【手続補正書】
【提出日】平成15年7月11日(2003.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系の非点収差を測定する測定手段と、該検出手段の検出結果に応じて前記投影光学系の非点収差を調節する調節手段とを有し、前記測定手段が、マスクに形成した縦と横の格子パターンを前記投影光学系により投影し、前記投影光学系の光軸方向に関する前記縦の格子パターンの結像位置と前記横の格子パターンの結像位置のずれ量を測定することを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】
前記測定手段が、前記縦と横の格子パターンの各像を形成する結像光線をウエハーを保持するステージ上に形成した反射面上に投影し、該反射面により前記結像光線を反射して前記投影光学系に入射させ、前記投影光学系により前記マスク側に前記縦横のパターンの各像を形成し、該マスク側に形成した縦横の格子パターンの各像の前記光軸方向に関する結像位置のずれ量を測定することを特徴とする請求項１の投影露光装置。
【請求項３】
前記測定手段が、前記縦と横の格子パターンの各像を形成する結像光線をウエハーを保持するステージテージ側に投影し、前記縦横の格子パターンの各像の前記光軸方向に関する結像位置のずれ量を測定することを特徴とする請求項１の投影露光装置。
【請求項４】
投影光学系の非点収差を測定する測定手段と、該検出手段の検出結果に応じて前記投影光学系の非点収差を調節する調節手段とを有し、前記測定手段が、ウエハーを保持するステージに供給した縦と横の格子パターンを前記投影光学系により投影し、前記投影光学系の光軸方向に関する前記縦の格子パターンの結像位置と前記横の格子パターンの結像位置のずれ量を測定することを特徴とする投影露光装置。
【請求項５】
前記測定手段が、前記縦と横の格子パターンの各像を形成する結像光線をマスクの反射面上に投影し、該反射面により前記結像光線を反射して前記投影光学系に入射させ、前記投影光学系により前記ウエハー側に前記縦横のパターンの各像を形成し、該ウエハー側に形成した縦横の格子パターン像の前記光軸方向に関する結像位置のずれ量を測定することを特徴とする請求項４の投影露光装置。
【請求項６】
前記測定手段が、前記縦と横の格子パターンの各像を前記マスク側に投影し、前記マスク側に投影された前記縦と横の格子パターンの各像の前記光軸方向に関する結像位置のずれ量を測定することを特徴とする請求項４の投影露光装置。
【請求項７】
前記縦と横パターンの各像を撮像素子上に投影し、前記縦と横パターンを前記投影光学系の光軸方向に変位させながら撮像素子からのビデオ信号を検出し、前記縦パターンの像に対応するビデオ信号のコントラストが最大となる時の前記縦パターンの位置と前記横パターンに対応するビデオ信号のコントラストが最大となる時の前記横パターンの位置のずれ量に基づいて前記非点収差量を求めることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかの投影露光装置。
【請求項８】
前記縦と横パターンの各像を所定の格子パターンに投影し、前記縦と横パターンを前記投影光学系の光軸方向に変位させながら前記所定の格子パターンを通過する光の量を検出し、前記縦パターンの像に対応する光量が最大となる時の前記縦パターンの位置と前記横パターンに対応する光量が最大となる時の前記横パターンの位置のずれ量に基づいて前記非点収差量を求めることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかの投影露光装置。
【請求項９】
前記所定のパターンが前記縦と横のパターン自身であることを特徴とする請求項８の投影露光装置。
【請求項１０】
前記所定のパターンが前記投影光学系に関して前記縦横パターンとは反対側に置かれたパターンであることを特徴とする請求項８の投影露光装置。
【請求項１１】
投影光学系の非点収差を求める測定手段と、該検出手段の検出結果に応じて前記投影光学系の非点収差を調節する調節手段とを有し、前記測定手段が、前記投影光学系に単位時間当たりに入射する光の量を検出し、検出結果を計算式に代入して非点収差を計算する計算手段を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項１２】
前記計算式が、露光領域の縦横比に関するパラメーターを有することを特徴とする請求項１２の投影露光装置。
【請求項１３】
前記計算式が、マスクパターンの透過率に関するパラメーターを有することを特徴とする請求項１２の投影露光装置。
【請求項１４】
前記計算式が自然対数の関数を含むことを特徴とする請求項１２の投影露光装置。
【請求項１５】
前記調節手段が、屈折率と厚さが互いに等しく且つ光軸に対し互いに逆方向に傾いた２枚の透明平板を有すること特徴とする請求項１乃至請求項１４のいずれかの投影露光装置。
【請求項１６】
前記調節手段が前記２枚の透明平板を一体的に傾ける手段を有することを特徴とする請求項１５の投影露光装置。
【請求項１７】
前記２枚の透明平板が前記光軸に対し互いに逆方向に互いに同じ角度だけ傾いていることを特徴とする請求項１５の投影露光装置。
【請求項１８】
前記調節手段が前記２枚の透明平板の前記角度を変える手段を有することを特徴とする請求項１７の投影露光装置。
【請求項１９】
前記投影光学系とスリット状照明光束に対してマスクと該マスクパターンが投影される被露光基板とを走査しながら該被露光基板を露光することを特徴とする請求項１乃至請求項１８のいずれかに記載の投影露光装置。
【請求項２０】
前記投影光学系と照明光束に対してマスクと該マスクパターンが投影される被露光基板とをほぼ静止させて該被露光基板を露光することを特徴とする請求項１乃至請求項１８のいずれかの投影露光装置。
【請求項２１】
前記照明光束の縦横比が２以上であることを特徴とする請求項１９又は請求項２０の投影露光装置。
【請求項２２】
請求項１乃至請求項２１いずれかの投影露光装置によりマスクのデバイスパターンを基板上に転写する段階を有するデバイス製造方法。
【請求項２３】
屈折率と厚さが互いに等しく且つ光軸に対し互いに逆方向に傾いた２枚の透明平板と、該２枚の透明平板を一体的に傾ける手段とを有すること特徴とする収差補正光学系。
【請求項２４】
前記２枚の透明平板を光軸に対し互いに逆方向に互いに同じ角度だけ傾いている時に前記２枚の透明平板の傾き角度を互いに逆方向に互いに同じ量だけ変えること特徴とする請求項２３の収差補正光学系。
【請求項２５】
屈折率と厚さが互いに等しく且つ光軸に対し互いに逆方向に互いに同じ角度だけ傾いた２枚の透明平板と、該２枚の透明平板の傾き角度を互いに逆方向に互いに同じ量だけ変える手段とを有すること特徴とする収差補正光学系。
【請求項２６】
収差を予測する演算手段を有していることを特徴とする請求項２３乃至２５いずれか１項に記載の収差補正光学系。
【請求項２７】
前記演算手段が非点収差を予測することを特徴とする請求項２６記載の収差補正光学系。
【請求項２８】
請求項２３乃至請求項２７のいずれかの収差補正光学系を有する投影露光装置。
【請求項２９】
投影光学系とスリット状照明光束に対してマスクと該マスクパターンが投影される被露光基板とを走査しながら該被露光基板を露光することを特徴とする請求項２８の投影露光装置。
【請求項３０】
投影光学系と照明光束に対してマスクと該マスクパターンが投影される被露光基板とをほぼ静止させて該被露光基板を露光することを特徴とする請求項２８の投影露光装置。
【請求項３１】
前記照明光束の縦横比が２以上であることを特徴とする請求項２９又は請求項３０に記載の投影露光装置。
【請求項３２】
収差を予測する演算手段を有していることを特徴とする請求項２８乃至３１いずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項３３】
前記収差が非点収差を予測することを特徴とする請求項３２記載の投影露光装置。
【請求項３４】
露光領域を決定するマスキングブレードを有しており、前記露光領域の縦と横の比率に基づいて、前記収差を演算することを特徴とする請求項３２又３３記載の投影露光装置。
【請求項３５】
露光領域を決定するマスキングブレードを有しており、前記露光領域の面積に基づいて、前記収差を演算することを特徴とする請求項３２乃至３４いずれか１項記載の投影露光装置。
【請求項３６】
単位時間当たりに前記マスクに供給される露光量に基づいて、前記収差を演算することを特徴とする請求項３２乃至３５いずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項３７】
前記マスクの透過率に基づいて、前記収差を演算することを特徴とする請求項３２乃至３６いずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項３８】
請求項２８乃至請求項３７のいずれかの投影露光装置によりマスクのデバイスパターンを基板上に転写する段階を有するデバイス製造方法。