Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月10日(2003.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】超音波手術システムおよび超音波手術システムの制御方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波振動子を駆動する駆動信号を発生する発振手段と、
前記発振手段の周波数を所定の周波数範囲で掃引する掃引手段と、
前記掃引手段により前記駆動信号の駆動周波数を変化させたときに前記超音波振動子のインピーダンスを検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果を告知する告知手段と、
を具備したことを特徴とする超音波手術システム。
【請求項２】
前記掃引手段の掃引範囲が前記超音波振動子の共振周波数を含む周波数範囲であることを特徴とする請求項１記載の超音波手術装置。
【請求項３】
前記検出手段の検出結果の最大値を保持する保持手段を具備したことを特徴とする請求項１記載の超音波手術装置。
【請求項４】
超音波振動を発生可能な超音波振動子を有するハンドピースと、前記超音波振動子を駆動するための駆動信号を発生する発振手段を有する装置本体とが着脱自在に接続される超音波手術システムの制御方法において、
前記発振手段の周波数を所定の周波数範囲で掃引する掃引ステップと、
前記掃引ステップで前記駆動信号の駆動周波数を変化させたときに前記超音波振動子のインピーダンスを検出する検出ステップと、
前記検出ステップの検出結果を前記ハンドピースに設けられたメモリ手段に予め記憶された内部データと比較し、前記ハンドピースの異常を判別する異常判別ステップと、
前記異常判別ステップで異常と判別されたときに告知する告知ステップと、
を具備したことを特徴とする超音波手術システムの制御方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、超音波振動によって生体組織を処置する超音波手術システムおよび超音波手術システムの制御方法に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため請求項１記載の発明は、超音波振動子を駆動する駆動信号を発生する発振手段と、前記発振手段の周波数を所定の周波数範囲で掃引する掃引手段と、前記掃引手段により前記駆動信号の駆動周波数を変化させたときに前記超音波振動子のインピーダンスを検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果を告知する告知手段と、を具備したことを特徴とする。
また、請求項４記載の発明は、超音波振動を発生可能な超音波振動子を有するハンドピースと、前記超音波振動子を駆動するための駆動信号を発生する発振手段を有する装置本体とが着脱自在に接続される超音波手術システムの制御方法において、前記発振手段の周波数を所定の周波数範囲で掃引する掃引ステップと、前記掃引ステップで前記駆動信号の駆動周波数を変化させたときに前記超音波振動子のインピーダンスを検出する検出ステップと、前記検出ステップの検出結果を前記ハンドピースに設けられたメモリ手段に予め記憶された内部データと比較し、前記ハンドピースの異常を判別する異常判別ステップと、前記異常判別ステップで異常と判別されたときに告知する告知ステップと、を具備したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月19日(2003.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種流体の移送機器、流体ろ過機器、流体浄化機器、流体内異物分離機器等の流体の流通又は保有手段（本明細書では、これらの機器に付設される配管等も流体の流通又は保有手段として含む）相互をシール部材を用いて連結する連結箇所のシール方法及び該方法を用いるのに適するシール部材に関する。特に、一般産業排水、上工水、発電用水、ボイラ復水等のろ過に用いられるプリーツ膜フィルタエレメント同士を連結する際に好適な連結箇所のシール方法及びシール部材に関する。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
【発明の効果】
本発明の連結箇所のシール方法及びシール部材によれば、少なくとも１つの中間平板を介在させて少なくとも２つのパッキンが積層されているシール部材、若しくはリング状でかつ断面略楕円形のパッキン部を有するシール部材が、連結箇所である流体の流通手段相互又は保有手段相互の接合面に配設されているため、接合面の面間角度γの許容値を大きくすることができる。従って、シール部材が形状に経時変化を起こし易い環境下で使用される場合であっても、十分なシール性を維持できる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2000161495.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月17日(2003.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＯＮの時にのみ制御を可能とするメインスイッチ、及び先行車両との車間距離を検出するセンサを備え、該センサの出力に応じて少なくとも車速を制御し、安全な車間距離を保持する手段を備えた、先行車両に自動追従する渋滞追従制御装置において、先行車両の速度を検出する手段を備え、先行車両の速度が所定の制御開始速度以下であった場合、自動的に渋滞追従制御を開始させる手段を備えた渋滞追従制御装置。
【請求項２】
ＯＮの時にのみ制御を可能とするメインスイッチ、及び先行車両との車間距離を検出するセンサを備え、該センサの出力に応じて少なくとも車速を制御し、安全な車間距離を保持する手段を備えた、先行車両に自動追従する渋滞追従制御装置において、先行車両の速度を検出する手段を備え、先行車両が所定の制御開始速度以下である状態が、渋滞制御を開始すべき緊急度に応じて定められた認識時間以上継続した場合これを検知する手段を備え、これを検知した場合自動的に渋滞追従制御を開始する手段を備えた渋滞追従制御装置。
【請求項３】
前記先行車両の速度は、車間距離を微分して求めた又は相対速度センサから得た相対速度と、自車速度検出手段から得られた自車速度から検出した、請求項１又は２に記載の渋滞追従制御装置。
【請求項４】
前記緊急度は先行車両との車間距離と先行車両との相対速度で判断される、請求項２に記載の渋滞追従制御装置。
【請求項５】
運転者によるブレーキ操作があった場合、渋滞追従制御の開始を禁止する、請求項１又は２に記載の渋滞追従制御装置。
【請求項６】
運転者によるブレーキ操作があった場合、前記緊急度の小さい場合のみ渋滞追従制御の開始を禁止する、請求項１又は２に記載の渋滞追従制御装置。
【請求項７】
ナビデータベース及び／又はインフラ通信装置を備え、ナビデータベース情報及び／又はインフラ情報により高速道路を走行中であるかどうか判断する手段を備え、高速道路走行中と判断された場合、渋滞追従制御を行なえるようにする手段を備えた、請求項１から６のいずれか１項に記載された渋滞追従制御装置。
【請求項８】
インフラ通信装置を備え、インフラ情報により自車の進行方向前方の道路の渋滞情報を得た時、制御を可能とするメインスイッチがＯＦＦである場合、メインスイッチをＯＮにするよう音声及び／又は表示により運転者に勧告する手段を備えた、請求項１から７のいずれか１項に記載された渋滞追従制御装置。
【請求項９】
インフラ通信装置を備え、インフラ情報により自車の進行方向前方の道路の渋滞情報を得た時、制御を可能とするメインスイッチがＯＮの場合、渋滞追従制御を自動的に開始する可能性があることを音声及び／又は表示により運転者に勧告する手段を備えた、請求項１から８のいずれか１項に記載された渋滞追従制御装置。
【請求項１０】
渋滞追従制御を開始する時は、その旨を音声及び／又は表示により運転者に勧告する手段を備えた、請求項１から９のいずれか１項に記載された渋滞追従制御装置。
【請求項１１】
インフラ通信装置を備え、インフラ情報により自車の進行方向前方の道路の渋滞情報を得た時、その渋滞速度に応じて前記制御上限車速度を変更する手段を備えた、請求項１から１０のいずれか１項に記載された渋滞追従制御装置。
【請求項１２】
ナビデータベース及び／又はインフラ通信装置を備え、ナビデータベース情報及び／又はインフラ情報により自車の進行方向前方の道路の車線数減少を検出した時、前記制御上限車速度を徐行レベルに変更する手段を備えた、請求項１から１１のいずれか１項に記載された渋滞追従制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
したがって、本発明はＯＮの時にのみ制御を可能とするメインスイッチ、及び先行車両との車間距離を検出するセンサを備え、センサの出力に応じて少なくとも車速を制御し、渋滞時に所定の制御上限車速以下の範囲で先行車両と安全な車間距離を保ちながら先行車両に自動追従するようにし、かつ相対速度と自車速度から先行車両の速度を検出し、先行車両の速度が所定の制御開始速度以下であった場合、自動的に渋滞追従制御を開始させるようにしたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月26日(2003.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】
従来の方法の場合、「脚部の長いタッピングスクリュウ３ｂで……支持体２側の貫通孔１０と支持体１側の連結孔５とを夫々貫通させて壁面ｗに螺着させることによって支持体１と支持腕２とを同時に壁面ｗに固定する」（特開昭５９−１８７９５２号公報第３頁左上欄第１８行目〜同頁右上欄第１行目、及び第１２図参照）ものがある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月8日(2004.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
キャップ体６とシート部材８を接着する際の接着剤としては、ＣＲ系、ＩＩＲ系の液状接着剤または、テープ状接着剤等が挙げられるが、ゴム系の接着剤ならば特に限定されるものではない。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月20日(2004.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルと、前記ノズルから噴出されて導入されるガスとそのガスの導入に伴って吸引される一次空気を混合して混合気体とする混合管と、前記混合管と連絡するバーナ本体と、前記バーナ本体の上に配置されるバーナキャップの間に形成される炎孔と、前記混合管と前記炎孔とを連絡するガス通路とを備えるコンロ用ガスバーナであって、
前記バーナ本体に設けられ、前記混合管より前記ガス通路をへて混合気体を導入する導入口と、前記バーナ本体の前記バーナキャップに対向する面に形成されている導出口を有し、前記混合気体を流動させながら貯留するサブチャンバーを備えていることを特徴とするコンロ用ガスバーナ。
【請求項２】
導入口の導入方向が、導入された混合気体が導出口に向かわない方向に流動するように設定されていることを特徴とする請求項１記載のコンロ用ガスバーナ。
【請求項３】
導入口の横断面積は、導出口の横断面積よりも大きくしてあることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のコンロ用ガスバーナ。
【請求項４】
前記バーナ本体はアルミ合金のダイキャストで製造されていることを特徴とする請求項１記載のコンロ用ガスバーナ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明においては、ノズル６と、前記ノズル６から噴出されて導入されるガスとそのガスの導入に伴って吸引される一次空気を混合して混合気体とする混合管５と、前記混合管５と連絡するバーナ本体１２と、前記バーナ本体１２の上に配置されるバーナキャップ１１の間に形成される炎孔４と、前記混合管５と前記炎孔４とを連絡するガス通路１２ｃ、１８とを備えるコンロ用ガスバーナであって、
前記バーナ本体１２に設けられ、前記混合管５より前記ガス通路１２ｃ、１８をへて混合気体を導入する導入口３と、前記バーナ本体１２の前記バーナキャップ１１に対向する面に形成されている導出口２を有し、前記混合気体を流動させながら貯留するサブチャンバーＣを備えていることを特徴とするものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項２の発明においては、導入口３の導入方向が、導入された混合気体が導出口２に向かわない方向に流動するように設定されていることを特徴とするものである。
請求項３の発明においては、導入口３の横断面積は、導出口２の横断面積よりも大きくしてあることを特徴とするものである。
請求項４の発明においては、前記バーナ本体１２はアルミ合金のダイキャストで製造されていることを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【発明の効果】
請求項１の発明においては、ノズルと、前記ノズルから噴出されて導入されるガスとそのガスの導入に伴って吸引される一次空気を混合して混合気体とする混合管と、前記混合管と連絡するバーナ本体と、前記バーナ本体の上に配置されるバーナキャップの間に形成される炎孔と、前記混合管と前記炎孔とを連絡するガス通路とを備えるコンロ用ガスバーナであって、
前記バーナ本体に設けられ、前記混合管より前記ガス通路をへて混合気体を導入する導入口と、前記バーナ本体の前記バーナキャップに対向する面に形成されている導出口を有し、前記混合気体を流動させながら貯留するサブチャンバーを備えているから、大火から小火にガス量を絞った場合に、混合管にはガス量が少なくて一次空気が慣性で多く導入されたエアーリッチとなった混合気体が供給されるが、このようなエアーリッチな混合気体がサブチャンバーに導入され、サブチャンバーにおいて貯留されている大火状態の混合比の混合気体をサブチャンバーの導出口から炎孔へと押し出すのであり、このような大火状態の混合比の混合気体によって、小火に絞られた瞬間（０．５秒間程度）の燃焼を特定の炎孔において維持することができ、以後は、ガス量が絞られたことに見合う少量の一次空気が混合された小火を現出する正常な混合気体が混合管へと供給され、他の炎孔に火移りされ、小火の正常な燃焼を維持することができるのであり、従来のように、エアーリッチな混合気体が全ての炎孔に供給されることによる不測の燃焼停止を阻止することができるという利点がある。
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月2日(2004.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
ハロゲン化銀乳剤層に使用する添加剤は、ＲＤ３０８１１９のＸＩＶに記載されている分散法などにより、添加することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月26日(2003.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記フェニル基の置換基が、アルキル基及びニトロ基から選ばれる少なくとも一方である請求項６記載の電子写真感光体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
請求項１記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選ばれる少なくとも一つの手段と、を一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【発明の実施の形態】
上記表現のアルキル基としてはメチル、エチル、プロピル等の基が挙げられ、アリ−ル基としてはフェニル、ビフェニル、ナフチル、アンスリル等の基が挙げられ、アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ等の基が挙げられ、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月4日(2003.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より順に、正の屈折力の第１群と、変倍時に移動する負の屈折力の第２群と、変倍時に移動する負の屈折力の第３群と、変倍時に固定の正の屈折力の第４群を有するズームレンズであって、
前記第４群は負の屈折力の第ＩＳ群を有し、前記第ＩＳ群を光軸に対して垂直方向の成分を持つように移動させることで、画像を変位させることを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第ＩＳ群は、少なくとも一つの負レンズと少なくとも一つの正レンズを有する請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
前記第ＩＳ群へ入射する光線の入射換算傾角をα、前記第ＩＳ群から射出する光線の射出換算傾角をα′としたとき、
−０．４５＞（α′−α）
なる条件を満足する請求項１または２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
前記第ＩＳ群を構成する負レンズの平均のアッベ数をνｎ、前記第ＩＳ群を構成する正レンズの平均のアッベ数をνｐとしたとき、
１０＜（νｎ−νｐ）
なる条件を満足する請求項２または３に記載のズームレンズ。
【請求項５】
前記第４群は、前記第ＩＳ群より像面側に複数の正レンズと少なくとも一つの負レンズを有する請求項１から４のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項６】
前記第ＩＳ群より像面側に配置される正レンズと負レンズの平均のアッベ数をそれぞれνｐ（４Ｒ）、νｎ（４Ｒ）としたとき、
１０＜（νｐ（４Ｒ）−νｎ（４Ｒ））
なる条件を満足する請求項５に記載のズームレンズ。
【請求項７】
前記第ＩＳ群の物体側または像面側の近接した空間に、開口絞りを有する請求項１から６のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記第３レンズユニットは、少なくとも一つの正レンズと少なくとも一つの負レンズから成る請求項１から７のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項９】
前記第４群は、光軸上に挿脱可能であって全系の焦点距離を変化させるための焦点距離変換光学系を、前記第ＩＳ群より像面側に有する請求項１から８のいずれか一項に記載のズームレンズ。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載のズームレンズを有する撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本願第１の発明は、物体側より順に、正の屈折力の第１群と、変倍時に移動する負の屈折力の第２群と、変倍時に移動する負の屈折力の第３群と、変倍時に固定の正の屈折力の第４群を有するズームレンズであって、前記第４群は負の屈折力の第ＩＳ群を有し、前記第ＩＳ群を光軸に対して垂直方向の成分を持つように移動させることで、画像を変位させることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月26日(2004.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の板状ワークが所定の間隔をあけて並べられて収納されるカセットと、前記カセットが浸漬される処理液が貯溜された処理槽と、前記カセットを前記処理液から引き上げる引き上げ装置とを有する浸漬処理装置において、
前記カセットは、前記板状ワークの側端部を各々支持するように前記板状ワークが並ぶ方向に延びた複数本の横側支持軸を有し、
前記横側支持軸は、前記板状ワークが並ぶ方向において隣り合う前記板状ワークの間に張り出しているパネルガイド部を備え、
該パネルガイド部は、前記カセットを前記処理液から引き上げる方向と反対方向に向かって尖っている形状を有していることを特徴とする浸漬処理装置。
【請求項２】
請求項１において、前記処理液は、温水であることを特徴とする浸漬処理装置。
【請求項３】
請求項１または２において、前記パネルガイド部は、前記カセットを前記処理液から引き上げる方向に向かっても尖った形状を有していることを特徴とする浸漬処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記パネルガイド部は、該パネルガイド部を前記横側支持軸に対して直交する方向からみたとき前記カセットを前記処理液から引き上げる方向と反対方向に向かって尖っている形状を有していることを特徴とする浸漬処理装置。
【請求項５】
請求項４において、前記パネルガイド部は、該パネルガイド部の下端に１本の稜線を形成するように連接する２つの錐面を当該稜線の両側に備えていることにより、該パネルガイド部を前記横側支持軸に対して直交する横方向からみたとき前記カセットを前記処理液から引き上げる方向と反対方向に向かって尖っている形状を有していることを特徴とする浸漬処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記パネルガイド部は、前記横側支持軸が延びている方向からみたとき前記カセットを前記処理液から引き上げる方向と反対方向に向かって尖っている形状を有していることを特徴とする浸漬処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかにおいて、前記カセットは、前記引き上げ装置によって、前記板状ワークが面内方向に傾く斜め姿勢で引き上げられることを特徴とする浸漬処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに規定する浸漬処理装置を用いて、前記板状ワークを前記処理液に浸漬させる浸漬処理を行うとともに、当該板状ワークを前記処理液から引き上げながら乾燥させる乾燥処理を行うことを特徴とする浸漬処理方法。
【請求項９】
請求項８に規定する浸漬処理方法を用いて、電気光学物質を保持する基板を前記板状ワークとして前記浸漬処理を行うとともに、前記乾燥処理を行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９において、前記基板上に形成された薄膜をレジストマスクによってパターニングするパターニング工程を行い、次に、当該基板を強酸化性液に浸漬して前記レジストマスクを除去するマスク除去工程を行った後、当該基板に付着している強酸化性液を洗い落とす洗浄工程を行い、しかる後に前記基板に前記浸漬処理を行った後、前記乾燥処理を行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０において、前記強酸化性液は、濃硫酸と過酸化水素水とを含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０または１１において、前記乾燥処理の後に、前記基板に前記薄膜として形成された第１金属膜に陽極酸化を施し、次に再び、前記基板に前記浸漬処理を行った後、前記乾燥処理を行い、しかる後に前記第１金属膜の表面に形成された陽極酸化膜の表面に第２金属膜を形成して薄膜ダイオード素子を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１０または１１において、前記基板に前記浸漬処理を行う前に前記基板に前記薄膜として形成された第１金属膜に陽極酸化を施し、次に、前記基板に前記浸漬処理を行った後、前記乾燥処理を行い、しかる後に前記第１金属膜の表面に形成された陽極酸化膜の表面に第２金属層を形成して薄膜ダイオード素子を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項９ないし１３のいずれかに規定する製造方法により製造したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１４に規定する電気光学装置を表示部として備えていることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月29日(2003.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形工場内に設置された複数の成型品取出機群と、各成型品取出機の動作状態に関する監視データを記憶する記憶部及び該記憶部に記憶された監視データを送出する通信制御部を有した制御装置と、各成型品取出機の制御装置から送出された監視データを、各成型品取出機に対応するアドレスに記憶するサーバ記憶部及びサーバ記憶部に記憶された監視データを送出するサーバ通信制御部を有したサーバと、サーバに接続してサーバ記憶部における各アドレスから読み出された監視データを受信する端末装置と、サーバ及び端末装置とを接続するインターネットとからなり、端末装置によりサーバをアクセスして成型品取出機に関する監視データを取出して確認可能にした成型品取出機群の監視システム。
【請求項２】
請求項１において、各成型品取出機の制御装置とサーバとはＬＡＮケーブルにより有線接続した成型品取出機群の監視システム。
【請求項３】
請求項１において、各成型品取出機の制御装置とサーバとは監視データを送受信可能なデジタル通信装置により無線接続した成型品取出機群の監視システム。
【請求項４】
請求項１において、各成型品取出機の制御装置とサーバとは監視データをアナログ信号に変換するモデムを内蔵したアナログ通信装置により無線接続した成型品取出機群の監視システム。
【請求項５】
請求項１において、端末装置はデータ通信可能な電話装置からなると共に端末装置とサーバとは端末装置からのデータを送受信する通信機関を介してインターネットにより接続された成型品取出機群の監視システム。
【請求項６】
成形工場内に設置された複数の成型品取出機群と、各成型品取出機の動作状態に関する監視データを記憶する記憶部及び該記憶部に記憶された監視データを送出する通信制御部を有した制御装置と、各制御装置に接続して記憶部から読み出された監視データを受信する端末装置と、各制御装置及び端末装置とを接続するインターネットとからなり、端末装置により各制御装置をアクセスして成型品取出機に関する監視データを取出して確認可能にした成型品取出機群の監視システム。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月31日(2003.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を、図面と関連させながら発明の実施の形態に基づいて詳細に説明する。ここに示した構成は、実施態様の一例を示すものであり特許範囲を規定するものでない。
図１〜９は、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を用いて薄膜磁気ヘッドを作製する場合の一例を示す工程図である。なお、図１〜９においては、本発明の特徴を明確にすべく、各部分の大きさについては実際のものと異なるようにして描いている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
最初に図１に示すように、ＡｌＴｉＣなどからなる基板１上に絶縁膜２、下部シールド膜１１、絶縁膜１２を形成するとともに、読み取り素子としてもＭＲ素子１３及びＭＲリード１４を絶縁膜１２に埋設するようにして形成する。次いで、絶縁膜１２上に第１の磁性膜３、及びギャップ膜４を形成する。絶縁膜２は、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２などの絶縁性材料からスパッタリング法などを用いて、厚さ４〜７μｍに形成する。第１の磁性膜３は、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅ、及びＣｏＮｉＦｅなどの軟磁性材料から同じくスパッタリング法などを用いて、厚さ０．５〜４μｍに形成する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１  基板
２  絶縁膜
３  第１の磁性膜
４  ギャップ膜
５  電極膜
６  保護電極膜
７  第１のフォトレジスト層
８  中間層
９  第２のフォトレジスト層
１０  第２の磁性膜
１１  下部シールド膜
１２  絶縁膜
１３  ＭＲ素子
１４  ＭＲリード
１７  フォトレジストフレーム
１８  エッチング用マスク
１９  フォトレジストパターン


【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2002287376.tif 000001
【図２】
2002287376.tif 000002
【図３】
2002287376.tif 000003
【図４】
2002287376.tif 000004
【図５】
2002287376.tif 000005
【図６】
2002287376.tif 000006
【図７】
2002287376.tif 000007
【図８】
2002287376.tif 000008
【図９】
2002287376.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月17日(2003.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転体を支持する制御形磁気軸受装置であって、回転体の運動情報を検出するセンサユニットと、そのセンサ信号に基づき制御信号を演算する第一の制御ユニットと、該制御ユニット信号に基づき電流を駆動するパワーアンプユニットと、磁気力を発生する電磁石とを備えた、回転体をラジアル方向に支持する磁気軸受装置において、
前記第一の制御ユニットと並列に第二の制御ユニットを備え、前記センサ信号を該第二の制御ユニットへ導入し、該第二の制御ユニット内では、前記センサ信号からその位相を変化させた信号を生成し、前記第二の制御ユニットにおける位相の変化量は、前記磁気軸受の外力／変位の伝達特性から、前記回転体の振れ回りを抑制する位相の変化量を与えるものであり、
該第二の制御ユニットの出力信号を前記第一の制御ユニットの出力信号に加え、該加算した出力信号に基づき、前記電磁石の電流を制御するようにしたことを特徴とする制御形磁気軸受装置。
【請求項２】
前記第二の制御ユニットには、前記センサ信号から回転周波数成分を抽出するフィルタと、該フィルタ出力信号の位相を調整する位相調整器と、該位相調整器出力と基準電位とを比較するコンパレータを含む信号形成器と、該信号形成器出力信号の振幅を調整するゲイン調整器とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の制御形磁気軸受装置。
【請求項３】
前記ゲイン調整器は、回転数に比例したゲインを与える回転数比例ゲイン調整器を含むものであることを特徴とする請求項２に記載の制御形磁気軸受装置。
【請求項４】
前記第二の制御ユニットには、可変周波数フィルタと、モータ回転数に対応した回転体の振れ回りの抑制に好適な位相の変化量を与える手段とを備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の制御形磁気軸受装置。
【請求項５】
前記モータ回転数に対応した位相の変化量は、前記磁気軸受の外力／変位の伝達特性から、回転数に対応させて記憶した記憶器と、該記憶器から読み出して位相を調整するようにした位相調整器とを備えたものであることを特徴とする請求項４に記載の制御形磁気軸受装置。
【請求項６】
前記モータ回転数に対応した位相の変化量は、前記磁気軸受の外力／変位の伝達特性を近似させた演算回路を用いたものであることを特徴とする請求項４に記載の制御形磁気軸受装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかの制御形磁気軸受装置において、
前記第二の制御ユニット内の信号の流れをオン・オフする信号スイッチを備え、更に前記センサ信号と基準信号とを比較し、該比較した結果により前記信号スイッチをオン・オフする第三の制御ユニットを備えたことを特徴とする制御形磁気軸受装置。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれかの制御形磁気軸受装置において、
前記第二の制御ユニット内の信号の流れをオン・オフする信号スイッチを備え、実回転数信号と基準信号を比較する比較器と、前記信号スイッチをオン・オフする指令信号を発生する信号発生器とを含む第四の制御ユニットを備えたことを特徴とする制御形磁気軸受装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかの制御形磁気軸受装置において、
第二の制御ユニット内のコンパレータを含む信号形成器の後段に、更に第二の回転周波数成分抽出器を備えたことを特徴とする制御形磁気軸受装置。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれかの制御形磁気軸受装置において、
第二の制御ユニット内の信号スイッチを入れる前のセンサ出力と該信号スイッチを入れた時の前記センサ出力とを比較し、ゲイン調整器のゲイン設定値を変更する指令値を出力する第五の制御ユニットを備えたことを特徴とする制御形磁気軸受装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、回転体を支持する制御形磁気軸受装置であって、回転体の運動情報を検出するセンサユニットと、そのセンサ信号に基づき制御信号を演算する第一の制御ユニットと、該制御ユニット信号に基づき電流を駆動するパワーアンプユニットと、磁気力を発生する電磁石とを備えた、回転体をラジアル方向に支持する磁気軸受装置において、前記第一の制御ユニットと並列に第二の制御ユニットを備え、前記センサ信号を該第二の制御ユニットへ導入し、該第二の制御ユニット内では、前記センサ信号からその位相を変化させた信号を生成し、前記第二の制御ユニットにおける位相の変化量は、前記磁気軸受の外力／変位の伝達特性から、前記回転体の振れ回りを抑制する位相の変化量を与えるものであり、該第二の制御ユニットの出力信号を前記第一の制御ユニットの出力信号に加え、該加算した出力信号に基づき、前記電磁石の電流を制御するようにしたことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
又、請求項２に記載の発明は、前記第二の制御ユニットには、前記センサ信号から回転周波数成分を抽出するフィルタと、該フィルタ出力信号の位相を調整する位相調整器と、該位相調整器出力と基準電位とを比較するコンパレータを含む信号形成器と、該信号形成器出力信号の振幅を調整するゲイン調整器とを備えたことを特徴とする。これにより変位センサユニットからのセンサ信号のうち振幅に関する情報を切り離して、位相に関する情報のみを取り出して所望の位相量を変化させると共に任意のゲインを与えることができ、これにより回転体の振れ回りの抑制に好適な電磁石の制御力を供給することができる。ここで、前記ゲイン調整器は、回転数に比例したゲインを与える回転数比例ゲイン調整器を含むものであることが好ましい。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
又、請求項４に記載の発明は、前記第二の制御ユニットには、可変周波数フィルタと、モータ回転数に対応した回転体の振れ回りの抑制に好適な位相の変化量を与える手段とを備えたことを特徴とする。これにより、可変周波数フィルタによるモータ回転数に対応したセンサ信号を取り出し、その取り出した信号に対して回転体の振れ回りの抑制に好適な位相の変化量を与えることで、任意の回転速度に対して適当な位相量の調整を行うことができる。従って、広い回転速度範囲で回転体の振れ回りを小さくすることができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
又、請求項７に記載の発明は、前記第二の制御ユニット内の信号の流れをオン・オフする信号スイッチを備え、更に前記センサ信号と基準信号とを比較し、該比較した結果により前記信号スイッチをオン・オフする第三の制御ユニットを備えたことを特徴とする。回転体の振れ回りが大きい状態で第二の制御ユニットよりの信号をオン状態にすることで回転体の振れ回り運動を抑制することができる。そして、回転体の振れ回りが小さな場合には、第二の制御ユニットからの信号をオフすることにより、通常の第一の制御ユニットからの補償信号の生成のみで十分な回転体の浮上保持ができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）光源に電力を与えるステップと、
（ｂ）所定の色の制御ターゲットに該光源を向けるステップと、
（ｃ）該制御ターゲットにより反射された光を受け取る、センサ・アレイの第１のカラー・チャネルと第２のカラー・チャネルと第３のカラー・チャネルとをモニタするステップと、
（ｄ）前記第１のカラー・チャネルと前記第２のカラー・チャネルと前記第３のカラー・チャネルとのカラー・バランスを所定のカラー・バランスと比較するステップと、
（ｅ）前記第１のカラー・チャネルと前記第２のカラー・チャネルと前記第３のカラー・チャネルとのカラー・バランスを前記所定のカラー・バランスと比較したときに所定の範囲外にある場合には、前記第１のカラー・チャネルと前記第２のカラー・チャネルと前記第３のカラー・チャネルとのうちの１つ以上のチャネルの利得を調整するステップと
を含んでなる、スキャン・プロセス中の文書スキャン装置でのカラー・バランス維持方法。
【請求項２】
（ａ）光源に電力を与えるステップと、
（ｂ）所定の色の制御ターゲットに該光源を向けるステップと、
（ｃ）該制御ターゲットにより反射された光を受け取る、センサ・アレイの第１のカラー・チャネルをモニタするステップと、
（ｄ）該第１のカラー・チャネルの光強度を、所定の光強度と比較するステップと、
（ｅ）比較した光強度が前記所定の光強度に対して所定の範囲外にある場合には、前記光源への電力を調整するステップと、
（ｆ）前記制御ターゲットにより反射された光を受け取る、センサ・アレイの前記第１のカラー・チャネルと第２のカラー・チャネルと第３のカラー・チャネルとをモニタするステップと、
（ｇ）前記第１のカラー・チャネルと前記第２のカラー・チャネルと前記第３のカラー・チャネルとのカラー・バランスを所定のカラー・バランスと比較するステップと、
（ｈ）前記第１のカラー・チャネルと前記第２のカラー・チャネルと前記第３のカラー・チャネルとのカラー・バランスを前記所定のカラー・バランスと比較したときに所定の範囲外にある場合には、前記第２のカラー・チャネルまたは前記第３のカラー・チャネルのいずれか一方または双方の利得を調整するステップと
を含んでなる、スキャン・プロセス中の文書スキャン装置でのカラー・バランスおよび光強度の維持方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板表面に設けられた絶縁膜上に形成された、電極または配線材料にエッチング処理を施し前記絶縁膜の少なくとも一部を露出させるメインエッチング工程と、
このメインエッチング工程の後に、ハロゲンガスとこのハロゲンガスによる前記絶縁膜のエッチングを抑制する効果を有する添加ガスとから成る第１の混合ガスを利用したエッチングにより、前記メインエッチング工程のエッチング処理にてエッチングされなかった前記電極または前記配線材料のエッチング残渣をエッチングする第１のオーバーエッチング工程と、
この第１のオーバーエッチング工程の後に、前記第１の混合ガスよりも多い比率の前記添加ガス量を有する前記ハロゲンガスと前記添加ガスとから成る第２の混合ガスを利用したエッチングにより、前記エッチング残渣をエッチングする第２のオーバーエッチング工程を有してなる半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記添加ガスがＯ2またはＮ2のいずれか若しくはその組み合わせにてなる請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の混合ガスにおける添加ガスが添加量が５％以下のＯ2である請求項１または２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記ハロゲンガスがＨＢｒ、Ｃｌ2、ＨＣｌまたはＨＩのいずれか若しくはその組み合わせにてなる請求項１から３のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記電極または配線材料がＳｉを含んでなる請求項１から４のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記メインエッチング工程におけるエッチング処理は、ＨＢｒ／Ｏ2／Ｃｌ系の第３の混合ガスを利用してなる請求項１から５のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１のオーバーエッチング工程におけるオーバーエッチングの時間が前記第２のオーバーエッチング工程におけるオーバーエッチングの時間の１／３以下である請求項１から６のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記メインエッチング工程、前記第１のオーバーエッチング工程及び前記第２のオーバーエッチング工程において前記半導体基板が０℃以下に保持されてなる請求項１から７のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この発明にかかる半導体装置の製造方法は、半導体基板表面に設けられた絶縁膜上に形成された、電極または配線材料にエッチング処理を施し絶縁膜の少なくとも一部を露出させるメインエッチング工程と、メインエッチング工程の後に、ハロゲンガスとハロゲンガスによる絶縁膜のエッチングを抑制する効果を有する添加ガスとから成る第１の混合ガスを利用したエッチングにより、メインエッチング工程のエッチング処理にてエッチングされなかった電極または配線材料のエッチング残渣をエッチングする第１のオーバーエッチング工程と、第１のオーバーエッチング工程の後に、第１の混合ガスよりも多い比率の添加ガス量を有するハロゲンガスと添加ガスとから成る第２の混合ガスを利用したエッチングにより、エッチング残渣をエッチングする第２のオーバーエッチング工程を有したものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
次に、本発明にかかる半導体装置の製造方法を用いることにより、ゲート電極の側面における断面テーパー形状の形成が抑制されるが、これについては、以下のように考えることができる。即ち、従来の半導体装置の製造方法においては、図１４に示したように、メインエッチング後に存在するゲート電極の側面のテーパー部分を、飛来したデポ物が覆うものと思われる。そのため、このデポ物によりその後のオーバーエッチングが抑制され、ゲート電極端部のテーパー形状を有した部分はエッチングされずに残る。そのため、オーバーエッチング工程の終了後に半導体装置が洗浄されると、テーパー部に存在したデポ物が除去され、テーパー形状を有したゲート電極が現出するものと考えられる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【発明の効果】
以上、この発明にかかる半導体装置の製造方法によれば、半導体基板表面に設けられた絶縁膜上に形成された、電極または配線材料にエッチング処理を施し絶縁膜の少なくとも一部を露出させるメインエッチング工程と、このメインエッチング工程の後に、ハロゲンガスとこのハロゲンガスによる絶縁膜のエッチングを抑制する効果を有する添加ガスとから成る第１の混合ガスを利用したエッチングにより、メインエッチング工程のエッチング処理にてエッチングされなかった電極または配線材料のエッチング残渣をエッチングする第１のオーバーエッチング工程と、第１のオーバーエッチング工程の後に、第１の混合ガスよりも多い比率の添加ガス量を有するハロゲンガスと添加ガスとから成る第２の混合ガスを利用したエッチングにより、エッチング残渣をエッチングする第２のオーバーエッチング工程を有しているため、オーバーエッチング工程の初期の段階にチャンバー壁等から飛来するデポ物の影響を低減した上で、絶縁膜に損傷を与えることなく、垂直な端面形状を有した電極または配線材料を形成することができる半導体装置の製造方法が実現される。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月19日(2003.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
通常、このチャンバ１は厳密には完全な循環系ではなく、ブース３０内を常時陽圧に保つため循環空気量の約１割のブース内の空気を空調機室１０に設けられた外気導入口１８により外気導入口用ケミカルフィルター１４’と送風機を介して導入している。ブース３０を陽圧に保つ理由は、ブース３０にある微小な隙間を通してブース３０外より微小異物がブース３０内に侵入するのを防止するためである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月24日(2003.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
スイッチケースと、
上記スイッチケースの開口に配設された可動部材と、
上記スイッチケース内に設置され、上記可動部材の端部を上記スイッチケース外に突出するように付勢する弾性体と、
上記ケース内に上記可動部材に近接して配置されたホールＩＣと、
上記可動部材に固定された磁石と、を備え、
上記磁石の磁気中性点が上記ホールＩＣの動作点を通過するときに、該ホールＩＣからの出力のオン／オフが切り替わるように上記磁石と上記ホールＩＣとを配置することを特徴とする小型磁気感応スイッチ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の小型磁気感応スイッチは、スイッチケースと、上記スイッチケース内の開口に配設された可動部材と、上記スイッチケース内に設置され、上記可動部材の端部を上記スイッチケース外に突出するように付勢する弾性体と、上記ケース内に上記可動部材に近接して配置されたホールＩＣと、上記可動部材に固定された<b>磁石</b>と、を備え、上記磁石の磁気中性点が上記ホールＩＣの動作点を通過するときに、該ホールＩＣからの出力のオン／オフが切り替わるように上記磁石と上記ホールＩＣとを配置することを要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月18日(2003.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクへデータを分割し断続的に記録する記録方法であって、
データを分割する工程と、
分割されたデータを記録する工程と、
次の分割されたデータを記録するまでの、記録が中断されている期間に、直近に記録されたデータを再生する工程と、
再生されたデータの再生信号によりデータの記録の状態を評価する工程と、
再生されたデータの評価の結果に基き、次の分割されたデータを記録するレーザーの記録パワーを調整する工程とからなり、
上記記録、再生、レーザーの記録パワーを調整する工程を繰り返すことによってデータを記録する光ディスク記録方法。
【請求項２】
請求項１において、再生されたデータである直近に記録されたデータは、次の分割されたデータの記録を行おうとする位置の近傍に記録されたデータであることを特徴とする光ディスク記録方法。
【請求項３】
請求項１において、前記再生されたデータの再生信号によりデータの記録の状態を評価する工程で、
ディスク装置の温度を監視することと、
その温度変化幅によって、データの記録の状態の評価を、レーザー記録パワーの調整に用いるか否かを判断することをも、
行なうことを特徴とする光ディスク記録方法。
【請求項４】
請求項１における、データは、
光ディスクへの記録方法を定める規格では連続的に記録すべき一連のデータであり、これを意図的に分割したものであることを特徴とする光ディスク記録方法。
【請求項５】
請求項１において、断続的に記録することによる記録しない期間に、ディスク装置の各部位の機能を停止するまたは電源を切る工程を行なう
ことを特徴とする光ディスク記録方法。
【請求項６】
請求項５において、ディスク装置の温度上昇が緩やかになることにより、
レーザーを良好な温度特性のもと使用できるよう制御する
ことを特徴とする光ディスク記録方法。
【請求項７】
光ディスクにデータを記録する光ディスク装置であって、
データを分割する手段と、
分割されたデータ単位に断続的に繋ぎ記録を繰り返すことによってデータを記録する手段と、
断続的に記録することによる記録しない期間に、直近に記録された分割されたデータを再生する手段と、
再生されたデータの再生信号を評価することにより、次の分割されたデータを記録するレーザーの記録パワーを調整する手段を有する
ことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項８】
請求項７において、上記データを記録、再生し、レーザーの記録パワーの調整を繰り返すことによりデータを連続して記録する
ことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項９】
請求項７において、再生されたデータである直近に記録されたデータは、次の分割されたデータの記録を行おうとする位置の近傍に記録されたデータである
ことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項１０】
請求項７において、断続的に記録することによる記録しない期間に
前記再生されるデータは、直前に記録されたデータであり、
この直前に記録されたデータの再生データの再生信号を評価し、
次の記録を行うレーザーの記録パワーを調整する
ことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項１１】
請求項７において、
光ディスクが一回のみ書き込みが可能な媒体である
ことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項１２】
請求項７において、
光ディスクに記録するデータが映像、音声等のリアルタイムデータである
ことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項１３】
請求項７において、ディスク装置の温度を監視する手段を有し、この温度変化幅によって、前記再生されたデータの再生信号評価を、レーザー記録パワーの調整に用いるか否かを前記調整手段で判断する
ことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項１４】
請求項７における、データは、光ディスクへの記録方法を定める規格では連続的に記録すべき一連のデータであり、これを意図的に分割したものである
ことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項１５】
請求項７において、断続的に記録することによる記録しない期間に、
ディスク装置の各部位の機能を停止するまたは電源を切る
ことを特徴とする光ディスク装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する為に本願発明では、従来のディスク装置であれば規格に定められた通りにデータを連続的に記録するところを、データを分割し、分割したデータ単位に断続的に記録を行い、結果として連続的に記録した場合と同様に記録したデータが再生されるよう制御する。そして、前記の断続記録によって得られる断続期間を利用して、分割した各データの記録を行う前に直近に記録したデータの再生を行うことによって再生したデータの記録品質の評価を行うとともに、その評価結果をレーザーの出力に反映させることによってデータ全体に亘って記録品質が良好に維持されるよう制御を行う。さらに、前記の断続期間にディスク装置内の各部位の機能を停止、あるいは電源を切ることによってディスク装置内部の温度上昇を抑え、それによってレーザーの出力変化を低減し、長時間に亘る記録においても良好な記録品質が維持されるよう制御を行う。さらには、記録データが規格では連続して記録すべきデータである一連のデータを、意図的に分割し、その分割した単位に断続的に記録を行うものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
【発明の効果】
記録品質の評価を行うとともに、その評価結果をレーザーの出力に反映させることによってデータ全体に亘って良好な記録品質を維持することができる。さらに、ディスク装置内部の温度上昇を抑え、これによってレーザーを記録が長時間に亘っても良好な温度特性のもと使用することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月9日(2003.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記可動部の速度の推定値をも前記アクチュエータの力／電気変換特性へ帰還することを特徴とする、請求項１記載の位置制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
図５は、制御システム３０３に対して外乱オブザーバ６を含む外乱抑圧ループを付加した制御システム３０４の構成を示すブロック図である。制御システム３０４では、力／電気変換ブロック３には位相補償ブロック２の出力たる位置制御信号ｐ＿ｃｏｎｔではなく、アクチュエータ制御信号ｃｏｎｔが入力する。ここでアクチュエータ制御信号ｃｏｎｔは、アンプ７の出力を位置制御信号ｐ＿ｃｏｎｔから差し引いた値であり、この減算は減算器８によって行われる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３３】
さて、ローパスフィルタ２４のノイズ低減効果を向上させるためには、そのカットオフ周波数をできるだけ低く設定することが望ましい。しかしながら、例えばカットオフ周波数を数ＫＨｚに設定すると、ローパスフィルタ２４が位相をシフトさせるため、制御システム２０７のオープンループ特性における位相余裕が減少し、その結果、制御システム２０７，２０８の安定性が損なわれる虞がある。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月1日(2003.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
しかしながら、媒体上の位置を示す情報の記録方式が異なり、ＤＶＤ−ＲＡＭではＰＩＤ（プリフォーマットＩＤ），ＤＶＤ−ＲＷではＬＰＰ（ランド・プリピット），ＤＶＤ＋ＲＷではＡＤＩＰ（アドレス・イン・プリグルーブ）の各方式により位置情報が記録されている。なお、ＡＤＩＰ方式とは各々のＥＣＣブロックのアドレスを示すアドレス情報を当該ＥＣＣブロック中にウォブル位相変調させて４個所に分散記録する方式であり、ＬＰＰ方式は各々のＥＣＣブロックのアドレスを示すアドレス情報を当該ＥＣＣブロック中にランドトラック上に設けられた突起により記録する方式である。