(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示電極を片面の中央域に備えた前面基板と、表示部を片面の中央域に備えた背面基板とが、前記表示電極と前記表示部とを対向させるように、重ねられてなり、
前記背面基板内において、
前記表示部の外周を囲む紫外線遮蔽壁と、
前記紫外線遮蔽壁の外周を囲む吸着材と、
前記吸着材の外周を囲む封着材と、が配置され、
前記紫外線遮蔽壁は、全周にわたって連続的に形成されていることを特徴とする封着パネル。
【請求項２】
前記封着材は、ガラス材料にバインダーとして樹脂材料を混合させたものであることを特徴とする請求項１に記載の封着パネル。
【請求項３】
前記吸着材が、同心状に複数周設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の封着パネル。
【請求項４】
前記複数周の吸着材のうち一部の前記吸着材が、前記前面基板と前記背面基板のうち一方に装着され、
前記複数周の吸着材のうち残部の前記吸着材が、前記前面基板と前記背面基板のうち他方に装着されていることを特徴とする請求項３に記載の封着パネル。
【請求項５】
前記紫外線遮蔽壁は、前記封着パネルの内部で発生した紫外線が前記封着材に入射するのを遮蔽することを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の封着パネル。
【請求項６】
前記前面基板と前記背面基板のうち一方に立設された前記紫外線遮蔽壁の先端が、前記前面基板と前記背面基板のうち他方に当接していることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の封着パネル。
【請求項７】
前記前面基板と前記背面基板とは、
放電ガスが、表示部内に設けられた放電室に含まれた状態で、貼り合わされていることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の封着パネル。
【請求項８】
前記封着パネルは、プラズマディスプレイパネルであり、
前記紫外線遮蔽壁は、前記プラズマディスプレイパネルの画素間に配設された隔壁と同じ材料で構成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の封着パネル。
【請求項９】
表示電極を片面の中央域に備えた前面基板と、表示部を片面の中央域に備えた背面基板とが、前記表示電極と前記表示部とを対向させるように重ねられてなり、
前記背面基板内において、
前記表示部の外周を囲む紫外線遮蔽壁と、
前記紫外線遮蔽壁の外周を囲む吸着材と、
前記吸着材の外周を囲む封着材と、が配置され、
前記紫外線遮蔽壁が、全周にわたって連続的に形成された、プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記背面基板を製造する工程は、
前記表示部を構成する隔壁と前記紫外線遮蔽壁とを同時形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
放電ガス中において、該放電ガスが、表示部内に設けられた放電室に含まれるように、
前記前面基板と前記背面基板とを、貼り合わせることを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、封着パネルおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルは、維持電極および走査電極が形成された前面基板と、アドレス電極および蛍光体が形成された背面基板とを備えている。両基板は周縁部に配置された封着材によって固着され、両基板の間に放電ガスが封入されている。
各電極の間に電圧を印加すると、放電ガスがプラズマ化して紫外線が放射される。この紫外線が蛍光体に入射して蛍光体が励起され、可視光が放出されるようになっている。
【０００３】
両基板の封着材として、従来は低融点ガラスが採用されていたが、近時では樹脂材料を採用する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。樹脂材料を採用すれば、パネル封着時の加熱条件および冷却条件が緩和されるため、パネル製造時間を大幅に短縮することができる。
【特許文献１】特開２００２−７５１９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、封着材として樹脂材料を採用すると、パネル封着時に不純物ガス（水分や炭酸ガス等）が樹脂材料からパネル内部に放出されるおそれがある。なお封着材として低融点ガラスにバインダーとして樹脂材料を混合させたものを使用する場合にも、パネル封着時に不純物ガスがパネル内部に放出されるおそれがある。また、パネル封着後にも不純物ガスが封着材を透過してパネル外部から内部に侵入するおそれがある。さらに、パネル内部で発生した紫外線が封着材に入射すると、樹脂材料が分解されて不純物（ＣＨ系等）ガスがパネル内部に放出されるおそれがある。これらの不純物ガスにより、パネル内部に封入されている放電ガスの純度が低下して、放電電圧が上昇するという問題がある。放電電圧の上昇に伴って、プラズマディスプレイパネルの消費電力が増加することになる。
また、パネル封着時に封着材からパネル内部に放出された不純物ガスは、基板表面に形成された被膜に吸着される。これにより、基板表面の２次電子放出係数が低下し、放電電圧が上昇する。なお、基板間に所定時間の電圧印加（初期エージング処理）を行えば、放電により基板表面から不純物ガスが離脱するので、放電電圧は安定する。しかしながら、離脱した不純物ガスが基板間に滞留することで、不純物ガスの離脱速度が低下するため、長時間の初期エージング処理が必要になる。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、放電電圧の上昇を抑制することが可能な、封着パネルおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明に係る封着パネルは、表示電極を片面の中央域に備えた前面基板と、表示部を片面の中央域に備えた背面基板とが、前記表示電極と前記表示部とを対向させるように、重ねられてなり、前記背面基板内において、前記表示部の外周を囲む紫外線遮蔽壁と、前記紫外線遮蔽壁の外周を囲む吸着材と、前記吸着材の外周を囲む封着材と、が配置され、前記紫外線遮蔽壁は、全周にわたって連続的に形成されていることを特徴とする。
なお前記封着材は、ガラス材料にバインダーとして樹脂材料を混合させたものであってもよい。
この構成によれば、封着材から放出される不純物ガスおよび封着材を透過して侵入する不純物ガスを吸着材によって吸着することができるので、一対の基板間に封入された放電ガスの純度低下を抑制することが可能になる。また、不純物ガスが基板表面に吸着されるのを防止することが可能になる。したがって、放電電圧の上昇を抑制することができる。加えて、初期エージング処理時間を短縮する、又は初期エージング処理をなくすことができる。
また、封着パネルの内部で発生した紫外線が封着材に入射するのを防止することができる。これにより、封着材からの不純物ガスの放出を抑制することが可能になり、放電電圧の上昇を抑制することができる。また、紫外線遮蔽壁によって塞き止めた不純物ガスを、吸着材によって確実に吸着することができる。
【０００７】
また前記吸着材が、同心状に複数周設けられていてもよい。
この構成によれば、不純物ガスを確実に吸着することができる。
また前記複数周の吸着材のうち一部の前記吸着材が、前記前面基板と前記背面基板のうち一方に装着され、前記複数周の吸着材のうち残部の前記吸着材が、前記前面基板と前記背面基板のうち他方に装着されていてもよい。
この構成によれば、不純物ガスの侵入経路が長くなるとともに、その侵入経路に沿って吸着材が配置されるので、不純物ガスの吸着効率を向上させることができる。
【０００８】
また、前記紫外線遮蔽壁は、前記封着パネルの内部で発生した紫外線が前記封着材に入射するのを遮蔽することが望ましい。
この構成によれば、封着パネルの内部で発生した紫外線が封着材に入射するのを防止す
ることができる。これにより、封着材からの不純物ガスの放出を抑制することが可能にな
り、放電電圧の上昇を抑制することができる。
【０００９】
また、前記前面基板と前記背面基板のうち一方に立設された前記紫外線遮蔽壁の先端が、
前記前面基板と前記背面基板のうち他方に当接していてもよい。
この構成によれば、封着材から放出される不純物ガスおよび封着材を透過して侵入する
不純物ガスを、紫外線遮蔽壁によって塞き止めることが可能になり、放電ガスの純度低下
を抑制することができる。
【００１１】
また前記前面基板と前記背面基板とは、放電ガスが、表示部内に設けられた放電室に含まれた状態で、貼り合わされていることが望ましい。
また前記封着パネルは、プラズマディスプレイパネルであり、前記紫外線遮蔽壁は、前記プラズマディスプレイパネルの画素間に配設された隔壁と同じ材料で構成されていることが望ましい。
この構成によれば、紫外線遮蔽壁を隔壁と同時形成することが可能になり、製造工程が簡略化されて、製造コストを低減することができる。
【００１２】
一方、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法は、表示電極を片面の中央域に備えた前面基板と、表示部を片面の中央域に備えた背面基板とが、前記表示電極と前記表示部とを対向させるように重ねられてなり、前記背面基板内において、前記表示部の外周を囲む紫外線遮蔽壁と、前記紫外線遮蔽壁の外周を囲む吸着材と、前記吸着材の外周を囲む封着材と、が配置され、前記紫外線遮蔽壁が、全周にわたって連続的に形成された、プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記背面基板を製造する工程は、前記表示部を構成する隔壁と前記紫外線遮蔽壁とを同時形成することを特徴とする。
また放電ガス中において、該放電ガスが、表示部内に設けられた放電室に含まれるように、前記前面基板と前記背面基板とを、貼り合わせることが望ましい。
プラズマディスプレイパネルの隔壁は、隣接する画素間の誤放電を防止するものであり、一対の基板の間隔と同じ高さに形成される。この隔壁と紫外線遮蔽壁とを同時形成することにより、紫外線遮蔽壁を一対の基板の間隔と同じ高さに形成することが可能になる。これにより、プラズマディスプレイパネルの内部で発生した紫外線が封着材に入射するのを確実に防止することができる。これにより、封着材からの不純物ガスの放出を抑制することが可能になり、放電電圧の上昇を抑制することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る封着パネルおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、一対の基板間に封入された放電ガスの純度低下を抑制することが可能になる。また、不純物ガスが基板表面に吸着されるのを防止することが可能になる。したがって、放電電圧の上昇を抑制することができる。加えて、エージング処理時間を短縮する、又は初期エージング処理をなくすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。なお、本明細書において基板の「内面」とは、当該基板の両表面のうち、当該基板と対をなす基板側の表面をいうものとする。
（プラズマディスプレイパネル）
図１は、３電極ＡＣ型プラズマディスプレイパネルの分解斜視図である。このプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」という。）１００は、対向配置された背面基板１および前面基板２と、両基板１，２の間に形成された複数の放電室１６とを備えている。
【００１５】
背面基板１の片面の中央域には、所定の間隔でストライプ状にアドレス電極１１が形成されている。そのアドレス電極１１を覆うように、誘電体層１９が形成されている。また、隣接するアドレス電極１１の間における誘電体層１９の上面には、アドレス電極１１と平行に隔壁（リブ）１５が形成されている。さらに、隣接する隔壁１５の間における誘電体層１９の上面および隔壁１５の側面に、蛍光体１７が配設されている。この蛍光体１７は、赤、緑、青の何れかの蛍光を発光するものである。
【００１６】
一方、前面基板２の片面の中央域には、所定の間隔でストライプ状に表示電極１２（走査電極１２ａおよび維持電極１２ｂ）が形成されている。この表示電極１２は、ＩＴＯ等の透明導電性材料によって構成され、前記アドレス電極１１と直交する方向に配置されている。このアドレス電極１１と表示電極１２との交点が、ＰＤＰ１００の画素になっている。また、この表示電極１２を覆うように誘電体層１３が形成され、その誘電体層１３を覆うように保護膜１４が形成されている。この保護膜１４は、放電ガスのプラズマ化によって発生した陽イオンから誘電体層１３を保護するものであり、ＭｇＯやＳｒＯ等のアルカリ土類金属の酸化物によって構成されている。
【００１７】
上述した背面基板１と前面基板２とが貼り合わされ、隣接する隔壁１５の間に放電室１６が形成されている。この放電室１６の内部には、ＮｅおよびＸｅの混合ガス等の放電ガスが封入されている。
そして、アドレス電極１１と走査電極１２ａとの間に直流電圧を印加して対向放電を発生させ、さらに走査電極１２ａと維持電極１２ｂとの間に交流電圧を印加して面放電を発生させる。すると、放電室１６内に封入された放電ガスがプラズマ化して、真空紫外線が放射される。この紫外線によって蛍光体１７が励起され、可視光が前面基板２から放出されるようになっている。
【００１８】
（封着材）
図２は、プラズマディスプレイパネルの周縁部における断面図である。背面基板１の周縁部には、額縁状に突起２１が形成されている。その突起２１の先端面と前面基板２との間に、樹脂材料を含む封着材２０が配置されて、両基板１，２が封着されている。この封着材２０として、具体的にはエポキシ樹脂やアクリル樹脂など、熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂が採用されている。このように樹脂材料を含む封着材２０を採用すれば、低融点ガラスからなる従来の封着材を採用した場合に比べて、封着時の加熱条件および冷却条件が緩和される。したがって、パネル製造時間を大幅に短縮することができる。なお、低融点ガラスにバインダーとして樹脂を混合させた封着材を採用してもよい。
【００１９】
（吸着材）
ところで、両基板１，２の封着時には、樹脂材料を含む封着材２０から不純物ガスが放出される。例えば、エポキシ樹脂またはアクリル樹脂からなる封着材２０からは、Ｈ２ＯおよびＣＯ２のほか、ＣＯやＨ２、ＣＨ系ガス等が放出される。また低融点ガラスにアクリル樹脂を混合させた封着材では、低融点ガラスからＣＯ２やＯ２ガス等が放出され、アクリル樹脂からＨ２ＯやＣＯ２、ＣＯガス等が放出される。また、封着後の封着材２０を透過して、Ｈ２Ｏ等の不純物ガスがＰＤＰの外部から内部に侵入するおそれがある。
【００２０】
そこで、封着材２０の内側において、不純物ガスを吸着するゲッター（吸着材）２２が設けられている。封着材２０は、背面基板１の周縁部に設けられた額縁状の突起２１を介して、吸着材２２の外周を囲んでいる。このゲッター２２は、水分（Ｈ２Ｏ）や酸素（Ｏ２）ガス、ＣＯやＣＯ２等の炭酸ガス、ＣＨ系の炭化水素ガス等を吸着するものである。ゲッター２２として、具体的には、厚さ１５０μｍ程度のシート状に成形されたＳｒＯを採用することが可能である。またゲッター２２として、ＢａやＣａ，Ｓｒ等の活性金属を厚さ５〜１０μｍに形成したものを採用してもよく、Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ−Ｔｉ系の材料を採用してもよい。
【００２１】
図３は、ゲッターを備えたプラズマディスプレイパネルの平面図である。図３（ａ）に示すように、ゲッター２２は、封着材２０の内側全周にわたって連続的に形成されていることが望ましい。ゲッター２２の内側において連続的に、紫外線遮蔽壁２４が設けられている。紫外線遮蔽壁２４の内側のメッシュ表示された領域は、複数の表示電極と複数のアドレス電極とが、互いに交差して配置された、画像を表示する領域を示している。この領域において、背面基板１の前面基板２との対向面から内側に、複数の隔壁１５により構成された表示部が形成されている。なお図３（ｂ）または図３（ｃ）に示すように、ゲッター２２は、封着材２０の内側全周にわたって断続的に形成されていてもよい。図２は、図３のプラズマディスプレイパネルを、メッシュ表示された領域を通るように、紙面の手前から奥行きに向かう方向に切断した場合の断面のうち、一端側の周縁部を示す図に相当する。図３においては、紙面奥行き側に背面基板１が、紙面手前側に前面基板２が、それぞれ配置されている。
なおゲッター２２は、図２に示すように封着材２０の内側における背面基板１の表面に配置されていてもよいし、前面基板２の表面に配置されていてもよい。またゲッター２２の厚さは、図２に示すように両基板１，２の間隔より薄くてもよいし、両基板１，２の間隔と同等でもよい。
【００２２】
図４（ａ）および図４（ｂ）は、複数のゲッターを備えたプラズマディスプレイパネルの平面図である。図４（ａ）に示すように、封着材２０の内周に沿って、複数周のゲッター２２ａ，２２ｂが同心状に配置されていてもよい。複数のゲッター２２ａ，２２ｂは、図４（ａ）に示すように連続的に形成されていてもよく、図４（ｂ）に示すように断続的に形成されていてもよい。また、複数のゲッターのうち一部が連続的に形成され、残部が断続的に形成されていてもよい。このように、複数周のゲッター２２ａ，２２ｂを同心状に配置することにより、不純物ガスを確実に吸着することができる。
【００２３】
図４（ｃ）は図４（ａ）のＡ−Ａ線における断面図である。図４（ｃ）に示すように、複数周のゲッター２２ａ，２２ｂのうち、一部のゲッター２２ａが背面基板１に装着され、残部のゲッター２２ｂが前面基板２に装着されていてもよい。これにより、不純物ガスの侵入経路が長くなるとともに、その侵入経路に沿ってゲッター２２ａ，２２ｂが配置されるので、不純物ガスの吸着効率を向上させることができる。なお複数のゲッター２２ａ，２２ｂが、共に背面基板１に装着されていてもよく、共に前面基板２に装着されていてもよい。
【００２４】
（紫外線遮蔽壁）
図２に戻り、上述したゲッター２２の内周に沿って連続的に、紫外線遮蔽壁２４が設けられている。紫外線遮蔽壁２４は、表示部の外周を、全周にわたって連続的に囲むように形成されている。紫外線遮蔽壁の外周は、吸着材２２上の空隙を介して、封着材２０に囲まれている。この紫外線遮蔽壁２４は、放電室１６で発生した紫外線が封着材２０に入射するのを防止するものであり、ＰｂＯ・Ｂ２Ｏ３・ＳｉＯ２等の紫外線吸収材料によって幅１ｍｍ程度に形成されている。紫外線遮蔽壁２４は、図２に示すように背面基板１に立設されていてもよく、前面基板２に立設されていてもよい。
【００２５】
紫外線遮蔽壁２４の高さは、一対の基板１，２の間隔と同等に形成されている。そのため、背面基板１に立設された紫外線遮蔽壁２４の先端が、前面基板２に密着している。この構成によれば、封着材２０から放出される不純物ガスおよび封着材２０を透過して侵入する不純物ガスを、紫外線遮蔽壁によって塞き止めることが可能になる。なお上述したゲッター２２は、封着材２０と紫外線遮蔽壁２４との間に配設されていることが望ましい。この構成によれば、封着材２０から放出された不純物ガスを、紫外線遮蔽壁２４によって塞き止めた上で、ゲッター２２によって確実に吸着することができる。
【００２６】
紫外線遮蔽壁２４は、隔壁１５と同じ紫外線吸収材料で構成され、隔壁１５と同じ背面基板１に立設されていることが望ましい。これにより、後述するように紫外線遮蔽壁２４を隔壁１５と同時に形成することが可能になり、製造工程が簡略化されて、製造コストを低減することができる。
ところで、ＰＤＰの隔壁１５は、隣接する放電室１６の間の誤放電を防止するものであり、背面基板１と前面基板２との間隔と同じ高さに形成されている。この隔壁１５と紫外線遮蔽壁２４を同時形成することにより、紫外線遮蔽壁２４を両基板１，２の間隔と同じ高さに形成することが可能になる。これにより、放電室１６で発生した紫外線が封着材２０に入射するのを確実に防止することができる。
【００２７】
（プラズマディスプレイパネルの製造方法）
次に、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法につき、図２および図５を用いて説明する。図５は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法のフローチャートである。
まず、図２に示す前面基板２の内面に、表示電極１２および誘電体層１３を形成する（ステップ３２）。また、背面基板１の内面に、アドレス電極１１および誘電体層１９を形成する（ステップ４２）。
【００２８】
次に、背面基板１の誘電体層１９の表面に、隔壁１５および紫外線遮蔽壁２４を同時形成する（ステップ４４）。ここで、同時形成とは、同一工程処理による形成を意味している。隔壁１５および紫外線遮蔽壁２４が同一の材料からなることにより、両者の同時形成が可能となる。その具体的な方法は、まず背面基板１の内面に紫外線吸収材料の被膜を形成する。具体的には、ペースト状の紫外線吸収材料を印刷法等により厚さ２００μｍ程度に塗布し、乾燥させて前記被膜を形成する。次に、前記被膜の表面に、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）をラミネートする。次に、このＤＦＲを露光および現像し、隔壁１５および紫外線遮蔽壁２４の形状にパターニングする。次に、このＤＦＲパターンをマスクにしてサンドブラスト法を実施し、前記被膜を隔壁１５および紫外線遮蔽壁２４の形状にパターニングする。次にＤＦＲを剥離除去し、背面基板１を焼成炉内に投入して、隔壁１５および紫外線遮蔽壁２４を焼成する。以上により、背面基板１の内面に隔壁１５および紫外線遮蔽壁２４が形成される。
【００２９】
また同時形成の他の方法として、アドレス電極１１および誘電体層１９を形成する前に、背面基板１の内面にＤＦＲをラミネートする。次に、このＤＦＲを露光および現像し、隔壁１５および紫外線遮蔽壁２４の形状にパターニングする。次に、このＤＦＲパターンをマスクにしてサンドブラスト法を実施し、ガラス等の紫外線吸収材料からなる背面基板１を深さ１５０μｍ程度まで掘り下げる。次にＤＦＲを剥離除去する。以上により、背面基板１の内面に隔壁１５および紫外線遮蔽壁２４が直接成形される。その後、アドレス電極１１等を形成すればよい。なお、上記以外の方法によって隔壁１５および紫外線遮蔽壁２４を同時形成することも可能である。
次に、隣接する隔壁の内側に蛍光体１７を塗布する。
【００３０】
次に、背面基板１の全周に封着材２０およびゲッター２２を配置する（ステップ４６）。封着材２０の配置は、ペースト状の封着材料を塗布することによって行う。封着材料の塗布には、ディスペンサ法やインクジェット法等の液滴吐出法、または印刷法などを利用することが可能である。またゲッター２２の配置は、幅３〜１０ｍｍ程度、厚さ１５０μｍ程度のＳｒＯ材料シートを貼り付けることによって行う。このＳｒＯ材料シートは、ＳｒＯ粉末を金型に入れて２００〜４００ｋｇｆ／ｃｍ２の圧力で成形し、さらにＮ２雰囲気中において約１２００℃で約３０分焼成することによって形成することが可能である。
【００３１】
次に、前面基板２および背面基板１を真空一貫処理装置５０に投入し、両基板１，２を大気にさらすことなく以下の封着工程までを行う。
まず、背面基板１を真空中で加熱して、樹脂材料を含む封着材２０からの脱ガス処理および排気処理を行う（ステップ４８）。この加熱により、封着材２０からの脱ガス処理とともに、ゲッター２２の活性化処理を行うことも可能である。また、前面基板２を真空中で加熱して、誘電体層１３等からの脱ガス処理を行う（ステップ３４）。次に前面基板２の内面に、ＥＢ蒸着法等により保護膜１４を形成する（ステップ３６）。
【００３２】
なお近時では、ＰＤＰの消費電力を削減するため、保護膜１４の構成材料として、従来のＭｇＯに代わり、（ＳｒＣａ）Ｏ等のＳｒＯ系物質の採用が検討されている。このＳｒＯ系物質は、ＭｇＯに比べ吸湿性が極めて高く、しかも吸湿により変色する性質を有する。この点、真空一貫処理装置５０において、両基板１，２の脱ガス処理工程から、保護膜１４の形成工程を経て、両基板１，２の封着工程までを行うことにより、保護膜１４の吸湿による変色および放電電圧の上昇を防止することができる。
【００３３】
次に、両基板１，２を封着する（ステップ５２）。具体的には、まずチャンバ内に両基板１，２を投入し、そのチャンバ内に放電ガスを導入する。次に、両基板１，２をアライメント（位置合わせ）して仮固着する。次に、両基板１，２に電圧を印加してエージング放電を行う。さらに、両基板１，２の電極に駆動電圧を印加して発光検査を行う。その結果、異常が発見された背面基板１または前面基板２を取り除き、正常発光が確認された両基板１，２どうしを固着させる。具体的には、封着材２０を紫外線硬化性樹脂で構成した場合には、封着材２０に紫外線を照射することにより、封着材２０を熱硬化性樹脂で構成した場合には、封着材２０を加熱することにより、封着材２０を硬化させる。これにより、両基板１，２の内部に放電ガスが封入された状態で、両基板１，２が封着される。
【００３４】
（吸湿試験、エージング試験）
本願の発明者は、上述した本実施形態に係るＰＤＰおよび従来技術に係るＰＤＰにつき、吸湿試験を行って放電電圧の変動を測定した。本実施形態に係るＰＤＰは、図２に示すようにゲッター２２および紫外線遮蔽壁２４を備えたものである。具体的には、ゲッター２２として、ＳｒＯをＮ２ガス中で焼成したシート状のものを採用した。また、紫外線遮蔽壁２４の構成材料として隔壁１５と同じＰｂＯ・Ｂ２Ｏ３・ＳｉＯ２を採用し、紫外線遮蔽壁２４を隔壁１５と同時形成した。なお封着材２０には紫外線硬化性樹脂を採用した。また保護膜１４として、ＳｒＯ・２０ｍｏｌ％ＣａＯからなる厚さ８０００オングストロームの被膜を、ＥＢ蒸着法によって形成した。また放電ガスとして、Ｎｅ・４％Ｘｅガスを、４００Ｔｏｒｒで封入した。
これに対して、従来技術に係るＰＤＰは、本実施形態に係るＰＤＰからゲッター２２および紫外線遮蔽壁２４を除いたものである。
【００３５】
吸湿試験は、８５℃で湿度９５％の恒温槽内にＰＤＰを放置することによって行い、放置時間と放電維持電圧との関係を調査した。
図６はＰＤＰの吸湿試験結果を示すグラフであり、図６（ａ）は本実施形態に係るＰＤＰの場合であり、図６（ｂ）は従来技術に係るＰＤＰの場合である。なお以下のグラフでは、２次元マトリックスで３００個のセルからなるＰＤＰにおいて、全部のセルを放電開始させるのに必要な駆動電圧が最終セル点灯電圧である。また、全部のセルを点灯させた状態から駆動電圧を徐々に下げた場合に、最初のセルが消灯する電圧が第１セル消灯電圧である。
【００３６】
図６（ｂ）に示す従来技術に係るＰＤＰの場合は、短時間の放置で第１セル消灯電圧および最終セル点灯電圧が大きく上昇した。これは、恒温槽内の水分が封着材を透過してＰＤＰの内部に侵入し、放電ガスの純度が低下したからであると考えられる。
これに対して、図６（ａ）に示す本実施形態に係るＰＤＰの場合は、放置時間が増加しても電圧変動は５Ｖ以内であり、実用上問題のない結果が得られた。これは、封着材を透過してＰＤＰの内部に侵入した水分がゲッターによって吸着され、放電ガスの純度低下が抑制されたからであると考えられる。
【００３７】
また本願の発明者は、本実施形態に係るＰＤＰおよび従来技術に係るＰＤＰにつき、エージング試験を行って放電電圧の変動を測定した。本実施形態に係るＰＤＰとして、紫外線遮蔽壁の効果を確認するため、ゲッターを除いたものを採用した。また従来技術に係るＰＤＰとして、紫外線遮蔽壁およびゲッターを除いたものを採用した。
エージング試験は、室温で湿度５０％の雰囲気においてＰＤＰに長時間電圧を印加することによって行い、エージング時間と放電維持電圧との関係を調査した。
【００３８】
図７はＰＤＰのエージング試験結果を示すグラフであり、図７（ａ）は本実施形態に係るＰＤＰの場合であり、図７（ｂ）は従来技術に係るＰＤＰの場合である。
図７（ｂ）に示す従来技術に係るＰＤＰの場合は、エージング時間の増加とともに放電維持電圧が上昇し、２０００時間のエージング後には最終セル点灯電圧が約３０Ｖ増加した。これは、ＰＤＰの放電によって発生した紫外線が長時間にわたって封着材に入射し、封着材に含まれる樹脂材料が分解され、ＣＨ系の不純物ガスがＰＤＰ内部に放出されて、放電ガスの純度が低下したからであると考えられる。
【００３９】
これに対して、図７（ａ）に示す本実施形態に係るＰＤＰの場合は、２０００時間のエージング後でも、電圧上昇は１０Ｖ以下であった。これは、ＰＤＰの放電によって発生した紫外線が、紫外線遮蔽壁によって吸収されたことにより、封着材からの不純物ガスの放出が防止されて、放電ガスの純度低下が抑制されたからであると考えられる。
【００４０】
以上に詳述したように、本実施形態に係るＰＤＰは、封着材の内周に沿って連続的または断続的に形成されたゲッターを有する構成とした。この構成によれば、封着材から放出される不純物ガスおよび封着材を透過して侵入する不純物ガスをゲッターによって吸着することができるので、一対の基板間に封入された放電ガスの純度低下を抑制することが可能になる。したがって、放電電圧の上昇を抑制することができる。
また、不純物ガスをゲッターによって吸着することができるので、吸湿性を有する保護膜によって不純物ガスが吸着されるのを防止することができる。これにより、基板表面の２次電子放出係数の低下を抑制することが可能になり、放電電圧の上昇を抑制することができる。さらに、基板間に所定時間の電圧印加（初期エージング処理）を行って保護膜から離脱させた不純物ガスを、基板間に滞留させることなく、ゲッターによって吸着することができる。これにより、不純物ガスの離脱を速やかに完了させることが可能になり、初期エージング処理時間を短縮することができる。
【００４１】
また、本実施形態に係るＰＤＰは、前記封着材の内周に沿って連続的に形成された紫外線遮蔽壁を有する構成とした。この構成によれば、封着パネルの内部で発生した紫外線が紫外線遮蔽壁によって吸収されるので、封着材に入射するのを防止することができる。これにより、封着材からの不純物ガスの放出を抑制することが可能になり、放電電圧の上昇を抑制することができる。
【００４２】
なお、本発明の技術範囲は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した各実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、各実施形態で挙げた具体的な材料や構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【００４３】
例えば、上記実施形態では本発明をプラズマディスプレイパネルに適用したが、本発明を電界放出ディスプレイパネルに適用することも可能である。電界放出ディスプレイパネルは、画素ごとに配置された電子放出源(エミッター)から真空中に電子を放ち、蛍光体にぶつけて発光させるものである。具体的な電界放出ディスプレイパネルとして、突起状の電子放出素子を備えたＦＥＤ（Field Emission Display）や、表面伝導型の電子放出素子を備えたＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）等が挙げられる。この電界放出ディスプレイパネルに本発明を適用した場合でも、放電電圧の上昇を抑制することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】３電極ＡＣ型プラズマディスプレイパネルの分解斜視図である。
【図２】プラズマディスプレイパネルの周縁部における断面図である。
【図３】ゲッターを備えたプラズマディスプレイパネルの平面図である。
【図４】複数のゲッターを備えたプラズマディスプレイパネルの説明図である。
【図５】プラズマディスプレイパネルの製造方法のフローチャートである。
【図６】プラズマディスプレイパネルの吸湿試験結果を示すグラフである。
【図７】プラズマディスプレイパネルのエージング試験結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【００４５】
１…背面基板  ２…前面基板  １５…隔壁  １６…放電室  ２０…封着材  ２２…ゲッター（吸着材）  ２４…紫外線遮蔽壁  １００…プラズマディスプレイパネル（封着パネル）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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