(57)【要約】【課題】振動が少なく、かつ大きな露光領域を確保することができる露光装置を提供する。【解決手段】本発明における露光装置１は、フォトマスク５を保持するマスクステージ４と、マスクステージ４を回転運動させるマスク用駆動装置１４と、基板１１を保持する基板ステージ１０と、マスクステージ４と同期させて基板ステージ１０を回転運動させる基板用駆動装置８とを備えている。マスクステージ４の回転運動において、マスクステージ４の移動方向の変化を連続的とするように、かつフォトマスク５に露光光が照射される位置においてマスクステージ４を直線状に移動させるようにマスク用駆動装置１４は構成されている。また、基板ステージ１０の回転運動において、基板ステージ１０の移動方向の変化を連続的とするように、かつフォトマスク５のパターンが投影される位置において基板ステージ１０を直線状に移動させるように基板用駆動装置８は構成されている。【選択図】        図１
2004356375.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクのパターンを基板の感光体に露光する露光装置であって、
前記フォトマスクを保持するためのマスクステージと、
前記マスクステージを回転運動させるためのマスク用駆動装置と、
前記基板を保持するための基板ステージと、
前記マスクステージと同期させて前記基板ステージを回転運動させるための基板用駆動装置とを備え、
前記マスクステージの前記回転運動において、前記マスクステージの移動方向の変化を連続的とするように、かつ前記フォトマスクに露光光が照射される位置において前記マスクステージを直線状に移動させるように前記マスク用駆動装置は構成されており、
前記基板ステージの前記回転運動において、前記基板ステージの移動方向の変化を連続的とするように、かつ前記フォトマスクの前記パターンが投影される位置において前記基板ステージを直線状に移動させるように前記基板用駆動装置は構成されている、露光装置。
【請求項２】
前記マスク用駆動装置は、複数のマスク用車輪と、前記複数のマスク用車輪の各々に懸けられたマスク用搬送装置とを有し、
前記複数のマスク用車輪の各々が自転することにより、前記マスク用搬送装置は前記マスクステージを回転運動させることが可能であることを特徴とする、請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記回転運動において前記マスクステージが移動する直線距離を変えることができるように、前記複数のマスク用車輪の各々は移動可能に構成されていることを特徴とする、請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記マスクステージの前記回転運動により生じる慣性モーメントを打ち消すことができるように前記マスク用搬送装置に配置された錘をさらに備えることを特徴とする、請求項２または３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記基板用駆動装置は、複数の基板用車輪と、前記複数の基板用車輪の各々に懸けられた基板用搬送装置とを有し、
前記複数の基板用車輪の各々が自転することにより、前記基板用搬送装置は前記基板ステージを回転運動させることが可能であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】
前記回転運動において前記基板ステージが移動する直線距離を変えることができるように、前記複数の基板用車輪の各々は移動可能に構成されていることを特徴とする、請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記基板ステージの前記回転運動により生じる慣性モーメントを打ち消すことができるように前記基板用搬送装置に配置された錘をさらに備えることを特徴とする、請求項５または６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記マスク用駆動装置は、複数の前記マスクステージを回転運動させることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項９】
前記基板ステージは第１の基板ステージと第２の基板ステージとを含み、前記基板用駆動装置は、前記第１の基板ステージを回転運動させるための第１の基板用駆動装置と、前記第２の基板ステージを回転運動させるための第２の基板用駆動装置とを含み、
前記第１の基板ステージの前記回転運動において、前記第１の基板ステージの移動方向の変化を連続的とするように、かつ前記フォトマスクの前記パターンが投影される位置において前記第１の基板ステージを直線状に移動させるように前記第１の基板用駆動装置は構成されていて、
前記第２の基板ステージの前記回転運動において、前記第２の基板ステージの移動方向の変化を連続的とするように、かつ前記フォトマスクの前記パターンが投影される位置において前記第２の基板ステージを直線状に移動させるように前記第２の基板用駆動装置は構成されていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１０】
前記基板用駆動装置は、複数の前記基板ステージを回転運動させることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１１】
前記マスクステージは第１のマスクステージと第２のマスクステージとを含み、前記マスク用駆動装置は、前記第１のマスクステージを回転運動させるための第１マスク用駆動装置と、前記第２のマスクステージを回転運動させるための第２マスク用駆動装置とを含み、
前記第１のマスクステージの前記回転運動において、前記第１のマスクステージの移動方向の変化を連続的とするように、かつ前記フォトマスクに露光光が照射される位置において前記第１のマスクステージを直線状に移動させるように前記第１のマスク用駆動装置は構成されており、
前記第２のマスクステージの前記回転運動において、前記第２のマスクステージの移動方向の変化を連続的とするように、かつ前記フォトマスクに露光光が照射される位置において前記第２のマスクステージを直線状に移動させるように前記第１のマスク用駆動装置は構成されていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかの露光装置を用いて電子デバイスを製造することを特徴とする、電子デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は露光装置および電子デバイスの製造方法に関し、より特定的には、振動が少なく、大きな露光領域を確保することができる露光装置および電子デバイスの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、半導体素子などを製造する際に、感光性基板としてのフォトレジストが塗布されたウエハ（またはガラスプレート）上にフォトマスクのパターン像を投影光学系を介して投影する投影露光装置が使用されている。これまで、露光装置では露光領域の大面積化が求められてきた。一度にｎ個のチップが露光できれば、露光工程のスループットがｎ倍に向上し、最終的にチップコストの削減になるからである。また、ＬＳＩ（Ｌａｒｇｅ  Ｓｃａｌｅ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ）を設計する際にはチップ面積の縮小が求められてきた。１枚のウエハから製造できる製品の数を増やすことができるため、チップコストの削減になるからである。このような開発スタイルは、小品種大量生産を特徴とするメモリ製品で有効である。メモリ製品では初期投資であるフォトマスクコストよりも、維持費であるウエハコストの比率の方が圧倒的に高いので、フォトマスクコストよりもウエハコストを下げて大量生産する方が産業としては効果的だからである。
【０００３】
しかし、多品種少量生産が特徴であるＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ−Ｓｐｅｃｉｆｉｃ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）製品では状況が異なる。製品を大量に生産するわけではないので、量産効果はあまり期待できないのである。平均的なＡＳＩＣ製品の生涯コスト構造を見積もると、初期投資であるフォトマスクコストと維持費であるウエハコストとの比率はほぼ同等となっている。このように、初期投資であるフォトマスクコストもあながち無視できないのがＡＳＩＣ製品の特徴である。そこで、マスクプロセスの加工精度を維持又は向上させると同時に、フォトマスクコストを削減する技術が必要である。
【０００４】
マスクプロセスのコスト構造を見ると、比較的大きな比率を占めるのは、パターンの描画工程と検査工程である。遮光膜の成膜工程やレジスト膜の塗布現像工程は、フォトマスク全面を一括して処理できる。しかし、描画工程と検査工程とは微細パターンの一つ一つを描画や検査する必要がある。そして、フォトマスク上の微細パターンは、近年のＬＳＩの高集積化に伴ない、指数関数的に増えているからである。
【０００５】
従来の露光装置のうち、走査型投影露光装置においては、マスクステージと基板ステージとの各々が同期して直線上を移動しながら繰り返し感光基板が露光されている。したがって、走査型投影露光装置によれば、投影レンズの口径を大きくすることなく、マスクステージの走査方向（直線方向）には原理的にはいくらでも基板の露光領域を延ばすことができる。その結果、大きな面積のマスクを露光することができる。また、スリット状のスキャン領域を走査させてマスク全体の露光を行なうので、結像面の内収差の少ない部分を選んで使うことができる。そのため、収差の少ない微細パターンを得ることができる。
【０００６】
従来の走査型投影露光装置は以下の構成を備えている。すなわち、走査型投影露光装置は、照明系とフォトマスクとマスクステージと投影系と基板と基板ステージとを備えている。照明系からの光はマスクステージに固定されたフォトマスクに投影される。マスクステージは直線往復運動する機能を有しており、レーザ干渉計などでその動きが制御されている。フォトマスクの原画パターン情報を有した光は、投影系を経て、基板ステージに固定された基板上に投影される。これにより、フォトマスクの原画パターンの倒立像が基板上に縮小して転写される。基板ステージはマスクステージと平行に直線往復運動する機能を有しており、レーザ干渉計などでその動きが制御されている。実際の走査露光では、マスクステージが基板ステージよりも投影系のレンズの倍率分（フォトマスクの原画パターンの縮小比）だけ相対差をつけた速度で同期して移動することにより、大きな面積のフォトマスクの原画パターンを基板に転写している。
【０００７】
上記従来の走査型投影露光装置においては、マスクステージおよび基板ステージが直線往復運動しているので、移動方向が不連続に１８０度変化する。このため、マスクステージおよび基板ステージの移動方向を変化させる際に急激な加速や減速が頻繁に繰り返され、それにより振動が発生するという問題がある。特に、投影系のレンズの倍率が大きくなると、マスクステージが移動する速度は非常に大きくなるので、露光装置から発生する振動は一層大きくなる。露光装置から振動が発生すれば、建物の床などを伝わり付近の装置に悪影響を及ぼす可能性がある。このような振動を抑止するためには、露光装置に防振装置が内蔵される必要がある。このため、装置構成が複雑化し、装置コストの上昇を招いていた。
【０００８】
そこで、振動の少ない走査型投影露光装置が、たとえば特開平９―２８３４３３号公報（特許文献１）に開示されている。上記文献に開示された走査型投影露光装置においては、マスクステージと基板ステージとが円形とされている。これらの円形のマスクステージと円形の基板ステージとの各々が所定の回転軸を中心として同じ角速度で回転することにより、フォトマスクの原画パターンを基板に転写している。これにより、マスクステージおよび基板ステージの移動方向は円の接線方向となり、回転とともに移動方向が連続的に変化する。したがって、マスクステージおよび基板ステージが移動方向を変化する際の加速や減速が緩やかになるので、露光装置の振動が少なくなり、防振装置が不要となる。また、同様の構成を備える走査型投影露光装置が特開平８−９７１３６号公報（特許文献２）に開示されている。
【０００９】
【特許文献１】
特開平９―２８３４３３号公報
【００１０】
【特許文献２】
特開平８−９７１３６号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記文献に開示された走査型投影露光装置においては、マスクステージおよび基板ステージが所定の回転軸を中心として回転しているので、マスクステージおよび基板ステージの走査方向は曲線となっている。これに対して、通常、フォトマスクが露光される露光領域は矩形となっているので、露光領域を矩形の長手方向に延ばすことに制約が生じてしまう。このため、上記文献に開示された走査型投影露光装置においては、振動は少ないが、大きな露光領域を確保することができない。
【００１２】
したがって、本発明の目的は、振動が少なく、かつ大きな露光領域を確保することができる露光装置およびその露光装置を用いた電子デバイスの製造方法を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明における露光装置は、フォトマスクのパターンを基板の感光体に露光する露光装置であって、フォトマスクを保持するためのマスクステージと、マスクステージを回転運動させるためのマスク用駆動装置と、基板を保持するための基板ステージと、マスクステージと同期させて基板ステージを回転運動させるための基板用駆動装置とを備えている。マスクステージの回転運動において、マスクステージの移動方向の変化を連続的とするように、かつフォトマスクに露光光が照射される位置においてマスクステージを直線状に移動させるようにマスク用駆動装置は構成されている。また、基板ステージの回転運動において、基板ステージの移動方向の変化を連続的とするように、かつフォトマスクのパターンが投影される位置において基板ステージを直線状に移動させるように基板用駆動装置は構成されている。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図を用いて説明する。
【００１５】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１における露光装置の構成を示す概略図である。
【００１６】
図１を参照して、露光装置１は、光源２と、照明レンズ３ａ、３ｂと、マスクステージ４と、マスク用駆動装置１４と、投影レンズ９と、基板ステージ１０と、基板用駆動装置８とを主に備えている。光源２は、たとえばＨｇ（水銀）ランプ、ＫｒＦエキシマレーザまたはＡｒＦエキシマレーザなどよりなる。マスクステージ４はマスク用駆動装置１４上に固定されていて、フォトマスク５はマスクステージ４に保持されている。フォトマスク５は、たとえばガラス基板表面に遮光する部分に金属薄膜などを蒸着して原画パターンを描画することにより作製されている。基板ステージ１０は基板用駆動装置８上に固定されていて、基板１１は基板ステージ１０に保持されている。基板１１は、たとえばシリコンよりなり、表面にはたとえばノボラック（ｎｏｖｏｌａｃ）樹脂やｔ−ＢＯＣ（ｔｅｒｔ−ｂｕｔｏｘｙｃａｒｂｏｎｙｌ）系のフォトレジスト（感光体）が塗布されている。
【００１７】
マスク用駆動装置１４は、マスクステージ４を回転運動させるものであり、その回転運動においてマスクステージ４の移動方向の変化が連続的となるように、かつフォトマスク５に露光光が照射される位置においてマスクステージ４が直線状に移動するように構成されている。
【００１８】
具体的には、マスク用駆動装置１４はベルト６（マスク用搬送装置）と車輪７ａ、７ｂ（マスク用車輪）とを有している。フォトマスク５はベルト６上でマスクステージ４に保持されている。また、ベルト６は車輪７ａ、７ｂの各々に懸けられている。車輪７ａ、７ｂの各々が自転することによりベルト６は回転し、それにより、ベルト６はマスクステージ４およびフォトマスク５を回転運動させている。つまり、ベルト６が車輪７ａ、７ｂに懸けられた部分において、マスクステージ４の移動方向の変化が連続的とされ、かつ車輪７ａと車輪７ｂとの間のベルト６が直線的に移動する部分で、フォトマスク５に露光光が照射されるようにマスク用駆動装置１４は構成されている。
【００１９】
また、基板用駆動装置８は、基板ステージ１０を回転運動させるものであり、その回転運動において基板ステージ１０の移動方向の変化が連続的となるように、かつフォトマスク５のパターンが投影される位置において基板ステージ１０が直線状に移動するように構成されている。
【００２０】
具体的には、基板用駆動装置８はベルト１２（基板用搬送装置）と車輪１３ａ、１３ｂ（基板用車輪）とを有している。基板１１はベルト１２上で基板ステージ１０に保持されている。また、ベルト１２は車輪１３ａ、１３ｂの各々に懸けられている。車輪１３ａ、１３ｂの各々が自転することによりベルト１２は回転し、それにより、ベルト１２は基板ステージ１０および基板１１を回転運動させている。つまり、ベルト１２が車輪１３ａ、１３ｂに懸けられた部分において、基板ステージ１０の移動方向の変化が連続的とされ、かつ車輪１３ａと車輪１３ｂとの間のベルト１２が直線的に移動する部分で、基板１１にフォトマスク５のパターンが投影されるように基板用駆動装置８は構成されている。
【００２１】
続いて、本実施の形態における露光装置１の露光方法について説明する。
光源２からの光は、照明レンズ３ａを通ってミラー１５で反射され、照明レンズ３ｂによって集光されてフォトマスク５の上面へ投光される。照明レンズ３ａ、３ｂを通すことにより、光源２からの光をより多く均一にフォトマスク５へ投光することができる。フォトマスク５の原画パターン情報を有した光は、投影レンズ９を通って基板１１上に投影され、フォトマスク５の原画パターンのたとえば倒立像が基板１１へ縮小して転写される。
【００２２】
図２〜図５は、本発明の実施の形態１におけるフォトマスクと基板との回転運動を模式的に示す平面図である。
【００２３】
図２を参照して、マスク用駆動装置１４において、ベルト６は直線部分１６を有している。図２のように、ベルト６上に固定されたフォトマスク５が直線部分１６を通るときに、光源２（図１）からの光（露光光）がフォトマスク５の上面に照射される。また、基板用駆動装置８において、ベルト１２は直線部分１７を有している。図２のように、光源２からの光がフォトマスク５の上面に照射される際に、フォトマスク５の真下に基板１１が位置するように、ベルト１２上の基板１１の位置が調整されている。これにより、ベルト１２上に固定された基板１１が直線部分１７を通るときに、フォトマスク５の原画パターン情報を有した光は投影レンズ９（図１）を通って基板１１上に投影され、フォトマスク５の原画パターンが基板１１へ転写される。このようにして、基板１１の感光体へ露光が行なわれる。
【００２４】
続いて図３を参照して、フォトマスク５の原画パターンのたとえば倒立像が基板１１上に転写される場合には、マスク用駆動装置１４のベルト６と基板用駆動装置８のベルト１２とは互いに逆方向に同期して回転する。このためには、ベルト６が回転する速度とベルト１２が回転する速度との速度比が、フォトマスク５の原画パターンの縮小比と同じであり、かつベルト６の長さ（フォトマスク５が１回転する際に移動する距離）とベルト１２との長さ（基板１１が１回転する際に移動する距離）との比がフォトマスク５の原画パターンの縮小比と同じである必要がある。具体的には、フォトマスク５の原画パターンの縮小比が４倍である場合に、ベルト１２が３０ｍｍ／ｓｅｃの速度で回転するときには、ベルト６は１２０ｍｍ／ｓｅｃの速度で回転する。また、ベルト１２の長さが６０ｍｍであれば、ベルト１２の長さは２４０ｍｍとされる。図３において、基板１１が図２の位置から時計回りに１／４回転するとき、フォトマスク５は図２の位置から反時計回りに１／４回転している。
【００２５】
続いて、図４を参照して、基板１１が図２の位置から時計回りに１／２回転するとき、フォトマスク５は図２の位置から反時計回りに１／２回転している。
【００２６】
続いて、図５を参照して、基板１１が図２の位置から時計回りに３／４回転するとき、フォトマスク５は図２の位置から反時計回りに３／４回転している。そして、基板１１が図２の位置から時計回りに１回転するとき、フォトマスク５が図２の位置から反時計回りに１回転し、フォトマスク５と基板１１とは再び図２の位置に戻る。この状態で、再びフォトマスク５の原画パターンが基板１１に転写される。このとき、基板１１はベルト６上において円運動の半径方向にわずかに移動されていて、これにより、基板１１の別の位置にフォトマスク５の原画パターンが転写される。
【００２７】
上記のようなフォトマスク５および基板１１の回転運動は、たとえばマスク用駆動装置１４のベルト６の長さおよび基板用駆動装置８のベルト１２の長さを調整することにより実現可能である。また、マスクステージ４の回転速度および基板ステージ１０の回転速度を調整することによっても実現可能である。
【００２８】
上記のフォトマスク５および基板１１の回転運動においては、マスクステージ４の移動方向は以下のように変化している。すなわち、マスクステージ４がベルト６の円周部分（ベルト６が車輪７ａ、７ｂに懸けられた部分）を移動するときには、マスクステージ４の移動方向は円周部分の接線方向であるので、移動方向の変化が連続的である。また、マスクステージ４がベルト６の直線部分１６を移動するときには、マスクステージ４の移動方向は変化していない。したがって、マスクステージ４の移動方向の変化は連続的になっている。また、同様の理由により、基板ステージ１０の移動方向の変化は連続的になっている。
【００２９】
本実施の形態における露光装置１によれば、マスクステージ４および基板ステージ１０の移動方向は連続的に変化している。したがって、マスクステージ４および基板ステージ１０が移動方向を変化する際の加速や減速が緩やかになるので、露光装置１の振動が少なくなり、防振装置が不要となる。また、フォトマスク５がベルト６の直線部分１６を通り、かつ基板１１がベルト１２の直線部分１７を通るときに、基板１１にフォトマスク５のパターンが投影される。これにより、露光領域をマスク用駆動装置１４の走査方向（図２中太い矢印の方向）に拡大することができる。以上の理由により、振動が少なく、かつ大きな露光領域を確保することができる。
【００３０】
本実施の形態における露光装置１においては、マスク用駆動装置１４は、車輪７ａ、７ｂと、車輪７ａ、７ｂの各々に懸けられたベルト６とを有し、車輪７ａ、７ｂの各々が自転することにより、ベルト６はマスクステージ４を回転運動させている。
【００３１】
本実施の形態における露光装置１においては、基板用駆動装置８は、車輪１３ａ、１３ｂと、車輪１３ａ、１３ｂの各々に懸けられたベルト１２とを有し、車輪１３ａ、１３ｂの各々が自転することにより、ベルト１２は基板ステージ１０を回転運動させている。
【００３２】
これにより、マスクステージ４がベルト６の円周部分（ベルト６が車輪７ａ、７ｂに懸けられた部分）を移動するときには、マスクステージ４は円周運動するので、移動方向の変化が連続的である。また、マスクステージ４がベルトの直線部分１６を移動するときには、マスクステージ４は直線運動するので、マスクステージ４の移動方向は変化していない。以上のように、簡易な構成により、マスクステージ４の移動方向の変化を連続的となるようにすることができる。また、同様の理由により、簡易な構成により、基板ステージ１０の移動方向の変化を連続的となるようにすることができる。したがって、振動が少なく、かつ大きな露光領域を確保することができる露光装置１を簡易な構成により実現できる。
【００３３】
（実施の形態２）
図６は本発明の実施の形態２におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との一の構成を模式的に示す平面図である。
【００３４】
図６を参照して、本実施の形態の露光装置１においては、マスク用駆動装置１４がさらに車輪７ｃを備えている。車輪７ｃは、車輪７ａと車輪７ｂとのちょうど中間に位置しており、車輪７ａと車輪７ｂとを結ぶ直線上から少し図６中下方向にずれた場所に位置している。また、基板用駆動装置８がさらに車輪１３ｃを備えている。車輪１３ｃは、車輪１３ａと車輪１３ｂとのちょうど中間に位置しており、車輪１３ａと車輪１３ｂとを結ぶ直線上から少し図６中下方向にずれた場所に位置している。
【００３５】
本実施の形態においては、車輪７ａ〜７ｃの各々は移動可能であり、車輪７ａ〜７ｃの各々が移動することにより、回転運動においてマスクステージ４が移動する直線距離（直線部分１６の長さ）を変えることができる。また、車輪１３ａ〜１３ｃの各々は移動可能であり、車輪１３ａ〜１３ｃの各々が移動することにより、回転運動において基板ステージ１０が移動する直線距離（直線部分１７の長さ）を変えることができる。
【００３６】
図７は、本発明の実施の形態２におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との他の構成を模式的に示す平面図である。
【００３７】
図７を参照して、マスク用駆動装置１４において、車輪７ａと車輪７ｂとは、互いにその距離を縮める方向に移動している。車輪７ｃは、車輪７ａと車輪７ｂとを結ぶ直線上からさらに図７中下方向にずれた場所に移動している。これにより、ベルト６の直線部分１６の長さを図６の場合よりも短くすることができる。また、基板用駆動装置８において、車輪１３ａと車輪１３ｂとは、互いにその距離を縮める方向に移動している。車輪１３ｃは、車輪１３ａと車輪１３ｂとを結ぶ直線上からさらに図７中下方向にずれた場所に移動している。これにより、ベルト１２の直線部分１７の長さを図６の場合よりも短くすることができる。
【００３８】
なお、これ以外の構成およびフォトマスク５と基板１１との回転運動の仕方については、図１〜図５に示す実施の形態１とほぼ同様であるため、同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００３９】
本実施の形態における露光装置１においては、回転運動においてマスクステージ４が移動する直線距離（直線部分１６の長さ）を変えることができるように、車輪７ａ〜７ｃの各々は移動可能に構成されている。
【００４０】
本実施の形態における露光装置１においては、回転運動において基板ステージ１０が移動する直線距離（直線部分１７の長さ）を変えることができるように、車輪１３ａ〜１３ｃの各々は移動可能に構成されている。
【００４１】
これにより、必要な露光領域の大きさに合わせてベルト６の直線部分１６およびベルト１２の直線部分１７の長さを変えることができる。したがって、露光装置の形状を自由に変化することができるので、露光装置１の形状を敷地の形状などに合わせて設置することができる。
【００４２】
（実施の形態３）
図８は、本発明の実施の形態３におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【００４３】
図８を参照して、本実施の形態における露光装置１においては、マスク用駆動装置１４のベルト６において、フォトマスク５が図８中上部に配置されている。また、フォトマスク５の位置に対してフォトマスク５の回転運動の逆位相となる位置（図８中下部）に錘２２が配置されている。錘２２は、マスクステージ４と同じ重量を有している。これにより、マスクステージ４の回転運動により生じる慣性モーメントを打ち消すことができる。また、基板用駆動装置８のベルト１２において、基板１１が図８中上部に配置されている。また、基板１１の位置に対して基板１１の回転運動の逆位相となる位置（図８中下部）に錘２１が配置されている。錘２１は、基板ステージ１０と同じ重量を有している。これにより、基板ステージ１０の回転運動により生じる慣性モーメントを打ち消すことができる。
【００４４】
なお、これ以外の構成およびフォトマスク５と基板１１との回転運動の仕方については、図１〜図５に示す実施の形態１とほぼ同様であるため、同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００４５】
本実施の形態における露光装置１は、マスクステージ４の回転運動により生じる慣性モーメントを打ち消すことができるようにベルト６に配置された錘２２をさらに備えている。
【００４６】
本実施の形態における露光装置１は、基板ステージ１０の回転運動により生じる慣性モーメントを打ち消すことができるようにベルト１２に配置された錘２１をさらに備えている。
【００４７】
実施の形態１の露光装置においては、基板ステージ１０およびマスクステージ４が回転運動することにより振動が少なくされている。しかしながら、基板ステージ１０およびマスクステージ４が回転運動する際に生じる慣性モーメントにより、露光装置１がわずかに振動することがある。しかし、本実施の形態の露光装置１によれば、錘２１および錘２２により慣性モーメントが打ち消されるので、このようなわずかな振動も抑止することができる。したがって、露光装置１の振動を一層抑止することができる。
【００４８】
（実施の形態４）
図９は、本発明の実施の形態４におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【００４９】
図９を参照して、本実施の形態における露光装置１は、２つのマスクステージ４ａ、４ｂを備えている。マスクステージ４ａ、４ｂはマスク用駆動装置１４上に固定されている。フォトマスク５ａはマスクステージ４ａに保持されていて、フォトマスク５ｂはマスクステージ４ｂに保持されている。これにより、マスク用駆動装置１４は、複数のマスクステージ４ａ、４ｂおよびフォトマスク５ａ、５ｂを回転運動させている。マスク用駆動装置１４のベルト６において、フォトマスク５ａが図９中上部に配置されている。また、フォトマスク５ａの位置に対してフォトマスク５の回転運動の逆位相となる位置（図９中下部）に、フォトマスク５ｂが配置されている。
【００５０】
なお、これ以外の構成については、図１に示す実施の形態１とほぼ同様であるため、同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００５１】
続いて、本実施の形態におけるフォトマスクと基板との回転運動の仕方について説明する。
【００５２】
はじめに、図９を参照して、ベルト６上に固定されたフォトマスク５ａが直線部分１６を通るときに、光源２（図１）からの光がフォトマスク５ａの上面に照射される。このときに、フォトマスク５ａの真下に基板１１が位置するように、ベルト１２上の基板１１の位置が調整されている。これにより、ベルト１２上に固定された基板１１が直線部分１７を通るときに、フォトマスク５ａの原画パターン情報を有した光は投影レンズ９（図１）を通って基板１１上に投影され、フォトマスク５ａの原画パターンが基板１１へ転写される。このようにして、基板１１の感光体へ１回目の露光が行なわれる。
【００５３】
図１０、１１は、本発明の実施の形態４におけるフォトマスクと基板との回転運動を模式的に示す平面図である。
【００５４】
続いて、図１０を参照して、基板１１が図９の位置から時計回りに１／２回転するとき、フォトマスク５ａ、５ｂは図９の位置から反時計回りに１／４回転している。
【００５５】
続いて、図１１を参照して、基板１１が図９の位置から時計回りに１回転するとき、フォトマスク５ａ、５ｂの各々は図９の位置から反時計回りに１／２回転している。このとき、基板１１はフォトマスク５ｂの真下に位置しているので、フォトマスク５ｂの原画パターン情報を有した光は、投影レンズ９（図１）を通って基板１１上に投影され、フォトマスク５ｂの原画パターンが基板１１へ転写される。このようにして、基板１１の感光体へ２回目の露光が行なわれる。
【００５６】
上記のようなフォトマスク５ａ、５ｂおよび基板１１の回転運動は、たとえばマスク用駆動装置１４のベルト６の長さおよび基板用駆動装置８のベルト１２の長さを調整することにより実現可能である。また、マスクステージ４ａ、４ｂの回転速度および基板ステージ１０の回転速度を調整することによっても実現可能である。
【００５７】
本実施の形態における露光装置１においては、マスク用駆動装置１４は、２つのマスクステージ４ａ、４ｂを回転運動させている。
【００５８】
レベンソン型位相シフト法によりフォトマスクのパターンが基板に露光される場合には、たとえばシフターの端部において位相矛盾点が生じ、その結果不要なパターンが基板上に形成されることがある。したがって、レベンソン型位相シフト法により露光される場合には、不要なパターンを除去するためにもう一度露光（２重露光）が行なわれる必要がある。
【００５９】
本実施の形態における露光装置１は、このような２重露光が行なわれる場合に非常に有効である。すなわち、同じ光学条件で、２つのフォトマスク５ａ、５ｂにより基板１１を露光することができるので、２つのフォトマスクによる基板１１の露光（２重露光）が１つの露光装置１で行なえる。したがって、２重露光を行なう場合に複数の露光装置が不要となり、露光装置１の小型化を図ることができる。
【００６０】
（実施の形態５）
図１２は、本発明の実施の形態５におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【００６１】
図１２を参照して、本実施の形態における露光装置１は、４つのマスクステージ４ａ〜４ｄを備えている。マスクステージ４ａ〜４ｄの各々はフォトマスク５ａ〜５の各々を保持している。また、マスク用駆動装置１４は車輪７ａ〜７ｄを有している。車輪７ａ〜７ｄの各々が自転することによりベルト６はフォトマスク５ａ〜５ｄを回転運動させている。マスク用駆動装置１４のベルト６において、フォトマスク５ａが図１２中上部に配置されている。また、フォトマスク５ａが保持されている位置から３／４回転した位置（図１２中右部）にフォトマスク５ｂが配置されている。さらに、フォトマスク５ａの回転運動の逆位相となる位置（図１２中下部）に、フォトマスク５ｃが配置されている。さらに、フォトマスク５ａが保持されている位置から１／４回転した位置（図１２中左部）にフォトマスク５ｄが配置されている。
【００６２】
なお、これ以外の構成については、図１に示す実施の形態１とほぼ同様であるため、同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００６３】
続いて、本実施の形態におけるフォトマスクと基板との回転運動の仕方について説明する。
【００６４】
図１２を参照して、ベルト６上に固定されたフォトマスク５ａが図１２中上部の直線部分を通るときに、光源２（図１）からの光がフォトマスク５の上面に照射される。このときに、フォトマスク５ａの真下に基板１１が位置するように、ベルト１２上の基板１１の位置が調整されている。これにより、ベルト１２上に固定された基板１１が直線部分を通るときに、フォトマスク５ａの原画パターン情報を有した光は投影レンズ９（図１）を通って基板１１上に投影され、フォトマスク５ａの原画パターンが基板１１へ転写される。このようにして、基板１１の感光体へ１回目の露光が行なわれる。
【００６５】
続いて、基板１１が図１２の位置から時計回りに１回転するとき、フォトマスク５ａ〜５ｄの各々は図１２の位置から反時計回りに１／４回転している。このとき、基板１１はフォトマスク５ｂの真下に位置しているので、フォトマスク５ｂの原画パターン情報を有した光は、投影レンズ９（図１）を通って基板１１上に投影され、フォトマスク５ｂの原画パターンが基板１１へ転写される。このようにして、基板１１の感光体へ２回目の露光が行なわれる。同様に、基板１１が１回転するたびに、フォトマスク５ｃ、５ｄの原画パターンが順に基板１１へ転写され、基板１１の感光体へ３回目、４回目の露光が行なわれる。そして、再びフォトマスク５ａの原画パターンが基板１１へ転写される。
【００６６】
上記のようなフォトマスク５ａ〜５ｄおよび基板１１の回転運動は、たとえばマスク用駆動装置１４のベルト６の長さおよび基板用駆動装置８のベルト１２の長さを調整することにより実現可能である。また、マスクステージ４ａ〜４ｄの回転速度および基板ステージ１０の回転速度を調整することによっても実現可能である。
【００６７】
なお、上記のフォトマスク５の回転運動においては、マスクステージ４の移動方向は以下のように変化している。すなわち、マスクステージ４がベルト６の円周部分（ベルト６が車輪７ａ〜７ｄに懸けられた部分）を移動するときには、マスクステージ４の移動方向は円周部分の接線方向であるので、移動方向の変化が連続的である。また、マスクステージ４がベルト６の４ヶ所の直線部分を移動するときには、マスクステージ４の移動方向は変化していない。したがって、マスクステージ４の移動方向の変化は連続的になっている。
【００６８】
本実施の形態における露光装置１においては、マスク用駆動装置１４は、複数のマスクステージ４ａ〜４ｄを回転運動させている。
【００６９】
これにより、同じ光学条件で、４つのフォトマスク５ａ〜５ｄにより基板１１を露光することができるので、４つのフォトマスクによる基板１１の露光（４重露光）が１つの露光装置１で行なえる。したがって、４重露光を行なう場合に複数の露光装置が不要となり、露光装置１の小型化を図ることができる。
【００７０】
（実施の形態６）
図１３は、本発明の実施の形態６におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【００７１】
図１３を参照して、本実施の形態における露光装置１は、２つの基板用駆動装置８ａ、８ｂと、２つの基板ステージ１０ａ、１０ｂとを備えている。基板ステージ１０ａは基板用駆動装置８ａ上に固定されていて、基板１１ａは基板ステージ１０ａに保持されている。基板ステージ１０ｂは基板用駆動装置８ｂ上に固定されていて、基板１１ｂは基板ステージ１０ｂに保持されている。
【００７２】
基板用駆動装置８ａはベルト１２ａと車輪１３ａ、１３ｂとを有している。基板１１ａはベルト１２ａ上で基板ステージ１０ａに保持されている。ベルト１２ａは車輪１３ａ、１３ｂの各々に懸けられている。車輪１３ａ、１３ｂの各々が自転することによりベルト１２ａは回転し、それにより、ベルト１２ａは基板ステージ１０ａおよび基板１１ａを回転運動させている。また、基板用駆動装置８ｂはベルト１２ｂと車輪１３ｃ、１３ｄとを有している。基板１１ｂはベルト１２ｂ上で基板ステージ１０ｂに保持されている。また、ベルト１２ｂは車輪１３ｃ、１３ｄの各々に懸けられている。車輪１３ｃ、１３ｄの各々が自転することによりベルト１２ｂは回転し、それにより、ベルト１２ｂは基板ステージ１０ｂおよび基板１１ｂを回転運動させている。基板用駆動装置８ａのベルト１２ａにおいて、基板１１ａが図１３中上部に配置されている。また、基板用駆動装置８ｂのベルト１２ｂにおいて、基板１１ｂが図１３中上部に配置されている。
【００７３】
なお、これ以外の構成については、図１に示す実施の形態１とほぼ同様であるため、同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００７４】
続いて、本実施の形態におけるフォトマスクと基板との回転運動の仕方について説明する。
【００７５】
図１３を参照して、ベルト６上に固定されたフォトマスク５が図１３中上部の直線部分を通るときに、光源２（図１）からの光がフォトマスク５の上面に照射される。このときに、フォトマスク５の真下に基板１１ａが位置するように、ベルト１２ａ上の基板１１ａの位置が調整されている。これにより、ベルト１２ａ上に固定された基板１１ａが直線部分を通るときに、フォトマスク５の原画パターン情報を有した光は、投影レンズ９（図１）を通って基板１１ａ上に投影され、フォトマスク５の原画パターンが基板１１へ転写される。このようにして、基板１１ａの感光体へ露光が行なわれる。
【００７６】
図１４は、本発明の実施の形態６におけるフォトマスクと基板との回転運動を模式的に示す平面図である。
【００７７】
続いて、図１４を参照して、フォトマスク５が図１３の位置から反時計回りに１／２回転するとき、基板１１ａ、１１ｂの各々は図１３の位置から時計回りに１／２回転している。このとき、基板１１ｂはフォトマスク５の真下に位置しているので、フォトマスク５ｂの原画パターン情報を有した光は、投影レンズ９（図１）を通って基板１１ｂ上に投影され、フォトマスク５の原画パターンが基板１１ｂへ転写される。このようにして、基板１１ｂの感光体への露光が行なわれる。続いて、フォトマスク５が図１３の位置から反時計回りに１回転するとき、基板１１ａ、１１ｂの各々は図１３の位置から時計回りに１回転するので、再びフォトマスク５ａの原画パターンが基板１１へ転写される。
【００７８】
上記のようなフォトマスク５および基板１１ａ、１１ｂの回転運動は、たとえばマスク用駆動装置１４のベルト６の長さおよび基板用駆動装置８ａ、８ｂのベルト１２ａ、１２ｂの長さを調整することにより実現可能である。また、マスクステージ４の回転速度および基板ステージ１０ａ、１０ｂの回転速度を調整することによっても実現可能である。
【００７９】
本実施の形態における露光装置１は、基板ステージ１０ａ、１０ｂと、基板ステージ１０ａ、１０ｂの各々を回転運動させるための基板用駆動装置８ａ、８ｂとを備えている。基板ステージ１０ａ、１０ｂの各々の回転運動において、基板ステージ１０ａ、１０ｂの各々の移動方向の変化を連続的とするように、かつフォトマスク５のパターンが投影される位置において基板ステージ１０ａ、１０ｂの各々が直線状に移動させるように基板用駆動装置８ａ、８ｂは構成されている。
【００８０】
これにより、１つのフォトマスク５により２つの基板１１ａ、１１ｂを露光することができるので、露光装置１の小型化を図ることができる。また、フォトマスク５が１回転する際に露光できる基板の数が２倍になるので、露光におけるスループットが２倍になり、露光の効率を向上することができる。
【００８１】
（実施の形態７）
図１５は、本発明の実施の形態７におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【００８２】
図１５を参照して、本実施の形態における露光装置１は、４つの基板用駆動装置８ａ〜８ｄと、４つの基板ステージ１０ａ〜１０ｄとを備えている。基板ステージ１０ａ〜１０ｄの各々は基板用駆動装置８ａ〜８ｄの各々の上に固定されていて、基板ステージ１０ａ〜１０ｄの各々に基板１１ａ〜１１ｄの各々が保持されている。
【００８３】
基板用駆動装置８ａはベルト１２ａと車輪１３ａ、１３ｂとを有している。基板１１ａはベルト１２ａ上で基板ステージ１０ａに保持されている。ベルト１２ａは車輪１３ａ、１３ｂの各々に懸けられている。車輪１３ａ、１３ｂの各々が自転することによりベルト１２ａは回転し、それにより、ベルト１２ａは基板ステージ１０ａおよび基板１１ａを回転運動させている。また、同様の構成により、車輪１３ｃ〜１３ｈの各々が自転することによりベルト１２ｂ〜１２ｄは回転し、それにより、ベルト１２ｂ〜１２ｄの各々は基板ステージ１０ｂ〜１０ｄおよび基板１１ｂ〜１１ｄの各々を回転運動させている。基板１１ａは、基板用駆動装置８ａのベルト１２ａにおいて、図１５中上部に配置されている。基板１１ｂは、基板用駆動装置８ｂのベルト１２ｂにおいて、図１５中下部に配置されている。基板１１ｃは、基板用駆動装置８ｃのベルト１２ｃにおいて、図１５中上部に配置されている。基板１１ｄは、基板用駆動装置８ｄのベルト１２ｄにおいて、図１５中下部に配置されている。なお、基板用駆動装置８ａは車輪１３ａ、１３ｂを有していて、基板用駆動装置８ｂは車輪１３ｃ、１３ｄを有している。また、基板用駆動装置８ｃは車輪１３ｅ、１３ｆを有していて、基板用駆動装置８ｄは車輪１３ｇ、１３ｈを有している。
【００８４】
なお、これ以外の構成については、図１に示す実施の形態１とほぼ同様であるため、同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００８５】
続いて、本実施の形態におけるフォトマスクと基板との回転運動の仕方について説明する。
【００８６】
図１５を参照して、ベルト６上に固定されたフォトマスク５が図１５中上部の直線部分を通るときに、光源２（図１）からの光がフォトマスク５の上面に照射される。このときに、フォトマスク５の真下に基板１１ａが位置するように、ベルト１２ａ上の基板１１ａの位置が調整されている。これにより、ベルト１２ａ上に固定された基板１１ａが直線部分を通るときに、フォトマスク５の原画パターン情報を有した光は投影レンズ９（図１）を通って基板１１ａ上に投影され、フォトマスク５の原画パターンが基板１１へ転写される。このようにして、基板１１ａの感光体への露光が行なわれる。
【００８７】
図１６は、本発明の実施の形態７におけるフォトマスクと基板との回転運動を模式的に示す平面図である。
【００８８】
続いて、図１６を参照して、フォトマスク５が図１５の位置から反時計回りに１／４回転するとき、基板１１ａ〜１１ｄの各々は図１５の位置から時計回りに１／４回転している。このとき、基板１１ｂはフォトマスク５の真下に位置しているので、フォトマスク５の原画パターン情報を有した光は、投影レンズ９（図１）を通って基板１１ｂ上に投影され、フォトマスク５の原画パターンが基板１１ｂへ転写される。このようにして、基板１１ｂの感光体への露光が行なわれる。同様に、フォトマスク５が１／４回転するたびに、フォトマスク５の原画パターンが基板１１ｃ、１１ｄへ順に転写され、基板１１ｃ、１１ｄの感光体への露光が行なわれる。そして、再びフォトマスク５の原画パターンが基板１１ａへ転写される。
【００８９】
上記のようなフォトマスク５および基板１１ａ〜１１ｄの回転運動は、たとえばマスク用駆動装置１４のベルト６の長さおよび基板用駆動装置８ａ〜８ｄのベルト１２ａ〜１２ｄの長さを調整することにより実現可能である。また、マスクステージ４の回転速度および基板ステージ１０ａ〜１０ｄの回転速度を調整することによっても実現可能である。
【００９０】
本実施の形態における露光装置１は、基板ステージ１０ａ〜１０ｄと、基板ステージ１０ａ〜１０ｄの各々を回転運動させるための基板用駆動装置８ａ〜８ｄとを備えている。基板ステージ１０ａ〜１０ｄの各々の回転運動において、基板ステージ１０ａ〜１０ｄの各々の移動方向の変化を連続的とするように、かつフォトマスク５のパターンが投影される位置において基板ステージ１０ａ〜１０ｄの各々が直線状に移動させるように基板用駆動装置８ａ〜８ｄは構成されている。
【００９１】
これにより、１つのフォトマスク５により４つの基板１１ａ〜１１ｄを露光することができるので、露光装置１の小型化を図ることができる。また、フォトマスク５が１回転する際に露光できる基板の数が４倍になるので、露光におけるスループットが４倍になり、露光の効率を向上することができる。
【００９２】
（実施の形態８）
図１７は、本発明の実施の形態８におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【００９３】
図１７を参照して、本実施の形態における露光装置１は、２つの基板ステージ１０ａ、１０ｂを備えている。基板ステージ１０ａ、１０ｂの各々は基板用駆動装置８のベルト１２上に固定されている。基板ステージ１０ａに基板１１ａが保持されていて、基板ステージ１０ｂに基板１１ｂが保持されている。これにより、基板用駆動装置８は、複数の基板ステージ１０ａ、１０ｂおよび基板１１ａ、１１ｂを回転運動させている。基板用駆動装置８のベルト１２において、基板１１ａが図１７中上部に配置されている。また、基板１１ａの位置に対してフォトマスク５の回転運動の逆位相となる位置（図１７中下部）に、フォトマスク５ｂが配置されている。
【００９４】
なお、これ以外の構成については、図１に示す実施の形態１とほぼ同様であるため、同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００９５】
続いて、本実施の形態におけるフォトマスクと基板との回転運動の仕方について説明する。
【００９６】
はじめに、図１７を参照して、ベルト６上に固定されたフォトマスク５が直線部分１６を通るときに、光源２（図１）からの光がフォトマスク５の上面に照射される。このときに、フォトマスク５の真下に基板１１ａが位置するように、ベルト１２上の基板１１ａの位置が調整されている。これにより、ベルト１２上に固定された基板１１ａが直線部分１７を通るときに、フォトマスク５の原画パターン情報を有した光は投影レンズ９（図１）を通って基板１１ａ上に投影され、フォトマスク５の原画パターンが基板１１ａへ転写される。このようにして、基板１１ａの感光体への露光が行なわれる。
【００９７】
続いて、基板１１ａ、１１ｂの各々が図１７の位置から時計回りに１／２回転するとき、フォトマスク５は図１７の位置から反時計回りに１回転する。このとき、基板１１ｂはフォトマスク５の真下に位置しているので、フォトマスク５の原画パターン情報を有した光は、投影レンズ９を通って基板１１ｂ上に投影され、フォトマスク５の原画パターンが基板１１ｂへ転写される。このようにして、基板１１ｂの感光体への露光が行なわれる。
【００９８】
上記のようなフォトマスク５および基板１１ａ、１１ｂの回転運動は、たとえばマスク用駆動装置１４のベルト６の長さおよび基板用駆動装置８のベルト１２の長さを調整することにより実現可能である。また、マスクステージ４の回転速度および基板ステージ１０ａ、１０ｂの回転速度を調整することによっても実現可能である。
【００９９】
本実施の形態における露光装置１において、基板用駆動装置８は、複数の基板ステージ１０ａ、１０ｂを回転運動させている。
【０１００】
これにより、１つのフォトマスク５により２つの基板１１ａ、１１ｂを露光することができるので、露光装置１の小型化を図ることができる。また、フォトマスク５が１回転する際に露光できる基板の数が２倍になるので、露光におけるスループットが２倍になり、露光の効率を向上することができる。
【０１０１】
（実施の形態９）
図１８は、本発明における実施の形態９におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【０１０２】
図１８を参照して、本実施の形態における露光装置１は、２つのマスク用駆動装置１４ａ、１４ｂと、２つのマスクステージ４ａ、４ｂとを備えている。マスクステージ４ａはマスク用駆動装置１４ａ上に固定されていて、マスクステージ４ａにフォトマスク５ａが保持されている。マスクステージ４ｂはマスク用駆動装置１４ｂ上に固定されていて、マスクステージ４ｂにフォトマスク５ｂが保持されている。
【０１０３】
マスク用駆動装置１４ａはベルト６ａと車輪７ａ、７ｂとを有している。フォトマスク５ａはベルト６ａ上でマスクステージ４ａに保持されている。ベルト６ａは車輪７ａ、７ｂの各々に懸けられている。車輪７ａ、７ｂの各々が自転することによりベルト６ａは回転し、それにより、ベルト６ａはマスクステージ４ａおよびフォトマスク５ａを回転運動させている。マスク用駆動装置１４ｂはベルト６ｂと車輪７ｃ、７ｄとを有している。フォトマスク５ｂはベルト６ｂ上でマスクステージ４ｂに保持されている。ベルト６ｂは車輪７ｃ、７ｄの各々に懸けられている。車輪７ｃ、７ｄの各々が自転することによりベルト６ｂは回転し、それにより、ベルト６ｂはマスクステージ４ｂおよびフォトマスク５ｂを回転運動させている。マスク用駆動装置１４ａのベルト６ａにおいて、フォトマスク５ａは図１８中上部に配置されている。マスク用駆動装置１４ｂのベルト６ｂにおいて、フォトマスク５ｂは図１８中上部に配置されている。さらに、基板１１は、基板用駆動装置８のベルト１２において、図１８中下部に保持されている。
【０１０４】
なお、これ以外の構成については、図１に示す実施の形態１とほぼ同様であるため、同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【０１０５】
続いて、本実施の形態におけるフォトマスクと基板との回転運動の仕方について説明する。
【０１０６】
図１８を参照して、ベルト６ｂ上に固定されたフォトマスク５ｂが図１８中上部の直線部分を通るときに、光源２（図１）からの光がフォトマスク５ｂの上面に照射される。このときに、フォトマスク５ｂの真下に基板１１が位置するように、ベルト１２上の基板１１の位置が調整されている。これにより、基板用駆動装置８上に固定された基板１１が直線部分を通るときに、フォトマスク５ｂの原画パターン情報を有した光は、投影レンズ９（図１）を通って基板１１上に投影され、フォトマスク５ｂの原画パターンが基板１１へ転写される。このようにして、基板１１への１回目の露光が行なわれる。
【０１０７】
図１９は、本発明の実施の形態９におけるフォトマスクと基板との回転運動を模式的に示す平面図である。
【０１０８】
続いて、図１９を参照して、フォトマスク５ａ、５ｂの各々が図１８の位置から反時計回りに１／２回転するとき、基板１１は図１８の位置から反時計回りに１／２回転している。このとき、基板１１はフォトマスク５ａの真下に位置しているので、フォトマスク５ａの原画パターン情報を有した光は、投影レンズ９（図１）を通って基板１１上に投影され、フォトマスク５ａの原画パターンが基板１１へ転写される。このようにして、基板１１への２回目の露光が行なわれる。続いて、フォトマスク５ａ、５ｂの各々が図１８の位置から反時計回りに１回転するとき、基板１１は図１８の位置から時計回りに１回転するので、再びフォトマスク５ｂの原画パターンが基板１１へ転写される。
【０１０９】
上記のようなフォトマスク５ａ、５ｂおよび基板１１の回転運動は、たとえばマスク用駆動装置１４ａ、１４ｂのベルト６ａ、６ｂの長さおよび基板用駆動装置８のベルト１２の長さを調整することにより実現可能である。また、マスクステージ４ａ、４ｂの回転速度および基板ステージ１０の回転速度を調整することによっても実現可能である。
【０１１０】
本実施の形態における露光装置１は、マスクステージ４ａ、４ｂと、マスクステージ４ａ、４ｂの各々を回転運動させるためのマスク用駆動装置１４ａ、１４ｂとを備えている。マスクステージ４ａ、４ｂの各々の回転運動において、マスクステージ４ａ、４ｂの各々の移動方向の変化を連続的とするように、かつフォトマスク５に露光光が照射される位置においてマスクステージ４ａ、４ｂの各々を直線状に移動させるようにマスク用駆動装置１４ａ、１４ｂの各々は構成されている。
【０１１１】
レベンソン型位相シフト法によりフォトマスクのパターンが基板に露光される場合には、位相シフトマスクを用いた１回目の露光の光学条件と、不要なパターンを除去する２回目の位相シフトマスクを用いた２回目の露光の光学条件とが異なる。具体的には、１回目の露光における開口数比（照明光学系の開口数と投影光学系の開口数との比）σは０．３とされ、２回目の露光における開口数比σは０．７とされることが好ましい。
【０１１２】
本実施の形態における露光装置１は、このように異なる光学条件で２重露光を行なう場合に非常に有効である。すなわち、フォトマスク５ａにより基板１１が露光される場所と、フォトマスク５ａにより基板１１が露光される場所とが互いに異なる。これにより、各々の露光場所において、異なる照明光学系および投影学系を用いて、フォトマスク５ａ、５ｂの各々により基板１１を露光することができる。したがって、異なる光学条件で、２つのフォトマスク５ａ、５ｂにより基板１１を露光することができるので、２つのフォトマスクによる基板１１の露光（２重露光）が１つの露光装置１で行なえる。その結果、光学条件が異なる２重露光を行なう場合でも複数の露光装置が不要となり、露光装置１の小型化を図ることができる。
【０１１３】
実施の形態１〜９においては、走査型投影露光装置の場合について示したが、本発明はこのような場合に限定されるものではなく、露光装置全般に適用することができる。
【０１１４】
上記の実施の形態１〜９のいずれかの露光装置を用いて基板の表面に塗布された感光体（フォトレジスト）を露光した後、現像し、それによってパターニングされたレジストパターンをマスクとして用いてエッチングすることにより、下層の膜をパターニングすることで、電子デバイスを製造することができる。
【０１１５】
ここで、電子デバイスとは、半導体装置（半導体素子）、薄膜磁気ヘッド、液晶ディスプレイ（液晶表示素子）、撮影装置（映像素子（ＣＣＤ：Ｃｈａｒｇｅ−Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ））などのマイクロデバイスを含むものである。また、基板とは、シリコンなどの半導体材料よりなるウエハ、ガラスプレートなどを含むものである。
【０１１６】
以上に開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は、以上の実施の形態ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものと意図される。
【０１１７】
【発明の効果】
以上のように、本発明の露光装置によれば、マスクステージおよび基板ステージの移動方向は連続的に変化している。したがって、マスクステージおよび基板ステージが移動方向を変化する際の加速や減速が緩やかになるので、露光装置の振動が少なくなり、防振装置が不要となる。また、マスクステージが直線状に移動し、かつ基板ステージが直線状に移動するときに、フォトマスクに露光光が照射され、フォトマスクのパターンが基板に投影される。これにより、露光領域をマスク用駆動装置の走査方向に拡大することができる。以上の理由により、振動が少なく、かつ大きな露光領域を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１における露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】本発明の実施の形態１におけるフォトマスクと基板との回転運動の第１の状態を模式的に示す平面図である。
【図３】本発明の実施の形態１におけるフォトマスクと基板との回転運動の第２の状態を模式的に示す平面図である。
【図４】本発明の実施の形態１におけるフォトマスクと基板との回転運動の第３の状態を模式的に示す平面図である。
【図５】本発明の実施の形態１におけるフォトマスクと基板との回転運動の第４の状態を模式的に示す平面図である。
【図６】本発明の実施の形態２におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との一の構成を模式的に示す平面図である。
【図７】本発明の実施の形態２におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との他の構成を模式的に示す平面図である。
【図８】本発明の実施の形態３におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【図９】本発明の実施の形態４におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【図１０】本発明の実施の形態４におけるフォトマスクと基板との回転運動の第１の状態を模式的に示す平面図である。
【図１１】本発明の実施の形態４におけるフォトマスクと基板との回転運動の第２の状態を模式的に示す平面図である。
【図１２】本発明の実施の形態５におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【図１３】本発明の実施の形態６におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【図１４】本発明の実施の形態６におけるフォトマスクと基板との回転運動を模式的に示す平面図である。
【図１５】本発明の実施の形態７におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【図１６】本発明の実施の形態７におけるフォトマスクと基板との回転運動を模式的に示す平面図である。
【図１７】本発明の実施の形態８におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【図１８】本発明の実施の形態９におけるマスク用駆動装置と基板用駆動装置との構成を模式的に示す平面図である。
【図１９】本発明の実施の形態９におけるフォトマスクと基板との回転運動を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
１  露光装置、２  光源、３ａ，３ｂ  照明レンズ、４，４ａ〜４ｄ  マスクステージ、５，５ａ〜５ｄ  フォトマスク、６，６ａ，６ｂ，１２，１２ａ〜１２ｄ  ベルト、７ａ〜７ｃ，１３ａ〜１３ｈ  車輪、８，８ａ〜８ｄ  基板用駆動装置、９  投影レンズ、１０，１０ａ〜１０ｄ  基板ステージ、１１，１１ａ〜１１ｄ  基板、１４，１４ａ，１４ｂ  マスク用駆動装置、１５  ミラー、１６，１７  直線部分、２１，２２  錘。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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