【手続補正書】
【提出日】平成26年2月21日(2014.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源の発振波長を吸収する材料を含む第１の膜が第２の膜の上又は上方に形成された積層体を準備する工程と、
予め定められたパルス周波数のパルスを発生する前記レーザ光源による１回のパルス周期でのパルス照射で、前記第１の膜及び第２の膜を貫通する孔を形成し、前記第２の膜の下の異なる材料層を露出させる工程と
を備える太陽電池の製造方法。
【請求項２】
前記第１の膜がシリコンを含む、請求項１に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項３】
前記第１の膜が非晶質シリコンを含む、請求項１に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項４】
前記１回のパルス周期でのパルス照射で、前記第１の膜、前記第２の膜、及び第３の膜を貫通する前記孔を形成する工程を更に含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項５】
前記第１の膜がシリコンを含み、前記第２の膜が二酸化シリコンを含み、前記第３の膜がシリコン窒化物を含み、前記第３の膜が前記第１の膜の上又は上方に形成され、前記孔が前記太陽電池の拡散領域を露出させる、請求項４に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項６】
前記１回のパルス周期でのパルス照射は、第１のレーザパルスの照射及び第２のレーザパルスの照射を含み、前記第２のレーザパルスの照射は、前記第１のレーザパルスの照射の後で、かつ、予め定められた遅延時間を経過した後になされる、請求項１から５のいずれか一項に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項７】
前記１回のパルス周期でのパルス照射は、第１のピーク及び第２のピークを有する時間的に非対称なレーザパルス照射を含み、前記第１のピークのエネルギーは、前記第２のピークのエネルギーより高い、請求項１から５のいずれか一項に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項８】
予め定められたパルス周波数のパルスを発生するレーザ光源による１回のパルス周期でのパルス照射で、時間的に非対称であり、かつ、第１のピーク及び第２のピークを有するレーザパルスを照射する工程と、
前記レーザパルスの前記第１のピークにより積層体の第１の膜及び導電性を有する第２の膜をアブレーションし、前記第１の膜及び前記第２の膜を貫通する孔を形成する工程と、
前記レーザパルスの前記第２のピークにより前記積層体の第３の膜をアブレーションし、前記積層体の前記第１の膜、前記第２の膜、及び前記第３の膜を貫通する前記孔を形成し、前記孔を介して太陽電池の拡散領域を露出させる工程と、
前記孔の内部を通じて前記拡散領域と接触する金属コンタクトを形成する工程と
を備え、
前記１回のパルス周期でのパルス照射では、前記第１のピークが生じた後に、遅れて前記第２のピークが生じ、前記第１のピークのエネルギーは前記第２のピークのエネルギーよりも高い、太陽電池の製造方法。
【請求項９】
前記第２の膜が非晶質シリコンを含み、前記第３の膜が二酸化シリコンを含む、請求項８に記載の太陽電池の製造方法。
【請求項１０】
前記拡散領域が、多結晶シリコンの層内に形成される、請求項８又は９に記載の太陽電池の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】太陽電池の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
太陽電池の製造プロセスにおいて誘電積層体をアブレーションする技術を開示した。本願発明の具体的な実施形態を提供したが、これらの実施形態は説明を目的としたものであり、限定的なものでないことは理解されよう。多くの追加的な実施形態が、本開示を読む当業者にとっては明らかとなろう。
［項目１］
レーザ光源の発振波長を吸収する材料を含む第１の膜が第２の膜の上又は上方に形成された積層体を準備する工程と、
予め定められたパルス周波数のパルスを発生する前記レーザ光源による１回のパルス周期でのパルス照射で、前記第１の膜及び第２の膜を貫通する孔を形成し、前記第２の膜の下の異なる材料層を露出させる工程と、
を備える太陽電池の製造方法。
［項目２］
前記第１の膜がシリコンを含む、項目１に記載の太陽電池の製造方法。
［項目３］
前記第１の膜が非晶質シリコンを含む、項目１に記載の太陽電池の製造方法。
［項目４］
前記１回のパルス周期でのパルス照射で、前記第１の膜、前記第２の膜、及び第３の膜を貫通する前記孔を形成する工程を更に含む、項目１に記載の太陽電池の製造方法。
［項目５］
前記第１の膜がシリコンを含み、前記第２の膜が二酸化シリコンを含み、前記第３の膜がシリコン窒化物を含み、前記第３の膜が前記第１の膜の上又は上方に形成される、項目４に記載の太陽電池の製造方法。
［項目６］
前記孔により露出される前記材料層は、拡散領域を含む、項目１に記載の太陽電池の製造方法。
［項目７］
前記１回のパルス周期でのパルス照射は、第１のレーザパルスの照射及び第２のレーザパルスの照射を含み、前記第２のレーザパルスの照射は、前記第１のレーザパルスの照射の後で、かつ、予め定められた遅延時間を経過した後になされる、項目１に記載の太陽電池の製造方法。
［項目８］
前記１回のパルス周期でのパルス照射は、第１のピーク及び第２のピークを有する時間的に非対称なレーザパルス照射を含み、前記第１のピークのエネルギーは、前記第２のピークのエネルギーより高い、項目１に記載の太陽電池の製造方法。
［項目９］
予め定められたパルス周波数のパルスを発生するレーザ光源による１回のパルス周期でのパルス照射で、時間的に非対称であり、かつ、第１のピーク及び第２のピークを有するレーザパルスを照射する工程と、
前記レーザパルスの前記第１のピークにより積層体の第１の膜及び導電性を有する第２の膜をアブレーションし、前記第１の膜及び前記第２の膜を貫通する孔を形成する工程と、
前記レーザパルスの前記第２のピークにより前記積層体の第３の膜をアブレーションし、前記積層体の前記第１の膜、前記第２の膜、及び前記第３の膜を貫通する前記孔を形成し、前記孔を介して太陽電池の拡散領域を露出させる工程と、
前記孔の内部を通じて前記拡散領域と接触する金属コンタクトを形成する工程と、
を備え、
前記１回のパルス周期でのパルス照射では、前記第１のピークが生じた後に、遅れて前記第２のピークが生じ、前記第１のピークのエネルギーは前記第２のピークのエネルギーよりも高い、
太陽電池の製造方法。
［項目１０］
前記孔を通して前記拡散領域に対する金属接点を形成する工程を更に含む、項目９に記載の太陽電池の製造方法。
［項目１１］
前記第２の膜が非晶質シリコンを含み、前記第３の膜が二酸化シリコンを含む、項目９に記載の太陽電池の製造方法。
［項目１２］
前記第２の膜が非晶質シリコンを含む、項目９に記載の太陽電池の製造方法。
［項目１３］
前記拡散領域が、多結晶シリコンの層内に形成される、項目９に記載の太陽電池の製造方法。
［項目１４］
前記第１の膜がシリコン窒化物の層を含み、前記第２の膜が非晶質シリコンを含む、項目９に記載の太陽電池の製造方法。
［項目１５］
太陽電池を製造する方法であって、前記方法が、
ある繰り返し率でレーザパルスを照射するレーザ源の単一の繰り返し内に、第１のレーザパルス及び第２のレーザパルスを照射する工程と、
前記第１のレーザパルスで積層膜の第１の膜及び第２の膜をアブレーションし、前記第１の膜及び前記第２の膜を通して孔を形成する工程であって、前記第２の膜が導電性である、工程と、
前記第２のレーザパルスで前記積層膜の第３の膜をアブレーションし、前記積層膜の前記第１の膜、前記第２の膜、及び前記第３の膜を通して前記孔を形成し、前記孔を通して前記太陽電池の拡散領域を露出する工程と、を含む、太陽電池の方法。
［項目１６］
前記孔を通して前記拡散領域に対する金属接点を形成する工程を更に含む、項目１５に記載の太陽電池を製造する方法。
［項目１７］
前記第２のレーザパルスが、前記レーザ源によって、前記第１のレーザパルスの照射から１ｎｓ〜１μｓ後に照射される、項目１５に記載の太陽電池を製造する方法。
［項目１８］
前記第２の膜が非晶質シリコンを含み、前記第３の膜が二酸化シリコンを含む、項目１５に記載の太陽電池を製造する方法。
［項目１９］
前記第２のレーザパルスが、前記第１のレーザパルスと比較して等しいか又はより少ないエネルギーを有する、項目１５に記載の太陽電池を製造する方法。
［項目２０］
前記拡散領域が、シリコンの層内に形成される、項目１５に記載の太陽電池を製造する方法。
［項目２１］
前記第１の膜がシリコン窒化物の層を含み、前記第２の膜が非晶質シリコンを含む、項目１５に記載の太陽電池を製造する方法。