(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビーム露光装置の偏向部として用いられる複数の筒形状を有する基材において、前記複数の筒形状の内面に導電材料をそれぞれ蒸着する蒸着装置であって、
前記導電材料を収容する溝部をそれぞれ有する複数のボート部を含む蒸着部と、
前記基材を支持する基材支持部と、
前記複数のボート部を前記基材に挿入するように前記蒸着部又は前記基材支持部の少なくとも一方を移動させる駆動部と、
前記複数のボート部を加熱する加熱部とを備えることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
前記複数のボート部は、前記複数のボート部の挿入方向に対して垂直に形成された複数の前記溝部を有することを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記複数のボート部は、前記溝部の表面を保護する保護層を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記加熱部は、前記複数のボート部に一定の電圧を印加することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記蒸着部は、前記基材が有する前記複数の筒形状の数と同数の前記複数のボート部を含む請求項１から４のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項６】
前記蒸着部又は前記基材支持部の移動方向に垂直な面内における前記複数のボート部の前記基材に対する位置を測定する測定部をさらに備えることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記基材を前記基材支持部に搬送する搬送部をさらに備えることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項８】
前記蒸着部と前記基材支持部を格納する蒸着室と、
前記蒸着室の隣に設けられた予備室と、
前記蒸着室と前記予備室との間に設けられ、前記蒸着室と前記予備室との間を隔離又は開放するシャッタとをさらに備えることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項９】
電子ビーム露光装置の偏向部として用いられる複数の筒形状を有する基材のそれぞれの筒形状の内面に導電材料を蒸着する蒸着方法であって、
前記導電材料を収容した複数のボート部を、前記基材に挿入する挿入ステップと、
前記複数のボート部を加熱して前記導電材料を蒸発させる蒸発ステップと、
前記複数のボート部が前記基材内で前記基材に対して相対的に移動するように、前記複数のボート部又は前記基材の少なくとも一方を移動させる移動ステップとを備えることを特徴とする蒸着方法。
【請求項１０】
筒形状の基材の内面に導電材料を蒸着する蒸着方法であって、
前記導電材料を収容したボート部を、前記基材に挿入する挿入ステップと、
前記ボート部を加熱して前記導電材料を蒸発させる蒸発ステップと、
前記ボート部が前記基材内で前記基材に対して相対的に移動するように、前記ボート部又は前記基材の少なくとも一方を移動させる移動ステップと、
を備え、
前記移動ステップは、
前記基材を第１回転方向に回転させながら前記ボート部又は前記基材の少なくとも一方を第１移動方向に移動させる第１移動ステップと、
前記ボート部及び前記基材が移動されない状態で前記基材を前記第１回転方向に半回転させる回転ステップと、
前記基材を前記第１回転方向と反対の第２回転方向に回転させながら前記ボート部又は前記基材の少なくとも一方を前記第１移動方向と反対の第２移動に移動させる第２移動ステップと、
を有することを特徴とする蒸着方法。
【請求項１１】
前記第１移動ステップと前記第２移動ステップにおける前記ボート部又は前記基材の移動速度が一定であることを特徴とする請求項１０に記載の蒸着方法。
【請求項１２】
前記第１移動ステップと前記第２移動ステップにおける、前記基材が１回転する間に前記ボート部又は前記基材が移動する距離が、前記導電材料の蒸着幅の２倍より小さいことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の蒸着方法。
【請求項１３】
電子ビームによりウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、
前記電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、
前記電子ビーム発生部が発生した電子ビームを偏向する複数の電極及び当該電極上に蒸着された導電材料を有する偏向部とを備え、
前記偏向部は、請求項９から１２のいずれか１項に記載の蒸着方法で複数の筒形状の内面に導電材料を蒸着した基材を有する電子ビーム露光装置。
【請求項１４】
電子ビームを偏向する偏向装置であって、
複数の筒形状を有する基材と、
前記基材の内面に設けられ、電子ビーム発生部が発生した電子ビームを偏向する複数の電極と、
当該電極上に請求項９から１２のいずれか１項に記載の蒸着方法で蒸着された導電材料とを備えることを特徴とする偏向装置。
【請求項１５】
電子ビームを偏向する偏向装置を製造する方法であって、
導電材料を収容した複数のボート部を、複数の筒形状を有する基材に挿入する挿入ステップと、
前記複数のボート部を加熱して前記導電材料を蒸発させる蒸発ステップと、
前記複数のボート部が前記基材内で前記基材に対して相対的に移動するように、前記複数のボート部又は前記基材の少なくとも一方を移動させる移動ステップとを備えることを特徴とする偏向装置を製造する方法。
【請求項１６】
電子ビームを偏向する偏向装置を製造する方法であって、
導電材料を収容したボート部を、筒形状を有する基材に挿入する挿入ステップと、
前記ボート部を加熱して前記導電材料を蒸発させる蒸発ステップと、
前記ボート部が前記基材内で前記基材に対して相対的に移動するように、前記ボート部又は前記基材の少なくとも一方を移動させる移動ステップと、
を備え、
前記移動ステップは、
前記基材を第１回転方向に回転させながら前記ボート部又は前記基材の少なくとも一方を第１移動方向に移動させる第１移動ステップと、
前記ボート部及び前記基材が移動されない状態で前記基材を前記第１回転方向に半回転させる回転ステップと、
前記基材を前記第１回転方向と反対の第２回転方向に回転させながら前記ボート部又は前記基材の少なくとも一方を前記第１移動方向と反対の第２移動に移動させる第２移動ステップとを有すること、
を特徴とする偏向装置を製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、蒸着装置、蒸着方法、電子ビーム露光装置、偏向装置及び偏向装置の製造方法に関する。特に本発明は、筒形状の基材の内面に導電材料を蒸着する蒸着装置及び蒸着方法、並びに精度良く電子ビームを偏向させる電子ビーム露光装置、偏向装置及び偏向装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子ビームによりウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置は、ウェハ上の所定の領域に電子ビームが照射されるように、電子ビームを偏向する偏向部を有する。偏向部は、筒形状の基材と、当該基材の内面に設けられ、電子ビームを偏向するための電極とを有する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、偏向部の電極は、メッキにより形成されるため、不純物を多く含む。そのため、偏向部により電子ビームを偏向させるときに、電極に含まれる不純物の影響で、電子ビームを精度良く偏向させるのが困難であった。
【０００４】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる蒸着装置、蒸着方法、電子ビーム露光装置、偏向装置及び偏向装置の製造方法を提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第１の形態によると、筒形状を有する基材の内面に導電材料を蒸着する蒸着装置であって、導電材料を収容する溝部を有するボート部を含む蒸着部と、基材を支持する基材支持部と、ボート部を基材に挿入するように蒸着部又は基材支持部の少なくとも一方を移動させる駆動部と、ボート部を加熱する加熱部とを備えることを特徴とする蒸着装置を提供する。
【０００６】
ボート部は、ボート部の挿入方向に沿って形成された複数の溝部を有するのが好ましい。ボート部は、溝部の表面を保護する保護層を有するのが好ましい。
【０００７】
加熱部は、ボート部に一定の電圧を印加するのが好ましい。駆動部は、基材支持部を回転させる手段を有するのが好ましい。
【０００８】
蒸着装置は、蒸着部又は基材支持部の移動方向に垂直な面内におけるボート部の基材に対する位置を測定する測定部をさらに備えてもよい。蒸着装置は、基材を基材支持部に搬送する搬送部をさらに備えてもよい。
【０００９】
蒸着装置は、蒸着部と基材支持部を格納する蒸着室と、蒸着室の隣に設けられた予備室と、蒸着室と予備室との間に設けられ、蒸着室と予備室との間を隔離又は開放するシャッタとをさらに備えてもよい。
【００１０】
本発明の第２の形態によると、筒形状の基材の内面に導電材料を蒸着する蒸着方法であって、導電材料を収容したボート部を、基材に挿入する挿入ステップと、ボート部を加熱して導電材料を蒸発させる蒸発ステップと、ボート部が基材内で基材に対して相対的に移動するように、ボート部又は基材の少なくとも一方を移動させる移動ステップとを備えることを特徴とする蒸着方法を提供する。
【００１１】
移動ステップは、ボート部又は基材の少なくとも一方を一方向に移動させると共に基材を回転させる回転ステップを有するのが好ましい。
【００１２】
移動ステップは、基材を第１回転方向に回転させながらボート部又は基材の少なくとも一方を第１移動方向に移動させる第１移動ステップと、ボート部及び基材が移動されない状態で基材を第１回転方向に半回転させる回転ステップと、基材を第１回転方向と反対の第２回転方向に回転させながらボート部又は基材の少なくとも一方を第１移動方向と反対の第２移動に移動させる第２移動ステップとを有するのが好ましい。
【００１３】
第１移動ステップと第２移動ステップにおけるボート部又は基材の移動速度が一定であるのが好ましい。ここで、第１移動ステップと第２移動ステップにおけるボート部又は基材の移動速度は略等しくてよい。
【００１４】
第１移動ステップと第２移動ステップにおける、基材が１回転する間にボート部又は基材が移動する距離が、導電材料の蒸着幅の２倍より小さくてよい。
【００１５】
本発明の第３の形態によると、電子ビームによりウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、電子ビーム発生部が発生した電子ビームを偏向する複数の電極及び当該電極上に蒸着された導電材料を有する偏向部とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置を提供する。導電材料は、貴金属であるのが好ましい。導電材料は、電極上に均一な厚さに形成されるのが好ましい。
【００１６】
偏向部は、筒形状の基材を有し、電極は基材の内面に設けられてもよい。導電材料は、複数の電極が互いに対向する面にそれぞれ設けられるのが好ましい。
【００１７】
本発明の第４の形態によると、電子ビームを偏向する偏向装置であって、筒形状の基材と、基材の内面に設けられ、電子ビーム発生部が発生した電子ビームを偏向する複数の電極と、当該電極上に蒸着された導電材料とを備えることを特徴とする偏向装置を提供する。
【００１８】
本発明の第５の形態によると、電子ビームを偏向する偏向装置を製造する方法であって、導電材料を収容したボート部を、筒形状の基材に挿入する挿入ステップと、ボート部を加熱して導電材料を蒸発させる蒸発ステップと、ボート部が基材内で基材に対して相対的に移動するように、ボート部又は基材の少なくとも一方を移動させる移動ステップとを備えることを特徴とする偏向装置を製造する方法を提供する。
【００１９】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【００２１】
図１は、本発明の一実施形態に係る蒸着装置１０を示す構成図である。
蒸着装置１０は、筒形状の基材５０の内面に導電材料を蒸着する。蒸着装置１０は、アスペクト比の大きい円筒形状の基材５０の内面に導電材料を蒸着するのに好適である。基材５０は、例えば、直径４〜６ｍｍであって長さ１００ｍｍ程度の大きさであってよい。
【００２２】
蒸着装置１０は、基材５０の内面に導電材料を蒸着する蒸着部２０と、基材５０を支持する基材支持部３０と、ボート部２２を基材５０に挿入するように蒸着部２０又は基材支持部３０の少なくとも一方を移動させる駆動部４０と、ボート部２２を加熱する加熱部４２と、ボート部２２の基材５０に対する位置を測定する測定部４４と、基材５０を基材支持部３０に搬送する搬送部４６とを備える。蒸着装置１０は、蒸着部２０と基材支持部３０を格納する蒸着室１２と、蒸着室１２の隣に設けられた予備室１４と、蒸着室１２と予備室１４との間に設けられ、蒸着室１２と予備室１４との間を隔離又は開放するシャッタ１６とさらに備えるのが望ましい。
【００２３】
蒸着部２０は、導電材料を収容する溝部を有するボート部２２と、ボート部２２を固定するボート固定部２４を有する。蒸着部２０は、その一端にボート部２２が設けられ、他端が固定された片持ち構造であるのが好ましい。
【００２４】
駆動部４０は、基材支持部５０を回転させる回転手段を有するのが好ましい。加熱部４２は、ボート部２２に一定の電圧を印加することによりボート部２２を加熱するのが好ましい。
【００２５】
測定部４４は、蒸着部２０又は基材支持部３０の移動方向に垂直な面内におけるボート部２２の基材５０に対する位置を測定するのが好ましい。測定部４４は、ボート部２２の基材５０に対する位置を光学的に測定する手段であるのが好ましい。測定部４４は、基材支持部３０が基材５０を支持するときに基材５０内部を観察可能な位置に設置されるのが好ましい。蒸着装置１０は、測定部４４の測定結果に基づいて、ボート部２２が基材５０の内面に接触しないように駆動部４０を制御する制御手段をさらに備えてもよい。また、測定部４４の測定結果に基づいて、蒸着装置１０の使用者が手動で駆動部４０を制御してもよい。
【００２６】
蒸着部２０が基材５０に導電材料を蒸着するとき、蒸着室１２は減圧にされる。予備室１４は、蒸着室１２に導入される前の予備基材５２を支持する予備基材支持部３２を有する。搬送部４６は、蒸着室１２と予備室１４の間のシャッタ１６を閉じた状態で予備室１４に予備基材５２を導入する。予備基材支持部３２は、予備基材５２を支持する。その後、予備室１４は減圧にされる。予備室１４が十分減圧にされると、搬送部４６は、予備基材支持部３２から基材支持部３０に基材５２を搬送する。予備室１４は蒸着室１２と同様に減圧にされるため、予備基材５２を予備室１４から蒸着室１２に導入するときにシャッタ１６を開いても、蒸着室１２の減圧状態を保つことができる。
【００２７】
蒸着装置１０は複数の予備室１４を有してもよい。この場合、搬送部４６は、蒸着室１２で内面が蒸着された基材５０を予備室１４の一つに搬送してもよい。このようにすると、蒸着された後の基材５０を蒸着室１２から予備室１４の一つに搬送すると共に蒸着前の予備基材５２を別の予備室１４から蒸着室１２に搬送することができる。そのため、基材５０内面に導電材料を効率よく蒸着できる。
【００２８】
図２は、本実施形態に係る蒸着部２０を示す模式図である。
蒸着部２０は、導電材料を収容する溝部を有するボート部２２と、ボート部２２を固定するボート固定部２４を有する。ボート固定部２４は、例えば銅（Ｃｕ）を材料とする導電棒６０ａ及び導電筒６０ｂと、導電棒６０ａ及び導電筒６０ｂとの間を絶縁する絶縁管６２と、ボート部２２を保持する保持部６４ａ、６４ｂ及び６４ｃとを有する。加熱部４２がボート部２２に一定の電圧を印加すると、導電棒６０ａから保持部６４ｂの方向に電流が流れる。次いで保持部６４ｃを介して保持部６４ｂからボート部２２に電流が流れる。図中、矢印は電流の流れを示す。
【００２９】
加熱部４２は、ボート部２２に一定の電圧を印加するのが好ましい。そのため、ボート部２２が基材５０内に挿入されることによりボート部２２の電気抵抗が増大しても、電力は増加しない。従って、電力の急激な増加によるボート部２２や基材５０の破壊を防ぐことができる。
【００３０】
図３は、本実施形態に係るボート部２２を示す斜視図である。
ボート部２２は、ボート７０と、導電材料８０を収容する溝部７２と、溝部７２の表面を保護する保護層７４とを有する。ボート部２２は、ボート部２２の挿入方向に沿って形成された複数の溝部７２を有するのが好ましい。本実施形態において、ボート７０は、グラファイトを素材として形成されるのが好ましい。導電材料８０を溝部７２に収容した後に加熱部４２がボート部２２を加熱すると、導電材料８０は溶融する。
【００３１】
本実施形態において、ボート部２２が複数の溝部７２を有するので、各溝部７２に収容された導電材料８０は各溝部７２において、それぞれ溶融する。そのため、ボート部２２の複数の溝部７２に収容された導電材料８０がそれぞれ蒸発するので、蒸着部２０が基材５０に導電材料を蒸着する蒸着範囲が広くなる。また、導電材料８０が各溝部７２に分散されて溶融するので、導電材料が大きな球状の塊になることもない。従って、基材５０の内面に導電材料８０の塊が接触することによる基材５０の破壊を防ぐことができる。
【００３２】
保護層７４は、ボート７０の表面に設けられるのが好ましく、特に導電材料を収容する溝部７２に設けられるのが好ましい。保護層７４は、例えばアルミナ等の絶縁性及び耐熱性を有する材料により形成されるのが好ましい。本実施形態において、ボート部２２が保護層７４を有するので、ボート部２２が加熱されることによりグラファイトを含むボート７０のカーボンが溶け出しても、カーボンが導電材料に混入することがない。そのため、カーボンの混入による導電材料の変質を防ぐことができる。従って、基材５０に高純度の導電材料を蒸着できる。
【００３３】
図４は、本実施形態に係る蒸着装置１０により基材５０の内面に導電材料を蒸着する手順を示す模式図である。以下において、ボート部２２を基材５０に挿入すべく、駆動部４０が基材支持部３０を移動させる場合を説明する。他の例において、ボート部２２を基材５０に挿入すべく、駆動部４０は蒸着部２０を移動させてもよい。
【００３４】
図４（ａ）に示すように、駆動部４０は、基材支持部３０を移動させてボート部２２を、基材５０の一端に挿入する。次に、加熱部４２は、ボート部２２に電流を供給することによりボート部２２を加熱する。このとき、加熱部４２は、ボート部２２に一定の電圧を印加してボート部２２を加熱するのが好ましい。加熱部４２は、ボート部２２を加熱することにより導電材料を蒸発させる。
【００３５】
図４（ｂ）に示すように、駆動部４０は、ボート部２２が基材５０内で基材５０に対して相対的に移動するように、基材支持部３０を第１移動方向に移動させる。駆動部４０は基材支持部３０を第１移動方向に移動させながら、回転手段により基材５０を第１回転方向に回転させる。
【００３６】
図４（ｃ）に示すように、駆動部４０は、ボート部２２が基材５０の他端に位置するまで基材支持部３０を第１移動方向に移動させる。そして、基材支持部３０の移動を停止する。ボート部２２及び基材５０が停止した状態で、基材支持部３０を第１回転方向に半回転させる。ここで、駆動部４０は、ボート部２２が基材５０の他端を越えて、基材５０の外部に位置するまで基材支持部３０を第１移動方向に移動させてから基材支持部３０の移動を停止して、ボート部２２及び基材５０が停止した状態で、基材支持部３０を第１回転方向に半回転させてもよい。
【００３７】
図４（ｄ）に示すように、駆動部４０は、回転手段により基材５０を第１回転方向と反対の第２回転方向に回転させながら基材支持部３０を第１移動方向と反対の第２移動方向に移動させる。ここで、駆動部４０は、基材支持部３０を第１移動方向と第２移動方向に対して略等しい速度で、一定の速度で移動させるのが好ましい。駆動部４０が基材支持部３０を移動させる速度を一定にすることにより、導電材料が基材５０に蒸着される厚さを均一にすることができる。
【００３８】
図４（ｅ）は、以上の方法により基材５０内に導電材料を蒸着したときの導電材料の蒸着状態を示す。駆動部４０が基材支持部３０を第１移動方向に移動させるときに基材５０に蒸着された導電材料を斜線で示す。図に示すように、駆動部４０が基材支持部３０を第１移動方向に移動させただけでは、導電材料は基材５０に螺旋状に蒸着され、基材５０には導電材料が蒸着されていない領域が生じる。駆動部４０が基材支持部３０を第２移動方向に移動させるときに基材５０に蒸着された導電材料を横線で示す。図に示すように、駆動部４０が基材支持部３０を第２移動方向に移動させることにより、駆動部４０が基材支持部３０を第１移動方向に移動させたときに生じた基材５０の導電材料が蒸着されない領域に導電材料が蒸着される。
【００３９】
本実施形態においては、図４（ｃ）に示すように、駆動部４０は、ボート部２２が基材５０の他端に位置するときに駆動部４０の回転手段が基材５０を第１回転方向に半回転させるため、駆動部４０が基材支持部３０を第２移動方向に移動させるときに、基材支持部３０を第１移動方向に移動させたときに導電材料が蒸着されない領域に導電材料を蒸着することができる。
【００４０】
また、駆動部４０は、基材５０を第１回転方向及び第２回転方向に回転させるときに、基材５０が１回転する間に基材支持部３０に支持された基材５０が移動する距離が、導電材料の蒸着幅の２倍より小さいことが好ましい。ボート部２２が加熱されて導電材料が基材５０に蒸着されるとき、導電材料は、蒸着幅の両端において薄く蒸着される。そのため、基材５０が１回転する間に基材支持部３０に支持された基材５０が移動する距離が、蒸着幅の２倍より小さいと、蒸着幅の両端部分が重なり、全体として基材５０に蒸着される導電部材の厚さを均一にすることができる。
【００４１】
図５は、本実施形態に係る蒸着装置１０において、基材５２を予備室１４から蒸着室１２に搬送する手順を示す模式図である。
【００４２】
図５（ａ）に示すように、搬送部４６は、基材５２を保持するアーム部を有する。搬送部４６は、予備基材支持部３２が支持する基材５２をアーム部で持ち上げる。図５（ｂ）に示すように、搬送部４６は、シャッタ１６を開いて予備室１４と蒸着室１２との間を開放する。搬送部４６は基材５２を蒸着室１２に移動する。図５（ｃ）に示すように、搬送部４６は、基材５２を蒸着室１２の所定の位置に移動し、基材支持部３０に基材５２を支持させる。ここで、基材支持部３０が、基材５２を持ち上げ、搬送部４６から基材５２を受け取ってもよい。図５（ｄ）に示すように、搬送部４６は予備室１４に移動する。搬送部４６は、シャッタ１６を閉じて予備室１４と蒸着室１２との間を隔離する。
【００４３】
図６は、本発明の他の実施形態に係る蒸着装置における蒸着部を示す断面図である。
本実施形態において、蒸着装置は、導電材料を収容する溝部をそれぞれ有する複数のボート部２２２とボート部２２２をそれぞれ固定する複数のボート固定部２２４を有する蒸着部２２０を含む。蒸着部２２０は、ボート部２２２を加熱する加熱部２３０をさらに有する。蒸着部２２０は、各ボート固定部２２４の一端にボート部２２２を有し、各ボート固定部２２４の他端が加熱部２３０に固定された片持ち構造であるのが好ましい。本実施形態における蒸着部２２０は、複数の電子ビームを発生する電子ビーム露光装置に用いられる偏向部２４０の内面に導電材料を蒸着するのに用いられる。蒸着部２２０は、偏向部２４０の筒形状の基材の数に応じた数のボート部２２２及びボート固定部２２４を有するのが好ましい。
【００４４】
図７は、図６に示す蒸着部２２０の部分拡大図を示す斜視図である。
本実施形態において、蒸着部２２０は、ボート固定部２２４の先端にボート部２２２を有する。ボート部２２２は、導電材料２８０を収容する溝部２７２を有する。加熱部２３０によりボート部２２２を加熱しながら、蒸着部２２０の複数のボート部２２２をそれぞれ偏向部２４０の基材に挿入し、ボート部２２２が基材内で基材に対して相対的に移動するように、蒸着部２２０又は偏向部２４０を移動させると、偏向部２４０の基材の内面に導電材料が蒸着する。
【００４５】
本実施形態において、ボート部２２２は、ボート固定部２２４の先端に設けられているため、ボート部２２２を加熱しながら偏向部２４０の基材に挿入すると、基材の内部に導電材料を均一に蒸着することができる。
【００４６】
図８は、本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の構成を示す。電子ビーム露光装置１００は、電子ビームによりウェハ１５０に所定の露光処理を施すための露光部１０２と、露光部１０２に含まれる各構成の動作を制御する制御系１６０とを備える。
【００４７】
露光部１０２は、筐体１０４内部で、複数の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に整形する電子ビーム整形手段１１０と、複数の電子ビームをウェハ１５０に照射するか否かを、電子ビーム毎に独立に切替える照射切替手段１３０と、ウェハ１５０に転写されるパターンの像の向き及びサイズを調整するウェハ用投影系１４０を含む電子光学系を備える。また、露光部１０２は、ウェハ１５０を載置するウェハステージ１５２と、ウェハステージ１５２を駆動するウェハステージ駆動部１５４とを含むステージ系を備える。
【００４８】
電子ビーム整形手段１１０は、複数の電子ビームを発生させる複数の電子銃１１２と、電子ビームを通過させることにより、電子ビームの断面形状を整形する複数の開口部を有する第１整形部材１１４および第２整形部材１２２と、複数の電子ビームを独立に収束し、電子ビームの焦点を調整する第１多軸電子レンズ１１６と、第１整形部材１１４を通過した複数の電子ビームを独立に偏向する第１整形偏向部１１８および第２整形偏向部１２０とを有する。
【００４９】
照射切替手段１３０は、複数の電子ビームを独立に収束し、電子ビームの焦点を調整する第２多軸電子レンズ１３２と、複数の電子ビームを、電子ビーム毎に独立に偏向させることにより、電子ビームをウェハ１５０に照射するか否かを、電子ビーム毎に独立に切替えるブランキング電極アレイ１３４と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブランキング電極アレイ１３４で偏向された電子ビームを遮蔽する電子ビーム遮蔽部材１３６とを有する。他の例においてブランキング電極アレイ１３４は、ブランキング・アパーチャ・アレイ・デバイスであってもよい。
【００５０】
ウェハ用投影系１４０は、複数の電子ビームを独立に集束し、電子ビームの照射径を縮小する第３多軸電子レンズ１４２と、複数の電子ビームを独立に収束し、電子ビームの焦点を調整する第４多軸電子レンズ１４４と、複数の電子ビームを、ウェハ１５０の所望の位置に、電子ビーム毎に独立に偏向する偏向部１４６と、ウェハ１５０に対する対物レンズとして機能し、複数の電子ビームを独立に収束する第５多軸電子レンズ１４８とを有する。偏向部１４６は、複数の偏向器を含む。各偏向器は複数の電極を有する。本実施形態において、偏向部１４６は、各偏向器の複数の電極上に蒸着された導電材料２００をさらに有する。導電材料は、貴金属であるのが好ましく、例えば金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、アルミニウム（Ａｌ）等である。導電材料は、偏向部１４６における電子ビームの照射方向に沿って、各電極上に均一な厚さに形成されるのが好ましい。
【００５１】
制御系１６０は、統括制御部１７０及び個別制御部１８０を備える。個別制御部１８０は、電子ビーム制御部１８２と、多軸電子レンズ制御部１８４と、整形偏向制御部１８６と、ブランキング電極アレイ制御部１８８と、偏向制御部１９０と、ウェハステージ制御部１９２とを有する。統括制御部１７０は、例えばワークステーションであって、個別制御部１８０に含まれる各制御部を統括制御する。電子ビーム制御部１８２は、電子銃１１２を制御する。多軸電子レンズ制御部１８４は、第１多軸電子レンズ１１６、第２多軸電子レンズ１３２、第３多軸電子レンズ１４２、第４多軸電子レンズ１４４および第５多軸電子レンズ１４８に供給する電流を制御する。
【００５２】
整形偏向制御部１８６は、第１整形偏向部１１８および第２整形偏向部１２０を制御する。ブランキング電極アレイ制御部１８８は、ブランキング電極アレイ１３４に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制御部１９０は、偏向部１４６に含まれる複数の偏向器が有する偏向電極に印加する電圧を制御する。ウェハステージ制御部１９４は、ウェハステージ駆動部１５４を制御し、ウェハステージ１５２を所定の位置に移動させる。
【００５３】
図９は、本実施形態に係る偏向部１４６を電子ビームの照射方向から見た切断断面図である。
偏向部１４６は、筒形状の基材２０２を有し、電極２０４は基材の内面に設けられる。導電材料２００は、複数の電極２０４が互いに対向する面にそれぞれ設けられるのが好ましい。また導電材料２００は、各電極２０４上に均一な厚さに形成されるのが好ましい。
【００５４】
図８及び図９を参照して、本実施形態に係る電子ビーム露光装置１００の動作を説明する。
ウェハステージ１５２には、露光処理が施されるウェハ１５０が載置される。複数の電子銃１１２が、複数の電子ビームを生成する。電子ビーム整形手段１１０において、発生された電子ビームは、第１整形部材１１４に照射され、整形される。他の例においては、電子銃１１２において発生した電子ビームを複数の電子ビームに分割する手段を更に有することにより、複数の電子ビームを生成してもよい。
【００５５】
第１多軸電子レンズ１１６は、矩形に整形された複数の電子ビームを独立に収束し、第２整形部材１２２に対する電子ビームの焦点調整を、電子ビーム毎に独立に行う。第１整形偏向部１１８は、矩形に整形された複数の電子ビームを、電子ビーム毎に独立して、第２整形部材に対して所望の位置に偏向する。第２整形偏向部１２０は、第１整形偏向部１１８で偏向された複数の電子ビームを、電子ビーム毎に独立に第２整形部材１２２に対して略垂直方向に偏向する。矩形形状を有する複数の開口部を含む第２整形部材１２２は、各開口部に照射された矩形の断面形状を有する複数の電子ビームを、ウェハ１５０に照射されるべき所望の矩形の断面形状を有する電子ビームにさらに整形する。
【００５６】
第２多軸電子レンズ１３２は、複数の電子ビームを独立に収束して、ブランキング電極アレイ１３４に対する電子ビームの焦点調整を、電子ビーム毎に独立に行う。第２多軸電子レンズ１３２より焦点調整された電子ビームは、ブランキング電極アレイ１３４に含まれる複数のアパーチャを通過する。
【００５７】
ブランキング電極アレイ制御部１８８は、ブランキング電極アレイ１３４に形成された、各アパーチャの近傍に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを制御する。ブランキング電極アレイ１３４は、偏向電極に印加される電圧に基づいて、電子ビームをウェハ１５０に照射させるか否かを切替える。
【００５８】
ブランキング電極アレイ１３４により偏向されない電子ビームは、第３多軸電子レンズ１４２により電子ビーム径を縮小されて、電子ビーム遮蔽部材１３６に含まれる開口部を通過する。第４多軸電子レンズ１４４が、複数の電子ビームを独立に収束して、偏向部１４６に対する電子ビームの焦点調整を、電子ビーム毎に独立に行い、焦点調整をされた電子ビームは、偏向部１４６に含まれる偏向器に入射される。
【００５９】
偏向制御部１９０が、偏向部１４６に含まれる複数の偏向器を独立に制御する。偏向部１４６は、複数の偏向器に入射される複数の電子ビームを、電子ビーム毎に独立にウェハ１５０の所望の露光位置に偏向する。ここで、偏向部１４６は蒸着された導電材料２００を有するので、偏向部１４６における電子ビームが通過する表面を高純度の導電材料２００で保護することができる。そのため、電子ビーム露光装置１００は、偏向部１４６の電極２０４中の不純物による帯電の影響を減らすことができる。従って、電子ビームの偏向を適切に制御することができる。偏向部１４６を通過した複数の電子ビームは、第５多軸電子レンズ１４８により、ウェハ１５０に対する焦点が調整され、ウェハ１５０に照射される。
【００６０】
露光処理中、ウェハステージ制御部１９２は、一定方向にウェハステージ１５２を動かす。ブランキング電極アレイ制御部１８８は露光パターンデータに基づいて、電子ビームを通過させるアパーチャを定め、各アパーチャに対する電力制御を行う。ウェハ１５０の移動に合わせて、電子ビームを通過させるアパーチャを適宜、変更し、さらに偏向部１４６により電子ビームを偏向することによりウェハ１５０に所望の回路パターンを露光することが可能となる。
【００６１】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることができる。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【００６２】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば筒形状の基材の内面に導電材料を蒸着することができる。また、電子ビーム露光装置及び偏向装置において、精度良く電子ビームを偏向させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る蒸着装置を示す構成図である。
【図２】本実施形態に係る蒸着部を示す模式図である。
【図３】本実施形態に係るボート部を示す斜視図である。
【図４】本実施形態に係る蒸着装置により基材の内面に導電材料を蒸着する手順を示す模式図である。
【図５】本実施形態に係る蒸着装置において、基材を予備室から蒸着室に搬送する手順を示す模式図である。
【図６】本発明の他の実施形態に係る蒸着装置における蒸着部を示す断面図である。
【図７】図６に示す蒸着部の部分拡大図を示す斜視図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置の構成図である。
【図９】本実施形態に係る偏向部を電子ビームの照射方向から見た切断断面図である。
【符号の説明】
１０…蒸着装置、１２…蒸着室、１４…予備室、１６…シャッタ、２０…蒸着部、２２…ボート部、２４…ボート固定部、３０…基材支持部、３２…予備基材支持部、４０…駆動部、４２…加熱部、４４…測定部、４６…搬送部、５０…基材、５２…予備基材、６０…導電管、６２…絶縁管、７０…ボート、７２…保護層、１００…電子ビーム露光装置、１０２…露光部、１０４…筐体、１１０…電子ビーム整形手段、１１２…電子銃（電子ビーム発生部）、１１４…第１整形部材、１１６…第１多軸電子レンズ、１１８…第１整形偏向部、１２０…第２整形偏向部、１２２…第２整形部材、１３０…照射切替手段、１３２…第２多軸電子レンズ、１３４…ブランキング電極アレイ、１３６…電子ビーム遮蔽部材、１４０…ウェハ用投影系、１４２…第３多軸電子レンズ、１４４…第４多軸電子レンズ、１４６…偏向部、１４８…第５多軸電子レンズ、１５０…ウェハ、１５２…ウェハステージ、１５４…ウェハステージ駆動部、１６０…制御系、１７０…統括制御部、１８０…個別制御部、１８２…電子ビーム制御部、１８４…多軸電子レンズ制御部、１８６…整形偏向制御部、１８８…ブランキング電極アレイ制御部、１９０…偏向制御部、１９２…ウェハステージ制御部、２２０…蒸着部、２２２…ボート部、２２４…固定部、２３０…加熱部、２４０…偏向部、２７２…溝部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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