【手続補正書】
【提出日】平成15年12月1日(2003.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）液晶装置用基板となりうる有効領域と該有効領域以外の非有効領域とを有する基板上の該有効領域内の所定の位置にスイッチング素子を形成する工程と、
（ｂ）前記非有効領域内の所定の位置に、前記スイッチング素子の電気的特性を測定する第１テストパターンを形成する工程と、
（ｃ）前記スイッチング素子を覆って前記基板上に配向膜材料を形成する工程と、
（ｄ）前記配向膜材料を前記基板の一端部から他端部に向かった一方向にラビング処理して配向膜を形成する工程と
を具備し、
前記一方向に沿って、前記第１テストパターンの長手方向が配置され、
前記一方向に沿って、前記第１テストパターンを前記他端部に向かって延長した延長領域に前記有効領域は存在しないことを特徴とする液晶基板の製造方法。
【請求項２】
（ａ）液晶装置用基板となりうる有効領域と該有効領域以外の非有効領域とを有する基板上の該有効領域の所定の位置にスイッチング素子を形成する工程と、
（ｂ）前記非有効領域の所定の位置にダミーパターンを形成する工程と、
（ｃ）前記スイッチング素子を覆って前記基板上に配向膜材料を形成する工程と、
（ｄ）前記配向膜材料を前記基板の一端部から他端部に向かった一方向にラビング処理して配向膜を形成する工程と
を具備し、
前記ダミーパターンは、前記有効領域を挟むように前記非有効領域に配置され、
前記ダミーパターンの長手方向は、前記一方向に沿って配置されてなることを特徴とする液晶基板の製造方法。
【請求項３】
前記ダミーパターンは、前記スイッチング素子と同じ構造のパターンを有することを特徴とする請求項２に記載の液晶基板の製造方法。
【請求項４】
前記ダミーパターンは前記スイッチング素子の電気的特性を測定する第１テストパターンを有することを特徴とする請求項３に記載の液晶基板の製造方法。
【請求項５】
前記有効領域には、複数の液晶装置用基板が配置されてなることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の液晶基板の製造方法。
【請求項６】
前記液晶装置用基板には、該液晶装置用基板に配置されたスイッチング素子の電気的特性を測定する第２テストパターンが更に配置されてなることを特徴とする請求項５に記載の液晶基板の製造方法。
【請求項７】
前記第２テストパターンの長手方向は、前記一方向に沿って配置されることを特徴とする請求項６に記載の液晶基板の製造方法。
【請求項８】
前記（ｄ）工程後、
（ｅ）前記基板を切断することにより、前記複数の液晶装置用基板をそれぞれ分離する工程と
を更に具備することを特徴とする請求項５または請求項６に記載の液晶基板の製造方法。
【請求項９】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の液晶基板の製造方法により製造されることを特徴とする液晶基板。
【請求項１０】
液晶装置用基板となりうる有効領域と該有功領域以外の非有効領域とを有する基板と、
前記有効領域の所定の位置に配置されたスイッチング素子と、
前記スイッチング素子を覆って前記基板上に配置され、前記基板の一端部から他端部に向かった一方向にラビング処理された配向膜と、
前記非有効領域の所定の位置に配置された前記スイッチング素子の電気的特性を測定する第１テストパターンと
を具備し、
前記一方向に沿って、前記第１テストパターンの長手方向が配置され、
前記一方向に沿って前記第１テストパターンを前記他端部に向かって延長した延長領域に前記有効領域が存在しないことを特徴とする液晶基板。
【請求項１１】
液晶装置用基板となりうる有効領域と該有功領域以外の非有効領域とを有する基板と、
前記有効領域に配置されたパターンと、
前記パターンを覆って前記基板上に配置され、前記基板の一端部から他端部に向かった一方向にラビング処理された配向膜と、
前記有効領域を挟むように前記非有効領域内に配置され、長手方向が前記一方向に沿って配置されてなるダミーパターンと、
を具備することを特徴とする液晶基板。
【請求項１２】
前記ダミーパターンは、前記パターンと同じパターンを有することを特徴とする請求項１１に記載の液晶基板。
【請求項１３】
前記パターンはスイッチング素子を有し、
前記ダミーパターンは前記スイッチング素子の電気的特性を測定する第１テストパターンを有することを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の液晶基板。
【請求項１４】
前記有効領域には複数の液晶装置用基板が配置されてなることを特徴とする請求項１０から請求項１３のいずれか一項に記載の液晶基板。
【請求項１５】
前記液晶装置用基板には、該液晶装置用基板に配置されたスイッチング素子の電気的特性を測定する第２テストパターンが更に配置されてなることを特徴とする請求項１４に記載の液晶基板。
【請求項１６】
前記第２テストパターンの長手方向は、前記一方向に沿って配置されることを特徴とする請求項１５に記載の液晶基板。
【請求項１７】
請求項１４または請求項１５に記載の液晶基板が、各前記複数の液晶装置用基板毎に切断分離されて製造されたことを特徴とする液晶装置用基板。
【請求項１８】
請求項８に記載の（ｅ）工程により各前記液晶装置用基板毎に切断分離されて製造されたことを特徴とする液晶装置用基板。
【請求項１９】
請求項９から請求項１３のいずれか一項に記載の液晶基板を具備することを特徴とする液晶装置。
【請求項２０】
請求項１７または請求項１８に記載の液晶装置用基板を具備することを特徴とする液晶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の液晶基板の製造方法は、（ａ）液晶装置用基板となりうる有効領域と該有効領域以外の非有効領域とを有する基板上の該有効領域内の所定の位置にスイッチング素子を形成する工程と、（ｂ）前記非有効領域内の所定の位置に、前記スイッチング素子の電気的特性を測定する第１テストパターンを形成する工程と、（ｃ）前記スイッチング素子を覆って前記基板上に配向膜材料を形成する工程と、（ｄ）前記配向膜材料を前記基板の一端部から他端部に向かった一方向にラビング処理して配向膜を形成する工程とを具備し、前記一方向に沿って、前記第１テストパターンの長手方向が配置され、前記一方向に沿って前記第１テストパターンを前記他端部に向かって延長した延長領域に前記有効領域は存在しないことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の他の液晶基板の製造方法は、（ａ）液晶装置用基板となりうる有効領域と該有効領域以外の非有効領域とを有する基板上の該有効領域の所定の位置にスイッチング素子を形成する工程と、（ｂ）前記非有効領域の所定の位置にダミーパターンを形成する工程と、（ｃ）前記スイッチング素子を覆って前記基板上に配向膜材料を形成する工程と、（ｄ）前記配向膜材料を前記基板の一端部から他端部に向かった一方向にラビング処理して配向膜を形成する工程とを具備し、前記ダミーパターンは、前記有効領域を挟むように前記非有効領域に配置され、前記ダミーパターンの長手方向は、前記一方向に沿って配置されてなることを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、前記液晶装置用基板には、該液晶装置用基板に配置されたスイッチング素子の電気的特性を測定する第２テストパターンが更に配置されてなることを特徴とする。また、前記第２テストパターンの長手方向は、前記一方向に沿って配置されることを特徴とする。このような構成によれば、形成面積が小さくてすむ第２テストパターンを有効領域の液晶装置用基板に配置し、大きい形成面積が必要な第１テストパターンを液晶基板の非有効領域に配置することもできる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の他の液晶基板は、液晶装置用基板となりうる有効領域と該有功領域以外の非有効領域とを有する基板と、
前記有効領域の所定の位置に配置されたスイッチング素子と、
前記スイッチング素子を覆って前記基板上に配置され、前記基板の一端部から他端部に向かった一方向にラビング処理された配向膜と、
前記非有効領域の所定の位置に配置された前記スイッチング素子の電気的特性を測定する第１テストパターンと
を具備し、
前記一方向に沿って、前記第１テストパターンの長手方向が配置され、
前記一方向に沿って前記第１テストパターンを前記他端部に向かって延長した延長領域に前記有効領域が存在しないことを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明のさらに他の液晶基板は、液晶装置用基板となりうる有効領域と該有功領域以外の非有効領域とを有する基板と、
前記有効領域に配置されたパターンと、
前記パターンを覆って前記基板上に配置され、前記基板の一端部から他端部に向かった一方向にラビング処理された配向膜と、
前記有効領域を挟むように前記非有効領域内に配置され、長手方向が前記一方向に沿って配置されてなるダミーパターンと、
を具備することを特徴とする。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
また、前記液晶装置用基板には、該液晶装置用基板に配置されたスイッチング素子の電気的特性を測定する第２テストパターンが更に配置されてなることを特徴とする。また、前記第２テストパターンの長手方向は、前記一方向に沿って配置されることを特徴とする。このような構成によれば、形成面積が小さくてすむ第２テストパターンを有効領域の液晶装置用基板に配置し、大きい形成面積が必要な第１テストパターンを液晶基板の非有効領域に配置することもできる。