(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、ハードコート層用硬化性組成物を塗布して、数平均粒子径５〜３００ｎｍのシリカ粒子を含有する膜厚１〜３０μｍのハードコート層（Ａ）を形成し、
前記（Ａ）層の上に、中間層用硬化性組成物を塗布して、数平均粒子径５〜３００ｎｍの無機酸化物粒子を含有する膜厚０．０５〜０．５μｍの中間層（Ｂ）であって、表面に、表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠）が０．０１〜２μｍである凹凸が設けられた中間層（Ｂ）を形成し、
前記（Ｂ）層の凹凸が設けられた表面上に、表面層用硬化性組成物を塗布して、前記（Ｂ）層より屈折率が低い、フッ素化合物およびケイ素化合物、あるいはいずれか一方の化合物を含有する膜厚０．０５〜０．５μｍの表面層（Ｃ）を、前記（Ｂ）層の凹凸を前記（Ｃ）層に入り込ませて形成する
ことを特徴とする、前記（Ａ）〜（Ｃ）層を積層した透明性構造体の製造方法。
【請求項２】
前記ハードコート層（Ａ）に含まれるシリカ粒子の含有量を５〜７０重量％の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記ハードコート層（Ａ）に含まれるシリカ粒子が、重合性不飽和基を有する有機化合物と結合した反応性シリカ粒子であることを特徴とする請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記ハードコート層（Ａ）が、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも一つの多官能（メタ）アクリレートを含む紫外線硬化樹脂の硬化物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記ハードコート層（Ａ）の硬度（ＪＩＳ Ｋ５４００準拠）がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上でＨ以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記構造体の表面抵抗値を１×１０3〜１×１０12Ω／□の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記構造体の波長４００〜８００ｎｍの反射率が２．０％以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、構造体に関し、より詳細には、反射防止膜積層体等に好適な耐擦傷性や透明性に優れた構造体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止膜の形成材料として、例えば、熱硬化型ポリシロキサン組成物が知られており、特開昭６１−２４７７４３号公報、特開平６−２５５９９号公報、特開平７−３３１１１５号公報および特開平１０−２３２３０１号公報等に開示されている。
しかしながら、このような熱硬化型ポリシロキサン組成物を利用して得られる反射防止膜は、耐擦傷性に乏しく、結果として、耐久性に乏しいという問題が見られた。
また、かかる反射防止膜を製造するにあたり、高温で、長時間にわたって加熱処理をする必要があり、生産性が低かったり、あるいは適用可能な基材の種類が限定されるという問題が見られた。
【０００３】
そこで、特開平８−９４８０６号公報に開示されているように、基材上に、微粒子を高屈折率バインダー樹脂中に局在化させた高屈折率膜と、フッ素系共重合体からなる低屈折率膜とを順次に積層した光学機能性フィルムが提案されている。より具体的には、高屈折率膜を形成するのに、２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子等の微粒子層を工程紙上に予め形成しておき、それを基材上の高屈折率バインダー樹脂に対して圧接することにより、高屈折率バインダー樹脂中に微粒子層を埋設して、局在化させている。
また、低屈折率膜については、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％およびヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部と、これらの合計量を１００重量部としたときに、０．５〜１０重量部の重合開始剤とからなる樹脂組成物を硬化して、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜としている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平８−９４８０６号公報に開示された光学機能性フィルムは、高屈折率膜の製造工程が複雑であり、結果として均一な特性を示す光学機能性フィルムを作成することが困難であった。また、かかる光学機能性フィルムは、高屈折率膜における表面粗さの値を考慮しておらず、低屈折率膜の耐擦傷性が乏しいという問題が見られた。
そこで、本発明の発明者らは鋭意検討した結果、基材上に、（Ａ）ハードコート層と、（Ｂ）中間層（高屈折率膜）と、（Ｃ）表面層（低屈折率膜）とを含む構造体（反射防止膜積層体）において、（Ａ）〜（Ｃ）層の構成内容を考慮するとともに、（Ｂ）層における表面粗さの値を考慮するだけで、上述した問題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、簡易な構造でありながら、耐擦傷性や透明性に優れた構造体を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、下記（Ａ）〜（Ｃ）層を積層してなる構造体が提供され、上述した問題点を解決することができる。
（Ａ）数平均粒子径５〜３００ｎｍのシリカ粒子を含有する膜厚１〜３０μｍのハードコート層
（Ｂ）数平均粒子径５〜３００ｎｍの無機酸化物粒子を含有する膜厚０．０５〜０．５μｍの中間層であって、表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠）が０．０１〜２μｍである中間層
（Ｃ）フッ素化合物およびケイ素化合物、あるいはいずれか一方の化合物を含有する膜厚０．０５〜０．５μｍの表面層
【０００６】
すなわち、中間層の表面粗さの値をこのように考慮することにより、中間層の表面に設けられた凹凸が表面層中に適度に入り込み、結果として、表面層における耐擦傷性を著しく向上させることができる。
また、中間層の下方には、特定のハードコート層が設けてあることから、中間層の動きを拘束し、結果として、さらに表面層における耐擦傷性を向上させることができる。
さらに、表面層は、フッ素化合物やケイ素化合物から構成されているため、優れた剥離性、耐熱性、防汚性等をも得ることができる。
【０００７】
また、本発明の構造体を構成するにあたり、ハードコート層（Ａ）に含まれるシリカ粒子の含有量を５〜７０重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
このようにシリカ粒子の含有量を制限することにより、ハードコート層の硬度を所定範囲に容易に調節することができ、中間層の動きを拘束できることから、結果として、表面層における耐擦傷性をさらに向上させることができる。
【０００８】
また、本発明の構造体を構成するにあたり、ハードコート層（Ａ）に含まれるシリカ粒子が、重合性不飽和基を有する有機化合物と結合した反応性シリカ粒子であることが好ましい。
このようなハードコート層であれば、中間層との間で優れた密着力が得られるため、さらに中間層の動きを拘束し、結果として、表面層における耐擦傷性をさらに向上させることができる。
【０００９】
また、本発明の構造体を構成するにあたり、ハードコート層（Ａ）が、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも一つの多官能（メタ）アクリレートを含む紫外線硬化樹脂の硬化物であることが好ましい。
このようなハードコート層であれば、中間層との間でさらに優れた密着力が得られるため、結果として、表面層における耐擦傷性をさらに向上させることができる。
また、ハードコート層を紫外線硬化樹脂から形成するのであれば、迅速に形成することができ、経済的である。
【００１０】
また、本発明の反射防止膜積層体を構成するにあたり、ハードコート層（Ａ）の硬度（ＪＩＳ  Ｋ５４００準拠）がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上でＨ以上であることが好ましい。
このような硬度であれば、さらに中間層の動きを拘束し、結果として、表面層における耐擦傷性をさらに向上させることができる。
【００１１】
また、本発明の積層体を構成するにあたり、表面抵抗値を１×１０3〜１×１０12Ω／□の範囲内の値とすることが好ましい。
このような表面抵抗値であれば、構造体が帯電しにくいために、空気中のほこり等をひきつけることが少なくなる。
【００１２】
また、本発明の構造体を構成するにあたり、波長４００〜８００ｎｍの反射率が２．０％以下であることが好ましい。
このような反射率であれば、反射防止膜積層体等の用途に好適に適用することができる。
なお、この反射率は、上記波長領域における最低反射率として定義されるものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の構造体の実施形態につき、図１に示す反射防止膜積層体２４を例に採って、具体的に説明する。
図１の反射防止膜積層体２４は、基材１２上に、ハードコート層１８と、高屈折率膜２０と、低屈折率膜２２とを順次に含む反射防止膜積層体である。
なお、上記図１の反射防止膜積層体２４において、高屈折率膜２０および低屈折率膜２２は、以下の記載において、それぞれ中間層および表面層を意味する。
【００１４】
１．基材
（１）種類
ハードコート層を設けるための基材の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリルカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアクリレート樹脂、ノルボルネン樹脂、アクリルスチレン樹脂、およびガラス等からなる基材を挙げることができる。
例えば、これらの基材を含む反射防止膜積層体とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ（ＣＲＴ）の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルター等の広範な反射防止膜等の利用分野において、反射防止効果はもちろんのこと、優れた耐擦傷性や透明性が得られ、しかも優れた機械的強度や耐久性を得ることができる。
【００１５】
（２）厚さ
また、基材の厚さを０．０２〜１０ｍｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、基材の厚さが０．０２ｍｍ未満となると、ハードコート層や高屈折率膜を強固に固定することが困難となる場合があるためであり、一方、基材の厚さが１０ｍｍを超えると、製造が困難となったり、あるいは、構造体が過度に厚くなる場合があるためである。
したがって、基材の厚さを０．０５〜５ｍｍの範囲内の値とするのがより好ましく、０．１〜３ｍｍの範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００１６】
２．ハードコート層
（１）ハードコート層用硬化性組成物
また、ハードコート層用硬化性組成物の種類についても特に制限されるものではないが、光硬化性樹脂組成物や、熱硬化性樹脂組成物からなる硬化物であることが好ましい。
【００１７】
また、光硬化性樹脂組成物を使用した場合、例えば、以下の構成成分からなることが好ましい。
▲１▼シリカ粒子
▲２▼アクリル化合物
▲３▼光重合開始剤
【００１８】
▲１▼シリカ粒子
シリカ粒子の種類は特に制限されるものではないが、例えば、メチルエチルケトン、水およびアルコール等に分散させたシリカゾル等が好ましい。
また、シリカ粒子の数平均粒子径を５〜３００ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるシリカ粒子の数平均粒子径が５ｎｍ未満の値となると、ハードコート層の硬度が低下して、結果として、低屈折率膜における耐擦傷性の向上が困難となる場合があるためである。
一方、かかるシリカ粒子の数平均粒子径が３００ｎｍを超えると、分散性が低下して、やはりハードコート層の硬度が低下する場合があるためである。
したがって、シリカ粒子の数平均粒子径を１０〜２００ｎｍの範囲内の値とすることがより好ましく、２０〜１５０ｎｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、シリカ粒子の数平均粒子径は、電子顕微鏡によって測定される粒径の平均値である。
【００１９】
また、シリカ粒子の含有量を、ハードコート層の全体量に対して、５〜７０重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるシリカ粒子の含有量が５重量％未満の値となると、ハードコート層の硬度が低下して、結果として、中間層に対する密着力や拘束力が低下する場合があるためである。
一方、かかるシリカ粒子の含有量が７０重量％を超えると、ハードコート層が脆くなる場合があるためである。
したがって、かかるシリカ粒子の含有量を１０〜６５重量％の範囲内の値とすることがより好ましく、２０〜６０重量％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００２０】
また、本発明の反射防止膜積層体を構成するにあたり、ハードコート層（Ａ）に含まれるシリカ粒子が、重合性不飽和基を有する有機化合物を結合させた反応性シリカ粒子であることが好ましい。
すなわち、シリカ粒子に表面処理を施し、重合性不飽和基を有する有機化合物を含む反応性シリカ粒子とすることが好ましい。
例えば、アクリル酸エステルと、シラン化合物とを、イソシアネート化合物を介して反応させて、少なくともアルコキシシリル基と、反応性不飽和結合とを有する有機化合物を作成し、次いで、それを用いて、シリカ粒子に表面処理を施すことが好ましい。
【００２１】
▲２▼アクリル化合物
アクリル化合物としては、ラジカル反応性であって光硬化や熱硬化が可能なことから（メタ）アクリル酸や（メタ）アクリル酸エステル、あるいはこれらの誘導体であれば、好適に使用することができる。
ただし、ハードコート層と、高屈折率膜（中間層）との間で、より優れた密着力が得られることから、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも一つの多官能（メタ）アクリレートが好ましい。
【００２２】
▲３▼光重合開始剤
光重合開始剤としては、光ラジカル発生剤や、光酸発生剤が挙げられる。
また、かかる光重合開始剤の使用量も特に制限されるものではないが、例えば、アクリル化合物１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
この理由は、光重合開始剤の使用量が０．１重量部未満となると、アクリル化合物の硬化が不十分となる場合があるためである。一方、光重合開始剤の使用量が２０重量部を超えると、光重合開始剤がハードコート層中に残存し、硬度が低下する場合があるためである。
【００２３】
（２）膜厚
また、ハードコート層の膜厚を１〜３０μｍの範囲内の値とする。この理由は、ハードコート層の膜厚が１μｍ未満となると、中間層を強固に固定することが困難となり、結果として、表面層の耐擦傷性が向上しない場合があるためである。
一方、ハードコート層の膜厚が３０μｍを超えると、製造が困難となったり、あるいは、構造体を構成した場合に、そりが発生したり、あるいはクラックが生じ易くなるためである。
したがって、ハードコート層の膜厚を２〜２０μｍの範囲内の値とするのがより好ましく、３〜１０μｍの範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００２４】
（３）硬度
また、ハードコート層の硬度（ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠）をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上でＨ以上とすることが好ましい。
この理由は、かかるハードコート層の硬度がＨ未満となると、中間層を強固に固定することが困難となり、結果として、表面層の耐擦傷性が向上しない場合があるためである。
【００２５】
（４）形成方法
ハードコート層を形成するにあたり、ハードコート層用硬化性組成物を基材に塗布（コーティング）して、ハードコート層用の塗膜を形成することが好ましい。
このようなコーティング方法としては、特に制限されるものではないが、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェット法等のコーティング方法を用いることができる。
次いで、全体として強固な塗膜を形成できることから、ハードコート層用硬化性組成物からなる塗膜を紫外線硬化、あるいは熱硬化することが好ましい。紫外線硬化する場合、紫外線照射装置（メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ等）を用いて、０．００１〜１０Ｊ／ｃｍ2の光照射条件の下で行うことが好ましい。
この理由は、このような照射条件であれば、適当な硬度を有するハードコート層が得られる一方、製造時間が過度に長くなることが無いためである。
したがって、照射条件を、０．０１〜５Ｊ／ｃｍ2とすることがより好ましく、０．０１〜１Ｊ／ｃｍ2とすることがさらに好ましい。
また、熱硬化する場合には、３０〜１２０℃、１〜１８０分間の条件で加熱するのが好ましい。この理由は、このような加熱条件であれば、基材を損傷することなく、より効率的にハードコート層を得ることができるためである。
【００２６】
３．高屈折率膜
（１）高屈折率膜用硬化性組成物１
高屈折率膜を形成するための高屈折率膜用硬化性組成物は、特に制限されるものでないが、一例として、以下の（Ａ）〜（Ｇ）成分から構成してあることが好ましい。
（Ａ）無機酸化物粒子
（Ｂ）水酸基含有重合体
（Ｃ）水酸基と反応し得る官能基および光重合可能な官能基を併有する化合物
（Ｄ）光重合開始剤
（Ｅ）アクリレート化合物
（Ｆ）硬化触媒
（Ｇ）有機溶剤
【００２７】
▲１▼（Ａ）無機酸化物粒子
（Ａ）成分としての無機酸化物粒子の数平均粒子径を５〜３００ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる無機酸化物粒子の数平均粒子径が、５ｎｍ未満となると、製造時に、高屈折率膜用硬化性組成物において無機酸化物粒子を均一に分散させることが困難となり、その結果、構造体において無機酸化物粒子を均一に分散させることが困難となる場合があるためである。
一方、無機酸化物粒子の数平均粒子径が３００ｎｍを超えると、得られる反射防止膜の透明性が低下したり、濁度（ヘイズ値）が上昇する場合があるためである。
したがって、無機酸化物粒子の数平均粒子径を１０〜２００ｎｍの範囲内の値とすることがより好ましく、２０〜１００ｎｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００２８】
また、（Ａ）成分である無機酸化物粒子の種類は、屈折率の調整の容易さや透明性等を考慮して決定することが好ましいが、より具体的には、酸化ケイ素（ＳｉＯ2、屈折率１．４７）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2、屈折率２．０５）、酸化スズ（ＳｎＯ2、屈折率２．００）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ、屈折率１．９５）、酸化チタン（ＴｉＯ2、屈折率２．３〜２．７）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率１．９０）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ、屈折率１．９５）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率２．２）、酸化セレン（ＳｅＯ2、屈折率１．９５）、酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ5、屈折率１．７１）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3、屈折率１．６３）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3、屈折率１．８７）、およびアンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ、屈折率１．９０）等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、無機酸化物粒子に対して、シランカップリング剤処理を施すことが好ましい。このようにカップリング剤処理することにより、高屈折率膜における無機酸化物粒子と、周囲の樹脂との間の結合力を高めることができ、結果として、低屈折率膜における耐擦傷性を著しく向上させることができるためである。また、このようにカップリング剤処理することにより、無機酸化物粒子の分散性を向上させ、製造時における高屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性を向上させることも可能である。
なお、無機酸化物粒子の含有量を、高屈折率膜の全体量に対して、１０〜９０ｖｏｌ％の範囲内の値とすることが好ましい。
【００２９】
▲２▼（Ｂ）水酸基含有重合体
（Ｂ）成分は、分子内に水酸基を有する重合体であれば、好適に使用することができる。より具体的には、ポリビニルアセタール樹脂（ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリフェノール系樹脂、フェノキシ樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
なお、水酸基含有重合体の添加量を、無機酸化物粒子１００重量部に対して、１〜１００重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
【００３０】
▲３▼（Ｃ）水酸基と反応し得る官能基および光重合可能な官能基を併有する化合物（Ｃ）成分（以下、併有化合物と称する場合がある。）としては、水酸基と反応し得る官能基（水酸基反応性官能基と称する場合がある。）と、光重合可能な官能基（光重合性官能基と称する場合がある。）とをそれぞれ有する化合物であることが好ましい。
このような併有化合物を添加することにより、光重合性官能基を利用して、併有化合物自体を光硬化させることもできるし、あるいは、後述するアクリレート化合物と反応させることもできる。また、水酸基反応性官能基を利用して、加熱することにより、水酸基含有重合体と併有化合物とを反応させて、より強固な硬化膜とすることも可能である。
また、併有化合物の具体例としては、t−ブチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ−メタクリロキシ−Ｎ，Ｎ−ジカルボキシメチル−ｐ−フェニレンジアミン、メラミン・ホルムアルデヒド・アルキルモノアルコール、４−メタクリロキシエチル無水トリメリット酸等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
なお、併有化合物の添加量を、無機酸化物粒子１００重量部に対して、１０〜３００重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
【００３１】
▲４▼（Ｄ）光重合開始剤
（Ｄ）成分としては、光ラジカル発生剤や、光酸発生剤が挙げられる。
また、かかる光重合開始剤の使用量も特に制限されるものではないが、例えば、併有化合物１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
【００３２】
▲５▼（Ｅ）アクリレート化合物
（Ｅ）成分は、（Ｃ）成分中の（メタ）アクリレート化合物以外の（メタ）アクリレート化合物であって、分子内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を含有する化合物である。
したがって、その種類は特に制限されるものではないが、例えば、単官能（メタ）アクリレート化合物および多官能（メタ）アクリレート化合物、あるいはいずれか一方の（メタ）アクリレート化合物である。
また、アクリレート化合物の添加量についても特に制限されるものではないが、例えば、無機酸化物粒子１００重量部あたり、０．０１〜１，０００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
【００３３】
▲６▼（Ｆ）硬化触媒
（Ｆ）成分は、熱酸発生剤等であって、脂肪族スルホン酸、脂肪族スルホン酸塩、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸塩、芳香族スルホン酸、芳香族スルホン酸塩、芳香族カルボン酸、芳香族カルボン酸塩、金属塩、リン酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
また、硬化触媒の添加量についても特に制限されるものではないが、水酸基含有重合体と併有化合物との合計を１００重量部としたときに、当該硬化触媒の添加量を０．１〜３０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
【００３４】
▲７▼（Ｇ）有機溶剤
また、硬化性樹脂組成物において、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、ｎ−ブタノール、エチルセルソルブ、乳酸エチル（ＥＬ）、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、アセチルアセトン（ＡｃＡｃ）、およびアセト酢酸エチル（ＥＡｃＡｃ）からなる群から選択される少なくとも一種の有機溶剤を使用することが好ましい。
この理由は、このような有機溶剤を使用することにより、高屈折率膜用硬化性組成物から高屈折率膜を形成する際に、高屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）の制御が容易となるためである。
また、（Ｇ）成分の添加量についても特に制限されるものではないが、（Ａ）成分の無機酸化物粒子１００重量部に対し、当該有機溶剤の添加量を５０〜２０，０００重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
【００３５】
▲８▼添加剤
高屈折率膜用硬化性組成物には、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、光増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、無機充填剤、顔料、染料等の添加剤をさらに含有させることも好ましい。
【００３６】
（２）高屈折率膜用硬化性組成物２
また、高屈折率膜を形成するための別な高屈折率膜用硬化性組成物として、以下の（ａ−１）および（ａ−２）を有機溶媒中で反応させて得られる硬化性組成物であることも好ましい。
（ａ−１）１次粒子径が０．１μｍ以下で、粉体抵抗が１００Ω・ｃｍ以下の導電性金属酸化物粒子
（ａ−２）分子内にウレタン結合［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−］およびチオウレタン結合［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−］、あるいはいずれか一方のウレタン結合と、不飽和ニ重結合とを有するアルコキシシラン化合物
このような高屈折率膜用硬化性組成物であれば、帯電防止性、透明性、硬度、耐擦傷性、および密着性に優れるとともに、高屈折率の塗膜（被膜）を形成することができる。
【００３７】
（３）表面粗さ（Ｒ２）
高屈折率膜における表面粗さ、すなわち、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠のＲｚをＲ２と定義するとともに、当該Ｒ２を０．０１〜２μｍの範囲内の値とする。
この理由は、かかる表面粗さが、０．０１μｍ未満の値となると、低屈折率膜中に侵入する高屈折率膜の割合が少なくなり、耐擦傷性が著しく低下するためである。図２および図３に、反射防止膜積層体の断面写真を示すが、高屈折率膜の一部が、低屈折率膜中に侵入していることが理解される。
一方、かかる表面粗さが２μｍを超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下するためである。
したがって、表面粗さを０．０２〜１μｍの範囲内の値とすることが好ましく、０．０５〜０．５μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３８】
また、本発明において、高屈折率膜における表面粗さ（Ｒ２）と、後述する低屈折率膜の厚さ（Ｄ１）との比率（Ｒ２／Ｄ１）を０．０６〜２の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるＲ２／Ｄ１の比率が、０．０６未満の値となると、低屈折率膜に対する高屈折率膜の表面粗さの影響が発揮されずに、耐擦傷性が著しく低下する場合があるためである。一方、かかるＲ２／Ｄ１の比率が、２を超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下する場合があるためである。
したがって、Ｒ２／Ｄ１の比率を０．２〜２の範囲内の値とすることが好ましく、０．４〜２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３９】
（４）屈折率
また、高屈折率膜における屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定温度２５℃）を１．４５〜２．１の範囲内の値とするのがより好ましい。
この理由は、かかる屈折率が１．４５未満の値となると、低屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下する場合があるためであり、一方、２．１を超えると、使用可能な材料が過度に制限される場合があるためである。
したがって、高屈折率膜の屈折率を、より好ましくは１．５５〜２．０の範囲内の値とすることであり、１．６〜１．９の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４０】
（５）膜厚
また、高屈折率膜の膜厚は特に制限されるものではないが、例えば、０．０５〜０．５μｍの範囲内の値であることが好ましい。
この理由は、高屈折率膜の膜厚が０．０５μｍ未満となると、低屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果や基材に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、膜厚が０．５μｍを超えると、製造が困難となったり、あるいは光吸収する割合が大きくなる場合があるためである。
したがって、高屈折率膜の膜厚を０．１〜０．３μｍの範囲内の値とするのがより好ましく、０．１２〜０．２μｍの範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【００４１】
（６）形成方法
高屈折率膜を形成するに際して、高屈折率膜用硬化性組成物の塗膜を形成した後、紫外線硬化または電子線硬化することが好ましい。この場合、例えば、紫外線照射装置（メタルハライドランプや高圧水銀ランプ等）を用い、０．００１〜１０Ｊ／ｃｍ2の光照射条件の下で行うことが好ましい。
この理由は、このような照射条件であれば、十分硬化した高屈折率膜が得られる一方、製造時間が過度に長くなることが無いためである。
したがって、照射条件を、０．０１〜５Ｊ／ｃｍ2とすることがより好ましく、０．１〜３Ｊ／ｃｍ2とすることがさらに好ましい。
なお、高屈折率膜用硬化性組成物中の粒子の種類、平均粒子径、粒子の添加量、溶剤種、あるいは高屈折率膜の膜厚等の条件を適宜変更することにより、光照射するだけで高屈折率膜の表面に凹凸を設けることが可能である。
【００４２】
４．低屈折率膜
（１）低屈折率膜用硬化性組成物
低屈折率膜を形成するための低屈折率膜用硬化性組成物としては、特に制限されるものでないが、一例として、以下の（ａ）〜（ｄ）成分から構成してあることが好ましい。
（ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体
（ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤
（ｃ）硬化触媒
（ｄ）有機溶剤
【００４３】
▲１▼（ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体
（ａ）成分としては、分子内に水酸基を有する含フッ素共重合体であれば、好適に使用することができる。より具体的には、フッ素原子を含有する単量体と、水酸基を含有する単量体とを共重合して得ることができる。また、必要に応じて、これらの単量体以外のエチレン性不飽和単量体を添加することも好ましい。
フッ素原子を含有する単量体としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、（フルオロアルキル）ビニルエーテル、（フルオロアルコキシアルキル）ビニルエーテル、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）、パーフルオロ（アルコキシビニルエーテル）、フッ素含有（メタ）アクリル酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
なお、フッ素原子を含有する単量体の配合量は特に制限されるものではないが、例えば、１０〜９９モル％の範囲内の値であることが好ましく、より好ましくは、１５〜９７モル％の範囲内の値である。
【００４４】
また、水酸基を含有する単量体としては、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシペンチルビニルエーテル、ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルアリルエーテル、ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル、アリルアルコール、ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
なお、水酸基を含有する単量体の配合量は特に制限されるものではないが、例えば、１〜２０モル％の範囲内の値であることが好ましく、より好ましくは、３〜１５モル％の範囲内の値である。
【００４５】
▲２▼（ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤
水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤（以下、単に熱硬化剤と称する場合がある。）としては、分子内にメチロール基およびアルコキシ化メチル基あるいはいずれか一方を２個以上有するメラミン化合物を使用することが好ましい。
より具体的には、ヘキサメチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ヘキサブチルエーテル化メチロールメラミン化合物、メチルブチル混合エーテル化メチロールメラミン化合物、メチルエーテル化メチロールメラミン化合物、ブチルエーテル化メチロールメラミン化合物等のメチロールメラミン化合物等がより好ましい。
また、熱硬化剤の添加量を、水酸基を有する含フッ素共重合体１００重量部に対して、１〜７０重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
【００４６】
▲３▼（ｃ）硬化触媒
硬化触媒としては、水酸基含有重合体と硬化剤との間の反応を促進するものであれば、好適に使用することができるが、高屈折率膜用硬化性組成物における硬化触媒と同様の硬化触媒を使用することが好ましい。
また、硬化触媒の添加量についても特に制限されるものでは無いが、上述した水酸基を有する含フッ素共重合体と、水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤との合計量を１００重量部としたときに、当該硬化触媒の添加量を０．１〜３０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。
【００４７】
▲４▼（ｄ）有機溶剤
低屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤としては、高屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤と同様の種類を使用することが好ましい。
なお、有機溶剤の添加量を、水酸基を有する含フッ素共重合体１００重量部に対して、５００〜１０，０００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
【００４８】
（２）表面粗さ
低屈折率膜における表面粗さ、すなわち、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠したＲｚをＲ１と定義するとともに、当該Ｒ１を２μｍ以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる表面粗さが、２μｍを超えると、耐擦傷性が著しく低下する場合があるためである。
したがって、表面粗さを１．４μｍ以下の値とすることがより好ましく、０．０２〜１μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４９】
また、低屈折率膜における表面粗さ（Ｒ１）と、後述する膜厚（Ｄ１）との比率（Ｒ１／Ｄ１）を０．０１〜２の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるＲ１／Ｄ１の比率が、０．０１未満の値となると、低屈折率膜の膜厚が相対的に厚くなり、高屈折率膜の表面粗さの影響が発揮されずに、耐擦傷性が著しく低下する場合があるためである。一方、かかるＲ１／Ｄ１の比率が、２を超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下する場合があるためである。
したがって、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０１４〜１の範囲内の値とすることが好ましく、０．０１４〜０．８の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５０】
また、低屈折率膜における表面粗さ（Ｒ１）と、上述した高屈折率膜における表面粗さ（Ｒ２）との比率（Ｒ１／Ｒ２）を０．００５〜１の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるＲ１／Ｒ２の比率が０．００５未満の値となると、低屈折率膜に対する高屈折率膜の表面粗さの影響が発揮されずに、耐擦傷性が著しく低下するためである。一方、かかるＲ１／Ｒ２の比率が１を超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくなるとともに光散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下する場合があるためである。
したがって、Ｒ１／Ｒ２の比率を０．１〜１の範囲内の値とすることが好ましく、０．２〜１の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５１】
（３）屈折率
低屈折率膜における屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定温度２５℃）を１．３５〜１．５０の範囲内の値とするのがより好ましい。
この理由は、かかる屈折率が１．３５未満の値となると、使用可能な材料の種類が過度に制限される場合があり、一方１．５を超えると、高屈折率膜と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下する場合があるためである。
したがって、低屈折率膜の屈折率を、１．３〜１．４５の範囲内の値とすることがより好ましく、１．３〜１．４２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５２】
（４）膜厚（Ｄ１）
また、低屈折率膜の膜厚（Ｄ１）についても特に制限されるものではないが、例えば、０．０５〜２μｍの範囲内の値であることが好ましい。
この理由は、低屈折率膜の膜厚が０．０５μｍ未満の値となると、下地としての高屈折率膜に対する密着力や擦傷性が低下する場合があるためである。一方、かかる膜厚が２μｍを超えると、形成するのが困難となる場合があるとともに、高屈折率膜における表面粗さを低屈折率膜に反映する効果が低下する場合があるためである。
したがって、低屈折率膜の膜厚を０．０５〜０．５μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．０５〜０．３μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５３】
（５）表面抵抗
また、構造体の表面抵抗値を１×１０3〜１×１０12Ω／□の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる表面抵抗値が１×１０3Ω／□未満の値となると、使用可能な導電材料の種類が過度に制限されたり、あるいは、導電材料の添加量を多くしなければならない場合があるためである。一方、かかる表面抵抗値が１×１０12Ω／□を超えると、帯電しやすくなり、空気中のほこりを引き付けやすくなるためである。
したがって、かかる表面抵抗値を１×１０3〜１×１０11Ω／□の範囲内の値とすることが好ましく、１×１０3〜１×１０10Ω／□の範囲内の値とすることがより好ましい。
なお、かかる表面抵抗値は、低屈折率膜や高屈折率膜に導電材料を添加したり、これらの膜中の親水性基量を調節することにより、容易に達成することができる。
【００５４】
（６）形成方法
低屈折率膜を形成するにあたり、低屈折率膜用硬化性組成物を高屈折率膜上に例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法等を用いて、塗布（コーティング）し、低屈折率膜形成用の塗膜を形成することが好ましい。
次いで、高屈折率膜の一部と反応させて、全体として強固な塗膜を形成できることから、低屈折率膜用硬化性組成物からなる塗膜を熱硬化することが好ましい。この場合、３０〜１２０℃で、１〜１８０分間の条件で加熱するのが好ましい。この理由は、このような加熱条件であれば、基材や形成される反射防止膜を損傷することなく、より効率的に反射防止性に優れた反射防止膜積層体を得ることができるためである。
【００５５】
【実施例】
以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載のない限り重量部を意味している。
【００５６】
［実施例１］
（１）低屈折率膜用硬化性組成物の調製
▲１▼水酸基を有する含フッ素重合体の調製
内容積１．５リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブ内を窒素ガスで十分置換処理した後、酢酸エチル５００ｇと、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）３４．０ｇと、ヒドロキシエチルビニルエーテル（ＨＥＶＥ）４１．６ｇと、パーフルオロプロピルビニルエーテル（ＦＰＶＥ）７５．４ｇと、過酸化ラウロイル１．３ｇと、シリコーン含有高分子アゾ開始剤（和光純薬工業（株）製、商品名：ＶＰＳ１００１）７．５ｇと、反応性乳化剤（旭電化工業（株）製、商品名：ＮＥ−３０）１ｇとを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
次いで、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）１１９．０ｇをさらに仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が７０℃に達した時点での圧力は、５．５×１０5Ｐａを示した。その後、攪拌しながら、７０℃、２０時間の条件で反応を継続し、圧力が２．３×１０5Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出し、オートクレーブを開放し、固形分濃度３０重量％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液を、メタノールに投入し、ポリマーを析出させた後、メタノールによりさらに洗浄し、５０℃で真空乾燥を行い、１７０ｇの水酸基を有する含フッ素重合体を得た。
【００５７】
得られた水酸基を有する含フッ素重合体について、固有粘度（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶剤使用、測定温度２５℃）を測定したところ、０．２８ｄｌ／ｇであった。
また、かかる含フッ素重合体について、ガラス転移温度を、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用い、昇温速度５℃／分、窒素気流中の条件で測定したところ、３１℃であった。
また、かかる含フッ素重合体について、フッ素含量を、アリザリンコンプレクソン法を用いて測定したところ、５１．７％であった。
さらに、かかる含フッ素重合体について、水酸基価を、無水酢酸を用いたアセチル化法により測定したところ、１０２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００５８】
▲２▼低屈折率膜用硬化性組成物の調製
攪拌機付の容器内に、▲１▼で得られた水酸基を有する含フッ素共重合体１００ｇと、サイメル３０３（三井サイテック（株）製、アルコキシ化メチルメラミン化合物）１１．１ｇと、メチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫと称する。）３，７３６ｇとをそれぞれ添加し、１１０℃、５時間の条件で攪拌し、水酸基を有する含フッ素共重合体とサイメル３０３とを反応させた。
次いで、キャタリスト４０４０（三井サイテック（株）製、固形分濃度４０重量％）１１．１ｇをさらに添加し、１０分間攪拌して、粘度１ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）の低屈折率膜用硬化性組成物（以下、塗布液Ａと称する場合がある。）を得た。
【００５９】
なお、得られた低屈折率膜用硬化性組成物から得られる低屈折率膜の屈折率を測定した。すなわち、低屈折率膜用硬化性組成物を、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、シリコンウエファ（膜厚１μｍ）上に塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。
次いで、熱風乾燥器中において、１４０℃、１分間の条件で塗膜を加熱硬化させ、０．３μｍの膜厚の低屈折率膜を形成した。得られた低屈折率膜におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、分光エリプソメーターを用いて測定した。その結果、屈折率は１．４０であった。
なお、膜厚の評価は断面切片の透過型電子顕微鏡での観察より求め、界面が平坦でない塗膜の膜厚はＪＩＳ  Ｂ０６０１で規定される粗さ曲線での測定長１μｍとして求めた平均線間の距離で定義した。
【００６０】
（２）高屈折率膜用硬化性組成物の調製
▲１▼反応性アルコキシシランの製造
容器内のメルカプトプロピルトリメトキシシラン７．８ｇと、ジブチルスズジラウレート０．２ｇとからなる溶液に対し、イソホロンジイソシアネート２０．６ｇを、乾燥空気中、５０℃、１時間の条件で滴下した後、６０℃、３時間の条件で、さらに攪拌した。
これにペンタエリスリトールトリアクリレート７１．４ｇを、３０℃、１時間の条件で滴下した後、６０℃、３時間の条件で、さらに攪拌し、反応液とした。
この反応液中の生成物、すなわち反応性アルコキシシランにおける残存イソシアネート量をＦＴ−ＩＲで測定したところ、０．１重量％以下であり、各反応がほぼ定量的に行われたことを確認した。また、分子内に、チオウレタン結合と、ウレタン結合と、アルコキシシリル基と、反応性不飽和結合とを有することを確認した。
【００６１】
▲２▼高屈折率膜用硬化性組成物の調製
攪拌機付きの容器内に、アンチモンドープ酸化錫分散液（石原テクノ（株）製、ＳＮＳ−１０Ｍ、分散溶媒メチルエチルケトン、アンチモンドープ酸化錫含量２７．４重量％、固形分３０重量％、動的光散乱法による重量平均粒子径４０ｎｍ、数平均粒子径２２ｎｍ、以下、ＡＴＯ微粒子分散液と称する場合がある。）２６０ｇと、▲１▼で製造した反応性アルコキシシラン２５ｇと、蒸留水０．３ｇと、ｐ−ヒドロキシフェニルモノメチルエーテル０．０３ｇとを混合し、６５℃で、加熱攪拌した。５時間後、オルト蟻酸メチルエステル８ｇを添加し、さらに１時間加熱した。
これに光重合開始剤として、イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）６．１ｇと、ＭＩＢＫ１，７０８ｇとを添加して、高屈折率膜用硬化性組成物（固形分５重量％、固形分中のＡＴＯ微粒子量７８重量％、以下、塗布液Ｂと称する場合がある。）を得た。
なお、得られた高屈折率膜用硬化性組成物の屈折率および表面粗さ（Ｒ２）を、低屈折率膜用硬化性組成物と同様に測定した。得られた結果を表１に示す。
【００６２】
（３）ハードコート層用硬化性組成物の調製
乾燥空気下、（２）▲１▼で製造した反応性アルコキシシラン８．７ｇと、メチルエチルケトン分散シリカゾル（日産化学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径２２ｎｍ、シリカ濃度３０重量％）９１．３ｇと、イソプロピルアルコール０．２ｇと、イオン交換水０．１ｇとからなる混合液を、８０℃、３時間の条件で攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１．４ｇを添加し、さらに１時間同一温度で攪拌した。
室温まで冷却後、トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ）２１．９ｇと、トリメチロ−ルプロパントリオキシエチルアクリレ−ト（新中村化学工業（株）製、商品名ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ）１０．９５ｇと、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャルティケミカルズ（株）製、商品名：イルガキュア１８４）３．２７ｇを混合して、ハードコート層用硬化性組成物（以下、塗布液Ｃと記載する場合がある。）を調製した。
【００６３】
（４）構造体（反射防止膜積層体）の作製
得られた塗布液Ｃを、ワイヤーバーコータ（＃２０）を用いて、ポリエステルフィルムＡ４３００（東洋紡績（株）製、膜厚１８８μｍ、）上に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。
次いで、得られた塗布液Ｂを、ワイヤーバーコータ（＃１２）を用いて、ハードコート層上に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚０．１μｍの高屈折率膜を形成した。
さらに、得られた塗布液Ａを、高屈折率膜上に、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。この塗膜を、オーブンを用いて１４０℃、１分の条件で加熱し、膜厚０．１μｍの低屈折率膜を形成し、反射防止膜積層体を得た。
【００６４】
（５）表面粗さ（Ｒｚ）の測定
低屈折率膜（表面層）、高屈折率膜（中間層）およびハードコート層における表面粗さ（Ｒｚ）を、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠して測定し、それぞれＲ１、Ｒ２、Ｒ３とした。すなわち、構造体フィルムの断面切片を透過型電子顕微鏡での観察より求め、測定長１μｍでの各層における表面粗さＲ１、Ｒ２、Ｒ３として求めた。また、Ｒｚに面内での方向性が有る場合は、水平面のｘ軸方向のＲｚｘとｙ軸方向のＲｚｙの平均をそれぞれＲ１、Ｒ２、Ｒ３として定義した。得られた結果を表１に示す。
【００６５】
（６）反射防止膜積層体の評価
得られた反射防止膜積層体における耐擦傷性を以下の基準で評価した。
また、得られた反射防止膜積層体における耐擦傷性、反射率、濁度（ヘイズ値）、全光線透過率および可撓性を下記に示す測定法により測定した。
【００６６】
▲１▼耐擦傷性
得られた反射防止膜積層体の表面を＃００００スチールウールにより、荷重２００ｇ／ｃｍ2の条件で３０回こすり、反射防止膜積層体の耐擦傷性を以下の基準から目視にて評価した。得られた結果を表１に示す。
評価５：傷の発生が全く観察されなかった。
評価４：１〜５本の傷の発生が観察された。
評価３：６〜５０本の傷の発生が観察された。
評価２：５１〜１００本の傷の発生が観察された。
評価１：塗膜剥離が観察された。
なお、評価３以上の耐擦傷性であれば、実用上許容範囲であり、評価４以上の耐擦傷性であれば実用上の耐久性が優れていることから好ましく、評価５の耐擦傷性であれば、実用上の耐久性が著しく向上することからさらに好ましいといえる。
【００６７】
▲２▼反射率
得られた反射防止膜積層体における反射率（測定波長域における最低反射率）を、分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、ＪＩＳ  Ｋ７１０５（測定法Ａ）に準拠して、波長３４０〜７００ｎｍの範囲で測定した。
すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、各波長における反射防止膜積層体（反射防止膜）における最低反射率を測定した。得られた結果を表１に示す。
【００６８】
▲３▼濁度（ヘイズ値）および全光線透過率
得られた反射防止膜積層体につき、カラーヘイズメーター（スガ試験機（株）製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠してヘイズ値および全光線透過率を測定した。得られた結果を表１に示す。
【００６９】
▲４▼可撓性
得られた反射防止膜積層体を、直径２５ｍｍのアルミ棒に巻きつけて、反射防止膜積層体に発生するクラックの有無を、以下の基準により、目視で判定した。
得られた結果を表１に示す。
○：クラックが全く発生しない。
△：クラックが１〜２本発生した。
×：クラックが３本以上発生した。
【００７０】
［実施例２〜４および比較例１〜２］
実施例２〜４および比較例１〜２では、ハードコート層の厚さの影響を検討した。
すなわち、表１に示すように、実施例１におけるハードコート層の厚さを１０μｍから、１μｍ（実施例２）、３μｍ（実施例３）、および５μｍ（実施例４）にそれぞれ変更した反射防止膜積層体について、耐擦傷性等の評価を行った。
一方、比較例１では、表１に示すように、ハードコート層の厚さを０．０５μｍと本発明の下限以下の値とし、比較例２では、同様にハードコート層の厚さを６０μｍと本発明の上限を超える値とした以外は、実施例１と同様の反射防止膜積層体を作製して、耐擦傷性等の評価を行った。
得られた結果を表１に示す。
【００７１】
【表１】
0004701492.tif 000002
【００７２】
［実施例５〜７および比較例３］
実施例５〜７では、ハードコート層に添加するシリカ粒子の数平均粒子径の影響を検討した。
すなわち、表２に示すように、実施例１におけるハードコート層に添加するシリカ粒子の数平均粒子径を２２ｎｍから、１００ｎｍ（実施例５）、２００ｎｍ（実施例６）、および３００ｎｍ（実施例７）にそれぞれ変更して構成した反射防止膜積層体について、耐擦傷性等の評価を行った。
一方、比較例３では、表２に示すように、ハードコート層に添加するシリカ粒子の数平均粒子径を１，０００ｎｍと本発明の上限を超える値とした以外は、実施例１と同様の反射防止膜積層体を作製して、耐擦傷性等の評価を行った。
得られた結果を表２に示す。
【００７３】
【表２】
0004701492.tif 000003
【００７４】
［実施例８〜１０］
実施例８〜１０では、ハードコート層に添加するシリカ粒子に対する表面処理の影響を検討した。
すなわち、表３に示すように、実施例１におけるハードコート層に添加したアクリル変性したシリカ粒子を、ジメチルジメトキシシラン（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製、商品名：ＡＹ−４３−００４）で表面処理したシリカ粒子（実施例８）、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製、商品名：ＳＨ６０４０）で表面処理したシリカ粒子（実施例９）、および表面処理を施していないシリカ粒子（実施例１０）にそれぞれ変更して構成した反射防止膜積層体について、耐擦傷性等の評価を行った。
得られた結果を表３に示す。
【００７５】
【表３】
0004701492.tif 000004
【００７６】
［実施例１１〜１３］
実施例１１〜１３では、ハードコート層に添加するシリカ粒子の添加量および硬度の関係を検討した。
すなわち、表４に示すように、実施例１におけるハードコート層に添加するシリカ粒子の添加量を、３７重量％から、１９重量％（実施例１１）、５６重量％（実施例１２）、および６６重量％（実施例１３）にそれぞれ変更して構成した反射防止膜積層体について、耐擦傷性や硬度等の評価を行った。
得られた結果を表４に示す。
【００７７】
【表４】
0004701492.tif 000005
【００７８】
［実施例１４〜１６］
実施例１４〜１６では、ハードコート層を構成する紫外線硬化樹脂に含まれるアクリル酸エステルの種類の影響を検討した。
すなわち、表５に示すように、実施例１で使用したアクリル酸エステルとしてのトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡと略する。）およびトリメチロールプロパントリオキシエチルアクリレート（ＥＯ−ＴＭＰＴＡと略する。）を、ＴＭＰＴＡ単独（実施例１４）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡと略する。）（実施例１５）、およびペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡと略する。）（実施例１６）にそれぞれ変更して構成した反射防止膜積層体について、耐擦傷性等の評価を行った。
得られた結果を表５に示す。
【００７９】
【表５】
0004701492.tif 000006
【００８０】
【発明の効果】
本発明の構造体によれば、基材上に、特定の（Ａ）ハードコート層と、（Ｂ）中間層と、（Ｃ）表面層とを含み、（Ａ）〜（Ｃ）層の構成内容を考慮するとともに、（Ｂ）層における表面粗さの値を考慮することにより、簡易な構造でありながら、耐擦傷性や透明性に優れた構造体を提供することができるようになった。
したがって、屈折率を低下させるために表面層にフッ素化合物や、ケイ素化合物の耐擦傷性に乏しい樹脂を使用したとしても、本発明により、透明性を損なうことなく、優れた耐擦傷性を示す構造体を提供することができるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止膜積層体例の断面図である。
【図２】本発明の反射防止膜積層体の断面写真である（その１）。
【図３】本発明の反射防止膜積層体の断面写真である（その２）。
【符号の説明】
１２  基材
１３  高屈折率膜の侵入部分
１８  ハードコート層
２０  高屈折率膜（中間層）
２２  低屈折率膜（表面層）
２４  反射防止膜積層体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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