(57)【要約】【課題】各画素での着色状態を適正な状態に制御し、階調表示や高速且つ低消費電力での表示を可能とする。【解決手段】各画素に所定の電圧を印加し、金属を析出、溶解させて画像を表示する表示装置の駆動方法である。金属が析出する閾値以下の振幅を有する電圧パルスまたは交流電圧を加え、このとき流れる電流値に応じて書き込みパルス又は消去パルスを制御する。あるいは、書き込みを行った後、上記電流値が所定の値以下になったときに追加書き込みパルスを加える。さらには、上記電流値により画素の状態を検出し、これに応じて書き換え操作を選定する。【選択図】　図１２
2004054221.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各画素に所定の電圧を印加し、金属を析出、溶解させて画像を表示する表示装置の駆動方法において、
金属が析出する閾値以下の振幅を有する電圧パルスまたは交流電圧を加え、このとき流れる電流値に応じて書き込みパルス又は消去パルスを制御することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項２】
上記書き込みパルス又は消去パルスを制御することにより各画素の濃度を制御し、階調表示を行うことを特徴とする請求項１記載の表示装置の駆動方法。
【請求項３】
上記表示装置は、金属イオンを含む電解質層が対向する電極間に挟まれた構造を有し、これら対向する電極間に電流を流すことにより一方の電極上に金属が着色材料として析出し、この金属が析出した画素が着色状態として視認されることを特徴とする請求項１記載の表示装置の駆動方法。
【請求項４】
上記着色材料は、ビスマス、銅、銀、リチウム、鉄、クロム、ニッケル、カドミウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項３記載の表示装置の駆動方法。
【請求項５】
上記電解質層は、高分子電解質層であることを特徴とする請求項３記載の表示装置の駆動方法。
【請求項６】
上記金属が析出する電極は透明電極であることを特徴とする請求項３記載の表示装置の駆動方法。
【請求項７】
各画素に所定の電圧を印加し、金属を析出、溶解させて画像を表示する表示装置の駆動方法において、
金属が析出する閾値以上の電圧を加えて書き込みを行った後、
金属が析出する閾値以下の振幅を有する電圧パルスまたは交流電圧を加え、このとき流れる電流値が所定の値以下になったときに追加書き込みパルスを加えることを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項８】
各画素に所定の電圧を印加し、金属を析出、溶解させて画像を表示する表示装置の駆動方法において、
金属が析出する閾値以下の振幅を有する電圧パルスまたは交流電圧を加え、このとき流れる電流値により各画素の書き込み状態を検出し、
これに応じて書き換え操作を選定することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属の析出・溶解により表示を行う金属析出型の表示装置の駆動方法に関するものであり、いわゆる電子ペーパー等に適した表示装置の駆動方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ネットワークの普及に伴い、これまで印刷物の形態で配布されていた文書類が、いわゆる電子書類の形態で配信されるようになってきている。さらに、書籍や雑誌なども、いわゆる電子出版の形で提供される場合が多くなりつつある。これらの情報を閲覧するために、従来、コンピュータのＣＲＴ（ｃａｔｈｏｄｅ　ｒａｙ　ｔｕｂｅ）や液晶ディスプレイから読み取ることが広く行われている。
【０００３】
しかしながら、上記ＣＲＴのような発光型のディスプレイでは、人間工学的理由から疲労が著しく、長時間の読書などには耐えられないことが指摘されている。また、液晶ディスプレイのような受光型のディスプレイであっても、蛍光管特有のちらつきから、同様に読書には向かないとされている。さらに、いずれも読む場所がコンピュータの設置場所に限られるという難点がある。
【０００４】
近年、バックライトを使用しない反射型液晶ディスプレイも実用になっているが、液晶の無表示（白色表示）における反射率は３０〜４０％であり、これは紙への印刷物の反射率（ＯＡ用紙及び文庫本の反射率７５％、新聞紙の反射率５２％）に比べて著しく視認性が悪い。また、反射板によるぎらつきなどから疲労が生じやすく、これも長時間の読書に耐え得るものではない。
【０００５】
そこで、これらの問題点を解決するために、いわゆるペーパーライクディスプレイ、あるいは電子ペーパーと呼ばれるものが開発されつつある。これらは主に電気泳動法により着色粒子を電極間で移動させるか、二色性を有する粒子を電場で回転させることにより着色させている。しかしながら、これらの方法では、粒子間の隙間が光を吸収し、その結果としてコントラストが悪くなり、また、駆動する電圧を１００Ｖ以上にしなければ実用上の書き込み速度（１秒以内）が得られないという難点がある。
【０００６】
これらの表示方式のディスプレイに対して、電気化学的な作用に基づき発色を行う電気化学表示装置（エレクトロクロミックディスプレイ：ＥＣＤ）は、コントラストの高さという点で上記方式のディスプレイに比べて優れており、例えば調光ガラスや時計用のディスプレイとして既に実用化されている。ただし、調光ガラスや時計用ディスプレイは、そもそもマトリクス駆動の必要が無いことから、そのままでは電子ペーパーのようなディスプレイ用途には適さない。また、一般的に黒色の品位に劣り、反射率も低いレベルに止まっている。
【０００７】
また、電子ペーパーのようなディスプレイにおいては、その用途上、太陽光や室内光に晒され続けることになるが、上記調光ガラスや時計用ディスプレイにおいて実用化されているような電気化学表示装置では、黒色の部分を形成するために有機材料が使用されており、耐光性の点で問題が生ずる。一般に、有機材料は耐光性に乏しく、長時間使用した場合には褪色して黒色濃度が低下する。
【０００８】
このような技術的な課題を解決するために、色の変化を行う材料として金属イオンを用いた電気化学表示装置が提案されている。この電気化学表示装置では、高分子電解質層に金属イオンを混入しておき、電気化学的な酸化・還元により金属を析出・溶解させ、これに伴う色の変化を利用して表示を行う。ここで、例えば高分子電解質層に着色材を含有させておけば、色の変化が生じた場合のコントラストを高くすることができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記金属の析出・溶解により表示を行う金属析出型（エレクトロデポジション型）の電気化学表示装置においては、析出過電圧である閾値電圧を利用して表示を行う。各画素において、電極間に閾値電圧を越えるマイナス電圧を加えると金属が析出し、プラス電圧を加えると金属が溶解する。
【００１０】
このような金属析出型の電気化学表示装置においては、着色状態の制御が難しく、表示品質を向上する上で大きな課題となっている。例えば、従来の考えでは、金属析出型の表示装置は、白黒表示が基本であり、階調表示についてはほとんど試みられていない。これは、中間の着色状態に再現性良く制御することが難しいからである。
【００１１】
また、上記金属析出型の電気化学表示装置では、金属の析出や溶解にある程度の時間を要することから、応答速度や消費電力の点で課題を残している。例えば、画面の書き換え時に、全画素を一旦消去してから新たな書き込みを行おうとすると、かなりの時間を要し、消費電力も大きくなる。
【００１２】
さらに、上記金属析出型の電気化学表示装置では、時間の経過とともに表示コントラストが低下する傾向にあり、その対策も望まれる。
【００１３】
本発明は、かかる従来の実情に鑑みて提案されたものである。すなわち、本発明は、金属析出型の表示装置において、各画素での着色状態を適正な状態、例えば均一な状態に制御し得る表示装置の駆動方法を提供することを目的とする。また、これにより、階調表示が可能で、高精細な表示が可能な表示装置の駆動方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、表示の高速化や装置の低消費電力化を図ることが可能な表示装置の駆動方法を提供することを目的とする。さらにまた、本発明は、金属析出型の表示装置において、画像を長時間維持し続けることが可能な駆動方法を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、本発明の表示装置の駆動方法は、第１に、各画素に所定の電圧を印加し、金属を析出、溶解させて画像を表示する表示装置の駆動方法において、金属が析出する閾値以下の振幅を有する電圧パルスまたは交流電圧を加え、このとき流れる電流値に応じて書き込みパルス又は消去パルスを制御することを特徴とする。
【００１５】
金属析出型の表示装置は、電流−電圧特性にヒステリシスがあり、負の印加電圧が閾値を越えると電流が流れだして金属の析出が起き、その後に電圧を閾値以下にしても電流が流れる状態になる。このような電流−電圧特性を有する表示装置に対して、負の電圧範囲を閾値以下に制限して電圧掃引すると、ゼロ電圧付近の抵抗値は、着色濃度が低下するに伴って次第に高くなる。
【００１６】
この現象を利用し、上記閾値よりも小さい電圧のパルス電圧または交流電圧を印加して流れる電流（すなわち抵抗値）を測定することで、着色状態を検出することができ、本発明では、この検出した着色状態に応じて負の書き込み電圧、あるいは正の消去電圧の印加量を制御することにより濃度制御を行う。これにより、各画素の着色濃度が、的確に所定のレベルに制御される。
【００１７】
本発明の表示装置の駆動方法は、第２に、各画素に所定の電圧を印加し、金属を析出、溶解させて画像を表示する表示装置の駆動方法において、金属が析出する閾値以上の電圧を加えて書き込みを行った後、金属が析出する閾値以下の振幅を有する電圧パルスまたは交流電圧を加え、このとき流れる電流値が所定の値以下になったときに追加書き込みパルスを加えることを特徴とする。
【００１８】
先にも述べた通り、上記電流値を測定することで着色状態を把握することができ、金属の溶解が進んで電流値が低下してきたところで追加書き込みパルスによる追加書き込みを行えば、着色状態（画素の濃度）が維持される。
【００１９】
本発明の表示装置の駆動方法は、第３に、各画素に所定の電圧を印加し、金属を析出、溶解させて画像を表示する表示装置の駆動方法において、金属が析出する閾値以下の振幅を有する電圧パルスまたは交流電圧を加え、このとき流れる電流値により各画素の書き込み状態を検出し、これに応じて書き換え操作を選定することを特徴とする。
【００２０】
３番目の発明の場合には、先ず、上記電流値を測定することにより、各画素毎に着色状態（黒）であるのか非着色状態（白）であるのかを検出する。そして、この検出結果及び書き換え後の画素の白黒状態に応じて、何もしない、消去、書き込み、濃度追加書き込み等を使い分ける。例えば、黒状態の画素が書き換え後にも黒状態の場合、あるいは白状態の画素が書き換え後にも白状態の場合、何もしない。黒状態の画素を書き換え後に白状態とする場合、あるいは白状態の画素を書き換え後に黒状態とする場合には、消去操作あるいは書き込み操作を行う。これにより、必要最低限の駆動で済むようになり、最小の時間及び最小の消費電力で画面の書き換えを行うことができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を適用した表示装置の駆動方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２２】
駆動方法の説明に先立って、先ず、本発明が対象とする表示装置の構成例について説明する。
【００２３】
本例の表示装置は、電気析出特性を利用して金属の析出、溶解により表示が行われる電気化学表示装置であり、単純マトリクス駆動方式により駆動されるものである。したがって、駆動電極は、第１の電極群Ｘ１，Ｘ２・・・と、これとは直交する第２の電極群Ｙ１，Ｙ２・・・とからなり、これらが互いに交差して格子状に配列されている。図１及び図２は、その具体的構造を示すものであり、透明基板１上に第１の電極群に相当するストライプ状の透明コラム電極２が形成されている。また、これと対向して第２の電極群に相当するストライプ状の対極（ロウ電極）４が形成されたベース基板３が配され、これらが高分子電解質層５を介して重ね合わされている。上記透明コラム電極２やロウ電極４は、画素数に応じて所定の本数形成されており、これらの交点が画素となる。
【００２４】
本例の表示装置において、透明基板１上には、第１の電極群に相当するストライプ状の透明コラム電極２が形成されている。また、これと対向して第２の電極群に相当するストライプ状の対極（ロウ電極）４が形成されたベース基板３が配され、これらが高分子電解質層５を介して重ね合わされている。上記透明コラム電極２やロウ電極４は、画素数に応じて所定の本数形成されており、これらの交点が画素となる。そして、これら透明コラム電極２とロウ電極４間に選択的に電圧を印加することで金属６が析出し、画素の着色が行われる。
【００２５】
上記の構成において、透明基板１には、石英ガラス板、白板ガラス板等の透明ガラス基板を用いることが可能であるが、これに限定されず、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、酢酸セルロース等のセルロースエステル、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体等のフッ素ポリマー、ポリオキシメチレン等のポリエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマー等のポリオレフィン、及びポリイミド−アミドやポリエーテルイミド等のポリイミドを例として挙げることができる。これら合成樹脂を支持体として用いる場合には、容易に曲がらないような剛性基板とすることも可能であるが、可撓性を持ったフィルム状の基板とすることも可能である。
【００２６】
透明コラム電極２には、例えばＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２の混合物、いわゆるＩＴＯ膜や、ＳｎＯ２またはＩｎ２Ｏ３をコーティングした膜を用いることが好ましい。これらＩＴＯ膜やＳｎＯ２またはＩｎ２Ｏ３をコーティングした膜にＳｎやＳｂをドーピングしたものでも良く、ＭｇＯやＺｎＯ等を用いることも可能である。
【００２７】
一方、高分子電解質層５に用いるマトリクス（母材）用高分子としては、骨格ユニットがそれぞれ−（Ｃ−Ｃ−Ｏ）ｎ−、−（Ｃ−Ｃ−Ｎ）ｎ−、−（Ｃ−Ｃ−Ｓ）ｎ−で表されるポリエチレンオキサイド、ポリエチレンイミン、ポリエチレンスルフィドが挙げられる。これらを主鎖構造として、枝分があってもよい。また、ポリメチルメタクリレート、ポリフッ化ビニリデン、ポリビニリデンクロライド、ポリカーボネート等も好ましい。
【００２８】
高分子電解質層５を形成する際には、前記マトリクス高分子に所要の可塑剤を加えるのが好ましい。好ましい可塑剤としては、マトリクス高分子が親水性の場合には、水、エチルアルコール、イソプロピルアルコールおよびこれらの混合物等が好ましく、疎水性の場合にはプロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、アセトニトリル、スルフォラン、ジメトキシエタン、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドンおよびこれらの混合物等が好ましい。
【００２９】
高分子電解質層５は、前記マトリクス用高分子に電解質を溶解せしめて形成されるが、電解質としては、表示のための発色材料として機能する金属塩の他、四級アンモニウムハライド（Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）やアルカリ金属ハライド（ＬｉＣｌ，ＬｉＢｒ，ＬｉＩ，ＮａＣｌ，ＮａＢｒ，ＮａＩ等）、シアン化アルカリ金属塩、チオシアン化アルカリ金属塩等を挙げることができ、これらから選ばれた少なくとも１種類の支持電解質を含有したものを電解質として溶解せしめる。ここで、表示のための発色材料として機能する金属塩を構成する金属イオンとしては、ビスマス、銅、銀、リチウム、鉄、クロム、ニッケル、カドミウム等を挙げることができ、これらを単独、若しくは組み合わせて用いる。金属塩としては、これら金属の任意の塩を用いればよく、銀塩を例にすれば、硝酸銀、ホウフッ化銀、ハロゲン化銀、過塩素酸銀、シアン化銀、チオシアン化銀等を挙げることができる。
【００３０】
また、高分子電解質層５は、コントラストを向上させるために、着色材を添加してもよい。金属の析出による着色が黒色の場合には、背景色としては白色とすることが好ましく、白色の隠蔽性の高い材料を着色材として導入することが好ましい。このような材料としては、着色用の白色粒子を用いることができ、着色用の白色粒子としては、二酸化チタン、炭酸カルシウム、シリカ、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等を使用することができる。
【００３１】
このとき、白色顔料を混ぜる割合としては、無機粒子による場合、約１〜２０重量％が好ましく、より好ましくは約１〜１０重量％であり、さらに好ましくは約５〜１０重量％である。このような割合に規制するのは、酸化チタンなどの白色顔料は、高分子への溶解性はなく分散するだけであって、混合する割合が増えると、白色顔料が凝集する結果、光学濃度が不均一になってしまうからである。また、白色顔料にはイオン導電性がないため、混合割合の増加は高分子電解質の導電性の低下を招く。両者を考慮すると、混合割合の上限はおよそ２０重量％である。
【００３２】
上記のように無機粒子を着色材として高分子電解質層５に混入する場合、高分子電解質層５の厚さは１０〜２００μｍとすることが好ましく、より好ましくは１０〜１００μｍ、さらに好ましくは１０〜５０μｍである。高分子電解質層５は、薄い方が電極間の抵抗が小さくなるので発色、消色時間の短縮や消費電力の低減に繋がり好ましい。しかしながら、高分子電解質層５の厚さが１０μｍ未満になると、機械的強度が低下して、ピンホールや亀裂が生ずる等の不都合が発生する。また、高分子電解質層５の厚さがあまり薄い場合には、結果として上記無機粒子の混入量が少なくなり、白色性（光学濃度）が十分でなくなる虞れがある。
【００３３】
なお、高分子電解質層５に混入する着色材として色素を用いる場合、着色材を混入する割合としては、１０重量％以下であってもよい。これは、色素の発色効率が無機粒子に比べて遙かに高いためである。したがって、電気化学的に安定した色素であれば、少ない量でも十分なコントラストを得ることができる。かかる色素としては、例えば油溶性染料が好ましい。
【００３４】
背面側に設けられるベース基板３は、必ずしも透明である必要はなく、ロウ電極４を確実に保持できる基板やフィルム等を用いることができる。例示すると、石英ガラス板、白板ガラス板等のガラス基板、セラミック基板、紙基板、木材基板を用いることが可能である。勿論、これに限定されず、合成樹脂基板等も使用可能である。合成樹脂基板としては、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、酢酸セルロース等のセルロースエステル、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンーコヘキサフルオロプロピレン等のフッ素ポリマー、ポリオキシメチレン等のポリエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマー等のポリオレフィン、及びポリイミド−アミドやポリエーテルイミド等のポリイミドを例として挙げることができる。これら合成樹脂をベース基板として用いる場合には、容易に曲がらないような剛性基板とすることも可能であるが、可撓性を持ったフィルム状の基板とすることも可能である。
【００３５】
ロウ電極４には、導電材料、例えば金属材料を使用することができる。ただし、このロウ電極４を構成する金属と透明コラム電極２上に析出する金属の電位差が大きいと、着色状態において電荷が電極上に蓄積され、電荷の移動が起こって意図しない画素が着色されてしまう虞れがある。特に、電位差が金属が析出する際の析出過電圧（単純マトリクス駆動の閾値）を越えると、前記着色が起こる可能性が生ずる。そこで、ロウ電極４には、発色材料として析出する金属との電位差が析出過電圧（閾値）未満となるような金属を選択することが望ましい。理想的には、ロウ電極４の金属材料として、発色材料に用いた金属イオンのイオン化前の状態（金属状態）のものを用いる。すなわち、例えば、銀の析出・溶解を利用する場合にはロウ電極４に銀を用いるというように、ロウ電極４には析出・溶解する金属と同一の金属を用いる。これによって、透明コラム電極２上に金属が析出した状態で上記電位差が生ずることがなくなる。
【００３６】
また、ロウ電極として使用可能なその他の材料としては、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、炭素（Ｃ）電極などが挙げられる。上述のように、ロウ電極（対極）として析出溶解反応に用いる金属イオン種と同じ金属、例えば銀（Ａｇ）を用いることは反応のメカニズム等を鑑みても、最も理想な系とされる。しかしながら、単純マトリックスのデバイスをより高精細化する際、プロセス上でロウ電極の銀が数百ナノメートル程度しか形成されないような場合では、析出溶解反応を繰り返していくと、デンドライト成長などによる不可逆的な反応が積み重なることで、結果的にはロウ電極の銀が除々に消費されてしまい電極自体がなくなってしまうことがおきる。ロウ電極が溶出してなくなってしまった状態では、単純マトリックスの駆動原理上、そのなくなった画素だけではなく、全体の表示に極めて悪い影響を及ぼすことになる。そこで、析出溶解反応を起こす銀よりも、より電位的に貴な（安定な）金属として、白金、金を電極として用いることができる。なお、銀より貴な金属はこの２種のみしか存在せず、銀よりも電位的に卑な金属（銀、白金、金以外の金属）を用いた場合、無条件に金属が溶解し、代わりに電解液組成として含まれていた銀イオンが置換メッキという形で、その金属表面に析出されてきてしまうことになる。
【００３７】
先に説明した透明コラム電極２上に金属が析出した状態で上記電位差が零に近づくことになる現象について説明を加えると、銀、白金、金の標準電極電位（水溶液中）の値を見ると、それぞれ、Ａｇ＋　＋　ｅ−　⇔　Ａｇ　　Ｅ０＝０．８０Ｖ、Ｐｔ２＋　＋　２ｅ−　⇔　Ｐｔ　　Ｅ０＝１．１８Ｖ、Ａｕ＋　＋　ｅ−　⇔　Ａｕ　　Ｅ０＝１．８３Ｖとなっている。いずれも標準水素電極電位（ＳＨＥ）に対しての値であって、白金、金ではΔ＝０．３８、１．０３Ｖの電位差が生じることとなる。完全な初期状態ではこの電位差の発生は避けられないが、析出溶解反応を繰返し行っていくにあたり、白金、金の電極上に良い意味でのＡｇが完全に溶出しきらずに残り、その電位差Δが零に近づくこととなる。
【００３８】
以上が単純マトリクス駆動方式の金属析出型表示装置の構成例であるが、各画素がそれぞれ１個あるいは複数の薄膜トランジスタによって構成された回路により駆動されるアクティブマトリクス方式とすれば、より高速の画面書き換えを実現することができる。図３に、アクティブマトリクス方式の表示装置の構成例を示す。
【００３９】
アクティブマトリクス方式の表示装置においても、透明基板１１及びベース基板１２により高分子電解質等からなる電解質層１３を挟み込んだ構造を有することは単純マトリクス方式の表示装置と同様であり、これら透明基板１１，ベース基板１２，電解質層１３の構成材料等も単純マトリクス方式の表示装置と同様である。単純マトリクス方式の表示装置と大きく異なるのは、電極構造である。先ず、透明基板１１には透明電極１４が形成されているが、この透明電極１４は、ストライプ状ではなく透明基板１１の全面に形成され、共通電極とされている。一方、ベース基板１２には、各画素に対応してドット状の画素電極１５がマトリクス状に配列されており、それぞれの画素電極１５には駆動のための薄膜トランジスタが接続形成されている。
【００４０】
図４は、上記アクティブマトリクス方式の表示装置の回路構成を示すものである。先にも述べた通り、アクティブマトリクス方式の表示装置では、薄膜トランジスタ２１と画素電極２２、及び共通電極２３とからなる画素２４がマトリクス状に配されている。また、各画素２４を選択駆動するためのデータ線駆動回路２５ａ，２５ｂ及びゲート線駆動回路２６が設けられている。これらデータ線駆動回路２５ａ，２５ｂ及びゲート線駆動回路２６は、信号制御部２７からの制御信号に応じて、所定のデータ線２８、あるいはゲート線２９を選択し、各画素２４のオン・オフを切り替える。
【００４１】
次に、この表示装置の基本的な駆動方法について説明する。電気析出特性を利用した表示装置において、例えば単純マトリクス方式の表示装置において、図５に示すような三角波電圧をコラム電極−ロウ電極間に印加した場合、図６に示すような電流−電圧過渡応答特性を示す。なお、図６は、ロウ電極をＡｇ電極とし、高分子電解質に銀イオンとヨウ素イオンを溶解した場合の特性例である。
【００４２】
この図６について説明すると、上記コラム電極−ロウ電極間にゼロからマイナス側に電圧を加えていくと、しばらくは銀は析出せず、閾値電圧Ｖｔｈを越えたところでコラム電極への銀の析出が始まる。図６においては、閾値電圧Ｖｔｈを越えたところで析出に伴う電流が流れ始めており、このことがわかる。このように、各画素は、析出以前（白）は主にキャパシタとしての特性が強く、析出する（黒）につれて抵抗値が小さくなる特性を持っている。
【００４３】
銀の析出は、三角波電圧の頂点に相当する書き込み電圧Ｖｗにより一旦閾値電圧Ｖｔｈを越えると、次第に電圧が下がっても続き、先の閾値電圧Ｖｔｈを下回っても続く。銀の析出が終わるのは、印加電圧が保持電圧Ｖｋｅまで下がった時である。すなわち、一度閾値電圧Ｖｔｈを越えて核（種）が形成されれば、閾値電圧Ｖｔｈ以下の電圧でも、銀の析出が起こる。
【００４４】
一方、逆極性（プラス）の電圧をコラム電極−ロウ電極間に印加すると、銀の溶解が始まり、消去電圧Ｖｉｔｈに到達した時点で析出していた銀は消失する。これ以上の高い電圧を印加すると、ヨウ素が遊離して電極に付着し、黄色く着色されてしまう。
【００４５】
上記のような電流−電圧過渡応答特性を示す表示装置の駆動を考えた場合、最も単純には、アドレス駆動の際に上記閾値電圧を越える電圧を加えて銀を析出させ、画素の書き込みを行う。以下、説明の簡略化のため、図７に示す３×３画素によるモノクロ表示を例にして、金属析出型の表示装置の基本的な駆動方法について説明する。
【００４６】
図８は、マイナス電圧を加えて閾値電圧Ｖｔｈより大きくなるとコラム電極上に銀が析出し、プラス電圧を加えると銀が溶解するような金属析出型の表示装置において、析出の閾値電圧を利用して表示を行う駆動電圧波形の一例を示すものである。図８においては、各コラム電極Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３に加えられるコラム電圧、各ロウ電極Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３に加えられるロウ電圧、及び画素（Ｃ１，Ｒ１）、（Ｃ１，Ｒ２）、（Ｃ２，Ｒ２）の印加電圧を示してある。
【００４７】
表示に際しては、各コラム電極Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３には閾値電圧Ｖｔｈより小さい信号書き込み電圧パルスＶｓｉｇを加え、各ロウ電極Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３には閾値電圧Ｖｔｈより小さい選択電圧パルスＶｓｅｌを加えて、上から順に選択操作する。このとき、銀を析出させる画素にのみ閾値電圧Ｖｔｈより大きい電圧（書き込み電圧Ｖｗ）（＝Ｖｓｉｇ−Ｖｓｅｌ）が加わり、透明コラム電極上に銀が析出して書き込みが行われる。
【００４８】
例えば、画素（Ｃ１，Ｒ１）、（Ｃ２，Ｒ２）では、コラム電極Ｃ１，Ｃ２の信号書き込み電圧パルスＶｓｉｇと、ロウ電極Ｒ１，Ｒ２の選択電圧パルスＶｓｅｌとが重なり、その結果、これらの電圧差により書き込み電圧Ｖｗが加わり、銀の析出（書き込み）が行われる。一方、画素（Ｃ１，Ｒ２）では、コラム電極Ｃ１の信号書き込み電圧パルスＶｓｉｇとロウ電極Ｒ２の選択電圧パルスＶｓｅｌとが重なる期間が無く、閾値電圧Ｖｔｈを下回る信号書き込み電圧パルスＶｓｉｇ、あるいは選択電圧パルスＶｓｅｌのうちのいずれか一方が加わるのみである。したがって、銀の析出は起こらず、画素への書き込みは行われない。
【００４９】
書き込み後は、コラム電極とロウ電極を共にオープンにしたりショートしたりすることで表示をメモリーすることができる。また、ロウ電極Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３に所定のタイミングで消去用の電圧−Ｖｅを加え、各画素にプラスの電圧Ｖｅが加わるようにすることで、銀が溶解して消去が行われる。なお、この消去用の電圧Ｖｅは、先の図６における消去電圧Ｖｉｔｈと同じか、若干低い値に設定する。消去用の電圧Ｖｅが消去電圧Ｖｉｔｈを越えると、着色の虞れがある。
【００５０】
以上が基本的な駆動方法であるが、本発明では、上記のような構成を有する表示装置において、以下に説明するような制御方法により、適切な濃度の表示を実現し、さらには階調表示をも可能とする。
【００５１】
図６に示した電流−電圧特性に対して、負の電圧範囲を制限して電圧掃引すると、ゼロ電圧近辺での抵抗値は十分な電圧で掃引して完全に着色した場合に比べて、非着色状態、あるいは着色が不十分な場合の方が高くなる。そして、この抵抗値は、非着色状態が最も高く、完全に着色した場合が最も低く、着色の程度に応じた値を示す。
【００５２】
この現象を利用し、最初に着色閾値より小さい電圧のパルス電圧（または交流電圧）を印加して流れる電流、すなわち抵抗値を測定し（状態検出）、その次に適当量の負の書き込み電圧をかけることによって、濃度を制御することができる。例えば、０．１ボルト、１０ｍｓの電圧パルスを検出用パルスとして印加し、抵抗値（電流値）を測る。次に１ボルト、１０ｍｓの負の電圧パルスを書き込みパルスとして印加する。このサイクルを抵抗値が目標の値になるまで繰り返すことによって常にそれぞれの濃度を制御して着色することができる。
【００５３】
かかる着色制御を実施することにより、階調表示も可能となる。負の電圧範囲を制限して電圧掃引すると、ゼロ電圧近辺での抵抗値は着色の程度に応じた値を示すことから、各階調濃度とそのときの抵抗値（電流値）を対応させておき、これに基づいて濃度制御を行えばよい。
【００５４】
着色した画素を消す場合には、正の電圧を印加して適切な電流を流すことによって銀が溶解し、その結果、画素が透明になるが、図６に示したように、正の電圧を過大に印加すると、着色が消えるだけでなく、例えばヨウ化銀を溶解イオンとする場合には、ヨウ素が遊離して黄色に着色する現象が起きる。これを防止して適切に消色するために、先の着色の制御と同様、抵抗値を検出して消去を制御することが効果的である。
【００５５】
具体的には、最初に着色閾値より小さい電圧のパルス電圧（または交流電圧）を印加して流れる電流、すなわち抵抗値を測定し（状態検出）、その次に適当な振幅と時間の正の消去電圧をかけることを繰り返すことによって、適切に消去することができ、さらにこれを利用して濃度を制御することができる。例えば、０．１ボルト、１０ｍｓの正または負の電圧パルスを検出用パルスとして印加し、抵抗値（電流値）を測る。次に１ボルト、１０ｍｓの正の電圧パルスを消去パルスとして印加する。このサイクルを抵抗値が目標の値になるまで繰り返すことによって常にそれぞれの濃度を制御することができる。
【００５６】
上記の現象は、褪色の制御に利用することもできる。上記表示装置においては、着色後、電圧をゼロに戻すか、あるいは回路的にオープンにすることによってある程度の時間（室温で数１０分）は着色状態を保つことができるが、時間の経過と共に銀が溶解することによって着色濃度が低下していく。長時間濃度を保つには、不足した濃度に見合う適度の書き込みを行うことが消費電力を最小するためにも効果的である。
【００５７】
上記の制御を応用し、状態検出パルスによって流れる電流を検出し、それが一定の値以下になったときに追加書き込みパルスを加えれば、長時間の濃度の維持が実現できる。先にも述べたように、負の電圧範囲を制限して電圧掃引すると、ゼロ電圧近辺での抵抗値は、濃度の低下と共に上昇する。そこで、書き込み後に定期的に状態検出パルスを印加してモニタし、これにより測定される抵抗値が一定のレベルを越えたときに濃度が低下したものと判断し、追加書き込みパルスを印加する。
【００５８】
さらに、書き換え制御への応用も可能である。例えば、文字等を表示する白黒２値の画面の書き換えにおいて、現在の画面の状態に応じて、次の画面への書き換えを次の手法で行うことが考えられる。先ず、状態検出パルスまたは微小交流電圧によって現在の各画素が白（非着色状態）か黒（着色状態）かを検出する。次に書き換え後の画素の白黒状態に応じて、「なにもしない」、「消去」、「書き込み」、「濃度追加書き込み」を使い分け、書き換えを行う。
【００５９】
例えば、黒状態の画素を書き換え後にも黒状態とする場合、あるいは白状態の画素を書き換え後にも白状態とする場合、書き換え操作としては何もしない。黒状態の画素を書き換え後に白状態とする場合、あるいは白状態の画素を書き換え後に黒状態とする場合には、消去操作あるいは書き込み操作を行う。これにより、必要最低限の操作で済むようになり、最小の時間及び最小の消費電力で画面の書き換えを行うことができる。
【００６０】
【実施例】
次に、本発明を適用した具体的な実施例について、実験結果に基づいて説明する。
【００６１】
（ストライプ状電極の作成）
第１の電極（表示極）
１０ｃｍ×１０ｃｍ、厚さ０．２ｍｍのポリカーボネート基板上に、以下の手順でストライプ状透明電極および絶縁膜を形成した。なお、ストライプ状透明電極は、ストライプ幅１５０μｍ、１７０μｍピッチとし、開口部（絶縁膜に覆われていない部分）の大きさは１４０μｍ角とした。
【００６２】
先ず、スパッタ法により、膜厚５００ｎｍ、シート抵抗値１２Ω／□であるＩＴＯ膜を上記ポリカーボネート基板上に成膜した。次に、ＩＴＯ膜上にフォトレジストを塗布し、リソグラフィー法によりフォトレジストを所望のストライプ形状に形成した。次いで、このポリカーボネート基板をＩＴＯエッチング液に浸食させて、フォトレジストで覆われていない部分のＩＴＯ膜を除去した。その後、残存するフォトレジストをアセトン等の有機溶剤で除去した。
【００６３】
次に、このストライプ状になったＩＴＯ膜の上に、ＴＥＯＳ（ケイ酸エチル：Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４：Ｔｅｔｒａ−Ｅｔｈｏｘｙｏｒｔｈｏ−Ｓｉｌｉｃａｔｅ）とＯ２を使用したプラズマＣＶＤ法により、ＳｉＯ２を２００ｎｍ成膜した。このＳｉＯ２膜上にフォトレジストを塗布し、リソグラフィー法によりフォトレジストを所望の形状に形成し、フッ化アンモニウムやフッ酸等からなる混合液にこの基板を浸食させて、フォトレジストで覆われていない部分のＳｉＯ２膜を除去した。その後、残存するフォトレジストはアセトン等の有機溶剤で除去した。
【００６４】
第２の電極（対向極）
対向極は，以下の手順により作製した。ポリカーボネートあるいはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、または回路基板に使われるガラスエポキシ樹脂等のエポキシ系の樹脂等からなるベース基板上に、銅電極をストライプ状に形成した。ストライプ状の銅電極の形成方法は、次の通りである。先ず、銅をベース基板の全面にスパッタ法等により成膜した。続いて、全面の銅電極上にフォトレジストを塗布し、ストライプ状に形成されたメタルマスクあるいは紫外線を遮断するマスクでこれを覆い、紫外線を照射した。リソグラフィー法によりマスクされた部分のフォトレジスト及び電極をウェットエッチング法もしくはドライエッチング法によりストライプ状の各電極が絶縁するように除去した。次いで、形成されたストライプ電極に電界を印加し、銀あるいは所望の金属の溶解した溶液中に浸し、電解メッキ法により銀を電極に析出させ、対向極を作製した。
【００６５】
上記対向電極において、銅の厚さは１５μｍ程度、銀の厚さも１５μｍ程度であり、双方を合わせて３０μｍ程度の電極厚さとなる。なお、電解を印加せずに銀あるいは金属を析出する無電解法もあるが、電解メッキ法の方が析出する金属の厚さが厚くなるので望ましい。
【００６６】
上記ベース基板は、表示させる画素の間隔をなるべく狭くすることが望ましい。また、ベース基板において、画素の間隙は固体電解質により覆われているが、固体電解質が透けて見えることも想定し、なるべく白色の基板を用いることが好ましい。
【００６７】
（表示極の製作と高分子固体電解質の調製および塗布）
分子量約３５万のポリフッ化ビニリデン１重量部とジメチルスルホキシド１０重量部、ヨウ化銀１．７重量部、ヨウ化ナトリウム１重量部を混合し、１２０℃に加熱して、均一溶液を調製した。次いで、これに平均粒径０．５μｍの二酸化チタン０．２重量部を添加し、ホモジナイサーで均一に分散せしめた。これを上記ガラス基板の上にドクターブレードにより厚さ２０μｍで塗布した後、次に説明する第２の電極である共通電極を直ちに貼り合わせ、これを１１０℃、０．１ＭＰａで１時間減圧乾燥し、ゲル化した高分子固体電解質を二つの電極間に形成した。次いで貼り合わせの端面を接着剤によって封止した。
【００６８】
（駆動と表示特性の評価）
所望のストライブ状電極の組を公知の方法で選択し、発色時には表示極に１画素あたり２μＣの電気量を０．１秒間流し、表示極側で還元反応を起こし、消色時には同一電気量で酸化することにより、着色［黒色］表示と無色［白色］表示とを切り替えた。無色［白色］時の反射率は８５％であり、発色［黒色］時の表示部の光学濃度（ＯＤ）は約１．４（反射率４％）であった。選択していない画素が発色、あるいは消色することはなかった。
【００６９】
（電流−電圧特性）
金属イオンとして銀を用い、透明電極としてＩＴＯを用いた上記の構造の表示装置の第一の電極を正として電流−電圧特性を測定したところ、図９の結果が得られた。すなわち、第一の電極に負の電圧をかけた場合、電圧がある程度（閾値：この場合０．８ボルト）以下であれば電流は極めて小さく無視できる。これに対して、閾値を越えると電流が流れ出し、第一の電極に着色が起きる。その後に電圧を閾値以下にしても電流が流れる状態になる。さらに、逆の電圧、すなわち第一の電極に正の電圧を加えて電流が流れると、着色が次第に消え、電流値も小さくなって、完全に消えると電流は極めて小さくなる。このような電流−電圧特性にヒステリシスがあることが、このデバイスの特徴である。
【００７０】
上記図９に示した電流−電圧特性に対して、負の電圧範囲を制限して電圧掃引すると、図１０に示したようにゼロ電圧近辺での抵抗値は十分な電圧で掃引して完全に着色した場合に比べて高くなる。実際に０．１の交流電圧を印加して抵抗値（複素インピーダンス）をモニターした結果を図１１に示す。着色濃度が高くなるにしたがって、次第に複素インピーダンスが低下していることがわかる。
【００７１】
（着色制御）
着色制御は、上記現象を利用して行う。最初に着色閾値より小さい電圧（０．１〜０．５Ｖ）の交流またはパルス電圧を印加して流れる電流、すなわち抵抗値を測定し（状態検出）、その次に適当量の負の書き込み電圧をかけることによって、濃度を制御することができる。
【００７２】
図１２にその具体例を示す。図１２には、画素に印加するパルス電圧、このパルス電圧の印加によって流れる電流値、及び画素の着色濃度（ＯＤ）が示されている。電流値において、破線で示すラインが所望の着色濃度レベルとなる基準電流値である。この基準電流値は、先の図１１に基づいて予め設定しておく。
【００７３】
本例では、先ず、書き込みに先立って０．１ボルト、１０ｍｓの検出用電圧パルスｖ１を印加し、電流値ｉ１（抵抗値）を測る。ここで、電流値ｉ１は先の基準電流値を下回っているので、負の書き込み電圧パルスＰ１を印加する。この負の書き込み電圧パルスＰ１は、ここでは−１Ｖ、１０ｍｓである。負の書き込み電圧パルスＰ１を印加すると、電流Ｉｗが流れ、銀の析出が起こる。書き込み電圧パルスＰ１の印加の後、再び０．１ボルト、１０ｍｓの検出用電圧パルスｖ２を印加し、電流値ｉ２（抵抗値）を測る。濃度は一段階上昇しているが、設定した濃度と比較して不十分であり、電流値ｉ２も先の基準電流値を下回っているので、再度書き込み電圧パルスＰ２を印加する。このサイクルを検出用電圧パルスｖｎを印加したときの電流値ｉｎが上記基準電流値を越えるまで繰り返す。検出用電圧パルスｖｎを印加したときの電流値ｉｎが上記基準電流値を越えたら、その時点で書き込み電圧パルスの印加をストップする。これによって、画素所定の濃度に着色することができる。
【００７４】
（消色制御）
着色した画素を消す場合には、正の電圧を印加して適切な電流を流すことによって銀が溶解し、その結果、画素が透明になるが、正の電圧を過大に印加すると、着色が消えるだけでなく、例えばヨウ化銀を溶解イオンとする場合には、ヨウ素が遊離して黄色に着色する現象が起きる。これを防止して適切に消色するために、先の着色制御と同様、検出用電圧パルスを印加し、そのときの電流値を検出して消去を制御する。
【００７５】
図１３にその具体例を示す。図１３には、画素に印加するパルス電圧、このパルス電圧の印加によって流れる電流値、及び画素の着色濃度（ＯＤ）が示されている。電流値において、一点鎖線で示すラインが所望の消色濃度レベルとなる基準電流値である。この基準電流値も、先の図１１に基づいて予め設定しておくが、先の着色濃度レベルの基準電流よりも低い値となる。
【００７６】
着色された画素では、０．１ボルト、１０ｍｓの検出用電圧パルスｖ１を印加して電流値ｉ１（抵抗値）を測ると、電流値ｉ１は先の基準電流値を上回っており、着色状態であることが検出される。そこで、消去のために正の消去電圧パルスＰ１を印加する。この正の消去電圧パルスＰ１は、ここでは１Ｖ、１０ｍｓである。正の消去電圧パルスＰ１を印加すると、消去電流ＩＥが流れ、銀が溶解する。消去電圧パルスＰ１の印加の後、再び０．１ボルト、１０ｍｓの検出用電圧パルスｖ２を印加し、電流値ｉ２（抵抗値）を測る。濃度は一段階低下しているが、設定した消去状態と比較して不十分であり、電流値ｉ２も先の基準電流値を上回っている。そこで、再度消去電圧パルスＰ２を印加する。このサイクルを検出用電圧パルスｖｎを印加したときの電流値ｉｎが上記基準電流値を下回るまで繰り返す。検出用電圧パルスｖｎを印加したときの電流値ｉｎが上記基準電流値を下回ったら、上記消去電圧パルスの印加を停止する。これにより、画素所定の濃度に十分に低下させ、確実に消去状態とすることができる。
【００７７】
（褪色制御）
上記表示装置においては、着色後、電圧をゼロに戻すか、あるいは回路的にオープンにすることによってある程度の時間（室温で数１０分）は着色状態を保つことができるが、時間の経過と共に銀が溶解することによって着色濃度が低下していく。そこで、不足した濃度に見合う適度の書き込みを行い、長時間濃度を保つ。
【００７８】
図１４にその具体例を示す。図１４には、画素に印加するパルス電圧、このパルス電圧の印加によって流れる電流値、及び画素の着色濃度（ＯＤ）が示されている。電流値において、一点鎖線で示すラインが所望の着色濃度レベルとなる基準電流値であり、先の図１１に基づいて予め設定しておく。
【００７９】
書き込みは先の着色制御の場合と同様であり、検出用電圧パルスｖｎを印加したときの電流値ｉｎが上記基準電流値を越えるまで書き込み電圧パルスＰｎの印加を繰り返し行う。書き込み後も上記検出用電圧パルスｖｎを所定の間隔で印加し、電流値ｉｎにより着色濃度レベルをモニタする。この間、時間の経過と共に銀が溶解し、次第に着色濃度レベルが低下して電流値ｉｎも低下してくるが、図示のように、検出用電圧パルスｖｄを印加したときの電流値ｉｄが上記記基準電流値を下回ったときに、追加書き込みパルスＰｔを印加する。このように、書き込み後に定期的に状態検出パルスを印加してモニタし、必要に応じて追加書き込みパルスを印加すれば、着色濃度レベルを長時間維持することができる。
【００８０】
（書き換え制御）
白黒２値の画面の書き換えにおいて、現在の画面の状態に応じて、次の画面への書き換えを次の手法で行う。書き込み前の白黒をモニターして画面を書き換え制御する例を図１５に示す。
【００８１】
先ず、各画素に状態認識パルスＰＳ１を印加し、そのときの電流値から画素の表示状態が白であるのか黒であるのかを識別する（Ｓ１）。着色閾値より小さい電圧（０．１〜０．５Ｖ）の交流またはパルス電圧を状態認識パルスＰＳ１として印加し、このとき流れる電流、すなわち抵抗値を測定することにより、着色状態を識別することができる。例えば、電流値が小さい（抵抗値が大きい）場合は白、電流値が大きい（抵抗値が小さい）場合は黒である。
【００８２】
この識別の結果、白表示状態Ｗとされた画素において、次の画面も「白」である場合には、白表示維持命令ＷＨ１により白表示状態が維持される。なお、このとき、先の消去制御と同様の手法により白状態識別ＷＳ１を行って、画素濃度が高いようであれば、消去パルス入力ＥＲ１によって消去操作を行う。一方、白表示状態Ｗとされた画素において、次の画面が「黒」である場合には、黒表示命令ＢＨ１により書き込みを行う。書き込みに際しては、先の着色制御と同様の手法により黒状態識別ＢＳ１を行い、着色濃度が不足している場合には、書き込みパルス入力ＷＲ１を所定の着色濃度となるまで繰り返す。
【００８３】
上記識別の結果、黒表示状態Ｂとされた画素においては、次の画面も「黒」である場合には、黒表示維持命令ＢＨ２により黒表示状態が維持される。このとき、先の着色制御と同様の手法により黒状態識別ＢＳ２を行って、着色濃度が不足している場合には、書き込みパルス入力ＷＲ２を所定の着色濃度となるまで繰り返す。次の画面が「白」である場合には、白表示命令ＷＨ２により白表示、すなわち消去を行う。このとき、先の消去制御と同様の手法により白状態識別ＷＳ２を行って、消し残りがあるようであれば、消去パルス入力ＥＲ２によって所定の白レベルとなるまで消去操作を行う。
【００８４】
（階調制御）
階調制御は、先の着色制御を応用することで実現することができる。書き込み前の濃度をモニターして所定の濃度に制御する例を図１６に示す。
【００８５】
階調表示を行う場合には、先ず、画素に状態認識パルスＰＳを印加し、初期濃度状態を把握する（ＳＮ）。初期濃度状態は、先の着色制御あるいは消去制御の場合と同様、着色閾値より小さい電圧（０．１〜０．５Ｖ）の交流またはパルス電圧を印加し、このときに流れる電流、すなわち抵抗値を測定することにより識別することができる。
【００８６】
次いで、任意濃度表示命令Ｎによって、各画素の濃度を所定の階調濃度にする。この際、各階調濃度とそのときの抵抗値（電流値）を対応させておき、これに基づいて濃度制御を行えばよい。濃度制御は、着色制御あるいは消去制御と同様、状態識別ＪＳによって画素の着色状態をモニターしながら行うが、状態識別ＪＳは、各階調濃度に応じた電流値を基に行い、それぞれの画素が所定の階調の濃度になるように設定する。状態識別ＪＳの結果、濃度が濃い場合には消去パルス入力ＥＲにより濃度を下げ、濃度が薄い場合には書き込みパルス入力ＷＲにより濃度を上げる。
【００８７】
【発明の効果】
以上の説明からも明らかなように、本発明によれば、着色濃度を定量的に制御することができ、各画素での着色状態を適正な状態、例えば均一な状態に制御することができる。また、上記定量的な制御により、階調表示も可能である。
【００８８】
さらに、本発明によれば、消去動作でも着色濃度を定量的に制御することができるので、完全に消去してから着色する方法に比べて、消去や書き込みの時間を短縮することができ、消費電力も最小限に抑えることができる。特に、白黒２値表示、またはグレースケールの階調表示において、画面の書き換えを最小の消費電力で行うことが可能である。さらにまた、本発明によれば、時間の経過によって着色濃度が低下する現象を的確に補うことができ、そのときの消費電力も最小限に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】単純マトリクス方式の金属析出型の表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】単純マトリクス方式の金属析出型の表示装置の一例を示す概略分解斜視図である。
【図３】アクティブマトリクス方式の金属析出型の表示装置の一例を示す概略分解斜視図である。
【図４】アクティブマトリクス方式の金属析出型の表示装置の回路構成の一例を示す回路図である。
【図５】電流−電圧過渡応答特性を調べるために印加した三角波電圧を示す波形図である。
【図６】電流−電圧過渡応答特性を示す特性図である。
【図７】３×３画素のパネルの模式図である。
【図８】金属析出型の表示装置の基本的な駆動方法における駆動電圧波形を示す波形図である。
【図９】作製した表示装置における電流−電圧特性を示す特性図である。
【図１０】書き込み掃引電圧を変えたときの電流−電圧特性の相違を示す特性図である。
【図１１】着色濃度と複素インピーダンスの関係を示す特性図である。
【図１２】着色制御の一例を示す波形図である。
【図１３】消去制御の一例を示す波形図である。
【図１４】褪色制御の一例を示す波形図である。
【図１５】書き込み前の状態をモニターして画面の書き換えを制御する例のフローチャートである。
【図１６】書き込み前の状態をモニターして階調制御を行う例のフローチャートである。
【符号の説明】
１，１１　透明基板、２　コラム電極、３，１２　ベース基板、４　ロウ電極、５　高分子電解質、６　金属、１３　電解質層、１４　透明電極、１５　画素電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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