Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月7日(2003.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記可動具２の構造について図２及び図３に基づいて詳細に説明する。ポール１１は棒状の棒部１１ａと、棒部１１ａの内径側端部に形成される内径側取付部１６と、棒部１１ａの外径側端部に形成される外径側取付部１７とよりなる。内径側取付部１６は断面Ｕ字状で、長円形状の穴１６ｂ，１６ｂが形成された対向する内径側対向部１６ａ，１６ａを有している。また、外径側取付部１７は断面Ｕ字状で、長円形状の穴１７ｂ，１７ｂが形成された対向する外径側対向部１７ａ，１７ａを有している。このポール１１はかしめローラ９の穴９ａを通って、かしめローラ９を軸支している。ローラカバー７はかしめローラ９を内側に配置し、略カップ状で、一方にかしめローラ９のかしめ端面１０の一部を突出させるカバー開口７ａを、他方に移動軸３と略同径のカバー穴部７ｃが中心に形成されたカバー底部７ｂとを有し、内径側に突出する外径側支持部１２がカバー開口７ａ付近に形成されている。この外径側支持部１２は貫通孔１２ａを有している。またローラカバー７の底部７ｂからは円筒状のローラカバー支持軸６が反カバー開口方向へ一体に延出している。移動軸３はローラカバー７のカバー穴部７ｃを嵌通しており、軸線方向に進退可能である。また移動軸３は保持具２１側端部に外径側に突出する内径側支持部１３が形成され、この内径側支持部１３はピン貫通孔１２ａを有している。ここでポール１１の外径側取付部１７の外径側対向部１７ａ，１７ａ間にはローラカバー７の外径側支持部１２が嵌装され、ポール１１の外径側対向部１７ａ，１７ａの穴１７ｂ，１７ｂとローラカバー７の外径側支持部１２の貫通孔１２ａとを外径側ピン１５が貫通し、ポール１１とローラカバー７とを連結している。この外径側ピン１５は、ローラカバー７の外径側支持部１２の円状のピン貫通孔１２ａと略同径で嵌合し、また、ポール１１の外径側対向部１７ａ，１７ａの長円形状の穴１７ｂ，１７ｂに遊嵌されている。また、ポール１１の内径側取付部１６の内径側対向部１６ａ，１６ａ間には移動軸３の内径側支持部１３が嵌装され、ポール１１の内径側対向部１６ａ，１６ａの穴１６ｂ，１６ｂと移動軸３の内径側支持部１３の貫通孔１３ａとを内径側ピン１８が貫通し、ポール１１と移動軸３とを連結している。この内径側ピン１８は移動軸３の内径側支持部１３の円状の貫通孔１３ａと略同径で嵌合し、また、ポール１１の内径側対向部１６ａ，１６ａの長円形状の穴１６ｂ，１６ｂに遊嵌されている。また、移動軸３には周状に外径側に突出するストッパー４が形成されている。このストッパー４はローラカバー７のカバー底部７ｂより反カバー開口側に位置し、ストッパー４の外径はローラカバー支持軸６の内径と略同径であり、カバー穴部７ｃより大径である。この可動具２は、ボールジョイント３１の軸心Ｇを中心に
回転可能である。


【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2002160028.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2002160028.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2002160028.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2002160028.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月23日(2003.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁膜にテーパー状の内側面を有するホールと前記ホールの下部に連設された接続孔とを形成する工程と、
前記ホール内、前記接続孔内及び前記絶縁膜上にメタル層を堆積する工程と、
前記ホール内、前記接続孔内及び前記メタル層上に埋め込み材を堆積する工程と、
前記接続孔より上に存在するメタル層、埋め込み材及び絶縁膜を除去する工程と、
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
下層配線上に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜にテーパー状の内側面を有するホールと前記ホールの下部に連設され前記下層配線に接続された接続孔とを形成する工程と、
前記ホール内、前記接続孔内及び前記絶縁膜上にメタル層を堆積する工程と、
前記ホール内、前記接続孔内及び前記メタル層上に埋め込み材を堆積する工程と、
前記接続孔より上に存在するメタル層、埋め込み材及び絶縁膜を除去する工程と、
前記埋め込み材上に上層配線を形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記絶縁膜がＴＥＯＳ膜であることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記ホールを形成する工程におけるエッチング条件は、少なくともＣ４Ｆ８、Ｏ２及びＣＨＦ３を含むエッチングガスを用い、それらの流量比が下記式（１）を満たすものであることを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか１項記載の半導体装置の製造方法。
Ｃ４Ｆ８：Ｏ２：ＣＨＦ３＝１：１：（１より大）      （１）
【請求項５】
前記接続孔より上に存在するメタル層、埋め込み材及び絶縁膜を除去する工程は、ＣＭＰ研磨により除去するものであることを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか１項記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記ホールにおける内側面のテーパー角度が８０°以上８７°以下であることを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１項記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係る半導体装置の製造方法は、絶縁膜にテーパー状の内側面を有するホールをと前記ホールの下部に連結された接続孔と形成する工程と、前記ホール内、前記接続孔内及び前記絶縁膜上にメタル層を堆積する工程と、前記ホール内、前記接続孔内及び前記メタル層上に埋め込み材を堆積する工程と、前記接続孔より上に存在するメタル層、埋め込み材及び絶縁膜を除去する工程と、を具備することを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係る半導体装置の製造方法は、下層配線上に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜にテーパー状の内側面を有するホールと前記ホールの下部に連設され前記下層配線に接続された接続孔とを形成する工程と、前記ホール内、前記接続孔内及び前記絶縁膜上にメタル層を堆積する工程と、前記ホール内、前記接続孔内及び前記メタル層上に埋め込み材を堆積する工程と、前記接続孔より上に存在するメタル層、埋め込み材及び絶縁膜を除去する工程と、前記埋め込み材上に上層配線を形成する工程と、を具備することを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
Ｃ４Ｆ８：Ｏ２：ＣＨＦ３＝１：１：（１より大）      （１）
また、本発明に係る半導体装置の製造方法において、前記接続孔より上に存在するメタル層、埋め込み材及び絶縁膜を除去する工程は、ＣＭＰ研磨により除去するものであることも可能である。また、前記上層配線及び前記下層配線それぞれの材料としてはＡｌ合金膜を用いることも可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月9日(2003.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクに形成されたパターンが露光対象物上の同一レジストに走査露光方式によって繰り返し露光される半導体装置の製造方法において、
前記パターンが前記走査露光方式の走査方向において複数の領域に分割されており、各分割領域には各分割パターン部がそれぞれ形成されたフォトマスクを準備する工程と、
前記露光対象物上のレジストに前記フォトマスクの前記複数の分割パターン部のうち一つの分割パターン部が露光される第一の露光工程と、
前記露光対象物上のレジストにおける前記第一の露光工程によって露光された露光領域に前記フォトマスクの前記複数の分割パターン部のうち他の分割パターン部が二重露光される第二の露光工程とを備えており、
前記第二の露光工程が前記複数の分割パターン部の残りの回数だけ繰り返されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第一露光工程が前記露光対象物の全体にわたって繰り返し実施された後に、前記第二露光工程がその露光対象物の全体にわたって繰り返し実施されることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第一露光工程と前記露光工程とが交互に前記露光対象物の全体にわたって繰り返し実施されることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記パターンが二分割されており、一方の分割領域にはレベンソン形位相シフトマスクパターンからなる分割パターン部が形成され、他方の分割領域には補助パターン形位相シフトマスクパターンからなる分割パターン部が形成されていることを特徴とする請求項１、２または３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記両分割パターン部が二重露光されて一つのコンタクトホールパターンが形成されることを特徴とする請求項４に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記両分割パターン部が二重露光されて一つの素子分離パターンが形成されることを特徴とする請求項４に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記パターンが二分割されており、両方の分割領域には互いに異なるレベンソン形位相シフトマスクパターンからなる分割パターン部のそれぞれが形成されていることを特徴とする請求項１または２または３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記両分割パターン部が二重露光されて一つのストレージ・ノードパターンが形成されることを特徴とする請求項７に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記パターンが二分割されており、両方の分割領域には互いに異なるレベンソン形位相シフトマスクパターンからなる分割パターン部のそれぞれが形成され、さらに、両方の分割パターン部の領域は受持ち領域が半分宛に分担されていることを特徴とする請求項１、２または３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
所定のピッチで直列になるように配列された第一、第二、第三のホールと、前記第一、第二、第三のホールの列に並行して設けられ、所定のピッチで直列になるように配列された第四、第五、第六のホールとを有し、前記第四のホールの位置が前記第一と第二のホールの間であるホール群を備えた半導体装置の製造方法であって、
前記第一と第二のホールおよび前記第五と第六のホールに対応する開口部を備え、前記第一と第二のホールに対応する開口部を通過する露光光の位相は互いに反転し、前記第五と第六のホールに対応する開口部を通過する露光光の位相は互いに反転し、前記第一と前記第五のホールに対応する開口部を通過する露光光の位相は互いに同相である第一転写パターンと、
前記第三のホールに対応する開口部およびその周辺に設けられた解像限界以下の寸法の補助開口パターンと、前記第四のホールに対応する開口部およびその周辺に設けられた解像限界以下の寸法の補助開口パターンとを有し、前記第三のホールに対応する開口部とその周辺に設けられた解像限界以下の寸法の補助開口パターンとを通過する露光光の位相は互いに反転し、前記第四のホールに対応する開口部とその周辺に設けられた解像限界以下の寸法の補助開口パターンとを通過する露光光の位相は互いに反転する第二転写パターンと、
がＹ方向に並んで配置されたフォトマスクを準備する工程と、
前記フォトマスクを用いてＹ方向に走査しながら半導体基板にパターンを転写する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造方法、特に、フォトマスクに形成されたパターンを露光対象物上の同一レジストに繰り返し露光する露光技術に関し、例えば、半導体集積回路装置の製造方法の露光工程に利用して有効な技術に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明はこの究明に基づいてなされたものであり、その目的は収差による転写パターンの精度劣化を防止することができる半導体装置の製造方法を提供することにある。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
すなわち、フォトマスクに形成されたパターンが露光対象物上の同一レジストに走査露光方式によって繰り返し露光される半導体装置の製造方法において、
前記パターンが前記走査露光方式の走査方向において複数の領域に分割されており、各分割領域には各分割パターン部がそれぞれ形成されたフォトマスクを準備する工程と、
前記露光対象物上のレジストに前記フォトマスクの前記複数の分割パターン部のうち一つの分割パターン部が露光される第一の露光工程と、
前記露光対象物上のレジストにおける前記第一の露光工程によって露光された露光領域に前記フォトマスクの前記複数の分割パターン部のうち他の分割パターン部が二重露光される第二の露光工程とを備えており、
前記第二の露光工程が前記複数の分割パターン部の残りの回数だけ繰り返されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月29日(2003.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光情報記録媒体の記録層が主として非環状化合物から構成され、かつある記録波長におけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｗと、前記の記録波長とは同一でも異なってもよい波長での再生における、ジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｒが等しくなるような膜厚に記録層が設定されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
ある有限な波長範囲で分布を有する記録・再生波長により記録・再生される光情報記録媒体において、該光情報記録媒体の記録層が主として非環状化合物から構成され、かつある記録波長におけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｗと、前記の記録波長とは同一でも異なってもよい波長での再生における、ジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｒが等しくなるような膜厚に記録層が設定されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項３】
記録ＰＵＨと再生ＰＵＨで異なるビ−ム形状で再生される光情報記録媒体において、該光情報記録媒体の記録層が主として非環状化合物から構成され、かつ記録ＰＵＨにおけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｗと、再生ＰＵＨにおけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｒが等しくなるような膜厚に記録層が設定されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項４】
記録層の構成材料の主成分がアゾ金属錯体である請求項１〜３のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
記録ＰＵＨと再生ＰＵＨで異なるビ−ム形状で再生される光情報記録媒体において、該光情報記録媒体の記録層が主として非環状化合物から構成され、かつ記録ＰＵＨにおけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｗと、再生ＰＵＨにおけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｒが等しくなるような膜厚に記録層を設定することを特徴とする光情報記録媒体の作製方法。
【請求項６】
記録層の構成材料の主成分がアゾ金属錯体である請求項５記載の光情報記録媒体の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は光情報記録媒体の記録層膜厚の最適化を図ることにより、前記課題を解決することができた。
すなわち、本発明の第１は、光情報記録媒体の記録層が主として非環状化合物から構成され、かつある記録波長におけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｗと、前記の記録波長とは同一でも異なってもよい波長での再生における、ジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｒが等しくなるような膜厚に記録層が設定されていることを特徴とする光情報記録媒体に関する。
本発明の第２は、ある有限な波長範囲で分布を有する記録・再生波長により記録・再生される光情報記録媒体において、該光情報記録媒体の記録層が主として非環状化合物から構成され、かつある記録波長におけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｗと、前記の記録波長とは同一でも異なってもよい波長での再生における、ジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｒが等しくなるような膜厚に記録層が設定されていることを特徴とする光情報記録媒体に関する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の第３は、記録ＰＵＨと再生ＰＵＨで異なるビ−ム形状で再生される光情報記録媒体において、該光情報記録媒体の記録層が主として非環状化合物から構成され、かつ記録ＰＵＨにおけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｗと、再生ＰＵＨにおけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｒが等しくなるような膜厚に記録層が設定されていることを特徴とする光情報記録媒体に関する。
本発明の第４は、記録層の構成材料の主成分がアゾ金属錯体である請求項１〜３のいずれかに記載の光情報記録媒体に関する。
本発明の第５は、記録ＰＵＨと再生ＰＵＨで異なるビ−ム形状で再生される光情報記録媒体において、該光情報記録媒体の記録層が主として非環状化合物から構成され、かつ記録ＰＵＨにおけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｗと、再生ＰＵＨにおけるジッタの記録パワー依存曲線のボトムとなる最適記録パワーＰｒが等しくなるような膜厚に記録層を設定することを特徴とする光情報記録媒体の作製方法に関する。
本発明の第６は、記録層の構成材料の主成分がアゾ金属錯体である請求項５記載の光情報記録媒体の作製方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月17日(2003.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
前記支持ブラケット２１の腕部２２に吊下げるレバー式牽引具２３は、吊下げ用ワイヤロープ９に緊張力が付加できる程度の吊上げ能力を有しているものであればよい。また、支持ロープ２５は、適宜長さで両端部に吊環２５ａが形成されたものであり、吊下げ用ワイヤロープ９に添わせて取付けるためのクリップ２６を少なくとも２個備えている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月30日(2003.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、上記目的は第１に、
（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物（以下、「化合物（ａ１）」ということがある。）、
（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物（以下、「化合物（ａ２）」ということがある。）、ならびに
（ａ３）前記単量体（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物（以下、「化合物（ａ３）」ということがある。）の共重合体（以下、「共重合体（Ａ）」ということがある。）、
（Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ樹脂（以下、「エポキシ樹脂（Ｂ）」ということがある。）、ならびに
（Ｃ）熱あるいは放射線により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする、樹脂基板上に保護膜を形成するための硬化性組成物により達成される。
上記目的は第２に、上記の硬化性組成物を樹脂基板上に塗布し、次いで熱および／または光処理を実施することにより保護膜を形成する方法であって、処理温度が１８０℃を越えない温度で処理することを特徴とする、樹脂基板上に保護膜を形成する方法により達成される。
上記目的は第３に上記組成物からから形成された保護膜により達成される。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
＜エポキシ樹脂（Ｂ）＞
エポキシ樹脂（Ｂ）としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が使用できる。これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、エピコート８２８、同１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）等を、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、エピコート８０７、同８３４（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）等を、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｈ６５（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）等を、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＯＣＮ−１０２、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）等を、その他、環式脂肪族エポキシ樹脂として、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ  Ａ．Ｇ製）、ＥＲＬ−４２３４、ＥＲＬ−４２９９、ＥＲＬ−４２２１、ＥＲＬ−４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）製）、アラルダイトＣＹ−１８２、同ＣＹ−１９２、同ＣＹ−１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ  Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本インキ工業（株）製）、エピコート８７１、同８７２、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＤ−５６６１、ＥＤ−５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等を、脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エピコート１９０Ｐ、同１９１Ｐ（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）エポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等を挙げることができる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
実施例１
硬化性組成物の調製
上記合成例１で合成した重合体［Ａ１］を含む重合体溶液（重合体［Ａ１］１００重量部（固形分）に相当）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００重量部で希釈した後、（Ｂ）成分としてエピコート８２８（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン（株）製）２０重量部、（Ｃ）成分として、４−アセトフェニルジメチルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート２重量部、シランカップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン６重量部および界面活性剤としてメガファックＦ１７２（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製）０.０１重量部を添加し、十分に撹拌することにより、硬化性組成物［Ｓ１］を得た。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月30日(2003.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応器内の合成樹脂材料を、亜硫酸ガス濃度が０．５vol％以上、１０vol％以下の範囲からなる亜硫酸含有ガスに接触させ、次いで亜硫酸含有ガスの一部を反応器外に排気し、１×１０4Pa以上、８×１０4Pa以下の範囲の減圧下で亜硫酸含有ガスが残存した雰囲気中に、フッ素含有ガスを導入し、合成樹脂材料をフッ素ガス濃度が０．１vol％以上、１０vol％以下の範囲からなるフッ素含有ガスに接触させる合成樹脂材料の表面改質方法。
【請求項２】
亜硫酸含有ガスが、濃度０．５vol％以上、１０vol％以下の範囲の亜硫酸ガスと、濃度９０vol％以上、９９．５vol％以下の範囲の窒素ガスを含有する請求項１記載の合成樹脂材料の表面改質方法。
【請求項３】
亜硫酸含有ガスの一部を反応器外に排気したときの亜硫酸含有ガスの残存率が１０％以上、８０％以下の範囲である請求項１または２に記載の合成樹脂材料の表面改質方法。
【請求項４】
フッ素含有ガス処理後、前記フッ素含有ガスの５０vol％以上を反応器外に排気し、次いで酸素含有ガスを導入し、１０×１０4Paに復圧して合成樹脂材料と接触させる請求項１〜３のいずれかに記載の合成樹脂材料の表面改質方法。
【請求項５】
合成樹脂材料が多孔性合成樹脂シートからなり、ロール状に巻き取られた多孔性合成樹脂シートを反応器内の２軸の巻き取り装置に設置し、一方の軸から巻き出し、もう一方の軸に巻き取りながら反応ガスを接触させる請求項１〜４のいずれかに記載の合成樹脂材料の表面改質方法。
【請求項６】
巻き出し、巻き取り処理回数が２回以上である請求項５記載の合成樹脂材料の表面改質方法。
【請求項７】
反応器内のポリオレフィン系繊維を主体とする不織布を、亜硫酸ガス濃度が０．５vol％以上、１０vol％以下の範囲からなる亜硫酸含有ガスに接触させ、次いで亜硫酸含有ガスの一部を反応器外に排気し、１×１０4Pa以上、８×１０4Pa以下の範囲の減圧下で亜硫酸含有ガスが残存した雰囲気中に、フッ素含有ガスを導入し、前記不織布をフッ素ガス濃度が０．１vol％以上、１０vol％以下の範囲からなるフッ素含有ガスに接触させて、不織布を親水化処理する電池用セパレータの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記表面改質方法には、以下のような問題点がある。例えば、特開平４−５９８３８号公報では、電解液との親和性を向上させる親水基を繊維表面に固定させることできるが、前記方法では亜硫酸ガスとフッ素ガスの比較的高濃度のガス雰囲気下で表面改質処理を施すため、被処理体表面で２成分のガスの発熱反応により繊維表面の温度上昇が発生し、ある濃度限界値を超えるとガス同士の化学反応が促進され、工業的に安全性に問題となる場合がある。また、常圧下で表面改質処理を施すため、高目付の不織布、見掛け密度の大きい不織布、あるいは極細繊維を用いた緻密な不織布などでは不織布内部までガスが浸透しにくく、その結果不織布内部まで親水化処理が均一にされにくい欠点がある。また、特開平１０−７８２９号公報では、同時に亜硫酸ガス、フッ素ガスを混合した系でロール形状のサンプルを巻き取って親水化処理を施すため、ガス同士の反応、あるいはガスと基布との反応によって、反応系内の亜硫酸ガス、フッ素ガスの濃度が経時的に変化する要因が大きく、不織布の長さ方向において均一な親水化処理を制御しにくいという欠点がある。さらに、前記公報と同様に、常圧下で表面改質処理を施すため、不織布内部まで親水化処理が均一にされにくい欠点がある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の電池用セパレータの製造方法において、前記表面改質方法に基づき、反応器内のポリオレフィン系繊維を主体とする不織布を、亜硫酸ガス濃度が０．５vol％以上、１０vol％以下の範囲からなる亜硫酸含有ガスに接触させ、次いで亜硫酸含有ガスの一部を反応器外に排気し、１×１０4Pa以上、８×１０4Pa以下の範囲の減圧下で亜硫酸ガスが残存した雰囲気中に、フッ素含有ガスを導入し、前記不織布をフッ素ガス濃度が０．１vol％以上、１０vol％以下の範囲からなるフッ素含有ガスに接触させることにより、不織布の空隙内部の繊維表面まで十分に親水化処理され、スルホン基、カルボキシル基、水酸基などの親水性官能基が付与された電池用セパレータを製造することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
前記乾燥工程としては、熱風貫通タイプ、加熱ロール接触タイプなど、乾燥可能であれば特に限定されない。多孔性合成樹脂シートであれば、熱風貫通タイプが空隙内部まで効率よく乾燥させることができ、好ましい。乾燥温度としては、４０℃以上、９０℃以下の範囲であることが好ましい。より好ましい乾燥温度の下限は、５０℃である。より好ましい乾燥温度の上限は、７０℃以下である。乾燥温度が４０℃未満であると、十分な乾燥させるのに多大な時間を費やし、効率的ではない。９０℃を超えると、親水性官能基の形態が変化する恐れがあるからである。乾燥工程の通過時間としては、特に限定するものではないが、例えば、合成樹脂材料がポリオレフィン系不織布であれば２min以上で十分な乾燥効果が期待できる。このようにして表面改質された合成樹脂材料は、材料表面にスルホン基及び他の極性基を付与することにより、親水性能やイオン交換性能などの様々な機能を付加することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月16日(2003.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
心臓血管障害の危険度を減少させるために、正常より高いレベルの全身性炎症のマーカーを有する対象に投与するための医薬組成物であって、将来心臓血管障害を発症する対象の危険度を低下させる有効量の非アスピリン抗炎症薬を含む、前記医薬組成物。
【請求項２】
対象が、抗炎症薬を要求する症状が他にない、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
対象が見かけ上健康である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
薬剤が、アルクロフェナック；アルクロメタゾンジプロピオネート；アルゲストンアセトニド；アルファアミラーゼ；アンシナファル；アンシナフィド；アンフェナックナトリウム；アミプリローズ塩酸；アナキンラ；アニロラック；アニトラザフェン；アパゾン；バルサラジド二ナトリウム；ベンダザック；ベノキサプロフェン；ベンジダミン塩酸；ブロメライン類；ブロペラモール；ブデソニド；カルプロフェン；シクロプロフェン；シンタゾン；クリプロフェン；クロベタゾールプロピオネート；クロベタゾンブチレート；クロピラック；クロチカゾンプロピオネート；コルメタゾンアセテート；コルトドキソン；デフラザコルト；デソニド；デソキシメタゾン；デキサメタゾンジプロピオネート；ジクロフェナックカリウム；ジクロフェナックナトリウム；ジフロラゾンジアセテート；ジフルミドンナトリウム；ジフルニサール；ジフルプレドネート；ジフタロン；ジメチルスルホキシド；ドロシノニド；エンドリゾン；エンリモマブ；エノリカムナトリウム；エピリゾール；エトドラック；エトフェナメート；フェルビナック；フェナモール；フェンブフェン；フェンクロフェナック；フェンクロラック；フェンドサール；フェンピパロン；フェンチアザック；フラザロン；フルアザコルト；フルフェナミン酸；フルミゾール；フルニソリドアセテート；フルニキシン；フルニキシンメグルミン；フルオコルチンブチル；フルオロメトロンアセテート；フルクアゾン；フラービプロフェン；フルレトフェン；フルチカゾンプロピオネート；フラプロフェン；フロブフェン；ハルシノニド；ハロベタゾールプロピオネート；ハロプレドンアセテート；イブフェナック；イブプロフェン；イブプロフェンアルミニウム；イブプロフェンピコノール；イロニダップ；インドメタシン；インドメタシンナトリウム；インドプロフェン；インドキソール；イントラゾール；イソフルプレドンアセテート；イソキセパック；イソキシカム；ケトプロフェン；ロフェミゾール塩酸；ロルノキシカム；ロテプレドノールエタボネート；メクロフェナメートナトリウム；メクロフェナミン酸；メクロリゾンジブチレート；メフェナム酸；メザラミン；メセクラゾン；メチルプレドニゾロン；スレプタネート；モルニフルメート；ナブメトン；ナプロキセン；ナプロキセンナトリウム；ナプロキソール；ニマゾン；オルサラジンナトリウム；オルゴテイン；オルパノキシン；オキサプロジン；オキシフェンブタゾン；パラニリン塩酸；ペントサンポリ硫酸ナトリウム；フェンブタゾンナトリウムグリセレート；ピルフェニドン；ピロキシカム；ピロキシカムシンナメート；ピロキシカムオラミン；ピルプロフェン；プレドナゼート；プリフェロン；プロドリン酸；プロクアゾン；プロキサゾール；クエン酸プロキサゾール；リメキソロン；ロマザリット；サルコレックス；サルナセジン；サルサレート；塩化サンギナリウム；セクラゾン；セルメタシン；スドキシカム；スリンダック；スプロフェン；タルメタシン；タルニフルメート；タロサレート；テブフェロン；テニダップ；テニダップナトリウム；テノキシカム；テシカム；テシミド；テトリダミン；チオピナック；チキソコルトルピバレート；トルメチン；トルメチンナトリウム；トリクロニド；トリフルミデート；ジドメタシン；グルココルチコイド類；ゾメピラックナトリウムから成る群より選択される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項５】
心臓血管障害の危険度を減少させるために、正常より高いレベルの全身性炎症マーカーを有する対象に投与するための医薬組成物であって、抗−血栓薬、抗−血小板薬、フィブリン溶解薬、脂質減少薬、直接トロンビン阻害薬、または糖タンパク質ＩＩｂ／ＩＩＩａ受容体阻害薬を、将来的な心臓血管障害を発症する対象の危険度を減少させるために十分な量で含む、前記医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月2日(2003.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検出されたＣＰＵの動的動作特性を制御する方法であって、
（ａ）  第１クロック速度で動作する、コンピュータ内の中央処理装置（ＣＰＵ）の少なくとも１つの動的動作特性を検出し、
（ｂ）  前記少なくとも１つの動的動作特性が前記少なくとも１つの動的動作特性に関連する所定の設定点に対して所定の関係を確立することにより、設定点割り込み条件が存在することを決定し、
（ｃ）  前記設定点割り込み条件が存在する場合は、前記クロック速度を前記第１クロック速度に対して制御し、
（ｄ）  前記設定点割り込み条件が存在しない場合は、ステップ（ｂ）と（ｃ）を繰り返す、
ステップを含む、検出されたＣＰＵの動的動作特性を制御する方法。
【請求項２】
検出されたＣＰＵの動的動作特性を制御する装置であって、
ＣＰＵ活動検出器と、
ＣＰＵクロックと、
少なくとも第１パルスを第１速度で、また第２パルスを第２速度で与える少なくとも１個の発振器と、
前記第１パルスと前記第２パルスを選択的に制御し選択するハードウエアセレクタであって、前記ハードウエアセレクタはさらに前記第１パルスと前記第２パルスの前記選択された方を前記ＣＰＵクロックに送り、また少なくとも１つの検出されたＣＰＵの動的動作特性が前記検出されたＣＰＵの動的動作特性に関連する所定の設定点に対して所定の関係を確立することにより存在する、設定点割り込み条件に応じる、ハードウエアセレクタと、
検出されたＣＰＵの活動を前記ＣＰＵ活動検出器から受け、さらに前記ハードウエアセレクタに送るパルスを発生して前記ハードウエアセレクタがどのパルスを選択すべきかを指定する、ＣＰＵ休眠管理装置と、
を備える、検出されたＣＰＵの動的動作特性を制御する装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
以上の説明に関してさらに以下の項を開示する。
（１）  検出されたＣＰＵの動的動作特性を制御する方法であって、
（ａ）  第１クロック速度で動作する、コンピュータ内の中央処理装置（ＣＰＵ）の少なくとも１つの動的動作特性を検出し、
（ｂ）  前記少なくとも１つの動的動作特性が前記少なくとも１つの動的動作特性に関連する所定の設定点に対して所定の関係を確立することにより、設定点割り込み条件が存在することを決定し、
（ｃ）  前記設定点割り込み条件が存在する場合は、前記クロック速度を前記第１クロック速度に対して制御し、
（ｄ）  前記設定点割り込み条件が存在しない場合は、ステップ（ｂ）と（ｃ）を繰り返す、
ステップを含む、検出されたＣＰＵの動的動作特性を制御する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月25日(2003.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）複数の行を有するバッファ内にデータをロードするステップと、
ｂ）行の対を選択的に組み合わせて、複数の中間組合せ結果を得るステップであって、各組合せ時に等しい長さの２つのオペランドをインタリーブさせ、各オペランドの長さが２倍の出力を得るステップと、
ｃ）前記複数の中間組合せ結果内の対を選択的に組み合わせて、新しい複数の中間組合せ結果を得るステップと、
ｄ）転置行が発生するまでステップｃ）を繰り返すステップと、
ｅ）転置行を前記バッファまたは第２のバッファの一方に記憶し、それにより転置されたバッファを生成するステップと
を含むバッファ内でデータを転置する方法。
【請求項２】
ａ）あるバッファ行の複数の高位バイトを２行離れたバッファ行内の複数の高位バイトでインタリーブするステップと、
ｂ）あるバッファ行の複数の低位バイトを２行離れたバッファ行内の複数の低位バイトでインタリーブするステップと、
ｃ）転置された行を生成するためにインタリーブするステップの結果を予め定めた方法で繰り返してインタリーブするステップであって、インタリーブされている行の各１６ビットデータの構成バイトを分離し、１６ビットデータの再配置をインタリーブするステップと、
ｄ）複数の転置された行を前記バッファまたは第２のバッファの一方に記憶するステップと
を含む１６ビット表示のデータのバッファを転置する方法。
【請求項３】
バスによってメモリに結合されたプロセッサを有するコンピュータ・システム内で、バッファ内でデータを転置させるためにその中に実現されたコンピュータ使用可能コードを有するコンピュータ使用可能媒体を含み、
複数の行を有するバッファ内にデータをロードするように構成されたコンピュータ読取り可能プログラム・コード装置と、
あるサイズのオペランドをインタリーブしそのオペランドのサイズの合計のサイズの結果を得るように、行の対を選択的に組み合わせて、複数の中間組合せ結果を得るように構成されたコンピュータ読取り可能プログラム・コード装置と、
前記複数の中間組合せ結果内の対を選択的に組み合わせて、新しい複数の中間組合せ結果を得るように構成されたコンピュータ読取り可能プログラム・コード装置と、
転置行が発生するまで中間組合せ結果の選択的組合せを繰り返すように構成されたコンピュータ読取り可能プログラム・コード装置と、
転置行を前記バッファまたは第２のバッファの一方に記憶し、それにより転置されたバッファを生成するように構成されたコンピュータ読取り可能プログラム・コード装置と
を含むコンピュータ・プログラム製品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1997305753.tif 000001
【図２】
1997305753.tif 000002
【図３】
1997305753.tif 000003
【図４】
1997305753.tif 000004
【図５】
1997305753.tif 000005
【図６】
1997305753.tif 000006
【図７】
1997305753.tif 000007
【図８】
1997305753.tif 000008
【図９】
1997305753.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月6日(2004.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
通貨受領機において、
前記通貨受領機の使用者がアクセスできる外面を持つ機械ハウジング、及び
前記機械ハウジングに回転自在に取り付けられた紙幣受領機を有し、前記紙幣受領機は、
機械の使用者から現金を受け入れるための紙幣確認機、及び
前記機械の使用者が挿入した現金を貯蔵するための現金収集領域を含み、
前記紙幣受領機は、少なくとも（ｉ）前記機械ハウジングの前記外面を通して前記紙幣確認機にアクセスできるが、その際、前記現金収集領域が前記外面からのアクセスに対して遮断された紙幣挿入位置と、（ii）前記機械ハウジングの前記外面から前記現金収集領域にアクセスできるが、その際、前記紙幣確認機が前記外面からのアクセスに対して遮断され、前記紙幣挿入位置から回転的に離間される現金取り出し位置とを有する、通貨受領機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
外面を持つ通貨受領機に回転自在に取り付けられた紙幣受領機の現金収集領域にアクセスするための方法において、
機械ハウジングの前記外面を通して紙幣確認機にアクセスできるが、その際、前記現金収集領域が前記外面からのアクセスに対して遮断される紙幣挿入位置から、前記機械ハウジングの前記外面を通して前記現金収集領域にアクセスできるが、その際、前記紙幣確認機が前記外面からのアクセスに対して遮断される現金取り出し位置まで、前記紙幣受領機を回転する工程と、
前記現金収集領域にアクセスする工程とを有する、方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２３】
通貨受領機において、
機械の内部及び少なくとも一つの機械外面を構成し、その後部に向かって上方に傾斜した傾斜頂面を有する機械ハウジング、
現金を挿入できる開口部を有し、許可されていない開放を阻止する錠を有する、前記傾斜頂面に設けられた紙幣受領機アクセス扉、
使用者が前記機械に挿入した紙幣を確認するための紙幣確認機及び錠を備えた金庫を含む、前記機械の内部に設けられた回転自在の紙幣受領機、及び
前記機械の内部に取り付けられており、少なくとも（ｉ）前記外面から前記現金収集領域へのアクセスが遮断された状態で、前記紙幣受領機アクセス扉の前記開口部を通して前記紙幣確認機にアクセスできる紙幣挿入位置と、（ii）前記紙幣確認機が前記外面からのアクセスに対して遮断された状態で、前記機械ハウジングの前記外面を通して前記金庫にアクセスでき、前記紙幣挿入位置から回転的に離間された現金取り出し位置との間で、前記紙幣受領機が回転できるように、前記回転自在の紙幣受領機と係合する回転機構を有する通貨受領機。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月6日(2003.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】バーコードリーダ取り付け具および携帯情報端末およびバーコードリーダおよび情報通信装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バーコードリーダからの情報をホストコンピュータに転送する携帯情報端末に取り付けられるとともに、前記バーコードリーダをバーコードの読み取りのできる状態で保持可能としたことを特徴とするバーコードリーダ取り付け具。
【請求項２】
携帯情報端末の少なくとも表示部と操作部を開放し、もしくは前記表示部と操作部に透明部を形成して覆った皮製、樹脂製または布製のケースであり、バーコードリーダをバーコードの読み取りのできる状態で収納するバーコードリーダ収納部を有する請求項１記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項３】
携帯情報端末のケースの一部を挟持することにより取り付けられ、前記バーコードリーダをバーコードの読み取りのできる状態で収納するバーコードリーダ収納部を有する請求項１記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項４】
バーコードリーダをバーコードの読み取りのできる状態で収納するバーコードリーダ収納部を有し、かつ前記バーコードリーダが、前記バーコードリーダ収納部から脱落しないように保持するとともに取り外すことも可能なバーコードリーダ着脱手段を有する請求項１記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項５】
バーコードリーダ着脱手段は、前記バーコードリーダ収納部とバーコードリーダにそれぞれ取り付けられたマジックテープからなる請求項４記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項６】
バーコードリーダ着脱手段は、バーコードリーダに設けた被係合部と、付勢力を持つようにバーコードリーダ収納部に設けられ前記被係合部に係脱自在に係合する係合部とからなる請求項４記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項７】
バーコードリーダ着脱手段は、バーコードリーダ収納部およびバーコードリーダの一方に設けたマグネットと、他方に設けた前記マグネットに結合する金属部とからなる請求項４記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項８】
バーコードリーダの姿勢を変えることができる可動手段を有する請求項１記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項９】
バーコードリーダ収納部にバーコードリーダのインターフェースコネクタに対応したコネクタが固定され、前記バーコードリーダが前記バーコードリーダ収納部に収納されたときに前記インターフェースコネクタが前記コネクタと結合してデータの通信を行える請求項２または３記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項１０】
バーコードリーダに対して光学素子によりデータの通信を行う光通信手段を有する請求項１記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項１１】
バーコードリーダに対してデータの通信を行う無線通信手段を有する請求項１記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項１２】
バーコードリーダに電源電圧を供給するための電源接続手段を有する請求項１記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項１３】
バーコードリーダの２次電池を充電するための充電手段を有する請求項１記載のバーコードリーダ取り付け具。
【請求項１４】
バーコードリーダからの情報をホストコンピュータに転送する携帯情報端末であって、バーコードリーダ取り付け具を介して、前記バーコードリーダをバーコードの読み取りのできる状態で保持可能とした携帯情報端末。
【請求項１５】
バーコードリーダ取り付け具を介して、バーコードリーダからの情報をホストコンピュータに転送する携帯情報端末に取り付け可能としたバーコードリーダ。
【請求項１６】
上位装置との通信が可能な携帯情報端末と、光学情報を読み取る光学情報読取装置と、前記光学情報読取装置で読み取った情報を前記携帯情報端末に伝送する取り付け具とを有する情報通信装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、バーコードリーダを他の機器に取り付けるためのバーコードリーダ取り付け具および携帯情報端末およびバーコードリーダおよび情報通信装置に関するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
したがって、この発明の目的は、携帯情報端末とバーコードリーダが同一ケース内に一体化されたものと同様の操作性を有するとともに製造コストを抑制できるバーコードリーダ取り付け具および携帯情報端末およびバーコードリーダおよび情報通信装置を提供することである。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項１３記載のバーコードリーダ取り付け具は、請求項１において、バーコードリーダの２次電池を充電するための充電手段を有する。このように、バーコードリーダの２次電池を充電するための充電手段を有するので、バーコードリーダはバーコード取り付け具に保持されて携帯情報端末に取り付けられた状態で２次電池の充電を受けることが出来る。また、本発明の携帯情報端末は、バーコードリーダからの情報をホストコンピュータに転送する携帯情報端末であって、バーコードリーダ取り付け具を介して、前記バーコードリーダをバーコードの読み取りのできる状態で保持可能としたものである。また、本発明のバーコードリーダは、バーコードリーダ取り付け具を介して、バーコードリーダからの情報をホストコンピュータに転送する携帯情報端末に取り付け可能としたものである。また、本発明の情報通信装置は、上位装置との通信が可能な携帯情報端末と、光学情報を読み取る光学情報読取装置と、前記光学情報読取装置で読み取った情報を前記携帯情報端末に伝送する取り付け具とを有するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月2日(2003.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モバイル・ワイヤレス通信システムにおいてサービスを提供している基地局から移動先の基地局へ転送される移動局の通信セッションを、バージ・インを有する有向呼ピックアップを使用してハンドオフするための方法であって、
（ａ）前記移動先の基地局から交換機へバージ・イン呼経路を確立するステップと、
（ｂ）前記バージ・イン呼経路を前記通信セッションに接続し逆向きの３方向通信セッションを生成するステップと、
（ｃ）前記バージ・イン呼経路を介して前記通信セッションを続行するために、前記移動局を前記移動先の基地局と通信するようにするステップと、
（ｄ）前記サービスを提供している基地局を前記通信セッションから解除するステップと、
を具備することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ステップ（ａ）が、
呼設定メッセージを前記交換機へ送信するステップと、
バージ・インを有する有向呼ピックアップを要求する第１の一連の情報メッセージを前記交換機へ送信するステップと、
前記サービスを提供している基地局における前記通信セッションに関わる第１の前以て指定されたディレクトリ番号を明示する第２の一連の情報メッセージを前記交換機へ送信するステップとを具備し、バージ・インを有する前記有向呼ピックアップが前記第１の一連の情報メッセージの中で機能起動情報エレメントとして特定されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ステップ（ｂ）が更に、
前記交換機から前記移動先の基地局へ呼進行メッセージを送信するステップと、
前記移動先の基地局から前記交換機へ接続メッセージを送信するステップと、
を具備することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ステップ（ｄ）が更に、
前記サービスを提供している基地局から前記交換機へ遮断メッセージを送信するステップと、
前記交換機から前記サービスを提供している基地局へ解除メッセージを送信するステップと、
を具備することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
モバイル・ワイヤレス通信システムにおいてサービスを提供している基地局から移動先の基地局へ転送される移動局（１４０）の通信セッションを、バージ・インを有する有向呼ピックアップを使用してハンドオフするためのシステムであって、
前記サービスを提供している基地局及び前記移動先の基地局を含み、前記移動先の基地局がバージ・イン呼経路（１６５）を生成するインストラクションを含む複数の基地局（１２０）と、
前記サービスを提供している基地局及び前記移動先の基地局に結合され、前記バージ・イン呼経路（１６５）を前記通信セッションへ接続して逆向きの３方向通信セッションを生成するインストラクションを含む交換機（１１０）と、
を具備し、
前記移動局（１４０）が、前記移動先の基地局と通信し前記バージ・イン呼経路（１６５）を介する前記通信セッションを続行するように指示され、前記サービスを提供している基地局が前記通信セッションから解除されることを特徴とするシステム。
【請求項６】
前記移動先の基地局が更に、前記交換機へ呼設定メッセージを送信するインストラクション、バージ・インを有する有向呼ピックアップを要求している前記交換機へ第１の一連の情報メッセージを送信するインストラクション、及び、前記サービスを提供している基地局における前記通信セッションに関わる第１の前以て指定されたディレクトリ番号を特定する第２の一連の情報メッセージを前記交換機へ送信するインストラクションを包含することを特徴とする、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
モバイル・ワイヤレス通信システムにおいてサービスを提供している基地局から移動先の基地局へ転送される移動局の通信セッションを、バージ・インを有する有向呼ピックアップを使用してハンドオフするための装置であって、
交換機（１１０）との通信及び前記移動局との通信のためのネットワーク・インターフェース（２１５）と、
インストラクションを格納するメモリー（２２０）と、
前記メモリーと前記ネットワーク・インターフェースとに結合され、前記通信セッションへの接続のためのバージ・イン呼経路を生成させて逆向きの３方向通信セッションを生成するインストラクションを包含し、且つ、前記バージ・イン呼経路を介して前記通信セッションを続行するために、前記移動局から受信された通信を前記バージ・イン呼経路へ接続するインストラクションを更に包含するプロセッサ（２１０）と、
を具備することを特徴とする、装置。
【請求項８】
前記プロセッサが、呼設定メッセージ、バージ・インを有する有向呼ピックアップを要求する第１の一連の情報メッセージ、及び、前記サービスを提供している基地局における前記通信セッションに関わる第１の前以て指定されたディレクトリ番号を特定している第２の一連の情報メッセージを、前記ネットワーク・インターフェースを介して前記交換機へ送信するインストラクションを更に包含することを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
モバイル・ワイヤレス通信システムにおいてサービスを提供している基地局から移動先の基地局へ転送される移動局（１４０）の通信セッションを、バージ・インを有する有向呼ピックアップを使用してハンドオフするための装置であって、
前記移動先の基地局及び前記サービスを提供している基地局との通信のためのネットワーク・インターフェース（２１５）と、
インストラクションを格納するメモリー（２２０）と、
前記メモリーと前記ネットワーク・インターフェースとに結合され、前記ネットワーク・インターフェースを介して前記移動先の基地局からの前記バージ・イン呼経路が受信され次第、前記移動局の前記移動先の基地局との通信に続いて前記バージ・イン呼経路を介して前記通信セッションを続行するために前記バージ・イン呼経路を通信セッションへ接続して逆向きの３方向通信セッションを生成するインストラクションを包含するプロセッサ（２１０）と、
を具備することを特徴とする装置。
【請求項１０】
前記バージ・イン呼経路の前記受信には、呼設定メッセージの受信、バージ・インを有する有向呼ピックアップを要求する第１の一連の情報メッセージの受信、及び、前記サービスを提供している基地局における前記通信セッションに関わる第１の前以て指定されたディレクトリ番号を特定している第２の一連の情報メッセージの受信が更に包含されることを特徴とする、請求項９に記載の装置。