Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月28日(2003.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転側周面に回転側軌道を有し、使用時に回転する回転輪と、上記回転側周面と対向する静止側周面に静止側軌道を有し、使用時に回転しない静止輪と、上記回転側軌道と上記静止側軌道との間に転動自在に設けられた複数の転動体と、Ｓ極とＮ極とを円周方向に亙って交互に且つ等ピッチで配置した円環状の第一の永久磁石を含んで構成され、上記回転輪の一部に、この回転輪と同心に固定されたエンコーダと、上記静止輪に支持されてこのエンコーダを構成する第一の永久磁石と対向するセンサとを備えた回転速度検出装置付転がり軸受ユニットに於いて、上記センサは、磁性材製でその両端部を上記エンコーダを構成する第一の永久磁石の一部に対向自在とさせたステータと、このステータの中間部に導線を巻回して成るコイルと、上記ステータの両端部に突き合わせ若しくは近接させた、着磁方向が互いに逆である１対の第二の永久磁石とを備えており、上記エンコーダの回転に伴って上記ステータに交番磁束が流れる様にした事を特徴とする回転速度検出装置付転がり軸受ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
即ち、上記特開平８−１５２９０号公報に記載された構造の場合には、エンコーダとして単なる磁性材製のものを使用している為、センサを構成するステータ内を流れる磁束の量が限られ、このセンサの出力を大きくする事に限度がある。これに対して、例えば米国特許第５２００６９７号明細書には、エンコーダを、Ｓ極とＮ極とを円周方向に亙って交互に且つ等ピッチで配置した円環状の永久磁石を含んで構成する構造が記載されている。但し、この米国特許第５２００６９７号明細書に記載された構造の場合には、センサが磁性材製のステータとコイルとからのみ構成されているので、やはりセンサの出力向上には限度がある。しかも、ステータの形状が特殊で、センサのコストが嵩んでしまう。
本発明の回転速度検出装置付転がり軸受ユニットは、この様な事情に鑑みて発明したものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決する為の手段】
本発明の回転速度検出装置付転がり軸受ユニットは、従来から知られている回転速度検出装置付転がり軸受ユニットと同様に、回転輪と、静止輪と、複数の転動体と、エンコーダと、センサとを備える。このうちの回転輪は、回転側周面に回転側軌道を有し、使用時に回転する。又、上記静止輪は、上記回転側周面と対向する静止側周面に静止側軌道を有し、使用時に回転しない。又、上記複数の転動体は、上記回転側軌道と上記静止側軌道との間に転動自在に設けられて、上記回転輪を上記静止輪に回転を自在に支持する。又、上記エンコーダは、上記回転輪の一部に、この回転輪と同心に固定されている。又、上記センサは、上記静止輪に支持されている。
尚、上記エンコーダは、上述の米国特許第５２００６９７号明細書に記載された構造の場合と同様に、Ｓ極とＮ極とを円周方向に亙って交互に且つ等ピッチで配置した円環状の第一の永久磁石を含んで構成されており、上記センサは、この第一の永久磁石と対向する。
特に、本発明の回転速度検出装置付転がり軸受ユニットに於いては、上記センサは、磁性材製のステータと、コイルと、１対の第二の永久磁石とを備える。そして、着磁方向が互いに逆である、この１対の第二の永久磁石を、上記ステータの両端部に突き合わせ若しくは近接させる事により、上記エンコーダの回転に伴って上記ステータに交番磁束が流れる様にしている。又、上記コイルは、上記ステータの中間部に導線を巻回して、上記交番磁束に基づき、交互に逆方向の起電力が惹起される様にしている。
尚、上記エンコーダの回転に伴って上記ステータに交番磁束が流れる様にする為に、例えば、ステータの両端部を、上記エンコーダを構成する第一の永久磁石の一部で互いに異なる磁極に対向自在とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上述の様に構成される本発明の回転速度検出装置付転がり軸受ユニットの場合、回転輪４と共に、エンコーダ１３を構成する第一の永久磁石１５が回転すると、上記ステータ２３の一端部を構成する一方の端板２７の突出部２９の先端縁が対向する磁極と、同じくステータ２３の他端部を構成する他方の端板２７の突出部２９の先端縁が対向する磁極とが同時に、且つ互いに逆の磁極に変化する。即ち、或る瞬間には図８（Ａ）に示す様に、一方の端板２７の突出部２９の先端縁がＳ極に、他方の端板２７の突出部２９の先端縁がＮ極に、それぞれ対向する。そして、次の瞬間には、図８（Ｂ）に示す様に、一方の端板２７の突出部２９の先端縁がＮ極に、他方の端板２７の突出部２９の先端縁がＳ極に、それぞれ対向する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月13日(2003.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
送信側にも受信側にも働く１対の超音波送受波器（１）（２）を流管（３）の上流と下流に離して設け、流体の流れの中を上流から下流及び下流から上流に超音波の送受を行い、その各向きの到達時間より流速・流量を求める超音波流量計であって、
先ず送信側の送受波器（１又は２）を発信させ、受信側の送受波器（２又は１）の信号を入力する受信波検知部（４）が受信波を検知すると同時に再び送信側の送受波器（１又は２）を発信させることを一定の複数（ｎ）回繰り返すように構成し、
基準クロックを用いて最初の送信から一定の複数（ｎ）回目の受信までの時間、つまり到達時間の複数（ｎ）倍の時間をまとめて測定し、その結果から流速・流量を求めるようにしたもので、
最初の発信からその受信までの到達時間（ｔ1）、続いてその受信と同時に行われる送信からその受信までの到達時間（ｔ2）というように、各々の到達時間の複数（ｎ）個を、前記到達時間の複数（ｎ）倍の時間とは別に毎回測定して記憶するようにし、
各到達時間（ｔ1），（ｔ2），…，（ｔｎ）をチェックし、到達時間（ｔｍ）が前後の複数の到達時間より一定以上大きく違うものがあれば、その到達時間は受信波を正しく捕らえることが出来なかった間違った値と判断して、前後の到達時間（ｔm-1）（ｔm+1）から正しい値を推定し、推定した正しい値と間違っている値との差分だけ前記まとめて測定した到達時間の複数（ｎ）倍の時間（ｎｔ）を修正して、その後の流速・流量等の演算に使用するようにしたことを特徴とする超音波流量計。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、請求項１の発明は、
送信側にも受信側にも働く１対の超音波送受波器（１）（２）を流管（３）の上流と下流に離して設け、流体の流れの中を上流から下流及び下流から上流に超音波の送受を行い、その各向きの到達時間より流速・流量を求める超音波流量計であって、
先ず送信側の送受波器（１又は２）を発信させ、受信側の送受波器（２又は１）の信号を入力する受信波検知部（４）が受信波を検知すると同時に再び送信側の送受波器（１又は２）を発信させることを一定の複数（ｎ）回繰り返すように構成し、
基準クロックを用いて最初の送信から一定の複数（ｎ）回目の受信までの時間、つまり到達時間の複数（ｎ）倍の時間をまとめて測定し、その結果から流速・流量を求めるようにしたもので、
最初の発信からその受信までの到達時間（ｔ1）、続いてその受信と同時に行われる送信からその受信までの到達時間（ｔ2）というように、各々の到達時間の複数（ｎ）個を、前記到達時間の複数（ｎ）倍の時間とは別に毎回測定して記憶するようにし、
各到達時間（ｔ1），（ｔ2），…，（ｔｎ）をチェックし、到達時間（ｔｍ）が前後の複数の到達時間より一定以上大きく違うものがあれば、その到達時間は受信波を正しく捕らえることが出来なかった間違った値と判断して、前後の到達時間（ｔm-1）（ｔm+1）から正しい値を推定し、推定した正しい値と間違っている値との差分だけ前記まとめて測定した到達時間の複数（ｎ）倍の時間（ｎｔ）を修正して、その後の流速・流量等の演算に使用するようにしたことを特徴とする超音波流量計である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月1日(2003.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グレースケール画像を符号化する方法であって、
前記グレースケール画像をディザ・マトリクスを用いてハーフトーン化して２レベル画像を形成するステップと、
前記２レベル画像中の個々のビットを前記ディザ・マトリクスに従って並べ替えて並べ替え画像を形成するステップと、
前記並べ替え画像を圧縮するステップと、
圧縮された並べ替え画像をメモリに記憶するステップとを設けて成る方法。
【請求項２】
前記圧縮された並べ替え画像を前記メモリから検索するステップと、
前記圧縮された並べ替え画像を復元して前記並べ替え画像の複製を得るステップと、
前記並べ替え画像の複製の個々のビットを前記ディザ・マトリクスに従って並べ直して前記２レベル画像の複製を形成するステップとをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記の圧縮ステップは一次元モデル算術コーディング手順を用いて実行され、
前記復元ステップは前記一次元モデル算術コーディング手順を用いて実行されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
グレースケール画像の記憶に要するメモリを低減する方法であって、
前記グレースケール画像をディザ・マトリクスを用いて２レベル画像に変換するステップと、
前記２レベル画像をメモリに記憶するステップと、
前記２レベル画像の個々のビットを前記ディザ・マトリクスに従って並べ替え、前記メモリに記憶された前記２レベル画像が前記並べ替えられた画像に置き換えられるステップと、
前記メモリから前記並べ替え画像を検索するステップと、
前記並べ替え画像を圧縮して、圧縮された並べ替え画像を得るステップと、
前記圧縮された並べ替え画像を前記メモリに記憶するステップとを設けて成る方法。
【請求項５】
前記メモリから前記圧縮された並べ替え画像を読み出すステップと、
前記圧縮された並べ替え画像を復元して前記並べ替え画像の複製を得るステップと、
前記並べ替え画像の前記複製の個々のビットを前記ディザ・マトリクスに従って並べ直して前記２レベル画像の複製を形成するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記圧縮ステップは一次元モデル算術コーディング手順を用いて実行され、
前記復元ステップは前記一次元モデル算術コーディング手順を用いて実行されることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の方法。
【請求項７】
グレースケール画像の記憶に要するメモリを低減する装置であって、
メモリと、
圧縮装置と、
前記メモリおよび前記圧縮装置に取り付けられた画像処理手段とを備えており、
前記画像処理手段はディザ・マトリクスを用いて前記グレースケール画像を２レベル画像に変換し、
前記２レベル画像は前記メモリに記憶され、
前記２レベル画像の個々のビットが前記ディザ・マトリクスに従って並べ替えられ、並べ替え画像が形成され、
前記メモリに記憶された前記２レベル画像が前記並べ替え画像に置き換えられ、
前記画像処理手段は、前記圧縮装置が前記メモリから前記並べ替え画像を検索し、圧縮し、圧縮された並べ替え画像を前記メモリに記憶することを可能とすることを特徴とする装置。
【請求項８】
前記画像処理手段は、前記圧縮装置が前記メモリから前記圧縮された並べ替え画像を検索し、復元し、および前記並べ替え画像の複製を前記メモリに記憶することを可能とし、
前記画像処理手段は、前記並べ替え画像の前記複製の個々のビットを前記ディザ・マトリクスに従って並べ直して前記２レベル画像の複製を形成することを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記圧縮装置は一次元モデル算術コーディング手順を用いることを特徴とする請求項７または請求項８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月12日(2003.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
一方、本発明者等のグループの研究の結果、本発明者等は緊張と血中コルチゾール濃度の間に極めて良好な相関関係を見つけだした。即ち、血中コルチゾール濃度の推移をモニターすることにより緊張度の変化を知ることが出来ることを見いだした。又、血中コルチゾール濃度を低下させる行為乃至は物質は緊張を緩和する作用を有していることを意味する。この様な事実についてはまだ広く知られていない。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
［製造例２］マルチトール３０重量部とヒドロキシプロピルセルロース１０重量部とｌ−メントール６０重量部を５０％エタノール水溶液３０重量部に加えてニーダーで混練りし、押し出し造粒し、４０℃で４８時間送風乾燥し、マルメラーザーで球状に加工し、篩過して平均粒径５ｍｍの顆粒として、コルチゾール低下組成物２を得た。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［製造例４］蔗糖３０重量部とｌ−メントール６５重量部と４重量部のヒドロキシプロピルセルロースをニューマルメライザーに秤込み、１重量部のヒドロキシプロピルセルロースを溶かした１００重量部のエタノールを徐々に噴霧しながら転動層造粒し、送風乾燥し、篩過して平均粒径３ｍｍのコルチゾール低下組成物４を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月28日(2003.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水と空気とを原料とし、外部エネルギーを加えることによって製造される混合系を含む高湿度空気中における水産物の鮮度保持方法であって
、
混合系は、空気イオンと中性成分とからなり、
空気イオンは、外部エネルギーを得て水が分裂するときに空気中に発生し、空気イオンは複数のイオン成分からなり、各イオン成分をＡ1，Ａ2，…，Ａnとしたとき、式（１）
【式１】
1998042745.tif 000001
Ｃ ；観測開始後時刻ｔにおける空気イオン濃度
Ｃｉ；成分Ａｉの観測開始時の濃度
ｋｉ；成分Ａｉの反応速度定数
ｔ ；時刻
に従って空気イオン濃度が変化することが観測され、
中性成分は、飽和水蒸気量，相対湿度，絶対湿度として表すことのできる水分であって、外部エネルギーを得た状態にあり、電荷を持たず、質量分析法により分析したときに、式（２）
【式２】
1998042745.tif 000002
Ｎ ；平均構成分子数
Ｉｉ；ｉ番目に観測される水クラスターのイオン強度
ｎｉ；ｉ番目に観測される水クラスターの構成分子数
により求められる水クラスターの構成分子数が２５以下の水クラスターが観測され、
該高湿度空気を水産物に接触的に作用させることを特徴とする水産物の鮮度保持方法。
【請求項２】
前記混合系は、表皮など外界の水分や空気と接触する部位において水産物に直接的又は間接的に作用させるものであることを特徴とする請求項１に記載の水産物の鮮度保持方法。
【請求項３】
水産物が活魚であることを特徴とする請求項１又は２に記載の水産物の鮮度保持方法。
【請求項４】
活魚の保存は、適宜低温の水をもって活魚の洗浄処理を行うものであることを特徴とする請求項３に記載の水産物の鮮度保持方法。
【請求項５】
水を分裂させて高湿度空気を発生させ、当該発生した高湿度空気中に水産物を暴露させて保存する水産物の鮮度保持方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また活魚の保存は、適宜低温の水をもって活魚の洗浄処理を行うものである。また、水を分裂させて高湿度空気を発生させ、当該発生した高湿度空気中に水産物を暴露させて保存を行うものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
【発明の効果】
以上のように本発明によるときには、保存庫内で気体である真気を水産物に接触的に作用させるのみで活魚をはじめとする水産物の生命体の生命活動を促進して活魚を延命し、または鮮度を維持することが可能であり、特に水槽などの設備を要することなく活魚の延命効果が得られるため、その輸送，保管を容易に行うことができる効果を有する。また、水を分裂させて高湿度空気を発生させ、当該発生した高湿度空気中に水産物を暴露させて、活魚をはじめとする水産物の延命・鮮度保持を行うものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月30日(2003.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する一対の透明絶縁性基板と、上記一対の透明絶縁性基板の間に挟持された液晶層と、上記一対の透明絶縁性基板のいずれか一方の透明絶縁性基板上に形成された基板面に平行方向の電界を形成する第一の電極および第二の電極と、視認側から入射した光が上記第一の電極および第二の電極部で反射して視認側に戻る反射光の量を制御する反射光制御部を備えたことを特徴とする液晶表示装置において、上記反射光制御部は上記第一の電極および第二の電極部の少なくともいずれか一方の視認側の面に形成された低反射率導体膜であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
上記第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方は、低反射率導体膜で形成されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
上記反射光制御部は、上記第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方の視認側の面に形成された反射防止膜であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項４】
上記反射防止膜は、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＣｒＯ、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2等の酸化膜、およびＡｌＦ3、ＭｇＦ2、ＣａＦ2等のフッ化膜のいずれかによる単層膜、あるいはこれらを積層した多層膜で形成されていることを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項５】
上記反射光制御部は、上記第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方の視認側の面に形成された光散乱膜であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項６】
上記光散乱膜は、視認側の面に凹凸形状を有することを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。
【請求項７】
上記第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方は、視認側の面に凹凸形状を有する導電性光散乱膜で形成されていることを特徴とする請求項５または請求項６記載の液晶表示装置。
【請求項８】
上記反射光制御部は、上記第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方の視認側の面に形成された導電性光吸収膜であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項９】
上記導電性光吸収膜は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｅおよびＣのいずれか、あるいは上記Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｅおよびＣのいずれかを含有する塗料等からなる半導体膜あるいは導体膜で形成されていることを特徴とする請求項８記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
上記第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方は、導電性光吸収膜で形成されていることを特徴とする請求項８または請求項９記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明に係わる液晶表示装置は、対向する一対の透明絶縁性基板と、上記一対の透明絶縁性基板の間に挟持された液晶層と、上記一対の透明絶縁性基板のいずれか一方の透明絶縁性基板上に形成された基板面に平行方向の電界を形成する第一の電極および第二の電極と、視認側から入射した光が上記第一の電極および第二の電極部で反射して視認側に戻る反射光の量を制御する反射光制御部を備えたことを特徴とする液晶表示装置において、上記反射光制御部は上記第一の電極および第二の電極部の少なくともいずれか一方の視認側の面に形成された低反射率導体膜としたものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
さらに、第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方は、低反射率導体膜により構成されるものである。
また、反射光制御部は、第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方の視認側の面に形成された反射防止膜である。
また、反射防止膜は、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＣｒＯ、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2等の酸化膜、およびＡｌＦ3、ＭｇＦ2、ＣａＦ2等のフッ化膜のいずれかによる単層膜、あるいはこれらを積層した多層膜で形成されたものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、反射光制御部は、第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方の視認側の面に形成された光散乱膜である。
また、光散乱膜は、視認側の面に凹凸形状を有するものである。
さらに、第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方は、視認側の面に凹凸形状を有する導電性光散乱膜により構成されるものである。
また、反射光制御部は、第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方の視認側の面に形成された導電性光吸収膜である。
または、導電性光吸収膜は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｅおよびＣのいずれか、あるいは上記Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｅおよびＣのいずれかを含有する塗料等からなる半導体膜あるいは導体膜で形成されたものである。
さらに、第一の電極および第二の電極の少なくともいずれか一方は、導電性光吸収膜で形成されたものである。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、ＩＰＳ方式の液晶表示装置において、ＴＦＴアレイ基板に形成された基板面に対して平行方向の電界を形成する対向電極や画素電極等、金属材料からなる電極の表面に反射光制御部を形成、もしくは反射光制御部を用いて電極を構成することにより、視認側から入射した外光が、対向電極や画素電極等の表面で反射して視認側に戻ることにより生じる不要な反射光を低減させることができ、液晶表示装置の画面の視認性を向上させることができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、電極の視認側の面に反射防止膜を形成したものでは、液晶表示装置の視認側から入射した外光が、電極の表面で反射して視認側に戻ることにより生じる不要な反射光を低減させることができ、液晶表示装置の画面の視認性を向上させることができる。
また、電極の視認側の面に凹凸形状を有する導電性光散乱膜を形成したものでは、液晶表示装置の視認側から入射した外光は、電極の表面で散乱されて、視認側に戻る不要な反射光を低減させることができるので、液晶表示装置の画面の視認性を向上させることができる。
また、電極の視認側の面に光吸収膜を形成したものでは、液晶表示装置の視認側から入射した外光は、電極の表面の光吸収層に吸収され、視認側に戻る不要な反射光が低減するため、液晶表示装置の画面の視認性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月7日(2004.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
データ読み出し／書き込み装置とのデータの授受を行うＩＣカードにおいて、
データ読み出し／書き込み装置とのインタフェースを行うインタフェース部と、
複数のメモリセルで形成され、データを格納するメモリ部と、
該メモリ部の選択されたメモリセルのデータを読み出すセンスアンプ回路部と、
該センスアンプ回路部がメモリ部からのデータ読み出しを完了したか否かの検出を行い、該データ読み出しの完了を検出すると、読み出しが完了したことを示す読み出し完了信号を出力する読み出し完了検出部と、
上記インタフェース部を介して入力されるデータ読み出し／書き込み装置からのコマンドに従って、上記メモリ部及びセンスアンプ回路部の動作制御を行う制御回路部とを備え、
上記制御回路部は、上記メモリ部に格納されたデータの読み出しに際して、読み出し完了検出部から読み出し完了信号が出力されない場合、所定のエラー処理を行うことを特徴とするＩＣカード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
データ読み出し／書き込み装置とのデータの授受を行うＩＣカードにおいて、
データ読み出し／書き込み装置とのインタフェースを行うインタフェース部と、
複数のメモリセルで形成され、データを格納するメモリ部と、
該メモリ部の選択されたメモリセルのデータを読み出すセンスアンプ回路部と、
上記インタフェース部を介して入力されるデータ読み出し／書き込み装置からのコマンドに従って、上記メモリ部及びセンスアンプ回路部の動作制御を行う制御回路部とを備え、
上記制御回路部は、センスアンプ回路部よりも動作電源電圧の下限値が高くなるように形成されることを特徴とするＩＣカード。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本第１の発明に係るＩＣカードは、データ読み出し／書き込み装置とのデータの授受を行うＩＣカードにおいて、データ読み出し／書き込み装置とのインタフェースを行うインタフェース部と、複数のメモリセルで形成され、データを格納するメモリ部と、該メモリ部の選択されたメモリセルのデータを読み出すセンスアンプ回路部と、該センスアンプ回路部がメモリ部からのデータ読み出しを完了したか否かの検出を行い、該データ読み出しの完了を検出すると、読み出しが完了したことを示す読み出し完了信号を出力する読み出し完了検出部と、上記インタフェース部を介して入力されるデータ読み出し／書き込み装置からのコマンドに従って、上記メモリ部及びセンスアンプ回路部の動作制御を行う制御回路部とを備え、該制御回路部は、上記メモリ部に格納されたデータの読み出しに際して、読み出し完了検出部から読み出し完了信号が出力されない場合、所定のエラー処理を行うものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本第５の発明に係るＩＣカードは、データ読み出し／書き込み装置とのデータの授受を行うＩＣカードにおいて、データ読み出し／書き込み装置とのインタフェースを行うインタフェース部と、複数のメモリセルで形成され、データを格納するメモリ部と、該メモリ部の選択されたメモリセルのデータを読み出すセンスアンプ回路部と、上記インタフェース部を介して入力されるデータ読み出し／書き込み装置からのコマンドに従って、上記メモリ部及びセンスアンプ回路部の動作制御を行う制御回路部とを備え、上記制御回路部は、センスアンプ回路部よりも動作電源電圧の下限値が高くなるように形成されるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月11日(2003.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動源から振動伝達板上に入力された振動が振動検出手段に到達するまでの遅延時間に基づいて当該振動の入力位置を獲得する座標入力装置であって、
前記振動源を第１の駆動レベルで駆動し、前記振動検出手段よりの検出信号に基づいて座標検出用の信号を発生する第１駆動手段と、
前記振動検出手段が検出した検出信号が第１の閾値を越えたか否かを判定する判定手段と、
前記検出信号が前記第１の閾値を越えたと判定された場合、前記振動源を前記第１の駆動レベルよりも低い第２の駆動レベルで駆動し、前記振動検出手段よりの検出信号に基づいて座標検出用の信号を発生する第２駆動手段とを備えることを特徴とする座標入力装置。
【請求項２】
前記第１の閾値は、前記第２の駆動レベルで前記振動源を駆動した場合の、最大の信号値であることを特徴とする請求項１に記載の座標入力装置。
【請求項３】
前記判定手段は、前記振動源を駆動した時点よりの時間の経過に基づいて前記第１の閾値を変化させることを特徴とする請求項１に記載の座標入力装置。
【請求項４】
前記第１駆動手段は、前記振動源を所定の駆動レベルで駆動し、前記振動検出手段より得られた信号を第１の増幅率で増幅して検出信号とし、
前記第２駆動手段は、前記検出信号が前記第１の閾値を越えたと判定された場合、前記振動源を前記所定の駆動レベルで駆動し、前記振動検出手段より得られた信号を前記第１の増幅率よりも低い第２の増幅率で増幅してこれを検出信号とすることを特徴とする請求項１に記載の座標入力装置。
【請求項５】
前記第１駆動手段及び前記第２駆動手段は、前記振動検出手段より得られた信号が第２の閾値を越えた場合に、当該信号を検出信号として用いることを特徴とする請求項１に記載の座標入力装置。
【請求項６】
前記第１の閾値は、前記第１の駆動レベルにおける不要振動の最大値よりも、前記第１の駆動レベルと第２の駆動レベルのレベル比分低い値に設定されることを特徴とする請求項５に記載の座標入力装置。
【請求項７】
前記第１の閾値が前記第２の駆動レベルによって得られる検出信号のほぼ最大値に設定されることを特徴とする請求項６に記載の座標入力装置。
【請求項８】
前記第１及び第２駆動手段は、前記振動源を駆動した時点よりの時間の経過に基づいて前記第２の閾値を変化させることを特徴とする請求項５に記載の座標入力装置。
【請求項９】
前記第１の駆動レベルと第２の駆動レベルに対応する駆動レベルの組み合わせを少なくとも２つ以上有し、前記振動検出手段までの振動の到達遅延時間に基づいて該駆動レベルの組み合わせを変更する変更手段を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の座標入力装置。
【請求項１０】
振動源から振動伝達板上に入力された振動が振動検出手段に到達するまでの遅延時間に基づいて当該振動の入力位置を獲得する座標入力装置の制御方法であって、
前記振動源を第１の駆動レベルで駆動し、前記振動検出手段よりの検出信号に基づいて座標検出用の信号を発生する第１駆動工程と、
前記振動検出手段が検出した検出信号が第１の閾値を越えたか否かを判定する判定工程と、
前記検出信号が前記第１の閾値を越えたと判定された場合、前記振動源を前記第１の駆動レベルよりも低い第２の駆動レベルで駆動し、前記振動検出手段よりの検出信号に基づいて座標検出用の信号を発生する第２駆動工程とを備えることを特徴とする座標入力装置の制御方法。
【請求項１１】
振動源から振動伝達板上に入力された振動が振動検出手段に到達するまでの遅延時間に基づいて当該振動の入力位置を獲得する座標入力装置を制御するための制御プログラムを格納する記憶媒体であって、該制御プログラムが、
前記振動源を第１の駆動レベルで駆動し、前記振動検出手段よりの検出信号に基づいて座標検出用の信号を発生する第１駆動工程のコードと、
前記振動検出手段が検出した検出信号が第１の閾値を越えたか否かを判定する判定工程のコードと、
前記検出信号が前記第１の閾値を越えたと判定された場合、前記振動源を前記第１の駆動レベルよりも低い第２の駆動レベルで駆動し、前記振動検出手段よりの検出信号に基づいて座標検出用の信号を発生する第２駆動工程のコードとを備えることを特徴とする記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月29日(2003.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）多環型の脂環式基と、下記一般式（Ｉ）で表される酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基とを有する樹脂、及び（Ｃ）多環型の脂環式基と、下記一般式（II）で表される酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基とを有する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】
1998307398.tif 000001
一般式（Ｉ）及び（II) において、Ｒ1 〜Ｒ5 は同じでも異なっていてもよく、水素原子、又は置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アシル基、もしくはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ6 は置換基を有していても世い、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基を表す。ただし、式（Ｉ）のＲ1 〜Ｒ3 の内の２つ、又は式（II）のＲ4 〜Ｒ6 の内の２つが結合して３〜８個の炭素原子又はヘテロ環原子からなる環構造を形成してもよい。
【請求項２】
（Ｂ）成分の樹脂が、多環型の脂環式基を有する繰り返し構造単位と、下記一般式（III)、（IV) 及び（Ｖ）で表される繰り返し構造単位の少なくとも一つとを有する樹脂であり、（Ｃ）成分の樹脂が、多環型の脂環式基を有する繰り返し構造単位と、下記一般式（VI）、（VII ）及び（VIII）で表される繰り返し構造単位の少なくとも一つとを有する樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のポジ型感光性組成物。
【化２】
1998307398.tif 000002
式（III) 〜（VIII）中、Ｒ7 及びＲ9 は、同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表し、Ｒ8 は、シアノ基、−ＣＯ−ＯＲ10，又は−ＣＯ−ＮＲ11Ｒ12を表す。Ｒ10〜Ｒ12は、同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有してもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基を表す。また、Ｒ11とＲ12が結合して環を形成してもよい。Ｘ0 〜Ｘ2 は同じでも異なってもよく、単結合であるか、置換基を有していてもよい、アルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、−Ｏ−、−ＳＯ2 −、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ13−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ14−、又は−ＣＯ−ＮＲ15−Ｒ16−を表す。ここに、Ｒ13、Ｒ14及びＲ16は同じでも異なってもよく、単結合もしくは、２価のアルキレン基、アルケニレン基又はシクロアルキレン基を表し、更にこれらの基は、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基あるいはウレイド基とともに２価の基を形成しても良い。また、Ｒ15は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。Ｒ1 〜Ｒ6 は、請求項１に記載のものと同義である。
【請求項３】
（Ｂ）及び（Ｃ）成分の樹脂のいずれか又は両方が、更にカルボキシル基を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項４】
（Ｂ）及び（Ｃ）成分の樹脂のいずれか又は両方が、更にカルボキシル基を有する下記一般式（IX) 、（Ｘ）又は（XI) で表される繰り返し構造単位のうち少なくとも一つを含有することを特徴とする請求項３に記載のポジ型感光性組成物。
【化３】
1998307398.tif 000003
一般式（IX) 〜（XI) において、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ20〜Ｒ22は同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ｒ19はシアノ基、カルボキシル基、−ＣＯ−ＯＲ23又は−ＣＯ−ＮＲ24Ｒ25を表す。Ｘ3 〜Ｘ5 は同じでも異なってもよく、単結合、置換基を有していてもよい、２価のアルキレン基、アルケニレン基もしくはシクロアルキレン基、−Ｏ−、−ＳＯ2 −、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ26−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ27−又は−ＣＯ−ＮＲ28−Ｒ29−を表す。Ｒ23は置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基を表す。Ｒ24、Ｒ25、Ｒ28は同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表し、Ｒ24とＲ25が結合して環を形成してもよい。Ｒ26、Ｒ27、Ｒ29は同じでも異なってもよく、単結合あるいは、２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基を表し、更にこれらの基は、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基又はウレイド基とともに２価の基を形成してもよい。
【請求項５】
酸の作用により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解性が酸の作用により増大する、分子量３，０００以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項６】
露光光源として、２５０ｎｍ以下の遠紫外光を使用することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項７】
露光光源として、２２０ｎｍ以下の遠紫外光を使用することを特徴とする請求項６に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のポジ型感光性組成物により膜を形成し、該膜を露光、現像することを特徴とするポジ型パターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月29日(2003.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂、及び（Ｃ）水に不溶で、アルカリ水溶液に可溶であり、塗膜状態での１７０〜２２０ｎｍの波長の光に対する膜厚１．０μｍ当たりの光学濃度が０．４０μｍ-1以下であるアルカリ可溶性樹脂を含有し、（Ｃ）のアルカリ可溶性樹脂の含有量が、上記（Ａ）〜（Ｃ）の全重量に対して０．１〜２０重量％であることを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
【請求項２】
前記（Ｃ）のアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が１０００〜１０，０００であることを特徴とする請求項１に記載の遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
【請求項３】
前記（Ｂ）の樹脂が、更に脂肪族環状炭化水素部位を有する繰り返し構造単位を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物によりフォトレジスト膜を形成し、遠紫外線を用いて該フォトレジスト膜を露光、現像することを特徴とするポジ型パターン形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月25日(2003.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびその製造法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
［Ａ］アルカリ可溶性環状ポリオレフィン系樹脂、
［Ｂ］１,２−キノンジアジド化合物  および
［Ｃ］樹脂［Ａ］と反応して樹脂［Ａ］間に架橋を形成しうる官能基を有する架橋剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
【請求項２】
層間絶縁膜形成用である請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
（１）請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成された塗膜をプレベークする工程、
（３）工程（２）でプレベークされた塗膜に所定パターンを介して放射線を照射する工程、
（４）工程（３）で得られた塗膜をアルカリ水溶液で現像する工程、
（５）工程（４）で得られたパターン状被膜の全面に放射線を照射する工程  および
（６）工程（５）で得られたパターン状被膜を加熱する工程、
からなることを特徴とする層間絶縁膜の製造法。
【請求項４】
請求項３の方法により製造された層間絶縁膜。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびその製造法に関する。さらに詳しくは、電子部品に用いられる保護膜などを形成するための材料として、または層間絶縁膜、特に、液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子などの層間絶縁膜を形成するための材料として好適な低誘電性の感放射線性樹脂組成物、その組成物から層間絶縁膜を製造する方法および製造された層間絶縁膜に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、絶縁性、平坦性、耐熱性、透明性、耐薬品性などの諸性能に優れるとともに、低誘電性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、感光性、感光後のアルカリ水溶液による現像性、得られる膜の耐熱性、耐溶剤性および透明性を良好に維持しつつ、得られる膜の低誘電化を図るという困難な問題を克服して、上記の如き本発明の感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、本発明の上記感放射線性樹脂組成物から上記の如き優れた諸性能を備えた層間絶縁膜を製造する方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、上記層間絶縁膜を提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明を解決するための手段】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
［Ａ］アルカリ可溶性環状ポリオレフィン系樹脂、
［Ｂ］１,２−キノンジアジド化合物および
［Ｃ］樹脂［Ａ］と反応して樹脂［Ａ］間に架橋を形成しうる官能基を有する架橋剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第２に、
（１）本発明の上記感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成された塗膜をプレベークする工程、
（３）工程（２）でプレベークされた塗膜に所定パターンを介して放射線を照射する工程、
（４）工程（３）で得られた塗膜をアルカリ水溶液で現像する工程、
（５）工程（４）で得られたパターン状被膜の全面に放射線を照射する工程  および
（６）工程（５）で得られたパターン状被膜を加熱する工程、
からなることを特徴とする層間絶縁膜の製造法によって達成される。
また、本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第３に、本発明の上記製造法により形成された層間絶縁膜によって達成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
［塗膜の形成］
シリコン基板上にスピンナーを用いて、得られた上記樹脂組成物溶液を塗布した後、９０℃で１２０秒間ホットプレート上でプレベークして膜厚３.０μｍの塗膜を形成した。
［放射線照射処理、および現像処理］
得られた塗膜に所定のパターンのマスクを介して、３６５ｎｍにおける光強度が５ｍＷ／ｃｍ2である紫外線を空気中で４０秒間照射した。
次いで、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド０.３重量％水溶液により２５℃で６０秒間現像処理を行った後、超純水で１分間リンス処理し、ポジ型のパターンを形成させた。その後、全面に３６５ｎｍにおける光強度が５ｍＷ／ｃｍ2である紫外線を空気中で６０秒間照射した。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月22日(2004.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】制御装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の設定項目のうち、一部の設定項目について設定の変更を不可とする保護モード機能を備えた制御装置において、前記保護モードの解除に、設定不可の所定の入力設定値を入力することで前記保護モードを解除する手段を備えたことを特徴とする制御装置。
【請求項２】
前記設定不可の所定の入力設定値を所定の順番で複数の回数入力することを特徴とする請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】
設定の変更をする設定モードを終了すると再度前記保護モードが働くことを特徴とする請求項１又は２に記載の制御装置。
【請求項４】
前記設定不可の所定の入力設定値として別の数値を入力することで、個別の設定項目の保護モードの解除を行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の制御装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、制御装置に係り、特にポンプ等の回転機器の制御装置の複数の設定項目のうち、一部の設定項目について書換を不可、又は表示を不可とするような、設定の変更を不特定者が不可能とする保護モードを備えた制御装置に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、不特定者が間違って保護モードを解除することなく、且つ必要に応じて簡単に、且つ特定者のみが確実に保護モードを解除することができる制御装置を提供することを目的とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、複数の設定項目のうち、一部の設定項目について設定の変更を不可とする保護モード機能を備えた制御装置において、前記保護モードの解除に、設定不可の所定の入力設定値を入力することで前記保護モードを解除する手段を備えたことを特徴とする制御装置である。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項２に記載の発明は、前記設定不可の所定の入力設定値を所定の順番で複数の回数入力することを特徴とする請求項１に記載の制御装置である。
また、請求項３に記載の発明は、設定の変更をする設定モードを終了すると再度前記保護モードが働くことを特徴とする請求項１又は２に記載の制御装置である。
また、請求項４に記載の発明は、前記設定不可の所定の入力設定値として別の数値を入力することで、個別の設定項目の保護モードの解除を行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の制御装置である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
尚、以上の実施形態においては、ポンプを用いた給水装置の制御装置における保護モードの解除例について説明したが、各種制御装置に同様に適用が可能であることは勿論である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月29日(2003.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作動油中の異物を除去するフィルタを備えた作動油タンクにおいて、底面部と側面部と複数のフィルタエレメント挿入孔を有する天板部とからなるタンク本体と、前記タンク本体内に設けられ、タンク本体内部を流入室と流出室とに区画形成する隔壁と、前記タンク本体の流入室内に設けられ、流入室の上側をフィルタ装着領域に下側を貯留領域とに区画形成するベースプレートと、前記ベースプレートに複数設けられ、前記フィルタ装着領域と前記貯留領域とを連通する複数の流出用配管と、前記各流出用配管に対応するように前記フィルタ装着領域内に着脱可能に設けた複数のフィルタエレメントと、前記隔壁に設けられ、前記貯留領域と前記流出室とを連通する流通口と、前記フィルタ装着領域に通ずるように設けた配管接続部と、前記流出室に通ずるようにタンク本体に設けた吸い込み配管とを備えたことを特徴とする作動油タンク。
【請求項２】
前記タンク本体の流入室側における一方のコーナ部に設けた切り欠き部の下部側に、前記流入室を前記フィルタ装着領域と前記貯留領域とに区画形成するように設けたベースプレートと、前記切り欠きを塞ぐように、前記ベースプレート上に設けた配管接続部を有するＬ字状の立壁板と、複数のフィルタエレメント挿入孔を有する天板部とで構成したことを特徴とする請求項１記載の作動油タンク。
【請求項３】
前記タンク本体の流入室側における一方のコーナ部に設けた切り欠き部の下部に前記流入室を部分的に塞ぐように設けたベースプレートと、前記ベースプレートと共に前記流入室を前記フィルタ装着領域と前記貯留領域とに区画形成するように、前記切り欠き部における前記ベースプレート上に設けた配管接続部を有するコ字状の立壁板と、複数のフィルタエレメント挿入孔を有する天板部とで構成したことを特徴とする請求項１記載の作動油タンク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明は、作動油中の異物を除去するフィルタを備えた作動油タンクにおいて、底面部と側面部と複数のフィルタエレメント挿入孔を有する天板部とからなるタンク本体と、前記タンク本体内に設けられ、タンク本体内部を流入室と流出室とに区画形成する隔壁と、前記タンク本体の流入室内に設けられ、流入室の上側をフィルタ装着領域に下側を貯留領域とに区画形成するベースプレートと、前記ベースプレートに複数設けられ、前記フィルタ装着領域と前記貯留領域とを連通する複数の流出用配管と、前記各流出用配管に対応するように前記フィルタ装着領域内に着脱可能に設けた複数のフィルタエレメントと、前記隔壁に設けられ、前記貯留領域と前記流出室とを連通する流通口と、前記フィルタ装着領域に通ずるように設けた配管接続部と、前記流出室に通ずるようにタンク本体に設けた吸い込み配管とを備えたことを特徴とするものである。