Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月2日(2012.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロベシクル表面マーカーを用いて生物学的サンプルからガン由来マイクロベシクルの集団を単離し、該ガン由来マイクロベシクルの集団からマイクロRNAを単離して該ガン由来マイクロベシクル中の１又はそれより多いマイクロRNAの存在を決定することを含んでなる、マイクロベシクル中の１又はそれより多いマイクロRNAの存在を評価する方法。
【請求項２】
生物学的サンプルからガン由来細胞外マイクロベシクルの集団を単離し、該ガン由来細胞外マイクロベシクルの集団からマイクロRNAを単離して、１又はそれより多いマイクロRNAの発現プロフィールを決定し、該発現プロフィールを選択した参照サンプルからのプロフィールと比較して前記マイクロベシクル中の１又はそれより多いバイオマーカーの存在を決定することを含んでなる、マイクロベシクル中の１又はそれより多いバイオマーカーの存在を決定する方法。
【請求項３】
前記生物学的サンプルがヒト由来である請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記生物学的サンプルが乳、血液、血清、血漿、腹水、嚢胞液、胸膜液、腹膜液、脳脊髄液、涙、尿、唾液、痰又はこれらの組合せを含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記表面マーカーがEpCAMである請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記表面マーカーが、EpCAM、Fasリガンド、PD-1、MICA/B、mdr1、MMPs、CD44、自己反応性抗原、テトラスパニン及びMHCクラスＩ分子からなる群より選択される請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記決定工程が前記１又はそれより多いマイクロRNAを検出可能標識で標識することを含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記決定が前記１又はそれより多いマイクロRNAを、該１又はそれより多いマイクロRNAの各々に選択的に結合する１又はそれより多いポリヌクレオチドプローブで捕捉することを含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記決定がリアルタイムポリメラーゼ連鎖反応を用いることを含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記１又はそれより多いマイクロRNAが下記の表１：
【表１−１】
2010534480.tif 000001
【表１−２】
2010534480.tif 000002
【表１−３】
2010534480.tif 000003
【表１−４】
2010534480.tif 000004
【表１−５】
2010534480.tif 000005
【表１−６】
2010534480.tif 000006
【表１−７】
2010534480.tif 000007
【表１−８】
2010534480.tif 000008
に記載の１又はそれより多いマイクロRNAを含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記１又はそれより多いマイクロRNAが下記の表２：
【表２−１】
2010534480.tif 000009
【表２−２】
2010534480.tif 000010
に記載の１又はそれより多いマイクロRNAを含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記単離が、サイズ排除クロマトグラフィー、濾過又は免疫吸着捕捉を用いることを含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記マイクロRNAがmiR-21、miR-141、miR-200a、miR-200b、miR-200c、miR-203、miR-205及びmiR-214からなる群より選択される１又はそれより多いマイクロRNAを含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記生物学的サンプルがヒト由来である請求項２に記載の方法。
【請求項１５】
前記生物学的サンプルが乳、血液、血清、血漿、腹水、嚢胞液、胸膜液、腹膜液、脳脊髄液、涙、尿、唾液、痰又はこれらの組合せを含んでなる請求項２に記載の方法。
【請求項１６】
前記決定工程が前記１又はそれより多いマイクロRNAを検出可能標識で標識することを含んでなる請求項２に記載の方法。
【請求項１７】
前記決定が前記１又はそれより多いマイクロRNAを、該１又はそれより多いマイクロRNAの各々に選択的に結合する１又はそれより多いポリヌクレオチドプローブで捕捉することを含んでなる請求項２に記載の方法。
【請求項１８】
前記決定がリアルタイムポリメラーゼ連鎖反応を用いることを含んでなる請求項２に記載の方法。
【請求項１９】
前記１又はそれより多いマイクロRNAが下記の表１：
【表３−１】
2010534480.tif 000011
【表３−２】
2010534480.tif 000012
【表３−３】
2010534480.tif 000013
【表３−４】
2010534480.tif 000014
【表３−５】
2010534480.tif 000015
【表３−６】
2010534480.tif 000016
【表３−７】
2010534480.tif 000017
【表３−８】
2010534480.tif 000018
に記載の１又はそれより多いマイクロRNAを含んでなる請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記１又はそれより多いマイクロRNAが下記の表２：
【表４−１】
2010534480.tif 000019
【表４−２】
2010534480.tif 000020
に記載の１又はそれより多いマイクロRNAを含んでなる請求項２に記載の方法。
【請求項２１】
前記単離が、サイズ排除クロマトグラフィー、濾過又は免疫吸着捕捉を用いることを含んでなる請求項２に記載の方法。
【請求項２２】
前記マイクロRNAがmiR-21、miR-141、miR-200a、miR-200b、miR-200c、miR-203、miR-205及びmiR-214からなる群より選択される１又はそれより多いマイクロRNAを含んでなる請求項２に記載の方法。
【請求項２３】
前記表面マーカーがEpCAMである請求項９に記載の方法。
【請求項２４】
前記表面マーカーが、EpCAM、Fasリガンド、PD-1、MICA/B、mdr1、MMPs、CD44、自己反応性抗原、テトラスパニン及びMHCクラスＩ分子からなる群より選択される請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月19日(2011.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザ、波長変換素子、集成レンズ、及び１つ以上の可調光学コンポーネントを有する光学パッケージにおいて、
前記集成レンズ及び前記可調光学コンポーネントが、前記半導体レーザの出力ビームを前記波長変換素子の入力面に向けるため、及び前記波長変換素子の前記入力面上の前記光ビームの位置を変移させるために構成される、及び
前記集成レンズ及び前記可調光学コンポーネントがさらに、折返し光路を、前記半導体レーザから前記光路に沿って伝搬するレーザ光が初めに前記集成レンズによってコリメートまたはほぼコリメートされてから前記可調光学コンポーネントによって反射され、前記可調光学コンポーネントによって反射された後に、前記波長変換素子の前記入力面上に前記集成レンズによって集束されるように、定めるために構成される
ことを特徴とする光学パッケージ。
【請求項２】
前記集成レンズ及び前記可調光学コンポーネントが、
前記半導体レーザからのレーザ光出力が、順次に、前記集成レンズの第１の面で屈折され、前記集成レンズの第２の面で屈折されて、前記可調光学コンポーネントによって前記集成レンズの方向に反射される、及び
前記レーザ光が反射されて前記集成レンズの方向に戻されると、前記波長変換素子の前記入力面上での集束のために、前記レーザ光が初めに前記集成レンズの前記第２の面で屈折され、続いて前記集成レンズの前記第１の面で屈折される、
ように構成されることを特徴とする請求項１に記載の光学パッケージ。
【請求項３】
前記半導体レーザ、前記波長変換素子及び前記集成レンズが、前記半導体レーザの出力導波路と前記波長変換素子の入力導波路が前記集成レンズの光軸に対して対称であるように、構成されることを特徴とする請求項１に記載の光学パッケージ。
【請求項４】
前記集成レンズと前記可調光学コンポーネントが、前記半導体レーザからのレーザ光出力が初めに前記集成レンズを通過して前記可調光学コンポーネントにコリメートまたはほぼコリメートされたビームとして達し、続いて前記集成レンズを通って戻り、前記波長変換素子上に集束されるように、前記光路を折り返すために構成されることを特徴とする請求項１に記載の光学パッケージ
【請求項５】
前記可調光学コンポーネントが、前記波長変換素子の前記入力面上のビームスポットの位置を変移させるために構成されて、配置された、１つ以上の可動超小型光−電気機械ミラーを有することを特徴とする請求項１に記載の光学パッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月11日(2012.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路（ＩＣ）を設計する方法において、
前記ＩＣの一部分に対する配置判断を決定するステップと、
前記配置判断に基づいて不完全な配置情報を決定するステップと、
前記不完全な配置情報を使用して高レベル回路表現で設計の１又は複数の合成変換を決定するステップと、
を備え、前記不完全な配置情報は、前記ＩＣの前記一部分に対するリソースの位置を含むものである、方法。
【請求項２】
高レベル回路記述は、チッププリミティブでの具現化をコンポーネントに対して選択していない少なくとも１つのコンポーネントを含む表現である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
以前に合成された高レベル回路表現の一部分に対して合成変換を繰り返すステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
高レベル回路記述からの合成をまだ完了しなければならない間に配置の判断を決定するステップを更に備えた、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記合成変換は、
アダーツリー分解、
ＡＮＤ／ＯＲゲート分解、
ネットリストの平坦化、
電子的マルチプレクサ分解、
ロジック最適化、
ロジック分解、
アンドゥ／ドゥリソースシェアリング
ロジック複写、
ロジック因子分解、
シャノン展開、
ビットスプライシング、
ｍｕｘ／ｐｍｕｘコラプス及びタイミング駆動分解、及び
迂回除去、
の１つである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記合成変換は、高レベル回路表現からコンパイルされたＲＴＬコンポーネントをアッセンブルする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記合成変換は、増分的である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記合成変換は、回路設計の一部分に対する少数のオブジェクトの部分的合成である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
デジタル処理システムで実行されたときに、そのデジタル処理システムが、請求項１から８のいずれかに記載の集積回路（ＩＣ）を設計する方法を遂行するようにさせる複数の実行可能なインストラクションを含むマシン読み取り可能な媒体。
【請求項１０】
集積回路（ＩＣ）を設計するデータ処理システムであって、
前記ＩＣの一部分に対する配置判断を決定する手段と、
前記配置判断に基づいて不完全な配置情報を決定する手段と、
前記不完全な配置情報を使用して高レベル回路表現で設計の１又は複数の合成変換を決定する手段と、
を備え、前記不完全な配置情報は、前記ＩＣの前記一部分に対するリソースの位置を含むものである、データ処理システム。
【請求項１１】
高レベル回路記述は、チッププリミティブでの具現化をコンポーネントに対して選択していない少なくとも１つのコンポーネントを含む表現である、請求項１０に記載のデータ処理システム。
【請求項１２】
以前に合成された高レベル回路表現の一部分に対して合成変換を繰り返す手段を更に備えた、請求項１０に記載のデータ処理システム。
【請求項１３】
高レベル回路記述からの合成をまだ完了しなければならない間に配置の判断を決定する手段を更に備えた、請求項１０に記載のデータ処理システム。
【請求項１４】
前記合成変換は、
アダーツリー分解、
ＡＮＤ／ＯＲゲート分解、
ネットリストの平坦化、
電子的マルチプレクサ分解、
ロジック最適化、
ロジック分解、
アンドゥ／ドゥリソースシェアリング
ロジック複写、
ロジック因子分解、
シャノン展開、
ビットスプライシング、
ｍｕｘ／ｐｍｕｘコラプス及びタイミング駆動分解、及び
迂回除去、
の１つである、請求項１０に記載のデータ処理システム。
【請求項１５】
前記合成変換は、高レベル回路表現からコンパイルされたＲＴＬコンポーネントをアッセンブルする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記合成変換は、増分的である、請求項１０に記載のデータ処理システム。
【請求項１７】
前記合成変換は、回路設計の一部分に対する少数のオブジェクトの部分的合成である、請求項１０に記載のデータ処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月11日(2012.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チップ上の集積回路のインスタンス配置におけるインスタンスに対する全力を計算する方法において、
インスタンスと要素との間の力を計算するステップであって、前記要素は、集積回路の別のインスタンス及びチップ上のチップリソースの少なくとも１つであり、そして前記力は、前記インスタンスと前記要素との間の距離の関数であるようなステップと、
前記インスタンスの近傍を、前記インスタンスへの距離に基づいて複数の近傍エリアへ区画化するステップと、
前記インスタンスにおける複数の近傍力を各近傍エリアのインスタンスと要素との間の力の関数として計算するステップと、
前記インスタンスに対する全力を前記近傍力の重み付けされた和により計算するステップと、
を備えた方法。
【請求項２】
前記インスタンスの近傍は、３つの近傍エリア、即ちローカル近傍エリア、中間近傍エリア、及びロングレンジ近傍エリアへ区画化される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記近傍エリアは、ショートレンジ近傍を含み、更に、ショートレンジ近傍力の重みは、ショートレンジ近傍エリアにおけるインスタンスの密度に比例する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記近傍エリアは、ロングレンジ近傍を含み、更に、ロングレンジ近傍力の重みは、ショートレンジ近傍エリアにおけるインスタンスの密度に逆比例する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記近傍エリアは、更に、インスタンスを取り巻く使用を合法化するために要求されるエリアにより決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記複数の近傍力のうちの近傍力は、リソース形式力の重み付けされた和によって計算され、各リソース形式力は、前記インスタンスと、同じリソース形式の集積回路における他のインスタンスの部分との間の力、及び前記インスタンスと同じリソース形式のチップリソースとの間の力を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
集積回路のインスタンス配置における非プリミティブなインスタンスに対する全力を計算する方法であって、前記非プリミティブなインスタンスは、２つ以上の形式のリソースを消費するものである方法において、
各形式の非プリミティブなインスタンスを各リソース形式レイヤに指定するステップであって、そのリソース形式レイヤは、リソース形式の表現であるようなステップと、
前記リソース形式レイヤに対するリソース形式レイヤ力を前記インスタンスと前記リソース形式レイヤにおける他のインスタンス及びリソースとの間の力の関数として計算するステップと、
前記インスタンスに対する全力を前記リソース形式レイヤ力の重み付けされた和によって計算するステップと、
を備えた方法。
【請求項８】
前記重みは、均一な重みである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記重みは、レイヤのリソースの離散度の関数である、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
集積回路のインスタンス配置におけるインスタンスに対する全力を計算する方法において、
前記インスタンスの一部分に対して複数のリソース形式を決定するステップと、
前記インスタンスの前記一部分を、リソース形式の表現である各リソース形式レイヤに配置するステップと、
前記インスタンスに対する全力を前記リソース形式レイヤからの力の関数として計算するステップと、
を備えた方法。
【請求項１１】
前記全力は、前記リソース形式レイヤからの力の重み付けされた和である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記リソース形式レイヤからの力は、前記インスタンスと前記リソース形式レイヤにおける他のインスタンスとの間の力を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記リソース形式レイヤからの力は、前記インスタンスと前記リソース形式レイヤにおけるリソースとの間の力を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記重みは、均一な重みである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記重みは、レイヤのリソースの離散度の関数である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記全力は、前記リソース形式レイヤからの力の中で最小の大きさをもつ力である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
集積回路のインスタンス配置におけるインスタンスに対する全力を計算する方法において、
１つのリソース形式レイヤにしか指定できないインスタンスの単一リソース部分を決定するステップであって、そのリソース形式レイヤがリソース形式の表現であるようなステップと、
前記インスタンスの単一リソース部分をそれに対応するリソース形式レイヤに配置するステップと、
前記インスタンスに対する全力をそれに対応するリソース形式レイヤからの力の関数として計算するステップと、
複数の潜在的なリソース形式レイヤに指定できるインスタンスのマルチリソース部分を決定するステップと、
前記インスタンスのマルチリソース部分を各潜在的なリソース形式レイヤに配置することにより生じる破壊的メトリックを計算するステップと、
前記インスタンスのマルチリソース部分を、最小の破壊的メトリックを与える潜在的なリソース形式レイヤに配置するステップと、
を備えた方法。
【請求項１８】
前記破壊的メトリックは、インスタンスに対するより大きな力で表される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記インスタンスに対する力は、前記インスタンスと、同じリソース形式レイヤにおける他のインスタンスとの間の反発力、及び前記インスタンスと、同じリソース形式レイヤにおけるリソースとの間の吸引力を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
デジタル処理システムで実行されたときに、そのデジタル処理システムが、請求項１から１９のいずれかの方法を遂行するようにさせる複数の実行可能なインストラクションを含むマシン読み取り可能な媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月21日(2011.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリプレス・フレキソグラフィ印刷版をマスキング・フィルムと光学的接触させて配置するために、該プリプレス・フレキソグラフィ印刷版上に該マスキング・フィルムをラミネートする方法であって、
ラミネーション・ローラと真空テーブルとの間のニップ内で、カバーシートを含むラミネート前フレキソグラフィ印刷版を、マスキング・フィルムと整合させる工程、ここで当該ラミネーション・ローラは、１つ又は２つ以上のラミネーション曲げ板を含み、支持ガントリーによって独立して支持されている；
フレキソグラフィ印刷版を製造するために、該ニップに隣接するプラウを使用して、ラミネート前フレキソグラフィ印刷版から該カバーシートを除去する工程；
キャリッジ及び支持ガントリーを使用して、横方向歪みを最小化する、該フレキソグラフィ印刷版と該マスキング・フィルムとの光学的接触を達成するために、均衡のとれた、歪ませない最適化ラミネーション力（ＦL）を、該フレキソグラフィ印刷版及び該マスキング・フィルムに、前記除去工程と同時に加えることによって、ラミネートする工程
を含んで成る方法。
【請求項２】
該均衡のとれた、歪ませない最適化ラミネーション力（ＦL）が、独立して支持されたポリウレタン被覆ラミネーション・ローラに対する自動自己整合補正を用いることをさらに含み、１つ又は２つ以上の自動工程が、時間又はセンサ測定値のうちの少なくとも一方に対して応答するコントローラをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
プリプレス・フレキソグラフィ印刷版上にマスキング・フィルムをラミネートするプリプレス・フレキソグラフィ版ラミネータであって：
ラミネーション中、フレキソグラフィ印刷版及びマスキング・フィルムに対する横方向歪みを最小化するために、１つ又は２つ以上のラミネーション曲げ板を含む、キャリッジを独立して支持する支持ガントリーと；
該フレキソグラフィ印刷版と該マスキング・フィルムとの光学的接触を達成するように、均衡のとれた、歪ませない最適化ラミネーション力（ＦL）を該フレキソグラフィ印刷版と該マスキング・フィルムとに加えるために、真空テーブルと一緒にニップを形成する、該ガントリーによって独立して支持された、該キャリッジに取り付けられたラミネーション・ローラと；
該マスキング・フィルムを適用しながら、ラミネート前フレキソグラフィ印刷版からカバーシートを除去するための、該ニップに隣接するプラウと；
該ラミネーション・ローラを２つのサイドレールに沿って動かして、該ラミネート前シートを均一なラミネーション力に曝すために、該ガントリーに取り付けられた中心ねじと
を含んで成るプリプレス・フレキソグラフィ版ラミネータ。
【請求項４】
プリプレス・フレキソグラフィ印刷版上に該マスキング・フィルムをラミネートするプリプレス・フレキソグラフィ版ラミネータであって：
ラミネーション中、フレキソグラフィ印刷版及びマスキング・フィルムに対する横方向歪みを最小化するための、各サイドに調節可能な版依存性錘が取り付けられた支持キャリッジと、
ラミネーション中に該フレキソグラフィ印刷版と該マスキング・フィルムとの光学的接触を達成するように、均衡のとれた、歪ませない最適化ラミネーション力（ＦL）を該フレキソグラフィ印刷版と該マスキング・フィルムとに加えるために真空テーブルと一緒にニップを形成する、該キャリッジによって独立して支持されたラミネーション・ローラと；
該マスキング・フィルムを適用しながら、ラミネート前フレキソグラフィ印刷版からカバーシートを除去するための、該ニップに隣接するプラウと
を含んで成るプリプレス・フレキソグラフィ版ラミネータ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月10日(2012.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセスであって、
ａ）  反応ゾーンにおいて、
１以上のＣ３からＣ２０のアルファ−オレフィンモノマーと、
非配位性アニオン活性剤と、
ラセミ異性体含有量が約３５ｗｔ％未満の、一架橋メソメタロセン遷移金属化合物と、
アルキルアルミニウム化合物及びアルキルアルモキサンからなる群から選択される助活性剤とを、０から６０ｐｓｉ（０から４１４ｋＰａ）の水素の存在下において接触させる工程を含み、
ここで、活性剤対メソ−メタロセンのモル比が１０：１から０．１：１であり、
アルキルアルモキサンが用いられるときは、アルキルアルモキサン対メソ−メタロセンのモル比が０．１：１未満で用いられることを条件とし、
アルキルアルミニウム化合物が用いられるときは、アルキルアルミニウム化合物対メソ−メタロセンのモル比が２：１から１０，０００対１で用いられることを条件とし、
反応ゾーンに供給されるモノマー中のエチレンが３０容量％を超えないことを条件とし、
供給成分中のアルファ−オレフィンモノマーの量が、メソ−メタロセン、非配位性アニオン活性剤、助活性剤、モノマー、及び溶媒または希釈剤の重量を基準として、少なくとも２０ｗｔ％以上であることを条件とし、
ｉ）  このプロセスの遷移金属化合物１グラムに対する全製品の生産性が少なくとも５０，０００ｇであり（ここで、全製品は、反応器を出る生産物の量から未反応モノマーと溶媒を引いた値と定義される）、また、
ｉｉ）  ５％を超えないモノマーがオレフィンからアルカンに転換され、
ｂ）  流動点が２５℃未満、ＫＶ１００が２ｃＳｔから６０００ｃＳｔ、二量体が２０ｗ％以下で、粘度指数６０以上の液状ポリアルファ−オレフィンを得る、液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【請求項２】
前記メソ-メタロセン触媒が下式で表され、
【化１】
2010534762.tif 000001
ここで、Ｍは第４族金属の中心金属であり；
Ｃｐ及びＣｐ*は、いずれもＭに結合したシクロペンタジエニル環であって、０から４個の置換基Ｓ”で置換された同一または異なるシクロペンタジエニル環であり、
置換基Ｓ”はそれぞれ独立してヒドロカルビル基、置換されたヒドロカルビル基、ハロカルビル基、置換されたハロカルビル基、シリルカルビル基、ゲルミルカルビル基のいずれかであるか、
またはＣｐ及びＣｐ*は、同一または異なるシクロペンタジエニル環であって、いずれかの隣接する置換基Ｓ”が任意に結合して、置換または非置換、飽和、一部不飽和、または芳香族環または多環式の置換基を形成し；
Ａ’は架橋基であり；
Ｘ１とＸ２はそれぞれ独立して、ヒドリド基、 ヒドロカルビル基、置換されたヒドロカルビル基、ハロカルビル基、置換されたハロカルビル基、シリルカルビル基、置換されたシリルカルビル基、ゲルミルカルビル基、置換されたゲルミルカルビル基のいずれかであるか；
または、Ｘ１とＸ２は金属原子に結合し、さらに互いに結合して炭素原子を約３個から約２０個含むメタラサイクル環を形成するか；
または、Ｘ１とＸ２の両者はともに、オレフィン、ジオレフィン、またはアラインリガンドであり；
または、上記のＸリガンドを遷移金属成分に供与可能なメチルアルモキサン等のルイス酸活性剤が用いられる場合、Ｘ１とＸ２はそれぞれ独立して、ハロゲン、アルコキシド、アリルオキシド、アミド、ホスフィド、または他の一価のアニオン性リガンドであるか、
またはＸ１とＸ２は結合して、アニオン性のキレートリガンドを形成する、請求項１に記載の液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【請求項３】
Ｍがチタン、ジルコニウム、またはハフニウムである、請求項２に記載の液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【請求項４】
Ｋｖ１００が１５０以上である、請求項１から３のいずれか１項に記載の液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【請求項５】
全製品の９５％より多い量が、１８より多い炭素原子を有する、請求項１から４のいずれか１項に記載の液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【請求項６】
メソ-メタロセンが、メソ-ジメチルシリルビス(2-メチルインデニル)ジルコニウムジハライド、メソ-エチレンビス(インデニル)ジルコニウムジハライド、メソ-ジメチルシリルビス(2-メチルインデニル)ジルコニウムジアルキル、及びメソ-エチレンビス(インデニル)ジルコニウムジアルキルからなる群から選択される、請求項１から５のいずれか１項に記載の液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【請求項７】
助活性剤が式Ｒ’３Ａｌで表され、Ｒ’がそれぞれ独立して、メチル、エチル、n-プロピル、イソ-プロピル、イソ-ブチル、n-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソ-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、イソ-ヘキシル、n-ヘプチル、イソ-ヘプチル、n-オクチル、イソ-オクチル、n-ノニル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドデシル、n-トリデシル、n-テトラデシル、n-ペンタデシル、n-ヘキサデシル、n-ヘプタデシル、n-オクタデシル、及びこれらの異性体、から成る群から選択される、請求項１から６のいずれか１項に記載の液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【請求項８】
非配位性アニオン活性剤が、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N-ジアルキルフェニルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボロン、トリ-アルキルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラ-アルキルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペルフルオロナフチル)ボレート、N,N-ジアルキルフェニルアニリニウムテトラキス(ペルフルオロナフチル)ボレート、トリチルテトラキス(ペルフルオロナフチル)ボレート、トリス(ペルフルオロナフチル)ボロン、トリ-アルキルアンモニウムテトラキス(ペルフルオロナフチル)ボレート、または、テトラ-アルキルアンモニウムテトラキス(ペルフルオロナフチル)ボレートのいずれかである、請求項１から７のいずれか１項に記載の液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【請求項９】
ポリアルファ−オレフィンのＭｗ／Ｍｎが１．５から３．５の範囲である、請求項１から８のいずれか１項に記載の液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【請求項１０】
ポリアルファ−オレフィンの融点が０℃以下であるか、または、測定可能な融点が存在しない、請求項１から９のいずれか１項に記載の液状ポリアルファ−オレフィンを製造するプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月11日(2011.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オクチル化／ブチル化ジフェニルアミン７４．４〜７９．０質量％、フェノチアジン３．０〜３．６質量％及びオクタデシル（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオナート１８．０〜２２．０質量％を含有し、その際酸化防止剤の全質量は１００％である、液状酸化防止剤混合物。
【請求項２】
オクチル化／ブチル化ジフェニルアミン７６．７質量％、フェノチアジン３．３質量％及びオクタデシル（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオナート２０．０質量％を含有する、請求項１記載の液状混合物。
【請求項３】
４０℃で安定である、請求項１又は２記載の液状混合物。
【請求項４】
オクチル化／ブチル化ジフェニルアミン８４．８〜８７．５質量％、フェノチアジン３．４〜４．１質量％及びオクタデシル（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオナート９．１〜１１．１質量％を含有し、その際酸化防止剤の全質量は１００％である、液状酸化防止剤混合物。
【請求項５】
オクチル化／ブチル化ジフェニルアミン８６．２質量％、フェノチアジン３．８質量％及びオクタデシル（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオナート１０．０質量％を含有する、請求項４記載の液状酸化防止剤混合物。
【請求項６】
６０℃で安定である、請求項４又は５記載の液状酸化防止剤混合物。
【請求項７】
オクチル化／ブチル化ジフェニルアミン８９．２〜９１．２質量％、フェノチアジン３．５〜４．３質量％及びオクタデシル（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオナート５．３〜６．５質量％を含有し、その際酸化防止剤の全質量は１００％である、液状酸化防止剤混合物。
【請求項８】
オクチル化／ブチル化ジフェニルアミン９０．３質量％、フェノチアジン３．９質量％及びオクタデシル（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオナート５．８質量％を含有する、請求項７記載の液状酸化防止剤混合物。
【請求項９】
６０℃で安定である、請求項７又は８記載の液状酸化防止剤混合物。
【請求項１０】
オクタデシル（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオナートを、オクチル化／ブチル化ジフェニルアミン及びフェノチアジンの２つの成分の混合物に添加し、撹拌し、かつ、場合によりこの混合物を加熱することを含む、液状酸化防止剤混合物の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から９のいずれか１項記載の液状酸化防止剤混合物を組み込むか又は設けることを含む、ポリウレタン又はその前駆体を酸化、熱又は光により誘発される分解に対して安定化する方法。
【請求項１２】
酸化、熱又は光により誘発される分解に対してポリウレタン又はその前駆体を安定化するための請求項１から９のいずれか１項記載の液状酸化防止剤混合物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月16日(2012.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｉ）ａ）分子あたり３〜１０個のイソシアネート基を含む脂肪族または脂環式ポリイソシアネート；ｂ）１つのアルコキシ末端ポリオキシエチレンおよび／またはポリオキシプロピレン鎖を含む少なくとも１種の１，３−または１，２−非イオン性ジオールの反応から得られる、３０〜９９重量％の１種または２種以上の非イオン性親水性ポリイソシアネート；ｉｉ）１〜２０重量％、好ましくは５〜１５重量％の、式［ＲＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｓ］ｔＰ（＝Ｏ）−（ＯＨ）３−ｔ式中、Ｒは４〜２０個の炭素原子を有する飽和のまたは不飽和の、直鎖状または分枝状アルキル基であり、ｓは２〜２０の数であり、ｔは１または２である、を有する１種または２種以上の酸型エトキシル化アルコールホスフェート；ｉｉｉ）水と混和可能な０〜５０重量％の有機溶媒を含む、組成物。
【請求項２】
５〜１５重量％の酸型エトキシル化アルコールホスフェートを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
Ｒが、１２〜１５個の炭素原子を有する飽和の直鎖状または分枝状アルキル基であり、ｓが４〜１０の数である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
１つのアルコキシ末端ポリオキシエチレンおよび／またはポリオキシプロピレン鎖を含む１，３−または１，２−非イオン性ジオールが、一般式：【化１】
2010534731.tif 000001
式中：
【化２】
2010534731.tif 000002
または
【化３】
2010534731.tif 000003
Ｒ２およびＲ３は、同一であるかまたは互いに異なっており、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチルから選択され；ｎは、０〜４０の数であり；ｍは、０〜４０の数であり；合計ｎ＋ｍは、２０〜８０、好ましくは２０〜４０の数である、を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
ジオールが、式（Ｉ）【化４】
2010534731.tif 000004
式中、
【化５】
2010534731.tif 000005
であり、Ｒ２はメチルであり、Ｒ３はエチルであり、ｎは１５〜３０であり、ｍは０〜１０である、を有する１，３−ジオールである、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
非イオン性親水性ポリイソシアネートが、１，３−および／または１，２−非イオン性ジオールから誘導されるポリオキシエチレンおよび／またはポリオキシプロピレン鎖１〜２５重量％、ならびに、ポリイソシアネートと、メタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサノール、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキシエタン、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロールおよびトリメチロールプロパンならびにそれらの混合物のエトキシル化および／またはプロポキシル化誘導体から選択されるエトキシル化および／またはプロポキシル化アルコールとの反応から誘導されるポリオキシエチレンおよび／またはポリオキシプロピレン鎖０〜１０重量％を含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
非イオン性親水性ポリイソシアネートが、１，３−および／または１，２−非イオン性ジオールから誘導されるポリオキシエチレンおよび／またはポリオキシプロピレン鎖を３〜１５重量％含む、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
非イオン性親水性ポリイソシアネートが、ポリイソシアネート、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートまたはそれらの混合物の三量化、ビウレット化、ウレタン化またはアロファネート化から得られる化合物である、請求項５に記載の組成物。
【請求項９】
非イオン性親水性ポリイソシアネートがヘキサメチレンジイソシアネートからのイソシアヌラートである、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
有機溶媒が、アセトン、エチルメチルケトン、シクロヘキサノン、酸からのジメチルアミド、１，３−ジオキソラン、ジブチルエーテル、ジメチル、ジエチルまたはジブチルセロソルブ、ジメチル、ジエチルまたはジブチルカルビトール、プロピレングリコールジメチル、ジエチルまたはジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメトキシメタン、アジピン酸またはコハク酸のメチルエステル、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、グリオキサールテトラメチルアセタール、プロピレンカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルピロリドン、メチルピロリドンおよびそれらの混合物から選択される、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月22日(2011.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣＤ１３８に対する非ヒト抗体の抗原結合領域（ＡＢＲ）と、
少なくとも一部がヒト抗体のものである、更なる抗体領域と、
を含み、以下の（ａ）及び（ｂ）の少なくともいずれかであることを特徴とするＣＤ１３８を認識する改変された標的抗体、
（ａ）前記非ヒト抗体のＣＤ１３８に対する結合親和性を超える結合親和性でＣＤ１３８に結合する抗体、
（ｂ）ＣＤ１３８発現細胞のＣＤ１３８に均一に結合する抗体。
【請求項２】
更なる抗体領域が、ヒト抗体の重鎖定常領域及びその一部のいずれかを含む、少なくとも１つの定常領域であり、改変された標的抗体が、ＩｇＧ４アイソタイプのものである、請求項１に記載の改変された標的抗体。
【請求項３】
抗体が、非ヒト抗体のＣＤ１３８に対する結合親和性を超える結合親和性でＣＤ１３８に結合する、請求項２に記載の改変された標的抗体。
【請求項４】
抗体が、ＣＤ１３８発現細胞のＣＤ１３８に均一に結合する、請求項２に記載の改変された標的抗体。
【請求項５】
改変された標的抗体が、１５０％未満のターゲティング変動で、ＣＤ１３８に結合する、請求項４に記載の改変された標的抗体。
【請求項６】
ＡＢＲが、
（ａ）配列番号１で表されるアミノ酸配列のアミノ酸残基９９〜１１１を含む重鎖可変領域ＣＤＲ３と、
（ｂ）配列番号２で表されるアミノ酸配列のアミノ酸残基８９〜９７を含む軽鎖可変領域ＣＤＲ３と、
を含む、請求項１及び２のいずれかに記載の改変された標的抗体。
【請求項７】
ＡＢＲが更に、
（ａ）配列番号１で表されるアミノ酸配列のアミノ酸残基３１〜３５を含む重鎖可変領域ＣＤＲ１、及び配列番号１で表されるアミノ酸配列のアミノ酸残基５１〜６８を含む重鎖可変領域ＣＤＲ２と、
（ｂ）配列番号２で表されるアミノ酸配列のアミノ酸残基２４〜３４を含む軽鎖可変領域ＣＤＲ１、及び配列番号２で表されるアミノ酸配列のアミノ酸残基５０〜５６を含む軽鎖可変領域ＣＤＲ２と、
を含む、請求項６に記載の改変された標的抗体。
【請求項８】
更なる抗体領域が、
（ａ）配列番号１で表されるアミノ酸配列のアミノ酸残基１２３〜４４８、及び
（ｂ）配列番号２で表されるアミノ酸配列のアミノ酸残基１０８〜２１４、の少なくともいずれかと、
以下の（ｉ）及び（ｉｉ）の少なくともいずれかの突然変異とを含む、請求項６に記載の改変された標的抗体、
（ｉ）改変された標的抗体の抗体依存性細胞傷害性及び補体依存性細胞傷害性の少なくともいずれかを、維持させる或いは低下させる突然変異、
（ｉｉ）改変された標的抗体を安定化させる突然変異。
【請求項９】
非ヒト抗体の抗原結合領域が、マウス抗体のものである、請求項１及び２のいずれかに記載の改変された標的抗体。
【請求項１０】
改変された標的抗体が、キメラ抗体であり、非ヒト抗体がＢ−Ｂ４である、請求項１及び２のいずれかに記載の改変された標的抗体。
【請求項１１】
改変された標的抗体が、少なくとも１本の重鎖及び１本の軽鎖を含み、
前記重鎖が、（ａ）配列番号１で表されるアミノ酸配列と少なくとも約７０％の配列同一性を有するアミノ酸配列を有する重鎖であるか、
前記軽鎖が、（ｂ）配列番号２で表されるアミノ酸配列と少なくとも約７０％の配列同一性を有するアミノ酸配列を有する軽鎖であるか、或いは
前記重鎖と前記軽鎖がそれぞれ、（ａ）配列番号１で表されるアミノ酸配列と少なくとも約７０％の配列同一性を有するアミノ酸配列を有する重鎖である、及び（ｂ）配列番号２で表されるアミノ酸配列と少なくとも約７０％の配列同一性を有するアミノ酸配列を有する軽鎖である、
請求項３に記載の改変された標的抗体。
【請求項１２】
（ａ）重鎖のアミノ酸配列が、配列番号１で表されるアミノ酸配列と少なくとも約９０％の配列同一性を有し、
（ｂ）軽鎖のアミノ酸配列が、配列番号２で表されるアミノ酸配列と少なくとも約９０％の配列同一性を有する、請求項８に記載の改変された標的抗体。
【請求項１３】
ＡＢＲが、本質的に非ヒト抗体のＡＢＲから成る、請求項１及び２のいずれかに記載の改変された標的抗体。
【請求項１４】
請求項１及び２のいずれかに記載の抗体と、薬学的に許容される担体と、を含むことを特徴とする医薬組成物。
【請求項１５】
請求項１及び２のいずれかに記載の抗体を産生することを特徴とするハイブリドーマ。
【請求項１６】
抗体に基づくアッセイであって、請求項１及び２のいずれかに記載の抗体を含むことを特徴とするアッセイ。
【請求項１７】
免疫グロブリン重鎖及びその一部のいずれかのアミノ酸配列を含む単離ポリペプチドであって、前記免疫グロブリン重鎖及びその一部のいずれかのアミノ酸配列が、配列番号１で表されるアミノ酸配列と少なくとも７０％の配列同一性を有し、前記免疫グロブリン重鎖及びその一部のいずれかを含む標的剤がＣＤ１３８を標的とすることを特徴とする単離ポリペプチド。
【請求項１８】
免疫グロブリン重鎖及びその一部のいずれかの定常領域が、ＩｇＧ４アイソタイプ定常領域である、請求項１７に記載の単離ポリペプチド。
【請求項１９】
標的剤が、マウスヒトキメラ抗体である、請求項１７に記載の単離ポリペプチド。
【請求項２０】
免疫グロブリン軽鎖及びその一部のいずれかのアミノ酸配列を更に含み、前記免疫グロブリン軽鎖及びその一部のいずれかのアミノ酸配列が、配列番号２で表されるアミノ酸配列と少なくとも７０％の配列同一性を有する、請求項１７に記載の単離ポリペプチド。
【請求項２１】
免疫グロブリン重鎖のアミノ酸配列が、配列番号１で表されるアミノ酸配列と同一である、請求項１７に記載の単離ポリペプチド。
【請求項２２】
免疫グロブリン軽鎖のアミノ酸配列が、配列番号２で表されるアミノ酸配列と同一である、請求項２０及び２１のいずれかに記載の単離ポリペプチド。
【請求項２３】
試験管内で、ＣＤ１３８に均一に結合させる方法であって、
請求項１及び２のいずれかに記載の改変された標的抗体を提供する工程と、
前記改変された標的抗体をＣＤ１３８発現細胞に接種する工程と、
を含み、
前記改変された標的抗体が、前記ＣＤ１３８発現細胞上で発現しているＣＤ１３８に均一に結合することを特徴とする方法。
【請求項２４】
改変された標的抗体が、１５０％未満のターゲティング変動でＣＤ１３８に結合する、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
医薬において使用するための請求項１及び２のいずれかに記載の改変された標的抗体。
【請求項２６】
ＣＤ１３８発現細胞を伴う個体の治療に使用するための医薬を製造するための請求項２５に記載の改変された標的抗体の使用であって、
前記改変された標的抗体がＣＤ１３８発現細胞に発現したＣＤ１３８に均一に結合することを特徴とする使用。
【請求項２７】
改変された標的抗体が、１５０％未満のターゲティング変動でＣＤ１３８に結合する、請求項２６に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月15日(2011.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式
【化１】
2011509241.tif 000001
［式中、
ＲおよびＷは、場合によっては１、２、または３個の独立して選択されたアルキルまたはアルコキシ基で置換されていてもよい、６〜２０個の炭素原子を含む独立して選択されたアレーンであり、
Ｙは、存在しないか、またはＣ６〜Ｃ２０アレーンであり、
式中、
Ｍ１およびＭ３は存在しても存在しなくてもよく、存在する場合は独立して下記の基から選択され、
【化２】
2011509241.tif 000002
そして、Ｍ１およびＭ３は、＊印によって示された位置で、ノルボルネンまたはＲに結合されており；
Ｒ１およびＲ２は任意に、独立して、Ｃ１〜２０アルカンジイル、アルケンジイル、アルキンジイル、またはアレーンジイル基から選択され；
そして存在しても存在しなくてもよいＭ２は、Ｃ１〜２０アルカンジイル、アルケンジイル、アルキンジイル、またはアレーンジイル基である］
によって表される化合物。
【請求項２】
次式の構造
【化３】
2011509241.tif 000003
を有する、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
次式の構造
【化４】
2011509241.tif 000004
［式中、
存在しても存在しなくてもよいそれぞれのＲａ基は存在する場合は独立して、１個または複数のＣ１〜２０アルキルまたはアルコキシ基から選択され、そしてｘは整数の１、２、または３である］
を有する、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
次式の構造
【化５】
2011509241.tif 000005
［式中、
それぞれの存在しても存在しなくてもよいＲｂ基は存在する場合は独立して、１個または複数のＣ１〜２０アルキルまたはアルコキシ基から選択され、
そしてｘは整数の１、２、または３である］
を有する、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｍ３−Ｍ２−Ｍ１が、
【化６】
2011509241.tif 000006
であり、ここでｚおよびｚ’が独立して選択された整数の０、１、２、３、４、５、６、７、８、９、または１０である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項６】
ポリマーまたはコポリマーを調製するための方法であって、ａ）請求項１〜５のいずれか１項に記載の少なくとも１種のモノマー性化合物を開環メタセシス触媒と混合する工程、およびｂ）前記混合物を重合させて、次式：
【化７】
2011509241.tif 000007
の構造を有する少なくともいくつかのポリノルボルネニル繰り返し単位を含むポリマーを形成させる工程、を含む方法。
【請求項７】
次式によって表されるポリマー：
【化８】
2011509241.tif 000008
［式中、
ＲおよびＷは、場合によっては１、２、または３個の独立して選択されたアルキルまたはアルコキシ基で置換されていてもよい、６〜２０個の炭素原子を含む独立して選択されたアレーンであり、
Ｙは、存在しないか、またはＣ６〜Ｃ２０アレーンであり、
ｎは、５〜２０００の整数であり、
式中、
Ｍ１およびＭ３は存在しても存在しなくてもよく、存在する場合は独立して下記の基から選択され、
【化９】
2011509241.tif 000009
そして、Ｍ１およびＭ３は、＊印によって示された位置で、ノルボルネンまたはＲに結合されており；
Ｒ１およびＲ２は任意に、独立して、Ｃ１〜２０アルカンジイル、アルケンジイル、アルキンジイル、またはアレーンジイル基から選択され；
そして存在しても存在しなくてもよいＭ２は存在する場合は、Ｃ１〜２０アルカンジイル、アルケンジイル、アルキンジイル、またはアレーンジイル基である］
【請求項８】
次式の構造：
【化１０】
2011509241.tif 000010
を有する、請求項７に記載のポリマー。
【請求項９】
次式の構造：
【化１１】
2011509241.tif 000011
［式中、
それぞれの存在しても存在していなくてもよいＲａ基は存在する場合は独立して、１個または複数のＣ１〜２０アルキルまたはアルコキシ基から選択され、そして
ｘは整数の１、２、または３である］
を有する、請求項７に記載のポリマー。
【請求項１０】
次式の構造：
【化１２】
2011509241.tif 000012
［式中、
それぞれの存在しても存在しなくてもよいＲｂ基は存在する場合は独立して、１個または複数のＣ１〜２０アルキルまたはアルコキシ基から選択され、そしてｘは整数の１、２、または３である］
を有する、請求項７に記載のポリマー。
【請求項１１】
Ｍ３−Ｍ２−Ｍ１が、
【化１３】
2011509241.tif 000013
であり、ここでｚおよびｚ’が独立して選択された整数の０、１、２、３、４、５、６、７、８、９、または１０である、請求項７〜１０のいずれか一項に記載のポリマー。
【請求項１２】
請求項７〜１１のいずれか１項に記載の少なくとも１種のポリマーを含む、デバイス。
【請求項１３】
請求項７〜１１のいずれか１項に記載のポリ（ノルボルネン）ホモポリマーまたはポリ（ノルボルネン）コポリマー化合物を含む、有機エレクトロルミネセンスデバイス、電子輸送層、または発光層。
【請求項１４】
以下のもの：
【化１４】
2011509241.tif 000014
からなる群から選択される請求項１に記載の化合物。
【請求項１５】
以下のもの：
【化１５】
2011509241.tif 000015
およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項７に記載の化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月4日(2012.1.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式1：
【化１】
2011509297.tif 000001
［式中、
n=1〜4であり；
Xは、CまたはNであり；
R1〜R6は、同じであっても異なってもよく、下記から成る群から独立に選択され：H、C1-6アルキル、OCH3、OH、F、Cl、Br、CH2OH、CH2N(R7)2、C(O)R8、CH2CN、CF3；
ここで、R7は、HまたはC1-6アルキルであり；R8は、C1-6アルキルまたはアリールである］
で示される化合物。
【請求項２】
式1において、R1〜R6のいずれもが、パラ位で結合していない、請求項1に記載の化合物。
【請求項３】
nが1または2である、請求項1に記載の化合物。
【請求項４】
C1-6アルキルがメチルである、請求項1に記載の化合物。
【請求項５】
式2：
【化２】
2011509297.tif 000002
式2
［式中、
R1〜R4は、同じであっても異なってもよく、下記から成る群から独立に選択され：H、C1-6アルキル、OCH3、OH、F、Cl、Br、CH2OH、CH2N(R5)2、C(O)R6、CH2CNおよびCF3；
ここで、R5は、HまたはC1-6アルキルであり；R6は、C1-6アルキルまたはアリールである］
で示される、請求項1に記載の化合物。
【請求項６】
nが1または2である、請求項5に記載の化合物。
【請求項７】
C1-6アルキルがメチルである、請求項5に記載の化合物。
【請求項８】
式3：
【化３】
2011509297.tif 000003
式3
［式中、
R1およびR2は、同じであっても異なってもよく、下記から成る群から独立に選択され：H、CH3、C1-6アルキル、OCH3、OH、F、Cl、Br、CH2OH、CH2N(R3)2、C(O)R4、CH2CNおよびCF3；
ここで、R3は、HまたはC1-6アルキルであり；R4は、C1-6アルキルまたはアリールである］
で示される、請求項1に記載の化合物。
【請求項９】
nが1または2である、請求項8に記載の化合物。
【請求項１０】
C1-6アルキルがメチルである、請求項8に記載の化合物。
【請求項１１】
下記から成る群から選択される、請求項1に記載の化合物：
【化４】
2011509297.tif 000004
【請求項１２】
請求項1〜11のいずれかに記載の化合物および医薬的に許容される担体を含んで成る医薬組成物。
【請求項１３】
α2Bまたは2C受容体により仲介される疾患または状態を処置するための医薬組成物であって、請求項1〜11のいずれかに記載の化合物を有効成分として含有する組成物。
【請求項１４】
疾患または状態が、下記から成る群から選択される、請求項13に記載の組成物：緑内障、高眼内圧、虚血性神経障害、視神経障害、痛み、内臓痛、角膜痛、頭痛の痛み、片頭痛、癌の痛み、背部痛、過敏性腸症候群の痛み、筋肉痛、糖尿病性神経障害に関連する痛み、糖尿病性網膜症、他の網膜変性状態、脳卒中、認知障害、神経精神病的状態、薬物依存および嗜癖、禁断症状、脅迫性障害、肥満、インスリン抵抗性、ストレス関連状態、下痢、多尿、鼻閉、痙性、注意欠陥障害、精神病、不安、鬱病、自己免疫疾患、クローン病、胃炎、アルツハイマー病、パーキンソン病、ALS、および他の神経変性疾患。