Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印加電圧1.5Vで板厚方向に測定した電気抵抗が10Ω・ｃｍ以下のセラミック材ターゲットを用いて直流スパッタリング法により誘電体膜を基板上に成膜する成膜方法において、該ターゲットに印加する負の直流電圧が一定のパルス周期で正の電位に変化する印加電圧を用いてスパッタ成膜することを特徴とする誘電体膜の成膜方法。
【請求項２】
前記ターゲットに印加する一定の周期のパルス時間が0.5μsec以上であることを特徴とする請求項第１項に記載の誘電体膜の成膜方法。
【請求項３】
前記ターゲットに印加する一定のパルス周期の周波数が500Hz以上であることを特徴とする請求項第１項または第２項に記載の誘電体膜の成膜方法。
【請求項４】
前記セラミック材ターゲットはＳｒＴｉＯ3-X、ＢａＴｉＯ3-X、（ＢａＳｒ）ＴｉＯ3-X、ＬｉＮｂＯ3-X、ＬｉＴａＯ3-X、ＰｂＴｉＯ3-X、（ＰｂＬａ）ＴｉＯ3-X、Ｐｂ（ＺｒＴｉ）Ｏ3-X、（ＰｂＬａ）（ＺｒＴｉ）Ｏ3-XのＡＢＯ3-X［（Ａ：Ｂ：Ｏ＝1：1：3-X(X＞０）］型で表される金属酸化物から成るセラミック材であることを特徴とする請求項第１項ないし第３項のいずれか１項に記載の誘電体膜の成膜方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
また、(1)の成膜方法の場合は、ターゲットが絶縁体であるので、高周波スパッタ法しか利用することが出来ないが、(2)(3)(4)(5)の成膜方法の場合は、ターゲットが直流スパッタ出来る程度の電気抵抗であるので、高周波スパッタ法または直流スパッタ法も利用することが出来る。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
(5) の成膜方法の場合は、ターゲットが既に酸化物であるため、経時変化は生じず、かつ直流スパッタ法が利用することが出来るため、成膜速度が早い。
しかし非エロージョン部に堆積した膜は完全な絶縁体であるために絶縁破壊を生じてダストが発生することがある。
また、ターゲットの電気抵抗が金属ターゲットのようにほとんど０（例えば10-5Ω・ｃｍ以下）ではなく高々10Ω・ｃｍから数ミリΩ・ｃｍの範囲にあるため、高成膜速度を得ようと高い直流電力を印加すると印加電位のためターゲット表面やターゲット内の電気抵抗がやや高い部分と低い部分との境界にチャージ（電荷）が蓄積され、ターゲットが絶縁破壊を生じてダストの発生原因になったり、最悪の場合はターゲットにひび割れが生じたりして安定放電が出来なくなる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は前記問題点を解消し、ターゲットの経時変化がなく、かつ異常放電や絶縁破壊によるダストの発生、ターゲット割れが生じることなく、高速で安定した誘電体膜を得るための誘電体膜の成膜方法を提供することを目的とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、前記セラミック材ターゲットをＳｒＴｉＯ3-X、ＢａＴｉＯ3-X、（ＢａＳｒ）ＴｉＯ3-X、ＬｉＮｂＯ3-X、ＬｉＴａＯ3-X、ＰｂＴｉＯ3-X、（ＰｂＬａ）ＴｉＯ3-X、Ｐｂ（ＺｒＴｉ）Ｏ3-X、（ＰｂＬａ）（ＺｒＴｉ）Ｏ3-XのＡＢＯ3-X［（Ａ：Ｂ：Ｏ＝1：1：3-X(X＞０）］型で表される金属酸化物から成るセラミック材としてもよい。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
実施例１
チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ3）粉末とチタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）粉末を混合した後、真空中でホットプレスすることにより酸素欠損を引き起こしたチタン酸バリウムストロンチウム（Ｂａ0.5Ｓｒ0.5）ＴｉＯ3-Xから成るセラミック材ターゲットを作製した。
このセラミック材ターゲットの印加電圧1.5Vで板厚方向に測定した電気抵抗は10Ω・ｃｍであった。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
成膜中目視により異常放電（アーキング）の回数を測定した。また、成膜後にターゲット表面を観察した。
その結果、10分間の成膜中52回の異常放電が生じた。また、ターゲットには10数本のひび割れと、10個所程度の欠けが生じていた。また、成膜後基板を観察したところ基板上にはターゲットの細かいかけらが多数付着していた。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
実施例４並びに従来法
セラミック材ターゲットとしてセラミック材組成中の酸素組成が化学量論組成よりも少ない、所謂酸素欠損を起こした組成のＳｒＴｉＯ3-X、ＢａＴｉＯ3-X、ＬｉＮｂＯ3-X、ＬｉＴａＯ3-X、ＰｂＴｉＯ3-X、（Ｐｂ0.8Ｌａ0.2）ＴｉＯ3-X、Ｐｂ（Ｚｒ0.5Ｔｉ0.5）Ｏ3-X、（Ｐｂ0.8Ｌａ0.2）（Ｚｒ0.5Ｔｉ0.5）Ｏ3-Xから成る各セラミック材ターゲットを用いた以外は、前記実施例１と同様の方法で基板上に各セラミックから成る誘電体膜の成膜を行った。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
尚、前記実施例ではセラミック材ターゲットとしてＡＢＯ3-X［Ａ：Ｂ：Ｏ＝１：１：3-X(X＞０）］型で表され、かつターゲット板厚方向に1.5V印加した時の電気抵抗が10Ω・ｃｍ以下のセラミック材ターゲットを用いたが、同様の電気抵抗を示すセラミック材であれば、他の型のセラミック材ターゲットを用いてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月19日(2004.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも金属フッ化物を含む材料をターゲットとし、制御手段により制御される電源により前記ターゲット上にプラズマを発生させ、このプラズマにより前記ターゲットをスパッタリングして金属フッ化物の一部を分子状態で飛び出させて基板上に薄膜を形成するのに際し、前記プラズマの発光強度を計測し、この計測結果に基づいて前記電源を制御することを特徴とする薄膜の成膜方法。
【請求項２】
真空槽内に放電ガスを導入し、少なくとも金属フッ化物を含む材料をターゲットとし、制御手段により制御される高周波電力により前記ターゲット上に前記放電ガスのプラズマを発生させ、このプラズマにより前記ターゲットをスパッタリングして基板上に薄膜を形成するのに際し、前記プラズマ中における前記金属フッ化物を構成する分子に由来する第１の発光強度と、前記金属フッ化物を構成する原子又は前記放電ガスに由来する第２の発光強度とを計測し、これらの第１及び第２の発光強度に基づく演算結果が所望の値となるように前記高周波電力を制御することを特徴とする薄膜の成膜方法。
【請求項３】
真空槽に放電ガスを導入するガス導入手段と、少なくとも金属フッ化物を含む材料からなるターゲットが載置されるカソードと、このカソードに高周波電力を供給して前記ターゲット上に前記放電ガスのプラズマを発生させる高周波電源と、プラズマ中の金属フッ化物を構成する分子の発光強度と、金属フッ化物を構成する原子及び放電ガスの内のいずれか１つ以上の発光強度とを監視する監視手段と、これらの２以上の発光強度を組み合わせて演算する演算手段と、この演算結果が所望の値になるように前記高周波電源を介して前記高周波電力を制御する制御手段と、を備えていることを特徴とする光学薄膜の成膜装置。
【請求項４】
真空槽内に放電ガスを導入し、少なくとも金属フッ化物を含む材料をターゲットとし、制御手段により制御される電源により前記ターゲット上に前記放電ガスのプラズマを発生させ、このプラズマにより前記ターゲットをスパッタリングして基板上に薄膜を形成するのに際し、前記プラズマ中における前記金属フッ化物を構成する分子に由来する第１の発光強度と、前記金属フッ化物を構成する原子又は前記放電ガスに由来する第２の発光強度とを監視し、これらの第１及び第２の発光強度に基づく演算結果から膜の成膜速度を監視することを特徴とする薄膜の成膜方法。
【請求項５】
真空槽内に放電ガスを導入し、少なくとも金属フッ化物を含む材料をターゲットとし、制御手段により制御される電源により前記ターゲット上に前記放電ガスのプラズマを発生させ、このプラズマにより前記ターゲットをスパッタリングして基板上に薄膜を形成するのに際し、前記プラズマ中における前記金属フッ化物を構成する分子に由来する第１の発光強度と、前記金属フッ化物を構成する原子又は前記放電ガスに由来する第２の発光強度とを監視し、これらの第１及び第２の発光強度に基づく演算結果から膜の成膜速度を制御することを特徴とする薄膜の成膜方法。
【請求項６】
真空槽内に放電ガスを導入し、少なくとも金属フッ化物を含む材料をターゲットとし、制御手段により制御される電源により前記ターゲット上に前記放電ガスのプラズマを発生させ、このプラズマにより前記ターゲットをスパッタリングして基板上に薄膜を形成するのに際し、前記プラズマ中における前記金属フッ化物を構成する分子に由来する第１の発光強度と、前記金属フッ化物を構成する原子又は前記放電ガスに由来する第２の発光強度とを監視し、これらの第１及び第２の発光強度に基づく演算結果から膜の成膜時間を制御することを特徴とする薄膜の成膜方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
【発明の効果】
以上のように、請求項１の発明では、プラズマの発光強度を計測し、この計測結果に基づいて電源を制御するため、光吸収が少なく、機械的強度が大きな光学薄膜を形成でき、しかもフッ素の解離が少なくなるため、補充のための有毒なフッ素ガスを用いる必要がなくなる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
請求項３の発明では、監視手段がプラズマ中の金属フッ化物の分子の発光強度と、金属フッ化物の原子又は放電ガスの発光強度とを監視し、演算手段がこれらの発光強度の演算処理し、制御手段が演算結果に基づいて高周波電力を制御するため、発光強度の相対的な強度関係を適切な範囲とすることができ、光吸収が少なく、機械的な強度が大きな光学薄膜を作製することができる。
又請求項４，５，６の発明では、プラズマ中における前記金属フッ化物を構成する分子に由来する第１の発光強度と、前記金属フッ化物を構成する原子又は前記放電ガスに由来する第２の発光強度とに基づく演算結果から膜の成膜速度を監視または制御もしくは成膜時間を制御するので、前記所望の膜厚の光学薄膜を容易に成膜することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月25日(2003.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明のシリカ薄膜形成用組成物は上記のような（Ａ）成分と（Ｂ）成分を均一に混合することにより容易に製造されるが、これら（Ａ）成分および（Ｂ）成分に加えて、従来公知のセラミック酸化物前駆体、例えば、テトラｎ−プロポキシジルコニウム，テトライソブトキシチタン，トリスペンタン二酸アルミニウム，ペンタエトキシタンタル，トリプロポキシバナジウム，ペンタエトキシニオブ，ペンタン二酸ジルコニウム，ジブトキシビスペンタン二酸チタン等を添加配合することは本発明の目的を損なわない限り差し支えない。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月28日(2003.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】有機化合物の部分構造のコード化方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノードから構成される有機化合物の１つのノードをフォーカスノードとし、第Ｎスフィアまでの部分構造を、フォーカスノードのノードコードを記述したフォーカス情報と、各スフィアに含まれるノードのノードコードおよびボンドコードを記述したＮ個のスフィア情報とによって、コード化する方法であって、少なくとも炭素のノードに対してはその結合水素数に応じて異なるノードコードを割り当てるようにしたことを特徴とする有機化合物の部分構造のコード化方法。
【請求項２】
炭素に加え、窒素および酸素のノードに対してもその結合水素数に応じて異なるノードコードを割り当て、それ以外の元素のノードに対しては１種類のノードコードを割り当てるようにしたことを特徴とする請求項１記載の有機化合物の部分構造のコード化方法。
【請求項３】
フォーカス情報，第１スフィア情報，…，第Ｎスフィア情報の順にコード化していく際に、或るノードＸに直接結合するノードＹをコード化するとき該コード化位置以前に既にノードＹをコード化していた場合には、ノードＹのノードコードの代わりに閉環コードを使用し、該コード化位置以降にノードＹに直接結合するノードとしてノードＸが現れたときに該ノードＸのノードコードの代わりに前記ノードＹに使用した閉環コードと同じ閉環コードを使用し、且つ、閉環コードで表現されたノードについてはそれを起点とする以降のノードのコード化を省略するようにしたことを特徴とする請求項１または２記載の有機化合物の部分構造のコード化方法。
【請求項４】
１つの部分構造のコード化において複数の閉環コードを使用する必要のある場合、予め定められたそれぞれ異なる複数の閉環コードから循環的に１つずつ閉環コードを選択して使用することを特徴とする請求項３記載の有機化合物の部分構造のコード化方法。
【請求項５】
フォーカス情報と第１スフィア情報との間に第１の区切り記号コードを置き、各スフィア情報間に第２の区切り記号コードを置き、各スフィア内のバンチ情報間に第３の区切り記号コードを置くようにし、更に、バンチ内においては所定の優先順位に従ってノードコードとボンドコードとの組を配列するようにしたことを特徴とする請求項１，２，３または４記載の有機化合物の部分構造のコード化方法。
【請求項６】
有機化合物を構成する元素の種類および各元素間の結合状態を記述した入力ファイルを読み込む第１ステップと、
有機化合物を構成する元素のうちの１つの元素をフォーカスノードに定める第２ステップと、
少なくとも炭素のノードに対してはその結合水素数に応じて異なるノードコードを割り当てるようにしつつ、フォーカスノードのノードコードを記述したフォーカス情報をルートとし、第１〜第Ｎスフィアに含まれるノードのノードコードおよびボンドコードを記述したＮ個のスフィア情報をそれぞれ第１〜第Ｎ階層とする木構造を作成する第３ステップと、
木構造中のスフィア情報における各バンチ内のノードコードとボンドコードとの組の並びが所定の優先順位に沿うように木構造を正規化する第４ステップと、
正規化された木構造をフォーカス情報，第１スフィア情報，…，第Ｎスフィア情報の順に走査して、フォーカス情報と第１スフィア情報との間に第１の区切り記号コードを置き、各スフィア情報間に第２の区切り記号コードを置き、各スフィア内のバンチ情報間に第３の区切り記号コードを置いたコードを生成する第５ステップと、
生成したコードを出力ファイルに出力する第６ステップとを含むことを特徴とする有機化合物の部分構造のコード化方法。
【請求項７】
第３ステップにおいて、炭素に加え、窒素および酸素のノードに対してもその結合水素数に応じて異なるノードコードを割り当て、それ以外の元素のノードに対しては１種類のノードコードを割り当てるようにしたことを特徴とする請求項６記載の有機化合物の部分構造のコード化方法。
【請求項８】
第３ステップにおいて、フォーカス情報，第１スフィア情報，…，第Ｎスフィア情報の順にコード化していく際に、或るノードＸに直接結合するノードＹをコードするとき該コード化位置以前に既にノードＹをコード化していた場合には、ノードＹのノードコードの代わりに閉環コードを使用し、該コード化位置以降にノードＹに直接結合するノードとしてノードＸが現れたときに該ノードＸのノードコードの代わりに前記ノードＹに使用した閉環コードと同じ閉環コードを使用し、且つ、閉環コードで表現されたノードについてはそれを起点とする以降のノードのコード化を省略するようにしたことを特徴とする請求項６または７記載の有機化合物の部分構造のコード化方法。
【請求項９】
第３ステップにおいて、１つの部分構造のコード化において複数の閉環コードを使用する必要のある場合、予め定められたそれぞれ異なる複数の閉環コードから循環的に１つずつ閉環コードを選択して使用することを特徴とする請求項８記載の有機化合物の部分構造のコード化方法。
【請求項１０】
第２ステップにおいて、入力ファイルにケミカルシフト値が記述されている元素をフォーカスノードとし、且つ、
第６ステップにおいて、生成した部分構造のコードと共にそのケミカルシフト値を出力ファイルに出力することを特徴とする請求項６，７，８または９記載の有機化合物の部分構造のコード化方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、便通促進作用、及び利尿作用からなる群から選ばれる津液作用の改善用である、請求項１〜５のいずれかに記載の皮膚外用剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、漢方生薬の薬効分類を詳細に検討し、現代医薬分類との対比を行った結果、水（津液）が関与すると言われている、しゃ下、利水、消導、補陰と言った薬草群の作用が現代医薬品分類における美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、湿疹で代表される皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、肝炎で代表される色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、物理的原因による皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、利尿作用、便通促進作用と係わりが深いことを見いだした。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
一般式（Ｉ）で表される化合物としては、具体的にはエストロン、エストラジオール、エストリオール、アンドロステロン、スチルベステロール、３，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン−２，４−ジエン、４−（Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アミノカルボニル）フェノール、デオキシスチルベステロール、３−（４−ヒドロキシフェニル）−４−フェニルヘキサン−２，４−ジエン、又は４−（Ｎ−フェニルアミノカルボニル）フェノール及びこれらのアシル化物、アルキルエーテル体等の誘導体が例示でき、これらがいずれも使用できる。このうちアシル化体は、アルカリ存在下酸クロライドと反応させることにより容易に得ることができる。アルキルエーテル体は、例えばヨウ化メチルなどのアルキルハライドとアルカリ存在下に反応させることにより容易に得ることができる。これらのうち特に好ましいものは、下記一般式（ＩＩ）で表されるエストロン、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるエストラジオール、下記一般式（ＩＶ）で表されるエストリオール、下記一般式（Ｖ）で表されるアンドロステロン、下記一般式（ＶＩ）で表されるスチルベステロール、下記一般式（ＶＩＩ）で表される３，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン−２，４−ジエン、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される４−（Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アミノカルボニル）フェノール、下記一般式（ＩＸ）で表されるデオキシスチルベステロール、下記一般式（Ｘ）で表される３−（４−ヒドロキシフェニル）−４−フェニルヘキサン−２，４−ジエン、もしくは下記一般式（ＸＩ）で表される４−（Ｎ−フェニルアミノカルボニル）フェノール又はこれらのアシル化物、アルキルエーテル体等の誘導体である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明の津液改善用皮膚外用剤は、美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、湿疹で代表される皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、肝炎で代表される色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、物理的原因による皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、便通促進作用、及び排尿促進（利尿）作用からなる群から選ばれる少なくとも一つを改善する作用を有しており、これを用いることにより、肌の衰えの防止と改善、アトピー性皮膚炎の治療と発症・悪化の防止、発毛の促進と抜け毛の予防、湿疹の改善と悪化の予防、便通の促進と排尿の促進等の効果が発揮される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
【発明の効果】
本発明によれば、美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、湿疹で代表される皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、肝炎で代表される色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、物理的原因による皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、便通促進作用、及び利尿作用からなる群から選ばれる津液作用を改善しうる皮膚外用剤を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記津液作用が、美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、便通促進作用、及び利尿作用からなる群から選ばれる作用である、請求項６記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、漢方生薬の薬効分類を詳細に検討し、現代医薬分類との対比を行った結果、水（津液）が関与すると言われている、しゃ下、利水、消導、補陰と言った薬草群の作用が現代医薬品分類における美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、湿疹で代表される皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、肝炎で代表される色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、物理的原因による皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、利尿作用、便通促進作用と係わりが深いことを見出した。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
一般式（Ｉ）で表される化合物としては、具体的にはエストロン、エストラジオール、エストリオール、アンドロステロン、スチルベステロール、３，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン−２，４−ジエン、４−（Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アミノカルボニル）フェノール、デオキシスチルベステロール、３−（４−ヒドロキシフェニル）−４−フェニルヘキサン−２，４−ジエン、又は４−（Ｎ−フェニルアミノカルボニル）フェノール及びこれらのアシル化物、アルキルエーテル体等の誘導体が例示でき、これらがいずれも使用できる。このうちアシル化体は、アルカリ存在下酸クロライドと反応させることにより容易に得ることができる。アルキルエーテル体は、例えばヨウ化メチルなどのアルキルハライドとアルカリ存在下に反応させることにより容易に得ることができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明の津液改善剤は、美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、湿疹で代表される皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、肝炎で代表される色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、物理的原因による皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、便通促進作用、及び排尿促進（利尿）作用からなる群から選ばれる少なくとも一つを改善する作用を有しており、これを投与することにより、肌の衰えの防止と改善、アトピー性皮膚炎の治療と発症・悪化の防止、発毛の促進と抜け毛の予防、湿疹の改善と悪化の予防、便通の促進と排尿の促進等の効果が発揮される。津液改善剤の好ましい投与量は、疾病の種類や患者の特性によって異なるが、成人一人一日あたり、１〜１００００ｍｇを１回乃至は数回に分けて経口投与すればよい。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
取り分け本発明で注目すべきことは、本発明の上記一般式（Ｉ）で表される化合物及び／又はその生理的に許容される塩は、経口投与によって肌が美しくなったり発毛が促進されたりするなど、複数の作用を同時に備えることができる点である。すなわち、好ましくは、本発明の津液改善剤は、美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、湿疹で代表される皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、肝炎で代表される色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、物理的原因による皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、便通促進作用、及び利尿作用からなる群から選ばれる二以上の作用を改善する効果を有する。経口投与でこのような作用を同時に期待しうる物質は未だ知られていない。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明の組成物は、津液作用の改善に用いることができる。具体的には、美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、湿疹で代表される皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、肝炎で代表される色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、物理的原因による皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、便通促進作用、及び利尿作用からなる群から選ばれる作用の改善のために用いることができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【表３】
1998175852.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
【発明の効果】
本発明によれば、美肌作用、アトピー性皮膚炎治療作用、湿疹で代表される皮膚炎群治療作用、皮膚真菌症治療作用、疣贅治療作用、肝炎で代表される色素沈着症治療作用、尋常性乾癬治療作用、老人性乾皮症治療作用、老人性角化腫治療作用、物理的原因による皮膚損傷治療作用、発毛促進作用、消化液分泌促進作用、発汗促進作用、便通促進作用、及び利尿作用からなる群から選ばれる津液作用を改善する効果を有する津液改善剤を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉛を含む触媒を用いて、アルデヒドとアルコ?ルと酸素を反応させ、対応するカルボン酸エステルを製造するに当たり、得られる水を含む粗カルボン酸エステル溶液に含まれる鉛イオンや鉛化合物を除去する方法に於いて、
（１）粗カルボン酸エステル溶液中で硫酸イオンまたは燐酸イオン、あるいは両イオンを発生させ得る酸及び／または化合物、あるいはこれらの混合物を粗カルボン酸エステル溶液に添加し、油水二層分離した時の水相側のｐＨを６以下に維持しつつ、水相側に鉛イオンや鉛化合物を抽出あるいは沈殿移動させると共に、水相中の水溶性有機物を油相に移動させ、（２）さらに水相と油相とを分離した後、鉄イオンの存在下で水相のｐＨを７以上に調整して鉄の水酸化物を発生させ、鉛イオンや鉛化合物を水相から共同沈殿分離して回収する方法。
【請求項２】
粗カルボン酸エステル溶液中で硫酸イオンまたは燐酸イオンを発生させ得る物質が硫酸または燐酸である請求項１記載の鉛回収方法。
【請求項３】
該ｐＨが、０．５から４の範囲である請求項１〜２記載の鉛回収方法。
【請求項４】
該鉄イオンが、油水分離後の水相のみに鉄イオンを発生する化合物またはその溶液を添加する請求項１〜３記載の鉛回収方法。
【請求項５】
該共同沈殿が、鉄イオンを含む水相だけに塩基性の水溶液を追加添加してｐＨを８から１２の範囲に保つ請求項１〜４記載の鉛回収方法。
【請求項６】
粗カルボン酸エステル溶液が、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルである請求項１〜５記載の鉛回収方法。
【請求項７】
粗カルボン酸エステル溶液が、その溶液中で硫酸イオンまたは燐酸イオンを発生させ得る際に、ハイドロキノン、メトキシキノン（４−メトキシフェノール）、その他の重合抑制剤を系内に存在させておく請求項１〜６記載の鉛回収方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（第２行程）第１行程で得られる式（IV）の化合物を、式（Ｖ）で表される化合物０．５〜４当量とラジカル発生剤（例えばアゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、過酸化ベンゾイル、トリエチルボランなど）０．５５〜２当量、さらにラジカル性還元剤（例えば水素化トリブチルスズ、水素化トリフェニルスズ、水素化ジブチルスズ、水素化ジフェニルスズなど）約１〜約５当量を不活性溶媒（例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ペンタンなど）中、−７８〜１００℃で反応させ、式（VI）の化合物とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対向する辺を形成する一方の対をなす第１および第２の２個のスイッチング素子と相対向する辺を形成する他方の対をなす第３および第４の２組のスイッチング素子とによってブリッジ回路を形成し、前記ブリッジ回路の直流接続用端子に直流電源を接続するとともに、前記ブリッジ回路の交流接続用端子に出力変圧器の一次巻線を接続して、前記出力変圧器の二次巻線の出力を整流して直流を出力するか、前記整流した直流を導通方向が異なる２組のスイッチング素子を交互に導通・遮断を繰り返す極性切替回路によって所定の正・負比率の交流を出力するか、直流および交流を各出力端子から同時に出力するか、または予め定めた周期で切り替えて出力するアーク加工用電源装置において、
出力設定器の出力設定信号Ｓr と出力検出器の出力検出信号Ｓf とを入力とし両入力信号の差の比較信号ΔＳ＝Ｓr −Ｓfを出力する比較器と、
前記第１ないし第４のスイッチング素子からなるインバータ回路の動作周波数を決定する動作周波数基準信号を出力する基準信号発振器と、
前記動作周波数基準信号と前記比較信号ΔＳが加算された第２の入力信号との位相差に応じた位相差電圧信号を出力する位相比較器と、
前記第２の入力信号が前記位相差電圧信号であって、 前記位相差電圧信号と前記比較信号ΔＳとの和の加算信号Ｓ＝Ｓi ＋ΔＳによって前記インバータ回路の出力電圧に対応した周波数のインバータ出力対応周波数信号を出力する電圧制御発振器と、
前記動作周波数基準信号を反転して第１の極性反転信号を出力する第１の極性反転回路と、
前記インバータ出力対応周波数信号を反転して第２の極性反転信号を出力する第２の極性反転回路とを備えて、
前記動作周波数基準信号を前記第１のスイッチング素子の駆動信号とし、前記第２の極性反転信号を前記第２のスイッチング素子の駆動信号とし、前記インバータ出力対応周波数信号を前記第３のスイッチング素子の駆動信号とし、前記第１の極性反転信号を前記第４のスイッチング素子の駆動信号として前記第１および第２のスイッチング素子と前記第３および第４のスイッチング素子との導通期間を制御したアーク加工用電源装置。
【請求項２】
相対向する辺を形成する一方の対をなす第１および第２の２個のスイッチング素子と相対向する辺を形成する他方の対をなす第３および第４の２組のスイッチング素子とによってブリッジ回路を形成し、前記ブリッジ回路の直流接続用端子に直流電源を接続するとともに、前記ブリッジ回路の交流接続用端子に出力変圧器の一次巻線を接続して、前記出力変圧器の二次巻線の出力を整流して直流を出力するか、前記整流した直流を導通方向が異なる２組のスイッチング素子を交互に導通・遮断を繰り返す極性切替回路によって所定の正・負比率の交流を出力するか、直流および交流を各出力端子から同時に出力するか、または予め定めた周期で切り替えて出力するアーク加工用電源装置において、
出力設定器の出力設定信号Ｓr と出力検出器の出力検出信号Ｓf とを入力とし両入力信号の差の比較信号ΔＳ＝Ｓr −Ｓfを出力する比較器と、
前記第１ないし第４のスイッチング素子からなるインバータ回路の動作周波数を決定する動作周波数基準信号を出力する基準信号発振器と、
前記動作周波数基準信号と前記比較信号ΔＳが加算された第２の入力信号との位相差に応じた位相差電圧信号を出力する位相比較器と、
前記第２の入力信号が前記位相差電圧信号であって、 前記位相差電圧信号と前記比較信号ΔＳとの和の加算信号Ｓ＝Ｓi ＋ΔＳによって前記インバータ回路の出力電圧に対応した周波数のインバータ出力対応周波数信号を出力する電圧制御発振器と、
前記動作周波数基準信号を反転して第１の極性反転信号を出力する第１の極性反転回路と、
前記インバータ出力対応周波数信号を反転して第２の極性反転信号を出力する第２の極性反転回路と、
矩形波の信号を入力して一定時間だけ遅れて立上りかつ前記矩形波の信号の立下りと同時に立上り遅延信号を出力する遅延回路とを備えて、
前記電圧制御発振器と前記第１のスイッチング素子との間または前記第１の極性反転回路と前記第４のスイッチング素子との間および前記電圧制御発振器と前記第３のスイッチング素子との間または前記第２の極性反転回路と前記第２のスイッチング素子との間に直列に前記遅延回路を挿入して、
第１のスイッチング素子および第４のスイッチング素子の一方のスイッチング素子の駆動信号を一定時間だけ遅れて立上る前記立上り遅延信号とするとともに、第３のスイッチング素子および第２のスイッチング素子のうちの前記一方のスイッチング素子の導通期間と同一方向に遅延する立上り遅延信号にして前記第１および第２のスイッチング素子と前記第３および第４のスイッチング素子との導通期間を制御したアーク加工用電源装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記の結果、電圧制御発振器２５は基準信号発振器２１の出力周波数と同一の周波数でかつ差信号ΔＳに相当する分だけ位相がずれた信号を出力することになり、この差信号ΔＳは基準信号発振器２１の出力信号Ｓr と出力検出器１６の出力信号Ｓf との差であるから、結局この信号と基準信号発振器２１の出力信号とによって増幅器２８ないし３１を介してスイッチング素子３ないし６を駆動すると出力変圧器１１には出力設定器２１の設定値Ｓr に対応した出力が現われることになる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
1998175070.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月19日(2003.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内輪と、外輪と、前記内輪と前記外輪との間に転動自在に配設された複数の転動体と、前記内輪と前記外輪との間に形成され前記転動体が内設された空隙部内に配設された潤滑剤含有ポリマからなる潤滑剤供給部材と、を備えた転がり軸受において、前記潤滑剤供給部材を前記内輪の外径面又は前記外輪の内径面に固定するとともに、前記転動体の前記空隙部内に露出した部分のうち一部に前記潤滑剤供給部材を接触させたことを特徴とする転がり軸受。
【請求項２】
前記潤滑剤供給部材は、前記転動体に点接触していることを特徴とする請求項１に記載の転がり軸受。
【請求項３】
前記潤滑剤供給部材の前記転動体との接触部分は、凹面となっていることを特徴とする請求項１に記載の転がり軸受。
【請求項４】
前記潤滑剤供給部材は、前記内輪の外径面及び前記外輪の内径面の一方に固定されるとともに他方に接触していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の転がり軸受。
【請求項５】
前記潤滑剤供給部材を、シール溝に圧入することにより固定したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の転がり軸受。
【請求項６】
前記潤滑剤供給部材は、圧入によりシール溝に取り付けられた芯材と一体化されており、該芯材を介して前記内輪の外径面又は前記外輪の内径面に固定されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の転がり軸受。
【請求項７】
冠形保持器を備えており、該冠形保持器のつのが向いた側に前記潤滑剤供給部材が配されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の転がり軸受。
【請求項８】
深みぞ玉軸受又はスラストアンギュラ玉軸受であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の転がり軸受。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は次のような構成からなる。すなわち本発明に係る請求項１の転がり軸受は、内輪と、外輪と、前記内輪と前記外輪との間に転動自在に配設された複数の転動体と、前記内輪と前記外輪との間に形成され前記転動体が内設された空隙部内に配設された潤滑剤含有ポリマからなる潤滑剤供給部材と、を備えた転がり軸受において、前記潤滑剤供給部材を前記内輪の外径面又は前記外輪の内径面に固定するとともに、前記転動体の前記空隙部内に露出した部分のうち一部に前記潤滑剤供給部材を接触させたことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このような構成であれば、前記潤滑剤供給部材は、前記転動体の前記空隙部内に露出した部分のうち一部としか接触していないので、前記転動体の転動を阻害しにくい。また、前記潤滑剤供給部材は前記内輪の外径面及び前記外輪の内径面のいずれか一方に固定されているので、前記内輪及び前記外輪はその動きを阻害されることがない。したがって、転がり軸受の動トルクが低く、回転による温度上昇が少ないから、転がり軸受を高速回転で使用することが可能である。
また、本発明に係る請求項２の転がり軸受は、請求項１に記載の転がり軸受において、前記潤滑剤供給部材は、前記転動体に点接触していることを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項３の転がり軸受は、請求項１に記載の転がり軸受において、前記潤滑剤供給部材の前記転動体との接触部分は、凹面となっていることを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項４の転がり軸受は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転がり軸受において、前記潤滑剤供給部材は、前記内輪の外径面及び前記外輪の内径面の一方に固定されるとともに他方に接触していることを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項５の転がり軸受は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の転がり軸受において、前記潤滑剤供給部材を、シール溝に圧入することにより固定したことを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項６の転がり軸受は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の転がり軸受において、前記潤滑剤供給部材は、圧入によりシール溝に取り付けられた芯材と一体化されており、該芯材を介して前記内輪の外径面又は前記外輪の内径面に固定されていることを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項７の転がり軸受は、請求項１〜６のいずれか一項に記載の転がり軸受において、冠形保持器を備えており、該冠形保持器のつのが向いた側に前記潤滑剤供給部材が配されていることを特徴とする。
さらに、本発明に係る請求項８の転がり軸受は、請求項１〜７のいずれか一項に記載の転がり軸受において、深みぞ玉軸受又はスラストアンギュラ玉軸受であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月9日(2004.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポンプの吐出し側または吸込み側に設置され流体が逆流することを防止する逆止め弁において、外周部に溝を有した円盤状の本体部と、この本体部から下方に延びるとともに弁箱の内周面と摺接する案内部とを有した弁体を設け、この弁体の溝に嵌合する溝嵌合部と、この溝嵌合部から下方に延びるとともに弁体の案内部に嵌合する案内部嵌合部とを有した環状の弁シートとを設けたことを特徴とする逆止め弁。
【請求項２】
ポンプと、このポンプに接続された揚水管と、この揚水管に接続された圧力検出装置と、請求項１記載の逆止め弁とを備え、前記圧力検出装置により前記ポンプを起動するとともに前記圧力検出装置および流量検出装置により前記ポンプを停止せしめることを特徴とする給水ポンプ装置。
【請求項３】
前記流量検出装置は前記弁体に埋設された磁石により構成されることを特徴とする請求項２記載の給水ポンプ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するため、本発明は、ポンプの吐出し側または吸込み側に設置され流体が逆流することを防止する逆止め弁において、外周部に溝を有した円盤状の本体部と、この本体部から下方に延びるとともに弁箱の内周面と摺接する案内部とを有した弁体を設け、この弁体の溝に嵌合する溝嵌合部と、この溝嵌合部から下方に延びるとともに弁体の案内部に嵌合する案内部嵌合部とを有した環状の弁シートとを設けたことを特徴とするものである。
本発明の給水ポンプ装置は、ポンプと、このポンプに接続された揚水管と、この揚水管に接続された圧力検出装置と、前記逆止め弁とを備え、前記圧力検出装置により前記ポンプを起動するとともに前記圧力検出装置および流量検出装置により前記ポンプを停止せしめることを特徴とするものである。
本発明の好ましい態様によれば、前記流量検出装置は前記弁体に埋設された磁石により構成されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月26日(2003.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
請求項３記載のズームストロボ装置において、集光レンズの発光部と反対側の面は、発光部の光軸と直交する平面内にあって、棒状光源の長さ方向または長さ方向と直交する方向と平行な方向の軸を有する凹円筒面からなっているズームストロボ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月21日(2003.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面型光学導波路素子であって、
基板と、
前記基板上に形成された、均一の高さおよび変化する第１の幅を有する第１導波路と、
前記基板上に形成された、均一の高さおよび変化する第２の幅を有する第２導波路とを有し、
前記第１導波路および第２導波路は、シングルモードであり、
前記第１導波路および第２導波路は、カプラを形成するように、前記基板のある領域に光学的に結合されており、前記第１の幅および第２の幅は、光学的結合が前記第１の幅および第２の幅および前記均一の高さにおいて製造誤差により実質的に影響を受けないように、前記領域において実質的に均一の幅に減少させられていることを特徴とする平面型光学導波路素子。
【請求項２】
平面型光学導波路素子であって、
基板と、
前記基板上に堆積された下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に形成された均一高さ（Ｈ）および可変幅（Ｗ）を有するコアと、
前記コアおよび前記下部クラッド層の上に堆積された上部クラッド層とを有し、
前記上部クラッド層は、前記上部クラッド層と前記下部クラッド層との間にコアを包囲し、
湾曲領域では、前記導波路は、０．８＜Ｗ／Ｈ＜１．１のアスペクト比を有し、
導波路−ファイバの結合領域では、前記導波路は、結合損失が０．２５を下まわるようなＷ／Ｈのアスペクト比を有することを特徴とする平面型光学導波路素子。
【請求項３】
前記導波路の高さは、６μｍ以上である
ことを特徴とする請求項２の素子。
【請求項４】
前記コアおよび前記下部クラッド層の上に堆積された上部クラッド層と、
前記上部クラッド層と前記下部クラッド層との間に包囲された第２のコアを含む第２の導波路をさらに含み、
前記第２導波路は、前記導波路と光学的に相互作用するよう構成され、
前記第２コアは、前記コアに実質的に等しい高さおよび可変幅を有することを特徴とする請求項２の素子。
【請求項５】
前記導波路と前記第２導波路とは、結合領域において光学的に結合され、
前記結合領域は、前記コアおよび第２コアの幅の製造ばらつきとは実質的に無関係な結合長を有することを特徴とする請求項４の素子。
【請求項６】
前記導波路の湾曲領域における導波路の幅は、所定の均一の幅まで前記湾曲領域を通して増加し、前記導波路が曲げ損失を減少させるマルチモードを導波することを特徴とする請求項２の素子。
【請求項７】
様々な領域で光学的に相互作用する少なくとも２つの導波路を基板上に有し、前記導波路の各々は、高さおよび幅を有し、
前記導波路素子は、
前記導波路が光学的に結合される結合領域と、
前記導波路がそれぞれの光ファイバとインタフェースされるインタフェース領域とを有し、
前記導波路の各々の幅は、前記結合領域において各前記幅が実質的に等しくなるように、減少しており、
前記結合領域における前記導波路の各々の高さ対幅の比が
結合効率に関し前記幅の製造上のばらつきの影響を最小化するようなものであり、
前記導波路の各々のインタフェース領域における幅は、前記導波路と光ファイバとの間のモードフィールドのミスマッチを減少させるように、前記導波路の各々に対し、前記高さの１２０％以上まで増加している
と有することを特徴とする平面型光学導波路素子。
【請求項８】
前記導波路の各々の曲がる湾曲領域を有し、
前記導波路の各々の幅は、曲げ損失を減少させるように、前記湾曲領域において均一の幅まで増加する
ことを特徴とする請求項７の素子。
【請求項９】
平面型光学導波路素子であって、
それぞれ第１および第２の端部を有する複数の不等長導波路であって、その各々が前記不等長導波路間の位相差は、コア幅の製造誤差に対して安定化されるようなコア幅対コア高さの比を有していることを特徴とする平面型光学導波路素子。
【請求項１０】
ドラゴンルータであって、
入力導波路を有する第１スターカプラと、
複数の出力導波路を有する第２スターカプラと、
前記第１スターカプラと第２スターカプラとを接続する位相グレーティング列と、
を有するドラゴンルータにおいて、
前記位相グレーティング列は、前記第１スターカプラの第一端と、前記第２スターカプラの第二端とに接続される複数の不等長導波路を有し、
前記導波路は、前記位相でレーティング列がコア幅における製造誤差に対して安定しているようなコアの幅対高さの比を有し、高次モード信号を除去するために、前記第一端と第二端のそれぞれに配置されたシングルモード領域とを有することを特徴とするドラゴンルータ。
【請求項１１】
前記第１および第２の幅が、前記領域において等しいことを特徴とする請求項１の素子。
【請求項１２】
平面型光学導波路素子であって、
基板と、
前記基板上に形成された、均一の高さおよび変化する第１の幅を有する第１導波路と、
前記基板上に形成された、均一の高さおよび変化する第２の幅を有する第２導波路とを有し、
前記第１導波路および第２導波路は、シングルモードであり、
前記第１導波路および第２導波路は、カプラを形成するように、前記基板のある領域光学的に結合されており、前記第１の幅および第２の幅は、光学的結合が前記第１の幅および第２の幅および前記均一の高さにおいて製造誤差により実質的に影響を受けないように、前記領域において実質的に均一の幅に減少させられており、および
前記領域における第１および第２の導波路の各々の幅は、約４μｍであることを特徴とする平面型光学導波路素子。
【請求項１３】
平面図光学導波路素子であって、
それぞれの第１端および第２端を有する複数の不等長導波路を含み、前記不等長導波路の各々は、６．７μｍのコア高さおよび約１０μｍのコア幅を有し、前記不等長導波路の間の位相差がコア幅の製造誤差に対して安定するようになっていることを特徴とする平面型光学導波路素子。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月5日(2003.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対の搬送ローラと、
基板の裏面側で昇降可能に配置され、基板を支持し前記１対の搬送ローラとともに回転する第１のローラと、
基板の裏面側で昇降可能に配置され、基板を支持し前記１対の搬送ローラとともに回転する、前記第１のローラとは別の第２のローラと、
前記第１のローラと前記第２のローラとを選択的に昇降させる駆動部と
を具備することを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の搬送装置において、
前記第１のローラ又は第２のローラのうち少なくとも一方は、表面から流体又は気体を噴出させる手段を具備し、基板を非接触状態で支持することを特徴とする搬送装置。
【請求項３】
請求項２に記載の搬送装置において、
前記流体又は気体の温度を基板の温度とほぼ同一に調整する手段を更に具備することを特徴とする搬送装置。
【請求項４】
基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対の搬送ローラと、
基板の裏面側で昇降可能に配置され、基板を支持し前記１対の搬送ローラとともに回転する第１のローラと、
基板の裏面側に配置され、流体又は気体を噴出させることにより基板を非接触状態で支持する支持部材と、
前記流体又は気体の温度を基板の温度とほぼ同一に調整する手段と
を具備することを特徴とする搬送装置。
【請求項５】
請求項４に記載の搬送装置において、
前記支持部材は、前記１対の搬送ローラとともに回転する第２のローラであり、
この第２のローラは、
前記流体又は気体を噴出させるための複数の噴出孔と、
回転により基板裏面に対向しなくなった前記複数の噴出孔のうち少なくとも１つを遮蔽する遮蔽部材と
を具備することを特徴とする搬送装置。
【請求項６】
請求項５に記載の搬送装置において、
前記遮蔽部材は、前記第２のローラ内部に配置され、前記基板裏面に対向しなくなった前記複数の噴出孔のうち少なくとも１つを自重により常に遮蔽していることを特徴とする搬送装置。
【請求項７】
請求項６に記載の搬送装置において、
前記遮蔽部材は、前記複数の噴出孔の各々の径より大きい径を有するボール体であることを特徴とする搬送装置。
【請求項８】
基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対の搬送ローラと、
基板の裏面側に配置され、流体又は気体を噴出させることにより基板を非接触状態で支持する少なくとも２つの支持部材と、
前記流体又は気体の温度を基板の温度とほぼ同一に調整する手段と
を具備することを特徴とする搬送装置。
【請求項９】
基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対の搬送ローラと、
基板の裏面側で昇降可能に配置され、流体又は気体を噴出させることにより基板を非接触状態で支持する第１の支持部材と、
基板の裏面側で昇降可能に配置され、流体又は気体を噴出させることにより基板を非接触状態で支持する、前記第１の支持部材とは別の第２の支持部材と、
前記第１の支持部材と前記第２の支持部材とを選択的に昇降させる駆動部と
を具備することを特徴とする搬送装置。
【請求項１０】
前記駆動部は、搬送する基板の製品領域の面取り数の情報に基づいて選択的に昇降駆動されることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
【請求項１１】
前記第１のローラと前記第２のローラとは、製品領域の異なる基板の製品領域以外でかつ製品領域の間の領域をそれぞれ支持するように配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の搬送装置。
【請求項１２】
前記第２のローラは、内部に形成されたリング状の空間及び前記複数の噴出孔を介して流体または気体を噴出させるように構成され、前記遮蔽部材は前記リング状の空間に遊挿され、円弧状の形状を有することを特徴とする請求項６に記載の搬送装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
このような構成によれば、例えば少なくとも２つの支持部材が基板に対して当接しないで、基板の温度とほぼ同一温度に調整された流体又は気体の噴出圧力により基板を支持するので、基板情報に関わらず、転写跡を残すことなく基板の搬送を行うことができる。
本発明の一の形態によれば、前記駆動部は、搬送する基板の製品領域の面取り数の情報に基づいて選択的に昇降駆動されることを特徴とする。
本発明の一の形態によれば、前記第１のローラと前記第２のローラとは、製品領域の異なる基板の製品領域以外でかつ製品領域の間の領域をそれぞれ支持するように配置されていることを特徴とする。
本発明の一の形態によれば、前記第２のローラは、内部に形成されたリング状の空間及び前記複数の噴出孔を介して流体または気体を噴出させるように構成され、前記遮蔽部材は前記リング状の空間に遊挿され、円弧状の形状を有することを特徴とする。