(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
クローラの長手方向に向けてメインコードが列状をなして埋設され、メインコードの外周側にこのメインコードに対して左右に逆の角度をなして二層のバイアスコードａ、ｂが埋設されると共に、メインコードの内周側にメインコードに対して直角方向に配置されたバイアスコードｃが埋設され、内周面の中央部には一定ピッチにてゴム突起が形成されると共に外周面にはゴムラグが形成された芯金レスクローラにおいて、
バイアスコードａ、ｂ、ｃ及びメインコードは夫々トリートゴムにて挟まれ、少なくとも、クローラの平面視でゴム突起の左右幅方向における転輪の転動面を覆うようにメインコードとバイアスコードｃ間にトリートゴムよりも低硬度のゴム層を介在させたことを特徴とする芯金レスクローラの構造。
【請求項２】
低硬度のゴム層がメインコードとバイアスコードｃの全面の間に介在させた請求項１記載の芯金レスクローラの構造。
【請求項３】
メインコードとバイアスコードｃ間に介在されたゴム層の硬度が５５〜７０度である請求項１又は２記載の芯金レスクローラの構造。
【請求項４】
クローラの幅方向両端部において、前記低硬度のゴム層の端部、前記バイアスコードｃの端部及び前記メインコードの端部の位置がそれぞれ異なる、請求項１乃至請求項３の何れか一に記載の芯金レスクローラの構造。
【請求項５】
クローラの幅方向両端部において、前記低硬度のゴム層の端部が、前記バイアスコードｃの端部よりクローラの幅方向中心側に位置する、請求項１、請求項３及び請求項４の何れか一に記載の芯金レスクローラの構造。
【請求項６】
クローラの幅方向両端部において、前記低硬度のゴム層の端部が、前記メインコードの端部よりクローラの幅方向外側に位置する、請求項１乃至請求項５の何れか一に記載の芯金レスクローラの構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は芯金レスクロ−ラの構造に関するものであり、クロ−ラの寿命を向上することを目的とするものである。
【背景技術】
【０００２】
図１は芯金レスクロ−ラの構造を表す断面図である。クロ−ラ１の長手方向に向けてメインコ−ド２が列状をなして埋設され、その外周側に２層のバイアスコ−ドａ、ｂが、そして、内周側にバイアスコ−ドｃが埋設される構造となっている。そして、内周面の中央部には一定ピッチにてゴム突起６が形成されてスプロケットからの駆動力を受け、外周面にはゴムラグ７が形成される構造となっている。【０００３】
バイアスコ−ドａ、ｂ、ｃ及びメインコ−ド２は、クロ−ラの成形時には各コ−ドをそのままモ−ルド内に配置するのではなく、コ−ドの上下よりいわゆるトリ−トゴムと言われる未加硫ゴムシ−トにて挟んでベルト状となし、これをモ−ルド内にて重ね合わせることによって成形するものである。【０００４】
バイアスコ−ドａ、ｂはメインコ−ド２に対してほぼ３５度程度逆向きのコ−ドであり、バイアスコ−ドｃはメインコ−ド２に対してほぼ直角の方向性をもっている。これら各コ−ドはクロ−ラの横剛性のアップと共に、外部からの力に対してゴムのクラックの防止と共に、クラックが入った場合でもこのバイアスコ−ドの部位にてクラックが止まり、メインコ−ドには影響のないようにするためのものである。【０００５】
しかるに、ゴム突起６の左右幅方向の内周面１Ａ、１Ｂは転輪の転動面であり、この部位は転輪によって繰り返し圧縮やこじりを受けることになり、内周側のバイアスコ−ドｃがこれによって破断してしまうことがある。かかるバイアスコ−ドｃの破断がもたらされると、この部位を基点としてゴムの剥離が発生し、ゴム欠け、これに基づくメインコ−ドの錆等が発生し、クロ−ラの寿命を著しく低下させることがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は転輪の転動による内周側のバイアスコ−ドの破断をなくす芯金レスクロ−ラを提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の要旨は、クロ−ラの長手方向に向けてメインコ−ドが列状をなして埋設され、メインコ−ドの外周側にこのメインコ−ドに対して左右に逆の角度をなして二層のバイアスコ−ドａ、ｂが埋設されると共に、メインコ−ドの内周側にメインコ−ドに対して直角方向に配置されたバイアスコ−ドｃが埋設され、内周面の中央部には一定ピッチにてゴム突起が形成されると共に外周面にはゴムラグが形成された芯金レスクロ−ラにおいて、バイアスコ−ドａ、ｂ、ｃ及びメインコ−ドは夫々トリ−トゴムにて挟まれ、少なくとも、クロ−ラの平面視でゴム突起の左右幅方向における転輪の転動面を覆うようにメインコ−ドとバイアスコ−ドｃ間にトリ−トゴムよりも低硬度のゴム層を介在させたことを特徴とする芯金レスクロ−ラの構造に係るものであり、好ましくは、メインコ−ドとバイアスコ−ドｃ間に介在されたゴム層の硬度が５５〜７０度である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明は上記のような構成としたことにより、かかるクロ−ラの使用中に転輪がゴム突起６の左右幅を転動してもバイアスコ−ドｃが破断することなく、この破断に基づくゴムクラックやゴム欠け、更にはメインコ−ドの錆や切断が解消したものである。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は従来のクロ−ラの断面図である。
【図２】図２は従来のクロ−ラのメインコ−ドとバイアスコ−ドｃ間の加硫前の詳細図である。
【図３】図３は本発明のクロ−ラの外周側平面図である。
【図４】図４は本発明のクロ−ラの内周側平面図である。
【図５】図５は本発明の第１例のクロ−ラの側面図である。
【図６】図６は図５におけるクロ−ラのＡ−Ａ線断面図である。
【図７】図７は図５におけるクロ−ラのＢ−Ｂ線断面図である。
【図８】図８は図５におけるクロ−ラのメインコ−ドとバイアスコ−ドｃ間の加硫前の詳細図である。
【図９】図９は図５におけるクロ−ラのメインコ−ドとバイアスコ−ドｃ間の加硫後の詳細図である。
【図１０】図１０は本発明の第２例のクロ−ラの図６と同様の断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
従来の技術にあっては、クロ−ラの剛性を高めるのに、クロ−ラの内周側にバイアスコ−ドｃを埋設するという技術思想があり、その埋設する幅もメインコ−ドの全幅とほぼ同じ幅をもって埋設されていた。しかるに、これによって常に転輪の転動面にバイアスコ−ドｃが存在し、機体の荷重が常に掛り、更に、旋回時等にこじりが加えられるため、バイアスコ−ドｃの破断が生じていた。【００１１】
図２は従来のクロ−ラのメインコ−ド２とバイアスコ−ドｃとの間の詳細図であり、メインコ−ド２は未加硫ゴムｇ１ 、ｇ２ にて上下より挟み込まれてベルト状をなし、一方、バイアスコ−ドｃは未加硫ゴムｇ３ 、ｇ４ にてこれ又ベルト状をなし、これが積層され、加硫されることによってメインコ−ド２とバイアスコ−ドｃの周囲を高硬度ゴムにて囲まれることになる。【００１２】
このバイアスコ−ドｃの破断の状況を精査するに、主として転輪の端縁部にて破断がもたらされるが、これはバイアスコ−ドｃとメインコ−ドのトリ−トゴムが比較的高硬度であるため、この高硬度ゴム中にてバイアスコ−ドｃに大きな歪みが加わるため、バイアスコ−ドｃの挙動が制限され、これによってバイアスコ−ドｃの破断がもたらされることが判明した。【００１３】
本発明はバイアスコ−ドｃとメインコ−ド間の高硬度ゴム中で、少なくとも、クロ−ラの平面視でゴム突起の左右幅方向における転輪の転動面を覆うように、トリ−トゴムよりも低硬度のゴム層を介在させたことで、バイアスコ−ドｃ及びこれを覆う高硬度ゴム層に加わる主として転輪の転動による歪みを低硬度ゴム層にて吸収し、バイアスコ−ドｃの破断の発生を低減させたものである。【００１４】
各バイアスコ−ドとメインコ−ドは上下より未加硫ゴムにて挟むが、この未加硫ゴムが加硫された際には通常硬度が７０〜８５度（ＪＩＳ・Ａ）である。しかるに、バイアスコ−ドｃとメインコ−ドのかかるゴムに、低硬度ゴム層を挟んだ構造としたものである。この低硬度ゴム層の硬度は５０〜７０度、好ましくは５５〜６５度（ＪＩＳ・Ａ）、厚さ２〜４ｍｍ程度のゴム層を埋設することで十分である。
【実施例１】
【００１５】
以下、本発明を実施例をもって更に詳細に説明する。
図３は本発明のクロ−ラの外周側平面図、図４は内周側平面図、図５は側面図、図６はＡ‐Ａ線断面図、図７はＢ−Ｂ線断面図である。クロ−ラ１の長手方向に向けてメインコ−ド２が列状をなして埋設され、その外周側に２層のバイアスコ−ドａ、ｂが埋設され、内周側にはバイアスコ−ドｃが埋設されている。そして、内周面の中央部には一定ピッチにてゴム突起６が形成されてスプロケットからの駆動力を受け、外周面にはゴムラグ７が形成される構造となっている。バイアスコ−ドａ、ｂはメインコ−ド２に対してほぼ３５度程度逆向きのコ−ドを積層したものである。バイアスコ−ドｃはメインコ−ド２に直角方向にコ−ドが伸びており、一般にコ−ド角０度と称するものである。尚、各バイアスコ−ドは、スチ−ルコ−ドをすだれ状に並べたものである。バイアスコ−ドｃとメインコ−ド２との間には後述するゴム硬度６０度のゴム層Ｇが埋設されている。【００１６】
図８は本発明のクロ−ラのメインコ−ド２とバイアスコ−ドｃとの間の詳細図であり、メインコ−ド２は未加硫ゴムｇ１ 、ｇ２ にて上下より挟み込まれてベルト状をなし、一方、バイアスコ−ドｃは未加硫ゴムｇ３ 、ｇ４ にてこれ又ベルト状をなしている。そして、両ベルト間幅方向全体に低硬度を構成する未加硫ゴムＧ０ を挟みこの状態でゴムを加硫するものである。【００１７】
図９は加硫後の状態を示すものであり、ゴム層Ｇのゴム硬度は６０度であった。このゴム層Ｇはメインコ−ド２とバイアスコ−ドｃとの間に介在され、ゴム層Ｇの幅もバイアスコ−ドｃの幅とほぼ同じである。そして、メインコ−ド２とバイアスコ−ドｃを囲む未加硫ゴムｇ１ 、ｇ２ 、ｇ３ 、ｇ４ は一体に加硫され、ゴム硬度は８０度であった。【００１８】
本発明のクロ−ラによれば、ゴム突起６の左右面１Ａ、１Ｂに転輪が転動した場合、バイアスコ−ドｃに歪みが加わり、特に転輪の縁部での剪断歪みがかかるが、高硬度のゴム中でバイアスコ−ドｃに歪みが加わり、動きが抑えられた状態での歪みであって、これが繰り返されるとバイアスコ−ドｃの破断が起こりやすいが、本発明の場合には高硬度ゴムの間に低硬度ゴムが介在しているため、全体として歪みを受けることとなり、歪みは一個所に集中しにくくなり、バイアスコ−ドｃの破断の発生が低減することとなる。【００１９】
図１０は本発明の第２例を示す図６と同様の断面図である。この例にあっては、ゴム突起６の左右幅方向面を転輪１０が転動走行するが、平面視でこの転輪１０が転動する部位を覆って低硬度ゴムを介在させたものである。従って、かかる低硬度ゴム層は左右に分断されて介在することとなる。尚、各層の左右端部は外周側になるにつれて段階的に短くなっている。これはクロ−ラの左右端部を徐々に柔らかくして耳オレの防止を図ったものである。この点で言えば、図示はしないが内周側になるにつれて段階的に短くすることでも対応可能である。
【産業上の利用可能性】
【００２０】
本発明は上記のような構成としたことにより、かかるクロ−ラの使用中にバイアスコ−ドの破断という欠点が解消したもので、芯金レスクロ−ラに広く採用可能である。
【符号の説明】
【００２１】
１            クロ−ラ
１Ａ、１Ｂ      転輪の転動面
２            メインコ−ド
６            ゴム突起
７            ゴムラグ
１０            転輪
ｃ            メインコ−ドの内周側に埋設されたバイアスコ−ド
ｇ１ 、ｇ２      メインコ−ドを挟む未加硫ゴム
ｇ３ 、ｇ４      バイアスコ−ドｃを挟む未加硫ゴム
Ｇ            メインコ−ドとバイアスコ−ドｃ間の低硬度ゴム層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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