(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光導波路としての光導波路フィルム自体に合分波機能を持つフィルタ内蔵型光導波路を備えたＷＤＭモジュールであって、
光導波路フィルム内に設けられた複数のスリットと、
光素子から光導波路フィルム内に入射した波長λ1，λ2，λ3・・・λnの光を合波して該光導波路フィルムのコア内をその導光方向に沿って導く、または光導波路フィルムのコア内の光を該光導波路フィルム内にて波長λ1，λ2，λ3・・・λnの光に分波して光素子へ出射する、各波長λ1，λ2，λ3・・・λnに対応した複数の合分波フィルタと
をフィルタ内蔵型光導波路に備え、
前記複数の合分波フィルタは、前記光導波路フィルム自体の前記複数のスリットに挿入されて該光導波路フィルムの導光方向に沿って並設されるよう内蔵されており、
各合分波フィルタは、自己が担当する波長λ1，λ2，λ3・・・λnの一つを反射し、且つ他の波長を透過し、
各合分波フィルタは、光軸に対して斜めに設けられたチャープグレーティングフィルタで構成されており、当該チャープグレーティングフィルタの回折格子への光素子からの光の入射角または回折格子から光素子への光の出射角が大きくなるに従い、光軸に対する回折格子の傾斜角度が小さく、且つ回折格子間のピッチが大きくなっており、
前記光素子は、前記フィルタ内蔵型光導波路に埋め込まれている
ことを特徴とするＷＤＭモジュール。
【請求項２】
光素子は、フィルタ内蔵型光導波路の光導波路を構成する支持基板に埋め込まれていることを特徴とする請求項１記載のＷＤＭモジュール。
【請求項３】
光素子は、該光素子に設けられた突出電極および支持基板に形成されたスルーホール電極を介して、電気基板または半導体素子に電気的接続されることを特徴とする請求項２記載のＷＤＭモジュール。
【請求項４】
光素子は、フィルタ内蔵型光導波路の光導波路を構成するクラッドに埋め込まれていることを特徴とする請求項２記載のＷＤＭモジュール。
【請求項５】
光素子は、該光素子に設けられた、クラッドの外側に突出した電極を介して、電気基板または半導体素子に電気的接続されることを特徴とする請求項４記載のＷＤＭモジュール。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載のＷＤＭモジュールにより、各半導体チップの光Ｉ／Ｏポートおよびそれを結ぶ光配線が構成されていることを特徴とする光集積回路。
【請求項７】
請求項１ないし５のいずれかに記載のＷＤＭモジュールにおけるフィルタ内蔵型光導波路を作製する方法であって、
合分波フィルタ用の複数のスリットを形成した光導波路を、所定の角度に設けたステージに固定し、
複数の合分波フィルタをプローブに真空チャックし、
各合分波フィルタを対応するスリットに挿入し接着することを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項３に記載のＷＤＭモジュールを作製する方法であって、
予め合分波フィルタを内蔵させた光導波路上に、突出電極を有する光素子を貼り付け、
光導波路を構成する支持基板を、光素子を覆い且つ光導波路のクラッドを支持するようコーティングし、
支持基板にスルーホール電極を形成し、
前記突出電極を有する光素子及びスルーホールを有する支持基板を持つ光導波路を電気基板または半導体素子上に搭載することを特徴とする方法。
【請求項９】
支持基板をクラッドと同じ材料を用いてコーティングする請求項８に記載の方法。                                                                                
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、ＣＷＤＭ（Coarse Wavelength Division Multiplexing：低密度波長分割多重）に特に有用な、ＷＤＭ(Wavelength Division Multiplexing：波長分割多重)により高速光信号伝送が可能なフィルタ内蔵型光導波路およびＷＤＭモジュール、ならびにそれらを用いた光集積回路に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＷＤＭモジュールについては、光素子の上に光導波路とは別の個別部品としての合分波器を実装し、さらにこの合分波器に光入出力用の光導波路を接続した構成のものが知られている（たとえば非特許文献１，２参照）。非特許文献１には、波長９９０〜１０８０ｎｍの間の４波多重のＣＷＤＭモジュール、非特許文献２には、波長７７８〜８６４ｎｍの間の８波多重のＣＷＤＭモジュールが開示されている。
【０００３】
これらの他にも、ＷＤＭを利用した光通信については盛んに研究開発が進んでおり、たとえば、光導波路に設けた斜めの溝に波長選択性を持つＷＤＭフィルタを挿入させることが知られている（たとえば特許文献１−３参照）。特許文献３には、ＷＤＭフィルタとして透明な誘電体多層膜からなるフィルタを用い、２種類あるいはそれ以上の種類の屈折率の異なる誘電体膜を交互に積層して所望の反射・透過特性を実現することが開示されている。
【非特許文献１】Brian E. Lemoff et.al., "MAUI: Enabling Fiber-to-the-Processor WithParallel Multiwavelength Optical Interconnects", JOURNAL OF LIGHTWAVETECHNOLOGY, VOL.22, NO.9, pp.2043-2054, 2004.
【非特許文献２】Eric B. Grann, "Low Cost CWDM Optical Transceivers", Proc.51st Electronic Components Technological Conference, pp.26-29, 2001.
【特許文献１】特開２００５−９４１６０号公報
【特許文献２】特開２００４−２０９７３号公報
【特許文献３】特開２００３−２５８３６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来のＷＤＭモジュールでは、合分波器が光導波路とは個別のブロック部品となっており、小型化は進んでいるものの、モジュールの全体サイズの低減に限界があった。
【０００５】
光導波路の溝にＷＤＭフィルタを挿入した従来構造においても、ＷＤＭフィルタは光導波路に対して著しく大きく、やはり別部品であると言え、光導波路とＷＤＭフィルタを一体化させた構造と呼ぶには程遠いものである。
【０００６】
そこで、以上のとおりの事情に鑑み、本願発明は、光導波路内に合分波機能を持たせ、光導波路と合分波器を一体化した高密度実装により、モジュールサイズの極小化、および組み立て工数低減による低コスト化を図ることのできるフィルタ内蔵型光導波路、ならびにこれを用いた小型且つ安価なＷＤＭモジュールおよび光集積回路を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願発明のフィルタ内蔵型光導波路は、上記の課題を解決するものとして、光素子から入射した波長λ１，λ２，λ３・・・λｎの光を合波して光導波路のコア内へ導く、または光導波路のコア内の光を波長λ１，λ２，λ３・・・λｎの光に分波して光素子へ出射する、各波長λ１，λ２，λ３・・・λｎに対応した複数の合分波フィルタが、光導波路内にてその導光方向に沿って並設されており、各合分波フィルタは、自己が担当する波長λ１，λ２，λ３・・・λｎの一つを反射し、且つ他の波長を透過することを特徴とする。
【０００８】
第２には、各合分波フィルタは、誘電体多層膜フィルタまたはチャープグレーティングフィルタで構成されていることを特徴とする。
【０００９】
第３には、各合分波フィルタは、光軸に対して斜めに設けられた誘電体多層膜フィルタで構成されていることを特徴とする。
【００１０】
第４には、各合分波フィルタは、光素子の発光中心または受光中心の直上に位置し、且つ光軸に対して斜めに形成されたチャープグレーティングフィルタで構成されており、当該チャープグレーティングフィルタ内において、回折光がブラッグ条件を満たし、且つ光素子の発光中心または受光中心に焦点を有するように、回折格子を光軸に対して傾け、且つ回折格子間のピッチをチャープさせた構造となっていることを特徴とする。
【００１１】
第５には、各合分波フィルタは、光軸に対して斜めに設けられたチャープグレーティングフィルタで構成されており、当該チャープグレーティングフィルタの回折格子への光素子からの光の入射角または回折格子から光素子への光の出射角が大きくなるに従い、光軸に対する回折格子の傾斜角度が小さく、且つ回折格子間のピッチが大きくなっていることを特徴とする。
【００１２】
第６には、光導波路内に複数のスリットが設けられ、各スリットに合分波フィルタが挿入されていることを特徴とする。
【００１３】
第７には、光導波路が、光導波路フィルムまたは光ファイバであることを特徴とする。
【００１４】
また、本願発明のＷＤＭモジュールは、上記の課題を解決するものとして、第８には、前記フィルタ内蔵型光導波路を備えたことを特徴とする。
【００１５】
第９には、前記フィルタ内蔵型光導波路が光素子上に備えられていることを特徴とする。
【００１６】
第１０には、波長λ１，λ２，λ３・・・λｎの光を発光または受光する光素子上に前記フィルタ内蔵型光導波路が備えられており、同じ波長を担当する光素子と合分波フィルタは、当該波長の光が互いに入出射できる位置にあることを特徴とする。
【００１７】
第１１には、前記フィルタ内蔵型光導波路に光素子が埋め込まれていることを特徴とする。
【００１８】
そして、本願発明の光集積回路は、上記の課題を解決するものとして、第１２には、前記フィルタ内蔵型光導波路により、各半導体チップの光Ｉ／Ｏポート間が光配線されていることを特徴とする。
【００１９】
第１３には、前記ＷＤＭモジュールにより、各半導体チップの光Ｉ／Ｏポートおよびそれを結ぶ光配線が構成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
上記第１〜第７の発明によれば、上記のとおりの合分波フィルタを光導波路内に具備させることで、光導波路そのものに合分波機能を持たせ、光導波路と合分波器を一体化した高密度実装を可能ならしめ、これにより、ＷＤＭモジュールサイズの極小化、および組み立て工数低減による低コスト化を実現するフィルタ内蔵型光導波路が提供される。
【００２１】
上記第８〜第１１の発明によれば、上記フィルタ内蔵型光導波路を上記のとおりに受発光機能を持つ光素子とともに具備した、小型且つ低コストなＷＤＭモジュールが提供される。
【００２２】
そして、第１２および第１３の発明によれば、光配線や光Ｉ／Ｏポートとして上記フィルタ内蔵型光導波路または上記ＷＤＭモジュールを用いた、小型且つ低コストな光集積回路が実現される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
［フィルタ内蔵型光導波路およびＷＤＭモジュールに関する実施形態１］
図１および図２は、各々、本願発明の一実施形態を示したものである。
【００２４】
これら図１および図２において、１はフィルタ内蔵型光導波路、２は光導波路、３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄは合分波フィルタ（ＷＤＭフィルタとも呼べる）、４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄは光素子であり、１０はフィルタ内蔵型光導波路１と光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄを一体化させた４波長多重のＷＤＭモジュールである。
【００２５】
まず、フィルタ内蔵型光導波路１は、コア２１およびクラッド２２を持つ光導波路２に、四つの合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄが内蔵されたものである。
【００２６】
合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄは、それぞれ、光導波路２内にてその導光方向に沿って並設されており、たとえば光軸に対して斜めの複数のスリットがコア２１を中心に形成され、これに挿入固定されている。その寸法の一例としては、コア２１に沿って２５０μｍ間隔に、幅２０μｍ、深さ５００μｍ程度のスリットを設け、それらに挿入する。
【００２７】
挿入プロセスは、たとえば図３および図４に例示したように市販の自動機などによって行うことができる。より具体的には、まず、予め必要本数のスリット３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄを形成した光導波路２を、約４５度までの範囲内で所定の角度に設けたステージ９に真空チャック等により固定する。他方、市販の自動機などに備え付けのプローブ３１を用いて、合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄの真空チャックを行う。そして、この状態を保った合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄを、対応するスリット３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄの中に順に落とし込み、透光性樹脂により接着する。もちろん、図４のように複数個のフィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄを１つの部品として形成し、一括装着することも可能である。
【００２８】
これら各合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄは、光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄから入射した波長λ１，λ２，λ３，λ4の光を合波して一本の光導波路２のコア２１内へ導く（図１参照）、または一本の光導波路２のコア２１内を進んできた波長多重光を波長λ１，λ２，λ３，λ4の光に分波して光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄへ出射する（図２参照）ものであり、それぞれ担当する波長λ１，λ２，λ３，λ4の一つを反射し、且つ他の波長を透過する波長選択性を有している。
【００２９】
たとえば、図１において、合分波フィルタ３ａは波長λ１のみを反射し、他の波長λ２，λ３，λ4を透過させ、合分波フィルタ３ｂは波長λ２のみを反射し、他の波長λ１，λ３，λ4を透過させ、以後の合分波フィルタ３ｃ，３ｄも同様な波長選択性を持つ。
【００３０】
さらに説明すると、合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄとしては、誘電体多層膜フィルタまたはチャープグレーティングフィルタを用いることが好ましい。
【００３１】
誘電体多層膜フィルタの場合、目的の波長帯に合わせて作製したものを用い、寸法および形状については、たとえば４素子アレイ／波長の場合では、厚み２０μｍ、高さ０．５ｍｍ以下、幅１〜２．５ｍｍ程度の直方体のフィルタを採用できる。
【００３２】
また、フィルタ特性については、たとえば、各フィルタのＣＷＤＭ波長間隔１０〜２０ｎｍ、各フィルタ帯域＋／−５〜１０ｎｍ（−３ｄＢの場合）、挿入損失１〜２ｄＢ以下などとすることができる。
【００３３】
チャープグレーティングフィルタの場合では、たとえば図５に例示したように、それぞれ、波長λ１，λ２，λ３，λ4のうちの同じ波長を担当する光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの発光中心または受光中心の直上に位置し、且つ光軸に対して斜めに形成され、そのフィルタ内において、回折光がブラッグ条件を満たし、且つ光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの発光中心または受光中心に焦点を有するように、回折格子を光軸に対して予め求めたある一定の角度範囲で傾け、且つ回折格子間のピッチを予め求めたある一定の範囲でチャープつまり変化させた構造とする。
【００３４】
すなわち、当該チャープグレーティングフィルタの回折格子への光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄからの光の入射角θ、または回折格子から光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄへの光の出射角θが大きくなるに従い、光軸に対する回折格子の傾斜角度を小さく、且つ回折格子間のピッチを大きく設定している。
【００３５】
図５の実施形態において、各チャープグレーティングフィルタの一つ一つの回折格子は、図中の左から右に向かうにつれて、光の入射角θ（分波の場合は出射角θ）が大きくなっており、これに従い徐々に、その光の光軸に対する傾斜角が小さく、且つピッチが広くなっている。
【００３６】
具体的な数値例としては、たとえば、波長０．６３ｎｍの場合において、角度範囲４５．７°〜４６．４°、ピッチ０．２９４μｍ〜０．３０２μｍ、グレーティング長１００μｍ、回折格子の本数約１００本に設定できる。他の波長に対しても、同様にして適宜求めた数値範囲で設定する。
【００３７】
材質については、たとえば、０．８５μｍ短波長帯ではエポキシ、１．３μｍ長波長帯ではフッ素化ポリイミドなどを用いることができる。
【００３８】
作製手法は、たとえば、干渉光を照射して干渉縞により屈折率の大小を形成する公知のホログラフィック干渉法（Stephen M. Schultz et.al,"Volume grating preferential-order focusing waveguide coupler", OPTICS LETTERS, Vol.24, No.23, 1999）などを採用できる。
【００３９】
以上のとおりの合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄにより、光導波路２自体に波長の分岐および挿入機能、つまり合分波機能を持たせたフィルタ内蔵型光導波路１が実現されることとなる。
【００４０】
なお、上述した各数値や材質などは一例であって、光導波路２内に組み込まれた状態で適切なＷＤＭを実現することができれば特に限定されるものではない。
【００４１】
合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄが組み込まれる光導波路２としては、光導波路フィルムや光ファイバなどを採用できる。
【００４２】
そして、これら光導波路フィルムおよび光ファイバのいずれの場合であっても、合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄを内蔵したフィルタ内蔵型光導波路１は、光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ上に、互いに接触した状態（図１および図２参照）あるいは近接した状態（図５参照）で搭載することができ、これにより、低背高化が図られた４波長多重のＷＤＭモジュール１０が実現される。
【００４３】
このとき、同じ波長を担当する光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄと合分波フィルタ３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄは、その波長の光が互いに入出射できる位置となるように位置合わせされる。
【００４４】
光素子４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄについては、互いに異なる波長λ１，λ２，λ３，λ4で作動する面発光レーザ（Vertical Cavity Surface Emitting Laser：ＶＣＳＥＬ）等の発光素子や受光素子を用いることができる。図１および図２の実施形態では、貫通電極５１および薄膜配線５２を具備した配線基板５上にて、波長間隔数ナノメールから数１０ナノメートル単位で一列に集積実装されており、同じく実装されている駆動ＩＣ６により制御される。
【００４５】
また、たとえば、各波長を有する一つのモノリシック型アレイ形態、または波長毎に個別の複数素子形態を採用できる。いずれの場合でも、発光点または受光点の間隔は、たとえば２５０μｍ程度とすることができる。もちろん、図面に垂直な奥行き方向にも配列可能であり、この場合でも詰めて整列させることで、奥行き方向にたとえば２５０μｍ程度の発光点または受光点の間隔とできる。  もちろん、４波長多重だけでなく、それ以下またはそれ以上の波長多重も可能であることは言うまでもない。分割多重する波長λ１，λ２，λ３・・・λｎの数ｎに合わせて、上述した実施形態と同様に合分波フィルタ３を光導波路２に内蔵させ、光素子４を配線基板５上に搭載させ、これらを一体化させればよく、ＣＷＤＭに特に有用なＷＤＭモジュール１０を実現できる。
【００４６】
以上のＷＤＭモジュール１０の実装形態としては、単一のフィルタ内蔵型光導波路１を発光素子および受光素子上に搭載したＴＲｘトランシーバ・モジュール形態や、個別のフィルタ内蔵型光導波路１を各々発光素子および受光素子上に一対一に搭載した送信Ｔｘ、受信Ｒｘモジュール形態を考慮できる。
【００４７】
また、たとえば、光素子４上にフィルタ内蔵型光導波路１を搭載させる他に、フィルタ内蔵型光導波路１上に光素子４を貼り付ける形態も可能である。いずれの形態でも、たとえば図６に例示したように、透光性樹脂７を用いて、ＵＶ光照射や加熱等による樹脂硬化接着によって直接貼り付けできる。
【００４８】
この場合の光素子４としては、通常の厚みのものはもちろんのこと、エピタキシャル・リフト・オフ（Epitaxial Lift Off：略称ELO）等により厚み１０μｍ程度に薄片化したものも採用できる。
【００４９】
図６における光素子４は、フィルタ内蔵型光導波路１との接着側とは反対側に突出した電極４０を有しており、これを介して電気基板８（またはＬＳＩ等の半導体素子）に電気的接続される。
【００５０】
［フィルタ内蔵型光導波路およびＷＤＭモジュールに関する実施形態２］
フィルタ内蔵型光導波路１と光素子４との関係については、さらに、たとえば図７および図８に例示したように、フィルタ内蔵型光導波路１内に光素子４を埋め込んだ形態も可能である。
【００５１】
図７では、光素子４は、フィルタ内蔵型光導波路１の光導波路２を構成する支持基板２３に埋め込まれている。図８では、支持基板２３のない形態の光導波路２を構成するクラッド２２に埋め込まれている。
【００５２】
これらの場合の光素子４としては、たとえばＥＬＯ等により厚み１０μｍ程度に薄片化したものが好ましい。
【００５３】
図７における光素子４は、それに設けられた突出電極４０および支持基板２３に貫通形成したスルーホール電極２３１を介して、支持基板２３の底部に当接された電気基板８（またはＬＳＩ等の半導体素子）に電気的接続されている。図８の光素子４は、電極４０のみがクラッド２２の外側に突出して、クラッド２２の底部に近接配置された電気基板８に電気的接続されている。
【００５４】
なお図７の形態では、支持基板２３がクラッド２２と同じポリマ材等のクラッド材で形成されており、コア２１およびクラッド２２とともに光導波路２を一体構成している。無論、支持基板２３として、クラッド材とは異なるポリマ材を使用することも可能である。
【００５５】
いずれのプロセス技術によっても、ＷＤＭモジュール１０のさらなる小型化が可能になる。
【００５６】
［フィルタ内蔵型光導波路およびＷＤＭモジュールに関する実施形態３］
ここで、図７に例示したフィルタ内蔵型光導波路１およびＷＤＭモジュール１０の作製プロセスの一例について、図９（ａ）〜（ｅ）および図１０（ａ）〜（ｄ）を適宜参酌しながら説明する。
【００５７】
まず、合分波フィルタ３が誘電体多層膜フィルタ等の場合では、図９（ａ）に例示したように、予め合分波フィルタ３用のスリット３０を形成した光導波路２上に、ＥＬＯ等により薄片化した突出電極４０を有する光素子４を透光性樹脂７により直接貼り付ける。その接着は、裏面からのＵＶ光照射や加熱等により透光性樹脂７を硬化させて行う。続いて、図９（ｂ）に例示したように、クラッド２２と同じポリマ材等を用いて、支持基板２３を、光素子４を覆い且つクラッド２２を支持できる形態にスピンコート等によりコーティングする。無論、支持基板２３として、クラッド材とは異なるポリマ材を使用することも可能である。次に、図９（ｃ）に例示したように、その支持基板２３にスルーホール電極２３１を形成する。そして、図９（ｄ）（ｅ）に例示したように、これを電気基板８（またはＬＳＩ等の半導体素子）上に搭載した状態で、スリット３０に合分波フィルタ３を挿入する。フィルタ挿入プロセスについては前述の図３および図４を参照のこと。
【００５８】
一方、合分波フィルタ３が前述の図５に例示したようなチャープグレーティングフィルタである場合には、図１０（ａ）に例示したように、予め合分波フィルタ３を光導波路２に内蔵させておき、このフィルタ内蔵型光導波路１に対して、図１０（ｂ）〜（ｄ）に例示したように、上記と同様な支持基板２３およびスルーホール電極２３１の形成、ならびに電気基板８への搭載処理を行う。
【００５９】
［光集積回路に関する実施形態］
以上のとおりのフィルタ内蔵型光導波路１およびＷＤＭモジュール１０を用いることで、たとえば図１１に例示したように、ボード１０１内のメモリ１０２やＣＰＵ１０３等の半導体チップ間の光伝送を実現した光集積回路１００が実現される。
【００６０】
より具体的には、図１１の実施形態では、ボード１０１上のメモリ１０２およびＣＰＵ１０３の間を結ぶ光Ｉ／Ｏポートおよび光配線が、各メモリ１０２からの各波長の光信号を合波して一本のフィルタ内蔵型光導波路１に導くいわゆるマルチプレクサ（Multiplexer：略称ＭＵＸ）として実装されているＷＤＭモジュール１０ａ、およびフィルタ内蔵型光導波路１を伝送されてきた波長多重光信号を元の各波長に分波するいわゆるディマルチプレクサ（DeMultiplexer：略称ＤＥＭＵＸ）として実装されているＷＤＭモジュール１０ｂで構成されている。
【００６１】
これにより、チップ間伝送をフィルタ内蔵型光導波路１およびＷＤＭモジュール１０で担う、小型化および低コスト化をさらに一層進めた光集積回路１００を実現することができる。
【００６２】
光集積回路１００については、図１１のベアチップ形態とも呼べる実装形態のみならず、ルータやサーバ等のボード間、筐体間伝送などといったモジュール形態とすることもできる。フィルタ内蔵型光導波路１およびＷＤＭモジュール１０をボード間や筐体間に適用させればよい。
【００６３】
いずれの形態であっても、従来より狭い空間内での高密度実装が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本願発明のフィルタ内蔵型光導波路およびＷＤＭモジュールの一実施形態を示した断面図である。
【図２】本願発明のフィルタ内蔵型光導波路およびＷＤＭモジュールの別の一実施形態を示した断面図である。
【図３】フィルタ挿入プロセスについて説明するための図である。
【図４】フィルタ挿入プロセスについて説明するための図である。
【図５】合分波フィルタの拡大断面図である。
【図６】フィルタ内蔵型光導波路に光素子を直接貼り付けた一実施形態を示した断面図である。
【図７】フィルタ内蔵型光導波路に光素子を埋め込んだ一実施形態を示した断面図である。
【図８】フィルタ内蔵型光導波路に光素子を埋め込んだ一実施形態を示した断面図である。
【図９】（ａ）〜（ｅ）はモジュール作製プロセスについて説明するための図である。
【図１０】（ａ）〜（ｄ）はモジュール作製プロセスについて説明するための図である。
【図１１】本願発明の光集積回路の一実施形態を示した平面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１  フィルタ内蔵型光導波路
２  光導波路
２１  コア
２２  クラッド
２３  支持基板
２３１  スルーホール電極
３，３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ  合分波フィルタ
３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ  スリット
３１  プローブ
４，４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ  光素子
４０  電極（突出電極）
５  配線基板
５１  貫通電極
５２  薄膜配線
５３  半田ボール
６  駆動ＩＣ
７  透光性樹脂
８  電気基板（またはLSI等の半導体素子）
９  ステージ
１０，１０ａ，１０ｂ  ＷＤＭモジュール
１００  光集積回路
１０１  ボード（基板）
１０２  メモリ
１０３  ＣＰＵ
【図１】
0004831667.tif 000002
【図２】
0004831667.tif 000003
【図３】
0004831667.tif 000004
【図４】
0004831667.tif 000005
【図５】
0004831667.tif 000006
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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