付着性は良くないため、最良分散状態がグリセリンの場合に比べて良くならなかったものと考えられる。しかし、エチレングリコールおよび１−オクタノールでは、乾燥凝集が生じ難いため、広い濃度範囲で分散状態が良化したものと考えられる。
【００４８】
(8-2)グリセリンを使用した場合におけるＭｇＯ粉体の分散状態の観察
次に、上記(8-1)と同様にして、分散剤としてグリセリンを３ｗｔ％添加した場合（実施例１）、分散剤を添加しない場合（比較例１−１）、および、分散剤としてグリセリンを１０ｗｔ％添加した場合（比較例１−２）におけるＭｇＯ粉体の分散状態を撮像した。そして、分散剤添加の有無、および、分散剤の添加量の多寡によるＭｇＯ粉体の分散状態への影響について検討した。
図８には実施例１における、図９には比較例１−１における、図１０には比較例１−２における塗工後の基板表面画像を２値化した画像を示す。これら画像中において、黒部分が塗工されたＭｇＯ粉体の集合体であり、２値化により抽出された領域である。
【００４９】
図８と図９とを比較すると、図８に示すグリセリンを３ｗｔ％添加した場合（実施例１）では、図９に示す分散剤を添加しない場合（比較例１−１）よりも、ＭｇＯ粉体の細かく均一に分散しており、分散性が良好であることが分かる。このことより、分散剤としてグリセリンを３ｗｔ％添加することで、ＭｇＯ粉体の分散性を向上できることが分かる。
【００５０】
図８と図１０とを比較すると、図１０に示すグリセリンを１０ｗｔ％添加した場合（比較例１−２）では、ＭｇＯ粉体が細かく分散している部分もあるが、ＭｇＯ粉体が凝集して島状になっている部分が多く存在していることが分かる。このことより、グリセリンの添加量を上げ過ぎると、島状のＭｇＯ粉体が形成され易くなり、ＭｇＯ粉体の分散性が低下することが分かる。
この結果を次のように考察する。グリセリンはエタノールよりも沸点が高いため、溶媒としてのエタノールはスプレー塗布後に自然乾燥するが、分散剤としてのグリセリンは自然乾燥せずに基板表面にＭｇＯ粉体と共に残る。そして、分散剤の濃度が高くなる程、基板表面に未乾燥状態で残る分散剤量が多くなり、基板乾燥時に分散剤の表面張力により分散剤が凝集する。そして、分散剤中にＭｇＯ粉体が存在しているために、ＭｇＯ粉体の乾燥凝集が発生し易くなったものと考えられる。図１０はＭｇＯ粉体の乾燥凝集が発生した例であるが、さらに分散剤添加量を増加させると、ＭｇＯ粉体の分散性はさらに低下する。
【００５１】
(8-3)塗着効率の評価
次に、種々の分散剤について塗着効率を評価するため、種々の分散剤について以下の実験を行い、それぞれ基板上に形成されたＭｇＯ粉体層が所定の透過率になるまでに要した塗工液の吐出量をＭｇＯ粉体の粒径毎に調べた。
塗工装置としては図７に示す第二の塗工装置９００を使用し、スプレーガン９４０以外の基本的な装置構成は上記(8-1)と同様とした。スプレーガン９４０には２流体エア霧化方式のものを使用し、スプレーガン９４０に供給する霧化用の圧縮空気圧力は０．１ＭＰａとし、パターンエア圧力は０．２ＭＰａとした。
【００５２】
被塗工基板としてはソーダライムガラスを使用した。
塗工液のＭｇＯ粉体としてはＭｇＯ単結晶粒子を用い、ＢＥＴ換算粒径は２２００〜８３００Å、粉体重量比は５ｗｔ％とした。
塗工液の溶剤にはエタノールを用い、塗工液の分散剤にはグリセリン（実施例２−１）、エチレングリコール（実施例２−２）および１−オクタノール（実施例２−３）を用いた。各分散剤濃度は、上記(8-1)の結果において最良分散状態が得られたときの濃度として、グリセリンでは３ｗｔ％、エチレングリコールでは５ｗｔ％、１−オクタノールでは１０ｗｔ％と設定した。また、比較例２として、塗工液に分散剤を添加しないものも準備した。
【００５３】
以上の条件で、基板上に塗工液ＬＱをスプレー塗布した後、溶媒および分散剤を完全に乾燥するために、乾燥炉において２００℃で１０分間乾燥を行なった。図１１に、それぞれの分散剤について、基板上に形成されたＭｇＯ粉体層が所定の透過率になるまでに要した塗工液の吐出量（必要吐出量[cc/min]）と、ＭｇＯ粉体のＢＥＴ換算粒径[Å]との関係を示す。ここでの所定透過率は拡散透過率８０％とした。
【００５４】
図１１に示す結果より、所望の透過率にてＭｇＯ粉体層を形成する際には、上述の各種分散剤を添加した場合の方（実施例２−１〜２−３）が、分散剤を添加しない場合（比較例２）と比較して、塗着効率が高くなることが分かる。また、高粘度の分散剤を添加した方が、より大きな粒径のＭｇＯ粉体を基板上に塗着できるようになることが分かる。
【００５５】
具体的に、図１１において、分散剤を添加しなかった場合（比較例２）では、ＭｇＯ粉体のＢＥＴ換算粒径が約５０００Å以下において必要吐出量が一定（約１３[cc/min]）であり、５０００Åより大きい粒径では指数関数的に必要吐出量が増加した。
一方、グリセリンを３ｗｔ％添加した場合（実施例２−１）では、ＭｇＯ粉体のＢＥＴ換算粒径が約７０００Å以下において必要吐出量が一定（約８[cc/min]）であり、７０００Åより大きい粒径では必要吐出量が増加した。
また、エチレングリコールを５ｗｔ％添加した場合（実施例２−２）では、ＭｇＯ粉体のＢＥＴ換算粒径が約６０００Å以下において必要吐出量が一定（約１１[cc/min]）であり、６０００Åより大きい粒径では指数関数的に必要吐出量が増加した。
そして、１−オクタノールを１０ｗｔ％添加した場合（実施例２−３）では、必要吐出量が実施例２−２と比較例２との中間程度となっており、ＭｇＯ粉体のＢＥＴ換算粒径が約５５００Å以下において必要吐出量が一定（約１２[cc/min]）であり、５５００Åより大きい粒径では指数関数的に必要吐出量が増加した。
【００５６】
このように、ＭｇＯ粉体のＢＥＴ換算粒径に対して必要吐出量が一定の区間では、各種分散剤を添加した場合（実施例２−１〜２−３）の方が、分散剤を添加しない場合（比較例２）と比較して小さな値となった。通常、ＭｇＯ粉体は５０００Å未満のものを使用するため、当該一定の区間における必要吐出量が基本的な塗着効率となる。このため、グリセリンを添加した場合（実施例２−１）では約３０％、エチレングリコールを添加した場合（実施例２−２）では約２０％、１−オクタノールを添加した場合では約１０％塗着効率が向上したと言える。
【００５７】
また、各種分散剤を添加した場合（実施例２−１〜２−３）、分散剤を添加しない場合（比較例２）と比較して、指数関数的な増加を始めるＢＥＴ換算粒径の閾値が高くなっている。特に、実施例２−１（グリセリン添加）と比較例２（分散剤添加なし）とを比較すると、実施例２−１は当該閾値が４０％程高くなっていることが分かった。これより、高粘度の分散剤を添加した方が、より大きな粒径のＭｇＯ粉体を基板上に塗着させることができるようになることが分かる。
【００５８】
ここで、ＭｇＯ粉体の粒径に対して、必要吐出量の増加が始まる上記閾値が存在するのは、以下の理由によるものと考えられる。
ＭｇＯ粉体が十分に小さい場合、粒子表面の表面エネルギーが高いために、付着性が高く、基板に付着しやすい。そして、ＭｇＯ粉体が大きくなると、基板に付着するだけの表面エネルギーを持てず基板に付着し難くなる。
また、ＢＥＴ換算粒径は、通常、正規分布を持つ粒径分布が平均化された値である。したがって、基板に付着できなくなるＢＥＴ粒径よりも大きなＭｇＯ粉体であっても、実際には分布を持っているため基板に付着可能な小さいＭｇＯ粉体を含んでいる。そのため、図１１においては、ある粒径以上では必要吐出量が指数関数（実際の粒径分布が正規分布のため）的に増加したものと考えられる。
そして、分散剤を添加した場合（実施例２−１〜２−３）では、分散剤がＭｇＯ粉体と基板表面との接着剤として機能するため、高い表面エネルギーを持つのと同様の効果が得られ、上記のように、指数関数的な増加を始めるＢＥＴ換算粒径の閾値が大きくなったものと考えられる。特にこの効果は、ＭｇＯ粉体の分散性が高く、かつ、粘度が高い分散剤ほど強く現れるため、グリセリン（実施例２−１）およびエチルグリコール（実施例２−２）では上記閾値が高くなったものと考えられる。
【００５９】
(8-4)各分散剤を使用した場合におけるＰＤＰ１の放電遅れの検証
次に、各分散剤の使用によるＰＤＰ１（図１参照）の放電遅れを検証するため、以下の実験を行った。
上記（２）に示したようにＰＤＰ１を製造した。特に結晶ＭｇＯ層３４２の形成工程では、塗工装置および塗工条件は上記(8-3)と同様とした。塗工液のＭｇＯ粉体としてはＭｇＯ単結晶粒子を用い、ＢＥＴ換算粒径は５５００Å、粉体重量比は５ｗｔ％とした。塗工液の溶剤にはエタノールを使用し、塗工液の分散剤にはグリセリン３ｗｔ％（実施例３−１）、エチレングリコール５ｗｔ％（実施例３−２）、１−オクタノール１０ｗｔ％（実施例３−３）添加した塗工液を用いた。また、比較例３として、分散剤を添加しない塗工液も準備した。
【００６０】
それぞれのＰＤＰ１について、放電遅れ測定を前面基板３面内の２０ポイントで行なった。図１２には面内２０点の放電遅れの測定結果（範囲）を示す。放電遅れは単結晶ＭｇＯ塗工を行なわないパネルの最大値で規格化した。なお、放電遅れとは、放電を発生させるための電圧を印加させてから、実際に放電が起きるまでの時間（形成遅れ＋統計遅れ）を意味する。
【００６１】
図１２に示す結果より、分散剤を添加したもの（実施例３−１〜３−３）は、分散剤を添加しないもの（比較例３）に比べて放電遅れが改善したことが分かった。特に、放電遅れの最小値においては、グリセリンを添加した場合（実施例３−１）が最も小さく、次にエチレングリコール（実施例３−２）、１−オクタノール（実施例３−３）の順となることが分かった。
【００６２】
このように、各種分散剤の添加により放電遅れのばらつきが減少したのは、基板上に塗工されたＭｇＯ粉体の分散性が改善し、放電に寄与するＭｇＯのばらつきが減少したためと考えられる。
また、各種分散剤の添加により放電遅れの最小値が減少したのは、分散剤により大粒径のＭｇＯ粉体の付着性が向上したためである。すなわち、本実験で使用したＭｇＯ粉体はＢＥＴ粒径が５５００Åである。図１１では、ＭｇＯ粉体のＢＥＴ粒径が５５００Åの場合、分散剤添加しない条件（比較例２）では必要吐出量が増加する領域に含まれ、大きな粒径の粉は付着しないことを意味する。また、エチレングリコール（実施例２−２）および１−オクタノール（比較例２−３）では必要吐出量が僅かに上昇する領域に含まれ、グリセリン（実施例２−１）では必要吐出量が変化しない領域に含まれる。そして、ＭｇＯ粉体粒径が大きいと、放電確率（１／放電遅れ）の向上に寄与し易くなる傾向がある。そのため、大粒径の粉の付着割合が高い程、放電遅れが改善する。したがって、図１２に示すように、各種分散剤（実施例３−１〜３−３）を添加することにより、特にグリセリン（実施例３−１）を添加することにより、ＰＤＰ１の放電遅れの最小値が減少したものと考えられる。
【００６３】
（９）ＰＤＰ１の製造方法の効果
上述したように、本実施形態におけるＰＤＰ１の製造方法によれば、以下の効果を奏することができる。
【００６４】
(9-1)結晶ＭｇＯ層３４２の形成工程において、図７に示す第二の塗工装置９００を用いたスプレー法にて、ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液を薄膜ＭｇＯ層３４１上に塗布する。塗工液には、溶剤よりも高い粘度を有する分散剤を添加する。
このような分散剤を使用することで、分散剤がＭｇＯと基板表面との接着剤として機能する。このため、粒径の大きなＭｇＯ粉体でも基板表面に付着させることができ、塗工液の基板への付着効率を向上できる。また、ＭｇＯ粉体を基板上に均一に分散させるために、塗工液の霧化用のエア圧力あるいは塗工液の吐出圧力を増加させても、ＭｇＯ粉体を基板表面に良好に付着させることができる。このことにより、塗工液の使用量および霧状の塗工液の飛散量を低減できるので、ＰＤＰ１の製造コストの上昇および塗工装置９００のメンテナンスに要するコストの上昇を防止できる。
また、溶剤自体は分散剤に比べて粘度が低いものであるので、塗工後に揮発し易く、塗工後の基板を常温でも乾燥できる。そして、分散剤の濃度を所定の条件に設定すれば、基板上に残留した分散剤によりＭｇＯ粉体が乾燥凝集することもなく、基板表面でのＭｇＯ粉体の分散状態を良化させることができる。
そして、このような塗工液を用いたスプレー法によれば、結晶ＭｇＯ層３４２を均一に形成することができるので、ＰＤＰ１の各放電セル２３１において、放電遅れ・放電確率を均一化できる。特に大粒径のＭｇＯ粉体も使用可能であるので、放電遅れをさらに低減できる。このため、均一な輝度および良好なスキャン特性を有したＰＤＰ１を得ることができる。
以上のように、本実施形態のＰＤＰ１の製造方法によれば、ＰＤＰ１を好適に製造でき、かつ、ＰＤＰ１の表示特性を向上できる。
【００６５】
(9-2)塗工液において、溶剤および分散剤は水酸基を有する物質であって、分散剤の水酸基の価数は前記溶剤の水酸基の価数以上であることが好ましい。
このような塗工液を用いた場合、分散剤は溶剤よりも多くの水酸基を有しているので、塗工液中において、分散剤は溶剤よりもＭｇＯ粉体に吸着し易く、分散剤によりＭｇＯ粉体の外周を確実に取り囲ませることができる。このため、塗工液中においてＭｇＯ粉体同士が凝集しなくなるので、ＭｇＯ粉体の塗工液中での分散性を向上できる。また、ＭｇＯ粉体の外周を高粘度の分散剤が取り囲むことにより、分散剤のＭｇＯと基板表面との接着剤としての機能がさらに向上し、ＭｇＯ粉体の基板への塗着効率をより向上できる。
そして、塗工装置の各部におけるＭｇＯ粉体の凝集も防止できるので、ＭｇＯ粉体の付着による流路の閉塞等を防止でき、塗工装置の安定した塗工動作を確保できる。
【００６６】
(9-3)塗工液において、溶剤は１価の水酸基を有するアルコールであることが好ましい。
このような塗工液を用いた場合、溶剤の極性が強くかつその沸点が低いので、ＭｇＯ粉体を溶剤中における分散性を向上でき、常温においても塗工後の溶剤を基板上から揮発させることができる。これにより、塗工後の基板上においてＭｇＯ粉体をより均一に分散させることができる。
また、塗工装置の各部におけるＭｇＯ粉体の凝集をより確実に防止できるので、ＭｇＯ粉体の付着による流路の閉塞等をさらに防止でき、さらに安定した塗工装置の塗工動作が得られる。
【００６７】
(9-4)塗工液において、分散剤として、グリセリン、エチレングルコール、および１−オクタノールのうち少なくともいずれか１種を使用することが好ましい。
このような分散剤を使用することにより、塗工後の基板表面におけるＭｇＯ粉体の分散性、ＭｇＯ粉体の基板への付着効率、大径ＭｇＯ粉体の基板に対する吸着性、および、塗工液中でのＭｇＯ粉体の分散性において、優れた効果を得ることができる。
【００６８】
(9-5)塗工液において、分散剤として、グリセリンを用いた場合にはその濃度を１〜９ｗｔ％とし、エチレングリコールを用いた場合にはその濃度を１〜１８ｗｔ％とし、１−オクタノールを用いた場合にはその濃度を１〜２０ｗｔ％とすることが好ましい。
このような分散剤を使用することにより、塗工後の基板表面におけるＭｇＯ粉体の分散状態を確実に良化させることができる。
【００６９】
(9-6)塗工液において、酸化マグネシウム粉体は単結晶粉体であることが好ましい。
このような単結晶ＭｇＯ粉体を用いて薄膜ＭｇＯ層３４１を形成すれば、ＰＤＰ１において、放電遅れが減少しかつ放電確率が向上するなど、ＰＤＰ１の表示特性を向上できる。
【００７０】
(9-7)塗工液において、溶媒としてエタノールを使用する。そして、分散剤として、グリセリンを３ｗｔ％、エチレングリコールを５ｗｔ％、あるいは、１−オクタノールを１０ｗｔ％添加することが好ましい。
これらの場合、ＭｇＯ粉体の基板表面における分散状態を最良なものとすることができる。特に分散剤としてグリセリンを３ｗｔ％添加した場合、塗工後の基板表面におけるＭｇＯ粉体の分散性、ＭｇＯ粉体の基板への付着効率、大径ＭｇＯ粉体の基板に対する吸着性、および、塗工液中でのＭｇＯ粉体の分散性において、最も優れた効果を得ることができる。
【００７１】
（１０）実施形態の変形
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
【００７２】
例えば、前記実施形態では、前面基板３側に表示電極対３１および誘電体層３３を設け、かつ、背面基板２側にアドレス電極２１および蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）を設けた、いわゆる反射型交流ＰＤＰを例示したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、本発明が適用可能なＰＤＰとしては、例えば、前面基板側に表示電極対とアドレス電極を形成してこれらを誘電体層によって被覆し、背面基板側に蛍光体層を形成した反射型交流ＰＤＰでもよい。また、例えば、前面基板側に蛍光体層を形成し、背面基板側に表示電極対とアドレス電極を形成してこれらを誘電体層によって被覆した透過型交流ＰＤＰでもよい。つまり、本発明は、前面基板あるいは背面基板のいずれか一方の基板上に、表示電極対と、誘電体層と、保護層とが設けられた構成であれば、いずれのタイプのＰＤＰに対しても適用できる。
【００７３】
前記実施形態では、前面基板３の保護層３４が薄膜ＭｇＯ層３４１および結晶ＭｇＯ層３４２からなる２層構造となったものを例示したが、これに限らず、本発明における保護層は結晶ＭｇＯ層３４２からなる１層構造であってもよい。このような場合でも、前記実施形態と同様にして結晶ＭｇＯ層３４２を形成できる。
【００７４】
前記実施形態では、保護層３４は、誘電体層３３の全面を被覆するとしたが、これに限らず、例えば、誘電体層３３における透明電極３１１ａ，３１１ｂに対向する部分や逆に透明電極３１１ａ，３１１ｂに対向する部分以外の部分などのように、部分的にパターン化して形成するようにしてもよい。
【００７５】
（１１）実施形態の作用効果
上述したように、前記実施形態では、結晶ＭｇＯ層３４２の形成工程において、スプレー法にて、ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液を薄膜ＭｇＯ層３４１上に塗布する。塗工液には、溶剤よりも高い粘度を有する分散剤を添加する。
これにより、分散剤がＭｇＯと基板表面との接着剤として機能するため、ＭｇＯ粉体の基板への付着効率を向上できる。このため、基板上におけるＭｇＯ粉体の分散性を向上できると共に、使用する塗工液の量を低減できる。また、溶剤自体は分散剤に比べて粘度が低いものであるので、塗工後に揮発し易く、塗工後の基板上においてＭｇＯ粉体が乾燥凝集することを防止できる。このような塗工液を用いたスプレー法によれば、結晶ＭｇＯ層３４２を均一に形成することができるので、ＰＤＰ１の各放電セル２３１において、放電遅れ・放電確率を均一化できる。このため、均一な輝度および良好なスキャン特性を有したＰＤＰ１を得ることができる。
したがって、本実施形態のＰＤＰ１の製造方法によれば、ＰＤＰ１を好適に製造でき、かつ、ＰＤＰ１の表示特性を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した分解斜視図である。
【図２】前記実施形態におけるプラズマディスプレイパネルを模式的に示した正面図である。
【図３】図２におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った側断面図である。
【図４】図２におけるＩＶ−ＩＶ線に沿った側断面図である。
【図５】前記実施形態における単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程を示した模式図である。
【図６】前記実施形態における第一の塗工装置を示す模式図である。
【図７】前記実施形態における第二の塗工装置を示す模式図である。
【図８】前記実施形態の効果を確認する実施例における、塗工後の実施例１の基板表面画像を２値化した画像である。
【図９】前記実施形態の効果を確認する実施例における、塗工後の比較例１−１の基板表面画像を２値化した画像である。
【図１０】前記実施形態の効果を確認する実施例における、塗工後の比較例１−２の基板表面画像を２値化した画像である。
【図１１】前記実施形態の効果を確認する実施例における、基板上に形成されたＭｇＯ粉体層が所定の透過率になるまでに要した塗工液の吐出量と、ＭｇＯ粉体のＢＥＴ換算粒径との関係を各種分散剤毎に示したグラフである。
【図１２】前記実施形態の効果を確認する実施例における、スプレー法にて形成された結晶ＭｇＯ層を具備したＰＤＰの放電遅れの測定結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【００７７】
１…ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）
２…背面基板
３…前面基板
３１…表示電極対
３３…誘電体層
３４…保護層
３４１…薄膜ＭｇＯ層
３４２…結晶ＭｇＯ層
３４２Ａ…単結晶ＭｇＯ粉体
８００…第一の塗工装置
８１０…塗工液タンク
８２０…液送ポンプ
８３０…スプレーガン
９００…第二の塗工装置
９１０…塗工液タンク
９２０…液送ポンプ
９３０…三方弁
９４０…スプレーガン
Ｈ…放電空間
ＬＱ…塗工液
【図１】
0004819554.tif 000002
【図２】
0004819554.tif 000003
【図３】
0004819554.tif 000004
【図４】
0004819554.tif 000005
【図５】
0004819554.tif 000006
【図６】
0004819554.tif 000007
【図７】
0004819554.tif 000008
【図８】
0004819554.tif 000009
【図９】
0004819554.tif 000010
【図１０】
0004819554.tif 000011
【図１１】
0004819554.tif 000012
【図１２】
0004819554.tif 000013