【手続補正書】
【提出日】平成15年12月25日(2003.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】面位置検出方法、露光装置およびデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にパターンを投影する露光装置に用いられる面位置検出方法であって、
前記投影の方向に直交する面内の方向に前記基板上の被露光領域を位置決めするための前記基板の移動中に、前記投影方向における前記被露光領域の位置を検出する第１の検出モードと、前記位置決め後に、前記投影方向における前記被露光領域の位置を検出する第２の検出モードとのうち一方を、前記被露光領域毎に選択する選択工程と、
前記選択工程において選択された検出モードにおける検出結果に基づいて得られる面位置を前記被露光領域の面位置として検出する検出工程と
を含むことを特徴とする面位置検出方法。
【請求項２】
前記選択工程において、前記被露光領域の前記基板内における位置に基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項１に記載の面位置検出方法。
【請求項３】
前記選択工程において、前記露光装置が前記基板上の複数の被露光領域に対しステップアンドリピートを繰り返しながら露光する場合か否かに基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項１に記載の面位置検出方法。
【請求項４】
前記選択工程において、同一の被露光領域に対する前記第１の検出モードにおける検出結果および前記第２の検出モードにおける検出結果に基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項１に記載の面位置検出方法。
【請求項５】
前記選択工程において、前記第１の検出モードの誤差の履歴に基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項４に記載の面位置検出方法。
【請求項６】
前記選択工程における選択結果に関する情報を保持することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の面位置検出方法。
【請求項７】
前記選択工程における選択結果に関する情報を操作者に通知することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の面位置検出方法。
【請求項８】
前記選択工程において、前記露光装置の振動計測手段の計測結果に基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項１に記載の面位置検出方法。
【請求項９】
基板にパターンを投影する露光装置であって、
前記投影の方向における前記基板の被露光領域の位置を検出する第１検出手段と、
前記投影方向に直交する面内の方向に前記基板上の被露光領域を位置決めするための前記基板の移動中に、前記第１検出手段による検出を行う第１の検出モードと、前記位置決め後に、前記第１検出手段による検出を行う第２の検出モードとのうち一方を、前記被露光領域毎に選択する選択手段と、
前記選択手段により選択された検出モードにおける検出結果に基づいて得られる面位置を前記被露光領域の面位置として検出する第２検出手段と
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
前記選択手段は、前記被露光領域の前記基板内における位置に基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記選択手段は、前記露光装置が前記基板上の複数の被露光領域に対しステップアンドリピートを繰り返しながら露光する場合か否かに基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記選択手段は、同一の被露光領域に対する前記第１の検出モードにおける検出結果および前記第２の検出モードにおける検出結果に基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記選択手段は、前記第１の検出モードの誤差の履歴に基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記選択手段の選択結果に関する情報を保持する保持手段を有することを特徴とする請求項９〜１３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１５】
前記選択手段の選択結果に関する情報を操作者に通知する通知手段を有することを特徴とする請求項９〜１４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１６】
振動計測手段を有し、前記選択手段は、前記振動計測手段の計測結果に基づいて前記第１および第２の検出モードのうち一方を選択することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記選択手段の選択結果に基づいて前記第１検出手段の検出域を設定する設定手段を有することを特徴とする請求項９〜１６のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１８】
請求項９〜１７のいずれかに記載の露光装置を用いて基板にパターンを投影する投影工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置のパターン投影方向における基板の被露光領域の面位置を検出する面位置検出技術に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の目的は、このような従来技術の問題点に鑑み、高精度で高速な面位置検出技術を提供することにある。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために本発明は、基板にパターンを投影する露光装置に用いられる面位置検出方法であって、前記投影の方向に直交する面内の方向に前記基板上の被露光領域を位置決めするための前記基板の移動中に、前記投影方向における前記被露光領域の位置を検出する第１の検出モードと、前記位置決め後に、前記投影方向における前記被露光領域の位置を検出する第２の検出モードとのうち一方を、前記被露光領域毎に選択する選択工程と、前記選択工程において選択された検出モードにおける検出結果に基づいて得られる面位置を前記被露光領域の面位置として検出する検出工程とを含むことを特徴とする。このような面位置検出方法は、特に逐次移動型の半導体露光装置（ステッパ）に好適に適用される。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明は、基板にパターンを投影する露光装置であって、前記投影の方向における前記基板の被露光領域の位置を検出する第１検出手段と、前記投影方向に直交する面内の方向に前記基板上の被露光領域を位置決めするための前記基板の移動中に、前記第１検出手段による検出を行う第１の検出モードと、前記位置決め後に、前記第１検出手段による検出を行う第２の検出モードとのうち一方を、前記被露光領域毎に選択する選択手段と、前記選択手段により選択された検出モードにおける検出結果に基づいて得られる面位置を前記被露光領域の面位置として検出する第２検出手段とを有することを特徴としてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
そして前記２つのステップ方式におけるフォーカス検出の手段においてそのステップ方式に従ってフォーカスの検出レンジを切り換えることにより検出範囲と検出時間を各々変更することを可能にし、全体の処理時間を考慮した上で精度と生産性を両立したチップ処置のジョブ作成が可能となる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、高精度で高速な面位置検出技術を提供することができる。