(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理するべき未反応ガスを清浄化するための触媒を有し、該触媒は長手方向へ延在する複数の経路を形成して構成されていると共に、長手方向に延在する回転軸周りを回転可能に構成されており、該触媒はケーシングに収容されており、該ケーシングには未反応ガスが流過する給気系ラインと触媒で反応した後の気体が排出される排出ラインとが接続されており、ケーシング内の触媒上方の空間はセパレータにより給気系ラインが接続された給気側と排出ラインが接続された排出側とに仕切られており、前記セパレータは可撓性を具備する板状部材を複数貼り合せて構成され、個々の板状部材は触媒と接触するように配置され、触媒と接触する側には複数のスリットが形成されており、板状部材の長手方向中央のスリットを除き、隣接する板状部材のスリットの位置が相互にずれており、前記触媒のセパレータとは離隔した側に設けられた部材には、触媒に形成された前記複数の経路が連通していることを特徴とする反応装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トルエンその他の有機溶剤等の揮発性汚染物質（ＶＯＣ）や、空気中に浮遊する各種異物（汚染物質、悪臭、煙、その他）を除去する技術に関する。より詳細には、ＶＯＣを包含した気体からＶＯＣを除去する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、印刷工場等では、大量の有機溶剤を使用している。揮発した有機溶剤が、有機溶剤の使用施設からの排気に含有されて拡散してしまうと、当該有機溶剤使用施設の周辺環境に悪い影響を与えてしまう恐れがある。
【０００３】
空気中に浮遊する各種異物（汚染物質、悪臭、煙、その他）、例えばＶＯＣを除去するために、ガスタービンで燃焼処理することが考えられる。しかし、有機溶剤の使用施設からの排気に含まれるＶＯＣは微量であり、ガスタービンの燃料とするには、少な過ぎる。
【０００４】
有機溶剤使用施設からの排気中に含有されるＶＯＣを除去するために、排気系に活性炭槽を介装して、排気中のＶＯＣを活性炭に吸着する技術が存在する（例えば、非特許文献１）。
しかし、係る技術では、活性炭槽を再生するため、吸着工程、再生工程を繰り返す必要があり、活性炭槽を介装したラインを２系統設けなければならない。
そのため、例えば、中小規模の印刷工場の様に有機溶剤使用量が少なく、ＶＯＣ発生量が比較的少ない施設では、少なくとも２本の活性炭槽を使用するＶＯＣの処理システムは施設全体の規模に比較して大規模となってしまい、コスト的にも合わない
【０００５】
その他の従来技術としては、電気式熱風発生器と白金ハニカム触媒を組み合わせて、ＶＯＣを化学反応により無害化する技術が存在する（例えば、非特許文献２参照）。
しかし、係る技術では、ＶＯＣを除去する間には電気を常時供給して、反応開始温度まで加熱しなければならないため、多大な電気を消費し、そのためＶＯＣ処理コストが高くなってしまい、上述した問題を解消することが出来ない。
【非特許文献１】ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｋｕｒｉｍｏｔｏ．ｃｏ．ｊｐ／ｊ０７／ｆｕｎｔａｉ／ｓｅｉｈｉｎ／ＳｏｌｖｅｎｔＲｅｃｏｖｅｒｙＳｙｓｔｅｍ．ｈｔｍｌ（栗本鐵工所広報資料／粉体システム  溶剤回収装置）
【非特許文献２】ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｔａｋｅｔｓｕｎａ．ｃｏ．ｊｐ／Ｊ−Ｃａｔａｌｏｇ／０７−３ｘｓｈｄ．ｈｔｍ（ＴＳＫ  ｈｏｔ  ａｉｒｇｅｎｅｒａｔｏｒ広報資料／脱臭パック付きヒータ  ＸＳＨＤシリーズ）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、ＶＯＣの処理コストを低減することが出来て、ＶＯＣ濃度が非常に低くてもＶＯＣを確実に捕集することが出来る様な反応装置の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の反応装置は、処理するべき未反応ガス（プロセスガス）を清浄化するための触媒（１）を有し、該触媒（１）は長手方向へ延在する複数の経路（１ａ）を形成して構成されていると共に、長手方向に延在する回転軸（Ｒ）周りを回転可能に構成されており、該触媒（１）はケーシング（３）に収容されており、該ケーシング（３）には未反応ガスが流過する給気系ライン（４）と触媒で反応した後の気体が排出される排出ライン（５）とが接続されており、ケーシング（３）内の触媒（１）上方の空間はセパレータ（７）により給気系ライン（４）が接続された給気側(３２Ｉ)と排出ライン（５）が接続された排出側（３２Ｅ）とに仕切られており（触媒の半径方向へ延在するように、且つ、触媒に対して回転可能なようにセパレータ７が取り付けられている）、前記セパレータ（７）は可撓性を具備する板状部材（例えば、比較的薄く形成された金属箔７１，７２）を複数貼り合せて構成され、個々の板状部材（７１，７２）は触媒（１）と接触するように配置され、触媒（１）と接触する側には複数のスリット（７１ｓ、７２ｓ）が形成されており、板状部材（７１、７２）の長手方向（回転可能な触媒の半径方向）中央のスリット（７１ｓｃ）を除き、隣接する板状部材のスリット（７１ｓ、７２ｓ）の位置が相互にずれており、前記触媒（１）のセパレータ（７、７Ｂ）とは離隔した側（反対側）に設けられた部材（２ｂ）には触媒（１）に形成された前記複数の経路（１ａ）が連通している。
【０００８】
ここで、「ケーシング（３）内の触媒（１）上方の空間」すなわち「セパレータ（７）により給気系ライン（４）が接続された給気側(３２Ｉ)と排出ライン（５）が接続された排出側（３２Ｅ）とに仕切られて」いる空間は、ケーシング（３）の蓋体（上蓋３２）内側の空間を意味している。そして、該蓋体（上蓋３２）には、給気系ライン（４）及び排出ライン（５）が接続されている。
また、上述した部材（前記触媒のセパレータとは離隔した側に設けられた部材２ｂ）は、エンドキャップのような構成をも包含する趣旨である。
【００１０】
本発明の実施に際して、前記（触媒１のセパレータ７、７Ｂとは離隔した側に設けられた）部材（２２ｂ）のセパレータ（７、７Ｂ）とは反対側の端部が二重底に構成され、該二重底の間（２２ｖ）の圧力が負圧となっているのが好ましい（図１０参照）。
或いは、本発明において、前記触媒を嵌装する部材（触媒ロータ２、２０２）を、外側部材（２３Ｏ）と内側を構成する（内側部材２３Ｉ）とから成る２重構造に構成することが好ましい（図１１参照）。そして、外側部材（２３Ｏ）と内側部材（２３Ｉ）とは閉鎖端部（上縁部２３Ｕ）により一体的に構成することが可能である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明では、触媒（触媒ロータ２）が回転する構造であって、回転する触媒ロータ（２）と接触しながら、給気側（３２Ｉ）と排気側（３２Ｅ）とに仕切るセパレータ（７）を備えている。
未処理ガスは、給気側（３２Ｉ）に供給され、触媒（１）内に侵入して排気側（３２Ｏ）から排出される。未処理ガスは、触媒（１）内を通過している間に、発熱反応により清浄化される。
【００１２】
ここで、排気側（３２Ｅ）で反応後の清浄化されたガスがケーシング（３）外に排出されても、燃焼熱（反応熱）は残存する。触媒ロータ（２）が回転して給気側（３２Ｉ）へ到達して、未処理ガスが流入すると、各経路（１ａ）内に残存した燃焼熱（反応熱）が未処理ガスへ投入される。すると、触媒（１）に流入したプロセスガスが反応を起こすのに十分な温度まで昇温する。
すなわち、本発明の構成によれば、触媒ロータ（２）を回転可能とし、触媒（１）の上方をセパレータ（７、７Ｂ）で給気側（３２Ｉ）と排気側（３２Ｅ）とに仕切ることによって、熱交換器と同等の作用を奏する。
その結果、高価な熱交換器の省略が可能となる。
【００１３】
また、本発明において、比較的薄い板状部材（７１、７２）を複数貼り合わせて構成したセパレータ（７）が給気側（３２Ｉ）と排気側（３２Ｅ）とを仕切る用に構成すれば（請求項２）、未処理ガスが排気側に漏れ出してしまうことが防止される。
すなわち、比較的薄い板状部材（７１、７２）を複数貼り合わせて構成したセパレータ（７）は回転する触媒（１）と常時接触している。常時接触しているので、給気側（３２Ｉ）と排気側（３２Ｅ）とを十分にシール出来る。
【００１４】
ここで、回転している触媒（１）と接触している上述のセパレータ（７）は、比較的薄い板状部材（７１、７２）を複数貼り合わせて構成されているので、弾性変形を起こして曲がりながら（撓みつつ）、接触することが出来、セパレータ（７）が触媒（１）を摩耗してしまうことが防止される。また、触媒（１）の回転の抵抗にならない。
【００１５】
個々の板状部材（７１、７２）の触媒側にはスリット（７１ｓ、７２ｓ）が形成されており、スリット（７１ｓ、７２ｓ）間の可撓性（弾性変形で曲がること）を保証して、回転する触媒（１）の破損を防止出来る。
ここで、隣接する板状部材（７１、７２）のスリット（７１ｓ、７２ｓ）同士の位置がずれているので、複数の板状部材（７１、７２）の全体では、スリット（７１ｓ、７２ｓ）はラビリンスシールを構成することとなる。そのラビリンスシールによって未反応ガスが排気側（３２Ｅ）に漏れてしまうことを防止している。
【００１６】
本発明におけるセパレータ（７Ｂ）を、気体を噴出して構成したカーテン（例えばエアカーテン（のノズル７Ｂｔ））で構成しても（請求項３）、給気側（３２Ｉ）と排気側（３２Ｅ）とを十分にシール出来ると共に、触媒（１）の回転の抵抗となったり、触媒（１）を摩耗してしまう恐れが無い。
【００１７】
本発明において、前記触媒（１）のセパレータ（７、７Ｂ）とは離隔した側（反対側）に設けられた部材（２ｂ）に触媒（１）に形成された前記複数の経路（１ａ）を連通すれば（請求項４）、触媒（１）内における給気側（３２Ｉ）に連通する経路（１ａ）に侵入して発熱反応を起こしたガスが、当該部材（２ｂ）に流入した後、排気側（３２Ｅ）へ連通する経路（１ａ）へ流れるため、給気側（３２Ｉ）から排気側（３２Ｅ）へ確実にガスが流過する。
【００１８】
ここで、触媒（１）のセパレータ（７、７Ｂ）とは離隔した側に設けられた部材（２２ｂ）のセパレータ（７、７Ｂ）とは反対側の端部を二重底に構成し、該二重底の間（２２ｖ）の圧力を負圧とせしめれば（図１０参照）、二重底の間の空間（２２ｖ）で断熱（真空断熱）されるので、触媒（１）側の反応熱が中空部材（２２ｂ）から周囲に放熱されてしまうことが防止される。
また、二重底の間の空間（２２ｖ）で断熱（真空断熱）されるので、触媒（１）側の反応熱が、当該二重底部分（２２ｂ）を経由して電動モータ（１２）側に伝達されてしまうことが防止される。従って、当該二重底部分（２２ｂ）に当接された回転伝達部材（駆動軸１０等）及び回転動力源（電動モータ１２）を加熱する事が防止される。
触媒を嵌装する部材（触媒ロータ２、２０２）を、外側部材（２３Ｏ）と内側を構成する（内側部材２３Ｉ）とから成る２重構造に構成しても（図１１参照）、動揺の作用効果が得られる。
【００１９】
本発明では、基本的には、スタートアップ時以外は、予熱ヒータ（８０）はＯＦＦとしている。
スタートアップ時は予熱ヒータ（８０）により反応が生じる程度まで昇温する必要があるが、その後は、触媒（１）における発熱反応熱が触媒（１）の複数の経路（１ａ）の各々に残存するため、予熱ヒータ（８０）により加熱しなくても、経路（１ａ）に残存する反応熱により、未処理ガスは反応を生じる程度まで昇温出来る。
従来技術のように、予熱ヒータ（８０）を常時ＯＮ状態にしておく必要は無い。
したがって、本発明は、スタートアップ時以外では、エネルギ消費量が非常に少ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
【００２１】
先ず、図２４及び図２５を参照して、本発明の反応装置の作動原理を説明する。図２３は処理するべき未反応ガスが、触媒１によって清浄化される工程を、模式的に示したブロック図である。
【００２２】
図２４において、処理するべき未反応ガスは１例として、混合気の状態では、１０００ｋｃａｌ／ｋｇの熱量を保有している。係る未反応ガスは、大気中では混合率が薄く反応することはなく、凝縮させようとしても薄くて回収不可能である。
【００２３】
そこで、未反応ガスを、例えばブロワＫ１等で予備加熱装置Ｋ２に送り込む。
処理開始の初期においては、当該被処理ガスの反応が進んでいないために反応熱の発生が少なく、予備加熱装置Ｋ２を設け、その予備加熱装置（例えば電熱ヒータ）Ｋ２で、当該ガスを反応可能な凡そ３５０℃まで予備加熱する。
３５０℃に予備加熱された当該ガスは、熱交換装置Ｋ３を通過するが、その熱交換装置Ｋ３では、未だ、処理開始初期であるために反応熱が十分発生していないので熱交換が出来なく、そのまま反応装置（触媒）１に送り込まれる。
【００２４】
触媒に送り込まれた当該ガスは、反応装置１内の反応（触媒中の白金と接触して、酸化反応（発熱反応）を起こす）により、２００℃昇温されて、５５０℃まで達する。
【００２５】
すなわち、反応装置１内の反応により、昇温した分２００℃だけ排気温度は上昇している。
【００２６】
反応装置１から排出される処理済ガスは、大気温度Ｔａよりも５５０℃上昇しており、前記熱交換装置Ｋ３では、その処理済ガスの保有するエネルギから、３５０℃分の熱量が投入される。
【００２７】
ここで、図２４からも判断出来るとおり、熱交換器Ｋ３の必要熱交換率μは、
μ＝（（Ｔａ＋３５０）−Ｔａ）／（（Ｔａ＋５５０）−Ｔａ）＝３５０／５５０＝０．６４となり、
６４％あればよいこととなる。
熱交換器の効率が良くなると、反応装置１の入口温度が４００℃になる場合があり得る。反応装置の入口温度が低ければ（ある種の溶剤だと、そのような事態も生じ得る）、熱交換器の効率を向上すれば、反応装置入口温度が（例えば４００℃まで）昇温されるので、係るケースにも対応出来る。
【００２８】
前記予備加熱装置Ｋ２は、スタートアップ用のヒータであり、運転開始時に、熱交換器Ｋ３では昇温しないので、予備加熱装置Ｋ２で加熱して、触媒（反応装置１）により反応可能にすることが目的である。
従って、反応が一定の水準に達した後は予備加熱装置Ｋ２は稼動させない。
【００２９】
然るに、図２４に示した原理図では、熱交換器Ｋ３を使用しており、係る熱交換機は価格が高く、装置全体としても嵩張ったものとなってしまう。
そこで、本発明の実施形態では、図２５に示す様な、熱交換器と反応装置とを一緒にした装置を提案している。
【００３０】
図２５において、上端部をセパレータ７で仕切られた触媒（触媒ロータ）１を回転させる。そのように構成することにより、触媒１を熱交換器として作用させる事が出来る。
すなわち、排気側Ｅで反応後の清浄化されたガスが排出されても、燃焼熱（反応熱）は残存する。そして、触媒１が回転（矢印Ｒ）して入力側Ｉへ到達して、図示しない未処理ガスが流入すると、各経路（触媒の回転軸方向に形成された多数の管１ａ）内に残存した燃焼熱（反応熱）が未処理ガスへ投入され、図２４で説明した熱交換器Ｋ３と同等の作用を奏する。
つまり、触媒１に流入した未処理ガスが反応を起こすのに十分な温度まで昇温することが出来る。
【００３１】
次に、図１〜図６を参照して第１実施形態を説明する。
【００３２】
図１において、円柱状で、円柱の軸中心線（回転中心）Ｒに平行な多数の経路１ａを有し、白金Ｐｔを担持させた触媒１は円筒状の触媒ロータ２に嵌装されている。
【００３３】
前記触媒ロータ２は、筒状体２ａと、筒状体２ａの下端に底部が部分球状の中空部材２ｂが、例えば溶接等で一体に接続されて構成されている。筒状体２ａの上端部及び前記中空部材２ｂとの接続位置よりもやや上方には最大径部２ｃ、２ｃが形成され、後述するラジアル軸受Ｂｒの内周に嵌合されている。
触媒ロータ２の筒状体２ａの下端近傍には、段部２ｄが形成されており、その段部２ｄに前記触媒１の下端が当接するように係止されている。
【００３４】
前記触媒ロータ２は、ケーシング３に収容されている。そのケーシング３は、触媒ロータ２を収容する外筒３１と、その外筒３１の上端にシール部材３４を介して気密に接合される上蓋３２と、外筒３１の下端にシール部材３４を介して気密に接合される下蓋３３とによって構成されている。
【００３５】
前記外筒３１の上下端部には、触媒を自在に回転収容させるラジアル軸受Ｂｒが嵌装されている。
【００３６】
前記上蓋３２の上面には、給気系ライン４を接続する給気口３２ｉと、排気系ライン５を接続する排気口３２ｏとが形成されている。上蓋３２の側部周囲には、予備の連通孔３２ｅが形成されている。
ここで、ケーシング３の上蓋３２（蓋体）には、給気系ライン（４）及び排出ライン（５）が接続されている。そして、上蓋３２内側の空間は、「ケーシング（３）内の触媒（１）上方の空間」を構成しており、係る空間は、後述するセパレータ７により、給気側３２Ｉと排出側３２Ｅとに仕切られている。そして、上蓋３２（蓋体）の（セパレータ７で仕切られた）給気側３２Ｉには給気系ライン４が接続され、排出側３２Ｅには排出ライン５が接続されている。
【００３７】
触媒へプロセスガス（未処理ガス）を供給する前記供給系ライン４には、スタータ用の予備ヒータ８０を設けている。
プロセスガス（未処理ガスＶＯＣ）処理当初触媒は常温であり、反応に必要な温度まで到達していない。そのため、反応熱が発生するまでは、スタータ用のヒータで加熱する必要がある。
ここで、触媒ロータ２の底部の中空部材２ｂにヒータを配置すると、触媒ロータ２は回転するため、ヒータへの給電が困難となり、スリップリング等を使用しなければならない。スリップリング等を使用する代わりに、上述したように、供給系ライン４に、スタータ用の予備ヒータ８０を設けるようにすれば、当該ヒータへの給電が容易になる。
【００３８】
また、上蓋３２の内壁面には、上面中央を通り、前記吸気口３２ｉ側と排気口３２ｏ側とに内部を２分するように、隔壁６が、例えば溶接によって固着されている。
【００３９】
前記隔壁６は、詳細を図２に示すように、下端近傍には、セパレータ７を取付ける為のボルト孔６ａが図示の例では５箇所に穿孔されている。更に、隔壁６の下端には厚み方向の中央に均一の深さの溝６ｂが形成されており、セパレータ７を構成する以下に説明する板状部材の内の１枚を挿入出来るように構成されている。
【００４０】
セパレータ７は、図３に詳細を示す第１の板状部材７１が１枚と、図４に詳細を示す第２の板状部材７２が２枚の合計３枚の何れも比較的薄く、変形し易い板状部材（例えば、極めて薄いステンレス鋼板）で構成されている。
なお、材料は、触媒における反応温度である５００℃〜６００℃の耐熱性と、可撓性と、入手容易性とを兼ね揃えていれば良く、実施形態では、特に入手が容易であることからステンレスの薄板鋼板を選んでいる。
【００４１】
図３を参照して、前記第１の板状部材７１は、中央スリット７１ｓｃを含めて、同一のピッチｐを有する複数のスリット７１ｓが略全長に亙って形成されており、スリット７１ｓの上方には前記隔壁６に形成されたボルト孔６ａと同一のピッチを有する取付孔７１ａが５箇所に穿孔されている。
【００４２】
図４を参照して、前記第２の板状部材７２は、中央スリット７１ｓｃを除いて、同一のピッチｐを有する複数のスリット７２ｓが略全長にわたって形成されており、スリット７２ｓの上方には前記隔壁６に形成されたボルト孔６ａと同一のピッチを有する取付孔７２ａが５箇所に穿孔されている。
【００４３】
尚、第１の板状部材７１と第２の板状部材７２では、取付孔７１ａ、７２ａのピッチ及びスリット７１ｓ、７２ｓのピッチは共に等しく、且つ、第１の板状部材７１の取付孔７１ａと第２の板状部材７２の取付孔７２ａとを前記隔壁６の取付孔６ａに取り付けた場合に、第１及び第２の板状部材７１、７２のスリット７１ｓ、７２ｓは互いに１／２ピッチずつ、ずれるように形成されている。
【００４４】
図５は、第２の板状部材７２を前記隔壁６に取り付ける際に、薄く変形しやすい板状部材７２を隔壁６に確実に押さえるためのリテーナ７３を示したものである。
リテーナ７３の幅方向の中央には、前記隔壁６のボルト孔と同一のピッチの取付孔７３ａが穿孔されている。
【００４５】
セパレータ７を形成した場合、すなわち、第１の板状部材７１及び第２の板状部材７２を隔壁６にリテーナ７３を用いて取り付けた場合は、板状部材７１、７２のスリット７１ｓ、７２ｓのある板端部は前記触媒１の上面に略接触した状態で取り付けられる。
そして、２枚の第２の板状部材７２と１枚の第１の板状の部材７１は、互にスリットが半ピッチずつ、ずれていることによりラビリンス構造を有することとなる。
そのようなラビリンス構造により、未処理ガスが給気側（図１において、符号３２Ｉで示す領域）から排出側（図１において、符号３２Ｅで示す領域）へ漏出することを防止するように構成されている。
【００４６】
板状部材７１、７２のスリット７１ｓ、７２ｓのある端部は前記触媒１の上面に略接触した状態で取り付けられるため、仮に接触した場合は、接触抵抗によってセパレータ７（板状部材７１、７２）は図６で示すように、矢印Ｙの回転方向とは反対側へ引き摺られるように変形する。すなわち、触媒ロータ２の回転により、セパレータ７（板状部材７１、７２）は真中を境に、撓む方向が逆になる。
そのため、３枚の板の何れも真中にスリット７１ｓｃ、７２ｓｃを入れて、真中（回転軸Ｒ）を境に逆方向へ撓むことを許容している。
更に、触媒ロータ２のロータ長手方向に対する熱膨張は、セパレータ７（板状部材７１、７２）の可撓性により吸収することが出来る。
【００４７】
再び、図１を参照して、前記ケーシング３の下蓋３３の底部３３ａの中心部には、円柱状の突出部３３ｃが形成され、その突出部３３ｃの内部には円柱状の中空部３３ｄが形成されている。
その中空部３３ｄを挟む上下面には前記触媒ロータ２を回転駆動させる駆動軸１０を挿通させる挿通孔３３ｅが形成されている。
【００４８】
前記駆動軸１０は、大径部１０ａと中径部１０ｂと小径部１０ｃとで形成され、小径部１０ｃの端部が接続部材１１を介して電動モータ１２の回転軸１２ａに接続される。
【００４９】
前記中径部１０ｂは、ベアリングハウジング１３に収容された２層のスラストベアリング１４によって回転自在に支持されている。また、中径部１０ｂの小径部側境界部には雄螺子が形成され、位置決め用ナットＮ２の雌ねじと螺合するように構成されている。
【００５０】
前記大径部１０ａの端部には、板状部材８が大径部１０ａと同心で取り付けてあり、大径部１０ａの略中間には円弧状に細くなったベアリング部１０ｄが形成されている。尚、そのベアリング部１０ｄは、前記下蓋３３の中空部３３ｄと同じ高さ方向位置に形成されており、中空部３３ｄの空間を大きく取れるように構成されている。
【００５１】
前記ケーシング３の下蓋３３の底部３３ａの突出部３３ｃの内部に形成された円柱状の中空部３３ｄと前記駆動軸１０の大径部１０ａに形成されたベアリング部１０ｄとを設けることにより、触媒ロータ内２で発生した反応熱を、スラストベアリング１４側に伝え難くしている。すなわち、スラストベアリング１４には触媒１の反応熱が伝達され難く、スラストベアリング１４内の潤滑用グリースは高温から保護される。
【００５２】
前記板状部材８は前記触媒ロータ２の部分球状体の中空部材２ｂの下端頂点で点接触をするように触媒ロータ２を支持している。その板状部材８の外縁近傍には、駆動軸１０と平行な駆動ピン９が複数（図示では２本）立設されており、その駆動ピン９の端部は、前記ロータ２の中空部材２ｂの下端外縁近傍に例えば溶接等によって固着されている。
従って、前記電動モータ１２の駆動力は、駆動軸１０を介して、板状部材８に立設された複数の駆動ピン９によって触媒ロータ２に伝達される。
【００５３】
前記ベアリングハウジング１３の触媒ロータ２側の一端には図示では明確に示さないがスラストベアリング１４の抜け止めの縁が形成され、他端のベアリング収納穴の開放側には、図示では明確に示さないが雌ねじが形成されている。
その雌ねじにリングナット１６の雄螺子を螺合させ、そのリングナット１６の端部と前記抜け止めの縁とによって、複層のスラストベアリング１４の、ベアリングハウジング１３外への脱落を防止している。
【００５４】
スラストベアリング１４の前記駆動軸１０への係合は、先ず、駆動軸１０の大径部１０ａと中径部１０ｂとの境界（段部）と、前記中径部１０ｂの小径部１０ｃ側端部に形成した雄螺子部に螺合する係止用ナットＮ２とによって行われる。
【００５５】
前記電動モータ１２は水平支持部材１７及び垂直支持部材１８を介してケーシング３の下蓋３３の底部材３３ａに接続されている。
【００５６】
上述したような構成を具備する第１実施形態は、触媒ロータ２が回転可能に構成されており、且つ、回転する触媒１の上面と接触しながら、給気側３２Ｉと排気側３２Ｅとに仕切るセパレータ７が設けてあることにより、未処理ガスは給気側３２Ｉに供給される。給気側３２Ｉに供給され触媒１内に進入した処理ガスは、反応しつつ反応熱を発生させながら、排気側３２Ｅから排出される。すなわち、触媒１内を通過中に発熱反応によって当該ガスは浄化される。
【００５７】
ここで、排気側３２Ｅで反応後の清浄化されたガスが排出されても、燃焼熱（反応熱）は残存する。触媒ロータ１が回転して給気側３２Ｉへ到達して、未処理ガスが流入すると、各経路１ａ内に残存した燃焼熱（反応熱）が未処理ガスへ投入される。触媒１に流入したプロセスガスが反応を起こすのに十分な温度まで昇温する
ため、熱交換器と同等の作用を奏する。その結果、高価な熱交換器の省略が可能となる。
【００５８】
また、本実施形態では、比較的薄い板状部材７１，７２を複数貼り合わせて構成したセパレータ７が給気側３２Ｉと排気側３２Ｅとを仕切っているため、未処理ガスが排気側３２Ｅに漏れ出してしまうことが防止出来る。
すなわち、比較的薄い板状部材７１，７２を複数貼り合わせて構成したセパレータ７は回転する触媒１と常時接触している。常時接触しているので、給気側３２Ｉと排気側３２Ｅとを十分にシール出来る。
【００５９】
回転している触媒１と接触しているセパレータ７は、比較的薄い板状部材７１，７２を複数貼り合わせて構成されているので、弾性変形を起こして曲がりながら（撓みつつ）、接触可能である。したがって、セパレータ７による触媒１の摩耗を防止出来る。また、セパレータ７の存在は、触媒ロータ２の回転の大きな抵抗とはならない。
【００６０】
個々の板状部材７１、７２の触媒１側にはスリット７１ｓ、７２ｓが形成されているため、スリット７１ｓ、７２ｓ間の可撓性（弾性変形で曲がること）を保証して、回転する触媒１の破損を防止出来る。
個々で隣接する板状部材７１、７２のスリット７１ｓ、７２ｓ同士の位置がずらしてあるので、複数の板状部材７１、７２の全体では、スリット７１ｓ、７２ｓはラビリンスシールを構成することとなる。係るラビリンスシールは、未反応ガスが給気側３２Ｉから排気側３２Ｅに漏れてしまうことを防止している。
【００６１】
本発明において、前記触媒１のセパレータ７と接触するのとは反対側に中空部材２ｂ触媒ロータ２に一体的に取り付け、該中空部材２ｂに前記複数の経路１ａを連通しているため、触媒１内における給気側３２Ｉに連通する経路１ａに侵入して発熱反応を起こしたガスが、当該中空部材２ｂに流入した後、排気側３２Ｅへ連通する経路１ａへ流れるため、給気側３２Ｉから排気側３２Ｅへ確実にガスが流過する。
【００６２】
第１実施形態では、基本的には、スタートアップ時以外は、予熱用ヒータ８０はＯＦＦとしている。
スタートアップ時は予熱用ヒータ８０により反応が生じる程度まで昇温する必要があるが、その後は、触媒１における発熱反応熱が触媒１の複数の経路１ａの各々に残存するため、予熱用ヒータ８０により過熱しなくても、経路１ａに残存する反応熱により、未処理ガスは反応を生じる程度まで昇温できる。
すなわち、従来技術のように、ヒータを常時ＯＮ状態にしておく必要は無い。
したがって、本実施形態は、スタートアップ時以外では、エネルギ消費量が非常に少ない。
【００６３】
次に、図７を参照して第２実施形態を説明する。
【００６４】
図１〜図６の第１実施形態では、セパレータ７は複数の薄くて可撓製の高いステンレス鋼板製の板状部材７１、７２を使用した実施形態である。
それに対して図７の第２実施形態は、気体を噴出して構成されるカーテン（例えばエアカーテン）を用いた実施形態である。第１実施形態と異なる構成について以下に説明する。
【００６５】
ケーシング３Ｂの上蓋３２Ｂの円筒周囲には、給気口３２Ｂｉと、その給気口３２Ｂｉの反対側に、排気口３２Ｂｏが形成されている。上蓋３２Ｂの上面中心には上蓋３２Ｂの内外を連通する管用テーパねじ孔３２Ｂｔが形成されている。
さらに、上蓋３２Ｂの内壁には、前記管用テーパねじ孔３２Ｂｔを包含し、上蓋３２Ｂを給気側３２Ｉと排気側３２Ｅとに２分するように、内壁面全体にわたってカーテン状のノズル７Ｂが形成されている。
尚、ノズルノズル７Ｂのテーパ状の先端７Ｂｔと触媒１との間には、僅かな隙間が形成されている。そのノズル７Ｂには図示しない圧縮空気の供給源から圧縮空気が供給され、ノズル先端７Ｂｔからは、圧縮空気が触媒１の上面に向って噴射される。
上述の構成以外は、図１〜図６の第１実施形態と実質的に同様である。
【００６６】
係る構成の第２実施形態によれば、前記セパレータとして、ノズル７Ｂから気体（例えば圧縮空気）を噴出して構成されるカーテン（エアカーテン）を用いているため、給気側３２Ｉと排気側３２Ｅとを十分にシール出来ると共に、触媒１の回転の抵抗となったり、触媒１を摩耗してしまう恐れが無い。
すなわち、圧縮空気を吹き付ける機構を採用しているので、その圧力により、未反応ガスが触媒をバイパスして、入口側から出口側へ漏れ出すことを防止できる。
【００６７】
次に、図８を参照して第３実施形態の一実施形態を説明する。
【００６８】
図１の第１実施形態において、ロータを回転する軸（回転軸）Ｒが過熱すると、例えば、スラストベアリング１４に封入された潤滑用のグリースが溶けてしまい、駆動軸１０や軸受（ベアリングケース）１３が焼き付く恐れがある。
その様な事態を防止するため、「回転する触媒の回転軸（モータの出力軸と接続された軸）」の冷却のために、未反応ガスを吹き付ける機構を設けた実施形態が図８の第３実施形態の一実施形態である。
【００６９】
図８の第３実施形態の一実施形態は、図１〜図６の実施形態に対して、ケーシング３の下蓋３３底部の円柱状の突出部３３ｃの内部に形成された中空部３３ｄに、中空部３３ｄの内外を連通する、例えば管用テーパねじＴｐを形成し、その管用テーパねじＴｐとケーシング上蓋３２の側部周囲に形成した予備の連通孔３２ｅとを専用の口金付きチューブＴによって連通させている（すなわち、上蓋３２の給気口側３２Ｉと下蓋３３の中空部３３ｄとはチューブＴによって連通している）。
【００７０】
そのように、専用のチューブＴで給気口側３２Ｉと中空部３３ｄとを連通させることにより、未反応で比較的低温の処理対象ガスが、ケーシング３の下蓋３３底部の円柱状の突出部３３ｃの内部に形成された中空部３３ｄに誘引され、中空部３３ｄ内を貫通する駆動軸１０は冷却される。駆動軸１０が途中で冷却されるため、スラストベアリング１４には触媒１の反応熱が伝達されなく、スラストベアリング１４内の潤滑用グリースの溶融防止、或いは過度の高温による電動モータ１２の故障の防止が図られる。
【００７１】
上記構成の違い以外は、図８の第３実施形態の一実施形態は、図１〜図６の第１実施形態に対して実質的に同様である。
【００７２】
次に、図９を参照して、第３実施形態の他の実施形態を説明する。
【００７３】
図９の第３実施形態の他の実施形態は、図８の第３実施形態の一実施形態に対して、別置きの、例えばエアコンプレッサＣ、或いはブロワを用い、そのエアコンプレッサＣから専用チューブＴを中空部３３ｄの内外を連通する管用テーパねじＴｐに接続した実施形態である。
それ以外の構成及び作用効果については図８の第３実施形態の一実施形態と同様である。
【００７４】
次に、図１０を参照して、第４実施形態を説明する。
図１０の第４実施形態は、図１〜図６の第１実施形態に対して、触媒ロータ２の下端の中空部材２ｂを２重底にし（第４実施形態の中空部材の符合は２２ｂ）、その２重底の空間部２２ｖを真空とした実施形態である。
それ以外の構成については図１〜図６の第１実施形態と同様である。
【００７５】
触媒ロータ２の下端の中空部材２２ｂを２重底にし、その空間部２２ｖを真空構造とすることで、断熱を図り、スラストベアリング１４への触媒１の反応熱の影響を阻止することが出来る。
すなわち、ベアリング１４内の潤滑用グリースの溶融防止、或いは過度の高温によるモータ故障の防止が図られる。
【００７６】
次に、図１１を参照して、本発明の第５実施形態について説明する。図１０の第４実施形態は、触媒ロータ２の下端部材２ｂのみを２重底にしているのに対して、図１１の第５実施形態は、触媒ロータ全体を２重構造にしている。
【００７７】
図１１では、第５実施形態に係る触媒ロータ２０２を示している。図１１から明らかな様に、触媒ロータ２０２は、２重構造の外側を構成する外側部材２３Ｏと、内側を構成する内側部材２３Ｉとから成る。
外側部材２３Ｏは、筒状体２ａ−１及びその下端（底部）の部材２ｂ−１とが、例えば溶接等で一体に接続されて構成されている。一方、内側部材２３Ｉは、筒状体２ａ−２及びその下端（底部）の部材２ｂ−２とが、例えば溶接等で一体に接続されて構成されている。
【００７８】
外側部材２３Ｏと内側部材２３Ｉとは、上縁部２３Ｕを閉鎖端部として構成することにより、一体的に構成されている。
ここで、断熱性を向上するため、外側部材２３Ｏと内側部材２３Ｉとの間の空間２３ｖは、負圧となっていることが好ましい。
【００７９】
図１１の第５実施形態では触媒ロータ２０２を２重構造としたので、触媒１（図１１では図示せず）内で生じた反応熱であって、伝熱により触媒ロータ２０２外に放出されてしまう熱量を少なくすることが出来る。その結果、触媒１内で生じた反応熱の無駄（反応熱が伝熱により周囲に放散すること）が少なくなり、反応熱は連続して触媒１内へ供給される未反応ガスの予熱源（予熱のエネルギー源）として活用される。
【００８０】
図１１の第５実施形態におけるその他の構成及び作用効果については、上述した各実施形態と同様である。
また、この第５実施形態に係る構成は、その他の実施形態にも適用可能である。
【００８１】
図１２は、本発明の第６実施形態を示す。
図１〜図１１の各実施形態では、触媒１或いは触媒ロータ２の高さ方向位置は、装置全体を載置する土台が決定した後は変更することが出来ないが、図１２の第６実施形態では、触媒１或いは触媒ロータ２（図１２では、触媒ロータ２のみを示す）の高さ方向位置が調節可能に構成されている。
【００８２】
図１２において、触媒ロータ２の部材２ｂに固定された駆動ピン９は、板状部材８に形成された貫通孔８ｂに挿入されている。換言すれば、これにより、駆動ピン９は板状部材８に対して、触媒ロータ２の中心線Ｃ方向には相対移動可能であるが、いた状部材８が中心線Ｃ方向に回転した場合には、一緒に回転する様に取り付けられている。
【００８３】
湾曲して形成された部材２ｂ下端の頂点と板状部材８との間には、両者の間隔を調節するための調節機構が構成されている。係る調節機構は、ボルト２０４と、駆動軸１０の大径部１０ａの触媒ロータ２側（図１２では上方）端部に穿孔された盲孔２０６とによって構成されており、盲孔２０６には、ボルト２０４に螺合する雌ねじ部（明確には図示せず）が形成されている。
触媒或いは触媒ロータ２の高さ方向位置すなわち中心線Ｃ方向の位置を調節するに際しては、ボルト２０４を回転すれば良い。ボルト２０４を時計方向に締めこめば、触媒ロータ２は下方に移動し、反時計方向に回転すれば、触媒ロータ２は上方へ移動するのである。
【００８４】
図１２の第６実施形態における上述以外の構成及び作用効果は、図１〜図１１の各実施形態と同様である。
そして、図１２の第６実施形態の構造は、図１〜図１１の各実施形態に適用可能である。
【００８５】
次に、図１３〜図１９を参照して第７実施形態を説明する。
【００８６】
先ず、図１３及び図１４を参照して、第７実施形態の「通常稼動時の制御」、即ち、排気温度の変化によって駆動用電動モータ１２の回転速度を制御する実施形態について説明する。
【００８７】
図１３及び図１４の第７実施形態の「通常稼動時の制御」を行うに当り、ベースとしての構成は図１３に示すように、第１実施形態の装置（図１３において符号Ｊ１）に対して、制御手段であるコントロールユニット１００と、排気系ライン５に温度センサＳｔを介装し、電動モータ１２に回転計Ｓｒを取り付けた実施形態である。
尚、図１３において符号２００は、例えば処理するべきガスを排出する印刷工場を示し、符号Ｌｉは入力信号ライン、Ｌｏは出力信号ラインを示す。
以下に制御方法説明する。
【００８８】
ステップＳ１において、許容最低温度Ｔａ、及び許容最高温度Ｔｂを設定し、ステップＳ２で温度計Ｓｔによってケーシング３の出口の温度Ｔを計測する。
【００８９】
次のステップＳ３では、コントロールユニット１００は、前記測定した温度Ｔが許容最低温度Ｔ２未満（Ｔ＜Ｔａ）であるか、温度Ｔが許容最低温度Ｔａ以上で許容最高温度Ｔｂ以下（Ｔａ≦Ｔ≦Ｔｂ）であるか、或いは温度Ｔが許容最高温度Ｔｂを超えている（Ｔｂ＜Ｔ）か、を判断する。
【００９０】
測定した温度Ｔが許容最低温度Ｔａ未満（Ｔ＜Ｔａ）である場合は、ステップＳ４に進み、電動モータ１２の回転速度を減じた後ステップＳ７に進む。
温度Ｔが許容最低温度Ｔａ以上で許容最高温度Ｔｂ以下（Ｔａ≦Ｔ≦Ｔｂ）である場合は、ステップＳ５に進み、電動モータ１２の現在の回転速度を維持して、ステップＳ７に進む。
温度Ｔが許容最高温度Ｔｂを超えている（Ｔｂ＜Ｔ）場合は、ステップＳ６に進み、電動モータ１２の回転速度を増した後ステップＳ７に進む。
【００９１】
ステップＳ７では、コントロールユニット１００は、制御を終了するのか否かを判断しており、制御を終了させたいのであれば（ステップＳ７のＹＥＳ）、そのまま制御を終える。
一方、制御を継続したいのであれば（ステップＳ７のＮＯ）、ステップＳ１に戻り、再びステップＳ１以降を繰り返す。
【００９２】
尚、制御フロー（図１４）では記述していないが、当該装置の稼動中は常に回転計Ｓｒによって触媒ロータ２の回転速度が監視できるように構成されている。
【００９３】
排気系ライン５に温度センサＳｒを介装した理由は、排気温度Ｔが反応機の熱効率と直結したパラメータであり、計測が容易なためである。
【００９４】
給気側（反応装置の入口側）の濃度を計測して、入口側濃度が高ければ、回転数を落とす様に構成することも可能であるからである。但し、濃度の計測は機構が複雑化し、価格も高価である。したがって、本実施形態のように、比較的安価な温度センサＳｒで簡単に計測できる出口側温度で制御するのが好ましい。
【００９５】
次に、図１５及び図１６を参照して、第７実施形態の「触媒再生の有無を判断する制御」について説明する。
【００９６】
処理装置の構成は、図１５に示すように、前述の「通常稼動時の制御」を行う場合の装置（図１３）に対して、警告用ブザー３００を追加したことが異なるのみである。
【００９７】
図１６を参照して、「触媒再生の有無の判断」の制御方法を説明する。
【００９８】
ステップＳ１１において、コントロールユニット１００は、先ず、初期、すなわち、新品の触媒又は再生直後の触媒によるＶＯＣ処理を開始した初期、における排気温度と、触媒ロータ２の回転数とを記録し、次に、排気温度を温度センサＳｔによって計測する（ステップＳ１２）。
【００９９】
次のステップＳ１３では、コントロールユニット１００は、同一排気温度の初期より、所定割合以上、例えば、２０％以上触媒ロータ２の回転数が遅いか否かを判断しており、遅くはなければ（ステップＳ１３のＮＯ）、ステップＳ１２からステップＳ１３のループを繰返し、所定割合以上回転数が遅い場合は（ステップＳ１３のＹＥＳ）、ステップＳ１４に進む。
【０１００】
ステップＳ１４では、コントロールユニット１００は、「触媒の再生が必要である」と判断して、ブザー３００によって警告を与え（ステップＳ１５）、ステップＳ１６に進む。
【０１０１】
ステップＳ１６では、再生が実行されたか否かを判断し、実行されたなら、（ステップＳ１６のＹＥＳ）、ステップＳ１に戻り、再びステップＳ１１以降を繰り返す。
一方、再生が実行されていなければ（ステップＳ１６のＮＯ）、ステップＳ１５、ステップ１６のループを繰り返す。
【０１０２】
次に、図１７及び図１８を参照して、第７実施形態の「触媒の劣化を判断する制御」について説明する。
【０１０３】
処理装置の構成は、図１７に示すように、前述の「触媒再生の有無の判断」で使用した装置（図１５）に対して、タイマ１２０をコントロールユニット１００に接続したことが異なる。以下に図１８を参照して「触媒の劣化を判断する制御」の制御方法を説明する。
【０１０４】
先ず、ステップＳ２１において、温度センサＳｔを用いて排気温度を測定した後、ステップＳ２２において、コントロールユニット１００は、排気温度が所定温度以下であるか否かを判断する。
【０１０５】
排気温度が所定温度を超えていれば（ステップＳ２２のＮＯ）、ステップＳ２１、Ｓ２２のループを繰返し、排気温度が所定温度以下であればステップＳ２３において（ステップＳ２２のＹＥＳ）、触媒ロータ２の回転数を所定回転数だけ減少させる。
【０１０６】
次のステップＳ２４では、コントロールユニット１００は、所定時間が経過するまで監視しており（ステップＳ２４のループ）、所定時間が経過したなら（ステップＳ２４のＹＥＳ）、再度排気温度を測定する（ステップＳ２５）。
【０１０７】
ステップＳ２６においてコントロールユニット１００は、減速前に比較して排気温度が一定値以上昇温したか否かを判断する。
排気温度が一定値以上昇温していなければ（ステップＳ２６のＮＯ）、劣化と判断する（ステップＳ２７）。
一方一定値以上昇温していれば（ステップＳ２６のＹＥＳ）、ステップＳ１まで戻り再びステップＳ２１以降を繰り返す。
【０１０８】
次のステップＳ２８では、ブザー３００によって警告を与えて、制御を終了する。
【０１０９】
次に、図１９及び図２０を参照して、第７実施形態の、当該装置で処理された処理ガスの「全処理量ΣＱのカウント方法」について説明する。
【０１１０】
処理装置の構成は、図１９に示すように、前述の「触媒の劣化を判断する制御」を行う場合の装置（図１７）に対して、給気系ライン４に流量計Ｓｑを介装し、コントロールユニット１００に接続したブザーを表示手段１３０に変更したことが異なるのみである。
【０１１１】
図２０を参照して、「全処理量ΣＱのカウント方法」を説明する。
【０１１２】
ステップＳ３１において、タイマ１２０で計測を開始し、所定時間ΔＴが経過したか否かをコントロールユニット１００が判断する（ステップＳ３２）。
【０１１３】
所定時間ΔＴが経過した場合（ステップＳ３２のＹＥＳ）に、温度センサＳｔで排気温度を、流量計Ｓｑで流量計側の結果を夫々読込む（ステップＳ３３）。
【０１１４】
次のステップＳ３４では、コントロールユニット１００は、所定時間ΔＴの処理量Ｑｎを演算し、同様の所定時間毎の処理量を順次積算することによって全処理量ΣＱを求める（ステップＳ３５）。
【０１１５】
次のステップＳ３６では、コントロールユニット１００は、処理作業が終了したか否かを判断して、処理作業が終了していれば（ステップＳ３６のＹＥＳ）、全処理量ΣＱを表示手段１３０に表示して制御を終了する。一方、処理が終わっていなければ（ステップＳ３６のＮＯ）、ステップＳ３１に戻り、再びステップＳ３１以降を繰り返す。
【０１１６】
次に、図２１及び図２２を参照して、本発明の第８実施形態について説明する。
この第８実施形態では、ＶＯＣ等の処理するべきガス（未処理ガス）が触媒１内で反応して発生する熱量が、許容最大値（上限）を超えた場合や、許容最小値（下限）を下回った場合に、非常事態回避手段を作動させる制御を行う様に構成されている。
【０１１７】
図２１において、排気系ライン５には排気温度Ｔｄを検出する温度センサＳｔｄが介装されており、吸気系ライン４には吸気温度Ｔｉを検出する温度センサＳｔｉが介装されている。
吸気系ライン４には、さらに、ヒータ８０、送風機８２が介装されており、合流点ＰＧにて、清浄空気供給ライン４−２が合流している。合流点ＰＧよりもさらに上流側（印刷工場２００側）の領域４−１には、流量調整弁Ｖｃａ及び領域４−１における流量ＱＡを計測する流量計ＳＱＡが介装されている。
一方、清浄空気供給ライン４−２は図示しない清浄空気供給源に連通しており、流量調整弁Ｖｃｂ及びライン４−２における流量ＱＢを計測する流量計ＳＱＢが介装されている。
【０１１８】
温度センサＳｔｄ、Ｓｔｉ、流量計ＳＱＡ、ＳＱＢの検出信号は、それぞれ信号伝達ラインＳＬ１〜ＳＬ４を介して、コントロールユニット１１０へ送られる。また、コントロールユニット１１０からの弁開度制御信号（流量を調節する制御信号信号）は、信号伝達ラインＳＬ５、ＳＬ６を介して流量調整弁Ｖｃａ、Ｖｃｂに送出される。
【０１１９】
図２２を主に参照して、第８実施形態の制御を説明する。
先ず、流量計ＳＱＡ、ＳＱＢにより領域（或いはライン）４−１、４−２における流量ＱＡ、ＱＢを計測し、温度センサＳｔｄ、Ｓｔｉにより排気温度Ｔｄ、吸気温度Ｔｉを検出する（ステップＳ４１）。なお、図２１、図２２で示す反応装置の運転当初においては、ライン４−２を流れる清浄空気流量ＱＢはゼロである。
【０１２０】
次に、コントロールユニット１１０における図示しない演算ブロックで、検出された流量ＱＡ、ＱＢと、温度Ｔｄ、Ｔｉを用いて、触媒１における発熱量Ｑを演算する（ステップＳ４２）。そして、演算された発熱量Ｑが適正な範囲にあるか否かを判定する（ステップＳ４３）。
ここで、発熱量の適正な範囲（或いは、許容範囲）は、反応装置が設置された印刷工場２００の規模、触媒１の大きさ、その他の種々の条件で、ケース・バイ・ケースで定まるが、事前に決定することが可能な数値である。
【０１２１】
発熱量Ｑが適正であれば（ステップＳ４３がＹｅｓ）、反応装置の処理量は適性であり、ライン４−２から清浄空気を供給する必要は無いので、弁Ｖｃｂを閉鎖して、弁Ｖｃａの開度のみを調整して、反応装置の処理量を決定する（ステップＳ４４）。具体的には、排気温度（出口温度）Ｔｄの方が吸気温度（入口温度）Ｔｉよりも高温である状態が維持される程度に弁Ｖｃａの開度を調節する。
弁Ｖｃａの開度のみを調整し、弁Ｖｃｂを閉鎖したならば（ステップＳ４４が完了したならば）、ステップＳ４５へ進む。
【０１２２】
発熱量Ｑが適正な範囲（許容範囲）に対して低温過ぎる場合には（ステップＳ４３で「Ｑが過小」）、ＶＯＣ処理量が不十分で、触媒１内では十分に反応熱が発生していない状態であるので、補助ヒータ８０を作動する（ステップＳ４６）。この場合、反応が不十分であるため、正常化空気を供給する必要は無く、弁Ｖｃｂは閉鎖する。
補助ヒータ８０を作動した後、排気温度（出口温度）Ｔｄと吸気温度（入口温度）Ｔｉとを計測し（ステップＳ４７）、排気温度Ｔｄが吸気温度Ｔｉよりも高温にならなければ（ステップＳ４８がＮｏ）、補助ヒータ８０を作動し続ける（ステップＳ４８がＮｏのループ）。
【０１２３】
排気温度Ｔｄが吸気温度Ｔｉよりも高温になれば（ステップＳ４８がＹｅｓ）、補助ヒータ８０を停止して（ステップＳ４９）、ステップＳ４５へ進む。
このステップＳ４６〜ステップＳ４９の制御により、触媒１内の発熱量が許容範囲よりも低いという異常事態に、対処することが出来る。
【０１２４】
発熱量Ｑが許容範囲に対して高温過ぎる場合には（ステップＳ４３で「Ｑが過大」）、ＶＯＣ処理量が多過ぎて、触媒１内の反応熱が過大であるため、弁Ｖｃｂの開度を増加し、ライン４−２経由で清浄空気を反応路１内へ供給して、処理するべきガスのＶＯＣ濃度を低減すると共に、弁Ｖｃａの開度を減少して、ＶＯＣが触媒１内へ供給される量を減少する（ステップＳ５０）。
そして、排気温度Ｔｄ及び吸気温度Ｔｉを計測する（ステップＳ５１）。
【０１２５】
触媒１内の反応熱が大きいと、排気温度Ｔｄと吸気温度Ｔｉとの温度差が大きくなる。そして、触媒１内の反応熱が適正な範囲にあれば、排気温度Ｔｄと吸気温度Ｔｉとの温度差も許容値（発熱量Ｑの許容範囲と同様に、ケース・バイ・ケースで定まる）以下となる。
ステップＳ５２では、排気温度Ｔｄと吸気温度Ｔｉとの温度差が許容値以下であるか否かを判定し、許容値以上である場合（ステップＳ５２がＮｏ）には、依然として発熱量Ｑが過大であると判断して、ステップＳ５０に戻る。
【０１２６】
一方、排気温度Ｔｄと吸気温度Ｔｉとの温度差が許容値以下になれば（ステップＳ５２がＹｅｓ）、発熱量は過大ではなくなったと判断して、ステップＳ４５に進む。
このステップＳ５０〜ステップＳ５２の制御により、触媒１内の反応熱が過大になるという異常事態に対処することが出来る。
【０１２７】
ステップＳ４５では、反応装置の運転を終了して制御を終了するか否かを判定し、運転を継続するのであれば（ステップＳ４５がＮｏ）ステップＳ４１に戻り、上述した制御を繰り返す。
【０１２８】
図２１、図２２を参照して説明した第８実施形態における制御は、上述した各実施形態と組み合わせて、実行することが可能である。
【０１２９】
次に、図２３を参照して、本発明の第９実施形態について説明する。
前記の第１〜第８実施形態では、ＶＯＣ等の処理するべきガス（未処理ガス）を触媒１によって反応を支援する反応装置Ｊ１によって発生熱量の有効利用をはかっているが、この反応装置Ｊ１から排出される清浄化された排出ガスは例えば２００〜２５０℃の熱量を有したままで大気に排出される。
【０１３０】
また、反応装置Ｊ１から排出された排出ガスに、未反応（未燃）ガスが存在する可能性が有る。
【０１３１】
第９実施形態では、反応装置Ｊ１から排出された排出ガスを固定式反応装置によって再度の反応（燃焼）を行わしめ、以って、ＶＯＣをより一層除去出来るように構成されている。
【０１３２】
図２３において、工場２００と反応装置Ｊ１とは給気系ライン４によって連結され、その給気系ライン４には加熱量を制御できるヒータ８０が介装され、ヒータ８０と触媒１の上部に通じる給気系ライン４に温度センサ４ｃが介装されている。
【０１３３】
また、反応装置Ｊ１と固定式反応装置Ｒｓとは排出ライン５によって連結され、その排出ライン５には加熱量を制御できるヒータ９０が介装され、ヒータ９０と触媒１の上部に通じる排出ライン５に温度センサ５ｃが介装され、ヒータ９０と固定式反応装置Ｒｓの入口側に通じる排出ライン５に温度センサ５ｄが介装されている。
【０１３４】
固定式反応装置Ｒｓは、第１実施形態〜第８実施形態に係る反応装置Ｊ１の触媒１とは材質、機能は同様で、例えば白金触媒が使用され、触媒の形状、大きさ及び積層配置された固定式反応装置Ｒｓ内を通過するガスの性状に応じて設定されている。固定式反応装置Ｒｓの出口側に排出管Ｒ５が連結され、排気管Ｒ５の固定式反応装置Ｒｓ近傍に温度センサ５ｅが介装されている。
【０１３５】
ヒータ９０は、反応装置Ｊ１から排出された未反応成分を含むＶＯＣ排出ガスが固定式反応装置Ｒｓで反応を始動し、あるいは反応を継続できるだけの熱量を供給できる機能、容量を有して構成されている。
上記以外の構成は、第１実施形態と実質的に同じである。
【０１３６】
上記構成の第９実施形態の作用を図２３及び第１実施形態の図１を参照して、第１実施形態と異なる部分を主体に説明する。
工場２００から排出されたＶＯＣガスが給気系ライン４によって反応装置Ｊ１へ供給され、触媒１の上部の隔壁６とセパレ−タ７で区分された給気側３２Ｉに導かれる。
ＶＯＣガスは、吸気側３２Ｉに存在する触媒１の領域の上部から経路１ａを下降し、下降する間に触媒作用によりＶＯＣの発熱反応が開始される。
【０１３７】
（触媒１が回転して）排気側３２Ｅに到達した触媒１の領域では、経路１ａ内に侵入して発熱反応を行ったＶＯＣが上昇しながら発熱反応を継続して高温になる。その結果、ＶＯＣが浄化されて、排気側３２Ｅにおける触媒１の上部空間に到達する。そして、排出ライン５を流れる。
【０１３８】
排気側３２Ｅから排出ライン５に排出された（清浄化された）ガス（反応ガス）は、固定式反応装置Ｒｓに向かう。
固定式反応装置Ｒｓでは、排出ライン５に清浄化されて排出された反応ガスに残存する未反応のＶＯＣを、排出時に反応ガスが保持する例えば２００℃の熱量を利用して再度の反応を行う。
固定式反応装置Ｒｓでは、反応ガスに残存するＶＯＣを確実に反応せしめて清浄化することが出来る。そして、係る反応では、反応ガスが保有する熱量を利用して行わせることが可能なので、固定式反応装置Ｒｓで消費されるエネルギは比較的少量である。
【０１３９】
ここで、固定式反応装置Ｒｓの排出ラインＲＳには温度センサ５ｅが介装されており、固定式反応装置Ｒｓにおける反応状況は、温度センサ５ｅによって計測される反応後のガスの温度（ラインＲＳを流れる反応ガス温度）によって把握される。図２３には図示させていないが、コントロールユニットを設けて、ヒータ９０からの供給熱量の制御を行う様に構成することも可能である。
【０１４０】
係る制御をより具体的に説明すると、ヒータ９０からの供給熱量は、反応装置Ｊ１へのヒータ８０の熱量供給と同じ要領で、固定式反応装置Ｒｓによる反応状況に応じて図示しないコントロールユニットにより、温度センサ５ｄの検出温度Ｔｄ２及び温度センサ５ｅの検出温度Ｔｄ３をパラメータとして、検討して制御される。
【０１４１】
図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記述ではない旨を付記する。
例えば触媒は回転可能なものであれば、セラミックにＰｔを担持させなくても良い。
また、上述した各実施形態を同時に複数組み合わせて実施することも可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１４２】
本発明は、煙の出るところ、喫煙所その他の空気清浄化にも適用可能である。
本発明の反応装置の排熱（触媒から排出された処理済みの清浄な気体が保有する熱量／排熱：２００℃）を生ゴミの乾燥に適用することは可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】本発明の第１実施形態の構成全体を示した断面図。
【図２】本発明の第１実施形態におけるセパレータを支持する隔壁の斜視図。
【図３】本発明の第１実施形態におけるセパレータを構成する第１の板状部材の平面図。
【図４】本発明の第１実施形態におけるセパレータを構成する第２の板状部材の平面図。
【図５】本発明の第１実施形態におけるセパレータを構成するリテーナの平面図。
【図６】本発明の第１実施形態における稼動時のセパレータの動きを示した様態図。
【図７】本発明の第２実施形態の構成全体を示した断面図。
【図８】本発明の第３実施形態の一実施形態の構成全体を示した断面図。
【図９】本発明の第３実施形態の他の実施形態の構成全体を示した断面図。
【図１０】本発明の第４実施形態の構成全体を示した断面図。
【図１１】本発明の第５実施形態を説明する部分拡大断面図。
【図１２】本発明の第６実施形態を説明する部分拡大断面図。
【図１３】本発明の第７実施形態の「通常稼動時の運転制御」を実施する場合の構成の概略を示したブロック図。
【図１４】本発明の第７実施形態の「通常稼動時の運転制御」の制御方法を示したフローチャート。
【図１５】本発明の第７実施形態の「触媒再生の有無を判断する制御」を実施する場合の構成の概略を示したブロック図。
【図１６】本発明の第７実施形態の「触媒再生の有無を判断する制御」の方法を示したフローチャート。
【図１７】本発明の第７実施形態の「触媒劣化の判断を行う制御」を実施する場合の構成の概略を示したブロック図。
【図１８】本発明の第７実施形態の「触媒劣化の判断を行う制御」の方法を示したフローチャート。
【図１９】本発明の第７実施形態の「処理量の計算」を実施する場合の構成の概略を示したブロック図。
【図２０】本発明の第７実施形態の「処理量の計算」の制御方法を示したフローチャート。
【図２１】本発明の第８実施形態を説明するブロック図。
【図２２】本発明の第８実施形態における制御を説明するフローチャート。
【図２３】本発明の第９実施形態を説明するブロック図。
【図２４】処理装置の原理を説明するブロック図。
【図２５】本発明の処理装置に関わる原理を説明する構成概要図。
【符号の説明】
【０１４４】
１・・・触媒
１ａ・・・経路
２、２０２・・・触媒ロータ
２ａ、２ａ−１、２ａ−２・・・筒状体
２ｂ、２ｂ−１、２ｂ−２・・・中空部材
３・・・ケーシング
４・・・給気系ライン
５・・・排気系ライン
６・・・隔壁
７・・・セパレータ
８・・・板状部材
９・・・駆動ピン
１０・・・駆動軸
１１・・・接続部材
１２・・・電動モータ
１４・・・スラストベアリング
３１・・・外筒
３２・・・上蓋
３３・・・下蓋
８０、９０・・ヒータ
１００・・・コントロールユニット
Ｒｓ・・・固定式反応装置
Ｓｑ・・・流量計
Ｓｒ・・・温度センサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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