【手続補正書】
【提出日】平成24年10月5日(2012.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
種々の具体的および好ましい態様および技術を参照して、本発明は記載された。しかし、当然のことながら、本発明の精神および範囲内に留まりながら、多くの変化および改変を行うことができる。
（態様１）
施設用皿洗機に水を供給する逆浸透膜装置内の廃水を除去する方法であって、該方法が:
ａ）該逆浸透膜装置に水流を導入し、該水流を浸透物すすぎ流および濃縮物すすぎ流に分割する工程と、
ｂ）該施設用皿洗機のすすぎサイクルの間に、該濃縮物すすぎ流を用いて食器類をすすぐ工程と、
ｃ）該施設用皿洗機の該すすぎサイクルの間に、該濃縮物すすぎ流を用いて該食器類をすすいだ後で、該浸透物すすぎ流を用いて、該食器類をすすぐ工程と、
を含んで成り、
ｄ）ここで、該濃縮物すすぎ流の該浸透物すすぎ流に対する比が、約３／２以下であり、そして、
ｅ）該浸透物すすぎ流が、約２００ｐｐｍ以下の全溶解固体濃度を有する、方法。
（態様２）
該濃縮物すすぎ流の該浸透物すすぎ流に対する比が、約１以下である、態様１に記載の方法。
（態様３）
該比が、時間比および体積比の一つである、態様１に記載の方法。
（態様４）
該すすぎサイクルが、約２０秒未満で完了する、態様１に記載の方法。
（態様５）
該浸透物すすぎ流が、約１００ｐｐｍ以下の全溶解固体濃度を有する、態様１に記載の方法。
（態様６）
該浸透物すすぎ流が、約５０ｐｐｍ以下の全溶解固体濃度を有する、態様５に記載の方法。
（態様７）
少なくとも約８２．２℃（１８０華氏度）に該浸透物すすぎ流を加熱する工程をさらに含む、態様１に記載の方法。
（態様８）
施設用皿洗機に接続可能な逆浸透システムであって、
ａ）新たな水供給と、
ｂ）該新たな水供給から濃縮物流および浸透物流に水を分割するための逆浸透装置と、
ｃ）逆浸透装置の下流の、該濃縮物流および該浸透物流を、それぞれ受けるための濃縮物貯槽および浸透物貯槽と、
ｄ）該浸透物流を所定の温度に加熱するためのヒーターと、
ｅ）該逆浸透システムがゼロ廃水を生成するように、該濃縮物流の流れおよび該浸透物流の流れを選択的に制御するための制御システムと、
を含んで成る、システム。
（態様９）
該逆浸透装置が、該新たな水供給から、該浸透物流の約３／２以下の比の該濃縮物流と該浸透物流とに、該水を分割する、態様８に記載の逆浸透システム。
（態様１０）
該浸透物流が、約２００ｐｐｍ以下の全溶解固体濃度を有するように、該逆浸透装置が該新たな水供給からの該水を分割する、態様８に記載の逆浸透システム。
（態様１１）
該浸透物流が、約１００ｐｐｍ以下の全溶解固体濃度を有するように、該逆浸透装置が該新たな水供給からの該水を分割する、態様１０に記載の逆浸透システム。
（態様１２）
該制御システムが、タイマーを含む、態様８に記載の逆浸透システム。
（態様１３）
該濃縮物貯槽および該浸透物貯槽の少なくとも１つに接続された圧力スイッチをさらに含む、態様８に記載の逆浸透システム。
（態様１４）
該ヒーターが、少なくとも約８２．２℃（１８０華氏度に該浸透物流を加熱する、態様８に記載の逆浸透システム。
（態様１５）
該ヒーターが、少なくとも約７３．９℃（１６５華氏度）に該浸透物流を加熱する、態様８に記載の逆浸透システム。
（態様１６）
ゼロ廃水を得るために、逆浸透システムを制御するためのシステムであって、
ａ）新たな水供給と、
ｂ）該新たな水供給から濃縮物すすぎ流および浸透物すすぎ流に水をろ過するための逆浸透装置と、
ｃ）該逆浸透装置の下流に位置する、該濃縮物すすぎ流を受けるための濃縮物貯槽と、
ｄ）該濃縮物貯槽から該濃縮物すすぎ流の流れを制御するための濃縮物ソレノイド弁と、
ｅ）該逆浸透装置の下流に位置する、該浸透物すすぎ流を受けるための浸透物貯槽と、
ｆ）該浸透物貯槽から該浸透物すすぎ流の流れを制御するための浸透物ソレノイド弁と、
ｇ）該浸透物すすぎ流を所定の温度に加熱するためのヒーターと、
ｈ）該施設用皿洗機のすすぎサイクルの間に、該濃縮物すすぎ流および該浸透物すすぎ流を連続的に受けるための施設用皿洗機と、
ｉ）該濃縮物すすぎ流および該浸透物すすぎ流、それぞれから該施設用皿洗機への流れを制御するための該濃縮物ソレノイド弁および該浸透物ソレノイド弁に運転可能に接続された制御システムと、
を含んで成る、システム。
（態様１７）
該濃縮物すすぎ流が、該すすぎサイクルの少なくとも約６０体積％を構成する、態様１６に記載のシステム。
（態様１８）
該濃縮物すすぎ流および該浸透物すすぎ流が、約３／２以下の浸透物すすぎ流に対する該濃縮物すすぎ流の時間比で該施設用皿洗機に流れる、態様１６に記載のシステム。
（態様１９）
該浸透物すすぎ流が、約１００ｐｐｍ未満の全溶解固体濃度を有する、態様１６に記載のシステム。
（態様２０）
該制御システムが、タイマーを含む、態様１６に記載のシステム。
（態様２１）
該濃縮物貯槽および該浸透物貯槽の少なくとも１つに接続された圧力スイッチをさらに含む、態様１６に記載のシステム。
（態様２２）
該すすぎサイクルが、約２０秒未満続く、態様１６に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
施設用皿洗機に水を供給する逆浸透膜装置内の廃水を除去する方法であって、該方法が:
該逆浸透膜装置に水流を導入し、該水流を浸透物すすぎ流および濃縮物すすぎ流に分割する工程と、
該施設用皿洗機のすすぎサイクルの間に、該濃縮物すすぎ流を用いて食器類をすすぐ工程と、
該施設用皿洗機の該すすぎサイクルの間に、該濃縮物すすぎ流を用いて該食器類をすすいだ後で、該浸透物すすぎ流を用いて、該食器類をすすぐ工程と、
を含んで成る、方法。
【請求項２】
該濃縮物すすぎ流の該浸透物すすぎ流に対する比が、約３／２以下である、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該すすぎサイクルが、約２０秒未満で完了する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
該浸透物すすぎ流が、約２００ｐｐｍ以下の全溶解固体濃度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
少なくとも約８２．２℃（１８０華氏度）に該浸透物すすぎ流を加熱する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
施設用皿洗機に接続可能な逆浸透システムであって、
新たな水供給と、
該皿洗機の新たな水供給から濃縮物流および浸透物流に水を分割するための逆浸透装置と、
逆浸透装置の下流の、該濃縮物流および該浸透物流を、それぞれ受けるための濃縮物貯槽および浸透物貯槽と、
該逆浸透システムがゼロ廃水を生成するように、該皿洗い機の単一サイクルに該濃縮物流の流れおよび該浸透物流の流れを選択的に制御するための制御システムと、
を含んで成る、システム。
【請求項７】
該浸透物流が、約２００ｐｐｍ以下の全溶解固体濃度を有するように、該逆浸透装置が該新たな水供給からの該水を分割する、請求項６に記載の逆浸透システム。
【請求項８】
該制御システムが、タイマーを含む、請求項６に記載の逆浸透システム。
【請求項９】
該濃縮物貯槽および該浸透物貯槽の少なくとも１つに接続された圧力スイッチをさらに含む、請求項６に記載の逆浸透システム。
【請求項１０】
ゼロ廃水を得るために、逆浸透システムを制御するためのシステムであって、
新たな水供給と、
該新たな水供給から濃縮物すすぎ流および浸透物すすぎ流に水をろ過するための逆浸透装置と、
該逆浸透装置の下流に位置する、該濃縮物すすぎ流を受けるための濃縮物貯槽と、
該逆浸透装置の下流に位置する、該浸透物すすぎ流を受けるための浸透物貯槽と、
該施設用皿洗機のすすぎサイクルの間に、該濃縮物すすぎ流および該浸透物すすぎ流を受けるための施設用皿洗機と、
該濃縮物すすぎ流および該浸透物すすぎ流、それぞれから該施設用皿洗機の単一サイクルへの流れを制御するように設定された制御システムと、
を含んで成る、システム。