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【手続補正書】
【提出日】平成15年10月14日(2003.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合して屈折率が重合の度合いに従って変化するタイプの光透過性放射線重合可能な材料のシートを準備し、前記材料に、バックグラウンドは照射強度のより低いかまたはゼロであってスポットは照射強度の高いスポット配列でまたはバックグラウンドは照射強度が高くスポットは照射強度のより低いかまたはゼロのスポット配列からなる所定パターンの重合放射線を照射することからなる光線拡散スクリーンの製造方法であって、
前記材料の照射の間、少なくとも二つの異なる方向からの重合放射線に暴露され、照射される前記材料領域にわたって、照射位置それぞれが該２方向からの重合放射線に曝されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記２方向が、光透過性放射線重合可能な材料のシート面に垂直である面に対して相互に対向して傾斜していることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記２方向からの照射が、２枚の鏡を使って共通線源からの光線を放射線重合可能材料の同一領域上に反射させることにより得られることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記２方向からの照射が、一連の平行した切妻形状の稜線を有する光透過性プリズム材料シートを放射線重合可能材料の上に積層し、重合光線のビームをプリズム材料上に向けることにより得られることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
放射線重合可能材料の前記シートの面に対して垂直な前記面について、前記２方向が互いに異なった角度を有することを特徴とする請求項２〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
放射線重合可能材料の前記シートの面に対して垂直な前記面について、前記２方向が対向して同等に傾斜していることを特徴とする請求項２〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
放射線重合可能材料を照射する際に、照射される放射線重合可能材料領域にわたって、照射位置それぞれが三方向またはそれ以上の方向からの重合放射線に曝されることを特徴とする方法。
【請求項８】
放射線重合材料を照射する際に、放射線重合材料のシートの面に垂直な軸上に中心付けた実環状範囲または仮想環状範囲からの放射線により照射が行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
内部反射面を有し、端部が開口した中空の回転体の形をした鏡を使用して重合放射線を放射線重合可能材料に照射し、
前記放射線重合可能材料は前記回転体の軸上の、環状鏡の一端またはその付近に配置され、また、前記重合放射線の光線源は前記軸上の、環状鏡の他端もしくはその付近に配置され、そのために前記光線源から放出された放射線は前記回転体に入射し、その内壁により前記材料上に反射されることが可能なことを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記回転体が円筒状であることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記回転体が円錐台であることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記材料に前記光線源より直接光線が到達することを阻止または制限するために絞りが設けられていることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記放射線重合可能材料への照射に於いて、該材料は放射線重合可能材料のシート面に対して傾斜した方向から重合放射線が照射され、その間該材料がそれ自身の面内で回転するか、または前記放射線源が前記材料面に対する垂直軸を中心として回転することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
光線拡散シート材料であって、該材料の面に対して傾いた初めの一つの方向に沿って伸びる光軸を有する初めの一組の階調型屈折率レンズと、該材料の面に対して傾いたもう一つの方向であって第１の方向とは異なる方向に沿って伸びる光軸を有するもう一つの一組の階調型屈折率レンズを有する材料であり、
第１の組の階調型屈折率レンズがある各位置毎に、第２の組の階調型屈折率レンズもまたあり、そして階調型屈折率レンズの組のそれぞれは材料シートの同一領域を占めることを特徴とする光線拡散シート材料。
【請求項１５】
感光性重合体からなることを特徴とする請求項１４に記載の光拡散性シート材料。
【請求項１６】
前記階調型屈折率レンズの平均配向方向が前記シート材料面に垂直であることを特徴とする請求項１４に記載の光拡散シート材料。
【請求項１７】
前記階調型屈折率レンズの平均配向方向がそれ自身材料面に対して傾斜していることを特徴とする請求項１４に記載の光拡散シート材料。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月22日(2004.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不規則に偏光された入射光線を受け、前記の不規則に偏光された光を第１の偏光光線と第２の偏光光線に分離する第１のウォークオフクリスタルであって、前記の第１の偏光光線と前記の第２の偏光光線は互いに直角で、分離距離だけ離れている第１のウォークオフクリスタルと、
デュアル音響光学チューナブルフィルターであって、前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターは前記の分離距離だけ分離され前記の第１の光線と前記の第２の光線を受けるように適合された第１の導波管および第２の導波管からなる音響光学材料製の基部と、電気信号に応答して前記の基部内に音波を誘起する第１の変換器とからなり、前記の音波は前記の基部中を伝搬し前記の音波の周波数と前記の基部の光学的特性とによって決まる光周波数帯域内の周波数を有する任意の光の偏光モードを変化させるが前記の光周波数帯域外の周波数を有する任意の光の偏光モードを変化させず、第１のフィルタリングされた光線と第２のフィルタリングされた光線とを供給するはたらきをするデュアル音響光学チューナブルフィルターと、
前記の第１のウォークオフクリスタルと前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターの間に配置された、前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターが前記の第１の光線と前記の第２の光線を受ける前にこれらを集束するための第１のレンズと、
前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターからの前記の第１のフィルタリングされた光線と前記の第２のフィルタリングされた光線を受ける第２のウォークオフクリスタルであって、前記の光周波数帯域内の前記の第１のフィルタリングされた光線と前記の第２のフィルタリングされた光線の光は第２ウォークオフクリスタルの出力で結合され第２のウォークオフクリスタルと、
前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターと前記の第２のウォークオフクリスタルの間に配置された、前記の第２のウォークオフクリスタルが前記の第１のフィルタリングされた光線と前記の第２のフィルタリングされた光線を受ける前にこれらを集束するための第２のレンズとを有することを特徴とする偏光非依存型音響光学チューナブルフィルター。
【請求項２】
請求項１に記載の偏光非依存型音響光学チューナブルフィルターであって、
さらに、第１のTM偏光子と、
前記の第１のTM偏光子の下部に取り付けられた第１の半波長板および前記の第１のTM偏光子の上部に取り付けた第１の光透過材料片であって、前記の第１のTM偏光子は第１の導波管と前記の第２の導波管に隣接して取り付けられ、前記の第１のウォークオフクリスタルから送出されるTE成分光線は前記の第１の半波長板および前記のTM偏光子を通過して前記の第２の導波管に受け取られ、前記の第１のウォークオフクリスタルから送出されるTM成分光線は前記の第１の光透過材料片および前記のTM偏光子を通過して前記の第１の導波管に受け取られる第１の半波長板および第１の光透過材料片と、
電気信号に応答して前記の基部に音波を誘起する第２の変換器であって、前記の音波は前記の基部中を伝搬し前記の音波の周波数と前記の基部の光学的特性とによって決まる光周波数帯域内の周波数を有する任意の光の偏光モードを変化させるが前記の光周波数帯域外の周波数を有する任意の光の偏光モードを変化させない第２の変換器と、
前記の基部上に製作され前記の第１の変換器と前記の第２の変換器の間に配置されたTE偏光子と、
第２のTM偏光子と、
前記の第２のTM偏光子の上部に取り付けた第２の半波長板および前記の第２のTM偏光子の下部に取り付けた第２の光透過材料片であって、前記の第２のTM偏光子は前記の第１の導波管と前記の第２の導波管に隣接して取り付けられ、前記の第１の導波管から送出される光線は前記の第２のTM偏光子と前記の第２の光透過材料片を通過して前記の第２のウォークオフクリスタルに受け取られ、前記の第２の導波管から送出される光線は前記の第２のTM偏光子と前記の第２の半波長板を通過して前記の第２のウォークオフクリスタルに受け取られる第２の半波長板および第２の光透過材料片とを有することを特徴とする偏光非依存型音響光学チューナブルフィルター。
【請求項３】
不規則に偏光された入射光線を受け、前記の不規則に偏光された光を互いに直角で、分離距離だけ離れた第１の偏光光線と第２の偏光光線に分離する第１のウォークオフクリスタルと、
デュアル音響光学チューナブルフィルターであって、前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターは分離距離だけ分離され前記の第１の光線と前記の第２の光線を受けるように適合された第１の導波管および第２の導波管からなる音響光学材料製の基部および電気信号に応答して前記の基部内に音波を誘起する第１の変換器とからなり、前記の音波は前記の基部中を伝搬し前記の音波の周波数と前記の基部の光学的特性とによって決まる光周波数帯域内の周波数を有する任意の光の偏光モードを変化させるが前記の光周波数帯域外の周波数を有する任意の光の偏光モードを変化させず、第１のフィルタリングされた光線と第２のフィルタリングされた光線とを供給するはたらきをするデュアル音響光学チューナブルフィルターと、
前記の第１のウォークオフクリスタルと前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターの間に配置され、前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターが前記の第１の光線と前記の第２の光線を受ける前にこれらを集束するための第１のレンズと、
前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターからの前記の第１のフィルタリングされた光線と前記の第２のフィルタリングされた光線が通過し、1/4波長だけ位相をずらされる45゜ファラデー回転子と、
前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターと前記の45゜ファラデー回転子の間に配置され、前記の第１のフィルタリングされた光線と前記の第２のフィルタリングされた光線が前記の45゜ファラデー回転子を通過する前にこれらを集束するための第２のレンズと、
前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターから送出され前記の45゜ファラデー回転子を通過する光線を再度前記の45゜ファラデー回転子を介して前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターに反射するミラーであって、前記のデュアル音響光学チューナブルフィルターでは、前記の音波が前記の基部中を伝搬し前記の音波の周波数と前記の基部の音響特性によって決まる光周波数帯域内の周波数を有する光の偏光モードを変化させ、前記の光周波数帯域外の周波数を有する光の偏光モードを変化させないはたらきをするミラーと、
TM出力とTE出力とを有する前記の第１のウォークオフクリスタルであって、前記の基部中を伝搬しある光周波数帯域内の周波数を有するTM光線成分とTE光線成分が結合される前記第１のウォークオフクリスタルとを有することを特徴とする偏光非依存型音響光学チューナブルフィルター。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月11日(2003.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
差動出力型のリングオシレータと、
前記リングオシレータの差動出力を１相に変換する第一の２相／１相変換回路と、
前記リングオシレータの差動出力の逆相を１相に変換する第二の２相／１相変換回路とを、有することを特徴とする電圧制御発振回路。
【請求項２】
請求項１記載の電圧制御発振回路において、
前記第二の２相／１相変換回路は、前記第一の２相／１相変換回路とは逆極性のトランジスタを用いてＶＤＤ及びＶＳＳに対して対象な回路構成であることを特徴とする電圧制御発振回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明の電圧制御発振回路は、差動出力型のリングオシレータと、
前記リングオシレータの差動出力を１相に変換する第一の２相／１相変換回路と、
前記リングオシレータの差動出力の逆相を１相に変換する第二の２相／１相変換回路とを、有することを特徴とする。
さらに本発明の電圧制御発振回路において、
前記第二の２相／１相変換回路は、前記第一の２相／１相変換回路とは逆極性のトランジスタを用いてＶＤＤ及びＶＳＳに対して対象な回路構成であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月3日(2003.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
キャパシタＣ２の放電は、導通状態にあるトランジスタＱ４を介して行うもので、トランジスタＱ４のオン抵抗は低く、キャパシタの放電が速い。一方、キャパシタＣ２の充電はトランジスタＱ６を介して行うもので、充電電流ｉ3 が小さいと、充電時間は放電時間より長くなる。この結果、遅延素子の出力信号ＳＣの波形は、図３８に示すように、立ち上がりと立ち下がりは非対称となり、立ち上がりエッジが急峻で、立ち下がりエッジが緩やかである。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
図２３は５段の反転遅延回路または２段の非反転遅延回路と３段の反転遅延回路により構成された５段構成の発振回路の回路図である。図示のように、５段構成の発振回路は全部で３通りの構成例があり、図２３（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれの構成を示している。なお、これらの回路例は、それぞれ図１４、図１６および図１８に示す発振回路例と同様な構成を有する。前述したように、これらの５段構成発振回路によって、１：４、２：３および３：２の３種類のクロック信号が生成でき、且つ発振動作は安定に行われる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３２】本発明に係る発振回路の第６の実施形態を示す回路図であり、３段の反転遅延回路からなる発振回路の一構成例を示す回路図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３３】第５の実施形態の具体的な構成例を示す回路図である。


【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３０】
1999008532.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月17日(2003.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１の導電層と、
第１の導電層を覆うように形成された絶縁層と、
前記絶縁層上に形成された第２の導電層とを備え、
前記第１の導電層上において、前記第２の導電層の上部表面から前記絶縁層に到達するとともに前記絶縁層の一部を介在して位置する第１の開口部が形成され、
前記第１の開口部の側面は、前記第２の導電層の側面と、前記絶縁層の側面とを含み、さらに、
前記第２の導電層上に形成され、前記第１の開口部上に位置するとともに前記第１の開口部の幅の大きさ以上の大きさの幅を有する第２の開口部が形成された第１の保護膜を備え、
前記第２の開口部において前記第２の導電層の上部表面の一部が露出している、半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第１の保護膜上に形成された第２の保護膜を備え、
前記第２の開口部は、前記第２の保護膜の上部表面から前記第１の保護膜にまで到達し、
前記第２の開口部の側面は、前記第１の保護膜の側面と、前記第２の保護膜の側面とを含む、請求項１に記載の半導体装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
【課題を解決するための手段】
請求項１における半導体装置は、第１の導電層と、絶縁層と、第２の導電層と、第１の保護膜とを備えている。この絶縁層は、第１の導電層を覆うように形成されている。第２の導電層は、絶縁層上に形成されている。第１の開口部は、第１の導電層上において、第２の導電層の上部表面から絶縁層に到達するとともに絶縁層の一部を介在して位置する。この第１の開口部の側面は、第２の導電層の側面と、上記絶縁層の側面とを含むように形成されている。第１の保護膜は第２の導電層上に形成されている。第１の保護膜には、第１の開口部上に位置するとともに第１の開口部の幅の大きさ以上の大きさの幅を有する第２の開口部が形成されている。請求項１に記載の発明では、このように、第１の開口部の側面を、第２の導電層の側面と絶縁層の側面とを含むように形成することにより、上記第１の開口部の形成のためのエッチングの際、第２の導電層をマスクとして使用できる。このため、第１の開口部を形成するためのエッチングのみに用いるレジストパターンを形成する必要がなく、その結果、製造工程数を削減することができる。また、第１の開口部は第２の導電層をマスクとして形成されるので、膜厚の厚いバッファコート膜などの保護膜を第１の開口部形成のためのマスクとする必要がない。したがって、容易に微細な第１の開口部を形成することができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項２における半導体装置は、請求項１の構成において、第２の保護膜をさらに備えている。第２の保護膜は、第１の保護膜上に形成されている。第２の開口部は、第２の保護膜の上部表面から第１の保護膜にまで到達している。この第２の開口部の側面は、第１の保護膜の側面と、第２の保護膜の側面とを含むように形成されている。請求項２に記載の発明では、このように、第２の開口部の側面を、第１および第２の保護膜の側面を含むように形成することにより、第２の開口部の形成のために第１の保護膜をエッチングする際、第２の保護膜をマスクとして使用できる。このため、第２の開口部を形成するために、第１の保護膜の一部を除去するエッチングにのみ用いるレジストパターンを形成する必要がない。その結果、製造工程数を削減することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月22日(2003.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型の半導体基板と、前記半導体基板の主表面の分離領域に形成された分離酸化膜と、前記半導体基板の主表面の前記分離領域に囲まれた活性領域に形成された第２導電型のソースおよびドレインと、前記活性領域の主表面上に絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、前記ソースおよびドレインの表面上と前記ゲート電極の表面上にそれぞれ形成された金属化合物層と、前記ソースおよび前記ドレインと前記分離領域の境界部分に前記ソースおよびドレインよりも深くなるように形成された第２導電型の第１の不純物層と、
前記第１の不純物層よりも深く、前記分離酸化膜の底面に接するように形成され、不純物濃度ピークを有する第１導電型の第２の不純物層とを備えた半導体装置。
【請求項２】
第２の不純物層が分離領域の下にのみ形成されていることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
ゲート電極の側面に形成されたサイドウォールと、活性領域の主表面の前記サイドウォールのそれぞれの下にソースおよびドレインよりも浅く形成された一対の第２導電型の第３の不純物層と、前記第３の不純物層をそれぞれ取り囲むように形成された第１導電型の第４の不純物層を備えたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
分離酸化膜が埋め込み酸化膜またはフィールド酸化膜で、金属化合物層がＣｏシリサイド層またはＮｉシリサイド層であることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項５】
第２導電型がｎ型で、第１導電型がｐ型であり、ソースおよびドレインおよび第３の不純物層はヒ素で形成され、第１の不純物層はリンで形成されていることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】
第１導電型の半導体基板の主表面の分離領域に分離酸化膜を形成する工程と、前記分離領域に囲まれた活性領域の主表面上にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する工程と、前記半導体基板の主表面にソースおよびドレインを形成する工程と、前記ゲート電極と前記ソースおよび前記ドレイン表面上にシリコン層をエピタキシャル成長させる工程と、第２導電型の不純物を注入して、前記ソースおよび前記ドレインと前記分離領域の境界部分に前記ソースおよびドレインよりも深くなるように第１の不純物層を形成する工程と、前記ゲート電極と前記ソースおよび前記ドレインの表面に金属化合物層を形成する工程とを備えた半導体装置の製造方法。
【請求項７】
第１導電型の半導体基板の主表面上の活性領域にシリコン窒化膜を形成する工程と、前記シリコン窒化膜をマスクとして、分離領域に分離酸化膜を形成する工程と、前記シリコン窒化膜のゲート電極形成領域をエッチングして、前記半導体基板の主表面上にゲート酸化膜を介してゲート電極を形成する工程と、第２導電型の不純物を注入して、前記ソースおよび前記ドレインと前記分離領域の境界部分に前記ソースおよびドレインよりも深くなるように第２導電型の第１の不純物層を形成する工程と、前記シリコン窒化膜を除去する工程と、前記半導体基板の主表面にソースおよびドレインを形成する工程と、前記ゲート電極および前記ソースおよびドレインの表面に金属化合物層を形成する工程とを備えた半導体装置の製造方法。
【請求項８】
全面に第１導電型の不純物を注入して、第１の不純物層よりも深く分離酸化膜の底面に接するように不純物濃度ピークを有する第２の不純物層を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項６または請求項７記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
分離酸化膜を形成する工程は、シリコン窒化膜をマスクとして半導体基板の主表面に溝を形成する工程と、前記溝を埋め込むように全面に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜および前記シリコン窒化膜をエッチバックする工程からなり、前記溝を形成する工程につづいて第１導電型の不純物を注入して前記溝の底面に不純物濃度ピークを有する第２の不純物層を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項７記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
ゲート電極を形成した後に全面に第２導電型の不純物を注入して半導体基板の主表面に所定の間隔をおいて一対の第３の不純物層を形成する工程と、前記第３の不純物層をそれぞれ取り囲むように第１導電型の第４の不純物層を形成する工程と、前記ゲート電極の側面にサイドウォールを形成する工程と、全面に第２導電型の不純物を注入して前記第３の不純物層よりも深くソースおよびドレインを形成する工程とを備えたことを特徴とする請求項６ないし請求項９のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
シリコン窒化膜のゲート電極形成領域をエッチングして全面に第１導電型の不純物を注入し、不純物濃度のピークを有する第５の不純物層を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項７または請求項９記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月8日(2004.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】デジタル放送受信機


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル放送を受信するデジタル放送受信機において、
デジタル中間周波信号をベースバンドデータに復調する復調回路と、
上記ベースバンドデータのエラー訂正を行うエラー訂正回路と、
上記ベースバンドデータの伸長を行うデータ伸長回路と、
上記データ伸長されたデータをアナログ信号に変換するＤ／Ａコンバータ回路と、
上記デジタル放送受信機で受信した周波数のキャリア同期をとる再生同期回路と、
上記再生同期回路が受信した上記周波数のキャリア同期がとれているか否かを検出する同期検出手段と、
上記検出手段によって、上記再生同期回路が上記周波数のキャリアと同期がとれていないと検出した場合に、上記復調回路と上記エラー訂正回路とデータ伸長回路との少なくとも１つの回路の動作を停止する制御信号を出力する制御手段と
を備えることを特徴とするデジタル放送受信機。
【請求項２】
請求項１に記載のデジタル放送受信機において、
上記再生同期回路が上記デジタル放送受信機で受信した周波数のキャリア同期の周波数オフセットおよびシンボル同期の時間軸オフセットの大きさを検出し、上記周波数オフセットまたは時間軸オフセットのどちらか一方の大きさが所定値を越えるときにのみ上記制御信号を出力する
ようにしたことを特徴とするデジタル放送受信機。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月9日(2004.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクヘッドと分離可能なインクカートリッジにおいて、連通孔を有する蓋と四面の側板と供給口付近が一段下がった面を有する底部とインクヘッドと分離可能な結合部からなり、供給口にはフィルターが配設され、インク保持体が突起がある２枚の部材で挟まれた状態で構成されインク容器の内部に挿入されていることを特徴とするインクカートリッジ。
【請求項２】
インク保持体は繊維密度の異なる複数種のフェルトブロックからなり、供給口近傍に繊維密度の高いフェルトブロックが配設され、繊維密度が高いものほどフェルトブロックの面積を小さくすることを特徴とする請求項１に記載のインクカートリッジ。
【請求項３】
インク保持体は吸水処理を行ったポリエステル繊維材料であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のインクカートリッジ。
【請求項４】
インク容器内の供給口にはポリエステル繊維により構成されたフィルターが配設されていることを特徴とする請求項１、請求項２または請求項３に記載のインクカートリッジ。
【請求項５】
２枚の板でインク保持体を挟むように構成され、この２枚の平板からは円錐状の先端がとがった複数本の突起が突出しインク保持体内に刺さるように構成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のインクカートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月29日(2003.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記のようにトレッドの曲率半径が小さくなるとショルダー部の早期摩耗乃至は偏摩耗が懸念されるがこれについて図を参照して説明する。図４に自由転動しているタイヤの接地部におけるトレッドの変形を説明する模式的なタイヤ周方向断面を示しているが、タイヤのセンター部でトレッドが接地していないとき中心線がＰ−Ｐ′であったものがまったく滑らずに接地面内（踏み込み部）に入るとＡ−Ａ′に移動する。トレッド接地していないときはＡ−Ａ′はベルトの法線方向に向いていたわけであるからトレッドはＡ−Ａ′だけのまえがまえ剪断変形を受けていることになる。同様に蹴り出し部近傍ではＢ−Ｂ′に移動し今度は逆向きの剪断変形Ｂ′−Ｂ″を受ける。このため、ベルトの速度はＡ−Ｂであるのに対し、路面の速度はＡ′−Ｂ′となりベルトより路面の速度の方が早くなる。この速度差がトレッドの摩耗の原因のひとつといわれているものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月25日(2003.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
なお、下敷の表面に凹凸があると、切刃通過時に被切断シートの一部が凹部に落ち込んでその部分が切り残されることがある。この発明では、その問題の対策として可切断層を設けている。この層があると、刃先が被切断シートを確実に切り抜ける。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
なお、この発明は、壁紙用の下敷テープだけでなく、紙細工を行うときの下敷シートとしても有効に利用できる。この下敷シートは、テープよりも巾を広く、長さを短くし、必要に応じて厚みも厚くするが、断面構造は図１〜図７に示したものと同じになるので、これ等の図を代用してシートを表わす図は省略する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月15日(2004.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を共振させ、且つレーザ光を出力するための共振器と、
この共振器に対して基本レーザ光を注入する基本レーザ光注入手段と、
この基本レーザ光注入手段によって注入される基本レーザ光に基づいて、前記共振器より出力されるレーザ光を注入同期するために前記共振器または前記基本レーザ光注入手段における共振器の共振器長を制御すると共に、共振器長の制御を一時的に停止する機能を有する共振器長制御手段と、
この共振器長制御手段が共振器長の制御を一時的に停止する前に、共振器長の制御を一時的に停止する旨の予告情報を出力する予告情報出力手段と
を備えたことを特徴とするレーザ光発生装置。
【請求項２】
前記共振器を含み、前記基本レーザ光が注入されるレーザ装置を備えたことを特徴とする請求項１記載のレーザ光発生装置。
【請求項３】
前記共振器は、波長変換用の共振器であることを特徴とする請求項１記載のレーザ光発生装置。
【請求項４】
前記共振器長制御手段は、制御の限界点付近に達したときに共振器長の制御を一時的に停止することを特徴とする請求項１記載のレーザ光発生装置。
【請求項５】
前記共振器長制御手段は、共振器長の制御が不安定な制御状態に保持されていることを検出する機能を有し、不安定な制御状態に保持されていることを検出したときに共振器長の制御を一時的に停止することを特徴とする請求項１記載のレーザ光発生装置。
【請求項６】
前記基本レーザ光注入手段は、固体レーザを用いて構成されていることを特徴とする請求項１記載のレーザ光発生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
【発明の効果】
以上説明したように請求項１ないし６いずれかに記載のレーザ光発生装置によれば、共振器長制御手段が共振器長の制御を一時的に停止する前に、共振器長の制御を一時的に停止する旨の予告情報を出力する予告情報出力手段を備えたので、使用者が、出力レーザ光の特性変化を事前に知ることが可能となるという効果を奏する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
1999046025.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月1日(2003.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示用の小型モニターを有し、被撮影者に上記小型モニターを向けて撮影できるようにした映像撮影記録装置において、
撮影に際して用いる映像情報を予め記憶する記憶手段と、
少なくとも上記記憶手段に記憶された映像情報を上記小型モニターに映し出す手段と、
被撮影者の撮影映像を記録する記録手段とを備えたことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項２】
請求項１記載の映像撮影記録装置において、更に、上記小型モニターとは別に少なくとも被撮影者の撮影映像を映し出すビューファインダーを備えたことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項３】
請求項２記載の映像撮影記録装置において、上記ビューファインダーに被撮影者の撮影映像と上記記憶手段に記憶された映像情報とを併せて映し出すようにしたことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項４】
請求項１記載の映像撮影記録装置において、上記小型モニターに上記記憶手段に記憶された映像情報と被撮影者の撮影映像とを併せて映し出すようにしたことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項５】
請求項１記載の映像撮影記録装置において、上記記録手段で被撮影者の撮影映像と上記記憶手段に記憶された映像情報とを併せて記録するようにしたことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項６】
請求項１記載の映像撮影記録装置において、更に、上記記憶手段に音声情報を予め記憶し、上記小型モニターに上記記憶手段に記憶された映像情報を映し出すと共に、上記記憶手段に記憶された音声情報を再生するように構成したことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項７】
請求項１記載の映像撮影記録装置において、上記記憶手段に記憶された映像情報が複数枚の画像により構成されることを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項８】
請求項７記載の映像撮影記録装置において、上記記憶手段に記憶された映像情報が複数枚の画像で構成されたアニメーションであることを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項９】
請求項６又は７記載の映像撮影記録装置において、上記記憶手段に記憶された映像情報が上記記憶手段に記憶された音声情報とともに動く複数枚の画像により構成されることを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項１０】
請求項１記載の映像撮影記録装置において、上記記録手段で被撮影者の撮影映像と上記小型モニターに映し出される映像情報を識別するための識別情報とを併せて記録するようにし、上記被撮影者の撮影映像を再生する際には、上記識別情報に基づいて上記被撮影者の撮影映像と上記小型モニターに映し出される映像情報とを併せて出力するようにしたことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の映像撮影記録装置において、上記被撮影者の撮影映像を再生する際には、上記被撮影者の撮影映像だけを出力するか若しくは上記識別情報に基づいて上記被撮影者の撮影映像と上記小型モニターに映し出される映像情報とを併せて出力するかを選択して出力するようにしたことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項１２】
請求項１記載の映像撮影記録装置において、撮像素子を有するカメラ部に対して上記小型モニターを回動自在に取り付け、被撮影者に上記小型モニターを向けて対面撮影する状態とした場合に上記小型モニターの上側端部となる位置に対面撮影用の操作手段を配設したことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項１３】
請求項１２記載の映像撮影記録装置において、予め記憶された映像情報を上記小型モニターに映し出す操作と、被撮影者の撮影映像を記録する操作とを上記対面撮影用の操作手段によりなすことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項１４】
請求項１記載の映像撮影記録装置において、撮像素子を有するカメラ部を回動自在に取り付け、上記カメラ部を回転させ、被撮影者が上記小型モニターを見ながら撮影する状態とした場合に上記カメラ部の上側となる位置に撮影用の操作手段を配設したことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項１５】
請求項１４記載の映像撮影記録装置において、予め記憶された映像情報を上記小型モニターに映し出す操作と、被撮影者の撮影映像を記録する操作とを上記撮影用の操作手段によりなすことを特徴とする映像撮影記録装置。
【請求項１６】
請求項１記載の映像撮影記録装置において、被撮影者に上記小型モニターを向けて対面撮影する状態とした場合に上記小型モニターに上記記憶手段に記憶された映像情報又は被撮影者の撮影映像を選択的に切り替えて映し出すようにしたことを特徴とする映像撮影記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月10日(2003.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信信号におけるデータエラー発生パターンを観測する観測処理と、
そのデータエラー発生パターンから伝搬状況を予測する予測処理と、
この予測結果に基づいて最適なパケット長を選択するパケット長選択処理とを実行することを特徴とする通信制御方式。
【請求項２】
前記各パケット間に、受信電界強度の微調整及び受信信号の再同期を行う期間を組み込んだことを特徴とする請求項１記載の通信制御方式。
【請求項３】
前記パケット長選択処理によって選択された最適なパケット長情報を相手局に通知する通知処理と、
この通知されたパケット長に応じて送信パケット長を変更する変更処理と、
変更された送信パケット長でデータパケットを送信する送信処理とを実行することを特徴とする請求項１または請求項２記載の通信制御方式。
【請求項４】
前記パケット長選択処理は、
前記データエラー発生パターンがパケットの後半に集中したときに、そのエラー発生開始位置を判断し、パケット長を定めるパラメータの値を、前記エラー発生開始位置よりも短くなるように変換する変換処理と、
前記パラメータに従ってパケット長を変更する変更処理とを
実行することを特徴とする請求項１乃至請求項３記載の通信制御方式。
【請求項５】
前記パケット長選択処理は、
前記データエラー発生パターンによりデータのエラー発生状況を監視し、エラーが発生しなかった場合にはパケット長を設定可能な最大パケットの長さに戻す処理を行うことを特徴とする請求項１乃至請求項３記載の通信制御方式。
【請求項６】
受信信号におけるデータエラー発生パターンを観測する観測手段と、
そのデータエラー発生パターンから伝搬状況を予測する予測手段と、
この予測結果に基づいて最適なパケット長を選択するパケット長選択手段とを備えたことを特徴とする無線通信システム。
【請求項７】
前記各パケット間に、受信電界強度の微調整及び受信信号の再同期を行う期間を組み込んだことを特徴とする請求項６記載の無線通信システム。
【請求項８】
前記パケット長選択手段によって選択された最適なパケット長情報を相手局に通知する通知手段と、
この通知されたパケット長に応じて送信パケット長を変更する変更手段と、
変更された送信パケット長でデータパケットを送信する送信手段とを備えたことを特徴とする請求項６または請求項７記載の無線通信システム。
【請求項９】
前記パケット長選択手段は、
前記データエラー発生パターンがパケットの後半に集中したときに、そのエラー発生開始位置を判断し、パケット長を定めるパラメータの値を、前記エラー発生開始位置よりも短くなるように変換する変換手段と、
前記パラメータに従ってパケット長を変更する変更手段とを
備えたことを特徴とする請求項６乃至請求項８記載の無線通信システム。
【請求項１０】
前記パケット長選択手段は、
前記データエラー発生パターンによりデータのエラー発生状況を監視し、エラーが発生しなかった場合にはパケット長を設定可能な最大パケットの長さに戻す手段を有することを特徴とする請求項６乃至請求項８記載の無線通信システム。
【請求項１１】
受信信号におけるデータエラー発生パターンを観測する観測処理と、
そのデータエラー発生パターンから伝搬状況を予測する予測処理と、
この予測結果に基づく最適なパケット長のパケットにより通信する通信処理とを実行することを特徴とする通信制御方式。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数のパケットを伝送する際の通信制御方式、及びこの方式を用いた無線通信システムに関するものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、第１の発明では、受信信号におけるデータエラー発生パターンを観測する観測処理と、そのデータエラー発生パターンから伝搬状況を予測する予測処理と、この予測結果に基づいて最適なパケット長を選択するパケット長選択処理とを実行するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
第６の発明では、受信信号におけるデータエラー発生パターンを観測する観測手段と、そのデータエラー発生パターンから伝搬状況を予測する予測手段と、この予測結果に基づいて最適なパケット長を選択するパケット長選択手段とを備えたものである。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第１０の発明では、上記第６乃至第８の発明において、前記パケット長選択手段は、前記データエラー発生パターンによりデータのエラー発生状況を監視し、エラーが発生しなかった場合にはパケット長を設定可能な最大パケットの長さに戻す手段を有するものである。
第１１の発明では、受信信号におけるデータエラー発生パターンを観測する観測処理と、そのデータエラー発生パターンから伝搬状況を予測する予測処理と、この予測結果に基づく最適なパケット長のパケットにより通信する通信処理とを実行するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
【発明の効果】
以上詳述したように、第１の発明である通信制御方式によれば、受信信号におけるデータエラー発生パターンを観測する観測処理と、そのデータエラー発生パターンから伝搬状況を予測する予測処理と、この予測結果に基づいて最適なパケット長を選択するパケット長選択処理とを実行するようにしたので、エラーの発生を最小限に防ぐことが可能となり、Ｓ／Ｎ劣化時においても良好な通信品質を維持することができる。これにより、時分割多重接続通信システムにおいて、伝送路の有効利用が可能となり、周波数利用効率の高い時分割多重接続通信システムを構成することが可能になる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
第１０の発明である無線通信システムよれば、上記第６乃至第８の発明において、上記第５の発明と同等の効果を得ることができる。
第１１の発明である通信制御方式によれば、上記第１の発明と同等の効果を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月18日(2003.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
なお、上記紫外線硬化型樹脂の粘度は、高分子量重合体の量を増加させることにより高めることが可能である。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
実験例１
本実験例においては、直径１２０（ｍｍ）の基板上の面内方向の中心に粘度の異なる紫外線硬化型樹脂をそれぞれ供給し、形成される紫外線硬化型樹脂よりなる薄膜の膜厚のばらつきが±５（％）以下となる膜厚を粘度ごとに調査した。ただし、紫外線硬化型樹脂の粘度は２５（℃）におけるものとする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月28日(2003.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
図１に、本発明の加熱現像装置が適用された画像記録装置の一例の概略図が示される。
図１に示される画像記録装置１０は、ＣＴやＭＲＩ等の医療用測定機によって測定された画像を可視像として再生したプリントを作成する、いわゆる医療用イメージャとして好適に用いられる装置であって、透明なフィルムを支持体とする感光性熱現像記録材料を用い、ＭＲＩ等の画像データ供給源から供給された画像データに応じて変調した光ビームＬによって、走査露光で記録材料Ａを像様露光して潜像を形成した後に、熱現像を行って発色させ、可視像が記録されたプリントを作製する装置である。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
装填部２２および２４は、記録材料Ａを収納したマガジン２０を所定位置に装填する部位である。図示例の記録装置１０は、２つの装填部２２および２４を有しており、両装填部には、通常、サイズの異なる（例えば、ＣＴやＭＲＩ用の半切サイズと、ＦＣＲ（富士コンピューテッドラジオグラフィー）用のＢ４サイズ等）記録材料Ａを収納するマガジン２０が装填される。
各装填部に配置される枚葉手段は、吸盤２６および２８によって記録材料Ａを吸着保持して、リンク機構等の公知の移動手段で吸盤２６および２８を移動することによって記録材料Ａを搬送し、それぞれの装填部に配置される供給ローラ対３０および３２に供給する。
供給ローラ対３０に供給された記録材料Ａは、搬送ガイド３８，４０ならびに４２に案内されつつ搬送ローラ対３４ならびに３６によって、他方、供給ローラ対３２に供給された記録材料Ａは、搬送ガイド４０ならびに４２に案内されつつ搬送ローラ対３６によって、それぞれ下流の幅寄せ部１４に搬送される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
光源５０は、記録材料Ａの分光感度特性に応じた狭帯波長域の光ビームＬを射出するレーザ、特にレーザダイオード（ＬＤ）等の光源である。
ＭＲＩやＣＴ等の画像データ供給源からの画像データは、露光制御装置５２に送られる。露光制御装置５２は、供給された画像データに階調補正（濃度補正）を施し、得られた画像データすなわち記録画像に応じて光源５０を駆動、例えば、パルス幅変調して駆動し、記録画像に応じてパルス幅変調された光ビームＬを射出させる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
そこで、本発明は、加熱ドラム６８に記録材料Ａを送り込むタイミングを下記式（１）または（２）の関係を満たす時間間隔ｔ（ｓｅｃ）で、加熱ドラム６８に記録材料Ａを送り込むことにより、加熱ドラム６８表面の温度分布を大幅に低減することを可能とするものである。
πＤ／０．９ｖ＜ｔ＜πＤ／０．６ｖ            （１）
πＤ／１．９ｖ＜ｔ＜πＤ／１．１ｖ            （２）
ここで、Ｄは加熱ドラム６８の外径（ｍｍ）、ｖは記録材料Ａの搬送速度（ｍｍ／ｓｅｃ）である。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
こうすることにより、加熱ドラム６８表面の温度分布をほぼ均一にすることができることから、露光済の記録材料Ａを常に適正濃度に発色させることができ、濃度ムラが生じるのを防止することができる。従って、所望の濃度が適正に発色された、高画質な画像記録を行うことが可能となる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
すなわち、加熱ドラム６８が記録材料Ａを挟持して１回転するのに要する時間（１周期）は、（加熱ドラム６８の外周長さ）／（記録材料Ａの搬送速度）、すなわちπＤ／ｖで表される。一方、記録材料Ａが送り込まれる時間間隔はｔで表される。従って、加熱ドラム６８への記録材料Ａの搬入が、加熱ドラム６８の回転と同期して行われる場合、以下の関係が成立する。
πＤ／ｖ＝ｎｔ                      （３）
ここで、ｎは、１／（１の倍数）または１の倍数（以下、ｎ＝１／ｍ，ｍ（ｍ＝１，２，…）と表す）である。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
さらに、式（３）に近い場合にも記録ムラが生じることから、式（４）において排除されるｎｔに、所定周期分の幅±α（０＜α＜１）をもたせると、
πＤ／ｖ＜（ｎ−α）ｔ  ，  （ｎ＋α）ｔ＜πＤ／ｖ    （５）
（ｎ＝１／ｍ，ｍ（ｍ＝１，２，…））
が得られる。なお、得られた式（５）が本発明の効果を奏するためには、記録材料Ａの長さＬに関して、ｎ＝１／ｍではＬ＜πＤ／ｍであることが、ｎ＝ｍではＬ＜πＤであることがそれぞれ前提となる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
ここで、αの値は０．１とする。この値に設定すると、熱現像を行った記録材料Ａにおける濃度ムラの低減効果が大きい。また、αの値を０．２とすれば、さらに一段と優れた濃度ムラ低減効果が得られるので好ましい。
また、ｎの値としては１／２，１，２に限定すれば十分である。ｎが１／３以下の分数の場合には、それに応じて記録材料Ａの長さが加熱ドラム６８の円周πＤの１／３以下でなければならず、記録材料Ａの長さが極端に短い場合か、加熱ドラム６８の直径Ｄが極端に大きい場合となり、サイズやコストの面から現実的意味をもたなくなるからであり、ｎが３以上の整数となる場合には、次の記録材料Ａが熱現像部に搬入されるまでに、比較的長い時間を確保できることから、加熱ドラム６８表面に生じた低温部分も適正温度に回復し、温度分布が均一になってくるからである。従って、上述の式（１）および（２）は、式（５）において、α＝０．１とし、ｎ＝１／２，１，２として得た式である。
また、搬送速度ｖが大きい場合には、ｎの値を適宜増加してもよく、例えば、ｎ＝１／３，１／２，１，２，３としてもよいのはもちろんである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月18日(2003.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記知識ルールベースによる制御を、前記予測モデルによる制御よりも長い周期とした請求項１又は２記載の流動接触分解装置の圧力制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月30日(2003.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の電極を構成する水素吸蔵合金は、ＡＢ5型で表され、ＡはＬａ、Ｚｒ、Ｔｉなどの水素との親和性の大きい元素、ＢはＮｉ、Ｍｎ、Ｃｒなどの遷移元素など水素との親和性の小さい元素を表す。なかでもＬａ（またはＭｍ：希土類元素の混合物ミッシュメタル）−Ｎｉ系多元合金が好ましい。例えばＭｍＮｉ3.55Ｃｏ0.75Ｍｎ0.4Ａｌ0.3、ＭｍＮｉ4.2Ｍｎ0.6Ａｌ0.2、ＭｍＮｉ3Ｃｏ1.5Ａｌ0.5、Ｌａ0.8Ｎｄ0.2Ｎｉ2.5Ｃｏ2.4Ｓｉ0.1など、各種のものが知られている。
水素吸蔵合金に添加する希土類元素化合物の混合物は、水素吸蔵合金１００重量部に対して０．５〜２．０重量部の範囲が適当である。これより少ないと腐食抑制の効果が得られない。また、前記の範囲より多量に添加すると、電池の内部抵抗が上がるという問題が顕在化してしまう。前記の範囲の希土類元素化合物の混合物のうち、イットリウム化合物の割合は６０ｗｔ％以上であり、軽希土類元素化合物の割合は７ｗｔ％以下であることが好ましい。水素吸蔵合金に添加する希土類元素化合物の混合物中に、前記の条件を満たす範囲内でＥｒ、Ｙｂ、Ｄｙなど前記元素と異なる希土類元素が混入していてもよい。
本発明に用いるイットリウム化合物は、酸化イットリウムおよび水酸化イットリウムが好ましい。軽希土類元素化合物としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、およびネオジウムからなる群より選択される元素の酸化物および水酸化物が好ましい。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
次に、負極の希土類元素化合物の混合物中の軽希土類元素酸化物の割合を変えた電池について、前記と同様の条件で充放電を３００サイクル繰り返し、軽希土類元素酸化物の割合と電池の内部抵抗との関係を調べた。その結果を図３に示す。ここで、希土類元素化合物の混合物中の酸化イットリウムの割合は８０重量％と一定にし、Ｅｒ2Ｏ3、Ｙｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3などの他の希土類元素酸化物の割合を変えることによりＬａ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ5Ｏ11、およびＮｄ2Ｏ3の総量の割合を変えた。図３から明らかなように、負極に添加する希土類元素化合物の混合物中の軽希土類元素酸化物の割合は、７ｗｔ％以下のとき内部抵抗の増加がないことがわかる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
1999260361.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月21日(2003.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
焼却炉から排出された焼却灰と集塵灰を溶融処理するに際し、前記焼却灰と集塵灰とをあらかじめ混合処理したのち、固化処理して溶融処理することを特徴とする焼却残渣の溶融処理方法。
【請求項２】
前記集塵灰は、固化処理して比重を大きくした固化物である
ことを特徴とする請求項１記載の焼却残渣の溶融処理方法。
【請求項３】
前記焼却灰は、篩分離した分離焼却灰であることを特徴とする請求項１又は２記載の焼却残渣の溶融処理方法。
【請求項４】
前記篩分離は、焼却灰を粉砕してから行うことを特徴とする請求項３記載の焼却残渣の溶融処理方法。
【請求項５】
焼却炉から排出された焼却灰と集塵灰とを混合処理する混合
装置と、混合処理した混合灰を固化処理する固化装置と、該固化物を溶融処理する溶融炉とからなることを特徴とする焼却残渣の溶融処理装置。
【請求項６】
前記混合装置の前に、焼却灰を分離する篩を設けたことを特徴とする請求項５記載の焼却残渣の溶融処理装置。
【請求項７】
前記焼却灰を分離する篩の前に、焼却灰を粉砕する粉砕装置を設けたことを特徴とする請求項６記載の焼却残渣の溶融処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、焼却炉から排出された焼却灰と集塵灰を溶融処理するに際し、前記焼却灰と集塵灰とをあらかじめ混合処理したのち、固化処理して溶融処理することを特徴とする焼却残渣の溶融処理方法としたものである。
前記溶融処理方法において、集塵灰は、固化処理して比重を大きくした固化物を用いることができ、また、焼却灰は、篩分離した分離焼却灰を用いることができ、さらに、該篩分離は、焼却灰を粉砕してから行うことができる。
また、本発明では、焼却炉から排出された焼却灰と集塵灰とを混合処理する混合装置と、混合処理した混合灰を固化処理する固化装置と、該固化物を溶融処理する溶融炉とからなることを特徴とする焼却残渣の溶融処理装置としたものである。
前記処理装置において、混合装置の前には、焼却灰を分離する篩を設けることができ、さらに、該篩の前に焼却灰を粉砕する粉砕装置を設けてもよい。