(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着材料を真空中において加熱することにより気化又は昇華させて被蒸着基板に付着させる蒸着装置であって、
被蒸着基板をその下面の蒸着エリアを開放した状態でその平面方向に搬送する搬送手段；
この搬送手段による被蒸着基板の搬送空間を含んで該基板の搬送方向に区画形成された複数の蒸着室；
これらの各蒸着室内に、被蒸着基板の搬送平面の下方に配置した、被蒸着基板の搬送方向と直交する方向の蒸着エリアをカバーする蒸着幅を有する蒸着材料収納容器；及び
各蒸着材料収納容器にそれぞれ付設した加熱手段；を有し、
前記複数の蒸着室のうち少なくとも一つの蒸着室内には、有機物からなる蒸着材料を入れた複数の蒸着材料収納容器が配置されており、
前記複数の蒸着材料収納容器のそれぞれは、煙突効果による蒸着材料の指向性が得られる程の深さを有し、かつ、その内部は、被蒸着基板の搬送方向に対して傾斜した互いに平行で、前記蒸着材料収納容器の深さと同じ長さの区画壁によって複数の区画が設けられ、
前記複数の蒸着材料収納容器は互いに平行に配置され、かつ、各蒸着材料収納容器を前記加熱手段で加熱することにより気化または昇華する前記蒸着物が同一の蒸着エリアに共蒸着される位置関係で配置され、
前記複数の蒸着材料収納容器の少なくとも一つは、共蒸着エリアを設定するために、他の蒸着材料収納容器に対する角度が調節可能であることを特徴とする連続蒸着装置。
【請求項２】
請求項１記載の連続蒸着装置は、有機ＥＬ素子の成膜装置として用いられる連続蒸着装置。
【請求項３】
蒸着材料を真空中において加熱することにより気化又は昇華させて被蒸着基板に付着させる蒸着装置であって、
蒸着室内において、被蒸着基板をその下面の蒸着エリアを開放した状態でその平面方向に搬送する搬送手段；
前記蒸着室内において、被蒸着基板の搬送平面の下方に配置した、被蒸着基板の搬送方向と直交する方向の蒸着エリアをカバーする蒸着幅を有する、有機物からなる蒸着材料を入れた複数の蒸着材料収納容器；及び
各蒸着材料収納容器にそれぞれ付設した加熱手段；を有し、
前記複数の蒸着材料収納容器のそれぞれは、煙突効果による蒸着材料の指向性が得られる程の深さを有し、かつ、その内部は、被蒸着基板の搬送方向に対して傾斜した互いに平行で、前記蒸着材料収納容器の深さと同じ長さの区画壁によって複数の区画が設けられ、
前記複数の蒸着材料収納容器は互いに平行に配置され、かつ、各蒸着材料収納容器を前記加熱手段で加熱することにより気化または昇華する前記蒸着物が同一の蒸着エリアに共蒸着される位置関係で配置され、
前記複数の蒸着材料収納容器の少なくとも一つは、共蒸着エリアを設定するために、他の蒸着材料収納容器に対する角度が調節可能であることを特徴とする蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】
本発明は、被蒸着基板上に異なる材料からなる薄膜を順次積層形成するのに適した連続薄膜形成装置、蒸着装置及び蒸着方法に関する。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】
例えば有機エレクトロルミネッセント素子（有機ＥＬ素子）は一般に、ＩＴＯ付きガラス基板上に、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電極層を真空蒸着によって順番に形成している。このような連続薄膜形成装置は従来、中央の真空搬送ロボット室に対して放射方向に複数の異種材料の真空蒸着室（基板ストック室、前処理室を含む）を配置し、中央の真空搬送ロボット室のロボットにより、これら真空蒸着室の間で基板をやり取りして各層の薄膜を形成している。
【０００３】
しかし、このような従来の連続薄膜形成装置は、中央のロボット室と周囲の蒸着室との間での基板のやり取りに時間を要し、効率的でない。また、基本的に、周知の蒸着装置を、中央のロボット室の周囲に配置した構造に過ぎないため、材料の無駄が多い。つまり、従来の蒸着装置は、真空蒸着室内の下方と上方の固定位置にそれぞれ蒸着材料と基板を配置し、基板を自転、若しくは公転させながら、蒸着材料を加熱して気化または昇華させることで基板全面に亘って、略均一の膜厚分布が得られるように成膜させているが、近似的に点蒸発源とみなされる、るつぼ、またはボートから（上方）全方位に広く放射される蒸発分子の一部を基板に付着させて均一性を確保するしかないため、蒸着材料の無駄が避けられない。つまり気化または昇華する蒸着材料は、基板以外の真空蒸着室内壁に多くが付着してしまい、蒸着材料の数％程度しか基板には付着しないのが実際である。有機ＥＬ素子用の蒸着材料のなかには、数万円／ｇ程度と高価なものが存在し、材料の無駄は製造コストに跳ね返る。
【０００４】
また、有機ＥＬ素子では、発光層の発光色を選択するため、ホスト材料とドーパント材料を特定の割合（例えば１００：１とか１００：０．５）で共蒸着（co-deposition）する必要がある。しかし、従来の蒸着装置では、真空蒸着室内の下方にこれらの異種蒸着材料をるつぼ、又はボートに収納、配置して所定の温度で加熱するため、材料が無駄になるばかりでなく、基板内全域に亘って、又経時的に一定の共蒸着割合を実現することが困難である。
【０００５】
【発明の目的】
本発明は、従来の連続薄膜形成装置についての以上の問題意識に基づき、被蒸着基板に対して時間効率よくかつ材料の無駄を少なくして蒸着材料を順次成膜することができる装置を得ることを目的とする。
また本発明は、蒸着材料を無駄なく蒸着できる装置、さらには、異種材料を特定の割合で材料の無駄なく共蒸着できる装置を得ることを目的とする。
【０００６】
【発明の概要】
蒸着材料を真空中において加熱することにより気化又は昇華させて被蒸着基板に付着させる蒸着装置であって、被蒸着基板をその下面の蒸着エリアを開放した状態でその平面方向に搬送する搬送手段；この搬送手段による被蒸着基板の搬送空間を含んで該基板の搬送方向に区画形成された複数の蒸着室；これらの各蒸着室内に、被蒸着基板の搬送平面の下方に配置した、被蒸着基板の搬送方向と直交する方向の蒸着エリアをカバーする蒸着幅を有する蒸着材料収納容器；及び、各蒸着材料収納容器にそれぞれ付設した加熱手段；を有し、前記複数の蒸着室のうち少なくとも一つの蒸着室内には、有機物からなる蒸着材料を入れた複数の蒸着材料収納容器が配置されており、前記複数の蒸着材料収納容器のそれぞれは、煙突効果による蒸着材料の指向性が得られる程の深さを有し、かつ、その内部は、被蒸着基板の搬送方向に対して傾斜した互いに平行で、前記蒸着材料収納容器の深さと同じ長さの区画壁によって複数の区画が設けられ、前記複数の蒸着材料収納容器は互いに平行に配置され、かつ、各蒸着材料収納容器を前記加熱手段で加熱することにより気化または昇華する前記蒸着物が同一の蒸着エリアに共蒸着される位置関係で配置され、前記複数の蒸着材料収納容器の少なくとも一つは、共蒸着エリアを設定するために、他の蒸着材料収納容器に対する角度が調節可能であることを特徴とする。
【０００８】
本発明は、別の態様では、連続蒸着装置とは無関係に、つまり、単一の蒸着室を有する蒸着装置として構成することもできる。すなわち、本発明の蒸着装置は、蒸着材料を真空中において加熱することにより気化又は昇華させて被蒸着基板に付着させる蒸着装置であって、蒸着室内において、被蒸着基板をその下面の蒸着エリアを開放した状態でその平面方向に搬送する搬送手段；前記蒸着室内において、被蒸着基板の搬送平面の下方に配置した、被蒸着基板の搬送方向と直交する方向の蒸着エリアをカバーする蒸着幅を有する、有機物からなる蒸着材料を入れた複数の蒸着材料収納容器；及び、各蒸着材料収納容器にそれぞれ付設した加熱手段；を有し、前記複数の蒸着材料収納容器のそれぞれは、煙突効果による蒸着材料の指向性が得られる程の深さを有し、かつ、その内部は、被蒸着基板の搬送方向に対して傾斜した互いに平行で、前記蒸着材料収納容器の深さと同じ長さの区画壁によって複数の区画が設けられ、前記複数の蒸着材料収納容器は互いに平行に配置され、かつ、各蒸着材料収納容器を前記加熱手段で加熱することにより気化または昇華する前記蒸着物が同一の蒸着エリアに共蒸着される位置関係で配置され、前記複数の蒸着材料収納容器の少なくとも一つは、共蒸着エリアを設定するために、他の蒸着材料収納容器に対する角度が調節可能であることを特徴とする。
【００１０】
本発明は、煙突効果による蒸着材料分子の指向性を利用して、蒸着材料を被蒸着基板に蒸着する。従来の蒸着装置では、蒸着材料収納容器（るつぼ）が煙突効果を持つことは被蒸着面に対する均一な成膜を妨げるため好ましくないとされていた。これに対し、本発明では、るつぼに積極的に煙突効果を与えて、被蒸着エリアに対する効率的な蒸着を可能としている。このためには、各蒸着材料収納容器に、煙突効果による蒸着材料の指向性が得られる程度の深さを与えている。
【００１１】
各蒸着材料収納容器の内部は、内部の蒸着材料を均一に加熱するように、区画壁によって複数の室に区画している。この区画壁は、蒸着エリアに均一に成膜できるように被蒸着基板の搬送方向に対して傾斜した複数の互いに平行な区画壁となっている。例えば搬送方向に対して平行な（搬送方向と同方向の）区画壁では、煙突効果が十分であると均一加熱はできても、区画壁直上部分の分子ビームの密度が希薄になり基板進行方向に所定膜厚より薄い領域が筋状に形成されるおそれが生じ、結果として蒸着エリア全域に均一に成膜することができない。蒸着材料収納容器内を区画壁によって複数の室に区画するということは、見方を変えれば、複数の容器が被蒸着基板の搬送方向と直交する方向に並んでいることと等価である。つまり、蒸着材料収納容器は複数に分割することができる。
【００１３】
蒸着室は、被蒸着基板の搬送方向に複数を区画形成して、各蒸着室内にそれぞれ蒸着材料収納容器を配置し、これらの各蒸着室において、蒸着材料収納容器を加熱し、該容器内部の蒸着材料を気化又は昇華させて蒸着するステップを実行することができる。
【００１４】
また、一つの蒸着室内に、被蒸着基板の同一の共蒸着エリアに異種材料を共蒸着するための複数の蒸着材料収納容器を配置し、これらの複数の蒸着材料収納容器を個別に加熱して、該容器内部の蒸着材料を気化又は昇華させて蒸着するステップを実行することができる。
【００１５】
本発明による連続蒸着装置、蒸着装置及び蒸着方法に用いることができる蒸着材料は、加熱によって気化または昇華する材料であれば、種類を問わない。例えば、有機ＥＬ素子、有機太陽電池、有機ＦＥＴ（FIELD EFFECT TRANSISTOR）等の薄膜に用いられる各種の機能性有機薄膜形成材料や、金属、もしくは酸化物、窒化物、炭化物、ハロゲン化物等の各種無機化合物を挙げることができる。有機ＥＬ素子を例にとれば、使用される有機物の代表例としては、発光層、電子輸送層として、特に限定はないが（８−キノリノラト）アルミニウム錯体（通称Ａｌｑと呼称される）等が好ましく用いられ、ホール輸送層として、特に限定はないがN,N'−ジフェニル− N,N'−（３−メチルフェニル）−１，１‘−ビフェニル−4,4'-ジアミン（通称ＴＰＤと呼称される）等のアリールアミン化合物類が好ましく用いられる。また無機物としては、特に限定はないが、ハロゲン化金属等の無機化合物や、主に電極材料に使用されるアルミニウム、マグネシウム、銀等があるが、本発明は蒸着材料を問う発明ではないので、これ以上の例示は省略する。
【００１６】
【発明の実施形態】
図１は、本発明による連続蒸着装置の全体の概念図の一例である。この連続蒸着装置は、基板ホルダ１０、この基板ホルダ１０を図１の右方から左方に搬送する多数の搬送ローラ１１を有し、この搬送ローラ１１による基板ホルダ１０の搬送方向に順に、準備ステージ１２、予備真空室１３，第一蒸着室１４，第二蒸着室（共蒸着室）１５、第三蒸着室１６、取出予備室１７及び取出ステージ１８がそれぞれ形成されている。予備真空室１３ないし取出予備室１７の各室は、基板ホルダ１０の搬送空間を含んで、開閉ゲート１９を介して独立して真空制御ができるように区画されている。すなわち、これら各室の真空度は、各室に備えられた真空ポンプＰによって個別にコントロールできる。開閉ゲート１９は、基板ホルダ１０が搬送方向前方の室（ステージ）から後方の室（ステージ）に至るときだけ開かれる様に制御しても良いし、連続的に基板が搬送されてくる量産装置の場合は常時、解放されていても良い。これら真空蒸着室の形成及び運転には、周知の真空技術が用いられる。本連続蒸着装置はクリーンルーム内に設置されるのが望ましい。
【００１７】
基板ホルダ１０は、図２、図３に示すように、中央部に開口１０ａを有し、下面に一対のローラ受入Ｖ溝１０ｂを有している。ガラス基板（被蒸着基板）２０は、開口１０ａに被蒸着エリア（面）２０ａを臨ませてこの基板ホルダ１０上に載置される。被蒸着エリア２０ａは、開口１０ａによって、搬送方向長さＸ、搬送方向と直交する方向長さＹの矩形のエリアとして規定される。図示例では、最も簡単に、一つの基板ホルダ１０に一枚のガラス基板２０を載置しているが、ガラス基板２０の大きさに応じて多数個を一つの基板ホルダ１０に載置する態様も可能である。従って、基板ホルダ１０上にガラス基板２０を載せた状態で、搬送ローラ１１を回転駆動すると、開口１０ａにより被蒸着エリア２０ａを開放したガラス基板２０が準備ステージ１２から取出ステージ１８へ順番に搬送されることになる。被蒸着エリア２０ａを、さらにシャドウマスク（図示省略）によって規定したい場合は、該シャドウマスクと基板ホルダ１０を合体させて搬送ユニットとすることができる。
【００１８】
図１の例では、第一蒸着室１４と第三蒸着室１６内にそれぞれ、基板ホルダ１０の搬送平面より下方に位置させて、一つの蒸着材料収納容器２１が配置され、第二蒸着室（共蒸着室）１５内に、３個の蒸着材料収納容器２１（Ａ、Ｂ、Ｃ）が配置されている。各蒸着材料収納容器２１は基本的には同一構造であって、ガラス基板２０の搬送方向と直交する方向に長い平面矩形の箱形をなしている。蒸着材料収納容器２１が基板搬送方向と直交する方向に長い箱形容器であると、最短の容器で被蒸着基板の搬送方向と直交する方向の蒸着エリア全域をカバーすることができるという利点があるが、基板搬送方向と直交する方向の蒸着エリア全域をカバーできれば、容器の形状あるいは方向には自由度がある。この蒸着材料収納容器（以下箱形るつぼ）２１は、ガラス基板２０の搬送方向と直交する方向の内寸２１Ｙがガラス基板２０の被蒸着エリア２０ａの搬送方向直交長さＹより若干大きく設定されている。すなわち、搬送方向直交内寸（蒸着幅）２１Ｙは、ガラス基板２０の搬送方向と直交する方向の蒸着エリア全域（長さＹ）をカバーする長さを有している。また、この箱形るつぼ２１の深さ方向の内寸２１Ｚは、箱形るつぼ２１内に収納されて気化または昇華する蒸着材料に積極的に煙突効果を与えることができる深さに設定されている。勿論、箱形るつぼ２１内に収納する蒸着材料２２の量も以上の煙突効果が得られるように少なく設定する。箱形るつぼ２１の搬送方向の内寸２１Ｘは、同方向の成膜が不均一とならないように、搬送方向直交内寸２１Ｙ、深さ方向内寸２１Ｚに比して小さく設定するのがよい。
【００１９】
また、この箱形るつぼ２１内は、複数の区画壁２１Ｐによって区画されている。図４（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は、区画壁２１Ｐの例を示している。区画壁２１Ｐは、箱形るつぼ２１内に収納する蒸着材料２２を均一に加熱し（伝熱効率を高め）、蒸着材料２２を均一に気化または昇華させる目的で設置している。そして、これらの区画壁２１Ｐはいずれも、ガラス基板２０の搬送方向と平行になって（搬送方向と同方向に区切られて）おらず、同搬送方向に対して傾斜している。このように区画壁２１Ｐを傾斜させると、ガラス基板２０が箱形るつぼ２１の上方を移動していくとき、被蒸着エリア２０ａの各部分は、必ず区画壁２１Ｐ以外の蒸着材料上昇エリア（蒸着材料の実収納空間）上を通過するため、均一に成膜することができる。区画壁２１Ｐの傾斜角度と幅は、以上を考慮して均一な成膜ができるように定める。箱形るつぼ２１自体は、区画壁２１Ｐを含め、伝熱性に優れた材料（熱伝導率が少なくとも１Ｗ／ｍ・Ｋ以上の材料）、例えばカーボン等から形成するのが望ましい。
【００２０】
なお、区画壁２１Ｐによって、分割収納される蒸着材料２２は予め、できるだけ正確に等量ずつ秤量され、各区画内に均等に収納される。収納される量が均等でないと、たとえ温度分布が搬送方向と直交する方向（２１Ｙ方向）に均一であっても、経時的に、各区画から気化または昇華する放射分子密度が不均一となり、基板内全域に亘って、膜厚の均一性を確保することが困難になる。
【００２１】
箱形るつぼ２１の周囲には、加熱手段として、フィラメント（電熱線）２３が配置されている。各箱形るつぼ２１の温度は、フィラメント２３へ流す電流の大小によってコントロールすることができる。
【００２２】
第一蒸着室１４と第三蒸着室１６に設置されている箱形るつぼ２１は、鉛直に基台２４に固定されている。すなわち、箱形るつぼ２１の中心平面を、搬送方向内寸２１Ｘの中間を通る箱形るつぼ２１の深さ方向の平面と定義すると、この中心平面が、水平方向に搬送されるガラス基板２０の被蒸着エリア２０ａに対して直交する方向に向けて基台２４に固定されている。これに対し、第二蒸着室（共蒸着室）１５に設置されている３個の箱形るつぼ２１は、互いに平行をなしていて、各箱形るつぼ２１から気化または昇華する蒸着物がガラス基板２０の被蒸着エリア２０ａの同一の蒸着エリアに共蒸着される位置関係で配置されている。すなわち、中央の箱形るつぼ２１（Ｂ）は、第一蒸着室１４と第三蒸着室１６内の箱形るつぼ２１と同様に、基台２４に固定されているのに対し、箱形るつぼ２１（Ａ、Ｃ）はそれぞれの基台２４（Ａ、Ｃ）の軸２５に角度可変に枢着されている。そして、基台２４（Ａ、Ｃ）には、軸２５を中心とする円弧ガイド溝２６が形成され、箱形るつぼ２１（Ａ、Ｃ）には、この円弧ガイド溝２６に嵌まる固定ねじ２７が螺合されている。従って、箱形るつぼ２１（Ａ、Ｃ）の角度を調節することによって、各箱形るつぼ２１から気化または昇華する蒸着物がガラス基板２０の被蒸着エリア２０ａの同一の蒸着エリアに共蒸着される位置関係とすることができる。具体的には、例えば、箱形るつぼ２１（Ａ、Ｃ）の中心平面が、箱形るつぼ２１（Ｂ）の中心平面と被蒸着エリア２０ａ上において一直線状に交わるように設定するのがよいが、この位置関係は、実験によって定めることができる。
【００２３】
箱形るつぼ２１には、図７に示すように、その上端開放部を開閉するシャッタ２８を付設し、あるいは、箱形るつぼ２１の周囲に位置する水冷ジャケット２９を設けることができる。シャッタ２８は、軸２８ａを中心とする開閉運動により、箱形るつぼ２１の上端開放部を開閉するものであり、例えば、ガラス基板２０が箱形るつぼ２１の上方に搬送され、かつ箱形るつぼ２１（蒸着材料２２）が蒸着温度に達したときに開き、それ以外のときに閉じる。水冷ジャケット２９は、パネル２９ａの箱形るつぼ２１側の面に、冷却水循環パイプ２９ｂを配置したもので、この箱形るつぼ２１の温度上昇による熱輻射の影響が周囲の部材に対し最小限となるように意図されて設置されている。この水冷ジャケット２９は、フィラメント２３と併用して、箱形るつぼ２１（蒸着材料２２）の温度コントロールに用いることもできる。また、市販の膜厚モニター、コントロールユニットを被蒸着エリア２０ａに重ならないように、箱形るつぼ２１の上方端部にセットして、蒸着プロセス時の堆積速度を監視し、所望の堆積速度が得られるようにフィラメント２３の電流値を制御してもよい。
【００２４】
上記構成の本装置は、例えば赤色発光有機ＥＬ素子の製造に際して次のように用いる。ガラス基板２０として、被蒸着エリア２０ａに予め透明電極を付したＩＴＯ付きガラス基板を用いる。第一蒸着室１４内の箱形るつぼ２１には、ホール輸送層の形成材料としてＴＰＤを入れ、第二蒸着室（共蒸着室）１５内の３個の箱形るつぼ２１のうちの中央の箱形るつぼ２１Ｂには、発光層のホスト材料としてＡｌｑ3を入れ、前後の箱形るつぼ２１Ａと箱形るつぼ２１Ｃには、黄色のドーパント材料であるRubrene（ルブレン）と赤色のドーパント材料であるＤＣＭ２をそれぞれ入れる。この場合ルブレンは赤色発光材料であるＤＣＭ２を効率よく発光させるため、ホスト材料であるＡｌｑ3からの励起エネルギーをＤＣＭ２に円滑に移動させるための補助ドーパントとして機能させる目的で使用される。このとき、箱形るつぼ２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃに収納された上記の蒸着材料は蒸着エリア２０ａに所望の混合比による混合膜として形成されるように、各箱形るつぼ２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃの温度を独立に制御する。第三蒸着室１６内の箱形るつぼ２１には、電子輸送層の形成材料としてＡｌｑ3を入れる。
【００２５】
以上のように各箱形るつぼ２１に蒸着材料を収納した上で、次のように成膜（蒸着）作業を行う。予備真空室１３ないし取出予備室１７の各室を所定の真空度にし、各箱形るつぼ２１を予め定めた温度に加熱した状態で、基板ホルダ１０に載せたガラス基板２０をまず第一蒸着室１４に入れて箱形るつぼ２１からの蒸着材料によりホール輸送層を成膜し、次にホール輸送層の成膜の済んだガラス基板２０を第二蒸着室（共蒸着室）１５に入れて発光層を成膜する。箱形るつぼ２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃからの各蒸着材料堆積速度の割合（共蒸着比）は、各るつぼの膜厚モニターの堆積速度を所望の値になる様に、フィラメント２３によって箱形るつぼ２１の加熱温度を制御し、正確にコントロールすることができる。このようにして発光層の成膜の済んだガラス基板２０を次に第三蒸着室１６に入れて、箱形るつぼ２１からの蒸着材料により電子輸送層を成膜する。電極層等の他の膜を成膜するには、蒸着室を増やせばよい。
【００２６】
上記のように基板を直線的に搬送しながら、全面均一に成膜する連続蒸着装置において、堆積膜厚の制御は、基本的に膜厚モニターの堆積速度と基板の搬送速度の制御により達成される。この場合、意図的に箱形るつぼ上を、基板が往復運動する様にして動かし、その往復回数と移動速度で、堆積膜厚を制御することができる。箱形るつぼ２１直上のシャッタ２８の開閉による膜厚制御を併用しても良い。
【００２７】
以上の成膜工程における最大の特徴は、従来装置のように中央の真空搬送ロボット室とロボット室周囲の複数の真空蒸着室の間で基板のやり取りをすることなく、ガラス基板２０を搬送しながらその被蒸着エリア２０ａに対して順次各薄膜を成膜できる点、被蒸着エリア２０ａのＹ方向の全域に同時に成膜でき大面積の成膜が容易にできる点、第二蒸着室（共蒸着室）１５においては、任意の割合で基板全面に異種材料を正確な比率で共蒸着できる点、及び蒸着材料に無駄が生じない点にある。
【００２８】
以上の実施形態は、本発明を連続蒸着装置に適用したものであるが、第一、第三蒸着室１４、１６を単独で用いる蒸着装置あるいは第二蒸着室（共蒸着室）１５を単独で用いる蒸着装置も、蒸着材料の無駄を少なくし、あるいは共蒸着材料の割合の正確なコントロールができるという作用効果がある。
【００２９】
以上の実施形態では、ＩＴＯ付きガラス基板２０上に、ホール輸送層、発光層及び電子輸送層となる有機物を順次成膜する工程例を説明した。有機ＥＬ素子は、電子輸送層の上にさらに、少なくとも陰極を成膜して完成する。この陰極層の蒸着エリアは有機物の蒸着エリアとは異なるので、シャドウマスク（もしくはシャドウマスクと基板ホルダーの機能を兼ね備えたものでもよい）によって蒸着エリアを規定するのが普通である。これらのシャドウマスクの取付、取り外し、交換、もしくは位置決め等の機構は、周知であり、本発明の要旨には関係がないので、この陰極層（電極層）の成膜については説明を省略する。陰極層は、その蒸着エリアを定めた上で、上記実施形態と同様にして、蒸着して成膜することができる。また、以上の実施形態では、区画壁２１Ｐによって箱形るつぼ２１内を複数の室に分割したが、複数のるつぼを基板搬送方向と直交する方向に並べても同様の作用が得られる。
【００３０】
【発明の効果】
本発明によると、被蒸着基板に対して時間効率よくかつ材料の無駄を少なくして蒸着材料を成膜することができる。また、異種材料を特定の割合で材料の無駄なく共蒸着できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の連続蒸着装置の一実施形態を示す全体側面図である。
【図２】図１の蒸着装置回りの斜視図である。
【図３】図１の蒸着装置の被蒸着基板の搬送構造例を示す図である。
【図４】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ図１の蒸着装置の蒸着材料収納容器の形状例を示す平面図である。
【図５】同蒸着材料収納容器の斜視図である。
【図６】図４（Ａ）のVI‐VI線に沿う断面図である。
【図７】蒸着材料収納容器の別の態様を示す縦断面図である。
【符号の説明】
１０  基板ホルダ
１０ａ  開口
１１  搬送ローラ
１２  準備ステージ
１３  予備真空室
１４  第一蒸着室
１５  第二蒸着室（共蒸着室）
１６  第三蒸着室
１７  取出予備室
１８  取出ステージ
１９  開閉ゲート
２０  ガラス基板
２０ａ  被蒸着エリア
２１  箱形るつぼ（蒸着材料収納容器）
２１Ｐ  区画壁
２２  蒸着材料
２３  フィラメント
２４  基台
２５  軸
２６  円弧ガイド溝
２７  固定ねじ
２８  シャッタ
２９  水冷ジャケット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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