(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
濾過循環装置により流路を通して湯又は水を還流させる水利用施設内で発生するレジオネラ属菌を金属イオン殺菌装置を利用して殺菌する方法において、遊離残留塩素濃度１０〜５０ｐｐｍの塩素系剤を前記水利用施設に注入し、かつ還流させて前記水利用施設及び濾過過器、配管等の濾過循環設備を洗浄かつ換水した後、前記水利用施設の利用時間内に前記流路の途中に設けた金属イオン殺菌装置を作動させ、該金属イオン殺菌装置内に設けられた互いに対向する銀又は銅の金属板を、時間及び電気量を調節しつつ電解させて銀イオン又は銅イオンの金属イオンを発生させ、該金属イオンを含んだ湯又は水を前記水利用施設に送出し、該水利用施設の湯又は水の殺菌を行うと共に、該水利用施設の利用時間後に、少なくとも一週間に２回、かつ毎回少なくとも１時間遊離残留塩素濃度０．２〜２．０ｐｐｍを保つように塩素系剤を該水利用施設に注入し、かつ還流させることにより、水利用施設のレジオネラ属菌の殺菌及び発生の抑制を行うことを特徴とするレジオネラ属菌の殺菌方法。
【請求項２】
請求項１に記載のレジオネラ属菌の殺菌方法において、前記水利用施設利用時間後における塩素系剤の注入を一週間のうち２又は３回とし、かつ毎回１時間、遊離残留塩素濃度０．２〜２．０ｐｐｍを保つようにすることを特徴とするレジオネラ属菌の殺菌方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、濾過循環装置により流路を通して湯又は水を環流させる浴槽、プール等の水利用施設内で発生するレジオネラ属菌を殺菌する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、濾過循環装置により流路を通して湯又は水を環流させる浴槽、プール等の水利用施設にレジオネラ属菌が発生、増殖することが知られているが、このレジオネラ属菌は、人体に入ると肺炎等を生じさせるおそれがあるので、水利用施設にとってのレジオネラ属菌の殺菌は重要である。特に、循環式浴槽の場合にはレジオネラ属菌をはじめとする各種細菌の活動環境が好適となるので、入浴時間帯の殺菌は必要不可欠である。このようなレジオネラ属菌の殺菌方法としては、複数の金属板を備えた金属イオンの発生器を有し、前記金属板を電解して金属イオンを発生させ、その金属イオン、特に銀イオンや銅イオン等により殺菌を行う金属イオン殺菌装置（例えば実開昭６２−１３０７９３号や実開昭６３−１２６０９９号等）が利用されている。
この金属イオン殺菌殺藻装置によれば、例えばレジオネラ属菌が５×１０2CFU/１００mLの低濃度の場合には、銀イオン濃度０．０３ppmで２分間作動させることにより検出限界点（１０CFU/mL）以下となり、効果的にレジオネラ属菌の殺菌を行うことができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、例えばレジオネラ属菌が５×１０5CFU/１００mLといった高濃度の場合には、同じ銀イオン濃度０．０３ppmでは検出限界点以下になるのに約１２０分程度かかり、長時間を要してしまう。
また、５×１０4CFU/１００mL以上の高濃度にレジオネラ属菌が検出される場合には、水利用施設の濾過循環装置や配管の内部にレジオネラ属菌宿主アメーバーがコロニー（群生体）となって定着増殖していることが多い。レジオネラ属菌は該宿主アメーバー等の生物膜内に寄生して繁殖するので、該宿主アメーバーを除かないことには、一時的に循環水のレジオネラ属菌を殺菌しても、絶えずレジオネラ属菌が水利用施設内に遊出されるので殺菌効果が低減する。しかも、該宿主アメーバーのコロニーは自ら分泌した生物膜で保護されているので、水中に浮遊している細菌類を殺菌する程度の殺菌濃度では、該宿主アメーバーを死滅させることは困難であり、根本的なレジネオラ属菌の防除はできなかった。
【０００４】
一方、レジオネラ属菌を殺菌する他の方法としては、塩素系剤（次亜塩素酸ナトリウム等）によるものが知られている。しかしながら、塩素系剤による殺菌は揮発性が高いので、浴場の湯のように温度が高い場合には、時間が経過するに従って浴槽中の遊離残留塩素濃度が低下するため、殺菌に有効な濃度を保つためには常に必要な塩素系剤を投入する必要があり、煩雑でコストがかかる。また、塩素系剤を利用（入浴）時間中投与し続けることにより、濾過循環設備が酸化腐食して、その寿命（耐久性）が短くなったり、あるいは水利用施設の利用者に塩素臭さや目、皮膚、鼻喉等への刺激等の不快感を与えるといった問題があった。さらに、宿主アメーバーが定着している場合は、根本的なレジオネラ属菌の殺菌とはならないことは金属イオン殺菌装置と同様である。
【０００５】
本発明は、上記の如き従来例のレジオネラ属菌の殺菌方法の有する不都合ないし欠点に鑑みてなされたもので、水利用施設の利用時間中は金属イオン殺菌装置を作動させると共に、利用時間後は所定の日数及び時間に塩素処理を行い、循環式水利用施設への宿主アメーバーの定着を阻止することにより、レジオネラ属菌を効果的に殺菌する方法を提供することを主たる目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る金属イオン殺菌装置を利用したレジオネラ属菌の殺菌方法は、濾過循環装置により流路を通して湯又は水を環流させる水利用施設内で発生するレジオネラ属菌を金属イオン殺菌装置を利用して殺菌する方法において、前記水利用施設の利用時間内に前記流路の途中に設けた金属イオン殺菌装置を作動させて金属イオンを発生させ、該金属イオンを含んだ湯又は水を前記水利用施設に送出し、該水利用施設の湯又は水の殺菌を行うと共に、該水利用施設の利用時間後に少なくとも一週間に２回、かつ毎回少なくとも１時間遊離残留塩素濃度０．２〜２．０ppmを保つように塩素系剤を該水利用施設に注入し、かつ環流させることにより、水利用施設のレジオネラ属菌の殺菌及び発生の抑制を行うことを特徴とするものである。
【０００７】
また、本発明に係る金属イオン殺菌装置を利用したレジオネラ属菌の殺菌方法は、濾過循環装置により流路を通して湯又は水を還流させる水利用施設内で発生するレジオネラ属菌を金属イオン殺菌装置を利用して殺菌する方法において、遊離残留塩素濃度１０〜５０ｐｐｍの塩素系剤を前記水利用施設に注入し、かつ還流させて前記水利用施設及び濾過器、配管等の濾過循環設備を洗浄かつ換水した後、前記水利用施設の利用時間内に前記流路の途中に設けた金属イオン殺菌装置を作動させ、該金属イオン殺菌装置内に設けられた互いに対向する銀又は銅の金属板を、時間及び電気量を調節しつつ電解させて銀イオン又は銅イオンの金属イオンを発生させ、該金属イオンを含んだ湯又は水を前記水利用施設に送出し、該水利用施設の湯又は水の殺菌を行うと共に、該水利用施設の利用時間後に、少なくとも一週間に２回、かつ毎回少なくとも１時間遊離残留塩素濃度０．２〜２．０ｐｐｍを保つように塩素系剤を該水利用施設に注入し、かつ還流させることにより、水利用施設のレジオネラ属菌の殺菌及び発生の抑制を行うことを特徴とするものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
図１は本発明に係る金属イオン殺菌装置を利用したレジオネラ属菌の殺菌方法が実施される水循環システムを示した概略図である。このうち１１は浴槽、プール等の水利用施設、１２、１３はその水利用施設１１に水を供給する濾過器、タンク、上水道等の水供給源、１４はその水供給源１２、１３と水利用施設１１をつなぎ、所定の水量が流れるようにした流路である。
【０００９】
１５は前記流路１４の途中に熱交換機１６等を介して設けた金属イオン殺菌装置である。この金属イオン殺菌装置１５はイオン発生器１７と電源装置１８とからなり、イオン発生器１７には銀極板や銅極板等の金属板が設けられており、これら金属板を電解させて銀イオンや銅イオン等の金属イオンを発生させている。また、電源装置１８は出力ケーブル１９を介してイオン発生器１７に電力を供給するもので、作動時間、電気量等をコントロールする制御機能も合わせ持っている。
このイオン発生器１７により作成された銀イオン等は流路１４を介して水利用施設へ送られ、そこで湯又は水の殺菌を行う。
【００１０】
また、この水利用施設１１には、排水口２０が設けられていて、そこからヘアーストレーナー２１、循環ポンプ２２等を介して濾過器１２、１３へ送り、その濾過器１２、１３で濾過された水が再び流路１４を通して水利用施設１１へ送られて、循環されるようになっている。
【００１１】
次ぎに、図２（Ａ）、（Ｂ）、図３はこの種のイオン殺菌装置に用いられるイオン発生器を示したものであり、このうち図２（Ａ）はイオン発生器１７の外観の概略正面図、図２（Ｂ）は同側面図、図３は要部の概略側面図である。
これらの図において、１は中空の略有底短筒状をしたケーシング、１ａはそのケーシング１の一側面に設けた水の吸入口、１ｂは吸入口１ａの対向面に設けた水の吐出口である。２はケーシング１内に水平に保持された水平板で、この水平板２には、ボルト３を介して金属板４が取り付けられている。金属板４は、銀又は銅等で形成された極板であり、図示例では略板状であるが、その他の矩形、丸、三角等形状は任意である。
これら金属板４は２枚を一組とし、所定の間隔をおいて対向させるように配設される。そして、電源装置からの電力により金属板４を電解させ、それにより生じた銀イオン等の金属イオンを含有する湯又は水を排出口１ｂから流路１４を介して水利用施設１１に送り、そこで殺菌を行うようになっている。なお、取り付けられる金属板の組数は使用する環境によって適宜変えられる。
【００１２】
次ぎに、前記金属イオン殺菌装置１５を利用したレジオネラ属菌の殺菌方法について説明する。
先ず第１に水利用施設１１にレジオネラ属菌が繁殖しているか否かを確認するために、専門家による調査を行う。その結果、レジオネラ属菌の繁殖が確認された場合には、水利用施設１１及び濾過循環装置１２、１３、流路１４の配管等の濾過循環設備の内部に宿主アメーバーのコロニーが大量に付着している場合が多いので、それらを確実に除去する。その方法としては、水利用施設１１の非利用時間に次亜塩素酸ナトリウム等の塩素系剤を高濃度（遊離残留塩素濃度約１０〜５０ppm）で注入し、又は過酸化水素若しくは酵素系配管洗浄剤等を用いて水利用施設及び濾過循環設備全体に循環させ、それらを洗浄する。
【００１３】
次ぎに、上記水利用施設１１及び濾過循環設備の洗浄が終了し、かつ換水した後又は調査によりレジオネラ属菌による汚染が確認されなかった場合には、以後の宿主アメーバーの定着を予防するために、以下の工程を行う。
すなわち、毎日の利用時間帯は、金属イオン殺菌装置１５をタイマーにより一定の間隔をおいて作動させ、水利用施設１１に入り込んでくるレジオネラ属菌を始めとする各種細菌を殺菌する。宿主アメーバーはすでに除去されているか、確認できない程度なので、水利用施設１１内に入り込むレジオネラ属菌の濃度は低く、従って金属イオン殺菌装置１５により極めて短時間かつ効果的に殺菌することが可能である。
そして、入浴時間後は金属イオン殺菌装置１５を停止させるとともに、１週間のうち少なくとも２回、次亜塩素酸ナトリウム等の塩素系剤を遊離残留塩素濃度約０．２〜２．０ppmで少なくとも１時間保つようして塩素注入装置２３から流路１４を通して水利用施設１１に注入し、濾過循環装置１２、１３により濾過循環設備全体に循環させる。水利用施設１１の湯又は水には金属イオンが残留しており、前記塩素系剤を注入すると金属イオンの触媒作用により殺菌効果が増強されるので、宿主アメーバーの定着を効果的に防止することができる。なお、塩素系薬剤の注入は週に２、３回程度が望ましく、また、塩素注入装置２３により行う他、人手により水利用施設１１に直接投入してもよい。
【００１４】
本発明に係る金属イオン殺菌装置を利用したレジオネラ属菌の殺菌方法による実験結果を別表１及び２に示す。別表１は活性石タンクを装備した濾過循環装置を利用した浴場施設において、本発明実施前は施設利用時間中に金属イオン殺菌装置による殺菌及び塩素剤による殺菌をともに行っていなかった場合であり、別表２はセラミック濾剤の濾過循環装置を利用した浴場施設において、本発明実施前は施設利用時間中に塩素剤による殺菌のみを行っていた場合である。両施設ともに本発明の実施前は４×１０4CFU/mL以上の高濃度のレジオネラ属菌が検出されているのに対し（検査日：別表１の平成１１年８月１０日、別表２の平成１１年７月６日）、本発明の実施後（検査日：別表１の平成１１年９月２日以降、別表２の平成１１年８月８日以降）においては常に検出限界点である１０CFU/mL以下であり、本発明が宿主アメーバーの定着を防止し、レジオネラ属菌の殺菌及び発生の抑止に極めて大きな効果を奏することが確認される。なお、他の細菌に対する殺菌効果も著しく向上している。
【００１５】
本発明によれば、宿主アメーバーの定着を有効に防止することができるので、レジオネラ属菌が大量に繁殖することがなくなり、極めて短時間のうちにレジオネラ属菌の殺菌を効率的に行うことができる。また、塩素系剤を長時間使用することがないので、コストが安価であり、また濾過循環設備の寿命も長期化し、水利用施設の利用者が快適に利用することができ、しかも殺菌を手間をかけずに容易に行うことができる。さらに、金属イオン殺菌装置は一定の間隔をおいて稼働するので、利用時間中フルに使用しても実際はその半分の時間の稼働で十分に殺菌できるので、ランニングコストも安価である。
別表１
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別表２
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【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が実施される水循環システムを示した概略図である。
【図２】（Ａ）は本発明に実施に使用されるイオン発生器の外観の概略正面図、（Ｂ）はその側面図である。
【図３】本発明に実施に使用されるイオン発生器の要部の概略側面図である。
【符号の説明】
１  ケーシング
１ａ  吸入口
１ｂ  排出口
２  水平板
３  ボルト
４  金属板
１１  水利用施設
１２、１３  水供給源
１４  流路
１５  殺菌殺藻装置
１７  金属イオン発生器
１８  電源装置
２３  塩素注入装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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