(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン（Ｓｉ）半導体からなる基板上に、部分的に基板表面から浮き上がって形成された、立体構造のシリコン酸化膜を有してなる半導体装置であって、
前記立体構造が、前記基板表面から浮き上がって形成された部分が線状に連なった波の山部をなす、波形構造であることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記基板表面に、ストライプ状の溝が、複数本、略平行に形成され、
前記シリコン酸化膜の波形構造が、前記複数本の溝に挟まれた基板上に、前記線状に連なった波の山部が前記溝のストライプ方向と略垂直に交わるようにして、形成されてなることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記シリコン酸化膜が、ストライプ状のパターンに形成されてなり、
前記シリコン酸化膜の波形構造が、前記線状に連なった波の山部が前記パターンのストライプ方向と略垂直に交わるようにして、形成されてなることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記シリコン酸化膜が、形成方法の異なる多層膜からなり、
前記基板との界面を構成する下層膜が、熱酸化膜であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記シリコン酸化膜上に、ポリシリコン膜が形成されてなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記ポリシリコン膜が、薄膜抵抗として用いられることを特徴とする請求項５に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記ポリシリコン膜が、太陽電池として用いられることを特徴とする請求項５に記載の半導体装置。
【請求項８】
前記シリコン酸化膜上に、容量素子が形成されてなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項９】
前記シリコン酸化膜上に、センサ素子が形成されてなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、容易に製造することができ、小さな面積で高機能を付加することのできる、立体構造を有してなる半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体基板上に形成する抵抗素子は、同じ占有面積であっても立体構造とすることで抵抗長を長くすることができ、平面構造の抵抗素子に較べて抵抗値を増大させることができる。例えば、ポリシリコン薄膜抵抗は、クロム−シリコン（Ｃｒ−Ｓｉ）合金薄膜抵抗等と比べ、一般的なポリシリコン工程を利用して容易に形成することができる反面、得られるポリシリコン膜自体の抵抗値は低い。従って、立体構造のポリシリコン薄膜抵抗を形成することができれば、小さな占有面積で高抵抗値を有し、かつ安価な抵抗素子とすることができる。同様に、容量素子についても、立体構造とすることで電極面積を大きくとることができ、平面構造の容量素子に較べて容量値を増大させることができる。このように、半導体基板上に形成する抵抗素子や容量素子は、立体構造とすることで、平面構造の抵抗素子や容量素子に較べて、小さな面積で大きな抵抗値や容量値を付加させることができる。
【０００３】
上記のように、小さな面積で高機能が付加された立体構造の抵抗素子や容量素子を有してなる半導体装置およびその製造方法が、例えば、特開平７−１２２７１０号公報（特許文献１）、特開２００１−５３２５０号公報（特許文献２）、特開２００２−１１８１８１号公報（特許文献３）に開示されている。
【０００４】
特許文献１に開示された半導体装置においては、抵抗体を絶縁膜で被覆した後、ドライエッチで横に溝を掘り、そこからエッチング液を流し込むことで抵抗体の下に空洞を設ける。又、基板を鋳型にして立体構造の抵抗体を設ける。これによって、マイクロ波領域での抵抗素子のインピーダンス変動を低減している。
【０００５】
特許文献２に開示された半導体装置およびその製造方法は、立体構造を有する第１電極と、第１電極に対向して形成された第２電極と、第１および第２電極間に形成されたキャパシタ絶縁膜とからなる情報蓄積用容量素子を含む半導体装置およびその製造方法に関する。これによれば、深孔内に表面が粗面化された多結晶シリコン膜を形成した後、シリコン酸窒化膜、第１および第２酸化タンタル膜からなるキャパシタ絶縁膜を形成し、アスペクト比が高い深孔内においても均一性の高い膜となるようにしている。
【０００６】
特許文献３では、導電層に立体形状を与えるための絶縁層を採用する半導体素子の製造方法が開示されている。これによれば、半導体基板上に蒸着変数を可変して固有エッチング率が深さ方向に増加する絶縁層を形成し、貫通孔を形成するために絶縁層を選択的にエッチングして、ストレージ電極の３次元構造の高さ増加で有効表面積を増加している。
【特許文献１】特開平７−１２２７１０号公報
【特許文献２】特開２００１−５３２５０号公報
【特許文献３】特開２００２−１１８１８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記した特許文献１〜３の半導体装置は、小さな面積で高機能が付加された立体構造の抵抗素子や容量素子を有している反面、これら素子の高機能の基となる立体構造の形成には、複雑な工程や多くの工程を要する。
【０００８】
そこで本発明は、容易に製造することができ、小さな面積で高機能を付加することのできる、立体構造を有してなる半導体装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、シリコン（Ｓｉ）半導体からなる基板上に、部分的に基板表面から浮き上がって形成された、立体構造のシリコン酸化膜を有してなる半導体装置であって、前記立体構造が、前記基板表面から浮き上がって形成された部分が線状に連なった波の山部をなす、波形構造であることを特徴としている。
【００１０】
上記半導体装置では、シリコン酸化膜からなり、基板表面から浮き上がって形成された部分が線状に連なった波の山部をなす、波形構造の立体構造が形成されており、この立体構造を用いて、小さな面積で高機能を付加した半導体装置とすることができる。例えば、立体構造のシリコン酸化膜上に抵抗素子や容量素子を形成し、これらを立体構造とすることで、平面構造の抵抗素子や容量素子に較べて、小さな面積で大きな抵抗値や容量値を付加させることができる。また、上記立体構造はシリコン酸化膜が部分的にシリコン基板表面から浮き上がって形成されたものであり、上記立体構造を有する当該半導体装置は、容易に製造することができる。
例えば請求項２に記載のように、前記基板表面に、ストライプ状の溝が、複数本、略平行に形成されることで、前記シリコン酸化膜の波形構造が、前記複数本の溝に挟まれた基板上に、前記線状に連なった波の山部が前記溝のストライプ方向と略垂直に交わるようにして、安定的に形成される。
また、請求項３に記載のように、前記シリコン酸化膜が、ストライプ状のパターンに形成される場合にも、前記シリコン酸化膜の波形構造が、前記線状に連なった波の山部が前記パターンのストライプ方向と略垂直に交わるようにして、安定的に形成される。
【００１２】
請求項４に記載のように、上記半導体装置においては、前記シリコン酸化膜が、形成方法の異なる多層膜からなり、前記基板との界面を構成する下層膜を、熱酸化膜とすることが好ましい。
【００１３】
シリコン基板との界面を構成する下層膜を熱酸化膜とすることで、他の形成方法によるシリコン酸化膜に較べて均一な界面を得ることができ、立体構造を安定的に形成することができる。また、上記熱酸化膜と他の形成方法によるシリコン酸化膜を組み合わせて多層化することで、任意膜厚のシリコン酸化膜を、安価に形成することができる。
【００１７】
請求項５に記載のように、上記半導体装置は、例えば、前記シリコン酸化膜上に、ポリシリコン膜が形成されてなるように構成することができる。このシリコン酸化膜上に形成されるポリシリコン膜は、シリコン酸化膜と同じ立体構造（波形構造）を有している。
【００１８】
請求項６に記載のように、前記ポリシリコン膜は、例えば、薄膜抵抗として用いることができる。
【００１９】
ポリシリコン薄膜抵抗は、クロム−シリコン（Ｃｒ−Ｓｉ）合金薄膜抵抗等と比べ、一般的なポリシリコン工程を利用して容易に形成することができる反面、得られるポリシリコン膜自体の抵抗値は低い。しかしながら、上記ポリシリコン薄膜抵抗は、立体構造を有している。このため、平面構造を有するポリシリコン薄膜抵抗と較べて、小さな占有面積で高抵抗値を有し、かつ安価な抵抗素子とすることができる。
【００２０】
また、請求項７に記載のように、前記ポリシリコン膜は、例えば、太陽電池として用いることもできる。上記ポリシリコン膜からなる太陽電池は、立体構造を有しており、平面構造の太陽電池に較べて同じ占有面積であっても表面積（受光面積）が広く、高機能の太陽電池とすることができる。
【００２１】
請求項８に記載のように、上記半導体装置は、例えば、前記シリコン酸化膜上に、容量素子が形成されてなるように構成することもできる。
【００２２】
上記容量素子についても、立体構造を有しているため、平面構造の容量素子に較べて電極面積を大きくとることができ、容量値を増大させることができる。
【００２３】
また、請求項９に記載のように、前記シリコン酸化膜上に、センサ素子が形成されてなるように構成することもできる。
【００２４】
例えば、ガスセンサ素子を形成する場合、立体構造を有しているため、平面構造のガスセンサ素子に較べてガスを吸着するための表面積を大きくとることができ、高感度のガスセンサ素子とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図に基づいて説明する。
【００３６】
図１（ａ），（ｂ）は本発明の半導体装置の一例で、（ａ）は半導体装置１０の斜め上から見たＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）像であり、（ｂ）は（ａ）の右側方向（溝に垂直な方向）から見た模式的な断面図である。
【００３７】
図１（ａ），（ｂ）に示す半導体装置１０は、シリコン（Ｓｉ）半導体からなる基板１上に、部分的に基板１表面から浮き上がって形成された、立体構造のシリコン酸化膜２を有している。
【００３８】
図１（ａ）に示すように、基板１の表面にはストライプ状の溝が、複数本、略平行に形成されている。複数本の溝に挟まれた基板１上にあるシリコン酸化膜２の立体構造は、基板１の表面から浮き上がって形成された部分が線状に連なった波の山部をなす、波形構造となっている。この波形構造の線状に連なった波の山部は、基板１の溝のストライプ方向と略垂直に交わるようにして、溝のストライプ方向に繰り返し形成されている。言い換えれば、上記波形構造は、溝に挟まれた基板１上にあるストライプ状のパターンに形成されたシリコン酸化膜２が、波型に変形し、波の谷部がシリコン基板１に接合した構造となっている。
【００３９】
上記シリコン酸化膜２の立体構造（波形構造）は、後述するように、基板１上に形成された平坦なシリコン酸化膜を水素アニール処理して形成される。図１（ａ）にある基板１の表面に形成されたストライプ状の溝は、後述するように、上記したシリコン酸化膜２の波形構造を安定的に形成するためのものである。尚、安定的な波形構造を形成するためには、図１（ａ）において、基板１の表面に形成されたストライプ状の溝の代わりに、シリコン酸化膜２のみが、ストライプ状のパターンに形成されていてもよい。
【００４０】
図１（ａ），（ｂ）に示す半導体装置１０のシリコン酸化膜２は、形成方法の異なる２層の膜で構成されている。シリコン基板１との界面を構成する下層膜が、シリコン基板１の熱酸化膜となっており、上層膜が、ＮＳＧ（Non-doped Silicate Glass）膜となっている。シリコン酸化膜２のトータル厚さは、３００ｎｍである。
【００４１】
上記のように、シリコン基板１との界面を構成する下層膜を熱酸化膜とすることで、他の形成方法によるシリコン酸化膜に較べて均一な界面を得ることができ、立体構造を安定的に形成することができる。また、上記のように、熱酸化膜と他の形成方法によるシリコン酸化膜を組み合わせて多層化することで、任意膜厚のシリコン酸化膜２を、安価に形成することができる。
【００４２】
図１（ａ），（ｂ）に示す半導体装置１０では、シリコン酸化膜２からなる立体構造が形成されており、この立体構造を用いて、小さな面積で高機能を付加した半導体装置することができる。例えば、立体構造のシリコン酸化膜２上に抵抗素子や容量素子を形成し、これらを立体構造とすることで、平面構造の抵抗素子や容量素子に較べて、小さな面積で大きな抵抗値や容量値を付加させることができる。
【００４３】
図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ、半導体装置１０ａと半導体装置９０の模式的な断面図で、立体構造の抵抗素子を有する本発明の半導体装置１０ａと平面構造の抵抗素子を有する従来の半導体装置９０を比較して示した図である。
【００４４】
図２（ａ）に示す半導体装置１０ａは、図１（ｂ）の半導体装置１０のシリコン酸化膜２上に、薄膜抵抗として用いられるポリシリコン膜３を形成した半導体装置である。立体構造（波形構造）のシリコン酸化膜２上に形成されたポリシリコン膜３は、シリコン酸化膜２と同じ立体構造（波形構造）の抵抗素子となる。一方、図２（ｂ）に示す半導体装置９０は、図２（ａ）と同じ抵抗値を有する抵抗素子を、平面構造で形成している。図２（ｂ）の半導体装置９０においては、平坦なシリコン酸化膜２ａ上に、平坦なポリシリコン膜３ｂからなる薄膜抵抗が形成されている。
【００４５】
ポリシリコン膜３，３ａからなる薄膜抵抗は、クロム−シリコン（Ｃｒ−Ｓｉ）合金薄膜抵抗等と比べ、一般的なポリシリコン工程を利用して容易に形成することができる反面、得られるポリシリコン膜３，３ａ自体の抵抗値は低い。しかしながら、図２（ａ）に示す半導体装置１０ａのポリシリコン薄膜抵抗３は、立体構造を有している。このため、図２（ｂ）に示す半導体装置９０の平面構造を有するポリシリコン薄膜抵抗３ａと較べて、小さな占有面積で高抵抗値を有し、かつ安価な抵抗素子とすることができる。
【００４６】
また、図２（ａ）に示す半導体装置１０ａのポリシリコン膜３は、例えば、太陽電池として用いることもできる。図２（ａ），（ｂ）を比較してわかるように、立体構造（波形構造）のポリシリコン膜３からなる太陽電池は、平面構造の太陽電池に較べて同じ占有面積であっても表面積（受光面積）が広く、高機能の太陽電池とすることができる。
【００４７】
一方、ポリシリコン膜３を形成する代わりに、図１（ｂ）の半導体装置１０のシリコン酸化膜２上に下層電極膜／誘電体膜／上層電極膜を形成して、積層型の容量素子が形成されてなる半導体装置としてもよい。立体構造（波形構造）のシリコン酸化膜２上に形成された下層電極膜／誘電体膜／上層電極膜からなる積層型容量素子は、シリコン酸化膜２と同じ立体構造（波形構造）の容量素子となる。このような立体構造の積層型容量素子は、平面構造の積層型容量素子に較べて電極面積を大きくとることができ、容量値を増大させることができる。
【００４８】
また、図１（ｂ）の半導体装置１０のシリコン酸化膜２上に、センサ素子が形成されてなる半導体装置としてもよい。例えば、ガスセンサ素子を形成する場合、シリコン酸化膜２と同じ立体構造（波形構造）のセンサ素子とすることで、平面構造のガスセンサ素子に較べてガスを吸着するための表面積を大きくとることができ、高感度のガスセンサ素子とすることができる。
【００４９】
図１（ａ），（ｂ）に示す半導体装置１０の立体構造は、シリコン酸化膜３が部分的にシリコン基板１表面から浮き上がって形成されたものである。このような立体構造を有する半導体装置１０は、以下に示す簡単な方法で容易に製造することができ、安価な半導体装置とすることができる。
【００５０】
図３（ａ）〜（ｃ）は、半導体装置１０ｂの模式的な製造工程別断面図で、図１（ａ），（ｂ）および図２（ａ）に示す立体構造のシリコン酸化膜２を有してなる半導体装置１０，１０ａの製造方法と、立体構造の形成原理を説明する図である。
【００５１】
最初に、図３（ａ）に示すように、シリコン（Ｓｉ）半導体からなる基板１上に、平坦なシリコン酸化膜２ｂを形成する。このシリコン酸化膜２ｂは、形成方法の異なる多層膜とすることが好ましく、特に、シリコン基板１との界面を構成する下層膜を、熱酸化により形成することが好ましい。熱酸化により形成した下層膜は、常圧ＣＶＤ等の他の形成方法によるシリコン酸化膜に較べて均一な界面を得ることができ、これによって、次工程におけるシリコン酸化膜２ｂの立体構造を、安定的に形成することができる。また、上記熱酸化膜上に他の形成方法によるシリコン酸化膜を積層して多層化することで、任意膜厚のシリコン酸化膜２ｂを、安価に形成することができる。
【００５２】
例えば、シリコン酸化膜２ｂを２層膜とする場合には、下層膜をシリコン基板１の熱酸化膜とし、上層膜を、ＮＳＧ（Non-doped Silicate Glass）膜で形成する。シリコン酸化膜２ｂのトータル厚さは、例えば３００ｎｍとする。
【００５３】
また、シリコン基板１上のシリコン酸化膜２ｂは、ストライプ状のパターンに形成しておくことが好ましい。これによっても、次工程におけるシリコン酸化膜２ｂの立体構造を、安定的に形成することができる。尚、シリコン酸化膜２ｂのストライプ状のパターンは、エッチングにより形成することができる。このエッチングにより、特に、図１（ａ）に示すように基板１へのトレンチ（溝）を形成しておくことで、次工程におけるシリコン酸化膜２ｂの立体構造の形成を安定化させることができる。
【００５４】
次に、図３（ｂ）に示すように、基板１上に形成された平坦なシリコン酸化膜２ｂを水素アニール処理して、立体構造とする。
【００５５】
図３（ａ）に示すシリコン半導体基板１上に形成された平坦なシリコン酸化膜２ｂは、一般的に、圧縮応力がかかっている。このシリコン酸化膜２ｂを適当な条件で水素アニール処理することにより、シリコン酸化膜２ｂとの界面付近にある基板１のシリコン（Ｓｉ）が流動化すると共に、シリコン酸化膜２ｂとシリコン基板１の界面結合を部分的に分断することができる。これによって、圧縮応力がかかっていたシリコン酸化膜２ｂは、図３（ｂ）に示すように膜自体が収縮し、部分的に基板１表面から浮き上がって立体構造のシリコン酸化膜２ｂとなる。
【００５６】
尚、上記したように図３（ａ）に示す水素アニール処理前の平坦なシリコン酸化膜２ｂをストライプ状のパターンに形成（より好ましくは、基板１へのトレンチを形成）しておくことで、ストライプ方向への収縮が促進される。このため、基板１表面から浮き上がって形成された部分が線状に連なった波の山部をなし、この波の山部がパターンのストライプ方向と略垂直に交わる波形構造が、安定的に形成される。
【００５７】
図４は、上記水素アニール処理におけるアニール条件の一例を示す図である。図４のアニール条件は、上記した熱酸化膜を下層膜とし、ＮＳＧ膜を上層膜として、シリコン酸化膜２ｂのトータル厚さを３００ｎｍとしたサンプルについて調べた結果である。
【００５８】
図４に示すように、上記シリコン酸化膜２ｂに関する立体構造は、アニール温度１１００℃以上、１２００℃以下、アニール時間２００秒以下の、図中のハッチングで囲った条件下で得ることができる。
【００５９】
次に、図３（ｃ）に示すように、半導体装置１０ｂにおいては、電極の取り出しを容易にするため、シリコン酸化膜２ｂが収縮して開いた基板１の平坦面上に、シリコン酸化膜２ｃを追加形成する。
【００６０】
最後に、シリコン酸化膜２ｂ，２ｃ上に、薄膜抵抗等となるポリシリコン膜３を堆積して、立体構造を有する半導体装置１０ｂが完成する。
【００６１】
上記半導体装置１０ｂにおける立体構造のシリコン酸化膜２ｂは、図３（ａ）に示す基板１上に形成された平坦なシリコン酸化膜２ｂを水素アニール処理するだけで形成することができる。従って、上記半導体装置の製造方法は、立体構造のシリコン酸化膜２ｂを有してなる半導体装置の製造方法であって、容易で安価な製造方法となっている。
【００６２】
尚、図３（ａ）の工程において、基板１と平坦なシリコン酸化膜２ｂの界面近傍に、窒素（Ｎ）イオンを部分的にイオン注入してもよい。
【００６３】
上記窒素（Ｎ）イオンのイオン注入された領域では、シリコン−窒素（Ｓｉ−Ｎ）結合が形成されるため、イオン注入領域と周囲とで界面の結合状態を変化させることができる。従って、図３（ｂ）の水素アニール工程において、例えばイオン注入領域の界面結合を周囲の較べて分断し易くすることができる。これにより、イオン注入領域ではシリコン酸化膜２ｂが基板１表面から浮き上がり易くなる。以上のようにして、上記窒素（Ｎ）イオンの部分的なイオン注入を利用し、シリコン酸化膜２ｂの基板１表面からの浮き上がり領域の形成を、制御することができる。
【００６４】
以上のようにして、本発明の半導体装置は、容易に製造することができ、小さな面積で高機能を付加することのできる、立体構造を有してなる半導体装置となっている。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の半導体装置の一例で、（ａ）は半導体装置１０の斜め上から見たＳＥＭ像であり、（ｂ）は（ａ）の右側方向（溝に垂直な方向）から見た模式的な断面図である。
【図２】（ａ），（ｂ）は、それぞれ、半導体装置１０ａと半導体装置９０の模式的な断面図で、立体構造の抵抗素子を有する本発明の半導体装置１０ａと平面構造の抵抗素子を有する従来の半導体装置９０を比較して示した図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は、半導体装置１０ｂの模式的な製造工程別断面図で、図１（ａ），（ｂ）および図２（ａ）に示す立体構造のシリコン酸化膜２を有してなる半導体装置１０，１０ａの製造方法と、立体構造の形成原理を説明する図である。
【図４】水素アニール処理におけるアニール条件の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００６７】
１０，１０ａ，１０ｂ，９０  半導体装置
１  （シリコン半導体）基板
２，２ａ〜２ｃ  シリコン酸化膜
３，３ａ，３ｂ  ポリシリコン膜
【図１】
0004830418.tif 000002
【図２】
0004830418.tif 000003
【図３】
0004830418.tif 000004
【図４】
0004830418.tif 000005