(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気装置または電子装置に使用されるモジュールの製造法において、該方法は
（ｉ）可撓性の基板に機能層を取り付け、
（ｉｉ）該可撓性の基板を他の基板と平行に接触させて両方の基板の間に機能層が存在するパネルをつくり、該パネルは、複数の隣接するモジュールを含み、該複数のモジュールは、前記モジュールの間の境界によって相互に分離され、
（ｉｉｉ）厚さ１０μｍ〜０．７ｍｍの範囲の一対のガラスシートを前記パネルの両側にそれぞれ積層化する工程から成り、前記パネルに積層される前記ガラスシートは一対のガラスシートのみから成り、
前記ガラスシートの一部は、前記パネル内に溝を形成するよう、研磨によって前記モジュールの間の前記境界に沿って取り除かれ、次に、前記ガラスシートの下の前記基板は、切断工具又は局所的溶融によって前記溝に沿って切断されることを特徴とする、
方法。
【請求項２】
電気装置または電子装置に使用されるモジュールの製造法において、
該方法は
（ｉ）可撓性の基板に機能層を取り付け、
（ｉｉ）該可撓性の基板を他の基板と平行に接触させて両方の基板の間に機能層が存在するパネルをつくり、該パネルは境界によって隔てられた複数の隣接したモジュールを備え、
（ｉｉｉ）厚さ１０μｍ〜１．５ｍｍの範囲の一対のガラスシートをパネルの両側に対してそれぞれ積層化し、積層化したガラスシートがモジュールと整合し、モジュールの境界の所で互いに間隔をおいて配置されるようにする工程から成り、モジュールに積層されるガラスシートが一対のガラスシートのみから成り、
前記パネルの前記基板は、前記積層化したガラスシートを有する前記モジュールを分離するために、前記モジュールの間の前記境界に沿って切断されることを特徴とする、
方法。
【請求項３】
電気装置または電子装置に使用されるモジュールの製造法において、
該方法は
（ｉ）可撓性の基板に機能層を取り付け、
（ｉｉ）該可撓性の基板を他の基板と平行に接触させて両方の基板の間に機能層が存在するパネルをつくり、該パネルは境界によって隔てられた複数の隣接したモジュールを備え、
（ｉｉｉ）該モジュールを分離するために、前記モジュールの境界の所でモジュールを切断し、
（ｉｖ）厚さ１０μｍ〜１．５ｍｍの範囲の一対のガラスシートを前記分離されたモジュールの両側に対してそれぞれ積層化する工程から成り、前記モジュールに積層される前記ガラスシートは一対のガラスシートのみから成ることを特徴とする、
方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【本発明の分野】
本発明は電気装置または電子装置、例えば平らなパネルのディスプレー、発光ダイオードまたは光電池に使用するモジュールの製造法に関する。さらに詳細には本発明は、該電気装置または電子装置、例えば電気伝導層、カラーフィルター、液晶整列層、燐の層等に使用される１枚またはそれ以上の機能層を備えた基板に薄いガラスシートを積層化する方法に関する。
【０００２】
【本発明の背景】
液晶ディスプレー（ＬＣＤ）はここ数年の間例えば計算器、時計、ビデオゲーム、オーディオ機器およびビデオ装置、携帯用計算機、車のダッシュボード等、即ち特に軽量であることが重要な特徴となる移動性の装置において情報用ディスプレーとして使用されて来た。さらにその品質および大きさは実質的に改善され、ＬＣＤは現在テレビ装置および卓上型コンピュータのディスプレーに広く使用されている陰極線管（ＣＲＴ）の興味深い代替品となっている。また現在では他の型の平らなパネルのディスプレー（ＦＰＤ）、例えばプラズマ・ディスプレー（ＰＤ）、フィールド・エミッション・デイスプレー（ｆｉｅｌｄ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ  ｄｉｓｐｌａｙ、ＦＲＤ）、および有機性の発光ディスプレー（ＯＬＥＤ）がＬＣＤの潜在的な代替物として多くの注目を集めている。ＰＤ、ＦＥＤまたはＯＬＥＤは発光性のディスプレーであるから、ＬＣＤに関連した二つの主要な問題、即ち低い視角および低い効率（典型的には入射光または逆光の僅か数％がＬＣＤの中を通過して読解可能な画像をつくるに過ぎない）に対する解決策を与えることができる。
【０００３】
これらのすべてのＦＰＤでは、２枚の基板が機能層、例えばピクセルのアドレッシングを行なうための電気伝導層、カラーフィルター、ＬＣＤにおける液晶を配向または整列させる層、またはＦＥＤおよびＰＤの燐の層を取り付けるために使用されている。該機能層が取り付けられた２枚の基板の間に、充填物、例えば液晶化合物（ＬＣＤ）、発光物質（ＬＥＤ）またはプラズマ生成ガス（ＰＤ）を被覆することができる。このようなパネルを組み立てた後に、ガラスの基板の外側の表面に１枚またはそれ以上の箔を積層化する。大部分のＬＣＤでは偏光用の箔が必要な構成成分であり、これをガラスの基板に積層化する。また画像の品質を改善するために、いくつかの他の種類の箔、例えば位相差フィルム、反射または反射防止用の箔、視角を改善する箔、光分散用の箔等が広く使用されている。
【０００４】
このような装置に使用される基板は典型的には厚さが０．７〜１．１ｍｍのガラス板である。ガラスの比重は高いから、ディスプレーの全重量は主としてこれらのガラス板の大きさと厚さで決定される。”Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅｓ”，Ｓｐｒｉｎｇ’９６，Ｓｅｒｉａｌ  Ｎｏ．１３、１４〜１９頁（東京、電波出版社発行）所載の「第４世代のＬＣＤ、ＥＩＡＪディスプレーの予測」には、ＦＰＤの重量の低減が主要な研究がして必要であることが記載されている。移動用のディスプレー並びに大きな設置型のディスプレー、例えばテレビセットおよび卓上型ディスプレーに対しても重量の低減は重要である。しかし薄いガラスは極めて脆いから、ガラス板の厚さを減少させることには限界がある。
【０００５】
若干の低価格の用途に対しては、ＦＰＤの軽量の基板として現在はプラスティック・シートが使用されている。さらに、ガラスの被覆は典型的にはバッチ法で（シート毎に）行なわれるが、プラスティック基板は可撓性をもっているので、例えばウエッブまたはロールによる被覆機を使用するかまたは印刷法により機能層を被覆するために連続法を使用することができる。しかしこのようなプラスティック基板の間にある液晶組成物および他の機能層、特に電気伝導層は、化学薬品、酸素、水分、機械的衝撃および他の外的影響から十分に保護されているとは言えず、その結果このようなプラスティックをベースにした装置の寿命には限度がある。またプラスティックは、高品質のディスプレーを得るために必要とされる本質的な性質である熱的安定性および寸度安定性がガラスに比べて非常に低い。その結果、例えば米国特許４，９５０，５５１号、同５，５８９，２５２号および同５，８２０，９９４号に記載されているように、水分およびガスの拡散を減少させるためにプラスティックフィルムに取り付けることができる障壁層の開発にいくつかの研究が集中して行なわれている。このような障壁層の公知の例はＣｏａｔｉｎｇ誌、ｎｏ．９／９８、３１４頁および１０／９７、３５８ページに記載されたいわゆる有機的に変性されたセラミックス層（Ｏｒｇａｎｉｃａｌｌｙ  Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  Ｃｅｒａｍｉｃ  ｌａｙｅｒ）、およびＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ誌、３１巻、８２８１頁（１９９８年）に記載されたポリ（ヒドロキシアミドエーテル）である。
【０００６】
上記の問題を解決するために、国際公開９９／２１７０７号および同９９／２１７０８号にはガラス層、接着層およびプラスティックの支持体から成る積層物を基板として使用することが提案されている。このようなガラス／プラスティック積層物はガラスおよびプラスティックの有利な性質を併せ持っている。ガラスは引っ掻き、水分、溶媒およびグリースからプラスティックを保護し、基板の熱的安定性および寸度安定性を改善する。薄いガラス、例えばヨーロッパ特許Ａ−７１６３３９号記載のようなガラスを使用すると、ガラス／プラスティック積層物は可撓性をもち、芯の周りに巻くことができ、ウエッブまたはロールを用いる被覆法が使用可能となる。このようなガラス／プラスティック積層物を基板として使用して得られた装置は、全部ガラスをベースにした装置に比べ軽量であり、取扱中または装置を落とした場合に基板が破損する可能性が小さい特徴をもっている。
【０００７】
これらのガラス／プラスティック積層物には二つの問題がある。電気装置または電子装置、例えばＦＰＤ、光電池およびＬＥＤに必要な機能層は、典型的にはスパッタリング、写真石板法、物理的蒸着法、化学的蒸着法等の方法を用いて基板に被覆される。これらの工程中基板は高温を受け、および／または種々の有機溶媒および酸またはアルカリ溶液のような薬品による処理を受ける。その結果、上記のガラス／プラスティック積層物はガラスとプラスティックとの熱膨張係数の違いにより曲がったり時には破壊したりし、或いは接着層が劣化してガラスとプラスティックとの間の接合が破壊することもある。もう一つの問題はガラス／プラスティック積層物の切断に伴う問題である。現在ＬＣＤのようなＦＰＤは最高５００×４００ｍｍ、時には６５０×５５０ｍｍのような大きな大きさをもつ基板から製造されている。パネルを組み立てた後、基板を切断し、１枚のパネルから２〜９個のモジュール（ディスプレーのセル）をつくる。基板としてガラス／プラスティック積層物を使用する場合、特にＬＣＤの基板は非対称的に切断されること、即ち１枚の基板を他とは異なった場所で切断してＺ字型の縁をつくるようなことを考慮すると、複雑な切断工具が必要である。
【０００８】
【本発明の概要】
本発明の目的は、電気装置または電子装置、例えばＦＰＤ、光電池およびＬＥＤに使用するモジュールの製造法において、該モジュールはガラスとプラスティックスとの利点を併せ持っており、機能層を基板に被覆する公知方法、例えばスパッタリング、写真石板法、物理的蒸着法、化学的蒸着法、並びに可撓性をもった基板を必要とする被覆法またはプリント法が使用できる方法を提供することである。上記本発明の目的は特許請求の範囲請求項１に記載された特定の特徴をもつ方法によって達成される。
【０００９】
本発明の他の目的は、上記のモジュールの複数から成るパネルの製造法において、該モジュールを簡単な工具でパネルから切断し得る方法を提供することである。この目的は特許請求の範囲請求項２または３に記載された方法によって達成される。
【００１０】
本発明の好適具体化例に対する特定の特徴は下記本発明の態様に記載されている。
【００１１】
本発明の他の利点および具体化例は下記の説明から明らかになるであろう。
【００１２】
【具体化例】
本発明方法に従えば、第１の可撓性をもった基板、例えばプラスティックスの箔に電気装置または電子装置、例えばＦＰＤ、光電池、またはＬＥＤをつくるのに必要な１枚またはそれ以上の層が取り付ける。次にこのような機能層を取り付けた該第１の基板を、やはり１枚またはそれ以上の機能層を備えた第２の基板に対して平行に接触させ、１枚またはそれ以上の機能層が第１および第２の基板の間に存在する組み立てられたサンドイッチ構造物をつくる。本明細書においてはこれを「パネル」（或いはパネルが唯１個のモジュールから成っている場合にはモジュール）と定義する。このパネルをつくった後、薄いガラスのシートを該パネルと重ね合わせ、基板および機能層を機械的な衝撃、熱、および酸素または水蒸気のようなガスの拡散による劣化から保護する完全な障壁層をつくる。次にパネルを切断して複数のモジュール（装置がＦＰＤの場合にはディスプレー・セルとも呼ばれる）にする。別法としてパネルを先ず複数のモジュールに切断し、次いでこれに障壁層としての積層化した薄いガラスシートを取り付けることができる。本発明の或る具体化例においては、例えば大きなディスプレーを製造する場合には、パネルは唯１個のモジュールから成っていることができる。
【００１３】
両方の基板は同じかまたは相異なっていることができる。両方の基板上の機能層も同一または相異なっていることができる。極めて好適な具体化例においては、両方の基板は可撓性があり、ウエッブ−またはロール被覆法またはプリント法によって１枚またはそれ以上の機能層が取り付けられている。この方法によれば、機能層を可撓性の基板に被覆する連続法を用い、公知のプラスティックスをベースにした装置の欠点のない、即ち水分およびガス、特に酸素がプラスティックス基板を通って拡散することによる寿命の減少のない低コストの装置をつくることができる。
【００１４】
次に液晶のディスプレー・パネルを示す図１の好適具体化例によって本発明を例示する。可撓性の基板２には機能層３が取り付けられている。同様に基板８には機能層９が取り付けられている。例えばスクリーン印刷法またはオフセット印刷法により例えばエポキシ、シリコーン、ウレタン、またはアクリル樹脂から基板の上に密封材５を被覆することができる。次にパネルを組み立てるが、この場合両方の基板２および８をスペーサー４で分離して平行に接触させる。ディスプレー・セルに液晶組成物６を充填し、最後のガラスシート１および７をそれぞれ基板２および８に積層化する。
【００１５】
本発明方法におけるパネルは単一または複数のモジュールから成っていることができる。図１の具体化例においては、パネルは３個のモジュールから成るように示されている。これらのモジュールは図１に示されているように、該モジュールの境界においてパネルから切離される。モジュールは対称的に（両方の基板について同じ位置で）、または図１に示すように非対称的に切断することができる。後者の方法はパネルからＬＣＤセルを切断する典型的な方法である。
【００１６】
図１の具体化例においては、モジュールとほぼ同じ大きさの複数の隣接したガラスシート１、１１、２１および７、１７、２７をパネルに対して積層化し、積層化された各ガラスシートがモジュールと同じ方向に整合し、積層化されたガラスシートの間に空間が残り、この空間がモジュールの間の境界と同じ方向に整合するようにすることにより、各モジュールを別々に遮蔽することが有利である。その結果、ナイフ、ハサミのような通常の器具を用いるかまたは基板を局所的に熔融させるような方法で、基板を容易に切断することができる（矢印で示された破線により図１に示されている）。別法として先ずモジュールを切断し、次いでガラスシートを積層化することができる。
【００１７】
パネル全体とほぼ同じ大きさをもった単一のガラスシートを積層化し、パネル全体を被覆しモジュールの間の境界の所に空間を残さない場合には、パネルを先ず切断しモジュールの間の境界に沿ってガラスを取除き（例えば研磨してその中に溝をつくり）、次いで上記の方法で基板を切断することができる。
【００１８】
上記の積層化および切断の方法は図１の特定の具体化例（ＬＣＤの場合）に限定されるものではなく、特許請求の範囲の範囲内において任意のモジュールを作るのに使用することができるものと了解されたい。
【００１９】
このようにして得られた切断モジュールでは、基板の縁はガラスで覆われていない。これらの縁は、該縁のすべての側を完全に覆う樹脂または他の組成物（図１には示されていない）で被覆することにより酸素および水蒸気から遮蔽することができる。該樹脂または組成物は例えば密封材５と同じ材料から成っていることができる。別法として、本発明に従いモジュールの相対する側面を２枚のガラスシートで被覆した後例えば高出力レーザーを用いてガラスシートの縁を融合させて基板の縁を密封することができる。この後者の方法を用いると、ガラスで完全に「包まれた」完全に閉じたモジュールが得られ、例えば酸素および水蒸気による劣化から効果的に保護することができる。
【００２０】
本発明はまたガラスシートを基板に直接積層化しない方法、および第１の１枚またはそれ以上の別の箔を基板に積層化した後、ガラスシートの積層化を行なう方法も包含するものと了解されたい。例えばＬＣＤの製造に使用されるこのような箔には遅延フィルム（ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ  ｆｉｌｍ）、反射または反射防止フィルム、視角を改善する箔、光分散性の箔、偏光膜等が含まれる。後者の具体化例を図１のパネルによって例示すれば、ガラスシート１と基板２との間に１枚またはそれ以上の箔が存在するような例であると考えられたい。
【００２１】
本発明のさらに他の具体化例に従えば、ガラス／支持体積層物のガラス側をパネルに積層化するか、または該積層物の支持体側をパネルに積層化することにより、ガラス／支持体積層物をパネルに積層化することができる。このようなガラス／支持体積層物の支持体は例えば上記の余分の箔の一つであることができる。本発明に使用される適当なガラス／支持体積層物のもっと詳細な点に関しては世界特許公開明細書９９／２１７０７号および同９９／２１７０３号に記載されている。
【００２２】
本発明に使用されるガラスは厚さが１０μｍより薄くなく、且つ１．５ｍｍよりも厚くないものである。電気装置または電子装置の重量を減少させるためには、厚さが７００μｍよりも、さらに５００μｍよりも薄いものを使用することが好ましい。可撓性の薄いガラスシート、例えばヨーロッパ特許Ａ−７１６３３９号記載のガラスシートをモジュールに積層化することにより可撓性の装置をつくることができる。このような用途に対しては、厚さが３００μｍよりも、さらに２００μｍよりも薄いものが好適である。脆さを低下させるには３０μｍよりも、さらに５０μｍよりも薄いものが好ましい。
【００２３】
ガラスは例えばフロートガラス（ｆｌｏａｔ  ｇｌａｓｓ）、化学的に強化したガラスまたは硼珪酸塩ガラスであることができる。このようなガラスは半熔融したガラスを金属のローラの間で絞り薄いウエッブにすることによりつくることができる。米国特許４，３８８，３６８号には可撓性のガラスシートを製造する次のような方法が記載されている。ソーダ石灰ガラス（ＮａＯ・ＣａＯ・ＳｉＯ２＝１５：１３：７２の重量比）を１５５０℃で熔融してロールに掛ける。このようにしてつくられたガラスの両端をクリップで支え、約３５０℃に加熱する。次いでこのガラスシートに上記加熱温度よりも低い温度、例えば７００℃の高温空気流を吹き付けながら、元のシートの面積の１．０５〜１０倍に伸長する。このようにして得られたガラスシートを薄い部分のまま迅速に冷却し、伸長したガラスシートの厚さを均一に保持する。同様な方法が日本特許Ａ−５８，０９５，６２２号に記載されている。日本特許Ａ−５８，１４５，６２５号記載の他の方法では熔融したガラスのウエッブを上方に引き上げ、直ちに大きなローラを使用して熔融金属浴の表面に水平方向に引張り、次いで除冷する。得られたガラスは平らさが改善されている。
【００２４】
化学的に強化されたフロートガラスは通常のフロートガラスよりも強度が大であることが知られている。化学的に強化されたガラスは両方の表面において元のアルカリイオンが大きな半径をもったアルカリイオンで少なくとも部分的に置換されているガラスである。化学的に硬度を補強したソーダ石灰シリカガラスでは表面付近のナトリウムイオンが少なくとも部分的にカリウムイオンで置換されており、化学的に硬度を補強したリチウム石灰シリカガラスでは表面付近のリチウムイオンが少なくとも部分的にナトリウムおよび／またはカリウムイオンで置換されている。化学的に強化されたガラスの公知の製造法は、日本特許Ａ−５６，０４１，８５９号、英国特許１，２０８，１５３号および米国特許３，６３９，１９８号に記載されているようにガラスをイオン交換条件下におく方法である。ガラスの化学的な強化法に関するこれ以上の詳細点は例えば”Ｇｌａｓｓ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”誌、第６巻、３号、９０〜９７頁（１９６５年６月）に記載されている。
【００２５】
本発明に使用される極めて好適なガラスは薄い硼珪酸塩ガラスであり、このものは通常のナトリウム・フロートガラスに比べて非常に強い。硼珪酸塩ガラスはＳｉＯ2およびＢ2Ｏ3から成っている。或る種の硼珪酸塩ガラスの詳細な組成は例えば米国特許４，８７０，０３４号、同４，５５４，２５９号および同５，５４７，９０４号に記載されている。
【００２６】
可撓性をもった薄いガラスは市販されており、例えばＰｉｌｋｉｎｇｔｏｎおよびＣｏｒｎｉｎｇ社から入手できる。本発明方法に使用される好適な硼珪酸塩ガラスは、例えばＤｅｕｔｓｃｈｅ  Ｓｐｅｚｉａｌｇｌａｓｓ  ＡＧ（Ｄｅｓａｇ、ドイツ）、Ｓｃｈｏｔｔ  Ｇｒｏｕｐ  ＣｏｍｐａｎｙからＡＦ４５およびＤ２６３型として、厚さが最低３０μｍのものが市販されている。「無アルカリおよび低アルカリの薄いガラス」と題し、副題が「ＡＦ４５およびＤ２６３：電子的用途に対する薄いガラス」という１９９５年Ｄｅｓａｇ発行の技術資料冊子によれば、薄い硼珪酸塩ガラスは厚さが３０μｍ、５０μｍ、７０μｍ、１００μｍ、１４５μｍ、１７５μｍ、２１０μｍ、３００μｍ、４００μｍ、５５０μｍおよび７００μｍのものが入手できる。
【００２７】
本発明方法に使用される可撓性をもった基板は厚さが好ましくは５００μｍより薄く、さらに好ましくは２５０μｍより、最も好ましくは１００μｍよりも薄い。この基板は金属箔、紙、またはポリエーテル樹脂、セルロース樹脂、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、およびブチルアセテート、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）樹脂、アクリル樹脂、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）樹脂、フェノキシ樹脂、フェノキシ−ウレタン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエーテル−ケトン樹脂、ポリエーテル−エーテル−ケトン樹脂、ポリイミド−アミド樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリエチレン樹脂、またはポリプロピレン樹脂から成る群から選ばれる１種またはそれ以上の材料からつくられたプラスティックスであることができる。さらに共重合体も使用することができ、例えばアクリロニトリル、スチレンおよびブタジエンの共重合体またはシクロオレフィン共重合体（ＣＯＣ）、例えば（ポリ）ジシクロペンタジエン（ＰＤＣＰ）、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＥＳおよびＰＤＣＰから成る共重合体は極めて好適である。ＰＥＳおよびＰＤＣＰは高温法によって機能層を被覆するのに特に好適である。別法として基板は上記樹脂のいくつかの材料からつくられた多重層であることができる。基板自身が偏光フィルムであることまたはそれを含んでいることもできる。
【００２８】
両方の基板は同じかまたは相異なることができる。例えば片方の基板がプラスティックス・フィルムであり、他方がガラス板であって複合装置をつくることができる。モジュールの基板の一つに反射層が被覆されているか、或いはそれが反射箔に積層化されており、例えば反射ディスプレーをつくることもできる。
【００２９】
本発明のパネルに積層化されるガラスシートまたはガラス／支持体積層物には、装置を落としてガラスシートに罅が入った場合酸素または水蒸気のようなガスの透過を減少させるための障壁層がさらに余分に取り付けられている。当業界には有機性並びに無機性の障壁層が公知である。有機性の障壁層は例えばポリ（ビニルアルコール）、ポリアクリロニトリル、ポリ（ビニルブチラール）を含み、これらはエポキシ樹脂と混合することができる。或いは業界では「有機的に変性されたセラミック層（Ｏｒｇａｎｉｃａｌｌｙ  Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  Ｃｅｒａｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ）」およびポリ（ヒドロキシアミドエーテル）と称されているものがある。無機性の障壁層には典型的には例えばＳｉＯxまたはＴａ2Ｏ5のような酸化物をスパッタリングさせた薄層フィルムがある。このような無機性の障壁層の厚さは、或る程度の可撓性ももつように、好ましくは２μｍより、さらに好ましくは約１μｍより薄い。有機性と無機性の層を組み合わせ、例えばＳｉＯ2層の上に「有機的に変性されたセラミック層」を被覆することが有利である。何故なら典型的には蒸着法またはスパッタリングによって被覆された平らでない無機層の表面を、有機層を上塗りすることによって均すことができるからである。
【００３０】
ガラスシートをモジュールに積層化する方法は良く知られている。いわゆる真空積層化法により接着剤を使用せずに両方の層を積層化することができる。真空積層化法によりガラス層と基板との間に効果的な接合を得るためには、これらの両方の材料は表面の粗さが少ない特徴をもっていることが好ましい。例えば基板は、プラスティックスの箔または箔上の被膜の中にしばしば導入されて接着を妨げるいわゆる空隙材を含んでいないことが好ましい。
【００３１】
真空積層化法の他に、両面接着テープまたは例えば高温熔融物、圧感性または熱感性接着剤または紫外線または電子ビームで硬化可能な接着剤を被覆して得られる接着層を使用することができる。別法として僅かに湿らせたゼラチン層を接着層として使用することもできる。適切な接着層に関するもっと詳細な情報は世界特許公開明細書９９／２１７０７号および同９９／２１７０８号に記載されている。接着層はガラスシート、モジュールまたはその両方に被覆することができ、また剥離層によって保護し、これを積層化の直前に除去することができる。ポリエチレンは極めて好適な接着剤であり、ガラスと基板との間に箔として被覆することができる。
【００３２】
機能層は、スパッタリング、物理的蒸着法、化学的蒸着法、並びに液体の被覆溶液からの被覆、例えば回転被覆、浸漬被覆、棒被覆、刃による被覆、空気ナイフ被覆、グラビア被覆、反転ロール被覆、押出し被覆、滑り被覆、およびカーテン被覆によって基板に被覆することができる。これらの被覆法の概説は米国ニューヨーク州、ニューヨークのＶＣＨ  ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ  １９９２年発行、Ｅｄｗａｒｄ  ＣｏｈｅｎおよびＥｄｇａｒ  Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ編、”Ｍｏｄｅｒｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｒｙｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”に記載されている。例えば滑り被覆またはカーテン被覆のような被覆法により複数の層を同時に被覆することができる。シートとしてまたはウエッブとして機能層を基板に取り付けることができる。後者はＦＰＤのような装置をロールからロールへ移動させ工業的に製造するのに特に好適である。これによって現在使用されているバッチ法に比べ製造コストを著しく低下させることができる。
【００３３】
極めて好適なＦＰＤはＬＣＤである。典型的なＬＣＤセルは２枚の平行な基板のモジュールから成り、基板の内面にはそれぞれ電気伝導層および液晶の配向層、またの名を整列層とも云う層が取り付けられている。カラーＬＣＤでは、基板の一つにはカラー・フィルターが取り付けられている。これらの電気伝導層、整列層およびカラー・フィルターは本発明方法を適用できる機能層と見做すことができる。
【００３４】
液晶配向層は典型的にはポリイミド・フィルムから成り、これを機械的に擦ると液晶分子の配向子が擦った方向に整列する。これ以上の情報は１９８７年１月のＤｉｓｐｌａｙ誌、１７〜２１頁所載のＡ．ＭｏｓｌｅｙおよびＢ．Ｍ．Ｎｉｃｈｏｌａｓの論文、”摩擦した重合体層による液晶分子の表面整列”に記載されている。
【００３５】
酸化錫、酸化インジウムまたは錫をドーピングした酸化インジウム（ＩＴＯ）から成る被膜がＦＰＤの電気伝導層として広く使用されている。何故ならこれらの材料は可視スペクトルに高度の透明性をもち、同時に電気抵抗が比較的低いからである。ＩＴＯは、米国ニューヨーク、Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ（Ｐｌｅｎｕｍ  Ｐｒｅｓｓ，１９７７）発行、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍｓ、１〜７１頁にＪ．Ｌ．Ｖｏｓｓｅｎによって記載されているようなＩＴＯのターゲットから高周波スパッタリングを行なう方法、或いはＴｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ誌、８３巻、２５９〜２６０頁（１９８１年）および７２巻、４６９〜４７４頁（１９８０年）に記載されているようなインジウム−錫ターゲットからの反応性直流マグネトロン・スパッタリングを行なった後熱処理をする方法によって被覆することができる。
【００３６】
有機電気伝導性重合体の機能層も使用することができる。これらの層はＩＴＯのような無機性の物質よりも曲げに対して抵抗性をもっている。ドイツ特許Ａ−４１  ３２  ６１４号には、ピロール、チオフェン、フランまたは芳香族アミン（またはそれらの誘導体）を電解質溶液中に存在するスルフォン化合物で陽極酸化してフィルム生成性の電気伝導性重合体を製造する方法が記載されている。米国特許５  ２５４  ６４８号および同５  ２３６  ６２７号には電気伝導性のポリチオフェンおよびポリピロールの製造法がそれぞれ記載されている。ヨーロッパ特許Ａ−４４０  ９５７号には水性環境下においてポリチオフェンを製造し、水溶液からポリチオフェンを被覆する方法が記載されている。このような溶液は今日まで大部分米国特許５  ３１２  ６８１号、同５  ３５４  ６１３号および同５  ３９１  ４７２号に記載されているように写真材料として使用されて来た。ヨーロッパ特許Ａ６８６  ６６２号には水性組成物から被覆されたポリチオフェンを高い電気伝導性をもつようにし得ることが記載されている。
【００３７】
本発明方法により基板に被覆された機能層は非接触性（ｎｏｎ−ｃｏｎｔｉｇｕｏｕｓ）の機能層であることができる。これらの機能層の例としては、電気的または電子的構成成分を規定する電気伝導性のパターン、例えばパッシブ・マトリックスＬＣＤ（ｐａｓｓｉｖｅ  ｍａｔｒｉｘ  ＬＣＤ）のマルチプレックス・アドレッシング（ｍｕｌｔｉｐｌｅｘ  ａｄｄｒｅｓｓｉｎｇ）に使用されるような行と列をなす機素、或いはアクティブ・マトリックスＬＣＤ（ａｃｔｉｖｅ  ｍａｔｒｉｘ  ＬＣＤ）に使用されるような薄層トランジスター（ＴＦＴ）およびピクセル電極がある。このようなパターンを被覆するためには写真石板法およびプリント法の技術を使用することができる。非接触性の層はまた他の技術、例えば積層化の後にこれを剥離する方法、インクジェット法、トナージェット法、電気写真法、または熱昇華法によって基板上につくることができる。
【００３８】
上記の電気伝導性のパターンおよび層と同様にＬＣＤばかりでなく他のタイプのＦＤＰにも使用されるカラー・フィルターは、本発明方法を適用できる非接触性の機能層の他の例である。カラー・フィルターはゼラチンをベースにしたフィルター、真空蒸着フィルター、プリントされたフィルター、干渉フィルター、電解によって沈着させたフィルター等であることができる。若干の適当な例は例えばＪａｐａｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ、１９８６年、３２０〜３２２頁のＴ．Ｕｅｎｏ，Ｔ．Ｍｏｔｏｍｕｒａ、Ｓ．Ｎａｅｍｕｒａ、Ｋ．ＮｏｇｕｃｈｉおよびＣ．Ｔａｎｉの「カラーＬＣＤに対する高品質有機性顔料カラー・フィルター」；ＳＩＤ  Ｉｎｔ．Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｃｏｎｆ．、４３４〜４３７頁、１９８９年のＴ．Ｕｎａｔｅ、Ｔ．Ｎａｋａｇａｗａ、Ｙ．Ｍａｔｓｕｓｈｉｔａ、Ｙ．ＵｇａｉおよびＳ．Ａｏｋｉによる「光学的干渉フィルターを使用する高透過度をもったアクティブ・マトリックス・カラーＬＣＤ」；ＳＩＤ  Ｉｎｔ．Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｃｏｎｆ．、２４０〜２４４３頁、１９９０年のＡ．Ｍａｔｓｕｍｕｒａ、Ｍ．ＯｈａｔａおよびＫ．Ｉｓｈｉｋａｗａによる「ＬＣＤに対する多重カラー・フィルターのい新規製造法」；Ｅｕｒｏｄｉｓｐｌａｙ’８７  ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ、３７９〜３８２頁および３９５〜３９６頁；ヨーロッパ特許Ｂ−３９６  ８２４号およびヨーロッパ特許Ａ−６１５  １６１号に記載されている。
【００３９】
本発明方法はパッシブ・マトリックスＬＣＤ並びにアクティブ・マトリックスＬＣＤ、例えば薄層トランジスター（ＴＦＴ）デイスプレーの製作に使用することができる。他の特定な例にはツイステッド・ネマティック（ｔｗｉｓｔｅｄ  ｎｅｍａｔｉｃ）（ＴＮ）、スーパーツイステッド・ネマティック（ｓｕｐｅｒｔｗｉｓｔｅｄ  ｎｅｍａｔｉｃ）（ＳＴＮ）、二重スーパーツイステッド・ネマティック（ＤＳＴＮ）、遅延フィルム・スーパーツイステッド・ネマティック（ＲＦＳＴＮ）、フェロエレクトリック（ＦＣＬ）、ゲスト−ホスト（ＧＨ）、ポリマー分散型（ＰＦ）、ポリマーネットワーク型（ＰＮ）の液晶ディスプレー等がある。
【００４０】
本発明により利点が得られる発光型のＦＰＤは例えばプラズマ・ディスプレー（ＰＤ）、フィールド・エミッション・ディスプレー（ＦＥＤ）およびいわゆる有機性の発光ディスプレー（ＯＬＥＤ）がある。このようなエレクトロリュミネッセンス型のディスプレーにおいては、基板の少なくとも一つの上の電気伝導性の層またはパターンを透明でない材料、例えば銀またはニッケルで置き換えることができる。
【００４１】
典型的なＰＤはガスを充填した容積を取り囲む少なくとも２枚の基板を含んでおり、ガスは典型的には希ガスの１種またはその混合物である。ガスを充填したキャビティーの中に存在する電極に高電圧、典型的には１００Ｖの電圧をかけることにより、プラズマ放電が起こり紫外線が放出される。多くの設計において放電は、ガラスの基板の間に絶縁材料の壁によってつくられたセル（ピクセル）を分離するように閉じ込められている。紫外線はセルの壁上に存在する燐を励起させ、色の画像が得られる。やはりプラズマから発光される可能性がある橙色の光を除去するために、ＰＤにもカラー・フィルターが使用されている。電気伝導性の層またはパターンは誘電体の保護層を被覆することによりプラズマから遮蔽することができる。この保護層は例えば酸化鉛または酸化マグネシウムから成っている。また該絶縁層、燐、カラー・フィルターおよび誘電体の保護層は、本発明方法で被覆できる（非接触性の）機能層と見做すさなければならない。
【００４２】
ＦＥＤはまた機能層が取り付けられた２枚の基板を含んでいる。ＬＣＤおよびＰＤに用いられているような電気伝導性の層またはパターンの他に、ＦＥＤの基板の一つには、微小の電子銃としてそれぞれ作用する例えばモリブデンから成る複数のマイクロチップが備えられている。２００〜８００Ｖの電圧をかけると、これらのマイクロチップは、典型的には反対電極としてＩＴＯ層を有する相対する基板上にある燐の層の方へ電子ビームを放射する。ＦＥＤの電気伝導層およびパターン、マイクロチップおよび燐の層は本発明方法を適用し得る機能層と見做さなければならない。
【００４３】
ＯＬＥＤは、電子および正孔がそれぞれ陰極および陽極からエレクトロリュミネッセンス材料、例えばポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）およびその誘導体、フルオレン誘導体またはジスチリルベンゼン化合物のようなエレクトロリュミネッセンス性重合体へ注入され、次いで再結合してエキシトンになり、これは放射性の崩壊により緩和して基底状態に落ちる過程が行なわれるエレクトロリュミネッセンス装置である。若干の特定の例は例えば米国特許５，２４７，１９０号および同５，４０１，８２７号に記載されている。ＯＬＥＤに関する詳細な情報はＧｏｒｄｏｎ  ａｎｄ  Ｂｒｅａｃｈ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（１９９７年）発行、Ｓ，ＭｉｙａｔａおよびＨ．Ｓ．Ｎａｌｗａ編、「有機エレクトロリュミネッセンス材料および装置」；Ｓｃｉｅｎｃｅ誌、２７３巻、８８４頁（１９９６年８月１６日）の「有機エレクトロリュミネッセンス装置」；Ｐｈｉｌｌｉｐ  Ｊ．Ｒｅｓ．誌、５１巻、５１１〜５２５頁（１９９８年）；Ｎａｔｕｒｅ誌、３４７巻、５３９頁（１９９０年）に記載されている。
【００４４】
典型的なＯＬＥＤにおいては、２枚の基板の間に下記の機能層が存在する。
【００４５】
−  反射陰極、例えば低い仕事関数をもった層、例えば蒸着したＣａ。
【００４６】
−  エレクトロリュミネッセンス層、例えばＰＰＶ；他の適当なエレクトロリュミネッセンス層は例えば「有機性光ダイオード」，Ｃｈｅｍｉｅ  ｉｎ  ｕｎｓｅｒｅ  Ｚｅｉｔ誌、１９９７年第２号（１９９７年１月３１日）７６〜８６頁に記載されている。
【００４７】
−  正孔注入層、例えば有機性の電気伝導層。
【００４８】
−  透明な陽極、例えばＩＴＯ層。
これらの層もまた本発明方法でつくられるモジュールに存在し得る機能層と見做すべきである。
【００４９】
上記のＯＬＥＤは二つの無機性の電極を含んでいるが、本発明方法でつくられた好適な装置は完全に有機層（ガラスシートを除く）から成っている。このような層はＩＴＯのような脆い無機性の層とは異なり、曲げに対して抵抗性をもっている。このような装置は例えばＡｄｖ．Ｍａｔｅｒ．誌、第２巻、１２号、５９２頁（１９９０年）に記載されているようなすべて有機性の薄層フィルム・トランジスターから成っていることができる。
【００５０】
上記のＰＰＤの他に、本発明方法によって得ることができる装置の他の適当な例は電解蓄電器、回路板、エレクトロクロミズム・ディスプレー、世界特許公開明細書９７／０４３９８号記載のような電子ブック、または光電装置、例えばエレクトロリュミネッセンス層の代わりに電子の供与体と受容体との間に光で誘起される電子移動が起こる組成物が用いられていること以外、上記のＯＬＥＤと同様な構造をもった有機性の太陽電池がある。
【００５１】
【実施例】
図１に示したのと同様な装置をつくった。下記の式をもつフェノキシ−ウレタン重合体から成る可撓性にプラスティックスフィルムを基板として用いた。
【００５２】
【化１】
0004819211.tif 000002
【００５３】
ここでＣ6Ｈ4はフェニル基である。
【００５４】
厚さ５００ÅのＩＴＯ層を低温スパッタリング法でプラスティックス基板の片側に被覆し、写真石板法でパターン化して電極の形にした。ポリイミド樹脂を厚さ５００Åで電極の表面上に被覆し、１５０℃で１時間乾燥した後、ガーゼで一方向へ擦り、液晶配向層を得た。このようにして得られた材料が第１の基板を構成する。第２の基板として同様な材料をつくった。
【００５５】
第１の基板の表面に可撓性をもったエポキシ接着剤をスクリーン印刷して密封パターンをつくった。銀をベースにした電気伝導性接着剤を両方の基板に被覆し、電気的な接点をつくった。直径１０μｍのガラス繊維の細かい粒子を第１の基板の上に撒布し、両方の基板を組み立ててパネルにし、１時間の間１００℃で硬化させる。このパネルは単一のＬＣＤセルから成っている。両方の基板および密封材の間の空間に真空注入法によって液晶組成物を注入した。注入口をエポキシ樹脂で密封し、液晶ディスプレー・セルをつくった。
【００５６】
次にパネルの両方の外面にポリエチレンの接着層を回転被覆した。最後に厚さ７０μｍのＡＦ４５型硼珪酸塩ガラスシート（ドイツ、Ｓｃｈｏｔｔ  Ｇｌａｓｓ社）をパネルの両側に積層化する。酸素、水蒸気、熱および機械的衝撃に対し十分保護された軽量の可撓性をもったディスプレーが得られた。
【００５７】
本発明の主な特徴および態様は次の通りである。
【００５８】
１．電気装置または電子装置、例えば平らなパネルのディスプレー、発光ダイオードまたは光電池に使用するモジュールの製造法において、該方法は
（ｉ）可撓性の基板に機能層を取り付け、
（ｉｉ）該可撓性の基板を他の基板と平行に接触させて両方の基板の間に機能層が存在するモジュールをつくり、
（ｉｉｉ）厚さ１０μｍ〜０．７ｍｍの範囲のガラスシートをモジュールの少なくとも片側に積層化する工程から成る方法。
【００５９】
２．電気装置または電子装置、例えば平らなパネルのディスプレー、発光ダイオードまたは光電池に使用するモジュールの製造法において、該方法は
（ｉ）可撓性の基板に機能層を取り付け、
（ｉｉ）該可撓性の基板を他の基板と平行に接触させて両方の基板の間に機能層が存在するパネルをつくり、該パネルは境界によって隔てられた複数の隣接したモジュールを備えており、
（ｉｉｉ）厚さ１０μｍ〜１．５ｍｍの範囲の複数のガラスシートをパネルの少なくとも片側に対して積層化し、積層化したガラスシートがモジュールと整合し、モジュールの境界の所で互いに間隔をおいて配置されるようにする工程から成る方法。
【００６０】
３．電気装置または電子装置、例えば平らなパネルのディスプレー、発光ダイオードまたは光電池に使用するモジュールの製造法において、該方法は
（ｉ）可撓性の基板に機能層を取り付け、
（ｉｉ）該可撓性の基板を他の基板と平行に接触させて両方の基板の間に機能層が存在するパネルをつくり、該パネルは境界によって隔てられた複数の隣接したモジュールを備え、
（ｉｉｉ）該モジュールの境界の所でモジュールを切断し、
（ｉｖ）厚さ１０μｍ〜１．５ｍｍの範囲の複数のガラスシートをパネルの少なくとも片側に対して積層化する工程から成る方法。
【００６１】
４．ガラスの厚さは１０〜７００μｍの範囲にある上記第２項または第３項記載の方法。
【００６２】
５．ガラスの厚さは３０〜５００μｍの範囲にある上記第１〜３項記載の方法。
【００６３】
６．ガラスの厚さは５０〜３００μｍの範囲にある上記第１〜３項記載の方法。
【００６４】
７．ガラスが可撓性である上記第１〜６項記載の方法。
【００６５】
８．ガラスが硼珪酸塩ガラスまたは化学的に硬度を補強されたガラスである上記第１〜７項記載の方法。
【００６６】
９．工程（ｉ）は印刷法またはウエッブ被覆法により行われる上記第１〜８項記載の方法。
【００６７】
１０．ガラスの代わりにガラス／支持体積層物が用いる上記第１〜９項記載の方法。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明方法で得られた３個の隣接したモジュール（液晶ディスプレー・セル、その一つだけが示されている）から成るパネルの模式的断面図。種々の機素は尺度を合わせて描かれていない。
【符号の説明】
１  ガラスシート
２  基板
３  機能層
４  スペーサー
６  液体組成物
１１  ガラスシート
２１  ガラスシート
【図１】
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