(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源が縦横に並設された光源アレイと、入力側端部の各々が前記光源の各々に１対１で光学的に接続された複数のファイバの出力側端部が１つに束ねられ出力端が端面に並設されたファイババンドルとを使用する露光パターン形成方法であって、前記ファイバの入力端の各々を前記光源の各々に１対１で対応するようにランダムに光学的に接続し、前記光源の各々を順次に点灯したときに光を出力する前記ファイバの出力端の位置を順次に検出して、前記光源の各々と前記ファイババンドルの端面における前記ファイバの出力端の各々の位置との対応づけを記憶し、この対応づけに基づいて前記光源の各々を点灯制御することにより、前記ファイババンドルの端面において所望の露光パターンを形成することを特徴とする露光パターン形成方法。
【請求項２】
光源が縦横に並設された光源アレイと、複数の回折光学素子が縦横に並設された回折光学素子ユニットと、入力側端部の各々が前記光源の各々に１対１で光学的に接続され出力側端部の各々が前記回折光学素子の各々に１対１で光学的に接続された複数のファイバを前記光源と前記回折光学素子との中間において１つに束ねるファイババンドルとを使用する露光パターン形成方法であって、前記ファイバの入力側端部の各々を前記光源の各々に１対１で対応するようにランダムに光学的に接続すると共に前記ファイバの出力側端部の各々を前記回折光学素子の各々に１対１で対応するようにランダムに光学的に接続し、前記光源の各々を順次に点灯したときに光が出力される前記回折光学素子の位置を順次に検出して、前記光源の各々と前記回折光学素子ユニットにおける前記回折光学素子の各々の位置との対応づけを記憶し、この対応づけに基づいて前記光源の各々を点灯制御することにより、前記回折光学素子ユニットにおいて所望の露光パターンを形成することを特徴とする露光パターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は露光パターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、発光効率の高いＬＥＤなどをアレイ状に並設した光源アレイを使用して、半導体集積回路や液晶デバイスなどの露光パターンを形成する方法が提案されている。
【０００３】
このような光源アレイを使用した露光パターン形成方法として、光源の出力光の光路に配置された複数の光ファイバを束ねるファイババンドルを使用することにより、単位光源を小さくして照明むらの発光量を小さくする露光パターン形成方法が知られている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００４−２２８５４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の発明では、光源アレイにおいて形成した露光パターンをそのままファイババンドルの端面から出射させるために、光源アレイにおける光源の配列及びファイババンドルの端面におけるファイバの配列がすべて１対１で対応づけられた光源アレイ及びファイババンドルを使用する必要があった。これにより、特に光源アレイの光源の数が多いほど、光源アレイ及びファイババンドルの製造工程が複雑化し、製造コストがかかると共に、部品の汎用性が制限されるという問題があった。
【０００５】
本発明の課題は、光源アレイ及びファイババンドルを使用する露光パターン形成方法において、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることを可能とする露光パターン形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために請求項１記載の発明は、光源が縦横に並設された光源アレイと、入力側端部の各々が前記光源の各々に１対１で光学的に接続された複数のファイバの出力側端部が１つに束ねられ出力端が端面に並設されたファイババンドルとを使用する露光パターン形成方法であって、前記ファイバの入力端の各々を前記光源の各々に１対１で対応するようにランダムに光学的に接続し、前記光源の各々を順次に点灯したときに光を出力する前記ファイバの出力端の位置を順次に検出して、前記光源の各々と前記ファイババンドルの端面における前記ファイバの出力端の各々の位置との対応づけを記憶し、この対応づけに基づいて前記光源の各々を点灯制御することにより、前記ファイババンドルの端面において所望の露光パターンを形成することを特徴とする。
【０００７】
請求項２記載の発明は、光源が縦横に並設された光源アレイと、複数の回折光学素子が縦横に並設された回折光学素子ユニットと、入力側端部の各々が前記光源の各々に１対１で光学的に接続され出力側端部の各々が前記回折光学素子の各々に１対１で光学的に接続された複数のファイバを前記光源と前記回折光学素子との中間において１つに束ねるファイババンドルとを使用する露光パターン形成方法であって、前記ファイバの入力側端部の各々を前記光源の各々に１対１で対応するようにランダムに光学的に接続すると共に前記ファイバの出力側端部の各々を前記回折光学素子の各々に１対１で対応するようにランダムに光学的に接続し、前記光源の各々を順次に点灯したときに光が出力される前記回折光学素子の位置を順次に検出して、前記光源の各々と前記回折光学素子ユニットにおける前記回折光学素子の各々の位置との対応づけを記憶し、この対応づけに基づいて前記光源の各々を点灯制御することにより、前記回折光学素子ユニットにおいて所望の露光パターンを形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
請求項１記載の発明によれば、光源を点灯したときに光を出射するファイバの位置を１つずつ検出することにより、その光源に対応するファイバの位置を確認することが可能となる。そして、その対応づけを記憶しておくことにより、ファイババンドルの端面において所望の露光パターンを形成するためにどの光源を点灯制御すればよいか判断することが可能となる。これにより、光源及びファイバはそれぞれ任意の順番で１対１に対応するように光学的に接続すればよく、光源の配列の順番とファイバの配列の順番とが対応づけられた光源アレイ及びファイババンドルを使用する必要はない。したがって、光源アレイの光源の数が多い場合でも、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。
【０００９】
請求項２記載の発明によれば、光源を点灯したときに光が出射される回折光学素子の位置を１つずつ検出することにより、その光源に対応する回折光学素子の位置を確認することが可能となる。そして、その対応づけを記憶しておくことにより、回折光学素子ユニットにおいて所望の露光パターンを形成するためにどの光源を点灯制御すればよいか判断することが可能となる。これにより、光源及び回折光学素子はそれぞれ任意の順番で１対１に対応するように光学的に接続すればよく、光源の配列の順番と回折光学素子の配列の順番とが対応づけられた光源アレイ及び回折光学素子ユニットを使用する必要はない。したがって、光源アレイの光源の数が多い場合でも、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
（第１の実施形態）
まず、本発明の第１の実施形態について図１〜図３を参照して説明する。
【００１１】
図１に示すように、本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置１は、所望の露光パターンをステージ２に支持された基板３に投影露光するための露光光学系として、露光パターンを形成する光源アレイ４、回折光学素子ユニット５、ファイババンドル６及び投影レンズ７を備えている。
【００１２】
図２に示すように、光源アレイ４には複数の光源８が縦横に並設されている。また、各光源８には、半導体レーザ（ＬＤ）の電極から電流を注入してレーザ光を発生させるためのスイッチング回路２２（図３参照）が接続されており、各光源８の発光をそれぞれ独立して制御することが可能となっている。なお、光源アレイ４の光源８は千鳥状に並設にすることなども可能である。また、光源８としては発光ダイオード（ＬＥＤ）を使用してもよい。
【００１３】
また、それぞれの光源８には、半導体レーザ（ＬＤ）が発光したレーザ光を外部に出射するためのガラス製の窓９が設けられている。
【００１４】
また、光源アレイ４に近接する位置には、複数の回折光学素子（Diffractive Optical Element）１０が縦横に並設されることにより構成された回折光学素子ユニット５が設けられている。複数の回折光学素子１０はそれぞれの光源８に対応するように設けられており、１つの光源８の窓９から出射したレーザ光は、それぞれ１つの回折光学素子１０に入射するようになっている。
【００１５】
ここで、回折光学素子ユニット５が備える回折光学素子１０は、楕円形に発光したレーザ光をほぼ方形又は矩形に整形し、また、それぞれの光源８が出射したレーザ光を隙間なく結像させるようにレーザ光の方向を制御するように構成されている。更に、回折光学素子１０はレーザ光のパワー分布をトップハット型に変換する構成とされており、これによりレーザ光の強度を均一として短時間で均一な露光を行うようになっている。また、それぞれの回折光学素子１０は、入射したレーザ光を各ファイバ１１の入力端からそれぞれ入射させるようになっている。なお、本実施形態では１つの回折光学素子１０が複数の機能を果たすが、１つの光源８に対して複数の回折光学素子１０を設けて、それぞれの回折光学素子１０に１つずつ機能を持たせることなども可能である。
【００１６】
また、複数のファイバ１１の入力側端部の各々は、図１に示すように、各回折光学素子１０の各々に近接するように配置されることにより、光源アレイ４が備える各光源８の各々と１対１で対応するようにランダムな順番で光学的に接続されるようになっている。
【００１７】
また、複数のファイバ１１の出力側端部は、ファイバ１１の出力端がファイババンドル６の端面に並設されるように、ファイババンドル６によって１つに束ねられている。
【００１８】
このように本実施形態では、複数のファイバ１１と各光源８の各々とをランダムな順番で接続することが可能であり、光源アレイ４における各光源８の配列の順番とファイババンドル６の端面における複数のファイバ１１の出力端の配列の順番とが対応している必要はない。
【００１９】
また、ファイババンドル６は、ファイババンドル駆動部２０（図３参照）により水平移動又は回転することができる構成となっている。これにより、ファイバ１１が断線した場合や、ファイババンドル６の端面におけるファイバ１１の本数が光源アレイ４における光源８の個数より多い場合に、ファイババンドル６を水平移動又は回転することにより、レーザ光を出射する光源８にファイバ１１を対応させて、露光パターンにおいて常に黒くつぶれた部分ができるのを防止できるようになっている。
【００２０】
なお、本実施形態ではファイババンドル６を水平移動又は回転させる構成となっているが、ファイババンドル６及び光源アレイ４は相対的に水平移動又は回転することができればよく、光源アレイ４を水平移動又は回転させる構成とすることや、光源アレイ４及びファイババンドル６の双方を水平移動又は回転させる構成とすることも可能である。
【００２１】
また、本実施形態のファイババンドル６は直方体状とされており、ファイババンドル６の断面形状に応じた形状の光を出射させることによって、レーザ光をほぼ方形又は矩形として、隣り合う光源の各々からの出力光を隙間なく結像させることができるようになっている。なお、ファイババンドル６は円柱状などに形成することも可能である。
【００２２】
次に、ファイババンドル６から出射されたレーザ光は、投影レンズ７に入射するようになっている。投影レンズ７は、縮小投影レンズによって構成されており、ファイババンドル６から送信されたレーザ光による光像を縮小してステージ２に支持された基板３に結像させるようになっている。
【００２３】
また、図１に示すように、本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置１は、レーザ光を出射するファイバ１１の出力端の位置を検出する検出光学系として、ハーフミラー１２、集光レンズ１３及び光スポット位置検出器１４を備えている。
【００２４】
ハーフミラー１２は、ファイバ１１の出力端からの出射光を集光レンズ１３の方向に反射するようになっている。
【００２５】
集光レンズ１３は、ハーフミラー１２からの投射光を光スポットとして光スポット位置検出器１４に集光するようになっている。
【００２６】
光スポット位置検出器１４は、集光レンズ１３の焦点面に設けられており、集光レンズ１３からの出射光により形成される光スポット位置を検出するようになっている。本実施形態の光スポット位置検出器１４は、位置センシティブ・フォトダイオードやＣＣＤアレイなどによって構成されており、図２に示すように、ｘ−ｙ平面上の光スポット位置を検出することにより、ファイババンドル６の端面においてレーザ光を出射するファイバ１１の出力端の位置を検出するようになっている。
【００２７】
次に、図３に本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置１の機能的構成を示す。
【００２８】
図３に示すように、本実施形態に係る露光装置１は制御装置１５を備えている。制御装置１５が備える制御部１６は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、書き換え可能な半導体素子で構成されるＲＡＭ（Random Access Memory）及び不揮発性の半導体メモリで構成されるＲＯＭ（Read Only Memory）から構成されている。
【００２９】
制御部１６には露光装置１の各構成部分が接続されており、制御部１６はＲＯＭに記録された処理プログラムをＲＡＭに展開して、ＣＰＵによってこの処理プログラムを実行することにより、これらの各構成部分を駆動制御するようになっている。
【００３０】
また、制御装置１５が備える入力部１７は、キーボード、マウス、タッチパネルなどから構成され、ユーザによって露光パターンに関する指示入力ができるようになっている。また、入力部１７は、ディスクなどの記録媒体などを装填できるように構成して、その記録媒体から露光パターンに関する情報を読み出すようにすることも可能である。
【００３１】
また、制御装置１５が備える記憶部１８は、半導体メモリなどからなる記録用のメモリであり、露光装置１の各構成部分から送信される情報などを記録する記録領域を有している。この記憶部１８は、例えばフラッシュメモリなどの内蔵型メモリや、着脱可能なメモリカードやメモリスティックであってもよく、また、ハードディスク又はフロッピー（登録商標）ディスクなどの磁気記録媒体などであってもよい。
【００３２】
また、本実施形態の記憶部１８は、光源アレイ４が備える光源８の各々と、ファイババンドル６の端面におけるファイバ１１の出力端の各々の位置との対応づけを記憶するようになっている。
【００３３】
図４に示すように、制御部１６には、光スポット位置検出器１４、露光パターン制御部１９、ファイババンドル駆動部２０及びステージ駆動部２１が電気的に接続されている。
【００３４】
光スポット位置検出器１４は、レーザ光を出射するファイバ１１の出力端の位置を検出するようになっている。例えば、図２に示すように、光源８ａを点灯した際に検出された光スポット位置が（Ｘ，Ｙ）＝（４，３）であれば、その位置を光源８ａに対応するファイバ１１の出力端の位置として判断する。このように、光源８ｂ、８ｃ…についても１つずつ同様の検出を行い、レーザ光が出力されるファイバ１１の出力端の位置を判断して、ファイババンドル６の端面におけるファイバ１１の出力端の位置と、そのファイバ１１に接続された光源８との対応づけを記憶部１８に記憶するようになっている。
【００３５】
これにより、光源アレイ４における各光源８の配列の順番とファイババンドル６の端面における複数のファイバ１１の出力端の配列の順番とが対応していなくても、ファイババンドル６の端面において所望の露光パターンを形成するために、どの光源８を点灯すればよいか判断することが可能となる。
【００３６】
露光パターン制御部１９は、ファイババンドル６の端面におけるファイバ１１の出力端の位置を検出する工程において、図２に示すように、各光源８を光源アレイ４に並設された順番に従って、光源８ａ、８ｂ、８ｃ…というように１つずつ点灯するようになっている。
【００３７】
また、露光パターン制御部１９は、制御部１６の指示信号に基づき、記憶部１８から目的に応じた所望の露光パターンを読み出すと共に、ファイババンドル６の端面において所望の露光パターンを形成するファイバ１１の出力端の位置を判断するようになっている。そして、記憶部１８からファイバ１１の出力端の位置と光源８との対応づけを読み出して参照することにより、露光パターンを形成するためにどの光源８を点灯すればよいかを判断して、これら所定の光源８が点灯するようにスイッチング回路２２を制御するようになっている。
【００３８】
ファイババンドル駆動部２０は、制御部１６の指示信号に基づき、ファイババンドル６を水平移動又は回転させるようになっている。
【００３９】
ステージ駆動部２１は、基板３を支持するステージ２の上下移動や傾斜を制御することにより、投影レンズ７から基板３の表面に入射するレーザ光の位置を調整するようになっている。
【００４０】
次に、上記の露光装置１を使用した本発明の露光パターン形成方法について説明する。
【００４１】
まず、複数のファイバ１１の入力側端部の各々を各回折光学素子１０の各々に近接するように配置することにより、光源アレイ４が備える各光源８の各々と１対１で対応するようにランダムな順番で光学的に接続する。
【００４２】
次に、露光パターン制御部１９はスイッチング回路２２の制御により、図２に示すように、各光源８を光源アレイ４に並設された順番に従って光源８ａ、８ｂ、８ｃ…というように１つずつ点灯していく。
【００４３】
こうして１つの光源８を点灯すると、光源８から出射したレーザ光は、回折光学素子ユニット５のうち１つの回折光学素子１０に入射する。そして、１つの回折光学素子１０に入射したレーザ光は、１つのファイバ１１に入射する。これにより、１つの光源８が点灯されると、その光源８に接続された１つのファイバ１１の出力端がファイババンドル６の端面における所定の位置からレーザ光を出射する。
【００４４】
次に、ファイバ１１の出力端の各々がファイババンドル６の端面における所定の位置からレーザ光を出射すると、ハーフミラー１２はファイバ１１の出力端の各々からの出射光を集光レンズ１３の方向に反射し、集光レンズ１３はハーフミラー１２からの投射光を光スポットとして光スポット位置検出器１４に集光する。
【００４５】
続いて、光スポット位置検出器１４は、レーザ光を出射するファイバ１１の出力端の位置を検出する。例えば、図２に示すように、光源８ａを点灯した際に検出された光スポット位置が（Ｘ，Ｙ）＝（４，３）であれば、その位置を光源８ａに対応するファイバ１１の出力端の位置として判断する。このように、光源８ｂ、８ｃ…についても１つずつ同様の検出を行い、ファイバ１１の出力端の位置を判断していく。そして、ファイババンドル６の端面におけるファイバ１１の出力端の位置と、そのファイバ１１に接続された光源８との対応づけを記憶部１８に記憶する。
【００４６】
次に、露光パターン制御部１９は、制御部１６の指示信号に基づき、記憶部１８から目的に応じた所望の露光パターンを読み出す。続いて、露光パターン制御部１９は、ファイババンドル６の端面において所望の露光パターンを形成するファイバ１１の出力端の位置を判断する。そして、記憶部１８からファイバ１１の出力端の位置と光源８との対応づけを読み出して参照することにより、露光パターンを形成するためにどの光源８を点灯すればよいかを判断する。そして、これら所定の光源８が点灯するようにスイッチング回路２２を制御する。
【００４７】
続いて、光源アレイ４における所定の光源８が点灯すると、それぞれの光源８から出射したレーザ光は、それぞれ回折光学素子ユニット５のうち１つの回折光学素子１０に入射する。そして、回折光学素子１０は楕円形に発光したレーザ光をほぼ方形又は矩形に整形し、それぞれの光源８からのレーザ光を隙間なく結像させるようにレーザ光の方向を制御すると同時に、レーザ光のパワー分布をトップハット型に変換する。また、それぞれの回折光学素子１０は、入射したレーザ光を、露光パターンを形成するファイバ１１にそれぞれ入射させる。
【００４８】
こうして、ファイバ１１にレーザ光が入射すると、ファイババンドル６は端面からレーザ光を所望の露光パターンとして出射する。
【００４９】
この際、ファイババンドル駆動部２０は、ファイババンドル６を水平移動又は回転させることによって、ファイバ１１が断線した場合や、ファイババンドル６の端面におけるファイバ１１の本数が光源アレイ４における光源８の個数より多い場合に、レーザ光を出射する光源８にファイバ１１を対応させて、露光パターンにおいて常に黒くつぶれた部分ができるのを防止する。
【００５０】
続いて、ファイババンドル６が出射したレーザ光が投影レンズ７を透過すると、ステージ２に支持された基板３に縮小して結像される。こうして、基板３は、縮小された所望の露光パターンに従って露光される。
【００５１】
この際、ステージ駆動部２１は、基板３を支持するステージ２の上下移動や傾斜を制御することにより、投影レンズ７から基板３の表面に入射するレーザ光の位置を調整する。
【００５２】
以上のように本実施形態に係る露光パターン形成方法によれば、光源８を点灯したときに光を出射するファイバ１１の位置を１つずつ検出することにより、その光源８に対応するファイバ１１の位置を確認することが可能となる。そして、その対応づけを記憶しておくことにより、ファイババンドル６の端面において所望の露光パターンを形成するためにどの光源８を点灯制御すればよいか判断することが可能となる。これにより、光源８及びファイバ１１はそれぞれ任意の順番で１対１に対応するように光学的に接続すればよく、光源８の配列の順番とファイバ１１の配列の順番とが対応づけられた光源アレイ４及びファイババンドル６を使用する必要はない。したがって、光源アレイ４の光源８の数が多い場合でも、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。
【００５３】
なお、本実施形態では露光パターン形成方法を露光装置１に適用する場合について説明したが、本発明の露光パターン形成方法はマスク製造装置などの光学装置に適用することも可能である。
【００５４】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について図４を参照して説明する。なお、第１の実施形態と同一部分には同一符号を付してその説明を省略し、第１の実施形態と異なる部分について説明する。
【００５５】
図４に示すように、本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置１は、露光光学系として、光源アレイ４と、複数の回折光学素子２３が縦横に並設された回折光学素子ユニット２４と、複数のファイバ２５を１つに束ねるファイババンドル２６と、投影レンズ７とを備えている。なお、光源アレイ４及び投影レンズ７の構成は第１の実施形態と同様である。
【００５６】
本実施形態において、複数のファイバ２５の入力側端部の各々は光源８の各々に１対１で対応するようにランダムな順番で光学的に接続されている。また、複数のファイバ２５の出力側端部の各々は、図４に示すように、回折光学素子２３の各々に１対１で対応するようにランダムな順番で光学的に接続されている。
【００５７】
このように本実施形態では、光源８の各々と回折光学素子２３の各々とを複数のファイバ２５によってランダムな順番で接続することが可能であり、光源アレイ４における各光源８の配列の順番と回折光学素子ユニット２４における回折光学素子２３の配列の順番とが対応している必要はない。なお、回折光学素子２３の各々に光学的に接続させた複数のファイバ２５をランダムな順番で各光源８に接続することも可能である。
【００５８】
また、複数のファイバ２５は、光源８と回折光学素子２３との中間においてファイババンドル２６により一つに束ねられている。
【００５９】
また、検出光学系の構成は第１の実施形態と同様である。
【００６０】
次に、本実施形態に係る露光パターン形成方法に使用する露光装置１の機能的構成のうち、第１の実施形態と相違する点について説明する。
【００６１】
本実施形態の記憶部１８は、光源アレイ４が備える光源８の各々と、回折光学素子ユニット２４における回折光学素子２３の各々の位置との対応づけを記憶するようになっている。
【００６２】
光スポット位置検出器１４は、ファイバ２５の出力端からレーザ光を出射された回折光学素子２３の位置を検出するようになっている。そして、光源８ａ、８ｂ、８ｃ…について１つずつ同様の検出を行うことにより、回折光学素子ユニット２４における回折光学素子２３の位置と、その回折光学素子２３に対応する光源８との対応づけを判断し、その対応づけを記憶部１８に記憶するようになっている。
【００６３】
露光パターン制御部１９は、回折光学素子ユニット２４における回折光学素子２３の位置を検出する工程において、各光源８を光源アレイ４に並設された順番に従って光源８ａ、８ｂ、８ｃ…というように１つずつ点灯するようになっている。
【００６４】
また、露光パターン制御部１９は、制御部１６の指示信号に基づき、記憶部１８から目的に応じた所望の露光パターンを読み出すと共に、回折光学素子ユニット２４において所望の露光パターンを形成する回折光学素子２３の位置を判断するようになっている。そして、記憶部１８から回折光学素子２３の位置と光源８との対応づけを読み出して参照することにより、露光パターンを形成するためにどの光源８を点灯すればよいかを判断して、これらの所定の光源８が点灯するようにスイッチング回路２２を制御するようになっている。
【００６５】
なお、制御部１６、入力部１７、ファイババンドル駆動部２０及びステージ駆動部２１の構成は第１の実施形態と同様である。
【００６６】
次に、上記の露光装置１を使用した本発明の露光パターン形成方法について説明する。
【００６７】
まず、複数のファイバ２５の入力側端部の各々を光源８の各々に１対１で対応するようにランダムな順番で光学的に接続する。そして、図４に示すように、複数のファイバ２５の出力側端部の各々を、回折光学素子２３の各々に１対１で対応するようにランダムな順番で光学的に接続する。なお、回折光学素子２３の各々に光学的に接続させた複数のファイバ２５をランダムな順番で各光源８に接続してもよい。また、複数のファイバ２５は光源８と回折光学素子２３との中間においてファイババンドル２６により一つに束ねる。
【００６８】
次に、露光パターン制御部１９はスイッチング回路２２の制御により、各光源８を光源アレイ４に並設された順番に従って光源８ａ、８ｂ、８ｃ…というように１つずつ点灯していく。
【００６９】
こうして１つの光源８を点灯すると、光源８から出射したレーザ光はそれぞれの窓９に接続された１つのファイバ２５に入射し、そのファイバ２５の出力端は１つの回折光学素子２３にレーザ光を出射する。
【００７０】
次に、ファイバ２５の出力端が１つの回折光学素子２３にレーザ光を出射すると、ハーフミラー１２は回折光学素子２３から出射されたレーザ光を集光レンズ１３の方向に反射し、集光レンズ１３はハーフミラー１２からの投射光を光スポットとして光スポット位置検出器１４に集光する。
【００７１】
続いて、光スポット位置検出器１４は、ファイバ２５の出力端からレーザ光を出射された回折光学素子２３の回折光学素子ユニット２４における位置を検出する。そして、光源８ａ、８ｂ、８ｃ…についても１つずつ同様の検出を行い、回折光学素子ユニット２４における回折光学素子２３の位置と、その回折光学素子２３に対応する光源８との対応づけを記憶部１８に記憶する。
【００７２】
次に、露光パターン制御部１９は、制御部１６の指示信号に基づき、記憶部１８から目的に応じた所望の露光パターンを読み出す。続いて、露光パターン制御部１９は、回折光学素子ユニット２４において所望の露光パターンを形成する回折光学素子２３の位置を判断する。そして、記憶部１８から回折光学素子２３の位置と光源８との対応づけを読み出して参照することにより、露光パターンを形成するためにどの光源８を点灯すればよいかを判断する。そして、これらの所定の光源８が点灯するようにスイッチング回路２２を制御する。
【００７３】
以上のように本実施形態に係る露光パターン形成方法によれば、光源８を点灯したときに光が出射される回折光学素子１０の位置を１つずつ検出することにより、その光源８に対応する回折光学素子１０の位置を確認することが可能となる。そして、その対応づけを記憶しておくことにより、回折光学素子ユニット５において所望の露光パターンを形成するためにどの光源８を点灯制御すればよいか判断することが可能となる。これにより、光源８及び回折光学素子１０はそれぞれ任意の順番で１対１に対応するように光学的に接続すればよく、光源８の配列の順番と回折光学素子１０の配列の順番とが対応づけられた光源アレイ４及び回折光学素子ユニット５を使用する必要はない。したがって、光源アレイ４の光源８の数が多い場合でも、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。
【００７４】
以上詳細に説明したように、本発明の露光パターン形成方法によれば、光源アレイ及びファイババンドルを使用する露光パターン形成方法において、部品の製造工程を簡単化して製造コストを低減すると共に、部品の汎用性を高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る露光装置の概略構成図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る光源アレイ及びファイババンドルの構成を示す正面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る露光装置の機能的構成を示すブロック図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る露光装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００７６】
１     露光装置
２     ステージ
３     基板
４     光源アレイ
５     回折光学素子ユニット
６     ファイババンドル
８     光源
１０   回折光学素子
１１   ファイバ
１２   ハーフミラー
１３   集光レンズ
１４   光スポット位置検出器
１６   制御部
１７   入力部
１８   記憶部
１９   露光パターン制御部
２０   ファイババンドル駆動部
２１   ステージ駆動部
２２   スイッチング回路
２３   回折光学素子
２４   回折光学素子ユニット
２５   ファイバ
２６   ファイババンドル
【図１】
0004625734.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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