(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源とポリゴンミラーと折り返しミラーとを有し像面上を走査する走査光学系を含む光学ユニットの、前記走査光学系の走査位置および光強度パターンを測定する光学特性測定装置であって、
前記光学ユニットから出射される光束を受光する受光部と、
前記走査光学系の主走査方向と前記ポリゴンミラーの回転軸とに直交する方向を副走査方向とし、前記光学ユニットから射出される光束のうち前記副走査方向において最も離れた光束間の距離を前記走査光学系の副走査幅、前記走査光学系の主走査方向の走査幅を主走査幅としたとき、前記受光部を副走査幅以上かつ主走査幅以上の平面内の任意の位置に移動可能な移動手段とを有し、
前記移動手段は、複数のステージを組み合わせて構成され、前記受光部を保持し、かつ、該保持部を前記走査光学系の副走査方向に移動可能とした前記ステージの両端部に、該ステージを支持する摺動部材を有することを特徴とする光学特性測定装置。
【請求項２】
光源とポリゴンミラーと折り返しミラーとを有し像面上を走査する走査光学系を含む光学ユニットの、前記走査光学系の走査位置および光強度パターンを測定する光学特性測定装置であって、
前記光学ユニットから出射される光束を受光する受光部と、
前記走査光学系の主走査方向と前記ポリゴンミラーの回転軸とに直交する方向を副走査方向とし、前記光学ユニットから射出される光束のうち前記副走査方向において最も離れた光束間の距離を前記走査光学系の副走査幅、前記走査光学系の主走査方向の走査幅を主走査幅としたとき、前記受光部を副走査幅以上かつ主走査幅以上の平面内において少なくとも副走査方向に移動可能な移動手段とを有し、
前記移動手段は、ステージを備え、前記受光部を保持し、かつ、該保持部を前記走査光学系の副走査方向に移動可能とした前記ステージの両端部に、該ステージを支持する摺動部材を有し、
前記受光部は該ステージの主走査方向に複数設けられたことを特徴とする光学特性測定装置。
【請求項３】
前記受光部は、前記移動手段による移動平面に対して垂直方向に配置されたことを特徴とする請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置。
【請求項４】
前記受光部が、
前記走査光学系の幅方向に移動する移動量と、
任意の主走査方向の位置において、移動前での前記光学ユニットから出射される光束の副走査方向における位置と移動後での前記光学ユニットから出射される光束の副走査方向における位置とによって、
前記光学ユニットから出射される光束の位置間隔を算出することを特徴とする請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置。
【請求項５】
前記受光部の任意の位置において、
前記走査光学系の前記像面位置を繋いだ理想的な移動平面上における前記受光部の位置と、実際の移動平面上における前記受光部の位置との差を、予め測定する第一の測定手段を有し、
該第一の測定手段の測定結果に基づいて、前記差を補正することを特徴とする請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置。
【請求項６】
前記受光部の任意の位置において、
前記走査光学系の前記像面位置を繋いだ理想的な移動平面上における前記受光部の位置と、実際の移動平面上における前記受光部の位置との差を、前記光学特性を測定しながら行う第二の測定手段を有し、
該第二の測定手段の測定結果に基づいて、前記差を補正することを特徴とする請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置。
【請求項７】
前記ステージと前記摺動部材とは、熱膨張係数の差が２．２×１０-6以下の材質で構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の走査光学系の光学特性測定装置。
【請求項８】
前記受光部の電源及び信号ラインは、前記受光部に対向する面以外の箇所に接続されることを特徴とする請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置。
【請求項９】
画像形成装置から着脱可能であり、かつ、請求項１から８のいずれか１項に記載の走査光学系の光学特性測定装置に対して測定可能な状態であることを特徴とする走査光学系ユニット。
【請求項１０】
請求項９に記載の走査光学系ユニットを有する画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、書き込みあるいは読み取りを行う走査光学系ユニットにおける、ビーム主副位置やビームプロファイル、走査ステーション間のビーム位置間隔を測定する走査光学系の光学特性測定装置、走査光学系ユニット及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザプリンタやデジタル複写機といった各種の画像形成装置において、レーザ光束を被走査面上に光スポットとして集光させて、被走査面上を走査する走査光学系は、一般に広く知られている。特に近年、走査光学系による走査の「高密度化やマルチビーム化」が意図され、光スポットによる走査位置に、「より高精度」が要求されるようになってきている。
【０００３】
このような光スポットは、被走査面上を移動して被走査面を走査するが、その被走査面上における光スポットの理想的な移動方向を主走査方向と呼び、その主走査方向と直交する方向を副走査方向と呼ぶことは周知の通りである。また、光スポットの軌道を「主走査ライン」と呼んでいる。なお、ここで言う「被走査面」は、仮想的な平面であり、実体的には光導電性の感光体における感光面のことである。
【０００４】
主走査ラインは、正確な直線であることが理想的であるが、実際には種々の要因で厳密な直線にはならず、僅かな曲がりが生じる。また、レーザ光束の偏向を回転多面鏡により行う場合には、回転多面鏡の各偏向反射面毎の偏向による主走査ラインが、いわゆる「面倒れ」の影響で副走査方向に微小距離変動することが考えられる。このような主走査ラインの「曲がり」や「副走査方向の微小距離変動」は、所定の許容範囲内に収める必要があるが、走査を高密度化する場合や、マルチビームで走査を行う場合の許容範囲はかなり狭い。
【０００５】
通常は、走査光学系を実際に組み立てる際やその組み立て後、前述したような主走査ラインの曲がりや副走査方向の変動を調整したり、これらが設計通りの許容範囲内に収まっているかを検査したりする。したがって、被走査面上の所望の主走査位置において、その副走査方向の走査位置を測定する必要が生じることになる。
【０００６】
また、カラー画像の場合では、各色毎に異なったステーションからの光走査により書き込みを行うタンデム方式の場合、各ステーション間のビーム位置間隔のずれが、副走査方向における色ずれ（位置ずれ）となるため、各ステーション間のビーム位置間隔を正確に調整する必要がある。
【０００７】
また、各ステーションの走査ラインは、各ステーションそれぞれに曲がりや傾きが異なっているため、像高によってステーション間のビーム位置間隔にも差が生じてしまう。したがって、この差が小さくなるように調整して、全走査範囲に亘って副走査方向の色ずれを低減させるためにも、ステーション間のビーム位置間隔を正確に測定することが必要になる。
【０００８】
なお、被走査面上の所望の主走査位置においてその副走査方向の走査位置を測定する装置としては、例えば、特許文献１に開示された発明が公知である。特許文献１には、一台のＣＣＤカメラを移動ステージにより所望の主走査位置まで移動して、その副走査方向の走査位置を測定する測定装置に関する発明が開示されている。
【特許文献１】特開２０００−０３９５７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、副走査方向の走査位置を測定する目的は、全像高に亘る副走査位置から走査線曲りや傾きを求めることにある。従来の測定装置では、ある単一の被走査面上の走査位置を測定することは可能であるが、複数のステーションを有する例えばタンデム方式による走査光学系の、ステーション間のビーム位置間隔を正確に測定することはできなかった。
【００１０】
このような課題に鑑み、本発明は、タンデム方式のように複数のステーションを有するステーション間の、ビーム位置間隔を正確に測定することが可能な走査光学系の光学特性測定装置、走査光学系ユニット及び画像形成装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、光源とポリゴンミラーと折り返しミラーとを有し像面上を走査する走査光学系を含む光学ユニットの、走査光学系の走査位置および光強度パターンを測定する光学特性測定装置であって、光学ユニットから出射される光束を受光する受光部と、走査光学系の主走査方向とポリゴンミラーの回転軸とに直交する方向を副走査方向とし、光学ユニットから射出される光束のうち前記副走査方向において最も離れた光束間の距離を前記走査光学系の副走査幅、走査光学系の主走査方向の走査幅を主走査幅としたとき、受光部を副走査幅以上かつ主走査幅以上の平面内の任意の位置に移動可能な移動手段とを有し、移動手段は、複数のステージを組み合わせて構成され、受光部を保持し、かつ、該保持部を走査光学系の副走査方向に移動可能としたステージの両端部に、該ステージを支持する摺動部材を有することを特徴とする。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、光源とポリゴンミラーと折り返しミラーとを有し像面上を走査する走査光学系を含む光学ユニットの、前記走査光学系の走査位置および光強度パターンを測定する光学特性測定装置であって、光学ユニットから出射される光束を受光する受光部と、走査光学系の主走査方向とポリゴンミラーの回転軸とに直交する方向を副走査方向とし、光学ユニットから射出される光束のうち前記副走査方向において最も離れた光束間の距離を走査光学系の副走査幅、走査光学系の主走査方向の走査幅を主走査幅としたとき、受光部を副走査幅以上かつ主走査幅以上の平面内において少なくとも副走査方向に移動可能な移動手段とを有し、移動手段は、ステージを備え、受光部を保持し、かつ、該保持部を走査光学系の副走査方向に移動可能とした前記ステージの両端部に、該ステージを支持する摺動部材を有し、受光部は該ステージの主走査方向に複数設けられたことを特徴とする。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置において、受光部は、移動手段による移動平面に対して垂直方向に配置されたことを特徴とする。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置において、受光部が、走査光学系の幅方向に移動する移動量と、任意の主走査方向の位置において、移動前での光学ユニットから出射される光束の副走査方向における位置と移動後での光学ユニットから出射される光束の副走査方向における位置とによって、光学ユニットから出射される光束の位置間隔を算出することを特徴とする。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置において、受光部の任意の位置において、走査光学系の像面位置を繋いだ理想的な移動平面上における受光部の位置と、実際の移動平面上における受光部の位置との差を、予め測定する第一の測定手段を有し、第一の測定手段の測定結果に基づいて、差を補正することを特徴とする。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置において、受光部の任意の位置において、走査光学系の像面位置を繋いだ理想的な移動平面上における受光部の位置と、実際の移動平面上における受光部の位置との差を、光学特性を測定しながら行う第二の測定手段を有し、第二の測定手段の測定結果に基づいて、差を補正することを特徴とする。
【００１７】
請求項７に記載の発明は、請求項１又は２に記載の走査光学系の光学特性測定装置において、ステージと前記摺動部材とは、熱膨張係数の差が２．２×１０-6以下の材質で構成されることを特徴とする。
【００１８】
請求項８に記載の発明は、請求項１または２に記載の走査光学系の光学特性測定装置において、受光部の電源及び信号ラインは、前記受光部に対向する面以外の箇所に接続されることを特徴とする。
【００１９】
請求項９に記載の発明は、画像形成装置から着脱可能であり、かつ、請求項１から８のいずれか１項に記載の走査光学系の光学特性測定装置に対して測定可能な状態な走査光学系ユニットであることを特徴とする。
【００２０】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の走査光学系ユニットを有する画像形成装置であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
このように、本発明の走査光学系の光学特性測定装置、走査光学系ユニット及び画像形成装置によれば、複数のステーションを有するステーション間のビーム位置間隔を正確に測定することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に、本実施形態の走査光学系の光学特性測定装置、走査光学系ユニット及び画像形成装置を、図面を用いて説明する。なお、本実施形態は以下に述べるものに限定されず、その趣旨を逸脱しない範囲において種々変更が可能である。
図１は、本実施形態の光学特性測定装置の構成を示すブロック図である。
【００２４】
図１に示すように、本実施形態の光学特性測定装置は、走査光学系ユニット１と、受光部２と、Ｘステージ３ａと、Ｙステージ３ｂとを備えている。書き込みあるいは読み取りを行う走査光学系ユニット１内には、光源となる半導体レーザ（Laser Diode：ＬＤ）が設置されている。この半導体レーザから放出されたレーザビームは、コリメータレンズ及びシリンドリカルレンズによって、ポリゴンミラーの鏡面に集光される。ポリゴンミラーに集光されたレーザビームは、鏡面で反射されてｆθレンズを通過し、被走査面（像面）上に光スポットとして結像され、主走査方向へと走査される。
【００２５】
カラー用の走査光学系ユニットでは、図７及び図１１に示すように、シアン（Ｃ），Ｍ（マゼンタ），イエロー（Ｙ），ブラック（Ｋ）の各色に対応する４つのステーションを有しており、それぞれのステーションからレーザビームが照射される。このように走査したレーザビームは、被走査面上で光スポットの軌道上に配置された、光学特定測定装置の受光部２に照射されることになる。
【００２６】
受光部２は、例えば、ラインＣＣＤやエリアＣＣＤのように、照射された光スポットの位置が特定できるものを用いている。そして、Ｘステージ３ａとＹステージ３ｂとを備えることにより、受光部２が主走査幅及びステーション間隔よりも大きい範囲の平面内のうち、任意の位置に移動できるようにしている。受光部２は、光スポットが照射可能なように、移動方向の平面に対してほぼ垂直の方向に設置されている。
【００２７】
図９は、本実施形態のラインＣＣＤにレーザビームを照射したときの出力強度を示す図である。この図９に示すように、出力強度の重心位置を求めることで、光スポットの副走査方向における位置を割り出すことができる。
【００２８】
また、図１０は、本実施形態のエリアＣＣＤにレーザビームを照射したときの出力強度を示す図である。この図１０において、出力強度の重心位置を求めることで、光スポットの主走査方向及び副走査方向における位置を割り出すことができる。なお、この場合には、任意の位置にてパルス点灯させる制御が必要となる。
【００２９】
このように、本実施形態の光学特性測定装置によれば、受光部が、主走査幅以上で且つステーション間隔以上の平面内を、自在に移動することが可能となる。したがって、光走査光学系の主走査方向全領域に亘る各ステーション間のビーム位置間隔を測定することができる。
【００３０】
次に、本実施形態の光学特性測定装置における、他の構成例を示す。
図２は、固定部材を用いて複数の受光部を主走査方向全域に亘るように設置した場合を示す図である。
【００３１】
図２に示すように、複数の受光部２が、主走査方向の全域に設けられた固定部材４によって保持されている。それぞれの受光部としては、前述したラインＣＣＤやエリアＣＣＤのように、照射された光スポットの位置が特定できるものを用いている。そして、Ｘステージ３ａを備えることにより、受光部２がステーション間隔よりも大きい範囲の平面内のうち、任意の位置に移動できるようにしている。
【００３２】
なお、このタイプの光学特性測定装置では、受光部２を主走査方向に移動させる必要は当然ない。したがって、測定にかかる時間を飛躍的に短縮することができる。さらに、同じ一走査の中で複数の主走査位置における光スポットの位置を割り出すことができるので、高精度の測定をも可能としている。
【００３３】
なお、ここでは図示しないが、例えば図２で説明したような、固定部材４を用いて複数の受光部を設けた光学特性測定装置であっても、受光部２が主走査方向全域まで及ばない場合には、図１に示したように、Ｘステージ３ａとＹステージ３ｂとを用いることにより受光部２を主走査幅以上に移動させる構成としてもよい。
【００３４】
このように、本実施形態の光学特性測定装置によれば、主走査方向全域に亘って複数の受光部が設けられた固定部材が、ステーション間隔以上の平面内を移動することができる。したがって、走査光学系の主走査全領域におけるステーション間のビーム位置間隔の測定が可能となる。
【００３５】
次に、図３は、各ステーション間におけるレーザビームの位置間隔を算出する原理を示す図である。
【００３６】
まず、ある主走査位置にて、第ｍステーションの光スポットにおける副走査方向の位置を測定する。本実施形態では、移動前の受光部２ａの位置で測定を行っている。次に、Ｘステージ３ａをある一定の距離分、正確に距離移動させる。そして、この移動後の受光部２ｂの位置、すなわち、第ｎステーションの光スポットにおける副走査方向の位置を測定する。
【００３７】
なお、この際、Ｘステージ３ａの移動量について、ステッピングモータ駆動により正確な距離を移動させるか、あるいは、Ｘステージ３ａの移動量をリニアスケールにて正確に求める等の方式を用いて、その移動量を正確に求めることが望ましい。
【００３８】
このようにして得られたＸステージ３ａの移動量に、第ｍステーションでの位置及び第ｎステーションでの位置における各光スポットの副走査方向位置の差を加える。これによって、各ステーション間におけるレーザビームの位置間隔を正確に算出することができる。
【００３９】
次に、本実施形態の光学特性測定装置における、ステージの撓みに対する補正について説明する。
図４は、Ｘステージ３ａが撓んだ状態の一例を模式的に示す図である。
【００４０】
この図４に示すように、Ｘステージ３ａとＹステージ３ｂとを組み合わせたステージ構成とする場合、重力方向の上側になる長尺ステージ（本図では、Ｘステージ３ａ）は、中央部のみが支持されている。したがって、受光部２の移動に伴って、Ｘステージ３ａに撓みが生じてしまう。
【００４１】
このときの撓み量は、Ｘステージ３ａ本体の剛性や長さ、また、受光部２の重量などにより変化するので一概には規定できない。また、受光部２の停止位置によっても撓み量は異なってくる。Ｘステージ３ａが撓んだ状態で測定を行うと、正確なビーム位置間隔の測定ができないので、撓みに対する何らかの補正が必要となる。
【００４２】
撓み量には再現性があるため、予め受光部２の停止位置にて撓み量を測定しておくことができる。また、撓み量は、ほぼ数十〜数百μｍ程度であるので、変位方向としては図４に示すように、Ｚ方向のみとみなすことができる。
【００４３】
そこで、本実施形態では、長尺ステージ（Ｘステージ３ａ）と受光部２との間に、Ｚステージ３ｃを設置している。そして、受光部２の停止位置において撓んだ撓み量の分だけ、Ｚステージ３ｃを駆動させる。このようにして、受光部２を常に光走査平面に位置させることが可能となり、正確な測定結果を得ることができる。
【００４４】
また、図５は、Ｘステージ３ａの撓みに対する補正について、他の一例を模式的に示す図である。
【００４５】
この図５に示すように、本実施形態の光学特性測定装置全体が、例えば、定盤のような平滑性のよい固定台５に設置されている。したがって、受光部２近傍に設置された変位計６を用いて固定台５との距離を計測することにより、ステージの撓み量を求めることができる。
【００４６】
なお、変位計６は、ダイヤルゲージや差動トランス等のような接触式の変位計の場合、下になるステージ（本図では、Ｙステージ３ｂ）部を通過する際にステージと接触することになるので障害となってしまう。したがって、レーザ式のような非接触式の変位計を用いることが望ましい。
このような変位計６で求めた撓み量を、Ｚステージ３ｃにて補正することになる。
【００４７】
さらに、本実施形態の光学特性測定装置のステージの撓みに対する補正について、撓み自体の発生を防止することも可能である。
図６は、本実施形態の光学特性測定装置において、ステージの撓みを防止する図を示している。
【００４８】
図６では、重ねられたステージのうち上方の（本図において、Ｘステージ３ａ）、長手方向の両端部付近と光学特性測定装置全体の固定台５との間に、倒れ防止摺動部材７を備える。なお本実施形態では、前側の倒れ防止摺動部材７ａと、後側の倒れ防止摺動部材７ｂとを備えている。この倒れ防止摺動部材７を設置することによって、撓み自体の発生を防止している。
【００４９】
倒れ防止摺動部材７は、その高さが、正確にＸステージ３ａの底面と固定台５の上面との間隔と一致するように、固定台５上に設置されている。そして、Ｘステージ３ａとの摺動面においては、ステージ移動の負荷にならないように平滑となっている。また、グリス等の潤滑材を塗布しておき、ステージ移動の負荷をより軽減するようにしてもよい。
【００５０】
また、温度変化があった場合に、ステージ底面から固定台上面までの間隔と摺動部材との高さが、それぞれの材質によって変化してしまう虞がある。そこで、ステージのベース材質と摺動部材の材質には、熱膨張係数がほぼ同じ材質を用いている。例えば、仮に倒れ防止摺動部材７の高さを７５ｍｍとした場合、３０℃の温度変化で５μｍの差の範囲に抑えるためには、熱膨張係数の差が２．２×１０-6となる。
【００５１】
なお、一般的にステージに用いられるベース材質としては、アルミニウムが用いられている。したがって、このようなステージを用いる場合には、倒れ防止摺動部材７もアルミニウム製のものを用いることとすればよい。また、各ステージや倒れ防止摺動部材７に用いる材料としては、アルミニウム以外のものであってもよいことは言うまでもない。
【００５２】
また、図８は、本実施形態の光学特性測定装置において、受光部２からの電源及び信号ラインの配置状態を示す図である。
【００５３】
一般的な光学特性測定装置の受光部に用いられるようなＣＣＤカメラの場合、電源及び信号ラインは、受光部の反対側から出ているものが多い。しかし、本実施形態の光学特性測定装置のような構成の場合、受光部２の反対側に電源及び信号ラインが配置されると、電源・信号ラインの取り付け部とステージとが干渉する虞がある。また、ステージを駆動させた時に、電源及び信号ラインが下側のステージに引っ掛かってしまうなど、様々な不都合が生じることになる。
【００５４】
そこで、本実施形態の光学特性測定装置では、図８に示すように、電源及び信号ラインを受光部２の側面部から出すように配置されている。これにより、前述したような、受光部２とステージとの干渉やラインの引っ掛かりを防止することが可能となる。
【００５５】
次に、図７は、走査光学系ユニット１を、本実施形態の光学特性測定装置に取り付けた場合の側面図である。
【００５６】
図７に示すように、走査光学系ユニット１が、固定台５上に設置された取付台８に位置決めされている。なおここでは、前側の取付台８ａと後側の取付台８ｂとを用いて位置決めを行っている。また、被走査面（像面）の位置と受光部２の位置とが一致するように高さが調整されている。このように配置された状態で光学特性を測定し、その結果を基にして、副走査方向の走査位置やステーション間のレーザビーム位置間隔などの調整を行う。これによって、より書き込み精度の高い走査光学系ユニットを完成させることが可能となる。
【００５７】
また、本実施形態の光学特性測定装置で測定を行った走査光学系ユニット１を、画像形成装置に着脱可能な状態にて取り付けることとしてもよい。画像形成装置に着脱可能とすることで、走査光学系ユニット１を常時、本実施形態の光学特性測定装置にて測定することが可能となる。
図１１は、本実施形態の走査光学系ユニット１を取り付けて、画像形成装置１０とした場合の構成を示す図である。
【００５８】
本実施形態の画像形成装置１０は、前述した走査光学系ユニット１の他に、給紙部１１と、レジストローラ１２と、用紙搬送ベルト１３と、帯電部１４と、剥離部２１と、除電部２２と、ベルトクリーニング部２３と、定着部２４と、排紙ローラ２５とを備えている。
【００５９】
また、画像形成装置１０は、イエロー（Ｙ），マゼンタ（Ｍ），シアン（Ｃ），ブラック（Ｋ）の各色のトナーに対応したドラム状の像担持体１６Ｙ，１６Ｍ，１６Ｃ，１６Ｋを備えている。さらに、この像担持体１６の周囲には、像担持体１６の表面を一様に帯電する帯電ユニット１７Ｙ，１７Ｍ，１７Ｃ，１７Ｋと、像担持体１６上の静電潜像をトナーによって現像する現像ユニット１８と、現像された静電潜像を用紙に転写する転写ユニット１９と、転写後の像担持体１６表面に残存する転写残トナーを払拭するクリーニングユニット２０とを備えている。
【００６０】
また、走査光学系ユニット１は、ポリゴンミラーが上段と下段との２段で構成されており、前述した像担持体１６Ｙ、１６Ｍ、１６Ｃ、１６Ｋに対して、各色のトナーに対応したレーザビーム１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋをそれぞれ照射する。
【００６１】
各色の転写ユニット１９と、剥離部２１とは、用紙搬送ベルト１３が設けられた用紙搬送路中に配列されている。また、用紙搬送方向における用紙搬送ベルト１３の下流側には、定着部２４が配置されている。また一方、用紙搬送ベルト１３の上流側には、レジストローラ１２及び帯電部１４が配置されている。
【００６２】
また、像担持体１６の下方、すなわち、画像形成装置１０の下部には、給紙部１１が配置されており、この給紙部近傍の給紙ローラが、給紙部１１内の用紙を一枚ずつ給紙している。さらに給紙ローラで給紙部からピックアップされた用紙は、給紙部１１とレジストローラ１２との間の、Ｕ字状に湾曲された給紙通路を介して、用紙搬送ベルト１３まで給紙されることになる。
【００６３】
これらの各部・各ユニットは、像担持体１６を中心に、Ｙ（帯電→露光→現像→転写）→Ｍ（帯電→露光→現像→転写）→Ｃ（帯電→露光→現像→転写）→Ｋ（帯電→露光→現像→転写）→定着、という電子写真プロセスを実行することによって、転写用紙に画像を形成している。
【００６４】
具体的には、まず、給紙部１１から給紙ローラによって給紙通路を介してレジストローラ１２まで用紙が搬送される。このレジストローラ１２は、給紙された用紙（転写紙）を、タイミングを計って用紙搬送ベルト１３に送り出す。
【００６５】
このとき、イエロートナーに係る帯電ユニット１７Ｙが像担持体１６Ｙの表面を帯電する。そして、走査光学系ユニット１から、イエロートナーに対応するレーザビーム１５Ｙを像担持体１６Ｙ表面に照射して露光し、さらに、現像ユニット１８にて静電潜像を現像する。
【００６６】
このタイミングに合わせて、用紙は、帯電部１０で帯電された後、用紙搬送ベルト１３によって搬送されてくる。そして、この用紙に、現像された静電潜像を転写ユニット１９Ｙで転写することになる。
【００６７】
用紙に画像を転写した後は、像担持体１６Ｙ上に残留した、用紙に転写しきれなかった転写残トナーを、クリーニングユニット２０にて除去する。そして、次の画像出力に備える。
一方、画像が転写された後の用紙は、用紙搬送ベルト１３１によって次のマゼンタトナー、シアントナー、ブラックトナーに係る一連のユニットにて、同様の画像形成が行われることになる。
【００６８】
このようにして、用紙上に各色のトナーによる全ての画像が転写されると、用紙は、剥離部２１にて用紙搬送ベルト１３から離されて、定着部２４へと送られる。定着部２４に送られた用紙は、用紙上に転写された画像が定着された後に、さらに用紙搬送路を介して排紙ローラ２５にて排紙される。
一方、剥離部２１によって用紙が離された後の用紙搬送ベルト１３は、除電部２２で除電され、さらに、ベルトクリーニング部２３で表面に付着したゴミ等が除去される。
このようにして、画像が形成されることになる。
【００６９】
以上、本実施形態の走査光学系の光学特性測定装置によれば、タンデム方式などの走査光学系の主走査全領域における、ステーション間のビーム位置間隔を正確に測定することが可能となる。
【００７０】
また、受光部が、移動平面に対してほぼ垂直方向を向いた状態で設置されているので、被走査面上における光スポットを直接測定することが可能となる。また、受光部のステーション方向の移動量と、移動前後でのビームの副走査検知位置とから、走査光学系のステーション間のビーム位置間隔を算出することにより、正確なステーション間のビーム位置間隔の測定が可能となる。
【００７１】
また、任意の移動位置において、各ステーションの像面位置を繋いだ理想移動平面からの受光部のずれ量を、予め測定しておくか、または、リアルタイムに測定し、Ｚステージなどにより自動補正することにより、移動ステージのたわみなどがあっても、受光部を常に理想的な走査平面に置くことができ、正確なステーション間のビーム位置間隔の測定が可能となる。
【００７２】
また、受光部の移動手段を、組み合わせた直動ステージとして、重ねられたステージの長手方向両端部付近と光学特性測定装置全体の固定台との間に、ステージの倒れ防止摺動部材を設置したことにより、移動ステージのたわみの発生を防止し、受光部を常に理想的な走査平面に置くことができ、正確なステーション間のビーム位置間隔の測定が可能となる。さらに、この倒れ防止摺動部材と直動ステージのベース材質との、熱膨張係数の差を２．２×１０-6以下としたことにより、例えば３０℃の温度変化があっても、ステージのたわみの影響を５μｍ以下に抑えることが可能となる。
【００７３】
また受光部の電源・信号ラインを底面以外の側面部に接続したことによって、受光部の設置や移動の際に、ラインが障害になることがない。
【００７４】
また、本実施形態の走査光学系ユニットによれば、走査光学系の光学特性測定装置に測定可能な状態にて取り付けることができるので、正確なステーション間のビーム位置間隔の測定が可能となる。
【００７５】
さらに、本実施形態の画像形成装置によれば、前述した本実施形態の走査光学系の光学特性測定装置にて測定された走査光学系ユニットを使用することができるので、色ずれを低減した画像出力が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本実施形態の光学特性測定装置の構成例を示すブロック図である。
【図２】本実施形態の光学特性測定装置の他の構成例を示すブロック図である。
【図３】本実施形態の各ステーション間におけるレーザビームの位置間隔を算出する原理を示す図である。
【図４】本実施形態のＸステージ３ａが撓んだ状態の一例を模式的に示す図である
【図５】本実施形態のＸステージ３ａの撓みに対する補正についての一例を模式的に示す図である。
【図６】本実施形態の光学特性測定装置のステージの撓みを、倒れ防止部材を用いて防止する場合を示す図である。
【図７】走査光学系ユニット１を、本実施形態の光学特性測定装置に取り付けた場合の側面図である。
【図８】本実施形態の光学特性測定装置において、受光部２からの電源及び信号ラインの配置状態を示す図である。
【図９】本実施形態のラインＣＣＤにレーザビームを照射したときの出力強度を示す図である。
【図１０】本実施形態のエリアＣＣＤにレーザビームを照射したときの出力強度を示す図である。
【図１１】本実施形態の画像形成装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００７７】
１    走査光学系ユニット
２    受光部
３ａ    Ｘステージ
３ｂ    Ｙステージ
３ｃ    Ｚステージ
４    固定部材
５    固定台
６    変位計
７    倒れ防止摺動部材
８    取付台
【図１】
0004796383.tif 000002
【図２】
0004796383.tif 000003
【図３】
0004796383.tif 000004
【図４】
0004796383.tif 000005
【図５】
0004796383.tif 000006
【図６】
0004796383.tif 000007
【図７】
0004796383.tif 000008
【図８】
0004796383.tif 000009
【図９】
0004796383.tif 000010
【図１０】
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【図１１】
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