【手続補正書】
【提出日】平成26年8月8日(2014.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビーム断面全体に非ガウス放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたレーザ装置であって、前記レーザビームの非ガウス放射照度分布が前記ビーム断面全体に実質的に均一な放射照度分布を備えるレーザ装置と、
前記レーザビームを受光するように光学的に結合された空間光変調器であって、レーザ物質プロセッシングを行ってターゲット物体に画像又はパターンをマーキングするためにビーム断面全体に光学的パターンを備える出力レーザビームを生成するように制御される空間光変調器と、
前記光学的パターンの質を制御するために構成される光コンディショニングシステムと、
最終的な光学的パターンが前記空間的光変調器によって生成された前記光学的パターンの増幅バージョンであるように、前記空間的光変調器からの前記レーザビーム出力を受光して、増幅されたレーザビームを生成するように前記空間的光変調器に結合された光増幅器であって、前記光増幅器からの増幅されたレーザビームがこのビームの断面全体に実質的に均一な増幅を有し、それによって前記増幅されたビームがそのビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する均一性維持光増幅器と、
を備え、
前記光コンディショニングシステムは、前記光学的パターンの伝搬回折ビームを捕捉し、前記光学的パターンの拡大／縮小バージョンを形成するように構成される、
レーザ画像増幅による光学システム。
【請求項２】
前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームが所定の閾値を超えるＭ２値を有する、請求項１の光学システム。
【請求項３】
前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームが所定の範囲内のリップル変化を有する、請求項２の光学システム。
【請求項４】
前記レーザ装置が、前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたマルチモードレーザ光源を備える、請求項１の光学システム。
【請求項５】
前記レーザ装置が、ガウス放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された基本モードレーザ光源を備え、前記レーザ装置が、更に、前記ガウス放射照度分布を有するレーザビームを受光するガウス‐非ガウス放射照度分布変換器であって、前記ビーム断面全体に実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたガウス‐非ガウス放射照度分布変換器を備える、請求項１の光学システム。
【請求項６】
更に、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームをコリメートするように配置された光コリメータを備える、請求項５のレーザマーキングシステム。
【請求項７】
前記光コリメータが、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームを前記ガウス‐非ガウス放射照度分布変換器に伝達する光ファイバに光学的に結合された屈折率分布（ＧＲＩＮ）型レンズを備える、請求項６の光学システム。
【請求項８】
前記光コリメータが、少なくとも１つのコリメータレンズを備える、請求項６の光学システム。
【請求項９】
前記レーザ装置が、不均一な放射照度分布、例えば、ガウス分布、を有するレーザビームを供給するように構成された基本モードレーザ光源を備え、前記レーザ装置が、更に、前記不均一放射照度分布を有するレーザビームを受光する光ディフューザであって、前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された光ディフューザを備える、請求項１の光学システム。
【請求項１０】
前記光学的パターンが、データコードマトリクス及び／又はロゴのようなターゲット上に付与する具体的な情報を伝達するデジタル画像を備える、請求項１の光学システム。
【請求項１１】
前記光コンディショニングシステムが、前記空間的光変調器と前記光増幅器との間又は前記光増幅器とターゲット領域との間の前記伝搬回折ビームを捕捉し、前記光増幅器が、前記光コンディショニングシステムより前又は後、もしくは、前記光コンディショニングシステムを具備するいずれか２つの要素との間の配置になるように構成される、請求項１の光学システム。
【請求項１２】
更に、より長い波長が最初に使用されている場合に前記増幅されたレーザビーム及び前記光学的パターンをより短い波長に変換する周波数変換デバイスを備える、請求項１に記載の光学システム。
【請求項１３】
更に、周波数変換デバイスを備え、前記周波数変換デバイスが、前記光学的パターンを備える伝搬回折ビームが前記光コンディショニングシステムを通過する前に行われる後続の周波数変換を行い、前記後続の周波数変換は前記光学的パターンのフレネル回折パターンに対して行われる、請求項１の光学システム。
【請求項１４】
更に、周波数変換デバイスを備え、前記周波数変換デバイスが、前記光学的パターンを備える伝搬回折ビームが前記光コンディショニングシステムを通過した後に行われる後続の周波数変換を行い、前記後続の周波数変換は実際の光学的パターンに対して行われる、請求項１の光学システム。
【請求項１５】
ビーム断面全体に非ガウス放射照度分布を有するレーザビームを生成する手段であって、前記レーザビームの非ガウス放射照度分布が前記ビーム断面全体に実質的に均一な放射照度分布を備える手段と、
前記レーザビームを受光するように光学的に結合された空間光変調器であって、ターゲット物体に情報又はロゴをマーキングするためにビーム断面全体に前記情報又はロゴを含む光学的パターンを備える出力レーザビームを生成するように制御される空間光変調器と、
前記光学的パターンの質を制御するために構成される光コンディショニングシステムと、
最終的な光学パターンが、前記空間的光変調器によって生成された前記光学的パターンの増幅バージョンになるように増幅されたレーザビームを生成する光増幅手段であって、前記光増幅手段からの前記増幅されたレーザビームがこのビームの断面全体に実質的に均一な増幅を有し、それによって前記増幅されたビームがそのビーム断面全体に前記実質的に均一の放射照度分布を維持する均一性維持光増幅手段と、を備え、
前記光コンディショニングシステムは、前記光学的パターンの伝搬回折ビームを捕捉し、前記光学的パターンの拡大／縮小バージョンを形成するように構成される、
画像増幅による光学システム。
【請求項１６】
前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームが所定の閾値を超えるＭ２値を有する、請求項１５の光学システム。
【請求項１７】
前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームが所定の範囲内のリップル変化を有する、請求項１５の光学システム。
【請求項１８】
前記レーザビームを生成する前記手段が、前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたマルチモードレーザ光源を備える、請求項１５の光学システム。
【請求項１９】
前記レーザビームを生成する前記手段が、ガウス放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された基本モードレーザ光源を備え、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームが、前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成されたガウス‐非ガウス放射照度分布変換器に光学的に結合される、請求項１５の光学システム。
【請求項２０】
更に、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームをコリメートするように配置された光コリメータを備える、請求項１５の光学システム。
【請求項２１】
前記光コリメータが、前記基本モードレーザ光源によって供給されたレーザビームを前記ガウス‐非ガウス放射照度分布変換器に伝達する光ファイバに光学的に結合された屈折率分布（ＧＲＩＮ）型レンズを備える、請求項２０の光学システム。
【請求項２２】
前記光コリメータが、少なくとも１つのコリメータレンズを備える、請求項２０の光学システム。
【請求項２３】
前記レーザビームを生成する前記手段が、ガウス放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された基本モードレーザ光源を備え、前記基本モードレーザ光源によって供給されるレーザビームが、前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を有するレーザビームを供給するように構成された光ディフューザに光学的に結合される、請求項１５のレーザマーキングシステム。
【請求項２４】
前記空間的光変調器が、反射に基づく空間的光変調器及び透過に基づく空間的光変調器よりなる群から選択される、請求項１５の光学システム。
【請求項２５】
前記光コンディショニングシステムが、前記空間的光変調器と前記光増幅手段との間又は前記光増幅手段とターゲット領域との間の前記伝搬回折ビームを捕捉し、前記光増幅器が、前記光コンディショニングシステムより前又は後、もしくは、前記光コンディショニングシステムを具備するいずれか２つの要素との間の配置になるように構成される、請求項１５の光学システム。
【請求項２６】
更に、より長い波長が最初に使用されている場合に前記レーザビーム及び前記光学的パターンをより短い波長に変換する周波数変換デバイスを備える、請求項１５に記載のシステム。
【請求項２７】
更に、周波数変換デバイスを備え、前記周波数変換デバイスが、前記光学的パターンを備える伝搬回折ビームが前記光コンディショニングシステムを通過する前に行われる後続の周波数変換を行い、前記後続の周波数変換は前記光学的パターンのフレネル回折パターンに対して行われる、請求項１５の光学システム。
【請求項２８】
更に、周波数変換デバイスを備え、前記周波数変換デバイスが、前記光学的パターンを備える伝搬回折ビームが前記光コンディショニングシステムを通過した後に行われる後続の周波数変換を行い、前記後続の周波数変換は実際の光学的パターンに対して行われる、請求項１５の光学システム。
【請求項２９】
前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する前記増幅されたビームは、光リソグラフィーで使用される画像を提供するために適用される、請求項１の光学システム。
【請求項３０】
前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する前記増幅されたビームは、レーザ直接描画で使用される画像を提供するために適用される、請求項１の光学システム。
【請求項３１】
前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する前記増幅されたビームは、レーザ物質移動法で使用される画像を提供するために適用される、請求項１の光学システム。
【請求項３２】
前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する前記増幅されたビームは、シネマシアター及びホームシアタースクリーンのうち少なくとも１つで見られる画像を提供するために適用される、請求項１の光学システム。
【請求項３３】
前記レーザ直接描画が、レーザ焼結及びレーザ付加製造を備える、請求項３０の光学システム。
【請求項３４】
前記光コンディショニングシステムが、前記空間光変調器に由来する空間的な制限、回折制限、及び、放射照度制限のうち少なくとも１つを克服するように構成される少なくとも１つの光学素子を備える、請求項１の光学システム。
【請求項３５】
前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する前記増幅されたビームは、光リソグラフィーで使用される画像を提供するために適用される、請求項１５の光学システム。
【請求項３６】
前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する前記増幅されたビームは、レーザ直接描画で使用される画像を提供するために適用される、請求項１５の光学システム。
【請求項３７】
前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する前記増幅されたビームは、レーザ物質移動法で使用される画像を提供するために適用される、請求項１５の光学システム。
【請求項３８】
前記ビーム断面全体に前記実質的に均一な放射照度分布を維持する前記増幅されたビームは、シネマシアター及びホームシアタースクリーンのうち少なくとも１つで見られる画像を提供するために適用される、請求項１５の光学システム。
【請求項３９】
前記レーザ直接描画が、レーザ焼結及びレーザ付加製造を備える、請求項３６の光学システム。
【請求項４０】
前記光コンディショニングシステムが、前記空間光変調器に由来する空間的な制限、回折制限、及び、放射照度制限のうち少なくとも１つを克服するように構成される少なくとも１つの光学素子を備える、請求項１５の光学システム。