【手続補正書】
【提出日】平成26年3月31日(2014.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽電池の製造方法であって、
単一のレーザ源からレーザビームを生成する工程と、
前記レーザビームを第１のレーザビーム経路と第２のレーザビーム経路とに沿って分割する工程と、
第１の走査工程において、前記第１のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、第１のパターンに従って、第１のステーションにある第１のウェハ上を走査させる工程と、
前記第１のウェハを前記第１のステーションから第２のステーションへ移動させ、その後、第２のウェハを前記第１のステーションへと移動させる工程と、
前記第１の走査工程の後であって、前記第１のウェハ及び前記第２のウェハを移動させた後の第２の走査工程において、前記第２のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第１のパターンの鏡像である第２のパターンに従って、前記第２のステーションにある前記第１のウェハ上を走査させる工程と、
前記第１のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第１のパターンに従って、前記第２のウェハ上を走査させる工程と、
を備え、
前記第１のウェハ上の走査及び前記第２のウェハ上の走査が同時に実行される、太陽電池の製造方法。
【請求項２】
前記第１のパターン及び前記第２のパターンは、太陽電池が形成されるウェハの表面の拡散領域を露出させるコンタクトホールを形成し、前記製造方法は、前記拡散領域と電気的に接続する金属コンタクトを前記コンタクトホール内に形成する工程を更に備える、請求項１に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項３】
前記第２の走査工程において、マスタレーザスキャナに追従する第１の複数のレーザスキャナを用いて、前記レーザビームを前記第１のウェハ上に導き、前記マスタレーザスキャナを用いて、前記レーザビームを前記第２のウェハ上に導く、請求項１または２に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項４】
前記第１のウェハを前記２のステーションから移動させ、前記第２のウェハを前記第１のステーションから前記第２のステーションへ移動させ、第３のウェハを前記第１のステーションへ移動させる工程と、
前記第２の走査工程の後であって、前記第１のウェハ、前記第２のウェハ、及び前記第３のウェハを移動させた後の第３の走査工程において、前記第２のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第２のパターンに従って、前記第２のステーションにある前記第２のウェハ上を走査させる工程と、
前記第１のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第１のパターンに従って、前記第３のウェハ上を走査させる工程と、
を更に備え、
前記第２のウェハ上の走査及び前記第３のウェハ上の走査が同時に実行される、請求項１から３のいずれか一項に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項５】
複数のステーションと、
複数のウェハを支持する位置を、前記複数のステーションのそれぞれに対して有するターンテーブルと、
単一のレーザ源と、
前記単一のレーザ源からの主レーザビームを第１のレーザビームと第２のレーザビームとに分割するビームスプリッタと、
前記第１のレーザビームを導き、第１のパターンに従って、第１の複数のウェハ上を走査させるマスタレーザスキャナと、
前記マスタレーザスキャナに制御され、前記第２のレーザビームを導き、前記第１のパターンの鏡像である第２のパターンに従って、第２の複数のウェハ上を走査させるスレーブレーザスキャナと、
を備え、
前記マスタレーザスキャナによる前記第１の複数のウェハ上の走査と、前記スレーブレーザスキャナによる前記第２の複数のウェハ上の走査とが同時であるウェハ処理システム。
【請求項６】
前記単一のレーザ源からの同一の出力レベルのレーザビームが、前記第１のパターンに従い、前記第１の複数のウェハ上を走査し、前記第２のパターンに従い、前記第２の複数のウェハ上を走査する、請求項５に記載のウェハ処理システム。
【請求項７】
前記ターンテーブル上の前記複数のウェハの位置を認識する視覚システムを、前記複数のステーションのうちのステーションに更に備える、請求項５または６に記載のウェハ処理システム。
【請求項８】
前記複数のステーションのうちの一つとして、前記ターンテーブル上に前記複数のウェハが載置されるステーションを更に備える、請求項５から７のいずれか一項に記載のウェハ処理システム。
【請求項９】
前記第１のパターン及び前記第２のパターンが、前記単一のレーザ源からの同一の出力レベルのレーザビームでスクライブされる、請求項５から８のいずれか一項に記載のウェハ処理システム。
【請求項１０】
前記スレーブレーザスキャナが、ガルバノメータレーザスキャナを含む、請求項５から９のいずれか一項に記載のウェハ処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
高処理能力太陽電池アブレーションシステムを開示した。本発明の具体的な実施形態を提供したが、これらの実施形態は説明を目的としたものであり、限定的なものでないことは理解されよう。多くの追加的実施形態が、本開示を読む当業者にとっては明らかとなろう。
［項目１］太陽電池の製造方法であって、単一のレーザ源からレーザビームを生成する工程と、前記レーザビームを第１のレーザビーム経路と第２のレーザビーム経路とに沿って分割する工程と、第１の走査工程において、前記第１のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、第１のパターンに従って、第１のステーションにある第１のウェハ上を走査させる工程と、前記第１のウェハを前記第１のステーションから第２のステーションへ移動させ、その後、第２のウェハを前記第１のステーションへと移動させる工程と、前記第１の走査工程の後であって、前記第１のウェハ及び前記第２のウェハを移動させた後の第２の走査工程において、前記第２のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第１のパターンの鏡像である第２のパターンに従って、前記第２のステーションにある前記第１のウェハ上を走査させる工程と、前記第１のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第１のパターンに従って、前記第２のウェハ上を走査させる工程と、を備え、前記第１のウェハ上の走査及び前記第２のウェハ上の走査が実質的に同時に実行される、太陽電池の製造方法。［項目２］前記第１のパターン及び前記第２のパターンは、太陽電池が形成されるウェハの表面の拡散領域を露出させるコンタクトホールを形成し、前記製造方法は、前記拡散領域と電気的に接続する金属コンタクトを前記コンタクトホール内に形成する工程を更に備える、項目１に記載の太陽電池の製造方法。［項目３］前記第２の走査工程において、マスタレーザスキャナに追従する第１の複数のレーザスキャナを用いて、前記レーザビームを前記第１のウェハ上に導き、前記マスタレーザスキャナを用いて、前記レーザビームを前記第２のウェハ上に導く、項目１に記載の太陽電池の製造方法。［項目４］前記第１の複数のレーザスキャナ及び前記マスタレーザスキャナが、ガルバノメータレーザスキャナを含む、項目３に記載の太陽電池の製造方法。［項目５］前記第１のウェハを前記２のステーションから移動させ、前記第２のウェハを前記第１のステーションから前記第２のステーションへ移動させ、第３のウェハを前記第１のステーションへ移動させる工程と、前記第２の走査工程の後であって、前記第１のウェハ、前記第２のウェハ、及び前記第３のウェハを移動させた後の第３の走査工程において、前記第２のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第２のパターンに従って、前記第２のステーションにある前記第２のウェハ上を走査させる工程と、前記第１のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第１のパターンに従って、前記第３のウェハ上を走査させる工程と、を更に備え、前記第２のウェハ上の走査及び前記第３のウェハ上の走査が実質的に同時に実行される、項目１に記載の太陽電池の製造方法。［項目６］前記第１のウェハを移動させる工程が、前記第１のウェハを支持するターンテーブルを回転させる工程を含む、項目１に記載の太陽電池の製造方法。
［項目７］複数のステーションと、複数のウェハを支持する位置を、前記複数のステーションのそれぞれに対して有するターンテーブルと、単一のレーザ源と、前記単一のレーザ源からの主レーザビームを第１のレーザビームと第２のレーザビームとに分割するビームスプリッタと、前記第１のレーザビームを導き、第１のパターンに従って、第１の複数のウェハ上を走査させるマスタレーザスキャナと、前記マスタレーザスキャナに制御され、前記第２のレーザビームを導き、前記第１のパターンの鏡像である第２のパターンに従って、第２の複数のウェハ上を走査させるスレーブレーザスキャナと、を備え、前記マスタレーザスキャナによる前記第１の複数のウェハ上の走査と、前記スレーブレーザスキャナによる前記第２の複数のウェハ上の走査とが実質的に同時であるウェハ処理システム。［項目８］前記スレーブレーザスキャナが、ガルバノメータレーザスキャナを含む、項目７に記載のウェハ処理システム。［項目９］前記単一のレーザ源からの同一の出力レベルのレーザビームが、前記第１のパターンに従い、前記第１の複数のウェハ上を走査し、前記第２のパターンに従い、前記第２の複数のウェハ上を走査する、項目７に記載のウェハ処理システム。［項目１０］前記ターンテーブル上の前記複数のウェハの位置を認識する視覚システムを、前記複数のステーションのうちのステーションに更に備える、項目７に記載のウェハ処理システム。［項目１１］前記複数のステーションのうちの一つとして、前記ターンテーブル上に前記複数のウェハが載置されるステーションを更に備える、項目７に記載のウェハ処理システム。［項目１２］前記第１のパターン及び前記第２のパターンが、前記単一のレーザ源からの同一の出力レベルのレーザビームでスクライブされる、項目７に記載のウェハ処理システム。
［項目１３］ウェハを処理する方法であって、第１のウェハを第１のステーションから第２のステーションへと回転させる工程と、第１の走査工程において、第１のレーザスキャナを用いて、単一のレーザ源から第１のレーザビーム経路に沿って分割された第１のレーザビームを導き、前記第２のステーションにある前記第１のウェハ上を第１のパターンで走査させる工程と、前記第１のウェハを前記第２のステーションから第３のステーションへと回転させる工程と、第２のウェハを前記第１のステーションから前記第２のステーションへと回転させる工程と、第２の走査工程において、前記第１のレーザスキャナを用いて、前記単一のレーザ源から前記第１のレーザビーム経路に沿って分割された第２のレーザビームを導き、前記第２のステーションにある前記第２のウェハ上を第２のパターンで走査させ、第２のレーザスキャナを用いて、前記単一のレーザ源から第２のレーザビーム経路に沿って分割された第３のレーザビームを導き、前記第３のステーションにある前記第１のウェハ上を前記第２のパターンで走査させる工程であって、前記第２のレーザスキャナが、前記第１のレーザスキャナに追従し、前記第２のパターンで前記第２のウェハ上を走査させるのと実質的に同時に、前記第２のパターンで前記第１のウェハ上を走査させる工程とを備える方法。［項目１４］前記第１のパターンが、第１の出力レベルで走査され、前記第２のパターンが、第２の出力レベルで走査される、項目１３に記載の方法。［項目１５］前記第１の出力レベルと前記第２の出力レベルとが異なる、項目１４に記載の方法。［項目１６］前記第１のパターンが、前記第２のパターンと異なる、項目１３に記載の方法。［項目１７］前記第１のパターンと前記第２のパターンとが対称ではない、項目１６に記載の方法。［項目１８］前記第１のウェハを前記第３のステーションから回転させる工程と、前記第２のウェハを前記第２のステーションから前記第３のステーションへと回転させる工程と、第３の走査工程において、前記第１のレーザスキャナを用いて前記単一のレーザ源から前記第１のレーザビーム経路に沿って分割された第４のレーザビームを導き、前記第２のステーションにある第３のウェハ上を前記第１のパターンで走査させる工程と、前記第２のレーザスキャナを用いて前記単一のレーザ源から前記第２のレーザビーム経路に沿って分割された第５のレーザビームを導き、前記第１のパターンで前記第３のウェハ上を走査させると実質的に同時に、前記第３のステーションにある前記第２のウェハ上を前記第１のパターンで走査させる工程とを更に備える項目１３に記載の方法。