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【手続補正書】
【提出日】平成15年8月4日(2003.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内輪と、外輪と、複数個の転動体と、保持器または転動体同士の間に配置されるスペーサとを備えた転がり軸受において、
前記保持器またはスペーサが固体潤滑剤で形成されているとともに、内輪、外輪、および転動体の少なくともいずれか一つに、前記固体潤滑剤と同じ材質からなる固体潤滑剤被膜を設けたことを特徴とする転がり軸受。
【請求項２】
内輪と、外輪と、複数個の炭化珪素製転動体とを備えた転がり軸受において、
前記転動体同士の間に、耐食性鋼材からなり前記転動体と同形状で大きさは同じか僅かに小さいスペーサを配置したことを特徴とする転がり軸受。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の転がり軸受によれば、軸受の使用初期から長時間に渡って優れた潤滑作用を得ることができる。
また、請求項２の転がり軸受によれば、軸受に大きな衝撃が加わって炭化珪素製転動体が破壊した場合には、耐衝撃性の高い耐食性鋼材からなるスペーサが荷重を受けるため、耐衝撃性が改善される。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月24日(2003.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ビットマップイメージを処理する印刷装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビットマップイメージを表す第１解像度の複数の入力イメージ信号から成るビットマップイメージを処理する印刷装置において、
前記ビットマップイメージを前記第１解像度より低い第２解像度の複数のイメージ信号によって表すように前記第１解像度の入力イメージ信号をエンコードするエンコーダであって、前記第２解像度の信号の各々が前記第１解像度の信号の各々より少ないビット数であり、前記エンコードの結果として前記複数の入力イメージ信号における多数のビットが廃棄される、エンコーダと、
前記第２解像度のイメージ信号を格納するメモリと、
格納された前記エンコードされた信号のビットストリームを再構築して、前記第２解像度のイメージ信号をデコードするとともに、該第２解像度のイメージ信号の外観を調整してパルス幅・位置変調された出力信号を発生させる二重機能回路とを備え、
前記二重機能回路は、一の目標画素位置とそれを囲む複数の画素位置とを持つ前記格納されたイメージ信号を複数のテンプレートと比較し、前記イメージ信号とテンプレートとのマッチングを指示する信号を出力するテンプレートマッチング回路と、該テンプレートマッチング回路からの前記信号に応答して前記パルス幅・位置変調された出力信号を生成するプログラム可能なルックアップテーブルとを包含し、
更に、前記二重機能回路によって生成された前記パルス幅・位置変調された出力信号に応答してイメージを表示出力する出力エンジンを包含する
ことを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
ビットマップイメージを表す複数の多ビット入力イメージ信号から成るビットマップイメージを処理するイメージ処理装置において、
一の目標画素と該目標画素に隣接する複数の隣接画素とを包含する前記イメージ信号の一部を格納するコンテキストメモリと、
前記格納されたイメージ信号と複数のテンプレートとを比較して複数のマッチング信号を出力し、前記マッチング信号の各々が前記格納されたイメージ信号と一のテンプレートとのマッチングを指示している、テンプレートマッチング回路とを備え、該テンプレートマッチング回路は、前記目標画素に隣接する画素位置に対応する前記イメージ信号を前記複数のテンプレートの各々と比較し、それらのマッチングの各々を指示する複数のマッチング信号を生成するパターン選択論理回路を包含しており、
更に、前記テンプレートマッチング回路から入力される前記複数のマッチング信号に応答し、画素の特性を表す画素出力信号を生成するプログラム可能なルックアップテーブルを包含する
ことを特徴とするイメージ処理装置。
【請求項３】
第１解像度の複数のグレイ入力イメージ信号から成るビットマップイメージを、第１解像度より高い解像度のビットマップイメージを表すように処理する印刷装置において、
前記第１解像度のグレイイメージ信号を格納するメモリと、
前記第１解像度のグレイイメージ信号の中で、該第１解像度より高い第２解像度の２進の画素として出力する前に修正を必要とする目標画素を識別し、修正を必要とする目標画素を識別したとき信号を生成するパターンマッチング論理回路とを備え、該パターンマッチング論理回路は、前記グレイイメージ信号を前記目標画素と隣接する複数の隣接画素とについて複数の予め形成されたテンプレートパターンと比較して前記信号とパターンとのマッチングを決定し、且つ、前記マッチングを識別すると、そのマッチングがなされた前記複数の予め形成されたテンプレートパターンを指示する多ビット信号をしており、
更に、前記パターンマッチングから生成された信号と前記目標画素のイメージ信号に応答して印刷装置を駆動するための出力信号を生成するプログラム可能な装置を包含し、該プログラム可能な装置は、予め選択された外観調整及び増補コンパクトドット成長の１組の条件に従ってプログラムされるものである
ことを特徴とする印刷装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月18日(2003.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受光素子あるいは表示素子が形成された基板の表面に所定のパターン形状を有するフィルタ層を形成するカラーフィルタの製造方法において、上記基板の表面に所定膜厚のレジスト層を形成する第１の工程と、上記レジスト層を感光させて、上記基板の表面の一部を露出する開口部を形成すると共に、この開口部が形成される領域を除いた領域に上記所定膜厚よりも浅い凹部を形成する第２の工程と、上記開口部及び上記凹部が形成された上記レジスト層上に、上記開口部に露出した上記基板の表面を被って特定の色成分に対応付けられる顔料層を形成する第３の工程と、上記顔料層を上記開口部の底面部分を除いて上記レジスト層と共に除去する第４の工程と、を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
上記第２の工程は、上記開口部の形成部分に対応する第１の開口窓及び上記凹部の形成部分に対応し、第１の開口窓よりも光透過率が低い第２の開口窓を有する露光マスクを通して上記レジスト層に光を照射することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
上記第２の工程は、上記開口部の形成部分に対応する開口窓を有する第１の露光マスクを通して上記レジスト層に光を照射すると共に、上記凹部の形成部分に対応する開口窓を有する第２の露光マスクを通して上記レジスト層に光を照射することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本願発明は、上述の課題を解決するために成されたもので、その特徴とするところは、受光素子あるいは表示素子が形成された基板の表面に所定のパターン形状を有するフィルタ層を形成するカラーフィルタの製造方法において、上記基板の表面に所定膜厚のレジスト層を形成する第１の工程と、上記レジスト層を感光させて、上記基板の表面の一部を露出する開口部を形成すると共に、この開口部が形成される領域を除いた領域に上記所定膜厚よりも浅い凹部を形成する第２の工程と、上記開口部及び上記凹部が形成された上記レジスト層上に、上記開口部に露出した上記基板の表面を被って特定の色成分に対応付けられる顔料層を形成する第３の工程と、上記顔料層を上記開口部の底面部分を除いて上記レジスト層と共に除去する第４の工程と、を含むことにある。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月27日(2003.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
装填部２０および２２は、記録面を外側にしてロール状に巻回された長尺な感光材料Ａを遮光性の筐体に収納してなるマガジン３２が装填される部位である。両装填部２０および２２に装填されるマガジン３２には、通常、サイズ（幅）、面種（シルクやマット等）、仕様（厚さやベースの種類等）等、互いに種類の異なる感光材料Ａが収納される。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ここで、レジストローラ対３８、およびこれ以降の搬送速度は、走査搬送手段４２と同速度すなわち走査搬送速度で、例えば、８０mm/secである。他方、引き出しローラ対２４および２６、第１搬送部３４ならびに第２搬送部３６による搬送速度は、これよりも高速で、例えば、１００mm/secである。
従って、感光材料Ａは、レジストローラ対３８と第２搬送部３６との速度差やサイズに応じて、図中点線に示されるように、両者の間でたわみを生じる（ループを形成する）。図示例の記録装置１０においては、このような構成を有することにより、バッファを形成して、短い感光材料の搬送長（パス長）で走査搬送手段４２と、プリンタ１４やカッタ２８等とを確実に分離し、バックプリントの記録や感光材料Ａの切断の影響を排除して、記録時における高精度な走査搬送を実現している。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図示例の露光ユニット４０は、一例として、光ビームＬを記録光として用いる公知の光ビーム走査装置であって、感光材料Ａの赤（Ｒ）露光、緑（Ｇ）露光および青（Ｂ）露光のそれぞれに対応する光ビームＬを射出する光源、前記光源から射出された光ビームＬをデジタルの画像データに応じて変調するＡＯＭ（音響光学変調器）等の変調手段、変調された光ビームＬを主走査方向に偏向するポリゴンミラー等の光偏向器、主走査方向（図１紙面と垂直方向）に偏向された光ビームＬを記録位置Ｘ上の所定位置に所定のビーム径で結像させるｆθ（走査）レンズ等を有して構成される。
なお、露光ユニット４０としては、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）アレイ、ＥＬＤ（エレクトロルミネセントディスプレイ）アレイ、ＬＥＤ（発光ダイオード）アレイ、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）アレイ、ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）アレイ、レーザアレイ等の、主走査方向に延在する各種の発光アレイや空間変調素子アレイ等を用いるデジタルの露光手段でもよい。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
画像記録部１６によって潜像を記録された感光材料Ａは、下流に配置される振分部１８に搬送される。
振分部１８は、画像記録部１６の走査搬送手段４２から排出された感光材料Ａを受け取って、感光材料Ａのサイズ等に応じて適宜決定されたシーケンスに応じて、感光材料Ａを搬送方向と直交する方向（以下、横方向とする）に振り分けて、搬送方向には重なる複数列として、プロセサ６０に感光材料Ａを供給する搬送ローラ対４８に搬送することにより、プロセサ６０の処理能力を向上、例えば、２列であれば約２倍、３列であれば約３倍とする。
図示例の振分部１８は、ベルトコンベア５０と振分装置５６とを有して構成され、感光材料Ａは、ベルトコンベア５０に排出・載置されて搬送され、所定位置まで搬送されると、振分装置５６の吸盤ユニット５２によって持ち上げられ、下流側斜め横方向に搬送されて振り分けられ、再度ベルトコンベア５０に載置され、そのまま搬送されて搬送ローラ対４８に供給される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１０  （画像）記録装置
１２  （感光材料）供給部
１４  プリンタ
１６  画像記録部
１８  振分部
２０，２２  装填部
２４，２６  引き出しローラ対
２４Ｃ，２６Ｃ，３４Ｃ，３６Ｃ，３８Ｃ  クラッチ
２８，３０  カッタ
３２  マガジン
３４  第１搬送部
３６  第２搬送部
３８  レジストローラ対
４０  露光ユニット
４２  走査搬送手段
４４，４６，４８，６２  搬送ローラ対
５０  ベルトコンベア
５２  吸盤ユニット
６０  プロセサ
Ａ  感光材料
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月26日(2003.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
ところが、このように最後に感光材料を切断する装置では、感光材料を露光する前あるいは露光時に、各コマ（プリント一枚毎）の境目を示すためのコマ情報（パンチ）を形成する必要がある。そのため、このコマ情報を形成した部分の感光材料が無駄になってしまい、また、パンチやセンサ等を有するコマ情報の形成手段が必要となる。
また、デジタル露光の焼付装置では、ムラ等のない高画質な画像を記録するために、感光材料の走査搬送を高精度かつ停止することなく行う必要があり、そのために、露光位置の上下流に感光材料のたわみ（ループ）を形成しており、感光材料の搬送経路や搬送制御が複雑になっている。
そのため、このようなフォトプリンタにおいては、感光材料をプリント一枚に対応して切断してカットシートとした後に、露光を行うことが考えられ、また、アナログのフォトプリンタでは実用化されている。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
装填部２０および２２は、記録面を外側にしてロール状に巻回された長尺な感光材料Ａを遮光性の筐体に収納してなるマガジン３２が装填される部位である。両装填部２０および２２に装填されるマガジン３２には、通常、サイズ（幅）、面種（シルクやマット等）、仕様（厚さやベースの種類等）等、互いに種類の異なる感光材料Ａが収納される。なお、記録装置１０のサイズや構成等に応じて、装填可能なマガジン３２の数は１個であっても３個以上であってもよい。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1999064988.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
1999064988.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月14日(2003.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１０  画像記録装置
１２  感光材料供給部
１４  裏印字部
１６  画像記録部
１８  振り分け部
２０  プロセサ（現像機）
２２，２４  装填部
２６，２８  引き出しローラ対
３０，３２  カッタ
３４  マガジン
３６  露光ユニット
３８  走査搬送手段
４０，４２，５４  搬送ローラ対
４０ａ，４０ｂ，４２ａ，４２ｂ，５４ａ  搬送ローラ
４４  露光ガイド
４６  ベルトコンベア
４８  補助ベルトコンベア
５０，５２  吸着ユニット
５６  排出口
５８，６８  裏印字逃げ部
６０  溝
６２  露光ドラム
６４，６６  ニップローラ
Ａ  感光材料
Ｌ  光ビーム
Ｘ  露光位置
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月30日(2004.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
前記レーザ光の非ウォークオフ方向に関して、前記レーザ光の径に対し、前記非線形光学結晶の前記厚みを小さくしすぎると、入力或いは出力するレーザ光をクリップ（clip）して、有効な出力を望めなくなることがある。従って、本発明の波長変換素子においては、前記レーザ光の非ウォークオフ方向において、前記レーザ光の径に対し、前記非線形光学結晶の厚みが２倍以上であるのが望ましい。この厚みは２〜５倍であることがさらに望ましいが、これは、前記レーザ光の直径が２００〜３００μｍ程度のとき、ハンドリング性や加工の簡便さも考慮して、前記厚みが約１ｍｍと小さめの非線形光学結晶を作製しうるからである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月16日(2003.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】CDMA受信装置、移動局装置及び基地局装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信信号とベーシックミッドアンブルとのスライディング相関の検出を行うミッドアンブル相関手段と、
前記スライディング相関の検出結果である相関値から遅延プロファイルを作成する遅延プロファイル作成手段と、
前記遅延プロファイルの平均化処理を行う平均化手段と、
平均化された前記遅延プロファイルから前記受信信号のパス位置を検出するパス検出手段と、を具備することを特徴とするCDMA受信装置。
【請求項２】
ビーコンチャネルのミッドアンブル区間の受信信号とベーシックミッドアンブルとのスライディング相関の検出を行うミッドアンブル相関手段と、
前記スライディング相関の検出結果である相関値から遅延プロファイルを作成する遅延プロファイル作成手段と、
前記遅延プロファイルの平均化処理を行う平均化手段と、
平均化された前記遅延プロファイルから前記ビーコンチャネルのパス位置を検出するパス位置検出手段と、
検出された前記パス位置のタイミングでパス検出対象のタイムスロットの受信信号に対して相関演算を行う相関手段と、
前記相関演算により得られた相関値出力から判定値を計算する判定値計算手段と、
前記判定値からミッドアンブルシフト量を検出するミッドアンブルシフト検出手段と、
前記ミッドアンブルシフト量に応じて前記相関値出力を選択するセレクタと、
前記セレクタにより選択された前記相関値出力から前記受信信号のパス位置を選択するパス選択手段と、を具備することを特徴とするCDMA受信装置。
【請求項３】
前記ビーコンチャネルのミッドアンブルの代わりに初期同期用コードであるSYNC-DLを利用することを特徴とする請求項２記載のCDMA受信装置。
【請求項４】
前記相関手段は、前記タイミングの前後のタイムスロットの受信信号に対しても相関演算を行うこと特徴とする請求項２記載のCDMA受信装置。
【請求項５】
前記判定値計算手段における前記判定値は、前記ミッドアンブルシフト毎のパスの相関値を合成したものであることを特徴とする請求項２記載のCDMA受信装置。
【請求項６】
前記判定値計算手段における前記判定値は、前記ミッドアンブルシフト毎のパスの相関値の最大値であることを特徴とする請求項２記載のCDMA受信装置。
【請求項７】
請求項１又は請求項２に記載のCDMA受信装置を具備することを特徴とする移動局装置。
【請求項８】
請求項１又は請求項２に記載のCDMA受信装置を具備することを特徴とする基地局装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、CDMA受信装置、並びにこの装置を具備する移動局装置及び基地局装置に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
図７の通信端末は、図１（ｂ）を用いて説明した方式を用いてパス検出を行うものであり、主要な動作は、図１（ｂ）に示される受信装置と同様である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月22日(2003.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
ゲート電極と、
前記半導体基板と前記ゲート電極との間に形成された第１の絶縁膜と、
前記ゲート電極の上面又は側面に沿って形成され、窒素、シリコン及び水素を含有した下層側シリコン窒化膜と、下層側シリコン窒化膜上に形成され、窒素、シリコン及び水素を含有した上層側シリコン窒化膜と、を含む第２の絶縁膜と、
を備えた半導体装置であって、
前記下層側シリコン窒化膜における窒素（Ｎ）とシリコン（Ｓｉ）との組成比Ｎ／Ｓｉの方が、前記上層側シリコン窒化膜における窒素（Ｎ）とシリコン（Ｓｉ）との組成比Ｎ／Ｓｉよりも高い
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
半導体基板と、
ゲート電極と、
前記半導体基板と前記ゲート電極との間に形成された第１の絶縁膜と、
前記ゲート電極に近接して形成され、窒素、シリコン及び水素を含有した下層側シリコン窒化膜と、下層側シリコン窒化膜上に形成され、窒素、シリコン及び水素を含有した上層側シリコン窒化膜と、を含む第２の絶縁膜と、
を備えた半導体装置であって、
前記下層側シリコン窒化膜に含有された水素の濃度の方が、前記上層側シリコン窒化膜に含有された水素の濃度よりも高い
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
直列接続された複数のメモリセルを備えた半導体装置であって、
前記メモリセルは、
ソース領域と、ドレイン領域と、前記ソース領域と前記ドレイン領域とに挟まれたチャネル領域と、を含む半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に形成され、前記半導体基板から前記第１の絶縁膜を通して注入された電荷を蓄積するものであって、１ｎｍ以上かつ４ｎｍ以下の厚さを有する下層側シリコン窒化膜と、下層側シリコン窒化膜上に形成された上層側シリコン窒化膜と、を含む第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上に形成された第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上に形成された制御ゲート電極と、
を備えたことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
ソース領域と、ドレイン領域と、前記ソース領域と前記ドレイン領域とに挟まれたチャネル領域と、を含む半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に形成され、前記半導体基板から前記第１の絶縁膜を通して注入された電荷を蓄積するものであって、１ｎｍ以上かつ４ｎｍ以下の厚さを有する下層側シリコン窒化膜と、下層側シリコン窒化膜上に形成された上層側シリコン窒化膜と、を含む第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上に形成された第３の絶縁膜と、
前記第３の絶縁膜上に形成された制御ゲート電極と、
を備え、
前記第２の絶縁膜は、前記ソース領域近傍の第１の領域と、前記ドレイン領域近傍の第２の領域とを有し、前記第１の領域と第２の領域には互いに独立して電荷が蓄積される
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
半導体基板上に第１の絶縁膜を形成する工程と、
前記第１の絶縁膜を含む領域上に第２の絶縁膜を形成する工程と、
を備えた半導体装置の製造方法であって、
前記第２の絶縁膜を形成する工程は、
テトラクロロシランを含む第１のシリコンソースと、第１の窒素ソースとを用いて第１のシリコン窒化膜を形成する工程と、
前記第１のシリコン窒化膜上に、テトラクロロシラン以外の第２のシリコンソースと、第２の窒素ソースとを用いて第２のシリコン窒化膜を形成する工程と、を備えた
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月1日(2003.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子を含む機能層と、高導電層とを含むことを特徴とする半導体素子部材。
【請求項２】
半導体基板と、該半導体基板の表面に形成され半導体素子を含む機能層と、高導電層とを含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１に記載の半導体素子部材を所定の基板に接合してなることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
前記半導体基板が半絶縁性を有することを特徴とする請求項２に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記半導体基板と前記高導電層との間に絶縁層が設けられたことを特徴とする請求項２に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記半導体素子を駆動させるすべての電極は、前記機能層の表面側に形成されていることを特徴とする請求項２乃至５のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項７】
前記高導電層は、少なくとも高キャリア濃度層又は高キャリア移動度層のいずれかであることを特徴とする請求項２乃至６のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項８】
前記半導体素子は、化合物半導体デバイスであって、発光ダイオード、面発光レーザ、フォト・ディテクタ、フォト・ダイオード、電界効果トランジスタ、高電子移動度トランジスタ、バイポーラ・トランジスタ、サイリスタ、インダクター、キャパシター及び抵抗の内の少なくとも一つを有することを特徴とする請求項２乃至７のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項９】
前記半導体素子は、シリコン半導体デバイスであって、集積回路、フォト・ダイオード、トランジスタ及びダイオードの内の少なくとも一つをなすことを特徴とする請求項２乃至７のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項１０】
前記半導体素子は１対の反射鏡層構造を備えた面発光レーザであり、前記高導電層は高キャリア移動度層であって、
前記高キャリア移動度層は、前記半導体基板側又は前記基板側の反射鏡層構造内に設けられていることを特徴とする請求項２乃至９のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項１１】
前記半導体素子部材と前記基板の回路とが接続されて集積回路を形成することを特徴とする請求項３に記載の半導体装置。
【請求項１２】
請求項２乃至１１のいずれかに記載の半導体装置を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１４】
半導体基板の表面に半導体素子及び高導電層を形成し、
前記半導体基板における表層であって前記半導体素子を含む機能層及び前記高導電層のみを当該半導体基板から剥離することを特徴とする半導体素子部材の製造方法。
【請求項１５】
半導体基板の表面に半導体素子及び高導電層を形成し、
前記半導体基板における前記半導体素子が形成された面側にフィルムを貼り付け、
前記半導体基板における前記半導体素子を含む機能層及び前記高導電層を当該半導体基板から剥離することを特徴とする半導体素子部材の製造方法。
【請求項１６】
前記半導体基板は、前記機能層及び前記高導電層の下に配置された犠牲層を有し、当該犠牲層をエッチングすることで、当該半導体基板から当該機能層及び高導電層を剥離することを特徴とする請求項１４又は１５に記載の半導体素子部材の製造方法。
【請求項１７】
前記半導体基板には分離溝が設けられ、当該分離溝を設けるとともに前記犠牲層をエッチングすることで、当該半導体基板から前記機能層及び高導電層を剥離することを特徴とする請求項１６に記載の半導体素子部材の製造方法。
【請求項１８】
請求項１４乃至１７のいずれかに記載の半導体素子部材を、シリコン、石英、ガラス、サファイヤ、金属、セラミックス及びプラスチックフィルムのいずれかからなる基板に接着することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１９】
前記基板に接着された前記半導体素子を、当該基板上に形成された回路と電気的に接続することを特徴とする請求項１８に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の半導体装置において、前記半導体基板が半絶縁性を有するものであってもよいし、前記半導体基板と前記高導電層との間に絶縁層を設けた構成であってもよい。
このようにすれば、半導体基板の抵抗が高くなるので、高導電層による半導体装置の電気抵抗の低減効果がより顕著になる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月8日(2003.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動回転する駆動手段と、
この駆動手段の回転が伝達されて回転する伝達手段と、
幅または巻き径の異なる２種類のテープに対応して２つ設けられ、前記伝達手段を介して前記駆動手段の回転が伝達されて前記テープを各種類ごとに巻き取る巻取軸と、
これら２つの巻取軸それぞれに前記テープの異なる幅または巻き径に応じた異なる伝達トルクを伝達させ、前記テープにそれぞれの伝達トルク以上の負荷が加わると空転する２つのクラッチ手段と
を備えたことを特徴とするテープ巻取装置。
【請求項２】
前記２つのクラッチ手段は、それぞれ前記２つの巻取軸に設けられていることを特徴とする請求項１記載のテープ巻取装置。
【請求項３】
前記クラッチ手段のうち、少なくとも１つのクラッチ手段は、前記伝達手段に設けられていることを特徴とする請求項１記載のテープ巻取装置。
【請求項４】
前記２つの巻取軸のうち、一方の巻取軸の高さ寸法は他方の巻取軸の高さ寸法よりも低く設定され、前記一方の巻取軸の伝達トルクは前記他方の巻取軸の伝達トルクよりも大きく設定されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載のテープ巻取装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明は、駆動回転する駆動手段と、この駆動手段の回転が伝達されて回転する伝達手段と、幅または巻き径の異なる２種類のテープに対応して２つ設けられ、前記伝達手段を介して前記駆動手段の回転が伝達されて前記テープを各種類ごとに巻き取る巻取軸と、これら２つの巻取軸それぞれに前記テープの異なる幅または巻き径に応じた異なる伝達トルクを伝達させ、前記テープにそれぞれの伝達トルク以上の負荷が加わると空転する２つのクラッチ手段とを備えたことを特徴する。
この発明によれば、テープを各種類ごとに巻き取る２つの巻取軸それぞれにテープの異なる幅または巻き径に応じた異なる伝達トルクを２つのクラッチ手段により伝達するので、例えば幅広のテープを巻き取る際には、伝達トルクの大きいクラッチ手段によって駆動手段の回転が伝達される巻取軸で巻き取り、また幅狭のテープを巻き取る際には、伝達トルクの小さいクラッチ手段によって駆動手段の回転が伝達される巻取軸で巻き取ることにより、テープ幅に応じた伝達トルクでテープを巻き取ることができ、このためテープ幅が異なっていても、テープが切れたりせずに、確実かつ良好にテープを巻き取ることができる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、テープを各種類ごとに巻き取る２つの巻取軸それぞれにテープの異なる幅または巻き径に応じた異なる伝達トルクを２つのクラッチ手段により伝達するので、例えば幅広のテープを巻き取る際には、伝達トルクの大きいクラッチ手段によって駆動手段の回転が伝達される巻取軸で巻き取り、また幅狭のテープを巻き取る際には、伝達トルクの小さいクラッチ手段によって駆動手段の回転が伝達される巻取軸で巻き取ることにより、テープ幅に応じた伝達トルクでテープを巻き取ることができ、このためテープ幅が異なっていても、テープが切れたりせずに、確実かつ良好にテープを巻き取ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月17日(2003.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インクジェット式記録ヘッド


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル開口に連通する圧力発生室の一部を構成する振動板と、該振動板上に設けられた圧電振動子とを具備したインクジェット式記録ヘッドにおいて、
下電極と圧電体層と上電極とからなり、前記圧力発生室に対向する領域に形成されて前記圧力発生室内のインクを前記ノズル開口から吐出させるための第１の圧電振動子と、該第１の圧電振動子が形成された領域外の前記振動板上に形成されて、当該第１の圧電振動子による前記振動板の変形量を変えることができる第２の圧電振動子とを設けたことを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項２】
請求項１において、前記第２の圧電振動子は、前記圧力発生室内に突出して圧電歪みを生じる能動部を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項３】
請求項２において、前記第２の圧電振動子の前記能動部が連続した層の両端に設けられていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項４】
請求項２において、前記第２の圧電振動子の少なくとも前記能動部が独立して設けられ、前記圧力発生室毎に独立して駆動可能であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項５】
請求項１〜４の何れかにおいて、前記第２の圧電振動子に電圧を印加した後当該電圧を解除する駆動では前記ノズル開口からインクを吐出しないことを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項６】
請求項４において、前記第２の圧電振動子に電圧を印加した後当該電圧を解除する駆動により前記ノズル開口からインクを吐出することを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項７】
請求項１〜６の何れかにおいて、前記第１の圧電振動子と前記第２の圧電振動子のそれぞれを構成する少なくとも前記圧電体層は、前記圧電振動子の長手方向の一端部から前記圧力発生室に対向する領域外まで延設されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項８】
請求項７において、前記第１の圧電振動子の延設方向と、前記第２の圧電振動子の延設方向とが逆方向であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項９】
請求項７又は８において、前記圧力発生室に対向する領域外まで延設された前記圧電体層上には前記上電極が延設されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れかにおいて、前記圧電振動子の上面にはリード電極と前記上電極との接続を行うコンタクト部を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項１１】
請求項１０において、前記圧電振動子の上面には絶縁体層が形成され、前記リード電極と前記上電極との接続を行う前記コンタクト部は、前記絶縁体層に形成されたコンタクトホール内に形成されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の第１の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室の一部を構成する振動板と、該振動板上に設けられた圧電振動子とを具備したインクジェット式記録ヘッドにおいて、下電極と圧電体層と上電極とからなり、前記圧力発生室に対向する領域に形成されて前記圧力発生室内のインクを前記ノズル開口から吐出させるための第１の圧電振動子と、該第１の圧電振動子が形成された領域外の前記振動板上に形成されて、当該第１の圧電振動子による前記振動板の変形量を変えることができる第２の圧電振動子とを設けたことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第２の態様は、第１の態様において、前記第２の圧電振動子は、前記圧力発生室内に突出して圧電歪みを生じる能動部を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
かかる第２の態様では、第２の圧電振動子を用いて、排除体積をより確実に向上することができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の第３の態様は、第２の態様において、前記第２の圧電振動子の前記能動部が連続した層の両端に設けられていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
かかる第３の態様では、第２の圧電振動子を隣接する圧力発生室で共用し、引張り力を大きくすることができる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の第４の態様は、第２の態様において、前記第２の圧電振動子の少なくとも前記能動部が独立して設けられ、前記圧力発生室毎に独立して駆動可能であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月25日(2003.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】エアベルトとタングとの接続体及びエアベルトとウェビングとの接続体並びにエアベルト装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バッグと、該バッグを覆うメッシュウェビングとからなり、内部にガスが導入されるエアベルトと、
該エアベルトの先端が接続されたタングとを有し、
該タングの後部に開口が設けられ、該開口に前記エアベルトの先端を挿通した後、折り返してエアベルト同士を重ね合わせ、両者を縫合してなるエアベルトとタングとの接続体。
【請求項２】
エアベルトと、該エアベルトに縫合されたウェビングとを有するエアベルトとウェビングとの接続体において、
該エアベルトは、バッグと、該バッグを覆うメッシュウェビングとからなり、前記ウェビングは、該バッグの中に差し込まれてエアベルトと縫合されていることを特徴とするエアベルトとウェビングとの接続体。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の接続体を備えてなるエアベルト装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、車両等の移動体の乗員を車両衝突時等に保護するための部材に関するものであり、特にガス発生装置からのガスによって膨張するようにしたエアベルトとタングとの接続体に関する。また、本発明はこのエアベルトとウェビングとの接続体に関する。さらに、本発明はかかる接続体を備えたエアベルト装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、これらの接続部の接続強度が高いエアベルトとタングとの接続体及びエアベルトとウェビングとの接続体並びにこの接続体を備えたエアベルト装置を提供することを目的とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明のエアベルトとウェビングとの接続体は、エアベルトと、該エアベルトに縫合されたウェビングとを有するエアベルトとウェビングとの接続体において、該エアベルトは、バッグと、該バッグを覆うメッシュウェビングとからなり、前記ウェビングは、該バッグの中に差し込まれてエアベルトと縫合されていることを特徴とするものである。
本発明のエアベルト装置は、かかる本発明の接続体を備えてなるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月6日(2004.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性膜が被着された基板と、前記感光性膜に接する第１面と、該第１面に隣接し、互いに対向した第２、第３面とを少なくとも有するプリズムと、を備え、前記プリズムの第２面及び第３面に同一波長を有する光線をそれぞれ照射して、前記プリズムの第１面に前記光線による干渉縞を形成し、該干渉縞のパターンを前記感光性膜に転写する干渉露光装置において、少なくとも前記プリズムの第２、及び第３面には、それぞれ反射防止膜が形成されてなることを特徴とする干渉露光装置。
【請求項２】
感光性膜が被着された基板と、前記感光性膜に接する第１面と、該第１面に隣接し、互いに対向した第２、第３面とを少なくとも有するプリズムと、を備え、前記プリズムの第２面及び第３面に同一波長を有する光線をそれぞれ照射して、前記プリズムの第１面に前記光線による干渉縞を形成し、該干渉縞のパターンを前記感光性膜に転写する干渉露光装置において、前記プリズムの第２面及び第３面に近接又は接して、前記プリズムの第１面から離れた位置に遮光手段を配置して、プリズムの第２、第３面に入射する光線を制限してなることを特徴とする干渉露光装置。
【請求項３】
感光性膜が被着された基板と、前記感光性膜に接する第１面と、該第１面に隣接し、互いに対向した第２、第３面とを少なくとも有するプリズムと、を備え、前記プリズムの第２面及び第３面に同一波長を有する光線をそれぞれ照射して、前記プリズムの第１面に前記光線による干渉縞を形成し、該干渉縞のパターンを前記感光性膜に転写する干渉露光装置において、前記プリズムの第２面に入射した後、前記プリズムの第３面内壁に照射されて反射する反射光と、前記プリズムの第３面に入射した後、前記プリズムの第２面内壁に照射されて反射する反射光とはいずれも、それら反射光の向きが前記プリズムの第１面から離れる方向にすすんでなることを特徴とする干渉露光装置。
【請求項４】
請求項２に記載の干渉露光装置は、少なくとも前記プリズムの第２、及び第３面には、それぞれ反射防止膜が形成されてなることを特徴とする干渉露光装置。
【請求項５】
請求項３に記載の干渉露光装置は、前記プリズムの第１、第２、及び第３面に、それぞれ反射防止膜が形成されてなることを特徴とする干渉露光装置。
【請求項６】
感光性膜が被着された基板と、前記感光性膜に接する第１面と、該第１面に隣接し、互いに対向した第２、第３面とを少なくとも有するプリズムと、を備え、前記プリズムの第２面及び第３面に同一波長を有する光線をそれぞれ照射して、前記プリズムの第１面に前記光線による干渉縞を形成し、該干渉縞のパターンを前記感光性膜に転写する干渉露光装置において、前記プリズムの第１面と、前記プリズムの第２、第３面とのなす角φ、φ’は、下記式（１）を満たしていることを特徴とする請求項３または請求項５に記載の干渉露光装置。
【数１】
1997153446.tif 000001
【請求項７】
前記プリズムの第１面と第２面とのなす角φと、前記プリズムの第１面と第３面とのなす角φ’とが等しいことを特徴とする請求項６に記載の干渉露光装置。
【請求項８】
前記プリズムの第１、第２、及び第３面を除く全ての面は、光の入反射に寄与しない粗面であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の干渉露光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかの装置を用いて干渉露光してなることを特徴とする干渉露光方法。
【請求項１０】
前記プリズムにおいて、
前記第２面および前記第３面のうちの少なくとも一方の一部には、段差あるいは透明薄膜が設けられていることを特徴とする請求項１乃至８の何れかに記載された干渉露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の干渉露光装置を用いて干渉露光して回折格子を形成することを特徴とする干渉露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明に係る請求項９に記載の干渉露光方法は、請求項１〜８のいずれかに記載の装置を用いて干渉露光してなることを特徴とするものである。
本発明に係る請求項１０に記載の干渉露出装置は、請求項１乃至８のいずれか一つに記載の干渉露光装置において、前記プリズムにおいて、前記第２面および前記第３面のうちの少なくとも一方の一部には、段差あるいは透明薄膜が設けられていることを特徴とするものである。
本発明に係る請求項１１に記載の干渉露光方法は、請求項１０に記載の干渉露光装置を用いて干渉露光して回折格子を形成することを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月4日(2003.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ処理システム（２０）内でビタービ・デコーダを実現する加算比較選択バタフライ演算を実行する方法であって：
分岐計量を第１記憶素子（７４）にロードする段階（１００）；
第１先行経路計量と第１トレリス値の両方を第２記憶素子（８３）にロードする段階（１０１）；
第２先行経路計量と第２トレリス値の両方を第３記憶素子（８４）にロードする段階（１０２）；
前記第１先行経路計量と前記第２先行経路計量のうち、どちらがサバイバ経路計量であるかを前記分岐計量を用いて決定する段階（１０４）；
前記サバイバ経路計量と、対応するサバイバ・トレリス状態とを第４記憶素子（３４）内に記憶する段階（１０５）；および
前記第１または第２トレリス値のいずれかに対し論理左シフトを実行しかつ所定の論理ビットを前記第１または第２トレリス値の最下位ビットの位置に挿入して対応するサバイバ・トレリス状態を識別する段階；
を具備することを特徴とする方法。
【請求項２】
データ処理システム（２０）内でビタービ・デコーダを実現する加算比較選択バタフライ演算を実行する方法であって：
第１状態に関する第１先行経路計量と、対応する第１トレリス値とを単独の第１クロック・サイクル中に取り出す段階（１００）；
第２状態に関する第２先行経路計量と、対応する第２トレリス値とを単独の第２クロック・サイクル中に取り出す段階（１０１）；
前記第１先行経路計量に分岐計量を加算して第１の計算結果を得る段階（１０２）；
前記分岐計量を前記第２先行経路計量から減じて第２の計算結果を得る段階（１０３）；
前記第１の計算結果と前記第２の計算結果とを比較し、第１サバイバ計量にふさわしいより大きなものを選択し、前記第１先行経路計量を単独の第３クロック・サイクル中に再度取り出す段階（１０４）；
前記第１サバイバ計量と、対応する第１トレリス状態とを記憶する段階（１０７）であって、前記対応する第１トレリス状態は前記第１トレリス値を左シフトしかつ第１の所定のビットを前記左シフトされた第１トレリス値の最下位ビットに加えることにより決定される、前記段階；
前記第１先行経路計量から前記分岐計量を減じて第３の計算結果を得る段階（１０８）；
前記分岐計量を前記第２先行経路計量に加えて第４の計算結果を得る段階（１０９）；
前記第３の計算結果と前記第４の計算結果とを比較し、第２サバイバ計量にふさわしいより大きなものを選択する段階（１１０）；および
前記第２サバイバ計量と、対応する第２トレリス状態とを記憶する段階であって、前記対応する第２トレリス状態は前記第２トレリス値を左シフトしかつ前記左シフトされた第２トレリス値の最下位ビットに第２の所定のビットを加えることにより決定される、前記段階；
を具備することを特徴とする方法。
【請求項３】
第１バイナリ値を第１メモリ位置（３４）から第２メモリ位置（７４）に移動する段階（１００）；
第２バイナリ値を左シフトさせて左シフトされた第２バイナリ値を得る段階（１０７）；
前記左シフトされた第２バイナリ値に所定のビットを加算する段階（１０７）；および
前記左シフトされた第２バイナリ値を前記第２メモリ位置（７４）に移動する段階；
を具備し、データ処理システム（２０）の単独のクロック・サイクル中に前記データ処理システム（２０）内で実行されることを特徴とする方法。
【請求項４】
データ処理システム（２０）における、ビタービ・デコード・アルゴリズムの加算比較選択演算において使用する方法であって：
第１先行経路計量と、対応する第１トレリス値とを取り出す段階（１０１）；
第２先行経路計量と、対応する第２トレリス値とを取り出す段階（１０２）；
前記第１および第２先行経路計量と分岐計量とを検証し、サバイバ経路計量を決定する段階（１０４）；
前記サバイバ経路計量を第１メモリ位置から第２メモリ位置に移動する段階；
前記第１トレリス値を左シフトさせて左シフトされた第１トレリス値を得る段階；
前記左シフトされた第１トレリス値の最下位ビットの位置に所定のビットを加算して対応する第１トレリス状態を決定する段階；および
前記対応する第１トレリス状態を前記第２メモリ位置に移動する段階；
を具備することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月1日(2003.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検体と第１液状試薬を反応させた後、第２液状試薬を反応させることによって検体中の蛋白質を定量する総蛋白質測定用キットであって、
第１液状試薬は銅イオンを含有し、第２液状試薬はアルカリ溶液からなる総蛋白質測定用キット。
【請求項２】
前記第２液状試薬が水酸化ナトリウム、水酸化リチウムおよび水酸化カリウムから選択される一以上の物質を含有する請求項１に記載の総蛋白質測定用キット。
【請求項３】
前記第２液状試薬が水酸化リチウムを含有する請求項１または２に記載の総蛋白質測定用キット。
【請求項４】
前記第１液状試薬が、硫酸銅、塩化銅および硝酸銅から選択される一以上の物質を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の総蛋白質測定用キット。
【請求項５】
前記第１液状試薬のｐＨが１０〜１３の範囲にある請求項１〜４のいずれか１項に記載の総蛋白質測定用キット。
【請求項６】
前記第１液状試薬がキレート剤を含有する請求項１〜５のいずれか１項に記載の総蛋白質測定用キット。
【請求項７】
前記第１液状試薬の液量が第２液状試薬の液量より多いことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の総蛋白質測定用キット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は総蛋白質の定量において問題とされていた干渉物質の影響が回避できる総蛋白質測定用キットを提供することにある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、干渉物質の影響が回避できる総蛋白質測定用キットを得ることに成功した。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は以下の通りである。
（１）検体と第１液状試薬を反応させた後、第２液状試薬を反応させることによって検体中の蛋白質を定量する総蛋白質測定用キットであって、
第１液状試薬は銅イオンを含有し、第２液状試薬はアルカリ溶液からなる総蛋白質測定用キット。
（２）前記第２液状試薬が水酸化ナトリウム、水酸化リチウムおよび水酸化カリウムから選択される一以上の物質を含有する上記（１）に記載の総蛋白質測定用キット。
（３）前記第２液状試薬が水酸化リチウムを含有する上記（１）または（２）に記載の総蛋白質測定用キット。
（４）前記第１液状試薬が、硫酸銅、塩化銅および硝酸銅から選択される一以上の物質を含有する上記（１）〜（３）のいずれか１に記載の総蛋白質測定用キット。
（５）前記第１液状試薬のｐＨが１０〜１３の範囲にある上記（１）〜（４）のいずれか１に記載の総蛋白質測定用キット。
（６）前記第１液状試薬がキレート剤を含有する上記（１）〜（５）のいずれか１に記載の総蛋白質測定用キット。
（７）前記第１液状試薬の液量が第２液状試薬の液量より多いことを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれか１に記載の総蛋白質測定用キット。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の総蛋白質の定量方法においては、まず最初に銅イオンを含む第１試薬と検体を反応させた後にアルカリ溶液を含む第２試薬と反応させる。銅イオンを含む試薬としては、本発明の目的に適合するものであれば全て用いることが出来る。例えば、硫酸銅溶液、塩化銅溶液、硝酸銅溶液などが例示される。銅イオンの反応液中での最終濃度は通常、例えば硫酸銅を使用した場合３〜３０ｍＭ、好ましくは６〜２０ｍＭ程度である。該溶液はｐＨが１０〜１３であることが好ましい。実施例１および２（図１および２）に示すようにｐＨを１０以上にすることによりヘモグロビン色素、ヘモグロビン蛋白質およびＢＳＰのようなアルカリ側で発色する色素の干渉を回避することができる。しかしながらｐＨが１３よりも高くなると蛋白質が発色し、測定が妨害される。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
【発明の効果】
本発明の総蛋白質測定用キットは特定の２試薬を用いて測定を行うので検体盲検の必要性がなくなり、乳びおよび溶血の干渉を回避することができる。はじめに加える第１液状試薬に銅イオンを添加することにより、ビリルビンの干渉、ビウレット反応陽性物質であるアミノ酸、糖類、クレアチニンなどの影響を回避することができる。さらにはじめに加える第１液状試薬のｐＨを１０〜１３に調製することによりヘモグロビン蛋白やＢＳＰなどのアルカリ側で発色する物質の影響も受けない。
また、後で加える第２液状試薬であるアルカリ溶液を水酸化リチウムで調製することにより少ないアルカリ量で感度良く測定できるため粘度を低く抑えることができ、分注時の誤差による再現性の低下が抑えられる。また使用するアルカリ溶液が少量ですむため廃液処理が容易で安全な試薬を供給できる。