【手続補正書】
【提出日】平成26年3月18日(2014.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠位端および内部管腔を有する細長い軸と、
内部管腔の遠位部にのみ摺動式に配設される支持円柱と、
支持円柱に結合しており、前記細長い軸の遠位端から選択的に延伸されるように配置された複数の軸と、
該複数の軸のそれぞれの上に配設された複数の微小電極要素であって、絶縁層および該絶縁層上に配設された複数の導電性トレースを有する平面状基材を含む微小電極要素と、
内部管腔に取り外し可能に配設されており、埋め込み中に、支持円柱に接触することで前記複数の軸を選択的に延伸させるように構成されたスタイレットと、
前記支持円柱および複数の軸を内部管腔内に選択的に後退させるように支持円柱に結合しているプルワイヤと
を含む、埋め込み式神経プローブ。
【請求項２】
プルワイヤおよびスタイレットを含むプッシュプルロッドを含む、請求項1記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項３】
細長い軸が、脳深部刺激リードの挿入に許容される手技を使用するヒト身体への挿入用に構成されている、請求項1記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項４】
細長い軸の直径が1mm〜3mmである、請求項1記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項５】
複数の微小電極要素の少なくとも1つが刺激電極であり、複数の微小電極要素の少なくとも1つが検出電極である、請求項1記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項６】
複数の微小電極要素の少なくとも1つが刺激電極および検出電極の両方である、請求項1記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項７】
各微小電極要素が導電性フィルム上に形成され、各微小電極要素が2つの絶縁基材の内部に包埋されている、請求項1記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項８】
微小電極が包埋された基材が円柱状アセンブリに成形可能である、請求項7記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項９】
突出軸が円柱状アセンブリの縦軸から放射状に屈曲するように成形されうる、請求項8記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項１０】
突出軸の1つが円柱状アセンブリの縦軸に沿って延伸しかつ中心を有する、請求項8記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項１１】
突出軸が支持部材により補剛されている、請求項9記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項１２】
縦方向の突出軸が支持部材により補剛されている、請求項10記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項１３】
遠位端および内部管腔を有する細長い軸と、
該細長い軸の遠位端から選択的に延伸されるように配置された複数の軸と、
該複数の軸のそれぞれの上に配設された複数の微小電極要素であって、絶縁層および該絶縁層上に配設された複数の導電性トレースを有する平面状基材を含む微小電極要素と
を含む埋め込み式神経プローブであって、
前記複数の軸が、完全に延伸された際に実質的に円柱状の立体を規定する、
埋め込み式神経プローブ。
【請求項１４】
細長い軸が、脳深部刺激リードの挿入に許容される手技を使用するヒト身体への挿入用に構成されている、請求項13記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項１５】
細長い軸の直径が1mm〜3mmである、請求項13記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項１６】
複数の微小電極要素の少なくとも1つが刺激電極であり、複数の微小電極要素の少なくとも1つが検出電極である、請求項13記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項１７】
複数の微小電極要素の少なくとも1つが刺激電極および検出電極の両方である、請求項13記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項１８】
各微小電極要素が導電性フィルム上に形成され、各微小電極要素が2つの絶縁基材の内部に包埋されている、請求項13記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項１９】
微小電極が包埋された基材が円柱状アセンブリに成形可能である、請求項18記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項２０】
突出軸が円柱状アセンブリの縦軸から放射状に屈曲するように成形されうる、請求項19記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項２１】
突出軸の1つが円柱状アセンブリの縦軸に沿って延伸しかつ中心を有する、請求項19記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項２２】
突出軸が支持部材により補剛されている、請求項19記載の埋め込み式神経プローブ。
【請求項２３】
縦方向の突出軸が支持部材により補剛されている、請求項21記載の埋め込み式神経プローブ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
各種態様は、上記の要素または段階のいずれかを単独または任意の好適な組み合わせで含み得る。
[本発明1001]
遠位端および内部管腔を有する細長い軸と、
内部管腔の遠位部にのみ摺動式に配設される支持円柱と、
支持円柱に結合しており、前記細長い軸の遠位端から選択的に延伸されるように配置された複数の軸と、
該複数の軸のそれぞれの上に配設された複数の微小電極要素であって、絶縁層および該絶縁層上に配設された複数の導電性トレースを有する平面状基材を含む微小電極要素と、
内部管腔に取り外し可能に配設されており、埋め込み中に、支持円柱に接触することで前記複数の軸を選択的に延伸させるように構成されたスタイレットと、
前記支持円柱および複数の軸を内部管腔内に選択的に後退させるように支持円柱に結合しているプルワイヤと
を含む、埋め込み式神経プローブ。
[本発明1002]
プルワイヤおよびスタイレットを含むプッシュプルロッドを含む、本発明1001の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1003]
細長い軸が、脳深部刺激リードの挿入に許容される手技を使用するヒト身体への挿入用に構成されている、本発明1001の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1004]
細長い軸の直径が1mm〜3mmである、本発明1001の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1005]
複数の微小電極要素の少なくとも1つが刺激電極であり、複数の微小電極要素の少なくとも1つが検出電極である、本発明1001の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1006]
複数の微小電極要素の少なくとも1つが刺激電極および検出電極の両方である、本発明1001の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1007]
各微小電極要素が導電性フィルム上に形成され、各微小電極要素が2つの絶縁基材の内部に包埋されている、本発明1001の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1008]
微小電極が包埋された基材が円柱状アセンブリに成形可能である、本発明1007の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1009]
突出軸が円柱状アセンブリの縦軸から放射状に屈曲するように成形されうる、本発明1008の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1010]
突出軸の1つが円柱状アセンブリの縦軸に沿って延伸しかつ中心を有する、本発明1008の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1011]
突出軸が支持部材により補剛されている、本発明1009の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1012]
縦方向の突出軸が支持部材により補剛されている、本発明1010の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1013]
遠位端および内部管腔を有する細長い軸と、
該細長い軸の遠位端から選択的に延伸されるように配置された複数の軸と、
該複数の軸のそれぞれの上に配設された複数の微小電極要素であって、絶縁層および該絶縁層上に配設された複数の導電性トレースを有する平面状基材を含む微小電極要素と
を含む埋め込み式神経プローブであって、
前記複数の軸が、完全に延伸された際に実質的に円柱状の立体を規定する、
埋め込み式神経プローブ。
[本発明1014]
細長い軸が、脳深部刺激リードの挿入に許容される手技を使用するヒト身体への挿入用に構成されている、本発明1013の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1015]
細長い軸の直径が1mm〜3mmである、本発明1013の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1016]
複数の微小電極要素の少なくとも1つが刺激電極であり、複数の微小電極要素の少なくとも1つが検出電極である、本発明1013の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1017]
複数の微小電極要素の少なくとも1つが刺激電極および検出電極の両方である、本発明1013の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1018]
各微小電極要素が導電性フィルム上に形成され、各微小電極要素が2つの絶縁基材の内部に包埋されている、本発明1013の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1019]
微小電極が包埋された基材が円柱状アセンブリに成形可能である、本発明1018の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1020]
突出軸が円柱状アセンブリの縦軸から放射状に屈曲するように成形されうる、本発明1019の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1021]
突出軸の1つが円柱状アセンブリの縦軸に沿って延伸しかつ中心を有する、本発明1019の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1022]
突出軸が支持部材により補剛されている、本発明1019の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1023]
縦方向の突出軸が支持部材により補剛されている、本発明1021の埋め込み式神経プローブ。
[本発明1024]
神経標的部位の近傍内に
遠位端および内部管腔を有する細長い軸と、
内部管腔の遠位部にのみ摺動式に配設される支持円柱と、
支持円柱に結合しており、前記細長い軸の遠位端から選択的に延伸されるように配置された複数の軸と、
該複数の軸のそれぞれの上に配設された複数の微小電極要素であって、絶縁層および該絶縁層上に配設された複数の導電性トレースを有する平面状基材を含む微小電極要素と、
内部管腔に取り外し可能に配設されており、埋め込み中に、支持円柱に接触することで前記複数の軸を選択的に延伸させるように構成されたスタイレットと、
前記支持円柱および複数の軸を内部管腔内に選択的に後退させるように支持円柱に結合しているプルワイヤと
を含む神経プローブを埋め込む段階、
外科的埋め込み前に、前記複数の軸を内部管腔内に後退させる段階、
埋め込み後に、神経標的部位の近傍に前記複数の軸を延伸させる段階、
突出軸の少なくとも1つの上の微小電極要素の少なくとも1つを使用して神経標的部位から電気生理学的信号を記録する段階、ならびに
前記複数の軸の少なくとも1つの上の微小電極要素の少なくとも1つを使用して神経標的を刺激する段階
を含む、神経標的を発見するための方法。
[本発明1025]
記録段階および刺激段階の後の、前記複数の軸を内部管腔内に後退させる段階、および対象から神経プローブを取り外す段階
をさらに含む、本発明1024の方法。
[本発明1026]
突出軸の後退にプルワイヤを使用する、本発明1024の方法。
[本発明1027]
前記複数の軸の延伸にスタイレットを使用する、本発明1024の方法。
[本発明1028]
神経プローブが、プルワイヤおよびスタイレットを含むプッシュプルロッドを含む、本発明1024の方法。
[本発明1029]
電気生理学的信号を記録する段階が、複数の微小電極要素の少なくとも1つにより検出される神経活動を記録する段階、および細長いプローブ軸の遠位端が神経標的部位に十分に位置づけられていることを記録された活動が示すまで、必要に応じて細長い軸の遠位端を再位置決めする段階を含む、本発明1024の方法。
[本発明1030]
前記複数の軸の少なくとも1つの上の複数の微小電極要素の少なくとも1つに電気信号を印加することにより神経活動を刺激する段階、
埋め込まれた患者において刺激部位に対する有効性の臨床評価を行う段階、および
細長い軸の遠位端が神経標的部位に十分に位置づけられていることを患者の応答が示すまで、必要に応じて細長い軸の遠位端を再位置決めする段階
を含む、本発明1024の方法。
[本発明1031]
前記複数の軸の少なくとも1つの上の複数の微小電極要素の少なくとも1つに電気信号を印加することにより神経活動を阻害する段階、
埋め込まれた患者において阻害部位に対する有効性の臨床評価を行う段階、および
細長い軸の遠位端が神経標的部位に十分に位置づけられていることを患者の応答が示すまで、必要に応じて細長い軸の遠位端を再位置決めする段階
を含む、本発明1024の方法。
[本発明1032]
神経標的部位の近傍内に
遠位端および内部管腔を有する細長い軸と、
内部管腔の遠位部にのみ摺動式に配設される支持円柱と、
支持円柱に結合しており、前記細長い軸の遠位端から選択的に延伸されるように配置された複数の軸と、
該複数の軸のそれぞれの上に配設された複数の微小電極要素であって、絶縁層および該絶縁層上に配設された複数の導電性トレースを有する平面状基材を含む微小電極要素と、
内部管腔に取り外し可能に配設されており、埋め込み中に、支持円柱に接触することで前記複数の軸を選択的に延伸させるように構成されたスタイレットと、
前記支持円柱および複数の軸を内部管腔内に選択的に後退させるように支持円柱に結合しているプルワイヤと
を含む神経プローブを埋め込む段階、
外科的埋め込み前に、前記複数の軸を内部管腔内に後退させる段階、
埋め込み後に、神経標的部位の近傍に前記複数の軸を展開させる段階、
前記複数の軸の少なくとも1つの上の微小電極要素の少なくとも2つの間に振動電流を印加する段階、
前記複数の軸の少なくとも1つの上の微小電極要素の少なくとも2つの間の電圧を検出する段階
を含む、神経標的を発見するための方法。
[本発明1033]
検出段階の後の、前記複数の軸を内部管腔内に後退させる段階、および対象から神経プローブを取り外す段階
をさらに含む、本発明1032の方法。
[本発明1034]
印加された振動電流および検出された電圧に基づいて、前記複数の軸の間の神経組織の立体の電気特性を画像化する段階を含む、本発明1032の方法。
[本発明1035]
神経プローブが、プルワイヤおよびスタイレットを含むプッシュプルロッドを含む、本発明1032の方法。
[本発明1036]
神経標的部位の近傍内に
遠位端および内部管腔を有する細長い軸と、
該細長い軸の遠位端から選択的に延伸されるように配置された複数の軸と、
該複数の軸のそれぞれの上に配設された複数の微小電極要素であって、絶縁層および該絶縁層上に配設された複数の導電性トレースを有する平面状基材を含む微小電極要素とを含む神経プローブであって、
前記複数の軸が、完全に延伸された際に実質的に円柱状の立体を規定する、
神経プローブを埋め込む段階、
外科的埋め込み前に、前記複数の軸を内部管腔内に後退させる段階、
埋め込み後に、神経標的部位の近傍に前記複数の軸を延伸させる段階、
突出軸の少なくとも1つの上の微小電極要素の少なくとも1つを使用して神経標的部位から電気生理学的信号を記録する段階、ならびに
前記複数の軸の少なくとも1つの上の微小電極要素の少なくとも1つを使用して神経標的を刺激する段階
を含む、神経標的を発見するための方法。
[本発明1037]
突出軸の後退にプルワイヤを使用する、本発明1036の方法。
[本発明1038]
前記複数の軸の延伸にスタイレットを使用する、本発明1037の方法。
[本発明1039]
神経プローブが、プルワイヤおよびスタイレットを含むプッシュプルロッドを含む、本発明1038の方法。
[本発明1040]
電気生理学的信号を記録する段階が、複数の微小電極要素の少なくとも1つにより検出される神経活動を記録する段階、および細長いプローブ軸の遠位端が神経標的部位に十分に位置づけられていることを記録された活動が示すまで、必要に応じて細長い軸の遠位端を再位置決めする段階を含む、本発明1036の方法。
[本発明1041]
記録段階および刺激段階の後の、前記複数の軸を内部管腔内に後退させる段階、および対象から神経プローブを取り外す段階
をさらに含む、本発明1036の方法。
[本発明1042]
前記複数の軸の少なくとも1つの上の複数の微小電極要素の少なくとも1つに電気信号を印加することにより神経活動を刺激する段階、
埋め込まれた患者において刺激部位に対する有効性の臨床評価を行う段階、および
細長い軸の遠位端が神経標的部位に十分に位置づけられていることを患者の応答が示すまで、必要に応じて細長い軸の遠位端を再位置決めする段階
を含む、本発明1036の方法。
[本発明1043]
前記複数の軸の少なくとも1つの上の複数の微小電極要素の少なくとも1つに電気信号を印加することにより神経活動を阻害する段階、
埋め込まれた患者において阻害部位に対する有効性の臨床評価を行う段階、および
細長い軸の遠位端が神経標的部位に十分に位置づけられていることを患者の応答が示すまで、必要に応じて細長い軸の遠位端を再位置決めする段階
を含む、本発明1036の方法。
[本発明1044]
神経標的部位の近傍内に
遠位端および内部管腔を有する細長い軸と、
該細長い軸の遠位端から選択的に延伸されるように配置された複数の軸と、
該複数の軸のそれぞれの上に配設された複数の微小電極要素であって、絶縁層および該絶縁層上に配設された複数の導電性トレースを有する平面状基材を含む微小電極要素とを含む神経プローブであって、
前記複数の軸が、完全に延伸された際に実質的に円柱状の立体を規定する、
神経プローブを埋め込む段階、
外科的埋め込み前に、前記複数の軸を内部管腔内に後退させる段階、
埋め込み後に、神経標的部位の近傍に前記複数の軸を展開させる段階、
前記複数の軸の少なくとも1つの上の微小電極要素の少なくとも2つの間に振動電流を印加する段階、
前記複数の軸の少なくとも1つの上の微小電極要素の少なくとも2つの間の電圧を検出する段階
を含む、神経標的を発見するための方法。
[本発明1045]
印加された振動電流および検出された電圧に基づいて、前記複数の軸の間の神経組織の立体の電気特性を画像化する段階を含む、本発明1044の方法。
[本発明1046]
検出段階の後の、前記複数の軸を内部管腔内に後退させる段階、および対象から神経プローブを取り外す段階
をさらに含む、本発明1034の方法。