【事件の表示】
　平成１０年特許願第５４４０４５号「アパーチャを有する非平面電極およびその製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年１０月２２日国際公開、ＷＯ９８／４７０４９、平成１１年１１月３０日国内公表、特表平１１−５１４１０８］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、国際出願日が１９９８年（平成１０年）４月８日（パリ条約による優先権主張平成９年４月１１日、米国）である特願平１０−５４４０４５号であって、平成１３年１０月１５日付けで拒絶査定がなされ、これに対し平成１４年１月２１日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に手続補正がなされた。この補正は、同年８月７日付けで当審により、独立特許要件の規定に適合しないとして補正却下され、審査段階でされた平成１３年８月２２日付けの手続補正に対しては、当審より平成１５年４月４日付けで特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない旨の拒絶理由が通知され、平成１５年７月７日に意見書と共に手続補正書が提出された。
　
２．本願発明
　本願の請求項４に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、特許請求の範囲の請求項４に記載された次のとおりのものと認める。
「宇宙船の推力を発生するためのイオンビームを形成する複数のイオンビームレットを発生するイオンスラスタにおけるアパーチャの設けられた非平面電極を形成する方法において、
　金属製の平面部材（６０）をフォトレジスト（６６）で被覆し、
　前記平面部材を変形して非平面部材（７０）に成形し、
　前記非平面部材のウェブ部分（８０）以外の全ての部分から前記フォトレジストを除去し、
　前記非平面部材をエッチングして前記ウェブ部分の間にアパーチャ（９４）を形成して、５０μｍよりも良好な前記アパーチャの位置の正確度を得るステップを含んでいる方法。」
　
３．引用例
　これに対して、当審の拒絶の理由に引用された、特公昭５１−３６３０号公報（以下、引用例１という。）には、以下の技術事項が記載されている。
ア．従来、シャドウマスク型カラー受像器において使用されていた遮蔽電極板（シャドウマスク）は基準となる露光用原板における所定の露光パターンに従った穿孔の施こされた平板状の有孔金属板を、必要な曲面のものにプレス成形した後に保持用のフレームを取付け、さらに、フレーム保持用バネを取付けて完成されていた。ところが、前記、シャドウマスクにおける穿孔（透孔）の配列パターンは、それが未だ平板状の有孔金属板の状態のものにおいては、基準となる露光用原板と同一の正確な配列パターンの透孔を備えたものであるが、平板状の有孔金属板を必要な曲面状のものにプレス成形すると、その成形加工に伴なって必然的に透孔の配列パターンと露光用原板における露光パターンとの間にずれが生じまた、前記のずれの量は個々のシャドウマスクについて一定ではないから、個々のシャドウマスクにおける透孔の配列パターンはそれぞれ異なったものとなり互換性が失なわれてしまう。（公報第１頁右欄末行〜第２頁左欄１８行）
　
イ．Ｍは無孔の平板をシャドウマスクで必要とされる所定の曲面にプレス成形し、それに保持用フレーム３及びフレーム保持用バネ４，４・・・を取付けて構成したシャドウマスクの素材であり前記のシャドウマスクの素材Ｍにおける曲面状部の表裏両面には、感光性結合剤を塗布した感光膜が構成されている。・・・前記した感光装置のフレーム１に取付けられたシャドウマスクの素材Ｍの前後には、フレーム１に設けた溝１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ中に摺動自在に嵌合された支持枠５，６によって支持された露光パターン部材Ｐ１，Ｐ２が、前記のシャドウマスクの素材Ｍの曲面部の表裏両面に対して接離自在に設けられている。・・・上記の露光パターン部材Ｐ１，Ｐ２は、それぞれ所要な透孔パターン配列を備えており、・・・露光パターン部材Ｐ１，Ｐ２とシャドウマスクの素材Ｍの感光膜とを密着して適当な露光用光源からの光によって露光操作を行なった時に、シャドウマスクの素材Ｍの表面両面側に構成された感光膜に対して、露光パターン部材Ｐ１，Ｐ２の透孔配列パターンに従った露光パターンを与えることができる。・・・次に露光装置からシャドウマスクの素材Ｍを取外ずして現像処理を行ない次いで塩化第２鉄を主剤とする腐蝕液によって腐蝕穿孔を行なうことにより、完成したシャドウマスクを得ることができる。（公報第２頁右欄７行〜第３頁左欄６行）
　
　したがって、引用例１には、上記各記載事項、及び図面から、以下の発明（以下、引用発明、という。）が記載されている。
「透孔の設けられた遮蔽電極板（シャドウマスク）を形成する方法において、無孔の平板を所定の曲面にプレス成形し、シャドウマスクの素材Ｍとし、シャドウマスクの素材Ｍの表裏両面に感光性結合剤を塗布して感光膜を構成し、シャドウマスクの素材Ｍの表面両面側に構成された感光膜に対して、露光パターン部材Ｐ１，Ｐ２の透孔配列パターンに従った露光パターンを与え、現像処理を行ない次いで塩化第２鉄を主剤とする腐蝕液によって腐蝕穿孔を行なうステップを含んでいる方法。」
　
４．対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「透孔」、「感光性結合剤」、「シャドウマスクの素材Ｍ」は、それぞれ、本願発明の「アパーチャ」、「フォトレジスト（６６）」、「非平面部材（７０）」に相当する。
　
　引用発明の「遮蔽電極板」は所定の曲面にプレス成形してできたものなので、本願発明の「非平面電極」に相当し、また、上記記載事項ア．の「平板状の有孔金属板を必要な曲面状のものにプレス成形する」の記載から、引用発明の「平板」も「金属製」であると推察でき、本願発明の「金属製の平面部材（６０）」に相当する。
　
　引用発明の「表裏両面に感光性結合剤を塗布して感光膜を構成し」が、本願発明の「フォトレジスト（６６）で被覆し」に相当することは明らかである。
　
　引用発明では「ウェブ部分（８０）」に対応する表現はないが、シャドウマスクの素材Ｍに「露光パターン部材Ｐ１，Ｐ２の透孔配列パターンに従った露光パターンを与え、現像処理を行ない次いで塩化第２鉄を主剤とする腐蝕液によって腐蝕穿孔を行な」っていることから、「非平面部材のウェブ部分（８０）以外の全ての部分から前記フォトレジストを除去し、前記非平面部材をエッチングして前記ウェブ部分の間にアパーチャ（９４）を形成して」に相当する処理を行っていることは、明らかである。
　
　結局、両者は、「アパーチャの設けられた非平面電極を形成する方法において、
　金属製の部材をフォトレジストで被覆する工程と、前記部材を変形して非平面部材に成形する工程とを有し、
　前記非平面部材のウェブ部分以外の全ての部分から前記フォトレジストを除去し、
　前記非平面部材をエッチングして前記ウェブ部分の間にアパーチャを形成する、ステップを含んでいる方法。」である点で一致し、以下の各点において相違している。
　
相違点１；
　本願発明では、非平面電極の用途を宇宙船の推力を発生するためのイオンビームを形成する複数のイオンビームレットを発生するイオンスラスタにおけると限定しているのに対し、引用発明では、そのような限定がない点。
　
相違点２；
　本願発明では、金属製の部材をフォトレジストで被覆してから、変形して非平面部材に成形しているのに対し、引用発明では、平板を先に変形してから感光性結合剤で被覆している点。
　
相違点３；
　本願発明では、５０μｍよりも良好な前記アパーチャの位置の正確度を得ると限定しているのに対し、引用発明では、そのような限定がない点。
　
５．当審の判断
以下、各相違点について検討する。
相違点１について；
　本願発明のようなイオンスラスタは、従来周知（例えば、特開平８−２８４８０４号公報、特開平５−３２１８２１号公報、特表平１−５０２９９８号公報等参照）であり、アパーチャの設けられた非平面電極という点で構成が一致する引用発明を、単に、イオンスラスタにおけると限定することは、当業者にとって容易である。
　
相違点２について；
　フォトレジストでの被覆と、平板の変形成形とのいずれを先に行うかは、当業者が適宜決定し得る設計事項である。なお、この点は、本願明細書第７頁２１〜２９行に「図２Ａ乃至図２Ｈのプロセスは、変形ステップがフォトレジストパターンを完成させるプロセスステップより先行する限りは入れ替えることができる。例えば、図２Ｃの被覆ステップは図２Ａの変形ステップと入れ替えることができる。すなわち、別のプロセスの実施形態では、最初に図２Ａのプレーナシート６０をネガのフォトレジストで被覆し、続いて、この被覆されたシートを図２Ｃの被覆された非平面電極７０に変形する。」と記載されているように、作用・効果になんら影響を与えるものではなく、格別意義のある構成とは言えない。
　
相違点３について；
　本願明細書第７頁１０〜１３行の「図２Ｈおよび図３のアパーチャ９４の位置の正確度は改良され（例えば図１Ｆのアパーチャ４８と比較した場合）、それは、図２Ｂの非平面電極を生成した変形ステップが、図２Ｆの処理された電極９０のフォトレジストパターンを生成するプロセスステップよりも先に行なわれるからである。」の記載によれば、位置の正確度を５０μｍよりも良好にできたのは、変形ステップを図２Ｆのエッチングプロセスによるフォトレジストパターンを生成するプロセスよりも先に行ったためと理解されるが、引用発明においても、平板を所定の曲面にプレス成形し、感光性結合剤を塗布被覆した後に、露光パターンを与え、現像処理を行ない、腐蝕穿孔を行うという本願発明と同様のステップをとっているので、本願発明と同様の正確度は得られるものと推察される。
　また、本願発明の実施例が、レーザビームにより露光するもので、そのことにより、上記の正確度が得られるものだとしても、レーザビームによる露光は、従来周知の技術（特開平５−３４９３２号公報、特開平８−２２７５３８号公報、特開平９−５５５０号公報、特開平８−３１６２３７号公報、特開平８−３０４９９８号公報等参照）であり、その場合、描画の大きさ等から、位置の正確度は５０μｍよりも良好であると推察でき、そのような限定は、格別意義のある構成とは言えない。
　
　本願発明の効果も、上記引用例１記載されたもの、及び従来周知の技術事項から予測し得る程度のものである。
　
６．むすび
　したがって、本願発明は、上記引用例１に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する 。