(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯電体を収容可能な筐体内に導入可能とされ、当該筐体の外壁から前記帯電体に向かって軸線方向に延在可能な支持体と、
前記支持体の前記軸線方向の先端部に支持され紫外光を出射する重水素ランプと、
前記支持体内に備えられ前記重水素ランプを冷却するための冷却手段と、
紫外光が照射されてイオン化するイオン化用ガスを前記重水素ランプの光出射窓近傍に供給するガス噴出口を有するガス供給経路と、を備え、
前記冷却手段は、前記軸線方向に延在する冷却媒体供給経路及び冷却媒体排出経路を有することを特徴とする除電装置。
【請求項２】
前記支持体を変形自在として、当該支持体の変形を操作可能な操作手段を備え、
前記重水素ランプは、前記支持体の先端部に支持されていることを特徴とする請求項１記載の除電装置。
【請求項３】
前記冷却手段は、前記冷却媒体供給経路及び前記冷却媒体排出経路が二重管構造からなる請求項１又は２に記載の除電装置。
【請求項４】
前記光出射窓が前記支持体の外部に露出している請求項１〜３の何れか一項に記載の除電装置。
【請求項５】
前記ガス噴射口が前記光出射窓の先方に配置されている請求項１〜４の何れか一項に記載の除電装置。
【請求項６】
前記ガス供給経路は前記支持体の内部または外部を前記軸線方向に延在するガス供給管を有する請求項１〜５の何れか一項に記載の除電装置。
【請求項７】
帯電体を収容可能な筐体と、
請求項１〜６の何れか一項に記載の除電装置と、を備えたことを特徴とするチャンバ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定波長の光を出射する重水素ランプを有する除電装置及びこれを備えたチャンバに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば半導体やプラズマディスプレイ等の製造工程において、筐体内の低圧環境下に配置された半導体ウエハやガラス基板等の除電を行う除電装置として、紫外光を出射する重水素ランプを備えたものが知られている。このような除電装置では、筐体内の半導体ウエハやガラス基板等の帯電体（被除電物）に向け、筐体外に配置された重水素ランプから透過窓を通して筐体内に紫外光を照射し帯電体の除電を行っている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特許公報第２８１６０３７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
近年、半導体ウエハ等の帯電体の大型化に伴って筐体も大型化し、筐体外の重水素ランプと筐体内の帯電体との距離が長くなってしまい、紫外光の近接照射ができないという問題があった。
【０００４】
本発明は、このような課題を解決するために成されたものであり、紫外光の近接照射が可能な除電装置及びこれを備えたチャンバを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明による除電装置は、帯電体を収容可能な筐体内に導入可能とされ、当該筐体の外壁から帯電体に向かって延在可能な支持体と、支持体に支持され紫外光を出射する重水素ランプと、支持体内に備えられ重水素ランプを冷却するための冷却手段と、紫外光が照射されてイオン化するイオン化用ガスを重水素ランプの光出射窓近傍に供給するためのガス供給経路と、を備えることを特徴としている。
【０００６】
また、本発明によるチャンバは、帯電体を収容可能な筐体と、上記除電装置とを備えたことを特徴としている。
【０００７】
このような除電装置及びこれを備えたチャンバによれば、筐体の外壁から筐体内の帯電体に向かって延在可能な支持体を備え、この支持体に重水素ランプが支持されると共に支持体内に設けられた冷却手段により重水素ランプが冷却され且つガス供給経路によりイオン化用ガスが重水素ランプの光出射窓近傍に供給されるため、筐体内に重水素ランプを配置することができ、重水素ランプを帯電体に対して近接配置させることが可能とされる。これにより、紫外光を近接照射できるため、帯電体の除電を良好に行うことができる。
【０００８】
ここで、支持体を変形自在として、当該支持体の変形を操作可能な操作手段を備え、重水素ランプは、支持体の先端部に支持されていると、操作手段を操作することで、支持体が変形し、この支持体の先端部に設けられた重水素ランプの位置を移動させることが可能となる。これにより、帯電体の大きさ、形状に合わせて、重水素ランプの位置を移動させ、紫外光を近接照射できるため、帯電体の除電を一層良好に行うことができる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の除電装置及びこれを備えたチャンバによれば、重水素ランプを筐体内に配置することができるため、紫外光の近接照射が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明による除電装置及びこれを備えたチャンバの好適な実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。図１は、本発明の実施形態に係る除電装置及びこれを備えたチャンバを示す概略構成図、図２は、図１に示す除電装置の縦断面図、図３は、図２中の重水素ランプを示す縦断面図、図４は図３中の発光部組立体の分解斜視図、図５は、図２のＶ−Ｖ矢視図である。
【００１１】
図１に示すように、本実施形態の除電装置１を備えたチャンバ２は、例えばプラズマディスプレイの製造工程等に用いられるもので、内部を真空環境（低圧状態）に維持可能な筐体３を具備し、この筐体３内の搬送装置４上に載置されたガラス基板等の被除電物（帯電体）５の近傍に紫外光を照射してイオンを生成し除電を行うものである。筐体３は、箱型を成し、その上部外壁３ａに除電装置１が導入される開口部３ｂを有し、この開口部３ｂの周囲には除電装置１を固定するためのフランジ３ｃが設けられている。そして、筐体３には、内部を真空状態にするための減圧装置（不図示）が接続されている。
【００１２】
除電装置１は概略、筐体３の上部外壁３ａから被除電物５に向かって延在する支持体６と、図２に示すように、支持体６の先端部（図示左側）に保持され紫外光を出射する重水素ランプ１０と、この重水素ランプ１０を冷却する冷却手段７と、紫外光の照射によってイオン化されるイオン化用ガスを筐体３外から筐体３内に供給するガス供給管（ガス供給経路）８とを具備している。
【００１３】
以下、重水素ランプ１０について詳説する。この重水素ランプ１０は、所謂ヘッドオン型の重水素ランプであり、図３に示すように、ガラス製の密封容器１１と、この密封容器１１内に収容される発光部組立体１２と、を備えている。
【００１４】
密封容器１１は、円筒状の側管部１１ａと、この側管部１１ａより小径とされ、側管部１１ａと同軸上に配置され側管部１１ａの上端から上方に延びる円筒状の側管延出部１１ｅと、側管部１１ａの下端側を封止するステム部１１ｂと、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）から成り側管延出部１１ｅの上端側を封止する光出射窓１１ｃと、を有する構成とされ、この密封容器１１内には数百Ｐａ程度の重水素ガスが封入されている。ステム部１１ｂには、所定の円周上に沿って複数（本実施形態では九本）の導電性のステムピン１９ａ〜１９ｉ（図４参照）が各々挿通されて密封固定されている。また、ステム部１１ｂの中央には、外方（図示下側）に向かって突出する排気管部１１ｄが形成されている。
【００１５】
密封容器１１内に収容される発光部組立体１２は、紫外光を発生させるためのもので、図３及び図４に示すように、下から順に、ベース部１３、陽極部１４、放電路制限部固定板１５、放電路制限部１６及び陰極部１７を備えると共に、これらを覆う陰極部カバー１８を備えている。
【００１６】
ベース部１３は、図４に示すように、電気的絶縁性のセラミックスから成り円板状に構成されている。このベース部１３には、周縁に沿って複数の開口が形成され、各開口に上記ステムピン１９ａ〜１９ｉが各々通されている。このベース部１３の上面には、陽極部１４を収容配置すべく当該陽極部１４の形状に対応する形状の浅い凹部１３ａが形成されている。
【００１７】
陽極部１４は、導電性の薄板であり、略円板状を成す本体部分１４ａと、この本体部分１４ａの周縁の二箇所から半径方向に水平に延びる一対の延出部分１４ｂ，１４ｃと、を備え、図３に示すように、その上面がベース部１３の上面と面一と成るようにしてベース部１３の凹部１３ａに収容されている。この陽極部１４は、図４に示すように、その延出部分１４ｂ，１４ｃに開口１４ｄ，１４ｅを各々有し、この開口１４ｄ，１４ｅにステムピン１９ｃ，１９ｄが通されてその先端部に電気的に接続されている。
【００１８】
放電路制限部固定板１５は、セラミックスから成り略扇形状に構成され、ベース部１３及び陽極部１４の略中央部分に重なるように載置されている。この放電路制限部固定板１５には、その略中央に、陽極部１４と陰極部１７との間に形成される放電路を通すべく、陽極部１４の本体部分１４ａを露出させる開口１５ｘが設けられている。放電路制限部固定板１５の開口１５ｘを含む幅狭側（図示右側）の上面には、放電路制限部１６を収容配置すべく当該放電路制限部１６の形状に対応する形状の浅い凹部１５ａが形成され、その幅広側（図示左側）の上面には、陰極部１７を立設するための凸部１５ｂが設けられている。放電路制限部固定板１５の凹部１５ａの幅狭側の位置には開口１５ｃが設けられ、この開口１５ｃにステムピン１９ｅが通されている。また、放電路制限部固定板１５の凸部１５ｂには一対の開口１５ｄ，１５ｅが各々設けられ、この開口１５ｄ，１５ｅにステムピン１９ａ，１９ｂが各々通されている。
【００１９】
放電路制限部１６は、導電性の薄板であり、略円板状を成す本体部分１６ａと、この本体部分１６ａの周縁から半径方向に水平に延びる延出部分１６ｂと、を備え、図３に示すように、その上面が、放電路制限部固定板１５の上面と面一と成るようにして放電路制限部固定板１５の凹部１５ａに収容されている。この放電路制限部１６は、図４に示すように、その延出部分１６ｂに開口１６ｃを有し、この開口１６ｃにステムピン１９ｅが通されてその先端部に電気的に接続されている。
【００２０】
また、放電路制限部１６には、図３及び図４に示すように、放電路制限部固定板１５の開口１５ｘと同軸の位置に、アークボール成形用の凹部１６ｄが設けられている。この凹部１６ｄは放電によって作り出されたアークボールを収容させて光を効率良く取り出すために、光出射窓１１ｃに向けて広げられたカップ状に形成されている。この放電路制限部１６の凹部１６ｄの底面には、直径０．５ｍｍ程度の小径の放電路狭窄開口１６ｅが設けられ、これにより、凹部１６ｄ内で扁平なボール状のアークボールを作り出すことが可能とされている。
【００２１】
陰極部１７は、コイル（フィラメントコイル）を加熱ヒータとしてこれに熱電子放射物質である例えば酸化バリウム等を塗布して構成されている。この陰極部１７は、図４に示すように、そのコイルの両端部が、放電路制限部固定板１５の凸部１５ｂの開口１５ｄ，１５ｅに通されて立設され、当該開口１５ｄ，１５ｅに通されたステムピン１９ａ，１９ｂに電気的に接続されている。
【００２２】
陰極部カバー１８は、図３及び図４に示すように、円筒状を成し、陽極部１４、放電路制限部１６等の組立体を覆う陽極側覆部１８ａと、この陽極側覆部１８ａの陰極部１７側の上部に、陽極側覆部１８ａ内の空間が連通するように連設されて上方に突出し、陽極側覆部１８ａと同軸で同径の円筒を軸線を含まない位置で軸線方向に沿って垂直に切断した時の小さい方の部分の形状を成し、陰極部１７を覆う陰極側覆部１８ｂと、を備え、これら陽極側覆部１８ａ及び陰極側覆部１８ｂをセラミックスにより一体成形して成る。
【００２３】
陰極部カバー１８の陰極側覆部１８ｂは、放電路狭窄開口１６ｅの軸心側（陰極部１７の電子放出側）のスリット板部１８ｃに、電子を放出するためのスリット１８ｄを開口として備え、一方、陽極側覆部１８ａは、放電路制限部固定板１５の開口１５ｘ、放電路制限部１６の放電路狭窄開口１６ｅと同軸の位置に、上記放電路を通すための開口１８ｅを備えている。この開口１８ｅは、放電効率を高めるべく放電路制限部１６の必要以上の露出を無くす大きさとされている。また、陽極側覆部１８ａは、図４に示すように、開口１８ｆ〜１８ｉを各々有し、この開口１８ｆ〜１８ｉに、陽極部１４、放電路制限部固定板１５の外側に位置し上方に延出している残りのステムピン１９ｆ〜１９ｉが各々通されてその先端部が各々連結固定されている。これにより、陰極部カバー１８が固定されると共に、当該陰極部カバー１８とベース部１３との間に、陽極部１４、放電路制限部固定板１５及び放電路制限部１６が重ねられて挟まれ固定された状態とされている。
【００２４】
次に、このように構成された重水素ランプ１０をその先端部に支持する支持体６について詳説する。図１及び図２に示すように、支持体６は、その先端部を構成し重水素ランプ１０を保持するランプ保持部２１と、このランプ保持部２１を先端に支持するアーム部２２と、このアーム部２２の後端側に設けられ除電装置１を筐体３に固定するフランジ部２３とを備えている。
【００２５】
ランプ保持部２１は、図２に示すように、重水素ランプ１０の側管部１１ａを収容する円筒状の筒体２４を備え、この筒体２４内に、重水素ランプ１０を着脱可能に固定するソケット２５と、重水素ランプ１０の熱を吸収する吸熱フィン部材２６と、この吸熱フィン部材２６の熱を冷却手段７に伝達するヒートシンク２７とを有している。更に、ランプ保持部２１は、重水素ランプ１０の側管延出部１１ｅを挿通させて当該重水素ランプ１０を固定するための固定リング２８を備えている。
【００２６】
ソケット２５は、重水素ランプ１０の排気管１１ｄ及びステムピン１９ａ〜１９ｉ（図４参照）を挿通させる複数の開口部を有し、これらの開口部に排気管１１ｄ及びステムピン１９ａ〜１９ｉを各々挿通させ、重水素ランプ１０のステム部１１ｂ側を着脱可能に密着固定している。これにより、重水素ランプ１０の交換等の保守作業を容易に行うことができる。そして、ソケット２５は、ヒートシンク２７を介してアーム部２２の先端に固定されている。
【００２７】
吸熱フィン部材２６は、アルミ等の板材から成り、重水素ランプ１０の側管部１１ａの外壁に接触又は近接する構成とされ、ヒートシンク２７の先端部に密着固定されている。ヒートシンク２７は、内部に除電装置１の軸線Ｌ方向に延在する複数の開口部を有し、この開口部は冷却媒体（本実施形態では空気）を流通させる冷却媒体流通経路とされている。
【００２８】
筒体２４は、その後端部がアーム部２２の先端部に固定され、ヒートシンク２７、吸熱フィン部材２６及び重水素ランプ１０の側管部１１ａの外面を覆うように配置されている。重水素ランプ１０は、ソケット２５に装着されて、その側管延出部１１ｅがランプ保持部２１の先端より突き出るように配置され、光出射窓１１ｃはランプ保持部２１の外部に露出している。そして、固定リング２８は、筒体２４の先端に固定されて重水素ランプ１０の側管部１１ａと側管延出部１１ｅとの間に形成される段差１１ｆ（図３参照）に嵌め合わされたＯリング、及び重水素ランプ１０を後方に押し付け、筒体２４内は気密封止されている。
【００２９】
アーム部２２は、変形自在なステンレス製の二重管（フレキシブルチューブ）から成り、その外管２２ｏは冷却媒体をヒートシンク２７内へ供給するための冷却媒体供給経路（冷却風給気経路；冷却経路）とされ、内管２２ｉはヒートシンク２７内で熱伝達されて吸熱した冷却媒体を排出するための冷却媒体排出経路（冷却風排気経路；冷却経路）とされている。この内管２２ｉは、その先端が外管２２ｏより先方に突出してヒートシンク２７に進入し、ヒートシンク２７の開口部に連通している。外管２２ｏの後端には、フランジ部２３が固定され、内管２２ｉはフランジ部２３を貫通し、筐体３外に延出している。そして、このフランジ部２３は、筐体３のフランジ３ｃに固定されている（図１参照）。この状態で、重水素ランプ１０は被除電物５に対して近接配置され、その光出射窓１１ｃは被除電物５に向けられている。
【００３０】
冷却手段７は、上記した支持体６の外管２２ｏ、内管２２ｉと、この内管２２ｉの出口に連通する連絡管２９と、この連絡管２９に接続されて内管２２ｉ内の冷却媒体を外部に排出させる冷却ファン（排気ファン）３０とを備えている。連絡管２９は後方に向かって大径とされ、連絡管２９の側壁外面には入力用コネクタ（電源供給コネクタ）３１が設けられている。重水素ランプ１０は、入力用コネクタ３１を介して、筐体３外に配置された電源（不図示）から電力を供給される。
【００３１】
ガス供給管８は、軸線方向Ｌに延在し、その先端が重水素ランプ１０の光出射窓１１ｃの近傍にイオン化用ガスを供給するガス噴射口８ｏ（図５及び図６参照）とされ、後端がイオン化用ガスを導入するガス導入口８ｉとされている。このガス供給管８は、支持体６と共に変形自在な構成とされ、そのガス噴射口８ｏは、ランプ保持部２１の側方かつ光出射窓１１ｃの先方に配置され、ガス供給管８は筒体２４の外壁を貫通してランプ保持部２１内に進入し、アーム部２２の外管２２ｏ内を延在して、フランジ部２３を貫通して筐体３外に延出し、その延出部であるガス導入口８ｉはイオンガス供給装置（不図示）に接続されている。イオン化用ガスとしては、紫外線の照射によりイオンを生じるガスであって、被除電物に対して非反応性のガスが用いられる。被除電物が半導体ウェハの場合、例えば窒素ガス、アルゴンガス、キセノンガス及びこれらの混合ガス等が用いられる。
【００３２】
このような除電装置１を備えたチャンバ２では、筐体３外に配置された電源により電力が供給され、重水素ランプ１０が点灯し、紫外光が光出射窓１１ｃから被除電物５に向けて出射される。このとき、ガス供給管８によってイオン化用ガスが供給され、このイオン化用ガスに紫外光が照射されてイオンが生成される。そして、このイオンによって、被除電物５が除電される。また、冷却手段７の冷却ファン３０を稼動させることで、冷却媒体が外管２２ｏを流通してヒートシンク２７内に導入され、重水素ランプ１０からの熱が吸熱フィン部材２６、ヒートシンク２７を介して冷却媒体に伝達され、その後、冷却媒体は内管２２ｉ内を流通し、冷却ファン３０の排出口から筐体３外に排出される。このように、重水素ランプ１０を冷却することにより、重水素ランプ１０を安定して駆動させることができる。また、ヒートシンク２７に吸熱フィン部材２６が密着固定されているため、発熱部である発光部組立体１２が安定して冷却されている。
【００３３】
このように本実施形態によれば、筐体３の外壁３ａから筐体３内の被除電物５に向かって延在する支持体６を備え、この支持体６に重水素ランプ１０が支持されると共に支持体６内に設けられた外管２２ｏ、内管２２ｉを利用して重水素ランプ１０が冷却され且つガス供給経路８によりイオン化用ガスが重水素ランプ１０の光出射窓１１ｃ近傍に供給されるため、筐体３内に重水素ランプ１０を配置することができ、重水素ランプ１０が被除電物５に対して近接配置されている。従って、紫外光を近接照射でき、被除電物５の除電を良好に行うことができる。また、本実施形態においては、ガス供給管８が支持体６内に延在するように配置されて、ガス供給管８は支持体６と共に変形自在とされ、その先端であるガス噴射口８ｏがランプ保持部２１の側方で且つ光出射窓１１ｃの先方に固定されているため、筐体３内での取り回しが容易であると共に、重水素ランプ１０を被除電物５に対して位置決め配置すると同時にイオン化用ガスを供給するガス噴射口８ｏの位置決めが可能となり筐体３内における除電装置１のセッティング作業が容易となる。
【００３４】
また、ガス噴射口８ｏが重水素ランプ１０の光出射窓１１ｃの近傍に配置されているため、イオン化用ガスの供給量を最小限にすることができ、筐体３内の真空度（低圧度）を低下させずに効率良く除電を行うことができる。
【００３５】
なお、図６に示すように、ガス供給管８を複数（例えば８つ）備え、これらのガス供給管８のガス噴射口８ｏを所定の円周上に略等間隔で配置するようにしても良い。このようにすると、イオン化用ガスを均一に噴射することができるため、イオンが良好に分散され、除電を一層良好に行うことができる。
【００３６】
次に、本発明の第２実施形態に係る除電装置４１について、図７及び図８を参照しながら説明する。この第２実施形態の除電装置４１が第１実施形態の除電装置１と違う点は、イオン化用ガスを供給するガス供給管８をアーム部２２の内部に備える除電装置１に代えて、イオン化用ガスを供給するガス供給管４８をアーム部２２の外部に備える除電装置４１とした点である。
【００３７】
ガス供給管４８は、支持体６の側方に沿って軸線方向Ｌに延在し、その先端のガス噴射口４８ｏが重水素ランプ１０の光出射窓１１ｃの近傍に位置し、その後端のガス導入口４８ｉが、フランジ部２３を貫通しフランジ部２３の外方に延在する構成とされている。このように構成しても第１実施形態の除電装置１と同様の効果を得ることができ、加えてガス噴射口４８ｏの位置を適宜変更することが可能とされている。なお、図９に示すように、ガス供給管４８のガス噴射口４８ｏを複数（例えば８つ）備え、これらのガス噴射口４８ｏを所定の円周上に略等間隔で配置するようにしても良い。このようにすると、イオン化用ガスを均一に噴射することができるため、イオンが良好に分散され、除電を一層良好に行うことができる。
【００３８】
次に、本発明の第３実施形態に係る除電装置５１について、図１０及び図１１を参照しながら説明する。なお、図１１に示す図においては、連絡管２９及び冷却ファン３０を省略している。この第３実施形態の除電装置５１が第１実施形態の除電装置１と違う点は、支持体６の変形を操作する操作手段５３を備えた点である。この操作手段５３は、ヒートシンク２７の後端部に接続された複数（本実施形態では３本）のコントロール用ワイヤ５４を備え、このコントロール用ワイヤ５４は、アーム部２２の外管２２ｏ内で延在し、フランジ部２３の開口を通過して外方に延出している。このコントロール用ワイヤ５４の後端部には、グリップ５４ａが設けられている。また、フランジ部２３の外表面には、円環状を成しコントロール用ワイヤ５４を挿通させると共に、コントロール用ワイヤ５４を一時固定するストッパ５５が設けられている。
【００３９】
そして、これらのコントロール用ワイヤ５４を引き操作及び戻し操作し、ストッパ５５で固定することで、支持体６を変形させランプ保持部２１の位置を変えることができる。このように構成しても第１実施形態の除電装置１と同様の効果を得ることができ、加えて、操作手段５３によってランプ保持部２１の位置を変えて、重水素ランプ１０からの紫外光の出射方向を操作することが可能であるため、被除電物の除電を一層良好に行うことができる。なお、操作手段５３は上記構成に限られず、その他の構成であってもよく、要は、支持体６の変形を操作可能であれば良い。
【００４０】
以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態において、ガス供給経路の先端部に設けられたガス噴射口を重水素ランプ１０の光出射窓１１ｃ近傍に配置する構成としているが、筐体３に他のフランジ部を設けイオン化用ガスを供給するガス供給口としても良い。
【００４１】
また、上記実施形態にあっては、特に好ましいとして、重水素ランプ１０を支持体６の先端部に備える構成としているが、重水素ランプ１０を支持する位置は、支持体６の先端部に限られず、その他の位置であっても良い。また、特に好ましいとして、支持体６を変形可能としているが、支持体６は変形しない構成であっても良い。
【００４２】
また、上記実施形態にあっては、冷却媒体を供給する冷却媒体供給経路２２ｏとイオン化用ガスを供給するガス供給経路を各々備える構成としているが、冷却媒体及びイオン化用ガスを供給する共通の経路を備え、分岐させて冷却媒体及びイオン化用ガスを供給する構成としても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の第１実施形態に係る除電装置及びこれを備えたチャンバを示す概略構成図である。
【図２】図１に示す除電装置の縦断面図である。
【図３】図２中の重水素ランプを示す縦断面図である。
【図４】図３中の発光部組立体の分解斜視図である。
【図５】図２のＶ−Ｖ矢視図である。
【図６】図５に示すガス噴出口の他の例を示す除電装置の正面図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る除電装置を示す縦断面図である。
【図８】図７のVIII−VIII矢視図である。
【図９】図８に示すガス噴出口の他の例を示す除電装置の正面図である。
【図１０】本発明の第３実施形態に係る除電装置を示す縦断面図である。
【図１１】図１０のＸＩ−ＸＩ矢視図である。
【符号の説明】
【００４４】
１，４１，５１…除電装置、２…チャンバ、３…筐体、３ａ…外壁、５…ガラス基板（被除電物；帯電体）、６…支持体、７…冷却手段、８，４８…ガス供給管（ガス供給経路）、１０…重水素ランプ、１１ｃ…光出射窓、２２ｉ…内管（冷却経路）、２２ｏ…外管（冷却経路）、５３…操作手段。
【図１】
0004829550.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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