Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月7日(2003.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
運転管理制御を行う制御盤と、前記制御盤で制御されるモータと、このモータの駆動により昇降するエレベータ乗りかごとを備えたエレベータにおいて、保守作業用に接続することができる端子をエレベータホールに設けたことを特徴とするエレベータの保守装置。
【請求項２】
モータ電圧測定用に測定端子をエレベータホールに設けた請求項１のエレベータの保守装置。
【請求項３】
保守作業用携帯端末機を接続するコネクタをエレベータホールに設けた請求項１のエレベータの保守装置。
【請求項４】
モータ電圧測定端子と保守作業用携帯端末機を接続するコネクタをホール釦の取付けカバーの奥に設けた請求項３のエレベータの保守装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月25日(2003.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
酸化カルシウムと、水、反応を遅延せしめる有機溶剤及びリン酸及び無機系リン酸塩の中から選ばれた少なくとも１種のリン系無機化合物からなる混合溶液とを、モル比で、水／酸化カルシウム＝１．００〜２．００、有機溶剤／水＝０．１〜３．０、カルシウム／リン＝１０〜３０００の範囲に調整して、反応させることを特徴とする請求項２ないし５のいずれかに記載の酸性ガス除去剤の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月8日(2003.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の正、負両極板間に保液性セパレータを介在させ、筒状に巻回して電槽内に収容した円筒形鉛蓄電池において、巻心側のセパレータの繊維密度を巻き終わり端辺よりも高密度にしたことを特徴とする円筒形鉛蓄電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明円筒形鉛蓄電池は以上のような問題に鑑みてなされたもので、帯状の正、負両極板間に保液性セパレータを介在させ、筒状に巻回して電槽内に収容した円筒形鉛蓄電池において、巻心側のセパレータの繊維密度を巻き終わり端辺よりも高密度にしたことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明による円筒形鉛蓄電池は、セパレータとして、正極板の長辺方向の約２倍の長さを有する保液性のセパレータであって、巻き心側の方が長さ方向の端よりも繊維密度が高いセパレータを用いる。このようにすることにより、巻心側から巻き終わり端辺に至るまで極板間隔は従来に比べてより均一にすることができ、極板長さ方向における充放電反応を均一化することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月30日(2003.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】反射型表示装置の作製方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水分を導入したスパッタリングによりアルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする膜を成膜し、
前記アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする膜をパターニングして画素電極を形成し、
前記画素電極の表面で入射光が乱反射することを特徴とする反射型表示装置の作製方法。
【請求項２】
水分を導入したスパッタリングによりアルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする膜を、加熱した絶縁表面を有する基体上に成膜し、
前記アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする膜をパターニングして画素電極を形成し、
前記画素電極の表面で入射光が乱反射することを特徴とする反射型表示装置の作製方法。
【請求項３】
絶縁表面を有する基板上に、ソース領域、ドレイン領域及びチャネル領域を有する活性層と、ゲイト絶縁膜と、ゲイト電極を有する薄膜トランジスタを形成し、
前記薄膜トランジスタ上に第１の層間絶縁膜を形成し、
前記第１の層間絶縁膜上に、前記第１の層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して前記薄膜トランジスタのソース領域及びドレイン領域に接続されるソース電極及びドレイン電極を形成し、
前記第１の層間絶縁膜、前記ソース電極及びドレイン電極上に第２の層間絶縁膜を形成し、
前記第２の層間絶縁膜上に、水分を導入したスパッタリングによりアルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする膜を成膜し、
前記アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする膜をパターニングして、前記第２の層間絶縁膜中に形成されたコンタクトホールを介して前記ソース電極又はドレイン電極に接続された画素電極を形成し、
前記画素電極の表面で入射光が乱反射することを特徴とする反射型表示装置の作製方法。
【請求項４】
前記第１の層間絶縁膜は窒化珪素膜であり、前記第２の層間絶縁膜はポリイミド樹脂膜であることを特徴とする反射型表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項において、
前記アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする膜の表面にはアルミニウム粒が析出されることを特徴とする反射型表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月7日(2003.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、ロッドの両端面が励起チャンバ内の冷却水に接しているので、この両端面における冷却水との屈折率差が小さくなっている。このためロッドの両端面における反射は少ないので、ロッドの両端面にＡＲコーティングを施す必要はない。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月10日(2003.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ヒートパイプ式ヒートシンク、集積回路パッケージ及びそれを用いた中央処理装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発熱体に装着されるベースと、このベースに立設されたヒートパイプとを有するヒートパイプ式ヒートシンクであって、
前記ヒートパイプが複数本設けられると共に、これらヒートパイプが互いに連通されていることを特徴とするヒートパイプ式ヒートシンク。
【請求項２】
発熱体に装着されるベースと、このベースに立設されたヒートパイプとを有するヒートパイプ式ヒートシンクであって、
前記ベース上に積層された複数枚の放熱フィンを更に有し、前記ヒートパイプがこれら放熱フィンの一部から形成されていることを特徴とするヒートパイプ式ヒートシンク。
【請求項３】
ベースの上端に固着されたアッパプレートと、アッパプレートの上面に積層・固着された複数枚の放熱フィンと、放熱フィンの上部に固着されたヘッダとを有することを特徴とする請求項１または２に記載のヒートパイプ式ヒートシンク。
【請求項４】
アッパプレートに、ボスの内側に位置するように、作動流体流通孔が穿設されていることを特徴とする請求項３に記載のヒートパイプ式ヒートシンク。
【請求項５】
放熱フィンに、アッパプレートの作動流体流通孔に対応する位置にヒートパイプ形成部が突設されていることを特徴とする請求項４に記載のヒートパイプ式ヒートシンク。
【請求項６】
放熱フィンのヒートパイプ形成部は、基端から先端に向けて径が縮小するテーパ管形状となっており、先端の内径は作動流体流通孔と略等しい径に形成され、アッパプレートの上面に複数枚積層固着されていることを特徴とする請求項５に記載のヒートパイプ式ヒートシンク。
【請求項７】
ヘッダの下面に放熱フィンのヒートパイプ形成部の先端が嵌合する作動流体流通孔が穿設され、上面に作動流体注入孔が穿設されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載のヒートパイプ式ヒートシンク。
【請求項８】
ベースの内底面に格子状の溝が形成されていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載のヒートパイプ式ヒートシンク。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のヒートパイプ式ヒートシンクを備えた集積回路パッケージ。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のヒートパイプ式ヒートシンクを備えた集積回路パッケージをもちいた中央処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、集積回路パッケージの冷却等に用いられるヒートパイプ式ヒートシンク、集積回路パッケージ及びそれを用いた中央処理装置に係り、詳しくは、製造の容易化や構成の簡素化等を図る技術に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は上記状況に鑑みなされたもので、製造の容易化や製品コストの低減を実現したヒートパイプ式ヒートシンク、集積回路パッケージ及びそれを用いた中央処理装置を提供することにある。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明によれば、例えば、ベース上に放熱フィンを積層した後、ロウ付けを行うだけで、ヒートパイプ式ヒートシンクが組み立てられる。
この場合において、ベースの上端に固着されたアッパプレートと、アッパプレートの上面に積層・固着された複数枚の放熱フィンと、放熱フィンの上部に固着されたヘッダとを有してもよい。
また、アッパプレートに、ボスの内側に位置するように、作動流体流通孔が穿設されていてもよい。
さらに、放熱フィンに、アッパプレートの作動流体流通孔に対応する位置にヒートパイプ形成部が突設されていてもよい。
放熱フィンのヒートパイプ形成部は、基端から先端に向けて径が縮小するテーパ管形状となっており、先端の内径は作動流体流通孔と略等しい径に形成され、アッパプレートの上面に複数枚積層固着されていてもよい。
また、ヘッダの下面に放熱フィンのヒートパイプ形成部の先端が嵌合する作動流体流通孔が穿設され、上面に作動流体注入孔が穿設されていてもよい。
さらに、ベースの内底面に格子状の溝が形成されていてもよい。
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のヒートパイプ式ヒートシンクを備えた集積回路パッケージでもよい。
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のヒートパイプ式ヒートシンクを備えた集積回路パッケージをもちいた中央処理装置でもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づき説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月4日(2003.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レーザー照射方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
珪素膜に対して第１の線状ビームに成形された波長の長いレーザー光を前記第１の線状ビームの幅方向に走査して照射した後に、第２の線状ビームに成形された波長の短いレーザー光を前記第２の線状ビームの幅方向に走査して照射することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項２】
珪素膜に対して第１の線状ビームに成形された波長の長いレーザー光を前記第１の線状ビームの幅方向に走査して照射するとともに、第２の線状ビームに成形された波長の短いレーザー光を前記第２の線状ビームの幅方向に走査して照射することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項３】
珪素膜に対して波長の異なる２つの線状のレーザー光を並べて走査しながら照射する方法であって、
前記照射は、被照射領域に対して波長の長いレーザー光を照射した後に、波長の短いレーザー光を照射することを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、前記波長の長いレーザー光は、ＨｇＢｒエキシマレーザー光、ＨｇＣｌエキシマレーザー光、ＨｇＩエキシマレーザー光、ＸｅＦエキシマレーザー光、ＸｅＣｌエキシマレーザー光のいずれか一であることを特徴とするレーザー照射方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記波長の短いレーザー光は、ＫｒＦエキシマレーザー光、またはＡｒＦエキシマレーザー光であることを特徴とするレーザー照射方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
紫外領域以下の波長を有するエキシマレーザー光においては、波長が短い程、第１の作用の寄与が大きくなる。また、逆に波長が長い程、第２の作用の寄与が大きくなる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
１２１は、波長の短いエキシマレーザー光の発振器である。発振器１２１から発振されたレーザー光は、光学系１２２でもって（Ｂ）の１０８で示されるような線状のビームに成形される。そして、ミラー１２３でもって反射され、さらにレンズ１２４、石英でなる窓１０７を通過して、試料に照射される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
１３１は、波長の長いエキシマレーザー光の発振器である。発振器１３１から発振されたレーザー光は、光学系１３２でもって（Ｂ）の１０９で示されるような線状のビームに成形される。そして、ミラー１３３でもって反射され、さらにレンズ１３４、石英でなる窓１０７を通過して、試料に照射される。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
搬入室２０７はゲイトバルブ２０６を介してアライメント室２０５に連結されている。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
図３に示すようなシステムを利用する場合は、まず長波長を有するエキシマレーザー光を試料に照射し、次に他方のチャンバーに試料を移送して、短波長を有するエキシマレーザー光を試料に照射する。レーザー光の照射は、線状にビーム加工されたレーザー光を線状ビームの幅方向に走査しながら行う。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月30日(2003.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）絶縁体等および導体パターンからなる配線基板層、（Ｂ）導体パターンが形成されていない層および（Ｃ）接着剤層をそれぞれ少なくとも１層以上有する半導体集積回路基板の（Ｃ）接着剤層を形成する半導体装置証接着剤シートであって、該接着剤シートの両面における粘着力をそれぞれＰ１およびＰ２（Ｐ１＞Ｐ２）とするとき、０≦Ｐ２／Ｐ１≦０．９、かつ２Ｎｃｍ−１≦Ｐ１≦５０Ｎｃｍ−１であることを特徴とする半導体装置用接着剤シート。
【請求項２】
接着剤シートが、必須成分として熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂をそれぞれ少なくとも１種類以上含む接着剤組成物より形成される接着剤層を少なくとも１層以上有することを特徴とする請求項１記載の半導体装置用接着剤シート。
【請求項３】
接着剤組成物がブタジエンを必須共重合成分とする共重合体を含むことを特徴とする請求項２記載の半導体装置用接着剤シート。
【請求項４】
接着剤組成物がブタジエンを必須共重合成分とし、かつカルボキシル基を有する共重合体を含むことを特徴とする請求項３記載の半導体装置用接着剤シート。
【請求項５】
接着剤組成物がエポキシ樹脂および／またはフェノール樹脂を含むことを特徴とする請求項２記載の半導体装置用接着剤シート。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか記載の半導体装置用接着剤シートを用いた、（Ａ）絶縁体層および導体パターンからなる配線基板層、（Ｂ）導体パターンが形成されていない層および（Ｃ）接着剤層をそれぞれ少なくとも１層以上有する半導体集積回路接続用基板。
【請求項７】
請求項６記載の半導体集積回路接続用基板を用いた半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月31日(2003.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、フランジ２５ａの一対の短辺部分３４のａ−ａ´，ｂ−ｂ´線上にネジ１３が配置されているので、その配置に必要とされる短辺部分３４の幅分だけ導波管形マイクロ波加熱炉２６のケース２６ａの厚さ（Ｔ´）が大きくなり、これにより導波管形マイクロ波加熱炉２６のコスト上昇につながるという欠点がある。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月19日(2003.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶媒体のディスク２が回転自在に収容される本体ケース１に、信号読書用の窓３と駆動軸挿入孔４とが設けられており、
前記窓３および駆動軸挿入孔４が、本体ケース１の前側で左右にスライドするシャッター５で開閉自在に塞がれる構造のディスクカートリッジにおいて、
本体ケース１の後側面７に、ディスク出し入れ用の開口部９が左右方向にわたって設けられており、
本体ケース１に、開口部９を開閉する蓋１０が抜き差し自在に装着されており、
蓋１０が、開口部９を開閉する蓋本体１１と、この蓋本体１１の内側から本体ケース１の左右側壁１５・１５の内面に沿うよう突設されて、ディスク２の中心より本体ケース内奥側の外周上の二点Ｐ1 ・Ｐ2 を抱合する左右一対の拡縮変形自在な弾性アーム１２・１２とを有しており、
本体ケース１内に、弾性アーム１２・１２を拡開変形させる解除部材１６・１６が設けられており、
この解除部材１６・１６は、蓋１０の差し込みに伴い弾性アーム１２・１２の先端と接当係合し、この接当係合作用により弾性アーム１２・１２がディスク外周から離れる方向へ拡開変形することを特徴とするディスクカートリッジ。
【請求項２】
弾性アーム１２のディスク抱合面側の少なくとも先端に溝１３を凹設してあり、
この溝１３は溝外方へ向かって漸次拡がる傾きをもつ上下の斜面１４・１４を有し、
この上下の斜面１４・１４間でディスク２の外周を抱合する断面台形もしくは断面Ｖ形に形成されている請求項１記載のディスクカートリッジ。
【請求項３】
蓋本体１１の内側における弾性アーム１２・１２間の中央部位に、ディスク２の外周一部を支持する溝２１を設けている請求項２記載のディスクカートリッジ。
【請求項４】
弾性アーム１２・１２どうしをつないだ凹円弧状の面２２がディスク２の収納時に該ディスク２の位置決めを兼ねる請求項１又は２記載のディスクカートリッジ。
【請求項５】
記憶媒体のディスク２が回転自在に収容される本体ケース１に、信号読書用の窓３と駆動軸挿入孔４とが設けられており、
前記窓３および駆動軸挿入孔４が、本体ケース１の前側で左右にスライドするシャッター５で開閉自在に塞がれる構造のディスクカートリッジにおいて、
本体ケース１の後側面７に、ディスク出し入れ用の開口部９が左右方向にわたって設けられており、
本体ケース１に、開口部９を開閉する蓋１０が抜き差し自在に装着されており、
蓋１０が、開口部９を開閉する蓋本体１１と、この蓋本体１１の内側から本体ケース１の左右側壁１５・１５の内面に沿うよう突設されて、ディスク２の中心より本体ケース内奥側の外周上の二点Ｐ1 ・Ｐ2 を支持する左右一対の拡縮変形自在な弾性アーム１２・１２とを有しており、
弾性アーム１２・１２を本体ケース１の左右側壁１５・１５の内面に沿って挿入し蓋１０を本体ケース１の開口部９に完全に差し込んだとき、ディスク２が回転自在な状態にあるとともに、開口部９が蓋本体１１で全面的に閉じられるようにしたことを特徴とするディスクカートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月5日(2003.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対のシェルを重ね合わせることによって内部にディスク収容室が形成されるカートリッジ筐体と、
上記ディスク収容室内に回転自在に収容されるディスク状記録媒体と、を有し、
上記カートリッジ筐体に設けられた窓部にターンテーブルの先端部が挿脱可能に挿入され、マグネットの磁力によって上記ディスク状記録媒体を上記ターンテーブルにチャッキング可能なディスクカートリッジにおいて、
上記ディスク状記録媒体の内周側のハブ部の厚みを外周側の情報記録領域部の厚みよりも厚く形成すると共に、
上記カートリッジ筐体の上記ターンテーブルが配置される側に位置するシェルの上記窓部の内側に、上記ハブ部のターンテーブルとの接触部よりも半径方向外側の部位に接触する支持凸部を設け、チャッキング解除時、上記支持凸部で上記ハブ部を支持してディスク状記録媒体をターンテーブルから離反させるようにしたことを特徴とするディスクカートリッジ。
【請求項２】
請求項１記載のディスクカートリッジにおいて、
上記支持凸部は、円周方向に連続する円弧状の凸条からなることを特徴とするディスクカートリッジ。
【請求項３】
請求項１記載のディスクカートリッジにおいて、
上記ディスク状記録媒体の最外周部の厚みを上記情報記録領域部の厚みよりも厚く形成したことを特徴とするディスクカートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月29日(2004.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、リードフレームを有する半導体装置に関する。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の目的は、製造工程が複雑になる虞れがないこと、または、製造コストの低減が図れるようにしたリードフレーム構成の半導体装置を提供することにある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
本発明によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
(3)
外部導出端子成形時に、任意の場所でリードフレームを折り曲げることができるので、外部導出端子の導出位置が任意に選べることになり、適用半導体装置の範囲が広くなる。
(4)
リードフレーム自体では二次元形状なので、運搬時において積載効率が改善できる。
(5)
リードフレームの圧着に必要な設備の小型化が可能となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、製造工程が複雑になる虞れがないこと、または、製造コストの低減が図れるようにしたリードフレーム構成による半導体装置を提供することが可能になる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月24日(2003.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路を製造するための方法であって、
停止層を有する層を形成するステップと、
少なくとも、溝と停止層を通して延びるバイアとを含む層内に二重ダマシーン構造のための開口部を形成するステップと、
第１の電極及び第２の電極を有するコンデンサのための、層内に少なくとも２つの開口部を形成するステップとを含み、第１及び第２の電極の各々は停止層及び層を通して延びる開口部によって画定されていることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１の方法において、二重ダマシーン構造のための開口部を形成することと、コンデンサのために層内に少なくとも２つの開口部を形成することとは、実質的に同時に起こる方法。
【請求項３】
請求項１の方法において、さらに、
導電材料で二重ダマシーン構造のための開口部を充填するステップと、
導電材料でコンデンサのための、層内の少なくとも２つの開口部を充填するステップとを含む方法。
【請求項４】
請求項１の方法において、導電材料で二重ダマシーン構造のための開口部を充填することと、導電材料でコンデンサのための、層内の少なくとも２つの開口部を充填することとは実質的に同時に起こる方法。
【請求項５】
集積回路を製造するための方法であって、
複数の層を形成するステップと、
複数の層の少なくとも１つの層内に、第１の開口部を形成することによって二重ダマシーン構造を部分的に形成するステップと、
複数の層の少なくとも１つの層を通して延びる第２及び第３の開口部を複数の層の少なくとも１つの層内に形成することによってコンデンサを部分的に形成するステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５の方法において、第１、第２及び第３の開口部は実質的に同じ幅を有する方法。
【請求項７】
請求項５の方法において、第２及び第３の開口部は第１の幅を有し、第１の開口部は第１の幅とは異なる第２の幅を有する方法。
【請求項８】
停止層を有する層と、
少なくとも、溝と停止層を通して延びるバイアとを含む層内の二重ダマシーン構造と、
第１の電極及び第２の電極を有するコンデンサのために、層内の少なくとも２つの開口部とを含み、第１及び第２の電極の各々は停止層及び層を通して延びる開口部によって画定されていることを特徴とする集積回路。
【請求項９】
請求項８の集積回路において、停止層は第１の電極及び第２の電極の間に形成されている集積回路。
【請求項１０】
請求項８の集積回路において、第１の電極及び第２の電極は停止層に接触している集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月25日(2003.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路パッケージの製造方法であって、
（ａ）第一の誘電層と、前記第一の誘電層の上の導電層と、前記導電層の上の、前記導電層の一部を露出している空洞を有する第二の誘電層とを有する基板を供給するステップと、
（ｂ）集積回路を、直接、前記空洞内の前記導電層の露出部分に相互接続するステップとを含む方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、ステップ（ｂ）が、
導体を、前記集積回路上に形成されたボンド・パッドに接続するステップと、
前記導体を、直接、前記導電層に接続するステップとを含む方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、さらに、前記導電層の前記露出部分にアース面および電力面のうちの一方を供給するステップを含む方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、さらに、前記導電層の前記露出部分に、信号ライン用の少なくとも一つの接続部を供給するステップを含む方法。
【請求項５】
請求項１記載の方法において、さらに、前記集積回路チップと前記導電層との間に複数の相互接続部を形成するステップを含む方法。
【請求項６】
集積回路チップを収容することができる基板の製造方法であって、
（ａ）第一の誘電層を供給するステップと、
（ｂ）前記第一の誘電層上に導電層を供給するステップと、
（ｃ）前記導電層上に第二の誘電層を供給するステップと、
（ｄ）前記導電層の一部を露出するために、前記第二の誘電層内に空洞を形成するステップとを含む方法。
【請求項７】
請求項６記載の方法において、さらに、前記導電層の前記一部を露出することによりアース面への接触領域を供給するステップを含む方法。
【請求項８】
集積回路チップを収容することができる基板の製造方法であって、
（ａ）第一の誘電層を供給するステップと、
（ｂ）前記誘電層上に第一の導電層を供給するステップと、
（ｃ）前記第一の導電層上に第二の誘電層を供給するステップと、
（ｄ）前記第二の誘電層上に第二の導電層を供給するステップと、
（ｅ）前記第一の導電層の一部を露出するために、前記第二の誘電層の第一の領域内に空洞を形成するステップとを含む方法。
【請求項９】
請求項８記載のプロセスにおいて、ステップ（ｄ）が、さらに、前記第一の領域上に形成された前記導電層の一部を除去するステップを含むプロセス。
【請求項１０】
集積回路パッケージの製造プロセスであって、
（ａ）第一の誘電層と、前記第一の誘電層の上の導電層と、前記導電層の上の、前記導電層の一部を露出している空洞を有する第二の誘電層とを有する基板を収容するステップと、
（ｂ）集積回路を、直接、前記空洞内の前記導電層の前記露出部分に相互接続するステップとを含むプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月27日(2003.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
ポリシラン主鎖上のクラウンエーテル側鎖の間隔を自由に変えられることも、本発明ポリシラン誘導体の利点である。たとえば、発光強度を増加させるためには発光性イオンや分子の濃度を高める必要があるが、発光性イオン，分子が互いに接近しすぎると、イオン又は分子を励起エネルギーが伝播される間に非発光過程で失われ、結果として発光強度が逆に低下すること（濃度消光）がある。しかし、本発明のポリシラン誘導体では、濃度消光を考慮してクラウンエーテル側鎖を設計することによりイオン，分子の最適配置が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月22日(2003.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の銅めっき方法において、基板をめっき液中に含有される有機物及び／又はイオウ化合物を一種類以上含有する処理液と接触させる工程を１回以上経て、その後にめっき液と接触させてめっきを行うことを特徴とする基板の銅めっき方法。
【請求項２】
基板と前記処理液との接触をめっき工程前及び／又はめっき工程の途中に行うことを特徴とする請求項１に記載の基板の銅めっき方法。
【請求項３】
基板を前記処理液と接触させた後、これを液切りし及び／又は乾燥させた後にめっきを行なうことを特徴とする請求項１に記載の基板の銅めっき方法。
【請求項４】
前記有機物は、いわゆるポリエーテル類の有機高分子ポリマであり、前記処理液中の濃度が１０ｍｇ／ｌ〜１０ｇ／ｌで、分子量が１００〜１０万の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の基板の銅めっき方法。
【請求項５】
前記イオウ化合物は、一般式
Ｘ−Ｌ−（Ｓ）ｎ−Ｌ−Ｘ
（式中、Ｌは、低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１乃至６のアルキル基で、Ｘは、水素原子、ＳＯ３Ｍ基、又はＰＯ３Ｍ基（Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子、又はアミノ基）を表す）
で示される化合物であり、前記処理液中の濃度は、０．１μｍｏｌ／ｌ〜７０μｍｏｌ／ｌであることを特徴とする請求項１に記載の基板の銅めっき方法。
【請求項６】
基板と前記処理液の接触時間が３〜６０秒であることを特徴とする請求項１に記載の基板の銅めっき方法。
【請求項７】
めっき工程の途中で、めっきを停止しめっき膜をエッチングする工程を更に有し、基板を前記処理液と１回以上接触させ再度めっき液と接触させてめっきを行うことを特徴とする請求項１に記載の基板の銅めっき方法。
【請求項８】
基板の銅めっき方法において、めっき工程の途中で、めっきを停止しめっき膜をエッチングする工程を１回以上経た後、再度めっき液と接触させてめっきを行うことを特徴とする基板の銅めっき方法。
【請求項９】
前記エッチング方法は、電解エッチング又は化学エッチングであることを特徴とする請求項７又は８に記載の基板の銅めっき方法。
【請求項１０】
基板の銅めっき方法において、基板表面を活性化させる、及び／又は基板表面のめっき液との濡れ性を向上させる処理液に基板表面を少なくとも１回接触させ、前記基板の液切り及び／又は乾燥処理を行った後、基板をめっき液に接触させて基板にめっきを行うことを特徴とする基板の銅めっき方法。
【請求項１１】
前記基板の液切りを、基板を回転させて処理液を基板から振り切る方法、基板の回転とガスブローを併用する方法、または強風領域中に基板を通過させる方法で行うことを特徴とする請求項１０に記載の基板の銅めっき方法。
【請求項１２】
前記基板の液切りを、基板を処理液に接触させた後、１つの装置で連続して行うことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の基板の銅めっき方法。
【請求項１３】
基板の銅めっき装置において、
基板をめっき液中に含有される有機物及び／又はイオウ化合物を一種以上含有する処理液と接触させる手段と、
基板をめっき液と接触させてめっきを行う手段とを有することを特徴とする基板の銅めっき装置。
【請求項１４】
基板の銅めっき装置において、
基板をめっき液中に含有される有機物及び／又はイオウ化合物を一種以上含有する処理液と接触させる手段と、
基板をめっき液と接触させてめっきを行う手段と、
基板処理面に堆積させためっき膜をエッチングする手段とを有することを特徴とする基板の銅めっき装置。
【請求項１５】
前記銅めっき装置は、基板を回転させながら前記処理液を液切りし及び／又は乾燥させた後にめっき液と接触させてめっきを行なう手段を有することを特徴とする請求項１３又は１４に記載の基板の銅めっき装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月15日(2003.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
潤滑剤を含有した状態で固形化した合成樹脂からなり、含有している潤滑剤を徐々に滲み出すことにより近接する被潤滑部材に潤滑剤を供給する潤滑剤供給組成物において、固体潤滑剤を含有することを特徴とする潤滑剤供給組成物。
【請求項２】
前記固体潤滑剤の熱伝導率が20Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることを特徴とする請求項１記載の潤滑剤供給組成物。
【請求項３】
前記固体潤滑剤が黒鉛、窒化硼素、フッ素樹脂、二硫化モリブデンまたは二硫化タングステンであることを特徴とする請求項１載の潤滑剤供給組成物。
【請求項４】
前記固体潤滑剤が黒鉛または窒化硼素であることを特徴とする請求項２記載の潤滑剤供給組成物。
【請求項５】
外輪、内輪、転動体及び保持器からなる転がり軸受において、内輪と外輪との間に形成される空間に、請求項１〜４の何れか１項に記載の潤滑剤供給組成物を充填したことを特徴とする転がり軸受。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明は、潤滑剤を含有した状態で固形化した合成樹脂からなり、含有している潤滑剤を徐々に滲み出すことにより近接する被潤滑部材に潤滑剤を供給する潤滑剤供給組成物において、固体潤滑剤を含有することを特徴とする潤滑剤供給組成物を提供する。
また、同様の目的を達成するために、本発明は、外輪、内輪、転動体及び保持器からなる転がり軸受において、内輪と外輪との間に形成される空間に、上記潤滑剤供給組成物を充填したことを特徴とする転がり軸受を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月9日(2003.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
文字板の文字表示面に、この文字表示面から突出する文字部を形成し、
前記文字部の前記文字表示面側のベース面の文字幅を、前記文字部の最頂部に形成するトップ面の文字幅より大きく形成したことを特徴とする操作盤。
【請求項２】
操作盤の開口部に嵌合して取り付けられるボタンケースと、前記ボタンケース内に出没可能に取り付けられる押圧部と、前記押圧部の下方に配置されるスイッチ基板と、前記押圧部の下方のスイッチ基板上に配置される発光部と、前記発光部の周囲の前記スイッチ基板上に配置されるスイッチ素子と、前記押圧部に受ける応力を前記スイッチ素子に伝達するとともに、前記発光部の光を前記開口部側に反射するように配置される反射板と、前記押圧部と前記スイッチ基板を離す方向に作用するバネとを含んで構成される複数の操作スイッチを備えた操作盤であって、
前記ボタンケースから露出する前記押圧部には文字表示面が形成され、
前記文字表示面には、この文字表示面から突出する文字部を形成し、
前記文字部の前記文字表示面側のベース面の文字幅を、前記文字部の最頂部に形成するトップ面の文字幅より大きく形成したことを特徴とする操作盤。
【請求項３】
前記請求項１または２記載の操作盤において、
前記文字部の断面形状をベース面からトップ面に向かって先細りの形状とした
ことを特徴とする操作盤。
【請求項４】
前記請求項１から３記載の何れかの操作盤において、
前記文字部の断面形状は台形状である
ことを特徴とする操作盤。
【請求項５】
前記請求項１から４記載の何れかの操作盤において、
前記文字表示面と前記文字部は透光度の異なる材料で形成されている
ことを特徴とする操作盤。
【請求項６】
前記請求項５記載の操作盤において、
前記文字表示面は透光性素材で形成され、前記文字部は非透光性素材で形成されている
ことを特徴とする操作盤。
【請求項７】
前記請求項５記載の操作盤において、
この操作盤はエレベータの操作に使用されることを特徴とする操作盤。
【請求項８】
前記請求項１から７記載の何れかの操作盤において、
前記トップ面の文字幅は０．５ミリメートル以上１．５ミリメートル以下であり、
前記ベース面の文字幅は２．５ミリメートル以上３．５ミリメートル以下である
ことを特徴とする操作盤。
【請求項９】
前記請求項１から８記載の操作盤において、
前記トップ面の文字幅を、前記ベース面の文字幅の中央に形成したことを特徴とする操作盤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
そこで、本発明の目的とするところは、視認性が良好で、かつ、指などによる触覚での認識が良好な文字を利用した操作盤を提供することにある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明の操作盤では、前記課題を解決するために、文字表示面から突出する凸状の文字部を形成し、前記文字部の前記文字表示面側のベース面の文字幅を、前記文字部の最頂部に形成するトップ面の文字幅より大きくする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
【発明の効果】
本発明によれば、視認性が良好で、かつ、指などによる触覚での認識が良好な文字を利用した操作盤を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月8日(2003.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記制御回路は、
前記第１の状態において、前記第１のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了した際に、前記第２のスイッチをＯＦＦにし、
前記第２の状態において、前記第２のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了した際に、前記第１のスイッチをＯＦＦにする、
ことを特徴とする請求項２記載の正負電源発生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記制御回路は、
前記第１の状態において、前記第１のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了すると想定される時間に、所定のマージン値を加えた時間が経過した際に、前記第２のスイッチをＯＦＦにし、
前記第２の状態において、前記第２のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了すると想定される時間に、所定のマージン値を加えた時間が経過した際に、前記第１のスイッチをＯＦＦにする、
ことを特徴とする請求項２記載の正負電源発生装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
以上の動作により、３Ｖ程度の入力電圧Ｖｉｎを、＋１５Ｖおよび−１５Ｖ程度の正負電源に変換することができる。
なお、出力電圧を一定に保つ場合には、正電源電圧Ｖｏ１については、この電圧が高い場合には、パルスジェネレータＰ１の発生するパルス信号の周期を長くし、電圧が低い場合には、パルスジェネレータＰ１の発生するパルス信号の周期を短くするように制御すればよい。一方、負電源電圧Ｖｏ２についても同様に、電圧が高い場合には、パルスジェネレータＰ２の発生するパルス信号の周期を長くし、電圧が低い場合には、パルスジェネレータＰ２の発生するパルス信号の周期を短くするように制御すればよい。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
このようにして、第１の状態と第２の状態とをそれぞれ繰り返すことにより、単電源１６から正負電源を生成することができる。
なお、正電源または負電源の電圧を検出し、その結果に応じて、第１の状態または第２の状態をそれぞれ繰り返す周期を変化させることにより、正電源および負電源をそれぞれ制御することができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
スイッチングトランジスタ５６，５７の双方が“ＯＮ”の状態になると、インダクタ６２が入力電圧Ｖｉｎに接続された状態になり、インダクタ６２に電流が流入し、磁気エネルギーが蓄積される。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
このとき、ＮＡＮＤゲート７９の出力は“Ｌ”の状態になっているので、ｄｃｈｇ−ｏｆｆ信号は“Ｌ”の状態になる。その結果、スイッチングトランジスタ７１がＯＦＦの状態になり、キャパシタ７３が定電流源Ｉ２によってチャージされる。キャパシタ７３の端子電圧が基準電圧Ｖｒｅｆ４を越えると、コンパレータ７５の出力が“Ｈ”の状態に変化するので、ＲＳ１，ＲＳ２がリセットされ、ＯＲゲート９３の出力が“Ｌ”の状態になり、スイッチングトランジスタ５７がＯＦＦの状態になる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
このとき、ｄｃｈｇ−ｏｆｆ信号は“Ｌ”であり、ｄｃｈｇ−ｏｎ信号は“Ｈ”の状態であるので、キャパシタ７２がリセットされ、また、キャパシタ７３のチャージが開始される。そして、キャパシタ７３の端子電圧が基準電圧Ｖｒｅｆ４を越えると、コンパレータ７５の出力が“Ｈ”の状態になるので、ＲＳ３がセットされ、ＲＳ１およびＲＳ２がリセットされる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
（付記３）  前記制御回路は、
前記第１の状態において、前記第１のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了した際に、前記第２のスイッチをＯＦＦにし、
前記第２の状態において、前記第２のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了した際に、前記第１のスイッチをＯＦＦにする、
ことを特徴とする付記２記載の正負電源発生装置。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
（付記４）  前記制御回路は、
前記第１の状態において、前記第１のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了すると想定される時間に、所定のマージン値を加えた時間が経過した際に、前記第２のスイッチをＯＦＦにし、
前記第２の状態において、前記第２のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了すると想定される時間に、所定のマージン値を加えた時間が経過した際に、前記第１のスイッチをＯＦＦにする、
ことを特徴とする付記２記載の正負電源発生装置。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
（付記１３）  前記制御回路は、
前記第１の状態において、前記第１のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了した際に、前記第２のスイッチをＯＦＦにし、
前記第２の状態において、前記第２のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了した際に、前記第１のスイッチをＯＦＦにする、
ことを特徴とする付記１２記載の半導体装置。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２８】
（付記１４）  前記制御回路は、
前記第１の状態において、前記第１のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了すると想定される時間に、所定のマージン値を加えた時間が経過した際に、前記第２のスイッチをＯＦＦにし、
前記第２の状態において、前記第２のスイッチをＯＦＦの状態にした後、前記インダクタからの電流の流入が終了すると想定される時間に、所定のマージン値を加えた時間が経過した際に、前記第１のスイッチをＯＦＦにする、
ことを特徴とする付記１２記載の半導体装置。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2003186552.tif 000001
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2003186552.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月29日(2004.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の服飾品の各々について、デザインに関するデータを含んだデザイン情報を記憶するデザイン情報記憶手段を備えたシステムと通信することができる携帯可能な通信端末であって、
前記複数の服飾品の中から所望の服飾品を選択する服飾品選択手段と、
対象者の身体的特徴に関する身体情報を入力する身体情報入力手段と、
前記選択された所望の服飾品のデザイン情報と、前記入力された身体情報とに基づいて、前記所望の服飾品が対象者にフィットするか否か判断する判断手段と、
前記判断手段による判断の結果を出力する判断結果出力手段と
を備える通信端末。
【請求項２】
複数の服飾品の各々について、サイズ又は形体に関するデータを含んだサイズ情報を記憶するサイズ情報記憶手段と、前記複数の服飾品の各々の画像を記憶する服飾品画像記憶手段とを備えたシステムと通信することができる携帯可能な通信端末であって、
前記複数の服飾品の中から所望の服飾品を選択する服飾品選択手段と、
対象者の身体的特徴に関する身体情報を入力する身体情報入力手段と、
前記対象者の画像を入力する対象者画像入力手段と、
前記選択された所望の服飾品の画像と、前記入力された対象者の画像とを用いて、前記対象者が前記所望の服飾品を身に付けた姿の画像を合成する画像合成手段と、
前記合成された画像を出力する合成画像出力手段と
を備え、
前記画像合成手段は、画像を合成するとき、前記所望の服飾品のサイズ情報と、前記入力された身体情報とを用いて、前記所望の服飾品の画像と、前記入力された対象者の画像との少なくとも一方のサイズ又は形状を修正する通信端末。
【請求項３】
複数の服飾品の各々の画像を記憶する服飾品画像記憶手段を備えたシステムと通信することができる携帯可能な通信端末であって、
前記複数の服飾品の中から所望の服飾品を選択する服飾品選択手段と、
動画像を入力する動画像入力手段と、
前記入力された動画像を表示する表示手段と、
前記表示された動画像の中から所望の瞬時の静止画を、対象者の画像として抽出する抽出手段と、
前記選択された所望の服飾品の画像と、前記抽出された対象者の画像とを用いて、前記対象者が前記所望の服飾品を身に付けた姿の画像を合成する画像合成手段と、
前記合成された画像を出力する合成画像出力手段と
を備える通信端末。
【請求項４】
複数の服飾品の各々の画像を記憶する服飾品画像記憶手段を備えたシステムと通信することができる携帯可能な通信端末であって、
前記複数の服飾品の中から複数人数分の所望の服飾品を選択する服飾品選択手段と、
複数人の対象者の画像を入力する対象者画像入力手段と、
前記選択された複数人数分の所望の服飾品の画像と、前記入力された複数人の対象者の画像とを用いて、前記対象者が前記所望の服飾品をそれぞれ身につけた姿を全員分集めた画像を合成する画像合成手段と、
合成された画像を出力する合成画像出力手段と
を備える通信端末。
【請求項５】
複数の服飾品の各々について、デザインに関するデータを含んだデザイン情報を記憶するデザイン情報記憶手段と、
前記複数の服飾品の中から所望の服飾品を選択する服飾品選択手段と、
対象者の身体的特徴に関する身体情報を入力する身体情報入力手段と、
前記選択された所望の服飾品のデザイン情報と、前記入力された身体情報とに基づいて、前記所望の服飾品が対象者にフィットするか否か判断する判断手段と、
前記判断手段による判断の結果を出力する判断結果出力手段と
を備える服飾品選択支援システム。
【請求項６】
複数の服飾品の各々について、サイズ又は形体に関するデータを含んだサイズ情報を記憶するサイズ情報記憶手段と、
前記複数の服飾品の各々の画像を記憶する服飾品画像記憶手段と、
前記複数の服飾品の中から所望の服飾品を選択する服飾品選択手段と、
対象者の身体的特徴に関する身体情報を入力する身体情報入力手段と、
前記対象者の画像を入力する対象者画像入力手段と、
前記選択された所望の服飾品の画像と、前記入力された対象者の画像とを用いて、前記対象者が前記所望の服飾品を身に付けた姿の画像を合成する画像合成手段と、
前記合成された画像を出力する合成画像出力手段と
を備え、
前記画像合成手段は、画像を合成するとき、前記所望の服飾品のサイズ情報と、前記入力された身体情報とを用いて、前記所望の服飾品の画像と、前記入力された対象者の画像との少なくとも一方のサイズ又は形状を修正する、
服飾品選択支援システム。