【手続補正書】
【提出日】平成15年6月26日(2003.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）  酸化剤、（ｂ）  研磨剤、及び（ｃ）  フッ化物含有添加剤を含んでなることを特徴とする水系の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２】
０．０１〜２．０重量％のフッ化物含有添加剤を含む請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項３】
フッ化物含有添加剤が、フッ化物含有酸、フッ化物塩、及びそれらの混合物から選択された請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項４】
フッ化物含有添加剤が、フッ化水素酸、フルオロケイ酸、フルオロホウ酸、フルオロチタン酸、及びそれらの混合物からなる群より選択されたフッ化物含有酸である請求項３に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項５】
フッ化物含有酸が、化学的・機械的研磨用スラリー中に、０．０１〜０．３重量％の範囲の量で存在する請求項４に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項６】
フッ化物含有添加剤が、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム、二フッ化水素アンモニウム、二フッ化水素カリウム、及びそれらの混合物からなる群より選択されたフッ化物塩である請求項３に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項７】
フッ化物塩がスラリー中に０．２〜１．０重量％の量で存在する請求項６に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項８】
酸化剤が、鉄塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第四アンモニウム塩、ホスホニウム塩、過酸化物、塩素酸塩、過塩素酸塩、硝酸塩、過マンガン酸塩、過硫酸塩、及びそれらの混合物を含む群より選択された請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項９】
酸化剤が硝酸第二鉄である請求項８に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１０】
１．５〜３．０のｐＨを有する請求項９に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１１】
１．０〜５．０のｐＨを有する請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１２】
フッ化物含有添加剤がフッ化水素酸である請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１３】
フッ化水素酸がスラリー中に０．０１〜０．３重量％の量で存在する請求項１２に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１４】
研磨材が金属酸化物である請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１５】
金属酸化物研磨材が、アルミナ、セリア、ゲルマニア、シリカ、チタニア、ジルコニア、及びそれらの混合物からなる群より選択された請求項１４に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１６】
研磨材が金属酸化物の水分散系である請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１７】
研磨材がアルミナである請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１８】
アルミナがヒュームドアルミナである請求項１７に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項１９】
研磨材が微細な金属酸化物粒子からなる請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２０】
微細な金属酸化物粒子が、沈降アルミナ又はヒュームドアルミナを含んでなる請求項１９に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２１】
さらに界面活性剤を含んでなる請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２２】
有機系酸、有機系酸の塩、及びそれらの混合物から選択された化合物をさらに含んでなる請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２３】
無機系酸、無機系酸の塩、及びそれらの混合物から選択された化合物をさらに含んでなる請求項１に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２４】
１〜７重量％の硝酸第二鉄、１〜１２重量％のアルミナ、及び０．０１〜２．０重量％のフッ化物含有添加剤を含んでなる、チタンとタングステンを含む基材の研磨に有用な水系の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２５】
フッ化物含有添加剤が、フッ化物含有酸、フッ化物塩、及びそれらの混合物から選択された請求項２４に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２６】
フッ化物含有添加剤が少なくとも１種のフッ化物含有酸と少なくとも１種のフッ化物塩をさらに含み、１．５〜３．０のｐＨを有する請求項２４に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２７】
アルミナが水分散系のアルミナである請求項２４に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２８】
アルミナがヒュームドアルミナである請求項２４に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項２９】
３：１〜１：２のタングステン対チタンの研磨選択性（Ｗ：Ｔｉ）を有する請求項２４に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
【請求項３０】
（ａ）  酸化剤、フッ化物含有添加剤、及び研磨材を混合し、１．０〜５．０のｐＨを有する化学的・機械的研磨用スラリーを作成し、
（ｂ）  その化学的・機械的研磨用スラリーを基材に施し、
（ｃ）  パッドを基材に接触させ、基材に対してパッドを動かすことによってチタン接着層の少なくとも一部を除去する、
ことを含むことを特徴とする、チタン接着層を有する基材を研磨する方法。
【請求項３１】
パッドを基材に接触して配置する前に、化学的・機械的研磨用スラリーをパッドに施す請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
酸化剤とフッ化物含有添加剤が第１容器の中で水系溶液として収納され、研磨材の水分散系が第２溶液の中に収納され、パッドにスラリーを施す前に、第１容器の内容物の一部を第２容器の内容物の少なくとも一部と混合し、１〜７重量％の酸化剤、１〜６重量％の研磨材、及び０．０１〜２．０重量％のフッ化物含有添加剤を含む水系の化学的・機械的研磨用スラリーを調製することを含む請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
フッ化物含有添加剤が、フッ化水素酸、フルオロケイ酸、及びそれらの混合物からなる群より選択されたフッ化物含有酸である請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
フッ化物含有添加剤がフッ化水素酸である請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
フッ化水素酸が０．０５〜０．３重量％の量でスラリー中に存在する請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
フッ化物含有添加剤が、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム、二フッ化水素アンモニウム、及びそれらの混合物からなる群より選択されたフッ化物塩である請求項３２に記載の方法。
【請求項３７】
フッ化物塩が０．２〜１．０重量％の量のフッ化カリウムである請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
（ａ）  硝酸第二鉄、アルミナ、及びフッ化水素酸を脱イオン水と混合し、１〜７重量％の硝酸第二鉄、１〜６重量％のアルミナ、及び０．１〜０．３重量％のフッ化水素酸を含む化学的・機械的研磨用スラリーを作成し、ここで、その化学的・機械的研磨用スラリーは１．５〜２．５のｐＨと、３：１〜１：２のタングステン対チタンの研磨選択性（Ｗ：Ｔｉ）を有し、
（ｂ）  その化学的・機械的研磨用スラリーを基材に施し、
（ｃ）  パッドを基材に接触させ、基材に対してパッドを動かすことによってチタン接着層の少なくとも一部とタングステン層の一部を除去する、
ことを含むことを特徴とする、チタン接着層とタングステン層を有する基材を研磨する方法。
【請求項３９】
（ａ）  研磨材の水分散系を含む第１容器、及び（ｂ）  酸化剤とフッ化物含有添加剤を含む第２容器、を備えた化学的・機械的研磨用スラリーを調製するのに有用なマルチパッケージシステム。
【請求項４０】
酸化剤とフッ化物含有添加剤を含む容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらにもう１つの態様において、本発明は、多層誘電体デバイスに関係するチタンとタングステンの金属層を研磨するための、フッ化物含有添加剤を含む化学的・機械的研磨用スラリーの使用方法である。
本発明のさらにもう１つの態様は、基材（以下、「基板」ともいう）に化学的・機械的研磨用スラリーを施し、基材にパッドを接触させ、基材に対してパッドを動かすことによってチタン接着層の少なくとも一部を除去することによってチタンを含む基材を研磨するために、本発明の化学的・機械的研磨用スラリーを使用する方法である。