(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力流体が供給される供給ポート、吸着手段に接続される真空ポート及び前記供給ポートから供給された前記圧力流体を外部に排出する排出ポートが設けられた本体部と、
前記供給ポートから供給された前記圧力流体の作用下に負圧を発生させる真空発生機構と、
前記真空ポートに供給される前記圧力流体の圧力を負圧状態と正圧状態とに切り換える供給弁及び真空破壊弁を有する切換弁部と、
前記真空ポートと前記真空発生機構との間に設けられ、前記真空ポートと大気との連通状態を切換可能な大気導入弁と、
前記本体部に設けられ、前記負圧状態から前記正圧状態へと切り換える際に前記真空ポートに前記圧力流体を供給する真空破壊用ポートと、
を備え、
前記大気導入弁は、負圧が発生した負圧状態において弁閉状態となると共に、前記負圧状態が解除された正圧状態において、前記切換弁部の切換作用下に供給されるパイロットエアによって弁開状態となり、前記真空ポートと大気とを連通させることを特徴とする真空発生ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吸着用パッド等の作業機器に負圧を供給する真空発生ユニットに関し、一層詳細には、負圧の供給・遮断を切換可能な電磁弁部を有する真空発生ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、例えば、ワークの搬送手段、位置決め手段等として用いられる真空発生ユニットが知られている。この真空発生ユニットは、ユニット本体にパッド等の吸着手段を接続し、前記ユニット本体から供給される負圧作用下に前記吸着手段によってワークを吸着する。そして、前記吸着状態を保持しながらワークを変位させ、且つ、前記吸着状態を解除することにより所定位置にワークを離脱させて該ワークの搬送等を行っている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、真空発生機構部として真空ポンプを採用した真空発生ユニットが開示されており、この真空発生ユニットは、真空発生用バルブが真空ポンプに接続され、真空破壊用バルブが圧縮空気の空気圧源に接続され、それぞれの空気の流れを制御する。そして、真空発生用バルブをＯＦＦ状態からＯＮ状態へと切り換えると、真空ポートに真空圧が生じると共に、大気圧供給弁の切換作用下に大気との連通が遮断される。
【０００４】
また、特許文献２に開示された真空発生器では、供給ポートから供給される圧縮空気の供給状態をＯＮ−ＯＦＦ制御する制御部と、ＯＮ時にシリンダ内に供給された圧縮空気をノズルから噴射しディフューザスプールを経由して排気ポートから排出することにより真空発生させる真空発生部とを備え、前記ディフューザスプールを前記シリンダ内で軸線方向に可動自在に設け、前記圧縮空気の供給がＯＦＦの場合に、前記ディフューザスプールを移動させ排気ポート、補助流路及び前記ディフューザスプールを経由して真空破壊を可能としている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−４２１３４号公報
【特許文献２】特開２００２−２２４９８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献１及び２に係る従来技術は、真空圧によるワークの保持状態を迅速に解除するために、真空破壊を行う真空破壊用バルブと大気圧供給弁とを別個に設けると共に、前記大気圧供給弁を常に弁開状態とし、真空圧を発生させるためのディフューザに供給される圧縮空気を利用して弁閉状態に切り換える構成としている。そのため、例えば、この真空発生ユニットを外部から真空圧が供給されるポンプシステム等に用いた場合には、ディフューザを備えていないため大気圧供給弁を弁閉状態に切り換えることができないという問題がある。
【０００７】
また、このような真空発生ユニットでは、ワーク等の吸着を行って保持した状態で圧縮空気の供給量を減少させるため、弁開状態にある大気圧供給弁を通じて大気と連通してしまうこととなり、前記ワークの保持を行うことができないという問題がある。
【０００８】
本発明は、前記の課題を考慮してなされたものであり、負圧状態が解除された正圧時にのみ真空ポートを大気と連通させることにより、ワーク保持時において負圧を確実に保持することが可能な真空発生ユニットを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記の目的を達成するために、本発明は、圧力流体が供給される供給ポート、吸着手段に接続される真空ポート及び前記供給ポートから供給された前記圧力流体を外部に排出する排出ポートが設けられた本体部と、
前記供給ポートから供給された前記圧力流体の作用下に負圧を発生させる真空発生機構と、
前記真空ポートに供給される前記圧力流体の圧力を負圧状態と正圧状態とに切り換える供給弁及び真空破壊弁を有する切換弁部と、
前記真空ポートと前記真空発生機構との間に設けられ、前記真空ポートと大気との連通状態を切換可能な大気導入弁と、
前記本体部に設けられ、前記負圧状態から前記正圧状態へと切り換える際に前記真空ポートに前記圧力流体を供給する真空破壊用ポートと、
を備え、
前記大気導入弁は、負圧が発生した負圧状態において弁閉状態となると共に、前記負圧状態が解除された正圧状態において、前記切換弁部の切換作用下に供給されるパイロットエアによって弁開状態となり、前記真空ポートと大気とを連通させることを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、真空発生ユニットを構成する本体部において、真空ポートと真空発生機構との間に大気導入弁を設け、前記大気導入弁を、前記真空発生機構によって負圧が発生した負圧状態において弁閉状態となり、前記負圧状態が解除された正圧状態において弁開状態となるように設けている。従って、負圧が発生した真空供給時、前記負圧によってワークが保持された保持時において、大気導入弁が弁閉状態となって真空ポートと大気とが連通することがなく、前記負圧状態が好適に維持されてワークを確実且つ好適に保持することができると共に、前記負圧状態が正圧状態へと切り換えられた場合には、弁開状態となった前記大気導入弁を通じて大気を真空ポートへと供給し、前記ワークの保持状態を好適に解除することが可能となる。
【００１１】
また、上述した真空発生機構を備えず、負圧が外部から供給される真空ポンプシステムにも適用することが可能となり、前記真空発生機構を備えた真空発生ユニットと、前記真空発生機構を備えていない真空発生ユニットとをそれぞれ使い分ける場合と比較し、設備コストを抑制することができる。
【００１２】
さらに、本体部には、負圧状態から正圧状態へと切り換える際に前記真空ポートに圧力流体を供給する真空破壊用ポートが設けられ、分岐通路から分岐されたパイロットエアを、切換弁部の切換作用下に前記大気導入弁に導入することにより、該大気導入弁が弁開状態となり、前記大気導入弁を通じて前記真空ポートと大気とを連通させることができる。すなわち、本体部に供給された圧力流体を真空発生機構を介さずに直接的に大気導入弁を通じて真空ポートへと供給し、前記真空ポートの負圧状態を正圧状態へと切り換えることが可能となる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、以下の効果が得られる。
【００１４】
すなわち、本体部に設けられた真空ポートと真空発生機構との間に大気導入弁を設け、前記大気導入弁が、前記真空発生機構によって負圧の発生した負圧状態において弁閉状態となり、前記負圧状態が解除された正圧状態において弁開状態となるように設け、前記負圧が発生した負圧供給時、前記負圧によってワークが保持された保持時には、前記大気導入弁が弁閉状態となって真空ポートと大気とが連通することがなく、前記負圧状態が好適に維持されてワークを確実且つ好適に保持することができると共に、前記負圧状態が正圧状態へと切り換えられた場合には、弁開状態となった前記大気導入弁を通じて大気を真空ポートへと供給して前記ワークの保持状態を好適に解除することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明に係る真空発生ユニットについて好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照しながら以下詳細に説明する。
【００１６】
図１において、参照符号１０は、本発明の実施の形態に係る真空発生ユニットを示す。
【００１７】
この真空発生ユニット１０は、図１〜図４に示されるように、所定長さで形成されたメインボディ（本体部）１２と、前記メインボディ１２の上部に連結され、真空発生機構として機能するエゼクタ１４と、前記エゼクタ１４の側部に設けられ、供給用パイロット弁１６と真空破壊用パイロット弁１８とを有する電磁弁部２０と、前記エゼクタ１４の上部に設けられ、パイロットエアの供給作用下に変位して負圧が生じた真空発生状態と前記負圧が大気圧へと解除された真空破壊状態とを切り換える切換弁部２２とを含む。
【００１８】
メインボディ１２は、長手方向（矢印Ａ、Ｂ方向）に沿って所定長さを有し、その側面には、エゼクタ１４に圧力流体（例えば、圧縮エア）を供給する供給ポート２４と、前記供給ポート２４から所定間隔離間し、前記エゼクタ１４で発生した真空状態を破壊するための圧力流体が供給される真空破壊用ポート２６と、前記電磁弁部２０及び切換弁部２２に対してパイロットエアを供給するパイロットポート２８とが設けられると共に、前記メインボディ１２の一端部には、エゼクタ１４で発生した負圧流体が供給される真空ポート３０が形成されている。なお、真空ポート３０には、チューブ等を介して図示しない吸着パッドが接続される。
【００１９】
メインボディ１２の内部には、供給ポート２４からエゼクタ１４側（矢印Ｃ方向）に向かって延在する第１供給通路３２と、真空破壊用ポート２６からエゼクタ１４側に向かって延在する第１真空破壊用通路３４と、パイロットポート２８からエゼクタ１４側に向かって延在する第１パイロット通路３６とを備え、前記第１供給通路３２、第１真空破壊用通路３４及び第１パイロット通路３６は、エゼクタ１４を構成するディフューザボディ３８の内部を通じて切換弁部２２側（矢印Ｃ方向）へと延在している。
【００２０】
また、メインボディ１２には、真空ポート３０と真空破壊用ポート２６の間に大気導入弁４０が設けられ、前記大気導入弁４０の切換作用下に真空ポート３０を大気開放させている。この大気導入弁４０は、メインボディ１２の長手方向と略直交した装着穴４２に設けられ、軸線方向（矢印Ｃ方向）に沿って変位自在な弁体４４と、前記弁体４４の外周側に設けられ、該弁体４４が着座する弁座部４６と、前記弁体４４を下方（矢印Ｄ方向）に向かって付勢するスプリング４８とを含む。そして、大気導入弁４０は、弁体４４がスプリング４８の弾発力によって下方へと押圧され、弁座部４６に着座した弁閉状態となる。
【００２１】
一方、メインボディ１２の上部には、真空ポート３０を有するメインボディ１２の一端部側にフィルタユニット５０が設けられ、略中央部に切換弁部２２が内装されたサブボディ（本体部）５２が設けられると共に、他端部側には供給用パイロット弁１６及び真空破壊用パイロット弁１８を有する電磁弁部２０が設けられる。また、メインボディ１２の上部には、サブボディ５２とフィルタユニット５０との間に排気ユニット５４が設けられる。
【００２２】
フィルタユニット５０は、有底円筒状のケーシング５６と、前記ケーシング５６の内部に設けられる円筒状のフィルタ５８とを含み、メインボディ１２の長手方向と略直交方向（矢印Ｃ方向）に延在している。このケーシング５６の内壁面とフィルタ５８との間には、圧力流体の流通する通路６０が設けられ、前記通路６０を流通する圧力流体が、フィルタ５８を通じて内部へと流通する。これにより、例えば、真空ポート３０から流入した流体中の塵埃等が、フィルタ５８を通過することによって好適に除去され、前記フィルタ５８の内部を通じてメインボディ１２の内部へと流通する。
【００２３】
排気ユニット５４は、フィルタユニット５０に隣接して平行に設けられ、真空破壊時に流通する流体の流量を調整可能な調整ニードル６２と、エゼクタ１４と連通して該エゼクタ１４を流通した圧力流体を外部に排気する排気ポート６４とを備える。
【００２４】
この調整ニードル６２は、排気ユニット５４の軸線方向（矢印Ｃ方向）に沿って変位自在に設けられ、前記調整ニードル６２の変位作用下に真空破壊時において流体が流通する流路が絞られてその流量が調整される。
【００２５】
電磁弁部２０は、並列に配置された一組の供給用パイロット弁１６及び真空破壊用パイロット弁１８からなり、前記供給用パイロット弁１６及び真空破壊用パイロット弁１８は、それぞれ制御部（図示しない）に対して電気的に接続される。そして、図示しない制御部からの制御信号に基づいて前記供給用パイロット弁１６及び真空破壊用パイロット弁１８のソレノイドが励磁され、その弁体１６ａ、１８ａの開閉動作が行われる。
【００２６】
また、供給用パイロット弁１６及び真空破壊用パイロット弁１８は、メインボディ１２の長手方向（矢印Ａ、Ｂ方向）に沿って並列に配置され、サブボディ５２に臨む一端部側には、パイロットポート２８から供給されたパイロットエアの連通状態を切換可能な弁体１６ａ、１８ａが変位自在に設けられている。
【００２７】
サブボディ５２は、エゼクタ１４を挟んでメインボディ１２の上部に設けられ、その中央部には、長手方向に沿って貫通した第１及び第２シリンダ室６６、６８が形成され、その内部には切換弁部２２を構成する真空供給弁６９ａ及び真空破壊弁６９ｂが変位自在に設けられる。この電磁弁部２０側（矢印Ａ方向）となる第１シリンダ室６６には真空供給弁６９ａが配置され、排気ユニット５４側（矢印Ｂ方向）となる第２シリンダ室６８には、真空破壊弁６９ｂが配置されている。なお、真空供給弁６９ａの電磁弁部２０側には、パイロットエアが供給される真空供給弁切換用ピストン室７１が設けられる。
【００２８】
また、サブボディ５２の両端部には、パイロットエアの供給作用下に変位する前記真空供給弁６９ａ及び真空破壊弁６９ｂの代わりに、真空供給状態及び真空破壊状態を切換可能な手動切換弁７０ａ、７０ｂがそれぞれ設けられる。
【００２９】
さらに、サブボディ５２には、手動切換弁７０ａ、７０ｂの間を接続するようにバイパス通路７２が貫通し、該バイパス通路７２は、手動切換弁７０ｂを通じて真空破壊弁６９ｂの設けられた真空破壊弁切換用ピストン室７３に連通すると共に、略中央部にエゼクタ１４側（矢印Ｄ方向）に向かって分岐する分岐通路７４が接続される。そして、電磁弁部２０を構成する真空破壊用パイロット弁１８によって連通状態の切り換えられたパイロットエアがパイロットポート２８からバイパス通路７２を通じて真空破壊弁切換用ピストン室７３へと流通する。
【００３０】
この分岐通路７４は、エゼクタ１４のディフューザボディ３８を通じてメインボディ１２まで延在し、大気導入弁４０の装着穴４２まで延在して連通している。そして、分岐通路７４を流通するパイロットエアが装着穴４２へと供給されることにより、前記大気導入弁４０を構成する弁体４４がスプリング４８の弾発力に抗して上方（矢印Ｃ方向）へと変位する。すなわち、弁体４４が弁座部４６から離間した弁開状態となる（図３及び図４参照）。
【００３１】
一方、サブボディ５２の下部には、エゼクタ１４に臨むように第２供給通路７６、第２真空破壊用通路７８及び第２パイロット通路８０が形成され、前記第２供給通路７６、第２真空破壊用通路７８及び第２パイロット通路８０は、メインボディ１２の第１供給通路３２、第１真空破壊用通路３４及び第１パイロット通路３６と一直線上に配置される。すなわち、第２供給通路７６が、第１供給通路３２を通じて供給ポート２４と連通し、第２真空破壊用通路７８が、第１真空破壊用通路３４を通じて真空破壊用ポート２６と連通すると共に、第２パイロット通路８０が、第１パイロット通路３６を通じてパイロットポート２８と連通している。
【００３２】
さらに、サブボディ５２の下部には、第２供給通路７６と所定間隔離間し、電磁弁部２０側（矢印Ａ方向）に設けられた第１連通路８２と、第２真空破壊用通路７８と所定間隔離間し、排気ユニット５４側（矢印Ｂ方向）に設けられた第２連通路８４とを備え、前記第１及び第２連通路８２、８４は、前記第１連通路８２の下部がエゼクタ１４のディフューザボディ３８に連通すると共に、第２連通路８４の下部が、メインボディ１２に形成された第３連通路８６と接続されて連通している。
【００３３】
エゼクタ１４は、メインボディ１２とサブボディ５２との間に設けられ、円筒状のディフューザボディ３８と、前記ディフューザボディ３８の上流側に同軸上に設けられるノズル８８とを含む。
【００３４】
ディフューザボディ３８は、メインボディ１２とサブボディ５２との間に嵌合され、その排気ユニット５４側（矢印Ｂ方向）の内部には軸線方向に沿って貫通した第１通路９０が形成されている。
【００３５】
また、ディフューザボディ３８の外周面には、軸線方向に沿って所定間隔離間した複数の環状溝が形成され、この環状溝を介してメインボディ１２の第１供給通路３２、第１真空破壊用通路３４及び第３連通路８６と、サブボディ５２の第２供給通路７６、第２真空破壊用通路７８及び第２連通路８４とが互いに連通している。なお、これらの環状溝と第１通路９０とは非連通状態にある。
【００３６】
ノズル８８は、電磁弁部２０側（矢印Ａ方向）となるディフューザボディ３８の他端部側に嵌合され、その内部には軸線方向に沿って貫通した第２通路９２が形成されている。そして、第２通路９２は、ディフューザボディ３８の内部に形成されたディフューザ室９４を通じて第１通路９０と連通している。この第１及び第２通路９０、９２は、ディフューザボディ３８の排気ユニット５４側（矢印Ｂ方向）に形成された排気室９６に向かって徐々に直径が拡径するようにテーパ状に形成される。
【００３７】
すなわち、エゼクタ１４は、その上流側（矢印Ａ方向）から下流側（矢印Ｂ方向）に向かって流体の供給される供給室９８、第２通路９２、ディフューザ室９４、第１通路９０及び排気室９６が同軸上に設けられ、前記供給室９８に供給された流体が、第２通路９２、ディフューザ室９４、第１通路９０及び排気室９６へと流通した後に、排気ポート６４に流通して排出される。
【００３８】
また、排気室９６は、大気導入弁４０の上方に設けられている。なお、ディフューザ室９４には、真空発生時に吸引通路１０６と連通させると共に、真空停止時に、該ディフューザ室９４と前記吸引通路１０６との連通を遮断させるチェック弁を設置可能としている。
【００３９】
切換弁部２２は、サブボディ５２に形成された第１及び第２シリンダ室６６、６８に設けられ、真空供給弁６９ａ及び真空破壊弁６９ｂは、それぞれ軸状に形成されている。すなわち、切換弁部２２を構成する真空供給弁６９ａ及び真空破壊弁６９ｂは同軸上に設けられ、第１及び第２シリンダ室６６、６８の内部において真空破壊弁６９ｂが矢印Ａ方向に変位する際に一体的に変位する。
【００４０】
また、真空供給弁６９ａ及び真空破壊弁６９ｂの連結部には、前記真空供給弁６９ａを自己復帰させるための復帰スプリング（図示せず）が設置可能となっている。
【００４１】
真空供給弁６９ａは、第１連通路８２及び第２供給通路７６に臨むように配置され、その外周面には、弾性材料からなるリング体１００ａが装着されている。そして、この真空供給弁６９ａの変位作用下にリング体１００ａが弁座部１０２ａに着座することにより、第１シリンダ室６６を通じた第１連通路８２と第２供給通路７６との連通状態が遮断される（図４参照）。換言すれば、真空供給弁６９ａは、第２供給通路７６から第１連通路８２への流体の流通状態を切り換える切換弁として機能する。
【００４２】
また、真空供給弁６９ａは、供給用パイロット弁１６の作動によって供給されるパイロットエアによって真空破壊弁６９ｂ側（（矢印Ｂ方向））に向かって押圧され、そのリング体１００ａが弁座部１０２ａに対して離間した弁開状態となる（図２参照）。
【００４３】
真空破壊弁６９ｂは、第２連通路８４及び第２真空破壊用通路７８に臨むように配置され、その外周面には、弾性材料からなるリング体１００ｂが装着されている。そして、この真空破壊弁６９ｂの変位作用下にリング体１００ｂが弁座部１０２ｂに着座することにより、第２シリンダ室６８を通じた第２連通路８４と第２真空破壊用通路７８との連通状態が遮断される（図２参照）。換言すれば、真空破壊弁６９ｂは、第２真空破壊用通路７８から第２連通路８４への流体の流通状態を切り換える切換弁として機能する。
【００４４】
また、真空破壊弁６９ｂは、サブボディ５２との間にスプリング１０４が介装され、該スプリング１０４の弾発作用下に真空供給弁６９ａから離間する方向（矢印Ｂ方向）へと変位し、リング体１００ｂが弁座部１０２ｂに向かって変位して着座した弁閉状態となる（図２参照）。
【００４５】
さらに、真空破壊弁６９ｂには、サブボディ５２のバイパス通路７２を通じて真空破壊弁切換用ピストン室７３へと供給されたパイロットエアによって真空供給弁６９ａ側（矢印Ａ方向）へと押圧され、スプリング１０４の弾発力に抗して変位することによってリング体１００ｂが弁座部１０２ｂから離間した弁開状態となる（図４参照）。これにより、真空破壊用ポート２６から第２真空破壊用通路７８へと供給された流体が、第２シリンダ室６８を通じて第２連通路８４へと流通することとなる。同時に、リング体１００ａを弁座部１０２ａに着座させる。
【００４６】
本発明の実施の形態に係る真空発生ユニット１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次にその動作並びに作用効果について説明する。
【００４７】
図示しないワークを搬送する場合に、制御部（図示せず）を通じて制御信号が供給用パイロット弁１６へと出力され、該供給用パイロット弁１６の弁体１６ａが作動した弁開状態となることにより、図１及び図２に示されるように、パイロットポート２８から第１及び第２パイロット通路３６、８０を通じて供給用パイロット弁１６へと供給されていたパイロットエアが、前記供給用パイロット弁１６によって真空供給弁６９ａが設けられた真空供給弁切換用ピストン室７１の内部へと供給される。これにより、パイロットエアによって真空供給弁６９ａが真空破壊弁６９ｂ側（矢印Ｂ方向）に向かって押圧され、そのリング体１００ａが弁座部１０２ａから離間することによって第２供給通路７６と第１連通路８２とが連通した状態となる。これにより、供給ポート２４から導入される圧力流体が、第１及び第２供給通路３２、７６を通じて第１連通路８２へと流通した後、エゼクタ１４を構成するディフューザボディ３８の内部へと導入される。
【００４８】
そして、圧力流体が、エゼクタ１４の供給室９８からノズル８８の第２通路９２、ディフューザボディ３８の第１通路９０へと順番に流通することにより負圧が発生する。この際、エゼクタ１４は、メインボディ１２内に形成された吸引通路１０６を通じて真空ポート３０と連通しているため、前記エゼクタ１４内で生じた負圧作用下に外気が前記真空ポート３０を通じて吸引される。この外気は、フィルタユニット５０のケーシング５６内からフィルタ５８を通過した後、エゼクタ１４へと流通する。この結果、負圧流体が真空ポート３０に接続された吸着パッド（図示せず）へと供給され、前記吸着パッドにおいてワークが吸着されることとなる。なお、エゼクタ１４において第１通路９０を流通した圧力流体は、排気室９６を通じて排気ポート６４から外部に排気される。
【００４９】
一方、吸着パッドによってワークを吸着した状態を維持し、図示しないロボット等を介して前記ワークを移動させた後に負圧流体の供給を解除してワークを所定位置に離脱させる場合について説明する。
【００５０】
図示しない制御部から供給用パイロット弁１６に対して停止信号が出力され、前記供給用パイロット弁１６の作動を停止させ、真空供給弁切換用ピストン室７１へのパイロットエアの供給を停止させる。一方、真空破壊用パイロット弁１８に対して制御信号を出力して弁体１８ａを作動させた弁開状態とし、パイロットポート２８から供給されていたパイロットエアの流通状態を切り換え、バイパス通路７２へと流通させる。
【００５１】
このパイロットエアが、バイパス通路７２を通じて真空破壊弁切換用ピストン室７３へと供給され、真空破壊弁６９ｂをスプリング１０４の弾発力に抗して真空供給弁６９ａ側（矢印Ａ方向）に向かって変位させる。これにより、真空破壊弁６９ｂを構成するリング体１００ｂが弁座部１０２ｂから離間し、第２真空破壊用通路７８と第２連通路８４とが連通した状態となる（図３及び図４参照）。これにより、真空破壊用ポート２６から導入される圧力流体が、第１及び第２真空破壊用通路３４、７８を通じて第２連通路８４へと流通した後、真空ポート３０へと供給される。
【００５２】
一方、バイパス通路７２に供給されたパイロットエアは、その一部が分岐通路７４へと分岐してエゼクタ１４側へと流通し、大気導入弁４０の下部側に設けられたシリンダ室１０８へと導入される。これにより、大気導入弁４０を構成する弁体４４が、スプリング４８の弾発力に抗して上方（矢印Ｃ方向）へと変位し、前記弁体４４が弁座部４６から離間した弁開状態となる（図４参照）。これにより、排気ポート６４と連通したエゼクタ１４の排気室９６が、連通ポート９９を通じて大気導入弁４０の内部と連通し、それに伴って、フィルタユニット５０と真空ポート３０とが互いに連通する。その結果、排気ポート６４から導入された外気が、フィルタユニット５０を通じて真空ポート３０を通じて外部へと導出されることとなる。
【００５３】
すなわち、真空ポート３０への負圧流体の供給が停止され、ワークの吸着状態を解除可能な真空破壊時には、真空破壊用ポート２６から供給された流体が前記真空ポート３０へと供給されると共に、排気ポート６４から導入された外気が大気導入弁４０の切換作用下に前記真空ポート３０に対して供給されることとなる。
【００５４】
そして、この流体及び外気が、真空ポート３０を介して吸着パッド（図示せず）へと供給され、前記吸着パッドによるワークの吸着状態が解除される。
【００５５】
以上のように、本実施の形態では、メインボディ１２に設けられる大気導入弁４０を、スプリング４８の弾発作用下に常に弁閉状態とし、真空破壊時のみパイロットエアを供給することによって弁体４４を変位させて弁開状態とすることができる。すなわち、真空破壊弁６９ｂを駆動させて真空破壊を行う際に、パイロット圧を利用して行うことができるため、前記真空破壊弁６９ｂがエゼクタ１４と連動することがない。その結果、真空圧が外部から供給され、エゼクタ１４を備えていない真空ポンプシステムにも適用することができ、エゼクタ１４を備えた真空発生ユニット１０と、前記エゼクタ１４を備えていない真空発生ユニットとをそれぞれ別個に設定して使い分ける場合と比較し、設備コストを抑制することができる。
【００５６】
また、大気導入弁４０は、真空発生が停止した状態で弁閉状態となるため、真空供給弁６９ａを復帰させる復帰スプリングと、ディフューザ室９４にチェック弁とを設置することにより、非励磁状態となった場合でも真空保持を確実に行うことができると共に、排気エアが消費されないため、省エネルギ化を図ることができる。換言すれば、真空破壊時のみ弁開状態となり、大気開放状態となる。その結果、真空ポート３０に接続された吸着パッド（図示せず）を介して保持されたワークの保持状態がチェック弁を設置することによって好適に維持される。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施の形態に係る真空発生ユニットの全体縦断面図である。
【図２】図１の真空発生ユニットにおけるエゼクタ及び切換弁部近傍を示す拡大断面図である。
【図３】図１の真空発生ユニットにおいて真空破壊弁の切換作用下に真空状態が解除された状態を示す全体縦断面図である。
【図４】図３の真空発生ユニットにおけるエゼクタ及び切換弁部近傍を示す拡大断面図である。
【符号の説明】
【００５８】
１０…真空発生ユニット              １２…メインボディ
１４…エゼクタ                      １６…供給用パイロット弁
１８…真空破壊用パイロット弁        ２０…電磁弁部
２２…切換弁部                      ２４…供給ポート
２６…真空破壊用ポート              ２８…パイロットポート
３０…真空ポート                    ３８…ディフューザボディ
４０…大気導入弁                    ５０…フィルタユニット
５２…サブボディ                    ５４…排気ユニット
６４…排気ポート                    ６６…第１シリンダ室
６８…第２シリンダ室                ６９ａ…真空供給弁
６９ｂ…真空破壊弁                  ７１…真空供給弁切換用ピストン室
７２…バイパス通路                  ７３…真空破壊弁切換用ピストン室
７４…分岐通路                      ８８…ノズル
９９…連通ポート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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