(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも排気手段を搭載した排気カートに複数のガラスパネル組立体を保持し、このガラスパネル組立体を排気手段に開閉弁を介して連通して炉内に位置させて排気カートをレール上を移動させながら前記ガラスパネル組立体に少なくとも排気処理を施すカート式連続炉と、
このカート式連続炉から抽出された所定の真空度に達していない排気カートのガラスパネルを炉内に位置させて再排気処理するカート式バッチ炉と、
からなることを特徴とするガラスパネルのカート式処理設備。
【請求項２】
前記カート式連続炉の側方に設けた往復路レールと、前記カート式連続炉の装入側及び抽出側に延びるレールとをトランスファーカーによって接続し、
前記カート式連続炉の抽出側のトランスファーカーのさらに外側に延びるレールと、前記往復路レールから延長したオフラインレールとをオフライン用トランスファーカーによって接続し、前記カート式バッチ炉を前記オフライン用レール上に設けたことを特徴とする請求項１に記載のガラスパネルのカート式処理設備。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等を構成するガラスパネル組立体を排気カート上に搭載して封着、排気処理等を行うガラスパネルのカート式処理設備に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ＰＤＰを連続的に生産するカート式処理設備として特開平１１−７９７６８号公報に開示されたものがある。
【０００３】
前記処理設備に使用されるカート式連続炉は、封着・排気炉Ｔで、図２〜５に示すように、炉床に開口部７を全長にわたって有するとともに各々複数の室からなる封着処理ゾーンＡ、排気ゾーンＢおよび冷却ゾーンＣとからなる。
【０００４】
そして、封着処理ゾーンＡと排気ゾーンＢは、図３に示すように、炉内に循環バッフル１が設けられるとともに、循環通路２にラジアントチューブバーナまたは電熱ヒータ等の熱源３が配置され、炉内の雰囲気は循環ファン４により吸入口５から吸引され、前記熱源３により加熱され、吐出口６から吐出することにより炉内を循環し、下記するガラスパネル組立体Ｐ1を加熱する。
【０００５】
なお、冷却ゾーンＣは前記封着処理ゾーンＡ，排気ゾーンＢにおける熱源３に加えて外気導入開口あるいは冷却チューブ等の冷却源（図示せず）を有するもので、他の構成は前記封着処理ゾーンＡ（排気ゾーンＢ）と同一である。
【０００６】
前記ガラスパネル組立体Ｐ1は、図５に示すように、表面ガラス基板Ｗ1とチップ管Ｐａ付裏面ガラス基板Ｗ2とのいずれか一方の対向する外縁部に、融着用ガラスペーストからなる封着剤Ｓを塗布して重ね合わせ、クリップ等の治具Ｋにより一体に固定したものである。
【０００７】
図５に示す治具Ｋは、チップ管Ｐａ部分に適用するもので、チップ管Ｐａ側の一片ａにチップ管Ｐａの径より少し巾の広い長溝ｂを設け、この長溝ｂ内にチップ管Ｐａを位置させた状態で、貫通孔ｃを有する保持部材ｄを嵌合させることでチップ管Ｐａを支持するようにしたものである。なお、チップ管Ｐａの支持方法は前記保持部材ｄに限らず、他の構成としてもよい。
【０００８】
また、ガラスパネル組立体Ｐ1を構成するガラス基板Ｗ1，Ｗ2のいずれかに、あらかじめリブ等を形成してある。
【０００９】
さらに、チップ管Ｐａ以外の部分を固定するクリップには前記長溝ｂは不必要である。
【００１０】
排気カート１０は、図３、図４に示すように、前記カート式連続炉Ｔの炉床下に敷設したレールＲ上をプッシャ（図示せず）により移動するもので、排気カート１０の上面には前記カート式連続炉Ｔの開口部７を貫通して炉内に位置する支柱１１ａと下記するガラスパネル組立体Ｐ1をほぼ垂直状態で炉巾方向に保持する保持部材１１ｂとからなる取付部材１１が複数配設されている。また、この取付部材１１の支柱１１ａには開口部７と若干の間隙をもって開口部７を遮蔽する断熱部材１２を排気カート１０の全長にわたって備えている。
【００１１】
さらに、排気カート１０には真空排気ポンプ１４を有する真空排気系と放電ガスボンベ１５を有する放電ガス供給系とが搭載されており、両者は電磁式開閉弁１６ａ，１６ｂと電磁式開閉弁１７を介して接管金具１８に接続されているとともに、真空排気系に真空計１９が取付けられている。さらにまた、排気カート１０には下記するガラスパネル組立体Ｐ1のチップ管Ｐａを溶断する封止ヒータ２０を備えている。
【００１２】
なお、前記レールＲは図２に示すように、カート式連続炉Ｔの下方と、炉の側方（リターンライン部）にも設けられ、両端は装入，抽出トランスファーカーＴｆ1，Ｔｆ2で接続され、前記排気カート１０は循環使用できるようになっているとともに、前記冷却ゾーンＣと抽出トランスファーカーＴｆ2との間に、放電ガス封入・封止ゾーンＺｇが設けてある。
【００１３】
つぎに、ＰＤＰの処理方法を説明する。
まず、前記ガラスパネル組立体Ｐ1を積込み・積卸しゾーンＺで排気カート１０に積込む。
この場合、前記ガラスパネル組立体Ｐ1は図３、図４に示すように、チップ管Ｐａを断熱部材１２に設けた貫通孔１３に挿通し、たとえば、図示しないクリップ等の適宜手段により取付部材１１に固定して排気カート１０上にほぼ垂直状態でカート巾方向に載置固定するとともに、前記チップ管Ｐａは前記接管金具１８に接続される。また、封止ヒータ２０がチップ管Ｐａ部に取り付けられる。
【００１４】
前述のように、複数のガラスパネル組立体Ｐ1を載積した排気カート１０は適宜手段で装入トランスファーカーＴｆ1に至り、ここで、カート式連続炉Ｔの装入側に移動し、プッシャ等により図４で示すように連結状態で順次カート式連続炉Ｔ内に装入される。したがって、前記開口部７は殆ど各排気カート１０の断熱部材１２で閉鎖され、外気が炉内へ侵入することを防止する。
【００１５】
前記排気カート１０が炉内に装入されると、図６に示すヒートカーブにもとづいて、まず、ガラスパネル組立体Ｐ1は封着処理ゾーンＡで封着剤Ｓが溶融して両ガラス基板Ｗ1，Ｗ2を封着してガラスパネルＰ2とする。そして、排気ゾーンＢに至ると、前記開閉弁１６ａを開、前記開閉弁１７を開として各ガラスパネルＰ2内を真空排気ポンプ１４に連通する。
【００１６】
各ガラスパネルＰ2はカート式連続炉Ｔ内を通過する間に前記ヒートカーブにもとづいて加熱され、ガラスパネルＰ2内は１０-4〜１０-7Ｔｏｒｒまで排気されながら冷却ゾーンＣを経て炉外に搬出され、放電ガス封入・封止ゾーンＺｇに至ると、真空排気ポンプ１４を停止するとともに前記開閉弁１６ａを閉、１６ｂを開にすることにより放電ガスボンベ１５からたとえば、ネオン（Ｎｅ）、アルゴル（Ａｒ）あるいはキセノン（Ｘｅ）等の放電ガスをガラスパネルＰ2内に規定圧力（４００〜７６０Ｔｏｒｒ）まで封入する。
【００１７】
そして、前記放電ガスの封入が完了すると、封止ヒータ２０に通電してチップ管Ｐａを封じ切り、所定のＰＤＰとする。
【００１８】
その後、排気カート１０は抽出トランスファーカーＴｆ2を通って積込み・積卸しゾーンＺに移行し、ここで前記処理済ＰＤＰを積卸すとともに新規なガラスパネル組立体Ｐ1を積込み、前述の工程を繰り返す。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記方法においては、カート式連続炉Ｔ内で各ガラスパネル組立体は封着されるが、１台の排気カートに搭載した複数のガラスパネル組立体は１台の排気手段（真空ポンプ１４）により同時に排気処理されるため、一部のガラスパネルに封着不良、接管金具（排気ヘッド）とチップ管との接続不良あるいはチップ管に破損箇所があれば当該排気カートの全ガラスパネルが排気不良となる。
【００２０】
したがって、この場合、排気不良の原因となった不良ガラスパネルの排気系開閉弁１７を閉として、再度、排気カートをカート式連続炉に装入して残りのガラスパネルを再処理、たとえば、排気処理することが考えられるが、所定の枚数未満のガラスパネル、たとえば、既に封着工程を完了しているガラスパネルは再度封着処理工程を経ることになり、生産効率が低下するという問題を生じる。
【００２１】
また、排気カートのリターンライン部において、不良ガラスパネルを除去して、その分、新規のガラスパネル組立体を排気カートに積込んで再度、カート式連続炉に装入する方法も考えられるが、前記問題点の他にガラスパネルとガラスパネル組立体の積込み・積卸し作業を自動装置（ロボット）で行う場合、そのハンドリングが複雑であるという問題を生じる。
【００２２】
本発明は、前記課題を解決するためになされたもので、不良ガラスパネルを搭載している排気カートを前記カート式連続炉の搬出ラインから一旦オフラインに移してカート式バッチ炉にて再処理を行うようにしたガラスパネルのカート式処理設備を提供することを目的とする。
【００２３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記目的を達成するために、少なくとも排気手段を搭載した排気カートに複数のガラスパネル組立体を保持し、このガラスパネル組立体を排気手段に開閉弁を介して連通して炉内に位置させて排気カートをレール上を移動させながら前記ガラスパネル組立体に少なくとも排気処理を施すカート式連続炉と、このカート式連続炉から抽出された所定の真空度に達していない排気カートのガラスパネルを炉内に位置させて再排気処理するカート式バッチ炉と、からなるガラスパネルのカート式処理設備である。
【００２６】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態について図１にしたがって説明する。
なお、図１は基本的に図２と同一構成を有するため、同一部分には同一符号を付し、また、排気カートの具体的構成も同一であるため詳細は省略する。
【００２７】
カート式連続炉（封着・排気炉）Ｔの炉外側のオフライン部には、治具取外し・封止ゾーンＺｃ、積卸しゾーンＺｄ、排気カートメンテナンス用引出しゾーンＺｅおよびチップ管取付け・積込みゾーンＺｈが設けられるとともに、抽出側トランスファーカーＴｆ2の外側にはオフライン用トランスファーカーＴｆ3とカート式バッチ炉ＴＡが配設されている。前記カート式バッチ炉ＴＡは前記カート式連続炉Ｔの冷却ゾーンＢと基本的構造と同一であり、熱源と冷却源が配置されるものである。
【００２８】
前記構成からなるため、まず、チップ管取付け・積込みゾーンＺｈで、前記従来と同様、表面ガラス基板Ｗ1とチップ管Ｐａ付裏面ガラス基板Ｗとをクリップ等の治具Ｋにより一体化した複数のガラスパネル組立体Ｐ1を排気カート１０に搭載し、チップ管Ｐａを接管金具１８に接続する。
【００２９】
この排気カート１０はカート式連続炉Ｔの装入側に搬送され、装入側トランスファーカーＴｆ1により往路レールＲに移動され、カート式連続炉Ｔ内を通過する間に従来同様、両ガラス基板Ｗ1，Ｗ2の封着処理とガラスパネルＰ2内の排気処理が行われる。
【００３０】
そして、カート式連続炉Ｔから抽出された排気カート１０は放電ガス封入ゾーンＺｇａに至るが、ここで排気カート１０の真空排気系に取付けた真空計１９によりガラスパネルＰ2内の真空度を検査する。
【００３１】
検査の結果、真空度が所定値にあれば、放電ガスがガラスパネルＰ2内に封入されたのち、抽出側トランスファーカーＴｆ2により復路レールＲに移動され、治具取外し・封止ゾーンＺｃでクリップＫの取外しとチップ管Ｐａの封止切り処理が行われてガラスパネルＰ2はＰＤＰとなり、その後、積卸しゾーンＺｄでＰＤＰを積卸す。
【００３２】
一方、前記放電ガス封入ゾーンＺｇａでガラスパネルＰ2内が所定の真空度に達していないと、排気不良の原因となった不良ガラスパネルＰ2'（チップ管Ｐａの破損、チップ管Ｐａと排気ヘッド１８との接続不良あるいは封着処理の不良等）を目視により特定し、この不良ガラスパネルＰ2'のチップ管Ｐａに接続している前記開閉弁１７を閉とし、当該排気カート１０はオフライン用トランスファーカーＴｆ3によりカート式バッチ炉ＴＡに装入され、ここで再び加熱および冷却され残りのガラスパネルＰ2は再処理が行われる。
【００３３】
なお、この再処理は、たとえば、チップ管Ｐａの破損であれば、排気処理が行われるものであり、また、封着不良で再封着可能であれば、封着処理と排気処理が行われることになる。
【００３４】
そして、前記再処理が終了すると、カート式バッチ炉ＴＡから抽出され、放電ガスが封入されたのち前述の正常な良品のガラスパネルＰ2と同様、治具取外し・封止ゾーンＺｃを経て積卸しゾーンＺｄですべての製品が積卸され、良品ＰＤＰと不良ＰＤＰに区別されたのち、不良ＰＤＰは廃棄処分となる。
【００３５】
その後、排気カート１０はチップ管取付け・積込みゾーンＺｈへと移動する。
【００３６】
なお、前記実施形態においては、ガラスパネルとして内部に放電ガスを封入するＰＤＰの処理方法について述べたが、放電ガス封入Ｚｇａを設けることなく排気ゾーンＢにて内部を所定圧まで排気したのち真空排気ポンプ１４を停止し、封止ヒータ２０に通電してチップ管Ｐａを封じ切り、所定の真空断熱ガラスパネルとする場合にも適用することができる。
【００３７】
前述の実施の形態においては、表面ガラス基板Ｗ1とチップ管付裏面ガラス基板Ｗ2とを封着し、その後、排気する場合について述べたが、ガラスパネル組立体Ｐ1は既に封着された２枚のガラス基板Ｗ1，Ｗ2にチップ管Ｐａを封着するとともに排気するものであってもよい。また、封着処理が２枚のガラス基板Ｗ1，Ｗ2の封着処理とチップ管Ｐａの封着処理とを同時に行うようにしてもよい。
【００３８】
さらに、表面ガラス基板Ｗ1とチップ管付裏面ガラス基板Ｗ2とを予め封着したガラスパネルＰ2を排気カート１０に搭載し、排気あるいはさらに放電ガスの封入をしてもよい。
【００３９】
なお、カート式バッチ炉ＴＡは１基に限らず、複数基配設してもよい。
【００４０】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明のガラスパネルのカート式処理設備は、少なくとも排気手段を搭載した排気カートに複数のガラスパネル組立体を保持し、このガラスパネル組立体を排気手段に開閉弁を介して連通して炉内に位置させて排気カートをレール上を移動させながらガラスパネル組立体に少なくとも排気処理を施すカート式連続炉と、このカート式連続炉から抽出された所定の真空度に達していない排気カートのガラスパネルを炉内に位置させて再排気処理するカート式バッチ炉とで構成したものである。
【００４１】
したがって、カート式連続炉を出た排気カート上のガラスパネルが所定の真空度に達していない場合、排気不良の原因となった不良ガラスパネルと接続する開閉弁を閉じて、別設したカート式バッチ炉で再処理を行うため、カート式連続炉には全て新規なガラスパネル組立体を搭載した排気カートが在炉することとなり、また、カート式バッチ炉で再処理されたガラスパネルは、カート式バッチ炉を経由しない正常なガラスパネルを搭載した排気カートと同様に以後取扱われるため、カート式連続炉の生産性の低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明にかかるガラスパネルのカート式処理設備の概略平面図。
【図２】  従来のガラスパネルのカート式処理設備の概略平面図。
【図３】  図２の封着処理（排気）ゾーンの拡大断面図。
【図４】  ガラスパネル組立体を取り付けた排気カートの断面図。
【図５】  ガラスパネル組立体の説明用部分斜視図。
【図６】  カート式連続炉のヒートカーブ。
【符号の説明】
Ｔ〜連続炉、ＴＡ〜カート式バッチ炉、Ａ〜封着処理ゾーン、Ｂ〜排気ゾーン、Ｃ〜冷却ゾーン、Ｐａ〜チップ管、Ｐ1〜ガラスパネル組立体、Ｐ2〜ガラスパネル、Ｗ1〜表面ガラス基板、Ｗ2〜裏面ガラス基板、７〜開口部、１０〜排気カート、１４〜真空排気ポンプ、１５〜放電ガスボンベ、１６ａ，１６ｂ，１７〜開閉弁、１９〜真空計、２０〜封止ヒータ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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