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【手続補正書】
【提出日】平成25年11月22日(2013.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
推進剤によって装置から吐出される液体を保持する加圧されたもしくは加圧可能な容器と、前記容器からスプレー出口領域へ流体を供給する流管とを備え、前記流管は、前記容器からの液体用の少なくとも１つの第１の入口と、前記流管に沿って前記第１の入口と同じ距離にあるかもしくは前記第１の入口の下流にある、前記容器の頂部空間からの推進ガス用の少なくとも１つの第２の入口とを備える、エアゾールスプレー装置のためのバルブ構成体であって、前記バルブ構成体は、
前記装置からスプレー吐出を行うために第１の限界位置から第２の限界位置まで移動可能なバルブステムと、
前記バルブステムがその第１の限界位置にある場合に前記第１と第２の両方の入口を閉鎖するように構成された単一シールと、
を備え、
前記バルブステムがその第１の位置から第２の位置へ移動することにより前記第１と前記第２の入口を開放して前記流管内に多泡性流を生成し、前記バルブステムがその第１の限界位置に戻る動きにより前記第１と前記第２の入口を閉鎖し、
前記流管は、前記バルブステム内に設けられ、
前記第１及び第２の入口は、前記バルブステム内に設けるバルブ構成体。
【請求項２】
更にハウジングを備え、前記ハウジングが、前記容器内の前記液体を前記第１の入口に接続する液体流路と、前記頂部空間と前記第２の入口とを接続する別のガス流路とを少なくとも部分的に画定する、請求項１に記載のバルブ構成体。
【請求項３】
前記バルブステムの下部は前記ハウジング内部にあり、前記単一シールは前記ハウジング上に取り付けられて前記バルブステムと相対的に摺動係合するようになっている、請求項２に記載のバルブ構成体。
【請求項４】
前記ハウジング内の前記単一シールの直下に取り付けられた分配栓をさらに備え、分離した前記液体流路とガス流路とをさらに画定する、請求項２又は請求項３に記載のバルブ構成体。
【請求項５】
前記単一シールは、前記バルブステムと相対摺動係合するために前記ハウジング上に取り付けられた薄い上部ガスケットと、前記上部ガスケットの直下の前記ハウジング内に取り付けられた薄い下部ガスケットとの２つの部品を備え、更に前記分離した液体流路とガス流路を画定する、請求項３に記載のバルブ構成体。
【請求項６】
前記上部ガスケットと下部ガスケットは相互に一体的に形成されている、請求項５に記載のバブル構成体。
【請求項７】
温度２５℃でかつ少なくとも５０００ｋＰａ（５０バール）の圧力において気体であるガス推進剤によって装置から吐出される液体を保持する加圧容器または加圧可能な容器と、
前記容器上に取り付けられたスプレー吐出アセンブリと、
を備えるエアゾールスプレー装置であって、前記スプレー吐出アセンブリは、
前記装置からスプレー吐出を行うために第１の限界位置から第２の限界位置まで移動可能なバルブステムと、
前記容器から流体が吐出されるスプレー出口開口を有するスプレー出口領域と、
前記容器から前記スプレー出口領域に流体を供給する流管であって、前記容器からの液体のための少なくとも１つの第１の入口と、流管に沿って前記第１の入口と同じ距離または前記第１の入口の下流にある、前記容器の頂部空間からの推進ガスのための少なくとも１つの第２の入口とを有する流管と、
請求項１〜請求項６の何れか１項に記載のバルブ構成体と、
を備えるエアゾールスプレー装置。
【請求項８】
前記バルブステムに取り付けられ、かつ前記スプレー出口領域が組み込まれたアクチュエータアセンブリをさらに備え、前記アクチュエータアセンブリは前記流管と前記スプレー出口領域とを連通させる吐出導管をさらに組み込んでいる、請求項７に記載のエアゾールスプレー装置。
【請求項９】
前記流管は円形断面を有する、請求項７又は請求項８に記載のエアゾールスプレー装置。
【請求項１０】
前記の単数又は複数のそれぞれのシールはＯリングである、請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載のエアゾールスプレー装置。
【請求項１１】
前記スプレー出口領域は、前記装置から吐出される前に前記多泡性流に渦運動を与えるように適合されたノズルを備える、請求項７〜請求項１０のいずれか１項に記載のエアゾールスプレー装置。
【請求項１２】
医薬品、農薬、香料、空気清浄剤、臭気中和剤、殺菌剤、光沢剤、殺虫剤、除毛剤（チオグリコール酸カルシウムなど）、脱毛剤、化粧品、脱臭剤、制汗剤、抗菌剤、抗アレルギー化合物、及びこれらの２つ以上の混合物からなる群より選択される物質を含む、請求項７〜請求項１１のいずれか１項に記載のエアゾールスプレー装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月23日(2014.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗体又はイムノアドヘシンを該抗体又はイムノアドヘシン及び少なくとも一つの混入物を含んでなる組成物から精製する方法であって、該方法が(ｉ)又は(ｉｉ)：
(ｉ)(ａ)該組成物を、陽イオン交換材料に、約１５０ｇ／Ｌより大の陽イオン交換材料のローディング密度でローディングする工程；及び(ｂ)陽イオン交換材料から回収された組成物を、混合モード材料にローディングする工程の逐次工程；又は
(ｉｉ)(ａ)該組成物を混合モード材料にローディングする工程；及び(ｂ)混合モード材料から回収された組成物を、陽イオン交換材料に、約１５０ｇ／Ｌより大の陽イオン交換材料のローディング密度でローディングする工程の逐次工程
を含む方法。
【請求項２】
抗体又はイムノアドヘシンが約６及び約１０の間のｐＩを有する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
抗体又はイムノアドヘシンが約７及び約９の間のｐＩを有する請求項２に記載の方法。
【請求項４】
抗体又はイムノアドヘシンがイムノアドヘシンである請求項１−３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
抗体又はイムノアドヘシンが抗体である請求項１−３の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
抗体がモノクローナル抗体である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
モノクローナル抗体がキメラ抗体、ヒト化抗体、又はヒト抗体である請求項６に記載の方法。
【請求項８】
モノクローナル抗体がＩｇＧモノクローナル抗体である請求項６に記載の方法。
【請求項９】
抗体が抗原結合断片である請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
抗原結合断片が、Ｆａｂ断片、Ｆａｂ’断片、Ｆ(ａｂ’)２断片、ｓｃＦｖ、Ｆｖ、及びダイアボディから成る群から選択される請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
少なくとも一つの混入物が、何れか一又は複数のチャイニーズハムスター卵巣タンパク質(ＣＨＯＰ)、侵出プロテインＡ、ＤＮＡ、凝集タンパク質、細胞培養培地成分、ゲンタマイシン、及びウィルス混入物である請求項１−１０の何れか一項に記載の方法。
【請求項１２】
(ｉ)及び／又は(ｉｉ)における逐次工程が連続的である、請求項１−１１の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
方法が(ｉ)である請求項１−１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
方法が(ｉｉ)である請求項１−１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１５】
ローディング密度が約１５０ｇ／Ｌ及び約２０００ｇ／Ｌの間の陽イオン交換材料である請求項１−１４の何れか一項に記載の方法。
【請求項１６】
密度が約５００ｇ／Ｌ及び約１０００ｇ／Ｌの間の陽イオン交換材料である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
陽イオン交換材料がカルボン酸官能基又はスルホン酸官能基を含む請求項１−１６の何れか一項に記載の方法。
【請求項１８】
官能基がスルホプロピル、スルホエチル、スルホイソブチル、又はカボキシルである請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
陽イオン交換材料が膜、モノリス、又は樹脂粒子である請求項１−１８の何れか一項に記載の方法。
【請求項２０】
陽イオン交換材料が樹脂である請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
陽イオン交換材料が、Ｍｕｓｔａｎｇ Ｓ、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ Ｓ、ＳＯ３ Ｍｏｎｏｌｉｔｈ、Ｓ Ｃｅｒａｍｉｃ ＨｙｐｅｒＤ、Ｐｏｒｏｓ ＨＳ５０、Ｐｏｒｏｓ ＨＳ２０、ｓｕｌｐｈｏｐｒｏｐｙｌ-Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ(ＳＰＳＦＦ)、ＳＰ-Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ ＸＬ(ＳＰＸＬ)、ＣＭ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ、Ｃａｐｔｏ Ｓ、Ｆｒａｃｔｏｇｅｌ Ｓｅ ＨｉＣａｐ、Ｆｒａｃｔｏｇｅｌ ＳＯ３、又はＦｒａｃｔｏｇｅｌ ＣＯＯである請求項１−１６の何れか一項に記載の方法。
【請求項２２】
混合モード材料が、陰イオン交換及び疎水性相互作用が可能な官能基を含む請求項１−２１の何れか一項に記載の方法。
【請求項２３】
混合モード材料がＣａｐｔｏ-Ａｄｈｅｒｅ樹脂、ＭＥＰ ＨｙｐｅｒＣｅｌ樹脂、ＨＥＡ ＨｙｐｅｒＣｅｌ樹脂、ＰＰＡ ＨｙｐｅｒＣｅｌ樹脂、又はＣｈｒｏｍａＳｏｒｂ膜である請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
方法が、陽イオン交換材料及び／又は混合モード材料と共に平衡バッファー、洗浄バッファー、及び／又はローディングバッファーの使用を含み、平衡バッファー、洗浄バッファー、及び／又はローディングバッファーの伝導率が約２ｍＳ／ｃｍ〜約２５ｍＳ／ｃｍの間である請求項１−２３の何れか一項に記載の方法。
【請求項２５】
平衡バッファー、洗浄バッファー、及び／又はローディングバッファーの伝導率が約３ｍＳ／ｃｍ及び８ｍＳ／ｃｍの間である請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
方法が、陽イオン交換材料及び／又は混合モード材料と共に平衡バッファー、洗浄バッファー、及び／又はローディングバッファーの使用を含み、平衡バッファー、洗浄バッファー、及び／又はローディングバッファーのｐＨが約４．５及び約６．５の間である請求項１−２５の何れか一項に記載の方法。
【請求項２７】
陽イオン交換材料及び／又は混合モード材料との平衡バッファー、洗浄バッファー、及び／又はローディングバッファーが同じである請求項２４−２６の何れか一項に記載の方法。
【請求項２８】
抗体又はイムノアドヘシンを含んでなる組成物を、工程(ａ)及び(ｂ)の前又は後に一又は複数の更なる精製工程に課すことを更に含む請求項１−２７の何れか一項に記載の方法。
【請求項２９】
精製された抗体又はイムノアドヘシンを回収することを更に含んでなる請求項１−２８の何れか一項に記載の方法。
【請求項３０】
精製された抗体又はイムノアドヘシンを薬学的に許容可能な担体と組み合わせることを更に含んでなる請求項２９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月15日(2014.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
癌を患っている哺乳類の補助薬物療法において使用するための、癌抗原の発現可能な免疫学的に活性の部分をコードする弱毒化された、代謝的に活性なリステリアであって、前記哺乳類は、癌抗原を発現する癌細胞を除去または死滅させるために、前記哺乳類に投与される一次療法の前にもしくは後に補助薬物療法として前記リステリアを用いて治療されることを特徴とする、弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項２】
前記哺乳類は、前記補助薬物療法の前に一次療法を既に受けている哺乳類である、請求項１に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項３】
前記一次療法が、前記哺乳類から癌細胞を除去するための手術、 前記哺乳類における癌細胞を死滅させるための放射線療法、または手術と放射線療法の両方を含む、請求項１または２のいずれか１項に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項４】
前記補助薬物療法は、前記リステリアを複数回の投与で投与することを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項５】
前記リステリアがＡｃｔＡを不活性化する変異を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項６】
前記リステリアがＩｎｌＢを不活性化する変異を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項７】
前記リステリアがΔａｃｔＡΔｉｎｌＢである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項８】
前記リステリアは死滅しているが、代謝的に活性である（「ＫＢＭＡ」）、請求項１〜７のいずれか１項に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項９】
前記癌抗原がメソテリンのすべてまたは一部である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項１０】
前記哺乳類が、前記癌抗原のすべてまたは一部を発現するヒト細胞系由来の細胞をあらかじめ投与されており、前記細胞が顆粒球マクロファージコロニー刺激因子を産生して分泌するように組み換え修飾されており、かつ前記細胞が分裂しないように修飾されている、請求項１〜９のいずれか１項に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項１１】
前記癌が膵臓癌、非肺小細胞癌、卵巣癌および中皮腫からなる群から選択される、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の弱毒化された、代謝的に活性なリステリア。
【請求項１２】
癌を患っている哺乳類の治療において使用するための、
（ａ）癌抗原のすべてまたは一部を発現するヒト細胞系由来の細胞の組成物であって、前記細胞が顆粒球マクロファージコロニー刺激因子を産生して分泌するように組み換え修飾されており、かつ前記細胞が分裂しないように修飾されている、細胞の組成物、および、
（ｂ）癌抗原の発現可能な免疫学的に活性の部分をコードする、弱毒化された、代謝的に活性なリステリア、
の組み合わせであって、前記リステリアは前記細胞の組成物の投与の後に投与されることを特徴とする、組み合わせ。
【請求項１３】
前記リステリアによって発現される癌抗原がメソテリンである、請求項１２に記載の組み合わせ。
【請求項１４】
前記リステリアがΔａｃｔＡΔｉｎｌＢである、請求項１２に記載の組み合わせ。
【請求項１５】
前記リステリアは死滅しているが、代謝的に活性である（「ＫＢＭＡ」）、請求項１２に記載の組み合わせ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月26日(2014.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投与量のアジュバントおよび投与量の抗原であって、
前記投与量のアジュバントおよび前記投与量の抗原を被検体に投与して前記抗原に対して抗体価を生じさせるための方法に用い、
前記方法が、前記投与量のアジュバントおよび前記投与量の抗原を前記被検体に投与して生じるものと同様の抗体価が得られる別の投与量のアジュバントよりも少なくなるようにアジュバントの投与量を選択することを含み、
前記投与量の少なくとも一部に相当するアジュバントが合成ナノキャリアに結合される、前記投与量のアジュバントおよび投与量の抗原。
【請求項２】
投与量のアジュバントであって、
前記投与量のアジュバントを被検体に投与して全身サイトカイン放出を生じさせるための方法に用い、
前記方法が、前記投与量のアジュバントを前記被検体に投与して生じるものと同様の全身サイトカイン放出が得られる別の投与量のアジュバントよりも多くなるようにアジュバントの投与量を選択することを含み、
前記投与量の少なくとも一部に相当するアジュバントが合成ナノキャリアに結合される、前記投与量のアジュバント。
【請求項３】
前記アジュバントが、Ｔｏｌｌ様受容体３、４、５、７、８、または９またはこれらの組み合わせのアゴニストを含み、例えば、前記アジュバントが、Ｔｏｌｌ様受容体３のアゴニスト、Ｔｏｌｌ様受容体７および８のアゴニストまたはＴｏｌｌ様受容体９のアゴニスト、例えば、Ｒ８４８、免疫刺激性ＤＮＡまたは免疫刺激性ＲＮＡを含む、請求項１または２に記載の投与量。
【請求項４】
（ａ）前記投与量のアジュバントが、２つ以上のタイプのアジュバントを含む、および／または、（ｂ）前記投与量のアジュバントの一部が、前記合成ナノキャリアに結合していない、および／または、（ｃ）２つ以上のタイプの抗原を前記被検体に投与する、および／または、（ｄ）前記投与量の抗原の少なくとも一部が前記合成ナノキャリアに結合される、もしくは、前記投与量の抗原の少なくとも一部が前記合成ナノキャリアに結合されない、もしくは、前記投与量の抗原の少なくとも一部が、前記合成ナノキャリアと同時投与される、もしくは、前記投与量の抗原の少なくとも一部が、前記合成ナノキャリアと同時投与されない、請求項１〜３のいずれか一項に記載の投与量。
【請求項５】
（ａ）前記抗原が、Ｂ細胞抗原および／またはＴ細胞抗原を含み、任意に、前記Ｔ細胞抗原がヘルパーＴ細胞抗原を含んでもよい、または、（ｂ）前記抗原が、Ｂ細胞抗原またはＴ細胞抗原およびヘルパーＴ細胞抗原を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の投与量。
【請求項６】
前記投与が、皮下、筋肉内、皮内、経口、鼻腔内、経粘膜的、直腸；点眼、経皮（ｔｒａｎｓｄｅｒｍａｌ）または経皮（ｔｒａｎｓｃｕｔａｎｅｏｕｓ）投与またはこれらの組み合わせを含む経路によるものである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の投与量。
【請求項７】
前記合成ナノキャリアが、（ａ）脂質ナノ粒子、ポリマーナノ粒子、金属ナノ粒子、界面活性剤ベースのエマルション、デンドリマー、バッキーボール、ナノワイヤ、ウイルス様粒子、ペプチドまたはタンパク質粒子、ナノ材料の組み合わせを含むナノ粒子、回転楕円形のナノ粒子、直方体形のナノ粒子、角錐形のナノ粒子、長円形のナノ粒子、円柱形のナノ粒子、またはドーナツ形のナノ粒子、または、（ｂ）１種類以上のポリマーを含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の投与量。
【請求項８】
前記１種類以上のポリマーがポリエステルを含み、任意に、前記１種類以上のポリマーが、親水性ポリマーに結合したポリエステルを含んでもよいまたはさらに含んでもよい、請求項７に記載の投与量。
【請求項９】
前記ポリエステルが、ポリ（乳酸）、ポリ（グリコール酸）、ポリ（乳酸−ｃｏ−グリコール酸）またはポリカプロラクトンを含む、および／または、前記親水性ポリマーがポリエーテルを含む、例えば、ポリエチレングリコールを含む、請求項８に記載の投与量。
【請求項１０】
少なくとも１つの剤形が前記投与量のアジュバントを含み、任意に、ワクチンが前記剤形を含んでもよい、請求項１〜９のいずれか一項に記載の投与量。
【請求項１１】
２つ以上の剤形が前記投与量のアジュバントを含み、前記２つ以上の剤形が同時投与される、請求項１０に記載の投与量。
【請求項１２】
前記被検体が、がん、感染性の疾患、非自己免疫代謝疾患、変性疾患、嗜癖およびアトピー症状、喘息；慢性閉塞性肺疾患（ＣＯＰＤ）または慢性感染症を有する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の投与量。
【請求項１３】
前記抗原がニコチンを含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の投与量。
【請求項１４】
前記投与量のアジュバントがＲ８４８を含み、前記投与量の抗原がニコチンおよびヘルパーＴ細胞抗原を含み、前記ニコチンおよびヘルパーＴ細胞抗原が前記合成ナノキャリアに結合され、前記合成ナノキャリアが１種類以上のポリマーを含み、任意に、前記１種類以上のポリマーが親水性ポリマーに結合したポリエステルを含んでもよい、請求項１または１３に記載の投与量。
【請求項１５】
前記親水性ポリマーがポリエーテルを含む、例えば、ポリエチレングリコール、および／または、ポリ（乳酸）、ポリ（グリコール酸）、ポリ（乳酸−ｃｏ−グリコール酸）またはポリカプロラクトンを含む、請求項１４に記載の投与量。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月16日(2014.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
必要がある対象における赤血球増加症の治療のための、ｍｉＲ−４５１の阻害薬を含む医薬組成物。
【請求項２】
前記対象が、真性赤血球増加症、原発性家族性先天性赤血球増加症、又は赤血球増加症に関連する疾患と診断されるか、それに罹患しているか、又はそれを発症するリスクがある、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記赤血球増加症に関連する疾患が、気腫、慢性閉塞性肺疾患（ＣＯＰＤ）、うっ血性心不全、睡眠時無呼吸、多発性骨髄腫、又は肺高血圧症である、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
必要がある対象における骨髄増殖性疾患の治療のための、ｍｉＲ−４５１の阻害薬を含む医薬組成物。
【請求項５】
前記骨髄増殖性疾患が、真性赤血球増加症、本態性血小板血症、骨髄線維症、又は白血病である、請求項４に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記白血病が慢性骨髄性白血病（ＣＭＬ）又は急性骨髄性白血病（ＡＭＬ）である、請求項５に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記ｍｉＲ−４５１阻害薬が、アンチセンスオリゴヌクレオチドである、請求項１又は４に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記アンチセンスオリゴヌクレオチドが、約８〜約３０ヌクレオチド長であり、かつ成熟ｍｉＲ−４５１配列と少なくとも部分的に相補的な配列を含む、請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記アンチセンスオリゴヌクレオチドが、配列番号３の配列と少なくとも部分的に相補的な配列を含む、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記アンチセンスオリゴヌクレオチドが、配列番号４、配列番号６、配列番号７、配列番号８、配列番号９、配列番号１０、配列番号１６、配列番号１７、配列番号１８、配列番号１９、及び配列番号２０からなる群から選択される配列を有する、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記アンチセンスオリゴヌクレオチドが、少なくとも１つの糖修飾及び／又は骨格修飾を含む、請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記糖修飾が、２’−Ｏ−メチル修飾又はロックド核酸修飾である、請求項１１に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記骨格修飾が、ホスホロチオエート修飾である、請求項１１に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記アンチセンスオリゴヌクレオチドが、静脈内投与又は皮下投与用に製剤化されている、請求項７に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月27日(2014.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気供給装置であって、該蒸気供給装置（１６）を蒸気発生装置（１０）に分離可能に接続するための接続器具（２４）を含んでおり、該接続器具（２４）は：
−前記蒸気発生装置（１０）の対応する接続エレメント（５４）に接続するための蒸気導管接続エレメント（５４’）と；
−前記蒸気発生装置（１０）の対応するコンタクト・エレメント（Ｆ，Ｇ）であって供給電圧がその間に印加されるコンタクト・エレメント（Ｆ，Ｇ）に接続するための２つの供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ’，Ｇ’）と；
−前記蒸気発生装置（１０）の対応するコンタクト・エレメント（Ｄ）であって保護接地に接続されたコンタクト・エレメント（Ｄ）に接続するための保護コンタクト・エレメント（Ｄ’）と；
−前記蒸気発生装置（１０）の対応するコンタクト・エレメント（Ａ，Ｃ）であって安全超低電圧がその間に印加されるコンタクト・エレメント（Ａ，Ｃ）に接続するための２つの超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’）と、を含み、
前記供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ’，Ｇ’）と前記保護コンタクト・エレメント（Ｄ’）との間隔が、前記供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ’，Ｇ’）と前記超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’）との間隔よりも小さいことを特徴とする、蒸気供給装置。
【請求項２】
複数の前記供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ’，Ｇ’）が、前記保護コンタクト・エレメント（Ｄ’）から同一の間隔を有していることを特徴とする、請求項１に記載の蒸気供給装置。
【請求項３】
前記供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ’，Ｇ’）の相互間隔が、各供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ’，Ｇ’）と前記保護コンタクト・エレメント（Ｄ’）との間隔に等しいことを特徴とする、請求項２に記載の蒸気供給装置。
【請求項４】
前記供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ’，Ｇ’）と前記蒸気導管接続エレメント（５４’）との間隔が、前記超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’）及び前記保護コンタクト・エレメント（Ｄ’）と前記蒸気導管接続エレメント（５４’）との間隔よりも大きいことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の蒸気供給装置。
【請求項５】
前記保護コンタクト・エレメント（Ｄ’）が、前記供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ’，Ｇ’）と、２つの前記超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’）との間に配置されていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の蒸気供給装置。
【請求項６】
前記接続器具（２４）は、前記蒸気導管接続エレメント（５４’）が配置されている第１接続領域（８４’）と、前記接続器具（２４）の電気的なコンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’，Ｄ’，Ｆ’，Ｇ’）が配置されている第２接続領域（８６’）と、前記第１接続領域（８４’）を該第２接続領域（８６’）から分離する少なくとも１つの分離エレメント（８０’）とを含んでいることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の蒸気供給装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つの分離エレメント（８０’）は前記第１接続領域（８４’）と前記第２接続領域（８６’）との間の隔壁（８２’）であり、該隔壁（８２’）は前記電気的なコンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’，Ｄ’，Ｆ’，Ｇ’）を少なくとも部分的に取り囲むことを特徴とする、請求項６に記載の蒸気供給装置。
【請求項８】
前記隔壁（８２’）が前記電気的なコンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’，Ｄ’，Ｆ’，Ｇ’）を完全に取り囲んでいることを特徴とする、請求項７に記載の蒸気供給装置。
【請求項９】
前記接続器具（２４）は、前記蒸気発生装置（１０）の対応して形成された整列部材（８８）と協働するための少なくとも１つの整列部材（８８’）を含んでいることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の蒸気供給装置。
【請求項１０】
前記接続器具（２４）がアウタ・ハウジング（６８’）を含んでおり、該アウタ・ハウジングは、前記蒸気導管接続エレメント（５４’）を収容し、且つ前記接続器具（２４）の電気的なコンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’，Ｄ’，Ｆ’，Ｇ’）を収容するインナ・ハウジング（７４’）をも収容していることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の蒸気供給装置。
【請求項１１】
前記蒸気供給装置（１６）は前記供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ’，Ｇ’）の間に接続された電気的な負荷（５８）を含んでいることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の蒸気供給装置。
【請求項１２】
前記蒸気供給装置（１６）はスチームアイロン（２０）であることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の蒸気供給装置。
【請求項１３】
前記蒸気供給装置（１６）は、前記超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’）の間に接続されて該超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’）を互いに短絡させるのに使用される切り換えエレメント（６４）を含んでおり、且つ／又は、前記超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’）の間に接続されて前記超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ’，Ｃ’）の間に存在する電圧差を変えるのに使用される調節エレメントを含んでいることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の蒸気供給装置。
【請求項１４】
蒸気発生装置であって、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の蒸気供給装置（１６）と分離可能に接続するための接続器具（２８）と、水を蒸発させるための電気的な加熱器具と、前記蒸気供給装置のために供給電圧及び安全超低電圧を提供するための電気的な器具とを含んでおり、前記蒸気発生装置（１０）の前記接続器具（２８）は：
−蒸発させられた水を供給するための蒸気導管接続エレメント（５４）と；
−前記供給電圧が間に印加される２つの供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ，Ｇ）と；
−保護接地と接続された保護コンタクト・エレメント（Ｄ）と；
−前記安全超低電圧が間に印加される２つの超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ，Ｃ）と、を含み、
前記供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ，Ｇ）と前記保護コンタクト・エレメント（Ｄ）との間隔が、前記供給電圧コンタクト・エレメント（Ｆ，Ｇ）と前記超低電圧コンタクト・エレメント（Ａ，Ｃ）との間隔よりも小さいことを特徴とする、蒸気発生装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の蒸気発生装置（１０）と請求項１〜１３のいずれか１項に記載の少なくとも１つの蒸気供給装置（１６）とを含む、複合型蒸気発生・蒸気供給機器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月3日(2014.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
運動推定を検証するシステムにおいて、前記システムが、
第１の画像を第２の画像に変換することにより前記第１の画像と前記第２の画像との間の前記運動を推定する変形ベクトル場を得る場ユニットと、
前記変形ベクトル場に基づいて、複数の場所において前記第１の画像と前記第２の画像との間の局所的体積変化のベクトル場ベースの計量を計算する計量ユニットと、
前記計算されたベクトル場ベースの計量に基づいて、適合度を計算する適合性ユニットと、
を有し、
前記適合性ユニットが、
ｉ）前記複数の場所における前記局所的体積変化の画像強度ベースの計量に基づいて前記適合度を計算し、前記画像強度ベースの計量が、前記計量ユニットにより前記第１及び第２の画像に基づいて計算され、
ｉｉ）前記複数の場所の各場所において近傍を決定し、各位置における前記決定された近傍内の前記第１の画像の強度及び前記ベクトル場ベースの計量の対応する値の結合分布に双曲線関数をフィッティングすることにより計算される相関係数に基づいて、前記複数の場所の各場所における前記適合度を計算する、
システム。
【請求項２】
前記ベクトル場ベースの計量が、ヤコビアン行列に基づく、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記適合度が、前記ベクトル場ベースの計量と前記画像強度ベースの計量との間の差の絶対値に基づく、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記適合度が、前記複数の場所における前記局所的体積変化の前記計算された計量及び前記複数の場所において規定された前記第１又は第２の画像の前記局所的性質に基づいて、前記複数の場所において計算され、これにより適合性マップになる、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記適合性マップにおけるピークを検出するピークユニットを有する、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記第１又は第２の画像の上に重ねられた前記適合性マップにおける前記検出されたピークを表示するディスプレイを有する、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記場ユニットが、前記第２の画像に対する前記第１の画像の弾性位置合わせを使用して、前記変形ベクトル場を計算する、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記計算された適合度に基づいて、前記変形ベクトル場を更新する更新ユニットを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
呼吸運動推定を検証するための請求項１ないし８のいずれか一項に記載のシステムの使用方法。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれか一項に記載のシステムを有するワークステーション。
【請求項１１】
請求項１ないし８のいずれか一項に記載のシステムを有する画像取得装置。
【請求項１２】
運動推定を検証する方法において、前記方法が、
第１の画像を第２の画像に変換することにより前記第１の画像と前記第２の画像との間の前記運動を推定する変形ベクトル場を得る場ステップと、
前記変形ベクトル場に基づいて、複数の場所において前記第１の画像と前記第２の画像との間の局所的体積変化のベクトル場ベースの計量を計算する計量ステップと、
前記計算されたベクトル場ベースの計量に基づいて、適合度を計算する適合性ステップと、
を有し、前記適合性ステップが、
ｉ）前記複数の場所における前記局所的体積変化の画像強度ベースの計量に基づいて前記適合度を計算し、前記画像強度ベースの計量が、前記計量ユニットにより前記第１及び第２の画像に基づいて計算され、
ｉｉ）前記複数の場所の各場所において近傍を決定し、各位置における前記決定された近傍内の前記第１の画像の強度及び前記ベクトル場ベースの計量の対応する値の結合分布に双曲線関数をフィッティングすることにより計算される相関係数に基づいて、前記複数の場所の各場所における前記適合度を計算する、
方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法をプロセッサに実行させるコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月23日(2014.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる位置でエネルギーを対象物へ付与するための複数のエネルギー付与素子と、異なる位置での対象物の特性を示す超音波信号を生成するための複数の超音波素子であって、前記複数のエネルギー付与素子のそれぞれに一つ以上の超音波素子が割り当てられる当該複数の超音波素子と、生成された超音波信号から、異なる位置へ付与されたエネルギーのエネルギー付与影響を決定するためのエネルギー付与影響決定ユニットと、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子がエネルギーを付与する位置に対して決定されるエネルギー付与影響に依存して、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子を個別に制御するための制御ユニットとを有し、前記制御ユニットは、それぞれのエネルギー付与素子に割り当てられる一つ以上の超音波素子の一つ以上の超音波信号から決定される一つ以上のエネルギー付与影響に依存して、それぞれのエネルギー付与素子を制御する、エネルギーを対象物へ付与するためのエネルギー付与装置。
【請求項２】
前記エネルギー付与素子が損傷ラインを作るための焼灼電極である、請求項１に記載のエネルギー付与装置。
【請求項３】
前記エネルギー付与装置は、複数のエネルギー付与素子と前記少なくとも一つの超音波素子とを対象物に導入するためのカテーテルを有する、請求項１に記載のエネルギー付与装置。
【請求項４】
前記カテーテルは、洗浄液体が前記カテーテルから離れることができるための少なくとも一つの洗浄開口部を有し、前記少なくとも一つの超音波素子は、対象物の特性が前記少なくとも一つの洗浄開口部を通じて検知できるように、カテーテル内の配置される、請求項３に記載のエネルギー付与装置。
【請求項５】
前記エネルギー付与影響決定ユニットが、超音波信号からのエネルギー付与影響として焼灼深度を決定する、請求項１に記載のエネルギー付与装置。
【請求項６】
前記超音波信号は、異なる深度での対象物の超音波反射特性を表し、前記エネルギー付与影響決定ユニットは、超音波信号の不連続を決定して、不連続が発生する超音波信号の深度として焼灼深度を決定する、請求項５に記載のエネルギー付与装置。
【請求項７】
前記エネルギー付与装置は、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子が、超音波信号から、エネルギーを付与する位置での対象物壁厚を決定するための対象物壁厚決定ユニットを更に有し、前記制御ユニットは、決定された対象物壁厚に依存して、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子を制御する、請求項１に記載のエネルギー付与装置。
【請求項８】
前記エネルギー付与素子に一体化される複数の超音波素子を有する、請求項１に記載のエネルギー付与装置。
【請求項９】
前記超音波素子がエネルギー付与素子の外面に配置される、請求項８に記載のエネルギー付与装置。
【請求項１０】
前記エネルギー付与素子は、開口部を持つ外面を有し、前記超音波素子は、対象物の特性が前記開口部を通じて検知できるように、エネルギー付与素子内に位置される、請求項９に記載のエネルギー付与装置。
【請求項１１】
異なる位置でエネルギーを対象物へ付与するための複数のエネルギー付与素子と、異なる位置での対象物の特性を示す超音波信号を生成するための複数の超音波素子であって、前記複数のエネルギー付与素子のそれぞれに一つ以上の超音波素子が割り当てられる当該複数の超音波素子とを有する対象物へ導入されるためのカテーテルであって、前記カテーテルは、生成された超音波信号から、異なる位置へ付与されたエネルギーのエネルギー付与影響を決定するためのエネルギー付与影響決定ユニットと、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子がエネルギーを付与する位置に対して決定されるエネルギー付与影響に依存して、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子を個別に制御するための制御ユニットであって、それぞれのエネルギー付与素子に割り当てられる一つ以上の超音波素子の一つ以上の超音波信号から決定される一つ以上のエネルギー付与影響に依存して、それぞれのエネルギー付与素子を制御する前記制御ユニットと協働する、カテーテル。
【請求項１２】
異なる位置でエネルギーを対象物へ付与するための複数のエネルギー付与素子と、異なる位置での対象物の特性を示す超音波信号を生成するための複数の超音波素子であって、前記複数のエネルギー付与素子のそれぞれに一つ以上の超音波素子が割り当てられる当該複数の超音波素子と協働する、対象物へのエネルギーの付与を制御するためのコントローラであって、前記コントローラは、生成された超音波信号から、異なる位置へ付与されたエネルギーのエネルギー付与影響を決定するためのエネルギー付与影響決定ユニットと、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子がエネルギーを付与する位置に対して決定されるエネルギー付与影響に依存して、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子を個別に制御するための制御ユニットとを有し、前記制御ユニットは、それぞれのエネルギー付与素子に割り当てられる一つ以上の超音波素子の一つ以上の超音波信号から決定される一つ以上のエネルギー付与影響に依存して、それぞれのエネルギー付与素子を制御する、コントローラ。
【請求項１３】
コンピュータプログラムが、請求項１に記載のエネルギー付与装置を制御するコンピュータ上で動くとき、前記エネルギー付与装置により、複数のエネルギー付与素子により異なる位置でエネルギーを対象物に付与するステップと、前記複数のエネルギー付与素子のそれぞれに一つ以上の超音波素子が割り当てられる当該複数の超音波素子により異なる位置での対象物の特性を示す超音波信号を生成するステップと、エネルギー付与影響決定ユニットにより、生成された超音波信号から、異なる位置へ付与されたエネルギーのエネルギー付与影響を決定するステップと、それぞれのエネルギー付与素子に割り当てられる一つ以上の超音波素子の一つ以上の超音波信号から決定される一つ以上のエネルギー付与影響に依存して、それぞれのエネルギー付与素子を制御する前記制御ユニットにより、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子がエネルギーを付与する位置に対して決定されるエネルギー付与影響に依存して、前記少なくとも一つのエネルギー付与素子を個別に制御するステップとを実施させるためのプログラムコード手段を有する、エネルギーを対象物へ付与するためのコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月23日(2014.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）ハウジングと、
ｂ）ハウジングに支持され、乾燥チャンバーを画定する回転ドラムと、
ｃ）回転ドラムへの空気の進入を可能にするメイン空気インレットと、
ｄ）回転ドラムから空気の排出を可能にするメイン空気アウトレットと、
ｅ）乾燥チャンバーに連通するように配備され、該乾燥チャンバーから、メイン空気インレット及びメイン空気アウトレットに繋がるメイン空気流れを吸引する真空ブロワーと、
ｆ）メイン空気流れに連通するように配備され、メイン空気流れの空気を加熱するヒータと、
ｇ）１又は複数の繊維製品によりメイン空気流れが閉塞又はほぼ閉塞されると、ブロワーの速度を低下させることにより、乾燥チャンバー内の真空をほぼ一定に維持するコントローラと、
を具えている繊維製品乾燥機。
【請求項２】
コントローラは、周波数インバータを含んでいる請求項１の繊維製品乾燥機。
【請求項３】
コントローラは、チャンバー内の真空をモニターする圧力トランスデューサを含んでいる請求項１の繊維製品乾燥機。
【請求項４】
コントローラは、真空が上昇すると、閉塞が起こる前に、ブロワーの速度を低下させる請求項１の繊維製品乾燥機。
【請求項５】
コントローラは、ブロワーの速度を低下させる制御フィードバックループを含んでいる請求項１の繊維製品乾燥機。
【請求項６】
コントローラは、真空の変化率を測定し、閉塞が起こる直前に閉塞が起こることを予測することができる請求項１の繊維製品乾燥機。
【請求項７】
ヒータは、メイン空気インレットに隣接して配置される請求項１の繊維製品乾燥機。
【請求項８】
繊維製品によるメイン空気アウトレットの閉塞は、真空の急上昇によって特徴づけられる潜在的閉塞が起こる直前に、コントローラがブロワー速度を低下させることによって防止される請求項１の繊維製品乾燥機。
【請求項９】
コントローラはコンピュータを含んでいる請求項１の繊維製品乾燥機。
【請求項１０】
繊維製品を乾燥する方法であって、
ａ）ハウジングによって支持された回転ドラムを含む乾燥チャンバーを有するハウジングと、回転ドラムへ空気を進入させることができるメイン空気インレットと、回転ドラムから空気を排出させることができるメイン空気アウトレットとを配備するステップ、
ｂ）メイン空気インレットとメイン空気アウトレットとを繋ぐメイン空気流れを吸引して真空を生成するステップ、
ｃ）メイン空気流れの空気を加熱するステップ、
ｄ）１又は複数の繊維製品によりメイン空気アウトレットが閉塞状態又はほぼ閉塞状態になると、ブロワーの速度を低下させることにより、乾燥チャンバー内の真空をほぼ一定に維持するステップ、
を具えている、繊維製品乾燥方法。
【請求項１１】
ステップｄにおいて、周波数インバータは、真空ブロワーの速度を制御するのに用いられる請求項１０の方法。
【請求項１２】
ステップｄにおいて、圧力トランスデューサは、チャンバー内の真空をモニターする請求項１０の方法。
【請求項１３】
ステップｄにおいて、コントローラは、真空の上昇に応じて、閉塞が起こる前に、ブロワーの速度を低下させる請求項１０の方法。
【請求項１４】
コントローラは、ブロワーの速度を低下させる制御フィードバックループをさらに含んでいる請求項１３の方法。
【請求項１５】
ステップｄにおいて、コントローラは、真空の変化率を測定し、閉塞が起こる直前に閉塞の予測をすることができる請求項１０の方法。
【請求項１６】
ステップｃにおいて、メイン空気インレットに隣接して配置されたヒータが、メイン空気インレットにて空気を加熱する請求項１０の方法。
【請求項１７】
ステップｄにおいて、繊維製品によるメイン空気アウトレットの閉塞を、真空の急上昇によって特徴づけられる潜在的閉塞が起こる直前にブロワー速度を低下させることによって防止することを含んでいる請求項１０の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月11日(2014.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
病変したまたは損傷を受けた眼組織を治療する細胞療法のための基材であって、
短軸および長軸を有し、かつ眼組織への埋め込みのために構成されるパリレン基材
を含み、
基材を介する75キロダルトン（kDa）より大きな分子量を有する分子の通過を妨げる、0.1ミクロン〜5ミクロンの範囲の厚みを有する細胞増殖のための平面パリレン頂端表面、
前記平面頂端表面と並置される支持フィーチャであって、基材の長軸に沿って長手方向に伸びる周期的な円柱形状であり、1μm〜500μmの高さを有し、かつ、基材の長軸に沿って構造的剛性を提供する支持フィーチャを含むパリレン基底表面
を含み、
対象の病変したまたは損傷した眼組織の領域に埋め込まれて、病変したまたは損傷を受けた眼組織の治療に適した細胞集団を支持するように構成される、基材。
【請求項２】
前記細胞増殖のための頂端表面が、前記頂端表面の周囲に高くなったへりをさらに含む、請求項1に記載の基材。
【請求項３】
前記高くなったへりが、10〜1000ミクロンの範囲の高さおよび10〜1000ミクロンの範囲の幅を有する、請求項2に記載の基材。
【請求項４】
前記頂端表面の長さおよび幅が、0.3mm〜7mmの範囲である、請求項1に記載の基材。
【請求項５】
前記基材の長軸が、0.3〜7mmの範囲であり、前記基材の短軸が0.3〜7mmの範囲である、請求項1から4のいずれか一項に記載の基材。
【請求項６】
前記支持フィーチャが、前記頂端表面から基材の底表面側への細胞増殖を阻害する、請求項1から5のいずれか一項に記載の基材。
【請求項７】
周期的な前記支持フィーチャの短軸に沿って柔軟性を有する、請求項1から6のいずれか一項に記載の基材。
【請求項８】
細胞増殖のための前記パリレン頂端表面の厚みが、前記基材を介する70kDaよりも大きい分子量を有する分子の通過を阻害する、請求項1から7のいずれか一項に記載の基材。
【請求項９】
前記頂端表面が、パリレンA、パリレンAM、パリレンC、アンモニア処理パリレン、パリレンX、パリレンNおよびパリレンCからなる群から選択されるパリレンを含む、請求項1から8のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１０】
前記基底表面が、パリレンA、パリレンAM、パリレンC、アンモニア処理パリレン、パリレンX、パリレンNおよびパリレンCからなる群から選択されるパリレンを含む、請求項1から9のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１１】
前記頂端表面のパリレンが、ポリドーパミン、マトリゲル、ビトロネクチンおよびレトロネクチンのうち1種または複数でコーティングされている、請求項1から10のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１２】
前記基底表面の前記パリレンが、ポリドーパミン、マトリゲル、ビトロネクチンおよびレトロネクチンのうち1種または複数でコーティングされている、請求項1から11のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１３】
前記頂端表面の前記パリレンが、マトリゲル、ビトロネクチン、およびレトロネクチンのうち1種または複数でコーティングされているパリレンCである、請求項10に記載の基材。
【請求項１４】
前記基底表面の前記パリレンが、マトリゲル、ビトロネクチン、およびレトロネクチンのうち1種または複数でコーティングされているパリレンCである、請求項11に記載の基材。
【請求項１５】
前記頂端表面の前記パリレンが、ビトロネクチンでコーティングされているパリレンCである、請求項13に記載の基材。
【請求項１６】
前記基底表面の前記パリレンが、ビトロネクチンでコーティングされているパリレンCである、請求項14に記載の基材。
【請求項１７】
１種または複数の前記頂端表面および前記基底表面が酸素処理されている、請求項1から16のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１８】
前記頂端表面が、網膜色素上皮（RPE）細胞、RPEおよび光受容体、ミューラーグリア細胞、神経節細胞、ミューラーグリア細胞および神経節細胞の混合物、角膜内皮細胞、角膜内皮細胞およびコラーゲンの混合物、角膜上皮細胞、角膜上皮細胞およびコラーゲンの混合物、内皮細胞、周皮細胞、内皮細胞および周皮細胞の混合物からなる群から選択される細胞が播種されるように構成される、請求項1から17のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１９】
前記RPE細胞が、ヒト胚性幹細胞由来RPE細胞である、請求項18に記載の基材。
【請求項２０】
眼組織への埋め込みにおいて、前記基材のRPE細胞が、眼の光受容体の外部セグメントと機能的に嵌合する、請求項19に記載の基材。
【請求項２１】
前記基材が、対象の眼の網膜下空間中への埋め込みに適している、対象の眼の網膜の網膜上側に隣接した埋め込みに適している、または、対象の眼の角膜組織に隣接した埋め込みに適している、請求項1から20のいずれか一項に記載の基材。
【請求項２２】
萎縮型AMD、角膜疾患、緑内障、糖尿病性網膜症、網膜静脈閉塞、滲出型AMD、網膜色素変性症、シュタルガルト病および／またはレーバー先天性黒内障の1種または複数の、細胞療法による治療において使用するための、請求項1から21のいずれか一項に記載の基材。
【請求項２３】
複数の基材を含む基材フレームにおいて組み立てられる、請求項1から22のいずれか一項に記載の基材。
【請求項２４】
細胞療法のための基材を調製するシステムであって、
各個々の基材が長軸と短軸を備える、複数の個々の基材を含むポリマー基材フレーム、
幹細胞集団の増殖のためのパリレン頂端表面およびパリレン基底表面、
基材フレームを培養容器内の固定された位置に一時的に維持するための装置
を含み、
前記頂端表面は、75キロダルトンまでの分子量を有する分子の通過を可能にする、0.1〜5ミクロンの範囲の厚みを有し、
前記基底表面は、複数の支持フィーチャを含み、前記支持フィーチャは、周期的な円柱形状であり、前記基材の基底表面の長軸の長さに沿って長手方向に伸び、前記支持フィーチャは、長軸に沿って構造的剛性を提供し、短軸に沿って柔軟性を許容し、および、前記基底表面は、前記基底表面から前記頂端表面への血管増殖を阻害するために構成され、
前記個々の基材が、基材フレームから個別に取り外すことができ、
前記装置が、複数の個々の基材各々の少なくとも1つの部分上での細胞の増殖を防ぐように構成され、
前記装置が、基材フレームからの個々の基材の選択的取り外しを可能にするように構成されるシステム。
【請求項２５】
前記ポリマー基材フレームが、非生分解性ポリマーを含む、請求項24に記載のシステム。
【請求項２６】
前記ポリマー基材フレームが、生分解性ポリマーを含む、請求項24に記載のシステム。
【請求項２７】
前記ポリマー基材フレームおよび前記個々の基材が、その基底側に対する疎水性処理を含む、請求項24から26のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２８】
前記基材を、基材と基材フレームを接続する基材の部分を切断することによって取り外す、請求項24から27のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２９】
前記装置が、それを通して前記基材の前記部分を切断することができる開口部を含む、請求項24から28のいずれか一項に記載のシステム。