【手続補正書】
【提出日】平成16年1月22日(2004.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧する基板保持装置において、
前記基板を保持するトップリング本体と、前記トップリング本体に固定されるか又は一体に設けられ基板の外周縁を保持するリテーナリングと、開口部を有した弾性膜で覆われ流体が供給されるトップリング本体内に設けられた流体室と、前記弾性膜の開口部に設けられるとともに連通孔を有した吸着部とを備え、前記流体室内に加圧流体を供給することにより前記基板を前記研磨面に押圧し、前記トップリング本体に押圧力を加えることにより前記リテーナリングを前記研磨面に押圧し、前記吸着部の連通孔を真空源に連通させることにより該吸着部により前記基板を吸着するようにしたことを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
前記流体室に供給する加圧流体の圧力を調整することにより基板に加わる研磨圧力を調整することを特徴とする請求項１記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記弾性膜は支持部材によって前記トップリング本体内で上下動可能に支持され、前記支持部材の前記トップリング本体に対する上下方向位置は規制部材により規制されることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記弾性膜は複数の開口部を有し、該複数の開口部に前記吸着部が設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記吸着部は前記支持部材に設けられていることを特徴とする請求項３記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記トップリング本体に押圧力を加える手段は、トップリング本体を上下動させる機構からなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項７】
ポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧する基板保持装置において、
前記基板を保持するトップリング本体と、
前記トップリング本体内に画成された空間内に設けられた開口部を有する弾性膜と、
前記弾性膜を保持する弾性膜支持部材と、
前記弾性膜の開口部に露出するように設けられた吸着部とを有し、
前記吸着部は、真空源に接続される連通孔を有し、さらに該吸着部の下端面には弾性シートが貼着されていることを特徴とする基板保持装置。
【請求項８】
研磨面を有する研磨テーブルと、ポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧するトップリングとを備え、
前記トップリング内に開口部を有した弾性膜により形成された流体室を設け、かつ前記弾性膜の開口部に連通孔を有した吸着部を設け、前記流体室内に加圧流体を供給することにより前記基板を前記研磨面に押圧し、前記吸着部の連通孔を真空源に連通させることにより該吸着部により前記基板を吸着するようにしたことを特徴とするポリッシング装置。
【請求項９】
前記トップリングはトップリング本体に固定されるか又は一体に設けられ基板の外周縁を保持するリテーナリングを備え、前記トップリング本体に押圧力を加えることにより前記リテーナリングを前記研磨面に押圧するようにしたことを特徴とする請求項８記載のポリッシング装置。
【請求項１０】
前記研磨面を、１９．６ＭＰａ（２００ｋｇ／ｃｍ２）以上の圧縮弾性係数を有する硬質の研磨部材で形成することを特徴とする請求項８記載のポリッシング装置。
【請求項１１】
前記硬質の研磨部材は、砥粒をバインダ中に固定し板状に形成した固定砥粒により構成されることを特徴とする請求項８記載のポリッシング装置。
【請求項１２】
研磨面を有する研磨テーブルと、ポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧する請求項１乃至７のいずれか１項に記載の基板保持装置とを備えたことを特徴とするポリッシング装置。
【請求項１３】
研磨面を有する研磨テーブルとトップリングとを有し、トップリングによりポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧することによって基板を研磨するポリッシング方法において、
前記トップリング内に弾性膜により形成された流体室に加圧流体を供給することにより、前記基板を流体圧により研磨面に押圧して研磨し、前記基板を前記研磨テーブルに搬出入する際に、前記弾性膜の開口部に設けられた吸着部の連通孔を真空源に連通させ該吸着部により前記基板を吸着することを特徴とするポリッシング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上述した目的を達成するため、本発明の基板保持装置の１態様は、ポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧する基板保持装置において、前記基板を保持するトップリング本体と、前記トップリング本体に固定されるか又は一体に設けられ基板の外周縁を保持するリテーナリングと、開口部を有した弾性膜で覆われ流体が供給されるトップリング本体内に設けられた流体室と、前記弾性膜の開口部に設けられるとともに連通孔を有した吸着部とを備え、前記流体室内に加圧流体を供給することにより前記基板を前記研磨面に押圧し、前記トップリング本体に押圧力を加えることにより前記リテーナリングを前記研磨面に押圧し、前記吸着部の連通孔を真空源に連通させることにより該吸着部により前記基板を吸着するようにしたことを特徴とするものである。
本発明の好ましい態様によれば、前記流体室に供給する加圧流体の圧力を調整することにより基板に加わる研磨圧力を調整する。
本発明の好ましい態様によれば、前記弾性膜は支持部材によって前記トップリング本体内で上下動可能に支持され、前記支持部材の前記トップリング本体に対する上下方向位置は規制部材により規制される。
本発明の好ましい態様によれば、前記弾性膜は複数の開口部を有し、該複数の開口部に前記吸着部が設けられている。
本発明の好ましい態様によれば、前記吸着部は前記支持部材に設けられている。
本発明の好ましい態様によれば、前記トップリング本体に押圧力を加える手段は、トップリング本体を上下動させる機構からなる。
本発明の基板保持装置の他の態様は、ポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧する基板保持装置において、前記基板を保持するトップリング本体と、前記トップリング本体内に画成された空間内に設けられた開口部を有する弾性膜と、前記弾性膜を保持する弾性膜支持部材と、前記弾性膜の開口部に露出するように設けられた吸着部とを有し、前記吸着部は、真空源に接続されている連通孔を有し、さらに該吸着部の下端面には弾性シートが貼着されていることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また本発明のポリッシング装置の１態様は、研磨面を有する研磨テーブルと、ポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧するトップリングとを備え、前記トップリング内に開口部を有した弾性膜により形成された流体室を設け、かつ前記弾性膜の開口部に連通孔を有した吸着部を設け、前記流体室内に加圧流体を供給することにより前記基板を前記研磨面に押圧し、前記吸着部の連通孔を真空源に連通させることにより該吸着部により前記基板を吸着するようにしたことを特徴とするものである。
本発明の好ましい態様によれば、前記トップリングはトップリング本体に固定されるか又は一体に設けられ基板の外周縁を保持するリテーナリングを備え、前記トップリング本体に押圧力を加えることにより前記リテーナリングを前記研磨面に押圧する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の好ましい態様によれば、前記硬質の研磨部材は、砥粒をバインダ中に固定し板状に形成した固定砥粒により構成される。
本発明の好ましい態様によれば、研磨面を有する研磨テーブルと、ポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧する前記基板保持装置とを備えている。
また本発明のポリッシング方法は、研磨面を有する研磨テーブルとトップリングとを有し、トップリングによりポリッシング対象物である基板を保持して研磨テーブル上の研磨面に押圧することによって基板を研磨するポリッシング方法において、前記トップリング内に弾性膜により形成された流体室に加圧流体を供給することにより、前記基板を流体圧により研磨面に押圧して研磨し、前記基板を前記研磨テーブルに搬出入する際に、前記弾性膜の開口部に設けられた吸着部の連通孔を真空源に連通させ該吸着部により前記基板を吸着することを特徴とするものである。