(57)【要約】【解決課題】電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルターに関し、より詳しくは点状欠陥の発生が抑制されたディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供する。【解決手段】透明フィルム基体上に銀を含む導電性金属薄膜を積層して透明導電性薄膜積層体フィルムを形成し、当該積層体フィルムと、反射防止若しくは防眩機能を有するフィルム、及び透明基板を、粘着剤により貼り合わせて電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルターを製造する方法において、当該導電性金属薄膜層上にはあらかじめ保護フィルムが被覆されており、当該張り合わせに際し、当該保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面の５０％以上が、当該保護フィルムの粘着剤成分で覆われていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム基体上に銀を含む導電性金属薄膜を積層して透明導電性薄膜積層体フィルムを形成し、当該積層体フィルムと、反射防止若しくは防眩機能を有するフィルム、及び透明基板を、粘着剤により貼り合わせて電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルターを製造する方法において、当該導電性金属薄膜層上にはあらかじめ保護フィルムが被覆されており、当該張り合わせに際し、当該保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面の面積比５０％以上が、当該保護フィルムの粘着剤成分で覆われていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
【請求項２】
前記保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面の面積比７０％以上が、当該保護フィルムの粘着剤成分で覆われていることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面の面積比９０％以上が、当該保護フィルムの粘着剤成分で覆われていることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
前記保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面を覆っている保護フィルムの粘着剤成分の厚みが０．１〜２００ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルターの製造方法に関し、より詳しくは点状欠陥の発生が抑制されたディスプレイ用光学フィルターの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
マルチメディア社会、デジタル社会の進展につれて、送信、配信若しくは処理される画像情報やデジタル情報が飛躍的に増大しており、これを表示するモニターであるディスプレイ装置は、人間と通信機器、映像機器、コンピュータ等をつなぐインターフェースとして、又はキーデバイスとしてますますその重要性を増している。かかるディスプレイ装置として、従来の重く、厚く、かつ、大型化が困難であるブラウン管（ＣＲＴ）モニターに代えて、種々の薄型ディスプレイが精力的に検討されており、なかでも薄型化、大画面化が比較的容易に実現できるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）やフィールドエミッションデスプレイ（ＦＥＤ）等が注目され、特に前者は、研究開発の段階から、量産化が開始され始めたところであり、今後急速に普及することが期待されている。
【０００３】
しかしながら、プラズマディスプレイは、構造原理上、放電を利用しているので、強度の漏洩電磁波を必然的に発生するという問題があり、当該漏洩電磁波が人体や他の機器に与える影響を考慮して、プラズマディスプレイから発生する漏洩電磁波を所定の安全基準値〔例えば、日本では、ＶＣＣＩ（Ｖｏｌｕｎｔａｌｙ　Ｃｏｎｔｒｏｌ　Ｃｏｕｎｃｉｌ　ｆｏｒ　Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ　ｂｙ　ｄａｔａ　ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ　ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　ｏｆｆｉｃｅ　ｍａｃｈｉｎｅ）、米国では、ＦＣＣ（Ｆｅｄｅｒａｌ　Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ　ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ）〕以内に抑えることが必要となってきている。
【０００４】
またプラズマディスプレイは、強い近赤外線光を発し、無線ＬＡＮ、コードレスフォン、赤外線リモートコントローラ等の電子機器に作用して、誤動作を引き起こす原因となることも指摘されており、そのため、プラズマディスプレイからの、近赤外領域である８００〜１０００ｎｍの波長領域の光を、誤動作が生じない実用上問題ないレベルまでカットする必要がある。
【０００５】
上記のごとき電磁波と近赤外線放出を抑えるためには、電磁波及び近赤外線遮断用光学フィルター、すなわち、フィルター全面に渡って導電性があり、しかも、ディスプレイ全面に設置した場合、看者の画像の視認を妨げない、透明性に優れたフィルターの開発が必須である。
かかる光学フィルターとしては、電磁波遮断能力はあるが近赤外線遮断能力や透明性が優れず、モワレ像が生じるというディスプレイ用途としては本質的な問題を有するいわゆる金属メッシュタイプのフィルターに代わって、透明導電性薄膜を基体全面に配置した、モワレ像の発生がない透明導電性薄膜タイプの光学フィルターが今後より好ましく用いられると予想される。
【０００６】
透明導電性薄膜タイプの光学フィルターは、透明フィルム基体上に、透明導電性金属薄膜層を多層に形成して透明導電性薄膜積層体フィルムとし、当該積層体フィルムが、透明基板に、粘着剤を介して貼り合わせられる（ラミネートされる）場合が多く、また、通常、反射防止機能や防眩機能を有するフィルムが、当該透明導電性薄膜積層体フィルム表面に同様に粘着剤を介して貼り合わせられる。光学フィルターの電磁波遮断能力は、当然のことながら、当該光学フィルターの面抵抗値が低いほど優れるので、通常、純物質の中で最も比抵抗値が低い銀又は銀を主体とする金属薄膜を積層し、透明導電性薄膜を得ることが行われている。さらに、透過率上昇及び金属薄膜層の安定性向上の目的で、当該銀からなる金属薄膜層を、透明高屈折率薄膜層で挟み込み、透明導電性薄膜積層体を形成するのが通常である。
【０００７】
しかしながら、よく知られているように、金属薄膜層材料として好適に用いられる銀は、反面、きわめて原子の凝集を生じやすいという大きな問題がある。銀薄膜層の銀原子が凝集すると、銀白色の点（点状欠陥、又は反射性欠陥、白点とも称される。）を生じる。ディスプレイ用の光学フィルターに、このような反射性欠陥が多く生じた場合は、当該フィルターをセットした大型のプラズマディスプレイ上に映し出される映像、例えば鮮明な森林、海、草原等の風景画像、スポーツ中継、劇場中継等の美麗な画像上で、この反射性欠陥がスクリーン上を白い点としてちらちらすることになり、視聴者はこれが気になって、せっかくの大画面に映し出される迫力ある精緻なカラー映像を、心から楽しむことができなくなる。このように、白点は、当該金属薄膜材料の有する、高透明性や低抵抗性を喪失せしめる大きな問題となるとともに、フィルターとしての商品価値を大幅に下落させるものである。
【０００８】
従来より、かかる銀薄膜層の銀原子の凝集は、例えば、塩素イオンや異物（パーティクル）等の存在下において発生しやすいことが知られており、透明高屈折率薄膜層を厚くすることにより、当該塩素イオン等が銀薄膜層に到達するのを防止することも試みられているが、光学設計上、高透過性を維持するためには、その厚さは数十ｎｍ程度に抑えざるを得ず、防止能が不十分である場合が多い。また、銀薄膜層に、銅やプラチナ等の耐食性のある金属薄膜を積層することも試みられているが、かかる銀以外の金属薄膜を導入することは、当該銀薄膜材料それ自体の有する、本来の高透明性や低抵抗性が、どうしても低下することは避けられないという問題がある。
【０００９】
特に近年、所謂ホームシアター等にも好適な、画面が４０インチ以上の大画面のＰＤＰが出回り始めているが、この場合、当該画面にあわせて、光学フィルターも大型のものが要求されるようになっている。銀薄膜層は、スパッタリングやイオンプレーティング等により形成されるが、薄膜を形成する面積が増大するにつれて、どうしてもパーティクル等の混入の機会も増えるため、基本的には全体として、白点の発生する頻度が増加することは確率的に避けられない。従って、銀薄膜層に白点が生ずることを、より有効に防止する技術は、今後ますます要求されると考えられる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、このように、白点の発生を効果的に防止しうるディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、意外なことに、貼り合わせに際し、当該導電性金属薄膜上にその成分の一部が残存または転写されるような保護フィルムで当該導電性金属薄膜をあらかじめ被覆することにより、白点の発生が効果的に抑制されることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は以下の発明である。
（１）透明フィルム基体上に銀を含む導電性金属薄膜を積層して透明導電性薄膜積層体フィルムを形成し、当該積層体フィルムと、反射防止若しくは防眩機能を有するフィルム、及び透明基板を、粘着剤により貼り合わせて電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルターを製造する方法において、当該導電性金属薄膜層上にはあらかじめ保護フィルムが被覆されており、当該張り合わせに際し、当該保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面の面積比５０％以上が、当該保護フィルムの粘着剤成分で覆われていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
（２）　前記保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面の面積比７０％以上が、当該保護フィルムの粘着剤成分で覆われていることを特徴とする（１）に記載の製造方法。
（３）　前記保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面の面積比９０％以上が、当該保護フィルムの粘着剤成分で覆われていることを特徴とする（１）に記載の製造方法。
（４）　前記保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面を覆っている保護フィルムの粘着剤成分の厚みが１〜１００ｎｍの範囲であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の製造方法。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、図面により、本発明について詳細に説明する。
（透明導電性薄膜積層体フィルム）
図１は、本発明における透明導電性薄膜積層体フィルム１０の層構成の一例を示すものであって、基本的に、まず透明フィルム基体１３上に、銀を含む導電性金属薄膜１５，１５，１５，・・・を積層するが、好ましくは、当該金属薄膜を、透明高屈折率薄膜１７，１７，１７，・・・で挟むように、交互に積層して、透明導電性金属薄膜積層体１８とし、透明導電性薄膜積層体フィルム１０を形成することである。
【００１３】
透明フィルム基体１３としては、厚み１０〜６００μｍ程度の、可撓性のある透明性の高い高分子フィルムが好ましく用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が、特に好適に用いられる。
【００１４】
本発明において用いられる、導電性金属薄膜１５の材料としては、銀または銀の合金が好ましいものとして採用される。すなわち銀は、比抵抗が、１．５９×１０−６（Ω・ｃｍ）と、あらゆる材料の中で最も電気伝導性に優れる上に、薄膜の可視光線透過率が優れるため、最も好適に用いられるのである。なお、銀は、薄膜とした時に安定性を欠き、硫化や塩素化を受け易いという問題を持っているので、その安定性を向上させるため、銀を含む、すなわち具体的には、銀を主体とする銀合金、例えば、銀と金の合金、銀と銅の合金、銀とパラジウムの合金、銀と銅とパラジウムの合金、銀と白金の合金等を用いてもよい。
【００１５】
かかる銀を含む金属薄膜層１５の厚さは、透明導電性金属薄膜層全体の透過性及び電気伝導性を考慮して決定されるが、通常は、０．５〜１００ｎｍ程度である。
本発明においては、図１に示すように、金属薄膜層１５を単独で使用する場合に比較して、これと透明高屈折率薄膜層１７との積層体１８とすることにより、さらに充分な電磁波遮断効果を奏することが可能となる。なお、最表面に金属薄膜層を設けている場合は、最表面における主たる金属である銀の元素組成が、３〜９９％（原子割合）であることが好ましい。
【００１６】
透明高屈折率薄膜層１７は、透明性の高い、例えば、膜厚１００ｎｍ程度の薄膜を形成したときに、その薄膜の波長４００〜７００ｎｍの光に対する透過率が６０％以上であるような、透明性に優れた材料が好ましく、また、５５０ｎｍの光に対する屈折率が、１．４以上の材料であるような、高屈折率材料が好ましい。　　　かかる透明高屈折率薄膜層用に好適に用いることができる材料としては、上記のようなものであれば、特に限定するものではないが、例えば、インジウムとスズとの酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、カドミウムとスズとの酸化物（ＣＴＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、亜鉛とアルミニウムとの酸化物（ＡＺＯ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化トリウム（ＴｈＯ２）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化ランタン（ＬａＯ２）、酸化シリコン（ＳｉＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ３）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化セシウム（ＣｅＯ２）、酸化ビスマス（ＢｉＯ２）等である。また、透明高屈折率硫化物を用いてもよく、具体的に例示すると、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、硫化アンチモン（Ｓｂ２Ｓ３）等があげられる。
【００１７】
透明高屈折率薄膜用材料としては、中でも、ＩＴＯ、ＺｎＯ及びＴｉＯ２が特に好ましい。ＩＴＯ及びＺｎＯは、導電性を持つ上に、可視領域における屈折率が、２．０程度と高く、さらに可視領域にほとんど吸収を持たないためであり、ＴｉＯ２は、絶縁物であり、可視領域にわずかな吸収を持つが、可視光に対する屈折率が２．３程度と大きいことによる。
【００１８】
図１に示したような、透明導電性金属薄膜１５と透明高屈折率薄膜層１７の形成は、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等の従来公知の手法によることができる。
なかでもスパッタリング法は、膜厚を制御した多層積層には好適であり、金属薄膜層と高屈折率薄膜層、例えば、銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層と主として酸化インジウムで構成される高屈折率薄膜層とを容易に繰り返し連続的に成膜できるため好ましい。この場合、銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層の形成には、銀または銀を含む合金をターゲットとし、スパッタガスには、アルゴン等の不活性ガスを用い、通常、圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直流（ＤＣ）あるいは高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング法によることが出来る。また、例えば酸化インジウムで構成される高屈折率薄膜層の形成には、インジウムを主成分とする金属ターゲットまたは酸化インジウムを主成分とする焼結体ターゲットを用い、スパッタガスにはアルゴン等の不活性ガスを、反応性ガスには酸素を用い、通常圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直流（ＤＣ）あるいは高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング法による反応性スパッタリングを適用することができる。
（保護フィルムの剥離）
以上のようにして形成した、透明導電性薄膜積層体フィルム１０と、反射防止若しくは防眩機能を有するフィルム等とを、粘着剤により貼り合わせて電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルターを製造するが、本発明の方法は、図２（ａ）に示すように、当該導電性金属薄膜積層体１８上にはあらかじめ保護フィルム２０が被覆されており、かつ、図２（ｂ）に示すように、当該張り合わせに際し、当該保護フィルム２０を除去した後の当該金属薄膜層の最表面の面積比５０％以上が、当該保護フィルムの粘着剤成分２３の残留部分２３’で覆われていることを特徴とするものである。
本発明で使用される保護フィルム２０は、透明導電性薄膜積層体フィルム１０の金属薄膜層の最表面に重ねて密着し、当該積層体フィルムの次の工程までの保管や搬送時に、当該フィルムの表面を機械的衝撃や湿気等から保護するものであり、この点、従来から使用されている保護フィルムと共通する。しかして、本発明においては、これに反射防止フィルム等を張り合わせる工程において、当該保護フィルムを剥離した後で、金属薄膜層の最表面に、保護フィルムの粘着剤が所定量以上残留するものであることを特徴とする。かかる、粘着剤の、被保護体への残留は、通常、保護フィルムの分野では、いわゆる「糊残り」と称されるもので、被保護体表面を汚染するため、非常に忌避され、糊残りが実質的にない保護フィルムを第一に選択するのが通例であるが、本発明においては、あえて、積極的に粘着剤成分の一部を残留（転写）させ、これで、当該金属薄膜層表面のかなりの部分を覆うようにするものである。
【００１９】
保護フィルムとしては、基材フィルムとなる例えばポリエチレン（ＰＥ）と粘着剤層に相当するエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）を共押出しした、いわゆる二層タイプ（自己粘着性保護フィルム）と称されるものもあるが、本発明においては、基本的に、その上記趣旨から、図２に示すように、保護フィルムの基材２５の表面に粘着剤層２３を、粘着剤の溶液を塗布等して設けた、いわゆる粘着剤タイプの保護フィルムが好ましい。
粘着剤層を形成する樹脂としては、特に限定するものではないが、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−ｎ−ブチルアクリレート共重合体、ポリブチルアクリレート、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸アルキルエステル（メチルエステル、エチルエステル、ブチルエステル、２−エチルヘキシルエステル、２−ヒドロキシエチルエステル等）−アクリル酸共重合体、メタクリル酸アルキルエステル（メチルエステル、エチルエステル、ブチルエステル、２−エチルヘキシルエステル、２−ヒドロキシエチルエステル等）−アクリル酸共重合体、さらに、上記アクリル酸アルキルエステル−メタクリル酸アルキルエステル−アクリル酸共重合体、エチレン−α−オレフィン共重合体、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンランダム共重合体（ＳＢＲ）、水添スチレン−ブタジエンランダム共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）等が好適に用いられる。上記粘着剤は、単独で用いてもよいが、２種以上混合して用いてもよい。
本発明においては、これらの樹脂について、通常の所謂「糊残り」がないものよりも、その分子量を小さくなるように重合して転写能を高め、保護フィルムを剥離したときに、被被覆物である金属薄膜層の最表面の少なくとも面積比５０％、好ましくは面積比７０％以上、さらに好ましくは面積比９０％以上１００％以下が、残留した粘着剤成分で被覆されるようにする。
この表面に残留する粘着剤成分の被覆割合は、当該金属薄膜層の最表面における粘着剤成分由来の炭素の分布を適当な表面分析手段で測定することにより求められる。例えば、電子線マイクロアナライザー（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｐｒｏｂｅ　Ｘ−ｒａｙ　Ｍｉｃｒｏａｎａｌｙｚｅｒ，　以下、ＥＰＭＡと略記することがある。）により、金属薄膜層の最表面全体をスキャンし、炭素の検出される表面部分と炭素の検出されない表面部分の割合から求められる。
残留する粘着剤成分２３’の厚みは、本発明の効果を奏するためには、きわめて薄くてもよく、０．１〜２００ｎｍ、好ましくは１〜１００ｎｍ程度である。なお、この粘着剤成分の厚みは、２次イオン質量分析（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ　Ｉｏｎ　Ｍａｓｓ　Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ，　以下ＳＩＭＳと称することがある。）等により、粘着剤が残留する部分を、その厚み方向にスパッタして炭素の深さ方向の濃度プロファイルを求めることにより測定することができる。
なお、当該粘着剤には、公知の添加成分である、ロジン、ロジンエステル、クマロン樹脂、テルペン樹脂、等の粘着付与剤、脂肪酸エステル、動植物油脂、ワックス、石油重質留分等の軟化剤、各種充填剤、顔料、老化防止剤、安定剤等を適宜配合することもできる。
本発明における、保護フィルム２０における粘着剤層２３の厚みは、特に限定するものではないが、通常、０．１〜１００μｍ、好ましくは１〜８０μｍ程度である。
【００２０】
本発明において使用する保護フィルムの基材２５としては、通常使用されるものがいずれも好適に採用される。例えば、クラフト紙、クレープ紙、コート紙、和紙等の紙：ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン、セルローズジアセテート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、セルロースプロピオネート、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン等の高分子フィルムが挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、基材２５の厚みは、１〜５００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍ程度である。
（光学フィルターの組み立て）
図３は、本発明の方法により製造される電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルター４０の層構成の一例を示す断面図である。すなわち、保護フィルムを除去した後の当該金属薄膜層の最表面の面積比５０％以上が当該保護フィルムの粘着剤成分２３’で覆われている透明導電性薄膜積層体フィルム１０と、反射防止機能を有するフィルム３０（以下、反射防止フィルムと称することがある。）（若しくは防眩機能を有するフィルム３０’（以下、防眩性フィルムと称することがある。））、及び透明基板３３を、粘着剤３５（３５’）により貼り合わせて電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルター４０を製造するものである。なお、５０は電極である。
【００２１】
反射防止フィルム（ＡＲフィルム）とは、基体とする適当な高分子フィルム等の上に反射防止層を形成したフィルムであり、反射防止層が形成されている面の可視光線反射率が、例えば０．１％以上、２％以下、好ましくは、０．１％以上、１．５％以下、より好ましくは、０．１％以上、０．５％以下の性能を有するフィルムである。この反射防止膜が形成されている面の可視光線反射率は、反対面（反射防止膜が形成されていない面）をサンドペーパー等で粗面として、黒色塗装等により、反対面の反射をなくして、反射防止層が形成されている面のみで起こる反射光を測定することにより知ることができる。
【００２２】
基体である高分子フィルム等の上に形成する反射防止層としては、種々の方法を採用することができるが、例えば、具体的には、可視光域において屈折率が１．５以下、好適には、１．４以下程度と低い、シリコン系やフッ素系の透明高分子樹脂、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素の薄膜等を、例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物窒化物、硫化物等の無機化合物又はシリコン系樹脂、アクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものがある。
【００２３】
単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣るのに対し、多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体フィルムの光学特性による光学設計の制限が少ないという特徴があり、目的とする光学フィルターの特性に応じて適宜選択すればよい。なお、上記無機化合物薄膜の形成には、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、真空蒸着法、室式塗工法等、従来公知の方法を用いればよい。
【００２４】
一方、防眩性フィルム（ＡＧフィルム）は、０．１〜１０μｍ程度の微少な凹凸を表面に有する可視光線に対して透明なフィルムである。
防眩性を付与するためには、種々の方法を適用することができる。（ｉ）一つは、樹脂被膜層中に光分散性の粒子を分散させたもので、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の、粒径１〜４０μｍ程度の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって透明高分子フィルム上に塗布硬化させたものである。
【００２５】
（ｉｉ）または、樹脂表面自体に凹凸を形成してもよく、例えばアクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂を基体である高分子等のフィルム上に塗布し、所望のヘイズ又は表面状態に対応する凹凸や粗面を有する型を押しつけて硬化させ、表面に凹凸等を形成して粗面とすることによっても防幻性フィルムを得ることができる。
【００２６】
（ｉｉｉ）さらには、ガラス板をフッ酸等でエッチングするように、基体フィルム表面を薬剤処理して粗面化することによっても防幻性フィルムを得ることができる。なお、防眩性フィルムにおいては、適当な凹凸が表面に形成されていればよく、作成方法は、上記に挙げた方法に限定されるものではない。
防幻性フィルムのヘイズは、例えば０．５％以上２０％以下程度であり、好ましくは、１％以上１０％以下である。ヘイズがあまり小さすぎると防眩機能が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイ視認性が悪くなる。また、この防眩性フィルムは、多くの場合、ニュートンリング防止フィルムとして用いることができる。
なお、反射防止層を形成する基体であるフィルムとして、上記した防眩性フィルムを用いても良い。この場合は、一枚のフィルムで防眩性機能と反射防止機能を併せ持った光学フィルム（いわゆるＡＲ−ＡＧフィルム）とすることができ、好適に用いられる。
【００２７】
本発明において、透明導電性薄膜積層体フィルム１０と、反射防止フィルム３０や防眩性フィルム３０’、及び透明基板３３を貼り合わせて電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルター４０を構成するには、粘着剤３５（３５’）が使用される。
【００２８】
粘着剤３５（３５’）としては、保護フィルムの粘着剤２３としてすでに述べたもののうち、透明性の高いものが使用可能である。これは、当該粘着剤は光学フィルターの構成層の一部となるので、フィルターの視認性を確保するため、少なくとも、ディスプレイからの光線透過部である中心部分に用いられる粘着剤は可視光線に対して充分透明である必要があるからである。
粘着剤の形態は、大きく分けてシート状のものと液状のものに分けられるが、実用上充分な粘着強度を付与することができるものであれば、いずれの形態の粘着剤であっても好適に使用することができる。
シート状粘着剤は、通常、感圧型であり、貼り付ける一方の部材、例えば透明導電性薄膜積層体フィルム１０に、離型剤を取り除いたシート状粘着剤をラミネートした後に、さらにこの上に、もう一方の部材、例えば反射防止フィルム３０をラミネートして加圧することによって当該二つの部材の貼り合わせを行うのである。一方、液状粘着剤は、基本的に、張り合わせる部材の対向する面の少なくとも一つに、当該粘着剤を塗布し、これを介して二つの部材を貼り合わせ後に室温放置または加熱により硬化させるものである。液状粘着剤の塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等が挙げられ、粘着剤の種類、粘度、塗布量等から適宜選択される。
【００２９】
形成された粘着剤層３５（３５’）の厚みに特に制限はないが、通常０．５〜５０μｍ、好ましくは、１〜３０μｍ程度である。
なお、いずれの粘着剤を用いた場合でも、貼り合わせを行った後は、当該貼り合わせた時に混入する気泡を脱泡又は、粘着剤に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条件下において、養生を行うことが好ましい。加圧条件としては、一般的に０．００１から２ＭＰａ程度、加温条件としては、部材の耐熱性にもよるが、一般的には室温以上、８０℃以下である。
【００３０】
特に、透明導電性薄膜積層体フィルム１０と、透明基板３３を貼り合わせる場合、貼り合わせ方法に特に制限はないが、図３に示す層構成の場合は、通常は、以下の方法が採用される。すなわち、当該薄膜積層体フィルム１０の透明フィルム基体１３側にシート状の粘着剤３５’を貼り付け、その上を離型フィルムで覆ったものをロール状態であらかじめ用意しておき、当該ロールから薄膜積層体フィルムを繰り出しながら、離型フィルムをはがしていき、離型された面を透明基板３３上へ貼り付け、適当なロールで押さえつけながらこの貼り付け工程を実施するのである。なお、粘着剤３５’（又は３５）には、光学フィルターの近赤外線カット能を補填するため、近赤外線吸収色素を配合させてもよい。さらに云えば、透明性を阻害しない限り、透明基板３３や透明フィルム基体１３にかかる近赤外線吸収色素を配合することも可能である。
また、上記説明は、粘着剤３５、３５’を使用するものとして述べたが、目的に応じて、当該粘着剤の代わりに、または当該粘着剤とともに、より接着力の強い接着剤を使用することももちろん可能である。
【００３１】
以上のごとくして、透明導電性薄膜積層体フィルム１０と、反射防止フィルム等３０、及び透明基板３３を、粘着剤３５（３５’）により貼り合わせて得られる電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルター４０には、図３に示すように、通常、透明導電性金属薄膜層１５から外部に電流を取り出すため電極５０を有する。この電極形状は、できるだけ広い面積から効率良く電流を取り出すために、外周部分に額縁上に形成されることが多い。なお、透明導電性金属薄膜層は、外部環境に対する耐食性が低いため、その保護のため、通常導電性材料で当該金属薄膜層の表面を覆い電極とする。電極の形成方法としては、導電性塗料の塗布、印刷、導電性テープの貼り付け等の公知の手段が用いられる。
【００３２】
【作用】
本発明に従えば、透明導電性薄膜積層体フィルムと、反射防止フィルム等とを粘着剤により貼り合わせて電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルターを製造する際に、当該導電性金属薄膜層上にその最表面の面積比５０％以上、好ましくは面積比７０％以上、さらに好ましくは面積比９０％以上が、当該保護フィルムの粘着剤成分で覆われているようにすることにより、後記実施例に示されているように、その白点の発生は顕著に抑制される。この詳細なメカニズムは不明であるが、おそらく、次のようであろうと推定される。
【００３３】
すなわち、スパッタリング等により形成された銀からなる金属薄膜層は、製膜条件が局部的にばらつくことにより、その表面全体にわたって必ずしも完全に均一で緻密な膜ではなく、ところどころに、弱い膜質の部分が生成することは避けられないと考えられ、この部分から、微小なクラックが生じ易い。この場合、当該金属薄膜層と接する反射防止フィルムを通して拡散してきた湿気や塩素イオン等がこのクラックを開口部としてここから金属薄膜層内に浸入し、ここを起点として銀薄膜の凝集が開始され、この周囲に当該凝集が拡散していき、反射性欠陥が広がるものと推定される。しかして、本発明で規定するごとく、銀薄膜層の表面を残留する粘着剤成分で被覆した場合は、各クラック（割れ目）内に当該粘着剤成分が入り込み、粘着剤の成分で埋められることになるため、クラック部分が外部からの拡散してくる湿気や塩素イオン等の浸入の開口部となることを防ぐため、上記クラックを起点とする銀凝集のメカニズムが抑制されるためであろうと思われる。
【００３４】
【実施例】
以下、実施例により本発明を説明する。実施例中、％とあるのは、特に断りなき限り質量％であり、部とあるのは質量部である。
〔実施例１〕
（１）（透明導電性薄膜積層体フィルムの形成）
図１に示すように、透明フィルム基体１３として、ポリエチレンテレフタレートフィルム〔厚さ７５μｍ〕を使用し、その一方の主面に、直流マグネトロンスパッタリング法を用いて、インジウムとスズとの酸化物からなるＩＴＯ薄膜層（透明高屈折率薄膜層）１７，銀薄膜層（透明導電性金属薄膜層）１５を、透明フィルム基体（７５μｍ）／ＩＴＯ（４０ｎｍ）／Ａｇ（１５ｎｍ）／ＩＴＯ（８０ｎｍ）／Ａｇ（２０ｎｍ）／ＩＴＯ（８０ｎｍ）／Ａｇ（１５ｎｍ）なる順序に積層し、透明導電性積層体フィルム１０を形成した。
ここで、インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を、銀薄膜層は、金属薄膜層を構成する。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとして、酸化インジウム・酸化スズ焼結体〔Ｉｎ２Ｏ３：ＳｎＯ２＝９０：１０（質量比）〕、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
（２）（保護フィルムの形成）
アクリル酸ブチル９３．８部とアクリル酸６部とメタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル０．２部を過酸化ベンゾイル０．３部の存在下でメチルイソブチルケトン中で共重合させ、質量平均分子量８１万である重合溶液を得た。これにトルエンを加えて、粘着剤成分であるアクリル酸ブチル−メタクリル酸２−ヒドロキシエチル−アクリル酸共重合体の２０％溶液を得た。
基材として厚み４０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムに上記粘着剤溶液を塗布・乾燥して厚み１７μｍの粘着剤層を形成し、保護フィルム２０を得た。
この保護フィルム２０により、透明導電性薄膜積層体フィルム１０の銀からなる透明導電性金属薄膜層の表面を被覆した。
（３）（ディスプレイ用光学フィルターの組み立て）
まず、透明導電性薄膜積層体フィルム１０の金属薄膜層を被覆している保護フィルム２０を剥離して、当該金属層に残留している粘着剤成分の表面割合を、ＥＰＭＡにより測定したところ面積比５３％であった。また、粘着剤成分の厚みをＳＩＭＳにより測定したところ平均６ｎｍであった。保護フィルムを剥離した積層体フィルムの面に反射防止層を有する厚み１００μｍのＰＥＴフィルムを粘着剤により貼り合わせた。また、当該積層体フィルムの透明フィルム基体の側に透明基板として２ｍｍのＰＭＭＡ基板を粘着剤を用いて貼り合わせた。さらに図３に示すように銀ペーストをスクリーン印刷して乾燥し、厚さ１５μｍの電極を形成し、ディスプレイ用光学フィルターとした。
（４）（加速耐蝕試験）
以上のごとくして得られたディスプレイ用光学フィルターを、６０℃、９０％ＲＨの高温高湿度処理装置内にセットし、２４時間後、銀の凝集により生じる直径０．１ｍｍ以上の点状欠陥（反射性欠陥）の発生頻度を、顕微鏡写真によって観察・測定した。
結果を表１に示す。
【００３５】
【表１】
2004096027.tif 000002
〔実施例２〕
保護フィルムの粘着剤として、実施例１に準じて合成した質量平均分子量７２万の粘着剤を使用する他は、実施例１と同様の試験を行った。
ただし、ディスプレイ用光学フィルターの組み立てに際し、透明導電性積層体フィルム１０の金属薄膜層を被覆している保護フィルム２０を剥離して、当該金属層に残留している粘着剤成分の表面割合を、ＥＰＭＡにより測定したところ７５％であり、また、粘着剤成分の厚みをＳＩＭＳにより測定したところ平均１０ｎｍであった。
実施例１と同様にして得られたディスプレイ用光学フィルターについて、同様に加速耐蝕試験を行った結果を表１に示した。
〔実施例３〕
保護フィルムの粘着剤として、実施例１に準じて合成した質量平均分子量６４万の粘着剤を使用する他は、実施例１と同様の試験を行った。
ただし、ディスプレイ用光学フィルターの組み立てに際し、透明導電性積層体フィルム１０の金属薄膜層を被覆している保護フィルム２０を剥離して、当該金属層に残留している粘着剤成分の表面割合を、ＥＰＭＡにより測定したところ９８％であり、また、粘着剤成分の厚みをＳＩＭＳにより測定したところ平均２５ｎｍであった。
実施例１と同様にして得られたディスプレイ用光学フィルターについて、同様に加速耐蝕試験を行った結果を表１に示した。
〔比較例１〕
保護フィルムの粘着剤として、実施例１に準じて合成した質量平均分子量１１５のアクリル酸ブチル−メタクリル酸２−ヒドロキシエチル−アクリル酸共重合体の２０％溶液にさらに、イソシアネート架橋剤２部を加えて粘着剤溶液を使用する他は、実施例１と同様の試験を行った。
ただし、ディスプレイ用光学フィルターの組み立てに際し、透明導電性積層体フィルム１０の金属薄膜層を被覆している保護フィルム２０を剥離して、当該金属層に残留している粘着剤成分の表面割合を、ＥＰＭＡにより測定したところ０％であった。
実施例１と同様にして得られたディスプレイ用光学フィルターについて、同様に加速耐蝕試験を行った結果を表１に示した。
表１から明らかなように、ディスプレイ用光学フィルターを形成する場合、保護フィルムの粘着成分を転写させ、透明導電性薄膜積層体フィルムの金属薄膜層の最表面を少なくとも面積比５０％以上被覆するようにした実施例１〜３においては、粘着成分を全く金属薄膜層の表面に残さない場合に比較して、銀凝集不良による点状欠陥の発生頻度が大幅に低下していることがわかる。
【００３６】
【発明の効果】
以上のごとく、本発明に従えば、透明導電性薄膜積層体フィルムと反射防止フィルムや透明基板を粘着剤で貼り合わせて電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルターを形成する方法において、残留・転写された保護フィルムの粘着成分で、透明導電性薄膜積層体フィルムの金属薄膜層の最表面を少なくとも面積比５０％以上、好ましくは面積比７０％以上、さらに好ましくは面積比９０％以上残すようにすることにより、銀凝集不良による点状欠陥の発生頻度が大幅に低下することが明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における透明導電性薄膜積層体フィルムの層構成の一例を示す図である
。
【図２】導電性金属薄膜層上に保護フィルムが被覆されており、当該保護フィルムを除去した後に金属薄膜層に粘着剤成分が残留し金属薄膜表面を覆う状態を示す説明図である。
【図３】電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルターの層構成の一例を示す断面図
【符号の説明】
１０　　透明導電性薄膜積層体フィルム
１３　　透明フィルム基体
１５　　銀を含む透明導電性金属薄膜層
１７　　透明高屈折率薄膜層
１８　　透明導電性金属薄膜積層体
２０　　保護フィルム
２３　　粘着剤層又は粘着剤成分
２３’　粘着剤成分の残留部分
２５　　保護フィルムの基材
３０　　反射防止機能を有するフィルム（反射防止フィルム）
３０’　防眩機能を有するフィルム（防眩性フィルム）
３３　　透明基板
３５　　粘着剤
３５’　粘着剤
４０　　電磁波遮蔽用ディスプレイ用光学フィルター
５０　　電極
【図１】
2004096027.tif 000003
【図２】
2004096027.tif 000004
【図３】
2004096027.tif 000005