【手続補正書】
【提出日】平成24年8月6日(2012.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも１つに基づいて評価するステップと、前記評価は、少なくとも前記第一の移動された基準のビューと前記第二の移動された基準のビューとを１つの合成されたビューに合成する処理の一部として行われ、
前記評価に基づいて、前記１つの合成されたビューにおける所与の目標となる画素について結果を判定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記結果を判定するステップは、前記所与の目標となる画素の値を決定するステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記結果を判定するステップは、前記所与の目標となる画素がホールであることを判定するステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記ホールの分布は、前記第一の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第一のホールカウントと、前記第二の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第二のホールカウントとを含み、
前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、前記所与の目標となる画素の値として、前記第一のホールカウント及び前記第二のホールカウントのなかから最小のホールカウント値を有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップを含む、
請求項２記載の方法。
【請求項５】
前記所与の目標となる画素の値として、前記第一のホールカウント及び前記第二のホールカウントのなかから前記最小のホールカウント値を有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップは、前記第一のホールカウントと前記第二のホールカウントの間の差が予め決定された差の閾値よりも大きいときにのみ実行される、
請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記ホール分布は、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの位置を更に含み、
前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、前記所与の目標となる画素の値として、前記第一の候補となる画素又は前記第二の候補となる画素の所与の側に最も支配的に位置されるホールを有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップ、又は、前記第一の候補となる画素又は前記第二の候補となる画素の所与の側に最も支配的に位置されるホールを有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかに高い重み付け要素を割り当てるステップを含む、
請求項２記載の方法。
【請求項７】
前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の両者は、前記第一のホールカウントと前記第二のホールカウントの両者が予め決定されたホールカウントの閾値を超えるときに、前記所与の目標となる画素の値の決定における使用から除かれる、
請求項４記載の方法。
【請求項８】
前記後方合成プロセスは、
前記第一の基準のビューと前記第二の基準のビューを再合成して、再合成された第一の移動された基準のビュー及び再合成された第二の移動された基準のビューをそれぞれ供給するステップと、
前記再合成された第一の基準のビューと、前記第一の移動された基準のビューが取得された第一の基準のビューとの間の第一の差を計算するステップと、
前記再合成された第二の基準のビューと、前記第二の移動された基準のビューが取得された第二の基準のビューとの間の第二の差を計算するステップと、
前記第一の候補となる画素の周囲の領域に適用される前記第一の差に関する第一の合計を計算するステップと、
前記第二の候補となる画素の周囲の領域に適用される前記第二の差に関する第二の合計を計算するステップと、
当該方法は、前記第一の合計と前記第二の合計の少なくとも１つに基づいて前記所与の目標となる画素の値を決定するステップを更に含む、
請求項２記載の方法。
【請求項９】
前記第一の合計と前記第二の合計の少なくとも１つに基づいて前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、
前記所与の目標となる画素の値として、前記第一の合計が前記第二の合計未満であって、前記第一の合計と前記第二の合計の間の差が予め決定された差の閾値よりも大きいときに前記第一の候補となる画素を選択し、前記第二の合計が前記第一の合計未満であって、前記第一の合計と前記第二の合計の間の差が予め決定された差の閾値よりも大きいときに前記第二の候補となる画素を選択し、前記第一の合計と前記第二の合計の間の差が予め決定された差の閾値よりも大きくないとき、前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素の値を平均するステップを含む、
請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記第一の合計と前記第二の合計の少なくとも１つが予め決定された合計の閾値よりも大きいとき、前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素の少なくとも１つを除くステップを更に含む、
請求項８記載の方法。
【請求項１１】
前記ホール分布は、前記第一の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第一のホールカウントと前記第二の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第二のホールカウントとを含み、
前記１つの合成されたビューにおける前記所与の目標となる画素について、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素を選択するステップは、前記第一のホールカウントと前記第二のホールカウントが所与のホールカウントの閾値以下であるときのエネルギー量について低い値を有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップを含む、
請求項２記載の方法。
【請求項１２】
所与の閾値を超えるエネルギー量を有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを除くステップを更に含む、
請求項２記載の方法。
【請求項１３】
前記１つの合成されたビューにおける前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、
前記第一の候補となる画素の周囲のエネルギー量を決定して第一の量を取得するステップと、
前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギー量を決定して第二の量を取得するステップと、
前記第一の量及び前記第二の量の少なくとも１つに基づいて、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素のうちの１つを選択するステップ、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素のうちの１つを削除するステップ、又は前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素とを結合するステップと、
を含む請求項２記載の方法。
【請求項１４】
第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも１つに基づいて評価する手段と、前記評価は、少なくとも前記第一の移動された基準のビュー及び前記第二の移動された基準のビューを１つの合成されたビューに合成する処理の一部として行われ、
前記評価に基づいて、前記１つの合成されたビューにおける所与の目標となる画素について結果を判定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１５】
プロセッサに、
第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも１つに基づいて評価するステップと、前記評価は、少なくとも前記第一の移動された基準のビュー及び前記第二の移動された基準のビューを１つの合成されたビューに合成する処理の一部として行われ、
前記評価に基づいて、前記１つの合成されたビューにおける所与の目標となる画素について結果を判定するステップと、
を実行させる命令を記憶したプロセッサ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１６】
第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも１つに基づいて評価し、少なくとも前記第一の移動された基準のビュー及び前記第二の移動された基準のビューを１つの合成されたビューに合成する処理の一部として前記評価を行う手段と、
前記評価に基づいて、前記１つの合成されたビューにおける所与の目標となる画素について結果を判定する手段と、
を有するビューマージ手段を備える装置。
【請求項１７】
前記後方合成プロセスは、奥行きに基づいており、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価するための、後方合成された第一の基準のビュー及び第二の基準のビューの画素値を生成するため、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素に適用され、
請求項１記載の方法。