(57)【要約】【課題】表面記録型（ピックアップ側にディスクのプリグルーブ面がきて、その面で記録再生するもの）フレキシブル光ディスク基板の製造方法について、スタンパの凹凸微細パターンをベースフィルムに転写する際、硬化歪みを小さくし、さらには、硬化収縮率が１０％以下になるようにして、転写層の硬化歪みを一層抑制すること。【解決手段１】表面記録型フレキシブル光ディスク基板の製造方法を前提として、スタンパの凹凸微細パターンをベースフィルムに転写する際、硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料を用いること、当該モノマー材料として単官能アクリレートモノマー材料を用いること、上記単官能アクリレートモノマー材料が、その粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓであり、その硬化収縮率が１０％以下であること。【選択図】　図１
2004103070.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面記録型フレキシブル光ディスク基板の製造方法において、
スタンパの凹凸微細パターンをベースフィルムに転写する際、硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料を用いることを特徴とするフレキシブル光ディスク基板の製造方法。
【請求項２】
上記単官能アクリレートモノマー材料を用いることを特徴とする請求項１のフレキシブル光ディスク基板の製造方法。
【請求項３】
上記単官能アクリレートモノマー材料の粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項２のフレキシブル光ディスク基板の製造方法。
【請求項４】
上記単官能アクリレートモノマー材料の硬化収縮率が１０％以下であることを特徴とする請求項２のフレキシブル光ディスク基板の製造方法。
【請求項５】
硬化した転写層の鉛筆硬度がＦ〜２Ｈであることを特徴とする請求項１のフレキシブル光ディスク基板の製造方法。
【請求項６】
上記転写層の膜厚が１〜１０μｍであることを特徴とする請求項１のフレキシブル光ディスク基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１記載のフレキシブル光ディスク基板の製造方法を前提として、転写層を形成したベースフィルムに相変化記録膜を成膜後、記録再生面側に、単官能アクリレートモノマーによる保護層を形成することを特徴とするフレキシブル光ディスクの製造方法。
【請求項８】
上記保護層の硬さが鉛筆硬度が２Ｈ以上であることを特徴とする請求項７のフレキシブル光ディスクの製造方法。
【請求項９】
上記保護層の厚みが１０〜５０μｍであることを特徴とする請求項７のフレキシブル光ディスクの製造方法。
【請求項１０】
フレキシブルシート、転写層、記録層を備えた表面記録型フレキシブル光ディスク基板であって、上記転写層が単官能アクリレートモノマーによる転写層であるフレキシブル光ディスク基板。
【請求項１１】
フレキシブルシート、転写層、記録層、保護層を備えた表面記録型フレキシブル光ディスクであって、上記転写層、保護層が単官能アクリレートモノマーによるものであるフレキシブル光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は、高記録密度光ディスクおよびその製造方法に関するものであり、フレキシブルシートを用いた加工技術、紫外線硬化樹脂のアプライアンスを工夫して、フレキシブル光ディスクシステムの信頼性を向上させることができるものである。
【０００２】
【従来の技術】
光ディスクはリムーバブルであり、かつ大容量であることから、ＣＤ，ＤＶＤなどとして広く普及しており、これは、厚さ１．２または０．６ｍｍのポリカーボネート基板に記録膜を成膜して信号を光ピックアップで記録再生するものである。光ディスクの記録面上に光を正確に集光させるには、記録面に対する光ピックアップの高い位置精度が必要であるので、基板を平坦にし、剛性を持たせ、記録面の平坦性を確保し、記録面のうねりに追従させるために、光ピックアップにサーボをかけて、記録面に対する光ピックアップの位置精度を出している。
現在、さらに記録容量を高めるために対物レンズの開口数（ＮＡ）を上げたり、レーザーを短波長化することで、光スポットを更に小径化するための研究開発が行われている。ＮＡを上げると、記録面と光ピックアップ間の距離が小さくなるので、この間の距離を一層高精度で制御することが必要である。他方、光ピックアップの位置のサーボ制御の応答性には限界があり、所要の精度で上記位置を正確に制御するのは困難である。このために、ＮＡを上げるためには基板のチルト（面振れ）を、高精度の位置制御が可能な範囲に小さくしなければならない。このようなことから、製造基板の精度を向上させ、ピックアップにチルト（面振れ）サーボを搭載し、記録記録膜上に０．１ｍｍ程度の薄いカバー層を設け、このカバー側から記録再生することでチルト（面振れ）マージンを拡大するなどの工夫がなされている。
【０００３】
上記チルト（面振れ）を小さくすることは、基板の材料や製法を工夫することにより達成可能であるが、コストが著しく高くなるなどの問題がある。また、基板を通さず、記録膜側から再生する手法（表面記録型）についても、記録膜面と対物レンズの距離が０．１ｍｍ程度しか確保できないので、回転する通常の光ディスク（剛体）と対物レンズとが衝突するのを防ぐ手段として、面振れを小さくするようにディスクのチャッキング精度を向上させること等が挙げられる。しかし、これらはすべてコストアップにつながる。
【０００４】
そこで、光ディスクそのものの剛性を高くしてその機械的精度を高めるのではなく、ディスクを可撓性材料で製造し、記録再生面と反対側にガイドを設け、ディスクを回転させる方式によって、対物レンズと光ディスクを挟んで対向するガイドにより、空気力学的に光ディスクを浮上（ベルヌーイ浮上；非接触）させ、一定の回転速度で回転する光ディスクとガイドとの間に一定の空気軸受層を形成させて、光ディスクと上記ガイドとの位置関係を安定化させて、上記ガイドに対向して配置した光ピックアップに対する記録面の振動（チルト）を限りなく０に近づけることを可能にし、これによって、表面記録型の光ディスクとして機能させることができるようになっている（例えば特願２００１−１１８３４４号明細書）。
このフレキシブル光ディスクシステムの概要は図１に示すとおりである。すなわち、フレキシブル基盤の一面にスタンパを転写して転写面とし、この転写面に記録層を積層し、この記録層の上に保護層を積層してフレキシブル光ディスクを構成し、保護層側に対物レンズ（光ピックアップ）を近接させ、フレキシブル基板の裏面に動的空気軸受を構成するガイドを近接させて、フレキシブル光ディスクを高速で回転させて、フレキシブル光ディスクをガイドの軸受面に対して薄い空気層を介して浮かせ、これによって、フレキシブル光ディスクの撓み、うねり等に関わりなく、対物レンズ（光ピックアップ）と保護層表面間の間隔を微小にして安定させるものである（詳細については、一例として、特願２００１−１１８３４４号明細書参照）。
【０００５】
このフレキシブル光ディスク基板を作製するための従来工法として、ＰＥＴフィルムなどのフレキシブルシート表面に熱可塑性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を塗布してこれを転写層とし、これにスタンパの微細凹凸パターンを転写し、熱硬化させてから記録膜を成膜する熱プレス法や、同じくフレキシブルシート表面に紫外線硬化型樹脂を塗布してこれを転写層とし、これにスタンパの微細パターンを転写し、紫外線硬化させてから記録膜を成膜する２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ　Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法（特許第２９４２４３０号公報）や、可撓性有機物シートを軟化点以上に加熱し、スタンパを圧着後、冷却してシートとスタンパを剥離する方法（特開平６−６０４２３号公報特許文献３）などがある。またこの他に特開平１１−２７３１４７号公報に記載されているものもある。この従来例は、透明フィルムを熱圧着するダイレクトエンボス法であり、昇温させてから透明フィルムを圧着させるものであるが、この方法による場合は、透明フィルムの面内の温度ばらつき、応力ばらつきを極小に、かつ均一にすることが困難であり、このため、透明フィルムの光学特性や機械的強度、反りなどにばらつきが発生しやすい。
【０００６】
また、２Ｐ法は転写性に優れており、この部分に関するポテンシャルは、他の転写工法より優れている。
２Ｐ法の場合、フレキシブル光ディスクの総厚みは、転写するフィルム、転写層、記録膜の厚さによるものである。フィルム自身は工業的に量産されているので、厚み分布は±１μｍ程度の精度に抑制される。また記録膜はナノメーターのオーダーなので、フレキシブル光ディスクの厚みのばらつきに対しては、ほとんど無視できるオーダーである。この工法で最も膜厚分布の管理が最もシビアなものは転写層である。光ディスクの転写層を形成する材料は、転写加工工程の能率性、低価格性、安定性、信頼性等のために、ラジカル重合型のＵＶ樹脂を主体としたものがもっぱら使用されている。
【０００７】
ところで、ラジカル重合型であるＵＶ樹脂を硬化させる場合、ＵＶ樹脂の材料によっては複数の材料がブレンドされており、それぞれで硬化速度に有意差が存在し、硬化速度の速い材料はすぐに硬化するが、硬化速度の遅い材料は硬化に時間を要する。一般的に使用さているオリゴマーや、多官能モノマーでは、硬化時に架橋構造を形成するが、硬化速度の速い材料が架橋構造を形成してしまうと、硬化速度の遅い材料で架橋構造の中に取り込まれてしまった材料は、その段階での硬化が不十分で、マイクロゲルの状態で残存することになり、これが転写層の表面の凹凸（歪み）を引き起こす（図９参照）。なお、図９（ａ）にマイクロゲルの状態で残存していないものを示し、図９（ｂ）にマイクロゲルの状態で残存しているものを示している。
【０００８】
他方、ＣＤ，ＤＶＤなどの光ディスクでは、記録面と光ピックアップ間の距離が比較的大きく、基板の平滑性が高いので、記録面の歪みは光ピックアップのサーボ応答性との関係における問題はなく、また基板の剛性が高いので転写面の歪みが顕存化することはなく、顕存化しても多少の歪みは問題にならない。ところが、表面記録型フレキシブル光ディスクの場合は、光ピックアップと記録面間の距離が小さく（通常１００μｍ）、したがって、光ピックアップのサーボ制御に対するマージンが小さい。他方、従来のフレキシブル光ディスクはその基板が柔軟でかつ平滑性が高くなく、さらに、転写層の歪みが顕存化して記録面の歪みが大きい。このために、光ピックアップのフォーカスサーボやトラッキングサーボをロックさせた状態で残存している残留フォーカスエラーが大きくなり、サーボが不安定で外れ易くなり、その結果、記録再生特性が悪いものとなってしまう傾向が大きい（図６（ａ）参照。同図に、多官能モノマーで転写層を形成した場合の、残留フォーカスエラーを示している）。したがって、信頼性の高いフレキシブル光ディスクシステムが成立しないという問題がある。
【０００９】
また、相変化記録膜を用いる場合、ダイレクトオーバーライト時のＣ／Ｎやジッタの劣化を抑えるために保護層を形成するが、表面記録型の保護層は光学透過膜として機能させる必要があり、空気層との界面が平滑な表面であることが不可欠である。
以上のことから、表面記録型のフレキシブル光ディスクにおいては転写層、保護層の平滑性として、表面粗さ０．１μｍ以下であることが要求され、さらに、記録再生の信頼性を一層向上させるために、フレキシブル光ディスクの面振れを可及的に低減することが求められる。
【００１０】
【特許文献１】特願２００１−１１８３４４号明細書
【特許文献２】特許第２９４２４３０号特許公報
【特許文献３】特開平６−６０４２３号公報
【特許文献４】特開平１１−２７３１４７号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
この発明は、上記の従来のフレキシブル光ディスク基板の製造方法の問題を解消して、高品質な記録再生信号特性を有するフレキシブル光ディスクを提供することを目的とするものであり、そのために解決しようとする課題は次のとおりである。
【００１２】
【課題１】（請求項１、請求項２、請求項４に対応）
課題１は、表面記録型（ピックアップ側にディスクのプリグルーブ面がきて、その面で記録再生するもの）フレキシブル光ディスク基板の製造方法において、スタンパの凹凸微細パターンをベースフィルムに転写する際、硬化歪みを小さくし、さらには、硬化収縮率が１０％以下になるようにして、転写層の硬化歪みを一層抑制することである。
【００１３】
【課題２】（請求項３、請求項６に対応）
課題２は、転写層の膜厚を１〜１０μｍで形成できるようにして、転写層の歪みを抑制することである。
【課題３】（請求項５に対応）
課題３は、転写層に適度の剛性を与えて、面振れを可及的に小さくすることである。
【課題４】（請求項７、請求項８、請求項９に対応）
課題４は、平滑な保護層形成できるようにし、また、保護層の硬さを２Ｈ以上で、厚さを１０〜５０μｍであることで、初期化、記録再生時のベースフィルムと記録膜（記録層）との剥離を回避することである。
【００１４】
【課題解決のために講じた手段】
【解決手段１】（請求項１に対応）
上記課題１を解決するために講じた手段は、表面記録型フレキシブル光ディスク基板の製造方法を前提として、
スタンパの凹凸微細パターンをベースフィルムに転写する際、硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料を用いることである。
【００１５】
【作用】
スタンパの凹凸微細パターンをベースフィルムに転写する際、硬化時に架橋構造をとるモノマー材料を用いると、転写層の硬化過程において架橋構造をとるモノマー材料に硬化速度が遅いモノマー材料が取り込まれ、これが硬化性が不十分のマイクロゲルの状態で残存し、転写層に凹凸の歪みを生じる。すなわち、転写層の厚さが安定しない（図５（ａ）参照。なお、この図は、多官能モノマーで転写層を形成した場合の、円周方向の膜厚分布を示すものである）。そして、フレキシブル光ディスクの場合、光ピックアップのフォーカスサーボやトラッキングサーボをロックさせた状態で残存している残留フォーカスエラーが大きくなり、サーボが不安定で外れ易くなり、その結果、記録再生特性が悪いものとなってしまうことは、上記のとおりである。他方、硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料を用いると、一様に硬化が進行するので、硬化性が不十分のマイクロゲルの状態で残存することはなく、したがって、硬化性が不十分のマイクロゲルの状態で残存することに因る転写層に凹凸の歪みを生じることはなく、転写層の厚さが安定する（図５（ｂ）参照。同図は、単官能モノマー（単官能アクリレートモノマー）で転写層を形成した場合の、円周方向の膜厚分布を示すものである）。それゆえ、転写層の歪みがフレキシブル光ディスク基板の歪みに重なって、記録面の歪みを増大させることはなく、残留フォーカスエラーは生じない（図６（ｂ）参照、同図に、単官能モノマーで転写層を形成した場合の、残留フォーカスエラーを示している）。
【００１６】
【実施態様１】
実施態様１は、上記解決手段１のフレキシブル光ディスク基板の製造方法について、単官能アクリレートモノマー材料を用いることである。
【作用】
解決手段１における「硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料」として、単官能アクリレートモノマー材料を用いることにより、３次元架橋構造をとらない材料であるから、転写層の硬化が一様に進行する。したがって、硬化性が不十分のマイクロゲルの状態で残存することに因って転写層に凹凸の歪みを生じることが確実に回避され、膜厚が安定する。
【００１７】
【実施態様２】（請求項３に対応）
実施態様２は、上記実施態様１について、その単官能アクリレートモノマー材料の粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓであることである。
【作用】
単官能アクリレートモノマー材料の粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓであることによって、転写層の厚さを薄く、かつ均等に形成することができ、ＵＶ樹脂の硬化収縮による反りが低減される。
なお、図２に単官能アクリレートモノマーの粘度と膜厚の関係を示しており、５０００ｒｐｍでスピンコートする場合に、粘度が１０〜１００ｍＰａのとき、１０μｍ以下の膜厚に延展されることが同図から明らかである。
また、転写層膜厚と面振れの関係は図３に示すとおりであり、転写層厚さが１０μｍ以下であるとき、面振れ量が１０μｍ以下に抑制されることが図３から明らかである。
【００１８】
【実施態様３】（請求項４に対応）
実施態様３は、上記実施態様１について、その単官能アクリレートモノマー材料の硬化収縮率が１０％以下であることである。
【作用】
単官能アクリレートモノマー材料の硬化収縮率が小さいほど、硬化歪みが小さく、１０％以下では特に問題はないが、１０％以上になると収縮による逆反り量が大きくなって、ディスクの面振れ安定化が阻害される傾向が顕著になる。したがって、硬化収縮率が１０％以下の単官能アクリレートモノマー材料を使用することによって、収縮による逆反りのためにディスクの面振れ安定性が阻害されることはない。
【００１９】
【実施態様４】（請求項５に対応）
実施態様４は、解決手段１について、硬化した転写層の鉛筆硬度がＦ〜２Ｈであることである。
【作用】
硬化した転写層の鉛筆硬度がＦ未満であれば、空気浮上時に剛性が不足して面振れが安定化し難く、２Ｈを越えると、可撓性不足によりやはり面振れが安定し難くて、記録再生が不可能になるが、鉛筆硬度がＦ〜２Ｈの範囲にあるとき、上記両問題のない適度の剛性が与えられる。
なお、転写層の硬度と面振れ量との関係は図４に示すとおりであり、硬度がＦより低く、他方２Ｈより高いほど急に面振れ量の増大が顕著になり、Ｆ〜２Ｈの範囲において、面振れ量が最小であって、１０μｍ以下に抑制されることが明らかである。
【００２０】
【実施態様５】（請求項６に対応）
実施態様５は、解決手段１について、転写層の膜厚が１〜１０μｍであることである。
【作用】
転写層の膜厚が１μｍ未満であると、安定的に転写層を形成することが困難であり、１０μｍを越えると、硬化収縮による逆反りが大きくなり、空気浮上時の面振れ量の増大が顕著になるが、転写層の膜厚が１〜１０μｍであるとき、スピンコート法により、転写層の膜厚が均一で、かつ、硬化収縮による逆反りが顕著でない範囲で転写層を可及的に薄くすることができる。
【００２１】
【解決手段２】（請求項７に対応）
解決手段２は、解決手段１を前提として、転写層を形成したベースフィルムに相変化記録膜を成膜後、記録再生面側に保護層を形成し、当該保護層材料が単官能アクリレートモノマーであることである。
【００２２】
【作用】
転写層の保護層についても、硬化時に架橋構造をとるモノマー材料を用いると、転写層の場合と同様に保護層自体に歪みを生じ、これがフレキシブル光ディスク表面の歪みを増大させ、光ディスク表面が光ピックアップと干渉する危険性を増大させるが、保護層が単官能アクリレートモノマーによるものであることで、保護層自体の歪みが低減され、上記危険性が低減される。
【００２３】
【実施態様１】（請求項８に対応）
実施態様１は、解決手段２について、保護層の硬さが鉛筆硬度で２Ｈ以上であることである。
【作用】
保護層の硬さが鉛筆硬度で２Ｈ未満であれば、Ｎレベル（ノイズレベル）の増加が顕著であり、Ｃレベル（キャリアレベル）の低下によりＣ／Ｎが一気に低下してしまうが、２Ｈ以上であれば、ダイレクトオーバーライト時に記録膜が基板から浮き上がることによるＮレベルの増加を回避することができる。
【００２４】
【実施態様２】（請求項９に対応）
実施態様２は、解決手段２について、保護層の厚さが１０〜５０μｍであることである。
【作用】
保護層の厚さが１０μｍ未満であれば、ダイレクトオーバーライト後のＣ／Ｎ低下が著しく、他方、５０μｍを越えれば、硬化収縮による逆反りが大きすぎて、空気浮上時のディスクの面振れを安定させるのが困難である。したがって、１０〜５０μｍが上記の両問題のない適正な範囲である。また、この膜厚範囲の保護層が有する剛性により、初期化、記録再生時のベースフィルムと記録膜（記録層）との剥離を回避することができる（課題４の解決）。
【００２５】
【実施の形態】
フレキシブル光ディスクを製造するとき、平滑な転写層、保護層を形成することで、ダイレクトオーバーライト後のＣ／Ｎやジッタ特性を高品質に保持することを可能にする材料およびその製造方法についての実施例を、図面を参照しつつ説明する。
なお、解決手段１でいう「硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料」としては、単官能モノマー材料の他にはない。単官能アクリレートモノマー材料には、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、シクロヘキサンオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、１，３−ジオキソランアクリレート、アクリロイルモルホリン、トリシクロデカニルオキシアクリレート等があるが、そのうちのノニルフェノキシエチルアクリレート樹脂が、スピンコート法で所期の膜厚に制御し易いので、最も好ましいものの一つである。
【００２６】
【実施例１】
スタンパ上に、単官能アクリレートモノマー材料であるノニルフェノキシエチルアクリレート樹脂（粘度８０ｍＰａ・ｓ）を、スピンコート法で塗布して厚さ５μｍの転写層１０を形成し、その上に厚さが７５μｍのＰＥＴフィルム１１を貼り合わせ、スタンパと上記樹脂をスタンパから剥離させることで、情報を記録するための凹凸、あるいはトラッキングのための溝を有し、表面が平滑なフレキシブル光ディスク基板が得られる。このフレキシブル光ディスク基板の上記樹脂表面（情報を記録するための凹凸、あるいはトラッキングのための溝を有する転写層の表面）に、スパッタリング法によって、厚さ０．２μｍの相変化の記録層１２を形成する。これが図７に示すフレキシブル光ディスク基板である。このフレキシブル光ディスク基板の記録面に、スピンコート法によって、ノニルフェノキシエチルアクリレート樹脂（粘度８０ｍＰａ・ｓ）を塗布して、膜厚２０μｍの保護層１３を形成して、図８に示すフレキシブル光ディスクを完成させる。
なお、上記のスピンコート法は、高速でスタンパを回転させ、スタンパの内周部に環状に溶融樹脂を塗布して、これを遠心力で半径方向外方に延展させて、均一な膜厚の層を形成する方法であり、従来周知慣用の薄膜塗布方法である。膜厚は、アクリレートモノマーの粘度とスタンパの回転速度で制御される。
【００２７】
上記のようにして完成したフレキシブル光ディスクを図１に示すような評価装置に装着して、ガイドをフィルム１１表面に接近させて、空気浮上させた状態で当該光ディスクの面振れを安定化させ、フォーカス、トラッキングサーボをロックさせることにより、記録再生を行う試験を行った。その結果、転写層にしわ、浮き、クラックの発生がないことが確認された。
なお、転写層の膜厚は１〜１０μｍが適正であるが、この例では、スピン回転数を５０００ｒｐｍにして、５μｍの転写層を形成した。
【００２８】
また、転写層の厚さが１μｍ未満では安定的に一定厚さの転写層を形成することが困難であり、１０μｍ以上となると、硬化収縮による逆反りが大きくなり、空気浮上時に面振れが安定しなくなり、このためフォーカスサーボがきかず、記録再生ができない。
さらに、上記転写層の膜厚を均一に形成するため、あるいは高速スピンによりスタンパがチャッキングテーブルから離れて飛ぶ危険性があるので、スピン回転数を５０００ｒｐｍ前後にすることが望ましいが、この回転数の下で上記のノニルフェノキシエチルアクリレート樹脂（粘度８０ｍＰａ・ｓ）を用いることで、容易に、１〜１０μｍ膜厚の転写層を形成することができる。
【００２９】
また、フレキシブル光ディスクの空気浮上時の面振れの硬化膜の鉛筆硬度への依存性が高く、鉛筆硬度がＦ未満では空気浮上時に剛性が不足して面振れが安定化し難く、反対に２Ｈを越えると可撓性不足によりやはり面振れが安定し難くて、記録再生が不可能になるが、この例では鉛筆硬度をＨにしている。
【００３０】
また、樹脂の硬化収縮率については硬化収縮率がこれよりも低くても特に問題はないが、１０％以上になると収縮による逆反り量が大きくなって、ディスクの面振れ安定化が図られない。この例の硬化収縮率はほぼ８．５％であり、フレキシブル光ディスクの逆反り量は、０．１ｍｍ以下であることが確認された。
また、記録膜の保護層に関しては、表面記録型光ディスクの場合、光学透過層としての機能が必要であるので、転写層と同様、単官能アクリレートモノマー材料が望ましい。保護層の硬さが２Ｈ以上あればダイレクトオーバーライト時に記録膜が基板から浮き上がることによるＮレベルの増加を回避することができる。２Ｈよりも軟らかいとＮレベルの増加が顕著であり、Ｃレベルの低下によりＣ／Ｎが一気に低下してしまうので、この例の保護層の硬度は２Ｈである。
さらに、保護層の厚さが１０μｍより薄いと、ダイレクトオーバーライト後のＣ／Ｎ低下が著しく、５０μｍより厚いと、硬化収縮による逆反りが大きすぎて、空気浮上時のフレキシブル光ディスクの面振れを安定させるのが困難である。この例では、保護層の厚さは、スピンコートにおける回転速度を４０００ｒｐｍにして、ほぼ２０μｍにコントロールした。この例のフレキシブル光ディスクのダイレクトオーバーライト後のＣ／Ｎは５２ｄＢであり、面振れは５μｍ以下であって、極めて安定することが確認された。
【００３１】
【実施例２】
実施例２は実施例１と同様にして製造されたフレキシブル光ディスクである。しかし、転写層、保護層材料として、単官能アクリレートモノマーであるトリシクロデカニルオキシアクリレート（１２ｍＰａ・ｓ）を用いる点で、実施例１と異なる。スピン回転数を５０００ｒｐｍにして、膜厚２μｍの転写層を形成し、また、同じ材料を用いてスピン回転数を４０００ｒｐｍにして、膜厚１５μｍの保護層を形成した。
この実施例２についての、試験結果は、実施例１のそれとほぼ同様であり、転写層のしわ、浮き、クラックの発生はないことが確認された。
【００３２】
【実施例３】
実施例３は実施例１と同様にして製造されたフレキシブル光ディスクである。しかし、転写層、保護層材料が、単官能アクリレートモノマーであるテトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート（１５０ｍＰａ・ｓ）を用いる点で、実施例１と異なる。
スピン回転数を５０００ｒｐｍにして、厚さ８μｍの転写層を形成し、スピン回転数を４０００ｒｐｍにして、厚さ４０μｍの保護層を形成した。
実施例３についての試験結果は、実施例１とほぼ同様であり、転写層のしわ、浮き、クラックの発生は見られなかった。
【００３３】
【比較例１】
比較例１は実施例１と同様にしてフレキシブル光ディスクを製造したものである。しかし、転写層、保護層材料として、光重合性プレポリマーを用いた点が異なる。スピン回転数を５０００ｒｐｍにして、厚さ８μｍの転写層を形成し、スピン回転数を３５００ｒｐｍにして、厚さ１５μｍの保護層を形成した。
この比較例１についての試験結果は硬化時にマイクロゲルが発生し、転写層膜厚分布が安定せず、残留フォーカスエラーが大きく、記録再生が不可であった。
【００３４】
【比較例２】
比較例２は実施例１と同様にしてフレキシブル光ディスクを製造したものである。しかし、転写層、保護層材料として、多官能アクリレートモノマー（粘度５００ｍＰａ・ｓ）を用いる点が異なる。スピン回転数を５０００ｒｐｍにして、厚さ１０μｍの転写層を形成し、スピン回転数を４０００ｒｐｍにして、厚さ２０μｍの保護層を形成した。
この比較例２についての試験結果は、硬化時にマイクロゲルが発生し、転写層膜厚分布が安定せず、残留フォーカスエラーが大きく、記録再生が不可であった。
以上のように、転写層、保護層について平滑な転写層が得られず、そのために、空気浮上により面振れを安定化させても、表面の凹凸のためにサーボエラーを生じ、確実に記録再生することができなかった。また、転写層のしわ、浮き、クラックの発生が見られ、ディスクを回転浮上させることで、クラックエリアがさらに拡大した。
【００３５】
【発明の効果】
この発明の効果を主な請求項毎に整理すると次のとおりである。
１．請求項１、請求項２、請求項４の発明の効果
表面記録型フレキシブル光ディスク基板の製造方法において、スタンパの凹凸微細パターンをベースフィルムに転写する際、硬化時に架橋構造を取らないモノマー材料、殊に、単官能アクリレートモノマー材料（請求項２）を用いることにより、硬化時の転写層の歪みがなく、硬化収縮を小さく抑制することができる。また、ブレンドされている材料間でも硬化速度差が小さく、具体的には硬化収縮率が１０％以下であり（請求項４）、硬化した膜表面にマイクロゲルが発生することはなく、平滑な転写層が得られる。
【００３６】
２．請求項３、請求項６の発明の効果
単官能アクリレートモノマー材料の粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓ以下であることによって、転写層の薄膜形成が可能であり、具体的には転写層の膜厚が１〜１０μｍである（請求項６）ので、硬化収縮による反りを低減することが可能である。
【００３７】
３．請求項５の発明の効果
硬化した転写層の鉛筆硬度がＦ〜２Ｈであることにより、転写層の剛性を適度なものにすることができ、これによって、フレキシブル光ディスクを空気力学的に浮上安定化させることができる。
【００３８】
４．請求項７、請求項８、請求項９の発明の効果
転写層を形成したベースフィルムに相変化記録膜を成膜しても、転写層のしわ、浮き、クラックは発生しない。記録再生面側に単官能アクリレートモノマー材料である（請求項７）保護層を形成することで、平滑な保護層を形成することが可能であり、初期化工程や記録再生工程でのエラーが発生する可能性は著しく低減され、また、保護層の硬さが２Ｈ以上（請求項８）、厚みが１０〜５０μｍ（請求項９）であることで、初期化、記録再生時のベースフィルムと記録膜との剥離を回避でき、ダイレクトオーバーライト時のＣ／Ｎ、ジッタの劣化を抑制することができる。
【００３９】
５．請求項１０、請求項１１の発明の効果
転写層、保護層が単官能アクリレートモノマーであるので、転写層表面の歪み、保護層の歪みが著しく低減されるので、フレキシブル光ディスクの光ピックアップが近接する保護層表面、転写層表面の平滑性が著しく高い。したがって、光ピックアップのサーボ制御によって確実にフォーカス制御することが可能であり、フォーカス制御エラーの発生を著しく低減される。
【図面の簡単な説明】
【図１】は、本発明のフレキシブル光ディスクとドライブ（ピックアップの対物レンズ）の状態を示す模式図である。
【図２】は樹脂粘度と膜厚の関係を示すグラフである。
【図３】は転写層膜厚とディスク面振れ量との関係を示すグラフである。
【図４】は転写層鉛筆硬度と面振れ量との関係を示すグラフである。
【図５】（ａ）は、多官能モノマーで転写層を形成した場合の、円周方向の膜厚分布を示す図面であり、（ｂ）は単官能モノマーで転写層を形成した場合の、円周方向の膜厚分布を示す図面である。
【図６】（ａ）は、多官能モノマーで転写層を形成した場合の、残留フォーカスエラーを示す図であり、（ｂ）は、単官能モノマーで転写層を形成した場合の、残留フォーカスエラーを示す図である。
【図７】は、フィルム＋転写層＋記録膜の構成を示す模式図である。
【図８】は、フィルム＋転写層＋記録膜＋保護層の構成を示す模式図である。
【図９】（ａ），（ｂ）は、単官能アクリレートモノマー、および多官能アクリレートモノマーによる転写層の表面外観を示す２００倍率の写真である。
【符号の説明】
１０：転写層
１１：フィルム
１２：記録層
１３：保護層
【図１】
2004103070.tif 000003
【図２】
2004103070.tif 000004
【図３】
2004103070.tif 000005
【図４】
2004103070.tif 000006
【図５】
2004103070.tif 000007
【図６】
2004103070.tif 000008
【図７】
2004103070.tif 000009
【図８】
2004103070.tif 000010
【図９】
2004103070.tif 000011