【手続補正書】
【提出日】平成15年9月26日(2003.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】静電レンズ、電子ビーム描画装置、荷電ビーム応用装置、および、デバイス製造方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電ビームを通過させる開口を各々有する３枚の基板を、前記荷電ビームの通過方向に重ねてなる静電レンズであって、
前記３枚の基板のうち中間の基板は、前記開口の周りに配置された電極と、前記開口の内壁部に配置された、他の基板の抵抗値よりも高い抵抗値を持つ高抵抗体と、を備えることを特徴とする静電レンズ。
【請求項２】
前記中間の基板は、２枚の絶縁体基板を前記荷電ビームの通過方向に積層してなるものであり、前記電極および前記電極の配線は、前記２枚の絶縁体基板の間に設けられ、前記高抵抗体は、前記開口の内壁部を覆う高抵抗体層として設けられていることを特徴とする請求項１に記載の静電レンズ。
【請求項３】
前記静電レンズは、前記荷電ビームの通過方向に垂直な面内に複数の開口を備えており、前記中間の基板は、前記複数の開口の周りにそれぞれ配置された複数の電極を備え、前記複数の電極は、それぞれ独立に制御されることを特徴とする請求項１または２に記載の静電レンズ。
【請求項４】
前記静電レンズは、前記荷電ビームの通過方向に垂直な面内に複数の開口を備えており、前記複数の開口は、面心構造状に配列していることを特徴とする請求項１または２に記載の静電レンズ。
【請求項５】
前記他の基板の厚さをＴ、前記開口の径をＤとするとき、Ｔ＞０．３Ｄであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の静電レンズ。
【請求項６】
前記高抵抗体の抵抗値は、前記荷電ビームの通過方向に沿って異なることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の静電レンズ。
【請求項７】
前記高抵抗体の抵抗値の微係数は、前記荷電ビームの通過方向に沿って正であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の静電レンズ。
【請求項８】
前記中間の基板は、前記荷電ビームの通過方向に複数の電極を備えており、前記複数の電極には、それぞれ任意の電位が印加されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の静電レンズ。
【請求項９】
前記複数の電極に印加される電圧の勾配の微係数は、前記荷電ビームの通過方向に沿って、前記静電レンズが加速レンズ系の場合は正、前記静電レンズが減速レンズ系の場合は負であることを特徴とする請求項８に記載の静電レンズ。
【請求項１０】
温度制御可能な冷却手段を備えることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の静電レンズ。
【請求項１１】
前記高抵抗体の比抵抗値は、１０６Ωｃｍ〜１０９Ωｃｍの範囲にあることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の静電レンズ。
【請求項１２】
前記高抵抗体は、炭化珪素、窒素化合物、または、クラフトガラスのいずれかを含むことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の静電レンズ。
【請求項１３】
電子ビームを用いてパターニングを行なう電子ビーム描画装置であって、
電子源と、前記電子ビームを通過させる開口を各々有する３枚の基板を、前記電子ビームの通過方向に重ねてなり、前記３枚の基板のうち中間の基板は、前記開口の周りに配置された電極と、前記開口の内壁部に配置された、他の基板の抵抗値よりも高い抵抗値を持つ高抵抗体と、を備えた静電レンズと、を具備することを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の静電レンズを具備することを特徴とする荷電ビーム応用装置。
【請求項１５】
請求項１３に記載の電子ビーム描画装置を用いて、基板にパターニングを行なう工程と、前記基板を現像する工程と、を具備することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明の第１の静電レンズは、荷電ビームを通過させる開口を各々有する３枚の基板を、前記荷電ビームの通過方向に重ねてなる静電レンズであって、前記３枚の基板のうち中間の基板は、前記開口の周りに配置された電極と、前記開口の内壁部に配置された、他の基板の抵抗値よりも高い抵抗値を持つ高抵抗体と、を備えることを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第２の静電レンズは、第１の静電レンズにおいて、前記中間の基板は、２枚の絶縁体基板を前記荷電ビームの通過方向に積層してなるものであり、前記電極および前記電極の配線は、前記２枚の絶縁体基板の間に設けられ、前記高抵抗体は、前記開口の内壁部を覆う高抵抗体層として設けられていることを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第３の静電レンズは、第１または第２の静電レンズにおいて、前記静電レンズは、前記荷電ビームの通過方向に垂直な面内に複数の開口を備えており、前記中間の基板は、前記複数の開口の周りにそれぞれ配置された複数の電極を備え、前記複数の電極は、それぞれ独立に制御されることを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第４の静電レンズは、第１または第２に記載の静電レンズにおいて、前記静電レンズは、前記荷電ビームの通過方向に垂直な面内に複数の開口を備えており、前記複数の開口は、面心構造状に配列していることを特徴とする。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
第５の静電レンズは、第１〜第４のいずれか１項の静電レンズにおいて、前記他の基板の厚さをＴ、前記開口の径をＤとするとき、Ｔ＞０．３Ｄであることを特徴とする。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
第６の静電レンズは、第１〜第５のいずれか１項の静電レンズにおいて、前記高抵抗体の抵抗値は、前記荷電ビームの通過方向に沿って異なることを特徴とする。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第７の静電レンズは、第１〜第６のいずれか１項の静電レンズにおいて、前記高抵抗体の抵抗値の微係数は、前記荷電ビームの通過方向に沿って正であることを特徴とする。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第８の静電レンズは、第１〜第７のいずれか１項の静電レンズにおいて、前記中間の基板は、前記荷電ビームの通過方向に複数の電極を備えており、前記複数の電極には、それぞれ任意の電位が印加されることを特徴とする。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第９の静電レンズは、第８の静電レンズにおいて、前記複数の電極に印加される電圧の勾配の微係数は、前記荷電ビームの通過方向に沿って、前記静電レンズが加速レンズ系の場合は正、前記静電レンズが減速レンズ系の場合は負であることを特徴とする。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第１０の静電レンズは、第１〜第９のいずれか１項の静電レンズにおいて、温度制御可能な冷却手段を備えることを特徴とする。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
第１１の静電レンズは、第１〜第１０のいずれか１項の静電レンズにおいて、前記高抵抗体の比抵抗値は、１０６Ωｃｍ〜１０９Ωｃｍの範囲にあることを特徴とする。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
そして、第１２の静電レンズは、第１〜第１１のいずれか１項の静電レンズにおいて、前記高抵抗体は、炭化珪素、窒素化合物、または、クラフトガラスのいずれかを含むことを特徴とする。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明の電子ビーム描画装置は、電子ビームを用いてパターニングを行なう電子ビーム描画装置であって、
電子源と、前記電子ビームを通過させる開口を各々有する３枚の基板を、前記電子ビームの通過方向に重ねてなり、前記３枚の基板のうち中間の基板は、前記開口の周りに配置された電極と、前記開口の内壁部に配置された、他の基板の抵抗値よりも高い抵抗値を持つ高抵抗体と、を備えた静電レンズと、を具備することを特徴とする。


【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の荷電ビーム応用装置は、第１〜第１２のいずれか１項の静電レンズを具備することを特徴とする。


【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
そして、本発明のデバイス製造方法は、請求項１３に記載の電子ビーム描画装置を用いて、基板にパターニングを行なう工程と、前記基板を現像する工程と、を具備することを特徴とする。