(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配列された光電変換素子と、各光電変換素子ごとに光電変換素子の受光部前方に配置されたカラーフィルターとを含み、各カラーフィルターは隣接するものどうしが互いに側部を実質的に接して配置されているカラー固体撮像素子を製造する方法であって、前記光電変換素子が配列された前記基板上に透明材料により平坦化層を形成し、前記平坦化層の上に第１の色の色素材料を蒸着させて色素蒸着膜を形成し、前記色素蒸着膜の上にパターン化したフォトレジスト層を形成し、前記フォトレジスト層をマスクとして等方性エッチングを行い前記フォトレジスト層から露出した前記色素蒸着膜を除去し前記色素蒸着膜をパターン化して第１の色のカラーフィルターを形成し、前記色素蒸着膜を除去した箇所に第２の色の色素蒸着膜による第２の色のカラーフィルターを形成する工程を含むことを特徴とするカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項２】
前記第２の色のカラーフィルターを形成する工程では、前記第１の色のカラーフィルターの表面および露出した前記平坦化層の表面に透明材料から成るエッチングストッパー膜を形成し、前記エッチングストッパー膜の上に第２の色の色素材料を蒸着させて第２の色素蒸着膜を形成し、前記第２の色のカラーフィルターを形成する箇所の前記第２の色素蒸着膜の上に第２のフォトレジスト層を形成し、同第２のフォトレジスト層をマスクとし前記エッチングストッパー膜をエッチングストッパーとして等方性エッチングを行い前記第２のフォトレジスト層から露出した前記第２の色の色素蒸着膜を除去することを特徴とする請求項１記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項３】
前記第２の色のカラーフィルターを形成する工程では、前記第１の色のカラーフィルターの表面および露出した前記平坦化層の表面に透明材料から成るエッチングストッパー膜を形成し、前記エッチングストッパー膜の上に第２の色の色素材料を蒸着させて第２の色素蒸着膜を形成し、前記第２の色のカラーフィルターを形成する箇所の前記第２の色素蒸着膜の上に第２のフォトレジスト層を形成し、同第２のフォトレジスト層をマスクとし前記エッチングストッパー膜をエッチングストッパーとして異方性エッチングを行い前記第２のフォトレジスト層から露出した前記第２の色の色素蒸着膜を除去することを特徴とする請求項１記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項４】
前記等方性エッチングは、酸素ガスを用いたアッシングにより行うことを特徴とする請求項１記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項５】
前記アッシングは１００°Ｃ以下の温度で行うことを特徴とする請求項４記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
【請求項６】
前記エッチングストッパー膜は無機材料により形成することを特徴とする請求項２または３に記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は固体撮像素子の製造方法に関し、特に固体撮像素子を構成するカラーフィルターの形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
デジタルカメラやビデオカメラに用いられる固体撮像素子は、カメラの解像度を高めるべく多画素化が図られ、またカメラ光学系の小型化にともないチップサイズの縮小が図られている。その結果、画素サイズが小さくなり、３μｍ×３μｍといった画素サイズの固体撮像素子も出現している。カメラの高解像度化や小型化への要求は強く、固体撮像素子の画素サイズは今後さらに縮小することが予想される。
【０００３】
一方、カラー固体撮像素子において光電変換素子からマイクロレンズまでの高さ、すなわち光電変換素子上層の厚さを薄くすることは難しく、通常、５μｍ程度となっている。したがって、画素の幅が上述のように３μｍになると、光電変換素子上層の各光電変換素子の箇所におけるアスペクト比が高くなって、入射光をマイクロレンズによって光電変換素子に集光することが難しくなり、固体撮像素子の感度低下が問題となる。また、仮に集光できたとしてもカメラのレンズとしてＦ値の小さいものが用いられた場合、斜めに入射する光に対する感度低下が大きくなるという問題が生じる。
【０００４】
そこで光電変換素子上層を薄くすることが課題となるが、カラー固体撮像素子の場合、光電変換素子の前方に配置されるカラーフィルターの厚さは２μｍ程度であり、上記光電変換素子上層の厚さ５μｍのうち４０％をカラーフィルターの厚さが占めていることになる。したがって、光電変換素子上層を薄くするためには、カラーフィルターを薄くすることが有効となる。
【０００５】
カラーフィルターは従来、感光性を備えた染色基材をフォトリソグラフィーによりパターン化して染色を行ったり、あるいは色素を含有する感光性樹脂をフォトリソグラフィーによってパターン化することで形成していた。しかし、これらの手法では、フォトリソグラフィーのためにかならず所定量の感光剤や硬化剤が染色基材や感光性樹脂に含まれている必要がある。また染色基材中に含有させ得る色素量には上限があり、そして感光性樹脂としての性能を維持するために感光性樹脂中の色素の含有量は制限される。したがって、従来のカラーフィルターの薄膜化には限界がある。
【０００６】
そこで、感光性を持たない色素材料を蒸着させて色素蒸着膜を形成し、この色素蒸着膜をドライエッチングによりパターン化するという手法が提案されている。
図７の（Ａ）ないし（Ｃ）は従来の色素蒸着膜を用いたカラーフィルターの形成工程を示す固体撮像素子の部分側断面図、図８の（Ａ）および（Ｂ）は、図７の（Ｃ）につづく工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【０００７】
図７の（Ａ）に示したように、たとえばシリコンによる半導体基板の表面部に周知の技術によって光電変換素子１０２を多数配列し、また光電変換素子１０２からの電荷の読み出し、および電荷転送のための電荷転送電極１０４を形成するとともに遮光膜１０６などを形成する。
【０００８】
その後、たとえばＰＳＧ（Phospho Silicate Glass）膜やＢＰＳＧ（Boronate Phosphorous Silicate Glass）膜などによる平坦化層１０８を形成した上で、平坦化層１０８上に、色素蒸着法により１色目の色素材料、たとえば緑の色素材料を蒸着し、色素蒸着膜１１０を形成する。
つづいて、図７の（Ｂ）に示したように、ドライエッチング耐性の高いフォトレジスト層１１２をエッチングマスクとしてドライエッチングにより色素蒸着膜１１０をエッチングしパターン化して緑のカラーフィルター１１４を形成する。
そして、図７の（Ｃ）に示したように、フォトレジスト層１１２を除去した後、たとえば無機膜によってエッチングストッパー膜１１６を形成して、カラーフィルター１１４の表面および露出した平坦化層１０８の表面を覆い、２色目の色素材料、たとえば赤の色素材料を蒸着して色素蒸着膜１１８を形成する。
【０００９】
次に、図８の（Ａ）に示したように、上記緑の色素蒸着膜１１０の場合と同様に、フォトレジスト層１２０を形成しフォトレジスト層１２０をマスクとして、カラーフィルター１１４上の色素蒸着膜１１８をドライエッチングにより除去することで、図８の（Ｂ）に示したように、色素蒸着膜１１８をパターン化し、赤のカラーフィルター１２２を形成する。
たとえば緑、赤、青のカラーフィルターを形成する場合には、残りの青のカラーフィルター（図示せず）についても同様の工程を経て形成し、カラーフィルターの形成工程が完了することになる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
このようにして形成したカラーフィルターでは、たとえば図８の（Ｂ）に示したように、隣接する２つのカラーフィルター、すなわちカラーフィルター１１４、１２２の境界部では、一部がオーバーラップしており、この例では、カラーフィルター１２２の一部はカラーフィルター１１４の上に形成され、カラーフィルター１２２の周辺部が上方に突出した形態となっている。
カラーフィルターを境界部でオーバーラップさせるのは、パターン化における加工精度が充分でないことなどによってカラーフィルターの境界部に隙間が生じることを防止するためである。
【００１１】
しかし、その結果、上述のようにカラーフィルターの一部が突出してしまい、突出箇所では膜厚が厚くなっている。したがって、膜厚を薄くすべく色素蒸着膜によりカラーフィルターを形成しているにもかかわらず、充分にその効果が得られないのが現状である。
パターン化における加工精度を高めることができれば、カラーフィルターどうしをオーバーラップをさせない構造とすることでこの問題は回避できる。しかし、エッチングマスクとなるフォトレジスト層を形成する際の位置合わせ精度や、パターン化における寸法精度、ドライエッチングのＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）ロス量など、誤差を生む要因が多く、現在のフォトリソグラフィーおよびドライエッチングの技術水準では、色素蒸着膜のパターン化における加工精度をさらに高めることは困難である。
【００１２】
本発明はこのような問題を解決するためになされたもので、その目的は、色素蒸着膜によるカラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消してカラーフィルターを薄膜化したカラー固体撮像素子の製造方法を提供することにある。
【００１４】
また、本発明は、基板上に配列された光電変換素子と、各光電変換素子ごとに光電変換素子の受光部前方に配置されたカラーフィルターとを含み、各カラーフィルターは隣接するものどうしが互いに側部を実質的に接して配置されているカラー固体撮像素子を製造する方法であって、前記光電変換素子が配列された前記基板上に透明材料により平坦化層を形成し、前記平坦化層の上に第１の色の色素材料を蒸着させて色素蒸着膜を形成し、前記色素蒸着膜の上にパターン化したフォトレジスト層を形成し、前記フォトレジスト層をマスクとして等方性エッチングを行い前記フォトレジスト層から露出した前記色素蒸着膜を除去し前記色素蒸着膜をパターン化して第１の色のカラーフィルターを形成し、前記色素蒸着膜を除去した箇所に第２の色の色素蒸着膜による第２の色のカラーフィルターを形成する工程を含むことを特徴とする。
【００１５】
本発明で製造されるカラー固体撮像素子では、隣接するカラーフィルターの側部対向面が、基板に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されているので、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
【００１６】
また、本発明のカラー固体撮像素子の製造方法では、第１の色の色素材料による色素蒸着膜の上にパターン化したフォトレジスト層を形成して同フォトレジスト層をマスクとして色素蒸着膜をエッチングする際、等方性エッチングを行うので、フォトレジスト層の縁部ではフォトレジスト層の下部においても色素蒸着膜がエッチングされ、そして、浅い箇所ほど大きくエッチングされるので、第１の色のカラーフィルターの側面は傾斜して形成される。
したがって、その後、上記色素蒸着膜のエッチング箇所に第２の色のカラーフィルターを形成すると、第１および第２の色のカラーフィルターの側部対向面は、基板に垂直な仮想直線に対して傾斜したものとなる。よって、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施の形態例について図面を参照して説明する。
図１は本発明によるカラー固体撮像素子の一例を示す部分側断面図である。
本実施の形態例のカラー固体撮像素子２は、図１に示したように、シリコンから成る半導体基板４上に配列された光電変換素子６と、各光電変換素子６の受光部８ごとに受光部８前方に配置された色素蒸着膜によるカラーフィルター１０、１２などを含み、各カラーフィルターは隣接するものどうしが互いに側部を実質的に接して配置されている。
【００１８】
光電変換素子６は、本実施の形態例では半導体基板４上にマトリクス状に配列されており、光電変換素子６の各列ごとに半導体基板４の表面部に垂直電荷転送路１４が延設されている。なお、図１において紙面に直交する方向が光電変換素子６の列の方向である。半導体基板４の表面にはシリコン酸化膜による絶縁膜１６が形成され、各垂直電荷転送路１４の上には絶縁膜１６を挟んで電荷転送電極１８が配置されている。各電荷転送電極１８は、シリコン酸化膜による絶縁膜２０を介して遮光膜２２により覆われている。
【００１９】
遮光膜２２および光電変換素子６の上には、たとえばＰＳＧ膜やＢＰＳＧ膜などによる平坦化層２４が形成され、その上にカラーフィルター１０、１２が形成されている。本実施の形態例では、カラーフィルター１０、１２の側部対向面２６は、図１に示したように、半導体基板４に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されている。
【００２０】
なお、カラーフィルター１０の上面、およびカラーフィルター１０から露出している平坦化層２４の上面はエッチングストッパー膜２８により覆われ、カラーフィルター１２の主要部は、平坦化層２４がカラーフィルター１０から露出している箇所において平坦化層２４の上にエッチングストッパー膜２８を介して形成されている。
【００２１】
カラーフィルター１２の、カラーフィルター１０との境界部は、詳しくは下部３０がエッチングストッパー膜２８を介しカラーフィルター１０に実質的に接しており、この箇所において、カラーフィルター１０、１２の側部対向面２６が上述のように半導体基板４に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されている。
一方、カラーフィルター１２の、カラーフィルター１０との境界部における上部側面３２は、上記側部対向面２６に対して逆向きに傾斜している。
【００２２】
以上のとおり、本実施の形態例のカラー固体撮像素子２では、隣接するカラーフィルターの側部対向面２６が、半導体基板４に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されているので、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低く、たとえばカラーフィルター１０、１２が左右に若干ずれたり、幅が若干狭くなったとしても、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
これにより、画素サイズの縮小に対応して光電変換素子上層を薄くすることができ、入射光をマイクロレンズによって効果的に光電変換素子６に集光して、固体撮像素子の感度低下を回避することが可能となる。
また、本実施の形態例では、カラーフィルター１２の上部側面３２も上述のように傾斜しており、このような形状は、カラーフィルター１０、１２の境界部におけるオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を確実に解消する上で有効である。
【００２３】
図２はカラーフィルターの配列の一例を示す部分平面図である。固体撮像素子が原色タイプのものである場合には、カラーフィルターとしては赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の３色のものが用いられ、それらはたとえば図２のように配列される。この例では、緑のカラーフィルターが市松模様に配置されており、各緑のカラーフィルターに隣接して赤あるいは青のカラーフィルターが規則的に配置されている。
【００２４】
カラーフィルターが図２のように配列されている場合、図１に示したカラーフィルター１０がたとえば緑のカラーフィルターであったとすると、カラーフィルター１２は赤または青のカラーフィルターとなる。
固体撮像素子が補色タイプの場合には、各カラーフィルターの色はマゼンタ、シアン、黄色、緑のいずれかとなる。
ただし、本発明は、カラーフィルターとしてどのような色のものが用いられるかには無関係であり、いずれの場合にも上記効果を奏するものである。
【００２５】
次に、本発明によるカラー固体撮像素子２の製造方法の一例について説明する。
図３の（Ａ）および（Ｂ）は、本発明による固体撮像素子の製造方法にもとづくカラーフィルターの形成工程を示す固体撮像素子の部分側断面図、図４の（Ａ）および（Ｂ）は、図３の（Ｂ）の工程ににつづく工程をを示す固体撮像素子の部分側断面図である。図中、図１と同一の要素には同一の符号が付されている。
【００２６】
図３の（Ａ）に示したように、シリコンによる半導体基板４の表面部に周知の技術によって光電変換素子６を多数配列し、また光電変換素子６からの電荷の読み出し、および電荷転送のための電荷転送電極１８を形成するとともに絶縁膜１６、２０、遮光膜２２などを形成する。
【００２７】
その後、たとえばＰＳＧ膜やＢＰＳＧ膜などによる平坦化層２４を形成した上で、平坦化層２４上に、色素蒸着法により１色目の色素材料、たとえば緑の色素材料を蒸着し、色素蒸着膜３４を形成する。
つづいて、図３の（Ｂ）に示したように、パターン化した、ドライエッチング耐性の高いフォトレジスト層３６を形成し、フォトレジスト層３６をエッチングマスクとして等方性ドライエッチングを行って色素蒸着膜３４をエッチングしパターン化してカラーフィルター１０を形成する。ここで、等方性エッチングを行うことにより、フォトレジスト層３６の縁部３８ではフォトレジスト層の下部においても色素蒸着膜３４がエッチングされ、そして、浅い箇所ほど大きくエッチングされるので、第１の色のカラーフィルターの側面２６は傾斜して形成される。
【００２８】
なお、等方性エッチングとしては、たとえば酸素ガスを用いたアッシングを行うことができる。また、このとき、たとえば１００°Ｃ以下の低温でアッシングを行うことにより、フォトレジスト層３６に対するダメージを低く抑えることができ、次に行うＭＭＰ（メチル−３−メトキシプロピオネート）などの溶剤を用いたフォトレジスト層３６の除去工程が容易となる。
【００２９】
そして、図４の（Ａ）に示したように、フォトレジスト層３６を除去した後、たとえば無機膜によってエッチングストッパー膜２８を形成して、カラーフィルター１０の表面および露出した平坦化層２４の表面を覆う。
次に、エッチングストッパー膜２８の上に２色目の色素材料、たとえば赤の色素材料を蒸着して色素蒸着膜を形成し、カラーフィルター１０の場合と同様に、平坦化層２４の上にエッチングストッパー膜２８が形成された箇所、すなわち２色目のカラーフィルターを形成する箇所で開口するフォトレジスト層を形成し、同フォトレジスト層をマスクとして、またエッチングストッパー膜２８をエッチングストッパーとして赤の色素材料による色素蒸着膜に対して等方性エッチングを行い、図４の（Ｂ）に示したように、カラーフィルター１２を得る。
その後、カラーフィルターの上に周知の工程によってマイクロレンズなどを形成することにより、固体撮像素子が完成する。
【００３０】
本実施の形態例のカラー固体撮像素子２の製造方法では、上述のように、１色目の色素材料による色素蒸着膜３４の上にパターン化したフォトレジスト層３６を形成して同フォトレジスト層をマスクとして色素蒸着膜３４をエッチングする際、等方性エッチングを行うので、フォトレジスト層３６の縁部ではフォトレジスト層の下部においても色素蒸着膜３４がエッチングされ、そして、浅い箇所ほど大きくエッチングされるので、第１の色のカラーフィルターの側面２６は傾斜して形成される。
【００３１】
したがって、その後、色素蒸着膜３４のエッチング箇所に２色目のカラーフィルター１２を形成すると、カラーフィルター１０、１２のエッチングストッパー膜２８を介した側部対向面２６は、半導体基板４に垂直な仮想直線に対して傾斜したものとなる。よって、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター１０、１２間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルター１０、１２のオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
これにより、画素サイズの縮小に対応して光電変換素子上層を薄くすることができ、入射光をマイクロレンズによって効果的に光電変換素子６に集光して、固体撮像素子の感度低下を回避することが可能となる。
【００３２】
なお、本実施の形態例では、カラーフィルター１２を形成する場合にも、上述のように等方性エッチングを行ったため、カラーフィルター１２の、カラーフィルター１０との境界部におけるフォトレジスト層下部もエッチングされ、上部側面３２（図４の（Ｂ））は、カラーフィルター１０の側面に対して逆向きに傾斜している。このような形状は、カラーフィルター１０、１２の境界部におけるオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を確実に解消する上で有効である。
【００３３】
また、各色のカラーフィルターの配列方法は様々であり、したがって、たとえば図５に示したように、緑のカラーフィルター１０および赤のカラーフィルター１２が隣接し、赤のカラーフィルター１２の反対側に青のカラーフィルター４２が隣接して形成される場合もある。このような場合にも、基本的に、フォトリソグラフィー技術とドライエッチング技術を用いた同様の工程により本発明にもとづいて各カラーフィルターを形成することができる。
【００３４】
本実施の形態例では、上述のように、カラーフィルター１２を形成する際にも等方性エッチングを行うとしたが、１色目のカラーフィルター１０が緑のカラーフィルターであり、この緑のカラーフィルターが、図２に示したように市松模様に配列されている場合には、２色目以降のカラーフィルターの形成では異方性エッチングを行って各色素蒸着膜をパターン化してもよい。
【００３５】
図６は１色目のカラーフィルターのみ等方性エッチングを行って形成した場合の固体撮像素子を示す部分側断面図である。なお、図中、図１などと同一の要素には同一の符号が付されている。図６に示したように、異方性エッチングで形成するカラーフィルター１２Ａは、カラーフィルター１０との境界部における上部がエッチングされず、したがってカラーフィルター１０との境界部で若干突出するものの、カラーフィルター１０の側面が傾斜しているため突出量は少なく、したがって従来よりカラーフィルターの膜厚を抑えることができる。
そして、異方性エッチングは、等方性エッチングに比べて寸法の制御性が高く、この利点を活かしてカラーフィルターを精度よく形成すべく図ることができる。
【００３６】
なお、１色目のカラーフィルターが市松模様に配列されていない場合には、１色目のカラーフィルターを等方性エッチングにより形成しただけでは、カラーフィルターの隣接側面がすべて傾斜して形成されるとは限らなくなるため、２色目以降のカラーフィルターを形成する場合にも等方性エッチングを行うことになる。
【００３７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明のカラー固体撮像素子では、隣接するカラーフィルターの側部対向面が、基板に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されているので、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
【００３８】
また、本発明のカラー固体撮像素子の製造方法では、第１の色の色素材料による色素蒸着膜の上にパターン化したフォトレジスト層を形成して同フォトレジスト層をマスクとして色素蒸着膜をエッチングする際、等方性エッチングを行うので、フォトレジスト層の縁部ではフォトレジスト層の下部においても色素蒸着膜がエッチングされ、そして、浅い箇所ほど大きくエッチングされるので、第１の色のカラーフィルターの側面は傾斜して形成される。
したがって、その後、上記色素蒸着膜のエッチング箇所に第２の色のカラーフィルターを形成すると、第１および第２の色のカラーフィルターの側部対向面は、基板に垂直な仮想直線に対して傾斜したものとなる。よって、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
【００３９】
これにより、画素サイズの縮小に対応して光電変換素子上層を薄くすることができ、入射光をマイクロレンズによって効果的に光電変換素子に集光して、固体撮像素子の感度低下を回避することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるカラー固体撮像素子の一例を示す部分側断面図である。
【図２】カラーフィルターの配列の一例を示す部分平面図である。
【図３】（Ａ）および（Ｂ）は、本発明による固体撮像素子の製造方法にもとづくカラーフィルターの形成工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【図４】図３の（Ｂ）の工程ににつづく工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【図５】本発明によるカラー固体撮像素子の他の例を示す部分側断面図である。
【図６】１色目のカラーフィルターのみ等方性エッチングを行って形成した場合の固体撮像素子を示す部分側断面図である。
【図７】（Ａ）ないし（Ｃ）は従来の色素蒸着膜を用いたカラーフィルターの形成工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【図８】（Ａ）および（Ｂ）は、図７の（Ｃ）につづく工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【符号の説明】
２……カラー固体撮像素子、４……半導体基板、６……光電変換素子、８……受光部、１０……カラーフィルター、１２……カラーフィルター、１４……垂直電荷転送路、１６……絶縁膜、１８……電荷転送電極、２０……絶縁膜、２２……遮光膜、２４……平坦化層、２６……側部対向面、２８……エッチングストッパー膜、３０……下部、３２……上部側面、３４……色素蒸着膜、３６……フォトレジスト層、３８……縁部、４２……カラーフィルター、１０２……光電変換素子、１０４……電荷転送電極、１０６……遮光膜、１０８……平坦化層、１１０……色素蒸着膜、１１２……フォトレジスト層、１１４……カラーフィルター、１１６……エッチングストッパー膜、１１８……色素蒸着膜、１２０……フォトレジスト層、１２２……カラーフィルター。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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