【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年8月17日(2012.8.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
コーティングされていない鉛ガラス基板、すなわち、相応の保護層のない鉛ガラス基板は前述した条件のもとで溶解し、すなわち、まったく存在しなくなる。このことは、測定セルが実際に上述の塩素化学を伴う腐食性プロセスにさらされるときの溶解プロセスに強調された形で相当している。表２から明らかなように、厚さ２５ｎｍのＡｌ２Ｏ３によるコーティングをするだけで、ごく小さい腐食穴の数がわずか６３個だけになっており、このことは、ガラスはんだ３およびこれに伴う測定セル８の耐用寿命がおよそ１０倍だけ延びることに相当する。５０ｎｍの層厚では、耐用寿命の延長はすでにおよそ１００倍である
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
金属酸化物からなる保護層１３の好都合な厚みは、２０〜２００ｎｍまでの範囲内であり、好ましくは２５〜５０ｎｍの範囲内であり、このとき作用および効果の経済性が格別に好都合である。このような層厚範囲は、保護層材料としてのＡｌ２Ｏ３にも格別に適している。このようにコーティングは、コーティングされていない測定セルと比べたときに耐用寿命の延長が少なくとも３倍だけ長くなるように、好ましくは５〜２０倍だけ長くなるように行われるのがよい。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力変換器としての隔膜（２）を備える真空測定セルを製造する方法であって、前記隔膜（２）の一方の側には間隔をおきながら第１のハウジングプレート（１）が縁部領域で第１の結合手段（３）により封止をするように配置されており、それによりこれらの間で基準真空室（７）が形成されるようになっており、前記隔膜（２）の他方の側には間隔をおきながら第２のハウジングプレート（４）が縁部領域で第２の結合手段（３）により封止をするように配置されており、それによりこれらの間で測定真空室（９）が形成されるようになっており、前記第２のハウジングプレート（４）は開口部を有しており、前記測定真空室（９）を測定されるべき媒体と接続するために該開口部および前記測定真空室（９）と連通する接続手段（５）が、第３の結合手段（６）により封止をするように配置されており、前記隔膜（２）と前記両方のハウジングプレート（１，４）は金属酸化物でできている、そのような方法において、前記測定セルが真空室（６４）でＡＬＤ法によりコーティングされ、材料蓄積は前記測定セルおよび前記接続手段（５）の前記開口部を通じて行われ、前記測定真空室（９）の内壁および前記開口部が前記接続手段（５）とともに保護層（１３）で被覆され、少なくとも前記第１の結合手段（３）、前記第２の結合手段（３）および前記第３の結合手段（６）が保護されるように覆われることを特徴とする方法であって、
少なくとも１つの隔膜測定セル（８）が、複数の隔膜測定セル（８）が基板６３として真空室（６４）の中で加熱構造を有する基板ホルダ（６２）の上に載せられ、次いで前記真空室（６４）がポンプシステム（５２，５３，５４）により排気され、所望の圧力まで排気が完了してからコーティングプロセスが行われ、当該コーティングプロセスにおいて、少なくとも２つの先駆物質ガス（５７，５８）が所定の時間インターバルで前記真空室（６４）へ順次導入され、これらのステップの間でそれぞれ前記真空室（６４）が不活性洗浄ガス（６５）により所定の時間だけ洗浄されるというサイクルが複数回反復され、それにより化学反応した個々の原子層から所望の全体厚みを有する金属酸化物層（１３）が蓄積されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
金属酸化物として酸化アルミニウムの１つが用いられ、または好ましくは少なくとも部分的にサファイアの形態が用いられることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも前記第１の結合手段（３）、第２の結合手段（３）および第３の結合手段（６）のいずれかについて、好ましくは両方について、ガラスはんだが用いられることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも前記第１の結合手段（３）、第２の結合手段（３）および第３の結合手段（６）のいずれかは摩擦溶接により製作されることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
前記接続手段（５）はパイプ状に、もしくは引込配管を備える接続管として、金属またはセラミックで構成され、前記第３の結合手段（６）によりガラスはんだまたは摩擦溶接によって前記第２のハウジングプレートと結合されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記接続手段の前記引込配管の内壁も前記第１の結合手段（３）、第２の結合手段（３）および第３の結合手段（６）と同時に保護されるように覆われることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記コーティングが、数百回から数千回のサイクルで行われることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
金属化合物を含む少なくとも１つの第１の先駆物質（５７）が使用され、少なくとも第２の、またはさらに別の先駆物質（５８）として酸素含有物質が使用されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
少なくとも第１の先駆物質（５７）は、ＴｉＯ２層を形成するために塩化チタンまたはチタンｔｅｒｔ−ブトキシドの物質を含んでおり、または少なくとも第１の先駆物質（５７）はＴａ２Ｏ５層を形成するためにタンタルエトキシドを含んでいることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも第１の先駆物質（５７）はＡｌ２Ｏ３層を形成するためにトリメチルアルミニウムを含んでいることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
洗浄ガス（６５）として窒素（Ｎ２）が使用されることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記基板ホルダ（６２）の温度は１００〜５００℃の範囲内の値に設定され、該温度は温度制御装置（５５）により一定に保たれることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記保護層（１３）の堆積は、前記測定真空室（９）の内部で、および前記第２のハウジングプレート（４）の前記開口部から前記接続手段（５）への移行部で前記第２の結合手段（３）および第３の結合手段（６）を覆い、少なくとも、前記第２の結合手段（３）および前記第３の結合手段（６）の前記保護層（１３）で覆われるべき領域で２０〜２００ｎｍの範囲内の保護層厚が得られるように行われることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
塩素含有のプロセスガスによって前記隔膜測定セル（８）が汚染されたとき、前記保護層（１３）がないときより少なくとも３倍長い前記隔膜測定セル（８）の耐用寿命の延長が得られることを特徴とする、請求項１〜１３のうちいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記第１および第２の先駆物質（５８，５７）ならびに前記洗浄ガス（６５）は制御されてパルス方式で作動する弁（５６，５９，６１）により前記真空室（６４）へ所定のインターバル後に逐次導入され、前記洗浄ガス（６０）はガス流量制御器（６０）を介して導入されることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記隔膜測定セル（８）として容量式隔膜測定セル（８）またはファブリ・ペロ構造のような光学式に読取り可能な隔膜測定セル（８）が使用されることを特徴とする、請求項１〜１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
圧力変換器としての隔膜（２）を備える真空隔膜測定セルであって、前記隔膜（２）の一方の側には間隔をおきながら第１のハウジングプレート（１）が縁部領域で第１の結合手段（３）により封止をするように配置されており、それによりこれらの間で基準真空室（７）が形成されるようになっており、前記隔膜（２）の他方の側には間隔をおきながら第２のハウジングプレート（４）が縁部領域で第２の結合手段（３）により封止をするように配置されており、それによりこれらの間で測定真空室（９）が形成されるようになっており、前記第２のハウジングプレート（４）は開口部を有しており、前記測定真空室（９）を測定されるべき媒体と接続するために該開口部および前記測定真空室（９）と連通する接続手段（５）が、第３の結合手段（６）により封止をするように配置されており、前記隔膜（２）と前記両方のハウジングプレート（１，４）はセラミックでできている、そのような真空隔膜測定セルにおいて、ＡＬＤ法によりコーティングされており、それにより前記測定真空室（９）の内壁および前記開口部が前記接続手段（５）とともに保護層（１３）で被覆されており、前記第１の結合手段（３）、前記第２の結合手段（３）および前記第３の結合手段（６）が保護されるように覆われていることを特徴とする真空隔膜測定セル。
【請求項１８】
金属酸化物は酸化アルミニウムの１つであり、または好ましくは少なくとも部分的にサファイアの形態を含んでいることを特徴とする、請求項１７に記載の測定セル。
【請求項１９】
少なくとも前記第１の結合手段（３）、前記第２の結合手段（３）および前記第３の結合手段（６）の１つは、好ましくはこの両方とも、ガラスはんだまたは摩擦溶接からなっていることを特徴とする、請求項１７または１８に記載の測定セル。
【請求項２０】
前記接続手段（５）はパイプ状に、もしくは引込配管を備える接続管として、金属またはセラミックで構成されており、前記第３の結合手段（６）によりガラスはんだまたは摩擦溶接によって前記第２のハウジングプレートと結合されており、好ましくは前記接続手段の前記引込配管の内壁は同じく保護されるように覆われていることを特徴とする、請求項１７〜１９のいずれかに記載の測定セル。
【請求項２１】
前記保護層（１３）は、ＴｉＯ２またはＴａ２Ｏ５でできていることを特徴とする、請求項１７〜２０のいずれかに記載の測定セル。
【請求項２２】
前記保護層（１３）は、Ａｌ２Ｏ３でできていることを特徴とする、請求項１７〜２１のいずれかに記載の測定セル。
【請求項２３】
前記保護層（１３）は、前記測定真空室（９）の内部で、および前記第２のハウジングプレート（４）の前記開口部から前記接続手段（５）への移行部で前記第２の結合手段（３）および第３の結合手段（６）を覆っており、少なくとも、前記第２の結合手段（３）および前記第３の結合手段（６）の前記保護層（１３）で覆われるべき領域で２０〜２００ｎｍの範囲内の保護層厚が存在するように行われていることを特徴とする、請求項１７〜２２のいずれかに記載の測定セル。
【請求項２４】
塩素含有のプロセスガスによって前記隔膜測定セル（８）が汚染されたとき、前記保護層（１３）がないときより少なくとも３倍だけ長い前記隔膜測定セル（８）の耐用寿命の延長が成立することを特徴とする、請求項１７〜２３のいずれかに記載の測定セル。
【請求項２５】
前記隔膜測定セル（８）は、容量式隔膜測定セル（８）またはファブリ・ペロ構造のような光学式に読取り可能な隔膜測定セル（８）であることを特徴とする、請求項１７〜２４のいずれかに記載の測定セル。