(57)【要約】【課題】高分子量且つ高融点のα−オレフィン重合体を高収率で得ることができるα−オレフィン重合用触媒の成分となり得る新規遷移金属錯体を提供する。【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される構造を有する様に構成する。2004075878.tif 000014（上記一般式（Ｉ）中、Ｍは、周期律表の第３〜１０族及びランタン系列に属する元素群から選ばれる遷移金属元素を示し、Ｘは、Ｍと結合するσ結合性の配位子を示し、置換されていてもよいベンジル基を少なくとも一つ含む。Ｙは、ルイス塩基を示す。ｒ及びｍは、それぞれ独立に、０〜３の整数を示す。ｑは、［（Ｍの原子価）−１］を満たす１〜５の整数を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基を示す。）【選択図】　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表される構造を有することを特徴とする遷移金属錯体。
【化１】
2004075878.tif 000012
（上記一般式（Ｉ）中、Ｍは、周期律表の第３〜１０族及びランタン系列に属する元素群から選ばれる遷移金属元素を示し、Ｘは、Ｍと結合するσ結合性の配位子を示し、置換されていてもよいベンジル基を少なくとも一つ含む。Ｘが複数ある場合、複数のＸは互いに同じでも異なっていても良い。Ｙは、ルイス塩基を示す。Ｙが複数ある場合、複数のＹは互いに同じでも異なっていても良い。ｒ及びｍは、それぞれ独立に、０〜３の整数を示す。ｑは、［（Ｍの原子価）−１］を満たす１〜５の整数を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基を示す。ｍが２又は３の場合、複数のＲ６、Ｒ７は、互いに同じでも異なっていても良い。）
【請求項２】
Ｍが周期律表の第３〜６族に属する元素群から選ばれる遷移金属元素であることを特徴とする、請求項１記載の遷移金属錯体。
【請求項３】
Ｍが周期律表の第４族に属する遷移金属元素であることを特徴とする、請求項２記載の遷移金属錯体。
【請求項４】
ｍが０であることを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の遷移金属錯体。
【請求項５】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ５が下記式（ＩＩ）で表されることを特徴とする、請求項１〜４の何れか一項に記載の遷移金属錯体。
【化２】
2004075878.tif 000013
（上記式（ＩＩ）中、Ｒ８、Ｒ１２は、それぞれ独立に、炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基を示す。Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基を示す。）
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の遷移金属錯体を含むことを特徴とするα−オレフィン重合用触媒成分。
【請求項７】
下記の成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含むことを特徴とするα−オレフィン重合用触媒。
成分（Ａ）：請求項１〜５の何れか一項に記載の遷移金属錯体
成分（Ｂ）：アルミニウムオキシ化合物，上記成分（Ａ）と反応して上記成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物，及びルイス酸からなる群より選ばれる化合物
【請求項８】
請求項７記載の触媒をα−オレフィンと接触させて重合又は共重合を行なうことを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、イミノアルキルピロール骨格を含む配位子を有する新規な遷移金属錯体，α−オレフィン重合用触媒成分，α−オレフィン重合用触媒及びα−オレフィン重合体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
α−オレフィン重合用均一系触媒として周知の所謂カミンスキー触媒は、重合活性が高く、シャープな分子量分布の重合体を製造することができる。
【０００３】
この様なカミンスキー触媒に用いられる遷移金属化合物としては、例えばビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド（特開昭５８−０１９３０９号公報）や、エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド（特開昭６１−１３０３１４号公報）などが知られている。また、重合に用いる遷移金属化合物が異なると、α−オレフィン重合活性や得られたポリα−オレフィンの性状が大きく異なることも知られている。
【０００４】
更に、最近では新しいα−オレフィン重合触媒として、ジイミン構造の配位子を持った周期律表第８族の遷移金属化合物（国際公開特許第９６２３０１０号）が提案されている。
【０００５】
ところで、一般にポリオレフィンは機械的特性などに優れているため、各種成形体用など種々の分野に用いられているが、近年、ポリオレフィンに対する物性の要求が多様化しており、様々な性状のポリオレフィンが望まれている。特に工業的利用性の見地から、押出成形や射出成形による加工が可能な、高分子量で且つ高融点のポリオレフィンの要請が高まっている。また、ポリオレフィンの生産性の向上も望まれている。
【０００６】
この様な状況の下、α−オレフィンの重合活性に優れ、高分子量且つ高融点のα−オレフィン重合体を製造し得るα−オレフィン重合用触媒成分の出現が望まれており、また、そのようなα−オレフィン重合用触媒成分となり得る新たな遷移金属錯体化合物の出現が望まれている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、高分子量且つ高融点のα−オレフィン重合体を高収率で得ることができるα−オレフィン重合用触媒の成分となり得る新規な遷移金属錯体を提供することに存する。
【０００８】
また、本発明の他の目的は、上記の遷移金属錯体を含むα−オレフィン重合用触媒成分、上記の遷移金属錯体を成分として用いたα−オレフィン重合用触媒、及びそれを使用したα−オレフィン重合体の製造方法を提供することに存する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上述した課題について鋭意検討した結果、置換されていてもよいベンジル基を特定の遷移金属の配位子として使用したところ、イミノアルキルピロール骨格を含む配位子と特定の遷移金属と置換されていてもよいベンジル基とを含む新規な錯体化合物を見出し、この錯体化合物をα−オレフィン重合用触媒成分として使用することにより、高分子量且つ高融点のα−オレフィン重合体を高収率で得ることができることを見出し、本発明を完成した。
【００１０】
即ち、本発明の第１の要旨は、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有することを特徴とする遷移金属錯体に存する。
【００１１】
【化３】
2004075878.tif 000002
【００１２】
（上記一般式（Ｉ）中、Ｍは、周期律表の第３〜１０族及びランタン系列に属する元素群から選ばれる遷移金属元素を示し、Ｘは、Ｍと結合するσ結合性の配位子を示し、置換されていてもよいベンジル基を少なくとも一つ含む。Ｘが複数ある場合、複数のＸは互いに同じでも異なっていても良い。Ｙは、ルイス塩基を示す。Ｙが複数ある場合、複数のＹは互いに同じでも異なっていても良い。ｒ及びｍは、それぞれ独立に、０〜３の整数を示す。ｑは、［（Ｍの原子価）−１］を満たす１〜５の整数を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基を示す。ｍが２又は３の場合、複数のＲ６、Ｒ７は、互いに同じでも異なっていても良い。）
【００１３】
また、本発明の第２の要旨は、上記の遷移金属錯体を含むことを特徴とするα−オレフィン重合用触媒成分に存する。
【００１４】
更に、本発明の第３の要旨は、下記の成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含むことを特徴とするα−オレフィン重合用触媒に存する。
【００１５】
成分（Ａ）：上記の遷移金属錯体。
成分（Ｂ）：アルミニウムオキシ化合物，上記成分（Ａ）と反応して上記成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物，及びルイス酸からなる群より選ばれる化合物。
【００１６】
加えて、本発明の第４の要旨は、上記の触媒を少なくともα−オレフィンと接触させて重合又は共重合を行なうことを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法に存する。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明につき、更に詳細に説明する。
尚、本明細書では、例示置換基等を一部省略して記載する。例えば、後述の「２−、３−、４−フルオロフェニル」は、「２−フルオロフェニル」、「３−フルオロフェニル」、「４−フルオロフェニル」という３つの置換基を挙げたことを意味する。また、同じく後述の「２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ジフルオロフェニル」は、「２，　４−ジフルオロフェニル」、「３，　５−ジフルオロフェニル」、「２，　６−ジフルオロフェニル」、「２，　５−ジフルオロフェニル」という４つの置換基を挙げたことを意味する。
【００１８】
先ず、本発明の遷移金属錯体について説明する。本発明の遷移金属錯体は、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有する。
【００１９】
【化４】
2004075878.tif 000003
【００２０】
上記一般式（Ｉ）中、Ｍは、周期律表の第３〜１０族及びランタン系列に属する元素群から選ばれる遷移金属元素を示す。具体例としては、スカンジウム、イットリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、サマリウムなどが挙げられる。これらの中でも、周期律表の第３〜６族の遷移金属が好ましく、その具体例としては、スカンジウム、イットリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステン、マンガン等が挙げられる。特に、周期律表の第４族の遷移金属が好ましく、その具体例としては、チタン、ジルコニウム、ハフニウム等が挙げられる。
【００２１】
Ｘは、Ｍと結合するσ結合性配位子を示し、置換されていてもよいベンジル基を少なくとも一つ含む。本発明の特徴の一つは、Ｘとして、置換されていてもよいベンジル基を少なくとも一つ用いることにある。該置換基としては、遷移金属錯体の形成及びα−オレフィンの重合を妨げない限り特に限定されないが、通常、置換されていても良いベンジル基としては、無置換のベンジル基を用いる。
【００２２】
Ｍと結合するσ結合性配位子の具体例としては、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基、アミノ基、炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基等が挙げられる。Ｘが複数ある場合、複数のＸは互いに同じでも異なっていてもよい。
【００２３】
上記のハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
【００２４】
上記の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル等のアルキル基、ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル等のアルケニル基、ベンジル、２−、３−、４−メチルベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル等のアリールアルキル基、ｔｒａｎｓ−スチリル等のアリールアルケニル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチル、フェナントリル、アントリル等のアリール基などが挙げられる。
【００２５】
ハロゲン化炭化水素基は、上に例示したハロゲン原子が、同じく上に例示した炭化水素基の任意の位置に結合した置換基である。上記の炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基の具体例としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、２，　２，　２−トリフルオロエチル、２，　２，　１，　１−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、トリフルオロビニル、１，　１−ジフルオロベンジル、２−、３−、４−クロロベンジル、２−、３−、４−フルオロベンジル、２−、３−、４−トリフルオロメチルベンジル、１，　１，　２，　２−テトラフルオロフェニルエチル、２−、３−、４−フルオロフェニル、２−、３−、４−クロロフェニル、２−、３−、４−ブロモフェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ジフルオロフェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ジクロロフェニル、２，　４，　６−トリフルオロフェニル、２，　４，　６−トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロナフチル、４−クロロナフチル、２，　４−ジフルオロナフチル、ヘプタフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ−１−ナフチル、２−、３−、４−トリフルオロメチルフェニル、２−、３−、４−トリクロロメチルフェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ビス（トリクロロメチル）フェニル、２，　４，　６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル、４−トリフルオロメチルナフチル、４−トリクロロメチルナフチル、２，　４−ビス（トリフルオロメチル）ナフチル基などが挙げられる。
【００２６】
上記の炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基の具体例としては、トリメチルシリルメチル、トリエチルシリルメチル等のトリアルキルシリルメチル基、２−、３−、４−トリメチルシリルベンジル等のトリアルキルシリルベンジル基、ジメチルフェニルシリルメチル、ジエチルフェニルシリルメチル、ジメチルトリルシリルメチル等のジ（アルキル）（アリール）シリルメチル基などが挙げられる。
【００２７】
上記の炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、シクロプロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、ナフトキシ等のアリロキシ基、フェニルメトキシ、ナフチルメトキシ等のアリールアルコキシ基、２−、３−、４−メトキシベンジル等のアルコキシベンジル基、フリル基などの酸素含有複素環基などが挙げられる。
【００２８】
上記の炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基の具体例としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ等のアルキルアミノ基、２−、３−、４−ジエチルアミノベンジル、２−、３−、４−ジメチルアミノベンジル等の窒素含有炭化水素基置換ベンジル基、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ等のアリールアミノ基、（メチル）（フェニル）アミノ等の（アルキル）（アリール）アミノ基、ピラゾリル、インドリル等の窒素含有複素環基などが挙げられる。
【００２９】
上記例示の中でも、Ｍと結合するσ結合性配位子としては、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基が好ましく、炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基が更に好ましい。
炭化水素基、酸素含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基の炭素数は通常１〜２０であるが、１〜１５が好ましく、１〜１１がより好ましい。中でも、無置換ベンジル基、置換（炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基）ベンジル基、無置換フェノキシ基、又は置換（炭化水素基）フェノキシ基が特に好ましく、その具体例としては、ベンジル基、２−、３−、４−メチルベンジル基、２−、３−、４−クロロベンジル基、２−、３−、４−フルオロベンジル基、２−、３−、４−トリフルオロメチルベンジル基、２−、３−、４−トリメチルシリルベンジル基、２−、３−、４−メトキシベンジル基、２−、３−、４−ジエチルアミノベンジル基、２−、３−、４−ジメチルアミノベンジル基、フェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基が挙げられる。
【００３０】
ｑは［（Ｍの原子価）−１］を満たす１〜５の整数を示す。中でも１〜４が好ましく、特に３が好ましい。
【００３１】
Ｙは、ルイス塩基を示す。本発明の遷移金属錯体を得る上でルイス塩基を溶媒として用いた場合、該溶媒に由来することがある。Ｙの好ましい具体例としては、エーテル、アルコール、アミン、エステル、アルケン、アルキン、アレーンなどが挙げられ、これらの炭素数は、通常１〜２０、好ましくは１〜１０である。Ｙが複数ある場合、複数のＹは互いに同じでも異なっていてもよい。
【００３２】
ｒは０〜３の整数を示す。中でも０又は１が好ましく、特に０が好ましい。
【００３３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基、又は炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を各々示す。
【００３４】
上記の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル等のアルキル基、ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル等のアルケニル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル等のアリールアルキル基、ｔｒａｎｓ−スチリル等のアリールアルケニル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチル、フェナントリル、アントリル等のアリール基などが挙げられる。
【００３５】
上記の炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基の具体例としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、２，　２，　２−トリフルオロエチル、２，　２，　１，　１−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、トリフルオロビニル、１，１−ジフルオロベンジル、１，１，２，２−テトラフルオロフェニルエチル、２−、３−、４−フルオロフェニル、２−、３−、４−クロロフェニル、２−、３−、４−ブロモフェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ジフルオロフェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ジクロロフェニル、２，　４，　６−トリフルオロフェニル、２，　４，　６−トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロナフチル、４−クロロナフチル、２，４−ジフルオロナフチル、ヘプタフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ−１−ナフチル、２−、３−、４−トリフルオロメチルフェニル、２−、３−、４−トリクロロメチルフェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ビス（トリクロロメチル）フェニル、２，　４，　６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル、４−トリフルオロメチルナフチル、４−トリクロロメチルナフチル、２，４−ビス（トリフルオロメチル）ナフチル基などが挙げられる。
【００３６】
上記の炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基の具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等のトリアルキルシリル基、トリメチルシリルメチル、トリエチルシリルメチル等のトリアルキルシリルメチル基、ジメチルフェニルシリルメチル、ジエチルフェニルシリルメチル、ジメチルトリルシリルメチル等のジ（アルキル）（アリール）シリルメチル基などが挙げられる。
【００３７】
上記の炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、シクロプロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシ等のアリロキシ基、メトキシフェニル、メトキシナフチル等のアルコキシアリール基、フリル基などの酸素含有複素環基などが挙げられる。
【００３８】
上記の炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基の具体例としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ等のアルキルアミノ基、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ等のアリールアミノ基、（メチル）（フェニル）アミノ等の（アルキル）（アリール）アミノ基、ピラゾリル、インドリル等の窒素含有複素環基などが挙げられる。
【００３９】
上記例示の中でも、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７としては、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基が好ましい。炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、酸素含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基の炭素数は通常１〜２０であるが、１〜１５が好ましく、１〜１１がより好ましい。具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、フェニル基、ベンジル基、トリメチルシリル基、メトキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基が挙げられる。
【００４０】
また、Ｒ５としては、下記式（ＩＩ）で表される構造を有する基が好ましい。
【化５】
2004075878.tif 000004
【００４１】
上記式（ＩＩ）において、Ｒ８及びＲ１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基、又は炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を示す。
【００４２】
上記の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル等のアルキル基、ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル等のアルケニル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル等のアリールアルキル基、ｔｒａｎｓ−スチリル等のアリールアルケニル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチル、フェナントリル、アントリル等のアリール基などが挙げられる。
【００４３】
上記の炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基の具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等のトリアルキルシリル基、トリメチルシリルメチル、トリエチルシリルメチル等のトリアルキルシリルメチル基、ジメチルフェニルシリルメチル、ジエチルフェニルシリルメチル、ジメチルトリルシリルメチル等のジ（アルキル）（アリール）シリルメチル基などが挙げられる。
【００４４】
上記の炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基の具体例としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、２，　２，　２−トリフルオロエチル、２，　２，　１，　１−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、トリフルオロビニル、１，１−ジフルオロベンジル、１，１，２，２−テトラフルオロフェニルエチル、２−、３−、４−フルオロフェニル、２−、３−、４−クロロフェニル、２−、３−、４−ブロモフェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ジフルオロフェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ジクロロフェニル、２，　４，　６−トリフルオロフェニル、２，　４，　６−トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロナフチル、４−クロロナフチル、２，４−ジフルオロナフチル、ヘプタフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ−１−ナフチル、２−、３−、４−トリフルオロメチルフェニル、２−、３−、４−トリクロロメチルフェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル、２，　４−、３，　５−、２，　６−、２，　５−ビス（トリクロロメチル）フェニル、２，　４，　６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル、４−トリフルオロメチルナフチル、４−トリクロロメチルナフチル、２，４−ビス（トリフルオロメチル）ナフチル基などが挙げられる。
【００４５】
上記の炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、シクロプロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシ等のアリロキシ基、メトキシフェニル、メトキシナフチル等のアルコキシアリール基、フリル基などの酸素含有複素環基などが挙げられる。
【００４６】
上記の炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基の具体例としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ等のアルキルアミノ基、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ等のアリールアミノ基、（メチル）（フェニル）アミノ等の（アルキル）（アリール）アミノ基、ピラゾリル、インドリル等の窒素含有複素環基などが挙げられる。
【００４７】
上記例示の中でも、Ｒ８及びＲ１２としては、それぞれ独立に、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基が好ましい。炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基の炭素数は通常１〜２０であるが、１〜１５が好ましく、１〜１１がより好ましい。具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、メトキシ基、ジエチルアミノ基、ジメチルアミノ基が挙げられる。
【００４８】
一方、上記式（ＩＩ）において、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基、１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基、又は炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基を示す。
【００４９】
上記の炭素数１〜２０の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル等のアルキル基、ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル等のアルケニル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル等のアリールアルキル基、ｔｒａｎｓ−スチリル等のアリールアルケニル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アセナフチル、フェナントリル、アントリル等のアリール基などが挙げられる。
【００５０】
上記の炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基の具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等のトリアルキルシリル基、トリメチルシリルメチル、トリエチルシリルメチル等のトリアルキルシリルメチル基、ジメチルフェニルシリルメチル、ジエチルフェニルシリルメチル、ジメチルトリルシリルメチル等のジ（アルキル）（アリール）シリルメチル基などが挙げられる。
【００５１】
上記の炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基の具体例としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，１，１−テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、トリフルオロビニル、１，１−ジフルオロベンジル、１，１，２，２−テトラフルオロフェニルエチル、２−、３−、４−フルオロフェニル、２−、３−、４−クロロフェニル、２−、３−、４−ブロモフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ジフルオロフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ジクロロフェニル、２，４，６−トリフルオロフェニル、２，４，６−トリクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、４−フルオロナフチル、４−クロロナフチル、２，４−ジフルオロナフチル、ヘプタフルオロ−１−ナフチル、ヘプタクロロ−１−ナフチル、２−、３−、４−トリフルオロメチルフェニル、２−、３−、４−トリクロロメチルフェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル、２，４−、３，５−、２，６−、２，５−ビス（トリクロロメチル）フェニル、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）フェニル、４−トリフルオロメチルナフチル、４−トリクロロメチルナフチル、２，４−ビス（トリフルオロメチル）ナフチル基などが挙げられる。
【００５２】
上記の炭素数１〜２０の酸素含有炭化水素基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、シクロプロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシ等のアリロキシ基、メトキシフェニル、メトキシナフチル等のアルコキシアリール基、フリル基などの酸素含有複素環基などが挙げられる。
【００５３】
上記の炭素数１〜２０の窒素含有炭化水素基の具体例としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ等のアルキルアミノ基、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ等のアリールアミノ基、（メチル）（フェニル）アミノ等の（アルキル）（アリール）アミノ基、ピラゾリル、インドリル等の窒素含有複素環基などが挙げられる。
【００５４】
上記例示の中でも、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１としては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、又は窒素含有炭化水素基が好ましい。炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基の炭素数は通常１〜２０であるが、１〜１５が好ましく、１〜１１がより好ましい。具体例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、４−クロロフェニル基、メトキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、ジエチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ピラリゾル基が挙げられる。
【００５５】
ｍは０〜３の整数を示す。中でも０又は１が好ましく、特に０が好ましい。
【００５６】
本発明の遷移金属錯体の具体例を下記表−１に示す。
【表１】
2004075878.tif 000005
【００５７】
また、本発明の遷移金属錯体の構造の理解のため、上記表−１記載のチタニウムトリクロリド化合物の構造式を下に示す。
【００５８】
【化６】
2004075878.tif 000006
【００５９】
本発明の遷移金属錯体の製造方法に特に制限はないが、通常、下記一般式（ＩＩＩ）で示される２−イミノアルキルピロールを、目的とする金属の前駆体と、モル比が１：１になる様に反応させることにより製造することができる。なお、下記一般式（ＩＩＩ）において、上記一般式（Ｉ）と同一の符号は同様の定義を表わす。
【００６０】
【化７】
2004075878.tif 000007
【００６１】
上記一般式（ＩＩＩ）で示される２−イミノアルキルピロールと金属前駆体との反応によって製造する方法において用いられる金属前駆体は、金属の種類によって異なるが、通常は少なくとも１つの金属−アルキル結合を有する金属化合物であって、アルカンを発生させながら目的の錯体を生成することができる。金属前駆体の具体例としては、Ａｌ（ベンジル）３、Ｙ（ベンジル）３，Ｚｒ（ベンジル）４、Ｈｆ（ベンジル）４、Ｔｉ（ベンジル）４等が挙げられる。
【００６２】
更に、これらの方法で得られた上記一般式（Ｉ）の遷移金属錯体中の少なくとも１つのＸを他の基に変換することによって目的の錯体を得る方法も、本発明の遷移金属錯体の製造法として有用である。例えば、一般にＸ＝（ベンジル基）の金属錯体は、置換又は無置換のフェノール基で処理することにより、それらの少なくとも一部がＸ＝（置換又は無置換のフェノキシ基）の金属錯体に変換される。
【００６３】
本発明の遷移金属錯体の用途は特に限定されないが、これを単独又は他の化合物との組み合わせにより触媒成分として用いたα−オレフィン重合用触媒は、高分子量且つ高融点のα−オレフィン重合体を高収率で得ることができるので、α−オレフィン重合用触媒の触媒成分としての用途にとりわけ優れている。
【００６４】
次に、本発明に係るα−オレフィン重合用触媒（以下、適宜「本発明の触媒」と略称する。）について説明する。本発明の触媒は、前述した本発明の遷移金属錯体を成分（Ａ）として含むとともに、更に成分（Ｂ）として、アルミニウムオキシ化合物，上記成分（Ａ）と反応して上記成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物，及びルイス酸からなる群より選ばれる化合物を含む。なお、上記のルイス酸のある種のものは、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物として把握することもできる。
従って、上記のルイス酸及びイオン性化合物の両者に属する化合物は、何れか一方に属するものとする。
【００６５】
上記のアルミニウムオキシ化合物としては、具体的には次の一般式（Ｖ）、（ＶＩ）又は（ＶＩＩ）で表される化合物が挙げられる。
【００６６】
【化８】
2004075878.tif 000008
【００６７】
【化９】
2004075878.tif 000009
【００６８】
【化１０】
2004075878.tif 000010
【００６９】
上記の各一般式中、Ｒ１３は、水素原子又は炭化水素残基、好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６の炭化水素残基を示す。また、複数のＲ１３はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、ｐは０〜４０、好ましくは２〜３０の整数を示す。
【００７０】
一般式（Ｖ）及び（ＶＩ）で表される化合物は、アルモキサンとも呼ばれる化合物であって、一種類のトリアルキルアルミニウム又は二種類以上のトリアルキルアルミニウムと水との反応により得られる。具体的には、（ａ）一種類のトリアルキルアルミニウムと水から得られる、メチルアルモキサン、エチルアルモキサン、プロピルアルモキサン、ブチルアルモキサン、イソブチルアルモキサン、（ｂ）二種類のトリアルキルアルミニウムと水から得られる、メチルエチルアルモキサン、メチルブチルアルモキサン、メチルイソブチルアルモキサン等が例示される。これらの中では、メチルアルモキサン又はメチルイソブチルアルモキサンが好ましい。
【００７１】
上記のアルモキサンは、各群内及び各群間で複数種併用することも可能である。そして、上記のアルモキサンは、公知の様々な条件下に調製することができる。具体的には以下の様な方法が例示できる。
【００７２】
（ａ）トルエン、ベンゼン、エーテル等の適当な有機溶剤の存在下、トリアルキルアルミニウムを直接水と反応させる方法。
【００７３】
（ｂ）トリアルキルアルミニウムと結晶水を有する塩水和物、例えば、硫酸銅、硫酸アルミニウムの水和物とを反応させる方法。
【００７４】
（ｃ）トリアルキルアルミニウムとシリカゲル等に含浸させた水分とを反応させる方法。
【００７５】
（ｄ）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムとを混合した後、トルエン、ベンゼン、エーテル等の適当な有機溶剤の存在下、直接水と反応させる方法。
【００７６】
（ｅ）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムとの混合物と結晶水を有する塩水和物、例えば、硫酸銅、硫酸アルミニウムとの水和物とを加熱反応させる方法。
【００７７】
（ｆ）シリカゲル等に水分を含浸させ、トリイソブチルアルミニウムで処理した後、トリメチルアルミニウムで追加処理する方法。
【００７８】
（ｇ）メチルアルモキサン及びイソブチルアルモキサンを公知の方法で合成し、これら二成分を所定量混合して加熱反応させる方法。
【００７９】
（ｈ）ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒中に硫酸銅５水塩などの結晶水を有する塩とトリメチルアルミニウムとを添加して約−４０〜４０℃の温度条件下に反応させる方法。
【００８０】
反応に使用する水の量は、トリメチルアルミニウムに対するモル比で通常０．５〜１．５である。上記の方法で得られたメチルアルモキサンは、線状又は環状の有機アルミニウムの重合体である。
【００８１】
一方、上記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物は、一種類又は二種類以上のトリアルキルアルミニウムと、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるアルキルボロン酸との１０：１〜１：１（モル比）の反応により得ることができる。なお、下記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ１４は、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６の炭化水素残基又はハロゲン化炭化水素基を示す。
【００８２】
Ｒ１４Ｂ（ＯＨ）２　．．．一般式（ＶＩＩＩ）
【００８３】
上記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物として、具体的には以下の様な反応生成物が例示できる。
【００８４】
（ａ）トリメチルアルミニウムとメチルボロン酸の２：１の反応物
（ｂ）トリイソブチルアルミニウムとメチルボロン酸の２：１反応物
（ｃ）トリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムとメチルボロン酸の１：１：１反応物
（ｄ）トリメチルアルミニウムとエチルボロン酸の２：１反応物
（ｅ）トリエチルアルミニウムとブチルボロン酸の２：１反応物
【００８５】
また、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物としては、下記一般式（ＩＸ）で表される化合物が挙げられる。
【００８６】
〔Ｋ〕ｅ＋〔Ｚ〕ｅ−　．．．一般式（ＩＸ）
【００８７】
上記一般式（ＩＸ）中、Ｋはカチオン成分であって、例えば、カルボニウムカチオン、トロピリウムカチオン、アンモニウムカチオン、オキソニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスフォニウムカチオン等が挙げられる。また、それ自身が還元され易い金属の陽イオンや有機金属の陽イオン等も挙げられる。
【００８８】
上記のカチオンの具体例としては、トリフェニルカルボニウム、ジフェニルカルボニウム、シクロヘプタトリエニウム、インデニウム、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、Ｎ，　Ｎ−ジメチルアニリニウム、ジプロピルアンモニウム、ジシクロヘキシルアンモニウム、トリフェニルホスホニウム、トリメチルホスホニウム、トリス（ジメチルフェニル）ホスホニウム、トリス（メチルフェニル）ホスホニウム、トリフェニルスルホニウム、トリフェニルオキソニウム、トリエチルオキソニウム、ピリリウム、銀イオン、金イオン、白金イオン、銅イオン、パラジウムイオン、水銀イオン、フェロセニウムイオン等が挙げられる。
【００８９】
上記一般式（ＩＸ）中、Ｚは、アニオン成分であり、成分（Ａ）が変換されたカチオン種に対して対アニオンとなる成分（一般には非配位の成分）である。Ｚとしては、例えば、有機ホウ素化合物アニオン、有機アルミニウム化合物アニオン、有機ガリウム化合物アニオン、有機リン化合物アニオン、有機ヒ素化合物アニオン、有機アンチモン化合物アニオン等が挙げられ、具体的には次のアニオンが挙げられる。
【００９０】
（ａ）テトラフェニルホウ素、テトラキス（３，　４，　５−トリフルオロフェニル）ホウ素、テトラキス｛３，　５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ホウ素、テトラキス｛３，　５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル｝ホウ素、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素など
【００９１】
（ｂ）テトラフェニルアルミニウム、テトラキス（３，　４，　５−トリフルオロフェニル）アルミニウム、テトラキス｛３，　５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝アルミニウム、テトラキス｛３，　５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル｝アルミニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミニウム等
【００９２】
（ｃ）テトラフェニルガリウム、テトラキス（３，　４，　５−トリフルオロフェニル）ガリウム、テトラキス｛３，　５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝ガリウム、テトラキス｛３，　５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル｝ガリウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ガリウム等
【００９３】
（ｄ）テトラフェニルリン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）リン等
【００９４】
（ｅ）テトラフェニルヒ素、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ヒ素など
【００９５】
（ｆ）テトラフェニルアンチモン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）アンチモン等
【００９６】
（ｇ）デカボレート、ウンデカボレート、カルバドデカボレート、デカクロロデカボレート等
【００９７】
また、ルイス酸、特に成分（Ａ）をカチオンに変換可能なルイス酸としては、種々の有機ホウ素化合物、金属ハロゲン化合物、固体酸などが例示され、その具体的例としては次の化合物が挙げられる。
【００９８】
（ａ）トリフェニルホウ素、トリス（３，　５−ジフルオロフェニル）ホウ素、トリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素等の有機ホウ素化合物
【００９９】
（ｂ）塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化臭化マグネシウム、塩化ヨウ化マグネシウム、臭化ヨウ化マグネシウム、塩化マグネシウムハイドライド、塩化マグネシウムハイドロオキシド、臭化マグネシウムハイドロオキシド、塩化マグネシウムアルコキシド、臭化マグネシウムアルコキシド等の金属ハロゲン化合物
【０１００】
本発明の触媒では、上述のアルミニウムオキシ化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物、及びルイス酸は、成分（Ｂ）として、それぞれ単独使用される他、２種以上を任意に組み合わせて適宜使用することができる。また、上記の低級アルキルアルミニウム、ハロゲン含有アルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムヒドリド、アルコキシ含有アルキルアルミニウム、アリールオキシ含有アルキルアルミニウムの１種又は２種以上は、任意成分ではあるが、上述のアルミニウムオキシ化合物、イオン性化合物及び／又はルイス酸と併用して本発明の触媒中に含有させるのが好ましい。
【０１０１】
本発明の触媒は、重合槽の内外において、重合させるべきモノマーの存在下又は不存在下、上記の成分（Ａ）及び（Ｂ）を接触させることにより調製することができる。すなわち、成分（Ａ）及び（Ｂ）を予め接触させた後に重合槽に導入してもよい。
【０１０２】
上記の各成分の接触は、窒素などの不活性ガス中、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素溶媒中で行ってもよい。接触温度は、−２０℃から溶媒の沸点の範囲の温度、特に、室温から溶媒の沸点の範囲の温度が好ましい。この様にして調製された触媒は、調製後に洗浄せずに使用してもよく、また、洗浄した後に使用してもよい。更には、調製後に必要に応じて新たに成分を組み合わせて使用してもよい。
【０１０３】
成分（Ａ）及び（Ｂ）の使用量は任意である。例えば、溶媒重合の場合、成分（Ａ）の使用量は、遷移金属原子として、通常１０−７〜１０２ｍｍｏｌ／Ｌ、好ましくは１０−４〜１ｍｍｏｌ／Ｌの範囲とされる。アルミニウムオキシ化合物の場合、Ａｌ／遷移金属のモル比は、通常１０〜１０５、好ましくは１００〜２×１０４、更に好ましくは１００〜１０４の範囲とされる。一方、成分（Ｂ）としてイオン性化合物又はルイス酸を使用した場合、遷移金属に対するこれらのモル比は、通常０．１〜１０００、好ましくは０．５〜１００、更に好ましくは１〜５０の範囲とされる。
【０１０４】
本発明の触媒は、１種又は２種以上のα−オレフィンを重合又は共重合させてα−オレフィン重合体又はα−オレフィン共重合体（以下、適宜「α−オレフィン重合体」と略称する。）を製造する際に、高分子量且つ高融点のα−オレフィン重合体を高収率で得ることができる触媒として極めて好適に使用できる。
【０１０５】
続いて、本発明に係るα−オレフィン重合体の製造方法（以下、適宜「本発明の製造方法」と略称する。）について説明する。本発明の製造方法は、上述の本発明の触媒をα−オレフィンと接触させて重合を行なうものである。
【０１０６】
原料のα−オレフィンとしては特に制限は無いが、特に炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０のα−オレフィンが使用される。具体例としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン等が挙げられる。
【０１０７】
また、本発明の触媒は、上記例示のうち二種以上のα−オレフィン同志の共重合、又は、上記例示のうち一種若しくは二種以上のα−オレフィンと一種若しくは二種以上の他の単量体との共重合にも適用可能である。後者の場合、α−オレフィンと共重合可能な他の単量体としては、例えば、ブタジエン、１，　４−ヘキサジエン、１，　５−ヘキサジエン、７−メチル−１，　６−オクタジエン、１，　８−ノナジエン、１，　９−デカジエンの様な共役及び非共役ジエン類、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエンの様な環状オレフィンが挙げられる。
【０１０８】
重合／共重合反応の形態としては特に制限は無く、溶媒を利用する溶液重合、実質的に溶媒を使用せずに原料のα−オレフィン（α−オレフィンと他のオレフィンとの共重合の場合は、原料のα−オレフィン及び／又は他のオレフィン）自体を液相として行なう液相無溶媒重合、気相重合、溶融重合の何れの形態でも行なうことができる。また、反応形式としても特に制限は無く、回分式、連続式の何れの形式も採用できる。
【０１０９】
反応条件は、通常−１００℃以上、好ましくは−８０℃以上、また、通常１５０℃以下、好ましくは１００℃以下である。反応圧力は、通常常圧以上であり、また、通常１０ＭＰａ以下、好ましくは６ＭＰａ以下である。
【０１１０】
反応により得られるα−オレフィン重合体／共重合体は、通常１，０００≦Ｍｗ≦１００万の範囲内の分子量、及び、通常１≦Ｍｗ／Ｍｎ≦２００の範囲内の分子量分布を有し、均一でばらつきの少ない高分子量の分子となる。更に、通常３０〜２００℃の範囲内という、高い沸点を示す。
【０１１１】
【実施例】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【０１１２】
なお、以下の諸実施例（遷移金属錯体の合成工程（実施例群Ｉ）及びそれを用いた触媒によるエチレン重合工程（実施例群ＩＩ））は全て精製窒素雰囲気下で行ない、溶媒は、ＭＳ−４Ａで脱水した後に精製窒素でバブリングして脱気して使用した。
【０１１３】
また、以下の実施例における融点の測定は、ＤＳＣ（デュポン社製「ＴＡ２０００型」）を使用し、１０℃／分で２０〜２００℃までの昇降温を１回行なった後、２回目の昇温時の測定により求めた。
【０１１４】
・実施例群Ｉ　遷移金属錯体の合成
［配位子の合成例］
５−メチル−２−｛Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミノメチル｝ピロールの合成：
【０１１５】
フラスコに２−ホルミル−５−メチルピロール（１．４１６ｇ，１３．０ｍｍｏｌ）と２，６−ジイソプロピルアニリン（２．３３１ｇ，１３．１ｍｍｏｌ）を入れ、室温でメタノール（１０ｍＬ）に溶かし、その後数滴の酢酸を系中に加えたところ、溶液の色は暗い褐色に変わった。反応混合物を２時間還流した後、冷却、乾固した。得られた黒褐色のオイルにメタノール（２０ｍＬ）を加えることにより、白沈が生じた。それを濾別し、得られた黄褐色濾液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。その後、ヘキサンで再結晶化することにより、表題化合物を茶色の結晶として得た（１．９２４ｇ、７．１７ｍｍｏｌ、収率５５％）。
【０１１６】
Ｍｐ：　１２２〜１２３℃．　　１Ｈ−ＮＭＲ　（３００　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３０８　Ｋ）：　δ　１．２５　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．９　Ｈｚ，　１２Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　１．７２　（ｓ，　３Ｈ，　ＣＨ３），　３．３０　（ｓｅｐ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．９　Ｈｚ，　２Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　５．９１　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　３．６　Ｈｚ，　１Ｈ，　ｐｙｒｒｏｌｅ　ｒｉｎｇ），　６．４２　（ｄ，　　３ＪＨ−Ｈ　＝　３．６　Ｈｚ，　１Ｈ，　ｐｙｒｒｏｌｅ　ｒｉｎｇ），　７．１５〜７．２６　（ｍ，　３Ｈ，　Ｐｈ），　７．８０　（ｓ，　１Ｈ，　Ｎ＝ＣＨ），　８．９　（ｂｒ，　１Ｈ，　ＮＨ）．　　Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ１３Ｈ１４Ｎ２：　Ｃ，　８０．５５；　Ｈ，　９．０１；　Ｎ，　１０．４４．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　８０．５３；　Ｈ，　８．９５；　Ｎ，　１０．４９．
【０１１７】
［実施例Ｉ−１］
［２−｛Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）イミノメチル｝ピロリル］（トリベンジル）ジルコニウム〔（ＸＹＬ−ｐｙｒ）Ｚｒ（ＣＨ２Ｐｈ）３〕（表１のＮｏ．２）の合成：
【０１１８】
（テトラベンジル）ジルコニウム〔Ｚｒ（ＣＨ２Ｐｈ）４〕２３２ｍｇ（０．５１０ｍｍｏｌ）をシュレンクに入れ、室温でトルエン１０ｍＬに溶かした。その溶液を−７８℃まで冷やし、それに配位子として２−｛Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）イミノメチル｝ピロール１０５ｍｇ（０．５３０ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温まで上げた後、昼夜撹拌を行った。その際、溶液の色は赤褐色に変わった。不溶物を遠心分離で取り除いた後、乾固した。得られた赤褐色のオイルに少量のヘキサンを加えた後、真空で乾燥することにより、表題の遷移金属錯体（表１のＮｏ．２の遷移金属錯体）を赤褐色の粉末として得た（２３５ｍｇ、０．４１８ｍｍｏｌ、収率８２％）。
【０１１９】
Ｍｐ：　６５〜７８℃　（ｄｅｃ．）．　　１Ｈ−ＮＭＲ　（３００　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３５　℃）　：　δ　１．８７　（ｓ，　６Ｈ，　ＣＨ３），　２．１３　（ｓ，　６Ｈ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　６．３１　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　１．９　Ｈｚ　ａｎｄ　３．６　Ｈｚ，　１Ｈ，　４−ｐｙｒ），　６．６１　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　７．１　Ｈｚ，　６Ｈ，　ｏ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　６．６８　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　３．６Ｈｚ，　４ＪＨ−Ｈ　＝　０．８　Ｈｚ，　１Ｈ，　３−ｐｙｒ），　６．９４　（ｔ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　７．４　Ｈｚ，　　３Ｈ，　ｐ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　７．０６　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　１．９　Ｈｚ，　４ＪＨ−Ｈ　＝　０．８　Ｈｚ，　１Ｈ，　５−ｐｙｒ），　７．０〜７．２　（ｍ，　ａｒｏｍａｔｉｃ　ｐｒｏｔｏｎｓ　ａｎｄ　Ｎ＝ＣＨ）．　　１３Ｃ−ＮＭＲ　（７５　ＭＨｚ，　Ｃ６．Ｄ６，　３５　℃）　：　δ　１８．６　（ｑ，　１ＪＣ−Ｈ　＝　１２４　Ｈｚ，　ＣＨ３），　７６．７　（ｔ，　１ＪＣ−Ｈ　＝　１２８　Ｈｚ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　１１４．３，　１２２．０，　１２３．６，　１２６．３，　１２８．６，　１２９．９，　１３０．１，　１３１．３，　１３９．０，　１４１．４，　１４１．４，　１５０．９，　１６４．９　（ｄ，　１ＪＣ−Ｈ　＝　１６７　Ｈｚ，　Ｎ＝ＣＨ）．　　Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ３４Ｈ３４Ｎ２Ｚｒ１：　Ｃ，　７２．６８；　Ｈ，　６．１０；　Ｎ，　４．９９．　　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６７．３２；　Ｈ，　５．８４；　Ｎ，　６．０２．
【０１２０】
［実施例Ｉ−２］
［２−｛Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミノメチル｝ピロリル］（トリベンジル）ジルコニウム〔（ＤＩＰ−ｐｙｒ）Ｚｒ（ＣＨ２Ｐｈ）３〕（表１のＮｏ．５）の合成：
【０１２１】
配位子として２−｛Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミノメチル｝ピロールを用いた以外は実施例Ｉ−１と同様の方法で、表題の遷移金属錯体（表１のＮｏ．５の遷移金属錯体）を黄色の粉末として得た（５１５ｍｇ、０．８３４ｍｍｏｌ、収率９６％）。
【０１２２】
Ｍｐ：　８３〜９２℃．　　１Ｈ−ＮＭＲ　（３００　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３５℃）　：　δ　１．０２　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．６　Ｈｚ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　１．１８　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．９　Ｈｚ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　２．１８　（ｓ，　６Ｈ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　２．８４　（ｓｅｐ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．８　Ｈｚ，　２Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　６．３０　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　１．９　Ｈｚ　ａｎｄ　３．６　Ｈｚ，　１Ｈ，　４−ｐｙｒ），　６．６１　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　７．１　Ｈｚ，　６Ｈ，　ｏ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　６．６９　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　３．６　Ｈｚ，　４ＪＨ−Ｈ　＝　１．１　Ｈｚ，　１Ｈ，　３−ｐｙｒ），　６．９４　（ｔ，　３ＪＨ−Ｈ　＝７．２　Ｈｚ，　３Ｈ，　ｐ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　７．０７　（ｍ，　１Ｈ，　５−ｐｙｒ），　７．１〜７．２　（ｍ，　ａｒｏｍａｔｉｃ　ｐｒｏｔｏｎｓ），　７．６８　（ｄ，　ＪＨ−Ｈ　＝　０．８　Ｈｚ，　１Ｈ，　ＮＣ＝Ｈ）．　　１３Ｃ−ＮＭＲ　（７５　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３５℃）　：　δ　２２．９　（ｑ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１２１　Ｈｚ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　２５．７　（ｑ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１２７　Ｈｚ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　２８．９　（ｄ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１３１　Ｈｚ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　７６．９　（ｔ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１３１　Ｈｚ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　１１４．５　（ｄ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１６６　Ｈｚ，　４−ｐｙｒ），　１２１．９　（ｄ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１５８　Ｈｚ，　３−ｐｙｒ），　１２３．６　（ｄ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１６１　Ｈｚ，　ｐ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　１２４．０，　１２７．３，　１２９．３，　１２９．８，　１３０．０，　１３８．５，　１４１．４，　１４１．９，　１４８．５，　１６４．６　（ｄ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１６７　Ｈｚ，　Ｎ＝ＣＨ）．Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ３８Ｈ４２Ｎ２Ｚｒ１：　Ｃ，　７３．８６；　Ｈ，　６．８５；　Ｎ，　４．５３．　　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　７３．３７；　Ｈ，　６．９１；　Ｎ，　４．２６．
【０１２３】
［実施例Ｉ−３］
［５−メチル−２−｛Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミノメチル｝ピロリル］（トリベンジル）ジルコニウム〔（Ｍｅ−ＤＩＰ−ｐｙｒ）Ｚｒ（ＣＨ２Ｐｈ）３〕（表１のＮｏ．３２）の合成：
【０１２４】
（テトラベンジル）ジルコニウム〔Ｚｒ（ＣＨ２Ｐｈ）４〕１６５ｍｇ（０．３６２ｍｍｏｌ）をシュレンクに入れ、室温でトルエン２０ｍＬに溶かした。その溶液を−７８℃まで冷やし、そこに配位子として上述の５−メチル−２−｛Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミノメチル｝ピロール９７ｍｇ（０．３６２ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温まで戻し、３時間撹拌をした後、乾固した。得られた黄色のオイルに少量のヘキサンを加えた後、乾燥させることにより表題の遷移金属錯体（表１のＮｏ．３２の遷移金属錯体）を黄色の粉末として得た（２１０ｍｇ、０．３３９ｍｍｏｌ、収率９４％）。
【０１２５】
Ｍｐ：　６５〜７４℃　（ｄｅｃ．）．　　１Ｈ−ＮＭＲ　（３００　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３５℃）　：　δ　０．８８　（ｄ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　１．０６　（ｄ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　２．３２　（ｓ，　６Ｈ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　２．３２　（ｓ，　３Ｈ，　ｐｙｒ−ＣＨ３），　２．３４　（ｍ，　２Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　６．２３　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　３．６　Ｈｚ，　１Ｈ，　ｐｙｒｒｏｌｅ　ｒｉｎｇ），　６．７１　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　７．４　Ｈｚ，　６Ｈ，　ｏ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　６．７３　（ｄ，　１Ｈ，　ｐｙｒｒｏｌｅ　ｒｉｎｇ），　６．９１　（ｔ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　７．２　Ｈｚ，　３Ｈ，　ｐ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　７．０〜７．２　（ｍ，　ａｒｏｍａｔｉｃ　ｐｒｏｔｏｎｓ），　７．４２　（ｄ，　１Ｈ，　ＮＣ＝Ｈ）．　　１３Ｃ−ＮＭＲ　（７５　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３５℃）　：　δ　１８．０，２２．６，　２５．８，　２９．２，　８０．４　（ｔ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１２３　Ｈｚ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　１１６．８，　１２３．２，　１２４．０，　１２４．８，　１２７．２，　１２８．６，　１２９．９，　１３６．６，　１４２．０，　１４３．２，　１４８．６，　１５２．９，　１６２．３　（ｄ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１６６　Ｈｚ，　Ｎ＝ＣＨ）．　　Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ３８Ｈ４４Ｎ２Ｚｒ１：　Ｃ，　７４．１２；　Ｈ，　７．０２；　Ｎ，　４．４３．　　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６８．１２；　Ｈ，　６．８９；　Ｎ，　４．８８．
【０１２６】
［実施例Ｉ−４］
［２−｛Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）イミノメチル｝ピロリル］（トリベンジル）ハフニウム（表１のＮｏ．３）の合成：
【０１２７】
（テトラベンジル）ジルコニウムを（テトラベンジル）ハフニウム〔Ｈｆ（Ｃｈ２Ｐｈ）４〕（１．６３１ｇ，３．００ｍｍｏｌ）に変えた以外は実施例Ｉ−１と同様の方法で錯体粗精製を黄褐色のオイルとして得た。それにヘキサン２ｍＬを加え、−２０℃で静置することで、表題の遷移金属錯体（表１のＮｏ．３の遷移金属錯体）を黄色の結晶として得た（１．２９１ｇ、１．８３ｍｍｏｌ、収率６１％）。
【０１２８】
Ｍｐ：　８０〜９４℃．　　１Ｈ　ＮＭＲ　（３００　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３５℃）　：　δ　０．９７　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．６　Ｈｚ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　１．１７　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．９　Ｈｚ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　２．１０　（ｓ，　６Ｈ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　２．６９　（ｓｅｐ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．６　Ｈｚ，　２Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　６．３０　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　１．９　Ｈｚ　ａｎｄ　３．６　Ｈｚ，　１Ｈ，　４−ｐｙｒ），　６．６４　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　３．６　Ｈｚ，　４ＪＨ−Ｈ　＝　０．８　Ｈｚ，　１Ｈ，３−ｐｙｒ），　６．７６　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　７．１　Ｈｚ，　６Ｈ，　ｏ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　６．９１　（ｔ，　３ＪＨ−Ｈ　＝７．１　Ｈｚ，　３Ｈ，　ｐ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　７．０〜７．２　（ｍ，　ａｒｏｍａｔｉｃ　ｐｒｏｔｏｎｓ　ａｎｄ　５−ｐｙｒ），７．６２　（ｄ，　ＪＨ−Ｈ　＝　１．１　Ｈｚ，　１Ｈ，　ＮＣ＝Ｈ）．　　Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ３８Ｈ４２Ｎ２Ｈｆ１：　Ｃ，　６４．７２；　Ｈ，　６．００；　Ｎ，　３．９７．　　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６５．３１；　Ｈ，　６．１８；　Ｎ，　３．７６．
【０１２９】
［実施例Ｉ−５］
［２−｛Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミノメチル｝ピロリル］（４−ｔ−ブチルフェノキシ）（ジベンジル）ジルコニウム（表１のＮｏ．２６）の合成：
【０１３０】
シュレンクに［２−｛Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミノメチル｝ピロリル］（トリベンジル）ジルコニウム１４６ｍｇ（０．２３７ｍｍｏｌ）に入れ、それを室温でトルエン５ｍＬに溶かした。その溶液を−７８℃まで冷やした後、そこに４−ｔ−ブチルフェノール３７ｍｇ（０．２４８ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温まで戻し、昼夜撹拌を行ない、乾固した。得られた黄褐色のオイルに少量のヘキサンを加えた後、乾固することにより表題の遷移金属錯体（表１のＮｏ．２６の遷移金属錯体）を黄褐色の粉末として得た（１６５ｍｇ、０．２４４ｍｍｏｌ、収率１００％）。
【０１３１】
Ｍｐ：　１０８〜１２２℃　（ｄｅｃ．）．　　１Ｈ−ＮＭＲ　（３００　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３５℃）　：　δ　０．９４　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ＝　６．９　Ｈｚ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　１．０９　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．９　Ｈｚ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　１．２４　（ｓ，　９Ｈ，　Ｃ（ＣＨ３）３），　２．３８　（ｄ，　２ＪＨ−Ｈ　＝　９．３　Ｈｚ，　２Ｈ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　２．４１　（ｄ，　２ＪＨ−Ｈ　＝９．１　Ｈｚ，　２Ｈ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　２．７６　（ｓｅｐ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．６　Ｈｚ，　２Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　６．２７　（ｄ，　２ＪＨ−Ｈ　＝　８．５　Ｈｚ，　２Ｈ，　ｏ−Ｐｈ　ｏｆ　ａｒｙｌｏｘｙ），　６．３９　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　１．９　Ｈｚ　ａｎｄ　３．６Ｈｚ，　１Ｈ，　４−ｐｙｒ），　６．７２　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　３．６　Ｈｚ，　１Ｈ，　３−ｐｙｒ），　６．７７　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　７．１　Ｈｚ，　４Ｈ，　ｏ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　６．９３　（ｔ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　７．４　Ｈｚ，　２Ｈ，　ｐ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　７．０５〜７．２　（ｍ，　ａｒｏｍａｔｉｃ　ｐｒｏｔｏｎｓ），　　７．４４　（ｍ，　１Ｈ，　５−ｐｙｒ），７．５０　（ｓ，　１Ｈ，　ＮＣ＝Ｈ）．　　１３Ｃ−ＮＭＲ　（７５　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３５℃）　：　δ　２３．２　（ＣＨ（ＣＨ３）２），　２５．９　（ＣＨ（ＣＨ３）２），　２８．７　（ＣＨ（ＣＨ３）２），　３１．７　（ｑ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１２６　Ｈｚ，Ｃ（ＣＨ３）３），　３４．１　（Ｃ（ＣＨ３）３），　６２．７　（ｔ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１３２　Ｈｚ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　１１４．９　（４−ｐｙｒ），　１１９．２　（ｄ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１６３　Ｈｚ，　ｏ−Ｐｈ　ｏｆ　ａｒｙｌｏｘｙ），　１２３．４　（３−ｐｙｒ），　１２３．６　（ｐ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　１４１．３　（５−ｐｙｒ），　１６３．７　（ｄ，　２ＪＣ−Ｈ　＝　１６７　Ｈｚ，　Ｎ＝ＣＨ）．
【０１３２】
［実施例Ｉ−６］
［２−｛Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミノメチル｝ピロリル］（４−ｔ−ブチルフェノキシ）（ジベンジル）ハフニウム（表１のＮｏ．２７）の合成：
【０１３３】
前駆体となる金属錯体を［２−｛Ｎ−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミノメチル｝ピロリル］（トリベンジル）ハフニウムに変えた以外は実施例Ｉ−５と同様の方法で表題の遷移金属錯体（表１のＮｏ．２７の遷移金属錯体）を合成した（２３６ｍｇ、０．３０９ｍｍｏｌ、収率９３％）。
【０１３４】
Ｍｐ：　７９〜９５℃　（ｄｅｃ．）．　　１Ｈ−ＮＭＲ　（３００　ＭＨｚ，　Ｃ６Ｄ６，　３５℃）　：　δ　０．９０　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝６．６　Ｈｚ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　１．０５　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．９　Ｈｚ，　６Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　１．２４　（ｓ，９Ｈ，　Ｃ（ＣＨ３）３），　２．３８　（ｄ，　２ＪＨ−Ｈ　＝　１０．７　Ｈｚ，　２Ｈ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　２．４２　（ｄ，　２ＪＨ−Ｈ　＝　１１．０　Ｈｚ，　２Ｈ，　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　２．６０　（ｓｅｐ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　６．９　Ｈｚ，　２Ｈ，　ＣＨ（ＣＨ３）２），　６．２８　（ｄ，　２ＪＨ−Ｈ　＝　８．８　Ｈｚ，　２Ｈ，　ｏ−Ｐｈ　ｏｆ　ａｒｙｌｏｘｙ），　６．４１　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　１．９　Ｈｚ　ａｎｄ　３．６Ｈｚ，　１Ｈ，　４−ｐｙｒ），　６．６９　（ｄｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　３．６　Ｈｚ，　４ＪＨ−Ｈ　＝　１．１　Ｈｚ，　１Ｈ，　３−ｐｙｒ），　６．８８　（ｄ，　３ＪＨ−Ｈ　＝　８．２　Ｈｚ，　４Ｈ，　ｏ−Ｐｈ　ｏｆ　ＺｒＣＨ２Ｐｈ），　７．０５〜７．２　（ｍ，　ａｒｏｍａｔｉｃ　ｐｒｏｔｏｎｓ），　７．４７　（ｓ，　１Ｈ，　ＮＣ＝Ｈ），　７．５６　（ｍ，　１Ｈ，　５−ｐｙｒ）．
【０１３５】
・実施例群ＩＩ　触媒によるエチレン重合反応
上記実施例Ｉ−１〜Ｉ−３の遷移金属錯体について、メチルアルモキサンＭＭＡＯ（東ソー・アクゾ社製）を助触媒として用い、エチレン重合反応時の触媒活性を以下の手順で調べた（実施例ＩＩ−１〜ＩＩ−６）。
【０１３６】
エチレン気流下、錯体とＭＭＡＯを加えた後の濃度が１．０ｍＭとなるようにトルエンを加えて溶解した。室温でＭＭＡＯをジルコニウムに対して１，０００当量加えて重合反応を開始した。反応後、メタノールと希塩酸により重合反応を停止させ、メタノール不溶物をエチレン重合体（ＰＥ）として自然濾過により集めた。得られたエチレン重合体を真空ポンプで１２時間減圧し、乾燥させた。反応条件及び低圧重合結果は下記表−２に示した。
【０１３７】
【表２】
2004075878.tif 000011
【０１３８】
【発明の効果】
本発明の新規な遷移金属錯体は、α−オレフィン重合用触媒の成分として使用することにより、押出成形や射出成形による加工が可能な、高分子量且つ高融点のα−オレフィン重合体を高収率で得ることが可能となる。