【手続補正書】
【提出日】平成26年1月17日(2014.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板から上方へ延在する第１の枢動軸と、
前記基板の上に延在する第１の前後軸を有し、第１の枢動軸線のまわりを枢動するように前記第１の枢動軸に対して枢動可能に取り付けられた第１のレバーアームと、
前記基板上の、前記第１のレバーアームの第１のキャパシタ部分の下の位置に形成された第１のキャパシタ層と、
前記基板上の、前記第１のレバーアームの第２のキャパシタ部分の下の位置に形成された第２のキャパシタ層であって、前記第１の枢動軸が、前記第１のレバーアームを、前記第１のキャパシタ部分と前記第２のキャパシタ部分の間の位置で前記第１の前後軸に沿って支持する、第２のキャパシタ層と、
前記第１の前後軸にわたって延在し、前記第１の枢動軸線から離隔された第１の導体部材と
を備える微小電子機械システム（ＭＥＭＳ）。
【請求項２】
請求項１に記載のＭＥＭＳにおいて、
前記第１のキャパシタ部分が、前記第１の枢動軸線から第１の距離だけ離隔され、
前記第２のキャパシタ部分が、前記第１の枢動軸線から第２の距離だけ離隔され、
前記第１の距離が前記第２の距離より大きい、
ＭＥＭＳ。
【請求項３】
請求項１に記載のＭＥＭＳにおいて、
前記第１の導体部材が、前記第１のレバーアームの上部面上に配置される、
ＭＥＭＳ。
【請求項４】
請求項３に記載のＭＥＭＳにおいて、
第１の電気的バイアス接続、
第２の電気的バイアス接続、
前記第１の電気的バイアス接続と前記第１の導体部材とを電気的に結合するように、前記第１の電気的バイアス接続と前記第１の導体部材の第１の端部との間に延在する第１のバイア、および
前記第２の電気的バイアス接続と前記第１の導体部材とを電気的に結合するように、前記第２の電気的バイアス接続と前記第１の導体部材の第２の端部との間に延在する第２のバイアを
さらに備えるＭＥＭＳ。
【請求項５】
請求項１に記載のＭＥＭＳにおいて、
命令指示が記憶されているメモリと、
前記命令指示を実行して、
前記第１のキャパシタ層と前記第１のキャパシタ部分の間の第１の電圧差を取得し、
前記第２のキャパシタ層と前記第２のキャパシタ部分の間の第２の電圧差を取得し、
前記第１の電圧差と前記第２の電圧差の間の差に基づいて、前記第１の前後軸に沿って広がる第１の磁界の強度に関連した出力をもたらすように構成されたプロセッサと
をさらに備えるＭＥＭＳ。
【請求項６】
請求項５に記載のＭＥＭＳにおいて、
前記プロセッサが、前記命令指示を実行して、
前記第１の電圧差と前記第２の電圧差の和に基づいて、前記第１のレバーアームの前記基板に向かう加速度に関連した出力をもたらすようにさらに構成されている、
ＭＥＭＳ。
【請求項７】
請求項１に記載のＭＥＭＳにおいて、
前記第１のレバーアームが、
前記第１の枢動軸に枢動可能に取り付けられたベース部分と、
前記ベース部分と前記第１のキャパシタ部分の間に延在する第１のばねアーム部分と、
前記ベース部分と前記第２のキャパシタ部分の間に延在する第２のばねアーム部分と
をさらに備える、
ＭＥＭＳ。
【請求項８】
請求項１に記載のＭＥＭＳにおいて、
前記基板から上方へ延在する第２の枢動軸と、
前記基板上に延在する第２の前後軸を有し、第２の枢動軸線のまわりを枢動するように前記第２の枢動軸に対して枢動可能に取り付けられた第２のレバーアームと、
前記基板上の、前記第２のレバーアームの第３のキャパシタ部分の下の位置に形成された第３のキャパシタ層と、
前記基板上の、前記第２のレバーアームの第４のキャパシタ部分の下の位置に形成された第４のキャパシタ層であって、前記第２の枢動軸が、前記第２のレバーアームを、前記第３のキャパシタ部分と前記第４のキャパシタ部分の間の位置で前記第２の前後軸に沿って支持する、第４のキャパシタ層と、
前記第２の前後軸にわたって延在し、前記第２の枢動軸線から離隔された第２の導体部材と
をさらに備えるＭＥＭＳ。
【請求項９】
請求項８に記載のＭＥＭＳにおいて、
前記第２の前後軸が、前記第１の前後軸に対して垂直である、
ＭＥＭＳ。
【請求項１０】
請求項８に記載のＭＥＭＳにおいて、
前記第２の前後軸が、前記第１の前後軸に対して平行である、
ＭＥＭＳ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
[0056]本発明が、図面および前述の説明に示されて詳細に説明されてきたが、これらの
特質は、例証をなすものであり、限定するものではないと考えられたい。示されているの
は好ましい実施形態のみであり、また、本発明の趣旨の範囲内のすべての変更形態、変形
形態およびさらなる用途が保護されるように望まれていることが理解される。以下、本発明の一形態を記載する。
（付記１）
基板を設けるステップと、
前記基板から上方へ延在する第１の枢動軸を形成するステップと、
第１の枢動軸線のまわりを枢動するために、前記第１の枢動軸に対して枢動可能に取り付けられるように前記基板上に延在する第１の前後軸を有する第１のレバーアームを形成するステップと、
前記基板上の、前記第１のレバーアームの第１のキャパシタ部分の下であるように選択された位置において第１のキャパシタ層を形成するステップと、
前記基板上の、前記第１のレバーアームの第２のキャパシタ部分の下となるように選択された位置であって、前記第１の枢動軸が、前記第１のレバーアームを、前記第１のキャパシタ部分と前記第２のキャパシタ部分の間で前記第１の前後軸に沿って支持するように選択された位置において第２のキャパシタ層を形成するステップと、
前記第１の前後軸にわたってある位置で延在し、前記第１の枢動軸線から離隔されるように第１の導体部材を形成するステップと
を含む、微小電子機械システム（ＭＥＭＳ）を形成する方法。
（付記２）
（付記１）に記載の方法において、
前記第１のキャパシタ部分が、前記第１の枢動軸線から第１の距離だけ離隔されるように形成され、
前記第２のキャパシタ部分が、前記第１の枢動軸線から第２の距離だけ離隔されるように形成され、
前記第１の距離が前記第２の距離より大きい、
方法。
（付記３）
（付記１）に記載の方法において、
前記第１の導体部材が前記第１のレバーアームの上部表面上に形成される、
方法。
（付記４）
（付記３）に記載の方法において、
第１の電気的バイアス接続を形成するステップと、
第２の電気的バイアス接続を形成するステップと、
前記第１の電気的バイアス接続と前記第１の導体部材とを電気的に結合するために、第１のバイアを、前記第１の電気的バイアス接続と前記第１の導体部材の第１の端部との間に延在するように形成するステップと、
前記第２の電気的バイアス接続と前記第１の導体部材とを電気的に結合するために、第２のバイアを、前記第２の電気的バイアス接続と前記第１の導体部材の第２の端部との間に延在するように形成するステップと
をさらに含む方法。
（付記５）
（付記１）に記載の方法において、
命令指示をメモリの中に記憶するステップと、
プロセッサを、前記命令指示を実行して、
前記第１のキャパシタ層と前記第１のキャパシタ部分の間の第１の電圧差を取得し、
前記第２のキャパシタ層と前記第２のキャパシタ部分の間の第２の電圧差を取得し、
前記第１の電圧差と前記第２の電圧差の間の差に基づいて、前記第１の前後軸に沿って広がる第１の磁界の強度に関連した出力をもたらすように構成するステップと
をさらに含む方法。
（付記６）
（付記５）に記載の方法において、
前記プロセッサを構成するステップが、前記プロセッサを、前記命令指示を実行して、
前記第１の電圧差と前記第２の電圧差の和に基づいて、前記第１のレバーアームの前記基板に向かう加速度に関連した出力をもたらすように構成するステップをさらに含む方法。
（付記７）
（付記１）に記載の方法において、
前記第１のレバーアームを形成するステップが、
前記第１の枢動軸に対して枢動可能に取り付けられるベース部分を形成するステップと、
前記ベース部分と前記第１のキャパシタ部分の間に延在する第１のばねアーム部分を形成するステップと、
前記ベース部分と前記第２のキャパシタ部分の間に延在する第２のばねアーム部分を形成するステップと
をさらに含む方法。
（付記８）
（付記１）に記載の方法において、
第２の枢動軸を、前記基板から上方へ延在するように形成するステップと、
第２の枢動軸線のまわりを枢動するために、前記第２の枢動軸に対して枢動可能に取り付けられるように前記基板上に延在する第２の前後軸を有する第２のレバーアームを形成するステップと、
前記基板上の、前記第２のレバーアームの第３のキャパシタ部分の下となるように選択された位置において第３のキャパシタ層を形成するステップと、
前記基板上の、前記第２のレバーアームの第４のキャパシタ部分の下となるように選択された位置であって、前記第２の枢動軸が、前記第２のレバーアームを、前記第３のキャパシタ部分と前記第４のキャパシタ部分の間で前記第２の前後軸に沿って支持するように選択された位置において第４のキャパシタ層を形成するステップと、
第２の導体部材を、前記第２の前後軸にわたって延在し、前記第２の枢動軸線から離隔されるように形成するステップと
をさらに含む方法。
（付記９）
（付記８）に記載の方法において、
前記第２の前後軸が、前記第１の前後軸に対して垂直である、
方法。
（付記１０）
（付記８）に記載の方法において、
前記第２の前後軸が、前記第１の前後軸に対して平行である、
方法。