(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
明確に定められた方向にあるｓｍＣ* 相の層法線ｚを有するモノドメインの形態で液晶層を含有する単安定強誘電性アクティブマトリックスディスプレイであって、層法線ｚとネマティックまたはコレステリック相（Ｎ* 相）の配向方向ｎとが、５゜よりも大きい角度を形成しており、当該液晶層は、少なくとも１種の式（Ｉ）で表わされる化合物を含有する、上記アクティブマトリックスディスプレイ：
【化１】
0004731014.tif 000010
式中、
Ａ3 はフッ素化ピリジンまたはフッ素化ピリミジンであり、
Ｒ1 およびＲ2 は、相互に独立して、同一または相違しており、それぞれ水素であるか、または炭素原子２〜１６個を有するアルキル基またはアルキルオキシ基であり、この基中に存在する１個または２個の−ＣＨ2 −基は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−（Ｏ＝）Ｃ−Ｏ−、−Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 −またはシクロプロパン−１，２−ジイルにより置き換えられていてもよく、またこの基中に存在する１個または２個以上のＨ原子は、Ｆにより置き換えられていてもよいが、ただしＲ1 およびＲ2 は両方ともに、水素であることはできなく、もしくは、
Ｒ1 およびＲ2 は、基Ｍ7 −Ｒ7 であり、
ここでＲ7 は、少なくとも１個の不斉炭素原子を有する基であり、この不斉炭素原子は、炭素原子３〜１６個を有するアルキル基の一部であり、この基中に存在する１〜４個の−ＣＨ2 −基はまた、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−（Ｏ＝）Ｃ−Ｏ−により置き換えられていてもよく、またこの不斉炭素原子の置換基の１個は、−ＣＨ3 、−ＣＦ3 、−ＯＣＨ3 、Ｃｌ、ＦまたはＣＮでなければならない、
もしくはこの不斉炭素原子は、３員〜７員の炭素環の一部であり、この環に存在する１個の−ＣＨ2 −基または隣接していない２個の−ＣＨ2 −基はまた、−Ｏ−により置き換えられていてもよく、または１個の−ＣＨ2 −基は、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−（Ｏ＝）Ｃ−Ｏ−により置き換えられていてもよく、
Ｍ7 は、不斉炭素原子がアルキル鎖の一部である場合、単結合であり、また不斉炭素原子がＲ7 につい定義されている炭素環の一部である場合、単結合、−ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−またはＣ（＝Ｏ）Ｏ−であり；
Ａ1 、Ａ2 、Ａ4 およびＡ5 は、相互に独立して、同一または相違しており、それぞれ１，４−フェニレン（この基は未置換であるか、またはＦにより単置換または二置換されている）であり；
Ｍ1 、Ｍ2 、Ｍ4 およびＭ5 は、相互に独立して、同一または相違しており、それぞれ単結合、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−（Ｏ＝）Ｃ−Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 −Ｏ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −または−Ｃ≡Ｃ−であり；
ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０または１であるが、ただし１≦｛ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ｝≦３であり、および相当する指数が０である場合、（ＡX −ＭX ）は単結合である。
【請求項２】
Ａ3 が、下記基である、請求項１に記載のアクティブマトリックスディスプレイ：
【化２】
0004731014.tif 000011
【請求項３】
ｓｍＣ* 相の層法線ｚとネマティックまたはコレステリック相（Ｎ* 相）の配向方向ｎとが、ｓｍＣ* チルト角の０．５〜１．０倍の範囲にある、請求項１または２のいずれか一項に記載のアクティブマトリックスディスプレイ。
【請求項４】
強誘電性液晶層が下記相配列を有し：
Ｉ* −Ｎ* −ｓｍＣ* 
ここで、２゜よりも大きくない存在範囲を有するｓｍＡ* が、Ｎ* 相とｓｍＣ* 相との間に存在することができる、請求項１〜３のいずれか一項に記載のアクティブマトリックスディスプレイ。
【請求項５】
強誘電性液晶媒体の自発分極値が、２５ｎＣ／ｃｍ2 よりも小さい、請求項１〜４のいずれかに記載のアクティブマトリックスディスプレイ。
【請求項６】
液晶層のカイラルネマティックまたはコレステリックピッチの長さが、スメクティック相転移温度以上少なくとも２℃の温度範囲内で５０μｍよりも長い、請求項１〜５のいずれか一項に記載のアクティブマトリックスディスプレイ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のアクティブマトリックスディスプレイの製造方法であって、アクティブマトリックスディスプレイのラビングした上方基板とラビングした下方基板との間の空隙に、液晶層を導入し、ここで上記上方基板のラビング方向および上記下方基板のラビング方向とは基本的に平行であり、次いでこの液晶相をアイソトロピック相から冷却させることを含み、ここで少なくともＮ* →ｓｍＣ* またはＮ* →ｓｍＡ* →ｓｍＣ* 相転移中、当該ディスプレイに直流電流を印加する、上記製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法により得られるアクティブマトリックスディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
ブラウン管の代わりに平坦なパネル画面を使用するには、低い製造価格で、高い解像力、すなわちライン１０００以上の高解像力、高い画像輝度（＞２００ｃｄ／ｍ2 ）、大きいコントラスト（＞１００：１）、高いフレーム比（＞６０Ｈｚ）、適度の色表示（＞１６００万色）、大きい画像構成（＞４０ｃｍの画面対角線）、少ない電力消費および広い視野角を同時に達成することを可能にするデイスプレイ技術が必要である。現時点で、これらの特性の全部を同時に充分に満たす技術は存在していない。
多くの製造業者が、ネマティック液晶に基づいており、また最近の数年間、ノートブック型ＰＣ、パーソナルデジタルアシスタント(personal digital assistants) およびデスクトップモニターなどの分野で使用されている画面を開発した。
【０００２】
これらの場合、ＳＴＮ（スーパーツィストネマティック）、ＡＭ−ＴＮ（アクティブマトリックス−ねじれネマティック）、ＡＭ−ＩＰＳ（アクティブマトリックス−インプレーンスイッチング）およびＡＭ−ＭＶＡ（アクティブマトリックス−垂直配向されたマルチドメイン）(active matrix-multidomain vertically aligned)の技術が用いられており、これらの技術は、刊行物に広く開示されており、例えば次の刊行物を参照することができる： T.TsukudaによるTFT/LCD:Liquid Crystal Displays Addressed by Thin-Film Transistors,Gordon and Breach,1996,ISBN 2-919875-01-9、およびこの刊行物中で引用されている刊行物；SID Symposium,1997,ISSN-0097-966X,7 〜10頁、15〜18頁、47〜51頁、213 〜216 頁、383 〜386 頁、397 〜404 頁およびここに引用されている刊行物。さらにまた、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）(plasma display panel)、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）(plasma addressed liquid crystal) 、ＥＬＤ（エレクトロルミネセンスディスプレイ）(electroluminescent display)およびＦＥＤ（電界放射型ディスプレイ）(field emission display)技術などを使用することもでき、これらの技術はまた、上記で引用した SID報告書で説明されている。
【０００３】
クラーク(Clark) およびラガーウォル(Lagerwall) （米国特許 4,367,924）は、非常に薄いセルで強誘電性液晶（ＦＬＣ）を使用すると、慣用のＴＮ（「ねじれネマティック」）セルに比較して、１０００までのファクターで迅速である応答時間を有する光電気駆動素子または表示素子が得られることを証明することができた（例えば、EP-A 0 032 362参照）。このおよびその他の好ましい性質、例えば双安定駆動の可能性およびコントラストが視野角からほとんど独立しているという事実に基づいて、ＦＬＣは基本的に、コンピュターディスプレイおよびテレビジョン受像機などの用途分野に適しており、これは１９９５年５月からキャノン社(Canon) から日本国で販売されているモニターにより証明されている。
ＦＬＣを電気光学部品または完全光学部品で使用するには、スメクティック相を形成し、またそれら自体が光学的に活性である化合物、またはこのようなスメクティック相を形成するが、それら自体が光学活性ではない化合物に、光学活性化合物をドーピングすることによって強誘電性スメクティック相を誘発させるかのどちらかが必要である。この場合、望ましい相は、できるだけ広い温度範囲にわたり安定でなければならず、またこの相は大きい抵抗値および電圧保持特性値を有するべきである。
【０００４】
液晶ディスプレイの各画素は通常、ディスプレイの上方側または下方側上に横列(rows)に沿う一連の電極（コンダクタートラック）および縦列(columns) に沿う一連の電極の配置により形成されるｘ，ｙマトリックスに配列される。水平（横列）電極と垂直（縦列）電極との交差点が、アドレス可能な画素を形成する。この画素の配置は通常、受動マトリックス(passive matrix)と称される。アドレスする場合、各種時分割方式が開発されており、例えば Displays,1993,vol.14,No.2,86 〜93頁および Kontakte,1993(2),3 〜14頁に記載されている。受動マトリックスアドレス法は、ディスプレイの製造が簡単であり、従って製造価格が安価であるという利点を有するが、この受動アドレス法は常に、ライン毎に行うことができるのみであるという欠点を有し、その結果として、Ｎ本のラインを有する画面全体のアドレス時間は、ラインアドレス時間のＮ倍を要する。約５０ミクロ秒の慣用のラインアドレス時間の場合、これは、例えばＨＤＴＶ標準［高解像度ＴＶ(High Definition TV)、ライン１１５２］の場合、すなわち約１６Ｈｚの最高フレーム比の場合、移動する画像を表示するには遅すぎる約６０ミリ秒の画面アドレス時間を意味する。
【０００５】
さらにまた、中間調 (gray shades)の表示は、困難である。フランス国、ブレスト（Brest,France) におけるＦＬＣ会議の場において(1997 年 7月20〜24日、Abstract Book 6th International Conference on Ferroelectric Liquid Crystals,Brest/France参照）、ミズタニ(Mizutani)等は、ＲＧＢ画素(RGB= 赤、緑、青) のそれぞれが、サブピクセル(sub-pixel) に分割されており、これにより部分的切換えによって中間調をデジタル形態で表示することが可能にされているデジタル中間調を備えた受動式ＦＬＣディスプレイを提供した。三原色（赤、緑、青）を用いると、Ｎ中間調は３N 色をもたらす。この方法の欠点は、必要な画面ドライバー(drivers) の数が格別に多くなり、従って価格が格別に高くなることにある。ブリーストで提示された画面の場合、デジタル中間調を備えていない標準ＦＬＣディスプレイが必要としたかなりのドライバーの３倍のドライバーが必要である。
【０００６】
アクティブマトリックステクノロジー（ＡＭＬＣＤ）と称される技術においては、非構造化基板を通常、アクティブマトリックス基板と組合わせる。電気的に非線型の素子、例えば薄膜トランジスターを、アクティブマトリックス基板の各画素に集積する。この非線型素子はまた、ダイオード、金属−絶縁体−金属および類似素子であることもでき、これらは薄膜処理法により有利に製造することができ、また関連刊行物に開示されている（例えば、T.Tsukuda,TFT/LCD:Liquid Crystal Displays Addressed by Thin-Film Transistors,Gordon and Breach,1996,ISBN 2-919875-01-9、およびこの刊行物で引用されている文献参照）。
アクティブマトリックスＬＣＤは通常、ネマティック液晶をＴＮ（ねじれネマティック）、ＥＣＢ（電気制御した複屈折）、ＶＡ（垂直配向）またはＩＰＳ（イン−プレーンスイッチング）モードで作動させる。各場合、アクティブマトリックスは、各画素上に個別の強度の電場を発生し、配向における変化、従って複屈折値における変化をもたらし、これは次いで分極光中で可視化される。これらの方法の重大な欠点は、ネマティック液晶の過度に遅い応答時間による貧弱な映像能力(video capability)にある。
【０００７】
この理由およびその他の理由で、強誘電性液晶材料とアクティブマトリックス素子との組合わせに基づく液晶ディスプレイが提供された（例えば、WO97/12355またはFerroelectrics,1996,179,141 〜152,W.J.A.M.Hartmann,IEEE Trans.Electron.Devices,1989,36,(9;Pt.1),1895〜9,および論文、Eindhoven,the Netherlands,1990参照）。
ハートマン(Hartmann)は、通称、「本棚型配置」(quasi-bookshelf geometry)  （ＱＢＧ）のＦＬＣとＴＦＴ（薄膜トランジスター）アクティブマトリックスとの組合わせを使用し、迅速な応答速度、中間調および高い透過率を同時に達成した。しかしながら、ＱＢＧは、スメクティック層厚さの温度依存性が電場誘発層構造を破壊または循環させることから、広い温度範囲にわたる安定性を有していない。さらにまた、ハートマンは、２０ｎＣ／ｃｍ2 よりも大きい自発分極値を有するＦＬＣ材料を使用している。これは、例えば０．０１ｍｍ2 面積の実寸法を有する画素の場合、高電荷を導く（飽和時点で、Ｑ＝２ＡＰ、Ａ＝画素面積、Ｐ＝自発分極値）。例えば安価な無定形ケイ素ＴＦＴを用いる場合、画素はＴＦＴの動作時間中に、このような高電荷状態に到達することができない。これらの理由で、この技術は、今日まで、引き続いて研究されることはなかった。
【０００８】
ハートマンは、ほとんど連続する階調を表示するために、電荷−制御した双安定性を利用したが、ニト(Nito)等は、単安定ＦＬＣ構造を示唆した（Journal of the SID,1/2,1993,163 〜169 頁参照）。この場合、ＦＬＣ材料を、薄膜トランジスターを経る電場の印加により発生する多くの中間相から、単安定位置のみが生じるように、比較的高い電圧を用いることによって配向させる。これらの中間状態は、セル形態が交差偏光板間に合致する場合、多くの相違する輝度値（中間調）に対応する。
しかしながら、この技術の欠点の一つは、このセルのコントラストおよび輝度を制限する筋状構造が、ディスプレイに発生することにある（上記刊行物の図８参照）。この欠点である筋状構造は、ネマティックまたはコレステリック相を高電圧（２０〜５０Ｖ）で処理することによって、補正することができるが（上記刊行物 168頁参照）、このような電場処理は、画面の大量生産に適しておらず、また通常、温度安定構造をもたらさない。さらにまた、この方法は、一度のチルト角の最高値までの角度範囲でのみ切換えを生じる。ニト等により使用されている材料の場合、この最高チルト角は約２２゜であり（165 頁、図 6) 、従って生じる最高透過率は、２枚の平行偏光板の透過率の５０％に過ぎない。
【０００９】
本発明の目的は、強誘電性液晶混合物を含有する強誘電性アクティブマトリックス液晶ディスプレイであって、この液晶混合物が単安定位置にあるものと見做されるが、これによる筋状構造の形成を伴うことなく、光および温度安定性であり、また非常に高い最高透過率および非常に大きいコントラストの達成を可能にし、さらにまた、好ましい抵抗値および電圧保持特性値を示さなければならない、強誘電性アクティブマトリックス液晶ディスプレイを提供することにある。
この目的が、本発明に従い、明確に定められた方向にあるｓｍＣ* 相の層法線ｚ(normal)を有する液晶層をモノドメイン(monodomain)の形態で含有する単安定強誘電性アクティブマトリックスディスプレイであって、層法線ｚとネマティックまたはコレステリック相（Ｎ* 相）の配向方向ｎとが、５゜よりも大きい角度を形成しており、当該液晶層は、少なくとも１種の式（Ｉ）で表わされる化合物を含有するアクティブマトリックスディスプレイによって達成される：
【００１０】
【化４】
0004731014.tif 000002
式中、
Ａ3 はフッ素化されている単核状、二核状または三核状の窒素含有芳香族基であり、
Ｒ1 およびＲ2 は、相互に独立して、同一または相違しており、それぞれ水素であるか、または炭素原子２〜１６個を有するアルキル基またはアルキルオキシ基であり、この基中に存在する１個または２個の−ＣＨ2 −基は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−（Ｏ＝）Ｃ−Ｏ−、−Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 −またはシクロプロパン−１，２−ジイルにより置き換えられていてもよく、またこの基中に存在する１個または２個以上のＨ原子は、Ｆにより置き換えられていてもよいが、ただしＲ1 およびＲ2 は両方ともに、水素であることはできなく、もしくは、Ｒ1 およびＲ2 は、基Ｍ7 −Ｒ7 であり、
【００１１】
ここでＲ7 は、少なくとも１個の不斉炭素原子を有する基であり、この不斉炭素原子は、炭素原子３〜１６個を有するアルキル基の一部であり、この基中に存在する１〜４個、好ましくは１個または２個の−ＣＨ2 −基は、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−（Ｏ＝）Ｃ−Ｏ−により置き換えられていてもよく、またこの不斉炭素原子の置換基の１個は、−ＣＨ3 、−ＣＦ3 、−ＯＣＨ3 、Ｃｌ、ＣＮまたはＦでなければならない、
もしくはこの不斉炭素原子は、３員〜７員の炭素環の一部であり、この環に存在する１個の−ＣＨ2 −基または隣接していない２個の−ＣＨ2 −基は、−Ｏ−により置き換えられていてもよく、または１個の−ＣＨ2 −基は−ＯＣ（＝Ｏ）−または−（Ｏ＝）Ｃ−Ｏ−により置き換えられていてもよく、
Ｍ7 は、不斉炭素原子がアルキル鎖の一部である場合、単結合であり、また不斉炭素原子がＲ7 につい定義されている炭素環の一部である場合、単結合、−ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−またはＣ（＝Ｏ）Ｏ−であり；
【００１２】
Ａ1 、Ａ2 、Ａ4 およびＡ5 は、相互に独立して、同一または相違しており、それぞれ１，４−フェニレン（この基は未置換であるか、またはＦまたはＣｌにより単置換又は二置換されている）、１，３−フェニレン（この基は未置換であるか、または１個または２個のＦにより置換されている）、シクロヘキシ−１−エン−１，４−ジイル、シクロヘキシ−２−エン−１，４−ジイル、１−アルキル−１−シラ−シクロヘキサン−１，４−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、インダン−２，６−ジイルまたはナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｍ1 、Ｍ2 、Ｍ4 およびＭ5 は、相互に独立して、同一または相違しており、それぞれ単結合、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−（Ｏ＝）Ｃ−Ｏ−、−ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 −Ｏ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −または−Ｃ  Ｃ−であり；
ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０または１であるが、ただし１≦｛ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ｝≦３であり、および相当する指数が０である場合、（ＡX −ＭX ）は単結合である。
【００１３】
本発明のアクティブマトリックスＦＬＣＤは、光学活性層として、下記相配列：
アイソトロピック−ネマティックまたはコレステリック（Ｎ* ）−
スメクティックＣ*
または下記相配列：
アイソトロピック−ネマティックまたはコレステリック（Ｎ* ）−
スメクティックＡ* −スメクティックＣ*
を有し、ここでスメクティックＡ相は、２Ｋよりも大きくない、好ましくは１Ｋよりも大きくない、特に好ましくは０．５Ｋよりも大きくない幅を有する、強誘電性液晶媒体を含有する。上記相に付けられている星印（* ）は、カイラル相を表わす。
フッ素化窒素含有芳香族は好ましくは、フッ素化ピリジン、フッ素化ピリミジン、フッ素化ピラジン、フッ素化アザナフタレン、フッ素化アザテトラヒドロナフタレンまたはフッ素化アザフェナントレンである。
【００１４】
下記種類のフッ素化窒素含有芳香族基は、特に好ましいものとして挙げられる：
【化５】
0004731014.tif 000003
本発明のアクティブマトリックスＦＬＣＤの液晶媒体は、好ましくは１種または２種以上のフッ素化窒素含有芳香族を０．０５〜８０％、特に好ましくは１種または２種以上のフッ素化窒素含有芳香族を５〜７０％の割合で含有する。
【００１５】
このディスプレイは好ましくは、アクティブマトリックスディスプレイのラビングした上方基板とラビングした下方基板との間の空隙に、液晶層を導入し、ここで上記上方基板のラビング方向と上記下方基板のラビング方向とは基本的に平行であり、次いでこの液晶相をアイソトロピック相から冷却させることを包含し、ここで少なくともＮ* →ｓｍＣ* またはＮ* →ｓｍＡ* →ｓｍＣ* 相転移中、当該ディスプレイに直流電圧を印加する方法によって製造する。
このようなＦＬＣ混合物を、アクティブマトリックスディスプレイに充填する。このタイプのＡＭディスプレイの製造および構成部品は、上記で引用したツクダ(Tsukuda) の刊行物に、詳細に開示されている。しかしながら、ネマティックディスプレイとは異なり、ＦＬＣ層の厚みは、僅かに０．７〜２．５μｍ、好ましくは１〜２μｍである。さらにまた、上方基板のラビング方向と下方基板のラビング方向とは、実質的に平行である。「実質的に平行」の用語は、逆平行ラビング方向、または僅かに、すなわち１０゜まで交差しているラビング方向を包含する。
【００１６】
このディスプレイを動作させる場合に重要なことは、ディスプレイ製造における制御冷却期間中、好ましくは５Ｖよりも低い直流電流を印加し、Ｎ* →ｓｍＣ* またはＮ* →ｓｍＡ* →ｓｍＣ* 相転移期間中、これを維持することにある。これは、ディスプレイ全体が、交差偏光板間で完全に暗くみえる単安定モノドメインにあると見做される結果をもたらす。
このドメインが得られた時点で、直流電流のスイッチを切る。このようにして得られた構造は、上記で引用したハートマンの試作に反して、または慣用の双安定ＦＬＣＤに反して、単安定である。このことは、好適ｎ−配向方向（これは、分子縦軸の配向方向を示す）が、セルのラビング方向であるのに対して、ｚ−配向方向（これは、液晶層に対するスメクティック層法線の配向方向を示す）は、ほぼチルト角値によって、ラビング方向に対して傾斜していることを意味する。この配置は、ｚ−配向方向がラビング方向にあるクラークおよびラガーウォルによる通常の双安定セルとは、全く相反する。
【００１７】
ニトの試作に反して、これはまさに、上記の望ましくない筋状構造を究極的にもたらす二本の層法線が存在しておらず、従って２種のドメインが存在していない配向が正確に存在するが、ｚ−配向方向の一つのみの疑いの余地のない方向、すなわち一つのみのモノドメインが存在する配向である。さらにまた、ここでは、２倍のチルト角を得ることができ、これは平行偏光板に基づき１００％透過率を導く、すなわち２倍の輝度が得られる。
このようにして得られるディスプレイは、交差偏光板間で適当な回転角度において完全に暗く見える。数ボルトのみの駆動電圧を印加するだけで、このディスプレイは明るく見え、この輝度は、電圧により連続的に変化し、飽和時点で、ほとんど２枚の平行偏光膜の輝度に達する。このネマティック（またはコレステリック）相の配向方向と層法線（ｚ−配向方向）との間の角度は理想的である、すなわち好ましくは、スメクティック相のチルト角に等しいか、またはこのチルト角に少なくとも基本的に等しい。本発明の目的にかかわり、「実質的に」の用語は、好ましくはチルト角の半分から全部までの範囲、特に好ましくはチルト角の０．８〜１倍で、少なくとも５゜を意味する。
【００１８】
本発明による強誘電性アクティブマトリックス液晶ディスプレイは、高透過率、短い応答時間、階調および従ってフルカラー能力、安い製造価格および広い温度範囲を組合わせて有することから、特にＴＶおよびＨＤＴＶに、もしくはマルチメディアに、特別に非常に有用である。さらにまた、このディスプレイは、≦１０ボルト、好ましくは≦８Ｖ、特に好ましくは≦５Ｖの電圧で動作させることができる。
本発明によるアクティブマトリックスＦＬＣＤの自発分極値は、ディスプレイの動作温度で、一般に２０ｎＣ／ｃｍ2 よりも小さく、好ましくは１５ｎＣ／ｃｍ2 よりも小さく、さらに好ましくは０．０１〜１０ｎＣ／ｃｍ2 の範囲にある。
液晶層のカイラルネマティックまたはコレステリックピッチの長さは、好ましくはスメクティック相転移温度以上の少なくとも５℃以上の温度範囲内で５０μｍよりも長く、またはＮ* 相の存在範囲が５℃よりも低い場合、この存在範囲の少なくとも８０％の温度範囲内で、５０μｍよりも長い。
【００１９】
このディスプレイは、例えばＴＶ、ＨＤＴＶまたはマルチメディア分野で、もしくは情報処理分野、例えばノートブック型ＰＣ、パーソナルデジタルアシスタントまたはディスクトップモニターで使用することができる。
特に、本明細書で用いられているものとして、「アクティブマトリックスディスプレイ」の用語は、例えばワルバ(D.M.Walba) により Science,270,250〜251 (1993)またはhtto:/www.displaytech.com.に記載されているように、２枚の基板のうちの１枚の代わりに、ＩＣチップ（ＩＣ＝集積回路）の裏面を使用したＬＣＤを包含する。
フッ素化窒素含有芳香族は、冒頭に起債した要件に適合し、従ってアクティブマトリックスＦＬＣＤ用の高抵抗強誘電性液晶混合物の成分として使用するのに適することが見出された。
【００２０】
本発明はまた、式（ＩＩ）で表わされる２−フルオロピリジン誘導体を提供する：
【化６】
0004731014.tif 000004
式中、記号および符号は、下記定義のとおりである：
Ｒ6 およびＲ7 は、同一または相違しており、それぞれ炭素原子１〜２０個を有する直鎖状または分枝鎖状アルキル基（この基は、不斉炭素原子を有するか、または有していない）であり、
Ａ6 は、１，４−フェニレン、１，１´−ビフェニル−４，４´−ジイルまたは単結合であり、
【００２１】
Ａ7 は、１，４−フェニレン、１，１´−ビフェニル−４，４´−ジイルまたは単結合である、
ただし、
ａ）Ａ6 が１，４−フェニレンである場合、Ａ7 は１，４−フェニレンである、
ｂ）Ａ6 が単結合である場合、Ａ7 は１，１´−ビフェニル−４，４´−ジイルである、
ｃ）Ａ6 が１，１´−ビフェニル−４，４´−ジイルである場合、Ａ7 は単結合である。
式（ＩＩ）中の記号および符号は、好ましくは下記定義のとおりである：
Ａ6 およびＡ7 は好ましくは、同一または相違しており、それぞれ炭素原子３〜１８個を有する直鎖状または分枝鎖状アルキル基である；
Ｒ6 およびＲ7 は特に好ましくは、同一または相違しており、それぞれ炭素原子５〜１６個を有する直鎖状アルキル基である。
下記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−３）で表わされる化合物は、特に好ましい化合物として挙げられる：
【００２２】
【化７】
0004731014.tif 000005
【００２３】
各式中、Ｒ6 およびＲ7 は、上記意味および好適意味を有する。
本発明の混合物の製造方法は、原則的に公知である：
フッ素化ピリジン類について、例えば JP-B-2079059 、US 5,389,291、US 5,630,962、US 5,445,763 DE-A 4427199 。
フッ素化ピリミジン類について、例えばUS 5,344,585、EP-B 0158137。
フッ素化ピラジン類について、例えばUS 5,562,859。
フッ素化アザナフタレン類、フッ素化アザテトラヒドロナフタレン類およびフッ素化アザフェナントレン類（Ｉｄ）について、例えば DE-A 19517056、DE-A 19517060 、DE-A 19653009 、DE-A 19538404 。
【００２４】
下記の例は、本発明を例示するものである。
（例）
例１
アクティブマトリックスディスプレイ用の強誘電性液晶混合物の成分として使用される本発明の化合物の特別の適性は、本発明の化合物を強誘電性液晶混合物の成分として示唆されている別種の化合物と比較して試験する下記測定により証明される。
下記成分の抵抗値を、適当な測定装置を用いて測定する。
a)２−（４−オクチルオキシフェニル）−５−オクチルピリミジン
（この化合物は、DD-WP 95892 に従い合成され、Nagashima 等による Liq.C
rystals,1997,vol.4,537〜546 頁に従い精製される）
b)５−ブチルオキシ−２−［４−（オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル）フェニル］ピリミジン
（この化合物は、EP-B 0332006に従い合成／精製される）
【００２５】
c)２−オクチル−６−（５−ノニルピリミジン−２−イル）インダン
（この化合物は、EP-B 546338 に従い合成／精製される）
d)式（Ｉａ１）に従う化合物、
６−（４−シクロヘキシルフェニル）−２−フルオロ−３−（４−オクチルオキシフェニル）ピリジン
（この化合物は、US 5,630,962に従い合成／精製される）
e)式（Ｉｂ１）に従う化合物、
４−フルオロ−５−オクチルオキシ−（２，４−オクチルオキシフェニル）ピリミジン
（この化合物は、US 5,344,585に従い合成／精製される）
【００２６】
【表１】
表１
0004731014.tif 000006
表１は、本発明による材料を用いることによって、標準動作により、より大きい抵抗値が得られ、従って好ましい電圧保持特性を有する混合物が得られることから、アクティブマトリックスディスプレイ用の強誘電性液晶混合物の形成における本発明による化合物の特別の適性を証明している。
この強誘電性液晶混合物は、本発明による化合物から独占的に、またはＦＬＣ混合物に慣用の別種の成分と混合することによって、得ることができる。
【００２７】
例２
下記成分からなる［重量％］カイラルスメクティック液晶混合物を、化合物２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）−３−（４−ペンチルフェニル）ピリジン２０％と混合すると、相配列Ｉ８２．０−７８．１Ｎ* ６８．６Ｓｃ* を有するカイラルスメクティック液晶混合物が得られる：
２−（４−デシルオキシフェニル）−５−オクチル
ピリミジン                                            １２．６％
２−（４−オクチルオキシフェニル）−５−オクチル
ピリミジン                                            １５．９％
２−（４−ヘキシルオキシフェニル）−５−オクチル
ピリミジン                                            １６．５％
２−（２，３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキシフェ
ニル）−５−ノニルピリミジン                            ７．０％
２−（２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシフェ
ニル）−５−ノニルピリミジン                            ７．０％
２−（２，３−ジフルオロ−４−ノニルオキシフェニル）
−５−ノニルピリミジン                                  ７．０％
２−（４´−プロピルビフェニル−４−イル）−５−
オクチルピリミジン                                    １２．５％
４−（９−オクチルオキシピリミジン−２−イル）
フェニル  （２Ｒ，３Ｒ）−３−プロピルオキシラン
カルボキシレート                                        １．５％
【００２８】
この混合物を、試験セルでその電気光学性質について試験する。この試験セルは、１．３μｍ（ミクロメーター）、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）電極の電極間隔を有し、日立化学社(Hitachi Chemicals) から入手できるＬＱＴ−１２０配向膜を備えている。
最初に、透過率／電圧様相を測定する。この目的には、充填した試験セルを、冷却により配向させ、８０℃〜７０℃の温度範囲で３ボルトの直流電圧を印加する。これにより、偏光顕微鏡において、最適回転角度で交差偏光板間で完全に暗く見える単安定モノドメインが形成される。ここで、このセルの電気光学的挙動を、単極および矩形波アドレスパルスを用いて評価する。
最初に、１０ｍｓ持続の単極電圧パルスを印加し、次いで透過率を電圧の関数として測定する。３０℃において、下記の結果が得られる：
【００２９】
【表２】
0004731014.tif 000007
【００３０】
この測定により、約５４．１゜のチルト角（２Θ、±２０Ｖ、６０Ｈｚ）および１０．９゜の配向方向ｎからの層法線ｚの差△が得られる。
例３
例２の混合物と類似する混合物であるが、２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）−３−（４−ペンチルフェニル）ピリジンの代わりに、２−フルオロ−６−（４−オクチルオキシフェニル）ピリジン−３−イル  オクタノエート２０％を含有する混合物は、下記測定値を示し、また約６０．５゜のチルト角（２Θ、±２０Ｖ、６０Ｈｚ）および２２．５゜の△およびＩ６９．８−６７．８Ｎ* ５８．７Ｓｃ* の相配列を示す：
【００３１】
【表３】
0004731014.tif 000008
【００３２】
例４
例２の混合物と類似する混合物であるが、２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）−３−（４−ペンチルフェニル）ピリジンの代わりに、３−デシル−２−フルオロ−６−（４−オクチルオキシフェニル）ピリジン２０％を含有する混合物は、下記測定値：Ｉ６８．０−６６．０Ｎ* ６０．０Ｓｃ* の相配列、および５１．３゜のチルト角（２Θ、±２０Ｖ、６０Ｈｚ）および約１６．１゜の△を示す：
【００３３】
【表４】
0004731014.tif 000009
【００３４】
例５
例２の混合物と類似する混合物であるが、２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）−３−（４−ペンチルフェニル）ピリジンの代わりに、４−（３−フルオロ−５−オクチルオキシピリジン−２−イル）フェニル  トランス−４−ペンチルシクロヘキサンカルボキシレート２０％を含有する混合物は、Ｉ８４．７−８２．３Ｎ* ５０．７Ｓｃ* の相配列、５．４゜の△値および２枚の平行偏光板の透過率の約７０％（５Ｖ、６０Ｈｚ）の透過率を示す。
これらの例は、本発明によるディスプレイの連続階調を証明している。
【００３５】
例６
２−フルオロ−３−ノニル−６−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´  −イル）ピリジン
４−ヘプチルビフェニル−４´−イルホウ酸[159381-67-6] １６．２ｇ、２−ブロモ−６−フルオロピリジン８．８ｇ、炭酸ナトリウム１０．６ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）０．６ｇ、トルエン５００ｍｌ、エタノール２５０ｍｌおよび水１２５ｍｌの混合物を、反応が完了するまで還流させる。この混合物を冷却させ、相を分離させ、この有機層を洗浄し、乾燥させ、次いで減圧で蒸発乾燥させる。カラムクロマトグラフイ（シリカゲル；ジクロロメタン／ヘプタン１：１）およびヘプタンからの再結晶により精製した後、２−フルオロ−６−（４−ヘプチルビフェニル−４´−イル）ピリジン１１．３ｇを、ｍ．ｐ．１１７℃、ｃｌ．ｐ．１３５℃の無色結晶として得る。
【００３６】
この生成物１０．７ｇのテトラヒドロフラン２５０ｍｌ中の溶液を、−６０℃よりも低い温度で、１．１当量のリチウムジイソプロピルアミド（テトラヒドロフラン中）に滴下して添加する。次いで、テトラヒドロフラン２０ｍｌ中のペラルゴンアルデヒド６．８ｇの溶液を添加し、この反応混合物を一夜かけて室温にする。この混合物を、氷水／塩酸１リットルにより加水分解し、次いでｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出し、この抽出液を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、次いで減圧で蒸発乾燥させる。１−［２−フルオロ−６−（４−ヘプチルビフェニル−４´−イル）ピリジン−３−イル］ノナン−１−オール残留物を、トルエン３００ｍｌおよび４−トルエンスルホン酸水化物０．４ｇと混合し、次いで加熱し、反応からの水を共沸により分離する；蒸留による溶媒の除去およびカラムクロマトグラフイ（シリカゲル；ヘプタン／ジクロロメタン２：１）による精製後、１−［２−フルオロ−６−（４−ヘプチルビフェニル−４´−イル）ピリジン−３−イル］ノン−１−エン５．３ｇが得られる。
【００３７】
この物質をテトラヒドロフラン１５０ｍｌに溶解し、パラジウム（１０％／Ｃ）０．５ｇと混合し、次いで室温および大気圧において水素添加する。濾過、蒸留による溶媒の除去、クロマトグラフイ（シリカゲル；ヘプタン／ジクロロメタン１：１）による精製およびアセトニトリルからの再結晶後、表題の化合物３．４ｇが得られる；相配列：Ｘ８７Ｓ3 ９４Ｓ2 １３２Ｓｃ１６３Ｉ。
同様の方法で、下記化合物を得ることができる：
２−フルオロ−３−ノニル−６−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−３−ノニルピリジン；
２−フルオロ−３−ノニル−６−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−オクチル−６−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
【００３８】
２−フルオロ−６−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−３−オクチルピリジン；
２−フルオロ−６−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−３−オクチルピリジン；
２−フルオロ−３−オクチル−６−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−ヘプチル−６−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−ヘプチル−６−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−ヘプチル−６−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−ヘプチル−６−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
【００３９】
２−フルオロ−３−ヘプチル−６−（４−ノニル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−ヘキシル−６−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−ヘキシル−６−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−３−ヘキシルピリジン；
２−フルオロ−３−ヘキシル−６−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−ヘキシル−６−（４−ノニル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−３−ペンチルピリジン；
【００４０】
２−フルオロ−６−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−３−ペンチルピリジン；
２−フルオロ−６−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−３−ペンチルピリジン；
２−フルオロ−６−（４−ノニル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−３−ヘキシルピリジン；
３−デシル−２−フルオロ−６−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
３−デシル−２−フルオロ−６−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
３−デシル−２−フルオロ−６−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
３−デシル−２−フルオロ−６−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
３−デシル−２−フルオロ−６−（４−ノニル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン。
【００４１】
例７
２−フルオロ−３−（４−ヘプチルフェニル）−６−（４−ノニルフェニル）  ピリジン
４−ノニルフェニルホウ酸
マグネシウム０．５５ｍｏｌおよび１−ブロモ−４−ノニルベンゼン０．３７ｍｏｌから製造したグリニヤール化合物の乾燥テトラヒドロフラン５５０ｍｌ中の溶液を、０℃で保護気体雰囲気下に、乾燥テトラヒドロフラン４００ｍｌ中のトリメチルホウ酸エステル０．４ｍｏｌの溶液に、滴下して添加する。この混合物を、この温度でさらに２．５時間、撹拌する。次いで、１０％強度塩酸６００ｍｌを添加し、生成する混合物を室温で３０分間、撹拌する。塩化ナトリウム１２０ｇの添加後、この反応混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出し、有機抽出液を集め、飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムを用いて乾燥させる。溶媒を減圧で除去し、この粗生成物をアセトニトリルから再結晶させ、４−ノニルフェニルホウ酸７２ｇ（７９％）を得る。
【００４２】
同様の方法で、下記化合物を得ることができる：
４−プロピルフェニルホウ酸 [134150-01-9]；
４−ブチルフェニルホウ酸 [145240-28-4]；
４−ペンチルフェニルホウ酸 [121219-12-3]；
４−ヘキシルフェニルホウ酸 [105365-50-2]；
４−ヘプチルフェニルホウ酸；
４−オクチルフェニルホウ酸 [133997-05-4]；
４−デシルフェニルホウ酸 [170981-25-6]；
４−ウンデシルフェニルホウ酸 [210368-94-8]；
４−ドデシルフェニルホウ酸 [206763-93-1]。
【００４３】
２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン
トルエン４００ｍｌ中の２−ブロモ−６−フルオロピリジン２３２ｍｍｏｌの溶液を、室温において、４−ノニルフェニルホウ酸２９０ｍｍｏｌ、エタノール２００ｍｌ、水２００ｍｌ中の炭酸ナトリウム４６４ｍｍｏｌの溶液およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）２．３ｍｍｏｌと混合する。この混合物を、３．５時間、加熱沸騰させる。冷却後、相を分離させ、この水性相をジクロロメタンで抽出し、有機層を集め、次いで硫酸マグネシウムを用いて乾燥させる。溶媒を減圧で除去し、この粗生成物をシリカゲル６０上で溶離液としてｎ−ヘプタン／ジクロロメタン１：１を用いるカラムクロマトグラフィおよびアセトニトリル／アセトン５：１からの再結晶により精製し、２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン６３ｇ（９１％）を得る。
【００４４】
同様の方法で、下記化合物を得ることができる：
２−フルオロ−６−（４−プロピルフェニル）ピリジン；
６−（４−ブチルフェニル）−２−フルオロピリジン；
２−フルオロ−６−（４−ペンチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−６−（４−ヘキシルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−６−（４−ヘプチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−６−（４−オクチルフェニル）ピリジン [155466-91-4]；
６−（４−デシルフェニル）−２−フルオロピリジン；
６−（４−ウンデシルフェニル）−２−フルオロピリジン；
６−（４−ドデシルフェニル）−２−フルオロピリジン。
【００４５】
２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン−３−ホウ酸
乾燥ＴＨＦ５００ｍｌ中の２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン１００ｍｏｌの溶液を、−７０℃で保護気体雰囲気下に、乾燥テトラヒドロフラン１００ｍｌ中のリチウムジイソプロピルアミド１１０ｍｍｏｌの溶液に、滴下して添加する。この混合物を、この温度でさらに４時間、撹拌する。乾燥テトラヒドロフラン４０ｍｌ中のチリメチルホウ酸エステル２００ｍｍｏｌの溶液を次いで、−６０℃よりも低い温度で滴下して添加する。この反応混合物を次いで、室温までゆっくりと温め、次いで氷冷却しながら、水６０ｍｌおよび濃塩酸２０ｍｌの溶液と混合し、次いで室温でさらに１時間、撹拌する。この反応混合物を、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出し、有機抽出液を集め、水および飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムを用いて乾燥させ、次いで溶媒を減圧で除去する。この粗生成物をｎ−ヘプタン／アセトン４：１から結晶化させ、２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン−３−ホウ酸１９．８ｇ（５８％）を得る。
【００４６】
同様の方法で、下記化合物を得ることができる：
２−フルオロ−６−（４−プロピルフェニル）ピリジン−３−ホウ酸
６−（４−ブチルフェニル）−２−フルオロピリジン−３−ホウ酸
２−フルオロ−６−（４−ペンチルフェニル）ピリジン−３−ホウ酸
２−フルオロ−６−（４−ヘキシルフェニル）ピリジン−３−ホウ酸
２−フルオロ−６−（４−ヘプチルフェニル）ピリジン−３−ホウ酸
２−フルオロ−６−（４−オクチルフェニル）ピリジン−３−ホウ酸
６−（４−デシルフェニル）−２−フルオロピリジン−３−ホウ酸
６−（４−ウンデシルフェニル）−２−フルオロピリジン−３−ホウ酸
６−（４−ドデシルフェニル）−２−フルオロピリジン−３−ホウ酸。
【００４７】
トルエン９０ｍｌ中の１−ブロモ−４−ペンチルベンゼン４０ｍｍｏｌの溶液を、室温において、２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン−３−ホウ酸４４ｍｍｏｌ、エタノール４５ｍｌ、水４５ｍｌ中の炭酸ナトリウム８０ｍｍｏｌの溶液およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）０．４ｍｍｏｌと混合する。この混合物を、５時間、加熱沸騰させる。冷却後、相を分離させ、この水性相をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出し、有機相を集め、水および飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムを用いて乾燥させる。溶媒を次いで、減圧で除去し、この粗生成物をシリカゲル６０上で溶離液としてｎ−ヘプタン／ジクロロメタン１：１を用いるカラムクロマトグラフイおよびアセトニトリル／アセトン１：１からの再結晶により精製し、２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）−３−（４−ペンチルフェニル）ピリジンを得る。
【００４８】
トルエン１５５ｍｌ中の１−ブロモ−４−ヘプチルベンゼン４８ｍｍｏｌの溶液を、室温において、２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン−３−ホウ酸４８ｍｍｏｌ、エタノール７７ｍｌ、水７７ｍｌ中の炭酸ナトリウム９６ｍｍｏｌの溶液およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）０．５ｍｍｏｌと混合する。この混合物を、７時間、加熱沸騰させる。冷却後、相を分離させ、この水性相をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出し、有機相を集め、水および飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムを用いて乾燥させる。溶媒を次いで、減圧で除去し、この粗生成物をシリカゲル６０上で溶離液としてｎ−ヘプタンを用いるカラムクロマトグラフイおよびアセトンからの再結晶により精製し、２−フルオロ−３−（４−ヘプチルフェニル）−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン８．９ｇ（３９％）を得る；Ｘ４２Ｓ3 ５６ＳC １３６．１ＳA １３６．７Ｎ１３７Ｉ。
【００４９】
同様の方法で、下記化合物を得ることができる：
２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）−３−（４−ペンチルフェニル）ピリジン；Ｘ４５Ｓ3 ３９Ｓ2 ４４ＳC １２７Ｎ１４０Ｉ；
２−フルオロ−３−（４−ヘキシルフェニル）−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−６−（４−ノニルフェニル）−３−（４−オクチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３，６−ビス−（４−ノニルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘプチルフェニル）−６−（４−オクチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘプチルフェニル）−６−（４−ヘプチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘプチルフェニル）−６−（４−ヘキシルフェニル）ピリジン；
【００５０】
２−フルオロ−３−（４−ヘプチルフェニル）−６−（４−ペンチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘプチルフェニル）−６−（４−ブチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘプチルフェニル）−６−（４−プロピルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ノニルフェニル）−６−（４−ペンチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ノニルフェニル）−６−（４−ヘキシルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ノニルフェニル）−６−（４−ヘプチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ノニルフェニル）−６−（４−オクチルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ノニルフェニル）−６−（４−ノニルフェニル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ノニルフェニル）−６−（４−デシルフェニル）ピリジン。
【００５１】
例８
２−フルオロ−６−ノニル−３−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´
−イル）ピリジン
この化合物は、例１に記載のスズキの反応で、４−ブロモ−４´−ヘプチルビフェニル[58573-93-6]および２−フルオロ−６−ノニルピリジン−３−イルホウ酸［この化合物は、２−フルオロ−６−ノニルピリジンから、例１に記載の金属化および例２に記載のトリメチルホウ酸エステルを用いる反応の静止により製造され、この２−フルオロ−６−ノニルピリジンは、２−ブロモ−６−フルオロピリジンを、トリエチルアミン中で触媒としてビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）クロライド、ヨウ化銅（Ｉ）およびトリフェニルホスフィンを用いて、１−ノニンと反応させ、１−（２−フルオロピリジン−６−イル）ノインを生成させ、次いでテトラヒドロフラン中で室温および大気圧において、パラジウム触媒（１０％／Ｃ）を用いて水素添加することによって得られる］から得ることができる。仕上げ処理および精製は、例１に記載のとおりに行う。
【００５２】
同様の方法で、下記化合物を得ることができる：
２−フルオロ−６−ノニル−３−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−６−ノニルピリジン；
２−フルオロ−６−ノニル−３−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−オクチル−３−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−６−オクチルピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−６−オクチルピリジン；
【００５３】
２−フルオロ−６−オクチル−３−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−ヘプチル−３−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−ヘプチル−３−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−ヘプチル−３−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−ヘプチル−３−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−ヘプチル−３−（４−ノニル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−ヘキシル−３−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
【００５４】
２−フルオロ−６−ヘキシル−３−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−６−ヘキシルピリジン；
２−フルオロ−６−ヘキシル−３−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−６−ヘキシル−３−（４−ノニル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−６−ペンチルピリジン；
２−フルオロ−３−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−６−ペンチルピリジン；
２−フルオロ−３−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−６−ペンチルピリジン；
【００５５】
２−フルオロ−３−（４−ノニル−１，１´−ビフェン−４´−イル）−６−ペンチルピリジン；
６−デシル−２−フルオロ−３−（４−ペンチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
６−デシル−２−フルオロ−３−（４−ヘキシル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
６−デシル−２−フルオロ−３−（４−ヘプチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
６−デシル−２−フルオロ−３−（４−オクチル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン；
６−デシル−２−フルオロ−３−（４−ノニル−１，１´−ビフェン−４´−イル）ピリジン。