(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に洗浄処理のための処理液を供給して基板を洗浄する液処理装置であって、
基板を水平に保持し、基板とともに回転可能な基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板を囲繞し、基板とともに回転可能であり、基板から振り切られた処理液を受ける回転カップと、
前記回転カップおよび前記基板保持部を一体的に回転させる回転機構と、
基板に処理液を供給する処理液供給機構と、
前記回転カップの外側を囲繞するように設けられ、前記回転カップから排出された処理液を受けて排液する排液カップと、
前記回転カップから排出されて前記排液カップの壁部ではね返った処理液が前記回転カップと前記排液カップの間を上昇して形成される上昇流を抑制する上昇流抑制部と
を具備し、
前記回転カップは、前記基板保持部の端部の上方を覆う庇部と庇部の外端部から垂直下方へ延びる筒状の外側壁部を有し、
前記排液カップは、前記回転カップの前記外側壁部の外側に近接して設けられた垂直壁と、前記垂直壁の下端部から内側に向かって延びる底部とを有し、
前記基板保持部に保持された基板から飛散した処理液は、前記基板保持部と前記外側壁部との間から前記排液カップに導かれ、
前記上昇流抑制部は、前記排液カップの前記垂直壁における前記回転カップの前記外側壁部の下方位置に形成された、前記外側壁部の下端から遠心力で飛翔した処理液を下側に跳ね返す傾斜部を含む切り欠き部と、前記垂直壁の上端から前記回転カップの庇部を覆うように内側に向けて張り出した張り出し部とを有することを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記張り出し部は、その先端部分に、前記上昇流を跳ね返す返し部を有することを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記排液カップの外側に前記排液カップを囲繞するように設けられ、前記回転カップおよびその周囲からの主に気体成分を取り入れて排気する排気カップをさらに具備することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体ウエハ等の基板に対して所定の液処理を行う液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、被処理基板である半導体ウエハやガラス基板に処理液を供給して液処理を行うプロセスが多用されている。このようなプロセスとしては、例えば、基板に付着したパーティクルやコンタミネーション等を除去する洗浄処理、フォトリソグラフィ工程におけるフォトレジスト液や現像液の塗布処理等を挙げることができる。
【０００３】
このような液処理装置としては、半導体ウエハ等の基板をスピンチャックに保持し、基板を回転させた状態でウエハの表面または表裏面に処理液を供給してウエハの表面または表裏面に液膜を形成して処理を行う枚葉式のものが知られている。
【０００４】
この種の装置では、通常、処理液はウエハの中心に供給され、基板を回転させることにより処理液を外方に広げて液膜を形成し、処理液を離脱させることが一般的に行われている。そして、基板の外方へ振り切られた処理液を下方へ導くようにウエハの外側を囲繞するカップ等の部材を設け、ウエハから振り切られた処理液を速やかに排出するようにしている。しかし、このようにカップ等を設ける場合には、処理液がミストとして飛び散り、基板まで達してウォーターマークやパーティクル等の欠陥となるおそれがある。
【０００５】
このようなことを防止可能な技術として、特許文献１には、基板を水平支持した状態で回転させる回転支持手段と一体に回転するように、基板から外周方向に飛散した処理液を受ける処理液受け部材を設け、処理液を受け、処理液を外方へ導いて回収するようにした技術が開示されている。この特許文献１において、処理液受け部材は、基板側から順に、水平ひさし部、処理液を外側下方に案内する傾斜案内部、処理液を水平外方へ案内する水平案内部、および垂直に立設する壁部を有し、処理液を狭い範囲に追い込んでミストが基板へ再付着することを防止しつつ処理受け部材の隅部に設けられた排液口を介して水平外方に排出させ、さらに処理液受け部材の外側に配置されたスペーサの内部を外方に延びる溝を介して排液される。
【特許文献１】特開平８−１０６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１においては、基板とともに回転する処理液受け部材が処理液を基板外方の狭い範囲に追い込むようにしているため、基板の外側のスペーサ部分が大きいものとなり、装置のフットプリントが大きいものとなってしまう。一方、装置を小型化しようとすると、ミストが基板へ再付着する等によるパーティクルの付着を有効に防止することが困難となる。
【０００７】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、基板へのパーティクルの付着を有効に防止しつつ小型化を達成することができる液処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明は、基板に洗浄処理のための処理液を供給して基板を洗浄する液処理装置であって、基板を水平に保持し、基板とともに回転可能な基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板を囲繞し、基板とともに回転可能であり、基板から振り切られた処理液を受ける回転カップと、前記回転カップおよび前記基板保持部を一体的に回転させる回転機構と、基板に処理液を供給する処理液供給機構と、前記回転カップの外側を囲繞するように設けられ、前記回転カップから排出された処理液を受けて排液する排液カップと、前記回転カップから排出されて前記排液カップの壁部ではね返った処理液が前記回転カップと前記排液カップの間を上昇して形成される上昇流を抑制する上昇流抑制部とを具備し、前記回転カップは、前記基板保持部の端部の上方を覆う庇部と庇部の外端部から垂直下方へ延びる筒状の外側壁部を有し、前記排液カップは、前記回転カップの前記外側壁部の外側に近接して設けられた垂直壁と、前記垂直壁の下端部から内側に向かって延びる底部とを有し、前記基板保持部に保持された基板から飛散した処理液は、前記基板保持部と前記外側壁部との間から前記排液カップに導かれ、前記上昇流抑制部は、前記排液カップの前記垂直壁における前記回転カップの前記外側壁部の下方位置に形成された、前記外側壁部の下端から遠心力で飛翔した処理液を下側に跳ね返す傾斜部を含む切り欠き部と、前記垂直壁の上端から前記回転カップの庇部を覆うように内側に向けて張り出した張り出し部とを有することを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１２】
上記構成において、前記張り出し部は、その先端部分に、前記上昇流を跳ね返す返し部を有するものとすることができる。また、前記排液カップの外側に前記排液カップを囲繞するように設けられ、前記回転カップおよびその周囲からの主に気体成分を取り入れて排気する排気カップをさらに具備する構成とすることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板の回転とともに回転する回転カップを設けたので、回転カップに遠心力が作用し、固定カップを設けたときのような直接的な処理液のミストのはね返りを防止することができ、その外側に排液カップを設ける構成を採用することにより、排液カップを回転カップに近接させて装置構成を小型化することができる。この場合に、回転カップから排出された処理液は遠心力で排液カップの壁部に当たり、そこで跳ね返ってその一部が上昇して回転カップの外側部分を汚染したり、排液カップから飛び出してミスト化したりして、基板にパーティクルを付着させるおそれがあるが、回転カップから排出されて排液カップの壁部で跳ね返った処理液が上昇して形成される上昇流を抑制する上昇流抑制部を設けたので、処理液による回転カップ外側の汚染や処理液が排液カップから飛び出してミスト化することを有効に防止することができ、基板へのパーティクルの付着を有効に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の実施形態について詳細に説明する。ここでは、本発明を半導体ウエハ（以下、単にウエハと記す）の表裏面洗浄を行う液処理装置に適用した場合について示す。
【００１５】
図１は本発明の一実施形態に係る液処理装置の概略構成を示す断面図、図２はその平面図、図３は図１の液処理装置の液処理供給機構を示す概略図、図４は図１の液処理装置の排気・排液部を拡大して示す断面図である。この液処理装置１００は、図示しない液処理システムに複数台組み込まれており、ベースプレート１と、被処理基板であるウエハＷを回転可能に保持するウエハ保持部２と、このウエハ保持部２を回転させる回転モータ３と、ウエハ保持部２に保持されたウエハＷを囲繞するように設けられ、ウエハ保持部２とともに回転する回転カップ４と、ウエハＷの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル５と、ウエハＷの裏面に処理液を供給する裏面処理液供給ノズル６と、回転カップ４の周縁部に設けられた排気・排液部７とを有している。また、排気・排液部７の周囲およびウエハＷの上方を覆うようにケーシング８が設けられている。ケーシング８の上部には液処理システムのファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）からの気流を側部に設けられた導入口９ａを介して導入する気流導入部９が設けられており、ウエハ保持部２に保持されたウエハＷに清浄空気のダウンフローが供給されるようになっている。
【００１６】
ウエハ保持部２は、水平に設けられた円板状をなす回転プレート１１と、その裏面の中心部に接続され、下方鉛直に延びる円筒状の回転軸１２とを有している。回転プレート１１の中心部には、回転軸１２内の孔１２ａに連通する円形の孔１１ａが形成されている。そして、裏面処理液供給ノズル６を備えた昇降部材１３が孔１２ａおよび孔１１ａ内を昇降可能に設けられている。回転プレート１１には、ウエハＷの外縁を保持する保持部材１４が設けられており、図２に示すように、これらは３つ等間隔で配置されている。この保持部材１４は、ウエハＷが回転プレート１１から少し浮いた状態で水平にウエハＷを保持するようになっている。この保持部材１４はウエハＷの端面を保持可能な保持部１４ａと、保持部１４ａから回転プレート裏面側中心方向に延材する着脱部１４ｂと、保持部１４ａを垂直面内で回動させる回転軸１４ｃとを有し、着脱部１４ｂの先端部を図示しないシリンダ機構により上方に押し上げることにより、保持部１４ａが外側に回動してウエハＷの保持が解除される。保持部材１４は、図示しないバネ部材により保持部１４ａがウエハＷを保持する方向に付勢されており、シリンダ機構を作動させない場合には保持部材１４によりウエハＷが保持された状態となる。
【００１７】
回転軸１２は、２つのベアリング１５ａを有する軸受け部材１５を介してベースプレート１に回転可能に支持されている。回転軸１２の下端部にはプーリー１６が嵌め込まれており、プーリー１６にはベルト１７が巻き掛けられている。ベルト１７はモータ３の軸に取り付けられたプーリー１８にも巻き掛けられている。そして、モータ３を回転させることによりプーリー１８、ベルト１７およびプーリー１６を介して回転軸１２を回転するようになっている。
【００１８】
表面処理液供給ノズル５は、ノズル保持部材２２に保持された状態でノズルアーム２２ａの先端に取り付けられており、後述する処理液供給機構８５からノズルアーム２２ａ内に設けられた流路を通って処理液等が供給され、その内部に設けられたノズル孔５ａを介して処理液を吐出するようになっている。吐出する処理液としては、ウエハ洗浄用の薬液、純水等のリンス液等を挙げることができる。また、ノズル保持部材２２には、ＩＰＡに代表される乾燥溶媒を吐出する乾燥溶媒ノズル２１も取り付けられており、その内部に設けられたノズル孔２１ａを介してＩＰＡ等の乾燥溶媒を吐出するようになっている。
【００１９】
図２にも示すように、ノズルアーム２２ａは駆動機構８１により軸２３を中心として回動可能に設けられており、ノズルアーム２２ａを回動させることにより、表面処理液供給ノズル５がウエハＷ中心上および外周上のウエハ洗浄位置と、ウエハＷの外方の退避位置とを取り得るようになっている。また、ノズルアーム２２ａはシリンダ機構等の昇降機構８２により上下動可能となっている。
【００２０】
図３に示すように、ノズルアーム２２ａ内には流路８３ａが設けられており、表面処理液供給ノズル５のノズル孔５ａは流路８３ａの一端に繋がっている。また、流路８３ａの他端には配管８４ａが接続されている。一方、ノズルアーム２２ａ内には流路８３ｂも設けられており、乾燥溶媒ノズル２１のノズル孔２１ａは流路８３ｂの一端に繋がっている。また、流路８３ｂの他端には配管８４ｂが接続されている。そして、配管８４ａ、８４ｂには、処理液供給機構８５から所定の処理液が供給される。処理液供給機構８５は、洗浄処理のための薬液として、例えば酸薬液である希フッ酸（ＤＨＦ）を供給するＤＨＦ供給源８６、アルカリ薬液であるアンモニア過水（ＳＣ１）を供給するＳＣ１供給源８７、リンス液として例えば純水（ＤＩＷ）を供給するＤＩＷ供給源８８、乾燥溶媒として例えばＩＰＡを供給するＩＰＡ供給源９５を有している。ＤＨＦ供給源８６、ＳＣ１供給源８７、ＤＩＷ供給源８８からは配管８９，９０，９１が延びており、これら配管８９，９０，９１が配管８４ａに開閉バルブ９２，９３，９４を介して接続されている。したがって、開閉バルブ９２，９３，９４を操作することにより、アンモニア過水（ＳＣ１）、希フッ酸（ＤＨＦ）、純水（ＤＩＷ）を選択的に表面処理液供給ノズル５に供給可能となっている。この場合に、ＤＩＷ供給源８８から延びる配管９１が配管８４ａの最も上流側に接続されている。一方、ＩＰＡ供給源９５には流路８３ｂから延びる配管８４ｂが直接接続されており、配管８４ｂには開閉バルブ９６が設けられている。したがって、開閉バルブ９６を開くことにより、ＩＰＡを乾燥溶媒ノズル２１に供給可能となっている。
【００２１】
裏面処理液供給ノズル６は昇降部材１３の中心に設けられており、その内部に長手方向に沿って延びるノズル孔６ａが形成されている。そして、図示しない処理液供給機構によりノズル孔６ａの下端から所定の処理液が供給され、その処理液がノズル孔６ａを介してウエハＷの裏面に吐出されるようになっている。吐出する処理液としては、上記表面処理液供給ノズル５と同様、洗浄用の薬液、純水等のリンス液等を挙げることができる。裏面処理液供給ノズル６へ処理液を供給する処理液供給機構は、ＩＰＡの供給系を除いて上記処理液供給機構８５とほぼ同様に構成することができる。昇降部材１３の上端部にはウエハＷを支持するウエハ支持台２４を有している。ウエハ支持台２４の上面には、ウエハＷを支持するための３本のウエハ支持ピン２５（２本のみ図示）を有している。そして、裏面処理液供給ノズル６の下端には接続部材２６を介してシリンダ機構２７が接続されており、このシリンダ機構２７によって昇降部材１３を昇降させることによりウエハＷを昇降させてウエハＷのローディングおよびアンローディングが行われる。
【００２２】
回転カップ４は、回転プレート１１の端部上方から内側斜め上方に延びる円環状の庇部３１と、庇部３１の外端部から垂直下方へ延びる筒状の外側壁部３２を有している。そして、図４の拡大図に示すように、外側壁部３２と回転プレート１１との間には円環状の隙間３３が形成されており、この隙間３３からウエハＷが回転プレート１１および回転カップ４とともに回転されて飛散した処理液（ミスト）が下方に導かれる。
【００２３】
庇部３１と回転プレート１１との間にはウエハＷとほぼ同じ高さの位置に板状をなす案内部材３５が介在されている。図５に示すように、庇部３１と案内部材３５との間、案内部材３５と回転プレート１１との間には、それぞれ処理液を通過させる複数の開口３６および３７を形成するための複数のスペーサ部材３８および３９が周方向に沿って配置されている。庇部３１と、案内部材３５と、回転プレート１１と、これらの間のスペーサ部材３８，３９とは、ねじ４０によりねじ止めされている。
【００２４】
案内部材３５は、その表裏面がウエハＷの表裏面と略連続するように設けられている。そして、モータ３によりウエハ保持部２および回転カップ４をウエハＷとともに回転させて表面処理液供給ノズル５からウエハＷ表面の中心に処理液を供給した際には、処理液は遠心力でウエハＷの表面を広がり、ウエハＷの周縁から振り切られる。このウエハＷ表面から振り切られた処理液は、略連続して設けられた案内部材３５の表面に案内されて開口３６から外方へ排出され、外側壁部３２によって下方へ導かれる。また、同様にウエハ保持部２および回転カップ４をウエハＷとともに回転させて裏面処理液供給ノズル６からウエハＷの裏面の中心に処理液を供給した際には、処理液は遠心力でウエハＷの裏面を広がり、ウエハＷの周縁から振り切られる。このウエハＷ裏面から振り切られた処理液は、ウエハＷの裏面と略連続して設けられた案内部材３５の裏面に案内されて開口３７から外方へ排出され、外側壁部３２によって下方へ導かれる。このときスペーサ部材３８、３９および外側壁部３２に到達した処理液には遠心力が作用しているから、これらがミストとなって内側へ戻ることが阻止される。
【００２５】
また、案内部材３５はこのようにウエハＷ表面および裏面から振り切られた処理液を案内するので、ウエハＷの周縁から脱離した処理液が乱流化し難く、処理液をミスト化させずに回転カップ４外へ導くことができる。なお、図２に示すように、案内部材３５には、ウエハ保持部材１４に対応する位置に、ウエハ保持部材１４を避けるように切り欠き部４１が設けられている。
【００２６】
排気・排液部７は、主に回転プレート１１と回転カップ４に囲繞された空間から排出される気体および液体を回収するためのものであり、図４の拡大図にも示すように、回転カップ４から排出された処理液を受ける環状をなす排液カップ５１と、排液カップ５１の外側に、排液カップ５１を囲繞するように設けられた環状をなす排気カップ５２とを備えている。
【００２７】
排液カップ５１は、回転カップ４の外側に、外側壁部３２に近接して垂直に設けられた垂直壁５３と、垂直壁５３の下端部から内側に向かって延びる底部５４とを有している。
【００２８】
垂直壁５３における回転カップ４の外側壁部３２下端よりも下の部分には、その表面部分に周方向に沿って切り欠き部７２が形成されている。切り欠き部７２は、その上部に処理液を下側に跳ね返すように形成された傾斜部７３を有している。つまり、傾斜部７３は下側を向いた傾斜面であり、回転している状態で回転カップ４の外側壁部３２に沿って下方に導かれた処理液が、外側壁部３２の下端から遠心力で垂直壁５３に向かって飛翔して傾斜部７３に当たった際に処理液を下側に跳ね返すようになっている。傾斜部７３が形成されていない場合には、外側壁部３２に当たった処理液の一部が回転カップ４の外側壁部３２と排液カップ５１の垂直壁５３との間を上昇する上昇流となるが、この傾斜部７３により上昇流を抑制することができる。したがって、傾斜部７３は上昇流抑制部として機能する。
【００２９】
また、垂直壁５３の上端には、回転カップ４の庇部３１の上方を覆うように内側に向けて張り出した張り出し部５３ａが設けられている。この張り出し部５３ａは、傾斜部７３で阻止しきれなかった上昇流が庇部３１の上面を汚染したり、排液カップ５１を飛び出すことを抑制する。すなわち、張り出し部５３ａも上昇流抑制部として機能する。張り出し部５３ａの先端部下側には返し部５３ｂが設けられており、処理液が庇部３１の上面に達することをより確実に防止可能となっている。
【００３０】
排液カップ５１の内部の保持部材１４の外側位置には、底部５４から回転プレート１１の下面近傍まで延び、その周方向に沿って環状に設けられた仕切り壁５５を有している。そして、排液カップ５１は、この仕切り壁５５によって、隙間３３から排出される処理液を受ける主カップ部５６と、保持部材１４の保持部１４ａ近傍部分から滴下される処理液を受ける副カップ部５７に分離されている。底部５４は、仕切り壁５５により主カップ５６に対応する第１部分５４ａと、副カップ５７に対応する第２部分５４ｂとに分かれており、これらはいずれも外側から内側（回転中心側）に向かって上昇するように傾斜している。そして、第２部分５４ｂの内側端は保持部材１４の保持部１４ａよりも内側（回転中心側）に対応する位置に達している。仕切り壁５５は、回転プレート１１が回転した際に、保持部材１４の回転プレート１１の下方に突出した部分によって形成された気流がミストを随伴してウエハＷ側に到達することを阻止する役割を有している。仕切り壁５５には、副カップ部５７から主カップ部５６に処理液を導くための孔５８が形成されている。
【００３１】
排液カップ５１の底部５４の最外側部分には１箇所の排液口６０が設けられており、排液口６０には排液管６１が接続されている。排液管６１には排液切替部（図示せず）が設けられており、処理液の種類に応じて分別して回収または廃棄されるようになっている。なお、排液口６０は複数箇所設けられていてもよい。
【００３２】
排気カップ５２は、排液カップ５１の垂直壁５３の外側部分に垂直に設けられた外側壁６４と、保持部材１４の内側部分に垂直にかつその上端が回転プレート１１に近接するように設けられた内側壁６５と、ベースプレート１上に設けられた底壁６６と、外側壁６４から上方へ湾曲するとともに、回転カップ４の上方を覆うように設けられた上側壁６７とを有している。そして、排気カップ５２は、その上側壁６７と回転カップ４の庇部３１との間の環状をなす導入口６８から回転カップ４内およびその周囲の主にガス成分を取り込んで排気するようになっている。また、排気カップ５２の下部には、図１に示すように、排気口７０が設けられており、排気口７０には排気管７１が接続されている。排気管７１の下流側には図示しない吸引機構が設けられており、回転カップ４の周囲を排気することが可能となっている。排気口７０は複数設けられており、処理液の種類に応じて切り替えて使用することが可能となっている。
【００３３】
このように、処理液が回転カップ４を介して排液カップ５１に導かれ、気体成分は導入口６８から排気カップ５２に導かれ、かつ排液カップ５１からの排液と排気カップ５２からの排気が独立して行われるようになっているので、排液と排気を分離した状態で導くことが可能となる。また、排液カップ５１からミストが漏出しても排気カップ５２がその周囲を囲繞しているので速やかに排気口７０を介して排出され、ミストが外部に漏出することが確実に防止される。
【００３４】
次に、以上のように構成される液処理装置１００の動作について図６を参照して説明する。まず、図６の（ａ）に示すように、昇降部材１３を上昇させた状態で、図示しない搬送アームからウエハ支持台２４の支持ピン２５上にウエハＷを受け渡す。次いで、図６の（ｂ）に示すように、昇降部材１３を、ウエハＷを保持部材１４により保持可能な位置まで下降させ、保持部材１４によりウエハＷをチャッキングする。そして、図６の（ｃ）に示すように、表面処理液供給ノズル５を退避位置からウエハ洗浄位置に移動させる。
【００３５】
この状態で、図６の（ｄ）に示すように、モータ３によりウエハ保持部２を回転カップ４およびウエハＷとともに回転させながら、表面処理液供給ノズル５および裏面処理液供給ノズル６から所定の処理液を供給してウエハＷの洗浄処理を行う。
【００３６】
このウエハ洗浄処理においては、表面処理液供給ノズル５および裏面処理液供給ノズル６によりウエハＷの表面および裏面に処理液が供給され、その洗浄液が遠心力によりウエハＷの外側に広がり、ウエハＷの周縁から振り切られる。
【００３７】
このウエハ洗浄処理においては、ウエハＷの外側を囲繞するように設けられているカップがウエハＷとともに回転する回転カップ４であるから、ウエハＷから振り切られた処理液が回転カップ４に当たった際に処理液に遠心力が作用するから、固定カップの場合のような飛び散り（ミスト化）は発生し難い。そして回転カップ４に達した処理液は下方に導かれ、隙間３３から排液カップ５１の主カップ部５６に排出される。一方、回転プレート１１の保持部材１４の取り付け位置には、保持部１４ａを挿入する穴が設けられているため、その部分から排液カップ５１の副カップ部５７に処理液が滴下される。そして、このようにして排液カップ５１に受け止められた処理液は、排液口６０から排液管６１を通って排出される。また、排気カップ５２には、その上側壁６７と回転カップ４の庇部３１との間の環状をなす導入口６８から回転カップ４内およびその周囲の主にガス成分が取り込まれ排気口７０から排気管７１を通って排気される。
【００３８】
このようにしてウエハＷの洗浄処理を行う場合には、上述したように回転カップ４から処理液が跳ね返ってミスト化することはほとんどないが、単に排液カップ５１を回転カップ４に近接させただけでは、図７に示すように、回転カップ４から排出された処理液は遠心力によって排液カップ５１の垂直壁５３に向けて飛翔し、垂直壁５３に当たると、その一部が回転カップ４の外側壁部３２と排液カップ５１の垂直壁５３との間を上昇する上昇流Ａとなって、これが回転カップ上部まで上昇してくることもあり、その場合には上昇してきた処理液がミストとなってウエハＷ上にパーティクルとして付着するという悪影響を及ぼす。また、このような上昇流が生じると回転カップ４における庇部３１の表面に処理液が付着し、それが例えば酸系の処理液であれば、その後にアルカリ系の処理液が付着したと反応して塩を形成し、これが乾燥してパーティクルとなってやはりウエハＷへ付着する不都合が生じる。さらに上昇してきた処理液が排気カップ５２に導かれるという不都合もある。
【００３９】
これに対して、本実施形態に従って切り欠き部７２を形成して上昇流抑制部として機能する傾斜部７３を設けた場合には、図８に示すように、回転カップ４から排出され遠心力によって排液カップ５１の垂直壁５３に向けて飛翔した処理液は、切り欠き部７２の傾斜部７３に当たって大部分は下側に跳ね返され、上昇流を抑制することができる。また、たとえ処理液の上昇流が残存したとしても、排液カップ５１の上端に張り出し部５３ａが設けられており、この張り出し部５３ａも上昇流抑制部として機能して上昇流が排液カップ５１を飛び出すことを防止し、ウエハＷのパーティクル汚染を防止する効果をより高めることができる。また、張り出し部５３ａの先端部下側には返し部５３ｂが設けられているので、たとえ張り出し部５３ａに達した上昇流が存在しても返し部５３ｂに当たって跳ね返されるので、処理液が回転カップ４の庇部３１上面に達することをより確実に防止することができる。
【００４０】
なお、上昇流を抑制する効果は、傾斜部７３と張り出し部５３ａの両方存在することにより大きなものとなるため、両方設けることが好ましいが、傾斜部７３と張り出し部５３ａのいずれかであってもよく、この場合でもある程度の上昇流抑制効果が得られる。
【００４１】
次に、上昇流抑制部の他の例について説明する。
図９は上昇流抑制部の他の例を示す拡大図であり、図１０は上昇流抑制部のさらに他の例を示す拡大図である。
【００４２】
図９の例では、垂直壁５３における回転カップ４の外側壁部３２下端に対応する部分に、回転カップ４側に周方向に沿って突起部７４が形成されている。そして、突起部７４の下側の面が処理液を下側に跳ね返すように形成された傾斜部７５となっている。つまり、傾斜部７５は下側を向いた傾斜面として形成されており、回転カップ４の外側壁部３２の下端から遠心力で垂直壁５３に向かって飛翔して傾斜部７５に当たった際に処理液を下側に跳ね返すようになっている。したがって、この傾斜部７５も傾斜部７３と全く同様に機能する。
【００４３】
図１０の例では、垂直壁５３の外側壁部３２の下端よりも上の部分に対応する位置に段差を形成してその段差部分を返し部７６としている。すなわち、回転カップ４の外側壁部３２と排液カップ５１の垂直壁５３との間に返し部７６を設けることにより、垂直壁５３に当たって形成された上昇流が返し部７６により下方に跳ね返される。これによって処理液の上昇流を有効に抑制することができる。
【００４４】
また、図１１の（ａ）に示すように傾斜部７３と返し部７６の複合型、図１１の（ｂ）に示すように傾斜部７５と返し部７６の複合型とすることにより、上昇流抑制効果をより高めることができる。
【００４５】
なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく種々変形可能である。例えば、上記実施形態では、ウエハの表裏面洗浄を行う液処理装置を例にとって示したが、本発明はこれに限らず、表面のみまたは裏面のみの洗浄処理を行う液処理装置であってもよく、また、液処理については洗浄処理に限らず、レジスト液塗布処理やその後の現像処理等、他の液処理であっても構わない。さらに、上記実施形態では被処理基板として半導体ウエハを用いた場合について示したが、液晶表示装置（ＬＣＤ）用のガラス基板に代表されるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用の基板等、他の基板に適用可能であることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、半導体ウエハに付着したパーティクルやコンタミネーションを除去するための洗浄装置に有効である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施形態に係る液処理装置の概略構成を示す断面図。
【図２】本発明の一実施形態に係る液処理装置を一部切り欠いて示す概略平面図。
【図３】図１の液処理装置の処理液供給機構を示す概略図。
【図４】図１の液処理装置の排気・排液部を拡大して示す断面図。
【図５】図１の液処理装置の回転カップおよび案内部材の取り付け状態を説明するための図。
【図６】本発明の一実施形態に係る液処理装置の処理動作を説明するための図。
【図７】上量流抑制部を設けずに洗浄処理を行った際の状態を説明するための拡大図。
【図８】本発明に従って上昇流抑制部を設けて洗浄処理を行った際の状態を説明するための拡大図。
【図９】上昇流抑制部の他の例を説明するための拡大図。
【図１０】上昇流抑制部のさらに他の例を説明するための拡大図。
【図１１】傾斜部と返し部との複合型の上昇流抑制部の例を説明するための図。
【符号の説明】
【００４８】
１；ベースプレート
２；ウエハ保持部
３；回転モータ
４；回転カップ
５；表面処理液供給ノズル
６；裏面処理液供給ノズル
７；排気・排液部
８；ケーシング
９；気流導入部
１１；回転プレート
１２；回転軸
１３；昇降部材
１４；保持部材
２２；ノズル保持部材
２２ａ；ノズルアーム
３１；庇部
３２；外側壁部
３３；隙間
３５；案内部材
５１；排液カップ
５２；排気カップ
５３；垂直壁
５３ａ；張り出し部（上昇流抑制部）
５３ｂ；返し部
７２；切り欠き部
７３；傾斜部（上昇流抑制部）
７４；突起部
７５；傾斜部（上昇流抑制部）
７６；返し部（上昇流抑制部）
８１；駆動機構
８５；処理液供給機構
８８；純水供給源
１００；液処理装置
Ｗ；ウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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