【手続補正書】
【提出日】平成15年12月16日(2003.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置において、露光光を反射によって導く反射光学系を構成する反射ミラー装置であって、
前記露光光を反射する反射面を有するミラーと、
前記ミラーの外表面より離間して配置され、前記反射面へ入射して反射する露光光の通過域を確保して配置された輻射冷却用の輻射板と、
前記輻射板の温度調節をするための温調機構と
を備えることを特徴とする反射ミラー装置。
【請求項２】
前記輻射板は複数に分離して配置されることを特徴とする請求項１に記載の反射ミラー装置。
【請求項３】
前記通過域は、前記複数に分離された輻射板と輻射板の間に形成されることを特徴とする請求項２に記載の反射ミラー装置。
【請求項４】
前記輻射板は、前記ミラーの反射面とそれ以外の外表面とで分離されていることを特徴とする請求項２に記載の反射ミラー装置。
【請求項５】
前記複数に分離された輻射板の各々は、前記ミラーの外表面の形状に沿った形状を有し、該ミラーより略一定の距離だけ離間して設けられることを特徴とする請求項２に記載の反射ミラー装置。
【請求項６】
前記冷却機構は、前記複数に分離した輻射板の各々について個別に温度調節を行なうことを特徴とする請求項２乃至５のいずれかに記載の反射ミラー装置。
【請求項７】
前記温調機構は冷却液あるいは冷却気体を循環させることにより前記輻射板の温度調節を行なうことを特徴とする請求項１に記載の反射ミラー装置。
【請求項８】
前記温調機構は、
前記ミラーの温度を計測する第１温度計と、
前記冷却液の温度を計測する第２温度計と、
前記露光光の発光制御情報に基づいて前記ミラーへ入射される露光光の光量を推定する光量推定手段と、
前記第１温度計及び前記第２温度計によって得られた温度情報と、前記光量推定手段によって推定された露光光量とに基づいて前記冷却液あるいは冷却気体の温度を制御する温度コントローラとを含むことを特徴とする請求項７に記載の反射ミラー装置。
【請求項９】
前記第１温度計は前記ミラーより所定距離だけ離間して配置された放射温度計であることを特徴とする請求項８に記載の反射ミラー装置。
【請求項１０】
前記温調機構は、
前記輻射板に装着された固体冷却素子と、
前記固体冷却素子を冷却するべく冷却液あるいは冷却気体を循環させる循環機構とを備えることを特徴とする請求項１に記載の反射ミラー装置。
【請求項１１】
前記ミラーを収容する鏡筒と、
前記鏡筒に固定され、前記ミラーを該鏡筒内の所定位置に維持するミラー支持部材と、
前記鏡筒に固定され、前記輻射板を前記ミラーに対して所定位置に維持する輻射板支持部材とを更に備えることを特徴とする請求項１に記載の反射ミラー装置。
【請求項１２】
前記ミラーを収容する鏡筒と、
前記鏡筒に固定され、前記ミラーを該鏡筒内の所定位置に維持するミラー支持部材と、
前記鏡筒とは分離された支持ベースに固定され、前記輻射板を前記ミラーに対して所定位置に維持する輻射板支持部材とを更に備えることを特徴とする請求項１に記載の反射ミラー装置。
【請求項１３】
前記温調機構は、前記ミラーに設けられた温度検出手段の検出情報に基づいて前記輻射板の温度を制御することを特徴とする請求項１に記載の反射ミラー装置。
【請求項１４】
反射光学系によって露光光を導いて、原版上のパターンをウエハに転写する露光装置であって、
前記反射光学系に配置される反射ミラーが、請求項１乃至１２のいずれかに記載の反射ミラー装置で構成されていることを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の露光装置を用いて回路パターンを半導体基板上に形成することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
１６はウエハストッカーであり、装置外部から一旦装置内部にウエハ８ａを保管する。ウエハストッカー１６では、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。１７はウエハ搬送ロボットであり、ウエハストッカー１６から露光処理するべきウエハを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機１８に運ぶ。１８はウエハメカプリアライメント温調機であり、ウエハの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部の温調温度に合わせ込む。１９はウエハ送り込みハンドであり、ウエハメカプリアライメント温調機１８にてアライメント及び温調されたウエハをウエハステージ８に送り込む。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
光源発光部２からの露光光を導入成形する露光光導入部５のミラー５ａ〜５ｄ及び縮小投影ミラー光学系７のミラー７ａ〜７ｅは、Ｍｏ−Ｓｉの多層膜を蒸着あるいはスパッタにより形成した反射面を有し、それぞれの反射面で光源からの露光光を反射する。その際、ミラー反射面の反射率は凡そ７０％程度で残りはミラー母材に吸収され熱に変換される。この結果、図１１を参照して上述したように、露光光反射エリアでは温度が＋１０〜２０°Ｃ程度上昇する。そして、この温度上昇により、たとえ熱膨張係数の極めて小さいミラー材料を使用しても、ミラー周辺部で反射面の変位が５０〜１００ｎｍ程度発生してしまう。従って、１ｎｍ以下程度の極めて厳しい面形状精度が要求される光源発光部２、露光光導入部５及び縮小投影ミラー光学系７における各ミラーの面形状精度を保証出来なくなる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
図４はミラー温調システムを示すブロック図である。図４において、２６は液温度検出部であり、冷却液２４ａ〜２４ｅがミラー３０の熱を輻射により冷却した後の、排出された各冷却液の温度を検出する。２７はミラー温度検出部であり、ミラー３０に装着された温度計２７ａにより、ミラー３０の表面温度をモニタする。２８は冷却液温調機であり、循環する冷却液２４ａ〜２４ｅを目標温度に制御する。２９は露光／光量制御部であり、露光光の発光タイミング及び露光量を制御する。なお、ミラー温度検出部２７に温度情報を与える温度計２７ａは、ミラー３０の複数箇所に設けてもよい。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、上記冷却液温調機２８は、各輻射板の冷却液の目標温度を、ミラー温度を目標温度（例えば２３°Ｃ程度）にするための冷却液温度を予測し、冷却液の温調を行なう。温調制御としては、ミラー温度変化を検出して、液温をフィードフォワード制御する例が挙げられる。また、その制御値の制御例は次のようになる。すなわち、
（１）ミラー温度検出部２７によるミラー温度の計測、及び液温度検出部２６によるミラー冷媒の出口側温度の計測を行なう．
（２）（１）の計測結果からミラーと冷媒の温度変化量と変化速度（ミラー温度或いは冷媒温度の時間あたりの変化量）を算出．
（３）（２）の算出結果に基づいて、ミラー温度を目標時間内に目標温度に導くために必要な冷却速度を求め、冷却速度に基づいて供給冷媒に対する設定温度（供給冷却冷媒設定温度）を決定するとともに、変化速度を算出．
（４）（３）で求めた設定温度と変化速度に基づいて冷却液温調機２８における冷却液の温度司令値を決定．
（５）（１）〜（４）をリアルタイムに実行する。
なお、露光／光量制御に関する情報は、（４）における温度指令値の決定に際し、露光光量の増減分の温度変化予測値を補正係数の形で加味する。