Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月1日(2003.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の溝を有する第１の表面および第２の溝を有する第２の表面を備えた枠組立体と、前記第１の溝を通じて布設される第１の導電トラック部材と、前記第２の溝を通じて布設される第２の導電トラック部材と、カートリッジを保持するための、および前記カートリッジを他の場所に移すためのカートリッジ出し入れ装置とを有し、前記カートリッジ出し入れ装置が、前記第１の導電トラック部材に係合する第１の導電係合部材および、前記第２の導電トラック部材に係合する第２の導電係合部材を備え、前記第１の導電トラック部材が、前記第２の導電トラック部材とは異なる電位を有しており、前記第１の係合部材を前記第１の導電トラック部材に押し付けるばねを前記第１の係合部材が備えていることを特徴とするカートリッジ移動装置。
【請求項２】
溝を有する枠組立体と、前記枠組立体の表面に取付けられ、前記溝を通じて布設されている導電部材と、カートリッジに着脱可能に結合する可動カートリッジ出し入れ装置と、前記カートリッジ出し入れ装置に結合し且つ前記導電部材に係合しており、導電材料で構成されている係合部材とを備え、前記係合部材を前記導電トラック部材に押し付けるばねが前記係合部材に備えられていることを特徴とするカートリッジ移動装置。
【請求項３】
導電トラック部材を表面に布設してある枠組立体を提供するステップと、導電部材を備えたカートリッジ出し入れ装置を提供するステップと、カートリッジを前記カートリッジ出し入れ装置に挿入するステップと、前記カートリッジ出し入れ装置を前記枠組立体に対して移動させるステップと、前記導電部材を前記トラック部材に押し付けるばねが前記導電部材に設けられていて、前記移動をさせるステップ中、前記導電部材を前記導電トラック部材上で滑動させるステップと、前記カートリッジ出し入れ装置に前記導電トラック部材と前記カートリッジ出し入れ装置の前記導電部材とを通して電力信号を供給するステップとを特徴とするカートリッジ格納装置内のデータカートリッジ移動方法。
【請求項４】
導電トラック部材を表面に布設してある枠組立体を提供するステップと、
導電ブラシを備えたカートリッジ出し入れ装置を提供するステップと、
前記カートリッジ出し入れ装置にカートリッジを挿入するステップと、前記カートリッジ出し入れ装置を前記枠組立体に対して移動させるステップと、
前記移動ステップ中に前記導電ブラシを前記導電トラック部材上で滑動させるステップと、
前記カートリッジ出し入れ装置に、前記導電トラック部材と前記カートリッジ出し入れ装置の前記導電ブラシを通して電力信号を供給するステップとを有し、前記導電ブラシがばねを備え前記導電ブラシを前記導電トラック部材に押し付けられていることを特徴とするデータカートリッジ移動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月4日(2003.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の手段を有することを特徴とする印刷装置用モジュール。
（ａ）ホストコンピュータから送信される印刷指令を受信する受信手段と、
（ｂ）前記受信手段により受信された印刷指令からジャーナルを印刷する印刷指令を抽出するジャーナル情報抽出手段と、
（ｃ）前記ジャーナル情報抽出手段により抽出された印刷指令を記憶する不揮発性記憶手段と、
（ｄ）前記受信手段により受信された印刷指令から印刷装置に送信する印刷指令を抽出する送信印刷指令抽出手段と、
（ｅ）前記送信印刷指令抽出手段により抽出された印刷指令を印刷装置に送信する送信手段。
【請求項２】
さらに、以下の手段を有することを特徴とする請求項１に記載の印刷装置用モジュール。
（ｆ）前記不揮発性記憶手段に記憶された印刷指令を印刷する指令を入力するジャーナル情報印刷指令入力手段と、
（ｇ）前記入力手段により印刷指令を印刷する指令が入力された場合、前記送信手段を介して前記不揮発性記憶手段に記憶された印刷指令を印刷装置に送信するジャーナル情報送信制御手段。
【請求項３】
さらに、以下の手段を有することを特徴とする請求項２に記載の印刷装置用モジュール。
（ｈ）前記不揮発性記憶手段に記憶された印刷指令が前記ジャーナル情報送信制御手段により印刷装置に送信された場合、当該印刷指令を前記不揮発性記憶手段から消去するジャーナル情報消去手段。
【請求項４】
前記送信手段は、ＲＳ−２３２規格に準拠したコネクタを有することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の印刷装置用モジュール。
【請求項５】
前記印刷装置の拡張スロットに装着できる大きさであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の印刷装置用モジュール。
【請求項６】
以下のステップを有することを特徴とする、不揮発性記憶手段を有する印刷装置用モジュールの制御方法。
（ａ）ホストコンピュータから送信される印刷指令を受信するステップと、
（ｂ）前記受信された印刷指令からジャーナルを印刷する印刷指令を抽出するステップと、
（ｃ）前記抽出されたジャーナルを印刷する印刷指令を前記不揮発性記憶手段に記憶するステップと、
（ｄ）前記受信された印刷指令から印刷装置に送信する印刷指令を抽出するステップと、
（ｅ）前記抽出された印刷装置に送信する印刷指令を印刷装置に送信するステップ。
【請求項７】
さらに、以下のステップを有することを特徴とする請求項６に記載の印刷装置用モジュールの制御方法。
（ｆ）前記不揮発性記憶手段に記憶された印刷指令を印刷する指令を入力するステップと、
（ｇ）前記指令が入力された場合、前記不揮発性記憶手段に記憶された印刷指令を印刷装置に送信するステップ。
【請求項８】
さらに、以下のステップを有することを特徴とする請求項７に記載の印刷装置用モジュールの制御方法。
（ｈ）前記不揮発性記憶手段に記憶された印刷指令が印刷装置に送信された場合、当該印刷指令を前記不揮発性記憶手段から消去するステップ。
【請求項９】
以下のステップを有することを特徴とする、不揮発性記憶手段を有する印刷装置用モジュールを制御するプログラムを記録した情報記録媒体。
（ａ）ホストコンピュータから送信される印刷指令を受信するステップと、
（ｂ）前記受信された印刷指令からジャーナルを印刷する印刷指令を抽出するステップと、
（ｃ）前記抽出されたジャーナルを印刷する印刷指令を前記不揮発性記憶手段に記憶するステップと、
（ｄ）前記受信された印刷指令から印刷装置に送信する印刷指令を抽出するステップと、
（ｅ）前記抽出された印刷装置に送信する印刷指令を印刷装置に送信するステップ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月20日(2003.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
近年、パーソナルコンピュータなどのコンピュータを用いてのデータ通信が盛んに行われている。特に、いわゆるパソコン通信は、パソコンの所有者同志の通信に限らず様々な方面で利用されている。たとえば、検査センター等においては、検査装置による検査結果などのデータを通信回線を介して検査装置から離れた場所にあるホストコンピュータに送信し、検査装置による検査結果などを一か所で集中管理するといったようにも利用されている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
ところが、一台ずつ手入力によって各検査装置の設定条件を変更するには、人手や時間など多大な労力を要する。また、各検査装置の設定条件の変更に多大な時間を費やしてしまうと、準備された検体の性質が変わってしまい、所望の状態で検体を検査することができなくなる。その上、手入力によって各検査装置の設定条件を変更する場合、どうしても入力ミスなどが生じる蓋然性が高くなり、入力ミスにより入力された設定条件で検体が測定されれば、本来測定されるべき値と異なった値が測定されてしまう。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
次に、このように構成された検体検査システムの動作について説明する。先ず、オペレーターによって情報処理装置１２に変更後の設定条件が入力された場合に、情報処理装置１２側から設定条件の変更を行うべき検査装置３２を選択する。次いで、選択された検査装置３２のうちの１つの検査装置３２に変更後のデータを送信する。データを受信した検査装置３２は、受信したデータのチェックサムが正常であるかを判断し、その結果を情報処理装置１２に通知する。情報処理装置１２は、検査装置３２から送られてきた通知が検査装置３２が正常に受信していない旨の通知であるか、あるいは所定時間内に検査装置３２から通知が送られてこなかった場合に、変更後のデータを検査装置３２に再送信する。検査装置３２は、正常に変更後のデータを受信した場合には、既存のデータを受信したデータに変更する。なお、選択された全ての検査装置３２に対して、上記のような検査装置３２の設定条件を変更すべき動作を行う。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
Ｓ２において、プロセサ１が設定条件を変更すべき検査装置３２の選択が終了していないと判断した場合には（Ｓ２：ＮＯ）、プロセサ１によって設定条件を変更すべき検査装置３２の選択が終了したと判断されるまで前記判断を繰り返す。プロセサ１が、設定条件を変更すべき検査装置３２の選択が終了したと判断した場合には（Ｓ２：ＹＥＳ）、入力された変更後の設定条件を検査装置３２に送信すべき指示がオペレーターによって入力されたか否かがプロセサ１によって判断される（Ｓ３）。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
Ｓ３において、プロセサ１が、入力された変更後の設定条件を送信すべき指示がオペレーターによって入力されていないと判断した場合には（Ｓ３：ＮＯ）、入力された変更後の設定条件を検査装置３２に送信すべき指示がプロセサ１によって入力されたと判断されるまで前記判断を繰り返す。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
Ｓ３において、プロセサ１が、入力された変更後の設定条件を検査装置３２に送信すべき指示がオペレーターによって入力されたと判断した場合には（Ｓ３：ＹＥＳ）、情報処理装置１２から検査装置３２に変更後の設定条件のデータを送信し（Ｓ４）、タイマをセットする（Ｓ５）。なお、本実施形態におけるタイマとしては、カウントダウン方式のものが用いられる。具体的には、タイマを設定すべき時間に応じて整数の変数Ｎを設定し、所定周期のクロック信号に同期して順次変数Ｎの値を１ずつ減じていき、変数Ｎが０になった時点でタイムアップとするものである。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
次いで、プロセサ１が情報処理装置１２から送信した変更後の設定条件のデータが受信された旨の通知が検査装置３２から送られてきたか否かを判断する（Ｓ６）。プロセサ１が、前記通知が検査装置３２から送られてきていないと判断した場合には（Ｓ６：ＮＯ）、プロセサ１がタイマを監視し、タイムアップ、すなわち変数Ｎが０であるか否かを判断する（Ｓ９）。プロセサ１が、タイムアップでない、すなわち変数Ｎが０ないと判断した場合には（Ｓ９：ＮＯ）、プロセサ１が前記通知が送られてきたと判断するか（Ｓ６：ＹＥＳ）、あるいはタイムアップ、すなわち変数Ｎが０であると判断するまで（Ｓ９：ＹＥＳ）待機する。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
Ｓ２４において、ＣＰＵ２１がチェクサムが正常でないと判断した場合には（Ｓ２４：ＮＯ）、正常なデータを受信できなかったということであるのでＣＰＵ２１が設定条件の変更後の正常なデータを受信しなかった旨を情報処理装置１２に通知、すなわちフラグを１として情報処理装置１２に通知する（Ｓ２６）。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】本願発明に係る検体検査システムの主要構成を示す回路ブロック図である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月28日(2003.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】反射屈折結像光学系、露光装置及び露光方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１結像光学系によって第１面の中間像を形成し、第２結像光学系によって前記中間像の再結像を第２面上に形成し、前記第１結像光学系からの光束を第２結像光学系へ導くように反射面を設けた反射屈折結像光学系において、
前記反射面を、非平面且つ非球面に形成したことを特徴とする反射屈折結像光学系。
【請求項２】
前記第１結像光学系は、凹面鏡と該凹面鏡への入射光と反射光との双方が透過するレンズ群とからなる往復光学系を有することを特徴とする請求項１記載の反射屈折結像光学系。
【請求項３】
前記反射面を前記中間像の近傍に配置したことを特徴とする請求項１又は２記載の反射屈折結像光学系。
【請求項４】
前記反射面は、回転対称非球面、トーリック非球面、又は完全非対称非球面であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
【請求項５】
前記第１結像光学系と第２結像光学系との結像倍率のうち、少なくともいずれか一方は縮小倍率であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
【請求項６】
前記反射屈折結像光学系は、偏心光学系であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
【請求項７】
回路パターンを焼き付ける露光装置において、
レチクル上の前記回路パターンをウエハ上に転写するための請求項１乃至６の何れか一項記載の反射屈折結像光学系を備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
回路パターンを焼き付ける露光方法において、
請求項１乃至６の何れか一項記載の反射屈折結像光学系を用いてレチクル上の前記回路パターンをウエハ上に転写することを特徴とする露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は主として半導体の製造に用いられるステッパーなどの縮小露光装置の光学系に関し、特に光学系に反射屈折光学系を用いることにより、紫外線波長域でのサブミクロン単位の分解能を有する１／４×〜１／５×の走査型反射屈折縮小光学系である反射屈折結像光学系、該反射屈折結像光学系を用いた露光装置及び該反射屈折結像光学系を用いた露光方法に関するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
以上のような純粋な収差補正のほかに、このような高精度の光学系を製造する場合、どうしても製造誤差による製品のバラツキが生じる。このバラツキは製品ごとに異なる収差を持っており、通常は光学系の部分調整で補正することが行われている。しかし、製造誤差により像面のいたるところで収差量の異なる非対称な収差が発生したり、発生量そのものが多すぎると、光学部品で調整するだけでは、補正しきれないことが多い。このような場合に、結像付近に非球面でできた収差補正板を挿入して補正することがある。しかしこのような補正板は、結像面にできるだけ近い方が、画角に関する収差の補正には有効であるが、現実には、像面近傍にあるさまざまな調整機構や測定装置などから、像面からずっと物体よりに置かなければならないのが通常である。そうなると本来画角に関する収差だけを補正したい場合でも、他の口径に関する収差まで影響を受け、複雑な補正を行わなければならなくなるのである。したがって本発明は、結像性能を維持しながら光学系の小型化を実現することができ、特に歪曲収差を良好に補正することができ、しかも製造誤差を容易に吸収することができる反射屈折結像光学系、該反射屈折結像光学系を用いた露光装置及び該反射屈折結像光学系を用いた露光方法を提供することを課題とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち、第１結像光学系によって第１面の中間像を形成し、第２結像光学系によって中間像の再結像を第２面上に形成し、第１結像光学系からの光束を第２結像光学系へ導くように反射面を設けた反射屈折結像光学系において、反射面を、非平面且つ非球面に形成したことを特徴とする反射屈折結像光学系である。その際、反射面を中間像の近傍に配置することが好ましい。また非球面レンズ面の形状は、回転対称非球面、トーリック非球面、又は完全非対称非球面とすることができる。この構成により、少なくとも歪曲収差を補正することができ、また少なくとも瞳の球面収差を補正することができ、また少なくとも光学系の製造誤差を補正することができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の効果】
以上のように本発明では、中間結像付近に非球面反射光学系を配したものであるから、光学系で発生する歪曲収差や、コマ収差、非点収差などに影響を与えることなく、歪曲収差を補正することができる。したがって光学系の結像性能の向上と小型化とを同時に実現することができる反射屈折結像光学系である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月28日(2003.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】反射屈折結像光学系、露光装置及び露光方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１結像光学系によって第１面の中間像を形成し、第２結像光学系によって前記中間像の再結像を第２面上に形成し、前記第１結像光学系からの光束を第２結像光学系へ導くように反射面を設けた反射屈折結像光学系において、
前記反射面の近傍に、非球面レンズ面を有するレンズを配置したことを特徴とする反射屈折結像光学系。
【請求項２】
第１面の中間像を形成する第１結像光学系と、前記中間像の像を形成する第２結像光学系と、前記第１結像光学系と前記第２結像光学系との間の光路中に配置されて前記第１結像光学系からの光束を前記第２結像光学系へ導く反射面と、前記反射面の近傍に配置されて非球面レンズ面を有する非球面レンズとを備えることを特徴とする反射屈折結像光学系。
【請求項３】
前記第１結像光学系は、凹面鏡と該凹面鏡への入射光と反射光との双方が透過するレンズ群とを備える往復光学系を有することを特徴とする請求項１又は２記載の反射屈折結像光学系。
【請求項４】
前記非球面レンズ面を前記中間像の近傍に配置したことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
【請求項５】
前記非球面レンズ面は、回転対称非球面、トーリック非球面、又は完全非対称非球面であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
【請求項６】
前記第１結像光学系と第２結像光学系との結像倍率のうち、少なくともいずれか一方は縮小倍率であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
【請求項７】
前記反射屈折光学系は、偏心光学系であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項記載の反射屈折結像光学系。
【請求項８】
回路パターンを焼き付ける露光装置において、
レチクル上の前記回路パターンをウエハ上に転写するための請求項１乃至７の何れか一項記載の反射屈折結像光学系を備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
回路パターンを焼き付ける露光方法において、
請求項１乃至７の何れか一項記載の反射屈折結像光学系を用いてレチクル上の前記回路パターンをウエハ上に転写することを特徴とする露光方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は主として半導体の製造に用いられるステッパーなどの縮小露光装置の光学系に関し、特に光学系に反射屈折結像光学系を用いることにより、紫外線波長域でのサブミクロン単位の分解能を有する１／４×〜１／５×の走査型反射屈折縮小光学系である反射屈折結像光学系、該反射屈折結像光学系を備える露光装置及び該反射屈折結像光学系を用いた露光方法に関するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
以上に述べたようにこの２回結像光学系は優れた点が多いが、結像性能を維持しながら光学系の小型化を実現しようとすると、どうしても歪曲収差が発生してくる。すなわち光学系の配置が対称形から外れているので、他の収差がよく補正されていても、歪曲収差のみ残ることがある。特に高次数の歪曲収差は、屈折レンズの曲率や面間隔のみでは補正が不可能であり、系を大型化せざるを得ないことになりかねない。また歪曲収差の補正に伴い、その見返りとして非点収差が発生し、両者の収差を同時に補正することは、至難の技であることが通常である。このような場合、他のよく補正された収差はそのままにして、歪曲収差や非点収差、特に高次の歪曲収差を補正したい場合が生じるのである。したがって本発明は、結像性能を維持しながら光学系の小型化を実現することができ、特に歪曲収差を良好に補正することができる反射屈折結像光学系、該反射屈折結像光学系を用いた露光装置及び該反射屈折結像光学系を用いた露光装置を提供することを課題とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち、第１結像光学系によって第１面の中間像を形成し、第２結像光学系によって中間像の再結像を第２面上に形成し、第１結像光学系からの光束を第２結像光学系へ導くように反射面を設けた反射屈折結像光学系において、反射面の近傍に、非球面レンズ面を有するレンズを配置したことを特徴とする反射屈折結像光学系である。その際、非球面レンズ面を中間像の近傍に配置することが好ましい。また非球面レンズ面の形状は、回転対称非球面、トーリック非球面、又は完全非対称非球面とすることができる。この構成により、少なくとも歪曲収差を補正することができ、また少なくとも瞳の球面収差を補正することができ、また少なくとも光学系の製造誤差を補正することができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の効果】
以上のように本発明では、中間結像付近に非球面屈折光学系を配したものであるから、光学系で発生する歪曲収差や、コマ収差、非点収差などに影響を与えることなく、歪曲収差を補正することができる。したがって光学系の結像性能の向上と小型化とを実現することができる反射屈折結像光学系である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月4日(2003.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体面からの光に基づいて前記物体面の中間像を形成するための第１結像光学系Ｓ１と、前記中間像からの光に基づいて前記物体面の縮小像を形成するための第２結像光学系Ｓ２と、前記中間像が形成される位置の近傍に配置され前記第１結像光学系Ｓ１を介した光を前記第２結像光学系Ｓ２に向かって偏向するための第１光路偏向部材Ｍ１とを備え、
前記第１結像光学系Ｓ１は凹面反射鏡ＣＭを有し、前記物体面からの光は前記凹面反射鏡ＣＭで反射された後に、前記第１結像光学系Ｓ１の光路中に前記中間像を形成し、
前記第１光路偏向部材Ｍ１は、前記第１結像光学系Ｓ１の光路中に配置された平面反射鏡を有し、
前記第１結像光学系Ｓ１の結像倍率をβ１とし、前記第１結像光学系Ｓ１の光軸と前記第２結像光学系Ｓ２の光軸との交点と前記物体面との間の軸上距離をＬ１とし、前記物体面と前記凹面反射鏡ＣＭとの間の軸上距離をＬＭとしたとき、
０．７５＜｜β１｜＜０．９５
０．１３＜Ｌ１／ＬＭ＜０．３５
の条件を満足することを特徴とする反射屈折光学系。
【請求項２】
前記第１結像光学系Ｓ１は、物体側から順に、第１レンズ群Ｇ１と、第２レンズ群Ｇ２と、前記凹面反射鏡ＣＭとを有し、
前記物体面からの光は、前記第１レンズ群Ｇ１および前記第２レンズ群Ｇ２を介して前記凹面反射鏡ＣＭで反射された後に、前記第１レンズ群Ｇ１と前記第２レンズ群Ｇ２との間の光路中に前記中間像を形成することを特徴とする請求項１に記載の反射屈折光学系。
【請求項３】
前記第２レンズ群Ｇ２は、少なくとも２つの互いに異なる負屈折力を有する屈折素子と、少なくとも２つの互いに異なる正屈折力を有する屈折素子とを有することを特徴とする請求項２に記載の反射屈折光学系。
【請求項４】
前記第１レンズ群Ｇ１は、少なくとも３つの互いに異なる屈折力を有する屈折素子を有することを特徴とする請求項２または３に記載の反射屈折光学系。
【請求項５】
前記第２結像光学系Ｓ２は、物体側から順に、全体として正の屈折力を有する第３レンズ群Ｇ３と、該第３レンズ群Ｇ３を介した光を偏向するための第２光路偏向部材Ｍ２と、全体として正の屈折力を有する第４レンズ群Ｇ４とを有し、
前記中間像からの光は、前記第３レンズ群Ｇ３、前記第２光路偏向部材Ｍ２、および前記第４レンズ群Ｇ４を介して、前記物体面の縮小像を形成することを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項６】
前記反射屈折光学系を構成する屈折素子は、石英および蛍石の少なくともいずれか一方の光学材料から形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項７】
前記第２レンズ群Ｇ２は少なくとも１つの蛍石からなる正レンズを有し、
前記第２レンズ群Ｇ２中の蛍石からなる正レンズの屈折力の総和をφｃとし、前記凹面反射鏡ＣＭの屈折力をφｍとしたとき、
０．５＜｜φｃ／φｍ｜＜１．６
の条件を満足することを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の反射屈折光学系。
【請求項８】
第１面に配置される第１物体上のパターンを第２面に配置される第２物体上に投影する投影露光装置において、
前記第１物体上の前記パターンの像を前記第２物体上に投影するために、請求項１乃至７の何れか一項に記載の反射屈折光学系を備えることを特徴とする投影露光装置。
【請求項９】
第１面に配置される第１物体上のパターンを第２面に配置される第２物体上に投影する投影露光方法において、
請求項１乃至７の何れか一項に記載の反射屈折光学系を用いて、前記第１物体上の前記パターンの像を前記第２物体上に投影することを特徴とする投影露光方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイ装置において、
ＴＦＴ基板上に形成された、画素電極を含む回路素子を覆うように形成された配向膜と、
前記配向膜上に形成され、画素電極と画素電極との間の領域を覆うブラックマトリックスとからなることを特徴とする液晶ディスプレイ装置。
【請求項２】
前記回路素子はＴＦＴ、ゲートライン及びデータラインを含み、
前記ゲートラインとデータラインはＴＦＴを通して前記画素電極と連結されるように構成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項３】
前記ブラックマトリックスの下部に位置する配向膜にも液晶を配向させるための性質が付与されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項４】
前記配向膜はポリイミドよりなることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項５】
前記配向膜はポリアミドよりなることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項６】
前記配向膜はシリコン酸化膜よりなることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項７】
前記配向膜はポリビニルシンナメートよりなることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項８】
前記配向膜はポリビニルフルオロシンナメートよりなることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項９】
前記配向膜はポリシトキシ酸系列、またはポリビニルクロライドよりなることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１０】
液晶ディスプレイ装置を製作する方法において、
透明基板上にゲートライン、ＴＦＴ、データライン及び画素電極を含む回路素子を形成する段階と、
前記回路素子を覆うよう配向膜を形成する段階と、
前記配向膜上にブラック樹脂膜を形成し、選択的にエッチさせることによりブラックマトリックスパターンを形成する段階とからなることを特徴とする液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１１】
透明基板上に形成されたゲートライン、ＴＦＴ、データラインを絶縁膜で覆い、該絶縁層に対し画素電極と連結されるべき部位にコンタクトホールを開け、そして画素電極を形成することを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１２】
前記ブラックマトリックスパターンを形成する段階は、前記配向膜上にブラック樹脂膜を全面にコーティングし、露光及び現像工程を施してパターンを形成することを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１３】
前記ブラック樹脂膜は、感光性を有し現像後には光を遮断する性質を有する樹脂であって、２６０℃までは耐熱性を有し、光の透過が５０％以下となる材料を用いて膜を形成することを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１４】
前記ブラックマトリックスパターンを形成する段階は、前記配向膜上に光遮断性質を有する光遮断膜を形成し、フォトレジストを用いた写真食刻工程で前記光遮膜をパターニングすることを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１５】
前記配向膜を形成する工程はポリイミド膜を形成し、そしてラビング工程を施して形成することからなることを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１６】
前記配向膜を形成する工程はポリアミド膜を形成し、そしてラビング工程を施して形成することからなることを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１７】
前記配向膜を形成する工程はシリコン酸化物で膜を形成し、そしてラビング工程を施して形成することからなることを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１８】
前記配向膜を形成する段階はポリビニルシンナメートで膜を形成し、光配向により形成することを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１９】
前記配向膜を形成する段階はポリビニルフルオロシンナメートで膜を形成し、光配向により形成することを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２０】
前記配向膜を形成する段階はポリシロキシ酸系列で膜を形成し、光配向により形成することを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２１】
前記配向膜を形成する段階はポリビニルクロライドで膜を形成し、光配向により形成することを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ装置を製造方法。
【請求項２２】
液晶ディスプレイ装置を製作する方法において、
透明基板上にゲートライン、ＴＦＴ、データライン及び画素電極を形成する段階と、
前記ゲートライン、ＴＦＴ、データライン及び画素電極上に配向膜素材物質で膜を形成し、ラビング工程を施して配向膜を形成する段階と、
前記配向膜上にブラック樹脂膜を形成し、画素電極領域以外の領域で光が漏れる領域上にのみ前記ブラック樹脂を残し、その他の領域に存するブラック樹脂膜は取り除くことによりブラックマトリックスパターンを形成する段階を含めてなることを特徴とする液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２３】
前記光が漏れる領域以外のブラック樹脂膜を取り除く段階は、
画素電極、データライン及びゲートラインを除いた全領域のブラック樹脂膜を取り除くことを特徴とする請求項２２に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２４】
液晶ディスプレイ装置を製作する方法において、
透明基板上にゲートライン、ＴＦＴ、データライン及び画素電極を形成する段階と、
前記ゲートライン、ＴＦＴ、データライン及び画素電極上に配向膜素材物質で膜を形成し、光配向により配向膜を形成する段階と、
前記配向膜上にブラック樹脂膜を形成し、画素電極領域以外の領域で光が漏れる領域上にのみ前記ブラック樹脂を残し、その他の領域に存するブラック樹脂膜は取り除くことによりブラックマトリックスパターンを形成する段階を含めてなることを特徴とする液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項２５】
前記光が漏れる領域以外のブラック樹脂膜を取り除く段階は、
画素電極、データライン及びゲートラインを除いた全領域のブラック樹脂膜を取り除くことを特徴とする請求項２４に記載の液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月19日(2003.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周辺駆動回路とアクティブマトリクス回路とが同一基板上に形成されたアクティブマトリクス型の液晶表示装置であって、
前記周辺駆動回路上にはシール材が配置され、
前記周辺駆動回路と前記シール材との間には樹脂層が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１において、前記樹脂層は多層でなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１において、前記樹脂層はアクティブマトリクス回路が形成された領域における補助容量の形成に利用されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
周辺駆動回路とアクティブマトリクス回路とが同一基板上に形成されたアクティブマトリクス型の液晶表示装置であって、
前記周辺駆動回路と前記アクティブマトリクス回路上に窒化珪素膜と、
前記周辺駆動回路と前記アクティブマトリクス回路上において前記窒化珪素膜上に第１の膜と第２の膜からなる樹脂層と、
前記周辺駆動回路上において前記樹脂層上にシール材と、
前記アクティブマトリクス回路上において前記樹脂層上に画素電極と、
前記第１の膜と前記第２の膜との間に設けられ前記第２の膜を介して前記画素電極と重なる遮光膜と、
前記遮光膜と前記画素電極とこれらの間の前記第２の膜とによって形成された補助容量と、
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記シール材はスペーサーを含み、前記樹脂層の厚さは前記スペーサーの直径の半分以上の厚さを有していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記樹脂層はポリイミドでなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
周辺駆動回路とアクティブマトリクス回路とが同一基板上に形成されたアクティブマトリクス型の液晶表示装置を具備した撮影装置であって、
前記周辺駆動回路上にはシール材が配置され、
前記周辺駆動回路と前記シール材との間には樹脂層が形成されていることを特徴とする撮影装置。
【請求項８】
請求項７において、前記樹脂層は多層でなることを特徴とする撮影装置。
【請求項９】
請求項７において、前記樹脂層はアクティブマトリクス回路が形成された領域における補助容量の形成に利用されていることを特徴とする撮影装置。
【請求項１０】
周辺駆動回路とアクティブマトリクス回路とが同一基板上に形成されたアクティブマトリクス型の液晶表示装置を具備した撮影装置であって、
前記周辺駆動回路と前記アクティブマトリクス回路上に窒化珪素膜と、
前記周辺駆動回路と前記アクティブマトリクス回路上において前記窒化珪素膜上に第１の膜と第２の膜からなる樹脂層と、
前記周辺駆動回路上において前記樹脂層上にシール材と、
前記アクティブマトリクス回路上において前記樹脂層上に画素電極と、
前記第１の膜と前記第２の膜との間に設けられ前記第２の膜を介して前記画素電極と重なる遮光膜と、
前記遮光膜と前記画素電極とこれらの間の前記第２の膜とによって形成された補助容量と、
を有することを特徴とする撮影装置。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか一において、前記シール材はスペーサーを含み、前記樹脂層の厚さは前記スペーサーの直径の半分以上の厚さを有していることを特徴とする撮影装置。
【請求項１２】
請求項７乃至１１のいずれか一において、前記樹脂層はポリイミドでなることを特徴とする撮影装置。
【請求項１３】
周辺駆動回路とアクティブマトリクス回路とが同一基板上に形成されたアクティブマトリクス型の液晶表示装置を具備した情報処理装置であって、
前記周辺駆動回路上にはシール材が配置され、
前記周辺駆動回路と前記シール材との間には樹脂層が形成されていることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１４】
請求項１３において、前記樹脂層は多層でなることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１５】
請求項１３において、前記樹脂層はアクティブマトリクス回路が形成された領域における補助容量の形成に利用されていることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１６】
周辺駆動回路とアクティブマトリクス回路とが同一基板上に形成されたアクティブマトリクス型の液晶表示装置を具備した情報処理装置であって、
前記周辺駆動回路と前記アクティブマトリクス回路上に窒化珪素膜と、
前記周辺駆動回路と前記アクティブマトリクス回路上において前記窒化珪素膜上に第１の膜と第２の膜からなる樹脂層と、
前記周辺駆動回路上において前記樹脂層上にシール材と、
前記アクティブマトリクス回路上において前記樹脂層上に画素電極と、
前記第１の膜と前記第２の膜との間に設けられ前記第２の膜を介して前記画素電極と重なる遮光膜と、
前記遮光膜と前記画素電極とこれらの間の前記第２の膜とによって形成された補助容量と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項１７】
請求項１３乃至１６のいずれか一において、前記シール材はスペーサーを含み、前記樹脂層の厚さは前記スペーサーの直径の半分以上の厚さを有していることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１８】
請求項１３乃至１７のいずれか一において、前記樹脂層はポリイミドでなることを特徴とする情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月23日(2003.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記基板の少なくとも一方に形成された電極と、
前記基板間に挟持された液晶層と、
を少なくとも有し、
前記基板間にはシール材およびスペーサーが配置され、
前記基板上での前記スペーサーの散布密度が、前記シール材に囲まれた領域の中心から前記基板の外側に向かって増加することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記基板の少なくとも一方に形成された電極と、
前記基板間に挟持された液晶層と、
前記基板の少なくとも一方に形成された画素領域と、
を少なくとも有し、
前記基板間にはシール材およびスペーサーが配置され、
前記基板上での前記スペーサーの散布密度が、前記画素領域の中央から前記基板の外側に向かって増加することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記スペーサーの散布密度が概略同心円状に増加することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記基板の少なくとも一方に形成された電極と、
前記基板間に挟持された液晶層とを有し、
前記基板の少なくとも一方には画素領域が形成され、
前記基板間にはシール材およびスペーサーが配置された液晶表示装置において、
前記画素領域の前記スペーサーの散布密度は均一であり、
前記画素領域端と前記シール材との間で、前記基板の外側へ向かって前記スペーサーの散布密度が増加することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記基板の少なくとも一方に形成された電極と、
前記基板間に挟持された液晶層とを有し、
前記基板の少なくとも一方には画素領域が形成され、
前記基板間にはシール材およびスペーサーが配置された液晶表示装置において、
前記画素領域のスペーサー散布密度は、前記画素領域の外側の領域のスペーサー散布密度よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項５において前記画素領域の前記スペーサーの散布密度が等しいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１において、前記基板の少なくとも一方に駆動回路と画素領域が形成され、前記基板の駆動回路上にシール材が存在し、前記シール材にはフィラーが混入されないことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項２、４、５、または６において、前記画素領域が形成された前記基板に駆動回路が形成され、前記基板の駆動回路上にシール材が存在し、前記シール材にはフィラーが混入されないことを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月3日(2003.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブマトリクス回路と、
周辺駆動回路と、
を同一基板上に集積化した構成を有し、
前記基板上には液晶を封止するシール部が配置され、
前記シール部の下には、前記アクティブマトリクス回路の薄膜トランジスタを構成する材料を積層した凸部が形成され、
前記凸部は前記周辺駆動回路を構成する薄膜トランジスタが配置された部分よりも突出していることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
アクティブマトリクス回路と、
周辺駆動回路と、
を同一基板上に集積化した構成を有し、
前記基板上には液晶を封止するシール部が配置され、
前記シール部の下には、前記アクティブマトリクス回路の薄膜トランジスタを構成する材料を積層した凸部が形成され、
前記凸部は前記周辺駆動回路を構成する薄膜トランジスタが配置された部分よりも高さが高いことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項３】
アクティブマトリクス回路と、
周辺駆動回路と、
を同一基板上に集積化した構成を有し、
前記基板上には液晶を封止するシール部が配置され、
前記シール部の下には前記アクティブマトリクス回路の薄膜トランジスタを構成する材料を積層した凸部が形成され、
前記凸部はスペーサーとしての機能を有していることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】
アクティブマトリクス回路と、
周辺駆動回路と、
を同一基板上に集積化した構成を有し、
前記基板上には液晶を封止するシール部が配置され、
前記シール部の下には、前記アクティブマトリクス回路の薄膜トランジスタを構成する材料を積層した部分が形成され、
前記薄膜トランジスタを構成する材料を積層した部分は前記周辺駆動回路を構成する薄膜トランジスタが配置された部分よりも積層された層の数が多いことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項５】
アクティブマトリクス回路と、
周辺駆動回路と、
を同一基板上に集積化した構成を有し、
前記基板上には液晶を封止するシール部が配置され、
前記シール部の下には、アクティブマトリクス回路の薄膜トランジスタを構成する材料を積層した積層スペーサが形成され、
前記積層スペーサは薄膜トランジスタとして機能しないことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項において、
前記周辺駆動回路は、シフトレジスト回路、バッファ回路又はサンプリング回路の少なくとも１つを有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項において、
前記シール部は、前記周辺駆動回路上に形成されることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項において、
前記薄膜トランジスタは、トップゲイト型の薄膜トランジスタであることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の液晶表示パネルが搭載されている装置。
【請求項１０】
請求項９において、
前記装置とは、デジタルスチールカメラ、電子カメラ、ビデオムービー、携帯型のパーソナルコンピュータ、カーナビゲーションシステム、投射型の画像表示装置、ビデオカメラのうちのいずれか１つであることを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
陽極酸化膜の代わりに金属膜や窒化珪素膜を利用することができる。また陽極酸化膜の代わりに、酸化性雰囲気中でのプラズマ処理により酸化膜（プラズマ酸化膜）を形成するのでもよい。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
この構造は、情報処理端末としての機能を１枚のガラス基板上に集積化してしまうことにより、情報処理端末をより小型化しようとするためのものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月24日(2003.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カメラ手段を含む視覚センサを用いた塗布状態検出装置において、
複数種の照明ジオメトリ条件を切換設定する手段と、前記切換設定される各照明ジオメトリ条件下で未塗布の対象物面を表わすテクスチュア画像を取得する手段と、前記切換設定される各照明ジオメトリ条件下で少なくとも一部が塗布部で覆われた対象物面を表わす塗布状態画像を取得する手段と、
前記各照明ジオメトリ条件下で取得された塗布状態画像を表わすデータとそれらと各対応する照明ジオメトリ条件下で取得されたテクスチュア画像のデータを比較し、塗布前後の差異を明瞭に表わしている画像データを寄せ集めて最適抽出画像を作成する手段と、前記最適抽出画像に基づいて塗布状態を判定する手段を備えた、前記塗布状態検出装置。
【請求項２】
カメラ手段を含む視覚センサを用いた塗布状態検出装置において、
複数種の照明ジオメトリ条件を切換設定する手段と、前記切換設定される各照明ジオメトリ条件下で未塗布の対象物面を表わすテクスチュア画像を取得する手段と、前記切換設定される各照明ジオメトリ条件下で少なくとも一部が塗布部で覆われた対象物面を表わす塗布状態画像を取得する手段と、
前記各照明ジオメトリ条件下で取得された塗布状態画像を表わすデータとそれらと各対応する照明ジオメトリ条件下で取得されたテクスチュア画像のデータを比較し、塗布前後の差異を明瞭に表わしている画像データを寄せ集めて最適抽出画像を作成する手段と、前記最適抽出画像に基づいて塗布状態を判定する手段と、
前記塗布状態画像の取得と、前記最適抽出画像の作成と、前記塗布状態の判定を塗布工程の進行中に繰り返し実行させる手段を備えた、前記塗布状態検出装置。
【請求項３】
前記塗布状態を判定する手段が、前記最適抽出画像に基づいて塗布部の大きさに基づいて塗布状態を判定する手段を含んでいる、請求項１または請求項２に記載された塗布状態検出装置。
【請求項４】
カメラ手段を含む視覚センサを用いた塗布状態検出装置において、
複数種の照明ジオメトリ条件を切換設定する手段と、前記切換設定される各照明ジオメトリ条件下で未塗布の対象物面を表わすテクスチュア画像を取得する手段と、前記切換設定される各照明ジオメトリ条件下で少なくとも一部が塗布部で覆われた対象物面を表わす塗布状態画像を取得する手段と、
前記各照明ジオメトリ条件下で取得された塗布状態画像を表わすデータとそれらと各対応する照明ジオメトリ条件下で取得されたテクスチュア画像のデータを比較し、塗布前後の差異を明瞭に表わしている画像データを寄せ集めて最適抽出画像を作成する手段と、前記最適抽出画像に基づいて塗布状態を判定する手段と、
前記塗布状態画像の取得と、前記最適抽出画像の作成と、前記塗布状態の判定を塗布工程の終了後に実行させる手段を備えた、前記塗布状態検出装置。
【請求項５】
前記塗布状態を判定する手段が、前記最適抽出画像に基づいて塗布部の形状に基づいて塗布状態を判定する手段を含んでいる、請求項１または請求項４に記載された塗布状態検出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【問題点を解決するための手段】
本発明は、上記技術課題を解決するために、視覚センサを用いた塗布状態検出装置に、複数種の照明ジオメトリ条件を切換設定する手段と、切換設定される各照明ジオメトリ条件下で未塗布の対象物面を表わすテクスチュア画像を取得する手段と、切換設定される各照明ジオメトリ条件下で少なくとも一部が塗布部で覆われた対象物面を表わす塗布状態画像を取得する手段と、各照明ジオメトリ条件下で取得された塗布状態画像を表わすデータとそれらと各対応する照明ジオメトリ条件下で取得されたテクスチュア画像のデータを比較し、塗布前後の差異を明瞭に表わしている画像データを寄せ集めて最適抽出画像を作成する手段と、最適抽出画像に基づいて塗布状態を判定する手段を具備させたものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
塗布状態検出装置に、塗布状態画像の取得と、最適抽出画像の作成と、塗布状態の判定を塗布工程の進行中に繰り返し実行させる手段を具備させれば、塗布工程の進行モニタリング手段として用いることが出来る。また、塗布状態画像の取得と、最適抽出画像の作成と、塗布状態の判定を塗布工程の終了後に実行させる手段を具備させれば、１つの塗布工程が完了した対象物の塗布状態の検査手段として用いることが出来る。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の塗布状態検出装置の基本的な特徴は、塗布中あるいは塗布後の塗布状態の検出・判定が、複数の照明ジオメトリ条件で取得されるテクスチュア画像と塗布状態の画像のデータから、塗布前と判定時点における塗布状態の差異を明瞭に表わしている画像データを寄せ集めて再構成される最適抽出画像に基づいて行なわれるので、好適照明ジオメトリ条件の不定性に起因した検出能力の低下が起こり難いということにある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月9日(2004.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方基板と他方基板の間に液晶層が挟持され、前記他方基板の前記液晶層とは反対の面に設けられた第１の偏光手段と、前記一方基板の前記液晶層とは反対の面に設けられた第２の偏光手段とを有する液晶表示装置において、
前記一方基板は反射機能を有する領域と透過機能を有する領域とを備え、１つの絵素の中に反射表示領域と透過表示領域とが分割して形成され、
前記第１の偏光手段と前記液晶層との間に設けられた第１の位相差板及び第１の光学補償層と、前記第２の偏光手段と前記液晶層との間に設けられた第２の位相差板とを備え、
黒表示を行うときに前記反射表示領域の液晶層に残存するリターデーションが前記第１の光学補償層によって補償されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
一方基板と他方基板の間に液晶層が挟持され、前記他方基板の前記液晶層とは反対の面に設けられた第１の偏光手段と、前記一方基板の前記液晶層とは反対の面に設けられた第２の偏光手段とを有する液晶表示装置において、
前記一方基板は反射機能を有する領域と透過機能を有する領域とを備え、１つの絵素の中に反射表示領域と透過表示領域とが分割して形成されており、
前記第１の偏光手段と前記液晶層との間に設けられた第１の位相差板と、前記第２の偏光手段と前記液晶層との間に設けられた第２の位相差板とを備え、
前記第１の位相差板は、黒表示を行うときに前記反射表示領域の液晶層に残存するリターデーションを補償する機能がλ／４板に付加された位相差板であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
前記第２の偏光手段と前記液晶層との間に第２の光学補償層が設けられ、黒表示を行うときに前記透過表示領域の液晶層に残存するリターデーションが前記第２の光学補償層によって補償されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２の位相差板は、黒表示を行うときに前記透過表示領域の液晶層に残存するリターデーションを補償する機能がλ／４板に付加された位相差板であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、一方基板と他方基板の間に液晶層が挟持され、前記他方基板の前記液晶層とは反対の面に設けられた第１の偏光手段と、前記一方基板の前記液晶層とは反対の面に設けられた第２の偏光手段とを有する液晶表示装置において、前記一方基板は反射機能を有する領域と透過機能を有する領域とを備え、１つの絵素の中に反射表示領域と透過表示領域とが分割して形成され、前記第１の偏光手段と前記液晶層との間に設けられた第１の位相差板及び第１の光学補償層と、前記第２の偏光手段と前記液晶層との間に設けられた第２の位相差板とを備え、黒表示を行うときに前記反射表示領域の液晶層に残存するリターデーションが前記第１の光学補償層によって補償されることを特徴としている。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、一方基板と他方基板の間に液晶層が挟持され、前記他方基板の前記液晶層とは反対の面に設けられた第１の偏光手段と、前記一方基板の前記液晶層とは反対の面に設けられた第２の偏光手段とを有する液晶表示装置において、前記一方基板は反射機能を有する領域と透過機能を有する領域とを備え、１つの絵素の中に反射表示領域と透過表示領域とが分割して形成されており、前記第１の偏光手段と前記液晶層との間に設けられた第１の位相差板と、前記第２の偏光手段と前記液晶層との間に設けられた第２の位相差板とを備え、前記第１の位相差板は、黒表示を行うときに前記反射表示領域の液晶層に残存するリターデーションを補償する機能がλ／４板に付加された位相差板であることを特徴としている。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、前記第２の位相差板は、黒表示を行うときに前記透過表示領域の液晶層に残存するリターデーションを補償する機能がλ／４板に付加された位相差板であることを特徴としている。