(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）；
【化１】
0004716547.tif 000009
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４のアルキルチオ基を表す。）で表されるベンゾニトリル類と、硫化水素と、下記一般式（２）；
【化２】
0004716547.tif 000010
（式中、Ｒ4は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ5は水素原子、カルバモイル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキルカルボニル基、炭素数１〜４のモノまたはジ置換のアルキルアミノカルボニル基または炭素数１〜４のアルコキシカルボニル基を、Ｘはハロゲン原子を表す。）で表されるα−ハロケトン類とを、触媒の存在下に加圧下で、下記一般式（４）；
【化３】
0004716547.tif 000011
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、前記一般式（１）と同様である。）で表されるチオベンズアミド類の単離工程を経ることなくワンポットで反応させることを特徴とする下記一般式（３）；
【化４】
0004716547.tif 000012
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、前記一般式（１）と、Ｒ4、Ｒ5は、前記一般式（２）と同様である。）で表される２−フェニルチアゾール類の製造方法。
【請求項２】
１０６８．９ｋＰａ以下の加圧下で反応させる請求項１に記載の２−フェニルチアゾール類の製造方法。
【請求項３】
触媒の使用量が、ベンゾニトリル類に対して０．１〜２０モル％である請求項１または２に記載の２−フェニルチアゾール類の製造方法。
【請求項４】
α−ハロケトン類が、クロロピルビン酸エチル、ブロモピルビン酸エチルまたは２−クロロアセト酢酸エチルである請求項１ないし３いずれか１項に記載の２−フェニルチアゾール類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、２−フェニルチアゾール類の製造方法に関する。さらに詳しくは、医薬品、農薬等の製造中間体として有用な２−フェニルチアゾール類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
２−フェニルチアゾール類の製造法としては、α−ハロケトン類とチオベンズアミド類を反応させる方法等が知られている（新実験化学講座１４有機合成と反応［IV］ｐ２１９２）。ここで、原料となるチオベンズアミド類を製造する方法としては、４−ヒドロキシベンゾニトリルと硫化水素とを反応させる方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９４；９，３１５３，（１９７２））、ベンゾニトリル類と五硫化リンとを反応させる方法（新実験化学講座１４有機合成と反応［III］ｐ１８２８−１８２９）、ベンゾニトリル類とチオアセトアミドとをポリリン酸中で反応させる方法（特開平１１−６０５５２号公報）等が知られている。
【０００３】
しかしながら、前記の４−ヒドロキシベンゾニトリルと硫化水素とを反応させる方法においては、触媒であるトリエチルアミンを４−ヒドロキシベンゾニトリルに対して５３モル％と大量に用いている。したがって、引き続きα−ハロケトン類と反応させる際、トリエチルアミンがα−ハロケトン類と副反応を起こすため、チオベンズアミド類を単離するか、使用したトリエチルアミンを除去する工程が必要となる。また、ベンゾニトリル類と五硫化リンとを反応させる方法やベンゾニトリル類とチオアセトアミドとをポリリン酸中で反応させる方法は、リンを大量に含む廃水が排出されるため、高度な処理が必要となる。したがって、これらの方法は、工業的に有利な製造方法とは言い難い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、工業的に有利な２−フェニルチアゾール類の製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討の結果、ベンゾニトリル類と硫化水素とα−ハロケトン類とを、触媒の存在下に加圧下で反応させることにより、触媒の使用量が低減でき、かつワンポットで２−フェニルチアゾール類を製造できることを見出し本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、本発明は、下記一般式（１）；
【０００７】
【化４】
0004716547.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４のアルキルチオ基を表す。）
【０００８】
で表されるベンゾニトリル類と、硫化水素と、下記一般式（２）；
【０００９】
【化５】
0004716547.tif 000003
（式中、Ｒ4は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ5は水素原子、カルバモイル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキルカルボニル基、炭素数１〜４のモノまたはジ置換のアルキルアミノカルボニル基または炭素数１〜４のアルコキシカルボニル基を、Ｘはハロゲン原子を表す。）
【００１０】
で表されるα−ハロケトン類とを、触媒の存在下に加圧下で反応させることを特徴とする下記一般式（３）；
【００１１】
【化６】
0004716547.tif 000004
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、前記一般式（１）と、Ｒ4、Ｒ5は、前記一般式（２）と同様である。）
【００１２】
で表される２−フェニルチアゾール類の製造方法に関する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明においては、ベンゾニトリル類と硫化水素とα−ハロケトン類とを、触媒の存在下に加圧下で反応させる。この際、ベンゾニトリル類と硫化水素との反応により下記一般式（４）；
【００１４】
【化７】
0004716547.tif 000005
【００１５】
で表されるチオベンズアミド類が生成するチオアミド化反応がまず起こり、続いて、生成したチオベンズアミド類がα−ハロケトン類と反応して２−フェニルチアゾール類が生成するチアゾール化反応が連続して起こるものと考えられる。したがって、見かけ上、反応が一工程で進行することとなるため、ワンポットで２−フェニルチアゾール類を製造することができる。
【００１６】
ここで、前記一般式（４）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、前記一般式（１）と同様である。
【００１７】
本発明に用いられるベンゾニトリル類は、下記一般式（１）；
【００１８】
【化８】
0004716547.tif 000006
【００１９】
で表される化合物である。
【００２０】
前記一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４のアルキルチオ基を表す。
【００２１】
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００２２】
前記炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００２３】
前記炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
【００２４】
前記炭素数１〜４のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等が挙げられる。
【００２５】
前記ベンゾニトリル類の具体例としては、ベンゾニトリル、４−クロロベンゾニトリル、２−ブロモベンゾニトリル、４−シアノフェノール、３−メチルベンゾニトリル、４−エチルベンゾニトリル、４−ｎ−プロピルベンゾニトリル、４−ｎ−ブチルベンゾニトリル、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾニトリル、４−メトキシベンゾニトリル、４−エトキシベンゾニトリル、４−ｎ−プロポキシベンゾニトリル、４−ｎ−ブトキシベンゾニトリル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシベンゾニトリル、２−メチル−４−ブロモベンゾニトリル、２−メトキシ−４−ヒドロキシベンゾニトリル、２−エチル−４−メトキシベンゾニトリル、２−ｎ−プロポキシ−４−クロロベンゾニトリル、２−ｎ−プロピル−４−ニトロベンゾニトリル、２−メチルチオ−４−クロロベンゾニトリル、２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシベンゾニトリル、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−６−ニトロベンゾニトリル、２−ｎ−プロピル−４−ニトロ−６−メトキシベンゾニトリル、２−メチルチオ−４−クロロ−６−ヒドロキシベンゾニトリル、２−ｎ−プロポキシ−４−クロロ−６−ブロモベンゾニトリル等が挙げられる。中でも、ベンゾニトリル、４−クロロベンゾニトリル、４−シアノフェノール、４−メトキシベンゾニトリルが好適に用いられる。
【００２６】
本発明に用いられる硫化水素の使用量は、通常、ベンゾニトリル類に対して１〜２倍モル、好ましくは１．１〜１．４倍モルである。硫化水素の使用量が１倍モル未満の場合、反応が完結しにくい。また、硫化水素の使用量が２倍モルを越える場合、未反応の硫化水素が多くなり好ましくない。
【００２７】
本発明に用いられる触媒は、特に限定されず、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン等のアミン類；ピリジン、メチルピリジン、エチルピリジン等のピリジン類が挙げられる。中でも、入手が容易で経済的な観点から、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミンが好適に用いられる。
【００２８】
前記触媒の使用量は、通常、ベンゾニトリル類に対して０．１〜２０モル％、好ましくは１．０〜１０モル％である。触媒の使用量が０．１モル％未満の場合、反応速度が遅くなるおそれがある。また、触媒の使用量が２０モル％を越える場合、使用量に見合う効果がなく経済的でない
【００２９】
本発明に用いられるα−ハロケトン類は、下記一般式（２）；
【００３０】
【化９】
0004716547.tif 000007
【００３１】
で表される化合物である。
【００３２】
前記一般式（２）中、Ｒ4は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ5は水素原子、カルバモイル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキルカルボニル基、炭素数１〜４のモノまたはジ置換のアルキルアミノカルボニル基または炭素数１〜４のアルコキシカルボニル基を、Ｘはハロゲン原子を表す。
【００３３】
前記炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００３４】
前記炭素数１〜４のアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基等が挙げられる。
【００３５】
前記炭素数１〜４のモノまたはジ置換のアルキルアミノカルボニル基としては、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジｎ−プロピルアミノカルボニル基、イソプロピルアミノカルボニル基、ジイソプロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジｎ−ブチルアミノカルボニル基、イソブチルアミノカルボニル基、ジイソブチルアミノカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボニル基、ジｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボニル基等が挙げられる。
【００３６】
前記炭素数１〜４のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
【００３７】
前記ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００３８】
前記α−ハロケトン類の具体例としては、２−ブロモアセト酢酸エチル、ブロモピルビン酸エチル、２−ブロモアセト酢酸メチル、ブロモピルビン酸メチル、３−ブロモ−２−ブタノン等のα−ブロモケトン類；２−ヨードアセト酢酸エチル、ヨードピルビン酸エチル、２−ヨードアセト酢酸メチル、ヨードピルビン酸メチル、３−ヨード−２−ブタノン等のα−ヨードケトン類；２−クロロアセト酢酸エチル、クロロピルビン酸エチル、２−クロロアセト酢酸メチル、２−クロロアセト酢酸エチル、クロロピルビン酸メチル、３−クロロ−２−ブタノン等のα−クロロケトン類が挙げられる。中でも、安価で入手が容易である観点からクロロピルビン酸エチル、ブロモピルビン酸エチル、２−クロロアセト酢酸エチルが好適に用いられる。
【００３９】
前記α−ハロケトン類の使用量は、通常、ベンゾニトリル類に対して１〜１．５倍モル、好ましくは１〜１．３倍モルである。α−ハロケトン類の使用量が１倍モル未満の場合、反応が完結しにくい。また、α−ハロケトン類の使用量が１．５倍モルを越える場合、未反応のα−ハロケトン類が多くなり好ましくない。
【００４０】
前記反応における圧力は、通常、１０６８．９ｋＰａ以下、好ましくは２９４．２〜９８０．６ｋＰａ、より好ましくは４９０．３〜９８０．６ｋＰａの範囲である。前記反応における圧力が１０６８．９ｋＰａを超えても、特に有利な結果を得ることができず、経済的でない。
【００４１】
前記反応における温度は、通常、４０〜１１０℃、好ましくは４０〜９０℃である。反応温度が４０℃未満の場合、反応速度が遅くなるおそれがある。また、反応温度が１１０℃を越える場合、不純物の生成が多くなるので好ましくない。反応時間は、反応温度により異なるが、通常、３〜２０時間である。
【００４２】
前記反応に用いられる溶媒としては、特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、クロロホルム、二塩化エチレン、ジエチルエーテル等の非水溶性有機溶媒；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エチルアルコール、メチルアルコール等の水溶性有機溶媒等が挙げられる。中でも、反応後に２−フェニルチアゾール類の単離および触媒、溶媒の回収を容易に行うことができる観点から、トルエン、メチルアルコール、エチルアルコールが好適に用いられる。
【００４３】
前記反応溶媒の使用量は、通常、ベンゾニトリル類に対して２〜１０倍重量を用いるのが好ましい。反応溶媒の使用量が２倍重量未満の場合、反応が円滑に進行しにくくなるおそれがある。また、反応溶媒の使用量が１０倍重量を超える場合、容積効率が悪化するばかりか、収率が低下するおそれがある。
【００４４】
反応終了後、放圧して反応系内から過剰の硫化水素を除去し、次いで、反応液を冷却することにより２−フェニルチアゾール類のハロゲン酸塩が析出する。析出した２−フェニルチアゾール類のハロゲン酸塩を濾過等の方法により単離し、アルカリを添加してハロゲン酸塩を遊離した後、トルエン等の有機溶媒で抽出することにより容易に２−フェニルチアゾール類を単離することができる。
【００４５】
かくして得られた２−フェニルチアゾール類は、下記一般式（３）；
【００４６】
【化１０】
0004716547.tif 000008
【００４７】
で表される化合物である。
【００４８】
前記一般式（３）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、前記一般式（１）と同様に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素数１〜４のアルキルチオ基を、またＲ4、Ｒ5は、前記一般式（２）と同様に、Ｒ4は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ5は水素原子、カルバモイル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキルカルボニル基、炭素数１〜４のモノまたはジ置換のアルキルアミノカルボニル基または炭素数１〜４のアルコキシカルボニル基を、Ｘはハロゲン原子を表す。
【００４９】
前記２−フェニルチアゾール類の具体例としては、２−フェニル−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−フェニル−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−フェニル−４，５−ジメチルチアゾール、２−（４−クロロフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（４−クロロフェニル）−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（４−クロロフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（４−クロロフェニル）−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（４−クロロフェニル）−４，５−ジメチルチアゾール、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４，５−ジメチルチアゾール、２−（ｍ−トリル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（ｍ−トリル）−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（ｍ−トリル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（ｍ−トリル）−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（ｍ−トリル）−４，５−ジメチルチアゾール、２−（４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（４−メトキシフェニル）−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（４−メトキシフェニル）−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（４−メトキシフェニル）−４，５−ジメチルチアゾール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（２−メチル−４−ブロモフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（２−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（２−エチル−４−メトキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（２−ｎ−プロポキシ−４−クロロフェニル）−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（２−ｎ−プロピル−４−ニトロフェニル）−４，５−ジメチルチアゾール、２−（２−メチルチオ−４−クロロフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−６−ニトロフェニル）−５−チアゾールカルボン酸エチル、２−（２−ｎ−プロピル−４−ニトロ−６−メトキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（２−メチルチオ−４−クロロ−６−ヒドロキシフェニル）−５−チアゾールカルボン酸メチル、２−（２−ｎ−プロポキシ−４−クロロ−６−ブロモフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル等が挙げられる。
【００５０】
【実施例】
以下、実施例、比較例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００５１】
実施例１
撹拌機、温度計およびガス吹き込み管を備えた１Ｌ容の耐圧反応容器に、ベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）、ジエチルアミン３．３ｇ（０．０４５モル）、エタノール４００ｇおよびクロロピルビン酸エチル７５．３ｇ（０．５モル）を仕込み、７０℃で１０時間を要して硫化水素２２ｇ（０．６モル）を吹き込み反応させた。その時の圧力は、７８４．５〜９８０．６ｋＰａであった。反応終了後、放圧して反応系内から過剰の硫化水素を除去した。次いで、反応液を５℃まで冷却し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をエタノール１００ｇで洗浄後、乾燥し、２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸エチル塩酸塩７４．２ｇ（０．２７５モル）を得た。
【００５２】
攪拌機を備えた１Ｌ容の反応容器に得られた２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸エチル塩酸塩７４．２ｇ（０．２７５モル）、トルエン４００ｇ、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液１４０ｇ（０．３５モル）を仕込み、２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸エチル塩酸塩を遊離させた。次いで、分液してトルエン層を得、得られたトルエン層を水５０ｇで洗浄後、トルエンを留去して２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸エチル６７．７ｇ（０．２９モル）を得た。ベンゾニトリルに対する収率は５８％であった。
【００５３】
実施例２
実施例１においてベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）の代わりに４−メチルベンゾニトリル５８．６ｇ（０．５モル）を、ジエチルアミン３．３ｇ（０．０４５モル）の代わりにトリメチルアミン２．１ｇ（０．０３５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、２−（ｐ−トリル）−５−チアゾールカルボン酸エチル７４．２ｇ（０．３モル）を得た。４−メチルベンゾニトリルに対する収率は６０％であった。
【００５４】
実施例３
実施例１においてベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）の代わりに４−メトキシベンゾニトリル６６．６ｇ（０．５モル）を、ジエチルアミン３．３ｇ（０．０４５モル）の代わりにトリエチルアミン２．５ｇ（０．０２５モル）を、クロロピルビン酸エチル７５．３ｇ（０．５モル）の代わりにブロモピルビン酸エチル９５．３（０．５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、２−（４−メトキシフェニル）−５−チアゾールカルボン酸エチル７２．４ｇ（０．２７５モル）を得た。４−メトキシベンゾニトリルに対する収率は５５％であった。
【００５５】
実施例４
撹拌機、温度計およびガス吹き込み管を備えた１Ｌ容の耐圧反応容器に、４−シアノフェノール５９．６ｇ（０．５モル）、ジエチルアミン３．３ｇ（０．０４５モル）、メタノール４００ｇおよび２−クロロアセト酢酸エチル８２．３ｇ（０．５モル）を仕込み、７０℃で１０時間を要して硫化水素２２ｇ（０．６モル）を吹き込み反応させた。その時の圧力は、７８４．５〜９８０．６ｋＰａであった。反応終了後、放圧して反応系内から過剰の硫化水素を除去した。次いで、反応液を５℃まで冷却し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をエタノール１００ｇで洗浄後、乾燥し、２−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル塩酸塩８９．９ｇ（０．３モル）を得た。
【００５６】
攪拌機を備えた１Ｌ容の反応容器に得られた２−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル塩酸塩８９．９ｇ（０．３モル）、トルエン４００ｇ、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液１４０ｇ（０．３５モル）を仕込み、２−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル塩酸塩を遊離させた。次いで、分液してトルエン層を得、得られたトルエン層を水５０ｇで洗浄後、トルエンを留去して２−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル７９．０ｇ（０．３モル）を得た。４−シアノフェノールに対する収率は６０％であった。
【００５７】
実施例５
実施例４において４−シアノフェノール５９．６ｇ（０．５モル）の代わりに２−メチル−４−ブロモベンゾニトリル９８．０ｇ（０．５モル）を用いた以外は実施例４と同様にして、２−（２−メチル−４−ブロモフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル９５．３ｇ（０．２８モル）を得た。２−メチル−４−ブロモベンゾニトリルに対する収率は５６％であった。
【００５８】
実施例６
実施例４において４−シアノフェノール５９．６ｇ（０．５モル）の代わりに２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシベンゾニトリル１０６．０ｇ（０．５モル）を用いた以外は実施例４と同様にして、２−（２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−チアゾールカルボン酸エチル９６．２ｇ（０．２７モル）を得た。２−メチル−４−ブロモ−６−ヒドロキシベンゾニトリルに対する収率は５４％であった。
【００５９】
比較例１
撹拌機、温度計およびガス吹き込み管を備えた１Ｌ容の反応容器に、ベンゾニトリル５１．６ｇ（０．５モル）、ジエチルアミン３．３ｇ（０．０４５モル）、エタノール４００ｇおよびクロロピルビン酸エチル７５．３ｇ（０．５モル）を仕込み、７０℃、常圧の条件下で１２時間を要して硫化水素２２ｇ（０．６モル）を吹き込み反応させた。反応終了後、反応液を５℃まで冷却し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をエタノール１００ｇで洗浄後、乾燥し、２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸エチル塩酸塩２７．０ｇ（０．１モル）を得た。
【００６０】
攪拌機を備えた１Ｌ容の反応容器に得られた２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸エチル塩酸塩２７．０ｇ（０．１モル）、トルエン４００ｇ、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液１４０ｇ（０．３５モル）を仕込み、２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸エチル塩酸塩を遊離させた。次いで、分液してトルエン層を得、得られたトルエン層を水５０ｇで洗浄後、トルエンを留去して２−フェニル−５−チアゾールカルボン酸エチル２３．３ｇ（０．１モル）を得た。ベンゾニトリルに対する収率は２０％であった。
【００６１】
【発明の効果】
本発明によれば、ベンゾニトリル類と硫化水素とα−ハロケトン類とを、触媒の存在下に加圧下で反応させることにより、ワンポットで２−フェニルチアゾール類を製造することができる。また、加圧下に反応を行うことにより、チオアミド化反応における触媒の使用量が低減できる。