【事件の表示】
　平成　９年特許願第１２０１８９号「情報記録担体用のフォトマスク、情報記録担体用のガラスマスター、情報記録担体用のスタンパー、情報記録担体、情報記録担体用のガラスマスターの製造方法、情報記録担体用のスタンパーの製造方法、情報記録担体の製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年１１月１３日出願公開、特開平１０−３０２３２６］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成９年４月２３日の出願であって、平成１４年６月１１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年７月１８日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年８月１９日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１４年８月１９日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　　平成１４年８月１９日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
（１）本件補正後の発明
　本件補正は、特許請求の範囲を下記の請求項１〜３とする補正を含むものである。
　「【請求項１】　一定のトラックピッチでディスク状に情報パターンが形成された情報記録担体を製造する情報記録担体の製造方法であって、透明基板上にモリブデンシリサイドまたはクロムからなる不透明膜を形成する工程と、前記不透明膜上に第１のフォトレジストを形成する工程と、前記第１のフォトレジストを、所望の情報パターンに対し４．２〜８倍の拡大率に拡大した拡大情報パターンを用いて露光する工程と、前記第１のフォトレジストを現像して、前記情報パターンに対応した前記第１のフォトレジストのみを除去し、前記情報パターンに対応した前記不透明膜を露出させる工程と、異方性ドライエッチングにより、前記露出した不透明膜を除去し、前記情報パターンに対応した前記透明基板を露出する工程とにより、フォトマスクを完成し、前記透明基板とは異なる基板上に、第２のフォトレジストを形成する工程と、前記第２のフォトレジスト上に、前記フォトマスクを介して、前記拡大率の逆数の縮小率で縮小露光する工程と、前記第２のフォトレジストを現像する工程と、から少なくともなることを特徴とする情報記録担体の製造方法。
　　【請求項２】　前記不透明膜はモリブデンシリサイドからなり、前記異方性ドライエッチングは、ＣＦ４による異方性ドライエッチングであることを特徴とする請求項１記載の情報記録担体の製造方法。
　　【請求項３】　前記不透明膜はクロムからなり、前記異方性ドライエッチングは、ＣＣｌ４による異方性ドライエッチングであることを特徴とする請求項１記載の情報記録担体の製造方法。」
　
（２）補正の適否
　本件補正は、特許法第１７条の２第１項第３号において準用する同法第１２１条第１項の審判を請求する場合において、その審判の請求の日から３０日以内にするときになされたものであるところ、同法第１７条の２第４項において、第１項第３号に掲げる場合において特許請求の範囲についてする補正は、同項第１号乃至第４号に掲げる事項（請求項の削除、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、明りようでない記載の釈明）を目的とするものに限るとされているので、その規定を満たすか検討する。
　
　本件補正前の特許請求の範囲の記載は、平成１４年５月２３日付け手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜７に記載された事項により特定される次のとおりである。
　「【請求項１】　情報記録担体上に形成するための情報パターンを所定の拡大率で拡大した拡大情報パターンを形成してなるフォトマスクを使用して、前記拡大率の逆数である縮小率で縮小投影露光を行なってガラスマスターを製造し、前記ガラスマスターを用いて作成したスタンパーを使用して前記情報記録担体を製造する際の前記フォトマスクであって、透明基板と、前記透明基板上に形成した不透明膜とを有し、前記不透明膜は、前記拡大率４．２〜８倍の前記拡大情報パターンを有するモリブデンシリサイド膜であることを特徴とする情報記録担体用のフォトマスク。
　【請求項２】　情報記録担体上に形成するための情報パターンを所定の拡大率で拡大した拡大情報パターンを形成してなるフォトマスクを使用して、前記拡大率の逆数である縮小率で縮小投影露光を行なってガラスマスターを製造し、前記ガラスマスターを用いて作成したスタンパーを使用して前記情報記録担体を製造する際の前記ガラスマスターであって、前記縮小投影露光により得た前記情報パターンを有するガラス基板を備えたことを特徴とする情報記録担体用のガラスマスター。
　【請求項３】　情報記録担体上に形成するための情報パターンを所定の拡大率で拡大した拡大情報パターンを形成してなるフォトマスクを使用して、前記拡大率の逆数である縮小率で縮小投影露光を行なってガラスマスターを製造し、前記ガラスマスターを用いて作成したスタンパーを使用して前記情報記録担体を製造する際の前記スタンパーであって、前記ガラスマスターの前記情報パターンを転写して得た転写情報パターンを有するニッケル部材を備えたことを特徴とする情報記録担体用のスタンパー。
　【請求項４】　情報記録担体上に形成するための情報パターンを所定の拡大率で拡大した拡大情報パターンを形成してなるフォトマスクを使用して、前記拡大率の逆数である縮小率で縮小投影露光を行なってガラスマスターを製造し、前記ガラスマスターを用いて作成したスタンパーを使用して製造する前記情報記録担体であって、請求項３記載のスタンパーの前記転写情報パターンを転写して元の前記情報パターンを有する基板と、前記基板上に順次積層してなる少なくとも、反射膜と、保護膜とを備えたことを情報記録担体。
　【請求項５】　請求項２に記載の情報記録担体用のガラスマスターを製造する製造方法であって、ガラス基板上にフォトレジストを塗布する工程と、前記ガラス基板上のフォトレジストを前記縮小投影露光によりパターニングする工程とを備えたことを特徴とする情報記録担体用のガラスマスターの製造方法。
　【請求項６】　請求項３に記載の情報記録担体用のスタンパーを製造する製造方法であって、請求項２に記載の情報記録担体用のガラスマスター上に、ニッケル導電膜を形成し、ニッケルメッキを施し、剥離する各工程を備えたことを特徴とする情報記録担体用のスタンパーの製造方法。
　【請求項７】　請求項３記載の情報記録担体用のスタンパーを用いて製造する情報記録担体の製造方法であって、樹脂を射出成形して基板を形成する工程と、前記基板上に記録膜を形成する工程と、前記記録膜上に保護膜を形成する工程とを少なくとも備えたことを特徴とする情報記録担体の製造方法。」
　
　ところで、本件補正に関し、審判請求人は、「複数の発明の中から、情報記録担体の製造方法のみを本願発明とするべく、限定的減縮を目的とした補正を行ない請求項１〜請求項３に係る本願発明と致しました。」（平成１４年１０月２１日付け審判請求の理由の手続補正書第２頁参照）と主張している。
　なるほど、本件補正前の請求項１〜６に係る発明がフォトマスク、ガラスマスター、スタンパー、情報記録担体、ガラスマスターの製造方法、スタンパーの製造方法であって「情報記録担体の製造方法」でないから、本件補正前の請求項１〜６に係る発明は削除されていて、その補正は特許法第１７条の２第４項第１号の請求項の削除に該当する。　そして、本件補正後の請求項１〜３に係る発明は、「情報記録担体の製造方法」であるところ、本件補正前の請求項７に係る発明の「情報記録担体の製造方法」に対応するものであるから、補正前の請求項７を補正後の請求項１〜３に補正することについては、特許法第１７条の２第４項第１号の請求項の削除に該当しないことは明らかであるものの、審判請求人の主張するように前記限定的減縮を目的とするものであるか否か以下検討する。
　
　本件補正前の請求項７に係る発明は、「請求項３記載の情報記録担体用のスタンパー」を用いていることを勘案して、「情報記録担体上に形成するための情報パターンを所定の拡大率で拡大した拡大情報パターンを形成してなるフォトマスクを使用して、前記拡大率の逆数である縮小率で縮小投影露光を行なってガラスマスターを製造し、前記ガラスマスターを用いて作成したスタンパーを使用して前記情報記録担体を製造する際の前記スタンパーであって、前記ガラスマスターの前記情報パターンを転写して得た転写情報パターンを有するニッケル部材を備えたことを特徴とする情報記録担体用のスタンパーを用いて製造する情報記録担体の製造方法であって、樹脂を射出成形して基板を形成する工程と、前記基板上に記録膜を形成する工程と、前記記録膜上に保護膜を形成する工程とを少なくとも備えたことを特徴とする情報記録担体の製造方法。」と認めることができるもので、これと本件補正後の請求項１に係る発明とを対比するに、少なくとも、（ｉ）本件補正前の発明における「樹脂を射出成形して基板を形成する工程と、前記基板上に記録膜を形成する工程と、前記記録膜上に保護膜を形成する工程」の工程、及び（ｉｉ）本件補正前の発明における「ニッケル部材を備えたことを特徴とする情報記録担体用のスタンパー」なるスタンパーの必須構成が、各々削除されている点、また、（ｉｉｉ）本件補正前の発明における「ガラスマスターを製造し」は、本件補正後の発明の「前記透明基板と異なる基板上に・・・フォトレジストを形成し、・・・現像する工程」に対応するとしても、本件補正後の発明においてガラスマスターの材質の限定をなくしている点で、発明が拡張されていることが認められる。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当しない。　そして、本件補正が、特許法第１７条の２第４項第３号、第４号の誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明に該当しないことも明らかである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本件補正は特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものであるから、本件補正は、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１４年８月１９日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜７に係る発明は、平成１４年５月２３日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜７に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項３に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
　「【請求項３】　情報記録担体上に形成するための情報パターンを所定の拡大率で拡大した拡大情報パターンを形成してなるフォトマスクを使用して、前記拡大率の逆数である縮小率で縮小投影露光を行なってガラスマスターを製造し、前記ガラスマスターを用いて作成したスタンパーを使用して前記情報記録担体を製造する際の前記スタンパーであって、前記ガラスマスターの前記情報パターンを転写して得た転写情報パターンを有するニッケル部材を備えたことを特徴とする情報記録担体用のスタンパー。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶理由に引用された特開平７−１４２１８号公報（以下、「引用例」という。）には、図面とともに、以下のような記載がある。
　（i）「ガラス原盤上に金属層を形成し、その金属層上にレジスト層を形成して表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤を作成する過程と、上記表面レジスト層・内面金属層付き付きガラス原盤の表面レジスタ層に信号パターンを形成した後、上記レジスト層を現像して信号パターンが形成された部分のレジスト層を除去して上記金属層を露出させ、残されたレジスト層をマスクとして上記露出した金属層をエッチングにより除去し、その後上記残されたレジスト層を除去して光学式原盤を作成する過程と、この光学式原盤を使用してレジスト層付きガラス原盤に信号パターンを露光記録した後、信号パターンが露光記録されたレジスト層付きガラス原盤を現像し、さらに、表面導体化処理を行った後めっき層を形成し、形成しためっき層を剥離洗浄して光ディスク作成用原盤を作成する過程と、を有する光ディスク作成用原盤の作成方法。」（請求項１参照）、
　（ii）「【産業上の利用分野】　本発明は、ＣＤ，ＶＤ（ＬＤ），ＭＤ（ミニディスク），ＷＯ及びＭＯ等の光ディスクを作成するための光ディスク作成用原盤、いわゆるニッケルスタンパーを作成するための光ディスク作成用原盤の製造に関する。」（段落【０００１】参照）こと、
　（iii）「【作用】　本発明によれば、いわゆる半導体集積回路等を作成するためのステッパー装置２４に用いるレチクルと同様の光学式原盤１１を作成し、この光学式原盤１１を使用してレジスト層付きガラス原盤２３に信号パターンを露光記録し、この露光記録したレジスト層付きガラス原盤２３から光ディスク作成用原盤、すなわちニッケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成するようにしている。　このため、光学式原盤１１を使用してニッケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成する際には、光学式原盤１１は単に、露光記録、すなわち、光を通過させるだけでよいので、光学式原盤１１上に傷が付く確率が、剥離処理を行う従来の技術に比較して相当に小さくなる。　また、一旦、光学式原盤１１を作成してしまえば、パッシベーション工程が不要になるので、ニッケルマスター（ニッケルスタンパー）を簡易に作成することができる。」（段落【００１４】参照）こと、
　（iv）「さらにまた、光学式原盤１１を使用して露光記録する際に、例えば、０．９／１．２倍の縮小光学系を使用すれば、例えば、ＭＤ用の光学式原盤１１をＣＤ用の信号パターン露光記録装置１０（図４参照）で作成することが可能になる。」（段落【００１６】参照）、
　（v）「まず、図３に示すように、光透過性のガラス原盤１を準備し、このガラス原盤１の一面上に、例えば、クロムの金属層２を形成する（ステップＳ１）。金属層２は、後に説明する紫外線光を遮光する厚さに形成すればよい。金属層２は、蒸着技術またはスパッタリング技術を用いて形成することができる。　　次に、このようにして作成された金属層付きガラス原盤の金属層２上にレジストを塗布してレジスト層３を形成し、表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５を作成する（ステップＳ２）。なお、後に説明するように、このレジスト層３は、金属層２のエッチング用として使用されるものである。　　次いで、図４に示すように、表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５を周知の信号パターン露光記録装置１０（図４は全体として信号パターン露光記録装置の構成を示している。）に装着して表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５のレジスト層３に信号パターンを形成する（ステップＳ３）。この場合、まず、矢印Ｐ方向に回転することのできる取り付け台６上に表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５を固定する。次に、取り付け台６を矢印Ｐ方向に回転させながら、レジスト層３にレーザ光Ｌを照射する光学系７を半径Ｒ方向に移動させることで、レジスト層３に同心状またはスパイラル状の信号パターンの潜像を形成することができる。なお、レーザ光Ｌは、レーザ光源と光変調器等を有するレーザ光源装置８から出射されたものを光学系７を構成するミラー９により反射させてレジスト層３上に照射するようにしている。」（段落【００２０】〜【００２２】参照）こと、
　（vi）「なお、この実施例では、最終的に作成しようとする光ディスク作成用原盤、すなわち、ニッケルマスター（ニッケルスタンパー）をＭＤ（トラックピッチ０．９ｍｍとする）対応のものにするが、このステップＳ３の信号パターン露光記録過程では、既存のＣＤ（トラックピッチ１．４ｍｍとする）の信号パターン露光記録装置１０を使用しているので、いわゆる拡大して信号パターンを露光記録することになる。このため、後の工程でＭＤ用に縮小することで、高精度化、いわゆるファインパターン化を容易に形成することが可能である。」（段落【００２３】参照）こと、
　（vii）「次に、このようにして作成された光学式原盤１１を用いて光ディスク作成用原盤、すなわちニッケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成する過程について図６をも参照して説明する。　　まず、一度に最終的に作成しようとする光ディスク作成用原盤の数を複数枚（この実施例では、４枚）にするために、比較的に大きなガラス原盤２１を準備し、このガラス原盤２１上にディスク読み取り波長のλ／４（λは、読み取り用レーザ光の波長）に相当する厚さのレジスト層２２を塗布形成することで、レジスト層付きガラス原盤２３を作成する（図２，ステップＳ１１参照）。なお、一度に４枚作成する場合には、ＣＤ用のガラス原盤を使用すればよいが、ＶＤ（ＬＤ）用の大きさのガラス原盤を使用することで、さらに多数の光ディスク作成用原盤を一度に作成することができる。　　次に、このレジスト層付きガラス原盤２３をステッパー装置２４（図６は、全体としてステッパー装置の構成を示している。なお、図６において、理解し易くするために、２重波線の上側と下側では、見る位置を変えて描いている。）のＸ−Ｙステージ（図示していない）上に固定する。Ｘ−Ｙステージ上に固定されたレジスト層付きガラス原盤２３の上方には、縮小光学系（この実施例での縮小率は０．９／１．４倍）である結像光学系２５が配置固定されている。次に、上記ステップＳ１〜Ｓ６の過程によって作成された光学式原盤１１を紫外線光Ｌｕｖを発生する紫外線ランプ２６と結像光学系２５との間に配置固定する。このようにしてステッパー装置２４に光学式原盤１１とレジスト層付きガラス原盤２３がセットされる（ステップＳ１２）。　　セットした状態において、Ｘ−Ｙステージを定寸送りしながら、結像光学系２５で結像された紫外線光Ｌｕｖによりレジスト層２２上に同一の潜像２７を複数回（図６例では４回）露光記録する（ステップＳ１３）。すなわち、潜像２７をステップアンドリピート法により複数個形成している。この各潜像２７の大きさは、結像光学系２５によりＭＤに対応した大きさに縮小されて形成されている。したがって、この潜像上の信号パターン上のトラックピッチは、実際のＭＤのトラックピッチと等しい０．９μｍになっている。　　複数個の潜像２７が露光記録されたレジスト層付きガラス原盤２３は、ステッパー装置２４から外される。そして、次に説明する周知のニッケルマスター（ニッケルスタンパー）形成技術によりニッケルマスター（ニッケルスタンパー）が形成される。すなわち、潜像２７が露光記録されているレジスト層付きガラス原盤２３は、現像処理（ステップＳ１４）後、表面導体化処理、すなわちメタライズ処理（ステップＳ１５）が行われ、さらに、めっき処理（ステップＳ１６）によりそのメタライズ層上に、例えば、厚さ３００μｍのニッケルめっき層が形成される。最後に、ニッケルめっき層が形成されたガラス原盤２１からニッケルめっき層が剥離されて、レジスト層２２が洗浄除去されることでニッケルマスター（ニッケルスタンパー）が複数枚（図６例では４枚）一度に作成できる。　　そして、これらのニッケルマスターをニッケルスタンパーとして使用することで、射出成形機によりまたは２Ｐ法等により、所望の光ディスク、この場���、ＭＤ（実際には、樹脂ディスク、この樹脂ディスクに、誘電体膜、磁性膜、反射膜保護膜等を形成することで光ディスクとしてのＭＤが完成する。）を作成することができる。なお、その光ディスクを作成する際に、上記ニッケルスタンパーを使用して一度に４枚、光ディスク作成用の原盤となる樹脂ディスクを作成しようとする場合には、上記剥離したニッケルめっき層から４枚のニッケルマスターを切り離さないで使用すればよい。」（段落【００２８】〜【００３３】参照）こと、
　（viii）「さらにまた、光学式原盤１１を使用して露光記録する際に、０．９／１．４倍の縮小光学系２５を使用しているので、ＭＤ用の光学式原盤１１をＣＤ用の信号パターン露光記録装置１０で作成することが可能になる。また、製品としての光ディスクにより一層の高精度が要求される場合には、ＣＤ用の信号パターン露光記録装置１０に代替して、ＶＤ用の信号パターン露光記録装置などを使用し、結像光学系２５の縮小率（縮小率を可変にすることもできる）に応じてその信号パターン露光記録装置で拡大記録すればよい。」（段落【００３６】参照）こと。
　
　これらの記載によれば、引用例には、「ガラス原盤上に金属層を形成し、その金属層上にレジスト層を形成して表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤を作成する過程と、上記表面レジスト層・内面金属層付き付きガラス原盤の表面レジスタ層に信号パターンを形成した後、上記レジスト層を現像して信号パターンが形成された部分のレジスト層を除去して上記金属層を露出させ、残されたレジスト層をマスクとして上記露出した金属層をエッチングにより除去し、その後上記残されたレジスト層を除去して光学式原盤を作成する過程と、この光学式原盤を使用してレジスト層付きガラス原盤に信号パターンを露光記録した後、信号パターンが露光記録されたレジスト層付きガラス原盤を現像し、さらに、表面導体化処理を行った後めっき層（ニッケルめっき層）を形成し、形成しためっき層を剥離洗浄して作成した光ディスク作成用原盤（ニッケルスタンパー）。」の発明（以下「引用例発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
（２）対比、判断
　そこで、本願発明と引用例発明とを比較する。
　引用例発明の「光学式原盤」と「信号パターンが露光記録されたレジスト層付きガラス原盤」と「光ディスク作成用原盤（ニッケルスタンパー）」は、それぞれ本願発明の「フォトマスク」と「ガラスマスター」と「情報記録担体用のスタンパー」に相当する。
　そして、（ａ）引用例発明の「光学式原盤」（フォトマスク相当）は、信号パターン（情報パターンに相当）を形成したものであるから、情報記録担体に形成するための信号パターン（情報パターンに相当）を形成していることが明らかであり、（ｂ）引用例発明の「ガラス原盤」は、前記の情報記録担体に形成するための信号パターン（情報パターンに相当）を形成している「光学式原盤」を使用して、信号パターンを露光記録したものであることが明らかであり、（ｃ）引用例発明の「光ディスク作成用原盤（ニッケルスタンパー）」が、ガラス原盤に露光記録された信号パターンをニッケルめっき層に転写して剥離したニッケル部材であるから、本願発明の「ガラスマスターの前記情報パターンを転写して得た転写情報パターンを有するニッケル部材を備えた」もの（情報記録担体用のスタンパー）に相当することも明らかである。
　
　してみると、両発明は、本願発明の用語を用いて表現して、「情報記録担体上に形成するための情報パターンを形成してなるフォトマスクを使用して、投影露光を行なってガラスマスターを製造し、前記ガラスマスターを用いて作成したスタンパーを使用して前記情報記録担体を製造する際の前記スタンパーであって、前記ガラスマスターの前記情報パターンを転写して得た転写情報パターンを有するニッケル部材を備えたことを特徴とする情報記録担体用のスタンパー。」の発明である点で一致し、次の点で相違する。
　＜相違点＞
　本願発明が「情報パターンを所定の拡大率で拡大した拡大情報パターンを形成してなるフォトマスクを使用して、前記拡大率の逆数である縮小率で縮小投影露光を行なって」いるのに対して、引用例発明では、そのことを必須の構成としていない点。
　
　この相違点について更に検討する。
　引用例には、「いわゆる拡大して信号パターンを露光記録することになる。このため、後の工程でＭＤ用に縮小することで、高精度化、いわゆるファインパターン化を容易に形成することが可能である。」（摘示（vi）参照）ことが記載されている。　引用例の実施例では、ステップＳ３の信号パターン露光記録過程（なお、この過程は、本願発明にいうフォトマスクに情報パターンを形成する工程に相当する。）では、既存のＣＤ（トラックピッチ１．４ｍｍとする）の信号パターン露光記録装置１０を使用し、ニッケルマスター（ニッケルスタンパー）をＭＤ（トラックピッチ０．９ｍｍとする）対応のものとしている（摘示（vi）参照）が、「製品としての光ディスクにより一層の高精度が要求される場合には、ＣＤ用の信号パターン露光記録装置１０に代替して、ＶＤ用の信号パターン露光記録装置などを使用し、結像光学系２５の縮小率（縮小率を可変にすることもできる）に応じてその信号パターン露光記録装置で拡大記録すればよい。」（摘示（viii）参照）と記載されている。
　そうであるから、引用例には、情報パターンを適当な拡大率で拡大した情報パターンを形成した光学式原盤（フォトマスク）を使用して、縮小露光投影露光を行なうこと、及びそれによって高精度でファインパターン化が容易にできることが明確に記載されているというべきである。
　なるほど、「所定の拡大率で拡大し」かつ縮小投影露光を「拡大率の逆数である縮小率で」行うことについてはその用語での表現はされていない。　しかしながら、引用例においてはＣＤ用からＭＤへ、ＶＤ（ＬＤ）用からＭＤへの他に「縮小率を可変にすることもできる」と記載されているのであるから、「所定の拡大率で拡大し」かつ縮小投影露光を「拡大率の逆数である縮小率で」行なう程度のことは、当業者が容易に想到し得るものといえる。
　そして、「所定の拡大率で拡大し」かつ縮小投影露光を「拡大率の逆数である縮小率で」行うと表現したことによって格別予想外の作用効果が奏されるとは認められない。　また、本願発明は「縮小率を上げることで高精度が得やすくなる。」（本願明細書段落【００１４】参照）ことを目的としてもいるのであるが、この点でも引用例発明の記載と同じである。　なるほど、引用例には「ジッター」に関しての言及はないが、ジッターの改善は縮小投影することにより得られる高精度に付随する作用効果にすぎないものであって、そのような言及がなくとも、本願発明の構成は容易に採用し得るものと認められる。
　なお、光学式原盤（フォトマスク）への情報パターンの形成手段は、本願発明でも引用例発明でも光変調器からのレーザー光を照射して行っているから、情報パターンの形成手段に相違はない（本願明細書段落【００１９】，図Ｄ；引用例段落【００２２】，図４参照）。
　
　したがって、本願発明は、引用例に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。