【手続補正書】
【提出日】平成24年3月1日(2012.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
【表３】
2011515457.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
【表４】
2011515457.tif 000002
以下に、本発明及びその関連態様を記載する。
態様１．（ｉ）ヘキサフルオロプロピレンを１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンに水素化し；
（ｉｉ）前記工程で得られた１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンを１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンへと脱フッ化水素化し；
（ｉｉｉ）前記工程で得られた１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンを１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパンに水素化し；
（ｉｖ）前記工程で得られた１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパンを２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに脱フッ化水素化する
工程を含んでなる、２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンの連続気相製造法。
態様２．前記水素を、工程（ｉ）及び／又は工程（ｉｉｉ）において、化学量論的モル比で投入する態様１に記載の方法。
態様３．工程（ｉｉ）を、水素の存在下で、好ましくはＨ2／反応させる生成物のモル比が０．３〜３０、特に０．５〜２０、有利には１〜１０となるように行い、且つ工程（ｉｖ）を水素の不存在下で行う態様１又は２に記載の方法。
態様４．工程（ｉｉ）を、水素の存在下で、好ましくはＨ2／反応させる生成物のモル比が０．３〜３０、特に０．５〜２０、有利には１〜１０となるように行い、且つ工程（ｉｖ）を水素の存在下で、好ましくはＨ2／反応させる生成物のモル比が０．３〜３０、特に０．５〜２０、有利には１〜１０となるように行う態様１又は２に記載の方法。
態様５．工程（ｉ）の間に水素の総量を導入する態様１〜４のいずれか１項に記載の方法。
態様６．Ｈ2／ヘキサフルオロプロピレンのモル比が２．３〜３０、有利には３〜２０である態様５に記載の方法。
態様７．Ｈ2／ヘキサフルオロプロピレンのモル比が約２である態様５に記載の方法。
態様８．工程（ｉｉ）の間に反応しなかった１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンを、工程（ｉｉ）の後又は工程（ｉｉｉ）の後であって工程（ｉｖ）の前に分離させ、任意的に、工程（ｉｉ）及び／又は工程（ｉ）に循還させる態様１〜７のいずれか１項に記載の方法。
態様９．工程（ｉｉ）の間に反応しなかった１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンを工程（ｉｉｉ）及び（ｉｖ）の前には分離させず、工程（ｉｖ）の間に未反応１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンから追加１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンを生成させ、次いでこの追加１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンを分離させて、任意的に、工程（ｉｉｉ）及び／又は任意的に、工程（ｉｉ）に循還させる態様１〜７のいずれか１項に記載の方法。
態様１０．水素化工程（ｉ）及び（ｉｉｉ）を同一反応器中で、好ましくは同一触媒を用いて行い、分離工程が任意的に存在する態様１〜９のいずれか１項に記載の方法。
態様１１．脱フッ化水素化工程（ｉｉ）及び（ｉｖ）を、同一反応器中で、好ましくは同一触媒を用いて行う方法で、前記方法が、前記反応器から得られた生成物、特に２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンを含むフラクションとして得られた生成物を分離させるための分離工程も含む態様１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
態様１２．１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンを含む工程（ｉｉ）からの流れを、分離することなく、工程（ｉｉｉ）に直接送り、その間に水素化を行う態様１〜９のいずれか１項に記載の方法。
態様１３．工程（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）を、同一反応器中で、異なる触媒床上で行う態様１〜９のいずれか１項に記載の方法。
態様１４．工程（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）を、直接連続する３つの反応器中で、中間で分離することなく、行う態様１〜９のいずれか１項に記載の方法。
態様１５．工程（ｉｉｉ）の後に分離を行い、１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパン及び、任意的に、ＨＦの流れを回収して方法の最初に循還させ、且つ１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパン及び、任意的に、水素の流れを回収して工程（ｉｖ）に送る態様１３又は１４に記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）ヘキサフルオロプロピレンを１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンに水素化し；
（ｉｉ）前記工程で得られた１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンを１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンへと脱フッ化水素化し；
（ｉｉｉ）前記工程で得られた１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンを１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパンに水素化し；
（ｉｖ）前記工程で得られた１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパンを２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに脱フッ化水素化する
工程を含んでなる、２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンの連続気相製造法。
【請求項２】
前記水素を、工程（ｉ）及び／又は工程（ｉｉｉ）において、化学量論的モル比で投入する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（ｉｉ）を、水素の存在下で、Ｈ2／反応させる生成物のモル比が０．３〜３０となるように行い、且つ工程（ｉｖ）を水素の不存在下で行う請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
工程（ｉｉ）を、水素の存在下で、Ｈ2／反応させる生成物のモル比が０．３〜３０となるように行い、且つ工程（ｉｖ）を水素の存在下で、Ｈ2／反応させる生成物のモル比が０．３〜３０となるように行う請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
工程（ｉ）の間に水素の総量を導入する請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
Ｈ2／ヘキサフルオロプロピレンのモル比が２．３〜３０である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
Ｈ2／ヘキサフルオロプロピレンのモル比が約２である請求項５に記載の方法。
【請求項８】
工程（ｉｉ）の間に反応しなかった１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンを、工程（ｉｉ）の後又は工程（ｉｉｉ）の後であって工程（ｉｖ）の前に分離させ、任意的に、工程（ｉｉ）及び／又は工程（ｉ）に循還させる請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
工程（ｉｉ）の間に反応しなかった１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンを工程（ｉｉｉ）及び（ｉｖ）の前には分離させず、工程（ｉｖ）の間に未反応１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンから追加１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンを生成させ、次いでこの追加１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンを分離させて、任意的に、工程（ｉｉｉ）及び／又は任意的に、工程（ｉｉ）に循還させる請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
水素化工程（ｉ）及び（ｉｉｉ）を同一反応器中で行い、分離工程が任意的に存在する請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
脱フッ化水素化工程（ｉｉ）及び（ｉｖ）を、同一反応器中で行う方法で、前記方法が、前記反応器から得られた生成物を分離させるための分離工程も含む請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロペンを含む工程（ｉｉ）からの流れを、分離することなく、工程（ｉｉｉ）に直接送り、その間に水素化を行う請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
工程（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）を、同一反応器中で、異なる触媒床上で行う請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
工程（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）を、直接連続する３つの反応器中で、中間で分離することなく、行う請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
工程（ｉｉｉ）の後に分離を行い、１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパン及び、任意的に、ＨＦの流れを回収して方法の最初に循還させ、且つ１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパン及び、任意的に、水素の流れを回収して工程（ｉｖ）に送る請求項１３又は１４に記載の方法。