【事件の表示】
　平成　５年特許願第２５３４４１号「イオン注入装置」拒絶査定に対する審判事件［平成　７年　４月２１日出願公開、特開平　７−１０５９０１］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明
　
　本願は、平成５年１０月８日の出願であって、平成１１年７月２６日付け、平成１２年５月１７日付け及び平成１３年７月２７日付けの手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その請求項１に係る発明は、特許請求の範囲に記載された次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という。）
　
「【請求項１】所望の不純物イオンのみからなるイオンビームに質量分析する質量分析手段と、上記イオンビームを加速する加速手段と、上記イオンビームに発生する不要な不純物イオンを除去するフィルター手段とを有したイオン注入装置において、
　上記フィルター手段は、上記加速手段の後段で、且つ上記イオンビームを走査するビーム走査手段の前段に配設されており、所望の不純物イオンのみを通過させるように、イオンビームを質量分析する磁場を形成するフィルターマグネットを備えており、
　さらに上記ビーム走査手段の後段には、該ビーム走査手段で走査されたイオンビームをウエーハ方向に再偏向させる平行化マグネットを備えていることを特徴とするイオン注入装置。」
　
２．引用刊行物記載の発明
　
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願の日前である平成４年３月３１日に頒布された特開平４−９８７４９号公報（以下「引用刊行物」という。）には、次の事項が図面とともに記載されている。
　
（２−１）「従来の後段加速型イオン注入装置ではイオン源より引き出されたイオンは質量分析磁石により所望のイオンのみに分離された後、加速部で設定したエネルギーまで加速され、走査部を通過し、ウエハーに注入されていた。」（第１頁左欄第１３行〜同右欄第１行）
　
（２−２）「第１図は本発明の一実施例の構成図である。
イオン源１で発生したイオンは引出部２でイオンビーム８となり、第１質量分析磁石３で多量の不要なイオンを除去され、所望のイオンのみとなる。しかし加速部４で加速されたイオンビーム８は残留ガスとの衝突により不要なイオンを微量含むことになる。そこで第２質量分析磁石５で微量の不要なイオンを除去した後、走査部６でイオンビーム８を走査して試料室７に導入する。」（第２頁左上欄第８行〜同第１６行）
　
（２−３）「以上説明したように本発明は、イオンを加速後に第２質量分析磁石を通過させることにより、加速中に発生した不要なイオンを除去でき、従って、例えばＭＯＳトランジスタの浅いソース、ドレイン形成時のＢＦ２＋注入、バイポーラトランジスタの浅いベース形成時のＰ＋＋注入を精度よく行なうことができるなど、良好な特性の半導体装置を製造することができる。」（第２頁左下欄第１４行〜同右下欄第１行）
　
　この記載事項によると、引用刊行物には、
　
「所望の不純物イオンのみからなるイオンビーム８に質量分析する第１質量分析磁石３と、上記イオンビーム８を加速するイオン加速部４と、上記イオンビーム８に発生する不要な不純物イオンを除去する第２質量分析磁石５とを有した後段加速型イオン注入装置において、
　上記第２質量分析磁石５は、上記イオン加速部４の後段で、且つ上記イオンビーム８を走査する走査部６の前段に配設されており、所望の不純物イオンのみを通過させるように、イオンビーム８を質量分析する磁場を形成する磁石を備えている、
ことを特徴とする後段加速型イオン注入装置。」（以下、「引用刊行物記載の発明」という。）
　
が記載されていると認められる。
　
３．対比・判断
　
　本願発明と引用刊行物記載の発明とを対比すると、
引用刊行物記載の発明における「イオンビーム８」、「第１質量分析磁石３」、「イオン加速部４」、「第２質量分析磁石５」、「後段加速型イオン注入装置」、「走査部６」、「磁石」は、それぞれ、
本願発明における「イオンビーム」、「質量分析手段」、「加速手段」、「フィルター手段」、「イオン注入装置」、「ビーム走査手段」、「フィルターマグネット」に相当するから、
両者は、
　
【一致点】
「所望の不純物イオンのみからなるイオンビームに質量分析する質量分析手段と、上記イオンビームを加速する加速手段と、上記イオンビームに発生する不要な不純物イオンを除去するフィルター手段とを有したイオン注入装置において、
　上記フィルター手段は、上記加速手段の後段で、且つ上記イオンビームを走査するビーム走査手段の前段に配設されており、所望の不純物イオンのみを通過させるように、イオンビームを質量分析する磁場を形成するフィルターマグネットを備えている、
ことを特徴とするイオン注入装置。」
　
で一致し、
　
【相違点】
　本願発明は、ビーム走査手段の後段には、該ビーム走査手段で走査されたイオンビームをウエーハ方向に再偏向させる平行化マグネットを備えているのに対して、
引用刊行物記載の発明は、かかる平行化マグネットを備えていない点、
　
で相違する。
　
　上記相違点について検討すると、
　
　本願の出願の日前である昭和６１年６月２０日に頒布された特開昭６１−１３３５４５号公報には、第１図とともに、
「ウエハーにイオンを注入するイオン注入方法において、上記偏向手段とウエハーとの間に偏向ビーム補正磁界発生手段を設けることによって当該偏向ビーム補正磁界発生手段を経た前記偏向ビームを平行流に近いものとし、かかる偏向ビームを前記ウエハーに対して均一に照射するようにしたものである。」（第２頁右上欄第１１行〜同第１７行）、
「偏向電極４とウエハー３との間には、新しく楔形状の偏向ビーム補正磁界６を設けている。」（第２頁左下欄第６行〜同第７行）と記載され、
　
　同じく昭和６４年２月２日に頒布された特表昭６４−５００３１０号公報には、ＦＩＧ．３Ａとともに、
「図示の分析用磁石５４’は、源５２’から出射したビーム路に対して９０度よりわずかに大きい角度だけ、イオンビーム５８の路に変化を与える。さらに、このビーム路の曲がりの方向は、走査器５６’がもたらすビーム偏向と同一の方向である（たとえば、第３Ａ図では時計回り）。走査ビームを平行軌跡にするための、偏向体７２’による偏向は、反対方向（たとえば、反時計回り）である。」（第９頁左上欄第３行〜同第９行、なお、「半時計回り」は「反時計回り」の誤記と認定した。）、
「第３Ａ図の装置５０’は、幾何学的にコンパクトにすることが可能であり、」（第９頁左上欄第２０行〜同第２１行）と記載されているように、
　
　ビーム走査手段の後段に、該ビーム走査手段で走査されたイオンビームをウエハー方向に再偏向させる平行化マグネットを備えることはこの出願前にすでに周知であるから、
　引用刊行物記載の発明の走査部４の後段に、該走査部４で走査されたイオンビーム８をウエハー方向に再偏向させる平行化マグネットを備えることは、当業者が必要に応じて適宜になし得ることである。
　
　そして、本願発明の構成によってもたらされる効果は、引用刊行物記載の発明及び周知技術から当業者であれば予測できる程度のものであって、格別のものとは言えない。
　
４．むすび
　
　したがって、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願請求項２及び３に係る発明について審理するまでもなく、本願は拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。