【手続補正書】
【提出日】平成15年7月11日(2003.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の１対の素子電極間に導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板を製造する電子源基板製造装置において、該電子源基板製造装置は、前記液滴の噴射付与領域が、前記表面伝導型電子放出素子群が形成される領域よりも広いことを特徴とする電子源基板製造装置。
【請求項２】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が付与される基板と、該基板を保持する基板保持手段と、前記基板に相対する位置に配置され前記溶液を噴射する噴射ヘッドと、該噴射ヘッドに液滴付与情報を入力する情報入力手段と、入力された前記液滴付与情報に基づいて前記噴射ヘッドから前記溶液を噴射させ前記基板上の１対の素子電極間に前記溶液の液滴を付与して、前記導電性薄膜を形成することにより表面伝導型電子放出素子群を形成する電子源基板の製造装置において、前記基板は、前記基板保持手段により保持位置を決められて、もしくは保持位置を調整して決められて保持されるとともに、前記基板の導電性薄膜が形成される領域と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とは、一定の距離をおいて配置され、前記基板と前記噴射ヘッドとは前記基板面に対して平行、かつ互いに直交する２方向に相対移動を行うことを特徴とする電子源基板の製造装置。
【請求項３】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が付与される基板と、該基板を保持する基板保持手段と、前記基板とに相対する位置に配置され前記溶液を噴射する噴射ヘッドと、該噴射ヘッドに液滴付与情報を入力する情報入力手段と、入力された前記液滴付与情報に基づいて前記噴射ヘッドから前記溶液を噴射させ前記基板上の１対の素子電極間に前記溶液の液滴を付与して導電性薄膜を形成することにより表面伝導型電子放出素子群を形成する電子源基板の製造装置であって、前記噴射ヘッドは、前記基板とに対向する領域で移動可能なキャリッジ上に搭載されるとともに、前記噴射ヘッドの溶液噴射口面と前記基板の導電性薄膜が形成される領域とが、一定の距離を保ちつつ、前記キャリッジによる走査を行って、前記溶液の液滴付与を行う電子源基板の製造装置において、該電子源基板の製造装置を使用して製作される電子源基板の厚さを４ｍｍ以上、１５ｍｍ以下とするとともに、前記基板保持手段は、前記基板の前記溶液の液滴が付与される面を上向きにして前記基板をほぼ水平に保持することを特徴とする電子源基板の製造装置。
【請求項４】
前記基板保持手段による保持位置決めは、角度調整を含むことを特徴とする請求項２に記載の電子源基板の製造装置。
【請求項５】
前記基板は、該基板を保持する基板保持手段によってほぼ水平に保持されるとともに、前記噴射ヘッドは前記基板の上方に位置し、前記基板の上を一定の距離をおいてキャリッジ走査され、前記噴射ヘッドから前記溶液がほぼ下向きに噴射することにより液滴を前記基板に付与し、前記一定の距離を０．１ｍｍ〜１０ｍｍの範囲にすることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１に記載の電子源基板の製造装置。
【請求項６】
前記溶液の噴射速度は、前記基板と前記噴射ヘッドの相対移動速度より速いことを特徴とする請求項２または４記載の電子源基板の製造装置。
【請求項７】
前記溶液の噴射速度は、前記キャリッジ走査速度より速いことを特徴とする請求項３または５記載の電子源基板の製造装置。
【請求項８】
前記液滴は、マルチノズル型の液滴噴射ヘッドから噴射されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１に記載の電子源基板の製造装置。
【請求項９】
前記液滴の噴射速度は３〜１０ｍ／ｓであることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１に記載の電子源基板の製造装置。
【請求項１０】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜を形成することにより表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板において、前記基板は直交する２方向の辺を有するとともに、前記表面伝導型電子放出素子群をマトリックス状に配列し、該マトリックスの互いに直交する２方向が前記辺の直交する２方向と平行であることを特徴とする電子源基板。
【請求項１１】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜を形成することにより表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群をマトリックス状に配列し、該マトリックスの互いに直交する２方向のそれぞれまたは一方に平行な帯状パターンを前記電子源基板に設けたことを特徴とする電子源基板。
【請求項１２】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の外側に溶液の液滴を噴射付与することにより、前記電子源基板を基板ごとにもしくは複数の基板群ごとに区別可能としたパターンを形成したことを特徴とする電子源基板。
【請求項１３】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の外側に複数対の素子電極を形成するとともに、該素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与することにより、前記表面伝導型電子放出素子の性能チェックのためのパターンを形成したことを特徴とする電子源基板。
【請求項１４】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板において、該基板の前記表面伝導型電子放出素子群を形成する面より裏面の表面粗さを粗くしたことを特徴とする電子源基板。
【請求項１５】
前記表面伝導型電子放出素子群が形成される面の表面粗さを０．５ｓ以下としたことを特徴とする請求項１４に記載の電子源基板。
【請求項１６】
前記裏面の表面粗さを１ｓ以上としたことを特徴とする請求項１４または１５記載の電子源基板。
【請求項１７】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の面の裏面に物理的な線状形状部を設けたことを特徴とする電子源基板。
【請求項１８】
前記線状形状部は、前記裏面の平面部に対して落ち込んだ形状を有するとともに、前記線状形状部は、前記基板の端部まで設けられていることを特徴とする請求項１７に記載の電子源基板。
【請求項１９】
前記線状形状部は、前記裏面の平面部に対して突き出した形状を有することを特徴とする請求項１７に記載の電子源基板。
【請求項２０】
前記線状形状部は、複数設けられていることを特徴とする請求項１７ないし１９のいずれか１に記載の電子源基板。
【請求項２１】
前記裏面平面に対して落ち込んだ形状である線状形状の落ち込み深さは、前記基板の厚さの５０分の１〜５分の１にしたことを特徴とする請求項１８または２０に記載の電子源基板。
【請求項２２】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、該基板の形状を矩形にするとともに、該基板の４角を機械製図において指定されるＣ１あるいはＲ１以上、もしくは該Ｃ１またはＲ１と同等の面取りを施したことを特徴とする電子源基板。
【請求項２３】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、該基板形状を矩形にするとともに、該基板の４角のうち少なくとも１つの角の形状を他の角と識別できる程度に他の角と異ならせたことを特徴とする電子源基板。
【請求項２４】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、該基板形状を矩形にするとともに、該基板の４辺のうち少なくとも１つの辺に切り欠き部を設けたことを特徴とする電子源基板。
【請求項２５】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の面と該面に垂直方向の厚さ方向の面とが交差する稜線領域に面取りを施したことを特徴とする電子源基板。
【請求項２６】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の裏面と該裏面に垂直方向の厚さ方向の面とが交差する稜線領域に面取りを施したことを特徴とする電子源基板。
【請求項２７】
前記面取りによりあらたに形成された面が面取りにより形成された他の面と直角に接する稜線領域にさらに面取りを施したことを特徴とする請求項２５または２６記載の電子源基板。
【請求項２８】
前記面取り部の表面粗さは、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の面の表面粗さより粗いことを特徴とする請求項２５ないし２７のいずれか１に記載の電子源基板。
【請求項２９】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液の液滴が噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群の１素子は、複数個の液滴を基板上に付着させたドットイメージにより形成されることを特徴とする電子源基板。
【請求項３０】
前記複数個の液滴によるドットイメージは、直交する２方向の隣接ドットが互いに重なり合うようにするとともに、該隣接ドットの前記直交する２方向の中心間距離を前記ドットの直径の１／√２以内としたことを特徴とする請求項２９に記載の電子源基板。
【請求項３１】
請求項１０ないし３０のいずれか１の電子源基板と、該電子源基板に対向して配置され、蛍光体を搭載したフェースプレートとを有することを特徴とする画像表示装置。
【請求項３２】
前記フェースプレートに用いるガラスの厚さは、前記電子源基板より厚いことを特徴とする請求項３１に記載の画像表示装置。
【請求項３３】
前記フェースプレートは強化ガラスであることを特徴とする請求項３２に記載の画像表示装置。
【請求項３４】
前記フェースプレートは、基板の表面と該表面に垂直方向の厚さ方向の面とが交差する稜線領域に面取りを施したガラス基板であることを特徴とする請求項３１ないし３３のいずれか１に記載の画像表示装置。
【請求項３５】
前記フェースプレートは、基板の裏面と該裏面に垂直方向の厚さ方向の面とが交差する稜線領域に面取りを施したガラス基板であることを特徴とする請求項３１ないし３３のいずれか１に記載の画像表示装置。
【請求項３６】
前記フェースプレートは、面取りによりあらたに形成された面が面取りにより形成された他の面と直角に接する稜線領域にさらに面取りを施したガラス基板であることを特徴とする請求項３４または３５に記載の画像表示装置。
【請求項３７】
前記面取りにより形成された面の表面粗さは、前記ガラス基板の表裏面の表面粗さより粗いことを特徴とする請求項３４ないし３６のいずか１に記載の画像表示装置。
【請求項３８】
基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜を構成する材料を含有する溶液が液滴を噴射付与され、該導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板と、この電子源基板に対向して配置され、蛍光体を搭載したフェースプレートとを有する画像表示装置において、前記電子源基板は、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の外側に前記１対の素子電極とは別の第２の１対の素子電極を設けるとともに、該第２の１対の素子電極間に導電性溶液の液滴を噴射付与することにより、前記導電性薄膜による第２の表面伝導型電子放出素子群が形成された電子源基板であって、電子源基板ごとに異なる信号情報を前記第２の表面伝導型電子放出素子群に入力して駆動して前記画像表示装置で表示を行い、該表示によって画像表示装置ごとに区別可能としたことを特徴とする画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記目的を達成するために第１に、基板上の１対の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与し、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群が形成される電子源基板の製造装置において、該電子源基板製造装置は、前記液滴噴射付与領域が、前記表面伝導型電子放出素子群が形成される領域よりも広いようにした。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また第２に、基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を付与される基板と、この基板を保持する基板保持手段と、前記基板と相対する位置に配置され前記溶液を噴射する噴射ヘッドと、この噴射ヘッドに液滴付与情報を入力する情報入力手段と、この入力された情報に基づいて前記噴射ヘッドから前記溶液を噴射させ前記基板上の１対の素子電極間に、前記溶液の液滴を付与し、導電性薄膜を形成する表面伝導型電子放出素子群を形成する電子源基板の製造装置において、前記基板は、前記基板保持手段により保持位置を決めるもしくは保持位置を調整して決められ、保持されるとともに、前記基板の導電性薄膜が形成される領域と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とは、一定の距離をおいて配置され、前記基板と前記噴射ヘッドとは前記基板面に対して平行、かつ互いに直交する２方向に相対移動を行うようにした。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
さらに第３に、基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を付与される基板と、この基板を保持する基板保持手段と、前記基板と相対する位置に配置され前記溶液を噴射する噴射ヘッドと、この噴射ヘッドに液滴付与情報を入力する情報入力手段と、この入力された情報に基づいて前記噴射ヘッドから前記溶液を噴射させ前記基板上の１対の素子電極間に、前記溶液の液滴を付与し、導電性薄膜を形成する表面伝導型電子放出素子群を形成する電子源基板の製造装置であって、前記噴射ヘッドは、前記基板と相対する領域で移動可能なキャリッジ上に搭載されるとともに、前記噴射ヘッドの溶液噴射口面と前記基板の導電性薄膜が形成される領域とが、一定の距離を保ちつつ、前記キャリッジによる走査を行いつつ、前記溶液の液滴付与を行う電子源基板の製造装置において、該電子源基板の製造装置を使用して製作される電子源基板の厚さを４ｍｍ以上，１５ｍｍ以下とするとともに、前記基板保持手段は、前記基板の前記溶液の液滴が付与される面を上向きにして前記基板をほぼ水平に保持するようにした。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
さらに第９に、上記第１〜８記載の電子源基板の製造装置において、前記液滴の噴射速度は３〜１０ｍ／ｓとした。
また第１０に、基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜を形成された表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、該基板は直交する２方向の辺を有するとともに、前記表面伝導型電子放出素子群をマトリックス状に配列し、該マトリックスの互いに直交する２方向が前記辺の直交する２方向と平行であるようにした。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
さらに第１１に、基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜を形成された表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群をマトリックス状に配列し、該マトリックスの互いに直交する２方向と平行な帯状パターンを前記電子源基板に設けるようにした。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また第１２に、基板上の１対の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の外側に溶液の液滴を噴射付与することにより、前記電子源基板を基板ごと、もしくは複数の基板群ごとに区別可能としたパターンを形成するようにした。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
さらに第１３に、基板上の１対の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の外側に複数対の素子電極を形成するとともに、該素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与することにより、前記表面伝導型電子放出素子の性能チェックのためのパターンを形成するようにした。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また第１４に、基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、該基板の前記表面伝導型電子放出素子群を形成する面より裏面の表面粗さを粗くするようにした。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
さらに第１７に、基板上の１対の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の面の裏面に物理的な線状形状を設けるようにした。
また第１８に、上記第１７の電子源基板において、前記線状形状は、前記裏面平面に対して落ち込んだ形状であるとともに、前記線状形状は、前記基板の端部まで設けられているようにした。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
また第２２に、基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、該基板形状を矩形にするとともに、４角をＣ１あるいはＲ１以上、もしくはそれらと同等の面取りをようにした。
さらに第２３に、上記第２の電子源基板において、基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、該基板形状を矩形にするとともに、４角のうち少なくとも１つの角を他の角と識別できる程度に角部の形状を他の角と異ならせるようにした。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また第２４に、基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、該基板形状を矩形にするとともに、４辺のうち少なくとも１つの辺に切り欠き部を設けるようにした。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
さらに第２５に、基板上の１対の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の面と該面に垂直方向の厚さ方向の面とが交差する稜線領域に面取りを施すようにした。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
また第２６に、基板上の１対の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の裏面と該裏面に垂直方向の厚さ方向の面とが交差する稜線領域に面取りを施すようにした。
さらに第２７に、上記第２５，２６の電子源基板において、直角を形成する２つの面取りを施した稜線領域の前記直角部に面取りを施すようにした。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
また第２８に、上記第２５〜２７の電子源基板において、前記面取り部の表面粗さは、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の面の表面粗さより粗いようにした。
さらに第２９に、基板上の１対の素子電極間に、導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群の１素子は、複数個の液滴を基板上に付着させたドットイメージにより形成されるようにした。


【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
また第３８に、基板上の１対の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射付与され、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板において、前記表面伝導型電子放出素子群が形成されている領域の外側に前記１対の素子電極とは別の第２の１対の素子電極を設けるとともに、１対の素子電極間に導電性溶液の液滴を噴射付与することにより、導電性薄膜による第２の表面伝導型電子放出素子群を形成された電子源基板であって、該電子源基板と、この電子源基板に対向して配置され、蛍光体を搭載したフェースプレートとを有する画像表示装置において、前記第２の表面伝導型電子放出素子群を電子源基板ごとに異なる信号情報を入力して駆動し、前記画像表示装置で表示を行い、前記画像表示装置を画像表示装置ごとに区別可能とするようにした。