【手続補正書】
【提出日】平成15年8月26日(2003.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（１）〜（８）の工程を含んでなるボンクレキン酸のＣ１〜Ｃ１０セグメントの製造方法。
（１）一般式［１］
【化１】
2002105045.tif 000001
［式中、Ｒ１は、
【化２】
2002105045.tif 000002
（但し、Ｒ２は、ベンジル基、イソプロピル基又はメチル基を表し、Ｒ３，Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又はフェニル基を表す。）
又は
【化３】
2002105045.tif 000003
を表す。］で示される化合物を、一般式［２］
【化４】
2002105045.tif 000004
（式中、Ｒ５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｘ１はハロゲン原子を表す。）で示される化合物と反応させて、一般式［３］
【化５】
2002105045.tif 000005
（式中、Ｒ１，Ｒ５は前記と同じ。）
で示される化合物とする工程。
（２）上記（１）で得られた一般式［３］で示される化合物を還元して、一般式［４］
【化６】
2002105045.tif 000006
（式中、Ｒ５は前記と同じ。）
で示されるアルコール体とする工程。
（３）上記（２）で得られたアルコール体を酸化して、一般式［５］
【化７】
2002105045.tif 000007
（式中、Ｒ５は前記と同じ。）
で示されるアルデヒド体とした後、一般式［６］
【化８】
2002105045.tif 000008
（式中、Ｒ８，Ｒ９はそれぞれ独立してアルキル基を表す。また、Ｒ８とＲ９とが一緒になってアルキレン基を形成していてもよい。）で示されるジクロロメチルボロニックエステルと反応させて、一般式［７］
【化９】
2002105045.tif 000009
（式中、Ｒ５，Ｒ８及びＲ９は前記と同じ。）
で示されるボロニックエステル体とする工程。
（４）上記（３）で得られたボロニックエステル体を、一般式［８］
【化１０】
2002105045.tif 000010
（式中、Ｒ６は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示される化合物と反応させて、一般式［９］
【化１１】
2002105045.tif 000011
（式中、Ｒ５，Ｒ６は前記と同じ。但し、Ｒ５≠Ｒ６）
で示されるカップリング体とする工程。
（５）上記（４）で得られたカップリング体を、一般式［１０］
【化１２】
2002105045.tif 000012
（式中、Ｒ７は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｘ２はハロゲン原子を表す。）で示される化合物と反応させて、一般式［１１］
【化１３】
2002105045.tif 000013
（式中、Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は前記と同じ。但し、Ｒ５≠Ｒ６且つＲ５≠Ｒ７）
で示される化合物とする工程。
（６）上記（５）で得られた一般式［１１］で示される化合物の１０位の水酸基の保護基Ｒ５を脱保護して、一般式［１２］
【化１４】
2002105045.tif 000014
（式中、Ｒ６，Ｒ７は前記と同じ。）で示されるアリルアルコール体とする工程。  （７）上記（６）で得られたアリルアルコール体の水酸基をハロゲン置換して、一般式［１３］
【化１５】
2002105045.tif 000015
（式中、Ｘ３はハロゲン原子を表し、Ｒ６，Ｒ７は前記と同じ。）
で示されるハロゲン体とする工程。
（８）上記（７）で得られたハロゲン体を一般式［１４］
【化１６】
2002105045.tif 000016
（式中、Ｒ１０は低級アルキル基又はアリール基を表し、Ｍはアルカリ金属原子を表す。）で示されるスルフィン酸塩と反応させて、一般式［１５］
【化１７】
2002105045.tif 000017
（式中、Ｒ６，Ｒ７及びＲ１０は前記と同じ。）
で示されるスルホン体とする工程。
【請求項２】
前記（１）の工程において、一般式［１］で示される化合物をリチオ化又はナトリウム化した後、一般式［２］で示される化合物と反応させて、一般式［３］で示される化合物とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記（２）の工程において、一般式［３］で示される化合物を水素化リチウムアルミニウムで還元して一般式［４］で示される化合物とする請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記（３）の工程において、一般式［４］で示されるアルコール体を塩化オキサリル及びジメチルスルホキシド並びに塩基と反応させて一般式［５］で示されるアルデヒド体とした後、一般式［６］で示されるジクロロメチルボロニックエステルと反応させて、一般式［７］で示されるボロニックエステル体とする請求項１〜３の何れかに記載の製造方法。
【請求項５】
アルデヒド体を無水塩化クロム及び無水ヨウ化リチウムの存在下、ジクロロメチルボロニックエステルと反応させる請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記（４）の工程において、一般式［７］で示されるボロニックエステル体をパラジウム錯体触媒及びアルカリの存在下、一般式［８］で示される化合物と反応させて一般式［９］で示されるカップリング体とする請求項１〜５の何れかに記載の製造方法。
【請求項７】
前記（５）の工程において、一般式［９］で示されるカップリング体を塩基の存在下、一般式［１０］で示される化合物と反応させて一般式［１１］で示される化合物とする請求項１〜６の何れかに記載の製造方法。
【請求項８】
前記（７）の工程において、アリルアルコール体の水酸基を四塩化炭素とトリフェニルホスフィンを用いて塩素置換して一般式［１３］で示されるハロゲン体とする請求項１〜７の何れかに記載の製造方法。
【請求項９】
一般式［１］
【化１８】
2002105045.tif 000018
［式中、Ｒ１は、
【化１９】
2002105045.tif 000019
（但し、Ｒ２は、ベンジル基、イソプロピル基又はメチル基を表し、Ｒ３，Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又はフェニル基を表す。）
又は
【化２０】
2002105045.tif 000020
を表す。］で示される化合物をリチオ化又はナトリウム化した後、一般式［２］
【化２１】
2002105045.tif 000021
（式中、Ｒ５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｘ１はハロゲン原子を表す。）で示される化合物と反応させることを特徴とする、一般式［３］
【化２２】
2002105045.tif 000022
（式中、Ｒ１，Ｒ５は前記と同じ。）
で示される化合物の製造方法。
【請求項１０】
Ｒ１が、
【化２３】
2002105045.tif 000023
であり、Ｒ５がｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、Ｘ１が沃素である請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
一般式［３］
【化２４】
2002105045.tif 000024
［式中、Ｒ１は、
【化２５】
2002105045.tif 000025
（但し、Ｒ２は、ベンジル基、イソプロピル基又はメチル基を表し、Ｒ３，Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又はフェニル基を表す。）
又は
【化２６】
2002105045.tif 000026
を表し、Ｒ５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。］
で示される化合物。
【請求項１２】
一般式［３］
【化２７】
2002105045.tif 000027
［式中、Ｒ１は、
【化２８】
2002105045.tif 000028
（但し、Ｒ２は、ベンジル基、イソプロピル基又はメチル基を表し、Ｒ３，Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又はフェニル基を表す。）
又は
【化２９】
2002105045.tif 000029
を表し、Ｒ５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。］で示される化合物を還元することを特徴とする、一般式［４］
【化３０】
2002105045.tif 000030
（式中、Ｒ５は前記と同じ。）
で示される化合物の製造方法。
【請求項１３】
水素化リチウムアルミニウムで還元する請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
一般式［４］
【化３１】
2002105045.tif 000031
（式中、Ｒ５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）
で示される化合物。
【請求項１５】
一般式［４］
【化３２】
2002105045.tif 000032
（式中、Ｒ５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示される化合物を塩化オキサリル及びジメチルスルホキシド並びに塩基と反応させて、一般式［５］
【化３３】
2002105045.tif 000033
（式中、Ｒ５は前記と同じ。）
で示されるアルデヒド体とした後、一般式［６］
【化３４】
2002105045.tif 000034
（式中、Ｒ８，Ｒ９はそれぞれ独立してアルキル基を表す。また、Ｒ８とＲ９とが一緒になってアルキレン基を形成していてもよい。）で示されるジクロロメチルボロニックエステルと反応させることを特徴とする、一般式［７］
【化３５】
2002105045.tif 000035
（式中、Ｒ５，Ｒ８及びＲ９は前記と同じ。）
で示される化合物の製造方法。
【請求項１６】
アルデヒド体を無水塩化クロム及び無水ヨウ化リチウムの存在下、ジクロロメチルボロニックエステルと反応させる請求項１５に記載の製造方法。
【請求項１７】
一般式［５］
【化３６】
2002105045.tif 000036
（式中、Ｒ５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）
で示される化合物。
【請求項１８】
一般式［７］
【化３７】
2002105045.tif 000037
（式中、Ｒ５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｒ８，Ｒ９はそれぞれ独立してアルキル基を表す。また、Ｒ８とＲ９とが一緒になってアルキレン基を形成していてもよい。）
で示される化合物
【請求項１９】
一般式［７］
【化３８】
2002105045.tif 000038
（式中、Ｒ５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｒ８，Ｒ９はそれぞれ独立してアルキル基を表す。また、Ｒ８とＲ９とが一緒になってアルキレン基を形成していてもよい。）で示される化合物をパラジウム錯体触媒及びアルカリの存在下、一般式［８］
【化３９】
2002105045.tif 000039
（式中、Ｒ６は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示される化合物と反応させることを特徴とする、一般式［９］
【化４０】
2002105045.tif 000040
（式中、Ｒ５，Ｒ６は前記と同じ。）
で示される化合物の製造方法。
【請求項２０】
一般式［９］
【化４１】
2002105045.tif 000041
（式中、Ｒ５，Ｒ６は、それぞれ独立してｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）
で示される化合物。
【請求項２１】
Ｒ５がｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、Ｒ６がｐ−メトキシフェニルメチル基である請求項２０に記載の化合物。
【請求項２２】
一般式［９］
【化４２】
2002105045.tif 000042
（式中、Ｒ５，Ｒ６は、それぞれ独立してｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示される化合物を塩基の存在下、一般式［１０］
【化４３】
2002105045.tif 000043
（式中、Ｒ７は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｘ２はハロゲン原子を表す。）で示される化合物と反応させることを特徴とする、一般式［１１］
【化４４】
2002105045.tif 000044
（式中、Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は前記と同じ。）
で示される化合物の製造方法。
【請求項２３】
Ｒ５がｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、Ｒ６がｐ−メトキシフェニルメチル基であり、Ｒ７がメトキシメチル基である請求項２２に記載の製造方法。
【請求項２４】
一般式［１１］
【化４５】
2002105045.tif 000045
（式中、Ｒ５，Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）
で示される化合物。
【請求項２５】
Ｒ５がｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、Ｒ６がｐ−メトキシフェニルメチル基であり、Ｒ７がメトキシメチル基である請求項２４に記載の化合物。
【請求項２６】
一般式［１１］
【化４６】
2002105045.tif 000046
（式中、Ｒ５，Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示される化合物の１０位の水酸基の保護基Ｒ５を脱保護することを特徴とする、一般式［１２］
【化４７】
2002105045.tif 000047
（式中、Ｒ６，Ｒ７は前記と同じ。）で示される化合物の製造方法。
【請求項２７】
一般式［１１］で示される化合物の１０位の水酸基の保護基Ｒ５がｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、テトラブチルアンモニウムフルオリドを用いてこれを脱保護する請求項２６に記載の製造方法。
【請求項２８】
一般式［１２］
【化４８】
2002105045.tif 000048
（式中、Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）
で示される化合物。
【請求項２９】
一般式［１２］
【化４９】
2002105045.tif 000049
（式中、Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示される化合物の水酸基をハロゲン置換することを特徴とする、一般式［１３］
【化５０】
2002105045.tif 000050
（式中、Ｘ３はハロゲン原子を表し、Ｒ６，Ｒ７は前記と同じ。）
で示される化合物の製造方法。
【請求項３０】
四塩化炭素とトリフェニルホスフィンを用いて塩素置換する請求項２９に記載の製造方法。
【請求項３１】
一般式［１３］
【化５１】
2002105045.tif 000051
（式中、Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｘ３はハロゲン原子を表す。）
で示される化合物。
【請求項３２】
Ｒ６がｐ−メトキシフェニルメチル基であり、Ｒ７がメトキシメチル基であり、Ｘ３が塩素原子である請求項３１に記載の化合物。
【請求項３３】
一般式［１３］
【化５２】
2002105045.tif 000052
（式中、Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｘ３はハロゲン原子を表す。）で示される化合物を一般式［１４］
【化５３】
2002105045.tif 000053
（式中、Ｒ１０は低級アルキル基又はアリール基を表し、Ｍはアルカリ金属原子を表す。）で示されるスルフィン酸塩と反応させることを特徴とする、一般式［１５］
【化５４】
2002105045.tif 000054
（式中、Ｒ６，Ｒ７及びＲ１０は前記と同じ。）
で示される化合物の製造方法。
【請求項３４】
一般式［１５］
【化５５】
2002105045.tif 000055
（式中、Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｒ１０は低級アルキル基又はアリール基を表す。）
で示される化合物。
【請求項３５】
Ｒ６がｐ−メトキシフェニルメチル基であり、Ｒ７がメトキシメチル基であり、Ｒ１０がフェニル基である請求項３４に記載の化合物。
【請求項３６】
下記（１１）〜（１８）の工程を含んでなるボンクレキン酸のＣ１１〜Ｃ２２セグメントの製造法。
（１１）一般式［２１］
【化５６】
2002105045.tif 000056
（式中、Ｒ１１は水酸基の保護基を表す。）で示される化合物を還元して、一般式［２２］
【化５７】
2002105045.tif 000057
（式中、Ｒ１１は前記と同じ。）
で示されるフラノール体とする工程。
（１２）上記（１１）で得られた一般式［２２］で示されるフラノール体を一般式［２３］
【化５８】
2002105045.tif 000058
（式中、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示されるホスホランと反応させて、一般式［２４］
【化５９】
2002105045.tif 000059
（式中、Ｒ１１，Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される化合物とする工程。
（１３）上記（１２）で得られた一般式［２４］で示される化合物の７位の水酸基の保護基を脱保護して、一般式［２５］
【化６０】
2002105045.tif 000060
（式中、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示されるジヒドロキシ体とする工程。
（１４）上記（１３）で得られた一般式［２５］で示されるジヒドロキシ体の７位の水酸基をトシル化、メシル化又はハロゲン置換して、一般式［２６］
【化６１】
2002105045.tif 000061
（式中、Ｘ１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される化合物とする工程。
（１５）上記（１４）で得られた一般式［２６］で示される化合物を塩基で処理して、一般式［２７］
【化６２】
2002105045.tif 000062
（式中、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される６，７−エポキシ体とする工程。
（１６）上記（１５）で得られた一般式［２７］で示される６，７−エポキシ体を一般式［２８］
【化６３】
2002105045.tif 000063
（式中、Ｒ１３は水酸基の保護基を表す。）
で示される化合物と反応させて、一般式［２９］
【化６４】
2002105045.tif 000064
（式中、Ｒ１２，Ｒ１３は前記と同じ。）で示される化合物とする工程。
（１７）上記（１６）で得られた一般式［２９］で示される化合物の６位の水酸基をメチル化して、一般式［３０］
【化６５】
2002105045.tif 000065
（式中、Ｒ１２，Ｒ１３は前記と同じ。）
で示される化合物とする工程。
（１８）上記（１７）で得られた一般式［３０］で示される化合物の三重結合を部分水素化して、一般式［３１］
【化６６】
2002105045.tif 000066
（式中、Ｒ１２，Ｒ１３は前記と同じ。）
で示される化合物とする工程。
【請求項３７】
前記（１１）の工程において、一般式［２１］で示される化合物を金属水素化物で還元して一般式［２２］で示されるフラノール体とする、請求項３６に記載の製造法。
【請求項３８】
前記（１４）の工程において、一般式［２５］で示されるジヒドロキシ体の７位の水酸基をトシル化して、一般式［２６］で示される化合物とする、請求項３６又は３７に記載の製造法。
【請求項３９】
前記（１６）の工程において、一般式［２８］で示される化合物をリチオ化又はマグネシウム化した後、一般式［２７］で示される６，７−エポキシ体と反応させる、請求項３６〜３８の何れかに記載の製造法。
【請求項４０】
前記（１８）の工程において、一般式［３０］で示される化合物の三重結合をリンドラー触媒を用いて部分水素化して、一般式［３１］で示される化合物とする請求項３６〜３９の何れかに記載の製造法。
【請求項４１】
一般式［２１］
【化６７】
2002105045.tif 000067
（式中、Ｒ１１は水酸基の保護基を表す。）で示される化合物を還元することを特徴とする、一般式［２２］
【化６８】
2002105045.tif 000068
（式中、Ｒ１１は前記と同じ。）
で示される化合物の製造法。
【請求項４２】
金属水素化物で還元する、請求項４１に記載の製造法。
【請求項４３】
一般式［２２］
【化６９】
2002105045.tif 000069
（式中、Ｒ１１は水酸基の保護基を表す。）
で示される化合物。
【請求項４４】
一般式［２２］において、Ｒ１１がトリチル基又はｔ−ブチルジメチルシリル基である請求項４３に記載の化合物。
【請求項４５】
一般式［２２］
【化７０】
2002105045.tif 000070
（式中、Ｒ１１は水酸基の保護基を表す。）で示される化合物を一般式［２３］
【化７１】
2002105045.tif 000071
（式中、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示されるホスホランと反応させることを特徴とする、一般式［２４］
【化７２】
2002105045.tif 000072
（式中、Ｒ１１，Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される化合物の製造法。
【請求項４６】
一般式［２４］
【化７３】
2002105045.tif 000073
（式中、Ｒ１１は水酸基の保護基を表し、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）
で示される化合物
【請求項４７】
一般式［２４］において、Ｒ１１がトリチル基又はｔ−ブチルジメチルシリル基で、Ｒ１２がアルキル基である請求項４６に記載の化合物。
【請求項４８】
一般式［２４］
【化７４】
2002105045.tif 000074
（式中、Ｒ１１は水酸基の保護基を表し、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示される化合物の７位の水酸基の保護基を酸触媒の存在下に脱保護することを特徴とする、一般式［２５］
【化７５】
2002105045.tif 000075
（式中、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される化合物の製造法。
【請求項４９】
Ｒ１１がトリチル基である請求項４８に記載の製造法。
【請求項５０】
一般式［２４］
【化７６】
2002105045.tif 000076
（式中、Ｒ１１は水酸基の保護基を表し、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示される化合物の７位の水酸基の保護基をテトラブチルアンモニウムフルオリドで脱保護することを特徴とする、一般式［２５］
【化７７】
2002105045.tif 000077
（式中、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される化合物の製造法。
【請求項５１】
Ｒ１１がｔ−ブチルジメチルシリル基又はｔ−ブチルジフェニルシリル基である請求項５０に記載の製造法。
【請求項５２】
一般式［２５］
【化７８】
2002105045.tif 000078
（式中、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）
で示される化合物。
【請求項５３】
一般式［２５］において、Ｒ１２がアルキル基である請求項５２に記載の化合物。
【請求項５４】
一般式［２５］
【化７９】
2002105045.tif 000079
（式中、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示される化合物の７位の水酸基をトシル化、メシル化又はハロゲン置換することを特徴とする、一般式［２６］
【化８０】
2002105045.tif 000080
（式中、Ｘ１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される化合物の製造法。
【請求項５５】
一般式［２５］で示される化合物の７位の水酸基をトシル化して、一般式［２６］で示される化合物とする、請求項５４に記載の製造法。
【請求項５６】
一般式［２６］
【化８１】
2002105045.tif 000081
（式中、Ｘ１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）
で示される化合物
【請求項５７】
一般式［２６］において、Ｘ１１がトシルオキシ基で、Ｒ１２がアルキル基ある請求項５６に記載の化合物。
【請求項５８】
一般式［２６］
【化８２】
2002105045.tif 000082
（式中、Ｘ１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示される化合物を塩基で処理することを特徴とする、一般式［２７］
【化８３】
2002105045.tif 000083
（式中、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される化合物の製造法。
【請求項５９】
Ｘ１１がトシルオキシ基である請求項５８に記載の製造法。
【請求項６０】
一般式［２７］
【化８４】
2002105045.tif 000084
（式中、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）
で示される化合物
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アポトーシスの阻害活性を有することからアポトーシスに関する研究に必須の化合物として有用性の高いボンクレキン酸の前駆化合物であるボンクレキン酸のＣ１〜Ｃ１０セグメント及びボンクレキン酸のＣ１６〜Ｃ２２セグメントの製造方法に関する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ボンクレキン酸の実用的で簡便な合成方法を提供するためのボンクレキン酸前駆体であるボンクレキン酸のＣ１〜Ｃ１０セグメント（ボンクレキン酸分子の左半分）及びボンクレキン酸のＣ１６〜Ｃ２２セグメント（ボンクレキン酸分子の右半分の一部）の実用的で且つ効率的な製造方法を提供することを目的とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
更に、本発明は、下記（１１）〜（１５）の工程を含んでなるボンクレキン酸のＣ１６〜Ｃ２２セグメントの製造法に関する。
（１１）一般式［２１］
【化１１３】
2002105045.tif 000085
（式中、Ｒ１１は水酸基の保護基を表す。）で示される化合物を還元して、一般式［２２］
【化１１４】
2002105045.tif 000086
（式中、Ｒ１１は前記と同じ。）
で示されるフラノール体とする工程。
（１２）上記（１１）で得られた一般式［２２］で示されるフラノール体を一般式［２３］
【化１１５】
2002105045.tif 000087
（式中、Ｒ１２はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示されるホスホランと反応させて、一般式［２４］
【化１１６】
2002105045.tif 000088
（式中、Ｒ１１，Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される化合物とする工程。
（１３）上記（１２）で得られた一般式［２４］で示される化合物の７位の水酸基の保護基を脱保護して、一般式［２５］
【化１１７】
2002105045.tif 000089
（式中、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示されるジヒドロキシ体とする工程。
（１４）上記（１３）で得られた一般式［２５］で示されるジヒドロキシ体の７位の水酸基をトシル化、メシル化又はハロゲン置換して、一般式［２６］
【化１１８】
2002105045.tif 000090
（式中、Ｘ１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される化合物とする工程。
（１５）上記（１４）で得られた一般式［２６］で示される化合物を塩基で処理して、一般式［２７］
【化１１９】
2002105045.tif 000091
（式中、Ｒ１２は前記と同じ。）
で示される６，７−エポキシ体とする工程。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明は、上記ボンクレキン酸のＣ１６〜Ｃ２２セグメントの製造法に於ける各中間体とそれら中間体の製造法に関する。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明のボンクレキン酸のＣ１６〜Ｃ２２セグメントの製造方法に於いて、出発物質として用いられる一般式［２１］で示される化合物は、例えば下記合成スキームに従って合成することが出来る。なお、合成スキーム中のＴｒはトリチル基の略号である。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
【発明の効果】
本発明は、ボンクレキン酸の実用的で簡便な合成方法を提供するためのボンクレキン酸前駆体であるボンクレキン酸Ｃ１〜Ｃ１０セグメント（ボンクレキン酸分子の左半分）とボンクレキン酸Ｃ１６〜Ｃ２２セグメント（ボンクレキン酸分子の右半分の一部）の実用的で且つ効率的な製造方法を提供するものであり、本発明の方法によれば、ボンクレキン酸の大量供給が可能となるので、今後アポトーシスの研究が飛躍的に進展することが予想され、また、誘導体合成により多くの疾患の治療薬にも発展しうる可能性も充分考えられるので、斯業に貢献するところ甚だ大なる発明である。