(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射される電子線の中心軸に対して対称に複数配置され、個々に電圧を印加することにより前記電子線を制御する複数の制御電極と、
前記複数の制御電極の外周側に、前記複数の制御電極の外周面とそれぞれ対向するように、前記電子線の中心軸に対して対称に設置される複数の成形基板と、
前記複数の成形基板の少なくとも前記制御電極側の面に夫々設けられ、前記制御電極と近接した状態で固定されるアース電極と、
前記複数の成形基板にそれぞれ設けられる信号配線と、
を備えることを特徴とする電子線描画装置用偏向器。
【請求項２】
前記成形基板は、フレキシブルプリント基板であることを特徴とする請求項１に記載の電子線描画装置用偏向器。
【請求項３】
電子銃と、マスクが載置されたステージと前記電子銃との間に設置された偏向器とを備え、前記電子銃から放射される電子線を制御してマスク描画を行う電子線描画装置において、
前記偏向器は、
前記電子線の中心軸に対して対称に複数配置され、個々に電圧を印加することにより電子線を制御する複数の制御電極と、
前記複数の制御電極の外周側に、前記複数の制御電極の外周面とそれぞれ対向するように、前記電子線の中心軸に対して対称に設置される複数の成形基板と、
前記複数の成形基板の少なくとも前記制御電極側の面に夫々設けられ、前記制御電極と近接した状態で固定されるアース電極と、
前記複数の成形基板にそれぞれ設けられる信号配線と、
を備えることを特徴とする電子線描画装置。
【請求項４】
前記成形基板は、フレキシブルプリント基板であることを特徴とする請求項３に記載の電子線描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体素子などのパターンを描画する電子線の制御に用いられる偏向器及びその偏向器を備えた電子線描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体デバイスの微細化に伴い、マスク加工精度の向上が要求されており、高精度のマスク加工が可能な電子線描画装置が用いられている。このような電子線描画装置は、電子線を所望の位置に制御して描画するものであるが、この電子線の制御に、例えば静電型偏向器が用いられている。
【０００３】
静電型偏向器においては、夫々絶縁された複数の例えば台形型を有するバルク電極が、放射される電子線の中心軸に対して対称となるように設置されており、各電極に夫々所定の電位変化を与えることにより、電子線の位置などが制御される。
【０００４】
このとき、所定の電極に偏向電位を加えると、これに隣接する偏向電位を加えない電極において、微小な電位が発生し、これがクロストーク発生の原因となっている。そこで、隣接する電極間に、アース電位を有する電極（以下アース電極と記す）を設ける手法が提案されている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、クロストークは電極間のみに発生するものではなく、電極間のみの制御では十分でないという問題がある。
【０００５】
一方、各電極には、偏向電位を供給する信号配線と、アース配線が接続されているが、通常、アース配線は、電極の外周側に引き出されており、その経路は特に固定されていない。しかしながら、アース配線経路により電極のインピーダンスが変動することから、偏向電位が変動し、電子線制御の精度が低下するという問題がある。
【特許文献１】特開２００２−１９８２９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したように、電子線描画装置の偏向器において、クロストークの発生を抑えることが困難であるとともに、アース配線経路のばらつきに起因する電子線制御精度の低下という問題がある。
【０００７】
本発明は、クロストークの発生を抑え、電子線制御精度を向上させることが可能な電子線描画装置用偏向器を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、放射される電子線の中心軸に対して対称に複数配置され、個々に電圧を印加することにより前記電子線を制御する複数の制御電極と、複数の制御電極の外周側に、複数の制御電極の外周面とそれぞれ対向するように、電子線の中心軸に対して対称に設置される複数の成形基板と、複数の成形基板の少なくとも制御電極側の面に夫々設けられ、制御電極と近接した状態で固定されるアース電極と、複数の成形基板にそれぞれ設けられる信号配線と、を備えることを特徴とする電子線描画装置用偏向器が提供される。
【００１１】
また、この電子線描画装置用偏向器において、さらに成形基板は、フレキシブルプリント基板であることが望ましい。
【００１３】
さらに、本発明によれば、電子銃と、マスクが載置されたステージと前記電子銃との間に設置された偏向器とを備え、電子銃から放射される電子線を制御してマスク描画を行う電子線描画装置において、偏向器は、電子線の中心軸に対して対称に複数配置され、個々に電圧を印加することにより電子線を制御する複数の制御電極と、複数の制御電極の外周側に、複数の制御電極の外周面とそれぞれ対向するように、電子線の中心軸に対して対称に設置される複数の成形基板と、複数の成形基板の少なくとも制御電極側の面に夫々設けられ、制御電極と近接した状態で固定されるアース電極と、複数の成形基板にそれぞれ設けられる信号配線と、を備えることを特徴とする電子線描画装置が提供される。
また、この電子線描画装置において、さらに成形基板は、フレキシブルプリント基板であることが望ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、電子線描画装置用偏向器において、クロストークの発生を抑え、電子線制御精度を向上させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下本発明の実施形態について、図を参照して説明する。
【００１６】
（実施形態１）
図１に、本実施形態の電子線描画装置用偏向器が用いられる電子線描画装置の概念図を示す。図１に示すように、コラム１内に、マスク２が載置されるステージ３と、マスク２に電子線を照射する電子銃４の間に、電子線の位置を制御する偏向器５が設けられている。そして、偏向器５には、夫々これを制御する制御回路６が接続されている。
【００１７】
このような電子線描画装置に用いられる偏向器の上面図を図２に示す。図に示すように、夫々絶縁された８個の台形柱形状を有するバルク状の電極１１が、放射される電子線の中心軸に対して対称となるように設置されており、各電極の外周面側に、所定の間隙を介してフレキシブルプリント基板などからなる成形基板１２が設置されている。この成形基板１２は、図３に示すように、電極１１の外周面側表面にアース配線１３が形成されており、他方の表面には信号配線１４が形成されている。
【００１８】
このような電子線描画装置用偏向器において、各電極１１に、制御回路と接続された信号配線１４より、夫々所定の電位変化を与えて、電子銃よりステージ上のマスク方向に電子線を放射することにより、電子線を所定の位置、形状に制御することができる。このとき、各アース配線１３は、夫々電極１１に近接した状態で固定されており、インピーダンスが一定に制御され、電子線制御精度を向上させることが可能となるとともに、クロストークの発生を抑えることが可能となる。
【００１９】
（実施形態２）
本実施形態の電子線描画装置用偏向器においては、実施形態１と同様の電極構成であるが、その外周面側に設置される成形基板の構造が異なっている。
【００２０】
本実施形態においては、図４に示すように、成形基板２２の、電極２１の外周面側表面と他方の表面に夫々アース配線２３が形成され、内部に信号配線２４が形成されている。
【００２１】
このような電子線描画装置用偏向器において、実施形態１と同様に、各電極２１に、制御回路と接続された信号配線２４より、夫々所定の電位変化を与えて、電子銃よりステージ上のマスク方向に電子線を放射することにより、電子線を所定の位置、形状に制御することができる。このとき、各アース配線２３は、実施形態１と同様に、夫々電極２１に近接した状態で固定されており、インピーダンスが一定に制御され、電子線制御精度を向上させることが可能となるとともに、クロストークの発生を抑えることが可能となる。
【００２２】
これら実施形態１、２において、各電極間は所定の間隙をもって絶縁されているが、さらに電極間にアース電極を挿入することにより、より効果的にクロストークの発生を抑えることが可能となる。
【００２３】
（実施形態３）
図５に、本実施形態の電子線描画装置用偏向器を示す。図に示すように、８個のバルク状の電極３１が、放射される電子線の中心軸に対して対称となるように設置されている。各電極３１は、中心軸側より外周側の電極間の間隔が広くなるように、実施形態１、２のような台形柱形状のものから、外周側の一部分を除去した形状となっている。そして、これら電極３１の外周及び電極間の外周側の間隔が広い部分に配置されるように、一体化されたアース配線３３が設けられている。さらにその外周側に、信号配線３４が設置されている。
【００２４】
このような電子線描画装置用偏向器において、実施形態１と同様に、各電極３１に、制御回路と接続された信号配線３４より、夫々所定の電位変化を与えて、電子銃よりステージ上のマスク方向に電子線を放射することにより、電子線を所定の位置、形状に制御することができる。このとき、アース配線３３は、夫々の電極３１の外周側及び電極３１間に近接した状態で設置されているため、インピーダンスが一定に制御され、電子線制御精度を向上させることが可能となるとともに、クロストークの発生を抑えることが可能となる。
【００２５】
本実施形態において、電極間の外周側の間隔が広い部分に、一体化されたアース配線が設置されているが、図６に示すように、中心軸方向の一部に、セラミックなどの絶縁材料からなる絶縁部３５を設置してもよい。
【００２６】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。その他要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一態様の電子線描画装置用偏向器が用いられる電子線描画装置の概念図。
【図２】本発明の一態様の電子線描画装置用偏向器の上面図。
【図３】本発明の一態様における成形基板の構造を示す図。
【図４】本発明の一態様における成形基板の構造を示す図。
【図５】本発明の一態様の電子線描画装置用偏向器の上面図。
【図６】本発明の一態様の電子線描画装置用偏向器の上面図。
【符号の説明】
【００２８】
１…コラム
２…マスク
３…ステージ
４…電子銃
５…偏向器
６…制御回路
１１、２１、３１…電極
１２、２２…成形基板
１３、２３、３３…アース配線
１４、２４、３４…信号配線
３５…絶縁部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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