【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】誘導加熱調理器
【特許請求の範囲】
【請求項１】本体の天面に、非磁性体のトッププレートを備え、前記本体の内部には、被加熱物を誘導加熱する加熱コイルと、前記加熱コイルに高周波電流を供給する制御回路とを備え、前記トッププレート表面には高摩擦係数の被膜を形成した誘導加熱調理器。
【請求項２】トッププレート表面の被膜は、膜厚を略０．５ｍｍ以下とした請求項１に記載の誘導加熱調理器。
【請求項３】トッププレート表面の被膜は、前記トッププレート中央から同心円状に形成した請求項１または２に記載の誘導加熱調理器。
【請求項４】トッププレート表面の被膜は、任意模様状に形成した請求項１または２に記載の誘導加熱調理器。
【請求項５】トッププレート表面の被膜は、成分として酸化アルミニウムまたは炭化珪素のいずれか一方を使用した請求項１〜４のいずれか１項に記載の誘導加熱調理器。
【請求項６】トッププレートは、表面を予め凹凸に粗面加工処理を施した請求項１〜５のいずれか１項に記載の誘導加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般家庭用の誘導加熱調理器に関するもので、特にトッププレートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の誘導加熱調理器の構成を、図５および図６に示す。
【０００３】
図５に示すように、本体３０天面に被加熱物の調理プレートを据え置くためのトッププレート３１と、本体３０には前記被加熱物の調理プレートを電磁誘導によって加熱するための加熱コイル３２と、加熱コイル３２中央には前記調理プレートの温度検知を行うためのサーミスタ３３が設置してあり、サーミスタ３３による検知及び前記電磁誘導を行うための制御回路３４を備えて構成されているものである。
【０００４】
この構成によれば、図６に示すように、トッププレート３１の表面は単一のセラミック製で構成されているのが一般的である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来技術におけるトッププレートの構成では、ガラス強化処理を施してはいるものの、表面は低摩擦係数のセラミック単一で構成されているため、被加熱物を据え置いて調理をする際、特に鍋物調理あるいは焼き物調理でかき混ぜたりする際には、被加熱物が滑りやすく、鍋ずれも生じやすくなるという問題があった。
【０００６】
また、特に負荷としての鍋がアルミニウムや銅といった非磁性金属で作られていた場合には、反発磁界により負荷鍋に浮力が作用し、負荷鍋または負荷鍋の中に収納された調理物の重量が軽くなると、あるいは加熱出力が大きくなると浮力により横方向にずれたり、浮きあがるおそれがある。
【０００７】
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、本体天面に設置した非磁性体のトッププレートの表面に高摩擦係数の被膜を形成することで、調理中における被加熱物（鍋など）の滑りを抑え、安全性と調理勝手を向上し、かつ鍋ずれが起こりにくくなる構成になることから、調理している状態でも、していない状態でも、常に一定個所の温度を検知することができ、誘導加熱方式によって得られる調理性能、すなわち、被加熱物底面からサーミスタへの熱伝達を適切に行うことができる卓上型誘導加熱調理器を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記従来の課題を解決するために、本発明の誘導加熱調理器は、本体天面に非磁性体のトッププレートを備え、前記本体内部には加熱コイルと、前記加熱コイルに高周波電流を供給する制御回路とを備え、前記トッププレート表面には高摩擦係数の被膜を形成したものである。
【０００９】
この構成では、非磁性体のトッププレート表面に高摩擦係数の被膜を形成することによって調理中の被加熱物を滑りにくくし、安全性と調理勝手を向上させ、また鍋ずれが起こりにくくなる構成となることから、誘導加熱方式においては特に重要となるサーミスタへの入出力応答を適切に行え、調理性能を効果的に発揮させることができるものである。
【００１０】
さらに、誘導加熱手段に、特に負荷としての鍋がアルミニウムや銅といった非磁性金属で作られていた鍋の加熱が可能な手段が備わり、前記鍋を加熱した場合には、反発磁界により負荷鍋に浮力が作用し、負荷鍋または負荷鍋の中に収納された調理物の重量が軽くなると、あるいは加熱出力が大きくなると浮力により横方向にずれたり、浮きがるおそれがあり、これを防止することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
請求項１に記載の発明は、本体天面に、電気絶縁性を有する非磁性体のトッププレートを備え、前記本体内部には加熱コイルと、前記加熱コイルに高周波電流を供給する制御回路とを備え、前記トッププレート表面に高摩擦係数の被膜を形成することにより、本体上に鍋等を載置した際には、滑りにくく安全に調理を行うことができるため使用勝手が向上し、かつ鍋等がずれにくい構造となることから、調理している状態あるいはしていない状態でも、常に一定個所の温度を検知することができるので誘導加熱方式においては特に重要となるサーミスタへの入出力応答を適切に行え、調理性能を効果的に発揮させることができるものである。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、トッププレート表面の被膜は、膜厚を略０．５ｍｍ以下とすることにより、特にトッププレート全域に被膜を形成する場合においては、被膜が薄膜構成であることから、被加熱物底面からトッププレートへの熱伝達における熱損失を縮小することができ、サーミスタへの応答性の向上を実現でき、かつ被加熱物の滑りを抑えることができる。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、特に、トッププレート表面の被膜は、前記トッププレート中央から同心円状にして間欠的に形成することで、効率よく耐潤滑性を持たせることができ、かつ簡素化した被膜形成により製造コストを抑えることができるという効果が得られる。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、特に、トッププレート表面の被膜は、任意模様として形成することにより、表面の耐潤滑性を持たせるとともに、製品としての意匠性を高めることができる。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、特に、トッププレート表面の被膜は、成分として酸化アルミニウムまたは炭化珪素のいずれか一つを使用して、被膜中に凹凸形状の硬化粒子を散在させて形成することで、調理中においては更に鍋を滑りにくくでき、安全性および調理性を向上させることができる。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、特に、被膜形成前のトッププレートの表面を予め凹凸に粗面加工処理を施すことで、被膜形成時においては、粒子状の物質および硬化剤のトッププレートへのなじみ性を促進させることができる。
【００１７】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、図面を参照して説明する。
【００１８】
（実施例１）
本発明の実施例１について、図１により説明する。図１は、本発明の実施例１における誘導加熱調理器の構成図である。
【００１９】
図１に示すように、本体１の上部は電気絶縁性を有する非磁性体のトッププレート２で覆われており、本体１内部には、トッププレート２裏面中央に位置するサーミスタ３を備え、また加熱コイル４と加熱コイル４に高周波電流を供給する制御回路５が収納されており、本体１上部のトッププレート２表面には、高摩擦係数の被膜７を形成した構成である。
【００２０】
この構成により、本体１上に調理鍋等の被加熱物８を載置した際には、表面が滑りにくい構造であるため、特に鍋物調理や焼き物調理で被加熱物８内の調理物をかき混ぜた場合でも被加熱物８の滑りを防ぐので、安全に調理を行うことができ、使用勝手が向上する。
【００２１】
また、調理の際も調理鍋等の被加熱物８がずれにくい構造となることから、調理している状態でも、していない状態でも、常に一定個所の温度を検知することができるので、被加熱物８底面からの入力に対する、トッププレート２中央裏面に位置するサーミスタ３への応答によって出力される誘導加熱調理器の調理性能を適切に発揮することができる。
【００２２】
（実施例２）
以下、本発明の実施例２について、図２により説明する。図２は、本発明の実施例２における誘導加熱調理器の構成図である。
【００２３】
図２に示すように、特に、トッププレート１４表面の被膜１５は、膜厚を略０．５ｍｍ以下とする構成である。
【００２４】
また、本体１６上のトッププレート１４表面の被膜１５は、前記トッププレート１４中央から同心円状１７にして間欠的に形成する構成、あるいはトッププレート１４表面の被膜１５は、任意模様として形成する構成である。
【００２５】
この構成より、特にトッププレート１４全域に被膜１５を形成した場合には、薄膜形成であることから、被加熱物底面からトッププレート１４への熱伝達における熱損失を縮小することができ、サーミスタへの応答性の向上を実現できる。また、被膜１５をトッププレート１４中央から同心円状１７にして間欠的に形成した場合には、効率よく耐潤滑性を持たせつつ、簡素化した被膜形成により製造コストを抑えることができる。あるいは、被膜１５を任意模様として形成することにより、表面の耐潤滑性を持たせるとともに、製品としての意匠性を高めることができる。
【００２６】
（実施例３）
以下、本発明の実施例３について、図３により説明する。図３は、本発明の実施例３における誘導加熱調理器の構成図である。
【００２７】
図３に示すように、特に、トッププレート１９表面の被膜の成分として酸化アルミニウムまたは炭化珪素のいずれか一つを使用して、硬化粒子１８を散在させて被膜を凹凸形状に形成する。
【００２８】
この構成により、被膜成分の酸化アルミニウムあるいは炭化珪素の硬化粒子１８の凹凸形状が、鍋等の被加熱物底面への機械的抵抗を促進させ、調理中においては更に鍋を滑りにくくでき、安全性および調理性を向上させることができる。
【００２９】
（実施例４）
以下、本発明の実施例４について、図４により説明する。図４は、本発明の実施例４における誘導加熱調理器の構成図である。
【００３０】
図４に示すように、特に、被膜形成前のトッププレート表面２０のように予め凹凸に粗面加工処理を施した構成とする。
【００３１】
この構成により、被膜形成時に、粒子状の物質および熱硬化性シリコーン２２のトッププレート表面２０へのなじみを促進させることができる。
【００３２】
例えば、被膜中の粉末あるいは硬化粒子２１が、予め表面を粗面に加工した凹凸に入り込んで機械的な抵抗力をさらに促進させ、かつ表面の凹凸形状により熱硬化性シリコーン２２の密着性を高める効果となる。
【００３３】
【発明の効果】
以上のように、請求項１〜６に記載の発明によれば、本体天面に備えた電気絶縁性を有する非磁性体のトッププレート表面に高摩擦係数の被膜を形成することにより、特に鍋物調理や焼き物調理において、被加熱物内の調理物をかき混ぜても被加熱物が滑るのを防ぐので安全に調理を行うことができ、調理勝手が向上する。また、調理鍋等の被加熱物がずれにくい構造となることから、調理している状態でも、していない状態でも、常に一定個所に対応した温度を検知することができるので、被加熱物底面からの入力に対する、トッププレート中央裏面に位置するサーミスタへの応答によって出力される誘導加熱方式の調理性能を適切に発揮することができる卓上型誘導加熱調理器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１における誘導加熱調理器の構成図
【図２】本発明の実施例２における誘導加熱調理器トッププレートの表面構成図
【図３】本発明の実施例３における誘導加熱調理器トッププレートの表面構成図
【図４】本発明の実施例４における誘導加熱調理器トッププレートの表面構成図
【図５】従来の誘導加熱調理器の構成図
【図６】従来の誘導加熱調理器トッププレートの表面構成図
【符号の説明】
１  本体
２、１４、１９  トッププレート
４  加熱コイル
５  制御回路
７  高摩擦係数の被膜
１５  被膜
２０  トッププレート表面


【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2004071375.tif 000001
【図２】
2004071375.tif 000002
【図３】
2004071375.tif 000003
【図４】
2004071375.tif 000004
【図５】
2004071375.tif 000005
【図６】
2004071375.tif 000006