【手続補正書】
【提出日】平成15年5月9日(2003.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置を管理するシステムにおいて、
前記装置を稼動させるためのパラメータの値を設定する設定手段と、前記設定手段により設定される第１パラメータ値に基づき、前記装置を稼動させる稼動手段と、
前記装置を稼動させた結果を検査する検査手段と、
前記検査により求められる第１パラメータ値による稼動結果を示す第１評価量と、前記検査を行なわずに求められる前記第１パラメータ値とは異なる第２パラメータ値による稼動結果を示す第２評価量と、からパラメータ値を決定する決定手段と、を有し、
前記設定手段は、前記パラメータの値を前記決定手段により決定されたパラメータ値とし、
前記稼動手段は、前記決定手段により決定されたパラメータ値に基づき前記装置を稼動することを特徴とする装置を管理するシステム。
【請求項２】
前記決定手段は、前記第１、第２評価量と前記装置を管理するための基準閾値との比較に基づき、該基準閾値を超える最適な稼動を実現するパラメータ値を決定することを特徴とする請求項１記載の装置を管理するシステム。
【請求項３】
前記装置は露光装置であり、前記検査手段は重ね合わせ検査装置であることを特徴とする請求項１記載の装置を管理するシステム。
【請求項４】
露光装置において、
露光を制御するための情報を管理する管理装置と通信可能な通信手段と、
前記通信手段を介して受信する前記露光を制御するための情報に基づき、前記露光装置を制御する制御手段と、を有し、
前記管理装置は、前記制御手段により制御された前記露光装置の稼動結果を示す評価量を計測する計測手段により求められる、第１の露光を制御するための情報に基づき制御された前記露光装置の稼動結果を示す第１評価量を前記通信手段を介して受信し、
該第１評価量と、
前記計測を行なわずに求められる、前記第１の露光を制御するための情報とは異なる第２の露光を制御するための情報に基づき制御された前記露光装置の稼動結果を示す第２評価量と、から前記情報を決定し、
前記制御手段は、前記決定された前記露光を制御するための情報により、前記露光装置を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項５】
半導体露光装置を含む複数の半導体製造装置を工場に設置する工程と、
前記複数の半導体製造装置を用いて半導体デバイスを製造する工程と、を有し、
前記露光装置は、露光を制御するための情報を管理する管理装置と通信可能な通信手段と、前記通信手段を介して受信する前記露光を制御するための情報に基づき、前記露光装置を制御する制御手段とを有し、
前記管理装置は、前記制御手段により制御された前記露光装置の稼動結果を示す評価量を計測する計測手段により求められる、第１の露光を制御するための情報に基づき制御された前記露光装置の稼動結果を示す第１評価量を前記通信手段を介して受信し、
該第１評価量と、
前記計測を行なわずに求められる、前記第１の露光を制御するための情報とは異なる第２の露光を制御するための情報に基づき制御された前記露光装置の稼動結果を示す第２評価量と、から前記情報を決定し、
前記制御手段は、前記決定された前記露光を制御するための情報により、前記露光装置を制御することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【請求項６】
装置を管理する方法において、
前記装置を稼動させるためのパラメータの値を第１パラメータ値に設定する設定工程と、
前記第１パラメータ値に基づき稼動させられた前記装置の稼動結果を検査する検査工程と、
前記稼動結果を示す第１評価量と、前記検査を行なわずに求められる前記第１パラメータ値とは異なる第２パラメータ値による前記装置の稼動結果を示す第２評価量と、からパラメータ値を決定する決定工程と、
前記決定手段により決定されたパラメータ値に基づき前記装置を稼動する工程と、を有することを特徴とする装置を管理する方法。
【請求項７】
装置を管理するシステムにおいて、
前記装置が設置された工場外の外部ネットワーク上に、前記装置を稼動させるための複数の制御情報を蓄積するためのデータベースと、
前記工場内のローカルエリアネットワークに前記装置を接続する手段と、
前記ローカルエリアネットワークに接続され、前記装置を稼動させた結果を検査する検査手段と、
前記外部ネットワーク及び前記ローカルエリアネットワークを利用して、前記複数の制御情報のうち第１制御情報と、前記検査により求められる前記第１制御情報に基づいて前記装置を稼動させた結果を示す第１評価量とを受信し、該受信した前記第１制御情報及び前記第１評価量と、前記検査を行なわずに求められる前記第１制御情報とは異なる第２制御情報に基づいて前記装置を稼動させた結果を示す第２評価量と、から制御情報を決定する決定手段と、
前記決定手段により決定された制御情報を、前記外部ネットワーク及びローカルエリアネットワークを利用して、前記装置に設定する設定手段と、を有することを特徴とする装置を管理するシステム。
【請求項８】
装置を管理する方法において、
前記装置が設置された工場外の外部ネットワーク上に、前記装置を稼動させるための複数の制御情報を蓄積するためのデータベースを準備する工程と、
前記装置を前記工場内のローカルエリアネットワークに接続する工程と、
前記装置を稼動させた結果を検査する検査手段を前記ローカルエリアネットワークに接続する工程と、
前記外部ネットワーク及び前記ローカルエリアネットワークを利用して、前記複数の制御情報のうち第１制御情報と、前記検査により求められる前記第１制御情報に基づいて前記装置を稼動させた結果を示す第１評価量とを受信し、該受信した前記第１制御情報及び前記第１評価量と、前記検査を行なわずに求められる前記第１制御情報とは異なる第２制御情報に基づいて前記装置を稼動させた結果を示す第２評価量と、から制御情報を決定する決定工程と、
前記決定工程で決定された制御情報を、前記外部ネットワーク及びローカルエリアネットワークを利用して、前記装置に設定する設定工程とを有することを特徴とする装置を管理する方法。
【請求項９】
ウエハーに形成されたアライメントマークを検出するアライメントユニットと、
前記ウエハーを保持するウエハーステージと、
アライメントパラメータを第１の値として前記アライメントユニット及び前記ウエハ−ステージとを駆動することにより得られる前記ウエハーに関する第１の情報と、前記アライメントパラメータを前記第１の値とは異なる第２の値として前記アライメントユニット及び前記ウエハ−ステージを駆動することにより得られる前記ウエハーに関する第２の情報と、前記第１の情報に基づいて露光された前記ウエハーを検査することで求められる検査結果とから、決定される前記アライメントパラメータの値に基づいて前記アライメントユニット及び前記ウエハーステージを制御する制御部と、を有し、
前記決定される前記アライメントパラメータの値は、前記第１の値と前記第２の値の中から決定されることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
ウエハーに形成されたアライメントマークを検出するアライメントユニットと、
前記ウエハーを保持するウエハーステージと、
前記アライメントユニット及び前記ウエハ−ステージを駆動することにより得られるアライメント信号をアライメントパラメータを第１の値として処理し得られる前記ウエハーに関する第１の情報と、前記アライメント信号を前記アライメントパラメータを前記第１の値とは異なる第２の値として処理し得られる前記ウエハーに関する第２の情報と、前記第１の情報に基づいて露光された前記ウエハーを検査することで求められる検査結果とから、決定される前記アライメントパラメータの値を記憶する記憶部と、を有し、
前記決定される前記アライメントパラメータの値は、前記第１の値と前記第２の値の中から決定されることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
前記第２の値は複数の値を含み、前記第２の情報は該複数の値のそれぞれに対応する複数の情報を含むことを特徴とする請求項９又は１０記載の露光装置。
【請求項１２】
前記ウエハーに関する情報は、ウエハー倍率、ウエハー回転量、シフト量の少なくともいずれか１つを含むことを特徴とする請求項９又は１０記載の露光装置。
【請求項１３】
前記アライメントパラメータは、１又は複数のパラメータを含ことを特徴とする請求項９又は１０記載の露光装置。
【請求項１４】
前記アライメントパラメータは、グローバルアライメントのサンプルショットの配置を含むことを特徴とする請求項９記載の露光装置。
【請求項１５】
前記アライメントパラメータは、前記アライメントマークを照明する照明モードを含むことを特徴とする請求項９記載の露光装置。
【請求項１６】
前記アライメントマークは、予め設定された間隔で前記ウエハーに形成された複数の要素を含み、前記アライメントパラメータは、アライメント計測方向における前記要素の長さとしてのマーク幅を含むことを特徴とする請求項９記載の露光装置。
【請求項１７】
前記アライメントマークは、予め設定された間隔で前記被露光体に形成された複数の要素を含み、前記アライメントパラメータは、前記要素の輪郭線の幅としてのマーク線幅を含むことを特徴とする請求項９記載の露光装置。
【請求項１８】
前記アライメントパラメータは、前記アライメントマークの検出信号を処理する方式の処理パラメータを含むことを特徴とする請求項１０記載の露光装置。
【請求項１９】
前記処理パラメータは、処理ウインドウ幅を含むことを特徴とする請求項１８記載の露光装置。
【請求項２０】
前記処理パラメータは、処理ウインドウ中心距離を含むことを特徴とする請求項１８記載の露光装置。
【請求項２１】
アライメントパラメータを第１の値として、ウエハーに形成されたアライメントマークを検出することにより、前記ウエハーに関する第１の情報を得る段階と、
前記アライメントパラメータを前記第１の値とは異なる第２の値として、前記アライメントマークを検出することにより、前記ウエハーに関する第２の情報を得る段階と、
前記第１の情報に基づいて前記ウエハーを露光する段階と、
該露光された前記ウエハーを検査し、検査結果を得る段階と、
前記第１、第２の情報と前記検査結果とから、前記第２の情報に基づいた露光は行なわずに、前記アライメントパラメータの値を決定する段階と、を有し、
該決定された前記アライメントパラメータの値は、前記第１の値と前記第２の値の中から決定されていることを特徴とする露光方法。
【請求項２２】
ウエハーに形成されたアライメントマークを検出することにより、アライメント信号を得る段階と、
前記アライメント信号をアライメントパラメータを第１の値として処理し前記ウエハーに関する第１の情報を得る段階と、
前記アライメント信号を前記アライメントパラメータを前記第１の値とは異なる第２の値として処理し前記ウエハーに関する第２の情報を得る段階と、
前記第１の情報に基づいて前記ウエハーを露光する段階と、
該露光された前記ウエハーを検査し、検査結果を得る段階と、
前記第１、第２の情報と前記検査結果とから、前記第２の情報に基づいた露光は行なわずに、アライメントパラメータの値を決定する段階と、を有し、
該決定された前記アライメントパラメータの値は、前記第１の値と前記第２の値の中から決定されていることを特徴とする露光方法。
【請求項２３】
請求項９又は１０記載の露光装置を用い、レチクルのパターンでウエハーを露光する工程と、該露光された基板を現像する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。