【手続補正書】
【提出日】平成15年9月22日(2003.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン設計者により用意され設計パターンを表わす複数の設計パターンデータを格納する記憶手段と、
前記記憶手段から読出された各設計パターンから、図形形状と、図形位置と、図形寸法とを有する復号図形を得る復号手段と、
各々が所定の寸法をもちマトリックスに配列された複数のセグメントに分割される複数のマス目に前記復号図形を割り付ける割付手段と、
各マス目のいくつのセグメントが前記図形によって占有されているかに関して各マス目のどの程度が図形によって占有されているかを規定する占有率を計算する計算手段と、
前記占有率にそれぞれ対応する０〜ｎの階調を表わす多階調レベルを出力する出力手段と、
により構成されるパターンデータ生成装置。
【請求項２】
パターン位置とパターン寸法とを画素の１／ｎ（ｎは整数）の精度で含み、パターン設計者により用意された設計パターンを表わしているパターンデータを入力するステップと、
各々が所定の寸法を有し、マトリックスに配列された複数のセグメントに分割される複数のマス目に前記設計パターンを割り付けるステップと、
前記パターンデータによって各マス目のいくつのセグメントが占有されているかに関して前記パターンデータによって各マス目のどの程度がパターンデータによって占有されているかを規定する占有率を計算するステップと、
占有率に対応して０〜ｎの階調レベルを表わす複数の階調レベルデータを出力するステップと、
でなり、画素単位で表わされる階調パターンを生成する方法。
【請求項３】
パターンがＸ方向と、Ｙ方向と、４５゜の傾いた方向とに延びているラインセグメントで形成されているとき、パターン設計者により準備され、画素の１／ｎ（ｎは整数）の精度でパターン形状とパターン位置とパターン寸法と含み、前記パターンに対応するパターンデータを入力するステップと、
各々が所定の画素寸法を有し、マトリックスに配列される複数のセグメントに分割される複数のアレイマス目に図形を割り付けるステップと、
図形によって各マス目のいくつのセグメントが占有されているかに関して前記図形によって各マス目がどの程度占有されているかを規定する占有率を計算するステップと、
前記占有率にそれぞれ対応する０〜ｎの階調レベルを表わす複数の階調レベルを出力するステップと、
でなり、画素単位で表わされる階調パターンを生成する方法。
【請求項４】
パターンが形成された試料に適当な波長の光を照射し、受光素子により受光されたパターン像に対応する測定データを取得する画像取得手段と、
前記試料にパターンを形成するときに用いられるパターン設計データを格納する記憶手段と、
前記記憶手段から読み出されるパターン設計データを画素毎に展開するデータ展開手段と、
前記展開手段で展開されるデータにフィルタ処理を施して得たデータと前記測定パターンデータとを比較して前記試料に形成されているパターンの欠陥有無を判定する判定手段と、
により構成され、
前記記憶手段は前記試料に遮光パターンを形成するときに用いられた遮光パターン設計データと位相シフトパターンとを形成するときに用いられた位相シフトパターン設計データとを同一座標系に規定し、前記遮光パターン設計データと多値データの前記位相シフトパターンデータとの識別を可能にするように前記遮光シールドパターンおよび前記位相シフトパターン設計データとを格納し、
前記データ展開手段は遮光パターン設計データ生成回路及び位相シフトパターン設計データ生成回路により構成され、これらデータ生成回路の各々は、遮光パターンあるいは位相シフトパターンを遮光パターン設計データと位相シフトパターン設計データとに基づいて識別する識別手段と、この識別手段からの識別信号に基づいて所定の記述単位ごとに明るさ信号の振幅及びオフセットを決定する振幅調整手段と、この振幅調整手段からの明るさ信号に基づいて、ビットの重み付け、反転及び符号を可変するパターン手段と、このパターン手段からのビット列の所定のパターン範囲を保持するパターンメモリと、検査の進行度合に合わせてパターンメモリを順次読み出しアクセスするパターンメモリ読み出し手段と、所定の計算方法に従ってデータの種類の組み合わせ毎に前記データ生成回路からのデータを合成し、合成結果を出力する演算手段とを有する、試料検査装置。
【請求項５】
設計データを格納する記憶手段と、
前記記憶手段から読出した設計パターンデータから図形形状と、図形位置と、図形寸法とを有する復号図形を得る復号手段と、
各々が所定の寸法をもちマトリックスに配列された複数のセグメントに分割された複数のアレイマス目に前記復号図形を割り付ける割付手段と、
前記図形によって各マス目のいくつのセグメントが占有されているかに関して各マス目のどの程度が図形によって占有されているかを規定する占有率を計算する計算手段と、
階調レベルデータを生成する複数のパターン生成器を備え、前記占有率にそれぞれ対応する０〜ｎの階調レベルを表わす複数の階調レベルを出力する出力手段と、
前記パターン生成器にそれぞれ対応している複数のパターンメモリを備え、前記出力手段からの階調レベルを所定範囲だけ格納するパターンメモリ手段と、
前記パターンメモリ手段から各マス目の階調レベルデータを読出す読出し手段と、
前記複数のパターン生成器に並列処理を実行させるように入力データを分配するためのデータ分配アービトレータと、
前記複数のパターンメモリの読出しアクセスのときに、同一座標を有するマス目の値の和を求め、この和を前記読み出し手段に出力するために同一座標を有するマス目の値を加算するパターンデータ加算器と、
により構成されるパターンデータ生成装置。
【請求項６】
パターン設計者によって用意され、設計パターンを表わしている複数の設計パターンを記憶手段に格納するステップと、
前記記憶手段から読出された各設計パターンから図形形状と、図形位置と、図形寸法とを有する復号図形を生成するステップと、
各々が所定の寸法を有しマトリックスに配列された複数のセグメントに分割された複数のアレイマス目に復号図形を割り付けるステップと、
図形によって各マス目のいくつかのセグメントが占有されているかに関して前記図形によって各マス目がどの程度占有されているかを規定する占有率を計算するステップと、
前記占有率にそれぞれ対応する０〜ｎの階調レベルを表わす複数の階調レベルを出力するステップと、
を含むパターンデータ生成方法。
【請求項７】
パターン設計者により用意された設計データを記憶手段に格納するステップと、
前記記憶手段から読出した設計パターンデータの各々から図形形状と、図形位置と、図形寸法とを生成するステップと、
各々が所定の寸法を有し、マトリックスに配列された複数のセグメントに分割された複数のアレイマス目に復号図形を割り付けるステップと、
前記図形によって各マス目のいくつのセグメントが占有されているかに関して各マス目がどの程度図形によって占有されているかを規定する占有率を計算するステップと、
前記占有率にそれぞれ対応する０〜ｎの階調レベルを表わす複数の階調レベルデータを出力するステップと、
階調レベルデータを所定範囲だけ記憶手段に格納するステップと、
記憶手段から各マス目についての階調レベルデータを読出すステップと、
読出しアクセスにおいて和を得るために同一の座標を有するマス目の値を加算するステップと、
を含むパターンデータ生成方法。
【請求項８】
パターン設計者により用意され、設計パターンを表わしている複数の設計パターンデータを格納する記憶手段と、
前記記憶手段から読出された各設計パターンから、図形形状と、図形位置と、図形手寸法とを有する復号図形を得る復号手段と、
各々が所定の寸法をもちマトリックスに配列された複数のセグメントに分割された複数のアレイマス目に前記復号図形を割り付ける割付手段と、
占有率を得るために各マス目が図形によってどのように占有されているかを計算する計算手段と、
前記占有率をそれぞれ表わしている複数の階調レベルデータを出力する出力手段と、
前記出力手段からの階調レベルデータを所定範囲だけ格納するパターンメモリ手段と、
前記メモリ手段から階調レベルデータを読出す読出し手段と、
新しいデータが前記パターンメモリ手段に書込まれる前にマス目にすでに存在している階調レベル値データを読み取り、読出した階調値データと新しいデータとを加算しえ和を求めてこの和をマス目に書込む累積書込み手段とを備え、
前記累積書込み手段は前記和がしきい値を越えるときは所定のしきい値を書込む上限クランプ機能を有するパターンデータ生成装置。
【請求項９】
パターン設計者により用意され設計パターンを表わしている複数の設計パターンデータを格納する記憶手段と、
前記記憶手段から読出された各設計パターンから図形形状と、図形位置と、図形寸法とを有する復号図形を得る復号手段と、
各々が所定の寸法を有する複数のアレイマス目に復号図形を割り付ける割付手段と、
占有率を得るために各マス目が図形によりどのぐらい占有されているかを計算する計算手段と、
占有率をそれぞれ表わしている複数の階調値データを出力する出力手段と、
前記パターン生成器にそれぞれ対応する複数のパターンメモリを備え、前記出力手段からの階調値データを所定範囲だけ格納するパターンメモリ手段と、
該メモリ手段から階調値データを読出す読出し手段と、
多値レベルピットパターンデータを生成する複数のパターン生成器により構成されるパターン生成手段と、
前記複数のパターン生成器に並列処理を実行させるように入力データを分配するデータ分配アービトレータと、
前記複数のパターンメモリが読出しアクセスされるときには、同一座標を有するマス目の値を加算して和を得て、この和を読出し手段に出力するパターンデータ加算器と、
により構成されるパターンデータ生成装置。
【請求項１０】
パターンが形成される試料上に適切な波長を有する光を照射し、受光器によって受信されるパターンデータに対応する測定データを取得する像取得手段と、
パターン設計者により用意された設計パターンを表わし、試料上にパターンを形成するために使用されるパターン設計データを格納するメモリと、
該メモリから読出されたパターン設計データの各画素を展開するデータ展開／生成手段と、
該データ展開手段により展開されたデータをフィルタにかけて得られたデータを測定パターンデータと比較し、試料上に形成されたパターンの欠陥の有無を判断する判断手段と、
により構成され、
前記メモリは、同一座標系に遮光パターン設計データと位相シフトパターン設計データとを規定して前記遮光パターン設計データと多値データである前記位相シフトパターン設計データとの識別を可能とするように、試料上に遮光パターンを形成するために使用される前記遮光パターン設計データと位相シフトパターンを形成するために使用される前記位相シフトパターン設計データとを格納し、
前記データ展開／生成手段は、遮光パターン設計データ生成回路と位相シフトパターン設計データ生成回路とを備え、これらデータ生成回路の各々は遮光パターンもしくは位相シフトパターンを識別する識別手段と、各所定の手段について輝度信号の振幅とオフセットとを前記識別手段からの識別信号に基づいて判断する振幅調節手段と、前記振幅調節手段からの輝度信号に基づいて符号と反転とビット重み付けを可変にさせるパターン手段と、検査の進捗に従い継続読取りアクセスを実行するために前記パターン読出し手段により生成されたビット列を所定パターン範囲だけ格納するパターンメモリと、前記データ生成回路からのデータを所定の計算方法に従ってデータ形式組合せのために合成して合成結果を出力する該計算手段とで構成され、
前記計算手段は、
ｋ１ｄ１＋ｋ２ｄ２
ただし、０＜ｋ１＜１と−１＜ｋ２＜１、ｄ１は色相データ、ｄ２は位相シフトデータ、ｋ１とｋ２は係数、によって計算するパターン計算装置とにより構成される、パターン検査装置。
【請求項１１】
パターンが形成される試料上に適切な波長を有する光を照射し、光検出器によって受信されたパターンデータに対応する測定データを取得する像取得手段と、
パターン設計者により準備された設計パターンを表わし、試料上にパターンを形成するために使用されるパターン設計データを格納するメモリと、
該メモリから読出されたパターン設計データの各画素を展開するデータ展開／生成手段と、
該データ展開手段により展開されたデータをフィルタにかけて得られたデータを測定パターンデータと比較し、試料上に形成されたパターンの欠陥の有無を判断する判断手段と、
を備え、
前記メモリは、前記試料に遮光パターンを形成するときに用いられた遮光パターン設計データと位相シフトパターンとを形成するときに用いられた位相シフトパターン設計データとを同一座標系に規定し、前記遮光パターン設計データと多値データの前記位相シフトパターンデータとの識別を可能にするように前記遮光シールドパターンおよび前記位相シフトパターン設計データとを格納し、
前記データ展開／生成手段は、遮光パターン設計データ生成回路と位相シフトパターン設計データ生成回路とを備え、これら設計データ生成回路の各々は遮光パターンもしくは位相シフトパターンを識別する識別手段と、振幅調節手段と、パターン手段と、パターンメモリと、計算手段とを備え、
該振幅調節手段は各上記手段について輝度信号の振幅とオフセットとを前記識別手段からの識別信号に基づいて判断し、
該パターン手段は、前記振幅調節手段からの輝度信号に基づいて符号と反転とビット重み付けとを可変にし、
該パターンメモリは検査の進捗に従い継続読取りアクセスを実行するためにパターン読出し手段により生成された所定パターン範囲のビット列を格納し、
該計算手段は前記それぞれのデータ生成回路からのデータを所定の計算方法に従ってデータ形式組合せのために合成して合成結果を出力し、
前記データ展開／生成手段の累積的書込み手段は、和が所定しきい値を越えるときには所定しきい値の書込みの上限クランプ機能を有する、パターン検査装置。
【請求項１２】
パターンが形成される試料上に適切な波長を有する光を照射し、光検出器によって受信されたパターンデータに対応する測定データを取得する像取得手段と、
試料上にパターンを形成するために使用され、パターン設計者により準備された設計パターンを表わすパターン設計データを格納する設計データメモリと、
複数のパターン生成器と複数のパターンメモリとを備え、該設計データメモリから読出されたパターン設計データの各画素を展開するデータ展開／生成手段と、
前記複数のパターン生成器に並列処理を効率的に実行させるように入力データを分配するデータ分配アービトレーション手段と、
和を得るために同一座標を有するビット列を加算する加算手段と、
該データ展開手段により展開されたデータをフィルタにかけて得られたデータを測定パターンデータと比較し、試料上に形成されたパターンの欠陥の有無を判断するように構成された判断手段と、
により構成され、
前記メモリは前記試料に遮光パターンを形成するときに用いられた遮光パターン設計データと位相シフトパターンとを形成するときに用いられた位相シフトパターン設計データとを同一座標系に規定し、前記遮光パターン設計データと多値データの前記位相シフトパターンデータとの識別を可能にするように前記遮光シールドパターンおよび前記位相シフトパターン設計データとを格納し、
前記データ展開／生成手段は遮光パターン設計データ生成回路と位相シフトパターン設計データ生成回路とを備え、こられ設計データ生成回路の各々は遮光パターンもしくは位相シフトパターンを識別する識別手段と、各所定の前記手段について輝度信号の振幅とオフセットとを前記識別手段からの識別信号に基づいて判断する振幅調節手段と、前記振幅調節手段からの輝度信号に基づいて符号と反転とビット重み付けとを可変にさせるパターン手段と、このパターン手段により生成されるビット列の所定パターン範囲を格納するパターンメモリと、検査の進捗に従い前記パターンメモリに逐次読み取りアクセスを実行し、前記複数のパターンメモリが読出しアクセスされると前記和を前記加算手段から受けるパターン読み出し手段と、前記データ生成回路からのデータを所定の計算方法に従ってデータ形式組合せのために合成して合成結果を出力する計算手段とを備える、試料検査装置。
【請求項１３】
設計パターンデータを格納するように構成された記憶手段と、
前記記憶手段から読出された各設計パターンから図形形状と、図形位置と、図形寸法とを有する復号図形を得る復号手段と、
各々が所定の寸法を有する複数のアレイマス目に前記復号図形を割り付ける割付手段と、
占有率を得るために各マス目が図形によりどのぐらい占有されているかを計算する計算手段と、
多値レベルビットパターンデータを生成するための複数のパターン生成器を備え、占有率をそれぞれ表わしている複数の階調値データを出力する出力手段と、
前記パターン生成器にそれぞれ対応している複数のパターンメモリを備え、前記出力手段からの階調値データを所定範囲だけ格納するパターンメモリ手段と、
該メモリ手段から階調値データを読出す読出し手段と、
前記複数パターン生成器に並列処理を実行させるように入力データを分配するためのデータ分配アービトレータと、
前記複数のパターンメモリの読出しアクセスにおいて同一座標を有するマス目の値を加算して和を求め、この和を前記読出し手段に出力し、和が所定しきい値を越えるとき前記読出し手段へ所定しきい値を出力する上限クランプ機能を有しているパターンデータ加算器と、
により構成されるパターンデータ生成装置。