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【手続補正書】
【提出日】平成24年10月19日(2012.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
Ｂ−Ｘ−ＣＯＣＨ2Ｏ−［−ＣpＨ2pＯ−］n−ＣＨ2ＣＯ−Ｘ−Ｒa      （１）
の化合物であって、
式中、
Ｂが、ＭまたはＲaであり、
Ｍが、イオン化可能な水素であり、
ｐが、約２から約４であり、
ｎが、約５から約４３であり、
Ｘが、Ｏ、Ｓ、またはＳＣＨ2ＣＨ2Ｏであり、
Ｒaが、Ｒf（ＣＨ2ＣＦ2）d−（ＣgＨ2g）−、Ｒf［ＯＣＦ2ＣＦ2］r（ＣgＨ2g）−、Ｒf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−、またはＲfＯＹ−であり、
Ｙが、ＣＦＨＣＦ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）v−（ＣgＨ2g）−、ＣＦＨＣＦ2Ｏ（ＣwＨ2w）−、またはＣＦ（ＣＦ3）ＣＯＮＨ−（ＣgＨ2g）−であり、
各Ｒfは、独立してｃが１から約６であるＣcＦ(2c+1)であり、
ｄが、１から約３であり、
ｇが、１から約４であり、
ｓが、０または１であり、
ｒが、１から約４であり、
ｈが、１から約６であり、
ｉ、ｊ、およびｋは、Ｒf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−中の炭素原子の総数が約８から約２２であるという条件で、それぞれ独立して１、２、または３、あるいはそれらの混在したものであり、
ｖが、１から約４であり、
ｗが、２から約１２である、化合物。
【請求項２】
液体に請求項１に記載の前記化合物を加える工程を含む、前記液体の表面挙動を変える方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の式（１）のフッ化ポリオキシアルキレングリコールジエステル界面活性剤は、上記の部分的フッ素化Ｒa基を含有する少なくとも１つの疎水性部分、好ましくは２つの疎水性部分を含む。本発明のこの化合物はまた、水溶性の親水性部分を含む。本発明のこれら界面活性剤は電荷を坦持しない非イオン界面活性剤であり、その水溶性は様々な長さの高度に極性の基、ポリオキシエチレン−（ＯＣＨ2ＣＨ2）n−の存在によって付与される。このような界面活性剤の水溶性は、ｎの値が増すと強まる傾向がある。水性媒体系ではその表面活性は、疎水性成分と親水性成分の間のバランスによって調節される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
表３中で格付けが高いほど優れた性能を示す。これらの結果は、実施例２および６が、含まれるフッ素がより少ないにもかかわらず対照よりも著しく良好な、また比較例ＡおよびＥと似た濡れおよびレベリングの特徴を見せることを示す。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．  式（１）：
Ｂ−Ｘ−ＣＯＣＨ2Ｏ−［−ＣpＨ2pＯ−］n−ＣＨ2ＣＯ−Ｘ−Ｒa      （１）
の化合物であって、
式中、
Ｂが、ＭまたはＲaであり、
Ｍが、イオン化可能な水素であり、
ｐが、約２から約４であり、
ｎが、約５から約４３であり、
Ｘが、Ｏ、Ｓ、またはＳＣＨ2ＣＨ2Ｏであり、
Ｒaが、Ｒf（ＣＨ2ＣＦ2）d−（ＣgＨ2g）−、Ｒf［ＯＣＦ2ＣＦ2］r（ＣgＨ2g）−、Ｒf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−、またはＲfＯＹ−であり、
Ｙが、ＣＦＨＣＦ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）v−（ＣgＨ2g）−、ＣＦＨＣＦ2Ｏ（ＣwＨ2w）−、またはＣＦ（ＣＦ3）ＣＯＮＨ−（ＣgＨ2g）−であり、
各Ｒfは、独立してｃが１から約６であるＣcＦ(2c+1)であり、
ｄが、１から約３であり、
ｇが、１から約４であり、
ｓが、０または１であり、
ｒが、１から約４であり、
ｈが、１から約６であり、
ｉ、ｊ、およびｋは、Ｒf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−中の炭素原子の総数が約８から約２２であるという条件で、それぞれ独立して１、２、または３、あるいはそれらの混在したもの（ｍｉｘｔｕｒｅ）であり、
ｖが、１から約４であり、
ｗが、２から約１２である、化合物。
２．  ｎが６から３２であり、ＸがＯである、前記１に記載の化合物。
３．  ＲaがＲf（ＣＨ2ＣＦ2）d−（ＣgＨ2g）−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、式中、ｃが４または６であり、ｄが１また２であり、ｇが２である、前記１に記載の化合物。
４．  ＲaがＲf［ＯＣＦ2ＣＦ2］r（ＣgＨ2g）−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、式中、ｃが２または３であり、ｓが０であり、ｒが１、２、または３であり、ｇが２である、前記１に記載の化合物。
５．  ＲaがＲf［ＯＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）］s［ＯＣＦ2ＣＦ2］r（ＣgＨ2g）−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、式中、ｃが３であり、ｓが１であり、ｒが１であり、ｇが２である、前記１に記載の化合物。
６．  ＲaがＲfＯＹ−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、ＹがＣＦＨＣＦ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）v−（ＣgＨ2g）−、ＣＦ（ＣＦ3）ＣＯＮＨ−（ＣgＨ2g）−、またはＣＦＨＣＦ2Ｏ（ＣwＨ2w）−であり、式中、ｗが２、３、または４であり、ｖが１または２であり、ｇが２である、前記１に記載の化合物。
７．  ＲaがＲf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、式中、ｃが１、２、または３であり、ｈが２であり、ｋが１、２、または３であり、ｉおよびｊがそれぞれ１であり、かつＸがＯまたはＳＣＨ2ＣＨ2Ｏである、前記１に記載の化合物。
８．  ０．６重量％の水中濃度において約２５ｍＮ／ｍ未満の表面張力を有し、約７から約１７のＨＬＢを有する、前記１に記載の化合物またはその混合物。
９．  液体に前記１に記載の前記化合物を加える工程を含む、前記液体の表面挙動を変える方法。
１０．  前記表面挙動が、表面張力の低下、濡れ、浸透、延展、レベリング、流動、乳化、分散、撥水撥油、離型、潤滑、エッチング、接着、および安定化からなる群から選択され、また前記液体が、塗料組成物、ラテックス、ポリマー、床仕上げ剤、インク、乳化剤、発泡剤、離型剤、撥水撥油剤、流れ調整剤、フィルム蒸発抑制剤、湿潤剤、浸透剤、洗浄剤、研摩剤、電気めっき剤、腐蝕防止剤、エッチング液、はんだ付け剤、分散助剤、微生物製剤、パルプ助剤、すすぎ助剤、艶出剤、パーソナルケア組成物、乾燥剤、帯電防止剤、床仕上げ剤、または接着剤である、前記９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月19日(2012.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
Ｂ−Ｘ−ＣＯＣＨ2Ｏ−［−ＣpＨ2pＯ−］n−ＣＨ2ＣＯ−Ｘ−Ｒa      （１）
の化合物であって、
式中、
Ｂが、ＭまたはＲaであり、
Ｍが、イオン化可能な水素であり、
ｐが、約２から約４であり、
ｎが、約５から約４３であり、
各Ｘが、独立してＮＲ、ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＲ、ＳＯ2ＮＲＣＨ2ＣＨ2ＮＲ、またはＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＲであり、
Ｒが、水素、あるいは線状または分岐アルキル基ＣbＨ(2b+1)（式中、ｂは１から約１８である）であり、
Ｒaが、Ｒf（ＣＨ2ＣＦ2）d−（ＣgＨ2g）−、Ｒf（ＯＣＦ2ＣＦ2）r−（ＣgＨ2g）−、ＲfＯＹ−、Ｒf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−、Ｒf（ＣgＨ2g）−、またはＨ（ＣcＦ2c）−（ＣgＨ2g）−であり、
Ｙが、ＣＦＨＣＦ2Ｏ（ＣwＨ2w）−、またはＣＦ（ＣＦ3）ＣＯＮＨ−（ＣgＨ2g）−であり、
各Ｒfが、独立してＣcＦ(2c+1)（式中、ｃは１から約６である）であり、
ｄが、１から約３であり、
ｇが、１から約４であり、
ｓが、０または１であり、
ｒが、１から約４であり、
ｈが、１から約６であり、
ｗが、約２から約１２であり、
ｉ、ｊ、およびｋは、Ｒf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−中の炭素原子の総数が約８から約２２であるという条件で、それぞれ独立して１、２、または３、あるいはそれらの混在したものである、
化合物。
【請求項２】
液体に請求項１に記載の前記化合物を加える工程を含む、前記液体の表面挙動を変える方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の式（１）のフッ化ポリオキシアルキレングリコールジアミド界面活性剤は、上記の部分的フッ素化Ｒa基を含有する少なくとも１つの疎水性部分、好ましくは２つの疎水性部分を含む。本発明のこの化合物はまた、水溶性の親水性部分を含む。本発明のこれら界面活性剤は電荷を坦持しない非イオン界面活性剤であり、その水溶性は様々な長さの高度に極性の基、ポリオキシエチレン−（−ＣPＨ2PＯ−）nの存在によって付与される。このような界面活性剤の水溶性は、ｎの値が増すと強まる傾向がある。水性媒体系ではその表面活性は、疎水性成分と親水性成分の間のバランスによって調節される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
これらの結果は、比較例ＡおよびＢよりも少ないフッ素を含有する実施例１および５の界面活性剤が、比較例ＡおよびＢの界面活性剤と似た濡れおよびレベリングの特徴を示したことを表わしている。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．  式（１）：
Ｂ−Ｘ−ＣＯＣＨ2Ｏ−［−ＣpＨ2pＯ−］n−ＣＨ2ＣＯ−Ｘ−Ｒa      （１）
の化合物であって、
式中、
Ｂが、ＭまたはＲaであり、
Ｍが、イオン化可能な水素であり、
ｐが、約２から約４であり、
ｎが、約５から約４３であり、
各Ｘが、独立してＮＲ、ＳＣＨ2ＣＨ2ＮＲ、ＳＯ2ＮＲＣＨ2ＣＨ2ＮＲ、またはＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＲであり、
Ｒが、水素、あるいは線状または分岐アルキル基ＣbＨ(2b+1)（式中、ｂは１から約１８である）であり、
Ｒaが、Ｒf（ＣＨ2ＣＦ2）d−（ＣgＨ2g）−、Ｒf（ＯＣＦ2ＣＦ2）r−（ＣgＨ2g）−、ＲfＯＹ−、Ｒf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−、Ｒf（ＣgＨ2g）−、またはＨ（ＣcＦ2c）−（ＣgＨ2g）−であり、
Ｙが、ＣＦＨＣＦ2Ｏ（ＣwＨ2w）−、またはＣＦ（ＣＦ3）ＣＯＮＨ−（ＣgＨ2g）−であり、
各Ｒfが、独立してＣcＦ(2c+1)（式中、ｃは１から約６である）であり、
ｄが、１から約３であり、
ｇが、１から約４であり、
ｓが、０または１であり、
ｒが、１から約４であり、
ｈが、１から約６であり、
ｗが、約２から約１２であり、
ｉ、ｊ、およびｋは、Ｒf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−中の炭素原子の総数が約８から約２２であるという条件で、それぞれ独立して１、２、または３、あるいはそれらの混在したもの（ｍｉｘｔｕｒｅ）である、
化合物。
２．  ｎが約６から約３２であり、ＸがＮＲまたはＳＣＨ2ＣＨ2ＮＲである、前記１に記載の化合物。
３．  ＲaがＲf（ＣgＨ2g）−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、式中、ｃが４または６であり、ｇが１また２である、前記１に記載の化合物。
４．  ＲaがＲf（ＣＨ2ＣＦ2）d−（ＣgＨ2g）−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、式中、ｃが４または６であり、ｄが１または２であり、ｇが２である、前記１に記載の化合物。
５．  ＲaがＲf［ＯＣＦ2ＣＦ2］r（ＣgＨ2g）−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、式中、ｃが２または３であり、ｓが０であり、ｒが１、２、または３であり、ｇが２である、前記１に記載の化合物。
６．  ＲaがＲfＯＹ−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、式中、ｃが１、２、または３であり、ＹがＣＦＨＣＦ2Ｏ（ＣwＨ2w）−またはＣＦ（ＣＦ3）ＣＯＮＨ−（ＣgＨ2g）−であり、ｗは２、３、または４であり、ｇは２である、前記１に記載の化合物。
７．  ＲaがＲf（ＣＨ2）h［（ＣＦ2ＣＦ2）i（ＣＨ2ＣＨ2）j］k−であり、ＲfがＣcＦ(2c+1)であり、それら式中でｃが１、２、または３であり、ｈが２であり、ｋが１、２、または３であり、ｉおよびｊがそれぞれ１であり、かつＸがＯまたはＳＣＨ2ＣＨ2Ｏである、前記１に記載の化合物。
８．  ０．１重量％の水中濃度において約２１ｍＮ／ｍ未満の表面張力を有する、前記１に記載の化合物またはその混合物。
９．  液体に前記１に記載の前記化合物を加える工程を含む、前記液体の表面挙動を変える方法。
１０．  前記表面挙動が、表面張力の低下、濡れ、浸透、延展、レベリング、流動、乳化、分散、撥水撥油、剥離、潤滑、蝕刻、接着、および安定化からなる群から選択され、また前記液体が、塗料組成物、ラテックス、ポリマー、床仕上げ剤、インク、乳化剤、発泡剤、離型剤、撥水撥油剤、流れ調整剤、フィルム蒸発抑制剤、湿潤剤、浸透剤、洗浄剤、研摩剤、電気めっき剤、腐蝕防止剤、エッチング液、はんだ付け剤、分散助剤、微生物製剤、パルプ助剤、すすぎ助剤、艶出剤、パーソナルケア組成物、乾燥剤、帯電防止剤、床仕上げ剤、または接着剤である、前記９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月19日(2012.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面に硬質クロム層を沈着をするための方法であって、該方法が、
前記基板表面とクロム含有電解質を接触させるステップと、
前記基板表面上に第１の硬質クロム層を沈着するために、基板表面と対向電極との間にパルス電流を印加するステップと、
前記第１の硬質クロム層の上にさらに第２の硬質クロム層を沈着せしめるステップと、を含み、
前記沈着が、周囲に対して本質的にガス不透過性の容器中で、かつ、周囲圧力に比較して減圧条件下で行うと共に、
前記基板表面とクロム含有電解質とは、０．１〜５ｍ／秒の速度で互いに移動せしめられる、
ことを特徴とする基板表面に硬質クロム層を沈着するための方法。
【請求項２】
前記第２の硬質クロム層の第１の硬質クロム層上への沈着が、直流の電流を用いて行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記減圧が、周囲圧力に対して、１０〜８００ミリバールの圧力差を設けられていることを特徴とする請求項１〜２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４】
前記減圧が、周囲圧力に対して、２０〜２００ミリバールの圧力差を設けられていることを特徴とする請求項１〜２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記パルス電流の周波数が５〜５０００Ｈｚであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記パルス電流の周波数が５０〜１０００Ｈｚであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の硬質クロム層の沈着が、２５〜１０００Ａ／ｄｍ２の電流密度で行われることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の硬質クロム層の沈着が、５０〜５００Ａ／ｄｍ２の電流密度で行われることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記第２の硬質クロム層の沈着が、直流の電流で、かつ、２５〜１０００Ａ／ｄｍ２の電流密度で行われることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記各硬質クロム層の沈着が、電解質温度が３０〜８５℃の範囲で行われることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記電解質のｐＨが３以下であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
基板表面に硬質クロム層を沈着をするための方法であって、該方法が、
前記基板表面とクロム含有電解質を接触させるステップと、
前記基板表面上に第１の硬質クロム層を沈着するために、基板表面と対向電極との間にパルス電流を印加するステップと、
前記第１の硬質クロム層の上にさらに第２の硬質クロム層を沈着するために、第１の硬質クロム層と対向電極との間に直流電流を印加するステップと、を含み、
前記第１と第２の硬質クロム層の沈着が、周囲に対して本質的にガス不透過性の容器中で、かつ、周囲圧力に比較して１０〜８００ミリバールの減圧下、電解質のｐＨが３以下、パルス電流の周波数が５〜５０００Ｈｚ、電流密度が２５〜１０００Ａ／ｄｍ２、電解質温度が３０〜８５℃の条件下で行われ、前記基板表面とクロム含有電解質とは、０．１〜５ｍ／秒の速度で互いに移動せしめられる、
ことを特徴とする基板表面に硬質クロム層を沈着するための方法。
【請求項１３】
前記第１と第２の硬質クロム層の沈着が、周囲圧力に比較して２０〜２００ミリバールの減圧下、電解質のｐＨが１以下、パルス電流の周波数が５０〜１０００Ｈｚ、電流密度が５０〜５００Ａ／ｄｍ２の条件下で行われ、前記基板表面とクロム含有電解質とは、１〜５ｍ／秒の速度で互いに移動せしめられる、
ことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法によって沈着された硬質クロム層を有してなる
ことを特徴とする基板。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月28日(2012.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性的に撓む材料から成る、皮膚に着用するための圧迫衣類であって、部分的に、圧迫のための手段が設けられており、前記圧迫のための手段が、ウェブ（３）により形成されていて、該ウェブが皮膚（２）に面した側に設けられていることを特徴とする、皮膚に着用するための圧迫衣類。
【請求項２】
前記ウェブ（３）が、材料厚さを高めることにより生ぜしめられている、請求項１記載の圧迫衣類。
【請求項３】
前記ウェブ（３）が、ほぼ三角形の形状を有している、請求項１記載の圧迫衣類。
【請求項４】
前記ウェブ（３）が、規則的な間隔を置いて配置されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の圧迫衣類。
【請求項５】
前記ウェブ（３）が、コーティング（７）を備えている、請求項１から４までのいずれか１項記載の圧迫衣類。
【請求項６】
弾性的に撓む材料から成る、皮膚に着用するための圧迫衣類であって、部分的に、圧迫のための手段が設けられており、前記圧迫のための手段が、織布ストリップ（８）により形成されており、該織布ストリップ（８）が、衣料のベース織布とは異なる弾性を有していることを特徴とする、皮膚に着用するための圧迫衣類。
【請求項７】
前記手段（３，８）が、中断部（３４，８１）を有している、請求項１から６までのいずれか１項記載の圧迫衣類。
【請求項８】
前記手段（３，８）が、水平方向に方向付けされている、請求項１から７までのいずれか１項記載の圧迫衣類。
【請求項９】
前記手段（３，８）が、鉛直方向に方向付けされている、請求項１から７までのいずれか１項記載の圧迫衣類。
【請求項１０】
前記手段（３，８）が、螺旋状に方向付けされている、請求項１から７までのいずれか１項記載の圧迫衣類。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月7日(2012.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
焼結炭化物基材に界面で完全に結合した多結晶ダイヤモンド（ＰＣＤ）構造体であって、平均サイズ約１５ミクロン以下を有するコヒーレントに結合したダイヤモンド粒を含む前記ＰＣＤ構造体と、金属結合剤中に分散した金属の炭化物化合物を含む炭化物粒子を含む前記焼結炭化物基材とを含み、前記基材中の複数の位置での金属結合剤の量と金属の量との比が、平均値の最大約２０パーセントで平均値から逸脱する、ＰＣＤ複合物成形体エレメント。
【請求項２】
炭化物粒子の金属が、Ｗ、Ｔｉ、Ｔａ及びＣｒからなる群から選択される耐火金属である、請求項１に記載のＰＣＤ複合物成形体エレメント。
【請求項３】
基材が界面から少なくとも１ｍｍの深部に延在する表面領域を有し、その領域がその内に分散したダイヤモンド粒子を含む、請求項１及び２のいずれか一項に記載のＰＣＤ複合物成形体エレメント。
【請求項４】
ＰＣＤ構造体が、第１及び第２の領域を含み、第１の領域のダイヤモンド粒の平均サイズが第２の領域のダイヤモンド粒の平均サイズより大きく、第１の領域は基材の近傍であり、第２の領域は基材から離れている、請求項１から３までのいずれか一項に記載のＰＣＤ複合物成形体エレメント。
【請求項５】
ＰＣＤ構造体中の複数の位置での金属結合剤の量と炭素の量との比が、界面からＰＣＤ構造体への少なくとも０．５ｍｍの深部にかけて、平均値の最大２０パーセント、平均値から逸脱する、請求項１から４までのいずれか一項に記載のＰＣＤ複合物成形体エレメント。
【請求項６】
焼結炭化物から形成された基材に完全に結合した多結晶ダイヤモンド（ＰＣＤ）構造体を含む多結晶ダイヤモンド複合物（ＰＤＣ）成形体エレメントを作製する方法であって、前記基材の結合面で又はその近傍で、過剰炭素の供給源を前記基材に導入して、炭素と化合した前記基材又は炭素と化合した基材集合体を形成すること、結合面と隣接して又はその近傍で、ダイヤモンド粒の凝集物を炭素と化合した基材又は炭素と化合した基材集合体と接触させて、非結合の集合体を形成すること、及びダイヤモンドの溶媒／触媒物質の存在下で、ダイヤモンドがＰＣＤを形成するのに熱力学的に安定な温度及び圧力でダイヤモンド粒を焼結させることを含み、凝集物中のダイヤモンド粒の平均サイズが約３０ミクロン以下である、前記方法。
【請求項７】
基材の結合面で又はその近傍で、過剰炭素の少なくとも０．１重量パーセントの供給源を基材に導入することを含み、重量パーセントが、炭素が導入される領域内の全基材物質に対して表わされる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
多重モードの粒度分布を有するダイヤモンド粒から凝集物を形成することを含む、請求項６及び７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
過剰炭素の供給源がカーボンブラック粉末又は黒鉛の形態である、請求項６から８までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
基材の結合面で又はその近傍で、ダイヤモンドを前記基材に導入すること、及び少なくとも一部のダイヤモンドを黒鉛に変換することを含み、過剰炭素の供給源として役立つ、請求項６から９までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
粒子又は顆粒の形態の過剰炭素の供給源を焼結炭化物用の原料と混ぜ合わせること、その混合物を実質的に独立してグリーン体に形成すること、及びダイヤモンドが熱力学的に安定でない圧力でそのグリーン体を焼結させることを含む、請求項６から１０までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
ダイヤモンド粒を焼結炭化物用の原料と混ぜ合わせること、この混合物を実質的に独立してグリーン体に形成すること、そのグリーン体を少なくとも５００℃の温度、及びダイヤモンドが熱力学的に安定でない圧力にさらすことを含む、請求項６から１１までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
炭化タングステン、炭化タンタル、炭化ニオブ及び炭化バナジウムからなる群から選択される耐火金属炭化物粒子をダイヤモンド粒の凝集物中に導入すること、及び／又は金属炭化物の耐火金属前駆体をダイヤモンド粒の凝集物中に導入することを含み、耐火金属は非炭化物化合物又は元素の形態のタングステン、タンタル、ニオブ及びバナジウムからなる群から選択される、請求項６から１２までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１から５までのいずれか一項に記載のＰＣＤ複合物成形体エレメントを含むドリルビット用のＰＣＤカッターインサート。
【請求項１５】
請求項１４に記載のＰＣＤカッターインサートを含む地面への穿孔のためのドリルビット。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月27日(2012.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
更には、文献「Geometric and elastic error calibration of a high accuracy patient positioning system」（Marco A. Meggiolaro et al., Mechanism and Machine Theory 40 (2005) 415-427, 12 September 2004）は、患者の位置決めのための別の電気機械システムの変形の補償方法を記載している。この文献に記載のロボットモデルは、垂直方向、横方向、及び長手方向の並進運動のための３つの線状シャフトを備えている。更に、処置テーブルとの固定のインターフェイスの下方に３つの非共点的回転軸を有している。６つの自由度を有するこの位置決めシステムは、ピッチ及びロールについて限られた可能性（±３°）しか提供していない。更に、このデバイスの制御は、あらゆるロボットシステムによって提供されるような、腫瘍に関連してリストから離れた仮想の基準点を中心とする回転など、複雑な運動の実行を可能にするものではない。この設備は、先のシステムと同じ欠点（すなわち、機械的な弾性及び処置室の深いピットの必要性）を有している。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月10日(2012.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データ内の物体を、前記物体のモデルに結合された第１の横断表面を使用して可視化するシステムであって、前記システムは、
前記画像データにおける前記物体に前記モデルを適合させるモデル装置と、
前記第１の横断表面と前記モデルとの間の結合に基づいて、前記適合モデルに前記第１の横断表面を適合させる表面装置と、
前記適合させた第１の横断表面に基づいて前記画像データから画像を計算する可視化装置と
を備えるシステム。
【請求項２】
請求項１記載のシステムであって、前記物体の前記モデルに結合された第２の横断表面を使用して更に構成され、
前記表面装置は、前記第２の横断表面と前記モデルとの間の結合に基づいて、前記適合モデルに前記第２の横断表面を適合させるよう更に構成され、
前記可視化装置により、前記画像データから計算された前記画像は、前記適合させた第２の横断表面に更に基づくシステム。
【請求項３】
請求項１記載のシステムであって、前記第１の横断表面は、剛体であり、前記モデルに可動に結合されるシステム。
【請求項４】
請求項１記載のシステムであって、前記第１の横断表面が弾性であるシステム。
【請求項５】
請求項１記載のシステムであって、前記第１の横断表面は、前記モデルに硬性的に、又は弾性的に結合された複数の制御点を含むシステム。
【請求項６】
報告を生成する報告システムであって、前記報告システムは、請求項１又は２に記載のシステムを備え、前記報告は前記可視化装置によって計算された前記画像を含む報告システム。
【請求項７】
請求項１記載のシステムを備える画像獲得装置。
【請求項８】
請求項１記載のシステムを備えるワークステーション。
【請求項９】
画像データ内の物体を、前記物体のモデルに結合された第１の横断表面を使用して可視化する方法であって、
前記画像データにおける前記物体に前記モデルを適合させるモデル工程と、
前記第１の横断表面と前記モデルとの間の結合に基づいて、前記適合モデルに前記第１の横断表面を適合させる表面工程と、
前記適合させた第１の横断表面に基づいて前記画像データから画像を計算する可視化工程と
を含む方法。
【請求項１０】
請求項９記載の方法であって、前記物体の前記モデルに結合された第２の横断表面を使用するよう更に構成され、
前記表面工程は、前記第２の横断表面と前記モデルとの間の結合に基づいて、前記適合モデルに前記第２の横断表面を適合させるよう更に構成され、
前記可視化工程において、前記画像データから計算される前記画像は、前記適合させた第２の横断表面に更に基づく方法。
【請求項１１】
請求項９記載の方法であって、前記第１の横断表面は、モデルに硬性的に、又は弾性的に結合された複数の制御点を含む方法。
【請求項１２】
コンピュータ装置によってロードされる対象のコンピュータ・プログラムであって、前記コンピュータ・プログラムは、物体のモデルに結合された第１の横断表面を使用して画像データ内の物体を可視化するための命令を含み、前記コンピュータ装置は処理装置及びメモリを含み、前記コンピュータ・プログラムは、ロードされた後、前記画像データ内の前記物体に前記モデルを適合させる機能と、前記第１の横断表面と前記モデルとの間の結合に基づいて前記第１の横断表面を、前記適合モデルに適合させる機能と、前記適合させた第１の横断表面に基づいて前記画像データから画像を計算する機能と
を行うための機能を処理装置に提供するコンピュータ・プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月22日(2012.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ源を使用して２つの重ねられたフィルムを溶接する方法であって、
該フィルムは、密封された可撓性の袋を作るよう、同一材料であるプラスチックを有して管状フィルムから作られ、該管状フィルムは、押出し成形によって形成される管状フィルムによって形成され、前記２つのフィルムは、静電気力により互いに対して軽く接着される、
方法。
【請求項２】
前記フィルムの前記材料は、エチレン酢酸ビニール（EVA）を与えられるポリエチレン又はポリウレタンのいずれかである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記与えられるEVAは、質量で１３．５％乃至１８％である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記フィルムの各々の厚さは、２００μｍ乃至３００μｍである、請求項１乃至３のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
可撓性の袋を作るための装置であって、
レーザビームを使用して溶接され得る単一の管状フィルムからの可撓性の材料で作られた２つのフィルムがその上に重ねられることが意図されるテーブルと、
レーザ源と、
リールの形態の前記管状フィルムがその上に配置されるスプールと、
前記レーザ源及び前記テーブルの相対的な移動をもたらし得る手段と、
事前にプログラムされる形状に従って溶接を行なうよう前記移動の手段を制御することが意図される制御ユニットとを含み、
前記テーブルは、前記テーブルと接触する下方フィルムを不動化することによって前記管状フィルムを不動化する手段を含む、
装置。
【請求項６】
前記移動の手段は、前記テーブルと平行な平面内で前記テーブルに対して前記レーザ源を動かす、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記制御ユニットは、行なわれるべき前記溶接の幾何学的形状に応じて前記レーザ源によって放射される前記レーザビームの強度を修正する手段を含む、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
切断手段と、該切断手段と前記テーブルとの間の相対的な移動をもたらし得る手段とを含み、前記移動の手段は、前記溶接内で又は該溶接外の前記溶接に沿って切断するよう、前記制御ユニットによって制御される、請求項５、６又は７に記載の装置。
【請求項９】
前記レーザ源の前記移動の手段は、前記切断手段を動かすようにも意図される、請求項５乃至８のうちのいずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】
前記スプールから前記テーブルの上に前記フィルムを配置するコンベヤベルトを含み、該コンベヤベルトの始動は、前記テーブル上の前記フィルムの自動配布をもたらす、請求項５乃至９のうちのいずれか１項に記載の装置。
【請求項１１】
例えば、吸引等によって、前記ベルト上にフィルムを不動化する手段を含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
請求項５乃至１１のうちのいずれか１項に記載の袋を作るための装置を使用して可撓性の袋を作るための方法であって、
−  前記レーザ源の前記移動のために前記袋の形状に応じて前記制御ユニットをプログラムするステップと、
−  押出し成形によって形成される管状フィルムによって形成される管状フィルムから２つの厚みを有するフィルムを前記テーブル上の所定位置に配置するステップと、
−  前記テーブルと接触する前記下方フィルムを不動化することによって前記テーブル上に前記管状フィルムを不動化するステップと、
−  前記レーザ源を動かす手段を始動させ、且つ、前記レーザビームのスイッチを入れるステップと、
−  前記プログラムされた形状に従って前記レーザ源を動かすステップと、
−  前記レーザビームを消し、且つ、前記レーザ源を動かす手段を停止するステップと、
−  前記溶接内で或いは前記溶接外において前記袋を切断するステップとを含む、
方法。
【請求項１３】
前記レーザビームのスイッチを入れるステップは、前記レーザ源が動き始めた後に行なわれる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記テーブルに接触している前記フィルムに前記レーザビームの焦点を合わせる事前のステップを有する、請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記切断手段を動かすよう前記制御ユニットをプログラムするステップを含む、請求項１２乃至１４のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記切断するステップの後に前記テーブルを通る空気の放出によって前記袋を退避させるステップを含む、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月30日(2012.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉末系のラピッドプロトタイピング法により、即ち、粉末状の有機ポリマー出発原料または出発原料混合物を薄層として基材に塗布し、次いでこの層の選択された位置で、バインダーといずれかの必要な助剤と混合し、あるいはこの粉末をこれらの位置に結合するように、照射または処理して、この粉末がその層の中だけでなく隣接する層にも結合させ、この手順を、得られる粉末床中で成形体の所望の形状が完全に得られるまで繰り返し、次いでこのバインダーで結合した粉末を所望の形状で保持するように未結合の粉末を除去する方法により、イオン交換体特性または吸着剤特性を有する有機ポリマー成形体を製造する方法であって、出発原料自体がイオン交換体特性または吸着剤特性を持っているか、成形体の適当な官能化が成形工程の後に行われ、且つ前記ポリマー出発原料が、成形工程の前又は後でキレート基、塩基性基、または酸性基で官能化されることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記バインダーが少なくとも表面的にポリマー出発原料を溶解して、粉末粒子間を結合させる溶媒である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ポリマー出発原料が照射により少なくとも表面的に軟化して、粉末粒子間の結合が形成される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ポリマー出発原料が、加えられた活性化剤化合物と反応してポリマー出発原料の粉末粒子間を結合させる反応性化合物を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記反応性化合物がポリマー出発原料の構造中に含まれるモノマーである請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ポリマー出発原料が、適当なら成形工程の前又は後で架橋されたポリ（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリレート、あるいはポリスチレンを基礎とするものである請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法により製造が可能なイオン交換体特性または吸着剤特性を有する有機ポリマー成形体。
【請求項８】
外側に開放された成形体内部を貫通する一個以上の流路を有するイオン交換体特性または吸着剤特性を有する有機ポリマー成形体。
【請求項９】
同一体積の球の表面積／体積比に対して少なくとも２倍の表面積／体積比をもつイオン交換体特性または吸着剤特性を有する有機ポリマー成形体。
【請求項１０】
モノリスの形状を有し内部を流体が流れるイオン交換体特性または吸着剤特性を有する有機ポリマー成形体であって、該モノリスは反応媒体が流れる流路を有し、該流路が流れの主方向に対して０°〜７０°の範囲、好ましくは３０°〜６０°の範囲の角度で傾いていることを特徴とする有機ポリマー成形体。
【請求項１１】
内部で、成形体を充填材または床の形で含むカラム状の反応器内を反応媒体が流れ、該充填材は、縦方向に配置された充填部を形成する一個または複数のエレメントからなり、個々の充填材エレメントまたは床エレメントが複数の縦方向に配向した層を持ち、各層が近接して配置された流路を持ち、近隣の層の流路が交差し、充填材エレメントまたは床エレメント内の流路が該液体に対して非透過性あるいは透過性である側壁を有する、充填材エレメントであって、該成形体が内部を反応媒体が流れる流路を有し、該流路が流れの主方向に対して０°〜７０°の範囲、好ましくは３０°〜６０°の範囲の角度で傾いていることを特徴とする充填材エレメント。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月9日(2012.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被圧延材（Ｇ）を圧延するための圧延ライン（２）の多数の駆動装置（２０，２１，２２，２３）の駆動負荷を調整するための方法であって、前記圧延ライン（２）が多数の圧延スタンド（４，５，６，７）を有し、当該各圧延スタンド（４，５，６，７）に含まれるワークロールを駆動するために、当該各圧延スタンド（４，５，６，７）には少なくとも１つの駆動装置（２０，２１，２２，２３）が付設されており、駆動負荷が、第１のパススケジュールによる圧延ライン（２）の動作に基づいて、基本的には第１の目標値に調整される方法において、
圧延中に、前記駆動負荷が、前記第１のパススケジュールとは異なった第２のパススケジュールに基づく第２の目標値の方向に調整され、少なくとも当該第２の目標値の調整中に、前記圧延ライン（２）への前記被圧延材（Ｇ）の入口速度（Ｖｅ）が、質量流れ方向において前記圧延ライン（２）よりも上流側に設けられた装置（３）の前記被圧延材（Ｇ）の出口速度（Ｖｇ）に依存して調整される
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記被圧延材（Ｇ）が、前記第１のパススケジュールに基づく前記圧延ライン（２）の運転の際および前記第２のパススケジュールに基づく前記圧延ライン（２）の運転の際に、同じ出口厚（Ｈａ）に圧延される
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
時間的に、前記圧延ライン（２）における前記被圧延材（Ｇ）の圧延中に行なわれる、前記圧延ラインの第１の出口厚（Ｈａ）から前記圧延ライン（２）の第１とは異なる第２の出口厚（Ｈａ）への移行の後に、前記方法が実行される
ことを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
前記圧延ライン（２）と、前記被圧延材（Ｇ）の質量流れ方向で前記圧延ライン（２）よりも上流側に設けられた少なくとも１つの鋳造装置（３）とが、製造技術的に結合されている
ことを特徴とする請求項１から３のうち１つに記載の方法。
【請求項５】
制御命令の実行時に、請求項１から４のうちの１つに記載の方法を、制御装置又は調節装置もしくは制御・調節装置（８）によって実行するように指示する制御命令を有する機械読取可能なプログラムコード（１０）を備えた、多スタンドの圧延ライン（２）を含む圧延設備（１）のための制御装置又は調節装置もしくは制御・調節装置。
【請求項６】
圧延設備（１）用の制御装置又は調節装置もしくは制御・調節装置（８）のための、プログラムコード（１０）であって、
前記制御装置又は調節装置もしくは制御・調節装置（８）に、請求項１から４の１つに記載の方法を実行するように指示する制御命令を有する
ことを特徴とする機械読取可能なプログラムコード。
【請求項７】
記憶媒体（９）であって、
請求項６記載の機械読取可能なプログラムコード（１０）を記憶した
ことを特徴とする記憶媒体。
【請求項８】
金属被圧延材（Ｇ）を圧延するための多スタンドの圧延ライン（２）と、請求項５記載の制御装置又は調節装置もしくは制御・調節装置（８）と、質量流れ方向において前記圧延ライン（２）の上流側に設けられた装置（３）の前記被圧延材（Ｇ）の出口速度（Ｖａ）を請求項５記載の制御又は調節装置（８）に供給するための装置とを備え、前記圧延ライン（２）の複数の前記圧延スタンド（４，５，６，７）が、前記制御装置又は調節装置もしくは制御・調節装置（８）に、作用的に結合されている
ことを特徴とする圧延設備。
【請求項９】
前記圧延ライン（２）が、質量流れ方向において鋳造装置（３）の下流側に設けられた、高圧下圧延機（ハイリダクションミル）又は仕上げラインもしくは高圧下圧延機兼仕上げラインとして構成されている
ことを特徴とする請求項８記載の圧延設備。
【請求項１０】
前記上流側に設けられた装置（３）が、２ロール式鋳造機（３’）又は連続鋳造用鋳型として構成されている、鋳造装置（３）である
ことを特徴とする請求項８又は９記載の圧延設備。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
即ち、本発明は、先ず第１のパススケジュールによる出口厚を使用し、引き続いて圧延中に圧延ラインの出口厚の変更を第２のパススケジュールに基づいて行なうならば、格別に有利に使用できる。第２のパススケジュールは、第１の出口厚から第２の出口厚へ問題なく移行できるように算定されている。第２の出口厚が調整されると、すぐにその次のパススケジュール変更が次のように行なわれるとよい。即ち、圧延ラインの駆動装置の駆動負荷が第２のパススケジュールによる出口厚における圧延ラインの定常運転に対して最適化されるように行なわれるとよい。こうして、第２のパススケジュールが第３のパススケジュールに移行される。この例では、第２のパススケジュールが請求項２において言及されている第１のパススケジュールに相当し、第３のパススケジュールが請求項２において言及されている第２のパススケジュールに相当する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
出口厚Ｈａは、駆動装置２０，２１，２２もしくは２３の負荷の再配分全体の期間中、一定のままである。即ち、駆動負荷の再配分によって生じさせられる質量流量外乱は、少なくとも１つの後続の圧延スタンド５，６もしくは７によって、所望の出口厚Ｈａが維持されるように補償される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
図２および図３における圧延ライン２の動作は、圧延スタンド４，５,６および７に関して、圧延ライン２の動作時に第１もしくは第２のパススケジュールに従って異なった圧下量が発生することによってのみ、相違する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
コンパクト性および資源使用の低減は、２ロール式鋳造機３’によって更に詳細に所望の最終生産物の最終寸法に合わせた鋳造が可能であることからからもたらされる。即ち、２ロール式鋳造機３’から出る被圧延材は一般に、連続鋳造用鋳型（図１参照）から出てくる被圧延材Ｇよりも既に大幅に薄い。それによって、例えば、一般に連続鋳造用鋳型で運転される鋳造機の後段に設けられている粗圧延ライン又は高圧下圧延機（ハイリダクションミル）を省略することができる。これは、連続鋳造用鋳型から鋳造された被圧延材を仕上げ圧延に備えて整えるのに使用される。これに対して、２ロール式鋳造機の場合は、このような変形用前処理を常には必要とせず、圧延ライン２における被圧延材Ｇの仕上げ圧延のみを必要とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
これを実現するために、図１から図３に対して説明した事項が、同様に２ロール式鋳造機３’を含む圧延設備１にも適用される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月9日(2012.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被圧延材（Ｇ）の第１の部分（Ｇ−１）が第１の出口厚（Ｈ３）に圧延され、前記被圧延材（Ｇ）の第２の部分（Ｇ−２）が前記第１の出口厚（Ｈ３）とは異なった第２の出口厚（Ｈ３’）に圧延される、多スタンド式の圧延ライン（２）を通過する前記被圧延材（Ｇ）の出口厚（Ｈ３，Ｈ３’）を調整するための方法において、
前記圧延中に生じる前記第１の出口厚から前記第２の出口厚への移行が前記圧延ライン（２）への前記被圧延材（Ｇ）の入口速度（Ｖ０）で行なわれる、その入口速度（Ｖ０）が、質量流れ方向において前記圧延ライン（２）の上流側に設けられた装置（６）での前記被圧延材（Ｇ）の出口速度（Ｖｇ）に依存して調整される
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記入口速度（Ｖ０）が、基本的に、前記圧延ライン（２）の直ぐ上流側に設けられた前記装置（６）の前記出口速度に調整される
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記圧延ライン（２）と、前記質量流れ方向において前記圧延ライン（２）の上流側に設けられた少なくとも１つの前記装置（６）とが、前記第１の部分の被圧延材（Ｇ）および前記第２の部分の被圧延材（Ｇ）によって、製造技術的に結合される
ことを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
第１のパススケジュールおよび第２のパススケジュールが予め与えられ、前記第１のパススケジュールの実行時に前記第１の出口厚（Ｈ３）への圧延が行なわれ、前記第２のパススケジュールの実行時に前記第２の出口厚（Ｈ３’）への圧延が行なわれ、前記第１のパススケジュールによる前記圧延ライン（２）の動作が、前記被圧延材の圧延中に前記第２パススケジュールによる前記圧延ライン（２）の動作に移行させられ、前記圧延ライン（２）の各圧延スタンド（３，４，５）のための移行が、それぞれの圧延スタンド（３，４，５）による前記被圧延材（Ｇ）の規定された移行部分（Ｘ０，Ｘ１，Ｘ２）での圧延中に行なわれる
ことを特徴とする請求項１から３のうち１つに記載の方法。
【請求項５】
前記移行部分（Ｘ０，Ｘ１，Ｘ２）が、前記圧延ライン（２）の通過中のどの時点でも２つの隣接する前記圧延スタンドの間隔以下の長さを有するように、前記移行部分（Ｘ０，Ｘ１，Ｘ２）が決定される
ことを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記移行部分（Ｘ０，Ｘ１，Ｘ２）が、前記圧延ライン（２）に含まれる複数の前記圧延スタンド（３，４，５）によって圧延され、少なくとも１つの前記圧延スタンド（３，４，５）が、前記移行部分（Ｘ０，Ｘ１，Ｘ２）の圧延中に圧延力調節される圧延スタンド（３，４，５）として動作させられる
ことを特徴とする請求項４又は５記載の方法。
【請求項７】
前記移行部分（Ｘ０，Ｘ１，Ｘ２）の圧延時に、前記第１のパススケジュールに基づいて調整されたプロセス量実際値が、前記第２のパススケジュールに基づいて求められたプロセス量目標値へと、連続的に移行させられる
ことを特徴とする請求項４から６のうち１つに記載の方法。
【請求項８】
前記移行部分（Ｘ０，Ｘ１，Ｘ２）の圧延時に設備技術上の制約が守られていることが検査され、制約の違反時又は違反が予測されるときには、前記第１のパススケジュールによる前記圧延ラインの動作から前記第２のパススケジュールによる前記圧延ライン（２）の動作への移行が中断される
ことを特徴とする請求項４から７のうち１つに記載の方法。
【請求項９】
前記移行部分（Ｘ０，Ｘ１，Ｘ２）によって直ぐ次に通過されるべき圧延スタンド（３，４，５）の圧延力およびロール間隔のうちの少なくともいずれか一方が、前記第１および第２のパススケジュールに加えて、当該圧延スタンド（４，５）と、前記質量流れ方向において当該圧延スタンド（４，５）の上流側に設けられた圧延スタンド（３，４）との間のストリップ張力に依存して調整される
ことを特徴とする請求項４から８のうち１つに記載の方法。
【請求項１０】
前記第１のパススケジュールによる前記圧延ライン（２）の動作から前記第２のパススケジュールによる圧延ラインの動作への移行中に、前記圧延ライン（２）の各圧延スタンド（３，４，５）について、前記第１の出口厚から前記第２の出口厚への相対的変更が略一定であるように、前記圧延ライン（２）の各圧延スタンド（３，４，５）が動作させられる
ことを特徴とする請求項４から９のうち１つに記載の方法。
【請求項１１】
前記第１のパススケジュールによる前記圧延ライン（２）の動作から前記第２のパススケジュールによる前記圧延ライン（２）の動作への移行後に、当該圧延ライン（２）に付設された圧延スタンド駆動装置の駆動負荷の再分配が、前記第２の出口厚（Ｈ３’）の圧延中に行なわれる
ことを特徴とする請求項４から１０のうち１つに記載の方法。
【請求項１２】
前記質量流れ方向において前記圧延ライン（２）の下流側に設けられた少なくとも１つの装置（８）のための操作量の、前記圧延ライン（２）の変更された出口厚（Ｈ３，Ｈ３’）に基づいて必要な変更が、当該少なくとも１つの装置（８）によって移行部分（Ｘ３）に影響が及ぼされている間に行なわれる
ことを特徴とする請求項１から１１のうち１つに記載の方法。
【請求項１３】
制御命令実行時に制御又は調節装置（９）に請求項１から１２のうち１つに記載の方法を実施するように指示する制御命令を有する機械読取可能なプログラムコードを備えた、多スタンド式の圧延ライン（２）を含む圧延設備（１）における、多スタンド式の圧延ライン（２）を通過する被圧延材（Ｇ）の出口厚（Ｈ３，Ｈ３’）を調整するための制御又は調節装置。
【請求項１４】
金属の被圧延材（Ｇ）を圧延するための多スタンド式の圧延ライン（２）と、請求項１３記載の制御又は調節装置（９）と、質量流れ方向において圧延ライン（２）の上流側に設けられた装置（６）の被圧延材（Ｇ）の出口速度を請求項１３記載の制御又は調節装置（９）に供給するための装置とを備え、圧延ライン（２）の複数の圧延スタンド（３，４，５）が制御又は調節装置（９）に作用的に結合されている、多スタンド式の圧延ライン（２）を通過する被圧延材（Ｇ）の出口厚（Ｈ３，Ｈ３’）を調整するための圧延設備。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
しかし、それに代って、例えば設備技術上の制約に基づいて、移行中に厚さの楔形が同時に２つまたはそれ以上の隣接圧延スタンドにおいて圧延されるようにすることも可能である。これは、例えば圧延ラインの各圧延スタンドのための調整距離および加速度に関する圧延ラインへの要求を低減すること、そしてそれにより圧延ラインの移行が円滑に行なわれることを可能にする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月19日(2012.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の、及び第２の主表面を有する裏材層を含む創傷ドレッシングと、
前記裏材層の前記第１の主表面の少なくとも一部分の上の接着層と、
前記裏材層の前記第２の主表面に取り外し可能に接着したドレッシング支持層であって、前記ドレッシング支持層は、前記創傷ドレッシングの外周部に沿った前記裏材層の複数の交互の被覆された部分と被覆されていない部分を形成する放射状構成を有し、前記ドレッシング支持層は前記創傷ドレッシングの前記裏材層の縁部を超えて延びる少なくとも１つのタブを更に含み、前記タブは脆弱領域を含む、ドレッシング支持層とを含む、創傷ドレッシング、及び供給システム。
【請求項２】
前記ドレッシングが、前記裏材層の前記第１の主表面の少なくとも一部分の上に配置される吸収性材料を更に含む、請求項１に記載の創傷ドレッシング、及び供給システム。
【請求項３】
創傷ドレッシングを創傷に適用する方法であって、
（ａ）
（ｉ）第１の、及び第２の主表面を有する裏材層を含む創傷ドレッシング、
（ｉｉ）前記裏材層の前記第１の主表面の少なくとも一部分上の接着層、及び
（ｉｉｉ）前記裏材層の前記第２の主表面に取り外し可能に接着したドレッシング支持層であって、前記ドレッシング支持層は、前記創傷ドレッシングの前記外周部に沿って前記裏材層の複数の交互の被覆された部分と被覆されていない部分を形成する放射状構成を有し、前記ドレッシング支持層は前記創傷ドレッシングの前記裏材層の縁部を超えて延びる少なくとも１つのタブを更に含み、前記タブは脆弱領域を含む、ドレッシング支持層を含む、創傷ドレッシング、及び供給システムを提供する工程と、
（ｂ）少なくとも１つのタブを操作して前記タブと関連する前記支持層内にＶ字形を形成する工程と、
（ｃ）前記創傷の上に前記創傷ドレッシングを位置付ける工程と、
（ｄ）前記裏材層の前記第２の主表面に表面圧力を適用し、前記創傷ドレッシングの前記外周部を、前記創傷を囲む皮膚の表面に適合させる工程と、を含む、創傷ドレッシングを創傷に適用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月20日(2012.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷版を支持面に載せるステップと、
辺を利用し印刷版の姿勢を修正するための姿勢修正部材を複数個準備するステップと、
それら姿勢修正部材のうち第１姿勢修正部材に印刷版の辺が接触する位置まで第１方向に沿い支持面上方で印刷版を移動させるステップと、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿い運動しても辺側の位置が概ね変わらないよう第１姿勢修正部材と印刷版の辺との接触を保ちつつ且つ第１方向と交差する第２方向に沿い第１姿勢修正部材が運動するステップと、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿った運動を開始した後姿勢修正部材のうち第２姿勢修正部材と印刷版との接触を成立させるステップと、
を有し、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿った運動を開始した後姿勢修正部材のうち第２姿勢修正部材と印刷版との接触を成立させるステップが、第２姿勢修正部材と印刷版の辺との接触を成立させるステップを含み、
第２姿勢修正部材から離隔するよう第２方向に沿い第１姿勢修正部材が運動する印刷版姿勢修正方法。
【請求項２】
印刷版を支持面に載せるステップと、
辺を利用し印刷版の姿勢を修正するための姿勢修正部材を複数個準備するステップと、
それら姿勢修正部材のうち第１姿勢修正部材に印刷版の辺が接触する位置まで第１方向に沿い支持面上方で印刷版を移動させるステップと、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿い運動しても辺側の位置が概ね変わらないよう第１姿勢修正部材と印刷版の辺との接触を保ちつつ且つ第１方向と交差する第２方向に沿い第１姿勢修正部材が運動するステップと、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿った運動を開始した後姿勢修正部材のうち第２姿勢修正部材と印刷版との接触を成立させるステップと、
を有し、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿った運動を開始した後姿勢修正部材のうち第２姿勢修正部材と印刷版との接触を成立させるステップが、第２姿勢修正部材と印刷版の辺との接触を成立させるステップを含み、
支持面の接平面と交差する方向に沿い延びる軸周りで第１姿勢修正部材が回動する印刷版姿勢修正方法。
【請求項３】
印刷版を支持面に載せるステップと、
辺を利用し印刷版の姿勢を修正するための姿勢修正部材を複数個準備するステップと、
それら姿勢修正部材のうち第１姿勢修正部材に印刷版の辺が接触する位置まで第１方向に沿い支持面上方で印刷版を移動させるステップと、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿い運動しても辺側の位置が概ね変わらないよう第１姿勢修正部材と印刷版の辺との接触を保ちつつ且つ第１方向と交差する第２方向に沿い第１姿勢修正部材が運動するステップと、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿った運動を開始した後姿勢修正部材のうち第２姿勢修正部材と印刷版との接触を成立させるステップと、
を有し、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿った運動を開始した後姿勢修正部材のうち第２姿勢修正部材と印刷版との接触を成立させるステップが、第２姿勢修正部材と印刷版の辺との接触を成立させるステップを含み、
第１姿勢修正部材が第２方向に沿って運動している間に且つ支持面の接平面と交差する方向に沿い延びる軸周りで第１姿勢修正部材が回動する印刷版姿勢修正方法。