(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
主結晶相が、一般式：Ｂａ（ＺｒxＭｇyＴａz）vＯw（ただし、０.１００≦ｘ≦０.７００、１.８３−０.３３３ｘ≦ｚ／ｙ≦２.１７＋０.３３３ｘ、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、および１.０００≦ｖ≦１.０４７＋０.０３３３ｘの各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つために必要な正の数である。）で表されるペロブスカイト型化合物からなり、波長が６３３ｎｍである可視光の、試料厚み０.６ｍｍにおける直線透過率が５０％以上である、透光性セラミック。
【請求項２】
１.８０≦ｚ／ｙ≦２.２０、および１.０００≦ｖ≦１.０５０の各条件を満足する、請求項１に記載の透光性セラミック。
【請求項３】
請求項１または２に記載の透光性セラミックからなる光学部品。
【請求項４】
請求項３に記載の光学部品が搭載されている光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ等の光学部品として有用な透光性セラミック、ならびにそれを用いた光学部品および光学装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光ピックアップ等の光学装置に搭載するレンズ等の光学部品の材料としては、例えば特許文献１や特許文献２に記載されているように、ガラスもしくはプラスチック、またはニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ3）等の単結晶が用いられている。【０００３】
ガラスおよびプラスチックは、光透過率が高く、所望の形状への加工が容易であることから、主としてレンズ等の光学部品に用いられている。また、ＬｉＮｂＯ3等の単結晶は、電気光学特性および複屈折を利用して、主として光導波路等の光学部品に用いられている。このような光学部品を用いた光ピックアップなどの光学装置ではさらなる小型化や薄型化が要求されている。【０００４】
ところが、従来のガラスやプラスチックでは、その屈折率が２.００以下であることから、それらを用いた光学部品や光学装置において小型化や薄型化に限界がある。また、プラスチックは、耐湿性が悪く、そのうえ複屈折が生じることがあるため、入射光を効率良く透過および集光させるのが難しいという欠点も有している。【０００５】
他方、たとえばＬｉＮｂＯ3単結晶は、屈折率が２.３と比較的高いものの、複屈折が生じるため、レンズ等の光学部品に用いることが難しく、用途が限定されてしまうという欠点を有している。【０００６】
複屈折を生じず、かつ優れた光学特性を与え得る材料として、たとえば、特許文献３に記載されるように、Ｂａ｛Ｓｎ，Ｚｒ（Ｍｇ，Ｔａ）｝Ｏ3系のペロブスカイト構造を主結晶相とする透光性セラミックが知られている。この透光性セラミックは、波長５８７ｎｍにおいて２.０１以上の大きな屈折率（以下、特に断りのない限り、波長５８７ｎｍにおける屈折率のことを言う。）を示し、光学部品および光学装置の小型化に有利である。【０００７】
しかしながら、特許文献３に記載の透光性セラミックでは、その結晶粒径が数十μmと大きいため、第１に、抗折強度が低いという問題がある。抗折強度の低いセラミックを用いて薄型の光学部品を作製した場合、光学装置の落下強度等を保証しにくくなる。【０００８】
第２に、透光性セラミックスをレンズ等の光学部品に加工する際、メカノケミカル研磨による表面の研磨加工が必要となるが、研磨後の表面粗さＲａが大きくなるという問題がある。研磨後のＲａが大きいと、光の表面散乱が生じてしまうことがある。【０００９】
なお、メカノケミカル研磨以外の研磨方法としては、ダイヤモンドスラリーを用いたメカニカル研磨が挙げられる。しかしこの場合、セラミックの表面におけるスクラッチ傷の発生を防ぐために研磨速度を遅くする必要があり、その結果、研磨時間が非常に長くなってしまうという問題に遭遇する。
【特許文献１】特開平５−１２７０７８号公報（全頁、図１）
【特許文献２】特開平７−２４４８６５号公報（請求項６、段落番号００２４）
【特許文献３】特開２００４−７５５１２号公報（全頁、全図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上述した実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、抗折強度が高く、かつメカノケミカル研磨を行なっても表面粗さＲａが大きくならない、透光性セラミックを提供しようとすることである。【００１１】
本発明の他の目的は、強度に優れ、かつ散乱の小さい光学部品、およびそれを用いた光学装置を提供しようとすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係る透光性セラミックは、主結晶相が、一般式：Ｂａ（ＺｒxＭｇyＴａz）vＯw（ただし、０.１００≦ｘ≦０.７００、１.８３−０.３３３ｘ≦ｚ／ｙ≦２.１７＋０.３３３ｘ、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、および１.０００≦ｖ≦１.０４７＋０.０３３３ｘの各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つために必要な正の数である。）で表されるペロブスカイト型化合物からなり、波長が６３３ｎｍである可視光の、試料厚み０.６ｍｍにおける直線透過率が５０％以上であることを特徴としている。
【００１３】
本発明に係る透光性セラミックにおいて、上記ｙ，ｚおよびｖは、１.８０≦ｚ／ｙ≦２.２０、および１.０００≦ｖ≦１.０５０といったより限定的な条件を満足することが好ましい。【００１５】
本発明に係る透光性セラミックは、好ましくは、波長が６３３ｎｍである可視光の、試料厚み０.６ｍｍにおける直線透過率が６０％以上である。以下、特に断りのない限り、単に「直線透過率」と言うときは、波長が６３３ｎｍである可視光の、試料厚み０.６ｍｍにおける直線透過率のことを言う。
【００１７】
本発明は、さらに、前述した透光性セラミックからなる光学部品、およびこの光学部品が搭載されている光学装置にも向けられる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、複屈折がなく、かつ高屈折率および高透過率を示す透光性セラミックにおいて、その抗折強度を高く、かつメカノケミカル研磨後の表面粗さＲａを小さくすることができる。したがって、強度に優れ、散乱の少ない光学部品、およびそれを用いた光学装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第１の例としての両凸レンズ１０を示す断面図である。
【図２】本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第２の例としての両凹レンズ１１を示す断面図である。
【図３】本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第３の例としてのメニスカスレンズ１２を示す断面図である。
【図４】本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第４の例としての光路長調整板１３を示す断面図である。
【図５】本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第５の例としての球状レンズ１４を示す断面図である。
【図６】本発明に係る透光性セラミックを用いて構成された光学部品を搭載した光学装置の一例としての光ピックアップ９を図解的に示す正面図である。
【符号の説明】
【００２０】
１  記録媒体
２  対物レンズ
３  ハーフミラー
４  コリメータレンズ
５  半導体レーザ
６  集光レンズ
７  受光素子
８  レーザ光
９  光ピックアップ
１０  両凸レンズ
１１  両凹レンズ
１２  メニスカスレンズ
１３  光路長調整板
１４  球状レンズ
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明に係る透光性セラミックは、主結晶相が、一般式：Ｂａ（ＺｒxＭｇyＴａz）vＯw（ただし、０.１００≦ｘ≦０.７００、１.８３−０.３３３ｘ≦ｚ／ｙ≦２.１７＋０.３３３ｘ、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、および１.０００≦ｖ≦１.０４７＋０.０３３３ｘの各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つために必要な正の数である。）で表されるペロブスカイト型化合物からなり、波長が６３３ｎｍである可視光の、試料厚み０.６ｍｍにおける直線透過率が５０％以上である。この主結晶相は常誘電体であるため、複屈折を生じない。
【００２２】
上記Ｂａはペロブスカイト構造の通称「Ａサイト元素」に相当し、Ｚｒ、ＭｇおよびＴａは通称「Ｂサイト元素」に相当する。Ｂサイト元素とＡサイト元素のモル比ｖは１に近い値であり、またｗは３に近い値である。これにより、ペロブスカイト型化合物からなる主結晶相の電気的中性が保たれている。【００２３】
Ｂサイト元素のうち、Ｍｇは２価の陽イオン、Ｔａは５価の陽イオンであり、ＭｇとＴａのモル比は１：２に近い値となっている。これもペロブスカイト型化合物の電気的中性に寄与している。そして、Ｚｒは４価の陽イオンであり、これはＭｇおよびＴａを置換する形で存在する。Ｚｒ置換により、主結晶相の結晶系が立方晶に変化し、透光性が向上する。Ｚｒの含有量ｘが０.１以上となると、直線透過率が５０％以上となる。【００２４】
なお、本発明に係る透光性セラミックは、電気的中性がほぼ保たれ、かつ本発明の目的を損なわない範囲であれば、たとえば可視光を大幅に吸収して直線透過率を下げるようなことがなければ、主結晶相にＢａ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒ以外の他の元素を含んでも構わない。さらに、それぞれの構成元素は、主としてペロブスカイト型化合物の所定のサイトに位置するが、本発明の目的を損なわない範囲であるならば、若干量粒界に存在していたり、他のサイトに位置していたりしても構わない。【００２５】
本発明に係る透光性セラミックの最大の特徴は、４価元素にＺｒを採用し、Ｓｎを実質的に含まない点である。これにより、特許文献３に記載のＢａ｛Ｓｎ，Ｚｒ（Ｍｇ，Ｔａ）｝Ｏ3系透光性セラミックと比較して、結晶粒径が十分に小さくなる。Ｂａ｛Ｓｎ，Ｚｒ（Ｍｇ，Ｔａ）｝Ｏ3系において、Ｓｎ／Ｚｒモル比を減少させるに従い結晶粒径は徐々に小さくなるが、完全にほぼ０に近くすることで、結晶粒径は急激に小さくなる。したがって、結晶粒径を微粒化させることを最優先させる場合、４価元素にはＺｒを用い、Ｓｎは含有させない方がよい。これは、Ｂａ｛Ｓｎ，Ｚｒ（Ｍｇ，Ｔａ）｝Ｏ3系材料と比較して、Ｂａ（Ｚｒ，Ｍｇ，Ｔａ）Ｏ3系材料ではＢサイト元素の配列秩序性が向上し、これにより焼結時の原子配列に大きなエネルギーを要するようになり、粒成長しにくくなったためであると推測される。【００２６】
次に、Ｚｒの含有量ｘは０.１〜０.７である。この範囲内でＺｒ量ｘを制御することにより、屈折率などの光学特性を自在に変化させることができる。ｘが０.１未満の場合は、前述のとおり直線透過率が５０％未満となる。また、ｘが０.７を超えても同様に直線透過率が５０％未満となる。【００２７】
次いで、ＴａのＭｇに対するモル比ｚ／ｙは、１.８３−０.３３３ｘ≦ｚ／ｙ≦２.１７＋０.３３３ｘである。ｚ／ｙがこの範囲外となると、直線透過率が５０％未満となる。【００２８】
次に、ＢサイトのＡサイトに対するモル比ｖは、１.０００〜１.０４７＋０.０３３３ｘである。ｖがこの範囲外となると、直線透過率が５０％未満となる。【００２９】
さらに、ｚ／ｙが１.８０〜２.２０であり、かつｖが１.０００〜１.０５０である場合、直線透過率が６０％以上となるため、より好ましい。【００３０】
本発明に係る透光性セラミックは、副成分として、ＳｉＯ2およびＢ2Ｏ3の少なくとも一方を含むことも好ましい。すなわち、これらの副成分は、焼成時の昇温時に溶解して液相となり、これが主結晶相の粒子を効果的に配列させ、緻密化を促進させる。【００３１】
上記ペロブスカイト型化合物にＳｉＯ2を添加した場合、Ｓｉ成分は、例えばＹＡＧ等の他のセラミック等の場合とは異なり、主成分中へ置換固溶することはほとんどないと考えられる。そのため、本発明に係る透光性セラミックでは大きな粒成長を伴うことなく、セラミックを緻密化させることができる。Ｂ2Ｏ3も、ＳｉＯ2と同様の作用を奏すると考えられる。【００３２】
ＳｉＯ2およびＢ2Ｏ3の適正な合計の含有量は、ペロブスカイト型化合物１００重量部に対し、０.００２５重量部以上かつ０.２重量部以下である。これにより、結晶粒径をさらに小さくすることができる。ただし、０.２重量部を超えると、直線透過率が５０％未満となる。【００３３】
なお、ＳｉＯ2および／またはＢ2Ｏ3は、予め用意した主成分原料に添加する形で含有させてもよいし、主成分の生原料素材を混合するときに添加する形で含有させてもよい。また、ＳｉＯ2およびＢ2Ｏ3の各々は、単独の粉末でもよいし、他の成分を含んだガラス成分の一部であってもよい。【００３４】
なお、本発明に係る透光性セラミックの組成には、本発明の目的を損わない範囲で、不可避的に混入する不純物が含まれていてもよい。例えば原料として用いる酸化物もしくは炭酸塩に含まれる不純物や作製工程中で混入する不純物として、Ｆｅ2Ｏ3、ＣａＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＳｒＯ、ＷＯ3、Ｂｉ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、Ｐ2Ｏ5、ＣｕＯおよびＬａ2Ｏ3等の希土類酸化物などが挙げられる。【００３５】
次に、本発明に係る透光性セラミックの製造方法について説明する。【００３６】
本発明に従って透光性セラミックを製造するため、セラミック原料粉末を所定形状に成形してなる未焼成のセラミック成形体を用意する工程と、このセラミック原料粉末と実質的に同組成の同時焼成用組成物を用意する工程と、同時焼成用組成物を未焼成のセラミック成形体に接触させながら、酸素濃度が９０体積％以上の雰囲気中で、未焼成のセラミック成形体を焼成する工程とが実施される。【００３７】
上記同時焼成用組成物は粉末状態であり、焼成工程は、同時焼成用組成物の粉末に未焼成のセラミック成形体を埋め込んだ状態で実施されることが特に好ましい。なお、この同時焼成用組成物は、粉末に限らず、成形体または焼結体であってもよい。【００３８】
同組成の組成物とは、たとえば、上記成形体と同じ組成となるように調整した原料を仮焼し、粉砕して得られた粉末である。この同組成の組成物により、上記成形体中の揮発成分が焼成時に揮発することを抑制することができる。なお、この同組成の組成物は、上記成形体と同じ組成を有することが好ましいが、実質的に同組成であればよい。実質的に同組成とは、同一の構成元素を含んだ同等の組成系であれば、全く同一の組成比率でなくてもよいということを意味する。また、同時焼成用組成物は、必ずしも透光性を与え得る組成を有していなくてもよい。【００３９】
なお、本発明に係る透光性セラミックの製造方法によれば、その焼成時雰囲気の気圧は、１気圧またはそれ以下でも構わない。すなわち、特にＨＩＰ（Hot Isostatic Press）等の加圧焼成を行なう必要はない。【００４０】
また、本発明に係る透光性セラミックは高い直線透過率を示すが、表面に屈折率が透光性セラミックより低い反射防止膜（ＡＲ膜＝Anti-Reflection膜）を形成すれば、さらに直線透過率を高めることができる。この反射防止膜は、ＭｇＯ等の誘電体からなる膜であることが望ましい。たとえば直線透過率が７３.４％であり、かつ屈折率が２.０１５３の場合、Fresnelの法則より直線透過率の理論最大値は７８.６％となる。このとき、理論値に対する相対透過率は９３.４％となる。これは、試料内部での透過損失がほとんどないことを示している。したがって、試料表面に反射防止膜を形成すれば、得られる直線透過率をほぼ理論値とすることができる。【００４１】
また、本発明に係る透光性セラミックは、レンズ等の光学部品に用いることができ、たとえば、図１に示すような両凸レンズ１０、図２に示すような両凹レンズ１１、図３に示すようなメニスカスレンズ１２、図４に示すような光路長調整板１３、および図５に示すような球状レンズ１４に利用することができる。【００４２】
また、このような光学部品を搭載した光学装置について、光ピックアップを例にとり、説明する。【００４３】
図６に示すように、光ピックアップ９は、コンパクトディスクやミニディスク等の記録媒体１に対して、コヒーレントな光であるレーザ光８を照射し、その反射光から記録媒体１に記録された情報を再生するものである。【００４４】
このような光ピックアップ９においては、光源としての半導体レーザ５からのレーザ光８を平行光に変換するコリメータレンズ４が設けられ、その平行光の光路上にハーフミラー３が設けられている。このハーフミラー３は、コリメータレンズ４からの入射光を通して直進させるが、記録媒体１からの反射光については、その進行方向を反射によりたとえば約９０度変更するものである。【００４５】
また、光ピックアップ９には、ハーフミラー３からの入射光を記録媒体１の記録面上に集光するための対物レンズ２が設けられている。この対物レンズ２は、また、記録媒体１からの反射光を効率良くハーフミラー３に向かって送るためのものでもある。反射光が入射されたハーフミラー３では、反射により位相が変化することで、上記反射光の進行方向が変更される。【００４６】
さらに、光ピックアップ９には、変更された反射光を集光するための集光レンズ６が設けられている。そして、反射光の集光位置に、反射光からの情報を再生するための受光素子７が設けられている。【００４７】
このように構成される光ピックアップ９において、本発明に係る透光性セラミックを対物レンズ２の素材として用いた場合、本発明の透光性セラミックは屈折率が大きいため、光ピックアップ９の小型化や薄型化が可能である。【００４８】
次に、本発明に係る透光性セラミックを実験例に基づいて説明する。【００４９】
［実験例１］
素原料として、各々高純度のＢａＣＯ3、ＭｇＣＯ3、Ｔａ2Ｏ5、ＳｎＯ2およびＺｒＯ2の各粉末を準備した。そして、組成式：Ｂａ｛（ＳｎuＺｒ1-u）xＭｇyＴａz｝vＯw（ｗは電気的中性を保つために必要な正の数）で表される、表１に示す組成の原料が得られるように、各素原料を秤量し、ボールミルで１６時間湿式混合した。この混合物を乾燥させたのち、１３００℃で３時間仮焼し、仮焼粉体を得た。このとき、ｗの値はほぼ３になっていた。【００５０】
次に、上記の仮焼粉体を、水、有機分散剤および有機バインダとともにボールミルに入れ、１２時間湿式粉砕した。有機バインダとしては、エチルセルロースを用いた。なお、エチルセルロース以外でも、ポリビニルアルコール等のようにセラミック成形体用の結合剤としての機能を備え、かつ焼成工程において焼結温度に達する前に、５００℃程度で大気中の酸素と反応して炭酸ガスや水蒸気などにガス化して消失するものであれば、有機バインダとして用いることができる。【００５１】
上記粉砕物を乾燥させた後、５０メッシュの網（篩）を通して造粒し、得られた粉末を１９６ＭＰａの圧力で押圧することにより、直径３０ｍｍおよび厚さ２ｍｍの円板状の未焼成のセラミック成形体を得た。【００５２】
次に、上記未焼成のセラミック成形体を、前記仮焼粉体と同組成の粉末中に埋め込んだ。この埋め込まれた成形体を焼成炉に入れ、大気雰囲気中で加熱し、脱バインダを行なった。引き続き、昇温しながら焼成炉内に酸素を注入し、１６５０℃において、焼成雰囲気中の酸素濃度を約９８体積％まで上昇させた。この焼成温度および酸素濃度を維持し、セラミック成形体を２０時間焼成して焼結体を得た。【００５３】
このようして得られた焼結体に＃2000のラップ加工を行なった後、鏡面研磨加工を施して、焼結体の厚みを０.６ｍｍとした。この鏡面研磨加工では、研磨面がゆず肌状にならないよう、研磨液にダイヤモンドスラリーを用いた。【００５４】
得られた研磨後の試料について島津製作所製分光光度計（ＵＶ−２５００）を用いて、波長６３３ｎｍの可視光における直線透過率を測定した。また、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製プリズムカプラー（ＭＯＤＥＬ２０１０）を用いて、波長５８７ｎｍの可視光における屈折率を測定した。さらに、３点曲げによる抗折強度を測定した。また、各試料を１５５０℃にて１時間保持した後の表面観察画像から、Code法を用いて平均結晶粒径を求めた。【００５５】
また、上記焼結体の両主面に対して、ＣｅＯ2研磨粉を含む研磨スラリーを用いたメカノケミカル研磨を行ない、その表面について表面粗さＲａを測定した。【００５６】
以上のようにして求めた、結晶粒径、抗折強度、直線透過率、屈折率、および表面粗さＲａが表１に示されている。【００５７】
【表１】
0004831073.tif 000002
【００５８】
表１を参照して、試料１〜５は、４価元素におけるＳｎの含有モル比ｕを変化させたものである。ｕが減少するに従い結晶粒径は小さくなるが、ｕが試料４のｕ＝０.０５から試料５のｕ＝０に変化する箇所にて、結晶粒径が急激に小さくなった。本発明の範囲内である試料５では、結晶粒径が１０μm未満と小さくなったため、抗折強度が２００ＭＰａ以上と高く、表面粗さＲａが１０ｎｍ未満と小さくなった。【００５９】
［実験例２］
素原料として、各々高純度のＢａＣＯ3、ＭｇＣＯ3、Ｔａ2Ｏ5およびＺｒＯ2の各粉末を準備した。そして、組成式：Ｂａ（ＺｒxＭｇyＴａz）vＯw（ｗは電気的中性を保つために必要な正の数）で表される、表２に示す組成の原料が得られるように、各素原料を秤量し、ボールミルで１６時間湿式混合した。【００６０】
以後、実験例１の場合と同じ工程を経て、透光性セラミックの評価試料である試料１０１〜１６２を得て、実験例１の場合と同じ方法で同じ評価を行なった。この評価結果が表２に示されている。【００６１】
【表２】
0004831073.tif 000003
【００６２】
試料１０１〜１０３および１６０〜１６２は、Ｚｒの含有量ｘが０.１〜０.７の範囲外であったため、直線透過率が５０％未満となった。【００６３】
試料１０４、１０８、１１７、１２３、１３８および１４４は、ＴａのＭｇに対するモル比ｚ／ｙが、１.８３−０.３３３ｘ〜２.１７＋０.３３３ｘの範囲外であったため、直線透過率が５０％未満となった。【００６４】
試料１０９、１１２、１２４、１２７、１４５および１４９は、ＢサイトのＡサイトに対するモル比ｖが、１.０００〜１.０４７＋０.０３３３ｘの範囲外であったため、直線透過率が５０％未満となった。【００６５】
上記の試料以外の試料が本発明の範囲内のものであるが、本発明の範囲内の試料においては、５０％以上の直線透過率が得られ、また、抗折強度が２００ＭＰａ以上と高く、表面粗さＲａが１０ｎｍ未満と小さくなった。【００６６】
［実験例３］
素原料として、各々高純度のＢａＣＯ3、ＭｇＣＯ3、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2の各粉末を準備した。そして、実験例１の試料５と同じ組成になるように各素原料を秤量し、ボールミルで１６時間湿式混合した。この混合物を乾燥させたのち、１３００℃で３時間仮焼し、仮焼粉体を得た。【００６７】
上記仮焼粉体１００重量部に対し、表３の組成になるよう、ＳｉＯ2およびＢ2Ｏ3を秤量して混合した後、焼成温度が１５００℃である以外は実験例１の場合と同じ工程を経て、透光性セラミックの評価試料である試料２０１〜２１３を得て、実験例１の場合と同じ方法で同じ評価を行なった。【００６８】
【表３】
0004831073.tif 000004
【００６９】
表３を参照して、試料２０２〜２０４、２０６〜２０８および２１０〜２１２のように、ＳｉＯ2および／またはＢ2Ｏ3を合計０．００２５重量部以上かつ０．２重量部以下の範囲で添加した試料は、焼成温度が１５００℃と低いにもかかわらず、十分な直線透過率を得た。また、結晶粒径が２μm以下と非常に小さくなり、その結果、抗折強度が３４０ＭＰａ以上と高くなり、表面粗さＲａが５ｎｍ以下と小さくなった。【００７０】
他方、試料２０５、２０９および２１３は、ＳｉＯ2およびＢ2Ｏ3の合計量が、ペロブスカイト型化合物１００重量部に対し０.２重量部を超えたため、直線透過率が５０％未満となった。【００７１】
なお、試料２０１は、焼成温度が１５００℃と低かったため、直線透過率が低く、かつ抗折強度が低くなった。
【００７２】
以上、本発明を、実験例に関連して具体的に説明したが、本発明の実施の態様は、上記実験例のような態様に限定されるものではない。たとえば、原料の形態は酸化物もしくは炭酸塩に限定されるものではなく、焼結体とした段階で所望の特性が得られる原料であれば、どのような形態でもよい。また、焼成雰囲気について、上記実験例の約９８体積％という酸素濃度の値は、使用した実験設備の条件下において最も好ましいものであった。したがって、酸素濃度は約９８体積％に限定されるものではなく、９０体積％以上の酸素濃度が確保できれば、所望の特性を備えた焼結体が得られることがわかっている。
【図１】
0004831073.tif 000005
【図２】
0004831073.tif 000006
【図３】
0004831073.tif 000007
【図４】
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【図５】
0004831073.tif 000009
【図６】
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