(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
物理蒸着被膜装置に切削工具インサートを固定する方法であって、
非磁性金属材料で作られた管を使用して、磁石と鉄との互い違いの円盤積層を取り囲み、
前記積層は磁性体の北極軸が互いに向かい合い、前記切削インサートが中身の詰まった前記管の外側壁に位置決めされ、且つ磁力によって適切に保持される
ことを特徴とする物理蒸着被膜装置に切削工具インサートを固定するための方法。
【請求項２】
前記管の横断面が環状であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記管の壁の厚みが、１．５ｍｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の背景
本発明は、切削インサートの物理蒸着(PVD)による括取付け装置に関し、回転する大きな寸法の製造物に適用可能であり、且つ十分に自動的に装着を可能にする。
【０００２】
超硬合金切削インサート上の耐磨耗性被膜の物理蒸着は、１５年以上も前から使用されており、PVD法の実施は、この処理が施される製造物の数と種類と同様にまだ増加している。
【０００３】
化学蒸着(CVD)に比較して、PVD処理は、切削インサートのような３次元物体の周囲に均一被膜厚さを達成するためには、限定された能力を備える視程範囲方法である。このことが、取付け装置に特別な配列を必要とする。すなわち、個々の超硬合金切削インサートの切れ刃、並びに全バッチ内のインサート全ての切れ刃が、可能な限り被膜材料の磁束に均一に曝されるようにする必要がある。好ましくは、最も大きな被膜厚みは、特に切削作業を実施するために最も必要となる切削インサート部分であることが判明した。さらに、切削インサートのすくい面と逃げ面は、取り囲まれた切削インサートからの遮蔽効果を最も少なくする必要がある。これらの必要条件は、特別に設計した取付け固定物を使用しないときは、インサートの取付けが低密度となる。中央にいずれの穴も存在しない切削インサートの場合は、かぎ止め式の装置にインサートに取り付けるためには、さらに複雑化が強いられる。
【０００４】
穴なしインサートを取付け可能にするいくつかの方法が存在するが、二つの主原理が考えられる。すなわち、
１）インサートを機械的な固定物に固定し、且つインサートを、例えばスリットまたはアームによって所望の位置に保持すること。
【０００５】
２）磁力を生じる磁性ホルダにインサートを固定して、蒸着行程の際に、インサートを固定位置に保持すること。
【０００６】
固定位置に機械的にインサートを固定する方法（１）の限定は、固定装置自体が被覆すべきインサート区域を遮蔽する危険がある。遮蔽の影響は被膜厚みに所望しない変化をもたらし、或いは、最悪の場合は、ほとんど被膜されていない区域をもたらす。薄い被膜または被膜の存在しない区域がインサート工具切れ刃内に位置する場合は、切削作業中において不利となる。また、インサートの外見が望ましくないマークと色のばらつきを示し、全てのインサートにおいて同一でもなくまた類似していない。
【０００７】
磁性体ホルダの方法（２）の限定は、かなりの重量の磁性体にある。大きな重量の磁性体組み立て物は、PVD被膜チャンバ内のバッチを回転するために使用する機構の機能を限定する。バッチ内の全ての材料を可能な限り均一な被膜条件を達成するために、回転を必要とする。磁性体と接するインサートの区域は、必然的に被膜なしで残留し、限定されたこの方法は、被膜なしの側面または側面の一部を備えることが許されるであろうインサートに対して最適である。さらに、インサートの１つの必要条件は、適切にインサートを保持するための磁力を最大にするために、幾何学的形状が平らな底面であることである。磁場強度は、温度の上昇とともに減少し、一般的なPVD基盤温度は４５０〜５００℃の範囲にあり、この目的に使用されることになる磁性体のタイプについては特別な必要条件が設定される。
【０００８】
先行技術における共通のやり方は、４または６個の保持する極に並んでインサートを固定することである。各極の側部は、いくつかのインサートを２次元パターンに配置することを可能にする区域を備える。これは、好ましくない被膜厚さ分布を生じる。極の回転の結果、極面の垂直な縁に沿って配置されたインサートの逃げ面は、極の同じ側部に配置されたインサートの別の逃げ面の全てより薄い被膜となるであろう。さらに、インサートの平行配置が、インサートの逃げ面に遮蔽効果をもたらし、インサートのすくい面と逃げ面との間の被膜厚みに相違をもたらす。この違いは、ある場合には、切削作業の際に最も好ましくない。
【０００９】
本発明の目的と概要
本発明の目的は、特別の幾何学形態の切削インサートに適切である固定装置を提供することであり、磁性原理に基づく固定装置の一般的な限定を回避または軽減する磁性ホルダを提供する。さらに、本発明の目的は、大きな寸法の回転製造に適切な固定装置を提供することである。
【００１０】
発明の好ましい実施態様の詳細な説明
本発明にしたがう一括装着方法は、非磁性金属材料で作られた管を使用して、磁性体円盤と鉄円盤との互い違いの円盤の積層を取り囲む。切削インサートが中身の詰まった管の外側壁に位置決めされ、且つ磁力によって適切に保持される。
【００１１】
本発明の外側管の実質的形状は、幾何学的形状数によって設計することができる。この管の横断面は、例えば、環形、長楕円形、矩形、正方形、五角形、六角形などにすることができる。本発明の説明においては、環状横断面のみについて説明する。
【００１２】
管形状の固定物は、独特な形状を備えるインサートを装着するために明らかに適合する。管に接触するインサートの部分は、長く伸びた幾何学的形状を好ましく備える必要がある。
【００１３】
１つの形式のインサートは、いずれの中央穴も備えてなくて、切削作業に使用することのない細長い底面を有し、且つすくい面と逃げ面との均一な被膜厚さを必要とするものであり、突っ切り加工及び溝きり加工と呼ぶ機械加工に使用されるインサートである。本発明は、この種のインサート及び同様の品位を必要とするその他の種類のインサートに特に適切である。
【００１４】
図３及び図４は、環形状の管が平らな表面上に平行に位置決めされているインサートの逃げ面の改良を示すものである。このインサートの細長い底面形態は、この管と面接触であると考えられる。この管形状が、取付けに利用しうる表面積及び磁性材との比率を最適にする。すなわち、固定物重量を最小化すると同時に固定物表面積を最大化し、且つインサートの取付けの高密度を可能にする。
【００１５】
磁性体の配置が取付け装置の機能に対して重要となる。磁性体は互いに向き合って北極軸を配向する。このような方法においては、鉄円盤の磁場は増幅されて、磁場の影響が最適に使用される。鉄円盤と比較した磁性体円盤の厚みも重要である。この鉄円盤は、周囲の磁性体円盤からの磁場との間のバッファーとして作用するために十分な厚み、且つ磁束密度の飽和を回避するために十分な厚みを備える必要がある。同時に、鉄円盤は、磁性体の自己反磁場を回避するために充分に薄くする必要がある。
【００１６】
使用する磁性材料の種類は、それらの磁性材料の多くは高温でそれらの磁性特性を消失するために、重要である。鉄円盤の材質は低含有量の合金化元素を有する鉄材料が好ましい。
【００１７】
金属管は、磁性体円盤から鉄円盤までの磁束密度を妨げないために、例えばステンレス鋼のような、非磁性材料で作られる。磁性体を取り囲む金属管の機能は、主に、物理的損失と、被膜されることからの損失とを防御することである。被膜処理に複数回曝された後、被膜された表面が、被膜の粒子を散漫することことになる。ある程度のこれらの粒子が、被膜されるインサートに達成されると同時に、これらのインサートに欠陥を形成する。このような欠陥は、この欠陥が切削作業の際に、使用されるインサート区域に位置するときは、インサートの性能特性に有害となる。保護管は複数の蒸着回数後、容易に除去され、新しいものと取り替えられ、望ならば、ブラスト加工のような清浄作業を施すことができる。
【００１８】
しかしながら、金属管は、磁場を弱める。好ましい実施態様においては、管の厚みは１．５ｍｍ未満に、好ましくは１．０ｍｍ未満に薄くする。
【００１９】
本発明は管にインサートを自動的に装着するために適している。好ましい実施態様においては、管の外側表面を数十分の１ｍｍにするために、垂直軸に沿って間隔をもって、この管は強化リングが装着される。これは、管の取付け取り外しの際、幾分激しい取り扱いの予防策である。この増強目的はインサートが管から滑り落ちることを防止することになる。
【００２０】
前述の本発明においては、単に特別な説明を行なった。この理由は、本発明に包含される正確な条件および詳細な最適寸法は、被覆装置の設計と用いる蒸着条件とに依存する。使用される特定の装置の設計と蒸着条件に対して本発明を適合させることは、当業者の範囲内である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、現在請求する本発明を写真で示す。
【図２】  図２は、現在請求する本発明を模式図で示す。本発明は、磁性体（Ｂ）と鉄芯（Ｃ）との互い違いの円盤積層を取り囲む金属管（Ａ）を含む。棒（Ｄ）が、磁性体と鉄心の中心を貫通する。この棒は、PVD装置内の回転構造体に対応させるのに適する。この管は、強化リング（Ｅ）がさらに取り付けられる。
【図３】  図３は、種々の装着密度で装着した超硬合金インサートを備えた本発明の構造体の横断面を示す。
【図４】  図４は、種々の装着密度で装着した超硬合金インサートを備えた本発明の構造体の横断面を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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