(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィック装置であって、
放射ビームを提供するようになされた照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与するようになされたパターニング・デバイスを支持するようになされたサポートと、
基板を保持するようになされた基板テーブルと、
パターニングされたビームを前記基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、
前記パターニング・デバイス、前記基板、前記投影システム及び前記投影システムのコンポーネントの複数の位置に関する複数の位置信号の任意の組合せに関する情報を含んだ情報信号（２．１、２．２）を生成するようになされた測定システムと、
前記情報信号（２．１、２．２）を、前記リソグラフィック装置の複数の画像化特性を表す複数の帰還信号（６．１、６．２）に変換し、それぞれ対応するセットポイント信号（１４．１、１４．２）から前記帰還信号（６．１、６．２）を控除して前記複数の画像化特性に対応する複数の誤差信号（３２．１、３２．２）を生成し、該複数の誤差信号（３２．１、３２．２）に基づいて制御信号（１２．１、１２．２）を生成し、生成した制御信号（１２．１、１２．２）に基づいて前記位置を制御する制御システムと、を備え、
前記制御システムは、前記情報信号（２．１、２．２）に含まれる前記複数の位置信号が前記複数の帰還信号（６．１、６．２）の各々に影響を及ぼすように前記変換を行うとともに、何れか一つのコンポーネントの位置誤差を他のコンポーネントの位置制御によって補償して前記画像化特性を最適に維持するように前記制御信号（１２．１、１２．２）を生成する、
リソグラフィック装置。
【請求項２】
前記制御システムが、前記セットポイント信号に基づいてフィードフォワード制御信号を生成するようになされたフィードフォワード・コントローラを備え、前記フィードフォワード制御信号によって前記制御信号が決定される、
請求項１に記載のリソグラフィック装置。
【請求項３】
前記制御信号に基づいて、前記サポート、前記基板テーブル、前記投影システム及び／又は前記投影システムのコンポーネントのうちの少なくとも１つに制御力を印加するようになされたアクチュエータをさらに備えた、
請求項１に記載のリソグラフィック装置。
【請求項４】
前記投影システムが、第１の位置を有する第１のレンズ・エレメント及び第２の位置を有する第２のレンズ・エレメントを備え、前記第１及び第２の位置がそれぞれ前記制御システムによって制御される、
請求項１に記載のリソグラフィック装置。
【請求項５】
前記制御システムが、単一入力単一出力コントローラを備えたコントローラを備えた、
請求項１に記載のリソグラフィック装置。
【請求項６】
前記コントローラが、第２の制御信号を生成するようになされた第２の単一入力単一出力コントローラを備え、前記コントローラの各々の帯域幅が座標の相対重みに基づいて選択される、
請求項５に記載のリソグラフィック装置。
【請求項７】
前記コントローラが、少なくとも２つの制御信号を生成するようになされた多重入力多重出力コントローラを備えた、
請求項５に記載のリソグラフィック装置。
【請求項８】
前記制御システムが、在来型座標上で動作するようになされた在来型コントローラ、及び前記在来型コントローラに直列に接続されたコントローラを備えた、
請求項１に記載のリソグラフィック装置。
【請求項９】
放射ビームを提供するようになされた照明システムと、前記放射ビームの断面にパターンを付与するようになされたパターニング・デバイスを支持するようになされたサポートと、基板を保持するようになされた基板テーブルと、パターニングされたビームを前記基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、前記パターニング・デバイス、前記基板、前記投影システム及び前記投影システムのコンポーネントの複数の位置に関する複数の位置信号の任意の組合せに関する情報を含んだ情報信号（２．１、２．２）を生成するようになされた測定システムと、を備えたリソグラフィック装置のための制御システムであって、
前記情報信号（２．１、２．２）を、リソグラフィック装置の複数の画像化特性を表す複数の帰還信号（６．１、６．２）に変換し、それぞれ対応するセットポイント信号（１４．１、１４．２）から帰還信号（６．１、６．２）を控除して前記複数の画像化特性に対応する複数の誤差信号（３２．１、３２．２）を生成し、該複数の誤差信号（３２．１、３２．２）に基づいて制御信号（１２．１、１２．２）を生成し、生成した制御信号（１２．１、１２．２）に基づいて前記位置を制御するコントローラを備え、
前記コントローラは、前記情報信号（２．１、２．２）に含まれる前記複数の位置信号が前記複数の帰還信号（６．１、６．２）の各々に影響を及ぼすように前記変換を行うとともに、何れか一つのコンポーネントの位置誤差を他のコンポーネントの位置制御によって補償して前記画像化特性を最適に維持するように前記制御信号（１２．１、１２．２）を生成する、
制御システム。
【請求項１０】
リソグラフィック装置を使用してデバイスを製造するためのデバイス製造方法であって、
パターニングされた放射ビームを基板の目標部分に投射するステップと、
前記放射ビームをパターニングするために使用されるパターニング・デバイス、基板、前記パターニングされたビームを投射するために使用される投影システム及び前記投影システムのコンポーネントの複数の位置に関する複数の位置信号の任意の組合せに関する情報を含んだ情報信号（２．１、２．２）を生成するステップと、
前記情報信号（２．１、２．２）を、前記リソグラフィック装置の複数の画像化特性を表す複数の帰還信号（６．１、６．２）に変換するステップと、
セットポイント信号（１４．１、１４．２）及び前記帰還信号（６．１、６．２）に基づいて制御信号（１２．１、１２．２）を生成するステップと、
前記制御信号（１２．１、１２．２）に基づいて前記位置を制御するステップと、を含み、
前記帰還信号（６．１、６．２）に変換するステップでは、前記情報信号（２．１、２．２）に含まれる前記複数の位置信号が前記複数の帰還信号（６．１、６．２）の各々に影響を及ぼすように前記変換を行い、
前記制御信号（１２．１、１２．２）を生成するステップでは、前記セットポイント信号（１４．１、１４．２）から帰還信号（６．１、６．２）を控除して前記複数の画像化特性に対応する複数の誤差信号（３２．１、３２．２）を生成し、該複数の誤差信号（３２．１、３２．２）に基づいて、何れか一つのコンポーネントの位置誤差を他のコンポーネントの位置制御によって補償して前記画像化特性を最適に維持するように前記制御信号（１２．１、１２．２）を生成する、
デバイス製造方法。
【請求項１１】
前記パターニング・デバイスのためのサポート、前記基板のための基板テーブル、及び前記投影システム及び／又は前記投影システムのコンポーネントのうちの少なくとも１つに制御力を印加するステップをさらに含む、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記投影システムが、第１の位置を有する第１のレンズ・エレメント及び第２の位置を有する第２のレンズ・エレメントを備え、
前記方法が、前記第１及び第２の位置を制御するステップをさらに含む、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記画像化特性が、焦点、倍率及び／又は歪曲収差のうちの少なくとも１つを含むことができる、
請求項１に記載のリソグラフィック装置。
【請求項１４】
前記画像化特性が、焦点、倍率及び／又は歪曲収差のうちの少なくとも１つを含むことができる、
請求項９に記載の制御システム。
【請求項１５】
前記画像化特性が、焦点、倍率及び／又は歪曲収差のうちの少なくとも１つを含むことができる、
請求項１０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はリソグラフィック装置、制御システム及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィック装置は、基板の目標部分に所望のパターンを適用するマシンである。リソグラフィック装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。その場合、マスク或いはレチクルとも呼ばれているパターニング・デバイスを使用してＩＣの個々の層に対応する回路パターンが生成され、このパターンが、放射感応材料（レジスト）の層を有する基板（例えばシリコン・ウェハ）上の目標部分（例えば１つ又は複数のダイ部分が含まれている）に画像化される。通常、１枚の基板には、順次露光される目標部分に隣接する回路網が含まれている。知られているリソグラフィック装置には、パターン全体を１回で目標部分に露光することによって目標部分の各々が照射される、いわゆるステッパと、パターンを投影ビームで所与の方向（「走査」方向）に走査し、且つ、基板をこの方向に平行に、或いは非平行に同期走査することによって目標部分の各々が照射される、いわゆるスキャナがある。
【０００３】
知られているリソグラフィック装置の制御システムは、在来型座標、例えば決定済みの位置を制御し、且つ、これらの座標上で直接動作している（本出願においては、位置という用語には、リソグラフィック装置の可動対象の配向が含まれている［したがって、１つの位置の自由度は６である］ことに留意されたい）。また、制御システムには、それぞれ複数の可動対象のうちの１つの位置を制御するようになされた複数のサブ制御システムが含まれていることに留意されたい。リソグラフィック装置に関連する可動対象の実施例には、レンズ・エレメント、基板を備えた基板テーブル、レチクルを備えたレチクル・ステージなどがある。
【０００４】
現在、固有座標で表されている、焦点、倍率、歪曲収差などの所望の画像化特性が、既知の感度行列の逆行列によってリソグラフィック装置に関連する可動対象の在来型座標（位置／空間座標）の在来型セットポイントに翻訳され、次に、このようにして決定された在来型セットポイントと情報信号の成分（同じく在来型座標で表されている）が比較され、それにより在来型コントローラに供給すべき在来型誤差信号が生成される。通常、在来型誤差信号の各々は、リソグラフィック装置の対応するエレメントを制御するための制御信号を生成する（在来型座標で）べく、対応する唯一の在来型コントローラに供給されている。これは、複数のエレメントのうちの１つの位置誤差を、リソグラフィック装置の当該対象のための唯一の（局部）コントローラだけで解決することができることを意味している。
【０００５】
在来型制御システムの場合、レンズ・エレメントの位置とステージの間の関係及び画像化特性が分かっている。つまり、これらの対象の位置が分かると、焦点、倍率等に対する影響を計算することができる。ここで、画像化特性を変更する必要が生じたと仮定すると、個々の対象毎に所望の位置を計算することができる。これらの所望の位置は、様々な唯一且つ局部制御ループのためのセットポイントとして機能しているが、これは、配置すべき対象の各々が独自の制御ループを有していることを意味している。この在来型スキームにはいくつかの欠点がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
第１の欠点は、複数の可動対象のうちの１つが妨害されると、その対象の制御ループがその状況をすべて自身で修正しなければならないことである。例えば、複数のレンズ・エレメントのうちの、たまたま低サーボ帯域幅を有する１つが妨害された場合、画像化特性がその最適値に復帰するまでに若干の時間が必要である。
【０００７】
第２の欠点は、複数の画像化特性のうちの１つ（例えば焦点）にセットポイントの変化が生じた場合、焦点に対する影響を有するすべてのエレメントのセットポイントがその変化によって変化することである。必ずしもすべてのエレメントが同じ速度で反応しないため、セットポイントが変化しない他の画像化特性に対する妨害が生じることになる。
【０００８】
本発明の一態様によれば、在来型制御システムの欠点が除去される。詳細には、本発明の一態様によれば、所望の露光機能すなわち最適露光機能を発揮するようになされた制御システムを備えたリソグラフィック装置が提供される。したがって、所望の画像化特性すなわち最適画像化特性がこのリソグラフィック装置によって製造されるデバイスにもたらされる。
【０００９】
上記態様は、情報信号を焦点、倍率及び／又は歪曲収差などの画像化特性を表す少なくとも固有帰還信号に変換するようになされた本発明によるリソグラフィック装置によって達成される。制御システムは、固有セットポイント信号及び固有帰還信号に基づいて制御信号を生成するようになされた固有コントローラを備えており、この制御信号に基づいて位置を制御するようになされている。
【００１０】
本発明の一態様によれば、リソグラフィック装置の「高速」レンズ・エレメント（所望の位置に比較的短時間で比較的正確に配置することができるエレメント）が、例えば「低速」レンズ・エレメントの誤差を補償することができる。画像化特性の数と調整可能エレメントの数が同じである場合、通常、画像化特性が所望の特性すなわち最適特性である状況に対応しているのは、これらの調整可能エレメントのうちの１つの設定値のみであることに留意されたい。しかしながら、望ましくない画像化特性すなわち次善の画像化特性を伴うことにはなるが、１つのエレメントが妨害されても妥協点を見出すことが可能である。例えばレンズ・エレメントが妨害され、それにより焦点がその所望の値から大きく逸脱しても、他のレンズ・エレメントによって、その若干の歪曲収差の増加を犠牲にしてこの逸脱が補償される。歪曲収差より焦点の方が望ましいか或いは重要であると見なされる場合、このような補償が有利である。また、ＭＩＭＯコントローラを使用する場合、固有座標（例えば焦点）のセットポイントが変化しても、他の座標（例えば倍率、歪曲収差）の誤差をゼロにすることができる。後者については、本出願の中で追ってより詳細に説明する。
【００１１】
本発明は、本発明によるリソグラフィック装置に適した固有コントローラを備えた制御システム、及びデバイスを製造するためのデバイス製造方法にも関していることに留意されたい。
【００１２】
本明細書においては、リソグラフィック装置の、とりわけＩＣの製造における使用が参照されているが、本明細書において説明するリソグラフィック装置は、集積光学系、磁気領域メモリのための誘導及び検出パターン、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造などの他のアプリケーションを有していることを理解されたい。このような代替アプリケーションのコンテキストにおいては、本明細書における「ウェハ」或いは「ダイ」という用語の使用はすべて、それぞれより一般的な「基板」或いは「目標部分」という用語の同義語と見なすことができることを理解されたい。本明細書において参照されている基板は、例えばトラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、且つ、露光済みレジストを現像するツール）或いは度量衡学ツール若しくは検査ツール中で、露光前若しくは露光後に処理することができる。適用可能である場合、本明細書における開示は、このような基板処理ツール及び他の基板処理ツールに適用することができる。また、基板は、例えば多層ＩＣを生成するべく複数回に渡って処理することができるため、本明細書に使用されている基板という用語は、処理済みの複数の層が既に含まれている基板を指している場合もある。
【００１３】
本明細書に使用されている「放射」及び「ビーム」という用語には、紫外（ＵＶ）放射（例えば波長が３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ若しくは１２６ｎｍの放射）、極紫外（ＥＵＶ）放射（例えば波長の範囲が５〜２０ｎｍの放射）及びイオン・ビーム或いは電子ビームなどの粒子線を含むあらゆるタイプの電磁放射が包含されている。
【００１４】
本明細書に使用されている「パターニング・デバイス」という用語は、ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板の目標部分にパターンを生成するべく使用することができるデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。また、ビームに付与されるパターンは、基板の目標部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。通常、投影ビームに付与されるパターンは、目標部分に生成されるデバイス、例えば集積回路中の特定の機能層に対応している。
【００１５】
パターニング・デバイスは、透過型であっても或いは反射型であっても良い。パターニング・デバイスの実施例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレイ及びプログラム可能ＬＣＤパネルがある。マスクについてはリソグラフィにおいては良く知られており、バイナリ、交番移相及び減衰移相などのマスク・タイプ、及び様々なハイブリッド・マスク・タイプが知られている。プログラム可能ミラー・アレイの実施例には、マトリックスに配列された微小ミラーが使用されている。微小ミラーの各々は、入射する放射ビームが異なる方向に反射するよう、個々に傾斜させることができるため、この方法によって反射ビームがパターニングされる。
【００１６】
サポートは、パターニング・デバイスを支持しており、例えばパターニング・デバイスの重量を支えている。サポートは、パターニング・デバイスの配向、リソグラフィック装置の設計及び他の条件、例えばパターニング・デバイスが真空環境中で保持されているか否か等に応じた方法でパターニング・デバイスを保持している。サポートには、機械式締付け技法、真空締付け技法若しくは他の締付け技法、例えば真空条件下における静電締付け技法を使用することができる。サポートは、例えば必要に応じて固定若しくは移動させることができ、且つ、例えば投影システムに対してパターニング・デバイスを確実に所望の位置に配置することができるフレームであっても、或いはテーブルであっても良い。本明細書における「レチクル」或いは「マスク」という用語の使用はすべて、より一般的な「パターニング・デバイス」という用語の同義語と見なすことができる。
【００１７】
本明細書に使用されている「投影システム」という用語には、例えば使用する露光放射に適した、或いは液浸液の使用若しくは真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系及びカタディオプトリック光学系を始めとする様々なタイプの投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における「レンズ」という用語の使用はすべて、より一般的な「投影システム」という用語の同義語と見なすことができる。
【００１８】
また、照明システムには、投影放射ビームを導き、整形し、或いは制御するための屈折光学コンポーネント、反射光学コンポーネント及びカタディオプトリック光学コンポーネントを始めとする様々なタイプの光学コンポーネントが包含されており、このようなコンポーネントについても、以下、集合的若しくは個々に「レンズ」と呼ぶ。
【００１９】
リソグラフィック装置は、場合によっては２つ（二重ステージ）以上の基板テーブル（及び／又は複数のマスク・テーブル）を有するタイプの装置であり、このような「多重ステージ」マシンの場合、追加テーブルを並列に使用することができ、或いは１つ又は複数の他のテーブルを露光のために使用している間、１つ又は複数のテーブルに対して予備ステップを実行することができる。
【００２０】
また、リソグラフィック装置は、基板が比較的屈折率の大きい液体中、例えば水中に浸され、それにより投影システムの最終エレメントと基板の間の空間が充填されるタイプの装置であっても良い。また、リソグラフィック装置内の他の空間、例えばマスクと投影システムの第１のエレメントの間に液浸液を充填することも可能である。液浸技法は、当分野においては、投影システムの開口数を大きくすることで良く知られている。
【００２１】
以下、本発明の実施例について、単なる実施例に過ぎないが、添付の略図を参照して説明する。図において、対応する参照記号は対応する部品を表している。
【実施例】
【００２２】
図１は、本発明の例示的実施例によるリソグラフィック装置を略図で示したものである。このリソグラフィック装置は、放射（例えばＵＶ放射若しくはＥＵＶ放射）ビームＰＢを提供するようになされた照明システム（イルミネータ）ＩＬを備えている。第１のサポート（例えばマスク・テーブル）ＭＴは、パターニング・デバイス（例えばマスク）ＭＡを支持し、パターニング・デバイスを投影システム（「レンズ」）ＰＬに対して正確に配置する第１の位置決めデバイスＰＭに接続されている。基板テーブル（例えばウェハ・テーブル）ＷＴは、基板（例えばレジスト被覆ウェハ）Ｗを保持し、基板を投影システムＰＬに対して正確に配置する第２の位置決めデバイスＰＷに接続されている。投影システム（例えば反射型投影レンズ）ＰＬは、パターニング・デバイスＭＡによって放射ビームＰＢに付与されたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば１つ又は複数のダイが含まれている）に画像化している。
【００２３】
図に示すように、このリソグラフィック装置は、反射型（例えば反射型マスク若しくは上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイを使用した）タイプの装置である。別法としては、このリソグラフィック装置は、透過型（例えば透過型マスクを使用した）タイプの装置であっても良い。
【００２４】
イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射を受け取っている。放射源が例えばプラズマ放電源である場合、放射源及びリソグラフィック装置は、個別の構成要素にすることができる。このような場合、放射源は、リソグラフィック装置の一部を形成しているとは見なされず、放射は、通常、例えば適切な集光ミラー及び／又はスペクトル純度フィルタを備えた放射コレクタを使用して放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ引き渡される。それ以外の例えば放射源が水銀灯などの場合、放射源はリソグラフィック装置の一構成要素である。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、放射システムと呼ぶことができる。
【００２５】
イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調整する調整デバイスを備えることができる。通常、イルミネータのひとみ平面内における強度分布の少なくとも外部及び／又は内部ラジアル・エクステント（一般に、それぞれσ−外部及びσ−内部と呼ばれている）は調整が可能である。イルミネータは、所望する一様な強度分布をその断面に有する調節済み放射ビームを提供している。
【００２６】
放射ビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴ上に保持されているマスクＭＡに入射する。マスクＭＡで反射した放射ビームＰＢは、放射ビームを基板Ｗの目標部分Ｃに集束させるレンズＰＬを通過する。基板テーブルＷＴは、第２の位置決めデバイスＰＷ及び位置センサＩＦ２（例えば干渉デバイス）を使用して正確に移動させることができ、それにより例えば異なる目標部分Ｃを放射ビームＰＢの光路内に配置することができる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭ及び位置センサＩＦ１（例えば干渉デバイス）を使用して、例えばマスク・ライブラリから機械的に検索した後、若しくは走査中に、マスクＭＡを放射ビームＰＢの光路に対して正確に配置することができる。通常、対物テーブルＭＴ及びＷＴの移動は、位置決めデバイスＰＭ及びＰＷの一部を形成している長ストローク・モジュール（粗位置決め）及び短ストローク・モジュール（精密位置決め）を使用して実現されているが、ステッパ（スキャナではなく）の場合、マスク・テーブルＭＴは、短ストローク・アクチュエータのみに接続することができ、或いは固定することも可能である。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスク位置合せマークＭ１、Ｍ２及び基板位置合せマークＰ１、Ｐ２を使用して整列させることができる。
【００２７】
図に示す装置は、以下に示す好ましいモードで使用することができる。
１．ステップ・モード
マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターン全体が目標部分Ｃに１回で投影される（つまり単一静止露光）。次に、基板テーブルＷＴがＸ及び／又はＹ方向にシフトされ、異なる目標部分Ｃが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Ｃのサイズが制限される。
２．走査モード
投影ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影されている間、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴが同期走査される（つまり単一動的露光）。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＬの倍率（縮小率）及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅（非走査方向の）が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ（走査方向の）が左右される。
３．その他のモード
プログラム可能パターニング・デバイスを保持するべくマスク・テーブルＭＴが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影されている間、基板テーブルＷＴが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルＷＴが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターニング・デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング・デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
【００２８】
上で説明した使用モードの組合せ及び／又はその変形形態若しくは全く異なる使用モードを使用することも可能である。
【００２９】
また、図１に示すリソグラフィック装置は、照明システムＩＬ、照明システムＩＬ内のエレメント、パターニング・デバイスを支持しているサポート、パターニング・デバイスＭＡ、基板を支持している基板テーブル、基板Ｗ及び／又は投影システムＰＬ及び／又は投影システム内のエレメントの位置（相互空間配向若しくは構成）に関する情報を含んだ情報信号２（図２に図式的に示す）を生成する測定システムを備えている。測定システムは、基板Ｗ（ウェハ）及びマスクＭＡ（マスク）の各々の位置を表す位置信号をそれぞれ生成する位置センサＩＦ２及びＩＦ１を備えている。
【００３０】
リソグラフィック装置は、さらに、少なくとも情報信号２に基づいて相互空間配向を制御する制御システム１を備えている。
【００３１】
ウェハ上に露光されるレチクル画像の重要な画像化特性、例えば焦点、倍率、歪曲収差等は、通常、レチクル・ステージ及びウェハ・ステージの位置の調整と共に、投影システムＰＬ（レンズ）内のエレメントの位置を調整することによって修正される。例えば、ウェハの露光を開始する前に、１つ又は複数の在来型アラインメント・システム（の組合せ）によって実行される測定を変換することによって、焦点、倍率、歪曲収差等を決定し、続いて、これらの画像化パラメータが最適になるよう、ステージと共にレンズ・エレメントの位置を調整することができる。ここでは、一般的に、垂直方向の位置Ｚ、Ｒｘ及びＲｙが考察されている。Ｚは垂直方向の位置であり、Ｒｘは第１の水平軸の周りの回転である。また、Ｒｙは、第１の水平軸に対して直角の第２の水平軸の周りの回転である。
【００３２】
上で言及した画像化特性は、レンズの発熱効果によって変化する。レンズの発熱効果をモデル化することにより、各露光の開始時に、焦点、倍率等の修正を計算することができ、それにより、画像化特性に対するレンズの発熱効果を最小化することができる。
【００３３】
本発明の一態様は、いわゆる「固有」座標（焦点、倍率などの画像化座標）への在来型座標（測定信号などの信号が表される）の変換に関している。以下、その基本概念について、図２を参照して説明する。
【００３４】
図２に示す制御システム１は、情報信号２を少なくとも固有帰還信号６に変換するようになされている。固有帰還信号６は、焦点信号、倍率信号或いは歪曲収差信号（若しくはそれらの任意の組合せ）などの画像化パラメータであっても良い。この実施例では、制御システム１は、情報信号２から固有帰還信号６への変換を実行する個別変換ユニット８を備えている。
【００３５】
また、制御システム１は、固有帰還信号６及び固有セットポイント信号１４に基づいて制御信号１２を生成するようになされた固有コントローラ１０を備えている。制御信号は、レチクル・ステージ２０の駆動ユニットの各々、第１のレンズ・エレメント２２、第２のレンズ・エレメント２４、第３のレンズ・エレメント２６及びウェハ・ステージ２８に供給される駆動力の各々の値を表す１組の個別コントローラ駆動信号１８．１、１８．２、１８．３、１８．４及び１８．５を生成する逆変換ユニット１６に供給されている。結果として生じる様々なエレメントの位置が、レチクル・ステージ２０、ウェハ・ステージ２８及びレンズ・エレメント２２、２４、２６の決定位置（この場合、測定位置）を含んだ測定信号２を生成する測定システム２９によって測定される。例示的実施例によれば、可動対象の各々は、対象の１つ又は複数の次元（特定の方向及び／又は配向）の位置を測定する独自の測定サブシステムを有している。
【００３６】
このように、制御システム１は、制御信号１２に基づいてステージ２０、２８及びレンズ・エレメント２２、２４、２６の位置を制御するようになされている。
【００３７】
以下、２つの異なる基本概念についてより詳細に考察する。最初に、１つ又は複数の「固有」コントローラへの１つ又は複数の在来型位置コントローラの置換アーキテクチャを示し、次に、本来の位置コントローラに固有コントローラの付加セットを追加するアーキテクチャについて説明する。
【００３８】
図３は、２つの固有ＳＩＳＯ（単一イン単一アウト）コントローラ１０．１及び１０．２を備えた制御システム１を示したものである。コントローラ１０．ｉの各々は、制御信号１２．ｉ（ｉ＝１、２）を生成している。制御信号は、２つのレンズ・エレメント３０．ｉ（ｉ＝１、２）の各々を駆動するための２つの駆動信号（例えば力信号）１８．１及び１８．２の各々を生成する変換ユニット１６に供給されている。レンズ・エレメント３０．ｉ（ｉ＝１、２）は、レンズ・エレメントに作用する、関連する駆動力によって変位する。測定システムは、この変位を測定し、レンズ・エレメントの位置情報を含んだ位置信号２．ｉ（ｉ＝１、２）を生成している。その結果、この実施例の場合、２つの位置信号が得られ、この２つの位置信号が相俟って情報（すなわち測定）信号を形成している。測定信号は、第１の固有座標の第１の固有信号６．１及び第２の固有座標の第２の固有信号６．２を含んだ帰還信号を計算する変換ユニット８に供給されている。この帰還信号６．ｉの各々が帰還され、固有セットポイント信号１４．ｉ（ｉ＝１、２）の各々から控除され、それにより固有誤差信号３２．ｉ（ｉ＝１、２）がそれぞれ生成される。この誤差信号は、焦点誤差、倍率誤差等を表すことができる。これらの誤差が、コントローラ１０．ｉ（ｉ＝１、２）の各々の入力を形成している。コントローラの各々は、これらの「固有」座標の１つをその固有座標で制御信号を生成することによって処理している。
【００３９】
変換ユニット８は、二次元ベクトル帰還信号（固有座標の成分６．１及び６．２を含んだ）を計算するべく、行列Ｔを使用して（在来型）二次元ベクトル−位置信号（位置成分２．１及び２．２を含んだ）を変換することができる。
【００４０】
コントローラの出力（この実施例の場合、二次元ベクトル制御信号１２．１及び１２．２）は、ユニット１６によって、行列Ｔ−１によってコントローラ力（この実施例の場合、二次元ベクトル信号１８．１及び１８．２）に変換されている。本出願の中で追って示すように、この着想は、様々な形態で実現することができる。
【００４１】
制御態様についてさらに説明を加えるべく、以下、図３に示す実施例をより詳細に説明する。それぞれＬ１及びＬ２で２つのシステム（例えば２つのレンズ・エレメント３０．１及び３０．２）の各々の力学が表され、ＣＬ１及びＣＬ２で対応するコントローラ１０．１及び１０．２の各々の力学が表されている。この実施例では、制御すべき画像化パラメータは、焦点及び倍率の２つである。また、制御すべき対象は、可動質量のみで記述されることが仮定されている（動力学は追加されていない）。レンズ・エレメント３０．ｉ（ｉ＝１、２）の位置ｙｉと、印加される、駆動信号１８．ｉ（ｉ＝１、２）に対応する制御力Ｆｉとの間の関係は、
【００４２】
【数１】
0004617191.tif 000002
である。
【００４３】
使用すべき制御原理は、この実施例の場合、その出力Ｕを、
【００４４】
【数２】
0004617191.tif 000003
によって位置誤差ｅに関連付ける、低域通過フィルタを備えたＰＩＤ制御概念である。式の中の記号の定義については、表１を参照されたい。
【００４５】
【表１】
0004617191.tif 000004
【００４６】
ＰＩＤ出力Ｕは、変換行列Ｔ−１を介して駆動信号１８．ｉ（及び関連する可動対象に印加すべき対応する力）に変換される（逆変換ユニット１６によって実行される）。
【００４７】
これらのパラメータの同調は、帯域幅ｆＢＷに関連する積分器周波数、微分器周波数及び低域通過フィルタ周波数の設定値を決定する係数αを使用して選択される帯域幅によって決まる。
【００４８】
【数３】
0004617191.tif 000005
【００４９】
積分器周波数が比較的高いことに留意されたい（従来、積分器周波数は、微分器周波数より低くなるように選択されているが、この実施例の場合、外乱除去を改善するために同じ周波数が選択されている）。また、αは、３になるように選択されており、低域通過フィルタ減衰βは０．７が選択されている。この実施例では、Ｌ１の質量は２０ｋｇであり、一方、Ｌ２の質量は１０ｋｇであることが仮定されている。最後に、Ｌ１制御ループの帯域幅は２５Ｈｚであり、一方、Ｌ２制御ループの帯域幅は５０Ｈｚであることが仮定されている。
【００５０】
レンズ・エレメントの位置に対する焦点及び倍率の感度に関しては、行列
【００５１】
【数４】
0004617191.tif 000006
が選択されている。これは、両方のエレメントが焦点及び倍率の両方に影響を及ぼしていることを意味している。
【００５２】
図３に示す実施例のコントローラ１０．１及び１０．２は、それぞれ焦点及び倍率を制御している。コントローラの各々には、個々の座標に最適の特性を持たせることができる。例えば倍率より焦点の方が重要であると見なされる場合、焦点コントローラの帯域幅を倍率コントローラの帯域幅より広くすることができる。
【００５３】
コントローラ１０．１及び１０．２の各々は、両方のレンズ・エレメントの組合せを「監視」している。例えば焦点コントローラが修正力を出力すると、両方のレンズ・エレメントが移動を開始するが、そのために倍率が攪乱され、倍率コントローラは、この攪乱を処理しなければならない。これは、プロセスが非対角多重入力多重出力系になり、
【００５４】
【数５】
0004617191.tif 000007
が既に対角行列ではなくなっていることによるものである。
【００５５】
図４は、ＭＩＭＯ（多重イン多重アウト）コントローラ１０を備えた制御システム１を示したものである。コントローラ１０は、２つの成分１２．ｉ（ｉ＝１、２）を含んだ制御信号を生成している。制御信号は、２つの成分１８．ｉ（ｉ＝１、２）を含んだ駆動信号を計算する変換ユニット１６に供給されている。
【００５６】
ＭＩＭＯの概念により、対角行列に相当するプロセスを提供する可能性が提供され、それにより固有座標間にクロストークが防止される。例えば焦点のセットポイントが変化すると、両方のレンズ・エレメントが新しい位置へ移動することになるが、移動中、他のすべての座標（例えば倍率）は一定の状態を維持する。
【００５７】
以下、式ＣＦＭでコントローラ１０を表し、４つのサブコントローラの行列が含まれているものとする。
【００５８】
【数６】
0004617191.tif 000008
設計する必要があるのは、そのうちの２つのコントローラ（焦点及び倍率）だけであり、他の２つのコントローラは減結合要求に従うことになる。つまり、開ループ行列ＴＬＴ−１ＣＦＭは対角である。この行列は、設計すべき対角コントローラ行列Ｓを本来の対角プロセス行列Ｌ倍した行列に等しくなるように選択される。
ＴＬＴ−１ＣＦＭ＝ＬＳ⇒ＣＦＭ＝（ＴＬＴ−１）−１ＬＳ＝ＴＬ−１Ｔ−１ＬＳ
【００５９】
Ｓは、個別焦点コントローラ及び倍率コントローラを必要とする本来の対角行列であっても良い。
【００６０】
【数７】
0004617191.tif 000009
コントローラは、それぞれレンズ機械伝達関数Ｌ１及びＬ２用に設計することができる。その場合、上の式は、実施すべきＣＦＭをもたらすことになる。
【００６１】
開ループの代わりに閉ループ挙動を対角にする必要がある場合も同様の要求事項が出現することに留意されたい。また、この場合、コントローラは、ＴＬ−１Ｔ−１と対角行列（この場合、Ｑが必要な閉ループ挙動であるＱ（Ｉ−Ｑ）−１に等しい）の掛算を実行しなければならず、したがって同じ要求事項がコントローラ行列にもたらされる。
【００６２】
本発明を深く理解するために、以下、２つの例を挙げて、特定の実施例に対するシミュレーション結果について説明する。
【００６３】
図５Ａ〜Ｆを参照すると、第１の例に対するいくつかのシミュレーション結果が示されており、０．１ｍの階段状焦点セットポイント変化が示され、且つ、従来の状況と比較されている。
【００６４】
図６Ａ〜Ｆを参照すると、第２の例に対するいくつかのシミュレーション結果が示されており、レンズ・エレメント３０．１に印加される１Ｎの外乱力に対する応答が示され、且つ、従来の状況と比較されている。
【００６５】
いずれの例においても、レンズ・エレメント３０．１に対するコントローラ帯域幅は２５Ｈｚであり、レンズ・エレメント３０．２に対する帯域幅は５０Ｈｚである。また、焦点に対する帯域幅は２５Ｈｚであり、倍率に対する帯域幅は５０Ｈｚである。
【００６６】
図５Ａ〜Ｆは、焦点のステップ応答を示したものである。図５Ａ及び５Ｂには、局部レンズ・エレメント・コントローラを備えた従来の状況が示されている。図５Ａ、５Ｃ及び５Ｅには、レンズ・エレメント３０．１及び３０．２の移動が示されている。図５Ｂ、５Ｄ及び５Ｆには、レンズ・エレメントの移動によって生じた焦点及び倍率が示されている。図５Ｃ及び５Ｄには、ＳＩＳＯ焦点コントローラ及びＳＩＳＯ倍率コントローラを備えた状況が示されている。また、図５Ｅ及び５Ｆには、ＭＩＭＯ焦点及び倍率コントローラを備えた状況が示されている。
【００６７】
局部レンズ・コントローラを使用する場合、焦点セットポイントが与えられると、倍率外乱の影響を容易に見てとることができることが分かる。焦点及び倍率コントローラを使用することによって倍率外乱が小さくなるが、消失するわけではない。ＭＩＭＯコントローラを使用することにより、事実上、倍率外乱が消失する。したがって、焦点セットポイントの変化は焦点の変化のみをもたらし、倍率に影響することはない。
【００６８】
図６Ａ〜Ｆは、コントローラ挙動のもう１つの例、すなわちレンズ・エレメント３０．１に印加される１Ｎの階段状外乱に対する応答を示したものである。局部コントローラを使用することにより、外乱を受けたレンズ・エレメント３０．１自体が倍率に影響を及ぼすため、同じく倍率の外乱を見てとることができる（図６Ｂ）。この影響は、固有コントローラを使用することによって、とりわけＭＩＭＯコントローラを使用することによって小さくなる。ＭＩＭＯコントローラを使用することにより、レンズ・エレメント３０．２が移動し（図６Ｅ）、それにより、レンズ・エレメント３０．１の外乱によって導入された倍率誤差が最小化される（図６Ｆ）ことを明確に見てとることができる。
【００６９】
図７及び８は、縦つなぎの固有コントローラ及び在来型コントローラを示したものである。様々な理由により、レンズ・エレメント及びステージのための在来型制御ループすなわち本来の制御ループ（ループ３６．１及び３６．２）を維持しておくことが望ましいことに言及しておく。例えば、異なるモーション・コントローラ・コンピュータ上でコントローラを走らせることができ、或いは様々なエレメントの動力学は、これまで仮定してきた以上にはるかに複雑であり、このような場合には、本来のコントローラを維持することが望ましい。
【００７０】
図７には、２つの在来型コントローラと縦つなぎに配置された２つの固有ＳＩＳＯ（単一イン単一アウト）コントローラ１０．１及び１０．２を備えた制御システム１が示されている。２つのコントローラ１０．１及び１０．２の各々は、それぞれ制御信号１２．１及び１２．２を生成している。制御信号（１２．１及び１２．２）は、駆動信号１８（２つの成分１８．１及び１８．２を含んだ）を計算する変換ユニット１６に供給されている。駆動信号１８の成分１８．１及び１８．２の各々は、それぞれセットポイント信号として在来型コントローラ３６．１及び３６．２の各々に供給されている。在来型コントローラは、在来型位置座標上で動作している。
【００７１】
図７に示す、上の段落で説明した構造は、既に考察した問題と同じ問題を抱えていることに留意されたい。つまり、焦点コントローラ及び倍率コントローラは、外乱のクロストークをもたらす非対角システムを「監視」している。したがってこの場合も、解決法は、図６に示すように、これらのコントローラを２×２構造（すなわちコントローラの２×２行列）に展開することにある。
【００７２】
図８には、２つの在来型コントローラと縦つなぎに配置されたＭＩＭＯ（多重イン多重アウト）コントローラ１０を備えた制御システム１が示されている。コントローラ１０は、２つの成分１２．ｉ（ｉ＝１、２）を含んだ制御信号を生成している。制御信号は、２つの成分１８．ｉ（ｉ＝１、２）を含んだ駆動信号を計算する変換ユニット１６に供給されている。駆動信号１８の成分１８．１及び１８．２の各々は、それぞれセットポイント信号として在来型制御ループ３６．１及び３６．２の各々に供給されている。在来型コントローラは、在来型位置座標上で動作している。
【００７３】
基本的には、図６に示す、２＊２行列ＣＦＭで表されるコントローラ１０の４つのエレメントを計算するための式は、図４に関連して説明した式と同じであるが、レンズ力学を表す行列Ｌの代わりに、閉ループ・レンズ伝達関数の行列Ｐを適用しなければならない。つまり、ＣＦＭ＝ＴＰ−１Ｔ−１ＰＳであり、したがって閉ループ伝達の行列Ｐを計算しなければならないが、その計算方法は、図４に関連して考察した方法より若干複雑である。
【００７４】
上で考察した実施例に関連して、いくつか言及しておく。
【００７５】
第１に、行列Ｔは一定である必要はなく、照明設定（ＮＡ、シグマ等）及びレンズの発熱効果などの外部要因に応じて決定することができる。これらの要因に基づいてＴを更新する場合においても（分かっている限りにおいて）、セットポイントを調整する必要はない。例えばレンズの発熱を考察してみると、レンズの熱モデル、既知のレチクル及び照明パラメータに基づいて、系の焦点が変動していることが分かる。実際、行列Ｔは変動するため、別法として、焦点、倍率及び他の画像化特性のセットポイントを同じセットポイントに維持しつつ、レンズの発熱モデルに基づいてＴを調整することができる。
【００７６】
第２に、固有コントローラをより高度に知能化することができる。例えば、既に説明したように、複数のレンズ・エレメントのうちの１つが何らかの力によって妨害されたと仮定すると、このレンズ・エレメントの外乱によって、焦点、倍率及び他の画像化特性の結合誤差がもたらされる。この特定の結合誤差は、この１つのレンズ・エレメントをその所望の位置に戻すことによってのみ解決されるが、例えば倍率誤差より焦点誤差の方が比較的重要であることを決定することができるのは、「より高度な知能」によってのみ可能である。この「より高度な知能」によって、次に、例えばより広い制御帯域幅を有する他のレンズ・エレメントを使用して、倍率誤差を犠牲にしたこの焦点問題の迅速な解決法が決定される。この原理については、基本的な形態で、焦点コントローラ及び倍率コントローラの帯域幅がそれらの相対的な重要性を示していることに言及した以上の段落のうちの１つで既に言及した通りである。より精巧なバージョンによって、固有パラメータ誤差（焦点など）の関数である判定基準が評価され、判定基準が最小化されるようレンズ・エレメントが動的に調整される。
【００７７】
第３に、制御すべき固有コントローラの数より多い可動レンズ・エレメントを存在させることが可能である。このような場合、余分に利用することができる自由度を使用して、複数の他のレンズ・エレメントのうちの１つに対する外乱の影響が最小化される。最終的に得られる結果は、１つ又は複数の余分のレンズ・エレメントが存在しない場合より良好である。
【００７８】
第４に、同様に、制御すべき固有座標の数より少ない可動レンズ・エレメントを存在させることが可能である。このような場合、コントローラ１０の入力が出力より多く、望ましい挙動を生成するべく、数が少なすぎる可動レンズ・エレメントに直面して最適性能が得られるように設計することができる。
【００７９】
第５に、上で説明した実施例にはフィードフォワードが含まれていないことに留意されたい。これらのフィードフォワードは、通常、対象が移動している間のコントローラ誤差を最小化するために存在している。在来型位置座標から固有座標へのコントローラ座標の変更と同様、フィードフォワードによって使用される座標も同じく固有座標に変更することができる。また、フィードフォワードのみを固有座標に変更し、位置コントローラを在来型座標で動作させることも可能である。
【００８０】
固有コントローラ戦略には２つの主要な利点がある。
１．特定の特性（例えば焦点）の誤差に寄与する、複数のエレメントのうちの１つの誤差を、他のレンズ・エレメントを調整することによって（部分的に）修正し、それにより総合画像化性能を最適に維持することができる。
２．複数の固有座標（焦点等）のうちの１つのセットポイントが変化している間、ＭＩＭＯコントローラによって他の座標の誤差がゼロになる。例えば、焦点が変化しても、エレメントが移動している間の倍率誤差はゼロである。
【００８１】
以上、本発明の特定の実施例について説明したが、説明した以外の方法で本発明を実践することができることは理解されよう。以上の説明は、本発明の制限を意図したものではない。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィック装置を示す図である。
【図２】本発明による制御システムの略概要図である。
【図３】本発明による制御システムのＳＩＳＯ固有コントローラを示す略図である。
【図４】本発明による制御システムのＭＩＭＯ固有コントローラを示す略図である。
【図５Ａ】在来型リソグラフィック装置の、在来型制御システムによって制御された２つのレンズ・エレメントの、焦点セットポイントのステップ変化に応答した変位を示す簡易グラフである。
【図５Ｂ】図５Ａに示す在来型リソグラフィック装置の焦点特性及び倍率特性を示す簡易グラフである。
【図５Ｃ】本発明によるリソグラフィック装置の、それぞれ焦点及び倍率のための２つのＳＩＳＯ固有コントローラの各々によって制御された２つのレンズ・エレメントの、焦点セットポイントのステップ変化に応答した変位を示す簡易グラフである。
【図５Ｄ】図５Ｃに示すリソグラフィック装置の焦点特性及び倍率特性を示す簡易グラフである。
【図５Ｅ】本発明によるリソグラフィック装置の、焦点及び倍率の両方のためのＭＩＭＯ固有コントローラによって制御された２つのレンズ・エレメントの、焦点セットポイントのステップ変化に応答した変位を示す簡易グラフである。
【図５Ｆ】図５Ｅに示すリソグラフィック装置の焦点特性及び倍率特性を示す簡易グラフである。
【図６Ａ】在来型リソグラフィック装置の、在来型制御システムによって制御された２つのレンズ・エレメントの、レンズ・エレメントに印加される階段状外乱に応答した変位を示す簡易グラフである。
【図６Ｂ】図６Ａに示す在来型リソグラフィック装置の焦点特性及び倍率特性を示す簡易グラフである。
【図６Ｃ】本発明によるリソグラフィック装置の、それぞれ焦点及び倍率のための２つのＳＩＳＯ固有コントローラの各々によって制御された２つのレンズ・エレメントの、レンズ・エレメントに印加される階段状外乱に応答した変位を示す簡易グラフである。
【図６Ｄ】図６Ｃに示すリソグラフィック装置の焦点特性及び倍率特性を示す簡易グラフである。
【図６Ｅ】本発明によるリソグラフィック装置の、焦点及び倍率の両方のためのＭＩＭＯ固有コントローラによって制御された２つのレンズ・エレメントの、レンズ・エレメントに印加される階段状外乱に応答した変位を示す簡易グラフである。
【図６Ｆ】図６Ｅに示すリソグラフィック装置の焦点特性及び倍率特性を示す簡易グラフである。
【図７】本発明による、２つの在来型コントローラと直列の２つのＳＩＳＯ固有コントローラを備えた制御システムを示す略図である。
【図８】本発明による、２つの在来型コントローラと直列のＭＩＭＯ固有コントローラを備えた制御システムを示す略図である。
【符号の説明】
【００８３】
１  制御システム
２  情報信号
２．１、２．２  位置信号（位置成分）
６  固有帰還信号
６．１、６．２  固有信号（帰還信号、固有座標の成分）
８  変換ユニット
１０  固有コントローラ（ＭＩＭＯコントローラ）
１０．１、１０．２  固有ＳＩＳＯコントローラ
１２、１２．１、１２．２  制御信号
１４、１４．１、１４．２  固有セットポイント信号
１６  逆変換ユニット（変換ユニット）
１８、１８．１〜１８．５  コントローラ駆動信号
２０  レチクル・ステージ
２２、２４、２６、３０．１、３０．２  レンズ・エレメント
２８  ウェハ・ステージ
２９  測定システム
３２．１、３２．２  誤差信号
３６．１、３６．２  本来の制御ループ
Ｃ  目標部分
ＩＦ１、ＩＦ２  位置センサ
ＩＬ  照明システム（イルミネータ）
Ｍ１、Ｍ２  マスク位置合せマーク
ＭＡ  パターニング・デバイス（マスク）
ＭＴ  第１のサポート（マスク・テーブル）
Ｐ１、Ｐ２  基板位置合せマーク
ＰＢ  放射ビーム
ＰＬ  投影システム（レンズ）
ＰＭ  第１の位置決めデバイス
ＰＷ  第２の位置決めデバイス
ＳＯ  放射源
Ｗ  基板
ＷＴ  基板テーブル
【図１】
0004617191.tif 000010
【図２】
0004617191.tif 000011
【図３】
0004617191.tif 000012
【図４】
0004617191.tif 000013
【図５Ａ】
0004617191.tif 000014
【図５Ｂ】
0004617191.tif 000015
【図５Ｃ】
0004617191.tif 000016
【図５Ｄ】
0004617191.tif 000017
【図５Ｅ】
0004617191.tif 000018
【図５Ｆ】
0004617191.tif 000019
【図６Ａ】
0004617191.tif 000020
【図６Ｂ】
0004617191.tif 000021
【図６Ｃ】
0004617191.tif 000022
【図６Ｄ】
0004617191.tif 000023
【図６Ｅ】
0004617191.tif 000024
【図６Ｆ】
0004617191.tif 000025
【図７】
0004617191.tif 000026
【図８】
0004617191.tif 000027