Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月21日(2012.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力容器用のボスであって、前記ボスは外側及び内側を有するフランジを有し、
前記内側に配置され、内側側壁を有する内部キー溝と、
前記内側側壁に配置された複数の穴と、
を有するボス。
【請求項２】
前記内部キー溝の半径方向内向きに配置された溝をさらに含み、前記複数の穴は前記内部キー溝と前記溝を接続する、請求項１に記載のボス。
【請求項３】
前記溝はＶ字形であることを特徴とする、請求項２に記載のボス。
【請求項４】
各穴は、前記ボスの前記フランジ内に延びる当該穴のための第一開口部を有することを特徴とする、請求項１〜３の何れか１項に記載のボス。
【請求項５】
少なくとも１つの穴は、前記フランジの一部を貫通し、前記フランジの前記内側の当該穴のための第二開口部まで延びることを特徴とする、請求項１〜４の何れか１項に記載のボス。
【請求項６】
各第二開口部は、前記フランジの前記内側の環状溝に配置されることを特徴とする、請求項５に記載のボス。
【請求項７】
各穴は、前記フランジの前記一部を貫通し、前記フランジの内側の当該穴のための前記第二開口部まで延びることを特徴とする、請求項５又は６に記載のボス。
【請求項８】
前記外側に配置される外部キー溝をさらに含む、請求項１〜３の何れか１項に記載のボス。
【請求項９】
前記外部キー溝は当該ボスの軸方向に延びるリップを有することを特徴とする、請求項８に記載のボス。
【請求項１０】
前記外部キー溝は当該ボスの半径方向に延びるリップを有することを特徴とする、請求項８又は９に記載のボス。
【請求項１１】
少なくとも１つの穴は、前記フランジの一部内を通り、前記フランジ内で前記穴の閉端まで延びることを特徴とする、請求項１〜４，８〜１０の何れか１項に記載のボス。
【請求項１２】
前記内部キー溝は当該ボスの軸方向に延びるリップを含むことを特徴とする、請求項１〜１１の何れか１項に記載のボス。
【請求項１３】
前記内部キー溝は当該ボスの半径方向に延びるリップを含むことを特徴とする、請求項１〜１２の何れか１項に記載のボス。
【請求項１４】
本体部と、
前記本体部に接続された端部と、
を含む圧力容器であって、
前記端部はボスを含み、前記ボスは内側及び外側を有するフランジを含み、前記フランジは、
前記内側に配置され、内側側壁を有する内部キー溝と、
前記内側側壁に配置された複数の穴と、
を含む圧力容器。
【請求項１５】
前記内部キー溝の半径方向内向きに配置された溝をさらに含み、前記複数の穴は前記内部キー溝と前記溝を接続する、請求項１４に記載の圧力容器。
【請求項１６】
前記溝はＶ字形であることを特徴とする、請求項１５に記載の圧力容器。
【請求項１７】
前記外側に配置される外部キー溝をさらに含む、請求項１４〜１６の何れか１項に記載の圧力容器。
【請求項１８】
前記外部キー溝は前記ボスの軸方向に延びるリップを有することを特徴とする、請求項１７に記載の圧力容器。
【請求項１９】
前記外部キー溝は前記ボスの半径方向に延びるリップを有することを特徴とする、請求項１７又は１８に記載の圧力容器。
【請求項２０】
前記内部キー溝は前記ボスの軸方向に延びるリップを含むことを特徴とする、請求項１４〜１９の何れか１項に記載の圧力容器。
【請求項２１】
前記内部キー溝は前記ボスの半径方向に延びるリップを含むことを特徴とする、請求項１４〜２０の何れか１項に記載の圧力容器。
【請求項２２】
外側シェルと、
前記外側シェル内に配置された内側ライナーと、
を含む複合シェルと、
前記複合シェルのポートを画定し、且つ外側及び内側を有するフランジを含むボスと、
を有する圧力容器であって、
前記ライナーは、複数のアンカーを介して前記フランジと機械的に一体化し、各アンカーは前記フランジの前記内側にのみ接触することを特徴とする、圧力容器。
【請求項２３】
外側及び内側を有するフランジを含むボスであって、前記内側に配置され、内側側壁を有する内部キー溝と、前記内側側壁に配置された複数の穴と、を有するボスを用意することと、
液体ポリマー材料を前記内部キー溝及び前記複数の穴内に流入させることと、
を含む圧力容器の形成方法。
【請求項２４】
前記ボスは、前記内部キー溝の半径方向内向きに配置された溝をさらに含み、
前記複数の穴の少なくともいくつかは、前記内部キー溝と前記溝とを接続し、
前記液体ポリマー材料を、前記内部キー溝、前記溝、及び前記複数の穴のうちの前記少なくともいくつかに充填させることを含む、請求項２３の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
環状溝４６は、ボス１６Ａのフランジ３０Ａの内側で、内側キー溝４４の半径方向内向きに画定される。環状溝４６は、複数の離散した穴４８により内側キー溝４４に接続される。穴４８は、内側キー溝４４の内側側壁５０と環状溝４６との間に形成される。各穴４８は、その一端に内側キー溝４４内の第一開口部４８ａを有し、第二端部に環状溝４６内の第二開口部４８ｂを有する。穴４８の断面は、例えば、円形又は細長い形状であってもよい。例示的な実施形態において、環状溝４６は実質的に「Ｖ」字形である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月23日(2012.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
岸壁のそれぞれの停泊位置（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）にそれぞれ係留された船舶に、ＡＣ電源（ＡＣ−ＰＳ−１）から電力を供給するシステムであって、
ＡＣ側およびＤＣ側を有し、前記ＡＣ電源からのＡＣ電力をＤＣ電力に変換する整流器（５）であり、前記ＡＣ側が、前記ＡＣ電源に接続されるように配置された整流器（５）と、
それぞれの船舶に電力を供給する複数の船舶接続配置であり、それぞれが、前記停泊位置のうちの１つの停泊位置に置かれており、それぞれが、第１の周波数または第２の周波数のＡＣ電力を前記停泊位置のそれぞれに独立して出力するように構成可能なインバータ（１１、１２、１３、１４）および前記船舶を接続するための船舶コネクタを備える複数の船舶接続配置と
を備えるシステムにおいて、
前記システムがさらに、前記整流器の前記ＤＣ側に接続されたＤＣ配電網（９）を備えること、および前記整流器が、前記岸壁からある距離のところに置かれており、前記インバータがそれぞれ前記ＤＣ配電網に接続されていること
を特徴とするシステム。
【請求項２】
前記ＤＣ配電網が、１ｋＶよりも高い電圧レベルの電力を配電するように適合された、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記ＤＣ配電網がＤＣ配電グリッドを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記ＤＣ配電グリッドが、ケーブルと、前記整流器および前記インバータへのケーブル接続と、ＤＣ回路遮断器またはＤＣ回路スイッチとを含む、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記整流器が、一方向型と双方向型のうちの任意の型の整流器である、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
それぞれの前記船舶接続配置がさらに、前記船舶接続配置の前記船舶コネクタと前記インバータの間に配置された変圧器（１７、１８、１９、２０）を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記変圧器が、少なくとも２つの電圧レベルの出力を提供するように適合された、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
それぞれの前記船舶接続配置がさらに、それぞれのインバータを制御するコントローラを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記コントローラがそれぞれ、前記それぞれの船舶の電力要件を受け取る手段と、前記それぞれの船舶の前記電力要件に従って、前記それぞれの船舶に電力を供給するように、前記それぞれのインバータを制御する手段とを備える、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記電力要件が電圧レベルを含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記電力要件が周波数を含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
前記ＤＣ配電網に、インタフェースを介して蓄電装置が接続された、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
第２のＡＣ電源（ＡＣ−ＰＳ−２、ＡＣ−ＰＳ−３、ＡＣ−ＰＳ−４）に接続された第２の整流器（６、７、８）と、マスタコントローラとをさらに備え、前記マスタコントローラが、
それぞれの船舶の電力要件を受け取る入力手段と、
それぞれの前記ＡＣ電源の使用可能な給電量を受け取る入力手段と、
前記船舶の前記電力要件を平衡させるために必要なそれぞれの前記整流器からの有効電力を決定し、電力潮流を協調させ、前記ＡＣ電源に接続された前記整流器および前記インバータに対する一組の基準値を、決定された必要な有効電力および１つまたは複数の最適化基準に基づいて決定する電力潮流管理機構と、
有効電力および無効電力に対する前記一組の基準値を前記ＡＣ電源および前記インバータに伝達する出力手段と
をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月29日(2012.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の割球様幹細胞（ＢＬＳＣｓ）を得る、
レチノイン酸（ＲＡ）または形質転換成長因子β（ＴＧＦ−β）を含む培地中で前記ＢＬＳＣｓを培養する、および
培養細胞から多能性または全能性細胞を同定し、濃縮することを含み、
この際前記多能性または全能性細胞はＧＡＤＰＨまたはβ−アクチンのｍＲＮＡを発現させる、多能性または全能性細胞集団の作製方法。
【請求項２】
前記多能性または全能性細胞は、サイズが１〜１５μｍである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記培地は０．１〜２０μＭのＲＡを含み、前記ＢＬＳＣｓは２〜８週間培養される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記培地は１〜１５μＭのＲＡを含み、前記ＢＬＳＣｓは２〜８週間培養される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記培地は５〜１２μＭのＲＡを含み、前記ＢＬＳＣｓは３〜４週間培養される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記多能性または全能性細胞は、サイズが１〜１５μｍであり、懸濁中でシート様構造を形成する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記培地が１〜４０ｎＭのＴＧＦ−βを含み、前記ＢＬＳＣｓは２〜８週間培養される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項８】
前記培地が２〜２０ｎＭのＴＧＦ−βを含み、前記ＢＬＳＣｓは２〜８週間培養される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記培地が５〜１２ｎＭのＴＧＦ−βを含み、前記ＢＬＳＣｓは４〜６週間培養される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記多能性または全能性細胞は、サイズが１〜１５μｍであり、円形であり、集合体を形成する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
（１）多能性または全能性であり、（２）サイズが１〜１５μｍであり、（３）ＧＡＤＰＨまたはβ−アクチンのｍＲＮＡを発現させる培養細胞を複数含む組成物。
【請求項１２】
前記組成物がレチノイン酸（ＲＡ）または形質転換成長因子β（ＴＧＦ−β）をさらに含む、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
第一の細胞集団がＣＤ６６ｅ＋である、請求項１１または１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記細胞が組み換え核酸を含む、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１５】
前記組み換え核酸はポリペプチドをコードし、前記細胞はポリペプチドをコードするｍＲＮＡを含む、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記細胞が請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法によって作製される、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１７】
第二の細胞集団がＣＤ６６ｅ−である、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記細胞がβ２−ミクログロブリン遺伝子を発現しない、請求項１１〜１７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１９】
前記細胞が、細胞に対する抗原抗体反応を介するＴリンパ球を誘発するクラスＩ主要組織適合遺伝子複合体（ＭＨＣ）遺伝子によってコードされる一以上のタンパク質を発現しない、請求項１１〜１８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２０】
前記細胞が、ＣＤｌ０＋、ＣＤ９０＋、ＣＤ１０５＋、およびＣＸＣＲ４＋である、請求項１１〜１９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記細胞が、トリパンブルー染色陰性である、請求項１１〜２０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２２】
（１）多能性または全能性であり、（２）サイズが１〜１５μｍであり、（３）ＧＡＤＰＨまたはβ−アクチンのｍＲＮＡを発現させる培養細胞を複数含む、変性疾患の治療のための組成物。
【請求項２３】
前記組成物における各細胞は、組み換え核酸を含む、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
前記組み換え核酸がポリペプチドをコードし、前記細胞がポリペプチドをコードするｍＲＮＡを含む、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
前記変性疾患が、糖尿病、神経変性疾患、関節炎、またはガンである、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２６】
前記神経変性疾患がパーキンソン病である、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
（１）多能性または全能性であり、（２）サイズが１〜１５μｍであり、（３）ＧＡＤＰＨまたはβ−アクチンのｍＲＮＡを発現させる培養細胞を複数含む、自己免疫疾患の治療のための組成物。
【請求項２８】
請求項１１〜２１のいずれか１項に記載の組成物と試験化合物とを接触させる、および
変性疾患において下方制御されるポリペプチドの発現レベルを定量する、ことを含み、
この際、試験化合物の存在下での発現レベルが、前記化合物非存在下のレベルよりも高い場合には、前記化合物が前記疾患の治療を目的とする候補であることを示す、変性疾患を治療するための薬物候補を同定するための方法。
【請求項２９】
前記変性疾患が、糖尿病、神経変性疾患、関節炎、ガン、または自己免疫疾患である、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
請求項１１〜２１のいずれか１項に記載の組成物を複数含む、セルバンク。
【請求項３１】
前記細胞がヒト細胞である、請求項３０に記載のセルバンク。
【請求項３２】
複数の割球様幹細胞集団を得るために、複数の対象からの細胞をそれぞれ培養する、
少なくとも一の所定の特性を各々に対して得るために前記細胞集団の特性を明らかにする、および
少なくとも一の所定の特性によって前記細胞集団の各々を分類する、請求項３０または３１に記載の細胞バンクの製造方法。
【請求項３３】
さらに前記細胞集団を拡大することを含む、請求項３２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月5日(2012.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムを製造するための方法であって、
トナーを輸送ベルトに、少なくとも１つの印刷ユニットを用いて付与し、本質的に不断のトナー層が前記輸送ベルト上に形成されるようにするステップと、
前記輸送ベルト上の前記トナーを、少なくとも第１の熱源により、前記トナーの融点よりも高い温度に加熱するステップと、
前記トナーを、前記トナーの融点よりも低い温度に冷却するステップと、
前記トナーを凝集材料層として前記輸送ベルトから取り外すステップとを含む方法。
【請求項２】
前記トナーが前記トナーの前記融点よりも高い温度を有しているときに前記トナーに紫外線が照射されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
フィルムを製造するための装置であって、
トナーを輸送ベルトに付与するために配置された少なくとも１つの印刷ユニットと、
前記輸送ベルトの移動方向において前記少なくとも１つの印刷ユニットの下流に、前記輸送ベルト上に存在するトナーを加熱することができるように配置された少なくとも第１の熱源と、を備え、
前記熱源が前記トナーを前記トナーの融点よりも高い温度に加熱することに適している装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月7日(2012.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）仮想世界を提供するステップと、
（Ｂ）前記仮想世界の中の位置に関連を有する、前記仮想世界の第１のユーザーと、前記仮想世界の第２のユーザーとの間の会話をモニターするステップと、
（Ｃ）前記会話の中でサウンドを検出するステップと、
（Ｄ）前記サウンドが複数のキーサウンドの１つと合致すると判断するステップと、
（Ｅ）前記判断により、前記仮想世界の一部を、前記複数のキーサウンドの１つに基づいて、仮想世界カスタマイゼーションを含むよう、変更するステップと、
からなる方法。
【請求項２】
前記（Ｂ）ステップが、前記ユーザーによって生成された音声信号からなる第１のメディアストリームと、前記第２のユーザーによって生成された音声信号からなる第２のメディアストリームとを解析するステップを、含む
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記サウンドが、特定の地域、国、または社会的背景からの人物の発音であると識別しうる形式である
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記（Ｃ）ステップが、音声学に基づくスピーチ解析プロセスによって、前記サウンドを検出する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記（Ｅ）ステップが、前記（Ｃ）ステップの前に、前記仮想世界の展示に欠けていたアイテムを前記仮想世界に提示するステップを含む
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記（Ｅ）ステップが、前記（Ｃ）ステップの前に、前記仮想世界の展示に欠けていた仮想環境を前記仮想世界に提示するステップを含み、
前記仮想環境が、前記製品の購入者による前記製品の従来の使用状況を示す環境の中で提示された、前記サウンドに関連付けられた製品の展示を含む
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】
（Ａ）ネットワークと通信するコミュニケーションインターフェースと、
（Ｂ）制御システムと
を有するサーバにおいて、
前記制御システムは、
仮想世界を提供し、
前記仮想世界の中の位置に関連を有する、前記仮想世界の第１のユーザーと、前記仮想世界の第２のユーザーとの間の会話をモニターし、
前記会話の中でサウンドを検出し、
前記サウンドが複数のキーサウンドの１つと合致すると判断し、
前記判断に応答して、前記仮想世界の一部を、前記複数のキーサウンドの１つに基づいて、仮想世界カスタマイゼーションを含むように変更する、
ことを特徴とするサーバ。
【請求項８】
前記制御システムが、音声学に基づくスピーチ解析プロセスによって、前記サウンドを検出する
ことを特徴とする請求項７記載のサーバ。
【請求項９】
前記仮想世界の一部を前記複数のキーサウンドの１つを基礎とした仮想世界カスタマイゼーションを含むように変更するために、前記制御システムが、前記（Ｃ）ステップの前に、前記仮想世界の展示に欠けていたアイテムを前記仮想世界に提示する
ことを特徴とする請求項７記載のサーバ。
【請求項１０】
前記仮想世界の一部を前記複数のキーサウンドの１つに基づいて仮想世界カスタマイゼーションを含むように変更するために、前記制御システムが、前記（Ｃ）ステップの前に、前記仮想世界の展示に欠けていた仮想環境を前記仮想世界に提示し、
前記仮想環境が、前記製品の購入者によって前記製品の従来の使用状況を示す環境の中で提示された、前記サウンドに関連付けられた製品の展示を含む
ことを特徴とする請求項７記載のサーバ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月4日(2012.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナーイメージ上に既定の光沢パターンを生成する方法であり、前記方法が次のステップ：
ガラス転移温度よりも高い温度に加熱されたトナーを光沢ベルトと接触させるステップであって、
前記光沢ベルトは、生成されるべき光沢パターンに応じて、第一の表面粗さを表す少なくともひとつの第一の領域と、第二の表面粗さ及び／又は異なる高さを表す少なくともひとつの第二の領域を含む、ステップと、
前記トナーをそのガラス転移温度よりも低い温度に冷却するステップであって、
前記トナーが前記光沢ベルトと接触している間、一方で複数の第二の領域が特定のパターンを表す前記第一の領域内に形成され、かかる特定のパターンが他の光沢ベルト上に繰り返されず、特定の光沢ベルトの特定及び光沢装置の特定が容易となる、ステップとを含み、及び
前記少なくとも１つの第二の領域が前記トナーイメージ上の前記環境に関して光沢の相違を生成し、前記光沢の相違が技術的補助なしでは検出されない、方法。
【請求項２】
トナーイメージ上に既定の光沢パターンを生成する装置であり、前記装置は：
少なくともひとつの第一の光沢ベルトを含み、前記光沢ベルトは、生成されるべき前記光沢パターンに応じて、第一の表面粗さを表す少なくともひとつの第一の領域と、第二の表面粗さ及び／又は異なる高さを表す少なくともひとつ第二の領域を有し；及び
前記トナーを前記トナーのガラス転移温度よりも高い温度に加熱するための加熱源を含み、前記光沢ベルト上に複数の第二の領域が前記第一の領域内に設けられて特定のパターンを表し、当該特定パターンは他の光沢ベルト上では繰り返されず、特定の光沢ベルト及び特定の光沢装置の特定が容易となり、前記第二の領域が、１ミリメートル以下の寸法である、装置。
【請求項３】
光沢ベルトを形成する方法であり、
第一の表面粗さを表す第一の領域を有する光沢ベルトを処理して、前記第一の領域内に、第二の表面粗さ及び／又は異なる高さを表す少なくともひとつの第二の領域を形成し、前記第二のパターンが前記光沢ベルに固有であり、他の光沢ベルト上では繰り返されない、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月23日(2012.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の長手方向軸に沿って配置された１つ以上の基準を検知し、前記基準に基づいて１つ以上の連続的で周期的なセンサ信号を生成するように構成されたセンサモジュールと、
前記基材の移動に基づいて１つ以上の連続的で周期的な移動信号を生成するように構成された信号生成器と、
前記センサ信号と前記移動信号との間で位相差を決定し、前記位相差に基づいて誤差信号を生成するように構成された位相検出器と、を含むシステム。
【請求項２】
前記１つ以上の基準が、互いに位相がずれている２つの実質的に連続的で周期的な基準を含む、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月8日(2012.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘導攪乱展開を適用して、マザープラットフォームに向かって飛来するミサイルを攪乱する方法であって、
−  対応する特定のデコイ発射パラメータセットに関連付けられたいくつかのミス距離を予測するステップと、
−  最適な予測ミス距離を有するデコイパラメータセットを選択するステップと、
−  前記選択されたデコイパラメータセットを、前記デコイを発射する発射ユニットに送信するステップと
を含み、
前記予測するステップは、随伴アルゴリズムの使用を含み、前記方法は、予測ミス距離に関連付けられた不確実性データを計算するステップをさらに含み、前記デコイパラメータセットを選択するステップにおいて、前記計算された不確実性データを考慮し、前記方法は、発射された前記デコイの効果を検証するステップをさらに含み、前記検証するステップは、
−  プラットフォームロックオン条件下および／またはデコイロックオン条件下でのゼロエフォートミス距離を予測するサブステップと、
−  飛来するミサイルのデータを測定するサブステップと、
−  前記測定されたデータを１つまたは複数の前記予測ゼロエフォートミス距離と比較するサブステップと、
−  前記比較結果から、前記飛来するミサイルが何にロックオンされているかを推測するサブステップと
を含む、方法。
【請求項２】
予測ミス距離は、飛来するミサイルのパラメータ、マザープラットフォームパラメータ、および対応する前記デコイ発射パラメータセットに基づく、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記随伴アルゴリズムは、非線形予測モデルを線形化することを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記推測するステップは、予測ゼロエフォートミス距離に対応する、計算された不確実性データの使用を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記飛来するミサイルを信号で通知するステップをさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
信号で通知された飛来するミサイルを識別するステップをさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
−  マザープラットフォームに向かって飛来するミサイルを攪乱するためのデコイを発射する発射ユニットと、
−  プロセッサが設けられたコンピュータシステムであって、前記プロセッサは、
−  対応する特定のデコイ発射パラメータセットに関連付けられたいくつかのミス距離を予測するステップと、
−  最適な予測ミス距離を有するデコイパラメータセットを選択するステップと、
−  前記選択されたデコイパラメータセットを、前記デコイを発射する発射ユニットに送信するステップと
を実行するように構成される、コンピュータシステムと
を備え、
前記予測するステップは、随伴アルゴリズムの使用を含み、前記プロセッサは、予測ミス距離に関連付けられた不確実性データを計算するステップをさらに含み、前記デコイパラメータセットを選択するステップにおいて、前記計算された不確実性データを考慮し、
前記プロセッサは、発射された前記デコイの効果を検証するステップを実行するようにさらに構成され、前記検証するステップは、
−  プラットフォームロックオン条件下および／またはデコイロックオン条件下でのゼロエフォートミス距離を予測するサブステップと、
−  飛来するミサイルのデータを測定するサブステップと、
−  前記測定されたデータを１つまたは複数の前記予測ゼロエフォートミス距離と比較するサブステップと、
−  前記比較結果から、前記飛来するミサイルが何にロックオンされているかを推測するサブステップと
を含む、誘導攪乱展開システム。
【請求項８】
誘導攪乱展開を適用して、マザープラットフォームに向かって飛来するミサイルを攪乱するためのコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータプログラム製品は、
−  対応する特定のデコイ発射パラメータセットに関連付けられたいくつかのミス距離を予測するステップと、
−  最適な予測ミス距離を有するデコイパラメータセットを選択するステップと、
−  前記選択されたデコイパラメータセットを、前記デコイを発射する発射ユニットに送信するステップと
をプロセッサに実行させるコンピュータ可読コードを含み、
前記予測するステップは、随伴アルゴリズムの使用を含み、前記コンピュータプログラム製品は、予測ミス距離に関連付けられた不確実性データを計算するステップをプロセッサに実行させるコンピュータ可読コードをさらに含み、前記デコイパラメータセットを選択するステップにおいて、前記計算された不確実性データを考慮し、前記コンピュータプログラム製品は、
−  発射された前記デコイの効果を検証するステップ
をプロセッサに実行させるコンピュータ可読コードを含み、前記検証するステップは、
−  プラットフォームロックオン条件下および／またはデコイロックオン条件下でのゼロエフォートミス距離を予測するサブステップと、
−  飛来するミサイルのデータを測定するサブステップと、
−  前記測定されたデータを１つまたは複数の前記予測ゼロエフォートミス距離と比較するサブステップと、
−  前記比較結果から、前記飛来するミサイルが何にロックオンされているかを推測するサブステップと
を含む、コンピュータプログラム製品。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月11日(2012.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物の合計質量に対して、
（ｉ）ポリ（エチレンテレフタレート）ホモポリマー、ポリ（エチレンテレフタレート）共重合体およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリ（エチレンテレフタレート）成分を含む第１のポリマーから、０超〜１１５ｐｐｍ未満のポリ塩化ビニル、０超〜１１５ｐｐｍ未満のポリ塩化ビニリデン、０超〜２．９質量％未満のポリアミド、０超〜５．７５質量％未満のポリ乳酸およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された第２のポリマーの存在下で、誘導され、
（ｉｉ）（ａ）エチレングリコール基、ジエチレングリコール基、イソフタル酸基、アンチモン含有化合物、ゲルマニウム含有化合物、チタン含有化合物、コバルト含有化合物、スズ含有化合物、アルミニウム、アルミニウム塩、１，３−シクロヘキサンジメタノール異性体、１，４−シクロヘキサンジメタノール異性体、アルカリ塩、アルカリ土類金属塩、リン含有化合物およびアニオン、硫黄含有化合物およびアニオン、ナフタレンジカルボン酸、１，３−プロパンジオール基およびこれらの組み合わせから構成される群から選択される少なくとも１つのポリ（エチレンテレフタレート）成分残基と、（ｂ）（Ｉ）ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリ乳酸およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された第２のポリマーと、（ＩＩ）前記第２のポリマーから誘導された少なくとも１つの残基と、（ＩＩＩ）これらの組み合わせ、から構成される群から選択された要素と、を含む変性ポリ（ブチレンテレフタレート）共重合体を５〜９０質量％と；
ポリカーボネート成分を５〜９０質量％と；
耐衝撃性改良剤成分を少なくとも１質量％と、
選択的に添加剤０〜５質量％と、を含み、
前記少なくとも１つのポリ（エチレンテレフタレート）成分残基は、エチレングリコール基、ジエチレングリコール基およびシクロヘキサンジメタノール基から構成される群から選択され、その量は、前記変性ポリ（ブチレンテレフタレート）共重合体中のグリコール１００モル％に対して０．１〜１０モル％であることを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記少なくとも１つのポリ（エチレンテレフタレート）成分残基はさらに、前記変性ポリ（ブチレンテレフタレート）共重合体中の酸性官能基１００モル％に対して、０〜１０モル％の量のイソフタル酸基を含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記第２のポリマーは、前記ポリ（エチレンテレフタレート）成分の合計質量部に対して、０超〜１１５ｐｐｍ未満のポリ塩化ビニルを前記第２のポリマーとして含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記第２のポリマーは、前記ポリ（エチレンテレフタレート）成分の合計質量部に対して、０超〜１１５ｐｐｍ未満のポリ塩化ビニリデンを前記第２のポリマーとして含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリカーボネートは、ビスフェノールＡから誘導された単位を含み、
前記耐衝撃性改良剤は、メタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリレートエラストマ、アクリロニトリル−スチレン−アクリレート共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、高ゴムグラフトアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリレート−オレフィン共重合体、シリコーンゴム、シリコーン−アクリルゴム、エチレン−プロピレン非共役ジエンエラストマ、アクリロニトリル−スチレン−エチレン−プロピレン非共役ジエンエラストマ、エチレン−メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体およびこれらの組み合わせから構成される群から選択され、
前記添加材は、充填材、強化材、難燃剤、熱安定剤、酸化防止剤、失活剤、離型剤、ポリテトラフルオロエチレン、光吸収剤、ポリテトラフルオロエチレン−ポリ（スチレン−ｃｏ−アクリロニトリル）混合物およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記組成物は、充填材、成核剤およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された要素を、前記組成物の質量に対して５質量％未満含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
組成物の合計質量に対して、
（ｉ）（ａ）ポリ（エチレンテレフタレート）ホモポリマー、ポリ（エチレンテレフタレート）共重合体およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリ（エチレンテレフタレート）成分を含む第１のポリマーと、（ｂ）ポリマー複合体の質量に対して、０超〜２．９質量％未満のナイロン６と、を含むポリマー複合体から誘導され、
（ｉｉ）前記ポリ（エチレンテレフタレート）ホモポリマーから誘導された残基、前記ポリ（エチレンテレフタレート）共重合体から誘導された残基、前記ナイロン６から誘導された残基およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された要素を含む変性ポリ（ブチレンテレフタレート）共重合体を５〜９０質量％と；
ポリカーボネート成分を５〜６０質量％と；
耐衝撃性改良剤を少なくとも１質量％と、
選択的に添加剤０〜５質量％と、を含むことを特徴とする組成物。
【請求項８】
組成物の合計質量に対して、
（ｉ）（ａ）ポリ（エチレンテレフタレート）ホモポリマー、ポリ（エチレンテレフタレート）共重合体およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリ（エチレンテレフタレート）成分を含む第１のポリマーと、（ｂ）ポリマー複合体の質量に対して、０超〜２．９質量％未満のナイロン６，６と、を含むポリマー複合体から誘導され、
（ｉｉ）前記ポリ（エチレンテレフタレート）ホモポリマーから誘導された残基、前記ポリ（エチレンテレフタレート）共重合体から誘導された残基、前記ナイロン６，６から誘導された残基およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された要素を含む変性ポリ（ブチレンテレフタレート）共重合体を５〜９０質量％と；
ポリカーボネート成分を５〜９０質量％と；
耐衝撃性改良剤を少なくとも１質量％と、
選択的に添加剤０〜５質量％と、を含むことを特徴とする組成物。
【請求項９】
組成物の合計質量に対して、
（ｉ）（ａ）ポリ（エチレンテレフタレート）ホモポリマー、ポリ（エチレンテレフタレート）共重合体およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリ（エチレンテレフタレート）成分を含む第１のポリマーと、（ｂ）ポリマー複合体の質量に対して、０超〜２０質量％未満のポリ乳酸と、を含むポリマー複合体から誘導され、
（ｉｉ）前記ポリ（エチレンテレフタレート）ホモポリマーから誘導された残基、前記ポリ（エチレンテレフタレート）共重合体から誘導された残基、前記ポリ乳酸から誘導された残基およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された要素を含む変性ポリ（ブチレンテレフタレート）共重合体を５〜９０質量％と；
ポリカーボネート成分を５〜６０質量％と；
耐衝撃性改良剤を少なくとも１質量％と、
選択的に添加剤０〜５質量％と、を含むことを特徴とする組成物。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の組成物を含むことを特徴とする物品。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月23日(2012.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
裏材層と、前記裏材層の主表面に隣接する少なくとも１つの感圧性接着剤層と、を含む接着テープであって、前記裏材層は、
第１の重合性反応混合物の重合生成物を含む、ポリ（アルキレン）コポリマーを含み、前記第１の重合性反応混合物は、
（１）エテン、プロペン、又はこれらの混合物から選択される第１のアルケンと、
（２）４〜８個の炭素原子を有する１，２−アルケンから選択される第２のアルケンと、
（３）メタロセン触媒
を含み、
前記感圧性接着剤層は、
（１）第２の重合性反応混合物の架橋反応生成物を含む、アクリルコポリマーと、
（２）前記アクリルコポリマーの総重量に基づき最大２５重量パーセントの量で前記アクリルコポリマー中に分散又は懸濁される無機粒子と、を含み、前記第２の重合性反応混合物は、
（ａ）第２の重合性反応混合物中の重合性材料の総重量に基づき最大２５重量パーセントの量の少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有する架橋剤と、
（ｂ）（ｉ）第２の一価モノマー混合物、又は、（ｉｉ）前記第２の一価のモノマー混合物の部分重合生成物と、を含み、前記第２の一価モノマー混合物は、
１）前記第２の重合性反応混合物中の重合性材料の総重量に基づき少なくとも４０重量パーセントに等しい量の少なくとも４個の炭素原子のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートと、
２）前記第２の重合性反応混合物中の重合性材料の総重量に基づき最大４０重量パーセントの量の極性モノマーと、
を含み、
破断せずに第１の方向に少なくとも５０パーセント引き伸ばし可能である接着テープ。
【請求項２】
第１の基板、
第２の基材と、
前記第１の基板と前記第２の基材と間に配置され、前記第１の基板を前記第２の基材に結合する接着テープであって、前記接着テープは、
（Ａ）第１の重合性反応混合物の重合生成物を含む、ポリ（アルキレン）コポリマーを含む裏材層であって、前記第１の重合性反応混合物は、
（１）エテン、プロペン、又はこれらの混合物から選択される第１のアルケンと、
（２）４〜８個の炭素原子を有する１，２−アルケンから選択される第２のアルケンと、
（３）メタロセン触媒
を含み、
（Ｂ）前記裏材層の第１の主表面に隣接する第１の感圧性接着剤層、及び前記裏材層の第２の主表面に隣接する第２の感圧性接着剤層であって、前記第１の感圧性接着剤層及び前記第２の感圧性接着剤層のそれぞれは、
（１）第２の重合性反応混合物の架橋反応生成物を含む、アクリルコポリマーと、
（２）前記アクリルコポリマーの重量に基づき最大２５重量パーセントの量で前記アクリルコポリマー中に分散又は懸濁される無機粒子と、を含み、前記第２の重合性反応混合物は、
（ａ）第２の重合性反応混合物中の重合性材料の総重量に基づき最大２５重量パーセントの量の少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有する架橋剤と、
（ｂ）（ｉ）第２の一価のモノマー混合物、又は、（ｉｉ）前記第２の一価のモノマー混合物の部分重合生成物と、を含み、前記第２の一価のモノマー混合物は、
１）前記第２の重合性反応混合物中の重合性材料の総重量に基づき少なくとも４０重量パーセントに等しい量の少なくとも４個の炭素のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートと、
２）前記第２の重合性反応混合物中の重合性材料の総重量に基づき最大４０重量パーセントの量の極性モノマーと、を含み、
（Ｃ）第１の基材及び第２の基材の少なくとも１つを超えて延在するツメであって、前記ツメを引くことによって接着テープが引き伸ばされ、前記第１の基材から、又は前記第２の基材から、又は前記第１の基材及び前記第２の基材の両方から前記接着テープが剥離され、前記ツメが引かれるとき、前記接着テープが破断せずに第１の方向に少なくとも５０パーセント引き伸ばし可能であるツメと、
を含む物品。
【請求項３】
第一の基材と、
前記第一の基材に接着される接着テープとを含み、
前記接着テープが、
（Ａ）第１の重合性反応混合物の重合生成物を含む、ポリ（アルキレン）コポリマーを含む裏材層を含み、前記第１の重合性反応混合物は、
（１）エテン、プロペン、又はこれらの混合物から選択される第１のアルケンと、
（２）４〜８個の炭素原子を有する１，２−アルケンから選択される第２のアルケンと、
（３）メタロセン触媒
を含み、
（Ｂ）前記裏材層の第１の主表面に隣接する第１の感圧性接着剤層であって、前記第１の感圧性接着剤層は、
（１）第２の重合性反応混合物の架橋反応生成物を含む、アクリルコポリマーと、
（２）前記アクリルコポリマーの重量に基づき最大２５重量パーセントの量で前記アクリルコポリマー中に分散又は懸濁される無機粒子と、を含み、
前記第２の重合性反応混合物は、
（ａ）前記第２の重合性反応混合物中の重合性材料の総重量に基づき最大２５重量パーセントの量の少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有する架橋剤と、
（ｂ）（ｉ）第２の一価のモノマー混合物、又は、（ｉｉ）の部分重合生成物と、を含み、前記第２の一価のモノマー混合物は、
１）前記第２の重合性反応混合物中の重合性材料の総重量に基づき少なくとも４０重量パーセントに等しい量の少なくとも４個の炭素のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートと、
２）前記第２の重合性反応混合物中の重合性材料の総重量に基づき最大４０重量パーセントの量の極性モノマーと、を含み、
（Ｃ）第１の基材を超えて延在するツメであって、前記ツメを引くことによって接着テープが引き伸ばされ、前記第１の基材から前記接着テープが剥離され、前記ツメが引かれるとき、前記接着テープが破断せずに第１の方向に少なくとも５０パーセント引き伸ばし可能であるツメと、
を含む物品。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月5日(2012.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光手段の製造方法において、
平坦なチップ実装領域（２０，５１）を含み、かつ、ヒートシンクとして使用される支持体（１０ａ，４，５０）を準備するステップと、
前記平坦なチップ実装領域（５１，２０）を構造化し、第１の部分領域（１７，２４，２１ａ，４３）と少なくとも１つの第２の部分領域（１２ａ，２２ａ，２２ｂ，２３，４４）とを形成し、前記構造化後に前記第１の部分領域（１７，２４，２１ａ，４３）にはんだを弾く特性を備えさせるステップと、
前記平坦なチップ実装領域（５１，２０）にはんだを塗布し、該はんだにより前記少なくとも１つの第２の部分領域（１２ａ，２２ａ，２２ｂ，２３，４４）を湿らせるステップと、
前記少なくとも１つの第２の部分領域（１２ａ，２２ａ，２２ｂ，２３，４４）内の前記はんだの上に少なくとも１つのオプトエレクトロニクス素子（１００，６０）を載置するステップと、
前記オプトエレクトロニクス素子（１００，６０）への電気的なエネルギの供給に適している電気的なコンタクトを形成するステップと、
切欠部と、少なくとも１つの金属性の導体路（５５）と、少なくとも１つのコンタクト領域（５４）とを備えた薄膜回路基板（５０ａ）を形成するステップと、
前記薄膜回路基板（５０ａ）を前記支持体に載置する前または載置した後に、前記少なくとも１つのオプトエレクトロニクス素子（６０）を載置し、前記切欠部が前記チップ実装領域の上方に位置するように前記薄膜回路基板（５０ａ）を前記支持体に載置するステップとを有することを特徴とする、発光手段の製造方法。
【請求項２】
前記第２の部分領域（１２ａ，２２ａ，２２ｂ，２３，４４）内の前記平坦なチップ実装領域（５１，２０）は、前記はんだによって少なくとも部分的に湿らされる、少なくとも１つの金属性の部分層（１２，４２）を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記平坦なチップ実装領域を構造化するステップは、
前記平坦なチップ実装領域（５１，２０）上に、はんだを弾く特性を有するはんだストップ層（４３）を被着させるステップと、
前記はんだストップ層を構造化し、前記第１の部分領域および前記第２の部分領域（４４）を形成するステップと、
前記第２の部分領域（４４）における前記はんだストップ層を除去するステップとを含む、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記平坦なチップ実装領域を構造化するステップは、
前記平坦なチップ実装領域の前記第１の部分領域上に、はんだを弾く特性を有するはんだストップ層を被着させるステップと、
前記第２の部分領域の一部を必要に応じて露出および／または加工し、はんだによって湿らされる表面を前記第２の部分領域に形成するステップとを含む、請求項１または２記載の方法。
【請求項５】
ヒートシンクとして使用される支持体（５０）を準備するステップは、少なくとも２つの部分層から成る積層体（１１，１２）を含む、チップ実装領域を備えた支持体を準備するステップを含み、前記部分層のうちの少なくとも１つの部分層は、
ニッケル、
銅、
アルミニウム、
銀、
金、
チタン、
タングステン
のうちの少なくとも１つを含有する、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記第１の部分領域は、少なくとも前記チップ実装領域の縁に沿って延在している、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
さらに、
前記チップ実装領域の外側において、前記支持体に誘電層（１３，５０ａ）を設けるステップと、
前記誘電層に金属性のコンタクト部（１４，５５）を形成するステップと、
前記支持体に少なくとも１つの構成素子（５９ａ）を載置し、前記コンタクト部と電気的に接触接続させるステップとを有する、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
隣接する少なくとも２つの第２の部分領域を第１の部分領域によって隔てる、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
電気的なコンタクトを形成するステップは、
前記チップ実装領域の外側に設けられているコンタクトパッドにコンタクトワイヤをボンディングするステップと、
前記オプトエレクトロニクス素子におけるコンタクトパッドにコンタクトワイヤをボンディングし、該コンタクトパッドを、光の放射に適した積層体の部分層に電気的に接触接続させるステップとを含む、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
前記オプトエレクトロニクス素子は、前記はんだと対向する側に反射層を有する、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
前記オプトエレクトロニクス素子は、前記はんだ側とは反対の側にコンタクトパッドを有する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月1日(2012.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通電時に２０００Ｋ〜２００００Ｋの範囲の相関色温度（ＣＣＴ）を呈する照明システムであって、
１以上の有機エレクトロルミネセンス素子を備え、
システムが、通電時に白色に見える全光を与えるように構成され、前記全光が、白熱光源又は黒体光源に比べてカラーコントラストが向上するように、以下に従って所定のＣＱＳの１５個の色見本それぞれに対するデルタ彩度値を有する、すなわち、
（Ａ）ＣＣＴが２０００Ｋ〜３０００Ｋの範囲にあるシステムでは、前記デルタ彩度値は、次の通り、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、−２〜７のＶＳ１、−３〜７のＶＳ２、−７〜７のＶＳ３のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−２〜８のＶＳ４、−２〜１５のＶＳ５のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、１〜２５のＶＳ６、４〜２６のＶＳ７、−１〜１５のＶＳ８のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、−６〜７のＶＳ９、−４〜６のＶＳ１０、−２〜８のＶＳ１１のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−１〜８のＶＳ１２、−１〜１３のＶＳ１３のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−７〜１３のＶＳ１４、−９〜１２のＶＳ１５のパラメータ内にあり、
（Ｂ）ＣＣＴが３０００Ｋ〜４５００Ｋの範囲にあるシステムでは、前記デルタ彩度値は、次の通り、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、−５〜７のＶＳ１、−３〜７のＶＳ２、−７〜７のＶＳ３のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−３〜８のＶＳ４、−２〜１５のＶＳ５のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、０〜２２のＶＳ６、３〜２６のＶＳ７、−１〜１５のＶＳ８のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、−６〜７のＶＳ９、−４〜６のＶＳ１０、−４〜６のＶＳ１１のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−１〜８のＶＳ１２、−１〜１３のＶＳ１３のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−７〜１５のＶＳ１４、−７〜１２のＶＳ１５のパラメータ内にあり、
（Ｃ）ＣＣＴが４５００Ｋ〜７５００Ｋの範囲にあるシステムでは、前記デルタ彩度値は、次の通り、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、−５〜７のＶＳ１、−３〜７のＶＳ２、−５〜７のＶＳ３のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−３〜７のＶＳ４、−２〜１５のＶＳ５のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、０〜２２のＶＳ６、１〜２６のＶＳ７、−１〜１５のＶＳ８のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、−６〜７のＶＳ９、−５〜６のＶＳ１０、−４〜６のＶＳ１１のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−２〜８のＶＳ１２、−１〜１６のＶＳ１３のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−５〜２２のＶＳ１４、−６〜１５のＶＳ１５のパラメータ内にあり、
（Ｄ）ＣＣＴが７５００Ｋ〜２００００Ｋの範囲にあるシステムでは、前記デルタ彩度値は、次の通り、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、−３〜７のＶＳ１、−３〜７のＶＳ２、−５〜８のＶＳ３のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−３〜６のＶＳ４、−３〜１５のＶＳ５のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、０〜２２のＶＳ６、０〜２５のＶＳ７、−１〜１５のＶＳ８のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの２以上の色見本が、−５〜７のＶＳ９、−５〜６のＶＳ１０、−４〜６のＶＳ１１のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−３〜８のＶＳ１２、−１〜１６のＶＳ１３のパラメータ内にあり、
前記ＣＱＳの１以上の色見本が、−３〜２４のＶＳ１４、−４〜１５のＶＳ１５のパラメータ内にあり、
デルタ彩度値がすべてＣＩＥ  ＬＡＢ空間で測定される、照明システム。
【請求項２】
前記１以上の有機エレクトロルミネセンス素子を支持する基板をさらに備える、請求項１記載の照明システム。
【請求項３】
前記基板が、前記システムからの熱を散逸させることができる放熱要素を備える、請求項２記載の照明システム。
【請求項４】
１以上のコントローラ及び１以上のプロセッサをさらに含み、前記１以上のプロセッサが、前記コントローラから信号を受け取って、前記１以上の有機エレクトロルミネセンス素子からの放射の強度を制御するように構成される、請求項１記載の照明システム。
【請求項５】
前記１以上のコントローラが、前記１以上の有機エレクトロルミネセンス素子の全光の放射及び温度の１以上を受け取ることができるセンサと連通している、請求項４記載の照明システム。
【請求項６】
前記１以上のプロセッサが前記１以上の有機エレクトロルミネセンス素子に対する電流を制御する、請求項４記載の照明システム。
【請求項７】
前記１以上の有機エレクトロルミネセンス素子から光が放射されると１以上の光に作用する動作を行うように構成された光学機構をさらに備え、前記動作が、混合、散乱、減衰、導光、抽出、制御、反射、屈折、回折、偏光及びビーム整形からなる群から選択される、請求項１記載の照明システム。
【請求項８】
光を混合するため、前記光学機構が散乱要素又は光ディフューザを含む、請求項７記載の照明システム。
【請求項９】
前記散乱要素又は光ディフューザが、膜、粒子、ディフューザ、プリズム及び混合プレートの少なくとも１つから選択される、請求項８記載の照明システム。
【請求項１０】
前記光学機構が、レンズ、フィルタ、絞り及びコリメータから選択される導光又は整形要素を含む、請求項７記載の照明システム。
【請求項１１】
前記光学機構が、光を散乱又は拡散するように構成された、前記１以上の有機エレクトロルミネセンス素子のための封入剤を含む、請求項７記載の照明システム。
【請求項１２】
前記光学機構が、反射器又は屈折性もしくは全反射性光ガイドを含む、請求項７記載の照明システム。
【請求項１３】
前記１以上の有機エレクトロルミネセンス素子がエレクトロルミネセンス有機分子又はエレクトロルミネセンス高分子を含む、請求項１記載の照明システム。
【請求項１４】
前記１以上の有機エレクトロルミネセンス素子が、電極の間に挟まれた活性層を備えるデバイス内に配列される、請求項１３記載の照明システム。
【請求項１５】
前記１以上の有機エレクトロルミネセンス素子の複数の活性層を備え、前記複数の活性層が、積み重ねた又は重ね合わせた構成で配列される、請求項１記載の照明システム。