(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地膜、磁性膜、保護膜を形成した被検体を、周方向に回転させるとともに、この被検体上で浮上式検査用磁気ヘッドを浮上走行させ、この磁気ヘッドからの再生信号の周波数特性を観察しつつ、（I）被検体の回転数を、再生信号の出力の周波数成分の局部的な上昇が起きるまで減少させた後、（ＩＩ）被検体の回転数を、前記出力上昇が消失するまで増加させる浮上走行試験を行い、（I）において出力上昇が発生した時点の被検体の回転数と、（ＩＩ）において出力上昇が消失した時点の被検体の回転数との差が、予め設定された基準値以下となることを確認することを特徴とする磁気記録媒体の検査方法。
【請求項２】
請求項１記載の磁気記録媒体の検査方法において、浮上式検査用磁気ヘッドとして、磁気信号を抵抗変化に変換することにより再生信号を取り出す機能を有するものを用いることを特徴とする磁気記録媒体の検査方法。
【請求項３】
非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地膜、磁性膜、保護膜を形成した被検体を、周方向に回転させつつ、この被検体上で浮上式検査用磁気ヘッドを浮上走行させ、（I）被検体の回転数を、磁気ヘッドが振動を起こすまで減少させた後、（ＩＩ）被検体の回転数を、磁気ヘッドの振動が停止するまで増加させる浮上走行試験を行い、（I）において磁気ヘッドの振動が発生した時点の被検体の回転数と、（ＩＩ）において磁気ヘッドの振動が停止した時点の被検体の回転数との差が、予め設定された基準値以下となることを確認することを特徴とする磁気記録媒体の検査方法。
【請求項４】
請求項３記載の磁気記録媒体の検査方法において、浮上式検査用磁気ヘッドに試験光を照射し、この磁気ヘッドからの反射光の変化に基づいて磁気ヘッドの振動を検出することを特徴とする磁気記録媒体の検査方法。
【請求項５】
請求項３記載の磁気記録媒体の検査方法において、浮上式検査用磁気ヘッドが浮上走行する被検体面に対し反対側の被検体面に試験光を照射し、該被検体面からの反射光の変化に基づいて磁気ヘッドの振動を検出することを特徴とする磁気記録媒体の検査方法。
【請求項６】
請求項１〜５のうちいずれか１項に記載の磁気記録媒体の検査方法を検査工程として含む磁気記録媒体の製造方法であって、前記浮上走行試験に先だって、非磁性基板上に少なくとも非磁性下地膜、磁性膜、保護膜を形成した媒体基板の表面を研磨処理する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
研磨処理を行うにあたって、媒体基板の表面を、研磨砥粒を備えた研磨テープで研磨することを特徴とする請求項６記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
研磨砥粒として焼結アルミナからなるものを用いることを特徴とする請求項７記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
研磨砥粒として、平均粒径が１．０μｍ未満であるものを用いることを特徴とする請求項７または８記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
研磨処理を行う際に、研磨テープを媒体基板の表面に押し当てる押圧部材を用い、この押圧部材として、硬度が５０度以上であるものを用いることを特徴とする請求項７〜９のうちいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
押圧部材として、円筒型またはパッド型であるものを用いることを特徴とする請求項１０記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
研磨処理を行うにあたって、媒体基板を回転させ、この媒体基板の回転数を、５０〜１５００ｒｐｍとすることを特徴とする請求項７〜１１のうちいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１３】
研磨処理を行う際に、押圧部材の押圧力を４０〜１２００ｇ／ｃｍ2に設定することを特徴とする請求項１０〜１２のうちいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜５のうちいずれか１項に記載の磁気記録媒体の検査方法によって検査されることにより前記基準値以下となることを確認されたものであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１５】
請求項１４記載の磁気記録媒体において、（I）において出力上昇または振動が発生した時点の被検体の回転数と、（ＩＩ）において出力上昇または振動が消失した時点の被検体の回転数との差が、２０００ｒｐｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１６】
請求項１４または１５記載の磁気記録媒体において、最大突起高さＲｐと表面平均粗さＲａとの比Ｒｐ／Ｒａが８以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１７】
請求項１４〜１６のうちいずれか１項に記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えていることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項１８】
請求項１〜２のうちいずれか１項に記載の磁気記録媒体の検査方法に用いられる検査装置であって、
非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地膜、磁性膜、保護膜を形成した被検体を、周方向に回転可能に支持する支持部と、被検体上を浮上走行可能な浮上式検査用磁気ヘッドと、この磁気ヘッドからの再生信号を演算処理し周波数特性を得る演算部とを備え、被検体の回転数を任意に設定できるように構成されていることを特徴とする磁気記録媒体の検査装置。
【請求項１９】
請求項３〜４のうちいずれか１項に記載の磁気記録媒体の検査方法に用いられる検査装置であって、
非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地膜、磁性膜、保護膜を形成した被検体を、周方向に回転可能に支持する支持部と、被検体上を浮上走行可能な浮上式検査用磁気ヘッドと、この磁気ヘッドに試験光を照射する試験光源と、磁気ヘッドからの反射光に基づいて検知信号を発する受光部と、受光部からの検知信号を演算処理する演算部とを備え、被検体の回転数を任意に設定できるように構成されていることを特徴とする磁気記録媒体の検査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気ディスク装置などに用いられる磁気記録媒体、その製造方法、磁気記録再生装置、磁気記録媒体の検査方法および検査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ハードディスクドライブなどの磁気ディスク装置などにおいて、磁気ヘッドのデータトラックへの追従やシークを行う際には、磁気記録媒体に記録されたサーボ情報が、位置基準として用いられる。
このため、磁気記録媒体における記録および再生を精度よく行うためには、サーボ情報の書き込みを正確に行うとともに、サーボ情報を確実に認識できることが重要である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
近年では、記録密度の向上が望まれており、これに伴って高い精度で記録再生を行うことができる磁気記録媒体が求められている。
しかしながら、従来の磁気記録媒体では、サーボ情報の書き込みおよび認識の正確性が低いため、磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの位置決め精度が低くなり、記録再生のための磁気ヘッド位置決め精度が不充分となる問題があった。
このため、サーボ情報の書き込みおよび認識を正確に行うことができる磁気記録媒体が要望されていた。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる磁気記録媒体、その製造方法、磁気記録再生装置、検査方法および検査装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、サーボ情報の書き込みおよび認識精度の低下が、磁気ヘッドの共振によって起こるものであり、この振動が発生しにくい磁気記録媒体では、優れた書き込みおよび認識の精度を得ることができることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。
本発明の磁気記録媒体の検査方法は、非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地膜、磁性膜、保護膜を形成した被検体を、周方向に回転させるとともに、この被検体上で浮上式検査用磁気ヘッドを浮上走行させ、この磁気ヘッドからの再生信号の周波数特性を観察しつつ、（I）被検体の回転数を、再生信号の出力の周波数成分の局部的な上昇が起きるまで減少させた後、（ＩＩ）被検体の回転数を、前記出力上昇が消失するまで増加させる浮上走行試験を行い、（I）において出力上昇が発生した時点の被検体の回転数と、（ＩＩ）において出力上昇が消失した時点の被検体の回転数との差が、予め設定された基準値以下となることを確認することを特徴とする。
この方法を採る場合には、浮上式検査用磁気ヘッドとして、磁気信号を抵抗変化に変換することにより再生信号を取り出す機能を有するものを用いるのが好ましい。
上記再生信号の出力の乱れは、磁気ヘッドの振動に起因するものであると考えられることから、出力上昇が発生した時点の被検体の回転数と、出力上昇が消失した時点の被検体の回転数との差が基準値以下となることを確認することによって、磁気ヘッドの振動が起こりにくく、磁気ヘッドを媒体上で安定的に浮上走行させ得る磁気記録媒体を選択することができる。従って、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる磁気記録媒体を得ることができる。
本発明では、被検体を、周方向に回転させつつ、この被検体上で浮上式検査用磁気ヘッドを浮上走行させ、（I）被検体の回転数を、磁気ヘッドが振動を起こすまで減少させた後、（ＩＩ）被検体の回転数を、磁気ヘッドの振動が停止するまで増加させる浮上走行試験を行い、（I）において磁気ヘッドの振動が発生した時点の被検体の回転数と、（ＩＩ）において磁気ヘッドの振動が停止した時点の被検体の回転数との差が、予め設定された基準値以下となることを確認する方法を採ることもできる。
この方法を採る場合には、浮上式検査用磁気ヘッドに試験光を照射し、この磁気ヘッドからの反射光の変化に基づいて磁気ヘッドの振動を検出するのが好ましい。また浮上式検査用磁気ヘッドが浮上走行する被検体面に対し反対側の被検体面に試験光を照射し、該被検体面からの反射光の変化に基づいて磁気ヘッドの振動を検出することもできる。
本発明では、前記浮上走行試験に先だって、非磁性基板上に少なくとも非磁性下地膜、磁性膜、保護膜を形成した媒体基板の表面を研磨処理するのが好ましい。研磨処理を行うにあたっては、媒体基板の表面を、研磨砥粒を備えた研磨テープで研磨する方法を採るのが好ましい。研磨砥粒としては、焼結アルミナからなるものを用いるのが好ましい。研磨砥粒としては、平均粒径が１．０μｍ未満であるものを用いるのが好ましい。研磨処理を行う際には、研磨テープを媒体基板の表面に押し当てる押圧部材を用い、この押圧部材として、硬度が５０度以上であるものを用いるのが好ましい。押圧部材としては、円筒型またはパッド型であるものを用いることができる。研磨処理を行うにあたっては、媒体基板を回転させ、この媒体基板の回転数を、５０〜１５００ｒｐｍとするのが好ましい。研磨処理を行う際には、押圧部材の押圧力を４０〜１２００ｇ／ｃｍ2に設定するのが好ましい。
本発明の磁気記録媒体は、上記磁気記録媒体の検査方法によって検査されたものであることを特徴とする。
本発明の磁気記録媒体では、（I）において出力上昇または振動が発生した時点の被検体の回転数と、（ＩＩ）において出力上昇または振動が消失した時点の被検体の回転数との差が、２０００ｒｐｍ以下であるのが好ましい。最大突起高さＲｐと表面平均粗さＲａとの比Ｒｐ／Ｒａは、８以下であることが好ましい。
本発明の磁気記録再生装置は、上記磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えていることを特徴とする。
本発明の磁気記録媒体の検査装置は、非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地膜、磁性膜、保護膜を形成した被検体を、周方向に回転可能に支持する支持部と、被検体上を浮上走行可能な浮上式検査用磁気ヘッドと、この磁気ヘッドからの再生信号を演算処理し周波数特性を得る演算部とを備え、被検体の回転数を任意に設定できるように構成されていることを特徴とする。
本発明の磁気記録媒体の検査装置は、被検体を、周方向に回転可能に支持する支持部と、被検体上を浮上走行可能な浮上式検査用磁気ヘッドと、この磁気ヘッドに試験光を照射する試験光源と、磁気ヘッドからの反射光に基づいて検知信号を発する受光部と、受光部からの検知信号を演算処理する演算部とを備え、被検体の回転数を任意に設定できるように構成することもできる。
【０００５】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示すもので、ここに示す磁気記録媒体は、非磁性基板１上に、非磁性下地膜２、磁性膜３、保護膜４、および潤滑膜５が順次形成されたものである。
非磁性基板１としては、アルミニウム基板、ガラス基板、セラミック基板、カーボン基板、可撓性樹脂基板、またはこれらの表面にＮｉＰ膜を形成した基板を用いることができる。
非磁性基板１としては、表面にテクスチャ加工が施されたものを用いるのが好ましい。
【０００６】
非磁性基板１には、ある程度の平坦性が要求される。
基板１の表面凹凸が過大であると、得られる磁気記録媒体の表面凹凸が大きくなる。このため、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面凸部に衝突しやすくなり、サーボ情報書き込みおよび認識に悪影響を与えるおそれがある。
このため、非磁性基板１の表面平均粗さＲａは２ｎｍ以下（好ましくは１．５ｎｍ以下、さらに好ましくは１ｎｍ以下）とするのが好適である。
また最大突起高さＲｐは、５．５ｎｍ以下（好ましくは４．５ｎｍ以下、さらに好ましくは３．５ｎｍ以下）とするのが好適である。
【０００７】
また、非磁性基板１は、表面のうねり高さＲｔ（非磁性基板１の所定領域内の最高点と最低点の高さの差）をある程度以下に抑えることが好ましい。
うねり高さＲｔが大きすぎると、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、媒体表面の凹凸が、基板表面形状に即して走行する磁気ヘッドの振動発生の契機となり、この磁気ヘッドの振動によってサーボ情報書き込みおよび認識の精度が低下するおそれがある。
このことから、うねり高さＲｔは、３００ｎｍ以下（好ましくは２５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２００ｎｍ以下）とするのが望ましい。なお、うねりとは表面凹凸の周期が８０μｍ以上であるものをいう。
【０００８】
非磁性下地膜２には、従来公知の下地膜材料、例えばＣｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、Ｎｂのうち１種以上を用いることができる。
なかでも特に、ＣｒまたはＣｒ合金（例えばＣｒＴｉ系、ＣｒＷ系、ＣｒＭｏ系、ＣｒＶ系、ＣｒＳｉ系）を用いるのが、磁性膜３の配向性向上の点から好適である。
また非磁性下地膜２は単層構造としてもよいし、多層構造としてもよい。
非磁性下地膜２の厚さは、１〜１００ｎｍ（好ましくは２〜５０ｎｍ）とするのが磁気特性、電磁変換特性の点から望ましい。
【０００９】
磁性膜３には、Ｃｏを含む材料を用いるのが好ましい。この材料としては、例えばＣｒ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｂ、Ｔｉ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｕ、Ｗ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｉ、ＦｅおよびＭｏのうち１種以上を、Ｃｏに加えたＣｏ合金を用いることができる。
上記材料の好適な具体例としては、ＣｏＣｒＴａ系、ＣｏＣｒＰｔ系、ＣｏＣｒＰｔＴａ系の合金を主成分とするものを挙げることができる。なかでも特に、ＣｏＣｒＰｔＴａ系の合金を用いるのが磁気特性の点から好ましい。
磁性膜３の厚さは、５〜３０ｎｍ（好ましくは１０〜２０ｍｍ）とすることができる。磁性膜３の厚さをこの範囲にすることによって、良好な電磁変換特性を得ることができる。
【００１０】
保護膜４の材料としては、従来公知のものを使用してよく、例えばカーボン、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化ジルコニウムを挙げることができる。これらカーボン、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化ジルコニウムは、純物質を用いてもよいし、これらを主成分とし他の成分を含むものを用いてもよい。
保護膜４の厚さは、２〜１０ｎｍとするのが好ましい。
【００１１】
保護膜４は、ある程度の表面凹凸を有することが望ましく、表面平均粗さＲａは０．１ｎｍ以上（好ましくは０．２ｎｍ以上、さらに好ましくは０．３ｎｍ以上）とするのが好適である。
表面凹凸が小さすぎると、得られる磁気記録媒体の表面凹凸が不足する。このため、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、後述するように、磁気ヘッドの振動に起因して、サーボ情報書き込みおよび認識の精度が低下するおそれがある。
このことから、予め非磁性基板１の表面平均粗さＲａは０．１ｎｍ以上（好ましくは０．２ｎｍ以上、さらに好ましくは０．３ｎｍ以上）とするのが好適である。保護膜４は、ほぼ基板の円周方向に沿うテクスチャ加工を施したものがより好ましい。
【００１２】
潤滑膜５には、従来公知のものを用いることができ、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を挙げることができる。
【００１３】
磁気記録媒体の表面平均粗さＲａは２ｎｍ以下（好ましくは１．５ｎｍ以下、さらに好ましくは１ｎｍ以下）とするのが望ましい。
この磁気記録媒体は、表面に、ほぼ基板の円周方向に沿う溝状痕を有する構成とするのが好ましく、半径方向の表面平均粗さＲａが上記範囲（２ｎｍ以下、好ましくは１．５ｎｍ以下、さらに好ましくは１ｎｍ以下）にあることが望ましい。
また最大突起高さＲｐは、５ｎｍ以下（好ましくは４ｎｍ以下、さらに好ましくは３ｎｍ以下）とするのが好ましい。
これら表面平均粗さＲａおよび最大突起高さＲｐが上記範囲を越えると、表面凹凸が大きくなり、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面凸部に衝突しやすくなり、サーボ情報書き込みおよび認識に悪影響を与えるおそれがある。
【００１４】
磁気記録媒体の最大突起高さＲｐ表面平均粗さＲａとの比Ｒｐ／Ｒａは、８以下（好ましくは７．５以下、さらに好ましくは７以下）であることが望ましい。
この比Ｒｐ／Ｒａが上記範囲を越えると、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面凸部に衝突しやすくなり、サーボ情報書き込みおよび認識に悪影響を与えるおそれがある。
【００１５】
次に、上記構成の磁気記録媒体を製造する場合を例として、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を説明する。図２ないし図４は、本実施形態の製造方法に用いられる装置を示すものである。
図２は、本実施形態の製造方法に用いられるテクスチャ加工装置を示すものであり、ここに示すテクスチャ加工装置は、テクスチャ加工を施すべき非磁性基板１を回転可能に支持する基板支持部２４と、非磁性基板１を機械的に研磨する研磨テープＡを走行させる研磨テープ供給部２５、２５と、研磨テープＡを基板１表面の一領域に押し当てるコンタクトローラ２６、２６と、研磨テープＡと基板１の接触部分に砥粒を供給する砥粒供給ノズル２７、２７を有する。
研磨テープ供給部２５は、送出ロール２５ａに巻き付けられた汎用のポリッシングテープなどの研磨テープＡを、引取ロール２５ｂによって、研磨テープＡが接触する部分の基板１の半径方向に対して垂直な方向に、任意の速度で引き取ることができるように構成されている。研磨テープ供給部２５は、基板１の両面側に各々設けられている。
研磨テープ供給部２５は、図示せぬ揺動機構によって、研磨テープＡを、テープ走行方向に対しほぼ垂直な方向に揺動させることができるように構成するのが好ましい。
【００１６】
図３は、本実施形態の製造方法に用いられる研磨処理装置を示すもので、ここに示す研磨処理装置は、研磨処理を施すべき媒体基板６を回転可能に支持する基板支持部３４と、非磁性基板１を機械的に研磨する研磨テープＢを走行させる研磨テープ供給部３５、３５と、研磨テープＢを基板６表面の一領域に押し当てる押圧部材であるコンタクトローラ３６、３６とを備えている。
研磨テープ供給部３５は、送出ロール３５ａに巻き付けられた研磨テープＢを、引取ロール３５ｂによって、研磨テープＢが接触する部分の基板６の半径方向に対して垂直な方向に、任意の速度で引き取ることができるように構成されている。研磨テープ供給部３５は、基板６の両面側に各々設けられている。
【００１７】
コンタクトローラ３６は、合成樹脂、ゴム、金属などからなる円筒状物とされ、基板６の両面側にそれぞれ設けられ、テープ走行方向に対してほぼ垂直な方向に沿い、かつ研磨テープＢを介して基板６に接するように配設されている。
コンタクトローラ３６としては、硬度が５０度以上（好ましくは６０度以上）であるものを用いるのが好ましい。この硬度が上記範囲未満であると、研磨処理効率が低下し、表面凹凸が小さくなり、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、後述するように、磁気ヘッドの振動に起因して、サーボ情報書き込みおよび認識の精度が低下するおそれがある。またこの硬度は、高すぎると研磨処理が不均一となりやすく、しかも大きな研磨痕が形成されやすくなるため、１００度以下とするのが好ましい。なおここでいう硬度とは、ＪＩＳ Ｋ ６３０１（１９９５）の５．２（スプリング式硬さ試験）に準拠する。
コンタクトローラ３６の外径は、研磨テープＢと基板６の接触の安定性から定めることができ、例えば２０〜１００ｍｍとすることができる。また軸方向長さは、研磨処理時に、基板６の研磨処理を施すべき面の最内周側から最外周側に至る長さに設定するのが好ましい。
コンタクトローラ３６は、基板６方向に付勢され、上記研磨テープＢを所定の押圧力、例えば４０〜１２００ｇ／ｃｍ2（好ましくは６０〜１０００ｇ／ｃｍ2）で基板６に押し当てることができるように構成するのが好ましい。
【００１８】
研磨テープＢとしては、テープ本体の表面に研磨砥粒を固定したもの（例えばラッピングテープ）を用いることができる。
研磨砥粒としては、アルミナ系、ダイヤモンド系、炭化珪素系、ＳｉＯ系、ＴｉＯ2系のもの等が使用可能であり、特に、研磨効率の点から焼結アルミナからなるものを用いるのが好ましい。
研磨砥粒としては、平均粒径が１．０μｍ未満（好ましくは０．８μｍ未満、さらに好ましくは０．５μｍ未満）であるものを用いることが好ましい。この平均粒径がこの範囲を越えると、磁気記録媒体の表面凹凸が過大となり、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面凸部に衝突しやすくなり、サーボ情報の書き込みおよび認識に悪影響を与えるおそれがある。
またこの研磨砥粒としては、平均粒径が０．１μｍ以上（好ましくは０．２μｍ以上、さらに好ましくは０．３μｍ以上）であるものを用いるのが好ましい。平均粒径がこの範囲未満であると研磨処理が不充分となりやすくなる。
【００１９】
図４は、本実施形態の製造方法に用いられる浮上走行試験装置を示すもので、ここに示す試験装置は、被検体Ｍを回転可能に支持する支持部４４と、被検体Ｍを回転させるモータ４５と、被検体Ｍの回転数を検出する回転数検出部４６と、この回転数検出部４６によって検出された回転数に基づいてモータ４５の回転数を制御する制御部４７と、被検体Ｍ上を浮上走行可能な浮上式検査用磁気ヘッド４８と、磁気ヘッド４８からの再生信号を演算処理する演算部４９とを備えている。
演算部４９は、再生信号を解析する解析部５０と、解析部５０における解析に基づいて再生信号の周波数特性を表示する表示部５１と、解析部５０からの信号と閾値とに基づいて再生信号の周波数成分の局部的上昇を検出する局部上昇検出部５２とを備えている。
演算部４９は、後述する浮上走行試験において、出力上昇が発生した時点の被検体Ｍの回転数と、出力上昇が消失した時点の被検体Ｍの回転数とを記録し、これら回転数の差を算出するとともに、この回転数差が、予め設定された基準値以下となるかどうかを判定することができるようになっている。
この試験装置は、支持部４４に支持された被検体Ｍの回転数を任意に設定できるように構成されている。
磁気ヘッド４８としては、磁気信号を抵抗変化に変換することにより再生信号を取り出す機能を有するものを用いることができる。この機能を有する磁気ヘッド４８としては、再生部に、磁気抵抗（ＭＲ）素子または巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）素子を有する複合型薄膜磁気記録ヘッドを用いることができる。
演算部４９には、スペクトラムアナライザを利用することができる。
【００２０】
以下、本実施形態の製造方法を詳しく説明する。
図２に示すテクスチャ加工装置を用いて、以下に示すように、非磁性基板１にテクスチャ加工を施す。
非磁性基板１をテクスチャ加工装置の基板支持部２４に保持させ、非磁性基板１を回転させつつ、研磨テープ供給部２５にセットされた研磨テープＡを引取ロール２５ｂにより引き取る。
研磨テープＡは、コンタクトローラ２６と基板１の間を通過する際に、基板１の両面に接触しつつ基板１上を走行する。
同時に、砥粒を水に懸濁させた砥粒スラリーを、砥粒供給ノズル２７を通して研磨テープＡ上に流下する。
砥粒供給ノズル２７から流下した砥粒スラリーは、研磨テープＡと基板１の接触部分に達し、砥粒スラリー中の砥粒は、基板１の半径方向に対し垂直な方向に走行する研磨テープＡによって基板１に擦り付けられ、基板１の表面を削り取る。このテクスチャ加工によって、ほぼ基板周方向に沿う溝状痕が基板１表面に形成される。
【００２１】
このテクスチャ加工操作を行う際には、上記揺動機構によって、研磨テープＡをテープ走行方向に対し垂直な方向に揺動させ、基板１の加工面形状を基板半径方向に均一化するのが好ましい。
テクスチャ加工は、上述の理由から、基板１の表面平均粗さＲａが０．１〜２ｎｍ（好ましくは０．２〜１．５ｎｍ、さらに好ましくは０．３〜１ｎｍ）となるまで行うのが好ましい。
【００２２】
次いで、非磁性基板１上に、スパッタ法などにより非磁性下地膜２および磁性膜３を形成する。
次いで保護膜４を、好ましくはプラズマＣＶＤ法、イオンビーム法、スパッタリング法により形成する。
次いで、保護膜４の表面に、ディッピング法、スピンコート法などによって潤滑膜５を形成する（この段階の磁気記録媒体中間製品を媒体基板６という）。
【００２３】
次いで、図３に示す研磨処理装置を用いて、以下に示すように、媒体基板６表面に、研磨処理を施す。
この媒体基板６を、研磨処理装置の基板支持部３４に保持させ、所定の速度で図中矢印方向に回転させる。基板６の回転数は、５０〜１５００ｒｐｍ（好ましくは１００〜１０００ｒｐｍ）とするのが好適である。
この回転数が上記範囲未満であると研磨処理効率が低下し、表面凹凸が小さくなり、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、後述するように、磁気ヘッドの振動に起因して、サーボ情報書き込みおよび認識の精度が低下するおそれがある。
また回転数が上記範囲を越えると、表面凹凸が過大となり、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面凸部に衝突しやすくなり、サーボ情報書き込みおよび認識に悪影響を与えるおそれがある。
【００２４】
この際、研磨テープ供給部３５にセットされた研磨テープＢを、引取ロール３５ｂにより引き取る。この際、研磨テープＢの引き取り速度は、０．１〜２ｃｍ／ｓｅｃとするのが好ましい。
研磨テープＢは、コンタクトローラ３６と基板６の間を通過する際に、コンタクトローラ３６によって基板６に押し当てられつつ基板６の両面に接触しながら基板６上を走行する。
コンタクトローラ３６が研磨テープＢを基板６に押し当てる際の押圧力は、４０〜１２００ｇ／ｃｍ2（好ましくは６０〜１０００ｇ／ｃｍ2）に設定するのが好ましい。
この押圧力が上記範囲未満であると研磨処理効率が低下し、表面凹凸が小さくなり、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、後述するように、磁気ヘッドの振動に起因して、サーボ情報書き込みおよび認識の精度が低下するおそれがある。
また押圧力が上記範囲を越えると、表面凹凸が過大となり、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面凸部に衝突しやすくなり、サーボ情報書き込みおよび認識に悪影響を与えるおそれがある。
【００２５】
また研磨処理時間は、５〜２０秒（好ましくは６〜２０秒）とするのが好ましい。この処理時間が上記範囲未満であると研磨処理効率が低下し、サーボ情報書き込みおよび認識の精度が低下するおそれがある。
また処理時間が上記範囲を越えると、表面凹凸が過大となり、サーボ情報書き込みおよび認識に悪影響を与えるおそれがある。
【００２６】
この際、研磨テープＢ表面の研磨砥粒は、基板６の半径方向に対し垂直な方向に走行する研磨テープＢによって基板６に擦り付けられ、基板６の表面を削り取る。回転する基板６の表面を砥粒が削り取ることにより基板６表面に形成される溝状の研磨痕は、研磨テープＢの走行方向に沿うもの、すなわちほぼ基板６の円周方向に沿うものとなる。
なお、研磨処理の際には、研磨テープＢを基板半径方向に揺動させてもよい。
【００２７】
研磨処理は、表面平均粗さＲａが０．１〜２ｎｍ（好ましくは０．２〜１．５ｎｍ、さらに好ましくは０．３〜１ｎｍ）、最大突起高さＲｐが、５ｎｍ以下（好ましくは４ｎｍ以下、さらに好ましくは３ｎｍ以下）の範囲となるように行うのが望ましい。
表面平均粗さＲａが上記範囲未満であると研磨処理効率が低下し、表面凹凸が小さくなり、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、後述するように、磁気ヘッドの振動に起因して、サーボ情報書き込みおよび認識の精度が低下するおそれがある。
また表面平均粗さＲａおよび最大突起高さＲｐが上記範囲を越えると、表面凹凸が過大となり、サーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面凸部に衝突しやすくなり、サーボ情報書き込みおよび認識に悪影響を与えるおそれがある。
【００２８】
上述のように、潤滑膜５を形成した後に研磨処理を行う方法では、ローラ３６の硬度や押付力が大きい場合にも、研磨処理により過大な研磨痕が形成されるのを防ぐことができる利点がある。
本発明では、これに限らず、保護膜４を形成した段階の磁気記録媒体中間製品を媒体基板として、保護膜４の表面に研磨処理を施し、研磨処理後にディッピング法などにより潤滑膜５を形成する方法を採ることもできる。この場合には、潤滑膜５を形成する際に、研磨処理済みの保護膜４表面を潤滑剤により洗浄し清浄化することができる。
【００２９】
本実施形態の製造方法では、以下に示すように、研磨処理が終了した媒体基板６を、被検体Ｍとして、図４に示す試験装置を用いた磁気ヘッド浮上走行試験に供する。
被検体Ｍを支持部４４に支持させ、周方向に回転させる。この回転数は、例えば７０００ｒｐｍ以上に設定することができる。
次いで、浮上式検査用磁気ヘッド４８を、被検体Ｍ上で浮上走行させ、この磁気ヘッド４８からの再生信号の周波数特性を表示部５１で観察しつつ、次の２つの操作からなる浮上走行試験を行う。
（I）被検体Ｍの回転数を、上記再生信号の出力の周波数成分の局部的な上昇が起きるまで減少させる。
（II）被検体の回転数Ｍを、前記出力上昇が消失するまで増加させる。
【００３０】
以下、これら２つの操作を、図４〜９を参照しつつ詳しく説明する。
操作（I）では、被検体Ｍの回転数を徐々に減少させる。回転数を減少させる際には、被検体Ｍに対する磁気ヘッド４８の浮上高さが低くなる。
回転数の減少に伴って、再生信号の出力の周波数成分の局部的な上昇が起きる。
図６は、出力上昇現象が起こる前の再生信号の周波数特性を示すグラフである。
図７は、図６に示す状態から被検体Ｍの回転数を減少させるのに伴って、出力上昇現象が発生した時点での再生信号の周波数特性を示すグラフである。
ここに示す例では、矢印で示す点において、出力のピーク（局部的な上昇）が観察できる。
図５に示すように、解析部５０から得られた再生信号の周波数特性と閾値とに基づいて、出力の局部的上昇が検出されると（局部上昇検出部５２）、出力上昇現象が発生した時点での被検体Ｍの回転数が演算部４９において記録される。以下、この回転数を発生時回転数という。
【００３１】
操作（II）では、被検体Ｍの回転数を徐々に増加させる。回転数を増加させると、被検体Ｍに対する磁気ヘッド４８の浮上高さが高くなる。
この過程においては、回転数の増加に伴って、出力の局部的な上昇が消失する。通常、この出力上昇が消失した時点の被検体の回転数は、出力上昇が発生した時点よりも回転数よりも大きくなる。
例えば、図８は、図７に示す状態（出力上昇が発生した状態）から被検体Ｍの回転数を増加させた状態における再生信号の周波数特性を示すグラフである。この図では、出力上昇が発生した時点よりも回転数を高く設定しているにもかかわらず、矢印で示すように、未だ出力ピークが観察される。
図９は、図８に示す状態よりもさらに被検体Ｍの回転数を増加させるのに伴って、出力ピークが消失した時点における再生信号の周波数特性を示すグラフである。
このように、出力の局部的な上昇が消失した時点において、被検体Ｍの回転数が演算部４９において記録される。以下、この回転数を消失時回転数という。
【００３２】
図５に示すように、演算部４９では、上記消失時回転数と発生時回転数との差（消失時回転数−発生時回転数）が算出される（回転数差の算出）。
次いで、この回転数差が予め設定された基準値（差の基準値）以下であるかどうかが判定される。
この消失時回転数と発生時回転数との差は、２０００ｒｐｍ以下（好ましくは１８００ｒｐｍ以下）とするのが望ましい。
この差が上記範囲を越えると、得られる磁気記録媒体にサーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、サーボ情報書き込みおよび認識の精度が低下するおそれがある。
【００３３】
発生時回転数は、サーボ情報書き込みおよび認識の精度の点から、５０００ｒｐｍ以下（好ましくは４０００ｒｐｍ以下）であることが望ましい。
また消失時回転数は、サーボ情報書き込みおよび認識の精度の点から、７０００ｒｐｍ以下（好ましくは５５００ｒｐｍ以下）であることが望ましい。
【００３４】
本実施形態の製造方法では、上記浮上走行試験によって、消失時回転数と発生時回転数との差（消失時回転数−発生時回転数）が、基準値以下となることが確認された被検体Ｍを製品（磁気記録媒体）とする。
【００３５】
図１０は、上記磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の例を示すものである。ここに示す磁気記録再生装置は、図１に示す構成の磁気記録媒体７と、磁気記録媒体７を回転駆動させる媒体駆動部８と、磁気記録媒体７に情報を記録再生する磁気ヘッド９と、ヘッド駆動部１０と、記録再生信号処理系１１とを備えている。記録再生信号処理系１１は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド９に送ったり、磁気ヘッド９からの再生信号を処理してデータを出力することができるようになっている。
【００３６】
本実施形態の製造方法では、図４に示す浮上走行試験装置を用いて、被検体Ｍ上で浮上式検査用磁気ヘッド４８を浮上走行させ、この磁気ヘッド４８からの再生信号の周波数特性を観察しつつ、上記浮上走行試験を行い、出力上昇が発生した時点の被検体Ｍの回転数（発生時回転数）と、出力上昇が消失した時点の被検体Ｍの回転数（消失時回転数）との差（消失時回転数−発生時回転数）が、予め設定された基準値以下となることを確認するので、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる磁気記録媒体を得ることができる。
【００３７】
上記製造方法によって、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる磁気記録媒体を得ることができる理由については、以下の推定が可能である。
一般に、媒体の回転数が低くなると、媒体と磁気ヘッドとの間の空気の流れが減少し、安定的な磁気ヘッドの浮上が難しくなる。この状態で、過大な表面凹凸などに起因する空気流の乱れが生じると、これが外乱となり、磁気ヘッドの共振が起きることがある。この振動は、媒体と磁気ヘッドとの間の空気の流量が十分大きくなることにより磁気ヘッドの浮上が安定化されるまで続くことになる。
この磁気ヘッドの振動が原因となって、再生信号の出力の乱れが生じ、これが出力上昇現象として観察されると考えられる。
【００３８】
上記製造方法では、媒体基板６の表面を研磨処理することによって、媒体基板６の表面に、円周方向に沿う溝状の研磨痕が形成される。
このため、磁気ヘッド浮上試験において、被検体Ｍ上を浮上走行する磁気ヘッド４８と被検体Ｍとの間に存在する空気が周方向以外の方向に流れるのを防ぎ、空気の流れ方向を正確に周方向に向けることができる。
すなわち、上記製造方法により得られた研磨処理済みの被検体Ｍは、周方向に沿う研磨痕によって、上記空気流の乱れを抑え、空気の流れ方向を均一化することができる。このため、被検体Ｍの回転数が低い場合でも、磁気ヘッドに加えられる外力を抑制し、磁気ヘッドの振動を最小限に抑えることができる。
よって、浮上走行試験において被検体Ｍの回転数を増加させる過程（操作(II)）において、磁気ヘッドの振動の停止を促し、より低い回転数において出力上昇現象を消失させることができる。
従って、出力上昇発生時点の被検体Ｍの回転数（発生時回転数）と、出力上昇消失時点の被検体Ｍの回転数（消失時回転数）との差（消失時回転数−発生時回転数）を小さくすることができる。
本実施形態の製造方法では、（消失時回転数−発生時回転数）が基準値以下であることを確認する工程を有するので、磁気ヘッドの振動が起こりにくく、磁気ヘッドを媒体上で安定的に浮上走行させ得る磁気記録媒体を選択することができる。
従って、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる磁気記録媒体を得ることができる。
【００３９】
また浮上式検査用磁気ヘッド４８として、磁気信号を抵抗変化に変換することにより再生信号を取り出す機能を有するものを用いることによって、汎用の複合型薄膜磁気記録ヘッド、例えば再生部に磁気抵抗（ＭＲ）素子または巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）素子を有するものが利用可能となる。
このため、低コストで上記浮上走行試験を行うことができ、製造コストの抑制が可能となる。
【００４０】
また、媒体基板６の研磨処理を行うにあたって、媒体基板６の表面を、研磨砥粒を備えた研磨テープＢで研磨するので、効率よく研磨処理を行うことができる。従って、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる磁気記録媒体を、効率よく製造することができる。
【００４１】
また、上記製造方法によって製造された磁気記録媒体（図１を参照）は、上述の通り、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる。
【００４２】
また、上記製造方法によって製造された磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置は、上述の通り、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる。
【００４３】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の実施形態を説明する。
本実施形態の方法では、浮上走行試験を次のように行う点で、前述の実施形態の方法と異なる。
図１１は、本実施形態の製造方法に用いられる浮上走行試験装置を示すもので、ここに示す試験装置は、被検体Ｍを回転可能に支持する支持部４４と、被検体Ｍを回転させるモータ４５と、被検体Ｍの回転数を検出する回転数検出部４６と、この回転数検出部４６によって検出された回転数に基づいてモータ４５の回転数を制御する制御部４７と、被検体Ｍ上を浮上走行可能な浮上式検査用磁気ヘッド５５と、磁気ヘッド５５に試験光を照射する試験光源５６と、磁気ヘッド５５からの反射光に基づいて検知信号を発する受光部５７と、受光部５７からの検知信号を演算処理する演算部５８とを備えている。
演算部５８は、受光部５７からの検知信号を解析する解析部５９と、解析部５９からの信号と閾値とに基づいて磁気ヘッド５５の振動を検出する振動検出部６０とを備えている。
この演算部５８は、後述する浮上走行試験において、磁気ヘッド５５の振動が発生した時点の被検体Ｍの回転数と、磁気ヘッド５５の振動が停止した時点の被検体Ｍの回転数との差を算出するとともに、この回転数差が、予め設定された基準値以下となるかどうかを判定することができるようになっている。
この試験装置は、支持部４４に支持された被検体Ｍの回転数を任意に設定できるように構成されている。
試験光源５６としては、ＣＯ2レーザ、ＣＯレーザ、ＹＡＧレーザ、半導体レーザ等を用いることができる。また発光ダイオードを用いることもできる。
解析部５９は、受光部５７からの検知信号に基づいて、反射光の光路、強度、周波数などが変化したときに検出信号を発することができるようになっている。この解析部５９としては反射光のレーザードップラー効果を検出可能であるものが使用できる。
【００４４】
上記試験装置を用いて浮上走行試験を行うには、被検体Ｍ上で浮上式検査用磁気ヘッド５５を浮上走行させ、試験光源５６からの試験光を磁気ヘッド５５に照射し、磁気ヘッド５５からの反射光を受光部５７で受光しつつ次の２つの操作からなる浮上走行試験を行う。
（I）被検体Ｍの回転数を、振動検出部６０において磁気ヘッド５５の振動が検出されるまで減少させる。
（II）被検体Ｍの回転数を、磁気ヘッド５５の振動が検出されなくなるまで増加させる。
【００４５】
図１２に示すように、操作（I）では、被検体Ｍの回転数を減少させる過程で、磁気ヘッド５５が振動を起こすと、磁気ヘッド５５が変位し受光部５７が受ける反射光の光路が変化する。
受光部５７から、反射光の変化に応じた検知信号が発せられると、解析部５９からの検出信号と閾値とに基づいて磁気ヘッド５５の振動が検出され（振動検出部６０）、振動が検出された時点での被検体Ｍの回転数（発生時回転数）が演算部５８において記録される。
操作（II）では、被検体Ｍの回転数を増加させる過程で、磁気ヘッド５５の振動が停止すると、受光部５７が受ける反射光の光路、強度、周波数などが一定となるため、解析部５９が検出信号を出力しない状態となる。
この時点の被検体Ｍの回転数（停止時回転数）が演算部５８において記録される。
次いで、操作（I）における発生時回転数と、操作（II）における停止時回転数との差（停止時回転数−発生時回転数）が算出され、この回転数差が、予め設定された基準値以下となるかどうかが判定される。
【００４６】
この停止時回転数と発生時回転数との差は、２０００ｒｐｍ以下（好ましくは１８００ｒｐｍ以下）とするのが望ましい。
この差が上記範囲を越えると、得られる磁気記録媒体にサーボ情報の書き込みおよび認識を行う際（特に磁気記録媒体の回転数が低いとき）に、サーボ情報書き込みおよび認識の精度が低下するおそれがある。
【００４７】
発生時回転数は、サーボ情報書き込みおよび認識の精度の点から、５０００ｒｐｍ以下（好ましくは４０００ｒｐｍ以下）であることが望ましい。
また停止時回転数は、サーボ情報書き込みおよび認識の精度の点から、７０００ｒｐｍ以下（好ましくは５５００ｒｐｍ以下）であることが望ましい。
上記試験によって、停止時回転数と発生時回転数との差（停止時回転数−発生時回転数）が、基準値以下となることが確認された被検体Ｍを製品（磁気記録媒体）とする。
【００４８】
本実施形態の製造方法においても、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる磁気記録媒体を得ることができる。
さらに、この製造方法を採る場合には、磁気ヘッド５５の変位の有無を検出し、これに基づいて被検体Ｍの性能確認を行うので、サーボ情報の書き込みおよび認識の正確性に影響を与えると考えられる磁気ヘッド５５の振動を確実に検出することができる。
従って、サーボ情報の書き込みおよび認識の精度に優れた磁気記録媒体を確実に得ることができる。
【００４９】
上記実施形態の方法では、試験光源５６と受光部５７とを、磁気ヘッド５５が浮上走行する被検体Ｍの面（図中上面）側に設けた試験装置を用いたが、本発明では、試験光源と受光部とを、磁気ヘッドが浮上走行する被検体面に対し反対側の面側に設けたものを用いることもできる。
例えば、図１１に示す試験装置において、試験光源５６と受光部５７を被検体Ｍの下方に設けたものを用いることができる。
この試験装置を用いる場合には、試験光源５６からの試験光を、磁気ヘッド５５が走行する位置の被検体Ｍの下面側に相当する位置に照射し、被検体Ｍからの反射光を受光部５７で受光する。
この方法を採る場合にも、上述の浮上走行試験を行うことによって、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる磁気記録媒体を得ることができる。
【００５０】
図４および図１１に示す浮上走行試験装置は、完成した磁気記録媒体の検査に用いることができる。
これら浮上走行試験装置を用いることによって、サーボ情報の書き込みおよび認識の精度に優れた磁気記録媒体のみを選択することができる。
【００５１】
図１１に示す浮上走行試験装置では、磁気ヘッド５５に試験光を照射する試験光源５６と、磁気ヘッド５５からの反射光を受光する受光部５７とを用いて磁気ヘッドの振動を検出できるようにしたが、浮上走行試験装置としては、このほか、圧電効果や音響電気効果を利用して磁気ヘッドの振動を検出可能であるものが使用できる。
圧電効果を利用したものとしては、圧電素子によって磁気ヘッドの振動を検出可能なものを用いることができる。
音響電気効果を利用したものとしては、音響電気素子によって磁気ヘッドの振動を検出可能なものを用いることができる。
また本発明では、磁気ヘッドとしては、媒体の回転数の変化に対する磁気ヘッド仰角の変化がより小さい方が、感度よく振動減少を検出できるため好ましい。
この磁気ヘッド仰角の変化は、１×１０-5度／回転数（ｒｐｍ）以下（好ましくは１×１０-6度／回転数（ｒｐｍ）以下）とするのが望ましい。
【００５２】
なお、図３に示す研磨処理装置では、押圧部材として、円筒状のコンタクトローラ３６を用い、このローラ３６によって研磨テープＢを媒体基板６に押し当てる構成を採用したが、これに限らず、パッド型の押圧部材を用いることもできる。
また一般に、磁化容易軸が基板に対し主に垂直に配向した垂直磁性膜を有する垂直記録用磁気記録媒体は、面内記録用磁気記録媒体に比べ、サーボ情報の書き込みおよび認識に関して、より高い精度が要求される。
本発明は、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができるため、面内記録用磁気記録媒体だけでなく、垂直記録用磁気記録媒体に適用することもできる。
【００５３】
【実施例】
（実施例１〜６）
以下、具体例を示して本発明の作用効果を明確にする。
図２に示すテクスチャ加工装置を用いて、非磁性基板１（ＮｉＰメッキ膜を有するアルミニウム基板、直径９５ｍｍ、厚さ０．８ｍｍ）の表面にテクスチャ加工を施し、非磁性基板１の表面平均粗さＲａを０．５８ｎｍとした。
次いで、ＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製３０１０）を用いたスパッタ法によって、非磁性基板１上に、ＣｒＭｏ合金からなる非磁性下地膜２（厚さ３０ｎｍ）、ＣｏＣｒＰｔＴａ合金からなる磁性膜３（厚さ２５ｎｍ）を形成した。
次いで、プラズマＣＶＤ法を用いて、磁性膜３上に、カーボンからなる保護膜４（厚さ１０ｎｍ）を形成し、媒体基板６を得た。
次いで、ディッピング法によりパーフルオロエーテルからなる潤滑膜５を形成した。
次いで、図３に示す研磨処理装置を用いて、媒体基板６を表１に示す回転数で回転させつつ研磨テープＢをコンタクトローラ３６で媒体基板６に押し当てた。
コンタクトローラ３６が研磨テープＢを基板６に押し当てる際の押圧力は、表１に示すとおりに設定した。
また研磨テープＢに用いられる砥粒としては、平均粒径が表１に示す値であるものを用いた。
研磨処理は、基板６の表面平均粗さＲａおよび最大突起高さＲｐが表１に示す値となるまで行い、被検体Ｍを得た。
【００５４】
次に、ＧＵＺＩＫ社製リードライトアナライザＲＷＡ１６３２、およびスピンスタンドＳ１７０１ＭＰを用いて、以下に示すようにして浮上走行試験を行った。
図４に示すように、被検体Ｍを７０００ｒｐｍで回転させるとともに、被検体Ｍ上で浮上式検査用磁気ヘッド４８を浮上走行させ、この磁気ヘッド４８からの再生信号の周波数特性（１００〜４００ｋＨｚ）を、スペクトラムアナライザ（表示部５１）を用いて観察しつつ、（I）被検体Ｍの回転数を、再生信号の出力の周波数成分の局部的な上昇が起きるまで減少させた後、（II）被検体Ｍの回転数を、前記出力上昇が消失するまで増加させる浮上走行試験を行い、操作（I）における発生時回転数と、操作（II）における消失時回転数とを記録した。発生時回転数、消失時回転数、およびこれらの差を表１に示す。
磁気ヘッド４８としては、再生部に巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）素子を有する複合型薄膜磁気記録ヘッドを用いた。
【００５５】
（実施例７）
非磁性基板１としてガラスからなるものを用いること以外は実施例１と同様にして被検体Ｍを作製し、これを上記浮上走行試験に供した。発生時回転数、消失時回転数、およびこれらの差を表１に示す。
【００５６】
【表１】
0004679715.tif 000002
【００５７】
この浮上走行試験を経た磁気記録媒体を用いて磁気記録再生装置を製造し、サーボ情報ライタを用いて磁気記録媒体にサーボ情報を書き込んだ後、書き込んだサーボ情報を認識させる試験を行った。
その結果、サーボ情報の書き込みおよび認識が精度よく行われたことが明らかとなった。
【００５８】
（比較例１）
研磨処理を行わないこと以外は実施例１〜６と同様にして磁気記録媒体を作製した。試験結果を表２に示す。
【００５９】
（比較例２〜７）
研磨処理の処理条件を表２に示すとおりとすること以外は実施例１〜６と同様にして磁気記録媒体を作製した。試験結果を表２に示す。
【００６０】
【表２】
0004679715.tif 000003
【００６１】
浮上走行試験を経た磁気記録媒体を用いて磁気記録再生装置を製造し、サーボ情報ライタを用いて磁気記録媒体にサーボ情報を書き込んだ後、書き込んだサーボ情報を認識させる試験を行った。
その結果、サーボ情報の書き込みおよび認識の正確性の点で、上記実施例の磁気記録媒体に比べ劣ることが明らかとなった。
【００６２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の磁気記録媒体の製造方法では、被検体上で浮上式検査用磁気ヘッドを浮上走行させ、この磁気ヘッドからの再生信号の周波数特性を観察しつつ、（I）被検体の回転数を、再生信号の出力の周波数成分の局部的な上昇が起きるまで減少させた後、（II）被検体の回転数を、前記出力上昇が消失するまで増加させる浮上走行試験を行い、（I）において出力上昇が発生した時点の被検体の回転数と、（II）において出力上昇が消失した時点の被検体の回転数との差が、予め設定された基準値以下となることを確認するので、サーボ情報の書き込みおよび認識を精度よく行うことができる磁気記録媒体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】   本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示す一部断面図である。
【図２】   本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を実施するために用いられるテクスチャ加工装置を示す概略構成図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
【図３】   本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を実施するために用いられる研磨処理装置を示す概略構成図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
【図４】   本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を実施するために用いられる浮上走行試験装置を示す概略構成図である。
【図５】   図４に示す試験装置を用いた試験方法を説明する説明図である。
【図６】   試験結果を示すグラフである。
【図７】   試験結果を示すグラフである。
【図８】   試験結果を示すグラフである。
【図９】   試験結果を示すグラフである。
【図１０】   図１に示す磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の一例を示す概略構成図である。
【図１１】   本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の実施形態を実施するために用いられる浮上走行試験装置を示す概略構成図である。
【図１２】   図１１に示す試験装置を用いた試験方法を説明する説明図である。
【符号の説明】
１・・・非磁性基板、２・・・非磁性下地膜、３・・・磁性膜、４・・・保護膜、６・・・媒体基板、７・・・磁気記録媒体、３６・・・コンタクトローラ（押圧部材）、４４・・・支持部、４８、５５・・・浮上式検査用磁気ヘッド、４９、５８・・・演算部、５６・・・試験光源、５７・・・受光部、Ｂ・・・研磨テープ、Ｍ・・・被検体
【図１】
0004679715.tif 000004
【図２】
0004679715.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
0004679715.tif 000013
【図１１】
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【図１２】
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