Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月25日(2003.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駐車操作時に車両の後方をカメラにより撮像し、該カメラからの映像を後方画像として車内に設けられた表示器に表示し、前記後方画像にステアリング舵角の状態により変化する走行予想軌跡を前記後方画像に重ねて表示する駐車補助装置において、
前記ステアリング舵角を最大としたときの車両軌跡を示す左右の固定軌跡を前記後方画像に重ねて表示することを特徴とする駐車補助装置。
【請求項２】
前記固定軌跡は、駐車操作時における旋回外輪側の車両軌跡である請求項１に記載の駐車補助装置。
【請求項３】
前記ステアリング舵角が中立位置近傍では、前記固定軌跡は左右共に表示される請求項２に記載の駐車補助装置。
【請求項４】
前記固定軌跡は、駐車操作時に転舵方向のみ表示される請求項３に記載の駐車補助装置。
【請求項５】
前記走行予想軌跡が表示される画面の自車側には注意領域が更に表示される請求項１に記載の駐車補助装置。
【請求項６】
前記注意領域は、自車に近い側と遠い側で表示形態を変化させる請求項５に記載の駐車補助装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために講じた技術的手段は、駐車操作時に車両の後方をカメラにより撮像し、カメラからの映像を後方画像として車内に設けられた表示器に表示し、後方画像にステアリング舵角の状態により変化する走行予想軌跡を重ねて表示する駐車補助装置において、ステアリング舵角を最大としたときの車両軌跡を示す左右の固定軌跡を後方画像に重ねて表示するようにした。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
これによれば、ステアリング舵角を最大にしたときの車両軌跡を示す左右の固定軌跡が後方画像に重なって表示されるので、転舵せずに駐車補助基準位置を決定でき、その後、走行予想軌跡を固定軌跡に一致させるようにドライバーはステアリングの転舵を行えば、ステアリングの切り始め位置および切り量がわかり易くなり、初心者でも安心して駐車操作が行える。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
具体的には、表示器に表示される左右の固定軌跡が、後方画面における遠方側の駐車区画（駐車場等での１台分の駐車スペースを指す）の白線の中心よりも前側に接するよう車両をバックさせ、左右の固定軌跡の一方が白線に大体接する程度の位置を駐車補助基準位置とする。駐車補助基準位置になったら、走行予想軌跡を固定軌跡へ合わせるようにステアリングを転舵し、走行予想軌跡に一致する舵角でステアリングを保持しながら、駐車区画に接近する位置までバックする。駐車区画に対し車両がまっすぐな状態になったら、ステアリング舵角を直進状態に戻し、表示画面および目視により後方に注意しながらバックして駐車区画に平行な状態で完全に入った位置で停車することで、初心者でも簡単に駐車を行うことが可能となる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
【効果】
本発明によれば、駐車操作時に車両の後方をカメラにより撮像し、カメラからの映像を後方画像として車内に設けられた表示器に表示し、後方画像にステアリング舵角の状態により変化する走行予想軌跡を重ねて表示する駐車補助装置において、ステアリング舵角を最大としたときの車両軌跡を示す左右の固定軌跡を後方画像に重ねて表示するようにしたことにより、ステアリング舵角を最大にしたときの車両軌跡を示す左右の固定軌跡が後方画像に重なって表示されるので、走行予想軌跡を左右の固定軌跡のいずれか一方に一致させるようにドライバーはステアリングの転舵を行えば、ステアリングの切り始め位置および切り量がわかり易くなり、初心者でも安心して駐車操作が行える。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月4日(2003.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記した第１発明の構成によれば、フランジ部１に設けたテーパーボス部２を三等分した位置に割り溝６を形成してボス部２を三分割し、テーパーボス部２の端面２ａにはテーパーキャップ端面２０ａのボルト挿通孔２２の孔とピッチが均等になるように螺孔７を設けたので、テーパーボス部２にテーパーキャップ２０を締付け手段で締付け時、ボス部の各部を軸に対して均等に縮径して軸締結することができる。ボス部２を三分割したことによりテーパーキャップによる締付け時に三等分した分割片に均等の縮径力がかかり、各分割片が中心に向かって均等に縮径されるので応力均一に軸締結ができる。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２の発明の軸継手の軸締結装置は、フランジ部１に一体形成したテーパーボス部２にテーパーキャップ２０を締付け手段で締付けて軸締結する軸継手において、前記フランジ部１側面とボス部２に締付け手段で締付けるテーパーキャップ２０の先端面２０ｃとの間に締結解除用ボルトの頭部より広い間隔Ｌを存し、テーパーキャップの先端面に対抗するフランジ部側面側に締結解除ボルト用螺孔９を設け、該螺孔９に締結解除用ボルト１０を螺挿してセットしたことを特徴とするものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の効果】
この発明によれば、フランジ部に設けたテーパーボス部を三分割し、テーパーボス部の端面にはテーパーキャップ端面のボルト挿通孔の孔とピッチが均等になるように螺孔を設けたので、テーパーボス部にテーパーキャップを締付け手段で締付け時、ボス部の各分割片を軸に対して均等に縮径して軸締結することができる。ボス部を三分割したことによりテーパーキャップによる締付け時に三等分した分割片に均等の縮径力がかかり、各分割片が中心に向かって均等に縮径されるので応力均一にかつ強固に軸締結ができる。而して、この軸締結手段によれば、テーパーボス部の変形、フランジ部の変形、芯ぶれ等がなく、機械の芯だしが簡単にできる。従って、工作機械、ロボット、ＯＡ機器等において制御用モートルの高精度、位置決め等に利用する軸継手のボス部をテーパーキャップで均等に締結できる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
この発明によれば、テーパーキャップの先端面に対抗するフランジ部の側面側に締結解除用ボルトをセットしたので、軸締結を解除する場合には、テーパーキャップの頭部の締付けボルトを緩めてから、フランジ部にセットした締結解除用ボルトをスパナ等工具により緩めてそのトルクによりテーパーキャップの先端面を僅かに押し上げるだけで、テーパキャップを簡単にボス部より離れさせて軸締結を解除することができる。締結解除用ボルトは解除専用であるからビス程度の小径でよいので、慣性が大きくなることがなく、動バランスがくずれることがない。螺孔から締結解除用ボルトが外されないので、紛失の恐れもなく、保守に便利である。従って、工作機械、ロボット、ＯＡ機器等において制御用モートルの高精度、位置決め等に利用すれば、軸とボス部との位置関係を変更する場合、或いは軸をボス部より取り外す場合に軸締結の分離作業を速やかに行うことができて便利である。又、テーパーキャップを緩めるだけで位相の変位等を調整して軸締結できるので、軸締結装置とモートル、機械等間の間隔を狭くでき、軸締結装置の軸の長さが長くなることなく、機械の性能に影響なく、振動、捩じれが生ずることもない。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月19日(2003.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
下ユニット（３５）は、例えばセラミック・ファイバを主成分とする直方体状断熱材（４６）を備えている。そして断熱材（４６）に波形の電熱ヒータ（４７）が、断熱材（４６）の上寄り部分、すなわち炉内寄り部分に埋設されている。そして、断熱材（４６）の上面全てが絶縁体としてのマイカプレート（５１）により覆われている。なお、このユニット（３５）においては、電熱ヒータ（４７）の全部が断熱材（４６）に埋設されているが、電熱ヒータ（４７）の一部が断熱材（４６）から露呈するように断熱材（４６）に電熱ヒータ（４７）が埋設されていてもよい。すなわち、電熱ヒータ（４７）が断熱材（４６）と一体に設けられていればよく、ユニット（３５）における電熱ヒータ（４７）と断熱材（４６）との構成は上記のものに限られない。例えば、特開平１０−１２３６１号公報に記載されているように断熱材の炉内側面に設けられた溝に、溝の幅より大きい振幅の波形に加工された電熱ヒータが設けられ、電熱ヒータの幅方向両側の彎曲部が溝の両側壁より断熱材内に入ることによって断熱材に一体的に支持されていてもよい。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
上記の手順が順次繰り返されて搬送装置（１）  上に載置された基板（Ｗ）  が前進しする。そして、電熱ヒータ（４７）によりマイカプレート（５１）および金属板（４１）（５３）を介して黒体処理コーティング（４８）（５２）が加熱され、黒体処理コーティング（４８）（５２）から発せられる赤外線により、炉体（９）  内の基板（Ｗ）  が加熱される。処理が終了した基板（Ｗ）  は、図示を省略した搬出装置により基板搬送装置（１）  から取り出される。このように、基板（Ｗ）  は、支持部材（４Ａ）（４Ｂ）にのみ接触した状態で、搬送され、炉体（９）  に、特に電熱ヒータ（２２）に直接接触することがなく、急激に加熱されないので、基板（Ｗ）  の温度上昇が連続的になる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2000174431.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月12日(2003.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像読取装置及び画像読取方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物に光を照射し反射光を読み取る画像読取装置であって、  可視光と不可視光を照射することができる単一の光源と、上記光源からの光に係る対象物からの反射光を読み取る読取器と、上記光源の発光モードを選択的に切り替えるコントローラとを備え、上記発光モードは、可視光を利用した読取のための第１のモードと、上記不可視光を利用した読取のための第２のモードを含むことを特徴とする画像読取装置。
【請求項２】
上記不可視光は赤外線であり、上記第２のモードにおいて上記光源は少なくとも赤外線を含む光を発光することを特徴とする請求項１に記載の画像読取装置。
【請求項３】
上記赤外線は少なくとも一つの発光ピークを持ち、上記発光ピークは８００ｎｍから１０００ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項２に記載の画像読取装置。
【請求項４】
上記光源は蛍光灯であり、上記蛍光灯の内部放電状態の変更により、上記発光モードが切り替えられることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の画像読取装置。
【請求項５】
上記光源は稀ガス蛍光灯であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の画像読取装置。
【請求項６】
上記稀ガス蛍光灯にはキセノンガスが封入されていることを特徴とする請求項５に記載の画像読取装置。
【請求項７】
上記光源は蛍光灯であって、上記蛍光灯は、放電により発光する蛍光材料が内部に配置された密閉容器と、上記密閉容器の内部に配置される一対の内部電極と、上記密閉容器の外部に配置される一対の外部電極とを有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の画像読取装置。
【請求項８】
上記第１のモードでは上記外部電極相互の間に放電が行われ、上記第２のモードでは上記内部電極相互の間に放電が行われることを特徴とする請求項７に記載の画像読取装置。
【請求項９】
上記光源に与えられる電流の調節により、上記発光モードが切り替えられることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の画像読取装置。
【請求項１０】
赤外線カットフィルタと、可視光カットフィルタと、上記赤外線カットフィルタおよび上記可視光カットフィルタのいずれかを選択的に上記対象物と上記読取器との間に配置するフィルタ切替手段をさらに備え、上記フィルタ切替手段は、上記第１のモードで上記赤外線カットフィルタを上記対象物と上記読取器との間に配置し、上記第２のモードで上記可視光カットフィルタを上記対象物と上記読取器との間に配置することを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載の画像読取装置。
【請求項１１】
上記読取器の読取結果を処理する処理器をさらに備え、上記読取器は、上記第１のモードで第１の読取結果を出力するとともに、上記第２のモードで第２の読取結果とを出力し、上記処理器は、あらかじめ定められた演算フォーマットに従って、第１の読取結果および第２の読取結果を演算することにより、可視光に係る第１の補正読取結果と、上記不可視光に係る第２の補正読取結果を生成することを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載の画像読取装置。
【請求項１２】
互いに逆な第１の方向と第２の方向に上記読取器を走行させることができる移動器を備え、上記読取器が上記第１の方向に走行するときに、上記第１のモードで上記光源が発光し、上記読取器が上記第２の方向に走行するときに、上記第２のモードで上記光源が発光することを特徴とする請求項１ないし１１のいずれかに記載の画像読取装置。
【請求項１３】
対象物に光を照射し反射光を読み取る画像読取方法であって、可視画像読取モードと不可視画像読取モードから選択される読取モードに応じて、可視光と不可視光を照射することができる単一の光源の発光モードを切り替える過程と、上記切り替えた発光モードに応じて上記光源を発光させながら、上記光源からの光に係る対象物からの反射光を読み取る過程とを備えることを特徴とする画像読取方法。
【請求項１４】
対象物に光を照射し反射光を読み取る画像読取装置であって、放電により発光する蛍光材料が内部に配置された密閉容器と、上記密閉容器の内部に配置される一対の内部電極と、上記密閉容器の外部に配置される一対の外部電極とを有する蛍光灯であり、不可視光と可視光を照射することができる単一の光源と、上記光源からの光に係る対象物からの反射光を読み取る読取器と、上記画像読取装置は、上記内部電極相互の間に放電が行われるのと同時に、上記外部部電極相互の間に放電が行われるように、上記蛍光灯に給電する給電回路とを備えることを特徴とする画像読取装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、可視画像および不可視画像の読取に用いられる画像読取装置及び画像読取方法に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、本発明は、単一の光源で発生した可視光と不可視光を用いて画像を読み取る画像読取装置及び画像読取方法を提供することを目的とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月24日(2003.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
一般に、図６及び図７に示されているように、従来のモータＭは、モータケース１００内に配設されたステータＳと、このステータＳの内側において回転自在に支持されたロータＲとから概ね構成されていて、そのうちのステータＳは、等角度間隔で中心に向かって放射状に延出した複数本の突極を有するステータコア５と、前記各突極にほぼ均一の幅をもって巻回された励磁コイル６とを備えている。そのステータコア５の中央には、上記ロータＲを構成する回転軸２が貫通挿入される軸孔が形成されており、上記ロータＲの回転軸２の外周部分に固着された駆動マグネット３と対向するように構成されている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
そして、上記軸受保持部１４の内部には第１の玉軸受４１が保持されているが、その玉軸受４１は、その大部分が底面部１２よりも軸方向内側に位置するように保持されている。すなわち、軸受保持部１４を底面部１２より軸方向内側に落とし込んで形成したことにより、上述した励磁コイル６の傾斜面６ａと回転軸２との間に形成されたスペース内に、第１の玉軸受４１の大部分が存在することとなり、その結果、上記底面部１２からの軸受保持部１４の突出量が最小限に抑えられて、その分、モータＭ１の全長が短縮される。しかも、上記励磁コイル６は、半径方向外側に向かうほど巻回数が多くなるように巻回して占積率を高めているため、モータ効率が十分に確保されている。特に、幾重にも巻回する各層の励磁コイル６を整列巻きすることにより、一層占積率が高まるとともに、凹凸の少ない傾斜面６ａが形成される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図４において、第２のケース２０は底面部２２と、該底面部２２よりも半径方向内側であってモータＭ２の内部側（軸方向内側）に窪んだ凹陥部２３と、凹陥部２３よりもさらに半径方向内側に形成された軸受保持部２４を一体的に備えている。凹陥部２３は励磁コイル６の傾斜面６ａとの対向部分が当該傾斜面６ａに沿って軸方向内側に窪んでいて、その内側の軸受保持部２４が第２の玉軸受４２を保持している。当該第２の玉軸受４２は、少なくとも一部が底面部２２よりも軸方向内側に位置するように保持されている。なお、第１のケース１０は第１の実施形態と同一の構成をなしていて、第１の玉軸受４１は第１のケース１０の軸受保持部１４に保持されている。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図５において、図示下方側が開放状態にある第１のケース１０と、この第１のケース１０の開放部を閉塞する第２のケース２０とによってケース体１が構成されている。第１のケース１０の内周面には環状のマグネット３が固着されている。また、ケース体１の内部には回転軸２に嵌合固定されたロータコア５’が内蔵され、このロータコア５’には励磁コイル６’が巻回されている。ロータコア５’の外周面は、前記マグネット３の内周面と適宜の間隔をおいて対向している。回転軸２は、ロータコア５’を貫通して延出しており、回転軸２の図示上端側は第１のケース１０に保持された滑り軸受４によりロータコア５’と一体回転可能に軸支され、この滑り軸受４からモータ外部Ｍ３に突出した部分が出力軸部２ａを構成している。また、回転軸２の下端側部分には前記励磁コイル６’と電気的に接続された整流子ユニット９１が挿嵌されている。さらに、第２のケース２０にはブラシ９２を保持したブラシホルダ９３が固定され、当該ブラシ９２が前記整子ユニット９１に当接して所定の電流を供給している。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
この第３の実施形態において、第１のケース１０はカップ状を呈しており、円筒部１１と、底面部１２と、底面部１２よりも半径方向内側における励磁コイル６’との対向部分が軸方向内側に窪んだ凹陥部１３と、該凹陥部１３よりも半径方向内側に形成された軸受保持部１４とを備えている。軸受４は軸方向に分離した２個の軸受部を一体に有し、第１のケース１０の底面部１２よりも軸方向内側に位置するように保持されていて、その下端側は、ロータコア５’の切欠部５’ａにまで侵入している。本実施形態の励磁コイル６’は、前記実施形態の励磁コイル６のようなほぼ均一な傾斜角度の傾斜面を有していないが、励磁コイル６’の端面から内側の側面にかけて半径方向内側に行くほど低くなっている。そして、前記凹陥部１３は、励磁コイル６’とロータコア５’と軸受４とで画成される空間に入り込むように窪んでいる。すなわち、凹陥部１３を形成するケース内面は、上記励磁コイル６’の図示上面より軸方向下側まで入り込んでいる。その結果、第１のケース１０の底面部１２からの軸受保持部１４の突出量を小さく抑えることができ、モータＭ３の全長を短縮することが可能となる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】本発明にかかるモータの実施形態１を示す縦断面図である。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】本発明にかかるモータの実施形態２を示す縦断面図である。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】本発明にかかるモータの実施形態３を示す縦断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月15日(2003.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
複数設定された視点からみた複数の個別視点画像において、当該各個別視点画像を構成するピクセルの内、立体視画像の各サブピクセルに対応するサブピクセルを含むピクセルを特定する特定手段と、
前記特定手段により特定されたピクセル毎の色情報を連結して記憶する記憶手段と、
立体視画像の各サブピクセルに対応するサブピクセルを、前記記憶手段に記憶されたピクセルから順次サンプリングして立体視画像を生成する立体視画像生成手段と、
を備えることを特徴とする立体視画像生成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
複数設定された視点からみた複数の個別視点画像において、当該各個別視点画像を構成するサブピクセルの内、立体視画像の各サブピクセルに対応するサブピクセルを特定する特定手段と、
前記特定手段により特定されたサブピクセル毎の色情報を連結して記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶されたサブピクセルから順次サンプリングして立体視画像を生成する立体視画像生成手段と、
を備えることを特徴とする立体視画像生成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項５記載の発明は、立体視画像を生成する立体視画像生成手段を備える立体視画像生成装置であって、複数設定された視点からみた複数の個別視点画像（例えば、図７の個別視点画像Ｄ0〜Ｄ4）において、当該各個別視点画像を構成するピクセルの内、立体視画像の各サブピクセルに対応するサブピクセルを含むピクセルを特定する特定手段と、前記特定手段により特定されたピクセル毎の色情報を連結して記憶する記憶手段と、を備え、前記立体視画像生成手段は、立体視画像の各サブピクセルに対応するサブピクセルを、前記記憶手段に記憶されたピクセルから順次サンプリングして立体視画像を生成することを特徴としている。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項６記載の発明は、立体視画像を生成する立体視画像生成手段を備える立体視画像生成装置であって、複数設定された視点からみた複数の個別視点画像（例えば、図７の個別視点画像Ｄ0〜Ｄ4）において、当該各個別視点画像を構成するサブピクセルの内、立体視画像の各サブピクセルに対応するサブピクセルを特定する特定手段と、前記特定手段により特定されたサブピクセル毎の色情報を連結して記憶する記憶手段と、を備え、前記立体視画像生成手段は、前記記憶手段に記憶されたサブピクセルから順次サンプリングして立体視画像を生成することを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月21日(2003.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、ＥＶＦ１１４などの表示装置で点順次データを表示するとき、インタレース表示をプログレッシブ表示に変換する場合や、表示装置の表示速度に合わせてフレームを出力する場合に、所謂、フレームレート変換が行われている。しかしながら、１フレーム分のバッファ・メモリでフレームレート変換を行うとき、図２３に示すように、表示画像１１６中の高速で動く被写体１１７が、表示画像１１６の上部１１６ａと下部１１６ｂとでずれて見えるという、所謂「位置ズレ」現象が起こるという問題がある。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月5日(2003.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記光感光性樹脂からなる凹形状のパターン上にさらに凹部を覆うように上記凹形状のパターンに形成された上記光感光性樹脂とは別の光感光性樹脂を形成することにより拡散反射面の凸凹を形成することを特徴とする請求項１記載の反射板形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月14日(2004.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明板の平坦な表面上に位相シフタ膜が部分的に形成され、非金属からなり、ＯＤ値が３以上の遮光膜が上記位相シフタ膜の端部を覆って部分的に設けられたマスクを通して、電子装置を構成する被加工物の表面に設けられた感光性膜を露光し、上記感光性膜を現像することを特徴とする電子装置の製造方法。
【請求項２】
上記位相シフタ膜の端部はその厚さ方向の断面がテーパ形状であることを特徴とする請求項１記載の電子装置の製造方法。
【請求項３】
上記遮光膜は誘電体、高抵抗体又は有機体の膜であることを特徴とする請求項１記載の電子装置の製造方法。
【請求項４】
上記遮光膜はノボラック樹脂又はフェノール樹脂又はポリアニリン樹脂を主体とするフォトレジスト膜であることを特徴とする請求項１記載の電子装置の製造方法。
【請求項５】
凹部又は凸部が部分的に形成された透明板の表面に、非金属からなり、ＯＤ値が３以上の遮光膜がこの凹部又は凸部の端部を覆うように部分的に設けられたマスクを通して、電子装置を構成する被加工物の表面に設けられた感光性膜を露光し、上記感光性膜を現像することを特徴とする電子装置の製造方法。
【請求項６】
上記遮光膜は誘電体、高抵抗体又は有機体の膜であることを特徴とする請求項５記載の電子装置の製造方法。
【請求項７】
上記遮光膜はノボラック樹脂又はフェノール樹脂又はポリアニリン樹脂を主体とするフォトレジスト膜であることを特徴とする請求項５記載の電子装置の製造方法。
【請求項８】
転写時の露光光に対して位相を反転させる位相シフト手段が透明板の表面部に部分的に形成され、非金属からなり、ＯＤ値が３以上の遮光膜パターンが上記位相シフト手段の端部を覆って部分的に設けられたマスクを用いて、被加工物体の表面に設けられた感光性膜に上記遮光膜パターンを投影露光し、上記露光された感光性膜を現像することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項９】
上記透明板は透明基板とその表面上に設けられた第１透明膜とからなり、上記位相シフト手段が上記第１透明膜の表面上に形成された第２透明膜で構成され、上記露光光に対する上記第１透明膜の屈折率が上記透明基板のそれよりも大きく上記第２透明膜のそれ以下であることを特徴とする請求項８記載のパターン形成方法。
【請求項１０】
上記位相シフト手段は上記透明板の表面に形成された凹部又は凸部で構成されていることを特徴とする請求項８記載のパターン形成方法。
【請求項１１】
上記遮光膜は誘電体、高抵抗体又は有機体の膜からなることを特徴とする請求項８記載のパターン形成方法。
【請求項１２】
上記遮光膜はノボラック樹脂又はフェノール樹脂又はポリアニリン樹脂を主体とするフォトレジスト膜からなることを特徴とする請求項８記載のパターン形成方法。
【請求項１３】
転写時の露光光に対して位相を反転させる位相シフト手段が透明板の表面部に部分的に形成され、非金属からなり、ＯＤ値が３以上の遮光体レイアウトパターンが上記位相シフト手段の端部を覆って設けられた第１のマスクと、
上記第１のマスクの遮光体レイアウトパターンと同じ第２の遮光体レイアウトパターンを有しかつ上記第１のマスクの位相シフト手段とは位相が互いに逆転した第２の位相シフト手段を有する第２のマスクとを用いて、被加工物の表面に設けられた一つの感光性膜に対して多重に投影露光し、上記露光された感光性膜を現像することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１４】
フォトレジスト膜からなり、ＯＤ値が３以上の遮光パターンが表面に配置されたマスクを用いて投影露光装置により電子装置を構成する非加工物体の表面に上記遮光パターンを転写する際に、上記フォトレジスト膜表面を上記投影露光装置のステージ及びその搬送手段に接触させないで転写処理することを特徴とする電子装置の製造方法。
【請求項１５】
レジスト膜が形成された基体を準備する工程と、
レジスト遮光領域内に設けられた複数の開口パターンを有する第１の位相シフトパターン領域と、
前記第１の位相シフトパターン領域のパターンと同一のパターンを備え、前記第１の位相シフトパターン領域とは位相配置が互いに反転している第２の位相シフトパターン領域とが同一マスク基板に形成されたマスクを準備する工程と、
前記第１の位相シフトパターン領域のパターンを前記基体上のレジスト膜に転写する工程と、
前記第２の位相シフトパターン領域のパターンが前記基体上のレジスト膜に転写された前記第１の位相シフトパターン領域のパターンと重なるように前記第２の位相シフトパターン領域のパターンを前記基体上のレジスト膜に転写する工程とを有する電子装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の電子装置の製造方法において、前記複数の開口パターンは、前記基体に転写されるライン状の繰り返しパターンを有する。
【請求項１７】
請求項１５記載の電子装置の製造方法において、前記複数の開口パターンは、前記基体に転写される孤立パターン及びそれに隣接して設けられ、前記基体には転写されない補助パターンとを有する。
【請求項１８】
請求項１５記載の電子装置の製造方法において、前記第１の位相シフトパターン領域及び前記第２の位相シフトパターン領域はスキャナを用いて前記基体上の前記レジスト膜に転写される。
【請求項１９】
レジスト膜が形成された半導体基板を準備する工程と、
レジスト遮光領域内に設けられた第１と第２の開口パターンを有し、前記第１と第２の開口パターンを通過する露光光の位相が互いに反転する第１の位相シフトマスクと、前記第１及び第２の開口パターンと同一の第３及び第４の開口パターンを備え、前記第３及び第４の開口パターンは前記第１及び第２の開口パターンとは位相配置が互いに反転している第２の位相シフトマスクを準備する工程と、
前記第１の位相シフトマスクの第１及び第２の開口パターンを前記半導体基板上のレジスト膜に転写する工程と、
前記第２の位相シフトマスクの前記第３及び第４の開口パターンが前記半導体基板上のレジスト膜に転写された前記第１の位相シフトマスクの第１及び第２の開口パターンとそれぞれ重なるように前記第３及び第４の開口パターンを前記半導体基板上のレジスト膜に転写する工程とを有する半導体装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項１９記載の半導体装置の製造方法において、前記第１の位相シフトマスクと第２の位相シフトマスクとは同じマスク基板に形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月16日(2004.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の一方の面に配向膜が形成された液晶基板の検査方法において、
（ａ）前記液晶基板の前記配向膜に対し、５１５〜５６５ｎｍの波長の光を前記透明基板と垂直な方向から照射し、該光の反射光を検出してその光量に応じた画像信号を撮像装置にて出力する工程と、
（ｂ）前記液晶基板の前記配向膜に対し、４２５〜４７５ｎｍの波長の光を前記透明基板に斜めの方向から照射し、該光の反射光を検出してその光量に応じた画像信号を撮像装置にて出力する工程と、
（ｃ）前記液晶基板の前記配向膜に対し、６３５〜６８５ｎｍの波長の光を前記透明基板に斜めの方向から照射し、該光の反射光を検出してその光量に応じた画像信号を撮像装置にて出力する工程と、
を具備することを特徴とする液晶基板の検査方法。
【請求項２】
前記（ｂ）工程及び前記（ｃ）工程で用いられる光は、リング照明から照射された光であることを特徴とする請求項１に記載の液晶基板の検査方法。
【請求項３】
透明基板の一方の面に配向膜が形成された液晶基板の検査方法において、
（ａ）前記液晶基板の前記配向膜に対し、５１５〜５６５ｎｍの波長の光を前記透明基板と垂直な方向から照射し、該光の反射光を検出してその光量に応じた画像信号を撮像装置にて出力する工程と、
（ｂ）前記液晶基板の前記配向膜に対し、４２５〜４７５ｎｍの波長の光と６３５〜６８５ｎｍの波長の光とを混合した光を前記透明基板に斜めの方向から照射し、該光の反射光を検出してその光量に応じた画像信号を撮像装置にて出力する工程と、を具備することを特徴とする液晶基板の検査方法。
【請求項４】
前記（ｂ）工程で用いられる光は、リング照明から照射された光であることを特徴とする請求項３に記載の液晶基板の検査方法。
【請求項５】
前記（ａ）工程で用いられる光は、同軸落射照明から照射された光であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の液晶基板の検査方法。
【請求項６】
（ｄ）前記液晶基板の他方の面から前記液晶基板に対し、６３５〜６８０ｎｍの波長の光を照射し、該光の透過光を検出してその光量に応じた画像信号を撮像装置にて出力する工程と、
更に具備することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の液晶基板の検査方法。
【請求項７】
前記（ｂ）工程が最終工程であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の液晶基板の検査方法。
【請求項８】
透明基板の一方の面に配向膜が形成された液晶基板の前記配向膜に対し、５１５〜５６５ｎｍの波長の光を前記液晶基板と垂直方向に照射する第１照明手段と、
前記第１照明手段から照射された光の反射光を検出してその光量に応じた画像信号を出力する第１撮像手段と、
前記液晶基板の配向膜に対し、４２５〜４７５ｎｍの波長の光と６３５〜６８５ｎｍの波長の光とが混合された光を前記液晶基板に対し斜めから照射する第２照明手段と、
前記第２照明手段から照射された光の反射光を検出してその光量に応じた画像信号を出力する第２撮像手段と、を具備することを特徴とする検査装置。
【請求項９】
前記第１撮像手段と前記第２撮像手段の少なくとも１つの撮像手段に出力された画像信号が観察により不良と判断された前記液晶基板を収納する不良基板収納手段を
更に具備することを特徴とする請求項８に記載の検査装置。
【請求項１０】
前記第撮像手段と前記第２撮像手段とは共通の撮像手段であることを特徴とする請求項８または請求項９記載の検査装置。
【請求項１１】
前記液晶基板の他方の面から前記液晶基板に対し、６３５〜６８０ｎｍの波長の光を照射する第３照明手段と、
該光が前記液晶基板を透過してなる透過光を検出してその光量に応じた画像信号を出力する第３撮像手段と
を更に具備することを特徴とする請求項８または請求項９記載の検査装置。
【請求項１２】
前記第１撮像手段と前記第２撮像手段と前記第３撮像手段とは共通の撮像手段であることを特徴とする請求項１０または請求項１１記載の検査装置。
【請求項１３】
前記第１撮像手段、前記第２撮像手段、前記第３撮像手段の少なくとも１つの撮像手段に出力された画像信号が観察により不良と判断された前記液晶基板を収納する不良基板収納手段を
更に具備する請求項１１または請求項１２に記載の検査装置。
【請求項１４】
前記第１照明手段と前記第１撮像手段を有する第１検査部と、前記第２照明手段と前記第２撮像手段を有する第２検査部との間の前記液晶基板の搬送を行う搬送機構と、
を更に具備することを特徴とする請求項８から請求項１３のいずれか一項に記載の検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月13日(2003.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を介して互いに対向配置される基板のうちの一方の基板に対する他方の基板の固着がシール材によってなされ、前記シール材内には該シール材の延在方向に沿って突起体が配置され、この突起体は前記各基板のいずれかに形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記突起体は平行に配置された複数の突起体からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
液晶を介して互いに対向配置される基板のうちの一方の基板に対する他方の基板の固着がシール材によってなされ、このシール材の一部に形成された液晶封入口が封止材によって封止されたものであって、前記液晶封入口の近傍で液晶が封入された側にて一方の基板側に形成された複数の突起体を有し、これら各突起体は液晶の封入方向に延在されて形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
液晶を介して互いに対向配置される基板のうちの一方の基板と他方の基板を固着するシール材を有し、前記一方の基板あるいは他方の基板に形成され前記液晶をガイドさせるようになっている突起体を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記突起体はフォトリソグラフィ技術による選択エッチングにより形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月31日(2003.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ローラ基体内周面に接着層、絶縁層を介して発熱層が配置され、該発熱層に通電して発熱させる電子写真記録装置用熱定着装置において、前記接着層と絶縁層の少なくともいずれか１つが吸湿性であり、絶縁層内周面に防湿層を有することを特徴とする加熱ローラ。
【請求項２】
ローラ基体内周面に接着層、絶縁層を介して発熱層が配置され、該発熱層に通電して発熱させる電子写真記録装置用熱定着装置において、前記接着層と絶縁層の少なくともいずれか１つが吸湿性であり、発熱層内周面に防湿層を有することを特徴とする加熱ローラ。
【請求項３】
防湿層が、透湿性の低い耐熱性樹脂フィルムである請求項１又は２に記載の加熱ローラ。
【請求項４】
防湿層が、耐熱性樹脂フィルムにシリカ又はアルミナをコーティングしたものである請求項１又は２に記載の加熱ローラ。
【請求項５】
防湿層が、シリカ又はアルミナである請求項１記載の加熱ローラ。
【請求項６】
防湿層が金属箔であり、少なくとも発熱体接触側が絶縁性部材で覆われている請求項２記載の加熱ローラ。
【請求項７】
発熱層が抵抗発熱体からなる請求項１ないし６のいずれかに記載の加熱ローラ。
【請求項８】
抵抗発熱体が金属であり、防湿層が金属箔であり、防湿層と抵抗発熱体とが同一層内周面に形成されている請求項７記載の加熱ローラ。
【請求項９】
防湿層が発熱層より薄い請求項８記載の加熱ローラ。
【請求項１０】
絶縁フィルム上に金属箔を形成し、該金属箔をエッチングにより所望のパターンに形成した後に発熱箇所にマスキングし、発熱箇所以外の金属部分をエッチングして薄く加工する請求項９記載の加熱ローラの加工方法。
【請求項１１】
抵抗発熱体が絶縁層のほぼ全面に形成され、発熱層と防湿層とを兼る請求項８記載の加熱ローラ。
【請求項１２】
抵抗発熱体が回路とならないためのリブを設けた請求項１１記載の加熱ローラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、本発明の第１は、ローラ基体内周面に接着層、絶縁層を介して発熱層が配置され、該発熱層に通電して発熱させる電子写真記録装置用熱定着装置において、接着層と絶縁層の少なくともいずれかが吸湿性であり、絶縁層内周面に防湿層を有することを特徴とする加熱ローラである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の第２は、ローラ基体内周面に接着層、絶縁層を介して発熱層が配置され、該発熱層に通電して発熱させる電子写真記録装置用熱定着装置において、接着層と絶縁層の少なくともいずれかが吸湿性であり、発熱層内周面に防湿層を有することを特徴とする加熱ローラである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月28日(2003.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シャッタ開口を有する基板と、前記シャッタ開口を開閉するよう形成された複数枚の羽根からなる羽根群と、前記羽根群と接続され、前記基板に対して回動自在なアーム部材とを有するシャッタ装置において、
前記羽根との接続部のうち、前記アーム部材の回動中心から最も離れた接続部から前記アーム部材の回動中心までの距離Ｄと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を
０．７８Ａ≦Ｄ≦０．９０Ａ
とすることを特徴とするシャッタ装置。
【請求項２】
シャッタ開口を有する基板と、前記シャッタ開口を開閉するよう形成された複数枚の羽根からなる羽根群と、前記羽根群とそれぞれ接続され、前記基板に対して回動することで平行リンクを構成する第１および第２のアーム部材とを有するシャッタ装置において、
前記第１のアーム部材と前記第２のアーム部材とのリンク間隔寸法Ｅと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を
０．３３Ａ≦Ｅ≦０．３９Ａ
とすることを特徴とするシャッタ装置。
【請求項３】
シャッタ開口を有する基板と、前記シャッタ開口を開閉するよう形成された複数枚の羽根からなる羽根群と、前記羽根群と接続され、前記基板に対して回動自在なアーム部材とを有するシャッタ装置において、
前記羽根との接続部のうち、前記アーム部材の回動中心から最も離れた接続部から前記アーム部材の回動中心までの距離Ｄと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を
０．７８Ａ≦Ｄ≦０．９０Ａ
とし、前記シャッタ開口を前記羽根群が開閉するとき、前記アーム部材の最大回動角θを
８０°≦θ≦９４°
とすることを特徴とするシャッタ装置。
【請求項４】
シャッタ開口を有する基板と、前記シャッタ開口を開閉するよう形成された複数枚の羽根からなる羽根群と、前記羽根群とそれぞれ接続され、前記基板に対して回動することで平行リンクを構成する第１および第２のアーム部材とを有するシャッタ装置において、
前記羽根との接続部のうち、前記第１のアーム部材の回動中心から最も離れた接続部から前記第１のアーム部材の回動中心までの距離Ｄと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を
０．７８Ａ≦Ｄ≦０．９０Ａ
とし、前記第１のアーム部材と前記第２のアーム部材とのリンク間隔寸法Ｅと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を
０．３３Ａ≦Ｅ≦０．３９Ａ
とすることを特徴とするシャッタ装置。
【請求項５】
シャッタ開口を有する基板と、前記シャッタ開口を開閉するよう形成された複数枚の羽根からなる羽根群と、前記羽根群とそれぞれ接続され、前記基板に対して回動することで平行リンクを構成する第１および第２のアーム部材とを有するシャッタ装置において、
前記シャッタ開口を前記羽根群が開閉するとき、前記第１または第２のアーム部材の最大回動角θを
８０°≦θ≦９４°
とし、前記第１のアーム部材と前記第２のアーム部材とのリンク間隔寸法Ｅと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を
０．３３Ａ≦Ｅ≦０．３９Ａ
とすることを特徴とするシャッタ装置。
【請求項６】
シャッタ開口を有する基板と、前記シャッタ開口を開閉するよう形成された複数枚の羽根からなる羽根群と、前記羽根群とそれぞれ接続され、前記基板に対して回動することで平行リンクを構成する第１および第２のアーム部材とを有するシャッタ装置において、
前記羽根との接続部のうち、前記第１のアーム部材の回動中心から最も離れた接続部から前記第１のアーム部材の回動中心までの距離Ｄと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を
０．７８Ａ≦Ｄ≦０．９０Ａ
とし、前記シャッタ開口を前記羽根群が開閉するとき、前記第１または第２のアーム部材の最大回動角θを
８０°≦θ≦９４°
とし、前記第１のアーム部材と前記第２のアーム部材とのリンク間隔寸法Ｅと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を
０．３３Ａ≦Ｅ≦０．３９Ａ
とすることを特徴とするシャッタ装置。
【請求項７】
前記アーム部材の回動中心が設けられる側の前記基板の端面から前記シャッタ開口の端面までの寸法Ｂと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を
０．５６Ａ≦Ｂ≦０．７０Ａ
とすることを特徴とする請求項１ないし６の何れかに記載のシャッタ装置。
【請求項８】
前記アーム部材の回動中心が設けられない側の前記基板の端面から前記シャッタ開口の端面までの寸法Ｃと、前記シャッタ開口の前記羽根群走行方向寸法Ａとの関係を
０．２４Ａ≦Ｃ≦０．３０Ａ
とすることを特徴とする請求項１ないし７の何れかに記載のシャッタ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項２に係る発明は、シャッタ開口を有する基板と、前記シャッタ開口を開閉するよう形成された複数枚の羽根からなる羽根群と、前記羽根群とそれぞれ接続され、前記基板に対して回動することで平行リンクを構成する第１および第２のアーム部材とを有するシャッタ装置において、前記第１のアーム部材と前記第２のアーム部材とのリンク間隔寸法Ｅと、前記シャッタ開口の羽根走行方向の寸法Ａとの関係を０．３３Ａ≦Ｅ≦０．３９Ａとすることを特徴としている。
あるいは、前記シャッタ開口を前記羽根群が開閉するとき、前記アーム部材の最大回動角θを８０°≦θ≦９４°とすること等の条件式の組み合わせを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月29日(2004.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体基板洗浄装置とそれを用いた洗浄方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
枚葉スピン式半導体基板洗浄装置において、
半導体基板を略水平に保持して洗浄チャンバー内で回転させる基板保持手段と、
前記半導体基板の裏面側と対向して配置され、前記半導体基板の略中心から外周方向に沿って形成されている洗浄液流出口を有した洗浄用ノズルと、
前記洗浄液流出口より前記半導体基板の裏面に向けて洗浄液あるいは純水を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄液流出口より流出される前記洗浄液あるいは純水に振動を与える振動付与手段、
とを備えたことを特徴とする半導体基板洗浄装置。
【請求項２】
前記振動付与手段の振動源として超音波発振子あるいはメガソニック発振子を使用した請求項１に記載の半導体基板洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄液流出口を前記半導体基板の略中心から外周部分までの間で複数に分割し、各分割された前記洗浄液流出口を前記半導体基板の回転方向にずらして設けてなる請求項１に記載の半導体基板洗浄装置。
【請求項４】
枚葉スピン式半導体基板洗浄方法において、
半導体基板を略水平に保持して洗浄チャンバー内で回転させる第１の工程と、
前記半導体基板の裏面側と対向して配置され、前記半導体基板の略中心から外周方向に沿って形成されている洗浄用ノズルの洗浄液流出口より前記半導体基板の裏面に向けて洗浄液あるいは純水を供給する第２の工程と、
前記洗浄液流出口より流出される前記洗浄液あるいは純水に振動を与える第３の工程
からなることを特徴とする半導体基板洗浄方法。
【請求項５】
第３工程の振動は超音波発振子あるいはメガソニック発振子を振動源とする請求項４に記載の半導体基板洗浄方法。
【請求項６】
前記洗浄液流出口は前記半導体基板の略中心から外周部分までの間で複数に分割され、各分割された前記洗浄液流出口を前記半導体基板の回転方向にずらして洗浄する
ことを特徴とする請求項４に記載の半導体基板洗浄方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばシリコン半導体基板の裏面を洗浄液あるいは純水等の液体によって洗浄処理する半導体基板洗浄装置とそれを用いた洗浄方法に関するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は半導体の裏面に均一に洗浄液を供給して洗浄効果の高い半導体基板洗浄装置並びに洗浄方法を提供することにある。
さらに、他の目的は、以下に説明する内容の中で順次明らかにして行く。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成するために、次の技術手段を講じたことを特徴とする。すなわち、枚葉スピン式半導体基板洗浄装置とその洗浄方法において、半導体基板を略水平に保持して洗浄チャンバー内で回転させる手段と、前記半導体基板の裏面側と対向して配置され、前記半導体基板の略中心から外周方向に沿って形成されている洗浄液流出口を有した洗浄用ノズルと、前記洗浄液流出口より前記半導体基板の裏面に向けて洗浄液あるいは純水を供給する手段と、前記洗浄液流出口より流出される前記洗浄液あるいは純水に振動を与える手段とからなるものである。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な装置並びに方法の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの実施形態に限られるものではないものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月2日(2003.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属箔からなる正極集電体の少なくとも一方の面に活物質含有塗膜を形成してなる正極と、金属箔からなる負極集電体の少なくとも一方の面に活物質含有塗膜を形成してなる負極とを、セパレータを介して巻回した巻回構造の電極体を電池缶に収容してなる有機電解液二次電池において、上記巻回構造の電極体における正極の少なくとも最外周部に活物質含有塗膜を形成せず正極集電体のみの部分を設け、かつ上記巻回構造の電極体における負極の少なくとも最外周部に活物質含有塗膜を形成せず負極集電体のみの部分を設け、上記部分の正極集電体と負極集電体とをセパレータを介して配置し、かつ、上記巻回構造の電極体の巻回外径の最小値が放電状態において電池缶の内径より０．４〜０．７ｍｍ小さいことを特徴とする有機電解液二次電池。
【請求項２】
満充電での負極の充放電可能な容量が電池の単位体積あたり９６ｍＡｈ／ｃｍ3 以上であり、かつ上記活物質含有塗膜を形成していない正極集電体および上記活物質含有塗膜を形成していない負極集電体が巻回構造の電極体においてそれぞれ１周以上存在する請求項１記載の有機電解液二次電池。
【請求項３】
負極活物質として用いる炭素材料が、その（００２）面の層間距離ｄ002 が３．５Å以下で、かつ、ｃ軸方向の結晶子の大きさが３０Å以上である請求項１または２記載の有機電解液二次電池。
【請求項４】
有機電解液中に鎖状エステルが全電解液溶媒中で５０体積％を超えて含まれている請求項１〜３のいずれかに記載の有機電解液二次電池。
【請求項５】
有機電解液中に誘電率が３０以上の環状構造エステルが全電解液溶媒中の４０体積％未満含まれている請求項１〜４のいずれかに記載の有機電解液二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、金属箔からなる正極集電体の少なくとも一方の面に活物質含有塗膜を形成してなる正極と、金属箔からなる負極集電体の少なくとも一方の面に活物質含有塗膜を形成してなる負極とを、セパレータを介して巻回した巻回構造の電極体を電池缶に収容してなる有機電解液二次電池において、上記巻回構造の電極体における正極の少なくとも最外周部に活物質含有塗膜を形成せず正極集電体のみの部分を設け、かつ上記巻回構造の電極体における負極の少なくとも最外周部に活物質含有塗膜を形成せず負極集電体のみの部分を設け、上記部分の正極集電体と負極集電体とをセパレータを介して配置させ、かつ上記巻回構造の電極体の巻回外径の最小値を放電状態において電池缶の内径より０．４〜０．７ｍｍ小さくすることによって、上記課題を解決したものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明は、電池の形状のいかんにかわらず適用でき、どのような形状の電池にも適用可能であるが、特に円筒形、楕円筒形、角筒形などの筒形電池に適用するのが適している。そして、巻回構造の電極体を上記のような円筒形電池や楕円筒形電池に適するように円筒状や楕円筒状にしたときに、前記のように、その巻回外径の最小値を放電状態において電池缶の内径より０．４〜０．７ｍｍ小さくする。すなわち、巻回構造の電極体の巻回外径の最小値を放電状態において電池缶の内径より０．４ｍｍ以上小さくすることによって、電池の容量が高くなっても釘刺し試験での安全性が確保でき、また、巻回構造の電極体の巻回外径の最小値を放電状態において電池缶の内径より０．７ｍｍ以下で小さくすることによって、電池の容量が大きく減少するのを防止することができる。