【事件の表示】
　特願２０００−２９０９６５「液晶素子の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　５月１８日出願公開、特開２００１−１３３７６８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成８年４月２５日に出願された特願平８−１０５３８９号（優先日：平成７年４月２６日）の一部を分割して新たな特許出願として平成１２年９月２５日に出願されたものであって、平成１４年６月２６日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年８月１日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年８月３０日付で手続補正がなされたものである。
　　
２．平成１４年８月３０日付の手続補正についての補正却下の決定
[補正却下の決定の結論]
　　平成１４年８月３０日付の手続補正を却下する。
[理由］
（１）特許法第１７条の２第４項違反について
　　平成１４年８月３０日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）のうち、特許請求の範囲についての補正を摘記すると以下のとおりである。
「【請求項１】　シール剤によってシールされた一対の基板間に配置した液晶、所定面積の有効光学変調領域内の一対の基板の夫々に配置した電極、及び該有効光学変調領域に接する周辺に位置させた非表示領域を有する液晶素子の製造方法であって、
　前記一対の基板のうち、一方の基板上における有効光学変調領域が予定される部分、及び非表示領域が予定される部分に遮光層を形成する工程と、
　前記一方の基板上における有効光学変調領域が予定される部分、及び非表示領域が予定される部分に、少なくとも１色以上のカラーフィルター膜パターンを形成する工程と、
　前記一方の基板上において、有効光学変調領域が予定される部分、及び非表示領域が予定される部分の両方に設けたカラーフィルター膜パターンの上に透明電極を形成する工程であって、
該非表示領域内の透明電極を前記シール材の下部まで設ける工程
　
前記有効表示領域の透明電極に駆動ＩＣを接続し、前記非表示領域の透明電極を駆動させないように設定する工程
　を具備することを特徴とする液晶素子の製造方法。」
　上記のうち下線を付した事項、すなわち、
　（ア）該非表示領域内の透明電極を前記シール材の下部まで設ける工程
　（イ）前記有効表示領域の透明電極に駆動ＩＣを接続し、前記非表示領域の透明電極を駆動させないように設定する工程
は、補正前の請求項１に記載されていない事項を補充したものである。
　そこで、上記（ア），（イ）に係る事項が、特許法第１７条の２第４項第２号で規定する、請求項に記載した発明を特定するために必要な事項を限定するもの（いわゆる限定的減縮）に該当する補正であるか否か以下に検討する。
　これらの事項は何れも「非表示領域内の透明電極を設ける工程」、ないしは「有効表示領域の透明電極を設ける工程」を「発明を特定するために必要な事項」とすると、あたかもその「・・・の透明電極を設ける工程」を限定的に減縮したかの如き印象を受けるが、これらの事項は何れも透明電極を設ける工程自体を限定したものとはいえない。
　すなわち、
　（ア）については、補正前には、カラーフィルター膜パターンの上に形成するとのみ記載された透明電極を、カラーフィルター膜パターンが形成されていない「
前記シール材の下部まで設ける
シール材
シール材
　（イ）については、一見すると、補正前の請求項２を包含する補正とも解しうるが、「
透明電極に駆動ＩＣを接続
透明電極を駆動させないように設定する
   
　したがって、上記（ア）、（イ）の補正は、特許法第１７条の２第４項第２号で規定する、請求項に記載した発明を特定するために必要な事項を限定するものとはいえないから、特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものである。
　　
（２）特許法第１７条の２第３項違反について
　　本件補正の上記（イ）のうち、「前記非表示領域の透明電極を
駆動させないように設定する
　これに関連する技術事項として、当初明細書には、
　（ａ）「【請求項６】・・・前記第一の周辺領域において、前記駆動ラインとは離間されたダミーパターン・・・」
　（ｂ）「【００１５】・・・且つ両領域におけるされた電極は相互に分離されている・・・」
　（ｃ）「【００１６】・・・前記第一の周辺領域において、前記駆動ラインとは離間されたダミーパターンと、からなる・・・」
　（ｄ）「【００２０】・・・周辺領域に設けられた電極は、有効光学変調領域で設けられた電極と分離しており、好ましくは、実際には駆動されず、液晶分子のスイッチング動作には寄与しない。」
　（ｅ）「【００２７】・・・また１９は周辺領域ｂ，ｂ’内のカラーフィルターのダミーパターン１３’上でガラス基板の端面近傍にまで配置された電極パターンである。かかる電極パターン１９は、液晶駆動用の電極と分離されて駆動されない。」
が記載されている。
　これらの記載事項をまとめると、結局、当初明細書には、周辺領域に設けられた電極（すなわち非表示領域の透明電極）を駆動させない技術事項は、「電極同士を分離・離間し、非表示領域の透明電極を駆動させない」との事項のみが開示されているということができる。
　しかしながら、本件補正に係る「
駆動させないように設定する
　しかも、その他の駆動させない技術事項を含む「
駆動させないように設定する
　　　
　よって、本件補正の請求項１についてした補正事項（ウ）は、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものとはいえないから、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するものである。
　　
（３）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第３項ないし同条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　
３．本願発明について
（１）平成１４年８月３０日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、平成１３年７月２５日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載されたとおりのものであるところ、請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は次のものである。
　　
「【請求項１】　夫々電極パターンを備えた一対の基板間に液晶を挟持し、所定面積の有効光学変調領域及び該領域に接する周辺領域を有する液晶素子の製造方法であって、
　前記一対の基板のうち、一方の基板上における有効光学変調領域が予定される部分、及び周辺領域が予定される部分に遮光層を形成する工程と、
　前記一方の基板上における有効光学変調領域が予定される部分、及び周辺領域が予定される部分に、少なくとも１色以上のカラーフィルター膜パターンを形成する工程と、
　前記一方の基板上において、有効光学変調領域が予定される部分、及び周辺領域が予定される部分の両方に設けたカラーフィルター膜パターンの上に透明電極を形成する工程と、
具備することを特徴とする液晶素子の製造方法。」
　　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平１−２６９９１７号公報（以下、「引用例」という。）には、図面とともに、
　（イ）「本発明は、カラーで高密度表示に適したカラー液晶表示素子に関するものである。」（２頁左上欄１１，１２行）、
　（ロ）「第１図は、薄膜の遮光膜と厚膜のカラーフィルターをセル内面に設けたカラー液晶表示素子に適用した例の表示部と周辺部の境界付近の遮光膜とカラーフィルターのパターンを示す平面図である。・・・・
　この図において、その電極群が対向して表示を行う表示部１においては、その画素部分２にカラーフィルター３を設けるとともに画素間に遮光膜４を設け、その表示部の外側の周辺部５には、表示部の画素間に設けた遮光膜と同じ遮光膜６を全面に設けるとともに表示部の画素部分のカラーフィルター３と同じカラーフィルターでその面積が表示部の画素部分のカラーフィルター３の面積の５０〜１００％であるカラーフィルター７を設ける。」（４頁右下欄１９行〜５頁右上欄１行）、
　（ハ）「これにより、周辺部においても、表示部と同様にカラーフィルター７と遮光膜６とが部分的に積層された構造となり、セル内面にスペーサーを配置してセル化した際に均一な間隙制御が容易にできる。」（５頁左下欄１〜５行）、
　（ニ）「また、このような周辺部の画素に対応する部分には電極を表示部と同様に設けておくことにより、より表示部と周辺部との厚みの差が少なくなり好ましい。」（５頁右下欄１０〜１３行）、
　（ホ）「実施例１
　第１図及び第４図に示すように、ガラス基板上にＣｒの薄膜遮光膜を１００ｎｍ厚に形成し、電極部の画素に相当する部分にその周辺部が遮光膜と重なるように染色法によるＲＧＢ３色の厚さ２．０μｍの厚膜カラーフィルターを形成し、この上にポリイミドによるオーバーコート膜（平坦化層）を形成した。・・・・
　その後、この上にＩＴＯをコートしてパターニングすることにより、９６０本のストライプ状の列電極群を形成し、さらに全面にＳｉＯ２−ＴｉＯ２の絶縁膜を１００ｎｍ厚に形成し、この上にポリイミドを厚さ７０ｎｍ程度積層し、これをラビングして配向膜を形成して、列電極基盤とした。・・・・
　なお、これらの基板では、表示部以外の周辺部にも、表示部に設けた電極と同じ電極をストライプ状に形成したものを使用した。
　この列電極基板と行電極基板とを液晶分子のねじれが２４０°となるように配置して、周辺でシールしてセルを形成し、ネマチック液晶を注入してドットマトリックス液晶セルを製造した。」（８頁左上欄５行〜同頁左下欄３行）、
　（ヘ）「[発明の効果]
　以上に説明したように本発明は、基板間隙が均一に形成しやすく、美しいカラー表示が可能になる。
　特に、時分割表示特性、視野角の広さ、高コントラスト比等の利点を有するが基板間隙の均一性が強く要求されるのでスーパーツイスト液晶表示素子に適用することにより、その効果が大きい。また、同様に強誘電性の液晶表示素子に適用することにより、この効果が大きい。」（９頁右下欄８〜１７行）、
と記載されている。
　　
 　これら（イ）〜（ヘ）の記載によれば、引用例には、
「列電極基板と行電極基板とを、周辺でシールしてセルを形成し、液晶を注入してドットマトリックス液晶セルを製造する方法であって、列電極基板の製造は、ガラス基板上の表示部及びその表示部の外側の周辺部に、遮光膜を形成する工程と、同様に表示部及びその表示部の外側の周辺部に、ＲＧＢ３色のカラーフィルターを形成する工程と、この上にオーバーコート膜（平坦化層）を形成する工程と、その後、この上にＩＴＯ（透明電極）をコートしてパターニングすることにより、透明電極を表示部及び表示部以外の周辺部にも形成する工程と、を具備するドットマトリックス液晶セルの製造方法。」
との事項が開示されていると認めることができる。
　　
（３）対比
　そこで、本願発明と引用例に記載された事項とを比較すると、引用例に記載の各事項は、以下のように、本願発明に相当することが明らかである。
　[引用例]　　　　　　　　　　　　　[本願発明]
「列電極基板と行電極基板」　　　　「夫々電極パターンを備えた一対の基板」
「列電極基板」　　　　　　　　　　「一方の基板」
「表示部」　　　　　　　　　　　　「有効光学変調領域」
「周辺部」　　　　　　　　　　　　「周辺領域」
「遮光膜」　　　　　　　　　　　　「遮光層」
「ＲＧＢ３色のカラーフィルター」　「少なくとも１色以上のカラーフィルター膜パターン」
「ＩＴＯ（透明電極）」　　　　　　「透明電極」
「ドットマトリックス液晶セル」　　「液晶素子」
　　
　そして、引用例に記載された事項は、
　（ｉ）引用例の遮光膜は、ガラス基板上の表示部及びその表示部の外側の周辺部に形成されるから、本願発明の「一方の基板上における有効光学変調領域が予定される部分、及び周辺領域が予定される部分に遮光層を形成する工程」を有すること、
　（ｉｉ）同ＲＧＢ３色のカラーフィルターは、同様に表示部及びその表示部の外側の周辺部に形成されるから、本願発明の「前記一方の基板上における有効光学変調領域が予定される部分、及び周辺領域が予定される部分に、少なくとも１色以上のカラーフィルター膜パターンを形成する工程」を有すること、
　（ｉｉｉ）同ＩＴＯ（透明電極）は、表示部及びその表示部の外側の周辺部にカラーフィルターが形成された後、その上に形成されるから、本願発明の「前記一方の基板上において、有効光学変調領域が予定される部分、及び周辺領域が予定される部分の両方に設けたカラーフィルター膜パターンの上に透明電極を形成する工程」を有すること、
が明らかであり、
　結局、引用例の記載事項は、本願発明の全ての構成要素及び製造工程を含むものということができる。
　　　
（４）判断
　したがって、両者の間に相違点は存在しないから、本願発明は、引用例に記載された発明と同一であるといえる。
　　
　なお、審判請求書等において、請求人は、上記引用例と本願発明との対比について言及しており、その中で特許法第２９条第１項第３号の同一性を含め検討していることは明らかである。
　　
（５）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができない。
　　
　よって、結論のとおり審決する。