【手続補正書】
【提出日】平成26年4月11日(2014.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）ｉ）２０〜８０重量パーセントのエチレン−ビニルアセテートコポリマーと
ｉｉ）２０パーセント未満のポリビニルアセテートと
ｉｉｉ）４０パーセント未満のフォトポリマーと
を含む感光性層と、
ｂ）キャリヤーシートと、
を含む、フォトレジストシート。
【請求項２】
エチレン−ビニルアセテートコポリマーとポリビニルアセテートとフォトポリマーとを含む感光性層と、
キャリヤーシートと、
を含む、フォトレジストシート。
【請求項３】
前記フォトポリマーがポリビニルアルコールフォトポリマーを含む、請求項１〜２および４〜５のいずれか一項に記載のフォトレジスト。
【請求項４】
前記シートが、アブレシブブラスティングされる基材に固定すべく構成および配置された表面を有し、かつ前記表面が、接着剤材料を実質的に含まない、請求項１〜３および５のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
【請求項５】
基材の一部の除去方法であって、
ａ）基材を提供することと、
ｂ）感光性膜を提供することと、ただし、前記感光性膜は、エチレン−ビニルアセテートコポリマーとポリビニルアセテートとフォトポリマーとを含むものとすることと、
ｃ）前記感光性膜が前記基材に有意に接着されないように、前記感光性膜を前記基材に適用することと、
ｄ）前記感光性膜が前記基材に有意に接着されるように、少なくとも３０℃の温度で前記感光性膜および前記基材を加圧することと、
ｅ）前記感光性膜の少なくとも一部に紫外光を照射することと、
ｆ）感光性材料および接着剤材料を含まない基材表面が露出されるように、水または水性溶液を用いて前記感光性膜の一部を除去することと、
ｇ）加熱および加圧の前の剥離強度の少なくとも５倍、かつ加熱および加圧の後ただし水または水性溶液を用いて前記感光性膜の一部を除去する前の剥離強度の少なくとも２倍の剥離強度で、前記感光性膜が前記基材に接着されるように、前記感光性膜を乾燥させることと、
ｇ）露出された前記基材表面のアブレシブブラスティングを行うことと、
を含む、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
本明細事項を考慮に入れて本明細書に開示されている本発明を実施すれば、本発明の他の実施形態が当業者に自明なものとなろう。本明細事項および実施例は、単に例示的なものとみなされ、本発明の全範囲および趣旨は、以下の特許請求の範囲により示されるものとする。
本明細書の開示は、以下の態様を含み得る。
［態様１］
ａ）ｉ）２０〜８０重量パーセントのエチレン−ビニルアセテートコポリマーと
ｉｉ）２０パーセント未満のポリビニルアセテートと
ｉｉｉ）４０パーセント未満のフォトポリマーと
を含む感光性層と、
ｂ）キャリヤーシートと、
を含む、フォトレジストシート。
［態様２］
エチレン−ビニルアセテートコポリマーとポリビニルアセテートとフォトポリマーとを含む感光性層と、
キャリヤーシートと、
を含む、フォトレジストシート。
［態様３］
前記エチレン−ビニルアセテートコポリマーが、前記感光性層の膜の乾燥重量を基準にしてその４０〜７０パーセントを占める、態様１、２、および４〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様４］
前記ポリビニルアセテートが、前記感光性層の膜の乾燥重量を基準にしてその５０パーセント未満を占める、態様１〜３および５〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様５］
前記フォトポリマーが、前記感光性層の膜の乾燥重量を基準にしてその３０乾燥重量パーセント未満を占める、態様１〜４および６〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様６］
前記フォトポリマーが、前記感光性層の膜の乾燥重量を基準にしてその２０乾燥重量パーセント未満を占める、態様１〜５および７〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様７］
前記フォトポリマーがポリビニルアルコールフォトポリマーを含む、態様１〜６および８〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジスト。
［態様８］
前記シートが、アブレシブブラスティングされる基材に固定すべく構成および配置された表面を有し、かつ前記表面が、接着剤材料を実質的に含まない、態様１〜７および９〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様９］
前記シートが、アブレシブブラスティングされる基材に固定すべく構成および配置された表面を有し、かつ前記表面が、感圧接着剤材料を実質的に含まない、態様１〜８および１０〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１０］
前記フォトレジストシートが水現像可能である、態様１〜９および１１〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１１］
前記フォトレジストシートが１００μｍ未満の厚さである、態様１〜１０および１２〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１２］
前記フォトレジストシートがメンブレン層を含有しない、態様１〜１１および１３〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１３］
前記フォトレジストシートが１００μｍのオープンホール解像度を有する、態様１〜１２および１４〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１４］
前記フォトレジストシートが７５μｍ未満のオープンホール解像度を有する、態様１〜１３および１５〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１５］
前記フォトレジストシートが１００μｍの実効オープンホール解像度を有する、態様１〜１４および１６〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１６］
前記フォトレジストシートが７５μｍ未満の実効オープンホール解像度を有する、態様１〜１５および１７〜１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１７］
前記フォトレジストシートが１００μｍ未満の厚さで１００μｍ未満の実効オープンホール解像度を有する、態様１〜１６および１８のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１８］
前記フォトレジストシートが７５μｍ未満の厚さで７５μｍ未満の実効オープンホール解像度を有する、態様１〜１７のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
［態様１９］
基材の一部の除去方法であって、
ａ）基材を提供することと、
ｂ）感光性膜を提供することと、ただし、前記感光性膜は、エチレン−ビニルアセテートコポリマーとポリビニルアセテートとフォトポリマーとを含むものとすることと、
ｃ）前記感光性膜が前記基材に有意に接着されないように、前記感光性膜を前記基材に適用することと、
ｄ）前記感光性膜が前記基材に有意に接着されるように、少なくとも３０℃の温度で前記感光性膜および前記基材を加圧することと、
ｅ）前記感光性膜の少なくとも一部に紫外光を照射することと、
ｆ）感光性材料および接着剤材料を含まない基材表面が露出されるように、水または水性溶液を用いて前記感光性膜の一部を除去することと、
ｇ）加熱および加圧の前の剥離強度の少なくとも５倍、かつ加熱および加圧の後ただし水または水性溶液を用いて前記感光性膜の一部を除去する前の剥離強度の少なくとも２倍の剥離強度で、前記感光性膜が前記基材に接着されるように、前記感光性膜を乾燥させることと、
ｇ）露出された前記基材表面のアブレシブブラスティングを行うことと、
を含む、方法。