(57)【要約】【課題】汚れの付着による回転偏向手段の偏向反射面の反射率の低下を防ぎ、露光ムラや露光タイミングを制御するための同期検出不良を抑え、製品寿命や点検保守間隔を長くする。【解決手段】レーザ光をポリゴンミラー５の偏向反射面５ａに入射させる入射範囲１２を、汚れ１０の付着の多いポリゴンミラー５の軸Ｍ方向の中央部分を含まない、汚れ１０の付着が少ない所定範囲内である上方部分に設定する。また、上記所定範囲内であっても、長年の使用等により汚れが付着した場合に、汚れの付着がより少ない所定範囲にポリゴンミラー５を軸Ｍ方向に移動させることで、レーザ光の入射範囲１２を変更可能な構成にする。そのため、偏向反射面５ａに入射した光が汚れの影響を受けずに効率よく反射できる。【選択図】図３
2004054116.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転自在に支持された回転偏向手段を備え、光源から出射されて回転偏向手段の偏向反射面に入射した光の反射光により被走査体を露光し、被走査体上で像を形成する光走査装置において、
光源から出射された光を偏向反射面の汚れの付着が少ない所定範囲内に入射させることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記所定範囲は、偏向反射面の軸方向の中央部分を含まないことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記所定範囲は、偏向反射面の軸方向について中央部分から両側に偏向反射面の軸方向の長さの１／４より外側の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記偏向反射面に対する光源からの光のうち少なくとも最初に入射する光は、前記所定範囲内に入射することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記偏向反射面に対する光源からの光の入射範囲を変更する入射範囲変更手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記入射範囲変更手段は、回転偏向手段を軸方向に移動させることを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記入射範囲変更手段は、回転偏向手段を回転偏向手段の軸方向と偏向手段面に入射する光源からの光の入射方向とで構成される面に直交する面方向に移動させることを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記入射範囲変更手段は、回転偏向手段の回転軸を傾けることを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記入射範囲変更手段は、前記偏向反射面に汚れが付着した状態となる所定の条件を満たす毎に、入射範囲を変更することを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記所定の条件は、走査光の光の強度が所定値以下になることを特徴とする請求項９に記載の光走査装置。
【請求項１１】
前記所定の条件は、回転偏向手段の回転回数が所定の回転回数になることを特徴とする請求項９に記載の光走査装置。
【請求項１２】
前記回転偏向手段は、前記所定範囲に含まれる複数の偏向反射面によって構成されたポリゴンミラーと、回転偏向手段の回転軸を含む面に直交する面方向の形状がポリゴンミラーに略一致する部材と、を前記回転軸方向に一体に形成したことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真プロセスを有するレーザビームプリンタ、ディジタル複写機、ファクシミリ等の画像形成装置等に用いられる光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の光走査装置は、レーザダイオードや半導体レーザ等の光源から出射された光を回転偏向手段で反射させ、その反射光を走査光として被走査体上で像を形成する装置である。
【０００３】
図１４に示すように、上記回転偏向手段として用いられるポリゴンミラー５は、周囲が複数の偏向反射面５ａによって構成された多角形柱の形状を呈している。ポリゴンミラー５は、軸Ｍを回転軸として矢印Ｙで示す反時計回りに回転しながら光源から出射された光を偏向反射面５ａで反射させる。この反射光を走査光として被走査体に露光することで、被走査体上に像を形成する。
【０００４】
像書き込み等でポリゴンミラー５が矢印Ｙ方向に回転する際、ポリゴンミラー５の矢印Ｙ方向に対する角部５ｂの前側で風を切るため、矢印Ｙ方向に対する角部５ｂの直後の偏向反射面５ａ近傍の空気中では空気の負圧現象により乱流が起こる。この乱流によって、空気中の塵や乱流中の空気密度の変化により発生した水滴（以下、汚れと言う。）が偏向反射面５ａの表面に叩き付けられる。その結果、偏向反射面５ａの表面は汚れ、反射率が低下してしまうため、感光体における被走査領域への露光量が低下するとともに露光ムラが生じる。このような乱流による偏向反射面５ａの反射率の低下は、矢印Ｙ方向に対する各角部５ｂの直後の乱流の発生する付近の各偏向反射面５ａのＡ周辺及び軸Ｍ方向に直交する偏向反射面５ａの中央部分で顕著に現れる。具体的には、汚れ１０は図１５に示すような形状で、ポリゴンミラー５の偏向反射面５ａに付着する。
【０００５】
また、各偏向反射面５ａのＡ周辺は、被走査体の主走査方向の露光タイミングを制御するためのＢＤセンサ（図示せず。）の同期検出に用いられるため、汚れ１０により同期検出不良が発生するという問題があった。
【０００６】
そこで、偏向反射面５ａの汚れの付着による上述の問題を解決するため、特開平５−７２４９５号公報では、ポリゴンミラーをカバーで覆い、汚れの付着を防止する構成が記載されている。また、特開２００１−６６５４０公報では、ポリゴンミラーを逆回転させて、偏向反射面に付着した塵埃を離脱させる構成が記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平５−７２４９５号公報の構成では、カバーにより構造が複雑化し、コストが高くなる。また、カバーで覆われることでポリゴンミラー等の温度上昇による軸受の寿命が懸念される。
【０００８】
また、特開２００１−６６５４０公報の構成では、偏向反射面に付着した汚れを完全に離脱させることは困難であって、ポリゴンミラーの回転とともに、その偏向反射面に汚れが蓄積する。
【０００９】
この発明の目的は、汚れの付着による回転偏向手段の偏向反射面の反射率の低下を防ぎ、露光ムラや露光タイミングを制御するための同期検出不良を抑え、製品寿命や点検保守間隔を長くできる光走査装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
この発明は、上記の課題を解決するために以下の構成を備えている。
（１）回転自在に支持された回転偏向手段を備え、
光源から出射されて回転偏向手段の偏向反射面に入射した光の反射光により被走査体を露光し、被走査体上で像を形成する光走査装置において、
光源から出射された光を偏向反射面の汚れの付着が少ない所定範囲内に入射させることを特徴とする。
【００１１】
この構成においては、光源からの光が、走査光を被走査体上で走査して像を形成する光走査装置に備えられた回転偏向手段の偏向反射面の汚れにおいて付着が少ない所定範囲内に入射する。したがって、光源から出射された光が偏向反射面の汚れが付着している部分に入射せず、汚れの付着が少ない部分に入射するため、入射した光が汚れの影響を受けることなく、偏向反射面で反射される。
【００１２】
（２）前記所定範囲は、偏向反射面の軸方向の中央部分を含まないことを特徴とする。
【００１３】
この構成においては、上記所定範囲が、偏向反射面の軸方向の中央部分を含まないように設定される。一般に偏向反射面の回転軸方向の中央部分は、汚れが集中する性質を有する。したがって、偏向反射面における軸方向の中央部分以外の汚れの付着が少ない部分に光源からの光が入射するため、入射した光が汚れの影響を受けることなく偏向反射面で反射される。
【００１４】
（３）前記所定範囲は、偏向反射面の軸方向について中央部分から両側に偏向反射面の軸方向の長さの１／４より外側の範囲であることを特徴とする。
【００１５】
この構成においては、上記所定範囲に偏向反射面の中央部分から偏向反射面の軸方向の長さの１／４より軸方向の外側の両端部が設定される。したがって、汚れの付着していない偏向反射面の軸方向の両端部に光源からの光が入射するため、入射した光が汚れの影響を受けることなく偏向反射面で反射される。
【００１６】
（４）前記偏向反射面に対する光源からの光のうち少なくとも最初に入射する光は、前記所定範囲内に入射することを特徴とする。
【００１７】
この構成においては、光源からの光のうち少なくとも偏向反射面に最初に入射する光が、偏向反射面の汚れの付着が少ない範囲で反射される。したがって、偏向反射面へ最初に入射する光に後続して入射する光が、偏向反射面の軸方向の中央方向に入射していく場合でも、回転偏向手段は回転しているため、回転偏向手段の回転方向に対する偏向手段面の汚れの付着が少ない後部側の上記中央方向へ向かって後続する光は入射していくので、汚れの付着した部分へ入射することがなく、汚れの影響を受けることなく偏向反射面で反射される。
【００１８】
（５）前記偏向反射面に対する光源からの光の入射範囲を変更する入射範囲変更手段を備えたことを特徴とする。
【００１９】
この構成においては、光源からの光が偏向反射面に入射する範囲の変更を行う入射範囲偏向手段が備えられる。したがって、偏向反射面の汚損範囲の変化に対応して入射範囲の変更が可能である。
【００２０】
（６）前記入射範囲変更手段は、回転偏向手段を軸方向に移動させることを特徴とする。
【００２１】
この構成においては、入射範囲変更手段によって、回転偏向手段を軸方向に移動させることで光源からの光の入射範囲が変更される。したがって、偏向反射面の汚損範囲の変化に対応して入射範囲の変更が可能である。
【００２２】
（７）前記入射範囲変更手段は、回転偏向手段を回転偏向手段の軸方向と偏向手段面に入射する光源からの光の入射方向とで構成される面に直交する面方向に移動させることを特徴とする。
【００２３】
この構成においては、入射範囲変更手段によって、回転偏向手段の軸方向と偏向手段面への光源からの光の入射方向とで構成される面に直交する面方向に回転偏向手段を移動させることで入射光の入射範囲が変更される。したがって、偏向反射面の汚損範囲の変化に対応して入射範囲の変更が可能である。
【００２４】
（８）前記入射範囲変更手段は、回転偏向手段の回転軸を傾けることを特徴とする。
【００２５】
この構成においては、入射範囲変更手段によって、回転偏向手段の回転軸を傾けることで光源からの光の入射範囲が変更される。したがって、偏向反射面の汚損範囲の変化に対応できる。
【００２６】
（９）前記入射範囲変更手段は、前記偏向反射面に汚れが付着した状態となる所定の条件を満足する毎に、入射範囲を変更することを特徴とする。
【００２７】
この構成においては、偏向反射面に汚れが付着している状態を判断する所定の条件が成立する毎に、偏向反射面における光源からの光の入射範囲が変更される。したがって、一定量の汚れが偏向反射面に付着する毎に、適切なタイミングで偏向反射面の入射範囲が汚れの付着のより少ない部分へ変更されるため、入射した光が汚れの影響を受けることなく偏向反射面で反射される。
【００２８】
（１０）前記所定の条件は、走査光の光の強度が所定値以下になることを特徴とする。
【００２９】
この構成においては、走査光の光の強度が所定値以下になる毎に、偏向反射面における光源からの光の入射範囲が変更される。したがって、一定量の汚れが偏向反射面に付着する毎に、適切なタイミングで偏向反射面の入射範囲が汚れの付着のより少ない部分へ変更されるため、入射した光が汚れの影響を受けることなく偏向反射面で反射される。
【００３０】
（１１）前記所定の条件は、回転偏向手段の回転回数が所定の回転回数になることを特徴とする。
【００３１】
この構成においては、回転偏向手段の回転回数が所定の回転回数になる毎に、偏向反射面における光源からの光の入射範囲が変更される。したがって、一定量の汚れが偏向反射面に付着する毎に、適切なタイミングで偏向反射面の入射範囲が汚れの付着のより少ない部分へ変更されるため、入射した光が汚れの影響を受けることなく偏向反射面で反射される。
【００３２】
（１２）前記回転偏向手段は、前記所定範囲に含まれる複数の偏向反射面によって構成されたポリゴンミラーと、回転偏向手段の回転軸を含む面に直交する面方向の形状がポリゴンミラーに略一致する部材と、を前記回転軸方向に一体に形成したことを特徴とする。
【００３３】
この構成においては、上記所定範囲の少なくとも一部がポリゴンミラーで形成され、それ以外の部分がポリゴンミラー以外の部材でポリゴンミラーに略一致する形状に形成されて回転変更手段が構成される。したがって、光源から出射された光が偏向反射面の汚れの付着が多い部分に入射せず、汚れの付着が少ない部分に入射するため、入射した光が汚れの影響を受けることなく偏向反射面で反射される。
【００３４】
【発明の実施の形態】
図１は、この発明の実施形態に係る光走査装置であるレーザスキャナユニットの概略の構成を示す図である。
【００３５】
図１に示すように、ＬＢＰ（レーザビームプリンタ）に備えられたディジタル光学系の書込部として用いられるこの発明の実施形態に係る光走査装置であるＬＳＵ（レーザスキャナユニット）１は、ＬＤ（半導体レーザ）２と、この発明の回転偏向手段に相当するポリゴンミラー５と、ｆθレンズ６及び感光体（被走査体）９等から構成されている。
【００３６】
光源であるＬＤ２は、レーザドライバ（ＬＤドライバ）基板１上に配置され、レーザドライバ基板１に送られてきた画像信号に基づいてレーザ光をコリメータレンズ３及びシリンダレンズ４を介してポリゴンミラー５に向けて出射する。
【００３７】
コリメータレンズ３は、ＬＤ２から出射されたレーザ光を略平行光にする。シリンダレンズ４は、コリメータレンズ３で略平行光にされたレーザ光をポリゴンミラー５の偏向反射面５ａ付近で主走査方向である矢印Ｚ方向に直交する副走査方向に集光し、ポリゴンミラー５が矢印Ｙで示す反時計回りに回転することによって、１ドット毎のレーザ光が、偏向反射面５ａ上で矢印Ｚ方向に線状に結像された状態となる。シリンダレンズ４でレーザ光を集光することで、後述するｆθレンズによるポリゴンミラー５の反射面倒れによる感光体９上の像形成位置ずれの補正を容易に行うことができる。また、ＬＤ２からポリゴンミラー５までの光路は、走査動作に共通な共通光路である。
【００３８】
コリメータレンズ３及びシリンダレンズ４を介して偏向反射面５ａに入射して反射するＬＤ２から出射されたレーザ光（反射光）は、走査光として、矢印Ｙ方向のポリゴンミラー５の回転によって矢印Ｚ方向に走査され、ｆθレンズ６を介して感光体９の表面に露光される。
【００３９】
ｆθレンズ６は、感光体９上における走査光の走査速度を等速度にし、ポリゴンミラー５の面倒れによる像形成位置ずれを補正するとともに、レーザ光が感光体９の表面で結像されるように集光する。つまり、感光体９の表面では、上記走査光の光路方向においてポリゴンミラー５の偏向反射面５ａと像面とは光学的に共役関係に保たれている。感光体９の像面の走査光による矢印Ｚ方向への露光の繰返しと感光体９表面の副走査方向への移動により、感光体９の表面全体に潜像を形成する。
【００４０】
またＬＳＵ１では、矢印Ｚ方向の露光タイミングを制御するために、ポリゴンミラー５におけるレーザ光の走査範囲内の像形成領域外にフォトセンサを用いたＢＤセンサ８が設けられている。同期検出センサ（スタートタイミングセンサ）であるＢＤセンサ８は、感光体９の表面の１走査毎の像形成開始タイミングを決定するために、レーザ光が所定位置を通過するタイミングを検出する。つまり、ＢＤセンサ８によるレーザ光の検出タイミングを基準（レーザ光の検出からの時間によって）に各走査ラインの像書込の同期をとる。ＢＤセンサ８に入射されるレーザ光は、像形成領域外の位置で折り返しミラー７によって折り返され、ＢＤセンサ８上に集光されて入射する。このＢＤセンサ８は、検出精度向上のために感光体９の像面と光学的に略等価位置に設けられる。折り返しミラー７からＢＤセンサ８までの光路は、ＢＤセンサ８による受光専用のセンサ光路である。
【００４１】
また、上記ポリゴンミラー５には後述するモータが設けられており、このモータをモータドライバ（図示せず。）が制御することにより、ポリゴンミラー５を回転させる。
【００４２】
図２は、この発明の実施形態に係る光走査装置のポリゴンミラーに入射するレーザ光の集光状況を示す図である。
【００４３】
図２に示されるように、ＬＤ２から出射されたレーザ光は、シリンダレンズ４により、ポリゴンミラー５の偏向反射面５ａに線状に集光されて入射する。この時のレーザ光が偏向反射面５ａに入射する範囲１２は、図３に示すように偏向反射面５ａのポリゴンミラー５の回転軸である軸Ｍ方向の中央部分を含まない上方部分に設定する。汚れ１０が、図３に示すような形状で偏向反射面５ａのポリゴンミラー５の軸Ｍ方向の中央部分に多く付着するので、中央部分周辺の汚れ１０の付着の少ない上方部分を上記の入射範囲１２と設定した。このためＬＤ２から出射されたレーザ光を偏向反射面５ａで効率よく反射させることができ、走査における走査光強度の変化を小さくでき、十分な光量でもって感光体９を露光できるので、露光ムラや同期検出不良が発生を防止でき、画像情報に基づいた正確な潜像を形成することができる。また、ＬＳＵ１の走査手段の性能を維持することができ、回転変更手段の点検保守間隔を延ばすことができる。
【００４４】
なお、この発明の実施形態では、入射範囲１２に偏向反射面５ａのポリゴンミラー５の軸Ｍ方向の中央部分を含まない上方部分を設定したが、この発明はこれに限定されるものではなく、レーザ光を偏向反射面５ａの汚れの付着が少ない所定範囲内に入射させれば、上記と同様の効果を得られる。例えば、図４に示すように所定範囲を偏向反射面５ａの軸Ｍ方向について、中央部分から両側に偏向反射面５ａの軸Ｍ方向の長さの１／４より外側に設定する。また、偏向反射面５ａへ入射するレーザ光のうち少なくとも最初のレーザ光は、所定範囲内に入射するように設定する。
【００４５】
ここで、レーザ光のうち少なくとも最初のレーザ光は、所定範囲内に入射するように設定する場合も上記と同様の効果が得られるとしたのは、図５に示すようにレーザ光の最初の入射範囲１２が汚れの付着していない部分であれば、後続のレーザ光が偏向反射面５ａの軸Ｍ方向の中央方向に入射していく場合でも、ポリゴンミラー５が回転していることによって、後続するレーザ光は矢印Ｙ方向に対して偏向手段面５ａの汚れの付着が多い部分ではなく、少ない後部側の上記中央方向へ入射していくからである。
【００４６】
また、ＬＳＵ１は、ＬＢＰに備えられた上記入射範囲１２の変更を受け付ける入力手段からの情報に基づいて、ポリゴンミラー５の設定位置を軸Ｍ方向に変化さて、入射範囲１２を変更する入射範囲変更手段を備えている。
【００４７】
具体的には図６に示すように、上方に備えられたポリゴンミラー５を回転させるモータ１６の下方に配置されたポリゴンスキャナ基板１７に、嵌入方向がポリゴンミラー５の軸Ｍと平行になるように、雌ネジ１８及びガイドシャフト１９を配置する。ガイドシャフト１９は、ポリゴンスキャナ基板１７を軸Ｍ方向にガイドする。また、雌ネジ１８のネジ孔に歯車等を介してモータ２０と接続されたネジ部を有するシャフト２１が螺合している。モータ２０は、モータドライバ２２を介してＣＰＵ２３に接続される。
【００４８】
ＣＰＵ２３は、接続された上記の入力手段３０から送信された入力範囲１２の情報に基づいて、モータドライバ２２を介してモータ２０を駆動して、シャフト２１を回転させることで、雌ネジ１８及びポリゴンスキャナ基板１７を軸Ｍの上下方向に平行移動させて、ポリゴンミラー５の位置を変更する。
【００４９】
ポリゴンミラー５の軸Ｍ方向への移動によって、例えば、図７（ａ）及び図８（ａ）に示すようなポリゴンミラー５の偏向反射面の上部にレーザ光を入射する通常の設定から、図７（ｂ）及び図８（ｂ）に示すようなポリゴンミラー５の偏向反射面の下部にレーザ光を入射する設定に変更できる。
【００５０】
これによって、ＬＳＵ１の長年の使用等により偏向反射面５ａの汚れが付着し難い部分でも汚れが付着してきた場合等の汚損範囲の変化に対応することができる。
【００５１】
ここで、この発明に係る実施形態では、ポリゴンミラー５を軸Ｍ方向に移動させることでレーザ光の入射範囲１２を変更する入射範囲変更手段を有するが、この発明はこれに限るものではなく、入射範囲１２を変更できれば、上記と同様の効果を得られる。
【００５２】
例えば、図９（ａ）及び（ｂ）に示すように、ポリゴンスキャナ基板１７のポリゴンミラー５を有する面とは反対の下面に、歯車等を介してモータ２０と接続されたネジ部を有するシャフト２１をネジ孔に螺合された雌ネジ１８及びガイドシャフト１９を一部分に貫通させたガイド部材２４を、ポリゴンミラー５を軸Ｍ方向とレーザ光が偏向手段面５ａに入射する方向とで構成される面と、シャフト２１及びガイドシャフト１９で構成される面とが直交する方向（矢印Ｐ方向）に配置する。モータ２０は、モータドライバ２２を介して接続されたＣＰＵ２３によって駆動する。
【００５３】
ＣＰＵ２３は、接続された上記の入力手段３０から送信された入力範囲１２の情報に基づいて、モータドライバ２２を介してモータ２０の駆動を制御して、シャフト２１を回転させることで、ポリゴンスキャナ基板１７及びポリゴンミラー５を矢印Ｐ方向へ平行移動させる。それに伴ってレーザ光の入射範囲１２も図１０に示すように矢印Ｐ方向へ平行移動する。
【００５４】
また、図１１に示すように、ポリゴンスキャナ基板１７のポリゴンミラー５を有する面とは反対の下面端部に、回動支点Ｅを有する支持部材２５と、モータ２０に接続された軸Ｎに回転可能に支持されたカム２６とを軸Ｍを挟むように軸平行に配置し、ポリゴンスキャナ基板１７を支持する。支持部材２５は、ポリゴンスキャナ基板１７と一体化され、回動支点Ｅによってポリゴンスキャナ基板１７を回動する。カム２６は、ポリゴンスキャナ基板１７に対して、表面を接触させることで支持する。モータ２０は、モータドライバ２２を介してＣＰＵ２３に接続される。
【００５５】
ＣＰＵ２３は、接続された上記の入力手段３０から送信された入力範囲１２の情報に基づいて、モータドライバ２２を介してモータ２０を駆動し、軸Ｎを介してカム２４を回転させることで、回動支点Ｅを支点としてポリゴンスキャナ基板１７を矢印Ｑ方向へ回動させる。それに伴い、ポリゴンミラー５は軸Ｍ方向に対して傾いた状態となり、レーザ光の入射範囲１２も図３に示されるような通常の設定から、図５に示すような部分となる。
【００５６】
但し、この場合は、ポリゴンミラー５の反射面倒れの状態であるため、ｆθレンズ６等による感光体９上の潜像形成位置ずれの補正が必要である。
【００５７】
なお、上述の入射範囲１２の変更手段には入力手段３０が接続されていたが、入力手段３０やモータ２０等は接続せずにシャフト２１及びカム２６を手動で回して入射範囲を調整してもよい。
【００５８】
さらに、上述の偏向反射面５ａへのレーザ光の入射範囲１２の変更を所定の条件によって自動で実施できるような構成としてもよい。
【００５９】
例えば、図１２に示すように、入力手段３０の代わりに偏向手段面５ａを反射した走査光であるレーザ光の光の強度を検出することが可能なＢＤセンサ８を接続したＣＰＵ２３が、走査光の光の強度情報により上述の入射範囲１２の変更の制御を行う。
【００６０】
ＬＳＵ１の使用開始時における走査光の光の強度に比べ現在の走査光の光の強度が所定値（ＬＳＵ１の使用開始時の０．８倍）以下となる毎に、ポリゴンミラー５の回転を停止させ、ポリゴンミラー５の設定位置の変更を行い、レーザ光の入射範囲１２を変更する。その後、使用を再開する。
【００６１】
また、印刷枚数によって入射範囲１２を変更できるようにポリゴンミラー５の回転を検出する回転検出センサを上述のＢＤセンサ８の代わりにＣＰＵ２３に接続し、ポリゴンミラー５の回転回数が所定回転数に達する毎に、上記と同様の制御でレーザ光の入射範囲１２を変更する。
【００６２】
これにより、一定量の汚れが偏向反射面５ａに付着する毎に適切なタイミングで入射範囲１２を汚れのより少ない箇所へ変更することができ、入射したレーザ光を効率よく反射することができる。また、ＬＳＵ１の走査手段の性能をより維持することができ、ポリゴンミラー５の点検保守間隔をより延ばすことができる。
【００６３】
また、この発明の別の実施形態として、上記所定範囲に含まれる複数の偏向反射面５ａによって構成されたポリゴンミラー５と回転偏向手段の軸Ｍを含む面に直交する面方向の形状がポリゴンミラー５に略一致する部材とを軸Ｍ方向に一体に回転偏向手段を形成してもよい
例えば、図１３に示すように、ポリゴンミラー５と同様な形状をした樹脂１５と薄いポリゴンミラー５とをポリゴンミラー５が軸Ｍ方向の端部に位置するように一体にしたダミーポリゴンミラーを回転偏向手段１１として用いる。この場合、レーザ光を薄いポリゴンミラー５の偏向反射面５ａに入射させる。この構成により、回転偏向手段１１の軸Ｍ方向の端部にポリゴンミラー５は位置するので、ポリゴンミラー５の偏向反射面５ａには汚れが付着し難く、偏向反射面５ａに入射したレーザ光を効率よく反射することができ、上述した偏向反射面５ａへの入射光の入射範囲１２を所定範囲内と設定する構成と同様の効果を得ることができる。
【００６４】
また、偏向反射面５ａとして使用しない部分を樹脂１５で形成するので回転偏向手段のコストを下げることができる。
【００６５】
なお、上記部材の形状精度は高精度を要求されない。
【００６６】
【発明の効果】
この発明によれば、以下の効果を奏することができる。
【００６７】
（１）光走査装置に備えられた回転偏向手段の偏向反射面の汚れの付着が少ない所定範囲内に光源からの光を入射させることによって、入射した光が汚れの影響を受けずに偏向反射面で効率よく反射でき、露光むらや同期検出不良を抑えることができ、画像情報に基づいた正確な像を形成することができる。また、光走査装置の走査手段の性能を維持することができ、回転変更手段の点検保守間隔を延ばすことができる。
【００６８】
（２）上記所定範囲に、偏向反射面の軸方向の中央部分を含まない部分を設定することによって、汚れの付着が少ない軸方向の中央部分以外の偏向反射面に光源からの光を入射させるので、入射した光が汚れの影響を受けずに偏向反射面で効率よく反射でき、露光むらや同期検出不良を抑えることができ、画像情報に基づいた正確な像を形成することができる。また、光走査装置の走査手段の性能を維持することができ、回転変更手段の点検保守間隔を延ばすことができる。
【００６９】
（３）上記所定範囲を偏向反射面の軸方向について中央部分から両側に偏向反射面の軸方向の長さの１／４より外側に上記所定範囲を設定することによって、汚れの付着が少ない両端部に光源からの光を入射させるため、入射した光が汚れの影響を受けずに偏向反射面で効率よく反射でき、画像情報に基づいた正確な像を形成することができる。また、光走査装置の走査手段の性能を維持することができ、回転変更手段の点検保守間隔を延ばすことができる。
【００７０】
（４）光源からの光のうち少なくとも最初に偏向反射面に入射する光を偏向反射面の汚れの付着が少ない範囲で反射させることによって、偏向反射面へ最初に入射する光に後続して入射する光が、偏向反射面の軸方向の中央方向に向かって入射していく場合でも、回転偏向手段は回転しているため、回転偏向手段の回転方向に対して偏向手段面の汚れの付着が少ない後部側の上記中央方向へ向かって後続する光は入射していく。そのため、入射した光が汚れの影響を受けずに偏向反射面で効率よく反射でき、露光むらや同期検出不良を抑えることができ、画像情報に基づいた正確な像を形成することができる。また、光走査装置の走査手段の性能を維持することができ、回転変更手段の点検保守間隔を延ばすことができる。
【００７１】
（５）偏向反射面における光源からの光の入射範囲の変更を行う入射範囲変更手段を備えることによって、偏向反射面の汚損範囲の変化に対応して入射範囲の変更が可能となった。
【００７２】
（６）回転偏向手段を軸方向に移動させて偏向反射面における光源からの光の入射範囲を変更する入射範囲偏向手段を備えることによって、偏向反射面の汚損範囲の変化に対応して入射範囲の変更が可能となった。
【００７３】
（７）回転偏向手段の軸方向と偏向手段面への入射光の入射方向とで構成される面方向に直交する面方向に回転偏向手段を移動させることで偏向反射面における光源からの光の入射範囲を変更する入射範囲偏向手段を備えることによって、偏向反射面の汚損範囲の変化に対応して入射範囲の変更が可能となった。
【００７４】
（８）回転偏向手段の回転軸を傾けることで偏向反射面における光源からの光の入射範囲を変更する入射範囲偏向手段を備えることによって、偏向反射面の汚損範囲の変化に対応して入射範囲の変更が可能となった。
【００７５】
（９）偏向反射面に汚れが付着している状態を判断する所定の条件が成立する毎に、偏向反射面における光源からの光の入射範囲を変更することによって、一定量の汚れが偏向反射面に付着する毎に入射した光が汚れの影響を受けない適切なタイミングで偏向反射面の入射範囲を変更できるので、偏向反射面で効率よく反射でき、露光むらや同期検出不良を抑えることができ、画像情報に基づいた正確な像を形成することができる。また、光走査装置の走査手段の性能をより維持することができ、回転変更手段の点検保守間隔をより延ばすことができる。
【００７６】
（１０）走査光の光の強度が所定値以下になる毎に、偏向反射面における光源からの光の入射範囲を変更することによって、一定量の汚れが偏向反射面に付着する毎に入射した光が汚れの影響を受けない適切なタイミングで偏向反射面の入射範囲を変更できるので、偏向反射面で効率よく反射でき、露光むらや同期検出不良を抑えることができ、画像情報に基づいた正確な像を形成することができる。また、光走査装置の走査手段の性能をより維持することができ、回転変更手段の点検保守間隔をより延ばすことができる。
【００７７】
（１１）回転偏向手段の回転回数が所定の回転回数に達する毎に、偏向反射面における光源からの光の入射範囲を変更することによって、一定量の汚れが偏向反射面に付着する毎に入射した光が汚れの影響を受けない適切なタイミングで偏向反射面の入射範囲を変更できるので、偏向反射面で効率よく反射でき、露光むらや同期検出不良を抑えることができ、画像情報に基づいた正確な像を形成することができる。また、光走査装置の走査手段の性能をより維持することができ、回転変更手段の点検保守間隔をより延ばすことができる。
【００７８】
（１２）上記所定範囲の少なくとも一部をポリゴンミラーで形成し、それ以外の部分をポリゴンミラー以外の部材でポリゴンミラーに略一致する形状に形成して回転変更手段を構成することによって、入射した光が汚れの影響を受けずに偏向反射面で効率よく反射でき、露光むらや同期検出不良を抑えることができ、画像情報に基づいた正確な像を形成することができる。また、光走査装置の走査手段の性能を維持することができ、回転変更手段の点検保守間隔を延ばすことができる。さらに、偏向反射面として使用しない部分をポリゴンミラー以外の部材で形成できるので回転偏向手段のコストを下げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施形態に係る光走査装置であるレーザスキャナユニットの概略の構成を示す図である。
【図２】同レーザスキャナユニットに配置された回転偏向手段であるポリゴンミラーに入射するレーザ光の集光状況を示す図である。
【図３】同レーザスキャナユニットに配置された回転偏向手段であるポリゴンミラーに入射するレーザ光の入射範囲を示す図である。
【図４】同レーザスキャナユニットに配置された回転偏向手段であるポリゴンミラーに入射するレーザ光の入射範囲を示す図である。
【図５】同レーザスキャナユニットに配置された回転偏向手段であるポリゴンミラーに入射するレーザ光の入射範囲を示す図である。
【図６】同レーザスキャナユニットの概略の構成の一部を示す図である。
【図７】同レーザスキャナユニットに配置された回転偏向手段であるポリゴンミラーに入射するレーザ光の入射範囲を示す図である。
【図８】同レーザスキャナユニットに配置された回転偏向手段であるポリゴンミラーに入射するレーザ光の入射範囲を示す図である。
【図９】同レーザスキャナユニットの概略の構成の一部を示す図である。
【図１０】同レーザスキャナユニットに配置された回転偏向手段であるポリゴンミラーに入射するレーザ光の入射範囲を示す図である。
【図１１】同レーザスキャナユニットの概略の構成の一部を示す図である。
【図１２】同レーザスキャナユニットの概略の構成の一部を示す図である。
【図１３】同レーザスキャナユニットに配置された回転偏向手段の構成を示す図である。
【図１４】従来のポリゴンミラーの上部を示す図である。
【図１５】従来のポリゴンミラーの偏向反射面上の汚れ付着状態を示す図である。
【符号の説明】
１−レーザスキャニングユニット
５−ポリゴンミラー
５ａ−偏向手段面
６−ｆθレンズ
８−ＢＤセンサ
１１−回転偏向手段
１２−入射範囲
１５−樹脂
１８−雌ネジ
１９−ガイドシャフト
２０−モータ
２１−シャフト
２２−モータドライバ
２３−ＣＰＵ
２４−ガイド部材
２５−支持部材
２６−カム
Ｍ−軸
Ｎ−軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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