【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年4月15日(2014.4.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体担持体と、前記固体担持体上の複数の層と、からなり、前記複数の層が、
−前記固体担持体上又は、前記固体坦持体上に既に蒸着によって形成された下敷層上に、一つ以上の金属酸化物の粒子が均一、均質及び連続したフィルム、あるいは、一つ以上の金属酸化物が均一、均質に分散した粒子から成る少なくとも一つの層、
及び、
−前記固体担持体上又は、前記下敷層上に、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金の連続した又は不連続なフィルム、あるいは、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金が分散したナノ粒子から成る少なくとも一つの層、
を含む基板を作成する方法であって：
前記方法は、
ａ）加熱された、固体担持体または前記固体担持体上に既に蒸着された下敷層を、金属酸化物の前駆体を超臨界流体に溶解させた溶液に含浸して、前記固体担持体上又は前記下敷層上に、一つ以上の金属酸化物の粒子から成る均一、均質及び連続したフィルム、あるいは、一つ以上の金属酸化物が均一、均質に分散された粒子を蒸着する段階と、
ｂ）前記固体担持体上又は前記下敷層上に、一つ以上の金属又は1つ以上の金属合金の連続した又は不連続なフィルム、あるいは、一つ以上の金属又は1つ以上の金属合金が分散したナノ粒子を、一つ以上の前駆体から、化学気相蒸着CVDによって蒸着する段階と、を含み、前記段階ａ）と前記段階ｂ）とが同一のチャンバ、同一の反応器で実行される方法。
【請求項２】
段階ａ）に続いて段階ｂ）が連続して実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
段階ｂ）に続いて段階ａ）が連続して実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記段階ａ）又は前記段階ｂ）、あるいは、前記段階ａ）に続く前記段階ｂ）若しくは前記段階ｂ）に続く前記段階ａ）の各々が１乃至１０回繰り返される、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
金属粒子をポリマーで被覆する有機合成段階が、段階ａ）及び／又は段階ｂ）の後に実行される、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
ａ）加熱された固体担持体を、金属酸化物の前駆体を超臨界流体に溶解させた溶液に含浸し、前記固体担持体上に、一つ以上の金属酸化物の均一、均質及び連続したフィルムを蒸着する段階と、
ｂ）一つ以上の前駆体から、化学気相蒸着CVDによって、前記均一、均質及び連続したフィルム上に分散された、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金の分散したナノ粒子、又は連続、もしくは不連続なフィルムを蒸着する段階と、が連続して実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
金属粒子をポリマーで被覆する有機合成段階が、段階ａ）及び段階ｂ）の間及び／又は段階ａ）に続いて段階ｂ）の連続後に実行される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記有機合成が界面重縮合、乳化重合、及び分散重合から選択された方法によって実行される、請求項５または請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記固体担持体は稠密又は微孔質である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記固体担持体は、発泡体の形態を有する、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記発泡体は、セラミック、ハニカム、多孔質チューブ、あるいは細粒、バーミチェリ、あるいは、ビード若しくはファイバーの形態を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記固体担持体は、セラミックスから選択された一つ以上の素材；金属及び金属合金；ポリマー；ゼオライト；シリコン；ガラス；織物；及びこれらの複合材料から成る、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記セラミックスは単一又は混合された酸化セラミックス、窒化物、及びカーバイドから選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記セラミックスは、コーディエライト（２Ａｌ2Ｏ3．２ＳｉＯ2．５ＭｇＯ）、シリコンカーバイド(ＳｉＣ)、アルミナ／二酸化チタン（Ａｌ2Ｏ3／ＴｉＯ2）、アルミナ／ジルコニア（Ａｌ2Ｏ3／ＺｒＯ2）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ジルコニア（ＺｒＯ2）、及びシリカ（ＳｉＯ2）から選択される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記固体担持体はアルミナ／二酸化チタン（Ａｌ2Ｏ3／ＴｉＯ2）の発泡体である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記連続した又は不連続なフィルム又は前記均一に分散された粒子の単数又は複数の前記金属酸化物は、アルミニウム、セリウム、バリウム、ジルコニウム、チタニウム、バナジウム、これらの金属の混合された酸化物、これらの酸化物の混合物、及び混合された酸化物、並びにゼオライトから選択される、請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
単数又は複数の前記金属酸化物の単数又は複数の前記前駆体は有機金属化合物及び金属塩類から選択される、請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記有機金属前駆体は、金属アルコキシド、金属β−ジケトナート、金属カルボン酸キシレートから選択される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記均一且つ連続したフィルムは５０〜８００ｎｍの厚さを有している、請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
前記超臨界流体は、二酸化炭素、スルファヘキサフルオライド、窒素酸化物、二酸化一窒素、１〜６の炭素原子を有する軽量アルカン、１〜５の炭素原子を有するアルケン、及び、有機液体から選択される、請求項１から請求項１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記軽量アルカンは、メタン、エタン、プロパン、ブタン、イソブタン、ペンタン、ヘキサンである請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記アルケンは、エチレンまたはプロピレンである請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
前記有機液体は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、またはブタノールである請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
段階ａ）において、前記流体の温度及び圧力は、それぞれ、１００〜６００℃及び１０〜５０ＭＰａである、請求項１から請求項２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
段階ａ）の間、前記フィルムはゾルゲルプロセス及び／又は熱分解プロセスによって蒸着される、請求項１から請求項２４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
段階ａ）の完了且つ段階ｂ）より前に、前記固体担持体が配置される反応器は前記固体担持体を超臨界流体で洗浄することによって一掃且つ清掃される、請求項１から請求項２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
段階ｂ）の間に蒸着された単数又は複数の前記金属は、元素周期表のＶＩＩＩＢ及びＩＢ族の"貴金属"と呼ばれる金属、または、触媒作用を有する卑金属から選択され、段階ｂ）の間に蒸着された単数又は複数の合金はこれらの金属を一緒にした合金及びこれらの金属を他の金属と一緒にした合金から選択される、請求項１から請求項２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
前記単数又は複数の金属は銀、ロジウム、プラチナ、パラジウム、イリジウム、銅、ニッケル、及び金から選択される、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記合金は、元素周期表のＶＩＩＩＢ及びＩＢ族の金属の中から選択される、請求項1から請求項２８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
前記金属は、銀、ロジウム、プラチナ、パラジウム、イリジウム、銅、ニッケル、または金である請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
段階ｂ）における前記蒸着は、酸化反応ガスまたは還元反応ガスが存在する場合に実施される、請求項１から請求項３０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３２】
段階ｂ）における前記蒸着は、前記酸化反応ガスの体積比50％以上のガスが存在する場合に実施される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記酸化反応ガスは酸素、二酸化炭素、オゾン、一酸化二窒素N2O、及びこれらの混合物から選択される、請求項３１または請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記還元反応ガスは水素、アンモニア、アルコール蒸気、炭化水素、及びこれらの混合物から選択される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３５】
前記ガスは、酸化反応ガスまたは還元反応ガス、及び不活性ガスの混合物からなる、請求項３１から請求項３４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３６】
前記不活性ガスは、アルゴン、窒素、ヘリウム、及びこれらの混合物から選択される、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
前記ガスは、酸化反応ガス及び不活性ガスの混合物からなり、酸化反応ガスの流量の不活性ガスの流量に対する比率は１．０より高い、請求項３５または請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
段階ｂ）において、前記前駆体は有機化合物及び金属塩類から選択される、請求項１から請求項３７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３９】
段階ｂ）において、前記前駆体は金属カルボン酸キシレート、及びβ−ジケトナートから選択された有機前駆体である、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記金属塩類は金属硝酸塩から選択される、請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
段階ｂ）の間、有機金属の単数又は複数の前記前駆体が、有機溶媒内で溶液の形態として使用される、請求項１から請求項４０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４２】
前記溶液における単数又は複数の前駆体の濃度は０．０１〜０．６ｍｏｌ／ｌである、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記溶媒は単数又は複数の前記前駆体の分解温度未満の蒸着温度を有する、請求項４１または請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
前記溶媒は標準圧力状態において、２００℃までの周囲温度で液体である有機化合物から選択される、請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記溶媒はメシチレン、シクロヘキサン、キシレン、トルエン、ｎ−オクタン、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、アセチルアセトン、エタノール、水、及びこれらの混合物から選択される、請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
前記溶液はアミン及び／又はニトリルを更に含んでいる、請求項４１から請求項４５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４７】
段階ｂ）の間に、前記蒸着は５００℃以下の固体担持体温度で実行される、請求項１から請求項４６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４８】
段階ｂ）の間に、前記蒸着は大気圧で実行される、請求項１から請求項４６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４９】
段階ｂ）の間に、前記蒸着は真空下で実行される、請求項１から請求項４７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５０】
段階ｂ）における前記蒸着の持続時間は２〜９０分の間である、請求項１から請求項４９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５１】
前記蒸着はプラズマ増進によって実行される、請求項１から請求項５０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５２】
同一の前駆体が段階ａ）及び段階ｂ）で使用される、請求項１から請求項５１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５３】
段階ｂ）の間に、分散されたナノ粒子が蒸着される、請求項１から請求項５２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５４】
前記ナノ粒子は１〜４００ｎｍの寸法を有している、請求項５３に記載の方法。
【請求項５５】
前記ナノ粒子は１０〜５００μｍ-2を有している、請求項５３または請求項５４に記載の方法。
【請求項５６】
段階ａ）の完了時に、熱温度は、４００〜８００℃で実行される、請求項１から請求項５５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５７】
請求項１に記載の方法を実施するための装置であって、
−固体担持体が配置されるチャンバ又は反応器と；
−流体を超臨界状態にもたらす装置と；
−１つ以上の酸化物前駆体を超臨界流体に溶解させる装置と；
−超臨界流体内の単数又は複数の金属酸化物の前駆体の溶液を反応器に搬送して、前記固体担持体と接触させるか又は既に蒸着された層と接触させて、これにより、均一、均質、及び、一つ以上の金属酸化物の連続したフィルム又は均一に分散された粒子を前記固体担持体上又は前記層上に蒸着する装置と；
−蒸着の完了時に、膨張した超臨界流体を前記反応器から抜き取り、未反応の前記前駆体を前記流体から分離して、前記流体を前記反応器に再循環させる装置と；
−一つ以上の金属又は金属合金の一つ以上の前駆体を含んでいるガスを前記反応器に搬送する装置と；
−前記固体担持体又は既に蒸着された層を加熱する装置と；
−前記反応器を真空下又は圧力下に配置する装置と；を含んでいる装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
この目的及び他の課題は、本発明による基板を作成する方法により達成される。この方法は、固体担持体と、前記固体担持体上の複数の層と、からなる基板を作成する方法であって、この複数の層は、
−固体担持体上又は、固体坦持体上に既に蒸着された下敷層上に、１つ以上の金属酸化物の粒子が均一、均質及び連続したフィルム、あるいは、一つ以上の金属酸化物が均一、均質に分散した粒子からなる少なくとも一つの層、
及び、
−固体担持体上又は下敷層上の、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金、あるいは、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金の分散されたナノ粒子、の連続又は不連続なフィルムからなる少なくとも一つの層を含む。この基板を作成する方法は、以下の段階を含む：
ａ）加熱された、固体担持体または既に蒸着された下敷層を、金属酸化物の前駆体を超臨界流体に溶解させた溶液に含浸して、固体担持体上又は下敷層上に、一つ以上の金属酸化物の粒子、あるいは、一つ以上の金属酸化物の均一、均質な分散された粒子からなる均一、均質及び連続したフィルムを蒸着する段階。
ｂ）固体担持体上又は下敷層上に、１つ以上の金属又は１つ以上の金属合金の連続又は不連続なフィルム、あるいは、一つ以上の金属又は１つ以上の金属合金の分散されたナノ粒子を、一つ以上の前駆体から、化学気相蒸着CVDによって蒸着する段階。
そして、段階ａ）と段階ｂ）とは同一のチャンバ、同一の反応器で実行される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
本発明の好ましい実施形態では、基板は以下を含んで作成される。
−固体担持体；
−前記固体担持体上の一つ以上の金属酸化物；
−前記均一、均質、及び連続したフィルム上の、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金の、ナノ粒子、又は連続、もしくは不連続なフィルム；
前記方法は以下の連続した段階を含んでいる：
ａ）加熱された固体担持体を、金属酸化物の前駆体を超臨界流体に溶解させた溶液に含浸し、前記固体担持体上に、一つ以上の金属酸化物の均一、均質及び連続したフィルムを蒸着する段階と、
ｂ）1つ以上の金属又は１つ以上の金属合金の分散したナノ粒子、又は連続、もしくは不連続なフィルムを、一つ以上の前駆体から、化学気相蒸着CVDによって蒸着する段階と、を含んでいる。
前記段階ａ）及び前記段階ｂ）は同一のチャンバ、同一の反応器内で実行される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
上述した規定したような基板を作成するために超臨界媒体における含浸及び１つ且つ同一の反応器、チャンバにおける化学蒸着は従来技術には記載も示唆もされていない。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
この方法は一つ且つ同一の反応器において実行されるから、この方法は極めて簡素化されたものであり、担持体を一つの装置から別の装置への何れかの移送又は操作する必要はもはやない。この方法の持続時間及びこの方法の費用は極めて減じられ、そして、この方法のための設備の寸法も減じられる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
本発明による方法は、触媒基板、特に多孔質な基板に蒸着された連続及び不連続な薄層を処理し、及びこれらの集積する観点から実際の改良を許容する。実際、基板を安定化させるための随時の加熱処理は現場の同一の反応器で実施することもできる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７８】
段階ｂ）間に、酸化反応ガスまたは還元反応ガスを含んでいるガスの存在する場合に蒸着を実行し得る。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８４】
その存在下で蒸着が行われるガスは酸化反応ガスまたは還元反応ガス、及び不活性ガスの混合物とし得る。