(57)【要約】【課題】　アライメントマークの形成に係る工程の増加を招くことなく、液晶層と接する箇所において形成されたアライメントマークを備える配向基板の製造方法を提供する。【解決手段】　基板２１上に形成された配向膜２２の全面に対して第１ラビングを行った後、配向膜２２上にレジストによるマスク５１ａとアライメントマーク２０Ｃとを形成する。マスク５１ａの上から配向膜２２に対して第２ラビングを行い、マスク５１ａとして形成されたレジストのみを除去する。アライメントマーク２０Ｃとして形成されたレジストに対しては、焼成処理によって耐溶剤性を与える。【選択図】　図１ 
2004139052.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
　基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜を有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有する配向基板の製造方法において、
　基板素材上に形成された配向膜の全面に対してラビングを行う第１ラビング工程と、
　配向膜上にレジストによるマスクとアライメントマークとを形成するマスク形成工程と、
　マスクの上から配向膜に対してラビングを行う第２ラビング工程と、
　マスクとして形成されたレジストを除去するマスク除去工程と、
　アライメントマークとして形成されたレジストに耐溶剤性を与える耐溶剤性付与工程とを含むことを特徴とする配向基板の製造方法
【請求項２】
　基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜を有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有する配向基板において、
　上記アライメントマークが、上記配向膜へのラビング時にマスクを形成するためのレジストを利用して形成されており、かつ、耐溶剤性を有するための処理が施されていることを特徴とする配向基板。
【請求項３】
　基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される液晶層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有するパターン化位相差板の製造方法において、
　基板素材上に形成された配向膜の全面に対してラビングを行う第１ラビング工程と、
　配向膜上にレジストによるマスクとアライメントマークとを形成するマスク形成工程と、
　マスクの上から配向膜に対してラビングを行う第２ラビング工程と、
　マスクとして形成されたレジストを除去するマスク除去工程と、
　アライメントマークとして形成されたレジストに耐溶剤性を与える耐溶剤性付与工程と、
　配向膜上に液晶層を形成する液晶層形成工程とを含むことを特徴とするパターン化位相差板の製造方法
【請求項４】
　基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される液晶層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有するパターン化位相差板において、
　上記アライメントマークが、上記配向膜へのラビング時にマスクを形成するためのレジストを利用して形成されており、かつ、耐溶剤性を有するための処理が施されていることを特徴とするパターン化位相差板。
【請求項５】
　上記請求項４に記載のパターン化位相板を視差バリアとして用いていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】
　基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される配線層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有する液晶表示パネル用基板の製造方法において、
　基板素材上に形成された配向膜の全面に対してラビングを行う第１ラビング工程と、
　配向膜上にレジストによるマスクとアライメントマークとを形成するマスク形成工程と、
　マスクの上から配向膜に対してラビングを行う第２ラビング工程と、
　マスクとして形成されたレジストを除去するマスク除去工程と、
　アライメントマークとして形成されたレジストに耐溶剤性を与える耐溶剤性付与工程と、
　配向膜上に配線層を形成する配線層形成工程とを含むことを特徴とする液晶表示パネル用基板の製造方法。
【請求項７】
　基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される配線層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有する液晶表示パネル用基板において、
　上記アライメントマークが、上記配向膜へのラビング時にマスクを形成するためのレジストを利用して形成されており、かつ、耐溶剤性を有するための処理が施されていることを特徴とする液晶表示パネル用基板。
【請求項８】
　上記請求項７に記載の液晶表示パネル用基板同士が貼り合わされ、その間隙に液晶層を挟持してなることを特徴とする液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、複数の視点に対して異なる画像を表示する表示状態と全画面領域で一つの画像を表示する表示状態とを切替可能な液晶表示パネル、例えば２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネル等に用いられるアライメントマークを備えた配向基板およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
　液晶表示パネルの製造工程等においては、液晶層を挟持するための２枚の基板をそれぞれ別々に作成した後、これらの基板を貼り合わせるといった工程がとられる。これらの基板を貼り合わせる工程においては、通常、両方の基板のそれぞれにアライメントマークを形成しておき、これらのアライメントマークを用いた位置合わせが行われる。また、上記アライメントマークは、各基板の製造工程中においても、配線パターン等の形成時のマスクとの位置合わせにも用いられる。
【０００３】
　このようなアライメントマークの形成に係る工程の増加を回避する技術として、特許文献１には、配線パターンを形成する際に用いられるレジストをアライメントマークとして利用することが開示されている。
【０００４】
　すなわち、上記特許文献１に係る液晶表示装置では、配線となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を現像によってパターニングする際のマスクとなるレジスト層において、上記マスク箇所以外にアライメントマークとなる箇所を同時に形成する。そして現像による配線パターン形成後、上記レジスト層のマスク箇所のみを除去し、アライメントマークはそのまま残して、以後の工程での位置合わせに用いる。
【０００５】
　一方、近年では、基板上に配向膜および液晶層を形成した位相差板において、その異なる領域に異なる光学特性を持たせたパターン化位相差板を視差バリアとして用いた２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルが提案されている（例えば、特許文献２）。
【０００６】
　このような２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルにおいては、表示画像を生成する液晶パネルに対して上記パターン化位相差板を位置合わせして貼り合わせる必要があり、該パターン化位相差板のアライメントマーク形成においても工程の増加を招かない方法が要求される。
【０００７】
　さらに、液晶表示装置の種類として液晶層の配向状態を与える配向膜において、その異なる領域に異なる配向方向を持たせた広視野角液晶表示装置がある（例えば、特許文献３）。
【０００８】
　このような広視野角液晶表示装置においては、基板の配向膜における配向状態がパターン形成されるため、その配向パターンに合わせて配線パターンを位置合わせする必要がある。このため、配線パターン形成前においてパターン化位相差板にアライメントマークが形成されている必要があり、そのアライメントマーク形成においても工程の増加を招かない方法が要求される。
【特許文献１】特開平１−９２７２１号公報（公開日平成１年４月１２日）
【特許文献２】特開平１０−１２３４６１号公報（公開日平成１０年５月１５日）
【特許文献３】特開昭６４−８８５２０号公報（公開日昭和６４年４月３日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
　ところが、上記特許文献１の構成では、上記アライメントマークは配線パターン形成に使用されるレジスト層にて形成されているため、該アライメントマークが液晶層の形成領域に配置される場合には、基板の貼り合わせ後においても液晶が注入されるセル内面に残る。このため、上記アライメントマークは、セル内に注入された液晶とじかに接する。
【００１０】
　上記アライメントマークに利用されるレジストは、本来、耐溶剤性が低く、該アライメントマークを液晶とじかに接する箇所に形成すると、レジストが液晶溶液に溶解することで変形し、高精度な位置合わせが行えないといった問題が生じる。
【００１１】
　上記特許文献１のアライメントマーク形成方法を液晶パネル用の基板に適用する場合は、該アライメントマークを液晶層以外の領域に形成することで上記問題は解消できる。しかしながら、特許文献２に示されるようなパターン化位相差板では、液晶層が基板全面に形成されるため、上記特許文献１のアライメントマーク形成方法は適用できない。
【００１２】
　本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、液晶層と接する箇所において、レジストにて形成されたアライメントマークを形成することができる基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
　本発明の配向基板の製造方法は、上記の課題を解決するために、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜を有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有する配向基板の製造方法において、基板素材上に形成された配向膜の全面に対してラビングを行う第１ラビング工程と、配向膜上にレジストによるマスクとアライメントマークとを形成するマスク形成工程と、マスクの上から配向膜に対してラビングを行う第２ラビング工程と、マスクとして形成されたレジストを除去するマスク除去工程と、アライメントマークとして形成されたレジストに耐溶剤性を与える耐溶剤性付与工程とを含むことを特徴としている。
【００１４】
　また、本発明の配向基板は、上記の課題を解決するために、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜を有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有する配向基板において、上記アライメントマークが、上記配向膜へのラビング時にマスクを形成するためのレジストを利用して形成されており、かつ、耐溶剤性を有するための処理が施されていることを特徴としている。
【００１５】
　また、本発明のパターン化位相差板の製造方法は、上記の課題を解決するために、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される液晶層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有するパターン化位相差板の製造方法において、基板素材上に形成された配向膜の全面に対してラビングを行う第１ラビング工程と、配向膜上にレジストによるマスクとアライメントマークとを形成するマスク形成工程と、マスクの上から配向膜に対してラビングを行う第２ラビング工程と、マスクとして形成されたレジストを除去するマスク除去工程と、アライメントマークとして形成されたレジストに耐溶剤性を与える耐溶剤性付与工程と、配向膜上に液晶層を形成する液晶層形成工程とを含むことを特徴としている。
【００１６】
　また、本発明のパターン化位相差板は、上記の課題を解決するために、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される液晶層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有するパターン化位相差板において、上記アライメントマークが、上記配向膜へのラビング時にマスクを形成するためのレジストを利用して形成されており、かつ、耐溶剤性を有するための処理が施されていることを特徴としている。
【００１７】
　また、本発明の液晶表示パネル用基板の製造方法は、上記の課題を解決するために、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される配線層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有する液晶表示パネル用基板の製造方法において、基板素材上に形成された配向膜の全面に対してラビングを行う第１ラビング工程と、配向膜上にレジストによるマスクとアライメントマークとを形成するマスク形成工程と、マスクの上から配向膜に対してラビングを行う第２ラビング工程と、マスクとして形成されたレジストを除去するマスク除去工程と、アライメントマークとして形成されたレジストに耐溶剤性を与える耐溶剤性付与工程と、配向膜上に配線層を形成する配線層形成工程とを含むことを特徴としている。
【００１８】
　また、本発明の液晶表示パネル用基板は、上記の課題を解決するために、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される配線層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有する液晶表示パネル用基板において、上記アライメントマークが、上記配向膜へのラビング時にマスクを形成するためのレジストを利用して形成されており、かつ、耐溶剤性を有するための処理が施されていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１９】
　本発明の配向基板の製造方法は、以上のように、基板素材上に形成された配向膜の全面に対してラビングを行う第１ラビング工程と、配向膜上にレジストによるマスクとアライメントマークとを形成するマスク形成工程と、マスクの上から配向膜に対してラビングを行う第２ラビング工程と、マスクとして形成されたレジストを除去するマスク除去工程と、アライメントマークとして形成されたレジストに耐溶剤性を与える耐溶剤性付与工程とを含む構成である。
【００２０】
　それゆえ、第１ラビング工程、マスク形成工程、第２ラビング工程、およびマスク除去工程によって、配向膜に配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成される。そして、マスク形成工程では上記マスクと同時にアライメントマークがレジストによって形成され、マスク除去工程ではマスクとして形成されたレジストのみが除去されアライメントマークとして形成されたレジストは残される。これにより、上記アライメントマークを形成するための専用の工程を付加することなく、配向膜に複数の領域を与えるラビング処理工程の中でアライメントマークを同時に形成でき、工程数の増加を抑制できるといった効果を奏する。
【００２１】
　また、上記アライメントマークを形成するレジストには耐溶剤性付与工程によって耐溶剤性が与えられるため、その上に液晶層が形成されてもアライメントマークが液晶層に溶解することが無く、液晶層の形成後もアライメントマークとしての機能を維持できるという効果を併せて奏する。
【００２２】
　また、本発明の配向基板は、以上のように、上記アライメントマークが、上記配向膜へのラビング時にマスクを形成するためのレジストを利用して形成されており、かつ、耐溶剤性を有するための処理が施されている構成である。
【００２３】
　それゆえ、上記アライメントマークを形成するレジストには耐溶剤性が与えられるため、その上に液晶層が形成されてもアライメントマークが液晶層に溶解することが無く、液晶層の形成後もアライメントマークとしての機能を維持できるといった効果を奏する。
【００２４】
　また、本発明のパターン化位相差板の製造方法は、以上のように、基板素材上に形成された配向膜の全面に対してラビングを行う第１ラビング工程と、配向膜上にレジストによるマスクとアライメントマークとを形成するマスク形成工程と、マスクの上から配向膜に対してラビングを行う第２ラビング工程と、マスクとして形成されたレジストを除去するマスク除去工程と、アライメントマークとして形成されたレジストに耐溶剤性を与える耐溶剤性付与工程と、配向膜上に液晶層を形成する液晶層形成工程とを含む構成である。
【００２５】
　また、本発明のパターン化位相差板は、以上のように、基板素材上に、配向方向がそれぞれ異なる複数の領域が形成された配向膜と、該配向膜上に形成される液晶層とを有すると共に、他の部材との貼り合わせ用のアライメントマークを有するパターン化位相差板において、上記アライメントマークが、上記配向膜へのラビング時にマスクを形成するためのレジストを利用して形成されており、かつ、耐溶剤性を有するための処理が施されている構成である。
【００２６】
　それゆえ、上記アライメントマークを形成するレジストには耐溶剤性が与えられるため、その上に液晶層が形成されてもアライメントマークが液晶層に溶解することが無く、液晶層の形成後もアライメントマークとしての機能を維持できる。このため、上記パターン化位相差板を表示用液晶パネルと貼り合わせて、例えば２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルを形成する際などに、高精度の位置合わせが行えるといった効果を奏する。
【００２７】
　また、本発明の液晶表示パネル用基板の製造方法は、以上のように、基板素材上に形成された配向膜の全面に対してラビングを行う第１ラビング工程と、配向膜上にレジストによるマスクとアライメントマークとを形成するマスク形成工程と、マスクの上から配向膜に対してラビングを行う第２ラビング工程と、マスクとして形成されたレジストを除去するマスク除去工程と、アライメントマークとして形成されたレジストに耐溶剤性を与える耐溶剤性付与工程と、配向膜上に配線層を形成する配線層形成工程とを含む構成である。
【００２８】
　また、本発明の液晶表示パネル用基板は、以上のように、上記アライメントマークが、上記配向膜へのラビング時にマスクを形成するためのレジストを利用して形成されており、かつ、耐溶剤性を有するための処理が施されている構成である。
【００２９】
　それゆえ、上記アライメントマークは基板製造の初期の工程（配向膜のラビング工程）にて形成される。このため、基板の貼り合わせ時の位置合わせ以外に、基板製造途中の配線形成工程における基板と露光マスクとの位置合わせ等にも用いることができるといった効果を奏する。
【００３０】
　また、上記アライメントマークを形成するレジストには耐溶剤性が与えられるため、その上に液晶層が形成されてもアライメントマークが液晶層に溶解することが無く、液晶層の形成後もアライメントマークとしての機能を維持できる。このため、上記基板を用いた液晶表示パネルを、例えば２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの表示用液晶パネルとして用いる場合等に、パターン化位相差板との貼り合わせの際に高精度の位置合わせが行えるといった効果を併せて奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
　本発明の実施の一形態について図１ないし図６に基づいて説明すれば、以下の通りである。尚、本実施の形態においては、２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルにおいて使用されるパターン化位相差板の製造方法として本発明を例示する。
【００３２】
　先ず、本実施の形態に係る２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの概略構成を図２を参照して説明する。
【００３３】
　上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルは、図２に示すように、表示用液晶パネル１０、パターン化位相差板２０、スイッチング液晶パネル３０を貼り合わせた構成となっている。
【００３４】
　表示用液晶パネル１０は、ＴＦＴ液晶表示パネルとして具備されており、第１の偏光板１１、対向基板１２、液晶層１３、アクティブマトリクス基板１４、および第２の偏光板１５が積層されてなり、アクティブマトリクス基板１４には、表示を行うべき画像に対応した画像データがＦＰＣ（Flexible Printed Circuits）等の配線５１を介して入力される。
【００３５】
　すなわち、上記表示用液晶パネル１０は、上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルに対し、画像データに応じた表示画面を生成する機能を与えるために備えられている。尚、表示画面を生成する機能を有するものであれば、表示用液晶パネル１０における表示方式（ＴＮ方式やＳＴＮ方式）や駆動方式（アクティブマトリクス駆動やパッシブマトリクス駆動）は特に限定されるものではない。
【００３６】
　パターン化位相差板２０は、視差バリアの一部として機能するものであり、図３（ａ）に示すように、透明基板２１上に配向膜２２を形成し、さらにその上に液晶層２３を積層してなる構成である。また、パターン化位相差板２０のアクティブエリアにおいては、図３（ｂ）に示すように、それぞれ、偏光状態の異なる第１の領域２０Ａ（図中、斜線部にて示す）と第２の領域２０Ｂ（図中、射影部にて示す）とが交互にストライプ状に形成されている。さらに、パターン化位相差板２０においては、後述する製造工程にて形成されるアライメントマーク２０Ｃ（図中、黒塗り部にて示す）が設けられている。
【００３７】
　スイッチング液晶パネル３０は、駆動側基板３１、液晶層３２、対向基板３３、および第３の偏光板３４が積層されてなり、駆動側基板３１には液晶層３２のＯＮ時に駆動電圧を印加するための配線５２が接続されている。
【００３８】
　スイッチング液晶パネル３０は、液晶層３２のＯＮ／ＯＦＦに応じて該スイッチング液晶パネル３０を透過する光の偏光状態を切り替えるために配置されている。尚、スイッチング液晶パネル３０は表示用液晶パネル１０のようにマトリクス駆動される必要は無く、駆動側基板３１および対向基板３３に備えられる駆動電極は該スイッチング液晶パネル３０のアクティブエリア全面に形成されればよい。
【００３９】
　次に、上記構成の２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの表示動作について説明する。
【００４０】
　先ず、図２に示す２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルにおいて、各構成部材の光学軸の方向を図４にて例示する。尚、図４において示される光学軸は、液晶パネルおよび位相差板では配向膜における遅相軸の方向（すなわち、配向膜に対するラビング方向）、偏光板では透過軸の方向である。
【００４１】
　図４の構成では、光源から出射された入射光は、最初に、スイッチング液晶パネル３０の第３の偏光板３４によって偏光される。また、スイッチング液晶パネル３０は、３Ｄ表示時はＯＦＦの状態で１／２波長板として作用する。
【００４２】
　また、スイッチング液晶パネル３０を通過した光は、次にパターン化位相差板２０に入射される。パターン化位相差板２０の第１の領域２０Ａと第２の領域２０Ｂとでは、そのラビング方向、すなわち遅相軸の方向が異なるため、第１の領域２０Ａを通過した光と第２の領域２０Ｂを通過した光とでは、その偏光状態が異なる。図４の例では、第１の領域２０Ａを通過した光と第２の領域２０Ｂを通過した光との偏光軸が９０°異なっている。また、パターン化位相差板２０は、液晶層２３の複屈折率異方性と膜厚により１／２波長板として作用するように設定されている。
【００４３】
　パターン化位相差板２０を通過した光は、表示用液晶パネル１０の第２の偏光板１５に入射される。３Ｄ表示時には、パターン化位相差板２０の第１の領域２０Ａを通過した光の偏光軸は第２の偏光板１５の透過軸と平行であり、第１の領域２０Ａを通過した光は偏光板１５を透過する。一方で、第２の領域２０Ｂを通過した光の偏光軸は第２の偏光板１５の透過軸と９０°の角度をなし、第２の領域２０Ｂを通過した光は偏光板１５を透過しない。
【００４４】
　すなわち、図４の構成では、パターン化位相差板２０との第２の偏光板１５との関連した光学作用によって視差バリアの機能が達成され、パターン化位相差板２０における第１の領域２０Ａが透過領域、第２の領域２０Ｂが遮断領域となる。
【００４５】
　第２の偏光板１５を通過した光は、表示用液晶パネル１０の液晶層１３において黒表示を行う画素と白表示を行う画素とで異なる光学変調を受け、白表示を行う画素によって光学変調を受けた光のみが第１の偏光板１１を透過することで画像表示が行われる。
【００４６】
　この時、上記視差バリアの透過領域を通過することや特定の視野角が与えられた光が、表示用液晶パネル１０において右目用画像および左目用画像のそれぞれに対応する画素を通過することで右目用画像と左目用画像とが異なる視野角に分離され、３Ｄ表示が行われる。
【００４７】
　また、２Ｄ表示が行われる場合には、スイッチング液晶パネル３０がＯＮされ、該スイッチング液晶パネル３０を通過する光に対して光学変調が与えられない。スイッチング液晶パネル３０を通過した光は、次にパターン化位相差板２０を通過することで、第１の領域２０Ａを通過した光と第２の領域２０Ｂを通過した光とで異なる偏光状態が与えられる。
【００４８】
　しかしながら、２Ｄ表示の場合では、３Ｄ表示の場合とは異なり、スイッチング液晶パネル３０での光学変調作用が無いため、パターン化位相差板２０を通過した光の偏光軸は、第２の偏光板１５の透過軸に対して、左右対称の角度のずれが生じることとなる。このため、パターン化位相差板２０の第１の領域２０Ａを通過した光、第２の領域２０Ｂを通過した光ともに、第２の偏光板１５を同じ透過率で透過し、パターン化位相差板２０と第２の偏光板１５との関連した光学作用による視差バリアの機能が達成されず（特定の視野角が与えられない）、２Ｄ表示となる。
【００４９】
　続いて、上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの組立工程を、図５を参照して説明する。
【００５０】
　本実施の形態に係る２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルは、それぞれ別々に製造された表示用液晶パネル１０、パターン化位相差板２０、およびスイッチング液晶パネル３０を貼り合わせることによって完成する。
【００５１】
　上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの組立工程では、図５に示すように、表示用液晶パネル１０にパターン化位相差板２０が接着剤にて貼り合わされる（Ｓ１）。
【００５２】
　さらに、パターン化位相差板２０付の表示用液晶パネル１０に、接着剤によってスイッチング液晶パネル３０を貼り合わせることにより、２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルが完成する（Ｓ２〜Ｓ３）。
【００５３】
　これらの貼り合わせ工程における位置合わせには、表示用液晶パネル１０、パターン化位相差板２０、およびスイッチング液晶パネル３０のそれぞれにおいて形成されているアライメントマークが使用される。このため、表示用液晶パネル１０、パターン化位相差板２０、およびスイッチング液晶パネル３０のそれぞれの製造工程においては、アライメントマーク形成のための工程を含む。
【００５４】
　本発明は、特にパターン化位相差板２０の製造工程においてのアライメントマーク形成方法に特徴がある。ここで、パターン化位相差板２０の製造工程を、図６および図１を参照して説明する。
【００５５】
　パターン化位相差板２０の製造工程においては、図６に示すように、先ず、基板（基板素材）２１となる素ガラスに対して洗浄を行い、洗浄された基板の片面にポリイミドを塗布し焼成することで配向膜２２を形成する（Ｓ１１〜Ｓ１３）。次に、配向膜２２に対して１回目のラビング処理（第１ラビング）を行う（Ｓ１４）。第１ラビングにおけるラビング方向は、第１の領域２０Ａのラビング方向とする。上記Ｓ１１〜Ｓ１４の処理が終了した状態を図１（ａ）に示す。
【００５６】
　第１ラビング後、洗浄された基板の配向膜２２上にレジストを塗布して仮焼きすることで、レジスト層５１が形成される（Ｓ１５〜Ｓ１６）。尚、Ｓ１６の工程における仮焼きは、レジスト層５１の溶剤を蒸発させ配向膜２２への密着性を向上させるために行われるプリベーク処理であり、レジスト層５１におけるポリマーの重合や添加物の熱分解が生じない程度の温度で行われる。また、上記レジスト層５１の材料としては、ノボラック系レジスト材（ノボラック樹脂，感光剤，溶剤を主成分とする。例えば、富士フィルムアーチ社製；ＦＨ２０３０Ｄ）が好適に用いられる。上記Ｓ１５〜Ｓ１６の処理が終了した状態を図１（ｂ）に示す。
【００５７】
　レジスト層５１の形成後、露光、現像、乾燥の工程によって該レジスト層５１がパターニングされる（Ｓ１７〜Ｓ１８）。パターニングされたレジスト層５１は、パターン化位相差板２０の第１の領域２０Ａとなる箇所を覆うマスク部５１ａとなると共に、アライメントマーク２０Ｃとしても形成される。上記Ｓ１７〜Ｓ１８の処理が終了した状態を図１（ｃ）に示す。
【００５８】
　こうしてレジスト層５１がパターニングされた後の基板に対し、該レジスト層５１側から２回目のラビング処理（第２ラビング）が行われる（Ｓ１９）。この第２ラビングにおけるラビング方向は、第２の領域２０Ｂのラビング方向とする。この時、配向膜２２がマスク部５１ａで覆われた第１の領域２Ａでは、第１ラビングによって形成された遅相軸の向きが維持されるが、マスク部５１ａで覆われずに露出した第２の領域２Ｂでは、第２ラビングのラビング方向に沿った遅相軸の向きとなる。上記Ｓ１９の処理が終了した状態を図１（ｄ）に示す。
【００５９】
　第２ラビング後、洗浄された基板の配向膜２２上に残っているレジストに対して再度、露光、現像により、マスク部５１ａとして残っているレジストが除去され、その後、乾燥される（Ｓ２０〜Ｓ２２）。尚、Ｓ２１の露光処理において、アライメントマーク２０Ｃを形成するレジストに対しては、露光されないようにマスクが被せられる。これにより、Ｓ２２の現像処理においてもアライメントマーク２０Ｃは除去されずに配向膜２２上に残る。上記Ｓ２０〜Ｓ２２の処理が終了した状態を図１（ｅ）に示す。
【００６０】
　マスク部５１ａとなるレジストが除去された後の基板に対しては、１５０℃〜２５０℃程度の温度での焼成処理が施される（Ｓ２３）。この焼成処理により、レジスト内のノボラック樹脂および感光剤が架橋反応を起こし、難溶性に変化する。すなわち、Ｓ２３の焼成処理は、アライメントマーク２０Ｃを形成するレジストに耐溶剤性を与えるための処理である。上記Ｓ２３の処理が終了した状態を図１（ｆ）に示す。尚、本実施の形態に係るパターン化位相差板２０においては、図１（ｆ）に示す状態が特許請求の範囲に記載の配向基板となる。
【００６１】
　上記Ｓ２３での焼成処理が施された後、配向膜２２上にＵＶ硬化型液晶溶液がスピンコート法等によって塗布され、さらに該ＵＶ硬化型液晶溶液にＵＶ照射を行うことによって液晶分子が架橋され高分子化される（Ｓ２４〜Ｓ２５）。こうして、液晶層２３が形成される。この時、アライメントマーク２０Ｃは、液晶層２３に直に接するように形成されるが、該アライメントマーク２０Ｃを形成するレジストはＳ２３の焼成処理によって耐溶剤性が与えられている。このため、アライメントマーク２０ＣはＳ２４の工程にて塗布されるＵＶ硬化型液晶溶液に対しても溶解することなく、パターニングされた直後の形状を維持することができる。上記Ｓ２５の処理が終了した状態を図１（ｇ）に示す。
【００６２】
　尚、上記Ｓ２３では焼成処理によってアライメントマーク２０Ｃに耐溶剤性を与えているが、用いられるレジストの種類によっては、例えばＵＶ照射など、他の処理によって耐溶剤性を与えられてもよい。
【００６３】
　上記Ｓ１１〜Ｓ２５の処理は、複数のパターン化位相差板２０を１枚の大型基板上に一括して形成するように実施される。このため、複数のパターン化位相差板２０が形成された基板を個々のパターン化位相差板２０に分断し、検査することで、パターン化位相差板２０が完成する（Ｓ２６〜Ｓ２８）。
【００６４】
　以上のように、本実施の形態に係るパターン化位相差板２０の製造方法では、配向膜２２において配向方向が異なる２つの領域を形成するために、第１ラビング処理後にレジストにてマスクを形成し、該マスク上から第２ラビングを施している。そして、上記マスクとなるレジストによって同時にアライメントマークを形成する構成である。
【００６５】
　上記アライメントマークを形成するレジストは、その上に液晶層を形成する前の焼成処理によって耐溶剤性が与えられる。このため、上記アライメントマークが液晶層と直に接するように形成されていても液晶溶液への溶解によってその形状が変化するといった不具合が発生せず、高精度の位置合わせにも利用可能となる。
【００６６】
　尚、本実施の形態においては、アライメントマークの形成方法を、２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルにて用いられるパターン化位相差板の製造方法を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、広視野角液晶表示パネルにて用いられる液晶パネル用基板（アクティブマトリクス基板や対向基板）の製造時においても適用可能である。
【００６７】
　広視野角液晶表示パネルは、液晶表示パネルにおける視野角の向上を図るために、各画素領域を２つ以上の領域に分割して、各領域での液晶の初期配向状態を異ならせるように構成されている。このため、広視野角液晶表示パネルで用いられる液晶パネル用基板では、配向膜において配向方向が異なる複数の領域を形成するために、図１で示した製造工程と同様のラビング手順がとられる。
【００６８】
　したがって、広視野角液晶表示パネルで用いられる液晶パネル用基板においても、２回目以降のラビング処理時におけるマスクを形成するレジストにてアライメントマークを同時に形成することが可能であり、このアライメントマークの形成に本発明を適用することが可能である。
【００６９】
　上述のような広視野角液晶表示パネル用の基板において本発明を適用する場合には、上記アライメントマークは基板製造の初期の工程（配向膜のラビング工程）にて形成される。このため、基板の貼り合わせ時の位置合わせ以外に、基板製造途中の配線形成工程における基板と露光マスクとの位置合わせ等にも用いることができる。
【００７０】
　また、上記アライメントマークは、基板同士（アクティブマトリクス基板および対向基板）を貼り合わせた後の液晶注入後においても溶解しないため、上記広視野角液晶表示パネルを図２に示すような２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの表示用液晶パネルに用いる場合には、パターン化位相差板やスイッチング液晶パネルとの貼り合わせにおいても用いることができる。
【００７１】
　尚、広視野角液晶表示パネル用の基板において本発明を適用する場合、アライメントマークの焼成工程は、配向膜上に配線パターンを形成する工程の前であってもよく後であってもよい。
【００７２】
　また、上述の説明では、本発明を２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルに使用されるパターン化位相差板の製造方法として例示したが、このようなパターン化位相差板が使用可能な液晶表示パネルは、２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルに限定されるものではない。
【００７３】
　例えば、本発明に係る液晶表示パネルは、３Ｄ表示の変わりに視差バリア手段によって分離される２つの画像のそれぞれに異なる映像ソースを表示する画面表示を行うような液晶表示パネルに適用することも可能である。
【００７４】
　このような液晶表示パネルの使用法の一例として、自動車の運転席のドライバーにカーナビゲーションシステムの映像を表示し、かつ助手席の同乗者にテレビ放送の映像を表示するような表示装置への利用が考えられる。複数の観察者に異なる映像を表示する場合には、それぞれの画素を透過した光が、所定の距離をおいた複数の観察者のそれぞれが観察すべき映像として分離できるように、視差バリアの遮光部と透過部の配置パターンを適宜設定すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の一実施形態を示すものであり、図１（ａ）〜図１（ｇ）は、パターン化位相差板の製造工程を示す断面図である。
【図２】上記パターン化位相差板が用いられる２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの概略構成を示す断面図である。
【図３】上記パターン化位相差板の構成を示すものであり、図３（ａ）は断面図、図３（ｂ）は平面図である。
【図４】上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルにおける各構成部材の光学軸の方向を示す図である。
【図５】上記２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示パネルの組立工程を示すフローチャートである。
【図６】上記パターン化位相差板の製造工程を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００７６】
１０　　表示用液晶パネル
２０　　パターン化位相差板
２０Ｃ　アライメントマーク
２１　　透明基板（基板素材）
２２　　配向膜
２３　　液晶層
３０　　スイッチング液晶パネル
５１　　レジスト層
５１ａ　マスク
【図１】
2004139052.tif 000003
【図２】
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【図３】
2004139052.tif 000005
【図４】
2004139052.tif 000006
【図５】
2004139052.tif 000007
【図６】
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