Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月9日(2014.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バルブカートリッジと、伝動装置とを含むバルブカートリッジ機構であって、前記バルブカートリッジの先端に凹部が形成され、前記伝動装置は前記バルブカートリッジの前記凹部に設けられ、且つ前記バルブカートリッジの前記凹部と第１の伝動関係及び第２の伝動関係を形成し、前記第１の伝動関係は、前記伝導装置が前記バルブカートリッジを周方向に回転させるように駆動するものであり、前記第１の伝動関係が終了する場合、前記伝動装置と前記バルブカートリッジとは前記第１の伝動関係から前記第２の伝動関係に切り替えられ、前記第２の伝動関係は、前記伝動装置が前記バルブカートリッジに押圧動作を行わせるように駆動するものであり、前記押圧動作によって前記バルブカートリッジは少なくとも軸方向における移動の分量を有することを特徴とするバルブカートリッジ機構。
【請求項２】
前記伝動装置は伝動部材であり、前記伝動部材は一体部材であり、前記伝動部材の少なくとも一部は前記バルブカートリッジの前記凹部内に設けられ、前記凹部内には、径方向の内方に突出する径方向内方突出輪郭が形成され、前記伝動部材には、径方向の外方に突出する径方向外方突出輪郭が形成され、前記伝動部材は弾性のある凸リブをさらに有し、前記弾性のある凸リブと前記凹部の内壁とは、遊離可能な連結関係を有し、前記弾性のある凸リブと前記凹部の内壁とが連結することによって前記伝動部材と前記バルブカートリッジとは前記第１の伝動関係を有し、前記径方向内方突出輪郭と前記径方向外方突出輪郭とが嵌めあうことによって前記伝動部材と前記バルブカートリッジとは前記第２の伝動関係を有し、前記弾性のある凸リブと前記凹部の内壁との連結が外れることによって、前記伝動部材は、前記バルブカートリッジ内に回転して、前記バルブカートリッジと前記第１の伝動関係又は前記第２の伝動関係を切り替え可能に形成することを特徴とする請求項１に記載のバルブカートリッジ機構。
【請求項３】
前記バルブカートリッジの前記凹部の内周壁に窪みが形成され、前記伝動部材の前記弾性のある凸リブの先端が前記窪み内に嵌め込まれることによって、前記伝動部材と前記バルブカートリッジとは前記第１の伝動関係を有することを特徴とする請求項２に記載のバルブカートリッジ機構。
【請求項４】
前記径方向内方突出輪郭は前記バルブカートリッジの前記凹部の内周壁に形成され、前記径方向内方突出輪郭の両側には位置限定突起を有し、前記伝動部材の前記弾性のある凸リブ及び前記径方向外方突出輪郭は前記伝動部材の外周壁に形成されることを特徴とする請求項２又は３に記載のバルブカートリッジ機構。
【請求項５】
バルブ本体と、バルブシートと、請求項１乃至４のいずれかに記載のバルブカートリッジ機構とを含むバルブであって、前記バルブカートリッジ及びバルブシートは前記バルブ本体内に設けられ、前記バルブカートリッジと前記バルブシートとが圧接することでバルブ本体の通路を閉めたり、前記バルブカートリッジと前記バルブシートとが離間することでバルブ本体の通路を開いたりし、前記バルブカートリッジの底部は可動な連結部材を介して前記バルブ本体により支持され、前記可動な連結部材は前記バルブカートリッジの前記バルブ本体に対して周方向に回転する自由度及び軸方向に移動する自由度を提供し、前記バルブ本体と前記バルブカートリッジとの間には、前記バルブカートリッジの回転方向において、前記バルブシートに位置合わせた後の前記バルブカートリッジの回転を制限する位置限定ブロック機構が設けられることを特徴とするバルブ。
【請求項６】
前記伝動部材は中心伝動穴を有し、該中心伝動穴はスプライン穴であり、駆動器の動力出力軸と前記中心伝動穴とはスプライン連結し、前記スプライン穴は不規則形であるため、前記駆動器の動力出力軸と前記中心伝動穴とは嵌め合い関係を有することを特徴とする請求項５に記載のバルブ。
【請求項７】
前記凹部の中心には長穴を有し、前記径向内方突出輪郭と前記径方向外方突出輪郭との最も高い嵌め合い位置は前記長穴の長手方向にあり、前記駆動器の動力出力軸は前記中心伝動穴から前記長穴内に延出していることを特徴とする請求項６に記載のバルブ。
【請求項８】
前記バルブは、ボールバルブ又はバタフライバルブであることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載のバルブ。
【請求項９】
前記駆動器は弁棒であり、該弁棒のハンドル部は誤開防止機構を有することを特徴とする請求項６又は７に記載のバルブ。
【請求項１０】
前記弁棒と前記伝動装置とは一体部材であり、前記伝動装置は前記弁棒の先端とされていることを特徴とする請求項９に記載のバルブ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月1日(2014.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モニター装置とフィルターカートリッジの耐用期間とを相関付ける方法であって、
前記モニター装置を提供する工程と、
前記モニター装置を較正して、前記フィルターカートリッジの耐用期間に対応する工程
とを含み、
前記モニター装置が、
容器内のデマンド物質、
検出点を有する検出要素、
前記検出要素用のリーダー、及び
流体送達パラメーターを含む流体送達装置、を含み、
前記流体送達パラメーター及び前記検出要素の前記検出点が
前記フィルターカートリッジの耐用期間に相関付けられた、方法。
【請求項２】
前記モニター装置を較正して、前記フィルターカートリッジの耐用期間に対応する工程が
前記フィルターカートリッジに対する滞留時間を決定する工程と、
前記モニター装置に対する滞留時間を決定する工程と、
前記モニター装置の滞留時間と、
前記フィルターカートリッジの滞留時間との比を決定する工程と、
前記比を使用して、
前記モニター装置内の前記センサー内の応答を前記フィルターカートリッジの耐用期間に相関付ける工程とを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記モニター装置内の前記センサーの応答が、前記流体送達装置の前記流体送達パラメーターの制御により前記フィルターカートリッジの耐用期間に相関付けられ、前記流体送達パラメーターが、流量、デマンド物質重量、容器断面積、容器容積、容器長さ、及び前記モニター装置のデマンド物質充填密度を含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記フィルターカートリッジの耐用期間が、式：
ｔＳＬ＝ｔｂ（ＷカートリッジＱモニター／ＷモニターＱカートリッジ）
により記述され、式中、
ｔＳＬが前記フィルターカートリッジの耐用期間であり、
ｔｂが前記モニターの耐用期間であり、
Ｗカートリッジが前記カートリッジ内の前記デマンド物質の重量であり、
Ｑモニターが前記モニター内の流量であり、
Ｗモニターが前記モニター内の前記デマンド物質の重量であり、
Ｑカートリッジが前記カートリッジ内の流量である、請求項３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月26日(2014.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部分的アッセンブリ後にＴＳＶ接合完全性（ｉｎｔｅｇｒｉｔｙ）を判定する非接触電圧コントラスト（ＶＣ）方法であって、
シリコン貫通ビア（ＴＳＶ）ダイを提供することであって、前記ＴＳＶダイが、前記ＴＳＶダイの表部側から前記ＴＳＶダイの底部側上のＴＳＶティップへ延びる複数のＴＳＶを含み、前記ＴＳＶダイの前記表部側で前記複数のＴＳＶ（接触ＴＳＶ）の少なくとも一部が、多層（ＭＬ）パッケージ基板の上面上のパッドに取り付けられ、前記ＭＬパッケージ基板が、前記ＴＳＶダイの前記表部側への電気的アクセスをブロックする基板キャリア上にあり、前記接触ＴＳＶのグループを含む２つ又はそれ以上のネットが前記ＭＬ基板内で共に結び付けられる、前記ＴＳＶダイを提供することと、
前記２つ又はそれ以上のネットから選択された第１のネット内の選択されたＴＳＶ上に、荷電粒子リファレンスビームを向けることと、
前記第１のネットの少なくとも前記接触ＴＳＶを含むエリアにわたり荷電粒子一次ビームをラスタすることであって、前記ラスタすることに応答してＶＣ信号が発せられる、前記荷電粒子一次ビームをラスタすることと、
前記ＶＣ信号を検出することと、
前記ＶＣ信号を用いて前記ＭＬパッケージ基板の前記パッドに対する前記接触ＴＳＶの接合完全性を判定することと、
を含む、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記判定することが、前記ＶＣ信号からのパターンを、前記ＴＳＶダイのための既知の良好ダイ（ＫＧＤ）リファレンスから得たＶＣ信号から得たパターンと比較することを含む、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
前記荷電粒子リファレンスビームと前記荷電粒子一次ビームとが、電子ビーム、陽子ビーム又はイオンビームを含む、方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、
前記ＴＳＶティップが突出するＴＳＶティップを含む、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、
前記基板キャリアがクォーツ又はセラミックキャリアを含む、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、
前記ＶＣ信号から画像を形成することを更に含み、接合完全性を判定することが前記画像を利用することを含む、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、
前記２つ又はそれ以上のネットから選択された第２のネット内の選択されたＴＳＶ上に、前記荷電粒子リファレンスビームを向けることと、
前記第２のネットの前記接触ＴＳＶを含むエリアにわたり荷電粒子一次ビームをラスタすることと、
前記第２のネットの前記接触ＴＳＶにわたり前記荷電粒子一次ビームをラスタすることから前記ＶＣ信号を検出することと、
を更に含む、方法。
【請求項８】
部分的アッセンブリ後にＴＳＶ接合完全性を判定する非接触電圧コントラスト（ＶＣ）方法であって、
シリコン貫通ビア（ＴＳＶ）ダイを提供することであって、前記ＴＳＶダイが、前記ＴＳＶダイの表部側から前記ＴＳＶダイの底部側上のＴＳＶティップへ延びる複数のＴＳＶを含み、前記ＴＳＶダイの前記表部側で前記複数のＴＳＶ（接触ＴＳＶ）の少なくとも一部が、多層（ＭＬ）パッケージ基板の上面上のパッドに取り付けられ、前記ＭＬパッケージ基板が、前記ＴＳＶダイの前記表部側への電気的アクセスをブロックする基板キャリア上にあり、前記接触ＴＳＶのグループを含む２つ又はそれ以上のネットが前記ＭＬ基板内で共に結び付けられる、前記ＴＳＶダイを提供することと、
前記２つ又はそれ以上のネットから選択された第１のネット内の選択されたＴＳＶ上に、荷電粒子リファレンスビームを向けることと、
前記第１のネットの少なくとも前記接触ＴＳＶを含むエリアにわたり荷電粒子一次ビームをラスタすることであって、前記ラスタすることに応答してＶＣ信号が発せられる、前記荷電粒子一次ビームをラスタすることと、
前記ＶＣ信号を検出することと、
前記ＶＣ信号を用いて前記ＭＬパッケージ基板の前記パッドに対する前記接触ＴＳＶの接合完全性を判定することと、
を含み、
前記荷電粒子リファレンスビームと前記荷電粒子一次ビームとが別個のビームであり、前記荷電粒子一次ビームをラスタすることが起こる時間の少なくとも一部の間、前記荷電粒子リファレンスビームが前記選択されたＴＳＶに印加される、方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、
前記荷電粒子リファレンスビームと前記荷電粒子一次ビームとの両方が電子ビームを含む、方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の方法であって、
前記荷電粒子リファレンスビームのエネルギー又は電流が、前記荷電粒子一次ビームのエネルギー又は電流に比べ少なくとも１０％高いレベルである、方法。
【請求項１１】
請求項８に記載の方法であって、
前記ＴＳＶティップが突出するＴＳＶティップを含む、方法。
【請求項１２】
請求項８に記載の方法であって、
前記基板キャリアがクォーツ又はセラミックキャリアを含む、方法。
【請求項１３】
請求項８に記載の方法であって、
前記ＶＣ信号から画像を形成することを更に含み、接合完全性を判定することが前記画像を利用することを含む、方法。
【請求項１４】
請求項８に記載の方法であって、
前記２つ又はそれ以上のネットから選択された第２のネット内の選択されたＴＳＶ上に、前記荷電粒子リファレンスビームを向けることと、
前記第２のネットの前記接触ＴＳＶを含むエリアにわたり荷電粒子一次ビームをラスタすることと、
前記第２のネットの前記接触ＴＳＶにわたって前記荷電粒子一次ビームをラスタすることから前記ＶＣ信号を検出することと、
を更に含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月8日(2014.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力トルクを受ける入力部材と、
前記入力部材に固定されて、前記入力部材とともに回転するロータと、
前記ロータに隣接して配置された出力部材と、
前記ロータと前記出力部材との間に画定された作業チャンバと、
剪断流体を保持するように構成されたリザーバと、
前記作業チャンバと前記リザーバとの間に画定された戻り経路と、
磁場を選択的に発生させるための電磁コイルと、
前記リザーバと前記作業チャンバとの間の剪断流体の流れを選択的に制御するように構成された弁アセンブリとを備え、
前記弁アセンブリが、
前記剪断流体が貫通可能となるように孔を画定するオリフィス板と、
前記オリフィス板に対して固定されたリード弁と、
磁性体を含む電機子と、
前記電機子に固定されたアンカーばねと、
補強板とを備え、
前記リード弁が、
前記オリフィス板の前記孔を選択的に覆うように構成された舌部と、
前記舌部の遠位端を揺動する、前記舌部における第１の揺動部とを備え、
前記電機子が、前記電磁コイルにより発生する前記磁場に応じて前記リード弁に選択的に力を加えて、前記第１の揺動部を介して前記舌部の少なくとも前記遠位端を揺動させるように構成され、
第２の揺動部が前記補強板の縁部で前記アンカーばねに画定され、前記第１および第２の揺動部が互いに離間している、粘性クラッチ。
【請求項２】
前記アンカーばねと前記オリフィス板とは前記ロータに固定され、前記弁アセンブリが前記ロータとともに回転する、請求項１に記載の粘性クラッチ。
【請求項３】
前記ロータに固定された止め部をさらに備え、前記止め部は、前記電機子の前記電磁コイル側への移動を制限するように構成され、
前記電機子は、本体部と、前記本体部からの延長部とを備え、前記延長部が作動時に前記リード弁の前記舌部に接触するように構成される、請求項１に記載の粘性クラッチ。
【請求項４】
前記電機子は、前記延長部から約９０°で前記本体部から延びるタブをさらに備える、請求項３に記載の粘性クラッチ。
【請求項５】
前記弁アセンブリは、前記アンカーばねに固定され、前記電機子の縁部から前記第２の揺動部側へ、前記アンカーばねの第１の側に沿って延びる裏板をさらに備える、請求項１に記載の粘性クラッチ。
【請求項６】
前記裏板は前記補強板に少なくとも部分的に重なっている、請求項５に記載の粘性クラッチ。
【請求項７】
前記補強板は前記電機子から間隙Ｌだけ離間している、請求項１に記載の粘性クラッチ。
【請求項８】
固定シャフトをさらに備え、前記出力部材と前記入力部材とが、それぞれ前記固定シャフトにより回転可能に支持される、請求項１に記載の粘性クラッチ。
【請求項９】
前記電磁コイルが前記リザーバ内に配設される、請求項８に記載の粘性クラッチ。
【請求項１０】
磁場を発生させるステップと、
前記磁場を使用して、第１の揺動部にて電機子を揺動させるステップと、
前記電機子によりリード弁に力を加えるステップと、
前記加えられた力に応じて、前記第１の揺動部から離間した第２の揺動部にて前記リード弁の少なくとも一部を揺動させるステップと、
前記リード弁で孔を覆って、前記孔を通る流体を制限するステップとを含む、粘性クラッチを操作するための方法。
【請求項１１】
力が加えられたときに、前記電機子が前記リード弁に沿って摺動する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記電機子に取り付けられたアンカーばねの曲げを裏板により制限するステップをさらに含み、前記第１の揺動部が前記アンカーばねに画定される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記アンカーばねに接触して位置決めされた補強板の縁部を使用して、前記第１の揺動部を、前記電機子に取り付けられたアンカーばねに画定するステップをさらに含み、前記補強板の前記縁部が前記電機子から離間している、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記補強板の幅を変化させて、前記アンカーばねのばね定数を調節するステップをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
流体が貫通可能となるように孔を画定するオリフィス板と、
前記オリフィス板に対して固定されたリード弁と、
磁性体を含む電機子と、
前記電機子に固定されたアンカーばねと、
補強板とを備え、
前記リード弁が、
前記オリフィス板の前記孔を選択的に覆うように構成された舌部と、
前記舌部における第１の揺動部とを備え、
前記電機子が、前記舌部の少なくとも一部を前記第１の揺動部にて揺動させるように構成され、
第２の揺動部が前記補強板の縁部で前記アンカーばねに画定され、前記第１および第２の揺動部が互いに離間している、粘性クラッチのための弁アセンブリ。
【請求項１６】
前記電機子は、本体部と、前記本体部からの延長部とを備え、前記延長部が作動時に前記リード弁の前記舌部に接触するように構成される、請求項１５に記載のアセンブリ。
【請求項１７】
前記電機子は、前記延長部から約９０°で前記本体部から延びるタブをさらに備える、請求項１６に記載のアセンブリ。
【請求項１８】
前記アンカーばねに固定され、前記電機子の縁部から前記第２の揺動部側へ、前記アンカーばねの第１の側に沿って延びる裏板をさらに備える、請求項１５に記載のアセンブリ。
【請求項１９】
前記裏板が前記補強板に少なくとも部分的に重なっている、請求項１８に記載のアセンブリ。
【請求項２０】
前記補強板が前記電機子から間隙Ｌだけ離間している、請求項１５に記載のアセンブリ。
【請求項２１】
前記オリフィス板が前記リード弁に面した凹部を備え、前記第１の揺動部が前記凹部に係合する、請求項１５に記載のアセンブリ。
【請求項２２】
磁場を選択的に発生させるための電磁コイルと、
前記電磁コイルにより発生する前記磁場に応じて、前記リザーバと前記作業チャンバとの間の、孔を通る剪断流体の流れを選択的に制御するように構成された弁アセンブリとを備え、
前記弁アセンブリが、
第１の揺動部にて揺動するように構成された電機子を備えた第１の弁サブアセンブリと、
リード弁を備えた第２の弁サブアセンブリとを備え、前記リード弁の少なくとも一部が、前記第１の揺動部から離間した第２の揺動部にて揺動するように構成され、前記第１の弁サブアセンブリが、第２の弁サブアセンブリに選択的に力を加えて、前記リード弁が前記孔を選択的に覆うように構成される、粘性クラッチ。
【請求項２３】
前記第１の弁サブアセンブリが、前記電機子に固定されたアンカーばねと、補強板とをさらに備え、第２の揺動部が前記補強板の縁部で前記アンカーばねに沿って画定され、前記第１および第２の揺動部が互いに離間している、請求項２２に記載の粘性クラッチ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月31日(2014.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体の速度を決定する速度決定装置において、
少なくとも３つの異なる周波数方向においてドップラ周波数を測定するドップラ周波数測定ユニットと、
前記少なくとも３つの異なる周波数方向の計算周波数方向におけるドップラ周波数の測定が妨げられる場合でさえも、信頼できるドップラ周波数が前記計算周波数方向において決定されることができるように、前記計算周波数方向に対するドップラ周波数を、前記少なくとも３つの異なる周波数方向の少なくとも２つの他の周波数方向に対するドップラ周波数に依存して、計算するドップラ周波数計算ユニットと、
前記計算周波数方向に対して計算された前記計算されたドップラ周波数、及び前記少なくとも２つの他の周波数方向に対するドップラ周波数に依存して前記物体の速度を決定する速度決定ユニットと、
を有する速度決定装置。
【請求項２】
前記速度決定ユニットが、三次元速度を決定するように３つの速度方向において前記速度を決定し、前記３つの速度方向は、前記速度方向の１つにおける速度が前記少なくとも３つの異なる周波数方向に対して測定されたドップラ周波数の組み合わせにより決定可能であるように、前記少なくとも３つの周波数方向とは異なる、請求項１に記載の速度決定装置。
【請求項３】
前記ドップラ周波数計算ユニットが、前記少なくとも２つの他の周波数方向に対して測定されたドップラ周波数の線形結合に依存して前記計算周波数方向に対するドップラ周波数を計算する、請求項１に記載の速度決定装置。
【請求項４】
前記速度決定装置は、前記ドップラ周波数計算ユニットにより実行された計算の精度を示す精度条件が満たされているかどうかを決定する精度条件満足決定ユニットを有し、前記精度満足決定ユニットが、前記精度条件が満たされていると決定した場合に、前記ドップラ周波数計算ユニットが、前記計算周波数方向に対するドップラ周波数を計算する、請求項１に記載の速度決定装置。
【請求項５】
前記速度決定ユニットが、三次元速度を決定するために３つの速度方向において速度を決定し、前記速度決定装置が、速度方向において時間とともに決定された速度を記憶する記憶ユニットを有し、前記精度条件満足決定ユニットは、前記記憶された速度の平均を計算し、前記平均を所定の閾値と比較することにより、前記ドップラ周波数計算ユニットにより実行された計算の精度を示す精度条件が満たされているかどうかを決定する、請求項４に記載の速度決定装置。
【請求項６】
前記精度条件満足決定ユニットは、前記記憶された速度の平均を計算し、前記平均を所定の閾値と比較することにより、前記ドップラ周波数計算ユニットにより実行された計算の精度を示す精度条件が満たされているかどうかを決定する、請求項５に記載の速度決定装置。
【請求項７】
前記記憶ユニットが、垂直速度方向に対応する速度を記憶する、請求項５に記載の速度決定装置。
【請求項８】
前記ドップラ周波数計算ユニットは、ドップラ周波数の測定に欠陥がある欠陥周波数方向を決定し、前記少なくとも３つの異なる周波数方向の前記少なくとも２つの他の周波数方向に対して測定されたドップラ周波数に依存して前記欠陥周波数方向である計算周波数方向に対するドップラ周波数を計算する、請求項１に記載の速度決定装置。
【請求項９】
前記ドップラ周波数測定ユニットが、前記少なくとも３つの異なる周波数方向においてドップラ周波数を測定するために前記少なくとも３つの異なる周波数方向に向けられた少なくとも３つのレーザを有する、請求項１に記載の速度決定装置。
【請求項１０】
前記ドップラ周波数測定ユニットが、前記少なくとも３つの異なる周波数方向においてドップラ周波数を測定するために自己混合干渉技術を使用する、請求項９に記載の速度決定装置。
【請求項１１】
前記ドップラ周波数決定ユニットが、異なる周波数方向に向けられた３より多いレーザを有し、前記速度決定ユニットが、第１の線形速度を決定するのに前記レーザの第１のサブセットを使用し、第２の線形速度を決定するのに前記レーザの第２のサブセットを使用する、請求項９に記載の速度決定装置。
【請求項１２】
前記速度決定ユニットが、前記決定された第１の及び第２の線形速度に基づいて前記物体の回転パラメータを決定する、請求項１１に記載の速度決定装置。
【請求項１３】
物体であって、前記物体の速度を決定する請求項１に記載の速度決定装置を有する物体。
【請求項１４】
物体の速度を決定する速度決定方法において、
少なくとも３つの異なる周波数方向に対してドップラ周波数を測定するステップと、
前記少なくとも３つの異なる周波数方向の計算周波数方向におけるドップラ周波数の測定が妨げられる場合でさえも、信頼できるドップラ周波数が前記計算周波数方向において決定されることができるように、前記計算周波数方向に対するドップラ周波数を、前記少なくとも３つの異なる周波数方向の少なくとも２つの他の周波数方向に対して測定されたドップラ周波数に依存して、計算するステップと、
前記計算周波数方向に対して計算された前記計算されたドップラ周波数、及び前記少なくとも２つの他の周波数方向に対するドップラ周波数に依存して前記物体の速度を決定するステップと、
を有する方法。
【請求項１５】
物体の速度を決定する速度決定コンピュータプログラムにおいて、前記速度決定コンピュータプログラムが、請求項１に記載の速度決定装置を制御するコンピュータ上で実行される場合に、請求項１４に記載の速度決定方法のステップを前記速度決定装置に実行させるプログラムコード手段を有するコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月27日(2014.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記処理システム（５５）は、前記力信号（Ｍ）の複数の検出された値の前記平均値を、ＦＩＦＯタイプの順序によって、検出された前記力信号（Ｍ）の直近の値の平均値として、提供するよう適合された処理ユニット（５０、５１、５２）を有している
ことを特徴とする請求項１に記載の接触式プローブ（１；１'；１''；１'''）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月21日(2014.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検体ガスを検出するための光吸収ガスセンサを動作させる方法であって、前記センサは、
ガス試料収容室と、
少なくとも１つの発光ダイオード（ＬＥＤ）と、
自らにより受信される光の量に敏感な出力信号を有する光センサと
を含み、前記方法は、
複数の電流パルスを前記少なくとも１つのＬＥＤに通すことにより複数の光パルスを生成する工程と、
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る電流を各前記パルスの期間中に複数回測定する工程と、
前記光センサ出力信号と前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記電流の複数の測定結果の両方を考慮して前記ガス試料収容室内の検体ガスの濃度を示す補償信号を生成する工程と、を含む、方法。
【請求項２】
前記光センサ出力信号はまた、各前記パルスの期間中に複数回測定される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記センサ出力信号の前記複数の測定結果もまた前記補償信号を生成する際に考慮される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記電流と前記光センサ出力信号は前記複数のパルス期間中に交互に測定される、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記電流はアナログ・ディジタル変換器（ＡＤＣ）を使用して測定される、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記電流と前記光センサ出力信号を測定するためにＡＤＣが使用される、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つのＬＥＤの温度が測定され、前記測定された温度は前記補償信号を生成する際に考慮される、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記測定された電流と前記光センサ出力信号との比をパルス期間中に少なくとも一回計算する工程を含む、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記測定された電流の複数の測定結果と前記光センサ出力信号の周波数領域解析を行う工程を含む、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
既知の周波数を有するパルスを生成する工程と、
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記測定された電流のエネルギーおよび／または１つまたは複数の周波数帯内の前記光センサ出力信号に関係するパラメータを計算する工程と、を含む、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記電流パルスは、インダクタへの電流源をスイッチオフし、電流を前記インダクタから前記少なくとも１つのＬＥＤに向けることにより生成される、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
ＬＥＤ電流パルスの１つまたは複数の特性は過去のＬＥＤ電流パルス期間中に行われた前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記電流の測定結果の１つまたは複数に応じて選択される、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記１つまたは複数の特性は、前記少なくとも１つのＬＥＤに作動可能に接続されたインダクタへの電流の供給がスイッチ素子により制限される前に、前記スイッチ素子により前記インダクタに電流が供給される期間を決定することにより選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
ＬＥＤ電流パルスの１つまたは複数の特性は前記光センサ出力信号の１つまたは複数の測定結果に応じて選択される、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
ＬＥＤ電流パルスの前記１つまたは複数の特性は前記少なくとも１つのＬＥＤまたは前記光センサの測定特性を補償するように選択される、請求項１２乃至１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記電流は前記電流を抵抗器に通し前記抵抗器両端の電位差を測定することにより測定される、請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
ガス試料収容室と、
少なくとも１つの発光ダイオード（ＬＥＤ）と、光センサにより受信される光の量に敏感な出力信号を有する光検出器と、
複数の電流パルスを少なくとも１つのＬＥＤに通すことにより前記光吸収ガスセンサの測定モードにおいて複数の光パルスを生成するように構成されたＬＥＤ制御回路と、
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る電流を各前記パルスの期間中に複数回測定するように構成された測定装置と、
前記光検知器出力信号と前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記電流の複数の測定結果の両方を考慮して、前記ガス試料収容室内の検体ガスの濃度を示す補償信号を出力するように構成された補償モジュールと、を含む光吸収ガスセンサ。
【請求項１８】
各パルス期間中に前記光センサ出力信号を複数回測定する測定装置を含む、請求項１７に記載の光吸収ガスセンサ。
【請求項１９】
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記電流と前記光センサ出力信号の両方を測定するＡＤＣを含む請求項１７または１８に記載の光吸収ガスセンサ。
【請求項２０】
前記光吸収ガスセンサはまた、１つまたは複数の温度センサを含み、前記補償モジュールは１つまたは複数の感知温度を考慮する、請求項１７乃至１９のいずれか一項に記載の光吸収ガスセンサ。
【請求項２１】
前記ＬＥＤ制御回路は、前記少なくとも１つのＬＥＤを通る電流の前記測定結果の１つまたは複数および／または過去のＬＥＤ電流パルス期間中に行われた前記光センサ出力信号の測定結果の１つまたは複数に応じて、前記少なくとも１つのＬＥＤ制御回路により制御される前記ＬＥＤパルスの１つまたは複数の特性を決定するように構成される、請求項１７乃至２０のいずれか一項に記載の光吸収ガスセンサ。
【請求項２２】
前記ＬＥＤ制御回路は前記少なくとも１つのＬＥＤに作動可能に接続されたインダクタを含み、
前記ＬＥＤ制御回路は、前記インダクタへ電流を供給し、次に前記インダクタへの電流の供給を制限し、これにより電流を前記少なくとも１つのＬＥＤに流させるように動作可能である、請求項１９乃至２１のいずれか一項に記載の光吸収ガスセンサ。
【請求項２３】
前記ＬＥＤ制御回路は、前記少なくとも１つのＬＥＤを通る電流の前記測定結果の１つまたは複数および／または過去のＬＥＤ電流パルス期間中に行われた前記光センサの測定結果の１つまたは複数に応じて、前記インダクタに供給される前記電流および／または前記電流が前記インダクタに供給される前記期間を選択するように構成される、請求項２２に記載の光吸収ガスセンサ。
【請求項２４】
前記少なくとも１つのＬＥＤを通る前記測定された電流の複数の測定結果と前記光センサ出力信号とを解析するように動作可能な周波数領域解析モジュールを含む、請求項１７乃至２３のいずれか一項に記載の光吸収ガスセンサ。
【請求項２５】
ガス試料収容室と、
少なくとも１つの発光ダイオード（ＬＥＤ）と、光センサにより受信される光の量に敏感な出力信号を有する光検出器と、
前記光吸収ガスセンサを請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の方法に従って動作させるように構成された制御回路と、を含む光吸収ガスセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月31日(2014.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
案内系（２）に対して直線経路（ｘ）に沿って延在しかつ直線経路（ｘ）に沿って移動可能な案内棒（３）の極限位置（ｘmin，ｘmax）を検出するために、多数のリードスイッチ要素（５）と少なくとも１つの磁石要素（７）とを有する位置測定システム（１）であって、
前記磁石要素（７）が磁界（Ｈ）を形成するように構成されており、
前記磁石要素（７）が前記案内棒（３）に結合されており、
各リードスイッチ要素（５）が、それぞれ検出領域内で、当該リードスイッチ要素（５）の位置において予め規定された閾値よりも大きい磁界強度を有する磁界（Ｈ）を検出するように構成されており、
少なくとも１つリードスイッチ要素（５）が前記案内系（２）に結合されて前記経路（ｘ）の周辺（Ｕx）内に配置されており、
更に、前記案内棒（３）の位置を求めるための誘導式の測定システムが存在し、その誘導式の測定システムが多数の電気誘導コイル（９）を有し、少なくとも１つのオーム抵抗ユニット（Ｒ1，Ｒ2）を含む回路装置（１２）が存在し、その少なくとも１つのオーム抵抗ユニットが、
前記誘導コイル（９）の少なくとも１つと共に１つの直列回路（１２）を構成し、かつ
前記リードスイッチ要素（５）の少なくとも１つと共に１つの回路ループ（１４，１５）を構成している、位置測定システム（１）。
【請求項２】
前記磁石要素（７）が、永久磁石として構成されている請求項１記載の位置測定システム（１）。
【請求項３】
前記磁石要素（７）が、前記案内棒（３）の端部側に結合されている請求項１又は２記載の位置測定システム（１）。
【請求項４】
少なくとも１つのリードスイッチ要素（５）の検出領域が、極限位置（ｘmin，ｘmax）内に配置された前記案内棒（３）の端部側を捕捉する請求項１乃至３の１つに記載の位置測定システム（１）。
【請求項５】
前記案内棒（３）が、最小挿入位置（ｘmin）と最大挿入位置（ｘmax）との間で移動可能である請求項１乃至４の１つに記載の位置測定システム（１）。
【請求項６】
前記回路装置（１２）が、１つの誘導コイル（９）と共に１つの直列回路（１２）を構成する２つのオーム抵抗ユニット（Ｒ1，Ｒ2）を含み、両オーム抵抗ユニット（Ｒ1，Ｒ2）の各１つが前記誘導コイル（９）の各１つの端部に接続されており、かつ
前記回路装置（１２）が、複数のリードスイッチ要素（５）を含み、各リードスイッチ要素（５）が両オーム抵抗ユニット（Ｒ1，Ｒ2）の１つと共に１つの回路ループ（１４，１５）を構成している請求項１乃至５の１つに記載の位置測定システム（１）。
【請求項７】
前記回路装置（１２）の全体オーム抵抗（ΣＲ）を決定するための回路グループ（１６）を有する請求項１乃至６の１つに記載の位置測定システム（１）。
【請求項８】
前記回路装置（１２）に直流電流（ＩDC）を供給するための電源（１７）と、
前記回路装置（１２）における全体電圧（Ｕ）の直流電圧成分（ＵDC）を検出するための第１の測定ユニット（１８）と、
前記回路装置（１２）における全体電圧（Ｕ）の交流電圧成分（ＵAC）を検出するための第２の測定ユニット（１９）と、
を含む制御ユニット（１１）を有する請求項１乃至７の１つに記載の位置測定システム（１）。
【請求項９】
前記制御ユニット（１１）が、電気コイル（８）を含む第２の回路装置（１３）に接続されていて、
前記制御ユニット（１１）が、その第２の回路装置（１３）における電流（ＩAC）の形成および制御をするように構成されている、請求項８記載の位置測定システム（１）。
【請求項１０】
前記電気コイル（８）が前記直線経路（ｘ）に平行に整列配置されている、請求項９記載の位置測定システム（１）。
【請求項１１】
前記案内棒（３）が核技術設備の制御棒（３）として与えられており、
前記案内系（２）が前記制御棒（３）を取り囲む耐圧性の案内管（４）を含む、請求項１乃至１０の１つに記載の位置測定システム（１）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月19日(2014.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路であって、
ＴＤＩ入力リード、ＴＣＫ入力リード、ＴＭＳ入力リード、及びＴＤＯ出力リードと、
前記ＴＣＫ入力リードに結合される入力、前記ＴＭＳ入力リードに結合される入力、命令レジスタ制御出力、マルチプレクサ制御出力、及びデータレジスタ制御出力を有する、テストアクセスポート状態機械と、
前記ＴＤＩ入力リードに結合される入力、前記命令レジスタ制御出力に結合される入力、及びデータレジスタイネーブル出力を有する、命令レジスタと、
前記ＴＤＩ入力リードに結合される入力、データレジスタ制御入力、及び出力を有する、データレジスタと、
前記ＴＣＫ入力リードに結合される入力、前記ＴＭＳ入力リードに結合される入力、前記データレジスタイネーブル出力に結合される入力、及びデータレジスタ制御出力を有する、コマンド回路と、
前記状態機械の前記データレジスタ制御出力に結合される入力、前記コマンド回路の前記データレジスタ制御出力に結合される入力、前記命令レジスタの前記データレジスタイネーブル出力に結合される制御入力、及び前記データレジスタの前記データレジスタ制御入力に結合されるデータレジスタ制御出力を有する、デュアルポートルータと、
前記命令レジスタの前記出力に結合される入力、前記データレジスタの前記出力に結合される入力、前記マルチプレクサ制御出力に結合される制御入力、及び前記ＴＤＯ出力リードに結合される出力を有する、マルチプレクサ回路要素と、
を含む、集積回路。
【請求項２】
請求項１に記載の集積回路であって、
前記状態機械が、Ｔｅｓｔ  Ｌｏｇｉｃ  Ｒｅｓｅｔと、Ｒｕｎ  Ｔｅｓｔ／Ｉｄｌｅと、ＳｅｌｅｃｔＤＲと、ＳｅｌｅｃｔＩＲとの状態を有する、集積回路。
【請求項３】
請求項１に記載の集積回路であって、
複数のデータレジスタを更に含む、集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月16日(2014.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
風力および／または水力発電機であって、
２つのラジアルタービン（１、２）は、並んで平行に方向付けられ、鉛直回転シャフトに配置され、相互に接続され、かつ上記タービンシャフト（１８）に対して平行な旋回シャフト（１５）の周りに旋回可能であり、
上記旋回シャフトとＶ字状の風スプリッタ（３）は、上記タービンシャフトを連結しているラインの外側に配置され、両方とも上記連結ラインの同じ側にある、
ことを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項２】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
上記旋回シャフト（１５）は回転連結部を備え、
ラティスマストは上記回転連結部の上方に設けられ、
上記ラティスマストに蓄電システム、制御変流装置、及び上記タービンの台が取り付け可能であることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項３】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
上記２つのタービンは反対方向に回転することを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項４】
請求項２に記載の風力および／または水力発電機において、
上記ラティスマストは、上記Ｖ字状の風スプリッタとともに上記タービンの上方、下方、及び中央のベアリングサスペンションを持ち、丸みを帯びた上端面と下端面を持つことを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項５】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
回転連結部に組み込まれるスリップリングが電力と電気信号を回転可能部から静止した連結部に伝送するために設けられていることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項６】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
リングジェネレータが電流を生成するために設けられていることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項７】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
上記発電機は、上記タービンの最適な先端速度率を設定するように制御され得ることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項８】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
上記風力および／または水力発電機が、マスト（５）、ポンツーン、基部、建物の屋根その他の類似物に、回転連結部を介して固定されていることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項９】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
複数のこれらの風力および／または水力発電機が、マスト上で、互いの上方におよび／または並んで配置されていることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項１０】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
上記風力および／または水力発電機は、モータ駆動式の追跡手段なしに、制御システムなしに、かつ追加の偏向板なしに、最適な風または水の流れの方向へ自動的に回転することを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項１１】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
追加の外付けの偏向板（３８，８９）は上記Ｖ字状の風スプリッタ（３）と同じ側に配置されていることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項１２】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
予め定められた風速に達したとき、自動的に上記ラジアルタービンを互いに接近させるための手段が設けられていることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項１３】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
上記ラジアルタービンは、或るシャフトに沿って個々に搭載された複数の個々のタービンに分割されていることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項１４】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
特に、グリッドで同期した交流電圧に変換し、および公衆の電力グリッドに供給し、および／または局所的な蓄電システムにバッファすることにより、および／または上記グリッドから過剰な電流をバッファするための上記蓄電システムの使用により、発電された電気エネルギは複数の方法で活用されることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項１５】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
上記Ｖ字状の風スプリッタ（３）のエッジが丸くされていることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項１６】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
上記Ｖ字状の風スプリッタと上記タービンの間の距離が調整可能であることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【請求項１７】
請求項１に記載の風力および／または水力発電機において、
本発明による風力および／または水力発電機の配置が、街路、自動車道路、鉄道、運河のような交通インフラストラクチャに沿って設けられ、付加的に、通信のため、または低電力取り込み時にグリッドからの電流を緩衝するため、および／または広告媒体としておよび／または街路照明としての使用ため、および／または安全スペースを提供するために、設けられていることを特徴とする風力および／または水力発電機。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年9月2日(2014.9.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
基板面１１０ａに投影された測定対象物１１２の領域を補正するために、測定対象物１１２の領域のうち任意の一点（例えば、センター地点）に対して基板面上の一点Ａ３を求める。ここで、撮像部１４０のイメージ平面１４０ａと平面方程式による基板面１１０ａとを前記イメージ平面１４０ａと垂直に繋ぐ直線ｌ上の一つの点Ａ２から基板面１１０ａ上の一点Ａ３までの垂直距離は、測定対象物１１２の高さｋに対応する。直線ｌ上の一点Ａ２は測定対象物１１２の上面の一点を示し、基板面１１０ａ上の一点Ａ３は測定対象物１１２の下面の一点を示す。このような一連の過程を測定対象物１１２のセンター及びコーナーに適用することにより、測定対象物１１２の領域を平面方程式による基板面１１０ａに変換することができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象物が形成された基板を撮像部で測定して前記基板の平面方程式を生成し、
前記測定対象物の上面の一部に対応する前記測定対象物の領域を求め、
前記測定対象物の領域を前記測定対象物の高さ分前記測定対象物の下面に対応する前記平面方程式による基板面に向かう方向に移動させた位置を計算し、
前記平面方程式による基板面に向かう方向に移動させた位置と基準データによる測定対象物の領域とに基づいて前記測定対象物を検査すること、
を含む基板検査方法。
【請求項２】
前記平面方程式を生成することは、
前記基板に形成された認識マークの間の距離を測定して前記平面方程式を生成することを含む請求項１に記載の基板検査方法。
【請求項３】
前記平面方程式を生成することは、
レーザーを用いて前記基板を測定して前記平面方程式を生成することを含む請求項１に記載の基板検査方法。
【請求項４】
前記平面方程式を生成することは、
モアレ測定方式で前記基板を測定して前記平面方程式を生成することを含む請求項１に記載の基板検査方法。
【請求項５】
前記測定対象物の領域を求めることは、
前記測定対象物の４辺のうち互いに向き合う２辺が平行を保持するように前記測定対象物の４辺に対応する４個の直線を求めることを含む請求項１に記載の基板検査方法。
【請求項６】
前記測定対象物の領域を前記測定対象物の高さ分前記測定対象物の下面に対応する前記平面方程式による基板面に向かう方向に移動させた位置を計算することは、
前記撮像部のイメージ平面と前記平面方程式による基板面とを前記イメージ平面と垂直に繋ぐ直線上の一つの点から前記基板面上の一つの点との垂直距離が前記測定対象物の高さに対応する前記測定対象物の領域の少なくとも一つの地点に対する前記基板面上の一つの点を求めることにより、前記測定対象物の領域を前記平面方程式による基板面に変換することを特徴とする請求項１に記載の基板検査方法。
【請求項７】
前記基準データによる基板面の認識マークを連結する線の中心と前記平面方程式による基板面の認識マークを連結する線の中心とを一致させ、
前記基準データによる基板面の認識マークを連結する線と前記平面方程式による基板面の認識マークを連結する線とを一致させること、をさらに含む請求項１に記載の基板検査方法。
【請求項８】
前記測定対象物の検査は、
前記基準データによる測定対象物のセンターと前記平面方程式による測定対象物のセンターと間のＸ軸方向のオフセットに該当する第１オフセットと、
前記基準データによる測定対象物のセンターと前記平面方程式による測定対象物のセンターと間のＹ軸方向のオフセットに該当する第２オフセットと、
前記基準データによる測定対象物に対する前記平面方程式による測定対象物の傾斜角度に該当する第３オフセットと、
前記基準データによる測定対象物の４つのコーナーと前記平面方程式による測定対象物の４つのコーナーと間の離隔距離に該当する第４オフセットと、
のうち少なくとも一つを検査することを特徴とする請求項１に記載の基板検査方法。
【請求項９】
テレセントリックレンズを備えた撮像部を使用して前記基板を測定することを特徴とする請求項１に記載の基板検査方法。
【請求項１０】
前記測定対象物が形成された基板を測定する前に高さ測定の基準となる基準面を補正することをさらに含む請求項１に記載の基板検査方法。
【請求項１１】
測定対象物が形成された基板を測定して前記基板の平面方程式を生成し、
前記測定対象物の上面の一部に対応する前記測定対象物の領域を求め、
前記測定対象物の領域を前記測定対象物の下面に対応する前記平面方程式による基板面に変換し、
前記平面方程式による基板面と基準データによる基板面とをマッチングさせ、
前記基準データによる測定対象物の領域と前記平面方程式による基板面に変換された測定対象物の領域とに基づいて前記測定対象物を検査すること、
を含む基板検査方法。
【請求項１２】
測定対象物が形成された基板全体を少なくとも２つの測定領域に区分して、撮像部でそれぞれの測定領域を測定することにより、各測定領域での前記基板の平面方程式を生成し、
各測定領域において測定された前記測定対象物の上面の一部に対応する前記測定対象物の領域を求め、
各測定領域で求めた前記測定対象物の領域を各測定領域での前記測定対象物の下面に対応する前記平面方程式による基板面に変換し、
複数の測定領域で求めた前記平面方程式による基板面を互いに同一の平面にマッチングさせ、
前記同一平面にマッチングされた基板面による測定対象物の領域と基準データによる測定対象物の領域とに基づいて前記測定対象物を検査すること、
を含む基板の基板検査方法。
【請求項１３】
前記複数の測定領域で求めた前記平面方程式による複数の基板面を互いに同一の平面にマッチングさせることは、
前記各測定領域の共通領域及び前記測定対象物の領域の少なくとも一つに基づいて前記基板面をマッチングさせることを含む請求項１２に記載の基板検査方法。
【請求項１４】
前記各測定領域で求めた前記測定対象物の領域を各測定領域での前記平面方程式による基準面に変換することは、
前記測定対象物の高さ分前記測定対象物の下面に対応する前記平面方程式による基板面に向かう方向に移動させた位置を計算することを含む請求項１２に記載の基板検査方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図７】
2013545972.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月10日(2014.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェブ材料の製造時にこのウェブ材料をリアルタイムで検査し、不均一性欠陥の深刻度を計算するための方法であって、
ウェブ材料製造中に捕獲された画像をオンラインコンピュータ検査システムで受領する工程と、
前記検査システムで前記画像を処理して、第１の特徴セットを抽出する工程と、
モデルを用いて前記検査システムで前記第１の特徴セットを処理して、このモデルに従って前記画像から抽出する第２の特徴セットを動的に選択する工程と、
前記第２の特徴セットが前記画像から抽出される場合に、前記不均一性欠陥に関して前記画像を誤分類するコストの削減予想額を前記モデルに従って判定する工程と、
前記コストの削減予想額が閾値を超える場合、前記検査システムで前記画像を処理して前記第２の特徴セットを抽出する工程と、
前記画像から抽出した前記第１の特徴セット及び前記第２の特徴セットを用いて、前記検査システムで前記ウェブ材料の不均一性欠陥の深刻度レベルを計算する工程と、
を含み、任意に、前記モデルが、抽出する前記第２の特徴セット及び前記画像から抽出する任意の追加の特徴セットの選択を制御するための１つ以上の動的トリガーの連鎖を定義するマルコフモデルを含む、方法。
【請求項２】
一群の分類子を指定する現在の状態ベクトルを定義する工程と、
少なくとも１つの前記第１の特徴セットによってパラメーター化された条件付き分布を用いて前記現在の状態ベクトルに基づいて将来の状態ベクトルの予測を計算する工程であって、この条件付き分布が前記マルコフモデルの動的トリガーの遷移関数を示す、工程と、
前記計算された遷移関数に基づいて特徴セット全体から前記第２の特徴セットを動的に選択する工程と、
を更に含み、任意に、前記第２の特徴セットを動的に選択する工程が、前記第２の特徴セットを選択して、前記特徴セット全体のいずれかを選択することに伴う総予測コストを最小化することを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ウェブ材料の製造時にこのウェブ材料をリアルタイムで検査し、不均一性欠陥の深刻度を計算するためのオンラインコンピュータ検査システムであって、
画像からどの特徴をリアルタイムで抽出するかを選択するための動的トリガーの連鎖を定義するモデルを記憶するメモリと、
現在製造中の製造されたウェブ材料から捕獲されたサンプル画像を処理して、第１の特徴セットを抽出するソフトウェアを実行するコンピュータと、
を含み、前記ソフトウェアが前記モデルを適用して、抽出された特徴が定義済みの信頼度内で前記ウェブ材料の不均一性欠陥の深刻度レベルを計算するのに十分になるまで、前記サンプル画像から抽出する追加の特徴セットの選択を繰り返し動的にトリガーする、検査システム。
【請求項４】
前記ソフトウェアが前記モデルを適用して、前記新しい画像から抽出する第２の特徴セットの選択をトリガーし、
トリガーされると、前記ソフトウェアが、前記画像から抽出された前記第１の特徴セットに基づいて、特徴セット全体から前記第２の特徴セットを動的に選択し、
前記ソフトウェアが前記サンプル画像を処理して、前記画像から前記第２の特徴セットを抽出し、前記第１の特徴セット及び前記第２の特徴セットに基づいて前記不均一性欠陥の深刻度レベルを計算する、
請求項３に記載の検査システム。
【請求項５】
前記モデルがマルコフモデルを含む、請求項３に記載の検査システム。
【請求項６】
前記モデルの各トリガーに対して、前記ソフトウェアが一群の分類子を指定する現在の状態ベクトルを定義し、前記サンプル画像から既に抽出された少なくとも１つの特徴によってパラメーター化された条件付き分布を用いて、前記現在の状態ベクトルに基づいて将来の状態ベクトルの予測を計算し、この条件付き分布が前記モデルの前記それぞれのトリガーの遷移関数を示し、
前記モデルの各トリガーに対して、前記ソフトウェアが、前記計算された遷移関数に基づいて抽出する追加の特徴セットを動的に選択する、
請求項３に記載の検査システム。
【請求項７】
前記各トリガーに対して、前記ソフトウェアが、前記不均一性欠陥の深刻度レベルの計算に伴う総予測コストを最小化する追加の特徴セットを動的に選択する、請求項６に記載の検査システム。
【請求項８】
前記深刻度レベルをユーザーに出力するためのユーザーインターフェースを更に含む、請求項３に記載の検査システム。
【請求項９】
前記検査システム内に統合されたパイプライン型グラフィック処理ユニット（ＧＰＵ）を更に含み、前記動的トリガーのそれぞれにおいて前記ＧＰＵを繰り返し起動して前記サンプル画像を処理し、同時に前記特徴を抽出するように前記ソフトウェアが設定されている、請求項３に記載の検査システム。