【手続補正書】
【提出日】平成15年12月19日(2003.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を保持しつつ回転する保持回転部材と、
前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を供給する供給ノズルと、
前記保持された被処理体上のほぼ回転中心から外周に向けて延在し、前記供給ノズルから被処理体上に供給された塗布液を被処理体の外周に向けて広げる広げ部材と
を具備することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
被処理体を保持しつつ回転する保持回転部材と、
前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を供給する供給ノズルと、
前記保持された被処理体上のほぼ回転中心から外周に向けて延在し、前記供給ノズルから被処理体上に供給された塗布液を被処理体の外周に向けて広げる広げ部材と、
前記広げ部材を被処理体上の所定方向へスキャンするスキャン機構と
を具備することを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
被処理体を保持しつつ回転する保持回転部材と、
前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に塗布液を供給する供給ノズルと、
前記保持された被処理体上のほぼ回転中心から外周に向けて延在し、前記供給ノズルから被処理体上に供給された塗布液を被処理体の外周に向けて広げる広げ部材と、
前記被処理体の回転位置に応じて、前記保持回転部材の回転速度を制御する速度制御手段と
を具備することを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
被処理体を保持しつつ回転する保持回転部材と、
前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に配置され、開口部が上部に設けられ吐出孔が下部に設けられた受け器ノズルと、
前記開口部を介して前記受け器ノズルに塗布液を供給する供給ノズルと、
前記受け器ノズルから被処理体の外周に向けて延在し、前記受け器ノズルの吐出孔から被処理体上に供給された塗布液を被処理体の外周に向けて広げる広げ部材と
を具備することを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
被処理体を保持する保持部材と、
前記保持部材により保持された被処理体表面と隙間をもって対向すると共に、被処理体のほぼ中心に対応する位置に塗布液を吐出するための吐出孔が設けられた平板状吐出ノズルと、
前記吐出孔を介して被処理体上に塗布液を圧送する圧送機構と
を具備することを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
請求項５記載の塗布装置であって、
前記平板状吐出ノズルの被処理体との対向面に、前記吐出孔を中心とするスクリュー状の溝が形成されていることを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
請求項５記載の塗布装置であって、
前記平板状吐出ノズルの被処理体との対向面が、前記吐出孔から外周に向けて被処理体表面との隙間が小さくなるようにテーパ形状とされていることを特徴とする塗布装置。
【請求項８】
保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、
前記被処理体を回転させながら前記被処理体上のほぼ回転中心に供給ノズルより塗布液を供給する工程と、
前記被処理体を回転させながら、前記供給ノズルから前記被処理体上に供給された前記塗布液を、前記被処理体上のほぼ回転中心から外周に向けて延在する広げ部材により前記被処理体の外周に向けて広げる工程と
を具備することを特徴とする塗布方法。
【請求項９】
保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、
前記被処理体を回転させながら前記被処理体上のほぼ回転中心に供給ノズルより塗布液を供給する工程と、
前記被処理体を回転させながら、前記供給ノズルから前記被処理体上に供給された前記塗布液を、前記被処理体上のほぼ回転中心から外周に向けて延在する広げ部材により前記被処理体の外周に向けて広げる工程と、
前記広げ部材を前記被処理体上の所定方向へスキャンする工程と
を具備することを特徴とする塗布方法。
【請求項１０】
保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、
前記被処理体を回転させながら前記被処理体上のほぼ回転中心に供給ノズルより塗布液を供給する工程と、
前記被処理体を回転させながら、前記供給ノズルから前記被処理体上に供給された前記塗布液を、前記被処理体上のほぼ回転中心から外周に向けて延在する広げ部材により前記被処理体の外周に向けて広げる工程と
を具備し、
前記広げる工程は、前記被処理体の回転位置に応じて、前記保持回転部材の回転速度を制御する工程を有することを特徴とする塗布方法。
【請求項１１】
保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、
開口部が上部に設けられ吐出孔が下部に設けられた受け器ノズルを、回転する前記被処理体上のほぼ回転中心に配置する工程と、
前記開口部を介して前記受け器ノズルに前記塗布液を供給する工程と、
前記被処理体を回転させながら、前記受け器ノズルの吐出孔から前記被処理体上に供給された塗布液を、前記受け器ノズルから前記被処理体の外周に向けて延在する広げ部材により前記被処理体の外周に向けて広げる工程と
を具備することを特徴とする塗布方法。
【請求項１２】
保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、
前記被処理体のほぼ中心に対応する位置に前記塗布液を吐出するための吐出孔が設けられた平板状吐出ノズルを前記被処理体表面と隙間をもって対向する位置に配置する工程と、
前記吐出孔を介して前記被処理体上に前記塗布液を圧送する工程と
を具備することを特徴とする塗布方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の塗布装置は、被処理体を保持しつつ回転する保持回転部材と、前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に配置され、開口部が上部に設けられ吐出孔が下部に設けられた受け器ノズルと、前記開口部を介して前記受け器ノズルに塗布液を供給する供給ノズルと、前記受け器ノズルから被処理体の外周に向けて延在し、前記受け器ノズルの吐出孔から被処理体上に供給された塗布液を被処理体の外周に向けて広げる広げ部材とを具備する。即ち、本発明では、圧力ではなく重力により受け器ノズルから被処理体へ塗布液を供給しているので、被処理体にはばらつきがなくより平均的に塗布液が供給される。よって、塗布液は被処理体の全面に亙り均一に広げられるようになり、塗布液の使用量をより少なくすることができる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の塗布装置は、前記平板状吐出ノズルの被処理体との対向面が、前記吐出孔から外周に向けて被処理体表面との隙間が小さくなるようにテーパ形状とされていることを特徴とする。即ち、本発明では、このようにテーパ形状にすることで、塗布液が被処理体の外周付近まで均一に広げられ、塗布液の使用量をより少なくすることができる。
本発明の塗布方法は、保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、前記被処理体を回転させながら前記被処理体上のほぼ回転中心に供給ノズルより塗布液を供給する工程と、前記被処理体を回転させながら、前記供給ノズルから前記被処理体上に供給された前記塗布液を、前記被処理体上のほぼ回転中心から外周に向けて延在する広げ部材により前記被処理体の外周に向けて広げる工程とを具備する。
本発明の塗布方法は、保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、前記被処理体を回転させながら前記被処理体上のほぼ回転中心に供給ノズルより塗布液を供給する工程と、前記被処理体を回転させながら、前記供給ノズルから前記被処理体上に供給された前記塗布液を、前記被処理体上のほぼ回転中心から外周に向けて延在する広げ部材により前記被処理体の外周に向けて広げる工程と、前記広げ部材を前記被処理体上の所定方向へスキャンする工程とを具備する。
本発明の塗布方法は、保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、前記被処理体を回転させながら前記被処理体上のほぼ回転中心に供給ノズルより塗布液を供給する工程と、前記被処理体を回転させながら、前記供給ノズルから前記被処理体上に供給された前記塗布液を、前記被処理体上のほぼ回転中心から外周に向けて延在する広げ部材により前記被処理体の外周に向けて広げる工程と具備し、前記広げる工程は、前記被処理体の回転位置に応じて、前記保持回転部材の回転速度を制御する工程を有する。
本発明の塗布方法は、保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、開口部が上部に設けられ吐出孔が下部に設けられた受け器ノズルを、回転する前記被処理体上のほぼ回転中心に配置する工程と、前記開口部を介して前記受け器ノズルに前記塗布液を供給する工程と、前記被処理体を回転させながら、前記受け器ノズルの吐出孔から前記被処理体上に供給された塗布液を、前記受け器ノズルから前記被処理体の外周に向けて延在する広げ部材により前記被処理体の外周に向けて広げる工程とを具備する。
本発明の塗布方法は、保持回転部材に被処理体を保持し、該被処理体に塗布液を塗布する塗布方法において、前記被処理体のほぼ中心に対応する位置に前記塗布液を吐出するための吐出孔が設けられた平板状吐出ノズルを前記被処理体表面と隙間をもって対向する位置に配置する工程と、前記吐出孔を介して前記被処理体上に前記塗布液を圧送する工程とを具備する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理システムの斜視図である。
図１に示すように、この塗布・現像処理システム１の前方には、ガラス基板Ｇを、塗布・現像処理システム１に対して搬出入するローダ・アンローダ部２が設けられている。このローダ・アンローダ部２には、ガラス基板Ｇを例えば２５枚ずつ収納したカセットＣを所定位置に整列させて載置させるカセット載置台３と、各カセットＣから処理すべきガラス基板Ｇを取り出し、また塗布・現像処理システム１において処理の終了したガラス基板Ｇを各カセットＣへ戻すローダ・アンローダ４が設けられている。図示のローダ・アンローダ４は、本体５の走行によってカセットＣの配列方向に移動し、本体５に搭載された板片状のピンセット６によって各カセットＣからガラス基板Ｇを取り出し、また各カセットＣへガラス基板Ｇを戻すようになっている。また、ピンセット６の両側には、ガラス基板Ｇの四隅を保持して位置合わせを行う基板位置合わせ部材７が設けられている。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、搬送路１１の一側方に、ガラス基板Ｇにレジスト液を塗布する前にガラス基板Ｇを疎水処理するアドヒージョン装置２０が設けられ、このアドヒージョン装置２０の下方には冷却用のクーリング装置２１が配置されている。また、これらアドヒージョン装置２０とクーリング装置２１の隣には加熱装置２２が二列に二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路１１を挟んで反対側に、ガラス基板Ｇの表面にレジスト液を塗布することによってガラス基板Ｇの表面にレジスト膜を形成するレジスト塗布装置２３が配置されている。図示はしないが、これら塗布装置２３の側部には、第２の受け渡し部２８を介し、ガラス基板Ｇ上に形成されたレジスト膜に所定の微細パターンを露光するための露光装置等が設けられる。第２の受け渡し部２８は、ガラス基板Ｇを搬入および搬出するための搬出入ピンセット１２９および受け渡し台１３０を備えている。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
スピンチャック２８の載置部４０の外周側下面には、シール部材４１が取り付けられている。スピンチャック２８を下降させて、シール部材４１をカップ２９の底部に当接させると、気密な処理スペース４２が形成されるようになっている。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図３及び図４に示すように、カップ２９の両側には、搬送用レール７１、７１が配置されている。搬送用レール７１、７１間には、保持部材７２が掛け渡されており、保持部材７２は図示を省略した駆動機構により搬送用レール７１上を走行可能にされ、かつ、昇降可能とされている。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
レジスト液供給機構７７は、図示を省略した駆動機構により回動される回動部材７９を有し、回動部材７９の先端部には受け器ノズル７３の開口部７４に向けてレジスト液を供給するための供給ノズル８０が取り付けられている。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
以上のように、この実施の形態によれば、スピンチャック２８によって保持されたガラス基板Ｇのほぼ回転中心に供給されたレジスト液は広げ棒７６によってガラス基板Ｇの外周に向けて広げられるようなっているので、即ち遠心力を使っていないので、ガラス基板Ｇを高速で回転することなく、つまり低速回転でガラス基板Ｇの全面にレジスト液を塗布できる。よって、ガラス基板Ｇの外周から零れ落ちるレジスト液の量を激減することができ、レジスト液の使用量を少なくすることができる。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
なお、ガラス基板Ｇ上にレジスト液を供給している最中に、受け器ノズル７３及び広げ棒７６を搬送用レール７１、７１に沿ってスキャンさせるようにしてもよい。例えば、広げ棒７６の延在方向がガラス基板Ｇの長辺へ位置したときにその方向へ広げ棒７６をスキャンすることによって、広げ棒７６をガラス基板Ｇの短辺の長さに小型化しても広げ棒７６がガラス基板Ｇの全面をカバーできることになる。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
また、ガラス基板Ｇ上にレジスト液を供給している最中に、ガラス基板Ｇの回転位置に応じて、ガラス基板Ｇの回転速度を制御するようにしてもよい。例えば、広げ棒７６の延在方向がガラス基板Ｇの長辺へ位置したときにガラス基板Ｇをより高速で回転することによって、広げ棒７６をガラス基板Ｇの短辺の長さに小型化しても広げ棒７６がガラス基板Ｇの全面をカバーできることになる。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
この平板状吐出ノズル８２には、スピンチャック２８によって保持されたガラス基板Ｇのほぼ中心に対応する位置にレジスト液を吐出するための吐出孔８４が設けられている。また、平板状吐出ノズル８２は、スピンチャック２８によって保持されたガラス基板Ｇと所定の間隔、例えば０．２〜０．５ｍｍ程度をもって平板面が対向するようになっている。また、圧送機構８３は、吐出孔８４を介してガラス基板Ｇ上にレジスト液を圧送するようになっている。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
本発明は上述した実施の形態には限定されない。
例えば、上述した実施の形態では、レジスト液を塗布する装置に本発明を適用したが、現像液等の他の塗布液を塗布する装置にも本発明を当然適用することができ、またガラス基板ばかりでなく他の被処理体にも当然本発明を適用できる。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
本発明によれば、被処理体を保持しつつ回転する保持回転部材と、前記保持回転部材により保持され回転される被処理体上のほぼ回転中心に配置され、開口部が上部に設けられ吐出孔が下部に設けられた受け器ノズルと、前記開口部を介して前記受け器ノズルに塗布液を供給する供給ノズルと、前記受け器ノズルから被処理体の外周に向けて延在し、前記受け器ノズルの吐出孔から被処理体上に供給された塗布液を被処理体の外周に向けて広げる広げ部材とを具備するように構成したので、塗布液は被処理体の全面に亙り均一に広げられるようになり、塗布液の使用量をより少なくすることができる。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
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