【手続補正書】
【提出日】平成16年1月23日(2004.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ発生部の噴射口を被エッチング物の所定の相対厚部に対向させ、活性種ガスを上記噴射口から噴射して、上記相対厚部を平坦にエッチングするプラズマエッチング方法において、上記相対厚部の実際のエッチング量をレーザ光で測定する第１の過程と、上記エッチング量が予め定められた所定値に達したときに、上記相対厚部のエッチングを止める第２の過程とを具備し、
第１の過程は、上記相対厚部を略平担化すべき所望エッチング量を所定レーザ光の半波長で除した整数値を予め設定する過程と、上記レーザ光を所定反射面と上記相対厚部表面とに照射し、上記反射面からの反射光と上記相対厚部表面からの反射光とによる干渉状態が上記相対厚部のエッチング量に対応して周期的に変化する回数を測定する過程とを具備し、
上記第２の過程は、上記干渉状態の周期的変化の回数と上記整数値とが一致したときに、上記相対厚部のエッチングを止める過程を具備する、
ことを特徴とするプラズマエッチング方法。
【請求項２】
プラズマ発生部の噴射口を被エッチング物の所定の相対厚部に対向させ、活性種ガスを上記噴射口から噴射して、上記相対厚部を平坦にエッチングするプラズマエッチング方法において、上記相対厚部の実際のエッチング量をレーザ光で測定する第１の過程と、上記エッチング量が予め定められた所定値に達したときに、上記相対厚部のエッチングを止める第２の過程とを具備し、
上記第１の過程は、上記相対厚部を略平担化すべき所望エッチング量を予め設定する過程と、所定レーザ光を所定反射面と上記相対厚部表面とに照射し、上記反射面からの反射光と上記相対厚部表面からの反射光とによる干渉光を電気信号に変換する過程と、電気信号とエッチング量との関係を示す一定の基準関数を設定し、この基準関数を、エッチング時における電気信号の初期値に基づいて所定量シフトさせることで、予想される電気信号とエッチング量との関係を示すシフト関数を作成し、このシフト関数に漸次変換される電気信号の値を当て嵌めることで、実際のエッチング量を求める過程とを具備し、
上記第２の過程は、上記実際のエッチング量と上記所望エッチング量とがほぼ一致したときに、上記相対厚部に対するエッチングを止める過程を具備する、
ことを特徴とするプラズマエッチング方法。
【請求項３】
プラズマ励起した活性種ガスを被エッチング物の所定の相対厚部に噴射する噴射口を有したプラズマ発生部と、上記相対厚部の実際のエッチング量をレーザ光で測定する測定部と、上記測定部で測定される実際のエッチング量と予め定められた所定値とを比較し、上記エッチング量と所定値とが一致したときに、上記相対厚部に対するエッチング動作をとめる制御部とを具備し、
上記測定部は、所定波長のレーザ光を所定反射面と上記相対厚部表面とに照射して、上記反射面からの反射光と上記相対厚部表面からの反射光とを受光し、これらの反射光による干渉状態が上記相対厚部のエッチング量に対応して周期的に変化する回数を測定するものであり、
上記制御部は、上記相対厚部を略平担化すべき所望エッチング量を上記レーザ光の半波長で除した整数値と上記測定部で測定された上記回数とが一致したときに、上記相対厚部のエッチングを止めるものである、
ことを特徴とするプラズマエッチング装置。
【請求項４】
請求項３に記載のプラズマエッチング装置において、
上記測定部は、
上記レーザ光を送受光し、受光レーザ光による干渉状態の周期的変化の回数を測定可能な第１のレーザ変位計と、
上記第１のレーザ変位計と上記プラズマ発生部の噴射口との間に介設され、上記レーザ光を上記噴射口を介して上記相対厚部に導くと共に、その反射光を上記噴射口を介して上記第１のレーザ変位計に導くハーフミラーと、
上記ハーフミラーを介して上記第１のレーザ変位計に対向するように配設された反射板と、
を具備することを特徴とするプラズマエッチング装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載のプラズマエッチング装置において、
上記被エッチング物又は上記噴射口のいずれかを移動可能な移動機構を設け、
上記制御部を、各相対厚部に対応した上記整数値とその位置とのデータを記録した記録媒体と、上記位置データを読み出して、その位置の相対厚部に上記噴射口が対向するように上記移動機構を制御すると共に上記測定部を作動させ、上記整数値と測定部の上記回数とを比較し、これらが一致したときに、上記測定部の動作を停止させると共に、次の位置データを読み出して、その位置の相対厚部に上記噴射口が対向するように上記移動機構を制御する制御器とで構成した、
ことを特徴とするプラズマエッチング装置。
【請求項６】
プラズマ励起した活性種ガスを被エッチング物の所定の相対厚部に噴射する噴射口を有したプラズマ発生部と、上記相対厚部の実際のエッチング量をレーザ光で測定する測定部と、上記測定部で測定される実際のエッチング量と予め定められた所定値とを比較し、上記エッチング量と所定値とが一致したときに、上記相対厚部に対するエッチング動作をとめる制御部とを具備し、
上記測定部は、所定レーザ光を所定反射面と上記相対厚部表面とに照射し、上記反射面からの反射光と上記相対厚部表面からの反射光とによる干渉光を電気信号に変換し、予め設定された電気信号とエッチング量との関係を示す一定の基準関数を、エッチング時における電気信号の初期値に基づいて所定量シフトさせることで、予想される電気信号とエッチング量との関係を示すシフト関数を作成し、このシフト関数に漸次変換される電気信号の値を当て嵌めることで、実際のエッチング量を求めるものであり、
上記制御部は、上記実際のエッチング量と上記所望エッチング量とがほぼ一致したときに、上記相対厚部に対するエッチングを止めるものである、
ことを特徴とするプラズマエッチング装置。
【請求項７】
請求項６に記載のプラズマエッチング装置において、
上記測定部は、
受光レーザの干渉光を電気信号に変換する光電変換部，電気信号とエッチング量との関係を示す一定の基準関数を格納した基準関数格納部，上記光電変換部からの電気信号の初期値に基づいて、上記基準関数を所定量シフトさせることで、以降に予想される電気信号とエッチング量との関係を示すシフト関数を作成するシフト関数作成部，及び、上記シフト関数に光電変換部からの電気信号の値を当て嵌めることで実際のエッチング量を求めるエッチング量演算部を有する第２のレーザ変位計と、
上記第２のレーザ変位計と上記プラズマ発生部の噴射口との間に介設され、上記レーザ光を上記噴射口を介して上記相対厚部に導くと共に、その反射光を上記噴射口を介して上記第２のレーザ変位計に導くハーフミラーと、
上記ハーフミラーを介して上記第２のレーザ変位計に対向するように配設された反射板と、
を具備することを特徴とするプラズマエッチング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
【発明の効果】
以上詳しく説明したように、この発明によれば、相対厚部に対する実際のエッチング量を測定しながらエッチングすることができる構成であるので、プラズマパラメータ等の周囲環境が変動した場合においても、相対厚部を所望の量だけエッチングすることができ、この結果被エッチング物に対してばらつきがない高品質な平坦化が可能となるという優れた効果がある。特に、請求項２，請求項６及び請求項７の発明によれば、干渉光に対応した電気信号の初期値から予想される電気信号とエッチング量との関係を示すシフト関数を作成し、このシフト関数に変換された電気信号の値を当て嵌めることで、相対厚部の実際のエッチング量を測定することができる構成であるので、より高精度なエッチングが可能となるという効果がある。