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【手続補正書】
【提出日】平成26年4月11日(2014.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水処理システムにおいて、
（Ａ）セラミック・フィルタ（６）と、
（Ｂ）前記セラミック・フィルタ（６）に順方向から水を通過させて濾過する流れ制御装置と、
（Ｃ）前記セラミック・フィルタ（６）を通過する水を加熱する加熱装置（３）と、
（Ｄ）前記水加熱装置に接続され、前記水の温度を所定の温度範囲内に維持する温度制御装置と
を有する
ことを特徴とする水処理システム。
【請求項２】
前記温度制御装置は、前記水の温度を４０℃−７０℃の間に維持する
ことを特徴とする請求項１記載の水処理システム。
【請求項３】
前記流れ制御装置は、圧力が２−３ｂａｒで、膜の表面で２−３ｍ／ｓの速度で水を、前記セラミック・フィルタ（６）前記セラミック・フィルタ（６）前記セラミック・フィルタ（６）を通過させる
ことを特徴とする請求項１記載の水処理システム。
【請求項４】
前記流れ制御装置は、順方向流を提供する順方向流装置と、逆方向流を提供する逆方向流装置とを有し、
前記順方向流と逆方向流とは、保守スケジュールに従って、交互に行われ、
前記逆方向流は、３０−６０秒の間維持される
ことを特徴とする請求項３記載の水処理システム。
【請求項５】
前記逆方向流装置は、前記セラミック・フィルタ（６）からの濾過された水を入れ、更に戻すバックウォッシュ・タンク（２０）を有する
ことを特徴とする請求項４記載の水処理システム。
【請求項６】
前記逆方向流装置は、
圧力をかけることのできるバックウォッシュ・タンク（２０）と、
前記バックウォッシュ・タンク（２０）に圧力をかける圧力装置（２１）と、
前記セラミック・フィルタ（６）に接続されたバックウォッシュ導管（２２）と、
を有し
これによりバックウォッシュ・タンク（２０）に圧力がかけられた時に、前記バックウォッシュ・タンク（２０）からの水が、逆方向から前記セラミック・フィルタ（６）に提供される
ことを特徴とする請求項４記載の水処理システム。
【請求項７】
出口導管を更に有し、
前記出口導管は、前記セラミック・フィルタ（６）から取り除かれた濾過された物質の流れを、前記水の流れから離す方向に向けて、これによりセラミック・フィルタ（６）に順方向の流れを提供し、
前記出口導管は、前記濾過された物質を、順方向の水の流れを与えるタンク（１５）の方向に向けて流す
ことを特徴とする請求項６記載の水処理システム。
【請求項８】
前記セラミック・フィルタ（６）は、セラミック製の中空ファイバ膜フィルタであり、
前記セラミック・フィルタ（６）を通過する前に水を濾過し振動膜を有する予備フィルタと、
前記セラミック・フィルタ（６）の下流側にカーボンフィルタと
を更に有する
ことを特徴とする請求項１記載の水処理システム。
【請求項９】
前記カーボンフィルタは、濾過すべき水と前記カーボンフィルタとの間で、６−１２分の間、接触させる
ことを特徴とする請求項８記載の水処理システム。
【請求項１０】
前記セラミック・フィルタ（６）の下流側に配置され、水をＵＶ光で殺菌するＵＶ処理装置（１１）と、
前記濾過水をオゾンで処理するオゾン処理装置（１６）と、を更に有する
前記濾過水のｐＨレベルを調整するｐＨ調整装置と、
を更に有し、
前記ｐＨレベルは、６−８の間である
ことを特徴とする請求項８記載の水処理システム。
【請求項１１】
水処理方法において、
（Ａ）セラミック・フィルタ（６）を用意するステップと、
（Ｂ）前記セラミック・フィルタ（６）に順方向から水を通過させて濾過する流れ制御装置を用意するステップと、
（Ｃ）前記セラミック・フィルタ（６）を通過する水を加熱する加熱装置（３）を用意するステップと、
（Ｄ）前記水加熱装置に接続され、濾過前の水の温度を所定の温度範囲内に維持する温度制御装置を用意するステップと
を有する
ことを特徴とする水処理方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の水処理方法において、
プロセッサで実行可能なコードを記憶するコードメモリーと、
前記コードメモリーに記憶されたコードを実行するプロセッサと、
前記データを記憶するデータメモリーと、
を有するコンピュータで、前記方法は制御され、
前記コードメモリーは、前記請求項１−１０のいずれかのシステムを制御するようにプロセッサが制御するコードを記憶する
ことを特徴とする請求項１１記載の水処理方法。
【請求項１３】
（Ｄ）順方向流装置で、順方向流を制御するステップと、
（Ｅ）逆方向流装置で、逆方向流を制御するステップと
を更に有する、
ことを特徴とする請求項１１又は１２記載の水処理方法。
【請求項１４】
（Ｆ）フィルタからの濾過水を、前記逆方向流装置に流すバックウォッシュ・タンク（２０）に入れるステップと、
（Ｇ）前記バックウォッシュ・タンク（２０）に圧力装置で圧力をかけるステップと、
（Ｈ）前記バックウォッシュ・タンク（２０）を導管で前記セラミック・フィルタ（６）に接続し、前記セラミック・フィルタ（６）に逆方向から水を強制的に流すステップと、
を更に有する
ことを特徴とする請求項１３記載の水処理方法。
【請求項１５】
（Ｉ）前記セラミック・フィルタ（６）で濾過された異物の流れを、前記セラミック・フィルタ（６）への順方向の濾過水の流れの方向から、離す方向に向けるステップと、
（Ｊ）セラミック製の中空ファイバ膜フィルタを有するセラミック・フィルタ（６）を提供するステップと
を更に有する
ことを特徴とする請求項１１記載の水処理方法。
【請求項１６】
（Ｋ）前記セラミック・フィルタ（６）を通過する前に、振動膜を有する予備フィルタで水を濾過するステップ
を更に有する
ことを特徴とする請求項１３記載の水処理システム。
【請求項１７】
（Ｌ）前記セラミック・フィルタ（６）の下流側に配置されたカーボンフィルタで、水を濾過するステップと、
（Ｍ）前記カーボンフィルタと濾過すべき水とは、６−１２分の間接触しているように、水を前記カーボンフィルターを通過させるステップと、
を更に有する
ことを特徴とする請求項１４記載の水処理システム。
【請求項１８】
（Ｎ）前記セラミック・フィルタ（６）の下流側に配置されたＵＶ処理装置（１１）で、水をＵＶ光で処理するステップと、
（Ｏ）前記濾過水をオゾン処理装置（１６）で処理するステップと、
を更に有する
ことを特徴とする請求項１５記載の水処理システム。
【請求項１９】
（Ｐ）前記濾過水のｐＨレベルをｐＨ調整装置で調整するステップ
を更に有する
ことを特徴とする請求項１１記載の水処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月13日(2014.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイヤからホイールのリムを貫通して延びたバルブステム用のキャップであって、
ハウジングであって、該ハウジングは、軸線に沿って第１の端部から第２の端部まで延びており、前記軸線に沿って前記第１の端部から前記第２の端部に向かって延びたボアと、前記バルブステムを収容するための前記ボアの周囲に周方向に延びたカップ状の壁部とを有する、ハウジングと、
前記バルブステムに螺合するための、前記ボアに配置されたねじ山付面と、
フランジであって、前記ホイールの前記リムに当接して前記ハウジングを前記ホイールの前記リムに対して安定させるために、前記第１の端部から、前記軸線に対して横方向に、前記ボアの周囲に周方向に延びている、フランジと、
リブであって、前記ハウジングの周囲に放射状に間隔を置いて配置され、前記ハウジングの前記壁部から外方へ前記フランジまで延び、前記ハウジングを前記フランジに対して強化する、リブ、とを備えることを特徴とする、タイヤからホイールのリムを貫通して延びたバルブステム用のキャップ。
【請求項２】
前記ハウジングは、前記第１の端部から前記第２の端部までの高さを形成しており、前記フランジは、前記高さよりも大きな外径を有する、請求項１記載のキャップ。
【請求項３】
前記リブの各々は、概して三角形を形成する３つの側部を有し、第１の側部は、前記フランジと一体でありかつ前記フランジに沿って前記軸線に対して外方へ延びており、第２の側部は、前記壁部と一体でありかつ前記壁部に沿って概して前記軸線に沿って延びており、第３の側部は、前記第１の側部から前記第２の側部まで延びている、請求項１又は２記載のキャップ。
【請求項４】
前記ハウジングと、前記フランジと、前記リブとは、ガラス繊維入りナイロンから一体に形成されている、請求項１から３までのいずれか１項記載のキャップ。
【請求項５】
さらに、圧力計であって、前記バルブステムに係合するために前記ボア内へ延びており、かつタイヤの膨張圧力を示すために前記ハウジングから外方に面したインジケータを有する、圧力計を備える、請求項１から４までのいずれか１項記載のキャップ。
【請求項６】
車両用のホイールであって、
リムと、
該リムの周囲に配置されたタイヤと、
該タイヤから前記リムを貫通して延びたバルブステムと、
キャップであって、ハウジングを有し、該ハウジングは、軸線に沿って第１の端部から第２の端部まで延びかつ前記軸線に沿って前記第１の端部から前記第２の端部に向かって延びたボアと、前記バルブステムを収容する前記ボアの周囲に周方向に延びたカップ状の壁部とを有する、キャップと、を備え、
前記キャップは、前記バルブステムに螺合する、前記ボアに配置されたねじ山付面を有し、
前記キャップは、フランジであって、前記第１の端部から前記軸線に対して横方向にかつ前記ボアの周囲に周方向に延び、かつ前記リムに対して前記ハウジングを安定させるために前記ホイールの前記リムに当接するフランジを有し、
前記キャップは、リブであって、前記ハウジングの周囲に放射状に間隔を置いて配置され、前記ハウジングの前記壁部から前記フランジまで外方へ延び、前記フランジに対して前記ハウジングを強化するリブを有することを特徴とする、車両用のホイール。
【請求項７】
前記ハウジングは、前記第１の端部から前記第２の端部までの高さを形成しており、前記フランジは、前記高さよりも大きな外径を有する、請求項６記載のホイール。
【請求項８】
前記リブの各々は、概して三角形を形成する３つの側部を有し、第１の側部は、前記フランジと一体でありかつ前記フランジに沿って前記軸線に対して外方へ延びており、第２の側部は、前記壁部と一体でありかつ前記壁部に沿って概して前記軸線に沿って延びており、第３の側部は、前記第１の側部から前記第２の側部まで延びている、請求項６又は７記載のホイール。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年7月14日(2014.7.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流入された下水のうち、固体物質を除去し、比重が大きな汚染物質を沈澱させて除去する沈砂池と、前記沈砂池を経た下水のうち、比重が小さな浮遊物質を沈澱させて除去する１次沈殿池と、前記１次沈殿池を経た下水を生物学的に処理する生物反応槽と、前記生物反応槽を経た下水から活性汚泥をフィルタリングして、好気性微生物は、再び前記生物反応槽にフィードバックさせ、分解されていない滓であるスラッジをフィルタリングする２次沈殿池とを含む下水処理装置であって、前記生物反応槽は、前記１次沈殿池を経た下水を処理する第１好気槽と、前記第１好気槽を経た下水を処理する無酸素槽と、前記無酸素槽を経た下水を処理する嫌気槽と、前記嫌気槽を経た下水を処理する第２好気槽とを含むが、前記第１好気槽には、前記第１好気槽と連結される前記１次沈殿池からの流入水と、前記第１好気槽内の微生物の個体数を維持させるために、前記１次沈殿池とは異なる側に配される前記２次沈殿池からの返送水が流入され、前記第１好気槽内には、前記流入水と前記返送水との急速混和のための急速混和器が設けられることを特徴とする下水処理装置。
【請求項２】
脱硝に必要な有機源を前記無酸素槽内に供給するが、前記無酸素槽の周りに沿って相互規則的に均等に配列される多数の第１ノズルを備えた無酸素槽用流入水供給管を含むことを特徴とする請求項１に記載の下水処理装置。
【請求項３】
前記無酸素槽内の処理水全域に脱硝微生物濃度が実質的に均一に維持されるように、前記無酸素槽内に設けられて、前記無酸素槽内の処理水を緩速で混和させる無酸素槽用緩速混和器を含むことを特徴とする請求項２に記載の下水処理装置。
【請求項４】
脱燐微生物が、機作に必要な炭素源を前記嫌気槽内に供給するが、前記嫌気槽の周りに沿って相互規則的に均等に配列される多数の第２ノズルを備えた嫌気槽用流入水供給管を含むことを特徴とする請求項１に記載の下水処理装置。
【請求項５】
前記嫌気槽内の処理水全域に脱燐微生物濃度が実質的に均一に維持されるように、前記嫌気槽内に設けられて、前記嫌気槽内の処理水を緩速で混和させる嫌気槽用緩速混和器を含むことを特徴とする請求項４に記載の下水処理装置。
【請求項６】
前記第２好気槽内に安定池の形成のために設けられ、過多越流を防止し、前記第２好気槽内の処理水に対する流出流速を所定の範囲に維持させて、硝酸化率を倍加させる少なくとも１つの間壁を含むことを特徴とする請求項１に記載の下水処理装置。
【請求項７】
前記第１好気槽と前記第２好気槽には、それぞれ送風機からの空気が浮遊される多数の空気ホールを備えた第１及び第２散気板が設けられることを特徴とする請求項１に記載の下水処理装置。
【請求項８】
前記第１好気槽、前記無酸素槽、前記嫌気槽及び前記第２好気槽の間には、多数の隔壁が形成され、前記多数の隔壁には、処理水が流動する多数の処理水流動ホールが形成されるが、前記多数の処理水流動ホールは、上部及び下部の位置が反復される上下迂流式の配置構造を有することを特徴とする請求項１ないし請求項７のうち何れか一項に記載の下水処理装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
前記目的は、流入された下水のうち、固体物質を除去し、比重が大きな汚染物質を沈澱させて除去する沈砂池と、前記沈砂池を経た下水のうち、比重が小さな浮遊物質を沈澱させて除去する１次沈殿池と、前記１次沈殿池を経た下水を生物学的に処理する生物反応槽
と、前記生物反応槽を経た下水から活性汚泥をフィルタリングして、好気性微生物は、再び前記生物反応槽にフィードバックさせ、分解されていない滓であるスラッジをフィルタリングする２次沈殿池とを含む下水処理装置であって、前記生物反応槽は、前記１次沈殿池を経た下水を処理する第１好気槽と、前記第１好気槽を経た下水を処理する無酸素槽と、前記無酸素槽を経た下水を処理する嫌気槽と、前記嫌気槽を経た下水を処理する第２好気槽とを含むが、前記第１好気槽には、前記第１好気槽と連結される前記１次沈殿池からの流入水と、前記第１好気槽内の微生物の個体数を維持させるために、前記第１沈殿池とは異なる側に配される前記２次沈殿池からの返送水が流入され、前記第１好気槽内には、前記流入水と前記返送水との急速混和のための急速混和器が設けられることを特徴とする下水処理装置によって達成される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
これら図面に示したように、本実施形態の下水処理装置は、流入された下水のうち、固体物質を除去し、比重が大きな汚染物質を沈澱させて除去する沈砂池と、前記沈砂池を経た下水のうち、比重が小さな浮遊物質を沈澱させて除去する１次沈殿池と、前記１次沈殿池を経た下水を生物学的に処理する生物反応槽と、前記生物反応槽を経た下水から活性汚泥をフィルタリングして、好気性微生物は、再び生物反応槽にフィードバックさせ、分解されていない滓であるスラッジをフィルタリングする２次沈殿池とを含む下水処理装置であって、この際の生物反応槽は、１次沈殿池を経た下水を処理する第１好気槽と、第１好気槽を経た下水を処理する無酸素槽と、無酸素槽を経た下水を処理する嫌気槽と、嫌気槽を経た下水を処理する第２好気槽が下水の処理のために、下水が処理される方向に沿って相互隣接して配列される構造を有する。すなわち、本実施形態の下水処理装置で、生物反応槽は、第１好気槽、無酸素槽、嫌気槽、第２好気槽が相互隣接して配列される４段で構成される。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月14日(2014.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークと鍛造装置の金型との間に固体グラファイトシートを配置すること、および
ワークを可塑的に変形させるために金型によりワークに力を付加すること
を含む鍛造潤滑方法であって、
ワークがチタン、チタン合金、ジルコニウム若しくはジルコニウム合金を含み、
ワークが変形の間において、華氏１０００度以上の温度であり、そして変形の間における金型とワークとの間の剪断係数が０．５０よりも低い
の方法。
【請求項２】
ワークが変形の間において、華氏１０００度〜華氏１６００度の範囲の温度であり、そして変形の間における金型とワークとの間の剪断係数が０．０９〜０．２０の範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ワークと鍛造装置の金型との間に固体グラファイトシートを配置することが、
下の金型の上面上に固体グラファイトシートを配置すること、および
固体グラファイトシート上にワークを配置すること
を含み、
固体グラファイトシートがワークの底面と鍛造装置の下の金型の上面との間に配置される、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
追加の固体グラファイトシートをワークの最上部の表面上に配置することをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ワークと鍛造装置の金型との間に固体グラファイトシートを配置する前に、金型を加熱することをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ワークは、自由鍛造、閉塞鍛造、前方押出、後方押出、ラジアル鍛造、アップセット鍛造、およびドロー鍛造(draw forging)をからなる群より選択される鍛造作業で可塑的に変形される請求項１に記載の方法。
【請求項７】
ワークは、ニアネットシェイプ鍛造プロセスおよびネットシェイプ鍛造プロセスの一つにおいて、可塑的に変形される請求項１に記載の方法。
【請求項８】
ワークを可塑的に変形させた後、残余の固体グラファイトをワークから取り除くことをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項９】
固体グラファイトシートは、ワークが金型に対してダイロッキングすることを防止する請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
鍛造装置が閉塞鍛造装置を含み、そして固体のグラファイトシートが金型の少なくとも一領域の輪郭にあうように予め成形された形状を構成する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
ワークと閉塞鍛造装置の金型との間に固体グラファイトシートを配置することが、
金型内の金型の空洞内に固体グラファイトシートを挿入すること、ここで固体グラファイトシートの予備成形された形状が金型の空洞内の金型の少なくとも一領域の輪郭に合い
金型の空洞内に、かつ固体グラファイトシート上にワークを挿入すること
を含み、
固体グラファイトシートがワークの底面と金型の空洞内の金型の上面との間に配置される、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
ワークと閉塞鍛造装置の金型との間に固体グラファイトシートを配置することが、
閉塞鍛造装置内の金型の空洞内に第１の固体グラファイトシートを挿入すること、ここで第１の固体グラファイトシートが金型の空洞内の下側金型の少なくとも一領域の輪郭に合う予備成形された形状を構成し、
金型の空洞内に、かつ第１の固体グラファイトシート上にワークを挿入すること、
第２の固体グラファイトシートを、ワークの最上部の表面と閉塞鍛造装置内の上側金型の下面との間に配置すること
を含む、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
ワークと鍛造装置の金型との間に固体潤滑剤シートを配置すること、および
ワークを可塑的に変形させるために金型によりワークに力を付加すること
を含み、
固体潤滑剤シートが、グラファイト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、および窒化硼素からなる群より選択される少なくとも１つの固体潤滑剤材料を含み、
変形の間において、金型とワークとの間の剪断係数が０．５０未満である、
鍛造潤滑方法。
【請求項１４】
固体潤滑剤シートが固体グラファイトシートをである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
ワークと鍛造装置の金型との間に固体潤滑剤シートを配置することが、
下側金型の上面上に固体潤滑剤シートを配置すること、および
固体潤滑剤シート上にワークを配置すること
を含み、
固体潤滑剤シートがワークの底面と鍛造装置の下側金型の上面との間に配置される、
請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
追加の固体潤滑剤シートをワークの最上部の表面上に配置することをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
ワークと鍛造装置の金型との間に固体潤滑剤シートを配置する前に、金型を加熱することをさらに含む請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
ワークが変形の間において、華氏１０００度〜華氏２０００度の範囲の温度であり、そして変形の間における金型とワークとの間の剪断係数が０．０５〜０．５０の範囲である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
ワークが変形の間において、華氏１０００度〜華氏１６００度の範囲の温度であり、そして変形の間における金型とワークとの間の剪断係数が０．０９〜０．２０の範囲である、請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
ワークは、自由鍛造、閉塞鍛造、前方押出、後方押出、ラジアル鍛造、アップセット鍛造、およびドロー鍛造(draw forging)をからなる群より選択される鍛造プロセスで可塑的に変形される請求項１３に記載の方法。
【請求項２１】
ワークは、ニアネットシェイプ鍛造プロセスおよびネットシェイプ鍛造プロセスの一つにおいて、可塑的に変形される請求項１３に記載の方法。
【請求項２２】
ワークはチタン合金を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２３】
ワークはジルコニウム合金を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２４】
ワークを可塑的に変形させた後、残余の固体潤滑剤をワークから取り除くことをさらに含む請求項１３に記載の方法。
【請求項２５】
固体潤滑剤シートは、ワークが金型に対してダイロッキングすることを防止する請求項１３に記載の方法。
【請求項２６】
鍛造装置が閉塞鍛造装置を含み、そして固体の潤滑剤シートが金型の少なくとも一領域の輪郭に合う、予め成形された形状を構成する、請求項１３に記載の方法。
【請求項２７】
ワークは、ニアネットシェイプ鍛造プロセスおよびネットシェイプ鍛造プロセスの一つにおいて、可塑的に変形される請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
ワークと閉塞鍛造装置の金型との間に固体潤滑剤シートを配置することが、
金型内の金型の空洞内に固体潤滑剤シートを挿入すること、ここで固体潤滑剤シートの予備成形された形状が金型の空洞内の金型の少なくとも一領域の輪郭に合い、および
金型の空洞内に、かつ固体潤滑剤シート上にワークを挿入すること
を含み、
固体潤滑剤シートがワークの底面と金型の空洞内の金型の上面との間に配置される、
請求項２６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月13日(2013.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電界を通って移動するコンベヤーベルトと、
下引き接着剤層を裏材上に適用するコーターと、
被覆裏材を、前記コンベヤーベルトの上方の前記静電界を通して案内するウェブ経路と、ここで、前記裏材上の前記下引き接着剤層は、前記コンベヤーベルトに面して位置付けられる、
前記コンベヤーベルト上の第２の粒子層の上に第１の粒子層を適用する第１の粒子供給機と、
前記コンベヤーベルトの移動方向に関して前記第１の粒子供給機の手前に位置する、前記コンベヤーベルトの上に前記第２の粒子層を適用する第２の粒子供給機と、を含むシステムであって、
前記コンベヤーベルトが、前記第１の粒子層及び前記第２の粒子層を、前記静電界を通して移動させて、前記第１の粒子及び前記第２の粒子の少なくともいくつかを、前記コンベヤーベルトから前記被覆裏材へと移す、システム。
【請求項２】
前記第１の粒子層が、少なくとも１つの特性において前記第２の粒子層と異なる、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記第１の粒子供給機が、重量で、所定の形状を有する成形研磨粒子の大部分を適用し、前記第２の粒子供給機が、重量で破砕研磨粒子の大部分を適用する、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月20日(2014.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
M本の直径d1を有するワイヤーから構成されている直径dcの第１の層またはコア(C1)を含み、このコアの周りには、第２層(C2)として、N本の直径d2を有するワイヤーがピッチp2のらせんとして一緒に巻かれており、前記第２層の周りには、第３層(C3)として、P本の直径d3を有するワイヤーがピッチp3のらせんとして一緒に巻かれているM+N+P本構造の３つの同心層(C1、C2,、C3)を有する金属コードであって、一方の前記コアと前記第２層のN本のワイヤー間およびMが１本よりも多い場合のこれらコアワイヤー自体間、さらに、他方の前記第２層のN本のワイヤーと前記第３層のP本のワイヤー間に位置する前記コード内の少なくとも１部の間隙がゴムまたはゴム組成物を含む金属コードにおいて、このゴムが不飽和熱可塑性エラストマーであることを特徴とする前記金属コード。
【請求項２】
前記不飽和熱可塑性エラストマーが、熱可塑性スチレンエラストマーである、請求項１記載の金属コード。
【請求項３】
前記不飽和熱可塑性スチレンエラストマーが、ポリスチレンブロックとポリジエンブロックを含む、請求項２記載の金属コード。
【請求項４】
前記ポリジエンブロックが、ポリイソプレンブロック、ポリブタジエンブロックおよびそのようなブロックの混合物からなる群から選ばれる、請求項３記載の金属コード。
【請求項５】
前記熱可塑性スチレンエラストマーが、スチレン/ブタジエン/スチレン(SBS)、スチレン/ブタジエン/ブチレン/スチレン(SBBS)、スチレン/イソプレン/スチレン(SIS)およびスチレン/ブタジエン/イソプレン/スチレン(SBIS)の各ブロックコポリマー、並びにこれらのコポリマーのブレンドからなる群から選ばれる、請求項４記載の金属コード。
【請求項６】
任意の2cm長のコード上に、前記熱可塑性スチレンエラストマーが、一方の前記コア(C1)と前記第２層(C2)のN本のワイヤー間およびMが１本よりも多い場合の前記コアワイヤー自体間、さらに、他方の前記第２層(C2)のN本のワイヤーと前記第３層(C3)のP本のワイヤー間に位置する各々の間隙または毛管内に存在する、請求項１〜５のいずれか１項記載の金属コード。
【請求項７】
Mが1〜4本の範囲からなり、Nが5〜15本の範囲からなり、Pが10〜22本の範囲からなる、請求項１〜６のいずれか１項記載の金属コード。
【請求項８】
前記コアMが1に等しく、Nが5〜7本の範囲からなり、Pが10〜14本の範囲からなる、請求項７項記載の金属コード。
【請求項９】
少なくとも１本のストランドが請求項１〜８のいずれか１項記載の金属コードであるマルチストランドロープ。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項記載の金属コードを含むタイヤ。
【請求項１１】
請求項９記載のマルチストランドロープを含むタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月7日(2014.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゴムまたはゴム組成物によって現場ゴム引きした、M+N+P本構造を有する３つの同心層(C1、C2,、C3)を有する金属コードであって、前記コードがM本の直径d1を有するワイヤーから構成されている直径dcの第１の層またはコア(C1)を含み、このコアの周りには、第２層(C2)として、N本の直径d2を有するワイヤーがピッチp2のらせんとして一緒に巻かれており、前記第２層の周りには、第３層(C3)として、P本の直径d3を有するワイヤーがピッチp3のらせんとして一緒に巻かれている前記コードの製造方法であって、少なくとも、下記の工程：、
・前記コア(C1)の周りにN本のワイヤーの第２層(C2)を集成して、“集成点”と称する点において、M+N本構造の“コアストランド”と称する中間コードを形成する集成工程；
・上記集成点の上流および/または下流のそれぞれにおいて、前記コアおよび/またはコアストランドを、前記ゴムまたは前記ゴム組成物で、少なくとも１つの押出ヘッドに通すことによってシーズするシーズ工程；
・その後の、P本のワイヤーの第３層(C3)を、前記コアストランド(M+N)の周りに集成して、そのようにして内側からゴム引きしたM+N+P本構造のコードを形成する集成工程；
を含む前記製造方法において、
前記ゴムが、溶融状態で押出された不飽和熱可塑性エラストマーであることを特徴とする前記製造方法。
【請求項２】
前記不飽和熱可塑性エラストマーが、熱可塑性スチレンエラストマーである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記不飽和熱可塑性スチレンエラストマーが、ポリスチレンブロックとポリジエンブロックを含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記ポリジエンブロックを、ポリイソプレンブロック、ポリブタジエンブロックおよびそのようなブロックの混合物からなる群から選択する、請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記熱可塑性スチレンエラストマーが、スチレン/ブタジエン/スチレン(SBS)、スチレン/ブタジエン/ブチレン/スチレン(SBBS)、スチレン/イソプレン/スチレン(SIS)およびスチレン/ブタジエン/イソプレン/スチレン(SBIS)の各ブロックコポリマー、並びにこれらのコポリマーのブレンドからなる群から選ばれるコポリマーである、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記シーズ処理を、前記コアにおいて実施する、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記シーズ処理を、前記コアストランドにおいて実施する、請求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記シーズ処理を、前記コアおよび前記コアストランドの双方において実施する、請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
Mが1〜4本の範囲からなり、Nが5〜15本の範囲からなり、Pが10〜22本の範囲からなる、請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
Mが1本に等しく、Nが5〜7本の範囲からなり、Pが10〜14本の範囲からなる、請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月9日(2014.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物理的気相堆積用のチャンバ（２００、３００、４００、５００、６００、７００、９００、１０００）であって、
ハウジング（２１０、３１０、４１０、５１０、６１０、７１０、９１０、１０１０）と、
前記ハウジングを開閉するためのドア（２２０、３２０、４２０、５２０、６２０、７２０、９２０、１０２０、１１００、１２２０）と、
ターゲット（２３０）を受けるための軸受（２４０、３４０、４４０、５４０、６４０、７４０、１１４０、１２４０）であって、第１の方向（２６０）に配向された軸受（２４０、３４０、４４０、５４０、６４０、７４０、１１４０、１２４０）と
を備え、
前記ターゲットが前記第１の方向において前記チャンバから少なくとも部分的に取出し可能となるように構成され、且つ回転ターゲット用に構成された、チャンバ。
【請求項２】
前記チャンバの軸受側部が、前記第１の方向（２６０）に対して実質的に垂直な第２の方向（２７０）において、前記軸受側部の対向側部よりも長く延在する、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項３】
前記ハウジング（５１０）は、軸受側部の対向側部に少なくとも１つのターゲット開孔（４８０）を備え、前記ターゲット開孔は、前記ターゲット（２３０）の断面サイズを少なくとも有する、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項４】
前記ハウジング（５１０）および前記ドア（５２０）は、重畳部分を有し、前記ドアは、前記ハウジングの前記ターゲット開孔（４８０）をロックする、請求項３に記載のチャンバ。
【請求項５】
前記軸受（６４０、７４０、１１４０、１２４０）は、前記ドア内に配置される、請求項１から４のいずれか一項に記載のチャンバ。
【請求項６】
少なくとも１つのターゲット（２３０）および基板を受けるように構成された物理的気相堆積用のチャンバ（２００、３００、４００、５００、６００、７００、９００、１０００）であって、
ハウジング（２１０、３１０、４１０、５１０、６１０、７１０、９１０、１０１０）と、
前記チャンバを開閉するためのドア（２２０、３２０、４２０、５２０、６２０、７２０、９２０、１０２０、１１００、１２２０）と、
前記ターゲットを取り付けるための少なくとも１つの軸受（２４０、３４０、４４０、５４０、６４０、７４０、１１４０、１２４０）であって、前記ドアに装着される軸受（２４０、３４０、４４０、５４０、６４０、７４０、１１４０、１２４０）と
を備え、
回転ターゲット用に構成された、チャンバ。
【請求項７】
前記チャンバ（２００、３００、４００、５００、６００、７００、９００、１０００）は、前記少なくとも１つの軸受（２４０、３４０、４４０、５４０、６４０、７４０、１１４０、１２４０）を備える軸受側部をさらに備え、前記ターゲット（２３０）は、前記チャンバの第１の方向（２６０）において前記チャンバから取出し可能であり、前記第１の方向は、前記チャンバの前記軸受側部から前記軸受側部の対向側部まで延びる、請求項６に記載のチャンバ。
【請求項８】
前記ドア（２２０、３２０、４２０、５２０、６２０、７２０、９２０、１０２０、１１００、１２２０）の形状が、前記第１の方向（２６０）に対しては実質的に対称であり、前記第１の方向に対して実質的に垂直な第２の方向（２７０）に対しては非対称である、請求項１から７のいずれか一項に記載のチャンバ。
【請求項９】
前記ハウジング（２１０、３１０、４１０、５１０、６１０、７１０、９１０、１０１０）の形状が、前記第１の方向（２６０）に対しては実質的に対称であり、前記第１の方向に対して実質的に垂直な第２の方向（２７０）に対しては非対称である、請求項１から８のいずれか一項に記載のチャンバ。
【請求項１０】
前記チャンバ（２００、３００、４００、５００、６００、７００、９００、１０００）は、２つ以上のドアを備える、請求項１から９のいずれか一項に記載のチャンバ。
【請求項１１】
前記チャンバ（２００、３００、４００、５００、６００、７００、９００、１０００）は、スパッタリングプロセス用のチャンバである、請求項１から１０のいずれか一項に記載のチャンバ。
【請求項１２】
前記チャンバ（２００、３００、４００、５００、６００、７００、９００、１０００）は、ターゲットを駆動するための駆動ユニット（３６０、７６０）をさらに備える、請求項１から１１のいずれか一項に記載のチャンバ。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの軸受（２４０、３４０、４４０、５４０、６４０、７４０、１１４０）は、スパッタカソードを受けるように構成される、請求項１から１２のいずれか一項に記載のチャンバ。
【請求項１４】
前記チャンバ（２００、３００、４００、５００、６００、７００、９００、１０００）は、約１．５ｍ超の基板用に構成される、請求項１から１３のいずれか一項に記載のチャンバ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月8日(2014.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギーの局所集中を発生させる方法であって、非ガス媒体を通じて伝搬する１つ以上の衝撃波を該媒体内のガスのポケットに入射するように形成する工程を備え、ガスのポケットは、部分的に該ガスポケットを受けるように形成された凹部を含む表面へ付着されている、方法。
【請求項２】
ガスポケットの崩壊中における横断噴流の形成を制御する工程をさらに備え、前記表面の凹部は横断噴流衝撃を受けるように設計されており、衝撃を与える噴流と前記表面の凹部の間でガスポケットのうちの少なくとも一部がトラップされる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
噴流は、特定の粗度または微視的形状を有するように形成されている表面の領域に衝突するように配置されており、前記ガスのポケットの多くの小部分が噴流の先端と対象表面との間でトラップされる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記表面の凹部およびガスポケットは、初期接触領域が閉ループを形成する曲線であるように配置される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記表面の凹部の切断面の曲率は噴流の先端のそれよりも大きく、前記表面の凹部の切断面は、噴流が該表面の凹部の切断面に衝撃を与えるように配置されている、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記表面の凹部は断面において前記表面の凹部の開口から離れて細くなるテーパ状である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記表面の凹部の深さはその幅よりも大きい、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記表面の凹部は、複数の離散部分を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記離散部分は区分多項式である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
エネルギーの局所集中を発生させる方法であって、非ガス媒体を通じて伝搬する１つ以上の衝撃波を該媒体内に分散するガスのポケットに入射するように形成する工程を備え、該ガスのポケットは、前記ガスポケットに対して前記衝撃波を向けるべく前記衝撃波を反射するように少なくとも部分的には形成された表面から離間している、方法。
【請求項１１】
前記表面は、前記ガスのポケットに対して衝撃波を反射するか、前記ガスのポケットに対して衝撃波を合焦させるか、又は両方を行うように配置されている、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
反射された衝撃波、合焦した衝撃波、またはその両方は、前記ガスポケットと相互作用する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記表面は平坦でない、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記表面は複数の離散部分を有する、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記離散部分は区分多項式である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記表面は、前記反射された衝撃が前記ガスポケットに合焦されるように形成されている、請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記表面は、反射された衝撃を一点に合焦させるように形成されている、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記ガスポケットは、前記表面から離れた表面の最も近い切断面の最大曲率半径の３倍以内に配置される、請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記表面に最も近いガスポケットの端部は、前記表面から泡のガスポケットの最も幅が広い部分の寸法の５倍未満の距離だけ、好適には、前記最も幅が広い寸法の３倍未満、例えば、該最も幅が広い寸法の２倍未満だけ離間されている、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
エネルギーの局所集中を発生させる方法であって、非ガス媒体を通じて伝搬する１つ以上の衝撃波を該媒体内のガスのポケットに入射するように形成する工程を備え、前記ガスのポケットは、前記ガスのポケットに対し入射する衝撃波の強度を集中させるように形成された平坦でない表面に付着されている、方法。
【請求項２１】
前記表面は凹面である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記表面は複数の離散部分を有する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記離散部分は区分多項式である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記ガスポケットは前記凹面である表面の底部または中心点に付着されている、請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記表面の深さはその幅よりも大きい、請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
前記表面は複数の凹部を有する、請求項２１〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記凹部または各凹部は、該凹部に付着された複数のガスポケットを有する、請求項２１〜２６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８】
０．１ＧＰａ〜５０ＧＰａの圧力を有する衝撃波を形成する起爆装置を用いる工程を含む、請求項１〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
１００ＭＰａ〜１ＧＰａの圧力を有する衝撃波を形成する砕石装置を用いる工程を含む、請求項１〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
前記ガスポケットは、該ガスポケットと前記非ガス媒体との間の境界を形成する組立式の膜の使用によって形成される、請求項１〜２９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記膜は脆く、衝撃波からの衝撃によって壊れるように構成されている、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記組立式の膜は脆弱線または脆弱領域を有する、請求項３０または３１に記載の方法。
【請求項３３】
核融合反応を発生させるために用いられる請求項１〜３２のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月30日(2014.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化水素、一酸化炭素、窒素酸化物、および微粒子を含む排気流を処理のために、ガソリン直噴エンジンの下流に設けられた排出処理システムであって、
非被覆多孔率を有する微粒子フィルター上または微粒子フィルター内に被覆された三元変換（ＴＷＣ）触媒材料を含む、触媒微粒子フィルターを備え、
前記触媒微粒子フィルターは、前記微粒子フィルターの非被覆多孔率と実質的に同じである被覆多孔率を有する、排出処理システム。
【請求項２】
前記ＴＷＣ触媒材料は、完全な有効寿命のエージング後に、少なくとも１００ｍｇ／Ｌの酸素を吸蔵する、請求項１に記載の排出処理システム。
【請求項３】
前記非被覆多孔率および前記被覆多孔率は、相互の差が７％以内である、請求項１または２に記載の排出処理システム。
【請求項４】
前記非被覆多孔率および前記被覆多孔率は、５５〜７０％の範囲である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の排出処理システム。
【請求項５】
前記ＴＷＣ触媒材料を１．０〜４．０ｇ／ｉｎ3（６１〜２４４ｇ／Ｌ）の範囲の量で含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の排出処理システム。
【請求項６】
第１の平均細孔径は、５〜３０μｍの範囲であり、第２の平均細孔径は、３０〜３００μｍの範囲である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の排出処理システム。
【請求項７】
前記ＴＷＣ触媒材料は、第１群の粒子が７．５μｍ以下の第１のｄ90粒径を有し、第２群の粒子が７．５μｍを超える第２のｄ90粒径を有する、粒径分布を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の排出処理システム。
【請求項８】
前記ＴＷＣ触媒材料は、第２群の粒子を１０〜５０重量％の範囲の量で含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の排出処理システム。
【請求項９】
前記ＴＷＣ触媒材料は、単一ウォッシュコート組成物から形成され、第１の単一ウォッシュコート層は、前記微粒子フィルターの軸長の１００％に沿って入口側に存在し、第２の単一ウォッシュコート層は、前記微粒子フィルターの軸長の１００％に沿って出口側に存在する、請求項１〜８のいずれかに記載の排出処理システム。
【請求項１０】
前記ＴＷＣ触媒材料は、単一ウォッシュコート組成物から形成され、第１の単一ウォッシュコート層は、上流端から前記微粒子フィルターの軸長の５０〜７５％に沿って前記入口側に存在し、第２の単一ウォッシュコート層は、下流端から前記微粒子フィルターの軸長の５０〜７５％に沿って前記出口側に存在する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の排出処理システム。
【請求項１１】
炭化水素、一酸化炭素、窒素酸化物、および微粒子を含む排気流の処理のために、ガソリン直噴エンジンの下流に設けられた排出処理システム内に設置された触媒微粒子フィルターであって、
微粒子フィルター上または微粒子フィルター内に１．０〜４ｇ／ｉｎ3（１２２〜２４４ｇ／Ｌ）の範囲の量で被覆された三元変換（ＴＷＣ）触媒材料を備え、
前記ＴＷＣ触媒材料は、完全な有効寿命のエージング後に、少なくとも１００ｍｇ／Ｌの酸素を吸蔵し、１．０〜４．０ｇ／ｉｎ3（１２２ｇ／Ｌ〜２４４ｇ／Ｌ）の範囲の量の酸素吸蔵成分を含み、
前記微粒子フィルターは、第１群の細孔が３０μｍ以下の第１の平均細孔径を有し、第２群の細孔が３０μｍを超える第２の平均細孔径を有する、細孔径分布を含み、
前記ＴＷＣ触媒材料は、第１群の粒子が７．５μｍ以下の第１のｄ90粒径を有し、第２群の粒子が７．５μｍを超える第２のｄ90粒径を有するような、粒径分布を含む、触媒微粒子フィルター。
【請求項１２】
炭化水素、一酸化炭素、窒素酸化物、および微粒子を含む排気ガスを処理する方法であって、
１キロメートルあたり６×１０11を超えない微粒子排出数をもたらすのに有効な量で微粒子フィルター上または微粒子フィルター内に被覆された三元変換（ＴＷＣ）触媒材料を含む触媒微粒子フィルターを準備する工程、
前記触媒微粒子フィルターを、ガソリン直噴エンジンの下流に設置する工程、および
前記ガソリン直噴エンジンからの排気ガスを前記触媒微粒子フィルターと接触させる工程、を含む、方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の触媒微粒子フィルターを準備する工程を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
触媒微粒子フィルターを製造する方法であって、
微粒子フィルターを準備する工程、
三元変換（ＴＷＣ）触媒材料を準備する工程、および
前記触媒微粒子フィルターが前記微粒子フィルターの非被覆多孔率と実質的に同じ被覆多孔率を有するように、少なくとも１．０ｇ／ｉｎ3（６１ｇ／Ｌ）の量で前記微粒子フィルター上または前記微粒子フィルター内に前記ＴＷＣ触媒材料を被覆して、前記触媒微粒子フィルターを形成する工程を含む、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
しかしながら、微粒子基準がより厳密になるにつれ、過度に排気管を密集させ、背圧を増大させることなく、微粒子トラップ機能性を提供することが必要である。さらに、ＨＣ、ＮＯｘ、およびＣＯ変換は、引き続き関心の対象である。ある特定のフィルター技術は、微細な微粒子物質を捕捉するように意図される比較的小さい細孔および／またはより小さい多孔率（以下多孔度ともいう)を有するが、そのようなフィルターは、概して、ＨＣ、ＮＯｘ、およびＣＯ変換要求を満たすのに十分な触媒充填に対応することはできない。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月30日(2014.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分割不可能な円筒部品として加工された外部エンベロープ［０７］を備え、
前記エンベロープ［７］は、
すべての部品を一体に維持するようにシール、ワッシャ［２，１４］、及びころ［１５］を保持する、両端にある閉じたリム［５，１１］と、
ラバーシール［０８，０９］のリップ［０３，０４，１０，１２］を覆う最外端部［１１，２２］と、
ラバーリップ［０３，０４，１０，１２］を折り曲げるための空間を提供する上部面および下部面［５，１１］と、
ころ保持器組立体［１５，１６］を案内し、シール［０８，０９］を創出する前記エンベロープ［０７］の一部［２０］と、
上部ワッシャ［２］及びエンベロープ［０７］の間をシールするための外部Ｏリング［０６］と、
少なくとも一つのシール手段［０３，０４，１０，１２］と、を備える、
改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項２】
前記エンベロープ［０７］は、前記軸受の外部カバーとして機能して転がり要素［１５］、保持器［１６］、上部ワッシャ［２］、下部ワッシャ［１４］、すべての軸受構成部品を保持し、振動又は回転の最中にそれらを案内する、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項３】
前記加工された外部エンベロープ［０７］は、前記軸受を汚染物質から防ぎ、前記エンベロープ［０７］が腐食するのを保護するべく、特殊合金ステンレス鋼材料から作られている、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項４】
少なくとも一つのシール手段［０３，０４，１０，１２］が二重リップのラジアル及び／又はアクスルシールを有する、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項５】
前記ラバーシールリップ［０３，０４，１０，１２］は、非合金金属から作られている、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項６】
前記ラバーシール［０８，０９］は、低炭素鋼補強材［１３］を有し、下部ワッシャ［１４］の外径部に嵌合するように圧入された、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項７】
前記ラバーシール金属補強材［１３］は、径方向及び軸方向にある上部ワッシャ及び下部ワッシャの汚染を防ぐ、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項８】
前記ラバーシールリップ［０３，０４，１０，１２］と、前記上部面［５］及び前記下部面［１１］との間の隙間は、０．１ｍｍから０．２５ｍｍの範囲である、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項９】
前記ラバーシールリップ［０３，０４，１０，１２］は、摩耗及び破れがなく円滑に折り曲げることができるように、２８°から４６°の範囲の角度でそれらを成形することで製作され、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項１０】
ころ保持器組立体［１５，１６］の外径部は、潤滑油の流れを案内し、汚染物質の侵入を防ぐように、深さが０．３ｍｍから０．６ｍｍで、幅が２から５ｍｍの範囲の溝［２０］を有する、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【請求項１１】
すべての軸受部品を共に保持し、また、シールリップ［０３，０４，１０，１２］を収容して保護するために、前記外部エンベロープ［０７］の中間凹みは、上部で１ｍｍから２ｍｍの範囲となっており、下部で０．２ｍｍから０．８ｍｍの範囲となっている、請求項１に記載の改善された組立体を備えたスラスト軸受。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月7日(2014.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体受容室との間の流体密封止状態を実質的に保ちながら流体受容室に至る流路を形成することが可能な弁であって、堅固性が高い弁座と、弁座の一端に位置する入口、弁座の他端に位置する出口並びに入口・出口間に亘り軸方向に延びる封止壁を有する常閉型の弁内流路が軸方向に沿い形成され、その封止壁によって弁内流路の入口・出口間区間が流体密封止されるよう、弁座に重畳されていて可撓性が高い弁材と、本弁及び流体受容室の清掃に当たり流路となりうる空間が弁材との間に生じるよう、弁材に対し径方向に間隔を置き軸方向に延びる躯体と、流体受容室に当接させるとその室との間が実質的に流体密封止されひいては弁内流路の出口及び流体受容室が周囲雰囲気に対し封止される封止部と、を備え、弁内流路の入口にある物質から作用する圧力が開弁圧より高いときに弁材が弁座に対し径方向に退き、その物質が弁内流路内を経てその出口から流体受容室に流入する弁。