(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体に対して所定の薬液処理を行う薬液処理ユニットと、
前記被処理体の薬液処理後に純水リンスを行うリンスユニットと、
前記薬液処理ユニット及び前記リンスユニット内の雰囲気空気を排気する排気手段と、
前記リンスユニット内の純水を排水する排水手段と、
前記排水手段により排水された純水を使用し、排気された雰囲気空気を清浄にする空気清浄手段と、
前記空気清浄手段により清浄にされた空気中の蒸気成分を除去する除湿手段と、
除湿された空気を取り込むとともに、薬液処理装置外であってクリーンルーム内の空気である清浄な空気を取り込む空気取込手段と、
取り込んだ空気を前記薬液処理ユニット及び前記リンスユニット内に送出する空気送出手段と、
を備え、
前記雰囲気空気の排気手段が、
該薬液処理装置が配置された工場内の排気設備及び前記空気清浄手段に前記雰囲気空気を排出可能に構成された排気ラインと、
該排気ライン中に設けられ、前記排気ライン中の圧力を測定可能に構成された圧力測定手段と、
前記排気ライン中に設けられ、雰囲気空気を空気清浄手段に送出する手段と、
を備え、前記圧力測定手段の圧力値が所定の圧力となったとき、前記工場排気設備へ雰囲気空気を送出する手段とを備え、かつ、
前記空気清浄手段が、前記排気手段及び前記排水手段に接続され、前記排水手段から送られてくる純水を利用し、前記薬液処理ユニット及び前記リンスユニットから送られてきた空気の薬液成分を除去し、再び利用できるように清浄にし、
前記除湿手段が前記空気清浄手段に備えられた、清浄にした空気を除湿するための除湿器からなり、
さらに、前記空気取込手段が、前記薬液処理装置外の清浄な空気と、前記空気清浄手段により清浄にされ、前記除湿器により除湿された空気を取り込むことができる手段、及び、前記空気取込手段により取り込まれた空気を前記薬液処理ユニット及び前記リンスユニットへ送出するための空気送出手段と、を備えたことを特徴とする薬液処理装置。
【請求項２】
リンスユニットにより薬液処理後の被処理体を純水でリンスする工程と、
薬液処理ユニット及び前記リンスユニット内の雰囲気空気を排気する工程と、
前記リンス工程で使用した純水を排水する工程と、
排水された純水により、排気された雰囲気空気を清浄にする工程と、
清浄にされた空気中の蒸気成分を除去する工程と、
蒸気成分が除去された空気を取り込むとともに、薬液処理装置外であってクリーンルーム内の空気である清浄な空気を取り込む工程と、
取り込んだ空気を前記薬液処理ユニット及び前記リンスユニット内に送出する工程と、
からなり、
前記リンスユニット内の雰囲気空気を排気する工程が、前記薬液処理装置が配置された工場内の排気設備及び前記空気清浄手段に雰囲気空気を排出可能に構成された排気ライン中の圧力を測定し、前記測定した圧力が所定の圧力となったとき、前記工場排気設備へ雰囲気空気を送出し、
排気手段及び排水手段に接続され、該排水手段から送られてくる純水を利用し、前記薬液処理ユニット及び前記リンスユニットから送られてきた空気の薬液成分を除去して、再び利用できるように空気清浄手段により、空気を清浄にする工程を含み、
かつ、前記空気を清浄する工程が、清浄にされた空気を除湿する工程を含み、
また、前記空気を取込む工程が、前記薬液処理装置外の清浄な空気と、前記雰囲気空気を清浄にする工程により清浄にされ、除湿器により除湿された空気とを取り込む工程、及び、
前記空気を取り込む工程で取り込まれた空気を前記薬液処理ユニット及び前記リンスユニットへ送出する工程と、を含むことを特徴とする薬液処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薬液処理装置及び薬液処理方法に関する。
【０００２】
【従来技術】
図５に示す、従来の薬液処理装置をクリーンルーム内で稼働させる際、薬液処理ユニットで半導体基板を洗浄する際に使用する薬液であるフッ酸（ＨＦ）、アンモニア（ＮＨ4ＯＨ）、過酸化水素水（Ｈ2Ｏ2）、燐酸（Ｈ3ＰＯ4）等がわずかであるが蒸発する。これらが装置外に漏れ出すと、クリーンルーム内の環境を悪化させ、人体にも悪影響を及ぼすおそれが生じる。従って、これら薬液蒸気成分を含む空気はクリーンルーム外に排気されなければならない。この排気量は通常の稼働状態で、３０ｍ3/分〜５０ｍ3/分である。また、この排気に伴って、排気量相当の装置外の清浄な空気を常時装置内に取り入れる必要があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このため、クリーンルームの空気が大量に消費され、クリーンルーム内の差圧を維持するために、大量の空気を空気搬送動力を多大に使用して補充する必要があった。
【０００４】
一方、半導体基板を薬液処理した後、これを純水で洗浄する。この使用後の純水は、薬液成分をわずかだが含んでいる。しかし、その含有量は微量であり、再利用可能であるにもかかわらず、再利用されることなく大量に排水されていた。
【０００５】
そこで、本発明の薬液処理装置は、所定の清浄度に維持された雰囲気中に配置され、該雰囲気をその内部に取り込み、被処理体に対して所定の薬液処理を行う。被処理体の薬液処理後の洗浄に用いた薬液成分をわずかに含む純水と、従来排気として捨てられていた薬液蒸気成分をわずかに含む空気を前記純水を再利用し、薬液蒸気成分を除去し雰囲気空気を清浄にする。この工程は繰り返され、雰囲気空気の一部を装置内で循環させることにより、クリーンルームの空気の使用量を削減し、排気ファン、除去装置、空気搬送動力に与える負荷を減らし、エネルギー消費量を低減することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の本発明の薬液処理装置内の雰囲気空気は、排気ダクト及び排気ファンにより薬液処理装置本体から排気され、空気清浄手段に送られ、被処理体を薬液処理した後の被処理体の洗浄で使用した純水を利用し、薬液蒸気成分を除去し、清浄化し、除湿手段により蒸気成分を除去し、空気取込手段により取り込まれ、再利用される。この処理は繰り返され、一部の雰囲気空気は薬液処理装置内を循環する。このため装置外の清浄な空気を大量に必要とせず、クリーンルームの排気ファン、除去設備、空気搬送動力の負荷を減らすことができる。
【０００７】
請求項２に記載の薬液処理装置によれば、薬液処理される部分の雰囲気空気を排気する手段は、雰囲気空気を排気し、空気清浄手段に送出するためのファン及び、排気する雰囲気空気を空気清浄手段に送出するか、工場排気設備の排気ダクトに送出するかを選択できる分岐バルブを有する。排気ダクトには圧力センサーが配置され、この圧力センサーにより、排気されてきた雰囲気空気の圧力を測定し、その結果に基づき、前記分岐バルブを制御し、雰囲気空気を工場排気設備に排気するか、前記空気清浄手段に送るかを決定する。即ち、一定以上の圧力の雰囲気空気が排気されてきた場合には、分岐バルブを切り替えて、工場排気設備側に排気することが可能となる。また、薬液処理装置のメンテナンス等の場合に、雰囲気空気を循環再利用せず、そのまま工場排気設備の排気ダクトに送出する場合にも対応することができる。
【０００８】
請求項３に記載の本発明の薬液処理装置は、薬液処理装置本体から排気された雰囲気空気を取込み、半導体基板の薬液処理後の洗浄で使用し、薬液処理装置本体から排水された純水を利用し、前記雰囲気空気の薬液蒸気成分を除去し、再び薬液処理装置本体で利用できるように清浄にする手段を具備することを特徴とする。
【０００９】
請求項４に記載の本発明の薬液処理装置は、薬液蒸気成分を含んだ雰囲気空気は、前記純水を利用して薬液蒸気成分が除去されるが、その際、同時に蒸気成分を含むことになり、このままの空気では薬液処理装置の空気として利用することができない。そこで、蒸気成分を除湿器により除去することにより、再び利用可能とした。
【００１０】
請求項５に記載の本発明の薬液処理装置は、空気取込手段が、装置外の清浄な空気と、空気清浄手段により清浄にされ、ファンにより送出された空気を取り込むことできる手段と、取り込まれた空気を薬液処理装置本体へ送出する手段と、を具備することを特徴とする。
【００１１】
請求項６に記載の薬液処理方法によれば、被処理体の薬液処理が行われた部分の雰囲気空気は、薬液処理装置本体と空気清浄手段とを接続する排気ダクト及び排気ファンにより空気清浄手段に送り込まれる。この排気ダクトには分岐バルブが設けられ、排気ダクトには圧力センサーが配置される。排気ダクト及び排気ファンにより送られてくる雰囲気空気は、この圧力センサーにより圧力が測定され、ある一定以上の圧力が測定された場合には、前記分岐バルブを制御し、切り替えることにより、雰囲気空気を工場排気設備側に排気することが可能となる。
【００１２】
ここで、被処理体の薬液処理後の洗浄に使用した純水は、配管を通して空気清浄手段に送られ、再利用される。この純水は、空気清浄手段にある槽に溜められ、一定以上の水位になるとオーバーフローし、工場排水設備に排水される。槽に溜められた純水は、ポンプにより吸い上げられ、配管上に設けられた１個又は２個以上のノズルにより、排気ダクト及び排気ファンにより送られてきた雰囲気空気上に射出され、雰囲気空気の薬液蒸気成分を除去する。この時、同時に蒸気成分を含むことになるが、除湿器により蒸気成分が除去される。空気取込手段は、薬液蒸気成分が除去され、蒸気成分が除去された空気を取り込むとともに、装置外部からの清浄な空気を取り込むこともできる。この時の取り込む割合は設定により変えることができる。取り込まれた空気は、空気取込手段に設けられたファンにより再び装置の薬液処理ユニットに送出され、再び薬液処理ユニットで利用される。この処理は繰り返され、一定量の空気が薬液処理装置内部で循環することになり、装置外部から取り込む清浄な空気の量を減らし、クリーンルーム全体の空気の消費量を減らすことができる。即ち、排気ファン、除去設備、空気搬送動力に与える負荷を減らし、エネルギー消費量を低減することが可能となる。
【００１３】
請求項７に記載の本発明の薬液処理方法によれば、薬液処理される部分の雰囲気空気を排気する工程は、雰囲気空気を排気し、空気清浄手段に送出するためのファン及び、排気する雰囲気空気を空気清浄手段に送出するか、工場排気設備の排気ダクトに送出するかを分岐バルブにより選択することを特徴とする。排気ダクトには圧力センサーが配置され、この圧力センサーにより、排気されてきた雰囲気空気の圧力を測定し、その結果に基づき、前記分岐バルブを制御し、雰囲気空気を工場排気設備に排気するか、前記空気清浄手段に送るかを決定することを特徴とする。即ち、一定以上の圧力の雰囲気空気が排気されてきた場合には、分岐バルブを切り替えて、工場排気設備側に排気することが可能となる。また、薬液処理装置のメンテナンス等の場合に、雰囲気空気を循環再利用せず、そのまま工場排気設備の排気ダクトに送出する場合にも対応することができる。
【００１４】
請求項８に記載の本発明の薬液処理方法によれば、薬液処理装置本体から排気された雰囲気空気を取込み、半導体基板の薬液処理後の洗浄で使用し、薬液処理装置本体から排水された純水を利用し、前記雰囲気空気の薬液蒸気成分を除去し、再び薬液処理装置本体で利用できるように清浄にすることを特徴とする。
【００１５】
請求項９に記載の本発明の薬液処理方法によれば、薬液蒸気成分を含んだ雰囲気空気は、前記純水を利用して薬液蒸気成分を除去されるが、その際、同時に純水の水蒸気を取り込むので、そのままでは薬液処理装置の空気として利用することができない。そこで、蒸気成分を除湿器により除去することにより、再び利用可能とすることを特徴とする。
【００１６】
請求項１０に記載の本発明の薬液処理方法は、空気取込手段が、装置外の清浄な空気と、空気清浄手段により清浄にされて、ファンにより送出された空気を取り込む工程と、取り込まれた空気を薬液処理装置本体へ送出する工程と、を有することを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の薬液処理装置及び薬液処理方法の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００１８】
図１及び図３に示すように、この薬液処理装置Ｐは薬液処理装置本体１と空気清浄装置２とからなる。薬液処理装置本体１は半導体基板Ｗの処理に使用するもので、薬液処理ユニット７、リンスユニット１２、半導体基板Ｗの搬送のための搬送ロボット１６、ロボットアーム３６、半導体基板ハンドラー１９を有する。薬液処理ユニット７は半導体基板Ｗに対して薬液処理を施すものであり、リンスユニット１２は薬液処理された半導体基板Ｗから処理薬液を純水で洗い落とすものである。薬液処理部１５には、薬液処理部１５からその内部雰囲気空気を排出する排気ファン４と、処理された半導体基板Ｗの純水洗浄排水をリンスユニット１２から排出し、空気清浄装置２の槽２０へ給水するための給水管９が接続されている。上記薬液処理装置Ｐは空気清浄装置２を有し、この空気清浄装置２は半導体基板Ｗに薬液処理を施す部分の雰囲気を構成するガス状気体（ここでは“雰囲気空気”という）を再利用可能レベルまで浄化するために使用される。上記薬液処理装置Ｐは更に除湿装置、即ちエリミネータ２６、この薬液処理装置本体１に、この装置外からクリーンルームの空気である清浄な空気を取り込む空気取込装置（３２、３３）、上記浄化除湿した空気と装置外から取り入れた空気を薬液処理ユニット７に送るファンフィルターユニット１１とからなる。
【００１９】
薬液処理部１５の雰囲気空気には、熱排気、有機排気、スクラバー系排気がある。このうち、熱排気、有機排気はそれぞれ熱排気ダクト４７、有機排気ダクト４５、を通じて工場排気設備（図示なし）の熱排気工場配管４１、有機排気工場配管４０に排気される。スクラバー系排気については薬液成分が水溶性蒸気成分であり、水で清浄することにより再利用可能であるため、空気清浄装置２に送られ浄化される。
【００２０】
薬液処理装置本体１と空気清浄装置２の間には、半導体基板Ｗを薬液処理した部分の雰囲気空気のうち、スクラバー系排気を空気清浄装置２に送り込むためのダクト３及び排気ファン４が設けられ、このダクト３に分岐バルブ５が設けられる。分岐バルブ５の一方の端部は、スクラバー系排気ダクト１７に接続される。スクラバー系排気ダクト１７は工場排気設備（図示なし）のスクラバー系排気工場配管４３に接続される。分岐バルブ５のもう一方の端部は、排気ファン４に接続され、排気ファン４は空気清浄装置２に接続される。薬液処理装置本体１と空気清浄装置２の間のダクト３には圧力センサー６が設けられ、この圧力センサー６で薬液処理装置本体１から送られてくる雰囲気空気の圧力を測定する。その結果、薬液処理部１５から送られてきた雰囲気空気の、ダクト内における圧力が５Ｐａ以上になったことが検出されると、その検出結果に基づき、分岐バルブ５が切り替えられ、薬液処理装置本体１から送られるスクラバー系排気である雰囲気空気がスクラバー系排気ダクト１７を通じて、工場排気設備のスクラバー系排気工場配管４３に排気される。また、メンテナンス等の場合には、雰囲気空気を空気清浄装置２に送り込む必要がなく、また工場排気設備に排気しなければならない場合にも、分岐バルブ５を切り替えて、スクラバー系排気ダクト１７を通じて工場排気設備のスクラバー系排気工場配管４３に排気させる。工場排気設備に流れる排気量は循環風量調節ダンパー８の開度により調節される。
【００２１】
図２に本発明の空気清浄装置２の一実施形態の構成を示す。薬液処理装置１の内部の薬液処理部１５の雰囲気空気であって薬液蒸気成分を含むスクラバー系排気が、空気清浄装置２に、薬液処理装置本体１と空気清浄装置２とを接続するダクト３及び排気ファン４により送られる。また、半導体基板Ｗの薬液処理後の洗浄に使用した純水洗浄排水は薬液成分をわずかに含んでいるが、空気清浄装置２に、薬液処理装置本体１と空気清浄装置２とを接続する給水管９により送られる。この純水洗浄排水は、空気清浄装置２内にある槽２０に溜められる。槽２０に溜められた純水洗浄排水は一定以上の水位になった場合は、槽２０の最上部に取り付けられた排水配管２１により工場排水配管３０を通じて工場排水設備に排水される。また、槽２０にはポンプ２２と給水配管２３が設けられ、槽２０から純水を吸い上げる。ポンプ２２の出口側には出口側配管２４が設けられ、吸い上げた純水洗浄排水を射出するための射出ノズル２５が１個または２個以上設けられる。この射出ノズル２５により、送られてきた本体装置の雰囲気空気に対して純水洗浄排水を射出する。これにより、雰囲気空気の薬液蒸気成分が、射出した純水に溶けて槽２０に落ち、雰囲気空気が清浄化される。一定量以上の純水は、排水配管２１を通して工場排水設備に排水される。空気清浄装置２は空気清浄装置ハウジング２７を有し、このハウジング２７は槽２０、ノズル２５、エリミネータ２６を気密に収容している。
【００２２】
槽２０に一定量以上の純水洗浄排水が送り込まれた場合は、槽２０の最上部に設けられて、工場排水設備に接続された排水配管２１より、オーバーフローし、排水される。射出ノズル２５の上部には除湿器であるエリミネーター２６が配置され、これにより雰囲気空気の蒸気成分を除去することができる。
【００２３】
薬液蒸気成分が除去された雰囲気空気は、このままの状態では蒸気成分を多量に含んでいるため、本体装置内にそのまま送り込むことができない。そこで、エリミネーター２６により、空気を乾燥し、排気ファン４からの送圧により、図１に示された薬液処理装置本体１のプレナムチャンバー１０に送る。
【００２４】
図３に本発明の薬液処理装置Ｐの実施例の全体の縦断面図を示す。薬液蒸気成分が除去され乾燥されてプレナムチャンバー１０に送られた清浄な雰囲気空気は、プレナムチャンバー１０の、外気取込ダクト３２から取り込まれた装置外のクリーンルームの清浄な空気と混合され、プレナムチャンバー１０下に取り付けられたファンフィルターユニット１１により送り出される。これにより、薬液処理装置本体１で使用される雰囲気空気は、装置外から全て取り込むことなく、一部を循環させ、再利用することが可能となる。ここで、装置外のクリーンルームの清浄な空気が混合するのは、ファンフィルターユニット１１の能力が本装置Ｐで清浄された空気の量を超える場合に起きる。又、本装置Ｐからの循環に異常が合った場合は全てを取り入れるようにできる。薬液処理装置本体１から排気される雰囲気空気の量が、空気清浄装置２で処理される空気の量より多い場合は、処理できない雰囲気空気を分岐バルブ５により、スクラバー系排気ダクト１７を通じて工場排気設備のスクラバー系排気工場配管４３に排気させる。
【００２５】
空気清浄装置２で清浄にされた雰囲気空気と、クリーンルームからの空気の取り込み量の割合は、外気取込ダンパー３３により適宜変えることが可能である。即ち、一定量の装置外であるクリーンルームの清浄な空気を常に装置内に送り込めるようにすることもできる。しかし、通常は装置外の空気を取り込むことなく全てを循環し使用する。これにより、本装置で使用される空気及び純水を再利用することで、装置の空気の消費量を減らし、ひいてはクリーンルーム全体の空気の使用量を減らすことになる。即ち、クリーンルームを有する工場設備の空気搬送動力、除去設備等のエネルギー消費量を削減することが可能となる。
【００２６】
図４に本発明の薬液処理方法の実施例の模式図を示す。薬液処理装置本体１は、クリーンルームの空気を外気取込ダンパー３３を介して外気取込ダクト３２によりプレナムチャンバー１０に取込み、ファンフィルターユニット１１を通じて薬液処理装置本体１の中に供給する。取り込まれた空気は、装置の駆動部や薬液処理ユニット７等を通り、その雰囲気空気はスクラバー系排気としてスクラバー系排気ダクト４３より薬液処理装置本体外へ排気される。薬液蒸気成分を含んだ排気は、分岐バルブ５を通じて空気清浄装置２に送られ、清浄にされ、再び薬液処理装置本体１に送られ、利用される。
【００２７】
スクラバー系排気である雰囲気空気は、ダクト３及び分岐バルブ５を通じて空気清浄装置２に送られるが、ダクト３には圧力センサー６が設けられ、５Ｐａ以上の圧力が検出された場合は、空気清浄装置２の処理能力を超えるため、分岐バルブ５を切り替え、ダクト３を通じて工場排気設備に排気される。
【００２８】
空気清浄装置２は、薬液処理装置本体１の薬液処理後のリンスで使用した低濃度酸排水としての純水洗浄排水を、薬液処理装置本体１から送られてきた雰囲気空気の中に射出し、この射出した純水に薬液蒸気成分を吸収させて、薬液蒸気成分を除去する。
【００２９】
薬液蒸気成分が除去された雰囲気空気は、エリミネーター２６で除湿され、プレナムチャンバー１０に送られる。除湿された水分は工場排水設備に排水される。プレナムチャンバー１０ではエリミネーター２６から送られて空気を取り込むと同時に、足りない空気は装置外のクリーンルームの空気を外気取込ダクト３２により取込み、混合し、ファンフィルターユニット１１を通して薬液処理装置本体１に送出する。ここで、クリーンルーム内の清浄な空気とは、半導体工場内の生産ラインで使われる空気をいい、フィルター等を通して、１ｍ３あたりのパーティクルが１００個程度にされ、空気搬送動力により、クリーンルーム内に常に送り込まれている。
【００３０】
本発明の薬液処理装置Ｐは、通常の薬液処理装置と同様に密閉構造とされ、かつ、この装置の内部の雰囲気が該装置の外部より低い圧力にコントロールされている。その理由は、この装置の内部の雰囲気がこの装置のその外部に漏れ出すと、この装置の内部の薬液処理で使用されたフッ酸（ＨＦ）、アンモニア（ＮＨ4ＯＨ）、過酸化水素水（Ｈ2Ｏ2）、燐酸（Ｈ3ＰＯ4）等の雰囲気空気がクリーンルーム（図示なし）内の清浄な空気を汚損し、人体に悪影響を及ぼすからである。
【００３１】
図５に示す薬液処理装置は空気清浄装置を備えていない従来構造の薬液処理装置Ｑである。この装置では外気取込ダクト３２によって常にクリーンルーム内の清浄な空気を取り入れて薬液処理部に送る。薬液処理部に送られた空気は薬液蒸気成分を含み工場排気設備３１に排気される。従来構造の薬液処理装置Ｑでは薬液蒸気成分を含んでいるため、常に外気取込ダクト３２によって取り込まれた空気と同等の容量の空気が排気されることになる。また、半導体基板の薬液処理後の洗浄に使用した純水は微量の薬液成分を含んではいるが、そのまま再利用されることなく工場排水配管に排水される。
【００３２】
なお、本発明は上記した実施の形態に限定されない。例えば、薬液処理装置である洗浄装置では、装置構成によっては、装置下部にスペースが空く場合があり、その場合は、その部分に、即ち、空気清浄装置を薬液処理装置本体内部に設置してもよい。あるいは、本体装置が設置されるグレーチングの床の上のスペースが限られる場合は、グレーチング床の下に設置してもよい。更に、空気清浄装置は本発明以外の空気清浄装置の構造を有していてもよく、空気清浄機能を有していれば本発明が適用できる。
【００３３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明よれば、装置本体内でクリーンルームから取り込んだ空気を循環させ再利用できるため、装置外であるクリーンルーム内から大量の空気を取り込む必要がなくなる。即ち、クリーンルームの空気搬送動力等のエネルギー消費量を減らすことが可能な薬液処理装置及び薬液処理方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の薬液処理装置全体の斜視図である。
【図２】本発明の空気清浄装置の斜視図である。
【図３】本発明の薬液処理装置全体の断面図である。
【図４】本発明の薬液処理方法の処理工程を示すための模式図である。
【図５】従来装置の排気及び排水を接続した工場排気設備及び工場排水設備の斜視図である。
【符号の説明】
１    薬液処理装置本体
２    空気清浄装置本体
３    ダクト
４    排気ファン
５    分岐バルブ
６    圧力センサー
７    薬液処理ユニット
８    循環風量調節ダンパー
９    給水管
１０  プレナムチャンバー
１１  ファンフィルターユニット
１２  リンスユニット
１５  薬液処理部
１６  搬送ロボット
１７  スクラバー系排気ダクト
１８  空気清浄部
１９  半導体基板ハンドラー
２０  槽
２１  排水配管
２２  ポンプ
２３  給水配管
２４  出口側配管
２５  射出ノズル
２６  エリミネータ
２７  ハウジング
３０  工場排水配管
３１  工場排気配管
３２  外気取込ダクト
３３  外気取込ダンパー
３５  送気ダクト
３６  ロボットアーム
４０  有機排気工場配管
４１  熱排気工場配管
４３  スクラバー系排気工場配管
４５  有機排気ダクト
４７  熱排気ダクト
Ｐ    薬液処理装置
Ｑ    従来の薬液処理装置
Ｗ    半導体基板
【図１】
0004738635.tif 000002
【図２】
0004738635.tif 000003
【図３】
0004738635.tif 000004
【図４】
0004738635.tif 000005
【図５】
0004738635.tif 000006