【事件の表示】
　平成　５年特許願第　５２０３５号「パターン欠陥検査方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　６年　９月２２日出願公開、特開平　６−２６５４８０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成５年３月１２日の出願であって、平成１４年３月１９日付け（発送日平成１４年３月２６日）で拒絶査定がなされ、これに対し、平成１４年４月２５日に審判請求がなされたものであって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という）は、平成１３年１０月５日付けおよび平成１４年５月１３日付けの手続補正書で補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載の次のとおりのものと認める。
　「【請求項１】被検査パターンの形成されている試料を光学的に走査して得られた測定データを基に被検査パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検査方法において、一定形状のパターンが繰返し形成されていない領域では、前記走査によって得られた測定データと前記被検査パターンの作成時に用いた設計データとを順次比較して前記被検査パターンの欠陥情報を得る第１の検査手法を行い、一定形状のパターンが繰返し形成されている領域では、前記第１の検査手法を行うと共に、前記走査によって順次得られる一定領域分毎の測定データ相互を比較して前記被検査パターンの欠陥情報を得る第２の検査手法とを行い、前記一定領域分毎に対する第１及び第２の検査手法による各々の検査結果に基づいて、予め定められた判定基準に従って欠陥の有無を総合的に判定することを特徴とするパターン欠陥検査方法。」
　
２．引用刊行物記載の発明
　これに対して原査定の拒絶理由で示された刊行物は次のものである。
刊行物１：特開昭６１−４７６３５号公報
刊行物２：特開昭６３−２６０１４７号公報
　
　刊行物１には、
　「被検体のパターンの同じパターンが繰り返し出現しないデータ比較モードにおいては、前記被検体のパターンに対応した基準情報を蓄積した記録媒体から読み出した基準情報を蓄積した記録媒体から読み出した基準情報と、前記被検体のパターンを実際に走査して得た走査情報とを比較して被検体の欠陥を検出し、同じパターンが繰り返し出現するパターン比較モードにおいては、繰り返しパターンのピッチに対応する所定の位置における第１の走査情報と第２の走査情報とを比較してパターンの欠陥を検出することを特徴とするパターンの欠陥検査方法。」（第１頁左下欄第５−１６行）、
　「マスク原版を作成するときに使用するＰＧ（Pattern Generation)テープに記憶された情報」（第１頁右下欄第１８−２０行）、
　「ランダムパターンと完全繰り返しパターンの判断は、第２図に示したレチクルテープによって行うことができる。……、不完全パターンと完全繰り返しパターンを判断することもできる。」（第３頁右上欄第１９行−同頁左下欄第１９行）、
　「まずステージユニット１０においては、被検体１８のパターン（例えばレチクルパターン等）に光源１１よりの光を照射し、その透過光を共通の対物レンズを介してビットアレイよりなる第１および第２のイメージセンサ２３−１および２３−２に入射する。これらイメージセンサ２３−１，２３−２は所定の間隔で設けられ、……そのうちの１個のイメージセンサを使用してデータ比較モードにより欠陥を判断するか、あるいは２個イメージセンサを使用してパターン比較モードにより欠陥を判断するかを選択する構成となっている。」（第３頁右下欄第１２行−第４頁左上欄第５行）、
　「走査領域の選択および走査はＸテーブル１５，Ｙテーブル１６を駆動機構１３，１２を駆動することで実行している。Ｘ、Ｙテーブル１５，１６の制御は、それらの動きをリニアエンコーダ１９，２０により検知してステージポジションコレクタ２１に供給することによって行われる。」（第４頁左上欄第１４−１９行）、
　「このビデオ変換ユニット３０は、ランダムパターンおよび不完全繰り返しパターンについてデータ比較を行うとき、比較データを作成するのに使用される。ＣＡＤシステム等により作成されたＰＧテープは、本システムのフォーマットを持つ検査用レチクルテープ３１に変換され、ビデオ変換ユニットに供給される。」（第４頁右上欄第１１−１７行）、
　「繰り返しパターンでのピッチに対応した幅をおいて２個のイメージセンサ１，２を横に並べて配置したが、……、イメージセンサを１個としてその走査情報を電気的に所定の時間だけ遅延させて、もう１つの走査情報を得て比較すべき２つの走査情報を得ることもできる。」（第４頁右下欄第２０行−第５頁左上欄第１４行）、
　が記載されている。
　
　刊行物２には、
　「半導体ウェーハもしくはマスク基板上に形成された集積回路パターンを、該集積回路パターンの検証用設計データと照合することによりパターン検証を行う方法において、集積回路パターン内に単位領域が連続的に配列してなる規則的な部分領域（規則領域）を選択し、前記単位領域の検証用設計データ、もしくは……を、前記規則領域の形成パターンの各単位領域の照合に繰り返し利用することを特徴とするパターン検証方法。」（第１頁左下欄第５−１６行）、
　が記載されている。
　
３．対比・検討
　本願発明と、刊行物１に記載された発明を対比すると、
　刊行物１における「パターンの形成されている被検体１８（レチクル）」、「被検体１８のパターンに光源よりの光を照射して、透過光をセンサに入射させ、走査をＸＹテーブルを駆動することで行うことにより得られた走査データ」がそれぞれ、本願発明における「被検査パターンの形成されている試料」、「試料を光学的に走査して得られた測定データ」に相当し、
　刊行物１において「被検体のパターンの同じパターンが繰り返し出現しないデータ比較モード」は、「ランダムパターンおよび不完全繰り返しパターンの領域」において行われ、「同じパターンが繰り返し出現するパターン比較モード」は、「完全繰り返しパターンの領域」において行われることが明らかであり、また、刊行物１において「被検体のパターンに対応した基準情報を蓄積した記録媒体から読み出した基準情報」というのは、マスク原版（レチクル）を作成するときに使用したＰＧ（Pattern Generation)テープがフォーマット変換されて検査用レチクルテープ３１となり、該レチクルテープ３１から読み出した情報のことであって、このレチクルテープから読み出した情報（基準情報）は、試料（レチクル）にパターンを作成する時に用いた情報のことであることが明らかであるから、刊行物１における「被検体のパターンの同じパターンが繰り返し出現しないデータ比較モードにおいて、前記被検体のパターンに被検体のパターンに対応した基準情報を蓄積した記録媒体から読み出した基準情報と、前記被検体のパターンを実際に走査して得た走査情報を比較して被検体のパターンの欠陥を検出し」が、本願発明における「一定形状のパターンが繰返し形成されていない領域では、走査によって得られた測定データと被検査パターンの作成時に用いた設計データとを順次比較して前記被検査パターンの欠陥情報を得る第１の検査手法」に相当し、刊行物１において、完全繰り返しパターンについてパターン比較モードで検査する場合は、「繰り返しパターンのピッチに対応した幅をおいて２個のイメージセンサを並べて配置」して、各イメージセンサから得られる走査情報同志を比較したり、または、「イメージセンサを一個としてその走査情報を電気的に所定の時間だけ遅延させて、もう１つの走査情報を得て比較すべき２つの走査情報を得る」ようにしているから、このパターン比較モードの検査は、本願発明の「一定形状のパターンが繰返し形成されている領域では、前記走査によって順次得られる一定領域分毎の測定データ相互を比較して前記被検査パターンの欠陥情報を得る第２の検査手法を行う」に相当するから、両者は、
　「被検査パターンの形成されている試料を光学的に走査して得られた測定データを基に被検査パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検査方法において、一定形状のパターンが繰返し形成されていない領域では、前記走査によって得られた測定データと前記被検査パターンの作成時に用いた設計データとを順次比較して前記被検査パターンの欠陥情報を得る第１の検査手法を行い、一定形状のパターンが繰返し形成されている領域では、前記走査によって順次得られる一定領域分毎の測定データ相互を比較して前記被検査パターンの欠陥情報を得る第２の検査手法とを行う、ことを特徴とするパターン欠陥検査方法。」
　である点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点
　本願発明は、「一定形状のパターンが繰り返し形成されている領域では、前記第１の検査手法を行うと共に、前記一定領域分毎に対する第１及び第２の検査手法による各々の検査結果に基づいて、予め定められた判定基準に従って欠陥の有無を総合的に判定する」のに対し、刊行物１には、一定形状のパターンが繰り返し形成されている領域では、第２の検査手法を行うに過ぎない点。
　
　前記相違点について検討すると
　半導体のマスクパターンの外観検査の技術分野において、パターンを施された被検査体が多数あった場合、各被検査体のパターン同志を比較して被検査体の欠陥検査をする方法と、検査対象のパターンとこのパターンを作成するのに用いた設計データとを比較して被検査体の欠陥検査をする方法の２方法が従来周知であって、これら２方法を同じ検査箇所に併用して、被検査体の欠陥検査をすることが従来周知である［このことは、原査定の拒絶査定の備考欄で引用された特開昭５８−２７３２３号公報の「対物レンズを２つ設け、２つのペレットまたはマスクどうしの比較および設計データとの比較を行って欠陥を検出するマスク検査方法」（第１頁左下欄第４−６行）、「まず、２つのマスク（またはペレット）パターンどうしを比較する場合、……。この検査結果はカセットテープ９および（または）プリンタ１０により記録される。一方、設計データ５に基づくマスクパターン（基準パターン）と被検査マスクパターンとを比較する場合には、……。この検査結果もカセットテープ９および（または）プリンタ１０により記録される。このように本実施例によれば、設計データとの比較は勿論、２つのマスク（ペレット）どうしの比較を高速で行うことができ、パターンの抜けや全ペレットに共通している欠陥等も確実に検出できる」（第２頁左下欄第８行−第３頁左上欄第８行）という記載から明らかである。］から、刊行物１に記載のものにおいて、一定形状のパターンが繰り返し形成されている領域で、走査によって順次得られる一定領域分毎（例えば、一定形状のパターンＡ、が繰り返されている時、一定量域分は、１個のパターンＡということである）の測定データ相互を比較して前記被検査パターンの欠陥情報を得る第２の検査手法とともに、一定形状のパターンが繰り返し形成されている領域で、走査によって得られた測定データと被検査パターンの作成時に用いた設計データとを順次比較して前記被検査パターンの欠陥情報を得る第１の検査手法も行うようにすることは、当業者が必要に応じて適宜選択できた程度の設計的事項と認められ、その際、第１の検査手法を前記一定領域分（パターンＡが繰り返す際の１個のパターンＡの領域）を一単位として繰り返し行うことは従来周知であり（例として、刊行物２を参照）、また、前記一定領域分に第１の検査手法と、第２の検査手法を併用した場合に、得られた検査結果が合わない場合も当然にあろうから（同じ検査結果が得られるのなら、そもそも２つの検査方法を併用する意味がない）、それぞれの方法で得られた比較結果乃至は欠陥検査結果を総合的に検討して、欠陥を判定するようにすることは、当業者が、容易に想到できた程度のものである。　
　
４．むすび
　したがって、本願請求項１に係る発明は、刊行物１、２に記載された発明および従来周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。