Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月18日(2003.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動信号源よりの駆動信号によって駆動されて、エネルギー波を発生するエネルギー波発生手段を備え、該エネルギー波発生手段よりのエネルギー波に基づいて、情報信号に混入した周期的ノイズを低減するようにした電子機器のノイズ低減装置において、
上記周期的ノイズの混入した情報信号を供給して、上記駆動信号源よりの駆動信号と同じ周波数のインパルスを参照入力とし、該参照入力のインパルス応答として疑似ノイズを生成する疑似ノイズ生成手段と、
上記周期的ノイズの混入した情報信号から、上記疑似ノイズ生成手段よりの疑似ノイズを減算して周期的ノイズの低減された情報信号を得る減算手段とを有することを特徴とする電子機器のノイズ低減装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電子機器のノイズ低減装置において、
上記疑似ノイズ生成手段に、
上記減算手段より得られた周期的ノイズの低減された情報信号に比例する信号を上記疑似ノイズに加算して新たな疑似ノイズを得る加算手段を設けたことを特徴とする電子機器のノイズ低減装置。
【請求項３】
請求項１に記載の電子機器のノイズ低減装置において、
上記疑似ノイズ生成手段に、
上記疑似ノイズを所定の比率でデシメートするデシメート手段と、
上記デシメートされた疑似ノイズを記憶する記憶手段と、
該記憶手段から読み出されたデシメートされた疑似ノイズを、上記所定の比率に対応した比率でインタポレートして、元のサンプリング周波数の疑似ノイズに戻すインタポレート手段と
を設けたことを特徴とする電子機器のノイズ低減装置。
【請求項４】
請求項１に記載の電子機器のノイズ低減装置において、
上記疑似ノイズ生成手段に供給する上記周期的ノイズの混入した情報信号のレベルが過大のときに、そのレベルを制限するリミット手段を設けたことを特徴とする電子機器のノイズ低減装置。
【請求項５】
マイクロフォンと、モータによって駆動される回転手段とを備え、上記回転手段による回転に基づいて、上記マイクロフォンを通じて、該マイクロフォンよりの音声信号に混入した周期的ノイズを低減するようにした記録装置のノイズ低減装置において、
上記周期的ノイズの混入した音声信号を供給して、上記モータに対するサーボ手段からのモータ駆動信号と同じ周波数のインパルスを参照入力とし、該参照入力のインパルス応答として疑似ノイズを生成する疑似ノイズ生成手段と、
上記周期的ノイズの混入した音声信号から、上記疑似ノイズ生成手段よりの疑似ノイズを減算して周期的ノイズの低減された音声信号を得る減算手段とを有することを特徴とする記録装置のノイズ低減装置。
【請求項６】
請求項５に記載の記録装置のノイズ低減装置において、
上記疑似ノイズ生成手段に、
上記減算手段より得られた周期的ノイズの低減された音声信号に比例する信号を上記疑似ノイズに加算して新たな疑似ノイズを得る加算手段を設けたことを特徴とする記録装置のノイズ低減装置。
【請求項７】
請求項５に記載の電子機器のノイズ低減装置において、
上記疑似ノイズ生成手段に、
上記疑似ノイズを所定の比率でデシメートするデシメート手段と、
上記デシメートされた疑似ノイズを記憶する記憶手段と、
該記憶手段から読み出されたデシメートされた疑似ノイズを、上記所定の比率に対応した比率でインタポレートして、元のサンプリング周波数の疑似ノイズに戻すインタポレート手段と
を設けたことを特徴とする記録装置のノイズ低減装置。
【請求項８】
請求項５に記載の記録装置のノイズ低減装置において、
上記疑似ノイズ生成手段に供給する上記ノイズの混入した音声信号のレベルが過大のときに、そのレベルを制限するリミット手段を設けたことを特徴とする記録装置のノイズ低減装置。
【請求項９】
請求項５に記載の記録装置のノイズ低減装置において、
上記マイクロフォンを複数設けると共に、
上記疑似ノイズ生成手段及び上記減算手段を、それぞれ上記複数のマイクロフォン毎に設けたことを特徴とする記録装置のノイズ低減装置。
【請求項１０】
請求項５に記載の記録装置のノイズ低減装置において、
上記回転手段は、モータによって駆動される、回転ヘッドを備え、磁気テープが巻付け案内される回転ドラムであることを特徴とする記録装置のノイズ低減装置。
【請求項１１】
請求項５に記載の記録装置のノイズ低減装置において、
上記回転手段は、モータによって駆動される、情報信号の記録可能なディスク状記録媒体を支持する回転支持手段であることを特徴とする記録装置のノイズ低減装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電子機器のノイズ低減装置及び記録装置のノイズ低減装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
第１１の本発明は、第５の本発明の記録装置のノイズ低減装置において、回転手段は、モータによって駆動される、情報信号の記録可能なディスク状記録媒体を支持する回転支持手段である記録装置のノイズ低減装置である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
そして、スピンドル７１及び台７２が、モータ（スピンドルモータ）７０によって回転せしめられる。このモータ７０には、その回転を制御するサーボ手段４３が設けられている。このサーボ手段４３は、制御マイクロコンピュータ４２の機能の一部を構成する。又、サーボ手段４３から出力されるのは、ディスク周波数ＦｄのインパルスＩＰｆｄである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月25日(2003.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下：
（ａ）ポリエステル線状分子
（ｂ）酸素および水を実質的に含まない有機溶剤、および
（ｃ）スズ化合物およびチタン化合物からなる群から選択される解重合触媒
から本質的になる混合物を熱の存在下で接触させる段階を含む、ポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２】
前記ポリエステル線状分子がポリマーまたはオリゴマーである、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項３】
前記ポリエステル線状分子が次式：
【化１】
1997296036.tif 000001
の構造単位を有する、請求項２記載のポリエステル線状分子の解重合方法であって、式中、ｍは、２〜１０であり、ｎは、２０〜５００であり、Ａは単環式又は多環式二価芳香族基である。
【請求項４】
ｍは２〜４であり、ｎは５０〜３００である、請求項３記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項５】
Ａが、単環式二価芳香族基である、請求項３記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項６】
前記単環式二価芳香族基が、１，３−二価芳香族基又は１，４−二価芳香族基である、請求項５記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項７】
Ａが、多環式二価芳香族基である、請求項３記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項８】
前記多環式二価芳香族基が、１，４−ナフタレン基、１，５−ナフタレン基、又は２，６−ナフタレン基である、請求項７記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項９】
前記ポリエステル線状分子が、ポリ（１，２−エチレンテレフタレート）、ポリ（１，４−ブチレンテレフタレート）またはこれらのコポリエステルである、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１０】
前記ポリエステル線状分子が、ポリ（１，２−エチレン  ２，６−ナフタレンジカルボキシレート）である、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１１】
前記解重合触媒が、チタン化合物である、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１２】
前記チタン化合物がイソプロピルチタネート、２−エチルヘキシルチタネート、テトラキス−（−２−エチルヘキシル）チタネート、テトラブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、チタンメトキシド、チタンエトキシド、ジイソプロポキシドビス（２，４−ペンタンジオネート）又はブタンジオールチタネートである、請求項１１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１３】
前記酸素及び水を実質的に含まない有機溶剤が不活性ガスでパージした有機溶剤である、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１４】
前記不活性ガスが窒素である、請求項１３記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１５】
前記酸素及び水を実質的に含まない有機溶剤が水を約５０ｐｐｍ以下しか含んでおらず、かつ約９０％以上無酸素である、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１６】
前記有機溶剤が約１１０℃以上の沸点を有している、請求項１５記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１７】
前記溶剤がｏ−キシレン、クロロベンゼン、ナフタレン、トルエン、テトラメチルベンゼン、メチルナフタレン、ｏ−ジクロロベンゼンまたはこれらの混合物である、請求項１６記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１８】
前記熱が約１５０℃〜約２８０℃である、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項１９】
前記ポリエステル線状分子ならびに酸素及び水を実質的に含まない有機溶剤がポリマー中のモノマー単位の総モル数を基準にして、約０．３０Ｍ未満の濃度の溶液を生じる、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２０】
前記解重合触媒がポリエステルモノマー単位の総モル数を基準にして、約１．０〜約５．０モル％の量で用いられる、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２１】
前記混合物が、約５０℃〜約１００℃の間の温度に冷却され、ポリエステル線状分子を沈殿し、そしてその中に溶解された大環状ポリエステルオリゴマーを有する溶液を生成する、生成溶液になる、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２２】
前記大環状ポリエステルオリゴマーが、溶剤を蒸発させることによって前記溶液から回収される、請求項２１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２３】
前記方法がバッチ法または連続法である、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２４】
前記方法が不溶性ポリエステル線状分子の濾過の段階をさらに含む、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２５】
前記不溶性ポリエステル線状分子が、カルボン酸末端ポリエステル線状分子である、請求項２４記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２６】
前記生成溶液が、ヒドロキシブチル末端線状分子オリゴマーを実質的に含まない、請求項２１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２７】
前記酸素及び水を実質的に含まない有機溶剤が水を約１５ｐｐｍ以下しか含んでおらず、かつ分子酸素を約２０ｐｐｍ以下しか含んでいない、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２８】
前記ポリエステル線状分子が１つ以上の分子種からなる、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項２９】
前記有機溶剤が１つ以上の分子種からなる、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項３０】
前記解重合触媒が１つ以上の分子種からなる、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項３１】
前記熱の存在が約１８０℃〜約２６０℃である、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項３２】
前記熱の存在が約２２０℃〜約２５０℃である、請求項１記載のポリエステル線状分子の解重合方法。
【請求項３３】
ポリエステル線状分子の解重合方法であって、該方法は、以下：
（ａ）ポリエステル線状分子
（ｂ）スパージングされた有機溶剤、および
（ｃ）スズ化合物およびチタン化合物からなる群から選択される解重合触媒
を熱の存在下で接触させる段階を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月1日(2003.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも光触媒を含有するシートを用いて、無機系接着剤をコルゲート構成用接着剤とすることを特徴とする光触媒コルゲートフィルター。
【請求項２】
紫外線透過性無機多孔質性接着剤をコルゲート構成用接着剤とし、更にその接着部の該接着剤の厚みが紫外線透過可能であることを特徴とする請求項１記載の光触媒コルゲートフィルター。
【請求項３】
コルゲート構成用接着剤がアルミナゾルとポリビニルアルコールの混合物であることを特徴とする請求項１または２記載の耐水性光触媒コルゲートフィルター。
【請求項４】
ポリビニルアルコールの架橋剤を添加することを特徴とする請求項３記載の耐水性光触媒コルゲートフィルター。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月3日(2003.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
一方、案内部材８の上面には主走査方向に沿って複数の突部２１，２２が配置されている。これらの突部２１，２２は、前記受け穴１０Ｂ２を挟んでそれぞれ案内部材８の長手方向に配列されている。記録用紙の搬送方向における上流側に配列された一方の各突部２１には、図３に示されたように記録用紙の搬送方向に沿って上昇する斜面２１ａが形成されている。また、他方の各突部２２は、記録用紙の搬送方向に沿って上昇する斜面２２ａと、頂面２２ｂとが形成されている。この構成により、上流側から送られる記録用紙は、各突部２２に形成された頂面２２ｂ上を走査するようになされ、前記した記録ヘッド７との間で所定のペーパーギャップが形成されるようになされている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
したがって、前記廃液量計数手段３９は、クリーニング制御手段３３からの制御信号を受けた場合に、クリーニングモードに基づいて、係数設定手段４３に構築されたテーブルをアクセスし、それぞれのクリーニングモードに対応する廃液量計数値を読み出す。そして、その計数値を廃液量積算カウンタ４０に送り出すように作用する。また、前記廃液量計数手段３９は、印刷制御手段３０から制御信号を受けた場合に、１パス毎に前記した“はみ出し印刷時１”または“はみ出し印刷時２”に対応する計数値を読み出して、これを廃液量積算カウンタ４０に送り出すように作用する。したがって、この場合において廃液量積算カウンタ４０は、案内部材８に形成された各インク受け穴１０Ａ，１０Ｂ１，１０Ｂ２内に吐出されるインク滴の量と、クリーニング操作によって廃液吸収材１４に吸収される廃液の量とを合算して計数するように作用する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月8日(2003.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
印刷部３は、外周部分が多孔構造によるインク通過性の部材で構成され、ドラム駆動モータ２５の駆動力によって図１のＡ矢印方向に回転するドラム２６と、このドラム２６の外周面に設けられ、孔版原紙１８の先端をクランプする原紙クランプ部２７と、ドラム２６の検出片８ａを検出することによってドラム２６の外周面に孔版原紙１８が巻き付け装着されているか否かを検出する原紙確認センサ２８と、ドラム２６の検出片２９を検出することによってドラム２６の基準位置を検出する基準位置検出センサ３０と、メインモータ２５の回転を検出するロータリエンコーダ３１とを有する。基準位置検出センサ３０の検出出力を基にロータリエンコーダ３１の出力パルスを検出することによってドラム２６の回転位置を検出することができる。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
又、印刷部３は、ドラム２６の内部に配置されたスキージロール３２と、このスキージロール３２に近接配置されたドクターロール３３とを有し、スキージロール３２とドクターロール３３とで囲まれた外周スペースにインク３４が溜められている。回転するスキージロール３２の外周に付着するインク３４がドクターロール３３との隙間を通ることでスキージロール３２には所定膜厚のインク３４のみが付着され、この所定膜厚のインク３４がドラム２６の内周面に供給される。又、スキージロール３２の対向位置で、且つ、ドラム２６の外側位置にはプレスロール３５が設けられ、このプレスロール３５はソレノイド装置３６の駆動力によってドラム２６の外周面に押圧する押圧位置と、ドラム２６の外周面から離間する待機位置との間で変移可能なように構成されている。プレスロール３５は、給紙部４からの給紙動作に同期して待機位置から押圧位置に変移され、印刷用紙３７がドラム２６の下部を通過する際のみ押圧位置に位置され、それ以外の時には待機位置に位置される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
そして、製版部２から搬送される孔版原紙１８の先端を原紙クランプ部２７でクランプし、このクランプした状態でドラム２６が回転されて孔版原紙１８がドラム２６の外周面に巻き付け装着され、ドラム２６の回転に同期して給紙部４より搬送されてくる印刷用紙３７をプレスロール３５でドラム２６の孔版原紙１８に押圧することによって印刷媒体である印刷用紙３７に孔版原紙１８の穿孔からインクが転写されて画像が印刷される。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
排紙部５は、印刷処理された印刷用紙３７をドラム２６から分離する用紙分離爪４４と、この用紙分離爪４４によりドラム２６から離間された印刷用紙３７が搬送される搬送通路４５と、この搬送通路４５より排紙される印刷用紙３７が載置される排紙台４６とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月17日(2003.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【発明の効果】
本発明のインク容器によれば、インク容器が空の状態でピストンを吐出口に向かって押動させた際の、シリンダとピストンとの間の摩擦により生じる抵抗を１．０Ｎ以上、好ましくは２．５Ｎ以上としたため、ピストンはシリンダ内壁のインクを良好に掻き取ることができ、これにより、インクの掻き取り不良部の発生を防止できる。また、インク容器を他のプラスチック製品の原料として再利用する場合に、ペレットにインクが混入することを防止でき、これにより再利用品にインク成分が混入することを防止できる。さらに、インク容器内のインクを無駄なく使用することができる。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
このように、本実施形態においては、シリンダ１２とピストン１３との間の摩擦により生じる抵抗を１．０Ｎ以上、好ましくは２．５Ｎ以上としたため、ピストン１３はシリンダ内壁のインクを良好に掻き取ることができ、これにより、インクの掻き取り不良部の発生を防止できる。また、インク容器１０を他のプラスチック製品の原料として再利用する場合に、ペレットにインクが混入することを防止でき、これにより再利用品にインク成分が混入することを防止できる。さらに、インク容器１０内のインクを無駄なく使用することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月19日(2004.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属溶出防止方法及び処理装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融飛灰及び／又は焼成飛灰に、該飛灰当たりセメントを１〜１００％添加して混合後、鉄塩を前記飛灰当たりＦｅ換算で０．１％以上添加し、水を加えて混練し湿潤状態とするか、又は、造粒することを特徴とする溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属溶出防止方法。
【請求項２】
溶融飛灰及び／又は焼成飛灰を含有する排ガスを、まず前段のバグフィルタに通して溶融飛灰及び／又は焼成飛灰を捕集し、次いで飛灰を捕集後の排ガスに消石灰を噴霧して後段のバグフィルタを通し、該排ガス中の酸性ガスを吸収除去して排ガスを処理するに際し、前記前段のバグフィルタで捕集した溶融飛灰及び／又は焼成飛灰に、該飛灰当たりセメントを１〜１００％と後段のバグフィルタによる捕集灰を添加して混合後、鉄塩を前記飛灰当たりＦｅ換算で０．１％以上添加し、水を加えて混練し湿潤状態とするか、又は、造粒することを特徴とする溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属溶出防止方法。
【請求項３】
前記鉄塩は、硫酸第一鉄、ポリ硫酸第二鉄、塩化第一鉄又は塩化第二鉄から選ばれる１種以上からなることを特徴とする請求項１又は２記載の溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属溶出防止方法。
【請求項４】
溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属の溶出を防止する処理装置において、前記飛灰に、該飛灰当り、１〜１００％のセメントと、Ｆｅ換算で０．１％以上の鉄塩と、水とを添加して混練し湿潤状態とする混練機を有するか、又は、該混練機に次いで混練物を造粒する造粒機を有することを特徴とする重金属溶出を防止する処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属の溶出防止に係り、特に、アルカリ無添加飛灰の重金属溶出防止方法及び処理装置に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記技術の様に、処理操作においてｐＨの管理を行わなくとも、処理物のｐＨ値が最適ｐＨ値の範囲に収まり、飛灰の組成変動やセメント添加量に多少の変動があっても、飛灰中に含まれる重金属、特に鉛の溶出防止を簡便で且つ安定して行うことができる溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属溶出防止方法及び処理装置を提供することを課題とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、溶融飛灰及び／又は焼成飛灰に、該飛灰当たりセメントを１〜１００％添加して混合後、鉄塩を前記飛灰当たりＦｅ換算で０．１％以上添加し、水を加えて混練し湿潤状態とするか、又は、造粒することを特徴とする溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属溶出防止方法としたものである。
また、本発明では、溶融飛灰及び／又は焼成飛灰を含有する排ガスを、まず前段のバグフィルタに通して溶融飛灰及び／又は焼成飛灰を捕集し、次いで飛灰を捕集後の排ガスに消石灰を噴霧して後段のバグフィルタを通し、該排ガス中の酸性ガスを吸収除去して排ガスを処理するに際し、前記前段のバグフィルタで捕集した溶融飛灰及び／又は焼成飛灰に、該飛灰当たりセメントを１〜１００％と後段のバグフィルタによる捕集灰を添加して混合後、鉄塩を前記飛灰当たりＦｅ換算で０．１％以上添加し、水を加えて混練し湿潤状態とするか、又は、造粒することを特徴とする溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属溶出防止方法としたものである。
前記の溶出防止方法において、鉄塩としては、硫酸第一鉄、ポリ硫酸第二鉄、塩化第一鉄又は塩化第二鉄から選ばれる１種以上を用いることができる。
さらに、本発明では、溶融飛灰及び／又は焼成飛灰の重金属の溶出を防止する処理装置において、前記飛灰に、該飛灰当り、１〜１００％のセメントと、Ｆｅ換算で０．１％以上の鉄塩と、水とを添加して混練し湿潤状態とする混練機を有するか、又は、該混練機に次いで混練物を造粒する造粒機を有することを特徴とする重金属溶出を防止する処理装置としたものである。
なお、本発明で用いている％は、すべて重量％である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月22日(2004.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転もしくは循環運動する研磨テーブルと、
該研磨テーブルの上方に上下動自在に配置されてポリッシング対象物を着脱自在に保持するトップリングと、
前記研磨テーブルと一体に運動し自転自在な一対のロールと、
前記一対のロールの一方に巻付けられ、他方に巻取られて前記研磨テーブルの上面に沿って走行する研磨パッドとを有することを特徴とするポリッシング装置。
【請求項２】
前記ロールの少なくとも巻取り側には、無線または有線で回転制御可能なロール駆動用モータが接続されていることを特徴とする請求項１記載のポリッシング装置。
【請求項３】
前記研磨パッドの粗さを検出するパッド粗さ検知機構を備えたことを特徴とする請求項１又は２記載のポリッシング装置。
【請求項４】
前記パッド粗さ検知機構の検出値に基づき前記ロール駆動用モータを駆動するようにしたことを特徴とする請求項３記載のポリッシング装置。
【請求項５】
前記研磨パッドは巻取り方向に沿って区分された複数の研磨パッドからなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のポリッシング装置。
【請求項６】
前記研磨テーブルは、前記研磨パッドを吸着保持する吸着保持部を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のポリッシング装置。
【請求項７】
前記研磨テーブルの所定の運動は、回転もしくは循環運動もしくは往復直線運動であることを特徴とする請求項６記載のポリッシング装置。
【請求項８】
ポリッシング対象物の上層に形成された膜を研磨するポリッシング装置であって、
回転もしくは循環運動する研磨テーブルと、
該研磨テーブルの上方に上下動自在に配置されてポリッシング対象物を着脱自在に保持するトップリングと、
一対のロールの一方に巻付けられ、他方に巻取られて前記研磨テーブルの上面に沿って走行する研磨パッドと、
前記研磨テーブルに設けられ、前記研磨パッドを吸着保持するために前記研磨テーブルの上面に開口を備えた吸着保持部と、
前記吸着保持部に接続される真空源とを有することを特徴とするポリッシング装置。
【請求項９】
前記研磨テーブル内には、ポリッシング対象物の上層に形成された膜の膜厚を検出するためのうず電流センサが設けられていることを特徴とする請求項８記載のポリッシング装置。
【請求項１０】
前記研磨テーブル内には、ポリッシング対象物の上層に形成された膜の膜厚を検出するための光学式センサが設けられていることを特徴とする請求項８記載のポリッシング装置。
【請求項１１】
前記うず電流センサの信号に基づいて研磨条件を変化させることを特徴とする請求項９記載のポリッシング装置。
【請求項１２】
前記研磨テーブル内には、研磨砥液を研磨パッドに供給するための孔を有し、
前記研磨パッドには、前記孔に対応した箇所に貫通孔が設けられていることを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか１項に記載のポリッシング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明のポリッシング装置の好ましい態様は、所定の運動を行なう研磨テーブルと、該研磨テーブルの上方に上下動自在に配置されてポリッシング対象物を着脱自在に保持するトップリングと、研磨パッドを保持するとともに該研磨パッドを繰り出すことが可能な研磨パッド供給手段と、前記研磨パッド供給手段から繰り出された研磨パッドを保持し該研磨パッドを前記研磨テーブルと一体に運動可能に研磨テーブル上に張設する研磨パッド保持手段とを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、研磨パッド供給手段から研磨パッドを繰り出し、研磨パッド保持手段により繰り出された研磨パッドを保持しかつ該研磨パッドを研磨テーブル上に張設することができる。したがって、研磨テーブルの運転中であっても、研磨パッドを自動交換することができる。
前記研磨パッド供給手段は、長尺状の研磨パッドを巻付けた巻付けロールからなる。また前記研磨パッド保持手段は、前記研磨パッドを巻取る巻取りロールからなる。さらに、前記巻取りロールには、無線または有線で回転制御可能なロール駆動用モータが接続されている。
本発明の好ましい態様においては、前記研磨テーブルの所定の運動は、回転もしくは循環運動もしくは往復直線運動である。
本発明の第２の態様は、ポリッシング対象物の上層に形成された膜を研磨するポリッシング装置であって、回転もしくは循環運動する研磨テーブルと該研磨テーブルの上方に上下動自在に配置されてポリッシング対象物を着脱自在に保持するトップリングと、一対のロールの一方に巻付けられ、他方に巻取られて前記研磨テーブルの上面に沿って走行する研磨パッドと、前記研磨テーブルに設けられ、前記研磨パッドを吸着保持するために前記研磨テーブルの上面に開口を備えた吸着保持部と、前記吸着保持部に接続される真空源とを有することを特徴とするポリッシング装置である。
本発明の好ましい態様においては、前記研磨テーブル内には、ポリッシング対象物の上層に形成された膜の膜厚を検出するためのうず電流センサが設けられている。
本発明の好ましい態様においては、前記研磨テーブル内には、ポリッシング対象物の上層に形成された膜の膜厚を検出するための光学式センサが設けられている。
本発明の好ましい態様においては、前記うず電流センサの信号に基づいて研磨条件を変化させる。
本発明の好ましい態様においては、前記研磨テーブル内には、研磨砥液を研磨パッドに供給するための孔を有し、前記研磨パッドには、前記孔に対応した箇所に貫通孔が設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月27日(2003.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を研磨してアンダークラッド層とし、該アンダークラッド層をＳｉ基板に接合した後に２００〜５００℃に加熱し、該ガラス基板を厚さ３０μｍ以下になるまで研磨してから１２００〜１３５０℃で加熱し、ガラス基板の表面上にガラス微粒子を堆積させた後に加熱焼結した光導波路に使用されるアンダークラッド層付きＳｉ基板。
【請求項２】
該ガラス基板が石英ガラスであることを特徴とする請求項１に記載の光導波路に使用されるアンダークラッド層付きＳｉ基板。
【請求項３】
ガラス基板を厚さ８０〜２００μｍに研磨したことを特徴とする請求項１に記載の光導波路に使用されるアンダークラッド層付きＳｉ基板。
【請求項４】
ガラス基板を研磨してアンダークラッド層とし、該アンダークラッド層をＳｉ基板に接合した後に２００〜５００℃に加熱し、該ガラス基板を厚さ３０μｍ以下になるまで研磨してから１２００〜１３５０℃で加熱し、ガラス基板の表面上にガラス微粒子を堆積させた後に加熱焼結することを特徴とする光導波路に使用されるアンダークラッド層付きＳｉ基板の製造方法。
【請求項５】
該ガラス基板が石英ガラスであることを特徴とする請求項４に記載の光導波路に使用されるアンダークラッド層付きＳｉ基板の製造方法。
【請求項６】
ガラス基板を厚さ８０〜２００μｍに研磨したことを特徴とする請求項４に記載の光導波路に使用されるアンダークラッド層付きＳｉ基板の製造方法。
【請求項７】
ガラス基板を厚さ80〜200μｍに研磨してアンダークラッド層とし、該アンダークラッド層をＳｉ基板に接合した後に200〜500℃に加熱し、該ガラス基板を厚さ30μｍ以下になるまで研磨してから1200〜1350℃で加熱し、ガラス基板の表面上にガラス微粒子を堆積させた後に加熱焼結し、導波パターンを残して残余の部分を除去してコア層を形成し、該コア層を研磨してその表面を平坦にし、その上にガラス微粒子を堆積させた後、加熱焼結してオーバークラッド層を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項８】
該ガラス基板が石英ガラスであることを特徴とする請求項７に記載の光導波路の製造方法。
【請求項９】
該コア層が石英ガラスにＢ、Ｐ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆから選ばれる少なくとも一種の元素を含ませることを特徴とする請求項７に記載の光導波路の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するためになされた本発明の光導波路用基板は、ガラス基板を研磨してアンダークラッド層とし、該アンダークラッド層をＳｉ基板に接合した後に２００〜５００℃に加熱し、該ガラス基板を厚さ３０μｍ以下になるまで研磨してから１２００〜１３５０℃で加熱し、ガラス基板の表面上にガラス微粒子を堆積させた後に加熱焼結してある。
前記の目的を達成するためになされた本発明の光導波路用基板の製造方法は、ガラス基板を研磨してアンダークラッド層とし、該アンダークラッド層をＳｉ基板に接合した後に２００〜５００℃に加熱し、該ガラス基板を厚さ３０μｍ以下になるまで研磨してから１２００〜１３５０℃で加熱し、ガラス基板の表面上にガラス微粒子を堆積させた後に加熱焼結することを特徴とする。
前記の目的を達成するためになされた本発明の光導波路の製造方法は、図１に示されるように、ガラス基板を厚さ80〜200μｍに研磨してアンダークラッド層２とし、アンダークラッド層２をＳｉ基板５に接合した後に200〜500℃に加熱し、ガラス基板を厚さ30μｍ以下になるまで研磨してから1200〜1350℃で加熱し、ガラス基板の表面上にガラス微粒子を堆積させた後に加熱焼結し、導波パターンを残して残余の部分を除去してコア層３を形成し、コア層３を研磨してその表面を平坦にし、その上にガラス微粒子を堆積させた後、加熱焼結してオーバークラッド層４を形成するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月23日(2003.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
サブミラー１１が図１や図２に示すように測距可能な位置、すなわちこのサブミラー１１が測距素子に光を導くことができる位置にあるとき、サブミラー保持枠１２の一部１２ｂが、後述する第２のミラー受け部材であるサブミラー受け部材１４の一部に設けた規制ピン１５に当接し、これらサブミラー１１とサブミラー保持枠１２とを位置決めして動きを規制し、その位置を維持するように構成している。
このような測距素子に正しく光を導くためのサブミラー１１の測距可能な位置は、上述したサブミラー受け部材１４の一部に係合する調整可能な偏心調整ピン１６の回動による調整によって調整可能になっている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
３２は第２の制動部材である第２の制動レバーであり、慣性ブレーキ板として機能するサブミラー受け部材１４に対して摩擦によって制動力を与えるために用いられる。この第２の制動レバー３２は、ミラーボックス側壁部に設けた軸３３に対して回動自在に支持されている。そして、この第２の制動レバー３２は、前記ブレーキばね２４によって側縁部をサブミラー受け部材１４の一端部に押し当てられている。この制動レバー３２の側縁部と受け部材１４の円弧状側端部１４ｂとの間での摩擦力が、慣性ブレーキ板であるサブミラー受け部材１４に対して回動速度を減衰するための制動力として作用する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月29日(2003.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】駆動回路及び画像表示装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のスイッチと、該第１のスイッチの出力が入力される第２のスイッチと、前記第１のスイッチから電圧Ｖ１を出力するか電圧Ｖ２を出力するかを切換えるために前記第１のスイッチのＯＮ／ＯＦＦを制御するパルス幅変調信号を出力する第１のパルス幅変調信号出力手段と、前記第１のスイッチからの出力を前記第２のスイッチを介して出力するか否かを制御するために前記第２のスイッチをＯＮ／ＯＦＦ制御するパルス幅変調信号を出力する第２のパルス幅変調信号出力手段とを有することを特徴とする画像表示装置の駆動回路。
【請求項２】
複数の電子放出素子を複数のデータ配線と複数の走査配線でマトリックス配線したマルチ電子ビーム源と、電子の照射によって励起発光する蛍光板と、請求項１に記載の駆動回路と、を有しており、前記第２のスイッチを介した出力を前記データ配線に出力することを特徴とする画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月8日(2003.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
映像を表示する映像表示素子および該映像を観察者の眼球内網膜上に投影するための光学系を含んでなる映像表示アセンブリと、この映像表示アセンブリを観察者の頭部に着脱自在に装着するための装着メンバー部とを備えた頭部装着型表示装置において、
上記映像表示アセンブリ乃至装着メンバー部の、当該観察者の眼の上部或いはその周辺部を含む額部乃至頭部への当接部に対し、交換可能な水分吸収部材を上記当接部を覆うようにして着脱自在に配設し得るように構成したことを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項２】
映像を表示する映像表示素子および該映像を観察者の眼球内網膜上に投影するための光学系を含んでなる映像表示アセンブリと、この映像表示アセンブリを観察者の頭部に着脱自在に装着するための装着メンバー部とを備えた頭部装着型表示装置において、
上記装着メンバー部は当該観察者の略々後頭部に当接する後方支持部を有し、上記映像表示アセンブリを観察者の上方または眼球の下方もしくは視線に沿った顔面前方に上記後方支持部に対して相対的に変位可能にした変位機構を持ち、該変位機構による映像表示アセンブリの変位によって該映像表示アセンブリ乃至上記装着メンバー部の所定部位が観察者の額乃至鼻から離隔せしめられ得るように構成されたものであることを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項３】
映像を表示する映像表示素子および該映像を観察者の眼球内網膜上に投影するための光学系を含んでなる映像表示アセンブリと、この映像表示アセンブリを観察者の頭部に着脱自在に装着するための装着メンバー部とを備えた頭部装着型表示装置において、
上記装着メンバー部は上記映像表示アセンブリと当該観察者の眼球との距離を調節可能なように該映像表示アセンブリを支持するアイリリーフ可変支持機構と、このアイリリーフ可変支持機構における調節された位置に該映像表示アセンブリの位置を固定するための固定機構と、該映像表示アセンブリの変位による当該頭部装着型表示装置の重心位置の移動に拘らず観察者の頭部に対する自己の相対的姿勢を維持するための姿勢維持機構とが設けられてなるものであることを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項４】
映像を表示する映像表示素子および該映像を観察者の眼球内網膜上に投影するための光学系を含んでなる映像表示アセンブリと、この映像表示アセンブリを観察者の頭部に着脱自在に装着するための装着メンバー部とを備えた頭部装着型表示装置において、
上記映像表示アセンブリは観察者の鼻部乃至その近傍部への当接部位並びにその周辺部を境界として左眼用映像表示部と右眼用映像表示部とに分離可能に構成され、上記装着メンバー部は該映像表示アセンブリの左眼用映像表示部と右眼用映像表示部とを左右に離反する方向に摺動変位可能に支持する摺動変位機構が設けられてなるものであることを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項５】
映像を表示する映像表示素子および該映像を観察者の眼球内網膜上に投影するための光学系を含んでなる映像表示アセンブリと、この映像表示アセンブリを観察者の頭部に着脱自在に装着するための装着メンバー部とを備えた頭部装着型表示装置において、
上記映像表示アセンブリは自己の光学系と当該観察者の眼球との距離を調節可能なように該光学系を支持する可変アイリリーフ機構と、この可変アイリリーフ機構における調節された位置に該光学系の位置を固定するための固定機構とが設けられてなるものであることを特徴とする頭部装着型表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月29日(2004.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
Ｎ：０．０３重量％以下
Ｃと同様な固溶強化元素であり、多量に含まれると０．２％耐力が上昇し、鋼材を硬質化する。絞り加工が要求される鋼材では、耐力及び硬さの上昇により加工性が阻害され、加工時に耳割れを発生させることもある。そこで、本発明においては、Ｎ含有量の上限を０．０３重量％に設定した。
Ａｌ：０．００３重量％以下
加工割れの起点となる非金属介在物の組成に大きく影響する成分である。Ａｌ含有量が０．００３重量％を超えると、有害な非金属介在物が生成し易くなる。
Ｓｉ／Ａｌの重量比：１００以上
加工割れの起点となる非金属介在物の組成は、Ｓｉ／Ａｌの重量比で調整できる。Ｓｉ／Ａｌ＜１００では有害な非金属介在物が生成するが、Ｓｉ／Ａｌ≧１００にすると熱間加工時に粘性変形し冷間加工時に微細分散するＭｎＯ−ＳｉＯ２系非金属介在物になる。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
Ｃｒ２Ｏ３の濃度は、ＣａＯ／ＳｉＯ２比が大きくなるに従って減少しており、ＣａＯ／ＳｉＯ２比が２．４を超える条件下では非金属介在物にほとんどＣｒ２Ｏ３が含まれていなかった。しかし、Ａｌ２Ｏ３濃度が約４２〜７０重量％，ＭｇＯ濃度が約２６〜３０重量％になっていた。特にＣａＯ／ＳｉＯ２比が２．６以上になると、Ａｌ２Ｏ３濃度が約７０重量％，ＭｇＯ濃度が約３０重量％の硬質なスピネル型介在物となっていた。これらの非金属介在物が原因して、図１，２に示すように加工割れが発生するものと推察される。
また、スラグ中のＡｌ２Ｏ３濃度が９．５重量％では、図３に示すようにＣａＯ／ＳｉＯ２比に拘らず、全ての条件下で加工割れの原因となる非金属介在物が生成していた。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
実施例２：
オーステナイト系ステンレス鋼を７０トン電気炉で溶解し、転炉で製錬し、取鍋に注入した。取鍋としては、ＭｇＯ：４０〜６３重量％，残部ＣａＯのドロマイト系耐火物をライニングした取鍋、ＭｇＯ：５０〜８５重量％，Ｃｒ２Ｏ３：７〜３０重量％でその他にＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３を含むマグクロ系耐火物をライニングした取鍋を使用した。
取鍋に収容した溶鋼をＶＯＤ炉で精錬し、メタル組成及びスラグ組成を変化させた。精錬時、スラグ量を約４０ｋｇ／トンに維持した。このようにして製造されたオーステナイト系ステンレス鋼の成分・組成を表２に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月26日(2003.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
請求項３及び請求項４に記載の発明によれば、柔軟な紙糸を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月5日(2004.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下添付図面に従って本発明に係る帯状物の湿潤装置の好ましい実施の形態について詳説する。
図１は、本発明の実施の形態に係る帯状物の湿潤装置が適用された、ＰＳ版の製造工程の一部を示す説明図である。感光層が形成されたＰＳ版の帯状金属支持体１０は、別の装置によって製造されて、図１に示す装置へ導入される。支持体１０は、温度調節室１２で表面温度が調整されたのち、パスロール１４により方向転換されて静電塗装装置１８に向けて搬送される。静電塗装前に感光層を湿潤させたい場合には、塗布前湿潤装置１６が駆動され、また、静電塗装後に感光層を湿潤させたい場合には、塗布後湿潤装置２０が駆動される。更に、マット付着前後にわたって湿潤させたい場合には、両方の湿潤装置１６、２０が駆動される。支持体１０が静電塗装装置１８を通過する時、静電塗装装置１８により樹脂を溶解又は分散させた水性液が静電的に荷電され、微細な液滴となって飛来して、支持体１０の表面に付着する。その後、支持体１０は、乾燥室２２に入り、加温かつ低湿度の室内雰囲気の中で乾燥されたのち、パスロール２４により方向転換されて次工程に搬送される。ここで、符号１６、１８、２０におけるＡの符号、即ち１６Ａ、１８Ａ、２０Ａは、支持体１０の一面１０Ａに対する装置を示し、Ｂの符号、即ち１６Ｂ、１８Ｂ、２０Ｂは、支持体１０の他面１０Ｂに対する装置を示す。


【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
1998237792.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月30日(2003.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
すなわち、構造単位(I) および(II)の合計は構造単位(I) 、(II)および(III)の合計に対して７７〜９３モル％であることが好ましい。構造単位(III) は構造単位(I) 、(II)および(III) の合計に対して２３〜７モル％であることが好ましい。構造単位(I) および(II)の合計が構造単位(I) 、(II)および(III) の合計に対する割合が大きすぎると流動性が低下する傾向があり、場合によっては重合時に固化することもある。小さすぎると耐熱性が劣る傾向にあり、またポリマー自身の難燃性も低下する傾向にある。また、構造単位(I) と(II)のモル比［(I)／(II)］は、耐熱性、流動性の点から７５／２５〜９５／５が好ましく、さらに好ましくは７８／２２〜９３／７である。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
金属酸化物の添加量は機械物性、成形性の面から液晶性ポリエステル樹脂（Ａ）１００重量部に対して０．０１〜２０重量部が好ましく、より好ましくは０．１〜１０重量部、特に好ましくは０．１〜５重量部である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
実施例１４
実施例１４では参考例１で製造した液晶ポリエステルおよび赤リンの合計１００重量部に対し、燐化学工業社製（“ノーバエクセル”１４０）を２５重量部添加し、窒素フローを行いながら３０ｍｍφの２軸押出機を用いて３１０℃で溶融混練して液晶ポリエステルの赤リン高濃度品を製造した。該赤リン高濃度品を用い、上記実施例と同様に樹脂組成物を押出し、成形した。結果を表３に示す。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
【表３】
実施例１５
実施例１５では参考例１で製造した液晶ポリエステル、赤リンおよび酸化チタンの合計１００重量部に対し、あらかじめ窒素雰囲気下、ヘンシェルミキサーで粉体混合した燐化学工業社製（“ノーバエクセル”１４０）２重量部および酸化チタン２０重量部を添加し、窒素フローを行いながら３０ｍｍφの２軸押出機を用いて３１０℃で溶融混練して液晶ポリエステルの赤リンと酸化チタンの高濃度品を製造した。該赤リンと酸化チタンの高濃度品を用い、上記実施例と同様に樹脂組成物を押出し、成形した。結果を表３に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月13日(2004.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂とニグロシンとを有してなり、ポリエチレンテレフタレート系樹脂に対し、ニグロシンを０．０１乃至５０重量％有するポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項２】
繊維状補強材を有する請求項１記載のポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項３】
繊維状補強材がガラス繊維である請求項２記載のポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項４】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂に対し、繊維状補強材を１０乃至１２０重量％有する請求項２又は３記載のポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項５】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂中にエチレンテレフタレートの繰り返し単位を９０モル％以上有する請求項１、２、３又は４記載のポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１、２、３、４又は５記載のポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物からなるポリエチレンテレフタレート系樹脂成形物。
【請求項７】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂とニグロシンとを有してなり、ポリエチレンテレフタレート系樹脂に対し、ニグロシンを２０乃至５０重量％有するポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物のマスターバッチ。
【請求項８】
繊維状補強材を有する請求項７記載のポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物のマスターバッチ。
【請求項９】
繊維状補強材がガラス繊維である請求項８記載のポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物のマスターバッチ。
【請求項１０】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂に対し、繊維状補強材を１０乃至１２０重量％有する請求項８又は９記載のポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物のマスターバッチ。
【請求項１１】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂中にエチレンテレフタレートの繰り返し単位を９０モル％以上有する請求項７、８、９又は１０記載のポリエチレンテレフタレート系樹脂組成物のマスターバッチ。
【請求項１２】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂中に、ポリエチレンテレフタレート系樹脂に対し０．０１乃至５０重量％のニグロシンを加えることを特徴とするポリエチレンテレフタレート系樹脂の改質方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
【表６】
1998237280.tif 000001
なお、実施例５乃至７並びに比較例３及び４の試験片は、繊維強化されているため、引張り降伏強さは測定できず、伸びもほとんどなかった。