(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエステルを１０〜８０重量％含有し、炭素数１０〜１２の芳香族炭化水素化合物を９０〜２０重量％含有する洗浄液組成物。
【請求項２】
請求項１記載の洗浄剤組成物の５％留出温度が１９０〜２１５℃であり、９５％留出温度が２２０〜２５０℃であり、かつ、５％留出温度と９５％留出温度の差が３５℃以下である請求項１記載の洗浄液組成物。
【請求項３】
請求項１または２記載の洗浄液組成物を用いて洗浄を行い、その後、洗浄液組成物を蒸留再生することを特徴とする洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気・電子部品、光学部品などの精密部品を洗浄するための洗浄液組成物に関し、特には、蒸留再生可能な洗浄液組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気・電子部品、光学部品などの精密部品の製造においては、加工にともないその表面には、アスファルトピッチ、ワックス、松脂、油脂、機械油、グリース、フラックス、フォトレジスト、接着剤などの汚れが付着するため、洗浄工程が必要となる。従来、このような洗浄には、フロン系溶剤、あるいはトリクロロエタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの塩素系溶剤が洗浄剤として使用されている。しかし、特定フロン溶剤やトリクロロエタンはオゾン層を破壊する物質として、１９９５年末にその製造が禁止され、また、一般に塩素系溶剤は毒性が高く、使用時には大気、水質汚染防止に関する法規制も厳しい。
【０００３】
界面活性剤や無機アルカリを添加した水系洗浄剤、リン酸塩類などの水溶液系洗浄剤の利用も検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大きなスペースを必要とし経済性の面から好ましくない。炭化水素系洗浄剤も検討されているが、洗浄特性が十分でない、また、引火性などの点から取り扱いが難しい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような課題を解決するもので、洗浄剤の再利用が可能であり、かつ、十分な洗浄特性を有する洗浄液を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明による洗浄液組成物は、炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエステルを１０〜８０重量％含有し、炭素数１０〜１２、好ましくは１０〜１１の芳香族炭化水素化合物を主成分とする芳香族化合物成分を９０〜４０重量％含有するものである。特に、洗浄剤組成物の５％留出温度が１９０〜２１５℃であり、９５％留出温度が２２０〜２５０℃であり、かつ、５％留出温度と９５％留出温度の差が３５℃以下であることが好ましい。また、また、本発明による洗浄方法は、上述の洗浄液組成物を用いて洗浄を行い、その後、洗浄液組成物を蒸留再生するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明の洗浄液組成物は、芳香族炭化水素化合物を４０〜９０重量％含有するものであり、含有量が４０〜８５重量％、特には５０〜８０重量％であることが好ましい。この芳香族炭化水素化合物は、炭素数１０〜１２、好ましくは炭素数１０または１１の芳香族炭化水素化合物であり、アルキルベンゼン、ナフタレンまたはメチルナフタレンを主成分とする。炭素数９以下、または、炭素数１２以上の芳香族炭化水素化合物を多く含むと、蒸留再生時の効率が低下することとなるため、炭素数１０および１１の芳香族炭化水素化合物以外の炭化水素化合物の含有量は、１０重量％未満、特には５重量％未満であることが好ましい。
【０００７】
具体的な化合物を例示すれば、炭素数１０のアルキルベンゼンとして、イソブチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、１，３−ジエチルベンゼン、１−メチル−３−ｎ−プロピルベンゼン、１，４−ジエチルベンゼン、１，３−ジメチル−５−エチルベンゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、メチルインダン、テトラリンなどが、炭素数１１のアルキルベンゼンとして、ペンチルベンゼン、トリメチルエチルベンゼン、ジエチルメチルベンゼン、ジメチルインダン、エチルインダンなどが、そして、炭素数１１のアルキルナフタレンとして、メチルナフタレンがあげられる。これらの化合物を単独で用いても必要に応じて２種以上を混合して用いても差し支えない。また、これらの芳香族炭化水素化合物を含有する石油留分などを用いることもできる。
【０００８】
炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエステルとしてはマロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、ピメリン酸ジメチルがあげられる。これらを単独で用いても、必要に応じて２種以上を混合して用いても差し支えない。
【０００９】
本発明の洗浄液組成物は、炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエステルを１０〜８０重量％含有するものであり、含有量が１５〜６０重量％、特には２０〜５０重量％であることが好ましい。含有量が、この範囲を超えると、洗浄対象を構成する材料自体が影響を受ける場合があり、また、蒸留再生が困難となる場合がある。この範囲未満では洗浄特性が十分でない。この洗浄液組成物の蒸留性状は、５％留出温度が１９０〜２１５℃、好ましくは１９５〜２１０℃であり、９５％留出温度が２２０〜２５０℃、好ましくは２２０〜２４０℃であり、かつ、５％留出温度と９５％留出温度の差が３５℃以下であることが洗浄液の蒸留再生には好ましい。なお、本明細書における蒸留性状は、蒸留試験はＪＩＳ  Ｋ  ２２５４（石油製品−蒸留試験方法）に準拠して測定するものである。
【００１０】
本発明の洗浄液組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、他の炭化水素類、エステル類、アルコール類、ケトン類、ラクタム類などの配合成分や、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤などの慣用の添加剤を含めることができる。これらの成分を多く含むと蒸留再生時の効率が低下することとなるため、これらの成分の含有量は合計で、１０重量％未満、特には２重量％未満であることが好ましい。
【００１１】
界面活性剤としては非イオン性界面活性剤が好ましく、例えば高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、シリコン系、フッ素系などいずれのものも使用できる。
【００１２】
また、紫外線吸収剤および酸化防止剤としては、洗浄液の長期保存などにおける安定性の向上に役立ち、紫外線吸収剤としては例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系などを使用でき、酸化防止剤としては例えばフェノール系、アミン系、硫黄系、リン系など、本発明の洗浄液組成物に溶解するものはいずれも使用できる。フェノール系酸化防止剤を、５０〜１０００ｐｐｍ添加することが特に好ましい。
【００１３】
本発明の洗浄方法において、洗浄液組成物と接触させる方法は特に制限されるものでなく、公知のいずれの方法も使用できる。例えば、洗浄液組成物を含浸したスポンジなどによる拭き取り、洗浄液組成物への浸漬、スプレーなどにより接触させることが好ましい。浸漬による洗浄においては、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音波、エアバブリングなどを組み合わせることが更に好ましい。この場合、超音波の使用条件は、例えば発振周波数：２０〜１００ｋＨｚ、洗浄液１Ｌ当りの発振出力：１０〜２００Ｗが好ましい。エアバブリングでは、微細な気泡を、好ましくはガス：洗浄液の体積比を１：１〜５：１で通気することにより、洗浄液組成物に溶解しない汚れを気泡と共に上昇させ、分離できる。スプレーによる洗浄において、その圧力は、例えば０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇが好ましい。いずれの場合も洗浄時間は、１５秒間〜２時間、特には３０秒間〜２０分間が好ましい。この範囲未満では洗浄が不十分で、汚れを十分に除去できない。一方、この範囲を超えても洗浄効果は格別に向上しない。洗浄温度は、２０〜１２０℃が好ましく、６０〜１２０℃で処理することにより洗浄効果を著しく上昇させることができる。
【００１４】
洗浄対象物となる精密部品としては、電子・電気部品、光学部品、精密機械部品などがあげられる。対象となる電気・電子部品としては、プリント配線基板、セラミック配線基板などの配線基板、リードフレームなどの半導体パッケージ部材、リレー、コネクターなどの接点部材、液晶、プラズマディスプレイなどの表示部品、ハードディスク記憶媒体、磁気ヘッドなどの磁気記憶部品、水晶振動子などの圧電部品、モータ、ソレノイドなどの電動機部品、センサー部品があげられる。光学部品としては、めがね、カメラ用などのレンズ、その筐体があげられる。精密機械部品としては、ＶＴＲなどに用いられる精密ベアリングなどの部品があげられる。特に、構成材料としてプラスチックを含んだ精密部品の洗浄に好ましく用いられる。
【００１５】
洗浄対象物に付着している汚れとしては、アスファルトピッチ、ワックス、松脂、油脂、機械油、グリース、フラックス、フォトレジスト、接着剤などがあげられるが、特に、本発明は、アスファルトピッチ、シアノ系などの接着剤、硬化前の合成樹脂などの汚れの洗浄に適している。このようなアスファルトピッチを具体的に例示すれば、研磨用あるいは張付用ピッチとしてのストレートアスファルト系、ブローンアスファルト系、ウッド系などのピッチがあげられる。
【００１６】
洗浄対象の汚れとなる接着剤として、具体的には紫外線硬化樹脂系接着剤やシアノ系接着剤が例示され、特に、本発明はシアノ系接着剤の汚れに効果的である。紫外線硬化樹脂系接着剤は、紫外線を照射された部分のみが硬化し、接着強度を有することとなる接着剤であり、加熱が困難でかつ接着スピードが要求される分野に、例えばレンズ、プリズムなどの光学部品の張り合わせをはじめ、液晶ディスプレイのシールや補強、プリント基板のコーティングなどによく用いられる接着剤である。
【００１７】
紫外線硬化樹脂系接着剤としては、例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートと単官能、多官能アクリレートモノマーとの組み合わせ（ラジカル重合型）、分子末端にアリール基やアクリロイル基を有するオリゴマーとポリチオールの組み合わせ（チオール・エン付加型）、あるいは、紫外線カチオン開始剤を光分解して例えば生成するルイス酸をカチオン反応の触媒として作用させて、エポキシ、ビニルエーテルを有する樹脂を重合、固化（硬化）するもの（カチオン重合型）などがあげられる。
【００１８】
シアノ系接着剤は、アルキルシアノアクリレートなどのシアノ系化合物を主成分とする接着剤であり、迅速な作業を必要とする用途、例えば組立途中の仮止め、模型の制作や、無色透明な仕上がりと高い接着強さを併せ要求される場合、例えば貴金属、宝石、高級機器などの接着に用いられる。シアノ系接着剤は、メチル−α−シアノアクリレート、エチル−α−シアノアクリレートなどに代表されるアルキルシアノアクリレートをモノマーとする接着剤であり、空気中の、または被着体表面に存在する水分によって速やかに重合する性質を有している。
【００１９】
硬化前の合成樹脂としては、硬化前のエポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂などの硬化性樹脂が例示される。本発明の洗浄液組成物は、このような硬化前樹脂原料組成物に対して硬化促進作用がない。また、各樹脂の物性に悪影響を及ぼすこともない。エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジルエーテル、多塩基酸のポリグリシジルエステル、３，（３，４‐エポキシシクロヘキサン）カルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジエポキサイド、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ヒダントイン環を有するエポキシ樹脂などがあげられる。
【００２０】
一度洗浄に用いられた本発明の洗浄液組成物は、蒸留再生により再利用することができる。蒸留再生装置としては、減圧蒸留装置が、好ましく用いられる。好ましい蒸留再生の圧力条件は、減圧であり、具体的には圧力１０〜５０Ｔｏｒｒであるが、これに限られるものではない。
【００２１】
【実施例】
以下、本発明を実施例、比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定して解釈されるものではない。
【００２２】
［洗浄液の調製］  芳香族化合物成分として芳香族成分１および２を用意した。他の炭化水素成分として、ナフテン系成分として日本石油製ナフテゾールＨ、パラフィン系成分として日鉱石油化学製ＮＳ２３０も用意した。
これらの性状を表１にまとめる。
【００２３】
【表１】
0004803779.tif 000002
【００２４】
芳香族成分１は、炭素数１１のアルキルベンゼン３８重量％、炭素数１０のアルキルベンゼン３６重量％、メチルインダン１５重量％、ナフタレン６重量％含有する。したがって、炭素数１０の芳香族炭化水素化合物を５７重量％、炭素数１１の芳香族炭化水素化合物を３８重量％を含有し、その合計は９５重量％である。
【００２５】
芳香族成分２は、炭素数１１のアルキルベンゼン２６重量％、メチルナフタレン２３重量％、ナフタレン１４重量％、炭素数１２のアルキルベンゼン１３重量％、炭素数１０のアルキルベンゼン１０重量％、メチルインダン６重量％、炭素数１１のアルキルインダン５重量％含有する。したがって、炭素数１０の芳香族炭化水素化合物を２４重量％、炭素数１１の芳香族炭化水素化合物を６０重量％を含有し、その合計は８４重量％である。
【００２６】
炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエステルは、コハク酸ジメチル１６重量％、グルタル酸ジメチル６２重量％、アジピン酸ジメチル２２重量％を含有するものを用いた。
【００２７】
芳香族成分１、２に炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエステルを２０重量％、５０重量％配合して、洗浄液１、２の新液を調製した。この性状を表２に示す。ナフテン系成分、パラフィン系成分に炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエステルをそれぞれ２０、５０重量％配合して洗浄液を調製しようとしたが、２相に分離してしまうため、洗浄液を調製することができなかった。
【００２８】
【表２】
0004803779.tif 000003
【００２９】
［ピッチ洗浄性評価］  ピッチ洗浄性の評価では、ピッチ（九重電気（株）製、Ｋ級３号）を溶解した３０％濃度トルエン溶液に直径５０ｍｍの光学ガラスを浸し、室温で乾燥することで、均一なピッチを付着させたものを洗浄対象物として用いた。この洗浄対象物を２００ｃｍ３の洗浄液が充填された洗浄槽において液温３０℃で超音波照射下に２分間洗浄を行った。洗浄槽から取りだした洗浄対象物を、１０分間立てて静置後、温風乾燥機で洗浄液を蒸散除去し乾燥した。洗浄後に、肉眼によりピッチの痕跡が全く認められないものを〇、微かにでも痕跡のあるものを×として評価し、表１、２に併せて示した。この結果から、洗浄液１、２は高いピッチ洗浄性を示すことがわかる。
【００３０】
［接着剤洗浄性評価］  接着剤洗浄性の評価では、スライドガラス（７６×２６×１ｍｍ）にシアノ系接着剤、ロックタイト４１７（日本ロックタイト製）を１滴たらし、その上からカバーガラス（２２×２２×０．１５ｍｍ）を置き、指圧で圧着した。接着剤による汚れを作るためにカバーガラスの表面中央にも１滴たらした。室温で放置後、１分後にガラス同士は接着していたが、そのまま１０分以上放置して洗浄対象物として用いた。この洗浄対象物を２００ｃｍ３の洗浄液が充填された洗浄槽において液温３０℃で超音波照射下に３０秒間洗浄を行った後、７０℃の温風で乾燥した。カバーガラス上の汚れおよび圧着により縁部からはみ出している接着剤を目視にて観察し、汚れおよび接着剤の痕跡が全く認められないものを〇、微かにでも痕跡のあるものを×として評価し、表１、２に併せて示した。この結果から、洗浄液１、２は高い接着剤洗浄性を示すことがわかる。
【００３１】
［再生性評価］  洗浄液１、２について、蒸留再生性の評価を行った。上述のピッチ洗浄性評価および接着剤洗浄性評価をそれぞれ１０枚ずつ行った洗浄液を３０Ｔｏｒｒの減圧下で蒸留再生し、９８容量％を回収した。この再生液を洗浄液として用いて、上述のピッチ洗浄性評価および接着剤洗浄性評価を行い評価した。また、その性状を評価して、表２に併せて示した。この結果から、蒸留再生しても、蒸留性状、密度には変化がなく、新液と同等の洗浄性を保つことがわかる。
【００３２】
【発明の効果】
本発明の洗浄液は、炭素数５〜９のジカルボン酸ジメチルエステルを１０〜８０重量％含有し、炭素数１０〜１２の芳香族炭化水素化合物を主成分とする芳香族化合物成分を９０〜２０重量％含有するものであり、電子・電気部品、光学部品、精密機械部品などの精密部品の洗浄に優れた性能を有し、かつ、洗浄液の再生利用が可能であるので、環境上の問題もない。