Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月29日(2003.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力された画像データを処理する画像処理装置であって、
入力された画像データの輝度に基づいてパラメータを獲得する第１の獲得手段と、
前記第１の獲得手段で構成されるパラメータに対しエッジ強調を実行するか否かを判定する第１の判定手段と、
前記第１の判定手段でエッジ強調を実行する、と判定された場合、前記入力された画像データの輝度に基づいてパラメータを獲得する第２の獲得手段と、
前記第２の獲得手段で獲得されるパラメータに対しエッジ強調を実行して得られるエッジ量が所定の閾値以上であるか否かを判定する第２の判定手段と、
前記第２の判定手段による判定の結果、前記エッジ量が所定の閾値以上である場合、前記入力された画像データに対しエッジ強調を実行する実行手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記第１の獲得手段は、画像データの色成分であるＲ，Ｇ，Ｂの各輝度値のうち最大となる輝度値と最小となる輝度値をパラメータとして獲得することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記第１の獲得手段は、画像データの色成分であるＹ、Ｍ、Ｃの各濃度値のうち最大となる濃度値と最小となる濃度値をパラメータとして獲得することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１の判定手段は、任意の異なる閾値ｔｈ１，ｔｈ２と前記第１の獲得手段によって獲得されたパラメータとを比較した結果によってエッジ強調を実行するか否かを判定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第２の獲得手段は、画像データの色成分であるＲ，Ｇ，Ｂ各輝度値に基づいて、輝度値の平均値を算出する算出手段を備え、前記算出された輝度値の平均値をパラメータとして獲得することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第２の獲得手段は、画像データの色成分であるＹ，Ｍ，Ｃ各濃度値に基づいて、濃度値の平均値を算出する算出手段を備え、前記算出された濃度値の平均値をパラメータとして獲得することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記算出手段は、前記画像データの各色成分であるＲ，Ｇ，Ｂの各輝度値と色成分のうち任意の色成分の輝度値の和を算出し、その和より輝度値の平均値を算出することを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記算出手段は、前記画像データの各色成分であるＲ，Ｇ，Ｂの各濃度値と色成分のうち任意の色成分の濃度値の和を算出し、その和より濃度値の平均値を算出することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項９】
入力された画像データを処理する画像処理方法であって、
入力された画像データの輝度に基づいてパラメータを獲得する第１の獲得工程と、
前記第１の獲得工程で構成されるパラメータに対しエッジ強調を実行するか否かを判定する第１の判定工程と、
前記第１の判定工程でエッジ強調を実行する、と判定された場合、前記入力された画像データの輝度に基づいてパラメータを獲得する第２の獲得工程と、
前記第２の獲得工程で獲得されるパラメータに対しエッジ強調を実行して得られるエッジ量が所定の閾値以上であるか否かを判定する第２の判定工程と、
前記第２の判定工程による判定の結果、前記エッジ量が所定の閾値以上である場合、前記入力された画像データに対しエッジ強調を実行する実行工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するため、例えば本発明の画像処理装置は以下の構成を備える。すなわち、
入力された画像データを処理する画像処理装置であって、
入力された画像データの輝度に基づいてパラメータを獲得する第１の獲得手段と、
前記第１の獲得手段で構成されるパラメータに対しエッジ強調を実行するか否かを判定する第１の判定手段と、
前記第１の判定手段でエッジ強調を実行する、と判定された場合、前記入力された画像データの輝度に基づいてパラメータを獲得する第２の獲得手段と、
前記第２の獲得手段で獲得されるパラメータに対しエッジ強調を実行して得られるエッジ量が所定の閾値以上であるか否かを判定する第２の判定手段と、
前記第２の判定手段による判定の結果、前記エッジ量が所定の閾値以上である場合、前記入力された画像データに対しエッジ強調を実行する実行手段とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月22日(2003.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱交換器を通過する給湯路を有する給湯器において、
前記熱交換器を通過する流量を調節する流量調節手段と、
前記熱交換器に熱量を供給する熱量供給手段と、
給湯開始時に、前記熱量供給手段による熱量の供給を開始すると共に、設定温度と入水温度に従って求められる設定流量値近傍に前記流量が達した後に、前記熱量供給手段の能力に余裕がなく出湯温度が設定温度より安定して低い場合に前記流量調節手段に前記流量を減少させ、或いは、前記熱量供給手段の能力に余裕があり出湯温度が安定して設定温度近傍にある場合に前記流量調節手段に前記流量を増加させる様に制御する制御部とを有し、
前記制御部は、前記熱量供給手段に対して、少なくとも前記設定温度と出湯温度の偏差に従って行われるフィードバック制御を行い、前記熱量供給手段に対するフィードバック制御の頻度が、前記流量調節手段に対する流量制御の頻度より高いことを特徴とする給湯器。
【請求項２】
熱交換器を通過する給湯路を有する給湯器において、
前記熱交換器を通過する流量を調節する流量調節手段と、
前記熱交換器に熱量を供給する熱量供給手段と、
給湯開始時に、前記熱量供給手段による熱量の供給を開始すると共に、設定温度と入水温度に従って求められる設定流量値近傍に前記流量が達した後に、前記熱量供給手段の能力に余裕がなく出湯温度が設定温度より安定して低い場合に前記流量調節手段に前記流量を減少させ、或いは、前記熱量供給手段の能力に余裕があり出湯温度が安定して設定温度近傍にある場合に前記流量調節手段に前記流量を増加させる様に制御する制御部とを有し、
前記制御部は、前記熱量供給手段に対して、少なくとも前記設定温度と出湯温度に従って行われるフィードバック制御を行い、
更に、所定の時間間隔で前記出湯温度を検出し、前記熱量供給手段に対する前記フィードバック制御による供給熱量の制御は、前記所定の時間間隔毎に行い、前記流量調節手段による前記流量の減少または増加の制御は、前記出湯温度が複数の前記所定時間間隔にわたり前記出湯温度が設定温度より低いまたは設定温度近傍にある場合に行うことを特徴とする給湯器。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記流量の減少または増加の量は、所定の固定値であることを特徴とする給湯器。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月30日(2003.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジン始動時の駆動力が伝達されるカムシャフトと、このカムシャフトに設けられてエンジンの吸気弁もしくは排気弁の開閉タイミングを作動油制御により変化させるアクチュエータと、このアクチュエータの内部に作動油を供給するオイルポンプと、このオイルポンプと前記アクチュエータとの間に配置され、オイルポンプからアクチュエータに供給される作動油の圧力および流量制御を行うオイルコントロールバルブとを備え、オイルポンプが吐出した作動油をオイルコントロールバルブで圧力制御してアクチュエータに供給することにより、カムシャフトを進角方向もしくは遅角方向に駆動して前記吸気弁もしくは排気弁の開閉タイミングを変化させる油圧式バルブタイミング調節システムにおいて、前記オイルコントロールバルブのドレン系統油路に、このドレン系統油路をエンジン停止時に遮断するチェックバルブ機能を有してエンジン始動時、もしくは供給油圧が所定油圧に到達時には開弁するブロック弁を設けたことを特徴とする油圧式バルブタイミング調節システム。
【請求項２】
オイルポンプの吐出側とオイルコントロールバルブとを結ぶ作動油供給系統の油路にはチェックバルブが設けられていることを特徴とする請求項１記載の油圧式バルブタイミング調節システム。
【請求項３】
エンジン始動時の駆動力が伝達されるカムシャフトと、このカムシャフトに設けられてエンジンの吸気弁もしくは排気弁の開閉タイミングを作動油制御により変化させるアクチュエータと、このアクチュエータの内部に作動油を供給するオイルポンプと、このオイルポンプと前記アクチュエータとの間に配置され、オイルポンプからアクチュエータに供給される作動油の圧力および流量制御を行うオイルコントロールバルブとを備え、オイルポンプが吐出した作動油をオイルコントロールバルブで圧力制御してアクチュエータに供給することにより、カムシャフトを進角方向もしくは遅角方向に駆動して前記吸気弁もしくは排気弁の開閉タイミングを変化させる油圧式バルブタイミング調節システムにおいて、前記アクチュエータと前記オイルコントロールバルブとの間の油路に、当該油路をエンジン停止時に遮断してエンジン始動時、もしくは供給油圧が所定油圧に到達時には開弁するブロック弁を設けたことを特徴とする油圧式バルブタイミング調節システム。
【請求項４】
オイルコントロールバルブは、当該オイルコントロールバルブのポートの開閉で供給油量を調節することを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか１項記載の油圧式バルブタイミング調節システム。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月8日(2003.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象区域に適用される大気浸透パラメータを決定するステップ（ａ）と、
処理対象区域において、１時間あたり３から５回の間の大気交換が可能である必要大気流速の目標を達成するためのＣＦＭ要件を決定するステップ（ｂ）と、
少なくとも約９３℃の温度で、かつ必要大気流速で、処理対象区域内へ加熱された外気を導入するステップ（ｃ）と、
必要大気流速を維持しながら、処理対象区域内の大気温度が少なくとも処理対象区域内の有害生物の致死温度に等しいレベルに達するまで、１時間あたり約３から６℃の間の温度上昇率で、処理対象区域内の温度を上昇させるステップ（ｄ）、および
必要大気流速を維持しながら、少なくとも約１１時間の間、処理対象区域内で致死温度を維持するステップ（ｅ）とを含む、
囲われた有害生物占有区域の熱処理による有害生物を駆除するための方法。
【請求項２】
前記上昇された温度が少なくとも４９℃以上の範囲内に維持される、
請求項１記載の囲われた有害生物占有区域の熱処理による有害生物駆除方法。
【請求項３】
前記温度上昇率が１時間あたり実質的に６℃であることを特徴とする、
請求項１記載の囲われた有害生物占有区域の熱処理による有害生物駆除方法。
【請求項４】
処理対象区域内部の構造物内の温度に対する条件付け応答を提供する手段を含む、
請求項１記載の囲われた有害生物占有区域の熱処理による有害生物駆除方法。
【請求項５】
前記条件付け応答手段は、
（ａ）サーモスタットに対して操作可能に連結された温度感知装置を提供することと、
（ｂ）処理対象区域内部の構造物内に前記温度感知装置を設置すること、および
（ｃ）大気加熱機に対して前記サーモスタットを操作可能に連結すること、を含み、
前記サーモスタットは、前記温度感知装置によって計測される温度が望ましいレベルに維持されるように前記大気加熱機からの熱放出を制御する、
請求項４記載の囲われた有害生物占有区域の熱処理による有害生物駆除方法。
【請求項６】
前記温度感知装置が熱電対である、
請求項５記載の囲われた有害生物占有区域の熱処理による有害生物駆除方法。
【請求項７】
有害生物占有区域内部の構造物内の温度に対する条件付け応答を提供して、その有害生物占有区域内部の大気温度を調節し、有害生物が蔓延したその構造物の相当する内部温度が有害生物を駆除するために十分であるようにする手段を含む、
囲われた有害生物占有区域から有害生物を駆除する方法。
【請求項８】
前記条件付け応答手段は、
（ａ）少なくとも約９３℃の温度で、かつ必要とされる流速で有害生物占有区域内へ加熱された外気を導入する手段と、
（ｂ）前記加熱手段に対して操作可能に連結されたサーモスタットと、
（ｃ）前記サーモスタットに対して操作可能に連結された温度感知装置と、
（ｄ）有害生物占有区域内部の構造物内に前記温度感知装置を設置し、それによって、前記温度感知装置は構造物内の温度を計測し、続いてそのような温度情報を前記サーモスタットへ伝達することと、
（ｅ）有害生物占有区域内の温度を、前記大気加熱機を使用して有害生物を致死させるレベルまで上昇させること、および
（ｆ）有害生物占有区域内における致死温度を少なくとも約１１時間維持し、そのような致死温度が前記大気加熱機からの制御された熱放出によって維持されること、を含み、
前記サーモスタットは、前記温度感知装置によって計測される温度が致死温度と等しい温度あるいはそれ以上の温度に維持されるように、前記加熱手段からの熱放出を制御する、
請求項７記載の囲われた有害生物占有区域から有害生物を駆除する方法。
【請求項９】
前記温度感知装置は熱電対である、
請求項８記載の有害生物駆除方法。
【請求項１０】
有害生物占有区域内における温度が少なくとも致死温度に達するまで１時間あたり約３から６℃の間の温度上昇率で、有害生物占有区域内において温度が上昇される、
請求項８記載の有害生物駆除方法。
【請求項１１】
前記致死温度が少なくとも約４９℃である、
請求項８記載の有害生物駆除方法。
【請求項１２】
前記温度感知装置が構造物内部の最低温度が計測されるように構造物内部に配置されて、加熱手段からの熱放出が構造物内部の最低温度を少なくとも致死温度まで上昇させるのに十分な熱を供給するように制御される、
請求項８記載の有害生物駆除方法。
【請求項１３】
致死温度によって、有害生物占有区域内部の一部の毒性のない種類の家庭内バクテリア、かび、およびウィルスが減少され、あるいは除去される、
請求項８記載の有害生物駆除方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月14日(2003.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の製造方法において、
半導体層の第１領域及び前記第１領域に隣接する第２領域に第１不純物を注入する工程と、
前記半導体層の第２領域と前記第２領域に隣接する第３領域に第２不純物を注入する工程と、
前記第１領域、第２領域及び第３領域上に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜に形成したコンタクトホールを介して前記第１領域の一部と前記第２領域と前記第３領域の一部に接するように電極を形成する工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１不純物及び前記第２不純物は同一導電型からなり、且つ前記第２不純物濃度は前記第１不純物濃度よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１不純物を注入する工程及び前記第２不純物を注入する工程の前に、前記半導体層の表面にゲート絶縁膜を形成することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記半導体層はポリシリコンであることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記電極はアルミニウムであることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項６】
基板上に複数の走査線と、複数のデータ線と、前記各走査線と前記各データ線に接続された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに接続された画素電極と、蓄積容量とを有する電気光学装置の製造方法において、
前記基板上に薄膜トランジスタのソース・ドレインとなる領域と、前記蓄積容量の第１電極となる領域と、前記ソース・ドレインとなる領域と前記第１電極となる領域の間の境界領域とを構成する半導体層を形成する工程と、
前記第１電極となる領域と前記境界領域に第１不純物を注入する工程と、
前記薄膜トランジスタのゲート絶縁膜と前記蓄積容量の誘電体膜とを形成する工程と、
前記薄膜トランジスタのゲート電極と前記蓄積容量の第２電極とを形成する工程と、
前記ソース・ドレインとなる領域と前記境界領域に第２不純物を注入する工程と、
前記ソース・ドレインとなる領域と前記ゲート電極と前記第２電極上に第１層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第１層間絶縁膜に形成したコンタクトホールを介して前記ドレイン領域の一部と、前記境界領域と、前記第２電極の一部に接するようにドレイン電極を形成する工程とを有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１不純物及び前記第２不純物は同一導電型からなり、且つ前記第２不純物濃度は前記第１不純物濃度よりも高いことを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記第１不純物を注入する工程及び前記第２不純物を注入する工程の前に、前記半導体層の表面に前記ゲート絶縁膜及び前記誘電体膜を形成することを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記ドレイン電極は、前記薄膜トランジスタのソース領域に接続されるソース電極と同時に同一材料で形成されてなることを特徴とする請求項６乃至請求項８のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
前記半導体層は、ポリシリコンであることを特徴とする請求項７乃至請求項９のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
前記ドレイン電極上に第２絶縁膜を形成する工程と、前記第２絶縁膜に形成したコンタクトホールを介して前記ドレイン電極に接続されるように前記画素電極を形成する工程とを有することを特徴とする請求項７乃至請求項１０のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
基板上に複数の走査線と、複数のデータ線と、前記各走査線と前記各データ線に接続された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに接続された画素電極と、蓄積容量とを有する電気光学装置において、
前記基板上に半導体層からなる前記薄膜トランジスタのソース・ドレイン及び前記蓄積容量の第１電極及び前記ソース・ドレインと第１電極との間に形成された境界領域と、前記第１電極及び境界領域上に形成された第１層間絶縁膜と、前記第１層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して前記ドレイン領域の一部及び前記接続部及び前記第２電極の一部に接するドレイン電極とを有し、
前記ソース・ドレイン及び前記境界領域には第１不純物が注入されてなり、前記境界旅行き及び前記第１電極には第２不純物が注入されてなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
前記第１不純物及び前記第２不純物は同一導電型からなり、且つ前記第２不純物濃度は前記第１不純物濃度よりも高いことを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置。
【請求項１４】
前記ドレイン電極上には第２層間絶縁膜が形成されてなり、前記第２層間絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して、前記ドレイン電極に画素電極が接続されてなることを特徴とする請求項１２又は請求項１３に記載の電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１２乃至１４のいずれかに記載の電気光学装置を含むことを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
上記の電気光学装置において、前記半導体層がポリシリコンからなっていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月24日(2003.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
この場合、フィニッシャー本体３は、押出し加工により形成されるので、その断面形状は、その全長にわたり同じであり、その内径寸法が一定で、その内周面に、前部および後部支持部材４，５を圧入する際に、その圧入精度が高められる。
前記前部支持部材４は、ステンレス鋼、チタンなどの耐熱金属板により全体として漏斗状に形成されていて、その前部には、下流側排気管２の終端部を挿入して支持するための、支持穴６を有する短円筒状の排気管支持部４ａが、また、その後部には、前記フィニッシャー本体３の内周面に圧入結合される短円筒状の結合部４ｂが、さらに、前記前部と後部との間にはそれらを一体に連絡するコーン状のスペース部４ｃがそれぞれ形成されている。前記結合部４ｂはその全周にわたって、前記フィニッシャー本体３の前端部内周面に圧入されて、そこにかしめ（コーキン）Ｋ結合される。すなわち、円筒状の結合部４ｂの周面下部には、かしめ穴８（１カ所のみ）があけられ、この結合部４ｂをフィニッシャー本体３の前端部の内周面に圧入したのち、フィニッシャー本体３の外側から、前記かしめ穴８にポンチにてかしめ（コーキン）加工がなされる。このとき、かしめ箇所は１カ所であり、しかもフィニッシャー本体３の下部であるで、そのかしめ箇所は外部から見えにくく、このかしめ跡が、フィニッシャーＦの外観を損なうことがない。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月24日(2003.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、前記目的を達成するため、本請求項２記載の発明は、前記請求項１記載のものにおいて、前記弾性体を車体幅方向の両側部で、前記支持枠に固着し、支持枠と、弾性体の上方および下方との間に、それぞれ上部空間および下部空間を形成したことを特徴としており、かかる特徴によれば、前記請求項１記載の発明と同じ効果を奏する上に、消音器を支持する弾性体の上下方向のばね定数を小さく設定して消音器の上下方向の振動吸収性能を一層高めることができる。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図４に最も明瞭に示すように、前記弾性体支持枠部６内には、ラバーなどよりなる弾性体１０が固定されている。以下に、弾性体１０およびその弾性体支持枠部６内への固定構造についてさらに詳しく説明すると、前記弾性体１０は、弾性体支持枠部６の前後幅と同じか、それよりも若干幅広の板状に形成されており、中央ブロック部１０ａと、その左右側面から若干下向きに側方に張り出す左右翼部１０ｂ，１０ｃとよりなり、その左右翼部１０ｂ，１０ｃの外面が、弾性体支持枠部６に左右側壁６ｅ，６ｆの内面にそれぞれ焼付けにより固定される。そして、この弾性体１０の上下面と、弾性体支持枠部６の上下壁６ｃ，６ｄ間には、それぞれ上下部空間１２，１３が形成され、これにより、弾性体１０は弾性体支持枠部６内で、前記上下部空間１２，１３の範囲内で上下に変位が可能である。また、弾性体１０の中央ブロック部１０ａの中央には、前後方向に貫通する支持穴１４が形成され、この支持穴１４に、後述する支持部材１６が貫通支持される。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月24日(2003.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
エンジン（Ｅ）に接続される排気系（Ｅｘ）に設けられる排気系部品（ＭＦ；１）を、車両の車体（Ｂ）下部に弾性体を介して弾性支持するようにした、車両における排気系部品の支持装置であって、
車体（Ｂ）下部に離間して設けられた、対をなす第１、第２の保持部（２，３）に両端が保持され、少なくとも一部が弾性体からなる、上側および下側線条体（４，５；１０４，１０５）により排気系部品（ＭＦ；１）を上方および下方から挟み込み、排気系部品（ＭＦ；１）を車体（Ｂ）下部に弾性支持することを特徴とする、車両における排気系部品の支持装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月18日(2003.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
数値制御装置１５は、ＰＬＣ部１４を介して、工具部１２の工具により、加工テーブル１３上に取り付けられた工作物Ｗの溝加工を行なうように構成されている。
ツールスコープ１６は、工作物Ｗや工作物Ｗに施された加工の状態・位置を確認するためのものであり、工具部１２と一体的に移動可能に支持されている。
高さ分布計測装置２０は、工作物Ｗの高さ分布を測定するためのレーザ変位計であり、計測ヘッド２１及び計測ヘッド２１を制御するためのコントローラ２２から構成されており、加工テーブル１３上を水平方向に移動しながら、工作物Ｗの高さを計測することにより、工作物Ｗの高さ分布を測定するように構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月30日(2003.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】据置型カメラの角度調整装置および据置型カメラ
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カメラ本体が本体ケースに回転軸を支点に回動可能に取付られ、このカメラ本体の回転軸に対して略直交する側部に従動部を設け、この従動部が摺動可能に嵌合する傾斜した長溝部を有する駆動用レバーを前記本体ケースに移動可能に設置し、前記駆動用レバーを移動させることにより、前記長溝部によって前記従動部を上下動させて前記回転軸を支点にカメラ本体を回動させるように構成したことを特徴とする据置型カメラの角度調整装置。
【請求項２】
前記長溝部がすり鉢状の凹部からなり、また前記従動部が円錐状の突起軸であることを特徴とする請求項１記載の据置型カメラの角度調整装置。
【請求項３】
前記駆動用レバーに係合部を設け、前記本体ケースに前記係合部と嵌合してカメラ本体を設定角度に保持しておくための複数の係止部を設けたことを特徴とする請求項１記載の据置型カメラの角度調整装置。
【請求項４】
前記係合部と前記係止部との嵌合状態を維持させるための弾性付勢部材を備えたことを特徴とする請求項３記載の据置型カメラの角度調整装置。
【請求項５】
前記長溝部は、一端側が下がるように傾斜して形成され、下がる方向に徐々に内方に突出させたことを特徴とする請求項２記載の据置型カメラの角度調整装置。
【請求項６】
前記弾性付勢部材は可撓性を有する横梁部からなり、この横梁部が前記係合部を備えることを特徴とする請求項４記載の据置型カメラの角度調整装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の据置型カメラの角度調整装置を具備する据置型カメラ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明の据置型カメラの角度調整装置は、駆動用レバーを移動させることにより長溝部のガイドによって、カメラ本体における従動部を上下動させ、カメラ本体を回転軸を支点に回動させるように構成したことを特徴とし、この構成により、作業者は駆動用レバーを移動させることによって、任意の角度にカメラを設置するための角度調整を容易に行うことができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、カメラ本体が本体ケースに回転軸を支点に回動可能に取付られ、このカメラ本体の回転軸に対して略直交する側部に従動部を設け、この従動部が摺動可能に嵌合する傾斜した長溝部を有する駆動用レバーを前記本体ケースに移動可能に設置し、前記駆動用レバーを移動させることにより、前記長溝部によって前記従動部を上下動させて前記回転軸を支点にカメラ本体を回動させるように構成したことを特徴とし、この構成によって、任意の角度にカメラを設置するための角度調整作業を、レバー移動により容易に行うことができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項４に記載の発明は、前記係合部と前記係止部との嵌合状態を維持させるための弾性付勢部材を備えたことを特徴とし、この構成によって、係合部と係止部との嵌合部分に弾性力が付与されるため、カメラの保持状態をさらに確実に維持することができる。
請求項５に記載の発明は、前記長溝部が、一端側が下がるように傾斜して形成され、下がる方向に徐々に内方に突出させたことを特徴とし、この構成によって、駆動用レバーの移動動作によってカメラ本体の円錐状の軸部が外れることがないようにできる。
請求項６に記載の発明は、前記弾性付勢部材が可撓性を有する横梁部からなり、この横梁部が前記係合部を備えることを特徴とし、この構成によって、横梁部が可撓性により弾性付勢力をもって係合部が本体ケースの内壁部の係止部と嵌合することによってカメラの保持状態を確実に維持することができる。
請求項７に記載の発明は、請求項１から請求項６のいずれかに記載の据置型カメラの角度調整装置を具備する据置型カメラであり、据え置き状態においてカメラの角度を調整して、適正な方向にカメラを向けることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月11日(2003.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
補正レンズ１１は支持枠１２に支持され、支持枠１２が地板１３に結合される。そして、後述する永久磁石やコイル等より成る駆動手段によって、前記補正レンズ１１及び支持枠１２より成る補正光学系がピッチ方向１１４ｐ及びヨー方向１１４ｙに駆動され、像振れが補正される。１１３はロックリングであり、後述するステッピングモータ１９の出力がラック１１３ａに伝わることにより、前記支持枠１２、つまり補正光学系を所定の位置に係止することになる。１１２はローリング規制リングであり、３本の軸部１１２ａ１〜１１２ａ３を地板１３を介して前記支持枠１２に嵌合することで、該支持枠１２の光軸回りのローリングを規制する事になる。１１１は前述のステッピングモータやコイル、更には位置検出手段を成す後述のホール素子などの各種の端子が同一平面上に集中して配線されることになるハード基板（プリント基板）である。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
その後、所定値ａ１より小さくなった時点でステップ＃５００８へ進み、今度はレンズＣＰＵ３０１は振動検出装置３０４の出力から演算したカメラ振れの振幅を所定値ａ２（＜ａ１）と比較し、所定値ａ２より大きければステップ＃５０１０へ進み、小さければステップ＃５００９へ進む。そして、両ステップでレンズＣＰＵ３０１は上記ステップ＃５００８での判定結果に基づき、それぞれ補正光学系３０５ａによる振れ補正制御を可能にする為に係止手段３０５ｄの解除を行うよう、ステッピングモータ１９に補正レンズ及び係止部材に加わる慣性力に合わせた通電（第１または第２の駆動パターン通電）を行なう。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月8日(2003.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信システムのユーザー機器が送信するプローブ信号を調整する装置において
システム定数を記憶する第１モジュールと、
システム機器により送信された通信信号を受信し、この受信した通信信号が受けるフェージングタイプの少なくとも１つの信号インジケーターを抽出する第２モジュールと、
前記第１モジュールと第２モジュールに接続され、前記システム定数と少なくとも１つのインジケーターに基づいて調整パラメータを計算する第３モジュールと、
からなり、
前記調整パラメータがプローブ信号に加えられる
ことを特徴とするプローブ信号を調整する装置。
【請求項２】
前記記憶されたシステム定数は、システム換算係数Ｋと、受信信号の測定された脱相関距離ｘdと、システムが規定した最大増分パワー値ＩＰ ｍａｘである
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記第３モジュール（７０６）は、第２部分（７０６ｂ）と、前記第２部分（７０６ｂ）とに接続された第１部分（７０６ａ）とを有し、
前記第１部分（７０６ａ）は、変数αを計算し、ここでαは、
α＝ｅｘｐ（−Ｋ・ｆd・τ／Ｘd）であり、かつ調整パラメータ
を計算し、この調整パラメータをプローブ信号の増分パワー
に加えて調整された増分パワーを生成し、
この調整された増分パワーとＩＰ ｍａｘ信号が第２部分に与えられ、この第２部分（７０６ｂ）が、ＩＰ ｍａｘ信号と調整された増分パワーの少ない方を選択する
ことを特徴とする請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記受信した通信信号は、パイロット信号であり、
前記第２モジュールは、前記インジケーターとしての受信したパイロット信号からドプラーシフトを抽出する
ことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記第２モジュール（７０４）は、自動周波数制御ループである
ことを特徴とする請求項４記載の装置。
【請求項６】
前記通信システムがＣＤＭＡシステムであり、少なくとも１つの特性が抽出される受信した通信信号がパイロット信号であることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項７】
通信システム内で送信すべきプローブ信号を調整する方法において
（Ａ）  通信システムのシステム機器から通信信号を受信するステップと、
（Ｂ）  受信した通信信号から抽出され、受信した通信信号が受けるフェージングタイプの少なくとも１つのインジケーターとシステム定数から調整パラメータを計算するステップと、
（Ｃ）  前記調整パラメータをプローブ信号に適応するステップと
からなり、その結果調整されたプローブ信号を生成する
ことを特徴とするプローブ信号を適応的に調整する方法。
【請求項８】
前記インジケーターは受信信号のドプラ−シフトｆｄであり、
受信信号のドプラーシフトｆｄを抽出するステップと、
エクスポネンシャル  ｅｘｐ（−Ｋ・ｆd・τ／Ｘd）で規定
される変数αを計算するステップと、
ここでＫはシステム換算係数であり、
τはシステムのタイミング間隔であり、
ｘdは受信信号の測定した脱相関距離であり、
を調整パラメータとして計算するステップ
と
を有することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記（Ｃ）ステップは、
（Ｃ１）  調整された増分パワーを得るために、前記調整パラメータをプローブ信号の増分パワー値に乗算するステップと、
（Ｃ２）  調整された増分パワー値とシステムの規定した最大増分パワー値ＩＰ ｍａｘの小さい方を選択するステップと、
（Ｃ３）  前記選択された増分をプローブ信号に付加するステップと、
（Ｃ４）  調整されたプローブ信号を送信するステップと
を有することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１つの特性が抽出される受信通信信号が、ＣＤＭＡ通信システムのパイロット信号であることを特徴とする請求項７の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月1日(2003.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
増幅器と、
上記増幅器に対して、その出力電力を制御するアイドリング電流を供給する制御回路とを備え、
上記制御回路は、入力制御電圧を受けて該入力制御電圧に対して上記アイドリング電流を指数関数的に変化させるものであることを特徴とする電力増幅器モジュール。
【請求項２】
出力トランジスタを含む増幅器と、
上記増幅器の出力電力を制御するアイドリング電流を上記増幅器に供給する制御回路と
を具備して成り、
上記制御回路は、上記アイドリング電流を上記出力トランジスタに流す入力トランジスタを含み、入力制御電圧を受けて上記アイドリング電流が上記入力制御電圧の指数関数となるように制御する機能を有し、
上記入力トランジスタは、上記出力トランジスタと電流ミラー形態を構成することを特徴とする電力増幅器モジュール。
【請求項３】
ＧａＡｓＨＢＴを含む半導体集積回路で構成された増幅器と、
上記増幅器の出力電力を制御するアイドリング電流を、入力制御電圧に基づき上記増幅器に供給する制御回路と
を具備して成り、
上記制御回路は、ＳｉバイポーラトランジスタまたはＧａＡｓＨＢＴを含む半導体集積回路で構成され、上記アイドリング電流が上記入力制御電圧の指数関数となるように制御する機能を有することを特徴とする電力増幅器モジュール。
【請求項４】
ＳｉＧｅＨＢＴを含む半導体集積回路で構成された増幅器と、
上記増幅器の出力電力を制御するアイドリング電流を、入力制御電圧に基づき上記増幅器に供給する制御回路と
を具備して成り、
上記制御回路は、ＳｉバイポーラトランジスタまたはＳｉＧｅＨＢＴを含む半導体集積回路で構成され、上記アイドリング電流が上記入力制御電圧の指数関数となるように制御する機能を有することを特徴とする電力増幅器モジュール。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
上記制御回路は、
上記入力制御電圧を電流に変換する回路と、
該変換された電流より基準電圧を発生し並びに上記入力制御電圧に比例して変化する電圧の勾配を設定する回路と、
該電圧を指数関数的に変化する上記アイドリング電流に変換する回路とを含むものであることを特徴とする電力増幅器モジュール。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
上記増幅器は、縦列接続されてなる複数段の増幅器からなり、
上記制御回路は、上記制御入力電圧を共通に受けて、上記複数段の各増幅器の各々に対して上記アイドリング電流を供給する複数の回路から構成されるものであることを特徴とする電力増幅器モジュール。
【請求項７】
請求項６において、
上記入力制御電圧を電流に変換する回路と、該変換された電流より基準電圧を発生し並びに上記入力制御電圧に比例して変化する電圧の勾配を設定する回路と、該電圧を指数関数的に変化する上記アイドリング電流に変換する回路とは共通回路で構成され、かかるアイドリング電流を上記複数の増幅器に対応して供給する回路が複数個設けられてなることを特徴とする電力増幅モジュール。
【請求項８】
請求項１において、
上記増幅器は、上記アイドリング電流が流れるようにされた入力トランジスタと、該入力トランジスタと電流ミラー形態にされた出力トランジスタとの一対を含むＧａＡｓＨＢＴからなる半導体集積回路で構成され、
上記制御回路は、Ｓｉバイポーラトランジスタ又はＧａＡｓＨＢＴからなる半導体集積回路で構成されてなることを特徴とする電力増幅器モジュール。
【請求項９】
請求項１において、
上記増幅器は、上記アイドリング電流が流れるようにされた入力トランジスタと、該入力トランジスタと電流ミラー形態にされた出力トランジスタとの一対を含むＳｉＧｅＨＢＴ又はＳｉバイポーラトランジスタからなる半導体集積回路で構成され、
上記制御回路は、ＳｉＧｅＨＢＴ、又はＳｉバイポーラトランジスタで構成することを特徴とする電力増幅器モジュール。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかにおいて、
上記制御回路は、
上記アイドリング電流を上記入力制御電圧がある一定以上に達した時に制限する回路を更に備えてなることを特徴とする電力増幅器モジュール。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかにおいて、
上記アイドリング電流の温度特性を任意に設定できる回路を更に備えてなることを特徴とする電力増幅器モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像情報を入力する入力手段と、
入力した画像に、特定の画像を示すマークが存在するか否かを判別する判別手段と、
前記判別手段の判断に要する許容時間を設定する設定手段と、
該設定手段で設定した許容時間内に、前記特定のマーク画像が存在することが判別できなかった場合、前記判別手段の判別処理を終了させる制御手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記判別手段は、入力画像に対するサンプリングの精度を段階的に上げていく度に行ない、前記特定の画像を示すマーク画像が存在するとその段階でそれ以降の判断処理を中断することを特徴とする請求項第１項に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記判別手段におけるサンプリング精度は、入力した画像からのサンプリングする間隔を段階的に狭くすることを特徴とする請求項第２項に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記判別手段は、入力画像に対する量子化ビット数を段階的に多くして判別の精度を段階的に上げていく度に行ない、前記特定の画像を示すマーク画像が存在するとその段階でそれ以降の判断処理を中断することを特徴とする請求項第１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記判別手段における前記特定のマークが存在するか否かの判別のための閾値は、前記各精度毎に設けられることを特徴とする請求項第２項又は第４項のいずれか１つに記載の画像処理装置。
【請求項６】
更に、入力手段で入力した画像を印刷手段に出力する出力手段を備え、
前記許容時間内に前記特定のマーク画像の存在を検出しなかった場合、前記出力手段を実行することを特徴とする請求項第１項乃至第５項のいずれか１つに記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記出力手段による出力画像の構築する時間をＨ、
前記印刷手段が印刷データを受信待機になって印刷動作がウェイト状態になる臨界時間をＭ、
前記判別手段による処理回数をｍ、
１回当たりの前記許容時間をＴａｖとして、
Ｔａｖ≦（Ｍ−Ｈ）／ｍ
の関係を有する時間を前記許容時間として設定することを特徴とする請求項第５項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記判別手段が前記特定マークが存在すると判別した場合、前記出力手段による出力を中止することを特徴とする請求項第６項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記許容時間は動的可変であることを特徴とする請求項第１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記特定のマークには、ウォーターマークが含まれることを特徴とする請求項第１項乃至第９項のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
画像情報を入力する入力工程と、
入力した画像よりサンプリングして得た画像に、特定のマーク画像が存在するか否かを判別する判別工程と、
前記判別工程の判断に要する許容時間を設定する設定工程と、
該設定工程で設定した許容時間内に、前記特定のマーク画像が存在することが判別できなかった場合、前記判別工程の判別処理を終了させる制御工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項１２】
コンピュータが読み込み実行するプログラムコードを格納する記憶媒体であって、
画像情報を入力する入力手段と、
入力した画像よりサンプリングして得た画像に、特定のマーク画像が存在するか否かを判別する判別手段と、
前記判別手段の判断に要する許容時間を設定する設定手段と、
該設定手段で設定した許容時間内に、前記特定のマーク画像が存在することが判別できなかった場合、前記判別手段の判別処理を終了させる制御手段
として機能するコンピュータプログラムを格納することを特徴とする記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月9日(2003.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データを階層的に管理し、処理する画像処理装置であって、
画像データに含まれる電子透かし情報を検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された電子透かし情報を前記画像データを構成している階層とは別の階層に保持する保存手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記検出手段により前記電子透かし情報が検出された場合、前記画像データの操作を禁止する禁止手段を更に有することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記電子透かしが可視かどうかを判断し、可視ならば前記画像データから除去する除去手段を更に有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記電子透かしが文字か画像かを判別し、文字ならば所定の形式で出力し、画像ならばこの画像を出力する出力制御手段を更に有することを特徴とする請求項１又は請求項２項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記画像データの出力の際、前記画像データを構成する階層をまとめて単層とし、前記別の階層の電子透かしを組み込んで出力用の画像データを作成する手段を更に有することを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
更に単層にまとめられた前記の画像データを再度読み込み、画像データおよび電子透かし情報をもとの階層構造に戻す手段を有することを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
画像データを階層的に管理し、処理する画像処理方法であって、
画像データに含まれる電子透かし情報を検出する検出工程と、
前記検出工程で検出された電子透かし情報を前記画像データを構成している階層とは別の階層に保持する保存工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
前記検出工程において前記電子透かし情報が検出された場合、前記画像データの操作を禁止する禁止工程を更に有することを特徴とする請求項７に記載の画像処理方法。
【請求項９】
前記電子透かしが可視かどうかを判断し、
可視ならば前記画像データから除去する除去工程を更に有することを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の画像処理方法。
【請求項１０】
前記電子透かしが文字か画像かを判別し、文字ならば所定の形式で出力し、画像ならばそのまま出力する出力制御工程を更に有することを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の画像処理方法。
【請求項１１】
前記画像データの出力の際、前記画像データを構成する階層をまとめて単層とし、前記別の階層の電子透かしを組み込んで出力用の画像データを作成する工程を更に有することを特徴とする請求項７又は請求項１０に記載の画像処理方法。
【請求項１２】
更に単層にまとめられた前記の画像データを再度読み込み、画像データおよび電子透かし情報をもとの階層構造に戻す工程を有することを特徴とする請求項１１に記載の画像処理方法。
【請求項１３】
コンピュータが読み込み実行することで、画像データを階層的に管理し、処理するプログラムコードを格納する記憶媒体であって、
画像データに含まれる電子透かし情報を検出する検出処理モジュールと、
前記検出処理モジュールにより検出された電子透かし情報を前記画像データを構成している階層とは別の階層に保持する保存処理モジュールと
を有することを特徴とするプログラムコードを格納する記憶媒体。
【請求項１４】
前記検出処理モジュールにおいて、前記電子透かし情報が検出された場合、前記画像データの操作を禁止する禁止処理モジュールを更に有することを特徴とする請求項１３に記載のプログラムコードを格納する記憶媒体。
【請求項１５】
前記電子透かしが可視かどうかを判断し、可視ならば前記画像データから除去する除去処理モジュールを更に有することを特徴とする請求項１３又は請求項１４に記載のプログラムコードを格納する記憶媒体。
【請求項１６】
前記電子透かしが文字か画像かを判別し、文字ならば所定の形式で出力し、画像ならばそのまま出力する出力制御処理モジュールを更に有することを特徴とする請求項１３又は請求項１４に記載のプログラムコードを格納する記憶媒体。
【請求項１７】
前記画像データの出力の際、前記画像データを構成する階層をまとめて単層とし、前記別の層の電子透かしを組み込んで出力用の画像データを作成する処理モジュールを更に有することを特徴とする請求項１３に記載のプログラムコードを格納する記憶媒体。
【請求項１８】
更に単層にまとめられた前記の画像データを再度読み込み、画像データおよび電子透かし情報をもとの階層構造に戻す処理モジュールを更に有することを特徴とする請求項１７に記載のプログラムコードを格納する記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラットフォームと、
光学的部分を有して前記プラットフォームに搭載され、前記プラットフォームを向く面以外の面に形成された電極を有する光素子と、
光ファイバと、
を含み、
前記プラットフォームには、配線層と、前記光素子が搭載される面よりも前記光素子の前記電極の高さ方向に立ち上がる凸部と、が形成され、
前記配線層の一部は、前記凸部の少なくとも一部に至るように形成され、
前記凸部で、前記配線層と前記電極とが電気的に接続されてなる光モジュール。
【請求項２】
請求項１記載の光モジュールにおいて、
前記電極は、前記光素子の前記プラットフォームを向く面とは反対面に形成された裏面端子である光モジュール。
【請求項３】
請求項２記載の光モジュールにおいて、
前記凸部の高さは、前記電極とほぼ同じ高さに形成されてなる光モジュール。
【請求項４】
請求項３記載の光モジュールにおいて、
前記凸部上で前記配線層と前記電極とが、導電材料によって電気的に接続されてなり、前記導電材料は、前記電極及び前記配線層に対して接着性を有する材料からなる光モジュール。
【請求項５】
請求項４記載の光モジュールにおいて、
前記光素子の側面と前記凸部との間には隙間が形成されてなり、前記隙間に樹脂が充填されてなる光モジュール。
【請求項６】
請求項２記載の光モジュールにおいて、
前記凸部は、前記光素子を挿入できる間隔をあけて、前記光素子が搭載される面と平行に延びる延設部を有し、前記配線層の一部は前記延設部の少なくとも一部に至るように形成され、前記延設部で前記配線層と前記光素子の前記電極とが接触してなる光モジュール。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の光モジュールにおいて、
前記プラットフォームは、樹脂の射出成形体を含み、
前記凸部は、前記樹脂からなる射出成形部を含んで構成されてなる光モジュール。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれかに記載の光モジュールにおいて、
前記プラットフォームは、貫通穴が形成されてなり、
前記光素子は、前記貫通穴に前記光学的部分を向けて前記プラットフォームに実装され、
前記光ファイバは、前記貫通穴に挿入されて、前記光学的部分に対して位置決めされて取り付けられた光モジュール。
【請求項９】
請求項８記載の光モジュールにおいて、
前記配線層は、前記凸部に形成された部分とは分離され、かつ、前記プラットフォームの前記貫通穴の開口端から間隔をあけて、前記光素子が搭載される領域に形成されたボンディング部を有し、
前記光素子は、前記プラットフォームを向く面に、前記配線層の前記ボンディング部に接合される電極が形成されてなる光モジュール。
【請求項１０】
請求項８又は請求項９記載の光モジュールにおいて、
前記光素子の前記光学的部分が形成された面と、前記プラットフォームの前記貫通穴が形成された面との間に、光素子で使用される光を透過する光透過性樹脂が設けられてなる光モジュール。
【請求項１１】
請求項１０記載の光モジュールにおいて、
前記光透過性樹脂は、前記光素子と前記プラットフォームとの間に生じる応力を緩和できる程度の柔軟性を有する光モジュール。
【請求項１２】
請求項１０又は請求項１１記載の光モジュールにおいて、  前記光透過性樹脂の屈折率は、前記光学的部分の表面材料の屈折率と前記光ファイバのコアの屈折率との間である光モジュール。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２のいずれかに記載の光モジュールにおいて、
複数の前記光素子と、複数の前記光ファイバと、が設けられ、
前記凸部は、それぞれの前記光素子に対応して形成され、
前記配線層は、それぞれの前記光素子に対応して、前記凸部の少なくとも一部に至るように形成されてなる光モジュール。
【請求項１４】
複数のプラットフォームと、
光学的部分を有して各プラットフォームに搭載され、前記プラットフォームを向く面以外の面に形成された電極を有する光素子と、
各プラットフォームに取り付けられた光ファイバと、
を含み、
少なくとも１つを除くいずれかの前記プラットフォームに搭載された前記光素子は受光素子であり、残りの前記プラットフォームに搭載された前記光素子は発光素子であり、
前記複数のプラットフォームのうちの少なくとも１つには、配線層と、前記光素子が搭載される面よりも前記光素子の前記電極の高さ方向に立ち上げ形成された凸部と、が形成され、前記配線層の一部は、前記凸部の少なくとも一部に至るように形成され、前記凸部で、前記配線層と前記電極とが電気的に接続されてなる光伝達装置。
【請求項１５】
請求項１４記載の光伝達装置において、
前記受光素子に接続されるプラグと、
前記発光素子に接続されるプラグと、
をさらに含む光伝達装置。
【請求項１６】
プラットフォームに、前記プラットフォームを向く面以外の面に形成された電極を有する光素子を搭載する工程を含み、
前記プラットフォームには、配線層と、前記光素子が搭載される面よりも前記光素子の前記電極の高さ方向に立ち上がる凸部と、が形成され、前記配線層の一部は、前記凸部の少なくとも一部に至るように形成され、
前記凸部で、前記配線層と前記電極とを電気的に接続する工程をさらに含む光モジュールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月12日(2003.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
草木灰１００重量部と、燐酸５０〜１５０重量部とを、ｐＨが４．５〜６．５の範囲となるように混合し、該混合物のｐＨが混合時のｐＨに対して０．５〜１．５上昇するまで蔵置することを特徴とする化成肥料の製造方法。
【請求項２】
前記草木灰が、たばこ屑灰、たばこ中骨灰及びパーム椰子焼成灰のいずれか１種又は２種以上であることを特徴とする請求項１に記載の化成肥料の製造方法。
【請求項３】
前記燐酸の形態が燐酸水溶液である請求項１または２に記載の化成肥料の製造方法。
【請求項４】
前記燐酸水溶液の燐酸濃度が、１０重量％から飽和濃度までの範囲である請求項１ないし３のいずれかに記載の化成肥料の製造方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の製造方法により製造された化成肥料。