(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ素子が形成された基板を装置内に搬入すると共にこの基板を成膜後に搬出するロードロック機構と、搬入された前記基板にモノマを蒸着するモノマ蒸着機構と、前記基板に蒸着されたモノマを重合せしめて硬化させることでポリマ膜を形成するモノマ重合機構と、前記搬入された基板にバリア膜を形成するバリア膜形成機構とを備え、搬入された前記基板上にポリマ膜とバリア膜とから成る封止膜を形成して搬出する封止膜形成装置であって、前記ロードロック機構を有するロードロック室，前記バリア膜形成機構を有するバリア膜形成室，前記モノマ重合機構を有するモノマ重合室，前記モノマ蒸着機構を有するモノマ蒸着室の順に、夫々開閉部を介して前後に直列状に連結して成り、前記ロードロック室から搬入され各室において所定の順序で処理が施されて前記封止膜が形成された基板を前記ロードロック室から搬出し得るように構成したことを特徴とする封止膜形成装置。
【請求項２】
前記バリア膜形成室は、前記ロードロック室側から順に、前記基板を待機させておく第一基板待機ポジション，前記基板にバリア膜を形成するバリア膜成膜ポジション及び前記基板を待機させておく第二基板待機ポジションを有することを特徴とする請求項１記載の封止膜形成装置。
【請求項３】
前記モノマ重合室は、前記バリア膜形成室側から順に、前記基板を待機させておく第一基板待機ポジション，前記モノマを重合せしめるモノマ重合ポジション及び前記基板を待機させておく第二基板待機ポジションを有することを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載の封止膜形成装置。
【請求項４】
前記モノマ蒸着室は、前記モノマ重合室側から順に、前記基板を待機させておく第一基板待機ポジション，前記基板にモノマを蒸着するモノマ蒸着ポジション及び前記基板を待機させておく基板待機ポジションを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の封止膜形成装置。
【請求項５】
前記モノマ重合室の第一基板待機ポジションに、前記基板とマスクとの着脱及び基板とマスクとの位置合わせを行う位置合わせ機構を設けたことを特徴とする請求項３記載の封止膜形成装置。
【請求項６】
前記モノマ重合室のモノマ重合ポジションに、前記基板を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項３記載の封止膜形成装置。
【請求項７】
前記モノマ重合室の第二基板待機ポジションに、前記基板にマスクを密着させるためのマスク吸引用マグネットを冷却すると共に、この基板に前記マスク吸引用マグネットを載置するマグネット冷却・載置機構を設けたことを特徴とする請求項３，６のいずれか１項に記載の封止膜形成装置。
【請求項８】
前記ロードロック室に、前記基板とマスクとの着脱及び基板とマスクとの位置合わせを行う位置合わせ機構を設けたことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の封止膜形成装置。
【請求項９】
前記ロードロック室に、前記基板を加熱する基板加熱機構を設けたことを特徴とする請求項８記載の封止膜形成装置。
【請求項１０】
請求項１〜９いずれか１項に記載の封止膜形成装置を用いて、前記ロードロック室から搬入された前記基板に、前記バリア膜成膜室においてバリア膜を成膜し、続いて、前記モノマ重合室において冷却処理を施し、続いて、前記モノマ蒸着室においてモノマを蒸着し、続いて、前記モノマ重合室においてモノマ重合処理を施した後、前記バリア膜成膜室においてバリア膜を成膜して、このポリマ膜とバリア膜とから成る封止膜が形成された前記基板を前記ロードロック室から搬出することを特徴とする封止膜形成方法。
【請求項１１】
請求項１〜９いずれか１項に記載の封止膜形成装置を用いて、前記ロードロック室から搬入された前記基板に、前記モノマ蒸着室においてモノマを蒸着し、続いて、前記モノマ重合室においてモノマ重合処理を施した後、前記バリア膜成膜室においてバリア膜を成膜して、このポリマ膜とバリア膜とから成る封止膜が形成された前記基板を前記ロードロック室から搬出することを特徴とする封止膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、封止膜形成装置及び封止膜形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子の耐湿性を向上させるために、例えば特許文献１に開示されるように、有機ＥＬ素子上に有機物から成り有機ＥＬ素子上の凹凸をなくすポリマ膜と、このポリマ膜上に積層される封止性能を有する無機物から成るバリア膜との少なくとも２層から成る封止膜で有機ＥＬ素子を被覆する構成が提案されている。
【０００３】
ところで、上記封止膜を形成する封止膜形成装置としては、有機ＥＬ素子が形成された基板を装置内に搬入すると共にこの基板を成膜後に搬出するロードロック機構を備えたロードロック室と、搬入された前記基板にモノマを蒸着するモノマ蒸着機構を備えたモノマ蒸着室と、前記基板に蒸着されたモノマをＵＶ照射により重合せしめて硬化させることでポリマ膜を形成するモノマ重合機構を備えたモノマ重合室と、前記搬入された基板にバリア膜を形成するバリア膜形成機構を備えたバリア膜形成室とを、上記順序で開閉部を介して前後に直列状に連結した構成が用いられることが多い。
【０００４】
【特許文献１】特許第３２９０３７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記モノマ蒸着室のモノマ蒸着機構において生じるモノマ蒸気は、前記開閉部の開閉の際に両隣のロードロック室及びモノマ重合室に拡散し、両室を汚染してしまう。
【０００６】
モノマ蒸気が拡散すると各室の排気効率が低下したり清掃処理が厄介となり、特に、ロードロック室は、通常、基板上に有機ＥＬ素子を製造する真空成膜装置と連結されることから、ロードロック室が汚染されると有機ＥＬ素子製造用の真空成膜装置内にもモノマ蒸気が拡散し、これらを汚染する原因となる。
【０００７】
本発明は、上述のような現状に鑑みなされたもので、可及的にモノマ蒸着室から各室へのモノマ蒸気の拡散を阻止してメンテナンス性の向上を図ることができる極めて実用性に秀れた封止膜形成装置及び封止膜形成方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【０００９】
有機ＥＬ素子が形成された基板を装置内に搬入すると共にこの基板を成膜後に搬出するロードロック機構と、搬入された前記基板にモノマを蒸着するモノマ蒸着機構と、前記基板に蒸着されたモノマを重合せしめて硬化させることでポリマ膜を形成するモノマ重合機構と、前記搬入された基板にバリア膜を形成するバリア膜形成機構とを備え、搬入された前記基板上にポリマ膜とバリア膜とから成る封止膜を形成して搬出する封止膜形成装置であって、前記ロードロック機構を有するロードロック室Ａ，前記バリア膜形成機構を有するバリア膜形成室Ｂ，前記モノマ重合機構を有するモノマ重合室Ｃ，前記モノマ蒸着機構を有するモノマ蒸着室Ｄの順に、夫々開閉部Ｅを介して前後に直列状に連結して成り、前記ロードロック室Ａから搬入され各室において所定の順序で処理が施されて前記封止膜が形成された基板を前記ロードロック室Ａから搬出し得るように構成したことを特徴とする封止膜形成装置に係るものである。
【００１０】
また、前記バリア膜形成室Ｂは、前記ロードロック室Ａ側から順に、前記基板を待機させておく第一基板待機ポジション２，前記基板にバリア膜を形成するバリア膜成膜ポジション３及び前記基板を待機させておく第二基板待機ポジション４を有することを特徴とする請求項１記載の封止膜形成装置に係るものである。
【００１１】
また、前記モノマ重合室Ｃは、前記バリア膜形成室Ｂ側から順に、前記基板を待機させておく第一基板待機ポジション５，前記モノマを重合せしめるモノマ重合ポジション６及び前記基板を待機させておく第二基板待機ポジション７を有することを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載の封止膜形成装置に係るものである。
【００１２】
また、前記モノマ蒸着室Ｄは、前記モノマ重合室Ｃ側から順に、前記基板を待機させておく第一基板待機ポジション８，前記基板にモノマを蒸着するモノマ蒸着ポジション９及び前記基板を待機させておく基板待機ポジション10を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の封止膜形成装置に係るものである。
【００１３】
また、前記モノマ重合室Ｃの第一基板待機ポジション５に、前記基板とマスクとの着脱及び基板とマスクとの位置合わせを行う位置合わせ機構を設けたことを特徴とする請求項３記載の封止膜形成装置に係るものである。
【００１４】
また、前記モノマ重合室Ｃのモノマ重合ポジション６に、前記基板を冷却する基板冷却機構を設けたことを特徴とする請求項３記載の封止膜形成装置に係るものである。
【００１５】
また、前記モノマ重合室Ｃの第二基板待機ポジション７に、前記基板にマスクを密着させるためのマスク吸引用マグネットを冷却すると共に、この基板に前記マスク吸引用マグネットを載置するマグネット冷却・載置機構を設けたことを特徴とする請求項３，６のいずれか１項に記載の封止膜形成装置に係るものである。
【００１６】
また、前記ロードロック室Ａに、前記基板とマスクとの着脱及び基板とマスクとの位置合わせを行う位置合わせ機構を設けたことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の封止膜形成装置に係るものである。
【００１７】
また、前記ロードロック室Ａに、前記基板を加熱する基板加熱機構を設けたことを特徴とする請求項８記載の封止膜形成装置に係るものである。
【００１８】
また、請求項１〜９いずれか１項に記載の封止膜形成装置を用いて、前記ロードロック室Ａから搬入された前記基板に、前記バリア膜成膜室Ｂにおいてバリア膜を成膜し、続いて、前記モノマ重合室Ｃにおいて冷却処理を施し、続いて、前記モノマ蒸着室Ｄにおいてモノマを蒸着し、続いて、前記モノマ重合室Ｃにおいてモノマ重合処理を施した後、前記バリア膜成膜室Ｂにおいてバリア膜を成膜して、このポリマ膜とバリア膜とから成る封止膜が形成された前記基板を前記ロードロック室Ａから搬出することを特徴とする封止膜形成方法に係るものである。
【００１９】
また、請求項１〜９いずれか１項に記載の封止膜形成装置を用いて、前記ロードロック室Ａから搬入された前記基板に、前記モノマ蒸着室Ｄにおいてモノマを蒸着し、続いて、前記モノマ重合室Ｃにおいてモノマ重合処理を施した後、前記バリア膜成膜室Ｂにおいてバリア膜を成膜して、このポリマ膜とバリア膜とから成る封止膜が形成された前記基板を前記ロードロック室Ａから搬出することを特徴とする封止膜形成方法に係るものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、上述のように構成したから、可及的にモノマ蒸着室からの各処理室へのモノマ蒸気の拡散を阻止してメンテナンス性の向上を図ることができる極めて実用性に秀れた封止膜形成装置及び封止膜形成方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
好適と考える本発明の実施形態（発明をどのように実施するか）を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。
【００２２】
ロードロック室Ａから搬入される有機ＥＬ素子が形成された基板に各室において所定の処理を施し、封止膜が形成された基板をロードロック室Ａから搬出する。
【００２３】
この際、モノマ蒸気が生じるモノマ蒸着機構を有するモノマ蒸着室Ｄは、最も奥側に位置し、モノマ重合室Ｃのみと直接連結する構成であるから、このモノマ蒸着室Ｄからモノマ蒸気が直接拡散する（処理）室はモノマ重合室Ｃのみとなり、モノマ蒸気による装置内の汚染を可及的に阻止できる。
【００２４】
特に、ロードロック室Ａは、前記モノマ重合室Ｃとバリア膜形成室Ｂとを介してモノマ蒸着室Ｄと連結されるため、ロードロック室Ａへのモノマ蒸気の拡散量は極めて少なくなり、従って、ロードロック室Ａと連結される有機ＥＬ素子製造用の真空成膜装置等の汚染も可及的に阻止できる。
【００２５】
従って、本発明は、モノマ蒸気による装置内の汚染を可及的に阻止することができ、メンテナンス性が向上し、より清浄な封止性の高い封止膜を形成できるものとなる。
【実施例】
【００２６】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００２７】
本実施例は、有機ＥＬ素子が形成された基板を装置内に搬入すると共にこの基板を成膜後に搬出するロードロック機構と、搬入された前記基板にモノマを蒸着するモノマ蒸着機構と、前記基板に蒸着されたモノマを重合せしめて硬化させることでポリマ膜を形成するモノマ重合機構と、前記搬入された基板にバリア膜を形成するバリア膜形成機構とを備え、搬入された前記基板上にポリマ膜とバリア膜とから成る封止膜を形成して搬出する封止膜形成装置であって、前記ロードロック機構を有するロードロック室Ａ，前記バリア膜形成機構を有するバリア膜形成室Ｂ，前記モノマ重合機構を有するモノマ重合室Ｃ，前記モノマ蒸着機構を有するモノマ蒸着室Ｄの順に、夫々開閉部Ｅを介して前後に直列状に連結して成り、前記ロードロック室Ａから搬入され各室において所定の順序で処理が施されて前記封止膜が形成された基板を前記ロードロック室Ａから搬出し得るように構成したものである。
【００２８】
各部を具体的に説明する。
【００２９】
前記ロードロック室Ａは、クラスタータイプの有機ＥＬ製造用の真空成膜装置等と連結して、真空状態を保持したまま有機ＥＬ素子に封止膜を形成できるように構成している。このロードロック室Ａには、真空成膜装置から基板を受け取ると共に、封止膜成膜後に真空成膜装置に受け渡す搬送用ロボットを設けている。
【００３０】
また、ロードロック室Ａには、前記基板とマスクとの着脱及び基板とマスクとの位置合わせ（アライメント）を行う位置合わせ機構とを設けている。この位置合わせ機構は、基板を保持した状態で上昇・下降・回転・水平移動等を行う駆動部を有し、適宜な設置部に設置されるマスクに対して基板を位置決めした状態で降下せしめてマスクと重合せしめるものである。このマスク及び基板は、重合状態が解除されないように各種搬送機構により搬送せしめられる。
【００３１】
従って、真空成膜装置から搬入された基板は、ロードロック室Ａにおいてバリア膜形成用のマスクと位置決め状態で重合せしめられ、次のバリア膜形成室Ｂに搬送される。
【００３２】
また、ロードロック室Ａには、次工程のバリア膜成膜室Ｂへの搬送前に、基板を均等に所定温度まで予備加熱する基板加熱機構を設けている。この基板加熱機構による基板の加熱により、基板洗浄時の水分の除去や所定の基板温度とすることによる次工程のバリア膜の成膜状態の安定化が成される。
【００３３】
尚、ロードロック室Ａ，バリア膜形成室Ｂ及びモノマ重合室Ｃ間の開閉部Ｅとしては、気密状態を保持し得るドアバルブが採用され、モノマ重合室Ｃとモノマ蒸着室Ｄとの間の開閉部Ｅとしては、可撓性を有し基板の搬送方向に移動自在なフラップが採用されている。また、上記ドアバルブを介しての基板の搬送は搬送用ロボットにより行われ、各室内及びフラップを介しての搬送はコンベア機構により行われるように構成している。また、コンベア機構による搬送は、基板及びマスクの端部をコンベアに固定し、中央の領域が露出した状態で搬送されるように構成している。
【００３４】
バリア膜形成室Ｂは、前記ロードロック室Ａ側から順に、前記基板を待機させておく第一基板待機ポジション２，前記基板にバリア膜を形成するバリア膜成膜ポジション３及び前記基板を待機させておく第二基板待機ポジション４を有している。
【００３５】
具体的には、バリア膜成膜ポジション３においてスパッタリング機構によりバリア膜を形成するように構成している。即ち、搬送される基板がスパッタリング機構による成膜が適正に行われる位置（ターゲットと正対する位置）をバリア膜成膜ポジション３とし、このバリア膜成膜ポジション３の搬送方向前後位置の空間部を第一・第二基板待機ポジション２・４としている。
【００３６】
従って、バリア膜形成用マスクが重合せしめられた基板は、バリア膜成膜ポジション３においてスパッタリングによりバリア膜が形成され、次のモノマ重合室Ｃに搬送される。
【００３７】
具体的には、図１に図示したように、ロードロック室内１においてバリア膜形成用マスクが重合せしめられ予備加熱された基板は、第二基板待機ポジション４まで搬送されスパッタリングの準備が完了するまで待機せしめられ、バリア膜成膜ポジション３においてバリア膜がスパッタリングされて、第一基板待機ポジション２で待機せしめられた後、第二基板待機ポジション４でドアバルブが開放するまで待機せしめられ、ドアバルブ開放と略同時にモノマ重合室Ｃ内に搬送される（手順Ｘ）。
【００３８】
モノマ重合室Ｃは、前記バリア膜形成室Ｂ側から順に、前記基板を待機させておく第一基板待機ポジション５，前記モノマを重合せしめるモノマ重合ポジション６及び前記基板を待機させておく第二基板待機ポジション７を有している。
【００３９】
具体的には、モノマ重合ポジション６においてＵＶ照射装置によりモノマを重合せしめるように構成している。即ち、搬送される基板がＵＶ照射装置により適正にＵＶが照射される位置（ＵＶ照射装置と正対する位置）をモノマ重合ポジション６（ＵＶ照射ポジション６）とし、このＵＶ照射ポジション６の搬送方向前後位置の空間部を第一・第二基板待機ポジション５・７としている。
【００４０】
更に、モノマ重合室Ｃの第一基板待機ポジション５には、上記ロードロック室Ａと同様の前記基板とマスクとの着脱及び基板とマスクとの位置合わせを行う位置合わせ機構を設けている。
【００４１】
また、モノマ重合室Ｃのモノマ重合ポジション６には、モノマ蒸着室Ｄのモノマ蒸気を基板上で効率的に結晶化させるために前記基板を冷却する基板冷却機構を設けている。
【００４２】
更に、前記モノマ重合室Ｃの第二基板待機ポジション７には、重合した基板とマスクとを密着させるためのマスク吸引用マグネットを冷却すると共に、このマスク吸引用マグネットを基板上に載置するマグネット冷却・載置機構を設けている。
【００４３】
従って、バリア膜が成膜された基板は、モノマ重合室Ｃにおいて、一旦上昇せしめられてバリア膜成膜用マスクが離脱せしめられ、新たに配置されるモノマ蒸着用マスクと位置決めした状態で降下せしめられて、冷却機構により冷却せしめられると共に、冷却されたマスク吸引用マグネットが載置され基板とマスクとが重合密着せしめられた状態で、次のモノマ蒸着室Ｄに搬送される。
【００４４】
具体的には、図１に図示したように、モノマ蒸着用マスクと重合せしめられた基板は、ＵＶ照射ポジション６で冷却された後、第二基板待機ポジション７において冷却されたマスク吸引用マグネットが載置され、フラップを介してモノマ蒸着室Ｄ内に搬送される（手順Ｙ）。
【００４５】
モノマ蒸着室Ｄは、前記モノマ重合室Ｃ側から順に、前記基板を待機させておく第一基板待機ポジション８，前記基板にモノマを蒸着するモノマ蒸着ポジション９及び前記基板を待機させておく第二基板待機ポジション10を有している。
【００４６】
具体的には、モノマ蒸着ポジション９においてモノマ蒸着機構によりモノマを蒸着するように構成している。即ち、搬送される基板がモノマ蒸着機構の蒸着源により適正にモノマが蒸着される位置（モノマ蒸着源と正対する位置）をモノマ蒸着ポジション９とし、このモノマ蒸着ポジション９の搬送方向前後位置の空間部を第一・第二基板待機ポジション８・10としている。
【００４７】
従って、モノマ蒸着室Ｄにおいて、モノマ蒸着機構の蒸着源から蒸発するモノマ蒸気は、基板上で冷却せしめられて結晶化し、基板上にモノマ膜を形成する。このモノマ膜が形成された基板はモノマ重合室Ｃに搬送される。
【００４８】
具体的には、図１に図示したように、基板は第二基板待機ポジション10まで搬送されモノマ蒸着準備が完了するまで待機せしめられ、モノマ蒸着ポジション９でモノマが蒸着せしめられた後、第一基板待機ポジション８で待機せしめられ、所定時間経過後フラップを介してモノマ重合室Ｃに搬送される。続いて、モノマ重合室Ｃに搬送されたモノマ膜が形成された基板は、第二基板待機ポジション７でＵＶ照射準備が完了するまで待機せしめられ、ＵＶ照射ポジション６でＵＶが照射されてモノマが重合してポリマ膜が形成された後、第一基板待機ポジション５で待機せしめられ、第二基板待機ポジション７においてマスク吸引用マグネットが取り外され、再度第一基板待機ポジション５に搬送されてモノマ蒸着用マスクが離脱せしめられると共にバリア膜形成用マスクと重合せしめられてドアバルブが開放するまで待機せしめられ、ドアバルブ開放と略同時にバリア膜成膜室Ｂ内に搬送され、上記手順Ｘと同様にしてバリア膜が形成される（手順Ｚ）。
【００４９】
即ち、上記手順Ｘの後、手順Ｙ及び手順Ｚを繰り返すことで、有機ＥＬ素子上に直接形成したバリア膜上に、複数のポリマ膜とバリア膜とを交互に積層した封止膜を得ることができる。
【００５０】
尚、本実施例は、上述のようにしているが、有機ＥＬ素子上にポリマ膜を成膜した後、バリア膜を設けるようにしても良い。即ち、上記手順Ｙ，Ｚの順に処理を行うように設定しても良い。この場合、プロセス中の基板温度安定化のために、ＵＶ照射ポジション６（及び第二基板待機ポジション７のマスク吸引用マグネット）で基板冷却を行わない方が好ましい。
【００５１】
以上のようにして、所望の封止膜が形成された基板は、バリア膜成膜室Ｂの第一基板待機ポジション２からドアバルブを介してロードロック室Ａに搬送され、ロードロック室内１にてマスクが離脱せしめられ、外部に搬出せしめられる。
【００５２】
本実施例は上述のように構成したから、ロードロック室Ａから搬入される有機ＥＬ素子が形成された基板に各室において所定の処理を施し、封止膜が形成された基板をロードロック室Ａから搬出する際、モノマ蒸気による装置内の汚染を可及的に阻止できる。
【００５３】
特に、ロードロック室Ａは、前記モノマ重合室Ｃ及びバリア膜形成室Ｂと密閉性の高いドアバルブを介してモノマ蒸着室Ｄと連結され、しかも、ドアバルブが開放するまでドアバルブ直前の基板待機ポジションにて待機して、ドアバルブ開放後、直ちに搬送・閉塞するため、ロードロック室Ａへのモノマ蒸気の拡散量は極めて少なくなり、従って、ロードロック室Ａと連結される有機ＥＬ素子製造用の真空成膜装置等の汚染も可及的に阻止できることになる。
【００５４】
また、モノマ重合室Ｃとモノマ蒸着室Ｄとの間のフラップは、ドアバルブと異なり基板の搬送に応じて搬送方向に撓んで基板の通過を許容する構成であるため、モノマ蒸着室Ｄ内に基板を搬送する際に開口量が最小限で済み、このモノマ蒸着室Ｄからのモノマ蒸気の拡散はこの点においても可及的に阻止できることになる。
【００５５】
更に、有機ＥＬ素子上にバリア膜を形成した後、ポリマ膜とバリア膜とを積層して成る一層封止効果の高い封止膜を、順次各室において処理を行い極めて効率的に成膜することができ、単にモノマ蒸気による装置の汚染度を低減できるだけでなく、各室の配置構成を変更しつつ一層封止効果が高く、効率的な成膜が可能な封止膜を実現できることになる。
【００５６】
従って、本実施例は、モノマ蒸気による装置内の汚染を可及的に阻止することができ、メンテナンス性が向上し、より清浄な封止性の高い封止膜を形成できる極めて実用性に秀れた封止膜形成装置となる。
【００５７】
本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本実施例の概略説明図である。
【符号の説明】
【００５９】
Ａ  ロードロック室
Ｂ  バリア膜形成室
Ｃ  モノマ重合室
Ｄ  モノマ蒸着室
Ｅ  開閉部
２・５・８  第一基板待機ポジション
３  バリア膜成膜ポジション
４・７・10  第二基板待機ポジション
６  モノマ重合ポジション（ＵＶ照射ポジション）
９  モノマ蒸着ポジション
【図１】
0004796677.tif 000002