【手続補正書】
【提出日】平成15年11月12日(2003.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】薄膜デバイスの転写方法、及びデバイスの製造方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された薄膜デバイスを含む被転写層を転写体に転写する薄膜デバイスの転写方法において、
前記基板に分離層を形成する工程と、
前記分離層上に前記被転写層を形成する工程と、
前記分離層の層内および／または界面において剥離を生ぜしめ、前記被転写層を前記転写体に転写する工程と、を具備し、
前記転写の後、前記基板に付着している前記分離層を除去することを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項２】
請求項１に記載の薄膜デバイスの転写方法において、前記分離層に光を照射することにより前記分離層の層内および／または界面において剥離を生ぜしめることを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の薄膜デバイスの転写方法において、前記基板は透光性であり、前記分離層には、前記基板側から光を照射することを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の薄膜デバイスの転写方法において、前記被転写層を前記分離層上に直接形成することを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれかに記載の薄膜デバイスの転写方法において、中間層を介して、前記被転写層を前記分離層上に形成することを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の薄膜デバイスの転写方法において、前記転写体は、前記被転写層の形成の際の最高温度をＴmax としたとき、ガラス転移点（Ｔｇ）または軟化点がＴmax 以下の材料で構成されていることを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の薄膜デバイスの転写方法において、前記転写体は、ガラス転移点（Ｔｇ）または軟化点が８００℃以下の材料で構成されていることを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の薄膜デバイスの転写方法において、前記基板は、前記被転写層の形成の際の最高温度をＴmax としたとき、歪点がＴmax 以上の材料で構成されていることを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の薄膜デバイスの転写方法において、前記転写体がガラス基板からなり、前記基板が石英からなることを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の薄膜デバイスの転写方法において、前記分離層の剥離は、分離層を構成する物質の原子間または分子間の結合力が消失または減少することにより生じることを特徴とする薄膜デバイスの転写方法。
【請求項１１】
デバイスの製造方法において、請求項１乃至１０のいづれかに記載の薄膜デバイスの転写方法によって薄膜デバイスを転写する工程を具備することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜デバイスを含む被転写層を、転写体へ転写する転写方法、及びデバイスの製造方法に関するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
基板上の薄膜デバイスを含む被転写層を転写体に転写する薄膜デバイスの転写方法において、前記基板に分離層を形成する工程と、前記分離層上に前記薄膜デバイスを形成する工程と、前記分離層の層内および／または界面において剥離を生ぜしめ、前記被転写層を前記転写体に転写する工程と、を具備し、前記転写の後、前記基板に付着している前記分離層を除去することを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記分離層に光を照射することにより前記分離層の層内および／または界面において剥離を生ぜしめることを特徴とする。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記基板は透光性であり、前記分離層には、前記基板側から光を照射することを特徴とする。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記被転写層を前記分離層上に直接形成することを特徴とする。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
中間層を介して、前記被転写層を前記分離層上に形成することを特徴とする。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記転写体は、前記被転写層の形成の際の最高温度をＴmax としたとき、ガラス転移点（Ｔｇ）または軟化点がＴmax 以下の材料で構成されていることを特徴とする。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記転写体は、ガラス転移点（Ｔｇ）または軟化点が８００℃以下の材料で構成されていることを特徴とする。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記基板は、前記被転写層の形成の際の最高温度をＴmax としたとき、歪点がＴmax 以上の材料で構成されていることを特徴とする。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記転写体がガラス基板からなり、前記基板が石英からなることを特徴とする。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
前記薄膜デバイスとしては例えば薄膜トランジスタを使用できる。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
前記照射光としては例えばレーザ光を使用でき、好ましくは１００〜３５０ｎｍ、更には３５０ｎｍ〜１２００ｎｍの波長であるとよい。


【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
前記分離層としては、好ましくは非晶質シリコンが用いられ、その非晶質シリコンは、Ｈ（水素）を２ａｔ％以上含有するものであるとよい。


【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
前記分離層としては、セラミックス、金属、有機高分子材料、で構成することができ、有機高分子材料である場合は、−ＣＨ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−のうちの少なくとも１種の結合を有するものであると好ましい。


【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】