(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動オブジェクトの位置量を測定するように構成されたエンコーダ測定システムを提供する方法であって、
前記エンコーダ測定システムのエンコーダヘッドを実質的に静止したフレームに装着すること、および、
オブジェクトを組み立てる方法であって、
第一表面を有する可動オブジェクトを提供すること、
第二表面を有するエンコーダグリッドスケールを提供すること、
前記第一表面と前記第二表面が相互に対面し、前記第一表面と前記第二表面の間にギャップが画定されるように、前記可動オブジェクトおよびエンコーダグリッドスケールを配置すること、
前記ギャップに接着剤の連続的な薄膜を塗布すること、
所定期間および所定距離をおいて前記可動オブジェクトと前記エンコーダグリッドスケールを保持し、前記ギャップが毛細管作用および／または重力により前記接着剤で実質的に充填されること、および、
前記第一表面と前記第二表面の間の距離を減少させるために、前記可動オブジェクトと前記エンコーダグリッドスケールとを相互に向かって移動させること、
を含む、オブジェクトを組み立てる方法を使用して、前記エンコーダ測定システムの前記エンコーダグリッドスケールを前記可動オブジェクトに接続することを含み、前記可動オブジェクトがレチクルチャック本体とウェーハチャック本体のうち一方である方法。
【請求項２】
前記可動オブジェクトおよび／または前記エンコーダグリッドスケールが低熱膨張率を有する材料で作成される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第一表面と前記第二表面を前記距離に配置および維持するために、スペーサが使用される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記可動オブジェクトおよび前記エンコーダグリッドスケールを相互に向かって移動させる前に、前記スペーサを除去し、前記スペーサの除去後に、残りのスペースを接着剤で充填する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
レチクルステージまたはウェーハステージを製造する方法であって、前記レチクルステージまたはウェーハステージが、請求項１乃至４のいずれかに記載の方法を使用して提供されるエンコーダ測定システムを含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、２つ以上のオブジェクト部分によって形成されているオブジェクトを備え、前記２つ以上のオブジェクト部分の第一および第二オブジェクト部分が相互に接着されるリソグラフィ装置、および第一オブジェクト部分と第二オブジェクト部分を相互に接着することを含むオブジェクトの作成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは幾つかのダイの一部を備える）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターン化される網の目状の互いに近接したターゲット部分を含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所定の方向(「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行にスキャンしながら、パターンを所定の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを具備している。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置の製造中に、幾つかの部品は相互に取り付けられる。本発明は特に、２つの部品を相互に取り付けることに関し、それによってこれらの部品の少なくとも一方、例えばZerodur（登録商標）、ガラス、ガラスセラミック、ＵＬＥ（登録商標）、Ohara（登録商標）、Cordorite（登録商標）で作成した部品が低い熱膨張率（低ＬＴＥ）を有する。このような部品の２つを取り付けるには、様々な解決策が提案されている。例えば光学的に接触させるか、接着するか、ボルトとナットなどの機械的接続手段を使用する。これらの部品を相互に取り付けるために特定の方法を使用する際の幾つかの考慮事項は、（製造）費用、重量および安定性である。特に、リソグラフィ装置に使用されるようなレチクルステージまたは基板ステージなどの、迅速かつ高い正確さで移動できる可動部品については、重量が要因となる。このような用途では、機械的接続手段の使用が通常は好まれない。なぜならば、このような接続手段は通常、余分な重量を持ち込むからである。
【０００４】
[0004]  代替法として、２つの部品の「光学的接触」を適用することができる。つまり、２つの表面間の分子引力を通じて結合を確立する。これが作用するためには、結合すべき表面が相互に（ミクロン以下のレベルで）適合しなければならない。研磨し、埃、油および他の不純物が完全にない状態にした後、表面を分子引力により結合することができる。光学的接触では、２つの部品間に非常に強力な結合を獲得することができ、その結果、このような２部品のオブジェクトが実質的に一体で挙動する。このような一体的挙動は、２つの部品の取り付けが、単一部品で作成した同様のオブジェクトと比較してオブジェクトに追加の可撓性を一切持ち込まないので、有利なことがある。
【０００５】
[0005]  「光学的接触」方法に生じ得る欠点は、光学的接触を可能にするために、通常は表面の準備に多大な努力を要することである。このため、方法は費用と時間がかかることになる。光学的接触に生じ得るさらなる欠点は、部品を結合したら、その位置合わせを調節することが困難になることである。
【０００６】
[0006]  従来の接続手段の別の代替手段は、オブジェクトの２つの別個の部品を相互に取り付けるために、接着剤を使用することである。既知のリソグラフィ装置における接着剤の接続の一例は、接着剤を介してレチクルステージ本体に取り付けられたエンコーダグリッドスケールである。このようなエンコーダグリッドスケールは、エンコーダセンサシステムを使用してレチクルステージの位置を求めるために使用される。このようなエンコーダシステムは、当技術分野で知られている。接着剤は、エンコーダグリッドスケールおよびレチクルステージ本体の一方に、予め決定されたパターンで多くのドットとして塗布される。その後、エンコーダグリッドスケールとレチクルステージ本体を一緒にして、接着剤を硬化させる。
【０００７】
[0007]  知られている接着方法にあり得る欠点は、この方法が、ドット当たりの接着剤の量、接着剤ドットのパターン、および接着剤のタイプに影響されやすいことである。接着剤の塗布の主な目的は、接着剤の硬化後に収縮の結果として生じる接着剤内の応力を最小限に抑えることである。応力は、接着剤にクリープを引き起こし、したがってエンコーダグリッドスケールの変形（曲がり）を引き起こすことがある。このような変形は、不正確な位置測定を、したがって例えばオーバレイ不具合によって引き起こされる製品の品質低下を招く。
【０００８】
[0008]  接着手順の関連する要因のせいで、このプロセスは、接着ロボットおよび自動化した塗布量測定装置を含む自動プロセスを使用した場合に、所望の正確さで典型的に実行されるだけであるが、それでもこの手順はエラーを生じやすく、結果として生じるオブジェクトのオブジェクト部品間の接着剤接続部に容易に応力を引き起こす。
【０００９】
[0009]  既知の接着方法に生じ得るさらなる欠陥は、その結果生じる接着剤接続部が、水分の影響を受けやすいことである。例えば、上記の例のレチクルステージを湿度の異なる区域間で移動させた場合、接着剤への水分の影響から、クリープを生じることがある。通常、接着剤接続は、クリーンルームの環境で実行され、レチクルステージは清浄な乾燥空気を使用する微小環境で使用される。これら２つの環境の湿度が異なる結果、レチクルステージの位置の測定においてオーバレイ不具合が生じることがある。なぜならば、接着剤から蒸発する水分または接着剤に吸収される水分のせいで、接着剤の収縮／膨張によるスケールのずれが引き起こされるからである。このようなオーバレイの不具合、または製品の品質に対する他の悪影響は望ましくない。
【００１０】
[0010]  既知の接着方法に生じ得るさらなる欠点は、接着剤接続が、２つのオブジェクト部品間に追加の可撓性を提供し、その結果、オブジェクトが一体で挙動しないことである。このような一体でない挙動は、内部変形を招き、その結果、測定誤差を生じ、オブジェクトの位置決め中に制御設定時間が長引くことがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
[0011]  接着剤の塗布に関するエラー、つまり位置および／または量のエラーの影響を受けにくい、オブジェクトの２つの部品を相互に接着する方法を提供することが望ましい。
【００１２】
[0012]  さらに、既知の接着方法の上述した欠点の１つまたは複数が実質的に軽減されるか、解消される、第一オブジェクト部品と第二オブジェクト部品を一緒に接着することにより形成されるオブジェクトを提供することが望ましい。特に、接着剤接続が既知の方法と比較して水分の影響を受けにくい、第一オブジェクト部品と第二オブジェクト部品を一緒に接着することによって形成されたオブジェクトを有するリソグラフィ装置を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
[0013]  本発明の実施形態によれば、オブジェクトを組み立てる方法が提供され、この方法は、第一表面を有する第一オブジェクト部品を提供し、第二表面を有する第二オブジェクト部品を提供し、第一および第二表面が相互に対面し、前記第一表面と前記第二表面の間にギャップが画定されるように、前記第一および第二オブジェクト部品を配置し、前記ギャップの少なくとも一部に接着剤を塗布し、所定期間および所定距離をおいて前記第一オブジェクト部品と前記第二オブジェクト部品を保持し、前記ギャップが毛細管作用および／または重力により、前記接着剤で実質的に充填され、さらに、前記第一表面と前記第二表面の間の距離を減少させるために、前記第一オブジェクト部品と前記第二オブジェクト部品とを相互に向かって移動させることを含む。
【００１４】
[0014]  本発明の実施形態によればと、第一オブジェクト部品および第二オブジェクト部品を含むオブジェクトが提供され、前記第一および第二オブジェクト部品が、低い熱膨張率を有する材料で作成され、且つ前記第一オブジェクト部品の第一表面と前記第二オブジェクト部品の第二表面において前記第一および／または前記第二表面を実質的に覆う接着剤の薄膜を介して相互に接続され、前記接着剤の薄膜は１〜８μｍの厚さを有する。
【００１５】
[0015]  本発明の実施形態によれば、可動オブジェクトの位置量を測定するよう構成された測定システムが提供され、前記測定システムは、実質的に静止したフレームに装着可能な第一構成要素と、第二構成要素とからなり、前記可動オブジェクトの第一表面が前記第二構成要素の第二表面に、前記第一および／または前記第二表面を実質的に覆う接着剤の薄膜を介して接続され、前記接着剤の薄膜が１から８μｍの厚さを有する。
【００１６】
[0016]  次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照しながら、ほんの一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
[0021]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。リソグラフィ装置は、放射ビームＢ（例えばＵＶ放射または任意の他の適切な放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決め装置ＰＭに接続されたマスク支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴとを含む。リソグラフィ装置は、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決め装置ＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴまたは「基板支持体」も含む。リソグラフィ装置はさらに、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つまたは複数のダイを含む）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１８】
[0022]  照明システムは、放射の誘導、成形、または制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、またはその任意の組合わせなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。
【００１９】
[0023]  マスク支持構造体は、パターニングデバイスを支持、つまりその重量を支えている。該マスク支持構造体は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。マスク支持構造体は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。マスク支持構造体は、例えばフレームまたはテーブルでよく、必要に応じて固定式または可動式でよい。マスク支持構造体は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書において「レチクル」または「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００２０】
[0024]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。
【００２１】
[0025]  パターニングデバイスは透過性または反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、Alternating位相シフトマスク、Attenuated位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００２２】
[0026]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、または液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システムおよび静電気光学システム、またはその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義と見なされる。
【００２３】
[0027]  ここに示している本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する）。
【００２４】
[0028]  リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）またはそれ以上の基板テーブルまたは「基板支持体」（および／または２つ以上のマスクテーブルまたは「マスク支持体」）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルまたは支持体を並行して使用するか、１つまたは複数の他のテーブルまたは支持体を露光に使用している間に１つまたは複数のテーブルまたは支持体で予備工程を実行することができる。
【００２５】
[0030]  リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に使用してもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で周知である。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造体を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。
【００２６】
[0030]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、それぞれ別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２７】
[0031]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側および／または内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。また、イルミネータを用いて放射ビームを調整し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２８】
[0032]  放射ビームＢは、支持構造体（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン化される。放射ビームＢはマスクＭＡを通り抜けて、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第二位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば放射ビームＢの経路において様々なターゲット部分Ｃに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、またはスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般的に、マスクテーブルＭＴの移動は、第一位置決めデバイスＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現できる。同様に、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」の移動は、第二位置決め装置ＰＷの部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールの助けにより実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット位置を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよい（スクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる）。同様に、マスクＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００２９】
[0033]  図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
【００３０】
[0034]  １．ステップモードにおいては、マスクテーブルＭＴまたは「マスク支持体」および基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」は、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」がＸ方向および／またはＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００３１】
[0035]  ２．スキャンモードにおいては、マスクテーブルＭＴまたは「マスク支持体」および基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。マスクテーブルＭＴまたは「マスク支持体」に対する基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」の速度および方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）および像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
【００３２】
[0036]  ３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴまたは「マスク支持体」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」を移動またはスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」を移動させる毎に、またはスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
【００３３】
[0037]  上述した使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードも利用できる。
【００３４】
[0038]  図２ａおよび図２ｂは、接着剤接続を介して相互に取り付けられているレチクルチャック本体１１およびエンコーダグリッドスケール１２を示したものである。レチクルチャック本体１１およびエンコーダグリッドスケール１２は、図１に示すレチクルステージの部品でよい。図示の実施形態では、レチクルチャック本体１１はレチクルを担持するように設計される。レチクルチャック本体１１はさらに、アクチュエータの部品、およびエンコーダグリッドスケール１２などの測定システムの部品を備えるか、それに取り付けることができる。レチクルチャック本体１１とエンコーダグリッドスケール１２は両方とも、例えばZerodur（登録商標）、ガラス、ガラスセラミック、ＵＬＥ（登録商標）、Ohara（登録商標）、Cordorite（登録商標）などの低い熱膨張率（低ＣＴＥ）を有する材料で作成される。
【００３５】
[0039]  エンコーダグリッドスケール１２は、例えばメトロフレームなどの比較的静止したフレームに装着されているエンコーダセンサによって読み取ることができるスケールを備える。このようなエンコーダシステムで、レチクルの位置を高い精度（ナノメートルの精度）で求めることができる。通常、エンコーダシステムは、ｘ、ｙおよびＲｚでレチクルステージの位置を求めることができる。エンコーダシステムがレチクルの位置を誤って求めることがないのを保証するために、エンコーダグリッドスケールの位置は周囲大気の温度および湿度のようないかなる環境状態の影響も受けるべきでない。また、レチクルチャック本体１１に対するエンコーダグリッドスケール１２の位置は、レチクルチャック本体の加速度から影響を受けないことが好ましい。つまり、レチクルチャック本体１１およびエンコーダグリッドスケール１２のアセンブリは、加速度に起因して変形しない一体品であるかのように挙動すべきである。
【００３６】
[0040]  エンコーダグリッドスケール１２は、幾つかの接着剤ドット１３でレチクルチャック本体１１に接着される。このように接着剤接続をするために、接着剤ドットを、所定のパターンでレチクルチャック本体１１の接着表面１４またはエンコーダグリッドスケール１２の接着表面１５に配置し、その後にレチクルチャック本体１１およびエンコーダグリッドスケール１２の接着表面１４、１５をそれぞれ相互に対して配置し、その間の接着剤ギャップを画定して、それで接着剤層の厚さを画定する。このような接着剤層の厚さは、通常１０μｍである。既知の方法で通常使用されている接着剤は、例えばAraldite 202（登録商標）の名称でHuntsman（米国ユタ州ソルトレークシティ）が製造する汎用の２成分エポキシである。
【００３７】
[0041]  エンコーダグリッドスケール１２の変形をもたらすような硬化後の接着剤のクリープを最小限に抑えるために、接着剤ドット１３の応力は、可能な限り低く抑えねばならない。接着剤ドット１３の応力を最小限に抑えるために、接着剤ドット１３は、接着プロセス中にレチクルチャック本体１１またはエンコーダグリッドスケール１２に、ドット当たりの接着剤の量およびこのような接着剤ドット１３を配置する位置の両方に関して、高い精度で配置しなければならない。これを確実に所望の精度で実行するために、所望のパターンで接着剤ドット１３を塗布するロボット、および単一の接着剤ドット１３に正確な量の接着剤が使用されていることを判断する塗布量測定装置などの自動プロセス装置を使用する。
【００３８】
[0042]  接着剤ドット１３のパターンを使用する先行技術の接着剤接続は、水分の影響を比較的受けやすい。その結果、相互に接着されている少なくとも２つのオブジェクト部品で形成されるオブジェクトは、オブジェクトが異なる環境状況間で移動することによって、影響を受けることがある。例えば、エンコーダグリッドスケール１２は、クリーンルーム環境でレチクルチャック本体１１に接着し、その後に清浄な乾燥空気を有する微小環境で使用することがある。後者の環境には水分が（比較的）欠けているので、接着剤から水分が蒸発し、その結果、接着剤が収縮し、レチクルチャック本体１１に対してエンコーダグリッドスケール１２が変形することがある。このようなエンコーダグリッドスケール１２の変形は、レチクルステージの不正確な位置測定、したがって例えばリソグラフィ装置を使用中のオーバレイエラーにつながることがある。
【００３９】
[0043]  図３ａおよび図３ｂには、本発明の実施形態が図示されている。この実施形態では、レチクルチャック本体１とエンコーダグリッドスケール２を接着剤３の連続層で相互に接着する。予め画定されたパターンの幾つかの接着剤ドットではなく、接着剤３の連続層を設けることにより、接着剤の輪郭（接着剤の縁部の長さ）と接着剤の表面積との比率が、大幅に小さくなっている。これは、既知の方法により接着剤ドットから蒸発する水分の量と比較して、特定の期間中に接着剤から蒸発する水分の量を減少させることができる。なぜならば、環境と直接接触する接着剤の部分が、相対的に小さくなるからである。この状況で、連続的な接着剤層とは、レチクルチャック本体１の接着剤表面４またはエンコーダグリッドスケール２の接着剤表面５の表面積全体に実質的に延在する接着剤層を意味する。
【００４０】
[0044]  水分がエンコーダグリッドスケール２の変形に及ぼす影響をさらに低下させるために、接着剤層の厚さは、先行技術の層より小さい。接着剤層は、好ましくは１〜８μｍ、さらに好ましくは２〜６μｍ、およびさらに好ましくは２〜４μｍである。図３ａおよび図３ｂに図示した実施形態の接着剤層の厚さは、約３μｍである。つまり、接着剤表面４と５の間の距離である接着剤ギャップは、３μｍの幅を有する。接着剤ギャップの幅を減少させることにより、接着剤の総量が少なくなるので、接着剤内に存在する水分が少なくなる。接着剤層３の厚さを小さくすることの利点は、接着剤層から水分が蒸発することにより生じる接着剤層３の収縮が、比較的小さくなり、その結果、エンコーダグリッドスケール２の変形が少なくなり、したがって不正確な位置測定の可能性が低下することである。また、接着剤層３の厚さの減少量を大きくできるほど、組み立てたオブジェクトが一体のオブジェクトとして挙動することが判明している。
【００４１】
[0045]  接着剤として使用される非常に適切なエポキシ樹脂は、ビスフェノールＡとビスフェノールＦ族で構成されたグループから選択されたエポキシ樹脂である。特に、Epo-tek 302-3M（登録商標）と命名されたEpoxy Technology（米国マサチューセッツ州ビルリカ）製造のエポキシが、低い感湿性および良好な毛細管作用のせいで非常に適切であると示されている。後者の特徴の利点については、以降で検討する。したがって、このようなエポキシ樹脂を使用すると、接着剤中の水分および／または直接的な環境の影響によって引き起こされるエンコーダグリッドスケール２の変形の可能性を低下させることができる。
【００４２】
[0046]  図３ａおよび図３ｂの実施形態では、レチクルチャック本体１およびエンコーダグリッドスケール２が、単一の連続的な接着剤層で相互に取り付けられている。その結果、個々のオブジェクト部品１と２の間の接着剤接続の性能が向上する。しかし、このような単一の層を、図２ａおよび図２ｂの先行技術の実施形態に関して検討したような先行技術のプロセスで塗布すると、接着剤層内に気泡が含まれる可能性が高い。このように気泡を含むことは、極めて好ましくない。なぜならば、接着剤接続に弱いスポットを生じることがあるからである。
【００４３】
[0047]  代替法として、オブジェクト部品間のギャップに接着剤を入れるために、毛細管作用および／または重力を使用することが可能である。この代替法では、気泡を含む可能性が、大幅に低下する。しかし、本発明の実施形態で提示されているように、接着剤ギャップの幅が小さくなると、所望のエポキシ樹脂で毛細管作用および／または重力をこのように使用することが、実際的に不可能になる。なぜならば、接着剤ギャップの幅が小さすぎるからである。図３ａおよび図３の実施形態を獲得するための本発明の実施形態による方法については、図４ａから図４ｂに関して以降で説明する。
【００４４】
[0048]  図４ａから図４ｂには、本発明による接着方法の４つの時点が図示されている。第一オブジェクト部品を第二オブジェクト部品に接着するために実行する異なるステップである。特に、エンコーダグリッドスケール２をレチクルチャック本体１に接着することについて検討する。
【００４５】
[0049]  図４ａでは、接着剤を一方に塗布する前のレチクルチャック本体１およびエンコーダグリッドスケール２が図示されている。レチクルチャック本体１の接着剤表面４を、エンコーダグリッドスケール２の接着剤表面５に対向して配置する。接着剤表面４と５の間の距離Ｇａは、約２０μｍである。この距離は、この距離に対応する幅を有する接着剤塗布ギャップを画定する。接着剤表面４および５の高さ、および使用する接着剤／エポキシ樹脂のタイプなどの状況に応じて、接着剤塗布ギャップの幅は変動してよい。接着剤塗布ギャップは、好ましくは少なくとも１０μｍ、好ましくは１５〜２５μｍである。接着剤塗布ギャップＧａの幅は、毛細管作用および／または重力の結果、接着剤が接着剤塗布ギャップに入ることを可能にするように選択される。
【００４６】
[0050]  接着剤表面４および５を所望の距離をおいて配置し、維持するために、２つの接着剤表面４と５の間にスペーサ６を配置してよい。接着剤表面４および５を配置し、２つの接着剤表面４と５の間に所望の距離を維持するために、任意の他の適切な手段または方法も使用してよい。
【００４７】
[0051]  図４ｂでは、特定量の接着剤を接着剤塗布ギャップの頂部に塗布している。接着剤は、毛細管作用および／または重力により接着剤塗布ギャップに入る。接着剤が一方側からギャップに比較的ゆっくり入るので、空気が含まれる可能性は非常に低い。接着剤は、接着剤塗布ギャップの実質的に全上縁部に塗布されるので、接着剤は実質的に連続的な層として（スペーサ６の位置を除いて）ギャップに入る。接着剤の塗布後、接着剤が毛細管作用および／または重力により実質的に接着剤塗布ギャップの全体を占有することを保証するために、特定量の時間が経過しなければならない。例えばエンコーダグリッドスケール２が透明である場合は、接着剤塗布ギャップがいつ実質的に充填されたか、容易に見ることができる。接着剤塗布ギャップを充填するために経過すべき時間の量は、使用される接着剤、特に接着剤の粘度および／または接着剤の毛細管作用、接着剤塗布ギャップの幅など、幾つかのパラメータに依存する。いずれの場合も、時間量は、接着剤の風乾時間、つまり接着剤が流体である時間より長くなってはならない。この例では、この時間は８分から１２分である。
【００４８】
[0052]  図４ｃでは、接着剤塗布ギャップＧａが、スペーサ（点線で図示）の位置を除いて、接着剤で実質的に充填されている。スペーサ６を除去した後、残りのスペースは、必要に応じて接着剤で充填してよい。
【００４９】
[0053]  スペーサ（がある場合は、これ）を除去した後、接着剤表面４および５が、接着剤塗布ギャップＧａの幅より実質的に小さい距離Ｇｇ（図４ｄ参照）に配置されるように、レチクルチャック本体１およびエンコーダグリッドスケールを相互に向かって動かす。この距離Ｇｇは、図示の実施形態では約３μｍである。概して、実質的に結果として形成される接着剤層の厚さに対応する距離は、好ましくは１〜８μｍ、さらに好ましくは２〜６μｍ、さらに好ましくは２〜４μｍである。次に、２つのオブジェクト部品を、その間に所望の接着剤ギャップがある状態で相互に接着するために、２つのオブジェクト部品を特定の時間、例えば２０〜２８時間、相互に押しつけておくことができる。距離Ｇｇは、２つのオブジェクト部品が相互に直接接触しない状態で、可能な限り小さくなるように選択することが好ましい。
【００５０】
[0054]  図４ｄには、レチクルチャック本体１およびエンコーダグリッドスケール２を相互に向かって動かした後のこれらのオブジェクト部品が図示されている。２つの接着剤表面４と５の間の体積が減少しているので、接着剤ギャップＧｇから特定量の接着剤が出ていることが分かる。この方法で、接着剤層３は、連続的な単層として接着剤表面４および５上の全体に延在することができる。所望に応じて、硬化し始める前に余分な接着剤を除去してよい。代替法として、接着剤塗布ギャップの頂部に配置する接着剤の量は、余分な接着剤がないか、その量が少なくなるように、これより少なくてよい。余分な接着剤は、スペーサを除去した後に残りのスペースを別個に充填する必要がないように、これらのスペースの充填に使用してもよい。接着剤が硬化すると、接着プロセスは終了する。
【００５１】
[0055]  概して、本発明による方法は、従来の方法ほど敏感ではないと結論することができる。なぜならば、一方または両方のオブジェクト部品に接着剤を塗布するために、毛細管作用および／または重力を使用するからである。さらに、１つの連続的な接着剤層を使用するので、塗布される接着剤の量は、それほど敏感ではなく、難しいパターンを作成しなくてよい。したがって、この方法は、高価な自動機器を使用する必要がないよう、手作業で実行することができる。
【００５２】
[0056]  以上の説明では、１つのオブジェクトを形成するために相互に接着できる２つのオブジェクト部品の例を挙げた。本発明は、湿度に対する感度が重要である、かつ／または湿度などの環境状態の見地から、結果のアセンブリにナノメートルの安定性が望ましい全てのオブジェクトの２つのオブジェクト部品を接続するために使用することができる。全てのこのような実施形態は、本発明の範囲に入るものとする。このようなオブジェクトの一例は、リソグラフィ装置の投影光学族のボックスに接続されているミラーである。特に、本発明は、測定システムをレチクルステージまたはウェーハステージなどの可動オブジェクトに接続するのに適切である。測定システムは、任意の位置量を測定するように構成することができる。この状況で、位置量は、前記可動オブジェクトの位置を表す任意の信号またはその導関数でよい。したがって、このような位置量は、前記可動オブジェクトの位置、速度または加速度、さらにその組合せまたは同等物を含んでよい。
【００５３】
[0057]  得られたオブジェクトが３つ以上の部品からなり、これらの部品の一部のみが、本発明による接着剤層を介して相互に取り付けられることも可能であることが分かる。
【００５４】
[0058]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることは言うまでもない。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導および検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどである。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」または「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」または「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことは、当業者に明らかである。本明細書に述べている基板は、露光前または露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、計測ツールおよび／または検査ツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【００５５】
[0059]  以上では光学リソグラフィとの関連で本発明の実施形態の使用に特に言及しているが、本発明は、インプリントリソグラフィなどの他の用途においても使用可能であり、状況が許せば、光学リソグラフィに限定されないことが理解される。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスの微細構成によって、基板上に生成されるパターンが画定される。パターニングデバイスの微細構成を基板に供給されたレジストの層に押しつけ、その後に電磁放射、熱、圧力またはその組合わせにより、レジストを硬化する。パターニングデバイスをレジストから離し、レジストを硬化した後にパターンを残す。
【００５６】
[0060]  本明細書で使用する「放射」および「ビーム」という用語は、イオンビームあるいは電子ビームといったような粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたは１２６ｎｍの波長を有する）および極端紫外線光（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００５７】
[0061]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気および静電気光学部品を含む様々なタイプの光学部品のいずれか、またはその組合せを指す。
【００５８】
[0062]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、またはその内部に記憶されたこのようなコンピュータプログラムを有するデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。
【００５９】
[0063]  上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】[0017]  図１は本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示した図である。
【図２ａ】[0018]  図２ａは先行技術によるレチクルチャック本体に接着されたエンコーダグリッドスケールを示した上面図および側面図である。
【図２ｂ】[0018]  図２ｂは先行技術によるレチクルチャック本体に接着されたエンコーダグリッドスケールを示した上面図および側面図である。
【図３ａ】[0019]  図３ａは本発明の実施形態によりレチクルチャック本体に接着されたエンコーダグリッドスケールを示した上面図および側面図である。
【図３ｂ】[0019]  図３ｂは本発明の実施形態によりレチクルチャック本体に接着されたエンコーダグリッドスケールを示した上面図および側面図である。
【図４ａ】[0020]  図４ａは本発明により第一オブジェクト部品を第二オブジェクト部品に接着する方法の４つのステップを示した図である。
【図４ｂ】[0020]  図４ｂは本発明により第一オブジェクト部品を第二オブジェクト部品に接着する方法の４つのステップを示した図である。
【図４ｃ】[0020]  図４ｃは本発明により第一オブジェクト部品を第二オブジェクト部品に接着する方法の４つのステップを示した図である。
【図４ｄ】[0020]  図４ｄは本発明により第一オブジェクト部品を第二オブジェクト部品に接着する方法の４つのステップを示した図である。
【図１】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【図４ｄ】
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