Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月20日(2003.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）式（Ｉ）
【化１】
1997188712.tif 000001
〔式中、Ｍ1は元素周期表中第ＩＶｂ族の金属であり、
Ｒ1 およびＲ2 は同一かまたは異なり、それぞれ水素原子、Ｃ1 −Ｃ10アルキル基、Ｃ1 −Ｃ10アルコキシ基、Ｃ6 −Ｃ20アリール基、Ｃ6 −Ｃ10アリールオキシ基、Ｃ2 −Ｃ10アルケニル基、ＯＨ基、ＮＲ122 基（式中Ｒ12はＣ1 −Ｃ2アルキル基もしくはＣ6 −Ｃ14アリール基）またはハロゲン原子であり、
Ｒ3 ないしＲ8 およびＲ3'ないしＲ8'は同一かまたは異なり、それぞれ水素原子、線状、環状または分枝状であることができるＣ1 −Ｃ40炭化水素基、たとえばＣ1 −Ｃ10アルキル基、Ｃ2 −Ｃ10アルケニル基、Ｃ6 −Ｃ20アリール基、Ｃ7 −Ｃ40アリールアルキル基、Ｃ7 −Ｃ40アルキルアリール基もしくはＣ8−Ｃ40アリールアルケニル基であるか、または隣接基Ｒ4ないしＲ8および／もしくはＲ4'ないしＲ8'は該基に結合する原子とともに環系を形成し、Ｒ9は結合橋架基、好ましくは下記であり、
【化２】
1997188712.tif 000002
（式中、Ｒ10およびＲ11は同一かまたは異なり、それぞれ水素原子、ハロゲン原子またはＣ1 −Ｃ40基であるか、またはＲ10およびＲ11は該基に結合する原子とともに１つ以上の環を形成し、
またｘはゼロから１８の整数であり、
Ｍ2 はケイ素、ゲルマニウムまたはスズで、
環ＡおよびＢは同一かまたは異なり、飽和または不飽和である）
Ｒ9 は式Ｉの２つの単位を相互に結合することもでき、
式（Ｉ）のメタロセンが嵩高い場合には、インデニル配位子又はテトラヒドロインデニル配位子が２位、２，４位、４，７位、２，６位、２，４，６位、２，５，６位、２，４，５，６位、２，４，５，６，７位で置換されている。〕
の少なくとも１種のメタロセン成分を少なくとも１種の溶剤中で少なくとも１種の助触媒成分と接触せしめ、
ｂ）得られた可溶生成物を担体物質に加え、次いで
ｃ）前記溶剤を除去する
ことによって得ることができ、予備活性化時間は５時間〜２０時間である、高活性の担持触媒系。
【請求項２】
ｄ）前記担体触媒系を単離して
ｅ）少なくとも１種のオレフィンモノマーを予備重合させることによって得られる請求項１に記載の担持触媒系。
【請求項３】
前記助触媒成分がアルミノオキサン類またはルイス酸またはメタロセンと反応してメタロセンをカチオン化合物に変えるイオン性化合物より成る群から選ばれる少なくとも１種の化合物である請求項１ないし２のいずれか１つの項に記載の担持触媒系。
【請求項４】
使用する前記担体物質が粉末としてのシリカゲルである請求項１ないし３のいずれか１つの項に記載の担持触媒系。
【請求項５】
Ｍ1 がジルコニウムまたはハフニウムである請求項１ないし４のいずれか１つの項に記載の担持触媒系。
【請求項６】
Ｒ1 およびＲ2 が同一で、メチルまたは塩素、とくに塩素であり、またＲ9 がＭ2 Ｒ10Ｒ11（式中、Ｍ2 はケイ素またはゲルマニウム、Ｒ10およびＲ11はそれぞれＣ1 −Ｃ20炭化水素基、たとえばＣ1 −Ｃ10アルキルまたはＣ6 −Ｃ14アリール）である請求項１ないし５のいずれか１つの項に記載の担持触媒系。
【請求項７】
ａ）請求項１ないし５のいずれか１項に記載の少なくとも１種のメタロセン成分（Ｉ）を少なくとも１種の溶剤中で少なくとも１種の助触媒成分と接触せしめ、
ｂ）得られた可溶生成物を担体物質に加え、次いで
ｃ）前記溶剤を除去する
ことによって得ることができ、予備活性化時間は５時間〜２０時間である、請求項１ないし６のいずれか１項に記載の項活性を有する担体触媒系を調製する方法。
【請求項８】
請求項１ないし６のいずれか１つの項に記載の少なくとも１種の触媒系の存在下で１種以上のオレフィンを重合させることによるポリオレフィン調製法。
【請求項９】
式Ｒm −ＣＨ＝ＣＨ−Ｒn （式中、Ｒm およびＲn は同一かまたは異なり、それぞれ水素原子または炭素原子が１ないし２０個の炭素含有基であり、Ｒm およびＲn はそれらに結合する原子とともに１つ以上の環を形成することができる）を有する少なくとも１種のオレフィンを重合させる請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
ポリオレフィンを調製するための、請求項１ないし６のいずれか１つの項に記載の少なくとも１種の触媒系の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月6日(2003.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器（３，７３）または導管の内室（２８，８９）を取り囲むための壁構造であって、少なくとも１つの壁部分（９，１０，１１，７７）が設けられており、該壁部分（９，１０，１１，７７）が内面（１０３ｃ）を有していて、少なくとも１つの窓（６１，６２，６３，６４，９４）を備えており、かつ該窓を取り囲んでおり、該窓（６１，６２，６３，６４，９４）が、内面（１０５ａ）と周面（１０５ｃ）とを備えた、前記内室（２８，８９）に隣接する少なくとも１つのガラス板（１０５，１２５）を有している形式のものにおいて、単数又は複数の窓（６１，６２，６３，６４，９４）が、該窓に所属する単数又は複数のガラス板（１０５，１２５）を取り囲む、密にガラス板の周面（１０５ｃ）に結合されたフレーム（１０６，１２６）を有していて、該フレームが、前記内室（２８）に隣接する内面（１０６ａ）を有しており、フレーム（１０６，１２６）が、付加的な結合部材（１０７，１２７，１３７）を介して内面（１０７ｄ）に又は直接壁部分（９，１０，１１，７７）に密にしかも解離不能に結合されており、同一の窓（６１，６２，６３，６４，９４）及び該窓を取り囲む壁部分（９，１０，１１，７７）に属する前記内面（１０５ａ，１０６ａ，１０７ｄ，１０３ｃ，）が、段部を形成することなくしかも継ぎ目なく互いに結合されていることを特徴とする、壁構造。
【請求項２】
単数又は複数のガラス板（１０５，１２５）が、非・ゴム弾性的な構成部材（１０６，１０７，１２６，１２７，１３７）によるだけで単数又は複数の壁部分（９，１０，１１，７７）に結合されている、請求項１記載の壁構造。
【請求項３】
前記単数又は複数の壁部分（９，１０，１１，７７）、フレーム（１０６，１２６）及び必要であれば単数又は複数のガラス板（１０５，１２５）を単数又は複数の壁部分（９，１０，１１，７７）に結合するために設けられる各結合部材（１０７，１２７，１３７）が、金属性の材料から形成されている、請求項１又は２記載の壁構造。
【請求項４】
フレーム（１０６，１２６）が、場合によって設けられる結合部材（１０７，１２７，１３７）を介して又は直接壁部分（９，１０，１１，７７）に溶接されている、請求項３記載の壁構造。
【請求項５】
単数又は複数の窓（６１，６２，６３，９４）の単数又は複数のガラス板（１０５，１２５）及びフレーム（１０６，１２６）が、互いに解離不能に結合されていてかつ協働して平らな複合板（１０４，１２４）を形成している、請求項１から４までのいずれか１項記載の壁構造。
【請求項６】
単数又は複数の窓（６１，６２，６３，６４，９４）のために、窓のフレーム（１０６，１２６）を取り囲む、本来壁部分（９，１０，１１，７７）及びフレーム（１０６，１２６）とは別個の結合部材（１０７，１２７，１３７）が設けられていて、該結合部材が、少なくとも１つの結合部（１１１，１１２）によってフレーム（１０６，１２６）にかつフレームから間隔をおいて位置する少なくとも１つの結合部（１０９，１１０）によって、単数又は複数の壁部分（９，１０，１１，７７）に結合されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の壁構造。
【請求項７】
同じ窓（６１，６２，６３，６４，９４）に属する単数又は複数のガラス板（１０５，１２５）、前記窓（６１，６２，６３，６４，９４）に属するフレーム（１０６，１２６）及び前記窓（６１，６２，６３，６４，９４）に属する結合部材（１０７，１２７，１３７）の内面（１０５ａ，１０６ａ，１０７ｄ）が、平でありかつ共通の平面内に位置しており、当該窓（６１，６２，６３，６４，９４）に結合された壁部分（９，１０，１１，７７）が、結合部材（１０７，１２７，１３７）に突き合わされる接続区分（１０３ｂ）を有していて、該接続区分の内面が、窓（６１，６２，６３，６４，９４）を通る断面でみて結合部材（１０７，１２７，１３７）の内面（１０７ｄ）に対して直線的でしかも平行でありかつ該内面に合致して接続されているか及び／又は結合部材（１０７，１２７，１３７）の内面（１０７ｄ）と少なくとも９０度、有利には９０度以上の角度を成している、請求項６記載の壁構造。
【請求項８】
単数又は複数の窓（６１，６２，６３，６４，９４）の結合部材（１０７，１２７，１３７）が、ウエブ（１０７ａ）及び該ウエブから離反してフレーム（１０６，１２６）に向けて突出する２つの脚部（１０７ｂ，１０７ｃ）を有していて、該脚部の１つが内室（２８，８９）に隣接している、請求項６又は７記載の壁構造。
【請求項９】
結合部材（１０７，１２７）の両脚部（１０７ｂ，１０７ｃ）が、フレーム（１０６，１２６）の周面（１０７ｄ）に突き合わされていてかつ互いに逆向きの互いに平行な平らな面を有していて、該面のそれぞれが、ガラス板（１０５，１２５）の平らな面（１０５ａ，１０５ｂ）及びフレーム（１０６，１２６）の平らな面（１０６ａ，１０６ｂ）と共に共通の平面内に位置している、請求項８記載の壁構造。
【請求項１０】
結合部材（１０７，１２７，１３７）が横断面Ｕ字形でありかつ内室（２８，８９）に隣接する脚部（１０７ｂ）の、ウエブ（１０７ａ）に関連した端部において壁部分（９，１０，１１，７７）に結合されている、請求項８又は９記載の壁構造。
【請求項１１】
両脚部（１０７ｂ，１０７ｃ）が、相互間隔（ａ）を置いて位置する互いに向かい合う面を有しており、各脚部（１０７ｂ，１０７ｃ）が、横断面でみて高さ（ｈ）を有しており、この高さが、フレーム（１０６，１２６）に面したウエブ（１０７ａ）の面とウエブとは反対側の脚部（１０７ｂ，１０７ｃ）の端部との間で測定されかつ間隔（ａ）の少なくとも５０パーセントであり、各脚部（１０７ｂ，１０７ｃ）が、高さ（ｈ）の最高で２５パーセントである厚さ（ｓ）を有している、請求項８から１０までのいずれか１項記載の壁構造。
【請求項１２】
単数又は複数の壁部分（９，１０，１１，７７）が、軸線（４）を取り囲む、該軸線に対してほぼ回転対称的な一体の周壁（１０３ａ）を有していて、該周壁が、単数又は複数の窓（６１，６２，６３，６４，９４）の結合部材（１０７，１２７，１３７）に結合されている、請求項１から１１までのいずれか１項記載の壁構造。
【請求項１３】
浄化液体を内室（２８，８９）内でスプレーしかつこれによって内室（２８，８９）に隣接する、単数又は複数の壁部分（９，１０，１１，７７）及び窓（６１，６２，６３，６４，９４）の内面を浄化するために、少なくとも１つの浄化装置（４１，４５，，５１，５５，８５，８６）が設けられている、請求項１から１２までのいずれか１項記載の壁構造。
【請求項１４】
請求項１から１３までのいずれか１項記載の壁構造（５，７５）と、該壁構造（５，７５）により取り囲まれた内室（２８，８９）とを備えた容器において、内室（２８，８９）が、微粒子状原料を受容、運動及び処理するためのプロセス室（２８ｂ）を有していて、かつ／又は微粒子状原料を介して案内されるガスをろ過するのに用いられることを特徴とする容器。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月10日(2003.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記成分を含有する染料濃厚水溶液：
（Ａ）
（ａ）溶液の重量を基準にして、下記式の赤色染料
【化１】
1997188829.tif 000001
（式中、
ＲとＲ１とは互いに独立的に水素、Ｃｌ，  メチルまたはメトキシ、
Ｒ２とＲ３とは互いに独立的に水素、メチルまたはメトキシ、
Ｒ４とＲ５とは互いに独立的に水素またはＣ１−Ｃ４アルキル、
Ａは直鎖状または分枝状アルキレン基であり、この基はＯによって中断されることができる、
Ｒ６とＲ７とは互いに独立的に水素またはＣ１−Ｃ６−アルキルであるか、または
Ｒ６とＲ７とはそれらが結合しているＮ原子と一緒に、置換されているか、または置換されていない、そしてさらにヘテロ原子を含有することができる５員、６員または７員の環を形成する）を少なくとも５重量％、
（ｂ）ギ酸またはＣ１−Ｃ４アルキルカルボン酸、
（ｃ）可溶化剤、
（ｄ）水、
および場合によっては、
（ｅ）さらに添加剤、
または
（Ｂ）
（ａ）溶液の重量を基準にして、上記式（１）の赤色染料を少なくとも５重量％、
（ｂ）ギ酸またはＣ１−Ｃ４アルキルカルボン酸、
（ｃ）水、
および場合によっては、
（ｅ）さらに添加剤、ただし、この溶液は可溶化剤を含有せず、そしてアルカリ金属ハロゲン化物の含量は、溶液の全重量を基準にして、０．１重量％以下である。
【請求項２】
下記成分を含有する請求項１記載の染料濃厚水溶液：
（ａ）溶液の重量を基準にして少なくとも５重量％の下記式の赤色染料
【化２】
1997188829.tif 000002
（式中、
ＲとＲ１とは互いに独立的に水素、Ｃｌ，  メチルまたはメトキシ、
Ｒ２とＲ３とは互いに独立的に水素、メチルまたはメトキシ、
Ｒ４とＲ５とは互いに独立的に水素またはＣ１−Ｃ４アルキル、
Ａは直鎖状または分枝状アルキレン基であり、この基はＯによって中断されることができる、
Ｒ６とＲ７とは互いに独立的に水素またはＣ１−Ｃ６−アルキルであるか、または
Ｒ６とＲ７とはそれらが結合しているＮ原子と一緒に、置換されているか、または置換されていない、そしてさらにヘテロ原子を含有することができる５員、６員または７員の環を形成する）、
（ｂ）ギ酸またはＣ１−Ｃ４アルキルカルボン酸、
（ｃ）可溶化剤、
（ｄ）水、
および場合によっては、
（ｅ）さらに添加剤。
【請求項３】
ＲとＲ１とが、それぞれ水素、メチルまたはメトキシである請求項１または２に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項４】
ＲとＲ１とが、それぞれ水素である請求項３に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項５】
Ｒ２とＲ３とが、それぞれ水素である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項６】
Ｒ４とＲ５とが、それぞれメチルまたは水素である請求項１乃至５のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項７】
Ａが式−（ＣＨ２）ｎ−（ここにおいて、ｎは２乃至６の整数である）の基である請求項１乃至６のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項８】
Ａがエチレン、ｎ−プロピレン、イソプロピレンまたはｎ−ブチレンである請求項７に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項９】
Ｒ６とＲ７とが、互いに独立的に置換されていないＣ１−Ｃ４アルキルである請求項１乃至８のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項１０】
Ｒ６とＲ７とが同種であって、それぞれメチルまたはエチルである請求項９に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項１１】
スルホ基がアゾ基に対してｍ−位置またはｐ−位置に存在している請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項１２】
溶液の重量を基準にして、染料を６乃至２０重量％含有している請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項１３】
溶液の重量を基準にして、染料を８乃至１０重量％含有している請求項１２に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項１４】
下記式の染料を含有している請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液：
【化３】
1997188829.tif 000003
（式中、
ｍは２、３または４、
Ｒ６とＲ７とはそれぞれＣ１−Ｃ２アルキルである）。
【請求項１５】
可溶化剤として下記の群の１つの化合物を含有している請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液：
（Ｉ）Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボン酸のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩、
(II)低分子量の酸アミド、
(III)低分子量のラクタムまたはラクトン、
(IV)アルカノールアミン、またはエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシドとアルカノールアミンとの反応生成物。
【請求項１６】
可溶化剤として酢酸ナトリウムまたは酢酸アンモニウム、ホルムアミド、尿素、ε−カプロラクタムまたは下記式
【化４】
1997188829.tif 000004
（式中、
ｐは１乃至６の整数、
Ｒ８とＲ９とは、一方が水素であり、そして他方が水素またはメチルである）を含有している請求項１５に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項１７】
ｐが１である請求項１６に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項１８】
群（Ｉ）の可溶化剤を、溶液の重量を基準にして、１乃至５重量％の量で含有するか、または群(II)、(III)または(IV)の可溶化剤を、溶液の重量を基準にして、３乃至２０重量％の量で含有している請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項１９】
群（Ｉ）の可溶化剤を、溶液の重量を基準にして、１乃至３重量％の量で含有するか、または群(II)、(III)または(IV)の可溶化剤を、溶液の重量を基準にして、６乃至１５重量％の量で含有している請求項１８に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項２０】
Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボン酸を、溶液の重量を基準にして、３乃至２０重量％の量で含有している請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項２１】
Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボン酸を、溶液の重量を基準にして、６乃至１５重量％の量で含有している請求項２０に記載の染料濃厚水溶液。
【請求項２２】
請求項１に記載の式（１）の染料の濃厚水溶液の製造方法において、染料製造中に得られる染料懸濁物を濾過し、そして場合によっては、脱塩し、次いで、攪拌しながら、Ｃ１−Ｃ４アルキルカルボン酸、可溶化剤、および場合によっては、さらに添加剤を加え、そして最後に水を用いて所望の濃度に調整することを特徴とする方法。
【請求項２３】
請求項１記載の染料濃厚水溶液を、紙の染色に使用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月24日(2003.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明による方法は、少なくとも２つの吸着帯域を使用しており、前記帯域の少なくとも１つの帯域は、吸着および脱着の正常運転の操作を交互に行い、脱着回路では、処理済ガスの一部が不純物で満たされた床を再生するために再使用される。使用される分子ふるい（モレキュラーシーブ）は、当業者に周知のものであり、例えばＡ、特に５Ａ、ＸおよびＹ、あるいはＭＦＩ型である。該分子ふるいは、別々にあるいは混合状で、貯蔵工程での付臭剤の吸着と同じく搬出工程でのＨ２  ＳおよびＨ２  Ｏの吸着にも適用される吸着剤を構成する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月31日(2003.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記工程からなるインキ濃縮物の製造方法：
（ａ）粗金属フタロシアニンを摩砕してその粒子サイズを減少させ、それによって変性された粗金属フタロシアニンを形成し、そして
（ｂ）変性された粗金属フタロシアニンとインキビヒクルとの混合物（この金属フタロシアニンは混練混合物の２０重量％乃至８０重量％の量で存在する）を混練し、インキビヒクルに分散された顔料型の金属フタロシアニンを含有するインキ濃縮物を得る、
ここで、混練工程（ｂ）の間に与えられるせん断勾配が３００乃至２００００Ｓ−１であり、インキビヒクルが、バインダー及び粗金属フタロシアニンの重量基準で、０．１乃至１００重量％、好ましくは１５乃至５０重量％の、少なくとも１２個の炭素原子を有する脂肪族アルコールおよび少なくとも４個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸から選択される、１種またはそれ以上のインキ溶媒からなる。
【請求項２】
工程（ａ）において粗金属フタロシアニンが、粗金属フタロシアニンの重量基準で、０．１乃至５０重量％の樹脂および／または０．１乃至２０重量％の有機液体との混合物である請求項１記載の方法。
【請求項３】
混練工程（ｂ）が押出し機で実施される請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
印刷インキを製造するための請求項１、２または３に記載の方法によって得られたインキ濃縮物の使用。
【請求項５】
請求項１、２または３に記載の方法によって得られたインキ濃縮物をさらにインキビヒクルの添加により希釈する印刷インキの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月10日(2003.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
高品質分散物を製造するためのフラッシュ法における、たとえば、プレスケーキの使用および上記した顔料の親油性の利用の背景にある基本的要因は、有機顔料がその製造の乾燥工程中において不可逆的に集合および／または団塊化し、そのために効果的にフラッシングされず、分散不良となるということである。その結果、得られる顔料濃縮物は、たとえば特公昭６１−２３９１６号（1986年）、米国特許第４６０１７５９号（1986年）、欧州特許第２７３２３６号（1982年）に記載されているように、使用上望ましくない結果をもたらす。プレスケーキを使用する方法ばかりでなく、より近年では、顔料の合成終了後、濾過前に、直接”バット内(in-vat)”においてフラッシングを実施する方法が開示されている。たとえば、国際条約特許ＷＯ８９１２０７５号（1989）、米国特許第４７６５８４１号(1988)、米国特許第４２５５３７５号(1981)および欧州特許第３１９６２８Ｂ号(1987)に記載されている。これらの方法は生成物はビーズ様生成物を生成し、上記した文献のいくつかに記載されているよりも慣習的なフラッシュ濃縮物と同様に使用されている。フラッシュ法の実施において、これらの文献は高エネルギーミキサーまたはニーダー、たとえばシグマ−ブレードニーダーのごとき従来フラッシュ法において慣用的に使用されてきた装置を記載している。工程中、水相は傾瀉によって除去され、そしてさらに、たとえばプレスケーキとキャリヤーとが添加される。そして所望のフラッシュ濃縮物に到達するまで、この工程が繰り返される。このようなフラッシング技法の使用は、いくつかの特定の問題、たとえば乾燥時における親水性凝集、摩砕処理、通常の顔料粉末製造に伴う粉じんの問題などを回避するけれども、フラッシングには欠点がないわけではない。たとえば、次のような問題がある。
１．  標準化されていないプレスケーキを使用するので、最終的顔料濃縮物の標準化の問題がある。
２．  プレスケーキの形態で保存された時に、時間と共にかつ貯蔵条件によって顔料性能が変動する。
３．  廃棄される水相が油を含有する場合もあるので、該水相の流出物処理に伴うエネルギーコストがかかる。
４．  混練工程のためのみでなく、すべての水を除去するためのフラッシュの乾燥にもエネルギーコストがかかる。
５．  最終的着色コーティング剤を製造するために、全サイクル時間が比較的長い。たとえば、印刷インキにおいては、典型的には６乃至１８時間かかる。
６．  フラッシング工程を促進するための剤、たとえば界面活性剤が使用される。
７．  有機顔料のプレスケーキは微生物の攻撃を受けやすい。殺微生物剤／殺真菌剤を添加することは可能であるが、リソグラフインキにはこのような剤の存在は望ましくない。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月3日(2003.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセッサ（１２）とランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）（１４）とを含むデータ処理システム（１０）において、
標準プロトコルに従って動作するように構成され、前記プロセッサ（１２）に結合された第１のバス手段（２２）と、
それぞれ前記データ処理システム（１０）が必要とする機能を実行する複数の機能モジュール（３０ないし５２）と、
前記各機能モジュール（３０ないし５２）に接続されるとともに、前記機能モジュールの各々に接続された専用読出し／書込み制御線（７４、７６）及び全ての前記機能モジュール（３０ないし５２）に共通に結合された複数のデータ線（８０）とを含む第２のバス手段（５４）と、
前記第１のバス手段（２２）と第２のバス手段（５４）との間に結合され、前記第１のバス手段（２２）からのコマンドに応答して、指定された機能モジュール（３０ないし５２）にデータを書き込み、前記指定された機能モジュール（３０ないし５２）に接続された専用読出し／書込み線（７４、７６）に書込み制御信号を印加し、更に、書き込むべきデータを前記複数のデータ線（８０）に印加する制御手段（６２）を含むブリッジモジュール手段（５６、５８、６０、６２）と
を備え、
前記指定された機能モジュール（３０ないし５２）は、前記指定された機能モジュール（３０ないし５２）に存在するレジスタに前記データを書き込むことによって前記書込み制御信号に応答する
データ処理システム（１０）。
【請求項２】
前記制御手段（６２）が、前記第１のバス手段（２２）を介して受け取ったところの、指定された機能モジュール（３０ないし５２）の記憶されているデータを所与のアドレスに読み出すコマンドに応答して、前記指定された機能モジュール（３０ないし５２）に接続された専用の読出し／書込み回路に読出し制御信号（７４、７６）を印加し、
前記指定された機能モジュール（３０ないし５２）は、前記記憶されているデータを前記複数のデータ線（８０）に印加することによって前記読出し制御信号に応答し、
前記制御手段（６２）は、前記記憶されているデータを、前記所与のアドレスへの送出のために、前記複数のデータ線（８０）から前記第１のバス手段（２２）へ送出せしめる
請求項１に記載のデータ処理システム（１０）。
【請求項３】
前記ブリッジモジュールが、更に以下のものを設けた請求項２に記載のデータ処理システム（１０）：
前記第２のバス手段（５４）に結合された機能モジュール（３０ないし５２）の少なくともサブセットを識別する構成モジュール手段（５６、５８、６０）：
前記構成モジュール手段は、前記第２のバス手段（５４）に結合されるとともに専用読出し／書込み回路（７４、７６）によって前記制御手段（６２）に接続され；
前記構成モジュール手段は、前記専用読出し／書込み回路（７４、７６）に印加された制御信号と前記制御手段（６２）によって前記第２のバス手段（５４）に印加されたところの機能モジュール（３０ないし５２）の少なくとも１つの前記サブセットを識別するアドレスに応答して、アドレスされた機能モジュール（３０ないし５２）を、前記制御手段（６２）に対して識別する。
【請求項４】
前記標準プロトコルがＰＣＩであり、
ＰＣＩが、前記プロセッサ（１２）の制御下で実現される
請求項３に記載のデータ処理システム（１０）。
【請求項５】
前記複数の機能モジュール（３０ないし５２）、前記第２のバス手段（５４）、前記制御手段（６２）、前記構成モジュール手段（５６、５８、６０）が全てＡＳＩＣ上に形成される
請求項４に記載のデータ処理システム（１０）。
【請求項６】
以下の(a)ないし(d)を設け、プロセッサ（１２）と、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）（１４）とを含むデータ処理システム（１０）：
(a)前記プロセッサ（１２）に結合され、標準プロトコルに従って動作するように構成された第１のバス手段（２２）；
(b)複数のデータ線と制御線を含む第２のバス手段（５４）；
(c)前記第２バス手段（５４）に結合され、夫々前記データ処理システム（１０）が必要とする機能を実行する複数の機能モジュール（３０ないし５２）：
前記機能モジュールの少なくともいくつかは前記ＲＡＭ（１４）への直接メモリアクセスによるデータ書込みを実行するために前記第１のバス手段（２２）の支配権を要求することができる；
(d)前記第１のバス手段（２２）と第２のバス手段（５４）との間に結合され、前記第１のバス手段（２２）に対する支配権要求に応答して、前記第１のバス手段（２２）が使用可能になったときに前記要求を許可する制御手段（６２）を含むブリッジモジュール手段（５６、５８、６０、６２）：
前記所有要求を許可された前記機能モジュール（３０ないし５２）は、その後前記ＲＡＭ（１６）に書き込むべきデータ及び前記データを書き込むべきＲＡＭ（１６）中のアドレスを前記第２のバス手段（５４）に印加し、
前記ブリッジモジュール手段（５６、５８、６０、６２）が、書き込むべきデータ及び前記アドレスを前記第１のバス手段（２２）に印加し前記直接メモリアクセスを達成する。
【請求項７】
以下の(a)ないし(d)を設け、プロセッサ（１２）とランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）（１４）とを含むデータ処理システム（１０）：
(a)標準プロトコルに従って動作するように構成され、前記プロセッサ（１２）に結合された第１のバス手段（２２）、
(b)複数のデータ線と制御線とを含む第２のバス手段（５４）、
(c)前記第２バス手段（５４）に結合され、夫々前記データ処理システム（１０）が必要とする機能を実行し、少なくともいくつかが、前記ＲＡＭ（１４）への直接メモリアクセスによるデータ書込みを実行するために前記第１のバス手段（２２）の所有権を要求することができる、複数の機能モジュール（３０ないし５２）、および、
(d)前記第１のバス手段（２２）と第２のバス手段（５４）との間に結合され、前記第１のバス手段（２２）に対する支配権要求に応答して、前記第１のバス手段（２２）が使用可能になったときに前記要求を許可する制御手段（６２）を含むブリッジモジュール手段（５６、５８、６０、６２）：
前記支配権要求を許可された前記機能モジュール（３０ないし５２）は、その後前記データを読み出すべきＲＡＭ（１６）中のアドレスを前記第２のバス手段（５４）に印加し、
前記ブリッジモジュール手段（５６、５８、６０、６２）は、前記第１のバス手段（２２）に前記アドレスを印加し、前記ＲＡＭ（１６）がデータを前記アドレスから前記第１のバス手段（２２）上に出力する準備が完了したことを知らされたときに、前記データを前記アドレスから前記第２のバス手段（５４）上に駆動し前記直接メモリアクセスによるデータ読出しを達成する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月5日(2004.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータの温度管理システムにおいて、
プロセッサと、
該プロセッサに対して温度を測定して出力する温度測定デバイスと、
少なくとも１つのクーリング・オプション・エントリを含み、プロセッサがアクセス可能なクーリング出力応答テーブルと、
プロセッサに間接的入力を供給する手段と
からなり、
プロセッサは、供給された間接的入力を用いてクーリング出力応答テーブルを選択し、測定された温度を用いて該テーブルのクーリング・オプション・エントリの１つを選択するよう構成されている
ことを特徴とする温度管理システム。
【請求項２】
コンピュータにおいて、
コンピュータの所定の第１の位置の温度を検出する第１の装置と、
第１の位置とは異なるコンピュータの所定の第２の位置の温度に影響を及ぼす少なくとも１つの条件に関する情報を提供する第２の装置と、
第１の装置から検出された温度情報を受け取り、かつ第２の装置から条件に関する情報を受け取る第３の装置であって、これら受け取った情報に基づき、第４及び第５の装置を部分的に制御する第３の装置と
からなり、第４及び第５の装置の少なくとも一方は、コンピュータの温度に影響を及ぼす装置ではあるがファンではない装置であることを特徴とするコンピュータ。
【請求項３】
コンピュータ・システムにおいて、
温度制御ロジック装置と、
該温度制御ロジック装置に対して、コンピュータ・システムの温度に影響を及ぼす該コンピュータ・システムの装置の状態を反映する情報であって、該装置の温度を反映していない情報を提供する手段と
からなり、温度制御ロジック装置は、装置の状態を反映する情報に少なくとも部分的に応答して、コンピュータ・システムにおける温度を制御するよう構成されていることを特徴とするコンピュータ・システム。
【請求項４】
ポータブル・コンピュータにおける熱を発生する装置の温度を制御する温度制御モジュールにおいて、
ポータブル・コンピュータの第１の装置の状態を示す状態情報であって、該ポータブル・コンピュータの温度に影響を及ぼす状態情報に少なくとも部分的に基づいて、温度制御応答を演算する回路
を含み、状態情報は、第１の装置の温度情報ではないことを特徴とする温度制御モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月8日(2004.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乗り物のボディー部に設けられた発光パネルアッセンブリであって、該パネルアッセンブリは、上面および底面ならびに厚さよりも大きな断面幅を有する少なくとも１つの固体発光パネル部材を備え、該パネルアッセンブリは、少なくとも１つの光源から光を受信し、該パネル部材の該上面および底面の一方から該光を出射するために、該光を該パネルアッセンブリを介して導く少なくとも１つの光入力表面を有し、該パネル部材は、該パネル部材が該乗り物の湾曲した外形に適合して該湾曲した外形に沿って照明を提供する状態で、該ボディー部の外部表面に位置する、発光パネルアッセンブリ。
【請求項２】
前記パネル部材が、前記乗り物のコーナーの周りで包まれ、該コーナーの周りに照明を提供する、請求項１に記載のアッセンブリ。
【請求項３】
前記光源は、光パイプを介して前記光入力表面に光を提供する遠隔の光源である、請求項１に記載のアッセンブリ。
【請求項４】
前記外部表面は、前記乗り物の後部および前部の少なくとも１つに位置する、請求項１に記載のアッセンブリ。
【請求項５】
前記外部表面は、前記乗り物の側面に沿って位置する、請求項１に記載のアッセンブリ。
【請求項６】
前記光源は、前記湾曲した外形の最も外側の端に内向きに位置して、該最も外側の端が小さな交通事故の間に衝撃を受ける場合に、該光源に対して損傷の危険性を最小化する、請求項１に記載のアッセンブリ。
【請求項７】
前記パネル部材の前記上面および底面の一方を覆うレンズまたはフィルムをさらに備える、請求項１に記載のアッセンブリ。
【請求項８】
乗り物のボディー部に設けられた発光パネルアッセンブリであって、該パネルアッセンブリは、上面および底面ならびに厚さよりも大きな断面幅を有する少なくとも１つの固体発光パネル部材を備え、該パネルアッセンブリは、少なくとも１つの光源から光を受信し、該パネル部材の該上面および底面の一方から該光を出射するために、該光を該パネルアッセンブリを介して導く少なくとも１つの光入力表面と、該光源から該パネル部材により出射した光と独立して該パネル部材を介して光を輝かせるために、該パネル部材の真後ろに位置する他の光源とを有する、発光パネルアッセンブリ。
【請求項９】
前記他の光源は、前記パネル部材を介して直接に輝く前記他の光源のより強い集光効果のために、前記上面および底面の一方から出射した光よりも強い照明を該パネル部材を介して提供する、請求項８に記載のアッセンブリ。
【請求項１０】
前記他の光源は、ブレーキライト、方向指示ライト、転回ライト、および後進ライトのうちの少なくとも１つを提供するために十分な照明を、前記パネル部材を介して生成する、請求項８に記載のアッセンブリ。
【請求項１１】
前記他の光源と一直線に前記パネル部材を通り、該パネル部材の該孔を介して該他の光源から遮られない光の通過を提供する孔をさらに備える、請求項８に記載のアッセンブリ。
【請求項１２】
乗り物照明用の発光アッセンブリであって、少なくとも１つの光入力表面を有する光導体と、該光導体へ光を供給するための該光入力表面に沿った少なくとも１つの光源と、該光導体の少なくとも１つの表面上の複数の光抽出変形部であって、該変形部は、特定の用途に適合するように出射光の出力光線の角度分布を制御する形状を有する、変形部と、該光導体の少なくとも１つの表面を覆う透明基板であって、該基板は、乗り物の外側部分、該光導体の保護部、テキストと画像と色とのうちの少なくとも１つ、プリズムレンズとレンティキュラレンズと出力光線の角度分布を変化させる別のデバイスとのうちの少なくとも１つ、および、該光出力分布の改良された均一性のうちの少なくとも１つを提供する、基板とを備える、発光アッセンブリ。
【請求項１３】
前記基板は、シート、フィルム、レンズ、およびプレートの少なくとも１つを備える、請求項１２に記載のアッセンブリ。
【請求項１４】
前記変形部の少なくとも１つは、プリズムデバイス、レンティキュラデバイス、および前記出力光線の角度分布を変化させる他のデバイスの少なくとも１つを備える、請求項１２に記載のアッセンブリ。
【請求項１５】
前記光源は、発光ダイオードである、請求項１２に記載のアッセンブリ。
【請求項１６】
前記変形部は、前記光導体の２つ側面上にある、請求項１２に記載のアッセンブリ。
【請求項１７】
少なくともいくつかの変形部が、前記基板上にある、請求項１２に記載のアッセンブリ。
【請求項１８】
前記基板は、プリズムレンズ、レンティキュラレンズ、および前記出力光線の角度分布を変化させる他のデバイスの少なくとも１つを有する、請求項１２に記載のアッセンブリ。
【請求項１９】
前記光導体および前記基板は、該光導体および該基板の各々の少なくとも１つの表面に変形部を有し、該光導体および該基板の少なくとも１つの上の該変形部は、サイズ、形状、
位置、屈折率、密度、角度、深さ、高さ、および型の特徴のうちの少なくとも１つにおいて変化する、請求項１２に記載のアッセンブリ。
【請求項２０】
前記変形部の変化は、ランダムである、請求項１９に記載のアッセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月21日(2003.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】シーク時間低減方法及びシーク時間低減システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シーク動作を制御する電力増幅器を備えているディスク・ドライブ・システムにおいてシーク時間を極小にする方法であって、
（ａ）少なくとも第１のシーク動作について、前記電力増幅器がシーク動作を制御するのに有効な電力の余裕を表す余裕電圧を測定するステップと、
（ｂ）測定された前記余裕電圧に基づき、次のシーク動作で前記電力増幅器への電力を調節し、前記余裕電圧により識別された有効な電力の少なくとも幾らかを該次のシーク動作に使用してシーク時間を減らすようにするステップと
を備えているシーク時間低減方法。
【請求項２】
前記ステップ（ａ）は、前記電力増幅器から電圧飽和値および電圧出力値を検出するステップを含む請求項１に記載のシーク時間低減方法。
【請求項３】
（１）単独シーク動作中に前記電圧飽和値および前記電圧出力値を検出する、または、（２）第１のシーク方向の第１のシーク動作の加速段階中に前記電圧飽和値を検出し、該第１のシーク方向の反対のシーク方向の第２のシーク動作の減速段階中に前記電圧出力値を検出する、のいずれかを選択しておこなうことを特徴とする、請求項２に記載のシーク時間低減方法。
【請求項４】
前記余裕電圧は前記電圧出力値より前記電圧飽和値だけ少ないことを特徴とする、請求項２に記載のシーク時間低減方法。
【請求項５】
前記ステップ（ｂ）は、前記電力増幅器の出力端子に流れる電流のレベルを上げ、該電流の流れる時間を減らし、前記次のシーク動作の減速段階を制御することを特徴とする、請求項１に記載のシーク時間低減方法。
【請求項６】
ディスク・ドライブにおいてシーク時間を減らすシステムであって、
（ａ）モータ手段に接続されてシーク・アクチュエータを制御する電力増幅器と、
（ｂ）前記電力増幅器に接続され、該電力増幅器がシーク動作を制御するのに有効な電力の余裕を表す余裕電圧を測定する手段と、
（ｃ）前記電力増幅器に接続されて、測定された前記余裕電圧に基づきシーク動作中に前記電力増幅器への電力を調節し、前記余裕電圧により識別された有効な電力の余裕の少なくとも幾らかを次のシーク動作に使用してシーク時間を減らすようにする手段と
を設けて成るシーク時間低減システム。
【請求項７】
前記余裕電圧を測定する手段および前記電力増幅器への電力を調節する手段はプロセッサ手段を備えており、
（ａ）前記プロセッサ手段に接続された入力端子および前記電力増幅器の入力端子に接続された出力端子とを備えているディジタル−アナログ変換器と、
（ｂ）前記プロセッサ手段に接続された出力端子および前記電力増幅器の少なくとも１つの出力端子に接続された少なくとも１つの入力端子とを備えているアナログ−ディジタル変換器とをさらに含むことを特徴とする、請求項６に記載のシーク時間低減システム。
【請求項８】
前記電力増幅器は、該電力増幅器の少なくとも１つの出力端子に接続されて前記アナログ−ディジタル変換器への電圧を制御する少なくとも１つのクランプ回路を備えていることを特徴とする、請求項７に記載のシーク時間低減システム。
【請求項９】
前記余裕電圧を測定する手段は、前記電圧増幅器の電圧飽和値および電圧出力値を検出する手段を備えており、（１）前記電圧飽和値および前記電圧出力値を単独シーク動作中に検出する、または、（２）前記電圧飽和値を第１のシーク方向の第１のシーク動作の加速段階中に検出し、前記電圧出力値を前記第１のシーク方向と反対のシーク方向の第２のシーク動作の減速段階中に検出する、のいずれか一方をおこなうことを特徴とする、請求項６に記載のシーク時間低減システム。
【請求項１０】
前記電力増幅器への電力を調節する手段は、該電力増幅器の入力端子での電圧レベルを調節することにより、該電力増幅器の出力端子における電流が、該電流の流れる減少した時間中に増大して、前記次のシーク動作中の減速を速くする手段を備えていることを特徴とする、請求項６に記載のシーク時間低減システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図５は（図１の）電力増幅器25の好適実施例の簡略回路を示す。電力増幅器は相互コンダクタンス増幅器であり、入力電圧（ＶIN）に比例する電流（ＩC）をＶＣＭ30のコイルに発生する。増幅器Ａ１およびＡ２はＶＣＭコイルの各端を直接駆動する。ＶＣＭコイルはインダクタンスＬCおよび抵抗ＲCで構成されている。増幅器Ａ２は増幅器Ａ１に対する利得１の反転「スレーブ」として構成されている。更に、増幅器Ａ２はＶS/２を基準としているので、ＶＣＭコイル入力Ｖ１およびＶ２はＶS/２を中心に対称に振れる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
10...電力増幅器
15...ＤＡＣ
20...ＡＤＣ
25...電力増幅器
30...モータ
65...従来のシーク軌道55に対応するコイル電流
70...新規のシーク軌道50に対応するコイル電流
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月12日(2003.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
有機イソシアナート系化合物（Ａ）が、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアナートであることを特徴とする請求項１記載のリグノセルロース成形板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
好ましくは、（２）ポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）が、官能基数２〜８で、その構造中の−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−の繰り返し単位がポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）の重量に対して５〜８０％であり、かつ水乳化液中、有機イソシアナート系化合物（Ａ）１００重量部に対して１〜８０重量部であることを特徴とする前記（１）のリグノセルロース成形板の製造方法、
（３）有機イソシアナート系化合物（Ａ）が、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアナートであることを特徴とする前記（１）のリグノセルロース成形板の製造方法、
（４）ポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）が、分子中に窒素原子を含有するアミンポリオールであることを特徴とする前記（１）のリグノセルロース成形板の製造方法、
および（５）炭素数８〜２８を有する飽和および／または不飽和カルボン酸の金属塩が、オクチル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキン酸、リグノセリン酸またはベヘニン酸と、亜鉛、鉄、アルミニウム、カルシウム、ジルコニウム、マグネシウム、バリウム、ニッケル、銅またはコバルトからなる少なくとも１種以上であることを特徴とする前記（１）のリグノセルロース成形板の製造方法である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（Ａ）の有機イソシアナート系化合物（以下、ポリイソシアナート（Ａ）と称する）としては、イソシアナート基を有する物質であれば良いが、例えば、トリレンジイソシアナート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、キシレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ノルボルネンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアナート（ポリメリックＭＤＩ）、または上記ポリイソシアナート化合物を活性水素を１個以上有する化合物で変性した変性イソシアナートが挙げられる。この中では、経済性の面からポリメリックＭＤＩが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月12日(2003.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
ポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）が、官能基数２〜８で、その構造中の−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−の繰り返し単位がポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）の重量に対して５〜７０％であり、かつ水乳化液中、有機イソシアナート系化合物（Ａ）１００重量部に対して１〜７０重量部であることを特徴とする請求項１記載のリグノセルロース成形板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意検討した結果、リグノセルロースを主原料とした熱圧ボードの製造方法に関し、熱盤に触れる最外層にホルマリン系接着剤を使用した木質繊維層を形成した後熱圧プレスを行い、熱圧プレス後に最外層のリグノセルロース層を研磨除去して得ることにより、熱盤に付着しないため生産性が良く、また、有機イソシアナート系接着剤に由来する耐水性の向上した熱圧ボードの製造方法を見いだし本発明を完成するに至った。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
好ましくは、（２）ポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）が、官能基数２〜８で、その構造中の−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−の繰り返し単位がポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）の重量に対して５〜７０％であり、かつ水乳化液中、有機イソシアナート系化合物（Ａ）１００重量部に対して１〜７０重量部であることを特徴とする前記（１）のリグノセルロース成形板の製造方法、
（３）有機イソシアナート系化合物（Ａ）が、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアナートであることを特徴とする前記（１）のリグノセルロース成形板の製造方法、
（４）ポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）が、分子中に窒素原子を含有するアミンポリオールであることを特徴とする前記（１）のリグノセルロース成形板の製造方法、
および（５）有機イソシアナート系化合物を実質的に含まない接着剤が、尿素ホルマリン系、メラミンホルマリン系、フェノールホルマリン系またはこれらの混合系であることを特徴とする前記（１）のリグノセルロース成形板の製造方法である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の方法において使用する接着剤の一つは、有機イソシアナート系化合物、ポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール、水を含有する接着剤である（以下、イソシアナート系接着剤と言うこともある）。
この接着剤において（Ａ）の有機イソシアナート系化合物（以下、ポリイソシアナート（Ａ）と称する）としては、イソシアナート基を有する物質であれば良いが、例えば、トリレンジイソシアナート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、キシレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ノルボルネンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアナート（ポリメリックＭＤＩ）、あるいは上記イソシアナート化合物を活性水素を１個以上有する化合物で変性した変性イソシアナートが挙げられる。この中では、経済性の面からポリメリックＭＤＩが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月12日(2003.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
有機ポリイソシアナート系化合物（Ａ）とポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）を含有してなる水乳化液をリグノセルロース系材料の接着剤として用いるリグノセルロース成形板の製造方法において、該接着剤に、炭素数８〜２８を有する飽和および／または不飽和脂肪族カルボン酸の金属塩（Ｃ）を水エマルジョンとして混合することを特徴とするリグノセルロース成形板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、本発明は、
（１）有機ポリイソシアナート系化合物（Ａ）とポリエーテルおよび／またはポリエステルポリオール（Ｂ）を含有してなる水乳化液をリグノセルロース系材料の接着剤として用いるリグノセルロース成形板の製造方法において、該接着剤に、炭素数８〜２８を有する飽和および／または不飽和脂肪族カルボン酸の金属塩（Ｃ）を水エマルジョンとして混合することを特徴とするリグノセルロース成形板の製造方法、および
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月2日(2003.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
鋼の連続鋳造法において鋳片を切断して鋼片とするに際して、鋳片中心部が凝固を終えるまでに鋳片の切断予定位置の近傍のみ鋳片を圧下して凝固殻内面を互いに圧接もしくは接近溶接せしめ下流側の溶融芯を閉じ込めた後切断することによって溶融芯封入鋼片とすることを特徴とする連続鋳造鋳片の切断方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
【従来の技術】連続鋳造法によって鋼片を造る場合、通常鋳片が中心まで凝固した後所定の長さに切断され鋼片とされている。鋳造能率はよく知られているように正方形断面の場合（１）式で示される。
Ｐｃ＝４ρｋ２ｓＬ              ・・・・・・・・・・・（１）
Ｐｃ；  鋳造能率  （ｋｇ／ｍｉｎ）
ρ  ；  鋼の密度  （ｋｇ／ｍ３）
ｋ  ；  凝固定数  （ｍ／ｍｉｎ０．５）
ｓ  ；  形状係数  （正方形の場合、約１．３）
Ｌ  ；  機長（鋳込み面から凝固完了位置までの長さ、ｍ）鋳造能率Ｐｃは機長Ｌに制約され、且つ冷却の強さに関わる凝固係数ｋに依存する。ちなみに鋳片断面寸法は無関係である。最大鋳造能率は適正な冷却条件内で中心部の凝固が切断直前に完了する引き抜き速度の時に得られる。従って、それ以上の能率を必要とする場合、機長Ｌを増大させる改造を行うかストランド数を増加させて対応するという大きな問題があった。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
以上の構成において鋳造能率は当然（１）式に従うが従来方式と比較して機長の意味が異なってくる。即ち本発明では凝固完了点は切断装置の設置位置に制限されることなく、引き抜き速度にほぼ比例して下流に移行し、従って実効機長も同等に増加する。鋳造能率Ｐｍは（３）式で求めるのが簡単である。
Ｐｍ＝ρＤ２Ｖ              ・・・・・・・・・・（３）
ρ；  鋼の密度（ｋｇ／ｍ３）
Ｄ；  鋳片辺寸法（ｍ）
Ｖ；  引き抜き速度（ｍ／ｍｉｎ）
鋳造能率は引き抜き速度Ｖに比例し、従来方法と比較してＶ／Ｖｃｍａｘ倍になる。ここでＶｃｍａｘは設計機長（鋳込み面から切断装置までの長さ）によって制限された従来方法の最大引き抜き速度である。能率向上には当然作業上、品質上の問題などを充分に勘案すべきだが速いほど有利である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月11日(2003.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一種のアルカリ金属重炭酸塩を含み、平均粒径が１５０μｍ以下である主剤粒子を、塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム、ミョウバン、クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウムからなる群から選ばれる１種以上のバインダの水溶液と混合して造粒物を製造する方法であって、上記バインダの水溶液の濃度が、バインダの水に対する飽和濃度の３５重量％以上であることを特徴とする造粒物の製造方法。
【請求項２】
バインダの使用量が主剤重量の０．１〜１４重量％である請求項１の製造方法。
【請求項３】
主剤が重炭酸ナトリウムであり、バインダが塩化ナトリウムである請求項１または２の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、少なくとも一種のアルカリ金属重炭酸塩を含み、平均粒径が１５０μｍ以下である主剤粒子を、塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム、ミョウバン、クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウムからなる群から選ばれる１種以上のバインダの水溶液と混合して造粒物を製造する方法であって、上記バインダの水溶液の濃度が、バインダの水に対する飽和濃度の３５重量％以上であることを特徴とする造粒物の製造方法を提供する。