【手続補正書】
【提出日】平成15年9月10日(2003.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され、該釉薬層が、
Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて２５〜４５ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ及び／又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、
アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、Ｋを必須とする１種又は２種以上を合計で５〜１０ｍｏｌ％の範囲にて含有し、
さらに、Ｍｏ、Ｗ及びＣｏの１種又は２種以上の成分を、ＭｏはＭｏＯ３、ＷはＷＯ３に、ＣｏはＣｏ３Ｏ４にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲にて含有することを特徴とするスパークプラグ。
【請求項２】
中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され、該釉薬層が、
Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて２５〜４５ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ及び／又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、
アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、Ｋを必須とする１種又は２種以上を合計で５〜１０ｍｏｌ％の範囲にて含有し、かつ最も含有率の高い成分がＫであり、
さらに、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ及びＭｎの１種又は２種以上の成分を、ＭｏはＭｏＯ３、ＷはＷｏ３、ＮｉはＮｉ３Ｏ４、ＣｏはＣｏ３Ｏ４、ＦｅはＦｅ２Ｏ３、ＭｎはＭｎＯ２にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲にて含有することを特徴とするスパークプラグ。
【請求項３】
前記釉薬層は、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆの１種又は２種以上の成分を、ＺｒはＺｒＯ２に、ＴｉはＴｉＯ２に、ＨｆはＨｆＯ２にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲で含有する請求項１又は２に記載のスパークプラグ。
【請求項４】
中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され、該釉薬層が、
Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて２５〜４５ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ及び／又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、
アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、それらの１種又は２種以上を合計で５〜１０ｍｏｌ％の範囲にて含有し、
また、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆの１種又は２種以上の成分を、ＺｒはＺｒＯ２に、ＴｉはＴｉＯ２に、ＨｆはＨｆＯ２にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲で含有するとともに、
さらに、Ｍｏ、Ｗ及びＣｏの１種又は２種以上の成分を、ＭｏはＭｏＯ３、ＷはＷＯ３、ＣｏはＣｏ３Ｏ４にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲にて含有することを特徴とするスパークプラグ。
【請求項５】
中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され、該釉薬層が、
Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて２５〜４５ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ及び／又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、
アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、それらの１種又は２種以上を合計で５〜１０ｍｏｌ％の範囲にて含有し、かつ最も含有率の高い成分がＫであり、
また、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆの１種又は２種以上の成分を、ＺｒはＺｒＯ２に、ＴｉはＴｉＯ２に、ＨｆはＨｆＯ２にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲で含有するとともに、
さらに、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ及びＭｎの１種又は２種以上の成分を、ＭｏはＭｏＯ３、ＷはＷＯ３、ＮｉはＮｉ３Ｏ４、ＣｏはＣｏ３Ｏ４、ＦｅはＦｅ２Ｏ３、ＭｎはＭｎＯ２にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲にて含有することを特徴とするスパークプラグ。
【請求項６】
前記釉薬層は、アルカリ金属成分としてＬｉ、Ｎａ及びＫの３つの成分を含み、かつ、Ｌｉ２Ｏに酸化物換算した場合の合計モル含有量をＮＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏに酸化物換算したＮａ成分のモル含有量ＮＮａ２Ｏ、Ｋ２Ｏに酸化物換算したＫ成分のモル含有量ＮＫ２Ｏとして、
ＮＮａ２Ｏ≦ＮＬｉ２Ｏ≦ＮＫ２Ｏ
を満たす組成を有する請求項１ないし５のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【請求項７】
中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され、該釉薬層が、
Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
また、ガラス骨格成分としてＳｉ成分及びＢ成分の一方又は双方を含有するとともに、アルカリ金属成分としてＬｉ、Ｎａ及びＫの３つの成分を含み、かつ、ＬＩ２Ｏに酸化物換算した場合の合計モル含有量をＮＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏに酸化物換算したＮａ成分のモル含有量ＮＮａ２Ｏ、Ｋ２Ｏに酸化物換算したＫ成分のモル含有量ＮＫ２Ｏとして、
ＮＮａ２Ｏ＜ＮＬｉ２Ｏ＜ＮＫ２Ｏ
を満たす組成を有することを特徴とするスパークプラグ。
【請求項８】
前記釉薬層はＫ成分を含有し、かつ、Ｌｉ、Ｎａ及びＫのうち、Ｋを含む２種以上からなるアルカリ金属成分をＲとして、組成式Ｒ２Ｏに酸化物換算した場合の合計モル含有量をＮＲ２Ｏ、Ｋ２Ｏに酸化物換算したＫ成分のモル含有量ＮＫ２Ｏとして、ＮＫ２Ｏ／ＮＲ２Ｏが０．４〜０．８に調整されている請求項１ないし７のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【請求項９】
前記釉薬層はＬｉ成分を含有し、かつ、Ｌｉ、Ｎａ及びＫのうち、Ｌｉを含む２種以上からなるアルカリ金属成分をＲとして、組成式Ｒ２Ｏに酸化物換算した場合の合計モル含有量をＮＲ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏに酸化物換算したＬｉ成分のモル含有量をＮＬｉ２ＯとしてＮＬｉ２Ｏ／ＮＲ２Ｏが０．２〜０．５に調整されている請求項１ないし８のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【請求項１０】
前記釉薬層は、Ｚｎ成分と、Ｂａ成分及び／又はＳｒ成分とを、Ｚｎ成分はＺｎＯ、Ｂａ成分はＢａＯ、Ｓｒ成分はＳｒＯにそれぞれ酸化物換算した値にて、合計で１０〜３０ｍｏｌ％の範囲で含有する請求項１ないし９のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【請求項１１】
前記釉薬層は、Ａｌ２Ｏ３に酸化物換算した値にて０．１〜１０ｍｏｌ％のＡｌ成分、ＣａＯに酸化物換算した値にて０．１〜１０ｍｏｌ％のＣａ成分、及びＭｇＯに酸化物換算した値にて０．１〜１０ｍｏｌ％のＭｇ成分の１種又は２種以上を合計で０．１〜１５ｍｏｌ％含有する請求項１ないし１０のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【請求項１２】
前記釉薬層は、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｐ、Ｃｕ、Ｃｅ及びＣｒの１種又は２種以上の成分を、ＢｉはＢｉ２Ｏ３に、ＳｎはＳｎＯ２に、ＳｂはＳｂ２Ｏ５に、ＰはＰ２Ｏ５に、ＣｕはＣｕＯに、ＣｅはＣｅＯ２に、ＣｒはＣｒ２Ｏ３にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で５ｍｏｌ％以下の範囲で含有する請求項１ないし１１のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【請求項１３】
前記絶縁体には、軸線方向中間位置においてその外周面に周方向の突出部が形成され、
該軸線方向において前記中心電極の先端に向かう側を前方側として、前記突出部に対し後方側に隣接する絶縁体本体部の基端部外周面が円筒面状に形成され、
その基端部外周面を覆う形で前記釉薬層が膜厚７〜５０μｍの範囲内にて形成されている請求項１ないし１２のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【請求項１４】
前記スパークプラグは、前記絶縁体の貫通孔内において、前記中心電極と一体に、又は導電性結合層を間に挟んで前記中心電極と別体に設けられた軸状の端子金具部を備え、
かつ該スパークプラグ全体を約５００℃に保持し、前記絶縁体を介して前記端子金具部と前記主体金具との間で通電することにより測定される絶縁抵抗値が４００ＭΩ以上である請求項１ないし１３のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【請求項１５】
前記絶縁体は、Ａｌ成分をＡｌ２Ｏ３に酸化物換算した重量にて８５〜９８ｍｏｌ％含有するアルミナ系絶縁材料で構成されており、
前記釉薬は、２０〜３５０℃の温度範囲における前記釉薬の平均の熱膨張係数が、５×１０−６／℃〜８．５×１０−６／℃である請求項１ないし１４のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【請求項１６】
前記釉薬層の軟化点が５２０〜６２０℃である請求項１ないし１５のいずれか１項に記載のスパークプラグ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そして、その第一の構成（その一）は、上記の釉薬層が、
中心電極と主体金具との間にアルミナ形セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され、該釉薬層が、
Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて２５〜４５ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ及び／又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、
アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、Ｋを必須とする１種又は２種以上を合計で５〜１０ｍｏｌ％の範囲にて含有し、
さらに、Ｍｏ、Ｗ及びＣｏの１種又は２種以上の成分を、ＭｏはＭｏＯ３、ＷはＷＯ３に、ＣｏはＣｏ３Ｏ４にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲にて含有することを特徴とする。
また、第一の構成（その二）は、上記の釉薬層が、
中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され、該釉薬層が、
Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて２５〜４５ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ及び／又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、
アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、Ｋを必須とする１種又は２種以上を合計で５〜１０ｍｏｌ％の範囲にて含有し、かつ最も含有率の高い成分がＫであり、
さらに、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ及びＭｎの１種又は２種以上の成分を、ＭｏはＭｏＯ３、ＷはＷｏ３、ＮｉはＮｉ３Ｏ４、ＣｏはＣｏ３Ｏ４、ＦｅはＦｅ２Ｏ３、ＭｎはＭｎＯ２にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲にて含有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（効果Ｂ）
本発明では、Ｐｂ含有量を上記のように低減しつつ、絶縁性能確保、釉焼温度の最適化及び釉焼面の仕上がり状態を良好に確保するために、上記特有の組成が選択されている。従来の釉薬においては、Ｐｂ成分が釉薬の軟化点調整（具体的には釉薬の軟化点を適度に下げ、釉焼時の流動性を確保する）に関して重要な役割を果たしていたが、無鉛釉薬では、Ｂ成分（Ｂ２Ｏ３）やアルカリ金属成分が軟化点調整に深く関係する。本発明者らは、Ｂ成分には、Ｓｉ成分の含有量との関連において、釉焼面の仕上がり改善を図る上で好都合な前記した特有の含有量範囲が存在し、かつ、その含有量範囲を前提としてＭｏ、Ｗ及びＣｏの１種又は２種以上の成分（第一の構成（その一））、あるいはＭｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ及びＭｎの１種又は２種以上の成分（第一の構成（その二））を、前述の含有量範囲にて添加することにより、釉焼時の流動性を確保でき、ひいては比較的低温で釉焼可能であって絶縁性に優れ、かつ平滑な釉焼面を有する釉薬層が得られることを見出して、本発明を完成するに至ったのである。すなわち、本発明の第一の課題が解決される。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（効果Ｄ）
さらに、上記本発明の第一の構成は、アルカリ金属成分としてＫを必須元素として含有する点についても特徴がある。釉焼時の流動性を確保し、ひいては形成される釉薬層の平滑性を向上させつつも、絶縁性能を大幅に向上させることができる。その理由として、Ｋ成分は、他のアルカリ金属成分Ｎａ及びＬｉに比べて、同じモル含有量で同じカチオン数であっても、原子量が大きいために重量割合を大きく占めるためと考えられる。この効果をより高めるためには、釉薬層中のアルカリ金属成分のうち、最も含有率の高い成分をＫとすることが望ましい（第一の構成（その二））。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
次に、本発明のスパークプラグの第二の構成（その一）は、前記の釉薬層が、
Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて２５〜４５ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ及び／又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、
アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、それらの１種又は２種以上を合計で５〜１０ｍｏｌ％の範囲にて含有し、
また、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆの１種又は２種以上の成分を、ＺｒはＺｒＯ２に、ＴｉはＴｉＯ２に、ＨｆはＨｆＯ２にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲で含有するとともに、
さらに、Ｍｏ、Ｗ及びＣｏの１種又は２種以上の成分を、ＭｏはＭｏＯ３、ＷはＷＯ３、ＣｏはＣｏ３Ｏ４にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲にて含有することを特徴とするスパークプラグ。
また、本発明のスパークプラグの第二の構成（その二）は、前記の釉薬層が、
Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて２５〜４５ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ及び／又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、
アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、それらの１種又は２種以上を合計で５〜１０ｍｏｌ％の範囲にて含有し、かつ最も含有率の高い成分がＫであり、
また、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆの１種又は２種以上の成分を、ＺｒはＺｒＯ２に、ＴｉはＴｉＯ２に、ＨｆはＨｆＯ２にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲で含有するとともに、
さらに、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ及びＭｎの１種又は２種以上の成分を、ＭｏはＭｏＯ３、ＷはＷＯ３、ＮｉはＮｉ３Ｏ４、ＣｏはＣｏ３Ｏ４、ＦｅはＦｅ２Ｏ３、ＭｎはＭｎＯ２にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．５〜５ｍｏｌ％の範囲にて含有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記第二の構成は、その釉薬層が、アルカリ金属成分がＫを必ずしも必須としない点（その一）と、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆの１種又は２種以上の成分を、上記範囲にて含有する点とを除き、他の釉薬組成は前記第一の構成と同じである。従って、第一の構成の効果Ａ〜Ｃを同様に達成することができる。他方、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆの１種又は２種以上の成分を含有させることにより、以下の新たな効果を奏することができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また、アルカリ金属成分のうち、Ｌｉ成分は、絶縁性改善のためのアルカリ共添加効果の発現と、釉薬層の熱膨張係数調整、さらには、釉焼時の流動性確保、また機械的強度向上のため、なるべく含有させることが好ましい。Ｌｉ成分は、前記のように酸化物換算したモル含有量で、
０．２≦Ｌｉ/（Ｎa+Ｋ+Ｌi）≦０．５
の範囲に設定することが好ましい。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
Ｌｉの割合が０．２未満では、下地のアルミナに比べて熱膨張係数が大きくなりすぎ、その結果、貫入（クレージング）等の欠陥が生じやすくなり、釉焼面の仕上がり確保が不十分となる場合がある。一方、Ｌｉの割合が０．５よりも大きくなると、Ｌｉイオンが、アルカリ金属イオンの中でも比較的移動度が高いことから、釉薬層の絶縁性能に悪影響を及ぼす場合がある。Ｌｉ/（Ｎa+Ｋ+Ｌi）の値は、より望ましくは０．３〜０．４５の範囲にて調整するのがよい。なお、アルカリ金属成分の共添加効果による絶縁性向上効果をさらに高めるため、アルカリ金属成分の合計含有量が過剰となって導電性が却って損なわれることにならない範囲にて、Ｎａ等の第三成分以降の、他のアルカリ金属成分を配合することも可能であり、特に望ましくは、Ｎa、Ｋ及びＬiの３つの成分を全て含有させるのがよい。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
図６は、その測定系の一例を示すものである。すなわち、スパークプラグ１００の端子金具１３側に直流定電圧電源（例えば電源電圧１０００Ｖ）を接続するとともに主体金具１側を接地し、加熱炉中にスパークプラグ１００を配置して５００℃に加熱した状態で通電を行う。例えば、電流測定用抵抗（抵抗値Ｒm）を用いて通電電流値Ｉmを測定する場合を考えると、通電電圧をＶSとして、測定すべき絶縁抵抗値Ｒxは、（ＶS／Ｉm）−Ｒmにて求めることができる（図では、通電電流値Ｉmを、電流測定用抵抗の両端電圧差を増幅する差動増幅器の出力により測定している）。