【手続補正書】
【提出日】平成26年9月19日(2014.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーのミラー温度測定及び／又は熱作動用の構成体であって、
前記ミラー（１０１、３０１、４０１、７０１、８０１、９０１）は、光学有効面（１０１ａ、３０１ａ、４０１ａ、７０１ａ、８０１ａ、９０１ａ）と、前記ミラーのうち前記光学有効面に相当しない面から該有効面の方向に延びる少なくとも１つのアクセス通路（１１０、３１０、４１０、７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２、９１０、９１０’）とを有し、
前記構成体は、前記アクセス通路（１１０、３１０、４１０、７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２、９１０）に沿って伝播する電磁放射線による前記ミラー（１０１、３０１、４０１、７０１、８０１、９０１）のミラー温度測定及び／又は熱作動用に設計され、
前記電磁放射線を前記アクセス通路（１１０、３１０、４１０、７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２、９１０）内で複数回反射させ、
前記電磁放射線を、前記アクセス通路により前記光学有効面の直近の領域に入射結合させる
構成体。
【請求項２】
請求項１に記載の構成体において、前記アクセス通路（１１０、３１０、４１０、７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２、９１０）内の前記電磁放射線の反射角は、２０°以下、好ましくは１５°以下であることを特徴とする構成体。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれか１項に記載の構成体において、前記電磁放射線は、前記ミラー（１０１、３０１、４０１、７０１、８０１、９０１）が少なくとも領域的に不透明である波長を有することを特徴とする構成体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の構成体において、前記電磁放射線は、少なくとも２．５μｍ、特に少なくとも５μｍの波長を有することを特徴とする構成体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の構成体において、前記アクセス通路は、前記ミラー（１０１、３０１、４０１、７０１、８０１、９０１）のうち前記光学有効面の反対側の面（１０１ｃ、３０１ｃ、４０１ｃ、７０１ｃ、８０１ｃ）から前記光学有効面（１０１ａ、３０１ａ、４０１ａ、７０１ａ、８０１ａ、９０１ａ）の方向に延びることを特徴とする構成体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の構成体において、前記アクセス通路（１１０、３１０、４１０、７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２、９１０）を、厚さ（ｄ）が５ｍｍ〜２０ｍｍの範囲の残りのミラー材料部分により前記光学有効面から分離したことを特徴とする構成体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の構成体において、前記少なくとも１つのアクセス通路内に突出する管（１２０、３２０、７２０、７２１、７２２、８２０、８２１、８２２）をさらに有することを特徴とする構成体。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の構成体において、前記少なくとも１つのアクセス通路に、少なくとも領域的に反射コーティングを設けたことを特徴とする構成体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の構成体において、前記少なくとも１つのアクセス通路について、該アクセス通路の端面は第１放射率を有し、該アクセス通路の側面は前記第１放射率とは異なる第２放射率を有することを特徴とする構成体。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の構成体において、前記電磁放射線を検出する少なくとも１つのセンサ（１３０、３３０、４３０）をさらに有することを特徴とする構成体。
【請求項１１】
請求項１０に記載の構成体において、前記センサ（１３０、３３０、４３０）はサーモパイルセンサであることを特徴とする構成体。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の構成体において、前記センサ（１３０、４３０）を前記ミラー（１０１、４０１）の外部に配置したことを特徴とする構成体。
【請求項１３】
請求項１０又は１１に記載の構成体において、前記センサ（３３０）を前記ミラー（３０１）の前記アクセス通路（３１０）内に配置したことを特徴とする構成体。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の構成体において、前記ミラー（１０１、３０１、４０１、７０１、８０１）をミラー温度測定に応じて一定温度に加熱することができる調整デバイスをさらに有することを特徴とする構成体。
【請求項１５】
請求項１４に記載の構成体において、前記温度は、２２℃〜４５℃の範囲、特に２５℃〜４０℃の範囲であることを特徴とする構成体。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の構成体において、複数の前記アクセス通路（７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２）を有することを特徴とする構成体。
【請求項１７】
請求項１６に記載の構成体において、前記アクセス通路は実質的にハニカム構成であることを特徴とする構成体。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の構成体において、前記アクセス通路（７１０、７１１、７１２、…、８１０、８１１、８１２、９１０、９１０’）に沿って伝播する前記電磁放射線を生成する少なくとも１つの熱放射手段をさらに有することを特徴とする構成体。
【請求項１９】
請求項１８に記載の構成体において、前記アクセス通路（９１０、９１０’）に沿った前記熱放射手段の進出位置を変えるマニピュレータを有することを特徴とする構成体。
【請求項２０】
請求項１８又は１９に記載の構成体において、前記熱放射手段は、好ましくは実質的に針状の幾何学的形状を有する加熱棒（９６０）の形態であることを特徴とする構成体。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の構成体において、前記少なくとも１つのアクセス通路（９１０’）は、円筒形の幾何学的形状とは異なる幾何学的形状、特に、円錐形の幾何学的形状又は各前記アクセス通路に沿った直径の段階的変化を有することを特徴とする構成体。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか１項に記載の構成体において、異なる幾何学的形状の少なくとも２つのアクセス通路（９１０、９１０’）を有することを特徴とする構成体。
【請求項２３】
請求項１〜２２のいずれか１項に記載の構成体において、前記少なくとも１つの熱放射手段は、前記アクセス通路（９１０、９１０’）の方向に対して横方向にも作動可能であることを特徴とする構成体。
【請求項２４】
請求項１８〜２３のいずれか１項に記載の構成体において、前記熱放射手段を調整可能な加熱デバイスに接続したことを特徴とする構成体。
【請求項２５】
請求項１８〜２４のいずれか１項に記載の構成体において、配列として配置し選択的に作動可能な複数の前記熱放射手段を有することを特徴とする構成体。
【請求項２６】
請求項１８〜２５のいずれか１項に記載の構成体において、前記少なくとも１つの放射手段は低温放射手段（７６０、７６１、７６２、…、８６０）であることを特徴とする構成体。
【請求項２７】
請求項１８〜２５のいずれか１項に記載の構成体において、前記少なくとも１つの熱放射手段は高温放射手段であることを特徴とする構成体。
【請求項２８】
請求項１〜２７のいずれか１項に記載の構成体において、環境へ熱を放散するクーラ（７５０、８５０、９５０）をさらに有することを特徴とする構成体。
【請求項２９】
請求項２８に記載の構成体において、前記クーラ（７５０、８５０、９５０）は一定温度であることを特徴とする構成体。
【請求項３０】
請求項１〜２９のいずれか１項に記載の構成体において、前記ミラーは複数のミラーファセットからなることを特徴とする構成体。
【請求項３１】
マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーのミラー温度測定及び／又は熱作動の方法であって、前記ミラー（１０１、３０１、４０１、７０１、８０１、９０１）は、光学有効面（１０１ａ、３０１ａ、４０１ａ、７０１ａ、８０１ａ、９０１ａ）と、前記ミラーのうち前記光学有効面に相当しない面から該有効面の方向に延びる少なくとも１つのアクセス通路（１１０、３１０、４１０、７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２、９１０、９１０’）とを有し、前記ミラー（１０１、３０１、４０１、７０１、８０１、９０１）のミラー温度測定及び／又は熱作動を、前記アクセス通路（１１０、３１０、４１０、７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２、９１０、９１０’）に沿って伝播する電磁放射線により行い、該電磁放射線を前記アクセス通路（１１０、３１０、４１０、７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２、９１０）内で複数回反射させ、前記電磁放射線を、前記アクセス通路により前記光学有効面の直近の領域に入射結合させる方法。
【請求項３２】
請求項３１に記載の方法において、前記電磁放射線を、選択的に作動される熱放射手段の構成体により生成することを特徴とする方法。
【請求項３３】
請求項３１又は３２に記載の方法において、一定の放熱流をクーラ（７５０、８５０）により維持することを特徴とする方法。
【請求項３４】
マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーの熱処理の方法であって、該ミラー（９０１）は、光学有効面（９０１ａ）と、前記ミラーのうち前記光学有効面に相当しない面から該有効面の方向に延びる少なくとも１つのアクセス通路（９１１、９１２、９１３）とを有し、前記ミラー（９０１）の熱処理は、該ミラー（９０１）の前記光学有効面（９０１ａ）の加熱の結果として生じる電磁放射線を前記アクセス通路（９１１、９１２、９１３）に沿ってリザーバ（９４０）へ伝播させて該リザーバ（９４０）から放散させる、前記光学有効面（９０１ａ）の受動冷却を含む方法。
【請求項３５】
請求項３４に記載の方法において、前記少なくとも１つのアクセス通路に、少なくとも領域的に反射コーティングを設けたことを特徴とする方法。
【請求項３６】
請求項３４又は３５に記載の方法において、前記ミラーは複数のミラーファセットからなることを特徴とする方法。
【請求項３７】
請求項３４〜３６のいずれか１項に記載の方法において、前記ミラーは複数の前記アクセス開口（７１０、７１１、７１２、８１０、８１１、８１２）を有することを特徴とする方法。
【請求項３８】
請求項３７に記載の方法において、前記アクセス通路は実質的にハニカム構成であることを特徴とする方法。