【手続補正書】
【提出日】平成24年9月11日(2012.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
【表２】
2012503085.tif 000001
本発明の実施態様の一部を以下の項目１−３７に列記する。
〔１〕
基材と、前記基材の表面から伸長するグラフトされたビグアニドリガンド基とを備える物品。
〔２〕
前記ビグアニドリガンド基が、以下の式のうちの１つ以上である、項目１に記載の物品：
【化１】
2012503085.tif 000002
式中、
Ｒ２は、アリーレン又はアルキレンであり、ａは、少なくとも１である。
〔３〕
前記基材の表面上にグラフトされた四級アンモニウム基を更に備える、項目１に記載の物品。
〔４〕
前記基材が、多孔質基材である、項目１に記載の物品。
〔５〕
前記多孔質基材が、多孔質膜、多孔質不織布ウェブ又は多孔質繊維から選択される、項目４に記載の物品。
〔６〕
前記基材が、熱可塑性ポリマーである、項目１に記載の物品。
〔７〕
ａ）前記基材の表面から伸長するグラフトされた求電子性官能基を有する置換基材と、ｂ）リガンド化合物：
【化２】
2012503085.tif 000003
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、との反応生成物を含む物品。
〔８〕
格子間及び外表面を有する多孔質ベース基材と、前記多孔質ベース基材の表面から伸長するグラフトされたリガンド基と、を備える物品であって、前記グラフトされたリガンド基が、グラフトされた求電子性官能基と、リガンド化合物：
【化３】
2012503085.tif 000004
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、との反応生成物を含む物品。
〔９〕
前記グラフトされた求電子性官能基が、（ｉ）エポキシ基又は開環エポキシ連結基、（ｉｉ）アズラクトン基又は開環アズラクトン連結基、又は（ｉｉｉ）イソシアナト基から選択される、項目８に記載の物品。
〔１０〕
グラフトされたイオン性基又は親水性基を更に含む、項目８に記載の物品。
〔１１〕
前記グラフトされたイオン性基が、グラフトされた四級アンモニウム基である、項目１０に記載の物品。
〔１２〕
前記多孔質ベース基材が、微小多孔性である、項目８に記載の物品。
〔１３〕
前記物品が、グラフトされた親水性基を更に備える、項目８に記載の物品。
〔１４〕
前記多孔質ベース基材が、多孔質膜、多孔質不織布ウェブ、又は多孔質繊維を含む、項目８に記載の物品。
〔１５〕
前記グラフトされた種が、（ａ）エポキシ基、イソシアナト基、又はアズラクトン基を含む第１のグラフトされた求電子性官能基と、（ｂ）リガンド化合物：
【化４】
2012503085.tif 000005
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、との反応生成物を含む、項目８に記載の物品。
〔１６〕
リガンド官能基材を調製する方法であって、
１）熱可塑性ポリマー基材を提供する工程と、
２）官能基を基材の表面にグラフト化して、前記基材の表面（１つ又は複数）から伸長するグラフトされた求電子性官能基を有する基材を作製する工程と、
３）前記グラフトされた求電子性官能基とリガンド化合物：
【化５】
2012503085.tif 000006
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、とを反応させて、
前記基材の表面（１つ又は複数）から伸長するグラフトされたリガンド基を有する基材を作製する工程と、を含む方法。
〔１７〕
リガンド官能基材を調製する方法であって、
１）熱可塑性ポリマー基材を提供する工程と、
２）電離放射線により、官能基を基材の表面にグラフト化して、前記基材の表面（１つ又は複数）から伸長するグラフトされた求電子性官能基を有する基材を作製する工程と、
３）前記グラフトされた官能基とリガンド化合物：
【化６】
2012503085.tif 000007
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、とを反応させて、
前記基材の表面（１つ又は複数）から伸長するグラフトされたリガンド基を有する基材を作製する工程と、を含む方法。
〔１８〕
ａ）多孔質熱可塑性ポリマーベース基材を提供する工程と、
ｂ）前記多孔質熱可塑性ポリマーベース基材に第１の溶液を吸収させて、吸収多孔質ベース基材を形成する工程であって、前記第１の溶液が、（ａ）フリーラジカル重合性基及び（ｂ）更なる求電子性官能基を有する少なくとも１つのグラフト化モノマーを含む工程と、
ｃ）グラフトされた求電子性官能基を有する第１の官能化基材を形成するために、前記吸収多孔質ベース基材を、制御された量の電子ビーム照射に曝露する工程と、
ｄ）前記グラフトされた求電子性官能基を有する官能化基材を、リガンド化合物：
【化７】
2012503085.tif 000008
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、とを反応させる工程と、を含む、項目１７に記載の方法。
〔１９〕
前記吸収溶液が、（ａ）フリーラジカル重合性基及び（ｂ）イオン性基又は親水性基を有する第２のグラフト化モノマーを更に含む、項目１８に記載の方法。
〔２０〕
前記第１の官能化基材に第２の溶液を吸収させて、第１の吸収官能化基材を形成する工程であって、前記第２の溶液が、（ａ）フリーラジカル重合性基及び（ｂ）第２の四級アンモニウム基を有する第２のグラフト化モノマーを含む工程と、
多孔質ベース基材の表面に結合したグラフトされた四級アンモニウム基を含む第２の官能化基材を形成するために、第１の吸収官能化基材を、制御された量の電子ビーム照射に曝露する工程と、を更に含む、項目１９に記載の方法。
〔２１〕
前記ビグアニドリガンド基が、以下の式のうちの１つ以上である、項目１７に記載の方法：
【化８】
2012503085.tif 000009
式中、
Ｒ２は、アリーレン又はアルキレンであり、ａは、少なくとも１である。
〔２２〕
前記基材の表面上にグラフトされた四級アンモニウム基を更に備える、項目１７に記載の方法。
〔２３〕
前記基材が、多孔質基材である、項目１７に記載の方法。
〔２４〕
前記多孔質基材が、多孔質膜、多孔質不織布ウェブ又は多孔質繊維から選択される、項目２３に記載の方法。
〔２５〕
グラフトされた親水性基を更に含む、項目１７に記載の方法。
〔２６〕
前記グラフトされた親水性基が、グラフトされたポリ（アルキレンオキシド）基である、項目２５に記載の方法。
〔２７〕
前記多孔質基材が、微小多孔性基材である、項目２３に記載の方法。
〔２８〕
前記熱可塑性ポリマーが、ポリ（フッ化ビニリデン）を含む、項目１７に記載の方法。
〔２９〕
項目１７に記載の方法により調製される物品。
〔３０〕
格子間及び外表面を有する多孔質熱可塑性ベース基材と、前記多孔質ベース基材の表面から伸長する放射線グラフトされたリガンド基と、を備える物品であって、前記グラフトされたリガンド基が、グラフトされた求電子性官能基と、リガンド化合物：
【化９】
2012503085.tif 000010
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、との反応生成物を含む物品。
〔３１〕
前記グラフトされた求電子性官能基が、（ｉ）エポキシ基又は開環エポキシ連結基、（ｉｉ）アズラクトン基又は開環アズラクトン連結基、又は（ｉｉｉ）イソシアナト基から選択される、項目３０に記載の物品。
〔３２〕
前記多孔質ベース基材が、微小多孔性である、項目３０に記載の物品。
〔３３〕
前記物品が、親水性である、項目３０に記載の物品。
〔３４〕
前記多孔質ベース基材が、多孔質膜、多孔質不織布ウェブ、又は多孔質繊維を含む、項目３０に記載の物品。
〔３５〕
前記電離放射線グラフトされた求電子性官能基が、エポキシ基、開環エポキシ基、イソシアナト基、アズラクトン基、又は開環アズラクトン基を含む、項目３０に記載の物品。
〔３６〕
グラフトされたイオン性基又は親水性基を更に含む、項目３０に記載の物品。
〔３７〕
前記熱可塑性ポリマーが、ポリ（フッ化ビニリデン）を含む、項目３０に記載の物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の表面から伸長するグラフトされたビグアニドリガンド基とを備える、生体サンプルからの生体物質の選択的な結合及び除去に使用される物品。
【請求項２】
前記ビグアニドリガンド基が、以下の式のうちの１つ以上である、請求項１に記載の物品：
【化１０】
2012503085.tif 000011
式中、
Ｒ２は、アリーレン又はアルキレンであり、ａは、少なくとも１である。
【請求項３】
前記基材の表面上にグラフトされた四級アンモニウム基を更に備える、請求項１に記載の物品。
【請求項４】
前記基材が、多孔質基材である、請求項１に記載の物品。
【請求項５】
前記基材が、熱可塑性ポリマーである、請求項１に記載の物品。
【請求項６】
前記熱可塑性ポリマーが、ポリオレフィン、ポリ（イソプレン）、ポリ（ブタジエン）、フッ素化ポリマー、塩素化ポリマー、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリ（エーテルスルホン）、ポリ（スルホン）、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（エチレン）−コ−ポリ（ビニルアルコール）などのビニルアセテートのコポリマー、ポリ（ホスファゼン）、ポリ（ビニルエステル）、ポリ（ビニルエーテル）、ポリ（ビニルアルコール）、及びポリ（カーボネート）から選択される、請求項１に記載の物品。
【請求項７】
ａ）前記基材の表面から伸長するグラフトされた求電子性官能基を有する置換基材と、ｂ）リガンド化合物：
【化１１】
2012503085.tif 000012
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、との反応生成物を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項８】
前記グラフトされた求電子性官能基が、（ｉ）エポキシ基又は開環エポキシ連結基、（ｉｉ）アズラクトン基又は開環アズラクトン連結基、又は（ｉｉｉ）イソシアナト基から選択される、請求項７に記載の物品。
【請求項９】
グラフトされたイオン性基又は親水性基を更に含む、請求項７に記載の物品。
【請求項１０】
前記基材が、多孔質膜、多孔質不織布ウェブ、又は多孔質繊維を含む、請求項７に記載の物品。
【請求項１１】
請求項１に記載の物品を調製する方法であって、
１）熱可塑性ポリマー基材を提供する工程と、
２）求電子性官能基を基材の表面にグラフト化して、前記基材の表面（１つ又は複数）から伸長するグラフトされた求電子性官能基を有する基材を作製する工程と、
３）前記グラフトされた求電子性官能基とリガンド化合物：
【化１２】
2012503085.tif 000013
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、とを反応させて、
前記基材の表面（１つ又は複数）から伸長するグラフトされたリガンド基を有する基材を作製する工程と、を含む方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の物品を調製する方法であって、
１）熱可塑性ポリマー基材を提供する工程と、
２）電離放射線により、官能基を基材の表面にグラフト化して、前記基材の表面（１つ又は複数）から伸長するグラフトされた求電子性官能基を有する基材を作製する工程と、
３）前記グラフトされた官能基とリガンド化合物：
【化１３】
2012503085.tif 000014
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、とを反応させて、
前記基材の表面（１つ又は複数）から伸長するグラフトされたリガンド基を有する基材を作製する工程と、を含む方法。
【請求項１３】
前記基材の表面上にグラフトされた四級アンモニウム基を更に備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記基材の表面上にグラフトされた親水性ポリ（アルキレンオキシド）基を更に備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
格子間及び外表面を有する多孔質熱可塑性ベース基材と、前記多孔質ベース基材の表面から伸長する電離放射線グラフトされたリガンド基と、を備える請求項１に記載の物品であって、前記グラフトされたリガンド基が、グラフトされた求電子性官能基と、リガンド化合物：
【化１４】
2012503085.tif 000015
式中、
それぞれのＲ４は、独立してＨ、アルキル又はアリールであり、
それぞれのＲ６は、独立してアルキレン又はアリーレンであり、
ｃは、ゼロ又は１〜５００の整数であってよく、
ｄは、ゼロ又は１であるが、但し、ｄがゼロであるとき、ｃは、１〜５００である、との反応生成物を含み、前記物品がグラフトされたイオン性基又は親水性基を更に備える、請求項１に記載の物品。