(57)【要約】【課題】画素の精密なアライメント、迅速な封止、長期にわたる安定した発光特性の維持が可能な有機ＥＬディスプレイの封止構造および封止方法の提供。【解決手段】基板上に形成された第１電極、有機ＥＬ層、および第２電極とを含む有機ＥＬ発光素子と、透明基板上に形成された色変換フィルタ層を含む色変換フィルタとを貼り合わせて形成される有機ＥＬディスプレイであって、有機ＥＬ発光素子と色変換フィルタとの間に、外周封止層と内部充填層を設け、さらに外周封止層と内部充填層の間に隔壁層を設けたことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。隔壁層を色変換フィルタ上に設けた平坦化層の表示領域外の部分に配置して、充填剤量を削減することもできる。【選択図】　　　　図１
2004103534.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを含む有機ＥＬ発光素子と、
透明基板上に形成された色変換フィルタ層を含む色変換フィルタと
を貼り合わせて形成される有機ＥＬディスプレイであって、
前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとの間に、外周封止層と内部充填層を設け、さらに前記外周封止層と前記内部充填層の間に隔壁層を設けたことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項２】
前記色変換フィルタは、前記色変換フィルタ層を覆ってその上面を平坦化する平坦化層をさらに含み、前記隔壁層は前記平坦化層の表示領域外の部分上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項３】
基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより駆動されることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項４】
前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びていることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項５】
前記内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項６】
基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、
透明基板上に色変換フィルタ層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、
前記色変換フィルタ層の周縁部に隔壁層を形成する工程と、
前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、
前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、
前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、
前記外周封止層を硬化させる工程と
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項７】
基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、
透明基板上に色変換フィルタ層および平坦化層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、
前記平坦化層の表示領域外の部分上に隔壁層を形成する工程と、
前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、
前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、
前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、
前記外周封止層を硬化させる工程と
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項８】
基板上に前記第１電極と接続される薄膜トランジスタがさらに設けられることを特徴とする請求項６または７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項９】
前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びていることを特徴とする請求項６または７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１０】
前記外周封止層は、紫外線硬化型接着剤により形成されていることを特徴とする請求項６または７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１１】
前記充填剤は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することを特徴とする請求項６または７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１２】
基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、
透明基板上に色変換フィルタ層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、
前記有機ＥＬ発光素子の周縁部に隔壁層を形成する工程と、
前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、
前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、
前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、
前記外周封止層を硬化させる工程と
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１３】
基板上に前記第１電極と接続される薄膜トランジスタがさらに設けられることを特徴とする請求項１２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１４】
前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びていることを特徴とする請求項１２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１５】
前記外周封止層は、紫外線硬化型接着剤により形成されていることを特徴とする請求項１２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１６】
前記充填剤は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することを特徴とする請求項１２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高精細で視認性に優れ、携帯端末機または産業用計測器の表示など広範囲な応用可能性を有する有機ＥＬディスプレイおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報通信の高速化と応用範囲の拡大が急速に進んでいる。この中で、表示デバイスに関して、携帯性や動画表示の要求に対応可能な低消費電力・高速応答性を有する高精細な表示デバイスの考案が広くなされている。
【０００３】
中でもカラー化方式に対して、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いた駆動方式のカラー表示装置が考案されている。この場合、ＴＦＴが形成されている基板側に光を取り出す方式では、配線部分の遮光効果により開口率が上がらないため、最近ではＴＦＴが形成されている基板とは反対側に光を取り出す方式、いわゆるトップエミッション方式が考案されてきている。
【０００４】
トップエミッション方式の場合でも、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三原色の発光体をマトリクス上に分離配置する方式では、ＲＧＢ用の３種の発光材料をマトリクス上に高精細で配置しなくてはならないため、効率的かつ安価に製造することが困難である。また、３種の発光材料の輝度変化特性あるいは駆動条件が異なるために、長期間にわたって色再現性を確保することが困難であるなどの欠点が依然として解決されないままに残っている。
【０００５】
また、白色で発光するバックライトにカラーフィルターを用い、三原色を透過分離させる方法でも、白色バックライトの高効率化といった問題点は依然として残っている。
【０００６】
唯一、分離配置した蛍光体に励起光を吸収させ、それぞれの蛍光体から多色の蛍光を発光させる色変換方式が、ＴＦＴ駆動方式を用いたトップエミッション方式を採用することにより、さらに高精細かつ高輝度の有機ＥＬディスプレイを提供できる可能性を有している。先行技術に開示されているカラー表示装置（特許文献１および特許文献２参照）は、このような方式の一例である。
【０００７】
従来技術の有機ＥＬディスプレイの構造を示す断面概略図を図６に示す。基板６０２の上に、ＴＦＴ６０４、陽極６０６、有機ＥＬ層６０８、陰極６１０を形成する。一方、透明基板６１６の上に色変換フィルタ層６１２およびブラックマスク６１４を形成する。次に基板６０２の周辺に、たとえば室温硬化型二液エポキシ系接着剤を使用して外周封止層６１８を形成し、透明基板６１６との貼り合わせを行う。この時、２枚の基板の間には内部空間６２０が形成される。また、外周封止層６１８の硬化には室温において２４時間とかなり長い時間が必要であり、陽極６０６と色変換フィルタ層６１２との位置合わせを行った後に、室温硬化の間、貼り合わせ物を固定して、位置ずれを起こさないような状態に保持する必要があった。
【０００８】
図６に示されるような色変換フィルタ層をカラーディスプレイにおいて実用上で重要な課題は、詳細なカラー表示機能であるとともに、有機ＥＬ素子が色再現性を含め長期的安定性を有することであり、なおかつ短時間で製造することが可能な構造と封止方法とを有することである。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１１−２５１０５９号公報
【００１０】
【特許文献２】
特開２０００−７７１９１号公報
【００１１】
【特許文献３】
特開平５−１３４１１２号公報
【００１２】
【特許文献４】
特開平７−２１８７１７号公報
【００１３】
【特許文献５】
特開平７−３０６３１１号公報
【００１４】
【特許文献６】
特開平５−１１９３０６号公報
【００１５】
【特許文献７】
特開平７−１０４１１４号公報
【００１６】
【特許文献８】
特開平６−３００９１０号公報
【００１７】
【特許文献９】
特開平７−１２８５１９号公報
【００１８】
【特許文献１０】
特開平８−２７９３９４号公報
【００１９】
【特許文献１１】
特開平９−３３０７９３号公報
【００２０】
【特許文献１２】
特開平５−３６４７５号公報
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図６に示すような構成の有機ＥＬディスプレイにおいては、色変換フィルタ層６１２と陽極６０６との精密な位置合わせ（アライメント）が必要である。アライメントが完了するまでは、外周封止層６１８に使用される接着剤は、粘度変化またはゲル化などの性状変化を起こさず、自由にアライメント調整を行えることが求められる。一方、アライメントが完了した時点においては、迅速に硬化を完了するという相反する硬化特性が求められる。
【００２２】
また、図６に示すような構成の有機ＥＬディスプレイでは、２枚の基板の間に形成された内部空間６２０の影響で、有機ＥＬ層６０８からの発光が、屈折率の大きく異なる内部空間と陰極との界面および内部空間と色変換フィルタ層との界面において反射してしまう問題点を有する。この問題点を解決するため、内部空間６２０には屈折率の大きな透明材料を充填する方法が考えられる。しかしながら、この場合には、内部空間６２０に充填される透明材料と外周封止層６１８に使用される接着剤が硬化する前に接触して、該接着剤の硬化不良等を発生する問題点がある。
【００２３】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、１）内部空間６２０に充填される透明材料と外周封止層６１８に使用される接着剤との硬化完了前の接触を防いで、外周封止層６１８の硬化不良を防止し、２）色変換フィルタ層６１２と陽極６０６との精密な位置合わせ（アライメント）が可能であり、および３）外周封止層６１８の迅速な硬化が可能である有機ＥＬディスプレイおよびその製造方法を提供することにある。
【００２４】
また、本発明は、有機ＥＬ層６０８からの光を内部で反射させずに色変換フィルタ層６１２に有効に伝え、外部環境からの水分等の浸入を防止し長期にわたって安定した発光特性を維持することが可能な有機ＥＬディスプレイの封止構造と封止方法を提供することにある。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の実施形態である有機ＥＬディスプレイは、基板上に形成された第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを含む有機ＥＬ発光素子と、透明基板上に形成された色変換フィルタ層を含む色変換フィルタとを貼り合わせて形成される有機ＥＬディスプレイであって、前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとの間に、外周封止層と内部充填層を設け、さらに前記外周封止層と前記内部充填層の間に隔壁層を設けたことを特徴とする。色変換フィルタは、色変換フィルタ層を覆って形成される平坦化層をさらに含み、該平坦化層の表示領域外の部分上に隔壁層を設けてもよい。アクティブマトリクス駆動を行う場合には、基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより有機ＥＬディスプレイが駆動される。あるいはまた、パッシブマトリクス駆動を行う場合には、前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びることができる。あるいはまた、前記外周封止層は、紫外線硬化型接着剤を硬化させることにより形成されてもよい。また、前記内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することが好ましい。
【００２６】
本発明の第２の実施形態である有機ＥＬディスプレイの製造方法である。第１の方法は、基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、透明基板上に色変換フィルタ層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、前記色変換フィルタ層の周縁部に隔壁層を形成する工程と、前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、前記外周封止層を硬化させる工程とを含むことを特徴とする。アクティブマトリクス駆動を行う場合には、基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより有機ＥＬディスプレイが駆動される。あるいはまた、パッシブマトリクス駆動を行う場合には、前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びることができる。さらに、外周封止層は、紫外線硬化型接着剤を硬化させることにより形成されていてもよい。また、内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することが好ましい。
【００２７】
第２の方法は、基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、透明基板上に色変換フィルタ層および平坦化層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、前記平坦化層の表示領域外の部分上に隔壁層を形成する工程と、前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、前記外周封止層を硬化させる工程とを含むことを特徴とする。アクティブマトリクス駆動を行う場合には、基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより有機ＥＬディスプレイが駆動される。あるいはまた、パッシブマトリクス駆動を行う場合には、前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びることができる。さらに、外周封止層は、紫外線硬化型接着剤を硬化させることにより形成されていてもよい。また、内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することが好ましい。
【００２８】
第３の方法は、基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、透明基板上に色変換フィルタ層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、前記有機ＥＬ発光素子の周縁部に隔壁層を形成する工程と、前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、前記外周封止層を硬化させる工程とを含むことを特徴とする。アクティブマトリクス駆動を行う場合には、基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより有機ＥＬディスプレイが駆動される。あるいはまた、パッシブマトリクス駆動を行う場合には、前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びることができる。さらに、外周封止層は、紫外線硬化型接着剤を硬化させることにより形成されていてもよい。また、内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することが好ましい。
【００２９】
【発明の実施の形態】
本発明の有機ＥＬディスプレイの構造およびその製造方法を図１〜図５を参照して説明する。図１は、本発明の有機ＥＬディスプレイおよびそれを製造する第１の方法を説明するための図であり、（ａ）は色変換フィルタ１５０を示し、（ｂ）は有機ＥＬ発光素子１６０を示し、および（ｃ）は色変換フィルタ１５０と有機ＥＬ発光素子１６０とを貼り合わせて製造される有機ＥＬディスプレイ１４０を示す断面図である。図２は、図１（ｃ）中の線２−２’に沿って切断した断面を示す図である。図３は、本発明の有機ＥＬディスプレイおよびそれを製造する第２の方法を説明するための図であり、（ａ）は色変換フィルタ１５２を示し、（ｂ）は有機ＥＬ発光素子１６２を示し、および（ｃ）は色変換フィルタ１５２と有機ＥＬ発光素子１６２とを貼り合わせて製造される有機ＥＬディスプレイ１４２を示す断面図である。図４は、図３（ｃ）中の線４−４’に沿って切断した断面を示す図である。図５は、本発明の有機ＥＬディスプレイおよびそれを製造する第３の方法を説明するための図であり、（ａ）は色変換フィルタ１５４を示し、（ｂ）は有機ＥＬ発光素子１６４を示し、および（ｃ）は色変換フィルタ１５４と有機ＥＬ発光素子１６４とを貼り合わせて製造される有機ＥＬディスプレイ１４４を示す断面図である。
【００３０】
［構成要素］
（１）第１の基板１０２
第１の基板１０２として、ガラスやプラスチックなどからなる絶縁性基板、または、半導電性や導電性基板に絶縁性の薄膜を形成した基板を用いることができる。
【００３１】
（２）ＴＦＴ１０４
ＴＦＴ１０４は、アクティブマトリクス駆動を行う場合に設けられる。ＴＦＴ１０４は、第１の基板１０２上にマトリックス状に配置され、各画素に対応した第１電極１０８にソース電極またはドレイン電極が接続される。好ましくは、ＴＦＴ１０４は、ゲート電極をゲート絶縁膜の下に設けたボトムゲートタイプで、能動層として多結晶シリコン膜を用いた構造である。
【００３２】
ＴＦＴ１０４のドレイン電極およびゲート電極に対する配線部、並びにＴＦＴ自身の構造は、所望される耐圧性、オフ電流特性、オン電流特性を達成するように、当該技術において知られている方法により作成することができる。また、トップエミッション方式を用いる本発明の有機ＥＬディスプレイにおいてはＴＦＴ部を光が通過しないので、開口率を増加させるためにＴＦＴを小さくする必要がなく、ＴＦＴ設計の自由度を高くすることができるので、上記の特性を達成するために有利である。
【００３３】
（３）平坦化絶縁膜１０６
アクティブマトリクス駆動を行う場合、平坦化絶縁膜１０６を、ＴＦＴ１０４の上部に形成することが好ましい。平坦化絶縁膜１０６は、ＴＦＴ１０４のソース電極またはドレイン電極と第１電極１０８との接続およびその他の回路の接続に必要な部分以外に設けられ、基板表面を平坦化して引き続く層の高精細なパターン形成を容易にする。平坦化絶縁膜１０６は、当該技術に知られている任意の材料により形成することができる。好ましくは、無機酸化物または窒化物、あるいはポリイミドまたはアクリル樹脂から形成される。
【００３４】
（４）第１電極１０８
第１電極１０８は、陽極または陰極のいずれであってもよい。第１電極１０８を陽極として用いる場合、正孔の注入を効率よく行うために、仕事関数が大きい材料が用いられる。特に通常の有機ＥＬ素子では、陽極を通して光が放出されるために陽極が透明であることが要求され、ＩＴＯ等の導電性金属酸化物が用いられる。本発明のトップエミッション方式では透明であることは必要ではないが、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの導電性金属酸化物を用いて第１電極１０８を形成することができる。さらに、ＩＴＯなどの導電性金属酸化物を用いる場合、その下に反射率の高いメタル電極（Ａｌ，Ａｇ，Ｍｏ，Ｗなど）を用いることが好ましい。このメタル電極は、導電性金属酸化物より抵抗率が低いので補助電極として機能すると同時に、有機ＥＬ層１１０にて発光される光を色変換フィルタ１５０側に反射して光の有効利用を図ることが可能となる。
【００３５】
第１電極１０８を陰極として用いる場合、仕事関数が小さい材料であるリチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、またはこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金や化合物が用いられる。前述と同様に、その下に反射率の高いメタル電極（Ａｌ，Ａｇ，Ｍｏ，Ｗなど）を用いてもよく、その場合には低抵抗化および反射による有機ＥＬ層１１０の発光の有効利用を図ることができる。
【００３６】
本発明の有機ＥＬディスプレイにおいてアクティブマトリクス駆動を行う場合、第１電極１０８は、ＴＦＴ１０４それぞれに対応して分離した形態で平坦化絶縁膜１０６上に形成され、ＴＦＴ１０４のソース電極またはドレイン電極と接続される。ソース電極と接続される場合は陽極として機能し、ドレイン電極と接続される場合は陰極として機能する。ＴＦＴ１０４と第１電極１０８とは、平坦化絶縁膜内に設けられたコンタクトホールに充填された導電性プラグによって接続される。導電性プラグは、第１電極１０８と一体に形成されてもよいし、あるいは金、銀、銅、アルミニウム、モリブデン、タングステンなどの低抵抗の金属類を用いて形成されてもよい。
【００３７】
あるいはまた、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいてパッシブマトリクス駆動を行う場合、ＴＦＴ１０４および平坦化絶縁膜１０６を形成することなしに、基板１０２上にラインパターン状の第１電極１０８が形成される。この場合にも、第１電極を陽極あるいは陰極のいずれとしても利用することができる。
【００３８】
（５）有機ＥＬ層１１０
本発明の色変換方式の有機ＥＬディスプレイにおいては、有機ＥＬ層１１０から発せられる近紫外から可視領域の光、好ましくは青色から青緑色領域の光を色変換フィルタ層に入射させて、所望される色を有する可視光を放出する。
【００３９】
有機ＥＬ層１１０は、少なくとも有機ＥＬ発光層を含み、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、および／または電子注入層を介在させた構造を有する。具体的には、下記のような層構成からなるものが採用される。
（１）有機ＥＬ発光層
（２）正孔注入層／有機ＥＬ発光層
（３）有機ＥＬ発光層／電子注入層
（４）正孔注入層／有機ＥＬ発光層／電子注入層
（５）正孔注入層／正孔輸送層／有機ＥＬ発光層／電子注入層
（上記において、陽極は有機ＥＬ発光層または正孔注入層に接続され、陰極は有機ＥＬ発光層または電子注入層に接続される）
【００４０】
上記各層の材料としては、公知のものが使用される。青色から青緑色の発光を得るためには、有機ＥＬ発光層中に、例えばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。
【００４１】
（６）第２電極１１２
第２電極１１２は、有機ＥＬ層１１０に対して効率よく電子または正孔を注入することとともに、有機ＥＬ層１１０の発光波長域において透明であることが求められる。第２電極１１２は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して５０％以上の透過率を有することが好ましい。
【００４２】
第２電極１１２を陰極として用いる場合、その材料は、電子を効率よく注入するために仕事関数が小さいことが求められる。さらに、有機ＥＬ層の発する光の波長域において透明であることが必要とされる。これら２つの特性を両立するために、本発明において陰極１１２を複数層からなる積層構造とすることが好ましい。なぜなら、仕事関数の小さい材料は、一般的に透明性が低いからである。すなわち、有機ＥＬ層１１０と接触する部位に、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、またはこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金や化合物の極薄膜（１０ｎｍ）を用いる。これらの仕事関数の小さい材料を用いることにより効率のよい電子注入を可能とし、さらに極薄膜とすることによりこれら材料による透明性低下を最低限とすることが可能となる。該極薄膜の上には、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明導電膜を形成する。これらの導電膜は補助電極として機能し、陰極１１２全体の抵抗値を減少させ有機ＥＬ層１１０に対して充分な電流を供給することを可能にする。
【００４３】
第２電極１１２を陽極として用いる場合、正孔注入効率を高めるために仕事関数の大きな材料を用いる必要がある。また、有機ＥＬ層１１０からの発光が第２電極を通過するために透明性の高い材料を用いる必要がある。したがって、この場合にはＩＴＯまたはＩＺＯのような透明導電性材料を用いることが好ましい。
【００４４】
本発明の有機ＥＬディスプレイにおいてアクティブマトリクス駆動を行う場合、第２電極１１２は、パターニングをされていない均一電極として形成することができる。
【００４５】
あるいはまた、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいてパッシブマトリクス駆動を行う場合、第２電極１１２は、第１電極１０８のラインパターンと直交する方向に延びるラインパターン状に形成される。
【００４６】
（７）パッシベーション層１１４
以上のように形成される第２電極１１２以下の各層を覆ってパッシベーション層１１４が設けられる。パッシベーション層１１４は、外部環境からの酸素、低分子成分および水分の透過を防止し、それらによる有機ＥＬ層１１０の機能低下を防止することに有効である。パッシベーション層１１４は、有機ＥＬ層１１０の発光を色変換フィルタ層へと透過させるために、その発光波長域において透明であることが好ましい。
【００４７】
これらの要請を満たすために、パッシベーション層１１４は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、電気絶縁性を有し、水分、酸素および低分子成分に対するバリア性を有し、好ましくは２Ｈ以上の膜硬度を有する材料で形成される。例えば、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘ等の無機酸化物、無機窒化物等の材料を使用できる。該パッシベーション層の形成方法としては特に制約はなく、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法、ゾル−ゲル法等の慣用の手法により形成できる。
【００４８】
また、パッシベーション層として種々のポリマー材料を用いることができる。イミド変性シリコーン樹脂（特許文献３〜５参照）、無機金属化合物（ＴｉＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等）をアクリル、ポリイミド、シリコーン樹脂等の中に分散した材料（特許文献６および７参照）、アクリレートモノマー／オリゴマー／ポリマーの反応性ビニル基を有した樹脂、レジスト樹脂（特許文献８〜１１参照）、フッ素系樹脂（特許文献１１および１２参照）、または高い熱伝導率を有するメソゲン構造を有するエポキシ樹脂などの光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂を挙げることができる。これらポリマー材料を用いる場合にも、その形成法は特に制限はない。たとえば、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、あるいは湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法など）のような慣用の手法により形成することができる。
【００４９】
上述のパッシベーション層１１４は、単層であっても、複数の層が積層されたものであってもよい。パッシベーション層１１４の厚さ（複数の層の積層物である場合は全厚）は、０．１〜１０μｍであることが好ましい。
【００５０】
（８）透明基板１１６
透明基板１１６は、色変換フィルタ層によって変換された光に対して透明であることが必要である。また、透明基板１１６は、色変換フィルタ層、ブラックマスクおよび隔壁層の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、さらに寸法安定性に優れていることが好ましい。透明基板１１６は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して５０％以上の透過率を有することが好ましい。
【００５１】
透明基板１１６の材料として好ましいものは、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。
【００５２】
（９）色変換フィルタ層
本明細書において、色変換フィルタ層は、カラーフィルタ層１１８、蛍光変換層１２０、およびカラーフィルタ層１１８と蛍光変換層１２０との積層体の総称である。蛍光変換層１２０は、有機ＥＬ層１１０にて発光される近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。フルカラー表示を可能にするためには、少なくとも青色（Ｂ）領域、緑色（Ｇ）領域および赤色（Ｒ）領域の光を放出する独立した色変換フィルタ層が設けられる。ＲＧＢそれぞれの蛍光変換層は、少なくとも有機蛍光色素とマトリクス樹脂とを含む。
【００５３】
１）有機蛍光色素
本発明において、好ましくは、少なくとも赤色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上を用い、さらに緑色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上と組み合わせてもよい。これは、光源として青色ないし青緑色領域の光を発光する有機ＥＬ層１１０を用いる場合、有機ＥＬ層１１０からの光を単なる赤色フィルタに通して赤色領域の光を得ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために極めて暗い出力光になってしまうからである。
【００５４】
したがって、有機ＥＬ層１１０からの青色ないし青緑色領域の光を、蛍光色素によって赤色領域の光に変換することにより、十分な強度を有する赤色領域の光の出力が可能となる。発光体から発せられる青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジニウムパークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
【００５５】
発光体から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
【００５６】
さらに、青色領域の光に関しては、有機ＥＬ層１１０からの発光を単なる青色フィルタに通して出力させることが可能である。
【００５７】
なお、本発明に用いる有機蛍光色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機蛍光顔料としてもよい。また、これらの有機蛍光色素や有機蛍光顔料（本明細書中で、前記２つを合わせて有機蛍光色素と総称する）は単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５８】
本発明の蛍光変換層１２０は、該蛍光変換層の重量を基準として０．０１〜５質量％、より好ましくは０．１〜２質量％の有機蛍光色素を含有する。前記含有量範囲の有機蛍光色素を用いることにより、濃度消光などの硬化による色変換効率を伴うことなしに、充分な波長変換を行うことが可能となる。
【００５９】
２）マトリクス樹脂
次に、本発明の蛍光変換層に用いられるマトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）を光および／または熱処理して、ラジカル種またはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものである。また、蛍光変換層のパターニングを行うために、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。
【００６０】
具体的には、マトリクス樹脂は、（１）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物膜を光または熱処理して、光ラジカルまたは熱ラジカルを発生させて重合させたもの、（２）ボリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物を光または熱処理により二量化させて架橋したもの、（３）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物膜を光または熱処理してナイトレンを発生させ、オレフィンと架橋させたもの、および（４）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物膜を光または熱処理により、酸（カチオン）を発生させて重合させたものなどを含む。特に、（１）のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる組成物を重合させたものが好ましい。なぜなら、該組成物は高精細なパターニングが可能であり、および重合した後は耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いからである。
【００６１】
本発明で用いることができる光重合開始剤、増感剤および酸発生剤は、含まれる蛍光変換色素が吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであることが好ましい。本発明の蛍光変換層において、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光または熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないことも可能である。
【００６２】
マトリクス樹脂（蛍光変換層）は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂、有機蛍光色素および添加剤を含有する溶液または分散液を、支持基板上に塗布して樹脂の層を形成し、そして所望される部分の光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を露光することにより重合させて形成される。所望される部分に露光を行って光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を不溶化させた後に、パターニングを行う。該パターニングは、未露光部分の樹脂を溶解または分散させる有機溶媒またはアルカリ溶液を用いて、未露光部分の樹脂を除去するなどの慣用の方法によって実施することができる。
【００６３】
３）構成および形状
赤色に関しては、蛍光変換層１２０Ｒのみから形成されてもよい。しかし、蛍光色素による変換のみでは十分な色純度が得られない場合は、図１（ａ）に示されるように蛍光変換層１２０Ｒとカラーフィルタ層１１８Ｒとの積層体としてもよい。カラーフィルタ層１１８Ｒを併用する場合、カラーフィルタ層１１８Ｒの厚さは１〜１．５μｍであることが好ましい。
【００６４】
また、緑色に関しては、蛍光変換層１２０Ｇのみから形成されてもよい。しかし、蛍光色素による変換のみでは十分な色純度が得られない場合は、図１（ａ）に示されるように蛍光変換層１２０Ｇとカラーフィルタ層１１８Ｇとの積層体としてもよい。カラーフィルタ層１１８Ｇを併用する場合、カラーフィルタ層１１８Ｇの厚さは１〜１．５μｍであることが好ましい。あるいはまた、有機ＥＬ層１１０の発光が緑色領域の光を充分に含む場合には、カラーフィルタ層１１８Ｇのみとしてもよい。カラーフィルタ層１１８Ｇのみを用いる場合、その厚さは０．５〜１０μｍであることが好ましい。
【００６５】
一方、青色に関しては、図１に示されるようにカラーフィルタ層１１８Ｂのみとすることができる。カラーフィルタ層１１８Ｂのみを用いる場合、その厚さは０．５〜１０μｍであることが好ましい。
【００６６】
色変換フィルタ層の形状は、よく知られているように各色ごとに分離したストライプパターンとしてもよいし、各画素のサブピクセルごとに分離させた構造を有してもよい。
【００６７】
（１０）ブラックマスク１２２
各色に対応する色変換フィルタ層の間の領域には、ブラックマスク１２２を形成することが好ましい。ブラックマスクを設けることによって、隣接するサブピクセルの色変換フィルタ層への光の漏れを防止して、にじみのない所望される蛍光変換色のみを得ることが可能となる。後述する有機ＥＬディスプレイの封止を妨げないことを条件として、透明基板１１６上の色変換フィルタ層が設けられている領域の周囲にブラックマスクを設けてもよい。ブラックマスク１２２は、好ましくは０．５〜２．０μｍの厚さを有する。
【００６８】
（１１）平坦化層１２５
色変換フィルタ層を覆う平坦化層１２５は、色変換フィルタ層の機能を損なうことなく形成することができ、かつ適度な弾力性を有する材料から形成することができる。好ましい材料は、表面硬度が鉛筆硬度２Ｈ以上であり、０．３ＭＰａ以上のヤング率を有し、色変換フィルタ層上に平滑な塗膜を形成することができ、蛍光変換層１２０の機能を低下させないポリマー材料である。より好ましくは、該材料は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、電気絶縁性を有し、水分、酸素および低分子成分に対するバリア性を有するポリマー材料である。
【００６９】
そのようなポリマー材料の例は、イミド変性シリコーン樹脂（特許文献３〜５参照）、無機金属化合物（ＴｉＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等）をアクリル、ポリイミド、シリコーン樹脂等の中に分散した材料（特許文献６および７参照）、アクリレートモノマー／オリゴマー／ポリマーの反応性ビニル基を有した樹脂、レジスト樹脂（特許文献８〜１１参照）、フッ素系樹脂（特許文献１１および１２参照）、または高い熱伝導率を有するメソゲン構造を有するエポキシ樹脂などの光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂を含む。これらポリマー材料を用いて平坦化層１２５を形成する方法には、特に制限はない。たとえば、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、あるいは湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法など）のような慣用の手法により形成することができる。
【００７０】
平坦化層１２５は、１〜１０μｍ程度の厚さを有することができる。キャスト法あるいはスピンコート法で形成する場合には、平坦化層１２５は、好ましくは３〜５μｍ程度の厚さを有する。
【００７１】
（１２）内部充填層１２８
内部充填層１２８は、従来法のディスプレイ（図６）において形成される内部空間６２０を充填して、有機ＥＬ層１１０の発光の内部空間界面における反射を抑制し、該発光を色変換フィルタへと効率よく透過させるために設けられる。したがって、内部充填層１２８は、少なくとも有機ＥＬ層１１０が発光し、該発光が色変換フィルタへと伝播する領域（すなわち、ディスプレイの表示領域）に設けられるべきである。内部充填層１２８は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して２０％〜９５％、好ましくは６０％〜９５％の可視光透過率と、１．２〜２．５の屈折率とを有する。このような特性を有することにより、有機ＥＬ層１１０からの発光の伝達経路の各界面における屈折率差を小さくすることができ、各界面における反射を抑制し、色変換フィルタ層への光の伝達をより効率的に行うことが可能となる。
【００７２】
内部充填層１２８を形成するための充填剤は、有機ＥＬ発光素子および色変換フィルタの特性に悪影響を及ぼさない不活性液体である。あるいはまた、充填剤は、外周封止の後にゲル化する液体であってもよい。充填剤として用いられる不活性液体は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して２０％〜９５％、好ましくは６０％〜９５％の可視光透過率と、１．２〜２．５の屈折率とを有する。また、充填剤として外周封止の後にゲル化する液体を用いる場合には、ゲル化の後に前述の可視光透過率および屈折率を有するべきである。このような充填剤の例は、シリコーン樹脂、フッ素系不活性液体、またはフッ素系オイルなどを含む。
【００７３】
有機ＥＬ発光素子および色変換フィルタを貼り合わせる前に、隔壁層１２６が形成する空間に対して、その形成される内部空間の容積に等しい量の充填剤を滴下することにより、有機ＥＬ発光素子および色変換フィルタを貼り合わせた際に内部充填層１２８を形成する。
【００７４】
（１３）外周封止層１３０
外周封止層１３０は、隔壁層の外周部に設けられ、有機ＥＬ発光素子と色変換フィルタを接着するとともに、内部の各構成要素を外部環境の酸素、水分などから保護する機能を有する。外周封止層１３０は紫外線硬化型接着剤から形成される。そのような紫外線硬化型接着剤は、硬化する前は粘度変化あるいはゲル化などを起こさず、有機ＥＬ発光素子と色変換フィルターとの相対的移動により、色変換フィルタ層と有機ＥＬ発光素子の発光部との精密なアライメントを可能にする。
【００７５】
ひとたびアライメントが完了したならば、紫外線を照射して、紫外線硬化型接着剤を硬化させる。例えば、１００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射した際に、１０〜６０秒以内に硬化することが好ましい。この時間範囲内で硬化させることにより、紫外線照射による他の構成要素への悪影響をもたらすことなしに、紫外線硬化型接着剤が充分に硬化して適切な接着強さを発現させることが可能となる。また、生産工程の効率の観点からも、前述の時間範囲内であることが好ましい。
【００７６】
また、前記紫外線硬化型接着剤は、直径５〜５０μｍ、好ましくは直径５〜２０μｍのガラスビーズ、シリカビーズなどを含んでもよい。これらのビーズ類は、有機ＥＬ発光素子と色変換フィルタとの貼り合わせにおいて、基板間距離（基板１０２と透明基板１１６との間の距離）を規定するとともに、接着のために印加される圧力を負担する。さらに、ディスプレイ駆動時に発生する応力（特にディスプレイ外周部における応力）も負担して、該応力によるディスプレイの劣化を防止する。
【００７７】
（１４）隔壁層１２６
本発明の第１の製造方法において、図１（ａ）に示されるように、隔壁層１２６を色変換フィルタ１５０に設けることができる。隔壁層１２６は、透明基板１１６上の色変換フィルタ層およびブラックマスク１２２が設けられている部分の周縁部に、それらを完全に囲むように設けられる。図２に示されるように、隔壁層１２６の外側には外周封止層１３０が形成され、一方その内側には内部充填層１２８が設けられる。
【００７８】
あるいはまた、本発明の第２の製造方法において、図３（ａ）に示されるように、隔壁層１２６を色変換フィルタ１５２に設けることができる。隔壁層１２６は、色変換フィルタ層およびブラックマスク１２２を覆って設けられている平坦化層１２５の表示領域外の部分上に、表示領域を完全に囲むように設けられる。図４に示されるように、隔壁層１２６の内側には内部充填層１２８が設けられる。また、隔壁層１２６の外側には外周封止層１３０が形成され、隔壁層１２６と外周封止層１３０との間に空間が形成されてもよい。
【００７９】
あるいはまた、本発明の第３の製造方法において、図５（ｂ）に示されるように、隔壁層１２６を有機ＥＬ発光素子１６４に設けてもよい。隔壁層１２６は、有機ＥＬ発光素子の周縁部、すなわち基板１０２上に設けられたパッシベーション層１１４より下の構成要素の周縁部に、それらを完全に囲むように設けられる。この場合にも、図２に示されるように、隔壁層１２６の外側には外周封止層１３０が形成され、その内側には内部充填層１２８が設けられる。
【００８０】
隔壁層１２６は、有機ＥＬ発光素子１６０と色変換フィルタ１５０との貼り合わせから外周封止層１３０の硬化までの間に変形を起こさない任意の材料、好ましくはアクリル樹脂またはノボラック樹脂などをベースとする感光性フォトレジストから作製することができる。例えば、それらフォトレジストをスピンコート、ディップコート、ロールコートなどの方法を用いて透明基板１１６または基板１０２上に塗布し、その後フォトリソグラフ法を用いてパターニングして、所定の位置に隔壁層１２６を作製することができる。あるいはまた、シリコーン系の層などにより離型処理されているフィルム基材上に所望の形状の隔壁層をあらかじめ形成し、それを所定の位置に転写することによって隔壁層１２６を形成してもよい。
【００８１】
第１および第３の製造方法においては、隔壁層１２６の高さは、貼り合わせ時の基板１０２と透明基板１１６との距離に相当するものであることが好ましい。特に好ましくは、隔壁層１２６は５〜５０μｍの高さを有する。第２の製造方法においては、隔壁層１２６の高さは、貼り合わせ時のパッシベーション層１１４と平坦化層１２５との距離に相当するものであることが好ましい。特に好ましくは、隔壁層１２６は１〜１０μｍの高さを有する。
【００８２】
前述の範囲の高さを有する隔壁層１２６は、内部充填層１２８の材料と外周封止層１３０の材料との分離を充分に行うことができ、および１回の塗布工程により作製することが可能である。また、色変換フィルタ層と有機ＥＬ層１１０との距離を適正に保ち、視野角特性に悪影響を与えることがないことからも、前述の範囲の高さを有することが好ましい。
【００８３】
１０〜２０００μｍの幅を有する隔壁層１２６を設けることにより、内部充填層１２８の材料と外周封止層１３０の材料との分離を充分に行うことができ、かつ外周封止層のためのスペースを確保することができる。前記の幅は、色変換フィルタ層と隔壁層１２６との重なりを防ぐ観点からも好ましい。
【００８４】
［製造方法］
本発明の第１の製造方法は、図１に示されるように、有機ＥＬ発光素子１６０と、隔壁層１２６を有する色変換フィルタ１５０とを貼り合わせて、有機ＥＬディスプレイ１４０を形成する。
【００８５】
色変換フィルタ１５０は、透明基板１１６上に、ＲＧＢ各色に対応する色変換フィルタ層と、それらの間および周囲に位置するブラックマスク１２２と、隔壁層１２６とを形成することにより得られる。図１に示される実施形態において、赤色変換フィルタ層は、赤色カラーフィルタ層１１８Ｒと赤色蛍光変換層１２０Ｒからなり、緑色変換フィルタ層は、緑色カラーフィルタ層１１８Ｇと緑色蛍光変換層１２０Ｇからなり、および青色変換フィルタ層は、青色カラーフィルタ層１１８Ｂからなる。各色変換フィルタ層およびブラックマスク１２２を形成した後に、アクリル樹脂などをベースとする感光性フォトレジストをスピンコートし、引き続いてフォトリソグラフ法によりパターニングを実施して隔壁層１２６を所定の位置に形成して、色変換フィルタ１５０を得る。あるいはまた、前述のように、離型フィルム材料上にあらかじめ形成された隔壁層１２６を転写して、色変換フィルタ１５０を得てもよい。
【００８６】
一方、当該技術において知られている手段を用いて、第１の基板１０２上に、ＴＦＴ１０４、平坦化絶縁層１０６、第１電極１０８、有機ＥＬ層１１０、第２電極１１２およびパッシベーション層１１４を順次積層して、有機ＥＬ発光素子１６０を形成する。あるいはまた、パッシブマトリクス駆動を行う場合には、ラインパターン状の第１電極１０８、有機ＥＬ層１１０、第１電極１０８のラインパターンと直交する方向に延びるラインパターンを有する第２電極１１２およびパッシベーション層１１４を順次積層して、有機ＥＬ発光素子を形成してもよい。
【００８７】
次に、上記のように形成した色変換フィルタ１５０および有機ＥＬ発光素子１６０を乾燥窒素雰囲気（望ましくは、酸素および水分濃度ともに１ｐｐｍ以下）内に配置する。そして、ディスペンサーロボットを用いて隔壁層１２６の外周部に紫外線硬化型接着剤を塗布する。そして、形成される内部空間の容積に相当する充填剤を、隔壁層１２６の内部に充填する。充填剤の所要量は、当業者によって容易に決定され得るものである。その後に、図１（ｃ）に示されるように有機ＥＬ発光素子１６０と色変換フィルタ１５０とを密着させる。
【００８８】
続いて、有機ＥＬ発光素子の発光部と色変換フィルタ層とのアライメントを行う。アクティブマトリクス駆動の場合には、第１電極１０８と色変換フィルタ層との位置合わせを行う。一方、パッシブマトリクス駆動の場合には、第１電極および第２電極のラインパターンの交差部分と色変換フィルタ層との位置合わせを行う。その後に、前述の紫外線硬化型接着剤に対して紫外線を照射して、該接着剤を硬化させて外周封止層１３０を形成する。紫外線照射は、例えば１００ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間にわたって行うことが好ましい。
【００８９】
以上のように、隔壁層１２６、内部充填層１２８および外周封止層１３０を用いて、基板１０２と透明基板１１６とを、１〜１００μｍ、好ましくは５〜５０μｍの間隔で固定することにより、外部環境からの水分の浸入を防止し、長期信頼性のある有機ＥＬディスプレイ１４０を構成することができる。
【００９０】
本発明の第２の製造方法は、図３に示されるように、有機ＥＬ発光素子１６２と、平坦化層１２５の表示領域外の部分上に隔壁層１２６を有する色変換フィルタ１５２とを貼り合わせて、有機ＥＬディスプレイ１４２を形成する。
【００９１】
本製造方法は、色変換フィルタ１５２は、透明基板１１６上に、ＲＧＢ各色に対応する色変換フィルタ層と、それらの間および周囲に位置するブラックマスク１２２と、前述の層を覆う平坦化層１２５と、平坦化層の表示領域外の部分上に隔壁層１２６とを形成することにより得られる。図１に示される実施形態において、赤色変換フィルタ層は、赤色カラーフィルタ層１１８Ｒと赤色蛍光変換層１２０Ｒからなり、緑色変換フィルタ層は、緑色カラーフィルタ層１１８Ｇと緑色蛍光変換層１２０Ｇからなり、および青色変換フィルタ層は、青色カラーフィルタ層１１８Ｂからなる。各色変換フィルタ層およびブラックマスク１２２を形成した後に、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）または湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法など）のような慣用の手法によりポリマー材料を付着させて、平坦化層１２５を形成する。その後に、アクリル樹脂などをベースとする感光性フォトレジストをスピンコートし、引き続いてフォトリソグラフ法によりパターニングを実施して隔壁層１２６を平坦化層の表示領域外の部分上に形成して、色変換フィルタ１５２を得る。あるいはまた、前述のように、離型フィルム材料上にあらかじめ形成された隔壁層１２６を転写して、色変換フィルタ１５２を得てもよい。
【００９２】
一方、有機ＥＬ発光素子１６２は、図１（ｂ）の有機ＥＬ発光素子１６０と同一の構造を有し、したがって第１の製造方法と同様の方法により形成される。
【００９３】
次に、上記のように形成した色変換フィルタ１５２および有機ＥＬ発光素子１６２を乾燥窒素雰囲気（望ましくは、酸素および水分濃度ともに１ｐｐｍ以下）内に配置する。そして、ディスペンサーロボットを用いて平坦化層１２５の外周部に紫外線硬化型接着剤を塗布する。そして、隔壁層１２６により形成される内部空間の容積に相当する充填剤を、隔壁層１２６の内部に充填する。充填剤の所要量は、当業者によって容易に決定され得るものである。その後に、図３（ｃ）に示されるように有機ＥＬ発光素子１６２と色変換フィルタ１５２とを密着させる。このように、平坦化層の表示領域外の部分上に隔壁層１２５を形成することにより、内部充填層に充填する充填剤の量を減少させることができる。さらに、充填すべき面積が小さくなるので、充填剤を均一に充填することが容易となる。
【００９４】
続いて、有機ＥＬ発光素子の発光部と色変換フィルタ層とのアライメントを行う。アクティブマトリクス駆動の場合には、第１電極１０８と色変換フィルタ層との位置合わせを行う。一方、パッシブマトリクス駆動の場合には、第１電極および第２電極のラインパターンの交差部分と色変換フィルタ層との位置合わせを行う。その後に、前述の紫外線硬化型接着剤に対して紫外線を照射して、該接着剤を硬化させて外周封止層１３０を形成する。紫外線照射は、例えば１００ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間にわたって行うことが好ましい。
【００９５】
以上のように、隔壁層１２６、内部充填層１２８および外周封止層１３０を用いて、基板１０２と透明基板１１６とを、１〜１００μｍ、好ましくは５〜５０μｍの間隔で固定することにより、外部環境からの水分の浸入を防止し、長期信頼性のある有機ＥＬディスプレイ１４２を構成することができる。
【００９６】
あるいはまた、本発明の第３の製造方法においては、図５に示されるように、隔壁層１２６を有する有機ＥＬ発光素子１６４と、色変換フィルタ１５４とを貼り合わせて、有機ＥＬディスプレイ１４４が形成される。この方法において形成される有機ＥＬディスプレイ１４４は、隔壁層１２６が基板１０２に固定されていることを除いて、図１（ｃ）に示される有機ＥＬディスプレイ１４０と同様の構造を有する。
【００９７】
色変換フィルタ１５４は、透明基板１１６上に、ＲＧＢ各色に対応する色変換フィルタ層と、それらの間および周囲に位置するブラックマスク１２２とを形成することにより得られる。本製造方法においても、各色変換フィルタ層は、図１に示される実施形態と同様の構成を有する。各色変換フィルタ層およびブラックマスク１２２を形成して、色変換フィルタ１５４を得る。
【００９８】
一方、当該技術において知られている手段を用いて、第１の基板１０２上に、ＴＦＴ１０４、平坦化絶縁層１０６、第１電極１０８、有機ＥＬ層１１０、第２電極１１２およびパッシベーション層１１４を順次積層する。あるいはまた、パッシブマトリクス駆動を行う場合には、ラインパターン状の第１電極１０８、有機ＥＬ層１１０、第１電極１０８のラインパターンと直交する方向に延びるラインパターンを有する第２電極１１２およびパッシベーション層１１４を順次積層して、有機ＥＬ発光素子を形成してもよい。引き続いて、アクリル樹脂などをベースとする感光性フォトレジストをスピンコートし、引き続いてフォトリソグラフ法によりパターニングを実施して、有機ＥＬ発光素子の周縁部に、すなわちパッシベーション層１１４より下の各構成要素を完全に囲むように、隔壁層１２６を形成して、有機ＥＬ発光素子１６４を得る。
【００９９】
次に、上記のように形成した色変換フィルタ１５４および有機ＥＬ発光素子１６４を乾燥窒素雰囲気（望ましくは、酸素および水分濃度ともに１ｐｐｍ以下）内に配置する。そして、ディスペンサーロボットを用いて、有機ＥＬ発光素子１６４に設けられた隔壁層１２６の外周部に紫外線硬化型接着剤を塗布する。そして、形成される内部空間の容積に相当する充填剤を、隔壁層１２６の内部に充填する。充填剤の所要量は、当業者によって容易に決定され得るものである。その後に、有機ＥＬ発光素子１６４と色変換フィルタ１５４とを密着させる。
【０１００】
続いて、有機ＥＬ発光素子の発光部と色変換フィルタ層とのアライメントを行う。アクティブマトリクス駆動の場合には、第１電極１０８と色変換フィルタ層との位置合わせを行う。一方、パッシブマトリクス駆動の場合には、第１電極および第２電極のラインパターンの交差部分と色変換フィルタ層との位置合わせを行う。その後に、前述の紫外線硬化型接着剤に対して紫外線を照射して、該接着剤を硬化させて外周封止層１３０を形成する。紫外線照射は、例えば１００ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間にわたって行うことが好ましい。
【０１０１】
以上のように、隔壁層１２６、内部充填層１２８および外周封止層１３０を用いて、基板１０２と透明基板１１６とを、１〜１００μｍ、好ましくは５〜５０μｍの間隔で固定することにより、外部環境からの水分の浸入を防止し、長期信頼性のある有機ＥＬディスプレイ１４４を構成することができる。
【０１０２】
【実施例】
（実施例１）
ガラス基板上に、ＴＦＴ、陽極、有機ＥＬ層、陰極、パッシベーション層を順次形成して、図１（ｂ）に示される有機ＥＬ発光素子１６０を得た。長辺方向のピッチ１９５μｍ、短辺方向のピッチ６５μｍを有して、陽極を配置した。各陽極と陰極が対向するエリアの寸法は、長辺方向１８０μｍ、短辺方向５０μｍであった。
【０１０３】
透明ガラス基板上に、厚さ１．５μｍのブラックマスク、それぞれの厚さが１．５μｍである赤色、緑色および青色のカラーフィルタ層、およびそれぞれの厚さが１０μｍである赤色および緑色の蛍光変換層を積層した。各カラーフィルタ層および蛍光変換層は、５５×１８５μｍの寸法を有した。次に、ノボラック系樹脂をベースとする感光性フォトレジスト（日本ゼオン製、ＺＰＮ１１００）をスピンコートし、引き続いてフォトリソグラフ法によりパターニングを実施して高さ２０μｍおよび幅５００μｍの隔壁層１２６を所定の位置に形成して、図１（ａ）に示される色変換フィルタ１５０を得た。
【０１０４】
次に、上記のように形成した色変換フィルタ１５０および有機ＥＬ発光素子１６０をグローブボックス内の乾燥窒素雰囲気（望ましくは、酸素および水分濃度ともに１ｐｐｍ以下）下に配置した。該隔壁層１２６の外側に、ディスペンサーロボットを用いて、直径２０μｍのビーズを分散させた紫外線硬化型接着剤（スリーボンド社製、商品名３０Ｙ−４３７）を塗布した。そして、該隔壁層１２６の内側に、透明シリコーン樹脂（東芝シリコーン社製、ＴＳＥ３０５１）を所定量充填した。
【０１０５】
その後に、図１（ｃ）に示されるように有機ＥＬ発光素子１６０と色変換フィルタ１５０とを密着させる。続いて、第１電極１０８（すなわち有機ＥＬ発光素子の発光部）と色変換フィルタ層とのアライメントを行った後に、１００ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間にわたって紫外線を照射して、接着剤を硬化させて外周封止層１３０を形成した。さらに、６０分間にわたる８０℃での加熱処理を行い、前記透明シリコーン樹脂をゲル化させて内部充填層１２８を形成して、有機ＥＬディスプレイ１４０を得た。
【０１０６】
（実施例２）
充填剤としてフッ素系不活性液体であるフロリナートＦＣ４０（住友スリーエム株式会社製）を用いたことを除いて、実施例１を繰り返して有機ＥＬディスプレイを得た。
【０１０７】
（実施例３）
充填剤としてフッ素系オイルであるデムナムＳ−６５（ダイキン工業製）を用いたことを除いて、実施例１を繰り返して有機ＥＬディスプレイを得た。
【０１０８】
（実施例４）
ガラス基板上に、ＴＦＴ、陽極、有機ＥＬ層、陰極、パッシベーション層を順次形成して、図３（ｂ）に示される有機ＥＬ発光素子１６２を得た。長辺方向のピッチ１９５μｍ、短辺方向のピッチ６５μｍを有して、陽極を配置した。各陽極と陰極が対向するエリアの寸法は、長辺方向１８０μｍ、短辺方向５０μｍであった。
【０１０９】
透明ガラス基板上に、厚さ１．５μｍのブラックマスク、それぞれの厚さが１．５μｍである赤色、緑色および青色のカラーフィルタ層、およびそれぞれの厚さが１０μｍである赤色および緑色の蛍光変換層を積層した。各カラーフィルタ層および蛍光変換層は、５５×１８５μｍの寸法を有した。次に、ノボラック系樹脂をベースとする感光性フォトレジスト（日本ゼオン製、ＺＰＮ１１００）をスピンコートし、フォトリソグラフ法を用いて外周封止層内に収まるような大きさに形成して、厚さ３μｍの平坦化層１２５を得た。さらに、感光性フォトレジスト（日本ゼオン製、ＺＰＮ１１００）をスピンコートし、引き続いてフォトリソグラフ法によりパターニングを実施して高さ５μｍおよび幅２００μｍの隔壁層１２６を所定の位置（平坦化層１２５の表示領域外の部分）に形成して、図３（ａ）に示される色変換フィルタ１５２を得た。
【０１１０】
次に、上記のように形成した色変換フィルタ１５２および有機ＥＬ発光素子１６２をグローブボックス内の乾燥窒素雰囲気（望ましくは、酸素および水分濃度ともに１ｐｐｍ以下）下に配置した。該平坦化層１２５の外側に、ディスペンサーロボットを用いて、直径２０μｍのビーズを分散させた紫外線硬化型接着剤（スリーボンド社製、商品名３０Ｙ−４３７）を塗布した。そして、該隔壁層１２６の内側に、透明シリコーン樹脂（東芝シリコーン社製、ＴＳＥ３０５１）を所定量充填した。
【０１１１】
その後に、図３（ｃ）に示されるように有機ＥＬ発光素子１６２と色変換フィルタ１５２とを密着させる。続いて、第１電極１０８（すなわち有機ＥＬ発光素子の発光部）と色変換フィルタ層とのアライメントを行った後に、１００ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間にわたって紫外線を照射して、接着剤を硬化させて外周封止層１３０を形成した。さらに、６０分間にわたる８０℃での加熱処理を行い、前記透明シリコーン樹脂をゲル化させて内部充填層１２８を形成して、有機ＥＬディスプレイ１４２を得た。
【０１１２】
（実施例５）
ガラス基板上に、ＴＦＴ、陽極、有機ＥＬ層、陰極、パッシベーション層を順次形成した。次に、ノボラック系樹脂をベースとする感光性フォトレジスト（日本ゼオン製、ＺＰＮ１１００）をスピンコートし、引き続いてフォトリソグラフ法によりパターニングを実施して高さ２０μｍおよび幅５００μｍの隔壁層１２６を所定の位置に形成して、図５（ｂ）に示される有機ＥＬ発光素子１６４を得た。長辺方向のピッチ１９５μｍ、短辺方向のピッチ６５μｍを有して、陽極を配置した。各陽極と陰極が対向するエリアの寸法は、長辺方向１８０μｍ、短辺方向５０μｍであった。
【０１１３】
透明ガラス基板上に、厚さ１．５μｍのブラックマスク、それぞれの厚さが１．５μｍである赤色、緑色および青色のカラーフィルタ層、およびそれぞれの厚さが１０μｍである赤色および緑色の蛍光変換層を積層して、図５（ａ）に示される色変換フィルタ１５４を得た。各カラーフィルタ層および蛍光変換層は、４８×１７８μｍの寸法を有した。
【０１１４】
次に、上記のように形成した色変換フィルタ１５４および有機ＥＬ発光素子１６４をグローブボックス内の乾燥窒素雰囲気（望ましくは、酸素および水分濃度ともに１ｐｐｍ以下）下に配置した。該隔壁層１２６の外側に、ディスペンサーロボットを用いて、直径２０μｍのビーズを分散させた紫外線硬化型接着剤（スリーボンド社製、商品名３０Ｙ−４３７）を塗布した。そして、該隔壁層１２６の内側に、透明シリコーン樹脂（東芝シリコーン社製、ＴＳＥ３０５１）を所定量充填した。
【０１１５】
その後に、図５（ｃ）に示されるように有機ＥＬ発光素子１６４と色変換フィルタ１５４とを密着させた。続いて、第１電極１０８（すなわち有機ＥＬ発光素子の発光部）と色変換フィルタ層とのアライメントを行った後に、１００ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間にわたって紫外線を照射して、接着剤を硬化させて外周封止層１３０を形成した。さらに、６０分間にわたる８０℃での加熱処理を行い、前記透明シリコーン樹脂をゲル化させて内部充填層１２８を形成して、有機ＥＬディスプレイ１４４を得た。
【０１１６】
【発明の効果】
以上に述べたとおり、本発明の記載のように、隔壁層を設けて、外周封止層と内部充填層とを分離する構造を採ることにより、内部充填層に使用する材料が外周封止層材料の硬化前に接触することを防止することができる。外周封止層の形成に紫外線硬化型接着剤を使用することにより、精密なアライメントおよび短時間での固定が行うことが可能となり、外部環境からの水分等の浸入を防止する外周封止層構造と封止方法の改良が図れた。さらに、色変換フィルタに平坦化層を設け、その表示領域外の部分に隔壁層を配置して、発光素子からの光が通過する部分のみに内部充填剤を充填する構造とすることにより、充填剤の使用量を削減し、充填剤をより均一に分布させることができる。また、この構造を採ることにより、隔壁層と外周封止層との間に空間が形成されても、表示に悪影響を及ぼすことがないという効果も発現される。
【０１１７】
また、内部充填層として波長４００〜８００ｎｍの光に対して５０％以上の透過率および１．２〜２．５の屈折率を有する材料を用いることにより、有機ＥＬ層の発光を効率よく色変換フィルタ層へと透過することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の方法で製造される有機ＥＬディスプレイを示す概略断面図であり、（ａ）は色変換フィルタ１５０を示し、（ｂ）は有機ＥＬ発光素子１６０を示し、および（ｃ）は色変換フィルタ１５０と有機ＥＬ発光素子１６０とを貼り合わせて製造される有機ＥＬディスプレイ１４０を示す断面図である。
【図２】図１（ｃ）中の線２−２’に沿って切断した断面を示す横断面図である。
【図３】本発明の第２の方法で製造される有機ＥＬディスプレイを示す概略断面図であり、（ａ）は色変換フィルタ１５２を示し、（ｂ）は有機ＥＬ発光素子１６２を示し、および（ｃ）は色変換フィルタ１５２と有機ＥＬ発光素子１６２とを貼り合わせて製造される有機ＥＬディスプレイ１４２を示す断面図である。
【図４】図３（ｃ）中の線４−４’に沿って切断した断面を示す横断面図である。
【図５】本発明の第３の方法で製造される有機ＥＬディスプレイを示す概略断面図であり、（ａ）は色変換フィルタ１５４を示し、（ｂ）は有機ＥＬ発光素子１６４を示し、および（ｃ）は色変換フィルタ１５４と有機ＥＬ発光素子１６４とを貼り合わせて製造される有機ＥＬディスプレイ１４４を示す断面図である。
【図６】従来技術の有機ＥＬディスプレイを示す概略断面図である。
【符号の説明】
１０２、６０２　第１の基板
１０４、６０４　ＴＦＴ
１０６　平坦化絶縁層
１０８　第１電極
１１０、６０８　有機ＥＬ層
１１２　第２電極
１１４　パッシベーション層
１１６、６１６　透明基板
１１８　カラーフィルタ層
１２０　蛍光変換層
１２２、６１４　ブラックマスク
１２５　平坦化層
１２６　隔壁層
１２８　内部充填層
１３０　外周封止層
１４０、１４２、１４４　本発明の有機ＥＬディスプレイ
１５０、１５２、１５４　色変換フィルタ
１６０、１６２、１６４　有機ＥＬ発光素子
６００　従来技術の有機ＥＬディスプレイ
６０６　陽極
６１０　陰極
６１２　色変換フィルタ層
６１８　外周封止層
６２０　内部空間
【図１】
2004103534.tif 000003
【図２】
2004103534.tif 000004
【図３】
2004103534.tif 000005
【図４】
2004103534.tif 000006
【図５】
2004103534.tif 000007
【図６】
2004103534.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月22日(2003.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを含む有機ＥＬ発光素子と、
透明基板上に形成された色変換フィルタ層を含む色変換フィルタと
を貼り合わせて形成される有機ＥＬディスプレイであって、
前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとの間に、紫外線硬化型接着剤から形成される外周封止層と、内部充填層とを設け、さらに前記外周封止層と前記内部充填層の間に、感光性フォトレジストから形成される隔壁層を設けたことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項２】
前記色変換フィルタは、前記色変換フィルタ層を覆ってその上面を平坦化する平坦化層をさらに含み、前記隔壁層は前記平坦化層の表示領域外の部分上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項３】
基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより駆動されることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項４】
前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びていることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項５】
前記内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項６】
基板上に形成された第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを含む有機ＥＬ発光素子と、
透明基板上に形成された色変換フィルタ層と、前記色変換フィルタ層を覆ってその上面を平坦化する平坦化層とを含む色変換フィルタと
を貼り合わせて形成される有機ＥＬディスプレイであって、
前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとの間に、外周封止層と内部充填層を設け、さらに前記外周封止層と前記内部充填層の間であって、前記平坦化層の表示領域外の部分上に隔壁層を設けたことを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項７】
基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより駆動されることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項８】
前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びていることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項９】
前記内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項１０】
基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、
透明基板上に色変換フィルタ層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、
前記色変換フィルタ層の周縁部に隔壁層を形成する工程と、
前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、
前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、
前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、
前記外周封止層を硬化させる工程と
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１１】
基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、
透明基板上に色変換フィルタ層および平坦化層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、
前記平坦化層の表示領域外の部分上に隔壁層を形成する工程と、
前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、
前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、
前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、
前記外周封止層を硬化させる工程と
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１２】
基板上に前記第１電極と接続される薄膜トランジスタをさらに設けられることを特徴とする請求項１０または１１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１３】
前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びていることを特徴とする請求項１０または１１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１４】
前記外周封止層は、紫外線硬化型接着剤により形成されていることを特徴とする請求項１０または１１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１５】
前記充填剤は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することを特徴とする請求項１０または１１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１６】
基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、
透明基板上に色変換フィルタ層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、
前記有機ＥＬ発光素子の周縁部に隔壁層を形成する工程と、
前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、
前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、
前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、
前記外周封止層を硬化させる工程と
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１７】
基板上に前記第１電極と接続される薄膜トランジスタをさらに設けられることを特徴とする請求項１６に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１８】
前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びていることを特徴とする請求項１６に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１９】
前記外周封止層は、紫外線硬化型接着剤により形成されていることを特徴とする請求項１６に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２０】
前記充填剤は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することを特徴とする請求項１６に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の実施形態である有機ＥＬディスプレイは、基板上に形成された第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを含む有機ＥＬ発光素子と、透明基板上に形成された色変換フィルタ層を含む色変換フィルタとを貼り合わせて形成される有機ＥＬディスプレイであって、前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとの間に、外周封止層と内部充填層を設け、さらに前記外周封止層と前記内部充填層の間に隔壁層を設けたことを特徴とする。色変換フィルタは、色変換フィルタ層を覆って形成される平坦化層をさらに含み、該平坦化層の表示領域外の部分上に隔壁層を設けてもよい。アクティブマトリクス駆動を行う場合には、基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより有機ＥＬディスプレイが駆動される。あるいはまた、パッシブマトリクス駆動を行う場合には、前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びることができる。あるいはまた、前記外周封止層は、紫外線硬化型接着剤を硬化させることにより形成されてもよい。また、前記内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することが好ましい。
本発明の第２の実施形態である有機ＥＬディスプレイは、基板上に形成された第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを含む有機ＥＬ発光素子と、透明基板上に形成された色変換フィルタ層と、前記色変換フィルタ層を覆ってその上面を平坦化する平坦化層とを含む色変換フィルタとを貼り合わせて形成される有機ＥＬディスプレイであって、前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとの間に、外周封止層と内部充填層を設け、さらに前記外周封止層と前記内部充填層の間であって、前記平坦化層の表示領域外の部分上に隔壁層を設けたことを特徴とする。アクティブマトリクス駆動を行う場合には、基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより有機ＥＬディスプレイが駆動される。あるいはまた、パッシブマトリクス駆動を行う場合には、前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びることができる。あるいはまた、前記外周封止層は、紫外線硬化型接着剤を硬化させることにより形成されてもよい。また、前記内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することが好ましい。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明の第３の実施形態である有機ＥＬディスプレイの製造方法である。第１の方法は、基板上に、第１電極と、有機ＥＬ層と、第２電極とを形成して、有機ＥＬ発光素子を準備する工程と、透明基板上に色変換フィルタ層を形成して色変換フィルタを準備する工程と、前記色変換フィルタ層の周縁部に隔壁層を形成する工程と、前記隔壁層の外側に外周封止層を形成する工程と、前記隔壁層の内側に充填剤を満たす工程と、前記有機ＥＬ発光素子と前記色変換フィルタとを、位置を合わせて貼り合わせる工程と、前記外周封止層を硬化させる工程とを含むことを特徴とする。アクティブマトリクス駆動を行う場合には、基板上に薄膜トランジスタがさらに設けられ、前記第１電極が該薄膜トランジスタに接続されており、および該薄膜トランジスタにより有機ＥＬディスプレイが駆動される。あるいはまた、パッシブマトリクス駆動を行う場合には、前記第１電極および前記第２電極はそれぞれラインパターン状に形成され、前記第１電極のラインパターンと前記第２電極のラインパターンは直交する方向に延びることができる。さらに、外周封止層は、紫外線硬化型接着剤を硬化させることにより形成されていてもよい。また、内部充填層は、１．２〜２．５の屈折率および波長４００〜８００ｎｍにおいて５０％以上の光透過率を有することが好ましい。