【手続補正書】
【提出日】平成15年9月25日(2003.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版と基板とを走査しながら、前記原版のパターンを前記基板に投影する走査型露光装置において、
前記原版上の所定位置と当該所定位置に対応する前記基板上のショット領域内の所定位置とが整合するように、前記原版及び前記基板の少なくとも一方の目標位置を生成する第１生成手段と、
前記目標位置に対する補正値を生成する第２生成手段と、
前記目標位置及び前記補正値に基づいて、前記原版及び前記基板の少なくとも一方の移動制御を行う制御手段とを具備することを特徴とする走査型露光装置。
【請求項２】
前記第２生成手段は、前記基板上のショット領域及び前記原版の少なくとも一方の歪みのデータに基づいて、前記補正値を生成することを特徴とする請求項１記載の走査型露光装置。
【請求項３】
前記第２生成手段は、前記ショット領域内の基準走査方向における露光位置に基づいて、前記補正値を生成することを特徴とする請求項１又は２記載の走査型露光装置。
【請求項４】
前記第２生成手段は、前記露光位置を変数とする多項式に基づいて、前記補正値を生成することを特徴とする請求項３記載の走査型露光装置。
【請求項５】
前記第２生成手段は、前記基板上のショット領域及び前記原版の少なくとも一方の歪みのデータに基づいて、前記多項式の各項の係数を算出する算出手段を含むことを特徴とする請求項４記載の走査型露光装置。
【請求項６】
前記算出手段は、グローバルアライメント計測値または入力されたＪＯＢパラメータに基づき、前記係数を算出することを特徴とする請求項５記載の走査型露光装置。
【請求項７】
前記目標位置は回転成分を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか記載の走査型露光装置。
【請求項８】
上位プロセッサ及び下位プロセッサを備え、前記上位プロセッサは前記第２生成手段により用いられる係数を生成し、前記下位プロセッサは前記係数を用いて前記補正値を生成することを特徴とする請求項１記載の走査型露光装置。
【請求項９】
原版と基板とを走査しながら、前記原版のパターンを前記基板に投影する走査型露光方法において、
前記原版上の所定位置と当該所定位置に対応する前記基板上のショット領域内の所定位置とが整合するように、前記原版及び前記基板の少なくとも一方の目標位置を生成し、
前記目標位置に対する補正値を生成し、
前記目標位置及び前記補正値に基づいて、前記原版及び前記基板の少なくとも一方の移動制御を行うことを特徴とする走査型露光方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか記載の走査型露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明の走査型露光装置は、原版と基板とを走査しながら、前記原版のパターンを前記基板に投影する走査型露光装置において、
前記原版上の所定位置と当該所定位置に対応する前記基板上のショット領域内の所定位置とが整合するように、前記原版及び前記基板の少なくとも一方の目標位置を生成する第１生成手段と、前記目標位置に対する補正値を生成する第２生成手段と、前記目標位置及び前記補正値に基づいて、前記原版及び前記基板の少なくとも一方の移動制御を行う制御手段とを具備することを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の好ましい実施例において、第２生成手段は、前記基板上のショット領域及び前記原版の少なくとも一方の歪みのデータに基づいて、前記補正値を生成する。また、前記第２生成手段は、前記ショット領域内の基準走査方向における露光位置に基づいて、前記補正値を生成する。さらに、前記目標位置は回転成分を含んでいる。またさらに、装置が、上位プロセッサ及び下位プロセッサを備え、前記上位プロセッサは前記第２生成手段により用いられる係数を生成し、前記下位プロセッサは前記係数を用いて前記補正値を生成する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
さらに、本発明の方法は、原版と基板とを走査しながら、前記原版のパターンを前記基板に投影する走査型露光方法において、前記原版上の所定位置と当該所定位置に対応する前記基板上のショット領域内の所定位置とが整合するように、前記原版及び前記基板の少なくとも一方の目標位置を生成し、前記目標位置に対する補正値を生成し、前記目標位置及び前記補正値に基づいて、前記原版及び前記基板の少なくとも一方の移動制御を行うことを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、この露光装置は、鏡筒定盤９とステージ定盤７との間の距離を３点において測定するレーザ干渉計２３，２４、マイクロエンコーダ等の距離測定手段１３を備えている。なお、２５はレーザ側長光路、２６はＹ方向移動鏡である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【数２】
1998106933.tif 000001
図３は、図１の装置におけるステージ制御系の構成を示す。同図の制御系は、シーケンス処理を行なう上位プロセッサ３０とリアルタイム処理を行なう下位プロセッサ４０とで構成される。上位プロセッサ３０には、ＪＯＢパラメータ入力手段３１、グローバルアライメント計測手段３２、ショット歪みデータ処理手段３４、レチクルアライメント計測手段３３およびアライメントデータ処理手段３５等がソフトウエアとして設けられている。下位プロセッサ４０には、ＣＡＳＰ再生手段４１、プロファイラ４２、ユニット間補正目標値生成手段４３、加算器４５、加算器４６、非干渉化処理・サーボ演算処理手段４８およびトポロジー補正手段４９等がソフトウエアとして設けられている。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
ショット歪みデータ処理手段３４は、ＪＯＢパラメータ入力手段３１から入力されるショット歪みデータと、グローバルアライメント計測手段３２から得られるショット歪みデータを統合し、その統合結果とさらにレチクルアライメント計測手段３３から得られるレチクル歪みデータとに基づいて、ＣＡＳＰ１〜ｎ次のパラメータを算出して出力する。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、基板または原版の目標位置生成に有用な手法を含む走査型露光技術を提供することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例に係る露光装置を側方から見た様子を模式的に示す図である。
【図２】図１の露光装置の外観を示す斜視図である。
【図３】図１の装置における制御系の構成を示すブロック図である。
【図４】図１の装置におけるショット内歪み補正の説明図である。
【図５】図１の装置における２つの隣り合うショットのショット内歪み補正の説明図である。
【図６】図１の装置で補正可能なショット内歪みの形状図およびその補正のための式を示すグラフである。
【図７】微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図８】図７におけるウエハプロセスの詳細な流れを示す図である。
【図９】従来の露光装置におけるグローバルアライメント計測結果出力画面である。
【符号の説明】１：レチクルステージ、２：投影光学系、３：ウエハステージ、４：リニアモータ、３ａ：Ｘステージ、３ｂ：Ｙステージ、６：リニアモータ、７：ステージ定盤、８：ダンパ、９：鏡筒定盤、１０：ベースフレーム、１１：ダンパ、１２：支柱、１３：距離測定手段、２１：投光手段、２２：受光手段、２３，２４：レーザ干渉計、２５：レーザ測長光路、２６：Ｙ方向移動鏡、３０：上位プロセッサ、３１：ＪＯＢパラメータ入力手段、３２：グローバルアライメント計測手段、３４：ショット歪みデータ処理手段、３３：レチクルアライメント計測手段、３５：アライメントデータ処理手段、４０：下位プロセッサ、４１：ＣＡＳＰ再生手段、４２：プロファイラ、４３：ユニット間補正目標値生成手段、４５：加算器、４６：加算器、４８：非干渉化処理・サーボ演算処理手段、４９：トポロジー補正手段、５０：座標変換器。