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【手続補正書】
【提出日】平成26年8月28日(2014.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単一光子計数検出器システム（１４）において、
該単一光子計数検出器システム（１４）は、
−感光性材料の層（４）と、
−前記感光性材料の層（４）に配置されている、Ｎ×Ｍアレイを構成する複数の光検出器ダイオード（２）と、
−高利得で低雑音の、Ｎ×Ｍアレイを構成する複数の読み出しユニットセル（ＲＯ）とを備えており、
前記各光検出器ダイオード（２）は、バイアス電位インタフェース（１２）及びダイオード出力インタフェースを有しており、各光検出器ダイオード（２）の前記バイアス電位インタフェース（１２）はバイアス電位（Ｖbias）に接続されており、
一つの前記読み出しユニットセル（ＲＯ）は１つの光検出器ダイオード（２）のためのものであり、
各読み出しユニットセル（ＲＯ）は、
１）前記ダイオード出力インタフェースと接続されている入力インタフェース（ＩＮ）と、積分コンデンサ（Ｃint）を有している高利得電圧増幅手段（ａｍｐ）と、
２）少なくとも二つの並列な系統から成るディジタルカウンタとを備えており、
３）前記各系統は、個別に選択可能な閾値（ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ１，ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ２）を有している比較器と、前記ディジタルカウンタの各系統に対して、前記ディジタルカウンタのカウントインターバルを個別に決定する個別にゲート可能なセクション（ｇａｔｅ１，ｇａｔｅ２）とを含んでいる、
ことを特徴とする、検出器システム。
【請求項２】
少なくとも二つの閾値が設定されており、一方の閾値は光子エネルギの約半分のレベルであり、且つ、少なくとも一つの他方の閾値は前記光子エネルギの約１．５倍のレベルである、請求項１に記載の検出器システム。
【請求項３】
前記ゲート可能セクションは、ポンプ・プローブ測定に適合させるために制御可能であり、
所定数の読み出しセルユニット（全ての読み出しセルも含まれる）に関して、プローブフェーズ（ポンプ）の間のヒットが一方のディジタルカウンタにおいてカウントされ、且つ、別のプローブフェーズ（非ポンプ、即ちサンプルのポンプが行なわれない）の間のヒットが他方のディジタルカウンタにおいてカウントされる、請求項１又は２に記載の検出器システム。
【請求項４】
所定数の読み出しユニットセル（全ての読み出しセルも含まれる）に関して、ウィンドウディスクリミネータを形成するために少なくとも二つの閾値が設定され、それにより一方の閾値はウィンドウの下限に設定され、他方の閾値はウィンドウの上限に設定される、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の検出器システム。
【請求項５】
前記比較器の出力を用いてゲートされる固定周波数信号で、有利には、例えば１０〜２００ＭＨｚの固定周波数で流れるカウントイネーブル信号で前記ゲートセクションがゲート可能であり、それにより、前記高利得電圧増幅手段（ａｍｐ）の出力端におけるアナログ信号が、前記各比較器（ｃｏｍｐ１，ｃｏｍｐ２，ｃｏｍｐ４）に対して設定されている閾値を超過する場合にのみ、前記固定周波数信号のパルスをカウントする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の検出器システム。
【請求項６】
前記比較器の入力端における信号が前記比較器の閾値を超過する場合に、セルの比較器によって、各セルに関して電荷積分増幅器ａｍｐ１が個別にリセットされる、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の検出器システム。
【請求項７】
前記単一光子計数検出器システム（１４）は、更に、多重化手段を有しており、
前記多重化手段は、前記ディジタルカウンタから、外部のデータ処理ユニットへの読み出しのために、１つのピクセルに対し、又は、並行して複数のピクセルに対し、前記読み出しセルユニットにアクセス可能であり、且つ、データをチップ外の前記データ処理ユニット、特に、前記読み出しユニットセルの積分部を形成しない外部の読み出し電子素子に転送する、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の検出器システム。
【請求項８】
前記多重化手段及び前記データ処理手段は一方の系統のカウンタを読み出すことを可能にし、その一方で、他方の系統のカウンタは後続のデータの取得に使用される、請求項７に記載の検出器システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月4日(2014.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロリソグラフィ投影露光装置（１０）の照明系であって、
ａ）投影光（ＰＬ）を生成するように構成された光源（３０）と、
ｂ）瞳平面（８４）と、
ｃ）前記瞳平面（８４）内の投影光（ＰＬ）の放射照度分布が、該投影光（ＰＬ）によって回折光学要素（４８）上に照明される視野（９６ａ、９６ｂ、９６ｃ）の位置に依存するように、前記光源（３０）と該瞳平面（８４）の間に配置された回折光学要素（４８）と、
ｄ）前記光源（３０）と前記回折光学要素（４８）の間に配置され、｜β｜＞３である横倍率βを有する光学結像系（３４、１３４、２３４、３３４）と、
ｅ）前記光学結像系（３３４）と前記回折光学要素（４８）の間に配置され、かつ該光学結像系（３３４）から射出する平行光ビームの直径を縮小するように構成されたビーム縮小ユニット（１１０）と、
を含むことを特徴とする照明系。
【請求項２】
前記光学結像系（３４、１３４、２３４、３３４）は、物体平面（３６）と該物体平面（３６）が結像される像平面（３８）とを有し、
前記光源（３０）の光射出窓（３２）が、前記物体平面（３６３）に配置され、
前記回折光学要素（４８）は、前記像平面（３８）に配置される、
ことを特徴とする請求項１に記載の照明系。
【請求項３】
前記光学結像系（３４、３３４）は、その物体側及びその像側でテレセントリックであることを特徴とする請求項１に記載の照明系。
【請求項４】
前記光学結像系（３４、３３４）は、屈折パワー又は反射パワーを有する少なくとも３つの光学要素（Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３）を備えることを特徴とする請求項３に記載の照明系。
【請求項５】
前記光学結像系（３４、３３４）は、２つの正のレンズ（Ｌ１、Ｌ３）と該２つの正のレンズの間に配置された負のレンズ（Ｌ２）とを備えることを特徴とする請求項４に記載の照明系。
【請求項６】
前記光源（３０）と前記光学結像系（３３４）の間に配置された多重ビーム折り返し系（１００）を備えることを特徴とする請求項３から請求項５のいずれか１項に記載の照明系。
【請求項７】
前記多重ビーム折り返し系（１００）は、複数のプリズム（１０２、１０４、１０６）又は平面ミラーを備えることを特徴とする請求項６に記載の照明系。
【請求項８】
少なくとも１つのプリズム（１０６）又はミラーが、案内レール（１０８）上にそれを該案内レールに沿った異なる位置に固定することができるように装着されることを特徴とする請求項７に記載の照明系。
【請求項９】
前記光学結像系の全ての光学要素が、前記光源と照明系のビーム送出部との間に配置されることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の照明系。
【請求項１０】
前記回折光学要素（４８）を照明系（１２）の光学軸（ＯＡ）と平行ではない変位方向（Ｘ）に沿って変位させるように構成された変位機構（５６）を備えることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の照明系。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月8日(2014.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの還元性金属イオンおよび少なくとも１つの保護剤を含む少なくとも１つの第１の組成物を、少なくとも１つの管型反応器を備える少なくとも１つの連続式流通反応器の内容物に供給することと、
前記少なくとも１つの還元性金属イオンを長さが少なくとも１０μｍの少なくとも１つの金属ナノワイヤに還元する前に、前記少なくとも１つの第１の組成物を加熱することと、
前記少なくとも１つの連続式流通反応器の内容物から、前記少なくとも１つの金属ナノワイヤを含む少なくとも１つの第２の組成物を回収することと、を含む、方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの第２の組成物の前記回収の少なくとも一部は、前記少なくとも１つの第１の組成物の前記供給の少なくとも一部の前に行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つの第２の組成物の前記回収の少なくとも一部は、前記少なくとも１つの第１の組成物の前記供給の少なくとも一部と同時に行われる、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの第１の組成物は、少なくとも１つのポリオールをさらに含む、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記還元は、少なくとも１つのハロゲン化物イオンの存在下で行われる、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの保護剤は、少なくとも１つの極性重合体または少なくとも１つの極性共重合体を含む、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つの還元性金属イオンは、少なくとも１つの銀イオンを含む、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つの第１の組成物を加熱することをさらに含み、前記少なくとも１つの第１の組成物の前記加熱の少なくとも一部分は、前記少なくとも１つの第１の還元性金属イオンの前記還元と同時に行われる、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月15日(2014.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体液分析器内で使用するためのカートリッジであって、当該カートリッジは、
流体流路と、
前記流体流路内の複数のリザーバであって、当該複数のリザーバのうちの少なくともいくつかは試薬材料を含み、当該複数のリザーバは少なくとも部分的に、連続したシート状の可塑性材料で形成される、複数のリザーバと、
前記複数のリザーバを少なくとも部分的に収容する調製部であって、当該調製部は、前記生体液分析器に挿入されるよう構成され、機械的構造が前記複数のリザーバのうちの少なくとも１つに圧縮力を与えるように前記複数のリザーバのうちの前記少なくとも１つと関連づけられる開口を含む、調製部と、を備え、
前記流体流路は、前記複数のリザーバのうちの少なくとも２つを接続するチャネルを含み、当該２つのリザーバのうちの１つは前記試薬材料を含み、前記流体流路内には破壊可能な封止材が配置され、当該封止材に損傷がないときには、当該２つのリザーバ間の前記チャネル内を前記試薬材料が流れず、当該封止材は前記圧縮力に応じて破壊可能である、
カートリッジ。
【請求項２】
前記試薬材料は、流体の形態の少なくとも１つの高分子ポリマーを含む、請求項１に記載のカートリッジ。
【請求項３】
前記流体流路及び前記複数のリザーバは、少なくとも１つの弾性材料により形成される、請求項１に記載のカートリッジ。
【請求項４】
前記生体液が、血液である、請求項１に記載のカートリッジ。
【請求項５】
前記複数のリザーバのうちの少なくとも１つは、出力された流体の分析をするために、分析コンパートメントに接続可能である、請求項１に記載のカートリッジ。
【請求項６】
前記出力された流体は、前記開口のうちの１つを介して前記分析コンパートメントに運ばれる、請求項５に記載のカートリッジ。
【請求項７】
前記開口は、前記複数のリザーバのうちの少なくとも１つに前記生体液を直接導入するための少なくとも１つの開口を含む、請求項１に記載のカートリッジ。
【請求項８】
前記生体液の少なくとも一部は、前記封止材が破られたときに、前記複数のリザーバのうちの少なくとも１つにおいて、前記試薬材料と混合される、請求項１に記載のカートリッジ。
【請求項９】
前記封止材は、再封止可能な封止材である、請求項１に記載のカートリッジ。
【請求項１０】
血液分析器内で使用するための使い捨てカートリッジであって、
血液を含む流体を受けるための入口と、
第１の試薬コンパートメントと、
前記第１の試薬コンパートメント内に前もって収容され、封止された第１の試薬と、
第２の試薬コンパートメントと、
前記第２の試薬コンパートメント内に前もって収容され、封止された第２の試薬と、
前記第１の試薬コンパートメントと前記第２の試薬コンパートメントとを相互に接続するチャネルであって、当該チャネルと、前記第１の試薬コンパートメントと、前記第２の試薬コンパートメントとが、流体流路を画定する、チャネルと、
前記流体流路に関連づけられた少なくとも１つの封止材であって、前記カートリッジが血液分析器に搭載された後、前記流体流路に与えられた圧力が所定の閾値を超えたことに応じて破れる、封止材と、を備え、
前記カートリッジは、前記血液分析器が前記封止材を破り、前記流体の少なくとも一部を前記第１の試薬及び前記第２の試薬のうちの少なくとも１つと混合させることを可能とするように構成される、
使い捨てカートリッジ。
【請求項１１】
前記使い捨てカートリッジは、第３の試薬コンパートメントと、前記第３の試薬コンパートメント内に前もって収容され、封止された第３の試薬と、をさらに含む、請求項１０に記載の使い捨てカートリッジ。
【請求項１２】
前記使い捨てカートリッジは、前記第３の試薬コンパートメントに関連づけられた封止材であって、前記カートリッジが前記血液分析器に搭載された後、前記第３の試薬コンパートメントに与えられた圧力が所定の閾値を超えたことに応じて破れる、封止材と、をさらに含む、請求項１０に記載の使い捨てカートリッジ。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの封止材は、複数の封止材を含み、前記カートリッジは前記血液分析器に当該複数の封止材のうちの各々を異なるタイミングで破れさせる、請求項１０に記載の使い捨てカートリッジ。
【請求項１４】
前記第１の試薬コンパートメント及び前記第２の試薬コンパートメントのうちの少なくとも１つは、出力された流体の分析をするために、分析コンパートメントに接続可能である、請求項１０に記載の使い捨てカートリッジ。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの封止材は、前記封止材に損傷がないときには、前記第１の試薬又は前記第２の試薬が前記入口を介して流れることを防ぐように構成される封止材を含む、請求項１０に記載の使い捨てカートリッジ。
【請求項１６】
前記第１の試薬が前記入口を介して流れるのを防ぐように構成される前記封止材は、再封止可能な封止材である、請求項１５に記載の使い捨てカートリッジ。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの封止材は、前記封止材に損傷がないときには、前記第１の試薬又は前記第２の試薬が前記チャネルを介して流れることを防ぐように構成される封止材を含む、請求項１０に記載の使い捨てカートリッジ。
【請求項１８】
前記第１の試薬コンパートメント及び前記第２の試薬コンパートメントのうちの少なくとも１つは、開口を介して分析コンパートメントに出力された流体を運ぶように構成される、請求項１０に記載の使い捨てカートリッジ。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの封止材は、前記封止材に損傷がないときには、前記第１の試薬又は前記第２の試薬が前記開口を介して流れることを防ぐように構成される封止材を含む、請求項１８に記載の使い捨てカートリッジ。
【請求項２０】
前記第１の試薬及び前記第２の試薬のうちの少なくとも１つは、流体の形態の少なくとも１つの高分子ポリマーを含む、請求項１０に記載の使い捨てカートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月9日(2014.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【図１ａ】本発明の一実施形態によるLCOS光ビームルーティングデバイスの一実施形態を示す図である。
【図１ｂ】デバイスで使用することができるキノフォーム計算処理手順を示す図である。
【図１ｃ】偏波ダイバーシティを組み込んでいるLCOS光ビームルーティングデバイスの一実施形態を示す図である。
【図２ａ】光学ネットワーク中のホログラフィックスイッチの位置を示す図である。
【図２ｂ】ホログラフィック相互接続の光学構成を示す図である。
【図３】テレセントリックfθレンズが焦点面に垂直な角度でビームを集束することになり、その位置は入力フィールド角度に比例することになり、焦点面が平坦であることを示す図である。
【図４】ビーム直径の関数としてのアポディゼーション損失を示すグラフである。
【図５】ホログラフィック光学相互接続用に設計されたLCOSデバイスの寸法を示す図である。
【図６】ホログラム回折効率対出力ユーザの数を示すグラフである。このように、効率が向上すると、ホログラフィック相互接続は、多くのユーザを有するネットワークに最適となる。
【図７】入力ファイバおよび出力ファイバの提案する構成(ここでは、Smax=192)の図である。
【図８】正方形画素形状によって出力面に形成されるシンクエンベロープ(sine envelope)を示すグラフである。ファイバを中心近くに保持すると減衰が低減される。
【図９】シンクエンベロープによる許容損失を有用面積の割合の関数として示すグラフである。2つの星印は、LOISデバイスのための提案した動作点に対応する。
【図１０】2次元シンクエンベロープ減衰を等高線図として示す図である。
【図１１】位相量子化ホログラムの回折効率を示すグラフである。上から、単一スポット生成ホログラム、100スポット生成ホログラム、および10スポット生成ホログラムの効率である。
【図１２】LOISの特性を有するデバイスでのフリンジングフィールドがある場合およびない場合のブレーズドグレーティングの回折効率を示す図である。
【図１３】LOISの特性を有するデバイスでのフリンジングフィールドがある場合およびない場合のブレーズドグレーティングの回折効率を示すグラフである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
2次元では、シンクエンベロープはトップハット関数を形成することになる。ビームが中心の近くに偏向されるほど、減衰は少なくなる。出力面で利用可能な面積は制限されるので、多くのポートが配置されるほど、0次からより遠くに離れたポートは多くの減衰を維持しなければならない。これが、図10に2次元等高線地図で示される。それは、フィルファクタが1であるときの理想的な場合に対応する。それが示すところによれば、シンクエンベロープのために最大-0.5dB損失が許容可能である場合、中央輪郭の面積のみを使用することができる。これは、全出力面面積の0.15の割合に対応する。全面積に対する出力ポートを配置することができる面積の比は、パラメータαで表されることになる。より高い損失が許容可能である場合、αはより大きくなる。-3dBの許容損失では、αは約0.6であり、これは、有用な出力面の面積および出力ポートの数を増加させる。現実のデバイスの損失はフィルファクタの減少に起因してより低くなることになる。シンクエンベロープに起因した所与の効率低下に対する利用可能な面積の量が図9に与えられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
［フリンジングフィールドおよび液晶変形］
LCOSデバイス中の位相変調は、電界によって所望の方位に回転されている液晶材料において行われる。図7は、LCOSデバイス上の液晶層の断面を示す。液晶セルの厚さが増加するとき、画素間の電界は、画素と上部電極との間の電界と比べて増加する。これは、ホログラムの大きい位相転移、特にブレーズドグレーティングの2π位相ジャンプに影響を与えている位相プロファイルに対して平滑化効果を生成する。この2π位相ジャンプは、通常、フライバックと呼ばれる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
［効率］
システム損失のうちのあるものは出力ポートの数によって影響され、あるものは影響されない。システムの効率に影響を与えるすべてのファクタは表1に示される。アポディゼーションおよびフィルファクタは、出力ポートの数に関係なく相互接続に同じ損失を招く(セクション1および2を参照)。それと異なり、ホログラム効率(セクション3および図6)は出力ポートの数に関連する。出力ポートの数Sが分かっておらず、そのため、-0.9dBである最悪シナリオを考える。画素当たり5ビットが使用される場合の位相量子化はごくわずかであり、容易に無視することができる(図11を参照)。最後に、シンクエンベロープ減衰およびフリンジングフィールド損失は一緒に考慮されるべきである。最悪シナリオは、ビームが最大角度で偏向される場合である。α=0.59では、この減衰は-3.2dBであり、一方、α=0.17では、減衰は-1.1dBである。より適切である損失の平均値も計算されており、表1に示された。高損失ファイバ(例えば、相互接続と加入者との間の長距離)は、出力面の中心の方に配置され、低損失リンクは外側の領域に配置されるべきである。損失をすべて一緒に加えることによって、システムの全体的な平均効率は、112ポートがある場合に-1.8dBであり、390ポートがある場合に-2.8dBである。損失は、ユーザの数の減少と見なすこともできる。システムのレーザ源がすべての出力ポートのためにちょうど必要なだけのパワーを有する場合、効率の低減によってユーザの数も減少する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月14日(2014.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メチルパーフルオロヘプテンエーテルと有効量のトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む共沸または共沸様組成物。
【請求項２】
約０℃〜約１６０℃の温度で、約２．１１psia〜約２０７．８psiaの蒸気圧を有する、約０．１モルパーセント〜約９．７モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む請求項１に記載の共沸様組成物。
【請求項３】
前記組成物が、約０℃〜約１６０℃の温度で、約２．１１psia〜約２０７．８psiaの蒸気圧を有する、約０．１モルパーセント〜約９．７モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとから実質的になる請求項１に記載の共沸様組成物。
【請求項４】
約４７．６℃〜約４７．９℃の温度で、約１atmの蒸気圧を有する、約０．１モルパーセント〜約４．７モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む請求項１に記載の共沸様組成物。
【請求項５】
Ａ．表面を、メチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンの共沸または共沸様組成物を含む組成物と接触させる工程と、
Ｂ．前記表面を前記組成物からリカバーする工程と
を含む物品の表面から残渣を除去する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
上に示すとおり、共沸混合物は、鉱油およびシリコーン流体を除去するのに非常に有効である。
なお、本発明は、特許請求の範囲を含め、以下の発明を包含する。
１．メチルパーフルオロヘプテンエーテルと有効量のトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む共沸または共沸様組成物。
２．約０．１モルパーセント〜約９．７モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む１に記載の共沸様組成物。
３．約０℃〜約１６０℃の温度で、約２．１１psia〜約２０７．８psiaの蒸気圧を有する、約０．１モルパーセント〜約９．７モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む１に記載の共沸様組成物。
４．前記組成物が、約０℃〜約１６０℃の温度で、約２．１１psia〜約２０７．８psiaの蒸気圧を有する、約０．１モルパーセント〜約９．７モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとから実質的になる１に記載の共沸様組成物。
５．約４７．６℃〜約４７．９℃の温度で、約１atmの蒸気圧を有する、約０．１モルパーセント〜約４．７モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む１に記載の共沸様組成物。
６．４６℃の温度で、約１atmの蒸気圧を有する、約１．０モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む１に記載の共沸組成物。
７．４６℃の温度で、約１atmの蒸気圧を有する、約１．０モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとから実質的になる１に記載の共沸組成物。
８．約４８．３℃〜約４８．５℃の温度で、約１atmの蒸気圧を有する、約０．６モルパーセント〜約８．７モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む１に記載の共沸様組成物。
９．約４８．３℃〜約４８．５℃の温度で、約１atmの蒸気圧を有する、約０．６モルパーセント〜約８．７モルパーセントのメチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンとから実質的になる１に記載の組成物。
１０．泡立ち点圧力を基準として３％以下である露点圧力と泡立ち点圧力の差を有する１に記載の組成物。
１１．Ａ．表面を、メチルパーフルオロヘプテンエーテルとトランス−１，２−ジクロロエチレンの共沸または共沸様組成物を含む組成物と接触させる工程と、
Ｂ．前記表面を前記組成物からリカバーする工程と
を含む物品の表面から残渣を除去する方法。
１２．前記組成物が、噴射剤をさらに含む１１に記載の方法。
１３．前記噴射剤が、空気、窒素、二酸化炭素、２，３，３，３−テトラフルオロプロペン、トランス−１，３，３，３−テトラフルオロプロペン、１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロペン、ジフルオロメタン、トリフルオロメタン、ジフルオロエタン、トリフルオロエタン、テトラフルオロエタン、ペンタフルオロエタンおよび炭化水素またはジメチルエーテルあるいはこれらの組み合わせを含む１２に記載の方法。
１４．前記組成物が、少なくとも１つの界面活性剤をさらに含む１１に記載の方法。
１５．前記接触が、蒸気脱脂により実施される１１に記載の方法。
１６．前記蒸気脱脂が、
Ａ．前記組成物を沸騰させること、および
Ｂ．前記物品を、前記組成物の蒸気に露出させること
により実施される１１に記載の方法。
１７．前記接触が、前記物品を前記組成物に浸漬する第１の工程により行われ、前記組成物が、周囲温度または室温より高い温度である１１に記載の方法。
１８．前記組成物が、前記組成物の略沸点の温度である１７に記載の方法。
１９．前記物品を前記組成物に浸漬する第２の工程をさらに含み、前記組成物が、前記第１の浸漬工程よりも低い温度である１７に記載の方法。
２０．前記第２の浸漬工程の前記組成物が、周囲温度または室温である１９に記載の方法。
２１．前記組成物を沸騰させる工程と、前記物品を前記沸騰組成物の蒸気に露出する工程をさらに含む１９に記載の方法。
２２．前記組成物が、周囲温度または室温である１１に記載の方法。
２３．前記接触が、前記組成物で飽和した物体で前記表面を拭くことにより実施される１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月7日(2014.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信システムにおいて、複数のセルが構成され、端末においてダウンリンク制御チャネルを受信する方法であって、
前記複数のセルのうちの１つのセルに対するサブフレームを受信するステップであって、該サブフレームは上位層で構成され、前記端末が、該サブフレーム内で、ＰＤＣＣＨ候補に対して複数の検索空間をモニタリングするステップと、
前記サブフレーム内で、前記セルに対するＰＤＣＣＨ候補のセットをモニタリングするステップと、
を有する方法。
【請求項２】
前記上位層は、ＲＲＣ層である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記複数のセルのうち、ダウンリンク伝送が前記サブフレームに制限された１つのセルがある場合、該セルに対応する１以上の検索空間リソースが、他のセルのＰＤＣＣＨ候補又はダウンリンク共有チャネルを伝送するために用いられる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記他のセルの前記ＰＤＣＣＨ候補を伝送するため、前記セルに対応する複数の検索空間が用いられる場合、前記他のセルの前記ＰＤＣＣＨ候補は、同一の情報サイズを持つよう構成され、該同一の情報サイズを持つ前記ＰＤＣＣＨ候補は、ＣＩＦ値を用いて区別される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記他のセルの前記ＰＤＣＣＨ候補を伝送するため、前記セルに対応する複数の検索空間が用いられる場合、前記セルに対応する前記検索空間は、前記複数のセルのうち基準セルの検索空間リソースに統合される、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記ＰＤＣＣＨ候補が始まるリソースは、前記統合された検索空間リソース内で、不連続に構成される、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
前記サブフレームは複数のＯＦＤＭＡシンボルを含み、前記複数の検索空間は、前記サブフレーム内の先頭Ｍ個のＯＦＤＭＡシンボル以外のＯＦＤＭＡシンボル内に設定され、該Ｍは正の整数である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
無線通信システムにおいて、複数のセルが構成され、ダウンリンク制御チャネルを受信する端末であって、
ＲＦモジュールと、
前記ＲＦモジュールを制御するよう構成されたプロセッサと、
を有し、
前記プロセッサは、前記複数のセルのうちの１つのセルに対するサブフレームを受信するよう構成され、該サブフレームは上位層で構成され、端末が、該サブフレーム内で、ＰＤＣＣＨ候補に対して複数の検索空間をモニタリングし、及び前記プロセッサは、前記サブフレーム内で、前記セルに対するＰＤＣＣＨ候補のセットをモニタリングするよう構成される、端末。
【請求項９】
前記上位層は、ＲＲＣ層である、請求項８に記載の端末。
【請求項１０】
前記複数のセルのうち、ダウンリンク伝送が前記サブフレームに制限された１つのセルがある場合、該セルに対応する１以上の検索空間リソースが、他のセルのＰＤＣＣＨ候補又はダウンリンク共有チャネルを伝送するために用いられる、請求項８に記載の端末。
【請求項１１】
前記他のセルの前記ＰＤＣＣＨ候補を伝送するため、前記セルに対応する複数の検索空間が用いられる場合、前記他のセルの前記ＰＤＣＣＨ候補は、同一の情報サイズを持つよう構成され、該同一の情報サイズを持つ前記ＰＤＣＣＨ候補は、ＣＩＦ値を用いて区別される、請求項１０に記載の端末。
【請求項１２】
前記他のセルの前記ＰＤＣＣＨ候補を伝送するため、前記セルに対応する複数の検索空間が用いられる場合、前記セルに対応する前記検索空間は、前記複数のセルのうち基準セルの検索空間リソースに統合される、請求項１０に記載の端末。
【請求項１３】
前記ＰＤＣＣＨ候補が始まるリソースは、前記統合された検索空間リソース内で、不連続に構成される、請求項１０に記載の端末。
【請求項１４】
前記サブフレームは複数のＯＦＤＭＡシンボルを含み、前記複数の検索空間は、前記サブフレーム内の先頭Ｍ個のＯＦＤＭＡシンボル以外のＯＦＤＭＡシンボル内に設定され、該Ｍは正の整数である、請求項８に記載の端末。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月2日(2014.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
架橋タンパク質基質のタンパク質分解を検出または監視する方法であって、
作用電極、対向電極、および架橋タンパク質基質と電気活性種を備える電解液とを接触させることであって、前記架橋タンパク質基質が少なくとも１つの電極の少なくとも一部と接触することと、
前記作用電極に電位を印加することによって、前記作用電極に電気化学電流を生成することと、
複数回、前記電流を測定することと、
測定値のうち少なくとも２つを比較し、前記測定値間の差が前記タンパク質基質の分解を示すことと、
を備える方法。
【請求項２】
前記タンパク質基質が合成タンパク質基質である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記タンパク質基質が担体と共に含有される、あるいはそれ以外の形で連合される、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記タンパク質基質がタンパク質分解阻害剤を欠く、あるいは、対応する自然発生タンパク質基質と比較して量、レベル、または濃度が低下したタンパク質分解阻害剤を備える請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
タンパク質分解活性に関してサンプルを選別する方法であって、
作用電極、対向電極、および架橋タンパク質基質と電気活性種を備える電解液とを接触させることであって、前記タンパク質基質が少なくとも１つの電極の少なくとも一部と接触することと、
タンパク質基質とサンプルとを接触させることと、
電位を前記作用電極に印加することによって前記作用電極に電気化学電流を生成することと、
複数回、前記電流を測定することと、
測定値のうち少なくとも２つを比較し、測定値間の差が前記タンパク質基質の分解を示すことと、
を備える方法。
【請求項６】
前記タンパク質基質が、フィブリン血餅、血餅、多血小板血漿（ＰＲＰ）血塊、またはコラーゲン基質である、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記タンパク質基質が担体と共に含有される、あるいはそれ以外の形で連合される、請求項５または６記載の方法。
【請求項８】
前記担体が多孔性担体である、請求項５〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記サンプル内のプロテアーゼの量または活性を判定することを更に備える、請求項５〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
合成架橋タンパク質基質を備える多孔性担体。
【請求項１１】
前記タンパク質基質がタンパク質分解阻害剤を欠く、あるいは、対応する自然発生タンパク質基質と比較して量、レベル、または濃度が低下したタンパク質分解阻害剤を備える、請求項１０に記載の多孔性担体。
【請求項１２】
前記タンパク質基質が、電気活性種の拡散または移動を実質上阻害する孔径を有する、請求項１０または１１に記載の多孔性担体。
【請求項１３】
前記多孔性担体が、電気活性種の拡散または移動を実質上抑止または妨害しない孔径を有する、請求項１０から１２のいずれかに記載の多孔性担体。
【請求項１４】
前記担体が、吸着剤、濾紙、焼結ガラス、ポリ（フッ化ビニリデン）膜またはゲルから選択される、請求項１０から１３のいずれかに記載の多孔性担体。
【請求項１５】
架橋タンパク質基質のタンパク質分解のボルタンメトリ検出または監視用システムであって、
作用電極と、
対向電極と、
前記作用電極を通過した電流を登録するように構成される電流登録ユニットと、
前記対向電極と前記作用電極とを制御し、前記電流登録ユニットから電流値を複数回読み取るように構成される制御ユニットと、
前記電流値を記憶するデータ記憶ユニットと、
所定の数学モデルを用いて記憶された電流値を解析し、解析結果を出力するように構成される処理ユニットと、
を備えるシステム。
【請求項１６】
前記制御ユニットにより、前記作用電極に第１の電位が印加され、前記対向電極に第２の電位が印加される、請求項１５記載のシステム。
【請求項１７】
前記対向電極または作用電極の少なくとも一部と接触するタンパク質基質をさらに備える、請求項１５または１６記載のシステム。
【請求項１８】
前記対向電極が基準電極と補助電極を備える、請求項１５〜１７のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１９】
前記作用電極、前記対向電極、前記電流登録ユニット、および前記制御ユニットが、前記電流値を外部データ記憶ユニットおよび処理ユニットに出力するように配置される１つの装置として一体化される請求項１５記載のシステム。
【請求項２０】
前記作用電極、前記対向電極、前記電流登録ユニット、前記制御ユニット、前記データ記憶ユニット、および前記処理ユニットが、解析結果を出力するように配置される１つの装置として一体化される請求項１５記載のシステム。
【請求項２１】
合成タンパク質基質及び前記タンパク質基質と接触する電極を備えるキット。
【請求項２２】
前記タンパク質基質が担体内に含有される、あるいはそれ以外の形で連合される、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記担体が吸着剤、濾紙、焼結ガラス、ポリ（フッ化ビニリデン）膜またはゲルから選択される請求項２２記載のキット。
【請求項２４】
既知のレベルのタンパク質分解活性を有する少なくとも１つの制御サンプルをさらに備える請求項２２記載のキット。
【請求項２５】
前記タンパク質基質がタンパク質分解阻害剤を欠く、あるいは、対応する自然発生タンパク質基質と比較して量、レベル、または濃度が低下したタンパク質分解阻害剤を備える請求項２１記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月24日(2014.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
縫い目ロックアセンブリであって、
第１区分及び第２区分を含む縫合糸の共通ストランドを備え、
前記縫合糸の共通ストランドは、長さを画定するように中央軸線に沿って細長く、
前記第１区分は、前記第２区分の前記長さの一部分に沿って少なくとも前記第２区分内に編み込まれ、これによって少なくとも前記第２区分内に編み込まれる、前記第１区分の少なくとも２つの編まれた区分を有する縫い目ロック部を画定し、前記編まれた区分それぞれは、少なくとも、前記第１区分が前記第２区分に入るそれぞれの入口位置、及び前記編まれた区分のうちの少なくとも１つが前記第２区分から出るそれぞれの出口位置によって画定され、
前記縫い目ロック部は、１）前記第２区分が、張力の閾値未満である張力の第１水準において引張状態にあるとき、前記第１区分の前記編まれた区分が、前記第２区分を通って並進し、２）前記第２区分が、前記張力の閾値に少なくとも実質的に等しい張力の第２水準において引張状態にあるとき、前記第１区分の前記編まれた区分が前記第２区分を通って並進するのを防止するように、前記第２区分が前記第１区分に圧縮力をかけるように、構成され、
前記共通ストランドは、第１アンカー及び第２アンカーに取り付けられ、前記第１アンカー及び前記第２アンカーは、対応する第１アンカー本体及び第２アンカー本体、並びに対応する第１作動部材及び第２作動部材を含み、前記第１作動部材及び前記第２作動部材は、前記対応する第１アンカー本体及び第２アンカー本体を拡張させる、対応する作動力を受け取るように構成され、前記共通ストランドは、前記第１作動部材及び前記第２作動部材のうちの少なくとも１つを画定し、
前記共通ストランドは、Ａ）前記第１アンカー本体及び前記第２アンカー本体を拡張させて拡張構成にするよう前記対応する作動力を受け取り、Ｂ）前記第１区分が前記第２区分を通って並進するにつれて、前記第１アンカー及び前記第２アンカーを互いに向けて付勢するように、構成される、縫い目ロックアセンブリ。
【請求項２】
前記中央軸線は、前記第１区分により画定される前記中央軸線の第１部分、及び前記第２区分により画定される前記中央軸線の第２部分を含み、前記中央軸線の前記第１部分は、前記それぞれの入口位置において前記中央軸線の第２部分に対する角度を画定し、該角度は、約０度〜約１８０度であり、かつこれらを含む、請求項１に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項３】
隣接する編まれた区分が、約０ｍｍ〜約３ｍｍを含む距離だけ離間されている位置において、少なくとも前記第２区分内に延びる、請求項１に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項４】
前記第１作動部材が、前記第１区分及び前記第２区分を画定する、請求項１に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項５】
前記共通ストランドは、前記縫い目ロック部によって閉じられるループを画定し、該ループは、前記第１区分が前記第２区分を通って並進するにつれて、寸法が減少するように構成される、請求項１に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項６】
前記ループが、少なくとも１つの対応する第１アンカー及び第２アンカーに摺動可能に取り付けられる、請求項５に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項７】
前記共通ストランドは、前記縫い目ロック部によって閉じられるループを画定し、前記ループは、前記第１アンカー本体及び前記第２アンカー本体のうちの少なくとも１つに取り付けられ、これによって前記第１アンカー本体及び前記第２アンカー本体は、前記第２区分を通る前記第１区分の並進に反応して、前記ループが寸法を減少させるにつれて、互いに向けて付勢される、請求項１に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項８】
前記ループが前記第１アンカー本体及び前記第２アンカー本体のうちの前記少なくとも１つのアイレットに取り付けられる、請求項７に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項９】
前記第１アンカー本体及び前記第２アンカー本体が、前記対応する作動力に反応して第１構成から拡張構成へと拡張するように構成され、
前記対応する第１アンカー本体及び第２アンカー本体が第１構成にあるとき、前記ループが前記第１アンカー本体及び前記第２アンカー本体のうちの前記少なくとも１つを通って編まれる、請求項７に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項１０】
前記縫い目ロック部が第１縫い目ロック部であり、前記共通ストランドは第２縫い目ロック部を更に画定し、前記第２縫い目ロック部は、第１区分及び第２区分を含み、前記第２縫い目ロック部の前記第１区分は、前記第２縫い目ロック部の前記第２区分に少なくとも編み込まれる、請求項９に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項１１】
前記ループは、前記第１縫い目ロック部によって閉じられる第１ループであり、前記共通ストランドは、前記第２縫い目ロック部によって閉じられる第２ループを画定し、前記第１ループは前記第１アンカー本体に取り付けられ、前記第２ループは前記第２アンカー本体に取り付けられる、請求項１０に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項１２】
前記共通ストランドが、前記第１アンカー本体及び前記第２アンカー本体とは別個であり、かつこれに取り付けられる、請求項６に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項１３】
前記共通ストランドが、前記第１作動部材及び前記第２作動部材を画定する、請求項９に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項１４】
前記第１縫い目ロック部の前記第１区分が、前記第１作動部材により画定され、前記第１縫い目ロック部の前記第２区分が、前記第１作動部材により画定される、請求項１０に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【請求項１５】
前記第２縫い目ロック部の前記第１区分が、前記第２作動部材により画定され、前記第２縫い目ロック部の前記第２区分が、前記第２作動部材により画定される、請求項１４に記載の縫い目ロックアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月11日(2014.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの履き物に対する用途に適合されたソールであって、
つま先領域、前足部領域、アーチ領域、及び、踵領域を備え、
前記つま先領域、アーチ領域及びヒール領域の少なくとも１つが少なくとも１つの柔軟性の繊維強化層を備え、
前記前足部領域は少なくとも１つの柔軟性の繊維強化層を介在させた少なくとも１つの剛性の繊維強化層を備えるソール。
【請求項２】
前記少なくとも１つの柔軟性の繊維強化層及び前記少なくとも１つの剛性の繊維強化層は、ホモポリマー、コポリマー、ポリマー合金およびこれらの組合せから成る群から選択されたポリマー材料を含む、請求項１に記載のソール。
【請求項３】
前記少なくとも１つの柔軟性の繊維強化層及び前記少なくとも１つの剛性の繊維強化層は、ビニールエステル、エポキシ、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリビニル、ポリアクリル酸、ポリハロオレフィン、ポリジエン、ポリオキシド、ポリエステル、ポリアセタール、多硫化物、ポリチオエステル、ポリアミド、ポリチオアミド、ポリウレタン、ポリチオウレタン、ポリ尿素、ポリチオ尿素、ポリイミド、ポリチオイミド、ポリ酸無水物、ポリチオ無水物、ポリカーボネート、ポリチオカーボネート、ポリイミン、ポリシロキサン、ポリシラン、ポリホスファゼン、ポリケトン、ポリチオケトン、ポリスルホン、ポリスルフォキシド、ポリスルホン酸塩、ポリスルホアミド、ポリフィレン、およびこれらの組合せから成る群から選択されたポリマー材料を含む請求項１に記載のソール。
【請求項４】
前記少なくとも１つの柔軟性の繊維強化層及び前記少なくとも１つの剛性の繊維強化層は、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ、グラフェンナノリボン、炭素繊維、ガラス繊維、レーヨン繊維、絹繊維、金属繊維、ナイロン繊維、オレフィン繊維、アクリル繊維、ポリエステル繊維、アラミド繊維およびこれらの組合せから成る群から選択された繊維を含む請求項１に記載のソール。
【請求項５】
前記剛性の繊維強化層は前記柔軟性の繊維強化層と少なくとも同じ厚さを有する請求項１に記載のソール。
【請求項６】
前記剛性の繊維強化層は変形不可能であり、前記柔軟性の繊維強化層は変形可能である請求項１に記載のソール。
【請求項７】
１〜４個の前記柔軟性の繊維強化層と、１〜１１個の前記剛性の繊維強化層とを更に備える請求項１に記載のソール。
【請求項８】
前記つま先領域、アーチ領域、及び踝領域は、異なる数の前記少なくとも１つの柔軟性の繊維強化層を含む請求項１に記載のソール。
【請求項９】
前記少なくとも１つの柔軟性の繊維強化層は、通常の磨耗、せん断応力、ねじり応力、あるいは、これらの組合せに応じて変形するように構成される請求項１に記載のソール。
【請求項１０】
前記柔軟性の繊維強化層は、適度な横方向または直角方向の負荷、あるいは、それらの組合せに対して、最小限の剛性を有するように構成される請求項１に記載のソール。
【請求項１１】
前記柔軟性の繊維強化層および前記剛性の繊維強化層は軸線に対して０度から１８０度の間の角度で配向された繊維を含む請求項１に記載のソール。
【請求項１２】
繊維強化層は軸線に対して不規則に配向された繊維を含む請求項１に記載のソール。
【請求項１３】
履き物のアウトソール、ミッドソール、またはインソールとして形成される請求項１に記載のソール。
【請求項１４】
前記ソールはアウトソールであり、少なくとも１つの突起および少なくとも１つのクリート・アタッチメント空間を更に備え、
前記前足部領域は前記つま先領域とアーチ領域との間に配置され、
前記アーチ領域は前記前足部領域と踝領域との間に配置され、
前記つま先領域、前足部領域、アーチ領域および踝領域からなる群から選択された少なくとも２つの領域は、繊維の数、繊維の配向、層の数、層の形状、および層の配向からなる群から選択された少なくとも１つの構成要素における少なくとも１つの相違により、剛性に関して互いに異なる請求項１に記載のソール。
【請求項１５】
請求項１に記載のソールを形成する方法であって、
前記前足部領域の１つ以上のプリプレグ層を金型に配置することと、
前記前足部領域、つま先領域、アーチ領域、踝領域、およびそれらの組合せからなる群から選択された第２の領域の１つ以上のプリプレグ層を金型に配置して、第１のアセンブリを形成することと、
熱及び圧力の一方または両方を前記第１のアセンブリに加えて、複合材を形成することと
を備える方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】履き物に使用するソールおよびその形成方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
いくつかの実施形態において、アウトソール要素１８は、ホモポリマー、コポリマー、ポリマー合金またはこれらの組合せのうちの１つ以上を含むポリマー材料であり、この場合、当該ポリマー材料は、ビニールエステル、エポキシ、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリビニル、ポリアクリル酸、ポリハロオレフィン、ポリジエン、ポリオキシド、ポリエステル、ポリアセタール、多硫化物、ポリチオエステル、ポリアミド、ポリチオアミド、ポリウレタン、ポリチオウレタン、ポリ尿素、ポリチオ尿素、ポリイミド、ポリチオイミド、ポリ酸無水物、ポリチオ無水物、ポリカーボネート、ポリチオカーボネート、ポリイミン、ポリシロキサン、ポリシラン、ポリホスファゼン、ポリケトン、ポリチオケトン、ポリスルホン、ポリスルフォキシド、ポリスルホン酸塩、ポリスルホアミド、ポリフィレン、およびこれらの組合せおよび／または混合物のうちの１つ以上を含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
複合材要素１４の屈曲性に影響を与える別の要因は、各繊維強化層の構造および厚さである。いくつかの実施形態においては、各繊維強化層は、樹脂部材と繊維含有部材とを備える。当該樹脂部材は、ホモポリマー、コポリマー、ポリマー合金またはこれらの組合せのうちの１つ以上を含むことができ、およびそのポリマー材料は、ビニールエステル、エポキシ、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリビニル、ポリアクリル酸、ポリハロオレフィン、ポリジエン、ポリオキシド、ポリエステル、ポリアセタール、多硫化物、ポリチオエステル、ポリアミド、ポリチオアミド、ポリウレタン、ポリチオウレタン、ポリ尿素、ポリチオ尿素、ポリイミド、ポリチオイミド、ポリ酸無水物、ポリチオ無水物、ポリカーボネート、ポリチオカーボネート、ポリイミン、ポリシロキサン、ポリシラン、ポリホスファゼン、ポリケトン、ポリチオケトン、ポリスルホン、ポリスルフォキシド、ポリスルホン酸塩、ポリスルホアミド、ポリフィレン、およびこれらの組合せおよび／または混合物のうちの１つ以上を含む。当該繊維含有部材は、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ、グラフェンナノリボン、炭素繊維、ガラス繊維、レーヨン繊維、絹繊維、金属繊維、ナイロン繊維、オレフィン繊維、アクリル繊維、ポリエステル繊維およびアラミド繊維、およびこれらの組合せを含むことができる。