(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶パネルにおいて、
一方の基板に略球状のスペーサ材が固定され、
他方の基板の前記スペーサ材に対向する位置に、絶縁膜の一部を除去して形成した凹形状部が配設され、
前記スペーサ材と前記凹形状部とが係合して前記一対の基板が固定されることを特徴とする液晶パネル。
【請求項２】
前記凹形状部は、前記他方の基板の平面に略平行な底面と、前記平面に略直交又は前記平面に対して所定の角度で傾斜する側壁部とで構成されることを特徴とする請求項１記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記凹形状部は、前記他方の基板の平面に対して所定の角度で傾斜する側壁部で構成され、前記平面に略直交する方向の断面がＶ字型であることを特徴とする請求項１記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記凹形状部は、開口部の面積が底面に向かって段階的に小さくなる階段形状であることを特徴とする請求項１記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記スペーサ材は、前記基板の法線方向から見て、ブラックマトリクスが形成される領域に配置されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一に記載の液晶パネル。
【請求項６】
前記絶縁膜は感光性有機膜であり、前記凹形状部の少なくとも一部が曲面で構成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一に記載の液晶パネル。
【請求項７】
対向する一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶パネルの製造方法において、
一方の基板に略球状のスペーサ材を固定する工程と、
他方の基板の前記スペーサ材に対向する位置の絶縁膜を除去して凹形状部を形成する工程と、
前記一方の基板と前記他方の基板とを対向して配置し、前記スペーサ材と前記凹形状部とを係合させて、前記一対の基板を固定する工程と、を少なくとも有することを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項８】
前記絶縁膜として感光性有機膜を用い、フォトリソグラフィ処理及び加熱メルト処理により、前記凹形状部の少なくとも一部になだらかな曲面を形成することを特徴とする請求項７記載の液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＡＶ機器やＯＡ機器の表示装置として、薄型、軽量、低消費電力等の利点から液晶表示装置が広く用いられている。この液晶表示装置は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子がマトリクス状に形成された一方の基板（以下、ＴＦＴ基板と呼ぶ。）と、カラーフィルター（ＣＦ）やブラックマトリクス（ＢＭ）等が形成された他方の基板（以下、ＣＦ基板と呼ぶ。）との間に液晶が挟持された液晶パネルを備え、一方又は双方の基板に設けた電極間に生じる電界によって液晶分子の配向方向を制御することによって光の透過率を変化させている。
【０００３】
この液晶パネルの表示品位を向上させるためには、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間のギャップ（セルギャップ）を制御することが重要であり、通常、基板間に所定の形状及び大きさのスペーサ材が配設される。
【０００４】
このようなスペーサ材を用いたセルギャップの制御に関して、例えば、下記特許文献１には、図７に示すように、ＣＦ基板に柱状スペーサを設け、ＴＦＴ基板の有機層間絶縁膜の柱状スペーサが当接する部分に開口を設けた液晶パネルが開示されており、開口部分で柱状スペーサを支えることにより、高温時にセルギャップが局所的に拡張する際に起こりやすい表示異常等の不具合を防止している。
【０００５】
また、下記特許文献２には、図８に示すように、アレイ基板の平坦化膜にコンタクトホールを設け、対向基板には、コンタクトホールに対応する位置に、コンタクトホールの最大径未満の径を有する柱状スペーサを設けた液晶パネルが開示されており、この柱状スペーサをコンタクトホールに圧入することにより、指押しなどによるギャップムラによる表示不良を防止している。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１２１８５９号公報（第４−６頁、第１図）
【特許文献２】特開２００４−２０５５４９号公報（第５−９頁、第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このように液晶パネルでは表示品位を向上させるためにセルギャップを制御することが重要である。しかしながら、上記特許文献２の液晶パネルでは、柱状スペーサと柱状スペーサが圧入されるコンタクトホールとのクリアランスが極めて小さく、対向する基板の重ね合せにおいて、全ての柱を高精度に重ね合せることが出来ない場合に柱状スペーサがコンタクトホール以外の部分を支えてしまうために、所要のギャップが得られなかったり、局部的なギャップ不良が生じる。
【０００８】
また、一般的な液晶パネルにおいて、隣接するドット間の配向不良領域をブラックマトリクス（ＢＭ）で遮光するため、配向不良領域がＢＭ領域内に収まるように、対向する２枚の基板を精密に規格内に重ね合わせることが重要である。しかしながら、上記特許文献１及び２の液晶パネルでは、スペーサ材として柱状スペーサを用いており、柱状スペーサの頂上部は平坦かつ広い接触面積をもつために摩擦抵抗が大きく、対向する基板を重ね合せて位置合せ動作をする際に大きな力を必要とし、重ね合せ精度が低下してしまう。そのため、重ね合せ精度が製品規格を外れると、図９に示すように配向異常の領域が遮光されない状態となり、黒表示にした際にこの遮光されていない配向異常領域が光り、表示不良（このような表示不良を光漏れ表示不良と呼ぶ。）となってしまう。特に、近年、基板の大型化に伴って基板全体の広い領域において均一に高精度に重ね合せることが難しく、また、更なる高精細化の要求により重ね合せに対する設計マージンが小さくなっており、上記問題が顕著に現れる。
【０００９】
また、近年、より狭ギャップの製品が要求されているが、液晶パネルでは温度変化に伴う液晶の体積変動によりギャップムラが生じやすい。しかしながら、上記特許文献１及び２の液晶パネルではスペーサ材として柱状スペーサを用いており、弾性力の小さい柱状スペーサ材料ではギャップの変動を効果的に吸収することができないため、高精度のギャップ管理が必要な狭ギャップ製品の要求を満たすことが難しい。
【００１０】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、その第１の目的は、対向する基板の位置合わせが容易であり、重ねズレに起因する光漏れが発生しにくい液晶パネル及びその製造方法を提供することにある。
【００１１】
また、本発明の第２の目的は、温度変化によるギャップムラが生じにくい液晶パネル及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明は、対向する一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶パネルにおいて、一方の基板に略球状のスペーサ材が固定され、他方の基板の前記スペーサ材に対向する位置に、絶縁膜の一部を除去して形成した凹形状部が配設され、前記スペーサ材と前記凹形状部とが係合して前記一対の基板が固定されるものである。
【００１３】
本発明においては、前記凹形状部を、前記他方の基板の平面に略平行な底面と、前記平面に略直交又は前記平面に対して所定の角度で傾斜する側壁部とで構成することができる。
【００１４】
また、本発明においては、前記凹形状部を、前記他方の基板の平面に対して所定の角度で傾斜する側壁部で構成し、前記平面に略直交する方向の断面をＶ字型とすることもできる。
【００１５】
また、本発明においては、前記凹形状部を、開口部の面積が底面に向かって段階的に小さくなる階段形状とすることもできる。
【００１６】
また、本発明においては、前記スペーサ材は、前記基板の法線方向から見て、ブラックマトリクスが形成される領域に配置されることが好ましい。
【００１７】
また、本発明においては、前記絶縁膜は感光性有機膜であり、前記凹形状部の少なくとも一部が曲面で構成されていてもよい。
【００１８】
また、本発明は、対向する一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶パネルの製造方法において、一方の基板に略球状のスペーサ材を固定する工程と、他方の基板の前記スペーサ材に対向する位置の絶縁膜を除去して凹形状部を形成する工程と、前記一方の基板と前記他方の基板とを対向して配置し、前記スペーサ材と前記凹形状部とを係合させて、前記一対の基板を固定する工程と、を少なくとも有するものである。
【００１９】
本発明においては、前記絶縁膜として感光性有機膜を用い、フォトリソグラフィ処理及び加熱メルト処理により、前記凹形状部の少なくとも一部になだらかな曲面を形成する構成とすることができる。
【００２０】
このように、本発明では、液晶パネルを構成する一方の基板に略球状のスペーサ材を固定し、他方の基板のスペーサ材に対向する部分には絶縁膜を部分的に除去して形成した凹形状部を設けているため、接触時の摩擦抵抗を低減して、対向する基板の位置合わせを容易にすることができる。また、スペーサ材と凹形状部とを係合させることによって搬送中やシール材硬化時の重ねズレを抑制することができるため、重ねズレに起因する光漏れを確実に防止することができる。また、スペーサ材として柱状スペーサに比べて弾性力に優れる略球状のスペーサ材を使用し、且つ、凹形状部の深さ分だけスペーサ材の径を大きくすることが出来るため、ギャップ変化に対するマージンを広くして温度変化によるギャップムラを確実に防止することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の液晶表示装置及びその製造方法によれば、下記記載の効果を奏する。
【００２２】
本発明の第１の効果は、対向する基板の位置あわせを容易にすることができるということである。その理由は、対向する２枚の基板を重ね合わせる際、アライメント動作は、対向する２枚の基板が極めて近接した位置で行われ、対向する２枚の基板は少なくとも部分的に接触した状態で最終アライメント動作が行われるが、本発明では一方の基板に球状スペーサを固定し、他方の基板に絶縁膜を部分的に除去して形成した凹形状部を設けているため、接触時の摩擦抵抗を十分に小さくすることができ、また、自己整合的に位置を修正することができるため、容易かつ高精度にアライメントを行うことができるからである。
【００２３】
また、本発明の第２の効果は、重ねズレに起因する光漏れを確実に防止することができるということである。その理由は、アライメント動作の際に、凹形状部に球状スペーサが係合するため、球状スペーサと凹形状部との隙間を光漏れが生じない重ね合せ精度以下に設計にしておくことにより、対向する２枚の基板を高精度に重ね合わせることができるからである。
【００２４】
また、対向する２枚の基板を高精度に重ね合わせても、その後のシール硬化装置までの搬送中やシール硬化処理中の基板たわみ等により重ねズレが生じるため、従来は重ね合わせた直後に光硬化による仮止めを行っていたが、本発明では球状スペーサと凹形状部とが係合するため、基板面方向の重ねズレを抑えることができるからである。
【００２５】
また、本発明の第３の効果は、温度変化によるギャップムラを確実に防止することができるということである。その理由は、液晶パネルでは、製品温度が高くなると液晶が膨張し、セルギャップが大きくなってギャップムラを生じやすいことから、従来は温度保証範囲における熱膨張量を考慮してスペーサ材の潰し量を決定していたため、製品ギャップが狭くなり、材料の弾性変化の限界以上の潰し量が必要となった場合にスペーサが塑性変形してしまい、温度上昇時にセルギャップ変化に追従できずにギャップムラを生じていたが、本発明ではスペーサ材として柱状スペーサに比べて弾性力に優れる球状スペーサを用い、且つ、球状スペーサが接触する部分を凹形状としているため、凹形状部の深さ分だけ球状スペーサのサイズを大きくして弾性変形量を大きく確保することが出来るため、温度変化によるギャップの変動を効果的に吸収することができるからである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
上述したように、従来の液晶パネルは、セルギャップを規定するためのスペーサ材として柱状スペーサを用いていたため、接触時の摩擦抵抗が大きく、容易にアライメントを行うことができず、重ねズレが生じて光漏れ表示不良が発生しやすいという問題があった。また、柱状スペーサではその構造上、温度変化によるギャップの変動を効果的に吸収することができず、ギャップムラを確実に防止することができないという問題があった。
【００２７】
そこで、本発明では、第１の基板と第２の基板とが所定のギャップで対向配置される液晶パネルにおいて、ギャップを規定するスペーサ材として球状スペーサを用い、一方の基板に所定の方法で所定の位置にこの球状スペーサを固定し、他方の基板の球状スペーサに対向する位置に、球状スペーサの一部に当接する凹形状部を形成する。このように、球状スペーサを用いて接触時の摩擦抵抗を小さくすることによって、位置合わせを容易にすると共に、球状スペーサと凹形状部とを係合させることにより、重ね合わせ時及び重ね合わせからシール硬化までの搬送中や熱硬化時における重ねズレを確実に防止して、重ねズレに起因する光漏れ表示不良の発生を確実に防止する。更に、スペーサ材を球状とし、凹形状部の深さ分だけ球状スペーサの径を大きくすることによってギャップの変動を効果的に吸収して、温度変化によるギャップムラの発生を確実に防止する。以下、図面を参照して詳細に説明する。
【実施例】
【００２８】
上記した本発明の実施の形態についてさらに詳細に説明すべく、本発明の一実施例に係る液晶パネル及びその製造方法について、図１乃至図６を参照して説明する。図１は、本実施例に係る液晶パネルの構造を模式的に示す平面図であり、（ａ）はＣＦ基板、（ｂ）はＴＦＴ基板を示している。また、図２は、図１のＸ−Ｘ’線における断面図であり、図３乃至図６は、本実施例の液晶パネルの他の構造を示す断面図である。
【００２９】
図１及び図２に示すように、本実施例の液晶パネルは、ＴＦＴ等のスイッチング素子がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板２０と、ＴＦＴ基板２０に対向するＣＦ基板１０と、ＴＦＴ基板２０とＣＦ基板１０との間に配置される略球状のスペーサ材（以下、球状スペーサ３０と呼ぶ。）と、球状スペーサ３０で規定されるギャップに挟持される液晶材（図示せず）とで構成される。
【００３０】
ＣＦ基板１０は、ガラスやプラスチックなどの透明絶縁性基板（ガラス基板１１とする。）と、光を遮断するためのブラックマトリクス１２と、カラー表示を行うための色層１３と、ＴＦＴ基板２０に形成される画素電極２８との間で電界を発生させる対向画素電極１４などで構成され、ブラックマトリクス１２上の所定の位置に、ポリマービーズ、シリカビーズ等からなる球状スペーサ３０が固定されている。
【００３１】
また、ＴＦＴ基板２０は、ガラスやプラスチックなどの透明絶縁性基板（ガラス基板２１とする。）と、ＴＦＴ２７のゲート電極に接続されるゲート配線２２と、ゲート配線２２と同層に形成され、画素周縁部の光を遮断するためのゲート遮光部２３と、その上層のゲート絶縁膜２３と、ＴＦＴ２７のドレイン電極に接続されるドレイン配線２５と、その上層の絶縁膜２６と、アモルファスシリコンやポリシリコンなどで形成されるＴＦＴ２７と、ＴＦＴ２７のソース電極に接続される画素電極２８などで構成され、対向する２枚の基板を重ね合わせた際に球状スペーサ３０と接触する領域に、絶縁膜２６を部分的に除去して形成した凹形状部２６ａが設けられている。
【００３２】
なお、球状スペーサ３０は厳密に球状である必要はなく、多少変形した楕円球状としてもよく、その材料もポリマービーズやシリカビーズに限定されない。また、図１では、図の上下に隣接する画素の間に球状スペーサ３０を１つずつ配置しているが、球状スペーサ３０の配置や数量は図の構成に限定されず、左右に隣接する画素の間に球状スペーサ３０を配置してもよいし、各々の画素間に複数の球状スペーサ３０を配置してもよいし、複数の画素毎に球状スペーサ３０を配置してもよい。
【００３３】
また、図１では凹形状部２６ａを矩形としているが、凹形状部２６ａは球状スペーサ３０に係合する形状であればよく、例えば、三角形や多角形、円形、楕円形などとしてもよい。また、図２では、凹形状部２６ａを球状スペーサ３０よりも大きいサイズとしているが、そのサイズは、ＣＦ基板１０とＴＦＴ基板２０との重ね合わせの精度に応じて適宜設定することができ、例えば、図３に示すように、球状スペーサ３０が凹形状部２６ａの底面と側壁部とに接触するようにしてもよい。また、図２及び図３では、絶縁膜２６を除去して凹形状部２６ａを形成しているが、例えば、図４に示すように、絶縁膜２６を完全に除去せずに凹形状部２６ａの底部に絶縁膜２６を薄く残してもよい。また、凹形状部２６ａの側壁部の傾斜角は任意であり、基板面に対して直角にしてもよいが、側壁部を傾斜させることによって、球状スペーサ３０を凹形状部２６ａの側壁部に沿って落とし込みやすくすることができる。
【００３４】
また、図１及び図２では、ＴＦＴ基板２０に形成される画素電極２７とＣＦ基板１０に形成される対向画素電極１４との間の電界で液晶を駆動するＴＮ（Twisted Nematic）方式の液晶パネルを示しているが、ＴＦＴ基板２０に形成される電極間の電界で液晶を駆動するＩＰＳ（In Plane Switching）方式の液晶パネルとしてもよく、その場合はＣＦ基板１０の対向画素電極１４は不要である。また、図２では、ＴＦＴを逆スタガ型（ボトムゲート型）としたが、正スタガ型（トップゲート型）としてもよく、球状スペーサ３０と凹形状部２６ａ以外の構成要素に関しては、その形状や配置、材料などは特に限定されない。
【００３５】
次に、上記構成の液晶パネル１の製造方法について説明する。
【００３６】
まず、ＣＦ基板１０は、ガラス基板１１上の画素間の領域に、フォトリソグラフィ技術を用いてブラックマトリクス１２を形成した後、各々の画素領域にフォトリソグラフィ技術を用いてＲＧＢ各色の色層１３を形成し、スパッタリング法等を用いてＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などからなる対向画素電極１４を形成する。次に、印刷法等を用いてブラックマトリクス１２で遮光された所定の位置に球状スペーサ３０を固定する。なお、ブラックマトリクス１２や色層１３、対向画素電極１４の材料や形成方法、形成領域、厚さなどは図の構成に限定されない。また、球状スペーサ３０の固定方法も特に限定されず、例えば、球状スペーサ３０を配置する場所に接着性部材を塗設した後、球状スペーサ３０を配置するなどの方法を用いることができる。
【００３７】
また、ＴＦＴ基板２０は、ガラス基板２１上に、スパッタリング法等を用いてゲート配線２２を形成すると共に、画素周縁部から漏れ出る光を遮断するためのゲート遮光部２３も同時に形成する。次に、真空蒸着法やプラズマＣＶＤ法等を用いてシリコン酸化膜やシリコン窒化膜などからなるゲート絶縁膜２３を形成し、その上にアモルファスシリコンやポリシリコンなどからなる半導体層を形成した後、スパッタリング法等を用いてドレイン配線２５を形成する。次に、塗布法や真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法等を用いて感光性有機層やシリコン酸化膜、シリコン窒化膜などからなる絶縁膜２６を形成し、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術を用いて、対向する２枚の基板を重ね合わせた際に球状スペーサ３０に接触する領域に凹形状部２６ａを形成する。その後、スパッタリング法等を用いてＩＴＯなどからなる画素電極２８を形成する。なお、ゲート配線２２やゲート遮光部２３、ゲート絶縁膜２３、半導体層、ドレイン配線２５、画素電極２８の材料や形成方法、形成領域、厚さなどは特に限定されない。
【００３８】
次に、球状スペーサ３０が固定されたＴＦＴ基板２０と凹形状部２６ａが形成されたＣＦ基板１０の各々を基板洗浄し、印刷装置などを用いて配向膜の材料となるポリイミドの溶液を塗布し、焼成した後、配向膜表面を回転金属ローラに巻き付けたバフ布などで一定方向に擦ってラビング処理を行う。次に、バフ布の繊維くずや配向膜の削りくずなどのラビング処理の残留物を除去するための基板洗浄、基板乾燥を行なう。次に、ＴＦＴ基板２０又はＣＦ基板１０の一方に、光や熱で硬化するシール材料を塗設し、さらに他方の基板側に液晶材を滴下する。
【００３９】
次に、両基板を対向させ、双方の基板に予め形成されたアライメント用マークをカメラにより認識し、アライメント動作を行う。このアライメント動作において、本実施例ではスペーサ材として球状スペーサ３０を用いているため、摩擦抵抗を小さくして位置合わせ動作を容易にすることができる。また、球状スペーサ３０と凹形状部２６ａとを係合させることによって両基板の位置関係を規定することができ、両基板を高精度（例えば±１μ以内）に重ね合わせることができる。
【００４０】
その後、重ね合わせた基板を搬送し、ＵＶ照射又は加熱処理を行ってシール材を硬化させる。その際、本実施例では、球状スペーサ３０と凹形状部２６ａとが係合しているため、搬送時や硬化時において基板の面方向から力が加わったとしても、基板の重ねズレを防止することができ、規格以内に重ね合わせられた液晶パネル１を製造することができる。
【００４１】
また、本実施例では、スペーサ材として、弾性力に優れる球状スペーサ３０を用いており、かつ、凹形状部２６ａの深さ分だけ球状スペーサ３０のサイズを大きくすることができるため、温度変化によるギャップの変動を効果的に吸収することができる。
【００４２】
なお、図２乃至図４では、球状スペーサ３０に係合する凹形状部２６ａを、基板面に平行な底面と所定の角度で傾斜する側壁部とで構成としたが、凹形状部２６ａは球状スペーサ３０に係合可能な形状であればよく、例えば図５に示すように、球状スペーサ３０に２面で接するＶ字溝のような形状とすることもできる。この構造においても、対向する２枚の基板間には加重が加わっているために、Ｖ字形状を有する凹形状部２６ａに、球状スペーサ３０の頂点部が係合するように一旦重ね合わせられると、このＶ字溝の最も深い部分に球状スペーサ３０の頂点部が近づくように力が働くため、図２の構造よりも、より高精度な重ね合せが可能となる。なお、ここで、接触する２面は必ずしも平面に限られるものではなく、曲面形状であっても同様の効果が得られる。この曲面形状は、感光性有機膜のフォトリソグラフィ及び過熱メルトにより、容易に実現することができる。
【００４３】
また、凹形状部２６ａを、例えば図６に示すように、深さ方向で開口面積が段階的に小さくなるような階段形状とすることもできる。この構造でも、凹形状部２６ａに、球状スペーサ３０の頂点部が入るように一旦重ね合わせられると、この階段形状の最も深い部分に球状スペーサ３０の頂点部が近づくように力が働くため、高い重ね合せ位置精度が得られる。この階段形状は、数回のフォトリソグラフィを用いた方法で容易に形成することができる。
【００４４】
このように、液晶パネル１を構成するＣＦ基板１０に球状スペーサ３０を固定し、ＴＦＴ基板２０の球状スペーサ３０に対向する部分には絶縁膜２６を部分的に除去して形成した凹形状部２６ａを設けているため、接触時の摩擦抵抗を小さくして基板の位置合わせを容易にすることができる。また、球状スペーサ３０と凹形状部２６ａとを係合させることによって搬送中やシール材硬化時の重ねズレを抑制することができるため、重ねズレに起因する光漏れを確実に防止することができる。また、スペーサ材として柱状スペーサに比べて弾性力に優れる球状スペーサ３０を使用し、且つ、凹形状部２６ａの深さ分だけ球状スペーサ３０の径を大きくすることが出来るため、ギャップ変化に対するマージンを広くして温度変化によるギャップムラを確実に防止することができる。
【００４５】
なお、上記実施例では球状スペーサ３０をＣＦ基板１０側に固定したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、球状スペーサ３０をＴＦＴ基板２０側に固定し、ＣＦ基板１０側に絶縁膜を形成し、その絶縁膜に凹形状部を形成しても同様の効果を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、液晶パネルに限らず、第１の基板と第２の基板との間のギャップがスペーサによって規定される機器に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施例に係る液晶パネルの構造を模式的に示す平面図であり、（ａ）はＣＦ基板、（ｂ）はＴＦＴ基板を示している。
【図２】本発明の一実施例に係る液晶パネルの構造を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の一実施例に係る液晶パネルの他の構造を示す断面図である。
【図４】本発明の一実施例に係る液晶パネルの他の構造を示す断面図である。
【図５】本発明の一実施例に係る液晶パネルの他の構造を示す断面図である。
【図６】本発明の一実施例に係る液晶パネルの他の構造を示す断面図である。
【図７】従来（特開２００３−１２１８５９号公報）の液晶パネルの構造を示す断面図である。
【図８】従来（特開２００４−２０５５４９号公報）の液晶パネルの構造を示す断面図である。
【図９】従来の液晶パネルにおける問題を説明するための図である。
【符号の説明】
【００４８】
１  液晶パネル
１０  ＣＦ基板
１１  ガラス基板
１２  ブラックマトリクス
１３  色層
１４  対向画素電極
２０  ＴＦＴ基板
２１  ガラス基板
２２  ゲート配線
２３  ゲート遮光部
２４  ゲート絶縁膜
２５  ドレイン配線
２６  絶縁膜
２６ａ  凹形状部
２７  ＴＦＴ
２８  画素電極
３０  球状スペーサ
【図１】
0004757628.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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