Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年10月8日(2014.10.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８５】
さらに前記コーティング層は通常、針状および／または結節状である微細構造を示す。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９４】
相対的に図６は、混合酸化物（詳細には、セリウムおよびガドリニウムの酸化物）を使用して作製されたコーティング層について、結節状微細構造がコーティング層の外層に見られることを示している。「結節状微細構造」という用語は、構造をなす元素が優先的に長くなっていない、丸みのある形態が存在する結果として、不規則な円形形状である顕微鏡写真の構成要素の存在を意味するために使用される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０７】
より高い温度、特に９００℃を超える温度が熱処置に使用される場合、微細構造は結節状となり、成膜の厚さはなおさらに薄くなり、界面にて生じる酸化物層はより厚くなっている。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０８】
このように、図９は、図７と同じであるが、高温における熱処置（詳細には１０５０℃にて１時間）後のコーティング層を示し、熱処置の終了時にはコーティング層の厚さは薄くなり、結節状微細構造が出現している。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１８】
微細構造が変化することが観察され、等温酸化（図１０）または繰返し酸化（図１１）の間に結節状微細構造が出現する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２２】
２つの隣接する亀裂の間の距離が２０μｍ未満であり、
前記亀裂が１０μｍ未満の幅ｌを示し、
前記コーティング層は、ナノメートルおよび／またはマイクロメートルサイズの結節状微細構造を示し、
前記コーティング層は、１０２３／ｃｍ３以下、および好ましくは１０×１０２０空孔／ｃｍ３以上、または実際に３０×１０２０空孔／ｃｍ３を超える、酸素空孔の濃度を示し、ならびに
前記コーティング層は、３０μｍ未満の厚さを示す。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２９】
２つの隣接する亀裂の間の距離は、２０μｍから５０μｍの範囲にあり、
前記亀裂が１０μｍ未満の幅ｌを示し、
前記コーティング層は、ナノメートルおよび／またはマイクロメートルサイズの結節状である微細構造を示し、
前記コーティング層は、１０２３／ｃｍ３以下、および好ましくは１０×１０２０空孔／ｃｍ３以上、または実際に３０×１０２０空孔／ｃｍ３を超える、酸素空孔の濃度を示し、ならびに
前記コーティング層は、２０μｍを超える厚さを示す。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３７】
２つの隣接する亀裂の間の距離が２０μｍ未満であり、
前記亀裂が１０μｍ未満の幅ｌを示し、
前記コーティング層は、ナノメートルおよび／またはマイクロメートルサイズの結節状である微細構造を示し、
前記コーティング層は、１０×１０２０空孔／ｃｍ３以上である酸素空孔の濃度を示し、および
前記コーティング層は、３０μｍ未満の厚さを示す。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１４１】
さらに、前記コーティング層は好ましくは、孔および亀裂が存在するために無視できない有効表面積を有する、ナノメートルおよび／またはマイクロメートルサイズの結節状（丸みのある形態）である微細構造を示す。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子導電性材料からなる基板を備え、該基板表面の少なくとも一部の上にカソード電着工程によって成膜されたコーティングを有し、該コーティングがセラミックコーティングの層を備えた部品であって、前記コーティング層が酸化セリウムをベースとすることと、前記コーティング層が１×１０１７／ｃｍ３以上の酸素空孔の濃度、この表面中に開口する複数の亀裂、ならびに少なくとも５μｍおよび最大で１００μｍの厚さを示すことを特徴とする、部品。
【請求項２】
２つの隣接する亀裂の間の距離が５μｍから５０μｍの範囲にあることを特徴とする、請求項１に記載の部品。
【請求項３】
前記コーティング層が、
０．５ａｔ％から３５ａｔ％の範囲の酸化セリウム、
０．５ａｔ％から７５ａｔ％の範囲の酸素、および
０．５ａｔ％から３０ａｔ％の範囲の窒素
を含むことを特徴とする、請求項１から２のいずれかに記載の部品。
【請求項４】
前記コーティング層が式ＭＯ．ＯＨの少なくとも１つの金属オキシ水酸化物も含むことを特徴とし、式中、Ｍはランタニド、イットリウム、ジルコニウム、および／またはハウニウムによって形成される群に属する金属である、請求項１から３のいずれかに記載の部品。
【請求項５】
前記基板が超合金、ニッケルベース超合金、コバルトベース超合金、チタンおよびこの合金、アルミナイドおよび／またはシリサイドをベースとする金属間化合物、金属マトリックス複合体、セラミックマトリックス複合体、ならびに有機マトリックス複合体を含む群の部品形成材料で形成されることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の部品。
【請求項６】
２つの隣接する亀裂の間の距離が２０μｍから５０μｍの範囲にあることを特徴とする、請求項１に記載の部品。
【請求項７】
前記コーティング層が２０μｍを超える厚さを示すことを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載の部品。
【請求項８】
２つの隣接する亀裂の間の距離が２０μｍ未満であることを特徴とする、請求項１に記載の部品。
【請求項９】
前記コーティング層がナノメートルおよび／またはマイクロメートルサイズの結節状である微細構造を示すことを特徴とする、請求項１から８のいずれかに記載の部品。
【請求項１０】
前記コーティング層が３０μｍ未満の厚さを示すことを特徴とする、請求項１から９のいずれかに記載の部品。
【請求項１１】
酸化性および５００℃を超える温度を示す高温の作業環境で動作する熱機械部品としての、請求項８から１０のいずれか一項に記載の部品の使用。
【請求項１２】
５００℃を超える温度を示す高温作業環境で動作する熱機械部品としての、請求項６および７、９および１０のいずれか一項に記載の部品の使用であり、前記コーティングが基板の熱障壁として作用し、該コーティング層が１２Ｗ．ｍ−１．Ｋ−１未満の熱伝導率を示す、使用。
【請求項１３】
酸化性および１００℃を超える温度を示す高温の作業環境で動作する熱機械部品としての、請求項８から１０のいずれか一項に記載の部品の使用であり、前記コーティング層が有害種を捕捉する効果を示す、使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年6月6日(2014.6.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
本発明は更に、物質の混合物を分離するためのろ過膜又は吸着膜としての本発明による膜の使用に関する。気体及び液体のろ過又は分離のための使用が特に好ましい。食品、飲料水若しくは廃水の分析における、飲料水若しくは廃水の精製のための、医療分野、例えば透析分野における、電池における、又は燃料電池における使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低分子芳香族化合物から構成され、かつ横方向に架橋される少なくとも１つの単分子層を含む、膜であって、１ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の厚み、及び０．１ｎｍ〜１μｍの範囲の直径を有する開口の形態の穿孔を有する、膜。
【請求項２】
重ねて配置される少なくとも２つの単分子層のスタックから構成される、請求項１に記載の膜。
【請求項３】
穿孔として、前記膜の表面１ｍｍ２当たり少なくとも１０８個の開口を有する、請求項１又は２に記載の膜。
【請求項４】
少なくとも１つの単分子層の２つの表面のうちの１つが、官能基によって修飾されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の膜。
【請求項５】
少なくとも１つの単分子層の２つの表面のうちの１つが、官能基としてのアミノ基によって修飾されている、請求項４に記載の膜。
【請求項６】
前記単分子層が、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフタリン、アントラセン、ビピリジン、テルピリジン、チオフェン、ビチエニル、テルチエニル、ピロール、及びそれらの組合せからなる群から選択される芳香族化合物から構成される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の膜。
【請求項７】
低分子芳香族化合物から構成され、かつ横方向に架橋される少なくとも１つの単分子層を含む、膜を製造する方法であって、前記膜が、１ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の厚み、及び０．１ｎｍ〜１μｍの範囲の直径を有する開口の形態の穿孔を有し、前記方法が、
（ａ）基板を準備する工程と、
（ｂ）前記基板の少なくとも１つの表面に結合により前記低分子芳香族化合物の単層を適用する工程と、
（ｃ）前記低分子芳香族化合物から構成される前記単層が横方向に架橋されるように、高エネルギー放射線を用いて、工程（ｂ）で得られる前記基板を処理する工程と、
（ｄ）前記基板を除去して前記膜を得る工程と、
を含み、上述の工程（ａ）〜工程（ｄ）のうちの１つの工程中又は工程後に、
（ｅ）０．１ｎｍ〜１μｍの範囲の直径を有する開口を生成するように実施される、前記膜を穿孔する工程、
を更に含む、膜を製造する方法。
【請求項８】
工程（ｃ）と工程（ｄ）との間、又は工程（ｄ）の後に、電子線及びイオン線からなる群から選択される粒子線による照射によって穿孔を実施する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
架橋領域及び非架橋領域を有する単層を形成するように不完全に、工程（ｃ）における前記架橋を実施し、前記単層の前記非架橋領域を除去することによって、前記穿孔を形成することで、穿孔を行う、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
コヒーレントＥＵＶ線を用いて一定区域を照射し、ここで、２つ以上のコヒーレントＥＵＶビームが、前記単層の表面上に定在波の干渉パターンを作り出し、該干渉パターンが選択的な照射をもたらすことにより、構造化することによって架橋を実施する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
低分子芳香族化合物から構成され、かつ横方向に架橋される少なくとも１つの単分子層を含む、膜を製造する方法であって、前記膜が、１ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の厚み、及び０．１ｎｍ〜１μｍの範囲の直径を有する開口の形態の穿孔を有し、前記方法が、
（ａ）基板を準備する工程と、
（ｂ）前記基板の少なくとも１つの表面に結合により前記低分子芳香族化合物の単層を適用する工程と、
（ｃ）前記低分子芳香族化合物から構成される前記単層が横方向に架橋されるように、高エネルギー放射線を用いて、工程（ｂ）で得られる前記基板を処理する工程と、
（ｄ）前記基板を除去する工程であって、前記膜を得る、除去する工程と、
を含み、
工程（ｃ）及び／又は工程（ｄ）中に前記穿孔が形成される、膜を製造する方法。
【請求項１２】
前記高エネルギー放射線が、電子線、プラズマ線、Ｘ線、β線、γ線、ＵＶ線又はＥＵＶ線である、請求項７〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
浸漬法、鋳込法、スピニング法、又は溶液からの吸着により、工程（ｂ）における前記適用を実施する、請求項７〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記芳香族化合物が、固定基としてチオール基を介して前記基板に共有結合するビフェニルである、請求項７〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも部分的に少なくとも１つの官能基を有する低分子芳香族化合物を使用し、それにより、前記単分子層の２つの表面のうちの１つが官能基によって修飾される膜を得る、請求項７〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
少なくとも２つの穿孔単分子層を、スタックを形成するように重ねて配置する、請求項７〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
物質の混合物を分離するためのろ過膜又は吸着膜としての、請求項１〜６のいずれか一項に記載の膜の使用。
【請求項１８】
物質の混合物を分離するためのろ過膜又は吸着膜としての、請求項７〜１６のいずれか一項に記載の方法により得ることができる膜の使用。
【請求項１９】
食品、飲料水若しくは廃水の分析における、飲料水若しくは廃水の精製のための、医療分野における、電池における、又は燃料電池における、請求項１７又は１８に記載の使用。
【請求項２０】
前記医療分野が透析分野である、請求項１９に記載の使用。
【請求項２１】
センサ技術における、請求項１〜６のいずれか一項に記載の膜の使用。
【請求項２２】
センサ技術における、請求項７〜１６のいずれか一項に記載の方法により得ることができる膜の使用。
【請求項２３】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の膜を含む電池又は燃料電池。
【請求項２４】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の膜を含むセンサー。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月21日(2014.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水性接着剤組成物であって、
（ａ）大豆タンパクおよび（ｂ）酸化マグネシウムもしくは酸化マグネシウムと水酸化マグネシウムとの混合物；または
（ａ）大豆タンパクおよび（ｂ）酸化マグネシウムもしくは酸化マグネシウムと水酸化マグネシウムとの混合物、の反応生成物；
を含み、ここで、成分（ａ）および（ｂ）は、共に、水の重量を除いた前記組成物の少なくとも５０重量％を構成する、水性接着剤組成物。
【請求項２】
成分（ａ）および（ｂ）が、前記組成物中の唯一の接着活性成分である、請求項１に記載の水性接着剤組成物。
【請求項３】
成分（ａ）および（ｂ）は、共に、水の重量を除いた前記組成物の少なくとも９０重量％を構成する、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記大豆タンパクの前記酸化マグネシウムに対する混合重量比が、乾燥重量基準で、１００：１〜１：５であり、任意に８：１〜４：１である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記組成物が、ホルムアルデヒドを含まない、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
酸化マグネシウム、大豆タンパク、および水が、前記組成物の唯一の成分である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
接着剤組成物によって少なくとも１つの第２のリグノセルロース基材に接着された少なくとも１つの第１のリグノセルロース基材を含み、ここで、前記接着剤組成物が、（ａ）大豆タンパクと（ｂ）酸化マグネシウムとの反応生成物を含む、リグノセルロース複合体。
【請求項８】
リグノセルロース複合体の製造方法であって、
少なくとも１つのリグノセルロース基材を、（ａ）大豆タンパクおよび（ｂ）酸化マグネシウムまたは酸化マグネシウムと水酸化マグネシウムとの混合物を含む接着剤組成物と接触させる工程；および
前記接着剤と接触したリグノセルロース基材を、少なくとも１つの他のリグノセルロース基材に接着する工程、
を含む、リグノセルロース複合体の製造方法。
【請求項９】
前記接着する工程が、前記接着剤と接触したリグノセルロース基材と前記他のリグノセルロース基材とのアセンブリに、熱および圧力をかける工程を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記接着剤組成物が、２部系を含み、当該２部系が、前記大豆タンパクおよび前記酸化マグネシウムを含む第１の部分と、水を含む第２の部分とを含み、かつ、前記方法が、さらに、前記接着剤組成物と前記リグノセルロース基材とを接触させる前の４８時間以内に前記第１の部分と前記第２の部分とを一緒に混合する工程を含む、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
前記リグノセルロース基材が、粉砕されたリグノセルロース粒子を含み、かつ、前記方法が、
前記接着剤組成物の１〜１２重量％を、前記粉砕されたリグノセルロース粒子の混合物と混合する工程であって、当該重量％が、前記接着剤組成物および前記粉砕されたリグノセルロース粒子の総重量基準である工程；
前記接着剤／リグノセルロース粒子の混合物を所定の形状に形成する工程；および
前記形成された混合物に熱と圧力をかける工程、
を含む、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記リグノセルロース基材が、木質ベニヤ基材を含み、かつ、前記方法が、
前記接着剤組成物を前記木質ベニヤ基材の少なくとも１つの表面に塗布する工程；
前記接着剤が塗布された木質ベニヤ基材のアセンブリを形成する工程；および
前記アセンブリに熱と圧力をかける工程、
を含む、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の部分が、粉末混合物を含み、当該粉末混合物が、大豆タンパク粉末および酸化マグネシウム粉末を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記酸化マグネシウムが、２０メッシュより小さい平均粒径を有する、請求項８〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
（ａ）大豆タンパク粉末および（ｂ）酸化マグネシウム粉末を一緒に混合する工程であって、当該混合が、粉末混合物を形成する工程；および
その結果得られた粉末混合物を水と混合する工程、
を含む、ホルムアルデヒドを含まない水性接着剤組成物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月3日(2014.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式  Ｓｒ２Ｓｉ５Ｎ８−［（４ｘ／３）＋ｚ］ＣｘＯ３ｚ／２：Ａ
（式中、０＜ｘ≦５．０、０．０６≦ｚ≦０．１、［（４ｘ／３）＋ｚ］＜８、ｘ≠３ｚ／２；並びに
Ａはホスト結晶中にドープされているＥｕ２＋である）
を有する蛍光体を含む組成物。
【請求項２】
式  Ｍ（ＩＩ）２Ｓｉ５Ｎ８−［（４ｘ／３）＋ｚ］ＣｘＯ３ｚ／２：Ａ
（式中、１．０≦ｘ≦２．０、０≦ｚ≦０．１、［（４ｘ／３）＋ｚ］＜８、ｘ≠３ｚ／２；
Ｍ（ＩＩ）はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群から選択される少なくとも１種の二価カチオンを含み；並びに
Ａはホスト結晶中にドープされているＥｕ２＋である）
を有する蛍光体を含む組成物。
【請求項３】
式  Ｍ（ＩＩ）２−ｗＭ（Ｉ）２ｗＳｉ５Ｎ８−［（４ｘ／３）＋ｚ］ＣｘＯ３ｚ／２：Ａ
（式中、０．５≦ｘ≦３．０、０≦ｚ≦０．１、０．０５≦ｗ≦０．５、［（４ｘ／３）＋ｚ］＜８、ｘ≠３ｚ／２；
Ｍ（ＩＩ）はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群から選択される少なくとも１種の二価カチオンを含み；
Ｍ（Ｉ）はＬｉおよびＮａからなる群から選択される少なくとも１種の一価カチオンを含み；並びに
Ａはホスト結晶中にドープされているＥｕ２＋である）
を有する蛍光体を含む組成物。
【請求項４】
第１のルミネセンススペクトルを放射する光源と、前記光源からの光で照射される場合に、第２のルミネセンススペクトルを有する光を放射する蛍光体組成物とを含む発光素子であって、
前記蛍光体組成物が下記（ａ）〜（ｃ）：
（ａ）Ｓｒ２Ｓｉ５Ｎ８−［（４ｘ／３）＋ｚ］ＣｘＯ３ｚ／２：Ａ
（式中、０＜ｘ≦５．０、０．０６≦ｚ≦０．１、［（４ｘ／３）＋ｚ］＜８、およびｘ≠３ｚ／２）；
（ｂ）Ｍ（ＩＩ）２Ｓｉ５Ｎ８−［（４ｘ／３）＋ｚ］ＣｘＯ３ｚ／２：Ａ
（式中、１．０≦ｘ≦２．０、０≦ｚ≦０．１、［（４ｘ／３）＋ｚ］＜８、およびｘ≠３ｚ／２）；
（ｃ）Ｍ（ＩＩ）２−ｗＭ（Ｉ）２ｗＳｉ５Ｎ８−［（４ｘ／３）＋ｚ］ＣｘＯ３ｚ／２：Ａ
（式中、０．５≦ｘ≦３．０、０≦ｚ≦０．１、０．０５≦ｗ≦０．５、［（４ｘ／３）＋ｚ］＜８、ｘ≠３ｚ／２）；
（式中、Ｍ（ＩＩ）はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群から選択される少なくとも１種の二価カチオンを含み；
Ｍ（Ｉ）はＬｉおよびＮａからなる群から選択される少なくとも１種の一価カチオンを含み；
Ｃは炭素の四価アニオンを含み；並びに
Ａはホスト結晶中にドープされているＥｕ２＋である）
からなる群から選択される式を有する少なくとも１種の蛍光体を含む、発光素子。
【請求項５】
前記第１のルミネセンススペクトルが（ａ）２５０ｎｍ〜７５０ｎｍ、および（ｂ）４００ｎｍ〜５５０ｎｍからなる群から選択される波長範囲にピークを有する、請求項４に記載の発光素子。
【請求項６】
前記光源が発光ダイオードまたはレーザーダイオードである請求項４に記載の発光素子。
【請求項７】
１種以上の追加の蛍光体をさらに含む請求項４に記載の発光素子。
【請求項８】
Ｃａ１−ｘＳｒｘＧａ２Ｓ４：Ｅｕ２＋（０≦ｘ≦１）、Ｃａ１−ｘ−ｙ−ｚＭｇｘＳｒｙＢａｚＳｉＯ４：Ｅｕ２＋（０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、ｘ＋ｙ＋ｚ≦１）、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ２＋、Ｍｎ２＋、ＭＹＳｉ４Ｎ７：Ｅｕ２＋（Ｍ＝Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、β−サイアロン：Ｅｕ２＋、ＭＳｉ２Ｏ２Ｎ２：Ｅｕ２＋（Ｍ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、Ｂａ３Ｓｉ６Ｏ１２Ｎ２：Ｅｕ２＋、Ｍ２Ｓｉ５Ｎ８：Ｃｅ３＋（Ｍ＝Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、Ｙ２Ｓｉ４Ｎ６Ｃ：Ｃｅ３＋、α−サイアロン：Ｙｂ２＋、（ＭＳｉＯ３）ｍ・（ＳｉＯ２）ｎ：Ｅｕ２＋、Ｘ（Ｍ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ；Ｘ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）；ｍは１または０であり、かつ（ｉ）ｍ＝１の場合にはｎ＞３、または（ｉｉ）ｍ＝０の場合にはｎ＝ｌ、ＭＡｌ２Ｏ４：Ｅｕ２＋（Ｍ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ２＋、Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ３＋、並びにα−サイアロン：Ｅｕ２＋からなる群から選択される式を有する第２の蛍光体をさらに含む、請求項４に記載の発光素子。
【請求項９】
少なくとも２種類の追加の蛍光体をさらに含む請求項４に記載の発光素子。
【請求項１０】
前記素子が（ａ）４００ｎｍ〜６００ｎｍ、（ｂ）５２０ｎｍ〜６００ｎｍ、（ｃ）３８０ｎｍ〜７５０ｎｍ、および（ｄ）４００ｎｍ〜７００ｎｍからなる群から選択される波長範囲にピークを有する光を放射する請求項４に記載の発光素子。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月10日(2014.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スピンドルモータであって、
静止部材と、
静止部材に対して回転可能な回転可能部材と、
静止部材および回転可能部材を相互接続させ、潤滑流体によって離間される加工面を有する流体軸受とを備え、潤滑流体は、
ａ）少なくとも粘度指数１１０を有する合成エステルベース流体と、
ｂ）潤滑流体の総重量に基づいて０．０１重量％〜５重量％の少なくとも１つのトリＣ６−Ｃ１４−リン酸アリールとを含み、アリール基の各々はＣ３−Ｃ６−アルキル基から選択される１つ〜３つの同一または異なる置換基を有し、さらに、
ｃ）潤滑流体の総重量に基づいて０．０１重量％〜５重量％の少なくとも１つのカルボジイミドを含む、スピンドルモータ。
【請求項２】
合成エステルベース流体は、
式Ｉの化合物を含み、
【数１】
2013543015.tif 000001
ここでＲ１およびＲ２は同一であるかまたは異なり、鎖の第二炭素に結合したＣ１−Ｃ３−アルキルを任意に保持する直鎖Ｃ３−Ｃ１７−アルキル基を各々が表し、Ｚは、鎖の炭素に結合したＣ１−Ｃ３−アルキルを任意に保持する直鎖Ｃ３−Ｃ１０−アルキレン基であり、さらに、
式Ｉａの化合物を含み、
【数２】
2013543015.tif 000002
ここでＲ１およびＲ２は同一であるかまたは異なり、鎖の第二炭素に結合したＣ１−Ｃ３−アルキルを任意に保持する直鎖Ｃ３−Ｃ１７−アルキル基を各々が表し、Ｚは、鎖の炭素に結合したＣ１−Ｃ３−アルキルを任意に保持する直鎖Ｃ３−Ｃ１０−アルキレン基であり、
またはそれらの組合せを含む、請求項１に記載のスピンドルモータ。
【請求項３】
カルボジイミドは、ジ−アリール−カルボジイミドである、請求項１または２のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項４】
潤滑流体は、０℃において１５ｃｐ〜８０ｃｐの粘度を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項５】
潤滑流体は、酸化防止剤、腐食防止剤、粘度指数調整剤、流動点降下剤、消泡剤、および導電性の非金属添加物からなるグループから選択される添加剤をさらに含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項６】
潤滑流体は、潤滑流体の総重量に基づいて０．０１重量％〜５重量％の少なくとも１つの酸化防止剤を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項７】
潤滑流体は、潤滑流体の総重量に基づいて０．０１重量％〜５重量％の少なくとも１つの腐食防止剤を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項８】
潤滑流体は、潤滑流体の総重量に基づいて０．０１重量％〜５重量％の少なくとも１つの粘度指数調整剤を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項９】
潤滑流体は、潤滑流体の総重量に基づいて０．０１重量％〜５重量％の少なくとも１つの流動点降下剤を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項１０】
潤滑流体は、潤滑流体の総重量に基づいて０．０１重量％〜５重量％の少なくとも１つの消泡剤を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項１１】
潤滑流体は、さらにポリアルファオレフィンベース流体を含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項１２】
合成エステルベース流体は、３−メチル−１，５−ペンタンジオール  ジ（ｎ−ヘキサノアート、３−メチル−１，５−ペンタン−ジオール  ジ（ｎ−ヘプタノアート）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール  ジ（ｎ−オクタノアート）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール  ジ（ｎ−ノナノアート）、および３−メチル−１，５−ペンタンジオール  ジ（ｎ−デカノアート）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール  ジ（ｎ−ウンデカノアート）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール  ジ（ｎ−ドデカン酸）、および３−メチル−１，５−ペンタンジオール  ジ（ｎ−トリデカノアート）、またはそれらの組合せを含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項１３】
トリ−Ｃ６−Ｃ１４−リン酸アリールは、少なくとも１つのブチル化リン酸トリフェニルを含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項１４】
少なくとも１つのブチル化リン酸トリフェニルは、総量で潤滑流体の０．１重量％〜４重量％存在する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項１５】
カルボジイミドは、総量で潤滑流体の０．１重量％〜３重量％存在する、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項１６】
カルボジイミドは式（ＩＩ）の化合物から選択され、
Ｘ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｙ（ＩＩ）
ＸおよびＹは同一かまたは異なり、各々は、脂肪族基、脂環式基および芳香基であり得るかまたは含み得るＣ１−Ｃ２０−炭化水素残基を表す、請求項１〜１５のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項１７】
液体のリン酸アミン耐摩耗性添加剤をさらに備える、請求項１〜１６のいずれか１項に記載のスピンドルモータ。
【請求項１８】
潤滑流体であって、
ａ）少なくとも粘度指数１１０を有する合成エステルベース流体と、
ｂ）潤滑流体の総重量に基づいて０．０１重量％〜５重量％の少なくとも１つのトリ−Ｃ６−Ｃ１４−リン酸アリールとを備え、アリール基の各々はＣ３−Ｃ６−アルキル基から選択される１つ〜３つの同一のまたは異なる置換基を有し、さらに、
ｃ）潤滑流体の総重量に基づいて０．０１重量％〜５重量％の少なくとも１つのカルボジイミドを備える、潤滑流体。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月6日(2014.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フルオロポリマーラテックスを凝固させる方法であって、
非晶質フルオロポリマーラテックスを提供する工程と、
非修飾無機ナノ粒子を提供する工程と、
前記非晶質フルオロポリマーラテックスと十分な量の前記非修飾無機ナノ粒子とを接触させて、前記非晶質フルオロポリマーラテックスを凝固させる工程と、を含む、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法に従って製造されるフルオロポリマー複合物。
【請求項３】
請求項２に記載のフルオロポリマー複合物に由来する硬化物品。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月1日(2014.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上のアルデヒドにより官能化されたポリマーの安定化量を有するサイジング混合物と、
サイジング量のサイジング組成物と、を含む組成物であって、前記サイジング混合物はサイジングエマルジョンであり、前記１つ以上のアルデヒドにより官能化されたポリマーが、少なくとも５０，０００ ｇ／モルの重量平均分子量を有する、組成物。
【請求項２】
紙及び板紙製造を改善し、及びサイジングを増強する方法であって、請求項１に記載の前記組成物の有効量を、抄紙機に加えることを含む、方法。
【請求項３】
セルロース性の繊維を有する媒体を製造する方法であって、請求項１に記載の組成物を製紙プロセスの任意の点において前記媒体に加えることを含み、前記媒体は随意に無機填料を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月16日(2014.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
切削テーブルを形成するための混合物であり、その混合物は；
ダイアモンド粉末；ならびに
元素およびその元素から形成される少なくとも１つの炭化物を含むバインダー材料、
を含み、その元素はＩＶおよびＶ族の少なくとも１つから選ばれ、ここでその混合物は、多結晶ダイアモンドコンパクト（「ＰＤＣ」）カッターの切削テーブルを形成するために用いられる。
【請求項２】
炭化物が非化学量論的な炭化物である請求項１に記載の混合物。
【請求項３】
炭化物が化学量論的な炭化物である請求項１に記載の混合物。
【請求項４】
均質な混合物である請求項１に記載の混合物。
【請求項５】
バインダー材料がサブミクロンの範囲の平均粒径を有する請求項１に記載の混合物。
【請求項６】
バインダー材料がナノメーターの範囲の平均粒径を有する請求項５に記載の混合物。
【請求項７】
バインダー材料が、サブミクロンの範囲の平均粒径を有する、第２のダイアモンド粉末をさらに含む請求項１に記載の混合物。
【請求項８】
バインダー材料がダイアモンド粉末をさらに触媒材料を含む請求項１に記載の混合物。
【請求項９】
触媒材料がバインダー材料の約１０体積％以下を含む請求項８に記載の混合物。
【請求項１０】
触媒材料がバインダー材料の約１体積％以下を含む請求項８に記載の混合物。
【請求項１１】
その中に多数の間質空間を形成する格子構造；ならびに
その間質空間内に堆積された改質バインダー材料
を含む切削テーブルであり、
その格子構造を形成する焼結プロセスの間に、改質バインダー材料は、元素から形成される少なくとも１つの炭化物を含み、
その元素はＩＶ、ＶおよびＶＩ族の少くとも１つから選ばれ、
ここで、その改質バインダー材料は焼結プロセスの間に第２のバインダーから形成され、その第２のバインダー材料は、遊離金属を有する非化学量論的な金属炭化物または化学量論的な金属炭化物の少なくとも１つを含み、その非化学量論的な金属炭化物、化学量論的な金属炭化物および遊離金属は内で使用される金属は、その元素と同一である。
【請求項１２】
改質バインダー材料は遊離金属を実質的に含まない請求項１１に記載の切削テーブル。
【請求項１３】
格子構造は多結晶ダイアモンドを含む請求項１１に記載の切削テーブル。
【請求項１４】
改質バインダー材料は触媒材料をさらに含む請求項１１に記載の切削テーブル。
【請求項１５】
上面およびその中にばらまかれた第１のバインダー材料を含む基板；
切削面；対立面；対立面の周囲から切削面の周囲に延びる切削テーブル外側壁；その中に多数の間質空間を形成する格子構造；およびその格子構造を形成する焼結プロセスの間に、間質空間内に堆積される改質された第２のバインダー材料であり、その改質バインダー材料は、元素から形成される少なくとも１つの炭化物を含み、その元素はＩＶ、ＶおよびＶＩ族の少なくとも１つから選ばれる；  ならびに
上面および対立面に結合されたディバイダーからなるカッターであり、
そのディバイダーは、焼結プロセスの間に、第１のバインダー材料が切削テーブルに移行するのを防止し、
ここで、その改質バインダー材料は、焼結プロセスの間に第２のバインダーから形成され、その第２のバインダー材料は、遊離金属を有する非化学量論的な金属炭化物または化学量論的な金属炭化物の少なくとも１つを含み、その非化学量論的な金属炭化物、化学量論的な金属炭化物および遊離金属は内で使用される金属は、その元素と同一である。
【請求項１６】
改質された第２のバインダー材料は遊離金属を実質的に含まない請求項１５に記載のカッター。
【請求項１７】
格子構造は多結晶ダイアモンドを含む請求項１５に記載のカッター。
【請求項１８】
改質された第２のバインダー材料は触媒材料をさらに含む請求項１１に記載のカッター。
【請求項１９】
バインダー材料を用意すること、ここでそのバインダー材料は、元素から形成される少なくとも１つの炭化物を含み、その元素はＩＶ、ＶおよびＶＩ族の少なくとも１つから選ばれる；
そのバインダー材料を切削テーブル粉末と混合すること；ならびに
切削テーブル粉末およびバインダー材料について焼結プロセスを実施すること、そこでは焼結プロセスは切削テーブル粉末に格子構造を形成させる；
を含む切削テーブルの作製方法。
【請求項２０】
焼結プロセスが固相焼結プロセスである請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
焼結プロセスが固相に近い焼結プロセスであり、そこでは一時的な液相が固相に近い焼結プロセスの間に形成される請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
一時的な液相が焼結プロセスの時間の約１０％以下の間に存在する請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
一時的な液相が焼結プロセスの時間の約６％以下の間に存在する請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
一時的な液相が、結合される切削テーブル粉末およびバインダー材料の約０．１体積％を占める請求項１９に記載の方法。
【請求項２５】
炭化物が非化学量論的な炭化物である請求項１９に記載の方法。
【請求項２６】
炭化物が化学量論的な炭化物である請求項１９に記載の方法。
【請求項２７】
バインダー材料が炭化物を形成するために使用される元素をさらに含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２８】
改質バインダー材料は触媒材料をさらに含む請求項１９に記載の方法。
【請求項２９】
切削テーブル粉末および第２のバインダー材料から切削テーブルを形成すること、ここで第２のバインダー材料は元素から形成される少なくとも１つの炭化物を含み、その元素はＩＶ、ＶおよびＶＩ族の少なくとも１つから選ばれる；
少なくとも基板粉末および第１のバインダー材料から基板を形成すること；ならびに
ディバイダーを切削テーブルおよび基板に結合させること、ここでディバイダーは切削テーブルおよび基板の間に位置され、ディバイダーは第１のバインダー材料が切削テーブルに移行するのを防止する；
を含むカッターの作製方法。
【請求項３０】
切削テーブルを形成することが、固相焼結プロセスを用いて切削テーブル粉末および第２のバインダー材料を焼結することを含む請求項２９に記載のカッターの作製方法。
【請求項３１】
切削テーブルを形成することが、固相に近い焼結プロセスを用いて切削テーブル粉末および第２のバインダー材料を焼結することを含み、そこでは一時的な液相が固相に近い焼結プロセスの間に形成される請求項２９に記載のカッターの作製方法。
【請求項３２】
炭化物が非化学量論的な炭化物である請求項２９に記載のカッターの作製方法。
【請求項３３】
炭化物が化学量論的な炭化物である請求項２９に記載のカッターの作製方法。
【請求項３４】
バインダー材料が炭化物を形成するために使用される元素をさらに含む請求項２９に記載のカッターの作製方法。
【請求項３５】
ディバイダーが第２のバインダー材料内で用いられるのと同一の金属または合金を用いて形成される請求項２９に記載のカッターの作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月7日(2013.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロッカーシャフトを受ける円形の第１の開口と、第１の接触面とを備える第１のウィングと、
前記ロッカーシャフトを受ける円形の第２の開口を備える第２のウィングであって、第２の接触面を備える第２のウィングと、を含み、
前記第１及び第２のウィングが前記ロッカーシャフトに取り付けられると、前記第１の開口と前記第２の開口とが同軸をなし、前記第１の接触面と前記第２の接触面とが互いに接触し、その結果、前記ロッカーシャフトの軸を横断する方向に力を伝達するようになっている、蝶番式ロッカーアーム。
【請求項２】
前記第１の接触面と前記第２の接触面との少なくとも一方は、該蝶番式ロッカーアーム上においてシリンダ内に移動可能に設置されるピストンの表面である、請求項１に記載の蝶番式ロッカーアーム。
【請求項３】
前記第１の接触面は前記ピストンの前記表面であり、前記シリンダは前記第１のウィングに設けられる、請求項２に記載の蝶番式ロッカーアーム。
【請求項４】
前記第１のウィングはカムフォロワを含む、請求項３に記載の蝶番式ロッカーアーム。
【請求項５】
前記ピストンは油圧駆動される、請求項２に記載の蝶番式ロッカーアーム。
【請求項６】
前記第２のウィングは、第３の接触面に加えられる力が前記第２のウィングを前記第１のウィングから独立的に枢動させるように構成される第３の接触面を備える、請求項１に記載の蝶番式ロッカーアーム。
【請求項７】
前記第３の接触面は、前記第２の開口の軸に対して平行に延在するロッドの一部分である、請求項６に記載の蝶番式ロッカーアーム。
【請求項８】
前記第１のウィングはカムフォロワを含む、請求項１に記載の蝶番式ロッカーアーム。
【請求項９】
前記カムフォロワはローラーカムを含む、請求項８に記載の蝶番式ロッカーアーム。
【請求項１０】
力に抗して第１の弁位置から第２の弁位置へと移動可能な弁を備える弁機構と、
ロッカーシャフトと、
蝶番式ロッカーアームであって、
前記ロッカーシャフトに枢動可能に取り付けられるように前記ロッカーシャフトを受ける円形の第１の開口と第１の接触面を備える第１のウィングと、
前記ロッカーシャフトに枢動可能に取り付けられるように前記ロッカーシャフトを受ける円形の第２の開口と第２の接触面を備える第２のウィングとを含み、
前記第１及び第２のウィングが前記ロッカーシャフトに取り付けられると、前記第１の開口と前記第２の開口とが同軸をなし、前記第１の接触面と前記第２の接触面とは互いに接触し、その結果、前記ロッカーシャフトの軸を横断する方向に力を伝達することによって、該蝶番式ロッカーアーム上の第３の接触面が前記弁機構に接触し、前記力に抗して前記弁を前記第１の弁位置から前記第２の弁位置へと移動させるようになっている蝶番式ロッカーアームと、
を含む、開弁機構。
【請求項１１】
前記ロッカーシャフトに枢動可能に取り付けられると共に第４の接触面を備える第２ロッカーアームを含み、前記第２ロッカーアームは、第１の第２ロッカーアーム位置と第２の第２ロッカーアーム位置との間で枢動可能であると共に、前記第２ロッカーアームが前記第１の第２ロッカーアーム位置から前記第２の第２ロッカーアーム位置へと枢動すると、前記第４の接触面により前記弁機構に接触して、前記弁を前記力に抗して前記第１の弁位置から前記第２の弁位置へと移動させるように構成される、請求項１０に記載の開弁機構。
【請求項１２】
前記第２ロッカーアームは第５の接触面を含み、前記蝶番式ロッカーアームは第６の接触面を含み、前記第５の接触面と前記第６の接触面とは、前記第２ロッカーアームが前記第１の第２ロッカーアーム位置から前記第２の第２ロッカーアーム位置へと枢動すると、前記第５の接触面と前記第６の接触面とが互いに接触して、前記ロッカーシャフトの前記軸を横断する方向の第２の力が前記第２ロッカーアームと前記蝶番式ロッカーアームとの間で伝達されるように構成される、請求項１１に記載の開弁機構。
【請求項１３】
前記第１の接触面と前記第２の接触面との少なくとも一方は、前記蝶番式ロッカーアーム上においてシリンダ内に移動可能に設置されるピストンの表面である、請求項１２に記載の開弁機構。
【請求項１４】
前記第１の接触面は前記ピストンの前記表面であり、前記シリンダは前記第１のウィングに設けられる、請求項１３に記載の開弁機構。
【請求項１５】
前記第１のウィングはカムフォロワを含む、請求項１４に記載の開弁機構。
【請求項１６】
前記ピストンは油圧駆動される、請求項１３に記載の開弁機構。
【請求項１７】
前記第２のウィングは、前記第３の接触面に加えられる力が前記第２のウィングを前記第１のウィングから独立的に枢動させるように構成される第３の接触面を含む、請求項１０に記載の開弁機構。
【請求項１８】
前記第３の接触面は前記第２の開口の軸に対して平行に延在するロッドの一部分である、請求項１７に記載の開弁機構。
【請求項１９】
前記第１のウィングはカムフォロワを含む、請求項１０に記載の開弁機構。
【請求項２０】
前記カムフォロワはローラーカムを含む、請求項１９に記載の開弁機構。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月16日(2014.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒系と、
該溶媒系に溶解された染料と、
該溶媒系に分散又は溶解されたスメア防止剤と
を含むハイライト用インク配合物であって、該スメア防止剤がリチウム陽イオンを含む、ハイライト用インク配合物。
【請求項２】
前記溶媒系が水を含む、請求項１に記載のインク配合物。
【請求項３】
前記溶媒系がプロピレングリコール、グリセリン及びそれらの組合せよりなる群から選択される共溶媒を含む、請求項１又は２に記載のインク配合物。
【請求項４】
ｐＨ調整剤、殺生物剤、保湿剤、耐光性付与剤及びそれらの組合せよりなる群から選択される添加剤をさらに含む、請求項１〜３のいずれかに記載のインク配合物。
【請求項５】
前記リチウム陽イオンが前記スメア防止剤に塩の状態で含まれる、請求項１〜４のいずれかに記載のインク配合物。
【請求項６】
前記塩が塩化リチウム、酢酸リチウム、炭酸リチウム、ホウ酸リチウム、硝酸リチウム、リン酸リチウム及びそれらの組合せよりなる群から選択される、請求項５に記載のインク配合物。
【請求項７】
前記スメア防止剤が前記インク配合物中において約１重量％〜約３０重量％の範囲の量で含まれる、請求項１〜６のいずれかに記載のインク配合物。
【請求項８】
前記スメア防止剤が前記インク配合物中において約１２重量％〜約３０重量％の範囲の量で含まれる、請求項７に記載のインク配合物。
【請求項９】
ナトリウム陽イオン及び／又はカリウム陽イオンを含む第２スメア防止剤をさらに含む、請求項１〜８のいずれかに記載のインク配合物。
【請求項１０】
前記ナトリウム陽イオン及び／又は前記カリウム陽イオンが前記スメア防止剤に塩の状態で含まれる、請求項９に記載のインク配合物。
【請求項１１】
前記塩が塩化ナトリウム、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、ホウ酸ナトリウム、硝酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、塩化カリウム、酢酸カリウム、炭酸カリウム、ホウ酸カリウム、硝酸カリウム、リン酸カリウム及びそれらの組合せよりなる群から選択される、請求項１０に記載のインク配合物。
【請求項１２】
前記染料が前記インク配合物中において約０．１重量％〜約５重量％の範囲で含まれる、請求項１〜１１のいずれかに記載のインク配合物。
【請求項１３】
顔料分散体をさらに含む、請求項１〜１２のいずれかに記載のインク配合物。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれかに記載のインク配合物を含む筆記具。
【請求項１５】
前記筆記具が前記インク配合物を含有する、筆記点と流体連通した容器を備えるマーカーである、請求項１４に記載の筆記具。
【請求項１６】
予め塗布されたマーキング上に請求項１〜１３のいずれかに記載されたハイライト用インク配合物を使用してマーキングすることを含む、予め塗布されたマーキングをハイライト化する方法であって、該予め塗布されたマーキングが、該ハイライト用インク配合物から形成されたマークによって実質的に不鮮明化していない状態を保つ、前記方法。
【請求項１７】
予め塗布されたマーキング上に請求項１〜１３のいずれかに記載されたハイライト用インク配合物を使用してマーキングすることを含む、予め塗布されたマーキングをハイライト化する方法であって、該ハイライト用インク配合物マーキングが約１ｍｍ2未満の面積を有するスメアを生じさせる、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月10日(2014.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐食性コーティング組成物であって、
結合ポリマー;
該結合ポリマー内に分散しているリン酸アルミニウムを含み、該コーティング組成物が金属基材に適用される場合、該リン酸アルミニウムが非晶質リン酸アルミニウムから基本的に構成され、
該コーティング組成物が、約1〜25重量パーセントの範囲のリン酸アルミニウムを含み、該コーティング組成物が、該金属基材に適用されて水及び酸素と接触する場合、約50〜500 ppmの範囲の制御されたホスフェート送達を与える、前記耐食性コーティング組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月17日(2014.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン系ポリマーを形成するための高圧重合プロセスであって、該プロセスは、以下のステップを含み：
Ａ．連鎖移動剤系（ＣＴＡ系）およびエチレンを含む第１供給材料を、重合条件で動作する第１オートクレーブリアクター領域に注入して、第１領域反応生成物を生成するステップであって、前記第１リアクター領域のＣＴＡ系は、移動活性Ｚ１を有するステップと；
Ｂ．（１）前記第１領域反応生成物の少なくとも一部を、第２オートクレーブリアクター領域または管状リアクター領域から選択される第２リアクター領域に移し、重合条件で動作させるステップと、任意に、（２）第２供給材料を前記第２リアクター領域に新たに注入して、第２領域反応生成物を生成するステップ；ここで、前記第１リアクター領域生成物および新たに注入される供給材料の少なくとも１つは、移動活性Ｚ２を有するＣＴＡ系を含み；
ここで、Ｚ１：Ｚ２の比は、１より大きい
プロセス。
【請求項２】
（ｉ−１）番目の反応領域において生成された領域反応生成物を（ｉ）番目の反応領域へ移すステップ（ここで、３≦ｉ≦ｎかつｎ≧３であり、各領域は重合条件で動作する）、および任意に、ＣＴＡ系を含む（ｉ）番目の供給材料を前記（ｉ）番目の反応領域に添加するステップの１つ以上をさらに含み、
前記（ｉ）番目の反応領域のＣＴＡ系は、移動活性Ｚｉを有し、
Ｚ１／Ｚｉの比は、１より大きい
請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプロセスによって作られた、エチレン系ポリマー。
【請求項４】
請求項３に記載のエチレン系ポリマーを含む組成物。
【請求項５】
請求項３に記載のエチレン系ポリマーを含む少なくとも１つの構成要素を含む物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１１】
本発明を、前述の好ましい実施形態の記述を通してある程度詳細に記述してきたが、こうした詳記は例示を主たる目的としている。当業者は、以下の特許請求の範囲に記述する本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、多くの変形および改変を行うことができる。
以下に、本願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］  エチレン系ポリマーを形成するための高圧重合プロセスであって、該プロセスは、以下のステップを含み：
Ａ．連鎖移動剤系（ＣＴＡ系）およびエチレンを含む第１供給材料を、重合条件で動作する第１オートクレーブリアクター領域に注入して、第１領域反応生成物を生成するステップであって、前記第１リアクター領域のＣＴＡ系は、移動活性Ｚ１を有するステップと；
Ｂ．（１）前記第１領域反応生成物の少なくとも一部を、第２オートクレーブリアクター領域または管状リアクター領域から選択される第２リアクター領域に移し、重合条件で動作させるステップと、任意に、（２）第２供給材料を前記第２リアクター領域に新たに注入して、第２領域反応生成物を生成するステップ；ここで、前記第１リアクター領域生成物および新たに注入される供給材料の少なくとも１つは、移動活性Ｚ２を有するＣＴＡ系を含み；
ここで、Ｚ１：Ｚ２の比は、１より大きい
プロセス。
［２］  （ｉ−１）番目の反応領域において生成された領域反応生成物を（ｉ）番目の反応領域へ移すステップ（ここで、３≦ｉ≦ｎかつｎ≧３であり、各領域は重合条件で動作する）、および任意に、ＣＴＡ系を含む（ｉ）番目の供給材料を前記（ｉ）番目の反応領域に添加するステップの１つ以上をさらに含み、
前記（ｉ）番目の反応領域のＣＴＡ系は、移動活性Ｚｉを有し、
Ｚ１／Ｚｉの比は、１より大きい
［１］に記載のプロセス。
［３］  前記第２供給材料がエチレンを含む、［１］または［２］に記載のプロセス。
［４］  前記第１領域反応生成物の少なくとも一部が第２オートクレーブリアクター領域に移される、［１］〜［３］のいずれかに記載のプロセス。
［５］  前記第１領域反応生成物の少なくとも一部が管状リアクター領域に移される、［１］〜［４］のいずれかに記載のプロセス。
［６］  各リアクター領域への各供給材料が同一のＣＴＡ系を含有する、［１］〜［５］のいずれかに記載のプロセス。
［７］  少なくとも１種のＣＴＡが０．００３より大きい連鎖移動定数Ｃｓを有する、［１］〜［６］のいずれかに記載のプロセス。
［８］  前記リアクター領域における前記重合条件の各々は、独立に、１００℃以上の温度、および１００ＭＰａ以上の圧力を含む、［１］〜［７］のいずれかに記載のプロセス。
［９］  Ｚ１／Ｚ２の比および各Ｚ１／Ｚｉの比が１．０３より大きい、［１］〜［９］のいずれかに記載のプロセス。
［１０］  Ｚ１／Ｚ２の比および各Ｚ１／Ｚｉの比が１０より小さい、［１］〜［９］のいずれかに記載のプロセス。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載のプロセスによって作られた、エチレン系ポリマー。
［１２］  ０．９２６〜０．９４ｇ／ｃｍ３の密度、および０．２〜５ｇ／１０分のメルトインデックスをさらに含む、［１１］に記載のエチレン系ポリマー。
［１３］  前記ポリマーがポリエチレンホモポリマーである、［１１］〜［１２］のいずれかに記載のエチレン系ポリマー。
［１４］  前記ポリマーがエチレン系インターポリマーである、［１１］〜［１２］のいずれかに記載のエチレン系ポリマー。
［１５］  ［１１］〜［１４］のいずれかに記載のエチレン系ポリマーを含む組成物。
［１６］  ［１１］〜［１４］のいずれかに記載のエチレン系ポリマーを含む少なくとも１つの構成要素を含む物品。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月29日(2014.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支払口座に関連する第１の情報と、買得品に関連する第２の情報とを含む記憶データを提供するための通信装置と、
手動入力を受け取るための装置と、
を有する支払電話機を備え、前記第２の情報が、前記手動入力の結果として前記データ内に提供され、
前記データを受け取って複数の買得品から前記買得品を検索するためのリモートサーバをさらに備え、前記第１の情報に少なくとも部分的に基づいて購入取引が完了し、前記第２の情報に少なくとも部分的に基づいて買得品の償還が完了する、
ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記支払装置が、支払いカードである、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記支払装置が、携帯電話である、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記通信装置が、ＲＦベースの通信装置を備える、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記通信装置が、動的磁気ストライプ通信装置を備える、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記支払装置が、ディスプレイをさらに備える、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
支払口座に関連する第１の情報と、買得品に関連する第２の情報とを含む記憶データを提供する手段と、
手動入力を受け取る手段と、
を有する支払装置を備え、前記第２の情報が、前記手動入力の結果として前記データ内に提供され、
前記データを受け取って複数の買得品から前記買得品を検索する手段をさらに備え、前記第１の情報に少なくとも部分的に基づいて購入取引が完了し、前記第２の情報に少なくとも部分的に基づいて買得品の償還が完了する、
ことを特徴とするシステム。
【請求項８】
前記支払装置が、支払いカードである、
ことを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記支払装置が、携帯電話機である、
ことを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項１０】
前記記憶データを提供する手段が、ＲＦベースの通信装置を含む、
ことを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項１１】
前記記憶データを提供する手段が、動的磁気ストライプ通信装置を含む、
ことを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項１２】
前記支払装置が、データ表示手段を更に含む、
ことを特徴とする請求項７に記載のシステム。