Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）で表されるアジルサルタンアミン塩。
【化４】
2013512199.tif 000001

［式中、Ｂはアミンである。］
【請求項２】
Ｂが、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、エタノールアミン、ピペラジン、ジベンジルエチレンジアミン、
メグルミン、トロメタミン、テトラメチル第４級アンモニウム、テトラエチル第４級アン
モニウム及びコリンからなる群より選ばれる、請求項１に記載のアジルサルタンアミン塩
。
【請求項３】
Ｂが、式（ＩＩ）で表されるエタノールアミンである、請求項１に記載のアジルサルタン
アミン塩。
【化５】
2013512199.tif 000002
【請求項４】
Ｂが、式（ＩＩＩ）で表されるコリンである、請求項１に記載のアジルサルタンアミン塩
。
【化６】
2013512199.tif 000003
【請求項５】
アジルサルタンの酸性型とアミンＢとを別々にアルコール溶媒に添加し、室温又は加熱下
で対応する塩を得ることを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のアジルサルタン有
機アミン塩の製造方法。
【請求項６】
前記アルコール溶媒が、メタノール、エタノール、プロパノール及びイソプロパノールか
らなる群より選ばれる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
有効成分として請求項１〜４のいずれか１項に記載のアジルサルタンアミン塩の治療的有
効量及び製薬学的に許容される担体を含有する、高血圧の治療に使用するための医薬組成
物。
【請求項８】
抗高血圧医薬品の製造における、請求項１〜４のいずれか１項に記載のアジルサルタンア
ミン塩又は請求項７に記載の医薬組成物の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
【化１】
2013512199.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月22日(2013.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状印刷基材を処理するためのシート処理装置であって、
シートの少なくとも一部分を支持するシート支持面と、
流体フローを誘発する流体フロー発生器と、
吸入口から排出口まで延在している第一通路および前記第一通路を吸引終点に接続する第二通路を各々が含んでいる複数のベンチュリ型負圧源であって、第一通路と第二通路との間の接続は、第一通路内の直径流量制限部に隣接して位置している、複数のベンチュリ型負圧源と、を含み、
シート支持面が少なくとも１つの開口を含み、該開口は、動作時にシート支持面上にシート状印刷基材の少なくとも一部分を押さえつける負圧が開口においてシート状印刷基材に付与されるように、複数のベンチュリ型負圧源のうちの第１のベンチュリ型負圧源の吸引終点と流体連通しており、
流体フロー発生器と第１のベンチュリ型負圧源の吸入口との間に実装されており、動作中に、流体フロー発生器から第１のベンチュリ型負圧源の吸入口に流体が流れるのを制御可能に抑制するように構成された流量制限弁をさらに含む、シート処理装置。
【請求項２】
開口が、シート支持面にくぼんだ開放真空緩衝器空間を含む、請求項１に記載のシート処理装置。
【請求項３】
開放真空緩衝器空間が、開放カップ型くぼみ空間を含む、請求項２に記載のシート処理装置。
【請求項４】
吸引終点における負圧を制御可能に緩和するための通気手段をさらに含む、請求項１から３のいずれか一項に記載のシート処理装置。
【請求項５】
通気手段が、流体フロー発生器からの流体フローと制御可能に流体連通している、請求項４に記載のシート処理装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載のシート処理装置を含むインクジェットプリンタであって、シート支持面の少なくとも一部にわたって主走査方向に往復移動可能であって少なくとも１つの印刷ヘッドを担持するキャリッジをさらに含み、各印刷ヘッドは、主走査方向に横断して印刷基材の仮想印刷領域に標識物質のドットを画像通りに形成するための複数の吐出要素を有しており、印刷基材の印刷領域は、吸引手段によってシート支持面上に押さえつけられている、インクジェットプリンタ。
【請求項７】
シート処理装置にシート状印刷基材の少なくとも一部分を押さえつける方法であって、
ａ）吸入口から排出口まで延在している第一通路および前記第一通路を吸引終点に接続する第二通路を各々が含んでいる複数のベンチュリ型直径流量制限部であって、第一通路と第二通路との間の接続は、第一通路内の直径流量制限部に隣接して位置している、複数のベンチュリ型直径流量制限部、を用意するステップと、
ｂ）シート処理装置のシート支持面の第１の開口を覆うためにシート状印刷基材の一部分を用意するステップであって、第１の開口が、複数のベンチュリ型直径流量制限部のうちの第１のベンチュリ型直径流量制限部と流体連通している、ステップと、
ｃ）第１のベンチュリ型直径流量制限部を通じて流体を流すように誘発し、これにより、シート状印刷基材の第１の部分を押さえつける負圧を第１の開口に形成するステップと、
ｄ）流体が第１のベンチュリ型直径流量制限部を流れるのを実質的に抑制するように流量抑制器を制御するステップと、を含む方法。
【請求項８】
第２の開口と流体連通して配置された、複数のベンチュリ型直径流量制限部のうちの第２のベンチュリ型直径流量制限部を通じて流体を流すように誘発し、これにより、シート状印刷基材の第２の部分を押さえつける負圧を第２の開口に形成するステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
第１のベンチュリ型直径流量制限部を通じて流体を流すように誘発するステップが、第２のベンチュリ型直径流量制限部を通じて流体を流すように誘発するステップとは独立して実行される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
流体が第１の開口に流れるように流量抑制器を制御し、その結果、第１の開口を通気して第１の開口における負圧を緩和するステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年8月19日(2014.8.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不織布繊維ウェブと、
前記不織布繊維ウェブに接合されたストリップと、を含む物品であって、前記ストリップが少なくとも４０℃の転移温度を有する形状記憶ポリマーを含み、前記ストリップが歪んだ一時的形状と固有形状とを有し、転移温度以上で加熱されると、前記ストリップが前記歪んだ一時的形状から前記固有形状へと少なくとも部分的に変換し、それによって、前記不織布繊維ウェブの折り畳み化、カップ状化、又は皺状化のうちの少なくとも１つが引き起こされ、前記ストリップが、前記ストリップの不連続な位置において前記不織布繊維ウェブに接合される、物品。
【請求項２】
不織布繊維ウェブと、
前記不織布繊維ウェブに接合されるストリップと、を含む物品であって、前記ストリップが少なくとも４０℃の転移温度を有する形状記憶ポリマーを含み、前記ストリップのそれぞれが、歪んだ一時的形状と固有形状とをそれぞれ有し、転移温度以上で加熱されると、前記ストリップが、それらのそれぞれの歪んだ一時的形状からそれらのそれぞれの固有形状へと少なくとも部分的に変換し、それによって、前記不織布繊維ウェブの折り畳み化又は皺状化の少なくとも一方が引き起こされ、前記ストリップの少なくとも一部が相互接続される、物品。
【請求項３】
不織布繊維ウェブと、
前記不織布繊維ウェブに接合される複数のストリップと、を含む物品であって、前記ストリップが少なくとも４０℃の転移温度を有する形状記憶ポリマーを含み、前記ストリップのそれぞれが、歪んだ一時的形状と固有形状とをそれぞれ有し、転移温度以上で加熱されると、前記ストリップが、それらのそれぞれの歪んだ一時的形状からそれらのそれぞれの固有形状へと少なくとも部分的に変換し、それによって、前記不織布繊維ウェブの折り畳み化又は皺状化の少なくとも一方が引き起こされ、前記複数のストリップが、前記不織布繊維ウェブの互いに対向する主表面上に配置される、物品。
【請求項４】
物品の製造方法に従って調製された物品であって、
ストリップを不織布繊維ウェブに接合する工程であって、前記ストリップが少なくとも４０℃の転移温度を有する形状記憶ポリマーを含み、前記ストリップが歪んだ一時的形状と固有形状とを有し、転移温度以上で加熱されると、前記ストリップが前記歪んだ一時的形状から前記それぞれの固有形状へと少なくとも部分的に変換し、それによって、前記不織布繊維ウェブの折り畳み化、カップ状化、又は皺状化のうちの少なくとも１つが引き起こされる工程と、前記ストリップを転移温度以上で加熱する工程と、を含み、前記物品が呼吸マスクを含む、物品。
【請求項５】
複数のストリップを不織布繊維ウェブに接合する工程を含む物品の製造方法であって、前記ストリップが少なくとも４０℃の転移温度を有する形状記憶ポリマーを含み、前記ストリップのそれぞれが、歪んだ一時的形状と固有形状とをそれぞれ有し、転移温度以上で加熱されると、前記ストリップが、それらのそれぞれの歪んだ一時的形状からそれらのそれぞれの固有形状へと少なくとも部分的に変換し、それによって、前記不織布繊維ウェブの折り畳み化、カップ状化、又は皺状化のうちの少なくとも１つが引き起こされ、前記複数のストリップが、前記不織布繊維ウェブの互いに対向する主表面上に配置される、物品の製造方法。
【請求項６】
前記ストリップを前記転移温度以上で加熱する工程を更に含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法に従って調製される物品。
【請求項８】
ストリップを不織布繊維ウェブに接合する工程を含む物品の製造方法であって、前記ストリップが少なくとも４０℃の転移温度を有する形状記憶ポリマーを含み、前記ストリップのそれぞれが、歪んだ一時的形状と固有形状とをそれぞれ有し、転移温度以上で加熱されると、前記ストリップが、それらのそれぞれの歪んだ一時的形状からそれらのそれぞれの固有形状へと少なくとも部分的に変換し、それによって、前記不織布繊維ウェブの折り畳み化、カップ状化、又は皺状化のうちの少なくとも１つが引き起こされ、前記ストリップの少なくともいくつかが、並列配置に並べられる、物品の製造方法。
【請求項９】
ストリップを不織布繊維ウェブに接合する工程を含む物品の製造方法であって、前記ストリップが少なくとも４０℃の転移温度を有する形状記憶ポリマーを含み、前記ストリップのそれぞれが、歪んだ一時的形状と固有形状とをそれぞれ有し、転移温度以上で加熱されると、前記ストリップが、それらのそれぞれの歪んだ一時的形状からそれらのそれぞれの固有形状へと少なくとも部分的に変換し、それによって、前記不織布繊維ウェブの折り畳み化、カップ状化、又は皺状化のうちの少なくとも１つが引き起こされ、前記ストリップの少なくともいくつかが相互接続される、物品の製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
いくつかの実施形態において、ストリップは、ストリップに沿った不連続な位置において不織布繊維ウェブに接合される。いくつかの実施形態において、ストリップは、ストリップに沿って連続的に不織布繊維ウェブに接合される。いくつかの実施形態において、ストリップ及び不織布繊維ウェブは平坦である。いくつかの実施形態において、ストリップは湾曲している。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
いくつかの実施形態において、ストリップはそれぞれの長さを有し、ストリップの少なくとも１つは、不連続な位置において不織布繊維ウェブに接合される。いくつかの実施形態において、ストリップはそれぞれの長さを有し、ストリップの少なくとも１つは、不織布繊維ウェブに連続的に接合される。いくつかの実施形態において、ストリップ及び不織布繊維ウェブは平坦である。いくつかの実施形態において、ストリップは線形である。いくつかの実施形態において、ストリップは、不織布繊維ウェブの１つの主表面上に全体的に配置される。いくつかの実施形態において、ストリップは、不織布繊維ウェブの互いに対応する主表面上に配置される。いくつかの実施形態において、ストリップの少なくともいくつかは、並列配置に並べられる。いくつかの実施形態において、ストリップの少なくともいくつかは相互接続される。いくつかの実施形態において、ストリップはメッシュを含む。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
次いで、一時的形状を有するストリップが、不織布繊維ウェブに接合される。ストリップは、熱点接合、超音波点接合、例えば、熱硬化性接着剤及び／又はのりなどの接着手段を用いる接着剤接合、及び／又は、例えば、縫製、ステープル、フック、及び／又はリベットなどの機械的締結手段といった任意の好適な方法によって、不織布繊維ウェブに接合することができる。ストリップは、その長さに沿って、又は不連続に離れた位置において、不織布繊維ウェブに接合されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月25日(2013.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両のための構造用ドアビームであって、
該構造用ドアビームを車両ドアに固定する端部取り付けフランジが一体に形成された板金ストリップを備え、該板金ストリップは、断面で見て、２つの山部及び前記２つの山部相互間に位置した谷部を含む輪郭形状を有し、前記２つの山部の各々は頂部と前記頂部と一体の２つの反対側に位置した側壁とを有し、各山部の第１の側壁は、前記山部の頂部から遠ざかって前記山部の開放基部に向かって延びると共に前記山部の開放基部に隣接して前記板金ストリップの縁に沿って形成された外側フランジと一体であり、前記２つの山部の各々の前記開放基部は、共通平面内に位置し、第２の側壁は、前記山部の前記頂部から前記第１の側壁よりも更に遠ざかって延びて前記谷部の２つの互いに反対側に位置した側壁の一方を同時に構成しており、前記２つの山部の一方は第１の方向に沿って前記山部の前記開放基部から前記山部の前記頂部まで垂直に測定した高さＨを有し、前記谷部は前記第１の方向とは逆の第２の方向に沿って前記２つの山部の前記一方の前記開放基部から前記谷部の底部まで垂直に測定した約０．２Ｈよりも大きい深さを有し、前記谷部の前記底部は、前記谷部の前記２つの互いに反対側の側壁と一体であり、各外側フランジは、前記共通平面内に位置した外方に延びる中間部分と、前記共通平面から外れて位置する上曲がり縁部分とを有している、
ことを特徴とする構造用ドアビーム。
【請求項２】
前記谷部は、約０．２Ｈ〜約Ｈの深さを有する、
請求項１に記載の構造用ドアビーム。
【請求項３】
前記谷部は、約０．５Ｈ以上の深さを有する、
請求項１又は２に記載の構造用ドアビーム。
【請求項４】
前記谷部は、約０．９Ｈ以上の深さを有する、
請求項３に記載の構造用ドアビーム。
【請求項５】
前記２つの山部のうちの他方は、前記第１の方向に沿って前記山部の前記開放基部から前記頂部まで垂直に測定して同一の高さＨを有する、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の構造用ドアビーム。
【請求項６】
前記２つの山部のうちの他方は、前記第１の方向に沿って前記山部の前記開放基部から前記頂部まで垂直に測定してＨよりも小さな異なる高さを有する、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の構造用ドアビーム。
【請求項７】
車両のための構造用ドアビームであって、前記構造用ドアビームを車両ドアに固定する端部取り付けフランジが一体に形成された板金ストリップを有し、前記板金ストリップは異形断面であり、前記板金ストリップは、ビード構造体を有し、前記ビード構造体は、前記ビード構造体の長さの少なくとも一部分に沿って長手方向に延びる第１、第２及び第３のビードを含み、前記第１のビードと前記第２のビードは、中間領域によって横方向に互いに隔てられ、外側フランジが各々、前記第１及び第２のビードから外方に遠ざかって横方向に延びており、前記第１のビードは、前記横方向と前記長手方向の両方に垂直な第１の方向に最大高さＨまで延び、前記第３のビードは、前記中間領域内に位置した状態で、前記第１の方向とは逆の第２の方向に少なくとも約０．２Ｈの最大高さまで延びている、
ことを特徴とする構造用ドアビーム。
【請求項８】
前記第３のビードは前記第２の方向に約０．２Ｈ〜約Ｈの最大高さまで延びている、
請求項７に記載の構造用ドアビーム。
【請求項９】
前記第３のビードは、前記第２の方向に少なくとも約０．５Ｈの最大高さまで延びている、
請求項７又は８に記載の構造用ドアビーム。
【請求項１０】
前記第３のビードは前記第２の方向に約０．９Ｈ以下の最大高さまで延びている、
請求項９に記載の構造用ドアビーム。
【請求項１１】
前記第１のビードと前記第２のビードと前記第３のビードは互いに平行である、
請求項７〜１０のいずれか１項に記載の構造用ドアビーム。
【請求項１２】
共通平面が前記板金ストリップの互いに反対側の側縁部に沿って設けられた前記外側フランジを通り、前記第１の山部及び前記第２の山部の各々の高さは、前記共通平面に対して測定される、
請求項７〜１１のいずれか１項に記載の構造用ドアビーム。
【請求項１３】
前記第２のビードの高さは、前記第１のビードの高さＨとほぼ同じである、
請求項７〜１２のいずれか１項に記載の構造用ドアビーム。
【請求項１４】
前記第２のビードの高さは、前記第１のビードの高さＨとは異なり且つこれよりも小さい、
請求項７〜１２のいずれか１項に記載の構造用ドアビーム。
【請求項１５】
前記板金ストリップは、高強度鋼から成る、
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の構造用ドアビーム。
【請求項１６】
前記板金ストリップは、少なくとも６００ＭＰａの引張り強度を有する、
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の構造用ドアビーム。
【請求項１７】
構造用ドアビームを成形する方法であって、前記方法は、
板金ブランクを第１の成形ステーション内に配置するステップを有し、前記板金ブランクは、第１及び第２の互いに反対側の側部を有し、
最初の成形作業において、中央ビードを前記板金ブランクの前記第１の側部よりも上方の所定高さのところまで絞り加工するステップを有し、前記中央ビードに隣接して位置する板金ブランクの複数の部分は、前記最初の成形作業中、実質的に非成形状態のままであり、
前記板金ブランクを第２の成形ステーションに移送するステップを有し、
２回目の成形作業において、前記中央ビードの各側に１つずつ設けられた２つのビードを前記板金ブランクの非成形部分内で絞り加工するステップを有し、前記２つのビードは、前記板金ブランクの前記第２の側部よりも上方の所定高さのところまで絞り加工される、
ことを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記板金ブランクの前記第１の側部の上方の前記所定高さと前記板金ブランクの前記第２の側部の上方の前記所定高さの和は、１回の成形作業を用いて達成できる最大高さよりも大きい、
請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記最初の成形作業及び前記２回目の成形作業は、常温成形作業である、
請求項１７又は１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記最初の成形作業の実施後に、前記構造用ドアビームの外側縁部分の輪郭を定めるために前記板金ブランクをトリムするステップを有する、
請求項１７〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記板金ブランクの横方向側縁部に沿って外側のトリムされた縁部分に隣接して外側フランジを形成するステップを有する、
請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記板金ブランクは、高強度鋼である、
請求項１７〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
前記板金ブランクは、少なくとも６００ＭＰａの引張り強度を有する、
請求項１７〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
前記最初の成形作業及び前記２回目の成形作業は、常温成形作業である、
請求項１７〜２３のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月19日(2013.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮表面層と内部引張層とを含む強化ガラス基板に、交差しているスクライブベントを形成する方法であって、
前記内部引張層を部分的に露出させるよう、前記圧縮表面層を貫通する第１傷であって、前記強化ガラス基板の第１エッジからずれて位置している第１傷を形成するステップ、
前記内部引張層を部分的に露出させるよう、前記圧縮表面層を貫通する第２傷であって、前記強化ガラス基板の第２エッジからずれて位置している第２傷を形成するステップ、
前記強化ガラス基板の表面上でレーザビームと冷却ジェットとを第１スクライブ速度で平行移動させることにより、前記圧縮表面層を貫通する第１スクライブベントであって、前記第１傷で始まり、かつ前記強化ガラス基板のエッジからずれている第１終端位置で終端する第１スクライブベントを第１スクライブ方向に発生させるステップ、および、
前記強化ガラス基板の表面上で前記レーザビームと前記冷却ジェットとを、前記第１スクライブ速度以上の第２スクライブ速度で平行移動させることにより、前記圧縮表面層を貫通する第２スクライブベントであって、前記第２傷で始まり、かつ前記第１スクライブベントと交差位置で交差し、さらに前記強化ガラス基板のエッジからずれている第２終端位置で終端する第２スクライブベントを第２スクライブ方向に発生させるステップ、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第２スクライブ速度が、前記第２スクライブベントの前記強化ガラス基板内での深さが前記第１スクライブベントの前記交差位置以外の領域での深さよりも浅くなるような速度であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
圧縮表面層と内部引張層とを含む強化ガラス基板に、交差しているスクライブベントを形成する方法であって、
前記強化ガラス基板の表面上でレーザビームと冷却ジェットとを平行移動させることにより、前記圧縮表面層を貫通する第１スクライブベントを第１スクライブ方向に発生させるステップ、
前記第１スクライブベントを交差位置で融着させるステップ、および、
前記強化ガラス基板の表面上で前記レーザビームと前記冷却ジェットとを平行移動させることにより、前記圧縮表面層を貫通する第２スクライブベントであって、前記第１スクライブベントを前記交差位置で横切る第２スクライブベントを第２スクライブ方向に発生させるステップ、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
前記圧縮表面層を貫通する、第１傷および第２傷を、前記内部引張層を部分的に露出させるように形成するステップをさらに含み、ここで、
前記第１傷は、前記第１スクライブ方向に垂直でありかつ前記強化ガラス基板の第１エッジからずれて位置しているものであり、さらに前記第２傷は、前記第２スクライブ方向に垂直でありかつ前記強化ガラス基板の第２エッジからずれて位置しているものであり、
前記第１スクライブベントが、前記第１傷で始まり、かつ前記強化ガラス基板のエッジからずれている第１終端位置で終端するものであり、さらに、
前記第２スクライブベントが、前記第２傷で始まり、かつ前記強化ガラス基板のエッジからずれている第２終端位置で終端するものであることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記エッジと、前記第１傷、前記第２傷、前記第１終端位置、および前記第２終端位置の夫々との間の前記強化ガラス基板の周囲部分に沿って位置する該強化ガラス基板の被遮蔽領域に、１以上のレーザシールドを適用するステップをさらに含み、このとき前記レーザビームおよび前記冷却ジェットが前記強化ガラス基板の該被遮蔽領域の表面に入射することを、該レーザシールドが防ぐことを特徴とする請求項１または４記載の方法。
【請求項６】
前記レーザビームが、前記強化ガラス基板の前記表面に楕円ビームスポットを照射し、
前記冷却ジェットが、前記レーザビームおよび前記冷却ジェットを前記強化ガラス基板の前記表面上で平行移動させるときに、冷却スポットを前記楕円ビームスポット内に生成し、さらに、
前記第１スクライブベントおよび前記第２スクライブベントの発生時、前記楕円ビームスポットにより生成される熱と、前記冷却スポットにより提供される急冷とにより、前記強化ガラス基板の前記圧縮表面層内で前記表面下を伝播するベント前部が生み出されることを特徴とする請求項１または３記載の方法。
【請求項７】
前記楕円ビームスポットが前記圧縮表面層上で主軸と短軸とを有し、このとき該主軸がスクライブ方向と位置合わせされ、かつ、
前記楕円ビームスポットの前記短軸の幅ｂが、
ｂ＝（Ｐ／Ｉmax）・１／｛（π／４）・ａ＋ν｝
で規定され、ここで、
ａは前記楕円ビームスポットの前記主軸の長さ、
Ｐは前記レーザビームのパワー、
Ｉmaxは最大許容レーザパワー密度、および、
νは、前記レーザビームおよび前記冷却ジェットの、前記強化ガラス基板の前記表面上でのスクライブ速度、
であることを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記第１傷および第２傷を形成するステップが、約９０°から１３０°までの範囲の角度を有する円錐状のダイヤモンド製スクライブチップを、前記強化ガラス基板の前記表面に当てるステップを含むことを特徴とする請求項１または４記載の方法。
【請求項９】
前記円錐状のダイヤモンド製スクライブチップを前記強化ガラス基板の前記表面に当てる際の力が５から２０Ｎの間であり、かつ引きずる際の角度が約１°から約２０°までの範囲内であることを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１０】
圧縮表面層と内部引張層とを含む強化ガラス基板にスクライブベントを形成する方法であって、
前記内部引張層を部分的に露出させるよう、前記圧縮表面層を貫通する傷であって、スクライブ方向に垂直でありかつ前記強化ガラス基板の第１エッジからずれて位置している傷を形成するステップ、および、
前記強化ガラス基板の表面上でレーザビームと冷却ジェットとを平行移動させることにより、前記圧縮表面層を貫通するスクライブベントであって、前記傷で始まり、かつ前記強化ガラス基板の第２エッジからずれている終端位置で終端するスクライブベントを発生させるステップ、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月2日(2013.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｉの化合物：
【化１】
2013512938.tif 000001
［式中、
０≦ｎ≦４、
ｎは整数であり、
ＹはＯＨ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＮＯ３、ＢＦ４、Ｃ６Ｈ５Ｏ７、ＣＨ３ＣＯ２、ＣＦ３ＣＯ２、または−ＯＣＨ３を表す］。
【請求項２】
式ＩＩ：
【化２】
2013512938.tif 000002
の化合物である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
請求項１に記載の一般式Ｉの化合物を製造するための方法であって、
１）ショ糖オクタ硫酸エステル塩を水に溶解させる工程、
２）該塩をイオン交換カラム上にロードする工程、
３）亜鉛塩を添加する工程、
４）ショ糖オクタ硫酸エステル亜鉛塩を沈殿させる工程
を含んでなる、方法。
【請求項４】
ショ糖オクタ硫酸エステル塩が、ショ糖オクタ硫酸エステルカリウム塩またはショ糖オクタ硫酸エステルナトリウム塩である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
一般式Ｉの化合物を製造するための方法であって、
１）酸性型ショ糖オクタ硫酸エステル塩を水に溶解させる工程、
２）亜鉛塩を添加する工程、
３）ショ糖オクタ硫酸エステル亜鉛塩を沈殿させる工程
を含んでなる、方法。
【請求項６】
前記亜鉛塩が、Ｚｎ（ＯＨ）２、ＺｎＣｌ２、ＺｎＢｒ２、ＺｎＩｒ、Ｚｎ（ＮＯ３）２、もしくはＺｎ（ＢＦ４）２から選択される無機亜鉛塩、またはＺｎ（ＣＨ３ＣＯ２）２、Ｚｎ（ＣＦ３ＣＯ２）２、Ｚｎ３（Ｃ６Ｈ５Ｏ７）２、もしくはＺｎ（ＣＨ３Ｏ）２から選択される有機亜鉛塩である、請求項３〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
請求項１または２に記載の少なくとも１つの化合物と、薬学上および／または美容学上許容される賦形剤とを含んでなる、医薬品および／または化粧品組成物。
【請求項８】
請求項１または２に記載の化合物を含んでなる、医薬組成物。
【請求項９】
皮膚または粘膜の処置のための、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
創傷治癒を促進するための、請求項９に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
火傷および急性または慢性創傷の治癒に用いるための、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
火傷、放射線皮膚炎、様々な発疹、皮膚炎、擦り傷、引っ掻き傷、かすり傷、切り傷、下肢潰瘍、褥瘡、糖尿病性創傷、胃潰瘍、口腔びらん、口腔環境における様々な創傷、瘢痕性座瘡、凍結療法の瘢痕、外科手術後または皮膚形成外科手術後瘢痕、水泡、口唇炎、湿疹、おむつかぶれ、および皮膚粗鬆症の治癒に用いるための、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
請求項１または２に記載の少なくとも１つの化合物の有効成分としての適用を含む、皮膚および粘膜の美容学的処置の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月2日(2013.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主要量の潤滑粘度の油と０．０１乃至５質量％の下記の式Ｉの一種以上の化合物とを含む潤滑油組成物：
【化１】
2013512955.tif 000001
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は独立に、水素原子、Ｃ１乃至Ｃ４のアルキル基、および式−ＣＨ２ＮＨＲ５の部分構造からなる群より選択されるが、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４の少なくとも一つは式−ＣＨ２ＮＨＲ５の部分構造であって、Ｒ５はＣ８乃至Ｃ２８の脂肪族基である。
【請求項２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ３が式−ＣＨ２ＮＨＲ５の部分構造であって、Ｒ５がＣ１０乃至Ｃ２８の脂肪族基である請求項１の潤滑油組成物。
【請求項３】
Ｒ５がＣ１０乃至Ｃ１８の脂肪族基である請求項２の潤滑油組成物。
【請求項４】
前記一種以上の化合物が式ＩＩを有する請求項１の潤滑油組成物：
【化２】
2013512955.tif 000002
式中、Ｒ６およびＲ７は独立に、水素原子、Ｃ１乃至Ｃ４のアルキル基、および式−ＣＨ２ＮＨＲ８の部分構造からなる群より選択されるが、Ｒ６およびＲ７の少なくとも一つは式−ＣＨ２ＮＨＲ８の部分構造であって、Ｒ８はＣ８乃至Ｃ２８の脂肪族基である。
【請求項５】
Ｒ６が水素原子である請求項４の潤滑油組成物。
【請求項６】
Ｒ７が水素原子である請求項４の潤滑油組成物。
【請求項７】
Ｎ−ラウリル−２−イミダゾールメチルアミンを除く、請求項１、２又は３で定義される式Ｉの化合物、又は、請求項４、５又は６で定義される式ＩＩの化合物。
【請求項８】
下記の化合物を反応させることを含む、請求項１、２又は３で定義される式Ｉの、又は、請求項４、５又は６で定義される式ＩＩのアミノメチル置換イミダゾール化合物を製造するための方法：
（ａ）式ＩＩＩを有するイミダゾール化合物
【化３】
2013512955.tif 000003
式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は独立に、水素原子およびＣ１乃至Ｃ４のアルキル基からなる群より選択されるが、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４の少なくとも一つは水素原子であり；
（ｂ）ホルムアルデヒドもしくはホルムアルデヒドを生成させる試薬；および
（ｃ）式Ｈ２Ｎ−Ｒ１５を有するアミン、
式中、Ｒ１５はＣ８乃至Ｃ２８の脂肪族基である。
【請求項９】
Ｒ１５がＣ１０乃至Ｃ１８の脂肪族基である請求項８の方法。
【請求項１０】
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４が水素原子である請求項８の方法。
【請求項１１】
以下（ａ）及び（ｂ）を含む、請求項１、２又は３で定義される式Ｉの、又は、請求項４、５又は６で定義される式ＩＩのアミノメチル置換イミダゾール化合物を製造するための方法であって：
（ａ）下記の（ｉ）と（ｉｉ）の反応を行ない：
（ｉ）少なくとも一種の式ＩＶのイミダゾールカルボキシアルデヒド：
【化４】
2013512955.tif 000004
式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４は独立に、水素原子、Ｃ１乃至Ｃ４のアルキル基、および式−ＣＯＨの部分構造からなる群より選択されるが、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４の少なくとも一つは式−ＣＯＨの部分構造である；および
（ｉｉ）式Ｈ２Ｎ−Ｒ２５を有する一級アミン（式中、Ｒ２５はＣ８乃至Ｃ２８の脂肪族基である）；そして
（ｂ）（ａ）の反応生成物を水素供給源を用いて還元する、
ただし、Ｎ−ラウリル−２−イミダゾールメチルアミンの化合物を製造するための方法を除く前記方法。
【請求項１２】
Ｒ２５がＣ１０乃至Ｃ１８の脂肪族基である請求項１１の方法。
【請求項１３】
Ｎ−ラウリル−２−イミダゾールメチルアミンの化合物を除く、請求項８〜１２のいずれかの方法により生成した生成物。
【請求項１４】
９０乃至１０質量％の液状有機希釈剤と１０乃至９０質量％の請求項１、２又は３で定義される式Ｉの、又は、請求項４、５又は６で定義される式ＩＩの一種以上の化合物とを含む潤滑油添加剤濃縮物。
【請求項１５】
潤滑油組成物における請求項１、２又は３で定義される式Ｉの化合物、又は、請求項４、５又は６で定義される式ＩＩの化合物の摩擦緩和剤としての使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月29日(2013.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
一態様において、本発明において使用されるジビニルアレーンジオキシドは、例えば、Ｍａｒｋｓ他により２００８年１２月３０日に出願された米国特許出願番号第６１／１４１，４５７号に記載されている方法によって製造することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【化１】
2013512997.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【化２】
2013512997.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本発明において有用なポリアミン（成分（ｂ））は、当該技術分野で知られているいずれの従来のポリアミンであってもよい。本発明の目的に対し、本明細書における「ポリアミン」は、当該技術分野で従来知られている一般的な部類のポリアミン類及びアルカノールアミン類を包含する。一態様において、本発明において使用されるポリアミンは、当該技術分野で従来知られているいずれのアミン化合物、例えば米国特許第２，９１２，３８９号にアミン化合物として記載されているものなどであってもよい。例えば、脂肪族アミン類、例えばジエチレントリアミンなど、脂環式アミン類、例えばイソホロンジアミンなど、アルカノールアミン類、例えばジエタノールアミンなど、アラルキルアミン類、例えばキシレンジアミンなど、アリールアミン類、例えばトルエンジアミンなど、及びそれらの混合物を本発明において使用できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
一態様において、アミン及びヒドロキシル官能性付加物を提供するために本発明のジビニルアレーンジオキシドとの反応に使用されるポリアミン（本発明の成分（ｂ））としては、例えば、アルカノールアミン類、例えばエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンなど；４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン；２−アミノ−ブタノール；２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール；及びそれらの組合せが挙げられる。本発明において有用な他のアルカノールアミン類は、米国特許出願公開第２００４／０１４７６９０Ａ１号に記載されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
本発明のエポキシ樹脂組成物の調製において、上記の付加物に加えて、混合物は少なくとも１種のエポキシ樹脂（成分（ｉｉ））を含んでもよい。エポキシ樹脂は、少なくとも１つのビシナルエポキシ基を含む化合物である。エポキシ樹脂は、飽和又は不飽和の、脂肪族、脂環式、芳香族又は複素環式であることができ、置換されていてもよい。エポキシ樹脂は、モノマーであってもポリマーであってもよい。本発明において有用なエポキシ樹脂は、当該技術分野で知られている任意のエポキシ樹脂から選択できる。本発明において有用なエポキシ樹脂の広範な列挙が、Lee, H.及びNeville, K., "Handbook of Epoxy Resins," McGraw-Hill Book Company, New York, 1967, Chapter 2, 第257-307頁に見られる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
本発明において有用な他の好適なエポキシ樹脂は、例えば米国特許第３，０１８，２６２号、米国特許第７，１６３，９７３号、第６，８８７，５７４号、第６，６３２，８９３号、第６，２４２，０８３号、第７，０３７，９５８号、第６，５７２，９７１号、第６，１５３，７１９号及び第５，４０５，６８８号明細書；ＰＣＴ国際公開第２００６／０５２７２７号；並びに米国特許出願公開第２００６／０２９３１７２号、第２００５／０１７１２３７号及び第２００７／０２２１８９０号明細書に開示されている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
本発明において有用な必要に任意の触媒（成分（ｉｖ））としては、当該技術分野でよく知られている触媒、例えばアミン部分、ホスフィン部分、複素環式窒素部分、アンモニウム部分、ホスホニウム部分、アルソニウム部分、スルホニウム部分及びそれらの任意の組み合わせを含む触媒化合物が挙げられる。本発明の触媒の幾つかの非限定的な例としては、例えば、エチルトリフェニルホスホニウム；ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド；米国特許第４，９２５，９０１号明細書に記載されている複素環式窒素含有触媒；イミダゾール類；トリエチルアミン；及びそれらの任意の組み合わせが挙げられる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミン−水素当量／エポキシド当量の比が５を超える付加ポリアミン組成物を提供する、（ａ）ジビニルアレーンジオキシドと（ｂ）過剰のポリアミンとの反応生成物を含むポリアミン付加物。
【請求項２】
（ｉ）請求項１に記載のポリアミン付加物と、（ｉｉ）少なくとも１種のエポキシ樹脂組成物とを含む硬化性エポキシ樹脂組成物。
【請求項３】
アミン−水素当量／エポキシド当量の比が６以上である、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
共硬化剤を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項５】
触媒を含む、請求項２に記載の組成物。
【請求項６】
ジビニルアレーンジオキシドがジビニルベンゼンジオキシドである、請求項２に記載の組成物。
【請求項７】
共硬化剤がポリアミンを含む、請求項４に記載の組成物。
【請求項８】
前記共硬化剤の濃度が、配合物中に使用される硬化剤の総量の１〜９９当量％である、請求項４に記載の組成物。
【請求項９】
触媒が、アミン部分、ホスフィン部分、複素環式窒素部分、アンモニウム部分、ホスホニウム部分、アルソニウム部分、スルホニウム部分及びそれらの任意の組み合わせを含む触媒化合物を含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項１０】
前記触媒の濃度が０．０１質量％〜２５質量％である、請求項５に記載の組成物。
【請求項１１】
（ａ）ジビニルアレーンジオキシドと（ｂ）ポリアミンとを反応させて付加ポリアミン組成物を提供することを含み、当該組成物が、アミン−水素当量／エポキシド当量の比が５を超える、ポリアミン付加物の調製方法。
【請求項１２】
（ａ）請求項１に記載のポリアミン付加物と、（ｂ）少なくとも１種のエポキシ樹脂とを混合することを含む、硬化性エポキシ樹脂組成物の調製方法。
【請求項１３】
エポキシ樹脂がジビニルベンゼンジオキシドである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記方法が０℃〜２００℃の範囲内の温度で実施される、請求項１１又は１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月13日(2013.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式のジチエノベンゾ−チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−コポリマー：
【化１】
2013512975.tif 000001
［式中、
ｐｉは、必要に応じて１〜４個のＲａ基で置換された単環基または多環基であり、式中
Ｒａは、それぞれ独立して、水素、ａ）ハロゲン、ｂ）−ＣＮ、ｃ）−ＮＯ２、ｄ）オキソ、ｅ）−ＯＨ、ｆ）＝Ｃ（Ｒｂ）２、ｇ）Ｃ１−２０アルキル基、ｈ）Ｃ２−２０アルケニル基、ｉ）Ｃ２−２０アルキニル基、ｊ）Ｃ１−２０アルコキシ基、ｋ）Ｃ１−２０アルキルチオ基、ｌ）Ｃ１−２０ハロアルキル基、ｍ）−Ｙ−Ｃ３−１０シクロアルキル基、ｎ）−Ｙ−Ｃ６−１４アリール基、ｏ）−Ｙ−３−１２員環シクロヘテロアルキル基、またはｐ）−Ｙ−５−１４員環ヘテロアリール基であり（上記のＣ１−２０アルキル基とＣ２−２０アルケニル基、Ｃ２−２０アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ６−１４アリールまたはハロアリール基、３−１２員環シクロヘテロアルキル基、５−１４員環ヘテロアリール基は、必要に応じて１〜４個のＲｂ基で置換されていてもよい）；
Ｒｂは、それぞれ独立して、ａ）ハロゲン、ｂ）−ＣＮ、ｃ）−ＮＯ２、ｄ）オキソ、ｅ）−ＯＨ、ｆ）−ＮＨ２、ｇ）−ＮＨ（Ｃ１−２０アルキル）、ｈ）−Ｎ（Ｃ１−２０アルキル）２、ｉ）−Ｎ（Ｃ１−２０アルキル）−Ｃ６−１４アリール、ｊ）−Ｎ（Ｃ６−１４アリール）２、ｋ）−Ｓ（Ｏ）ｍＨ、ｌ）−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｃ１−２０アルキル、ｍ）−Ｓ（Ｏ）２ＯＨ、ｎ）−Ｓ（Ｏ）ｍ−ＯＣ１−２０アルキル、ｏ）−Ｓ（Ｏ）ｍ−ＯＣ６−１４アリール、ｐ）−ＣＨＯ、ｑ）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１−２０アルキル、ｒ）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ６−１４アリール、ｓ）−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、ｔ）−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ１−２０アルキル、ｕ）−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ６−１４アリール、ｖ）−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、ｗ）−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｃ１−２０アルキル、ｘ）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１−２０アルキル）２、ｙ）−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｃ６−１４アリール、ｚ）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ１−２０アルキル）−Ｃ６−１４アリール、ａａ）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ６−１４アリール）２、ａｂ）−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、ａｃ）−Ｃ（Ｓ）ＮＨ−Ｃ１−２０アルキル、ａｄ）−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｃ１−２０アルキル）２、ａｅ）−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｃ６−１４アリール）２、ａｆ）−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｃ１−２０アルキル）−Ｃ６−１４アリール、ａｇ）−Ｃ（Ｓ）ＮＨ−Ｃ６−１４アリール、ａｈ）−Ｓ（Ｏ）ｍＮＨ２、ａｉ）−Ｓ（Ｏ）ｍＮＨ（Ｃ１−２０アルキル）、ａｊ）−Ｓ（Ｏ）ｍＮ（Ｃ１−２０アルキル）２、ａｋ）−Ｓ（Ｏ）ｍＮＨ（Ｃ６−１４アリール）、ａｌ）−Ｓ（Ｏ）ｍＮ（Ｃ１−２０アルキル）−Ｃ６−１４アリール、ａｍ）−Ｓ（Ｏ）ｍＮ（Ｃ６−１４アリール）２、ａｎ）ＳｉＨ３、ａｏ）ＳｉＨ（Ｃ１−２０アルキル）２、ａｐ）ＳｉＨ２（Ｃ１−２０アルキル）、ａｒ）−Ｓｉ（Ｃ１−２０アルキル）３、ａｓ）Ｃ１−２０アルキル基、ａｔ）Ｃ２−２０アルケニル基、ａｕ）Ｃ２−２０アルキニル基、ａｖ）Ｃ１−２０アルコキシ基、ａｗ）Ｃ１−２０アルキルチオ基、ａｘ）Ｃ１−２０ハロアルキル基、ａｙ）Ｃ３−１０シクロアルキル基、ａｚ）Ｃ６−１４アリールまたはハロアリール基、ｂａ）３−１２員環シクロヘテロアルキル基、またはｂｂ）５−１４員環ヘテロアリール基であり；
Ｙは、それぞれ独立して、２価のＣ１−６アルキル基、２価のＣ１−６ハロアルキル基、または共有結合であり；
ｍは、それぞれ独立して０、１または２であり；
Ｒ１とＲ２とＲ３はそれぞれ、独立してＨ、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ１−３０アルキル基、Ｃ２−３０アルケニル基、Ｃ１−３０ハロアルキル基、Ｃ２−３０アルキニル基、Ｃ１−３０アルコキシ基、Ｃ（Ｏ）−Ｃ１−２０アルキル基、Ｃ（Ｏ）−ＯＣ１−２０アルキル基、Ｙ−Ｃ３−１０シクロアルキル基、−Ｙ−３−１２員環シクロヘテロアルキル基（これらはそれぞれ、ハロゲンと−ＣＮ、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ１−６ハロアルキル基から選ばれる１〜５個の置換基で置換されていてもよい）、
−Ｌ−Ａｒ１、−Ｌ−Ａｒ１−Ａｒ１、−Ｌ−Ａｒ１−Ｒ４、または−Ｌ−Ａｒ１−Ａｒ１−Ｒ４であり
［式中、Ｌは、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｙ−Ｏ−Ｙ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｙ−Ｓ−Ｙ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＮＲｃＣ（Ｏ）−、−ＮＲｃ−、−ＳｉＲｃ２−、−Ｙ−［ＳｉＲｃ２］−Ｙ−、２価のＣ２−３０アルキル基、２価のＣ１−３０アルケニル基、２価のＣ１−３０ハロアルキル基、または共有結合である；
（式中、Ｒｃはそれぞれ、Ｈ、Ｃ１−２０アルキル基、または−Ｙ−Ｃ６−１４アリール基であり；Ａｒ１は、それぞれ独立して、Ｃ６−１４アリール基または５−１４員環ヘテロアリール基であり、これらの基は、必要なら
ハロゲンと−ＣＮ、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ１−６ハロアルキル基から選ばれる１〜５個の置換基で置換されていてもよい）；
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１−２０アルキル基、Ｃ２−２０アルケニル基、Ｃ１−２０ハロアルキル基、Ｃ１−２０アルコキシ基、−Ｌ’−Ａｒ２、−Ｌ’−Ａｒ２−Ａｒ２、−Ｌ’−Ａｒ２−Ｒ５、または−Ｌ’−Ａｒ２−Ａｒ２−Ｒ５であり；
（式中、Ｌ’は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｙ−Ｏ−Ｙ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｙ−Ｓ−Ｙ−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＮＲｃＣ（Ｏ）−、−ＮＲｃ−、−ＳｉＲｃ２−、−Ｙ−［ＳｉＲｃ２］−Ｙ−、２価のＣ１−２０アルキル基、２価のＣ１−２０アルケニル基、２価のＣ１−２０ハロアルキル基、または共有結合であり；
Ａｒ２は、それぞれ独立して、Ｃ６−１４アリール基または５−１４員環ヘテロアリール基であり、各基は必要に応じて
ハロゲンと−ＣＮ、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ１−６ハロアルキル基から選ばれる１〜５個の置換基で置換されていてもよい；
Ｒ５はそれぞれ、Ｃ１−２０アルキル基、Ｃ２−２０アルケニル基、Ｃ１−２０ハロアルキル基、またはＣ１−２０アルコキシ基であり；
Ｙは、それぞれ独立して、２価のＣ１−６アルキル基、２価のＣ１−６ハロアルキル基、または共有結合である）］；
ｎ＝０、１、２であり；
ｏ＝１〜１０００である。
【請求項２】
一種以上の請求項１に記載のポリマーが液状媒体に溶解あるいは分散した組成物。
【請求項３】
一種以上の請求項１に記載のポリマーを含む薄膜半導体。
【請求項４】
基材と、該基材上に形成された請求項３に記載の薄膜半導体とからなる複合物。
【請求項５】
請求項４に記載の複合物の製造方法であって、請求項１に記載のポリマーを液状媒体中に溶解または分散させて溶液をつくり、該溶液を基材上に塗布し、溶媒を除去して前記基材上の薄膜半導体を形成する方法。
【請求項６】
上記溶液が、スピンコーティング、ドロップキャスティング、浸漬塗装、または印刷により塗布される請求項５に記載の方法
【請求項７】
請求項３の薄膜半導体または請求項４の複合物を含む電界効果トランジスタ装置。
【請求項８】
請求項３の薄膜半導体または請求項４の複合物を含む光起電装置。
【請求項９】
請求項３の薄膜半導体または請求項４の複合物を含む有機発光ダイオード装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月3日(2013.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脂質代謝障害、胆道障害、心血管疾患、肥満症、または内分泌障害からなる群から選択される状態を予防または処置するための組成物であって、有効投与量の、配列番号１〜２４９のいずれか１つの配列を有するグアニル酸シクラーゼ受容体アゴニストを含む組成物。
【請求項２】
有効用量のｃＧＭＰ依存性ホスホジエステラーゼの阻害剤と組み合わせて投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ｃＧＭＰ依存性ホスホジエステラーゼの前記阻害剤が、前記組成物と同時または順次に投与されることを特徴とする、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
有効用量のフィブレート、脂質改変剤、またはＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤と組み合わせて投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記フィブレート、脂質改変剤、またはＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤が、前記組成物と同時または順次に投与されることを特徴とする、請求項２に記載の組成物。
【請求項６】
有効用量の抗糖尿病剤と組み合わせて投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記抗糖尿病剤が、前記組成物と同時または順次に投与されることを特徴とする、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
有効用量の抗肥満剤と組み合わせて投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記抗肥満剤が、前記組成物と同時または順次に投与されることを特徴とする、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
フィブレート、脂質改変剤、ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤、抗糖尿病剤、または抗肥満剤と組み合わせて投与されることを特徴とする、請求項２に記載の組成物。
【請求項１１】
前記フィブレート、脂質改変剤、ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤、抗糖尿病剤、または抗肥満剤が、ｃＧＭＰ依存性ホスホジエステラーゼの前記阻害剤と同時または順次に投与されることを特徴とする、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記フィブレート、脂質改変剤、またはＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤が、前記脂質代謝障害、胆道障害、心血管疾患、肥満症、または内分泌障害を処置するための標準用量未満で投与されることを特徴とする、請求項４に記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
さらに別の態様では、本発明は、前記グアニル酸シクラーゼ受容体アゴニストと同時または順次に、有効用量のｃＧＭＰ特異的ホスホジエステラーゼ（ｃＧＭＰ−ＰＤＥ）の阻害剤、フィブレート、脂質改変剤（ｌｉｐｉｄ  ａｌｔｅｒｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤、抗糖尿病剤、抗肥満剤を前記患者に投与するステップを提供する。ｃＧＭＰ−ＰＤＥ阻害剤として、例えば、スリンダクスルホン（ｓｕｌｄｉｎａｃ  ｓｕｌｆｏｎｅ）、ザプリナスト、およびモタピゾン、バルデナフィル（ｖａｒｄｅｎｉｆｉｌ）、およびシルデナフィルが挙げられる。さらに、ＧＣ−Ｃアゴニストペプチドは、環状ヌクレオチドトランスポーターの阻害剤と組み合わせて使用することができる。
本発明は、例えば以下の項目を提供する。
（項目１）
脂質代謝障害、胆道障害、心血管疾患、肥満症、または内分泌障害からなる群から選択される状態を予防または処置するための方法であって、その必要のある患者に、有効投与量の、番号１〜２４９のいずれか１つの配列を有するグアニル酸シクラーゼ受容体アゴニストを投与するステップを含む方法。
（項目２）
有効用量のｃＧＭＰ特異的ホスホジエステラーゼの阻害剤を投与するステップをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目３）
ｃＧＭＰ依存性ホスホジエステラーゼの前記阻害剤が、前記グアニル酸シクラーゼ受容体アゴニストと同時または順次に投与されるステップをさらに含む、項目２に記載の方法。
（項目４）
有効用量のフィブレート、脂質改変剤、またはＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤を投与するステップをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目５）
前記フィブレート、脂質改変剤、またはＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤が、前記グアニル酸シクラーゼ受容体アゴニストと同時または順次に投与される、項目２に記載の方法。
（項目６）
有効用量の抗糖尿病剤を投与するステップをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目７）
前記抗糖尿病剤が、前記グアニル酸シクラーゼ受容体アゴニストと同時または順次に投与されるステップをさらに含む、項目２に記載の方法。
（項目８）
有効用量の抗肥満剤を投与するステップをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目９）
前記抗肥満剤が、前記グアニル酸シクラーゼ受容体アゴニストと同時または順次に投与される、項目８に記載の方法。
（項目１０）
フィブレート、脂質改変剤、ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤、抗糖尿病剤、または抗肥満剤を投与するステップをさらに含む、項目２のいずれか一項に記載の方法。
（項目１１）
前記フィブレート、脂質改変剤、ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤、抗糖尿病剤、または抗肥満剤が、ｃＧＭＰ特異的ホスホジエステラーゼの前記阻害剤と同時または順次に投与される、項目１０に記載の方法。
（項目１２）
前記フィブレート、脂質改変剤、またはＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤が、前記脂質代謝障害、胆道障害、心血管疾患、肥満症、または内分泌障害を処置するための標準用量未満で投与される、項目４に記載の方法。