(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラー画像に電子透かしを埋め込む電子透かし埋め込み方法であって、
透かしパターン生成手段において、透かし情報が入力されると、該透かし情報の原画像への電子透かし埋め込みによって該原画像に与えられる画素値の変更量を表す透かしパターンを生成する透かしパターン生成ステップと、
透かしパターン変更手段の変換誤差算出手段において、前記透かしパターンの色変換による変換誤差を算出する変換誤差算出ステップと、
前記透かしパターン変更手段の変換誤差拡散手段において、前記変換誤差を前記透かしパターンの各画素の周辺画素に対し重み付けを行って拡散し、変換済み透かしパターンを生成する変換誤差拡散ステップと、
透かしパターン重畳手段において、前記変更済み透かしパターンを入力された前記原画像に重畳して透かし入り画像を出力する透かしパターン重量ステップと、
を行うことを特徴とする電子透かし埋め込み方法。
【請求項２】
前記変換誤差算出ステップにおいて、
入力された前記透かしパターンの画素値を色変換し、
色変換された値を量子化し、
量子化した値を入力された前記透かしパターンと同じ色空間に色変換し、
入力された前記透かしパターンの画素値と色変換された透かしパターンの画素値との差分を変換誤差とする
請求項１記載の電子透かし埋め込み方法。
【請求項３】
前記変換誤差算出ステップにおいて、
色成分毎に異なるブロックサイズで誤差を算出する
請求項２記載の電子透かし埋め込み方法。
【請求項４】
前記変換誤差拡散ステップにおいて、
前記変換誤差算出ステップで算出された前記変換誤差を、色成分毎に異なるブロックサイズで拡散させる
請求項１記載の電子透かし埋め込み方法。
【請求項５】
カラー画像に電子透かしを埋め込む電子透かし埋め込み装置であって、
透かし情報が入力されると、該透かし情報の原画像への電子透かし埋め込みによって該原画像に与えられる画素値の変更量を表す透かしパターンを生成する透かしパターン生成手段と、
前記透かしパターンの色変換による変換誤差を算出する変換誤差算出手段と、
前記変換誤差を前記透かしパターンの各画素の周辺画素に対し重み付けを行って拡散し、変換済み透かしパターンを生成する変換誤差拡散手段と、
前記変更済み透かしパターンを入力された前記原画像に重畳して透かし入り画像を出力する透かしパターン重量手段と、
を有することを特徴とする電子透かし埋め込み装置。
【請求項６】
前記変換誤差算出手段は、
入力された前記透かしパターンの画素値を色変換し、色変換された値を量子化し、量子化した値を入力された前記透かしパターンと同じ色空間に色変換し、入力された前記透かしパターンの画素値と色変換された透かしパターンの画素値との差分を変換誤差とする手段を含む請求項５記載の電子透かし埋め込み装置。
【請求項７】
前記変換誤差算出手段は、
色成分毎に異なるブロックサイズで誤差を算出する手段を含む
請求項６記載の電子透かし埋め込み装置。
【請求項８】
前記変換誤差拡散手段は、
前記変換誤差算出手段で算出された前記変換誤差を、色成分毎に異なるブロックサイズで拡散させる手段を含む
請求項５記載の電子透かし埋め込み装置。
【請求項９】
請求項５乃至８のいずれか１項に記載の電子透かし埋め込み装置を構成する各手段としてコンピュータを機能させるための電子透かし埋め込みプログラム。
【請求項１０】
請求項９記載の電子透かし埋め込みプログラムを格納したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子透かし埋め込み方法及び装置及びプログラム及びコンピュータ読取可能な記録媒体に係り、特に、映像コンテンツに、別の副情報を知覚されないように埋め込み、この副情報を読み取る技術である電子透かし技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
今日、電子透かし技術は、コンテンツの著作権保護・管理システムや、コンテンツ関連サービス提供システムなどに用いられている。
【０００３】
画像、映像といったコンテンツの流通の際、コンテンツ識別・管理や著作権保護・管理、関連情報提供などの目的のため、コンテンツ内に知覚できないように別の情報を埋め込む電子透かし技術を用いる方法がある。特に、画像・映像コンテンツに対する電子透かし技術においては、画素値の微小変更に基づく方法が一般的である（例えば、非特許文献１参照）。
【０００４】
また、電子透かし埋め込みに伴う画質劣化を抑えるために、視覚的に感度が高い輝度成分を避け、色差などの色成分を微小変更する方法がある（例えば、非特許文献２参照）。
【０００５】
一般にデジタル表現された画素値は、例えば、８ビットすなわち、２５６値に量子化された値であり、電子透かし埋め込みはこの画素値の微小変更である。例えば、カラー画像データがＲＧＢ各々８ビットで表現された２４ビットカラーデータについて考える。ＲＧＢデータから輝度・色差信号への変換は、例えば、CCIR601などで定義された変換式
【０００６】
【数１】
0004746644.tif 000002
等を用いて相互に変換可能である。今、画質劣化を抑えるために視覚感度の高い輝度Ｙを避け、例えば、Ｃｂ成分を微小量△ｃｂだけ変更して電子透かしを埋め込むことを考える。この場合、例えば、△ｃｂ＝±１であるとすると、埋め込みによって生じるＲＧＢの変化量△ｒ、△ｇ、△ｂは（式２）からそれぞれ
△ｒ＝０，
△ｇ＝±0.336，
△ｂ＝±1.732
となるが、ここで量子化による丸め誤差を考えると（四捨五入則を用いるとして）、
△Ｒ＝△Ｇ＝０，
△Ｂ＝±２となる。すなわち、この場合はＣｂ成分の微小変更量はＢ成分にのみ反映される。このとき量子化後の△ｒ，△ｇ，△ｂをＹＣｂＣｒ色空間に変換すると、
△ｙ＝±0.114×2，
△ｃｂ＝±0.511×2，
△ｃｒ＝±0.083×2
となり、本来変更を施さなかったＹ及びＣｒ成分値が変化していることがわかる。特に、輝度成分Ｙが変化することにより、電子透かし埋め込みによる視覚劣化が目立ち易くなるという問題があった。
【０００７】
さらに、（式２）の変換式から、│△ｃｂ│＜0.5／1.732の変更を与えても量子化による丸め誤差のため、△ｒ＝△ｇ＝△ｂ＝０となって画像に全く変更を与えられないため、電子透かしが埋め込まれないことがわかる。また、0.5／1.732≦│△ｃｂ│＜1.5／1.732では、△ｒ＝△ｇ＝０、△ｂ＝±１であるなどして、電子透かし埋め込みによる変化量△ｃｂを連続的に指定しても、量子化によって実際の画像値の変更量は離散的になってしまう。更に加えて、△ｃｂ＝±３とした場合、
△ｒ＝０，
△ｇ＝±0.336×３，
△ｂ＝±1.732×3
量子化を行うと、
△ｒ＝０，
△ｇ＝±１，
△ｂ＝±５
となり、量子化後の△ｒ△ｇ△ｂをＹＣｂＣｒ色空間に変換すると、
△ｙ＝±（-0.587×1＋0.114×5）=±0.017
となり、前述の△ｃｂ＝±１のときの△ｙ＝±0.114×2より変化量が小さくなる。すなわち、Ｃｂ成分の変化量を小さくしても、画質劣化の主要因であるＹ成分の変化量が量子化により大きくなってしまうことがある。以上のことからわかるように、従来技術においては、電子透かし技術の運用上の重要なポイントである、埋め込み強度によって画質劣化と耐性のトレードオフバランスを細かく正確に制御する、ということが困難であるという問題があった。
【０００８】
以上要約すると、
（１）画質劣化を抑えるためＹ成分を避けてＣｂ成分など色成分のみの変更を行っても、最終的な埋め込み後画素値（ＲＧＢ値）が正数しか取り得ないため、量子化誤差によってＹ成分が変動してしまう；
（２）最終的な埋め込み後画素値（ＲＧＢ値）が整数しか取り得ないため、強度を細かく調整することができない；
（３）強度を下げても画質劣化が増大することがあるため、強度で耐性・画質トレードオフを適切に制御できない；
という問題があった。
【０００９】
一方、このデジタル画像のカラーフォーマット変換時の微小変更量への影響問題への解決策として、量子化誤差や対象色成分以外の色成分の変更量が小さくなるように透かしパターンを変更する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】中村、山本、北原、宮武、片山、安野："電子透かし埋め込み方法及び装置及びプログラム"特開2008-17289号公報
【非特許文献１】中村、山本、北原、宮武、片山、安野、曽根原："リアルタイム検出可能な動画向けモバイル電子透かし"，Vol. 36, No. 4, pp. 426-434 (2007)
【非特許文献２】Takao Nakamura, Hiroshi Ogawa, Atsuki Tomioka, and Youichi Takashima: "Improved Digital Watermark Robustness against Translation and/or Cropping of an Image Area", IEICE Transactions on Fundamentals of Electronics, Communications and Computer Sciences, Vol. E83-A, No. 1, pp. 68-76 (2000).
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記従来の量子化誤差や対象色成分以外の色成分の変更量が小さくなるように透かしパターンを変更する方法の実装には基準変更量を事前に設定する必要がある。基準変更量は無数の候補が存在し、その選択方法についても記載されているが、実際には候補の良し悪しをつけ難い候補が存在するため、画像を作成してみないと判断できない場合が多々起こり得る。また、事前にこれらの設定について調査する手間がかかるため、簡便な方法とは言い難い。
【００１１】
本発明は、上記の点に鑑みなされたもので、微小な信号を色変換する場合に生じる意図しない輝度や色の変化を抑えつつ、透かし強度と画質劣化の関係が逆転することなく、適切に制御可能な電子透かし埋め込み処理を実現することが可能な電子透かし埋め込み方法及び装置及びプログラム及びコンピュータ読取可能な記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
図１は、本発明の原理を説明するための図である。
【００１３】
本発明（請求項１）は、カラー画像に電子透かしを埋め込む電子透かし埋め込み方法であって、
透かしパターン生成手段において、透かし情報が入力されると、該透かし情報の原画像への電子透かし埋め込みによって該原画像に与えられる画素値の変更量を表す透かしパターンを生成する透かしパターン生成ステップ（ステップ１）と、
透かしパターン変更手段の変換誤差算出手段において、透かしパターンの色変換による変換誤差を算出する変換誤差算出ステップ（ステップ２）と、
透かしパターン変更手段の変換誤差拡散手段において、変換誤差を透かしパターンの各画素の周辺画素に対し重み付けを行って拡散し、変換済み透かしパターンを生成する変換誤差拡散ステップ（ステップ３）と、
透かしパターン重畳手段において、変更済み透かしパターンを入力された原画像に重畳して透かし入り画像を出力する透かしパターン重量ステップ（ステップ４）と、を行う。
【００１４】
また、本発明（請求項２）は、変換誤差算出ステップ（ステップ２）において、
入力された透かしパターンの画素値を色変換し、
色変換された値を量子化し、
量子化した値を入力された透かしパターンと同じ色空間に色変換し、
入力された透かしパターンの画素値と色変換された透かしパターンの画素値との差分を変換誤差とする。
【００１５】
また、本発明（請求項３）は、変換誤差算出ステップ（ステップ２）において、
色成分毎に異なるブロックサイズで誤差を算出する。
【００１６】
また、本発明（請求項４）は、変換誤差拡散ステップ（ステップ３）において、
変換誤差算出ステップ（ステップ２）で算出された変換誤差を、色成分毎に異なるブロックサイズで拡散させる。
【００１７】
図２は、本発明の原理構成図である。
【００１８】
本発明（請求項５）は、カラー画像に電子透かしを埋め込む電子透かし埋め込み装置であって、
透かし情報が入力されると、該透かし情報の原画像への電子透かし埋め込みによって該原画像に与えられる画素値の変更量を表す透かしパターンを生成する透かしパターン生成手段１１０と、
透かしパターンの色変換による変換誤差を算出する変換誤差算出手段１２１と、
変換誤差を透かしパターンの各画素の周辺画素に対し重み付けを行って拡散し、変換済み透かしパターンを生成する変換誤差拡散手段１２２と、
変更済み透かしパターンを入力された原画像に重畳して透かし入り画像を出力する透かしパターン重量手段１３０と、を有する。
【００１９】
また、本発明（請求項６）は、変換誤差算出手段１２１において、
入力された透かしパターンの画素値を色変換し、色変換された値を量子化し、量子化した値を入力された透かしパターンと同じ色空間に色変換し、入力された透かしパターンの画素値と色変換された透かしパターンの画素値との差分を変換誤差とする手段を含む。
【００２０】
また、本発明（請求項７）は、変換誤差算出手段１２１において、
色成分毎に異なるブロックサイズで誤差を算出する手段を含む。
【００２１】
また、本発明（請求項８）は、変換誤差拡散手段１２２において、
変換誤差算出手段１２１で算出された変換誤差を、色成分毎に異なるブロックサイズで拡散させる手段を含む。
【００２２】
本発明（請求項９）は、請求項５乃至８のいずれか１項に記載の電子透かし埋め込み装置を構成する各手段としてコンピュータを機能させるための電子透かし埋め込みプログラムである。
【発明の効果】
【００２３】
上述のように、本発明によれば、微小な信号を色変換する場合に生じる意図しない輝度や色の変化を抑えつつ、透かし強度と画質劣化の関係が逆転することなく適切に制御可能な電子透かし埋め込み処理を実現することができる。
【００２４】
また、本発明においては、入力透かしパターンを色変換し、再度色変換によって画像を戻した場合の画素値の誤差を、周辺画素へ誤差拡散することにより、画像全体をマクロに見た場合の画質の改善を図ることができる。
【００２５】
また、透かしパターンの変換誤差を周辺画素へ割り振ることから、画像全体をマクロに見る場合には、埋め込み強度によって画質劣化と耐性のトレードオフを意図した通りに制御することが可能である。
【００２６】
さらに、誤差拡散方法させ規定しておけば事前のパラメータ設定などが不要であるため、極めて簡便な実装が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、図面と共に本発明の実施の形態を説明する。
【００２８】
まず、本発明の概要を説明する。
【００２９】
電子透かし技術によって副情報を画像に埋め込むには、視覚的に感度の高い輝度情報Ｙよりも感度の低い色差情報Ｃｂ、Ｃｒに、副情報から生成した透かしパターンを重畳させることが有効であることが知られている。しかし、埋め込む画像がＲＧＢの３色である場合、色差情報Ｃｂ、Ｃｒのみに透かしパターンを入れようとしても、ＲＧＢ画像のＲＧＢの各階調が離散的であるため、透かしパターンをＹ、Ｃｂ、ＣｒからＲＧＢに変換して量子化する際に、量子化誤差が発生し、結果的に輝度情報Ｙにも変動を与えてしまう。そこで、本発明では、発生した誤差を誤差拡散法を用いて透かしパターン上に拡散した透かしパターンを作り、その透かしパターンをＹ、Ｃｂ、ＣｒからＲＧＢに変換して画像を重畳する。
【００３０】
図３は、本発明の一実施の形態における電子透かし埋め込み装置の構成を示す。
【００３１】
同図に示す電子透かし埋め込み装置１００は、透かしパターン生成部１１０、透かしパターン変更部１２０、透かしパターン重畳部１３０から構成される。
【００３２】
透かしパターン生成部１１０は、透かし情報が入力されると、画像と同じサイズの透かしパターンを透かしパターン変更部１２０に出力する。
【００３３】
透かしパターン変更部１２０は、後述する方法で量子化誤差を拡散した透かしパターンの強度を変更し、変更済み透かしパターンを透かしパターン重畳部１３０に出力する。
【００３４】
透かしパターン重畳部１３０は、変更済み透かしパターンを画像に重畳して透かし入り画像を出力する。
【００３５】
図４は、本発明の一実施の形態における透かしパターン変更部の構成を示す。
【００３６】
透かしパターン変更部１２０は、変換誤差算出部１２１、変換誤差拡散部１２２から構成される。
【００３７】
変換誤差算出部１２１は、透かしパターンに対して、透かしパターンの表色系から画像の表色系への色変換と、量子化と、画像の表色系から透かしパターンの表色系への色変換を行うことによって得られた透かしパターンと、元の透かしパターンの差である変換誤差を計算して出力する。
【００３８】
変換誤差拡散部１２２は、変換誤差と、元の透かしパターンが入力されると、変換誤差を元の透かしパターンの各画素毎に、その画素の周辺画素の色と、その画素における変換誤差に周辺画素に応じた重みを乗じたものに加算することにより、誤差拡散を行うことによって、変換済み透かしパターンを算出して出力する。
【００３９】
図５は、本発明の一実施の形態における電子透かし埋め込み装置の処理のフローチャートである。
【００４０】
ステップ１１０）  透かしパターン生成部１１０において、透かし情報が入力されると、当該透かし情報の原画像への電子透かし埋め込みによって当該原画像に与える画素値の変更量を表す透かしパターンを生成する。
【００４１】
ステップ１２０）  透かしパターン変更部１２０において、出力される変更済み透かしパターンをマクロに見た場合に入力された透かしパターンの原画像への重畳の際に生じる量子化による透かし埋め込み対象色成分の誤差が少なくなるように、入力された透かしパターンを変更して変更済み透かしパターンを生成する。
【００４２】
ステップ１３０）  透かしパターン重畳部１３０において、外部から原画像が入力され、また、透かしパターン変更部１２０から変更済み透かしパターンが入力されると、変更済み透かしパターンを原画像に重畳し、透かし入り画像を生成し、出力する。
【００４３】
次に、上記のステップ１２０の透かしパターン変更部の処理について説明する。
【００４４】
ＹＣｂＣｒ色空間では、Ｙ成分は輝度成分を表し、画像の全ての画像をサンプリングしている。一方、Cb、Cr成分は色差成分であり、そのフォーマットによってｘ方向、ｙ方向のサンプリング数が異なる。ここで、Ｃｂ、Ｃｒ成分のｘ方向、ｙ方向のサンプリング間隔をSx、Syとする。一般的に用いられるＹＣｂＣｒ色空間のフォーマットでは、Cb成分でのｘ、ｙ方向のサンプリング数と、Ｃｒ成分でのｘ、ｙ方向のサンプリング数では同一である。図６に、一般的なＹｃｂＣｒ色空間のサンプリング比率とその画像例について示す。例えば、YUV420なら、Ｙ成分が２×２ブロックのサンプリングを行うときに、Ｃｂ、Ｃｒ成分は１×１ブロック分のサンプリングを行うため、Ｓｘ＝２、Ｓｙ＝２となる。
【００４５】
図７は、本発明の一実施の形態における透かしパターン変更部の処理のフローチャートである。
【００４６】
ステップ１２１）  透かしパターン変更部１２０は、入力透かしパターンをＣｂ、Ｃｒ成分に応じたＳｘ×Ｓｙサイズのブロック単位でラスタースキャンする。
【００４７】
ステップ１２２）  Ｃｂ、Ｃｒ成分は注目ブロック自体か注目画素となる。
【００４８】
ステップ１２３）  透かしパターン変更部１２０は、各ブロック内でラスタースキャン順にＹ成分の注目画素を更新する。このとき、Ｃｂ、Ｃｒ成分は現在の注目ブロック自体が注目画素となる。
【００４９】
ステップ１２４）  透かしパターン変更部１２０の変換誤差算出部１２１は、ブロック内でのＹ成分のスキャン順にＹ成分の変換誤差を算出する。
【００５０】
ステップ１２５）  Ｙ成分の誤差を隣接画素のＹ成分に拡散する。
【００５１】
ステップ１２６）  ブロック内の全てのＹ成分画素について処理を行った場合はステップ１２７に移行し、すべてのＹ成分画素に対して処理が終了していない場合は、ステップ１２３に戻る。
【００５２】
ステップ１２７）  変換誤差算出部１２１は、ブロックの変換誤差を算出する。
【００５３】
変換誤差の算出方法をＹＵＶ４４４（Ｓｘ＝１、Ｓｙ＝１）の場合について、図８に示す。ここで、ＹＵＶ４４４のとき、ブロックサイズは１×１となるため、実際はＣｂ、Ｃｒ成分を分けて考える必要はなく、図８に示すように同時に扱うこととなる。また、図９は、本発明の一実施の形態における変換誤差算出部の処理のフローチャートである。
【００５４】
図８に示す四角で囲った中の数字と以下の括弧内の数字及び図９のフローチャートの括弧内の数字は対応するものとする。
【００５５】
まず、変換誤差算出部１２１は、実数値で表現されるＹＣｂＣｒの各画素値を前述の（式１）を用いて実数値のＲＧＢへ変換し（１）、次に、この実数値を整数値へ丸める（２）。その後整数値悪ＲＧＢ画素値を（式２）により実数値のＹ'Ｃｂ'Ｃｒ'へと再変換する（３）。ここで入力された透かしパターンの画素値ＹＣｂＣｒと再変換された画素値Ｙ'Ｃｂ'Ｃｒ'の値は異なり、その差分を色変換による変換誤差Ｅ（Ｅｙ，ＥＣｂ，ＥＣｙ）＝（Ｙ−Ｙ'，Ｃｂ−Ｃｂ'，Ｃｒ−Ｃｒ'）とする（４）。
【００５６】
ステップ１２８）  変換誤差拡散部１２２は、変換誤差算出部１２１からこの変換誤差Ｅを取得し、注目画素の周辺画素へその誤差を拡散させる。図８では、注目画素の右、左下、下、右下側へそれぞれ７／１６，３／１６，５／１６，１／１６倍の重み付けをして誤差を拡散するFloyd-Steinbergの方法により誤差拡散を行っているが、Stuki、Sierra、JajuNiの方法など様々な方法を用いることが考えられる。
【００５７】
一方、ＳｘまたはＳｙのどちらかが１より大きい場合は、Ｙ成分とＣｂ，Ｃｒ成分を分けて扱う必要がある。図１０に、ＹＵＶ４２０（Ｓｘ＝２、Ｓｙ＝２）の場合について示す。
【００５８】
現在の注目ブロック内でＹ成分をラスタースキャンした順番にＹ成分の変換誤差を求める。このとき、Ｃｂ，Ｃｒ成分の値は、注目ブロック内で同一の値を用い、処理は、図８、図９の（１）〜（４）と同一である。ブロック内でＹ成分の誤差を全て拡散した後に、Ｃｂ，Ｃｒ成分の誤差の算出時には、ブロック内のＹ成分の平均値を用いる方法などが考えられる。
【００５９】
この場合の誤差拡散方法として、画素スキャンの進行方向に対して斜め後ろ側の画素に誤差を拡散させる方法を用いると問題が生じる。例えば、Floyd-Steinbergの方法では、注目画素の左下側の画素への拡散が必要になるが、２×２のブロック内の右下の画素に対しては右隣のブロックの左上画素からの誤差が拡散される必要がある。しかし、Ｃｂ，Ｃｒ成分のブロック単位で処理しているため、注目ブロックの誤差拡散処理が終了した後に画素からの拡散処理を更に受けることとなり、意図しない誤差が蓄積されてしまうという問題がある。
【００６０】
こういった問題が生じるのは、Ｓｙ≧２の場合であるため、YUV420やYUV410の時は、注目画素の右、下、右下側の三方向へのみ誤差を拡散させるといった、注目画素の斜め後ろ側へは誤差を拡散させない誤差拡散方法を用いることが考えられる。
【００６１】
ステップ１２９）  全ての画素について処理が終了すれば当該処理を終了し、終了していなければステップ１２１移行する。
【００６２】
また、上記の実施の形態において、Ｃｂ成分への電子透かし埋め込みについて説明したが、勿論Ｃｒ成分でも構わないし、他の表示系であっても色成分毎にブロックサイズを変更し、誤差の算出、拡散を行えば適用可能である。
【００６３】
また、上記の実施の形態では、静止画像への電子透かしについて説明したが、非特許文献１のような動画像への電子透かしを考えた場合は、動画像の各フレーム画像またはフィールド画像を静止画像とみなして、本発明を適用することにより動画像においても実現可能である。
【００６４】
なお、本発明は、上記の電子透かし方法の例への適用のみに限定されるものではない。例えば、非特許文献１のように、動画像の各フレームに対して透かしを埋め込むものであったり、あるいは、非特許文献２のように透かしのパターンがブロックではなくテクスチャ上のものであったりしても構わない。
【００６５】
さらに、上記の実施の形態では、画質劣化を避けるためＹＣｂＣｒ表色系のＣｂ成分に埋め込みを行うようにしているが、これをＣｒ成分としたり、別の表色系のいずれかの成分とするなど任意に選択可能である。
【００６６】
上記の実施の形態における電子透かし埋め込み装置１００の各構成要素の動作をプログラムとして構築し、電子透かし埋め込み装置として利用されるコンピュータにインストールする、または、ネットワークを流通させることが可能である。
【００６７】
また、構築されたプログラムをハードディスクや、フレキシブルディスク・ＣＤ−ＲＯＭ等の可搬記憶媒体に格納し、コンピュータにインストールする、または、配布することが可能である。
【００６８】
なお、本発明は、上記の実施の形態に限定されることなく、特許請求の範囲内において種々変更・応用が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明は、静止画・動画像に対する電子透かし埋め込み技術に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の原理を説明するための図である。
【図２】本発明の原理構成図である。
【図３】本発明の一実施の形態における電子透かし埋め込み装置の構成図である。
【図４】本発明の一実施の形態における透かしパターン変更部の構成図である。
【図５】本発明の一実施の形態における電子透かし埋め込み装置の処理のフローチャートである。
【図６】一般的なＹＣｂＣｒ色空間毎のサンプリング比率と画像例である。
【図７】本発明の一実施の形態における透かしパターン変更部の処理のフローチャートである。
【図８】本発明の一実施の形態における変換誤差算出部と誤差拡散部の処理を説明するための図である。
【図９】本発明の一実施の形態における変換誤差算出部の処理のフローチャートである。
【図１０】本発明の一実施の形態における変換誤差算出部と誤差拡散部の処理を説明するための図である。
【符号の説明】
【００７１】
１００  電子透かし埋め込み装置
１１０  透かしパターン生成手段、透かしパターン生成部
１２０  透かしパターン変更部
１２１  変換誤差算出手段、変換誤差算出部
１２２  変換誤差拡散手段、変換誤差拡散部
１３０  透かしパターン重畳手段、透かしパターン重畳部
【図１】
0004746644.tif 000003
【図２】
0004746644.tif 000004
【図３】
0004746644.tif 000005
【図４】
0004746644.tif 000006
【図５】
0004746644.tif 000007
【図６】
0004746644.tif 000008
【図７】
0004746644.tif 000009
【図８】
0004746644.tif 000010
【図９】
0004746644.tif 000011
【図１０】
0004746644.tif 000012