Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月19日(2003.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】強誘電体メモリ及び強誘電体メモリの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に積層形成された酸化物からなるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたフローティング・ゲートと、
前記フローティング・ゲート上に形成された強誘電体ゲート絶縁膜と、
前記強誘電体ゲート絶縁膜上に形成されたコントロール・ゲートと、
ゲート外側の不純物拡散領域上に積層形成され前記酸化物に比較して誘電率が高い常誘電体からなる誘電体膜と、
前記フローティング・ゲートと電気的に結ばれた付加容量電極と
を備えたこと を特徴とするフローティング・ゲート型ＭＦＭＩＳトランジスタが含まれてなる強誘電体メモリ。
【請求項２】
前記付加容量電極は、窒化Ｓｉ膜又はタンタルオキサイド膜で形成されること
を特徴とする請求項１記載の強誘電体メモリ。
【請求項３】
基板上に付加容量膜を形成する工程と、
付加容量電極を形成する領域をレジストでマスクして、前記付加容量膜上にゲート絶縁膜を形成するとともに付加容量電極を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜上にフローティング・ゲートを形成する工程と、
イオン注入により前記基板に不純物拡散領域を形成する工程と、
前記フローティング・ゲート上に強誘電体ゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記強誘電体ゲート絶縁膜上にコントロール・ゲートを形成する工程と、
を備えることを特徴とするフローティング・ゲート型ＭＦＭＩＳトランジスタが含まれてなる強誘電体メモリの製造方法。
【請求項４】
前記付加容量膜は、窒化Ｓｉ膜又はタンタルオキサイド膜であること
を特徴とする請求項３記載の強誘電体メモリの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ゲート絶縁膜の一部に強誘電体を用いたフローティング・ゲート型のＭＦＭＩＳ（ｍｅｔａｌ  ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  ｍｅｔａｌ  ｉｎｓｕｌａｔｏｒ  ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）トランジスタからなる強誘電体メモリ及び強誘電体メモリの製造方法の改良に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
前記したところから、本発明に依る強誘電体メモリ及び強誘電体メモリの製造方法に於いては、
（１）
半導体基板（例えばｐ−Ｓｉ半導体基板１）上に積層形成された酸化物（例えばＳｉＯ2 ）からなるゲート絶縁膜（例えばゲート絶縁膜２）と、前記ゲート絶縁膜上に形成されたフローティング・ゲート（例えばフローティング・ゲート３）と、前記フローティング・ゲート上に形成された強誘電体（例えばＰＺＴ）ゲート絶縁膜（例えばＰＺＴである強誘電体からなるゲート絶縁膜４）と、前記強誘電体ゲート絶縁膜上に形成されたコントロール・ゲート（例えばコントロール・ゲート５）とゲート外側の不純物拡散領域（例えばｎ+ −ソース領域６）上に積層形成され前記酸化物に比較して誘電率が高い常誘電体からなる誘電体膜（例えば窒化Ｓｉ膜９）と、前記フローティング・ゲートと電気的に結ばれた付加容量電極（例えば多結晶Ｓｉからなる付加容量電極１０）とを備えたことを特徴とするフローティング・ゲート型ＭＦＭＩＳトランジスタが含まれてなることを特徴とするか、或いは、
（２）
前記（１）に於いて、前記付加容量電極は、窒化Ｓｉ膜又はタンタルオキサイド膜で形成されることを特徴とするか、或いは、
（３）
基板上に付加容量膜を形成する工程と、付加容量電極を形成する領域をレジストでマスクして、前記付加容量膜上にゲート絶縁膜を形成するとともに付加容量電極を形成する工程と、前記ゲート絶縁膜上にフローティング・ゲートを形成する工程と、イオン注入により前記基板に不純物拡散領域を形成する工程と、前記フローティング・ゲート上に強誘電体ゲート絶縁膜を形成する工程と、前記強誘電体ゲート絶縁膜上にコントロール・ゲートを形成する工程とを備えることを特徴とするか、或いは、
（４）
前記（３）に於いて、前記付加容量膜は、窒化Ｓｉ膜又はタンタルオキサイド膜であることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
【発明の効果】
本発明に依る強誘電体メモリ及び強誘電体メモリの製造方法に於いては、半導体基板上に積層形成された酸化物からなるゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に形成されたフローティング・ゲートと、前記フローティング・ゲート上に形成された強誘電体ゲート絶縁膜と、前記強誘電体ゲート絶縁膜上に形成されたコントロール・ゲートと、ゲート外側の不純物拡散領域上に積層形成され前記酸化物に比較して誘電率が高い常誘電体からなる誘電体膜と、前記フローティング・ゲートと電気的に結ばれた付加容量電極とを備えたことを特徴とするフローティング・ゲート型ＭＦＭＩＳトランジスタが含まれてなる強誘電体メモリを実現した。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸部と、前記凸部の少なくとも一部に至る配線層と、が形成されたプラットフォームと、
光学的部分と電極とを有する光素子と、
光ファイバと、
を含み、
前記光素子は、前記電極が形成された面を前記プラットフォームに向けて、前記プラットフォームに搭載され、前記配線層と前記電極とが前記凸部で電気的に接続されてなる光モジュール。
【請求項２】
請求項１記載の光モジュールにおいて、
前記電極の表面はほぼ平坦に形成されてなる光モジュール。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の光モジュールにおいて、
前記配線層と前記電極とは、金属接合によって電気的に接続されてなる光モジュール。
【請求項４】
請求項１又は請求項２記載の光モジュールにおいて、
前記配線層と前記電極とは、導電材料によって電気的に接続されてなる光モジュール。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の光モジュールにおいて、
前記プラットフォームは、樹脂の射出成形体を含み、
前記凸部は、前記樹脂からなる射出成形部を含んで構成されてなる光モジュール。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の光モジュールにおいて、
前記プラットフォームは、貫通穴が形成されてなり、
前記光素子は、前記貫通穴に前記光学的部分を向けて前記プラットフォームに実装され、
前記光ファイバは、前記貫通穴に挿入されて、前記光学的部分に対して位置決めされて取り付けられた光モジュール。
【請求項７】
請求項６記載の光モジュールにおいて、
前記光素子の前記光学的部分が形成された面と、前記プラットフォームの前記貫通穴が形成された面との間に、光素子で使用される光を透過する光透過性樹脂が設けられてなる光モジュール。
【請求項８】
請求項７記載の光モジュールにおいて、
前記光透過性樹脂は、前記光素子と前記プラットフォームとの間に生じる応力を緩和できる程度の柔軟性を有する光モジュール。
【請求項９】
請求項７又は請求項８記載の光モジュールにおいて、
前記光透過性樹脂の屈折率は、前記光学的部分の表面材料の屈折率と前記光ファイバのコアの屈折率の間である光モジュール。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれかに記載の光モジュールにおいて、
複数の前記光素子と、複数の前記光ファイバと、が設けられ、
前記凸部は、それぞれの前記光素子に対応して形成され、
前記配線層は、それぞれの前記光素子に対応して、前記凸部の少なくとも一部に至るように形成されてなる光モジュール。
【請求項１１】
プラットフォームと、
光学的部分と電極とを有して前記プラットフォームに搭載された複数の光素子と、
前記プラットフォームに取り付けられた光ファイバと、
を含み、
前記複数の光素子は、受光素子と発光素子により形成されてなり、
前記プラットフォームには、凸部と、前記凸部の少なくとも一部に至る配線層と、が形成され、前記凸部で、前記配線層と前記光素子の前記電極とが電気的に接続されてなる光伝達装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の光伝達装置において、
前記受光素子に接続されるプラグと、
前記発光素子に接続されるプラグと、
をさらに含む光伝達装置。
【請求項１３】
凸部と、前記凸部の少なくとも一部に至る配線層と、が形成されたプラットフォームに、光学的部分と電極とを有する光素子を、前記電極を前記凸部に向けて搭載し、前記凸部で、前記配線層と前記電極とを電気的に接続する工程を含む光モジュールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月28日(2003.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（Ｂ）成分の使用量が１０重量％より上回ると、活性エネルギー線による硬化で得られた保護被膜中の光重合開始剤（Ｂ）の残渣や残存する光重合開始剤（Ｂ）が多過ぎて、高温高湿下での耐久性試験中に抽出され、結果的に保護被膜の硬化時の体積収縮を生じ、光ディスクの反り角の経時的増大の原因となる傾向にある。
また、（Ｂ）成分の使用量が０．１重量％より下回ると、工業的生産に適する保護被膜の付与工程における硬化速度を得にくい傾向にあること、および、得られた保護被膜中の残存モノマー単量体が多くなり、これらの残存モノマー単量体も高温高湿下での耐久試験で抽出され、結果的に保護被膜の硬化時の体積収縮を生じ、光ディスクの反り角の経時的増大の原因となる傾向にある。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
該硬化物のゲル分率９１重量％より低いと、該硬化物中に残存する未反応モノマーや未反応光重合開始剤の残渣等が多く存在してしまい、該硬化物を保護被膜とした光ディスクを高温高湿下において耐久性試験を実施すると、未反応成分が抽出され、結果的に保護被膜の体積収縮を生じ、光ディスクの反り角の経時的変化が増大する傾向にある。
さらに、本発明の保護被膜であるゲル分率を９１重量％以上である硬化物を得るには、光重合で行えばよいが、効率的に該硬化物を得るには、紫外線照射条件を、３５０ｎｍモニターにおけるピーク照度が１００ｍＷ／ｃｍ２以上の条件で、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２以上のエネルギー量が好ましく、ピーク照度２００ｍＷ／ｃｍ２以上の条件で積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２以上のエネルギー量がより好ましい。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
［実施例１］
ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート２０重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート３４重量部、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２４重量部、イソボルニルアクリレート１８重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン１重量部、ベンゾフェノン１重量部、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル２重量部を混合溶解し、コーティング材組成物を得た。上記コーティング材組成物を膜厚６μｍでＰＥＴフィルム上に塗装し、これを高圧水銀灯（３５０ｎｍモニターにおけるピーク照度３５０ｍＷ／ｃｍ２）により、オーク（株）製ＵＶ−３５０にて測定した積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２となるエネルギー量で硬化させた。
この得られた硬化物フィルム（１０ｇ）をＰＥＴフィルムから剥離し粉砕した後、１Ｌのメチルエチルケトン中に入れ、４時間還流した。
還流終了後、東洋濾紙５Ｃのフィルターで濾過、充分乾燥した後、残った重量からゲル分率を求めたところ９３重量％であった。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
次に、帝人化成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧを射出成型して得た、コンパクトディスクテスト信号を有する直径１２ｃｍ、板厚１．２ｍｍの光ディスクにバルザース（株）製スパッタリング装置ＣＤＩ−９００により、アルミニウム合金（ＪＩＳ Ａ６０６１）を膜厚５０ｎｍでスパッタリングし、信号記録面にアルミニウム反射膜を有する光ディスクを得た。該反射膜上に上記コーティング材組成物をスピンコーターを用いて、平均膜厚６μｍとなるように塗装し、高圧水銀灯（３５０ｎｍモニターにおけるピーク照度３５０ｍＷ／ｃｍ２）により、オーク（株）製ＵＶ−３５０にて測定した積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー量で硬化させた。
得られた光ディスクについて、ジャパンイーエム（株）製ＤＬＤ−３０００光ディスク光学機械特性測定装置を用いて、２０℃、５０％ＲＨの環境下にて、最外周の反り角を測定したところ、反り角は１ｍｒａｄであった。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
［比較例２］
実施例３で用いたコーティング材組成物を、実施例１と同様にＰＥＴフィルム上に塗装し、高圧水銀灯（３５０ｎｍモニターにおけるピーク照度９０ｍＷ／ｃｍ２）により、オーク（株）製ＵＶ−３５０にて測定した積算光量８０ｍＪ／ｃｍ２となるエネルギー量で硬化させた。硬化物フィルム（１０ｇ）をＰＥＴフィルムから剥離し粉砕した後、１Ｌのメチルエチルケトン中に入れ、４時間還流した。
還流終了後、東洋濾紙５Ｃのフィルターで濾過、充分乾燥した後、残った重量からゲル分率を求めたところ、７０重量％であった。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
次に、実施例１と同様のアルミニウム反射膜を有する光ディスク上に、実施例３と同様のコーティング材組成物をスピンコーターを用いて、平均膜厚６μｍとなるように塗装し、高圧水銀灯（３５０ｎｍモニターにおけるピーク照度９０ｍＷ／ｃｍ２）により、オーク（株）製ＵＶ−３５０にて測定した積算光量８０ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー量で硬化させた。得られた光ディスクについて、実施例１と同様にして初期と耐久試験後における反り角の測定を行った結果を表１の試験結果欄に示した。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
【表１】
2000327951.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月21日(2003.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自重の１重量倍以上の水を吸水する高吸水性樹脂を０．１〜５重量％含有することを特徴とする皮膚洗浄料。
【請求項２】
高吸水性樹脂が、メタクリル酸メチルと酢酸ビニルの鹸化物、デンプン−アクリル酸グラフト重合体のアルカリ金属塩の架橋体、ポリアクリル酸のアルカリ金属塩の架橋体、イソブチレンと無水マレイン酸共重合体のアルカリ金属塩の架橋体から選ばれる一種以上である請求項１記載の皮膚洗浄料。
【請求項３】
メークアップ除去用である請求項１又は２記載の皮膚洗浄料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
＜実施例１＞
成分名                                    配合量（重量％）
（１）ＰＯＥ（１０）メチルグルコシド              ５
（２）ＰＯＥ（７）ヤシ油脂肪酸グリセリン          ５
（３）サンフレッシュＳＴ−１００ＳＰ              ２
（４）１，３−ブチレングリコール                  ５
（５）メチルパラベン                              ０．２
（６）香料                                        適量
（７）精製水                                      残余


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（７）に（３），（４），（５）を溶解、分散し、（１），（２）を混合した後、（６）を加えて、ジェル状皮膚洗浄料を得た。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（７）に（３），（４），（５）を溶解、分散し、（１），（２）を混合した後、（６）を加えて、ジェル状皮膚洗浄料を得た。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
表１の結果に明らかなように、本発明のメイク落とし料は、激しい化粧落としの動作を伴わずとも、口紅等のメイク落とし効果にきわめて優れるという大きな特徴を有することが証明された。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月25日(2003.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】パック化粧料
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用時に生成する水不溶性及び／又は水難溶性アルギン酸塩を被膜形成剤とするパック化粧料に於いて、使用時の水以外の化粧料の構成成分の全量に対して、タルクを５〜３０重量％含有することを特徴とするパック化粧料。
【請求項２】
水以外の構成成分の全量に対して無水珪酸３〜１５重量％を更に含有することを特徴とする、請求項１に記載のパック化粧料。
【請求項３】
水以外の構成成分の全量に対して多価アルコール０．５〜１０重量％を更に含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載のパック化粧料。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（３）本発明のパック化粧料
本発明のパック化粧料は、上記必須成分を含有し、任意成分である上記無水珪酸を好ましく含有する。本発明のパック化粧料においては、これらの成分以外に、通常化粧料で含有される任意成分を、本発明の効果を損ねない範囲において含有することができる。かかる任意成分としては、例えば、スクワラン、ワセリン、マイクロクリスタリンワックス等の炭化水素類、ホホバ油、カルナウバワックス、オレイン酸オクチルドデシル等のエステル類、オリーブ油、牛脂、椰子油等のトリグリセライド類、ステアリン酸、オレイン酸、リチノレイン酸等の脂肪酸、オレイルアルコール、ステアリルアルコール、オクチルドデカノール等の高級アルコール、スルホコハク酸エステルやポリオキシエチレンアルキル硫酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤類、アルキルベタイン塩等の両性界面活性剤類、ジアルキルアンモニウム塩等のカチオン界面活性剤類、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセライド、これらのポリオキシエチレン付加物、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤類、ポリエチレングリコール、グリセリン、１，３−ブタンジオール等の多価アルコール類、増粘・ゲル化剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色剤、防腐剤、粉体等を含有することができる。これらの内、特に好ましいものは、多価アルコール類である。これは、有効成分などをアルギン酸塩のゲル中に均一に分散させることができるからである。これら多価アルコールの好ましい含有量は、最終の投与用のゲルにおいて、水分以外の成分の総量に対して、０．５〜１０重量％であり、更に好ましくは１〜５重量％である。また、塗布時のタレを防止する意味で、カラギーナン、キサンタンガム、マルメルロ等の増粘剤を、０．０５〜０．５重量％含有させることも好ましい。尚、これらの含有量は何れも水以外の化粧料の成分の総量に対する重量百分率である。これらの成分を通常の如く処理することにより本発明のパック化粧料を得ることができる。本発明のパック化粧料は、水とアルギン酸の水可溶性塩とアルギン酸をゲル化させるカルシウムなどの水溶性塩の３者が同時に存在することによりゲル化するので、この３者の内の少なくとも１者が他の２者とは独立して存在する、２剤以上の系で構成されることが必要である。この内訳は、前記の条件を満たしていれば、特段の限定を受けない。もっとも好ましい形態は、水以外の成分を調整しておき、使用時に水を加えて使用する形態である。これは、水はどこでも入手が可能であり、水が存在しないことにより、微生物汚染の可能性が低くなり、防腐剤などの成分を含まなくてもすむからである。本発明のパック化粧料のゲル化に用いる水の量は、これ以外の化粧料の成分の総量に対して、１〜４倍量が好ましく、更に好ましくは好ましくは２〜３倍量である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
＜実施例１３＞
下記に示す処方に従って本発明のパック化粧料を作成した。即ち、処方成分イをヘンシェルミキサーで混合し、０．１ミリ丸穴スクリーンを装着したパルベライザーで粉砕し、製剤１とし、処方成分ロを可溶化し製剤２として、２剤型のパック化粧料を得た。このものの被膜の適切さは＋であり、ダマの生成は＋であった。しかしながら、製剤としては、水以外の部分を調整しておき、これを使用時に水のみでゲル化する製剤が好ましいことがわかる。
イ
アルギン酸ナトリウム                      １４重量部
無水珪酸                              １１．７重量部
カオリン                              ２９．３重量部
タルク                                １９．５重量部
硫酸化トレハロースナトリウム            ０．１重量部
１，３−ブタンジオール                      ４重量部
スクワラン                              １．８重量部
ロ
硫酸カルシウム                        １５．６重量部
水                                      ２５０重量部
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月19日(2004.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図１１は、別の実施形態における画像形成装置を採用した電子写真装置の要部の回路ブロック図であって、図２との相違点は、解像度情報が画像データ伸長部１１の他に発光タイミング信号生成部１２にも供給されていることである。そして、発光タイミング信号生成部１２は、解像度情報が電子写真装置における最大解像度の１／ｎ倍の解像度を指示したとすると、光学プリントヘッド３に供給する発光タイミング信号の周期をｎ倍にする。他の構成は図２に示す回路ブロック図と同様である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月8日(2003.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、互いに異なる色調に発色する２種以上の電子供与性染料前駆体と、該染料前駆体を加熱時発色させる１種以上の顕色剤とを含有する感熱記録層を設けた多色感熱記録材料において、該染料前駆体が、１）赤系色に発色する１種以上の染料前駆体分散粒子と、２）ビニル単量体を付加重合することにより得られる発色調節層を表面に有する黒系色に発色する１種以上の染料前駆体より成り且つ、該感熱記録層が着色剤により淡い青系色、または淡い緑系色に着色されており、該多色感熱記録材料の感熱記録層側の地肌がＪＩＳ−Ｚ８７２２で規定される測定方法に従い、ＪＩＳ−Ｚ８７３０で規定される色差値でＬ＊値＝８０〜９５、ａ＊値＝−１０〜２、ｂ＊値＝−１０〜２であることを特徴とする多色感熱記録材料。
【請求項２】
支持体上に、互いに異なる色調に発色する２種以上の電子供与性染料前駆体と、該染料前駆体を加熱時発色させる１種以上の顕色剤とを含有する感熱記録層を設け、更に１層以上の保護層を積層した多色感熱記録材料において、該染料前駆体が、１）赤系色に発色する１種以上の染料前駆体分散粒子と、２）ビニル単量体を付加重合することにより得られる発色調節層を表面に有する黒系色に発色する１種以上の染料前駆体より成り且つ、該感熱記録層および保護層の少なくともいずれか一方が着色剤により淡い青系色、または淡い緑系色に着色されており、該多色感熱記録材料の保護層側の地肌がＪＩＳ−Ｚ８７２２で規定される測定方法に従い、ＪＩＳ−Ｚ８７３０で規定される色差値でＬ＊値＝８０〜９５、ａ＊値＝−１０〜２、ｂ＊値＝−１０〜２であることを特徴とする多色感熱記録材料。
【請求項３】
該着色剤がフタロシアニン系有機顔料である請求項１，または２記載の多色感熱記録材料。
【請求項４】
該赤系色に発色する染料前駆体が３−ジエチルアミノ−７−クロロフルオランである請求項１，２，または３記載の多色感熱記録材料。
【請求項５】
該多色感熱記録材料の支持体の裏面に磁気記録層が設けられてなる請求項１，２，３，または４記載の多色感熱記録材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、支持体上に、互いに異なる色調に発色する２種以上の電子供与性染料前駆体と、該染料前駆体を加熱時発色させる１種以上の顕色剤とを含有する感熱記録層を有する多色感熱記録材料において、該染料前駆体を、１）赤系色に発色１種以上の染料前駆体分散粒子と、２）ビニル単量体を付加重合することにより得られる、発色調節層を表面に有する黒系色に発色する１種以上の染料前駆体により構成し、更に、該感熱記録層が着色剤により淡い青系色、または淡い緑系色に着色されており、該多色感熱記録材料の感熱記録層側の地肌がＪＩＳ−Ｚ８７２２で規定される測定方法に従い、ＪＩＳ−Ｚ８７３０で規定される色差値でＬ＊値＝８０〜９５、ａ＊値＝−１０〜２、ｂ＊値＝−１０〜２とすることにより達成された。更に、記録画像の高保存性が要求される場合には、該感熱記録層の上に１層以上の保護層を積層し、該感熱記録層および保護層の少なくともいずれか一方を着色剤により淡い青系色または、淡い緑系色に着色され、該多色感熱記録材料の保護層側の地肌がＪＩＳ−Ｚ８７２２で規定される測定方法に従い、ＪＩＳ−Ｚ８７３０で規定される色差値でＬ＊値＝８０〜９５、ａ＊値＝−１０〜２、ｂ＊値＝−１０〜２とすることにより上記課題が達成された。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月24日(2003.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査体へ光を照射する光照射用光導波路および
前記光照射用光導波路から照射され被検査体内を伝播した光を集光し検出する集光用光導波路を有し、
前記集光用光導波路によって検出された信号に基づき、前記被検査体内の代謝物質の濃度または濃度変化を計測するよう構成し、
四角形の格子状の頂点上に前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路を交互に配置した領域を複数個組合せることにより前記被検査体頭部を覆う様に、前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路を配置構成してなることを特徴とする生体光計測装置。
【請求項２】
被検査体へ光を照射する光照射用光導波路および
前記光照射用光導波路から照射され被検査体内を伝播した光を集光し検出する集光用光導波路を有し、
前記集光用光導波路によって検出された信号に基づき、前記被検査体内の代謝物質の濃度または濃度変化を計測するよう構成し、
三角形および四角形を組合せた格子の頂点上に、前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路を配置構成してなることを特徴とする生体光計測装置。
【請求項３】
被検査体へ光を照射する光照射用光導波路および
前記光照射用光導波路から照射され被検査体内を伝播した光を集光し検出する集光用光導波路を有し、
前記集光用光導波路によって検出された信号に基づき、前記被検査体内の代謝物質の濃度または濃度変化を計測するよう構成し、
五角形および六角形を組合せた格子の頂点上および格子内部に、前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路を配置構成してなることを特徴とする生体光計測装置。
【請求項４】
前記領域間を前記光照射用光導波路または前記集光用光導波路で補完してなることを特徴とする請求項１記載の生体光計測装置。
【請求項５】
前記被検査体上の前記光照射用光導波路及び前記集光用光導波路を含む領域内に空気流を生起せしめることが可能な空気吸排手段を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一に記載の生体光計測装置。
【請求項６】
前記格子状に配置した第一の前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路間の第一の距離が、第二の前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路間の第二の距離と異なる場合、距離に応じた補正係数を用いて前記集光用光導波路により検出された信号を補正して被検査体内の代謝物質の濃度または濃度変化を計測する手段を有することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一に記載の生体光計測装置。
【請求項７】
内部の代謝物の濃度または濃度変化を計測すべき被検査体に光を照射する光照射用光導波路と、前記被検査体内を伝播した光を集光する集光用光導波路とを保持し、
四角形の格子状の頂点上に前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路を交互に配置した領域を複数個組合せることにより前記被検査体頭部を覆う様に、前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路を配置構成してなることを特徴とする前記被検査体の頭部に装着するための生体光計測用固定具。
【請求項８】
内部の代謝物質の濃度または濃度変化を計測すべき被検査体へ光を照射する光照射用光導波路と、前記被検査体内を伝播した光を集光する集光用光導波路とを保持し、
三角形および四角形を組合せた格子の頂点上に、前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路を配置構成してなることを特徴とする前記被検査体の頭部に装着するための生体光計測用固定具。
【請求項９】
内部の代謝物質の濃度または濃度変化を計測すべき被検査体へ光を照射する光照射用光導波路と、前記被検査体内を伝播した光を集光する集光用光導波路とを保持し、
五角形および六角形を組合せた格子の頂点上および格子内部に、前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路を配置構成してなることを特徴とする前記被検査体の頭部に装着するための生体光計測用固定具。
【請求項１０】
内部の代謝物質の濃度または濃度変化を計測すべき被検査体へ光を照射する複数の光照射用光導波路および前記被検査体内を伝播した光を集光する複数の集光用光導波路を保持し、
前記複数の光照射用光導波路および前記複数の集光用光導波路がまとめてコネクタに接続されていることを特徴とする前記被検査体の頭部に装着するための生体光計測用固定具。
【請求項１１】
内部の代謝物質の濃度または濃度変化を計測すべき被検査体へ光を照射する複数の光照射用光導波路および前記被検査体内を伝播した光を集光する複数の集光用光導波路を保持し、
前記複数の光照射用光導波路および前記複数の集光用光導波路をまとめて生体光計測装置に着脱することが可能なコネクタを有することを特徴とする前記被検査体の頭部に装着するための生体光計測用固定具。
【請求項１２】
前記複数の光照射用光導波路および前記複数の集光用光導波路は分離して配線されていることを特徴とする請求項１０または１１のいずれか一に記載の生体光計測用固定具。
【請求項１３】
内部の代謝物質の濃度または濃度変化を計測すべき被検査体へ光を照射する光照射用光導波路と、被検査体内を伝播した光を集光する集光用光導波路とを保持し、
二重構造をとり、前記二重構造の内側の層と外側の層の間に前記光照射用光導波路および前記集光用光導波路が配線されていることを特徴とする前記被検査体の頭部に装着するための生体光計測用固定具。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月12日(2003.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する真空処理室の下流側に配置され、前記真空処理室から排出された排ガス中の低蒸気圧成分をトラップするトラップ装置において、
前記真空処理室から排出された排ガスを導入するトラップ容器と、
前記トラップ容器内に前記低蒸気圧成分をトラップする溶媒を注入する溶媒注入装置と、
前記溶媒を冷却して前記低蒸気圧成分を凝縮させる溶媒冷却装置とを有することを特徴とするトラップ装置。
【請求項２】
基板を処理する真空処理室の下流側に配置され、前記真空処理室から排出された排ガス中の低蒸気圧成分をトラップするトラップ装置において、
第１室と第２室とを有し、前記真空処理室から排出された排ガスを第１室から第２室に順次導入するトラップ容器と、
前記トラップ容器の内部に該トラップ容器の第１室と第２室と連通して配置され、難揮発性の溶媒を液状で貯留する溶媒貯留部とを備え、
前記排ガス中の低蒸気圧成分を前記溶媒貯留部内の溶媒で直接トラップすることを特徴とするトラップ装置。
【請求項３】
前記溶媒は、酢酸ブチル、ＴＨＦ、ルテジン、ジピバロイルメタン、テトラグライム、トルエンまたはテトラエンであることを特徴とする請求項１または２記載のトラップ装置。
【請求項４】
液体原料を気化する気化器と、前記気化器の下流側に配置された成膜室と、前記成膜室の下流側に配置された真空ポンプと、前記成膜室から前記真空ポンプに延びる排気経路と、前記排気経路内に配置されたトラップ装置とを有し、
前記トラップ装置は、前記成膜室から排出された排ガスを導入するトラップ容器と、前記トラップ容器内に低蒸気圧成分をトラップする溶媒を注入する溶媒注入装置と、前記溶媒を冷却して前記低蒸気圧成分を凝縮させる溶媒冷却装置とを有することを特徴とする薄膜気相成長装置。
【請求項５】
液体原料を気化する気化器と、前記気化器の下流側に配置された成膜室と、前記成膜室の下流側に配置された真空ポンプと、前記成膜室から前記真空ポンプに延びる排気経路と、前記排気経路内に配置されたトラップ装置とを有し、
前記トラップ装置は、第１室と第２室とを有し、前記成膜室から排出された排ガスを第１室から第２室に順次導入するトラップ容器と、前記トラップ容器の内部に該トラップ容器の第１室と第２室と連通して配置され、難揮発性の溶媒を液状で貯留する溶媒貯留部とを備え、前記排ガス中の低蒸気圧成分を前記溶媒貯留部内の溶媒で直接トラップすることを特徴とする薄膜気相成長装置。
【請求項６】
前記溶媒は、酢酸ブチル、ＴＨＦ、ルテジン、ジピバロイルメタン、テトラグライム、トルエンまたはテトラエンであることを特徴とする請求項４または５記載の薄膜気相成長装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板を処理する真空処理室の下流側に配置され、前記真空処理室から排出された排ガス中の低蒸気圧成分をトラップするトラップ装置において、前記真空処理室から排出された排ガスを導入するトラップ容器と、前記トラップ容器内に前記低蒸気圧成分をトラップする溶媒を注入する溶媒注入装置と、前記溶媒を冷却して前記低蒸気圧成分を凝縮させる溶媒冷却装置とを有することを特徴とするトラップ装置である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項２に記載の発明は、基板を処理する真空処理室の下流側に配置され、前記真空処理室から排出された排ガス中の低蒸気圧成分をトラップするトラップ装置において、第１室と第２室とを有し、前記真空処理室から排出された排ガスを第１室から第２室に順次導入するトラップ容器と、前記トラップ容器の内部に該トラップ容器の第１室と第２室と連通して配置され、難揮発性の溶媒を液状で貯留する溶媒貯留部とを備え、前記排ガス中の低蒸気圧成分を前記溶媒貯留部内の溶媒で直接トラップすることを特徴とするトラップ装置である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３に記載の発明は、前記溶媒は、酢酸ブチル、ＴＨＦ、ルテジン、ジピバロイルメタン、テトラグライム、トルエンまたはテトラエンであることを特徴とする請求項１または２記載のトラップ装置である。これにより、逆流しても成膜の品質に悪影響を及ぼすことが防止される。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項４に記載の発明は、液体原料を気化する気化器と、前記気化器の下流側に配置された成膜室と、前記成膜室の下流側に配置された真空ポンプと、前記成膜室から前記真空ポンプに延びる排気経路と、前記排気経路内に配置されたトラップ装置とを有し、前記トラップ装置は、前記成膜室から排出された排ガスを導入するトラップ容器と、前記トラップ容器内に低蒸気圧成分をトラップする溶媒を注入する溶媒注入装置と、前記溶媒を冷却して前記低蒸気圧成分を凝縮させる溶媒冷却装置とを有することを特徴とする薄膜気相成長装置である。
請求項５に記載の発明は、液体原料を気化する気化器と、前記気化器の下流側に配置された成膜室と、前記成膜室の下流側に配置された真空ポンプと、前記成膜室から前記真空ポンプに延びる排気経路と、前記排気経路内に配置されたトラップ装置とを有し、前記トラップ装置は、第１室と第２室とを有し、前記成膜室から排出された排ガスを第１室から第２室に順次導入するトラップ容器と、前記トラップ容器の内部に該トラップ容器の第１室と第２室と連通して配置され、難揮発性の溶媒を液状で貯留する溶媒貯留部とを備え、前記排ガス中の低蒸気圧成分を前記溶媒貯留部内の溶媒で直接トラップすることを特徴とする薄膜気相成長装置である。
請求項６に記載の発明は、前記溶媒は、酢酸ブチル、ＴＨＦ、ルテジン、ジピバロイルメタン、テトラグライム、トルエンまたはテトラエンであることを特徴とする請求項４または５記載の薄膜気相成長装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月29日(2004.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
前端に弁座（１２ａ）を有する弁ハウジング（１０）の外周に，該弁ハウジング（１０）の前端側を向く段部（２６）を形成すると共に，この段部（２６）に当接する合成樹脂製のシール位置決め環（３９）を設け，このシール位置決め環（３９）と協働して前記弁ハウジング（１０）の外周面上に環状のシール装着溝（４９）を画成するキャップ（４２）を前記弁ハウジング（１０）の前端部外周に嵌合して係止し，前記シール装着溝（４９）には，エンジンの吸気マニホールド（５）に設けられた装着孔（７）の内周面に密接する環状のシール部材（４１）を装着した，電磁式燃料噴射弁におけるシール部材の取付け構造において，
前記弁ハウジング（１０）の，前記シール位置決め環（３９）が嵌合する嵌合面（３６）を，前記シール装着溝（４９）の底面となる環状のシール面（３７）より小径に形成すると共に，該シール面（３７）の後縁に，該嵌合面（３６）に向かって小径となるテーパ面（３８）を連設し，前記シール位置決め環（３９）を，これが前記シール面（３７）との圧入状態を越えて前記嵌合面（３６）に嵌合するように構成すると共に，このシール位置決め環（３９）に，これと前記嵌合面（３６）との嵌合状態で前記テーパ面（３８）に圧接する弾性突起（４８）を形成したことを特徴とする，電磁式燃料噴射弁におけるシール部材の取付け構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために，本発明は，前端に弁座を有する弁ハウジングの外周に，該弁ハウジングの前端側を向く段部を形成すると共に，この段部に当接する合成樹脂製のシール位置決め環を設け，このシール位置決め環と協働して前記弁ハウジングの外周面上に環状のシール装着溝を画成するキャップを前記弁ハウジングの前端部外周に嵌合して係止し，前記シール装着溝には，エンジンの吸気マニホールドに設けられた装着孔の内周面に密接する環状のシール部材を装着した，電磁式燃料噴射弁におけるシール部材の取付け構造において，前記弁ハウジングの，前記シール位置決め環が嵌合する嵌合面を，前記シール装着溝の底面となる環状のシール面より小径に形成すると共に，該シール面の後縁に，該嵌合面に向かって小径となるテーパ面を連設し，前記シール位置決め環を，これが前記シール面との圧入状態を越えて前記嵌合面に嵌合するように構成すると共に，このシール位置決め環に，これと前記嵌合面との嵌合状態で前記テーパ面に圧接する弾性突起を形成したことを第１の特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【発明の効果】
以上のように本発明の第１の特徴によれば，前端に弁座を有する弁ハウジングの外周に，該弁ハウジングの前端側を向く段部を形成すると共に，この段部に当接する合成樹脂製のシール位置決め環を設け，このシール位置決め環と協働して前記弁ハウジングの外周面上に環状のシール装着溝を画成するキャップを前記弁ハウジングの前端部外周に嵌合して係止し，前記シール装着溝には，エンジンの吸気マニホールドに設けられた装着孔の内周面に密接する環状のシール部材を装着した，電磁式燃料噴射弁におけるシール部材の取付け構造において，前記弁ハウジングの，前記シール位置決め環が嵌合する嵌合面を，前記シール装着溝の底面となる環状のシール面より小径に形成すると共に，該シール面の後縁に，該嵌合面に向かって小径となるテーパ面を連設し，前記シール位置決め環を，これが前記シール面との圧入状態を越えて前記嵌合面に嵌合するように構成すると共に，このシール位置決め環に，これと前記嵌合面との嵌合状態で前記テーパ面に圧接する弾性突起を形成したので，嵌合面に嵌合したシール位置決め環を，弾性突起のテーパ面に対する圧接により生ずる反発力によって，所定位置に確実に保持することができる。したがって，シール位置決め環及びキャップ間のシール装着溝の幅を常に正確に一定に保つことができるから，吸気マニホールドの装着孔に電磁式燃料噴射弁を装着したとき，その装着孔の内周面によるシール部材の変形量が常に一定し，シール部材は安定したシール機能を発揮することができる。しかもシール位置決め環の装着後，ばり取りのような後加工を行う必要もないから，製作コストの低減に寄与し得る。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月9日(2004.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記中和手段と前記フィルターユニットと分析ユニットと制御ユニットと循環配管とは、同一の台車上に搭載されている請求項２記載のＳＦ６ガス再生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術においては、絶縁媒体の抜き取り作業の後、再生のためにフィルターや吸着剤を何回通せば所望の純度に再生できるかは、作業者の経験に頼っていたため、再生作業中は作業者が適当な時間経過後試薬等によるチェックを度々行わなければならず、作業性が悪いという問題があった。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
またこの場合、前記分析ユニットはガスクロマトグラフと、イオンクロマトグラフとを含み、前記制御ユニットは、フィルターユニットで処理されたガスを予め定めた時間間隔で前記ガスクロマトグラフ及びイオンクロマトグラフとに取り込んで分析を行うように分析ユニットを制御する。また、前記フィルターユニットは、絶縁媒体中の固形物を濾過するフィルターとＳＦ６ガス以外の不純物を吸着する吸着剤を有するフィルターとを備えているように形成したものである。また、前記戻し配管に蒸発器を設けるようにしたものである。また、前記中和手段を、強酸性ガスを吸着する吸着剤を含む乾式の中和槽から構成したものである。また、前記中和手段と前記フィルターユニットと分析ユニットと制御ユニットと循環配管とを、同一の台車上に搭載するようにしたものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわちこのように形成されたＳＦ６ガス再生装置であると、ガス絶縁機器からＳＦ６ガスを導入循環する循環系に、前記フィルターユニットで処理されたガスを分析する分析ユニットと、この分析ユニットで分析されたＳＦ６ガスの純度が設定値以下と判断された時は再び前記フィルターユニットに戻す循環手段が設けられていることから、分析ユニットで検知されるガスの純度が所望の値になるまで、ＳＦ６ガスは自動的にフィルターユニットを循環するので、ＳＦ６ガスを所望の純度まで高めることができ、また再生作業中定期的にガスの純度がチェックされるので再生の作業が過不足なくしかも自動的に行われ、作業性を著しく改善することができる。また、再生装置、すなわち、中和手段とフィルターユニットと分析ユニットと制御ユニットと循環配管とが同一の台車上に配置されているので、再生装置を一体としてガス絶縁機器の近傍に容易に移動させることができ、再生作業の段取りも含めその作業は容易なものとなるのである。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
フィルターユニット２で処理されたガスは、分析ユニット３に導かれ、ここでＳＦ６ガスの純度並びに水分の分析がなされる。分析ユニット３内のガスの純度の分析には、ガスクロマトグラフ及びイオンクロマトグラフが使用される。イオンクロマトグラフでは、ＳＦ６ガス中のＨＦの濃度が測定され、他の生成不純物はガスクロマトグラフで測定される。また水分の分析は、例えばデイロ社製の電子式水分測定装置が使用できる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
再生されたガスは、戻し弁６１を有する戻し配管６を通り、蒸発器９にてガス化させ、ガス絶縁機器１の容器に戻される。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
フィルターユニット２を何度か循環するとガスの純度は、目標値を上回るようになり、制御ユニット８は、循環弁７１を閉じ、電動弁４１を開き、コンデンサユニット４内のコンプレッサを起動する。コンデンサユニット４内で加圧されたガスは、冷却されて液化し、電動弁４２を通って、貯蔵タンク５へ蓄えられる。この再生動作は、ガス絶縁機器１の容器内のガスが無くなるまで続けられ容器内のガスは、全て再生されて貯蔵タンク５へ蓄えられることになる。タンク５内のガスをガス絶縁機器１の容器へ移す場合には、手動もしくは自動で弁６１を開き、蒸発器９によって液状のＳＦ６ガスを気化させて気体に戻した後に行われる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
このように、制御ユニットによってＳＦ６ガスをフィルターユニットを循環させることにより、ＳＦ６ガスを所望の純度まで高めることができ、再生作業中定期的にガスの純度がチェックされるので再生の作業が過不足なくしかも自動的に行われ、作業性が著しく改善される。また、再生装置が同一の台車上に配置されているため、再生装置を一体としてガス絶縁機器の近傍に容易に移動させることができ、作業性がさらに向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月18日(2003.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
列設されたパチンコ遊戯台に玉を分配する分配装置と、夫々のパチンコ遊戯台から排出された玉を回収する回収装置と、該回収された玉を清浄搬送する玉磨揚送装置と、を備えるパチンコ島の玉磨揚送装置において、回転自在に軸支されその外周面に多条ねじ溝が形成された円筒状回転部材と、該円筒状回転部材外周面と所定の空隙を介して同心状に配置されると共にその下端に玉の転入する窓が形成されている固定円筒部材と、前記円筒状回転部材を転回駆動する電動機とを備え、前記円筒状回転部材の転回により前記ねじ溝と固定円筒部材内周面との間の玉を転動させて磨きながら揚送するようにしたこと、を特徴とする玉磨揚送装置。
【請求項２】
前記円筒状回転部材の多条ねじの条数と前記固定円筒部材下端の窓数とが等しいことを、特徴とする請求項１に記載の玉磨揚送装置。
【請求項３】
前記固定円筒部材下端に設けられた窓内面の前記円筒状回転部材の転回方向側縁部に、該円筒状回転部材の外周面に近接するように伸張した先端を有する突起が形成されていること、を特徴とする請求項１又は２に記載の玉磨揚送装置。
【請求項４】
前記固定円筒部材の突起は、前記円筒状回転部材の回転方向に伸張すると共に上部傾斜面を有すること、を特徴とする請求項３に記載の玉磨揚送装置。
【請求項５】
前記固定円筒部材下端の窓に、揚送される玉を一列にして導く案内部材が連通配置されていること、を特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の玉磨揚送装置。
【請求項６】
前記玉の案内部材は、前記固定円筒部材の突起の向きとほぼ同じ向きに設置されていること、を特徴とする請求項５に記載の玉磨揚送装置。
【請求項７】
前記円筒状回転部材は、所定の長さの複数個より成り、前記夫々に形成されている複数のねじ溝が互いに連通するように位置決め配設されること、を特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の玉磨揚送装置。
【請求項８】
前記固定円筒部材は、窓を有する第１の円筒部と、該第１の円筒部の上端に連接されて夫々着脱自在に保持されると共に夫々が径方向に分割され片端を支点に他端が開閉自在に設けられた複数組の第２の円筒部より成ること、を特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の玉磨揚送装置。
【請求項９】
円筒状回転部材の外周面に対向する固定円筒部材を形成する前記第２の円筒部の内周面には、研磨布が貼着併設されていること、を特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の玉磨揚送装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粗引ポンプの吐出孔に、このポンプよりも排気能力の小さな排気ユニットを有し、前記粗引ポンプと前記排気ユニットとの間に温度調整手段を配置したことを特徴とする真空排気システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するために、この発明にかかる真空排気システムでは、粗引ポンプの吐出孔に、このポンプよりも排気能力の小さな排気ユニット（以下トラップユニットと呼ぶ）を有し、前記粗引ポンプと前記排気ユニットとの間に温度調整手段を配置しており、定常運転時上記ポンプの吐出側を、常に真空状態に保っている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月30日(2003.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リターンレス式の燃料供給システムに用いられ、燃料吸入口から吸い上げた燃料をポンプ流路で加圧し、インジェクタヘ圧送する燃料流量を制御装置で制御される燃料ポンプであって、
前記ポンプ流路内の正圧領域であり、かつ０圧領域近傍に形成された第１の排出口と、前記ポンプ流路内であって前記第１の排出口の下流側に形成され、燃料ポンプ外部と連通する第２の排出口とを備えることを特徴とする燃料ポンプ。
【請求項２】
リターンレス式の燃料供給システムに用いられ、燃料吸入口から吸い上げた燃料を加圧する燃料ポンプであって、
前記燃料吸入口が形成されたポンプカバーと、
前記ポンプカバーとの間に円板状のインペラを回転可能に収容するポンプケーシングとを備え、
前記ポンプカバーと前記ポンプケーシングとの間に、前記燃料吸入口から導入された燃料が流れるポンプ流路が形成されており、
前記ポンプカバーには、前記ポンプ流路をなす溝通路が形成されており、
前記溝通路は、導入通路部と、この導入通路部の下流側に形成されて燃料圧力が急増する加圧通路部とを有し、
前記導入通路部内の正圧領域に開口し、燃料ポンプ外部と連通する第１の排出口と、
前記導入通路部のうち、前記第１の排出口の下流側に開口し、燃料ポンプ外部と連通する第２の排出口とを備えることを特徴とする燃料ポンプ。
【請求項３】
前記加圧通路部の径は、前記導入通路部の径よりも小さいことを特徴とする請求項２記載の燃料ポンプ。
【請求項４】
前記第２の排出口は、小孔であって、その開口面積Ｓ２は０．８ｍｍ２＜Ｓ２＜４ｍｍ２であることを特徴とする請求項１ないし３いずれか１つに記載の燃料ポンプ。
【請求項５】
前記第１の排出口の開口面積Ｓ１は０．７ｍｍ２＜Ｓ１＜４ｍｍ２であることを特徴とする請求項１ないし４いずれか１つに記載の燃料ポンプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに、第１の排出口は正圧の０圧領域近傍に形成されているので、負圧領域で形成されそこに滞留するベーパを容易に受入れ排出することができる。第１の排出口で捕らえることができなかったベーパは第１の排出口の下流に形成された第２の排出口から排出することができる。
本発明の請求項２または３記載の燃料ポンプによると、請求項１と同様、第１の排出口は、正圧領域に開口しているので、負圧領域で発生したベーパを容易に受入れ排出することができる。また、第１の排出口で捕らえることができなかったベーパは、第１の排出口の下流に開口した第２の排出口から排出することができる。また、請求項４記載の燃料ポンプによると、第２の排出口は小孔であるから、第２の排出口の径を調整することにより第２の排出口から排出される流量を簡単に少量にできる。したがって、ポンプ回転数の増加すなわちポンプのエネルギーロスを抑えながら第１の排出口までベーパを移動させることができるので、燃料ポンプ外へベーパを容易に排出できる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の請求項５記載の燃料ポンプによると、簡単な具体的構成で第１の排出口の位置の正圧を維持できスムーズにベーパを排出できる。