【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年10月27日(2014.10.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
ファブリー・ペロー干渉計は、光学フィルターとして、例えば、分光センサに使用される。ファブリー・ペロー干渉計は、平行ミラーに基づいており、そのためファブリー・ペロー空洞はミラー間の間隙に形成される。ファブリー・ペロー干渉計の透過波長は、ミラー間の距離、すなわち間隙の幅を調整することによって、制御することができる。ファブリー・ペロー干渉計を製造するためにマイクロメカニカル技術を使用することは一般的である。そのような解決策は、例えば、フィンランド特許第９５８３８号明細書に記載されている。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
電気的可変同調型ファブリー・ペロー干渉計であって、
基板と、
基板上の第１のミラー構造と、
第２の可動式ミラー構造であって、ここで、第１及び第２のミラー構造は、実質的に平行な第１及び第２のミラーを含む、第２のミラー構造と、
第１及び第２のミラー間にあるファブリー・ペロー空洞と、
ミラー間の距離を電気的に制御するための電極と、を含み、
少なくとも１つのミラーが、ミラーの２つの他の層の間でミラーの層の役割を担う間隙を有することを特徴とする、ファブリー・ペロー干渉計。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
制御可能なファブリー・ペロー干渉計を製造するための方法であって、
基板が設けられ、
第１のミラーが基板上に設けられ、
第２の可動式ミラー構造が設けられ、ここで、第１及び第２のミラー構造は実質的に平行な第１及び第２のミラーを含み、
第１及び第２のミラー間にファブリー・ペロー空洞が設けられ、ここで、空洞を設けることは、第２のミラー構造を設ける前に第１及び第２のミラー構造間に犠牲層を設けることを含み、第２のミラー構造を設けた後に犠牲層が除去され、
ミラー間の距離を電気的に制御するための電極が設けられ、
間隙が少なくとも１つのミラー内に形成され、その間隙がミラーの２つの他の層の間でミラーの層の役割を担うことを特徴とする、方法。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
干渉計の空洞は、犠牲酸化シリコン層が除去された空間１２３により形成される。犠牲層は、例えば、第２のミラー構造の孔１５１を介して蒸気ＨＦによりエッチングされる。このように第２のミラーは、可動式になるであろう。酸化シリコン層は、干渉計の光学領域から除去されるが、酸化シリコン層のエッジ１１１からは除去されない。可動式上部ミラー及び下部固定式ミラーのエッジ間に残る酸化シリコン層は、可動式上部ミラーの支持体としての役割を担う。酸化シリコンは、直線状及び均一な位置で可動式ミラーを保つ。従って、酸化シリコン層を可動式層の支持体としても使用することが好ましいが、代わりに、可動式ミラーのエッジの上部に、及びエッジを超えて支持層を塗布することにより、可動式ミラーに支持体を具備することも可能である。そのような支持体は例えば、アルミニウムで作製される。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
ファブリー・ペロー空洞を形成するための犠牲層は、ＰＥＣＶＤ  ＴＥＰＯＳにより積層され（８０）、層がパターン化される（８１）。次に、可動式ミラーのための層が製造される。多結晶質シリコンの層が積層され（８２）、伝導領域がイオン注入及びアニーリングによって形成され（８３）、そして層がパターン化される（８４）。次に、層が、ＰＥＣＶＤ  ＴＥＯＳ積層を用いて、作製され（８５）、酸化ＴＥＯＳがパターン化される（８６）。多結晶質シリコンの層は、ＬＰＣＶＤ積層を用いて、形成され（８７）、酸化層がウェットエッチングされる（８８）。このように、可動式ミラーのための層が製造されている。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気的可変同調型ファブリー・ペロー干渉計であって、前記ファブリー・ペロー干渉計は、
基板と、
前記基板上に第１のミラーを具備しかつ固定される第１のミラー構造と、
前記基板上に第２のミラーを具備しかつ可動である第２のミラー構造と、
前記第１のミラー及び前記第２のミラーの間に配置されたファブリー・ペロー空洞と、
前記ミラー間の距離の電気的制御のための電極と、を具備し、
前記第１のミラー及び前記第２のミラーが、互いに平行であり、
前記第１のミラー及び前記第２のミラーのうち少なくとも１つが間隙を有し、前記間隙が、前記ミラーの層としての役割を、前記ミラーの向かい合って配置された層の間で担い、
前記ミラーの向かい合って配置された層が、間隙幅を光学領域全体にわたって一定の値に保つように、前記間隙を介して頸状部と接続されることを特徴とする、ファブリー・ペロー干渉計。
【請求項２】
前記ファブリー・ペロー干渉計が２つの多結晶質シリコン製の層をさらに具備し、前記間隙が前記層間にあることを特徴とする、請求項１に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項３】
前記第２のミラー構造が間隙を含むことを特徴とする、請求項１または２に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項４】
前記第１のミラー構造が間隙を含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項５】
前記間隙の幅が、λ／４であり、λは前記干渉計の通過帯域の中央波長であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項６】
前記ミラーの全ての層の光学的厚さが、λ／４であり、λは前記干渉計の通過帯域の中央波長であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項７】
前記基板が、前記干渉計の光学領域に孔または凹部を有することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項８】
前記基板が、前記干渉計の動作波長において不透明であり、そのため光学絞りを形成することを特徴とする、請求項７に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項９】
前記基板上に被膜があり、前記被膜は不透明であり、そのため光学絞りを形成することを特徴とする、請求項７に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項１０】
前記基板が前記干渉計の動作波長域において透明材料製であり、前記干渉計が光学絞りを形成するために分離層を有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項１１】
前記間隙が真空を有することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項１２】
前記間隙が、前記干渉計の動作波長域において透明である気体を含むことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項１３】
前記干渉計のミラーが、前記ミラー全体にわたって配置される、エッチング孔を有することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
【請求項１４】
制御可能なファブリー・ペロー干渉計を製造するための方法であって、前記方法は、
基板を設けることと、
前記基板に第１のミラーを具備しかつ固定される第１のミラー構造を設けることと、
前記基板に第２のミラーを具備しかつ可動である第２のミラー構造を設けることと、
前記第１のミラー及び前記第２のミラーの間にファブリー・ペロー空洞を配置することであって、ここで、前記空洞を配置することは、前記第２のミラー構造を配置する前に、前記第１のミラー構造及び前記第２のミラー構造の間に犠牲層を配置することを含み、前記犠牲層は、前記第２のミラー構造が配置された後に除去されることと、
前記ミラー間の距離を電気的に制御するための電極を設けることと、を含み、
前記第１のミラー及び前記第２のミラーが互いに平行であり、
間隙が前記第１のミラー及び前記第２のミラーのうち少なくとも１つの中に形成され、前記間隙が、前記ミラーの層としての役割を、前記ミラーの向かい合って配置された層の間で担い、
頸状部が、光学領域全体にわたって前記間隙の幅を一定値に保つように、前記ミラーの向かい合って配置された層の間に、前記間隙を介して、形成されることを特徴とする、方法。
【請求項１５】
２つの多結晶質シリコン製の層をさらに設けることであって、前記間隙が、前記２つの多結晶質シリコン製の層間に形成されることをさらに含むことを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
間隙が、前記第２のミラー構造内に作製されることを特徴とする、請求項１４または１５に記載の方法。
【請求項１７】
間隙が、前記第１のミラー構造内に作製されることを特徴とする、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記間隙が、λ／４の幅を有するように形成され、λは前記干渉計の通過帯域の中央波長であることを特徴とする、請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
前記ミラーの全ての層が、λ／４の光学的厚さを有して形成され、λは前記干渉計通過帯域の中央波長であることを特徴とする、請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
前記間隙は、真空を有するように作製されることを特徴とする、請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記間隙は、前記干渉計の動作波長において透明である気体を含むように作製されることを特徴とする、請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
孔または凹部が、光学絞りを形成するために、前記干渉計の光学領域にある前記基板に作製されることを特徴とする、請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
孔または凹部が、前記干渉計の光学領域にある前記基板に作製され、光学絞りを形成するために、不透明材料層が前記基板上に設けられることを特徴とする、請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
エッチング孔が、ミラーを介して作製され、前記エッチング孔は、前記ミラー全体にわたって配置されることを特徴とする、請求項１４〜２３のいずれか１項に記載の方法。