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【手続補正書】
【提出日】平成15年11月4日(2003.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを露光光で照明し前記マスクに形成されたパターンをステージ上の感光基板に転写する露光装置のために、前記感光基板を光学的に位置決めするための光学式プリアライメント装置において、
前記ステージに載置された前記感光基板の複数のエッジ部をそれぞれ照明するための複数の照明手段と、
前記感光基板の複数のエッジ部を介した検出光に基づいて前記複数のエッジ部を検出するための検出手段とを備え、
前記検出手段で検出した前記複数のエッジ部の位置情報に基づいて前記感光基板を位置決めすることを特徴とする光学式プリアライメント装置。
【請求項２】
前記複数のエッジ部のうち所望のエッジ部だけを選択的に検出することを特徴とする請求項１に記載の光学式プリアライメント装置。
【請求項３】
前記感光基板の複数のエッジ部のうち前記感光基板の特性に応じた所望の複数のエッジ部を介した検出光だけを選択的に前記検出手段へ導くための光選択手段をさらに備えていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学式プリアライメント装置。
【請求項４】
前記光選択手段は、前記感光基板の複数のエッジ部のうち前記感光基板の特性に応じた所望の複数のエッジ部だけを選択的に照明するために前記複数の照明手段を切り換えるための照明光切換え手段であることを特徴とする請求項３に記載の光学式プリアライメント装置。
【請求項５】
前記感光基板の複数のエッジ部は、第１の組の複数のエッジ部と第２の組の複数のエッジ部とからなり、
前記検出手段は、前記第１の組の複数のエッジ部の各々を介した検出光と、前記第２の組の複数のエッジ部のうち対応するエッジ部を介した検出光とをそれぞれ合成するための検出光合成手段を有することを特徴とする請求項４に記載の光学式プリアライメント装置。
【請求項６】
前記感光基板の複数のエッジ部は、第１の組の複数のエッジ部と第２の組の複数のエッジ部とからなり、
前記光選択手段は、前記第１の組の複数のエッジ部を介した検出光と前記第２の組の複数のエッジ部を介した検出光とのうちいずれか一方を選択的に前記検出手段へ導くための検出光選択手段であることを特徴とする請求項３に記載の光学式プリアライメント装置。
【請求項７】
前記複数の照明手段は、前記ステージにそれぞれ取り付けられ、前記露光光とは異なる所定波長の照明光で前記感光基板の複数のエッジ部を透過照明し、
各照明手段と前記感光基板との間の光路中には、前記露光光を反射し前記照明光を透過させる特性を有する露光光遮光手段が設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学式プリアライメント装置。
【請求項８】
所定のパターンが形成されたマスクを露光光で照明するための照明光学系と、前記マスクを介した露光光に基づいて感光基板上に前記マスクのパターン像を形成するための投影光学系と、前記感光基板を支持し前記投影光学系に対して移動可能なステージと、前記感光基板を光学的に位置決めするための光学式プリアライメント装置とを備えた露光装置において、
前記光学式プリアライメント装置は、
前記ステージに載置された前記感光基板の複数のエッジ部をそれぞれ照明するための複数の照明手段と、
前記感光基板の複数のエッジ部を介した検出光に基づいて前記複数のエッジ部を検出するための検出手段とを有し、
前記検出手段で検出した前記複数のエッジ部の位置情報に基づいて前記感光基板を位置決めすることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
前記光学式プリアライメント装置は、前記複数のエッジ部のうち所望のエッジ部だけを選択的に検出することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記感光基板の複数のエッジ部のうち前記感光基板の特性に応じた所望の複数のエッジ部を介した検出光だけを選択的に前記検出手段へ導くための光選択手段をさらに備えていることを特徴とする請求項８または９に記載の露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月20日(2004.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（Ａ）は、この発明の一方向クラッチと軸受との組立体を構成するステ−タの軸方向断面図であり、図１（Ｂ）は、フランジ部の側面図である。
【図２】この発明の一方向クラッチと軸受との組立体を構成するステ−タのフランジ部の側面図であって、動圧溝と逃げ溝を密に形成した実施の形態である。
【図３】この発明の一方向クラッチと軸受との組立体の第２の実施の形態であって、ステ−タのフランジ部の側面に形成した動圧溝と、この動圧溝の合流位置の周方向にリング状の逃げ溝を形成した例を示す図である。
【図４】この発明の一方向クラッチと軸受との組立体の第３の実施の形態であって、ステ−タのフランジ部の側面に形成した動圧溝と、該動圧溝を中断させる溝であって、逃げ溝として所定角度間隔に放射状に動圧溝のない溝を形成した例を示す図である。
【図５】図５（Ａ）は、この発明の一方向クラッチと軸受との組立体を構成するベアリングサポ−トの断面図であり、図５（Ｂ）は、その側面図である。
【図６】従来の一方向クラッチと軸受との組立体の軸方向断面図であって、スラストベアリングやスラストワッシャを廃止した一方向クラッチと軸受との組立体の軸方向断面図を示す図である。
【図７】図７（Ａ）は、従来の一方向クラッチと軸受との組立体を構成するステ−タの軸方向のの一部断面図であり、図７（Ｂ）は、その側面図である。
【図８】図８（Ａ）は、従来の一方向クラッチと軸受との組立体を構成するステ−タに配置するベアリングサポ−トの軸方向の一部断面図であり、図８（Ｂ）は、その側面図である。
【図９】一方向クラッチを設けたステ−タの両側にスラストベアリングやスラストワッシャを配置した従来の一方向クラッチと軸受との組立体の軸方向断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月24日(2003.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面指数（１００）を有する半導体基板上に共振器が形成され、該共振器から前記半導体基板と垂直方向へレーザ光を出射する面発光型半導体レーザであって、
前記共振器は、少なくとも一部に柱状の半導体堆積体を含み、
前記柱状の半導体堆積体は電流狭窄層を含み、
前記電流狭窄層を含む面において、前記柱状の半導体堆積体の周縁の形状が前記電流狭窄層の内周縁の形状の一部と近似する弧状の形状部を含み、
前記弧状の形状部は、前記電流狭窄層の内周縁の中心から＜０１０＞方向、＜００１＞方向、＜０−１０＞方向、および＜００−１＞方向にそれぞれ形成されている、面発光型半導体レーザ。
【請求項２】
請求項１において、
前記電流狭窄層の内周縁の形状の一部と前記弧状の形状部とがほぼ同心円状に形成されている、面発光型半導体レーザ。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記弧状の形状部は、前記電流狭窄層の内周縁を、前記電流狭窄層の内周縁の中心から＜０１−１＞方向、＜０１１＞方向、＜０−１１＞方向、および＜０−１−１＞方向にそれぞれ分割して得られる形状を、それぞれ＜０１０＞方向、＜００１＞方向、＜０−１０＞方向、および＜００−１＞方向へと投射させた状態である、面発光型半導体レーザ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかにおいて、
前記電流狭窄層の内周縁の中心から前記弧状の形状部までの距離がそれぞれほぼ等しい、面発光型半導体レーザ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかにおいて、
前記弧状の形状部は、前記電流狭窄層の内周縁を１／４に分割した形状を有する、面発光型半導体レーザ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかにおいて、
前記電流狭窄層を含む面において、前記弧状の形状部を除く前記柱状の半導体堆積体の周縁が、隣接する前記弧状の形状部同士を結ぶ線分から外側に形成されている、面発光型半導体レーザ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかにおいて、
前記電流狭窄層を含む面において、前記弧状の形状部を除く前記柱状の半導体堆積体の周縁が曲線状である、面発光型半導体レーザ。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかにおいて、
前記電流狭窄層を含む面において、前記弧状の形状部を除く前記柱状の半導体堆積体の周縁が直線状である、面発光型半導体レーザ。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかにおいて、
前記活性層に歪みを発生させるための歪み付加部が、前記柱状の半導体堆積体に形成され、
前記電流狭窄層を含む面において、前記歪み付加部は、前記弧状の形状部を除く前記柱状の半導体堆積体の周縁に形成されている、面発光型半導体レーザ。
【請求項１０】
請求項１〜９において、
前記電流狭窄層の内周縁が真円形である、面発光型半導体レーザ。
【請求項１１】
以下の工程（ａ）〜（ｃ）を含む面発光型半導体レーザの製造方法。
（ａ）面指数（１００）を有する半導体基板の表面に、電流狭窄層を形成するための層を含む半導体堆積層を積層する工程、
（ｂ）前記半導体堆積層をエッチングして柱状の半導体堆積体を形成する工程であって、
前記電流狭窄層を形成するための層を含む面において、電流狭窄層の内周縁の形状を所定の形状に設計しておき、設計された前記電流狭窄層の内周縁の中心からそれぞれ＜０１０＞方向、＜００１＞方向、＜０−１０＞方向、および＜００−１＞方向に、設計された前記電流狭窄層の内周縁の形状の一部と近似する弧状の形状部をその周縁に含む前記柱状の半導体堆積体を形成する工程、および
（ｃ）前記電流狭窄層を形成するための層を側面から酸化することにより、該電流狭窄層を形成するための層から、設計された所定の形状とほぼ同様の形状を有する電流狭窄層を形成する工程。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記工程（ｂ）において、
設計された前記電流狭窄層の内周縁の形状の一部とほぼ同心円状に、前記弧状の形状部を形成する、面発光型半導体レーザの製造方法。
【請求項１３】
請求項１１または１２において、
前記工程（ｂ）において、
設計された前記電流狭窄層の内周縁の中心から＜０１−１＞方向、＜０１１＞方向、＜０−１１＞方向、および＜０−１−１＞方向に前記電流狭窄層の内周縁を分割して得られる形状を、それぞれ＜０１０＞方向、＜００１＞方向、＜０−１０＞方向、および＜００−１＞方向へと投射させて、前記弧状の形状部を形成する、面発光型半導体レーザの製造方法。
【請求項１４】
請求項１１〜１３のいずれかにおいて、
前記工程（ｂ）において、
設計された前記電流狭窄層の内周縁の中心から前記弧状の形状部までの距離がほぼ等しくなるように形成する、面発光型半導体レーザの製造方法。
【請求項１５】
請求項１１〜１４のいずれかにおいて、
前記工程（ｂ）において、
前記弧状の形状部を、設計された前記電流狭窄層の内周縁の形状の１／４に形成する、面発光型半導体レーザの製造方法。
【請求項１６】
請求項１１〜１５のいずれかにおいて、
前記工程（ｂ）において、
設計された前記電流狭窄層を含む面において、前記弧状の形状部を除く前記柱状の半導体堆積体の周縁を、隣接する前記弧状の形状部同士を結ぶ線分から外側に形成する、面発光型半導体レーザの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月21日(2003.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の能動面上に、バンプ形成用電極と、前記バンプ形成用電極と対をなし、かつ前記バンプ形成用電極と電気的に導通する検査用電極とで構成される電極ペアが形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記バンプ形成用電極に形成されるバンプはボールボンディング法で形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記バンプ形成用電極に形成されるバンプは転写バンプ法で形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記電極ペアは複数個形成され、前記能動面上に同一方向を向いて形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記電極ペアは複数個形成され、前記能動面上に隣合う前記電極ペアと逆方向に向いたちどり状に形成されていることを特徴とする半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
図４（ｃ）は電極上にボールバンプが形成された状態の断面図を示す。３５はＩＣチップであり、能動面は保護膜１８によりキズ等より保護されている。ボールバンプ１６は超音波圧着法、超音波併用熱圧着法、熱圧着法などにより形成される。ボールバンプ１６は圧痕１５上に形成されているため、圧痕が大きくなればなるほど電極１３と接触部１７の面積は減少し、ボールバンプ１６と電極１３の電気的、機械的接続品質は低下し界面剥離し易い状態となる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
電子機器の小型化、携帯化に伴い、搭載されるＩＣパッケージも小型化が進んでいる。さらに高密度実装の為、また信号の高速化に対応すべくフリップチップ実装技術も盛んに開発されている。そして、ＩＣチップそのものの小型化が進められ、それに伴い電極も狭ピッチ化、小型化してきている。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
以上のような問題を解決する為に、本発明の半導体装置では、半導体装置の能動面上に、バンプ形成用電極と、前記バンプ形成用電極と対をなし、かつ前記バンプ形成用電極と電気的に導通する検査用電極とで構成される電極ペアが形成されていることを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の半導体装置は、前記バンプ形成用電極に形成されるバンプはボールボンディング法で形成されていることを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の半導体装置は、前記バンプ形成用電極に形成されるバンプは転写バンプ法で形成されていることを特徴とする。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明の半導体装置は、前記電極ペアは複数個形成され、前記能動面上に同一方向を向いて形成されていることを特徴とする。
更に、本発明の半導体装置は、前記電極ペアは複数個形成され、前記能動面上に隣合う前記電極ペアと逆方向に向いたちどり状に形成されていることを特徴とする。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図１（ａ）は、本発明のＩＣチップの平面図を示す。２０は、検査専用電極を示す。２１は、検査専用電極２０と電気的に導通しているバンプ形成用電極を示す。つまり、ウエハ状態で行う検査では、検査専用電極２０を用いることにより検査プローブによる圧痕が残ってしまうが、バンプ形成するのはバンプ形成専用の電極２１である為、安定したバンプ形成、機械的、電気的接続品質を確保できる。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図２（a）において、ＩＴＯ膜３２が形成された石英ガラス３１にメッキレジスト３３を設けている。石英ガラス３１は熱膨張係数が低く、微小バンプ形成に適している。メッキレジスト３３は、バンプ形成したい場所を露光し、レジストを除去してある。図２（ｂ）は電解メッキにより、バンプ３６が形成された状態を示す。バンプの材質は、Ａｕ、Ｉｎなどが代表的なものである。その後、洗浄によりメッキレジスト３３が除去され、石英ガラス３１上はバンプ３６のみとなる。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2001284383.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月28日(2003.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ルテニウム、酸化ルテニウム、あるいはオスミウム、酸化オスミウムの群から選ばれる少なくとも一種類を含む固体表面に、酸素原子供与性ガスを含むガスを供給することによって、該酸素原子供与性ガスを含むガスと前記固体との非プラズマ反応を用いて該固体表面をエッチング処理してなることを特徴とする固体表面の処理方法。
【請求項２】
前記酸素原子供与性ガスが、オゾン、ハロゲン化酸素、酸化窒素、酸素原子の群から選ばれる少なくとも一種類のガスを含んでなることを特徴とする請求項１記載の固体表面の処理方法。
【請求項３】
前記酸素原子供与性ガスに、ハロゲンガス、ハロゲン化水素ガス、または還元性ガスの何れかを添加して、前記固体表面をエッチング処理してなることを特徴とする請求項１記載の固体表面の処理方法。
【請求項４】
前記固体が、基板上に形成されたルテニウム、酸化ルテニウム、あるいはオスミウム、酸化オスミウムの群から選ばれる少なくとも一種類を含む膜、または該膜を成膜もしくはエッチング処理するための処理室の部材であることを特徴とする請求項１に記載の固体表面の処理方法。
【請求項５】
前記部材が、前記基板を載置させるためのサセプタ、ガス供給口、ガス排気口、処理室の内壁、配管の内壁の少なくとも何れかであることを特徴とする請求項４に記載の固体表面の処理方法。
【請求項６】
前記エッチングが２０℃以上３５０℃以下なる処理温度で行われることを特徴とする請求項１に記載の固体表面の処理方法。
【請求項７】
前記エッチングが４０℃以上１８０℃以下なる処理温度で行われることを特徴とする請求項１に記載の固体表面の処理方法。
【請求項８】
基板の上方にルテニウム、酸化ルテニウム、オスミウム、または酸化オスミウムの群から選ばれる少なくとも一種類を含む膜を形成する工程と、レジストを用いて前記膜の上にマスクパターンを形成する工程と、該マスクパターンを介して前記膜を酸素原子供与性ガスを含むガスを用いてエッチング加工する工程とを備えてなり、前記エッチングが酸素原子供与性ガスを含むガスと前記膜との非プラズマ反応を用いて行われることを特徴とする半導体素子の製造方法。
【請求項９】
前記酸素原子供与性ガスが、オゾン、ハロゲン化酸素、酸化窒素、酸素原子の群から選ばれる少なくとも一種類のガスを含んでなることを特徴とする請求項８に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項１０】
前記エッチングが少なくともハロゲンガスまたはハロゲン化水素ガスを添加した酸素原子供与性ガスを含むガスを用いて行うことを特徴とする請求項８に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項１１】
前記エッチングが４０℃以上１８０℃以下の処理温度で行うことを特徴とする請求項８に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項１２】
基板の上方にルテニウム、酸化ルテニウム、オスミウム、または酸化オスミウムの群から選ばれる少なくとも一種類を含む膜を形成する工程と、レジストを用いて前記膜の上にマスクパターンを形成する工程と、該マスクパターンを介して前記膜を酸素原子供与性ガスを含むガスを用いてエッチング加工する工程とを備えてなり、前記膜のエッチングが酸素原子供与性ガスを含むガスと前記膜との非プラズマ反応を用いて第１の処理温度で行われ、前記レジストの除去が前記酸素原子供与性ガスを含むガスを用いて前記第１の処理温度よりも高い処理温度で行われることを特徴とする半導体素子の製造方法。
【請求項１３】
前記第１の処理温度が４０℃以上１８０℃以下の温度範囲であることを特徴とする請求項１２に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項１４】
成膜処理室に搬入した基板の上方にルテニウム、酸化ルテニウム、あるいはオスミウム、酸化オスミウムの群から選ばれる少なくとも一種類を含む膜を形成する工程と、エッチング処理室に搬入した前記膜をエッチングする工程と、前記成膜処理室またはエッチング処理室の少なくとも内壁を含む領域に堆積または付着したルテニウムまたはオスミウムを含む反応生成物を除去する工程を備え、少なくとも前記膜のエッチングまたは前記反応性生物の除去が非プラズマ反応であって、酸素原子供与性ガスを含むガスを用いて行われることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月9日(2003.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織を通って目標位置に進行するための装置において、該装置が、複数の巻回部を有するコイルを含み、該巻回部の少なくとも或るものが、隣接する巻回部の相対的回転運動を阻止するように構成された組み合せ形状部を含む、組織を通って目標位置に進行するための装置。
【請求項２】
前記コイルの中心を通って挿入されたワイヤを更に含む請求項１に記載された組織を通って目標位置に進行するための装置。
【請求項３】
前記組み合せ形状部の長手方向への分離を防ぐために、前記巻回部の少なくとも或るものに前記ワイヤが接合されている請求項２に記載された組織を通って目標位置に進行するための装置。
【請求項４】
前記コイルが前記ワイヤを含み、前記組み合せ形状部が前記ワイヤの屈曲部を含む請求項１に記載された組織を通って目標位置に進行するための装置。
【請求項５】
前記組み合せ形状部が、前記コイルの表面に形成された歯を含む請求項１に記載された組織を通って目標位置に進行するための装置。
【請求項６】
前記巻回部の少なくとも或るものが、隣接する巻回部の半径方向の相対的運動を制限し、前記組み合せ形状の半径方向への分離を阻止するように構成された形状部を更に含む請求項１に記載された組織を通って目標位置に進行するための装置。
【請求項７】
脈管通路に挿入するためのカテーテル案内器具であって、カテーテルが前記通路を通って案内されるためにねじ込まれる前記カテーテル案内器具において、前記器具が、第１の方向および第２の方向にトルクを与えられることができ、少なくとも一つの細長材料部片と組合手段とを含み、
前記少なくとも一つの細長材料部片が、概ね円形の断面を有し、複数の巻回部および中央中空部を有する長いコイルに形成され、隣接する巻回部が全体的に接触するようにコイル巻きされ、
前記組合手段が、多数の隣接する巻回部に形成された嵌合凹凸部を含み、該嵌合凹凸部が、細長いコイルを巻き戻す方向への隣接する巻回部の相対的回転を阻止して、それにより両回転方向へのコイルに沿うトルクの伝達を許すとともに曲げを許すカテーテル案内器具。
【請求項８】
前記巻回部の長手方向の分離を阻止する阻止手段をさらに含む請求項７に記載されたカテーテル案内器具。
【請求項９】
前記阻止手段がコアワイヤを含み、該コアワイヤが、コイルの中空部に配置され、かつ少なくとも選択された巻回部に接合される請求項８に記載されたカテーテル案内器具。
【請求項１０】
前記組合手段が、少なくともコイルに沿って選択された区域において前記細長材料部片の隣接する端部に形成された相互に組み合う歯を含む請求項７に記載されたカテーテル案内器具。
【請求項１１】
歯が形成された前記隣接する端部が、一端に形成されたリップと、該リップを受け入れて端部の整合を維持するために隣接する端部に形成された溝とをさらに含む請求項１０に記載されたカテーテル案内器具。
【請求項１２】
前記嵌合凹凸部が、コイルの少なくとも選択された隣接する巻回部に形成され、巻回部の相対的回転を阻止する嵌合屈曲部を含む請求項７に記載されたカテーテル案内器具。
【請求項１３】
コイルの中空部に配置されたコアワイヤをさらに含む請求項７に記載されたカテーテル案内器具。
【請求項１４】
組織を通って目標位置に進行するための装置において、該装置が複数の巻回部を有するコイルを含み、該コイルが、該コイルに沿って選択された位置に複数の溶接部を更に含み、該溶接部が、該溶接部の両側の隣接する巻回部を接合させる、組織を通って目標位置に進行するための装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月24日(2003.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体にＸ線を照射するＸ線管と、このＸ線管から照射され上記被検体を透過したＸ線像を光学像に変換するＸ線イメージインテンシファイアと、このＸ線イメージインテンシファイアからの出力光学像を複数の光路に分配する光分配手段と、この光分配手段で分配された各光学像を電気信号に変換する複数個の撮像素子と、これら複数個の撮像素子によって得られたそれぞれの電気信号を取り込み表示のために画像処理する画像処理装置と、この画像処理装置からの画像信号を入力して画像として表示する表示装置とを有して成るＸ線撮影装置において、
上記複数個の撮像素子は、被検体を低線量で透視する透視用撮像素子と、被検体を高線量で撮影する撮影用撮像素子とを備えたことを特徴とするＸ線撮影装置。
【請求項２】
上記Ｘ線イメージインテンシファイアからの出力光学像を複数の光路に分配する光分配手段は、同一の出力光学像を同時に複数の光路に分配するように構成したことを特徴とする請求項１記載のＸ線撮影装置。
【請求項３】
上記Ｘ線イメージインテンシファイアからの出力光学像を複数の光路に分配する光分配手段は、同一の出力光学像を同時に複数の光路に分配すると共にその分配後の各光学像を被検体を寝載するベッドの幅内にてその長手方向と略平行に出力するように構成したことを特徴とする請求項１記載のＸ線撮影装置。
【請求項４】
上記撮影用撮像素子の前面には、該撮影用撮像素子に対する露光終了後直ちに閉となるシャッターを設けたことを特徴とする請求項１，２又は３記載のＸ線撮影装置。
【請求項５】
上記透視用撮像素子の前面には、該透視用撮像素子に入射する光量を調節する光学絞り手段を設け、撮影用撮像素子による撮影が行われる際に上記光学絞り手段で透視用撮像素子の受光量を減少させるようにしたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のＸ線撮影装置。
【請求項６】
上記画像処理装置は、透視用撮像素子で透視した画像信号と撮影用撮像素子で撮影した画像信号とを合成表示するために合成処理を行うものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のＸ線撮影装置。
【請求項７】
上記画像処理装置は、撮影用撮像素子の欠陥画素に隣接する画素の画像信号と、該欠陥画素に対応する透視用撮像素子の画素の画像信号とを合成して、上記欠陥画素の画像信号を補正するものであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のＸ線撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明によるＸ線撮影装置は、被検体にＸ線を照射するＸ線管と、このＸ線管から照射され上記被検体を透過したＸ線像を光学像に変換するＸ線イメージインテンシファイアと、このＸ線イメージインテンシファイアからの出力光学像を複数の光路に分配する光分配手段と、この光分配手段で分配された各光学像を電気信号に変換する複数個の撮像素子と、これら複数個の撮像素子によって得られたそれぞれの電気信号を取り込み表示のために画像処理する画像処理装置と、この画像処理装置からの画像信号を入力して画像として表示する表示装置とを有して成るＸ線撮影装置において、上記複数個の撮像素子は、被検体を低線量で透視する透視用撮像素子と、被検体を高線量で撮影する撮影用撮像素子とを備えたものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらにまた、上記画像処理装置は、撮影用撮像素子の欠陥画素に隣接する画素の画像信号と、該欠陥画素に対応する透視用撮像素子の画素の画像信号とを合成して、上記欠陥画素の画像信号を補正するものとしてもよい。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
ここで、本発明においては、上記複数個の撮像素子は、透視用撮像素子４と、撮影用撮像素子５とを備えている。そして、上記撮影用撮像素子５は上記透視用撮像素子４より解像度が高く且つ撮像速度が低速であるものとされている。上記透視用撮像素子４は、被検体１４を低線量で透視するもので、例えば1000×1000の百万画素のＣＣＤ撮像素子から成り、撮像速度が１秒当り画像３０枚程度とされている。また、撮影用撮像素子５は、被検体１４を高線量で撮影するもので、例えば2000×2000の四百万画素のＣＣＤ撮像素子から成り、露光時間の制限が可変であり、その前面に設けられたシャッター１１は該撮影用撮像素子５の露光終了後直ちに閉となるようになっている。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、前記画像処理装置６は、透視用撮像素子４で透視した画像信号と撮影用撮像素子５で撮影した画像信号とを合成表示するために合成処理を行うものとされている。さらに、上記画像処理装置６は、撮影用撮像素子５の欠陥画素に隣接する画素の画像信号と、該欠陥画素に対応する透視用撮像素子４の画素の画像信号とを合成して、上記欠陥画素の画像信号を補正するものとされている。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【発明の効果】
本発明は以上のように構成されたので、光分配手段で分配された各光学像を電気信号に変換する複数個の撮像素子は、被検体を低線量で透視する透視用撮像素子と、被検体を高線量で撮影する撮影用撮像素子とを備えたことにより、撮像素子を利用したＸ線撮影装置において高解像度の静止画像の収集と共に動画像の収集をすることができる。このとき、撮影用撮像素子による高解像度の静止画像の撮影と、透視用撮像素子による動画像の収集とが、素子の位置や方向や利得の調整を高精度で行う必要がなく、かつ画像のつなぎ目等においてアーチファクトが生じることなしに、共に実行できる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
さらに、画像処理装置が、透視用撮像素子で透視した画像信号と撮影用撮像素子で撮影した画像信号とを合成表示するために合成処理を行ったり、撮影用撮像素子の欠陥画素に隣接する画素の画像信号と、該欠陥画素に対応する透視用撮像素子の画素の画像信号とを合成して、上記欠陥画素の画像信号を補正するようにしたものにおいては、合成画像の低空間周波数成分のＳ／Ｎの最適な改善、合成画像のエッジ強調もしくは平滑化を行ったり、撮影用撮像素子における欠陥画素の画素値推定を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月25日(2003.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】環状体のローリング加工装置及びその方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内周面及び外周面の少なくとも一方が軸方向にテーパ状である環状体の外周面に当接する成形ロールと、前記成形ロールを回転自在に支持する第１の支持手段と、軸線が前記成形ロールの軸線を含む平面内にあり、前記成形ロールと協働して前記環状体を挟圧するように前記環状体の内周面に当接するマンドレルと、前記マンドレルを回転自在に支持する第２の支持手段とを備える環状体のローリング加工装置において、前記第１の支持手段及び前記第２の支持手段の一方が、前記成形ロールの軸線と前記マンドレルの軸線との相対角度を変えるように構成されており、前記相対角度を前記環状体の加工段階に応じた所定の角度に変えるように前記第１の支持手段及び前記第２の支持手段の一方を制御する相対角度制御手段を備えることを特徴とする環状体のローリング加工装置。
【請求項２】
前記相対角度制御手段は、前記環状体の外径寸法を測定する測定手段と、前記環状体の加工段階に応じた所定の角度を前記測定された環状体の外径寸法に基づいて算出する算出手段を含むことを特徴とする請求項１記載の環状体のローリング加工装置。
【請求項３】
前記第１の支持手段又は前記第２の支持手段が、前記成形ロールの軸線と前記マンドレルの軸線との間隔を所定間隔だけ変えるように構成されており、前記相対角度制御手段は、前記所定間隔と前記相対角度とが所定の関係となるように前記第１の支持手段又は前記第２の支持手段を制御することを特徴とする請求項１又は２記載の環状体のローリング加工装置。
【請求項４】
内周面及び外周面の少なくとも一方が軸方向にテーパ状である環状体を回転させながら、前記環状体の幅を実質的に一定に保ったままで前記環状体の外周面及び前記環状体の内周面を圧延しつつ前記環状体を拡径する工程を含む環状体のローリング加工方法において、前記圧延が、前記外周面と前記内周面との相対角度を前記環状体の加工段階に応じた所定の角度に変えるように前記環状体の外周面及び前記環状体の内周面を圧延する工程からなることを特徴とする環状体のローリング加工方法。
【請求項５】
前記環状体の外径寸法を測定する工程と、前記環状体の加工段階に応じた所定の角度を前記測定された環状体の外径寸法に基づいて算出する工程とを含むことを特徴とする請求項４記載の環状体のローリング加工方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、環状体のローリング加工装置及びその方法に関し、特にテーパ状の周面を有するリングのローリング加工装置及びその方法に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
特に内周面がテーパ状の形状を有する環状ワーク（例えば円錐ころ軸受の外輪用のブランク）を加工する場合、例えば、図１６に示される従来の環状体のローリング加工装置におけるローリング加工部（例えば特開平５−２２８５７１号公報）では、環状ワーク１００の外周面は成形ロール１０１で押圧され、環状ワーク１００のテーパ状の内周面は外周面がテーパ状のマンドレル１０２で押圧されている。この場合、たとえ環状ワーク１００の内周面がテーパ状であっても成形ロール１０１の軸線とマンドレル１０２の軸線とは互いに平行である。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の目的は、テーパ状の周面を有する環状体のローリング加工を安定した状態で行い得る環状体のローリング加工装置及びその方法を提供することにある。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の請求項１の環状体のローリング加工装置において、前記第１の支持手段又は前記第２の支持手段が、前記成形ロールの軸線と前記マンドレルの軸線との間隔を所定間隔だけ変えるように構成されており、前記相対角度制御手段は、前記所定間隔と前記相対角度とが所定の関係となるように前記第１の支持手段又は前記第２の支持手段を制御するようにしてもよい。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
よって、図１（Ａ）の環状ワーク１の一方の端面４、図１（Ｂ）の環状ワーク１の一方の端面１４、図１（Ｃ）の環状ワーク１の一方の端面２４についての面積は等しく、図１（Ａ）の環状ワーク１の他方の端面５、図１（Ｂ）の環状ワーク１の他方の端面１５、図１（Ｃ）の環状ワーク１の他方の端面２５の面積は等しい。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
支柱３２及びスイベルプレート３６の間においてベッド３１の上にはベッド３１の長手方向に移動自在にサポートブロック３９が設けられている。支柱３２の側においてサポートブロック３９には、カム３３に当接するカムフォロワ４０が水平軸のまわりに回転自在に取り付けられている。これにより、カム３３のカム面のプロフィル及びカム３３の回転角に従ってサポートブロック３９はベッド３１の長手方向に並進移動する。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
【発明の効果】
本発明の請求項１の環状体のローリング加工装置によれば、第１の支持手段及び第２の支持手段の一方が、成形ロールの軸線とマンドレルの軸線との相対角度を変えるように構成されており、相対角度制御手段が前記相対角度を環状体の加工段階に応じた所定の角度に変えるように第１の支持手段及び第２の支持手段の一方を制御するので、テーパ状の周面を有する環状体のローリング加工を安定した状態で行い得る。
本発明の請求項４の環状体のローリング加工装置によれば、外周面と内周面との相対角度を環状体の加工段階に応じた所定の角度に変えるように環状体の外周面及び環状体の内周面を圧延するので、テーパ状の周面を有する環状体のローリング加工を安定した状態で行い得る。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月17日(2003.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
浄水の流路に、下部に浄水導入口を備えた少なくとも一部が透明であるケースを配し、該ケース内上部に空間を設けて粒状物を充填したことを特徴とする浄水器。
【請求項２】
浄水の流路に、炭酸ガス添加機構が配置されたことを特徴とする請求項１記載の浄水器。
【請求項３】
粒状物が、ガラスビーズ及びまたは炭酸カルシウム主成分の天然物の粒状体である請求項１または請求項２記載の浄水器。
【請求項４】
ガラスビーズが、着色されたガラスビーズである請求項３記載の浄水器。
【請求項５】
ガラスビーズが、表面の少なくとも一部に光触媒が担持されたガラスビーズである請求項３記載の浄水器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、浄水の流路に、下部に浄水導入口を備えた少なくとも一部が透明であるケースを配し、該ケース内上部に空間を設けて粒状物を充填したことを特徴とする浄水器、にある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月18日(2003.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示制御手段の制御に基づいて複数種類の識別情報を順次可変表示する画像表示装置を備え、前記識別情報の表示結果が予め定めた特定表示結果になると特定遊技状態を発生し得る弾球遊技機において、
前記表示制御手段は、
前記識別情報の表示位置を保持した状態で現在表示の識別情報の表示割合を徐々に減少していく一方、次位の識別情報の表示割合を徐々に増大していくことで識別情報の順次可変表示を行うことを特徴とする弾球遊技機。
【請求項２】
前記表示制御手段は、
前記現在表示の識別情報の表示割合を順次可変表示する途中で可逆的に増大し得ることを特徴とする請求項１記載の弾球遊技機。
【請求項３】
前記表示制御手段は、
前記現在表示の識別情報の中心部又はほぼ中心部を回転中心とした境界線の回転領域に前記次位の識別情報を表示することで識別情報の順次可変表示を行うことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の弾球遊技機。
【請求項４】
前記表示制御手段は、
前記現在表示の識別情報の所定部分を中心として拡散又は収束する境界線の分割領域に前記次位の識別情報を表示することで識別情報の順次可変表示を行うことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の弾球遊技機。
【請求項５】
前記表示制御手段は、
前記現在表示の識別情報の上を直線的に移動する境界線の移動領域に前記次位の識別情報を表示することで識別情報の順次可変表示を行うことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の弾球遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示制御手段の制御に基づいて複数種類の識別情報を順次可変表示する画像表示装置を備え、前記識別情報の表示結果が予め定めた特定表示結果になると特定遊技状態を発生し得る弾球遊技機に関するものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
表示制御手段は、識別情報の表示位置を保持した状態で現在表示の識別情報の表示割合を徐々に減少していく一方、次位の識別情報の表示割合を徐々に増大していくことで識別情報の順次可変表示を行うので、従来のスクロール表示とは異なる表示態様で図柄（識別情報）の可変表示が行える。これにより、図柄変動を新鮮な態様とすることができ、ひいては図柄変動における視覚的な興趣向上が可能になる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
また、前記表示制御手段は、前記現在表示の識別情報の表示割合を順次可変表示する途中で可逆的に増大し得る構成とした場合には、現在表示の識別情報と次位の識別情報との表示割合の増減を交互に繰り返す表示を可能にすることで、停止表示する識別情報の決定を表示上で焦らして遊技者に緊張感を持たせることができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、前記表示制御手段は、前記現在表示の識別情報の中心部又はほぼ中心部を回転中心とした境界線の回転領域に前記次位の識別情報を表示したり、前記現在表示の識別情報の所定部分を中心として拡散又は収束する境界線の分割領域に前記次位の識別情報を表示したり、前記現在表示の識別情報の上を直線的に移動する境界線の移動領域に前記次位の識別情報を表示することで識別情報の順次可変表示を行う構成とすることができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、図１３（Ｄ）（Ｅ）に示すレーダーリーチの表示態様により、前記識別情報の表示位置を保持した状態で現在表示の識別情報の表示割合を徐々に減少していく一方、次位の識別情報の表示割合を徐々に増大していくことで識別情報の順次可変表示を行う前記表示制御手段の構成を例示している。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、図１３（Ｆ）に示すレーダーリーチの表示態様により、順次可変表示の途中で現在表示の識別情報の表示割合を可逆的に増大し得る前記表示制御手段の構成を例示している。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、図１３（Ｄ）〜（Ｆ）に示すレーダーリーチの表示態様により、前記現在表示の識別情報の中心部又はほぼ中心部を回転中心とした境界線５４の回転領域に前記次位の識別情報を表示することで識別情報の順次可変表示を行う前記表示制御手段の構成を例示している。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、図１９（Ａ）〜（Ｈ）に示す図柄の変動態様により、前記現在表示の識別情報の所定部分を中心として拡散又は収束する境界線６３・６４の分割領域に前記次位の識別情報を表示することで識別情報の順次可変表示を行う前記表示制御手段の構成を例示している。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、図２０（Ａ）〜（Ｄ）に示す図柄の変動態様により、前記現在表示の識別情報の上を直線的に移動する境界線６５の移動領域に前記次位の識別情報を表示することで識別情報の順次可変表示を行う前記表示制御手段の構成を例示している。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
【発明の効果】
以上、説明したところから明らかなように、本発明の構成においては、表示制御手段は、識別情報の表示位置を保持した状態で現在表示の識別情報の表示割合を徐々に減少していく一方、次位の識別情報の表示割合を徐々に増大していくことで識別情報の順次可変表示を行うので、従来のスクロール表示とは異なる表示態様で図柄（識別情報）の可変表示が行える。これにより、図柄変動を新鮮な態様とすることができ、ひいては図柄変動における視覚的な興趣向上が可能になる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月26日(2003.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者の操作により遊技が行なわれて遊技者にとって有利となる特定遊技状態に制御可能な遊技機であって、
遊技制御用のプログラムに従って動作するプロセッサと、
数値情報の更新を繰返し実行することにより所定の範囲内で計数動作を行なう更新手段と、
予め定められた抽出条件の成立により前記更新手段による更新結果の値を抽出し、その抽出値が前記特定遊技状態を発生させ得る特定値であるか否か判定する特定遊技状態判定手段と、
該特定遊技状態判定手段が特定値である旨の判定を行なった場合に遊技状態を前記特定遊技状態に制御可能な遊技制御手段と、
前記更新手段による更新結果の値が前記特定値に該当する特定値該当時期を変更する特定値該当時期変更手段と、
前記プロセッサが前記遊技制御用のプログラムを実行することによって生ずる不特定期間、プログラムの無限ループにより数値情報の更新処理を繰返し実行する更新処理手段とを含み、
前記特定値該当時期変更手段は、前記更新処理手段による更新結果の値に基づいて前記特定値該当時期を変更することにより、その変更内容が外部から判別できない態様で変更処理を行なうことを特徴とする、遊技機。
【請求項２】
前記特定値該当時期変更手段は、前記特定値を変更することにより前記特定値該当時期を変更することを特徴とする、請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
前記特定値該当時期を変更する予め定められた該当時期変更条件が成立したか否かを判定する該当時期変更条件判定手段をさらに含み、
前記特定値該当時期変更手段は、前記該当時期変更条件判定手段が該当時期変更条件の成立を判定した場合に前記特定値該当時期の変更を行なうことを特徴とする、請求項１記載の遊技機。
【請求項４】
前記該当時期変更条件判定手段は、前記特定遊技状態判定手段による判定動作が所定回数行なわれたことを条件として前記該当時期変更条件が成立した旨の判定を行なうことを特徴とする、請求項３記載の遊技機。
【請求項５】
前記特定値該当時期変更手段は、前記更新手段による数値情報の更新の態様を変更することにより前記特定値該当時期を変更することを特徴とする、請求項１または４に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の本発明は、遊技者の操作により遊技が行なわれて遊技者にとって有利となる特定遊技状態に制御可能な遊技機であって、
遊技制御用のプログラムに従って動作するプロセッサと、
数値情報の更新を繰返し実行することにより所定の範囲内で計数動作を行なう更新手段と、
予め定められた抽出条件の成立により前記更新手段による更新結果の値を抽出し、その抽出値が前記特定遊技状態を発生させ得る特定値であるか否か判定する特定遊技状態判定手段と、
該特定遊技状態判定手段が特定値である旨の判定を行なった場合に遊技状態を前記特定遊技状態に制御可能な遊技制御手段と、
前記更新手段による更新結果の値が前記特定値に該当する特定値該当時期を変更する特定値該当時期変更手段と、
前記プロセッサが前記遊技制御用のプログラムを実行することによって生ずる不特定期間、プログラムの無限ループにより数値情報の更新処理を繰返し実行する更新処理手段とを含み、
前記特定値該当時期変更手段は、前記更新処理手段による更新結果の値に基づいて前記特定値該当時期を変更することにより、その変更内容が外部から判別できない態様で変更処理を行なうことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項５に記載の本発明は、請求項１または４に記載の発明の構成に加えて、前記特定値該当時期変更手段は、前記更新手段による数値情報の更新の態様を変更することにより前記特定値該当時期を変更することを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【作用】
請求項１に記載の本発明によれば、更新手段の働きにより、数値情報の更新が繰返し実行されることにより所定の範囲内で計数動作が行なわれる。特定遊技状態判定手段の働きにより、予め定められた抽出条件の成立により前記更新手段による更新結果の値が抽出され、その抽出値が前記特定遊技状態を発生させ得る特定値であるか否かが判定される。遊技制御手段の働きにより、前記特定遊技状態判定手段が特定値である旨の判定を行なった場合に遊技状態を前記特定遊技状態に制御可能となる。特定値該当時期変更手段の働きにより、前記更新手段による更新結果の値が前記特定値に該当する特定値該当時期が変更される。更新処理手段の働きにより、前記プロセッサが前記遊技制御用のプログラムを実行することによって生ずる不特定期間、プログラムの無限ループにより数値情報の更新処理が繰返し実行される。さらに、前記特定値該当時期変更手段の働きにより、前記更新処理手段による更新結果の値に基づいて前記特定値該当時期を変更することにより、その変更内容が外部から判別できない態様で変更処理が行なわれる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項５に記載の本発明によれば、請求項１または４に記載の発明の作用に加えて、前記更新手段による数値情報の更新の態様を変更することにより前記特定値該当時期の変更が行なわれる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
【課題を解決するための手段の具体例の効果】
請求項１に関しては、更新手段による更新結果の値が抽出されてその抽出値が特定値に該当した場合には特定遊技状態に制御可能となるものにおいて、更新手段による更新結果の値が前記特定値に該当する特定値該当時期が所定時間毎に変更され、しかもその変更内容が外部から判別できない態様で行なわれるために、更新手段による更新結果の値が前記特定値に該当するタイミングを外部から判別する不都合を極力防止でき、その該当タイミングを外部において判別して行なわれる不正行為を極力防止できる。しかも、前記数値情報の更新処理が、不特定期間プログラムの無限ループにより繰返し実行されるために、更新処理のための集積回路等を別途特別に設ける必要がなく、手軽で安価に更新処理が可能となる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３８】
請求項５に関しては、請求項１または請求項４に関する効果に加えて、更新手段による数値情報の更新の態様を変更することにより前記特定値該当時期が変更可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月15日(2004.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単数又は複数の歯の代用とするための，又は単数又は複数の歯を補修するための，成形部材を，加工機械に締め込まれた少なくとも１つの工具で材料を除去することによって製作するための素材であって，工具によって加工して成形部材にする歯補修材料から成る素材本体（１）と，加工機械内で素材を保持するための保持付加部（１ａ；２；４）と，寸法決定のために工具を当接させることのできる公差のわずかな基準面とを有しており、この場合、公差のわずかな基準面が，素材本体（１）の，保持付加部（１ａ；２；４）とは逆の側の端部に配置されていて，公差のわずかな規定相互間隔の，少なくとも２つの面要素を有している形式のものにおいて，保持付加部（１ａ；２；４）の直径と，素材本体（１）の同心性と，保持付加部（１ａ；２；４）に関連した基準面の同心性とが，公差のわずかな基準面に対して比較的大きい公差範囲内にあり，この場合，面要素の相互間隔が既知であり，面要素を有する別体の精密寸法部分（３）が素材本体（１）上に取り付けられていることを特徴とする，歯科技工成形部材を製作するための素材。
【請求項２】
精密寸法部分(３)が円形横断面を有していることを特徴とする，請求項１記載の素材。
【請求項３】
精密寸法部分（３）が，切断された棒材料によって構成されていることを特徴とする，請求項２記載の素材。
【請求項４】
精密寸法部分（３）が，かん合ピン又は軸受け用円柱ころによって構成されていることを特徴とする，請求項２記載の素材。
【請求項５】
保持付加部（１ａ）と，素材本体（１ｂ）と，面要素を有している精密寸法部分（１ｃ）とが同じ材料から成っていることを特徴とする，請求項１記載の素材。
【請求項６】
保持付加部（１ａ）と素材本体（１ｂ）とが同じ材料から一体に構成されており，面要素を有している別体の精密寸法部分（１ｃ）が素材本体上に接着固定されていることを特徴とする，請求項１記載の素材。