【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年12月26日(2011.12.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を加工する方法であって、前記方法が、
ａ）対向する第１及び第２の主表面を有する第１のガラス板を準備する工程と、
ｂ）前記第１のガラス板を、単一のスパッタコーターに通して搬送し、前記第１のガラス板を前記スパッタコーターに一度だけ通して、前記第１及び第２の両主表面上にコーティングをスパッタ堆積させる工程であって、当該スパッタ堆積が、
ｉ）純粋な、又は実質的に純粋なチタン材料、チタン合金材料、酸化チタン材料、及びチタンとケイ素とを含む化合物からなる群から選択されるスパッタ可能なターゲット材料を含む１つ以上のターゲットを含む第１のターゲットシーケンスから上向きにスパッタすることによって、前記第１のガラス板の第１の主表面に光触媒コーティングを付す工程と、
ｉｉ）純粋な、又は実質的に純粋な銀材料及び銀合金材料からなる群から選択されるスパッタ可能なターゲット材料を含む１つ以上のターゲットを含む第２のターゲットシーケンスから下向きにスパッタすることによって、前記第１のガラス板の第２の主表面に低放射率コーティングを付す工程とを含む、工程と、
ｃ）このようにコーティングされた前記第１のガラス板を、多重窓板断熱板ガラスユニットアッセンブリラインに送る工程と
ｄ）このようにコーティングされた前記第１のガラス板を、前記アッセンブリラインに沿って搬送し、そのような第１のガラス板を、第２のガラス板と、得られる断熱ガラスアッセンブリが当該第１及び第２のガラス板の間の間隙を規定し、当該第１のガラス板の前記コーティングされた第１の主表面が当該間隙とは反対側にある外表面であるように、組み合わせる工程と、
ｅ）剥離可能な第１のマスキングを、前記光触媒コーティングの上を覆って付す工程であって、当該第１のマスキングが、マスキング基材とマスキング接着剤とを含み、前記マスキングは、マスキング材料の単一シートであるか、または、複数の細長いマスキングストリップであり、隣接するストリップが、側端が互いに重なりあう配置で重ねられた複数のストリップであり、当該、前記第１のマスキングを前記光触媒コーティングの上を覆って付すことが、前記マスキング接着剤を前記光触媒コーティングに直接付着させることを含み、前記光触媒コーティングは、１．５×１０-3ｃｍ-1分-1未満の光触媒活性を有し、前記光触媒コーティングの光触媒活性が、充分低く、そのため、前記マスキング接着剤と、前記マスキング基材との間の接着状態、または、前記マスキング接着剤と前記第１の主表面との間の接着状態を破壊することがない
工程とを含む方法。
【請求項２】
前記光触媒コーティングが、チタニアを含む活性フィルムを含み、当該活性フィルムが、１００オングストローム未満の厚さにスパッタ堆積される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記光触媒コーティングが、チタニアを含む活性フィルムを含み、当該活性フィルムが、非晶質フィルムの直接上を覆ってスパッタ堆積される請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
当該、前記第１のマスキングを前記光触媒コーティングの上を覆って付すことが、第１のマスキングステーションを操作することを含み、当該第１のマスキングステーションが、当該アッセンブリラインの一部である請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
第２のマスキングステーションを操作することによって、剥離可能な第２のマスキングを、当該得られる断熱ガラスアッセンブリの第４表面の上を覆って付すことを更に含み、当該第２のマスキングステーションもまた、当該アッセンブリラインの一部である請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
当該付されたマスキング接着剤が、前記マスキング基材に対して、前記光触媒コーティングに対するよりも高レベルの付着力を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１のマスキングを、前記光触媒コーティングを担持する主表面から剥離する工程を更に含み、その間、ひとたび前記第１のマスキングが前記光触媒コーティングを担持する主表面から剥離されると、前記接着剤の実質的に全てが前記第１のマスキングのマスキング基材上に残るように、前記接着剤が、前記マスキング基材に優先的に付着する請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記マスキング接着剤がアクリル接着剤であり、前記マスキング基材がポリエチレンを含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記マスキング接着剤が、少なくとも１種の紫外線安定剤を含む請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
間隔を置いて配置され、それらの間に間隙を有する２つの窓板を含む断熱板ガラスユニットと、
前記窓板の内の１つの、当該間隙とは反対側にある外表面である所望の主表面上の光触媒薄膜コーティングと、
前記光触媒薄膜コーティングの上に重なり、マスキング基材とマスキング接着剤とを含む、除去可能な保護マスキングとを含む装置であり、
前記マスキングは、マスキング材料の単一シートであるか、または、複数の細長いマスキングストリップであり、隣接するストリップが、側端が互いに重なりあう配置で重ねられた複数のストリップであり、前記マスキング接着剤が、前記光触媒薄膜コーティングと直接、付着接触し、前記光触媒薄膜コーティングは、１．５×１０-3ｃｍ-1分-1未満の光触媒活性を有し、前記光触媒薄膜コーティングの光触媒活性が、充分低く、そのため、前記マスキング接着剤と、前記マスキング基材との間の接着状態、または、前記マスキング接着剤と前記第１の主表面との間の接着状態を破壊することがない装置。
【請求項１１】
前記除去可能な保護マスキングが、剥離可能なマスキングであり、前記マスキング接着剤が、前記マスキング基材に対して、当該コーティングされた主表面に対するよりも高レベルの付着力を有し、その結果、前記マスキングが当該コーティングされた主表面から剥離される時、前記接着剤が前記マスキング基材に優先的に付着するよう適合させられている請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記マスキング接着剤がアクリル接着剤であり、前記マスキング基材がポリエチレンを含む請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記マスキング接着剤が、少なくとも１種の紫外線安定剤を含む請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】
前記マスキング接着剤が、少なくとも１種のヒンダードアミンを含む請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
前記ヒンダードアミンが、テトラメチルピペリジン誘導体を含む請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記ヒンダードアミンが、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の重縮合生成物、
４，４’−ヘキサメチレン−ビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）と２，４−ジクロロ−６−ｔｅｒｔ？オクチルアミノ−ｓ−トリアジンの重縮合生成物、
４，４’−ヘキサメチレン−ビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）と２，４−ジクロロ−６−シクロヘキシルアミノ−ｓ−トリアジンの重縮合生成物、
４，４’−ヘキサメチレン−ビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）と２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジンの重縮合生成物、
ポリ［メチル  ３−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ）プロピル］シロキサン、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）シクロヘキシレンジオキシジメチルマロネート、
１，３，５−トリス｛Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−［２−（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）エチル］アミノ−ｓ−トリアジン、
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’？テトラキス［４，６−ビス（ブチル−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン−２−イル］−１，１０−ジアミノ−４，７−ジアザデカン、及び
２，４−ジクロロ−６−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ−ｓ−トリアジンと２，２’−エチレン−ビス｛［２，４−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ブチルアミノ−ｓ−トリアジン−６−イル］アミノトリメチレンアミノ｝の重縮合生成物からなる群から選択される請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記光触媒薄膜コーティングが、チタニアを含む活性フィルムを含み、当該活性フィルムが、１００オングストローム未満の厚さを有する請求項１０〜１６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１８】
前記活性フィルムの厚さが７５オングストローム未満である請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記光触媒薄膜コーティングが、チタニアを含む活性フィルムを含み、前記活性フィルムが、非晶質フィルムの直接上を覆って堆積される請求項１０〜１８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２０】
前記非晶質フィルムが、ガラスの風冷強化時、少なくとも実質的に非晶質であるという形態を維持するよう適合させた組成を有する請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記光触媒薄膜コーティングが、チタニアを含む活性フィルムを含み、前記活性フィルムが、２００オングストローム未満の厚さを有する、下地フィルムの直接上を覆って堆積される請求項１０〜１８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２２】
前記下地フィルムの厚さが１００オングストローム未満である請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
間隔を置いて配置され、それらの間に間隙を有する２つの窓板を含む断熱板ガラスユニットと、
前記窓板の内の１つの、当該間隙とは反対側にある外表面である所望の主表面上の光触媒薄膜コーティングと、
前記光触媒薄膜コーティングの上に重なり、マスキング基材とマスキング接着剤とを含む、除去可能な保護マスキングとを含む装置であって、
前記マスキングは、マスキング材料の単一シートであるか、または、複数の細長いマスキングストリップであり、隣接するストリップが、側端が互いに重なりあう配置で重ねられた複数のストリップであり、前記マスキング接着剤が、前記光触媒薄膜コーティングと直接、付着接触しており、前記除去可能な保護マスキングが、剥離可能なマスキングであり、前記マスキング接着剤が、前記マスキング基材に対して、当該コーティングされた主表面に対するよりも高レベルの付着力を有し、その結果、前記マスキングが当該コーティングされた主表面から剥離される時、前記接着剤が前記マスキング基材に優先的に付着するよう適合させられ、前記光触媒薄膜コーティングが、二酸化ケイ素フィルムの上にチタニアを含む２５〜４０Åの厚みの活性フィルムを含み、１．５×１０-3ｃｍ-1分-1未満の光触媒活性を有し、前記光触媒薄膜コーティングの光触媒活性が、充分低く、そのため、前記マスキング接着剤と、前記マスキング基材との間の接着状態、または、前記マスキング接着剤と前記第１の主表面との間の接着状態を破壊することがない装置。
【請求項２４】
前記マスキング接着剤が、少なくとも１種の紫外線安定剤を有する請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記マスキング接着剤が、少なくとも１種のヒンダードアミンを含む請求項２３または２４に記載の装置。
【請求項２６】
前記断熱板ガラスユニットが、マスキングされた第４主表面を更に備え、前記マスキングされた第４表面が第２の剥離可能なマスキングを担持する請求項２３〜２５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２７】
前記マスキング接着剤がアクリル接着剤であり、前記マスキング基材がポリエチレンを含む請求項２３〜２６のいずれか一項に記載の装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
更に詳細には、有機汚染物質を光触媒フィルムの上を覆って付し、フィルムに照射すると、フィルムの汚染物質を除去する能力を観察及び測定することができる。ステアリン酸（ＣＨ3（ＣＨ2）16ＣＯＯＨ）は１つの有用な汚染物質である。ステアリン酸は、スプレーコーティング、ディップコーティング、又はスピンコーティングのようなあらゆる所望の技術によって、薄膜テストフィルムとして、光触媒フィルムの上を覆って付すことができる。ステアリン酸テストフィルム厚は、任意的に、約１００オングストローム以上、約２００オングストローム以下の範囲であり得る。テストフィルムは、例えば、溶液１リットル当り６×１０-3モルのステアリン酸濃度を有する溶液のようなメタノール溶液内のステアリン酸として付すことができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
本発明の特定の実施形態は、低レベルの光活性を有し、マスキングフィルムが、直接（例えば、コーティング１８とマスキング基材との間に挟まれたマスキング接着剤を介して）、光触媒コーティング１８に接して担持される場合に用いられる光触媒コーティング１８を提供する。ここで報告されている反応速度は、ｃｍ-1分-1を単位として示される。反応速度の値が大きいほど、光活性が大きいことを示す。特定の実施形態において、コーティング１８は、１×１０-2ｃｍ-1分-1未満、９×１０-3ｃｍ-1分-1未満、８×１０-3ｃｍ-1分-1未満、４×１０-3ｃｍ-1分-1未満、３×１０-3ｃｍ-1分-1未満、２×１０-3ｃｍ-1分-1未満、又は更に約１．５×１０-3ｃｍ-1分-1未満の光触媒活性を有する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
一実施形態は、窓板（任意的に、ガラス窓板）であって、その第１の主表面の直接上を覆って（チタニアを含む、それを主成分とする、又はそれからなる活性フィルムを含み、活性フィルムが、好ましくは、約１５０オングストローム未満、例えば、２０オングストローム以上１００オングストローム以下、又は１００オングストローム未満、或いは２０オングストローム以上７５オングストローム以下、及び、ある場合には、２０オングストローム以上６０オングストローム以下等、７５オングストローム以下の厚さを有する）光触媒コーティング１８が付された窓板を提供する。光触媒コーティング１８は、好ましくは、（必ずではないが、任意的に、１つ以上の上記範囲内、例えば、９×１０-3ｃｍ-1分-1未満、５×１０-3ｃｍ-1分-1未満、又は更に約１．５×１０-3ｃｍ-1分-1未満の）特に低い光触媒活性を有する。この場合、マスキングが、光触媒コーティング１８によって（例えば、マスキングが、光触媒コーティング１８とマスキング基材との間に直接挟まれるマスキング接着剤を含むように）担持される。これらの実施形態において、光触媒コーティング１８（又は、少なくともそのチタニア含有フィルム）は、任意的に、スパッタフィルムであり得る。しかし、他の実施形態においては、光触媒コーティングは、化学気相蒸着、真空蒸着、及び／又はイオンアシスト蒸着のような、他の薄膜堆積技術によって付される。湿式化学法（例えば、ゾルゲル法）を用いることもできる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
特定の一方法において、基材は、スパッタリングラインの入口に位置付けられ、所望のコートゾーンに搬送される。このコートゾーンは、第１のフィルムを堆積させるのに適合させた３つの陰極を備えている。より詳細には、これらの陰極はそれぞれ、ケイ素スパッタリングターゲットを含むが、その他の方法では第１のフィルムの材料としてその他の材料が含まれる（代替的に、この第１のフィルムを全く施さないでおくことができる）。このコートゾーンにおけるケイ素ターゲットを、酸化雰囲気においてスパッタし、基材の第１の主表面の直上に二酸化ケイ素フィルムを堆積させることができる。この雰囲気は、酸素（例えば、約１００％のＯ2）を主成分としてもよい。代替的に、この雰囲気は、Ａｒ／Ｏ２（例えば、酸素と約４０％までのアルゴン）を含んでもよい。約３８ｋＷの電力を第１の陰極に印加し、約３８ｋＷの電力を第２の陰極に印加し、約３８ｋＷの電力を第３の陰極に印加することができる。基材は、これら全３つのターゲットの下方を、これらのターゲットそれぞれを言及した電力レベルでスパッタしながら、１分間に約２００インチの速度で搬送可能であり、その結果、二酸化ケイ素フィルムが約１００Åの厚さで付される。この場合のシリカフィルムは、任意的に、１００オングストローム未満、例えば、約７５オングストローム等、６０オングストローム以上９０オングストローム以下であり得る。この任意の第１のフィルムの厚さ及び組成は、所望に応じて変更可能である。１つ以上のケイ素ターゲットが用いられる実施形態において、各ケイ素ターゲットは、ターゲットの導電性を高めるため、多少のアルミニウム又は他の材料を含み得る。