【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年12月24日(2013.12.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
一実施形態において、処理の間に基板の温度を制御するための方法は、真空処理チャンバ内の基板ペデスタルアセンブリ上に基板を載置し、この基板ペデスタルアセンブリ内の放射状の流路に熱伝導流体を流すことにより、この基板ペデスタルアセンブリの温度を制御し、この放射状流路は内側に放射状の部分と外側に放射状の部分を含み、温度制御された基板ペデスタルアセンブリ上の基板をプラズマ処理することを含む。他の実施形態において、プラズマ処理はプラズマトリートメント、化学的蒸着プロセス、物理的蒸着プロセス、イオンインプランテーションプロセス、若しくは、エッチプロセスなどのうちの少なくとも１つであるかもしれない。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
ベースアセンブリ１１４は、主にアルミニウム若しくは他の金属材料から形成される。ベースアセンブリ１１４は、加熱若しくは冷却の流体のソース１１２に結合された１つ以上の冷却通路を含む。フレオン、ヘリウム、若しくは、窒素などの少なくとも１つのガス、あるいは、水若しくは油などの液体であるかもしれない熱伝導流体は、ベースアセンブリ１１４の温度を制御するために通路を介してソース１８２により供給され、これにより、ベースアセンブリ１１４を加熱若しくは冷却し、これにより、処理の間にベースアセンブリ１１４上に置かれた基板１５０の温度を部分的に制御する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
図５は、ベースプレート３０４の窪んだ表面３４０を露出させるためにカバープレート３０２が外された状態の基板ペデスタル１１４の上面図である。この凹んだ表面３４０はその中に形成された複数の冷却チャネルを含む。図５に図示された実施形態において、内側の冷却チャネル５０２及び外側の冷却チャネル５０４が提供される。ヘリウム、若しくは、他の熱伝導ガス又は流体は、それぞれの入口５０６、５０８を介して冷却チャネル５０２、５０４に供給される。この熱伝導ガスは、チャネル５０２、５０４を介して、（図４に図示された）カバープレート３０２内の複数の穴３２４、３２６に分配され、その複数の穴を介して、熱伝導ガスが静電チャック１８８とベースアセンブリ１１４との間に分配される。チャネル５０２、５０４内の流体の温度は、中央から端までの基板の温度を制御するために、独立に温度制御されるかもしれない。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
図６は上側壁面３５２から突出するスペーサ３５４を図示する、ベースプレート３０４の平面図を図示する。少数のスペーサ３５４のみが、説明を明解にするために図示されているが、スペーサ３５４はベースプレート３０４の中心線の周り３６０度に分配配置される。スペーサ３５４の少なくともいくつかは上側壁面３５２とチャネル分離プレート３０６との間の空間を橋渡しする。スペーサ３５４の数、方向、配置、サイズは、上側プレナム３４２内に配置された流体にベースプレート３０４からの熱伝導が、所望のプロファイルにより、もたらされるよう選択されるかもしれない。図６に示された実施形態において、スペーサ３５４は延長され、放射状の流れの方向にあった、主軸を有する。また、スペーサ３５４は、ベースプレート３０４の中央線からの同じ半径上のところに位置する２つの隣接するスペーサ３５４の間を通過する流れが、次の外側のスペーサ３５４に向かって方向付けられるように、断続的に配置され、これにより、流れが外側に、ギャップ３４８の方向に行くにつれ、いくらかの横方向の動きを引き起こし、冷却流体を混ぜあわすこととなる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
更に、図６に示されるように、様々な穴３１４、３１６、３１８、３２０、３２２、３２４、３２６が、それを介して延び出る複数のボス６０２がある。このボス６０２は、穴とプレナム３０４との間のバリアをもたらす。このボス６０２は、ペデスタルアセンブリ１１６を介して、ユーティリィティ、センサ、ヒータ、流体の配線・配管のために、ベースカバープレート３０８の外側にあるボス７０２（図７に図示）と合致する位置にある。ボトムカバープレート３０８とベースプレート３０４との間の接合部は、穴に流体が入り込まないように、溶接されるか、若しくは、別な適宜な方法で封止される。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
図６Ａ−Ｂの詳細な図を更に参照すると、流れ方向付け器６０４は、ボスの後ろ側の周りでプレナム３４２を介して流れる熱伝導流体の巻き込みを促進するために、ボス６０４の各々の下流側に設けられるかもしれない。一実施形態において、流れ方向付け器６０４は、スペーサ３５４の方向とほぼ垂直の方向性を有する。流れ方向付け器６０４は、更に、図６Ａに示される矢印によって示されているように、ボス６０２と流れ方向付け器６０４との間に向かう流れを逃がし、ボス６０２と方向付け器６０４との間に流れが維持されるようにする１以上のスロット６０６を含む。選択的に、流れ方向付け器６０４は、チャネル分離プレート３０６と、ベースプレート３０４の上側壁面３５２との間の空間を全て遮るものではなく、これによりボス６０２と方向付け器６０４との間の流体の一部分が方向付け器６０４を通過して逃れるようなダムのような役割を果たす。流体の巻き込みがボス６０４からの良好な熱伝導を促進し、穴のボイドによる低い熱伝導率を補償する。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
図９−１０はチャネル分離プレート３０６の底面図及び底面の斜視図である。チャネル分離プレート３０６は入口穴３０４への熱伝導流体を提供するための横方向へのフィード９０８を含む。この横方向のフィード９０８は、ペデスタルアセンブリ１１６の熱伝導流体の入口をペデスタルの中央からずらし、これにより、電気的配線、リフトピン、ガスチャネルなどの目的のために有効に活用できるスペースができる。図９に図示された実施形態において、横方向のフィード９０８はチャネル分離プレート３０６の底から突出するウォール９１６により区画される。このウォール９１６は、通常、中空であり、犬用の骨の形状であり、横方向のフィード９０８の一方の端部のところで外側プレナム９１０を囲み、横方向フィード９０８の他方の端のところで内側プレナム９１２を囲み、このプレナム９１０、９１２を流体流通可能に結合するチャネル部分を有する。外側のプレナム９１０は、概ね、チャネル分離プレート３０６の中央から外側に位置している。外側プレナム９１０は（図３及び１２に図示されるように）ボトムカバープレート３０８に形成された流体入口穴３０９と位置合わせされる。内側のプレナム９１２は、概ね、チャネル分離プレート３０６の中央部のところに位置する。内側のプレナム９１２を取り囲むウォール９１６の一部分は、入口穴８０４を取り囲むのに十分幅広く、横方向のフィード９０８からの流体は、チャネル分離プレート３０６内の穴８０４を介して、チャネル分離プレート３０６の上側に区画された中央分配プレナムの方向へと方向づけられる。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
図１１は中央の分配プレナム１１０２の一実施形態を図示する、ベースアセンブリ１１４の拡大された断面図である。中央の分配プレナム１１０２は、底は、チャネル分離プレート３０６により、上側は、ベースプレート３０４により囲まれている。ウォール１１０６は、ベースプレート３０４から下方向に延び、中央の分配プレナム１１０２の外側の境界を提供する。ウォール１１０６は、穴８０４がプレナム９０２と１１０２との間に流体の通路を提供することができるように、ホール８０４の外側に位置する。このウォール１１０６は、矢印１１０４により示されるように、中央の分配プレナムから、上側のプレナム３４２へ、放射状に流体を逃すよう構成される。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
一実施形態において、ウォール１１０６はホール若しくはスロットなどの１つ以上の通路を含み、この通路を介して流体は中央の分配プレナム１１０２から上側のプレナム３４２へ流れることができる。一実施形態において、通路１１１０はスルーホールである。図１１に図示された実施形態において、ウォール１１０６は、おおよそ円筒形の形状であり、その先端部に形成された通路１１１０を有する。この通路１１１０はウォール１１０６に沿って等間隔に設けられる。選択的に、１つ以上の通路１１１０は、流体の流れが全ての放射状の方向に均等に方向づけられることが可能なように連続的なダムとして構成されるかもしれない。また選択的に、通路１１１０の数及び間隔は、もし必要ならば、上側プレナム３４２の他の領域より、上側のプレナム３４２の一領域に、より流れるよう方向づけられるように選択されるかもしれない。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
また、図１１に示されるように、ベースプレート３０６はプレナム９１２、１１０２内の流体から中央の通路１１１２を分離するセンターボス１１０８を含む。この中央の通路１１１２は、トップカバープレート３０２を介して形成される穴３１６及びボトムカバープレート３０８を介して形成される穴１１１８と位置合わせされる。通路１１１２、穴３１６、及び、穴１１１８により、ペデスタルアセンブリ１１６を介して、静電チャック１１８への電気配線等が可能となる。ボトムカバープレート３０８とボス１１０８との間の結合部分は、通路への流体の流れを防ぐために、溶接、又は、他の適宜な方法により封止されるかもしれない。図１１のボス１１１４に示されるように、ボトムカバープレート３０８のボス７０２の１つは、電気配線等のための導管を結合を可能ならしめるために、その中に形成されたポート１１１６を有する。他のボス７０２も同様に構成される。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
ペデスタルアセンブリ１１６を介しての流路の流体の出口が、図１２の部分断面図に示されている。流体出口のための穴１２０２は、下側のプレナム３４４からの排出のために、ボトムカバープレート３０８に形成される。一般に、出口のための穴１２０２は入口のための穴３９８の近くに位置する。図１２中の入口ボス１２０４及び出口ボス１２０６に示されるように、ボトムカバープレート３０８上に形成されたボス７０２の２つは、ホール３９８、１２０２を介して流路３００への流体接続をもたらすために用いられる。一実施形態においてボス１２０４は、熱伝導流体ソース１８２に接続されるとともに、一方でボス１２０６は廃液管に結合されるか、流体ソース１８２に戻され再利用される。流路３００を介して提供される冷却流体の熱伝導媒体の圧力、流量、温度、濃度、成分は、ペデスタルアセンブリ１１６による熱伝導プロファイルの制御を向上せしめる。更に、流路３００内の流体の濃度、圧力、流量は、基板１５０の処理の間、インシュチュ（in-situ）により、その場で制御されうるので、基板１５０の温度制御は、更に処理能力を高めるために処理中に変化させてもよい。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
動作中において、基板１５０はペデスタルアセンブリ１１６の上に置かれる。基板を固定するために静電チャック１８８に電力が供給される。電力は静電チャック１８８内のヒーターに供給され、基板１５０の横方向の温度の制御が可能となる。液体、及び／又は、フレオンなどのガスであるかもしれない冷却流体は、ベースアセンブリ１１４内に区画された放射状の冷却通路を介して供給され、基板の正確な温度制御が可能となる。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
一実施形態において、冷却媒体は中央の分配プレナム１１０２に供給され、それから冷却媒体は１つ以上の通路１１１０を介して円盤形状の上側のプレナム３４２に分配される。流れ方向付け器６０４は、プレナム３４２内に延伸する様々なボス６０４の周りを巡って上側プレナム３４２内を流れる熱伝導流体の巻き込みを促進するのに用いられる。そして、冷却媒体は、ギャップ３４８を介して、上側３４２から下側の円盤形状のプレナム３４４へと流れ、それから冷却媒体は最終的に取り除かれる。流れの方向を交差させると共に、冷却媒体の流路が放射状に構成されることにより、冷却媒体の通路の長さを削減し、圧力の低下を削減し、ペデスタルアセンブリ１１６に対する冷却の均一性を高めることに効果的に寄与し、これによりリアクタ１００内のより改善されたプロセス制御が可能となる。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
図１３はベースアセンブリ１３００の他の実施形態の展開された斜視図であり、このベースアセンブリを介して、熱伝導流体が上側の円盤状のプレナムから、下側の円盤状プレナムへ流れ、そこから最終的には流体が取り除かれる。このベースアセンブリ１３００はベースプレート１３０２、チャネル分離プレート１３０４、及び、ボトムカバープレート１３０６を含む。ベースプレート１３０２及びボトムカバープレート１３０６はその間でチャネル分離プレート１３０４を保持して、共に密着して結合され、チャネル分離プレートとベースプレートとの間に流れ込む冷却流体が外側へ、チャネル分離プレート１３０４の外側直径１３１４を超えてチャネル分離プレート１３０４とボトムカバープレート１３０６との間に区画されたボトムプレナムに流れ込むようにする。ベースプート１３０２、チャネル分離プレート１３０４、及びボトムカバープレート１３０６はすべてベースプレート１３０２の上部１３１６に結合される静電チャック１８８（図１に示す）への電力他のユーティリティーへの接続のための導管を提供する中央の開口１３０８を含む。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
更に、ベースプレート１３０２の上面１３１６は内側のチャネル１３１８と外側の冷却チャネル１３２０を含む。内側のチャネル１３１８はベースプレートを介して形成された入口１３２２を介して流体が流される。外側のチャネル１３２０はベースプレート１３０２を介して形成された入口１３２４を介して流体が流される。冷却流体フィード１３２８、１３３０はボトムカバープレート１３０６内に設けられ、入口１３２０、１３２２に位置合わせされ、ヘリウム、窒素などの流体がベースアセンブリを介して冷却チャネル１３１２、１３２２へ回り込むようにし、アセンブリ１３００と静電チャック１１８との間の熱伝導を高める。開口１３２６はチャネル分離プレート１３０４に設けられ、冷却媒体供給路１３２８、１３３０を入口１３２２、１３２４に結合せしめる。
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
また、通路１３３２はベースプレート１３０２、チャネル分離プレート１３０４、及びボトムカバープレート１３０６を介して設けられ、熱伝達を可能とする。更に、このボトムカバープレート１３０６は、一対の開口１３３４、１３３６を含み、以下に詳述するように、ベースアセンブリ１３００への、又は、それからの冷却流体の流れを可能ならしめる。
【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
図１４−１６はチャネル分離プレート１３０４の底面図、上面図、側面図である。チャネル分離プレート１３０４は底面１４０２及び上面１６０２を含む。第１のボス１４０４は底面１４０２から延び出て、チャネル分離プレート１３０４の上面１６０２にへこみが形成される。第１のボス１４０４に形成された凹みはチャネル分離プレート１３０４の上面１６０２から延び出る入口マニフォルドケージ１５０２の一部分を受容する。第２のボス１４０６はチャネル分離プレート１３０４の底面１４０２からの第１のボス１４０４から延び出る。第２のボス１４０６はチャネル分離プレート１３０４を介して形成された通路１４０８を含む。通路１４０８により、流体がベースアセンブリ１３００に流れ込むことができ、入口マニフォルドケージ１５０２を介して、チャネル分離プレート１３０４とベースプレート１３０２との間に区画された上側のプレナムに流れ込むことができる。
【誤訳訂正１８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
入口マニフォルドケージ１５０２は側面１５０４及び上面１５０６を含む。複数の窓１５０８が入口マニフォルドケージ１５０２の側面１５０４に形成され、通路１４０８を介してベースアセンブリ１３００に流れ込む流体の流れがチャネル分離プレート１３０４とベースプレート１３０２との間に区画された上側プレナムに流れることを容易にする。窓１５０８は流体がそこを流れることを可能にするために適宜な穴、スロット又は他の形状であってもよい。
【誤訳訂正１９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
入口マニフォルドケージ１５０２は中央の開口１３０８を取り囲むリング１６０４を含む。突出部分１６０６がリング１６０４の外側の直径上に形成され、第２のボス１４０６を介して形成される通路１４０８と位置合わせされ、第２のボス１４０６により方向づけられた流体が入口マニフォルドケージ１５０２に区画された空間に入るようにする。
【誤訳訂正２０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
図１７は入口マニフォルドケージ１５０２の一実施態様の側面斜視図である。入口マニフォルドケージ１５０２は側面１５０４により取り囲まれる円環状の内部ウォール１７０２を含む。入口マニフォルドケージ１５０４の内部ウォール１７０２、側面１５０４、上面１５０６は、マニフォルドケージ１５０２内に、流体通路１７０４を形成する。
【誤訳訂正２１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
図１８はチャネル分離プレート１３０４と入口マニフォルドケージ１５０２の部分側面断面図である。図１８の実施態様と対応に示されるように、入口マニフォルドケージ１５０２は第１のボス１４０４内に形成された窪み内に部分的に係合する。窓１５０８は上面１５０６の近傍にある、入口マニフォルドケージ１５０２の側面１５０４に沿って配置されており、窓１５０８はチャネル分離プレート１３０４の上面１６０２に流体を供給するよう位置する。このようにして、ボス１４０６により形成される通路１４０８から流体通路１７０４に入り込む流体は、側面１５０４から放射状に外側の方向に上側プレナムに容易に流れ込むことができる。
【誤訳訂正２２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
図１９−２１はボトムカバープレート１３０６の一実施態様の底面、側面、上面図である。ボトムカバープレート１３０６の底面１９０２は、ボトムカバープレート１３０６の熱質量を低減するために、その中に形成された複数のキャビテイ１９０４を含み、これにより、アセンブリ１３００はより、急速に加熱され、及び、冷却される。更に、ボトムカバープレート１３０６は、ベースアセンブリ１３００に入ったり、又は、そこから出たりする冷却流体の回り込みを容易にするため形成される２つの穴１９０６、１９０８を含む。この穴１９０６はチャネル分離プレート１３０４から延び出るボス１４０６を受容するに十分な大きさのものである。穴１９０８は、ボトムカバープレート１３０６とチャネル分離プレート１３０４との間に形成される下側のプレナムへの流れ込みを容易にする。穴１９０８は底面１９０２上のカウンターの穴２１５８を含み、係合部品との位置合わせを容易にするかもしれない。
【誤訳訂正２３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
図２２はベースアセンブリ１３００の部分側断面を含む斜視図である。図２２に図示された実施態様において、ベースプレート１３０２はベースプレート１３０２の底の面から延び出るリップ２２５０を含む。リップ２２５０は内側の壁２２５４を含み、その壁はチャネル分離プレート１３０４及びボトムカバープレート１３０６が収容されるポケット２２５６を形成する。ボトムカバープレート１３０６のリップ２２５０は、例えば、連続的な溶接、若しくは、他の適宜な技術によって、ベースプレート１３０２に封止され、アセンブリ１３００内での上側及び下側のプレナムを介して流れる流体を維持する。ポケット２２５６はチャネル分離プレート１３０４が設けられた底２２５８を有する。また、この底２２５８は、その中に形成された複数のチャネル２２０８を分離する複数のフィン２２０６を含む。このフィン２２０６及びチャネル２２０８については、図２３−２６を参照して以下により詳細に説明される。チャネル２２０８はチャネル分離プレート１３０４とベースプレート１３０２の底面２２５８との間に区画された下側プレナム２２２０の多くの部分を多くを区画する。流体は、入口マニフォルドケージ１５０２内に形成された窓１５０８を介して上側プレナム２２２０に流れ込む。流体は入口マニフォルドケージ１５０２から、上側プレナム２２２０のチャネル２２０８を介して、端部１３１４を周り、チャネル分離プレート１３０４の端部１３１４とベースプレート１３０２の内側ウォール２２５４との間に区画された溝２１１４へと流れる。流体は溝２１１４からボトムプレナム２２２２へ流れ、ボトムカバープレート１３０８を介して形成された穴１９０８に流れ出る。このように、ベースアセンブリ１３００のプレナム２２２０、２２２２を介した流れのパターンは実質的に図２Ａ−２Ｂを参照して説明されたベースアセンブリ１１４と類似のものである。
【誤訳訂正２４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
ボトムカバープレート１３０６は内側ウォール２２５４内に形成された１対の段差２２５２、２２６２、及び、底面２２５８から延び出て、中央の開口１３０８を取り囲むボス２２６０の上に位置する。この段差２２５２、２２６２はチャネル分離プレート１３０４及びボトムカバープレート１３０６を所定間隔、離して維持し、これにより下側プレナム２２２２を介して流体が流れるための十分な空間をもたらす。
【誤訳訂正２５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
図２３に示された実施形態において、チャネル２２０８は、ベースプレート１３０２の底面で外側に放射状に延びる長さに亘り、実施的に均一の幅の、及び／又は、断面領域を有する。この実質的に均一なチャネルの幅を可能とするために、フィン２２０６は外に向かって広がっており、フィンがベースプレート１３０２の外側の端に近づくほど次第に幅広くなる。チャネル２２０８は線形であったり、曲がっていたり、放射状に曲がっていたり、若しくは、他の方向性を有してもよい。図２３に示された実施態様において、チャネル２２０８は曲がっており、チャネル２２０８を介して流れる流体は、上側のプレナム２２２０内でのより長い残存時間を有し、これにより熱伝導効率を増加せしめる。
【誤訳訂正２６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
図２５に示された実施態様において、複数のチャネル２５０２が複数のフィン２５０４に分離されて示されている。チャネル２５０２は、チャネル２５０２が放射状に外側に向かうにつれ、均一の断面領域、及び／又は、幅を有するかもしれない。選択的に、このチャネル２５０２の断面領域、及び／又は、幅は、チャネル２５０２がベースプレート１３０２の外側の直径に近づくにつれ、広がるかもしれない。図２５に示された実施態様において、チャネル２５０２を分離するフィン２５０４は、実質的にブーメランの形であり、各フィンの端と反対にフィン２５０４の中央部分ではより厚くなっている。このブーメラン型により、より深く曲がったチャネル２５０２が可能となり、これにより実質的に上側プレナム２２２０内に流体の残存時間を増加せしめることができる。
【誤訳訂正２７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
図２６に示された実施態様において、複数のチャネル２６０２が複数のフィン２６０４により分離されて示されている。各フィン２６０４は、フィン２６０４が放射状に外側に向かうにつれ、その断面領域、及び／又は、幅において均一である。従って、チャネル２６０２はそれらがベースプレート１３０２の端に向かうにつれ、広がる。フィン２６０４は放射方向において線形に延びるかもしれない、又は、それらは曲げられ、上側プレナム２２２０を形成するチャネル２６０２内での冷却流体の残存時間を増加せしめるかもしれない。
【誤訳訂正２８】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理の間に、基板の温度を制御するための方法であって、
真空処理チャンバ内で基板ペデスタルアセンブリ上に基板を載置し、
前記基板ペデスタルアセンブリ内で２つのディスク状のプレナム間に形成される放射状の流路を介して熱伝導流体を流すことにより前記基板ペデスタルアセンブリの温度を制御し、前記放射状の流路は、半径方向内側へ向かう部分、半径方向外側へ向かう部分、及び２つの円盤形状のプレナムを分離するチャネル分離プレート内に形成された通路を通って流れる部分を含み、
前記方法は、前記温度制御された基板ペデスタルアセンブリ上で前記基板をプラズマ処理することを含む方法。
【請求項２】
プラズマ処理は、プラズマトリートメント、化学的蒸着プロセス、物理的蒸着プロセス、イオンインプランテーションプロセス、若しくは、エッチングプロセスのうちの少なくとも１つである請求項１記載の方法。
【請求項３】
制御することは、実質的にドーナツ形状の流路を介して前記熱伝導流体を流すことを含む請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記流路内の障害物の後ろに前記熱伝導流体の流れを向けることを含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
制御することは、
前記２つの円盤形状のプレナムの第１プレナム内に配置されたスペーサの周りに前記熱伝導流体を流し、
前記第１プレナムから前記２つの円盤形状のプレナムの第２プレナム内に、半径方向外側に前記熱伝導流体を流すことを含む請求項１記載の方法。
【請求項６】
流すことは、
前記第１のプレナムの半径方向外側に画定された環状のギャップを介して前記第２のプレナムに前記熱伝導流体を流すことを含む請求項５記載の方法。
【請求項７】
静電チャックと、
上面に前記静電チャックが固着されたベースアセンブリであり、前記ベースアセンブリの内側に形成された冷却流路を有するベースアセンブリとを含み、
前記冷却流路は、第１の実質的に円盤形状のプレナムを介して半径方向外側に向かって、第２の実質的に円盤形状のプレナムを介して半径方向内側に向かって、前記第１の実施的に円盤形状のプレナムと前記第２の実質的に円盤形状のプレナムの間に配置されたチャネル分離プレート内に形成された通路を通って流れを向けるよう構成されているペデスタルアセンブリ。
【請求項８】
前記ベースアセンブリは、
固着された前記静電チャックを有するベースプレートと、
前記ベースプレートの底に密着して結合されたボトムカバープレートとを含み、
前記冷却流路は、その間に画定される請求項７記載のペデスタルアセンブリ。
【請求項９】
前記ベースアセンブリは、
固着された前記静電チャックを有するベースプレートと、
前記ベースプレートの底に密着して結合されるボトムカバープレートを含み、
前記冷却流路は、前記チャネル分離プレートと前記ベースプレートとの間に少なくとも部分的に画定され、前記チャネル分離プレートと前記ボトムカバープレートとの間に少なくとも部分的に画定されている請求項７記載のペデスタルアセンブリ。
【請求項１０】
前記ベースプレートは、
前記流路内へと延び、実質的に半径方向を有する複数のチャネルを形成する複数フィンを含み、前記フィンのうちの少なくとも１つは、線形の方向性を有するか、若しくは、曲がっている請求項９記載のペデスタルアセンブリ。
【請求項１１】
前記複数のフィンのうちの２つの間に形成されるチャネルのうちの少なくとも１つは、少なくとも２つのサブチャネルに分岐する請求項１０記載のペデスタルアセンブリ。
【請求項１２】
静電チャックと、
その上部表面に固着された前記静電チャックを有するベースアセンブリと、
前記ベースアセンブリに形成された実質的にドーナツ形状の流路であり、前記ベースアッセンブリの底の表面に形成された入口及び出口を有する実質的にドーナツ形状の流路とを含むペデスタルアセンブリ。
【請求項１３】
前記ベースアセンブリは、
固着された前記静電チャックを有するベースプレートであって、チャネル分離プレートが複数のパッドにより前記ベースプレートに対して離れた間隔に配置され、前記実質的ドーナツ形状の流路が前記チャネル分離プレートの外側の端を超えて延びているベースプレートと、
前記チャネル分離プレートに対して離れた間隔で前記ベースプレートの底に密着して結合されたボトムカバープレートとを含む請求項１２記載のペデスタルアセンブリ。
【請求項１４】
前記ボトムカバープレートは、
前記ボトムカバープレートと前記チャネル分離プレートとの間に画定される空間に通じる第１の穴と、
前記ベースプレートと前記チャネル分離プレートとの間に画定される空間に流動可能に結合された第２の穴とを含む請求項１３記載のペデスタルアセンブリ。
【請求項１５】
前記ベースプレートは、前記流路内へと延びる複数の曲がったフィンを含む請求項１３記載のペデスタルアセンブリ。