(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、前記第１の電極上に形成された電界発光層と、前記電界発光層上に形成された第２の電極とを有する発光素子を有し、前記第１の電極と前記第２の電極との間において光を共振するレーザ発振器の作製方法であって、
第１の層上に開口部を有するマスクを形成し、
前記開口部において前記第１の層に等方性のウェットエッチングを行うことにより、凹部を有する第１の層を形成し、
前記マスクを除去し、
前記凹部を覆うように前記第１の層上に透光性を有し、かつ前記第１の層に比較して屈折率が高い第２の層を形成し、
前記第２の層上において前記凹部と重なるように、前記発光素子を形成することを特徴とするレーザ発振器の作製方法。
【請求項２】
第１の電極と、前記第１の電極上に形成された電界発光層と、前記電界発光層上に形成された第２の電極とを有する発光素子を有し、前記第１の電極と前記第２の電極との間において光を共振するレーザ発振器の作製方法であって、
第２の層上に、加熱により溶融可能な樹脂を形成し、
前記樹脂を島状にパターニングし、
前記島状にパターニングされた前記樹脂を加熱により溶融することにより、端部に曲面を有する樹脂を形成し、
前記端部に曲面を有する樹脂をマスクとして、前記端部に曲面を有する樹脂とともに前記第２の層をドライエッチングすることにより、曲面を有する凸部を有する第２の層を形成し、
前記第２の層のうち前記曲面を有する凸部が設けられている側の面に、前記第２の層に比較して屈折率が低い接着剤を塗布して基板を貼り合わせることにより、凹部を有する第１の層を形成し、
前記第２の層のうち前記曲面を有する凸部が設けられていない側の面に、前記凹部と重なるように、前記発光素子を形成することを特徴とするレーザ発振器の作製方法。
【請求項３】
第１の電極と、前記第１の電極上に形成された第１の電界発光層と、前記第１の電界発光層上に形成された電荷発生層と、前記電荷発生層上に形成された第２の電界発光層と、前記第２の電界発光層上に形成された第２の電極とを有する発光素子を有し、前記第１の電極と前記第２の電極との間において光を共振するレーザ発振器の作製方法であって、
第１の層上に開口部を有するマスクを形成し、
前記開口部において前記第１の層に等方性のウェットエッチングを行うことにより、凹部を有する第１の層を形成し、
前記マスクを除去し、
前記凹部を覆うように前記第１の層上に透光性を有し、かつ前記第１の層に比較して屈折率が高い第２の層を形成し、
前記第２の層上において前記凹部と重なるように、前記発光素子を形成することを特徴とするレーザ発振器の作製方法。
【請求項４】
第１の電極と、前記第１の電極上に形成された第１の電界発光層と、前記第１の電界発光層上に形成された電荷発生層と、前記電荷発生層上に形成された第２の電界発光層と、前記第２の電界発光層上に形成された第２の電極とを有する発光素子を有し、前記第１の電極と前記第２の電極との間において光を共振するレーザ発振器の作製方法であって、
第２の層上に、加熱により溶融可能な樹脂を形成し、
前記樹脂を島状にパターニングし、
前記島状にパターニングされた前記樹脂を加熱により溶融することにより、前記端部に曲面を有する樹脂を形成し、
前記端部に曲面を有する樹脂をマスクとして、前記端部に曲面を有する樹脂とともに前記第２の層をドライエッチングすることにより、曲面を有する凸部を有する第２の層を形成し、
前記第２の層のうち前記曲面を有する凸部が設けられている側の面に、前記第２の層に比較して屈折率が低い接着剤を塗布して基板を貼り合わせることにより、凹部を有する第１の層を形成し、
前記第２の層のうち前記曲面を有する凸部が設けられていない側の面に、前記凹部と重なるように、前記発光素子を形成することを特徴とするレーザ発振器の作製方法。
【請求項５】
請求項１または請求項３において、前記第１の層と前記第２の層との間に反射膜を形成することを特徴とするレーザ発振器の作製方法。
【請求項６】
請求項２または請求項４において、前記第２の層と前記接着剤との間に反射膜を形成することを特徴とするレーザ発振器の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光を発振することができる電界発光材料を用いたレーザ発振器に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体レーザは、他のガスまたは固体レーザと比較してレーザ発振器を飛躍的に小型化、軽量化できるというメリットを有している。そのため、光集積回路において光インターコネクションにより信号の送受を行なうための光源として、光ディスク、光メモリーなどの記録媒体への記録を行なう際の光源として、さらには光ファイバーなどを光導波路として用いる光通信の光源として、様々な分野で実用化されている。そして半導体レーザの発振波長は青色から赤外までと広範囲に及ぶが、一般的に実用化されている半導体レーザは、例えばＧａＡｓレーザ（波長０．８４μｍ）、ＩｎＡｓレーザ（波長３．１１μｍ）、ＩｎＳｂレーザ（波長５．２μｍ）、ＧａＡｌＡｓ（波長０．７２μｍ〜０．９μｍ）、ＩｎＧａＡｓＰ（波長１．０μｍ〜１．７μｍ）のように、その発振波長が赤外領域に存在するものが多い。
【０００３】
近年では、発振波長を可視領域に有する半導体レーザの実用化に関する研究が数多くなされており、その流れから、電場を加えることでルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）が得られる電界発光材料を用い、レーザ光を発振することができるレーザ発振器（有機半導体レーザ）に注目が集まりつつある。有機半導体レーザは、波長が可視領域に存在するレーザ光を得ることができ、また安価なガラス基板上に作製することができるため、様々な用途が期待される。
【０００４】
下記特許文献１には、ピーク波長λが５１０ｎｍである有機半導体レーザに関して記載がされている。
【特許文献１】特開２０００−１５６５３６号公報（第１１頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし有機半導体レーザから発振されるレーザ光は、一般的に他のレーザに比べて指向性が低く、拡散しやすい傾向がある。レーザ光の指向性が低くなると、光インターコネクションにおける信号の送受がディスクリネーションにより不安定になり、光集積回路の高集積化が妨げられるという問題が生じ好ましくない。またレーザ光の拡散が著しい場合、レーザ光のエネルギー密度を確保しにくくなる。光源から発振されるレーザ光の強度を高めるか、レーザ光の光源と該所定の領域との距離を縮めるか、いずれか一方の手段を講じることで所望のエネルギー密度を確保することは可能であるが、前者は消費電力が嵩んでしまうというデメリットを有しており、また後者は、該有機半導体レーザの用途が制限されてしまうとうデメリットを有している。
【０００６】
なお光源となる有機半導体レーザに、別途用意した光学系を設置することで、レーザ光の指向性を高めることは可能である。しかし光学系が複雑になるほど、メンテナンス時における光学系の調整や光学系と有機半導体レーザとの位置合わせが煩雑となり、また物理的な衝撃に対する耐性に劣ってしまうという欠点がある。
【０００７】
本発明は上述した問題に鑑み、発振されるレーザ光の指向性を高めることができ、なおかつ物理的な衝撃に対する耐性を高めることができる、電界発光材料を用いたレーザ発振器の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、電界発光材料が用いられた発光素子を支持するための基板や下地膜などの層、或いは発光素子を覆っている層に、光学系としての機能を付加することで、該発光素子によって得られるレーザ光の指向性を高めることができるのではないかと考えた。
【０００９】
具体的に本発明のレーザ発振器は、凹部を有する第１の層と、前記凹部を覆うように前記第１の層上に形成された第２の層と、前記第２の層上に前記凹部と重なるように形成された発光素子とを有し、前記第２の層は平坦化されており、前記発光素子から得られるレーザ光の光軸は、前記第２の層の平坦化された面と交差しており、前記第１の層は前記凹部において曲面を有し、前記第１の層は前記第２の層に比べて屈折率が低いことを特徴とする。
【００１０】
また発光素子は第１の電極（陽極）と、第２の電極（陰極）と、該２つの電極間に設けられた発光層とを有しており、本発明では該発光層に含まれる電界発光材料がレーザ媒質として機能する。なお発光層と陽極の間にホール注入層、ホール輸送層等、発光層と陰極の間に電子注入層、電子輸送層等が設けられていても良い。この場合、発光層を含む、陽極と陰極の間に設けられた全ての層を、電界発光層と呼ぶ。電界発光層を構成する層の中に、無機化合物を含んでいる場合もある。
【００１１】
また、本発明のレーザ発振器が有する光共振器は平行平面系であり、光を反射及び共振させるための平面を有する、２つの反射材が用いられている。具体的には、第１の電極と第２の電極の一部を反射材として用い、光共振器を形成することができる。なお、光共振器を形成するための反射材として、必ずしも第１の電極と第２の電極の一部を用いる必要はない。例えば、別途形成した光を反射するための膜（反射膜）を反射材として用いても良い。また、電界発光層に含まれる発光層以外の層、例えばホール注入層、ホール輸送層、電子注入層、電子輸送層等で、発光層において発生した光を反射させ、光共振器を形成しても良い。
【００１２】
また本発明のレーザ発振器は、必ずしも凹部を有する第１の層を必要としない。例えば、第１の層上に形成された発光素子と、前記発光素子を覆うように形成された第２の層とを有し、前記第２の層は前記発光素子と重なるように凸部を有し、前記発光素子から得られるレーザ光の光軸は、前記第２の層と交差しており、前記第２の層は前記凸部において曲面を有するようにしても良い。
【００１３】
また、発光素子を間に挟んで、凹部と凸部が向かい合うように形成されていても良い。いずれにしても、上述した凹部と凸部は、共に曲率中心を発光素子側に有する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、発光素子を支持するための層が有する凹部、或いは発光素子を覆っている層が有する凸部によって、光共振器から発振されるレーザ光の指向性を高めることができる。そして、層の一部が光学系として機能するため、別途光学系を設ける場合とは異なり、メンテナンス時における光学系の調整や光学系と有機半導体レーザとの位置合わせ等の煩雑さを回避することができ、物理的な衝撃に対する耐性を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１を用いて、本発明のレーザ発振器の一形態について説明する。図１（Ａ）は本発明のレーザ発振器の断面図であり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）に示すレーザ発振器の上面図である。図１（Ｂ）のＡ−Ａ’における断面図が図１（Ａ）に相当する。図１に示すように本発明のレーザ発振器は、凹部１００を有する第１の層１０１と、凹部１００を覆うように第１の層１０１上に形成された第２の層１０２とを有する。第２の層１０２は、凹部１００に充填される程度の膜厚で形成する。第１の層１０１は第２の層１０２に比べて屈折率が低く、第２の層１０２は透光性を有している。
【００１６】
なお、図１（Ａ）では、第１の層１０１と第２の層１０２が、それぞれ１つの層で形成されている例を示しているが、複数の層で形成されていても良い。ただしこの場合、第１の層１０１のうち最も第２の層１０２に近い層の屈折率を、第２の層１０２のうち最も第１の層１０１に近い層の屈折率よりも低くする。
【００１７】
また図１では、第２の層１０２上に、凹部１００と重なるように発光素子１０３が形成されている。発光素子１０３は、２つの電極１０４、１０５と、電極１０４、１０５間に設けられた電界発光層１０６とを有する。なお電極１０４、１０５は、一方が陽極であり他方は陰極である。図１では電極１０４を陽極、電極１０５を陰極とする例を示すが、電極１０４を陰極、電極１０５を陽極としても良い。電極１０４、１０５間に順方向バイアスの電圧を印加することで、電界発光層１０６に電流が供給され、電界発光層１０６を発光させることができる。
【００１８】
なお第１の層１０１は凹部１００において曲面を有しており、該曲面の曲率中心は、発光素子１０３側に存在している。
【００１９】
そして図１に示すレーザ発振器は、発光素子１０３が有する電極１０４、１０５によって光共振器が形成されている。電界発光層１０６から発せられた光は、電極１０４、１０５によって共振され、レーザ光として発振される。そして該光共振器は、発振されるレーザ光の光軸が第２の層１０２と交差しており、なおかつ発振されるレーザ光が第１の層１０１に向くように形成されている。
【００２０】
図２に、図１に示すレーザ発振器において、電極１０４、１０５間に順方向バイアスの電圧を印加している様子を示す。破線の矢印で示すように、電極１０４、１０５間に電圧を印加することで、電極１０４側から第１の層１０１の凹部１００に向かってレーザ光が発振される。発振されたレーザ光はある程度発散しているが、凹部１００において反射及び集光されることで、発散角が抑えられて指向性が高まる。なお、発散角を抑えるためには、凹部１００に照射されるレーザ光の発散角に合わせて凹部１００の焦点距離を光学設計すれば良い。
【００２１】
なお図１、図２では、発振されたレーザ光を凹部において反射及び集光することで、レーザ光の指向性を高める形態について説明したが、凸部において屈折及び集光することで、レーザ光の指向性を高めるようにしても良い。図３を用いて、凸部において屈折及び集光することで、レーザ光の指向性を高めることができる、本発明のレーザ発振器の形態について説明する。
【００２２】
図３（Ａ）は本発明のレーザ発振器の断面図である。図３（Ａ）に示すように本発明のレーザ発振器は、第１の層２００と、第１の層２００上に形成された発光素子２０１と、発光素子２０１を覆うように形成された第２の層２０２とを有する。第２の層２０２は透光性を有しており、なおかつ発光素子２０１と重なるように凸部２０３を有している。
【００２３】
また、図３（Ａ）では、第１の層２００と第２の層２０２が、それぞれ１つの層で形成されている例を示しているが、複数の層で形成されていても良い。
【００２４】
そして第２の層２０２は凸部２０３において曲面を有しており、該曲面の曲率中心は、の発光素子２０１側に存在している。
【００２５】
また発光素子２０１は、２つの電極２０４、２０５と、電極２０４、２０５間に設けられた電界発光層２０６とを有する。なお電極２０４、２０５は、一方が陽極であり他方は陰極である。図３では電極２０４を陽極、電極２０５を陰極とする例を示すが、電極２０４を陰極、電極２０５を陽極としても良い。電極２０４、２０５間に順方向バイアスの電圧を印加することで、電界発光層２０６に電流が供給され、電界発光層２０６を発光させることができる。
【００２６】
そして図３（Ａ）に示すレーザ発振器は、図１に示したレーザ発振器と同様に、発光素子２０１が有する電極２０４、２０５によって光共振器が形成されている。電界発光層２０６から発せられた光は、電極２０４、２０５によって共振され、レーザ光として発振される。そして該光共振器は、発振されるレーザ光の光軸が第２の層２０２と交差しており、なおかつ発振されるレーザ光が第２の層２０２に向くように形成されている。
【００２７】
図３（Ｂ）に、図３（Ａ）に示すレーザ発振器において、電極２０４、２０５間に順方向バイアスの電圧を印加している様子を示す。破線の矢印で示すように、電極２０４、２０５間に電圧を印加することで、電極２０５側から第２の層２０２の凸部２０３に向かってレーザ光が発振される。発振されたレーザ光はある程度発散しているが、凸部２０３において屈折及び集光されることで、発散角が抑えられて指向性が高まる。なお、発散角を抑えるためには、凸部２０３の方に照射されるレーザ光の発散角に合わせて凸部２０３の焦点距離を光学設計すれば良い。
【００２８】
また本発明のレーザ発振器は、発光素子を間に挟んで、レーザ光を反射及び集光するための凹部と、屈折及び集光するための凸部とが向かい合うように形成されていても良い。図４を用いて、凹部と凸部が向かい合っている本発明のレーザ発振器の形態について説明する。
【００２９】
図４（Ａ）は本発明のレーザ発振器の断面図である。図４（Ａ）に示すように本発明のレーザ発振器は、凹部３００を有する第１の層３０１と、凹部３００を覆うように第１の層３０１上に形成された第２の層３０２とを有する。第２の層３０２は、凹部３００に充填される程度の膜厚で形成する。第１の層３０１は第２の層３０２に比べて屈折率が低く、第２の層３０２は透光性を有している。
【００３０】
なお、図４（Ａ）では、第１の層３０１と第２の層３０２が、それぞれ１つの層で形成されている例を示しているが、複数の層で形成されていても良い。ただしこの場合、第１の層３０１のうち最も第２の層３０２に近い層の屈折率を、第２の層３０２のうち最も第１の層３０１に近い層の屈折率よりも低くする。
【００３１】
また図４（Ａ）では、平坦化された第２の層３０２上に、凹部３００と重なるように発光素子３０３が形成され、また発光素子３０３を覆うように第３の層３０４が形成されている。発光素子３０３は、２つの電極３０５、３０６と、電極３０５、３０６間に設けられた電界発光層３０７とを有する。なお電極３０５、３０６は、一方が陽極であり他方は陰極である。図４（Ａ）では電極３０５を陽極、電極３０６を陰極とする例を示すが、電極３０５を陰極、電極３０６を陽極としても良い。電極３０５、３０６間に順方向バイアスの電圧を印加することで、電界発光層３０７に電流が供給され、電界発光層３０７を発光させることができる。
【００３２】
また第３の層３０４は透光性を有しており、なおかつ発光素子３０３と重なるように凸部３０８を有している。
【００３３】
そして第１の層３０１は凹部３００において曲面を有しており、該曲面の曲率中心は、発光素子３０３側に存在している。第３の層３０４は凸部３０８において曲面を有しており、該曲面の曲率中心は、発光素子３０３側に存在している。
【００３４】
また、図４（Ａ）では、第３の層３０４が１つの層で形成されている例を示しているが、複数の層で形成されていても良い。
【００３５】
そして図４（Ａ）に示すレーザ発振器は、発光素子３０３が有する電極３０５、３０６によって光共振器が形成されている。電界発光層３０７から発せられた光は、電極３０５、３０６によって共振され、レーザ光として発振される。そして該光共振器は、発振されるレーザ光の光軸が第２の層３０２と交差しており、なおかつ発振されるレーザ光が第１の層３０１に向くように形成されている。
【００３６】
図４（Ｂ）に、図４（Ａ）に示すレーザ発振器において、電極３０５、３０６間に順方向バイアスの電圧を印加している様子を示す。破線の矢印で示すように、電極３０５、３０６間に電圧を印加することで、電極３０５側から第１の層３０１の凹部３００に向かってレーザ光が発振される。発振されたレーザ光はある程度発散しているが、凹部３００において反射及び集光されることで、発散角が抑えられて指向性が高まる。なお、発散角を抑えるためには、凹部３００に照射されるレーザ光の発散角に合わせて凹部３００の焦点距離を光学設計すれば良い。そして図４に示すレーザ発振器では、凹部３００において反射された光を、第３の層３０４の凸部３０８において集光することができる。
【００３７】
なお凸部３０８は、第３の層３０４を形成した後に、図１１に示すように液滴吐出法を用いて形成しても良い。図１１に示す３００〜３０８は図４に対応している。３０９は液滴吐出装置のノズルを示す。この凸部３０８の作成に用いることが出来る材料としては、高分子材料であって、使用する光、特に可視光に対して透明なものであり、室温で固体の高分子材料を融点以上に加熱して用いることが好ましい。例えば、ポリ（アルキルアクリラート）、ポリ（アルキルメタクリラート）、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート及びその誘導体などを用いることができる。または、上記ポリマーの原料であるモノマーを塗布した後、光照射による加熱によって硬化させたものを用いてもよい。
【００３８】
上述したように本発明では、発光素子を支持するための層が有する凹部、或いは発光素子を覆っている層が有する凸部によって、光共振器から発振されるレーザ光の指向性を高めることができる。そして、層の一部が光学系として機能するため、別途光学系を設ける場合とは異なり、物理的な衝撃に対する耐性を高めることができる。
【００３９】
なお、図１〜図４に示したレーザ発振器は、発光素子が有する２つの電極間で光を共振させているが、本発明はこの構成に限定されない。別途形成した反射膜で光を共振させても良いし、電界発光層に含まれる発光層以外の層、例えばホール注入層、ホール輸送層、電子注入層、電子輸送層等で、発光層において発生した光を反射させ、光共振器を形成しても良い。
【実施例１】
【００４０】
本実施例では、本発明のレーザ発振器に用いられる発光素子の構成について説明する。
【００４１】
図５に、本発明で用いる発光素子の、素子構造の一形態を示す。図５に示す発光素子は、陽極４０１と陰極４０７の間に電界発光層４０８を挟んだ構造を有している。電界発光層４０８は、陽極４０１側から順次積層された、ホール注入層４０２、ホール輸送層４０３、発光層４０４、電子輸送層４０５、電子注入層４０６を有している。
【００４２】
なお本発明のレーザ発振器に用いる発光素子は、電界発光層に少なくとも発光層を含んでいれば良い。発光以外の機能を示す層（ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層）は適宜組み合わせることができる。上記各層に用いることのできる材料を、以下に具体的に例示する。ただし、本発明に適用できる材料は、これらに限定されるものではない。
【００４３】
陽極４０１としては、仕事関数の大きい導電性材料を用いることが好ましい。陽極４０１において光を透過させる場合は、透光性の高い材料を用いる。この場合、例えばインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化珪素を含むインジウム−スズ酸化物（ＩＴＳＯ）等の透明導電性材料を用いればよい。陽極４０１を反射材として用いる場合は、光を反射することができる材料を用いる。この場合、例えばＴｉＮ、ＺｒＮ、Ｔｉ、Ｗ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｒ、Ａｇ等の１つまたは複数からなる単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を用いることができる。また、上記光を反射することができる材料の上に、上述した透明導電性材料を積層して、陽極４０１として用いてもよい。
【００４４】
ホール注入層４０２に用いることができるホール注入材料としては、イオン化ポテンシャルの比較的小さな材料であって、可視光領域の吸収が小さいものが好ましい。大別すると金属酸化物、低分子系有機化合物、および高分子系有機化合物に分けられる。金属酸化物であれば、例えば、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウムなど用いることができる。低分子系有機化合物あれば、例えば、ｍ−ＭＴＤＡＴＡに代表されるスターバースト型アミン、銅フタロシアニン（略称：Ｃｕ−Ｐｃ）に代表される金属フタロシアニン、フタロシアニン（略称：Ｈ2−Ｐｃ）、２，３−ジオキシエチレンチオフェン誘導体などを用いることができる。低分子系有機化合物と上記金属酸化物とを共蒸着させた膜であっても良い。高分子系有機化合物であれば、例えば、ポリアニリン（略称：ＰＡｎｉ）、ポリビニルカルバゾール（略称：ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体などの高分子を用いることができる。ポリチオフェン誘導体の一つであるポリエチレンジオキシチオフェン（略称：ＰＥＤＯＴ）にポリスチレンスルホン酸（略称：ＰＳＳ）をドープしたものを用いても良い。
【００４５】
ホール輸送層４０３に用いることができるホール輸送材料としては、ホール輸送性が高く、結晶性が小さい公知の材料を用いることができる。芳香族アミン系（すなわち、ベンゼン環−窒素の結合を有するもの）の化合物が好適であり、例えば、４，４−ビス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（ＴＰＤ）や、その誘導体である４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）などがある。４，４’，４’’−トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ＴＤＡＴＡ）や、ＭＴＤＡＴＡなどのスターバースト型芳香族アミン化合物も用いることができる。また４，４’，４’’−トリス（Ｎ−カルバゾリル）トリフェニルアミン（略称：ＴＣＴＡ）を用いても良い。また高分子材料としては、良好なホール輸送性を示すポリ（ビニルカルバゾール）などを用いることができる。また、ＭｏＯxなどの無機物を用いていても良い。
【００４６】
発光層４０４には公知の材料を用いることができる。例えば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ3）、トリス（４−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｍｑ3）、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ［η］−キノリナト）ベリリウム（ＢｅＢｑ2）、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）−（４−ヒドロキシ−ビフェニリル）−アルミニウム（ＢＡｌｑ）、ビス［２−（２−ヒドロキシフェニル）−ベンゾオキサゾラト］亜鉛（Ｚｎ（ＢＯＸ）2）、ビス［２−（２−ヒドロキシフェニル）−ベンゾチアゾラト］亜鉛（Ｚｎ（ＢＴＺ）2）などの金属錯体を用いることができる。また、各種蛍光色素（クマリン誘導体、キナクリドン誘導体、ルブレン、４，４−ジシアノメチレン、１−ピロン誘導体、スチルベン誘導体、各種縮合芳香族化合物など）も用いることができる。白金オクタエチルポルフィリン錯体、トリス（フェニルピリジン）イリジウム錯体、トリス（ベンジリデンアセトナート）フェナントレンユーロピウム錯体などの燐光材料も用いることができる。特に燐光材料は、蛍光材料と比較して励起寿命が長いため、レーザー発振に不可欠な反転分布、すなわち、基底状態にある分子数よりも励起状態にある分子数が多い状態を作り出すことが容易になる。上記材料は、ドーパントとしても、単層膜としても用いることができる。
【００４７】
また、発光層４０４に用いるホスト材料としては、上述した例に代表されるホール輸送材料や電子輸送材料を用いることができる。また、４，４’−Ｎ，Ｎ’−ジカルバゾリルビフェニル（略称：ＣＢＰ）などのバイポーラ性の材料も用いることができる。
【００４８】
電子輸送層４０５に用いることができる電子輸送材料としては、Ａｌｑ3に代表されるような、キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体やその混合配位子錯体などを用いることができる。具体的には、Ａｌｑ3、Ａｌｍｑ3、ＢｅＢｑ2、ＢＡｌｑ、Ｚｎ（ＢＯＸ）2、Ｚｎ（ＢＴＺ）2などの金属錯体が挙げられる。さらに、金属錯体以外にも、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、１，３−ビス［５−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル］ベンゼン（ＯＸＤ−７）などのオキサジアゾール誘導体、３−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−５−（４−ビフェニリル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、３−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−（４−エチルフェニル）−５−（４−ビフェニリル）−１，２，４−トリアゾール（ｐ−ＥｔＴＡＺ）などのトリアゾール誘導体、ＴＰＢＩのようなイミダゾール誘導体、バソフェナントロリン（ＢＰｈｅｎ）、バソキュプロイン（ＢＣＰ）などのフェナントロリン誘導体を用いることができる。
【００４９】
電子注入層に用いることができる電子注入材料としては、上述した電子輸送材料を用いることができる。その他に、ＬｉＦ、ＣｓＦなどのアルカリ金属ハロゲン化物や、ＣａＦ2のようなアルカリ土類ハロゲン化物、Ｌｉ2Ｏなどのアルカリ金属酸化物のような絶縁体の超薄膜がよく用いられる。また、リチウムアセチルアセトネート（略称：Ｌｉ（ａｃａｃ）や８−キノリノラト−リチウム（略称：Ｌｉｑ）などのアルカリ金属錯体も有効である。
【００５０】
また陰極４０７は、通常の発光素子で用いられるような仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることができる。具体的には、ＬｉやＣｓ等のアルカリ金属、およびＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金（Ｍｇ：Ａｇ、Ａｌ：Ｌｉなど）の他、ＹｂやＥｒ等の希土類金属を用いて形成することもできる。また、ＬｉＦ、ＣｓＦ、ＣａＦ2、Ｌｉ2Ｏ等の電子注入層を用いる場合は、アルミニウム等の通常の導電性薄膜を用いることができる。また、陰極４０７において光を透過させる場合は、ＬｉやＣｓ等のアルカリ金属、およびＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ等のアルカリ土類金属を含む超薄膜と、透明導電膜（ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等）との積層構造を用いればよい。あるいは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属と電子輸送材料を共蒸着した電子注入層を形成し、その上に透明導電膜（ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ等）を積層してもよい。
【００５１】
光共振器は、２つの反射材のうち、一方は反射率をできる限り高くし、他方はある程度の透過率を持たせることで、透過率の高い方の反射材から、レーザ光を発振させることができる。例えば陽極４０１と陰極４０７をレーザ光が発振される側の反射材として用いる場合、透過率が５〜７０％程度となるように、材料あるいは膜厚を選択する。また、反射材を別途形成する場合は、陽極４０１または陰極４０７において光を透過させる材料を選択する。
【００５２】
また反射材の間隔は、共振させたい波長λの半分の整数倍にする。そして、反射材において反射する光と、新たに発せられる光の位相とが一致するように、発光素子の積層構造を設計する。
【００５３】
なお、以上で述べた本発明の発光素子を作製するにあたっては、発光素子中の各層の積層法を限定されるものではない。積層が可能ならば、真空蒸着法やスピンコート法、インクジェット法、ディップコート法など、どの様な手法を選んでも良いものとする。
【実施例２】
【００５４】
本実施例では、複数の発光素子を用いた、本発明のレーザ発振器の一形態について説明する。
【００５５】
図６（Ａ）に、発光素子の陽極を作製した時点における、本実施例のレーザ発振器の上面図を示す。また図６（Ｂ）に、図６（Ａ）のＡ−Ａ’における断面図を示す。本実施例のレーザ発振器は、複数の凹部６００を有する第１の層６０１上に、複数の凹部６００を埋めるように第２の層６０２が形成されている。また第２の層６０２上に、反射材として用いる反射膜６０３が形成されている。反射膜６０３は、発光素子から発せられた光を反射することができ、なおかつ絶縁性を有する材料を用いることができる。例えば、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタンなどの屈折率の異なる絶縁膜を交互に積層した膜を用いても良い。
【００５６】
また陽極６０４が、反射膜６０３上に、複数の凹部６００と重なるように形成されている。陽極６０４は透光性を有する材料で形成されている。なお図６では陽極６０４に透光性をもたせ、反射膜６０３を反射材として用いているが、本実施例はこの形態に限定されない。反射膜６０３を設けずに、光を反射する材料で陽極６０４を形成するようにしても良い。
【００５７】
次に、図７（Ａ）に発光素子が完成した時点における、本実施例のレーザ発振器の上面図を示す。また図７（Ｂ）に、図７（Ａ）のＡ−Ａ’における断面図を示す。図７では、複数の凹部６００と重なるように、陽極６０４上に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三色に対応する電界発光層６０５ａ〜６０５ｃが形成されている。なお図７（Ａ）では、電界発光層６０５ａ〜６０５ｃが分離して形成されているが、互いに一部重なるように形成されていても良い。また電界発光層６０５ａ〜６０５ｃ上に、複数の凹部６００と重なるように、陰極６０６が形成されている。
【００５８】
本実施例では、任意の陰極６０６は、全ての各陽極６０４と一部分重なっている。該重なっている部分は発光素子６０７に相当し、各発光素子６０７は凹部６００に位置している。そして、反射膜６０３の透過率を５〜７０％程度にし、電界発光層６０５ａ〜６０５ｃにおいて発生した光が、反射材として機能する反射膜６０３と陰極６０６間において共振し、反射膜６０３側から発振されるようにする。反射膜６０３側から発振されたレーザ光は、第１の層６０１の凹部６００において、反射して指向性が高められる。そして本実施例のレーザ発振器は、パッシブマトリクスの発光装置と同様に、陽極６０４と陰極６０６に印加する電圧を制御することで、選択した発光素子６０７からレーザ光を発振させることができる。
【００５９】
また本実施例では、陽極６０４を陰極６０６よりも凹部６００側に形成しているが、陰極６０６を陽極６０４よりも凹部６００側に形成しても良い。ただしこの場合、陽極６０４は反射材として機能するので、光を反射させることができる材料で形成する。
【００６０】
なお本実施例では、レーザ光を反射して指向性を高めることができる凹部を、発光素子と重なるように設けているが、レーザ光を屈折させて指向性を高めることができる凸部を、発光素子と重なるように設けても良い。また上記凹部と凸部の両方を設けるようにしても良い。
【００６１】
なお、本実施例のレーザ発振器を表示装置として用いてもよい。また、各発光素子に駆動素子を設けることにより、本実施例のレーザ発振器をアクティブマトリクス表示装置としてもよい。本実施例のレーザ発振器を設けた表示装置にはプロジェクター等が含まれる。
【００６２】
また本実施例では、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する電界発光層を設けているが、モノクロの表示を行なう場合、電界発光層は１つでよい。
【実施例３】
【００６３】
本実施例では、図８に示すレーザ発振器において、第１の層と第２の層との間に、光を反射させることができる反射膜を形成する形態について説明する。
【００６４】
図８に、本実施例のレーザ発振器の断面図を示す。図８に示すように本実施例のレーザ発振器は、凹部８００を有する第１の層８０１上に、反射膜８０２が形成されている。反射膜８０２は光を反射することができる材料で形成することができ、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｗ、Ｐｔ、Ｃｒなどの金属元素を１つまたは複数含んでいる材料を用い、蒸着法で形成することができる。なお反射膜は上記材料に限定されず、光を反射することができる膜であればよい。例えば反射膜として、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタンなどの屈折率の異なる絶縁膜を交互に積層した膜を用いても良い。
【００６５】
また反射膜８０２を覆うように、第２の層８０３が形成されている。第２の層８０３は透光性を有しており、凹部８００に充填される程度の膜厚で形成されている。なお、図１の場合とは異なり、本実施例のレーザ発振器では、発振されたレーザ光を反射膜８０２で反射させているので、第１の層８０１の屈折率を第２の層８０３よりも必ずしも低くする必要はない。また、図８では、第１の層８０１と第２の層８０３が、それぞれ１つの層で形成されている例を示しているが、複数の層で形成されていても良い。
【００６６】
第２の層８０３上には、凹部８００と重なるように発光素子８０４が形成されている。発光素子８０４は、２つの電極８０５、８０６と、電極８０５、８０６間に設けられた電界発光層８０７とを有する。なお電極８０５、８０６は、一方が陽極であり他方は陰極である。図８では電極８０５を陽極、電極８０６を陰極とする例を示すが、電極８０５を陰極、電極８０６を陽極としても良い。電極８０５、８０６間に順方向バイアスの電圧を印加することで、電界発光層８０７に電流が供給され、電界発光層８０７を発光させることができる。
【００６７】
なお第１の層８０１は凹部８００において曲面を有しており、該曲面の曲率中心は、発光素子８０４側に存在している。
【００６８】
そして図８に示すレーザ発振器は、発光素子８０４が有する電極８０５、８０６によって光共振器が形成されている。電界発光層８０７から発せられた光は、電極８０５、８０６によって共振され、レーザ光として発振される。そして該光共振器は、発振されるレーザ光の光軸が第２の層８０３と交差しており、なおかつ発振されるレーザ光が第１の層８０１に向くように形成されている。
【実施例４】
【００６９】
本実施例では、レーザ光を反射する凹部の作製方法について説明する。まず、図９（Ａ）に示すように、後に凹部が形成される第１の層９０１を形成する。第１の層９０１は、ガラス、石英、プラスチックなどの基板であっても良いし、該基板上に成膜された樹脂膜、絶縁膜であっても良い。次に、第１の層９０１上に、開口部９０２を有するマスク９０３を形成する。
【００７０】
そして図９（Ｂ）に示すように、マスクの開口部９０２において第１の層９０１をウェットエッチングする。ウェットエッチングは、第１の層９０１の材料に合わせて最適なエッチャントを用いる。例えば、第１の層９０１としてガラスを用いる場合、エッチャントとしてフッ酸を用いることができる。等方性のウェットエッチングにより、曲面を有する開口部９０４を第１の層９０１に形成することができる。
【００７１】
次に図９（Ｃ）に示すように、第１の層９０１上のマスク９０３を除去すると開口部９０４の部分に凹部９０６が残る。この開口部９０４を有する第１の層９０１上に、第２の層９０５を形成する。第２の層９０５は、透光性を有する材料で、なおかつ凹部９０６を充填することができる程度の膜厚で形成する。そして第２の層９０５は、第１の層９０１よりも屈折率の高くなるような材料、たとえば本実施例では、第１の層９０１がガラスだとすると、遷移金属酸化物や窒化物などで形成する。
【００７２】
なお、本実施例では、第１の層９０１に接するように第２の層９０５を形成しているが、第１の層９０１と第２の層９０５との間に、レーザ光を反射することができる反射膜を形成しても良い。この場合、第２の層９０５は透光性を有していれば良く、必ずしも第１の層９０１よりも屈折率の高い材料を用いる必要はない。
【００７３】
なお本発明において、第１の層の作製方法は本実施例で示した形態に限定されない。
【実施例５】
【００７４】
本実施例では、第２の層に凸部を形成し、該凸部を用いて第１の層に凹部を形成する方法について説明する。
【００７５】
まず、図１０（Ａ）に示すように、後に凸部が形成される第２の層１００１上に、加熱により溶融させることができる樹脂１００２を形成する。樹脂１００２は、島状にパターニングしておく。第２の層１００１は、ガラス、石英、プラスチックなどの基板を用いることができる。
【００７６】
次に図１０（Ｂ）に示すように、島状にパターニングされた樹脂１００２を、その端部に曲面が形成されるように、加熱により溶融する。溶融することで形成された曲面を有する樹脂を１００３に示す。
【００７７】
そして図１０（Ｃ）に示すように、樹脂１００３をマスクとして、第２の層１００１をドライエッチングする。ドライエッチングは、第２の層１００１の材料に合わせて、最適なエッチングガスを用いる。例えば、第２の層１００１としてガラスを用いる場合、エッチングガスとしてＣＦ4、ＣＨＦ3、Ｃｌ2などのフッ素系、塩素系のエッチングガスを用いることができる。ドライエッチングにより、図１０（Ｃ）に示すように樹脂１００３も共にエッチングされる。よって最終的に図１０（Ｄ）に示すように、曲面を有する樹脂１００３の形状に合わせて、第２の層１００１に凸部１００４を形成することができる。
【００７８】
次に図１０（Ｅ）に示すように、第２の層１００１の凸部１００４が形成されている側に、レーザ光を反射させることができる反射膜１００５を形成する。そして、図１０（Ｆ）に示すように、反射膜１００５上に第１の層に相当する接着剤１００６を塗布し、基板１００７を貼り合わせる。上記構成により、第１の層に相当する接着剤１００６に、凹部を形成することができる。
【００７９】
なお、本実施例ではレーザ光を反射させるために反射膜１００５を形成しているが、第２の層１００１と、第１の層に相当する接着剤１００６との間の屈折率の差を利用して、レーザ光を反射させるようにしても良い。この場合、接着剤１００６の屈折率を第２の層１００１よりも低くする。
【実施例６】
【００８０】
本実施例では、本発明のレーザ発振器を用いた電子機器の一形態について説明する。
【００８１】
図１２（Ａ）に、本発明のレーザ発振器を用いたレーザポインタの外観図を示す。１２０１はレーザポインタの本体に相当する。本体１２０１の内部には、レーザ発振器が納められたパッケージ１２０２に電力を供給するための電池等が設けられている。また１２０３はパッケージ１２０２への電源の投入を制御するためのスイッチに相当する。
【００８２】
図１２（Ｂ）に、パッケージ１２０２の拡大図を示す。パッケージ１２０２は、レーザ光の不要輻射を遮蔽するための筐体１２０４内に、本発明のレーザ発振器１２０５が設けられている。筐体１２０４の一部は、レーザ発振器１２０５から発振されるレーザ光を取り出すための、透光性を有する窓１２０７を有する。そしてレーザ発振器１２０５は、リード１２０６を介して本体１２０１の内部に設けられている電池から、電力の供給を受けることができる。
【００８３】
図１２（Ｃ）に、レーザ発振器１２０５の拡大図を示す。レーザ発振器１２０５は、凹部を有する第１の層１２１５と、凹部を充填するように第１の層上に形成された第２の層１２０８と、第２の層１２０８上に形成された発光素子１２０９とを有する。発光素子１２０９は、２つの電極１２１０、１２１１と、電極１２１０、１２１１間に設けられた電界発光層１２１２とを有する。電極１２１０、１２１１は、ワイヤ１２１４によってリード１２０６と電気的に接続されている。また１２１３は、電界発光層１２１２を封止するための樹脂に相当し、電界発光層１２１２が水や酸素などの影響を受けて劣化するのを防ぐことができる。
【００８４】
リード１２０６を介して電極１２１０、１２１１間に順方向バイアスの電圧が印加されると、電界発光層１２１２に電流が供給され、光が発生する。電界発光層１２１２において発生した光が電極１２１０、１２１１間で共振し、電極１２１０側からレーザ光が発振される。発振されたレーザ光は、第１の層１２１５の凹部において反射されることで指向性が高められて、破線の矢印で示すように発光素子１２０９側に向かって進む。
【００８５】
本発明では、発光素子１２０９を支持するための第１の層１２１５が有する凹部によって、発光素子１２０９から発振されるレーザ光の指向性を高めることができる。そして、第１の層１２１５の一部が光学系として機能するため、別途光学系を設ける場合とは異なり、電子機器の物理的な衝撃に対する耐性を高めることができる。
【００８６】
なお本実施例では、図１に示す構造を有するレーザ発振器を用いているが、本実施例はこの構成に限定されない。図３に示すように凸部においてレーザ光を屈折させ、指向性を高めるレーザ発振器を用いても良い。また図８に示すような、第１の層の凹部に反射膜を設けたレーザ発振器を用いていても良い。図４に示すように、凹部と凸部を両方用いた、レーザ光を集光させることができるレーザ発振器を用いていても良い。或いは、図７に示すように、パッシブマトリクス状に形成された複数の発光素子を有するレーザ発振器を用いていても良い。
【実施例７】
【００８７】
本実施例では、本発明のレーザ発振器に用いられる発光素子の構成について説明する。
【００８８】
図１３に、本発明で用いる発光素子の、素子構造の一形態を示す。図１３に示す発光素子は、陽極１３０１と陰極１３０２の間に２つの電界発光層１３０３、１３０４を挟んだ構造を有している。さらに図１３に示す発光素子は、２つの電界発光層１３０３、１３０４の間に、外部回路と接続していないフローティング状の電極である、電荷発生層１３０５を有している。電界発光層１３０３は、陽極１３０１側から順次積層された、ホール注入層１３０６、ホール輸送層１３０７、発光層１３０８、電子輸送層１３０９、電子注入層１３１０を有している。また電界発光層１３０４は、電荷発生層１３０５側から順次積層された、ホール注入層１３１５、ホール輸送層１３１１、発光層１３１２、電子輸送層１３１３、電子注入層１３１４を有している。
【００８９】
なお本発明のレーザ発振器に用いる発光素子は、各電界発光層に少なくとも発光層を含んでいれば良い。発光以外の機能を示す層（ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層）は適宜組み合わせることができる。上記各層に用いることのできる材料は、実施例１に記載されている材料を参照することができる。ただし、本発明に適用できる材料は、実施例１に記載されている材料に限定されるものではない。
【００９０】
図１３に示す発光素子の、陽極１３０１と陰極１３０２間に順方向バイアスの電圧を印加すると、電界発光層１３０３には正孔が、電界発光層１３０４には電子がそれぞれ注入され、各電界発光層１３０３、１３０４においてキャリアの再結合が起こり、発光が得られる。上記構成により、陽極１３０１と陰極１３０２間の距離が一定の場合、電界発光層が１つのときに比べて、同じ電流値に対して得られる発光のエネルギーが高くなる。よって、レーザ光の発振効率を高めることができる。
【００９１】
電荷発生層１３０５は、光を透過させることができる材料で形成する。例えば、ＩＴＯ、Ｖ2Ｏ5とアリールアミン誘導体の混合物、ＭｏＯ3とアリールアミン誘導体の混合物、Ｖ2Ｏ5とＦ４ＴＣＮＱ（テトラフルオロテトラチアフルバレン）の混合物などを用いることができる
【００９２】
また陽極１３０１と陰極１３０２を反射材として用いる場合、一方の反射率はできるだけ大きく、他方の透過率は５〜７０％程度になるように、材料または膜厚を選択する。また、反射材を別途形成する場合は、陽極１３０１または陰極１３０２において光を透過させる材料を選択する。また反射材の間隔は、共振させたい波長λの半分の整数倍にする。そして、反射材において反射する光と、新たに発せられる光の位相とが一致するように、発光素子の積層構造を設計する。
【実施例８】
【００９３】
本実施例では、本発明のレーザ発振器の凹部の形状について説明する。
【００９４】
図１４に、光を反射するための凹部１５００を有する層（ここでは反射膜とする）１５０１と、レーザ光源１５０２との位置関係を示す。なおレーザ光源１５０２は、光共振器とレーザ媒質とを含んでおり、レーザ光源１５０２からレーザ光が凹部１５００に向かって発振されるものとする。そして該凹部１５００は、曲率中心Ｏ’をレーザ光源１５０２側に有している。
【００９５】
レーザ光源１５０２は、レーザ光を発振することができる領域がある程度の面積を有する面光源であり、該面光源から発振されたレーザ光は発散角θを有する。今ここで、発散角をθとする点光源が焦点Ｏの位置にあり、レーザ光源１５０２からの発光は、点光源からの発光と同様に発散するものと仮定する。この場合、凹部１５００の曲率中心Ｏ’側に存在する焦点Ｏと、該点光源とを一致させることで、凹部１５００において反射されたレーザ光の指向性を最も高くすることができる。
【００９６】
よって、凹部１５００の焦点距離をｆ、レーザ光源１５０２の幅を２ｔ、レーザ光源１５０２と凹部１５００との距離をＹとすると、発散角θと焦点距離ｆとの関係が、以下の（数１）に示す式を満たすときに、凹部１５００において反射されたレーザ光の指向性が最も高まると考えられる。
【００９７】
【数１】
0004731861.tif 000002
【００９８】
なお焦点距離ｆは、曲率半径Ｒの半分に相当するので、（数１）に示す式から下記の数２に示す式が導き出される。
【００９９】
【数２】
0004731861.tif 000003
【０１００】
上記（数１）に示す式または（数２）に示す式を用いることで、レーザ光の指向性を高めるように凹部１５００の形状を光学設計することができる。
【０１０１】
なお、本発明のレーザ発振器を表示装置として用いてもよい。レーザ発振器を設けた表示装置にはプロジェクターや、レーザ発振器をバックライトとして用いたＬＣＤなどが含まれる。特に、フィールド・シーケンシャル液晶表示装置の場合には実施例２に示したＲ、Ｇ、Ｂの発光素子を使ってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】本発明のレーザ発振器の断面図及び上面図。
【図２】本発明のレーザ発振器の断面図。
【図３】本発明のレーザ発振器の断面図。
【図４】本発明のレーザ発振器の断面図。
【図５】本発明のレーザ発振器に用いられる、発光素子の構造を示す図。
【図６】本発明のレーザ発振器の作製過程における、上面図及び断面図。
【図７】本発明のレーザ発振器の上面図及び断面図。
【図８】本発明のレーザ発振器の断面図。
【図９】凹部の作製方法の一実施例を示す図。
【図１０】凹部の作製方法の一実施例を示す図。
【図１１】凸部の作製方法の一実施例を示す図。
【図１２】本発明のレーザ発振器を用いたレーザポインタの構造を示す図。
【図１３】本発明のレーザ発振器に用いられる、発光素子の構造を示す図。
【図１４】レーザ光源と凹部との位置関係を示す図。
【符号の説明】
【０１０３】
１００    凹部
１０１    第１の層
１０２    第２の層
１０３    発光素子
１０４    電極
１０５    電極
１０６    電界発光層
２００    第１の層
２０１    発光素子
２０２    第２の層
２０３    凸部
２０４    電極
２０５    電極
２０６    電界発光層
３００    凹部
３０１    第１の層
３０２    第２の層
３０３    発光素子
３０４    第３の層
３０５    電極
３０６    電極
３０７    電界発光層
３０８    凸部
４０１    陽極
４０２    ホール注入層
４０３    ホール輸送層
４０４    発光層
４０５    電子輸送層
４０６    電子注入層
４０７    陰極
４０８    電界発光層
６００    凹部
６０１    第１の層
６０２    第２の層
６０３    反射膜
６０４    陽極
６０５ａ    電界発光層
６０５ｂ    電界発光層
６０５ｃ    電界発光層
６０６    陰極
６０７    発光素子
８００    凹部
８０１    第１の層
８０２    反射膜
８０３    第２の層
８０４    発光素子
８０５    電極
８０６    電極
８０７    電界発光層
９０１    第１の層
９０２    開口部
９０３    マスク
９０４    開口部
９０５    第２の層
９０６    凹部
１００１    第２の層
１００２    樹脂
１００３    樹脂
１００４    凸部
１００５    反射膜
１００６    接着剤
１００７    基板
１２０１    本体
１２０２    パッケージ
１２０３    スイッチ
１２０４    筐体
１２０５    レーザ発振器
１２０６    リード
１２０７    窓
１２０８    第２の層
１２０９    発光素子
１２１０    電極
１２１１    電極
１２１２    電界発光層
１２１３    樹脂
１２１４    ワイヤ
１２１５    第１の層
１３０１    陽極
１３０２    陰極
１３０３    電界発光層
１３０４    電界発光層
１３０５    電荷発生層
１３０６    ホール注入層
１３０７    ホール輸送層
１３０８    発光層
１３０９    電子輸送層
１３１０    電子注入層
１３１１    ホール輸送層
１３１２    発光層
１３１３    電子輸送層
１３１４    電子注入層
１３１５    ホール注入層
１５００    凹部
１５０１    反射膜
１５０２    レーザ光源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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