(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースと、
前記ベースの上に設置され、基板を支持するステージと、
前記ベースの上に取り外し可能に設置され、第１位置と第２位置間を移動し、それが第１位置にある時、前記ベースと共に前記ステージを受けるチャンバーを形成するハウジングと、
前記ハウジングが取り外された時、前記ハウジングに接触して支持し、第１水平方向でその動きを助ける少なくとも１つの第１ローラーセットとを備え、
前記ハウジングは、前記第１ローラーセットに対応して該ハウジングの上に設置された少なくとも１つの導溝を有することを特徴とする低圧処理装置。
【請求項２】
前記第１ローラーセットに接続したベースの上に設置された少なくとも１つのアクチュエータ装置を更に含み、前記ハウジングが第２位置にある時、前記アクチュエータ装置は、前記第１ローラーセットを第１平面に押し上げ、前記ハウジングに接触して支持する請求項１に記載の低圧処理装置。
【請求項３】
前記アクチュエータ装置は、エアシリンダーである請求項２に記載の低圧処理装置。
【請求項４】
搬送装置と請求項１に記載の低圧処理装置を提供するステップ、及び
前記第１ローラーセットによって前記第１水平方向で前記ハウジングを前記搬送装置に移動するステップ、を含む低圧処理装置を分解する方法。
【請求項５】
前記搬送装置は、少なくとも１つの第２ローラーセットを含み、前記ハウジングが水平に移動された時、前記第１ローラーセットと前記第２ローラーセットは、第１平面の上に位置される請求項４に記載の方法。
【請求項６】
第１処理装置、
第２処理装置、及び
請求項１に記載の低圧処理装置、
を含み、前記第１処理装置、前記第２処理装置、前記低圧処理装置は、第２水平方向で配列される基板処理設備。
【請求項７】
前記第１水平方向は、前記第２水平方向に垂直する請求項６に記載の基板処理設備。
【請求項８】
ベースと、
前記ベースの上に設置され、基板を支持するステージと、
前記ベースの上に取り外し可能に設置され、前記ベースと共に前記ステージを受けるチャンバーを形成し、上部に設置されたゲートを含むハウジングと、
少なくとも１つのアクチュエータ装置と、
前記アクチュエータ装置に接続し、前記ハウジングが取り外された時、前記アクチュエータ装置により前記ハウジングと共に押し上げられ、前記ハウジングと接触することにより第１水平方向に移動させる少なくとも１つの第１ローラーセットとを備え、
前記ハウジングは、前記第１ローラーセットに対応して該ハウジングの上に設置された少なくとも１つの導溝を有することを特徴とする低圧処理装置。
【請求項９】
前記アクチュエータ装置は、エアシリンダーである請求項８に記載の低圧処理装置。
【請求項１０】
両側に設置された２つの第１ローラーセットを含むベースと、
排気管を含み、前記ベースの上の第１位置と第２位置間で移動可能であり、第１位置にある時、前記ベースと共にチャンバーを形成するハウジングとを備え、
前記ハウジングが第２位置にある時、前記第１ローラーセットは、前記ハウジングに接触して支持し、第１水平方向でその動きを助け、前記ベースから離れ、
前記ハウジングは、前記第１ローラーセットに対応して該ハウジングの両側に設置された２つの導溝を有することを特徴とする低圧処理装置。
【請求項１１】
前記ベースは、ステージを更に含む請求項１０に記載の低圧処理装置。
【請求項１２】
前記ステージは、基板を支持する請求項１１に記載の低圧処理装置。
【請求項１３】
前記第１ローラーセットに接続したベースの上に設置された少なくとも１つのアクチュエータ装置を更に含み、前記ハウジングが第２位置にある時、前記アクチュエータ装置は、前記第１ローラーセットを第１平面に押し上げ、前記ハウジングに接触して支持する請求項１０に記載の低圧処理装置。
【請求項１４】
前記アクチュエータ装置は、エアシリンダーである請求項１３に記載の低圧処理装置。
【請求項１５】
搬送装置と請求項１０に記載の低圧処理装置を提供するステップ、及び
前記第１ローラーセットによって前記第１水平方向で前記ハウジングを前記搬送装置に移動するステップ、
を含む低圧処理装置を分解する方法。
【請求項１６】
前記搬送装置は、少なくとも１つの第２ローラーセットを含み、前記ハウジングが水平に移動された時、前記第１ローラーセットと前記第２ローラーセットは、第１平面の上に位置される請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
第１処理装置、
第２処理装置、及び
請求項１０に記載の低圧処理装置を含み、前記第１処理装置、前記第２処理装置及び前記低圧処理装置は、第２水平方向で配列される基板処理設備。
【請求項１８】
前記第１水平方向は、前記第２水平方向に垂直する請求項１７に記載の基板処理設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低圧処理装置に関し、特に、フォトレジストを乾燥する低圧処理装置及び低圧処理装置を分解する方法、基板処理設備に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１２は、ベース１、ハウジング２、ステージ３、支持素子５、アクチュエータ装置６及び排気管７を含む従来の低圧処理装置１０を表している。ステージ３は、ベース１の上に設置され、基板４を支持する。ハウジング２とベース１は、チャンバー８を形成し、ステージ３と基板４を受ける。排気管７と支持素子５は、ハウジング２の上に設置される。アクチュエータ装置６は、ベース１の上に設置される。図１３を参照するに、アクチュエータ装置６は、支持素子５とハウジング２を押し上げ、ハウジング２をベース１から離し、ロボット（未図示）を基板にアクセスさせる。
【０００３】
低圧処理装置１０がフォトレジスト材料（例えば樹脂）を乾燥する時、揮発性化学物質又は粒子が排気管７のハウジングの内壁上に堆積する。よって、ハウジング２と排気管７は、定期的な洗浄を必要とする。従来、ハウジング２と排気管７は、ハウジングが持ち上げられた後、手動で洗浄された。その洗浄プロセスは困難で時間が掛かる。また、ハウジング２と排気管７が洗浄された時、低圧処理装置１０は、停止され、歩留まりに影響を与える。
【０００４】
特許文献１（特開２００６−２５３５１７号公報）の請求項１には、基板の主面に形成された薄膜を減圧乾燥する減圧乾燥装置において、基板の周囲を覆うチャンバーと、前記チャンバー内の雰囲気を排気する排気ポンプと、前記排気ポンプと前記チャンバーとの間に配設された第１開閉弁とを備え、前記第１開閉弁を開放して前記チャンバー内を排気することにより基板の主面に形成された薄膜を減圧乾燥し、前記第１開閉弁を閉鎖して前記チャンバーの排気を停止した後、前記第１開閉弁と前記排気ポンプとを連結する管路中に不活性ガスを供給することを特徴とする減圧乾燥装置が記載されている。そして、このような減圧装置を用いることによって、排気ポンプにフォトレジスト等の薄膜の成分が固着すること防止することが可能であるとしている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２５３５１７号公報
【０００６】
しかし、このような開閉弁を用いた場合にも、排気管やハウジングにフォトレジスト材料が蓄積し、洗浄化が必要であった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、停止時間が短縮され、生産性と経済性に優れた基板を処理する低圧処理装置及び低圧処理装置を分解する方法、基板処理設備を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、ベース、ステージ、ハウジング及び少なくとも１つの第１ローラーセットを含む基板を処理する低圧処理装置を提供する。ステージは、ベースの上に設置され、基板を支持する。ハウジングは、ベースの上に取り外し可能に設置され、第１位置と第２位置間を移動し、ハウジングが第１位置にある時、ハウジングとベースは、ステージを受けるチャンバーを形成する。ハウジングが取り外された時、第１ローラーセットは、ハウジングに接触して支持し、第１水平方向で移動する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のハウジングは、ベースから取り外されて移動され、洗浄をされる。よって、元のハウジング（第１ハウジング）が洗浄される時、もう１つのハウジング（第２ハウジング）がベースの上に設置されて低圧処理を続ける。よって、低圧処理装置の停止時間が短縮され、生産高とコストが保持される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明についての目的、特徴、長所が一層明確に理解されるよう、以下に実施形態を例示し、図面を参照にしながら、詳細に説明する。
【００１１】
図１は、本発明に係る第１実施形態の低圧処理装置１００の前面図であり、ベース１１１、ハウジング１２０、導溝１４０、第１ローラーセット１５０及びエアシリンダー（アクチュエータ装置）１６０を含む。ステージ１１２は、ベース１１１の上に設置され、基板１１３を支持する。ハウジング１２０は、ベース１１１の上に設置され、ベース１１１と共にチャンバー１１４を形成する。ステージ１１２と基板１１３は、チャンバー１１４を受ける。排気管１３０は、ハウジング１２０の上に設置され、チャンバー１１４の中に延伸し、そこから空気を排出する。アクチュエータ装置１６０は、ベース１１１の上に設置される。第１ローラーセット１５０は、アクチュエータ装置１６０の上に設置される。導溝１４０は、第１ローラーセット１５０に対応してハウジング１２０の両側に設置される。
【００１２】
図２を参照すると、ハウジング１２０は、第１位置（図１を参照）と第２位置（図２を参照）間を移動可能である。説明を簡易化するために、ハウジング１２０を第１位置と第２位置間で移動する持ち上げ装置が表されていない。ハウジング１２０が第１位置にある時、ハウジング１２０とベース１１１は、基板１１３の低圧処理のためのチャンバー１１４を形成する。基板の処理が完成した時、ハウジング１２０は、第２位置に移動され、ロボット（未図示）を基板にアクセスさせる。
【００１３】
図３は、ハウジング１２０が第２位置にある時の低圧処理装置１００の側面図である。各第１ローラーセット１５０は、支持素子１５１と複数のローラー１５２を含む。ローラー１５２は、支持素子１５１の上に設置される。支持素子１５１は、アクチュエータ装置１６０と接触する。
【００１４】
図４及び図５を参照すると、ハウジング１２０は、ベース１１０の上に取り外し可能に設置される。使用者は、ハウジング１２０をベースから取り外し、ハウジング１２０を個別に洗浄することができる。ハウジング１２０がベース１１０から外された時、アクチュエータ装置１６０は、第１ローラーセット１５０を第１平面に持ち上げ、導溝１４０に接触させる。第１ローラーセット１５０は、ハウジング１２０を支持し、移動する。幾つかの変形例では、アクチュエータ装置１６０は、第１ローラーセット１５０が導溝１４０に接触した後、ハウジング１２０と第１ローラーセット１５０を更に持ち上げる。図６を参照すると、第１ローラーセット１５０が第１平面に持ち上げられ、導溝１４０に接触した後、ハウジング１２０は、第１水平方向ｙで搬送装置２００に移動される。搬送装置２００は、第１平面の上に配置された第２ローラーセット２１０を含む。ハウジング１２０は、導溝１４０によって第１ローラーセット１５０と第２ローラーセット２１０の上で移動される。
【００１５】
図７は、基板処理設備３００に設置された本発明の低圧処理装置１００を表している。基板処理設備３００は、複数のストッカー３１０、クリーニングユニット（第１処理装置）３２０、フォトレジストコーティング装置（第２処理装置）３３０、低圧処理装置１００、露光ユニット３４０及びロボット３５０を含む。クリーニングユニット（第１処理装置）３２０、フォトレジストコーティング装置（第２処理装置）３３０、低圧処理装置１００は、第２水平方向ｘに沿って配列される。図８を参照すると、ハウジング１２０が取り外された時、ハウジング１２０は、第２水平方向ｘに垂直な第１水平方向ｙの搬送装置２００に移動される。
【００１６】
本発明に係るハウジング１２０は、ベース１１１から外されて移動され、洗浄される。よって、元のハウジング（第１ハウジング）が洗浄される時、もう１つのハウジング（第２ハウジング）がベース１１１の上に設置されて低圧処理を続ける。よって、低圧処理装置の停止時間が短縮され、生産高とコストが保持される。
【００１７】
本発明の低圧処理装置１００は、例えば、フォトレジスト材料（例えば樹脂）等の有機溶剤を乾燥するために用いられることができる。
【００１８】
図９を参照すると、ハウジング１２０は、持ち上げ装置１７０と支持構造１２２によって、第１位置と第２位置間で移動される。各持ち上げ装置１７０は、支持ロッド１７１を含む。支持構造１２２は、ハウジング１２０の上に設置される。支持ロッド１７１は、支持構造１２２に接続される。持ち上げ装置１７０は、支持ロッド１７１によってハウジング１２０を持ち上げる。支持ロッド１７１は、容易な取り外しのために支持構造１２２に接触する。
【００１９】
図１０は、本発明に係る第２実施形態の低圧処理装置１００’を表しており、ハウジング１２０’は、その後方に設置されたゲート１２１を含む。よって、第２実施形態では、ロボットが基板１１３にアクセスした時、ハウジング１２０’は、持ち上げられない。図１１を参照すると、ハウジング１２０’が取り外されて、洗浄される時、アクチュエータ装置１６０は、第１ローラーセット１５０とハウジング１２０’を直接押し上げる。本発明に係る第２実施形態では、ハウジング１２０’を持ち上げる追加の装置は有さない。
【００２０】
以上、本発明の好適な実施例を例示したが、これは本発明を限定するものではなく、本発明の精神及び範囲を逸脱しない限りにおいては、当業者であれば行い得る少々の変更や修飾を付加することは可能である。従って、本発明が保護を請求する範囲は、特許請求の範囲を基準とする。
【産業上の利用可能性】
【００２１】
以上説明したように、本発明は、低圧処理装置の停止時間が短縮され、生産高とコストが保持される。したがって、本件発明は、低圧処理装置の技術分野において好適に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に係る第１実施形態の低圧処理装置の前面図である。
【図２】本発明に係る低圧処理装置のハウジングが第２位置にある時の前面図である。
【図３】本発明に係る低圧処理装置のハウジングが第２位置にある時の側面図である。
【図４】導溝に接触した第１ローラーセットを表す前面図である。
【図５】導溝に接触した第１ローラーセットを表す側面図である。
【図６】第１ローラーセットと導溝によってスライドされたハウジングを表す図である。
【図７】本発明の基板処理設備を表す図である。
【図８】基板処理設備から取り外されたハウジングを表す図である。
【図９】本発明に係る持ち上げ装置を表す図である。
【図１０】本発明に係る第２実施形態の低圧処理装置を表す図である。
【図１１】本発明に係る第２実施形態の低圧処理装置から取り外されたハウジングを表す図である。
【図１２】従来の低圧処理装置を表す図である。
【図１３】従来の低圧処理装置のハウジングを上げている状態を表す図である。
【符号の説明】
【００２３】
１  ベース
２  ハウジング
３  ステージ
４  基板
５  支持素子
６  アクチュエータ装置
７  排気管
８  チャンバー
１０  低圧処理装置
１００、１００’ 低圧処理装置
１１１  ベース
１１２  ステージ
１１３  基板
１１４  チャンバー
１２０、１２０’ ハウジング
１２１  ゲート
１２２  支持構造
１３０  排気管
１４０  導溝
１５０  第１ローラーセット
１５１  支持素子
１５２  ローラー
１６０  アクチュエータ装置
１７０  持ち上げ装置
１７１  支持ロッド
２００  搬送装置
２１０  第２ローラーセット
３００  基板処理設備
３１０  ストッカー
３２０  クリーニングユニット
３３０  フォトレジストコーティング装置
３４０  露光ユニット
３５０  ロボット
【図１】
0004625799.tif 000002
【図２】
0004625799.tif 000003
【図３】
0004625799.tif 000004
【図４】
0004625799.tif 000005
【図５】
0004625799.tif 000006
【図６】
0004625799.tif 000007
【図７】
0004625799.tif 000008
【図８】
0004625799.tif 000009
【図９】
0004625799.tif 000010
【図１０】
0004625799.tif 000011
【図１１】
0004625799.tif 000012
【図１２】
0004625799.tif 000013
【図１３】
0004625799.tif 000014