(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スロット状の画像フィールドまたは回転非対称な照明を持つマイクロリソグラフィ投影プリンティング装置に特に関する光学装置であって、
ａ）光学部材と、
ｂ）前記光学部材の表面が投影光源の放射光により回転非対称的な作用を受ける、放射光を放出する投影光源と、
ｃ）前記光学部材に補償光を供給する補償光供給装置であって、投影光と前記補償光とで前記光学部材を加熱する結果として生じる前記光学部材の温度分布が少なくとも部分的に均一化される補償光供給装置と
を含み、
前記補償光供給装置（１１、１４〜１９、１１１、２１１、３１１、３１４〜３１９）は、前記光学部材（１、１０１、２０１、３０１）の周縁表面（１３、１１３、２１３、３１３）を介して前記光学部材に光学的に結合される
ことを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記補償光供給装置（１１、１４〜１９、１１１、２１１、３１１、３１４〜３１９）は、光源（１７、３１７）、及び、少なくとも１つの光ファイバ（１１、１１１、２１１、３１１）を含み、前記光源（１７、３１７）により放射される放射光（１６、３１６）が前記光学部材（１、１０１、２０１、３０１）に供給されることを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
少なくとも２つの光ファイバ（１１、１１１、２１１、３１１）が設けられ、その少なくとも２つの光ファイバ（１１、１１１、２１１、３１１）を通って案内される光線出力が、制御装置（１９、３１９）により互いに独立して調節可能であることを特徴とする請求項２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記制御装置（１９、３１９）は、前記光学装置の焦点面を監視するセンサ（２１、３２１）との通信リンクを持ち、前記光線出力を制御するために前記センサ（２１、３２１）からの受信信号を処理することを特徴とする請求項３に記載の光学装置。
【請求項５】
前記センサ（２１、３２１）は位置感知センサであることを特徴とする請求項４に記載の光学装置。
【請求項６】
前記センサ（２１、３２１）はＣＣＤアレイであることを特徴とする請求項５に記載の光学装置。
【請求項７】
前記補償光供給装置（１１、１４〜１９、１１１、２１１、３１１、３１４〜３１９）は、可変波長の光源（１７、３１７）を含むことを特徴とする請求項１から請求項６のうちのいずれか１つに記載の光学装置。
【請求項８】
前記光学部材（１、１０１、２０１、３０１）に向けられた前記少なくとも１つのファイバ（１１、１１１、２１１、３１１）の端部の保持部材（１０、１１０、２１０、３１０）は、前記光学部材（１、１０１、２０１、３０１）の取付台（５、１０５、２０５、３０５）に取り付けられていることを特徴とする請求項２から請求項７のうちのいずれか１つに記載の光学装置。
【請求項９】
調節装置（９、１０９、２０９、３０９）が、前記保持部材（１０、１１０、２１０、３１０）を前記光学部材（１、１０１、２０１、３０１）の周縁方向に沿って案内するために設けられていることを特徴とする請求項８に記載の光学装置。
【請求項１０】
制御装置との通信リンクを持ち、かつ前記調節装置（９、１０９、２０９、３０９）用のモータ駆動アクチュエータを設け、前記制御装置は前記焦点面を監視するセンサとの通信リンクを持ち、かつ前記保持部材（１０、１１０、２１０、３１０）の位置制御用の前記センサからの受信信号を処理することを特徴とする請求項９に記載の光学装置。
【請求項１１】
前記光学部材（１０１、２０１）の周縁表面（１１３、２１３）は、補償光入力領域にファセット（１２２、２２３）を持つことを特徴とする請求項１から請求項１０のうちのいずれか１つに記載の光学装置。
【請求項１２】
前記光学部材（１、１０１、２０１、３０１）の周縁表面（１３、１１３、２１３、３１３）は、補償光入力領域においてテクスチャーを施されることを特徴とする請求項１から請求項１１のうちのいずれか１つに記載の光学装置。
【請求項１３】
前記光源（１７）の放射波長は４ミクロンより大きいことを特徴とする請求項１から請求項１２のうちのいずれか１つに記載の光学装置。
【請求項１４】
前記光学部材（１、１０１、２０１、３０１）は屈折光学部材であることを特徴とする請求項１から請求項１３のうちのいずれか１つに記載の光学装置。
【請求項１５】
前記光学部材は、前記投影光源（１７、３１７）の放射光に対して反射的であることを特徴とする請求項１から請求項１３のうちのいずれか１つに記載の光学装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、詳細にはスロット状の画像フィールドまたは回転非対称な照明を持つマイクロリソグラフィ投影プリンティング装置に特に関する光学装置に関し、ａ）光学部材を含み、
ｂ）放射光を放出する投影光源を含み、光学部材の表面が投影光源の放射光により回転非対称的な作用を受け、そして
ｃ）光学部材を投影光と補償光とを重ねて加熱する結果として生じる光学部材の温度分布が少なくとも部分的に均一化されるように光学部材に補償光を供給する補償光供給装置を含む。
【０００２】
【従来の技術】
光線により回転非対称に作用を受ける光学装置の結像特性が、回転非対称性から生じる結像欠陥によって損なわれることがある。こうした結像欠陥は例えば、投影光に関して言えば、屈折または反射光学部材の回転非対称な光誘導加熱による結果だけでなく例えば、他の光誘導効果の結果としても起こり、例えば光学部材における相当する回転非対称な膨張、及び／又は、回転非対称な屈折率分布をもたらすコンパクションなどである。高品質の結像が求められる場合、特にマイクロリソグラフの投影プリンティング処理ではそうであるが、上述した光によって引き起こされる結像欠陥を容認することはできない。
【０００３】
包括的なＥＰ  ０  ８２３  ６６２  Ａ２により、最初に説明した種類の光学装置は知られている。そこでは補償光源を使用して、少なくともそのような結像欠陥の部分的低減を達成する努力がなされている。補償光を吸収させることにより、光学システムにおける温度分布を均一化することで達成されている。その場合、投影光が作用しない光学部材の端部の区域を通って補償光が光軸に平行に導かれる。その結果、投影プリンティングに利用できる光学装置の有効な口径が制限される。投影光の光路と平行な補償光に必要な入力結合が更に構造の一体化の問題を生じるが、これは、追加の入力結合部材、及び／又は、偏向部材を投影光の光路内に、及び／又は、近くに挿入する必要があるからである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の目的は、補償光を使用して有効口径に悪影響を与えることなく光学部材の温度分布を対称、及び／又は、均一にできる最初に説明した種類の光学装置を開発することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
前記目的は、本発明によれば、補償光供給装置が光学部材の周縁表面を介して光学的に光学部材に結合されることで実現される。
【０００６】
周縁表面を介して補償光を入力させると、補償光ビームの誘導で生じる制限がなくなるため、投影光に対して光学装置の口径を全面的に利用することができる。投影光と補償光の光路が互いに隣接または平行して延びていないので、光学装置は構造的に補正される。更に光学部材の周縁表面は、投影光用の光学表面とは別に設計できるため、補償光の誘導は、投影光の誘導とは別々に最適化できる。光学部材は通常、光軸に対し平行よりも垂直な方向の寸法が大きいため、周縁表面を介する入力結合の使用で補償光の吸収に利用できる材料の距離も更に広がり、その結果、補償光の波長選択により大きな自由度をもたらす。
【０００７】
補償光供給装置は、光源、および、その光源からの放射光を光学部材に供給する少なくとも１つの光ファイバを含む。投影光源から独立した光源を使用する場合、それを光学装置から独立した空間に収容できる。光ファイバの使用により、光学装置の断面積の大きな増加をもたらさずに、光学部材の周縁表面への入力結合の構造設計を実現することができる。光ファイバの出力発散を利用して、補償光による光学部材のかなり広い領域を照射することができる。
【０００８】
少なくとも２つの光ファイバをが設け、その少なくとも２つの光ファイバを介してそれぞれに導かれる光線出力を制御装置により互いに別々に調節するようにすることが有利である。別々の光ファイバに誘導される光線出力の分布を利用して、補償光を吸収して光学部材で生成された温度分布を意図的に影響を与えることが結像欠陥の補償に対して可能になる。
【０００９】
制御装置は、光学装置の焦点面を監視するセンサと通信リンクを持ち、光線出力を制御するためにセンサからの受信信号を処理する。前記方法により結像特性の調節が可能になり、それによって、センサにより検出された結像特性の変化が自動的に補正される。
【００１０】
センサは位置感知センサを使用できる。こうしたセンサは非常に安価な設計、例えばカドラント検出器の形で入手できる。
センサはＣＣＤアレイが好ましい。こうしたセンサにより、光学装置の結像特性に対し高感度な測定が約束される。制御装置の比較的単純な構造は、本発明では既知の画像処理アルゴリズムの使用を介して、可能である。
【００１１】
本発明の改良により、補償光供給装置は可変波長の光源を含む。波長は、結像欠陥を補償するために光学部材における温度分布を調節する時、更なる自由度をもたらす。例えば、ある範囲で調節可能な波長を持つ光源を使用する場合、光学部材材料の吸収係数が波長の変化でかなり変化するので、その波長の変化により、光学部材内への補償光の貫通深さが変えられ、光学部材の温度分布の対応する変化が可能になる。本発明で使用される通常の波長域は、４ミクロン領域、石英ガラスの長波長側の吸収エッジ、または、波長１４００ｎｍで固有吸収が増加する領域である（多くの石英ガラスで生じる）。その波長はリン化インジウム・ダイオードレーザなどで達成される。
【００１２】
本発明の更なる改良では、光学部材に向いている少なくとも１つのファイバの端部用の保持部材は、光学部材の取付台に取り付けられる。これは、光学部材に対するファイバの出力端部の確実な位置決めをもたらす。脱着可能に装着された保持部材を使用する場合、容易なファイバ交換および交換ファイバの容易な再位置決めが約束される。
【００１３】
光学部材の周縁方向に保持部材を案内するために調節装置が設けられる。こうした調節装置は、補償光が光学部材内に結合される位置と、入力結合の方向、または代わりに光学部材周縁表面からの出力端部の距離とを調節するために使用される。自由度によって、光学部材における補償光の強さの分布へ影響を与え、補償光の吸収を介して前記光学部材の温度分布への影響を与えることができる。
【００１４】
調節装置用のモータ駆動式アクチュエータが設けられており、そのアクチェータは制御装置との通信リンクを持ち、制御装置は、光学装置の焦点面を監視するセンサとの通信リンクを備えて、保持部材の位置制御のためにセンサからの受信信号を処理する。このように結像欠陥の自動的な補正は、保持部材の調節によって可能になる。
【００１５】
光学部材の周縁表面は、補償光入力領域にファセットを持つ。こうしたファセットは、ファセット面での屈折により補償光ビームの誘導を可能にする。ファセットは例えば凸面であり、ファセット上に発散的に入射する補償光を集光させる。逆にファセット形状が凹面の場合、入射補償光ビームの発散が実現する。凹面ファセットの曲率半径が入射補償光の発散に対応していて補償光がファッセット面と直角に当たる時、光学部材周縁表面の屈折による発散の影響はない。
【００１６】
光学部材の周縁表面は、補償光の入力領域でテクスチャーを施される。最も単純な場合、こうしたテクスチャーは通常、光学部材の粗く研磨された周縁表面である。テクスチャーを施された周縁表面に入射する補償光は拡散し、それにより光学部材における補償光の分布を促進する。補償光ビームの誘導に影響を与える他の周縁表面テクスチャーとしては、例えば回折性光学部材の方法などが考えられる。
【００１７】
光源の放射波長が４ミクロンよりも大きい場合、補償光の吸収が比較的高くなることが約束される。この場合従って、特定の熱出力を達成するために比較的低い光学出力を持つ光源を補償光として使用できる。
【００１８】
光学部材は屈折光学部材でもよい。例えばレンズまたは平行平面板などの形をとるこうした屈折光学部材は、既知の投影プリンティング装置においては標準の機器である。
【００１９】
代わりに光学部材は、投影光源の放射光に対して反射的であってもよい。反射面における投影光の残留吸収のために、投影光のそのような鏡は同様に、実質的に投射光に対して入射対称を示す熱寄与にさらされる。本発明によって鏡を補償光供給装置がその周縁表面と結合するように設計する場合、投影光により生じた結像欠陥は、ここでもまた、補償光の吸収により補償される。こうした鏡は通常、透明基板上に反射被膜を含む形で実現される。
本発明の実施形態は、図を参照して以下に詳しく説明される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図１に示す結像補正されたレンズ１は、マイクロリソグラフィ投影プリンティング装置の光学装置の一部である。投影プリンティングが行われている間、レンズ１は、投影光ビーム２により作用を受け、その矩形断面区域は、図１に点線で示されている。前記断面区域の長辺３の短辺４に対する長さ比は、通常２：１である。
【００２１】
投影光ビーム２は、例えばフッ化アルゴン・エキシマレーザなどの、図示されていない投影光源からの紫外線放射ビームである。レンズ１は、石英ガラスから作られる。投影ビーム２が通過するその表面に、既知の手法で反射防止被膜が設けられている。
【００２２】
レンズ１は取付台５に配置される。取付台５にレンズ１を装着させるため、取付台は、２つの台座部分６および７に対して後部からネジ付きリング（図示しない）を使用して締め付けられる。台座部分は、各々がほぼ９０°の角度領域に亘って広がっている互いに向かい合うリングの一部（セグメント）の形で、取付台５の輪状の基本ケース８上に形成される。２つの台座部分６および７の内径は、レンズ１の直径よりも小さく、これにより台座部分６および７のレンズ１が置かれる２つの領域が作られる。
【００２３】
投影ビーム２は、その断面区域の短辺４が各々の場合に台座部分６および７の方向に向くように誘導される。
【００２４】
台座部分６および７が形成されている領域の間を閉じ、完全なリングとしている基本ケース８の２つの９０°のリングセグメントの各々の、レンズ１の周縁表面１３に放射方向に隣接する箇所にレンズ１の光軸と同軸のアーク状案内溝９が形成されている。前記案内溝９は、周知のありつぎ状さねはぎの一部を形成し、その中に保持ブロック１０上に形成されるスプリング（図示しない）が取り付けられる。
【００２５】
上述したような基本ケース８の案内溝９の中で周縁方向に変位可能な保持ブロック１０の内部に、光ファイバ１１の端部が、詳細は示されていない方法で装着される。
【００２６】
保持ブロック１０は、以下に説明されるように補償光供給装置の一部である。３つの保持ブロック１０の互いに対向するグループに配置される合計６つの保持ブロック１０の各々に、１つのファイバ１１の端部が結びついている。ファイバ１１の端部から出てくるビーム１２は、レンズ１の周縁表面１３に入射して貫通する。ビーム１２は、投影光入射の光軸に対し直角に導かれるので、以下では横方向光ビーム１２と呼ぶ。横方向光ビーム１２の波長は４ミクロンより長く、レンズ１の製作で使用される石英ガラスの吸収領域内にある。
【００２７】
光ファイバ１１は横方向光ビーム１２の波長を大きく吸収しないガラス材料で作成される。
光ファイバ１１は、それらの入力端部を結合されて入力保持ブロック１４でファイバ束になる。入力保持ブロック１４の上流側に接続されているのが光学出力分配器１５で、ファイバ束上に結像された入力光ビーム１６を個々のファイバ１１に分配する。こうした出力分配器１５は、様々な構造形体で既知である。出力分配は例えば、個々のファイバ１１に付随する光学部品を偏光することにより、または、ファイバ１１に付随する適切なフィルタにより、あるいは代わりに、個々のファイバ１１内に結合される入力光ビーム１６の光量に影響を及ぼすようにファイバ１１の入力を個々に調節することにより達成される。
【００２８】
入力光ビーム１６は、レーザ１７などの赤外線光源により放射され、ファイバ１１のファイバ束上に結像光学部品１８を使って結像される。
出力分配器１５およびレーザ１７は、出力制御回路１９と通信リンクを持つ。
出力制御回路は、２次元ＣＣＤアレイなどのセンサ配置２１からの信号を受信するプリンティング制御回路２０と通信リンクを持つ。
【００２９】
レンズ１の結像補正は、以下の手段で達成される。
レンズ１の領域に矩形断面区域を持つ投影ビーム２によって、レンズ１は投影ビーム２の波長での材料の残留吸収のために加熱される。その加熱の結果の温度分布は、最初はレンズ１の投影光ビーム２の光路に対称である。これは材料の熱膨張と、同じく屈折率の変化の両方をもたらし、従って、その変更された屈折特性のためにレンズ１の結像特性の変化をもたらす。
【００３０】
レンズ１の周縁表面１３を経由して供給される横方向光ビーム１２により、更なる熱寄与が、光線吸収の結果として同様に伝達される。しかしながら、波長で４ミクロン以上でのレンズ１材料の高い吸収能力により、横方向光ビームは、特定の深さまでしかレンズ１を貫通しない。横方向光ビームは、通常、投影光ビーム１により照射されるレンズ１の区域２には達しないため、吸収された光線出力に対応する熱は、実際には投影光ビーム２の外側にあるレンズ１の側面領域に生じるという結果になる。
【００３１】
従って、前記熱寄与の結果生じたレンズ１の温度分布は、横方向光ビーム１２の誘導された個々の出力、それらの波長および形、及び、レンズ１における横方向光ビーム１２の重ね合わせに左右される。横方向光ビーム１２によるレンズ１の追加加熱の目的は、温度分布を対称にする、及び／又は、前記レンズの予め選択された形状の温度分布を達成することである。これは、制御可能な結像特性をもたらす。
【００３２】
経験的な値に基づいて前記パラメータは、投影光ビーム２の残留吸収および横方向光ビーム１２の意図的な吸収から生じる熱寄与のため、レンズ１においてできるだけ均一な温度分布が発生するように選択される。前記温度分布の均一化により、レンズ１の残留吸収で生じた結像欠陥を、投影プリンティングの間に理想的に除去することができる。
【００３３】
投影プリンティング装置の光学装置の結像特性が、光学装置の焦点面に配置されるセンサ配置２１により監視される。既知の画像取得アルゴリズムを使用してセンサ配置２１により取得された前記画像が、結像欠陥の発生に対して特に評価される。前記評価は、プリンティング制御回路２０の一部である演算ユニットで達成される。
【００３４】
このように取得された結像特性に基づいてプリンティング制御回路２０は、レンズ１において可能な限り均一な温度分布が投影光ビーム２と横方向光ビーム１２との結合された吸収によって達成されるように、個々の横方向光ビーム１２の出力に対して設定値を割り当てる。
【００３５】
横方向光ビーム１２の出力用設定値は、プリンティング制御回路２０により出力分配器１５に送られ、出力分配器は、様々なファイバ１１の間に入力光ビーム１６の対応する出力分布をもたらす。
【００３６】
個々のレーザ１７の代替として、複数の光源を横方向光ビーム１２用として使用する配置が考えられる。特に、別々の光源は、各々の光ファイバ１１と結びつけることができる。各ファイバ１１間の出力分布は、次に各々の光源の駆動装置の最適な作動により達成される。
【００３７】
横方向光ビーム１２の光線出力の出力変更により、レンズ１における横方向光ビーム１２が吸収される光量が対応して変更される。このように、レンズ１内に結合された６つの横方向光ビーム１２間の出力分布により、レンズ１における温度分布形状に影響が及ぼされる。センサ配置２１により計測された結像特性に基づくフィードバックを介して、繰返し過程において温度分布の調節が可能になり、レンズ１の結像欠陥の最小化をもたらす。
【００３８】
温度分布を形成するための追加の自由度は、案内溝９に沿った保持ブロック１０の変位と、横方向光ビーム１２の重ね合わせ構造の対応する変化とによって与えられる。
【００３９】
図示されていない代替構造形体において、案内溝９に沿った保持ブロック１０の変位は、モータ駆動で達成される。こうした保持ブロック１０のモータ駆動による変位がプリンティング制御回路２０を介して同様に始められると、レンズ１における温度分布形作成のための、追加の自動調節可能な自由度が作られる。横方向光ビーム１２の入力配置のそのような調節は、センサ配置２１の評価された測定データに応じて、プリンティング制御回路２０により同様に制御される。
【００４０】
結像補正に要求される精度基準に応じて、使用される横方向光ビーム１２の数は変化する。例えばレンズ１の周縁表面１３内に互いに対向して結合される、たった２つの横方向光ビーム１２を使うことが考えられる。
【００４１】
最も簡単な場合では、ファイバ１１から結合されて出た後は、横方向光ビーム１２の更なる形状形成は起こらない。横方向光ビーム１２は次に、発散性ビームとしてレンズ１の周縁表面１３内を貫通し、それらの発散は、凸レンズの役割をする周縁表面１３での屈折のため、レンズ１の光軸に垂直な平面（図１の図面平面）におけるレンズ１の材料内で減少される。
【００４２】
周縁表面１３は、横方向光ビーム１２の入力結合を最適化するために特別に処理される。最適入力結合効率を達成するために周縁表面１３は、例えばダイオードレーザ１７の放射波長領域に対する反射防止被膜を持つ。
【００４３】
入力横方向光ビーム１２の発散を大きくして、それにより周縁表面１３内に結合される光のより均一な分布を達成するために、周縁表面１３は、横方向光ビーム１２が周縁表面１３のテクスチャーを施された表面で拡散されるように、テクスチャーを施すことも可能である。こうした拡散効果は例えば、通常粗く研磨された、既知のレンズの周縁表面により達成される。周縁表面上のテクスチャーを施された表面のサイズおよび分布によって、拡散効果に意図的な影響を与えることができる。
【００４４】
一方において、レンズ１の温度分布の意図的な調節が、前記個々のレンズの結像特性を最適化するために使われる。代わりに、レンズ１における温度分布の調節を、それで作成されたレンズ１の結像特性が光学装置全体の結像特性を補償するために使われる方法で調節することも可能である。そのために、入力横方向光ビーム１２の助けを借りて、投影光ビーム２の残留吸収による加熱効果をわざと過補償にすることができる。前記のセンサ配置２１を使用したレンズ１における温度分布の繰返し調節は、投影プリンティング装置の光学装置の他の光学部材のこうした結像欠陥補償の一例である。なぜなら、光学装置の焦点面を監視する結果として、光学装置の結像特性全体が最適化されるからである。
【００４５】
横方向光ビーム１１２および２１２を整形するために、レンズ１０１および２０１は、図２および図３に示されるようにファセットを刻むことができる。図１のそれに対応する前記代替構造形体の構成部材については、１００および２００ほど増えた参照番号がつけられているが、詳細については再度説明されない。
【００４６】
図２においてレンズ１０１の周縁表面１１３は、横方向光ビーム１１２がファセット１２２の領域でレンズ１０１を貫通するように、各々の横方向光ビーム１１２に付随する凸面ファセット１２２を持つ。ファセット１２２は、レンズ１０１の光軸に垂直な平面（図２および図３の図面平面）と、それと垂直で各々のファセット１２２の中心を包含するメリジオナル平面との両方において凸面に湾曲している。
【００４７】
ファセット１２２の凸面のためにファセット１２２に入る際の横方向光ビーム１１２は、ファセットのない図１で説明された状況においてより、より多く集光させられる。横方向光ビーム１１２の集光は、図２に直角な平面にもあるファセット１２２によって更に達成される。
【００４８】
前記のより大きな集光は、レンズ１０１内の横方向光ビーム１１２の対応する集光をもたらし、従って、横方向光ビーム１１２の重ね合わせ領域の変更された形状をもたらし、結果的に、横方向光ビーム１１２の吸収の結果としてレンズ１０１内の変更された温度分布をもたらす。
【００４９】
図３に示された凹面ファセット２２３は、横方向光ビーム２１２の出力発散に対しファセット２２３の曲率半径を適切に適応させると、出力発散がレンズ２０１内に入る際に実際上変更されないようにすることができる。これは、凹面ファセット表面を横方向光ビーム２１２の放射方向と垂直にして、ファセット表面で何の屈折も起こらないようにできるためである。横方向光ビーム２１２の吸収によって加熱されるレンズ２０１の領域は、従って図１および図２で示された状況と比べて大きくなる。
【００５０】
４ミクロンより長く、かつレンズ材料に比較的多く吸収される波長を持つ赤外線光源の代わりに、レンズ材料に対して比較的低い吸収係数を持つ波長の光源を使うことができる。こうした光源は、比較的安価で市販されている。
【００５１】
こうした光源を持つ実施形態が図４に示されている。図１の構成要素に対応する代替構成要素については、３００増やした参照番号を付けて、詳細については再度説明しない。
【００５２】
レーザは、りん化インジウム・ダイオードレーザである。レーザから放射される入力光ビーム３１６の波長は、１４００ｎｍの領域にある。石英ガラス製のレンズ３０１の固有吸収は増加するが、波長４ミクロン以上の波長での吸収には匹敵しない。レーザ３１７の温度を変更することで前記レーザの放射波長は、特定領域において整調できる。
【００５３】
横方向光ビーム３１２は、あまり吸収されないためレンズ３０１を透過する。全ての横方向光ビーム３１２は、中央のほぼ回転対称な領域で重なり、その領域は投影光ビーム３０２内にあり、それ自体は温度分布の回転非対称性に影響を与えない。必要とされる回転対称性は、投影光ビーム３０２の外側にある横方向光ビーム３１２の領域によって達成される。
【００５４】
ダイオードレーザ３１７の波長の変更により横方向光ビーム３１２の吸収が変わるが、これは従来のレンズ材料の場合、材料に特有な吸収が波長により変わるからである。
波長の設定値がプリンティング制御回路３２０によりダイオードレーザ３１７に送られ、その設定値選択に応じたダイオードレーザ３１７の温度が放射波長を調節する。
【００５５】
横方向光ビーム３１２の全体出力および波長、更に、レンズ３０１内に結合された６つの横方向光ビーム３1２の間での出力分布の調節を介して、レンズ３０１の温度分布の形状が影響を受ける。センサ配置３２１により計測される結像特性に基づくフィードバックを介して、レンズ３０１の結像欠陥を最小化する温度分布は、図１の実施形態に関して説明されたのと同じように、繰返し処理において調節される。
【００５６】
レンズ１、１０１、２０１、及び、３０１の代わりに、投影光ビーム２および３０２に対して反射的である光学部材、すなわち鏡を使用することができる。その鏡は、補償光ビームを透過させる基板に多層インタフェース被膜または金属被膜など投影光ビームを反射する被膜を持つものであって、上記した方法で基板の内部に横方向光線が結合される。典型的な基板材料は、４００ｎｍと２５００ｎｍの間の光学的透明度範囲と、２５００ｎｍを超える増加する光学吸収領域を持つＺｅｒｏｄｕｒである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に従って結像補正されたレンズ配置を示す平面図である。
【図２】代替構造形体を切り取って図１と同様に示す平面図である。
【図３】別の代替構造形体を図２と同様に示す平面図である。
【図４】別の代替構造形体を図１と同様に示す平面図である。
【符号の説明】
１  光学部材
２  投影光ビーム
１１、１４から１９  補償光供給装置
１２、１６  補償光
１３  光学部材の周縁表面
【図１】
0004612945.tif 000002
【図２】
0004612945.tif 000003
【図３】
0004612945.tif 000004
【図４】
0004612945.tif 000005