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【手続補正書】
【提出日】平成15年10月23日(2003.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解槽をイオン透過性隔膜によって分域し、陰電極を挿入した陰極室と陽電極を挿入した陽極室の電極間に所定の直流電流を印加する電解電源を設けて前記電解槽内に供給される原水を上記電極間の通電によって電解し、陰極室から陰極水、陽極室から陽極水を生成する連続式電解水生成装置において、前記電解電源を供給する電源と電解槽への電圧印加回路間に電流センサを挿入し、電流センサの出力電圧に基づく値を実測値と比較して補正を行い生成装置の電解度合いを表示することを特徴とする連続式電解水生成装置の表示装置。
【請求項２】
上記電解度合いの表示はｐＨ、ＯＲＰであることを特徴とする請求項１記載の連続式電解水生成装置の表示装置。
【請求項３】
電解度合いを表示するｐＨ、ＯＲＰは前記電流センサの出力電圧を分岐回路を介して分岐し、ＯＲＰの表示動作は酸性水およびアルカリ性水の吐水に対応してプラスおよびマイナスが表示がなされることを特徴とする請求項１記載の連続式電解水生成装置の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
浄水器を介して夾雑物や遊離塩素を除いた後、カルシウムを補給した水を電解生成した比較的電解度の低い陰極水は健康によい水と云われ、例えば飲料用に使用される。また、同じに生成する陽極水はアストリンゼン水とか調理用水に使用される。
比較的電解度の低い陰極水を飲料用に供する場合、水のｐＨは細胞に対して微妙に作用するため、個人ごとに異なった最適のｐＨがある。このため、使用者に電解によって吐水する電解水のｐＨを表示するため、電解後の吐水流路のｐＨをｐＨメータで測定し、表示する機能をもった連続式電解水生成装置がある。このような機能をもった連続式電解水生成装置では、使用者は最適のｐＨになるように、装置前面に設けた電解度調節手段を自在に操作して所望のｐＨの吐水を得ることができる。一般的に、電解度調節手段は電解槽の陰陽極に印加する電圧を調整することによって陰陽極間に流れる電流を制御するように構成されているので、電解度調節手段をもって陰陽極に印加する電圧を変えれば、陰陽極間に流れる電流が変わり、電解槽を流れる水の電解度が変わり吐水のｐＨが変わる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
原水に塩化物などの電解質を添加し、電気伝導度を高めて電解を行うと強い電解が行われて、陰極室から高いｐＨとマイナスの酸化還元電位、すなわち、マイナスＯＲＰをもった陰極水が吐水し、陽極室から低いｐＨとプラスの酸化還元電位、すなわち、プラスＯＲＰをもった陽極水が吐水する。この陽極水には殺菌効果があり、消毒殺菌のための無害な洗浄用液として使用される。
ところが、この陽極水はｐＨ３以下でＯＲＰ、１，０５０ｍｖ以上で上記の殺菌効果があると云われるが、吐水する陽極水が常時この範囲の値にあるとの保証はないため、電解された陽極水がこの範囲にあるかを常時監視する必要がある。このため、使用者に電解によって吐水する電解水のｐＨやＯＲＰの使用可否を表示するため、電解後の吐水流路のｐＨやＯＲＰを測定し、表示する機能をもった強電解水を吐水する連続式電解水生成装置がある。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１の連続式電解水生成装置の表示装置は、電解槽をイオン透過性隔膜によって分域し、陰電極を挿入した陰極室と陽電極を挿入した陽極室の電極間に所定の直流電流を印加する電解電源を設けて前記電解槽内に供給される原水を上記電極間の通電によって電解し、陰極室から陰極水、陽極室から陽極水を生成する連続式電解水生成装置において、前記電解電源を供給する電源と電解槽への電圧印加回路間に電流センサを挿入し、電流センサの出力電圧に基づく値を実測値と比較して補正を行い生成装置の電解度合いを表示することを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の請求項３の連続式電解水生成装置の表示装置は、電解度合いを表示するｐＨ、ＯＲＰは前記電流センサの出力電圧を分岐回路を介して分岐し、ＯＲＰの表示動作は酸性水およびアルカリ性水の吐水に対応してプラスおよびマイナスが表示がなされることを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この整流器２から陰陽電極間に、流れる電流を計量する電流センサ４を設ければ、電流センサ４には電解度合いに対応して電圧が発生する。電流センサ４としては整流器２から陰陽電極間に流れる電流に影響を与えることが無く、その電流値に応答して出力電圧を発生させるものであれば、公知の各種のセンサが使用可能である。この発生した出力電圧はＶ／Ｆ変換器５に入力され、電圧が周波数に変換され、ｐＨ表示器７への信号とＯＲＰ表示補正器８への信号に分岐される。
ｐＨ表示器７への信号は図示しない電解度調節手段の操作に対応してｐＨ表示補正器６で電解度合いが、測定装置で測定され表示さるべき値と比較され換算した値、つまり、本来測定装置で表示さる値に補正されて、ｐＨ表示器７に表示される。
同様に、ＯＲＰ表示器への信号は図示しない電解度調節手段の操作に対応してＯＲＰ表示補正器８で電解度合いが、測定装置で測定され表示さるべき値と比較され換算した値、つまり、本来測定装置で表示さる値に補正されて、極性反転検出器９を介してＯＲＰ表示器１０で表示される。この際、酸性水に適応する正の値を示すＯＲＰ表示器１０とアルカリ性水に適応する負の値を示すＯＲＰ表示器をすることができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
電圧計をｐＨ表示器７として、上記出力電圧を表示させたとしても、一般的に電圧計が示す電圧とｐＨメータが表示する数値とは一致しない。このため、電解度合いを測定装置としてのｐＨ、つまりｐＨメータが表示する真の数値に補正して表示動作させる必要がある。この補正のためにｐＨメータを仮に設置して得た値を実測値として記憶し、この実測値に合うように上記出力電圧を補正し表示する。このため、上記出力電圧を吐水のｐＨ値に変換するたるの機構が必要となる。これには公知の抵抗による補正回路が利用できる。
図２（ｂ）に示した実験結果から、電解度と出力電圧をほぼ比例して補正することにより、好ましい補正電圧にすることができる。補正電圧が示すｐＨは概算値であるが、実用上誤差を無視することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月3日(2003.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式(１)で表される重合体。
〔-Ｐ1-Ｒ-〕n     (１)
(式中Ｐ1は、内部に縮合系を有しない連続した炭化水素鎖を骨格とする、且つ、二重結合を有する一種類以上のモノマー分子が互いに付加重合することにより生成された、付加重合体である。Ｒは、縮合系からなる連結部を表す。nは、繰り返し単位の数で、２以上の整数を表す。)
【請求項２】
前記連結部Ｒが、-ＣＯ-Ｏ-、-ＣＯ-ＮＨ-、-ＮＨ-ＣＯ-Ｏ-、及び、-ＮＨ-ＣＯ-ＮＨ-から成る群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１記載の重合体。
【請求項３】
前記連結部Ｒが下記化学式(２)で表される請求項１記載の重合体。
Ｘ１-Ａ-Ｘ２    (２)
(式中、Ｘ１およびＸ２は、請求項１記載の化学式(１)中のＰ1の末端に連結した結合部位を表す。Ａは、Ｘ１およびＸ２と結合し得る部位を表す。)
【請求項４】
前記Ｘ１およびＸ２が、それぞれ、-ＣＯ-Ｏ-、-ＣＯ-ＮＨ-、-ＮＨ-ＣＯ-Ｏ-、及び-ＮＨ-ＣＯ-ＮＨ-から成る群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項３記載の重合体。
【請求項５】
前記Ａがアルキレン基またはフェニレン基である請求項３または４記載の重合体。
【請求項６】
請求項１記載の重合体と、縮合性官能基およびスピントラップ基を備えた化合物とが混在していることを特徴とする組成物。
【請求項７】
前記縮合性官能基とスピントラップ基を備えた化合物が下記化学式(３)で表されることを特徴とする請求項６記載の組成物。
Ｘ3―Ｍ1―Ｘ4     (３)
(式中、Ｘ3は縮合性官能基、Ｘ4はスピントラップ基、Ｍ1は下記化学式(４)の構造を表す。
【化１】
2003246863.tif 000001
n2、ｍ1、ｍ2はそれぞれ１から８の整数を表す。芳香環への結合位置はパラ位以外にもオルソ位、メタ位であってもかまわない。)
【請求項８】
前記縮合性官能基とスピントラップ基を備えた化合物がニトロソ化合物であることを特徴とする請求項７記載の組成物。
【請求項９】
両末端に官能基を有する付加重合体を、単独で、あるいは、二官能性の化合物を介して縮合重合する工程を有することを特徴とする下記化学式(１)で表される重合体の製造方法。
〔-Ｐ1-Ｒ-〕n     (１)
(式中Ｐ1は、内部に縮合系を有しない連続した炭化水素鎖を骨格とする、且つ、二重結合を有する一種類以上のモノマー分子が互いに付加重合することにより生成された、付加重合体である。Ｒは、複数のＰ1を連結する、縮合系からなる連結部を表す。nは、繰り返し単位の数で、２以上の整数を表す。)
【請求項１０】
前記化学式(１)で表される重合体に縮合性官能基とスピントラップ基を備えた化合物を添加する工程を更に有することを特徴とする請求項９記載の重合体の製造方法。
【請求項１１】
前記化学式(１)で表される重合体を成形する工程を更に有することを特徴とすることを特徴とする請求項９または１０記載の重合体の製造方法。
【請求項１２】
下記化学式(１)で表される重合体を用意する工程と、
前記重合体の前記連結部Ｒ内の結合を選択的に切断することで解重合を行う工程とを有することを特徴とする重合体の処理方法。
〔-Ｐ1-Ｒ-〕n     (１)
(式中Ｐ1は、内部に縮合系を有しない連続した炭化水素鎖を骨格とする、且つ、二重結合を有する一種類以上のモノマー分子が互いに付加重合することにより生成された、付加重合体である。Ｒは、複数のＰ1を連結する、縮合系からなる連結部を表す。nは、繰り返し単位の数で、２以上の整数を表す。)
【請求項１３】
前記解重合工程によって得られた物質を縮合することにより再び重合体を得る工程を更に有することを特徴とする請求項１２記載の重合体の処理方法。
【請求項１４】
前記再び得られた重合体を成形する工程を更に有することを特徴とする請求項１２または１３記載の重合体の処理方法。
【請求項１５】
前記化学式(１)で表される重合体を解重合する工程の前に、
前記重合体を溶媒に溶解する工程を更に有することを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれかに記載の重合体の処理方法。
【請求項１６】
前記連結部Ｒが下記化学式(２)で表され、Ｘ１、Ｘ２の少なくとも一方を切断することを特徴とする請求項１２乃至１５のいずれかに記載の重合体の処理方法。
Ｘ１-Ａ-Ｘ２    (２)
(式中、Ｘ１およびＸ２は、前記化学式(１)中のＰ1の末端に連結しうる原子団を表す。)
【請求項１７】
前記化学式(１)で表される重合体に縮合性官能基とスピントラップ基を備えた化合物を添加して解重合する工程と、
前記解重合工程により得られた物質を縮合することにより再び重合体を得る工程を更に有することを特徴とする請求項１２乃至１６のいずれかに記載の重合体の処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月7日(2003.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
得られた結果は、次の表1(各実施例)および表2(各比較例)に示される。
2003246823.tif 000001
2003246823.tif 000002
以上の結果から、TFE-FEVE二元共重合体においては、FEVEの共重合量が16重量％で最高の引張破断強度を示し、16重量％をこえると引張破断強度が低下してくるが(比較例2〜4)、これにさらにFPVEを共重合させることにより、引張破断強度の向上が図られることが分かる(実施例6〜7)。また、TFE-FEVE-FPVE三元共重合体とすることにより、引張破断強度の向上と透明性の向上とが両立できることが分かる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月12日(2003.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
シンクの投入口に投入口から投入された生ごみ類を屋外に搬送する搬送部と、搬送部に設けられ生ごみを脱水する脱水部と、搬送部の屋外側に接続され生ごみを分解処理する処理機とを備えたことを特徴とする生ごみ処理機。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月11日(2003.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通気性基材に脱臭剤を担持してなる脱臭フィルターとエレクトレットフィルターとを重ね合わせてなる脱臭性エレクトレットフィルター。
【請求項２】
脱臭フィルターの圧力損失（Ａ）とエレクトレットフィルターの圧力損失（Ｂ）との比（Ａ／Ｂ）が０．１〜１の範囲にあることを特徴とする請求項１記載の脱臭性エレクトレットフィルター。
【請求項３】
脱臭フィルターとエレクトレットフィルターとの間に不連続高分子層が存在することを特徴とする請求項１または２に記載の脱臭性エレクトレットフィルター。
【請求項４】
脱臭フィルターとエレクトレットフィルターが部分的に交絡されてなる請求項１記載の脱臭性エレクトレットフィルター。
【請求項５】
脱臭フィルターとエレクトレットフィルターとを重ね合わせた後に帯電加工してなる請求項１〜４の何れかに記載の脱臭性エレクトレットフィルター。
【請求項６】
脱臭剤が塩基性ガス吸着剤またはアルデヒド吸着剤であることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の脱臭性エレクトレットフィルター。
【請求項７】
通気性基材に脱臭剤を担持してなる脱臭フィルターとエレクトレットフィルターとを融着、接着、縫合または交絡によって一体化することを特徴とする脱臭性エレクトレットフィルターの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
本発明の脱臭性エレクトレットフィルターは、所望によりハニカム状に成形加工を施しても良い。ハニカムとは開孔を有するセル壁からなる構造体であり、ハニカムの具体例として、ＪＩＳ−Ｚ−１５１６に記載の「外装用段ボール」に準拠して作製される片面段ボールを積層してなるコルゲートハニカム、六角形セルからなるヘキサゴンハニカム、正方形セルからなるハニカム、三角形セルからなるハニカム、および中空円筒状セルを集合してなるハニカムなどが挙げられる。ここで、六角形や正方形などのセル形状は正式な多角形ではなく、角が丸いまたは辺が曲がっているなどした異形であっても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月21日(2003.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光によって角膜をアブレーションする角膜手術装置において、レーザ光源からのレーザ光を患者眼角膜に導光して照射するレーザ照射光学系を持つレーザ照射手段と、レーザ光によるアブレーション後の角膜形状を定めるために必要な手術条件を入力する入力手段と、角膜上に照射されるレーザ光の拡散特性に起因するエネルギ強度の不均一性と角膜上の照射位置の違いに起因するアブレーション量の不均一性との少なくとも一方を補償するために、前記入力手段によって入力された手術条件に基づきアブレーション領域内のレーザ照射密度を変化させる照射密度可変手段と、を有することを特徴とする角膜手術装置。
【請求項２】
請求項１の角膜手術装置は、さらに、レーザ光を一定の方向に走査する走査手段と、該走査手段による走査方向を変更する走査方向変更手段と、前記走査手段によって一定方向のアブレーションをした後に走査方向を変更するように前記走査方向変更手段を制御することによってアブレーションの重ね合わせを行う重ね合わせ手段と、を有することを特徴とする角膜手術装置。
【請求項３】
請求項２の角膜手術装置において、前記照射密度可変手段はレーザ光の走査速度がアブレーション領域の中心部に比べて周辺部で遅くなるように前記走査手段を制御することを特徴とする角膜手術装置。
【請求項４】
請求項１の角膜手術装置において、前記レーザ光源はレーザ光をパルス発振するレーザ光源であり、前記照射密度可変手段はレーザ光の照射間隔がアブレーション領域の中心部に比べて周辺部で密になるようにレーザ出射を制御することを特徴とする角膜手術装置。
【請求項５】
レーザ光によって角膜をアブレーションする角膜手術装置において、レーザ光源からのレーザ光を患者眼角膜に導光して照射するレーザ照射光学系を持つレーザ照射手段と、レーザ光を一定の方向に走査する走査手段と、該走査手段による走査方向をレーザ照射光軸回りに回転させる回転手段と、１スキャン終了毎に所定角度ずつ走査方向が回転するようにレーザ照射を制御し、走査方向を放射状に分散させて重ね合わせる重ね合わせ手段と、を有することを特徴とする角膜手術装置。
【請求項６】
レーザ光によって角膜をアブレーションする角膜手術装置において、レーザ光源からのパルスレーザ光を患者眼角膜に導光して照射するレーザ照射光学系を持つレーザ照射手段と、レーザ光を一定の方向に走査する走査手段と、走査方向が略同一と略逆方向との少なくとも一方になるときは角膜上に照射するレーザ光の照射位置をずらすように重ね合わせる重ね合わせ手段と、を有することを特徴とする角膜手術装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（１）  レーザ光によって角膜をアブレーションする角膜手術装置において、レーザ光源からのレーザ光を患者眼角膜に導光して照射するレーザ照射光学系を持つレーザ照射手段と、レーザ光によるアブレーション後の角膜形状を定めるために必要な手術条件を入力する入力手段と、角膜上に照射されるレーザ光の拡散特性に起因するエネルギ強度の不均一性と角膜上の照射位置の違いに起因するアブレーション量の不均一性との少なくとも一方を補償するために、前記入力手段によって入力された手術条件に基づきアブレーション領域内のレーザ照射密度を変化させる照射密度可変手段と、を有することを特徴とする。
（２）  （１）の角膜手術装置は、さらに、レーザ光を一定の方向に走査する走査手段と、該走査手段による走査方向を変更する走査方向変更手段と、前記走査手段によって一定方向のアブレーションをした後に走査方向を変更するように前記走査方向変更手段を制御することによってアブレーションの重ね合わせを行う重ね合わせ手段と、を有することを特徴とする。
（３）  （２）の角膜手術装置において、前記照射密度可変手段はレーザ光の走査速度がアブレーション領域の中心部に比べて周辺部で遅くなるように前記走査手段を制御することを特徴とする。
（４）  （１）の角膜手術装置において、前記レーザ光源はレーザ光をパルス発振するレーザ光源であり、前記照射密度可変手段はレーザ光の照射間隔がアブレーション領域の中心部に比べて周辺部で密になるようにレーザ出射を制御することを特徴とする。
（５）  レーザ光によって角膜をアブレーションする角膜手術装置において、レーザ光源からのレーザ光を患者眼角膜に導光して照射するレーザ照射光学系を持つレーザ照射手段と、レーザ光を一定の方向に走査する走査手段と、該走査手段による走査方向をレーザ照射光軸回りに回転させる回転手段と、１スキャン終了毎に所定角度ずつ走査方向が回転するようにレーザ照射を制御し、走査方向を放射状に分散させて重ね合わせる重ね合わせ手段と、を有することを特徴とする。
（６）  レーザ光によって角膜をアブレーションする角膜手術装置において、レーザ光源からのパルスレーザ光を患者眼角膜に導光して照射するレーザ照射光学系を持つレーザ照射手段と、レーザ光を一定の方向に走査する走査手段と、走査方向が略同一と略逆方向との少なくとも一方になるときは角膜上に照射するレーザ光の照射位置をずらすように重ね合わせる重ね合わせ手段と、を有することを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月10日(2004.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
室外引き戸の横桟と戸枠の間の隙間に収納可能なヘッド部を有するケーシングと、前記ヘッド部とともに前記隙間内に収納可能な突っ張り部を有しかつ室内外方向に移動自在となるように前記ケーシングに設けられたスライド部材と、このスライド部材の室内外方向の移動量を調節するための操作手段と、を備えている引き戸の補助ロック装置において、
前記操作手段は室内外方向に出し入れされることによって前記スライド部材を同方向へ移動させる操作部材よりなり、前記スライド部材の移動を許容するアンロック状態とその移動を規制するロック状態のいずれかに切り換え自在な施錠機構が前記ケーシングに設けられていることを特徴とする引き戸の補助ロック装置。
【請求項２】
室外引き戸の横桟に設けられた被係合部に引っ掛かるロック位置とその被係合部から外れるアンロック位置のいずれかに切り換え自在なロック部材がヘッド部に設けられ、施錠機構は、スライド部材の移動を規制すると同時に前記ロック部材をロック位置に切り換え、同スライド部材の移動を許容すると同時に前記ロック部材をアンロック位置に切り換える機能を有する請求項１に記載の引き戸の補助ロック装置。
【請求項３】
ロック部材は、被係合部に対して横方向だけでなく上下方向にも移動できないように当該被係合部に対して引っ掛かる形状に形成されている請求項１に記載の引き戸の補助ロック装置。
【請求項４】
施錠機構は、ロック部材をロック位置に切り換え操作すると同時に当該ロック部材を室内側へ引き込む機能を有する請求項１又は２に記載の引き戸の補助ロック装置。
【請求項５】
ロック装置本体のケーシングのヘッド部内に回転自在に挿通された回転軸と、この回転軸の室外側端部に固定されたほぼ円板状のロックディスクとを備えた引き戸の補助ロック装置に用いるロック部材であって、
前記ロックディスクは径方向で互いに反対向きに突出する一対の円弧状の引っ掛け爪を有しており、この一対の引っ掛け爪が上下方向に向いているときは、室外引き戸の横桟に設けられた被係合部を前記ロックディスクの内部に収納させることができ、この状態から当該ロック部材が９０度回転して一対の引っ掛け爪が水平方向に向くようになると、前記被係合部の左右両側に隣接する各被係合部の左右両縁部に引っ掛け爪が引っ掛かり、前記ロックディスクが前記横桟に対して横方向だけでなく上下方向にも移動しないように固定可能になっていることを特徴とする引き戸の補助ロック装置に用いるロック部材。
【請求項６】
ロック位置に切り換え操作されると同時に室内側へ引き込まれるようになっている請求項５に記載の引き戸の補助ロック装置に用いるロック部材。
【請求項７】
ロック装置本体のヘッド部のケーシングに回転自在に設けられたロック部材をその軸心回りに回転させることにより、そのロック部材に形成された一対の引っ掛け爪を室外引き戸の横桟に列設された被係合部のうちのいずれかに引っ掛け、これによって両引き戸を補助的にロックするようにした引き戸の補助ロック方法であって、
前記ロック部材を前記被係合部に対して横方向だけでなく上下方向にも移動できないように引っ掛けるようにしたことを特徴とする引き戸の補助ロック方法。
【請求項８】
ロック部材がロック位置に切り換え操作されると同時に室内側へ引き込まれるようになっている請求項７に記載の引き戸の補助ロック方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】引き戸の補助ロック装置及び補助ロック方法並びにその補助ロック装置に用いるロック部材
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、本来の錠装置とは別に室内外の両引き戸を補助的にロックするための引き戸の補助ロック装置及び補助ロック方法並びにその補助ロック装置に用いるロック部材に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月17日(2003.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
（実施例１−１〜１−４及び比較例１−１〜１−４）
ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂（商品名：ユーピロンＥ−２０００Ｆ、三菱エンジニアリングプラスチック社製）８０質量部とＡＢＳ樹脂（商品名：スタイラック１００、旭化成工業社製）２０質量部をヘンシェルミキサーで混合し、オーブンで１２０℃、６時間乾燥した後、ドリップ防止剤であるポリテトラフルオロエチレン（商品名：テフロン（登録商標）６Ｊ、三井・デュポンフロロケミカル社製）０．４２質量部、合成樹脂用難燃剤Ａ〜Ｄ及びａ〜ｃをそれぞれ表４に示す量をドライブレンドし、２６０℃で二軸押出機を用いてペレット化した。得られたペレットをオーブンで１２０℃、６時間乾燥した後、２６０℃のシリンダー温度で射出成型器を用いて、金型温度１００℃で５インチ×１／２インチ×１／１６インチの試験片を作成した。得られた試験片について、ＵＬ−９４テスト、ドリップの有無及びハンター比色計を用いて黄色度測定を行った。結果を表４に示す。尚、比較例１−１は、合成樹脂用難燃剤をドライブレンドしなかった。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリフェニレンエーテル９５〜６０重量部とエポキシ化合物５〜４０重量部との反応生成物であって、１分子鎖あたり平均０．１個以上のエポキシ基を有し、重量平均分子量が１万以下であることを特徴とするエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル。
【請求項２】
１分子鎖あたり平均１個以上のエポキシ基を有する請求項１記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル。
【請求項３】
１分子鎖あたり平均１．５〜２．５個のエポキシ基を有する請求項１記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル。
【請求項４】
分子鎖の両末端にエポキシ基を有する請求項１記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル。
【請求項５】
重量平均分子量が１万以下のポリフェニレンエーテルと１分子内に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物を、ポリフェニレンエーテルが固体の状態で反応させることを特徴とするエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの製造方法。
【請求項６】
エポキシ化合物が式（１）
【化１】
2003138010.tif 000001
（式中、Ｘ１及びＸ２は芳香族炭化水素、Ａは脂肪族炭化水素、ｎは０または１以上の整数）
であることを特徴とする請求項５記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの製造方法。
【請求項７】
エポキシ化合物が式（２）
【化２】
2003138010.tif 000002
（式中、Ｒは脂肪族または芳香族炭化水素、ｎは０または１以上の整数）
であることを特徴とする請求項５記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの製造方法。
【請求項８】
反応温度が５０〜２００℃であることを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの製造方法。
【請求項９】
反応温度が５０〜１５０℃であることを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜４のいずれかに記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルと硬化剤を含有する積層板用樹脂組成物。
【請求項１１】
請求項１〜４のいずれかに記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル、硬化剤および無機充填材を含有する封止用樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
即ち本発明は、
１．ポリフェニレンエーテル９５〜６０重量部とエポキシ化合物５〜４０重量部との反応生成物であって、１分子鎖あたり平均０．１個以上のエポキシ基を有し、重量平均分子量が１万以下であることを特徴とするエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル、
２．１分子鎖あたり平均１個以上のエポキシ基を有する上記１．記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル、


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
３．１分子鎖あたり平均１．５〜２．５個のエポキシ基を有する上記１．記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル、
４．分子鎖の両末端にエポキシ基を有する上記１．記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル、
５．重量平均分子量が１万以下のポリフェニレンエーテルと１分子内に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物を、ポリフェニレンエーテルが固体の状態で反応させることを特徴とするエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの製造方法、
６．エポキシ化合物が式（１）


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
８．反応温度が５０〜２００℃であることを特徴とする５〜７のいずれかに記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの製造方法、
９．反応温度が５０〜１５０℃であることを特徴とする５〜７のいずれかに記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの製造方法、
１０．上記１．〜４．のいずれかに記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテルと硬化剤を含有する積層板用樹脂組成物、および
１１．上記１．〜４．のいずれかに記載のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル、硬化剤および無機充填材を含有する封止用樹脂組成物
である。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明で使用される多官能性エポキシ化合物の量は特に限定されないが、ポリフェニレンエーテル９５〜６０重量部に対し５〜４０重量部の範囲で用いることができ、好ましい組成は５〜３０重量部、より好ましくは１０〜２０重量部の範囲である。本発明で使用される多官能エポキシ化合物の状態は特に限定されないが、ポリフェニレンエーテルを反応させる温度、圧力条件下において気体、液体であることが好ましい。また、エポキシ化合物をポリフェニレンエーテルの貧溶媒に溶解させた溶液をポリフェニレンエーテルを混合させ、反応させてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（エマルジョンの評価）
（１）耐煮沸水接着力（カバ材の接着）
得られた水性エマルジョンをカバ材（柾目）に２００ｇ／ｍ２塗布し、はりあわせて８ｋｇ／ｃｍ２の荷重で２４時間圧締し、その後、解圧し、２０℃６５％ＲＨ下で７日間養生した。この試験片を煮沸水中に４時間浸漬し、その後６０℃の乾燥機中に１６時間放置した後、再度煮沸水中に４時間浸漬し、２０℃水で冷却後、ぬれたままの状態で圧縮せん断接着強度を測定した。
（２）皮膜の耐溶剤性
得られた水性エマルジョンを２０℃６５％ＲＨ下で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に流延し、７日間乾燥させて５００μｍの乾燥皮膜を得た。この皮膜を直径２．５ｃｍに打ち抜き、それを試料としてアセトンに２４時間浸漬した場合の、皮膜の吸液率、溶出率を求めた。
溶出率（％）：｛１−（浸漬後の皮膜絶乾重量／浸漬前の皮膜絶乾重量）｝×１００
吸液率（％）：（浸漬後の皮膜吸液重量／浸漬前の皮膜絶乾重量）×１００
＊浸漬前の皮膜絶乾重量：浸漬前の皮膜重量（含水）−（浸漬前の皮膜重量（含水）×皮膜含水率（％）／１００）
＊皮膜含水率：皮膜（２０℃アセトンに浸漬するサンプルとは別のサンプル）を、１０５℃、４時間で絶乾し、皮膜の含水率をあらかじめ求める。
＊浸漬後の皮膜絶乾重量：浸漬後の皮膜を１０５℃、４時間で絶乾した重量。
＊浸漬後の皮膜吸液重量：浸漬後の皮膜をアセトンから引き上げた後、皮膜についたアセトンをガーゼで拭き取り秤量。
（３）低温安定性
エマルジョンを５℃で１か月間放置し、放置後の状態を観察した。評価結果を、○放置後も変化なし、△やや増粘が見られる、×ゲル化、で示す。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月18日(2003.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一部がキャピラリーであり、前記キャピラリーの両端の間に電圧印加して標識された試料を電気泳動により分離するための泳動路と、
前記キャピラリーにレーザービームを照射する照射部と、
前記電気泳動で分離される前記試料の標識を検出する検出部と、
前記泳動路の一方の端部と他方の端部とを、前記電気泳動の際に各々浸漬させる第１の緩衝液槽と第２の緩衝液槽とを有し、
前記キャピラリーは、前記キャピラリーの鉛直方向での基準水平面からの最高位置の高さをＴ、前記キャピラリーの試料注入端の基準水平面からの高さをＥ１、前記試料注入端と前記レーザビームが前記キャピラリー上に照射される標識検出位置の間の区間とのキャピラリー長をＬ１とする時、Ｔ−Ｅ１＞Ｌ１の関係を満足し、かつ前記電気泳動の際はポリマー溶液で充填され、
前記第１の緩衝液槽と前記第２の緩衝液槽とは、前記電気泳動の際に液面の高さが実質的に同一であることを特徴とするキャピラリー電気泳動システム。
【請求項２】
少なくとも一部がキャピラリーであり、前記キャピラリーの両端の間に電圧印加して標識された試料を電気泳動により分離するための泳動路と、
前記キャピラリーにレーザービームを照射する照射部と、
前記電気泳動で分離される前記試料の標識を検出する検出部と、
前記泳動路の一方の端部と他方の端部とを、前記電気泳動の際に各々浸漬させる第１の緩衝液槽と第２の緩衝液槽とを有し、
前記キャピラリーは、前記レーザービームを照射される標識検出位置を有し、前記標識検出位置における前記試料の泳動方向は実質的に鉛直上向であり、
前記キャピラリーは前記電気泳動の際はポリマー溶液で充填され、
前記第１の緩衝液槽と前記前記第２の緩衝液槽とは、液面の高さが前記電気泳動の際に実質的に同一であることを特徴とするキャピラリー電気泳動システム。
【請求項３】
前記試料注入端は実質的に鉛直下向きであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のキャピラリー電気泳動システム。
【請求項４】
前記標識検出位置から前記キャピラリーの試料溶出端までのキャピラリー長をＬ２としたとき、前記キャピラリーはＬ１≦Ｌ２の関係を満たすことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のキャピラリー電気泳動システム。
【請求項５】
前記キャピラリーの試料溶出端の前記基準水平面からの高さをＥ２とし、前記標識検出位置の前記基準水平面からの高さをＤとしたとき、前記キャピラリーはＥ２≦Ｄの関係を満たすことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のキャピラリー電気泳動システム。
【請求項６】
前記ポリマー溶液の前記キャピラリーへの導入及び除去を行うポリマー溶液制御手段をさらに有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のキャピラリー電気泳動システム。
【請求項７】
前記キャピラリーは複数であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のキャピラリー電気泳動システム。
【請求項８】
前記照射部と前記検出部は前記キャピラリーの各々に対応して設置される請求項７に記載のキャピラリー電気泳動システム。
【請求項９】
前記キャピラリーは、前記標識検出位置が実質的に一の直線上にあるように設置される請求項７に記載のキャピラリー電気泳動システム。
【請求項１０】
電気泳動分離媒体を納め、標識された試料を両端への電圧印加による電気泳動で分離するための複数のキャピラリーと、
前記キャピラリーにレーザービームを照射する照射部と、
前記電気泳動で分離される前記試料の標識を検出する検出部とを有し、
複数の前記キャピラリーは、各々試料注入端と試料溶出端と前記レーザービームを照射される標識検出位置とを有し、前記試料注入端と前記試料溶出端と前記標識検出位置との各々の位置において実質的に一の直線上に実質的に同じ間隔で配置されるものであり、
前記試料は、前記標識検出位置における泳動方向が実質的に鉛直上向であることを特徴とするキャピラリー電気泳動システム。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月26日(2003.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
強誘電体結晶基板に、プロトン交換によって所定のプロトン交換層を形成し、前記プロトン交換層を選択的に除去して、前記強誘電体結晶基板上に凹型溝構造を形成する強誘電体結晶基板の加工方法において、
前記プロトン交換層を形成する際のプロトン源として、リチウム塩を含有した酸を用い、強誘電体結晶のＸカット面又はＺカット面を用いた前記強誘電体結晶基板の主面上に、開口半幅と等しいか、 又はこれよりも大きな深さの凹部からなる凹型溝構造を形成することを特徴とする、強誘電体結晶基板の加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
強誘電体結晶基板に、プロトン交換によって所定のプロトン交換層を形成し、前記プロトン交換層を選択的に除去して、前記強誘電体結晶基板上に凸型リッジ構造を形成する強誘電体結晶基板の加工方法において、
前記プロトン交換層を形成する際のプロトン源として、リチウム塩を含有した酸を用い、強誘電体結晶のＸカット面又はＺカット面を用いた前記強誘電体結晶基板の主面上に、エッジ部の曲率半径と等しいか、又はこれよりも大きな高さの肩部からなる凸型リッジ構造を形成することを特徴とする、強誘電体結晶基板の加工方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述したように、
強誘電体結晶基板に、プロトン交換によって所定のプロトン交換層を形成し、前記プロトン交換層を選択的に除去して、前記強誘電体結晶基板上に凹型溝構造を形成する強誘電体結晶基板の加工方法において、
前記プロトン交換層を形成する際のプロトン源として、リチウム塩を含有した酸を用い、強誘電体結晶のＸカット面又はＺカット面を用いた前記強誘電体結晶基板の主面上に、開口半幅と等しいか、 又はこれよりも大きな深さの凹部からなる凹型溝構造を形成することを特徴とする、強誘電体結晶基板の加工方法である。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明は、
強誘電体結晶基板に、プロトン交換によって所定のプロトン交換層を形成し、前記プロトン交換層を選択的に除去して、前記強誘電体結晶基板上に凸型リッジ構造を形成する強誘電体結晶基板の加工方法において、
前記プロトン交換層を形成する際のプロトン源として、リチウム塩を含有した酸を用い、強誘電体結晶のＸカット面又はＺカット面を用いた前記強誘電体結晶基板の主面上に、エッジ部の曲率半径と等しいか、又はこれよりも大きな高さの肩部からなる凸型リッジ構造を形成することを特徴とする、強誘電体結晶基板の加工方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月1日(2003.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ化物原料を反応性ガス雰囲気中において該フッ化物原料融点未満の温度で加熱する加熱工程と、次いで、真空雰囲気または不活性ガス雰囲気中において該フッ化物原料を融解する溶融工程と、その後該フッ化物原料を冷却して結晶化する冷却工程からなることを特徴とするフッ化物結晶製造方法。
【請求項２】
前記冷却工程によりブロック状フッ化物原料を得ることを特徴とする請求項１に記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項３】
前記冷却工程により単結晶を得ることを特徴とする請求項１に記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項４】
前記冷却工程は前記フッ化物原料を収納した坩堝を移動させることにより行うことを特徴とする請求項３に記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項５】
前記反応性ガス雰囲気はフッ化炭素系ガスを含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項６】
前記フッ化炭素系ガスは、四フッ化メタン、三フッ化メタン、二フッ化メタン、六フッ化エタン、八フッ化プロパンから選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする請求項５記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項７】
前記融点未満の温度は、該フッ化物原料の融点から５０〜２００℃低い温度であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項８】
前記融点未満の温度での加熱時間は４〜３０時間であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項９】
炉内に前記フッ化物原料を配置した後、反応性ガスを導入する前に、該炉内雰囲気を真空雰囲気または不活性ガス雰囲気として該炉内を１００〜３００℃に加熱して脱水を行うことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項１０】
前記炉内の圧力が１×１０-5Ｔｏｒｒ未満まで減圧された後前記反応性ガスを炉内に導入することを特徴とする請求項９記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項１１】
前記フッ化物原料の溶解時の炉内の圧力を１×１０-5Ｔｏｒｒ未満とすることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項１２】
前記反応性ガス雰囲気は、反応性ガスと不活性ガスを含む雰囲気であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項１３】
前記フッ化物原料は、少なくとも１種類以上の希土類元素を総含有量として１０ｐｐｍ含むことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項１４】
前記フッ化物原料は、フッ化カルシウム、フッ化バリウムまたはフッ化マグネシウムであることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法で製造したことを特徴とするフッ化物結晶。
【請求項１６】
請求項３乃至１４のいずれか１項記載のフッ化物結晶製造方法で製造したフッ化物結晶を加工して成形したことを特徴とする光学部品。
【請求項１７】
請求項１６記載の光学部品と、該光学部品を透過した光により露光する感光性材料を有する支持体を搭載するためのステージとを有することを特徴とする露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
精製の場合は、まず工程Ｓ１のように精製炉内に粉末又は粒状のフッ化物原料を配し、該フッ化物原料を加熱する。この時の雰囲気を反応性ガス雰囲気とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月17日(2003.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）で示される構成単位を有していることを特徴とするポリマー：
【外１】
1999228675.tif 000001
（式中、Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、−Ｓ−又は−Ｏ−を示し、Ｒ１乃至Ｒ６は同一または異なって、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基及び置換もしくは無置換のアルコキシ基を示す）。
【請求項２】
エレクトロン輸送能を有する請求項１記載のポリマー。
【請求項３】
前記式（Ｉ）中、Ｘが単結合、メチレン基又は−Ｏ−であり、Ｒ１及びＲ４が水素原子、アルキル基及びアルコキシ基から選ばれる何れかであり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６が水素原子である請求項１または２記載のポリマー。
【請求項４】
前記式（Ｉ）で示される構成単位が、下記構造式（１）〜（１６）の何れかで示されるものである請求項１〜３の何れかに記載のポリマー：
【外２】
1999228675.tif 000002
【外３】
1999228675.tif 000003
。
【請求項５】
前記式（Ｉ）で示される構成単位が、上記構造式（１）〜（４）の何れかで示されるものである請求項４記載のポリマー。
【請求項６】
支持体上に感光層を有するか、若しくは中間層と感光層とを有する電子写真感光体において、該感光層及び中間層の少なくとも一方が、請求項１〜５の何れかに記載のポリマーを含有していることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項７】
該感光層が電荷発生層及び電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が、該ポリマーを含有している請求項６に記載の電子写真感光体。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくともひとつの手段と、を一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項９】
請求項６又は７に記載の電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、下記式（Ｉ）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【外４】
1999228675.tif 000004
（式中、Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、−Ｓ−又は−Ｏ−を示し、Ｒ１乃至Ｒ６は同一または異なって、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基及び置換もしくは無置換のアルコキシ基を示す）で示される構成単位を有するポリマーである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明は、支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光層が下記式（Ｉ）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【外５】
1999228675.tif 000005
（式中、Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、−Ｓ−又は−Ｏ−を示し、Ｒ１乃至Ｒ６は同一または異なって、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基及び置換もしくは無置換のアルコキシ基を示す）で示される構成単位を有するポリマーを含有することを特徴とする電子写真感光体である。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明は、支持体上に中間層及び感光層を有する電子写真感光体において、該中間層が下記式（Ｉ）
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【外６】
1999228675.tif 000006
（式中、Ｘは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、−Ｓ−又は−Ｏ−を示し、Ｒ１乃至Ｒ６は同一または異なって、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基及び置換もしくは無置換のアルコキシ基を示す）で示される構成単位を有するポリマーを含有することを特徴とする電子写真感光体である。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
【発明の実施の形態】
式（Ｉ）中、アルキレン基としては炭素数１〜４のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基及びプロピレン基などが挙げられ、アルキル基としては炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ターシャリーブチル基、ヘキシル基及びオクチル基などが挙げられ、アルコキシ基としては炭素数１〜８のアルコキシ基が好ましく、ャｇキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ヘキソキシ基及びオクトキシ基などが挙げられる。