【手続補正書】
【提出日】平成24年5月14日(2012.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
加圧ガスによる霧化を用いた噴霧方法において、方法の要求により高速のガス流速が用いられ、このことにより、加圧ガスラインをそれに従って寸法決めして実施すると、希薄相の輸送（例えば１０〜４０ｍ／ｓ）によって固体を輸送することが可能となる。低い充填比での高い輸送速度に起因して、個々の粒子間の接触はほとんど存在せず、これにより、それに従ってインターフェースを実装する場合、集塊の形成が防止され、ガス／固体混合物を噴霧−混合ノズルへと問題なく輸送し得る。良好な流動特性または低い集塊形成傾向を有する固体、ガラス球等は、かなり遅い流速で濃密相輸送（例えば３〜１０ｍ／ｓ）によって輸送し得、それによって固体充填ガス運搬ラインおよび構成要素の摩耗が非常に低減する。噴霧プロセスに必要な量の加圧ガスは、濃密相の輸送を用いる場合、噴霧−混合ノズルの直ぐ上流においてのみ、固体ストリームに供給される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
更に、圧力の均等化（または均圧）は、輸送空気の部分ストリームが、計量供給ユニット（または集合体）（計量供給セルおよびギャップ裕度）を通じて保存タンクの中に漏れるのを防止する。研磨性固体に対しては、特に、構造上の要件を理由としてより大きいギャップ寸法が不可避である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
ガスストリームが互いに独立して変更可能であるという事実を理由として、「希薄層輸送」の形態での粒子輸送（＞２０ｍ／ｓ）を確保し得る。低い充填比での高い輸送速度を理由として（希薄層輸送の公式規定：例えば≦１５ｋｇ／ｋｇ）、個々の粒子間で接触がほとんど存在せず、これにより集塊の形成が防止される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
（１つまたは複数の）入口ポートは、好ましくは１〜４ｍｍ２の範囲の断面積を有する。粒子寸法に加えて表面構造および粒子形状は輸送特性に関与するので、入口ポートの断面積の値は通常、実験的に決定される。指針となる値として、相当直径の３．３倍を仮定してよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
・単純な輪郭の大面積金属部品、例えばサイロ、バルクコンテナ、輸送漕（またはトラフ、ｔｒｏｕｇｈ）または管において摩耗防止層を形成するため、土木工学、例えば、屋根および橋のシーリングにおいて防水層を製造するため、弾性金型を製造するため、シンタクチックフォームによる管の断熱（または絶縁）のため、例えばコンテナのための防火層として、または成型部品、例えばシートフォーム（ｓｅａｔ  ｆｏａｍ）および吸音部品の外部被膜／保護層として利用される、弾性および剛性のスプレー膜。ここで固体は、例えば、より優れた難燃性、より優れた導電性、より優れた離型性、改良された機械特性、より低い線形熱膨張係数、より高い密度またはより小さい摩耗性のために利用可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
・例えば、管の断熱（または絶縁）において、金属複合パネル、冷蔵庫、タンク、反応器または熱水貯蔵タンクにおいて利用されるような、噴霧によって適用される剛性発泡体。ここで固体は、例えば、より優れた難燃性、物質に対するより優れた結合（または接着）、より優れた導電性、より優れた耐熱性および断熱性（または絶縁性）、ならびに改良された機械特性のために利用可能である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
機能原理：
スプレーアタッチメントの機能原理は、圧縮空気の霧化（または噴霧）に基づいている。噴霧空気を、４つの接線方向の溝によって、混合ヘッドに設けられた混合チャンバーの下流のアタッチメントを通して導入した。溝は円周方向の環状の溝で与えられ、それは圧縮空気ネットワークを通じて供給された。存在する反応混合物は、スプレーアタッチメントの出口部分において、加えられた空気によって加速され、更に、接線方向の溝によって形成される回転によってスプレージェットへと霧化（または噴霧）された（図１）。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
円周方向の環状の溝による偏向のない接線方向の溝による個別供給によって、均一な分布を有するガス／固体混合物の導入を達成し得る（図２）。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
上述の実施例において、４つの接線方向の溝の内の１つのみを、ガス／固体混合物を導入するのに使用し、断面は必要な直径である２ｍｍに広がった。残りの溝は、それらが純粋な噴霧空気を導入する際に使用可能であった。必要であれば、固体供給は、いくつかの計量供給装置または異なる溝によって実施可能である。そのような配置は、より高い排出量または必要に応じて切り替え可能な種々の固体を処理する可能性を提供する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
一定流速の検討の下で全ての溝の空気流速を調節した。
本願発明は以下の態様を含む。
（態様１）
固体含有ガスストリームをＰＵＲ反応混合物の液体ジェットに導入することを特徴とする、固体含有ＰＵＲスプレージェットの調製方法。
（態様２）
前記導入を噴霧−混合ノズルで行うことを特徴とする、態様１に記載の方法。
（態様３）
固体含有ガスストリームを、ガス供給ラインを通じて前記噴霧−混合ノズルに供給することを特徴とする、態様２に記載の方法。
（態様４）
固体計量供給システムにより粒子をガスストリームに混入することによって、固体含有ガスストリームを調製することを特徴とする、態様１〜３のいずれか１つに記載の方法。
（態様５）
固体含有量を様々に調節し得ることを特徴とする、態様４に記載の方法。
（態様６）
固体含有ガスストリームをＰＵＲ反応混合物の液体ジェットに導入する際に、固体がガスストリームにおいて均一に分布するように、固体含有ガスストリームの調製を制御することを特徴とする、態様１〜５のいずれか１つに記載の方法。
（態様７）
窒素または特に空気をガスとして使用することを特徴とする、態様１〜６のいずれか１つに記載の方法。
（態様８）
膨張性黒鉛を固体として使用することを特徴とする、態様１〜７のいずれか１つに記載の方法。
（態様９）
態様１〜８のいずれか１つに記載の固体含有ＰＵＲスプレージェットをオープンモールドの中または基板支持体の上に噴霧することを特徴とする、ＰＵＲ成型部品の製造方法。
（態様１０）
ガスストリームを液体ＰＵＲ原材料のジェットに導入するためのスプレーアタッチメントであって、
ａ）ＰＵＲ原材料のジェットが中を流れるスプレーチャンネル；
ｂ）ガスストリームが中を流れる少なくとも１つのガスチャンネルであって、入り口ポートを通じてスプレーチャンネルに至るガスチャンネル；
を有し、
スプレーチャンネルに入る際に、ガスストリームの流れの方向がスプレーチャンネルの中心の外側に向かうことを特徴とする、スプレーアタッチメント。
（態様１１）
スプレーチャンネルに入る際に、ガスストリームの流れの方向が、スプレーチャンネルの中心から０．８・ｒ≦ｙ≦ｒの距離の箇所にてスプレーチャンネルを通り、ここでｒ＝（スプレーチャンネルの半径）であり、ｙ＝（スプレーチャンネルの中心からのガスストリームの流れの方向の距離）であることを特徴とする、態様１０に記載のスプレーアタッチメント。
（態様１２）
いくつかのガスチャンネル、特に偶数のガスチャンネルを有し、それらのガスチャンネルのガスストリームは互いに独立して変更可能であることを特徴とする、態様１０または１１に記載のスプレーアタッチメント。
（態様１３）
ガスチャンネルの入り口ポートが、スプレーチャンネルにおけるＰＵＲ材料の流れの方向に対して垂直に位置する平面内または直線上に設けられることを特徴とする、態様１２に記載のスプレーアタッチメント。
（態様１４）
ガスチャンネルの直径が、ガスストリームの流れの方向において、特にスプレーチャンネルに入る少し手前で減少することを特徴とする、態様１０〜１３のいずれか１つに記載のスプレーアタッチメント。
（態様１５）
ガスチャンネルの断面積に対する入り口ポートの断面積の比が、その最も巾広い部分において１：８〜１：４０の範囲であることを特徴とする、態様１４に記載のスプレーアタッチメント。
（態様１６）
入り口ポートが１〜４ｍｍ２の範囲の断面積を有することを特徴とする、態様１０〜１５のいずれか１つに記載のスプレーアタッチメント。
（態様１７）
ガスストリームの流れの方向とＰＵＲ原材料の流れの方向とが１１０°〜１１５°の角度を形成することを特徴とする、態様１０〜１６のいずれか１つに記載のスプレーアタッチメント。
（態様１８）
ガスストリームの流れの方向が、ガスストリームがスプレーチャンネルに入る前に、特にガスストリームがスプレーチャンネルに入る少し手前で、ＰＵＲ材料の流れの方向に向かって５〜１０°、好ましくは７．５°の角度で偏向を受けることを特徴とする、態様１０〜１７のいずれか１つに記載のスプレーアタッチメント。
（態様１９）
スプレーアタッチメントを高圧混合器または低圧混合器と組み合わせることを特徴とする、態様１０〜１８のいずれか１つに記載のスプレーアタッチメント。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体含有ガスストリームをＰＵＲ反応混合物の液体ジェットに導入することを特徴とする、固体含有ＰＵＲスプレージェットの調製方法。
【請求項２】
前記導入を噴霧−混合ノズルで行うことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
固体含有ガスストリームをＰＵＲ反応混合物の液体ジェットに導入する際に、固体がガスストリームにおいて均一に分布するように、固体含有ガスストリームの調製を制御することを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の固体含有ＰＵＲスプレージェットをオープンモールドの中または基板支持体の上に噴霧することを特徴とする、ＰＵＲ成型部品の製造方法。
【請求項５】
ガスストリームを液体ＰＵＲ原材料のジェットに導入するためのスプレーアタッチメントであって、
ａ）ＰＵＲ原材料のジェットが中を流れるスプレーチャンネル；
ｂ）ガスストリームが中を流れる少なくとも１つのガスチャンネルであって、入り口ポートを通じてスプレーチャンネルに至るガスチャンネル；
を有し、
スプレーチャンネルに入る際に、ガスストリームの流れの方向がスプレーチャンネルの中心の外側に向かうことを特徴とする、スプレーアタッチメント。
【請求項６】
スプレーチャンネルに入る際に、ガスストリームの流れの方向が、スプレーチャンネルの中心から０．８・ｒ≦ｙ≦ｒの距離の箇所にてスプレーチャンネルを通り、ここでｒ＝（スプレーチャンネルの半径）であり、ｙ＝（スプレーチャンネルの中心からのガスストリームの流れの方向の距離）であることを特徴とする、請求項５に記載のスプレーアタッチメント。