(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの磁界感応性素子（３）と少なくとも１つの磁石（２）とを備えており、磁界感応性素子（３）と強磁性の対象物（５）とのあいだに空隙（６）が存在しており、
磁石（２）は検出すべき強磁性の対象物（５）の方向に配向された端面に軟磁性素子（７）を有しており、当該の素子は磁石（２）と磁界感応性素子（３）とのあいだに配置されており、
軟磁性素子（７）はキャップ状エレメントとして構成されており、
キャップ状の軟磁性素子（７）の凹部（８）は磁石（２）を収容するために用いられる、
強磁性の対象物（５）を無接触で検出する測定装置において、
キャップ状エレメントは磁界感応性素子（３）の方向に開いた開口部（９）を有している（図５）、
ことを特徴とする強磁性の対象物を無接触で検出する測定装置。
【請求項２】
キャップ状の軟磁性素子（７）は磁界感応性素子（３）の方向に開いた半球状の開口部（９）を有している（図８）、請求項１記載の測定装置。
【請求項３】
磁界感応性素子（３）は少なくとも部分的に開口部（９）内に位置している、請求項１または２記載の測定装置。
【請求項４】
軟磁性素子（７）のキャップの周縁は縦長の切欠（１３）を有している（図３）、請求項１から３までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項５】
軟磁性素子（７）は周囲を取り巻く突出部（２０）を有している、請求項１から４までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項６】
１つの磁界感応性素子（３）と少なくとも１つの磁石（２）とを備えており、磁界感応性素子（３）と強磁性の対象物（５）とのあいだに空隙（６）が存在しており、
磁石（２）は検出すべき強磁性の対象物（５）の方向に配向された端面に軟磁性素子（７）を有しており、当該の素子は磁石（２）と磁界感応性素子（３）とのあいだに配置されており、
軟磁性素子（７）はキャップ状エレメントとして構成されており、
キャップ状の軟磁性素子（７）の凹部（８）は磁石（２）を収容するために用いられる、
強磁性の対象物（５）を無接触で検出する測定装置において、
軟磁性素子（７）は周囲を取り囲む突出部（２０）を有している（図５のａ）、
ことを特徴とする強磁性の対象物を無接触で検出する測定装置。
【請求項７】
軟磁性素子（７）は貫通孔（１９）を有している（図２）、請求項１から６までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項８】
軟磁性素子（７）は複数の穴あきディスク（７ａ，７ｂ）から形成されている、請求項１から７までのいずれか１項記載の測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
従来の技術
本発明は独立請求項１および１０記載の強磁性の対象物を無接触で検出する測定装置に関する。
【０００２】
この種の測定装置は一般に磁石構造体の装置とホール素子を備えた集積回路チップとを有している。ここでチップは磁石構造体の端部に配置され、磁石構造体によって形成された磁界内におかれる。ホール素子はこの素子の平面に対して垂直な磁界の強度に関連する電気信号を形成する。強磁性の対象物がホール素子に近づくと、ホール素子に対して垂直な磁界の強度が変化する。これにより強磁性の対象物からホール素子までの距離がこの素子によって形成された電気信号によって再現される。この種のホールセンサは回転数の検出または切欠部を有する車両のセンサディスク（歯車）の所定の位置の検出に使用される。これは例えばアンチロックシステムまたは機関制御のために行われる。
【０００３】
例えば小さなオフセットフィールドを実現するために、狭い間隔で配置された２つのホール素子を有する測定装置が提案される。この２つのホール素子は相互に導電接続されており、それぞれ交互にベース状態に停止する。これにより適切な信号が形成されるが、この場合２つのホール素子は絶対的に同一の特性を有さなければならない。このため素子の生産はきわめて限定されたかたちでしか行えない。
【０００４】
さらにドイツ連邦共和国特許出願第１９６２２５６１号明細書からは、回路チップ上に設けられたホール素子がセンサディスクと磁石構造体とのあいだに位置するホール効果センサが公知である。この場合磁石構造体はＮ極とＳ極とが交番的に生じ、これら２つの極がホール素子に対して所定の間隔をおいて位置するように構成されている。
【０００５】
さらにヨーロッパ特許第０２７３１２９号明細書からは、永久磁石としてリング形磁石が設けられた磁界センサが公知である。ホールジェネレータはリング形磁石の開口部に配属されており、ホールジェネレータの軸線はリング形磁石の軸線とほぼ一致する。またホールジェネレータは磁路が開放されているときには磁界が押しのけられることによりリング形磁石内に生じるスペースに位置する。このスペースは最小の磁気誘導値を有する。
【０００６】
本発明の利点
本発明の請求項１に記載された特徴を有する強磁性の対象物を無接触で検出する測定装置は、従来の技術に対して、永久磁石の一方側でこの磁石とホール素子とのあいだに配置された軟磁性素子により磁束の一部がこの軟磁性素子を通って導出される利点を有する。このようにして永久磁石に配置された軟磁性素子の周囲のスペースで磁束密度が低減される。これにより最小のオフセットフィールドの磁路が実現される。狭い間隔を置いて設けられたホール素子では、特に差動方式での測定のとき、比較的大きなトレランス幅を有するホール素子を使用することができる。これはホール素子の種々の特性が比較的僅かしか作用しないからである。さらに本発明の測定装置の構造では、有利には永久磁石に配置された軟磁性素子により強磁性の対象物があるときに磁束密度の強い変化が生じる。つまり強磁性の対象物が接近してきたときには磁束密度の大きな変化が発生するので、測定装置の精度の向上が達成される。また、本発明の測定装置は簡単な構造を有している。なぜなら唯一のホール素子しか必要なく、唯一の永久磁石と簡単に成形可能な軟磁性素子とを備えた構造で実現できるからである。ここで例えば簡単な棒状または円筒形状の永久磁石を使用することができる。
【０００７】
有利には軟磁性素子は永久磁石の一方側に配置されており、検出すべき強磁性の対象物の方向に配向されている。これにより特に簡単な構造で測定装置を実現できる。なぜなら軟磁性素子は永久磁石の一方の端面に簡単に配置することができるからである。これによりホール素子を簡単に軟磁性素子と検出すべき強磁性の対象物とのあいだの空隙に配置することができる。
【０００８】
有利には軟磁性素子はキャップ状エレメントとして構成されており、この素子は永久磁石を収容する凹部を有する。これにより軟磁性素子と永久磁石とのあいだを簡単に例えば磁力により接合することができる。ただし軟磁性素子と永久磁石とを接着剤、はんだまたは溶接材料によって接合することもできる。
【０００９】
有利な実施形態によれば、軟磁性素子はホール素子の方向に開いた中央開口部を有している。これにより特に小さなオフセットフィールドを有する測定装置が実現される。
【００１０】
有利には軟磁性素子はホール素子の方向に開いた半球状の開口部を有している。これにより円筒状の棒磁石を使用する際に特に小さなオフセットフィールドが実現される。
【００１１】
特に有利なのは回転対称の構造である。このようにすれば測定装置の組み込みをホール素子のそのつどの位置に無関係に行うことができる。
【００１２】
有利には軟磁性素子は複数の穴あきディスクから形成される。これにより簡単な部材で本発明の測定装置を実現することができる。またこの場合、部材を標準化して簡単に種々の要求に応えるさまざまな測定装置を製造可能である。
【００１３】
本発明の有利な実施形態によれば、ホール素子は第１の永久磁石と第２の永久磁石とのあいだに配置される。この場合第２の磁石はホール素子と検出すべき強磁性の対象物とのあいだに位置するように置かれる。こうした配置により、磁気的なゼロ点がホール素子の所定の位置で形成される。こうして特に有利な補償手段が実現される。
【００１４】
本発明の測定装置の別の有利な実施形態によれば、永久磁石は検出すべき強磁性の対象物に対して平行に配向され、Ｎ極とＳ極とが１つの平面で強磁性の対象物に対して垂直に位置するように構成されている。この場合軟磁性素子は永久磁石の端面の側方に配置されている。ホール素子は軟磁性素子に形成された空隙に配置されている。有利にはこのとき永久磁石の２つの端面に軟磁性素子が設けられる。軟磁性素子をこのように構成し、永久磁石と検出すべき強磁性の対象物とをこのように配置することにより、強磁性の対象物がないときには比較的大きな磁界がホール素子の感応方向で生じる。強磁性の対象物が永久磁石の近傍に来ると、磁束の一部がもはや軟磁性素子およびホール素子を通らなくなり、強磁性の対象物を介して案内される。これによりホール素子内の磁界が低減される。このように、この実施例では強磁性の対象物が永久磁石の近傍に来たとき、ホール素子内の磁界が最小値を取る。
【００１５】
図面
本発明の複数の実施例を図示し、以下に詳細に説明する。
【００１６】
図１には本発明の第１の実施例による測定装置の側面図が示されている。図２には本発明の第２の実施例による測定装置の平面図が示されている。図３には本発明の第３の実施例による測定装置の側面図が示されている。図４には本発明の第４の実施例による測定装置の側面図が示されている。図５には本発明の第５の実施例による測定装置の断面図が示されている。図５のａには別のバリエーションの断面図が示されている。図６には本発明の第６の実施例による測定装置の断面図が示されている。図７には図６に示されている測定装置の部分拡大図が示されている。図８には本発明の第７の実施例による測定装置の断面図が示されている。図９には本発明の第８の実施例による測定装置の断面図が示されている。図１０には磁気誘導と図９に示されている実施例での空隙幅との関係が示されている。図１１には本発明の第９の実施例による測定装置の断面図が示されている。図１２には本発明の第１０の実施例による測定装置の断面図が示されている。図１３には本発明の第１１の実施例による測定装置の断面図が示されている。図１４には磁気誘導と図１３に示されている実施例での空隙幅との関係が示されている。図１５には磁気偏移と図１３に示されている測定装置の空隙幅との関係が示されている。図１６には本発明の第１２の実施例による測定装置の断面図が示されている。図１７には図１６に示されている測定装置の部分拡大図が示されている。
【００１７】
実施例の説明
図１に示されているように、本発明の第１の実施例による測定装置１は、直径ｄおよび高さｈの棒磁石として構成された永久磁石２を有している。さらに測定装置１はホール素子３と軟磁性素子７とを有している。軟磁性素子７は永久磁石２を収容するために用いられる円筒状の凹部８を有している。図１に示されているように、永久磁石２はその高さｈの１／２の個所まで軟磁性素子７によって覆われている。
【００１８】
ホール素子に代えて他の磁界感応性素子、例えば磁気抵抗センサ（異方性磁気抵抗効果またはＧＭＲ効果を使用するセンサ）やフィールドプレートを使用することもできる。さらに複数の素子を差動回路として使用することもできる。
【００１９】
図１に示されているように、ホール素子３は軟磁性素子７とセンサディスク４の歯５とのあいだの空隙６に配置されており、ここで歯５からは距離ａ、軟磁性素子７からは距離ｂだけ離されている。距離ｂはできるだけ小さいほうがよく、有利には０である。ここでは軟磁性素子７は永久磁石２の端面の上方へ値ｃだけ突出している。
【００２０】
軟磁性素子７をホール素子３と永久磁石２とのあいだに設けることにより、測定装置１はきわめて小さなオフセットフィールド（いわゆるバックバイアスリダクション磁路）を有する。軟磁性素子７はここでは磁束案内素子として用いられ、磁束の一部を永久磁石２の端面から放出させる。これにより永久磁石２の端面上方の空隙６では磁束密度が低減され、ホール素子３はＺ方向すなわちホール素子の感応軸線方向で磁気誘導の少ない領域に位置する。センサディスク４の歯５がホール素子の近傍へ移動してくると、ホール素子３のＺ方向での磁束は強まり、高い値のホール電圧が生じる。これにより歯５の存在が検出され、相応の信号が制御装置へ送出される。
【００２１】
次の表１、２には軟磁性素子７を有する測定装置と軟磁性素子を有さない測定装置とを比べたときの測定結果が示されている。ここで表１には図１に示されている測定装置に相応する構造の装置での測定値が示されている。表２には軟磁性素子を有さない測定装置での測定値が示されており、この装置の構造は軟磁性素子を有さない点以外は図１の装置に相応している。
【００２２】
【表１】
0004681196.tif 000002
【００２３】
＜表１＞軟磁性素子７を用いる場合の測定結果
ΔＢＺ＝ＢＺ（歯有り）−ＢＺ（歯無し）
ここでＢＺはホール素子の所定位置でのＺ方向の磁束密度
永久磁石の材料：サマリウム‐コバルト
ｂ＝１．５ｍｍ
ここでｂは軟磁性素子を有する永久磁石の端面からホール素子までの距離
【００２４】
【表２】
0004681196.tif 000003
【００２５】
＜表２＞軟磁性素子を用いない場合の測定結果
ΔＢＺ＝ＢＺ（歯有り）−ＢＺ（歯無し）
ここでＢＺはホール素子の所定位置でのＺ方向の磁束密度
永久磁石の材料：硬質フェライト
ｂ＝２．５ｍｍ
ここでｂは永久磁石の端面からホール素子までの距離
表１および表２の測定値を比較して、ＢＺ（歯無し）＝２２．７ｍＴに対してＢＺ（歯無し）＝２６．５ｍＴとなっていることからもわかるように、本発明の軟磁性素子を有する測定装置は明らかに低いオフセットフィールドを有しており、磁界の変化量ΔＢＺも格段に高くなっている。ここで軟磁性素子７を有する場合のΔＢＺは有さない場合の値ΔＢＺよりも約１ｍｍ〜４ｍｍの当該の空隙領域で平均約３５％大きい。本発明によれば強磁性の対象物が測定装置の領域に存在する場合、磁気誘導値Ｂの相対変化量が大きくなるためにきわめて正確にこれを検出することができ、また強磁性の対象物との距離も正確に求められる。
【００２６】
図２には本発明の第２の実施例による測定装置の平面図が示されている。ここでは図示を解りやすくするためにホール素子は示されていない。第２の実施例による測定装置は大部分が第１の実施例の測定装置に相応している。相違点は第２の実施例の測定装置が軟磁性素子７内に中央貫通孔１９を有していることである。これにより軟磁性素子７の上方領域、すなわちホール素子３へ向かう領域は円筒状に設けられたリング形状となっている。
【００２７】
図３の概略的な側面図には本発明の第３の実施例による測定装置が示されている。この測定装置の構造も図１に示された測定装置にほぼ相応する。相違点は軟磁性素子７の構成が異なっていることである。この軟磁性素子は外周縁に付加的に複数の縦長の切欠１３を有しており、この切欠は軟磁性素子７の全周に形成されている。これにより製造技術的な利点が得られる。当該の切欠によりホール素子３の領域の磁束密度は強磁性の対象物または歯５がないとき別の値を取る。
【００２８】
図４には本発明の第４の実施例による測定装置の断面図が示されている。前述の実施例とは異なって、軟磁性素子７はもはや一体構造となってはいない。図４に示されているように、軟磁性素子７はカバー７’およびリング状の円筒セクション７”を有しており、このリング状の円筒セクションが永久磁石２の一部を包囲している。
【００２９】
図５には本発明の第５の実施例による測定装置の断面図が示されている。この実施例では、軟磁性素子７は、永久磁石２を収容する凹部のほか、軟磁性素子７の端面に壁９ａを有する開口部９が形成されるように構成されている。図５に示されているように、ここではホール素子３が部分的に開口部９内に位置するようにすることもできる。また軟磁性素子７は複数の部材から構成してもよい。
【００３０】
図５のａのバリエーションでは、軟磁性素子７は周囲を取り巻く突出部２０を有している。この突出部２０はリング状の円筒セクション７”を超えて突出している。機能の点でこの突出部２０は図５の壁９ａに相応する。これにより縁部領域すなわち軟磁性素子７の端面から外套部領域への移行部における磁気飽和が回避される。
【００３１】
図６、７には本発明の測定装置１の第６の実施例が示されている。図５に示されている測定装置との相違点は、軟磁性素子７が永久磁石を収容する凹部を有さず、この素子が直接に永久磁石２の端面に配置されていることである。軟磁性素子７は前述の場合と同様に歯５へ向かって開いた開口部９を有しており、ここにホール素子３が少なくとも部分的に位置する。
【００３２】
図８には本発明の測定装置の第７の実施例が示されている。この実施例は大部分が図７に示されている実施例に相応するが、軟磁性素子７の開口部９が半球状に構成されている点のみが異なっている。この開口部はさらに別の形状を有していてもよく、例えば円錐台状、球状、円錐状などの形状であってもよい。重要なのはこの領域で厚さの低減が達成されることである。開口部は中央に配置しなければならない。空隙６へ向かって開いた開口部９にはホール素子３が前述の場合と同様に部分的に位置する。いずれの実施例においても、ホール素子は開口部内または軟磁性素子７の上方に配置される。さらに軟磁性素子７は永久磁石２を部分的に収容する凹部８を有する。
【００３３】
図９には本発明の第８の実施例による測定装置の概略的な断面図が示されている。この場合軟磁性素子７は複数のリング状ディスク７ａ、７ｂから構成されている。リング状ディスク７ｂはリング状ディスク７ａよりも幾分大きな直径を有しており、これによりホール素子３のアライメントが行われる。永久磁石２の上方端面からホール素子３の外表面（歯５に向かう側の表面）までの高さｈはｈ＝２．５ｍｍである。永久磁石の直径ｄはｄ＝７ｍｍであり、永久磁石２の高さｂはｂ＝４．０ｍｍである。永久磁石２としてＳｍ２Ｃｏ１７永久磁石が使用される。ここでは測定の際にホール素子３の外表面から歯５の表面までの空隙幅に依存して図１０に示した磁気誘導値Ｂが得られた。ここには歯５の無いときホール素子３の領域で得られた値と歯の有るときに同じ領域で得られた値とが示されている。図１０からわかるように、測定装置の近傍に歯が有るときにはそれぞれ磁気誘導値Ｂの著しい変化が得られる。
【００３４】
図１１には第９の実施例による本発明の測定装置が示されている。図１１からわかるように、ここでは棒状の永久磁石２の端面はもはや歯５の方向には配向されておらず、長手側面が歯５に対して平行になるように配置されている。軟磁性素子としてここではＬ字形の軟磁性素子７ａ、７ｂが設けられており、これらはそれぞれ永久磁石２のＮ極およびＳ極の端面に設けられている。Ｌ字形の軟磁性素子７ａ、７ｂの２つの脚部のあいだには空隙１１が形成され、これらの脚部は永久磁石２に対して平行に配向される。空隙にはホール素子３が配置されている。歯５が永久磁石２の近傍にあるとき大きな磁束が生じ、この磁束は永久磁石２から出て第１の軟磁性素子７ａおよび空隙１１を介して第２の軟磁性素子７ｂへ達し、さらに永久磁石２へ戻るように案内される。これにより歯５が永久磁石２の領域にない場合にはホール素子３で高い磁気誘導が生じる。強磁性の歯５が永久磁石２の近傍へ接近してくると（図１１を参照）、この磁束のうち少なくとも一部が空隙６を介して歯５へ達し、永久磁石２へ戻るように案内される。これによりホール素子３内に誘導される磁界は低減される。したがって前述の実施例とは異なり、図１１に示されている第９の実施例では、ホール素子３の磁界は歯５が永久磁石２の領域に有るとき最小値を取る。
【００３５】
図１２には本発明の測定装置の第１０の実施例が示されている。この実施例は基本的には図１１に示されている実施例に相応するが、軟磁性素子の構造が異なっている。図１２からわかるように、ここでは軟磁性素子はＬ字形の軟磁性素子７ａと棒状の軟磁性素子７ｂとから形成されている。この場合軟磁性素子７ａの脚部に開口部１４が形成されており、この開口部にホール素子３が配置される。図１２からわかるように、この実施例では、磁束は永久磁石２から出て軟磁性素子７ａ、ホール素子３、さらに２つの軟磁性素子７ａ、７ｂのあいだに形成された空隙１１を介して軟磁性素子７ｂへ達し、永久磁石２へ戻るように案内される。軟磁性素子７ａ、７ｂは前述の場合と同様にそれぞれ永久磁石２のＮ極およびＳ極の２つの端面に配置されている。ここでは２つの軟磁性素子７ａ、７ｂはこれらの素子が部分的にセンサディスク４と永久磁石２とのあいだの空隙６に位置するように配置され、これにより開口部９が形成される。
【００３６】
図１３には本発明の測定装置１の第１１の実施例が示されている。図１３に示されているように、測定装置１は第１の永久磁石２と第２の永久磁石１０とを有している。ここで第２の永久磁石１０の端面にはそれぞれ１つずつ０．５ｍｍ厚さの層１５、１６が設けられており、これらの層は磁気誘導性材料から成っている。さらにプリント配線板１２上にホール素子３が固定されて設けられている。
【００３７】
図１３に示されているように、プリント配線板１２は軟磁性素子７に固定されており、これにより軟磁性素子７は第１の永久磁石２とホール素子３とのあいだに配置されている。第２の永久磁石１０はホール素子３とセンサディスクの歯５とのあいだに配置されている。したがって例えばサマリウム‐コバルトから製造された永久磁石２と歯５とのあいだには、第１の永久磁石２をベースとして、厚さ約０．２ｍｍのプレート状の軟磁性素子７、厚さ約１ｍｍのプリント配線板１２、厚さ約０．７ｍｍのホール素子３、厚さ約０．５ｍｍのレジテクス（Resitex）から成る第１の層１５、厚さ約２．５ｍｍの第２の永久磁石、および厚さ約０．５ｍｍのレジテクス（Resitex）から成る第２の層１６が設けられる。
【００３８】
こうした構造から得られるホール素子３内の磁気誘導値が図１４に示されている。ここでは磁気誘導値が歯５と層１６により形成される磁石構造体の端面とのあいだの空隙６の幅ｂに依存して示されている。
【００３９】
図１５にはさらに強磁性の対象物５が測定装置１の領域にあるときの磁気偏移が空隙６の幅ｂに依存して個別に示されている。
【００４０】
図１４、１５の２つから、特に実際の適用時に重要となる空隙幅ｂ１ｍｍ〜４ｍｍの範囲で比較的大きな磁気偏移が生じることがわかる。この磁気偏移は小さなオフセットフィールド（強磁性の対象物が測定装置１の領域にない場合）では、約１７ｍＴで調製される（図１４を参照）。このように図１３に示された実施例による測定装置はきわめて小さなオフセットフィールドを有するホールセンサとなり、このため電磁的な不耐性に基づく障害を最小化することができる。
【００４１】
軟磁性素子７は前述のバリエーションに相応に磁石２または磁石１０に設けることもできるし、またこれら２つの磁石ともに設けることもできる。
【００４２】
図１６、１７には本発明の装置の第１２の実施例が示されている。図１７からわかるように、測定装置１はここでも同様に第１の永久磁石２と第２の永久磁石１０とを有している。第１の永久磁石２と第２の永久磁石１０とのあいだにここではホール素子３と軟磁性素子７とが配置されている。その場合軟磁性素子７は第１の永久磁石２と接触しており、これに対してホール素子３は第２の永久磁石１０と接触している。２つの永久磁石２、１０は双方のＮ極が端面で相互に向かい合うように配向されている。前述の実施例に相応に、第２の永久磁石１０とセンサディスクの歯５とのあいだに空隙６が形成されている。図１６、１７に示された実施例の機能は大部分が図１３に示された第１１の実施例に相応するので、詳しくはそちらを参照されたい。
【００４３】
全体として強磁性の対象物４、５を無接触で検出する測定装置１について説明したことをまとめる。測定装置はホール素子３と少なくとも１つの永久磁石２とを有する。ここでホール素子と永久磁石とのあいだに磁気を誘導しない空隙６が設けられている。さらに永久磁石２は少なくとも一方の端面に軟磁性素子７を有しており、この素子は永久磁石２とホール素子３とのあいだの空隙６に配置されている。
【００４４】
本発明の前述の実施例は例として示したにすぎず、本発明を限定するものではない。本発明では、本発明の範囲および等価の構成を外れることなく、種々の変更および修正を加えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１の実施例による測定装置の側面図である。
【図２】  本発明の第２の実施例による測定装置の平面図である。
【図３】  本発明の第３の実施例による測定装置の側面図である。
【図４】  本発明の第４の実施例による測定装置の側面図である。
【図５】  本発明の第５の実施例による測定装置の断面図および別のバリエーションの断面図である。
【図６】  本発明の第６の実施例による測定装置の断面図である。
【図７】  図６に示されている測定装置の部分拡大図である。
【図８】  本発明の第７の実施例による測定装置の断面図である。
【図９】  本発明の第８の実施例による測定装置の断面図である。
【図１０】  磁気誘導と図９に示されている実施例での空隙幅との関係を示す図である。
【図１１】  本発明の第９の実施例による測定装置の断面図である。
【図１２】  本発明の第１０の実施例による測定装置の断面図である。
【図１３】  本発明の第１１の実施例による測定装置の断面図である。
【図１４】  磁気誘導と図１３に示されている実施例での空隙幅との関係を示す図である。
【図１５】  磁気偏移と図１３に示されている測定装置の空隙幅との関係を示す図である。
【図１６】  本発明の第１２の実施例による測定装置の断面図である。
【図１７】  図１６に示されている測定装置の部分拡大図である。
【図１】
0004681196.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図５ａ】
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【図６】
0004681196.tif 000010
【図７】
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【図８】
0004681196.tif 000012
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
0004681196.tif 000016
【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
0004681196.tif 000020
【図１７】
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