Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月11日(2003.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記第１のテスト発光区間で発光させる第１のテスト発光は前記データ記録信号発光区間の記録マーク領域部分で発光させる記録光パルスのピーク値とボトム値との間のレベルで変調されたパルス発光及びボトム値の連続一定値発光及び記録スペース領域部分で発光させるスペース値の連続一定値発光で構成されたことを特徴とする請求項７記載の半導体レーザの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
以上説明したように、実施の形態１の半導体レーザ制御装置によれば、テスト発光区間では、ボトムＤＣ値、バイアスＤＣ値、マルチパルス平均値を検出して、フィードフォワード制御することにより、データ記録開始直後から半導体レーザの記録パワーを高速に目標パワー値に整定制御することができ、その後のデータ記録信号発光区間では、長マーク発光毎にマルチパルス平均値とボトム検波値を検出し、長スペース発光毎にスペース値（Ｅ）を検出して、フィードバック制御を連続的に動作させることにより、記録動作時間が長くなって半導体レーザの温度特性により目標パワー値に設定する電流値が変化しても、長時間安定に目標記録パワー値に制御維持可能である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
Ｉｐ＝Ｋ（Ｐ＋ΔＰ）
Ｉｅ＝Ｋ（Ｅ＋ΔＥ）
Ｉｂ＝Ｋ（Ｂｄｃ＋ΔＢ）
このようにして求まったピーク値電流データＩｐをＤＡコンバータＤＡＣ１、バイアス電流データＩｅをＤＡコンバータＤＡＣ２、ボトム値電流データＩｂをＤＡコンバータＤＡＣ３へ各々出力する（６２）。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
Ｉｐ＝Ｋ（Ｐ＋ΔＰ）
Ｉｅ＝Ｋ（Ｅ＋ΔＥ）
Ｉｂ＝Ｋ（Ｂ＋ΔＢ）
このようにして求まったピーク値電流データＩｐをＤＡコンバータＤＡＣ１、バイアス電流データＩｅをＤＡコンバータＤＡＣ２、ボトム値電流データＩｂをＤＡコンバータＤＡＣ３へ各々出力する。（７６）。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
以上、図４、図５で説明したように、実施の形態１の半導体レーザ方法によれば、テスト発光区間では、ボトムＤＣ値、バイアスＤＣ値、マルチパルス平均値を検出して、フィードフォワード制御することにより、データ記録開始直後から半導体レーザの記録パワーを高速に目標パワー値に整定制御することができる。その後のデータ記録信号発光区間では、長マーク発光毎にマルチパルス平均値とボトム検波値を検出し、長スペース発光毎にスペース値を検出して、フィードバック制御を連続的に動作させることができる。これにより、記録動作時間が長くなって半導体レーザの温度特性により電流値が変化しても、目標のパワー設定値であるＰｒｅｆ、Ｅｒｅｆ，Ｂｒｅｆが常に得られるように半導体レーザが制御されるので、長時間安定に目標記録パワー値に制御維持可能である。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
（実施の形態２）
図６は本発明の半導体レーザの制御方法の実施の形態２の構成を説明する図である。ＤＶＤ−ＲＷ等の書換え可能な光ディスクの書き継ぎ記録時の半導体レーザの制御動作を時系列に説明している。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５７】
（実施の形態３）
図７は本発明の半導体レーザの制御方法の実施の形態３の構成を説明する図である。ＤＶＤ−Ｒ等の書換え不可能な光ディスクの書き継ぎ記録時の半導体レーザの制御動作を時系列に説明している。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電圧を出力する能力を有する第１の回路と、
第２の電圧を出力する能力を有する第２の回路と、
前記第１の回路と前記第２の回路との間に接続され、それぞれゲート絶縁膜を有する複数のトランジスタにより構成される第３の回路とを具備し、
前記複数のトランジスタは、電流駆動能力が互いに異なる直列接続された第１、第２のトランジスタを有することを特徴とする電圧切り替え回路。
【請求項２】
前記第１、第２のトランジスタは、異なるウエルに形成されていることを特徴とする請求項１記載の電圧切り替え回路。
【請求項３】
前記第１、第２のトランジスタのうち一方は半導体基板上に形成され、他方は半導体基板と同極性のウエルに形成されることを特徴とする請求項１記載の電圧切り替え回路。
【請求項４】
前記第１、第２のトランジスタは、同極性であることを特徴とする請求項１記載の電圧切り替え回路。
【請求項５】
前記第２の電圧は、前記第１の電圧よりも高い電圧であり、かつ前記第２の電圧は、電源電圧より高い電圧であることを特徴とする請求項１記載の電圧切り替え回路。
【請求項６】
前記第１の電圧は、電源電圧以下の電圧であることを特徴とする請求項５記載の電圧切り替え回路。
【請求項７】
前記第１、第２のトランジスタは、しきい値電圧が互いに異なることを特徴とする請求項１、４、６のいずれか１つに記載の電圧切り替え回路。
【請求項８】
前記第１、第２のトランジスタは、チャネル部への不純物注入工程が互いに異なることを特徴とする請求項１または６に記載の電圧切り替え回路。
【請求項９】
前記第１、第２のトランジスタは、チャネル部への不純物注入工程が同じであることを特徴とする請求項１または６に記載の電圧切り替え回路。
【請求項１０】
前記第１、第２のトランジスタは、ゲート絶縁膜厚が異なることを特徴とする請求項９記載の電圧切り替え回路。
【請求項１１】
前記第２の回路側に前記第２のトランジスタが接続され、前記第２のトランジスタのゲート絶縁膜厚は、前記第１のトランジスタのゲート絶縁膜厚よりも大きいことを特徴とする請求項６記載の電圧切り替え回路。
【請求項１２】
前記第２の回路側に前記第２のトランジスタが接続され、前記第２のトランジスタのしきい値電圧は、前記第１のトランジスタのしきい値電圧よりも低いことを特徴とする請求項６記載の電圧切り替え回路。
【請求項１３】
前記第１、第２のトランジスタは、デプレッション型トランジスタであることを特徴とする請求項６記載の電圧切り替え回路。
【請求項１４】
第１の電圧を出力する能力を有する第１の回路と、
第２の電圧を出力する能力を有する第２の回路と、
前記第１の回路と前記第２の回路との間に接続され、それぞれゲート絶縁膜を有する複数のトランジスタにより構成される第３の回路とを具備し、
前記複数のトランジスタは、電流駆動能力が互いに異なる直列接続された第１、第２のデプレッション型のトランジスタを有することを特徴とする電圧切り替え回路。
【請求項１５】
第１の電圧を出力する能力を有する第１の回路と、
第２の電圧を出力する能力を有する第２の回路と、
前記第１の回路と前記第２の回路との間に接続され、直列接続された第１、第２のトランジスタにより構成される第３の回路とを具備し、
前記第１のトランジスタは第１のゲート絶縁膜を有し、前記第２のトランジスタは第２のゲート絶縁膜を有し、前記第２のゲート絶縁膜厚が前記第１のゲート絶縁膜厚よりも厚いことを特徴とする電圧切り替え回路。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１．．．積層型圧電体素子，
１０．．．圧電スタック，
１１．．．第１側面電極，
１１１，１２１．．．第１及び第２絶縁部，
１１２，１２２．．．第１及び第２導電部，
１２．．．第２側面電極，
１３１，１３２．．．圧電層，
１４１，１４２．．．内部電極層，
１６１．．．第１取出電極，
１６２．．．第２取出電極，
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月19日(2003.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】書類作成装置および記録媒体


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
合意した書類を作成する書類作成プログラムを記憶した記録媒体において、
コンピュータに、
書類の項目を入力して当該書類の原型を作成するステップと、
上記作成した原型をセンタを介して他のクライアントに送信するステップと、
上記他のクライアントからセンタを介して返信された内容が修正情報の場合には原型に反映あるいは内容が合意であった場合には合意文書と設定するステップと、
上記設定された合意文書をセンタを介してクライアントに送信して印刷させるステップと
を実行させるための書類作成プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項２】
合意した書類を作成する書類作成プログラムを記憶した記録媒体において、
コンピュータに、
センタから書類の原型が送信されてきたときに受信するステップと、
上記受信した原型を修正した修正情報を上記センタに返信あるいは原型の合意の旨を返信するステップと、
センタから合意文書が送信されてきたときに受信して印刷するステップと
を実行させるための書類作成プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項３】
合意した書類を作成する書類作成プログラムを記憶した記録媒体において、
コンピュータに、
書類の項目を入力して当該書類の原型を作成するステップと、
上記作成した原型を他のクライアントに送信するステップと、
上記他のクライアントから返信されてきた内容が修正情報の場合には原型に反映あるいは内容が合意であった場合には合意文書と設定するステップと、
上記設定された合意文書をクライアントに送信して印刷させるステップと
を実行させるための書類作成プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項４】
合意した書類を作成する書類作成装置において、
書類の項目を入力して当該書類の原型を作成する手段と、
上記作成した原型をセンタを介して他のクライアントに送信する手段と、
上記他のクライアントからセンタを介して返信された内容が修正情報の場合には原型に反映あるいは内容が合意であった場合には合意文書と設定する手段と、
上記設定された合意文書をセンタを介してクライアントに送信して印刷させる手段と
を有する書類作成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、合意した書類を作成する書類作成装置および記録媒体に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月16日(2003.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車体上に、少なくとも起伏自在なブームと、このブームを駆動する油圧アクチュエータと、吐出性能が異なりこの油圧アクチュエータに圧油を供給する複数の油圧源と、この複数の油圧源からの圧油を前記アクチュエータに供給するにあたり圧油を制御する油圧制御手段と、
前記ブームの駆動速度を指示する操作レバーの操作量を検出し操作量信号を出力する操作量信号出力手段と、前記ブームの姿勢を検出し姿勢検出信号を出力する姿勢検出手段と、
この姿勢検出信号に応じて前記操作量信号を補正した制御用信号を出力し前記油圧制御手段を制御する処理部とを備え、
前記複数の油圧源のうち作動している油圧源を検出し油圧源検出信号を出力する油圧源検出手段を設け、この油圧源検出信号を前記処理部に入力させて、ブームの姿勢に加え油圧源に応じても前記操作量信号を補正した制御用信号に基づいて前記油圧制御手段を制御し前記アクチュエータの作動速度を制御することを特徴とするブーム式作業車のブーム制御装置。
【請求項２】
車体上に、少なくとも起伏自在なブームと、このブームを駆動する油圧アクチュエータと、この油圧アクチュエータに圧油を供給するに際して走行用エンジンにより駆動されてそのアクセル開度毎に吐出性能が異なるために別個の油圧源として取り扱う油圧ポンプと、この油圧ポンプからの圧油を前記アクチュエータに供給するにあたり圧油を制御する油圧制御手段と、
前記ブームの駆動速度を指示する操作レバーの操作量を検出し操作量信号を出力する操作量信号出力手段と、前記ブームの姿勢を検出し姿勢検出信号を出力する姿勢検出手段と、
この姿勢検出信号に応じて前記操作量信号を補正した制御用信号を出力し前記油圧制御手段を制御する処理部とを備え、
前記処理部は、ブームの姿勢に加えて前記アクセル開度に応じても前記操作量信号を補正した制御用信号に基づいて前記油圧制御手段を制御し前記アクチュエータの作動速度を制御することを特徴とするブーム式作業車のブーム制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第１の発明は、このような事情に基づいてなされたもので、ブーム駆動用油圧回路に吐出性能が異なる複数の油圧源を有する,この種のブーム式作業車において、いずれの油圧源がブーム駆動用油圧回路に接続された場合にも、ブームの操作性を良好にすることを課題とするものである。
また、第２の発明は、走行用エンジンにより駆動されてそのアクセル開度毎に吐出性能が異なるために別個の油圧源として取り扱われる油圧源を有するブーム式作業車においても、ブームの操作性を良好にすることを課題とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
この第１の課題を解決するために、請求項１記載の発明は、車体上に、少なくとも起伏自在なブームと、このブームを駆動する油圧アクチュエータと、吐出性能が異なりこの油圧アクチュエータに圧油を供給する複数の油圧源と、この複数の油圧源からの圧油を前記アクチュエータに供給するにあたり圧油を制御する油圧制御手段と、前記ブームの駆動速度を指示する操作レバーの操作量を検出し操作量信号を出力する操作量信号出力手段と、前記ブームの姿勢を検出し姿勢検出信号を出力する姿勢検出手段と、この姿勢検出信号に応じて前記操作量信号を補正した制御用信号を出力し前記油圧制御手段を制御する処理部とを備え、前記複数の油圧源のうち作動している油圧源を検出し油圧源検出信号を出力する油圧源検出手段を設け、この油圧源検出信号を前記処理部に入力させて、ブームの姿勢に加え油圧源に応じても前記操作量信号を補正した制御用信号に基づいて前記油圧制御手段を制御し前記アクチュエータの作動速度を制御することを特徴とするブーム式作業車のブーム制御装置である。
この第２の課題を解決するために、請求項２に記載の発明は、車体上に、少なくとも起伏自在なブームと、このブームを駆動する油圧アクチュエータと、この油圧アクチュエータに圧油を供給するに際して走行用エンジンにより駆動されてそのアクセル開度毎に吐出性能が異なるために別個の油圧源として取り扱う油圧ポンプと、この油圧ポンプからの圧油を前記アクチュエータに供給するにあたり圧油を制御する油圧制御手段と、前記ブームの駆動速度を指示する操作レバーの操作量を検出し操作量信号を出力する操作量信号出力手段と、前記ブームの姿勢を検出し姿勢検出信号を出力する姿勢検出手段と、この姿勢検出信号に応じて前記操作量信号を補正した制御用信号を出力し前記油圧制御手段を制御する処理部とを備え、前記処理部は、ブームの姿勢に加えて前記アクセル開度に応じても前記操作量信号を補正した制御用信号に基づいて前記油圧制御手段を制御し前記アクチュエータの作動速度を制御することを特徴とするブーム式作業車のブーム制御装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
そのため、いずれの油圧源がブーム駆動用油圧回路に接続された場合にも、ブームの操作性を良好にすることができる。
請求項２に記載の発明によれば、走行用エンジンにより駆動されてそのアクセル開度毎に吐出性能が異なるために別個の油圧源として取り扱われる油圧源を備えたブーム式作業車のブーム制御装置であっても、油圧制御手段の流量制御が改善され、ブームの操作性が向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月5日(2003.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
機器分析値：
ＴＬＣ（シリカゲル）：Ｒｆ＝０．７（メタノール／０．５Ｍ−ＮａＣｌ＝５：１）．
ＰＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ，δｐｐｍ）：２．２５−２．３５（ｍ，１Ｈ），２．３７（ｍ，１Ｈ），２．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），
２．８２（ｍ，１Ｈ），２．８７（ｓ，１Ｈ），３．６２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３Ｈｚ），３．６５（ｍ，１Ｈ），３．８５−３．８８（ｍ，６Ｈ），３．８９（ｂｒｓ，１Ｈ），３．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５，１３Ｈｚ），４．０７（ｍ，１Ｈ），４．２２（ｂｒｓ，１Ｈ），４．５５（ｍ，１Ｈ）


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
評価例１．マウスへの腹腔内投与：
化合物（１）を精製水で希釈し、ＤＤＹマウス（オス、１５ｇ）の腹腔内に注入した。低用量（２０μｇ／ｋｇ）では脇腹をむやみに掻く行動（ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ）を繰り返すようになり、この行動は１０−２０分継続した。中用量（１．３ｍｇ／ｋｇ）では癲癇様の痙攣を示し、この症状は翌日には回復した。しかし、さらに投与量を上げると（６．５ｍｇ／ｋｇ）、激しい発作の後約４０分で死亡した。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月21日(2003.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
限外濾過加圧：９８０６６．５Ｐａ（１ｋｇ／ｃｍ2）
循環流速：５ Ｌ（リットル）／ｍｉｎ．
本発明に用いる「ハイドロゲル形成性高分子」の水溶液は、低温（ゾル−ゲル転移より低い温度）では流動性のある水溶液状態を呈し、高温（ゾル−ゲル転移より高い温度）では、流動性を失ってハイドロゲル状態を呈するという、熱可逆性ゾル−ゲル転移を示す。本発明者の知見によれば、このような熱可逆性ゾル−ゲル転移のメカニズムは、以下のように推定される。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
本発明の型取り剤におけるハイドロゲル形成性高分子の好適な濃度は、該高分子の分子量にもある程度依存するが、通常、（分散媒＋高分子の合計重量を基準として）５〜２５質量（ｗｔ）％、更には１０〜２０質量（ｗｔ）％（特に１４〜１８質量（ｗｔ）％）の範囲であることが好ましい。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
このような「他の成分」の典型的な例としては、充填材が挙げられる。このような充填材を配合することにより、ゲル化物の強さを更に改善することが可能となる。該充填材の例としては、ケイソウ土、粘土、シリカ、ワックス等が挙げられる。これらの充填材は、細かい粉末状でミセル（ないしゲル）の網目に捕捉され易いので、その分、ゲルを硬くする作用がある。この充填材の量比は、ハイドロゲル形成性高分子１００質量（重量）部に対して、５〜１０００質量（重量）部程度（更には５０〜５００質量（重量）部程度）であることが好ましい。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
上記により得た「高分子（Ｉ）」７．５ｇを、４２．５ｇの蒸留水に氷冷下で溶解した（高分子濃度１５質量（ｗｔ）％）。この水溶液のゾル−ゲル転移温度を、前述した装置を用い、貯蔵弾性率（Ｇ´、弾性項）が損失弾性率（Ｇ℃、粘性項）を上回る点の温度として測定したところ、該ゾル−ゲル転移温度は１９℃であった。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
この高分子（Ｉ）の水溶液５０ｇ（高分子濃度１５質量（ｗｔ）％）にけいそう土（関東化学（株）製）１０ｇを、氷冷下で分散させ、本発明の型取り剤を得た。このゾル状液を徐々に加温すると、約１９℃で流動性を失い、ゲル化した。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
上記により得た「高分子（II）」１５ｇを、８５ｇの蒸留水に氷冷下で溶解した（高分子濃度１５質量（ｗｔ）％）。この水溶液のゾル−ゲル転移温度を実施例１と同様の方法で測定したところ、該ゾル−ゲル転移温度は１５℃であった。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
この高分子（II）の水溶液５０ｇ（高分子濃度１５質量（ｗｔ）％）にけいそう土（関東化学（株）製）１０ｇを、氷冷下で分散させ、本発明の型取り剤を得た。このゾル状液を徐々に加温すると、約１５℃で流動性を失い、ゲル化した。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
このようにして得たゲルを再度冷却すると、約１５℃で流動性を取り戻し、再びゾル状液に戻った。このようにして得たゾル状液は、使用時まで冷蔵庫（約４℃）にて保管した。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月22日(2003.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
表１中の数字は、重量部を表わし（以下、表２、３、４も同じ）、天然ゴムラテックスは、乾燥した固形分を表わす。天然ゴムラテックスは、低アンモニア濃縮天然ゴムラテックスを、シリカは、湿式法ホワイトカーボン（酸化けい酸８３〜８８％、ＰＨ８〜９、徳ソー株式会社製、トクシールＧＵ）を、それぞれ用いた。
先ず、表１中の配合１について説明する。秤量し、そのうちのシリカを、三次元密閉型二軸混合機（住友重機械株式会社製）のキャビテイ内に全量入れ、その上に、天然ゴムラテックスを滴下しつつ、ローター羽根を３０ｒｐｍで回転し、１０分続けて、粉末ゴムを得た。この粉末ゴムは、粒径が１．５ｍｍと大きく、本発明の目的とする１．０ｍｍにはなりえなかった。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
表２中の配合６について、先ず説明する。秤量し、配合２の粉末ゴムを、二次元密閉型二軸混合機のキャビテイ内に入れ、１分後、プロセスオイルとシリコーンオイルを入れ混練し、硫酸バリウムを入れ、１０分間混練し、更に、５分おきに、加硫促進助剤（亜鉛華、硫黄、ステアリン酸）と加硫促進剤（ＤＭ、ＴＴ、ＣＺ）を入れ、混練を続け、ゴム組成物を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月11日(2003.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方がハロゲンを含む表面を有する第１の被接合部材と、この第１の被接合部材と同種あるいは異種の第２の被接合部材とを前記ハロゲンを含む表面において接触させ、両者を相互に接合することを特徴とする固体接合方法。
【請求項２】
接合する第１の被接合部材と第２の被接合部材との少なくとも一方の表面にフッ化物層を堆積し、このフッ化物層を介して前記第１、第２の被接合部材を相互に接合することを特徴とする固体接合方法。
【請求項３】
被接合部材の表面にハロゲンを添加するハロゲン化処理部と、前記被接合部材の前記ハロゲン化処理部によりハロゲンの添加された面に第２の被接合部材を接触させて接合する接合処理部とを有することを特徴とする固体接合装置。
【請求項４】
被接合部材の表面にフッ化物層を堆積するフッ化物層形成部と、前記被接合部材の前記フッ化物層形成部により形成された前記フッ化物層に第２の被接合部材を接触させて接合する接合処理部とを有することを特徴とする固体接合装置。
【請求項５】
相互に接合する導体の少なくとも一方の表面をハロゲン化処理したのち、ハロゲン化処理した面において導体を相互に接触させて接合することを特徴とする導体接合方法。
【請求項６】
接合する導体の少なくとも一方の表面にフッ化物層を堆積し、このフッ化物層を介して導体を相互に接合することを特徴とする導体接合方法。
【請求項７】
電子部品の真空パッケージ等に用いるパッケージ方法であって、パッケージを構成する上蓋または下蓋の少なくとも一方の接合部をハロゲン化処理したのち、両者を接触させて接合することを特徴とするパッケージ方法。
【請求項８】
電子部品の真空パッケージ等に用いるパッケージ方法であって、パッケージを構成する上蓋または下蓋の少なくとも一方の接合部にフッ化物層を堆積し、このフッ化物層を介して前記上蓋と前記下蓋とを相互に接合すること特徴とするパッケージ方法。
【請求項９】
一対の固体間に介装して両者を接合する接合材であって、接合材の表面がフッ化されていることを特徴とする接合材。
【請求項１０】
一対の固体間に介装して両者を結合する接合材の製造方法であって、反応性フッ素系ガスと水蒸気との混合ガスを接合材に接触させて接合材をフッ化することを特徴とする接合材の製造方法。
【請求項１１】
一対の固体間に介装して両者を接合する接合材の製造方法であって、少なくともフッ素系ガスを含むガスを介した放電により活性なフッ素を生成し、この活性なフッ素を接合材に接触させて接合材をフッ化することを特徴とする接合材の製造方法。
【請求項１２】
一対の固体間に介装して両者を結合する接合材の製造方法であって、フッ素系ガスに紫外線を照射して活性なフッ素を生成し、この活性なフッ素を前記接合材に接触させて接合材をフッ化することを特徴とする接合材の製造方法。
【請求項１３】
一対の固体間に介装して両者を結合する接合材の製造方法であって、接合材を反応性のフッ素系物質からなる蒸気に接触させてフッ化することを特徴とする接合材の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月28日(2004.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
パーソナルコンピュータからこめかみに装着される少なくとも１対の電極に低周波信号を供給することにより治療を行わせるための目の治療システムであって、
毛様体筋を電気刺激するための前記低周波信号を発生する低周波信号発生手段及び所定時間ごとに出力レベルが低減する出力モードで前記低周波信号を繰り返し出力させる出力制御手段として前記パーソナルコンピュータを機能させるプログラムデータを発生するプログラムデータ発生手段と、前記パーソナルコンピュータにロードされるように、前記プログラムデータを通信回線を介して伝送する伝送制御手段とを備えたことを特徴とする目の治療システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
前述の治療用プログラムは、図７に示す通信回線を利用して構成されるシステムで送信可能である。即ち、プログラムの提供者側に、毛様体筋を電気刺激するための低周波信号を発生する低周波信号発生手段及び所定時間ごとに出力レベルが低減するように低周波信号を繰り返し出力させる出力制御手段の双方の手段としてパソコン３０を機能させる前述の類のプログラムデータを発生するプログラムデータ発生手段３２と、プログラムデータをモデムと協動して通信回線３５を介して伝送する伝送制御手段３３とを用意する。このシステムの利用者は、伝送制御手段３１が付属したパソコン３０にプログラム提供者のシステムと通信回線３５を介して接続することにより、プログラムデータをパソコン３０にロードさせ、スピーカ端子に電極２８を接続するか又は出力アダプタをイヤホーンジャックに接続することにより治療を行う。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月22日(2003.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】動圧型軸受装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定軸の外周にリング状のフランジを配置するとともに、前記フランジに近接して対向するリング状のスラスト板を配置し、前記フランジと前記スラスト板の少なくとも一方の対向面に動圧発生溝を形成し、前記フランジと前記スラスト板との間に潤滑剤を充填し、前記フランジは、少なくとも前記スラスト板に対向する一側面に、母材より硬質な被膜層を備えたことを特徴とする動圧型軸受装置。
【請求項２】
母材が真鍮であり、被膜層が無電解ニッケルメッキ層であることを特徴とする請求項１記載の動圧型軸受装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の動圧型軸受装置は、固定軸の外周にリング状のフランジを配置するとともに、前記フランジに近接して対向するリング状のスラスト板を配置し、前記フランジと前記スラスト板の少なくとも一方の対向面に動圧発生溝を形成し、前記フランジと前記スラスト板との間に潤滑剤を充填し、前記フランジは、少なくとも前記スラスト板に対向する一側面に、母材より硬質な被膜層を備えたものであり、また前記母材としては真鍮が、前記被膜層としては無電解ニッケルメッキ層が好適に適用し得るものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記した構成により、内径部の直角度をはじめとするフランジの形状精度を出せるとともに、スラスト板が回転した時に適切なスラスト浮上量を与えることができ、フランジの周端面をスラスト板と非接触状態に維持し、焼き付きを防止することができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の実施の形態】
請求項１に記載の発明は、固定軸の外周にリング状のフランジを配置するとともに、前記フランジに近接して対向するリング状のスラスト板を配置し、前記フランジと前記スラスト板の少なくとも一方の対向面に動圧発生溝を形成し、前記フランジと前記スラスト板との間に潤滑剤を充填し、前記フランジは、少なくとも前記スラスト板に対向する一側面に、母材より硬質な被膜層を備えたものであり、これにより、母材に加工性の良好な材料を使用できるため、フランジの形状精度を良好なものとすることができ、その上に、母材より硬質な被膜層を備えるため、フランジの摩耗および焼き付きを防止することができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１記載の構成において、母材を真鍮とし、被膜層を無電解ニッケルメッキ層としたものであり、これにより、固定軸に対するフランジ面の直角度及び面振れ精度がより良好なフランジ付きシャフトを仕上げることができ、かつ、フランジの耐摩耗性、耐焼き付き性も一層向上できる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら具体的に説明する。
ただし、本発明の実施の形態における動圧型軸受装置は、先に図６を用いて説明したものとほぼ同様の構成を有しているので、同様の作用を有する部材に図６と同じ符号を付して、図示および詳しい説明を一部省略する。
（実施の形態１）
図１（ａ）の横断面図および図１（ｂ）の縦断面図に示すように、本発明の実施の形態１における動圧溝型軸受装置のフランジ５は、母材１１によってリング状に形成され、その表面全体に、硬質被膜層１２が形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月3日(2003.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼鏡枠又は型板等の玉型形状を測定する眼鏡枠形状測定装置において、眼鏡枠を所期する状態に保持する保持手段と、該保持手段に保持された眼鏡枠の枠溝に当接する測定子と、該測定子を玉型形状の動径方向へ移動するためのモータを持つ移動手段と、前記測定子の移動に基づいて眼鏡枠の動径情報を得る測定手段と、該測定手段により得られる結果に基づいて測定途中の前記モータの駆動を可変制御する制御手段と、を備えることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
【請求項２】
請求項１の制御手段は、前記測定手段により得られる測定済みの動径情報の変化を基に未測定部分の動径変動を予測し、その予測した動径変動に応じて前記モータを駆動制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
【請求項３】
請求項１の眼鏡枠形状測定装置において、さらに、前記測定子を前記動径方向と直交する第２方向に移動するための第２モータを持つ第２移動手段と、前記測定子の第２方向への移動情報を得る第２測定手段と、該第２測定手段により得られる結果に基づいて測定途中の前記第２モータの駆動を制御する第２制御手段と、を備えることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
【請求項４】
請求項３の第２制御手段は、前記第２測定手段により得られる測定済みの前記第２方向における変動情報を基に未測定部分の第２方向における変動を予測し、その予測した変動に応じて前記測定子を移動するように前記第２モータを駆動制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
【請求項５】
眼鏡枠又は型板等の玉型形状を測定する眼鏡枠形状測定装置において、眼鏡枠を所期する状態に保持する保持手段と、該保持手段に保持された眼鏡枠の枠溝に当接する測定子と、該測定子を玉型形状の動径方向と直交する方向へ移動するためのモータを持つ移動手段と、前記測定子の移動に基づいて前記動径方向と直交する方向への眼鏡枠の変動情報を得る測定手段と、該測定手段により得られる結果に基づいて測定途中の前記モータの駆動を可変制御する制御手段と、を備えることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
【請求項６】
眼鏡枠又は型板等の玉型形状を測定するための眼鏡枠形状測定装置において、水平面に対して傾斜して設けられた測定基準平面に沿って眼鏡枠を保持する保持手段と、該保持手段に保持された眼鏡枠の枠溝に当接する測定子と、該測定子を前記測定基準平面に沿う方向に移動するためのモータを持つ移動手段と、前記測定子の移動に基づいて眼鏡枠の動径情報を得る測定手段と、前記測定基準平面の傾斜状態に基づいて測定中の前記モータの駆動を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（１）  眼鏡枠又は型板等の玉型形状を測定する眼鏡枠形状測定装置において、眼鏡枠を所期する状態に保持する保持手段と、該保持手段に保持された眼鏡枠の枠溝に当接する測定子と、該測定子を玉型形状の動径方向へ移動するためのモータを持つ移動手段と、前記測定子の移動に基づいて眼鏡枠の動径情報を得る測定手段と、該測定手段により得られる結果に基づいて測定途中の前記モータの駆動を可変制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の制御手段は、前記測定手段により得られる測定済みの動径情報の変化を基に未測定部分の動径変動を予測し、その予測した動径変動に応じて前記モータを駆動制御することを特徴とする。
（３）  （１）の眼鏡枠形状測定装置において、さらに、前記測定子を前記動径方向と直交する第２方向に移動するための第２モータを持つ第２移動手段と、前記測定子の第２方向への移動情報を得る第２測定手段と、該第２測定手段により得られる結果に基づいて測定途中の前記第２モータの駆動を制御する第２制御手段と、を備えることを特徴とする。
（４）  （３）の第２制御手段は、前記第２測定手段により得られる測定済みの前記第２方向における変動情報を基に未測定部分の第２方向における変動を予測し、その予測した変動に応じて前記測定子を移動するように前記第２モータを駆動制御することを特徴とする。
（５）  眼鏡枠又は型板等の玉型形状を測定する眼鏡枠形状測定装置において、眼鏡枠を所期する状態に保持する保持手段と、該保持手段に保持された眼鏡枠の枠溝に当接する測定子と、該測定子を玉型形状の動径方向と直交する方向へ移動するためのモータを持つ移動手段と、前記測定子の移動に基づいて前記動径方向と直交する方向への眼鏡枠の変動情報を得る測定手段と、該測定手段により得られる結果に基づいて測定途中の前記モータの駆動を可変制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
（６）  眼鏡枠又は型板等の玉型形状を測定するための眼鏡枠形状測定装置において、水平面に対して傾斜して設けられた測定基準平面に沿って眼鏡枠を保持する保持手段と、該保持手段に保持された眼鏡枠の枠溝に当接する測定子と、該測定子を前記測定基準平面に沿う方向に移動するためのモータを持つ移動手段と、前記測定子の移動に基づいて眼鏡枠の動径情報を得る測定手段と、前記測定基準平面の傾斜状態に基づいて測定中の前記モータの駆動を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月19日(2004.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次電子線を発生させる電子源と、該一次電子線を集束するレンズ系と、試料を載置する試料台と、試料台を含む試料室に試料を搬送する搬送手段と、上記集束した一次電子線を試料上で偏向させる偏向電極と該偏向電極を駆動するための偏向信号発生器と、該一次電子線を試料に照射することにより試料から発生する二次荷電粒子を検出する二次荷電粒子検出器と、検出器に零または正の電圧を印加するための第一の電源と、前記検出器からの信号をデジタル信号に変換するためのＡＤ変換器と、該デジタル信号に基づき検査されるべき画像を形成して記憶するための画像メモリと、記憶された当該領域の画像を他の同一回路パターンの画像と比較するための比較演算回路と、比較結果から回路パターン上の欠陥を判別するための演算回路と、前記試料台に負の電圧を印加するための第二の電源と、該第二の電源により印加される電圧を制御するための制御回路と、被検査回路パターンに応じた各種検査条件をデータベース化して記憶するメモリと、該検査条件を設定し検査を実行するための操作画面および操作部と、を備えた回路パターンの検査装置。
【請求項２】
請求項１記載の検査装置において、試料あるいは試料台あるいは試料近傍に零または負の電位を印加する手段と、該零または負の電位を制御して被検査基板に照射する一次電子線のエネルギーを制御する手段と、試料基板上の回路パターンの材質や形状に応じた電位の値を予め登録する手段と、検査時に該登録条件を呼び出し、該負電位を自動設定する手段を有する、回路パターンの検査装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の検査装置において、試料あるいは試料台あるいは試料近傍に零または負の電位を印加する手段と、該負の電位設定に連動して、偏向電極の信号、電子線を収束させるためのレンズ、検出器のゲインを調整する手段を有する、回路パターンの検査装置。
【請求項４】
一次電子線を発生させる電子源と、該一次電子線を集束するレンズ手段と、試料を載置する試料台と、試料台を含む試料室に試料を搬送する搬送手段と、上記集束した一次電子線を試料上で走査させる一次電子線走査手段と、該試料から二次的に発生する二次荷電粒子を検出する手段と、該検出器からの信号に基づいて画像を形成して記憶する手段と、該記憶手段に記憶された当該領域の画像を他の同一の回路パターンが形成された領域の画像と比較する手段と、比較結果から回路パターン上の欠陥を判別する手段と、から成る回路パターンの検査装置であって、試料基板上の回路パターンの材質または形状におよび検出したい欠陥の種類に応じた電子ビーム照射量を制御する手段を有する、回路パターンの検査装置。
【請求項５】
請求項１から４記載のいずれかの検査装置において、操作画面に試料台に印加する負の電圧あるいは試料に照射する電子線の照射エネルギー、試料に照射する電子線のビーム電流を入力する画面を有することを特徴とする回路パターンの検査装置。
【請求項６】
請求項１から５記載のいずれかの検査装置において、予め被検査パターンの情報と検査条件の対応をデータベースとして登録できる記憶部と、操作画面より被検査パターンの条件を入力する手段、該入力により検査条件を検索する手段を有し、操作画面上に被検査パターンに対する検査条件の推奨値を提示する機能を備えたことを特徴とする回路パターンの検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
高速に電子線画像を取得する方法としては、試料台を連続的に移動しながら試料台上の半導体ウエハに電子線を連続照射し取得する方法が特開昭59-160948号および特開平5-258703号公報に開示されている。また、従来のSEMで用いられてきた二次電子の検出装置として、シンチレータ（Al蒸着された蛍光体）とライトガイドと光電子増倍管による構成が用いられているが、このタイプの検出装置は、蛍光体による発光を検出するため、周波数応答性が悪く、高速に電子線画像形成するには不適切である。この問題を解決するために、高周波の二次電子信号を検出する検出装置として、半導体検出器を用いた検出手段が特開平5-258703号公報に開示されている。さらに、試料台を連続的に移動しながら試料台上の半導体ウエハ上の同一箇所に電子線を高速に１回あるいは数回走査して高速に画像を取得し、画像を比較により欠陥を自動検査する技術が特開平10−294345号公報に開示されている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月22日(2003.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体材料基板又は半導体材料層の所定位置に不純物を導入して不純物析出領域を形成し、
前記不純物析出領域をマイクロマスクとして前記材料基板又は前記材料層に対して高選択比異方性エッチングを行い、前記材料基板又は前記材料層のエッチング露出面にマイクロマスク部分を頂点とする錐体を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置の製造方法において、
前記析出領域は、
前記材料基板又は材料層の主成分材料と異なるエッチングレートを備え、
前記材料基板又は前記材料層の所定位置に導入した不純物を熱処理によって前記材料基板又は前記材料層の結晶中に析出させて形成したことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
半導体材料基板又は半導体材料層の所定位置に形成された不純物析出領域をマイクロマスクとして該材料基板又は材料層を高選択比異方性エッチングして形成した錐体が、
前記不純物析出領域を頂点とし、かつ、先端付近の曲率半径が数ｎｍ〜十数ｎｍ又は先端付近の直径が概ね１０ｎｍ〜３０ｎｍで、アスペクト比がおよそ１０又はそれ以上の錐体形状を備えることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
不純物析出領域をマイクロマスクとして高選択比異方性エッチングし、
半導体材料基板又は半導体材料層のエッチング露出面にマイクロマスク部分を頂点とする微小突起を形成することを特徴とする微小突起の製造方法。
【請求項５】
前記微小突起の高さはマイクロマスクの形成位置からエッチング露出面までの距離にほぼ一致していることを特徴とする請求項４に記載の微小突起の製造方法。
【請求項６】
前記微小突起は錐体であり、円錐、楕円錘、多角錘のいずれかであることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の微小突起の製造方法。
【請求項７】
複数の前記不純物析出領域をそれぞれマイクロマスクとして得られた複数の前記微小突起はそれぞれ錐体であり、前記複数の錐体は互いにほぼ相似形状であることを特徴とする請求項４〜請求項６のいずれか一つに記載の微小突起の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る半導体装置の製造方法では、半導体材料基板又は半導体材料層の所定位置に不純物を導入して不純物析出領域を形成し、前記不純物析出領域をマイクロマスクとして前記材料基板又は前記材料層に対して高選択比異方性エッチングを行い、前記材料基板又は前記材料層のエッチング露出面にマイクロマスク部分を頂点とする錐体を形成することを特徴とする。あるいは本発明にかかる微小突起の製造方法では、不純物析出領域をマイクロマスクとして高選択比異方性エッチングし、半導体材料基板又は半導体材料層のエッチング露出面にマイクロマスク部分を頂点とする微小突起を形成する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明に係る半導体装置では、半導体材料基板又は半導体材料層の所定位置に形成された不純物析出領域をマイクロマスクとして該材料基板又は材料層を高選択比異方性エッチングして形成した錐体が、前記不純物析出領域を頂点とし、かつ、先端付近の曲率半径が数ｎｍ〜十数ｎｍ又は先端付近の直径が概ね１０ｎｍ〜３０ｎｍで、アスペクト比がおよそ１０又はそれ以上の錐体形状を備えることを特徴とする。
また、本発明の他の態様では、微小突起の高さはマイクロマスクの形成位置からエッチング露出面までの距離にほぼ一致した高さの微小突起を得ることができる。
また本発明の他の態様では、複数の不純物析出領域をそれぞれマイクロマスクとして得られた複数の微小突起はそれぞれ錐体で、この複数の錐体が互いにほぼ相似形状とすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
【発明の効果】
以上示したように、本発明の半導体装置、微小突起又はその製造方法によれば、極めて鋭く細い錐体を形成することが可能となる。この錐体は、基板中などにマイクロマスクとなる析出領域を形成し異方性エッチングを行うことでこのマイクロマスクを頂点として形成されるため、例えばフォトリソグラフィなどの露光解像度の限界よりさらに小さいサイズの円錐等の錐体も容易に作製することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月18日(2003.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
敷設面上に所要数敷設されている植物栽培コンテナからなる植物栽培コンテナ群と、該植物栽培コンテナ群の外周縁から所定間隔を置いて設けられている仕切部材と、該植物栽培コンテナ群の外周縁と該仕切部材との間に敷設されている仕上材とからなる植物栽培領域のボーダー部処理構造において、該仕上材が少なくとも該植物栽培コンテナ群の外周縁の高さ若しくは該仕切部材の高さの何れか一方と略同一面になるように敷設されていることを特徴とする植物栽培領域のボーダー部処理構造。
【請求項２】
敷設面上に所要数敷設されている植物栽培コンテナからなる植物栽培コンテナ群と、該植物栽培コンテナ群の外周縁から所定間隔を置いて設けられている仕切部材と、該植物栽培コンテナ群の外周縁と該仕切部材との間に敷設されている仕上材とからなる植物栽培領域のボーダー部処理構造において、該仕上材の下方にボーダー下地材が配設されていることを特徴とする植物栽培領域のボーダー部処理構造。
【請求項３】
敷設面上に所要数敷設されている植物栽培コンテナからなる植物栽培コンテナ群と、該植物栽培コンテナ群の外周縁から所定間隔を置いて設けられている仕切部材と、該植物栽培コンテナ群の外周縁と該仕切部材との間に敷設されている仕上材とからなる植物栽培領域のボーダー部処理構造において、該植物栽培コンテナ群の外周縁と該仕切部材の外周縁との間に給水管が配設されていることを特徴とする植物栽培領域のボーダー部処理構造。
【請求項４】
敷設面上に所要数敷設されている植物栽培コンテナからなる植物栽培コンテナ群と、該植物栽培コンテナ群の外周縁から所定間隔を置いて設けられている仕切部材と、該植物栽培コンテナ群の外周縁と該仕切部材との間に敷設されている仕上材とからなる植物栽培領域のボーダー部処理構造において、該植物栽培コンテナ群の外周縁と前記仕切部材の外周縁との間に給排水機構が設けられていることを特徴とする植物栽培領域のボーダー部処理構造。
【請求項５】
敷設面上に所要数敷設されている植物栽培コンテナからなる植物栽培コンテナ群と、該植物栽培コンテナ群の外周縁から所定間隔を置いて設けられている仕切部材と、該植物栽培コンテナ群の外周縁と該仕切部材との間に敷設されている仕上材とからなる植物栽培領域のボーダー部処理構造において、該植物栽培コンテナに植物育成材が詰められ植物が植栽されていると共に、該植物栽培コンテナ群の外周縁付近の植物が除去され、該除去部分に仕上材が敷設されていることを特徴とする植物栽培領域のボーダー部処理構造。
【請求項６】
前記除去部分における前記植物育成材の表面に嫌根部材が埋設され、該嫌根部材の上面に前記仕上材が敷設されていることを特徴とする請求項５記載の植物栽培領域のボーダー部処理構造。
【請求項７】
前記仕上材の少なくとも表面がバインダー処理されていることを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の植物栽培領域のボーダー部処理構造。
【請求項８】
前記仕切部材が縁石若しくは建物の壁若しくはパラペットであることを特徴とする請求項１乃至７の何れかに記載の植物栽培領域のボーダー部処理構造。
【請求項９】
前記仕上材が板状体であることを特徴とする請求項１乃至８の何れかに記載の植物栽培領域のボーダー部処理構造。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月30日(2003.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
底板の周囲が傾斜状に立ち上げられて外周側壁が形成されてなるパチンコ用玉箱であって、少なくとも前記外周側壁または玉箱全体が透明または半透明の材料で形成されたものにおいて、
前記底板の中央に、内側に向けて突出状に上げ底側壁および上げ底面からなる上げ底部を形成することにより、該上げ底部の周囲に前記上げ底側壁と前記底板と前記外周側壁とで少なくともパチンコ玉が１個入る寸法の断面溝幅を有する周囲凹部を形成してなる
ことを特徴とするパチンコ用玉箱。
【請求項２】
前記玉箱全体が樹脂材料からなる一体成形品とされることを特徴とする請求項１に記載のパチンコ用玉箱。
【請求項３】
前記上げ底部のみを別体に構成し、当該上げ底部を前記玉箱の底板に装着するように構成されることを特徴とする請求項１に記載のパチンコ用玉箱。
【請求項４】
前記底板の形状が略長方形に設定され、前記上げ底部の上げ底面が、その長辺方向中心線上で最も隆起する側断面の円弧状に形成された
ことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のパチンコ用玉箱。
【請求項５】
前記外周側壁の傾斜角度が前記上げ底側壁の傾斜角度よりも大なるように設定された
ことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のパチンコ用玉箱。
【請求項６】
長辺方向に形成された周囲凹部の断面溝幅の寸法が、短辺方向に形成された左右の周囲凹部の断面溝幅の寸法よりも大きく設定された
ことを特徴とする請求項４または請求項５に記載のパチンコ用玉箱。
【請求項７】
前記周囲凹部の内底面に、パチンコ玉に帯電した静電気を放電するために、パチンコ玉の一部が底板より下方に露出する程度の大きさの開口穴を設けた
ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一つに記載のパチンコ用玉箱。
【請求項８】
略長方形の底板の周囲が傾斜状に立ち上げられて外周側壁が形成されてなるパチンコ用玉箱であって、少なくとも前記外周側壁または玉箱全体が透明または半透明の材料で形成されたものにおいて、
前記外周側壁の上端が外方向に張出されて四方に上縁部が形成され、前記四方の上縁部のうち、短辺を有する左右の上縁部に把持部が形成されるとともに、長辺を有する前後の上縁部の上面の左右端近傍に、パチンコ玉が前記上縁部を伝って玉箱から落下するのを防止するための落下防止用凸部が形成されている
ことを特徴とするパチンコ用玉箱。
【請求項９】
前記上げ底面が弾力性を有してなり、玉箱内に落とし込まれるパチンコ玉の衝撃を和らげるように構成された
ことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか一つに記載のパチンコ用玉箱。