Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月7日(2003.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２のトランジスタ（１、２）のロングテイルペアと、第３のトランジスタ（２０）のベースが当該増幅器の第１の入力（ＩＮ＋）に接続されかつそのエミッタが上記第１のトランジスタ（１）のベースに接続された第３のトランジスタ（２０）と、第４のトランジスタ（２１）のベースが当該増幅器の第２の入力（ＩＮ−）に接続されかつそのエミッタが上記第２のトランジスタ（２）のベースに接続された第４のトランジスタ（２１）とを備え、上記第３及び第４のトランジスタ（２０、２１）はそれぞれ、第１及び第２のコレクタ抵抗（２４、２５）を有する無線周波増幅器であって、
上記第３及び第４のトランジスタ（２０、２１）のベースとコレクタとの間にそれぞれ接続された第１及び第２の帰還抵抗（２８、２９）を備えたことを特徴とする無線周波増幅器。
【請求項２】
上記第１及び第２のトランジスタ（１、２）はそれぞれ第１及び第２のエミッタ抵抗（６、７）を有することを特徴とする請求項１記載の増幅器。
【請求項３】
上記ロングテイルペアは上記第１及び第２のトランジスタ（１、２）のエミッタに対する共通の電流源（８、９）を備えたことを特徴とする請求項１又は２記載の増幅器。
【請求項４】
上記第３及び第４のトランジスタ（２０、２１）はそれぞれ第３及び第４のエミッタ抵抗（２２、２３）を有することを特徴とする先行する請求項のうちの任意の１つに記載の増幅器。
【請求項５】
上記第３及び第４のトランジスタ（２０、２１）のベースとコレクタとの間にそれぞれ接続された第１及び第２のキャパシタ（２６、２７）によって特徴付けられる先行する請求項のうちの任意の１つに記載の増幅器。
【請求項６】
当該増幅器の第２の入力（ＩＮ−）は第３のキャパシタ（１２）を介して接地されていることを特徴とする先行する請求項のうちの任意の１つに記載の増幅器。
【請求項７】
上記第１及び第２のトランジスタ（１、２）のコレクタはギルバートセル（３）に接続されていることを特徴とする先行する請求項のうちの任意の１つに記載の増幅器。
【請求項８】
先行する請求項のうちの任意の１つに記載の増幅器を備えたことを特徴とするテレビジョンチューナ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
トランジスタ２０及び２１のエミッタは、トランジスタ１及び２のベースにそれぞれ接続され、エミッタ抵抗２２及び２３を介してそれぞれ接地されている。トランジスタ２０及び２１のベースは、第１及び第２の入力ＩＮ＋及びＩＮ−にそれぞれ接続され、抵抗４及び５を介して、バイアス電圧Ｖｂｉａｓ２にそれぞれ接続されている。トランジスタ２０及び２１のコレクタは、コレクタ抵抗２４及び２５を介して電源供給線ＶＣＣにそれぞれ接続されている。トランジスタ２０及び２１のそれぞれは、それのベース及びコレクタの間に接続されたキャパシタ２６及び２７を有している。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2003198282.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月18日(2003.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像装置及び撮像方法及び制御プログラム


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体像を撮像し、ファインダ表示並びに焦点検出のための画像信号を出力する撮像素子と、
前記撮像素子により前記ファインダ表示のための第１の撮像を所定の複数回行なう毎に、前記焦点検出のための第２の撮像を行なうように制御する制御装置と、
を具備することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御装置は、前記焦点検出のための第２の撮像を行なった場合は、次の新たな前記ファインダ表示のための第１の撮像による画像信号が得られるまで前記第２の撮像直前に行なわれた第１の撮像により得られる画像信号にてファインダ表示を行なうことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記制御装置は、前記焦点検出のための第２の撮像によって得られる画像信号では、ファインダ表示を行なわないことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記制御装置は、前記第２の撮像によって位相差方式の焦点検出を行うための画像信号を得ることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記制御装置は、撮影モードに応じて前記所定の複数回を変更することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記制御装置は、被写体の動きに対応する撮影モードに応じて前記所定の複数回を変更することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項７】
被写体像を撮像し、ファインダ表示並びに焦点検出のための画像信号を出力する撮像素子により、前記ファインダ表示のための第１の撮像を所定の複数回行なう毎に、前記焦点検出のための第２の撮像を行うことを特徴とする撮像方法。
【請求項８】
撮像装置に適用されるコンピュータを実行させるための制御プログラムであって、
被写体像を撮像し、ファインダ表示並びに焦点検出のための画像信号を出力する撮像素子により、前記ファインダ表示のための第１の撮像を所定の複数回行なう毎に、前記焦点検出のための第２の撮像を行う工程のコードを有することを特徴とする制御プログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係わる撮像装置は、被写体像を撮像し、ファインダ表示並びに焦点検出のための画像信号を出力する撮像素子と、前記撮像素子により前記ファインダ表示のための第１の撮像を所定の複数回行なう毎に、前記焦点検出のための第２の撮像を行なうように制御する制御装置と、を具備することを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、この発明に係わる撮像装置において、前記制御装置は、前記焦点検出のための第２の撮像を行なった場合は、次の新たな前記ファインダ表示のための第１の撮像による画像信号が得られるまで前記第２の撮像直前に行なわれた第１の撮像により得られる画像信号にてファインダ表示を行なうことを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、この発明に係わる撮像装置において、前記制御装置は、前記焦点検出のための第２の撮像によって得られる画像信号では、ファインダ表示を行なわないことを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、この発明に係わる撮像装置において、前記制御装置は、前記第２の撮像によって位相差方式の焦点検出を行うための画像信号を得ることを特徴とする。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、この発明に係わる撮像装置において、前記制御装置は、撮影モードに応じて前記所定の複数回を変更することを特徴とする。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、この発明に係わる撮像装置において、前記制御装置は、被写体の動きに対応する撮影モードに応じて前記所定の複数回を変更することを特徴とする。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明に係わる撮像方法は、被写体像を撮像し、ファインダ表示並びに焦点検出のための画像信号を出力する撮像素子により、前記ファインダ表示のための第１の撮像を所定の複数回行なう毎に、前記焦点検出のための第２の撮像を行うことを特徴とする。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明に係わる制御プログラムは、撮像装置に適用されるコンピュータを実行させるための制御プログラムであって、被写体像を撮像し、ファインダ表示並びに焦点検出のための画像信号を出力する撮像素子により、前記ファインダ表示のための第１の撮像を所定の複数回行なう毎に、前記焦点検出のための第２の撮像を行う工程のコードを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月19日(2003.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部回路と、パッドと、前記内部回路と前記パッドの間の信号の入出力を行い、複数のトランジスタの接続を変更することにより所定の駆動能力を得ることが可能なＩ／Ｏ回路と、を備えた半導体集積回路であって、
前記Ｉ／Ｏ回路は、前記内部回路と前記パッドの間に並列に配置された複数の保護素子からなる保護素子列を含み、
前記保護素子は、
前記内部回路の出力信号を受け、第１の電源電圧レベルの信号を前記パッドに出力するＰチャネルＭＯＳトランジスタと、
前記内部回路の出力信号を受け、第２の電源電圧レベルの信号を前記パッドに出力するＮチャネルＭＯＳトランジスタと、
前記パッドに接続された信号線と前記ＰチャネルＭＯＳトランジスタの出力端子との間に接続された第１の抵抗素子と、
前記信号線と前記ＮチャネルＭＯＳトランジスタの出力端子との間に接続された第２の抵抗素子と、
を含むことを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項２】
内部回路と、パッドと、前記内部回路と前記パッドの間の信号の入出力を行い、複数のトランジスタの接続を変更することにより所定の駆動能力を得ることが可能なＩ／Ｏ回路と、を備えた半導体集積回路であって、
前記Ｉ／Ｏ回路は、前記内部回路と前記パッドの間に並列に配置された複数の保護素子からなる保護素子列を含み、
前記保護素子は、
前記内部回路の出力信号を受け、第１の電源電圧レベルの信号を前記パッドに出力するＰチャネルＭＯＳトランジスタと、
前記内部回路の出力信号を受け、第２の電源電圧レベルの信号を前記パッドに出力するＮチャネルＭＯＳトランジスタと、
前記パッドに接続された信号線と前記ＰチャネルＭＯＳトランジスタの出力端子との間に接続された第１の抵抗素子、および前記信号線と前記ＮチャネルＭＯＳトランジスタの出力端子との間に接続された第２の抵抗素子の少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項３】
内部回路と、パッドと、前記内部回路と前記パッドの間の信号の入出力を行い、複数のトランジスタの接続を変更することにより所定の駆動能力を得ることが可能なＩ／Ｏ回路と、を備えた半導体集積回路であって、
前記Ｉ／Ｏ回路は、前記内部回路と前記パッドの間に並列に配置された複数の保護素子からなる保護素子列を含み、
前記保護素子は、
前記内部回路の出力信号を受け、第１の電源電圧レベルの信号を前記パッドに出力するＰチャネルＭＯＳトランジスタと、
前記パッドに接続された信号線と前記ＰチャネルＭＯＳトランジスタの出力端子との間に接続された第１の抵抗素子と、
を含むことを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項４】
内部回路と、パッドと、前記内部回路と前記パッドの間の信号の入出力を行い、複数のトランジスタの接続を変更することにより所定の駆動能力を得ることが可能なＩ／Ｏ回路と、を備えた半導体集積回路であって、
前記Ｉ／Ｏ回路は、前記内部回路と前記パッドの間に並列に配置された複数の保護素子からなる保護素子列を含み、
前記保護素子は、
前記内部回路の出力信号を受け、第１の電源電圧レベルの信号を前記パッドに出力するＰチャネルＭＯＳトランジスタと、
前記内部回路の出力信号を受け、第２の電源電圧レベルの信号を前記パッドに出力するＮチャネルＭＯＳトランジスタと、
前記パッドに接続された信号線と前記ＮチャネルＭＯＳトランジスタの出力端子との間に接続された第２の抵抗素子と、
を含むことを特徴とする半導体集積回路装置。
【請求項５】
前記各保護素子列は、前記パッドに正方向に過大な高電圧が印加されたときに、前記第１の電源電圧を供給する第１の電源電圧端子へ前記信号線から電流を流す電流パス、および、前記パッドに負方向に過大な高電圧が印加されたときに、前記第２の電源電圧を供給する第２の電源電圧端子から前記信号線へ電流を流す電流パスの少なくともいずれか一方の電流パスを有することを特徴とする請求項１〜４いずれか一つに記載の半導体集積回路装置。
【請求項６】
前記電流パスは、ＰＮ接合ダイオード、またはフィールドトランジスタで構成されたダイオードにより形成されていることを特徴とする請求項５に記載の半導体集積回路装置。
【請求項７】
前記第１の抵抗素子および前記第２の抵抗素子の少なくともいずれか一方は、半導体基板に形成された拡散抵抗、ポリシリコンで構成された抵抗、または半導体基板に形成されたウェル抵抗により構成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の半導体集積回路装置。
【請求項８】
前記各保護素子列、前記内部回路、前記電流パスおよび前記パッドは同一の半導体基板上に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の半導体集積回路装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月26日(2003.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板を搭載して反応炉内に出し入れされるボートを備えた熱処理装置において、前記ボートを、基板を垂直に立てた姿勢で水平方向に並べて保持する子ボートと、複数の前記子ボートを上下方向に複数段保持する親ボートとで構成したことを特徴とする熱処理装置。
【請求項２】
複数の基板を搭載して反応炉内に出し入れされるボートを備えた熱処理装置において、前記ボートは、基板を垂直に立てた姿勢で水平方向に並べて保持する子ボートを上下方向に複数段設置するよう構成されることを特徴とする熱処理装置。
【請求項３】
複数の基板を搭載して反応炉内に出し入れされるボートを備えた熱処理装置において、前記ボートは上下方向に複数段の棚を有し、前記複数段の棚のそれぞれに基板を垂直に立てた姿勢で水平方向に並べて保持するよう構成されることを特徴とする熱処理装置。
【請求項４】
複数の基板を搭載して反応炉内に出し入れされるボートを備えた熱処理装置において、前記ボートは、垂直に立てた複数の基板を上下方向に複数段保持するよう構成されることを特徴とする熱処理装置。
【請求項５】
複数の基板を搭載して反応炉内に出し入れされるボートを備えた熱処理装置において、前記ボートは複数の基板を垂直に立てた姿勢で保持するとともに、反応炉に対して上下方向に出し入れされることを特徴とする熱処理装置。
【請求項６】
複数の基板を搭載して反応炉内に出し入れされるボートを備えた熱処理装置において、前記ボートはプロセス基板を垂直に立てた姿勢で保持するとともに、ダミー基板を水平姿勢で保持するよう構成されることを特徴とする熱処理装置。
【請求項７】
複数の基板を搭載して反応炉内に出し入れされるボートにおいて、前記ボートを、基板を垂直に立てた姿勢で水平方向に並べて保持する子ボートと、複数の前記子ボートを上下方向に複数段保持する親ボートとで構成したことを特徴とするボート。
【請求項８】
複数の基板を搭載して反応炉内に出し入れされるボートにおいて、前記ボートは、垂直に立てた複数の基板を上下方向に複数段保持するよう構成されることを特徴とするボート。
【請求項９】
複数の基板を垂直に立てた姿勢で子ボートにより保持する工程と、複数の基板を保持した子ボートを親ボートにより上下方向に複数段保持する工程と、前記子ボートと親ボートとで構成されるボートにより保持した複数の基板を反応炉内に装入する工程と、前記反応炉内に装入した複数の基板を垂直に立てた姿勢で熱処理する工程と、前記ボートにより保持した処理後の複数枚の基板を反応炉から抜き出す工程と、を有することを特徴とする熱処理方法。
【請求項１０】
複数の基板をボートにより垂直な姿勢で複数段保持する工程と、前記ボートにより保持した複数の基板を反応炉内に装入する工程と、前記反応炉内に装入した複数の基板を垂直な姿勢で熱処理する工程と、前記ボートにより保持した処理後の複数枚の基板を反応炉から抜き出す工程と、を有することを特徴とする熱処理方法。
【請求項１１】
複数の基板をボートにより垂直な姿勢で保持する工程と、前記ボートにより保持した複数の基板を反応炉内下端開口より上下方向に装入する工程と、前記反応炉内に装入した複数の基板を垂直な姿勢で熱処理する工程と、前記ボートにより保持した処理後の複数枚の基板を反応炉から抜き出す工程と、を有することを特徴とする熱処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月16日(2004.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）基板上に感光性の膜を形成する工程と、
（ｂ）前記基板の外周部に対応した位置にパターンを有するフォトマスクを介して、前記膜を投影光学系を用いて投影露光する露光工程と、
（ｃ）前記露光された膜を現像処理することにより、前記基板の外周部に露光評価パターンを形成する工程と
を具備することを特徴とする露光基板の製造方法。
【請求項２】
（ａ）基板上に膜を形成する工程と、
（ｂ）前記膜上にレジスト膜を形成する工程と、
（ｃ）前記基板の外周部に対応した位置にパターンを有するフォトマスクを介して、前記レジスト膜を投影光学系を用いて投影露光する露光工程と、
（ｄ）前記露光されたレジスト膜を現像処理することによりレジストパターンを形成する工程と、
（ｅ）前記レジストパターンをマスクとして前記膜をエッチングし、前記基板の外周部に露光評価パターンを形成する工程とを具備することを特徴とする露光基板の製造方法。
【請求項３】
前記露光評価パターンは複数あることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の露光基板の製造方法。
【請求項４】
前記基板は矩形状を有し、
前記フォトマスクは、前記基板の四隅に対応した位置に同一の形状の前記パターンを有し、
前記露光評価パターンは、前記基板の四隅にそれぞれ形成されることを特徴とする請求項３に記載の露光基板の製造方法。
【請求項５】
前記露光工程においてディストーションの発生がなく形成された露光評価パターンは、基板と平行な断面形状が円状のパターンを有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の露光基板の製造方法。
【請求項６】
前記フォトマスクのパターンは、
第１の長さの長軸と、第２の長さの短軸とを有する楕円と、
前記長軸にほぼ平行し前記第２の長さの短軸と、前記短軸にほぼ平行し前記第１の長さの長軸とを有する楕円と、
前記第１の長さの直径を有する円と、
前記第２の長さの直径を有する円と
を有することを特徴とする請求項５に記載の露光基板の製造方法。
【請求項７】
前記フォトマスクのパターンは、
第１の長さの長辺と、第２の長さの短辺とを有する長方形と、
前記長辺にほぼ平行し前記第２の長さの短辺と、前記短辺にほぼ平行し前記第１の長さの長辺とを有する長方形と、
前記第１の長さの辺を有する正方形と、
前記第２の長さの辺を有する正方形と
を有することを特徴とする請求項５に記載の露光基板の製造方法。
【請求項８】
前記第１の長さと前記第２の長さとの長さの差は、前記露光工程で用いられる露光機の解像度により設定されることを特徴とする請求項６または請求項７のいずれか一項に記載の露光基板の製造方法。
【請求項９】
前記フォトマスクは、前記基板の中央部に対応した素子用パターンを更に具備し、
前記露光評価パターンの形成と同時に、前記基板の中央部に素子用パターンが形成されることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の露光基板の製造方法。
【請求項１０】
複数のスイッチング素子が配置された露光基板を具備する電気光学装置の製造方法において、
前記露光基板は、請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の露光基板の製造方法により製造されてなることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の露光基板の製造方法により製造されてなることを特徴とする露光基板。
【請求項１２】
基板と、
投影光学系を用いた投影露光工程を経て、前記基板外周部に形成された露光評価パターンと
を具備することを特徴とする露光基板。
【請求項１３】
前記基板外周部には、前記露光評価パターンが複数配置されてなることを特徴とする請求項１２に記載の露光基板。
【請求項１４】
前記基板は矩形状を有し、
前記基板の四隅に、それぞれ同一のパターンからなる前記露光評価パターンが配置されてなることを特徴とする請求項１３に記載の露光基板。
【請求項１５】
前記露光評価パターンは、膜に複数の孔が開口されて形成され、
該孔の前記基板と平行な断面形状は、
第１の長さの長軸と第２の長さの短軸とを有する楕円と、
前記長軸にほぼ平行し前記第２の長さの短軸と、前記短軸にほぼ平行し前記第１の長さの長軸とを有する楕円と、
前記第１の長さの直径を有する円と、
前記第２の長さの直径を有する円と
を具備することを特徴とする請求項１２から請求項１４のいずれか一項に記載の露光基板。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月10日(2003.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信信号を処理する方法であって、
複数のチャネルブランチ上にアナログ信号を提供するステップと、
前記複数のチャネルブランチ上の前記アナログ信号の周波数を調節するステップと、
前記アナログ信号を結合するステップと、
前記結合されたアナログ信号をデジタル的に変換するステップとを含み、
前記調節するステップは、前記アナログ信号がデジタル的に変換されるときにナイキスト領域においてどのように位置づけられるかとは無関係に前記アナログ信号の各々を前記複数のチャネルブランチ上で位置づけて、前記結合されたアナログ信号をデジタル的に変換することによりナイキスト領域の実質的に非重複の部分に周波数帯域が生成されるようにする処理を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
少なくとも２つのアンテナにて前記アナログ信号を受信するステップをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記アナログ信号を提供するステップが、
第１のチャネルブランチにおける周波数帯域のアナログ信号を提供するために第１のアンテナを使用するステップと、
第２のチャネルブランチにおける前記周波数帯域のアナログ信号を提供するために第２のアンテナを使用するステップとをさらに含む請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記アナログ信号を提供するステップが、
第１のチャネルブランチにおける第１の周波数帯域のアナログ信号を提供するために第１のアンテナを使用するステップと、
第２のチャネルブランチにおける第２の周波数帯域のアナログ信号を提供するために第２のアンテナを使用するステップとをさらに含む請求項２記載の方法。
【請求項５】
前記アナログ信号を提供するステップが、
前記少なくとも１つのアンテナにより受信された前記アナログ信号を結合するステップと、
各チャネルブランチに対応する周波数帯域を有するアナログ信号を提供するために、前記アナログ信号を各チャネルブランチにおいてフィルタリングするステップとをさらに含む請求項２記載の方法。
【請求項６】
前記アナログ信号を提供するステップが、
少なくとも１つのアンテナからアナログ信号を受信するステップと、
各チャネルブランチに対応する周波数帯域を有するアナログ信号を、各チャネルブランチにおいて選択的に生成するステップとをさらに含む請求項２記載の方法。
【請求項７】
前記調節するステップが、
各チャネルブランチにおけるアナログ信号を対応する中間周波数（ＩＦ）帯域に周波数変換するステップをさらに含む請求項１記載の方法。
【請求項８】
受信機であって、
少なくとも１つのアンテナに接続されて、アナログ信号を受信し、アナログ信号を複数のチャネルブランチに提供するためのチャネルブランチアレンジャと、
前記複数のチャネルブランチにおけるアナログ信号の周波数を調節するように構成された少なくとも１つの周波数変換構成と、
前記複数のチャネルブランチに接続されて、前記アナログ信号を結合するための結合構成と、
前記結合されたアナログ信号を受信しおよびデジタル的に変換するように構成されたアナログ／デジタルコンバータとを含み、
前記少なくとも１つの周波数変換構成は、さらに前記アナログ信号がデジタル的に変換されるときにナイキスト領域においてどのように位置づけられるかとは無関係に前記アナログ信号の各々を前記複数のチャネルブランチ上で位置づけて、前記アナログ／デジタルコンバータが前記結合されたアナログ信号を変換してナイキスト領域の実質的に非重複部分に周波数帯域を生成するように構成されていることを特徴とする受信機。
【請求項９】
受信信号を処理する方法であって、
少なくとも２つのアンテナからのアナログ信号を少なくとも２つのチャネルブランチに提供するステップと、
前記少なくとも２つのチャネルブランチにおける前記アナログ信号が異なる周波数になるように、前記少なくとも２つのチャネルブランチのうちの少なくとも１つにおける前記アナログ信号の周波数を調節するステップと、
前記アナログ信号を結合するステップと、
前記結合されたアナログ信号をデジタル的に変換するステップとを含み、
前記調節するステップは、前記アナログ信号がデジタル的に変換されるときにナイキスト領域においてどのように位置づけられるかとは無関係に前記アナログ信号の各々を前記複数のチャネルブランチのうちの少なくとも１つの上で位置づけて、前記結合されたアナログ信号をデジタル的に変換することによりナイキスト領域の実質的に非重複の部分に周波数帯域が生成されるようにする処理を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
受信信号を処理する方法であって、
少なくとも２つのアンテナからのアナログ信号を少なくとも２つのチャネルブランチに提供するステップと、
前記少なくとも２つのチャネルブランチにおける前記アナログ信号が同じ周波数になるように、前記少なくとも２つのチャネルブランチの少なくとも１つにおける前記アナログ信号の周波数を調節するステップと、
前記少なくとも２つのチャネルブランチにおける前記アナログ信号を結合するステップと、
前記結合されたアナログ信号をデジタル的に変換するステップとを含み、
前記調節するステップは、前記アナログ信号がデジタル的に変換されるときにナイキスト領域においてどのように位置づけられるかとは無関係に前記アナログ信号の各々を前記少なくとも２つのチャネルブランチ上で位置づけて、前記結合されたアナログ信号をデジタル的に変換することによりナイキスト領域の実質的に非重複の部分に周波数帯域が生成されるようにする処理を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月22日(2003.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電子放出性物質を基材の表面に配備する光電子放出材において、前記基材は、表面に突起が１ｃｍ2当たり１×１０4個以上形成されており、その上に光電子放出性物質が配備されていることを特徴とする光電子放出材。
【請求項２】
光電子放出性物質を基材の表面に配備する光電子放出材において、前記光電子放出性物質は、基材表面に突起が１ｃｍ2当たり１×１０4個以上形成されていることを特徴とする光電子放出材。
【請求項３】
光電子放出性物質を基材の表面に配備する光電子放出材において、前記基材は、表面に光触媒活性を有する物質で、突起を１ｃｍ2当たり１×１０4個以上形成されており、その上に、光電子放出性物質が配備されていることを特徴とする光電子放出材。
【請求項４】
請求項１、２又は３記載の光電子放出材を、それぞれ２種以上組合せたことを特徴とする光電子放出材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、光電子放出性物質を基材の表面に配備する光電子放出材において、前記基材は、表面に突起が１ｃｍ2当たり１×１０4個以上形成されており、その上に光電子放出性物質が配備されていることを特徴とする光電子放出材としたものである。
また、本発明では、光電子放出性物質を基材の表面に配備する光電子放出材において、前記光電子放出性物質は、基材表面に突起が１ｃｍ2当たり１×１０4個以上形成されていることを特徴とする光電子放出材としたものである。
さらに、本発明では、光電子放出性物質を基材の表面に配備する光電子放出材において、前記基材は、表面に光触媒活性を有する物質で、突起を１ｃｍ2当たり１×１０4個以上形成されており、その上に、光電子放出性物質が配備されていることを特徴とする光電子放出材としたものである。
これらの光電子放出材は、それぞれ２種以上組合せて用いることができる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
次に、本発明の特徴である表面突起の形状を説明する。
結晶粒界等の光電子放出性物質の表面欠陥では、電子の状態が不安定なため、紫外線により容易に光電子を放出する。微小な突起状に光電子放出性物質を形成すれば、電子の状態が不安定な場所の増加と比表面積が増加し、高性能な光電子放出材になる。
突起の形状は、上記表面欠陥の増加と比表面積の増加を満足すれば何れでも良いが、例えば、円錐、円柱、四角柱、四角錐、多角柱、多角錐、花弁状がある。さらに、これらの形状が、重なり合って形成した突起がある。
突起の大きさ（最も大きい部分）は、一般的には０．０３μｍ〜６０μｍの範囲が好ましい。突起の高さは、一般的には０．１μｍ〜６０μｍが好ましい。
突起は、一般的には１×１０4個／ｃｍ2以上で、数が多い程好ましいが、実用上は加工精度の点で、上限は１×１０11個／ｃｍ2である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月22日(2003.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気伝導性固体に光触媒を付加した基材の表面に、光電子放出性物質を配備した光電子放出材の製造方法において、前記基材表面に配備する光電子放出性物質を、１ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で最適厚さに設定して配備することを特徴とする光電子放出材の製造方法。
【請求項２】
前記光電子放出性物質の最適厚さは、前記基材に付加した光触媒の活性に対応して設定することを特徴とする請求項１記載の光電子放出材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、電気伝導性固体に光触媒を付加した基材の表面に、光電子放出性物質を配備した光電子放出材の製造方法において、前記基材表面に配備する光電子放出性物質を、１ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で最適厚さに設定して配備することとしたものである。
前記光電子放出性物質の最適厚さは、前記基材に付加した光触媒の活性に対応して設定することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月17日(2003.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リン脂質、リゾリン脂質及び油を主成分としてなる組成物であって、質量比で、リン脂質：リゾリン脂質が１：０．１〜１：１０（１：０．１〜１：１．５の割合を除く）、リン脂質とリゾリン脂質：油が１：０．１〜１：２の割合で配合されていることを特徴とするリン脂質組成物。
【請求項２】
リン脂質として卵黄リン脂質が、またリゾリン脂質としてリゾフォスファチジルコリンが配合されている請求項１記載のリン脂質組成物。
【請求項３】
リン脂質とリゾリン脂質とをほぼ等量ずつ配合すると共に、この両物質とほぼ等量の油を配合している請求項１又は請求項２記載のリン脂質組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
その目的を達成するため、本発明は、
（１）  リン脂質、リゾリン脂質及び油を主成分としてなる組成物であって、質量比で、リン脂質：リゾリン脂質が１：０．１〜１：１０（１：０．１〜１：１．５の割合を除く）、リン脂質とリゾリン脂質：油が１：０．１〜１：２の割合で配合されていることを特徴とするリン脂質組成物、
（２）  リン脂質として卵黄リン脂質が、またリゾリン脂質としてリゾフォスファチジルコリンが配合されている（１）のリン脂質組成物、
（３）  リン脂質とリゾリン脂質とをほぼ等量ずつ配合すると共に、この両物質とほぼ等量の油を配合している（１）又は（２）のリン脂質組成物、
からなるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月10日(2003.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極の外周面を整形する電極整形部材を備えた電極整形装置であって、
前記電極整形部材は正常な電極の外周面に対応する形状の整形面を有する電極整形装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電極整形装置であって、
電極整形部材は第１の面と、第１の面と対向する第２の面を備え、
第１及び第２の整形面は連通している電極整形装置。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれかに記載の電極整形装置であって、
電極整形部材は導電性部材で構成されている電極整形装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の電極整形装置であって、
電極の外周面を第１又は及び第２の整形面に押圧する押圧手段を有する電極整形装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の電極整形装置であって、
電極もしくは電極整形部材の少なくとも一方を回転させる回転手段を備える電極整形装置。
【請求項６】
一対の電極を有する溶接機と、制御装置と、電極整形装置とを備えた溶接装置であって、
電極整形装置として請求項１〜５のいずれかに記載の電極整形装置を用い、
制御装置は、溶接機の電極の状態を判別し、電極の状態に応じて電極整形装置を用いて電極を整形する、
溶接装置。
【請求項７】
一対の電極を有する溶接機と、制御装置と、電極整形装置と、電極を研磨する電極研磨装置とを備えた溶接装置であって、
電極整形装置として請求項１〜５のいずれかに記載の電極整形装置を用い、
制御装置は、溶接機の電極の状態を判別し、電極の状態に応じて、電極整形装置もしくは電極研磨装置を用いて電極を整形もしくは研磨する、
溶接装置。
【請求項８】
一対の電極を有する溶接機と、制御装置と、電極整形装置と、電極を研磨する電極研磨装置と、電極を交換する電極交換装置とを備えた溶接装置であって、
電極整形装置として請求項１〜５のいずれかに記載の電極整形装置を用い、
制御装置は、溶接機の電極の状態を判別し、電極の状態に応じて、電極整形装置もしくは電極研磨装置もしくは電極交換装置を用いて電極を整形もしくは研磨もしくは交換する、
溶接装置。
【請求項９】
一対の電極の外周面を整形する電極整形方法であって、
一対の電極の外周面を、電極整形部材に設けられた整形面に押圧し、正常な電極の外周面に対応する形状に整形する電極整形方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の電極整形方法であって、
一対の電極の外周面を電極整形部材に設けられた整形面に押圧した状態で、電極と電極整形部材間に電流を流し、電極を整形する電極整形方法。
【請求項１１】
請求項９又は１０のいずれかに記載の電極整形方法であって、
一対の電極の外周面を電極整形部材に設けられた整形面に押圧した状態で、電極もしくは電極整形部材のうち少なくとも一方を回転させ、電極を整形する電極整形方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を解決するために、請求項１に記載の発明は、電極の外周面を整形する電極整形部材を備えた電極整形装置であって、電極整形部材は正常な電極の外周面に対応する形状の整形面を有する電極整形装置である。
請求項１に記載の電極整形装置によれば、電極の切削や研磨等を行う場合と比較して電極の寿命を長くすることができるとともに、電極の外周面を容易に正常な電極の外周面に対応する形状に加工することができる。
ここで、「整形」とは、「切削」や「研磨」等のように（切ったり削ったりして）、加工する部材の体積を少なくすることなく、加工する部材の外周面の形状を整えるものとする。また、本明細書では、「整形」、「切削」、「研磨」等を併せて「加工」と総称するものとする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の電極整形装置であって、電極整形部材は第１の面と、第１の面と対向する第２の面を備えていて、それらの第１及び第２の整形面は連通している電極整形装置である。
請求項２に記載の電極整形装置によれば、電極整形部材の清掃やメンテナンスが容易である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の電極整形装置であって、電極の外周面を第１又は及び第２の整形面に押圧する押圧手段を有する電極整形装置である。
請求項４に記載の電極整形装置によれば、電極の外周面を一層容易に正常な電極の外周面に対応する形状に加工することができる。例えば、電極を溶接機から取外した状態でも容易に整形することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月18日(2003.8.18)
【手続補正１】
【補正対象項目名】手続補正１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
四角形の容器本体の底面が格子又は網状の通気体からなり、四つの側面のうち通気流路面の対称面の少なくともひとつが遮蔽面であることを特徴とする容器。
【請求項２】
四角形の容器本体の底面が格子又は網状の通気体からなり、四つの側面のうち通気流路面の対称面の少なくともひとつが遮蔽面であることを特徴とする容器を差圧冷却、乾燥用容器として使用するに当り、空気の流入側に対し通気流路面と遮蔽面が対称になるよう交互に任意の高さに積み重ね、通気流路面から流入した空気を遮蔽面にて流路を上下に変化させる流路形成の配列を特徴とする差圧冷却、乾燥装置。
【手続補正２】
【補正対象項目名】手続補正２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年4月17日(2003.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ面の周囲に光軸を中心とした円筒状部分を有するレンズ枠が一体に成形されたプラスチックレンズにおいて、前記円筒状部分の成形時のゲートが形成された位置に対応する部分が、前記円筒状部分の仮想延長面と同一もしくはこの仮想延長面よりも内周側に位置し、前記仮想延長面と同じ方向に凸の面となっていることを特徴とするプラスチックレンズ。
【請求項２】
前記凸の面は、前記仮想延長面より内側で、レンズの有効径よりも外周に位置することを特徴とする請求項１記載のプラスチックレンズ。
【請求項３】
前記凸の面は、光軸を中心とし、前記有効径の半径よりも大きく、かつ前記円筒状部分を形成する円筒面の半径よりも小さな半径を有することを特徴とする請求項１記載のプラスチックレンズ。
【請求項４】
前記凸の面は、前記円筒状部分を形成する円筒面の半径よりも大きな半径を有することを特徴とする請求項１記載のプラスチックレンズ。
【請求項５】
前記仮想延長面と、前記凸の面との光軸を中心とした半径方向の差の最大値が０ｍｍ以上０．１５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のプラスチックレンズ。
【請求項６】
前記凸の面は、曲面または多面であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のプラスチックレンズ。
【請求項７】
前記凸の面は、円筒面または楕円筒面であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のプラスチックレンズ。
【請求項８】
前記凸の面は、光軸を中心とし、前記有効径の半径よりも大きく、かつ前記円筒状部分を形成する円筒面の半径よりも小さな半径を有することを特徴とする請求項２記載のプラスチックレンズ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来のゲート１０１を切断する場合には、光軸Ｏ１を通る直線と平行に切断するため除去部分１０１ｂが多く、プラスチックレンズ１００をコーティングする際にプラスチックレンズ１００を保持するコート保持具内でプラスチックレンズ１００が片寄り、レンズ面にケラレを生じる可能性がある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項３及び請求項８記載の発明は、前記凸の面が、光軸を中心とし、前記有効径の半径よりも大きく、かつ前記円筒状部分を形成する円筒面の半径よりも小さな半径を有することを特徴としている。ゲートの切断する除去部分をより一層少なく、しかも切断部分がレンズの有効径に近付くことを抑え、レンズに悪影響を与えることを防止する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項７記載の発明は、前記凸の面が、円筒面または楕円筒面であることを特徴としている。曲面を、円筒面または楕円筒面とすることで、切断面をレンズの有効径から離すことができ、レンズに悪影響を与えることを防止する。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この実施例では、エンドミル切断機４を用い、初期位置Ａ１から矢印で示すように前進させて切断開始位置Ａ２に移動させ、さらにプラスチックレンズ１の円周方向へ移動させてゲート３を切断し、切断終了位置Ａ３から後退させ、後退位置Ａ４から初期位置Ａ１へ戻し、この移動サイクルで切断する。エンドミル直径をｄ、退避距離をｌ、切り込み量をＬ、プラスチックレンズ直径をＤで示す。なお、エンドミル切断機４に限定されず、レーザー、超音波、プレス等の切断機を用いることができる。また、エンドミル切断機４を、初期位置Ａ１と光軸Ｏ１とを結ぶラインＰ１と、後退位置Ａ４と光軸Ｏ１とを結ぶラインＰ２とがなす角θ１の範囲を移動させてゲート３を切断しているが、ラインＰ１と、後退位置Ａ４´と光軸Ｏ１とを結ぶラインＰ３とがなす角θ２の範囲を移動させてゲート３を切断してもよく、この場合切断時間が短縮される。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
請求項３及び請求項８記載の発明では、ゲートの切断する除去部分をより一層少なく、しかも切断部分がレンズの有効径に近付くことを抑え、レンズに悪影響を与えることを防止することができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
請求項７記載の発明では、凸の面を、円筒面または楕円筒面とすることで、切断面をレンズの有効径から離し、レンズに悪影響を与えることを防止することができる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
1997258008.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月3日(2003.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銃器の実弾射撃の標的の後方に配置され、射手が前記標的に向かって発射した弾丸を、堆積した粒状部材で捕捉する停弾装置において、
箱型の容器の少なくとも前記射手側の面を弾性膜材で形成し、該容器の中に前記粒状部材を充填し、前記弾性膜材を上下方向に延びる支持部材で前記容器の後方壁面に固定してなる停弾装置。
【請求項２】
請求項１に記載の停弾装置において、前記容器は、上部に前記粒状部材の投入口、下部に前記粒状部材の排出口を有していることを特徴とする停弾装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の停弾装置において、前記弾性膜材は、弾粘性のあるゴム、プラスチック、強化繊維布または網目材及びこれらの複合材のうちいずれか一つ以上を含んでなり、前記支持部材は、前記弾性膜材と同材質かまたは布状材、布積層材、または網目材であることを特徴とする停弾装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の停弾装置において、前記支持部材は、前記標的が前記弾性膜材に投影された領域の外部に配置されていることを特徴とする停弾装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の停弾装置において、前記標的は複数個配置されており、前記複数の支持部材は、前記複数の標的の中間に対応する位置に配置されていることを特徴とする停弾装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明は、銃器の実弾射撃の標的の後方に配置され、射手が標的に向かって発射した弾丸を、堆積した粒状部材で捕捉する停弾装置において、箱型の容器の少なくとも射手側の面を弾性膜材で形成し、容器の中に粒状部材を充填し、弾性膜材を上下方向に延びる支持部材で容器の後方壁面に固定したことを特徴とする。この場合において、容器は、上部に粒状部材の投入口、下部に粒状部材の排出口を設けることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
弾性膜材を上下方向に延びる支持部材で容器の後方壁面に固定したので、弾性膜材の上下方向への伸びが抑制され、弾性膜材の上下方向の膨れを防止できる。また、左右方向には、支持部材で区分してあるため、粒状部材が左右方向に偏ることなく均一な厚さにできるとともに、支持部材で区画されているため、所定個所への粒状部材の充填、抜出しも均一にできる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月24日(2003.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路基板に形成された複数の配線を検査する検査装置において、
前記複数の配線を一つずつ選択し、選択された配線の一端部に電磁波を照射し、光電効果によって電子を放出させる電磁波照射手段と、
放出された電子を捕捉する位置に設けられた電極部と、
前記電極部が前記選択された配線またはそれと隣り合う配線の他端部よりも高電位になるように、前記電極部と前記選択された配線またはそれと隣り合う配線の他端部との間に電位差を与える電圧印加手段と、
前記電極部に捕捉された電子に起因して、前記電極部を通じて前記選択された配線またはそれと隣り合う配線に流れる電流値を検出する電流検出手段と、
前記電流検出手段による検出結果に基づき前記選択された配線の導通および短絡状態のいずれかまたは両方を判定する判定手段と
を備えたことを特徴とする回路基板の検査装置。
【請求項２】
前記電磁波照射手段は、前記複数の配線に順次選択的に電磁波を照射するように、電磁波の照射方向を変化させる偏向手段を含むことを特徴とする請求項１に記載の回路基板の検査装置。
【請求項３】
前記電圧印加手段は、電源と、該電源を前記電極部および配線の他端部に接続し、電流検出手段と共に閉回路を形成する接続手段とを備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の回路基板の検査装置。
【請求項４】
前記接続手段は、配線の他端部にそれぞれ接触して電気的に接続される複数のプローブと、そのプローブを選択的に電源に接続するスイッチとを備えたことを特徴とする請求項３に記載の回路基板の検査装置。
【請求項５】
少なくとも前記複数の配線の一端部を取り囲んで閉空間を形成するハウジングと、
前記閉空間内を減圧状態にする減圧手段と
を備えた請求項１ないし４のいずれかに記載の回路基板の検査装置。
【請求項６】
前記電極部が前記ハウジングの一部に形成された請求項５に記載の回路基板の検査装置。
【請求項７】
前記ハウジングの上壁に透明電極が形成されて電極部として作用するとともに、
前記電磁波照射手段は、被検査基板上方から前記透明電極を透過して電磁波を照射する請求項６に記載の回路基板の検査装置。
【請求項８】
前記ハウジングの上壁には透明基板上にメッシュ電極が形成されて電極部として作用するとともに、
前記電磁波照射手段は、被検査基板上方からメッシュ電極の間隙を透過して電磁波を照射する請求項６に記載の回路基板の検査装置。
【請求項９】
前記ハウジングの上壁は透明になされ、前記ハウジングの側壁に電極部が設けられ、前記電磁波照射手段は、回路基板上方から透明上壁を透過して電磁波を照射する請求項６に記載の回路基板の検査装置。
【請求項１０】
回路基板の配線を一つずつ選択的に前記電源の一方の極に接続し、選択された配線に電磁波を照射するようにするとともに、選択されていない配線の少なくとも一部を前記電源の他方の極に接続し、前記電源の他方の極に接続された配線を電極部として用いる請求項３ないし５のいずれかに記載の回路基板の検査装置。
【請求項１１】
回路基板の配線を一つずつ選択的に前記電源の一方の極に接続し、選択された配線に電磁波を照射するようにするとともに、選択されていない残りの配線を前記電源の他方の極に接続するスイッチ手段を備え、前記電源の他方の極に接続された配線を電極部として用いる請求項３ないし５のいずれかに記載の回路基板の検査装置。
【請求項１２】
回路基板に形成された配線の導通または短絡を検査する回路基板の検査装置において、
前記配線の一端部に電磁波を照射し、光電効果によって電子を放出させる電磁波照射手段と、
放出された電子を捕捉する位置に設けられた電極部と、
前記電極部が配線の他端部よりも高電位になるように、前記電極部と配線の他端部との間に電位差を与える電圧印加手段と、
前記電極部に捕捉された電子に起因して、前記電極部を通じて配線に流れる電流値を検出する電流検出手段と、
前記電流検出手段による検出結果に基づき前記選択された配線の導通および短絡状態のいずれかまたは両方を判定する判定手段と
を備えたことを特徴とする回路基板の検査装置。
【請求項１３】
回路基板に形成された配線の導通・短絡を検査する回路基板の検査方法において、
配線の一端部に電磁波を照射して光電効果により空間に電子を放出し、
配線よりも高電位に設定された電極部により、放出された電子を捕捉し、捕捉した電子に起因する電流を配線に流れるようにし、
配線に流れる電流により、配線の導通および短絡状態の一方または両方を検出する
ことを特徴とする回路基板の検査方法。
【請求項１４】
回路に形成された複数の配線を一つずつ順次選択し、
選択された配線の一端部に電磁波を照射して光電効果により電子を空間に放出し、
放出された電子を電極部により捕捉するとともに、その電極部がより高電位になるよう電極部と選択された配線またはその配線と隣り合う配線との間に電圧を印加し、電圧が印加された配線を流れる電流を検出する
ことを特徴とする請求項１３に記載の回路基板の検査方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月20日(2003.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検体容器を保持するラックと、
該ラックを前処理ユニットに搬送する搬送装置と、
該ラックの識別情報を読み取る識別情報読み取り装置と、
該識別情報読み取り装置で読み取った識別情報に基づき前記ラックが搬送されるラック搬送先情報を作成し該ラックが該ラック搬送先に搬送されるように前記搬送装置を制御する制御部と、
を備えた検体搬送システムにおいて、
前記制御部が、ラック識別情報毎に前記搬送装置に接続された前処理ユニットでの処理が完了したか、未完了かを記憶する処理済ユニット記憶部を備えたことを特徴とする検体搬送システム。
【請求項２】
請求項１記載の検体搬送システムにおいて、
システムの運行中においてシステムの停止が生じた場合、
システムの復帰後に、前記制御部が前記処理済ユニット記憶部に記憶された情報に基づき、処理が未完了の前処理ユニットにラックの搬送を開始するように制御する機能を備えたことを特徴とする検体搬送システム。