【手続補正書】
【提出日】平成22年10月20日(2010.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に薄膜材料を堆積させるための供給装置であって、
（ａ）第１ガス状材料、第２ガス状材料及び第３ガス状材料の共通供給をそれぞれ受容することができる、少なくとも第１流入ポート、第２流入ポート及び第３流入ポートを含む複数の流入ポートと；
（ｂ）薄膜材料堆積からの排ガスを受容することができる少なくとも１つの排気ポートと、それぞれが少なくとも１つの排気ポートとガス流体連通可能である少なくとも２つの細長い排気チャネルと；
（ｃ）（ｉ）１つ又は２つ以上の第１の細長い放出チャネルを含む第１群、（ｉｉ）１つ又は２つ以上の第２の細長い放出チャネルを含む第２群、及び（ｉｉｉ）少なくとも２つの第３の細長い放出チャネルを含む第３群を含む少なくとも３つの細長い放出チャネル群；
を含み、第１、第２及び第３の細長い放出チャネルのそれぞれが、対応する第１流入ポート、第２流入ポート及び第３流入ポートのうちの１つとそれぞれガス流体連通可能であり；
第１、第２及び第３の細長い放出チャネルのそれぞれ、及び細長い排気チャネルのそれぞれが、長さ方向に実質的に平行に延びており；
各第１の細長い放出チャネルが、その少なくとも１つの細長い側において、相対的により近い細長い排気チャネルと相対的により近くない第３の細長い放出チャネルとによって、最も近い第２の細長い放出チャネルから分離されており；
各第１の細長い放出チャネル及び各第２の細長い放出チャネルが、相対的により近い細長い排気チャネルの間、及び相対的により近くない細長い放出チャネルの間に位置しており；
さらに当該供給装置は、
（ｄ）３つの細長い放出チャネル群のうちの少なくとも１つの群と関連するガスディフューザを含んで第１ガス状材料、第２ガス状材料及び第３ガス状材料のうちの少なくとも１つをそれぞれ、基体上への薄膜材料堆積中に、当該供給装置から基体への供給前にガスディフューザに通過させることができ、当該ガスディフューザが、少なくとも１つの細長い放出チャネル群内の細長い放出チャネルのそれぞれから下流側の、第１、第２及び第３ガス状材料のうちの少なくとも１つの材料の流れ隔離を維持し；
ガスディフューザが、２５℃の窒素である代表的ガス及びガスディフューザを通過するガス状材料の代表的平均速度０．０１〜０．５ｍ／秒を仮定すると、１×１０2を上回る摩擦係数を提供することができる、基体上に薄膜材料を堆積させるための供給装置。
【請求項２】
基体上に薄膜材料を堆積させるための供給装置であって、
（ａ）第１ガス状材料、第２ガス状材料及び第３ガス状材料のための共通供給をそれぞれ受容することができる、少なくとも第１流入ポート、第２流入ポート及び第３流入ポートを含む複数の流入ポートと；
（ｂ）薄膜材料堆積からの排ガスを受容することができる少なくとも１つの排気ポートと、それぞれが少なくとも１つの排気ポートとガス流体連通可能である少なくとも２つの細長い排気チャネルと；
（ｃ）（ｉ）１つ又は２つ以上の第１の細長い放出チャネルを含む第１群、（ｉｉ）１つ又は２つ以上の第２の細長い放出チャネルを含む第２群、及び（ｉｉｉ）少なくとも２つの第３の細長い放出チャネルを含む第３群を含む少なくとも３つの細長い放出チャネル群；
を含み、第１、第２及び第３の細長い放出チャネルのそれぞれが、対応する第１流入ポート、第２流入ポート及び第３流入ポートのうちの１つとそれぞれガス流体連通可能であり；
第１、第２及び第３の細長い放出チャネルのそれぞれ、及び細長い排気チャネルのそれぞれが、長さ方向に実質的に平行に延びており；
各第１の細長い放出チャネルが、その少なくとも１つの細長い側において、相対的により近い細長い排気チャネルと相対的により近くない第３の細長い放出チャネルとによって、最も近い第２の細長い放出チャネルから分離されており；
各第１の細長い放出チャネル及び各第２の細長い放出チャネルが、相対的により近い細長い排気チャネルの間、及び相対的により近くない細長い放出チャネルの間に位置しており；
さらに当該供給装置は、
（ｄ）３つの細長い放出チャネル群のうちの少なくとも１つの群と関連するガスディフューザを含んで第１ガス状材料、第２ガス状材料及び第３ガス状材料のうちの少なくとも１つをそれぞれ、基体上への薄膜材料堆積中に、当該供給装置から基体への供給前にガスディフューザに通過させることができ、当該ガスディフューザが、少なくとも１つの細長い放出チャネル群内の細長い放出チャネルのそれぞれから下流側の、第１、第２及び第３ガス状材料のうちの少なくとも１つの材料の流れ隔離を維持し；
ガスディフューザが、第１、第２及び第３ガス状材料のうちの少なくとも１つが通過する多孔質材料を含む、基体上に薄膜材料を堆積させるための供給装置。
【請求項３】
基体上に薄膜材料を堆積させるための供給装置であって、
（ａ）第１ガス状材料、第２ガス状材料及び第３ガス状材料のための共通供給をそれぞれ受容することができる、少なくとも第１流入ポート、第２流入ポート及び第３流入ポートを含む複数の流入ポートと；
（ｂ）薄膜材料堆積からの排ガスを受容することができる少なくとも１つの排気ポートと、それぞれが少なくとも１つの排気ポートとガス流体連通可能である少なくとも２つの細長い排気チャネルと；
（ｃ）（ｉ）１つ又は２つ以上の第１の細長い放出チャネルを含む第１群、（ｉｉ）１つ又は２つ以上の第２の細長い放出チャネルを含む第２群、及び（ｉｉｉ）少なくとも２つの第３の細長い放出チャネルを含む第３群を含む少なくとも３つの細長い放出チャネル群；
を含み、第１、第２及び第３の細長い放出チャネルのそれぞれが、対応する第１流入ポート、第２流入ポート及び第３流入ポートのうちの１つとそれぞれガス流体連通可能であり；
第１、第２及び第３の細長い放出チャネルのそれぞれ、及びこれらの細長い排気チャネルのそれぞれが、長さ方向に実質的に平行に延びており；
各第１の細長い放出チャネルがその少なくとも１つの細長い側において、相対的により近い細長い排気チャネルと相対的により近くない第３の細長い放出チャネルとによって、最も近い第２の細長い放出チャネルから分離されており；
各第１の細長い放出チャネル及び各第２の細長い放出チャネルが、相対的により近い細長い排気チャネルの間、及び相対的により近くない細長い放出チャネルの間に位置しており；
さらに当該供給装置は、
（ｄ）３つの細長い放出チャネル群のうちの少なくとも１つの群と関連するガスディフューザを含んで第１ガス状材料、第２ガス状材料及び第３ガス状材料のうちの少なくとも１つをそれぞれ、基体上への薄膜材料堆積中に供給装置から基体への供給前にガスディフューザに通過させることができ、当該ガスディフューザが、少なくとも１つの細長い放出チャネル群内の細長い放出チャネルのそれぞれから下流側の、第１、第２及び第３ガス状材料のうちの少なくとも１つの材料の流れ隔離を維持し；
ガスディフューザが、少なくとも２つの一連の要素を含む機械的に形成された集成体を含み、各要素は、互いに対向する実質的に平行な表面領域を含み；
少なくとも１つの要素が、細長い方向に延びる複数のパーフォレーションを含み、それぞれの複数のパーフォレーションが、少なくとも１つの細長い放出チャネル群内のそれぞれの細長い放出チャネルのうちの１つからの流れと関連し；
ガスディフューザが、複数のパーフォレーションのそれぞれから、２つの要素内の平行な表面領域間の薄いスペース内へガス状材料を偏向させる、基体上に薄膜材料を堆積させるための供給装置。
【請求項４】
薄膜材料を基体上に堆積させる方法であって、供給ヘッドの出力面から基体表面に向けて一連のガス流を同時に案内することを含み、ここで、一連のガス流は、少なくとも、第１反応性ガス状材料と、不活性パージガスと、第２反応性ガス状材料とを含み、第１反応性ガス状材料は、第２反応性ガス状材料で処理された基体表面と反応することができ；
供給ヘッドがガスディフューザ要素を含み、ガスディフューザ要素を、第１反応性ガス状材料、不活性パージガス、及び第２反応性ガス状材料のうちの少なくとも１つが、少なくとも１つのガス状材料の流れ隔離を維持しながら通過し；
ガスディフューザが、基体上の薄膜材料堆積中にガスディフューザを通過するガス状材料に対して、１×１０2を上回る摩擦係数を提供する、薄膜材料を基体上に堆積させる方法。
【請求項５】
薄膜材料を基体上に堆積させる方法であって、
供給ヘッドの出力面から基体表面に向けて一連のガス流を同時に案内することを含み、ここで、一連のガス流は少なくとも、第１反応性ガス状材料と、不活性パージガスと、第２反応物質ガス状材料とを含み、第１反応性ガス状材料は、第２反応性ガス状材料で処理された基体表面と反応することができ；
ガスディフューザが多孔質材料を含み、当該多孔質材料を、第１反応性ガス状材料、第２反応性ガス状材料、及び不活性パージガスのうちの少なくとも１つが通過することにより、第１反応性ガス状材料、第２反応性ガス状材料、及び不活性パージガスのうちの少なくとも１つの材料の流れが供給装置を出る場所で背圧を提供し、圧力の均等化を促進する、薄膜材料を基体上に堆積させる方法。