Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月4日(2003.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
シード粒子の周りにシード重合される単量体としては少なくとも（メタ）アクリルアミドを使用するものであるが、本発明の所望の効果を損なわないかぎりにおいて、（メタ）アクリルアミドと共重合が可能な他の単量体を併用することもできる。かかる単量体の具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−２−アミノエチル、（メタ）アクリル酸−２−（Ｎ−メチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル酸グリシジル等の（メタ）アクリル酸エステル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類、（メタ）アクリロニトリル等のニトリル基含有単量体類、（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸類、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル単量体類、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等のＮ−置換不飽和カルボン酸アミド等が挙げられる。なかでも、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、メチロール基、グリシジル基等の官能基を有する不飽和単量体が好ましく用いられる。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
実施例１の保護層用塗液の調製において、アクリル酸−２−エチルヘキシル３８部の代わりにブチルアクリレート３８部を用いた以外は、実施例１と同様にして感熱記録体を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月18日(2003.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のページ記述言語で表された画像情報を処理する複数の画像処理手段と、
前記複数の画像処理手段で共有可能にフォーム画像を登録する登録手段と、
前記登録手段に登録されているフォーム画像と前記画像処理手段により処理された画像情報とを合成して画像形成出力する画像形成手段とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記複数の画像処理手段は、ホストコンピュータから送られてきたページ記述言語データを解析し、ビットマップ画像に展開することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記登録手段は、フォーム画像の属性と前記フォーム画像を格納する格納先を管理する管理テーブルを含むことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項４】
画像情報を読み取る画像読取手段を更に備え、
前記画像形成手段は、前記登録手段に登録されているフォーム画像と前記画像読取手段により読み取った画像情報とを合成して画像形成出力することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項５】
ページ記述言語で表された特定の画像情報を生成する生成手段と、
前記生成手段により生成された特定の画像情報を処理する画像処理手段と、
前記画像処理手段により処理された画像情報を画像形成出力する画像形成手段とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
前記生成手段は、ファクシミリ機能のヘッダ情報を生成することを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記生成手段は、ファクシミリ機能の通信管理レポート情報を生成することを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記生成手段は、画像形成装置の各種マニュアル情報を生成することを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項９】
複数のページ記述言語で表された画像情報を処理する複数の画像処理工程と、
前記複数の画像処理工程で共有可能にフォーム画像を登録する登録工程と、
前記登録工程で登録されたフォーム画像と前記画像処理工程により処理された画像情報とを合成して画像形成出力する画像形成工程とを有することを特徴とする画像形成方法。
【請求項１０】
前記複数の画像処理工程では、ホストコンピュータから送られてきたページ記述言語データを解析し、ビットマップ画像に展開することを特徴とする請求項９に記載の画像形成方法。
【請求項１１】
前記登録工程では、フォーム画像の属性と前記フォーム画像を格納する格納先を管理する管理テーブルを用いることを特徴とする請求項９に記載の画像形成方法。
【請求項１２】
画像情報を読み取る画像読取工程を更に有し、
前記画像形成工程では、前記登録工程で登録されたフォーム画像と前記画像読取工程により読み取った画像情報とを合成して画像形成出力することを特徴とする請求項９に記載の画像形成方法。
【請求項１３】
ページ記述言語で表された特定の画像情報を生成する生成工程と、
前記生成工程により生成された特定の画像情報を処理する画像処理工程と、
前記画像処理工程により処理された画像情報を画像形成出力する画像形成工程とを有することを特徴とする画像形成方法。
【請求項１４】
前記生成工程は、ファクシミリ機能のヘッダ情報を生成することを特徴とする請求項１３に記載の画像形成方法。
【請求項１５】
前記生成工程は、ファクシミリ機能の通信管理レポート情報を生成することを特徴とする請求項１３に記載の画像形成方法。
【請求項１６】
前記生成工程は、画像形成装置の各種マニュアル情報を生成することを特徴とする請求項１３に記載の画像形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月25日(2003.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路パッケージであって、
第一の誘電層と、
第二の領域から絶縁された第一の領域を有し、前記第一の誘電層上に配置された第一の導電層と、
前記第一導電層の上に配置されていて、前記第一と第二の領域がその中で露出されている空洞を有する第二の誘電層と、
前記第二の誘電層の上に位置していて、前記露出された第一の領域に接続されている第一のリードと前記第一の導電層の前記露出された第二の領域に接続されている第二のリードとを含む集積回路チップとを含む基板を備える集積回路パッケージ。
【請求項２】
請求項１記載の集積回路パッケージにおいて、前記第一の導電層が連続領域を含み、前記集積回路チップがボンド・パッドを含み、前記連続領域が前記ボンド・パッドの一つより多くと接続している集積回路パッケージ。
【請求項３】
請求項２記載の集積回路パッケージにおいて、前記連続領域が、アース面および電力面のうちの一方である集積回路パッケージ。
【請求項４】
請求項２記載の集積回路パッケージにおいて、前記連続領域が、前記集積回路チップの少なくとも一つの側面に沿って境界を形成する集積回路パッケージ。
【請求項５】
請求項１記載の集積回路パッケージにおいて、前記第一の導電層の露出部分が、アース面と電力面の一方を含む集積回路パッケージ。
【請求項６】
請求項１記載の集積回路パッケージにおいて、前記第一の導電層の露出部分が、信号ライン用の少なくとも一つの接続部を含む集積回路パッケージ。
【請求項７】
請求項１記載の集積回路パッケージにおいて、さらに、前記第二の誘電層の上に形成された第二の導電層を備える集積回路パッケージ。
【請求項８】
集積回路パッケージであって、
第一の誘電層と、
前記第一の誘電層上に配置され、かつ第二の領域から絶縁された第一の領域を有する第一の導電層と、
前記第一導電層の上に形成されていて、前記第一と第二の領域が空洞内で露出され、それぞれが集積回路の第一と第二のリードに接続されている空洞を有する第二の誘電層と、
前記第二の誘電層の上に位置していて、前記集積回路をその上に位置決めするための領域を有する第二の導電層とを含む基板を備える集積回路パッケージ。
【請求項９】
請求項８記載の集積回路パッケージにおいて、前記第一の導電層の露出部分が、アース面および電力面のうちの一方を形成する集積回路パッケージ。
【請求項１０】
請求項８記載の集積回路パッケージにおいて、前記第一の導電層の露出部分が、さらに、信号ライン用の接続部を形成する集積回路パッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月27日(2003.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部メタライゼーション層及び相互接続集積回路デバイスにより形成された相互接続を有する基板；
基板上に形成された複数のボンディングパッド；及び
基板の外部領域に内部メタライゼーション層により形成され、複数のボンディングパッドの少くとも２つに結合された第１の導電性トレースを含み、前記第１の導電性トレースと前記少なくとも２つのボンディングパッドが、前記相互接続から電気的に分離していることを特徴とする集積回路。
【請求項２】
第１の分離した導電性トレースは複数のボンディングパッドを囲む請求項１記載の集積回路。
【請求項３】
第１の分離した導電性トレースは面取り領域を有する請求項２記載の集積回路。
【請求項４】
第１の分離した導電性トレースは少くとも２つの別々の第１の分離した導電性トレースを含む請求項１記載の集積回路。
【請求項５】
第１の分離した導電性トレースは集積回路の周囲に形成される請求項１記載の集積回路。
【請求項６】
第１の分離した導電性トレースは少くとも２つの別々の導電性トレースを含み、別々の分離した導電性トレースのそれぞれは複数のボンディングパッドの少くとも２つに結合された請求項１記載の集積回路。
【請求項７】
内部メタライゼーション層及び相互接続集積回路により形成された相互接続を有する基板；
前記基板の上方に形成された複数のボンディングパッド；及び
前記内部メタライゼーション層により形成され、ボンディングパッド周囲に形成され、
複数のボンディングパッドの少くとも２つに電気的に結合された導電性テスタランナを含み、前記導電性テスタランナと少なくとも２つのボンディングパッドは、相互接続から電気的に分離されていることを特徴とする集積回路。
【請求項８】
複数の分離した導電性テスタランナを更に含む請求項７記載の集積回路。
【請求項９】
複数の分離した導電性テスタランナの少くとも２つは、基板の上面に対し、異なる高さを有する請求項８記載の集積回路。
【請求項１０】
前記分離した導電性テスタランナは面取り領域を有する請求項７記載の集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月30日(2003.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に電子素子または電子回路が形成されている半導体基板と、
該半導体基板の表面を有機絶縁材料で覆って形成される有機絶縁膜とを含み、
該有機絶縁膜の表面のエッジ部に、面取りが施されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記有機絶縁材料は、ベンゾシクロブテンであることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記面取りが、前記有機絶縁膜の表面に対し、１００度以上で１６０度以下の角度範囲の傾斜を有するテーパ形状であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の半導体装置。
【請求項４】
前記テーパ面の断面長さが、３から１０マイクロメートルであることを特徴とする請求項３記載の半導体装置。
【請求項５】
前記テーパ面の断面長さが、５から８マイクロメートルであることを特徴とする請求項３記載の半導体装置。
【請求項６】
前記面取りが、丸みを帯びた凸曲面形状であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の半導体装置。
【請求項７】
前記凸曲面形状の曲率半径が３から６マイクロメートルであることを特徴とする請求項６記載の半導体装置。
【請求項８】
前記半導体基板は、
ガリウム砒素と、インジウムリンと、インジウムガリウムリンと、インジウムガリウム砒素と、アルミニウムガリウム砒素とを含む群から選ばれる化合物半導体から成ることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の半導体装置を製造する方法であって、
半導体基板の表面を有機絶縁材料で覆って、有機絶縁膜を形成する成膜工程と、
成膜工程で形成された有機絶縁膜の表面に、レジストを塗布する塗布工程と、
塗布工程で塗布されたレジストをパターニングするパターニング工程と、
パターニング工程でパターニングされたレジストのエッジ部を、面取りする面取り工程と、
面取り工程でエッジ部が面取りされたレジストと有機絶縁膜とを、エッチングするエッチング工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載の半導体装置を、無線通信用の高周波回路部品として含むことを特徴とする無線通信用半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、表面に電子素子または電子回路が形成されている半導体基板と、
該半導体基板の表面を有機絶縁材料で覆って形成される有機絶縁膜とを含み、
該有機絶縁膜の表面のエッジ部に、面取りが施されていることを特徴とする半導体装置である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に従えば、半導体装置は、表面に電子素子または電子回路が形成されている半導体基板と、半導体基板の表面を有機絶縁材料で覆って形成される有機絶縁膜とを含む。有機絶縁膜の表面のエッジ部には、面取りが施されているので、有機絶縁膜側を角錐コレットなどで真空吸着するときには、比較的広い面積で接触させることができ、エッジ部の接触圧を低減することができる。エッジ部の接触圧が低減するので、クラックの発生や、半導体基板の破損を防いで、信頼性の高い半導体装置を得ることができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また本発明は、前記面取りが、前記有機絶縁膜の表面に対し、１００度以上で１６０度以下の角度範囲の傾斜を有するテーパ形状であることを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明に従えば、半導体基板の表面を覆う有機絶縁膜のエッジ部には、面取りとして、有機絶縁膜の表面に対し、１００度以上で１６０度以下の角度範囲の傾斜を有するテーパが形成されるので、真空吸着用の角錐コレットの接触面の傾斜と同程度にすることができ、半導体装置を真空吸着する際にエッジ部での接触面積を大きくし、接触圧を低減してクラックや破損が生じにくくして、信頼性を高めることができる。
また本発明は、前記テーパ面の断面長さが、３から１０マイクロメートルであることを特徴とする。
また本発明は、前記テーパ面の断面長さが、５から８マイクロメートルであることを特徴とする。
本発明に従えば、テーパ面の断面長さを３から１０マイクロメートル、好ましくは５から８マイクロメートルとする面取りを行って、信頼性を高めることができる。
また本発明は、前記面取りが、丸みを帯びた凸曲面形状であることを特徴とする。
また本発明は、前記凸曲面形状の曲率半径が３から６マイクロメートルであることを特徴とする。
本発明に従えば、丸みを帯びた凸曲面形状で、好ましくは曲率半径を３から６マイクロメートルとして面取りを行い、信頼性を高めることができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、半導体基板の表面を覆う有機絶縁膜の周縁のエッジ部は、面取りが施されているので、角錐コレットなどに真空吸着する際に、接触部分からのクラックの発生や半導体基板の破損などを防ぐことができ、半導体装置の信頼性を向上させることができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また本発明によれば、有機絶縁膜の表面に対して、１００度以上で１６０度以下の角度範囲の傾斜を有するので、ダイシング工程や実装マウント工程で角錐コレットなどで真空吸着しても、角錐コレットに設けられる接触面の角度とほぼ同一となり、接触部から大きな力が加わって有機絶縁膜にクラックが入ったり半導体基板が破損したりすることを防ぐことができる。
また本発明によれば、断面長さが３から１０マイクロメートルのテーパ面による面取りで信頼性を高めることができる。
また本発明によれば、断面長さが５から８マイクロメートルのテーパ面による面取りで信頼性を高めることができる。
また本発明によれば、凸曲面形状の面取りで信頼性を高めることができる。
また本発明によれば、曲率半径を３から６マイクロメートルとして、信頼性を高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月30日(2003.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワークに接続された相手方通信装置と少なくとも文字によるメッセージ通信を行う文字通信装置であって、
前記メッセージ通信のために予め用意された主語と述語を含む複数の候補用語を記憶すると共に、該複数の候補用語のうち主語となり得るものには予め属性を定義して記憶している記憶手段と、
前記ネットワークを介して前記相手方通信装置と交信を行うための送受信手段と、前記複数の候補用語を画面表示器の画面に表示させる候補表示手段と、
前記画面に表示された複数の候補用語から所要の用語をゲームコントローラの操作に応じて選択する用語選択手段と、
該用語選択手段により主語が選択されたとき、該主語に定義された属性を判別し、該属性に対応する複数の述語を前記複数の候補用語から選択して前記表示器の画面に表示させる候補選択手段と、
前記用語選択手段により選択された用語を組み立ててメッセージを形成する手段と、を有し、前記送受信手段は、前記ゲームコントローラによる送信の指示に対応して、前記メッセージをサーバまたは相手方通信装置に送信することを特徴とする文字通信装置。
【請求項２】
ネットワークに接続された相手方通信装置と少なくとも文字によるメッセージ通信を行う文字通信装置であって、
前記メッセージ通信のために予めキャラクタの属性が定義された複数の候補用語を記憶する記憶手段と、
前記ネットワークを介して前記相手方通信装置と交信を行うための送受信手段と、
前記複数の候補用語を画面表示器の画面に表示させる候補表示手段と、プレーヤの分身である前記キャラクタの属性に対応する複数の候補用語を選択して前記表示器の画面に表示させる候補選択手段と、
前記キャラクタの属性に対応する複数の候補用語から所要の用語をゲームコントローラの操作に応じて選択する用語選択手段と、を有し、前記送受信手段は、前記ゲームコントローラによる送信の指示に対応して、前記メッセージをサーバまたは相手方通信装置に送信することを特徴とする文字通信装置。
【請求項３】
前記候補表示手段及び／又は前記候補選択手段は、ゲームの場面に対応して前記表示器の画面に表示すべき候補用語を選択する、ことを特徴とする請求項１または２記載の文字通信装置。
【請求項４】
文字通信装置においてプログラムを実行することにより、ネットワークに接続された相手方通信装置と少なくとも文字によるメッセージ通信を行う文字通信方法であって、
前記メッセージ通信のために述語および予め属性が定義された主語を含む複数の候補用語を記憶手段に記憶するステップと、
前記ネットワークを介して前記相手方通信装置と交信を行うステップと、
前記複数の候補用語を画面表示器の画面に表示させるステップと、
前記画面に表示された複数の候補用語から所要の用語をゲームコントローラの操作に応じて選択するステップと、
前記複数の候補用語から主語が選択されたとき、該主語に定義された属性を判別し、該属性に対応する複数の述語を前記複数の候補用語から選択して前記表示器の画面に表示させるステップと、
前記ゲームコントローラの操作に応じて選択された用語を組み立ててメッセージを形成するステップと、
前記メッセージをサーバまたは相手方通信装置に送信するステップと、を備えることを特徴とする文字通信方法。
【請求項５】
文字通信装置においてプログラムを実行することにより、ネットワークに接続された相手方通信装置と少なくとも文字によるメッセージ通信を行う文字通信方法であって、
前記メッセージ通信のために予めキャラクタの属性が定義された複数の候補用語を記憶手段に記憶するステップと、
前記ネットワークを介して前記相手方通信装置と交信を行うステップと、
前記複数の候補用語を画面表示器の画面に表示させるステップと、プレーヤの分身である前記キャラクタの属性に対応する複数の候補用語を選択して前記表示器の画面に表示させるステップと、
前記キャラクタの属性に対応する複数の候補用語から所要の用語をゲームコントローラの操作に応じて選択するステップと、
前記ゲームコントローラによる送信の指示に対応して、前記メッセージをサーバまたは相手方通信装置に送信するステップと、を備えることを特徴とする文字通信方法。
【請求項６】
前記複数の候補用語を画面表示器の画面に表示させるステップ及び／又はプレーヤの分身である前記キャラクタの属性に対応する複数の候補用語を選択して前記表示器の画面に表示させるステップは、ゲームの場面に対応して前記表示器の画面に表示すべき候補用語群を選択するステップを更に備える、ことを特徴とする請求項４または５記載の文字通信方法。
【請求項７】
請求項４乃至６記載の何れか１項記載の文字通信方法を、ＣＰＵにより実行可能なプログラムとして記録した記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月22日(2003.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ひとつの機能毎にモジュール化されたソフトウェアとしてのベースコンポーネント、或いは前記ベースコンポーネントをさらに組み合わせて階層的に構築されたコンポーネントパッケージ（以下「ｃＰａｃｋａｇｅ」）を一括管理する事業主体から、当該ベースコンポーネント及びｃＰａｃｋａｇｅ  を、ネットワークを介して前記ベースコンポーネント或いは前記ｃＰａｃｋａｇｅを使用する使用者へ配信可能とし、前記使用者あるいはエンドユーザーにおけるベースコンポーネント或いはｃＰａｃｋａｇｅの使用量に応じて、事業主体が課金するコンポーネント・サービス・ネットワークシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月19日(2003.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】年金受給開始年齢特定装置、その方法、年金受け取りを担保としての融資計画立案装置、その方法、及び記録媒体


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支給開始年齢によって支給率が変わる年金の年金受給予定者にとって受給を開始すべき年齢を算出する装置であって、
平均寿命情報が記憶された余命データ記憶手段と、
支給開始年齢毎の支給率を記憶した支給率記憶手段と、
前記余命データ記憶手段に記憶されている平均寿命情報を元に年金受給予定者の予測された余命を算出する余命算出手段と、
前記余命算出手段が算出した余命、及び前記支給率記憶手段に記憶されている支給率情報を基に、年金受給予定者が受給を開始すべき受給開始年齢を特定する受給開始年齢特定手段と、
を具備することを特徴とする年金受給開始年齢特定装置。
【請求項２】
融資申込者に支給される予定の年金を担保として実行する融資の計画を立案する装置であって、
平均寿命情報が記憶された余命データ記憶手段と、
支給開始年齢毎の支給率を記憶した支給率記憶手段と、
前記余命データ記憶手段に記憶されている平均寿命情報を元に融資申込者の予測された余命を算出する余命算出手段と、
前記余命算出手段により算出された融資申込者の予測余命、及び支給率記憶手段に記憶されている支給率情報を基に、該融資申込者が受給を開始すべき受給開始年齢を特定する受給開始年齢特定手段と、
前記受給開始年齢特定手段が特定した受給開始年齢での支給率、及び融資申込者の予測された余命を基に、該融資申込者に対する融資の実行計画を立案する実行計画立案手段と、
を具備することを特徴とする年金受取を担保としての融資計画立案装置。
【請求項３】
平均寿命情報が記憶された余命データ記憶手段及び支給開始年齢毎の支給率を記憶した支給率記憶手段とを有するコンピュータが行う年金受給開始年齢特定方法であって、
前記コンピュータは、
前記余命データ記憶手段に記憶されている平均寿命情報を元に年金受給予定者の予測された余命を算出する余命算出ステップと、
前記余命算出ステップで算出した余命と、前記支給率記憶手段に記憶されている支給率情報を基に、年金受給予定者が受給を開始すべき受給開始年齢を特定する受給開始年齢特定ステップと、
を実行することを特徴とする年金受給開始年齢特定方法。
【請求項４】
平均寿命情報が記憶された余命データ記憶手段及び支給開始年齢毎の支給率を記憶した支給率記憶手段とを有するコンピュータが行う融資計画立案方法であって、
前記コンピュータは、
前記余命データ記憶手段に記憶されている平均寿命情報を元に融資申込者の予測された余命を算出する余命算出ステップと、
前記余命算出ステップにより算出された融資申込者の予測余命と、支給率記憶手段に記憶されている支給率情報を基に、該融資申込者が受給を開始すべき受給開始年齢を特定する受給開始年齢特定ステップと、
前記受給開始年齢特定ステップにて特定された受給開始年齢での支給率、及び融資申込者の予測された余命を基に、該融資申込者に対する融資の実行計画を立案する実行計画立案ステップと、
を実行することを特徴とする年金受取を担保としての融資計画立案方法。
【請求項５】
コンピュータを、
平均寿命情報が記憶された余命データ記憶手段と、
支給開始年齢毎の支給率を記憶した支給率記憶手段と、
前記余命データ記憶手段に記憶されている平均寿命情報を元に年金受給予定者の予測された余命を算出する余命算出手段と、
前記余命算出手段が算出した余命、及び前記支給率記憶手段に記憶されている支給率情報を基に、年金受給予定者が受給を開始すべき受給開始年齢を特定する受給開始年齢特定手段と、
して実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月30日(2003.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
商品の受発注に関する情報を格納する基幹業務用データベースと、
前記基幹業務用データベースに格納されている情報の一部が読み出され、前記読み出された情報を格納する顧客用データベースと、
前記顧客用データベースに格納された情報を加工し、顧客に開示する情報を顧客毎に作成して前記顧客用データベースに格納すると共に、前記顧客毎に作成し格納された情報を前記顧客からの要求に応じて提供する一方、前記顧客から提供される商品の受発注に関する情報を前記顧客用データベースに格納する顧客用サーバと
を有することを特徴とする商品受発注支援システム。
【請求項２】
基幹業務用システムと、前記基幹業務用システムに接続される顧客用システムとを用いて商品の受発注に関する処理を支援する商品受発注支援システムであって、
前記基幹業務用システムは、商品の受発注に関する処理を行う基幹業務用サーバと、商品の受発注に関する情報を格納する基幹業務用データベースとを有し、前記顧客用システムは、顧客用端末と、前記基幹業務用データベースに格納されている情報の一部が読み出され、前記読み出された情報を格納する顧客用データベースと、前記顧客用データベースに格納された情報を加工処理し、顧客に開示する情報を顧客毎に作成して前記顧客用データベースに格納すると共に、前記顧客用端末からの要求に応じて前記顧客毎に作成し格納された情報を提供する一方、前記顧客用端末から供給される商品の受発注に関する情報を前記顧客用データベースに格納する顧客用サーバとを有することを特徴とする商品受発注支援システム。
【請求項３】
前記顧客用サーバは、ネットワークを介して前記顧客用端末に接続されており、前記顧客用端末からの要求に応じて前記顧客毎に作成し格納された情報をネットワークを介して提供する一方、前記顧客用端末からネットワークを介して供給される商品の受発注に関する情報を前記顧客用データベースに格納することを特徴とする請求項２記載の商品受発注支援システム。
【請求項４】
前記顧客用サーバは、所定時間毎に前記顧客用データベースに格納された情報のうち前記顧客用端末から供給される商品の受発注に関する情報を前記基幹業務用データベースに供給すると共に、前記基幹業務用データベースに格納された情報を前記顧客用データベースに格納された情報に反映させることを特徴とする請求項２又は３記載の商品受発注支援システム。
【請求項５】
前記顧客用サーバは、前記基幹業務用データベースに格納された情報を前記顧客用データベースに格納された情報に反映させる際、商品の受発注に関する顧客毎の処理結果を前記基幹業務用システム側で顧客毎に登録されている担当者にネットワークを介して通知することを特徴とする請求項２乃至４何れか一項記載の商品受発注支援システム。
【請求項６】
前記顧客用サーバは、前記顧客用データベースに格納された情報を加工処理し、前記顧客毎に開示する情報として商品の在庫情報及び価格情報を作成し前記顧客用データベースに格納することを特徴とする請求項２乃至５何れか一項記載の商品受発注支援システム。
【請求項７】
前記顧客用サーバは、前記商品を複数の商品群に分けると共に、その商品群毎に複数の掛率を設定し、
前記顧客別かつ商品群別に前記複数の掛率のうち一つを対応させて各商品毎の販売価格を算出することを特徴とする請求項６記載の商品受発注支援システム。
【請求項８】
基幹業務用システムと、前記基幹業務用システムに接続される顧客用システムとを用いて商品の受発注に関する処理を支援する商品受発注支援システムの商品受発注支援方法であって、
前記顧客用システムに含まれる顧客用サーバが、前記基幹業務用システムに含まれる基幹業務用データベースに格納されている商品の受発注に関する情報を参照し、前記商品の受発注に関する情報の一部を顧客用システムに含まれる顧客用データベースに格納する段階と、
前記顧客用サーバが、前記顧客用データベースに格納した情報を加工処理し、顧客に開示する情報を顧客毎に作成して前記顧客用データベースに格納する段階と、
前記顧客用サーバが、前記顧客用システムに含まれる顧客用端末からの要求に応じて前記顧客毎に作成し格納された情報を提供する一方、前記顧客用端末から供給される商品の受発注に関する情報を前記顧客用データベースに格納する段階と、
前記顧客用サーバが、前記顧客用データベースに格納された情報のうち前記顧客用端末から供給された商品の受発注に関する情報を所定時間毎に前記基幹業務用データベースに反映させる段階と
を有することを特徴とする商品受発注支援方法。
【請求項９】
前記顧客用システムに含まれる顧客用端末からの要求に応じて前記顧客毎に作成し格納された情報を提供する一方、前記顧客用端末から供給される商品の受注に関する情報を前記顧客用データベースに格納する段階は、
前記顧客用サーバが、前記顧客用端末を操作する顧客を認証する段階と、
前記顧客用サーバが、前記顧客毎に作成し格納された情報から前記認証した顧客に対応する情報を前記顧客用データベースから読み出し、前記顧客用端末に提供する段階と
を有することを特徴とする請求項８記載の商品受発注支援方法。
【請求項１０】
基幹業務用データベースと、顧客用データベースと、顧客用端末とに接続され、商品の受発注に関する処理を支援する顧客用サーバであって、
前記基幹業務用データベースに格納されている商品の受発注に関する情報を参照して、その情報の一部を前記顧客用データベースに格納し、
前記顧客用データベースに格納された情報を加工処理し、顧客に開示する情報を顧客毎に作成して前記顧客用データベースに格納し、
前記顧客用端末からの要求に応じて前記顧客毎に作成して前記顧客用データベースに格納された情報を提供する一方、前記顧客用端末から供給される商品の受発注に関する情報を前記顧客用データベースに格納し、
前記顧客用データベースに格納されている情報のうち前記顧客用端末から供給された商品の受発注に関する情報を所定時間毎に前記基幹業務用データベースに反映させることを特徴とする顧客用サーバ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月14日(2004.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基体と、上記透光性基体上に設けられ露光光を減光し該露光光の位相をシフトさせる位相シフト膜パターンと、上記位相シフト膜パターンの外側周辺の上記透光性基体の上部表面を部分的に覆うレジスト膜とを有することを特徴とする位相シフトマスク。
【請求項２】
前記レジスト膜はネガ型のレジスト膜であることを特徴とする請求項１記載の位相シフトマスク。
【請求項３】
前記位相シフト膜は上記露光光を１８０°の奇数倍位相シフトすることを特徴とする請求項１記載の位相シフトマスク。
【請求項４】
前記レジスト膜は露光処理され現像された後熱処理されたものであることを特徴とする請求項１記載の位相シフトマスク。
【請求項５】
上記レジスト膜は上記透光性基体の周縁部表面を除く上記位相シフト膜上に設けられていることを特徴とする請求項１記載の位相シフトマスク。
【請求項６】
上記位相シフト膜パターン及びその周辺の上記レジスト膜がペリクルによって覆われていることを特徴とする請求項１記載の位相シフトマスク。
【請求項７】
上記レジスト膜の膜厚が上記位相シフト膜の膜厚より厚いことを特徴とする請求項１記載の位相シフトマスク。
【請求項８】
上記レジスト膜の上記露光光に対する消衰係数が０．１以下であることを特徴とする請求項１記載の位相シフトマスク。
【請求項９】
透明基体と、上記透明基体上に設けられマスクパターン領域を形成するハーフトーン位相シフト膜と、上記マスクパターン領域の外周を取り囲んで上記位相シフト膜上に設けられたレジスト膜とを有することを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク。
【請求項１０】
露光光を減光し且つ該露光光の位相をシフトさせる位相シフト膜を透光性基体の一主面上に有するマスク基板を準備する工程と、回路パターン領域を形成するために上記位相シフト膜をパターニングする工程と、上記パターニングされた上記位相シフト膜上にレジスト膜を被着する工程と、上記回路パターン領域の外側周辺部に部分的に上記レジスト膜を残し上記回路パターン領域内及び上記透光性基体の周縁部上に位置する上記レジスト膜を除去する工程とからなることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【請求項１１】
上記レジスト膜はネガ型のレジストであることを特徴とする請求項１０記載の位相シフトマスクの製造方法。
【請求項１２】
その上表面に回路パターン領域を構成する位相シフト膜が形成され上記回路パターン領域の外側の上記位相シフト膜上にレジスト膜が被着されたホトマスクを準備する工程と、上記回路パターン領域に光を照射し残存するレジスト材から発する蛍光を観察することによって上記ホトマスクを検査する工程とを有するホトマスクの製造方法。
【請求項１３】
上記光がＡｒレーザ光であることを特徴とした請求項１２記載のホトマスクの製造方法。
【請求項１４】
チップフィールドとその外側周辺の外枠領域とを有する透光性基体と、
前記チップフィールドに設けられ、露光光を減光し、前記露光光の位相をシフトさせる位相シフト膜パターンと、
前記外枠領域に部分的に設けられたレジスト膜とを有することを特徴とする位相シフトマスク。
【請求項１５】
前記レジスト膜が形成された前記外枠領域の露光光に対する透過率は０．３％以下であることを特徴とする請求項１４記載の位相シフトマスク。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月28日(2003.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エレベーターシャフト内に設置されたガイドレールに沿って昇降するかご及びカウンターウエイトと、これらかご及びカウンターウエイトを懸架する１組の巻上ロープと、前記ガイドレールの上方に配置され前記巻上ロープと係合するトラクションシーブを含む駆動機械装置とを備えたトラクションエレベーターにおいて、前記ガイドレールの上部と前記エレベーターシャフトの上部とを繋ぐ機械土台枠を設け、この機械土台枠に前記駆動機械装置を固定すると共に、前記駆動機械装置の水平荷重を支持するように構成したことを特徴とするトラクションエレベーター。
【請求項２】
エレベーターシャフト内に設置されたガイドレールに沿って昇降するかご及びカウンターウエイトと、これらかご及びカウンターウエイトを懸架する１組の巻上ロープと、前記ガイドレールの上方に配置され前記巻上ロープと係合するトラクションシーブを含む駆動機械装置とを備えたトラクションエレベーターにおいて、前記カウンターウエイトのガイドレールの上部と前記エレベーターシャフトの上部とを機械土台枠で繋ぎ、この機械土台枠で前記駆動機械装置の垂直荷重と水平荷重とを支持するように構成したことを特徴とするトラクションエレベーター。
【請求項３】
エレベーターシャフト内に設置されたガイドレールに沿って昇降するかご及びカウンターウエイトと、これらかご及びカウンターウエイトを懸架する１組の巻上ロープと、前記ガイドレールの上方に配置され前記巻上ロープと係合するトラクションシーブを含む駆動機械装置とを備えたトラクションエレベーターにおいて、前記カウンターウエイトのガイドレールの上部をカウンターウエイトの通路よりも上部に延長させ、この延長部によって前記駆動機械装置の水平荷重を支持するように構成したことを特徴とするトラクションエレベーター。
【請求項４】
エレベーターシャフト内に設置されたガイドレールに沿って昇降するかご及びカウンターウエイトと、これらかご及びカウンターウエイトを懸架する１組の巻上ロープと、前記ガイドレールの上方に配置され前記巻上ロープと係合するトラクションシーブを含む駆動機械装置とを備えたトラクションエレベーターにおいて、前記カウンターウエイトのガイドレールの上部をカウンターウエイトの通路よりも上部に延長させ、この延長部によって前記駆動機械装置の垂直荷重と水平荷重とを支持するように構成したことを特徴とするトラクションエレベーター。
【請求項５】
かごガイドレールに沿って動くかごと、カウンターウエイトガイドレールに沿って動くカウンターウエイトと、かごおよびカウンターウエイトが懸架された１組の巻上ロープと、かごとエレベーターシャフトの壁との間でカウンターウエイトガイドレールの上方に配置され前記巻上ロープと係合するトラクションシーブを含む駆動機械装置とを備えたトラクションエレベーターにおいて、前記カウンターウエイトガイドレールの上端とエレベーターシャフトの梁とをつなぐ機械土台枠が設けられ、この機械土台枠は、前記駆動機械装置の垂直荷重を堅持する機械土台と、前記駆動機械装置の水平荷重を支える補強部材を有することを特徴とするトラクションエレベーター。
【請求項６】
かごガイドレールに沿って動くかごと、カウンターウエイトガイドレールに沿って動くカウンターウエイトと、かごおよびカウンターウエイトが懸架された１組の巻上ロープと、かごとエレベーターシャフトの壁との間でカウンターウエイトガイドレールの上方に配置され前記巻上ロープと係合するトラクションシーブを含む駆動機械装置とを備えたトラクションエレベーターにおいて、前記カウンターウエイトガイドレールをエレベーターシャフトの最上部梁まで延長して設け、この延長部分に前記駆動機械装置の垂直荷重を堅持する機械土台と水平荷重を支える補強部材とを設けたことを特徴とするトラクションエレベーター。
【請求項７】
かごガイドレールに沿って動くかごと、カウンターウエイトガイドレールに沿って動くカウンターウエイトと、かごおよびカウンターウエイトが懸架された１組の巻上ロープと、かごとエレベーターシャフトの壁との間でカウンターウエイトガイドレールの上方に配置され前記巻上ロープと係合するトラクションシーブを含みエレベーターシャフトの上部に配置された駆動機械装置とを備えたトラクションエレベーターにおいて、前記駆動機械装置の近傍に前記駆動機械装置を駆動する制御装置を配置するとともに、最上部または最上部より下の乗場出入り口の近傍に前記制御装置に指令を与える指令装置を配置することを特徴とするトラクションエレベーター。
【請求項８】
かごガイドレールに沿って動くかごと、カウンターウエイトガイドレールに沿って動くカウンターウエイトと、かごおよびカウンターウエイトが懸架された１組の巻上ロープと、かごとエレベーターシャフトの壁との間でカウンターウエイトガイドレールの上方に配置され前記巻上ロープと係合するトラクションシーブを含みエレベーターシャフトの上部に配置された駆動機械装置とを備えたトラクションエレベーターにおいて、前記駆動機械装置の近傍のかごガイドレールもしくはカウンターウエイトガイドレールに少なくとも前記駆動機械装置を駆動する制御装置の取付け部の一方を固定することを特徴とするトラクションエレベーター。
【請求項９】
少なくとも前記駆動機械装置を駆動する制御装置の取付け部の一方を前記機械土台枠の継ぎ柱に固定したことを特徴とする請求項５記載の取付け部の一方を固定することを特徴とするトラクションエレベーター。
【請求項１０】
前記制御装置は、少なくとも前記駆動機械装置を駆動するインバータ部とインバータ部に直流電力を与える変換装置を備えたことを特徴とする請求項７，８又は９記載のトラクションエレベーター。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月18日(2003.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水溶性エチレン性不飽和モノマーを、架橋剤および親水性色材の存在下で油中水滴型の逆相懸濁重合させて得られることを特徴とする着色高分子ゲル粒子。
【請求項２】
前記親水性色材が、イオン性官能基により表面を親水化処理した色材であることを特徴とする請求項１に記載の着色高分子ゲル粒子。
【請求項３】
水溶性エチレン性不飽和モノマーを、架橋剤および親水性色材の存在下、表面が撥水性の攪拌翼を備え、撥水性の内壁を有する反応容器内で、油中水滴型の逆相懸濁重合させる工程を有することを特徴とする着色高分子ゲル粒子の製造方法。
【請求項４】
前記反応容器の内壁および攪拌翼表面における表面張力が、４０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする請求項３に記載の着色高分子ゲル粒子の製造方法。
【請求項５】
前記反応容器の内壁および攪拌翼表面が、フッ素系あるいはシリコーン系の撥水剤により表面処理されていることを特徴とする請求項３に記載の着色高分子ゲル粒子の製造方法。
【請求項６】
前記反応容器の内壁および攪拌翼が、フッ素系あるいはシリコーン系の樹脂により形成されていることを特徴とする請求項３に記載の着色高分子ゲル粒子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的は、以下の本発明により達成される。即ち本発明の着色高分子ゲル粒子は、水溶性エチレン性不飽和モノマーを、架橋剤および親水性色材の存在下で油中水滴型の逆相懸濁重合させて製造されることを特徴とする。
ここで、前記親水性色材が、イオン性官能基により表面を親水化処理した色材であることが好ましい態様である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月26日(2003.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長が異なるレーザ光を発光する複数のレーザと、前記複数のレーザ光を平行等間隔に配列し複数の細いレーザビームに集光整形する配列集光光学系と、前記配列集光光学系からの平行・等間隔の複数のレーザビームを計測対象物上で復数行同時走査させる走査光学系と、前記複数のレーザビームの前記計測対象物からの乱反射光を集光する集光光学系と、前記集光光学系からの複数の集光を複数方向に分光し波長フイルターを通して前記各波長毎の集光に分光する分光光学系と、前記の各波長に分光された各集光を別個に受光する半導体位置検出素子と、前記半導体位置検出素子からのデータを演算して高さ画像データを求める演算回路と、前記演算回路からの高さ画像データを記憶する画像メモリとを有することを特徴とする３次元計測装置。
【請求項２】
請求項１記載の３次元計測装置において、演算回路と画像メモリとの間に、前記演算回路が復数行同時走査データから演算した高さ画像データを一時記憶して時分割し走査行配列順に並べ替えるバッファメモリを設けることを特徴とする３次元計測装置。
【請求項３】
配列集光光学系は複数のレーザ光を平行に等間隔に配列する複数のハーフミラーと細いレーザビームに集光整形する集光整形レンズとからなり、走査光学系はポリゴンミラーとＦ−θレンズとからなる請求項１または２記載の３次元計測装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本願第１発明の３次元計測装置は、上記の課題を解決するために、波長が異なるレーザ光を発光する複数のレーザと、前記複数のレーザ光を平行等間隔に配列し複数の細いレーザビームに集光整形する配列集光光学系と、前記配列集光光学系からの平行・等間隔の複数のレーザビームを計測対象物上で復数行同時走査させる走査光学系と、前記複数のレーザビームの前記計測対象物からの乱反射光を集光する集光光学系と、前記集光光学系からの複数の集光を複数方向に分光し波長フイルターを通して前記各波長毎の集光に分光する分光光学系と、前記の各波長に分光された各集光を別個に受光する半導体位置検出素子と、前記半導体位置検出素子からのデータを演算して高さ画像データを求める演算回路と、前記演算回路からの高さ画像データを記憶する画像メモリとを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月13日(2003.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明絶縁基板上に形成したゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体層と、エッチングストッパーと、不純物を含んだ半導体層と、ソース電極と、ドレイン電極とを堆積した半導体装置において、半導体層，ゲート電極，ソース電極，ドレイン電極による段差をなくすように平坦化樹脂層を有し、前記平坦化樹脂層上に酸化インジュウムから成る画素電極を設け、前記画素電極を前記平坦化樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して、ソース電極，ドレイン電極と不純物を含んだ半導体層とで構成されるスイッチング素子と接続したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
透明絶縁基板上にゲート電極を形成する工程と、ゲート絶縁膜，半導体層ならびにエッチングストッパーを堆積する工程と、不純物を含んだ半導体層を被着する工程と、ソース電極，ドレイン電極となる金属を被着する工程と、前記ソース電極，ドレイン電極と前記不純物を含んだ半導体層を同時にエッチングし、スイッチング素子とする工程と、平坦化樹脂層を全面に塗布する工程と、平坦化樹脂層の上面に酸化インジュウムから成る透明導電膜を堆積し画素電極とする工程と、前記画素電極を前記平坦化樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記スイッチング素子と接続する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明は、請求項１記載に係る発明のように、透明絶縁基板上に形成したゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体層と、エッチングストッパーと、不純物を含んだ半導体層と、ソース電極と、ドレイン電極とを堆積した半導体装置において、半導体層，ゲート電極，ソース電極，ドレイン電極による段差をなくすように平坦化樹脂層を有し、平坦化樹脂層上に酸化インジュウムから成る画素電極を設け、前記画素電極を前記平坦化樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して、ソース電極，ドレイン電極と不純物を含んだ半導体層とで構成されるスイッチング素子と接続することにより実施し得るものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
従って、ゲート電極，ソース電極，半導体層による段差を平坦化樹脂層でなくした上に、酸化インジュウムから成る画素電極を形成することができるので、平坦化樹脂層を光透過性でかつ紫外線感光性樹脂とすることにより、ソース電極，ドレイン電極と画素電極とを接続するためのコンタクトホール形成を通常のフォトリソグラフィーによって行うことができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そして、酸化インジュウムから成る画素電極はゲート電極，ソース電極で形成される領域より拡がっても対向電極との距離は一定となるため液晶分子の動きも均一になり、表示特性を均一にし、光透過率の向上，低抵抗化，エッチングの均一化を図ることができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明は、請求項２記載に係る発明のように、透明絶縁基板上にゲート電極を形成する工程と、ゲート絶縁膜，半導体層ならびにエッチングストッパーを堆積する工程と、不純物を含んだ半導体層を被着する工程と、ソース電極，ドレイン電極と前記不純物を含んだ半導体層を同時にエッチングし、スイッチング素子とする工程と、平坦化樹脂層を全面に塗布する工程と、平坦化樹脂層の上面に透明導電膜を堆積し画素電極とする工程と、前記画素電極を前記平坦化樹脂層に設けられたコンタクトホールを介して前記スイッチング素子と接続する工程とにより製造し得るもので、その製造法は従来例を簡単に改善することにより実施し得るものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月4日(2003.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性材料で形成された回転可能な定着部ローラを、コイルに電流を流して発生させた渦電流により発熱させる加熱ローラ装置において、
前記定着部ローラ内部に配置された永久磁石と、磁性材料で形成され前記永久磁石の両端部に配置された側磁路部材とを有し、前記永久磁石、側磁路部材、及び定着部ローラにより前記永久磁石の磁束の閉磁路が形成されていることを特徴とする加熱ローラ装置。
【請求項２】
磁性材料で形成された回転可能な定着部ローラを、当該定着部ローラ内部に位置するコイルに電流を流して発生させた渦電流により発熱させる加熱ローラ装置において、
磁性材料で形成され前記定着部ローラ内部に配置された心材と、磁性材料で形成された側磁路部材と、永久磁石とを有し、前記心材及び側磁路部材、永久磁石、定着部ローラにより前記永久磁石の磁束の閉磁路が形成されていることを特徴とする加熱ローラ装置。
【請求項３】
磁性材料で形成された回転可能な定着部ローラを、当該定着部ローラ内部に位置するコイルに電流を流して発生させた渦電流により発熱させる加熱ローラ装置において、
高周波磁性材料で形成され前記定着部ローラ内部に配置された心材と、高周波磁性材料で形成された側磁路部材とを有し、前記定着部ローラの磁性材料は前記高周波磁性材料より固有抵抗が小さいことを特徴とする加熱ローラ装置。
【請求項４】
電気的、磁気的絶縁材料で形成された複数の空芯のコイルボビンと、
前記複数の空芯のコイルボビン表面に絶縁導線を巻き付けて形成した誘導加熱用のコイルと、
前記複数の空芯のコイルボビン両端部に設けられた高周波磁性材料からなる側磁路部材と、
前記複数の空芯のコイルボビンを内部に収容し、前記高周波磁性材料より固有抵抗の小さい磁性材料で形成された回転可能な定着部ローラと
を有することを特徴とする加熱ローラ装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の加熱ローラ装置において、
前記定着部ローラの回転軸から半径方向に等距離に配置された複数個の前記コイルを用い、前記複数のコイル表面は、少なくとも一部において前記定着部ローラ内面に沿う円弧状表面を有すること
を特徴とする加熱ローラ装置。
【請求項６】
請求項５記載の加熱ローラ装置において、
前記回転軸方向に貫通する開口部を設けたこと
を特徴とする加熱ローラ装置。
【請求項７】
磁性材料で形成された回転可能な定着部ローラを、当該定着部ローラ内部に位置するコイルに電流を流して発生させた渦電流により発熱させる加熱ローラ装置において、
前記定着部ローラの外表面に高熱伝導性の金属を固着したこと
を特徴とする加熱ローラ装置。
【請求項８】
磁性材料で形成された回転可能な定着部ローラを、当該定着部ローラ内部に位置するコイルに電流を流して発生させた渦電流により発熱させる加熱ローラ装置において、
前記定着部ローラに高熱伝導性の金属を被着したこと
を特徴とする加熱ローラ装置。