【手続補正書】
【提出日】平成15年10月20日(2003.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写用のパターンが形成されたマスクを移動するマスクステージと、感光性の基板を移動する基板ステージとを有し、前記マスクを露光用の照明光で照明した状態で、前記基板ステージを介して前記基板を所定方向に走査するのと同期して、前記マスクステージを介して前記マスクを前記所定方向に対応する方向に走査することにより、前記基板上に前記マスクのパターンを逐次転写する走査型露光装置において、
前記基板ステージの走査方向の位置を計測する少なくとも１軸の基板側干渉計と、
前記基板ステージの前記走査方向に直交する非走査方向の位置を前記走査方向に沿った２箇所で計測する２軸の基板側干渉計と、
該非走査方向用の２軸の基板側干渉計の計測値に基づいて前記基板ステージと前記マスクステージとの相対回転角を補正する回転角補正手段と、を有することを特徴とする走査型露光装置。
【請求項２】
前記基板ステージの前記走査方向の位置を前記非走査方向に沿った２箇所で計測するための更に１軸の基板側干渉計を設け、
前記非走査方向用の２軸の基板側干渉計の計測値の差分と、前記走査方向用の２軸の基板側干渉計の計測値の差分との差に基づいて前記基板ステージの移動方向を補正する移動方向補正手段を設けたことを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項３】
転写用のパターンが形成されたマスクを移動するマスクステージと、感光性の基板を移動する基板ステージとを有し、前記マスクを露光用の照明光で照明した状態で、前記基板ステージを介して前記基板を所定方向に走査するのと同期して、前記マスクステージを介して前記マスクを前記所定方向に対応する方向に走査することにより、前記基板上に前記マスクのパターンを逐次転写する走査型露光装置において、
前記基板ステージの走査方向に直交する非走査方向の位置を前記走査方向に沿った２箇所で計測する２軸の基板側干渉計と、
前記マスクステージの走査方向に直交する非走査方向の位置を前記マスクステージの走査方向に沿った２箇所で計測する２軸のマスク側干渉計と、
前記２軸の基板側干渉計の計測値及び前記２軸のマスク側干渉計の計測値に基づいて前記基板ステージと前記マスクステージとの相対回転角を補正する回転角補正手段と、を有することを特徴とする走査型露光装置。
【請求項４】
転写用のパターンが形成されたマスクを移動するマスクステージと、感光性の基板を移動する基板ステージとを有し、前記マスクを露光用の照明光で照明した状態で、前記基板ステージを介して前記基板を所定方向に走査するのと同期して、前記マスクステージを介して前記マスクを前記所定方向に対応する方向に走査することにより、前記基板上に前記マスクのパターンを逐次転写する走査型露光装置において、
前記基板ステージ及び前記マスクステージの一方のステージの走査方向の位置を該走査方向に直交する非走査方向に沿った２箇所で計測する第１の２軸の干渉計と、
前記一方のステージの前記非走査方向の位置を該ステージの走査方向に沿った２箇所で計測する第２の２軸の干渉計と、
前記第１の２軸の干渉計の計測値の差分に基づいて前記一方のステージの回転角を検出し、該検出結果及び前記第２の２軸の干渉計の計測値の差分に基づいて該第２の２軸の干渉計用の移動鏡の曲がり量を算出する移動鏡曲がり量算出手段と、を備えたことを特徴とする走査型露光装置。
【請求項５】
前記基板ステージ及び前記マスクステージの一方のステージの走査方向に直交する非走査方向の位置を計測する２軸の干渉計の計測値の差分が所定の閾値を超えた際に、前記マスクと前記基板ステージとの位置関係を計測する計測手段を更に備えたことを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の走査型露光装置。
【請求項６】
転写用のパターンが形成されたマスクを保持して移動するマスクステージと、感光性の基板を保持して移動する基板ステージとを有し、前記マスクを露光用の照明光で照明した状態で、前記マスクステージと前記基板ステージとをそれぞれ走査方向に沿って互いに反対方向に互いに異なる速度で同期して走査することにより、前記基板上に前記マスクのパターンを逐次転写する走査型露光装置において、
前記マスクステージの、前記走査方向に直交する非走査方向の位置を、前記走査方向に沿って離れた複数箇所で計測する複数軸のマスク側干渉計を有し、
前記マスク側干渉計は、前記マスクステージが前記走査方向に移動している最中に、前記非走査方向における前記マスクステージの位置を、前記複数箇所で同時に測定すると共に、各計測軸毎にその測定値を出力することを特徴とする走査型露光装置。
【請求項７】
前記複数軸のマスク側干渉計の計測値に基づいて、前記基板ステージと前記マスクステージとの相対回転角を補正する回転角補正手段を更に有することを特徴とする請求項６に記載の走査型露光装置。
【請求項８】
前記基板ステージの、前記走査方向に直交する非走査方向の位置を、前記走査方向に沿って離れた複数箇所で計測する複数軸の基板側干渉計を更に有し、
前記基板側干渉計は、前記基板ステージが前記走査方向に移動している最中に、前記非走査方向における前記基板ステージの位置を、前記複数箇所で同時に測定すると共に、各計測軸毎にその測定値を出力することを特徴とする請求項６に記載の走査型露光装置。
【請求項９】
前記複数軸の基板側干渉計の計測値、及び前記複数軸のマスク側干渉計の計測値に基づいて前記基板ステージと前記マスクステージとの相対回転角を補正する回転角補正手段を更に有することを特徴とする請求項８に記載の走査型露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、上述の本発明の各走査型露光装置においては、その基板ステージ及びそのマスクステージの一方のステージの走査方向に直交する非走査方向の位置を計測する２軸の干渉計の計測値の差分をモニタし、このようにモニタされる差分が所定の閾値を超えた際に、マスク（１２）とその基板ステージとの位置関係を計測する計測手段（６，１９，２０）を更に備えることが望ましい。そのように２軸の干渉計の計測値の差分が所定の閾値を超えるのは、熱変形等によって干渉計用の移動鏡の傾斜角が大きく変化したためと予想される。このときにマスク（１２）とその基板ステージとの位置関係を再計測することによって、マスク（１２）と基板（５）との位置関係を補正できるため、露光されるショット領域の形状誤差が減少する。また、このような場合、移動鏡の曲がり量も変化している可能性があるので、移動鏡の曲がり量をも再計測するようにしてもよい。
次に、本発明による第４の走査型露光装置は、転写用のパターンが形成されたマスク（１２）を保持して移動するマスクステージ（９〜１１）と、感光性の基板（５）を保持して移動する基板ステージ（１〜４）とを有し、そのマスクを露光用の照明光で照明した状態で、そのマスクステージとその基板ステージとをそれぞれ走査方向に沿って互いに反対方向に互いに異なる速度で同期して走査することにより、その基板上にそのマスクのパターンを逐次転写する走査型露光装置において、そのマスクステージの、その走査方向に直交する非走査方向の位置を、その走査方向に沿って離れた複数箇所で計測する複数軸のマスク側干渉計（１４Ｘ１，１４Ｘ２，２１Ｘ）を有し、そのマスク側干渉計は、そのマスクステージがその走査方向に移動している最中に、その非走査方向におけるそのマスクステージの位置を、その複数箇所で同時に測定すると共に、各計測軸毎にその測定値を出力するものである。
本発明によれば、その複数軸のマスク側干渉計の測定値を用いることによって、そのマスクステージの走査中にそのマスクステージの回転角を測定できる。従って、そのマスクステージの回転角を例えばその基板ステージの走査方向に応じて制御することによって、その基板上に露光されるショット領域の形状を目標とする形状に維持できる。
本発明において、その複数軸のマスク側干渉計の計測値に基づいて、その基板ステージとそのマスクステージとの相対回転角を補正する回転角補正手段（２２Ｄ，４４Ｒ，４４Ｌ）を更に有してもよい。その回転角補正手段を用いて、例えばそのマスクとその基板との走査方向を同一にすることによって、その基板上に露光されるショット領域の形状を目標とする形状に維持できる。
また、その基板ステージの、その走査方向に直交する非走査方向の位置を、その走査方向に沿って離れた複数箇所で計測する複数軸の基板側干渉計（１３Ｘ１，１３Ｘ２，７Ｘ）を更に有し、その基板側干渉計は、その基板ステージがその走査方向に移動している最中に、その非走査方向におけるその基板ステージの位置を、その複数箇所で同時に測定すると共に、各計測軸毎にその測定値を出力してもよい。
また、その複数軸の基板側干渉計の計測値、及びその複数軸のマスク側干渉計の計測値に基づいてその基板ステージとそのマスクステージとの相対回転角を補正する回転角補正手段（２２Ｄ，４４Ｒ，４４Ｌ）を更に有してもよい。