Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年4月8日(2014.4.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチプルステージ分岐予測システムであって、
条件付分岐命令に関連づけられた分岐ターゲットアドレスキャッシュ（ＢＴＡＣ）エントリを格納するように構成されたＢＴＡＣと、
前記条件付分岐命令の方向を予測するための状態情報を分岐履歴テーブルに格納し、前記状態情報を用いて前記方向を予測するように構成された分岐予測子回路と、ここで、前記分岐予測子回路は、前記条件付分岐命令が決定された場合、前記条件付分岐命令の分岐方向を受け取るようにさらに構成され、前記分岐履歴テーブルからアクセスされる、前記条件付分岐命令に関する格納された状態情報と、前記受け取られた分岐方向とに基づいて、前記ＢＴＡＣエントリを、置換えポリシーに従って管理するように構成された、
を備えるシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記分岐予測子回路は、前記ＢＴＡＣから前記ＢＴＡＣエントリを除去するように更に構成されたシステム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記分岐予測子回路は、延長された期間、前記ＢＴＡＣ内に前記ＢＴＡＣエントリを保持するように更に構成されたシステム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記ＢＴＡＣは、１つ又は複数の格納されたエントリを置換え順序で保持するように構成され、前記分岐予測子回路は、前記置換え順序にある前記ＢＴＡＣエントリの位置を修正するように更に構成されたシステム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムにおいて、
前記分岐予測子回路は、前記ＢＴＡＣエントリの置換えの可能性を高めるために、前記置換え順序において、前記ＢＴＡＣエントリの位置を前記ＢＴＡＣエントリの現在の位置より高く修正するように構成されたシステム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムにおいて、
置換えポインタを更に備え、前記ＢＴＡＣは、修正されたラウンドロビン置換えポリシーを用い、前記分岐予測子回路は、前記ＢＴＡＣエントリを示すように前記置換えポインタを修正するように更に構成されたシステム。
【請求項７】
分岐ターゲットアドレスキャッシュ（ＢＴＡＣ）を管理する方法であって、
決定された条件付分岐命令の分岐方向を受け取ることと、
前記条件付分岐命令の方向を予測するための状態情報を分岐予測子回路の分岐履歴テーブルに格納することと、
前記分岐履歴テーブルからアクセスされる前記格納された状態情報と、前記受け取られた分岐方向とに基づいて、前記条件付分岐命令に関連づけられた前記ＢＴＡＣ内のエントリを、置換えポリシーに従って管理することと
を備える方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法において、
前記ＢＴＡＣ内のエントリを管理することは、前記ＢＴＡＣから前記エントリを除去することを備える方法。
【請求項９】
請求項７に記載の方法において、
前記ＢＴＡＣ内のエントリを管理することは、延長された期間、前記ＢＴＡＣ内で前記ＢＴＡＣエントリを保持することを備える方法。
【請求項１０】
請求項７に記載の方法において、
前記ＢＴＡＣ内に格納されたエントリを置換え順序で保持することを更に備え、前記ＢＴＡＣ内のエントリを管理することは、前記置換え順序における前記ＢＴＡＣエントリの位置を修正することを備える方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法において、
前記ＢＴＡＣエントリの位置を修正することは、前記ＢＴＡＣエントリを示すように置換えポインタを修正することを備える方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
ＢＴＡＣ１４１は、ＢＴＡＣ１４１内のエントリの置換え順序を示す順序でエントリが構成される、ＬＲＵ置換えポリシーを用いる。最後に用いられた周知の疑似回路が、エントリの置換え順序を維持するために適切でありうる。このように、ＢＴＡＣ管理回路３００の出力信号は結局、ＢＴＡＣ１４１内の条件付分岐命令に対応するエントリの位置を修正することができる。例えば、エントリはこの置換え順序内で上がったり下がったりすることができる。あるいはエントリは、ＢＴＡＣ１４１内での自身の寿命を長くするために、最後に用いられたことを示すようにＢＴＡＣ１４１内での位置を調節することによって保持されることができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
あるいは別の実施形態において、ＢＴＡＣ１４１は、修正されたラウンドロビンポリシーを用いることができる。従来のラウンドロビンポリシーでは、レジスタは、次の機会に条件付分岐が付加される、置き換えられるエントリを示し、続いて、エントリの置き換え後、連続する次のエントリへ進み、均等方式でエントリを周回する。しかし、修正されたラウンドロビンポリシーでは、ポインタが、実際に決定されている条件付分岐命令に対応しているエントリを示すために用いられる。例えば、条件付分岐命令に対応しているエントリは、ポインタがこのエントリを示すように調節することによって、除去するためにマークされることができる。それによって、次の機会に条件付分岐命令及び対応するターゲットアドレスがＢＴＡＣ１４１に付加される、エントリが置き換えられる。従って、次に除去されるエントリは、除去されることが最後に決定されたエントリとなるであろう。本明細書で提供されるＢＴＡＣ１４１によって用いられる置換えポリシーは典型的であるが、この発明技術は、ＢＴＡＣにおいて一般に用いられる他の置換えポリシーにも適用可能である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
ブロック５３０Ｃは、ＬＲＵ置換えポリシーを用いるＢＴＡＣのために調整された置換え順序内の自身の位置を有する、管理されるＢＴＡＣエントリを示す。１つの実施形態において、ＢＴＡＣ内のエントリは、エントリが、付加される次のＢＴＡＣエントリと置き換えられる可能性を低くし、「選択される」と予測される最後の条件付分岐命令のＢＴＡＣ内での寿命を都合よく延長する方式で修正された置換え順序で自身の位置を有する。別の実施形態において、ＢＴＡＣ内のエントリは、エントリが、付加される次のＢＴＡＣエントリと置き換えられる可能性を高くする方式で修正された置換え順序で自身の位置を有する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年11月19日(2013.11.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
本発明のレンズの一実施形態では、レンズの一表面（好ましくは凸面または前面）が、少なくとも一つの近距離視ゾーンとともに、少なくとも二つの遠距離視ゾーンを持つ中心視覚ゾーンを有する。本発明に係るレンズでは、視覚ゾーンの上部部分（すなわち、０−１８０°子午線または水平子午線以上の部分（the portion at or above the 0-180 degree, or horizontal, meridian））において、瞳孔領域（すなわち、レンズが目に着用されているときレンズ使用者の瞳孔を覆っている領域）の矯正力の５０％を超える部分が、その瞳孔領域内の遠距離屈折力でできており、０−１８０°子午線より下では５０％未満が、その瞳孔領域内の遠距離屈折力でできているようにデザインされている。更に、これらのゾーンは、あるゾーンにアクセスする能力における瞳孔のサイズの影響を最小にするように位置している。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年9月26日(2014.9.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担体及び担体表面に塗布した触媒活性材料から成り、その際活性材料を結合剤により担体表面に接着させる、触媒の製造において、
活性材料が、
元素Ｍｏ及びＶを含有する少なくとも１種の微細複合元素酸化物、及び
９８質量％以上がＭｏ及びＯで構成されている物質のモリブデン酸化物である、少なくとも１種の微細物質Ｓ
から成る微細な混合物であることを特徴とする、担体及び担体表面に塗布した触媒活性材料から成る触媒の製法。
【請求項２】
微細物質ＳがＭｏＯ３であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
微細物質Ｓの比表面積ＯＭが≧０．１ｍ２／ｇかつ≦５ｍ２／ｇであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
微細物質Ｓの粒径ｄ５０が≧１μｍかつ≦２００μｍであることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
活性材料を層厚１００〜３００μｍで担体表面上に塗布することを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
活性材料が、Ｍｏ及びＶを含有する微細複合元素酸化物の全量に対して≧１質量％かつ≦３０質量％の微細物質Ｓを含有することを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
結合剤が、水２０〜９０質量％及び有機化合物１０〜８０質量％から成る溶液であることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
微細な混合物が、微細複合元素酸化物を粉砕し、次いで粉砕した微細複合元素酸化物に微細物質Ｓを加えることによって製造されることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
微細複合元素酸化物が、下記一般化学量論Ｉ
Ｍｏ１２ＶａＸ１ｂＸ２ｃＸ３ｄＸ４ｅＸ５ｆＸ６ｇＯｎ    （Ｉ）
［式中、変数は下記のものを表す：
Ｘ１＝Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ及び／又はＣｅ、
Ｘ２＝Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｎ及び／又はＺｎ、
Ｘ３＝Ｓｂ及び／又はＢｉ、
Ｘ４＝１種以上のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）及び／又はＨ、
Ｘ５＝１種以上のアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、
Ｘ６＝Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ及び／又はＺｒ、
ａ＝１〜６、
ｂ＝０．２〜４、
ｃ＝０〜１８、有利には０．５〜１８、
ｄ＝０〜４０、
ｅ＝０〜２、
ｆ＝０〜４、
ｇ＝０〜４０、及び
ｎ＝一般化学量論Ｉ中の酸素と異なる元素の原子価及び頻度により決まる数］を満たすことを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか１項に記載の方法により得られる、アクロレインからアクリル酸への不均一系触媒作用による部分気相酸化に用いられる触媒。
【請求項１１】
担体及び担体表面に塗布した触媒活性材料から成るか、或いは担体及び担体表面に塗布した触媒活性材料及び結合剤から成り、その際、触媒活性材料が、
元素Ｍｏ及びＶを含有する少なくとも１種の微細複合元素酸化物、及び
モリブデンの酸化物及び高めた温度及び分子酸素の作用下でモリブデンの酸化物を生成するモリブデンの化合物から成る群から選択した少なくとも１種の微細物質Ｓ
から成る微細な混合物である、アクロレインからアクリル酸への不均一系触媒作用による部分気相酸化に用いるための触媒。
【請求項１２】
少なくとも１種の微細物質Ｓが、９８質量％以上が、Ｍｏ及びＯで構成されている物質のモリブデンの酸化物である、請求項１１に記載の触媒。
【請求項１３】
触媒が請求項１０から１２までのいずれか１項に記載の触媒であることを特徴とする、アクロレインからアクリル酸への不均一系触媒作用による部分気相酸化の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
しかし本発明によれば、微細物質Ｓとしてモリブデンの酸化物（ＭｏＯ２）を使用するのが有利である（これは本明細書では、９８質量％以上が、有利には９９質量％以上が、特に有利には９９．９質量％及びそれ以上が、Ｍｏ及びＯのみで構成されている物質を意味する）。特に本発明による方法では微細物質Ｓとして三酸化モリブデン（ＭｏＯ３）を使用するのが有利である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年4月2日(2014.4.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
親水性コーティングを調製するためのコーティング配合物であって、前記親水性コーティング配合物が、
（ａ）重合反応を受けることができる少なくとも２つの反応性部分を含む支持ポリマーであって、前記支持ポリマーが、１，１００〜１０，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の数平均分子量を有し、前記支持ポリマーの骨格が、ポリエーテルであり、前記少なくとも２つの反応性部分が不飽和エステルである支持ポリマーと、
（ｂ）ポリ（アクリルアミド−ｃｏ−アクリル酸）塩である高分子電解質と、
（ｃ）α−ヒドロキシアルキルフェノン類であるノリッシュＩ型光開始剤と、
（ｄ）ベンゾフェノンおよびベンゾフェノン誘導体からなる群から選択されるノリッシュＩＩ型光開始剤と
を含むコーティング配合物。
【請求項２】
請求項１に記載の親水性コーティング配合物を硬化させることによって得られる親水性コーティング。
【請求項３】
請求項２に記載の親水性コーティングに湿潤流体を適用することによって得られる潤滑性コーティング。
【請求項４】
請求項１に記載のコーティング配合物と、高分子電解質を含む湿潤流体とを含む、潤滑性コーティングを調製するためのコーティング系。
【請求項５】
請求項２または３に記載の少なくとも１つの親水性コーティングまたは潤滑性コーティングを含む物品。
【請求項６】
前記物品が医療機器または部品である請求項５に記載の物品。
【請求項７】
カテーテル、医療用チューブ、ガイドワイヤ、ステント、または膜を含む請求項６に記載の医療機器または部品。
【請求項８】
請求項１に記載のコーティング配合物を物品の少なくとも１つの表面に塗布することと、
前記配合物を電磁放射にさらし、それにより開始剤を活性化することによって前記コーティング配合物を硬化させることと
を含む、基材上に親水性コーティングを形成する方法。
【請求項９】
前記支持ポリマーが、１，２００〜７，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の数平均分子量を有する請求項１に記載のコーティング配合物。
【請求項１０】
前記支持ポリマーが、１，４００〜５，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の数平均分子量を有する請求項１に記載のコーティング配合物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
適切なノリッシュＩ型またはフリーラジカル光開始剤の例は、ベンゾイン誘導体、メチロールベンゾインおよび４−ベンゾイル−１，３−ジオキソラン誘導体、ベンジルケタール類、α，α−ジアルコキシアセトフェノン類、α−ヒドロキシアルキルフェノン類、α−アミノアルキルフェノン類、アシルホスフィンオキシド類、ビスアシルホスフィンオキシド類、アシルホスフィンスルフィド類、ハロゲン化アセトフェノン誘導体などである。適切なＩ型光開始剤の市販の例は、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ２９５９（２−ヒドロキシ−４’−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチルプロピオフェノン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ６５１（ベンジルジメチルケタールまたは２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタノン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４（活性成分として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｄａｒｏｃｕｒ  １１７３（活性成分として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ３６９（活性成分として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＩＰ  １５０（ポリ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン−１−オン｝、Ｆｒａｔｅｌｌｉ  Ｌａｍｂｅｒｔｉ）、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＩＰ  １００Ｆ（ポリ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン−１−オン｝および２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンのブレンド、Ｆｒａｔｅｌｌｉ  Ｌａｍｂｅｒｔｉ）、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＴＯ４６（ポリ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン−１−オン｝、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−ホスフィンオキシドおよびメチルベンゾフェノン誘導体のブレンド、Ｆｒａｔｅｌｌｉ  Ｌａｍｂｅｒｔｉ）、アシルホスフィンオキシド、例えばＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ＢＡＳＦ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニル−ホスフィン−オキシド、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １７００（ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）２，４，４−トリメチル−ペンチルホスフィンオキシドおよび２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの２５：７５％のブレンド、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）などである。Ｉ型光開始剤の混合物も使用することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年4月2日(2014.4.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
親水性コーティングを調製するためのコーティング配合物であって、前記親水性コーティング配合物が、
（ａ）ポリラクタムである親水性ポリマーと、
（ｂ）重合反応を受けることができる少なくとも２つの反応性部分を含む支持ポリマーであって、前記支持ポリマーが、１，１００〜１０，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の数平均分子量を有し、前記支持ポリマーの骨格が、ポリエーテルであり、前記少なくとも２つの反応性部分が不飽和エステルである支持ポリマーと、
（ｃ）α−ヒドロキシアルキルフェノン類であるノリッシュＩ型光開始剤と、
（ｄ）ベンゾフェノンおよびベンゾフェノン誘導体からなる群から選択されるノリッシュＩＩ型光開始剤と
を含み、
前記ノリッシュＩ型光開始剤：前記ノリッシュＩＩ型光開始剤の重量比が、５：１〜１：５の間であるコーティング配合物。
【請求項２】
前記コーティング配合物中の光開始剤の全量が、乾燥コーティングの全重量を基準として、０．２〜１０重量％の間である請求項１に記載のコーティング配合物。
【請求項３】
アクリル酸のホモポリマーおよびコポリマーの塩、メタクリル酸のホモポリマーおよびコポリマーの塩、マレイン酸のホモポリマーおよびコポリマーの塩、フマル酸のホモポリマーおよびコポリマーの塩、スルホン酸基を含むモノマーのホモポリマーおよびコポリマーの塩、第４級アンモニウム塩を含むモノマーのホモポリマーおよびコポリマー、ならびにこれらの混合物および／または誘導体からなる群から選択される高分子電解質をさらに含む請求項１に記載のコーティング配合物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のコーティング配合物を硬化させることによって得られる親水性コーティング。
【請求項５】
請求項４に記載の親水性コーティングに湿潤流体を適用することによって得られる潤滑性コーティング。
【請求項６】
Ｈａｒｌａｎｄ  ＦＴＳ摩擦試験機で測定したときに、２０ｇ以下である１サイクル後の初期潤滑性を有する請求項５に記載の潤滑性コーティング。
【請求項７】
２５回のガーゼ摩擦の後にＨａｒｌａｎｄ  ＦＴＳ摩擦試験機で測定したときに、３００ｇのクランプ力で６０ｇ以下である耐摩耗性を有する請求項５に記載の潤滑性コーティング。
【請求項８】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のコーティング配合物と、高分子電解質を含む湿潤流体とを含む、潤滑性コーティングを調製するためのコーティング系。
【請求項９】
請求項４〜７のいずれか一項に記載の少なくとも１つの親水性コーティングまたは潤滑性コーティングを含む物品。
【請求項１０】
前記物品が医療機器または部品である請求項９に記載の物品。
【請求項１１】
カテーテル、医療用チューブ、ガイドワイヤ、ステント、または膜を含む請求項１０に記載の医療機器または部品。
【請求項１２】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のコーティング配合物を物品の少なくとも１つの表面に塗布することと、
前記配合物を電磁放射にさらし、それにより開始剤を活性化することによって前記コーティング配合物を硬化させることと
を含む、基材上に親水性コーティングを形成する方法。
【請求項１３】
前記支持ポリマーが、１，２００〜７，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の数平均分子量を有する請求項１に記載のコーティング配合物。
【請求項１４】
前記支持ポリマーが、１，４００〜５，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の数平均分子量を有する請求項１に記載のコーティング配合物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
適切なノリッシュＩ型またはフリーラジカル光開始剤の例は、ベンゾイン誘導体、メチロールベンゾインおよび４−ベンゾイル−１，３−ジオキソラン誘導体、ベンジルケタール類、α，α−ジアルコキシアセトフェノン類、α−ヒドロキシアルキルフェノン類、α−アミノアルキルフェノン類、アシルホスフィンオキシド類、ビスアシルホスフィンオキシド類、アシルホスフィンスルフィド類、ハロゲン化アセトフェノン誘導体などである。適切なノリッシュＩ型光開始剤の市販の例は、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ２９５９（２−ヒドロキシ−４’−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチルプロピオフェノン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ６５１（ベンジルジメチルケタールまたは２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタノン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４（活性成分として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｄａｒｏｃｕｒ  １１７３（活性成分として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７（２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ３６９（活性成分として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＩＰ  １５０（ポリ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン−１−オン｝、Ｆｒａｔｅｌｌｉ  Ｌａｍｂｅｒｔｉ）、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＩＰ  １００Ｆ（ポリ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン−１−オン｝および２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンのブレンド、Ｆｒａｔｅｌｌｉ  Ｌａｍｂｅｒｔｉ）、Ｅｓａｃｕｒｅ  ＫＴＯ４６（ポリ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン−１−オン｝、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−ホスフィンオキシドおよびメチルベンゾフェノン誘導体のブレンド、Ｆｒａｔｅｌｌｉ  Ｌａｍｂｅｒｔｉ）、アシルホスフィンオキシド、例えばＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ＢＡＳＦ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニル−ホスフィン−オキシド、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １７００（ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）２，４，４−トリメチル−ペンチルホスフィンオキシドおよび２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンの２５：７５％のブレンド、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）などである。Ｉ型光開始剤の混合物も使用することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年2月28日(2014.2.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
本発明の好適な実施例に係る画像装置は、
（１）Ｘ線源と、
（２）可動式のＣアームにより前記Ｘ線源に接続されたＸ線カメラであって前記Ｘ線源と前記Ｘ線カメラとの間に配置された患者の関心領域の一連のビデオ画像を作成するＸ線カメラと、
（３）三次元パターンにあるＸ線非透過性の複数のマーカーのアレイを有するターゲットであって該ターゲットの少なくとも一部が前記ビデオ画像の少なくとも一部に画像化されるように、前記患者に対する固定位置に配置されるターゲットと、
（４）前記ターゲットの画像パターンを解析することにより前記ビデオ画像の少なくともいくつかについて前記患者に対する前記Ｃアームの姿勢を測定する画像処理ユニットと、
（５）選択されたビデオ画像及び測定された姿勢から前記患者の前記関心領域の三次元画像データを計算する再構成エンジンとを含む。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
本発明の好適な実施例に係る三次元画像データ作成方法は、
（１）Ｘ線源と、Ｃアームにより前記Ｘ線源に接続されたＸ線カメラとを有する画像装置であって前記Ｘ線源と前記Ｘ線カメラとの間に配置された患者の関心領域を画像化する画像装置を用意すること、
（２）三次元パターンに配置されたＸ線非透過性の一連の複数のマーカーを有するターゲットを、該ターゲットの少なくとも一部が前記画像装置により画像化されるように前記患者に対する固定位置に配置すること、
（３）前記Ｃアームを動かすこと、
（４）前記Ｃアームが動いているときに前記Ｘ線カメラから前記患者の前記関心領域の一連のビデオ画像を取得すること、
（５）前記ターゲットの前記画像パターンを解析することにより、前記ビデオ画像の少なくともいくつかについて前記患者に対する前記Ｃアームの姿勢を測定すること、
（６）前記ビデオ画像から複数のビデオ画像を選択すること、
（７）前記患者の前記関心領域の三次元画像データを再構成するために、選択されたビデオ画像及び測定された姿勢を使用することを含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線源と、Ｃアームにより前記Ｘ線源に接続されたＸ線カメラとを有する画像装置であって前記Ｘ線源と前記Ｘ線カメラとの間に配置された患者の関心領域を画像化する画像装置を用意すること、
三次元パターンに配置されたＸ線非透過性の一連の複数のマーカーを有するターゲットを、その少なくとも一部が前記画像装置により画像化されるように前記患者に対する固定位置に配置すること、
前記Ｃアームを手動で動かすこと、
前記Ｃアームが動いているときに前記Ｘ線カメラから前記患者の前記関心領域の一連のビデオ画像を取得すること、
前記ターゲットの画像パターンにおける前記マーカーの画像の位置を解析することにより、前記ビデオ画像の少なくともいくつかについて前記患者に対する前記Ｃアームの姿勢を測定すること、
前記ビデオ画像から複数のビデオ画像を選択すること、
前記患者の前記関心領域の三次元画像データを再構成するために、選択されたビデオ画像及び測定された姿勢を使用することを含む、三次元画像データの作成方法。
【請求項２】
前記ビデオ画像の選択前に前記ビデオ画像の全部について前記患者に対する前記Ｃアームの姿勢を測定する、請求項１に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項３】
前記ビデオ画像のうち選択されたビデオ画像についてのみ前記患者に対する前記Ｃアームの姿勢を測定する、請求項１に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項４】
各ビデオ画像はビデオフレームである、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項５】
前記ビデオ画像の少なくともいくつかは、アナログビデオフレームのインターレース方式のフィールドである、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項６】
前記Ｃアームの動きの影響を低減させる画像ぶれ補正モジュールの中で前記ビデオ画像を処理することを含む、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項７】
前記ターゲットを前記患者に取り付ける、請求項１ないし６のいずれか１項に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項８】
前記ターゲットを、前記患者が横たわる台に取り付ける、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項９】
選択されたビデオ画像の前の少なくともいくつかのビデオ画像の解析により前記選択されたビデオ画像の特徴を予測する画像比較モジュールの中で前記ビデオ画像を処理することを含む、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項１０】
前記画像比較モジュールは、前記選択されたビデオ画像の全体に亘って前記ターゲットの前記画像パターンを検索することなく前記選択されたビデオ画像に関する前記姿勢を計算できるように、前記ターゲットの前記画像パターンの位置を予測するべく構成される、請求項９に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項１１】
予測された前記特徴は、前記選択されたビデオ画像から失われた特徴である、請求項９に記載の三次元画像データの作成方法。
【請求項１２】
前記画像比較モジュールは、前記選択されたビデオ画像の前の少なくともいくつかのビデオ画像に関する前記姿勢の歪み補正関数の解析により前記選択されたビデオ画像に関する前記姿勢の歪み補正関数を予測する、請求項９に記載の三次元画像データの作成方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年2月3日(2014.2.3)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
ＡＢＴ−８８８結晶型２は、賦形剤とともにまたは賦形剤を用いずに投与することができる。賦形剤には、例えば封入材料ならびに吸収促進剤、酸化防止剤、結合剤、緩衝剤、コーティング剤、着色剤、希釈剤、崩壊剤、乳化剤、増量剤、充填剤、香味剤、保湿剤、滑沢剤、芳香剤、保存剤、噴射剤、離型剤、安定剤、甘味剤、可溶化剤、湿潤剤、それらの混合物などの添加剤などがあるが、これらに限定されるものではない。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年11月29日(2013.11.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項９】
着色表面コーティング及び非着色表面コーティング、接着剤、積層接着剤、構造用接着剤、感圧接着剤、印刷インク、印刷版、凸版印刷版、平版印刷版、凹版印刷版、無処理印刷版、スクリーン印刷ステンシル、歯科組成物、カラーフィルタ、スペーサ、エレクトロルミネセンスディスプレイ及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、導波管、光スイッチ、色校正刷系、レジスト、電子工学用フォトレジスト、電気メッキレジスト、液膜及び乾燥膜の両方のためのエッチングレジスト、ソルダレジスト、ＵＶ及び可視レーザ直接結像系用フォトレジスト材料、プリント回路基板の連続ビルドアップ層における誘電層の形成用フォトレジスト材料、カラーフィルタ、化学増幅レジスト材料、画像記録材料、ホログラフィック画像の記録用画像記録材料、光学情報ストレージ又はホログラフィックデータストレージ、脱色材料、画像記録材料用脱色材料、マイクロカプセルを使用する画像記録材料、磁気記録材料、マイクロ機械部品、メッキマスク、エッチマスク、ガラス繊維ケーブルコーティング、超小形電子回路の製造における放射線感受性酸供与体としての請求項１に記載の式Ｉの化合物の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１３】
着色表面コーティング及び非着色表面コーティング、接着剤、積層接着剤、構造用接着剤、感圧接着剤、印刷インク、印刷版、凸版印刷版、平版印刷版、凹版印刷版、無処理印刷版、スクリーン印刷ステンシル、歯科組成物、カラーフィルタ、スペーサ、エレクトロルミネセンスディスプレイ及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、導波管、光スイッチ、色校正刷系、レジスト、電子工学用フォトレジスト、電気メッキレジスト、液膜及び乾燥膜の両方のためのエッチングレジスト、ソルダレジスト、ＵＶ及び可視レーザ直接結像系用フォトレジスト材料、プリント回路基板の連続ビルドアップ層における誘電層の形成用フォトレジスト材料、カラーフィルタ、化学増幅レジスト材料、画像記録材料、ホログラフィック画像の記録用画像記録材料、光学情報ストレージ又はホログラフィックデータストレージ、脱色材料、画像記録材料用脱色材料、マイクロカプセルを使用する画像記録材料、磁気記録材料、マイクロ機械部品、メッキマスク、エッチマスク、ガラス繊維ケーブルコーティング、超小形電子回路の製造における請求項１１又は１２に記載の方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０３８６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０３８６】
また、本発明は、着色表面コーティング及び非着色表面コーティング、接着剤、積層接着剤、構造用接着剤、感圧接着剤、印刷インク、印刷版、凸版印刷版、平版印刷版、凹版印刷版、無処理印刷版、スクリーン印刷ステンシル、歯科組成物、カラーフィルタ、スペーサ、エレクトロルミネセンスディスプレイ及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、導波管、光スイッチ、色校正刷系、レジスト、電子工学用フォトレジスト、電気メッキレジスト、液膜及び乾燥膜の両方のためのエッチングレジスト、ソルダレジスト、ＵＶ及び可視レーザ直接結像系用フォトレジスト材料、プリント回路基板の連続ビルドアップ層における誘電層の形成用フォトレジスト材料、カラーフィルタ、化学増幅レジスト材料、画像記録材料、ホログラフィック画像の記録用画像記録材料、光学情報ストレージ又はホログラフィックデータストレージ、脱色材料、画像記録材料用脱色材料、マイクロカプセルを使用する画像記録材料、磁気記録材料、マイクロ機械部品、メッキマスク、エッチマスク、ガラス繊維ケーブルコーティング、超小形電子回路の製造における感光性酸供与体としての式Ｉの化合物の使用と；並びに、着色表面コーティング及び非着色表面コーティング、接着剤、積層接着剤、構造用接着剤、感圧接着剤、印刷インク、印刷版、凸版印刷版、平版印刷版、凹版印刷版、無処理印刷版、スクリーン印刷ステンシル、歯科組成物、カラーフィルタ、スペーサ、エレクトロルミネセンスディスプレイ及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、導波管、光スイッチ、色校正刷系、レジスト、電子工学用フォトレジスト、電気メッキレジスト、液膜及び乾燥膜の両方のためのエッチングレジスト、ソルダレジスト、ＵＶ及び可視レーザ直接結像系用フォトレジスト材料、プリント回路基板の連続ビルドアップ層における誘電層の形成用フォトレジスト材料、カラーフィルタ、化学増幅レジスト材料、画像記録材料、ホログラフィック画像の記録用画像記録材料、光学情報ストレージ又はホログラフィックデータストレージ、脱色材料、画像記録材料用脱色材料、マイクロカプセルを使用する画像記録材料、磁気記録材料、マイクロ機械部品、メッキマスク、エッチマスク、ガラス繊維ケーブルコーティング、超小形電子回路の製造のための製造方法と、に関する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年10月10日(2013.10.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イソオイゲニルアセテート、ジヒドロオイゲノールおよびこれらの塩からなる群から選択された少なくとも１種からなる活性薬剤；及び
前記活性薬剤を懸濁させ又は溶解させる薬学的に許容される担体又は賦形剤を含む
患者における炎症誘発性の皮膚疾患、皮膚病又は皮膚病変の局所治療に用いられる局所用組成物であって、
前記局所用組成物は、皮膚に局所的に適用され、また、前記した患者における炎症誘発性の疾患、皮膚病又は皮膚病変が、炎症、酒さ、アレルギー性接触皮膚炎、刺激性接触皮膚炎、脂漏性皮膚炎、放射線皮膚炎、紅斑、乾癬、アトピー性皮膚炎、湿疹、光線性角化症、座瘡、瘢痕、老化及び円形脱毛症からなる群から選ばれた少なくとも１つのものであることを特徴とする、
患者における炎症誘発性の皮膚疾患、皮膚病又は皮膚病変の局所治療に用いられる局所用組成物。
【請求項２】
前記薬学的に許容される担体又は賦形剤が浸透促進剤を含む、請求項１記載の局所用組成物。
【請求項３】
前記担体又は賦形剤が、シリコーンを含む、請求項１記載の局所用組成物。
【請求項４】
サリチル酸を含む、請求項１記載の局所用組成物。
【請求項５】
表皮又は真皮内で前記活性薬剤が１０μＭ〜５００μＭの範囲の濃度に維持されることができるように、経皮的伝達に有効なものである、請求項１記載の局所用組成物。
【請求項６】
イソオイゲノール、イソオイゲニルアセテート、およびこれらの塩からなる群から選択された少なくとも１種からなる活性薬剤；及び
前記活性薬剤を懸濁させ又は溶解させる薬学的に許容される担体又は賦形剤を含む
患者の皮膚における色素沈着過度の治療に用いられる局所用組成物であって、
前記局所用組成物は、色素沈着過度の治療のために患者の皮膚に局所的に適用されるものであることを特徴とする、
患者の皮膚における色素沈着過度の治療に用いられる局所用組成物。
【請求項７】
サリチル酸をさらに含む、請求項６記載の局所用組成物。
【請求項８】
前記薬学的に許容される担体又は賦形剤が浸透促進剤を含む、請求項６記載の局所用組成物。
【請求項９】
前記薬学的に許容される担体又は賦形剤が、シリコーンを含む、請求項６記載の局所用組成物。
【請求項１０】
前記活性薬剤が、局所用組成物全体の１〜５重量％の割合で含まれるものである請求項請求項６記載の局所用組成物。
【請求項１１】
表皮又は真皮内で前記活性薬剤が１０μＭ〜５００μＭの範囲の濃度に維持されることができるような、経皮的伝達に有効なものである、請求項６記載の局所用組成物。
【請求項１２】
患者の皮膚におけるメタロプロテアーゼ組織抑制因子群（ＴＩＭＰｓ）またはヒアルロン酸合成酵素−２（ＨＡＳ−２）の刺激によって、またはマトリックスメタロプロテアーゼ群（ＭＭＰｓ）の阻害によって、患者における皮膚疾患、皮膚病又は皮膚病変の治療に用いられる局所用組成物であって、
前記局所用組成物は、薬学的に許容される担体又は賦形剤に懸濁させた又は溶解させた可溶性エチルバニリンを含み、また前記局所用組成物は非水溶性であり、かつ乳化剤を含まず、また前記エチルバニリンは可溶化剤中で可溶化され、そしてシリコーン液中に混合されたものであり、さらに、前記局所用組成物中の前記可溶性エチルバニリンは少なくとも３月の間はそれの化学的安定性を維持できるものであり、さらに、
前記局所用組成物は、患者の皮膚に局所的に適用され得るものである、
ことを特徴とする局所用組成物。
【請求項１３】
前記薬学的に許容される担体又は賦形剤が浸透促進剤を含むものである請求項１２記載の局所用組成物。
【請求項１４】
前記シリコーンが、局所用組成物全体の少なくとも２０〜９０重量％の割合で含まれるものである請求項請求項１２記載の局所用組成物。
【請求項１５】
阻害されるマトリックスメタロプロテアーゼがＭＭＰ−９である請求項１２記載の局所用組成物。
【請求項１６】
前記エチルバニリンが局所用組成物全体の１〜５重量％の割合で含まれるものである請求項請求項１２記載の局所用組成物。
【請求項１７】
皮膚の表皮又は真皮内で前記エチルバニリンが１０μＭ〜５００μＭの範囲の濃度に維持されることができるような、経皮的伝達に有効なものである、請求項１２記載の局所用組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
本発明は、例えば、皮膚ケラチノサイト及び線維芽細胞、単球のような免疫細胞、並びにメラニン細胞における、例えば、酒さ、放射線皮膚炎、紅斑（日焼け）、乾癬、アトピー性皮膚炎、アレルギー性及び刺激性接触皮膚炎、光線性角化症、座瘡、瘢痕、色素沈着過度及び脂漏性皮膚炎又は湿疹又は他の湿疹及び円形脱毛症を含む種々の皮膚疾患、皮膚病及び皮膚病変の治療法及び治療用組成物に関する。本発明は、更に、例えば、皮膚線維芽細胞中のコラーゲン、エラスチン及びヒアルロン酸シンターゼの産生を増大することにより老化の影響を軽減するための方法及び組成物を含む。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年4月4日(2014.4.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４９】
成形材料混合物は、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタンおよび酸化亜鉛からなる群から選択される微粒子状の金属酸化物を所定の割合で含有する。微粒子状の金属酸化物の平均一次粒子径は、好ましくは０．１０μｍ〜１μｍの間であってよい。しかし、主要粒子の凝集により、金属酸化物の粒径は、好ましくは３００μｍ未満、特に２００μｍ未満、とりわけ１００μｍ未満である。一実施形態によれば、粒径は５μｍ超、別の実施形態によれば、１０μｍ超、別の実施形態によれば、１５μｍ超である。平均粒径は、好ましくは５〜９０μｍの範囲、特に好ましくは１０〜８０μｍの範囲、とりわけ好ましくは１５〜５０μｍの範囲である。粒径は、例えばふるい分析により決定できる。６３μｍのメッシュサイズを有するふるい上の残渣が、１０重量％未満、好ましくは８重量％未満である場合が特に好ましい。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属加工用鋳型を製造するための成形材料混合物であって、少なくとも：
−耐火性基礎成形材料、
−水ガラス系結合剤、
−非晶質二酸化ケイ素を含む、または非晶質二酸化ケイ素から構成される所定の割合の微粒子状の金属酸化物
を含み、
前記成形材料混合物には、少なくとも１種の界面活性剤が所定の割合で加えられており、前記界面活性剤はスルフェート基またはスルホネート基を含み、前記界面活性剤は、前記水ガラス系結合剤に溶解していることを特徴とする、成形材料混合物。
【請求項２】
前記界面活性剤が、前記結合剤に溶けていることを特徴とする、請求項１に記載の成形材料混合物。
【請求項３】
前記界面活性剤が、オレイルスルフェート、ステアリルスルフェート、パルミチルスルフェート、ミリスチルスルフェート、ラウリルスルフェート、デシルスルフェート、オクチルスルフェート、２−エチルヘキシルスルフェート、２−エチルオクチルスルフェート、２−エチルデシルスルフェート、パルミトレイルスルフェート、リノリルスルフェート、ラウリルスルホネート、２−エチルデシルスルホネート、パルミチルスルホネート、ステアリルスルホネート、２−エチルステアリルスルホネートおよびリノリルスルホネートからなる群から選択されることを特徴とする、請求項１または２に記載の成形材料混合物。
【請求項４】
表面活性物質が、耐火性基礎成形材料の重量に対して０．００１〜１重量％の割合で成形材料混合物中に含まれることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項５】
前記耐火性基礎成形材料が少なくとも部分的には、再生耐火性基礎成形材料により構成されていることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項６】
少なくとも１種の炭水化物が、前記成形材料混合物に加えられていることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項７】
リン含有化合物が、前記成形材料混合物に加えられていることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項８】
前記非晶質二酸化ケイ素が、沈殿ケイ酸および発熱性ケイ酸からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項９】
前記水ガラスが、１．６〜４．０の範囲でＳｉＯ２／Ｍ２Ｏ比を有し、ここでＭはナトリウムイオンおよび／またはカリウムイオンを表すことを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項１０】
前記結合剤が、２０重量％未満の割合で前記成形材料混合物に含有されることを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項１１】
前記微粒子状の金属酸化物が、前記結合剤に対して２〜８０重量％の割合で含有されることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項１２】
前記耐火性基礎成形材料が、中空ミクロスフェアの少なくとも一部を含有することを特徴とする、請求項１から１１のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項１３】
前記基礎成形材料が、ガラス顆粒、ガラスビースおよび／または球形セラミック成形材料の少なくとも一部を含有することを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項１４】
前記成形材料混合物には、易酸化性金属および酸化剤が加えられることを特徴とする、請求項１から１３のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項１５】
前記成形材料混合物が、室温で固体である無機添加剤の少なくとも一部を含有することを特徴とする、請求項１から１４のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項１６】
前記成形材料混合物が、少なくとも１種のシランまたはシロキサンを含有することを特徴とする、請求項１から１５のいずれか一項に記載の成形材料混合物。
【請求項１７】
金属加工用鋳型を製造するための成形材料混合物であって、少なくとも：
−未加工の鋳型を調製した砂から得られた再生した砂を含んだ耐火性基礎成形材料、
−水ガラス系結合剤、
−非晶質二酸化ケイ素を含む、または非晶質二酸化ケイ素から構成される所定の割合の微粒子状の金属酸化物
を含み、
前記成形材料混合物には、少なくとも１種の界面活性剤が所定の割合で加えられており、
前記金属酸化物のその平均一次粒子径は、凝集しているものも含んだ状態にて、５μｍ超、３００μｍ未満であり、
前記界面活性剤はスルフェート基またはスルホネート基を含み、前記界面活性剤は、前記水ガラス系結合剤に溶解していることを特徴とする、成形材料混合物。
【請求項１８】
少なくとも以下のステップ：
−請求項１から１７のいずれか一項に記載の成形材料混合物を製造するステップと、
−前記成形材料混合物を成形するステップと、
−前記成形材料混合物を加熱することにより、前記成形材料混合物を硬化して、鋳型を得るステップと
を有する、金属加工用鋳型を製造する方法。
【請求項１９】
前記成形材料混合物が、１００〜３００℃の範囲の温度まで加熱されることを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
熱風が、前記成形材料混合物を硬化するために該混合物に吹き込まれることを特徴とする、請求項１８または１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記成形材料混合物の加熱が、マイクロ波の作用により行われることを特徴とする、請求項１８から２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
請求項１８から２１のいずれか一項に記載の方法により得られる鋳型。
【請求項２３】
金属を鋳造するための請求項２２に記載の鋳型の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年2月12日(2014.2.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
＜触媒の再生＞
いくつかの実施形態では、本願は触媒を再生する方法に関し、この再生方法には、触媒を再生条件下においてガス状原料と少なくとも１時間接触させ、好ましくは1時間から10日間、より好ましくは12時間から5日間、最も好ましくは」24時間から3日間接触させて再生された触媒とガス状製品を生成させることが含まれ、ここで、触媒にはモレキュラーシーブが少なくとも10wt%、好ましくは50 wt%含まれ、接触工程前の触媒には接触工程前の触媒の重量を基準として、炭化水素成分が0.001 wt%から45 w.%、好ましくは0.1 wt%から10 wt%含まれ、窒素含有化合物が0.001から10 wt.%、好ましくは0.01から5 wt%含まれ、モレキュラーシーブがMCM-22型モレキュラーシーブ、*BEA骨格型を有するモレキュラーシーブ、FAU骨格型を有するモレキュラーシーブ、MOR骨格型を有するモレキュラーシーブの内の少なくともいずれか1であり、ガス状原料がN2、H2、アルケン、He、Ar、CO、及びCO2の内の少なくともいずれか1であり、ガス状製品に、ガス状原料の少なくとも一部と、触媒の炭化水素成分の少なくとも一部と、触媒の窒素含有化合物の少なくとも一部とが含まれ、再生条件には温度範囲が約400から600℃、好ましくは約500から560℃、より好ましくは約530℃から550℃で、圧力範囲が約101.3 kPa-aから10130 kPa-aで、空間速度の範囲が0.05から10(ガス状原料m3hr-1/kg触媒)、好ましくは約0.1から2.5(ガス状原料m3hr-1/kg触媒)、より好ましくは0.5から1.5(ガス状原料m3hr-1/kg触媒)であることが含まれる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
触媒を乾燥させた後、ヘリウムを流通させながら温度250℃まで冷却した。250℃において、10 wt%のNH3ガス(残りはヘリウム)混合物を触媒上に流通させ、NH3吸着による重量増加をTGAにより測定し、観察した。重量によるNH3吸着量は、250℃における触媒1グラム当たりのNH3モル当量(meq)で表示した。
【参考例１】
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
未使用のMCM-22型触媒について、本願のNH3吸着量測定法で評価した。未使用の触媒のNH3吸着量は0.8591 meq NH3/g触媒であった。
【参考例２】
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
参考例１に記載の未使用のMCM-22型触媒を、芳香族アルキル化不活性化条件下において炭化水素と接触させることによって不活性化した。不活性化後の使用済み触媒を、アルキル化反応器中で、温度約540℃、圧力約300 kPa-a、約1.25 hr-1の条件下で、空気を用いて再生した。触媒の平均酸度は不活性化前の0.8591から0.5750 meq NH3 / g触媒まで低下した。
空気による触媒再生では、NH3吸着量で評価した触媒酸度が、未使用触媒との比較において約33%低下した。
【参考例３】
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
参考例１に記載の未使用のMCM-22型触媒を、芳香族アルキル化条件下において炭化水素と接触させることによって不活性化した。
不活性化後の使用済み触媒を、アルキル化反応器の外で、温度約540℃、圧力約101.3kPa-a条件下で、空気を用いて再生した。触媒の平均酸度は不活性化前の0.8591から0.5550 meq NH3 / g触媒まで低下した。
反応器外での空気による触媒再生では、NH3吸着量で評価した触媒酸度が、未使用の触媒との比較において約33%低下した。
【実施例１】
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
参考例１に記載の未使用のMCM-22型触媒を、芳香族アルキル化条件下において炭化水素と接触させることによって不活性化した。
不活性化後の使用済み触媒を、アルキル化反応器内で窒素を用いて再生した。反応器の温度を約25℃から538℃まで、昇温速度約1℃／分で昇温した。反応器を538℃に24時間保った。窒素のガス容積空間速度は、約0.8（m3N2hr-1/kg触媒）であった。再生触媒の平均酸度は、不活性化前の0.8591から0.7216 meq NH3 / g触媒まで低下した。
538℃で窒素により再生された触媒では、NH3吸着量で評価した触媒酸度の低下は15%に過ぎなかった。これは、空気で再生した場合と比較して、50％以上改善されていることを意味する。
不活性化された触媒のコークスおよび／または炭化水素の形態の炭素含有量は、不活性化された触媒の重量を基準として約6〜10wt%であった。これに対し、再生された触媒のコークスおよび／または炭化水素の形態の炭素含有量は、不活性化された触媒の重量を基準として約0.09〜0.15wt%であった。
不活性化された触媒のピロ・ケミルミネッセンス(pyro-chemiluminescence) (Antek社 Model 772 Pyroreactor, 720 detector)で測定した窒素含有化合物の量は、不活性化された触媒の重量を基準として約25〜150 wppmであった。これに対し、再生された触媒のピロ・ケミルミネッセンス(Antek社 Model 772 Pyroreactor, 720 detector)で測定した窒素含有化合物の量は、不活性化された触媒との比較において、少なくとも80％減少していた。