Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月3日(2014.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(a)1種若しくは複数の親水性、親油性又は不溶性の有機遮断剤及び/又は被覆されていてもよく又は被覆されていなくてもよい1種若しくは複数の金属酸化物顔料により構成される、UV放射線を遮断することができる少なくとも1つの光保護系;及び
(b)少なくとも1つの2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物
を含むことを特徴とする、組成物。
【請求項２】
2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物が、下記の式(I):
【化１】
2013507333.tif 000001
(式中、
-R1は、直鎖C1〜C4アルキル基を表し、
-R2は、水素原子又は直鎖C1〜C4アルキル基を表し、
-R3は、ヒドロキシル基によって場合により置換されている直鎖C1〜C12アルキル基、そうでなければ、ヒドロキシル基によって場合により置換されている直鎖C2〜C12アルケニル基を表す)
に対応する化合物から選択される、請求項1に記載の組成物。
【請求項３】
2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物が、
-R2が、H及びCH3から選択され、及び/又は
-R3が、(i)C1〜C10アルキル基、(ii)C2〜C10アルケニル基、特に、-CH=CH-R4基(R4は、直鎖C1〜Cアルキル基を表す)、そうでなければ(iii)構造-CH2-CH(OH)-R5のヒドロキシアルキル基(R5は直鎖C1〜C10、好ましくはC4〜C10、アルキル基を表す)を表す、
式(I)の化合物から選択される、請求項2に記載の組成物。
【請求項４】
2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物が、以下の化合物:
【化２Ａ】
2013507333.tif 000002
【化２Ｂ】
2013507333.tif 000003
【化２Ｃ】
2013507333.tif 000004
【化２Ｄ】
2013507333.tif 000005
から選択される、請求項1から3のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物が、式(a)
【化３】
2013507333.tif 000006
の4-(3-メトキシ-4-ヒドロキシフェニル)ブタン-2-オン化合物である、請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物が、組成物の総重量に対して0.01〜10重量%及びより好ましくは、さらに0.5〜5 %及びより詳細には、さらに1〜3 %の範囲の濃度で存在する、請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
有機UV遮断剤が、ケイ皮酸誘導体、アントラニラート、サリチル酸誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、カンファー誘導体、ベンゾフェノン誘導体、β,β-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンザルマロネート誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、イミダゾリン、ビス-ベンゾアゾリル誘導体、p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体、メチレンビス-(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、遮断ポリマー及び遮断シリコーン、α-アルキルスチレンから誘導される二量体、4,4-ジアリールブタジエン、メロシアニン誘導体、及びそれらの混合物から選択される、請求項1に記載の組成物。
【請求項８】
前記有機UV遮断剤が、以下:
エチルヘキシルメトキシシンナメート、
ホモサレート、
エチルヘキシルサリチレート、
オクトクリレン、
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
n-ヘキシル2-(4-ジエチル-アミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、
4-メチルベンジリデンカンファー、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4-ビス(n-ブチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル}プロピル)-アミノ]-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-s-トリアジン、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
ジ-ネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びそれらの混合物
から選択される、請求項7に記載の組成物。
【請求項９】
金属酸化物粒子が、500nm以下の、より好ましくは5nmから500nmの間の、及びより好ましくはさらに10nmから100nmの間の、好ましくは15nmから50nmの間の平均基本粒子径を有する、請求項1に記載の組成物。
【請求項１０】
前記金属酸化物粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化セリウム又はそれらの混合物から選択される、請求項9に記載の組成物。
【請求項１１】
太陽光線保護指数(SPF)を増加させるための、化粧品として許容される水性担体中に、請求項1から10のいずれか一項に定義のUV放射線を遮断することができる少なくとも1つの光保護系を含む組成物における、請求項1から10のいずれか一項に定義の2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年5月9日(2014.5.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
本技術は、一般には、少なくとも１つのエンドブロックＡおよび少なくとも１つの内部ブロックＢを有し、各々のＡブロックがスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を本質的に含まず、ならびに各々のＢブロックがＢブロックのスルホン化感受性モノマー単位の数を基準にして約１０から約１００モル％のスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含むポリマーブロックである、非中和スルホン化ブロックコポリマーを中和するための方法に関する。一般には、この方法は、
非中和スルホン化ブロックコポリマーおよび有機溶媒を含む溶液を提供し、ならびに
少なくとも１種類の金属化合物を溶液に添加する
ことを含み、ここで金属は少なくとも１１の原子番号を有する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
ここで説明される技術は、さらに、一般には、水中で固体であり、少なくとも２つのポリマーエンドブロックＡおよび少なくとも１つのポリマー内部ブロックＢを含む中和スルホン化ブロックコポリマーであって、
ａ．各々のＡブロックはスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を本質的に含まず、およびＢブロックはＢブロックのスルホン化感受性モノマー単位の数を基準にして約１０から約１００モル％のスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基を含むポリマーブロックであり、ならびに
ｂ．スルホン化Ｂブロックの８０％から１００％のスルホン酸またはスルホン酸エステル官能基が金属化合物で中和され、この金属は少なくとも１１の原子番号を有する、
中和スルホン化ブロックコポリマーに関する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０８】
５．スルホン化ポリマーを中和する方法
一般には、非中和ブロックコポリマーおよび有機溶媒の溶液を提供し、ならびに少なくとも１種類の、少なくとも１１の原子番号を有する金属の化合物をブロックコポリマーの酸性官能基に対して塩基として作用する金属化合物と共に溶液に添加することによってスルホン化ブロックコポリマーを中和する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１３】
スルホン化ブロックコポリマーは、少なくとも１種類の、少なくとも１１の原子番号を有する金属の化合物をスルホン化ブロックコポリマーの場合によるミセル溶液に添加することによって中和する。この文脈において用いられる「金属」という表現は当分野において金属として理解される元素を指そうとするものであり、当分野において半金属元素として理解される元素を明確に排除しようとするものである。半金属元素はこれらの元素状態において展性または延性がなく、良好な導体でも良好な絶縁体でもなく、例えば、ホウ素、ケイ素、ゲルマニウム  アンチモン、テルル、ポロニウムおよびアスタチンであり、これらの全ては当業者によって半金属であると理解される。このようなものとして、この態様の文脈において用いられる「金属」という表現は、少なくとも１１の原子番号を有し、元素周期律表において上述の半金属原子の左または下に列挙される全ての元素を本質的に包含する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１８３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１８３】
非中和スルホン酸の形態にあるスルホン化ブロックコポリマーからキャストされたメンブレンは、水中に浸漬されるとき、重量が有意に増加することが見出され、この重量の増加は水の存在下における膨潤の尺度であると考えられた。さらに、重量の増加はメンブレンの寸法の増加に直接関連することが見出され、即ち、非中和スルホン化ブロックコポリマーから得られるメンブレンは水の影響下で膨潤する傾向を示す。これらとは対照的に、驚くべきことに、金属化合物で中和されており、この金属が少なくとも１１の原子番号を有するスルホン化ブロックコポリマーから得られるメンブレンは水で平衡化されているときに示される膨潤がかなり小さく、この結果に基づくと、寸法安定性がまた改善されていた。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年8月21日(2014.8.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
そのために、前記ピストンは、その使用位置において、通常は下端であって、燃焼室の境界を定める端、すなわち、ピストンクラウンの反対側の下端において、半径方向に形成された少なくとも１つの凹部を有する。換言すれば、使用時にシリンダ壁に対向するピストン本体の壁部と、その間に設けられる連結壁と、により形成されるピストンの内室は、半径方向に拡張される。ピストンを軸方向から見ると、この拡張は、通常、凹部が設けられる連結壁または複数の連結壁の外側において、凸面または膨らみとなる。これは、特に、凹部の領域における壁の厚さが、実質的に隣接する壁の厚さに等しい時に適用される。しかしながら、これに関わらず、その内側における壁の厚さが減少していても、前記凹部または窪みを形成することができ、冷却オイルノズルの異なる位置に対して付加的な空間を提供する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
これは、冷却オイルノズルが、どのような理由があるとしても、半径方向において外向きにわずかにオフセットされ、結果的にノズルのデザインを変更しなければならない状態に比べて、改善をもたらす。本発明のピストンによれば、前記凹部または窪みが、付加的な冷却オイルノズルの位置を可能とし、本発明のピストンの利便性を向上させ、その費用対効果を大きくする。特に、本発明に係る凹部を形成するために、新規の部品を用いることなく、既存のピストン工具を改造できることが分かる。また、本発明に係るピストンの基本的な実用性は、有限要素解析を用いて実証されている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
ピストンの下部における安定性を損なわず、同時に、材料の使用を有利に制限するために、凹部の境界を画する部分における材料厚を、凹部に隣接する領域と概ね同じに構成することが好ましい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
さらに、好適には、凹部の領域におけるピストンの下端は、それに隣接した概ね同じレベルに位置し、ピストンの下端における切り込み等は有利に回避される。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
ピストンの下端において、少なくとも１つの凹部に対し、半径方向における１〜３ミリメートルの範囲の深さが好ましいことが分かった。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
冷却オイルノズルの構成への対応を考慮に入れるため、または、前記凹部の上の領域へのスムーズなつながりを確保にするため、もしくは、その両方のために、ピストン軸の方向において下端から離れるにしたがい、半径方向における深さが減少するように切り取り部を構成することが好ましいであろう。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本発明に係るピストンの実用に関する初期の考察は、ピストンのカウンタープレッシャー側に前記凹部を構成することが好ましいことを明らかにしている。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明は、上記のピストンに加えて、少なくとも１つの冷却オイルノズルを備える内燃機関に関する。冷却オイルノズルと、上記の凹部と、の間の間隔は、動作条件および特定のトレランスを考慮して、２ミリメートル以上であることが好ましい。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
図は、ピストンクラウン１２の反対側の下面から見た本発明に係るピストン１０を示す。ピストン１０の下端は、本体壁部１４のそれぞれの下端と、本体壁部１４の間の連結壁１６と、によりここに形成されている。図に示すように、凹部２０は、ピストンのピン穴１８に隣接して連結壁の領域に設けられている。言い換えれば、実施例では、連結壁１６は、実質的に一定の壁厚を有するか、または、軸方向において実質的に同じレベルの端を有し、もしくは、その両方であって、凹部または窪みは、内側、すなわち、反対側の連結壁に向き合うように形成され、半径方向において外側にわずかに膨らんでいる。冷却オイルノズルは、その位置が変更されたとしても前記凹部または窪みに収容することができ、本発明のピストンの配置可能性が、経済的に好ましい方法で向上される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年7月18日(2014.7.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの活性層と、１つの側面上に幾何光学的レリーフ構造体のアレイを含有し且つ光起電力素子の前記少なくとも１つの活性層の受光面と光学的に接触している透明なカバープレートとを含む光起電力素子であって、前記光学的レリーフ構造体が底面及び単一の平坦な頂上部を含み、これらが少なくとも３つのｎ−多角形表面（ｎは５以上である）によってつながっていることを特徴とする、光起電力素子。
【請求項２】
少なくとも１つの活性層と、第１の側面上に幾何光学的レリーフ構造体のアレイを含有し且つ第２の側面で光起電力素子の前記少なくとも１つの活性層の受光面と光学的に接触している透明なカバープレートとを含む光起電力素子であって、前記光学的レリーフ構造体が底面及び単一の平坦な頂上部を含み、これらが少なくとも３つのｎ−多角形表面（ｎは５以上である）によってつながっていることを特徴とする、光起電力素子。
【請求項３】
光学的レリーフ構造体の底面がｍ辺の多角形形状であり且つ前記光学的レリーフ構造体が少なくともｍ＋２個の表面を含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の光起電力素子。
【請求項４】
透明なカバープレートが、隣接する構造体が互いに接触している幾何光学的レリーフ構造体のアレイを含有することを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の光起電力素子。
【請求項５】
光学的レリーフ構造体のアレイの表面がコーティングで被覆されていることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の光起電力素子。
【請求項６】
１つの側面に幾何光学的レリーフ構造体のアレイを含有する透明なカバープレートがガラス又はポリマー材料で作られていることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の光起電力素子。
【請求項７】
ポリマーがポリメチルメタクリレート又はポリカーボネートであることを特徴とする、請求項６に記載の光起電力素子。
【請求項８】
ポリマーがＵＶ吸収剤及び／又はヒンダードアミン光安定剤によって安定化されることを特徴とする、請求項６又は７に記載の光起電力素子。
【請求項９】
発光染料が、光学的レリーフ構造体のアレイを含有する透明なカバープレートに存在することを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載の光起電力素子。
【請求項１０】
発光染料が、光学的レリーフ構造体のアレイを含有する透明なカバープレートと光起電力素子の活性層の受光面との間の層に存在することを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載の光起電力素子。
【請求項１１】
発光染料の濃度が、カバープレート表面ｍ２当たり及びカバープレート厚さｍｍ当たり染料０．００１〜５０グラムの間であることを特徴とする、請求項９に記載の光起電力素子。
【請求項１２】
発光染料が有機染料又は無機染料であることを特徴とする、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の光起電力素子。
【請求項１３】
発光染料がポリマーを安定化するためのＵＶ吸収剤として作用するが、但し、少なくとも１つの側面上に幾何光学的レリーフ構造体のアレイを含有する透明なカバープレートがポリマー材料で作られていることを特徴とする、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の光起電力素子。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
好ましくは、光学的レリーフ構造体の底面はｍ辺の多角形形状を含み且つ光学的構造体が全部で少なくともｍ＋２個の表面を有する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
本発明による光学的レリーフ構造体は２つの主要な機能を有する：
１．ｎ辺の多角形底面を介して構造体に入る光は、前記構造体の表面によってその元の方向に少なくとも部分的に反射される。
２．前記構造体の表面を介して構造体に入る光は、少なくとも部分的に透過される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年3月10日(2014.3.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
高分子酸は、５００〜１，０００，０００の分子量を有するポリマーであり、典型的には、高分子酸は、１分子当り３個以上の酸基を含む。本発明の実施において使用される高分子酸は中和されていないか、又はほんの部分的に中和されているため、ＰＡＧ中の残留塩基触媒を中和するのに十分な酸性度を提供することができる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
高分子酸
本発明の実施において使用される高分子酸は、典型的には、５００〜１，０００，０００の分子量を有し、１分子当たり３個より多くの酸基を含む。酸基は、典型的には、ポリマー主鎖に組み込まれたか、炭素−炭素（Ｃ−Ｃ）結合、エステル結合、エーテル結合又は他の共有化学結合を介してポリマー主鎖にグラフト化したカルボン酸、マレイン酸、スルホン酸又はリン酸のうちの１又は２以上である。一実施態様において、高分子酸は、切削液製品において酸又はその中和塩の溶解性を高めるために、アルキレンオキシド単位を含むコポリマーである。本発明の実施に使用される高分子酸は、未中和又は部分的に中和された（例えば、７５％以下、典型的には５０％以下）酸性状態にあるものであるため、ポリアルキレングリコール中の塩基触媒を中和するのに十分な酸性度を与えることができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩基触媒を使用してアルキレンオキシドを重合することにより得られるポリアルキレングリコール生成物であって、前記塩基触媒及びポリアルキレングリコールは、５００〜１，０００，０００の分子量を有し、１分子当り３又は４個以上の酸基を含む未中和の又は部分的に中和された高分子酸で中和されたものであり、ここで、部分的に中和された高分子酸は２５％以上中和されたものであり、前記高分子酸がアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸又は２−アクリルアミド−２−メチルプロピルスルホン酸のうちの１又は２種以上がラジカルグラフト化したポリアルキレンオキシド；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸又は２−アクリルアミド−２−メチルプロピルスルホン酸のホモ又はコポリマー；あるいは、あるいは、かかるホモ−又はコポリマーであって、ポリアルキレンオキシド又はポリアルキレンオキシドのモノ−アルキル若しくはアリールエーテルがグラフト化したホモ−又はコポリマーである、ポリアルキレングリコール。
【請求項２】
中和されたポリアルキレングリコール切削液の製造方法であって、
Ａ．塩基触媒を使用してアルキレンオキシドを重合して塩基性ポリアルキレングリコールを形成する工程、及び
Ｂ．中和量の、５００〜１，０００，０００の分子量を有し、かつ、１分子当り３又は４個以上の酸基を含む未中和の又は部分的に中和された高分子酸によって、前記塩基性ポリアルキレングリコールを中和する工程、ここで、部分的に中和された高分子酸は２５％以上中和されたものであり、前記高分子酸はアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸又は２−アクリルアミド−２−メチルプロピルスルホン酸のうちの１又は２種以上がラジカルグラフト化したポリアルキレンオキシド；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸又は２−アクリルアミド−２−メチルプロピルスルホン酸のホモ又はコポリマー；あるいは、かかるホモ−又はコポリマーであって、ポリアルキレンオキシド又はポリアルキレンオキシドのモノ−アルキル若しくはアリールエーテルがグラフト化したホモ−又はコポリマーである、
を含む製造方法。
【請求項３】
塩基触媒を使用することにより重合されたポリアルキレングリコールを含む切削液であって、前記ポリアルキレングリコール及び塩基触媒は、５００〜１，０００，０００の分子量を有し、１分子当り３又は４個以上の酸基を含む未中和の又は部分的に中和された高分子酸で中和されたものであり、ここで、部分的に中和された高分子酸は２５％以上中和されたものであり、前記高分子酸がアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸又は２−アクリルアミド−２−メチルプロピルスルホン酸のうちの１又は２種以上がラジカルグラフト化したポリアルキレンオキシド；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸又は２−アクリルアミド−２−メチルプロピルスルホン酸のホモ−又はコポリマー；あるいは、かかるホモ−又はコポリマーであって、ポリアルキレンオキシド又はポリアルキレンオキシドのモノ−アルキル若しくはアリールエーテルがグラフト化したホモ−又はコポリマーである切削液。
【請求項４】
ワイヤー鋸により半導体結晶を切削する方法であって、５００〜１，０００，０００の分子量を有し、１分子当り３又は４個以上の酸基を含む未中和の又は部分的に中和された高分子酸で中和されたポリアルキレングリコールを含む切削液を、ワイヤー鋸により前記結晶を切削する際に前記結晶に適用する工程を含み、ここで、部分的に中和された高分子酸は２５％以上中和されたものであり、前記高分子酸がアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸又は２−アクリルアミド−２−メチルプロピルスルホン酸のうちの１又は２種以上がラジカルグラフト化したポリアルキレンオキシド；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、スチレンスルホン酸又は２−アクリルアミド−２−メチルプロピルスルホン酸のホモ−又はコポリマー；あるいは、かかるホモ−又はコポリマーであって、ポリアルキレンオキシド又はポリアルキレンオキシドのモノ−アルキル若しくはアリールエーテルがグラフト化したホモ−又はコポリマーである、ワイヤー鋸により半導体結晶を切削する方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年3月4日(2014.3.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の局所進行又は転移性固形腫瘍を治療するための医薬組成物であって，
ｉ）下記式（Ｉ）で表される化合物又はその薬学的に許容可能な塩の治療的有効量と、
ｉｉ）下記式（ＩＩＩ）で表される化合物又はその薬学的に許容可能な塩の治療的有効量とを含む組成物。
2013507415.tif 000001
2013507415.tif 000002
【請求項２】
上記式（Ｉ）の化合物と上記式（ＩＩＩ）の化合物とを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
上記式（Ｉ）の化合物を８０ｍｇ、１００ｍｇ、１３０ｍｇ又は１８０ｍｇ含み、上記式（ＩＩＩ）の化合物を２０ｍｇ、４０ｍｇ、又は６０ｍｇ含む、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
上記患者に連続２１日間投与され、次の７日間は投与されない２８日サイクルで投与される請求項１から３の何れか一項に記載の組成物。
【請求項５】
上記患者に連続１４日間投与され、次の１４日間は投与されない２８日サイクルで投与される請求項１から３の何れか一項に記載の組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７８】
実施例１：４日のＣｅｌｌＴｉｔｅｒＧｌｏ生存率アッセイを使用するメラノーマ及びＮＳＣＬＣ細胞株のセットにおけるＧＤＣ−０９４１及びＧＤＣ−０９７３のインビトロ併用効果
相乗作用を計算するＣｈｏｕ及びＴａｌａｌａｙ（１９８４）法を利用するプログラムであるＣａｌｃｕｓｙｎを使用して、併用指数を計算し、よって相乗作用のレベルを決定した（図１）。≦０．３の併用指数値によって示される強い相乗作用が、大半のメラノーマ細胞株（その内の約６０％がＢＲＡＦに発癌性変異を有する）において観察された。≦０．７の併用指数値によって示される相乗作用、又は強い相乗作用が、一つを除く全てのＮＳＣＬＣ細胞株（その内の約半分がＫＲＡＳに発癌性変異を有する）において観察された。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月1日(2014.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
毛保持面と、前記毛保持面に個々に植設された少なくとも100本の毛を有する植毛領域とを有しており、毛の高さは、実質的に不規則に互いに異なり、かつ前記毛保持面における毛の位置から実質的に独立するヘアブラシであって、前記植毛領域は、
(i)少なくとも5つの高さが有意に互いに異なる高さ特性と、
(ii)前記毛のそれぞれが少なくとも0.5mmの幅を有する幅特性と、
(iii)前記毛のうち少なくとも60％が丸い端部を有する毛端部特性と、
を有するヘアブラシ。
【請求項２】
毛保持面と、前記毛保持面に個々に植設された少なくとも100本の毛を有する植毛領域とを有しており、前記植毛領域の毛の端部にて規定される先端部面は、ふぞろいにかつ実質的に不規則に形成されるヘアブラシであって、前記植毛領域は、
(i)少なくとも5つの高さが有意に互いに異なる高さ特性と、
(ii)前記毛のそれぞれが少なくとも0.5mmの幅を有する幅特性と、
(iii)前記毛のうち少なくとも60％が丸い端部を有する毛端部特性と、
を有するヘアブラシ。
【請求項３】
毛保持面と前記毛保持に個々に植設された少なくとも100本の毛を有する植毛領域とを有するヘアブラシであって、前記植毛領域の平均高さはHEIGHT＿AVGとして定義され、前記植毛領域の高さ標準偏差はHEIGHT＿SDとして定義され、植毛領域が高さ特性、幅特性、及び毛端部特性を有しており、
(i)前記幅特性に基づき、前記毛のそれぞれが少なくとも0.5mmの幅を有し、
(ii)前記毛端部特性に基づき、前記領域内の毛のうち少なくとも60％が丸い端部を有し、
(iii)前記高さ特性に基づいて、
A)前記植毛領域が有意に互いに異なる少なくとも5つの高さを有しており、
B)前記植毛領域は、前記植毛領域の合計の毛の本数のうち少なくとも10％である本数を有する少なくとも1つの高さ外れ値部分(HOS)を有しており、前記高さ外れ値部分HOSは、
C)高さがHEIGHT_AVGとHEIGHT＿SDとの合計を上回る毛からなる非常に丈のある毛(VTB)の部分と
D)高さがHEIGHT＿AVGとHEIGHT＿SDとの差異を下回る毛からなる非常に丈のない毛(VSB)の部分からなる群から選択されており、
植毛領域全体への植設と少なくとも1つの高さ外れ値部分HOSへの植設との対比ができるように、かつ、前記植毛領域の毛全体が実質的に一定の密度にて前記毛保持面における特定区域SAに植設される一方で、前記高さ外れ値部分HOSの毛が前記特定区域SA内のふぞろいで非周期的な位置に散在するように、前記植毛領域の毛は前記毛保持面に個々に植設されるヘアブラシ。
【請求項４】
請求項1〜請求項3の何れか1つに記載のヘアブラシであって、
i)前記植毛領域はさらに、毛幅標準偏差と毛幅平均との比率が少なくとも0.07となり、平均して、前記領域内の丈のある毛が丈のない毛よりも太くなるように前記植毛領域の毛に対して、毛の高さと毛の太さとの正相関がある幅のばらつき特性を有しており、
ii)前記植毛領域の毛はそれぞれが、毛保持面の対応する局所平面に対して実質的に垂直に植設されるヘアブラシ。
【請求項５】
請求項4に記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の毛が実質的に一定の密度で毛保持面に植設されるヘアブラシ。
【請求項６】
請求項5に記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の高さの範囲は、実質的に約3.5mm〜約16mmであるヘアブラシ。
【請求項７】
請求項4に記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の毛は、実質的に、少なくとも4本の毛/cm2である一定の密度で毛保持面に植設されるヘアブラシ。
【請求項８】
請求項7に記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の高さの範囲は、実質的に約3.5mm〜約16mmであるヘアブラシ。
【請求項９】
請求項1〜請求項3の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記植毛領域はさらに、毛幅標準偏差と毛幅平均との比率が少なくとも0.07であり、前記植毛領域の毛に対して毛の高さと毛の太さとの正相関があり、平均して、前記植毛領域内の丈のある毛が丈のない毛よりも太くなるような幅のばらつき特性を有するヘアブラシ。
【請求項１０】
請求項1〜請求項3、又は請求項9の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の毛がそれぞれ前記毛保持面における対応する局所平面に対して実質的に垂直に植設されるヘアブラシ。
【請求項１１】
請求項1〜請求項3、請求項9、請求項10の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の毛は、少なくとも4本の毛/cm2である実質的に一定の密度で植設されるヘアブラシ。
【請求項１２】
請求項1〜請求項3、請求項8〜請求項11の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の高さの範囲は、実質的に約3.5mm〜約16mmであるヘアブラシ。
【請求項１３】
請求項1〜請求項12の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の高さ標準偏差と平均高さとの比率は少なくとも0.075であるヘアブラシ。
【請求項１４】
請求項1〜請求項13の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記領域の平均の毛の太さは、0.85mmを上回るヘアブラシ。
【請求項１５】
請求項1〜請求項14の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記領域の毛の平均高さは、少なくとも約8.5mmであるヘアブラシ。
【請求項１６】
請求項1〜請求項15の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の毛は多くとも12本の毛/cm2である密度にて植設されるヘアブラシ。
【請求項１７】
請求項1〜請求項16の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記植毛領域の毛の平均高さは8mm〜14mmであるヘアブラシ。
【請求項１８】
請求項1〜請求項17の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記植毛領域が特定区域内に設けられており、
i)前記毛のうち少なくとも80％が一定の格子上に実質的に存在し、
ii)前記領域の毛のうち少なくとも2％が前記格子から離れた位置に存在するヘアブラシ。
【請求項１９】
請求項1〜請求項18の何れか1つに記載のヘアブラシであって、前記領域の毛は実質的に互いに平行になるように植設されるヘアブラシ。
【請求項２０】
請求項1〜請求項19の何れか1つに記載のヘアブラシであって、
i)前記植毛領域の平均高さはHEIGHT＿AVGとして定義され、前記植毛領域の高さ標準偏差はHEIGHT＿SDとして定義され、
ii)前記植毛領域は、毛の高さがHEIGHT＿AVGとHEIGHT＿SDとの差異を下回る非常に丈のない毛(VSB)である毛部分を含み、
iii)前記毛の非常に丈のない毛(VSB)である毛部分の毛の大部分が少なくとも5mmである高さ、及び/又は少なくとも0.33*HEIGHT＿AVGである高さを有するヘアブラシ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月18日(2014.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効成分としての配列番号１１〜１４のペプチドからなる群から選択されるペプチド、及び薬学的に許容可能な担体を含む炎症疾患の予防用または治療用の薬学組成物。
【請求項２】
前記炎症性疾患が、急性接触性皮膚炎、アレルギー性炎症またはリューマチ性関節炎であることを特徴とする請求項１に記載の薬学組成物。
【請求項３】
有効成分としての配列番号１１〜１４のペプチドからなる群から選択されるペプチド、及び薬学的に許容可能な担体を含むガン細胞の成長抑制用及び／または転移抑制用の薬学組成物。
【請求項４】
前記ガン細胞が、乳ガン細胞、胃ガン細胞、大腸ガン細胞、結腸ガン細胞、直腸ガン細胞、膵臓ガン細胞またはリンパ腫細胞であることを特徴とする請求項３に記載の薬学組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年4月10日(2014.4.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０〜２５重量％のエステル炭化水素成分と、
５０〜７５重量％のエーテル炭化水素成分と、
１０〜２５重量％のアルコール炭化水素成分と
を含む、ポリマーウォッシュアウト溶剤であって、
前記エステル炭化水素成分が、Ｃ１−Ｃ５アルキル、ベンジル、またはベンジル誘導体のエステル化合物、ならびにこれらのエステル化合物の混合物の群から選択される化合物であり、
前記エーテル炭化水素成分が、ジオールから誘導されたＣ１−Ｃ８アルカンのジエーテルであって、２つのＣ１−Ｃ３アルコキシ基を含み、
前記アルコール炭化水素成分が、ｎ−ブタノールである、フレキソ印刷版を現像するためのポリマーウォッシュアウト溶剤。
【請求項２】
前記エーテル炭化水素成分が、２つのメトキシ基を有するアルカンのジエーテルである、請求項１に記載のポリマーウォッシュアウト溶剤。
【請求項３】
前記エステル炭化水素成分が、酢酸エステル、およびベンジルまたはベンジル誘導体から選択される、請求項１または２に記載のポリマーウォッシュアウト溶剤。
【請求項４】
前記エーテル炭化水素成分が、ジプロピレングリコールジメチルエーテルである、請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリマーウォッシュアウト溶剤。
【請求項５】
前記エステル炭化水素成分が、酢酸ベンジルである、請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリマーウォッシュアウト溶剤。
【請求項６】
洗浄工程においてフレキソ印刷版を現像するための、請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリマーウォッシュアウト溶剤の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
好ましくは、本発明のポリマーウォッシュアウト溶剤において、エーテル炭化水素成分は、ジオールから誘導されたＣ１−Ｃ８アルカンのジエーテルであって、２つのＣ１−Ｃ３アルコキシ基を含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
より好ましくは、本発明のポリマーウォッシュアウト溶剤において、エーテル炭化水素成分は、内部エーテル基、および好ましくは２つのメトキシ基を有するアルカンのジエーテルを含む。特に好ましくは、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのジエーテルである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年11月28日(2013.11.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光装置の製造に関する方法であって、
少なくとも１つの発光ダイオードが配置される基板を設けるステップと、
前記少なくとも１つの発光ダイオードを少なくとも部分的に横方向に囲むコリメータを、透過性ボンディング材料を用いて前記少なくとも１つの発光ダイオード及び前記基板へボンディングするステップによって、配置するステップと、
を含み、
前記透過性ボンディング材料は、少なくとも前記コリメータを外側から支持するように設けられる、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、自己支持波長変換要素が、前記少なくとも１つの発光ダイオードの発光表面へ光学的及び物理的にボンディングされる、方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の方法であって、前記ボンディングするステップは、ボンディング材料前駆体を配置し、これを、ボンディング材料へ形成するために固化させるステップを含む、方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の方法であって、前記コリメータは、前記基板の平面において、前記少なくとも１つの発光ダイオードから10乃至200μmの距離に配置される、方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法であって、前記コリメータは、金属材料から形成される、方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の方法であって、前記コリメータは、100乃至500μmの範囲にある材料厚さを有する少なくとも１つの自己支持壁要素を有する、方法。
【請求項７】
基板に配置される少なくとも１つの発光ダイオードと、前記少なくとも１つの発光ダイオードによって発される光をコリメートするための前記少なくとも１つの発光ダイオードを少なくとも部分的に横方向に囲むコリメータと、を含む発光装置であって、
前記コリメータは、第１透過性ボンディング材料を用いて、前記少なくとも１つの発光ダイオードへ及び前記基板へボンディングされ、
前記第１透過性ボンディング材料は、少なくとも前記コリメータを外側から支持するように設けられる、
発光装置。
【請求項８】
請求項７に記載の発光装置であって、自己支持波長変換要素が、第２透過性ボンディング材料を用いて、前記少なくとも１つの発光ダイオードの発光表面へ光学的及び物理的にボンディングされる、発光装置。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の発光装置であって、前記コリメータは、金属材料から形成される、発光装置。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記基板の平面における、前記コリメータと前記少なくとも１つの発光ダイオードとの間の距離は、10乃至100μmの範囲にある、発光装置。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記コリメータは、100乃至500μmの範囲にある材料厚さを有する少なくとも１つの自己支持壁要素を有する、発光装置。
【請求項１２】
請求項７乃至１１のいずれか一項に記載の発光装置であって、前記コリメータは、前記基板に対する法線に沿って前記基板から距離と共に徐々に増加する断面領域を表すようにファンネル形状にされる、発光装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
本発明のこれら及び他の態様は、本発明の現時点で好ましい実施例を示す添付の図面を参照にして、以下により詳細に説明される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
ＬＥＤによって発される、及び／又は波長変換材料によって変換される光は、ＬＥＤ１０１を横方向に囲んで配置されるコリメータ１０３によってコリメートされる。コリメータ１０３は、ＬＥＤ１０１に面する反射表面、及び、基板から距離と共に増加する断面領域を表すファンネル形状を表す。したがって、コリメータ壁は、ＬＥＤ１０１から外側へ傾く。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年3月17日(2014.3.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１５２】
すなわち、プロセスの安全性を確保するために、コンピュータによるモデル化と、実験により、イソプレン(O2、N2、CO2,またはこれらのガスの2以上の存在下でのイソプレン)の燃焼限界を求めた。燃焼範囲は、燃焼限界の下限値(LFL)、燃焼限界の上限値(UFL)、限界酸素濃度 (LOC)、及び燃焼限界温度によって特徴づけられる。燃焼性の系は、最少量の燃焼物(例えばイソプレン)、及び最少量の酸化性物質、通常は酸素が存在していなければならない。LFLは、燃焼を維持するために存在していなければならないイソプレンの最少量であり、UFLは、存在していてもよいイソプレンの最大量である。UFLを超えると混合物は燃焼物リッチになり、燃焼混合物となるには酸素濃度が低くなりすぎる。LOCは、燃焼混合物となるために存在していなければならない酸素の最小濃度である。燃焼限界温度は、イソプレンの引火点に基づいており、イソプレンの燃焼が伝播し得る最も低い温度である。これらの限界値はイソプレンの濃度、酸化性物質の種類及び濃度、系内の非活性物質の有無、温度、及び系の圧力により決まる。燃焼範囲内にある組成物では燃焼が伝播するため、プロセス設備の設計及び操作の両者において、安全に注意する必要がある。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年6月13日(2014.6.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１６】
低極性の重合体とより高い極性を有する重合体との相溶性を向上させ、新たなアロイを形成する相容化剤としての、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法によって製造したグラフト化重合体の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年6月17日(2014.6.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
異なったタイプのLMWHに関して、使用される用量は、表２に示されるように、血漿半減期に対して逆比例態様で依存することが観察される（源：“Expert opinion Pharmacother”の前記論説を参考のこと、但しRO14の場合を除く、このデータは出願人の実験からである）：
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年2月13日(2014.2.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
麦汁を発酵槽中で発酵させるステップと、
ディスクスタック遠心分離機によってその発酵麦汁を遠心分離するステップと、
を具え、
さらに、前記発酵させるステップと前記遠心分離するステップとの間に熟成ステップを具えており、
熟成時間が、１２時間未満であり、前記麦汁の発酵が、回分発酵槽によって行われ、Σ因子と前記遠心分離ステップの流速との比率が少なくとも４００ｍ２ｈｒ／ｈｌであることを特徴とするビールの醸造方法。
【請求項２】
前記Σ因子と遠心分離ステップの流速との比率が少なくとも７００ｍ２ｈｒ／ｈｌであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記Σ因子と遠心分離ステップの流速との比率が少なくとも１０００ｍ２ｈｒ／ｈｌであることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記遠心分離ステップのΣ因子が、少なくとも５００ｈｌ／ｈｒの流速に対して、少なくとも５０００００ｍ２であることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記遠心分離ステップ中に、発酵麦汁中に存在する５マイクロメートル未満の平均粒子サイズを有する固形分を少なくとも９０パーセント除去することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記遠心分離ステップ中に、発酵麦汁中に存在する２マイクロメートル未満の平均粒子サイズを有する固形分を少なくとも９０パーセント除去することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
遠心分離した発酵麦汁のＥＢＣ濁り度が１００未満であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
遠心分離した発酵麦汁のＥＢＣ濁り度が７５未満であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記熟成時間が６時間未満であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記熟成ステップにおいて、前記発酵麦汁中に存在する濁り前駆物質と反応する薬剤を用いないことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記遠心分離ステップにおいて、直列及び／又は並列のディスクスタック遠心分離機を用いることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも残存酵母及び他の濁り前駆物質の一部を除去するさらなる遠心分離ステップを具えることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年1月9日(2014.1.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５７】
一態様において、本明細書で開示されるポリマーは熱可塑性ポリマーを含み得る。例示的な熱可塑性ポリマーとしては、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン（ABS）、アクリル系、セルロイド、エチレン-酢酸ビニル（EVA）、エチレン・ビニルアルコール（EVAL）、フッ素樹脂、液晶ポリマー（LCP）、ポリアセタール（POMまたはアセタール）、ポリアクリロニトリル（PANまたはAcrylonitrile）、ポリアミド-イミド（PAI）、ポリアリールエーテルケトン（PAEKまたはKetone）、ポリブタジエン（PBD）、ポリカプロラクトン（PCL）、ポリクロロトリフルオロエチレン（PCTFE）、ポリエチレンテレフタレート（PET）、ポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレート（PCT）、ポリヒドロキシアルカノエート（PHA）、ポリケトン（PK）、ポリエステル、ポリエチレン（PE）、ポリエーテルエーテルケトン（PEEK）、ポリエーテルイミド（PEI）、ポリエーテルスルホン（PES）、ポリエチレンクロリネート（PEC）、ポリ乳酸（PLA）、ポリメチルペンテン（PMP）、ポリフェニレンオキサイド（PPO）、ポリフェニレンスルフィド（PPS）、ポリフタルアミド（PPA）、ポリスルホン（PSU）、ポリ塩化ビニリデン（PVDC）、スペクトラロン（spectralon）、ポリメチルメタクリレート（PMMA）、ポリカーボネート（PC）、ポリ酢酸ビニル（PVAc）、二軸延伸ポリプロピレン（BOPP）、ポリスチレン（PS）、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン（HDPE）、ポリ（アミド）、ポリアクリル、ポリ（ブチレン）、ポリ（ペンタジエン）、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリイミド、セルロース、酢酸セルロース、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-ブテン-プロピレン三元共重合体、ポリオキサゾリン、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリビニルピロリドン、およびそれらの組み合わせ;ポリジメチルシロキサン（PDMS）、ポリ（イソプレン）、ポリ（ブタジエン）、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、エラストマー、ポリマーブレンドおよび共重合体、からなる群より選択されるポリマーを含むがこれらに限定されない。具体的な一態様において、ポリマーはポリメチルメタクリレート（PMMA）を含み得る。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年1月20日(2014.1.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
好ましくは、Ａｌ2Ｏ3は化学組成の１５％超を占めており、この百分率は前記粒子中に存在する元素に対応する酸化物に基づく重量百分率で示される。例えば、特に多孔性構造体タイプの用途の場合、Ａｌ2Ｏ3は化学組成の２５％超、より好ましくは３５％超、あるいは更に３９％超を占めることができる。好ましくは、Ａｌ2Ｏ3は化学組成の５１％未満を占め、これらの百分率は酸化物に基づく重量百分率で示されている。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年1月8日(2014.1.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本明細書において、ストックベッド式ローラミルというのは、力を制御されるローラミルのことを意味する。例えば機械式に予負荷されたばね又は液圧式に連結されたガス蓄圧器が力発生のために使用される。圧力がローラに対してローラ間隙に向かって加えられ、その結果ローラの間のローラ間隙は、該ローラ間隙において粉砕される穀物の量及び種類並びに調節される圧力に関連して、調節される。例えば、ローラ直径の約０.５％〜２％の間隙を調節することができる。結果として生じる粉砕間隙は、特に摩擦に関連した穀物の引込み時に、ローラによって生ぜしめられる。この場合粒子の一部は、間隙よりも大きくて良い。しかしながら典型的には粒子は、生じる間隙よりも小さい。ローラの間における引込み領域においては、ストックベッド式ローラミルが、例えば穀物を満たされた材料シャフト又はホッパを用いた穀物の過剰供給状態から、穀物を引き込むことができる場合に、ストックベッド（Gutbett）が生じる。このストックベッドの粉砕は、粉砕間隙において挟み込まれる粒子の注入（Partikelschuettung）に基づく。粉砕力の調節は、ローラミルにおけるエネルギ供給を制御するために働く。エネルギ供給は、材料及び穀粒に関連して、ストックベッドにおける細かい製粉製品の発生を規定し、かつ最適な範囲への調節を可能にする。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年2月6日(2014.2.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
真皮では、実年齢及び光誘導の老化を引き起こすＭＭＰ過剰生産は、酸化されたフリーラジカルによって刺激される。その上、太陽に晒された皮膚領域、例えば、顔の皮膚においては、ＵＶ線の他の有害効果が生じ、特に、不完全なコラーゲン合成、皮膚色素沈着、及び太陽弾性線維症（皮膚の弾性格子の崩壊として示される）が挙げられる。さらに、インビトロの試験によって、ＭＭＰがＵＶ線処理を受けた皮膚線維芽細胞によって過剰生産される（Ｂｒｅｎｎａｎ  ｅｔ  ａｌ．（２００３）Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌ．７８：４３−４８）。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本明細書中で意図するとき、「皮膚の老化」は、慢性的因子、例えば、機械的、酸化的、及び／又は光ストレスにより、皮膚成分の崩壊の結果として生じる皮膚欠陥に関する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
特に、皮膚の老化は、実年齢及び／又は光による老化の結果であり得る。「実年齢」とは、加齢の結果として生じる皮膚欠陥を指す。「光による老化」とは、光、特にＵＶ線、より具体的にはＵＶ−Ａ線への皮膚被曝の結果として生じる皮膚欠陥を指す。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
好ましくは、本発明に係る方法は、以下：
−個体から歯肉線維芽細胞を採取し；
−歯肉線維芽細胞を培養し；
−培養歯肉線維芽細胞から歯肉線維芽細胞由来産物を得て；
−歯肉線維芽細胞由来産物を個体に投与する
工程を含む。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個体における光による老化の結果である皮膚の老化を美容的に予防し又は処置するための歯肉線維芽細胞由来産生物であって、前記歯肉線維芽細胞由来産生物が、歯肉線維芽細胞抽出物、及び歯肉線維芽細胞培養上清から選択される、産生物。
【請求項２】
皺又は肌の弾力性喪失を美容的に予防し又は処置するための請求項１に記載の産生物。
【請求項３】
顔の皮膚の老化を予防し又は処置するための請求項１又は２に記載の産生物。
【請求項４】
真皮内でエラスチン及び／又はコラーゲン合成を増加させるための請求項１〜３のいずれか１項に記載の産生物。
【請求項５】
前記歯肉線維芽細胞由来産生物が、前記個体に局所的に又は皮内注射によって投与される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の産生物。
【請求項６】
前記歯肉線維芽細胞由来産生物が、前記個体から採取された歯肉線維芽細胞から得られる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の産生物。
【請求項７】
前記歯肉線維芽細胞由来産生物が、前記個体から採取され及び培養された歯肉線維芽細胞から得られ、そして前記歯肉線維芽細胞由来産生物が、前記個体に投与される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の産生物。