Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月27日(2003.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
複数色の画像を中間転写体上に形成して多色のカラー画像を形成するときの各色の位置ずれを補正する位置ずれ補正パターンの形成方法において、
所定ピッチで複数のラインを基準色である黒トナーにより形成した基準パターンに対し、この基準パターンと等ピッチで複数のラインからなるカラートナーの補正対象色パターンとを重ね合わせたパターンをひとつのパッチとし、前記ラインの相対的な位置関係を該ラインのピッチ方向に任意量シフトさせたパッチを複数個、検出センサの読み取り方向に対し、連続的に形成したパッチ群を形成し、  基準色である黒トナーは転写体上で重ね合わさせる最終色であり、かつ、補正対象色パターンが基準パターンに対し完全に重なった、もしくは完全にずれたパターンを基準パッチとし、この基準パッチに対して複数のパッチを、前記検出センサの読み取り方向に対し、前後に連続的に並べてパッチ群を形成することを特徴とする位置ずれ補正パターン形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
複数の像担持体と、各像担持体上に形成されたトナー像を、順次転写することによりカラー画像出力を得るカラー画像形成装置において、
所定ピッチで複数のラインを基準色である黒トナーにより形成した基準パターンに対し、この基準パターンと等ピッチで複数のラインからなるカラートナーの補正対象色パターンとを重ね合わせたパターンをひとつのパッチとし、前記ラインの相対的な位置関係を該ラインのピッチ方向に任意量シフトさせたパッチを複数個、検出センサの読み取り方向に対し、連続的に形成したパッチ群を形成するパターン形成手段と、
この連続的なパッチ群の拡散光出力成分を検出するための検出センサと、
を備え、
基準色である黒トナーは転写体上で重ね合わさせる最終色であり、かつ、補正対象色パターンが基準パターンに対し完全に重なった、もしくは完全にずれたパターンを基準パッチとし、この基準パッチに対し、複数のパッチを、前記検出センサの読み取り方向に対し、前後に連続的に並べた構成としたパッチ群を色ずれ補正パターンとすることを特徴とするカラー画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、複数色の画像を中間転写体上に形成して多色のカラー画像を形成するときの各色の位置ずれを補正する位置ずれ補正パターンの形成方法において、所定ピッチで複数のラインを基準色である黒トナーにより形成した基準パターンに対し、この基準パターンと等ピッチで複数のラインからなるカラートナーの補正対象色パターンとを重ね合わせたパターンをひとつのパッチとし、前記ラインの相対的な位置関係を該ラインのピッチ方向に任意量シフトさせたパッチを複数個、検出センサの読みとり方向に対し、連続的に形成したパッチ群を形成し、基準色である黒トナーは転写体上で重ね合わさせる最終色であり、かつ、補正対象色パターンが基準パターンに対し完全に重なった、もしくは完全にずれたパターンを基準パッチとし、この基準パッチに対して複数のパッチを、前記検出センサの読み取り方向に対し、前後に連続的に並べてパッチ群を形成することを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
第９の手段は、複数の像担持体と、各像担持体上に形成されたトナー像を、順次転写することによりカラー画像出力を得るカラー画像形成装置において、所定ピッチで複数のラインを基準色である黒トナーにより形成した基準パターンに対し、この基準パターンと等ピッチで複数のラインからなるカラートナーの補正対象色パターンとを重ね合わせたパターンをひとつのパッチとし、前記ラインの相対的な位置関係を該ラインのピッチ方向に任意量シフトさせたパッチを複数個、検出センサの読み取り方向に対し、連続的に形成したパッチ群を形成するパターン形成手段と、この連続的なパッチ群の拡散光出力成分を検出するための検出センサとを備え、基準色である黒トナーは転写体上で重ね合わさせる最終色であり、かつ、補正対象色パターンが基準パターンに対し完全に重なった、もしくは完全にずれたパターンを基準パッチとし、この基準パッチに対し、複数のパッチを、前記検出センサの読み取り方向に対し、前後に連続的に並べた構成としたパッチ群を色ずれ補正パターンとすることを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、所定ピッチで複数のラインを基準色である黒トナーにより形成した基準パターンに対し、この基準パターンと等ピッチで複数のラインからなるカラートナーの補正対象色パターンとを重ね合わせたパターンをひとつのパッチとし、前記ラインの相対的な位置関係を該ラインのピッチ方向に任意量シフトさせたパッチを複数個、検出センサの読み取り方向に対し、連続的に形成したパッチ群を形成し、基準色である黒トナーは転写体上で重ね合わさせる最終色であり、かつ、補正対象色パターンが基準パターンに対し完全に重なった、もしくは完全にずれたパターンを基準パッチとし、この基準パッチに対して複数のパッチを、前記検出センサの読み取り方向に対し、前後に連続的に並べてパッチ群を形成するようにしたので、高精度の色ずれ検知が可能な補正パターンを形成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マークアップ言語で記述された文書データを入力する入力手段と、
前記文書データを解析して、背景データ及び文字データを抽出する解析手段と、
背景色と文字色とが近似しないように、前記背景データ又は前記文字データの少なくとも一方の色を変換する変換手段と、
前記変換手段で色変換された画像の記録を行なう記録手段と、
を含むことを特徴とする記録装置。
【請求項２】
前記変換手段は、
前記解析手段によって抽出された背景データを第１濃度の第１画像データに変換する第１変換手段と、
前記解析手段によって抽出された文字データを前記第１濃度よりも高い第２濃度の第２画像データに変換する第２変換手段と、
を含み、
前記記録手段は、
前記第１画像データと前記第２画像データに基づいて画像の記録を行なうことを特徴とする請求項１に記載の記録装置。
【請求項３】
前記第１画像データは、白色単色画像の画像データであることを特徴とする請求項２に記載の記録装置。
【請求項４】
前記第２画像データは、黒色単色画像の画像データであることを特徴とする請求項２または３に記載の記録装置。
【請求項５】
ウェブサーバから、前記文書データを受信する受信手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の記録装置。
【請求項６】
前記記録手段によりカラー画像を記録するカラーモードか、モノクロ画像を記録するモノクロモードかを判定する判定手段を更に有し、
該判定手段でモノクロモードと判定された場合には、前記第１変換手段及び第２変換手段は、自動的にデータ変換を行ない、前記記録手段は、前記第１画像データと前記第２画像データに基づいて画像の記録を行ない、
前記判定手段でカラーモードと判定された場合には、前記記録手段は、前記背景データと前記文字データに基づいて画像の記録を行なうことを特徴とする請求項２乃至５のいずれかに記載の記録装置。
【請求項７】
前記判定手段は、前記記録手段に装着される記録剤収納手段の種類に応じてカラーモードかモノクロモードかを判定することを特徴とする請求項６に記載の記録装置。
【請求項８】
前記記録手段を前記カラーモードまたは前記モノクロモードに設定する設定手段を更に有し、
前記判定手段は、該設定手段の設定内容に応じて、カラーモードかモノクロモードかを判定することを特徴とする請求項６に記載の記録装置。
【請求項９】
画像をカラー表示する表示手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の記録装置。
【請求項１０】
マークアップ言語で記述された文書データを入力する入力工程と、
前記文書データを解析し、背景データを抽出する第１抽出工程と、
前記文書データを解析し、文字データを抽出する第２抽出工程と、
前記第１抽出工程によって抽出された背景データを第１濃度の第１画像データに変換する第１変換工程と、
前記第２抽出工程で抽出された文字データを前記第１濃度よりも高い第２濃度の第２画像データに変換する第２変換工程と、
前記第１画像データと前記第２画像データに基づいて画像の記録を行なう記録工程と、
を含むことを特徴とする記録方法。
【請求項１１】
コンピュータに、
マークアップ言語で記述された文書データを入力する入力工程と、
前記文書データを解析し、背景データを抽出する第１抽出工程と、
前記文書データを解析し、文字データを抽出する第２抽出工程と、
前記第１抽出工程によって抽出された背景データを第１濃度の第１画像データに変換する第１変換工程と、
前記第２抽出工程で抽出された文字データを前記第１濃度よりも高い第２濃度の第２画像データに変換する第２変換工程と、
を実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１２】
コンピュータに、
マークアップ言語で記述された文書データを入力する入力工程と、
前記文書データを解析し、背景データを抽出する第１抽出工程と、
前記文書データを解析し、文字データを抽出する第２抽出工程と、
前記第１抽出工程によって抽出された背景データを第１濃度の第１画像データに変換する第１変換工程と、
前記第２抽出工程で抽出された文字データを前記第１濃度よりも高い第２濃度の第２画像データに変換する第２変換工程と、
を実行させるプログラムを格納したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る装置は、
マークアップ言語で記述された文書データを入力する入力手段と、
前記文書データを解析して、背景データ及び文字データを抽出する解析手段と、
背景色と文字色とが近似しないように、前記背景データ又は前記文字データの少なくとも一方の色を変換する変換手段と、
前記変換手段で色変換された画像の記録を行なう記録手段と、
を含むことを特徴とする。
前記変換手段は、
前記解析手段によって抽出された背景データを第１濃度の第１画像データに変換する第１変換手段と、
前記解析手段によって抽出された文字データを前記第１濃度よりも高い第２濃度の第２画像データに変換する第２変換手段と、
を含み、
前記記録手段は、
前記第１画像データと前記第２画像データに基づいて画像の記録を行なうことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月16日(2004.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ライン単位で画像を読み取るために、光電変換素子等で構成された読み取り手段と、
前記読み取り手段を規定の方向に駆動させる駆動源と、前記駆動源を駆動する駆動信号を計数して得られる粗位置情報と、前記粗位置情報を補間して得られる、前記粗位置情報よりも微小な微小位置情報とで構成される位置情報を、上記ライン単位で画像を読み取る際に使用されるライン同期信号毎に入力時に検出する読み取り再開位置検出手段と、前記粗位置情報、微小位置情報の両方の位置情報を用い、前記読み取り手段が読み取り再開位置に到達した時にライン同期信号をリセットさせることにより、読み取り再開位置を再現させる読み取り再開位置再現手段とで構成されることを特徴とする画像読み取り装置。
【請求項２】
前記駆動源はステッピングモータであることを特徴とする請求項１記載の画像読み取り装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題を解決するために、ライン単位で画像を読み取るために、光電変換素子等で構成された読み取り手段と、前記読み取り手段を規定の方向に駆動させる駆動源と、前記駆動源を駆動する駆動信号を計数して得られる粗位置情報と、前記粗位置情報を補間して得られる、前記粗位置情報よりも微小な微小位置情報とで構成される位置情報を、上記ライン単位で画像を読み取る際に使用されるライン同期信号毎に入力時に検出する読み取り再開位置検出手段と、前記粗位置情報、微小位置情報の両方の位置情報を用い、前記読み取り手段が読み取り再開位置に到達した時にライン同期信号をリセットさせることにより、読み取り再開位置を再現させる読み取り再開位置再現手段とで構成されることを特徴とする画像読み取り装置である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【発明の実施の形態】
請求項１に記載の発明は、ライン単位で画像を読み取るために、光電変換素子等で構成された読み取り手段と、前記読み取り手段を規定の方向に駆動させる駆動源と、前記駆動源を駆動する駆動信号を計数して得られる粗位置情報と、前記粗位置情報を補間して得られる、前記粗位置情報よりも微小な微小位置情報とで構成される位置情報を、上記ライン単位で画像を読み取る際に使用されるライン同期信号毎に入力時に検出する読み取り再開位置検出手段と、前記粗位置情報、微小位置情報の両方の位置情報を用い、前記読み取り手段が読み取り再開位置に到達した時にライン同期信号をリセットさせることにより、読み取り再開位置を再現させる読み取り再開位置再現手段とで構成されることを特徴とする画像読み取り装置であり、位置情報信号とライン同期信号との位相関係の再現を高精度に行うことができるという作用を有する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の請求項２に記載の発明は、前記駆動源はステッピングモータであることを特徴とする請求項１記載の画像読み取り装置であり、モータの回転量に基づいてキャリッジの読み取り開始位置を正確に把握できるという作用を有する。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月17日(2003.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種類の通信経路を用いて所定方式の通信を行なうための通信手段と、
前記複数種類の通信経路の１つにおける接続先の選択番号を含む接続先情報を記憶する記憶手段と、
前記通信手段により前記複数種類の通信経路のうちいずれの通信経路により通信可能か判定する判定手段と、
前記判定手段の判定結果に応じて前記記憶手段に記憶された接続先情報を切換えて表示する表示制御手段と、を備えたことを特徴とする通信端末装置。
【請求項２】
前記表示手段は、現在通信可能な通信経路上での接続先の選択番号を切換えて表示することを特徴とする請求項１に記載の通信端末装置。
【請求項３】
前記表示手段は、現在通信可能な回線経路に応じて接続先表示の表示属性を切換えて表示することを特徴とする請求項１に記載の通信端末装置。
【請求項４】
前記複数の通信経路が公衆回線と構内回線であり、前記判定手段により構内回線での通信が可能か判定し、その判定結果に応じて、前記記憶手段に記憶された接続先情報を切換えて表示することを特徴とする請求項１に記載の通信端末装置。
【請求項５】
前記選択番号が前記公衆回線ないし構内回線上における電話番号であることを特徴とする請求項４に記載の通信端末装置。
【請求項６】
前記複数の通信経路が複数のコンピュータネットワークであり、前記判定手段によりこれら複数のコンピュータネットワークのうちいずれのコンピュータネットワークによる通信が可能か判定し、その判定結果に応じて、前記記憶手段に記憶された接続先情報を切換えて表示することを特徴とする請求項１に記載の通信端末装置。
【請求項７】
前記選択番号が前記複数のネットワーク上におけるホストまたはユーザのアドレス情報であることを特徴とする請求項６に記載の通信端末装置。
【請求項８】
複数種類の通信経路を用いて所定方式の通信を行なうための通信ステップと、
前記複数種類の通信経路の１つにおける接続先の選択番号を含む接続先情報を記憶する記憶ステップと、
前記複数種類の通信経路のうちいずれの通信経路により通信可能か判定する判定ステップと、
前記判定ステップの判定結果に応じて前記記憶ステップで記憶された接続先情報を切換えて表示する表示制御ステップと、から成ることを特徴とする通信端末装置の制御方法。
【請求項９】
複数種類の通信経路を用いて所定方式の通信を行なうための通信ステップと、
前記複数種類の通信経路の１つにおける接続先の選択番号を含む接続先情報を記憶する記憶ステップと、
前記複数種類の通信経路のうちいずれの通信経路により通信可能か判定する判定ステップと、
前記判定ステップの判定結果に応じて前記記憶ステップで記憶された接続先情報を切換えて表示する表示制御ステップを通信端末装置の制御プログラムとして格納したことを特徴とする記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月11日(2003.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
マイクロ波照射が生大豆１００ｇ当たり平均出力１００〜５００Ｗで１０分〜４０分間照射である請求項１または３の大豆加工食品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
生大豆をマイクロ波照射して製造される膵臓機能亢進作用を有する大豆加工食品。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
原料の生大豆１００ｇ当たり平均出力１００〜５００Ｗのマイクロ波を１０分〜４０分間照射することにより、生大豆中に含まれる蛋白質分解酵素阻害物質を維持し、また、食感の良い大豆加工食品が製造される。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月11日(2003.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動板部分を支持する組み込み吊りばねを含む少なくとも一つの板と、前記移動板部分を平面電磁作動により駆動する手段とを備えているマイクロムーバ。
【請求項２】
二つの実質上同一の密接して設けられたシリコン板である第１、第２の板を備え、該第１の板がＸ方向に移動するようになっており、該第２の板（１０ｂ）がＹ方向に移動するようになっている請求項１に記載のマイクロムーバ。
【請求項３】
第１の静止シリコン板と、第２のシリコン板であって、該第２のシリコン板が前記第１の静止シリコン板に対してＸ方向およびＹ方向の双方で移動し得るようにする複合ばねを備えた該第２のシリコン板とをさらに備えている請求項１に記載のマイクロムーバ。
【請求項４】
前記組み込みばねは前記移動板部分の各隅または少なくとも２つの側面に形成されたばねを備えている対称折り返しばね構成を備えている請求項１〜３のいずれかに記載のマイクロムーバ。
【請求項５】
互いに対面して密接して且つ平行に組立てられ、相互に９０°を成す運動軸を有する少なくとも二つのシリコン板を備えている請求項１、２、４のいずれかに記載のマイクロムーバ。
【請求項６】
前記移動板部分は記録媒体および／または読み書き装置を載置することができる表面を提供する請求項１〜５のいずれかに記載のマイクロムーバ。
【請求項７】
前記駆動手段は更に、Ｘ軸多極磁石、Ｙ軸多極磁石、および組合せＸ軸／Ｙ軸多極磁石の少なくとも一つの多極磁石を備えている請求項１〜６のいずれかに記載のマイクロムーバ。
【請求項８】
前記少なくとも一つの多極磁石のいずれかは更に、磁束帰路板を備えている請求項７に記載のマイクロムーバ。
【請求項９】
更に、前記マイクロムーバを密閉して囲む一つ以上のカバーを備えている請求項１〜８のいずれかに記載のマイクロムーバ。
【請求項１０】
前記一つ以上のカバーは更に、一つ以上の間隔、および封止ガスケットを備えている請求項９に記載のマイクロムーバ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】多数のマイクロムーバアクチュエータが提案されている。マイクロムーバ用の最も普通のアクチュエータは反対極性の導電フィンガの配列が差し込まれている容量性電気櫛である。フィンガは電圧が加えられると、結合が大きくなるように引き込まれる。この方法で発生する力はＳＩ単位系で方程式（１）で与えられる。
Ｆ＝ＷＮＶ２／２μ０ｃ２ｄ  （１）
ここで２μ０ｃ２＝  ２．２２×１０１１であり、Ｗは運動に垂直なフィンガの幅であり、Ｎは隙間の数であり、Ｖは電圧であり、ｄはフィンガ間の間隔である。この方法の主な欠点は実用的電圧Ｖおよび間隔ｄに対して達成し得る力の大きさが制限されているということである。Ｖ＝１００ボルト、Ｎ＝１００隙間、Ｗ＝２０μｍ、およびｄ＝１μｍを仮定すれば、得られる力は０．０９ｍＮ（９．０×１０−５Ｎ）である。この力は上述の用途については２００倍小さすぎる。Ｗ／ｄ比を２０：１より大きくすることはＬＩＧＡ（Ｍ．ＭｃＣｏｒｍｉｃ、Ｅ．Ｃｈｏｗａｎｉｅｔｚ、Ａ．ＬｅｅｓのＭｉｃｒｏｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  Ｄｅｓｉｇｎ  ａｎｄ  Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ  Ｕｓｉｎｇ  ｔｈｅ  ＬＩＧＡ  Ｐｒｏｃｅｓｓ、ＩＥＥＥ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｅｄｕｃａｔｉｏｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ、ｐｐ．２５５−２６２、Ｄｅｃｅｍｂｅｒ  １９９４を参照）を用いる場合の他は実現不能であり、ＬＩＧＡは単結晶シリコンには実用的でない。この例のように、約１×１０８Ｖ／ｍを超える電界Ｖ／ｄは実際的でない。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】ＸおよびＹ走行範囲の所要長さは記録域の大きさおよび各変換器が小さい長方形域にアクセスする変換器格子の密度から決まる。Ｙ軸（すなわち、データ記憶装置の用途での探索軸）は配列の各変換器に関連するデータブロックの先端まで移動し、そこに位置を保持することができねばならない。しかし、Ｘ軸（すなわち、データ記憶装置の用途での走査軸）の共振振幅がデータブロックの長さに制限されていれば、最大行程での速度は０になる。データ走査の速度変動を減らすには、行程はデータブロックより長くなければならない。たとえば、行程がデータブロックの長さの１．８倍であれば、一定周波数で書かれたデータのビット間隔のように、データブロック内の速度変動は約２０％になる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】（実施態様９）更に、前記マイクロムーバを密閉して囲む一つ以上のカバー（３１）を備えている実施態様１乃至８のいずれかに記載のマイクロムーバ。
（実施態様１０）前記一つ以上のカバー（３１）は更に、一つ以上の間隔ポスト（２８）、および封止ガスケット（２９）、を備えている実施態様９に記載のマイクロムーバ。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】（実施態様１９）更に、それぞれ前記第１および第２のコンデンサに接続され、タイマに関連するコンデンサのキャパシタンスが変わると、タイマの周波数出力が変わるようになっている第１および第２のタイマ回路（１０５、１０６）、および前記第１および第２のコンデンサと同じ漂遊キャパシタンスを有するが移動板を備えていない、漂遊キャパシタンスの効果を相殺する第３のコンデンサ／第３のタイマ、を備えている実施態様１８に記載のマイクロムーバ。
（実施態様２０）  更に、板の間隔を制御し、維持する少なくとも一つのＺコンデンサ（１２５）を備えている実施態様１乃至１９のいずれかに記載のマイクロムーバ。
（実施態様２１）前記電気導線（２５ａ、２５ｂ）は前記板のいずれか一方または両方の側で、前記ばねの上方を前記移動板まで引き回されている実施態様１１乃至２０のいずれかに記載のマイクロムーバ。
（実施態様２２）更に、前記移動板と前記板の非移動部分との間の隙間を跨ぐ柔軟な絶縁体（１７３）に形成された導線（１７２）を備えた臍の緒コネクタを備えている実施態様１１乃至２１のいずれかに記載のマイクロムーバ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月10日(2003.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の実施の形態】
（Ａ）成分は、Ｌｉ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｋ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｗ、Ｐｂ、Ｃｅから選ばれる少なくとも１種の金属元素と酸素とから構成され、一次粒子径が１ｎｍ〜５００ｎｍの範囲である金属酸化物微粒子であり、ゾル−ゲル法、ドープ法等の手法で製造されるものである。（Ａ）成分は、本発明の難焦性物品の活性エネルギー線硬化型被膜を構成するものであり、この被膜の耐焦性を向上させるとともに、基材へのＺ軸（被膜に対して垂直）方向への伝熱をＸ軸、Ｙ軸（被膜に対し水平）方向へ変換する効果を有するものである。この効果によって、例えば、高温の煙草の火が被膜に押しつけられても被膜自身が容易に焦げることはなく、また、基材への伝熱が少ないため、基材の耐熱性が低く焦げやすい場合においても、基材のダメージを抑制することができる。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
このような、分子中にラジカル重合性官能基を有する熱可塑性ポリマーの中でも、分子量５００〜１０００当たりに１個程度の（メタ）アクリロイル基を有するものが、被膜の強度と耐摩耗性をより高めることができる傾向にあり好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月21日(2003.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎおよびランタノイド（Ｌａ〜Ｌｕ）からなる群から選ばれる１種以上の金属の塩と、Ｓｉのアルコキシドまたはその加水分解生成物とを含み、Ｓｉのモル比が、塗布液中の全金属に対して０．２８以上であることを特徴とする酸化物膜形成用塗布液。
【請求項２】
前記金属塩がＣｕおよび／またはＭｎの塩である請求項１記載の酸化物膜形成用塗布液。
【請求項３】
前記塗布液がさらにＣｒを含み、かつＣｒの添加量がＣｒ／全金属のモル比で０．０１〜０．３である請求項２記載の酸化物膜形成用塗布液。
【請求項４】
化学式ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ（ただしｎは２〜８の整数）で表されるエチレングリコールオリゴマーの１種以上を含む請求項１〜３のいずれか１項記載の酸化物膜形成用塗布液。
【請求項５】
エチレングリコールオリゴマーが、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールからなる群から選ばれる１種以上である請求項１〜４のいずれか１項記載の酸化物膜形成用塗布液。
【請求項６】
前記エチレングリコールオリゴマーの前記金属塩の金属に対するモル比が０．３以下である請求項１〜５のいずれか１項記載の酸化物膜形成用塗布液。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項記載の酸化物膜形成用塗布液を基体上に塗布し、３００℃以上の温度で焼成することを特徴とする酸化物膜形成方法。
【請求項８】
基体上に請求項７記載の酸化物膜形成方法により酸化物膜が形成されたことを特徴とする酸化物膜付き物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎおよびランタノイド（Ｌａ〜Ｌｕ）からなる群から選ばれる１種以上の金属の塩と、Ｓｉのアルコキシドまたはキレートとを含み、Ｓｉのモル比が、塗布液中の全金属に対して０．２８以上であることを特徴とする酸化物膜形成用塗布液（以下、単に塗布液という）、該塗布液を使用した酸化物膜の形成方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月19日(2003.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】受注管理装置、受注管理方法、および記録媒体


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受注を管理する受注管理装置において、
受注を入力する手段と、
上記入力された受注に必要な資材のうち再利用可能な資材について在庫量から必要量を割り当て減算すると共に使用して返却された資材を在庫量に加算する第１の手段と、
上記入力された受注に必要な資材のうち再利用不可の資材について在庫量から必要量を割り当て減算する第２の手段と
を備えたことを特徴とする受注管理装置。
【請求項２】
上記第１の手段および上記第２の手段が、上記再利用可能な資材および上記再利用不可の資材について在庫量が不足するときに購入手配して当該在庫量に加算することを特徴とする請求項１記載の受注管理装置。
【請求項３】
上記第１の手段が、上記再利用可能な資材を割り当てるときに、現在時点の在庫量および既に割り当てた資材の時期を登録した予約テーブルを参照して割り当てる時期に使用されていない在庫量を算出してこの中から割り当て、不足するときに購入手配して当該在庫量に加算および割り当て、上記予約テーブルに当該割り当てた資材と時期を登録することを特徴とする請求項１記載の受注管理装置。
【請求項４】
上記必要な資材として、製品の納入時に提供するサービスに必要な資材としたことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の受注管理装置。
【請求項５】
受注管理装置に、
入力された受注に必要な資材のうち再利用可能な資材について在庫量から必要量を割り当て減算すると共に使用して返却された資材を在庫量に加算する第１のステップと、
上記入力された受注に必要な資材のうち再利用不可の資材について在庫量から必要量を割り当て減算する第２のステップと
を動作させる受信管理プログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体。
【請求項６】
受注管理装置が、
入力された受注に必要な資材のうち再利用可能な資材について在庫量から必要量を割り当て減算すると共に使用して返却された資材を在庫量に加算する第１のステップと、
上記入力された受注に必要な資材のうち再利用不可の資材について在庫量から必要量を割り当て減算する第２のステップと
を実行することを特徴とする受注管理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、製品の受注を管理する受注管理装置、受注管理方法、および記録媒体に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月22日(2003.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スパッタ膜を成膜する少なくとも１つの成膜室を含む複数の処理室と、基板を装着させることのできる基板保持具を前記処理室間で移動させるとともに、前記成膜室におけるスパッタ膜の成膜時に前記基板保持具を静止させる移動手段と、を有し、各処理室間を移動する基板に対して、各処理室において処理を施すスパッタ膜の製造装置であって、
前記成膜室は、
基板の成膜不要部分にスパッタ膜が形成されるのを防ぐ防着板と、
成膜時に前記防着板を基板に接近させ、移動時に前記防着板を基板から離間させる駆動手段と、を有することを特徴とするスパッタ膜の製造装置。
【請求項２】
請求項１に記載のスパッタ膜の製造装置において、
前記駆動手段は、
前記成膜室外に配された駆動力発生手段と、
該駆動力発生手段からの駆動力を前記成膜室内に導入して前記防着板を駆動させる真空内駆動力導入手段と、を有することを特徴とするスパッタ膜の製造装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のスパッタ膜の製造装置において、
前記駆動手段は、前記防着板を駆動するための駆動力を伝える駆動体を有してなり、
前記駆動体内部に前記防着板を冷却する冷却手段を有してなることを特徴とするスパッタ膜の製造装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のスパッタ膜の製造装置において、
前記防着板は、基板または前記基板保持具に対する位置関係を決定する位置決め部材を有してなることを特徴とするスパッタ膜の製造装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のスパッタ膜の製造装置において、
前記基板保持具は基板を立たせた状態で移動させることを特徴とするスパッタ膜の製造装置。
【請求項６】
スパッタ膜を成膜する成膜室へ他の処理室から基板を基板保持具に装着させた状態で移動させる工程と、
前記成膜室において前記基板保持具を静止させる工程と、
前記基板の成膜不要部分にスパッタ膜が形成されるのを防ぐ防着板を前記基板に接近させる工程と、
前記基板を成膜する工程と、
成膜後に前記防着板を前記基板から離間させる工程と、を含むことを特徴とするスパッタ膜の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載のスパッタ膜の製造装置は、スパッタ膜を成膜する少なくとも１つの成膜室を含む複数の処理室と、基板を装着させることのできる基板保持具を前記処理室間で移動させるとともに、前記成膜室におけるスパッタ膜の成膜時に前記基板保持具を静止させる移動手段と、を有し、各処理室間を移動する基板に対して、各処理室において処理を施すスパッタ膜の製造装置であって、前記成膜室が、基板の成膜不要部分にスパッタ膜が形成されるのを防ぐ防着板と、成膜時に前記防着板を基板に接近させ、移動時に前記防着板を基板から離間させる駆動手段と、を有するものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項４に記載のスパッタ膜の製造装置は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のスパッタ膜の製造装置において、前記防着板が、基板または前記基板保持具に対する位置関係を決定する位置決め部材を有してなるものである。
請求項５に記載のスパッタ膜の製造装置は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のスパッタ膜の製造装置において、前記基板保持具は基板を立たせた状態で移動させるものである。
請求項６に記載のスパッタ膜の製造方法は、スパッタ膜を成膜する成膜室へ他の処理室から基板を基板保持具に装着させた状態で移動させる工程と、前記成膜室において前記基板保持具を静止させる工程と、前記基板の成膜不要部分にスパッタ膜が形成されるのを防ぐ防着板を前記基板に接近させる工程と、前記基板を成膜する工程と、成膜後に前記防着板を前記基板から離間させる工程と、を含むものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月5日(2003.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量％で、Ｃ：０．０１〜０．１％と、Ｓｉ：０．０１〜０．１％と、Ｍｎ：１〜２％と、Ｓ：０．００５％以下と、Ｃｕ：１％以下と、Ｎｉ：２％以下と、ｓｏｌ．Ａｌ：０．０４２〜０．０６％と、Ｎ：０．００４％以下と、Ｔｉ：０．００５〜０．０２５％とを含有し、かつ、不可避的に混入するＢを０．０００５％以下に規制し、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなる鋼を製造する方法において、
該連続鋳造鋼片を、１０５０〜１２５０℃の温度に加熱し、次いで９００℃以下の温度範囲で累積圧下率２５％以上の熱間圧延を行う工程と、
熱間圧延された鋼を、直ちに１〜５０℃／秒の冷却速度で５５０℃以下の温度まで強制冷却する工程と、
強制冷却された鋼を、５００℃〜Ａｃ１の温度で時効処理する工程と、
を備えたことを特徴とする、溶接部靭性に優れた高張力鋼の製造方法。
【請求項２】
鋼成分として、重量％でさらに、Ｃｒ：０．１〜０．５％、Ｍｏ：０．０５〜０．３％、Ｖ：０．０１〜０．１％、Ｎｂ：０．００５〜０．０４％、Ｃａ：０．０００５〜０．００５％、及びＲＥＭ：０．００３〜０．０３％の群から選択された少なくとも１種以上を含有することを特徴とする、請求項１記載の溶接部靭性に優れた高張力鋼の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決し目的を達成するために、本発明は以下に示す手段を用いている。
（１）本発明の製造方法は、重量％で、Ｃ：０．０１〜０．１％と、Ｓｉ：０．０１〜０．１％と、Ｍｎ：１〜２％と、Ｓ：０．００５％以下と、Ｃｕ：１％以下と、Ｎｉ：２％以下と、ｓｏｌ．Ａｌ：０．０４２〜０．０６％と、Ｎ：０．００４％以下と、Ｔｉ：０．００５〜０．０２５％とを含有し、かつ、不可避的に混入するＢを０．０００５％以下に規制し、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなる鋼を製造する方法において、
該連続鋳造鋼片を、１０５０〜１２５０℃の温度に加熱し、次いで９００℃以下の温度範囲で累積圧下率２５％以上の熱間圧延を行う工程と、
熱間圧延された鋼を、直ちに１〜５０℃／秒の冷却速度で５５０℃以下の温度まで強制冷却する工程と、
強制冷却された鋼を、５００℃〜Ａｃ１の温度で時効処理する工程と、
を備えたことを特徴とする、溶接部靭性に優れた高張力鋼の製造方法である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（２）本発明の製造方法は、鋼成分として、重量％でさらに、Ｃｒ：０．１〜０．５％、Ｍｏ：０．０５〜０．３％、Ｖ：０．０１〜０．１％、Ｎｂ：０．００５〜０．０４％、Ｃａ：０．０００５〜０．００５％、及びＲＥＭ：０．００３〜０．０３％の群から選択された少なくとも１種以上を含有することを特徴とする、上記（１）記載の溶接部靭性に優れた高張力鋼の製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月3日(2003.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビデオ信号から複合同期信号を分離する同期分離手段と、
該同期分離手段の出力である複合同期信号が入力されて水平同期情報を発生させ、該複合同期信号の前縁および後縁を検出し、該後縁のタイミングに基づいて該水平同期情報のタイミングを管理するパルス発生手段と、
ビデオ信号に含まれる画像情報と該水平同期情報が入力されて画像処理を行う画像処理手段と、
該前縁タイミングより後に開始し該前縁タイミングから式（１）に示す時間Ｔ２経過する時点までで終了する期間のみを後縁受付を許可しそれ以外の期間は受付け禁止するような後縁受付禁止手段と、
を具備することを特徴とするビデオ信号処理装置。
Ｔｈｓｙｎｃ＜Ｔ２＜０．５Ｈ  ---（１）
ただし、Ｔｈｓｙｎｃは、ビデオ信号の水平同期信号幅、
１Ｈは１水平走査周期を表す。
【請求項２】
請求項１記載のビデオ信号処理装置において、該パルス発生手段は、さらに、該前縁タイミングから式（２）に示す時間Ｔ１経過する時点までは前縁受付を禁止するような前縁受付禁止手段を含むことを特徴とするビデオ信号処理装置。
Ｔ１＞０．５Ｈ  ---（２）
【請求項３】
請求項１記載のビデオ信号処理装置において、該パルス発生手段は、さらに、該前縁タイミングから式（３）に示す時間Ｔ３経過した時点で、前縁欠落フラグを発生する前縁欠落検出手段と、該後縁タイミングに基づいて補間後縁を発生する補間後縁発生手段と、該後縁と該補間後縁が入力されて、該前縁欠落フラグ発生時には該補間後縁を挿入するような補間後縁挿入手段を含むことを特徴とするビデオ信号処理装置。
１Ｈ＜Ｔ３＜１Ｈ＋Ｔｈｓｙｎｃ  ---（３）
【請求項４】
請求項１乃至請求項３記載のビデオ信号処理装置において、該画像処理手段は、さらに、デジタル記憶媒体と、該水平同期情報に基づいて該デジタル記憶媒体への書込みを制御する書込み制御手段を含むことを特徴とするビデオ信号処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３記載のビデオ信号処理装置において、該画像処理手段は、さらに、該画像情報の形式を該水平同期情報と同期した所定のデータ形式に変換するデータ変換手段を含むことを特徴とするビデオ信号処理装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項３記載のビデオ信号処理装置において、該画像処理手段は、さらに、該水平同期情報と同期して該画像情報の表示を制御する画像表示制御手段を含むことを特徴とするビデオ信号処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月4日(2003.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
映像データを記録する映像記録装置において、
映像データを記録する手段と、
携帯端末から送信されたデータを受信する手段と、
前記携帯端末から送信されたデータに応じて、前記記録された映像データから生成されたサムネール画像データを該携帯端末に送信する送信手段と、
を備えることを特徴とする映像記録装置。
【請求項２】
映像データを記録する映像記録装置において、
映像データからサムネール画像データを生成するサムネール生成手段と、
前記映像データと前記サムネール画像データとを記録する手段と、
携帯端末から送信されたデータを受信する手段と、
前記携帯端末から送信されたデータに応じて、前記記録された映像データから生成されたサムネール画像を携帯端末に送信する送信手段と、
を備えることを特徴とする映像記録装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の映像記録装置において、
前記送信手段は、前記サムネール画像データを前記携帯端末に送信した後、該携帯端末からの指示に基いて前記映像データを該携帯端末に送信することを特徴とする映像記録装置。
【請求項４】
請求項３記載の映像記録装置において、前記送信手段が前記携帯電話に送信する映像データは、前記サムネール画像データに基いて選択された映像データであることを特徴とする映像記録装置。
【請求項５】
請求項３記載の映像記録装置において、
前記映像データと前記サムネール画像データは、圧縮ストリームとして記録されることを特徴とする映像記録装置。
【請求項６】
請求項３記載の映像記録装置において、
前記送信手段は、前記携帯端末から送られる拡大の中心点と拡大率に基いて、前記映像データを前記携帯端末に送信することを特徴とする映像記録装置。
【請求項７】
請求項６記載の映像記録装置において、
前記送信手段は、前記携帯端末から送られる拡大の中心点と拡大率に基いて生成された拡大映像又は縮小映像のデータを前記携帯端末に送信することを特徴とする映像記録装置。
【請求項８】
映像データを記録する映像記録装置において、
映像データを記録する手段と、
前記記録された映像データから生成されたサムネール画像データを該携帯端末に送信する送信手段と、
を備えることを特徴とする映像記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、映像記録装置、例えば、携帯基地局の映像配信用映像記録装置に関する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本願発明は、映像データを記録する映像記録装置において、映像データを記録する手段と、携帯端末から送信されたデータを受信する手段と、前記携帯端末から送信されたデータに応じて、前記記録された映像データから生成されたサムネール画像データを該携帯端末に送信する送信手段と、を備えることを特徴とする。
また、映像データを記録する映像記録装置において、映像データからサムネール画像データを生成するサムネール生成手段と、前記映像データと前記サムネール画像データとを記録する手段と、携帯端末から送信されたデータを受信する手段と、  前記携帯端末から送信されたデータに応じて、前記記録された映像データから生成されたサムネール画像を携帯端末に送信する送信手段と、を備えることを特徴とする。
また、映像データを記録する映像記録装置において、映像データを記録する手段と、前記記録された映像データから生成されたサムネール画像データを該携帯端末に送信する送信手段と、を備えることを特徴とする。
例えば、画像ストリームの代表画面をサムネールとして別サーバーに記録しておき、端末からは最初にその画面をアクセスするようにする。その際には、情報量差削減のため複数の画面を組み合わせて一画面とする。また、端末から必要に応じて拡大コマンドを送信し、それに応じて表示エリアを切り出して基地局より送信する。これにより、画質劣化の少ない拡大画像を表示させることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月6日(2003.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのチャネルコードを用いて伝送されるデジタル情報を通信システムにおいて伝送するために該デジタル情報を処理する方法であって、デジタル情報を少なくとも１つのチャネルコードを用いて符号化するステップと、
少なくとも一部分はチャネルコードに関連するパンクチャリングパターンに基づいて、システムの周波数スペクトルにおける部分の異なるセクションに符号化チャネルビットを割当てするステップとからなり、符号化チャネルビットは割当てされたセクションにてシステムを通して伝送され、そして符号化チャネルビットはデコーディング過程においてどのセクションが使用されるかにより、システムの受信機において異なるコードレートで復号されることができることを特徴とする方法。
【請求項２】
デジタル情報は内部チャネルコードおよび外部チャネルコードを用いて伝送され、そして、符号化ステップおよび割当てステップは内部チャネルコードを用い生成された符号化ビットに適用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
外部コードを使用して生成されたエラーインディケータは受信機において使用され、デコーディング過程の一部として周波数スペクトルの部分のどのセクションが復号されるべきであるかを判断することを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
セクション数がパンクチャリングパターンのピリオドに対応するよう、周波数スペクトルの部分が異なるセクションに分割されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
周波数スペクトルの部分は少なくともＡ、Ｂ、Ｃ、およびＤの４つのセクションから成り、そして、次の割当てに従って、
【数１】
2002185429.tif 000001
（ここでＰ４は、所定のパンクチャリングパターンマトリクスに関してどのセクションが各チャネル符号化ビットを受け取るべきかを識別する）、４ピリオドを有するパンクチャリングパターンに基づいて、チャネル符号化ビットのセクションへの割当てが行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
異なるコードレートは、（ｉ）Ａ、Ｂ、Ｃ、およびＤ、（ｉｉ）Ａ、Ｂ、およびＣ、（ｉｉｉ）ＡおよびＢ、（ｉｖ）Ａ、の４つのセクションにおける配置の各々に関連を行うことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
デコーディングプロセスは、（ａ）セクションの全部を使用してチャネルコードを復号するステップと、（ｂ）指定のエラークライテリアが満足されなかった場合、指定のセクションを消去し、次に、対応するより高いレートでセクションの残りのサブセットを復号するステップと、（ｃ）エラークライテリアが満足されたか、あるいは可能とするコードレート全てが復号されるまで、ステップ（ｂ）を繰り返すステップとを用いて実行されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
少なくとも１つのチャネルコードを用いて伝送されるデジタル情報を通信システムにおいて伝送するために該デジタル情報を処理する装置であって、デジタル情報を少なくとも１つのチャネルコードを用いて符号化することが可能であり、かつ、少なくとも一部分はチャネルコードに関連するパンクチャリングパターンに基づいて、システムの周波数スペクトルの部分の異なるセクションに符号化チャネルビットを割当てすることが可能な送信機からなり、符号化チャネルビットは割当てされたセクションにてシステムを通して伝送され、そして符号化チャネルビットはデコーディング過程においてどのセクションが使用されるかにより、システムの受信機において異なるコードレートで復号されることができることを特徴とする装置。
【請求項９】
少なくとも１つのチャネルコードを用いて伝送されるデジタル情報を通信システムにおいて伝送するために該デジタル情報を処理するための送信機であって、少なくとも１つのチャネルコードを用いてデジタル情報を符号化するためのチャネルコーダと、少なくとも一部分はチャネルコードに関連するパンクチャリングパターンに基づいて、システムの周波数スペクトルにおける部分の異なるセクションに符号化チャネルビットを割当てすることが可能なビット配置ユニットとからなり、符号化チャネルビットは割当てされたセクションにてシステムを通して伝送され、そして符号化チャネルビットはデコーディング過程においてどのセクションが使用されるかにより、システムの受信機において異なるコードレートで復号されることができることを特徴とする送信機。
【請求項１０】
通信システムにおいて伝送を行うためにデジタル情報を処理する際に使用される１つあるいはそれ以上のソフトウェアプログラムを格納するための物品において、該デジタル情報は少なくとも１つのチャネルコードを使用して伝送され、そして実行時の１つあるいはそれ以上のプログラムは、デジタル情報を少なくとも１つのチャネルコードを用いて符号化するステップと、少なくとも一部分はチャネルコードに関連するパンクチャリングパターンに基づいて、システムの周波数スペクトルにおける部分の異なるセクションに符号化チャネルビットを割当てするステップとを実行し、該符号化チャネルビットは割当てされたセクションにてシステムを通して伝送され、該符号化チャネルビットはデコーディング過程においてどのセクションが使用されるかにより、システムの受信機において異なるコードレートで復号されることが出来ることを特徴とする物品。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月15日(2004.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化ガリウム系半導体基板と、前記窒化ガリウム系半導体基板上に積層された半導体層を備えた窒化物系半導体レーザ素子において、前記窒化ガリウム系半導体基板の裏面の表面ラフネスＲａが３００Å以下であることを特徴とする窒化物系半導体レーザ素子。
【請求項２】
前記窒化ガリウム系半導体基板には、Ｃｌが添加されていることを特徴とする請求項１に記載の窒化物系半導体レーザ素子。
【請求項３】
窒化ガリウム系半導体基板上に半導体積層構造を形成する工程と、前記窒化ガリウム系半導体基板の所定の位置に傷をつける工程と、前記傷に沿って前記窒化ガリウム系半導体基板を劈開で分割する工程とを含むチップ分割方法において、前記半導体積層構造を形成する工程と、前記窒化ガリウム系半導体基板の所定の位置に傷をつける工程との間に、前記窒化ガリウム系半導体基板裏面のラフネスＲａを３００Å以下になるように研磨する工程を含むことを特徴とするチップ分割方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明の窒化物系半導体レーザ素子は、窒化ガリウム系半導体基板と、窒化ガリウム系半導体基板上に積層された半導体層を備えた窒化物系半導体レーザ素子において、窒化ガリウム系半導体基板の裏面の表面ラフネスＲａが３００Å以下であることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明のチップ分割方法は、窒化ガリウム系半導体基板上に半導体積層構造を形成する工程と、窒化ガリウム系半導体基板の所定の位置に傷をつける工程と、傷に沿って窒化ガリウム系半導体基板を劈開で分割する工程とを含むチップ分割方法において、半導体積層構造を形成する工程と窒化ガリウム系半導体基板の所定の位置に傷をつける工程との間に、基板裏面のラフネスＲａを３００Å以下になるように研磨する工程を含むことを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【数１】
2002185085.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【発明の実施の形態】
一般に、窒化物半導体の結晶成長を行う方法としては、有機金属気相成長法（以下ＭＯＣＶＤ法という）、分子線エピタキシー法、ハイドライド気相成長法（以下ＨＶＰＥ法という）、で行うのが通例であり、どの結晶成長法を用いてもよい。以下に、基板としてＧａＮ基板を用い、成長法としてＭＯＣＶＤ法を用いて製造した窒化物半導体レーザの例について記述する。基板としては、窒化物半導体で構成されている基板であれば良く、ＡｌxＧａyＩｎzＮ1-x-y-z基板であっても良い。また、ＡｌxＧａyＩｎzＮ1-x-y-z基板（六方晶系）の窒素元素の内、約１０％程度以下が、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂの他のＶ族元素に置換されていてもよい。特に、窒化物半導体レーザの場合、垂直横モードの単峰化のために、クラッド層よりも屈折率の低い層が該クラッド層の外側に接している必要があり、ＡｌＧａＮ基板を用いるのが最良である。また、本発明の場合、用いる基板は、窒化物半導体のＣ面基板が好ましい。基板面のオフ角度は±３度を適用の範囲とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
また今回、研磨工程を終了したＧａＮ基板の最終的な膜厚は１００μｍとしたが基板膜厚の範囲として４０μｍから４４０μｍの範囲が好ましい。４４０μｍ以上では基板裏面のラフネスＲａを３００Å以下に制御した場合であっても上記に示した効果が見られず、分割の歩留まりは５０％以下に低下した。更に、４０μｍ以下にすると、膜に過度にかかる歪の効果のために基板裏面のラフネスＲａを３００Å以下に制御した場合であっても、意図しない方向にクラックが入る等の問題が確認され、分割の歩留まりは、やはり５０％以下に低下してしまった。