【事件の表示】
　平成　７年特許願第２１２４４４号「基板洗浄装置」拒絶査定に対する審判事件［平成　９年　２月１４日出願公開、特開平　９−　４５６５４］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本件発明
　本件出願は、平成７年７月２８日の出願であって、その請求項１ないし２に係る発明は、平成１４年６月２１日付手続補正書、平成１４年１０月３０日付手続補正書及び平成１６年１月１４日付手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された事項により特定されるとおりと認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本件発明１」という。）は、次のとおりである。
「【請求項１】　基板の表面に処理液を供給して基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、基板を回転可能に保持する基板保持手段と、前記基板保持手段によって保持された基板の表面に処理液を供給し、かつ処理液に超音波振動を付与する超音波振動部を有するノズルと、前記ノズルに処理液である純水を送る１本の主流路と、前記主流路に個別に接続されて、前記ノズルに処理液である薬液を送る１または複数の枝流路と、前記主流路と枝流路に個別に設けられ、各流路を開閉する開閉弁と、前記開閉弁を制御して、前記基板の洗浄を行なう制御手段とを備え、前記制御手段は、前記薬液と純水とが共に前記ノズルに送られるように前記開閉弁の制御を行なうことにより、前記ノズルから超音波振動された前記薬液と純水の調合液を前記基板に噴出させる洗浄を行ない、前記洗浄の後に、連続的に、前記純水だけが前記ノズルに送られるように前記開閉弁の制御を行なうことにより、前記ノズルから超音波振動された純水を前記基板に噴出させる後洗浄を行なう構成である、基板洗浄装置。」
　
２　刊行物記載の発明（及び事項）
　これに対して、当審の拒絶の理由に引用された、本件出願前に日本国内で頒布された刊行物である特開平２−２４０９２６号公報（以下「刊行物１」という。）及び特開平３−１６５５１９号公報（以下「刊行物２」という。）には、次の事項が記載されている。
（１） 刊行物１
ア　公報第１頁左下欄第１６−１８行
「本発明は半導体ウェハやガラス基板、そしてディスク等の基板洗浄装置に係り、特に薬液を使った洗浄に好適な超音波洗浄装置に関する。」
イ　公報第３頁左上欄第１３行−同頁右上欄第３行
「発振器６を起動することにより洗浄ヘッド４内の振動子３が電歪現象で振動する。この振動の約８０％が液層２を透過し、初期の超音波振動の６０〜７０％が耐薬品性の振動板１に伝達される。この伝達された超音波振動が洗浄液供給口９から供給された薬液の洗浄液７に伝わり、超音波スプレー洗浄液８となって被洗浄物に照射されて物理的異物除去効果と化学的異物除去効果を併用することで高効率超音波洗浄が実現出来る。但し、洗浄液として薬液を用いるために洗浄ヘッドも耐薬品性の材質（石英やフッ素樹脂）を用いる。」
　したがって、上記記載事項ア−イからみて、刊行物１には、次の発明（以下「刊行物１記載の発明」という。）が記載されているものと認める。
　半導体ウェハやガラス基板の表面に薬液の洗浄液７を供給して半導体ウェハやガラス基板の表面を洗浄する超音波洗浄装置であって、半導体ウェハやガラス基板の表面に薬液の洗浄液７を供給し、かつ薬液の洗浄液７に超音波振動を付与する振動板１を有する洗浄ヘッド４と、前記洗浄ヘッド４に薬液の洗浄液７を送る１本の洗浄液供給口９とを備え、前記洗浄ヘッド４から超音波振動された前記薬液の洗浄液７を前記半導体ウェハやガラス基板に噴出させる洗浄を行なう超音波洗浄装置。
（２）刊行物２
ア　公報第２頁左上欄第８−２０行
「・・・被洗浄物が汚染されることなく繰り返して薬液洗浄を行なえ、薬液による腐蝕等を回避できる洗浄装置を提供することを目的とする。・・・上記目的を達成するため、・・・薬液の供給構造を改善すべく、溶液媒体を圧送する圧送手段と、該圧送手段を一端に連結し、他端を開口した少なくとも一本の噴流管と、該噴流管に所定間隔を置いて連結され、夫々該噴流管と連通する複数の吸上げ管と、各該吸上げ管の末端開口が夫々挿入される複数の薬液槽とを備えたことを特徴とする。」
イ　公報第３頁左上欄第２行−右上欄第１０行
「第２図は本発明の第２実施例を示すものであり、上記第１実施例の構成に、吸上げ管４ｃ，４ｄ、薬液槽５ｃ，５ｄをさらに付加すると共に、各吸い上げ管４ａ〜４ｄには夫々流量制御弁７ａ〜７ｄをさらに付加する・・・。また、前記各薬液槽５ａ〜５ｄには各薬液について夫々不活性な気体をガス供給管１４ａ〜１４ｄを介して夫々供給する加圧手段１３ａ〜１３ｄが設けられる。
　本第２実施例の構成によれば、例えば・・・以下のシーケンスによる。
　まず、液媒漕３に超純水を貯留し、各薬液槽５ａ〜５ｄに夫々Ｈ２Ｏ液（当審注：「Ｈ２Ｏ２液」の誤記である。）、ＮＨ４ＯＨ液、ＨＣｌ液、ＨＦ液を貯留しておく。第１の洗浄工程では二つの流量制御弁７ｃ，７ｄを全閉しておき、二つの薬液（ＮＨ４ＯＨ，Ｈ２Ｏ２）のみを吸い上げるようにし、これにより得られた混合液をウェハ６に噴射させる。この場合、溶液媒体（Ｈ２Ｏ）と両薬液（Ｈ２Ｏ２，ＮＨ４ＯＨ）との混合比を例えば夫々１：１：５にするためには流量制御弁７ａ，７ｂの開度を調節したり、その開度が足りない場合には、加圧手段１３ａ，１３ｂにより各薬液について夫々不活性なガス（例えばＮ２ガス）にて各薬液の液面を押し下げて吸い上げ液量を調節する。」
ウ　公報第３頁右上欄第１３−１６行
「次いで、第２の洗浄工程では各流量制御弁７ａ〜７ｄをいずれも閉弁状態にして、液媒漕３から汲み上げられた超純水のみによるウェハ６の洗浄を行なう。」
　
３　対比・判断
　本件発明１と刊行物１記載の発明とを対比すると、後者の「半導体ウェハやガラス基板」は前者の「基板」に相当し、以下同様に、「超音波洗浄装置」は「基板洗浄装置」に、「振動板１」は「超音波振動部」に、「洗浄ヘッド４」は「ノズル」にそれぞれ相当する。
　後者の「薬液の洗浄液７」は、処理液である限りで、前者の純水、薬液、又はそれらの調合液である「処理液」と共通し、後者の「洗浄液供給口９」は、処理液の流路である限りで、前者の「主流路」と共通する。
　してみると、両者の一致点及び相違点は次のとおりである。
［一致点］
　基板の表面に処理液を供給して基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、前記基板の表面に処理液を供給し、かつ処理液に超音波振動を付与する超音波振動部を有するノズルと、前記ノズルに処理液を送る１本の流路とを備え、前記ノズルから超音波振動された前記処理液を前記基板に噴出させる洗浄を行なう基板洗浄装置。
［相違点１］
　前者では、「基板を回転可能に保持する基板保持手段」を有し、「前記基板保持手段によって保持された」基板の表面に処理液を供給するのに対し、後者では、基板の保持手段を特定していない点。
［相違点２］
　前者では、「ノズルに処理液である純水を送る１本の主流路と、前記主流路に個別に接続されて、前記ノズルに処理液である薬液を送る１または複数の枝流路と、前記主流路と枝流路に個別に設けられ、各流路を開閉する開閉弁と、前記開閉弁を制御して、前記基板の洗浄を行なう制御手段と」を備え、「前記制御手段は、前記薬液と純水とが共に前記ノズルに送られるように前記開閉弁の制御を行なう」ことにより、ノズルに処理液である「薬液と純水の調合液」を供給するのに対し、後者では、そのように特定していない点。
［相違点３］
　前者では、薬液による「洗浄の後に、連続的に、前記純水だけが前記ノズルに送られるように前記開閉弁の制御を行なうことにより、前記ノズルから超音波振動された純水を前記基板に噴出させる後洗浄を行なう」のに対し、後者では、後洗浄を行なうと特定していない点。
　以下、上記相違点１ないし３について検討する。
［相違点１について］
　基板を回転させながら洗浄を行うことは従来周知であり（例えば、特開平５−５５１３８号公報記載の基板ステージ１９を参照）、刊行物１記載の発明に、基板を回転可能に保持する基板保持手段を設け、基板保持手段によって保持された基板の表面に処理液を供給するようなすことは、当業者が容易になし得たことである。
［相違点２について］
　処理液を供給する構成として、開口に処理液である純水を送る１本の噴流管１と、前記噴流管１に個別に接続されて、前記開口に処理液である薬液を送る複数の吸い上げ管４ａ〜４ｄと、前記吸い上げ管４ａ〜４ｄに個別に設けられ、各流路を開閉する流量制御弁７ａ〜７ｄと、前記流量制御弁７ａ〜７ｄを制御して、前記薬液と純水とが共に前記開口に送られるように前記流量制御弁７ａ〜７ｄの制御を行うことは、刊行物２に記載されている（上記摘記事項（２）ア−イ参照。以下「刊行物２記載の事項」という）。
　刊行物１記載の発明と刊行物２記載のものとは、処理液を供給して基板を洗浄する技術の分野で共通し、また、処理液の供給を停止する開閉弁を主流路にも設けることは必要に応じて適宜なし得る設計的事項であるから、刊行物１記載の発明において、ノズルに処理液を供給する構成として刊行物２記載の事項を採用し、上記相違点２に係る本件発明１の構成となすことは、当業者であれば容易になし得たことである。
［相違点３について］
　刊行物２には、処理液である薬液による洗浄の後に、連続的に、純水だけが開口に送られるように各流量制御弁７ａ〜７ｄの制御を行なうことにより、開口から純水を基板に噴出させる後洗浄を行なうことも記載されている（上記摘記事項（２）ウ参照）。
　また、処理液による洗浄の際に超音波振動された純水を用いることは従来周知である（例えば特開平５−２５９１４４号公報、特開平５−５５１３８号公報、特開平２−９８９３０号公報を参照）。
　してみると、刊行物１記載の発明に刊行物２記載の事項を採用する際、その洗浄の後に、連続的に、純水だけがノズルに送られるように開閉弁を制御し、かつ、その純水を超音波振動させて後洗浄を行うことは、上記刊行物２の記載及び上記従来周知の事項から、当業者であれば容易になし得たことである。
　そして、本件発明１の作用効果は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の事項及び上記従来周知の事項から予想される範囲内のものであって、格別なものといえない。
　
４　むすび
　したがって、本件発明１は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の事項及び上記従来周知の事項により当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、他の請求項に係る発明について判断するまでもなく、結論のとおり審決する。