(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体層と、
前記半導体層の上方に設けられ、第１幅を有する第１導電層と、
前記第１導電層に接続され、前記第１幅よりも小さい第２幅を有する第２導電層と、
前記第１導電層および前記第２導電層の上方に設けられた層間絶縁層と、
前記層間絶縁層の上方に設けられた電極パッドと、
前記電極パッドの上方であって、該電極パッドの少なくとも一部を露出させる開口を有するパッシベーション層と、を含み、
前記電極パッドは、短辺と長辺とを有する長方形であり、
前記電極パッドの前記短辺の端の鉛直下方から外側に位置する所定の領域に、前記第１導電層と前記第２導電層とが接続されている接続部が設けられており、
前記接続部には、補強部が設けられ、
前記所定の領域は、前記端の鉛直下方から外側に向かって、前記パッシべーション層の膜厚に相当する距離を有する領域である、半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記電極パッドの上方であって、該電極パッドの少なくとも一部を露出させる開口を有するパッシベーション層を含み、
前記所定の領域は、前記端の鉛直下方から外側に向かって、１．０μｍないし２．５μｍの距離を有する領域である、半導体装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記開口に設けられたバンプを含む、半導体装置。
【請求項４】
半導体層と、
前記半導体層の上方に設けられ、第１幅を有する第１導電層と、
前記第１導電層に接続され、前記第１幅よりも小さい第２幅を有する第２導電層と、
前記第１導電層および前記第２導電層の上方に設けられた層間絶縁層と、
前記層間絶縁層の上方に設けられた電極パッドと、
前記電極パッドの上方であって、該電極パッドの少なくとも一部を露出させる開口を有するパッシベーション層と、
前記開口に設けられたバンプと、を含み、
前記バンプは、短辺と長辺とを有する長方形であり、
前記バンプの前記短辺の端の鉛直下方から内側および外側に位置する所定の領域に、前記第１導電層と前記第２導電層とが接続されている接続部が設けられており、
前記接続部には、補強部が設けられ、
前記所定の領域は、前記端の鉛直下方から外側に向かって２．０μｍないし３．０μｍの距離を有し、かつ、内側に向かって２．０μｍないし３．０μｍの距離を有する領域である、半導体装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、前記第１導電層に前記第２導電層が接続されている形状は、Ｔ字状もしくはＬ字状である、半導体装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、前記補強部は、前記第１導電層および前記第２導電層から突出している第３導電層からなる、半導体装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記第１導電層、前記第２導電層および前記第３導電層はポリシリコン層である、半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、パッドやバンプの下方においては、ボンディング時のストレスやバンプの残留応力により、ＭＩＳトランジスタなどの半導体素子だけでなく配線などの導電層の特性が損なわれることがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、電極パッドあるいはバンプの下方に導電層を設けることができ、信頼性の高い半導体装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明の半導体装置は、
半導体層と、
前記半導体層の上方に設けられ、第１幅を有する第１導電層と、
前記第１導電層に接続され、前記第１幅よりも小さい第２幅を有する第２導電層と、
前記第１導電層および前記第２導電層の上方に設けられた層間絶縁層と、
前記層間絶縁層の上方に設けられた電極パッドと、
前記電極パッドの上方であって、該電極パッドの少なくとも一部を露出させる開口を有するパッシベーション層と、を含み、
前記電極パッドは、短辺と長辺とを有する長方形であり、
前記電極パッドの前記短辺の端の鉛直下方から外側に位置する所定の領域に、前記第１導電層と前記第２導電層とが接続されている接続部が設けられており、
前記接続部には、補強部が設けられ、
前記所定の領域は、前記端の鉛直下方から外側に向かって、前記パッシベーション層の膜厚に相当する距離を有する領域であることができる。
【０００７】
本発明の半導体装置において、電極パッドを形成することで、電極パッドの少なくとも一部の端の鉛直下方から外側に位置する所定の領域にはストレスがかかりやすく応力が生じやすい。そのため、この領域に配置される接続部を有する導電層はクラックが生じやすい。そこで、本発明にかかる半導体装置では、この領域に形成される導電層に補強部を設けることで、上記問題を回避することができる。
【００１０】
（２）本発明の半導体装置において、
前記電極パッドの上方であって、該電極パッドの少なくとも一部を露出させる開口を有するパッシベーション層を含み、
前記所定の領域は、前記端の鉛直下方から外側に向かって、１．０μｍないし２．５μｍの距離を有する領域であることができる。
【００１１】
（３）本発明の半導体装置において、
前記開口に設けられたバンプを含むことができる。
【００１４】
（４）本発明の半導体装置は、
半導体層と、
前記半導体層の上方に設けられ、第１幅を有する第１導電層と、
前記第１導電層に接続され、前記第１幅よりも小さい第２幅を有する第２導電層と、
前記第１導電層および前記第２導電層の上方に設けられた層間絶縁層と、
前記層間絶縁層の上方に設けられた電極パッドと、
前記電極パッドの上方であって、該電極パッドの少なくとも一部を露出させる開口を有するパッシベーション層と、
前記開口に設けられたバンプと、を含み、
前記バンプは、短辺と長辺とを有する長方形であり、
前記バンプの前記短辺の端の鉛直下方から内側および外側に位置する所定の領域に、前記第１導電層と前記第２導電層とが接続されている接続部が設けられており、
前記接続部には、補強部が設けられ、
前記所定の領域は、前記端の鉛直下方から外側に向かって２．０μｍないし３．０μｍの距離を有し、かつ、内側に向かって２．０μｍないし３．０μｍの距離を有する領域であることができる。
【００１５】
本発明の半導体装置において、バンプを形成することで、バンプの少なくとも一部の端の鉛直下方から内側および外側に位置する所定の領域にはストレスがかかりやすく応力が生じやすい。そのため、この領域に配置される導電層ははクラックが生じやすい。そこで、本発明にかかる半導体装置では、この領域に形成される導電層に補強部を設けることで、上記問題を回避することができる。
【００１８】
（５）本発明の半導体装置において、
前記第１導電層に前記第２導電層が接続されている形状は、Ｔ字状もしくはＬ字状であることができる。
【００１９】
（６）本発明の半導体装置において、
前記補強部は、前記第１導電層および前記第２導電層から突出している第３導電層からなることができる。
【００２０】
（７）本発明の半導体装置において、
前記第１導電層、前記第２導電層および前記第３導電層はポリシリコン層であることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態の一例について、図面を参照しつつ説明する。
【００２２】
１．第１の実施の形態
図１は、本実施の形態にかかる半導体装置を模式的に示す断面図であり、図２は、本実施の形態にかかる半導体装置において、電極パッドと導電層との関係を模式的に示す平面図である。なお、図１は、図２のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。
【００２３】
図１に示すように、本実施の形態にかかる半導体装置は、半導体層１０を有する。半導体層１０としては、単結晶シリコン基板、絶縁層上に設けられた半導体層（ＳＯＩ：Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）であって、半導体層がシリコン層、ゲルマニウム層およびシリコンゲルマニウム層である基板などを用いることができる。
【００２４】
半導体層１０の上には、導電層１４が設けられている。導電層１４は、図２に示すように、例えばＴ字状の配線であって、具体的には、第１幅を有する第１導電層１４ａと、第１導電層１４ａに接続され第１幅よりも小さい第２幅を有する第２導電層１４ｂとから構成されている。また、前記第１導電層１４ａと前記第２導電層１４ｂとが接続されている境界（「接続部」ともいう）３０には、補強部１４ｃが設けられている。導電層１４としては、ポリシリコン、アルミニウム、アルミニウム合金等を用いることができる。図示していないが、半導体層１０には、ＭＩＳ（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｃｔｏｒ）トランジスタが設けられており、導電層１４は、ＭＩＳトランジスタに電気的に接続されていてもよい。
【００２５】
導電層１４の上方には、導電層１４を覆うように設けられた層間絶縁層５０と、層間絶縁層６０が順次設けられている。層間絶縁層５０および層間絶縁層６０は、公知の一般的な材料を用いることができる。層間絶縁層５０の上には、所定のパターンを有する配線層５２が設けられている。
【００２６】
層間絶縁層６０の上には、電極パッド６２が設けられている。電極パッド６２は、配線層５２とコンタクト層６４により電気的に接続されていることができる。電極パッド６２は、アルミニウムまたは銅等の金属で形成されていることができる。
【００２７】
本実施の形態にかかる半導体装置は、さらに、図１に示すように、パッシべーション層７０を有する。パッシべーション層７０には、電極パッド６２の少なくとも一部を露出させる開口７２が形成されてなる。開口７２は、図１および図２に示すように、電極パッド６２の中央領域のみを露出させるように形成されていてもよい。すなわち、パッシべーション層７０は、電極パッド６２の周縁部を覆うように形成されていることができる。パッシべーション層は、例えば、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、ポリイミド樹脂等で形成されていることができる。なお、本実施の形態にかかる半導体装置では、電極パッドというとき、開口７２が設けられた領域を含み、配線部と比して幅が広い領域のことをいう。
【００２８】
本実施の形態にかかる半導体装置では、少なくとも開口７２には、バンプ８０が設けられている。すなわち、電極パッド６２の露出面の上に、バンプ８０が設けられている。本実施の形態にかかる半導体装置では、バンプ８０は、パッシべーション層７０上に至るように形成されている場合を図示する。バンプ８０は、１層または複数層で形成され、金、ニッケルまたは銅などの金属から形成されていることができる。なお、バンプ８０の外形は特に限定されるものではないが、矩形（正方形および長方形を含む）、あるいは円形をなしていてもよい。また、バンプ８０の外形は、電極パッド６２よりも小さくてもよい。このとき、バンプ８０は、電極パッド６２とオーバーラップする領域内のみに形成されていてもよい。
【００２９】
また、図示していないが、バンプ８０の最下層には、バリア層がもうけられていてもよい。バリア層は、電極パッド６２とバンプ８０の両者の拡散防止を図るためのものである。バリア層は、１層または複数層で形成することができる。バリア層をスパッタリングによって形成してもよい。さらに、バリア層は、電極パッド６２およびバンプ８０の密着性を高める機能をさらに有していてもよい。バリア層は、チタンタングステン（ＴｉＷ）層を有していてもよい。バリア層が複数層で構成される場合、バリア層の最表面は、バンプ８０を析出させる電気めっき給電用の金属層（例えばＡｕ層）であってもよい。
【００３０】
次に、領域１２について、説明する。
【００３１】
領域１２は、電極パッド６２の端の鉛直下方から内側に位置する所定の範囲の領域である。前述したＴ字状の導電層１４の接続部３０が、この領域１２内に設けられている場合、この接続部３０には、補強部１４ｃが設けられている。
【００３２】
Ｔ字状の導電層１４は、例えば、図９（Ａ）に示すように、Ｘ方向に延びる第１導電層１４ａと、該第１導電層１４ａの途中からＹ方向に分岐する第２導電層１４ｂと、第２導電層１４ｂの基端部に形成された補強部１４ｃとを有する。補強部１４ｃは、第１導電層１４ａおよび第２導電層１４ｂから突出する導電層で形成されている。Ｔ字状の導電層１４では、分岐する第２導電層１４ｂが第１導電層１４ａより幅が小さい場合に、第１導電層１４ａと第２導電層１４ｂとの境界付近で、実装時の機械的および熱的ストレスによって、クラックなどの不良が生じやすいが、補強部１４ｃを有することにより、かかる不良を発生しにくい。また、Ｔ字状の屈曲導電層１４は、図１０（Ａ）に示すように、補強部１４ｃの平面形状が階段状であってもよい。補強部１４ｃは、上述した例に限定されず、導電層の補強効果が達成できれば、どのような形状もとることができる。
【００３３】
導電層１４がＬ字状である場合、この導電層１４は、図９（Ｂ）に示すように、Ｘ方向に延びる第１導電層１４ａと、該第１導電層１４ａの端部からＹ方向に延びる第２導電層１４ｂと、第２導電層１４ｂの基端部に形成された補強部１４ｃとを有する。補強部１４ｃは、第１導電層１４ａおよび第２導電層１４ｂから突出する導電層で形成されている。Ｌ字状の屈曲導電層では、第２導電層１４ｂが第１導電層１４ａより幅が小さい場合に、第１導電層１４ａと第２導電層１４ｂとの境界付近で、実装時の機械的および熱的ストレスによって、クラックなどの不良が生じやすいが、補強部１４ｃを有することにより、かかる不良を発生しない。また、Ｌ字状の屈曲導電層１４は、図１０（Ｂ）に示すように、補強部１４ｃの形状が階段状であってもよい。補強部１４ｃは、上述した例に限定されず、補強効果が達成できれば、どのような形状もとることができる。
【００３４】
領域１２の範囲は、電極パッド６２の端の鉛直下方から内側の領域とすることができる。このように領域１２の範囲を、規定した理由は、以下のとおりである。
【００３５】
まず、電極パッド６２が設けられることで、電極パッド６２の端が位置する層間絶縁層６０に応力が生じることとなる。その後、電極パッド６２の上にバンプ８０が設けられることで、バンプ８０の内部応力による継続的な応力がさらに加わる。これらの応力の影響を受け、層間絶縁層５０、６０では、これらの応力が生じている位置（電極パッド６２の端）からクラックが生じることがある。このようなクラックは、最下層の層間絶縁層にまで到達してしまうことがある。たとえば、その領域に導電層が設けられている場合、この導電層にクラックなどの不良が生じてしまうことがある。
【００３６】
領域１２の範囲は、第１層目に限定されず、例えば、第２層目以降に形成された導電層にも適用することができる。
【００３７】
以上のように、本実施の形態の半導体装置によれば、領域１２における導電層として、機械的強度が確保されたＴ字状あるいはＬ字状の屈曲導電層を形成することができ、配線パターンの設計自由度を高めることができる。
【００３８】
２．第２の実施の形態
図３は、本実施の形態にかかる半導体装置を模式的に示す断面図であり、図４は、本実施の形態にかかる半導体装置において、電極パッドと導電層との関係を模式的に示す平面図である。なお、図３は、図４のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。
【００３９】
第２の実施の形態は、領域１２の位置が第１の実施の形態と相違する。第１の実施の形態にかかる半導体装置の部材と実質的に同じ部材には同一符合を付して、その詳細な説明を省略する。
【００４０】
図３に示すように、本実施の形態にかかる半導体装置は、半導体層１０を有する。半導体層１０の上には、導電層１４が設けられている。導電層１４は、図４に示すように、例えばＴ字状の配線であって、具体的には、第１幅を有する第１導電層１４ａと、第１導電層１４ａに接続され第１幅よりも小さい第２幅を有する第２導電層１４ｂとから構成されている。また、前記第１導電層１４ａと前記第２導電層１４ｂとが接続されている境界（「接続部」ともいう）３０には、補強部１４ｃが設けられている。導電層１４としては、ポリシリコン、アルミニウム、アルミニウム合金等を用いることができる。図示していないが、半導体層１０には、ＭＩＳ（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｃｔｏｒ）トランジスタが設けられており、導電層１４は、ＭＩＳトランジスタに電気的に接続されていてもよい。
【００４１】
導電層１４の上方には、導電層１４覆うように設けられた層間絶縁層５０と、層間絶縁層６０が順次設けられている。層間絶縁層５０および層間絶縁層６０は、公知の一般的な材料を用いることができる。層間絶縁層５０の上には、所定のパターンを有する配線層５２が設けられている。層間絶縁層６０の上には、電極パッド６２が設けられている。電極パッド６２は、配線層５２とコンタクト層６４により電気的に接続されていることができる。
【００４２】
本実施の形態にかかる半導体装置は、さらに、図３に示すように、パッシべーション層７０を有する。パッシべーション層７０には、電極パッド６２の少なくとも一部を露出させる開口７２が形成されてなる。
【００４３】
本実施の形態にかかる半導体装置では、少なくとも開口７２には、バンプ８０が設けられている。すなわち、電極パッド６２の露出面の上に、バンプ８０が設けられている。バンプ８０は、パッシべーション層７０上に至るように形成されている。
【００４４】
次に、領域１２について、説明する。
【００４５】
領域１２は、電極パッド６２の端の鉛直下方から外側に位置する所定の範囲の領域である。
【００４６】
前述したＴ字状の導電層１４の接続部３０が、この領域１２に設けられている場合、この接続部３０には、補強部１４ｃが設けられている。
【００４７】
導電層１４としては、第１の実施の形態で述べたと同様のＴ字状またはＬ字状の形状を有することができる。これらの導電層１４は補強部１４ｃを有することにより、第１導電層１４ａと第２導電層１４ｂとの境界付近で生じやすい、実装時の機械的および熱的ストレスによるクラックなどの不良を発生しにくくなる。
【００４８】
領域１２の範囲は、電極パッド６２の端の鉛直下方から外側（開口７２と反対側）に向かって、パッシべーション層７０の膜厚に相当する距離を有する範囲とすることができる。たとえば、電極パッド６２の端から外側に向かって、１．０μｍないし２．５μｍの距離を有する範囲とすることができる。このように領域１２の範囲を、規定した理由は、以下のとおりである。
【００４９】
まず、電極パッド６２が設けられることで、電極パッド６２の端が位置する層間絶縁層６０に応力が生じることとなる。その後、電極パッド６２の上にバンプ８０が設けられることで、バンプ８０の内部応力による継続的な応力がさらに加わる。これらの応力の影響を受け、層間絶縁層５０、６０では、これらの応力が生じている位置（電極パッド６２の端）からクラックが生じることがある。このようなクラックは、最下層の層間絶縁層にまで到達してしまうことがある。たとえば、その領域に導電層が設けられている場合、この導電層にクラックなどの不良が生じてしまうことがある。
【００５０】
また、パッシべーション層７０は、上面の高さが均一な面上に設けられる訳ではなく、電極パッド６２の形状に応じて段差が生じることとなる。その段差がある領域では、たとえば、ＣＯＦ（Chip  On  Film）実装をする際に、フィルムに設けられた接続線（リード線）を介してバンプ８０と接続する際にその接触・接合によるストレスが集中しやすく、このことも層間絶縁層５０、６０にクラックが生じる一因となりうる。そして、この段差は、電極パッド６２の端から外側に向かって、ほぼパッシべーション層７０の膜厚に相当する距離を有する位置に生じやすい。上記の問題を考慮して、領域１２の範囲を規定することができる。
【００５１】
領域１２の範囲は、第１層目に限定されず、例えば、第２層目以降に形成された導電層にも適用することができる。また、領域１２は、電極パッド６２の少なくとも一部の端の鉛直下方から外側に位置する所定の範囲の領域であってもよい。
【００５２】
以上のように、本実施の形態の半導体装置によれば、領域１２における導電層として、機械的強度が確保されたＴ字状あるいはＬ字状の屈曲導電層を形成することができ、配線パターンの設計自由度を高めることができる。
【００５３】
３．第３の実施の形態
図５は、本実施の形態にかかる半導体装置を模式的に示す断面図であり、図６は、本実施の形態にかかる半導体装置において、バンプと導電層との関係を模式的に示す平面図である。なお、図５は、図６のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。
【００５４】
第３の実施の形態は、領域１２の位置が第１、第２の実施の形態と相違する。第１の実施の形態にかかる半導体装置の部材と実質的に同じ部材には同一符合を付して、その詳細な説明を省略する。
【００５５】
図５に示すように、本実施の形態にかかる半導体装置は、半導体層１０を有する。半導体層１０の上には、導電層１４が設けられている。導電層１４は、図６に示すように、例えばＴ字状の配線であって、具体的には、第１幅を有する第１導電層１４ａと、第１導電層１４ａに接続され第１幅よりも小さい第２幅を有する第２導電層１４ｂとから構成されている。また、前記第１導電層１４ａと前記第２導電層１４ｂとが接続されている境界（「接続部」ともいう）３０には、補強部１４ｃが設けられている。導電層１４としては、ポリシリコン、アルミニウム、アルミニウム合金等を用いることができる。図示していないが、半導体層１０には、ＭＩＳ（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｃｔｏｒ）トランジスタが設けられており、導電層１４は、ＭＩＳトランジスタに電気的に接続されていてもよい。
【００５６】
導電層１４の上方には、導電層１４覆うように設けられた層間絶縁層５０と、層間絶縁層６０が順次設けられている。層間絶縁層５０および層間絶縁層６０は、公知の一般的な材料を用いることができる。層間絶縁層５０の上には、所定のパターンを有する配線層５２が設けられている。層間絶縁層６０の上には、電極パッド６２が設けられている。電極パッド６２は、配線層５２とコンタクト層６４により電気的に接続されていることができる。
【００５７】
本実施の形態にかかる半導体装置は、さらに、図５に示すように、パッシべーション層７０を有する。パッシべーション層７０には、電極パッド６２の少なくとも一部を露出させる開口７２が形成されてなる。
【００５８】
本実施の形態にかかる半導体装置では、少なくとも開口７２には、バンプ８０が設けられている。すなわち、電極パッド６２の露出面の上に、バンプ８０が設けられている。本実施の形態にかかる半導体装置では、バンプ８０は、パッシべーション層７０上に至るように形成されている場合を図示する。
【００５９】
次に、領域１２について、説明する。
【００６０】
領域１２は、バンプ８０の端の鉛直下方から内側に位置する範囲の領域である。
【００６１】
前述したＴ字状の導電層１４の接続部３０が、この領域１２に設けられている場合、この接続部３０には、補強部１４ｃが設けられている。
【００６２】
導電層１４としては、第１の実施の形態で述べたと同様のＴ字状またはＬ字状の形状を有することができる。これらの導電層１４は補強部１４ｃを有することにより、第１導電層１４ａと第２導電層１４ｂとの境界付近で生じやすい、実装時の機械的および熱的ストレスによるクラックなどの不良を発生しにくくなる。
【００６３】
領域１２の範囲は、バンプ８０の端の鉛直下方から内側の領域とすることができる。このように領域１２の範囲を、規定した理由は、以下のとおりである。
【００６４】
まず、電極パッド６２が設けられることで、電極パッド６２の端が位置する層間絶縁層６０に応力が生じることとなる。その後、図５に示すように、電極パッド６２の上にバンプ８０が設けられることで、バンプ８０の内部応力による継続的な応力がさらに加わる。これらの応力の影響を受け、層間絶縁層５０、６０では、これらの応力が生じている位置（電極パッド６２の端）からクラックが生じることがある。このようなクラックは、最下層の層間絶縁層にまで到達してしまうことがある。たとえば、その領域に導電層が設けられている場合、この導電層にクラックなどの不良が生じてしまうことがある。
【００６５】
領域１２の範囲は、第１層目に限定されず、例えば、第２層目以降に形成された導電層にも適用することができる。また、領域１２は、電極パッド６２の少なくとも一部の端の鉛直下方から外側に位置する所定の範囲の領域であってもよい。
【００６６】
以上のように、本実施の形態の半導体装置によれば、領域１２における導電層として、機械的強度が確保されたＴ字状あるいはＬ字状の屈曲導電層を形成することができ、配線パターンの設計自由度を高めることができる。
【００６７】
４．第４の実施の形態
図７は、本実施の形態にかかる半導体装置を模式的に示す断面図であり、図８は、本実施の形態にかかる半導体装置において、バンプと導電層との関係を模式的に示す平面図である。なお、図７は、図８のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。
【００６８】
第４の実施の形態は、領域１２の位置が第１ないし第３の実施の形態と相違する。第１の実施の形態にかかる半導体装置の部材と実質的に同じ部材には同一符合を付して、その詳細な説明を省略する。
【００６９】
図７に示すように、本実施の形態にかかる半導体装置は、半導体層１０を有する。半導体層１０の上には、導電層１４が設けられている。導電層１４は、図８に示すように、例えばＴ字状の配線であって、具体的には、第１幅を有する第１導電層１４ａと、第１導電層１４ａに接続され第１幅よりも小さい第２幅を有する第２導電層１４ｂとから構成されている。また、前記第１導電層１４ａと前記第２導電層１４ｂとが接続されている境界（接続部ともいう）３０には、補強部１４ｃが設けられている。導電層１４としては、ポリシリコン、アルミニウム、アルミニウム合金等を用いることができる。図示していないが、半導体層１０には、ＭＩＳ（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｃｔｏｒ）トランジスタが設けられており、導電層１４は、ＭＩＳトランジスタに電気的に接続されていてもよい。
【００７０】
導電層１４の上方には、導電層１４覆うように設けられた層間絶縁層５０と、層間絶縁層６０が順次設けられている。層間絶縁層５０および層間絶縁層６０は、公知の一般的な材料を用いることができる。層間絶縁層５０の上には、所定のパターンを有する配線層５２が設けられている。層間絶縁層６０の上には、電極パッド６２が設けられている。電極パッド６２は、配線層５２とコンタクト層６４により電気的に接続されていることができる。
【００７１】
本実施の形態にかかる半導体装置は、さらに、図７に示すように、パッシべーション層７０を有する。パッシべーション層７０には、電極パッド６２の少なくとも一部を露出させる開口７２が形成されてなる。
【００７２】
本実施の形態にかかる半導体装置では、少なくとも開口７２には、バンプ８０が設けられている。すなわち、電極パッド６２の露出面の上に、バンプ８０が設けられている。本実施の形態にかかる半導体装置では、バンプ８０は、パッシべーション層７０上に至るように形成されている場合を図示する。
【００７３】
次に、領域１２について、説明する。
【００７４】
領域１２は、バンプ８０の端の鉛直下方から内側および外側に位置する所定の範囲の領域である。
【００７５】
前述したＴ字状の導電層１４の接続部３０が、この領域１２に設けられている場合、この接続部３０には、補強部１４ｃが設けられている。
【００７６】
導電層１４としては、第１の実施の形態で述べたと同様のＴ字状またはＬ字状の形状を有することができる。これらの導電層１４は補強部１４ｃを有することにより、第１導電層１４ａと第２導電層１４ｂとの境界付近で生じやすい、実装時の機械的および熱的ストレスによるクラックなどの不良を発生しにくくなる。
【００７７】
領域１２の範囲は、バンプ８０の端の鉛直下方から外側（開口７２と反対側）に向かって、２．０μｍないし３．０μｍ、および内側（開口７２の側）に向かって、２．０μｍないし３．０μｍの距離を有する範囲とすることができる。このように領域１２の範囲を規定した理由は、以下のとおりである。
【００７８】
バンプ８０が形成される過程で、バンプ８０の端近傍では、応力が生じることとなる。そして、バンプ８０が設けられた後には、バンプ８０の内部応力による継続的な応力がバンプ端８０の近傍にかかることとなる。これらの応力の影響を受け、層間絶縁層５０、６０では、これらの応力が生じている位置からクラックが生じることがある。このようなクラックは、最下層の層間絶縁層にまで到達してしまうことがあり、その領域に設けられている導電層にクラックなどの不良を生じてしまうことがある。
【００７９】
領域１２の範囲は、第１層目に限定されず、例えば、第２層目以降に形成された導電層にも適用することができる。また、領域１２は、電極パッド６２の少なくとも一部の端の鉛直下方から外側に位置する所定の範囲の領域であってもよい。
【００８０】
以上のように、本実施の形態の半導体装置によれば、領域１２における導電層として、機械的強度が確保されたＴ字状あるいはＬ字状の導電層を形成することができ、配線パターンの設計自由度を高めることができる。
【００８１】
５．変形例
次に、第２の実施の形態および第４の実施の形態にかかる半導体装置の変形例について、図１１（Ａ），（Ｂ）を参照しつつ説明する。本変形例は、電極パッド６２およびバンプ８０の形状が長方形状である点が特徴であり、図１１（Ａ），（Ｂ）は、バンプ８０、電極パッド６２および領域１２の位置関係を模式的に示す平面図である。なお、以下の説明では、第２の実施の形態および第４の実施の形態にかかる半導体装置と異なる点についてのみ説明する。
【００８２】
本変形例にかかる半導体装置では、図３および図７に参照されるように、電極パッド６２の上の開口７２に、バンプ８０が設けられている。本変形例では、電極パッド６２は、長方形の形状を有する。そして、電極パッド６２の上面に一部に開口７２が設けられ、開口７２には、バンプ８０が設けられている。バンプ８０は、電極パッド６２より小さい平面形状を有し、図１１（Ａ），（Ｂ）に示すように、平面的にみたときに、電極パッド６２の内側に設けられていることが好ましい。
【００８３】
第１の変形例は、第２の実施の形態に関する変形例である。この変形例では、図１１（Ａ）に示すように、領域１２は、電極パッド６２の短辺の端の鉛直下方から外側に位置する領域に設けられている。この態様によれば、たとえば、ＴＡＢ技術により実装する際に、ポリイミド樹脂などからなるフィルムに設けられた接続線（リード線）の延伸方向が電極パッド６２の長辺に沿った方向であるときに、以下のような利点がある。すなわち、この場合、電極パッド６２は、接続線の延伸方向に引っ張られた状態となり、特に電極パッド６２の短辺側にストレスがかかることとなる。そのため、特に電極パッド６２の短辺の端で、層間絶縁層５０、６０にクラックが発生するという問題が起きやすくなる。本変形例では、領域１２を電極パッド６２の短辺側に設けることで、信頼性の低下を招く場所に、半導体素子が設けられることを確実に禁止することができる。
【００８４】
第２の変形例は、第４の実施の形態に関する変形例である。この変形例では、図１１（Ｂ）に示すように、領域１２は、バンプ８０の短辺の端の鉛直下方から内側および外側に位置する領域に設けられている。
【００８５】
特に、図１２に示すように、微細化が図られた半導体チップ２００では、開口７２およびパンブ８０の平面形状を長方形状にして、数多くの開口７２を設ける構造が要求されることがある。本変形例では、このように長方形状の電極パッド６２（バンプ８０）を有する半導体装置であっても、適切な領域に領域１２を設けることで、微細化および信頼性の向上が図られた半導体装置を提供することができる。
【００８６】
なお、上述の実施の形態では、２層の層間絶縁層５０、６０で構成され、その間に１層の配線層５２が設けられている場合を図示したが、これに限定されることなく、３層以上の層間絶縁層が積層され、その層間絶縁層の層数に応じた配線層が複数層にわたり設けられた構造を有していてもよい。
【００８７】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。たとえば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（たとえば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および結果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】第１の実施の形態にかかる半導体装置を説明する図。
【図２】第１の実施の形態にかかる半導体装置を説明する図。
【図３】第２の実施の形態にかかる半導体装置を説明する図。
【図４】第２の実施の形態にかかる半導体装置を説明する図。
【図５】第３の実施の形態にかかる半導体装置を説明する図。
【図６】第３の実施の形態にかかる半導体装置を説明する図。
【図７】第４の実施の形態にかかる半導体装置を説明する図。
【図８】第４の実施の形態にかかる半導体装置を説明する図。
【図９】（Ａ），（Ｂ）は、Ｔ字状もしくはＬ字状の屈曲導電層の例を示す図。
【図１０】（Ａ），（Ｂ）は、Ｔ字状もしくはＬ字状の屈曲導電層の例を示す図。
【図１１】（Ａ），（Ｂ）は、第２および第４の実施の形態の変形例にかかる半導体装置を説明する図。
【図１２】変形例にかかる半導体装置を説明する図。
【符号の説明】
【００８９】
１０…半導体層、  １２…領域、  １４…Ｔ字状もしくはＬ字状の導電層、  １４ａ…第１導電層、  １４ｂ…第２導電層、  １４ｃ…補強部、  ３０…境界（接続部）、  ５０…層間絶縁層、  ５２…配線層、  ６０…層間絶縁層、  ６２…電極パッド、７０…パッシベーション層、  ７２…開口、  ８０…バンプ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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