Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月25日(2003.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来のエアベルト装置にあっては、タング５及びバックル装置４にガス通路を設ける必要があり、タング５及びバックル装置４が通常のシートベルト装置のタング及びバックル装置よりもコスト高である。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このエアベルト１０内にガスが供給されて該エアベルト１０が膨張すると、エアベルト１０はその長手方向の長さが短かくなる。図３（ｃ）はエアベルト１０が膨張時にその長手方向の長さが短かくなる状況を示している。上記の通り、ニットカバー１８は加熱延伸加工等が施されることによりベルト長手方向へは殆ど伸びないものとなっているので袋状ベルト１６が膨らんだときにニットカバー１８の編目が横方向に広がり、その結果としてニットカバー１８が長手方向に縮み、エアベルト１０の長手方向の長さが短くなる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
所定の衝突速度以上で車両が衝突した時などにはインフレータ５０が作動し、ガスがエアベルト１０内に供給され、該エアベルト１０が膨張する。乗員の右側頭部から胸及び左腹部に沿って膨張したエアベルト１０が延在し、これによって乗員が十分に保護される。このエアベルト１０が膨張するときには、エアベルト１０の長手方向の長さが短かくなり、ショルダーベルト１２及びラップベルト６０がエアベルト１０に引っ張られることにより該ショルダーベルト１２及びラップベルト６０が引き締められ、乗員が座席にしっかりと保持されるようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月6日(2004.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記空気吹出し口は、横断面矩形状に形成されて横方向に多数並列に配置され、前記オイルミスト吹出し口は、複数の空気吹出し穴の周囲を囲繞するように設けられていることを特徴とする請求項１記載の切削油剤供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項３に記載の発明は、前記空気吹出し口は、横断面矩形状に形成されて横方向に多数並列に配置され、前記オイルミスト吹出し口は、複数の空気吹出し穴の周囲を囲繞するように設けられていることを特徴とする請求項１記載の切削油剤供給装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を研磨する研磨手段と、
前記研磨手段が敷設された定盤と、
前記基板を保持する保持手段と、
前記保持手段を支持し、該保持手段により保持された基板の被研磨面を前記研磨手段に当接し押圧する支持手段と、
前記定盤及び前記保持手段を回転させる駆動手段と、
前記駆動手段により駆動された前記定盤上の前記研磨手段、及び前記保持手段により保持された基板の被研磨面との間の摩擦を検出する摩擦検出手段と、
前記摩擦検出手段により検出された前記摩擦を示す計測値の時間に対する変化成分の内、低周波数の変化成分のみを測定する測定手段と
を具備することを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記駆動手段は電動機であって、
前記摩擦検出手段は、前記定盤及び前記保持手段を駆動する前記電動機に流れる電流の内、少なくともいずれか一方を検出することにより前記摩擦を検出することを特徴とする請求項１記載の研磨装置。
【請求項３】
前記測定手段は、電気回路で構成されるノイズフィルター及び演算処理装置の内、少なくともいずれか一方を有することを特徴とする請求項１または２記載の研磨装置。
【請求項４】
前記測定手段は、前記摩擦検出手段により検出された前記摩擦を示す計測値の時間に対する変化成分の内、１０Ｈｚ以下の変化成分のみを測定することを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項記載の研磨装置。
【請求項５】
基板上に形成された被研磨面を研磨する工程と、
前記被研磨面を研磨するための研磨手段と前記基板の被研磨面との間の摩擦を検出する工程と、
前記検出された摩擦を示す計測値の時間に対する変化成分の内、低周波数の変化成分のみを測定する工程と
を具備することを特徴とする研磨方法。
【請求項６】
前記検出された摩擦を示す計測値の時間に対する変化成分の内、低周波数の変化成分のみを測定する工程の後、
前記低周波数の変化成分のみを有する摩擦の測定結果を基に、最適な研磨条件を算出する工程を更に備えることを特徴とする請求項５記載の研磨方法。
【請求項７】
前記基板は、前記研磨手段の状態を検出するための試験用の半導体基板であって、
前記研磨条件を算出する工程の後、この算出された研磨条件に基づいて半導体装置が形成されている半導体基板の研磨を行うことを特徴とする請求項６記載の研磨方法。
【請求項８】
前記検出された摩擦を示す計測値の時間に対する変化成分の内、低周波数の変化成分のみを測定する工程は、前記摩擦を示す計測値の時間に対する変化成分から１０Ｈｚ以下の任意の周波数成分のみを測定することを特徴とする請求項５乃至７いずれか１項記載の研磨方法。
【請求項９】
前記研磨条件は、研磨時間、研磨時に前記支持部材に加える圧力、研磨手段の回転数、前記保持部材の回転数、及び前記研磨手段に供給される研磨液の流量の内、少なくともいずれか１つであることを特徴とする請求項５乃至８いずれか１項記載の研磨方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
この発明の請求項１に記載した研磨装置は、基板を研磨する研磨手段と、前記研磨手段が敷設された定盤と、前記基板を保持する保持手段と、前記保持手段を支持し、該保持手段により保持された基板の被研磨面を前記研磨手段に当接し押圧する支持手段と、前記定盤及び前記保持手段を回転させる駆動手段と、前記駆動手段により駆動された前記定盤上の前記研磨手段、及び前記保持手段により保持された基板の被研磨面との間の摩擦を検出する摩擦検出手段と、前記摩擦検出手段により検出された前記摩擦を示す計測値の時間に対する変化成分の内、低周波数の変化成分のみを測定する測定手段とを具備することを特徴としている。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、この発明の請求項５に記載した研磨方法は、基板上に形成された被研磨面を研磨する工程と、前記被研磨面を研磨するための研磨手段と前記基板の被研磨面との間の摩擦を検出する工程と、前記検出された摩擦を示す計測値の時間に対する変化成分の内、低周波数の変化成分のみを測定する工程とを具備することを特徴としている。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項７に記載したように、請求項６記載の研磨方法において、前記基板は、前記研磨手段の状態を検出するための試験用の半導体基板であって、前記研磨条件を算出する工程の後、この算出された研磨条件に基づいて半導体装置が形成されている半導体基板の研磨を行うことを特徴としている。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項５のような研磨方法によれば、研磨手段と基板の間の摩擦を検出した後、この摩擦を示す計測値の時間に対する変化成分の内、所定の変化成分のみを測定することで、所定の変化成分以外に含まれるノイズを非常に小さくしている。そのため摩擦の測定結果をクリアなものに出来るので、研磨状態の情報を正確に把握することが出来るので精密な研磨をすることが出来、研磨方法の精度及び信頼性を向上できる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月11日(2003.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の血管と第２の血管との吻合のための外科用器具であって、遠方側端部及び手元側端部を備えたハウジングと、ハンドルと、ハウジングの遠方側端部に着脱自在に取り付けられる使い捨て装填ユニットとを有し、装填ユニットは、第２の血管の端を受け入れる通路が形成されていて、複数の外科用留め具を解除自在に支持するような形状になっている上側及び下側留め具支持部材と、装填ユニットの遠方側端部に設けられた引込み可能なアンビルとを有し、アンビルは、ハンドルの操作に応答して外科用留め具支持部材に対して動き、それと同時に外科用留め具を変形させることができることを特徴とする外科用器具。
【請求項２】
装填ユニットは、ハンドルの操作に応答してアンビルを動かす第１の引込みスリーブを更に有し、第１の引込みスリーブは、外科用留め具を支持するための複数の細長いチャネルを有していることを特徴とする請求項１記載の外科用器具。
【請求項３】
チャネルは各々、遠方側端部及び手元側端部を有し、各遠方側端部は、外科用留め具の手元側端部及び遠方側端部が半径方向に互いにずれた関係で支持されるよう手元側端部から半径方向にずれていることを特徴とする請求項２記載の外科用器具。
【請求項４】
アンビルは、外科用留め具の遠方側端部をハンドルの操作時に手元側に変形させる傾斜面を有していることを特徴とする請求項１記載の外科用器具。
【請求項５】
外科用留め具を第１の引込みスリーブの細長いチャネル内に解除自在に保持する第２の引込みスリーブを更に有し、ハンドルを引き続き動かすと、第２の引込みスリーブは第１の引込みスリーブに対して動いて外科用留め具が放出されるようになっていることを特徴とする請求項２記載の外科用器具。
【請求項６】
ハンドルの運動に応答して第１及び第２の引込みスリーブを動かすアクチュエータを更に有していることを特徴とする請求項５記載の外科用器具。
【請求項７】
アクチュエータはカムを含むことを特徴とする請求項６記載の外科用器具。
【請求項８】
第１の血管と第２の血管との吻合のための外科用器具であって、遠方側端部及び手元側端部を備えたハウジングと、複数の外科用留め具を支持するための留め具支持部材及び第１及び第２の引込みスリーブを含む装填ユニットとを有し、引込みスリーブは、引込みスリーブの遠方側端部が留め具支持部材に対して配置される第１の位置から引込みスリーブの遠方側端部が留め具支持部材に密接して位置する第２の位置まで留め具支持部材に対して動くことができ、前記外科用器具は、第１及び第２のスリーブを留め具支持部材に対して動かすアクチュエータを更に有していることを特徴とする外科用器具。
【請求項９】
装填ユニットは、互いに対して回動できる２つの半部で構成されていることを特徴とする請求項８記載の外科用器具。
【請求項１０】
装填ユニットの２つの半部は閉じられると、第２の血管を挿通状態で受け入れる細長い孔を形成することを特徴とする請求項９記載の外科用器具。
【請求項１１】
外科用器具の発射後、アクチュエータをハウジングに係止する係止機構を更に有していることを特徴とする請求項８記載の外科用器具。
【請求項１２】
装填ユニットは、使い捨てであって、ハウジングに解除自在に取り付けられていることを特徴とする請求項８記載の外科用器具。
【請求項１３】
第１の血管と第２の血管との吻合のための外科用器具であって、アクチュエータを備えたハウジングと、ハウジングに着脱自在に取り付けられた使い捨て装填ユニットとを有し、装填ユニットは、複数の外科用留め具を解除自在に支持するよう形作られた留め具支持部材と、アクチュエータに応答して留め具支持部材に対して動き、それと同時に外科用留め具を変形させることができる引込み可能なアンビルとを有していることを特徴とする外科用器具。
【請求項１４】
装填ユニットは、互いに対して回動できる２つの半部で構成されていることを特徴とする請求項１３記載の外科用器具。
【請求項１５】
装填ユニットの２つの半部は閉じられると、第２の血管を挿通状態で受け入れる細長い孔を形成することを特徴とする請求項１４記載の外科用器具。
【請求項１６】
装填ユニットは、外科用留め具を支持するための複数の細長いチャネルを有していることを特徴とする請求項１３記載の外科用器具。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月23日(2004.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
架台に載置固定された被接合材よりも硬い材質のツールを前記被接合材の接合部に挿入し、前記被接合材の塑性流動により接合する摩擦接合装置において、前記ツールは前記被接合材に挿入するネジ部と該ネジ部を支持し該ネジ部より太径であるショルダー部とを有し、前記ネジ部が前記架台の表面に接触しないように前記ネジ部を所望の長さに設定するとともに、前記ショルダー部が前記被接合材の表面に所望の深さの凹部を形成するように前記ツールの押込み量を調整する押込み量調整手段を有し、該調整手段は前記押込みに要する荷重及び接合方向の移動に要する荷重の少なくとも１つによって制御するものであることを特徴とする摩擦接合装置。
【請求項２】
請求項１において、前記ツールは、前記接合の進行方向に対して前記ショルダー部の先行部分が前記被接合材の表面で所望の間隙を有するように傾斜角度を調整する角度調整手段を有し、前記ショルダー部の後行部分によって前記押込み量を調整することを特徴とする摩擦接合装置。
【請求項３】
架台に載置固定された被接合材よりも硬い材質のツールを前記被接合材の接合部に挿入し、前記被接合材の塑性流動により接合する摩擦接合方法において、前記ツールは前記被接合材に挿入するネジ部と該ネジ部を支持し該ネジ部より太径であるショルダー部とを有し、前記ネジ部が前記架台の表面に接触しないように前記ネジ部を所望の長さに設定するとともに、前記ショルダー部が前記被接合材の表面に所望の深さの凹部を形成するように前記ツールの押込み量を該押込みに要する荷重及び接合方向の移動に要する荷重の少なくとも１つによって調整しながら接合することを特徴とする摩擦接合方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月14日(2003.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空間に収納した基材又は基板表面の汚染を防止するための気体を清浄化する方法において、基材又は基板と接触する少なくとも炭化水素を含む気体を、空間容積１ｍ３ 当り５０〜５００００ｃｍ２ の表面積で設置された光触媒に、 ０．０１ｍＷ／ｃｍ２〜１０ｍＷ／ｃｍ２ の紫外線が照射されている空間内に通し、該気体中の非メタン炭化水素濃度を０．２ｐｐｍ以下に清浄化することを特徴とする気体の清浄化方法。
【請求項２】
前記紫外線が照射されている空間内に、さらに光電子放出材と電極を設置して、前記気体中の微粒子濃度をクラス１０以下に清浄化することを特徴とする請求項１記載の気体の清浄化方法。
【請求項３】
空間に収納した基材又は基板表面の汚染を防止するための気体を清浄化する装置において、基材又は基板と接触する少なくとも炭化水素を含む気体を通し、該気体中の非メタン炭化水素濃度を０．２ｐｐｍ以下に清浄化する、空間容積１ｍ３ 当り５０〜５００００ｃｍ２ の表面積で設置された光触媒と、該光触媒に０．０１ｍＷ／ｃｍ２〜１０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射する紫外線源とを有する空間からなることを特徴とする気体の清浄化装置。
【請求項４】
前記紫外線が照射されている空間に、さらに該気体中の微粒子濃度をクラス１０以下とする光電子放出材と電極とを設置することを特徴とする請求項３記載の気体の清浄化装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
従来のクリーンルームの空気を浄化する方法あるいはそのための装置には、大別して、（１）機械的ろ過方法（ＭＥＰＡフィルターなど）、（２）静電的に微粒子の捕集を行う、高電圧による荷電あるいは導電性フィルターによるろ過方式（ＨＥＳＡフィルターなど）、がある。これらの方法は、いずれも微粒子の除去を目的としており、メタン以外の炭化水素（Ｈ．Ｃ）のような、接触角を増大させるガス状の汚染物質の除去に対しては効果がない。
一方、ガス状の汚染物質であるＨ．Ｃの除去法としては、燃焼分解法、Ｏ３ 分解法などが知られている。しかし、これらの方法は、クリーンルームへの導入空気中に含有する極低濃度のＨ．Ｃの除去には効果がない。
即ち、微粒子は前記フィルター技術により除去でき、空間はクラス１（１ｆｔ３中に０．１μｍ以上の粒子が１個）よりも清浄な空間は可能であるが、ガス状の汚染物質には効果がない。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
次に、本発明の夫々の構成を詳細に説明する。
光触媒は、ガス状有害成分の除去を行うものであり、光源からの光照射により励起され、接触角増加に関与する有機性ガス（非メタン炭化水素、Ｈ．Ｃ）を接触角の増加に関与しない形態に分解あるいは、付着しても影響を及ぼさない安定な形態に変換するものであればいずれでもよい。
通常、半導体材料が効果的であり、容易に入手出来、加工性も良いことから好ましい。効果や経済性の面から、Ｓｅ，Ｇｅ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｃ，Ｃｄ，Ｓ，Ｔｅ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ａｇ，Ｍｏ，Ｓｒ，Ｗ，Ｃｒ，Ｂａ，Ｐｂのいずれか、又はこれらの化合物、又は合金、又は酸化物が好ましく、これらは単独で、また２種類以上を複合して用いる。
例えば、元素としてはＳｉ，Ｇｅ，Ｓｅ、化合物としてはＡｌＰ，ＡｌＡｓ，ＧａＰ，ＡｌＳｂ，ＧａＡｓ，ＩｎＰ，ＧａＳｂ，ＩｎＡｓ，ＩｎＳｂ，ＣｄＳ，ＣｄＳｅ，ＺｎＳ，ＭｏＳ２ ，ＷＴｅ２ ，Ｃｒ２ Ｔｅ３ ，ＭｏＴｅ，Ｃｕ２Ｓ ，ＷＳ２、酸化物としてはＴｉＯ２ ，Ｂｉ２ Ｏ３，ＣｕＯ，Ｃｕ２ Ｏ，ＺｎＯ，ＭｏＯ３ ，ＩｎＯ３ ，Ａｇ２Ｏ ，ＰｂＯ，ＳｒＴｉＯ３ ，ＢａＴｉＯ３ ，Ｃｏ３Ｏ４ ，Ｆｅ２Ｏ３ ，ＮｉＯなどがある。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
微粒子１３を含む空気は、空気の流れ７−１〜７−３により、本発明の光電子放出材１０、電極１１、荷電微粒子捕集材１２を設置したＨ．Ｃ分解部Ａに順次送られ、微粒子はクラス１以下まで捕集・除去される。
このようにして、ストッカ１内はＨ．Ｃ濃度は０．１ｐｐｍ以下、ＮＨ３ は１ｐｐｂ以下で、クラス１よりも清浄な超クリーン空間が創出される。
ここでの光触媒面積は、空間容積１ｍ３ 当り、３００００ｃｍ２ の表面積で、紫外線ランプ５からの光触媒６への紫外線照射強度は光触媒１ｃｍ２ 当り、０．５ｍＷ／ｃｍ２ である。
光電子放出材１０、電極１１、荷電微粒子捕集材１２を設置したＨ．Ｃ分解部Ａは，実施例２、３のごとく清浄化装置としてユニットにできる。
本ストッカ１に、ウェハ２を収納しておくと、接触角の増加防止と、基板回路（パターン）の断線や短絡による欠陥の発生が防止される（ウェハ２は汚染防止される）。
図５中、図２、４と同一符号は、同じ意味を示す。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
これにより、洗浄直後のウェハ２は乾燥され、ストッカ１内は清浄化される。
ここで、ストッカ１に収納のウェハ２は活性であるため、徐々に該ストッカの構成材（例パッキング材など有機物）からの微量の発ガス（ガス状有害成分）４の影響を受け、また、収納ウェハによっては、ウェハ表面付加物（例、レジスト）からの発ガス４や収納ウェハの裏面などに付着し持ち込まれた粒子状物質（微粒子）の発塵１３により、別のウェハを汚染するが、該汚染物質４、１３は、図４のごとく、本発明の紫外線照射されているＨ．Ｃ分解部Ａに順次送られ、捕集・除去され、被清浄空間Ｂは清浄化される。
このように、本発明のストッカ１はストッカ１内で発ガスや発塵があってもセルフクリーング的に清浄化されるので、汚染物質が除去された超清浄な不活性な空間である。
即ち、不活性な雰囲気の超清浄空間が確実に長時間安定して維持されるので、収納ウェハへの汚染防止・変質防止が顕著となる。
また、ストッカ１内に外のクリーンルームから汚染物質が侵入しても、該汚染物質は前記のごとく捕集・除去される。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月7日(2003.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水溶性ヘミセルロースを有効成分とする米飯用歩留り向上剤。
【請求項２】
水溶性ヘミセルロースが豆類由来である、請求項１記載の歩留り向上剤。
【請求項３】
炊飯の際に水溶性ヘミセルロースを添加すること、及び米に、炊飯後30分経過した時点での米飯の水分量が55重量% 〜75重量% となるように、水を加えて炊飯することを特徴とする、米飯の製造法。
【請求項４】
水溶性ヘミセルロースの添加量が米（乾物換算）に対して、0.01重量% 〜10重量% である、請求項３記載の製造法。
【請求項５】
水溶性ヘミセルロースが豆類由来である、請求項３又は請求項４に記載の製造法。
【請求項６】
水溶性ヘミセルロース及び有機酸又はその塩を含有する保存性の向上した製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月7日(2004.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示パネルを用いて画像を表示する液晶表示装置において、
視聴予約時刻の所定時間前に、前記液晶表示パネルに対して熱を加える加熱手段を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記請求項１に記載の液晶表示装置において、
前記所定時間を使用環境温度に応じて求めることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
前記請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、
前記加熱手段は、前記液晶表示パネルを照射するバックライト光源であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
前記請求項３に記載の液晶表示装置において、
前記加熱手段として、前記バックライト光源の一部のみを用いることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記請求項４に記載の液晶表示装置において、
前記加熱手段として用いられる一部のバックライト光源は、前記液晶表示パネルの下部に対応するバックライト光源であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
前記請求項３乃至５のいずれかに記載の液晶表示装置において、
前記液晶表示パネルに対して、前記加熱手段が駆動されていることを示すＯＳＤ表示を行うことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
液晶表示パネルを用いて画像を表示する液晶表示装置において、
１垂直表示期間経過後に前記液晶表示パネルを入力画像信号により定められる透過率に応答させるための強調変換パラメータを格納した格納手段と、
前記強調変換パラメータを用いて、入力画像信号に対し強調変換処理を施すことにより、液晶表示パネルの光学応答特性を補償する強調変換手段と、
視聴予約時刻に前記液晶表示パネルが前記強調変換パラメータの実測された環境下における基準温度になるように、視聴予約時刻の所定時間前に、前記液晶表示パネルに対して熱を加える加熱手段とを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
前記請求項７に記載の液晶表示装置において、
前記格納手段は、異なる複数の基準温度条件において、１垂直表示期間経過後に前記液晶表示パネルを入力画像信号により定められる透過率に応答させるための複数の強調変換パラメータを格納しており、
前記加熱手段は、視聴予約時刻に前記液晶表示パネルが使用環境温度よりも高く且つ最も低い基準温度となるように、前記液晶表示パネルに対して熱を加えるものであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
前記請求項７又は８に記載の液晶表示装置において、
前記格納手段は、現垂直表示期間の画像信号と１垂直表示期間前の画像信号とから指定される強調変換パラメータを格納したテーブルメモリであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
液晶表示パネルを用いて画像を表示する液晶表示装置において、
視聴開始時刻の所定時間前に、前記液晶表示パネルに対して熱を加える加熱手段を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本願の第９の発明は、前記格納手段が、現垂直表示期間の画像信号と１垂直表示期間前の画像信号とから指定される強調変換パラメータを格納したテーブルメモリであることを特徴とする。これによって、どのような階調遷移を持つ動画像に対しても、確実に液晶表示パネルの光学応答特性を補償して、所望の階調表示を行うことが可能となる。
本願の第１０の発明は、液晶表示パネルを用いて画像を表示する液晶表示装置において、視聴開始時刻の所定時間前に、前記液晶表示パネルに対して熱を加える加熱手段を備えたことを特徴とする。これによって、視聴開始時刻に液晶表示パネルが所定の温度（正しい画像表示が可能な温度）に達するように制御することができ、視聴開始当初から高品位な表示画像を視聴することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月16日(2003.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
これらの環状オレフィン系単量体は必ずしも単独で用いられる必要はなく、二種以上を任意の割合で用いて開環共重合することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月7日(2003.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
緩衝剤と、タンパク質の存在下で変色するタンパク質誤差指示薬との試薬系で含浸された吸収性担体を含む、尿中タンパク質を検出するための試験片において、
カチオン感受性剤としての酒石酸を、尿中に有意量のタンパク質が存在しなくてもタンパク質誤差指示薬が変色するレベルにまで試薬のpHが高まることを防ぐことができる量で、非カチオン感受性緩衝剤と組み合わせて使用することを特徴とする試験片。
【請求項２】
試薬がカリウムイオンを１４０mMの濃度で含有する尿と接触したとき試薬のpHを少なくとも０．５pH単位下げるのに十分な濃度で酒石酸および緩衝剤が存在する、請求項１記載の試験片。
【請求項３】
タンパク質誤差指示薬がテトラブロモフェノールブルーまたは５′，５″−ジニトロ−３，３″−ジヨード−３，４，５，６−テトラブロモフェノールスルホンフタレインである、請求項１記載の試験片。
【請求項４】
吸収性担体がろ紙である、請求項１記載の試験片。
【請求項５】
タンパク質誤差指示薬の量が、０．１〜５．０mMの指示薬濃度を有する指示薬の溶液に試験片を浸漬し、溶剤を乾燥させたのち試験片中に残る残渣の量である、請求項１記載の試験片。
【請求項６】
酒石酸の量が、５０〜７５０mMの酒石酸濃度を有する溶液に試験片を浸漬したのち試験片中に残る残渣の量であり、非カチオン感受性緩衝剤の量が、酒石酸と非カチオン感受性緩衝剤との比率が２５mM：７００mM〜２００mM：１００mMである溶液に試験片を浸漬したのち試験片中に残る残渣の量である、請求項１記載の試験片。
【請求項７】
酒石酸濃度が５００〜６００mMである、請求項６記載の試験片。
【請求項８】
比率が１５０mM：４７５mMである、請求項６記載の試験片。
【請求項９】
酒石酸がジプロトン化されている、請求項１記載の試験片。
【請求項１０】
酒石酸がモノプロトン化されている、請求項１記載の試験片。
【請求項１１】
試薬系にバックグラウンド染料が含まれている、請求項１記載の試験片。
【請求項１２】
バックグラウンド染料が、pHまたは光に対して感受性のない染料から選択される、請求項１０記載の試験片。
【請求項１３】
バックグラウンド染料がメチルレッド、ＦＤ＆Ｃレッド＃３またはアシッドレッド＃４０である、請求項１１記載の試験片。
【請求項１４】
尿を、緩衝剤系およびタンパク質誤差指示薬を含む試薬系と接触させる工程を含み、緩衝剤系が、酒石酸および非カチオン感受性緩衝剤を含むものである、尿中タンパク質の試験方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月30日(2003.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
次に２次真空引きされるとき、真空制御手段９は上記の設定に基づいて当該袋の温度に対応する真空流路を選択し（電磁弁２５、２６のＯＮ−ＯＦＦにより）、電磁弁２７をＯＦＦ（連通）として２次真空引きを開始させる。同じく真空度測定手段２８により検知された真空チャンバー４内の真空圧が、当該温度に対応する目標真空度に到達すると、真空制御手段９は電磁弁２７をＯＮ（遮断）として２次真空引きを終了させる。続いて袋口がシールされたのち、真空チャンバー内が大気に還元され、蓋が開かれて真空処理された袋はこのロータリー型真空包装機から排出される。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
２  ロータリー型真空包装機
４  真空チャンバー
５  温度測定手段
６  １次真空吸引手段
７  ２次真空吸引手段
８、２８  真空度測定手段
９  真空制御手段
Ａ〜Ｆ  真空流路
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月17日(2003.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリッジ走査軸に沿って往復走査するプリント・キャリッジと、
前記プリント・キャリッジによって支持され、印刷帯中の印刷媒体上にドットを印刷するための複数の印刷要素を有する取外し式プリントヘッドと、
前記印刷媒体を媒体走査軸に沿って印刷帯に進める印刷媒体操作システムと、
前記キャリッジに取付けられ、前記印刷帯で前記キャリッジが前記印刷媒体に対して振動し、前記媒体走査軸に沿って前記印刷要素により印刷されるドットの位置がランダムに変化し、媒体前進の不調や印刷要素の方向違いによって生じる目に見える印刷バンディングを減少させる振動誘発要素とを備えることを特徴とするプリンタ。
【請求項２】
前記振動誘発要素は、約１００〜１０００Ｈｚの範囲にある周波数で振動することを特徴とする請求項１に記載のプリンタ。
【請求項３】
前記振動誘発要素は、ピエゾ電気要素を備えることを特徴とする請求項１に記載のプリンタ。
【請求項４】
前記振動誘発要素は、インク・ジェット・ノズルを備えることを特徴とする請求項１に記載のプリンタ。
【請求項５】
前記振動誘発要素は、前記走査軸に平行な軸のまわりで前記インク・ジェット・ノズルを回転振動させることを特徴とする請求項４に記載のプリンタ。
【請求項６】
前記振動誘発要素は、前記印刷キャリッジに取付けられることを特徴とする請求項５に記載のプリンタ。
【請求項７】
キャリッジ走査軸に沿って走査するプリント・キャリッジと、
前記キャリッジが前記キャリッジ走査軸に沿って走査するのを支持し、前記キャリッジ走査軸に平行な軸を有するスライダ・ロッドを備え、前記キャリッジが支持されて前記ロッド上を摺動するキャリッジ摺動部材と
前記スライダ・ロッドに沿って前記カートリッジを摺動するように駆動する前記キャリッジに接続されたキャリッジ駆動装置と
前記プリント・キャリッジによって支持され、印刷帯中の印刷媒体上にドットを印刷するための複数の印刷要素を有する取外し式プリントヘッドと、
印刷媒体を媒体軸に沿って印刷帯に進める印刷媒体移動機構と、
前記キャリッジに取付けられ、前記印刷帯で前記キャリッジが前記スライダ・ロッドのまわりで回転振動し、前記媒体走査軸に沿って前記印刷要素により印刷されたドットの位置がランダムに変化し、媒体前進の不調や印刷要素の方向違いによって生じる目に見える印刷バンディングを減少させる振動誘発要素とを備えることを特徴とするプリンタ。
【請求項８】
前記キャリッジは壁部を備え、前記キャリッジ摺動部材はキャリッジバーを備えて、前記壁部に取付けられたガイド・アームが、前記キャリッジバーと係合して前記スライド・ロッドのまわりを前記プリントカートリッジが回転するのを防止するようになっており、前記振動誘発要素は、前記ガイド・アームと前記壁部の間に配置され、前記キャリッジをスライダ・ロッドのまわりに回転振動させることを特徴とする請求項７記載のプリンタ。
【請求項９】
媒体軸に沿って印刷媒体を印刷帯に進ませ、
前記印刷帯で前記印刷媒体にドットを印刷する複数の印刷要素を備えたインク・ジェット・プリントヘッドを支持しながら、キャリッジ走査軸に沿ってプリントキャリッジを走査し、
前記印刷帯で前記キャリッジが前記印刷媒体に対して振動し、前記媒体走査軸に沿って前記印刷要素により印刷されたドットの位置がランダムに変化して、媒体前進の不調や印刷要素の方向違いによって生じる目に見える印刷バンディングを減少させる振動誘発要素とを備えることを特徴とするインク・ジェット印刷方法。
【請求項１０】
前記キャリッジ走査軸に沿って摺動するように、スライダ・ロッドに前記キャリッジを支持し、前記キャリッジが振動するステップは、前記キャリッジに前記スライダ・ロッドのまわりで回転振動を引き起こさせることを特徴とする請求項９に記載のインク・ジェット印刷方法。
【請求項１１】
前記振動は、約１００〜１０００Ｈｚの範囲にある周波数であることを特徴とする請求項９に記載のインク・ジェット印刷方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月29日(2004.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明においては、研削工程又は／及びダイシング工程において、上記補強半導体ウエハ薄膜を研削用テープ又はダイシングテープに貼り付けた状態で加工する。上記補強半導体ウエハ薄膜を研削用テープ又はダイシングテープに貼り付けた状態としては、支持板が研削用テープ又はダイシングテープに接している態様であってもよく、半導体ウエハが研削用テープ又はダイシングテープに接している態様であってもよい。ただし、半導体ウエハの裏面が研削される際には支持板が研削用テープに接している態様が好ましい。
上記研削用テープ又はダイシングテープとしては特に限定されないが、公知の光硬化性粘着テープを用いることができ、例えば、Ａｄｗｉｌｌ（登録商標）Ｄ−シリーズや、日東電工社製のエレップホルダー（登録商標）ＵＥシリーズ等のテープが挙げられる。
また、公知の加熱発泡型粘着テープも用いられており、例えば、日東電工社製のリバアルファ（登録商標）が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月25日(2003.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の基板と第２の基板を含む複数の基板を個別に保持する保持部が複数設けられ単一の位置決め手段によって少なくとも水平方向に移動する基板支持テーブルと、それぞれの保持部による基板の保持状態を個別に解除する保持解除手段と、前記基板支持テーブル上の複数の基板の位置を検出する位置検出手段と、前記保持部に保持されたそれぞれの基板に対応して配置されそれぞれの基板の上面に圧着対象物を上方から圧着する複数の圧着ヘッドと、前記圧着ヘッドによる圧着の際に基板を下方から支持する下受け部を備えたボンディング装置によるボンディング方法であって、
前記基板支持テーブル上に保持された複数の基板の位置を前記位置検出手段によって検出する位置検出工程と、
前記位置検出工程で得られた位置検出結果に基づいて前記位置決め手段により第１の基板をこの第１の基板に対応する第１の圧着ヘッドに対して位置合わせする第１の位置合わせ工程と、
前記位置合わせされた第１の基板を前記第１の圧着ヘッドと前記下受け部の間に挟み込むことにより前記第１の圧着ヘッドによって圧着対象物を前記第１の基板に圧着する第１の圧着工程と、
第１の圧着工程中に保持解除手段によって前記圧着中の第１の基板の保持状態を解除する第１の保持状態解除工程と、
第１の保持状態解除後に前記位置検出工程で得られた位置検出結果に基づいて前記位置決め手段により第２の基板をこの第２の基板に対応する第２の圧着ヘッドに対して位置合わせする第２の位置合わせ工程と、
前記位置合わせされた第２の基板に対応する第２の圧着ヘッドによって圧着対象物を前記第２の基板に圧着する第２の圧着工程とを含むことを特徴とするボンディング方法。
【請求項２】
前記位置検出結果に基づいて前記第１の位置合わせ工程及び第２の位置合わせ工程実行の要否判定を行い、基板の位置ずれが許容範囲内であると判定されたならば全ての基板をそれぞれの基板に対応する圧着ヘッドに対して同時に位置合わせし、基板の位置ずれが許容範囲を越えていると判定されたならば前記第１の位置合わせ工程に移行することを特徴とする請求項１記載のボンディング方法。
【請求項３】
前記保持部は、真空吸引によって基板を保持することを特徴とする請求項１記載のボンディング方法。
【請求項４】
前記基板は表示パネルであり、前記圧着対象物が接着テープであることを特徴とする請求項１記載のボンディング方法。
【請求項５】
前記基板は表示パネルであり、前記圧着対象物が電子部品であることを特徴とする請求項１記載のボンディング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載のボンディング方法は、少なくとも第１の基板と第２の基板を含む複数の基板を個別に保持する保持部が複数設けられ単一の位置決め手段によって少なくとも水平方向に移動する基板支持テーブルと、それぞれの保持部による基板の保持状態を個別に解除する保持解除手段と、前記基板支持テーブル上の複数の基板の位置を検出する位置検出手段と、前記保持部に保持されたそれぞれの基板の上面に圧着対象物を上方から圧着する複数の圧着ヘッドと、前記圧着ヘッドによる圧着の際に基板を下方から支持する下受け部を備えたボンディング装置によるボンディング方法であって、前記基板支持テーブル上に保持された複数の基板の位置を前記位置検出手段によって検出する位置検出工程と、前記位置検出工程で得られた位置検出結果に基づいて前記位置決め手段により第１の基板をこの第１の基板に対応する第１の圧着ヘッドに対して位置合わせする第１の位置合わせ工程と、前記位置合わせされた第１の基板を前記第１の圧着ヘッドと前記下受け部の間に挟み込むことにより前記第１の圧着ヘッドによって圧着対象物を前記第１の基板に圧着する第１の圧着工程と、第１の圧着工程中に保持解除手段によって前記圧着中の第１の基板の保持状態を解除する第１の保持状態解除工程と、第１の保持状態解除後に前記位置検出工程で得られた位置検出結果に基づいて前記位置決め手段により第２の基板をこの第２の基板に対応する第２の圧着ヘッドに対して位置合わせする第２の位置合わせ工程と、前記位置合わせされた第２の基板に対応する第２の圧着ヘッドによって圧着対象物を前記第２の基板に圧着する第２の圧着工程とを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月9日(2003.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
オーディオＣＤがセットされるＣＤドライブと、
オーディオデータが出力されるオーディオ出力手段と、
オーディオデータを蓄積記憶する大容量記憶手段と、
オーディオＣＤからオーディオデータを読み出して大容量記憶手段の書込速度で大容量記憶手段に書き込む抽出動作、および、この書き込まれたオーディオデータを大容量記憶手段から読み出してオーディオデータ再生レートでオーディオ出力手段から出力する再生動作、を並行して行う制御手段と、
を備えたディジタルオーディオ録音再生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、オーディオＣＤがセットされるＣＤドライブと、オーディオデータが出力されるオーディオ出力手段と、オーディオデータを蓄積記憶する大容量記憶手段と、
オーディオＣＤからオーディオデータを読み出して大容量記憶手段の書込速度で大容量記憶手段に書き込む抽出動作、および、この書き込まれたオーディオデータを大容量記憶手段から読み出してオーディオデータ再生レートでオーディオ出力手段から出力する再生動作、を並行して行う制御手段と、
を備えたことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2003059172.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2003059172.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2003059172.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月2日(2003.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状部材の開口に一面側から挿入され得るベース本体と、  上記ベース本体に設けられて、上記ベース本体が上記開口に取付られたとき、上記板状部材の上記一面側に接するフランジと、
上記ベース本体に枢着された一端と自由端とを持ち、上記自由端が上記板状部材の他面から離れて上記ベース本体の上記開口に対する挿脱を可能にする解放位置と、上記板状部材の上記他面に係合して、上記フランジと共働して上記開口縁を挟持する締結位置とに回動可能な取付金具と、
一端で上記取付金具に枢着され、他端で上記ベース本体に枢着され、上記取付金具が上記締結位置にあるときには上記解放位置にあるときに対して作用方向が反転して上記取付金具を上記板状部材に弾性的に係合させるばねとを備えた埋込み型感知器ベース。
【請求項２】
上記解放位置では、上記取付金具と上記ばねとの枢着点が、上記取付金具の上記ベース本体上の回動中心と、上記ばねの上記ベース本体上の回動中心とを結ぶ作用中心線の一側にある請求項１記載の埋込み型感知器ベース。
【請求項３】
上記ベース本体が、上記取付金具を上記ばね作用に抗して上記解放位置に動かすための工具を挿入するための操作開口を備えたことを特徴とする請求項１記載の埋込み型感知器ベース。
【請求項４】
上記取付金具は板状レバーであり、上記ばねは圧縮ばねであることを特徴とする請求項１記載の埋込み型感知器ベース。
【請求項５】
上記ばねの上記他端は、上記ベース本体に設けられたばね受けホーンに枢着されてなることを特徴とする請求項１記載の埋込み型感知器ベース。
【請求項６】
板状部材の開口に一面側から挿入され得るベース本体と、
上記ベース本体に設けられて、上記ベース本体が上記開口に取付られたとき、上記板状部材の上記一面側に接するフランジと、
上記ベース本体に枢着された一端と自由端とを持ち、上記自由端が上記板状部材の他面から離れて上記ベース本体の上記開口に対する挿脱を可能にする解放位置と、上記板状部材の上記他面に係合して、上記フランジと共働して上記開口縁を挟持する締結位置とに回動可能な取付金具と、
上記取付金具を上記板状部材に弾性的に係合させるばねとを備えた埋込み型感知器ベース。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月1日(2003.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明絶縁性基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体層、ソース電極およびドレイン電極を順次設けて薄膜トランジスタを形成する工程と、前記透明絶縁性基板上に該薄膜トランジスタ領域に起因する段差部をなくすように表面が平坦化された透明性樹脂からなる層間絶縁膜を形成する工程と、該層間絶縁膜の前記ドレイン電極の上部にコンタクトホールを設け、該コンタクトホールを介して下部のドレイン電極と電気的に接続されるように該層間絶縁膜上に透明導電膜からなる画素電極とを形成する工程からなる液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法であって、前記層間絶縁膜にコンタクトホール部を形成したのち、該コンタクトホール部に露出した前記下部のドレイン電極の表面を含む基板表面を、コンタクト部表面を清浄化するために表面処理する工程を含む液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項２】
前記コンタクトホールを前記ドレイン電極につながる接続電極の上部に設ける請求項１記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項３】
前記表面処理を、コンタクトホール部形成後、該コンタクトホール部表面を除く前記層間絶縁膜の表面全体にフォトレジストを覆った状態で行い、そののち、フォトレジストを除去する工程をさらに含む請求項１記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項４】
前記表面処理を物理的な方法および化学的な方法のうち少なくとも一方により行なう請求項１、２または３記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項５】
前記物理的な方法による表面処理の工程として、酸素プラズマ処理、窒素プラズマ処理、ヘリウムプラズマ処理、窒素イオン注入、リンイオン注入、ホウ素イオン注入および水素イオン注入のうちから選ばれた少なくともひとつの方法を用いる請求項４記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項６】
前記物理的な方法による表面処理の工程として、前記画素電極と接続される下部のドレイン電極に対しエッチング可能なガスを用いたドライエッチングで表面をライトエッチングする方法を用いる請求項４記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。 
【請求項７】
前記化学的な方法による表面処理の工程として、前記画素電極と接続される下部のドレイン電極に対しエッチング可能な薬液で表面をライトエッチングする方法を用いる請求項４記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項８】
前記ドレイン電極の膜厚のうち、前記透明性樹脂からなる層間絶縁膜のコンタクトホールを介して画素電極と電気的に接続される部分の膜厚が、その他の部分の膜厚よりも薄くされている請求項１記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項９】
前記接続電極の膜厚のうち、前記透明性樹脂からなる層間絶縁膜のコンタクトホールを介して画素電極と電気的に接続される部分の膜厚が、その他の部分の膜厚よりも薄くされている請求項２記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１０】
前記画素電極の形成において、透明導電膜を形成後、該透明導電膜の成膜温度以上の温度で熱処理を行ったのちにパターニングを行い、画素電極を形成する工程をさらに含む請求項１記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１１】
前記透明導電膜の熱処理温度が１５０℃以上２５０℃以下である請求項１０記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１２】
前記層間絶縁膜を形成する前に、前記薄膜トランジスタのチャネル部を保護する窒化シリコン膜を形成する工程と、前記下部のドレイン電極の画素電極と電気的に接続される部分の該窒化シリコン膜にコンタクトホールを形成する工程とをさらに含む請求項１記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１３】
前記層間絶縁膜を形成する前に、前記薄膜トランジスタのチャネル部を保護する窒化シリコン膜を形成する工程と、前記接続電極の画素電極と電気的に接続される部分の該窒化シリコン膜にコンタクトホールを形成する工程とをさらに含む請求項２記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１４】
前記層間絶縁膜を形成する前に、前記薄膜トランジスタのチャネル部を保護する窒化シリコン膜を形成する工程と、つぎに前記層間絶縁膜を形成する工程と、下部のドレイン電極の画素電極と電気的に接続される部分の該層間絶縁膜にコンタクトホールを形成する工程と、該コンタクトホール形成後の層間絶縁膜をマスクとして前記窒化シリコン膜にコンタクトホールを形成する工程とをさらに含む請求項１記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１５】
前記層間絶縁膜を形成する前に、前記薄膜トランジスタのチャネル部を保護する窒化シリコン膜を形成する工程と、つぎに前記層間絶縁膜を形成する工程と、前記接続電極の画素電極と電気的に接続される部分の該層間絶縁膜にコンタクトホールを形成する工程と、該コンタクトホール形成後の層間絶縁膜をマスクとして前記窒化シリコン膜にコンタクトホールを形成する工程とをさらに含む請求項２記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１６】
前記ドレイン電極が、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｔａおよびこれらの少なくとも２つの金属を含む合金のうちから選ばれる少なくともひとつの材料からなり、さらに前記画素電極が、酸化インジウム、酸化スズおよびＩＴＯのうちから選ばれる少なくともひとつの材料からなる請求項１記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１７】
前記接続電極がＡｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｔａおよびこれらの少なくとも２つの金属を含む合金のうちから選ばれる少なくともひとつの材料からなり、さらに前記画素電極が、酸化インジウム、酸化スズおよびＩＴＯのうちから選ばれる少なくともひとつの材料からなる請求項２記載の液晶表示装置用薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項１８】
請求項１から１７のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタがゲート配線とソース配線の交差部近傍にマトリックス状に形成されてなる透明性絶縁基板と、少なくとも対向電極およびカラーフィルタが設けられ、前記透明絶縁性基板と共に液晶を挟持する対向基板が備えられてなる液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月8日(2003.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１１ 外管、１２ セラミック放電管、１３ａ，１３ｂ 口金、１４，１４ａ，１４ｂ 容器、１５ａ，１５ｂ 端部、１６ａ，１６ｂ キャピラリ、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ，１７ｄ，１７ｅ，１７ｆ 電極部材、１８ａ，１８ｂ リード線、１９ａ，１９ｂ ホイル、２０，２８，３０ 本体、２１ ディスク、２２，２３，２９ 円柱部材、２４ 電極、２５ コイル、２６ フリットシール ２７ ストッパー、３１，３２ 電極保持材 ３３ 管状部材 ３４ 略円柱部材