(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリロニトリルスチレン共重合体、または、ポリアクリロニトリルから選ばれる１種を成形加工して得られるフォトマスクまたはレチクル用保管容器の製造方法において、後処理として加速電圧５ＭＶ、加速される電子の量が１ｍＡから３０ｍＡの範囲で電子線照射を行うことを特徴とするフォトマスクまたはレチクル用保管容器のアウトガス低減方法。
【請求項２】
アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体、アクリロニトリルスチレン共重合体、ポリアクリロニトリルから選ばれる２種以上の混合物を成形加工して得られるフォトマスクまたはレチクル用保管容器の製造方法において、後処理として加速電圧５ＭＶ、加速される電子の量が１ｍＡから３０ｍＡの範囲で電子線照射を行うことを特徴とするフォトマスクまたはレチクル用保管容器のアウトガス低減方法。
【請求項３】
請求項１または２のいずれかに記載のフォトマスクまたはレチクル用保管容器のアウトガス低減方法を用いて製造されることを特徴とするフォトマスクまたはレチクル用保管容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、集積回路などの製造または出荷工程で使用されるフォトマスクまたはレチクル（以下、これらを併せてマスクと呼ぶ。）などの光学部材用保管容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコンウェハ上に集積回路パターンを描画するフォトリソグラフィ技術において、近年ＬＳＩの高集積化に伴い、より狭い線幅で微細な回路パターンを露光するための技術が要求されており、これに対応するため露光光源の短波長化が進められている。例えば、露光光源は、ＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）へと移行されている。また、さらに短波長の軟Ｘ線（波長１３．５ｎｍ）を露光光源とする開発も行われている。
【０００３】
波長が短くなるに従って、粒子状物質のみならず分子状物質である有機物等が露光光学系の透過率を低下させる汚染対象となる。これらの有機物はシーリング剤、接着剤、塗料等からのアウトガスとしてクリーンルーム環境中に多数存在し、露光光学系内部のレンズやマスク表面に付着すると露光光を吸収して透過率を低下させるといった問題が生じる。
【０００４】
例えば、マスク用の保管容器は一般的に樹脂素材で形成されており、その樹脂素材から発生するアウトガス成分は、マスク表面に付着すると汚れやくもりなどトラブルの原因となる。そのため、内部に保管する基材に悪影響を与えない低アウトガス性保管容器の必要性が高まっている。
【０００５】
アウトガス中の特定成分の放出量を減少させるためにポリエチレン、ポリプロピレンやポリメタクリル酸メチルなどの樹脂を主成分として容器を作製するという手段が報告されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−１４０３２４号公報
【０００６】
しかし、新規の樹脂素材を用いて容器作製を実施する場合、樹脂の収縮率などの違いから新しい金型の作製などに多大な費用と時間がかかり、効率的とはいえない。よって、既に成形加工された保管容器に対して、後処理により低アウトガス化できることが望ましい。
【０００７】
後処理の方法としては、熱をかけてアウトガス成分を飛ばす方法が挙げられるが、保管容器に厚みがあるため、容器を構成する樹脂の表面と内部とで熱のかかり方が異なり、成分のムラが生じる恐れがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、成形加工後の保管容器に対して電子線を照射し、樹脂素材中の未架橋部を架橋させることで、アウトガスとなりやすい低分子成分を減らし、発生するアウトガス量を低減させる方法とその方法で作製される光学部材用保管容器の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、アクリロニトリルスチレン共重合体、または、ポリアクリロニトリルから選ばれる１種を成形加工して得られるフォトマスクまたはレチクル用保管容器の製造方法において、後処理として加速電圧５ＭＶ、加速される電子の量が１ｍＡから３０ｍＡの範囲で電子線照射を行うことを特徴とするフォトマスクまたはレチクル用保管容器のアウトガス低減方法である。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体、アクリロニトリルスチレン共重合体、ポリアクリロニトリルから選ばれる２種以上の混合物を成形加工して得られるフォトマスクまたはレチクル用保管容器の製造方法において、後処理として加速電圧５ＭＶ、加速される電子の量が１ｍＡから３０ｍＡの範囲で電子線照射を行うことを特徴とするフォトマスクまたはレチクル用保管容器のアウトガス低減方法である。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２のいずれかに記載のフォトマスクまたはレチクル用保管容器のアウトガス低減方法を用いて製造されることを特徴とするフォトマスクまたはレチクル用保管容器である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、成形加工後の容器に対して電子線を照射し、その樹脂素材中の未架橋部を架橋させることでアウトガスとなりやすい低分子成分を低減させた光学部材用保管容器を作製することができる。よって、新規樹脂素材を用いる際に金型を新たに作製する必要がないため、金型作製のために費用および時間を費やす必要がなく、効率的に低アウトガス性の光学部材用保管容器を得ることができる。また、マスクなど光学部材の収納運搬に用いることで、汚れやくもりなどのトラブルが減少し、歩留りの向上に繋がる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の光学部材用保管容器のアウトガス低減方法および光学部材用保管容器について詳細に説明する。
【００１５】
本発明の光学部材用保管容器は、マスクなどの光学部材を収納および運搬するための容器であり、樹脂素材を用いて形成されている。
【００１６】
樹脂素材を成形加工することにより、保管容器を作製する。このとき、樹脂素材の成形加工方法は特に制限されない。
【００１７】
光学部材用保管容器を構成する樹脂素材は、少なくとも電子線の照射によって分解よりも架橋反応が進行する素材である必要がある。例としては、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体（ＡＢＳ）、アクリロニトリルスチレン共重合体（ＡＳ）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）などが挙げられる。
【００１８】
次に、樹脂素材の成形加工により得られた保管容器に電子線を照射する。電子線照射を行う電子加速器は、保管容器の厚みを電子線が透過できる加速電圧が必要であり、少なくとも５００ｍｍ程度の厚い物質でも電子線を透過させることが可能な程度の加速電圧を有する必要がある。好ましくは最大で５ＭＶ程度あればよい。また、熱や光よりも効率よく処理を行えるように、加速される電子の量も１ｍＡから３０ｍＡ程度であることが好ましい。
【００１９】
電子線の照射線量は、少なくとも照射により光学部材用保管容器の密閉性が損なわれるような歪みや亀裂などが生じない程度であればよい。さらに、フォトマスクの場合は、容器内部に収納される基材を保管容器外部から確認できる程度の透明性が保管容器に求められるが、電子線照射により容器内部に収納されている基材の確認が外部から不可能なほど、樹脂素材が濃い色へ変色することがない程度の照射線量であればよい。１００ｋＧｙを照射したサンプルでは亀裂が発生することを確認したが、これは照射自体の影響によるものではなく、照射時にサンプルを設置したＳＵＳ製の台に当たった電子のエネルギーが最終的に熱となったためである。よって、ドライアイスを利用するなど温度上昇を抑える工夫をして電子線の照射を行えば、１００ｋＧｙ以上の照射も可能である。
【００２０】
以上、成形加工後の容器に対して電子線を照射することにより、その樹脂素材中の未架橋部を架橋させ、アウトガスとなりやすい低分子成分を低減させることができ、効率的に低アウトガス性の光学部材用保管容器を作製することができる。
【００２１】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施例は参考例である。
【実施例】
【００２２】
電子線照射によって、分解よりも架橋反応が進行する素材を含有するアクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体（ＡＢＳ）を主成分として射出成形された光学部材用保管容器に対し、照射線量２ｋＧｙ、６ｋＧｙ、１０ｋＧｙ、２０ｋＧｙの電子線を照射した。電子線照射後、各々の光学部材用保管容器の内部にガラス基板を設置し、２０時間放置した。その後、ガラス基板に付着した成分を加熱脱離ガスクロマト質量分析装置（ＴＤ−ＧＣ／ＭＳ）により調べた。
【００２３】
＜比較例＞
電子線照射によって、分解よりも架橋反応が進行する素材を含有するアクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体（ＡＢＳ）を主成分として射出成形された光学部材用保管容器に対し、電子線の照射を行わなかった（照射線量０ｋＧｙ）。その光学部材用保管容器の内部にガラス基板を設置し、２０時間放置した。その後、ガラス基板に付着した成分を加熱脱離ガスクロマト質量分析装置（ＴＤ−ＧＣ／ＭＳ）により調べた。
【００２４】
実施例、比較例より得られたアウトガス成分のトータルイオンクロマトグラム（ＴＩＣ）の全ピーク面積値を各々算出した。結果を図１に示す。
比較例１の電子線を照射していない（０ｋＧｙ）の保管容器に対して、実施例の電子線を照射した保管容器は全ピーク面積が減少していることが確認できた。さらに、２０ｋＧｙ照射した保管容器では、ピーク面積が２０％減少した。
実施例、比較例より、成形加工後の容器に対して電子線を照射することにより、その樹脂素材中の未架橋部を架橋させることでアウトガスとなりやすい低分子成分を低減させることができ、効率的に低アウトガス性の光学部材用保管容器を作製することができることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明におけるアウトガス成分のＧＣ／ＭＳイオントータルクロマトグラムの結果を示す図である。
【図１】
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