【手続補正書】
【提出日】平成26年1月17日(2014.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発酵槽オフガスからイソプレンを精製する方法であって、 前記発酵槽オフガスがイソプレン、揮発性不純物、及びバイオ副生成物不純物を含むバイオイソプレン組成物であり、前記発酵槽オフガスを、第１カラムの溶媒と接触させて、  溶媒、前記オフガス中に存在するイソプレン過半量、及び前記オフガス中に存在するバイオ副生成物不純物過半量を含む、富イソプレン溶液と、  前記オフガス中に存在する前記揮発性不純物の一部を含む蒸気と、を形成する工程と、 前記富イソプレン溶液を前記第１カラムから第２カラムに移す工程と、  前記第２カラムの前記富イソプレン溶液からイソプレンをストリッピングして、  前記オフガス中に存在する前記バイオ副生成物不純物の一部を含むイソプレン希薄溶液と、  精製イソプレン組成物と、を形成する工程と、を含む、方法。
【請求項２】
前記揮発性不純物が、Ｈ２Ｏ、ＣＯ２、Ｎ２、Ｈ２、ＣＯ及びＯ２からなる群から選択される化合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記バイオ副生成物不純物が、エタノール、アセトン、メタノール、アセトアルデヒド、メタクロレイン、メチルビニルケトン、３−メチルフラン、２−メチル−２−ビニルオキシラン、ｃｉｓ−及びｔｒａｎｓ−３−メチル−１，３−ペンタジエン、Ｃ５フェニルアルコール（例えば、３−メチル−３−ブテン−１−オール又は３−メチル−２−ブテン−１−オール）、２−ヘプタノン、６−メチル−５−ヘプテン−２−オン、２，４，５−トリメチルピリジン、２，３，５−トリメチルピラジン、シトロネラール、メタンチオール、酢酸メチル、１−プロパノール、ジアセチル、２−ブタノン、２−メチル−３−ブテン−２−オール、酢酸エチル、２−メチル−１−プロパノール、３−メチル−１−ブタナール、３−メチル−２−ブタノン、１−ブタノール、２−ペンタノン、３−メチル−１−ブタノール、エチルイソブチラート、３−メチル−２−ブテナール、酢酸ブチル、３−メチルブチルアセテート、３−メチル−３−ブテン−１−イルアセテート、３−メチル−２−ブテン−１−イルアセテート、（Ｅ）−３，７−ジメチル−１，３，６−オクタトリエン、（Ｚ）−３，７−ジメチル−１，３，６−オクタトリエン、（Ｅ，Ｅ）３，７，１１−トリメチル−１，３，６，１０−ドデカテトラエン、（Ｅ）−７，１１−ジメチル−３−メチレン−１，６，１０−ドデカトリエン、３−ヘキサン−１−オール、３−ヘキセン−１−イルアセテート、リモネン、ゲラニオール（ｔｒａｎｓ−３，７−ジメチル−２，６−オクタジエン−１−オール）、シトロネロール（３，７−ジメチル−６−オクテン−１−オール）、（Ｅ）−３−メチル−１，３−ペンタジエン、（Ｚ）−３−メチル−１，３−ペンタジエンからなる群から選択される化合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記溶媒が、約１７７℃超の沸点を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記溶媒が、５４℃で約１．２５未満のＣＯ２オストワルド係数を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記溶媒が、約５０未満のカウリ−ブタノール価を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記溶媒が、約６６℃超のアニリン点を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記溶媒が、４０℃で約２．５センチストークス（ｃＳｔ））未満の動粘度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記溶媒が、２５℃で約２０〜３０ｄｙｎｅ／ｃｍの表面張力を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記溶媒が、約１２５〜約２２５の平均分子量を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記溶媒が、イソパラフィン又はパラフィンである、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記溶媒が、重合阻害剤を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記発酵槽オフガスの温度を下げてから、前記第１カラムの前記溶媒と接触させる工程を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記発酵槽オフガスを分離装置に移す工程と、それにより前記オフガス圧力を安定化させてから、前記発酵槽オフガスを前記第１カラムの前記溶媒と接触させる工程と、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記発酵槽オフガスを、少なくとも部分的に凝縮してから、前記第１カラムの前記溶媒と接触させる工程と、を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記発酵槽オフガスを前記第１カラムの前記溶媒と接触させる工程が、前記第１カラムの塔底からストリッピング蒸気を供給する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記発酵槽オフガスを前記第１カラムの溶媒と接触させる工程が、前記第１カラムにスチームを追加する工程を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記第２カラムの前記富イソプレン溶液からイソプレンをストリッピングする工程が、前記第２カラムにスチームを追加する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
イソプレン希薄溶液を精製してバイオ副生成物不純物の過半量を取り除く工程と、  再使用のために、前記イソプレン希薄溶液を前記第１カラムに移す工程と、を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記イソプレン希薄溶液を精製する工程が、前記イソプレン希薄溶液を吸着システムで処理する工程を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記イソプレン希薄溶液の精製工程が、蒸留を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
前記イソプレン希薄溶液の温度を低減してから、前記バイオ副生成物不純物の過半量を取り除く工程を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
前記精製イソプレン組成物を更に精製する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
前記精製イソプレン組成物を更に精製する工程が、蒸留を含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記精製イソプレン組成物を更に精製する工程が、前記精製イソプレンを吸着システムで処理する工程を含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記イソプレンの一部を前記蒸気から取り除く工程を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２７】
前記発酵槽オフガスが、大気圧より高い圧力で前記第１カラムに供給される、請求項１に記載の方法。
【請求項２８】
前記精製イソプレン組成物が、約９０％超の純度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２９】
前記精製イソプレン組成物が、前記発酵槽オフガスのバイオ副生成物不純物の量に対して、約２５％未満のバイオ副生成物不純物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３０】
前記精製イソプレン組成物が、前記発酵槽オフガスの揮発性不純物の量に対して、約２５％未満の揮発性不純物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
請求項１に記載の方法により調製されたものである、精製イソプレン組成物。
【請求項３２】
前記の更に精製する工程が、前記精製イソプレン組成物を、水、又は塩基及び水に接触させる工程を含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項３３】
発酵槽オフガスからイソプレンを精製する方法であって、  前記発酵槽オフガスがイソプレン、揮発性不純物、及びバイオ副生成物不純物を含むバイオイソプレン組成物であり、前記発酵槽オフガスを、第１カラムの溶媒と接触させて、  溶媒、前記オフガス中に存在するイソプレン過半量、及び前記オフガス中に存在するバイオ副生成物不純物過半量を含む、富イソプレン溶液と、  前記オフガス中に存在する前記揮発性不純物の一部を含む蒸気と、を形成する工程と、  前記富イソプレン溶液を前記第１カラムから第２カラムに移す工程と、  前記第２カラムの前記富イソプレン溶液からイソプレンをストリッピングして、  前記オフガス中に存在する前記バイオ副生成物不純物の一部を含むイソプレン希薄溶液と、  精製イソプレン組成物と、を形成する工程と、を含むとともに、前記イソプレン希薄溶液から、メタノール、アセトン、又は酢酸メチルのうち少なくとも１つを抽出する工程を更に含む、方法。