(57)【要約】      （修正有）【課題】被研磨材を高精度に研磨加工できるポリッシャー、研磨加工装置、研磨加工方法、研磨加工をコンピュータに実行させるプログラムおよび記録媒体を提供すること。【解決手段】テーブル４に搭載される被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャー１１を有し、被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状が、ポリッシャーの回転軸から離れた外周部の被研磨材の研磨量が少なくなるようにする。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
テーブルに搭載される被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーであり、
前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状が、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような形状になることを特徴とするポリッシャー。
【請求項２】
被研磨材を搭載するテーブルと、
前記被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーとを備え、
前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状が、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような研磨形状となる前記ポリッシャーを用いることを特徴とする研磨加工装置。
【請求項３】
前記被研磨材と前記ポリッシャーの相対移動時間、ポリッシャーの回転数、ポリッシャーの押し付け量、研磨回数及び研磨液濃度の少なくとも１つを制御する制御部を更に備えたことを特徴とする請求項２記載の研磨加工装置。
【請求項４】
被研磨材を搭載するテーブルと、前記被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーとを備えた研磨加工装置に適用される研磨加工方法において、
前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状として、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような研磨形状が得られる前記ポリッシャーを用いたことを特徴とする研磨加工方法。
【請求項５】
被研磨材を搭載するテーブルと、前記被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーとを備えた研磨加工装置による前記被研磨材の研磨をコンピュータに実行させるための制御プログラムにおいて、
前記加工前の前記被研磨材の形状データを表示し、
前記形状データに基づいて設定された加工条件を記録し表示させ、
前記加工条件に応じて研磨加工を行う際に、前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状として、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような研磨形状が得られる前記ポリッシャーを用いたことを特徴とするコンピュータに実行させるための制御プログラム。
【請求項６】
被研磨材を搭載するテーブルと、前記被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーとを備えた研磨加工装置による前記被研磨材の研磨をコンピュータに実行させるための制御プログラムを記録した記録媒体において、
前記加工前の前記被研磨材の形状データを表示し、
前記形状データに基づいて設定された加工条件を記録し表示させ、
前記加工条件に応じて研磨加工を行う際に、前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状として、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような研磨形状が得られる前記ポリッシャーを用いたことを特徴とする制御プログラムを記録した記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被研磨材表面を研磨する研磨加工装置に用いられるポリッシャー、研磨加工装置、研磨加工方法、研磨加工をコンピュータに実行させる制御プログラムおよび記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
被研磨材表面の形状を修正する方法では、被研磨材表面の法線方向と平行にポリッシャーを配置し、ポリッシャーを回転させ、ポリッシャーと被研磨材を相対的に移動させて選択的に被研磨材表面を研磨する事により目的の形状に研磨している。
【０００３】
この場合には、特許文献１に記載されているように、ポリッシャーによる研磨量分布は、Ｗ型になる。この理由は以下の通りである。被研磨面の法線に対してポリッシャーの回転軸を平行にして研磨する場合、被研磨面上であって回転軸の延長線上の位置が、最もポリッシャーからの圧力を受ける。しかしながら、ポリッシャーの自転によるポリッシャーと被研磨面との相対速度は、回転軸の延長線上の位置が０であるため、この位置は圧力が最大であるものの研磨量が０になり、回転軸の延長線上からある程度離れた位置で研磨量が最大となる。
【０００４】
そこで、特許文献１では、被研磨面の法線に対して、ポリッシャーの回転軸を傾けることで、ポリッシャー内で最も研磨量が多くなる個所を一点にし、目的の面形状対して被研磨面上の凸部の頂点群に、最大研磨点を一致させて、凸部を選択的に研磨する方法が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−１１７６０８公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献１に開示されたものは、ポリッシャーの回転軸を傾けて加工するために、研磨形状が非対称となり、レンズ面を螺旋状に研磨した場合、レンズ中心部を高精度に研磨できないという問題点がある。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するために成されたものであって、被研磨材を高精度に研磨加工できるポリッシャー、そのポリッシャーを用いた研磨加工装置、研磨加工方法、研磨加工をコンピュータに実行させるプログラムおよび記録媒体を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題を解決するために次のような手段を講じた。
【０００９】
本発明の一局面に係るポリッシャーは、テーブルに搭載される被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーであり、前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状が、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような形状になることを特徴とする。なお、本発明は、研磨加工装置のみでなく、本発明の一局面に係る研磨加工装置の機能を遂行する研磨加工方法や、その方法を実行したり、装置を制御したりするためのプログラム、更には、当該プログラムを記憶する記憶媒体としても成立する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に従い説明する。
【００１１】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係る研磨システムの概略構成を示す図である。本実施形態に係る研磨システムは、大きく分けて、被研磨材５の被研磨面の形状を測定する干渉計１００と、干渉計１００を制御し被研磨面の形状データを取得する干渉計用コンピュータ１０１と、被研磨材５の被研磨面を研磨する研磨加工装置１０３と、干渉計用コンピュータ１０１が取得した被研磨材の形状データをもとに加工用データを作成し、研磨加工装置１０３を制御する研磨加工装置用コンピュータ１０２とから構成されている。
【００１２】
図１における研磨加工装置１０３の概略構成を図２に示す。装置本体１はベース部１ａと、このベース部１ａに対して直立して設けられる胴部１ｂを有している。
【００１３】
ベース部１ａには、ワークテーブル２が設けられ、更にこのワークテーブル２上にはワーク回転テーブル３が設けられている。ワークテーブル２はワーク回転テーブル３を保持するとともに、このワーク回転テーブル３をＸＹ方向に移動可能にしている。また、ワーク回転テーブル３は、ワークテーブル２上でＸＹ方向に直交するＺ軸を中心として矢印Ｄ方向に回転可能になっており、回転角度の制御機能と回転角度毎の速度制御機能を備えている。
【００１４】
ワーク回転テーブル３上には、被研磨材５を固定するためのチャック４が設けられている。ここで、被研磨材５が、例えばレンズのように中心位置を求める必要があるような形状のものである場合には、ワーク回転テーブル３とチャック４は、芯出し機構を備えていることが好ましい。この芯出し機構は、ワーク回転テーブル３の回転中心と被研磨材５の求める中心を合致させるもので、例えば、チャック４をワーク回転テーブル３上でＸＹ方向に微調整可能にすることにより実現できる。また、被研磨材５の研磨面が平面であるなどの理由で中心位置を求める必要がない場合には、チャック４として、固定チャックが使用される。このようにチャック４は、被研磨材５の形状や研磨条件などにより交換して使用される。
【００１５】
また、この場合において、ワーク回転テーブル３とチャック４との間にＺ軸ステージを設け、被研磨材５をＺ軸方向に移動可能としてもよい。また、ワークテーブル２は、被研磨材５を複数個搭載する構成としてもよい。
【００１６】
一方、装置本体１の胴部１ｂには、第１の上下駆動軸６が矢印Ａ方向に上下動可能に設けられている。また、第１の上下駆動軸６の先端には、矢印Ｂ方向に回転可能な回転台７が設けられている。回転台７には、第２の上下駆動軸８が矢印Ｃ方向に上下動可能に設けられている。更に、第２の上下駆動軸８の先端にはポリッシャー１１をチャックしたスピンドル１０を固定したスピンドルテーブル９が設けられている。
【００１７】
図３は、上記のように構成された研磨加工装置を制御する制御装置の概略構成図を示す図である。図３において、制御部４１は各部の動作を制御する機能を備え、駆動部４２、座標検出部４３、信号入出力部４４、メモリ４５及びモニタ４６が接続されている。駆動部４２は、図２で述べた研磨加工装置のワークテーブル２、ワーク回転テーブル３、第１の上下駆動軸６、回転台７、第２の上下駆動軸８等を駆動する。座標検出部４３は、ワークテーブル２やポリッシャー１１のノズルなどの位置座標、例えば、Ａ、Ｂ、Ｃ方向に移動する各軸の位置座標、を検出する。信号入出力部４４は、スピンドル１０や図示しない研磨液供給用のポンプ等を制御する。そして、制御部４１自身は、制御プログラム、研磨加工条件や被研磨材５の形状データの入出力、作成、保存、選択、ファイリングを実行する。これらの処理の結果はモニタ４６に表示されると共に、メモリ４５に保存される。また、制御部４１は、図示しない記憶媒体に記憶されているプログラム等のデータの読み込みが可能に構成されている。なお、制御部４１で実行されるプログラムを格納する記録媒体としては、例えば制御部４１の内部に設けられるハードディスクや、通信回線を用いて接続される外部のホストコンピュータ、磁気ディスク、光ディスク等、どのようなものであっても良い。
【００１８】
次に、実際に研磨加工を行う場合の手順を図４に示すフローチャートにより説明する。
【００１９】
この場合、まず、干渉計用コンピュータ操作として、被研磨材５の表面に対し光学干渉計で形状測定を行い（ステップ８０１）、この測定結果を制御部４１に入力し、メモリ４５に保存すると同時に、モニタ４６に表示する（ステップ８０２、ステップ８０３）。
【００２０】
次に、研磨加工装置用コンピュータ操作として、測定結果に係るデータを研磨加工に使用できる形状データに変換する（ステップ８０４）。この場合、不要データを削除し、新たにＩＤや付帯情報が追加される。
【００２１】
ここで、レンズ研磨加工では、そのレンズ中心の回りに回転させながら研磨する方法がとられるので、まず、レンズ面の全体形状から計算により中心座標が求められ（ステップ８０５）、次いで、形状データが直行座標系から曲座標系に変換される（ステップ８０６）。
【００２２】
次に、被研磨材５の材質を指定し、所望する形式の研磨量（テーブル）を用意する（ステップ８０７）。そして、このテーブル情報と形状データに基づいて、各部位の研磨量を計算により求める（ステップ８０８）。そして、狙った形状を確認した後（ステップ８０９）、被研磨材５の材質、研磨液の種類、ポリッシャー１１の形状等をあわせて各部位での研磨加工データおよび研磨時間等を含む加工データを作成して（ステップ８１０）、モニタ４６に表示する（ステップ８１１）。また、決定した加工データを研磨加工装置に転送して被研磨材５の研磨加工をする（ステップ８１２）。
【００２３】
次に、図５と図６を用いて、本第１の実施形態における研磨方法の基本原理を説明する。図５は被研磨材５を研磨するポリッシャー１１による研磨の状況（研磨量分布）を説明するための図である。ポリッシャー１１は、例えば、ステンレス鋼等のシャンク部２０に軟質ポリッシャー２１を固定した構造を備えている。
【００２４】
図５（ａ）は被研磨材５の被研磨面の法線に平行に、回転したポリッシャー１１を押圧した時の研磨量分布の状態を示している。この場合には、ポリッシャー１１の中心付近（本明細書においては、「中心部」と称する）は回転速度が０となり研磨作用が働かないために、中心部に研磨残りが発生し、被研磨面の断面はＷ形状になる。図５（ｂ）は図５（ａ）の状態から、ポリッシャー１１を紙面手前方向に移動させた時の研磨量分布の状態を示している。この場合には、ポリッシャー１１が移動することにより、ポリッシャー１１の外周付近（本明細書においては、「外周部」と称する）で、中心部の研磨残り部を研磨するため、中心部の研磨残り部が図５（ａ）に比べて少なくなる。しかし依然としてＷ形状である。図５（ｂ）のように被研磨面の断面がＷ形状のような状態で、例えばレンズをレンズ外周部から中心に向かって螺旋状に研磨すると、図６（ａ）に示すように、レンズ中心部がＷ形状になる。このため、形状修正が困難である。
【００２５】
そこで、第１の実施形態においては、図５（ｃ）に示すように、ポリッシャー１１の先端を、例えば１００°の円錐形状にして、中心部の押し付け圧力を増加させている。このような形状を採用することにより、中心部の研磨残り部を除去できるようになるので、被研磨面の断面形状がＷ形状になることを回避できる。このような状態でレンズをレンズ外周部から中心に向かって螺旋状に研磨すると、図６（ｂ）に示すように、レンズ中心部はＶ形状になる。
【００２６】
次に、研磨加工するときの研磨力を変化させることによって、レンズ中心部のＶ形状を補正する。例えば、ポリッシャー１１がレンズ中心に移動するのに従って研磨時間を一定比率で減算することで、図６（ｃ）に示すようにＶ形状を取り除くことができる。なお、研磨力はは、研磨時間の他に、ポリッシャーの回転数、ポリッシャーの押し付け量、研磨回数、或いは研磨液濃度等を変化させることによって制御してもよい。
【００２７】
次に、図６（ａ）から（ｃ）に示すように、レンズ外周部の研磨量が不足している。この原因は、レンズの最外周部とポリッシャー１１の中心が一致する位置から加工を開始しているためである。従って、図６（ｄ）に示すように、ポリッシャー１１がレンズ最外周部に接する前から加工を開始すれば均一な研磨量を得ることができる。
【００２８】
なお、図６（ｄ）に見られるような被研磨面の全面に発生している微小なうねりは、ポリッシャー移動ピッチ２９を狭くする（例えば、０．０５ｍｍピッチとする）ことにより、図６（ｅ）に示すように充分小さく抑えることができる。
【００２９】
（第２の実施の形態）
図７を用いて第２の実施形態を説明する。なお、第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ部分は図示及び説明を省略する。第２の実施形態は、複数のポリッシャー１１をスピンドルユニットに取り付けられるようにしたものである。
【００３０】
図７に示すスピンドルユニット１０４は、図２に示すスピンドルテーブル９と共に、スピンドル１０と、ポリッシャー１１とを取り外して、スピンドルテーブル９の取り付けられた箇所に取り付けられる。なお、図７に示さない部分については第１の実施形態と同様である。
【００３１】
スピンドルユニット１０４の構成は次のようになっている。
【００３２】
スピンドルテーブル９′の先端に、スピンドル割り出し装置１２が取り付けられており、その先端にはスピンドル固定台１３が取り付けられていて、複数のスピンドル１０を取り付けることができる。また、各スピンドル１０にはポリッシャー１１が取り付けられている。
【００３３】
スピンドル割り出し装置１２は、プログラムの指令、あるいはマニュアル操作により、任意のポリッシャー１１を選択使用することができる。これにより、研磨能率を上げ、また精度の高い研磨を行うことができる。
【００３４】
（第３の実施形態）
図８を参照して第３の実施形態を説明する。第３の実施の形態において、第１及び第２の実施形態と同じ部分は、図示及び詳細な説明を省略する。第３の実施の形態では、ポリッシャーの先端部に特徴を有する。
【００３５】
図５（ｃ）に示すように、ポリッシャーの先端を鋭角にすることにより、研磨されるレンズ面の形状がＶ字形状になる。しかし、図５（ｃ）に示すような円錐形状を有するポリッシャーの先端部は外周部に比べて押圧する圧力が高いため、ポリッシャー先端部が磨耗しやすい。そこで、第３の実施形態では、図８（ａ）に示すように、先端部をＲ形状にすることで、ポリッシャー１１の先端部の耐磨耗性を高めることができる。
【００３６】
また、別の方法として、図８（ｂ）に示すようにポリッシャーの先端部の角度（α２）をポリッシャーの角度（α１）よりも大きくすることで図８（ａ）と同様の効果を得ることができる。
【００３７】
更に図８（ｃ）に示すように、軟質ポリッシャー２１の中心部ａの硬度を最も高くし、外周部ｌに向かって硬度が低くなるように構成することにより、図８（ａ）と同様の効果を得ることができる。なお、硬度を外周部に向かって徐々に低くなるように変化させるのではなく、先端部の硬度のみを高くするようにしても良いし、本実施形態のように、２段階或いは３段階といったように段階的に変化させても良いことは勿論である。
【００３８】
このように、第３の実施形態においては、先端部の磨耗を少なくすることが目的であるので、その他の構成であっても、この目的を達成できるような構成であれば良い。
【００３９】
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものでなく、実施段階では、その要旨を変更しない範囲で種々変形することが可能である。
【００４０】
さらに、上記実施の形態には、種々の段階の発明が含まれており、開示されている構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出できる。例えば、実施の形態に示されている全構成要素から幾つかの構成要素が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題を解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出できる。
【００４１】
上記の各実施形態から下記の発明が抽出される。なお、本発明は、上記の発明の実施の形態に限定されるものではない。本発明の要旨を変更しない範囲で種々変形して実施できるのは勿論である。
【００４２】
本発明の第１の局面に係るポリッシャーは、テーブルに搭載される被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーであり、前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状が、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような形状になることを特徴とする。
【００４３】
本発明の第２の局面に係る研磨加工装置は、被研磨材を搭載するテーブルと、前記被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーとを備え、前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状が、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような研磨形状となる前記ポリッシャーを用いることを特徴とする。ここで、前記被研磨材と前記ポリッシャーの相対移動時間、ポリッシャーの回転数、ポリッシャーの押し付け量、研磨回数及び研磨液濃度の少なくとも１つを制御する制御部を更に備えることが好ましい。
【００４４】
本発明の第３の局面に係る研磨加工方法は、被研磨材を搭載するテーブルと、前記被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーとを備えた研磨加工装置に適用される研磨加工方法であって、前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状として、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような研磨形状が得られる前記ポリッシャーを用いたことを特徴とする。
【００４５】
本発明の第４の局面に係る研磨加工装置による被研磨材の研磨をコンピュータに実行させるための制御プログラムは、被研磨材を搭載するテーブルと、前記被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーとを備えた研磨加工装置による前記被研磨材の研磨をコンピュータに実行させるための制御プログラムであって、前記加工前の前記被研磨材の形状データを表示し、前記形状データに基づいて設定された加工条件を記録し表示させ、前記加工条件に応じて研磨加工を行う際に、前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状として、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような研磨形状が得られる前記ポリッシャーを用いたことを特徴とする。
【００４６】
本発明の第５の局面に係る記録媒体は、被研磨材を搭載するテーブルと、前記被研磨材の被研磨部の法線と平行な回転軸を有し、前記被研磨材と相対的に移動することによって、前記被研磨材の表面を成形研磨加工する少なくとも１つのポリッシャーとを備えた研磨加工装置による前記被研磨材の研磨をコンピュータに実行させるための制御プログラムを記録した記録媒体であって、前記加工前の前記被研磨材の形状データを表示し、前記形状データに基づいて設定された加工条件を記録し表示させ、前記加工条件に応じて研磨加工を行う際に、前記被研磨材と前記ポリッシャーとの相対的な移動によって得られる研磨形状として、前記ポリッシャーの前記回転軸よりも前記回転軸から離れた前記ポリッシャーの外周部の前記被研磨材の研磨量が少なくなるような研磨形状が得られる前記ポリッシャーを用いたことを特徴とする制御プログラムを記録する。
【００４７】
上記の各局面において、以下の実施態様が好ましい。なお、以下の実施態様はそれぞれ独立に適用しても良いし、適宜組み合わせて適用しても良い。
【００４８】
（１）  前記被研磨材は、回転可能に前記テーブルに搭載されること。
【００４９】
（２）  前記ポリッシャーによる被研磨面の研磨加工を、ポリッシャーが被研磨面の最外周部に接する前から開始すること。
【００５０】
（３）  前記ポリッシャーを固定し、所望の移動を行わせるためのスピンドルユニットを更に備え、前記スピンドルユニットには、複数のポリッシャーが装着可能であること。
【００５１】
（４）  前記ポリッシャーは、その形状がほぼ円錐形状であること。
【００５２】
（５）  前記ポリッシャーは、その先端部の磨耗を減少させた構成を備えること。
【００５３】
（６）  （４）又は（５）において、前記ポリッシャーの先端部は、Ｒ形状又はポリッシャーの角度よりも大きい角度になるような形状を有すること。
【００５４】
（７）  （４）又は（５）において、前記ポリッシャーの硬度は、中心部よりも外周部の方が小さいこと。
【００５５】
【発明の効果】
以上述べたように本発明の実施形態によれば、円錐状のポリッシャーを被研磨面の法線に平行に押圧し、研磨条件を自由に制御することで、精度の高い研磨加工を実現できる研磨加工装置、研磨加工方法、研磨加工をコンピュータに実行させるプログラムおよび記憶媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に適用される研磨システムの構成図。
【図２】本発明の第１の実施形態に適用される研磨加工装置の概略構成図。
【図３】第１の実施形態に適用される制御装置の概略構成図。
【図４】第１の実施形態の研磨加工を説明するためのフローチャート。
【図５】被研磨材を研磨するポリッシャー１１による研磨の状況（研磨量分布）を説明するための図。
【図６】第１の実施形態における研磨方法の基本原理を説明するための図。
【図７】第２の実施形態に係るスピンドルテーブルユニットの概略構成を示す図。
【図８】第３の実施形態に係るポリッシャーの概略構成を示す図。
【符号の説明】
１…装置本体
１ａ…ベース部
１ｂ…胴部
２…ワークテーブル
３…ワーク回転テーブル
４…チャック
５…被研磨材
６…第１の上下駆動軸
７…回転台
８…第２の上下駆動軸
９…スピンドルテーブル
１０…スピンドル
１１…ポリッシャー
１２…装置
１３…スピンドル固定台
２０…シャンク部
２１…軟質ポリッシャー
２９…ポリッシャー移動ピッチ
４１…制御部
４２…駆動部
４３…座標検出部
４４…信号入出力部
４５…メモリ
４６…モニタ
１０１…干渉計用コンピュータ
１０２…研磨加工装置用コンピュータ
１０３…研磨加工装置
１０４…スピンドルユニット
【図１】
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【図２】
2004216477.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2004216477.tif 000007
【図６】
2004216477.tif 000008
【図７】
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【図８】
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