【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
記録媒体に対向する記録媒体対向面に近い側の一部に、ギャップ層を介して対向する２つの磁極を有する、互いに磁気的に連結された第１の磁性層および第２の磁性層と、前記第１の磁性層と第２の磁性層との間に配設された薄膜コイルと、前記薄膜コイルを前記第１の磁性層および第２の磁性層から絶縁する絶縁層とを有する薄膜磁気ヘッドであって、
前記第１の磁性層は、前記ギャップ層より遠い側から順に配設された第１の磁性層部分および第２の磁性層部分の積層体を含み、
前記第２の磁性層部分は、記録媒体の記録トラック幅を規定するための一定幅を保ちつつ前記記録媒体対向面から前記ギャップ層に隣接ながら延在して第１の位置で終端し、
前記第１の磁性層部分は、
前記第２の磁性層部分の前記一定幅と同一の幅を保ちつつ前記記録媒体対向面またはその近傍位置から延在して前記第１の位置と同一または近傍の第２の位置で終端する一定幅部分と、
前記一定幅部分の幅よりも大きな幅を有すると共に、前記第２の位置から前記記録媒体対向面より離れる方向に延在して第３の位置で終端する拡幅部分と
を含む
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記絶縁層は、前記第１の位置において前記第２の磁性層部分と接している
ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッド。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
前記アモルファス合金は、コバルト鉄合金、ジルコニウムコバルト鉄合金酸化物またはジルコニウム鉄合金窒化物のいずれかである
ことを特徴とする請求項１７記載の薄膜磁気ヘッド。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
記録媒体に対向する記録媒体対向面に近い側の一部に、ギャップ層を介して対向する２つの磁極を有する、互いに磁気的に連結された第１の磁性層および第２の磁性層と、前記第１の磁性層と第２の磁性層との間に配設された薄膜コイルと、前記薄膜コイルを前記第１の磁性層および第２の磁性層から絶縁する絶縁層とを有すると共に、前記第１の磁性層が前記ギャップ層より遠い側から順に配設された第１の磁性層部分および第２の磁性層部分を含み、前記第２の磁性層部分が記録媒体の記録トラック幅を規定するための一定幅を保ちつつ前記記録媒体対向面から前記ギャップ層に隣接して延在して第１の位置で終端し、前記第１の磁性層部分が、前記第２の磁性層部分の前記一定幅と同一の幅を保ちつつ前記記録媒体対向面またはその近傍位置から延在して前記第１の位置と同一または近傍の第２の位置で終端する一定幅部分と、前記一定幅部分の幅よりも大きな幅を有すると共に前記第２の位置から前記記録媒体対向面より離れる方向に延在して第３の位置で終端する拡幅部分とを含む薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、
前記第１の磁性層を形成する工程が、
前記ギャップ層上における前記記録媒体対向面が形成されるべき位置の近傍から前記第１の位置に至る領域に、前記第２の磁性層部分の前記一定幅よりも大きい幅と、前記第１の位置において前記第２の磁性層部分の幅方向に延びる直線状の端縁とを有するように、前記第２の磁性層部分の前準備層としての前駆磁性層を選択的に形成する第１の工程と、
少なくとも前記前駆磁性層およびその周辺領域を覆うように前記絶縁層の一部の前準備層としての前駆絶縁層を形成する第２の工程と、
少なくとも前記前駆磁性層が露出するまで前記前駆絶縁層を研磨して平坦化することにより前記絶縁層の一部を形成する第３の工程と、
研磨後の平坦面上に、前記一定幅部分における前記第２の位置が前記第１の位置よりも前記記録媒体対向面から遠い側に位置するように第１の磁性層部分を選択的に形成する第４の工程と、
前記第１の磁性層部分の前記一定幅部分をマスクとして用いて前記前駆磁性層を選択的にエッチングすることにより前記第２の磁性層部分を選択的に形成する第５の工程と
を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２９】
前記薄膜コイルが、さらに、その一部をなすと共に前記第１の薄膜コイルと電気的に接続された第２の薄膜コイルを含む場合において、
前記第２の薄膜コイルを、その最も多くの部分が前記第１の磁性層部分の厚みに対応する空間領域に含まれるように形成する
ことを特徴とする請求項２７または請求項２８に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッドは、記録媒体に対向する記録媒体対向面に近い側の一部に、ギャップ層を介して対向する２つの磁極を有する、互いに磁気的に連結された第１の磁性層および第２の磁性層と、第１の磁性層と第２の磁性層との間に配設された薄膜コイルと、薄膜コイルを第１の磁性層および第２の磁性層から絶縁する絶縁層とを有する薄膜磁気ヘッドであって、第１の磁性層は、ギャップ層より遠い側から順に配設された第１の磁性層部分および第２の磁性層部分の積層体を含み、第２の磁性層部分は、記録媒体の記録トラック幅を規定するための一定幅を保ちつつ記録媒体対向面からギャップ層に隣接ながら延在して第１の位置で終端し、第１の磁性層部分は、第２の磁性層部分の一定幅と同一の幅を保ちつつ記録媒体対向面またはその近傍位置から延在して第１の位置と同一または近傍の第２の位置で終端する一定幅部分と、一定幅部分の幅よりも大きな幅を有すると共に、第２の位置から記録媒体対向面より離れる方向に延在して第３の位置で終端する拡幅部分とを含むようにしたものである。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッドでは、絶縁層が第１の位置において前記第２の磁性層部分と接するようにしてもよい。このような場合には、第２の磁性層部分と絶縁層との境界面が平面をなすようにし、その境界面が第２の磁性層部分の延在方向に対して垂直になるようにしてもよい。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッドでは、第１の磁性層部分および第２の磁性層部分のうちの少なくとも一方が、窒化鉄、ニッケル鉄合金またはアモルファス合金のいずれか１つを含む磁性材料よりなるものであるようにしてもよい。アモルファス合金としては、コバルト鉄合金、ジルコニウムコバルト鉄合金酸化物またはジルコニウム鉄合金窒化物のいずれかであるようにするのが好適である。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法は、記録媒体に対向する記録媒体対向面に近い側の一部に、ギャップ層を介して対向する２つの磁極を有する、互いに磁気的に連結された第１の磁性層および第２の磁性層と、第１の磁性層と第２の磁性層との間に配設された薄膜コイルと、薄膜コイルを第１の磁性層および第２の磁性層から絶縁する絶縁層とを有すると共に、第１の磁性層がギャップ層より遠い側から順に配設された第１の磁性層部分および第２の磁性層部分を含み、第２の磁性層部分が記録媒体の記録トラック幅を規定するための一定幅を保ちつつ記録媒体対向面からギャップ層に隣接して延在して第１の位置で終端し、第１の磁性層部分が、第２の磁性層部分の一定幅と同一の幅を保ちつつ記録媒体対向面またはその近傍位置から延在して第１の位置と同一または近傍の第２の位置で終端する一定幅部分と、一定幅部分の幅よりも大きな幅を有すると共に第２の位置から記録媒体対向面より離れる方向に延在して第３の位置で終端する拡幅部分とを含む薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、第１の磁性層を形成する工程が、ギャップ層上における記録媒体対向面が形成されるべき位置の近傍から第１の位置に至る領域に、第２の磁性層部分の一定幅よりも大きい幅と、第１の位置において第２の磁性層部分の幅方向に延びる直線状の端縁とを有するように第２の磁性層部分の前準備層としての前駆磁性層を選択的に形成する第１の工程と、少なくとも前駆磁性層およびその周辺領域を覆うように絶縁層の一部の前準備層としての前駆絶縁層を形成する第２の工程と、少なくとも前駆磁性層が露出するまで前駆絶縁層を研磨して平坦化することにより絶縁層の一部を形成する第３の工程と、研磨後の平坦面上に、一定幅部分における第２の位置が第１の位置よりも記録媒体対向面から遠い側に位置するように第１の磁性層部分を選択的に形成する第４の工程と、第１の磁性層部分の一定幅部分をマスクとして用いて前駆磁性層を選択的にエッチングすることにより第２の磁性層部分を選択的に形成する第５の工程とを含むようにしたものである。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法では、まず、第１の工程において、ギャップ層上における記録媒体対向面が形成されるべき位置の近傍から第１の位置に至る領域に、第２の磁性層部分の一定幅よりも大きい幅と、第１の位置において第２の磁性層部分の幅方向に延びる直線状の端縁とを有するように第２の磁性層部分の前準備層としての前駆磁性層が選択的に形成される。続いて、第２の工程において、少なくとも前駆磁性層およびその周辺領域を覆うように絶縁層の一部の前準備層としての前駆絶縁層が形成される。続いて、第３の工程において、少なくとも前駆磁性層が露出するまで前駆絶縁層が研磨されて平坦化されることにより絶縁層の一部が形成される。続いて、第４の工程において、研磨後の平坦面上に、一定幅部分における第２の位置が第１の位置よりも記録媒体対向面から遠い側に位置するように第１の磁性層部分が選択的に形成される。最後に、第５の工程において、第１の磁性層部分の一定幅部分をマスクとして用いて前駆磁性層が選択的にエッチングされ、第２の磁性層部分が選択的に形成されることにより、第１の磁性層が形成される。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
また、本発明の第２の観点に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法では、薄膜コイルが、さらに、その一部をなすと共に第１の薄膜コイルと電気的に接続された第２の薄膜コイルを含む場合において、第２の薄膜コイルを、その最も多くの部分が第１の磁性層部分の厚みに対応する空間領域に含まれるように形成するようにしてもよい。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
次に、図１に示したように、下部シールド層３上に、例えばスパッタリングにより、例えばアルミナよりなるシールドギャップ膜５を約１００〜２００ｎｍの厚みで形成する。次に、シールドギャップ膜５上に、高精度のフォトリソグラフィ処理を用いて、再生ヘッド部の要部であるＭＲ素子を構成するためのＭＲ膜６を所望の形状となるように形成する。次に、ＭＲ膜６の両側に、このＭＲ膜６と電気的に接続する引き出し電極層としてのリード層（図示せず）を形成する。次に、このリード層、シールドギャップ膜５およびＭＲ膜６上にシールドギャップ膜７を形成して、ＭＲ膜６をシールドギャップ膜５，７内に埋設する。シールドギャップ膜７の形成材料および形成方法等は、シールドギャップ膜５の場合とほぼ同様である。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
ここで、下部磁極１０の形成は、以下のような手順により行う。すなわち、まず、絶縁膜９上に、例えばスパッタリングにより、例えば窒化鉄層を約２．０〜２．５μｍの厚みで形成する。続いて、所定の形状および材質（例えば、クロム等の金属材料）を有するマスクを用いて、例えばリアクティブイオンエッチング（Reactive Ion Etching；以下、単に「ＲＩＥ」という）により窒化鉄層をエッチングしてパターニングすることにより、下部磁極１０を選択的に形成する。下部磁極１０の表面は、その全域にわたってほぼ平坦となる。一般に、ＲＩＥを用いた場合のエッチング速度は、イオンミリングを用いた場合のエッチング速度よりも速い。このため、エッチング方法としてＲＩＥを用いることにより、イオンミリングを用いる場合よりも、下部磁極１０を短時間で形成することができる。ＲＩＥによるエッチング処理を用いて下部磁極１０を形成する場合には、特に、エッチング時に使用するエッチングガスの種類やエッチング時の加工温度などのエッチング条件を適正化することにより、下部磁極１０の形成に要する時間をより短縮させることが可能となる。このようなエッチング条件の適正化に関する詳細については、後述する。なお、下部磁極１０の形成材料としては、窒化鉄の他、例えば、窒化鉄と同様に高飽和磁束密度を有する磁性材料として、コバルト鉄合金（ＦｅＣｏ）、ジルコニウムコバルト鉄合金酸化物（ＦｅＣｏＺｒＯ）またはジルコニウム鉄合金窒化物（ＦｅＺｒＮ）などのアモルファス合金を用いるようにしてもよい。窒化鉄層をパターニングするためのエッチング方法としては、必ずしもＲＩＥを用いなければならないものではなく、イオンミリングを用いるようにしてもよい。ここで、下部磁極１０が、本発明の第１，第２の観点に係る薄膜磁気ヘッドまたはその製造方法における「第２の磁性層」の一具体例に対応する。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
次に、図１に示したように、全体を覆うように、例えばスパッタリングにより、高飽和磁束密度を有する磁性材料、例えば窒化鉄よりなる基礎磁性層１１２を約０．８〜２．０μｍの厚みで形成する。基礎磁性層１１２を構成する磁性材料としては、例えば、後工程において形成される上部磁性層１２Ｃを構成する磁性材料（例えば鉄ニッケルコバルト合金）の飽和磁束密度よりも大きい飽和磁束密度を有するものを用いるようにする。なお、基礎磁性層１１２の形成材料としては、窒化鉄の他、例えば、窒化鉄と同様に高飽和磁束密度を有するコバルト鉄合金（ＦｅＣｏ）、ジルコニウムコバルト鉄合金酸化物（ＦｅＣｏＺｒＯ）またはジルコニウム鉄合金窒化物（ＦｅＺｒＮ）などのアモルファス合金などを用いるようにしてもよい。ここで、基礎磁性層１１２が、本発明の第１の観点に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法における「磁性材層」の一具体例に対応する。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
次に、薄膜コイル１４（コイル接続部１４Ｓを含む）の各巻線間およびその周辺に、加熱時に流動性を示す材料、例えばフォトレジストなどの有機絶縁材料を高精度のフォトリソグラフィ処理により所定のパターンとなるように形成する。次に、このフォトレジスト膜に対して、例えば２００℃〜２５０℃の範囲内における温度で加熱処理を施す。この加熱処理により、図３に示したように、フォトレジストが流動して薄膜コイル１４等の各巻線間を隙間なく埋めつくし、薄膜コイル１４等の各巻線間を絶縁化するための絶縁膜１５が形成される。絶縁膜１５を形成する際には、絶縁膜１５が薄膜コイル１４およびコイル接続部１４Ｓの双方の上面を覆わないようにしてもよいし（図３参照）、覆うようにしてもよい。


【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
次に、図５に示したように、例えばＲＩＥまたはイオンミリングにより、コイル接続部１４Ｓの上方を覆っている絶縁膜１６を部分的にエッチングして、コイル接続部１４Ｓと後工程において形成されるコイル接続配線１２ＣＨとを接続させるための開口部１６Ｋを形成する。


【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
次に、図６および図１４に示したように、上部磁性層１２Ｃの一部およびコイル接続配線１２ＣＨ等を覆うようにフォトレジスト膜９０を選択的に形成する。フォトレジスト膜９０を形成する際には、例えば、その大部分が上部磁性層１２Ｃにおける第１の磁極先端部１２Ｃ(1) と中間部１２Ｃ(2) との連結位置Ｐ２よりも後方側の部分を覆うようにすると共に、その一部（部分９０Ｂ）が上記の連結位置Ｐ２よりも前方側に突出して第１の磁極先端部１２Ｃ(1) に部分的に乗り上げるようにする。


【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
次に、上部磁性層１２Ｃおよびフォトレジスト膜９０の双方をマスクとして、例えばＲＩＥにより、前駆磁性層１１２Ａおよびその周辺領域を選択的にエッチングする。このエッチング処理により、上部磁性層１２Ｃにおける第１の磁極先端部１２Ｃ(1) と中間部１２Ｃ(2) との連結位置Ｐ２よりも前方側の領域における前駆磁性層１１２Ａおよび絶縁膜１６等が選択的に除去され、図７および図１５に示したように、上部磁極１２の一部を構成する第２の磁極先端部１２Ａが形成される。前駆磁性層１１２Ａをパターニングするためのエッチング方法としてＲＩＥを用いることにより、第２の磁極先端部１２Ａを高精度かつ短時間で形成することができる。この第２の磁極先端部１２Ａは、上部磁性層１２Ｃの第１の磁極先端部１２Ｃ(1) と同様に、記録媒体上の記録トラック幅を規定する一定幅を有するものである。第２の磁極先端部１２Ａを形成するためのエッチング処理により、マスク自体、すなわち上部磁性層１２Ｃおよびフォトレジスト膜９０のそれぞれ自体もエッチングされ、その膜厚は減少する。これにより、第１の磁極先端部１２Ｃ(1) における前側の部分の厚みは後側の部分の厚みよりも小さくなり、第１の磁極先端部１２Ｃ(1) に段差が形成される。このとき、フォトレジスト膜９０（部分９０Ｂ）の前方部も徐々にエッチングされ、部分９０Ｂの前端の位置が除々に後退することにより、第１の磁極先端部１２Ｃ(1) のうちの部分９０Ｂの近傍部分に対するエッチング量が連続的に変化し、第１の磁極先端部１２Ｃ(1) に形成された段差部における段差面１２ＣＭは下地（絶縁膜１６）の平坦面１６Ｍに対して斜面をなすこととなる。


【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
第２の磁極先端部１２Ａを形成するためのＲＩＥによるエッチング処理を行う際には、特に、例えば、塩素（Ｃｌ2 ）、三塩化ボロン（ＢＣｌ3 ）、塩化水素（ＨＣｌ）、四フッ化炭素（ＣＦ4 ）、六フッ化硫黄（ＳＦ6 ）および三臭化ボロン（ＢＢｒ3 ）のうちの少なくとも１種に水素（Ｈ2 ）、酸素（Ｏ2 ）、窒素（Ｎ2 ）およびアルゴン（Ａｒ）などを添加したものを含むエッチングガスを用いると共に、加工温度を５０℃〜３００℃の範囲内となるようにするのが好適である。このようなガス雰囲気中および温度下においてＲＩＥによるエッチング処理を行うことにより、特に、窒化鉄よりなる前駆磁性層１１２Ａに対するエッチング処理の化学反応が促進されるため、第２の磁極先端部１２Ａの形成に要する時間をより短縮することができる。


【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
さらに、上部磁性層１２Ｃおよびフォトレジスト膜９０をマスクとして、例えばＲＩＥにより、記録ギャップ層１１および下部磁極１０のそれぞれの一部を約０．３〜０．４μｍ程度エッチングする。このエッチング処理により、上部磁性層１２Ｃにおける第１の磁極先端部１２Ｃ(1) と中間部１２Ｃ(2) との連結位置Ｐ２よりも前方の領域において、記録ギャップ層１１および下部磁極１０のうち、第１の磁極先端部１２Ｃ(1) の配設領域以外の部分が選択的に除去され、掘り下げられる。このエッチング処理により、図８および図１６に示したように、トリム構造を有する磁極部分１００が形成される。この磁極部分１００は、上部磁性層１２Ｃにおける第１の磁極先端部１２Ｃ(1) と、記録ギャップ層１１の一部と、第２の磁極先端部１２Ａと、下部磁極１０のうちの第２の磁極先端部１２Ａ等に対応する部分とによって構成されている。磁極部分１００を構成する上記の各部位は、互いにほぼ同様の幅を有している。エッチング方法としてＲＩＥを用いることにより、磁極部分１００を高精度かつ短時間で形成することができる。


【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
磁極部分１００を形成するためのＲＩＥによるエッチング処理を行う際には、特に、例えば、塩素と三塩化ボロンとの混合ガスをエッチングガスとして用いると共に、加工温度を１００℃〜２００℃の範囲内となるようにするのが好適である。このようなガス雰囲気中および温度下においてＲＩＥによるエッチング処理を行うことにより、磁極部分１００の形成に要する時間をより短縮することができる。


【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
ここで、図１９は、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法における作用を説明するためのものである。図１９において、（Ａ）は本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法により形成された第２の磁極先端部１２Ａの平面構造を拡大して表し、（Ｂ）は比較例としての薄膜磁気ヘッドの製造方法（例えばフレームめっき法）により形成された第２の磁極先端部２１２Ａの平面構造を拡大して表している。薄膜磁気ヘッドを製造する場合には、特に、記録ヘッドの性能を決定する要因のうちの１つであるスロートハイト（ＴＨ）を制御するために、このスロートハイトを規定するための基準の位置、すなわちスロートハイトゼロ位置（ＴＨ０位置）を正確かつ一義的に決定する必要がある。しかしながら、図１９（Ｂ）に示した比較例の場合には、フレームめっき法を用いて極微小幅（例えば０．１μｍ）を有するポールチップ部２１２Ａを形成しようとすると、その後端部の幅方向に延びる端縁２１２ＡＴが丸みを帯び、第２の磁極先端部２１２Ａの幅が後方において小さくなってしまう。なぜなら、第２の磁極先端部２１２Ａの平面形状に対応しためっきフレームとしてのフォトレジストパターンを形成する工程において、フォトレジスト膜のうちの極微小幅を有する領域を選択的に露光しようとしても、その領域の端部近傍（特にコーナー部分）が十分に露光されず、フォトレジスト膜の露光領域が縮小するためにフォトレジストパターンを精度よく形成することができないからである。このような場合には、第２の磁極先端部２１２Ａの後端の位置において、薄膜コイル１４を埋設する絶縁材（絶縁膜１３，１５，１６）の前端の位置（スロートハイトゼロ位置）を一義的に決定することができなくなる。


【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
また、本実施の形態では、上部磁性層１２Ｃの形成材料として、鉄、ニッケルおよびコバルトを含む磁性材料、例えば鉄ニッケルコバルト合金（ＣｏＮｉＦｅ）を用いるようにしている。一般に、この鉄ニッケルコバルト合金は、パーマロイやニッケル鉄等の磁性材料よりも硬い磁性材料であるため、鉄ニッケルコバルト合金に対するエッチング速度は、パーマロイや窒化鉄等に対するエッチング速度よりも遅くなる。このため、前駆磁性層１１２Ａをパターニングするためのエッチング処理時において、前駆磁性層１１２Ａに対するエッチング量よりも上部磁性層１２Ｃ（第１の磁極先端部１２Ｃ(1) ）に対するエッチング量を小さくし、上部磁性層１２Ｃ（第１の磁極先端部１２Ｃ(1) ）の膜減りを抑制することができる。ただし、上部磁性層１２Ｃの形成時には、エッチング処理時における「膜減り」を見こして、上部磁性層１２Ｃの厚みを必要かつ十分に確保しておく必要がある。上部磁性層（第１の磁極先端部１２Ｃ(1) ）に対するエッチング量（膜減り量）は、エッチングガスの種類や加工温度などのエッチング条件を変更することにより調整可能である。


【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２７】
まず、図２３〜図３０を参照して、本発明の第２の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法としての複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する。図２３〜図２７において、（Ａ）はエアベアリング面に垂直な断面を示し、（Ｂ）は磁極部分のエアベアリング面に平行な断面を示している。図２８〜図３０は、主要な製造工程に対応する斜視図である。ここで、図２８は図２３に示した状態に対応し、図２９は図２４に示した状態に対応し、図３０は図２６に示した状態に対応する。ただし、図３０では、図２７におけるオーバーコート層２７等の図示を省略している。なお、図２３〜図３０において、各図中のＸ，Ｙ，Ｚ軸方向に関する表記は、上記第１の実施の形態の場合と同様とし、また各図中の上記第１の実施の形態における構成要素と同一部分には同一の符号を付すものとする。


【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４５】
上部ヨーク２２Ｅは、薄膜コイル１４，２４により発生した磁束を収容するたの大きな面積を有するヨーク部２２Ｅ(1) と、ヨーク部２２Ｅ(1) よりも小さい一定幅を有する接続部２２Ｅ(2) とを含んでいる。ヨーク部２２Ｅ(1) の幅は、例えば、その後方部においてほぼ一定であり、その前方部においてエアベアリング面７０に近づくにつれて徐々に狭まるようになっている。接続部２２Ｅ(2) の幅は、例えば、上部磁性層２２Ｃの後端部２２Ｃ(3) の幅よりも大きくなっている。ただし、必ずしもこのような場合に限らず、例えば、前者の幅が後者の幅よりも小さくなるようにしてもよい。上部ヨーク２２Ｅの前側の端縁面２２ＥＴの位置は、例えば、上部磁性層２２Ｃにおける中間部２２Ｃ(2) と後端部２２Ｃ(3) との連結位置よりも後退している。すなわち、上部ヨーク２２Ｅは、エアベアリング面７０から離れて位置している。なお、上部ヨーク２２Ｅの配設位置は、必ずしも上記のような場合に限らず、例えば、端縁面２２ＥＴの位置が中間部２２Ｃ(2) と後端部２２Ｃ(3) との連結位置とほぼ一致するようにしてもよい。上部ヨーク２２Ｅおよび上部磁性層２２Ｃの各幅方向の中心は、互いに一致している。


【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４６】
図２７（Ａ）、図３０および図３１に示したように、上部磁性層２２Ｃは、第２の磁極先端部１２Ａ上から絶縁膜１６上にかけての平坦な領域上に延在している。上部ヨーク２２Ｅは、上部磁性層２２Ｃにおける後端部２２Ｃ(3) 上から絶縁膜２６上にかけての平坦な領域上に延在している。上部ヨーク２２Ｅは、開口部１１Ｋにおいて磁路接続部１２Ｂ，２２Ｄを介して下部磁極１０と磁気的に連結されると共に、上部磁性層２２Ｃを介して第２の磁極先端部１２Ａとも磁気的に連結されている。すなわち、上部磁極２２（第２の磁極先端部１２Ａ，上部磁性層２２Ｃ，磁路接続部１２Ｂ，２２Ｄ，上部ヨーク２２Ｅ）と下部磁極１０とが接続されることにより磁路が形成されている。


【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６７】
また、上記の各実施の形態で示した上部磁極を構成する各磁性層部分（磁極先端部，上部磁性層，上部ヨーク等）の平面形状は、必ずしも図２１および図３１に示したものに限られるものではなく、各磁性層部分の磁気ボリュームを適正化し、薄膜コイルで発生した磁束を先端部の先端部分まで十分に供給し得る限り、自由に変更することが可能である。


【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７１】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１ないし請求項１９のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッドまたは請求項２６ないし請求項２９のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、第２の磁性層部分が記録媒体の記録トラック幅を規定するための一定幅を保ちつつ記録媒体対向面からギャップ層に隣接ながら延在して第１の位置で終端し、第１の磁性層部分が、第２の磁性層部分の一定幅と同一の幅を保ちつつ記録媒体対向面またはその近傍位置から延在して第１の位置と同一または近傍の第２の位置で終端する一定幅部分と、一定幅部分の幅よりも大きな幅を有すると共に、第２の位置から記録媒体対向面より離れる方向に延在して第３の位置で終端する拡幅部分とを含むようにしたので、主要な磁束の伝播経路をなす第１の磁性層部分の構造を変更することなく、第２の磁性層部分の長さのみを変更することにより、記録ヘッドの性能を決定する因子のうちの１つであるスロートハイトを調整することができるという効果を奏する。


【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７５】
また、請求項１１記載の薄膜磁気ヘッドまたは請求項２８記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、第２の磁性層のうちの第１の磁性層に近い側には窪み領域が設けられており、第１の薄膜コイルが窪み領域に配設されるようにしたので、第１の薄膜コイルを形成することとなる下地の表面の位置は、エッチング処理によって窪み領域を形成しない場合における下地の表面の位置よりも低くなる。このような場合には、第１の薄膜コイルの上方にはより十分な厚みを有する絶縁材が形成されることとなる。したがって、第１の薄膜コイルをその上方領域からより確実に絶縁することができるという効果を奏する。


【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７９】
請求項２１ないし請求項２５のいずれか１項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、ギャップ層上における記録媒体対向面が形成されるべき位置の近傍から第１の位置に至る領域に、第２の磁性層部分の一定幅よりも大きい幅と、第１の位置において第２の磁性層部分の幅方向に延びる直線状の端縁とを有するように第２の磁性層部分の前準備層としての前駆磁性層を選択的に形成する第１の工程と、少なくとも前駆磁性層およびその周辺領域を覆うように絶縁層の一部の前準備層としての前駆絶縁層を形成する第２の工程と、少なくとも前駆磁性層が露出するまで前駆絶縁層を研磨して平坦化することにより絶縁層の一部を形成する第３の工程と、研磨後の平坦面上に、一定幅部分における第２の位置が第１の位置よりも記録媒体対向面から遠い側に位置するように第１の磁性層部分を選択的に形成する第４の工程と、第１の磁性層部分の一定幅部分をマスクとして用いて前駆磁性層を選択的にエッチングすることにより第２の磁性層部分を選択的に形成する第５の工程とを含むようにしたので、極微小な一定幅を有すると共に、記録媒体対向面から遠い側の端部における幅方向に延びる端縁が直線状をなすように第２の磁性層部分を形成することができるという効果を奏する。


【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８３】
請求項３０記載の磁性層パターンの形成方法によれば、下地層上に、磁性層パターンの一定幅よりも大きい幅と、磁性層パターンの幅方向に延びる直線状の端縁とを有するように磁性層パターンの前準備層としての前駆磁性層を選択的に形成する工程と、少なくとも前駆磁性層およびその周辺領域を覆うように非磁性層を形成する工程と、少なくとも前駆磁性層が露出するまで非磁性層を研磨して平坦化する工程と、研磨後の平坦面上に、前駆磁性層における直線状の端縁と交差すると共に非磁性層の表面領域から前駆磁性層の表面領域へ延在するように、磁性層パターンの一定幅と同一の幅を有するエッチングマスクを選択的に形成する工程と、エッチングマスクを用いて前駆磁性層を選択的にエッチングすることにより磁性層パターンを選択的に形成する工程とを含むようにしたので、一定幅を有すると共に、幅方向に延びる端縁が直線状をなすように磁性層パターンを形成することができるという効果を奏する。


【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３６】本発明の第３の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法を第２の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法に適用した場合に製造される薄膜磁気ヘッドの断面図である。


【手続補正３４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2002092817.tif 000001
【手続補正３５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2002092817.tif 000002
【手続補正３６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２１】
2002092817.tif 000003
【手続補正３７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４１】
2002092817.tif 000004
【手続補正３８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４２】
2002092817.tif 000005
【手続補正３９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４３】
2002092817.tif 000006
【手続補正４０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４４】
2002092817.tif 000007