【手続補正書】
【提出日】平成15年11月14日(2003.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版と基板とを移動させることにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光装置であって、
前記原版と前記基板とを移動させながら、前記基板上の複数点のうちの各点に関し、前記原版と前記基板との間の複数の位置ずれを計測する計測手段と、
前記各点に関する、前記複数の位置ずれの標準偏差に基づいて、処理を実行する処理手段と
を備えたことを特徴とする走査露光装置。
【請求項２】
前記原版を保持した原版ステージと前記基板を保持した基板ステージとを移動させながら、スリット形状光を用いて、前記原版のパターンを前記基板に露光することを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
【請求項３】
前記計測手段は、前記各点を前記スリット形状光により露光している間に、前記複数の位置ずれを計測することを特徴とする請求項２に記載の走査露光装置。
【請求項４】
前記複数点は、前記基板上のショット内にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の走査露光装置。
【請求項５】
前記標準偏差を算出する第１の演算手段と、前記標準偏差のばらつきの指標を求める第２の演算手段とを備えたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の走査露光装置。
【請求項６】
前記処理手段は、前記第２の演算手段により求められた前記指標に基づき、処理を実行することを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
【請求項７】
前記処理手段は、前記指標が許容できるものであるか否かを判断し、当該判断結果に基づき、処理を実行することを特徴とする請求項６に記載の走査露光装置。
【請求項８】
前記第２の演算手段は、前記標準偏差がχ2分布として分布するとの仮定に基づいて、前記指標を求めることを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
【請求項９】
前記第２の演算手段は、前記指標として、前記標準偏差の分布から尤度により決まる、前記標準偏差の信頼限界を求めることを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
【請求項１０】
前記第２の演算手段は、前記基板上のショット毎に前記指標を求めることを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
【請求項１１】
前記処理手段は、前記各点に関する前記標準偏差に基づいて、前記露光の処理を制御することを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
【請求項１２】
前記処理手段は、前記基板上のショットを露光する前のセトリング時間、前記原版及び前記基板の各移動速度、前記基板上の複数ショットの露光順番、および露光中に加える振動のうちの少なくとも１つに関する設定を行うことを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
【請求項１３】
前記処理手段は、前記指標に関する情報の表示、記憶、および外部装置への転送の少なくとも１つに関する制御を行うことを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
【請求項１４】
前記処理手段は、前記各点に関する前記標準偏差に基づいて、前記露光の処理を停止することを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
【請求項１５】
前記処理手段は、前記指標が許容できないものとされた、前記基板上のショットの数に基づいて、処理を実行することを特徴とする請求項７に記載の走査露光装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかに記載の走査露光装置を用いて原版のパターンを基板に露光する工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１７】
原版と基板とを移動させることにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光方法であって、
前記原版と前記基板とを移動させながら、前記基板上の複数点のうちの各点に関し、前記原版と前記基板との間の複数の位置ずれを計測する計測工程と、
前記各点に関する、前記複数の位置ずれの標準偏差に基づいて、処理を実行する処理工程と
を含むことを特徴とする走査露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る走査露光装置は、原版と基板とを移動させることにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光装置であって、前記原版と前記基板とを移動させながら、前記基板上の複数点のうちの各点に関し、前記原版と前記基板との間の複数の位置ずれを計測する計測手段と、前記各点に関する、前記複数の位置ずれの標準偏差に基づいて、処理を実行する処理手段とを備えたことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記走査露光装置は、前記原版を保持した原版ステージと前記基板を保持した基板ステージとを移動させながら、スリット形状光を用いて、前記原版のパターンを前記基板に露光することが好ましい。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記計測手段は、前記各点を前記スリット形状光により露光している間に前記複数の位置ずれを計測することが好ましい。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記複数点は、前記基板上のショット内にあることが好ましい。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記露光装置は、前記標準偏差を算出する第１の演算手段と、前記標準偏差のばらつきの指標を求める第２の演算手段とを備えることが好ましい。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記第２の演算手段により求められた前記指標に基づき、処理を実行することが好ましい。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記指標が許容できるものであるか否かを判断し、当該判断結果に基づき、処理を実行することが好ましい。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記第２の演算手段は、前記標準偏差がχ2分布として分布するとの仮定に基づいて、前記指標を求めることが好ましい。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記第２の演算手段は、前記指標として、前記標準偏差の分布から尤度により決まる、前記標準偏差の信頼限界を求めることが好ましい。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記第２の演算手段は、前記基板上のショット毎に前記指標を求めることが好ましい。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記各点に関する前記標準偏差に基づいて、前記露光の処理を制御することが好ましい。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記基板上のショットを露光する前のセトリング時間、前記原版及び前記基板の各移動速度、前記基板上の複数ショットの露光順番、および露光中に加える振動のうちの少なくとも１つに関する設定を行うことが好ましい。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記指標に関する情報の表示、記憶、および外部装置への転送の少なくとも１つに関する制御を行うことが好ましい。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記各点に関する前記標準偏差に基づいて、前記露光の処理を停止することが好ましい。


【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の好適な実施の形態によれば、前記処理手段は、前記指標が許容できないものとされた、前記基板上のショットの数に基づいて、処理を実行することが好ましい。


【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明に係るデバイス製造方法は、上記の走査露光装置を用いて原版のパターンを基板に露光する工程を含むことを特徴とする。
本発明に係る操作露光方法は、原版と基板とを移動させることにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査露光方法であって、前記原版と前記基板とを移動させながら、前記基板上の複数点のうちの各点に関し、前記原版と前記基板との間の複数の位置ずれを計測する計測工程と、前記各点に関する、前記複数の位置ずれの標準偏差に基づいて、処理を実行する処理工程とを含むことを特徴とする。