【手続補正書】
【提出日】平成15年9月11日(2003.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にマトリックス状に形成された反射電極と、前記各反射電極に対応して形成されたスイッチング素子とを具備する液晶パネル用基板であって、
当該基板の周辺には導電層からなるガードリングが配置されてなり、前記ガードリングは耐湿性絶縁膜によって直接覆われていることを特徴とする液晶パネル用基板。
【請求項２】
基板上にマトリックス状に形成された反射電極と、前記各反射電極に対応して形成されたトランジスタとを具備する液晶パネル用基板であって、前記基板の周辺領域にはガードリングが配置されてなり、
前記ガードリングの第１の導電層は、前記トランジスタのソース・ドレイン電極と同一材料により形成されてなり、前記ガードリングの第２の導電層は、前記トランジスタ上に形成された遮光膜と同一材料により形成されてなり、前記第１及び第２導電層からなるガードリングは、耐湿性絶縁膜により、直接覆われていることを特徴とする液晶パネル用基板。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶パネル用基板であって、前記ガードリングは前記第１の導電層と前記第２の導電層をビアホールを介して直接接続して形成することを特徴とする液晶パネル用基板。
【請求項４】
請求項２に記載の液晶パネル用基板であって、前記ガードリングは前記第１の導電層と前記第２の導電層をビアホールに埋め込んだ接続プラグを介して接続して形成することを特徴とする液晶パネル用基板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか記載の液晶パネル用基板であって、前記耐湿性絶縁膜は窒化シリコン膜であることを特徴とする液晶パネル用基板。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか記載の液晶パネル用基板と、入射側の透明基板とが間隙を有して配置されるとともに、前記液晶パネル用基板と前記透明基板との間隙内に液晶が挟持されて構成されることを特徴とする液晶パネル。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶パネルを用いたことを特徴とする電子機器。
【請求項８】
基板上にマトリックス状に形成された反射電極と、前記各反射電極に対応して形成されたトランジスタと、前記基板の周辺領域に配置されたガードリングと端子と、前記端子と外部回路とを接続するＦＰＣとを具備する液晶パネル用基板であって、
前記トランジスタのソース・ドレイン電極と同一材料により前記ガードリングの第１の導電層と前記端子の第１の導電層とが形成されてなり、前記トランジスタ上に形成された遮光膜と同一材料により前記ガードリングの第２の導電層と前記端子の第２の導電層とが形成されてなり、前記ガードリングの第１及び第２導電層は耐湿性絶縁膜により覆われているとともに、前記端子部に接続されるＦＰＣは前記耐湿性絶縁膜上に延設されてなることを特徴とする液晶パネル用基板。
【請求項９】
基板上にマトリックス状に形成された反射電極と、前記各反射電極に対応して形成されたトランジスタと、前記基板の周辺にガードリングとを具備する液晶パネル用基板の製造方法において、
前記トランジスタのソース・ドレイン領域及びゲート電極上に第１層間絶縁膜を形成する工程と、
前記ソース領域に接続するソース電極と、前記ドレイン領域に接続するドレイン電極と、前記基板周辺領域で前記基板に接するように前記ガードリングの第１の導電層とを同一材料により形成する工程と、
前記ソース・ドレイン電極及び第１の導電層上に第２層間絶縁膜を同一材料により形成する工程と、
前記ドレイン電極に接続される中継導電層と、前記反射電極間の光漏れを防ぐ遮光層と、前記ガードリングの第１の導電層に接続される第２の導電層とを同一材料により形成する工程と、
前記ガードリングを耐湿性絶縁膜によって直接覆う工程と、を有することを特徴とする液晶パネル用基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の液晶パネル用基板の製造方法であって、前記ガードリングを前記第１の導電層と前記第２の導電層をビアホールを介して直接接続して形成することを特徴とする液晶パネル用基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の液晶パネル用基板の製造方法であって、前記ガードリングを、前記第１の導電層と前記第２の導電層をビアホールに産め込んだ接続プラグを介して接続することにより形成することを特徴とする液晶パネル用基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項９〜１１のいずれかに記載の液晶パネル用基板の製造方法であって、前記耐湿性絶縁膜は窒化シリコン膜であることを特徴とする液晶パネル用基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この発明は、上記目的を達成するため、
本発明に記載の液晶パネル用基板は、基板上にマトリックス状に形成された反射電極と、前記各反射電極に対応して形成されたスイッチング素子とを具備する液晶パネル用基板であって、
当該基板の周辺には導電層からなるガードリングが配置されてなり、前記ガードリングは耐湿性絶縁膜によって直接覆われていることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明に記載の液晶パネル用基板は、基板上にマトリックス状に形成された反射電極と、前記各反射電極に対応して形成されたトランジスタとを具備する液晶パネル用基板であって、前記基板の周辺領域にはガードリングが配置されてなり、
前記ガードリングの第１の導電層は、前記トランジスタのソース・ドレイン電極と同一材料により形成されてなり、前記ガードリングの第２の導電層は、前記トランジスタ上に形成された遮光膜と同一材料により形成されてなり、前記第１及び第２導電層からなるガードリングは、耐湿性絶縁膜により、直接覆われていることを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明に記載の液晶パネル用基板は、上記の液晶パネル用基板であって、前記ガードリングは前記第１の導電層と前記第２の導電層をビアホールを介して直接接続して形成することを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このため、前記ガードリングに関わる工程数を増やすことなく本発明に記載の液晶パネル用基板の構造を実現することができ、コスト低減の効果がある。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明に記載の液晶パネル用基板は、上記の液晶パネル用基板であって、前記ガードリングは前記第１の導電層と前記第２の導電層をビアホールに埋め込んだ接続プラグを介して接続して形成することを特徴とする。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
このため、前記ガードリングに要する面積を低減することができ、本発明に記載の液晶パネル用基板内のレイアウトを効率良く配置するために有効である。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明に記載の液晶パネル用基板は、上記の液晶パネル用基板であって、前記耐湿性絶縁膜は窒化シリコン膜であることを特徴とする。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
このため、通常の半導体プロセスで用いられる装置を利用することができ、本発明に記載の液晶パネル用基板を低コストで作成するために有効である。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明に記載の液晶パネルは、本発明に記載の液晶パネル用基板と、入射側の透明基板とが間隙を有して配置されるとともに、前記液晶パネル用基板と前記透明基板との間隙内に液晶が挟持されて構成されることを特徴とする液晶パネルを提供する。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明に記載の電子機器は、本発明に記載の液晶パネルを用いた電子機器を提供する。特に、反射型液晶パネルを表示装置として用いた、内蔵電池により電源供給される携帯型電子機器（コンピュータ、携帯電話、液晶テレビ、電子時計、携帯型端末機器など）に用いると、消費電力の小さい表示装置となるので、電池寿命を伸ばすことができる。また、反射型液晶パネルをライトバルブとした投射型表示装置に用いると、液晶パネルを高精細化しても高画質が得られる。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明に記載の液晶パネル用基板は、基板上にマトリックス状に形成された反射電極と、前記各反射電極に対応して形成されたトランジスタと、前記基板の周辺領域に配置されたガードリングと端子と、前記端子と外部回路とを接続するＦＰＣとを具備する液晶パネル用基板であって、前記トランジスタのソース・ドレイン電極と同一材料により前記ガードリングの第１の導電層と前記端子の第１の導電層とが形成されてなり、前記トランジスタ上に形成された遮光膜と同一材料により前記ガードリングの第２の導電層と前記端子の第２の導電層とが形成されてなり、前記ガードリングの第１及び第２導電層は耐湿性絶縁膜により覆われているとともに、前記端子部に接続されるＦＰＣは前記耐湿性絶縁膜上に延設されてなることを特徴とする。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明に記載の液晶パネル用基板の製造方法は、基板上にマトリックス状に形成された反射電極と、前記各反射電極に対応して形成されたトランジスタと、前記基板の周辺にガードリングとを具備する液晶パネル用基板の製造方法において、前記トランジスタのソース・ドレイン領域及びゲート電極上に第１層間絶縁膜を形成する工程と、前記第１絶縁膜に形成したビアホールを介して、前記ソース領域に接続するソース電極と、前記ドレイン領域に接続するドレイン電極と、前記基板周辺領域で前記基板に接するように前記ガードリングの第１の導電層とを同一材料により形成する工程と、前記ソース・ドレイン電極及び第１の導電層上に第２層間絶縁膜を同一材料により形成する工程と、前記第２層間絶縁膜に形成したビアホールを介して前記ドレイン電極に接続される中継導電層と、前記反射電極間の光漏れを防ぐ遮光層と、前記ガードリングの第１の導電層に接続される第２の導電層とを同一材料により形成する工程と、前記中継導電層及び前記遮光層及び前記第２の導電層上に前記遮光層及び第２の導電層に接するようにシリコン窒化膜と、前記シリコン窒化膜上のシリコン酸化膜とからなる第３層間絶縁膜を形成する工程と、前記第３層間絶縁膜に形成したビアホールを介して、前記ドレイン電極に接続された前記中継導電層に接続するように反射電極を形成する工程と前記ガードリングを耐湿性絶縁膜によって直接覆う工程と、を有することを特徴とする。
また、本発明に記載の液晶パネル用基板の製造方法は、上記の液晶パネル用基板の製造方法であって、前記ガードリングを前記第１の導電層と前記第２の導電層をビアホールを介して直接接続して形成することを特徴とする。
また、本発明に記載の液晶パネル用基板の製造方法は、上記の液晶パネル用基板の製造方法であって、前記ガードリングを、前記第１の導電層と前記第２の導電層をビアホールに産め込んだ接続プラグを介して接続することにより形成することを特徴とする。
また、本発明に記載の液晶パネル用基板の製造方法は、上記の液晶パネル用基板の製造方法であって、前記耐湿性絶縁膜は窒化シリコン膜であることを特徴とする