(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記基板の塗布面の一部に設定された塗布不要領域上に前記塗布液が不溶となる不溶液を供給して、当該塗布不要領域上に当該不溶液の液膜を生成する液膜生成ステップと、
前記液膜が形成された後の基板の塗布面上に前記塗布液を塗布する塗布ステップと、
前記基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、前記液膜と共に当該液膜内に存在する塗布液を除去する液膜除去ステップとを含み、
前記液膜除去ステップは、前記基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、前記液膜と共に当該液膜内に存在する塗布液を吸引する吸引ステップを含むことを特徴とする、塗布方法。
【請求項２】
基板上に塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記基板の塗布面の一部に設定された塗布不要領域上に前記塗布液が不溶となる不溶液を供給して、当該塗布不要領域上に当該不溶液の液膜を生成する液膜生成ステップと、
前記液膜が形成された後の基板の塗布面上に前記塗布液を塗布する塗布ステップと、
前記基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、前記液膜と共に当該液膜内に存在する塗布液を除去する液膜除去ステップとを含み、
前記塗布方法は、前記基板を塗布面に平行な第１方向へ相対的に移動する平行移動ステップを、さらに含み、
前記液膜生成ステップは、前記第１方向へ相対的に移動する前記基板の塗布面上から前記不溶液を供給して前記第１方向に前記液膜を形成し、
前記塗布ステップは、前記液膜が形成された後に前記第１方向へ相対的に移動する基板上の空間において、前記塗布面に平行でありかつ前記第１方向と異なる第２方向へ往復移動するノズルから前記塗布液を吐出して当該塗布液を塗布するノズル塗布ステップを含み、
前記液膜除去ステップは、前記塗布液が塗布された後に前記第１方向へ相対的に移動する基板上から、前記液膜と共に当該液膜内に存在する塗布液を除去することを特徴とする、塗布方法。
【請求項３】
基板上に塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記基板の塗布面の一部に設定された塗布不要領域上に前記塗布液が不溶となる不溶液を供給して、当該塗布不要領域上に当該不溶液の液膜を生成する液膜生成ステップと、
前記液膜が形成された後の基板の塗布面上に前記塗布液を塗布する塗布ステップと、
前記基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、前記液膜と共に当該液膜内に存在する塗布液を除去する液膜除去ステップとを含み、
前記塗布液は、無機溶剤を主溶媒とする高分子系材料であり、
前記不溶液は、テトラヒドロナフタレン（テトラリン）、トリメチルベンゼン（メシチレン）、およびＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）からなる群から選ばれる１つであることを特徴とする、塗布方法。
【請求項４】
前記液膜生成ステップは、
前記基板の塗布不要領域に対して紫外線を照射する紫外線照射ステップと、
前記紫外線が照射された塗布不要領域上に前記不溶液を所定量供給する不溶液供給ステップとを含むことを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれかに記載の塗布方法。
【請求項５】
前記塗布液は、有機溶剤を主溶媒とする高分子系材料であり、
前記不溶液は、水であることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の塗布方法。
【請求項６】
基板上に塗布液を塗布する塗布装置であって、
その先端部から前記塗布液を吐出するノズルと、
前記基板を載置面に載置するステージと、
前記ノズルおよび前記ステージの少なくとも一方を前記載置面に平行な第１方向に相対的に移動させる相対移動機構と、
前記基板の塗布面の一部に設定された塗布不要領域上に前記塗布液が不溶となる不溶液を供給して、当該塗布不要領域上に当該不溶液の液膜を生成する液膜生成機構と、
前記液膜が形成された後の基板を載置する前記ステージ上の空間において、前記ステージの載置面に平行でありかつ前記第１方向と異なる第２方向に前記ノズルを往復移動させるノズル移動機構と、
前記基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、前記液膜と共に当該液膜内に存在する塗布液を除去する液膜除去機構とを備える、塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布方法および塗布装置に関し、より特定的には、ステージ上に載置した基板にノズルから塗布液（有機ＥＬ材料や正孔輸送材料）を吐出して塗布する塗布方法および塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板等の被処理体に塗布液を塗布する基板塗布装置が各種開発されている。例えば、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置を製造する装置では、ステージ上に載置されたガラス基板等の基板の主面に所定のパターン形状で正孔輸送材料や有機ＥＬ材料をノズル塗布する基板塗布装置が用いられる。この基板塗布装置では、ノズルから塗布液（有機ＥＬ材料や正孔輸送材料）が所定の圧力で吐出される。ここで、有機ＥＬ材料や正孔輸送材料としては、大別して低分子系材料および高分子系材料の２つがあり、ノズル塗布する基板塗布装置では一般的に高分子系材料が用いられる。
【０００３】
上記基板塗布装置は、塗布液をポンプで所定の圧力に増圧してノズルから吐出しつつ、ノズルを基板上でスキャンすることによって基板に塗布液を塗布するものである。ノズルで塗布する方法は、インクジェットで塗布液を塗布する方法に比べて高速で塗布液を塗布することができるというメリットがある。しかし、ノズルで塗布液を塗布する方法では、塗布液の吐出制御の応答性は高くないことから、塗布液の吐出をオンオフで制御することが困難である。したがって、基板上でノズルをスキャンさせている間に塗布液の吐出をオンオフして制御することは難しいので、スキャン中に塗布の必要な領域のみを選択して塗布液を塗布することはできない。そのため、ノズル塗布を行う場合には、基板における塗布が不要な領域にも塗布液を塗布した後で、塗布が不要な領域に塗布された塗布液を除去しなければならない。
【０００４】
ここで、実際の基板表面には、発光領域だけでなく、ドライバ回路が組み込まれる領域や封止のための領域が存在する。このような領域に有機ＥＬ材料や正孔輸送材料の塗布が行われてしまうと、以降のプロセスにおいて不良の原因となる。例えば、基板の四方の端部は、塗布不要領域となる。また、１枚の基板から複数枚の有機ＥＬ表示装置を作成する場合には、塗布不要領域を基板に格子状に形成する必要がある。つまり、基板の端以外の部分についても塗布不要領域を形成する必要がある（後述する図１２参照。）。ノズル塗布を行う場合において、基板の格子状の塗布不要領域から塗布液を除去する方法としては、塗布不要領域をマスキングテープによってマスクする方法がある（例えば、特許文献１参照）。また、塗布後に綿棒等を用いて塗布不要領域に塗布された塗布液を除去したりする方法がある。
【特許文献１】特開２００２−１５１２５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１で開示された基板の塗布不要部分にマスキングテープを貼る方法では、テープを貼る装置およびテープを剥がす装置が必要となり、設置スペースが広く必要となりコスト増加の要因となる。また、テープを貼るおよび剥がす作業や塗布後に綿棒等を用いて塗布不要領域に塗布された塗布液を除去する作業を手作業で行う場合、スループットが低下して量産に不適であると同時に、テープ貼付作業や塗布除去作業の精度が製品精度に直結するために手作業の熟練が必要となり、個人差に応じたデバイス毎の個体差が発生してしまう。
【０００６】
また、塗布液の塗布後にマスキングテープを剥がした際にマスキングテープの接着剤やパーティクルが残る可能性がある。さらに、基板の塗布領域とマスキングテープを貼った領域との境では、塗布液がマスキングテープを貼った部分に回りこみ、塗布不要領域にも材料が塗布されてしまう可能性がある。このように、マスキングテープを用いる方法では、基板の塗布不要領域に付着物が残らないようにきれいに形成することが難しい。そのため、塗布された基板の四方端部を有機ＥＬ表示装置に封止する際に、塗布不要領域に残った付着物のために、封止剤の接着が不十分になるおそれがあった。また、マスキングテープを使用すること自体がコスト増加の要因となる。
【０００７】
さらに、塗布不要領域に塗布された塗布液にレーザ光を照射して当該塗布液を気体化させることによって、塗布液を除去する方法も考えられる。しかしながら、レーザ光を塗布不要領域に照射すると、除去対象となった塗布液の他に塗布不要領域の基板にもレーザ光が照射される。したがって、基板にレーザ光によるダメージを与えてしまうことが考えられる。例えば、塗布液の中には照射されるレーザ光に対してエネルギ吸収率が十分でないことがある。この場合、レーザ強度を大きくしたり、照射時間・回数を増やしたりする対応によって、塗布不要領域に塗布された塗布液を完全に除去しようとするので、除去対象の塗布液だけでなく基板に与えるダメージも大きくなってしまう。
【０００８】
それ故に、本発明の目的は、基板の塗布不要領域に付着物を残さずに基板にダメージを与えることなく塗布液を除去して、必要な領域のみに塗布液を塗布する塗布方法および塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は、以下に述べるような特徴を有している。
第１の発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布方法である。塗布方法は、液膜生成ステップ、塗布ステップ、および液膜除去ステップを含む。液膜生成ステップは、基板の塗布面の一部に設定された塗布不要領域上に塗布液が不溶となる不溶液を供給して、その塗布不要領域上にその不溶液の液膜を生成する。塗布ステップは、液膜が形成された後の基板の塗布面上に塗布液を塗布する。液膜除去ステップは、基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、液膜と共にその液膜内に存在する塗布液を除去する。さらに、液膜除去ステップは、吸引ステップを含む。吸引ステップは、基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、液膜と共にその液膜内に存在する塗布液を吸引する。
【００１０】
第２の発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布方法である。塗布方法は、液膜生成ステップ、塗布ステップ、および液膜除去ステップを含む。液膜生成ステップは、基板の塗布面の一部に設定された塗布不要領域上に塗布液が不溶となる不溶液を供給して、その塗布不要領域上にその不溶液の液膜を生成する。塗布ステップは、液膜が形成された後の基板の塗布面上に塗布液を塗布する。液膜除去ステップは、基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、液膜と共にその液膜内に存在する塗布液を除去する。さらに、塗布方法は、平行移動ステップを含む。平行移動ステップは、基板を塗布面に平行な第１方向へ相対的に移動する。液膜生成ステップは、第１方向へ相対的に移動する基板の塗布面上から不溶液を供給して第１方向に液膜を形成する。塗布ステップは、ノズル塗布ステップを含む。ノズル塗布ステップは、液膜が形成された後に第１方向へ相対的に移動する基板上の空間において、塗布面に平行でありかつ第１方向と異なる第２方向へ往復移動するノズルから塗布液を吐出してその塗布液を塗布する。液膜除去ステップは、塗布液が塗布された後に第１方向へ相対的に移動する基板上から、液膜と共にその液膜内に存在する塗布液を除去する。
【００１１】
第３の発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布方法である。塗布方法は、液膜生成ステップ、塗布ステップ、および液膜除去ステップを含む。液膜生成ステップは、基板の塗布面の一部に設定された塗布不要領域上に塗布液が不溶となる不溶液を供給して、その塗布不要領域上にその不溶液の液膜を生成する。塗布ステップは、液膜が形成された後の基板の塗布面上に塗布液を塗布する。液膜除去ステップは、基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、液膜と共にその液膜内に存在する塗布液を除去する。さらに、塗布液は、無機溶剤を主溶媒とする高分子系材料である。不溶液は、テトラヒドロナフタレン（テトラリン）、トリメチルベンゼン（メシチレン）、およびＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）からなる群から選ばれる１つである。
【００１２】
第４の発明は、上記第１の発明から第３の発明において、液膜生成ステップは、紫外線照射ステップおよび不溶液供給ステップを含む。紫外線照射ステップは、基板の塗布不要領域に対して紫外線を照射する。不溶液供給ステップは、紫外線が照射された塗布不要領域上に不溶液を所定量供給する。
【００１３】
第５の発明は、上記第１の発明から第２の発明において、塗布液は、有機溶剤を主溶媒とする高分子系材料である。不溶液は、水である。
【００１５】
第６の発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置である。塗布装置は、ノズル、ステージ、相対移動機構、液膜生成機構、ノズル移動機構、および液膜除去機構を備える。ノズルは、その先端部から塗布液を吐出する。ステージは、基板を載置面に載置する。相対移動機構は、ノズルおよびステージの少なくとも一方を載置面に平行な第１方向に相対的に移動させる。液膜生成機構は、基板の塗布面の一部に設定された塗布不要領域上に塗布液が不溶となる不溶液を供給して、その塗布不要領域上にその不溶液の液膜を生成する。ノズル移動機構は、液膜が形成された後の基板を載置するステージ上の空間において、ステージの載置面に平行でありかつ第１方向と異なる第２方向にノズルを往復移動させる。液膜除去機構は、基板上に塗布液が塗布された後の基板上から、液膜と共にその液膜内に存在する塗布液を除去する。
【発明の効果】
【００１６】
上記第１の発明によれば、基板上の塗布不要領域に対して液膜を形成し、当該液膜内に吐出された塗布液を液膜と共に除去することによって、塗布液が塗布されない領域を形成する。したがって、被塗布体である基板にダメージを与えることなく塗布液を除去して、必要な領域のみに塗布液を塗布する塗布方法が実現できる。また、液膜を生成する位置を調整することによって、基板の端部以外の領域にも塗布されない領域を形成することができ、当該領域によって分けられた複数の領域にそれぞれ塗布液が塗布された基板を生成できる。さらに、吸引によって基板上の液膜および液膜内の塗布液を除去することによって、当該基板上に除去するべき液膜や塗布液等が飛び散ることなく除去することができる。
【００１７】
上記第２の発明によれば、基板上の塗布不要領域に対して液膜を形成し、当該液膜内に吐出された塗布液を液膜と共に除去することによって、塗布液が塗布されない領域を形成する。したがって、被塗布体である基板にダメージを与えることなく塗布液を除去して、必要な領域のみに塗布液を塗布する塗布方法が実現できる。また、液膜を生成する位置を調整することによって、基板の端部以外の領域にも塗布されない領域を形成することができ、当該領域によって分けられた複数の領域にそれぞれ塗布液が塗布された基板を生成できる。さらに、ノズル塗布する方向に対して異なる方向に塗布不要領域を形成することができる。また、塗布されない領域の形成にあたっては基板が直進移動する動作を利用しているため、各ステップを実現する機構を固定する位置を調整するのみで直線性に優れた除去領域を形成できる。このとき、基板から塗布液を除去するための基板の位置決め等が不要であり、高精度の除去のために新たに必要な機構を最小限に構成できる。さらに、塗布液を除去する動作が自動的に行われるため、製品精度の手作業による個人差やデバイス毎の個体差を低減することができる。
【００１８】
上記第３の発明によれば、基板上の塗布不要領域に対して液膜を形成し、当該液膜内に吐出された塗布液を液膜と共に除去することによって、塗布液が塗布されない領域を形成する。したがって、被塗布体である基板にダメージを与えることなく塗布液を除去して、必要な領域のみに塗布液を塗布する塗布方法が実現できる。また、液膜を生成する位置を調整することによって、基板の端部以外の領域にも塗布されない領域を形成することができ、当該領域によって分けられた複数の領域にそれぞれ塗布液が塗布された基板を生成できる。さらに、塗布液の主溶媒と異なる性質で沸点が相対的に高い液体を不溶液にすることによって、塗布液と液膜とが混ざり合うことなく、また除去されるまで液体状態を保つことができる。
【００１９】
上記第４の発明によれば、紫外線を照射した領域は親水性が高くなるため、照射された領域上に供給された不溶液は、当該領域内に留まる状態となる。つまり、基板の塗布不要領域に紫外線を照射すれば、所望の幅で形成された不溶液の液膜が塗布不要領域上に形成され、正確な塗布不要領域を形成することができる。
【００２０】
上記第５の発明によれば、塗布液の主溶媒と異なる性質で沸点が相対的に高い液体を不溶液にすることによって、塗布液と液膜とが混ざり合うことなく、また除去されるまで液体状態を保つことができる。
【００２１】
本発明の塗布装置によれば、上述した塗布方法と同様の効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態に係る塗布装置について説明する。説明を具体的にするために、当該塗布装置が蛍光材料もしくは燐光材料である有機ＥＬ材料や正孔輸送材料等を塗布液として用いる有機ＥＬ表示装置を製造する装置に適用された例を用いて、以下の説明を行う。有機ＥＬ表示装置を製造する装置は、有機ＥＬ材料や正孔輸送材料等をステージ上に載置されたガラス基板上に所定のパターン形状に塗布して有機ＥＬ表示装置を製造するものである。図１は、有機ＥＬ表示装置の製造装置１の要部概略構成を示す平面図および正面図である。また、図２は、有機ＥＬ表示装置の製造装置１の要部概略構成を示す側面図である。
【００２３】
有機ＥＬ表示装置を製造する装置に用いられる塗布装置は、上述したように有機ＥＬ材料や正孔輸送材料等の複数の塗布液を塗布し、用いられる有機ＥＬ材料や正孔輸送材料は、有機溶剤または無機溶剤を主溶媒とする高分子系材料である。例えば、正孔輸送材料として用いられる高分子系材料はＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）であり、有機溶剤系の液体に対して不溶となる水溶性のものや水等の無機溶剤系の液体に対して不溶となる非水溶性のものが用いられる。
【００２４】
図１において、有機ＥＬ表示装置の製造装置１は、大略的に、基板載置装置２および有機ＥＬ塗布機構５を備えている。有機ＥＬ塗布機構５は、ノズル移動機構部５１、ノズルユニット５２、液受部５３、液膜生成機構部５５、および液膜除去機構部５６を有している。ノズル移動機構部５１は、ガイド部材５１１が図示Ｘ軸方向に延設されており、ノズルユニット５２をガイド部材５１１に沿って図示Ｘ軸方向に移動させる。ノズルユニット５２は、赤、緑、および青色の有機ＥＬ材料や正孔輸送材料をそれぞれ吐出するノズル５２１〜５２３を並設した状態で保持する。各ノズル５２１〜５２３へは、それぞれ供給部（図２参照）から赤、緑、および青色の有機ＥＬ材料や正孔輸送材料が供給される。
【００２５】
液膜生成機構部５５は、スリットノズル５５１Ｌおよび５５１Ｒと、ＵＶ照射部５５２Ｌおよび５５２Ｒと、図示Ｘ軸方向に延設されたガイド部材５５３とを含んでいる。スリットノズル５５１Ｌおよび５５１Ｒと、ＵＶ照射部５５２Ｌおよび５５２Ｒとは、基板載置装置２に載置されて平行移動する基板Ｐの塗布不要領域（例えば、基板Ｐの両端の領域ＮＬおよびＮＲ；後述）の上方となるように、それぞれガイド部材５５３に沿って（図示ａ方向）位置調整されて固定される。ＵＶ照射部５５２Ｌおよび５５２Ｒは、基板載置装置２に載置された基板Ｐの塗布不要領域にＵＶ（紫外線）を照射して当該の塗布不要領域における親水性を高める。スリットノズル５５１Ｌおよび５５１Ｒは、基板載置装置２に載置された基板Ｐの塗布不要領域に塗布液が不溶となる液体（以下、不溶液と記載する）を供給し、当該塗布不要領域に不溶液の液膜を生成する。なお、一対のスリットノズル５５１Ｌおよび５５１Ｒを総称して説明する場合、スリットノズル５５１と参照符号を付して説明を行う。また、一対のＵＶ照射部５５２Ｌおよび５５２Ｒを総称して説明する場合、ＵＶ照射部５５２と参照符号を付して説明を行う。
【００２６】
液膜除去機構部５６は、吸引ヘッド５６１Ｌおよび５６１Ｒと、図示Ｘ軸方向に延設されたガイド部材５６２とを含んでいる。吸引ヘッド５６１Ｌおよび５６１Ｒは、基板載置装置２に載置されて平行移動する基板Ｐの塗布不要領域の上方となるように、ガイド部材５６２に沿って（図示ｂ方向）位置調整されて固定される。吸引ヘッド５６１Ｌおよび５６１Ｒは、基板載置装置２に載置された基板Ｐの塗布不要領域に形成された液膜および当該液膜に混在する塗布液を吸引して除去する。なお、一対の吸引ヘッド５６１Ｌおよび５６１Ｒを総称して説明する場合、吸引ヘッド５６１と参照符号を付して説明を行う。ここで、ノズル移動機構部５１、液膜生成機構部５５、および液膜除去機構部５６は、塗布液を塗布する際に基板Ｐが平行移動する方向（図示Ｙ軸正方向）に対して、液膜生成機構部５５、ノズル移動機構部５１、液膜除去機構部５６の順に併設されている。
【００２７】
基板載置装置２は、ステージ２１、旋回部２２、平行移動テーブル２３、ガイド受け部２４、およびガイド部材２５を有している。なお、平行移動テーブル２３、ガイド受け部２４、およびガイド部材２５が、本発明の相対移動機構に相当する。ステージ２１は、被塗布体となるガラス基板等の基板Ｐをそのステージ上面に載置する。ステージ２１の下部は、旋回部２２によって支持されており、旋回部２２の回動動作によって図示θ方向にステージ２１が回動可能に構成されている。
【００２８】
有機ＥＬ塗布機構５の下方を通るように、ガイド部材２５が上記Ｘ軸方向と垂直の図示Ｙ軸方向に延設されて固定される。平行移動テーブル２３の下面にはガイド部材２５と当接してガイド部材２５上を滑動するガイド受け部２４が固設されている。また、平行移動テーブル２３の上面には、旋回部２２が固設される。これによって、平行移動テーブル２３が、例えばリニアモータ（図示せず）からの駆動力を受けてガイド部材２５に沿った図示Ｙ軸方向に移動可能になり、旋回部２２に支持されたステージ２１の移動も可能になる。
【００２９】
次に、図３を参照して、有機ＥＬ表示装置の製造装置１における制御機能の概略構成について説明する。なお、図３は、有機ＥＬ表示装置の製造装置１の制御機能を示すブロック図である。
【００３０】
図３において、有機ＥＬ表示装置の製造装置１は、上述した構成部の他に、制御部３、第１供給部５４ａ、第２供給部５４ｂ、および第３供給部５４ｃを備えている。例えば、第１〜第３供給部５４ａ〜５４ｃが赤、緑、および青色の有機ＥＬ材料を吐出する場合、第１供給部５４ａは、赤色の有機ＥＬ材料を赤色用のノズル５２１に供給する。第２供給部５４ｂは、緑色の有機ＥＬ材料を緑色用のノズル５２２に供給する。第３供給部５４ｃは、青色の有機ＥＬ材料を青色用のノズル５２３に供給する。第１供給部５４ａは、赤色の有機ＥＬ材料の供給源５４１ａと、供給源５４１ａから赤色の有機ＥＬ材料を取り出すためのポンプ５４２ａと、赤色の有機ＥＬ材料の流量を検出する流量計５４３ａと、赤色の有機ＥＬ材料中の異物を除去するためのフィルタ５４４ａとを備えている。また、第２供給部５４ｂは、緑色の有機ＥＬ材料の供給源５４１ｂと、供給源５４１ｂから緑色の有機ＥＬ材料を取り出すためのポンプ５４２ｂと、緑色の有機ＥＬ材料の流量を検出する流量計５４３ｂと、緑色の有機ＥＬ材料中の異物を除去するためのフィルタ５４４ｂとを備えている。さらに、第３供給部５４ｃは、青色の有機ＥＬ材料の供給源５４１ｃと、供給源５４１ｃから青色の有機ＥＬ材料を取り出すためのポンプ５４２ｃと、青色の有機ＥＬ材料の流量を検出する流量計５４３ｃと、青色の有機ＥＬ材料中の異物を除去するためのフィルタ５４４ｃとを備えている。そして、制御部３は、第１〜第３供給部５４ａ〜５４ｃ、旋回部２２、平行移動テーブル２３、ノズル移動機構部５１、液膜生成機構部５５、および液膜除去機構部５６のそれぞれの動作を制御する。
【００３１】
ステージ２１上に基板Ｐを載置して、図示Ｙ軸正方向へ平行移動テーブル２３が有機ＥＬ塗布機構５の下方まで移動したとき、ＵＶ照射部５５２から照射されるＵＶ、スリットノズル５５１から供給される不溶液、ノズル５２１〜５２３から吐出される有機ＥＬ材料や正孔輸送材料、そして吸引ヘッド５６１からの吸引を、順に当該基板Ｐが受ける位置となる。以下、図４〜図１１を参照して、各位置において基板Ｐに施される処理について説明する。
【００３２】
図４は、ステージ２１上に基板Ｐを載置して、図示Ｙ軸正方向へ平行移動テーブル２３がＵＶ照射部５５２の下方まで移動したときに、当該基板Ｐに施される処理を説明するための概略斜視図である。制御部３は、平行移動テーブル２３が基板Ｐを載置した状態で基板ＰをＹ軸正方向へ平行移動させ、やがて基板Ｐの先端がＵＶ照射部５５２の下方位置に到達する。このとき、制御部３は、ＵＶ照射部５５２から基板Ｐの上面に向かってＵＶ照射を開始し、平行移動テーブル２３のＹ軸正方向への平行移動を継続する。これによって、ＵＶ照射部５５２の下方領域となる基板Ｐの上面にはＵＶが照射され、平行移動テーブル２３のＹ軸正方向への平行移動によって、照射領域Ａｃが基板ＰのＹ軸方向に形成されていく。例えば、基板ＰのＹ軸方向に平行な両端周辺領域は、塗布不要領域に設定されている。そして、上述したようにＵＶ照射部５５２は、基板載置装置２に載置されて平行移動する基板Ｐの塗布不要領域の上方となる位置に固定されており、ＵＶ照射領域Ａｃが塗布不要領域と同一となるように位置調整される。これによって、基板ＰのＹ軸方向に平行な両端周辺領域（塗布不要領域）にＵＶが照射されていく。ここで、基板Ｐの表面は一般的に親水性が低い状態にあるが、ＵＶ照射部５５２によってＵＶが照射された基板Ｐの照射領域Ａｃは、親水性が高くなる。つまり、Ｙ軸方向に形成された基板Ｐの塗布不要領域にＵＶを照射することによって、塗布不要領域における基板Ｐの親水性が高くなる。
【００３３】
図５は、ステージ２１上に基板Ｐを載置して、図示Ｙ軸正方向へ平行移動テーブル２３がスリットノズル５５１の下方まで移動したときに、当該基板Ｐに施される処理を説明するための概略斜視図である。制御部３は、平行移動テーブル２３が基板Ｐを載置した状態で基板ＰをＹ軸正方向へ平行移動させ、やがて基板Ｐの先端がスリットノズル５５１の下方位置に到達する。このとき、制御部３は、スリットノズル５５１から基板Ｐの上面に向かって不溶液の塗布を開始し、平行移動テーブル２３のＹ軸正方向への平行移動を継続する。また、上述したようにスリットノズル５５１は、基板載置装置２に載置されて平行移動する基板Ｐの塗布不要領域の上方となる位置に固定されている。これによって、ＵＶ照射部５５２がＵＶを照射した照射領域Ａｃ（つまり、塗布不要領域）上にスリットノズル５５１から吐出した不溶液が塗布されて、所定膜厚の液膜Ｌｗが形成されていく。
【００３４】
図６は、図５の断面ｃ−ｃをｄ方向から見た液膜Ｌｗの状態を示す概略断面図である。スリットノズル５５１から吐出される不溶液は、平行移動テーブル２３の平行移動速度に応じて、所定の膜厚および幅で形成された液膜Ｌｗとなるようにその吐出量が調整される。液膜Ｌｗの膜厚は、塗布液の吐出圧に応じて厚い方が好ましいが、基板Ｐ上を通過するノズル５２１〜５２３の先端部が液膜Ｌｗと接触しない厚さとする。また、液膜ＬｗのＸ軸方向（図１参照）の幅は、照射領域Ａｃの幅によって制御される。ここで、上述したように照射領域Ａｃは親水性が高くなっており、他の基板Ｐの上面は親水性が低い状態にある。したがって、照射領域Ａｃ上にスリットノズル５５１から吐出された不溶液は、液膜限界以上の量を吐出しない限り親水性の高い照射領域Ａｃ内に留まる状態となる。つまり、基板Ｐの塗布不要領域に対して、照射領域Ａｃを正確に形成し、スリットノズル５５１からの不溶液吐出量を制御すれば、所望の膜厚および幅で形成された不溶液の液膜Ｌｗが塗布不要領域上に形成されることになる。
【００３５】
ここで、スリットノズル５５１から吐出されて液膜Ｌｗを構成する不溶液は、ノズル５２１〜５２３から吐出される塗布液（正孔輸送材料や有機ＥＬ材料）が不溶となる沸点が相対的に高い液体である。例えば、塗布液として用いられる正孔輸送材料が水等の無機溶剤を主溶媒とする水溶性の高分子系材料である場合、当該高分子系材料が不溶となるテトラヒドロナフタレン（テトラリン）、トリメチルベンゼン（メシチレン）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）等が不溶液として用いられる。一方、塗布液として用いられる有機ＥＬ材料や正孔輸送材料が有機溶剤を主溶媒とする高分子系材料である場合、当該高分子系材料が不溶となる水等が不溶液として用いられる。
【００３６】
図７は、ステージ２１上に基板Ｐを載置して、図示Ｙ軸正方向へ平行移動テーブル２３がノズルユニット５２の下方まで移動したときに、当該基板Ｐに施される処理を説明するための概略斜視図である。ここで、正孔輸送材料や有機ＥＬ材料の塗布を受ける基板Ｐの表面には、正孔輸送材料や各色の有機ＥＬ材料を塗布すべき所定のパターン形状に応じたストライプ状の溝が複数本並設されるように形成されている。例えば、赤、緑、および青色の有機ＥＬ材料としては、基板Ｐ上の溝内に拡がるように流動する程度の粘性を有する有機性のＥＬ材料が用いられ、具体的には各色毎の高分子タイプの有機ＥＬ材料が用いられる。ノズルユニット５２は、所定の支持軸周りに回動自在に支持されており、制御部３の制御によって当該支持軸周りに回動させることで、塗布液の塗布ピッチ間隔を調整することができる。なお、ノズル５２１〜５２３における正孔輸送材料や有機ＥＬ材料を吐出するための穴径は、基板Ｐに形成された溝の幅より小さい数十μｍ程度であり、例えば、１０〜７０μｍである。
【００３７】
ノズル５２１〜５２３から吐出される塗布液を基板Ｐ上面の塗布領域ＡＡ上に塗布する際、制御部３がノズルユニット５２をＸ軸方向に往復移動させるようにノズル移動機構部５１を制御し、ステージ２１をＹ軸方向へ当該直線移動毎に所定ピッチだけ移動させるように平行移動テーブル２３を制御し、ノズル５２１〜５２３から所定流量の塗布液を吐出する。なお、基板Ｐの平行移動方向前方の端部近傍領域には塗布不要領域ＮＨが設定されているが、この塗布不要領域ＮＨ上ではノズル５２１〜５２３から塗布液を吐出しない。また、ノズル５２１〜５２３のＸ軸方向吐出位置において、ステージ２１に載置された基板Ｐから逸脱する両サイド空間には、基板Ｐから外れて吐出された有機ＥＬ材料を受ける液受部５３Ｌおよび５３Ｒがそれぞれ固設されている。ノズル移動機構部５１は、基板Ｐの一方サイド外側に配設されている液受部５３の上部空間から、基板Ｐを横断して基板Ｐの他方サイド外側に配設されている液受部５３の上部空間まで、ノズルユニット５２を往復移動させる。また、平行移動テーブル２３は、ノズルユニット５２が液受部５３の上部空間に配置されている際、ノズル往復移動方向とは垂直の所定方向（図示Ｙ軸方向）に所定ピッチだけステージ２１を移動させる。このようなノズル移動機構部５１および平行移動テーブル２３の動作と同時にノズル５２１〜５２３から塗布液を液柱状態で吐出することによって、正孔輸送材料や赤、緑、および青色の有機ＥＬ材料が基板Ｐに形成されたストライプ状の溝毎に赤、緑、青色の順に配列された、いわゆる、ストライプ配列が基板Ｐの塗布領域ＡＡ上に形成される。なお、基板Ｐ上のストライプ配列方向は、ステージ２１の載置面と平行であり、ステージ２１が基板Ｐを移動させる方向（Ｙ軸方向）に対して垂直となる方向（Ｘ軸方向）となる。そして、ストライプ配列は、ステージ２１が基板Ｐを移動させる方向に対して平行に位置する基板Ｐの２辺の端面間を渡すように形成される。つまり、塗布液は、Ｙ軸方向に対して平行な基板Ｐの両端付近に形成された液膜Ｌｗに対しても塗布される。
【００３８】
図８は、図７の断面ｅ−ｅをｆ方向から見た液膜Ｌｗ内の塗布液Ｑの状態を示す概略断面図である。ここで、液膜Ｌｗを構成する不溶液は、塗布液Ｑが不溶となる液体である。したがって、ノズル５２１〜５２３から液膜Ｌｗ上に吐出された塗布液Ｑは、液膜Ｌｗ内で不溶液と混ざり合うことがない。例えば、有機溶剤を主溶媒とするＰＥＤＯＴが塗布液Ｑで不溶液が水である場合、塗布液Ｑは、液膜Ｌｗ内で浮いた状態で存在する。つまり、液膜Ｌｗ上に塗布された塗布液Ｑは、基板Ｐの塗布不要領域に塗布されることなく液膜Ｌｗ内の不溶液と混ざり合わずに混在した状態となる。
【００３９】
図９は、ステージ２１上に基板Ｐを載置して、図示Ｙ軸正方向へ平行移動テーブル２３が吸引ヘッド５６１の下方まで移動したときに、当該基板Ｐに施される処理を説明するための概略斜視図である。制御部３は、平行移動テーブル２３が基板Ｐを載置した状態で基板ＰをＹ軸正方向へ平行移動させ、やがて基板Ｐの先端が吸引ヘッド５６１の下方位置に到達する。このとき、制御部３は、吸引ヘッド５６１から基板Ｐの上面に向かって吸引を開始し、平行移動テーブル２３のＹ軸正方向への平行移動を継続する。ここで、上述したように吸引ヘッド５６１は、基板載置装置２に載置されて平行移動する基板Ｐの塗布不要領域の上方となる位置に固定されている。これによって、基板Ｐの塗布不要領域上に形成された液膜Ｌｗがその内部に混在する塗布液Ｑと共に吸引ヘッド５６１へ吸引されていく。
【００４０】
図１０は、図９の断面ｇ−ｇをｈ方向から見た基板Ｐ上の液膜Ｌｗおよび塗布液Ｑの状態を示す概略断面図である。図８を用いて説明したように、液膜Ｌｗ上に塗布された塗布液Ｑは、基板Ｐの塗布不要領域に塗布されることなく液膜Ｌｗ内の不溶液と混ざり合わずに混在した状態となっている。このような状態で液膜Ｌｗの上方から吸引ヘッド５６１によって所定圧力以上の吸引が行われると、液膜Ｌｗおよび塗布液Ｑが基板Ｐ上から分離して吸引ヘッド５６１へ吸引される。したがって、基板Ｐの塗布不要領域上に形成された液膜Ｌｗおよび塗布液Ｑが除去され、当該塗布不要領域上には何も塗布液が塗布されていない状態となる。
【００４１】
図１１は、図４〜図１０を用いて説明した動作を完了した後の基板Ｐの一例を示す図である。基板Ｐは、Ｙ軸方向に基板Ｐの２辺が平行となるようにステージ２１上に載置され、当該Ｙ軸正方向に向かって基板載置装置２が平行移動させて塗布されたものである。そして、基板Ｐの四方端部を塗布不要領域とした領域ＡＡに有機ＥＬ材料がストライプ配列で塗布されている。基板Ｐの四方端部に形成される塗布不要領域をそれぞれ区別するために、Ｙ軸正方向に対して垂直となる基板Ｐの２辺の内、基板Ｐが移動する前方に位置する辺に形成される塗布不要領域を領域ＮＨとし、基板Ｐが移動する後方に位置する辺に形成される塗布不要領域を領域ＮＦとする。また、上記Ｙ軸正方向に対して平行となる基板Ｐの２辺の内、基板Ｐが移動する方向の左側に位置する辺に形成される塗布不要領域を領域ＮＬとし、基板Ｐが移動する方向の右側に位置する辺に形成される塗布不要領域を領域ＮＲとする。このような塗布領域ＡＡを基板Ｐ上に形成する場合、ＵＶ照射部５５２Ｌおよび５５２Ｒ（図１参照）は、それぞれ平行移動する基板Ｐの塗布不要領域ＮＬおよびＮＲの上方となる位置に固定される。スリットノズル５５１Ｌおよび５５１Ｒ（図１参照）は、それぞれ平行移動する基板Ｐの塗布不要領域ＮＬおよびＮＲの上方となる位置に固定される。そして、吸引ヘッド５６１Ｌおよび５６１Ｒ（図１参照）は、それぞれ平行移動する基板Ｐの塗布不要領域ＮＬおよびＮＲの上方となる位置に固定される。また、Ｙ軸方向に関して基板Ｐの前後端からそれぞれ所定長さまでの領域ＮＨおよびＮＦには塗布液が塗布されない。つまり、ノズルユニット５２が塗布液を塗布する対象領域は、前後端の塗布不要領域ＮＨおよびＮＦを除いた基板Ｐ上の上面とする。これによって、基板Ｐの四方端部を塗布不要領域とした領域ＡＡに有機ＥＬ材料がストライプ配列で塗布される。この場合、典型的には、１枚の基板Ｐから１枚の有機ＥＬ表示装置が得られる。
【００４２】
なお、有機ＥＬ表示装置の製造装置１は、基板Ｐの四方端部以外の領域を塗布不要領域とすることもできる。図１２は、格子状の塗布不要領域を形成した基板Ｐの一例を示す図である。図１２に示すように、基板Ｐに格子状の塗布不要領域を形成する場合、複数の領域ＡＡに有機ＥＬ材料がストライプ配列で塗布される。この場合、基板Ｐは、Ｙ軸方向に基板Ｐの２辺が平行となるようにステージ２１上に載置され、当該Ｙ軸正方向に向かって基板載置装置２が平行移動させて塗布され、１枚の基板Ｐから複数の有機ＥＬ表示装置が得られる。
【００４３】
ここで、上述した基板Ｐの四方端部以外に形成される塗布不要領域をそれぞれ区別するために、基板Ｐの上面内部のＸ軸方向に形成される２つの塗布不要領域を移動前方側からそれぞれ領域Ｎ１２およびＮ２３とする。また、Ｙ軸方向に形成される基板Ｐの中央の塗布不要領域を領域ＮＭとする。これらの塗布不要領域に囲まれて、有機ＥＬ材料が塗布される６つの領域ＡＡが形成される。そして、塗布不要領域Ｎ１２、Ｎ２３、およびＮＭに含まれる図１２に示す破線部で基板Ｐを切断することによって６つの基板Ｐ１〜Ｐ６が得られ、６枚の有機ＥＬ表示装置を作成する。具体的には、塗布不要領域ＮＨ、Ｎ１２、ＮＬ、およびＮＭに囲まれて、有機ＥＬ材料が塗布される領域ＡＡ１Ｌが形成される。塗布不要領域Ｎ１２、Ｎ２３、ＮＬ、およびＮＭに囲まれて、有機ＥＬ材料が塗布される領域ＡＡ２Ｌが形成される。塗布不要領域Ｎ２３、ＮＦ、ＮＬ、およびＮＭに囲まれて、有機ＥＬ材料が塗布される領域ＡＡ３Ｌが形成される。塗布不要領域ＮＨ、Ｎ１２、ＮＭ、およびＮＲに囲まれて、有機ＥＬ材料が塗布される領域ＡＡ１Ｒが形成される。塗布不要領域Ｎ１２、Ｎ２３、ＮＭ、およびＮＲに囲まれて、有機ＥＬ材料が塗布される領域ＡＡ２Ｒが形成される。そして、塗布不要領域Ｎ２３、ＮＦ、ＮＭ、およびＮＲに囲まれて、有機ＥＬ材料が塗布される領域ＡＡ３Ｒが形成される。このような塗布領域を基板Ｐ上に形成する場合、ＵＶ照射部５５２Ｌおよび５５２Ｒに加えて、それらの中間位置にさらにＵＶ照射部５５２Ｍを設置し、それぞれ平行移動する基板Ｐの塗布不要領域ＮＬ、ＮＭ、およびＮＲの上方となる位置に固定される。また、スリットノズル５５１Ｌおよび５５１Ｒに加えて、それらの中間位置にさらにスリットノズル５５１Ｍを設置し、それぞれ平行移動する基板Ｐの塗布不要領域ＮＬ、ＮＭ、およびＮＲの上方となる位置に固定される。そして、吸引ヘッド５６１Ｌおよび５６１Ｒに加えて、それらの中間位置にさらに吸引ヘッド５６１Ｍを設置し、それぞれ平行移動する基板Ｐの塗布不要領域ＮＬ、ＮＭ、およびＮＲの上方となる位置に固定される。また、Ｙ軸方向に関して基板Ｐの前後端からそれぞれ所定長さまでの領域ＮＨおよびＮＦと、基板Ｐ内部の２箇所に設けられる塗布不要領域Ｎ１２およびＮ２３とには塗布液が塗布されない。つまり、ノズルユニット５２が塗布液を塗布する対象領域は、前後端の塗布不要領域ＮＨ、Ｎ１２、Ｎ２３、およびＮＦを除いた基板Ｐ上の上面とする。これによって、基板Ｐの格子状の領域を塗布不要領域とした複数の領域に有機ＥＬ材料がストライプ配列で塗布される。
【００４４】
なお、上述した説明では、基板Ｐを載置する基板載置装置２をＹ軸正方向へ移動させながら塗布処理を行っているが、基板Ｐを固定して有機ＥＬ塗布機構５自体を上述とは逆のＹ軸負方向へ移動させてもかまわない。有機ＥＬ塗布機構５と基板Ｐとの少なくとも一方が相対的にＹ軸方向に移動すれば、同様の効果が得られることは言うまでもない。
【００４５】
また、液膜除去機構部５６は、基板Ｐ上の液膜Ｌｗを吸引ヘッド５６１から吸引することによって除去しているが、他の方式で液膜Ｌｗを基板Ｐ上から除去してもかまわない。例えば、液膜除去機構部５６は、基板Ｐ上の液膜Ｌｗに所定圧力のエアーを吹き付けることによって、基板Ｐ上から液膜Ｌｗを吹き飛ばすことによって除去してもかまわない。また、液膜除去機構部５６は、吸水性を有する拭き取り部材を基板Ｐの塗布不要領域に接触させることによって、基板Ｐ上の液膜Ｌｗを吸い取ることによって除去してもかまわない。
【００４６】
また、本発明の塗布装置は、他の製造装置との間で基板Ｐを受け渡して一連の処理を行うことが一般的である。以下、当該塗布装置が構成された有機ＥＬ表示装置の製造システムについて説明する。なお、図１３は、有機ＥＬ表示装置の製造システムの構成を示す図である。
【００４７】
図１３において、破線矢印は、基板Ｐの搬入搬出経路を示している。この製造システムは、本塗布装置１３を含み、インデクサ１１、第１搬送路１２、塗布装置１３、ベーク装置１４、第２搬送路１６、第１搬送ロボット１７、および第２搬送ロボット１８を備えている。インデクサ１１は、外部から搬入されてくる基板Ｐおよび外部へ搬出すべき処理済みの基板Ｐを収容する。なお、インデクサ１１に搬入されてくる基板Ｐには、陽極またはその陽極に正孔輸送層がすでに形成されているものとする。インデクサ１１に収容されている基板Ｐは、第１搬送路１２内を移動する第１搬送ロボット１７に搬出された後、第２搬送路１６内を移動する第２搬送ロボット１８に受け渡される。
【００４８】
基板Ｐを受け取った第２搬送ロボット１８は、基板Ｐを塗布装置１３に搬入する。塗布装置１３は、搬入された基板Ｐに対して正孔輸送層や発光層（有機ＥＬ材料）の塗布を行う。具体的には、塗布装置１３は、ノズルから塗布液を吐出することによって基板に正孔輸送層や発光層を塗布する。本実施形態では、塗布装置１３によって基板Ｐに対する塗布処理が行われた後、塗布処理済みの基板Ｐが第２搬送ロボット１８によってベーク装置１４へ搬送される。ベーク装置１４は、塗布処理済みの基板Ｐに対してベーク処理を行う。ベーク処理が行われた基板Ｐは、第２搬送ロボット１８および第１搬送ロボット１７によって製造システムの外部へ搬出される。なお、以上のように発光層が形成された基板Ｐには、陰極電極が真空蒸着法等により発光層上に形成されることによって、有機ＥＬ表示装置が製造される。
【００４９】
このように、本実施形態に係る塗布装置は、基板上の塗布不要領域に対して液膜を形成し、当該液膜内に吐出された塗布液を液膜と共に除去することによって、塗布液が塗布されない領域を形成する。したがって、被塗布体である基板にダメージを与えることなく塗布液を除去して、必要な領域のみに塗布液を塗布する塗布装置が実現できる。また、ステージ上に載置された基板へ塗布液を塗布する動作を利用して、当該基板から塗布液を除去したい領域に液膜を形成して吸引するだけで、塗布液が塗布されない領域を形成することができる。したがって、塗布液除去のためにスループットが大きく低下しない。また、液膜生成機構および液膜除去機構の固定位置を調整することによって、基板の端部以外の領域にも塗布されない領域を形成することができ、当該領域によって分けられた複数の領域にそれぞれ塗布液が塗布された基板を生成できる。このとき、基板から塗布液を除去するための基板の位置決め等が不要であり、高精度の除去のために新たに必要な機構を最小限に構成できる。また、塗布されない領域の形成にあたっては基板が直進移動する動作を利用しているため、液膜形成機構および液膜除去機構を固定する位置を調整するのみで直線性に優れた除去領域を形成できる。さらに、塗布液を除去する動作が自動的に行われるため、製品精度の手作業による個人差やデバイス毎の個体差を低減することができる。また、マスキングテープを用いる手法ではないため、マスキングテープを用いることによる課題を解決することができる。
【００５０】
また、液膜および塗布液の除去が塗布直後に行われるため、塗布液の状態が安定しており、特定の塗布液状態を狙った効率的な除去処理が行える。また、液膜を生成するため装置や液膜を除去するための装置を塗布装置内に設置することができるため、省スペースおよび低コストを実現することができる。さらに、基板端部等の基板搬送用のアームが当接する部位に対して、基板搬送前に塗布液の除去が行えるため、当該アームの汚損を防止することができ、当該汚損を原因とする搬送ミスやパーティクルの発生を抑えることができる。
【００５１】
なお、上述した実施形態では、有機ＥＬ表示装置の製造装置やシステムを一例にして説明したが、塗布液を基板に塗布する装置であれば、本発明は他の装置にも適用できる。例えば、レジスト液やＳＯＧ（Ｓｐｉｎ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）液を基板に塗布する装置にも適用することができる。
【００５２】
また、上述した実施形態では、赤、緑、および青色用の３個１組のノズル５２１〜５２３で基板Ｐの各溝内に有機ＥＬ材料を流し込んでいるが、この３個１組のノズル５２１〜５２３を複数組設けて基板Ｐの各溝内に有機ＥＬ材料を流し込んでもかまわない。この場合、各ノズルの組がＸ軸方向へ動作する位置に対応する液受部５３をそれぞれ設ければ、塗布処理にかかる時間を短縮しながら、本発明の効果を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明に係る塗布方法および塗布装置は、基板の塗布不要領域に付着物を残さずに基板にダメージを与えることなく塗布液を除去して、必要な領域のみに塗布液を塗布することができ、基板に対して所定の領域に塗布液を塗布する装置や方法等として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造装置１の要部概略構成を示す平面図および正面図
【図２】本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造装置１の要部概略構成を示す側面図
【図３】図１の有機ＥＬ表示装置の製造装置１の制御機能を示すブロック図
【図４】ステージ２１上に基板Ｐを載置して平行移動テーブル２３がＵＶ照射部５５２の下方まで移動したときに、当該基板Ｐに施される処理を説明するための概略斜視図
【図５】ステージ２１上に基板Ｐを載置して平行移動テーブル２３がスリットノズル５５１の下方まで移動したときに、当該基板Ｐに施される処理を説明するための概略斜視図
【図６】図５の断面ｃ−ｃをｄ方向から見た液膜Ｌｗの状態を示す概略断面図
【図７】ステージ２１上に基板Ｐを載置して平行移動テーブル２３がノズルユニット５２の下方まで移動したときに、当該基板Ｐに施される処理を説明するための概略斜視図
【図８】図７の断面ｅ−ｅをｆ方向から見た液膜Ｌｗ内の塗布液Ｑの状態を示す概略断面図
【図９】ステージ２１上に基板Ｐを載置して平行移動テーブル２３が吸引ヘッド５６１の下方まで移動したときに、当該基板Ｐに施される処理を説明するための概略斜視図
【図１０】図９の断面ｇ−ｇをｈ方向から見た基板Ｐ上の液膜Ｌｗおよび塗布液Ｑの状態を示す概略断面図
【図１１】図４〜図１０を用いて説明した動作を完了した後の基板Ｐの一例を示す図
【図１２】格子状の塗布不要領域を形成した基板Ｐの一例を示す図
【図１３】有機ＥＬ表示装置の製造システムの構成を示す図
【符号の説明】
【００５５】
１…有機ＥＬ表示装置の製造装置
２…基板載置装置
２１…ステージ
２２…旋回部
２３…平行移動テーブル
２４…ガイド受け部
２５、５１１、５５３、５６２…ガイド部材
３…制御部
５…有機ＥＬ塗布機構
５１…ノズル移動機構部
５２…ノズルユニット
５２１、５２２、５２３…ノズル
５３…液受部
５４…供給部
５４１…供給源
５４２…ポンプ
５４３…流量計
５４４…フィルタ
５５…液膜生成機構部
５５１…スリットノズル
５５２…ＵＶ照射部
５６…液膜除去機構部
５６１…吸引ヘッド
１１…インデクサ
１２…第１搬送路
１３…塗布装置
１４…ベーク装置
１６…第２搬送路
１７…第１搬送ロボット
１８…第２搬送ロボット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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