【事件の表示】
　平成　８年特許願第　５１０２４号「異物検査装置における信号処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　８月１９日出願公開、特開平　９−２１８１６３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は平成８年２月１３日の出願であって、平成１３年３月２３日付けの手続補正、平成１３年６月１日付けの手続補正、及び平成１６年３月１０日付けの手続補正によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その請求項１，２に係る発明は、特許請求の範囲の請求項１，２に記載されたとおりのものであり、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という）は次のものである。
　「【請求項１】　検査対象基板の表面に対してレーザ光を走査しながら照射し、そのときの検査対象基板の表面のパターンおよび異物からの散乱光を光検出器に入射させ、光検出器から出力されるパターンからの散乱光に基づくパターン信号と、異物からの散乱光に基づくとともにパターン信号よりも鋭いピークを持つ異物信号とに基づいて検査対象基板の表面における異物を検査するように構成されている異物検査装置において、前記光検出器の出力側に、前記異物信号を通さないよう検査対象基板上をレーザ光がスキャンする速度やそのビーム径や対象とするパターンの形状や大きさと検出するべき異物の大きさや散乱光の強度に基づいて定められるローパス特性を備えた第１信号処理ラインと、ローパス特性を備えない第２信号処理ラインとを互いに並列に設けるとともに、少なくとも第２信号処理ラインに前記光検出器からの出力をその形状を変えずに増幅する増幅器およびこの増幅器の出力を適宜遅らせて出力する遅延要素を設け、さらに、第１および第２の信号処理ラインのそれぞれの出力を同時に引算回路に入力し、前記両出力の差をとるようにしたことを特徴とする異物検査装置における信号処理方法。」　
　
２．引用刊行物
　これに対して、当審における平成１６年１月８日付けで通知した拒絶の理由に引用した刊行物は次のとおりである。
刊行物１：特開昭５１−１４８４５２号公報
刊行物２：特開平７−３３３１６６号公報
刊行物３：特開平６−１８４４２号公報
刊行物４：特開平６−１８４４３号公報
刊行物５：特開平４−１９４７３８号公報
　
　刊行物１には、
　「本発明はパターンを形成したフォトマスク等の被検査試料上をレーザビームで走査して欠陥検査する方式の改善に関するものである。」（第１頁左下欄第１５−１７行）、
　「本発明のパターン欠陥検査装置は光ビーム発生源とそれから出射された光ビームで被検査試料上を走査する光走査光学系と被検査試料からの回折光の内正常なパターンからの回折光を除去するための角度フィルタと該角度フィルタの出力光を検出する光検出器より成るパターン欠陥検査装置において、前記光検出器の出力信号を２分岐して一方を低域通過フィルタを介し他方とともに差動増幅器に加えその出力差分信号を欠陥検出に用いたことを特徴とするものである。」（第２頁右下欄第１９行−第３頁左上欄第９行）、
　「差動増幅器２７に入力させ、その出力差分信号を比較器２８で閾値レベルＳと比較し、……欠陥信号３０を取り出す。」（第３頁右上欄第１５行−同頁左下欄第１行）、
　「第５図は第４図の構成に基ずく動作説明図である。同図（ａ）は光検出器２５から出力される第３図と同様のパターン部の原信号を示しＩＳは欠陥信号，ＩＰＮはパターンの角の丸みによるパターンノイズ，斜線を施こして示されているＩＢＧは反射散乱ノイズの信号レベルとする。同図（ｂ）は同図（ａ）の原信号の低域通過フィルタ２６通過後の波形を示し欠陥信号１２，パターンノイズ１１は積分化され平滑化される。従って同図（ａ）の原信号と同図（ｂ）の積分化された信号とを差動増幅器２７により差分信号を取出す」（第３頁左下欄第２−１２行）、
　「第７図は……フォトマスクたとえば最小線幅５μｍのクロムマスクについて円形残渣欠陥の検出信号のＳ／Ｎを実測した結果を示したものである。」（第３頁右下欄第６−９行）、
　が記載されており、第５図（ａ）の光検出器２５から出力される原信号波形をみると欠陥信号１２が鋭く高いピークをもつことが明らかである。
　
　刊行物２には、
　「【０００１】【産業上の利用分野】本発明は表面状態検査方法及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法に関し、特に半導体製造装置で使用される回路パターンが形成されているレチクルやフォトマスク等の基板（原板）上のパターン欠陥やゴミや埃等の異物又は／及び基板にペリクル保護膜を装着したときのペリクル保護膜面上に異物が付着していたときに、これらの異物を精度良く検出し、半導体デバイスを効果的に製造するのに好適なものである。」、
　「【０００８】レーザビーム２２がレチクル２９のパターン欠陥やゴミや埃等の異物３０に当たると、該異物３０から散乱光が発生する。光検出器２３は該異物３０からの散乱光を受光している。そして光検出器２３で受光される散乱光量よりレチクル２９面上に所定の大きさの異物が存在しているか否かを検出している。」、
　「【００２４】【実施例】図１は本発明の実施例１の要部概略図である。本実施例は半導体分野等で使用される露光用原板（レチクルやフォトマスク）やウエハ等の被検面上の状態を検査する検査装置、具体的には被検面上に付着するゴミ等の異物或は被検面上についた傷等の欠陥（以下、これらを総称して「異物」という。）を検査する表面状態検査装置を示している。」、
　が記載されている。
　
　刊行物３には、
　「【発明の詳細な説明】【０００１】【産業上の利用分野】この発明はＣＣＤリニアイメージセンサーを用いて、光ディスクの傷、汚れ、異物等の欠陥を光学的、電気的に検出する検査装置に関するものである。」、
　「【０００４】【発明が解決しようとする課題】しかしながらかかる従来例においては、上記ローパスフィルタを設けて基準レベル波形を形成しているために、このローパスフィルタの存在により基準レベル波形がＣＣＤセンサーからの波形信号と位相が合わなくなり、つまり波形信号に対して基準レベル波形が遅延して、被検査物の傷、ピンホール等の異常を正確に検出できないという問題があった。」、
　「【０００５】この発明は上記従来の欠点を解決するためになされたものであって、その目的は、センサーからの波形信号と基準レベル波形との時間的整合を図り、被検査物の異常を正確に検出することが可能な検査装置に提供することにある。」、
　「【０００６】【課題を解決するための手段】そこで請求項１の検査装置は、被検査物Ａからの透過光または反射光を受光するセンサー８と、このセンサー８からの波形信号に含まれる被検査物Ａの異常検出信号としてのパルス成分を抑制するローパスフィルタ１３と、このローパスフィルタ１３からの出力信号に、ある係数を掛けて上記波形信号に対する基準レベル波形を形成するレベル設定部１５と、レベル設定部１５からの基準レベル波形とセンサー８からの波形信号とを比較する比較手段４１と、この比較手段４１とセンサー８との間に設けられ、比較手段４１において上記基準レベル波形とセンサー８からの波形信号との位相を合わせるべく波形信号を遅延させる遅延手段１１と、比較手段４１からの信号により被検査物Ａの異常を判定する判定手段４２とを設けたことを特徴としている。」、
　が記載されている。
　
　刊行物４には、
　「【０００１】【産業上の利用分野】この発明はＣＣＤリニアイメージセンサーを用いて、光ディスクや液晶の配線パターン、カラーフィルタ等の欠陥を光学的、電気的に検出する検査装置に関するものである。」、
　「【０００５】【課題を解決するための手段】そこでこの発明の検査装置は、表面に一群のパターン４３が形成された被検査物Ａからの透過光あるいは反射光を受光するセンサー８と、このセンサー８からの出力信号により被検査物Ａの傷、ピンホール３５、異物３６等の異常を検出する検査装置において、……」、　　「【０００８】図３において、Ａは被検査物であり、この被検査物Ａは、例えばコンパクトディスクである。……。本発明は上記被検査物Ａの表面に光を当てて、その反射光からディスク表面の傷、汚れ、異物、ピンホール等の欠陥を光学的、電気的に検出するものである。……」、
　が記載されている。
　
　刊行物５には、
　ウエハの表面にレーザビームを投射し、該表面に付着した異物またはヘイズによる散乱光を光電変換器に受光して異物検出するものにおいて、光電変換器の出力をアンプにより増幅してから、ローパスフィルタを備えたラインと、ローパスフィルタを備えないラインとに分岐させて後、両ラインからの出力をコンパレータに入力させて、差をとることが記載されている。
　
３．対比
　本願発明と、刊行物１に記載の発明を対比すると、刊行物１の「フォトマスク等の被検査試料」、「フォトマスク等に形成したパターン」、「正常なパターンからの回折光を除去するための角度フィルタを介し、該角度フィルタの出力光を光検出器に入射させる」、「光検出器の出力信号を２分岐した場合の低域通過フィルタを介する一方のライン」、「光検出器の出力信号を２分岐した場合の低域通過フィルタを介さない方の他方のライン」、「差動増幅器」はそれぞれ、本願発明の「検査対象基板」、「検査対象基板の表面のパターン」、「散乱光を光検出器に入射させる」、「ローパス特性を備えた第１信号処理ライン」、「ローパス特性を備えない第２の信号処理ライン」、「引き算回路」にそれぞれ相当し、また、刊行物１の「欠陥」は、本願発明の「異物」という欠陥の上位概念であるということができ、さらにまた刊行物１において、低域通過フィルタは、第５図（ｂ）の低域フィルタ通過後の信号波形から明らかなように、第５図（ａ）に図示の欠陥信号１２を通さないものであることが明らかであり、低域通過フィルタを介する一方のラインの出力も、低域通過フィルタを介さない方の他方のラインの出力も各ラインからの出力があり次第に直ぐにという意味で同時に差動増幅器に入力され差分が取られるものであり、そして刊行物１に記載の装置発明は、その内容をかえずカテゴリーを方法発明として表現できることも明らかであるから、両者は、
　「検査対象基板の表面に対してレーザ光を走査しながら照射し、そのときの検査対象基板の表面のパターンおよび欠陥からの散乱光を光検出器に入射させ、光検出器から出力されるパターンからの散乱光に基づくパターン信号と、欠陥からの散乱光に基づくとともにパターン信号よりも鋭いピークを持つ欠陥信号とに基づいて検査対象基板の表面における欠陥を検査するように構成されている欠陥検査装置において、前記光検出器の出力側に、前記欠陥信号を通さないローパス特性を備えた第１信号処理ラインと、ローパス特性を備えない第２信号処理ラインとを互いに並列に設け、第１および第２の信号処理ラインのそれぞれの出力を同時に引算回路に入力し、前記両出力の差をとるようにしたことを特徴とする欠陥検査装置における信号処理方法。」
　である点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点１
　本願発明は欠陥が異物であり、異物信号を通さないローパス特性は、検査対象基板上をレーザ光がスキャンする速度やそのビーム径や対象とするパターンの形状や大きさと検出するべき異物の大きさや散乱光の強度に基づいて定められるのに対し、刊行物１では欠陥が円形残渣であり、欠陥信号を通さないローパス特性は、どのように定めるのかについて記載がない点。
　
　相違点２
　本願発明は、第１および第２の信号処理ラインのそれぞれの出力を同時に引算回路に入力するものにおいて、「少なくとも第２信号処理ラインに前記光検出器からの出力をその形状を変えずに増幅する増幅器およびこの増幅器の出力を適宜遅らせて出力する遅延要素を設け」たのに対し、刊行物１の発明は、第１および第２の信号処理ラインのそれぞれの出力を同時に引算回路に入力するものにおいて、第２の信号処理ラインに増幅器や遅延要素を設けることについて記載がない点。
　
４．検討
　前記相違点について検討すると、
　相違点１について
　パターンを形成したフォトマスク等を検査する技術分野において、パターン欠陥検査および異物の欠陥検査をすることはいずれも従来周知であり、いずれの場合でも、基板の表面にレーザ光を照射し、基板からの直接的な反射光を受光しない位置で、パターン欠陥や異物からの比較的に大きい散乱光を検出するという原理手法を用いて行えばよいということも従来周知（刊行物２を参照）であるから、刊行物１に記載の円形残渣というパターン欠陥検査方法を、異物欠陥の検査に利用することは、当業者が容易に想到できたものである。
　さらにまた、刊行物１において欠陥信号１２を通さないようにするための低域通過フィルタの設計を、検査対象基板上をレーザ光がスキャンする速度やそのビーム径や対象とするパターンの形状や大きさと検出するべき異物の大きさや散乱光の強度に基づいて定めることも当業者にとって普通のことと認められる。
　というのは、検査対象基板上をレーザ光がスキャンする実際の速度やその実際のビーム径や対象とするパターンの実際の形状や実際の大きさと検出するべき異物の実際の大きさや実際の散乱光の強度に基づかないで、スキャン速度、ビーム径、パターン形状、パターンの大きさ、検出対象異物の大きさ、散乱光の強度を、過大または、過小に見積もって低域通過フィルタの設計をすると欠陥検知が成功する筈がないからである。
　
　相違点２について
　刊行物３には、光ディスク（注：光ディスクはパターンが表面に形成されたものであることは、刊行物４の記載で明らかである）にビーム光を走査照射して生じた反射光を受光するセンサーの波形出力を処理するに際して、該波形出力には、検査対象に形成されたパターンによる変動分に加えて、ピンホール３５又は異物３６による異常の影響による変動分が含まれるから、ピンホールや異物検出の信号処理のためには、光センサーの出力をローパスフィルタを備えた第１信号処理ラインと、ローパスフィルタを備えない第２の信号処理ラインとに分岐させて、これら両出力を比較、判定すればよいという基本的な仕方が紹介されており、その際、ローパスフィルタを通過させた第１の信号処理ラインには遅れが生じるので、両処理ラインからの出力の時間的な整合をとる、乃至は、両処理ラインからの信号の位相を同じにするために、ローパスフィルタを設けていない第２の信号処理ラインに遅延回路を設けるようにする必要があるという技術思想が示されており、また、光センサーの出力が微弱な場合は、増幅してから信号処理することが刊行物５で明らかなように従来周知であり、さらにまた、増幅器の配置位置は、光センサーの直後で第１、第２信号処理ラインに分岐する手前の位置でも、それら第１，第２の信号処理ラインに分岐してからの位置のいずれでもよい単なる設計的事項と認められるから、刊行物１の発明において、少なくとも第２の信号処理ラインに前記光検出器からの出力をその形状を変えずに増幅する増幅器およびこの増幅器の出力を適宜遅らせて出力する遅延要素を設けるようにすることは、当業者が容易に想到できたものである。
　
　そして、相違点１，２を総合的に判断しても、本願発明は刊行物１−５に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものと認められる。
　
５．むずび
　したがって、本願発明は、刊行物１−５に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、本願の請求項２について検討するまでもなく、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。