【手続補正書】
【提出日】平成26年7月25日(2014.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの投影レンズであって、少なくとも２つの反射型光学素子Ｍiを備え、
前記反射型光学素子Ｍiのそれぞれは、前記投影レンズがＥＵＶ光の露光力に曝される場合に、レチクル上の対象フィールドを基板上の画像フィールドに投影するための本体ＭＢiと反射面ＭＳiとを備え、前記ＥＵＶ光は前記ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの照明システムによって照射されるときに前記レチクルから反射され、
前記少なくとも２つの反射型光学素子の本体ＭＢm、ＭＢnは、それぞれのゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nで温度依存熱膨張係数がゼロである素材を備え、
前記ゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nの差の絶対値は６Ｋより大きく、ａｂｓ（Ｔ0m−Ｔ0n）＞６Ｋで表し、
前記投影レンズは８Ｗより大きい前記ＥＵＶ光の前記露光力に曝されるように設計され、前記ＥＵＶ光の波長は５０ｎｍの波長範囲より小さいことを特徴とする投影レンズ。
【請求項２】
請求項１に記載の投影レンズであって、
４つまたは６つの前記反射型光学素子Ｍiを備え、
前記投影レンズは１０Ｗより大きい前記露光力に曝されるように設計され、
前記ゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nの前記差の前記絶対値は８Ｋより大きく、ａｂｓ（Ｔ0m−Ｔ0n）＞８Ｋで表すことを特徴とする投影レンズ。
【請求項３】
請求項１に記載の投影レンズであって、
受動的または能動的に前記反射型光学素子Ｍiを支持するための支持構造であって、前記支持構造の少なくとも一部分の温度は基準温度ＴRefである支持構造と、
前記本体ＭＢn、ＭＢmの少なくとも１つを加熱するためのヒータであって、それぞれの前記ゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nで前記温度依存熱膨張係数がゼロである前記素材を備えるヒータと、
前記少なくとも１つの加熱可能な本体ＭＢn、ＭＢmの温度を温度Ｔkに制御するための温度制御システムと、
を備えることを特徴とする投影レンズ。
【請求項４】
請求項３に記載の投影レンズであって、
前記ヒータを操作せずに、前記本体ＭＢn、ＭＢmの前記反射面ＭＳmおよびＭＳnをＥＵＶ光で露光させ、前記ＥＵＶ光は前記照射されたレチクルから反射され、照明設定にしたがって角空間分布、偏極空間分布および強度空間分布を備え、その結果として、前記本体ＭＢn、ＭＢmの前記基準温度ＴRefに対する温度分布はΔＴn（ｘ，ｙ，ｚ）＝（Ｔn（ｘ，ｙ，ｚ）−ＴRef）、ΔＴm（ｘ，ｙ，ｚ）＝（Ｔm（ｘ，ｙ，ｚ）−ＴRef）およびそれぞれの平均および最高温度はΔＴnav、ΔＴmavおよびΔＴnmaxおよびΔＴmmaxとなり、
少なくとも１つのゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nは、前記最高基準温度ＴRef、および前記それぞれの空間温度分布ΔＴm（ｘ，ｙ，ｚ）、ΔＴn（ｘ，ｙ，ｚ）に基づく、前記それぞれの平均または最高温度ΔＴmav＋ＴrefまたはΔＴmmax＋Ｔref、ΔＴnav＋ＴrefまたはΔＴnmax＋Ｔrefのうち最も高い温度より高く、Ｔ0m＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴmav＋Ｔref），Ｔ0m＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴmmax＋Ｔref）またはＴ0n＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴnav＋ＴRef）、Ｔ0n＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴnmax＋Ｔref）で表すことを特徴とする投影レンズ。
【請求項５】
請求項４に記載の投影レンズであって、
前記素材は、製造による前記ゼロクロス温度の実際の値に関して変動する前記ゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nを備え、その結果として、前記ゼロクロス温度の前記それぞれの実際の値が間隔Ｔ0m±ΔＴ0mおよびＴ0n±ΔＴ0nとの間となるようなそれぞれの製造公差ΔＴ0m、ΔＴ0nとなり、
少なくとも１つの前記ゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nは、前記最高基準温度ＴRef、および前記それぞれの空間温度分布ΔＴm（ｘ，ｙ，ｚ）、ΔＴn（ｘ，ｙ，ｚ）に基づく、前記それぞれの平均または最高温度ΔＴmav＋ＴRefまたはΔＴmmax＋ＴRef、ΔＴnav＋ＴRefまたはΔＴnmax＋ＴRefのうち最も高い温度より高く、前記それぞれの製造公差ΔＴ0m、ΔＴ0nの前記絶対値を加えて、Ｔ0m＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴmav＋ＴRef）＋│ΔＴ0m│，Ｔ0m＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴmmax＋ＴRef）＋│ΔＴ0m│またはＴ0n＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴnav＋ＴRef）＋│ΔＴ0n│，Ｔ0n＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴnmax＋ＴRef）＋│ΔＴ0n│で表すことを特徴とする投影レンズ。
【請求項６】
請求項４に記載の投影レンズであって、
前記少なくとも１つの加熱される本体ＭＢn、ＭＢmの前記温度Ｔkは、前記それぞれのゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nを中心として間隔±５Ｋの範囲内であり、より良くは±２Ｋの範囲内であることを特徴とする投影レンズ。
【請求項７】
請求項３に記載の投影レンズであって、
前記投影レンズが前記ＥＵＶ光の前記露光力に曝される前に、前記少なくとも１つの加熱される本体ＭＢn、ＭＢmの前記温度Ｔkは、前記ヒータを第１の加熱力を用いて加熱することによって、その値に制御されることを特徴とする投影レンズ。
【請求項８】
請求項７に記載の投影レンズであって、
前記投影レンズが前記ＥＵＶ光の前記露光力に曝されている期間に、前記ヒータの前記加熱力は前記第１の加熱力よりも小さいことを特徴とする投影レンズ。
【請求項９】
請求項７に記載の投影レンズであって、
前記温度制御システムは、前記少なくとも１つの本体ＭＢn、ＭＢmを加熱する前記ヒータの前記加熱力と、前記少なくとも１つの加熱される本体ＭＢn、ＭＢmによって吸収される前記ＥＵＶ光の前記露光力が時間がたつと一定となるように、前記温度Ｔkを制御することを特徴とする投影レンズ。
【請求項１０】
請求項３に記載の投影レンズであって、前記少なくとも１つの加熱される本体ＭＢn、ＭＢmは前記本体の並進運動のためにアクチュエータに接続することを特徴とする投影レンズ。
【請求項１１】
請求項３に記載の投影レンズであって、前記本体ＭＢn、ＭＢmの前記少なくとも１つを加熱するための前記ヒータは、赤外線光発光ダイオード、ペルチェ素子、光ファイバ、光導体ロッドおよび赤外線レーザからなる群から選択される加熱素子を備えることを特徴とする投影レンズ。
【請求項１２】
請求項１１に記載の投影レンズであって、前記加熱素子は１次元または２次元において規定の空間座標に配置され、グリッド構造を形成することを特徴とする投影レンズ。
【請求項１３】
請求項１１に記載の投影レンズであって、赤外線放射を放射または誘導する
前記加熱素子は、前記赤外線放射を構成するための光学構成を備え、前記光学構成はコリメータ、集束レンズ、調節可能レンズ、鏡および回折光学素子からなる群から選択される構成素子を備え、前記構成素子は少なくとも軸上の周囲で傾斜可能であることを特徴とする投影レンズ。
【請求項１４】
請求項１１に記載の投影レンズであって、前記本体ＭＢn、ＭＢmの前記少なくとも１つは、前記鏡本体内または鏡本体上に修正を備え、前記修正は凹部、止まり穴、規定の表面粗さ、回折構造、球面突起、球面凹部および表面屈曲からなる群から選択されることを特徴とする投影レンズ。
【請求項１５】
ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムであって、請求項１に記載の投影レンズを備えることを特徴とするシステム。
【請求項１６】
ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの投影レンズであって、
少なくとも２つの反射型光学素子Ｍiを備え、
前記反射型光学素子Ｍiのそれぞれは、前記投影レンズが５０ｎｍより小さい波長範囲の波長を有するＥＵＶ光の露光力に曝される場合に、レチクル上の対象フィールドを基板上の画像フィールドに投影するための本体ＭＢiと反射面ＭＳiとを備え、前記ＥＵＶ光は、前記ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの照明システムによって照射されるときに前記レチクルから反射され、
前記少なくとも２つの反射型光学素子の本体ＭＢm、ＭＢnは、それぞれのゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nで温度依存熱膨張係数がゼロである素材を備え、
前記レンズは、
受動的または能動的に前記反射型光学素子Ｍiを支持するための支持構造であって、支持構造の少なくとも一部分の温度は基準温度ＴRefである支持構造と、
前記本体ＭＢn、ＭＢmの少なくとも１つを加熱するためのヒータであって、前記ゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nを有する前記素材を備えるヒータと、
前記少なくとも１つの加熱される本体ＭＢn、ＭＢmの温度を温度Ｔkに制御するための温度制御システムと、
を備え、
前記本体ＭＢn、ＭＢmを前記ヒータを用いて加熱せずに、前記それぞれの反射面ＭＳmおよびＭＳnを前記ＥＵＶ光の前記露光力で露光させ、前記ＥＵＶ光は前記照射されたレチクルから反射され、照明設定にしたがって角空間分布、偏極空間分布および強度空間分布を備え、その結果として、前記本体ＭＢn、ＭＢmの前記基準温度ＴRefに対する温度分布がΔＴn（ｘ，ｙ，ｚ）＝（Ｔn（ｘ，ｙ，ｚ）−ＴRef）、ΔＴm（ｘ，ｙ，ｚ）＝（Ｔm（ｘ，ｙ，ｚ）−ＴRef）、およびそれぞれの平均および最高温度ΔＴnav、ΔＴmavおよびΔＴnmaxおよびΔＴmmaxとなり、
少なくとも１つのゼロクロス温度Ｔ0m、Ｔ0nは、最高基準温度ＴRef、および前記それぞれの空間温度分布ΔＴm（ｘ，ｙ，ｚ）、ΔＴn（ｘ，ｙ，ｚ）に基づき、前記基準温度を加えた前記それぞれの平均または最高温度（ΔＴmav＋ＴrefまたはΔＴmmax＋ＴRef、ΔＴnav＋ＴRefまたはΔＴnmax＋ＴRef）のうち最も高い温度より高く、Ｔ0m＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴmav＋ＴRef）、Ｔ0m＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴmmax＋ＴRef）またはＴ0n＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴnav＋ＴRef）、Ｔ0n＞ｍａｘ（ＴRef，ΔＴnmax＋ＴRef）で表すことを特徴とする投影レンズ。
【請求項１７】
ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの投影レンズであって、
少なくとも２つの反射型光学素子Ｍiを備え、
前記反射型光学素子Ｍiのそれぞれは、前記投影レンズが５０ｎｍより小さい波長範囲の波長を有するＥＵＶ光の露光力に曝される場合に、レチクル上の対象フィールドを基板上の画像フィールドに投影するための本体ＭＢiおよび反射面ＭＳiを備え、前記ＥＵＶ光は、ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの照明システムによって照射される間に前記レチクルから反射され、
前記少なくとも２つの反射型光学素子の本体ＭＢm、ＭＢnは、少なくとも２つのゼロクロス温度Ｔ10mnおよびＴ20mnで温度依存熱膨張係数がゼロである素材を備え、
前記レンズは、
受動的または能動的に前記反射型光学素子Ｍiを支持するための支持構造であって、支持構造の少なくとも一部分の前記温度は基準温度ＴRefである支持構造と、
前記少なくとも２つの本体ＭＢn、ＭＢmを個別に加熱および／または冷却するための少なくとも２つの焼き戻し手段、好ましくは、ヒータと、
前記少なくとも２つの加熱または冷却される本体ＭＢn、ＭＢmの前記温度をそれぞれの温度ＴknおよびＴkmに個別に制御するための温度制御システムと、
を備え、
前記レンズが前記ＥＵＶ光の前記露光力に曝されている間に、前記温度制御された本体ＭＢnの前記温度Ｔknは、前記第１のゼロクロス温度Ｔ10mnを中心として間隔±５Ｋの範囲内であり、より良くは±２Ｋの範囲内であり、前記温度制御された本体ＭＢmの前記温度Ｔkmは前記第２のゼロクロス温度Ｔ20mnを中心として間隔±５Ｋの範囲内であり、より良くは±２Ｋの範囲内であることを特徴とする投影レンズ。
【請求項１８】
ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの投影レンズであって、
複数の反射型光学素子ｓＭiを備え、
前記複数の反射型光学素子Ｍiのそれぞれは、
本体ＭＢiおよび反射面ＭＳiであって、前記投影レンズが５０ｎｍより小さい波長範囲の波長を有するＥＵＶ光の露光力に曝される場合に、レチクル上の対象フィールドを基板上の画像フィールドに投影し、前記ＥＵＶ光は前記ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの照明システムによって照射されるときに前記レチクルから反射される、本体ＭＢiおよび反射面ＭＳiと、
受動的または能動的に前記反射型光学素子Ｍiを支持するための支持構造であって、前記支持構造の少なくとも一部分の温度は基準温度ＴRefである、支持構造と、
少なくとも１つの光学素子Ｍkを加熱するためのヒータであって、前記光学素子Ｍk上には、前記ヒータを加熱せずに前記投影レンズが前記露光力に曝されるときに、前記基準温度ＴRefに対する空間温度分布ΔＴ（ｘ，ｙ，ｚ）＝（Ｔ（ｘ，ｙ，ｚ）−ＴRef）が形成され、前記温度分布ΔＴ（ｘ，ｙ，ｚ）は平均温度ΔＴavおよび最高温度ΔＴmaxを有する、ヒータと、
前記少なくとも１つの光学素子Ｍkの前記温度を温度Ｔkに制御するための温度制御システムであって、前記少なくとも１つの加熱される反射型光学素子Ｍkの前記本体ＭＢkは、前記基準温度ＴRefより高い温度である温度Ｔ0kで温度依存熱膨張係数がゼロである素材を備える、温度制御システムと、
を備え、
前記露光力に曝される前に、前記ヒータを用いて加熱することによって、前記光学素子Ｍkは温度Ｔkを有し、前記温度Ｔkは、Ｔk＝Ｔ0k−ΔＴav；Ｔk＝２＊Ｔ0k−ＴRef−ΔＴav；Ｔk＝ＴRef＋３＊（Ｔ0k−ＴRef）／２−ΔＴav；Ｔk＝Ｔ0k−ΔＴmax；Ｔk＝２＊Ｔ0k−ＴRef−ΔＴmax；Ｔk＝ＴRef＋３＊（Ｔ0k−ＴRef）／２−ΔＴmaxからなる群から選択されることを特徴とする投影レンズ。
【請求項１９】
ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの投影レンズであって、
複数の反射型光学素子Ｍiを備え、
前記複数の反射型光学素子Ｍiのそれぞれは、
前記投影レンズが５０ｎｍより小さい波長範囲の波長を有するＥＵＶ光の露光力に曝される場合に、レチクル上の対象フィールドを基板上の画像フィールドに投影し、前記ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの照明システムによって照射されるときに前記レチクルから反射される、本体ＭＢiおよび反射面ＭＳiを備え、
前記レンズは、
少なくとも１つの光学素子Ｍkを受動的または能動的に支持する手段を備え、
前記支持手段は、連結点、二脚構造、連結素子、支持素子およびハウジング構造からなる群から選択される、温度感受性素子を備え、
前記温度感受性素子は、一定温度または規定の温度に制御され、
前記レンズはさらに、
少なくとも１つの光学素子Ｍkを温度Ｔkまで加熱および／または冷却するための第１の焼き戻し素子と、
前記温度感受性素子を規定の温度まで焼き戻すための第２の焼き戻し素子とを備え、
前記第２の焼き戻し素子は、前記温度感受性素子と前記第１の焼き戻し素子との間に空間的に配置されることを特徴とする投影レンズ。
【請求項２０】
ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの投影レンズであって、
複数の反射型光学素子Ｍiを備え、
前記複数の反射型光学素子Ｍiのそれぞれは、
前記投影レンズが５０ｎｍより小さい波長範囲の波長を有するＥＵＶ光の露光力に曝される場合に、レチクル上の対象フィールドを基板上の画像フィールドに投影し、前記ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの照明システムによって照射されるときに前記レチクルから反射される、本体ＭＢiおよび反射面ＭＳiを備え、
前記レンズは、
少なくとも１つの光学素子Ｍkを受動的または能動的に支持する手段と、
少なくとも１つの反射型光学素子Ｍkの周囲内に圧力Δｐを制御するための圧力制御システムとを備え、
前記制御は、光学素子Ｍkの温度、時間、直接的または間接的に光学素子Ｍkの温度に影響するパラメータ、照明設定、レチクルの変化、光学素子Ｍkまたは前記投影レンズの、熱伝導光学収差データまたは機械的伝導光学収差データおよびモデルからの出力パラメータからなる群から選択されるパラメータに基づき、
前記モデルの入力は、反射型光学素子Ｍkの温度、時間、直接的または間接的に光学素子Ｍkの温度に影響するパラメータ、照明設定、光学素子Ｍkまたは投影レンズの、熱伝導光学収差データまたは機械的伝導光学収差データおよびレチクルの変化からなる群から選択されるデータを有することを特徴とする投影レンズ。
【請求項２１】
ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの投影レンズであって、
複数の反射型光学素子Ｍiを備え、
前記複数の反射型光学素子Ｍiのそれぞれは、
前記投影レンズが５０ｎｍより小さい波長範囲の波長を有するＥＵＶ光の露光力に曝される場合に、レチクル上の対象フィールドを基板上の画像フィールドに投影し、前記ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの照明システムによって照射されるときに前記レチクルから反射される、本体ＭＢiおよび反射面ＭＳiを備え、
少なくとも１つの反射型光学素子Ｍkは、ゼロクロス温度Ｔ0kで温度依存熱膨張係数がゼロとなる素材を備え、
前記光学素子Ｍkの本体ＭＢkは赤外線放射に半透明であり、
少なくとも１つの反射型光学素子Ｍkと本体ＭＢkは、本体ＭＢkの表面全体またはほとんど表面全体を被膜する被膜Ｃを備え、
前記被膜Ｃは、本体ＭＢk内部の赤外線放射を反射することを特徴とする投影レンズ。
【請求項２２】
鏡であって、
本体ＭＢkと反射面ＭＳkと、
ゼロクロス温度Ｔ0kで温度依存熱膨張係数がゼロとなる素材とを備え、
前記本体ＭＢkは少なくとも部分的に抵抗被膜Ｃ２で被膜され、前記抵抗被膜Ｃ２は電気抵抗加熱によって本体を加熱するために適切な電気抵抗を有し、
前記鏡は、前記投影レンズが５０ｎｍより小さい波長範囲の波長を有するＥＵＶ光の露光力に曝される場合は、レチクル上の対象フィールドを基板上の画像フィールドに投影するためのＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの投影レンズに適合されることを特徴とする鏡。