(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルと、
前記ノズルを前記基板の主面に対して平行な主走査方向に相対的に移動する主走査機構と、
前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記ノズルに対して前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する副走査機構と、
前記基板保持部を前記主面に垂直な回転軸を中心に回転する基板回転機構と、
前記基板保持部の上方において前記主走査方向に略平行に配列されるとともに前記基板保持部に保持された基板上の第１撮像領域および第２撮像領域をそれぞれ撮像する第１撮像部および第２撮像部と、
前記第１撮像部および前記第２撮像部を制御することにより、位置調整用基板上に塗布された流動性材料のラインの前記第１撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第１撮像領域への塗布後から所定の撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第１画像として記憶するとともに、前記ラインの前記第２撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第２撮像領域への塗布後から前記撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第２画像として記憶する撮像制御部と、
前記第１画像および前記第２画像に基づいて前記第１撮像部と前記第２撮像部との間の前記副走査方向に関するずれ量を求めるずれ量演算部と、
前記第１撮像部および前記第２撮像部により取得された前記基板保持部に保持された基板の画像、並びに、前記ずれ量演算部により求められた前記ずれ量に基づいて前記副走査機構および前記回転機構を制御することにより前記基板の前記ノズルに対する相対位置を調整する基板位置調整部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して前記副走査方向に相対的に移動する撮像部移動機構をさらに備え、
前記基板位置調整部による基板の位置調整に際して、前記ずれ量演算部により求められた前記ずれ量に基づいて前記撮像部移動機構が前記基板位置調整部により制御されて前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して前記副走査方向に相対的に移動することにより、前記副走査方向に関し、前記第１撮像部および前記第２撮像部の前記ノズルに対する相対位置が互いに等しくされることを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の塗布装置であって、
前記撮像制御部が、前記主走査方向における前記ノズルの位置に基づいて前記第１撮像領域および前記第２撮像領域のそれぞれへの前記流動性材料の塗布を検出し、前記流動性材料の塗布の検出から前記撮像遅延時間の経過後に前記第１撮像部および前記第２撮像部のそれぞれに対して撮像指示を与えることを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記基板の前記主走査方向の一方側における前記ノズルの移動開始位置と前記第１撮像部との間の前記主走査方向に関する距離が、前記基板の他方側における前記ノズルの移動開始位置と前記第２撮像部との間の前記主走査方向に関する距離に等しいことを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記主走査機構による前記ノズルの相対移動の際に、前記第１撮像領域上および前記第２撮像領域上において前記ノズルが等速にて移動することを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布装置であって、
流動性材料の種類を含むキー情報と撮像遅延時間とを関連づけたデータ要素の集合であるデータベースを記憶するデータベース記憶部をさらに備え、
前記撮像制御部が、前記基板に塗布される流動性材料の種類を含むキー情報に関連づけられた撮像遅延時間を前記データベースから抽出し、前記撮像遅延時間に基づいて前記第１画像および前記第２画像を取得することを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
請求項６に記載の塗布装置であって、
前記データベースに新たなデータ要素を追加するデータベース更新部をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出しつつ前記ノズルと共に前記基板に対して前記主走査方向および前記副走査方向に相対的に移動するもう１つのノズルをさらに備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の塗布装置であって、
前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料であることを特徴とする塗布装置。
【請求項１１】
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルと、
前記ノズルを前記基板の主面に対して平行な主走査方向に相対的に移動する主走査機構と、
前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記ノズルに対して前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する副走査機構と、
前記基板保持部を前記主面に垂直な回転軸を中心に回転する基板回転機構と、
前記基板保持部の上方において前記主走査方向に略平行に配列されるとともに前記基板保持部に保持された基板上の第１撮像領域および第２撮像領域をそれぞれ撮像する第１撮像部および第２撮像部と、
前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して前記副走査方向に相対的に移動する撮像部移動機構と、
前記第１撮像部および前記第２撮像部を制御することにより、前記第１撮像領域および前記第２撮像領域において、位置調整用基板上に塗布された流動性材料のラインの第１画像および第２画像を取得する撮像制御部と、
前記第１画像および前記第２画像に基づいて前記第１撮像部と前記第２撮像部との間の前記副走査方向に関するずれ量を求め、前記ずれ量に基づいて前記撮像部移動機構を制御して前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して相対的に移動することにより、前記副走査方向に関し、前記第１撮像部および前記第２撮像部の前記ノズルに対する相対位置を互いに等しくする撮像位置調整部と、
前記第１撮像部および前記第２撮像部により取得された前記基板保持部に保持された基板の画像に基づいて前記副走査機構および前記回転機構を制御することにより前記基板の前記ノズルに対する相対位置を調整する基板位置調整部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項１２】
ノズルから製品用の基板に向けて流動性材料を連続的に吐出しつつ前記製品用の基板に対して前記ノズルを相対移動することにより前記製品用の基板に前記流動性材料を塗布する塗布装置において、前記製品用の基板の前記ノズルに対する相対位置を調整する位置調整方法であって、
ａ）位置調整用基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルを、前記位置調整用基板に対して前記位置調整用基板の主面に平行な主走査方向に相対移動することにより前記流動性材料のラインを塗布する工程と、
ｂ）前記ラインの第１撮像部の第１撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第１撮像領域への塗布後から所定の撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第１画像として記憶する工程と、
ｃ）前記ラインの第２撮像部の第２撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第２撮像領域への塗布後から前記撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第２画像として記憶する工程と、
ｄ）前記第１画像および前記第２画像に基づいて前記第１撮像部と前記第２撮像部との間の前記主走査方向に垂直な副走査方向に関するずれ量を求める工程と、
ｅ）前記第１撮像部および前記第２撮像部により製品用の基板を撮像する工程と、
ｆ）前記ずれ量、並びに、前記第１撮像部および前記第２撮像部により取得された前記製品用の基板の画像に基づいて前記製品用の基板を前記ノズルに対して前記副走査方向に相対移動するとともに前記製品用の基板を前記製品用の基板の主面に垂直な回転軸を中心に回転することにより、前記製品用の基板の前記ノズルに対する相対位置を調整する工程と、
を備えることを特徴とする位置調整方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の位置調整方法であって、
前記ｆ）工程が、
ｆ１）前記ずれ量に基づいて前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して前記副走査方向に相対的に移動することにより、前記副走査方向に関し、前記第１撮像部および前記第２撮像部の前記ノズルに対する相対位置を互いに等しくする工程を備えることを特徴とする位置調整方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の位置調整方法であって、
前記ｄ）工程が、
ｄ１）前記第１画像および前記第２画像をモニタに出力する工程と、
ｄ２）前記第１画像中の前記ラインおよび前記第２画像中の前記ラインと前記モニタ上の基準線と間のそれぞれの距離を求める工程と、
を備え、
前記ｆ１）工程において、前記ｄ２）工程において求められた前記それぞれの距離に基づいて前記第１撮像部および前記第２撮像部を前記副走査方向にそれぞれ移動することにより、前記第１画像中の前記ラインおよび前記第２画像中の前記ラインと前記モニタ上の前記基準線とが重ねられることを特徴とする位置調整方法。
【請求項１５】
請求項１２ないし１４のいずれかに記載の位置調整方法であって、
前記ａ）工程において、前記ノズルの相対移動の際に、前記第１撮像領域上および前記第２撮像領域上において前記ノズルが等速にて移動することを特徴とする位置調整方法。
【請求項１６】
請求項１２ないし１５のいずれかに記載の位置調整方法であって、
前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする位置調整方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の位置調整方法であって、
前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料であることを特徴とする位置調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置、および、当該塗布装置における基板の位置調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を利用した有機ＥＬ表示装置の開発が行われており、例えば、高分子有機ＥＬ材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ表示装置の製造では、ガラス基板（以下、単に「基板」という。）に対して、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路の形成、陽極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）の塗布、加熱処理による有機ＥＬ層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置の製造において、正孔輸送液または有機ＥＬ液を基板に塗布する装置の１つとして、特許文献１に示すように、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルを、基板に対して主走査方向および副走査方向に相対移動することにより、基板上の塗布領域に形成された隔壁間の溝に流動性材料をストライプ状に塗布する装置が知られている。
【０００４】
特許文献１の装置では、基板上に形成された位置合わせマークが２つの位置合わせマーク検出部により撮像され、位置合わせマークの画像データ、および、基板上の溝等のレイアウトデータに基づいて基板の位置が調整されて基板が塗布開始位置に位置する。また、特許文献２では、試し塗り用のマスクに対して流動性材料と塗布して塗布軌跡（すなわち、塗布された流動性材料のライン）を撮像し、塗布軌跡の画像を基板上の溝の画像と比較した上で、塗布軌跡と溝とが重なるように基板を移動することにより、基板とノズルとの相対的な位置関係を調整する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００２−７５６４０号公報
【特許文献２】特開２００４−７４０５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、このような装置において基板に塗布される流動性材料には様々な種類があり、特許文献２のように試し塗りされた流動性材料を撮像して基板の位置調整を行う場合、塗布から撮像までの経過時間が不適切であると、基板上に塗布された流動性材料のラインが乾燥したりその形状が崩れてしまい、画像処理においてラインを認識することが困難になったり、ラインの中心線（すなわち、ノズルの軌跡に平行な線）を正確に求めることができなくなる恐れがある。その結果、ノズルの軌跡と撮像部との位置関係の検出において検出精度の向上が困難となったり、あるいは、位置関係を求めること自体が難しくなり、基板のノズルに対する相対位置の調整を高精度に行うことができなくなってしまう。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、主走査方向におけるノズルの軌跡と２つの撮像部との位置関係を容易に、かつ、高精度に求め、これにより、基板のノズルに対する相対位置の調整を高精度に行うことを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルと、前記ノズルを前記基板の主面に対して平行な主走査方向に相対的に移動する主走査機構と、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記ノズルに対して前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する副走査機構と、前記基板保持部を前記主面に垂直な回転軸を中心に回転する基板回転機構と、前記基板保持部の上方において前記主走査方向に略平行に配列されるとともに前記基板保持部に保持された基板上の第１撮像領域および第２撮像領域をそれぞれ撮像する第１撮像部および第２撮像部と、前記第１撮像部および前記第２撮像部を制御することにより、位置調整用基板上に塗布された流動性材料のラインの前記第１撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第１撮像領域への塗布後から所定の撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第１画像として記憶するとともに、前記ラインの前記第２撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第２撮像領域への塗布後から前記撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第２画像として記憶する撮像制御部と、前記第１画像および前記第２画像に基づいて前記第１撮像部と前記第２撮像部との間の前記副走査方向に関するずれ量を求めるずれ量演算部と、前記第１撮像部および前記第２撮像部により取得された前記基板保持部に保持された基板の画像、並びに、前記ずれ量演算部により求められた前記ずれ量に基づいて前記副走査機構および前記回転機構を制御することにより前記基板の前記ノズルに対する相対位置を調整する基板位置調整部とを備える。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して前記副走査方向に相対的に移動する撮像部移動機構をさらに備え、前記基板位置調整部による基板の位置調整に際して、前記ずれ量演算部により求められた前記ずれ量に基づいて前記撮像部移動機構が前記基板位置調整部により制御されて前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して前記副走査方向に相対的に移動することにより、前記副走査方向に関し、前記第１撮像部および前記第２撮像部の前記ノズルに対する相対位置が互いに等しくされる。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の塗布装置であって、前記撮像制御部が、前記主走査方向における前記ノズルの位置に基づいて前記第１撮像領域および前記第２撮像領域のそれぞれへの前記流動性材料の塗布を検出し、前記流動性材料の塗布の検出から前記撮像遅延時間の経過後に前記第１撮像部および前記第２撮像部のそれぞれに対して撮像指示を与える。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の塗布装置であって、前記基板の前記主走査方向の一方側における前記ノズルの移動開始位置と前記第１撮像部との間の前記主走査方向に関する距離が、前記基板の他方側における前記ノズルの移動開始位置と前記第２撮像部との間の前記主走査方向に関する距離に等しい。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、前記主走査機構による前記ノズルの相対移動の際に、前記第１撮像領域上および前記第２撮像領域上において前記ノズルが等速にて移動する。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布装置であって、流動性材料の種類を含むキー情報と撮像遅延時間とを関連づけたデータ要素の集合であるデータベースを記憶するデータベース記憶部をさらに備え、前記撮像制御部が、前記基板に塗布される流動性材料の種類を含むキー情報に関連づけられた撮像遅延時間を前記データベースから抽出し、前記撮像遅延時間に基づいて前記第１画像および前記第２画像を取得する。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の塗布装置であって、前記データベースに新たなデータ要素を追加するデータベース更新部をさらに備える。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし７のいずれかに記載の塗布装置であって、前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出しつつ前記ノズルと共に前記基板に対して前記主走査方向および前記副走査方向に相対的に移動するもう１つのノズルをさらに備える。
【００１５】
請求項９に記載の発明は、請求項１ないし８のいずれかに記載の塗布装置であって、前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００１６】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の塗布装置であって、前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料である。
【００１７】
請求項１１に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルと、前記ノズルを前記基板の主面に対して平行な主走査方向に相対的に移動する主走査機構と、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記ノズルに対して前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する副走査機構と、前記基板保持部を前記主面に垂直な回転軸を中心に回転する基板回転機構と、前記基板保持部の上方において前記主走査方向に略平行に配列されるとともに前記基板保持部に保持された基板上の第１撮像領域および第２撮像領域をそれぞれ撮像する第１撮像部および第２撮像部と、前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して前記副走査方向に相対的に移動する撮像部移動機構と、前記第１撮像部および前記第２撮像部を制御することにより、前記第１撮像領域および前記第２撮像領域において、位置調整用基板上に塗布された流動性材料のラインの第１画像および第２画像を取得する撮像制御部と、前記第１画像および前記第２画像に基づいて前記第１撮像部と前記第２撮像部との間の前記副走査方向に関するずれ量を求め、前記ずれ量に基づいて前記撮像部移動機構を制御して前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して相対的に移動することにより、前記副走査方向に関し、前記第１撮像部および前記第２撮像部の前記ノズルに対する相対位置を互いに等しくする撮像位置調整部と、前記第１撮像部および前記第２撮像部により取得された前記基板保持部に保持された基板の画像に基づいて前記副走査機構および前記回転機構を制御することにより前記基板の前記ノズルに対する相対位置を調整する基板位置調整部とを備える。
【００１８】
請求項１２に記載の発明は、ノズルから製品用の基板に向けて流動性材料を連続的に吐出しつつ前記製品用の基板に対して前記ノズルを相対移動することにより前記製品用の基板に前記流動性材料を塗布する塗布装置において、前記製品用の基板の前記ノズルに対する相対位置を調整する位置調整方法であって、ａ）位置調整用基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルを、前記位置調整用基板に対して前記位置調整用基板の主面に平行な主走査方向に相対移動することにより前記流動性材料のラインを塗布する工程と、ｂ）前記ラインの第１撮像部の第１撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第１撮像領域への塗布後から所定の撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第１画像として記憶する工程と、ｃ）前記ラインの第２撮像部の第２撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第２撮像領域への塗布後から前記撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第２画像として記憶する工程と、ｄ）前記第１画像および前記第２画像に基づいて前記第１撮像部と前記第２撮像部との間の前記主走査方向に垂直な副走査方向に関するずれ量を求める工程と、ｅ）前記第１撮像部および前記第２撮像部により製品用の基板を撮像する工程と、ｆ）前記ずれ量、並びに、前記第１撮像部および前記第２撮像部により取得された前記製品用の基板の画像に基づいて前記製品用の基板を前記ノズルに対して前記副走査方向に相対移動するとともに前記製品用の基板を前記製品用の基板の主面に垂直な回転軸を中心に回転することにより、前記製品用の基板の前記ノズルに対する相対位置を調整する工程とを備える。
【００１９】
請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載の位置調整方法であって、前記ｆ）工程が、ｆ１）前記ずれ量に基づいて前記第２撮像部を前記第１撮像部に対して前記副走査方向に相対的に移動することにより、前記副走査方向に関し、前記第１撮像部および前記第２撮像部の前記ノズルに対する相対位置を互いに等しくする工程を備える。
【００２０】
請求項１４に記載の発明は、請求項１３に記載の位置調整方法であって、前記ｄ）工程が、ｄ１）前記第１画像および前記第２画像をモニタに出力する工程と、ｄ２）前記第１画像中の前記ラインおよび前記第２画像中の前記ラインと前記モニタ上の基準線と間のそれぞれの距離を求める工程とを備え、前記ｆ１）工程において、前記ｄ２）工程において求められた前記それぞれの距離に基づいて前記第１撮像部および前記第２撮像部を前記副走査方向にそれぞれ移動することにより、前記第１画像中の前記ラインおよび前記第２画像中の前記ラインと前記モニタ上の前記基準線とが重ねられる。
【００２１】
請求項１５に記載の発明は、請求項１２ないし１４のいずれかに記載の位置調整方法であって、前記ａ）工程において、前記ノズルの相対移動の際に、前記第１撮像領域上および前記第２撮像領域上において前記ノズルが等速にて移動する。
【００２２】
請求項１６に記載の発明は、請求項１２ないし１５のいずれかに記載の位置調整方法であって、前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００２３】
請求項１７に記載の発明は、請求項１６に記載の位置調整方法であって、前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明では、主走査方向におけるノズルの軌跡と第１撮像部および第２撮像部との位置関係を容易に、かつ、高精度に求め、これにより、基板のノズルに対する相対位置の調整を高精度に行うことができる。請求項２、１１および１３の発明では、基板の位置調整の際に基板の移動量の算出を簡素化することができる。請求項６の発明では、流動性材料の種類に応じて撮像遅延時間を適切に設定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る塗布装置１の構成を示す平面図であり、図２は塗布装置１の正面図である。塗布装置１は、平面表示装置用のガラス基板（以下、単に「基板」という。）９に画素形成材料を含む流動性材料を塗布する装置である。本実施の形態では、塗布装置１において、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置用の基板９に、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）が塗布される。
【００２６】
図２に示すように、塗布装置１は、基板９を保持する基板保持部１１、および、基板９の主面に垂直な方向（すなわち、Ｚ方向）を向く回転軸を中心に基板９を基板保持部１１と共に回転する基板回転機構１３を備え、基板保持部１１は内部にヒータによる加熱機構（図示省略）を備える。塗布装置１は、また、図１および図２に示すように、基板９の主面に対して平行な所定の方向（すなわち、図１中のＹ方向であり、以下、「副走査方向」という。）に基板９を基板保持部１１と共に水平移動する基板移動機構１２、基板保持部１１上の基板９に向けて３本のノズル１７から有機ＥＬ液を連続的に吐出する吐出機構である塗布ヘッド１４、塗布ヘッド１４を基板９の主面に平行であって副走査方向とは垂直な方向（すなわち、図１中のＸ方向であり、以下、「主走査方向」という。）に水平移動するヘッド移動機構１５、主走査方向に関して基板保持部１１の両側に設けられるとともに塗布ヘッド１４からの有機ＥＬ液を受ける２つの受液部１６、塗布ヘッド１４のノズル１７に同一種類の有機ＥＬ液を供給する流動性材料供給部１８、および、これらの構成を制御する制御部２（図１のみに図示）を備える。
【００２７】
塗布ヘッド１４では、３本のノズル１７が、図１中のＸ方向（すなわち、主走査方向）に関して略直線状に離れて配列されるとともに図１中のＹ方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置され、これらのノズル１７から吐出された有機ＥＬ液が、図３に示す基板９の塗布領域９１に予め形成されている主走査方向に伸びる隔壁９２の間の溝に塗布される。本実施の形態では、隣接する２本のノズル１７の間の副走査方向に関する距離は、隔壁９２間のピッチ（以下、「隔壁ピッチ」という。）の３倍に等しい。図３に示すように、基板９の塗布領域９１の外側には、後述する基板９の位置調整において利用される２つの十字型の位置調整用目印（いわゆる、アライメントマーク）９３が形成されている。位置調整用目印９３は隔壁９２と同一工程において形成されており、２つの位置調整用目印９３の中心を結ぶ仮想的な直線（図３中にて二点鎖線にて示す。）９３１は隔壁９２および隔壁９２間の溝に平行となる。
【００２８】
塗布装置１は、さらに、基板９および基板保持部１１の上方において主走査方向に略平行に配列されるとともに基板上の所定の撮像領域をそれぞれ撮像する第１撮像部１９１および第２撮像部１９２、並びに、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２を互いに独立して副走査方向にそれぞれ移動する第１撮像部移動機構１９３および第２撮像部移動機構１９４を備え、これらの構成も制御部２により制御される。以下の説明では、第１撮像部１９１による撮像領域を「第１撮像領域」といい、第２撮像部１９２による撮像領域を「第２撮像領域」という。塗布装置１では、第１撮像部移動機構１９３は、第２撮像部１９２を第１撮像部１９１に対して副走査方向に相対的に移動する移動機構となる（第２撮像部移動機構１９４も同様）。
【００２９】
塗布装置１では、基板９および基板保持部１１の（−Ｘ）側における塗布ヘッド１４の待機位置（すなわち、図１および図２中に実線にて示す位置であり、塗布ヘッド１４が（＋Ｘ）方向へと移動する際の移動開始位置）と第１撮像部１９１との間の主走査方向に関する距離が、基板９および基板保持部１１の（＋Ｘ）側における塗布ヘッド１４の待機位置（すなわち、図１および図２中に二点鎖線にて示す位置であり、塗布ヘッド１４が（−Ｘ）方向へと移動する際の移動開始位置）と第２撮像部１９２との間の主走査方向に関する距離に等しくなるように第１撮像部１９１および第２撮像部１９２が配置される。
【００３０】
塗布装置１では、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が行われる前に、まず、位置調整用に用意された基板（以下、「位置調整用基板」という。）に塗布された有機ＥＬ液のラインが第１撮像部１９１および第２撮像部１９２により撮像され、取得された画像に基づいて第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整が行われる。位置調整等の詳細な流れについては後述する。
【００３１】
ところで、有機ＥＬ液等の流動性材料には様々な種類があり、基板上に塗布された流動性材料のラインの画像処理においてラインを高精度に認識するためには、流動性材料の塗布から撮像までの経過時間（以下、「撮像遅延時間」という。）を流動性材料の種類に合わせて適切なものとする必要がある。図４は、流動性材料の種類を含むキー情報と撮像遅延時間とを関連づけたデータ要素３０１の集合であるデータベース３０を示す図であり、図１に示す塗布装置１は、データベース３０を記憶するデータベース記憶部３１、および、データベース３０に新たなデータ要素３０１を追加するデータベース更新部３２をさらに備える。
【００３２】
第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整が終了すると、製品用の基板９が塗布装置１に搬入されて塗布ヘッド１４に対する位置調整が行われる。続いて、ヘッド移動機構１５により塗布ヘッド１４が有機ＥＬ液を連続的に吐出しつつ主走査方向に移動し、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が１回行われる毎に、基板移動機構１２により基板９が副走査方向にステップ移動する。そして、ノズル１７の基板９に対する主走査方向および副走査方向への相対移動が繰り返されることにより、基板９に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される。塗布装置１では、ヘッド移動機構１５および基板移動機構１２が、３本のノズル１７を基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動する主走査機構および副走査機構となる。
【００３３】
塗布装置１では通常、複数の基板９に対して有機ＥＬ液の塗布が順次行われるが、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整は、各基板９への塗布前に必ず行われるわけではない。これらの撮像部の位置調整は、１枚目の基板９への塗布前に行われた後は、塗布装置１の振動等により撮像部の位置がずれた場合や塗布装置１のメンテナンスの際等に行われる。
【００３４】
次に、塗布装置１における第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整の流れについて説明し、その後、基板９の位置調整および有機ＥＬ液の塗布の流れについて説明する。図５．Ａおよび図５．Ｂは、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整の流れを示す図である。図５．Ａおよび図５．Ｂに示すように、両撮像部の位置調整が行われる際には、まず、位置調整用基板が塗布装置１に搬入され、基板保持部１１に載置されて保持される（ステップＳ１１）。位置調整用基板では、製品用の基板９とは異なり、塗布領域に隔壁は形成されていない。
【００３５】
位置調整用基板が保持されると、制御部２により流動性材料供給部１８が制御され、予め図１および図２中に実線にて示す待機位置に位置している塗布ヘッド１４においてノズル１７からの有機ＥＬ液の吐出が開始される（ステップＳ１２）。そして、ヘッド移動機構１５が制御部２により制御され、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が開始される（ステップＳ１３）。塗布装置１では、位置調整用基板に向けて有機ＥＬ液を連続的に吐出するノズル１７が主走査方向に移動することにより、位置調整用基板の主面に有機ＥＬ液のラインがストライプ状に塗布される。塗布装置１では、ノズル１７が位置調整用基板上の第１撮像領域および第２撮像領域の上方を通過するように、予め、第１撮像部移動機構１９３および第２撮像部移動機構１９４により第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の副走査方向における位置が大まかに調整されている。第１撮像部移動機構１９３および第２撮像部移動機構１９４は駆動源としてパルスモータを備えており、大まかな位置調整が行われた際のパルスモータの原点位置からのパルス数を制御部２に記憶しておくことにより、２回目以降の両撮像部の大まかな位置調整を容易に行うことができる。
【００３６】
図６は、塗布ヘッド１４が主走査方向に移動する際の移動速度を示す図である。図６中の横軸は塗布ヘッド１４の主走査方向における位置を示す。また、図６中の円１０１，１０２はそれぞれ、主走査方向に関して第１撮像領域および第２撮像領域に対応する位置を示す。図６に示すように、ヘッド移動機構１５によるノズル１７の移動の際には、第１撮像領域上および第２撮像領域上においてノズル１７は等速にて移動する。
【００３７】
塗布装置１では、塗布ヘッド１４（すなわち、ノズル１７）の主走査方向の位置情報が、ヘッド移動機構１５のエンコーダ（図示省略）から制御部２の撮像制御部２１（図１参照）へと継続的に送られており、当該位置情報が第１撮像領域に対応する値と等しくなった時点で、塗布ヘッド１４が第１撮像領域の上方を通過したことが撮像制御部２１により検出される。換言すれば、撮像制御部２１により、主走査方向におけるノズル１７の位置に基づいて第１撮像領域への有機ＥＬ液の塗布が検出される（ステップＳ１４）。続いて、塗布ヘッド１４の位置情報が第２撮像領域に対応する値と等しくなった時点で、撮像制御部２１により、第１撮像領域への有機ＥＬ液の塗布が、第１撮像領域への有機ＥＬ液の塗布と同様に検出される（ステップＳ１５）。
【００３８】
そして、塗布ヘッド１４が図１および図２中に二点鎖線にて示す待機位置まで移動すると、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が停止され（ステップＳ１６）、ノズル１７からの有機ＥＬ液の吐出が停止される（ステップＳ１７）。なお、本実施の形態では、塗布ヘッド１４が基板保持部１１の（−Ｘ）側の待機位置から移動を開始して（＋Ｘ）方向に移動することにより有機ＥＬ液の塗布が行われたが、有機ＥＬ液の塗布は、塗布ヘッド１４が基板保持部１１の（＋Ｘ）側の待機位置から（−Ｘ）方向に移動することにより行われてもよい。
【００３９】
本実施の形態では、ノズル１７の位置情報は、基板保持部１１の（−Ｘ）側における塗布ヘッド１４の待機位置を原点とし、（＋Ｘ）側を正として求められる。このように、塗布装置１の本体を基準としてノズル１７の主走査方向における座標を求め、当該座標に基づいて第１撮像領域および第２撮像領域への有機ＥＬ液の塗布を検出することにより、塗布ヘッド１４が基板保持部１１の（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側の待機位置のいずれから移動を開始した場合であっても（すなわち、ノズル１７が（＋Ｘ）方向および（−Ｘ）方向のいずれに移動している場合であっても）、有機ＥＬ液の両撮像領域への塗布を容易に検出することができる。
【００４０】
また、ノズル１７の位置情報は、両待機位置のうち塗布ヘッド１４の移動が開始される側を原点とし、塗布ヘッド１４の移動方向を正として求められてもよい。この場合、移動を開始する側の待機位置からのノズル１７の移動距離が位置情報として求められる。塗布装置１では、基板保持部１１の（−Ｘ）側の待機位置と第１撮像部１９１との間の距離が、基板保持部１１の（＋Ｘ）側の待機位置と第２撮像部１９２との間の距離に等しくされるため、待機位置からのノズル１７の移動距離に基づいて有機ＥＬ液の塗布を検出することにより、両待機位置のうちいずれから移動を開始した場合であっても、移動開始後の同じタイミングで有機ＥＬ液の両撮像領域への塗布を容易に検出することができる。
【００４１】
塗布装置１では、撮像制御部２１により、基板に塗布される流動性材料の種類（本実施の形態では、有機ＥＬ液の種類）を含むキー情報に関連づけられた撮像遅延時間がデータベース３０（図４参照）から予め抽出されて記憶されており、第１撮像領域への有機ＥＬ液の塗布の検出から当該撮像遅延時間の経過後に撮像制御部２１により第１撮像部１９１に対して撮像指示が与えられる。このように、有機ＥＬ液の第１撮像領域への塗布後から撮像遅延時間が経過した時点で撮像制御部２１により第１撮像部１９１が制御され、位置調整用基板上に塗布された３本の有機ＥＬ液のラインのうち、１本のラインの第１撮像領域に含まれる部位が撮像されて第１画像として撮像制御部２１に記憶される（ステップＳ１８）。図７は、第１画像８１を示す図である。図７中では、有機ＥＬ液のラインの第１撮像領域に含まれる部位（以下、「第１部位」という。）７１に平行斜線を付して示す。
【００４２】
続いて、第２撮像領域への有機ＥＬ液の塗布の検出から撮像遅延時間の経過後に撮像制御部２１により第２撮像部１９２に対して撮像指示が与えられ（換言すれば、有機ＥＬ液の第２撮像領域への塗布後から撮像遅延時間が経過した時点で撮像制御部２１により第２撮像部１９２が制御され）、位置調整用基板上に塗布された３本の有機ＥＬ液のラインのうち、第１撮像部１９１により撮像されたラインの第２撮像領域に含まれる部位が撮像されて第２画像として撮像制御部２１に記憶される（ステップＳ１９）。
【００４３】
塗布装置１では、塗布ヘッド１４の主走査方向への１回の移動に要する時間に比べて撮像遅延時間が比較的短い場合には、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２による撮像（ステップＳ１８，Ｓ１９）は、塗布ヘッド１４の移動停止および有機ＥＬ液の吐出停止（ステップＳ１６，Ｓ１７）よりも前に行われる。また、撮像遅延時間によっては、第１撮像部１９１による撮像（ステップＳ１８）が、塗布ヘッド１４の移動停止および有機ＥＬ液の吐出停止（ステップＳ１６，Ｓ１７）よりも前に行われ、第２撮像部１９２による撮像（ステップＳ１９）が、塗布ヘッド１４の移動停止および有機ＥＬ液の吐出停止（ステップＳ１６，Ｓ１７）よりも後に行われる場合もある。
【００４４】
データベース３０から抽出された撮像遅延時間に基づいて第１画像および第２画像が取得されると、両画像がモニタ２０に出力される（ステップＳ２０）。図８．Ａは、モニタ２０に出力された第１画像８１および第２画像８２を示す図である。図８．Ａに示すように、モニタ２０では、第１画像８１および第２画像８２が主走査方向（すなわち、Ｘ方向）に並べて表示され、両画像に共通のＸ方向に伸びる基準線２０１が表示されている。図８．Ａ中では、第２画像８２の有機ＥＬ液のライン（すなわち、有機ＥＬ液のラインの第２撮像領域に含まれる部位であり、以下、「第２部位」という。）７２には、第１部位７１と同様に平行斜線を付して示す。また、基準線２０１を一点鎖線にて示す。
【００４５】
第１画像８１および第２画像８２がモニタ２０に出力されると、制御部２のずれ量演算部２２（図１参照）により、第１画像８１に対して画像処理（例えば、微分処理）が行われ、Ｙ方向（すなわち、副走査方向）において画素値が変化する位置が第１部位７１の両側のエッジ７１１として捉えられる。続いて、各エッジ７１１のＹ方向の座標値のＸ方向に関する平均値が求められ、両エッジ７１１の当該平均値をさらに平均した値が、第１部位７１のＸ方向に伸びる中心線７１２のＹ方向の座標値として求められる。同様に、第２画像８２に対しても画像処理が行われて第２部位７２のＹ方向の両側のエッジ７２１が認識され、第２部位７２の中心線７２２のＹ方向の座標値が求められる。
【００４６】
続いて、両中心線のＹ方向の座標値に基づいて、第１部位７１の中心線７１２および第２部位７２の中心線７２２とモニタ２０上の基準線２０１との間のＹ方向に関するそれぞれの距離（以下、「第１距離」および「第２距離」という。）がずれ量演算部２２により求められる。また、第１撮像部１９１と第２撮像部１９２との間の副走査方向（すなわち、Ｙ方向）に関するずれ量（以下、「撮像部ずれ量」という。）が、第１画像および第２画像に基づいて第１距離および第２距離の合計として求められる（ステップＳ２１）。
【００４７】
第１距離および第２距離が求められると、制御部２の基板位置調整部２３（図１参照）により第１撮像部移動機構１９３および第２撮像部移動機構１９４が制御されることにより、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の副走査方向に関する位置調整が行われる。具体的には、第１撮像部移動機構１９３により第１撮像部１９１が第１距離に基づいて副走査方向に移動し、図８．Ｂに示すように、第１画像８１中の第１部位７１とモニタ２０上の基準線２０１とが重ねられるとともに、第２撮像部１９２が第２距離に基づいて副走査方向に移動し、第２画像８２中の第２部位７２とモニタ２０上の基準線２０１とが重ねられる（ステップＳ２２）。換言すれば、撮像部ずれ量に基づいて第２撮像部１９２を第１撮像部１９１に対して相対的に移動することにより、副走査方向に関し、位置調整用基板上に塗布された有機ＥＬ液のラインに対する第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の相対位置（すなわち、両撮像部のノズル１７に対する相対位置）が互いに等しくされる。第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整が終了すると、位置調整用基板が塗布装置１から搬出される（ステップＳ２３）。また、塗布ヘッド１４が図１および図２中に実線にて示す待機位置に戻される。
【００４８】
次に、製品用の基板９の位置調整の流れについて説明する。図９は、基板９の位置調整の流れを示す図である。図９に示すように、基板９の位置調整が行われる際には、まず、製品用の基板９が塗布装置１に搬入され（すなわち、位置調整用基板が製品用の基板９に置き換えられ）、基板保持部１１上に載置される（ステップＳ３１）。図１０に示すように、基板保持部１１の周囲には、基板保持部１１上に載置された基板９のおよその位置調整（いわゆる、プリアライメント）を行う保持位置調整機構１１１が設けられている。基板９が基板保持部１１上に載置されると、基板９の（＋Ｙ）側および（−Ｘ）側のエッジが保持位置調整機構１１１のピストン１１２により押され、基板９の（−Ｙ）側および（＋Ｘ）側のエッジが移動規制部１１３に当接することにより、基板９のおよその位置調整が行われる（ステップＳ３２）。これにより、基板９上の２つの位置調整用目印９３（図３参照）がそれぞれ、第１撮像部１９１の第１撮像領域および第２撮像部１９２の第２撮像領域に位置し、この状態で基板９が基板保持部１１により吸着（すなわち、保持）される。なお、図１０では、基板保持部１１および保持位置調整機構１１１以外の他の構成の記載を省略している。
【００４９】
基板９が基板保持部１１に保持されると、撮像制御部２１により第１撮像部１９１および第２撮像部１９２が制御され、基板９上の第１撮像領域および第２撮像領域に位置する２つの位置調整用目印９３が撮像される（ステップＳ３３）。そして、第１撮像部１９１により取得された画像（以下、「第３画像」という。）、および、第２撮像部１９２により取得された画像（以下、「第４画像」という。）がモニタ２０に出力される（ステップＳ３４）。図１１．Ａは、モニタ２０に出力された第３画像８３および第４画像８４を示す図である。図１１．Ａに示すように、モニタ２０では、第３画像８３および第４画像８４が主走査方向（すなわち、Ｘ方向）に並べて表示され、両画像に共通のＸ方向に伸びる基準線２０１が表示されている。図１１．Ａ中では、第３画像８３および第４画像８４中の位置調整用目印９３に平行斜線を付して示す。
【００５０】
第３画像８３および第４画像８４がモニタ２０に出力されると、基板位置調整部２３により第３画像８３および第４画像８４に対する画像処理が行われ、両画像中の位置調整用目印９３が、予め基板位置調整部２３に登録されているテンプレート画像に基づいて検出される（いわゆる、テンプレートマッチングが行われる）（ステップＳ３５）。続いて、２つの位置調整用目印９３の中心間の副走査方向に関する距離が求められ、予め記憶されている位置調整用目印９３の中心間の主走査方向に関する距離に基づいて基板９の回転方向のずれ量（すなわち、位置調整用目印９３間の仮想的な直線９３１（図３参照）の基準線２０１に対する傾き）が求められる。そして、基板位置調整部２３により基板回転機構１３が基板９の回転方向のずれ量に基づいて制御されて基板９が回転することにより、図１１．Ｂに示すように、第３画像８３および第４画像８４中の２つの位置調整用目印９３の基準線２０１に対するＹ方向の相対位置が互いに等しくされる（ステップＳ３６）。
【００５１】
既述のように、塗布装置１では、第１画像８１および第２画像８２中の有機ＥＬ液のライン（すなわち、第１部位７１および第２部位７２）がモニタ２０中の基準線２０１に重なるように第１撮像部１９１および第２撮像部１９２を副走査方向（すなわち、Ｙ方向）に移動することにより、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２のノズル１７（から吐出されて基板上に塗布される有機ＥＬ液のライン）に対する副走査方向に関する相対位置が互いに等しくされている。したがって、２つの位置調整用目印９３の基準線２０１に対するＹ方向の相対位置を互いに等しくすることにより、２つの位置調整用目印９３のノズル１７に対する副走査方向に関する相対位置が互いに等しくされる。すなわち、基板９上の塗布領域９１の隔壁９２間の溝（図３参照）が、主走査方向におけるノズル１７の移動の軌跡に対して平行となる。
【００５２】
次に、位置調整用目印９３の中心と基準線２０１との間のＹ方向に関する距離が求められる。そして、当該距離に基づいて基板移動機構１２が基板位置調整部２３により制御されて基板９が副走査方向に移動することにより、図１１．Ｃに示すように、第３画像８３および第４画像８４中の２つの位置調整用目印９３が基準線２０１に重ねられる。さらに、基板位置調整部２３に予め記憶されている位置調整用目印９３と塗布領域９１の溝との間の副走査方向に関する距離に基づいて基板９が副走査方向に移動されることにより、基板９が図１中に実線にて示す塗布開始位置に位置し、塗布領域９１の最も（＋Ｙ）側の溝と最も（＋Ｙ）側に配置されたノズル１７との副走査方向に関する相対位置が互いに等しくされて基板９の位置調整が終了する（ステップＳ３７）。
【００５３】
塗布装置１では、基板９の位置調整の終了後、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が行われる。有機ＥＬ液の塗布では、まず、流動性材料供給部１８が制御されてノズル１７から有機ＥＬ液の吐出が開始されるとともに、ヘッド移動機構１５が駆動されて塗布ヘッド１４の移動が開始される。塗布装置１では、３本のノズル１７から同一種類の有機ＥＬ液を基板９に向けて連続的に吐出しつつ、ノズル１７を図１中の（−Ｘ）側から（＋Ｘ）方向に（すなわち、主走査方向に）移動することにより、基板９の塗布領域９１上に予め形成された隔壁９２（図３参照）間の３つの溝に有機ＥＬ液が塗布される。３つの溝に塗布されたストライプ状の有機ＥＬ液は、副走査方向に関して隔壁ピッチの３倍に等しいピッチにて配列される。換言すれば、有機ＥＬ液が塗布された近接する２つの溝の間には、他の種類の有機ＥＬ液が塗布される予定の（あるいは、塗布された）２つの溝が挟まれる。
【００５４】
塗布ヘッド１４が基板９の（＋Ｘ）側の受液部１６の上方まで移動すると、基板移動機構１２が駆動され、基板９が基板保持部１１と共に図１中の（＋Ｙ）方向に隔壁ピッチの９倍の距離だけ移動する。このとき、塗布ヘッド１４では、ノズル１７から受液部１６に向けて有機ＥＬ液が連続的に吐出されている。副走査方向における基板９の移動が終了すると、塗布ヘッド１４がノズル１７から有機ＥＬ液を吐出しつつ基板９の（＋Ｘ）側から（−Ｘ）側へと移動する。
【００５５】
塗布装置１では、基板９に対するノズル１７の主走査および副走査が高速に繰り返されることにより、有機ＥＬ液が基板９上にストライプ状に塗布される。そして、基板９が図１中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動すると、ノズル１７からの有機ＥＬ液の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。
【００５６】
以上に説明したように、塗布装置１では、位置調整用基板上に塗布された有機ＥＬ液のラインが第１撮像部１９１および第２撮像部１９２により撮像され、当該ラインの第１画像８１および第２画像８２からずれ量演算部２２により撮像部ずれ量（すなわち、第１距離および第２距離）が求められ、さらに、当該撮像部ずれ量に基づいて第１撮像部１９１および第２撮像部１９２のノズル１７に対する副走査方向に関する相対位置が互いに等しくされる。そして、位置調整済みの第１撮像部１９１および第２撮像部１９２により製品用の基板９が撮像され、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２により取得された位置調整用目印９３の第３画像８３および第４画像８４に基づいて基板移動機構１２および基板回転機構１３が基板位置調整部２３により制御されることにより、基板９のノズル１７に対する相対位置が調整される。すなわち、塗布装置１では、第３画像８３および第４画像８４、並びに、撮像部ずれ量に基づいて基板９のノズル１７に対する相対位置が調整される。
【００５７】
塗布装置１では、位置調整用基板上の有機ＥＬ液のラインの撮像において、第１撮像領域における有機ＥＬ液の塗布から第１撮像部１９１による第１画像８１の取得までの経過時間と、第２撮像領域における有機ＥＬ液の塗布から第２撮像部１９２による第２画像８２の取得までの経過時間とが互いに等しくされる。換言すれば、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２における撮像遅延時間が互いに等しくされ、これにより、第１画像８１における有機ＥＬ液の状態、および、第２画像８２における有機ＥＬ液の状態が同様とされる。このように、第１画像８１および第２画像８２における撮像時の有機ＥＬ液の条件を互いに等しく、かつ、適切なものとすることにより、第１画像８１と第２画像８２とを容易に比較することができ、主走査方向におけるノズル１７の移動の軌跡と第１撮像部１９１および第２撮像部１９２との位置関係を容易に、かつ、高精度に求めることができる。そして、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２により基板９上の位置調整用目印９３を撮像して基板９の位置調整を行うことにより、ノズル１７に対する基板９の相対位置を高精度に調整することができる。
【００５８】
また、塗布装置１では、位置調整用基板への有機ＥＬ液の塗布において、ノズル１７が第１撮像領域上および第２撮像領域上を等速にて移動する。このように、第１撮像領域および第２撮像領域における有機ＥＬ液の塗布条件を等しくすることにより、第１画像８１および第２画像８２の撮像条件をより高い精度で一致させ、主走査方向におけるノズル１７の移動の軌跡と第１撮像部１９１および第２撮像部１９２との位置関係をより容易に、かつ、より高精度に求めることができる。
【００５９】
塗布装置１では、撮像制御部２１により位置調整用基板に塗布される流動性材料に対応する撮像遅延時間がデータベース３０から予め抽出されて記憶されており、当該撮像遅延時間に基づいて位置調整用基板上の流動性材料が撮像される。このように、塗布装置１では、流動性材料の種類に応じて撮像遅延時間を適切に設定することができる。その結果、主走査方向におけるノズル１７の移動の軌跡と第１撮像部１９１および第２撮像部１９２との位置関係をさらに容易に、かつ、さらに高精度に求めることができる。
【００６０】
塗布装置１において撮像遅延時間がデータベース３０に登録されていない流動性材料の塗布が行われる際には、位置調整用基板に対する流動性材料の塗布と第１撮像部１９１および第２撮像部１９２による画像の取得、並びに、当該画像に対する画像処理が撮像遅延時間を変更して繰り返し行われ、適切な撮像遅延時間が決定される。そして、当該撮像遅延時間が、流動性材料の種類と共に新しいデータ要素３０１としてデータベース更新部３２によりデータベース３０に追加される。このように、塗布装置１では、新しい種類の流動性材料に適した撮像遅延時間をデータベース３０に追加することができるため、新しい種類の流動性材料の塗布に容易に対応することができる。
【００６１】
ところで、仮に第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の副走査方向における位置調整が行われないとすると、基板移動機構１２および基板回転機構１３による基板９の位置調整の際に、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２により取得された位置調整用目印９３の第３画像８３および第４画像８４に対して、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の撮像部ずれ量を演算にて補正する必要がある。具体的には、ステップＳ３６にて２つの位置調整用目印９３の中心間の副走査方向に関する距離を求める際に、第３画像８３および第４画像８４から求められた中心間の距離に対して撮像部ずれ量が加算（または、減算）される。
【００６２】
しかしながら、上述のように塗布装置１では、基板位置調整部２３による基板９の位置調整に際して、まず、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２が撮像部ずれ量に基づいて副走査方向に移動され、ノズル１７に対する相対位置が互いに等しくされる。このため、基板移動機構１２および基板回転機構１３による基板９の位置調整の際に、撮像部ずれ量を演算にて補正する必要がないため、基板９の移動量（すなわち、基板９の回転角度、および、副走査方向の移動量）の算出を簡素化することができる。塗布装置１では、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整に際して、第１画像８１および第２画像８２がモニタ２０に出力されるため、両撮像部の位置を容易に確認しつつ位置調整を行うことができる。
【００６３】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００６４】
例えば、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整では、有機ＥＬ液は必ずしも位置調整用基板に塗布される必要はなく、製品用の基板９の不用部分（すなわち、製品の表示領域として用いられない部位であり、図３中の位置調整用目印９３よりも（＋Ｙ）側の部位）に有機ＥＬ液が塗布され、不用部分上の有機ＥＬ液のラインが撮像されて第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整が行われてもよい。この場合、製品用の基板９の不用部分を、位置調整用基板と捉えることができる。また、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整後、基板の置き換えを行うことなく、基板９の位置調整を行うことができる。第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の位置調整では、図３中の基板９の（−Ｙ）側の部位であって（＋Ｙ）側の不用部分に対応する部位（すなわち、もう１つの不用部分）に有機ＥＬ液が塗布されてもよい。この場合、もう１つの不用部分を位置調整用基板と捉えることができる。
【００６５】
塗布装置１では、撮像制御部２１による第１撮像領域および第２撮像領域への有機ＥＬ液の塗布の検出は、必ずしもヘッド移動機構１５のエンコーダから送られる塗布ヘッド１４の位置情報に基づいて行われる必要はなく、例えば、光センサ等により各撮像領域上を継続的に監視し、ノズル１７の各撮像領域上の通過を検出することにより各撮像領域への有機ＥＬ液の塗布が検出されてもよい。
【００６６】
また、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２として、第１撮像領域および第２撮像領域を連続的に撮像するデジタルビデオカメラ等が設けられてもよい。この場合、連続的に取得された複数の画像のうち、塗布検出から撮像遅延時間だけ経過した時点に対応する画像が第１画像８１および第２画像８２として抽出される。
【００６７】
塗布装置１では、必ずしも第１撮像部移動機構１９３および第２撮像部移動機構１９４の双方が設けられる必要はなく、例えば、第２撮像部移動機構１９４のみが設けられ、撮像部ずれ量に基づいて第２撮像部１９２を副走査方向に移動することにより、ノズル１７に対する第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の相対位置が互いに等しくされてもよい。
【００６８】
また、塗布装置１では、第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の副走査方向における位置調整を行うことなく、基板移動機構１２および基板回転機構１３による基板９の位置調整の際に、位置調整用目印９３の第３画像８３および第４画像８４に対して第１撮像部１９１および第２撮像部１９２の撮像部ずれ量が演算にて補正されてもよい。この場合、第１撮像部移動機構１９３および第２撮像部移動機構１９４を省略することができるため、塗布装置１の構造を簡素化することができる。なお、塗布装置１では、位置調整用目印９３に代えて基板９の塗布領域９１の隔壁９２や溝が撮像され、これらの画像に基づいて基板９の位置が調整されてもよい。
【００６９】
塗布装置１では、塗布ヘッド１４の３本のノズル１７から、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の有機ＥＬ液が同時に吐出されて基板９に塗布されてもよい。この場合、塗布ヘッド１４では、隣接する２本のノズル１７の間の副走査方向に関する距離が隔壁ピッチと等しくされる。
【００７０】
また、塗布ヘッド１４では、ノズル１７の本数は必ずしも３本には限定されず、１本または２本、あるいは、４本以上のノズル１７が塗布ヘッド１４に設けられてもよい。ただし、基板９に対する流動性材料の塗布に要する時間を短縮するという観点からは、基板９に向けて流動性材料を連続的に吐出しつつ基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動する複数のノズル（すなわち、１本のノズルおよび当該ノズルと共に移動する他の１本以上のノズル）が設けられることが好ましい。
【００７１】
塗布装置１では、正孔輸送材料を含む流動性材料が基板９に塗布されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機ＥＬ表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機ＥＬ材料により形成された有機ＥＬ層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。また、塗布装置１は、必ずしも有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含む流動性材料の塗布のみに利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよく、磁気ディスクや光ディスク用のガラス基板やセラミック基板、あるいは、半導体基板等の様々な基板に対する様々な種類の流動性材料の塗布に利用されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】塗布装置の平面図である。
【図２】塗布装置の正面図である。
【図３】基板の平面図である。
【図４】データベースを示す図である。
【図５．Ａ】第１撮像部および第２撮像部の位置調整の流れを示す図である。
【図５．Ｂ】第１撮像部および第２撮像部の位置調整の流れを示す図である。
【図６】塗布ヘッドの移動速度を示す図である。
【図７】第１画像を示す図である。
【図８．Ａ】第１画像および第２画像を示す図である。
【図８．Ｂ】第１画像および第２画像を示す図である。
【図９】基板の位置調整の流れを示す図である。
【図１０】保持位置調整機構を示す平面図である。
【図１１．Ａ】第３画像および第４画像を示す図である。
【図１１．Ｂ】第３画像および第４画像を示す図である。
【図１１．Ｃ】第３画像および第４画像を示す図である。
【符号の説明】
【００７３】
１    塗布装置
９    基板
１１    基板保持部
１２    基板移動機構
１３    基板回転機構
１５    ヘッド移動機構
１７    ノズル
２０    モニタ
２１    撮像制御部
２２    ずれ量演算部
２３    基板位置調整部
３０    データベース
３１    データベース記憶部
３２    データベース更新部
７１    第１部位
７２    第２部位
８１    第１画像
８２    第２画像
８３    第３画像
８４    第４画像
１９１    第１撮像部
１９２    第２撮像部
１９３    第１撮像部移動機構
１９４    第２撮像部移動機構
２０１    基準線
３０１    データ要素
Ｓ１１〜Ｓ２３，Ｓ３１〜Ｓ３７    ステップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５．Ａ】
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【図５．Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８．Ａ】
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【図８．Ｂ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１．Ａ】
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【図１１．Ｂ】
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【図１１．Ｃ】
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