(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレートを用いたプリベーク処理において、
１）前記ホットプレート上にリフトピンを下降させてガラス基板を載置し、吸着孔からの空気の吸引によりガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を開始し、
２）上記ガラス基板がホットプレートの温度に達した時点で、一旦上記空気の吸引を中断して、密着加熱により生じたガラス基板の内部応力を解放し、
３）上記吸着孔からの空気の吸引を再開して、ガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を継続して行うことを特徴とするガラス基板の加熱方法。
【請求項２】
ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレートを用いたプリベーク処理において、
１）前記ホットプレート上にリフトピンを下降させてガラス基板を載置し、吸着孔からの空気の吸引によりガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を開始し、
２）上記ガラス基板がホットプレートの温度に達した時点で、一旦上記空気の吸引を中断してリフトピンを上昇させ、ガラス基板とホットプレートの間に間隔を設けて、密着加熱により生じたガラス基板の内部応力を解放し、
３）上記リフトピンを再び下降させてホットプレート上にガラス基板を再び載置し、上記吸着孔からの空気の吸引を再開して、ガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を継続して行うことを特徴とするガラス基板の加熱方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板上にフォトリソグラフィ法によってパターンを形成する際のプリベーク処理に関するものであり、特に、ガラス基板の浮き上がりによる部分的な熱量のバラツキを解消してムラのないパターンを形成し、またガラス基板の破壊を回避したガラス基板の加熱方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図４は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図５は、図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図４、及び図５に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ（４）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図４、及び図５はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、このブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００４】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００５】
ガラス基板上へのブラックマトリックスの形成は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜（４３）の形成は、ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法に
よって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
図４、及び図５に示すカラーフィルタ（４）は、一基の液晶表示装置に対応した１枚のカラーフィルタを表しており、カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタを大サイズのガラス基板に面付けした状態で製造する。
図６は、例えば、対角１７インチのカラーフィルタ（４）を６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造すガラス基板（６０）の一例を示した平面図である。
【０００８】
図４、及び図５に示すカラーフィルタ（４）は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。
【０００９】
例えば、高信頼性機能。液晶表示装置として高信頼性が求められる際には、着色画素のもつ耐熱性、耐湿性、及び耐薬品性などの性能を補うために、また、着色画素からの溶出物のバリアとして着色画素上に保護層（オーバーコート層）を形成することがある。
或いは、カラーフィルタとＴＦＴ側基板とのシール強度を向上させるために、保護層（オーバーコート層）を形成することがある。
或いは、液晶分子の配向をより均一なものにして表示品質を向上させる際に、着色画素上に保護層（オーバーコート層）を形成し、平坦性の高いカラーフィルタとすることがある。
【００１０】
また、例えば、透過・反射併用機能。一基の液晶表示装置において透過型と反射型の両機能を兼ね備えた半透過型液晶表示装置は、屋外の明るい環境下でも、屋内の暗い環境下でも用いることができる。図９は、半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの一例の断面図である。図９に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が形成されたものである。
着色画素（４２）は透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）で構成されている。                        
【００１１】
透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）、及び反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）の分光特性は、各々が透過表示用として、また反射表示用として適切な分光特性のものである。従って、液晶表示装置を透過型として表示する際には優れた明度、彩度を有するものとなり、また、反射型として表示する際には優れた明度、彩度を有するものとなる。
カラーフィルタとしては、透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）のＲＧＢ３色と、反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）のＲＧＢ３色の計６色の着色画素を形成することとなる。すなわち、透過表示の着色画素３色と反射表示の着色画素３色を形成する。
【００１２】
また、例えば、分光特性調整機能。図１０は、半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの他の例の断面図である。図１０に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が形成されたものである。
【００１３】
着色画素（４２）は透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）で構成されている。反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）は着色部（４５）と透明部（４６）で構成されている。
【００１４】
透過表示の着色画素（４２Ｔｒ）と反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）の着色部（４５）は、透過表示用として適切な分光特性のものである。反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）に透明部（４６）を設けることによって、着色部（４５）の色光と透明部（４６）の白色光が混色し、反射表示の着色画素（４２Ｒｅ）の分光特性は反射表示用として適切な分光特性に調節されたものとなる。この透明部（４６）は透明なフォトレジストによって形成される。
【００１５】
上記、高信頼性機能、透過・反射併用機能、分光特性調整機能は、いずれも図４に示すカラーフィルタ（４）に付加されたものであるが、これらは、透明導電膜（４３）の形成前にガラス基板上に設けられており、これらの上面に透明導電膜（４３）が形成されている。
一方、基本的な機能を備えたカラーフィルタ（４）の透明導電膜（４３）の上面に設けられる機能としては、例えば、下記のものが挙げられる。
【００１６】
例えば、スペーサー機能。従来の液晶表示装置に於いては、基板間にギャップを形成するために、スペーサーと呼ばれるガラス又は合成樹脂の透明球状体粒子（ビーズ）を散布している。このスペーサーは透明な粒子であることから、画素内に液晶と一諸にスペーサーが入っていると、黒色表示時にスペーサーを介して光がもれてしまい、また、液晶材料が封入されている基板間にスペーサーが存在することによって、スペーサー近傍の液晶分子の配列が乱され、この部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、などの問題を有していた。
【００１７】
このような問題を解決する技術として、感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により画素間のブラックマトリックスの位置にスペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）を形成する方法が開発、実用された。
図７は、このような液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。図７に示すように、液晶表示装置用カラーフィルタ（７）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成され、ブラックマトリックス（４１）上方の透明導電膜（４３）上にスペーサー機能を有する突起部としてのフォトスペーサー（４４）が形成されている。このような液晶表示装置用カラーフィルタ（７）を用いた液晶表示装置には、フォトスペーサー（４４）が画素内を避けた位置に形成されているので、上記コントラストの改善がみられる。
【００１８】
また、例えば、配向分割機能。従来の液晶表示装置に於いては、液晶分子を一様に配向させるために、液晶を挟持する両基板に設けられた透明導電膜上に、予めポリイミドを塗布し、その表面に一様なラビング処理をしておく。
しかし、多くの液晶表示装置に用いられているＴＮ型液晶においては、原理的に広い視野角を得ることは困難であり、中間調表示状態では斜め視角において光がもれ、コントラストが低下し表示品質が悪化する。すなわち、コントラストが良好な視野角は狭いといった問題を有していた。
【００１９】
このような問題を解決する一技術として、一画素内での液晶分子の配向方向が一方向でなく、複数の方向になるように制御し、複数の方向で均一な中間調表示をするようにした、すなわち視野角の広い、配向分割垂直配向型液晶表示装置（ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）−ＬＣＤ）が開発された。
【００２０】
図８は、このようなＭＶＡ−ＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。図８に示すように、ＭＶＡ−ＬＣＤ（８０）は、液晶分子（１）を介して配向制御突起（２ａ）、（２ｂ）が設けられたＴＦＴ側基板（９）と、配向制御突起（３）が設けられたカラーフィ
ルタ（８）とを配置した構造であるが、配向制御突起（２ａ）、（２ｂ）及び配向制御突起（３）は一画素内で互い違いの位置に設けられている。
【００２１】
図８に白太矢印で示すように、電圧印加時の状態では、一画素内で配向制御突起（２ａ）〜配向制御突起（３）間の液晶分子は、図中左斜めに傾斜し、配向制御突起（３）〜配向制御突起（２ｂ）間の液晶分子は、右斜めに傾斜する。すなわち、ラビング処理に代わり、突起を設けることにより液晶分子の配向を制御するものである。
図８に示す例では、一画素が２分割されたものとなり、一画素内で液晶分子の傾斜方向が２方向になり視野角特性の優れた液晶表示装置となる。
【００２２】
上記諸機能の内、そのカラーフィルタの用途、仕様にもとづき１機能或いは複数の機能が図４に示すカラーフィルタ（４）に追加される。
これらの機能は、基本となるカラーフィルタ上に付随する層として、各々対応して、透明導電膜（４３）の形成前に保護層（オーバーコート層）、反射表示の着色画素、分光特性調整用の透明部などを形成し具備させる。或いは透明導電膜（４３）の形成後にフォトスペーサー、配向制御用突起などを形成し具備させる。
従って、例えば、図４に示すカラーフィルタ（４）にスペーサー機能及び配向分割機能が追加された仕様のカラーフィルタを製造する際には、図４に示すカラーフィルタ（４）を作製した後に、例えば、配向制御用突起を形成し、続いてフォトスペーサーを形成する。
【００２３】
上記、基本となるカラーフィルタ上に付随する層を形成する際には、パターンとして形成されない保護層（オーバーコート層）を除き、いずれの層も前記ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）と同様に、フォトレジストを用いてのフォトリソグラフィ法によってパターンに形成される。
【００２４】
上記ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する各層をフォトリソグラフィ法によりパターンとして形成する際には、例えば、先ずガラス基板に対して必要に応じた洗浄処理を施し、続いて塗布装置によるフォトレジストの塗布、減圧乾燥装置による予備乾燥処理、プリベーク装置によるプリベーク処理、露光装置によるパターン露光、現像処理ユニットによる現像処理、加熱ユニットによるポストベーク処理が順次に施され、ガラス基板に所定のパターンを形成する。
【００２５】
上記フォトレジストの塗布直後は、フォトレジストの塗膜は乾燥していないために流動性があり、次工程へガラス基板を搬送した場合には、搬送中に塗膜の膜厚が変化し易く膜厚にムラを発生させることがある。予備乾燥処理は、この搬送に伴う塗膜の膜厚の変化を防止するために、塗膜中の溶剤を減圧下で半ば蒸発させる予備的な乾燥処理である。
【００２６】
次工程のプリベーク処理は、塗膜中の溶剤を加熱によって蒸発させる本格的な乾燥処理である。塗膜中の溶剤が残留していると、フォトレジストの感度は著しく低下し、加えてガラス基板への接着力が弱まるので、塗膜中に溶剤が残留することは好ましいことではない。
【００２７】
図１（ａ）は、プリベーク装置の一例の概略を示す断面図である。図１（ａ）に示すように、プリベーク装置（１０）は、加熱チャンバー（２０）と冷却チャンバー（３０）で構成されている。加熱チャンバー（２０）内には、ホットプレート（２１）を上部に備えたバキューム・テーブル（２２）が設けられており、また、冷却チャンバー（３０）内には、クールプレート（３１）を上部に備えたバキューム・テーブル（３２）が設けられている。
【００２８】
前記予備乾燥処理によって、塗膜中の溶剤を半ば蒸発させたガラス基板は、加熱チャン
バー（２０）内のホットプレート（２１）上に載置され、加熱による乾燥処理が施される。続いて、ガラス基板は、冷却チャンバー（３０）に搬送され、クールプレート（３１）上に載置され冷却されて常温に戻される。
図１（ｂ）は、ホットプレート（２１）を上部に備えたバキューム・テーブル（２２）の一例の概略を示す断面図である。図１（ｂ）は、移載用のロボット（図示せず）によって、ガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された段階を示したものである。
【００２９】
ガラス基板（６０）は、前工程から移載用のロボットによって、底面を２本のアーム（図示せず）で支えられた状態でホットプレート（２１）上に載置されるが、そのままではホットプレート（２１）上に載置後、アームを退避することができないので、一旦、ホットプレート（２１）の上面から突出した状態でアームと干渉しない位置に設けられた複数のリフトピン（２３）上に受け渡され、その後にアームが退避する。
【００３０】
リフトピン（２３）は、ホットプレート（２１）に対し垂直方向に昇降自在であり、ガラス基板（６０）が受け渡された後に下降し、ホットプレート（２１）上に載置される。ホットプレート（２１）に設けられたリフトピン（２３）が昇降する開口（２４）とは別に、リフトピン（２３）の上部がホットプレート（２１）内まで下降した後に、ガラス基板（６０）とホットプレート（２１）の間の空気を吸引する吸着孔（２７）が、上記開口（２４）間に設けらている。
ホットプレート（２１）には、ヒーターが内蔵されている。また、バキューム・テーブル（２２）は、中空部（２５）を有し、上部にホットプレート（２１）を備え、下部には排気口（２６）が設けられている。ホットプレート（２１）上のガラス基板（６０）を真空吸着する際には、排気口（２６）からの排気により行う。
【００３１】
図２（ａ）、（ｂ）は、上記加熱チャンバー（２０）を用いたプリベーク処理の動作を説明する断面図である。図２は、図１（ｂ）におけるホットプレート（２１）、リフトピン（２３）、ガラス基板（６０）の一部分を拡大して示したものである。
図２（ａ）、（ｂ）に示すように、ガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された状態で、リフトピン（２３）を下降させ、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）上に載置し、効果的に均一な加熱をするために、矢印（２８）で示すように、吸着孔（２７）から空気を吸引し、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）に吸着させながら密着させた加熱を行う。
【００３２】
しかしながら、上記のような密着加熱によってプリベーク処理を行うと、加熱中に、ガラス基板（６０）の内部応力が増大し、複数の吸着孔（２７）に対応したガラス基板の部分と部分の間は、熱膨張によってホットプレート（２１）から浮き上がり、露光、現像処理後のガラス基板（６０）のパターンにはムラが発生する、或いは、ガラス基板（６０）が破壊するといった問題がある。
【００３３】
図３は、図２（ｂ）に示す状態で密着加熱を行った際のガラス基板（６０）の浮き上がりを説明する断面図である。図３に示すように、複数の吸着孔（２７）に対応したガラス基板の複数の部分は、ホットプレート（２１）に吸着されているが、吸着孔（２７）と吸着孔（２７）の間の部分は、熱膨張によってホットプレート（２１）から浮き上がっている。このホットプレート（２１）から浮き上がったガラス基板（６０）の部分は、プリベーク処理の熱量が不足気味になり、塗膜中の溶剤の蒸発が不充分となる。
すなわち、この浮き上がった部分のフォトレジストの感度は不足気味になり、露光、現像処理後のパターン寸法に差が生じ、ガラス基板（６０）のパターンは不均一となりムラが現れる。尚、吸着孔（２７）間の距離（Ｌ）は、１００ｍｍ程度のものである。
【特許文献１】特開平１１−１１２１９８号公報
【特許文献２】特願２０００−２６８１７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３４】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ガラス基板を真空吸着によってホットプレート上に密着させた加熱によるプリベーク処理を行っても、その加熱において、ガラス基板の部分が熱膨張によってホットプレートから浮き上がることのない、或いはガラス基板が破壊することのない、ガラス基板の加熱方法を提供することを課題とする。
これにより、吸着孔と吸着孔の間に対応したガラス基板の部分は浮き上がらず、プリベーク処理の熱量がばらつくことはなく、露光、現像処理後のガラス基板は、そのパターンにムラのないものが得られる。また、ガラス基板の破壊は回避される。
【課題を解決するための手段】
【００３５】
本発明は、ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレートを用いたプリベーク処理において、
１）前記ホットプレート上にリフトピンを下降させてガラス基板を載置し、吸着孔からの空気の吸引によりガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を開始し、
２）上記ガラス基板がホットプレートの温度に達した時点で、一旦上記空気の吸引を中断して、密着加熱により生じたガラス基板の内部応力を解放し、
３）上記吸着孔からの空気の吸引を再開して、ガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を継続して行うことを特徴とするガラス基板の加熱方法である。
【００３６】
また、本発明は、ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレートを用いたプリベーク処理において、
１）前記ホットプレート上にリフトピンを下降させてガラス基板を載置し、吸着孔からの空気の吸引によりガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を開始し、
２）上記ガラス基板がホットプレートの温度に達した時点で、一旦上記空気の吸引を中断してリフトピンを上昇させ、ガラス基板とホットプレートの間に間隔を設けて、密着加熱により生じたガラス基板の内部応力を解放し、
３）上記リフトピンを再び下降させてホットプレート上にガラス基板を再び載置し、上記吸着孔からの空気の吸引を再開して、ガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を継続して行うことを特徴とするガラス基板の加熱方法である。
【発明の効果】
【００３７】
本発明は、プリベーク処理において、ガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を開始し、ガラス基板がホットプレートの温度に達した時点で、一旦空気の吸引を中断して、密着加熱により生じたガラス基板の内部応力を解放し、その後に空気の吸引を再開して、密着加熱を継続して行うので、ガラス基板を真空吸着によってホットプレート上に密着させた加熱によるプリベーク処理を行っても、その加熱において、ガラス基板の部分が熱膨張によってホットプレートから浮き上がることのない、或いはガラス基板が破壊することのない、ガラス基板の加熱方法となる。
【００３８】
また、本発明は、プリベーク処理において、ガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を開始し、ガラス基板がホットプレートの温度に達した時点で、一旦空気の
吸引を中断してリフトピンを上昇させ、ガラス基板とホットプレートの間に間隔を設けて、ガラス基板の内部応力を解放し、その後にホットプレート上にガラス基板を再び載置し、空気の吸引を再開して、密着加熱を継続して行うので、ガラス基板の内部応力の解放は、より確実なものとなり、ガラス基板の浮き上がりの防止、また、ガラス基板の破壊の回避がより確かなものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１１（ａ）〜（ｄ）は、本発明のガラス基板の加熱方法におけるプリベーク処理の動作を説明する断面図である。図１１は、ホットプレート（２１）、リフトピン（２３）、ガラス基板（６０）の一部分を拡大して示したものである。
【００４０】
図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、ガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された状態で、リフトピン（２３）を下降させ、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）上に載置し、効果的に均一な加熱をするために、矢印（２８）で示すように、吸着孔（２７）から空気を吸引し、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）に吸着させての密着加熱を開始する。
ガラス基板（６０）がホットプレート（２１）の温度に達した時点で、図１１（ｃ）に示すように、一旦空気の吸引を中断して、密着加熱により生じたガラス基板の内部応力を矢印（２９）で示す方向に解放する。
次に、図１１（ｄ）に矢印（２８）で示すように、吸着孔（２７）からの空気の吸引を再開して、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）上に吸着させての密着加熱を継続して行う。
【００４１】
上記のように、本発明のガラス基板の加熱方法は、ガラス基板がホットプレートの温度に達した時点で、空気の吸引を中断して密着加熱により生じたガラス基板の内部応力を解放するので、複数の吸着孔に対応したガラス基板の部分と部分の間の浮き上がりを未然に防ぐことができ、また、ガラス基板の破壊を未然に回避するこができるものとなる。
【００４２】
図１１（ａ）〜（ｃ）、（ｄ’）、（ｅ）は、請求項２に係わる発明のガラス基板の加熱方法におけるプリベーク処理の動作を説明する断面図である。
図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、ガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された状態で、リフトピン（２３）を下降させ、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）上に載置し、効果的に均一な加熱をするために、矢印（２８）で示すように、吸着孔（２７）から空気を吸引し、ガラス基板（６０）をホットプレート（２１）に吸着させての密着加熱を開始する。
【００４３】
次に、図１１（ｃ）、（ｄ’）に示すように、ガラス基板（６０）がホットプレート（２１）の温度に達した時点で、一旦空気の吸引を中断してリフトピン（２３）を上昇させ、ガラス基板とホットプレートの間に間隔（Ｄ）を設けて、密着加熱により生じたガラス基板の内部応力を矢印（２９）で示す方向に解放する。
次に、図１１（ｅ）に示すように、リフトピン（２３）を下降させてホットプレート（２１）上にガラス基板（６０）を再び載置し、吸着孔（２７）からの空気の吸引を再開して、ガラス基板をホットプレート上に吸着させての密着加熱を継続して行う。
【００４４】
上記のように、請求項２に係わるガラス基板の加熱方法は、ガラス基板がホットプレートの温度に達した時点で、一旦空気の吸引を中断してリフトピンを上昇させ、ガラス基板とホットプレートの間に間隔を設けて、密着加熱により生じたガラス基板の内部応力を解放するので、ガラス基板の内部応力の解放は、より確実なものとなり、前記ガラス基板の浮き上がりの防止、また、ガラス基板の破壊の回避がより確かなものとなる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】（ａ）は、プリベーク装置の一例の概略を示す断面図である。（ｂ）は、ホットプレートを上部に備えたバキューム・テーブルの一例の概略を示す断面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は、加熱チャンバーを用いたプリベーク処理の動作を説明する断面図である。
【図３】図２（ｂ）に示す状態で加熱を行った際のガラス基板の浮き上がりを説明する断面図である。
【図４】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図５】図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図６】対角１７インチのカラーフィルタを大サイズのガラス基板に４面付けして製造する一例を示した平面図である。
【図７】フォトスペーサー（突起部）を形成した液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。
【図８】配向制御突起が設けられたＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。
【図９】半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの一例の断面図である。
【図１０】半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの他の例の断面図である。
【図１１】（ａ）〜（ｄ）は、本発明のガラス基板の加熱方法によるプリベーク処理の動作を説明する断面図である。（ａ）〜（ｃ）、（ｄ’）、（ｅ）は、請求項２に係わる発明のガラス基板の加熱方法におけるプリベーク処理の動作を説明する断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１・・・液晶分子
２ａ、２ｂ、３・・・配向制御突起
４、７、８・・・カラーフィルタ
９・・・ＴＦＴ側基板
１０・・・プリベーク装置
２０・・・加熱チャンバー
２１・・・ホットプレート
２２・・・加熱チャンバーのバキューム・テーブル
２３・・・リフトピン
２４・・・開口
２５・・・中空部
２６・・・排気口
２７・・・吸着孔
３０・・・冷却チャンバー
３１・・・クールプレート
３２・・・冷却チャンバーのバキューム・テーブル
４０、６０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４１Ａ・・・ブラックマトリックスのマトリックス部
４１Ｂ・・・ブラックマトリックスの額縁部
４２・・・着色画素
４２Ｔｒ・・・透過表示の着色画素
４２Ｒｅ・・・反射表示の着色画素
４３・・・透明導電膜
４４・・・フォトスペーサー
４５・・・着色部
４６・・・透明部
８０・・・ＭＶＡ−ＬＣＤ
Ｄ・・・ガラス基板とホットプレートの間に間隔
Ｌ・・・吸着孔間の距離
【図１】
0004604885.tif 000002
【図２】
0004604885.tif 000003
【図３】
0004604885.tif 000004
【図４】
0004604885.tif 000005
【図５】
0004604885.tif 000006
【図６】
0004604885.tif 000007
【図７】
0004604885.tif 000008
【図８】
0004604885.tif 000009
【図９】
0004604885.tif 000010
【図１０】
0004604885.tif 000011
【図１１】
0004604885.tif 000012