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【手続補正書】
【提出日】平成15年12月12日(2003.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各状況に対する応答手順を定義した応答手順定義情報を記憶する応答手順定義情報記憶手段と、
状況を取得する状況取得手段と、
取得された前記状況に基づいて、該状況に対して前記応答手順定義情報により定義された応答手順を選択する応答手順選択手段と、
選択された前記応答手順に基づいて、応答情報を作成する応答情報作成手段と、
作成された前記応答情報を、選択された前記応答手順に基づいて出力する応答情報出力手段とを有することを特徴とする応答装置。
【請求項２】
前記応答手順定義情報が、応答するか否かを定義することを特徴とする請求項１に記載の応答装置。
【請求項３】
前記応答手順定義情報が、応答メディアを定義することを特徴とする請求項１に記載の応答装置。
【請求項４】
前記応答手順定義情報が、応答先を定義することを特徴とする請求項１に記載の応答装置。
【請求項５】
前記応答手順定義情報が、応答のタイミングを定義することを特徴とする請求項１に記載の応答装置。
【請求項６】
前記応答手順定義情報が、応答に用いる言語の種類を定義することを特徴とする請求項１に記載の応答装置。
【請求項７】
前記応答手順定義情報が、応答する時の条件を定義することを特徴とする請求項１に記載の応答装置。
【請求項８】
前記応答手順定義情報が、再応答手順を定義することを特徴とする請求項１に記載の応答装置。
【請求項９】
前記応答手順定義情報が、再応答の回数を定義することを特徴とする請求項８に記載の応答装置。
【請求項１０】
各状況に対する応答手順を指定する応答手順指定工程と、
状況を取得する状況取得工程と、
各状況に対する応答手順を定義した応答手順定義情報を記憶する応答手順定義情報記憶部を参照し、取得された前記状況に対して当該応答手順定義情報において定義された応答手順を選択する応答手順選択工程と、
選択された前記応答手順に基づいて、応答情報を作成する応答情報作成工程と、
作成された前記応答情報を、選択された前記応答手順に基づいて出力する応答情報出力工程とを有することを特徴とする応答方法。
【請求項１１】
前記応答手順定義情報は、応答するか否かを定義することを特徴とする請求項１０に記載の応答方法。
【請求項１２】
前記応答手順定義情報は、応答メディアを定義することを特徴とする請求項１０に記載の応答方法。
【請求項１３】
前記応答手順定義情報は、応答先を定義することを特徴とする請求項１０に記載の応答方法。
【請求項１４】
前記応答手順定義情報は、応答のタイミングを定義することを特徴とする請求項１０に記載の応答方法。
【請求項１５】
前記応答手順定義情報は、応答に用いる言語の種類を定義することを特徴とする請求項１０に記載の応答方法。
【請求項１６】
前記応答手順定義情報は、応答する時の条件を定義することを特徴とする請求項１０に記載の応答方法。
【請求項１７】
前記応答手順定義情報は、再応答方法を定義することを特徴とする請求項１０に記載の応答方法。
【請求項１８】
前記応答手順定義情報は、再応答の回数を定義することを特徴とする請求項１７に記載の応答方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決する為に、本発明によれば、応答装置に、各状況に対する応答手順を定義した応答手順定義情報を記憶する応答手順定義情報記憶手段と、状況を取得する状況取得手段と、取得された前記状況に基づいて、該状況に対して前記応答手順定義情報により定義された応答手順を選択する応答手順選択手段と、選択された前記応答手順に基づいて、応答情報を作成する応答情報作成手段と、作成された前記応答情報を、選択された前記応答手順に基づいて出力する応答情報出力手段とを具える。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明の他の態様によれば、応答方法に、各状況に対する応答手順を指定する応答手順指定工程と、状況を取得する状況取得工程と、各状況に対する応答手順を定義した応答手順定義情報を記憶する応答手順定義情報記憶部を参照し、取得された前記状況に対して当該応答手順定義情報において定義された応答手順を選択する応答手順選択工程と、選択された前記応答手順に基づいて、応答情報を作成する応答情報作成工程と、作成された前記応答情報を、選択された前記応答手順に基づいて出力する応答情報出力工程とを具える。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、個々の利用者が自由に応答手順を定義できるようにすることで、重要な応答への注意を高め、応答が必要な利用者だけに応答し、不要な応答をできるだけ避けることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワークに接続され、印刷ジョブを処理して各ページのイメージデータを生成するジョブ処理部を備えたフロントエンドプロセッサと、
前記ネットワーク上の印刷装置に対応して設けられ、前記ネットワークからの各ページのイメージデータを印刷装置へ出力する装置であって、各ページのイメージデータを保存する記憶装置を備えたバックエンドプロセッサと、を含み、
前記フロントエンドプロセッサは、
前記ジョブの保存を制御する手段であって、各イメージデータの保存先をページ単位で制御可能な保存制御手段と、
保存ジョブに対して印刷命令があった場合に、前記保存ジョブの印刷を実行するバックエンドプロセッサの記憶装置内に前記保存ジョブを構成するすべてのイメージデータが保存されているか否かを判定し、不足するイメージデータがある場合にはそれを他の記憶装置から当該バックエンドプロセッサへ転送させる制御を行う転送制御手段と、
を含むことを特徴とする印刷システム。
【請求項２】
請求項１記載のシステムにおいて、
前記保存制御手段は、各記憶装置の空き容量を判定する空き容量判定手段を含み、前記各記憶装置の空き容量に従って各ページのイメージデータの保存先を指定することを特徴とする印刷システム。
【請求項３】
請求項１記載のシステムにおいて、
前記保存制御手段は、印刷ジョブの属性としてその印刷を実行するバックエンドプロセッサの指定がなされている場合には、その指定バックエンドプロセッサの記憶装置に当該印刷ジョブの各イメージデータを優先的に保存させる制御を行うことを特徴とする印刷システム。
【請求項４】
請求項１記載のシステムにおいて、
前記保存制御手段は、記憶装置間でイメージデータの移動を行わせ各記憶装置の記憶データ量を調整する調整手段を含むことを特徴とする印刷システム。
【請求項５】
請求項１記載のシステムにおいて、
前記転送制御手段は、
前記不足するイメージデータの転送を行う場合に当該イメージデータが他のジョブにより参照されているか否かを判定する参照関係判定手段と、
参照関係がない場合には前記不足するイメージデータの転送を移動によって実行させ、参照関係がある場合には前記不足するイメージデータの転送をコピーによって実行させる転送モード選択手段と、
を含むことを特徴とする印刷システム。
【請求項６】
請求項１記載のシステムにおいて、
前記フロントエンドプロセッサは、
各印刷ジョブのジョブ属性を管理するジョブ属性管理部と、
各ページのページ属性を管理するページ属性管理部と、
を含み、
前記ページ属性にはイメージデータの保存先が含まれることを特徴とする印刷システム。
【請求項７】
請求項１記載のシステムにおいて、
前記記憶装置の空き容量を一定値以上に管理する空き容量管理手段を有することを特徴とする印刷システム。
【請求項８】
ネットワークに接続され、印刷ジョブを処理して各ページのイメージデータを生成するジョブ処理部を備えたフロントエンドプロセッサと、
前記ネットワーク上の印刷装置に対応して設けられ、前記ネットワークからの各ページのイメージデータを印刷装置へ出力する装置であって、各ページのイメージデータを保存する記憶装置を備えたバックエンドプロセッサと、
を含む印刷システムにおける印刷制御方法において、
前記ジョブ処理部により生成された各イメージデータの保存先をページ単位で制御し、
保存ジョブに対して印刷命令があった場合に、前記保存ジョブの印刷を実行するバックエンドプロセッサの記憶装置内に前記保存ジョブを構成するすべてのイメージデータが保存されているか否かを判定し、
不足するイメージデータがある場合にはそれを他の記憶装置から当該バックエンドプロセッサへ転送させる制御を行うことを特徴とする印刷制御方法。
【請求項９】
請求項８記載の方法を印刷システム上で実現するためのプログラムを記憶した媒体。
【請求項１０】
イメージデータを保存する記憶装置を備え印刷装置へイメージデータを出力するバックエンドプロセッサに対してネットワークを介して接続されるフロントエンドプロセッサであって、
印刷ジョブを処理して各ページのイメージデータを生成するジョブ処理手段と、
前記印刷ジョブの保存を制御する手段であって、各イメージデータの保存先をページ単位で制御可能な保存制御手段と、
保存ジョブに対して印刷命令があった場合に、前記保存ジョブの印刷を実行するバックエンドプロセッサの記憶装置内に前記保存ジョブを構成するすべてのイメージデータが保存されているか否かを判定し、不足するイメージデータがある場合にはそれを他の記憶装置から当該バックエンドプロセッサへ転送させる制御を行う転送制御手段と、
を含むことを特徴とするフロントエンドプロセッサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（９）また、本発明は、上記の方法を印刷システム上で実現するためのプログラムを記憶した媒体を提供するものである。ここで、上記媒体には、光、磁気、電気などの作用により情報を記憶するすべての媒体が含まれ、ＲＡＭ，ＲＯＭ，ＨＤ，ＣＤ−ＲＯＭなどが含まれる。
（１０）また、本発明に係るフロントエンドプロセッサは、イメージデータを保存する記憶装置を備え印刷装置へイメージデータを出力するバックエンドプロセッサに対してネットワークを介して接続されるフロントエンドプロセッサであって、印刷ジョブを処理して各ページのイメージデータを生成するジョブ処理手段と、前記印刷ジョブの保存を制御する手段であって、各イメージデータの保存先をページ単位で制御可能な保存制御手段と、保存ジョブに対して印刷命令があった場合に、前記保存ジョブの印刷を実行するバックエンドプロセッサの記憶装置内に前記保存ジョブを構成するすべてのイメージデータが保存されているか否かを判定し、不足するイメージデータがある場合にはそれを他の記憶装置から当該バックエンドプロセッサへ転送させる制御を行う転送制御手段と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月3日(2003.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
枚葉印刷機で印刷された印刷物の画像情報をカメラで取り込み、該画像情報に基づいてインラインで印刷物の異常を検査する印刷物検査装置において、前記枚葉印刷機の最終印刷ユニットから印刷物を受け取って排紙部へと搬送する略直線状部を備えたチェーン搬送装置上の入口側スプロケットシャフトの直後に前記カメラを設置したことを特徴とする印刷物検査装置。
【請求項２】
前記チェーン搬送装置が前記印刷物の流れ方向寸法より長い略直線状部を有することを特徴とする請求項１記載の印刷物検査装置。
【請求項３】
前記チェーン搬送装置の略直線状部が水平搬送部であることを特徴とする請求項２記載の印刷物検査装置。
【請求項４】
前記チェーン搬送装置上で略直線状に搬送される状態の印刷物から前記カメラにより画像情報を取り込む位置に前記印刷物を下方から吸引する吸引装置を設置したことを特徴とする請求項１，２または３記載の印刷物検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る印刷物検査装置は、枚葉印刷機で印刷された印刷物の画像情報をカメラで取り込み、その画像情報に基づいてインラインで印刷物の異常を検査する印刷物検査装置において、枚葉印刷機の最終印刷ユニットから印刷物を受け取って排紙部へと搬送する略直線状部を備えたチェーン搬送装置上で略直線状に搬送される状態の印刷物から画像情報を取り込める位置にカメラを設置したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月22日(2003.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＬＥＤ灯具


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
灯具の中心軸から略等距離の円周上とし且つ前記中心軸と光軸とは適宜距離の一点で交差するように複数のＬＥＤランプを配置すると共に、それぞれのＬＥＤランプに対し前記中心軸側の略半部に前記光軸に略平行な半円筒状反射面を設け残りの略半部にこのＬＥＤランプからの光の進行方向に向い開くコニカルホーン状反射面を設け前記一点の近傍でこれらの半円筒状反射面とコニカルホーン状反射面とを一体化させて１つの開口部を有し前記一点の近傍を疑似焦点とする光源ユニットを形成し、且つ、前記中心軸上には前記疑似焦点を第一焦点とする双曲線の第二焦点とこの第二焦点を焦点とする回転双曲面反射面を設けると共に前記第一焦点側には前記第二焦点を焦点とする回転放物面系反射面を設けたことを特徴とするＬＥＤ灯具。
【請求項２】
前記ＬＥＤランプが前記中心軸と光軸を一致させる１個であり、前記光源ユニットが前記中心軸と軸を一致させる円筒状の単筒であることを特徴とする請求項１記載のＬＥＤ灯具。
【請求項３】
前記回転双曲面反射面は、表面鏡もしくは透明高屈折部材の内面全反射面の何れかで形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載のＬＥＤ灯具。
【請求項４】
前記回転放物面系反射面は、この回転放物面系反射面自体が配光特性を形成する構成とされていることを特徴とする請求項１〜請求項３の何れかに記載のＬＥＤ灯具。
【請求項５】
前記回転双曲面反射面は、この回転双曲面反射面自体が配光特性を形成する構成とされていることを特徴とする請求項１〜請求項の３何れかに記載のＬＥＤ灯具。
【請求項６】
前記回転双曲面反射面の前記中心軸近傍には、前記第一焦点に対しより短い距離の第三焦点を有する補助双曲線を想定し、この補助双曲線を前記第三焦点を中心として適宜に傾けた状態で前記中心軸で回転することで得られる補助回転双曲面反射面が設けられていることを特徴とする請求項１〜請求項５の何れかに記載のＬＥＤ灯具。
【請求項７】
前記光源ユニットと前記回転双曲面反射面とが一体化され、且つ、前記回転放物面系反射面には適宜な係着手段により着脱自在とされていることを特徴とする請求項１〜請求項６何れかに記載のＬＥＤ灯具。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に、テールランプ、ストップランプ、ターンシグナルランプなど主として信号用に使用される灯具に関するものであり、詳細には、光源としてＬＥＤランプを採用する灯具の構成に係るものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記した従来の課題を解決するための具体的手段として、灯具の中心軸から略等距離の円周上とし且つ前記中心軸と光軸とは適宜距離の一点で交差するように複数のＬＥＤランプを配置すると共に、それぞれのＬＥＤランプに対し前記中心軸側の略半部に前記光軸に略平行な半円筒状反射面を設け残りの略半部にこのＬＥＤランプからの光の進行方向に向い開くコニカルホーン状反射面を設け前記一点の近傍でこれらの半円筒状反射面とコニカルホーン状反射面とを一体化させて１つの開口部を有し前記一点の近傍を疑似焦点とする光源ユニットを形成し、且つ、前記中心軸上には前記疑似焦点を第一焦点とする双曲線の第二焦点とこの第二焦点を焦点とする回転双曲面反射面を設けると共に前記第一焦点側には前記第二焦点を焦点とする回転放物面系反射面を設けたことを特徴とするＬＥＤ灯具を提供することで、点灯時の見え方を白熱電球を光源とする灯具に近づけることを可能として課題を解決するものである。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明により、灯具の中心軸から略等距離の円周上とし且つ前記中心軸と光軸とは適宜距離の一点で交差するように複数のＬＥＤランプを配置すると共に、それぞれのＬＥＤランプに対し前記中心軸側の略半部に前記光軸に略平行な半円筒状反射面を設け残りの略半部にこのＬＥＤランプからの光の進行方向に向い開くコニカルホーン状反射面を設け前記一点の近傍でこれらの半円筒状反射面とコニカルホーン状反射面とを一体化させて１つの開口部を有し前記一点の近傍を疑似焦点とする光源ユニットを形成し、且つ、前記中心軸上には前記疑似焦点を第一焦点とする双曲線の第二焦点とこの第二焦点を焦点とする回転双曲面反射面を設けると共に前記第一焦点側には前記第二焦点を焦点とする回転放物面系反射面を設けたＬＥＤ灯具としたことで、光源ユニットにより複数のＬＥＤランプからの光を疑似焦点に収束し、回転双曲面反射面で照射角を拡げて回転放物面系反射面に入射させるものとなり、あたかも白熱電球を光源として採用した灯具のような点灯フィーリングを得られるものとする。よって、従来のＬＥＤランプを光源とする灯具のように光ムラも生ぜず観視者に違和感を生じさせないものとなり、この種のＬＥＤ灯具の美観の向上に極めて優れた効果を奏するものである。また、同じ発光面積であればＬＥＤランプの必要数は大幅に低減されるものとなり、この種のＬＥＤ灯具のコストダウンにも極めて優れた効果を奏するものとなる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月19日(2003.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマ電位差、電流測定装置及びそれを用いた試料の処理方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器にガスを導入してプラズマを発生させ、試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置におけるプラズマ電位差、電流測定装置において、
前記試料と同じ構成の測定用試料の上に形成された発光素子と、プラズマから入射する荷電粒子量の差に対応して発生する電位差を利用して前記発光素子の両端に発生した電位差によって発光素子に電流が流れ、該電流に応じて前記発光素子が発光する発光強度を測定する発光強度測定手段とを備え、前記発光強度の強弱に応じて前記測定用試料上の電位差を測定することを特徴とするプラズマ処理の電位差、電流測定装置。
【請求項２】
真空容器にガスを導入してプラズマを発生させ、試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置におけるプラズマ電位差、電流測定装置において、
前記試料と同じ構成の測定用試料の上に形成された発光素子と、前記測定用試料の表面にプラズマから入射する荷電粒子の流れを、前記発光素子に流れる電流に応じて該発光素子が発光する発光強度として測定する発光強度測定測定手段とを有し、該発光強度の強弱に応じて前記測定用試料へ流れ込む電流を測定することを特徴とするプラズマ処理のプラズマ電位差、電流測定装置。
【請求項３】
一対の導体アンテナと、前記一対の導体アンテナ間に接続された発光素子と、前記発光素子に接続された交流電圧バイパス素子とを備えた電位差、電流測定部材を用いる電位差、電流測定方法であって、前記一対の導体アンテナを被測定物体の測定点にそれぞれ配置接続し、そのときに前記発光素子が出力する発光強度を検出することによって前記各測定点の直流電位差、直流電流を測定することを特徴とする電位差、電流測定方法。
【請求項４】
片方のアンテナＡは導体部がおおよそ平面的に露出する構造で、もう片方のアンテナＢは導体部が絶縁体に囲まれた状態で露出している構造とし、その間に接続された発光素子の発光を測定するときに、発光強度の時間依存性を調べ、発光が始まってから終わるまでの時間と、アンテナＢの導体の厚さから、エッチングレートを測定することを特徴とするエッチングレート測定装置。
【請求項５】
片方のアンテナＡは導体部がおおよそ平面的に露出する構造で、もう片方のアンテナＢは導体部が絶縁体に囲まれた状態で露出している構造とし、その間に接続された発光素子の発光を測定するときに、発光強度の時間依存性を調べ、発光が始まってから終わるまでの時間と、アンテナＢの導体の厚さから、エッチングレートを測定することを特徴とするエッチングレート測定方法。
【請求項６】
真空容器にガスを導入してプラズマを発生させ試料を処理する試料の処理方法において、
電位差測定用の手段として、前記試料と同じ構成の測定用試料の上に発光素子を形成し、プラズマから入射する荷電粒子量の差に対応して発生する電位差を利用し、前記発光素子の両端に発生した電位差によって該発光素子に電流が流れ該電流に応じて前記発光素子が発光することによる発光強度を測定し、該発光強度の強弱に応じて前記測定用試料上の電位差を測定するように構成し、
前記真空容器内において前記試料を所定枚数処理する毎に、前記測定用試料を用いて前記電位差を測定し、
前記電位差が所定値を越えた場合、前記試料の処理を中断することを特徴とする試料の処理方法。
【請求項７】
真空容器にガスを導入してプラズマを発生させ試料を処理する試料の処理方法において、
プラズマ電流測定用の手段として、前記試料と同じ構成の測定用試料の上に発光素子を形成し、該測定用試料の表面にプラズマから入射する荷電粒子の流れを、前記発光素子に流れる電流に応じて該発光素子が発光する発光強度として測定し、該発光強度の強弱に応じて前記測定用試料へ流れ込む電流を測定するように構成し、
前記真空容器内において前記試料を所定枚数処理する毎に、前記測定用試料を用いてプラズマ電流を測定し、
前記プラズマ電流が所定値を越えた場合、前記試料の処理を中断することを特徴とする試料の処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月27日(2003.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品を着脱可能に挟持する２つの挟持機構部を備え、
物品を挟持している一方の挟持機構部と、物品を挟持していない他方の挟持機構部とを対向して接触させることにより、物品を挟持している一方の挟持機構部の挟持を解除するとともに、物品を挟持していない他方の挟持機構部に物品を挟持させるように構成された物品受渡し機構。
【請求項２】
２つの挟持機構部は、基部と、基部に回動可能に支持されるアームと、アームに対向して配置され物品をアームとの間に挟持する受け部材とを備え、アームは、受け部材と対向する面の自由端側に傾斜面が形成され、２つの挟持機構部を対向して接触させると、物品を挟持していない他方の挟持機構部のアームの自由端が、物品を挟持している一方の挟持機構部のアームの傾斜面に接しながら内側に入り込み、物品を挟持している一方の挟持機構部の挟持を解除するとともに、物品を挟持していない他方の挟持機構部に物品を挟持させるように構成された請求項１記載の物品受渡し機構。
【請求項３】
アームは、物品を挟持していないときに、自由端側が閉じるように構成された請求項２記載の物品受渡し機構。
【請求項４】
一方の挟持機構部が停止した状態で、他方の挟持機構部が移動することにより２つの挟持機構部が対向して接触するように構成された請求項１乃至３のいずれか１項に記載の物品受渡し機構。
【請求項５】
物品が、液体分注用のピペットである請求項１乃至４のいずれか１項に記載の物品受渡し機構。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明によれば、物品を着脱可能に挟持する２つの挟持機構部を備え、物品を挟持している一方の挟持機構部と、物品を挟持していない他方の挟持機構部とを対向して接触させることにより、物品を挟持している一方の挟持機構部の挟持を解除するとともに、物品を挟持していない他方の挟持機構部に物品を挟持させるように構成された物品受渡し機構が提供される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明においては、２つの挟持機構部は、基部と、基部に回動可能に支持されるアームと、アームに対向して配置され物品をアームとの間に挟持する受け部材とを備え、アームは、受け部材と対向する面の自由端側に傾斜面が形成され、２つの挟持機構部を対向して接触させると、物品を挟持していない他方の挟持機構部のアームの自由端が、物品を挟持している一方の挟持機構部のアームの傾斜面に接しながら内側に入り込み、物品を挟持している一方の挟持機構部の挟持を解除するとともに、物品を挟持していない他方の挟持機構部に物品を挟持させるように構成されることが好ましい。したがって、この発明は、物品を挟持した状態と、物品を挟持しない状態とにおけるアームの基部に対する姿勢の変化を利用して、他方側の自由端を一方側の傾斜面に接触できるようにするものであり、それによって挟持機構部を対応する基部とともに移動させるだけで物品の受渡しが可能となる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明における基部は、アームを回動可能に支持する。また、アームとの間に挟持物品を当接して挟持する受け面を有することが好ましい。基部は、少なくとも２つが配設され、所定の軌道上を少なくとも一方が他方に対して移動可能な移動体が好ましい。基部の移動は、単一の軌道を直線移動または曲線移動するものであってもよく、さらに複数の軌道を乗り換えて、例えば、Ｘ軸軌道とＹ軸軌道に乗り換えて、移動するものであってもよい。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
【発明の効果】
この発明では、物品を着脱可能に挟持する２つの挟持機構部を備え、物品を挟持している一方の挟持機構部と、物品を挟持していない他方の挟持機構部とを対向して接触させることにより、物品を挟持している一方の挟持機構部の挟持を解除するとともに、物品を挟持していない他方の挟持機構部に物品を挟持させるように構成された物品受渡し機構を提供することにより、少なくとも２つの場所の間を移動してそれぞれの場所で所定の動作を行うピペット等の物品の移動及びその受渡しにおいて、構造全体を簡略化することができる。
この発明においては、２つの挟持機構部は、基部と、基部に回動可能に支持されるアームと、アームに対向して配置され物品をアームとの間に挟持する受け部材とを備え、アームは、受け部材と対向する面の自由端側に傾斜面が形成され、２つの挟持機構部を対向して接触させると、物品を挟持していない他方の挟持機構部のアームの自由端が、物品を挟持している一方の挟持機構部のアームの傾斜面に接しながら内側に入り込み、物品を挟持している一方の挟持機構部の挟持を解除するとともに、物品を挟持していない他方の挟持機構部に物品を挟持させるように構成することができる。このような構成とすることによって、物品を挟持した状態と、物品を挟持しない状態とにおけるアームの基部に対する姿勢の変化を利用して、他方側の自由端を一方側の傾斜面に接触できるようにすることができ、それによって挟持機構部を対応する基部とともに移動させるだけで物品の受渡しが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年5月29日(2003.5.29)
【手続補正１】
【補正対象項目名】手続補正１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホスホリパーゼＢ活性及びリパーゼ活性を共に有し、配列番号：１に示すアミノ酸配列中少なくとも第３６７位のアミノ酸Ｌｙｓから第７１２位のアミノ酸Ａｓｎまでのアミノ酸配列、又は該アミノ酸配列に対して１個又は数個のアミノ酸の置換、欠失又は付加により修飾されているアミノ酸配列を有する蛋白質。
【請求項２】
配列番号：１の第３６７位のアミノ酸Ｌｙｓから第７１２位のアミノ酸Ａｓｎまでのアミノ酸配列、又は該アミノ酸配列に対して１又は数個のアミノ酸の置換、欠失又は付加により修飾されているアミノ酸配列を有する、請求項１に記載の蛋白質。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の蛋白質をコードするＤＮＡ。
【請求項４】
配列番号：１に記載の塩基配列を有するＤＮＡとハイブリダイズし、且つホスホリパーゼＢ活性及びリパーゼ活性の両方を有する蛋白質をコードするＤＮＡ。
【請求項５】
請求項４に記載のＤＮＡによりコードされている蛋白質。
【請求項６】
請求項３又は４に記載のＤＮＡを含んで成るベクター。
【請求項７】
請求項６に記載のベクターにより形質転換された宿主。
【請求項８】
請求項７に記載の宿主を培養し、そして培養物から、ホスホリパーゼＢ活性及びリパーゼ活性を有する蛋白質を採取することを特徴とする、ホスホリパーゼ蛋白質の製造方法。
【請求項９】
同程度の高いホスホリパーゼＡ２とリパーゼ比活性を示し、小腸、精巣（精子）、食道に特異的に発現する請求項１又は２に記載の蛋白質。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月27日(2003.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】図２に示すものは、ブレーキＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４にそれぞれスイッチ７と切換弁８とからなる流体圧制御装とアンチロック切換弁１５とを備え、一つのポンプ９、畜圧器１０からそれぞれ異なる流体圧を取り出して供給することができる。（試験済みである）従って、制御装置２４が車輪２７ごとに設けた公知の回転センサー２８により、各車輪２７の回転数の差違を入力した場合には、公知の比較回路を利用してモーター１１を動かして加圧スプリング４の弾力を変えることにより、車輪２７の制動力を変えたり、アンチロック切換弁１５の開閉時間をそれぞれ変えてブレーキシューの開閉時間を車輪ごとに変えたりすることにより、各車輪２７の回転数が等しくなるように制御して車体２０の安定を保つことができる。
２９、３０はハンドル２１の回動角度を検出する検出器であって、この検出器２９、３０で車体２０の方向制御をする舵取り装置については、図３、図４で説明する。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】制御装置２４には図示してないが次の装置を設けることができる。検出器２３，２９，３０の検出値を増幅、減少、変更してモーター１１を作動することができる。
晴れ、雨、雪等の天候や、砂利道等の状況に応じた制動プログラムをＩＣ等に記録しておき、運転席の押しボタンで予め選択して最適の制動制御を行うか、道路状況を車載のセンサやカメラ等の検知器で検知して自動的に制御プログラムを選択させることができる。
道路に設けた磁性体又は塗料等のセンターライン等の標識を検知器で検知して、それを入力した制御装置２４がモーター１１を制御して、車体２０をセンターラインに保つように自動制御して居眠り運転による事故防止をすることができる。
遠方、近傍の障害物を車載の検知器で検知し、モーター１１を制御して制動することができる。その際モーター１１が作動して圧力スイッチ７のナット１３が原点を離れたときにはアクセルを解除する制御をする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば次に列記する効果がある。
ハンドルバー５７の揺動でアクセルを作動し、ブレーキバー６３を押したとき作動中のアクセルを解除し、ハンドルバー５７を戻してブレーキバー６３を解放したときアクセルが作動するようにすることができる。
ハンドルバー５７に、点灯、警笛、方向支持、ワイパー等の操作釦を設けることができる。そのハンドルバー５７を左右何れの席から操作出来る位置に設置することにより左右いずれの席からも車両を運転出来る。そして、躰の前には常時緩衝装置を設けて安全を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月10日(2003.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明の実施の形態】
（１）本発明の洗浄料の必須成分であるポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテル
本発明の洗浄料はポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテルを必須成分として含有することを特徴とする。このものはグリセリンの３つの水酸基にそれぞれポリオキシエチレンとポリオキシプロピレンがブロック共重合した形態のものであるが、このものはグリセリンにプロピレンオキシド、エチレンオキシドを反応させることにより製造することができる。本発明に於いて、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテルにおけるオキシエチレンの平均付加モル数は５〜４０が好ましく、更に好ましくは１０〜３５であり、特に好ましく２０〜３０である。又、オキシプロピレンの平均付加モル数は５〜４０が好ましく、更に好ましくは１０〜３５であり、特に好ましく２０〜３０である。加えて、ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレンの付加モル数の比は、２：３〜３：２が好ましい。この様なポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテルは既に市販されているものが多数あり、これを利用することもできる。この様な市販品としては旭デンカ株式会社より販売されているアデカＧＨシリーズがあり、その中ではアデカＧＨ２００（ポリオキシエチレン（２４）ポリオキシプロピレン（２４）グリセリン）が特に好ましく例示できる。これらポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテルは唯１種を含有させることもできるし、２種以上を含有させることもできる。本発明の洗浄料に於ける、かかるポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテルの好ましい含有量は、洗浄料全量に対して、５〜３０重量％であり、更に好ましくは、７〜２０重量％である。これは、かかるポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテルが多すぎると洗浄性や泡立ちを損なうことがあり、少なすぎると均一性を損なうことがあるからである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月29日(2003.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
ウェブ中の繊維組成が熱融着繊維を２５％以上であって６０％以下である熱融着繊維低含有ウェブと、熱融着繊維の含有率が３５％以上であって７５％以下である熱融着繊維高含有ウェブの双方のウェブが、それぞれのフォーミングパートを出て、まだ乾燥されていない段階で両者を重ね合わせ、乾燥一体化する工程を含み、熱融着繊維高含有層の表面摩耗強さが３．５級以上になるように湿式抄造された壁紙用不織布の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに本発明は、ウェブ中の繊維組成が熱融着繊維を２５％以上であって６０％以下である熱融着繊維低含有ウェブと、熱融着繊維の含有率が３５％以上であって７５％以下の熱融着繊維高含有ウェブの双方のウェブが、それぞれのフォーミングパートを出て、まだ乾燥されていない段階で両者を重ね合わせ、乾燥一体化する工程を含み、熱融着繊維高含有層の表面摩耗強さが３．５級以上になるように湿式抄造された壁紙用不織布の製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月23日(2003.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インクジェット記録用シート


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
防水性支持体の少なくとも片面に該支持体に近い方から水溶性ポリマーよりなるインク受容層、熱可塑性有機樹脂粒子からなる層を順次設けたことを特徴とするインクジェット記録用シート。
【請求項２】
防水性支持体の少なくとも片面に該支持体に近い方からインク受容層、熱可塑性有機樹脂粒子からなる層を順次設けたインクジェット記録用シートであって、該熱可塑性有機樹脂粒子からなる層が最低成膜温度が１００℃未満の熱可塑性有機樹脂粒子と最低成膜温度が１００℃以上の熱可塑性有機樹脂粒子を含むことを特徴とするインクジェット記録用シート。
【請求項３】
防水性支持体の少なくとも片面に該支持体に近い方からインク受容層、熱可塑性有機樹脂粒子からなる層を順次設けたインクジェット記録用シートであって、該熱可塑性有機樹脂粒子がアイオノマー樹脂であることを特徴とするインクジェット記録用シート。
【請求項４】
インク受容層が主に無機微細粒子からなり、該無機微細粒子が多孔質シリカ、気相法シリカ、アルミナ水和物、気相法アルミナの少なくとも１種からなることを特徴とする請求項２または３記載のインクジェット記録用シート。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月7日(2003.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線を射出する光源部と、前記光源部から射出された紫外線でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルの像を感光性基板上に転写する投影系部と、装置の一部もしくは全部を収容するチャンバーとを備える露光装置において、任意の部位に湿度除去された気体を供給することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記感光性基板雰囲気に湿度除去された気体を供給することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
感光性基板の存在を検知する手段を備え、感光性基板の有無に応じて湿度除去された気体の供給量を制御することを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記感光性基板の周囲雰囲気の湿度を測定する手段を備えることを特徴とする請求項２又は３記載の露光装置。
【請求項５】
湿度除去された気体が供給される雰囲気中で前記感光性基板と接触する部材に静電気除去手段を設けたことを特徴とする請求項２、３又は４記載の露光装置。
【請求項６】
前記照明光学系雰囲気に湿度除去された気体を供給することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項７】
ガス状不純物除去フィルターと湿度除去手段を備え、前記ガス状不純物除去フィルターを通した気体を前記湿度除去手段に通すことによって湿度除去された気体を得ることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項記載の露光装置。
【請求項８】
前記気体は大気を湿度除去したものであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項記載の露光装置。
【請求項９】
外気から湿度を除去する湿度除去手段を有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項１０】
前記外気の湿度をモニターする湿度測定手段と、
前記湿度測定手段でモニターされた前記外気の湿度に応じて、前記湿度除去手段の湿度除去能力を制御する制御手段とを有することを特徴とする請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記任意の部位は、前記感光性基板の移動経路であることを特徴とする請求項１０記載の露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月22日(2003.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
残留側波帯変調（ＶＳＢ）信号を受信する受信機のタイミング回復装置であって、該装置は、前記受信信号を第１の方向へ第１の所定量だけ周波数偏移させて第１の周波数偏移信号を発生する第１の手段と、前記受信信号を第１の方向へ第２の所定量だけ周波数偏移させて第２の周波数偏移信号を発生する第２の手段と、前記第１の周波数偏移手段に接続されて前記第１の周波数偏移信号を濾波する第１のフィルタと、前記第２の周波数偏移手段に接続されて前記第２の周波数偏移信号を濾波する第２のフィルタと、いずれの共役複素数をとることなく前記濾波された信号を乗算してタイミング情報を抽出することができる出力信号を発生する手段とを具備するタイミング回復装置。
【請求項２】
受信機が受信する残留側波帯変調信号からタイミング情報を回復する方法であって、該方法は、前記ＶＳＢ信号を左へ所定量だけ周波数偏移させて前記ＶＳＢ信号の左側成分信号を発生するステップと、前記ＶＳＢ信号を右へ所定量だけ周波数偏移させて前記ＶＳＢ信号の右側成分信号を発生するステップと、前記左側成分信号を濾波して濾波された左側成分信号を発生するステップと、前記右側成分信号を濾波して濾波された右側成分信号を発生するステップと、いずれの信号の共役複素数もとることなく前記濾波された左側および右側成分信号を乗算することによりタイミング情報を有する出力信号を発生するステップとを含むタイミング情報回復方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（１）  残留側波帯変調（ＶＳＢ）信号を受信する受信機のタイミング回復装置であって、該装置は、前記受信信号を第１の方向へ第１の所定量だけ周波数偏移させて第１の周波数偏移信号を発生する第１の手段と、前記受信信号を第１の方向へ第２の所定量だけ周波数偏移させて第２の周波数偏移信号を発生する第２の手段と、前記第１の周波数偏移手段に接続されて前記第１の周波数偏移信号を濾波する第１のフィルタと、前記第２の周波数偏移手段に接続されて前記第２の周波数偏移信号を濾波する第２のフィルタと、いずれの共役複素数をとることなく前記濾波された信号を乗算してタイミング情報を抽出することができる出力信号を発生する手段とを具備するタイミング回復装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月9日(2004.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された窒素を含むゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に選択的に形成されたゲート電極と、
前記半導体基板及び前記ゲート電極の表面に形成された酸化膜と
を具備し、
前記ゲート絶縁膜は、前記ゲート電極の中央部下に位置する第１の部分と前記ゲート電極の端部下に位置する第２の部分とを有し、
前記第２の部分は前記第１の部分より厚く、
前記第１の部分の第１の表面及び第２の表面は、前記第２の部分と交わる第１及び第２の線を規定し、
前記第１の線は、前記第１の部分と前記半導体基板との間に位置し、
前記第２の線は、前記第１の部分と前記ゲート電極との間に位置し、
前記第１の線と前記半導体基板との間の前記第２の部分の膜厚は、前記第２の線と前記ゲート電極との間の前記第２の部分の膜厚の１／３以下であり、
前記ゲート絶縁膜は、０．１％乃至１０％の窒素を含む酸化膜である
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された窒素を含むゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に選択的に形成されたゲート電極と、
前記半導体基板及び前記ゲート電極の表面に形成された酸化膜と、
前記酸化膜の表面に形成されたゲート側壁と
を具備し、
前記ゲート電極直下に位置する前記ゲート絶縁膜は、０．１％乃至１０％の窒素を含む酸化膜である
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された窒素を含むゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に選択的に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極の側壁に形成された酸化膜と
を具備し、
前記ゲート絶縁膜は、前記ゲート電極の中央部下に位置する第１の部分と前記ゲート電極の端部下に位置する第２の部分とを有し、
前記ゲート絶縁膜の前記第２の部分は、前記ゲート電極側に突出する第１の突出部と前記半導体基板側に突出する第２の突出部とを有し、
前記ゲート絶縁膜の前記第１の部分の上面の高さと前記第１の突出部のピークの高さとの間の距離は、前記ゲート絶縁膜の前記第１の領域の下面の高さと前記第２の突出部のピークの高さとの間の距離よりも大きく、
前記ゲート絶縁膜は、０．１％乃至１０％の窒素を含む酸化膜である
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された窒素を含むゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に選択的に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極の側壁に形成された酸化膜と
を具備し、
前記ゲート絶縁膜は、前記ゲート電極の中央部下に位置する第１の部分と前記ゲート電極の端部下に位置する第２の部分とを有し、
前記ゲート絶縁膜の前記第２の部分は、前記ゲート電極側に突出する第１の突出部と前記半導体基板側に突出する第２の突出部とを有し、
前記ゲート絶縁膜の前記第１の部分の上面の高さと前記第１の突出部のピークの高さとの間の距離は、前記ゲート絶縁膜の前記第１の部分の下面の高さと前記第２の突出部のピークの高さとの間の距離よりも大きい
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
前記ゲート絶縁膜は窒素濃度が最大となる部分を有し、
この部分は、前記ゲート絶縁膜と前記半導体基板との間の表面近くに位置することを特徴とする請求項３又は４に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記ゲート絶縁膜の前記第１の部分の下面の高さと前記第２の突出部のピークの高さとの間の前記距離は、前記ゲート絶縁膜の前記第１の部分の上面の高さと前記第１の突出部のピークの高さとの間の前記距離の１／３以下であることを特徴とする請求項３又は４に記載の半導体装置。
【請求項７】
半導体基板上に窒素を含むゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜上に選択的にゲート電極を形成する工程と、
後酸化を行い、前記ゲート電極の表面に酸化膜を形成する工程と、
前記ゲート電極の両側の前記半導体基板の表面に拡散層を形成する工程と
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記ゲート電極端部の前記ゲート絶縁膜において、前記半導体基板側の膜厚は前記ゲート電極側の膜厚の１／３以下になっていることを特徴とする請求項７記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月25日(2003.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
器具取付に際して背面側を見る状態で行なわれるが、銅鉄型とインバータ型の器具取付面側からの外観が図１１（ａ）または図１２（ａ）のように同じであるため、銅鉄型およびインバータ型の判断が困難であり、グロースタータソケット部の有無を見分けにくい。外形が連続し外観的に独立した形状を持たないため、インバータ型および銅鉄型の視認性が悪い。また蛍光灯ソケットとグロースタータの高さが同一であると器具取付時に視認性が悪くグローソケット部を蛍光灯ソケット部と誤認する可能性がある。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項１記載の複合ソケットによれば、グロースタータソケット部と蛍光灯ソケット部の高さが異なることで、グロースタータ付の複合ソケットであること、またグロースタータソケット部のない多灯用の蛍光灯ソケットとは異なるものであることが視認できる。グロースタータソケット部と蛍光灯ソケット部をそれぞれ略半円筒形状に突出させて、形状を独立させたことで、従来の連続させる形状の余分の部分の材料を削減できる。またグロースタータソケット部が低くなっているため包装等のスペースが増えることを防止できる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
【発明の効果】
請求項１記載の複合ソケットによれば、グロースタータソケット部と蛍光灯ソケット部の高さが異なることで、グロースタータ付の複合ソケットであること、またグロースタータソケット部のない多灯用の蛍光灯ソケットとは異なるものであることが視認できる。グロースタータソケット部と蛍光灯ソケット部をそれぞれ略半円筒形状に突出させて、形状を独立させたことで、従来の連続させる形状の余分の部分の材料を削減できる。またグロースタータソケット部が低くなっているため包装等のスペースが増えることを防止できる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月9日(2003.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）．半導体基板の表面に第１絶縁膜を形成する工程と、
（ｂ）．前記第１絶縁膜上に第２絶縁膜を形成する工程と、
（ｃ）．前記半導体基板上に、相対的に厚い絶縁膜を形成する第１の領域を覆い、前記第１の領域以外の領域であって相対的に薄い絶縁膜を形成する第２の領域が露出されるマスキングパターンを形成する工程と、
（ｄ）．前記マスキングパターンをマスクとして、前記第２の領域の第２絶縁膜および第１絶縁膜を順次除去する工程と、
（ｅ）．前記マスキングパターンを除去した後、前記半導体基板に対し、前記第２絶縁膜を第１絶縁膜の削れを抑制する膜として洗浄処理を施すことにより、前記第２絶縁膜を除去する工程と、
（ｆ）．前記半導体基板上に第３絶縁膜を形成することにより、前記第１の領域に相対的に厚い第１の膜厚の絶縁膜を形成し、前記第２の領域に相対的に薄い第２の膜厚の絶縁膜を形成する工程とを有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記（ａ）工程の前記第１絶縁膜の形成の後または前記（ｆ）工程の前記第３絶縁膜の形成の後に、熱窒化処理を施すことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記（ａ）工程の前記第１絶縁膜の形成の後または前記（ｆ）工程の前記第３絶縁膜の形成の後に、プラズマ窒化処理またはラジカル窒化処理を施すことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記（ｅ）工程における前記第２絶縁膜のエッチング速度が前記第１絶縁膜のエッチング速度よりも大きいことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記（ｅ）工程における前記第１絶縁膜の膜厚の減少量が１ｎｍよりも小さいことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項６】
（ａ）．第１活性領域および第２活性領域を有する半導体基板の表面に第１絶縁膜を形成する工程と、
（ｂ）．前記第１絶縁膜上に第２絶縁膜を形成する工程と、
（ｃ）．前記第２活性領域の第２絶縁膜および第１絶縁膜を順次除去する工程と、
（ｄ）．前記（ｃ）工程の後、前記半導体基板に対し、洗浄処理を施す工程と、
（ｅ）．前記（ｄ）工程の後、半導体基板上に第３絶縁膜を形成することにより、前記第１活性領域に相対的に厚い第１の膜厚の絶縁膜を形成し、前記第２の活性領域に相対的に薄い第２の膜厚の絶縁膜を形成する工程とを有し、
前記（ｄ）工程における洗浄処理において、前記第２絶縁膜のエッチング速度が前記第１絶縁膜のエッチング速度よりも大きく、前記第２活性領域の第２絶縁膜が除去されることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記（ｄ）工程における前記第１絶縁膜の膜厚の減少量が１ｎｍよりも小さいことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項８】
請求項５または７に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記第１絶縁膜の膜厚の減少量が０．２〜０．４ｎｍであることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記第２絶縁膜は、化学的気相成長法によって形成されることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記第１絶縁膜は熱酸化法によって形成され、前記第２絶縁膜は、化学的気相成長法によって形成されることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記第１絶縁膜および前記第２絶縁膜は、酸化シリコン膜であることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記第３絶縁膜は、前記第１絶縁膜よりも誘電率の高い材料からなることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１３】
（ａ）．第１活性領域および第２活性領域を有する半導体基板の表面に第１絶縁膜を形成する工程と、
（ｂ）．前記第１絶縁膜上に保護膜を形成する工程と、
（ｃ）．前記第２活性領域の保護膜および第１絶縁膜を順次除去する工程と、
（ｄ）．前記（ｃ）工程の後、前記半導体基板に対し、洗浄処理を施す工程と、
（ｅ）．前記（ｄ）工程の後、前記半導体基板上に第２絶縁膜を形成することにより、前記第１活性領域に相対的に厚い第１の膜厚の絶縁膜を形成し、前記第２活性領域に相対的に薄い第２の膜厚の絶縁膜を形成する工程とを有することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記（ｄ）工程における洗浄処理において、前記保護膜のエッチング速度が前記第１絶縁膜のエッチング速度よりも大きく、前記第２活性領域の第２絶縁膜が除去されることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１３または１４記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記（ｄ）工程における前記第１絶縁膜の膜厚の減少量が１ｎｍよりも小さいことを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記第１絶縁膜の膜厚の減少量が０．２〜０．４ｎｍであることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記第２絶縁膜は、化学的気相成長法によって形成されることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記洗浄処理工程において、前記保護膜は前記第１絶縁膜の削れを抑制する膜として作用することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記保護膜は、化学的気相成長法によって形成されることを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか１項に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、前記第１絶縁膜および前記第２絶縁膜は、ＭＩＳＦＥＴのゲート絶縁膜として作用することを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。