【手続補正書】
【提出日】平成15年7月15日(2003.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を載置する，該被処理物と略同形状の凹部を有し、回転させながら前記被処理物上に被膜を形成する回転基板ホルダーにおいて、
前記凹部が少なくとも２段の階段形状であることを特徴とする回転基板ホルダー。
【請求項２】
前記凹部の底面から段差までの高さをＨ１とし、前記被処理物の厚みをＨ２としたとき、Ｈ１＜Ｈ２であることを特徴とする請求項１記載の回転基板ホルダー。
【請求項３】
前記凹部の底面から段差までの高さをＨ１とし、前記被処理物の厚みをＨ２としたとき、高さＨ１は厚みＨ２の１／３〜１／２であることを特徴とする請求項１記載の回転基板ホルダー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の回転基板ホルダー１においては、基板３上に被膜５を形成する際、被膜５は基板３上のみならず、凹部４側面にも形成され、凹部４の内径寸法が減少する。そして、ついには、凹部４の内径寸法が基板３の外径寸法より小さくなり、被膜５を形成した基板３を回転基板ホルダー１から取り出すことができなくなり、あるいは挿入載置できなくなる。また、被膜５の強度が弱い場合、基板３の挿入載置あるいは取り出しの際、凹部４側面の被膜５を破壊し、基板３を汚染するという問題がある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明はこうした事情を考慮してなされたもので、凹部を少なくとも２段の階段形状とすることにより、凹部の寸法が繰り返し堆積する被膜によって変化したり、あるいは基板が汚染するのを回避しえる回転基板ホルダーを提供することを目的とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、被処理物を載置する，該被処理物と略同形状の凹部を有し、回転させながら前記被処理物上に被膜を形成する回転基板ホルダーにおいて、前記凹部が少なくとも２段の階段形状であることを特徴とする回転基板ホルダーである。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明において、前記凹部は２段の階段形状でかつその段差部の高さは被処理物の厚みより小さいことが好ましい。図２を例にとって説明すれば、凹部の底面から段差１４ｂまでの高さをＨ１，基板１３の厚みをＨ２とすれば，Ｈ２＞Ｈ１であることが好ましい。しかし、Ｈ２＞Ｈ１の場合であっても、Ｈ２，Ｈ１の値の差が小さい場合は、被膜形成後の基板を凹部から取り出す際、基板が被膜により汚染される恐れがあるので、Ｈ１を（１／３）Ｈ２〜（１／２）Ｈ２程度にすることがより好ましい。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明において、被膜は回転基板ホルダー上面，回転基板ホルダー側面，回転基板ホルダー階段部，基板に同一厚さで形成される。しかるに、凹部が例えば図２に示すように２段の階段形状である場合、基板を載置する凹部１４の底面から段差１４ｂまでの高さＨ１は基板１３の厚みＨ２より低く、かつ側面には基板が接しているため、基板載置部には被膜は形成されない。したがって、被膜の形成を繰り返し行なっても基板を載置する凹部の内径寸法は変化しない。一方、段差１４ａは、回転基板ホルダー１１の回転による遠心力によって基板が段差１４ｂを越え基板ホルダーから離脱するのを防止するために設けたものである。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施例を図２を参照して説明する。
図中の符番１１は、回転軸１２を介して回転駆動部（図示せず）に連結したステンレス製の回転基板ホルダーである。この回転基板ホルダー１１の上面部には、回転によって被処理物としての基板１３が移動しないように該基板１３とほぼ同一形状の階段状の凹部１４が設けられている。前記凹部１４は段差１４ａとこの段差１４ａの内側に設けられた階段形状の段差１４ｂにより構成されており、基板１３は段差１４ｂの内側に挿入載置される。
ここで、段差１４ａは、回転基板ホルダー１１の回転による遠心力によって基板１３が段差１４ｂを越えて回転基板ホルダー１１から離脱するのを防止するために設けたものであり、その高さは基板１３の上面位置より高く設定してある。他方の段差１４ｂの高さ（凹部１４の底面から段差１４ｂ上面までの高さ）Ｈ１は基板１３の厚みＨ２よりも低く、段差１４ｂの側面に基板１３が接するように載置される。上記Ｈ１及びＨ２の寸法は、例えばＨ１＝０．３ｍｍ、Ｈ２＝０．６ｍｍである。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（１）被膜１５は基板１３及び回転基板ホルダー１１の上面に形成されるが、段差１４ｂの側面には基板１３が接している為、被膜１５が形成されることはない。
また、段差１４ｂ上面にも被膜１５が形成されるが、段差１４ｂの高さが基板１３の厚みより低いため、前記被膜１５が段差１４ｂの内側の基板載置部に形成されることはなく、段差１４ｂの内径寸法は維持される。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（２）回転基板ホルダー１１の回転による遠心力によって基板１３が段差１４ｂから離脱しようと傾いた場合、基板１３の傾きが段差１４ａによって制限されるため、段差１４ａの凹部から基板１３が離脱することがない。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
なお、上記実施例では、回転基板ホルダーの凹部が２段の階段形状である場合について述べたが、これに限らず、３段以上の階段形状でも実施例と同様な効果が期待できる。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、上記実施例では、回転基板ホルダーに１つの凹部が設けられている場合について述べたが、これに限らず、複数の凹部を設ける場合についても同様に適用できる。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
以上詳述した如くこの発明によれば、凹部を少なくとも２段の階段形状とすることにより、凹部の寸法が繰り返し堆積する被膜によって変化したり、あるいは基板が汚染するのを回避しえる回転基板ホルダーを提供できる。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の回転基板ホルダーの断面図。
【図２】本発明の一実施例に係る回転基板ホルダーの断面図。
【符号の説明】
１１…回転基板ホルダー、    １２…回転軸、    １３…基板、
１４…凹部、          １４ａ，１４ｂ…段差、      １５…被膜。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1998036965.tif 000001
【図２】
1998036965.tif 000002