【手続補正書】
【提出日】平成24年5月17日(2012.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズの製造方法であって、
（Ｉ）ソフトコンタクトレンズを製造するための型を準備する工程（ここで、この型は、コンタクトレンズの前面を画定する第１の成形面を持つ第１の型半と、コンタクトレンズの後面を画定する第２の成形面を持つ第２の型半とを有しており、そして該第１及び第２の型半は、該第１の成形面と第２の成形面との間に空洞が形成されるよう相互に受けとめるように構成されている）；
（ＩＩ）レンズ形成材料のモノマー混合物をこの空洞に導入する工程（ここで、モノマー混合物は、
（ａ）５〜６０重量％の親水性アミド型ビニルモノマー；
（ｂ）５〜５０重量％の、式（１）：
【化２３】
2012513042.tif 000001
［式中、Ｒは、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｒ３及びＲ４は、相互に独立に、Ｈ、Ｃ１−Ｃ６アルキル、又は式（２）：
【化２４】
2012513042.tif 000002
〔式中、Ｙは、Ｃ１−Ｃ６アルキレン二価基又は１個以上のヒドロキシル基を含有するＣ１−Ｃ６アルキレン二価基であり、ｍは、０〜５の整数であり、ｐは、１〜６の整数であり、そしてＡ１、Ａ２及びＡ３は、相互に独立に、Ｃ１−Ｃ６アルキル、フェニル、ベンジル、又は式（３）：
【化２５】
2012513042.tif 000003
（式中、Ｂ１、Ｂ２及びＢ３は、相互に独立に、Ｃ１−Ｃ６アルキル、フェニル、又はベンジルである）で示される基である〕で示される一価基である（ただし、Ｒ３及びＲ４の少なくとも一方は、式（２）の基であり、そしてＡ１、Ａ２及びＡ３の少なくとも２個は、式（３）の基である）］により表されるシロキサン含有（メタ）アクリルアミドモノマー；
（ｃ）５〜５０重量％の、式（４）：
【化２６】
2012513042.tif 000004
［式中、
ｒは、０又は１の整数であり；
Ｇ１及びＧ２は、相互に独立に、直鎖若しくは分岐のＣ１−Ｃ１０アルキレン二価基、下記式：
【化２７】
2012513042.tif 000005
（式中、ｑは、１〜５の整数であり、そしてａｌｋ及びａｌｋ’は、相互に独立にＣ１−Ｃ６アルキレン二価基である）で示される二価基、又は−Ｒ’１−Ｘ４−Ｅ−Ｘ５−Ｒ’２−〔ここで、Ｒ’１及びＲ’２は、相互に独立に、直鎖若しくは分岐のＣ１−Ｃ１０アルキレン二価基又は上記と同義の下記式：
【化２８】
2012513042.tif 000006
で示される二価基であり、Ｘ４及びＸ５は、相互に独立に下記式：
【化２９】
2012513042.tif 000007
（式中、Ｒ’は、Ｈ又はＣ１−Ｃ８アルキルである）よりなる群から選択される連結部であり、Ｅは、主鎖にエーテル、チオ、又はアミン連結部を有していてもよい、４０個以下の炭素原子を持つ、アルキルジラジカル、シクロアルキルジラジカル、アルキルシクロアルキルジラジカル、アルキルアリールジラジカル、又はアリールジラジカルである〕の二価基であり；
Ｘ１及びＸ２は、相互に独立に、直接結合、下記式：
【化３０】
2012513042.tif 000008
（式中、Ｒ’は、Ｈ又はＣ１−Ｃ８アルキルである）よりなる群から選択される連結部であり；
ＰＤＭＳは、式（５）：
【化３１】
2012513042.tif 000009
〔式中、ｖは、０又は１であり、ωは、０〜５の整数であり、Ｕ１及びＵ２は、相互に独立に、上記と同義の−Ｒ’１−Ｘ４−Ｅ−Ｘ５−Ｒ’２−の二価基又は上記と同義の下記式：
【化３２】
2012513042.tif 000010
で示される二価基を表し、Ｄ１、Ｄ２及びＤ３は、相互に独立に、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｔ−ＣＨ２ＣＨ２−（ここで、ｔは、３〜４０の整数である）、−ＣＦ２−（ＯＣＦ２）ａ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｂ−ＯＣＦ２−｛ここで、ａ及びｂは、相互に独立に０〜１０の整数である（ただし、ａ＋ｂは１０〜３０の範囲の数である）｝、及び式（６）：
【化３３】
2012513042.tif 000011
｛式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５’、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０は、相互に独立に、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルキル−若しくはＣ１−Ｃ４−アルコキシ−置換フェニル、フルオロ（Ｃ１−Ｃ１８−アルキル）、シアノ（Ｃ１−Ｃ１２−アルキル）、−ａｌｋ−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ−ＯＲ１１（ここで、ａｌｋは、Ｃ１−Ｃ６−アルキレン二価基であり、Ｒ１１は、Ｃ１−Ｃ６−アルキルであり、そしてｎは、１〜１０の整数である）であり、ｍ及びｐは、相互に独立に２〜６９８の整数であり、かつ（ｍ＋ｐ）は、５〜７００である｝で示される二価基よりなる群から選択される二価基である（ただし、Ｄ１、Ｄ２及びＤ３の少なくとも１個は、式（６）により表される）〕で示されるポリシロキサン二価基であり；そして
Ｑは、式（７）：
【化３４】
2012513042.tif 000012
〔式中、Ｚ１及びＺ２は、相互に独立に、直鎖若しくは分岐のＣ１−Ｃ１２アルキレン二価基、１個以上のヒドロキシル基を有する直鎖若しくは分岐のＣ１−Ｃ１２アルキレン二価基、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｄ−ＣＨ２ＣＨ２−（ここで、ｄは、１〜１０の整数である）の基、非置換フェニレン二価基、Ｃ１−Ｃ４アルキル若しくはＣ１−Ｃ４アルコキシ置換フェニレン二価基又はＣ７−Ｃ１２アラルキレン二価基であり；Ａ５は、−Ｏ−又は下記式：
【化３５】
2012513042.tif 000013
（式中、Ｒ’は、Ｈ又はＣ１−Ｃ８アルキルである）で示される基であり；ｑ１及びｑ２は、相互に独立に０又は１の整数であり；Ｒ１４は、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はハロゲンであり；Ｒ１５及びＲ１６は、相互に独立に、水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、フェニル、カルボキシ、ハロゲン、又は下記式：
【化３６】
2012513042.tif 000014
（式中、Ｘ３は、−Ｏ−、上記と同義の下記式：
【化３７】
2012513042.tif 000015
で示される基又は−Ｓ−であり、そしてＲ１７は、Ｃ１−Ｃ１２アルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル又はジアルキルアミノアルキルラジカルである）で示される基である〕で示されるエチレン不飽和基である］で示されるポリシロキサンビニルモノマー又はマクロマー、及び
（ｄ）０．０５〜１．５重量％の光開始剤
を含み、ただし、（ａ）〜（ｄ）の成分及び任意の追加成分は、合計１００重量％になる）；及び
（ＩＩＩ）化学線の空間的制限下で型中のモノマー混合物を１２０秒以内の時間照射することにより、モノマー混合物を架橋してシリコーンハイドロゲルコンタクトレンズを形成する工程（ここで、製造されるコンタクトレンズは、第１の成形面により画定される前面、第２の成形面により画定される反対側の後面、及び化学線の空間的制限により画定されるレンズエッジを含む）
を含む方法。
【請求項２】
親水性アミド型ビニルモノマーが、２−アクリルアミドグリコール酸、２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸又はこれらの塩、塩化（３−アクリルアミドプロピル）トリメチルアンモニウム、３−アクリロイルアミノ−１−プロパノール、Ｎ−（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（イソブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−［トリス（ヒドロキシメチル）メチル］アクリルアミド、Ｎ−メチル−３−メチレン−２−ピロリドン、並びにこれらの混合物よりなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
シロキサン含有（メタ）アクリルアミドモノマーが、Ｎ−［トリス（トリメチルシロキシ）シリルプロピル］メタクリルアミド、Ｎ−［トリス（トリメチルシロキシ）シリルプロピル］アクリルアミド、Ｎ−［トリス（ジメチルプロピルシロキシ）シリルプロピル］アクリルアミド、Ｎ−［トリス（ジメチルプロピルシロキシ）シリルプロピル］メタクリルアミド、Ｎ−［トリス（ジメチルフェニルシロキシ）シリルプロピル］アクリルアミド、Ｎ−［トリス（ジメチルフェニルシロキシ）シリルプロピル）メタクリルアミド、Ｎ−［トリス（ジメチルエチルシロキシ）シリルプロピル］アクリルアミド、Ｎ−［トリス（ジメチルエチルシロキシ）シリルプロピル］メタクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−（３−（ビス（トリメチルシリルオキシ）メチルシリル）プロピルオキシ）プロピル）−２−メチルアクリルアミド；Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−（３−（ビス（トリメチルシリルオキシ）メチルシリル）プロピルオキシ）プロピル）アクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ビス［２−ヒドロキシ−３−（３−（ビス（トリメチルシリルオキシ）メチルシリル）プロピルオキシ）プロピル］−２−メチルアクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ビス［２−ヒドロキシ−３−（３−（ビス（トリメチルシリルオキシ）メチルシリル）プロピルオキシ）プロピル］アクリルアミド；Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−（３−（トリス（トリメチルシリルオキシ）シリル）プロピルオキシ）プロピル）−２−メチルアクリルアミド；Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−（３−（トリス（トリメチルシリルオキシ）シリル）プロピルオキシ）プロピル）アクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ビス［２−ヒドロキシ−３−（３−（トリス（トリメチルシリルオキシ）シリル）プロピルオキシ）プロピル］−２−メチルアクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ビス［２−ヒドロキシ−３−（３−（トリス（トリメチルシリルオキシ）シリル）プロピルオキシ）プロピル］アクリルアミド；Ｎ−［２−ヒドロキシ−３−（３−（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロピルオキシ）プロピル］−２−メチルアクリルアミド；Ｎ−［２−ヒドロキシ−３−（３−（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロピルオキシ）プロピル］アクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ビス［２−ヒドロキシ−３−（３−（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロピルオキシ）プロピル］−２−メチルアクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ビス［２−ヒドロキシ−３−（３−（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロピルオキシ）プロピル］アクリルアミドよりなる群から選択される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
モノマー混合物が、Ｄ１、Ｄ２及びＤ３が相互に独立に式（６）の二価基である、式（４）のポリシロキサン含有ビニルマクロマーを含む、請求項１、２又は３に記載の方法。
【請求項５】
モノマー混合物が、重合性ＵＶ吸収剤又は重合性潜在性ＵＶ吸収剤を０．２〜５．０重量％の量で含む、請求項１、２又は３に記載の方法。
【請求項６】
モノマー混合物が、ベンゾトリアゾール−及び／又はベンゾフェノン−部分を含む重合性ＵＶ吸収剤を含む、請求項１〜５の何れか１項に記載の方法。
【請求項７】
光開始剤が、ベンゾイルホスフィンオキシド光開始剤である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
モノマー混合物が、重合性潜在性ＵＶ吸収剤を含む、請求項１〜５の何れか１項に記載の方法。
【請求項９】
第１及び第２の成形面の少なくとも一方は、ＵＶ線に透過性であり、そして場合によりもう一方の成形面は、ＵＶ線を透過しにくい、請求項１〜５の何れか１項に記載の方法。
【請求項１０】
型が、放射線透過性成形面を有する型半に、型において、又は型上に固定、構築又は配置されているマスクを含む、再利用可能な型である（ここで、このマスクは、放射線透過性成形面に比較してＵＶ不透過性であるか、又は少なくともＵＶ透過性が乏しく、そしてこのマスクは、型空洞に至るまで内側に伸び、かつ型空洞を囲むため、型空洞を除いてマスクの背後の全ての領域を遮蔽する）、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
型中のモノマー混合物が、化学線の空間的制限下で５０秒以内の時間照射される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
モノマー混合物が、（１）１０〜５０重量％の親水性アミド型ビニルモノマー；（２）１０〜４０重量％のシロキサン含有アクリルアミド又はメタクリルアミドモノマー；（３）１０〜４０重量％のポリシロキサン含有ビニルマクロマー；（４）０．１〜１．３重量％の光開始剤；及び（５）０．２〜５重量％の重合性ＵＶ吸収剤又は重合性潜在性ＵＶ吸収剤を含む（ただし、（１）〜（５）の成分及び任意の追加成分は、合計１００重量％になる）、請求項３又は４に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１〜１０の何れか１項により得られる、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズ。
【請求項１４】
コンタクトレンズが、少なくとも４０barrerの酸素透過度、２．０MPa以下の弾性率、少なくとも１．５×１０−６mm２/分のイオノフラックス拡散係数、Ｄ、及び１５〜７０％の含水率よりなる群から選択される、少なくとも１つの性質を有する、請求項１３に記載のシリコーンハイドロゲルコンタクトレンズ。