【手続補正書】
【提出日】平成24年8月24日(2012.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
本明細書において説明された発明は、前記の利点および優位性を達成するように、うまく考案されていることは明らかであるが、本発明は、その精神から逸脱することなく、修正、変形および変更を受け入れることができることが理解されるであろう。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１  流体流の分離のためのガス処理設備であって、
（ｉ）非吸収性ガスおよび酸性ガスを含む初期ガス流、および（ｉｉ）第２液体溶媒、を受け入れるように配置構成された第１並流接触装置であって、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第１ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第１ガス処理溶液、を放出するように配置構成されている第１並流接触装置、
（ｉ）部分スイートニングされた前方からのガス流、および（ｉｉ）再生された液体溶媒、を受け入れるように配置構成されており、（ｉｉｉ）スイートニングされた最終ガス流、および（ｉｖ）軽く負荷された最終ガス処理溶液、を放出するように配置構成された最終並流接触装置、
を備え、初期ガス流が、
クラウス硫黄回収プロセスからのテールガス流、
Ｈ2Ｓのエンリッチメントを必要とする溶媒再生プロセスからの酸性ガス流、
合成ガス流、
セメントプラントからの酸性ガス、および
ガス処理設備の内部で生成されるガス流、
の少なくとも１つである、上記設備。
２  ガス処理設備の内部で生成されるガス流が、
フラッシュドラムからのフラッシュガス流、または
再生器からの不純物流、
である、上記１に記載のガス処理設備。
３  第１並流接触装置によって受け入れられる酸性ガスが、主に二酸化炭素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、炭化水素を含むガス流から二酸化炭素を選択的に除去するように選択される、
上記１に記載のガス処理設備。
４  第１並流接触装置によって受け入れられる酸性ガスが、主に硫化水素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、炭化水素を含むガス流から硫化水素を選択的に除去するように選択される、
上記１に記載のガス処理設備。
５  （ｉ）部分スイートニングされた第１ガス流、および（ｉｉ）第３液体溶媒、を受け入れるように配置構成され、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第２ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第２ガス処理溶液、を放出するように配置構成された第２並流接触装置、
をさらに含み、
再生された液体溶媒が、再生された溶媒流の少なくとも一部を含み、それにより、部分負荷された少なくとも第１ガス処理溶液から酸性ガスが実質的に除去されている、
上記１に記載のガス処理設備。
６  部分負荷された第２ガス処理溶液から、炭化水素およびＨ2Ｏ蒸気を放出するためのフラッシュドラム、および
部分負荷された第２ガス処理溶液が第１並流接触装置に入る前に、部分負荷された第２ガス処理溶液の圧力を増すためのポンプ、
をさらに備える、上記５に記載のガス処理設備。
７  第１並流接触装置、第２並流接触装置、最終並流接触装置、またはこれらの組合せが、遠心ミキサー、スタティックミキサー、ミストエリミネーター、ベンチュリ管、電気集塵装置、およびエダクターの少なくとも１つを有する接触時間の短い混合デバイスを備える、
上記５に記載のガス処理設備。
８  第１並流接触装置および第２並流接触装置が、シェル内に存在し、
シェルが冷却される、
上記５に記載のガス処理設備。
９  ジャケットが、第１並流接触装置、第２並流接触装置、または両方を囲んで置かれ、
冷却媒体がジャケット内を循環する、
上記５に記載のガス処理設備。
１０  （ｉ）部分スイートニングされた第２ガス流、および（ｉｉ）第４液体溶媒、を受け入れるように配置構成され、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第３ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第３ガス処理溶液、を放出するように配置構成された第３並流接触装置、
をさらに含み、
第２並流接触装置によって受け入れられる第３液体溶媒が、第３並流接触装置によって放出される、部分負荷された第３ガス処理溶液を含み、
部分負荷された第２ガス処理溶液が酸性ガスにより、ひどく負荷されている、
上記５に記載のガス処理設備。
１１  最終並流接触装置によって受け入れられる、再生された液体溶媒が、再生された、部分負荷された第１ガス処理溶液を含む、上記５に記載のガス処理設備。
１２  最終並流接触装置によって受け入れられる、再生された液体溶媒が、部分負荷された第２ガス処理溶液をさらに含み、部分負荷された第１および第２ガス処理溶液が、一緒に再生されて、最終並流接触装置によって受け入れられる再生された液体溶媒を生成する、上記１１に記載のガス処理設備。
１３  第１接触装置によって受け入れられる第２液体溶媒が、再生された溶媒流を、少なくとも部分的に含む、上記５に記載のガス処理設備。
１４  部分負荷された第２ガス処理溶液を冷却するための冷却器、
をさらに備える、上記５に記載のガス処理設備。
１５  第１並流接触装置の運転温度が、第２並流接触装置、最終接触装置、または両方の運転温度と異なる、
上記５に記載のガス処理設備。
１６  第１並流接触装置への流体流の入口圧力が、約１５〜１００ｐｓｉｇである、
上記１に記載のガス処理設備。
１７  第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、アミンを含む、
上記１に記載のガス処理設備。
１８  アミンが、第２級アミン、第１級アミン、第３級アミン、またはこれらの組合せを含む、上記１７に記載のガス処理設備。
１９  第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、物理作用溶媒、または物理作用および化学作用溶媒の混合物を含む溶媒を含む、上記１に記載のガス処理設備。
２０  ガス処理設備において初期ガス流を分離する方法であって、ガス流が非吸収性ガスおよび酸性ガスを含み、
第１並流接触装置、第２並流接触装置、および最終並流接触装置（これらの並流接触装置の各々は、（ｉ）ガス流および液体溶媒を受け入れ、（ｉｉ）スイートニングされたガス流および別個の負荷されたガス処理溶液を放出する、ように配置構成されている）を準備すること、
順次、段階的にスイートニングされるガス流として、それぞれのスイートニングされたガス流を送り出すように、第１並流接触装置、第２並流接触装置、および最終並流接触装置を配置構成すること、
順次、段階的にリッチなガス処理溶液として、それぞれのガス処理溶液を送り出すように、最終並流接触装置、第２並流接触装置、および第１並流接触装置をさらに配置構成すること、
再生された液体溶媒を、最終並流接触装置に送り出すこと、および
初期ガス流から酸性ガスを除去し、スイートニングされた最終ガス流を送り出すように、ガス処理設備を運転すること、
を含む、上記方法。
２１  非吸収性ガスが炭化水素ガスまたは窒素を含む、上記２０に記載の方法。
２２  第１並流接触装置が、（ｉ）初期ガス流、および（ｉｉ）第２液体溶媒、を受け入れ、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第１ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第１ガス処理溶液、を放出し、
第２並流接触装置が、（ｉ）第１並流接触装置からの部分スイートニングされた第１ガス流、および（ｉｉ）第３液体溶媒、を受け入れ、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第２ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第２ガス処理溶液、を放出し、
最終並流接触装置が、（ｉ）部分スイートニングされた前方からのガス流、および（ｉｉ）再生された液体溶媒、を受け入れ、（ｉｉｉ）スイートニングされた最終ガス流、および（ｉｖ）軽く負荷された最終ガス処理溶液、を放出する、
上記２１に記載の方法。
２３  初期ガス流が、
クラウス硫黄回収プロセスからのテールガス流、
Ｈ2Ｓのエンリッチメントを必要とする溶媒再生プロセスからの酸性ガス流、
セメントプラントからの酸性ガス、および
ガス処理設備の内部で生成されるガス流、
の少なくとも１つである、上記２０に記載の方法。
２４  ガス処理設備の内部で生成されるガス流が、
フラッシュドラムからのフラッシュガス流、または
再生器からの不純物流、
である、上記２３に記載の方法。
２５  酸性ガスが、主に二酸化炭素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、炭化水素を含むガス流から二酸化炭素を除去するように選択される、
上記２１に記載の方法。
２６  酸性ガスが、主に硫化水素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、炭化水素を含むガス流から硫化水素を除去するように選択される、
上記２１に記載の方法。
２７  初期ガス流が排煙流であり、
非吸収性ガスが窒素を含み、
酸性ガスが主に二酸化炭素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、二酸化炭素を選択的に除去するように選択される、
上記２１に記載の方法。
２８  最終並流接触装置によって受け入れられるスイートニングされた前方からのガス流が、第２並流接触装置から放出される部分スイートニングされた第２ガス流を含み、
第２並流接触装置によって受け入れられる第３液体溶媒が、最終並流接触装置によって放出される、軽く負荷された最終ガス処理溶液を含む、
上記２２に記載の方法。
２９  フラッシュドラムを用い、部分負荷された第２ガス処理溶液から、炭化水素およびＨ2Ｏ蒸気を放出させること、および、その後で、
部分負荷された第２ガス処理溶液が、第１並流接触装置に入る前に、その圧力を増すこと、
をさらに含む、上記２２に記載の方法。
３０  第１並流接触装置、第２並流接触装置、最終並流接触装置、またはこれらの組合せが、遠心ミキサー、スタティックミキサー、ミストエリミネーター、ベンチュリ管、電気集塵装置、またはこれらの組合せを備える、
上記２２に記載の方法。
３１  第１並流接触装置への初期ガス流の入口圧力が、約１５〜１，０００ｐｓｉｇである、上記２０に記載の方法。
３２  第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、アミンを含む、
上記２０に記載の方法。
３３  アミンが、第２級アミン、第１級アミン、第３級アミン、またはこれらの組合せを含む、上記３２に記載の方法。
３４  第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、物理作用溶媒、または物理作用および化学作用溶媒の混合物を含む溶媒を含む、
上記２０に記載の方法。
３５  第２並流接触装置、最終接触装置、または両方の運転温度と異なる温度で、第１並流接触装置を運転すること、
をさらに含む、上記２２に記載の方法。
３６  ある期間に渡ってガス処理設備を運転すること、
初期ガス流の組成を分析すること、および
初期ガス流の組成の変化に応じて、ガス処理設備を部分修正すること、
をさらに含む、上記２０に記載の方法。
３７  ガス処理設備を部分修正することが、（ｉ）さらなる並流接触装置を追加すること、（ｉｉ）少なくとも１つの並流接触装置の運転温度を変えること、または（ｉｉｉ）これらの組合せ、の少なくとも１つを含む、上記３６に記載の方法。
３８  第１接触装置によって受け入れられる液体溶媒が、別のガススイートニングプロセスから得られるセミ−リーン溶媒の少なくとも一部を含む、上記２０に記載の方法。
３９  ガス流からガス成分を除去するための方法であって、
（ａ）第１接触装置にガス流を通し、次に、第２接触装置にガス流を通すこと、
（ｂ）第２接触装置において、ガス流と第３吸収性液体とを混合し、接触させること（ここで、第３吸収性液体およびガス流は、第２接触装置内で、並流で流れ、それによって、該ガス成分の第２濃度を有する部分負荷された第２吸収性液体を生成し、該ガス成分の減ったガス流を生成する）、
（ｃ）部分負荷された第２吸収性液体を、第２接触装置から回収すること、
（ｄ）第２吸収性液体を第１接触装置に通し、第１接触装置内でガス流と第２吸収性液体とを混合し、接触させること（ここで、
第２吸収性液体およびガス流は、第１接触装置を通して並流で流れ、
第１吸収性液体は、部分負荷された第２吸収性液体の少なくとも一部を含み、それにより、該ガス成分の第１濃度を有する第１吸収性液体を生成し、第１吸収性液体における該ガス成分の第１濃度は、第２吸収性液体における該ガス成分の第２濃度より大きい）、および
（ｅ）第１接触装置から第１吸収性液体を回収すること、
を含む、上記方法。
４０  ステップ（ｃ）において回収される、部分負荷された第２吸収性液体が、第２吸収性液体として第１接触装置に送られる、上記３９に記載の方法。
４１  （ｆ）第１吸収性液体を、再生システムに送ること、
（ｇ）再生システムにおいて、部分リーン吸収性液体およびリーン吸収性液体を生成すること（部分リーン吸収性液体は、リーン吸収性液体における該ガス成分の濃度より高い、該ガス成分の濃度を有する）、
（ｈ）リーン吸収性液体をステップ（ｂ）における最終接触装置にリサイクルすること、および
（ｉ）部分リーン吸収性液体を、第２吸収性液体として、第１接触装置に送ること、
をさらに含む、上記３９に記載の方法。
４２  ステップ（ａ）の一部として、ガス流が第１接触装置に通される前に、ガス流を第３接触装置に通すこと、および、ステップ（ｃ）に続いて、
第３接触装置に第４吸収性液体を通し、第３接触装置において、ガス流と第４吸収性液体とを混合し、接触させること（ここで、第４吸収性液体およびガス流は、第３接触装置の少なくとも一部を通して、並流で流れ、ここで、第３吸収性液体は、部分負荷された第４吸収性液体の少なくとも一部を含み、それにより、該ガス成分の第３濃度を有する第３吸収性液体を生成し、第３吸収性液体における該ガス成分の第３濃度は、第４吸収性液体における該ガス成分の第４濃度より大きい）、および
次に、第１接触装置から第３吸収性液体を除去すること、
をさらに含む、上記３９に記載の方法。
４３  再生システムにおいて第２吸収性液体を再生し、それにより、リーン吸収性液体を生成すること、および
リーン吸収性液体を第３吸収性液体としてリサイクルすること、
をさらに含む、上記３９に記載の方法。
４４  吸収性液体が、モノエチレングリコール（ＭＥＧ）、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、またはトリエチレングリコール（ＴＥＧ）を含む群から選択される少なくとも１種の化合物を含む乾燥性液体を含む、上記３９に記載の方法。
４５  ガス流からガス成分を回収するための方法であって、
（ａ）２つ以上の一連の接触装置を通して、下流方向に、順次ガス流を流すこと、および
（ｂ）反対の上流方向に、２つ以上の接触装置の各々にガス流の流れと並流で吸収性液体を通すこと、および、２つ以上の接触装置の各々から、該ガス成分を含む吸収性液体流出流を回収すること、
を含み、
ガス流が下流方向に２つ以上の接触装置の各々を通過するにつれて、ガス流は段階的に該ガス成分を失い、
２つ以上の接触装置の各々から回収される吸収性液体が、上流方向に段階的により高い、該ガス成分の濃度を有し、また
２つ以上の接触装置の１つから回収される吸収性液体の少なくとも一部が、ガス流の流れの上流の少なくとも１つの接触装置のための吸収性液体として用いられる、
上記方法。
４６  順次ガス流を流すことが、
ガス流を第１接触装置に通すこと、
次いで、少なくとも１つのさらなる接触装置を通すこと、および
次に、最終接触装置を通すこと、
を含む、上記４５に記載の方法。
４７  吸収性液体を通すことが、
最終接触装置から回収される吸収性液体を、最後から２番目の接触装置に通すこと、
最後から２番目の接触装置から回収される吸収性液体を、最後から３番目の接触装置に通すこと、および
順番に並ぶ接触装置からの吸収性液体の回収を上流方向に続けること、
を含むが、但し、第１接触装置から回収される吸収性液体は、再生システムに送られ、それにより、リーン吸収性液体を生成する、上記４６に記載の方法であって、
最終接触装置へ送られる吸収性液体として、リーン吸収性液体をリサイクルすること、をさらに含む、上記方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体流の分離のためのガス処理設備であって、
（ｉ）非吸収性ガスおよび酸性ガスを含む初期ガス流、および（ｉｉ）第２液体溶媒、を受け入れるように配置構成された第１並流接触装置であって、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第１ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第１ガス処理溶液、を放出するように配置構成されている第１並流接触装置、
（ｉ）部分スイートニングされた前方からのガス流、および（ｉｉ）再生された液体溶媒、を受け入れるように配置構成されており、（ｉｉｉ）スイートニングされた最終ガス流、および（ｉｖ）軽く負荷された最終ガス処理溶液、を放出するように配置構成された最終並流接触装置、
を備え、初期ガス流が、
クラウス硫黄回収プロセスからのテールガス流、
Ｈ2Ｓのエンリッチメントを必要とする溶媒再生プロセスからの酸性ガス流、
合成ガス流、
セメントプラントからの酸性ガス、および
ガス処理設備の内部で生成されるガス流、
の少なくとも１つである、上記設備。
【請求項２】
第１並流接触装置によって受け入れられる酸性ガスが、主に二酸化炭素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、炭化水素を含むガス流から二酸化炭素を選択的に除去するように選択される、
請求項１に記載のガス処理設備。
【請求項３】
第１並流接触装置によって受け入れられる酸性ガスが、主に硫化水素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、炭化水素を含むガス流から硫化水素を選択的に除去するように選択される、
請求項１に記載のガス処理設備。
【請求項４】
（ｉ）部分スイートニングされた第１ガス流、および（ｉｉ）第３液体溶媒、を受け入れるように配置構成され、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第２ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第２ガス処理溶液、を放出するように配置構成された第２並流接触装置、
をさらに含み、
再生された液体溶媒が、再生された溶媒流の少なくとも一部を含み、それにより、部分負荷された少なくとも第１ガス処理溶液から酸性ガスが実質的に除去されている、
請求項１に記載のガス処理設備。
【請求項５】
第１並流接触装置、第２並流接触装置、最終並流接触装置、またはこれらの組合せが、遠心ミキサー、スタティックミキサー、ミストエリミネーター、ベンチュリ管、電気集塵装置、およびエダクターの少なくとも１つを有する接触時間の短い混合デバイスを備える、
請求項４に記載のガス処理設備。
【請求項６】
（ｉ）部分スイートニングされた第２ガス流、および（ｉｉ）第４液体溶媒、を受け入れるように配置構成され、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第３ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第３ガス処理溶液、を放出するように配置構成された第３並流接触装置、
をさらに含み、
第２並流接触装置によって受け入れられる第３液体溶媒が、第３並流接触装置によって放出される、部分負荷された第３ガス処理溶液を含み、
部分負荷された第２ガス処理溶液が酸性ガスにより、ひどく負荷されている、
請求項４に記載のガス処理設備。
【請求項７】
最終並流接触装置によって受け入れられる、再生された液体溶媒が、再生された、部分負荷された第１ガス処理溶液を含む、請求項４に記載のガス処理設備。
【請求項８】
最終並流接触装置によって受け入れられる、再生された液体溶媒が、部分負荷された第２ガス処理溶液をさらに含み、部分負荷された第１および第２ガス処理溶液が、一緒に再生されて、最終並流接触装置によって受け入れられる再生された液体溶媒を生成する、請求項７に記載のガス処理設備。
【請求項９】
第１接触装置によって受け入れられる第２液体溶媒が、再生された溶媒流を、少なくとも部分的に含む、請求項４に記載のガス処理設備。
【請求項１０】
第１並流接触装置への流体流の入口圧力が、約１５〜１００ｐｓｉｇである、
請求項１に記載のガス処理設備。
【請求項１１】
ガス処理設備において初期ガス流を分離する方法であって、ガス流が非吸収性ガスおよび酸性ガスを含み、
第１並流接触装置、第２並流接触装置、および最終並流接触装置（これらの並流接触装置の各々は、（ｉ）ガス流および液体溶媒を受け入れ、（ｉｉ）スイートニングされたガス流および別個の負荷されたガス処理溶液を放出する、ように配置構成されている）を準備すること、
順次、段階的にスイートニングされるガス流として、それぞれのスイートニングされたガス流を送り出すように、第１並流接触装置、第２並流接触装置、および最終並流接触装置を配置構成すること、
順次、段階的にリッチなガス処理溶液として、それぞれのガス処理溶液を送り出すように、最終並流接触装置、第２並流接触装置、および第１並流接触装置をさらに配置構成すること、
再生された液体溶媒を、最終並流接触装置に送り出すこと、および
初期ガス流から酸性ガスを除去し、スイートニングされた最終ガス流を送り出すように、ガス処理設備を運転すること、
を含む、上記方法。
【請求項１２】
非吸収性ガスが炭化水素ガスまたは窒素を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
第１並流接触装置が、（ｉ）初期ガス流、および（ｉｉ）第２液体溶媒、を受け入れ、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第１ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第１ガス処理溶液、を放出し、
第２並流接触装置が、（ｉ）第１並流接触装置からの部分スイートニングされた第１ガス流、および（ｉｉ）第３液体溶媒、を受け入れ、（ｉｉｉ）部分スイートニングされた第２ガス流、および（ｉｖ）部分負荷された第２ガス処理溶液、を放出し、
最終並流接触装置が、（ｉ）部分スイートニングされた前方からのガス流、および（ｉｉ）再生された液体溶媒、を受け入れ、（ｉｉｉ）スイートニングされた最終ガス流、および（ｉｖ）軽く負荷された最終ガス処理溶液、を放出する、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
酸性ガスが、主に二酸化炭素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、炭化水素を含むガス流から二酸化炭素を除去するように選択される、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
酸性ガスが、主に硫化水素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、炭化水素を含むガス流から硫化水素を除去するように選択される、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
初期ガス流が排煙流であり、
非吸収性ガスが窒素を含み、
酸性ガスが主に二酸化炭素を含み、
第２液体溶媒、および再生された液体溶媒が、二酸化炭素を選択的に除去するように選択される、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
最終並流接触装置によって受け入れられるスイートニングされた前方からのガス流が、第２並流接触装置から放出される部分スイートニングされた第２ガス流を含み、
第２並流接触装置によって受け入れられる第３液体溶媒が、最終並流接触装置によって放出される、軽く負荷された最終ガス処理溶液を含む、
請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
第１並流接触装置への初期ガス流の入口圧力が、約１５〜１，０００ｐｓｉｇである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
第１接触装置によって受け入れられる液体溶媒が、別のガススイートニングプロセスから得られるセミ−リーン溶媒の少なくとも一部を含む、請求項１１に記載の方法。