Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月18日(2003.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一分子中に、それぞれ、アミド基およびカルボキシル基を併有する水酸基含有非水分散型樹脂を必須の樹脂成分として用い、アミノ樹脂を必須の硬化剤成分として用いることを特徴とする、硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
一分子中に、それぞれ、アミド基およびカルボキシル基を併有する水酸基含有非水分散型樹脂と、水酸基含有ポリエステル樹脂とを必須の樹脂成分として用い、アミノ樹脂を必須の硬化剤成分として用いることを特徴とする、硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
前記した非水分散型樹脂が、非水溶剤類に可溶なるアミド基含有樹脂類を、分散安定剤として用いて得られるものである、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記した非水分散型樹脂が、アミド基含有樹脂類を、非水溶剤類に不溶なる分散粒子成分として含有するものである、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項５】
前記した非水分散型樹脂が、非水溶剤類に可溶なるアミド基含有樹脂類を、分散安定剤として用い、さらに、アミド基含有樹脂類を、非水溶剤類に不溶なる分散粒子成分として含有するものである、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項６】
前記したアミド基含有樹脂類が、次のような一般式［Ｉ］
【化１】
1998001595.tif 000001
（ただし、式中のＲ１  は水素原子またはメチル基を表わすものとし、Ｒ２  は炭素数が１〜３なる、分岐を有してもよいアルキレン基を表わすものとし、また、Ｒ３  は水素原子または炭素数が１〜１３なる、芳香族、脂肪族ないしは脂環式炭化水素基を表わすものとする。）で示される（メタ）アクリルアミド系単量体（ａ）の２〜３０重量％と、該単量体（ａ）と共重合可能なる其の他のビニル系単量体（ｂ）とを共重合して得られるビニル系重合体類である、請求項３〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
前記した水酸基含有ポリエステル樹脂が、それぞれ、水酸基価が２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇなる範囲内、酸価が２〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇなる範囲内、数平均分子量が１，０００〜２０，０００なる範囲内のものであり、しかも、該水酸基含有ポリエステル樹脂を用いて得られる硬化性樹脂組成物中における該水酸基含有ポリエステル樹脂の含有量として、前記した非水分散型樹脂／水酸基含有ポリエステル樹脂なる固形分重量比で以て、９８／２〜５０／５０なる範囲内に存在しているものである、請求項２に記載の組成物。
【請求項８】
基材上に、請求項１または２に記載の硬化性樹脂組成物と、顔料類と、溶剤類とを必須の成分として含有する着色フィルム形成組成物を塗布して、ベースコートを形成せしめ、次いで、此のベースコート上に、クリヤーフィルム形成組成物を塗布して、トップコートを形成せしめることを特徴とする、積層塗装方法。
【請求項９】
基材上に、請求項１または２に記載の硬化性樹脂組成物と、顔料類と、溶剤類とを必須の成分として含有する着色フィルム形成組成物を塗布して、ベースコートを形成せしめ、次いで、此の着色フィルム上に、その他の組成から成る着色フィルム形成組成物を塗布した、その他のベースコートを形成せしめ、さらに、その上に、クリヤーフィルム形成組成物を塗布して、トップコートを形成せしめることを特徴とする、積層塗装方法。
【請求項１０】
前記した積層塗装方法が、２コート２ベーク方式によるものである、請求項８に記載の塗装方法。
【請求項１１】
前記した積層塗装方法が、２コート１ベーク方式によるものである、請求項８に記載の塗装方法。
【請求項１２】
前記した積層塗装方法が、３コート１ベーク方式によるものである、請求項９に記載の塗装方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、基本的には、それぞれ、一つには、一分子中に、それぞれ、アミド基およびカルボキシル基を併有する形の特定の水酸基含有非水分散型樹脂を必須の樹脂成分として用いるという一方で、アミノ樹脂を必須の硬化剤成分として用いることから成る、斬新なる硬化性樹脂組成物を提供しようとするものであるし、加えて、斯かる特定のベース塗料組成物を用いた塗装方法をも提供することにあるし、


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
二つには、一分子中に、それぞれ、アミド基およびカルボキシル基を併有する水酸基含有非水分散型樹脂と、水酸基含有ポリエステル樹脂とを必須の樹脂成分として用いるという一方で、アミノ樹脂を必須の硬化剤成分として用いることから成る、斬新なる硬化性樹脂組成物をも提供しようとするものであるし、加えて、斯かる特定のベース塗料組成物を用いた塗装方法をも提供することにある。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【発明の実施の形態】
かくして、本発明は、一つには、一分子中に、それぞれ、アミド基およびカルボキシル基を併有する水酸基含有非水分散型樹脂を必須の樹脂成分として用い、アミノ樹脂を必須の硬化剤成分として用いることから成る、硬化性樹脂組成物を請求しているものであるし、


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
二つには、一分子中に、それぞれ、アミド基およびカルボキシル基を併有する水酸基含有非水分散型樹脂と、水酸基含有ポリエステル樹脂とを必須の樹脂成分として用い、アミノ樹脂を必須の硬化剤成分として用いることから成る、硬化性樹脂組成物をも請求しているものであるし、


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
さらには亦、上記した水酸基含有ポリエステル樹脂として、特に、それぞれ、水酸基価が２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇなる範囲内の、酸価が２〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇなる範囲内の、数平均分子量が１，０００〜２０，０００なる範囲内のものであり、しかも、該水酸基含有ポリエステル樹脂を用いて得られる硬化性樹脂組成物中における該水酸基含有ポリエステル樹脂の含有量として、上記した非水分散型樹脂／水酸基含有ポリエステル樹脂なる固形分重量比で以て、９８／２〜５０／５０なる範囲内に存在しているものを用いるという、特定の硬化性樹脂組成物をも請求しているものであるし、


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
このように、まず、本発明に係る硬化性樹脂組成物は、一つには、一分子中に、それぞれ、アミド基およびカルボキシル基を併有する水酸基含有非水分散型樹脂（以下、ＮＡＤともいう。）を必須の樹脂成分とし、他方、アミノ樹脂を必須の硬化剤成分とするという形の、斬新なるものであるし、二つには、一分子中に、それぞれ、アミド基およびカルボキシル基を併有する水酸基含有非水分散型樹脂と、ポリエステル樹脂とを必須の樹脂成分とし、他方、アミノ樹脂を必須の硬化剤成分とするという形の、斬新なるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月9日(2004.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持布帛(2) が、点群(3) 状に分布した熱可融性材料のコーティングを受ける、可融性心地(1) を製造するための方法であって、次の工程、
- 所定の熱可融温度よりも高い融点である、溶剤中の架橋性ペーストまたは分散体の形態でのポリマーの副層(5) を、シルクスクリーン印刷機(4) の手段により、規則的且つ滑らかな表面を具備した転写媒体(6、7)上に付着させる工程、
- このように得られた平らな表面で薄い厚さの点群を支持布帛(2) に転写する工程、
- 熱可融性ポリマーの粒子(10)を副層(5) に適用する工程、および、
- ペーストまたは分散体の架橋および／または融解を確保するために、このようにして得られた可融性心地(1) を加熱および／または輻射チャンバー(12)に通過させる工程、
を順次行うことを特徴とする、方法。
【請求項２】
熱可融性ポリマーの粒子(10)は粉末被覆により適用され、且つ、副層(5) の点群に直接的に接触していない熱可融性ポリマー粒子(10)が、その後、吸い上げられることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
転写媒体がローラー(6) であることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
転写媒体が永久コンベア(7) であることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
副層(5) のポリマーが熱可融性粒子(10)よりも高い融点を有するものから選ばれることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
副層(5) のポリマーがポリエチレンであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
副層(5) のポリマーがアミノプラスティック混合物、アクリル樹脂、アミノプラスティック樹脂、およびポリウレタンからなる群より選ばれることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
副層(5) が、その転写の前に、より均質になるように予備処理に付されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
転写媒体(6、7)が、それぞれ、領域(14)においてスクリーン印刷機(4) と接し、且つ、領域(15)において支持布帛(2) と接し、前記領域(14 、15) は同一平面または平行な平面上にあることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
熱可融性粒子(10)が60〜200mm の径グレーディングであることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
熱可融性粒子(10)がポリアミド、ポリエステル、ポリウレタンまたはポリエチレンの粒子であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項記載の方法を実施することにより得られることを特徴とする可融性心地。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月8日(2004.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】熱可溶性芯地の製造方法及び熱可溶性芯地


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基礎布帛（２）と、該基礎布帛の一方の面（３）即ち表側面に設けられた熱可溶性第１層（５）と、前記基礎布帛の裏側面（４）に設けられた、前記第１層（５）よりも高い溶融点を有する第２層（７）とを具えた熱可溶性芯地（１）を製造する方法であって、
前記第１層（５）は、第１スクリーン捺染機（９）によって基礎布帛（２）の表側面（３）に点（６）状に分布して設けられ、
前記第２層（７）は、第２スクリーン捺染機（１０）によって均一な平滑な表面を有する移転ローラ（１１）上に点（８）状に分布して設けられ、
こうして得られた平らな表面と薄い厚さを有する点（８）は、前記層（５，７）の点（６，８）が切断平面内で相互に対面するように前記基礎布帛（２）の裏側面（４）に移転され、且つ前記第１層（５）の設置と前記第２層（７）の移転とは同時に行われ、
このようにコーティングされた繊維シートは、電磁線照射及び／又は電子衝撃及び／又は熱による処理を受けることを特徴とする方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法によって得られた熱可溶性芯地。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実際、このようなリターンは美的外観を損ない、この芯地を使用に適さないものにしたり、複合材料に所望の性質とは反する性質を与えてしまう。
こうした溶融性ポリマーのリターンによって、基礎布帛の繊維同士が接着し、劣った柔軟性を有する複合材料となることが多い。実際、この柔軟性の劣化の原因の一部は、複合材料が押し退けられて、繊維が互いに滑り合うことにある。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このリターン現象は、熱可溶性芯地の使用が始まった時から観察されており、それ以来、これを解消するための多くの提案がなされている。
例えば、フランス特許公報FR-A-2 177 038には、基礎布帛上に二層の接着剤層を順次に重ねることによって芯地を得る方法が提案されている。第１層は、スクリーン捺染機によって、高粘度及び／又は高溶融点を有するポリマーを含有する粘稠分散液（ペースト）を、基礎布帛上に直接にコーティングすることによって設けられる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第１の目的は、熱可溶性芯地を製造する方法とこれによって得られる芯地であって、従来技術の隘路や欠点を解決するものを提供することにある。
特に、本発明の目的は、芯地が布地に接合される際に、熱可溶性材料が基礎布帛を貫通して流れ出すことのない方法を提供することにある。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
この目的のために、第１層５は、第１スクリーン捺染機９によって基礎布帛２の表側面３に点６として分布するように設けられる。
第２層７は、第２スクリーン捺染機１０によって均一な平滑な表面を有する移転ローラ１１上に点８として分布するように設けられる。平らな表面と薄い厚さを有するこれらの点８は、次いで基礎布帛２の裏側面４に移転される。第１層５の設置と第２層７の移転とは、層５，７上の点６，８同士が切断平面内で互いに対面するように留意しながら同時に行われる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の熱可溶性芯地の製造方法を実施する装置の概略図である。
【符号の説明】
２…基礎布帛
５…第１層
９…第１スクリーン捺染機
７…第２層
１０…第２スクリーン捺染機
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月13日(2003.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コバルトの含有量が９０ｍｏｌ％｛（Ｃｏ／（Ｎｉ＋Ｃｏ）｝未満である水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とアルカリ性溶液とを反応させる工程を備えたオキシ水酸化ニッケルの製造方法において、
前記工程が、水酸化ニッケルとアルカリ水溶液とを混合した後にペルオキソ二硫酸塩で反応させる工程、もしくはアルカリ水溶液と水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とを同時に反応させる工程、もしくは水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とを混合した後にアルカリ水溶液で反応させる工程であり、かつ、その温度が８０℃未満であることを特徴とする、オキシ水酸化ニッケルの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の製造方法により得られたオキシ水酸化ニッケルを用いて得られたリチウム電池用正極活物質。
【請求項３】
請求項２記載のリチウム電池用正極活物質を備えたリチウム電池。
【請求項４】
請求項１記載の製造方法により得られたオキシ水酸化ニッケルを正極活物質とするアルカリ蓄電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明によるオキシ水酸化ニッケルの製造方法は、コバルトの含有量が９０ｍｏｌ％｛（Ｃｏ／（Ｎｉ＋Ｃｏ））未満である水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とアルカリ性溶液とを反応させる工程を備え、前記工程が、水酸化ニッケルとアルカリ水溶液とを混合した後にペルオキソ二硫酸塩で反応させる工程、もしくはアルカリ水溶液と水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とを同時に反応させる工程、もしくは水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とを混合した後にアルカリ水溶液で反応させる工程であり、かつその温度が８０℃未満であることを特徴とするものであり、これによって、アルカリ水溶液の酸化反応に消費されるペルオキソ二硫酸塩の量を少なくすることができる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明は、コバルトの含有量が９０ｍｏｌ％｛（Ｃｏ／（Ｎｉ＋Ｃｏ））未満である水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とアルカリ性溶液とを反応させる工程を備えたオキシ水酸化ニッケルの製造方法において、前記工程が、水酸化ニッケルとアルカリ水溶液とを混合した後にペルオキソ二硫酸塩で反応させる工程、もしくはアルカリ水溶液と水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とを同時に反応させる工程、もしくは水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とを混合した後にアルカリ水溶液で反応させる工程であり、かつその温度が８０℃未満であることを特徴とするものである。これによって、アルカリ水溶液の酸化反応に消費されるペルオキソ二硫酸塩の量を少なくすることができる。とくに、その量が反応に使用するペルオキソ二硫酸塩の全体量の２５％以下となれば効果的であり、電池活物質またはその原料として活性な試料が得られる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
【発明の効果】本発明によるオキシ水酸化ニッケルの製造方法は、コバルトの含有量が９０ｍｏｌ％｛（Ｃｏ／（Ｎｉ＋Ｃｏ））未満である水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とアルカリ性溶液とを反応させる工程を備え、前記工程が、水酸化ニッケルとアルカリ水溶液とを混合した後にペルオキソ二硫酸塩で反応させる工程、もしくはアルカリ水溶液と水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とを同時に反応させる工程、もしくは水酸化ニッケルとペルオキソ二硫酸塩とを混合した後にアルカリ水溶液で反応させる工程であり、かつその温度が８０℃未満であることを特徴とするものである。これによって、アルカリ水溶液の酸化反応に消費されるペルオキソ二硫酸塩の量を少なくすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月14日(2004.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一台以上のコンピュータ端末を有するコンピュータネットワークと公衆通信網とを統合情報交換装置を介して接続する通信システムにおいて、
前記統合情報交換装置は、
前記コンピュータ端末が保有するデータの転送要求を前記公衆通信網を介して受け取ったときに、その要求の発信元との間で確立された通信路を一旦解放する第１の通信路制御手段と、
前記要求されたデータの転送を前記コンピュータネットワークを介して前記コンピュータ端末に指示した後、その指示に対する応答を前記コンピュータネットワークを介して前記コンピュータ端末から受け取ったときに、前記第１の通信路制御手段により解放された前記発信元との間の通信路を再び確立する第２の通信路制御手段とを具備してなることを特徴とする通信システム。
【請求項２】
前記統合情報交換装置は、前記データの転送要求に含まれる転送実行時刻に応じたタイミングで、そのデータの転送を前記コンピュータネットワークを介して前記コンピュータ端末に指示する手段を有することを特徴とする請求項１記載の通信システム。
【請求項３】
前記コンピュータ端末は、前記転送指示されたデータの保有量が前記統合情報交換装置からの指示に含まれる基準値を上回っているとき、または上回ったときに、その指示に対する応答を前記コンピュータネットワークを介して前記統合情報交換装置に送信する手段を有することを特徴とする請求項１記載の通信システム。
【請求項４】
前記コンピュータ端末は、前記転送指示されたデータすべてを保有しているとき、またはすべてのデータを保有したときに、その指示に対する応答を前記コンピュータネットワークを介して前記統合情報交換装置に送信する手段を有することを特徴とする請求項１記載の通信システム。
【請求項５】
少なくとも一台以上のコンピュータ端末を有するコンピュータネットワークと公衆通信網とを統合情報交換装置を介して接続する通信システムにおいて、
前記統合情報交換装置は、
前記コンピュータ端末が保有するデータを特定するための音声ガイダンスが登録されたトーキ装置と、
前記公衆通信網を介して送信されるプッシュボタン信号を数字データに変換するプッシュボタン信号受信装置と、
前記公衆通信網からの着信を受けたときに、その発信元に対して前記トーキ装置に前記音声ガイダンスを送信させる音声ガイダンス送信手段と、
前記トーキ装置により送信される音声ガイダンスに応答して返送されるプッシュボタン信号を前記プッシュボタン信号受信装置により数字データに変換させるプッシュボタン信号変換手段と、
前記プッシュボタン信号変換手段により得られた数字データに対応する保有データの種別を判定するデータ種別判定手段と、
前記データ種別判定手段により判定されたデータを保有するコンピュータ端末を選定する選定手段と、
前記発信元と前記選定手段により選定されたコンピュータ端末との対応関係を記憶する対応関係記憶手段と、
前記対応関係が前記記憶手段に記憶された時点で前記発信元との間で確立された通信路を解放する通信路解放手段と、
前記コンピュータネットワークを介して前記選定手段により選定されたコンピュータ端末にデータの転送を指示する情報アクセス手段と、
前記情報アクセス手段による指示に対する応答を前記コンピュータネットワークを介して前記コンピュータ端末から受け取ったときに、前記対応関係記憶手段に記憶された対応関係で前記コンピュータ端末と対応づけられた発信元との間の通信路を確立するコールバック手段とを具備してなることを特徴とする通信システム。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月15日(2004.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
発信元の加入者情報を着信先の応答以前に当該着信先に通知する機能を有した通信網に収容された通信回線を接続するための少なくとも１つの外線接続手段および内線端末を接続するための複数の内線接続手段を任意に交換接続する交換装置と、
この交換装置に、内線端末として接続される音声端末と、
前記音声端末を介して、前記交換装置に内線端末として接続される情報端末とからなる通信システムにおいて、
前記交換装置に設けられ、前記複数の内線接続手段のそれぞれに関して、着信報知の開始を遅延させるか否かを設定しておくための報知遅延有無設定手段と、
前記設定手段で報知遅延無しの場合は、発信者の電話番号等の受信情報を待たずに直ちに着信表示を行い、受信情報を受けた後、該受信情報を追加表示し、前記設定手段で報知遅延有りの場合は、前記受信情報を受けるまでは着信表示をせずに、該受信情報を受けた後に着信と受信情報との表示を同時に行う表示手段とを具備したことを特徴とする通信システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
以上の目的を達成するために本発明の通信システムは、発信元の加入者情報を着信先の応答以前に当該着信先に通知する機能を有した通信網に収容された通信回線を接続するための少なくとも１つの外線接続手段および内線端末を接続するための複数の内線接続手段を任意に交換接続する交換装置と、この交換装置に、内線端末として接続される音声端末と、前記音声端末を介して、前記交換装置に内線端末として接続される情報端末とからなる通信システムにおいて、前記交換装置に設けられ、前記複数の内線接続手段のそれぞれに関して、着信報知の開始を遅延させるか否かを設定しておくための報知遅延有無設定手段と、前記設定手段で報知遅延無しの場合は、発信者の電話番号等の受信情報を待たずに直ちに着信表示を行い、受信情報を受けた後、該受信情報を追加表示し、前記設定手段で報知遅延有りの場合は、前記受信情報を受けるまでは着信表示をせずに、該受信情報を受けた後に着信と受信情報との表示を同時に行う表示手段とを具備した。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このような手段を講じたことにより、報知遅延有無設定手段にて着信報知の開始を遅延させる旨の設定がなされた内線接続手段に接続された内線端末に対する着信が発生した場合、受信情報を受けるまでは着信表示はなされず、該受信情報を受けた後に着信と受信情報との表示が同時に行われる。従って上記の設定の下では、受信情報の報知が先行され、常にこの受信情報の報知が行われた状態で着信報知が行われる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
本発明によれば、報知遅延有無設定手段にて着信報知の開始を遅延させる旨の設定をしておけば、受信情報の報知が先行され、常にこの受信情報の報知が行われた状態で着信報知が行われるので、ユーザが着信報知に気付いたときには、常に発信者に関する詳細情報の確認をユーザが即座に行うことを可能とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月19日(2003.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
局間に配設された既存のパスのパス配列をチャンネル毎に作成するパス配列作成手段と、
該パス配列作成手段が作成したパス配列上に、追加するパスの検索領域を前記チャンネル毎に設定する検索領域設定手段と、
前記パス配列上の前記検索領域に、既存のパスが設定されていない場合、該検索領域に追加パスを設定する追加パス設定手段と、
を有することを特徴とするパスマネージメント装置。
【請求項２】
局間に配設された既存のパスのパス配列をチャンネル毎に作成するパス配列作成手段と、
該パス配列作成手段が作成したパス配列上に、追加するパスの検索領域を前記チャンネル毎に設定する検索領域設定手段と、
前記パス配列上の前記検索領域に、既存のパスが設定されている場合、該既存のパスに対し検索処理を行い、該既存のパスに対する検索領域を前記チャンネル毎に前記パス配列上に設定する既存パスの検索領域設定手段と、
前記既存のパスの検索領域内に他の既存のパスが設定されている場合、更に該他の既存のパスに対する検索処理を繰り返し、前記既存のパスの検索領域内に他の既存のパスが設定されていない場合、該領域に前記既存のパスを移行し、該既存のパスの領域に前記追加のパスを設定する追加パス設定手段と、
を有することを特徴とするパスマネージメント装置。
【請求項３】
局間に配設された既存のパスのパス配列をチャンネル毎に作成するパス配列作成処理と、
該パス配列作成処理で作成したパス配列上に、追加するパスの検索領域を設定する検索領域設定処理と、
前記パス配列上の前記検索領域に、前記既存のパスが設定されていない場合、該検索領域に追加パスを設定する追加パス設定処理と、
前記検索領域に前記既存のパスが設定されている場合には、該既存のパスの検索領域を前記パス配列上に設定し、別の既存のパスが存在するかを検出する処理を繰り返し行うことにより、既存のパスが設定されていない領域を検出する処理と、
を行うことを特徴とするパスマネージメント方法。
【請求項４】
局間に配設された既存のパスのパス配列をチャンネル毎に作成するパス配列作成機能と、
該機能で作成したパス配列上に、追加するパスの検索領域をチャンネル毎に設定する検索領域設定機能と、
前記パス配列上の前記検索領域に、既存のパスが設定されていない場合、該検索領域に追加パスを設定する追加パス設定機能と、
をコンピュータに実行させるプログラムを格納した前記コンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成15年4月30日(2003.4.30)
【手続補正１】
【補正対象項目名】手続補正書２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月13日(2003.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ発生用ガスを処理室に供給するためのガス供給口を有するプラズマ発生用電極の前記ガス供給口の前面に装着されるプラズマ処理装置用の電極部材であって、３次元網目構造を有しこの３次元網目構造の隙間が前記ガス供給口から供給されるプラズマ発生用ガスを通過させるための複数の不規則経路となっていることを特徴とするプラズマ処理装置用の電極部材。
【請求項２】
前記電極部材は、セラミック粉末を焼成して結合した骨格部が３次元の網目状に連続して形成された３次元網目構造を有し、この骨格部の隙間がプラズマ発生用ガスを通過させるための不規則経路となっていることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置用の電極部材。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月20日(2003.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
透光性基板に第１導電体層、有機物質を含む電界発光層、及び第２導電体層を順次積層してなる有機電界発光表示素子の製造方法において、前記第２導電体層を積層した後、前記第１導電体層、電界発光層、及び第２導電体層を覆い、シリコン系列の絶縁物質を含む保護層を前記透光性基板に形成し、前記保護層の一部を熱処理することを特徴とする有機電界発光表示素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
透光性基板に第１導電体層、有機物質を含む電界発光層、及び第２導電体層を順次積層してある有機電界発光表示素子において、
前記第１導電体層、電界発光層、及び第２導電体層を覆い、シリコン系列の絶縁物質を含む保護層を前記透光性基板に備え、該保護層の一部に熱処理がされていることを特徴とする有機電界発光表示素子。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
第１発明に係る有機電界発光表示素子の製造方法は、透光性基板に第１導電体層、有機物質を含む電界発光層、及び第２導電体層を順次積層してなる有機電界発光表示素子の製造方法において、前記第２導電体層を積層した後、前記第１導電体層、電界発光層、及び第２導電体層を覆い、シリコン系列の絶縁物質を含む保護層を前記透光性基板に形成し、前記保護層の一部を熱処理することを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第５発明に係る有機電界発光表示素子は、透光性基板に第１導電体層、有機物質を含む電界発光層、及び第２導電体層を順次積層してある有機電界発光表示素子において、前記第１導電体層、電界発光層、及び第２導電体層を覆い、シリコン系列の絶縁物質を含む保護層を前記透光性基板に備え、該保護層の一部に熱処理がされていることを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
化学気相蒸着法を用いてシリコン系列の絶縁物質により保護層１３０を形成する場合、膜の形成温度は、２５〜３００℃であって、キャリアガスに不活性気体を利用する。ＳｉＮｘ  膜の形成には、反応ガスとしてＳｉＨ４  、ＮＨ３  、Ｎ２  を使用し、ＳｉＯＮ膜の形成には、反応ガスとしてＳｉＨ４  、Ｎ２  Ｏ、ＮＨ３  、Ｎ２  を使用し、ＳｉＯ２  膜の形成には、反応ガスとしてＳｉＨ４  及びＯ２  を使用する。
スパッタリング法を使用してシリコン系列の絶縁物質により保護層１３０を形成する場合、膜の形成温度は、２５〜３００℃であって、キャリアガスに不活性気体を利用する。ＳｉＮｘ  、ＳｉＯＮ、ＳｉＯ２  の各膜は、各々ＳｉＮｘ  、ＳｉＯＮ、ＳｉＯ２  のターゲットを利用する。
また、シリコン系列の絶縁性物質、樹脂膜、そしてシリコン系列の絶縁性物質を順に積層して保護層１３０を形成するか、又は樹脂膜、シリコン系列の絶縁性物質、そして樹脂膜を順に積層して保護層１３０を形成することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月18日(2003.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼に照明光を投光する投光光学系と、被検眼の角結膜表面の涙液層による反射光を検出する検出素子を有する反射光検出光学系と、該検出される反射光の経時的変化に基づいて角結膜の乾燥度を測定する測定手段と、を備えることを特徴とする眼科装置。
【請求項２】
請求項１の測定手段は、前記反射光に基づいて角結膜表面上に発生する乾燥領域を判定し、所定の測定領域に対する乾燥領域の占有面積の経時的な変化に基づいて乾燥度を測定することを特徴とする眼科装置。
【請求項３】
請求項１の眼科装置において、前記投光光学系は被検眼に点眼した蛍光物質を励起する波長の光を投光する励起フィルタを有し、前記反射光検出光学系は励起された蛍光を選択的に透過する蛍光ろ過フィルタを有し、被検眼には前記蛍光物質を点眼した後に前記測定手段により測定することを特徴とする眼科装置。
【請求項４】
請求項１の眼科装置において、被検眼が開瞼したことを検出する開瞼検出手段と、開瞼の検出結果に基づいて自動的に測定を開始する測定自動開始手段と、を備えることを特徴とする眼科装置。
【請求項５】
請求項１の眼科装置において、前記測定手段により測定される乾燥領域の経時変化をその時間変化に従って表示する表示手段を備えることを特徴とする眼科装置。
【請求項６】
請求項１の眼科装置において、測定環境の条件に応じて乾燥度の測定を補正する補正手段と、を備えることを特徴とする眼科装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）  被検眼に照明光を投光する投光光学系と、被検眼の角結膜表面の涙液層による反射光を検出する検出素子を有する反射光検出光学系と、該検出される反射光の経時的変化に基づいて角結膜の乾燥度を測定する測定手段と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の測定手段は、前記反射光に基づいて角結膜表面上に発生する乾燥領域を判定し、所定の測定領域に対する乾燥領域の占有面積の経時的な変化に基づいて乾燥度を測定することを特徴とする。
（３）  （１）の眼科装置において、前記投光光学系は被検眼に点眼した蛍光物質を励起する波長の光を投光する励起フィルタを有し、前記反射光検出光学系は励起された蛍光を選択的に透過する蛍光ろ過フィルタを有し、被検眼には前記蛍光物質を点眼した後に前記測定手段により測定することを特徴とする。
（４）  （１）の眼科装置において、被検眼が開瞼したことを検出する開瞼検出手段と、開瞼の検出結果に基づいて自動的に測定を開始する測定自動開始手段と、を備えることを特徴とする。
（５）  （１）の眼科装置において、前記測定手段により測定される乾燥領域の経時変化をその時間変化に従って表示する表示手段を備えることを特徴とする眼科装置。
（６）  （１）の眼科装置において、測定環境の条件に応じて乾燥度の測定を補正する補正手段と、を備えることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月26日(2003.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
手術用ハンドピースの先端に取り付けられた眼内挿入用のチップを被覆する眼科手術用スリーブにおいて、前記手術用ハンドピースを介して導かれる灌流液を眼内に供給するための流出孔を、先端からの距離が異なる位置に複数個設けたことを特徴とする眼科手術用スリーブ。
【請求項２】
請求項１の眼科手術用スリーブにおいて、前記流出孔は先端近傍の位置と、水晶体嚢内に挿入されたときに少なくとも前房内に残る位置とに設けられていることを特徴とする眼科手術用スリーブ。
【請求項３】
請求項１の眼科手術用スリーブにおいて、手術中に眼内に挿入される管状部分の内、前房内に位置する部分の外径に対して水晶体嚢内に挿入される部分が細く形成されていることを特徴とする眼科手術用スリーブ。
【請求項４】
請求項１の眼科手術用スリーブにおいて、前記流出孔は先端に近づくほどその大きさが大きくなっていることを特徴とする眼科手術用スリーブ。
【請求項５】
請求項１の眼科手術用スリーブを備える眼科手術装置であって、前記眼科手術用スリーブを介して灌流液を眼内に供給する灌流液供給手段と、眼内の廃液を吸引する吸引手段と、を具備することを特徴とする眼科手術装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（１）  手術用ハンドピースの先端に取り付けられた眼内挿入用のチップを被覆する眼科手術用スリーブにおいて、前記手術用ハンドピースを介して導かれる灌流液を眼内に供給するための流出孔を、先端からの距離が異なる位置に複数個設けたことを特徴とする。
（２）  （１）の眼科手術用スリーブにおいて、前記流出孔は先端近傍の位置と、水晶体嚢内に挿入されたときに少なくとも前房内に残る位置とに設けられていることを特徴とする。
（３）  （１）の眼科手術用スリーブにおいて、手術中に眼内に挿入される管状部分の内、前房内に位置する部分の外径に対して水晶体嚢内に挿入される部分が細く形成されていることを特徴とする。
（４）  （１）の眼科手術用スリーブにおいて、前記流出孔は先端に近づくほどその大きさが大きくなっていることを特徴とする。
（５）  （１）の眼科手術用スリーブを備える眼科手術装置であって、前記眼科手術用スリーブを介して灌流液を眼内に供給する灌流液供給手段と、眼内の廃液を吸引する吸引手段と、を具備することを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月22日(2003.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の両頭平面研削方法においては、砥石車を切込み送りして行うインフィード研削と、キャリアの送り動作により通し送りして行うスルー研削を順次連続して複合的に行うことにより、両砥石車の傾斜角度を、ワークの取代の大きさの如何にかかわらず、ワークの仕上面に要求される平行度、平坦度あるいは研削効率等を考慮して最適値に設定することが可能となる。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
具体的には、両研削砥石面１ａ，２ａは、図３に示すように、後述するワーク入口Ａ側で広く、ワークＢ出口側で狭くなるように互いに所定の傾斜角度θをもって傾斜して配置されている。この傾斜角度θは、スルー研削のためのもので、ワークＷの仕上面Ｗａ，Ｗｂに要求される平行度、平坦度あるいは研削効率等を考慮して最適値に設定される。これにより、後述するように、両砥石車１，２間に送り込まれるワークＷは、ワーク入口側Ａから出口側Ｂへ通過する間に順次所定量ずつ研削されることとなる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
しかして、以上のように、上側の砥石車１を切込み送りして行うインフィード研削と、キャリア１２の送り動作により通し送りして行うスルー研削を順次連続して複合的に行うことにより、両砥石車１，２の傾斜角度θを、ワークＷの取代の大きさの如何にかかわらず、ワークＷの仕上面に要求される平行度、平坦度あるいは研削効率等を考慮して最適値に設定することができる。特に、両砥石車１，２の傾斜角度θを小さくすることにより、ワークＷの両面に対してスパークアウト的な作用が働き、この部位の平行度および平坦度が向上する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
また、これに関連して、図示しないが、キャリア２２の下側には、キャリア２２の下面を摺動案内するガイド部が設けられている。このガイド部は、実施形態１および２と同様、上下砥石車１，２のワーク入口Ａとワーク出口Ｂの外側において、ワーク供給部Ｉからワーク入口Ａまでの部位とワーク出口Ｂからワーク回収部Ｏの手前までの部位に配されている。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
(3) 図示の実施形態においては、両砥石車１，２の回転主軸１０，１１が垂直に配置されてなる立軸型であるが、本発明は、回転主軸１０，１１が水平に配置されてなる横軸型の平面研削盤にも採用可能であることはもちろんである。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
すなわち、本発明においては、砥石車を切込み送りして行うインフィード研削と、キャリアの送り動作により通し送りして行うスルー研削を順次連続して複合的に行うように構成されているから、上下両砥石車の傾斜角度を、ワークの取代の大きさの如何にかかわらず、ワークの仕上面に要求される平行度、平坦度あるいは研削効率等を考慮して最適値に設定することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月11日(2003.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【実施例】
ａ．複合チューブの作成
加硫剤を含むジメチルシリコーンゴム（商品名「ＫＥ５６１Ｕ」、信越化学工業株式会社製）をチューブ状に押出し成型し、次いで熱風加硫方式にて、５００℃で３０秒間加硫処理して、内径が２ｍｍで肉厚が１ｍｍのシリコーンチューブ（１）を得た。次に厚みが２０μｍで幅が１００ｍｍのビニリデン系重合体のテープ状薄膜（「クレラップ」）を上記のシリコーンチューブ（１）の外周に縦添えして被覆層（２）を形成した後、該被覆層（２）に１５０℃で１０分間の収縮熱処理を施して該チューブ（１）の外周に密着固定した。このものを、室温下で自然冷却して、本発明の複合チューブを完成した。
ｂ．複合チューブの水分透過性の評価
ｂ−１．評価方法
１．長さがそれぞれ３００ｍｍの複合チューブ（本発明）を５本（ｎ数＝５）、およびシリコーン単体のチューブ（比較例：上記の実施例において、被覆前のチューブ）を５本（ｎ数＝５）と、クリップを準備し、各チューブとクリップの合計重量（Ｗ１：単位はｇ、以下同じ）を測定する。
２．各チューブ内に水を入れ、チューブ両端を水漏れしないようにクリップで止める。
３．各チューブ外周側に付着している水を拭き取ってから、チューブ、チューブ内の水およびクリップの合計重量（Ｗ２）を測定する。ここで、チューブに封入された水の量（Ｗ３）は、Ｗ３＝Ｗ２−Ｗ１として求められる。
４．上記３項で得た各チューブを４０℃の恒温槽に６０時間放置する。
５．恒温槽から、各チューブを取り出し、それぞれにつき、チューブ、チューブ内の水およびクリップの合計重量（Ｗ４）を測定する。ここで、チューブ内に残存している水の量（Ｗ５）は、Ｗ５＝Ｗ４−Ｗ１として求められ、従って、恒温槽内での放置状態の間にチューブ壁を透過（蒸発）した水の量（Ｗ６）は、Ｗ６＝Ｗ２−Ｗ４となる。
以上から、チューブ内の水の量（Ｗ３）の透過損失量（％）をＴ（％）＝（Ｗ６／Ｗ３）×１００として求める。このＴの値が低いほど、チューブはその水分蒸発防止能に優れていることになる。
ｂ−２．結果
本発明の複合チューブについては表１に、比較例のものについては表２に示す。
【表１】
2004042573.tif 000001
【表２】
2004042573.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月21日(2003.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
前記コントローラ１Ｂは、上記実施の形態１に係るコントローラ１Ａと同様に、ＣＰＵ２，ＭＩＵ３およびパッド回路６，７を備え、本変形例１のパッド回路７は更に、メモリ・コントローラ４から伝送した制御信号ＣＳinの電圧レベルを変換するレベル変換器７Ｂを搭載している。尚、このレベル変換器７Ｂは、メモリ・コントローラ４から供給される制御信号ＰＣDを受けて動作する。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
また、上記のアドレス信号ＭＡ［１２：０］，マスク信号ＤＱＭ［１：０］，バンク・アドレス信号ＭＢＡ［１：０］およびライト・イネーブル信号ＷＥをそれぞれ伝送する信号線は、不揮発性メモリ２７の入力端子へも分岐して接続される。但し、マスク信号ＤＱＭ［１：０］伝送用の信号線に、出力イネーブル信号ＭＯＥ０，ＭＯＥ１（ＭＯＥ［１：０］）伝送用の信号線が割り当てられ、バンク・アドレス信号ＭＢＡ［１：０］伝送用の信号線に、アドレス信号ＭＡ１３，ＭＡ１４（ＭＡ［１４：１３］）伝送用の信号線が割り当てられる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
また、コントローラ１Ｃの入出力ポート８Ｂは、ＳＤＲＡＭ２６との間でデータ信号ＭＤ０，ＭＤ１，…，ＭＤ１５（ＭＤ［１５：０］）を伝送する１６ビット幅のデータ・バス２９と接続される。このデータ・バス２９は、途中で分岐して不揮発性メモリ２７のアドレス入力端子と接続される。但し、データ信号ＭＤ［１５：０］伝送用の信号線に、アドレス信号ＭＡ１５，…，ＭＡ３０（ＭＡ［３０：１５］）伝送用の信号線が割り当てられるため、不揮発性メモリ２７には合計３１ビットのアドレス信号ＭＡ［３０：０］が供給されることになる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
上記実施の形態２の場合と同様に、制御バス２８において、アドレス信号ＭＡ［１２：０］を伝送する信号線は、ＳＤＲＡＭ２６のアドレス入力端子と結線され、他の制御信号ＤＱＭ［１：０］，ＷＥ，ＣＳ１，ＲＡＳ，ＣＡＳ，ＭＢＡ［１：０］，ＭＣＬＫＥ，ＭＣＬＫを伝送する信号線は、ＳＤＲＡＭ２６の制御用入力端子と結線される。また、アドレス信号ＭＡ［１２：０］と、バンク・アドレス信号ＭＢＡ［１：０］に割り当てたアドレス信号ＭＡ［１４：１３］と、マスク信号ＤＱＭ［１：０］に割り当てた出力イネーブル信号ＭＯＥ［１：０］と、ライト・イネーブル信号ＷＥとを伝送する信号線が、不揮発性メモリ２７’のアドレス入力端子と制御用入力端子とに結線される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
また、コントローラ１Ｄは入出力ポート８Ａ〜８Ｄを有し、その出力ポート８ＡとＳＤＲＡＭ２６との間には、アドレス信号と制御信号を伝送する制御バス３４が配設されている。この制御バス３４は、途中で分岐して不揮発性メモリ２７にも接続される。またこの制御バス３４は、上記のアドレス信号ＭＡ［１２：０］、マスク信号ＤＱＭ［１：０］、ライト・イネーブル信号ＷＥ、チップ・セレクト信号ＣＳ１、行アドレス・ストローブ信号ＲＡＳ、列アドレス・ストローブ信号ＣＡＳ、バンク・アドレス信号ＭＢＡ［１：０］、クロック・イネーブル信号ＭＣＬＫＥおよびクロック信号ＭＣＬＫをＳＤＲＡＭ２６に伝送する合計２３ビット幅の信号線から構成されている。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
また、コントローラ１Ｄの出力ポート８Ｄと接続される８ビット幅のバス３７にはスイッチ回路４０が接続される。このスイッチ回路４０は、３．３Ｖの電源電圧と結線された８個の抵抗素子４１，４１，…，４１と、８個のスイッチ４２，４２，…，４２とを備えており、各スイッチ４２，…，４２の一端は接地され、各スイッチ４２，…，４２の他端はそれぞれ各抵抗素子４１，…，４１と結線されている。また、各スイッチ４２，…，４２の他端は、それぞれ、バス３７の各信号線と結線されている。従って、１個のスイッチ４２を「オン」にする度に所定電圧が当該信号線に印加されるため、８個のスイッチ４２，…，４２の「オン」と「オフ」との組み合わせにより、８ビットの信号を入力ポート８Ｄに供給できる。その８ビット信号は、レベル変換器７Ａとセレクタ５とを介してＣＰＵ２に供給されるから、ＣＰＵ２は、その８ビット信号を検知して種々の制御を行うことが可能となる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
本例では、実施の形態１のコントローラ１Ａはメイン・コントローラ５０Ａに対するサブシステムとして機能する。このメイン・コントローラ５０Ａは、共通の電源電圧ＶDD（＝３．３Ｖ）で駆動されるＲＡＭ６０と不揮発性メモリ６１とにアクセスして動作するものであり、これらメモリ６０，６１のメモリ管理を行うＭＩＵ（メモリ・インターフェース・ユニット）５２と、ＲＡＭ６０や不揮発性メモリ６１の論理インターフェースに合わせて入出力信号の電圧レベルを変換するパッド回路５４と、ＣＰＵ５１とを備えている。メイン・コントローラ５０Ａは、上記コントローラ１Ａのメモリ・コントローラ４と同種の機能を有するメモリ・コントローラ５３を搭載する。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
他方、コントローラ１ＡのＣＰＵ２も、電源投入時にリセット信号を受けて、不揮発性メモリ１４に格納されたブートプログラムをロードし、ＲＡＭ１３を作業領域としてそのブートプログラムを実行し、サブシステムを初期化し起動させる。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
実施の形態４の変形例．
図１２は、前述した実施の形態４に係る制御システムの変形例を示す図である。同図に示す制御システムは、図１１に示した制御システムと比べると、図１１に示したメイン・コントローラ５０Ｂに設けられた出力回路５８および出力ポート５５Ｃが無く、この代わりに入力ポート８Ｃに接続されているデータ・バス１２がメインシステム側の制御バス５６から分岐している点で相違し、その他の構成では両者は同じである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月30日(2004.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
また、前記第１係合部を、制御基板ケースの一端縁に形成した係合突部の延出方向に対して直交する方向(支持面側)に形成すると共に、前記第２係合部を、前記ケース収容部に該制御基板ケースに対向して立設するようにしたが、該第１係合部を係合突部の延出方向に対して交差方向に延出させれば、制御基板ケースの着脱時に両係合部に掛かる負荷が低減されて耐久性の向上を図ることができる。更に、実施例では、ケース収容部に突部を設け、係合突部と規制部とを係合させた際に、該係合突部を挟んで規制部とは反対側に空間が画成されるように、位置決め凹部を形成するようにしたが、その他の構成とすることも可能である。そして、係合突部と位置決め凹部の底面との離間距離は、少なくとも第１係合部と第２係合部との係合が解除された際に、該係合突部と該位置決め凹部の底面とが干渉しない寸法に設定されていれば、当該係合突部に過度の負荷が掛かることなく前記制御基板ケースの取外しが可能である。