(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のデータ線と、
前記複数のデータ線と交差して形成されたゲート線と、
前記複数のデータ線と前記複数のゲート線とが交差する位置に形成された複数のスイッチング素子と、
画素内に形成された反射領域及び透過領域と、
第１の基板と第２の基板との間に狭持された液晶層と、
前記第１の基板と前記液晶層との間に配置された共通電極と、
前記第２の基板と前記液晶層との間に配置された画素電極と、を有し、
前記共通電極は、スリット部もしくは前記共通電極に被覆された突起部を有し、
前記データ線は、前記第１の基板面の法線方向において、前記共通電極のスリット部もしくは前記共通電極に被覆された突起部と重なり、
前記共通電極のスリット部もしくは前記共通電極に被覆された突起部は屈曲しており、
前記データ線は、前記ゲート線の延在方向および前記データ線の延在方向に隣り合う複数の画素にまたがって配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
前記データ線の幅は、前記共通電極のスリット部の幅もしくは前記共通電極に被覆された突起部の幅より大きく、
前記第１の基板面の法線方向において、前記データ線は、前記共通電極のスリット部もしくは前記共通電極に被覆された突起部に対応して配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、
反射領域に反射層が設けられ、
前記画素電極は、スリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部を有し、
前記反射層は、前記第１の基板面の法線方向において、前記画素電極のスリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部と重なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液晶表示装置において、
前記画素電極のスリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部は屈曲していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
前記反射領域において、前記第２の基板と前記画素電極との間に配置された反射層と、
前記反射領域において、前記反射層と前記画素電極との間に配置された偏光層と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
複数のデータ線と、
前記複数のデータ線と交差して形成されたゲート線と、
前記複数のデータ線と前記複数のゲート線とが交差する位置に形成された複数のスイッチング素子と、
画素内に形成された反射領域及び透過領域と、
第１の基板と第２の基板との間に狭持された液晶層と、
前記第１の基板と前記液晶層との間に配置された共通電極と、
前記第２の基板と前記液晶層との間に配置された画素電極と、とを有し、
前記画素電極は、スリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部を有し、
前記データ線は、前記第１の基板面の法線方向において、前記画素電極のスリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部と重なり、
前記画素電極のスリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部は屈曲しており、
前記データ線は、前記ゲート線の延在方向および前記データ線の延在方向に隣り合う複数の画素にまたがって配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶表示装置において、
前記データ線の幅は、前記画素電極のスリット部の幅もしくは前記画素電極に被覆された突起部の幅より大きく、
前記第１の基板面の法線方向において、前記データ線は、前記画素電極のスリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部に対応して配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の液晶表示装置において、
前記第１の基板面に法線方向から観察したときに、前記画素電極のスリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部及び前記データ線と重なる領域に反射領域を設けたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の液晶表示装置において、
前記共通電極のスリット部もしくは前記共通電極に被覆された突起部は屈曲していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
前記反射領域において、前記第２の基板と前記画素電極との間に配置された反射層と、
前記反射領域において、前記反射層と前記画素電極との間に配置された偏光層と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれかに記載の液晶表示装置において、
前記透過領域において、前記第２の基板と前記画素電極との間に偏光層が配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至４のいずれかに記載の液晶表示装置において、
前記データ線と前記共通電極のスリット部もしくは前記共通電極に被覆された突起部との間に配置された前記反射層の幅は、前記データ線の幅及び前記共通電極のスリット部の幅、もしくは前記データ線の幅及び前記共通電極に被覆された突起部の幅より大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１３】
請求項６乃至９のいずれかに記載の液晶表示装置において、
前記データ線と前記画素電極のスリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部との間に配置された前記反射層の幅は、前記データ線の幅及び前記画素電極のスリット部の幅、もしくは前記データ線の幅及び前記画素電極に被覆された突起部の幅より大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれかに記載の液晶表示装置において、
前記画素内において、前記透過領域は複数に分割されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１５】
複数のデータ線と、
前記複数のデータ線と交差して形成されたゲート線と、
前記複数のデータ線と前記複数のゲート線とが交差する位置に形成された複数のスイッチング素子と、
画素内に形成された反射領域及び透過領域と、
第１の基板と第２の基板との間に狭持された液晶層と、
前記第１の基板と前記液晶層との間に配置された共通電極と、
前記第２の基板と前記液晶層との間に配置された画素電極と、を有し、
前記共通電極は、前記共通電極に被覆された突起部を有し、
前記画素電極は、スリット部を有し、
前記データ線は、前記第１の基板面の法線方向において、前記画素電極のスリット部と重なり、
前記反射層は、前記第１の基板面の法線方向において、前記共通電極に被覆された突起部と重なり、
前記画素電極のスリット部、及び前記共通電極に被覆された突起部は屈曲しており、
前記データ線は、前記ゲート線の延在方向および前記データ線の延在方向に隣り合う複数の画素にまたがって配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の液晶表示装置において、
前記データ線の幅は、前記画素電極のスリット部の幅より大きく、
前記第１の基板面の法線方向において、前記データ線は、前記画素電極のスリット部に対応して配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１７】
請求項１５に記載の液晶表示装置において、
前記反射領域において、前記第２の基板と前記画素電極との間に配置された反射層と、
前記反射領域において、
前記反射層と前記画素電極との間に配置された偏光層と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１８】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
反射領域に反射層が設けられ、
前記画素電極は、スリット部もしくは前記画素電極に被覆された突起部を有し、
前記データ線を含んでいる透過領域と、前記反射層を含んでいる反射領域は、交互に隣り合う複数の画素にまたがって屈曲した形状で存在し、
透過領域では、前記データ線が前記共通電極のスリット部または前記共通電極に被覆された突起部を全て覆い、
反射領域では、前記反射層が前記共通電極のスリット部または前記画素電極に被覆された突起を全て覆い、
前記反射層の幅は前記画素電極のスリット部または前記画素電極に被覆された突起の幅より大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１９】
請求項９に記載の液晶表示装置において、
反射領域に反射層が設けられ、
前記共通電極は、スリット部もしくは前記共通電極に被覆された突起部を有し、前記データ線を含んでいる透過領域と、前記反射層を含んでいる反射領域は、交互に隣り合う複数の画素にまたがって屈曲した形状で存在し、
透過領域では、前記データ線が前記画素電極のスリット部または前記画素電極に被覆された突起部を全て覆い、
反射領域では、前記反射層が前記共通電極のスリット部または前記共通電極に被覆された突起を全て覆い、
前記反射層の幅は前記共通電極のスリット部または前記共通電極に被覆された突起の幅より大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２０】
請求項９に記載の液晶表示装置において、
反射領域に反射層が設けられ、
前記共通電極は、スリット部もしくは前記共通電極に被覆された突起部を有し、
透過領域および反射領域が隣り合う複数の画素にまたがって屈曲した形状で交互に存在し、
反射領域は、前記反射層、前記共通電極のスリット部または前記共通電極に被覆された突起部から成る領域（領域１）と、前記データ線、前記反射層および前記画素電極のスリット部または前記画素電極に被覆された突起部から成る領域（領域２）とが交互に存在し、
領域１では、前記反射層が前記共通電極のスリット部または共通電極に被覆された突起を全て覆い、
前記反射層の幅は前記共通電極のスリット部または前記共通電極に被覆された突起の幅より大きく、
領域２では、前記データ線および前記反射層が前記画素電極のスリット部または前記画素電極に被覆された突起部を全て覆い、
前記反射層の幅、前記データ線の幅、前記画素電極のスリット部または前記画素電極に被覆された突起部の順に大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置は情報を視覚的に人間に伝えるメディアであり、高度な情報社会となった現代では、人間、社会にとって重要な存在となっている。液晶表示装置は近年性能が著しく向上し、携帯電話からパーソナルコンピューターさらには大画面テレビ等の表示装置として採用されている。液晶表示装置は一般に液晶表示パネルと、その背面に配置して液晶表示パネルに光を照射するバックライト（照明装置）とから構成される。カラー画像を表示する場合、１つの画素（ピクセル）が例えば赤色、青色、緑色の３原色に対応する３つの副画素（サブピクセル）から構成され、各色に対応した副画素を独立に制御することでさまざまな色を再現する。
【０００３】
携帯電話などのモバイル機器に使用される液晶表示装置では、幅広い照明環境に対応できることから、半透過型液晶表示装置が使用されている。半透過型液晶表示装置は、その液晶表示パネルの表示領域を構成する一つの副画素（サブピクセル）内に、透過領域と反射領域を有するものである。透過領域は、バックライトからの光の透過量を制御することで、透過型表示を実現する。一方、反射領域は外部からの光の反射量を制御することで、反射型表示を実現する。つまり、半透過型液晶表示装置は暗い環境では、主に透過型表示、明るい環境では、主に反射型表示により表示画像の視認性を確保できるので幅広い照明環境での使用が可能となる。
【０００４】
半透過型液晶表示装置を実現する方式として、ＶＡ（Vertical Alignment）方式が知られている。これは、一対の透明基板と、これら透明基板の間に挟持される液晶層と、各透明基板の液晶層とは反対側の面にそれぞれ配置した一対の円偏光板とを有し、液晶層に入射する光の偏光状態を変化させることで光の透過及び反射の量を制御して画像を表示するものである。従来のＶＡ方式による半透過型液晶表示装置では円偏光板を利用しており、この円偏光板の性能で画像のコントラスト比が左右される。
【０００５】
円偏光板は所定の直線偏光成分は吸収し、これと軸が直交する直線偏光は透過する機能を有する偏光板と、１／４波長板を積層したものである。円偏光板の性能を高めるには位相差の波長依存性が小さな１／４波長板を用い、さらに１／４波長板の遅相軸と偏光板の吸収軸が所定の角度になるよう正確に積層することが必要になる。しかしながら、実際の量産では、１／４波長板の位相差や、１／４波長板の遅相軸と偏光板の吸収軸との角度にはばらつきが生じるため、円偏光板を備える半透過型液晶表示装置では透過表示のコントラスト比を高めにくいという課題がある。つまり、ＶＡ方式による半透過型液晶表示装置で透過表示のコントラスト比を向上するには円偏光板を使わない方式が望ましい。
【０００６】
特許文献１には、円偏光板を使わないＶＡ方式の液晶表示装置が記載されている。これは、液晶表示装置を構成する一対の偏光板の他に、画素電極及び金属反射層を被覆するように、新たに偏光層を設けるものである。一対の偏光板は、互いにその吸収軸を直交するように配置し、偏光層の吸収軸は、バックライト側に配置する偏光板の吸収軸と一致させる。この場合、透過表示は駆動電圧が零の場合に黒（暗）表示となり、駆動電圧が印加されると明表示となる、所謂、ノーマリーブラック型となる。一方、画素電極と接続された金属反射層を反射領域とすることで、透過表示と同様、駆動電圧が零の場合に黒（暗）表示となり、駆動電圧が印加されると明表示となるノーマリーブラック型の反射表示が実現できる。つまり、円偏光板を使用しなくてもＶＡ方式で半透過型の液晶表示装置が実現できる。
【０００７】
なお、特許文献１では偏光層の材料としてOPTIVA社のＴＣＦＴＣＦ（Thin crystal Film）を用いると記載されている。つまり、偏光層としては塗布型の材料を利用する。
【特許文献１】特開２００５−２５０４３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
円偏光板を使わないＶＡ方式の液晶表示装置では、円偏光板を構成する１／４波長板に起因したコントラスト比の低下を回避できる。しかし、この場合は、透過領域において円偏光板を利用する時に表示の明るさに寄与していた液晶分子が偏光板の吸収軸と平行、もしくは直交する方向に向いた領域が表示の明るさに寄与しなくなる。
【０００９】
また、ＶＡ方式の液晶表示装置では広視野角化のために、液晶層に電界が印加されたときに液晶分子が傾く方向を複数の方向にするために突起あるいは電極にスリット状の隙間を設ける。この液晶分子の傾く方向を規定する突起や電極のスリット部では、液晶層に電界が印加されても液晶分子はほとんど動かないので表示の明るさに寄与しない。さらに、液晶分子の傾く方向を規定する突起を設ける場合、液晶層に電界が印加されていない状況であっても突起の傾斜面にそって液晶分子が傾いており、これが光漏れの原因となってコントラスト比の低下要因となる。
【００１０】
本発明の目的は、明るくコントラスト比が高い広視野角な液晶表示装置を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上記目的を達成するため、複数のデータ線と、複数のデータ線と交差して形成されたゲート線と、複数のデータ線と複数のゲート線とが交差する位置に形成された複数のスイッチング素子と、画素内に形成された反射領域及び透過領域と、第１の基板と第２の基板との間に狭持された液晶層と、第１の基板と液晶層との間に配置された共通電極と、第２の基板と前記液晶層との間に配置された画素電極と、を有し、共通電極は、スリット部もしくは共通電極に被覆された突起部を有し、データ線は、第１の基板面の法線方向において、共通電極のスリット部もしくは共通電極に被覆された突起部と重なり、共通電極のスリット部もしくは共通電極に被覆された突起部は屈曲しており、データ線は、ゲート線の延在方向およびデータ線の延在方向に隣り合う複数の画素にまたがって配置されたことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、複数のデータ線と、複数のデータ線と交差して形成されたゲート線と、複数のデータ線と複数のゲート線とが交差する位置に形成された複数のスイッチング素子と、画素内に形成された反射領域及び透過領域と、第１の基板と第２の基板との間に狭持された液晶層と、第１の基板と前記液晶層との間に配置された共通電極と、第２の基板と前記液晶層との間に配置された画素電極と、を有し、画素電極は、スリット部もしくは画素電極に被覆された突起部を有し、データ線は、第１の基板面の法線方向において、画素電極のスリット部もしくは画素電極に被覆された突起部と重なり、画素電極のスリット部もしくは画素電極に被覆された突起部は屈曲しており、データ線は、ゲート線の延在方向およびデータ線の延在方向に隣り合う複数の画素にまたがって配置されたことを特徴とする。
【００１３】
また、本発明は、複数のデータ線と、複数のデータ線と交差して形成されたゲート線と、複数のデータ線と複数のゲート線とが交差する位置に形成された複数のスイッチング素子と、画素内に形成された反射領域及び透過領域と、第１の基板と第２の基板との間に狭持された液晶層と、第１の基板と液晶層との間に配置された共通電極と、第２の基板と液晶層との間に配置された画素電極と、を有し、共通電極は、共通電極に被覆された突起部を有し、画素電極は、スリット部を有し、データ線は、第１の基板面の法線方向において、画素電極のスリット部と重なり、反射層は、第１の基板面の法線方向において、共通電極に被覆された突起部と重なり、画素電極のスリット部、及び共通電極に被覆された突起部は屈曲しており、データ線は、ゲート線の延在方向およびデータ線の延在方向に隣り合う複数の画素にまたがって配置されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
明るくコントラスト比が高い広視野角な液晶表示装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明するが、種々の変更は可能であり、また、下記実施形態同士の組み合わせは本発明に包含されるものである。
【００１６】
〔実施例１〕
図１は、本発明の半透過型液晶表示装置に係る液晶表示パネルの副画素（サブピクセル）１００の主要部の概略構成を示す平面図である。尚、ここでは、カラー表示を実現するために１つの画素（ピクセル）が例えば赤色、青色、緑色の三原色に対応する３つの副画素（サブピクセル）から構成される場合を示すため、独立して明るさを制御できる領域の単位として副画素という表現を用いる。このため、独立して明るさを制御できる領域の単位を画素と定義すれば、画素と副画素は実質的に同じ意味となるものである。
【００１７】
図２は、本発明の半透過型液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す断面図である。尚、図２は図１のＡ−Ａ´線に沿った断面構造を模式的に示す図である。
【００１８】
また、図３は、本発明の半透過型液晶表示装置に係る液晶表示パネル１における、全体のレイアウトの一例を模式的に示すブロック図であり、図３に示すように，液晶表示パネル１は第２の透明基板１１１の中央部を含む領域に表示領域２が設けられる。表示領域２の上側には，データ線（信号線）７に対して画像信号を出力するデータ駆動回路３，左側にはゲート線（走査線）８に対して走査信号を出力する走査駆動回路４が設置されている。これらのデータ駆動回路３、走査駆動回路４はＮチャネル型とＰチャネル型の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ； Thin Film Transistor ）による相補型回路から構成されるシフトレジスタ回路，レベルシフタ回路，アナログスイッチ回路などから構成される。液晶表示パネル１は、従来のアクティブマトリクス駆動型の液晶表示パネルと同様、複数のゲート線８と、ゲート線８の延在方向に対して交差する方向に延在させた複数のデータ線７が設けられており、ゲート線８とデータ線７とが交差するところに、マトリクス状に副画素１００が配置される。また、図１及び図２に示すとおり、本発明にかかる液晶表示パネルの副画素１００は、一つの副画素１００内に透過領域ＴＡと反射領域ＲＡを有する。
【００１９】
図２に示すとおり、本発明に係る液晶表示パネルは絶縁性を有し、平坦かつ透明で光学的に等方な透明体からなる第１の透明基板１１０及び第２の透明基板１１１と、これらの基板の間に液晶層２００を有する。第１の透明基板１１０及び第２の透明基板１１１としては、ガラスが一般的であるが、上記要件を満たし、さらに耐熱性や耐久性を改良した高分子フィルムを用いることができる。
【００２０】
第１の透明基板１１０は、透明な導電材料からなる共通電極１７０を備え、その一部には液晶層に電界を印加した際に液晶分子の傾く方向を規定するためのスリット状の開口部（以下、共通電極スリット部１７５と呼ぶ）を有する。共通電極１７０は透明な導電材料で構成する。共通電極１７０としては、例えばＩＴＯ（Indium tin oxide）が好適であり、ＩｎＺｎＯやＺｎＯなど、その他の透明な導電材料を使用することもできる。
【００２１】
共通電極のスリット部１７５は、後述の理由から第２の基板１１０上に形成されるデータ線７と重なる位置に設けられる。
【００２２】
第１の透明基板１１０には、共通電極１７０のほかに、カラーフィルターや、配向膜（いずれも不図示）を備える。カラーフィルターは透明基板１１０と共通電極１７０との間に設けられる。カラーフィルターは個々の副画素１００が担当する色、例えば赤色、緑色、青色などの加法混色の３原色、あるいは、黄色、マゼンタ色、シアン色など減法混色の３原色、あるいは青緑色や黄緑色など、その副画素に所望の色を透過するものを用いる。また、反射領域ＲＡでは,外部からの光がカラーフィルターを２回通るため、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとで色の濃さ、厚み、あるいは被覆面積を変えるようにしても良い。配向膜は、共通電極１７０の液晶層２００側の面に設けられる。配向膜は液晶層２００の液晶分子がその分子長軸を第１の基板１１０の基板面に対し、垂直方向に並ばせる機能を有し、例えばポリイミド系の高分子を用いることができる。
【００２３】
第２の透明基板１１１には、スイッチング素子１２０を備える。スイッチング素子１２０は、複数のデータ線７と複数のゲート線８とが交差する位置に形成され、ポリシリコンやアモルファスシリコンあるいは有機物からなる半導体層を備える薄膜トランジスタから構成される。ここでは一例として、ポリシリコンからなる薄膜トランジスタの場合を説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。ポリシリコン薄膜トランジスタからなるスイッチング素子１２０は、ソース・ドレイン領域やチャネル領域となる半導体層１２１などを含むポリシリコン層の上に、ゲート絶縁層１２２、ゲート電極１２３、第１の層間絶縁層１２４、電極層１２５Ａ、電極層１２５Ｂ、第２の層間絶縁層１２６を有する。
【００２４】
ゲート絶縁層１２２、第１の層間絶縁層１２４は、例えばＳｉＯx（酸化シリコン）からなり、第２の層間絶縁層１２６は、例えばＳｉＮx（窒化シリコン）からなる。
【００２５】
電極層１２５Ａ、電極層１２５Ｂ、及びデータ線７としては、金属電極材料を用いればよく、例えば、アルミニウム層の上下をチタン（Ｔｉ）やタングステン（Ｗ）などでサンドイッチした三層積層構造の膜を用いることができるが、これに限定されるものではない。電極層１２５Ａ及び電極層１２５Ｂは、第１の層間絶縁層１２４に形成した開口を通して、半導体層１２１のソース領域とドレイン領域とにそれぞれ接続する。
【００２６】
なお、スイッチング素子１２０と第２の透明基板１１１との間には、透明基板１１１から半導体層１２１やゲート絶縁層１２２へのＮａやＫなどのイオンの混入をブロックするために下地層１１３を設けると良い。下地層１１３は、第２の透明基板１１１側から順にＳｉＮxなどからなる層とＳｉＯxなどからなる層を積層した構造とする。
【００２７】
スイッチング素子１２０の上には、絶縁層１２７が設けられる。この絶縁層１２７は、スイッチング素子１２０や配線などによる段差を平坦化する機能と、後述する反射層１３０に凹凸形状を持たせる機能を有する。
【００２８】
段差を平坦化するには、溶液状態で層形成可能な材料が望ましい。従って、絶縁層１２７としては、有機系の材料、あるいは溶剤に分散させ塗布成膜を可能とした無機材料を用いることができる。さらに、絶縁層１２７は、その表面を凹凸形状にする工程を必要とするため、材料自身に感光性があれば、工程が簡略化できるという利点がある。また、絶縁層１２７は、透過領域ＴＡでは、バックライトからの光を効率よく通過させるために、可視光に対する吸収が小さい透明な材料が望ましい。従って、絶縁膜１２７としては、感光性のポリイミドやアクリル系樹脂などの有機材料が望ましい。
【００２９】
絶縁層１２７の表面は、反射領域ＲＡにおいては、反射層１３０の表面を凹凸形状にするために凹凸形状を形成する。この凹凸形状は、フォトリソグラフィー技術により凹凸パターンを形成した後、温度を上げ溶融することで実現してもよいし、露光工程の際にマスクとして、ハーフトーンマスクを使用して実現するなどしても良い。一方、透過領域ＴＡにおいては、絶縁層１２７の表面は平坦とする。
【００３０】
絶縁層１２７の上には、反射領域ＲＡに相当する部分に、反射層１３０を形成する。反射層１３０は、アルミニウムや銀などの反射率が高い金属材料を用いると良い。反射層１３０は、フォトリソグラフィー技術などにより、透過領域ＴＡからは除去する。なお、反射層１３０、はその下層にある絶縁層１２７の表面に形成された凹凸形状を反映して、その表面が凹凸形状となる。反射層１３０が凹凸形状となっていることで、液晶表示パネル１に外部から入射する光が反射層１３０で反射する角度に広がりが生じ、実使用時においては反射表示がより明るくなる。
【００３１】
反射層１３０の上には、必要に応じて平坦化層１４０を設ける。平坦化層１４０は、反射層１３０の上層に形成する偏光層１５０の光学性能が、反射層１３０が凹凸形状となっていることに起因して劣化することを防止するための層である。つまり、偏光層１５０が形成される下地面を平坦化するための層である。この平坦化層１４０を設けることにより、偏光層１３０の光学性能の劣化は抑制され、より明るく、よりコントラスト比が高い画像表示に貢献できる。
【００３２】
平坦化層１４０は、絶縁材料から構成し、溶液状態で層形成が可能で、可視光に対する吸収が小さい透明な材料が望ましい。つまり、絶縁膜１２７と同様、ポリイミド系樹脂あるいはアクリル系樹脂などの有機材料が望ましい。
【００３３】
反射層１３０の上層には、偏光層１５０を形成する。この際、上記の通り、必要に応じて反射層１３０と偏光層１５０の間に平坦化層１４０を設けると良い。偏光層１５０は、所定の軸方向に振動面を有する直線偏光は吸収し、この軸と直交する方向に振動面を有する直線偏光は透過するものである。偏光層１５０は、例えば「Y.Ukai et al., ”Current Status and Future Prospect of In-Cell Polarizer Technology”, SID 04 DIGEST, p1170-1173, 2004」や「Ir Gvon Khan et al., ”Ultra-Thin O-Polarizers’Superiority over E-Polarizers for LCDs ”, SID 04 DIGEST, p1316-1319, 2004」に記載されているリオトロピック液晶染料を用い、それを塗布することで形成することができる。例えば、「Y.Ukai et al., ”Current Status and Future Prospect of In-Cell Polarizer Technology”, SID 04 DIGEST, p1170-1173, 2004」に記載の材料を用いる場合、偏光層１５０の塗布には、スリットダイコーターを用いると良い。スリットダイコーターは、溶液状態の偏光層１５０の材料を塗布面に供給しつつ、当該材料へ圧力を加えながら、塗布方向に引き伸ばすことができる。この工程により、染料は配向し、固定化することで偏光層１５０が形成できる。この場合、偏光層の吸収軸は塗布方向と直交する方向となる。なお、偏光層１５０としては、直線偏光を照射することで偏光性を発現する材料を用いても良い。
【００３４】
偏光層１５０は、後述する理由においては透過領域ＴＡに形成しないことが望ましい。このため、本実施例では、偏光層１５０は、透過領域ＴＡには形成しない場合を述べる。
【００３５】
なお、本実施例では、偏光層１５０を透過領域ＴＡに形成していないが、図１３にも記載した通り、他の実施例では透過領域ＴＡにも形成する場合がある。
【００３６】
つまり、本発明の効果は、偏光層１５０の配置位置は関係なく達成することができる。例えば、偏光層１５０を液晶層２００と画素電極１９０間に形成しても良い。
【００３７】
反射領域ＲＡ及び透過領域ＴＡには共に、偏光層１５０よりも上層に位置する部分に画素電極１９０を形成する。この際、偏光層１５０と共通電極１７０の間に必要に応じて保護層１６０を設けても良い。
【００３８】
保護層１６０は、偏光層１５０形成後の工程で、偏光層１５０が劣化することを抑制すること、あるいは、偏光層１５０から不純物が染み出し他の構造物を汚染することを防止するために設けると良い。保護層１６０としては、可視光に対して透明な材料が良く、ポリイミド系やアクリル系などの透明樹脂材料、あるいはＳｉＯx（酸化シリコン）やＳｉＮx（窒化シリコン）などの、透明な無機材料が使用できる。特に保護層として高い性能を求めるなら、緻密な層が形成できるＳｉＮxが望ましい。
【００３９】
なお、例えば、フォトリソグラフィ技術により、偏光層１５０を透過領域ＴＡから除去する場合、レジスト材料として、透明な感光性レジスト材料を用い透過領域ＴＡから偏光層１５０を除去した後も、反射領域ＲＡでは、このレジスト材を偏光層１５０上に残し、これを保護膜１６０としても良い。この場合は、工程数が少なく出来るという効果がある。
【００４０】
画素電極１９０は、透明な導電材料で構成することが望ましく、共通電極１７０と同様、例えば、ＩＴＯ（Indium tin oxide）が好適であり、ＩｎＺｎＯやＺｎＯなどその他の透明な導電材料を使用することもできる。また、画素電極１９０、保護層１６０、偏光層１５０、平坦化層１４０、反射層１３０、絶縁層１２７、及び絶縁層１２６を貫通する開口（スルーホール）１９５を介して、スイッチング素子１２０を構成する電極層１２５Ａと接続する。スルーホール１９５は直接、画素電極と同じ導電材料で充填する。あるいは、電極層１２５Ａと画素電極１９０を構成する電極材料の電気的な接続を確実にするために、図示しない導電性の材料からなる中間層を設けるようにしても良い。
【００４１】
反射層１３０が導電材料の場合は、スルーホール１９５において、画素電極１９０と接触することがないように、スルーホールに１９５に相当する位置に開口を設けて、画素電極とは完全に分離する。
【００４２】
画素電極１９０は、図１及び図２に例示するとおり、隣接する副画素１００との間、及び、ひとつの副画素１００内にスリット状の開口部（以下、画素電極スリット部１９１と呼ぶ）を形成する。また、図１に示すとおり、電極層１２５Ｂはデータ線７と接続し、ゲート電極１２３はゲート線８と接続するが、それぞれデータ線７の一部を電極層１２５Ｂとし、ゲート線８の一部をゲート電極１２３としても良い。
【００４３】
画素電極１９０の上には。これらを被覆する配向膜（図示せず）を形成する。配向膜は、第１の透明基板１１０に形成する配向膜と同様、ポリイミド系高分子を用いることができる。
【００４４】
第１の透明基板１１０と第２の透明基板１１１は、配向膜形成面を向かい合わせ、図示しないスペーサ−により、一定の間隙を設けた状態で枠状のシール材で周囲を接着することで内部に空間を形成する。この空間に、誘電異方性が負のネマチック液晶を封入し封止することで、液晶層２００が設けられる。液晶層２００は第１の透明基板１１０と第２の透明基板１１１上に形成された配向膜に施される配向処理により、その液晶分子長軸の配向方向が第１の基板１１０及び第２の基板１１１の基板面に対し、垂直方向となる。すなわち、液晶層２００は、いわゆるホメオトロピック配向とする。
【００４５】
液晶層２００の厚さｄは、液晶層２００に所定の電界を印加して、液晶分子が基板面に対して傾いたときに、基板面に対して垂直方向から観察した場合に、そのリタデーションが１/２波長となる条件に設定する。つまり、液晶材料の屈折率異方性をΔｎとすると、リタデーションΔｎｄが例えば波長５５０ｎｍの光に対して２７５ｎｍとなる厚さｄを選択すると良い。
【００４６】
第１の透明基板１１０と、第２の透明基板１１１の液晶層２００とは反対側の面には、それぞれ第１の偏光板２１０と、第２の偏光板２１１を配置する。第１の偏光板２１０及び第２の偏光板２１１としては、例えば延伸したポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させることにより偏光機能を付与した膜の両面に、トリアセチルセルロースの保護層を施したものを用いることができる。なお、第１の偏光板２１０及び第２の偏光板２１１は、それぞれ第１の透明基板１１０及び第２の透明基板１１１に、透明な接着剤により接着すると良い。
【００４７】
図４は、第１の偏光板２１０の直線偏光の吸収軸２１０Ａと、第２の偏光板２１１の直線偏光の吸収軸２１１Ａと、偏光層１５０の直線偏光の吸収軸１５０Ａと、データ線７の延在方向７Ａと、画素電極スリット部１９１の長手方向１９１Ａと、共通電極スリット部１７５の長手方向１７５Ａとの関係の一例を示す説明図である。尚、画素電極スリット部１９１の長手方向１９１Ａと、共通電極スリット部１７５の長手方向１７５Ａは、一つの副画素１００内に直交する２つの方向が存在する。
【００４８】
第１の偏光板の吸収軸２１０Ａと第２の偏光板の吸収軸２１１Ａは互いに直交し、偏光層１５０の直線偏光の吸収軸１５０Ａは第２の偏光板２１１の直線偏光の吸収軸２１１Ａと平行な方向とする。
【００４９】
第１の偏光板の直線偏光の吸収軸２１０Ａと、画素電極スリット部１９１の長手方向１９１Ａ、及び共通電極スリット部１７５の長手方向１７５Ａがなす角度θは、４５°あるいは１３５°とする。
【００５０】
本発明においても、従来のＶＡ方式の液晶表示装置と同様、液晶層２００に電界が印加されたときに液晶分子が傾く方向は、近接する画素電極スリット部１９１、あるいは共通電極スリット部１７５の長手方向１７５Ａに対し、垂直な方向となる。このため、液晶層２００に電界を印加したときに液晶分子が傾く方向は、第１の偏光板の直線偏光の吸収軸２１０Ａや、第２の偏光板の直線偏光の吸収軸２１１Ａ、及び偏光層１５０の直線偏光の吸収軸１５０Ａに対して、４５°あるいは１３５°となる。
【００５１】
なお、偏光層１５０として、例えば、「Y.Ukai et al., ”Current Status and Future Prospect of In-Cell Polarizer Technology”, SID 04 DIGEST, p1170-1173, 2004」に記載の材料を用いる場合は、その塗布方向をデータ線の延在方向に対し、４５°傾いた方向とすれば良い。
【００５２】
また、第１の偏光板の直線偏光の吸収軸２１０Ａと第２の偏光板の直線偏光の吸収軸２１１Ａ、及び偏光層１５０の直線偏光の吸収軸１５０Ａは、図４に例示した方向に対して、共に９０°回転していても良い。
【００５３】
図５は、本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネル１の表示領域２に構成されたアクティブマトリクスの等価回路図である。液晶表示パネル１は、従来のアクティブマトリクス駆動型の液晶表示パネルと同様、複数のゲート線と、該ゲート線の延在方向に対して交差する方向に延在させた複数のデータ線が設けられており、図５に示すように、ｍ本のゲート線Ｇ１，Ｇ２，…，Ｇｍとｎ本のデータ線Ｄ１，Ｄ２，…，Ｄｎとが交差するところにマトリクス状に副画素１００が配置される。また、共通電極１７０は、図５では便宜上、ｍ本の共通電極ＣＴ１，ＣＴ２, …，ＣＴｍと表記してあるが、分離されている必要はなく、一つの電極として表示領域全面を覆っていてもよい。
【００５４】
各副画素１００は、等価回路図では第２の透明基板１１１上に形成される容量素子（蓄積容量）Ｃｓｔと、液晶層２００により形成される容量素子Ｃｌｃと、スイッチング素子１２０とで表現できる。
【００５５】
副画素１００の駆動は、１行目のゲート線Ｇ１からターンオン電圧を順次供給し、１フレーム期間内にｍ行のゲート線に対して順次この電圧（走査信号）を供給する。走査信号によってスイッチング素子１２０がオン状態になると、データ線７から画像信号に応じた電圧が、スイッチング素子１２０を介して画素電極１９０に供給される。つまり、あるゲート線にターンオン電圧が供給されている間は、そのデータ線に接続されたスイッチング素子１２０は全てオン状態となり、それに同期して、ｎ列のデータ線にデータ電圧が供給される。すなわち、液晶表示パネル１の駆動方法は、従来のアクティブマトリクス駆動型の液晶表示装置と同じであるので詳細な説明は省略する。
【００５６】
図６は、本発明における、液晶表示装置の主要部の構成を示す概略断面図である。この液晶表示装置は、液晶表示パネル１と、その背面に配置するバックライト５とから構成される。
【００５７】
液晶表示パネル１は、上記説明の通り、第１の透明基板１１０と第２の透明基板１１１を有する。
【００５８】
一般に、第２の透明基板１１１は、第１の透明基板１１０よりも大きな基板とし、第２の透明基板１１１における、第１の透明基板１１０側の面上であって、第１の透明基板１１０に覆われない領域には、画像信号などの映像情報を電気的信号として外部から受け取るための領域を有する。つまり、液晶表示パネル１は、第２の透明基板１１１上であって、第１の透明基板１１０が重なっていない領域に、フレキシブルプリント回路板（ＦＰＣ）５０を備え、このＦＰＣ５０を介して、外部と電気的に接続する。また、この領域には、必要に応じてドライバとして機能する半導体チップ（不図示）を実装してもよい。
【００５９】
バックライト５は、液晶表示パネル１の表示領域を、その背面側から照明するものである。バックライト５としては、エッジライト方式（導光体方式）、直下方式（反射板方式）、面状光源方式などがある。バックライト５、はこれらの方式やその他の方式の中から用途や目的、表示領域の大きさに合わせて最適な方式を選べばよい。ここでは、エッジライト方式のバックライトについて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６０】
バックライト５は、裏面に白色顔料によるドット印刷、或いは、微細な凹凸形状やレンズ形状等の光の進行方向を変える手段を形成した、透明な樹脂からなる導光体６０と、導光体６０の端面に配置した光源６１と、導光体６０の裏面側に配置した反射シート６２と、導光体６０の表面側に配置したプリズムシートや、拡散シートなどの光学フィルム類６３とを有する。
【００６１】
光源６１としては、冷陰極管や熱陰極管などの線状光源や発光ダイオード（ＬＥＤ）などの点状光源を使用することができる。ここでは、光源６１としてＬＥＤを使用する場合を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。光源６１としてＬＥＤを用いる場合は、光源からの光を、導光体６０に効率よく入射させるため、図示しない反射体を設けたり、ＬＥＤの発光部の周囲に形成するモールド樹脂の形状を工夫すると良い。
【００６２】
この構成において、光源６１から出射し、導光体６０に入射する光は、全反射しながら導光体６０内を伝播する。導光体６０内を伝播する光のうち、導光体裏面に施された光の進行方向を変える手段に至った光は、その進行方向が変わり、導光体６０の表面側から出射する。導光体６０から出射する光は、プリズムシートや拡散シートなどの光学フィルム類６３により、出射角度の分布や、面内での輝度分布が調整された後、液晶表示パネル１に照射される。
【００６３】
バックライト５から出射し、液晶表示パネル１に照射される光のうち、透過領域ＴＡに入射する光は第２の偏光板２１１を通過した後、液晶層２００を通過して、第１の偏光板２００に入射する。
【００６４】
この際、映像情報発生部（不図示）から伝えられる映像情報に対応した駆動電圧を画素電極１９０に印加し、画素電極１９０と共通電極１７０との間に電位差を生じさせ電界を形成することで、液晶分子の方向を変えることが出来る。この作用により、液晶層２００を通過する光の偏光状態を変化させて、第１の偏光板２１０を透過する光の量を制御することができる。
【００６５】
例えば、駆動電圧が０Ｖ、つまり、画素電極１９０と共通電極１７０とに電位差がなく電界が形成されない場合、液晶分子の配向方向は変わらないので、液晶層２００を通過する光の偏光状態は維持される。このため、液晶層２００を通過する光は、第１の偏光板２１０で吸収されて黒（暗）表示となる。
【００６６】
一方、所定の駆動電圧を画素電極１９０に印加し、共通電極１７５との間に所定の電界を形成すると、液晶分子の方向が変わり、液晶層２００を通過する光の偏光状態は変化する。このため、液晶層２００を通過する光は、その偏光状態の変化に応じた量の光が第１の偏光板２１０を透過するため、所定の明るさの表示となる。つまり、駆動電圧が零の場合に黒（暗）表示となり、所定の駆動電圧が印加されると明表示となる、所謂、ノーマリーブラック型となる。
【００６７】
また、外部から液晶表示パネル１の反射領域ＲＡに入射する光は、第１の偏光板２１０を通過した後、液晶層２００を通過し、偏光層１５０に入射する。
【００６８】
この際、透過領域ＴＡと同様、映像情報発生部（不図示）から伝えられる映像情報に対応した駆動電圧を画素電極１９０に印加し、画素電極１９０と共通電極１７０との間に電位差を生じさせ電界を形成することで、液晶分子の方向を変えることができる。この作用により、液晶層２００を通過する光の偏光状態を変化させて、偏光層１５０を透過する光の量を制御することができる。
【００６９】
例えば、駆動電圧が０Ｖ、つまり、画素電極１９０と共通電極１７０とに電位差がなく電界が形成されない場合、液晶分子の配向方向は変わらないので、液晶層２００を通過する光の偏光状態は維持される。このため、液晶層２００を通過する光は、その大部分が偏光層１５０で吸収され、観察者側２０へはほとんど反射しないので黒（暗）表示となる。
【００７０】
一方、所定の駆動電圧を画素電極１９０に印加し、共通電極１７０との間に所定の電界を形成すると、液晶の配向方向が変わり、液晶層２００を通過する光に偏光状態の変化が生じる。このため、液晶層２００を通過する光は、その偏光状態の変化に応じた量の光が偏光層１５０を透過して、反射層１３０に入射する。反射層１３０に入射する光は、反射層１３０で反射して再び偏光層１５０に入射するが、反射層１３０での反射の際、偏光層１５０を透過した光の偏光状態はほぼ維持される。このため、再び偏光層１５０に入射する光は、その大部分が透過し、液晶層２００を通過して第１の偏光板２１０に入射する。この際、液晶層２００を通過する光の偏光状態は、同様に変化する。このため、液晶層２００を通過する光は、その偏光状態の変化に応じた量の光が第１の偏光板２１０を透過するため、所定の明るさの表示となる。つまり、駆動電圧が零の場合に黒（暗）表示となり、所定の駆動電圧が印加されると明表示となる、所謂、ノーマリーブラック型の反射表示を実現する。
【００７１】
次に、本実施例の特徴について、詳細に説明する。本実施例では、図１に示す通り、データ線７が画素の中央部に設けられている。また、反射層１３０及び偏光層１５０により形成される反射領域ＲＡが、一つの画素内に２箇所存在し、この反射領域ＲＡによって、透過領域ＴＡは３つに分離している。この際、共通電極スリット部１９１や画素電極スリット部１７５がデータ線７と重なる位置、或いは反射領域ＲＡと重なる位置、或いは画素間に設けられる。
【００７２】
本発明は、明るく高コントラスト比で広視野角な透過表示の実現が目的である。広視野角化のために、液晶層２００に電界を印加した際に、液晶分子が傾く方向が４方向となるように、共通電極スリット部１９１や画素電極スリット部１７５を配置する。ただし、共通電極スリット部１９１や画素電極スリット部１７５は、液晶層２００に電界を印加したとき、液晶分子の方向はほとんど変わらないため、表示の明るさに寄与しない。また、電極がある部分とない部分との段差は、液晶分子の並び方に乱れを生じさせ、これが黒表示の際に光漏れの原因となる可能性がある。
【００７３】
そこで、本発明では、共通電極スリット部１９１や画素電極スリット部１７５が透過表示に影響を与えないように構成した。具体的には、データ線７と、反射領域ＲＡを構成する反射層１３０とが、共通電極スリット部１９１、或いは画素電極スリット部１７５と重なるように構成する。ここで、データ線７や反射層１３０は、上記の通り、金属から構成されるので、バックライトからの光を遮光することができる。このため、データ線７や反射層１３０と重なる領域は、透過表示に影響を与えることがないので、共通電極スリット部１９１や画素電極スリット部１７５が透過表示に与える悪影響を排除できる。
【００７４】
なお、広視野角化のためには、共通電極スリット部１９１や画素電極スリット部１７５は液晶層２００に電界が印加された際、液晶分子が傾く方向が４方向となるように、その一部を画素内に配置する必要がある。この場合、透過領域ＴＡは、液晶層２００に電界が印加された際、液晶分子が傾く方向が異なる４つの領域に分離されることになる。この際、液晶分子が傾く方向が異なる４つの領域を、一つの画素内に均等に形成するには、共通電極スリット部や画素電極スリット部の一部を画素の中央部に配置する必要がある。
【００７５】
そこで、本実施例では、データ線７を画素中央部に配置した。また、反射層１３０も同じ理由で画素内に配置するが、この際、反射層１３０を、一つの画素内に２箇所形成し、この反射層１３０によって、透過領域を３つに分離する。反射層１３０により、分離された透過領域の一つは、データ線７により光学的に２つの領域に分離されるため、透過領域は液晶層２００に電界が印加された際、液晶分子が傾く方向が異なる４つの領域に分離される。
【００７６】
上記の通り、本実施例では透過表示の明るさに寄与せず、コントラスト比低下の要因となる共通電極スリット部と画素電極スリット部をデータ線７及び反射層１３０と重ねることで、その悪影響を軽減できる。この際、データ線７及び反射層１３０は元々透過表示に寄与しない領域なので、透過領域ＴＡの明るさを損なうことがない。さらに本実施例では、データ線７や反射層１３０と同じく透過表示に寄与しないスイッチング素子１２０やゲート線８を反射層１３０と重なる位置、つまり画素の中央近傍に配置する。このため、明るく、高コントラスト比で、広視野角なＶＡ方式による液晶表示装置が実現できる。
【００７７】
なお、本実施例では、画素電極１９０と反射層１３０との間に、偏光層１５０を配置している。この場合、画素電極１９０を偏光層１５０で被覆する場合に対して、より低い駆動電圧でより高い反射率が得られる。つまり、液晶層２００と画素電極１９０との間に、偏光層１５０を設けない構成としたことで、偏光層１５０に起因した液晶駆動への悪影響を排除できる。このため、反射率の向上、およびそれに伴うコントラスト比の向上、駆動電圧の低下による消費電力の低減、あるいは低耐圧な汎用ドライバの使用によるコストの削減といった効果が得られる。
【００７８】
また、本実施例では、透過領域ＴＡには偏光層１５０を設けない。このため、画素電極１９０を被覆する偏光層１５０がある場合に対して、低い駆動電圧で、より高い透過率が得られる。つまり、液晶層２００と、画素電極１９０との間に偏光層１５０を設けないことで、偏光層１５０に起因した液晶駆動への悪影響を軽減できること、及び偏光層１５０をなくすことで、透過領域ＴＡにおいて光を吸収する部材が減るからである。
【００７９】
このため、透過率の向上、およびそれに伴うコントラスト比向上の効果が得られ、さらに同じ明るさの画像表示であれば、透過率の向上分、バックライトの電力が下げられるという効果がある。また、駆動電圧の低下による消費電力の低減、低耐圧な汎用ドライバの使用によるコストの削減といった効果が得られる。
【００８０】
なお、本実施例においては、画素電極にスリット部を設けているが、突起部を設けた場合においても、本発明の効果を達成することができる。
【００８１】
また、第一の透明基板１１０の法線方向において、データ線７に対し、共通電極スリット部１９１が一部でも重なっていれば、本発明の効果を達成することが出来るが、データ線７の幅は、共通電極のスリット部１９１の幅より大きく、データ線７は、共通電極のスリット部１９１に対応して配置されることにより、本発明の効果をより達成することができる。
【００８２】
また、反射層１３０は、反射領域ＲＡにおいて、画素電極１９０の上方（液晶層側）に設けても良い。この場合、反射層１３０は、画素電極１９０としての機能を兼用するための導電体であることが望ましい。このような反射層１３０としては、例えば、クロム、アルミ、銀などの金属や合金を用いることができる。これは他の実施例も同様である。尚、偏光層１５０の位置は、本発明の効果を達成するには反射層１３０よりも上方に設けることが必要であるため、この場合、偏光層１５０の位置は、画素電極１９０の上層になる。
【００８３】
〔実施例２〕
次に、本発明の液晶表示装置の他の実施の形態について、図面を参照して説明する。図７は、本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す平面図である。また、図８は。本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す断面図であり、図７のＡ−Ａ´線に沿った断面構造を模式的に示す図である。
【００８４】
本実施例は、実施例１に記載の液晶表示装置において、共通電極スリット部１７５が設けられていた位置に、共通電極スリット部１７５に代わって共通電極１７０に被覆された突起部（共通電極突起部２２０）を備えたものであり、それ以外の構造は実施例１に記載の液晶表示装置と同じであるため、同一機能を有するものには同じ符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【００８５】
共通電極突起部２２０は、液晶層２００に電界を印加したときに液晶分子が傾く方向を規定するものである。共通電極突起部２２０は、絶縁性の有機材料や無機材料、或いは導電材料を用いることができ、フォトリソグラフィー技術によりパターニングすればよい。尚、所定の位置に緩やかな傾斜をもつ突起形状を形成する必要があることから、共通電極突起部２２０は、材料自身に感光性があれば工程が簡略化できるという利点がある。さらに、外部からの光を反射しないために、着色されていることが望ましい。従って、共通電極突起部２２０としては、着色された感光性のポリイミドやアクリル系樹脂などの有機材料が望ましい。尚、緩やかな傾斜をもつ突起形状の形成は、パターン形成後、温度を上げ溶融することで実現してもよいし、露光工程の際にマスクとしてハーフトーンマスクを使用して実現するなどしても良い。
【００８６】
次に、本実施例の特徴について、詳細に説明する。本実施例では、実施例１と同様、データ線７が画素の中央部に設けられている。また、反射層１３０及び偏光層１５０により形成される反射領域ＲＡが、一つの画素内に２箇所存在し、この反射領域ＲＡによって、透過領域ＴＡは３つに分離している。この際、共通電極突起部２２０や、画素電極スリット部１７５は、データ線７と重なる位置、或いは反射領域ＲＡと重なる位置、或いは画素間に設けられる。
【００８７】
ここで、共通電極突起部２２０や画素電極スリット部１７５は、液晶層２００に電界を印加したとき、液晶分子の方向はほとんど変わらないため、表示の明るさに寄与しない。また、特に共通電極突起部２２０では、液晶層２００に電界が印加されていなくても、その傾斜面に垂直な方向に並ぶ液晶分子が存在するため、黒表示の際に光漏れの原因となる。さらに、画素電極スリット部１９１では、電極がある部分とない部分との段差が液晶分子の並び方に乱れを生じさせ、これが黒表示の際に光漏れの原因となる可能性がある。
【００８８】
このため、本実施例においても、透過表示の明るさに寄与せず、コントラスト比低下の要因となる共通電極突起部２２０と画素電極スリット部１９１を、データ線７及び反射層１３０と重ねることで、その悪影響を排除できる。この際、データ線７及び反射層１３０は、元々透過表示に寄与しない領域なので、透過領域の明るさを損なうことがない。さらに、本実施例では、データ線７や反射層１３０と同じく透過表示に寄与しない、スイッチング素子１２０やゲート線８を、反射層１３０と重なる位置、つまり画素の中央近傍に配置する。このため、明るく、高コントラスト比で、広視野角なＶＡ方式による液晶表示装置が実現できる。本実施例では、特に、データ線７と重なる共通電極突起部２２０を着色することで、外光がデータ線７で反射して、コントラスト比が低下することを抑制できるという効果がある。
【００８９】
なお、本実施例においては、画素電極にスリット部を設けているが、突起部を設けた場合においても、本発明の効果を達成することができる。
【００９０】
〔実施例３〕
次に、本発明の液晶表示装置の他の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、上記実施例に記載の液晶表示装置と同一機能を有するものには同じ符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【００９１】
図９は、本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す平面図である。また、図１０は本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、隣接する３つの副画素１００の主要部の概略構成を示す平面図である。また、図１１は本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す断面図であり、図９のＡ−Ａ´線に沿った断面構造を模式的に示す図である。
【００９２】
本実施例では、第１の透明基板１１０に共通電極突起部２２０を設け、第２の透明基板１１１に画素電極スリット部１９１を設ける。画素電極スリット部１９１は、その長手方向がデータ線７の延在方向に対して角度αをなし、共通電極突起部２２０は、その長手方向がデータ線７の延在方向に対して角度βをなす。角度αと角度βは同じ角度とすることで、画素電極スリット部１９１と共通電極突起２２０は、その長手方向を平行とする。また、角度α及びβは、４５°となる部分と、１３５°となる部分を有することが、後述する理由から望ましい。つまり、共通電極突起部２２０と画素電極スリット部１９１は、屈曲角度が９０°のジグザグな形状とすることが望ましい。
【００９３】
データ線７は、液晶表示パネル１を構成する基板面に垂直な方向から観察した際、画素電極スリット部１９１と重なる位置に形成する。つまり、データ線７はその延在方向に対して、角度αだけ傾いたジグザグな形状とする。この際、図１０に例示するとおり、データ線は隣り合う複数の副画素に重なる、別な言い方をすれば、隣り合う複数の副画素にまたがって配置されている。具体的には、図中のデータ線７ｂは、副画素１００ａ、及び副画素１００ｂと重なっている。このように、データ線を隣り合う複数の副画素に重なるように構成することで、データ線７を、画素電極スリット部１９１と効率よく重ねることができる。つまり、透過表示の明るさに寄与しない画素電極スリット部１９１とデータ線７を、無駄が少ない状態で重ね合わせられるので、表示の明るさが犠牲になることが少なくなり、より明るい表示が得られるという効果がある。さらに、画素電極スリット部１９１の電極の段差に起因して生じる可能性がある黒表示時の光漏れは、データ線で遮光されることで抑制されるため、高いコントラスト比が期待できる。
【００９４】
一方、反射層１３０及び偏光層１５０により形成される反射領域ＲＡも、データ線７と一定の距離を保ちながらデータ線７の延在方向に対して、角度βだけ傾いたジグザグな形状をなす。また、ゲート線８及びスイッチング素子１２０と重なる位置にも、反射層１３０及び偏光層１５０により形成される反射領域ＲＡを形成する。この際、反射領域ＲＡは、液晶表示パネル１を構成する基板面に垂直な方向から観察した際、共通電極突起部２２０と重なる位置に形成する。共通電極突起部２２０は、液晶層２００に電界を印加したとき、液晶分子の方向はほとんど変わらないため、表示の明るさに寄与しない。また、共通電極突起部２２０では、液晶層２００に電界が印加されていなくても、その傾斜面に垂直な方向に並ぶ液晶分子が存在するため、黒表示の際に光漏れの原因となる。このため、透過表示の明るさに寄与せず、コントラスト比低下の要因となる共通電極突起部２２０を反射層１３０と重ねることで、その悪影響を排除できる。この際、反射層１３０は、透過表示に寄与しない領域なので、透過領域の明るさを損なうことがない。このため、明るく、高コントラスト比で、広視野角なＶＡ方式による液晶表示装置が実現できる。
【００９５】
図１２は、第１の偏光板２１０の直線偏光の吸収軸２１０Ａと、第２の偏光板２１１の直線偏光の吸収軸２１１Ａと、偏光層１５０の直線偏光の吸収軸１５０Ａと、データ線７の延在方向７Ａと、画素電極スリット部１９１の長手方向１９１Ａと、共通電極突起部２２０の長手方向２２０Ａとの関係の一例を示す説明図である。なお、画素電極スリット部の長手方向１９１Ａと、共通電極突起部の長手方向２２０Ａは、１つの副画素１００内に直交する２つの方向が存在する。
【００９６】
データ線の延在方向７Ａに対し、第１の偏光板の直線偏光の吸収軸２１０Ａは平行とする。また、第１の偏光板の直線偏光の吸収軸２１０Ａと第２の偏光板の直線偏光の吸収軸２１１Ａは互いに直交し、偏光層１５０の吸収軸１５０Ａは、第２の偏光板２１１の直線偏光の吸収軸２１１Ａと平行な方向とする。つまり、第２の偏光板の直線偏光の吸収軸２１１Ａは、データ線の延在方向７Ａと直交する。
【００９７】
また、データ線の延在方向７Ａと、画素電極スリット部１９１の長手方向１９１Ａ、及び共通電極スリット部１７５の長手方向１７５Ａがなす角度α及び角度βは、上記のとおり４５°あるいは１３５°とする。
【００９８】
本発明においても、従来のＶＡ方式の液晶表示装置と同様、液晶層２００に電界が印加されたときに液晶分子が傾く方向は、近接する画素電極スリット部１９１、あるいは共通電極突起部２２０の長手方向に対し、垂直な方向となる。このため、液晶層２００に電界を印加したときに液晶分子が傾く方向は、第１の偏光板の直線偏光の吸収軸２１０Ａや第２の偏光板の直線偏光の吸収軸２１１Ａ、及び偏光層１５０の吸収軸１５０Ａに対して、４５°あるいは１３５°となる。
【００９９】
偏光層１５０の吸収軸１５０Ａは、上記の通り、データ線７の延在方向７Ａと直交する。従って、偏光層１５０として、例えば「Y.Ukai et al., ”Current Status and Future Prospect of In-Cell Polarizer Technology”, SID 04 DIGEST, p1170-1173, 2004」に記載の材料と同様の材料を用いる場合は、その塗布方向は、データ線の延在方向７Ａと平行な方向とすればよい。
【０１００】
ここで、通常、液晶表示パネル１を構成する第２の透明基板１１１は、データ線７あるいはゲート線８の延在方向と、平行な辺を有する矩形形状をしている。このため、実施例１に記載の通り、偏光層１５０の吸収軸が、データ線７の延在方向７Ａに対して傾いており、偏光層１５０として、例えば、「Y.Ukai et al., ”Current Status and Future Prospect of In-Cell Polarizer Technology”, SID 04 DIGEST, p1170-1173, 2004」に記載の材料、あるいはこの材料と同様に、塗布方向に対して直交する方向に吸収軸が形成される材料を用いる場合は、その塗布方向をデータ線７の延在方向７Ａ、つまり、第２の透明基板１１１の辺に対して４５°傾ける必要がある。この場合、一般のスリットダイコーターでは、透明基板の角の部分に材料を塗布することができないため、基板上に塗布できない無効な領域が必要となる。
【０１０１】
これに対し、本実施例では、偏光層１５０の吸収軸１５０Ａは、データ線７の延在方向７Ａと直交とする。従って、偏光層１５０として、例えば、「Y.Ukai et al., ”Current Status and Future Prospect of In-Cell Polarizer Technology”, SID 04 DIGEST, p1170-1173, 2004」に記載の材料、あるいは、この材料と同様に、塗布方向に対して直交する方向に吸収軸が形成される材料を用いる場合は、その塗布方向をデータ線７の延在方向７Ａ、つまり、第２の透明基板１１１の辺に平行な方向とすればよい。この場合は、基板上に偏光層材料を塗布できない無効な領域が小さくなり、生産性が向上するという利点がある。
【０１０２】
また、一般に、液晶表示パネル１を構成する第２の透明基板１１１は、１枚の大きなマザー基板の状態でさまざまな工程を経た後、複数枚に切り出し、取得している。マザー基板も矩形形状をしているため、本実施例のように、偏光層材料の塗布方向がデータ線７の延在方向７Ａ、つまり、第２の透明基板１１１の辺と平行な方向であれば、マザー基板上においても、偏光層材料を塗布できない無効な領域が小さくなり、第２の透明基板１１１を効率よく取得できる。つまり、１枚のマザー基板から取得できる第２の透明基板１１１の枚数が多くなり、生産性が向上してコストを下げられるという効果がある。
【０１０３】
本実施例においても、共通電極突起部２２０や画素電極スリット部１７５は、液晶層２００に電界を印加したとき、液晶分子の方向はほとんど変わらないため、表示の明るさに寄与しない。また、共通電極突起部２２０では、液晶層２００に電界が印加されていなくても、その傾斜面に垂直な方向に並ぶ液晶分子が存在するため、黒表示の際に光漏れの原因となる。さらに画素電極スリット部１９１では、電極がある部分とない部分との段差が液晶分子の並び方に乱れを生じさせ、これが黒表示の際に光漏れの原因となる可能性がある。
【０１０４】
本実施例においても、透過表示の明るさに寄与せず、コントラスト比低下の要因となる共通電極突起部２２０と画素電極スリット部１７５を、データ線７及び反射層１３０と重ねることで、その悪影響を排除できる。この際、データ線７及び反射層１３０は元々透過表示に寄与しない領域なので、透過領域ＴＡの明るさを損なうことがない。このため、明るく、高コントラスト比で、広視野角なＶＡ方式による液晶表示装置が実現できる。
【０１０５】
また、本実施例では、データ線７と画素電極スリット部１９１を重ねている。この場合、どちらの構造も第２の透明基板１１１上での加工となるため、異なる基板に形成した部分を位置合せする場合よりも、高い精度で位置合せができる。つまり、第１の透明基板１１０と第２の透明基板１１１の位置合せマージンが小さくて良いため、表示に利用できる領域が広がり、より明るい表示が得られるという効果がある。
【０１０６】
本実施例においても、上記実施例と同様、反射領域ＲＡにおいて画素電極１９０及び共通電極１７０と反射層１３０との間に偏光層１５０を配置することで、画素電極１９０及び共通電極１７０を偏光層１５０で被覆する場合、つまり、液晶層２００と画素電極１９０、及び共通電極１７０との間に偏光層１５０を設ける場合に対して、より低い駆動電圧、かつ、より高い反射率が得られる。このため、反射率の向上、およびそれに伴うコントラスト比の向上と、駆動電圧の低下による消費電力の低減、及び低耐圧なドライバの使用によるコストの低減といった効果が得られる。
【０１０７】
また、透過領域ＴＡでは、偏光層１５０を除去しており、画素電極１９０を被覆する偏光層１５０がある場合に対して、より低い駆動電圧、かつより高い透過率が得られる。このため、透過率の向上、およびそれに伴うコントラスト比の向上という効果が得られ、さらに同じ明るさの画像表示であれば、透過率の向上分、バックライトの電力が下げられるという効果がある。また、駆動電圧の低下による消費電力の低減、及び低耐圧な汎用ドライバの使用によるコストの低減といった効果が得られる。
【０１０８】
なお、第１の偏光板２１０の直線偏光の吸収軸２１０Ａと第２の偏光板２１１の直線偏光の吸収軸２１１Ａ、及び偏光層１５０の吸収軸１５０Ａは、図１２に例示した方向に対して、共に９０°回転しても同様の効果が得られる。
【０１０９】
なお、本実施例においては、画素電極にスリット部を設けているが、画素電極に突起部を設けた場合においても、本発明の効果を達成することができる。
【０１１０】
〔実施例４〕
次に、本発明の液晶表示装置の他の実施の形態について、図面を参照して説明する。図１３は、本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す断面図である。
【０１１１】
本実施例は、偏光層１５０を透過領域ＴＡにも設けること以外は、実施例３で説明した液晶表示パネルと同じであり、上記実施例に記載の液晶表示装置と同一機能を有するものには同じ符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【０１１２】
本実施例では、透過領域ＴＡにおいて、液晶を駆動するための画素電極１９０と第２の透明基板１１１との間に偏光層１５０を設ける。偏光層１５０は、反射領域に形成する偏光層１５０と同じ材料を用いることができ、偏光層１５０の吸収軸１５０Ａは、反射領域ＲＡと同じく、第２の偏光板２１１の直線偏光の吸収軸と一致させる。
【０１１３】
本実施例では、上記実施例と異なり、透過領域ＴＡにも偏光層１５０を設けているが、画素電極１９０と液晶層２００との間には偏光層１５０を設けない。このため、偏光層１５０に起因した、液晶駆動への悪影響を全て排除できる。このため、画素電極１９０を被覆する偏光層１５０がある場合、つまり液晶層２００と画素電極１９０との間に偏光層１５０を配置する場合に対して、低い駆動電圧でより高い透過率が得られる。
【０１１４】
なお、本実施例では、透過領域ＴＡに偏光層１５０を設けることで透過率が低下して表示の明るさは低下してしまう。しかし、偏光層１５０を設けたことによる黒（暗）表示の透過率の低下が、白（明）表示における透過率の低下よりも大きいため、透過表示のコントラスト比は向上するという効果がある。例えば、厚さ３００ｎｍ、2色比約２５の偏光層を透過領域に形成すると、透過領域から偏光層を除去する場合に比べてコントラスト比が約１．９倍に向上する。
【０１１５】
また、本実施例では、透過領域ＴＡに偏光層１５０を設けるため、データ線７と重なる領域にも偏光層１５０が存在する。この場合、外光のデータ線７での反射を抑制できるため、外光によるコントラスト比の低下が抑制できるという効果がある。
【０１１６】
なお、本実施例においては、画素電極にスリット部、共通電極に突起部を設けているが、画素電極に突起部、共通電極にスリット部を設けた場合においても、本発明の効果を達成することができる。
【０１１７】
〔実施例５〕
次に、本発明の液晶表示装置の他の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、上記実施例に記載の液晶表示装置と同一機能を有するものには同じ符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【０１１８】
図１４は、本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す平面図である。また、図１５は、本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、隣接する３つの副画素１００の主要部の概略構成を示す平面図である。また、図１６は、本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す断面図であり、図１４のＡ−Ａ´線に沿った断面構造を模式的に示す図である。
【０１１９】
本実施例では、実施例３において、第１の透明基板１１０に設けられた共通電極突起部２２０の代わりに共通電極スリット部１７５を設け、第２の透明基板１１１に設けられた画素電極スリット部１９１の代わりに画素電極で被覆された突起部（以下、画素電極突起部２２５と呼ぶ）を設けたものである。これら以外の構造は、実施例３に記載の液晶表示装置と同じであるため、同一機能を有するものには同じ符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【０１２０】
画素電極突起部２２５は、絶縁性の有機材料や無機材料、或いは導電材料を用いることができ、フォトリソグラフィー技術によりパターニングすればよい。尚、所定の位置に緩やかな傾斜をもつ突起形状を形成する必要があることから、共通電極突起部２２０は、材料自身に感光性があれば工程が簡略化できるという利点がある。さらに、外部からの光を反射しないために、着色されていることが望ましい。従って、共通電極突起部２２０としては、着色された感光性のポリイミドやアクリル系樹脂などの有機材料が望ましい。なお、緩やかな傾斜をもつ突起形状の形成は、パターン形成後、温度を上げ溶融することで実現してもよいし、露光工程の際にマスクとしてハーフトーンマスクを使用して実現するなどしても良い。
【０１２１】
本実施例では、画素電極突起部２２５の長手方向がデータ線７の延在方向７Ａに対して角度αをなし、共通電極突起部２２０は、その長手方向がデータ線７の延在方向７Ａに対して角度βをなす。角度αと角度βは同じ角度とすることで画素電極突起部２２５と共通電極スリット部１７５はその長手方向を平行とする。角度α及びβは、４５°となる部分と、１３５°となる部分を有し、画素電極突起部２２５と共通電極スリット部１７５は、屈曲角度が９０°のジグザグな形状とする。
【０１２２】
データ線７は、液晶表示パネル１を構成する基板面に垂直な方向から観察した際、画素電極突起部２２５と重なる位置に形成する。つまり、データ線７は、データ線７の延在方向７Ａに対して、角度α傾いたジグザグな形状とする。この際、図１５に例示するとおり、データ線７は、隣り合う複数の副画素１００に重なる。具体的には、図中のデータ線７ｂは副画素１００ｂ及び、副画素１００ａと重なっている。このように、データ線７を隣り合う複数の画素１００に重なるように構成することで、データ線７を、画素電極突起部２２５と効率よく重ねることができる。つまり、透過表示の明るさに寄与しない画素電極突起部２２５とデータ線７を、無駄が少ない状態で重ね合わせられるので、表示の明るさが犠牲になることが少なくなり、より明るい表示が得られるという効果がある。さらに、画素電極突起部２２５の傾斜面において、液晶分子が斜めになっている領域が黒表示時に光漏れの原因となるが、本実施例では、この領域がデータ線で遮光されるため高いコントラスト比が実現できる。
【０１２３】
一方、反射層１３０及び偏光層１５０により形成される反射領域ＲＡも、データ線７と一定の距離を保ちながらデータ線７の延在方向に対し角度β傾いたジグザグな形状をなす。また、ゲート線８及びスイッチング素子１２０と重なる位置にも、反射層１３０及び偏光層１５０により形成される反射領域ＲＡを形成する。この際、反射領域ＲＡは、液晶表示パネル１を構成する基板面に垂直な方向から観察した際、共通電極スリット部１７５と重なる位置に形成する。共通電極スリット部１７５の中央部は、液晶層２００に電界を印加したとき、液晶分子の方向がほとんど変わらないため、表示の明るさに寄与しない。また、共通電極スリット部１７５は電極の段差において液晶分子の方向が乱れ、黒表示の際に光漏れの原因となる可能性がある。このため、透過表示の明るさに寄与せず、コントラスト比低下要因の可能性がある共通電極スリット部１７５を反射層１３０と重ねてバックライトからの光を遮光することで、その悪影響を排除できる。この際、反射層１３０は元々、透過表示に寄与しない領域なので透過領域の明るさを損なうことがない。このため、明るく、高コントラスト比で、広視野角なＶＡ方式による液晶表示装置が実現できる。
【０１２４】
本実施例においても、実施例３と同様、偏光層１５０の吸収軸１５０Ａは、データ線７の延在方向７Ａと直交する。従って、偏光層１５０として、例えば、「Y.Ukai et al., ”Current Status and Future Prospect of In-Cell Polarizer Technology”, SID 04 DIGEST, p1170-1173, 2004」に記載の材料と同様の材料を用いる場合は、その塗布方向は、データ線７の延在方向７Ａと平行な方向とすればよい。この場合、その塗布方向は、第２の透明基板１１１の辺に平行な方向となるので、基板上に偏光層材料を塗布できない無効な領域が小さくなり、生産性が向上するという利点がある。
【０１２５】
また、本実施例においても、データ線７と画素電極突起部２２５を重ねている。この場合、どちらの構造も第２の透明基板１１１上での加工となるため、異なる基板に形成した部分を位置合せする場合よりも高い精度で位置合せができる。つまり、第１の透明基板１１０と第２の透明基板１１１の位置合せマージンが小さくて良いため、表示に利用できる領域が広がり、より明るい表示が得られるという効果がある。
【０１２６】
また、本実施例では、データ線７と画素電極突起部２２５を重ねている。この場合、画素電極突起部２２５を着色することで、外光のデータ線７での反射によるコントラスト比の低下を抑制できるという効果がある。
【０１２７】
なお、本実施例においては、画素電極に突起部を設けているが、画素電極にスリットを設けた場合においても、本発明の効果を達成することができる。
【０１２８】
〔実施例６〕
次に、本発明の液晶表示装置の他の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、上記実施例に記載の液晶表示装置と同一機能を有するものには同じ符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【０１２９】
図１７は、本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す平面図である。また、図１８は、本発明の液晶表示装置に係る液晶表示パネルにおける、副画素１００の主要部の概略構成を示す断面図であり、図１７のＡ−Ａ´線に沿った断面構造を模式的に示す図である。
【０１３０】
本実施例は、実施例３において、第２の透明基板１１１に設けられた画素電極スリット部１９１とデータ線７との間に、反射層１３０及び偏光層１５０を選択的に設けるものである。つまり、液晶表示パネル１を構成する基板の基板面に対して、垂直な方向から観察したときに、画素電極スリット部１９１及びデータ線７と重なる領域に反射領域を新たに設けたものである。これ以外の構造は、実施例３に記載の液晶表示装置と同じであるため、同一機能を有するものには同じ符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【０１３１】
画素電極スリット部１９１及びデータ線７と重なる反射領域は、その幅を画素電極スリット部１９１及びデータ線７よりも太くして、画素電極スリット部１９１及びデータ線７が完全に覆われるように構成する。この際、透過領域の面積を確保するために、画素電極スリット部１９１及びデータ線７と重なる反射領域は、共通電極突起部２２０と重なる反射領域と一定の間隔を保つことが望ましい。つまり、画素電極スリット部１９１及びデータ線７と重なる反射領域は、データ線７と同じ屈曲角度で、なおかつ共通電極突起部２２０と重なる反射領域と一定の間隔を保つ太さのジグザグ形状とすることが望ましい。
【０１３２】
本実施例においても、上記実施例３と同様、明るく、高コントラスト比で、広視野角なＶＡ方式による液晶表示装置が実現できる。
【０１３３】
本実施例では、特に、画素電極スリット部１９１及びデータ線７は、反射領域と重なる。つまり、透過表示の明るさに寄与しない画素電極スリット部１９１及びデータ線７を元々透過表示に寄与しない反射領域と、効率よく重ね合わせることができる。このため、透過表示の明るさをほとんど犠牲にすることなく、反射表示に利用できるのでより明るい表示が得られるという効果がある。
【０１３４】
また、ゲート線７に反射領域が重なっていることで、明るい環境において外光がデータ線７で反射してコントラスト比が低下することを抑制できる。さらに、表示に寄与していなかったゲート線７に反射領域を重ねたことで、反射表示に利用できることから、より明るい反射表示が実現できるという効果がある。
【０１３５】
なお、本実施例においては、画素電極にスリット部、共通電極に突起部を設けているが、画素電極に突起部、共通電極にスリット部を設けた場合においても、本発明の効果を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３６】
【図１】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す平面図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの全体レイアウトの一例を模式的に示すブロック図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルを構成する部材の光学軸の関係の説明図である。
【図５】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネル１の表示領域２に構成されたアクティブマトリクスの等価回路図である。
【図６】本発明の液晶表示装置の主要部の構成を示す概略断面図である。
【図７】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す平面図である。
【図８】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す断面図である。
【図９】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す平面図である。
【図１０】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルにおいて、隣接する３つの（副）画素の主要部の概略構成を示す平面図である。
【図１１】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す断面図である。
【図１２】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルを構成する部材の光学軸の関係の説明図である。
【図１３】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す断面図である。
【図１４】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す平面図である。
【図１５】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルにおいて、隣接する３つの（副）画素の主要部の概略構成を示す平面図である。
【図１６】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す断面図である。
【図１７】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルにおいて、隣接する３つの（副）画素の主要部の概略構成を示す平面図である。
【図１８】本発明の液晶表示装置の液晶表示パネルの（副）画素の主要部の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１３７】
１………………液晶表示パネル
２………………表示領域
３………………データ駆動回路
４………………走査駆動回路
５………………バックライト
７ａ，７ｂ……データ線
８………………ゲート線
５０……………ＦＰＣ
６０……………導光体
６１……………光源
６２……………反射シート
６３……………光学フィルム類
１００ａ，１００ｂ，１００ｃ……副画素（サブピクセル）
１１０…………第１の透明基板
１１１…………第２の透明基板
１２０…………スイッチング素子
１２１…………半導体層
１２２…………ゲート絶縁層
１２３…………ゲート電極
１２４…………第１の層間絶縁層
１２５Ａ，１２５Ｂ………電極層
１２６…………第２の層間絶縁層
１２７…………絶縁層
１３０…………反射層
１４０…………平坦化層
１５０…………偏光層
１７０…………共通電極
１７５…………共通電極スリット部
１８０…………絶縁層
１９０…………画素電極
１９１…………画素電極スリット部
１９５…………スルーホール
２００…………液晶層
２１０…………第１の偏光板
２１１…………第２の偏光板
２２０…………共通電極突起部
２２５…………画素電極突起部
ＴＡ透…………過領域
ＲＡ反…………射領域
【図１】
0004828557.tif 000002
【図２】
0004828557.tif 000003
【図３】
0004828557.tif 000004
【図４】
0004828557.tif 000005
【図５】
0004828557.tif 000006
【図６】
0004828557.tif 000007
【図７】
0004828557.tif 000008
【図８】
0004828557.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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