【手続補正書】
【提出日】平成15年6月30日(2003.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インク吐出圧力発生素子が形成された基体上に、
溶解可能な無機材料を用いてインク流路パターン状に無機材料膜を形成する工程と、
該無機材料膜上に、インク流路壁となる窒化シリコン膜を形成する工程と、
前記インク吐出圧力発生素子上方の前記窒化シリコン膜にインク吐出口を形成する工程と、
前記無機材料膜を溶出する工程と、
を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記第１の無機材料がＰＳＧ（フォスフォシリケートグラス）、ＢＰＳＧ（ボロンフォスフォシリケートグラス）または酸化シリコンである請求項１記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記無機材料膜がＡｌを主成分とする膜である請求項１記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記無機材料膜を溶出する工程が、フッ酸を用いて該無機材料膜をエッチングする工程である請求項２記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記無機材料膜を溶出する工程が、リン酸あるいは塩酸を用いて無機材料膜をエッチングする工程である請求項３記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記窒化シリコン膜にインク吐出口を形成する工程が、ＩＣＰエッチングを用いる方法である請求項１記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項７】
インクを吐出するためのインク吐出口と、該インク吐出口に連通し、前記インク吐出口に液体を供給するインク流路と、該インク流路内に配された、液体に気泡を発生させるための発熱素子と、前記インク流路に液体を供給するための供給口とを備えたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、表面に前記発熱素子が少なくとも形成されたシリコンを基体とする素子基板の表面にシリコン酸化膜を形成する工程と、
前記素子基板の表面のシリコン酸化膜を選択的に除去して、前記素子基板の表面に前記シリコン酸化膜で覆われた部分と前記素子基板の表面が露出した部分とを形成する工程と、
前記シリコン酸化膜で覆われた部分を含む前記素子基板の表面全体にシリコンを所望の厚さでエピタキシャル成長させることで、前記シリコン酸化膜で覆われた部分上に多結晶シリコン層を形成すると同時に、前記素子基板の表面が露出した部分上に単結晶シリコン層を形成する工程と、
前記単結晶シリコン層および多結晶シリコン層の表面全体に窒化シリコン膜を所望の厚さに形成する工程と、
前記多結晶シリコン層上の窒化シリコン膜に前記インク吐出口を形成する工程と、
前記素子基板の裏面より前記供給口となる貫通穴を形成して、前記素子基板の表面に形成した前記シリコン酸化膜で覆われた部分のそのシリコン酸化膜を除去する工程と、
前記多結晶シリコン層のみを除去して前記インク流路を形成する工程と
を含むことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項８】
インクを吐出するためのインク吐出口と、該インク吐出口に連通し、前記インク吐出口に液体を供給するインク流路と、該インク流路内に配された、液体に気泡を発生させるための発熱素子と、前記インク流路に液体を供給するための供給口とを備えたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、表面に前記発熱素子が少なくとも形成されたシリコンを基体とする素子基板の表面にシリコン酸化膜を形成する工程と、
前記素子基板の表面のシリコン酸化膜を選択的に除去して、前記素子基板の側部の表面に前記シリコン酸化膜で覆われた部分を形成すると共にこの部分以外の前記素子基板の表面を露出する工程と、
前記シリコン酸化膜で覆われた部分を含む前記素子基板の表面全体にシリコンを所望の厚さでエピタキシャル成長させることで、前記シリコン酸化膜で覆われた部分上に多結晶シリコン層を形成すると同時に、前記素子基板の表面を露出した部分上に単結晶シリコン層を形成する工程と、
前記単結晶シリコン層および多結晶シリコン層の表面全体に窒化シリコン膜を所望の厚さに形成する工程と、
前記多結晶シリコン層上の窒化シリコン膜に前記インク吐出口を形成する工程と、
前記素子基板の側部の表面に形成した前記シリコン酸化膜で覆われた部分のそのシリコン酸化膜を除去する工程と、
前記多結晶シリコン層のみを除去して、前記インク流路および前記供給口を形成する工程と
を含むことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、インク吐出圧力発生素子が形成された基体上に、溶解可能な無機材料を用いてインク流路パターン状に無機材料膜を形成する工程と、該無機材料膜上に、インク流路壁となる窒化シリコン膜を形成する工程と、前記インク吐出圧力発生素子上方の前記窒化シリコン膜にインク吐出口を形成する工程と、前記無機材料膜を溶出する工程とを有するインクジェット記録ヘッドの製造方法に関する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記無機材料としては、ＰＳＧ（フォスフォシリケートグラス）、ＢＰＳＧ（ボロンフォスフォシリケートグラス）または酸化シリコンを用いることができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
そして、前記無機材料膜を溶出する工程において、フッ酸を用いて無機材料膜をエッチングすることができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、本発明では、前記無機材料膜としてＡｌを主成分とする膜とすることができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
そして、前記無機材料膜を溶出する工程において、リン酸あるいは塩酸を用いて前記無機材料膜をエッチングすることができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
そして、前記窒化シリコン膜にインク吐出口を形成する工程において、ＩＣＰエッチングを用いることができる。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明は、インクを吐出するためのインク吐出口と、該インク吐出口に連通し、前記インク吐出口に液体を供給するインク流路と、該インク流路内に配された、液体に気泡を発生させるための発熱素子と、前記インク流路に液体を供給するための供給口とを備えたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、表面に前記発熱素子が少なくとも形成されたシリコンを基体とする素子基板の表面にシリコン酸化膜を形成する工程と、前記素子基板の表面のシリコン酸化膜を選択的に除去して、前記素子基板の表面に前記シリコン酸化膜で覆われた部分と前記素子基板の表面が露出した部分とを形成する工程と、前記シリコン酸化膜で覆われた部分を含む前記素子基板の表面全体にシリコンを所望の厚さでエピタキシャル成長させることで、前記シリコン酸化膜で覆われた部分上に多結晶シリコン層を形成すると同時に、前記素子基板の表面が露出した部分上に単結晶シリコン層を形成する工程と、前記単結晶シリコン層および多結晶シリコン層の表面全体に窒化シリコン膜を所望の厚さに形成する工程と、前記多結晶シリコン層上の窒化シリコン膜に前記インク吐出口を形成する工程と、前記素子基板の裏面より前記供給口となる貫通穴を形成して、前記素子基板の表面に形成した前記シリコン酸化膜で覆われた部分のそのシリコン酸化膜を除去する工程と、前記多結晶シリコン層のみを除去して前記インク流路を形成する工程とを含むことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法に関する。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
さらに本発明は、インクを吐出するためのインク吐出口と、該インク吐出口に連通し、前記インク吐出口に液体を供給するインク流路と、該インク流路内に配された、液体に気泡を発生させるための発熱素子と、前記インク流路に液体を供給するための供給口とを備えたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、表面に前記発熱素子が少なくとも形成されたシリコンを基体とする素子基板の表面にシリコン酸化膜を形成する工程と、前記素子基板の表面のシリコン酸化膜を選択的に除去して、前記素子基板の側部の表面に前記シリコン酸化膜で覆われた部分を形成するとともにこの部分以外の前記素子基板の表面を露出する工程と、前記シリコン酸化膜で覆われた部分を含む前記素子基板の表面全体にシリコンを所望の厚さでエピタキシャル成長させることで、前記シリコン酸化膜で覆われた部分上に多結晶シリコン層を形成すると同時に、前記素子基板の表面を露出した部分上に単結晶シリコン層を形成する工程と、前記単結晶シリコン層および多結晶シリコン層の表面全体に窒化シリコン膜を所望の厚さに形成する工程と、前記多結晶シリコン層上の窒化シリコン膜に前記インク吐出口を形成する工程と、前記素子基板の側部の表面に形成した前記シリコン酸化膜で覆われた部分のそのシリコン酸化膜を除去する工程と、前記多結晶シリコン層のみを除去して、前記インク流路および前記供給口を形成する工程とを含むことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法に関する。