(57)【要約】【課題】耐オゾン性に優れたインクジェット記録用シートを提供する。【解決手段】支持体上の色材受容層が、実質的に水不溶性である次の（１）〜（６）から選ばれる化合物を内包するマイクロカプセルを含むインクジェット記録用シート。（１）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するトリアジン化合物、（２）イソシアヌル酸及び／又はその誘導体、（３）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するリン酸誘導体、（４）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するエステル酸誘導体、（５）フェノール系化合物、（６）ヒンダードアミン系化合物【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に色材受容層を有するインクジェット記録用シートにおいて、該色材受容層が、実質的に水不溶性である次の（１）〜（６）から選ばれる一種又は二種以上の化合物を内包するマイクロカプセルを含むことを特徴とするインクジェット記録用シート。
（１）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するトリアジン化合物、
（２）イソシアヌル酸及び／又はその誘導体、
（３）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するリン酸誘導体、
（４）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するエステル酸誘導体、
（５）フェノール系化合物、
（６）ヒンダードアミン系化合物
【請求項２】
色材受容層が、更に微粒子を含むものである請求項１記載のインクジェット記録用シート。
【請求項３】
微粒子が、シリカ微粒子、コロイダルシリカ、アルミナ微粒子及び擬ベーマイトから選ばれる１種又は２種以上である請求項２記載のインクジェット記録用シート。
【請求項４】
色材受容層が、更に水溶性樹脂を含有するものである請求項１〜３のいずれか１項記載のインクジェット記録用シート。
【請求項５】
水溶性樹脂が、ポリビニルアルコール系樹脂、セルロース系樹脂、エーテル結合を有する樹脂、カルバモイル基を有する樹脂、カルボキシル基を有する樹脂及びゼラチン類から選ばれる１種又は２種以上である請求項４記載のインクジェット記録用シート。
【請求項６】
色材受容層が、更に水溶性樹脂を架橋し得る架橋剤を含有するものである請求項４又は５記載のインクジェット記録用シート。
【請求項７】
色材受容層が、更に媒染剤を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項記載のインクジェット記録用シート。
【請求項８】
色材受容層が、微粒子及び水溶性樹脂を含有する塗布液を塗布した塗布層を架橋硬化させた層であり、前記架橋硬化が、前記塗布液及び／又は下記塩基性溶液に架橋剤を添加し、かつ、（１）前記塗布液を塗布して塗布層を形成すると同時、又は（２）前記塗布液を塗布して形成される塗布層の乾燥途中であって該塗布層が減率乾燥を示す前のいずれかのときに、ｐＨ８以上の塩基性溶液を前記塗布層に付与することにより行なわれることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項記載のインクジェット記録用シート。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水性インクや油性インク等の液状インク、及び溶融液化させて印画に供する固体状インク等を用いたインクジェット記録に供給される被記録材に関し、特に、優れたインク受像性能を有し記録画像の耐オゾン性が良好で、且つ紙面着色の抑制されたインクジェット記録用シートに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報技術（ＩＴ）産業の急速な発展に伴い、種々の情報処理システムが開発され、その情報処理システムに適した記録方法および記録装置も開発され、各々実用化されている。
これらの記録方法の中でも、インクジェット記録方法は、多種の被記録材料に記録可能なこと、ハード（装置）が比較的安価でコンパクトであること、静粛性に優れること等の利点から、オフィスは勿論、いわゆるホームユースにおいても広く用いられてきている。
【０００３】
また、近年のインクジェットプリンターの高解像度化に伴い、いわゆる写真ライクな高画質記録物を得ることも可能になってきており、このようなハード（装置）の進歩に伴って、インクジェット記録用の記録シートも各種開発されてきている。
このインクジェット記録用の記録シートに要求される特性としては、一般的に、（１）速乾性があること（インクの吸収速度が大きいこと）、（２）インクドットの径が適正で均一であること（ニジミのないこと）、（３）粒状性が良好であること、（４）ドットの真円性が高いこと、（５）色濃度が高いこと、（６）彩度が高いこと（くすみのないこと）、（７）印画部の耐水性や耐光性、耐オゾン性が良好なこと、（８）記録シートの白色度が高いこと、（９）記録シートの保存性が良好なこと（長期保存でも黄変着色を起こさないこと、長期保存で画像がにじまないこと（経時ニジミが良好な事））、（１０）変形しにくく寸法安定性が良好であること（カールが十分小さいこと）、（１１）ハード走行性が良好であること等が挙げられる。
更に、いわゆる写真ライクな高画質記録物を得る目的で用いられるフォト光沢紙の用途においては、上記諸特性に加えて、光沢性、表面平滑性、銀塩写真に類似した印画紙状の風合い等も要求される。
【０００４】
上記した諸特性の向上を目的として、近年では色材受容層に多孔質構造を有するインクジェット記録用シートが開発され実用化されている。このようなインクジェット記録用シートは多孔質構造を有することで、インク受容性（速乾性）に優れ高い光沢を有する。
【０００５】
例えば、特開平１０−１１９４２３号や同１０−２１７６０１号公報等では、微細な無機顔料粒子及び水溶性樹脂を含有し、高い空隙率を有する色材受容層が支持体上に設けられたインクジェット記録用シートが提案されている。
これらの記録用シート、特に、無機顔料微粒子としてシリカを用いた多孔質構造からなる色材受容層を設けたインクジェット記録用シートは、その構成によりインク吸収性に優れ、高解像度の画像を形成し得る高いインク受容性能を有し且つ高光沢を示すことができる。
【０００６】
しかしながら、空気中の微量ガス、特にオゾンは、経時による記録画像の褪色の原因となる。上述の多孔質構造を有する色材受容層からなる記録材料は、多くの空隙を有することから、空気中のオゾンガスによって記録画像が褪色し易い。
このため、上記多孔質構造の色材受容層を有する記録材料にとって、空気中のオゾンに対する耐性（耐オゾン性）は非常に重要な特性である。
【０００７】
上記オゾンによる褪色を防止するために、スルフィン酸化合物やチオスルホン酸化合物、チオスルフィン酸化合物を含有するインクジェット記録材料が提案されている（特許文献１参照）。また、親水性基を有するチオエーテル化合物を含有するインクジェット記録材料が提案されている（特許文献２参照）。これらはいずれも耐オゾン性に効果はあるが、その効果は長続きせず十分な耐オゾン性を付与することができない問題があった。
【０００８】
画像保存性を向上する目的で、色素退色防止剤として、フェノール誘導体を含有するインクジェット記録シートが提案されている（例えば、特許文献３参照）。該フェノール誘導体を含有するインクジェット記録シートは耐光性は向上するが、一方で、白色部に黄変が生じるというフェノール性ヒドロキシル基に特有の問題があり、特に、オゾン雰囲気下では顕著な着色が生じるという問題がある。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００１−２６０５１９号公報
【特許文献２】
ＥＰ１，１３８，５０９号
【特許文献３】
特開平９−１９２２号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、印字後の画像保存性に優れたインクジェット記録シートを提供することにあり、特にインク吸収性及び光沢が高く，かつ耐オゾン性が良好で画像保存性に優れたインクジェット記録シートを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
斯かる実状に鑑み、本発明者は鋭意研究を行なった結果、特定の水不溶性化合物が耐オゾン性等を改善することを見出したが、これらは、水不溶性であるため、インクジェット記録用シートの色材受容層塗布液（水分散液）に直接混合して用いることができなかった。そこで、本発明者は、これらをマイクロカプセルに入れたところ、容易に水分散液に分散し、かつカプセル内でも高い耐オゾン効果を奏することを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は次のものを提供するものである。
【００１２】
＜１＞  支持体上に色材受容層を有するインクジェット記録用シートにおいて、該色材受容層が、実質的に水不溶性である次の（１）〜（６）から選ばれる一種又は二種以上の化合物を内包するマイクロカプセルを含むことを特徴とするインクジェット記録用シート。
（１）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するトリアジン化合物、
（２）イソシアヌル酸及び／又はその誘導体、
（３）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するリン酸誘導体、
（４）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するエステル酸誘導体、
（５）フェノール系化合物、
（６）ヒンダードアミン系化合物
【００１３】
＜２＞色材受容層が、更に微粒子を含むものである＜１＞記載のインクジェット記録用シート。
＜３＞  微粒子が、シリカ微粒子、コロイダルシリカ、アルミナ微粒子及び擬ベーマイトから選ばれる１種又は２種以上である＜２＞記載のインクジェット記録用シート。
＜４＞  色材受容層が、更に水溶性樹脂を含有するものである＜１＞〜＜３＞のいずれか１項記載のインクジェット記録用シート。
＜５＞  水溶性樹脂が、ポリビニルアルコール系樹脂、セルロース系樹脂、エーテル結合を有する樹脂、カルバモイル基を有する樹脂、カルボキシル基を有する樹脂及びゼラチン類から選ばれる１種又は２種以上である＜４＞記載のインクジェット記録用シート。
【００１４】
＜６＞  色材受容層が、更に水溶性樹脂を架橋し得る架橋剤を含有するものである＜４＞又は＜５＞記載のインクジェット記録用シート。
＜７＞  色材受容層が、更に媒染剤を含有することを特徴とする＜１＞〜＜６＞のいずれか１項記載のインクジェット記録用シート。
＜８＞  色材受容層が、微粒子及び水溶性樹脂を含有する塗布液を塗布した塗布層を架橋硬化させた層であり、前記架橋硬化が、前記塗布液及び／又は下記塩基性溶液に架橋剤を添加し、かつ、（１）前記塗布液を塗布して塗布層を形成すると同時、又は（２）前記塗布液を塗布して形成される塗布層の乾燥途中であって該塗布層が減率乾燥を示す前のいずれかのときに、ｐＨ８以上の塩基性溶液を前記塗布層に付与することにより行なわれることを特徴とする＜１＞〜＜７＞のいずれか１項記載のインクジェット記録用シート。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明のインクジェット記録用シートは、色材受容層に実質的に水不溶性である上記（１）〜（６）から選ばれる一種又は二種以上の化合物を内包するマイクロカプセルを含むことを特徴とし、必要により、さらに、微粒子、水溶性樹脂、架橋剤及び媒染剤を含むものであってもよい。本明細書において、実質的に水不溶性の化合物とは、水１００ｃｃに対し０．１ｇ以上溶けない化合物を言う。
【００１６】
まず、実質的に水不溶性である（１）〜（６）の化合物について説明する。
なお、置換基を示す、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ等の記号は、（１）〜（６）の夫々の化合物において独立であり、同じ記号であっても、異なる化合物間では関係がない。
【００１７】
（１）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するトリアジン化合物
本発明に用いるアルケニル基及び／又はアルキニル基を有するトリアジン化合物としては、耐オゾン性の向上の観点より、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
【００１８】
【化１】
2004216685.tif 000002
【００１９】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１はアルケニル基及び／又はアルキニル基を表し、Ｘ１は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒ２とＲ３はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
【００２０】
Ｒ１で表されるアルケニル基としては、直鎖状、分岐状、及び環状のアルケニル基が挙げられ、また置換基を有するアルケニル基、無置換のアルケニル基のいずれであってもよい。該アルケニル基の炭素原子数としては、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分の好ましい炭素原子数の範囲についても、該アルケニル基の場合と同様である。
【００２１】
上記アルケニル基の具体例としては、ビニル基、プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、ドデセニル基、オクタデセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。
【００２２】
上記置換アルケニル基の置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、炭素数３０以下のアリール基（例えば、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、α−ナフチル基等）等が挙げられる。ここで、カルボキシル基及びヒドロキシ基、スルホ基は、塩を形成していてもよい。その際、該塩を形成するカチオンとしては、有機カチオン性化合物、或いは金属カチオン等が挙げられる。
【００２３】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１で表されるアルケニル基として好ましいものは、下記構造式（１）〜（１２）で示されるアルケニル基であり、この中でも特に、構造式（１）、（２）、（３）、（９）、及び（１０）の基が好ましく、（１）のアリル基が最も好ましい。
【００２４】
【化２】
2004216685.tif 000003
【００２５】
Ｒ１で表されるアルキニル基としては、直鎖状、分岐状、及び環状のアルキニル基が挙げられ、また置換基を有するアルキニル基、無置換アルキニル基のいずれであってもよい。該アルキニル基の炭素原子数としては、２〜３０が好ましく、特に２〜２０が好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分の炭素原子数の好ましい範囲についても、該アルキニル基の場合と同様である。
【００２６】
上記アルキニル基の具体例としては、エチニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、２−エチルヘキシニル基、デシニル基、ドデシニル基、オクタデシニル基、などが挙げられる。
置換アルキニル基の置換基としては、上述のアルケニル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００２７】
Ｘ１で表される２価の連結基としては、（１）酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子、（２）エーテル結合、チオエーテル結合、スルホニル結合、スルフィニル結合、アミノ結合、エステル結合、チオエステル結合、炭酸エステル結合、チオ炭酸エステル結合、ジチオ炭酸エステル結合、アミド結合、スルホンアミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、チオウレア結合等のヘテロ結合、及び（３）これらのヘテロ原子やヘテロ結合を有していてもよいアルキレン基等が挙げられる。
ここで、上記アルキレン基は鎖状であってもよく環状であってもよく、更に分岐を有していてもよく、置換基を有していてもよい。該アルキレン基の炭素原子数としては１〜１０が好ましく、１〜７のアルキレン基がより好ましく、特に１〜４のアルキレン基が好ましい。
【００２８】
一般式（Ｉ）において、Ｒ２とＲ３で表される置換基としては、トリアジン環に結合し得るいかなる置換基でもよい。
【００２９】
（一般式（ＩＩ）のトリアジン化合物）
本発明のインクジェット記録用シートにおいて、記録画像の耐オゾン性を更に向上させるために、アルケニル基及び／又はアルキニル基の少なくとも１種を有するトリアジン化合物として、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物がより好ましい。
【００３０】
【化３】
2004216685.tif 000004
【００３１】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ１はアルケニル基及び／又はアルキニル基を表し、Ｘ２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ６−、−Ｏ・ＣＯ−、−Ｏ・ＣＯＯ−、−Ｏ・ＣＯＮＲ７−を表し、Ｒ４とＲ５はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、ハロゲン原子、−ＮＲ８Ｒ９、−ＯＲ１０、−ＳＲ１１を表す。ここで該Ｒ６〜Ｒ１１はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基を表す。またＲ８とＲ９は互いに結合して環を形成してもよい。
【００３２】
Ｒ１で表されるアルケニル基及び／又はアルキニル基は、前述の一般式（Ｉ）におけるＲ１で表されるアルケニル基及び／又はアルキニル基と同義である。
【００３３】
Ｒ４とＲ５及びＲ６〜Ｒ１１が脂肪族基を表す場合、該脂肪族基としては、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基、置換アラルキル基等が挙げられ、中でも、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基が好ましく、特にアルケニル基、置換アルケニル基が最も好ましい。該脂肪族基は環状脂肪族基であっても、鎖状脂肪族基でもよく、分岐を有していてもよい。
【００３４】
Ｒ４とＲ５及びＲ６〜Ｒ１１で表される上記アルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基が挙げられ、該アルキル基の炭素原子数としては、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましい。該アルキル基は、置換基を有するアルキル基、無置換のアルキル基のいずれであってもよく、置換アルキル基のアルキル部分の炭素原子数の好ましい範囲については、無置換アルキル基の場合と同様である。
【００３５】
上記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ネオペンチル基、イソプロピル基、イゾブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。
【００３６】
上記置換アルキル基の置換基としては、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、ヒドロキシ基、炭素数３０以下のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアルキルスルホニルアミノカルボニル基（例えば、メチルスルホニルアミノカルボニル基、オクチルスルホニルアミノカルボニル基）、アリールスルホニルアミノカルボニル基（例えば、トルエンスルホニルアミノカルボニル基）、炭素数３０以下のアシルアミノスルホニル基（例えば、ベンゾイルアミノスルホニル基、アセチルアミノスルホニル基、ピバロイルアミノスルホニル基）、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアリールチオ基、アルキルチオ基（例えば、フェニルチオ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ドデシルチオ基等）、炭素数３０以下のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、１−ナフトキシ基、２−ナフトキシ基等）、ニトロ基、炭素数３０以下のアルキル基、アルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、ステアリルオキシカルボニルオキシ基、フェノキシエトキシカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、クロロフェノキシカルボニルオキシ基）；
【００３７】
炭素数３０以下のアシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基等）、炭素数３０以下のアルキルスルホニル基（例えばメチルスルホニル基、トルフルオロメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ドデシルスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基、ナフタレンスルホニル基、ピリジンスルホニル基、キノリンスルホニル基）、炭素数３０以下のアリール基（例えばフェニル基、ジクロロフェニル基、トルイル基、メトキシフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ｔ−オクチルフェニル基、ナフチル基）、置換アミノ基（例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アシルアミノ基等）、置換ホスホノ基（例えば、ホスホノ基、ジエチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基）、複素環式基（例えばピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフルフリル基、ピラゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソキノリル基、チアジアゾリル基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、インドリル基、イソインドリル基、チオモルホリノ基）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、ジメチルウレイド基、フェニルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（例えば、ジプロピルスルファモイルアミノ基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ基等）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、シリル基（例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ基等）等が挙げられる。
【００３８】
尚、上記のカルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基は、塩を形成していてもよい。その際、塩を形成するカチオンとしては、有機カチオン性化合物、遷移金属配位錯体カチオン（特許２７９１１４３号公報に記載の化合物等）又は金属カチオン（例えば、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ａｇ＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｕ＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋、Ａｌ３＋、１／２Ｃａ２＋等）が好ましい。
上記有機カチオン性化合物としては、例えば、４級アンモニウムカチオン、４級ピリジニウムカチオン、４級キノリニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、スルホニウムカチオン、色素カチオン等が挙げられる。
【００３９】
上記４級アンモニウムカチオンの具体例としては、テトラアルキルアンモニウムカチオン（例えば、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン）、テトラアリールアンモニウムカチオン（例えば、テトラフェニルアンモニウムカチオン）等が挙げられる。上記４級ピリジニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アリールピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アルコキシピリジニウムカチオン（例えば、４−フェニル−Ｎ−メトキシ−ピリジニウムカチオン）、Ｎ−ベンゾイルピリジニウムカチオン等が挙げられる。上記４級キノリニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルキノリニウムカチオン）、Ｎ−アリールキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルキノリニウムカチオン）等が挙げられる。上記ホスホニウムカチオンとしては、テトラアリールホスホニウムカチオン（例えば、テトラフェニルホスホニウムカチオン）等が挙げられる。上記ヨードニウムカチオンとしては、ジアリールヨードニウムカチオン（例えば、ジフェニルヨードニウムカチオン）等が挙げられる。上記スルホニウムカチオンとしては、トリアリールスルホニウムカチオン（例えば、トリフェニルスルホニウムカチオン）等が挙げられる。
【００４０】
更に、塩を形成するカチオンとして、特開平９−１８８６８６号公報の段落［００２０］〜［００３８］に記載の化合物等も挙げることができる。
【００４１】
Ｒ４とＲ５及びＲ６〜Ｒ１１で表される上記アルケニル基及びアルキニル基としては、前述のＲ１で表されるアルケニル基及びアルキニル基と同義である。
【００４２】
Ｒ４とＲ５及びＲ６〜Ｒ１１で表される上記アラルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアラルキル基が挙げられ、該アラルキル基の炭素原子数は７〜３５が好ましく、７〜２５がより好ましい。該アラルキル基は、置換基を有するアラルキル基、無置換のアラルキル基のいずれであってもよく、置換アラルキル基のアラルキル部分の炭素原子数の好ましい範囲は無置換アラルキル基の場合と同様である。
【００４３】
上記アラルキル基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、ジフェニルメチル基、シンナミル基等が挙げられる。置換アラルキル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００４４】
Ｒ４とＲ５及びＲ６〜Ｒ１１が芳香族基を表す場合、該芳香族基としては、例えば、アリール基、置換アリール基が挙げられる。該アリール基の炭素原子数としては、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましい。置換アリール基のアリール部分の好ましい炭素原子数の範囲は、アリール基と同様である。
【００４５】
上記アリール基の具体例としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、アントリル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、スチリル基等が挙げられる。置換アリール基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００４６】
Ｒ４とＲ５及びＲ６〜Ｒ１１が複素環式基を表す場合、該複素環式基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含む複素環式基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピラゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、キノリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソキノリル基、チアジアゾリル基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、インドリル基、イソインドリル基等が挙げられる。これら複素環式基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００４７】
Ｒ４とＲ５がハロゲン原子を表す場合、該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００４８】
Ｒ６〜Ｒ１１がアシル基を表す場合、該アシル基としては、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素環式アシル基等が挙げられる。該アシル基の炭素原子数は１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましい。置換アシル基のアシル部分の炭素原子数についても、同様の範囲が好ましい。
上記アシル基の具体例としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基、クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、１−メチルシクロプロピルカルボニル基、１−エチルシクロプロピルカルボニル基、１−ベンジルシクロプロピルカルボニル基、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、ピリジルカルボニル基、テノイル基等が挙げられる。
これらのアシル基は置換基を有していてもよい。置換アシル基の置換基としては、前述の置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００４９】
Ｒ６〜Ｒ１１がアルコキシカルボニル基を表す場合、該アルコキシカルボニル基としては、無置換アルコキシカルボニル基でも置換基を有するアルコキシカルボニル基でもよく、炭素原子数としては１〜１８が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜６が最も好ましい。
上記アルコキシカルボニル基の具体例としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げられ、中でもメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基が特に好ましい。
上記アルコキシカルボニル基が置換基を有する場合、該置換基としては、前述の置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００５０】
Ｒ６〜Ｒ１１がアリールオキシカルボニル基を表す場合、該アリールオキシカルボニル基としては、無置換アリールオキシカルボニル基でも置換基を有するアリールオキシカルボニル基であってもよい。
上記アリールオキシカルボニル基の具体例としては、例えば、フェニルオキシカルボニル基、α−ナフチルオキシカルボニル基、β−ナフチルオキシカルボニル基、トリルオキシカルボニル基、キシリルオキシカルボニル基、アントリルオキシカルボニル基、スチリルオキシ基等が挙げられる。
置換アリールオキシカルボニル基の置換基としては、前述の置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００５１】
Ｒ６〜Ｒ１１がカルバモイル基を表す場合、該カルバモイル基としては、置換基を有するカルバモイル基および無置換のカルバモイル基が挙げられ、該カルバモイル基の炭素原子数は１〜２０が好ましい。
上記カルバモイル基の具体例としては、例えば、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等が挙げられる。置換基を有するカルバモイル基の置換基としては、前述の置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００５２】
Ｒ６〜Ｒ１１がアルキルスルホニル基を表す場合、該アルキルスルホニル基としては、該アルキルスルホニル基としては、置換基を有するアルキルスルホニル基および無置換のアルキルスルホニル基が挙げられる。該アルキルスルホニル基の炭素原子数としては１〜２０が好ましい。
上記アルキルスルホニル基の具体例としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基等が挙げられる。置換基を有するアルキルスルホニル基の置換基としては、前述の置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００５３】
Ｒ６〜Ｒ１１がアリールスルホニル基を表す場合、該アリールスルホニル基としては、置換基を有するアリールスルホニル基および無置換のアリールスルホニル基が挙げられる。該アリールスルホニル基の炭素原子数としては６〜３０が好ましい。
上記アリールスルホニル基の具体例としては、例えば、フェニルスルホニル基、トルエンスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基、メトキシフェニルスルホニル基、アセチルアミノフェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられる。置換基を有するアリールスルホニル基の置換基としては、前述の置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００５４】
Ｒ６〜Ｒ１１がスルファモイル基を表す場合、該スルファモイル基としては、置換基を有するスルファモイル基および無置換のスルファモイル基が挙げられる。
該スルファモイル基の具体例としては、例えば、スルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、ジ（ヒドロキシエチル）スルファモイル基等が挙げられる。置換基を有するスルファモイル基の置換基としては、前述の置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００５５】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ８とＲ９が互いに結合して環を形成する場合、該環としては非金属原子群からなる５員環〜８員環が好ましい。該５員環〜８員環は置換基で置換されていてもよく、飽和環であっても不飽和結合を有していてもよい。上記非金属原子群としては、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましい。
上記５員環〜８員環の具体例としては、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、ピロリジン環、イミダゾール環等が挙げられる。また、これらの環が更に置換基を有する場合、該置換基としては前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００５６】
一般式（ＩＩ）において、Ｘ２で表される２価の連結基としては、耐オゾン性向上の観点から、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ６−の内の何れかであることが特に好ましい。
また、一般式（ＩＩ）のＲ４とＲ５で表される基の内の少なくとも１つは、耐オゾン性の改善効果に一層優れる点より、ハロゲン原子、−ＮＲ８Ｒ９、−ＯＲ１０、−ＳＲ１１の何れかであることが特に好ましい。
更に、一般式（ＩＩ）のＲ４とＲ５で表される基がそれぞれ独立に−ＮＲ８Ｒ９、−ＯＲ１０、−ＳＲ１１の何れかを表し、該Ｒ８〜Ｒ１１がそれぞれ独立に水素原子及び／又はアルケニル基及び／又はアルキニル基であることが、耐オゾン性の観点より最も好ましい。
【００５７】
本発明において、良好な溶解性を保持しながら耐オゾン性を向上させる為に、一般式（ＩＩ）中のアルケニル基及び／又はアルキニル基の炭素原子数は、１０以下であることが好ましく、該炭素原子数は７以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。
また、本発明のアルケニル基及び／又はアルキニル基の少なくとも１種を有するトリアジン化合物の質量平均分子量としては、５０００以下であることが好ましく、３０００以下であることがより好ましく、２０００以下であることが最も好ましい。該質量平均分子量が５０００を超えると、質量当りのオゾンとの反応部位（アルケニル基及び／又はアルキニル基）が少なくなるため、耐オゾン性の観点から好ましくない。但し、同一分子内に本発明の化合物（アルケニル基及び／又はアルキニル基の少なくとも１種を有するトリアジン化合物）を複数個有する場合には、本発明の化合物１分子当りの質量平均分子量が上記範囲に含まれていることが好ましい。
また、本発明のアルケニル基及び／又はアルキニル基の少なくとも１種を有するトリアジン化合物の置換基として、酸化防止剤或いは紫外線吸収剤等の効果を有するヒンダードアミン系化合物やヒンダードフェノール系化合物を同一分子内に有しているものも好ましい。
【００５８】
以下に、本発明のインクジェット記録用シートに含有される、アルケニル基及び／又はアルキニル基の少なくとも１種を有するトリアジン化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５９】
【化４】
2004216685.tif 000005
【００６０】
【化５】
2004216685.tif 000006
【００６１】
【化６】
2004216685.tif 000007
【００６２】
【化７】
2004216685.tif 000008
【００６３】
【化８】
2004216685.tif 000009
【００６４】
【化９】
2004216685.tif 000010
【００６５】
【化１０】
2004216685.tif 000011
【００６６】
【化１１】
2004216685.tif 000012
【００６７】
【化１２】
2004216685.tif 000013
【００６８】
【化１３】
2004216685.tif 000014
【００６９】
【化１４】
2004216685.tif 000015
【００７０】
【化１５】
2004216685.tif 000016
【００７１】
【化１６】
2004216685.tif 000017
【００７２】
本発明に係る上記トリアジン化合物の色材受容層中における質量含有量は、０．０１ｇ／ｍ２〜５．０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０５ｇ／ｍ２〜３．０ｇ／ｍ２がより好ましい。
【００７３】
（２）イソシアヌル酸及び／又はその誘導体
以下、本発明に用いるイソシアヌル酸及びその誘導体について詳細に説明する。
本発明に係るイソシアヌル酸及びその誘導体としては、下記一般式（２−１）で表されるものが好ましい。
【００７４】
【化１７】
2004216685.tif 000018
【００７５】
一般式（２−１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基、及びハロゲン原子を表し、これらは更に置換基を有していてもよい。
【００７６】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される炭素数１〜５のアルキル基としては、直鎖状、分岐状、若しくは環状のアルキル基であってよく、置換アルキル基であっても、無置換アルキル基であってもよい。
上記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イゾブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、等が挙げられる。
【００７７】
置換アルキル基である場合の置換基としては、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、ヒドロキシ基、炭素数３０以下のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアルキルスルホニルアミノカルボニル基（例えば、メチルスルホニルアミノカルボニル基、オクチルスルホニルアミノカルボニル基）、アリールスルホニルアミノカルボニル基（例えば、トルエンスルホニルアミノカルボニル基）、炭素数３０以下のアシルアミノスルホニル基（例えば、ベンゾイルアミノスルホニル基、アセチルアミノスルホニル基、ピバロイルアミノスルホニル基）、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアリールチオ基、アルキルチオ基（例えば、フェニルチオ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ドデシルチオ基等）、炭素数３０以下のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、１−ナフトキシ基、２−ナフトキシ基等）、ニトロ基、炭素数３０以下のアルキル基、アルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、ステアリルオキシカルボニルオキシ基、フェノキシエトキシカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、クロロフェノキシカルボニルオキシ基）；
【００７８】
炭素数３０以下のアシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基等）、炭素数３０以下のアルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、トルフルオロメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ドデシルスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基、ナフタレンスルホニル基、ピリジンスルホニル基、キノリンスルホニル基）、炭素数３０以下のアリール基（例えば、フェニル基、ジクロロフェニル基、トルイル基、メトキシフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ｔ−オクチルフェニル基、ナフチル基）、置換アミノ基（例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アシルアミノ基等）、置換ホスホノ基（例えば、ホスホノ基、ジエチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基）、複素環式基（例えば、ピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフルフリル基、ピラゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジニル基（例えば、シアヌル基、イソシアヌル基を含む）、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソキノリル基、チアジアゾリル基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、インドリル基、イソインドリル基、チオモルホリノ基）、スルファモイルアミノ基（例えば、ジプロピルスルファモイルアミノ基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ基等）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、シリル基（例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ基等）等が挙げられる。
【００７９】
なお、上記のカルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基は、塩を形成していてもよい。その際、塩を形成するカチオンとしては、有機カチオン性化合物、遷移金属配位錯体カチオン（特許第２７９１１４３号明細書に記載の化合物等）又は金属カチオン（例えば、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ａｇ＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｕ＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋、Ａｌ３＋、１／２Ｃａ２＋等）が好ましい。
上記有機カチオン性化合物としては、例えば、４級アンモニウムカチオン、４級ピリジニウムカチオン、４級キノリニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、スルホニウムカチオン、色素カチオン等が挙げられる。
【００８０】
上記４級アンモニウムカチオンの具体例としては、テトラアルキルアンモニウムカチオン（例えば、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン）、テトラアリールアンモニウムカチオン（例えば、テトラフェニルアンモニウムカチオン）等が挙げられる。上記４級ピリジニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アリールピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アルコキシピリジニウムカチオン（例えば、４−フェニル−Ｎ−メトキシ−ピリジニウムカチオン）、Ｎ−ベンゾイルピリジニウムカチオン等が挙げられる。上記４級キノリニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルキノリニウムカチオン）、Ｎ−アリールキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルキノリニウムカチオン）等が挙げられる。上記ホスホニウムカチオンとしては、テトラアリールホスホニウムカチオン（例えば、テトラフェニルホスホニウムカチオン）等が挙げられる。上記ヨードニウムカチオンとしては、ジアリールヨードニウムカチオン（例えば、ジフェニルヨードニウムカチオン）等が挙げられる。上記スルホニウムカチオンとしては、トリアリールスルホニウムカチオン（例えば、トリフェニルスルホニウムカチオン）等が挙げられる。
【００８１】
更に、塩を形成するカチオンとして、特開平９−１８８６８６号公報の段落［００２０］〜［００３８］に記載の化合物等も挙げることができる。
【００８２】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアルケニル基としては、直鎖状、分岐状、及び環状のアルケニル基が挙げられる。該アルケニル基の炭素数としては、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましい。また、置換アルケニル基、無置換アルケニル基のいずれであってもよく、置換アルケニル基である場合のアルケニル部分の好ましい炭素数の範囲は、無置換アルケニル基である場合と同様である。
【００８３】
上記アルケニル基の具体例としては、ビニル基、プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、ドデセニル基、オクタデセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。
【００８４】
置換アルケニル基である場合の置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、炭素数３０以下のアリール基（例えば、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、α−ナフチル基等）等が挙げられる。ここで、カルボキシル基及びヒドロキシ基、スルホ基は、塩を形成していてもよい。その際、該塩を形成するカチオンとしては、有機カチオン性化合物、或いは金属カチオン等が挙げられる。
【００８５】
一般式（２−１）において、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるで表されるアルケニル基として好ましいものは、下記構造式（１）〜（１２）で示されるアルケニル基であり、この中でも特に、構造式（１）、（２）、（３）、（９）、及び（１０）の基が好ましく、（１）のアリル基、及び（１０）の２−メチルアリル基が最も好ましい。
【００８６】
【化１８】
2004216685.tif 000019
【００８７】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるで表されるアルキニル基としては、直鎖状、分岐状、及び環状のアルキニル基が挙げられる。該アルキニル基の炭素数としては、２〜３０が好ましく、特に２〜２０が好ましい。また、置換アルキニル基、無置換アルキニル基のいずれであってもよく、置換アルキニル基である場合のアルキニル部分の炭素数の好ましい範囲は、無置換アルキニル基である場合と同様である。
【００８８】
上記アルキニル基の具体例としては、エチニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、２−エチルヘキシニル基、デシニル基、ドデシニル基、オクタデシニル基、などが挙げられる。
置換アルキニル基である場合の置換基としては、前記置換アルケニル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００８９】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアラルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアラルキル基が挙げられる。該アラルキル基の炭素数としては、７〜３５が好ましく、７〜２５がより好ましく、７〜１０が特に好ましい。また、置換アラルキル基、無置換アラルキル基のいずれであってもよく、置換アラルキル基である場合のアラルキル部分の炭素数の好ましい範囲は、無置換アラルキル基である場合と同様である。
【００９０】
上記アラルキル基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、ジフェニルメチル基、シンナミル基等が挙げられる。置換アラルキル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００９１】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアリール基としては、置換アリール基、無置換アリール基のいずれであってもよく、炭素数としては、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１０が特に好ましい。また、置換アリール基である場合のアリール部分の好ましい炭素数の範囲は、無置換アリール基である場合と同様である。
【００９２】
上記アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、アントリル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、スチリル基等が挙げられる。置換アリール基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００９３】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアルキルオキシカルボニル基におけるアルキル部分は、前記アルキル基の場合と同義であり好ましい範囲も同様である。
上記アルキルオキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等が挙げられ、中でもメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基が特に好ましい。
上記アルキルオキシカルボニル基が置換基を有する場合、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００９４】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアラルキルオキシカルボニル基におけるアラルキル部分は、前記アラルキル基の場合と同義であり好ましい範囲も同様である。
上記アラルキルオキシカルボニル基が置換基を有する場合、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００９５】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアリールオキシカルボニル基におけるアリール部分は、前記アリール基の場合と同義であり好ましい範囲も同様である。
上記アリールオキシカルボニル基の具体例としては、例えば、フェニルオキシカルボニル基、α−ナフチルオキシカルボニル基、β−ナフチルオキシカルボニル基、トリルオキシカルボニル基、キシリルオキシカルボニル基、アントリルオキシカルボニル基、スチリルオキシ基等が挙げられる。
上記アリールオキシカルボニル基が置換基を有する場合、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００９６】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアシル基としては、アルキルカルボニル基、アラルキルカルボニル基、又はアリールカルボニル基が挙げられる。
上記アルキルカルボニル基におけるアルキル部分は、前記アルキル基の場合と同義であり好ましい範囲も同様である。
上記アルキルカルボニル基の具体例としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基、クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、１−メチルシクロプロピルカルボニル基、１−エチルシクロプロピルカルボニル基等が挙げられる。
上記アルキルカルボニル基が置換基を有する場合、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００９７】
上記アラルキルカルボニル基おけるアラルキル部分は、前記アラルキル基の場合と同義であり好ましい範囲も同様である。
上記アラルキルカルボニル基が置換基を有する場合、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００９８】
上記アリールカルボニル基におけるアリール部分は、前記アリール基の場合と同義であり好ましい範囲も同様である。
上記アリールカルボニル基が置換基を有する場合、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００９９】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアルキルアミノ基におけるアルキル部分は、前記アルキル基の場合と同義であり好ましい範囲も同様である。
上記アルキルアミノ基が置換基を有する場合、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１００】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアラルキルアミノ基におけるアラルキル部分は、前記アラルキル基の場合と同義であり好ましい範囲も同様である。
上記アラルキルアミノ基が置換基を有する場合、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１０１】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアリールアミノ基におけるアラルキル部分は、前記アラルキル基の場合と同義であり好ましい範囲も同様である。
上記アリールアミノ基が置換基を有する場合、該置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１０２】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【０１０３】
本発明においては、一般式（２−１）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つが、アルケニル基又はアルキニル基であることが好ましい。また、該アルケニル基又はアルキニル基の炭素数としては、良好な溶解性を保持しながら耐オゾン性を向上させる観点から、１０以下であることが好ましく、７以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。
【０１０４】
また、本発明においては、耐光性向上の観点から、一般式（２−１）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つが水素原子であることが好ましい。
【０１０５】
さらに、イソシアヌル酸そのもの（一般式（２−１）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３が総て水素原子である場合）は溶解性が低い場合もあるため、色材受容層中に含有させるにあたっては、置換基を導入して水や溶剤に対する溶解性を向上させたイソシアヌル酸誘導体であることがより好ましい。
【０１０６】
本発明に係る一般式（２−１）で表されるイソシアヌル酸誘導体の重量平均分子量としては、５０００以下であることが好ましく、３０００以下であることがより好ましく、２０００以下であることが最も好ましい。該重量平均分子量が５０００を超えると、質量当りのオゾンとの反応部位が少なくなるため、耐オゾン性の観点から好ましくない。
なお、同一分子内に、一般式（２−１）で表されるイソシアヌル酸誘導体を複数個有する場合には、該イソシアヌル酸誘導体１分子当りの重量平均分子量が上記範囲に含まれていることが好ましい。
また、本発明における一般式（２−１）で表されるイソシアヌル酸誘導体の置換基としては、酸化防止剤或いは紫外線吸収剤等の効果を有するヒンダードアミン系化合物やヒンダードフェノール系化合物を同一分子内に有しているものも好ましい。
【０１０７】
以下に、本発明のインクジェット記録用シートに含有される、一般式（２−１）で表されるイソシアヌル酸誘導体の好ましい具体例（例示化合物（１）〜（５１））を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０８】
【化１９】
2004216685.tif 000020
【０１０９】
【化２０】
2004216685.tif 000021
【０１１０】
【化２１】
2004216685.tif 000022
【０１１１】
【化２２】
2004216685.tif 000023
【０１１２】
【化２３】
2004216685.tif 000024
【０１１３】
【化２４】
2004216685.tif 000025
【０１１４】
本発明に係るイソシアヌル酸及び／又はその誘導体の色材受容層中における含有量は、０．０１ｇ／ｍ２〜５．０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０５ｇ／ｍ２〜３．０ｇ／ｍ２がより好ましい。
【０１１５】
本発明に係るイソシアヌル酸及び／又はその誘導体は、１種単独で用いても２種以上を併用して用いてもよい。また、公知の他の種類の耐オゾン性改良剤と併用してもよい。
【０１１６】
（３）アルケニル基及び／又はアルキニル基を有するリン酸誘導体
以下、本発明で用いるアルケニル基及び／又はアルキニル基を有するリン酸誘導体について詳細に説明する。
本発明に係るアルケニル基及び／又はアルキニル基の少なくとも１種を有するリン酸誘導体は、アルケニル基及びアルキニル基から選ばれる１種又は二種以上をその分子構造内に導入したリン酸誘導体である。
上記アルケニル基又はアルキニル基の炭素数としては、良好な溶解性を保持しながら耐オゾン性を向上させる観点からは、１０以下であることが好ましく、７以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。
また、本発明に係るリン酸誘導体としては、本発明の効果を損なわない範囲で、アルケニル基又はアルキニル基以外の置換基を有していてもよく、また該アルケニル基又はアルキニル基自体も他の任意の置換基を有していてもよい。また、ビス型やオリゴマー型のリン酸誘導体であってもよい。
本発明のインクジェット記録シートにおいては、アルケニル基及び／又はアルキニル基を導入したリン酸誘導体をその色材受像層に含有することにより、充分長期に亙り耐オゾン性を向上させ、且つ紙面の着色（黄変）を抑制するという優れた効果が発揮される。
【０１１７】
本発明に係るアルケニル基及び／又はアルキニル基を有するリン酸誘導体としては、下記一般式（３−１）で表されるものが好ましい。
【０１１８】
【化２５】
2004216685.tif 000026
【０１１９】
一般式（３−１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、
アルカリ金属原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基を表す。但し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つは、アルケニル基又はアルキニル基である。Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ４−を表す。Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、又はアリール基を表す。
【０１２０】
以下、一般式（３−１）について詳細に説明する。
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアルケニル基としては、直鎖状、分岐状、及び環状のアルケニル基が挙げられる。該アルケニル基の炭素数としては、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましい。また、置換アルケニル基、無置換アルケニル基のいずれであってもよく、置換アルケニル基である場合のアルケニル部分の好ましい炭素数の範囲は、無置換アルケニル基である場合と同様である。
【０１２１】
上記アルケニル基の具体例としては、ビニル基、プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、ドデセニル基、オクタデセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。
【０１２２】
置換アルケニル基である場合の置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、炭素数３０以下のアリール基（例えば、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、α−ナフチル基等）等が挙げられる。ここで、カルボキシル基及びヒドロキシ基、スルホ基は、塩を形成していてもよい。その際、該塩を形成するカチオンとしては、有機カチオン性化合物、或いは金属カチオン等が挙げられる。
【０１２３】
一般式（３−１）において、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアルケニル基として好ましいものは、下記構造式（１）〜（１２）で示されるアルケニル基であり、この中でも特に、構造式（１）、（２）、（３）、（９）、及び（１０）の基が好ましく、（１）のアリル基、及び（１０）の２−メチルアリル基が最も好ましい。
【０１２４】
【化２６】
2004216685.tif 000027
【０１２５】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるで表されるアルキニル基としては、直鎖状、分岐状、及び環状のアルキニル基が挙げられる。該アルキニル基の炭素数としては、２〜３０が好ましく、特に２〜２０が好ましい。また、置換アルキニル基、無置換アルキニル基のいずれであってもよく、置換アルキニル基である場合のアルキニル部分の炭素数の好ましい範囲は、無置換アルキニル基である場合と同様である。
【０１２６】
上記アルキニル基の具体例としては、エチニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、２−エチルヘキシニル基、デシニル基、ドデシニル基、オクタデシニル基、などが挙げられる。
置換アルキニル基である場合の置換基としては、前記置換アルケニル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１２７】
本発明においては、一般式（３−１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つが、上述したアルケニル基又はアルキニル基であることを要する。また、該アルケニル基又はアルキニル基の炭素数としては、良好な溶解性を保持しながら耐オゾン性を向上させる観点からは、１０以下であることが好ましく、７以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。
【０１２８】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐状、若しくは環状のアルキル基であってよく、該アルキル基の炭素数としては、１〜３０が好ましく、１〜１０がより好ましい。該アルキル基は、置換基を有するアルキル基、無置換のアルキル基のいずれであってもよく、置換アルキル基のアルキル部分の炭素数の好ましい範囲については、無置換アルキル基の場合と同様である。
【０１２９】
上記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ネオペンチル基、イソプロピル基、イゾブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。
【０１３０】
置換アルキル基である場合の置換基としては、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、ヒドロキシ基、炭素数３０以下のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアルキルスルホニルアミノカルボニル基（例えば、メチルスルホニルアミノカルボニル基、オクチルスルホニルアミノカルボニル基）、アリールスルホニルアミノカルボニル基（例えば、トルエンスルホニルアミノカルボニル基）、炭素数３０以下のアシルアミノスルホニル基（例えば、ベンゾイルアミノスルホニル基、アセチルアミノスルホニル基、ピバロイルアミノスルホニル基）、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアリールチオ基、アルキルチオ基（例えば、フェニルチオ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ドデシルチオ基等）、炭素数３０以下のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、１−ナフトキシ基、２−ナフトキシ基等）、ニトロ基、炭素数３０以下のアルキル基、アルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、ステアリルオキシカルボニルオキシ基、フェノキシエトキシカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、クロロフェノキシカルボニルオキシ基）；
【０１３１】
炭素数３０以下のアシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基等）、炭素数３０以下のアルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、トルフルオロメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ドデシルスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基、ナフタレンスルホニル基、ピリジンスルホニル基、キノリンスルホニル基）、炭素数３０以下のアリール基（例えば、フェニル基、ジクロロフェニル基、トルイル基、メトキシフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ｔ−オクチルフェニル基、ナフチル基）、置換アミノ基（例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アシルアミノ基等）、置換ホスホノ基（例えば、ホスホノ基、ジエチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基）、複素環式基（例えば、ピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフルフリル基、ピラゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジニル基（例えば、シアヌル基、イソシアヌル基を含む）、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソキノリル基、チアジアゾリル基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、インドリル基、イソインドリル基、チオモルホリノ基）、スルファモイルアミノ基（例えば、ジプロピルスルファモイルアミノ基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ基等）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、シリル基（例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ基等）等が挙げられる。
【０１３２】
なお、上記のカルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基は、塩を形成していてもよい。その際、塩を形成するカチオンとしては、有機カチオン性化合物、遷移金属配位錯体カチオン（特許第２７９１１４３号明細書に記載の化合物等）又は金属カチオン（例えば、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ａｇ＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｕ＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋、Ａｌ３＋、１／２Ｃａ２＋等）が好ましい。
上記有機カチオン性化合物としては、例えば、４級アンモニウムカチオン、４級ピリジニウムカチオン、４級キノリニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、スルホニウムカチオン、色素カチオン等が挙げられる。
【０１３３】
上記４級アンモニウムカチオンの具体例としては、テトラアルキルアンモニウムカチオン（例えば、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン）、テトラアリールアンモニウムカチオン（例えば、テトラフェニルアンモニウムカチオン）等が挙げられる。上記４級ピリジニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アリールピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アルコキシピリジニウムカチオン（例えば、４−フェニル−Ｎ−メトキシ−ピリジニウムカチオン）、Ｎ−ベンゾイルピリジニウムカチオン等が挙げられる。上記４級キノリニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルキノリニウムカチオン）、Ｎ−アリールキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルキノリニウムカチオン）等が挙げられる。上記ホスホニウムカチオンとしては、テトラアリールホスホニウムカチオン（例えば、テトラフェニルホスホニウムカチオン）等が挙げられる。上記ヨードニウムカチオンとしては、ジアリールヨードニウムカチオン（例えば、ジフェニルヨードニウムカチオン）等が挙げられる。上記スルホニウムカチオンとしては、トリアリールスルホニウムカチオン（例えば、トリフェニルスルホニウムカチオン）等が挙げられる。
【０１３４】
更に、塩を形成するカチオンとして、特開平９−１８８６８６号公報の段落［００２０］〜［００３８］に記載の化合物等も挙げることができる。
【０１３５】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアラルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアラルキル基が挙げられる。該アラルキル基の炭素数としては、７〜３５が好ましく、７〜２５がより好ましく、７〜１０が特に好ましい。また、置換アラルキル基、無置換アラルキル基のいずれであってもよく、置換アラルキル基である場合のアラルキル部分の炭素数の好ましい範囲は、無置換アラルキル基である場合と同様である。
【０１３６】
上記アラルキル基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、ジフェニルメチル基、シンナミル基等が挙げられる。置換アラルキル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１３７】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアリール基としては、置換アリール基、無置換アリール基のいずれであってもよく、炭素数としては、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１０が特に好ましい。また、置換アリール基である場合のアリール部分の好ましい炭素数の範囲は、無置換アリール基である場合と同様である。
【０１３８】
上記アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、アントリル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、スチリル基等が挙げられる。置換アリール基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１３９】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表されるアルカリ金属原子としては、ナトリウム原子等が挙げられる。
【０１４０】
前記Ｘ１、Ｘ２及びＸ３が−ＮＲ４−を表す場合、Ｒ４で表されるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、又はアリール基は、前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３におけるものと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０１４１】
本発明に係る一般式（３−１）で表されるリン酸誘導体の重量平均分子量としては、５０００以下であることが好ましく、３０００以下であることがより好ましく、２０００以下であることが最も好ましい。該重量平均分子量が５０００を超えると、質量当りのオゾンとの反応部位が少なくなるため、耐オゾン性の観点から好ましくない。
なお、同一分子内に、一般式（３−１）で表されるリン酸誘導体を複数個有する場合には、該リン酸誘導体１分子当りの重量平均分子量が上記範囲に含まれていることが好ましい。
また、本発明における一般式（３−１）で表されるリン酸誘導体の置換基としては、酸化防止剤或いは紫外線吸収剤等の効果を有するヒンダードアミン系化合物やヒンダードフェノール系化合物を同一分子内に有しているものも好ましい。
【０１４２】
以下に、本発明のインクジェット記録用シートに含有される、一般式（３−１）で表されるリン酸誘導体の好ましい具体例（例示化合物（１）〜（４２））を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４３】
【化２７】
2004216685.tif 000028
【０１４４】
【化２８】
2004216685.tif 000029
【０１４５】
【化２９】
2004216685.tif 000030
【０１４６】
【化３０】
2004216685.tif 000031
【０１４７】
本発明に係るリン酸誘導体の色材受容層中における含有量は、０．０１ｇ／ｍ２〜５．０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０５ｇ／ｍ２〜３．０ｇ／ｍ２がより好ましい。
【０１４８】
本発明に係るリン酸誘導体は、１種単独で用いても２種以上を併用して用いてもよい。また、公知の他の種類の耐オゾン性改良剤と併用してもよい。
【０１４９】
（４）アルケニルオキシカルボニル基及び／又はアルキニルオキシカルボニル基を有するカルボン酸エステル化合物
本発明に係るアルケニルオキシカルボニル基及び／又はアルキニルオキシカルボニル基を有するカルボン酸エステル化合物は、アルケニルオキシカルボニル基及びアルキニルオキシカルボニル基から選ばれる１種又は２種以上をその分子構造内に導入したカルボン酸エステル化合物である。
【０１５０】
上記アルケニルオキシカルボニル基におけるアルケニル部分の炭素数、又は、アルキニルオキシカルボニル基におけるアルキニル部分の炭素数としては、良好な溶解性を保持しながら耐オゾン性を向上させる観点からは、１０以下であることが好ましく、７以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。
【０１５１】
また、本発明に係るカルボン酸エステル化合物としては、本発明の効果を損なわない範囲で、アルケニル基又はアルキニル基以外の置換基を有していてもよく、該アルケニル基又はアルキニル基自体も他の任意の置換基を有していてもよい。また、ビス型やオリゴマー型のカルボン酸エステル化合物であってもよい。
【０１５２】
本発明のインクジェット記録シートにおいては、アルケニルオキシカルボニル基及び／又はアルキニルオキシカルボニル基を有するカルボン酸エステル化合物を、その色材受像層に含有することにより、充分長期に亙り耐オゾン性を向上させ、且つ紙面の着色（黄変）を抑制するという優れた効果が発揮される。
【０１５３】
本発明に係るアルケニルオキシカルボニル基及び／又はアルキニルオキシカルボニル基を有するカルボン酸エステル化合物としては、下記一般式（４−１）で表されるものが好ましい。
【０１５４】
【化３１】
2004216685.tif 000032
【０１５５】
一般式（４−１）中、Ａは、アルケニルオキシカルボニル基及び／又はアルキニルオキシカルボニル基と共にカルボン酸エステルを構成する基を表す。ｎは１以上の整数を表す。
ｎが１の場合、Ｒは、アルケニル基又はアルキニル基を表す。
ｎが２以上の場合、複数存在するＲは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、又はアリール基を表す。但し、複数存在するＲの少なくとも１つは、アルケニル基又はアルキニル基を表す。
【０１５６】
一般式（４−１）について詳細に説明する。
前記Ａは、アルケニルオキシカルボニル基及び／又はアルキニルオキシカルボニル基と共にカルボン酸エステルを構成する基を表し、脂肪族基又は芳香族基であることが好ましい。
【０１５７】
また、前記Ａが芳香族基である場合、一般式（４−１）で表されるカルボン酸エステル化合物は、二量体、或いは任意の連結基を介して連結されていてもよい。該任意の連結基としては、例えば、−Ｏ−、−ＳＯ２−等が挙げられる。
【０１５８】
前記ｎは１以上の整数を表し、１〜６であることがより好ましい。
【０１５９】
既述のごとく、本発明係るカルボン酸エステル化合物は、その構造中にアルケニルオキシカルボニル基及び／又はアルキニルオキシカルボニル基を有することを要する。従って、一般式（４−１）において、ｎが１である場合、Ｒは、アルケニル基又はアルキニル基を表ことを要する。また、ｎが２以上の場合、複数存在するＲは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、又はアリール基を表すが、複数存在するＲの少なくとも１つは、アルケニル基又はアルキニル基であることを要する。
【０１６０】
前記Ｒで表されるアルケニル基としては、直鎖状、分岐状、及び環状のアルケニル基が挙げられる。該アルケニル基の炭素数としては、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましい。また、置換アルケニル基、無置換アルケニル基のいずれであってもよく、置換アルケニル基である場合のアルケニル部分の好ましい炭素数の範囲は、無置換アルケニル基である場合と同様である。
【０１６１】
上記アルケニル基の具体例としては、ビニル基、プロペニル基、アリル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、ドデセニル基、オクタデセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられる。
【０１６２】
置換アルケニル基である場合の置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、炭素数３０以下のアリール基（例えば、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、α−ナフチル基等）等が挙げられる。ここで、カルボキシル基及びヒドロキシ基、スルホ基は、塩を形成していてもよい。その際、該塩を形成するカチオンとしては、有機カチオン性化合物、或いは金属カチオン等が挙げられる。
【０１６３】
一般式（４−１）において、Ｒで表されるアルケニル基として好ましいものは、下記構造式（１）〜（１２）で示されるアルケニル基であり、この中でも特に、構造式（１）、（２）、（３）、（９）、及び（１０）の基が好ましく、（１）のアリル基、及び（１０）の２−メチルアリル基が最も好ましい。
【０１６４】
【化３２】
2004216685.tif 000033
【０１６５】
前記Ｒで表されるで表されるアルキニル基としては、直鎖状、分岐状、及び環状のアルキニル基が挙げられる。該アルキニル基の炭素数としては、２〜３０が好ましく、特に２〜２０が好ましい。また、置換アルキニル基、無置換アルキニル基のいずれであってもよく、置換アルキニル基である場合のアルキニル部分の炭素数の好ましい範囲は、無置換アルキニル基である場合と同様である。
【０１６６】
上記アルキニル基の具体例としては、エチニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、２−エチルヘキシニル基、デシニル基、ドデシニル基、オクタデシニル基、などが挙げられる。
置換アルキニル基である場合の置換基としては、前記置換アルケニル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１６７】
また、上記アルケニル基又はアルキニル基の炭素数としては、良好な溶解性を保持しながら耐オゾン性を向上させる観点からは、１０以下であることが好ましく、７以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。
【０１６８】
前記Ｒで表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐状、若しくは環状のアルキル基であってよく、該アルキル基の炭素数としては、１〜３０が好ましく、１〜１０がより好ましい。該アルキル基は、置換基を有するアルキル基、無置換のアルキル基のいずれであってもよく、置換アルキル基のアルキル部分の炭素数の好ましい範囲については、無置換アルキル基の場合と同様である。
【０１６９】
置換アルキル基である場合の置換基としては、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、ヒドロキシ基、炭素数３０以下のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアルキルスルホニルアミノカルボニル基（例えば、メチルスルホニルアミノカルボニル基、オクチルスルホニルアミノカルボニル基）、アリールスルホニルアミノカルボニル基（例えば、トルエンスルホニルアミノカルボニル基）、炭素数３０以下のアシルアミノスルホニル基（例えば、ベンゾイルアミノスルホニル基、アセチルアミノスルホニル基、ピバロイルアミノスルホニル基）、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアリールチオ基、アルキルチオ基（例えば、フェニルチオ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ドデシルチオ基等）、炭素数３０以下のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、１−ナフトキシ基、２−ナフトキシ基等）、ニトロ基、炭素数３０以下のアルキル基、アルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、ステアリルオキシカルボニルオキシ基、フェノキシエトキシカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、クロロフェノキシカルボニルオキシ基）；
【０１７０】
炭素数３０以下のアシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基等）、炭素数３０以下のアルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、トルフルオロメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ドデシルスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基、ナフタレンスルホニル基、ピリジンスルホニル基、キノリンスルホニル基）、炭素数３０以下のアリール基（例えば、フェニル基、ジクロロフェニル基、トルイル基、メトキシフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ｔ−オクチルフェニル基、ナフチル基）、置換アミノ基（例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アシルアミノ基等）、置換ホスホノ基（例えば、ホスホノ基、ジエチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基）、複素環式基（例えば、ピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフルフリル基、ピラゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジニル基（例えば、シアヌル基、イソシアヌル基を含む）、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソキノリル基、チアジアゾリル基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、インドリル基、イソインドリル基、チオモルホリノ基）、スルファモイルアミノ基（例えば、ジプロピルスルファモイルアミノ基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ基等）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、シリル基（例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ基等）等が挙げられる。
【０１７１】
なお、上記のカルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基は、塩を形成していてもよい。その際、塩を形成するカチオンとしては、有機カチオン性化合物、遷移金属配位錯体カチオン（特許第２７９１１４３号明細書に記載の化合物等）又は金属カチオン（例えば、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ａｇ＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｕ＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋、Ａｌ３＋、１／２Ｃａ２＋等）が好ましい。
上記有機カチオン性化合物としては、例えば、４級アンモニウムカチオン、４級ピリジニウムカチオン、４級キノリニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、スルホニウムカチオン、色素カチオン等が挙げられる。
【０１７２】
上記４級アンモニウムカチオンの具体例としては、テトラアルキルアンモニウムカチオン（例えば、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン）、テトラアリールアンモニウムカチオン（例えば、テトラフェニルアンモニウムカチオン）等が挙げられる。上記４級ピリジニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アリールピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アルコキシピリジニウムカチオン（例えば、４−フェニル−Ｎ−メトキシ−ピリジニウムカチオン）、Ｎ−ベンゾイルピリジニウムカチオン等が挙げられる。上記４級キノリニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルキノリニウムカチオン）、Ｎ−アリールキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルキノリニウムカチオン）等が挙げられる。上記ホスホニウムカチオンとしては、テトラアリールホスホニウムカチオン（例えば、テトラフェニルホスホニウムカチオン）等が挙げられる。上記ヨードニウムカチオンとしては、ジアリールヨードニウムカチオン（例えば、ジフェニルヨードニウムカチオン）等が挙げられる。上記スルホニウムカチオンとしては、トリアリールスルホニウムカチオン（例えば、トリフェニルスルホニウムカチオン）等が挙げられる。
【０１７３】
更に、塩を形成するカチオンとして、特開平９−１８８６８６号公報の段落［００２０］〜［００３８］に記載の化合物等も挙げることができる。
【０１７４】
前記Ｒで表されるアラルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアラルキル基が挙げられる。該アラルキル基の炭素数としては、７〜３５が好ましく、７〜２５がより好ましく、７〜１０が特に好ましい。また、置換アラルキル基、無置換アラルキル基のいずれであってもよく、置換アラルキル基である場合のアラルキル部分の炭素数の好ましい範囲は、無置換アラルキル基である場合と同様である。
【０１７５】
上記アラルキル基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、ジフェニルメチル基、シンナミル基等が挙げられる。置換アラルキル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１７６】
前記Ｒで表されるアリール基としては、置換アリール基、無置換アリール基のいずれであってもよく、炭素数としては、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１０が特に好ましい。また、置換アリール基である場合のアリール部分の好ましい炭素数の範囲は、無置換アリール基である場合と同様である。
【０１７７】
上記アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、アントリル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、スチリル基等が挙げられる。置換アリール基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１７８】
本発明において、一般式（４−１）で表されるカルボン酸エステル化合物としては、水溶性の確保及び製造適性の観点から、前記ｎが２以上であり、かつ前記Ｒの少なくとも１つが水素原子であることが特に好ましい。
【０１７９】
本発明に係る一般式（４−１）で表されるカルボン酸エステル化合物の重量平均分子量としては、５０００以下であることが好ましく、３０００以下であることがより好ましく、２０００以下であることが最も好ましい。該重量平均分子量が５０００を超えると、質量当りのオゾンとの反応部位が少なくなるため、耐オゾン性の観点から好ましくない。
なお、同一分子内に、一般式（４−１）で表されるカルボン酸エステル化合物を複数個有する場合には、該カルボン酸エステル化合物１分子当りの重量平均分子量が上記範囲に含まれていることが好ましい。
また、本発明における一般式（４−１）で表されるカルボン酸エステル化合物の置換基としては、酸化防止剤或いは紫外線吸収剤等の効果を有するヒンダードアミン系化合物やヒンダードフェノール系化合物を同一分子内に有しているものも好ましい。
【０１８０】
以下に、本発明のインクジェット記録用シートに含有される、一般式（４−１）で表されるカルボン酸エステル化合物の好ましい具体例（例示化合物（１）〜（４３））を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１８１】
【化３３】
2004216685.tif 000034
【０１８２】
【化３４】
2004216685.tif 000035
【０１８３】
【化３５】
2004216685.tif 000036
【０１８４】
【化３６】
2004216685.tif 000037
【０１８５】
【化３７】
2004216685.tif 000038
【０１８６】
本発明に係るカルボン酸エステル化合物の色材受容層中における含有量は、
０．０１ｇ／ｍ２〜５．０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０５ｇ／ｍ２〜３．０ｇ／ｍ２がより好ましい。
【０１８７】
（５）フェノール系化合物
本発明で用いるフェノール系化合物としては、次の一般式（５−１）〜（５−６）で表されるものが好ましい。これらは１種でも２種以上を混合して用いても良い。
＜一般式（５−１）で表される化合物＞
上記色材受容層に含まれる下記一般式（５−１）で表される化合物について説明する。
【０１８８】
【化３８】
2004216685.tif 000039
【０１８９】
一般式（５−１）中、Ｒ１〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、ハロゲン原子、−ＯＲ１１、−ＣＯ２Ｒ１２または−ＣＯＮ（Ｒ１３）Ｒ１４を表し、水素原子、脂肪族基、−ＯＲ１１が好ましい。
上記Ｒ１〜Ｒ８が脂肪族基を表す場合、該脂肪族基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基等が挙げられ、これらの基は更に置換基を有していてもよい。この中でも、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アラルキル基、置換アラルキル基が好ましく、特にアルキル基と置換アルキル基が好ましい。
また、上記脂肪族基は、鎖状脂肪族基でも環状脂肪族基でもよく、鎖状脂肪族基は更に分岐を有していてもよい。
【０１９０】
上記脂肪族基における上記アルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基が挙げられ、該アルキル基の炭素原子数としては、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましい。置換アルキル基のアルキル部分の炭素原子数についても、上記の範囲が好ましい。
上記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ネオペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。
【０１９１】
上記置換アルキル基の置換基としては、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、ヒドロキシ基、炭素数３０以下のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアルキルスルホニルアミノカルボニル基（例えば、メチルスルホニルアミノカルボニル基、オクチルスルホニルアミノカルボニル基）、アリールスルホニルアミノカルボニル基（例えば、トルエンスルホニルアミノカルボニル基）、炭素数３０以下のアシルアミノスルホニル基（例えば、ベンゾイルアミノスルホニル基、アセチルアミノスルホニル基、ピバロイルアミノスルホニル基）、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアリールチオ基、アルキルチオ基（例えば、フェニルチオ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ドデシルチオ基等）、炭素数３０以下のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、１−ナフトキシ基、２−ナフトキシ基等）、ニトロ基、炭素数３０以下のアルキル基、アルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、ステアリルオキシカルボニルオキシ基、フェノキシエトキシカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、クロロフェノキシカルボニルオキシ基）；
【０１９２】
炭素数３０以下のアシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基等）、炭素数３０以下のアルキルスルホニル基（例えばメチルスルホニル基、トルフルオロメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ドデシルスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基、ナフタレンスルホニル基、ピリジンスルホニル基、キノリンスルホニル基）、炭素数３０以下のアリール基（例えばフェニル基、ジクロロフェニル基、トルイル基、メトキシフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ｔ−オクチルフェニル基、ナフチル基）、置換アミノ基（例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アシルアミノ基等）、置換ホスホノ基（例えば、ホスホノ基、ジエチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基）、複素環式基（例えばピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフルフリル基、ピラゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソキノリル基、チアジアゾリル基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、インドリル基、イソインドリル基、チオモルホリノ基）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、ジメチルウレイド基、フェニルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（例えば、ジプロピルスルファモイルアミノ基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ基等）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、シリル基（例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ基等）等が挙げられる。
【０１９３】
尚、上記のカルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基は、塩を形成していてもよい。その際、塩を形成するカチオンとしては、有機カチオン性化合物、遷移金属配位錯体カチオン（特許２７９１１４３号公報に記載の化合物等）又は金属カチオン（例えば、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ａｇ＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｕ＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋、Ａｌ３＋、１／２Ｃａ２＋等）が好ましい。
上記有機カチオン性化合物としては、例えば、４級アンモニウムカチオン、４級ピリジニウムカチオン、４級キノリニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、スルホニウムカチオン、色素カチオン等が挙げられる。
【０１９４】
上記４級アンモニウムカチオンの具体例としては、テトラアルキルアンモニウムカチオン（例えば、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン）、テトラアリールアンモニウムカチオン（例えば、テトラフェニルアンモニウムカチオン）等が挙げられる。上記４級ピリジニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アリールピリジニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルピリジニウムカチオン）、Ｎ−アルコキシピリジニウムカチオン（例えば、４−フェニル−Ｎ−メトキシ−ピリジニウムカチオン）、Ｎ−ベンゾイルピリジニウムカチオン等が挙げられる。上記４級キノリニウムカチオンとしては、Ｎ−アルキルキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−メチルキノリニウムカチオン）、Ｎ−アリールキノリニウムカチオン（例えば、Ｎ−フェニルキノリニウムカチオン）等が挙げられる。上記ホスホニウムカチオンとしては、テトラアリールホスホニウムカチオン（例えば、テトラフェニルホスホニウムカチオン）等が挙げられる。上記ヨードニウムカチオンとしては、ジアリールヨードニウムカチオン（例えば、ジフェニルヨードニウムカチオン）等が挙げられる。上記スルホニウムカチオンとしては、トリアリールスルホニウムカチオン（例えば、トリフェニルスルホニウムカチオン）等が挙げられる。
【０１９５】
更に、塩を形成するカチオンとして、特開平９−１８８６８６号公報の段落［００２０］〜［００３８］に記載の化合物等も挙げることができる。
【０１９６】
上記脂肪族基における上記アルケニル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルケニル基が挙げられ、該アルケニル基の炭素原子数としては、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分の炭素原子数についても、上記の範囲が好ましい。
上記アルケニル基の具体例としては、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基、シクロアルケニル基（例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル等が挙げられる。
置換アルケニル基の置換基の具体例としては、上記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１９７】
上記脂肪族基における上記アルキニル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルキニル基が挙げられ、該アルキニル基の炭素原子数としては、２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分の炭素原子数についても、上記の範囲が好ましい。
上記アルキニル基の具体例としては、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
置換アルキニル基の置換基の具体例としては、上記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１９８】
上記脂肪族基における上記アラルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアラルキル基が挙げられ、該アラルキル基の炭素原子数としては、７〜３５が好ましく、７〜２５がより好ましい。置換アラルキル基のアラルキル部分の炭素原子数についても、上記の範囲が好ましい。
上記アラルキル基の具体例としては、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、オクチルベンジル基、ドデシルベンジル基、ヘキサデシルベンジル基、ジメチルベンジル基、オクチルオキシベンジル基、オクタデシルアミノカルボニルベンジル基、クロロベンジル基等が挙げられる。
置換アラルキル基の置換基の具体例としては、上記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０１９９】
上記Ｒ１〜Ｒ８が芳香族基を表す場合、該芳香族基としては、例えば、アリール基、置換アリール基が挙げられる。該アリール基の炭素原子数としては、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましい。置換アリール基のアリール部分の炭素原子数についても、上記の範囲が好ましい。
上記アリール基の具体例としては、例えば、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基等が挙げられる。
これらの芳香族基は置換基を有していてもよい。置換芳香族基の置換基としては、上記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０２００】
上記Ｒ１〜Ｒ８がハロゲン原子を表す場合、該ハロゲン原子としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ等が挙げられ、Ｃｌ、Ｆが好ましい。
【０２０１】
一般式（５−１）中、Ｒ９，Ｒ１０およびＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環式基を表し、Ｒ９，Ｒ１０としては、水素原子、脂肪族基、芳香族基が好ましく、水素原子、脂肪族基が特に好ましい。Ｒ１２としては脂肪族基が好ましい。上記Ｒ９，Ｒ１０およびＲ１２における、脂肪族基および芳香族基としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２０２】
上記Ｒ９，Ｒ１０およびＲ１２が複素環式基を表す場合、該複素環式基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含む複素環式基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピラゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、キノリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、イソキノリル基、チアジアゾリル基、モルホリノ基、ピペリジノ基、チオモルホリノ基、テトラヒドロフルフリル基、ピペラジノ基、インドリル基、イソインドリル基等が挙げられる。
これらの複素環式基は置換基を有していてもよい。置換複素環式基の置換基としては、上記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０２０３】
一般式（５−１）中、Ｘは、単結合またはアルキレン基を表す。該アルキレン基は、酸素原子、硫黄原子、エステル基を連結鎖中に有していてもよい。また、該アルキレン基は、鎖状であってもよく環状であってもよい。鎖状アルキレン基は、さらに分岐を有していてもよい。
上記Ｘがアルキレン基を表す場合、該アルキレン基としては、炭素原子数１〜２０のアルキレン基が好ましく、炭素原子数１〜１０のアルキレン基が好ましい。該アルキレン基としては、エチレン基、メチレン基、プロピレン基等が挙げられる。
上記Ｘとしては、単結合、−（ＣＨ２）ｎ−〔ｎ：１，２，３，４，６，１０〕、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−が挙げられる。
【０２０４】
一般式（５−１）中、Ｒ１１，Ｒ１３およびＲ１４は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはスルファモイル基を表し、水素原子、脂肪族基、アシル基、アルコキシカルボニル基が好ましい。
上記Ｒ１１，Ｒ１３およびＲ１４における、脂肪族基、芳香族基、複素環式基としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２０５】
上記Ｒ１１，Ｒ１３およびＲ１４がアシル基を表す場合、該アシル基としては、例えば、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素環式アシル基等が挙げられる。該アシル基の炭素原子数としては、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましい。
置換アシル基のアシル部分の炭素原子数についても、上記の範囲が好ましい。
上記アシル基の具体例としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基、クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、１−メチルシクロプロピルカルボニル基、１−エチルシクロプロピルカルボニル基、１−ベンジルシクロプロピルカルボニル基、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、ピリジルカルボニル基、テノイル基等が挙げられる。
これらのアシル基は置換基を有していてもよい。置換アシル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０２０６】
上記Ｒ１１，Ｒ１３およびＲ１４がアルコキシカルボニル基を表す場合、該アルコキシカルボニル基としては、置換基を有するアルコキシカルボニル基および無置換のアルコキシカルボニル基が挙げられる。該アルコキシカルボニル基の炭素原子数としては２〜２０が好ましい。
上記アルコキシカルボニル基の具体例としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、メトキシエチルカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基等が挙げられる。置換基を有するアルコキシカルボニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０２０７】
上記Ｒ１１，Ｒ１３およびＲ１４が、アリールオキシカルボニル基を表す場合、該アリールオキシカルボニル基としては、置換基を有するアリールオキシカルボニル基および無置換のアリールオキシカルボニル基が挙げられる。該アリールオキシカルボニル基の炭素原子数としては７〜３０が好ましい。
上記アリールオキシカルボニル基の具体例としては、例えば、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基が挙げられる。置換基を有するアリールオキシカルボニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０２０８】
前記Ｒ１１，Ｒ１３およびＲ１４が、カルバモイル基を表す場合、該カルバモイル基としては、置換基を有するカルバモイル基および無置換のカルバモイル基が挙げられる。該カルバモイル基の炭素原子数としては１〜２０が好ましい。
上記カルバモイル基の具体例としては、例えば、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等が挙げられる。置換基を有するカルバモイル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０２０９】
前記Ｒ１１，Ｒ１３およびＲ１４が、アルキルスルホニル基を表す場合、該アルキルスルホニル基としては、置換基を有するアルキルスルホニル基および無置換のアルキルスルホニル基が挙げられる。該アルキルスルホニル基の炭素原子数としては１〜２０が好ましい。
上記アルキルスルホニル基の具体例としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基等が挙げられる。置換基を有するアルキルスルホニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０２１０】
前記Ｒ１１，Ｒ１３およびＲ１４が、アリールスルホニル基を表す場合、該アリールスルホニル基としては、置換基を有するアリールスルホニル基および無置換のアリールスルホニル基が挙げられる。該アリールスルホニル基の炭素原子数としては６〜３０が好ましい。
上記アリールスルホニル基の具体例としては、例えば、フェニルスルホニル基、トルエンスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基、メトキシフェニルスルホニル基、アセチルアミノフェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられる。置換基を有するアリールスルホニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０２１１】
前記Ｒ１１，Ｒ１３およびＲ１４が、スルファモイル基を表す場合、該スルファモイル基としては、置換基を有するスルファモイル基および無置換のスルファモイル基が挙げられる。
上記スルファモイル基の具体例としては、例えば、スルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、ジ（ヒドロキシエチル）スルファモイル基等が挙げられる。置換基を有するスルファモイル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【０２１２】
下記に一般式（５−１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０２１３】
【化３９】
2004216685.tif 000040
【０２１４】
【化４０】
2004216685.tif 000041
【０２１５】
【化４１】
2004216685.tif 000042
【０２１６】
＜一般式（５−２）で表される化合物＞
上記色材受容層に含まれる下記一般式（５−２）で表される化合物について説明する。
【０２１７】
【化４２】
2004216685.tif 000043
【０２１８】
一般式（５−２）中、Ｒ２１〜Ｒ２８は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、ハロゲン原子、−ＯＲ３１、−ＣＯ２Ｒ３２または−ＣＯＮ（Ｒ３３）Ｒ３４を表し、水素原子、脂肪族基、−ＯＲ３１が好ましい。
上記Ｒ２１〜Ｒ２８における、脂肪族基，芳香族基およびハロゲン原子としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２１９】
一般式（５−２）中、Ｒ２９，Ｒ３０およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環式基を表し、Ｒ２９、Ｒ３０としては、水素原子、脂肪族基が好ましく、Ｒ３２としては脂肪族基が好ましい。
上記Ｒ２９，Ｒ３０およびＲ３２における、脂肪族基，芳香族基および複素環式基としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２２０】
一般式（５−２）中、Ｙは、硫黄原子、酸素原子、−ＣＯ２−を表し、硫黄原子、−ＣＯ２−が好ましい。
また、Ｚは、単結合、アルキレン基、アリーレン基を表し、アルキレン基が好ましい。上記Ｚにおける、アルキレン基としては、上述したものと同様のものが挙げられる。
上記Ｚが、アリーレン基を表す場合、該アリーレン基としては、フェニレン基、美フェニレン基が好ましい。上記アリーレン基は、上記置換アルキル基の場合と同様の置換基によって置換されていてもよい。
【０２２１】
一般式（５−２）中、Ｒ３１，Ｒ３３およびＲ３４は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはスルファモイル基を表し、水素原子、脂肪族基、アシル基、アルコキシカルボニル基が好ましい。
上記Ｒ３１，Ｒ３３およびＲ３４における、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基およびスルファモイル基としては、上述したものと同様のものが挙げられる。
【０２２２】
下記に一般式（５−２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０２２３】
【化４３】
2004216685.tif 000044
【０２２４】
＜一般式（５−３）で表される化合物＞
上記色材受容層に含まれる下記一般式（５−３）で表される化合物について説明する。
【０２２５】
【化４４】
2004216685.tif 000045
【０２２６】
一般式（５−３）中、Ｒ４１〜Ｒ４８は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、ハロゲン原子、−ＯＲ５３、−ＣＯ２Ｒ５４または−ＣＯＮ（Ｒ５５）Ｒ５６を表し、水素原子、脂肪族基、−ＯＲ５３が好ましい。上記Ｒ４１〜Ｒ４８における、脂肪族基，芳香族基およびハロゲン原子としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２２７】
一般式（５−３）中、Ｒ４９〜Ｒ５２は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基または芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。上記Ｒ４９〜Ｒ５２における、脂肪族基および芳香族基としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２２８】
一般式（５−３）中、Ｒ５４は、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環式基を表し、脂肪族基が好ましい。上記Ｒ５４における、脂肪族基，芳香族基および複素環式基としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２２９】
一般式（５−３）中、Ｒ５３，Ｒ５５およびＲ５６は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはスルファモイル基を表し、水素原子、脂肪族基、アシル基、アルコキシカルボニル基が好ましい。
上記Ｒ５３，Ｒ５５およびＲ５６における、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基およびスルファモイル基としては、上述したものと同様のものが挙げられる。
【０２３０】
一般式（５−３）中、環Ａは、芳香族基を表す。該芳香族基としては、上述したものと同様のものが挙げられる。また、上記芳香族基は上記置換アルキル基の場合と同様の置換基によって置換されていてもよい。
【０２３１】
下記に一般式（５−３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０２３２】
【化４５】
2004216685.tif 000046
【０２３３】
【化４６】
2004216685.tif 000047
【０２３４】
＜一般式（５−４）で表される化合物＞
上記色材受容層に含まれる下記一般式（５−４）で表される化合物について説明する。
【０２３５】
【化４７】
2004216685.tif 000048
【０２３６】
一般式（５−４）中、Ｒ６１〜Ｒ６８は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、ハロゲン原子、−ＯＲ６９、−ＣＯ２Ｒ７０または−ＣＯＮ（Ｒ７１）Ｒ７２を表し、水素原子、脂肪族基、−ＯＲ６９が好ましい。上記Ｒ６１〜Ｒ６８における、脂肪族基，芳香族基およびハロゲン原子としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２３７】
一般式（５−４）中、Ｒ７０は、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環式基を表し、脂肪族基が好ましい。上記Ｒ７０における、脂肪族基，芳香族基および複素環式基としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２３８】
一般式（５−４）中、Ｒ６９，Ｒ７１およびＲ７２は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはスルファモイル基を表し、水素原子、脂肪族基、アシル基、アルコキシカルボニル基が好ましい。
上記Ｒ６９，Ｒ７１およびＲ７２における、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基およびスルファモイル基としては、上述したものと同様のものが挙げられる。
【０２３９】
一般式（５−４）中、環Ｂは、脂環式基を表す。該脂環式基は、連結基の中に酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含有していてもよい。上記脂環式基は、４〜１２員環が好ましく、５〜８員環がさらに好ましい。また、上記脂環式基は上記置換アルキル基の場合と同様の置換基によって置換されていてもよい。上記脂環式基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。
【０２４０】
下記に一般式（５−４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０２４１】
【化４８】
2004216685.tif 000049
【０２４２】
【化４９】
2004216685.tif 000050
【０２４３】
＜一般式（５−５）で表される化合物＞
上記色材受容層に含まれる下記一般式（５−５）で表される化合物について説明する。
【０２４４】
【化５０】
2004216685.tif 000051
【０２４５】
一般式（５−５）中、Ｒ８１〜Ｒ８８は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、ハロゲン原子、−ＯＲ８９、−ＣＯ２Ｒ９０または−ＣＯＮ（Ｒ９１）Ｒ９２を表し、水素原子、脂肪族基、−ＯＲ８９が好ましい。上記Ｒ８１〜Ｒ８８における、脂肪族基，芳香族基およびハロゲン原子としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２４６】
一般式（５−５）中、Ｒ９０は、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環式基を表し、脂肪族基が好ましい。上記Ｒ９０における、脂肪族基，芳香族基および複素環式基としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２４７】
一般式（５−５）中、Ｒ８９，Ｒ９１およびＲ９２は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはスルファモイル基を表し、水素原子、脂肪族基、アシル基、アルコキシカルボニル基が好ましい。
上記Ｒ８９，Ｒ９１およびＲ９２における、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基およびスルファモイル基としては、上述したものと同様のものが挙げられる。
下記に一般式（５−５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０２４８】
【化５１】
2004216685.tif 000052
【０２４９】
＜一般式（５−６）で表される化合物＞
上記色材受容層に含まれる下記一般式（５−６）で表される化合物について説明する。
【０２５０】
【化５２】
2004216685.tif 000053
【０２５１】
一般式（５−６）中、Ｒ１０１およびＲ１０２は、それぞれ独立して、−ＯＲ１０３または−Ｎ（Ｒ１０４）Ｒ１０５を表し、−ＯＲ１０３が好ましい。また、−ＣＯＲ１０１と−ＣＯＲ１０２とは、それぞれ結合して、下記一般式（５−６−Ａ）を形成してもよい。
【０２５２】
【化５３】
2004216685.tif 000054
【０２５３】
［一般式（５−６−Ａ）中、Ｒ１０６は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはスルファモイル基を表す。］
【０２５４】
一般式（５−６）中、Ｒ１０３は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環式基を表し、水素原子、脂肪族基が好ましい。上記Ｒ１０３における、脂肪族基，芳香族基および複素環式基としては、上述したものと同様ものが挙げられる。
【０２５５】
一般式（５−６）中Ｒ１０４およびＲ１０５は、並びに、一般式（５−６−Ａ）中Ｒ１０６は、それぞれ独立して、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはスルファモイル基を表し、水素原子、脂肪族基、アシル基、アルコキシカルボニル基が好ましい。
上記Ｒ１０４およびＲ１０５並びにＲ１０６における、脂肪族基、芳香族基、複素環式基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基およびスルファモイル基としては、上述したものと同様のものが挙げられる。
【０２５６】
一般式（５−６）中、環Ｃは、芳香族基を表す。該芳香族基としては、上述したものと同様のものが挙げられる。また、上記芳香族基は上記置換アルキル基の場合と同様の置換基によって置換されていてもよい。
【０２５７】
下記に一般式（５−６）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０２５８】
【化５４】
2004216685.tif 000055
【０２５９】
【化５５】
2004216685.tif 000056
【０２６０】
本発明における上記フェノール化合物の色材受容層中の含有量は、０．０１ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が好ましく、０．０５ｇ／ｍ２〜３ｇ／ｍ２がより好ましい。
【０２６１】
（６）ヒンダードアミン系化合物
本発明のインクジェット記録用シートに用いるヒンダードアミン系化合物は、ヒンダードアミン（Ｈｉｎｄｅｒｅｄ  Ａｍｉｎｅ）構造を有する部位をその分子内に持つ化合物であり、例えば特開昭６１−９１２５７号公報等に記載のものが挙げられ、その代表的な化合物は、ピペリジンの２位及び６位の炭素上の全ての水素がメチル基で置換された構造を有する２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの誘導体である。
【０２６２】
本発明に用いられるヒンダードアミン系化合物としては、下記一般式（６−１）で表されるものが好ましい。
【０２６３】
【化５６】
2004216685.tif 000057
【０２６４】
一般式（６−１）中、ＹはＣ及びＮと共に５〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｘは水素原子，脂肪族基、芳香族基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、水酸基、脂肪族基置換オキシ基、芳香族基置換オキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、オキシラジカル基を表す。Ｒ７〜Ｒ１０は、互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又はアルキル基を表わす。ここで、Ｒ７〜Ｒ１０、Ｙの内いずれか２つの基が互いに結合して５〜７員環を形成してもよい。
【０２６５】
一般式（６−１）中、Ｙによって形成される５〜７員環の好ましい例としては、例えば、ピロリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピペリジン環等が挙げられる。また、Ｙは更に置換基を有していてもよい。
【０２６６】
一般式（６−１）中、Ｘで表わされる脂肪族基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基等が挙げられ、これらは更に置換基を有していてもよい。また、上記脂肪族基は、鎖状脂肪族基でも環状脂肪族基でもよく、鎖状脂肪族基は更に分岐を有していてもよい。
このなかでも特にアルキル基、置換アルキル基が好ましい。アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ベンジル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えばアリル基、オレイル基等が挙げられ、アルキニル基としては、例えばエチニル基等が挙げられる。
芳香族基としては、例えば、アリール基、置換アリール基が挙げられ、該アリール基の炭素原子数としては、６〜３０が好ましく、６〜２０がより好ましい。置換アール基のアリール部分の炭素原子数についても上記の範囲が好ましい。アリール基の具体例としては、例えば、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基等が挙げられる。
アシル基としては、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ペンタノイル基等が挙げられる。
アルキルスルホニル基としては、炭素数３０以下のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、トルフルオロメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等が挙げられる。アリールスルホニル基としては、例えば、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基、ナフタレンスルホニル基等が挙げられる。
アルキルスルフィニル基としては、例えば、メタンスルフィニル基が挙げられ、アリールスルフィニル基としては、例えば、ベンゼンスルフィニル基等が挙げられる。
脂肪族基置換オキシ基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基等で置換されたオキシ基等が挙げられる。
芳香族基置換オキシ基としては、例えば、アリール基、置換アリール基等で置換されたオキシ基等が挙げられる。
アシルオキシ基としては、例えば、例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
【０２６７】
一般式（６−１）中のＲ７〜Ｒ１０は、水素原子又はアルキル基（該アルキル基は前述のＸで表されるアルキル基と同様の範疇から選ばれる。）を表わす。
【０２６８】
本発明の前記一般式（６−１）で表わされる化合物は、有機化学合成協会誌、２９（４）、３６６（‘７１）、特開昭４９−５３５７１号公報、同４９−５３５７２号公報、同４９−５３５７３号公報、同４９−５３５７４号公報、特公昭４９−２０９７４号公報、欧州公開特許第２６４，７３０号、米国特許第４，６３９，４１５号等に記載の方法に従って容易に合成することができる。
【０２６９】
−マイクロカプセル−
本発明に係る上記（１）〜（６）の化合物の１種又は２種をマイクロカプセルに内包することで、疎水性である本発明に係る該化合物を安定した状態で塗布することができる。また、オイルドロップ周りにある水とイソシアネート基とを反応させてマイクロカプセルを作成する際、水に可溶な化合物はオイルドロップ中にとどまることがでないため、該マイクロカプセルを作成するのは困難である。
しかしながら、本発明にかかる（１）〜（６）の化合物は実質的に水不溶性かつ有機溶媒可溶性であるため容易にマイクロカプセルに内包することができる。上記マイクロカプセルの壁材としては、ポリオールと多価イソシアネートとの反応によって形成されたポリマーを含むものが挙げられる。
【０２７０】
上記ポリオールとしては、脂肪族、芳香族の多価アルコール、ヒドロキシポリエステル、ヒドロキシポリアルキレンエーテル等が挙げられる。好ましいポリオールとしては、２個の水酸基の間に下記（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）の基を分子構造中に有する重量平均分子量が５０００以下のポリヒドロキシ化合物があげられる。
【０２７１】
（Ｉ）炭素数２〜５の脂肪族炭化水素基
【０２７２】
【化５７】
2004216685.tif 000058
【０２７３】
ここで、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）の式中、Ａｒは置換、あるいは無置換の芳香族部分を表し、（Ｉ）の脂肪族炭化水素とは、−ＣｎＨ２ｎ−を基本骨格とし、水素基が他の元素と置換されていてもよい。上記（Ｉ）の具体例としては、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、プロピレングリコール、２，３−ジヒドロキシブタン、１，２−ジヒドロキシブタン、１，３−ジヒドロキシブタン、２，２−ジメチル−１，３−ブロパンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−  １，５−ペンタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジヒドロキシクロヘキサン、ジエチレングリコール、１，２，６−トリヒドロキシヘキサン、フェニルエチレングリコール、１，１，１−トリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、グリセリン等が挙げられる。
【０２７４】
上記（ＩＩ）の具体例としては、１，４−ジ（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、レゾルシノールジヒドロキシエチルエーテル等の芳香族多価アルコールとアルキレンオキサイドとの融合生成物が挙げられる。また、上記（ＩＩＩ）の具体例としては、ｐ−キシリレングリコール、ｍ−キシリレングリコール、α，α’−ジヒドロキシ−ｐ−ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。
【０２７５】
上記（ＩＶ）の具体例としては、４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルメタン、２−（ｐ，ｐ’−ジヒドロキシジフェニルメチル）ベンジルアルコール、ビスフェノールＡにエチレンオキサイドの付加物、ビスフェノールＡにプロピレンオキサイドの付加物等が挙げられる。
【０２７６】
上記ポリオールと反応して付加物を形成する、分子中に２個のイソシアネート基を有する２官能イソシアネートとして公知の化合物を使用することができ、芳香族イソシアネート化合物及び脂肪族イソシアネート化合物の双方を使用することができる。具体的には、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、ナフタレン−１，４−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、３，３’−ジメトキシ−ビフェニルジイソシアネート、３，３’−ジメチルジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、キシリレン−１，４−ジイソシアネート、キシリレン−１，３−ジイソシアネート、４−クロロキシリレン−１，３−ジイソシアネート、２−メチルキシリレン−１，３−ジイソシアネート、４，４’−ジフェニルプロパンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルヘキサフルオロプロパンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、プロピレン−１，２−ジイソシアネート、ブチレン−１，２−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，２−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，４−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート及びノルボルナンジイソシアネート等が挙げられる。さらに、これらの２官能イソシアネート化合物と、エチレングリコールのような２官能アルコール類及び／又はビスフェノールのようなフェノール類との付加反応物も利用できる。
【０２７７】
また、ポリオールと分子中に２個のイソシアネート基を有する２官能イソシアネートとの付加物は、例えば、上記ポリオールと２官能イソシアネートを有機溶剤中で攪拌しながら加熱（５０〜１００℃）することにより、あるいはこれらにオクチル酸第１錫等の触媒を添加しながら比較的低温（室温〜７０℃）で加熱することにより得ることができる。一般に、使用されるポリオールの全量中のヒドロキシル基のモル数は２官能イソシアネートの全量中のイソシアネート基のモル数の０．２〜０．９倍が好ましく、０．３〜０．６倍が特に好ましい。
【０２７８】
上記イソシアネート付加物と併用する３個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物としては、前述の２官能イソシアネート化合物を原料とする３量体（ビューレットあるいはイソシアヌレート）、トリメチロールプロパン等のポリオールと２官能イソシアネート化合物の付加体の重合体、ベンゼンイソシアネートのホルマリン縮合物、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等の重合性基を有するイソシアネート化合物の重合体、リジントリイソシアネート等が挙げられる。特に、キシリレンジイソシアネート及びその水添物、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート及びその水添物、並びにイソホロンジイソシアネート等のジイソシアネート等を主原料とする３量体（ビューレットあるいはイソシアヌレート）、トリメチロールプロパン等のポリオールと２官能イソシアネート化合物の付加体の重合体、ベンゼンイソシアネートのホルマリン縮合物を好適に用いることができる。キシリレンジイソシアネート及びその水添物、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート及びその水添物を主原料とする３量体ビューレットあるいはイソシアヌレート）、トリメチロールプロパン等のポリオールと２官能イソシアネート化合物の付加体の重合体が特に好ましい。これらの化合物については「ポリウレタン樹脂ハンドブック」（岩田敬治編、日刊工業新聞社発行（１９８７））に記載されている。多官能イソシアネート化合物のうち、２官能イソシアネート化合物の使用率は１〜７０質量％好ましく、特に５〜４０質量％が好ましい。
【０２７９】
また、公知の２官能イソシアネート化合物を併用してもよい。例えば、下記一般式で表される２官能イソシアネート化合物、ポリエーテル鎖、ポリエステル鎖、ビニルモノマーの重合体鎖の少なくとも１種類を有する２官能イソシアネート化合物を適当な割合で併用することができる。
【０２８０】
【化５８】
2004216685.tif 000059
【０２８１】
式中、Ａｒはアリーレン基を、Ｘは２価の基を、Ｒはアルキレン基、アラルキレン基又はアリーレン基を、ｐは０〜２０の整数をそれぞれ表す。
【０２８２】
【化５９】
2004216685.tif 000060
【０２８３】
式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を、Ｘはアリール基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン化アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アルキル置換カルボニル基又はアリール置換アミノカルボニル基を、Ｙはアリーレン基、アルキレン基又はアラルキレン基を、ｋは０又は１を、ｐは０〜１２の整数を、ｑは１０〜２００の整数をそれぞれ表す。
【０２８４】
これらの２官能イソシアネート化合物については特開平７−８８３５６号公報、特開平７−２０４４９６号公報、及び特開平１０−１１４１５３号公報に記載されている。
【０２８５】
マイクロカプセル壁の形成には、一般に、多価イソシアネート化合物の他に、これと反応する活性水素を有する化合物、具体的には、水、ポリオール及びアミン化合物の少なくともいずれかを使用する。ポリオールとしては、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパン等が挙げられる。アミン化合物としては、ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン等が使用できる。これらの化合物も先の「ポリウレタン樹脂ハンドブック」に記載されている。
【０２８６】
これらの多官能イソシアネート化合物と活性水素を有する化合物は、本発明に係る（１）〜（６）の化合物及び疎水性溶媒からなる溶液に添加される。このようにして得られた混合液（油相）を、水溶性高分子からなる水溶液（水相）に添加し、ホモジナイザー等の高シェア攪拌装置により乳化分散させる。乳化後、イソシアネート化合物の重合反応触媒を添加するか、乳化物の温度を上昇させてマイクロカプセル壁形成反応をおこなう。
【０２８７】
マイクロカプセルの芯を形成するための疎水性溶媒としては、沸点１００〜３００℃の有機溶媒が好ましい。具体的には、アルキルナフタレン、アルキルジフェニルエタン、アルキルジフェニルメタン、ジフェニルエタンアルキル付加物、アルキルビフェニル、塩素化パラフィン、リン酸トリクレジル等の燐酸系誘導体、マレイン酸−ジ−２−エチルへキシル等のマレイン酸エステル類、及びアジピン酸エステル等を挙げることができる。これらは２種以上混合して用いてもよい。本発明に係る（１）〜（６）の化合物のこれら疎水性溶媒に対する溶解度が低い場合は、更に低沸点溶剤を併用することができる。併用する低沸点有機溶剤としては、沸点４０〜１００℃の有機溶媒が好ましく、具体的には酢酸エチル、酢酸ブチル、メチレンクロライド、テトラヒドロフラン及びアセトン等を挙げることができる。また、これらを２種以上混合して用いてもよい。低沸点（沸点約１００℃以下のもの）の溶媒のみをカプセル芯に用いた場合には、溶媒は蒸散し、本発明に係る（１）〜（６）の化合物のみが存在するいわゆるコアレスカプセルが形成され易い。
【０２８８】
−界面活性剤−
また、本発明に係る（１）〜（６）の化合物を、乳化、固体分散化及びマイクロカプセルに内包して塗布等する場合には界面活性剤を併用してもよい。該界面活性剤は油相あるいは水相の何れに添加しても良いが、有機溶媒に対する溶解度が低いために水相に添加する方が容易である。添加量は油相の質量に対し０．１〜５質量％、特に０．５〜２質量％が好ましい。一般に浮化分散に用いる界面活性剤としては、比較的長鎖の疎水基を有する界面活性剤が優れているとされており、「界面活性剤便覧」（西一郎ら、産業図書発行（１９８０））に記載されている、アルキルスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸等のアルカリ金属塩を用いることができる。
【０２８９】
本発明において、界面活性剤（乳化助剤）として芳香族スルホン酸塩のホルマリン縮合物や芳香族カルボン酸塩のホルマリン縮合物などの化合物を使用することもできる。具体的には下記一般式で表される化合物が使用できる。
【０２９０】
【化６０】
2004216685.tif 000061
【０２９１】
式中、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基を、ＸはＳＯ３−又はＣＯＯ−を、Ｍはナトリウム原子又はカリウム原子を、ｐは１〜２０の整数をそれぞれ表す。上記化合物については特開平６−２９７８５６号明細書に記載されている。
【０２９２】
またアルキルグルコシド系化合物も同様に使用することができる。具体的には、下記の一般式で表される化合物である。
【０２９３】
【化６１】
2004216685.tif 000062
【０２９４】
式中、Ｒは炭素原子数４〜１８のアルキル基を、ｑは０〜２の整数をそれぞれ表す。界面活性剤は単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
【０２９５】
（水溶性樹脂）
本発明のインクジェット記録用シートでは、（１）〜（６）から選ばれる一種又は二種以上の化合物を内包するマイクロカプセルと共にさらに色材受容層中に水溶性樹脂を含有するものが好ましい。
この水溶性樹脂としては、例えば、親水性構造単位としてヒドロキシ基を有する樹脂であるポリビニルアルコール系樹脂〔ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール等〕、セルロース系樹脂〔メチルセルロース（ＭＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂〔ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル（ＰＶＥ）等〕、カルバモイル基を有する樹脂〔ポリアクリルアミド（ＰＡＡＭ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリアクリル酸ヒドラジド等〕等が挙げられる。
また、解離性基としてカルボキシル基を有するポリアクリル酸塩、マレイン酸樹脂、アルギン酸塩、ゼラチン類等も挙げることができる。
【０２９６】
以上の中でも、特にポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。該ポリビニルアルコールの例としては、特公平４−５２７８６号、特公平５−６７４３２号、特公平７−２９４７９号、特許第２５３７８２７号、特公平７−５７５５３号、特許第２５０２９９８号、特許第３０５３２３１号、特開昭６３−１７６１７３号、特許第２６０４３６７号、特開平７−２７６７８７号、特開平９−２０７４２５号、特開平１１−５８９４１号、特開２０００−１３５８５８号、特開２００１−２０５９２４号、特開２００１−２８７４４４号、特開昭６２−２７８０８０号、特開平９−３９３７３号、特許第２７５０４３３号、特開２０００−１５８８０１号、特開２００１−２１３０４５号、特開２００１−３２８３４５号、特開平８−３２４１０５号、特開平１１−３４８４１７号等に記載されたものなどが挙げられる。
また、ポリビニルアルコール系樹脂以外の水溶性樹脂の例としては、特開平１１−１６５４６１号公報の「００１１」〜「００１４」に記載の化合物なども挙げられる。
これら水溶性樹脂はそれぞれ単独で用いても良く、２種以上を併用して用いてもよい。
【０２９７】
本発明の水溶性樹脂の含有量としては、色材受容層の全固形分質量に対して、９〜４０質量％が好ましく、１２〜３３質量％がより好ましい。
【０２９８】
（微粒子）
本発明のインクジェット記録用シートの色材受容層は、更に微粒子を含有するものが好ましい。
インクジェット記録用シートの色材受容層は、微粒子を含有することにより多孔質構造が得られ、これによりインクの吸収性能が向上する。特に、該微粒子の色材受容層における固形分含有量が５０質量％以上、より好ましくは６０質量％を超えていると、更に良好な多孔質構造を形成することが可能となり、十分なインク吸収性を備えたインクジェット記録用シートが得られるので好ましい。ここで、微粒子の色材受容層における固形分含有量とは、色材受容層を構成する組成物中の水以外の成分に基づき算出される含有量である。
本発明に用いる微粒子は無機微粒子が好ましいが、有機微粒子も本発明の効果を損なわない限りにおいて使用することができる。
【０２９９】
上記有機微粒子として好ましいものとしては例えば、乳化重合、マイクロエマルジョン系重合、ソープフリー重合、シード重合、分散重合、懸濁重合などにより得られるポリマー微粒子が挙げられ、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリアミド、シリコン樹脂、フェノール樹脂、天然高分子等の粉末、ラテックス又はエマルジョン状のポリマー微粒子等が挙げられる。
【０３００】
上記無機微粒子としては、例えば、シリカ微粒子、コロイダルシリカ、二酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、ゼオライト、カオリナイト、ハロイサイト、雲母、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、擬ベーマイト、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、アルミナ、珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化イットリウム等が挙げられる。これらの中でも良好な多孔質構造を形成する観点より、シリカ微粒子、コロイダルシリカ、アルミナ微粒子又は擬ベーマイトが好ましい。微粒子は１次粒子のまま用いても、又は２次粒子を形成した状態で使用してもよい。これら微粒子の平均一次粒径は２μｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましい。
更に、平均一次粒径が２０ｎｍ以下のシリカ微粒子、平均一次粒径が３０ｎｍ以下のコロイダルシリカ、平均一次粒径が２０ｎｍ以下のアルミナ微粒子、又は平均細孔半径が２〜１５ｎｍの擬ベーマイトがより好ましく、特にシリカ微粒子、アルミナ微粒子、擬ベーマイトが好ましい。
【０３０１】
シリカ微粒子は、通常その製造法により湿式法粒子と乾式法（気相法）粒子とに大別される。上記湿式法では、ケイ酸塩の酸分解により活性シリカを生成し、これを適度に重合させ凝集沈降させて含水シリカを得る方法が主流である。一方、気相法は、ハロゲン化珪素の高温気相加水分解による方法（火炎加水分解法）、ケイ砂とコークスとを電気炉中でアークによって加熱還元気化し、これを空気で酸化する方法（アーク法）によって無水シリカを得る方法が主流であり、「気相法シリカ」とは該気相法によって得られた無水シリカ微粒子を意味する。本発明に用いるシリカ微粒子としては、特に気相法シリカ微粒子が好ましい。
【０３０２】
上記気相法シリカは、含水シリカと表面のシラノール基の密度、空孔の有無等に相違があり、異なった性質を示すが、空隙率が高い三次元構造を形成するのに適している。この理由は明らかではないが、含水シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が５〜８個／ｎｍ２で多く、シリカ微粒子が密に凝集（アグリゲート）し易く、一方、気相法シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が２〜３個／ｎｍ２であり少ないことから疎な軟凝集（フロキュレート）となり、その結果、空隙率が高い構造になるものと推定される。
【０３０３】
上記気相法シリカは、比表面積が特に大きいので、インクの吸収性、保持の効率が高く、また、屈折率が低いので、適切な粒子径まで分散をおこなえば受容層に透明性を付与でき、高い色濃度と良好な発色性が得られるという特徴がある。
受容層が透明であることは、ＯＨＰ等透明性が必要とされる用途のみならず、フォト光沢紙等の記録用シートに適用する場合でも、高い色濃度と良好な発色性光沢を得る観点で重要である。
【０３０４】
上記気相法シリカの平均一次粒子径としては３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましく、３〜１０ｎｍが最も好ましい。上記気相法シリカは、シラノール基による水素結合によって粒子同士が付着しやすいため、平均一次粒子径が３０ｎｍ以下の場合に空隙率の大きい構造を形成することができ、インク吸収特性を効果的に向上させることができる。
【０３０５】
また、シリカ微粒子は、前述の他の微粒子と併用してもよい。該他の微粒子と上記気相法シリカとを併用する場合、全微粒子中の気相法シリカの含有量は、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上が更に好ましい。
【０３０６】
本発明に用いる無機微粒子としては、アルミナ微粒子、アルミナ水和物、これらの混合物又は複合物も好ましい。この内、アルミナ水和物は、インクを良く吸収し定着することなどから好ましく、特に、擬ベーマイト（Ａｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏ）が好ましい。アルミナ水和物は、種々の形態のものを用いることができるが、容易に平滑な層が得られることからゾル状のベーマイトを原料として用いることが好ましい。
【０３０７】
擬ベーマイトの細孔構造については、その平均細孔半径は１〜３０ｎｍが好ましく、２〜１５ｎｍがより好ましい。また、その細孔容積は０．３〜２．０ｃｃ／ｇが好ましく、０．５〜１．５ｃｃ／ｇがより好ましい。ここで、上記細孔半径及び細孔容積の測定は、窒素吸脱着法により測定されるもので、例えば、ガス吸脱着アナライザー（例えば、コールター社製の商品名「オムニソープ３６９」）により測定できる。
また、アルミナ微粒子の中では気相法アルミナ微粒子が比表面積が大きく好ましい。該気相法アルミナの平均一次粒子径としては３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。
【０３０８】
上述の微粒子をインクジェット記録用シートに用いる場合は、例えば、特開平１０−８１０６４号、同１０−１１９４２３号、同１０−１５７２７７号、同１０−２１７６０１号、同１１−３４８４０９号、特開２００１−１３８６２１号、同２０００−４３４０１号、同２０００−２１１２３５号、同２０００−３０９１５７号、同２００１−９６８９７号、同２００１−１３８６２７号、特開平１１−９１２４２号、同８−２０８７号、同８−２０９０号、同８−２０９１号、同８−２０９３号、同８−１７４９９２号、同１１−１９２７７７号、特開２００１−３０１３１４号等公報に開示された態様でも、好ましく用いることができる。
【０３０９】
本発明の色材受容層を主として構成する、前述の水溶性樹脂と上記微粒子とは、それぞれ単一素材であってもよいし、複数の素材の混合系を使用してもよい。
尚、透明性を保持する観点からは、微粒子特にシリカ微粒子に組み合わされる水溶性樹脂の種類が重要となる。前記気相法シリカを用いる場合には、該水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましく、その中でも、鹸化度７０〜１００％のポリビニルアルコール系樹脂がより好ましく、鹸化度８０〜９９．５％のポリビニルアルコール系樹脂が特に好ましい。
【０３１０】
前記ポリビニルアルコール系樹脂は、その構造単位に水酸基を有するが、この水酸基と前記シリカ微粒子の表面シラノール基とが水素結合を形成するため、シリカ微粒子の二次粒子を網目鎖単位とした三次元網目構造を形成し易くなる。この三次元網目構造の形成によって、空隙率が高く十分な強度のある多孔質構造の色材受容層を形成されると考えられる。
インクジェット記録において、上述のようにして得られた多孔質の色材受容層は、毛細管現象によって急速にインクを吸収し、インク滲みの発生しない真円性の良好なドットを形成することができる。
【０３１１】
また、ポリビニルアルコール系樹脂は、前記その他の水溶性樹脂を併用してもよい。該他の水溶性樹脂と上記ポリビニルアルコール系樹脂とを併用する場合、全水溶性樹脂中、ポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。
【０３１２】
＜微粒子と水溶性樹脂との含有比＞
微粒子（ｘ）と水溶性樹脂（ｙ）との質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕は、色材受容層の膜構造及び膜強度にも大きな影響を与える。即ち、質量含有比〔ＰＢ比〕が大きくなると、空隙率、細孔容積、表面積（単位質量当り）が大きくなるが、密度や強度は低下する傾向にある。
【０３１３】
本発明の色材受容層は、上記質量含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）〕としては、該ＰＢ比が大き過ぎることに起因する、膜強度の低下や乾燥時のひび割れを防止し、且つ該ＰＢ比が小さ過ぎることによって、該空隙が樹脂によって塞がれ易くなり、空隙率が減少することでインク吸収性が低下するのを防止する観点から、１．５〜１０が好ましい。
【０３１４】
インクジェットプリンターの搬送系を通過する場合、記録用シートに応力が加わることがあるので、色材受容層は十分な膜強度を有していることが必要である。またシート状に裁断加工する場合、色材受容層の割れや剥がれ等を防止する上でも、色材受容層には十分な膜強度を有していることが必要である。これらの場合を考慮すると、前記質量比（ｘ／ｙ）としては５以下がより好ましく、一方インクジェットプリンターで、高速インク吸収性を確保する観点からは、２以上であることがより好ましい。
【０３１５】
例えば、平均一次粒子径が２０ｎｍ以下の気相法シリカ微粒子と水溶性樹脂とを、質量比（ｘ／ｙ）２〜５で水溶液中に完全に分散した塗布液を支持体上に塗布し、該塗布層を乾燥した場合、シリカ微粒子の二次粒子を網目鎖とする三次元網目構造が形成され、その平均細孔径が３０ｎｍ以下、空隙率が５０〜８０％、細孔比容積が０．５ｍｌ／ｇ以上、比表面積が１００ｍ２／ｇ以上の、透光性の多孔質膜を容易に形成することができる。
【０３１６】
（架橋剤）
本発明のインクジェット記録用シートの色材受容層は、微粒子および水溶性樹脂を含む塗布層が、更に該水溶性樹脂を架橋し得る架橋剤を含み、該架橋剤と水溶性樹脂との架橋反応によって硬化された多孔質層である態様が好ましい。
【０３１７】
本発明に使用する架橋剤としては、ホウ素化合物が好ましい。
該ホウ素化合物としては、例えば、硼砂、硼酸、硼酸塩（例えば、オルト硼酸塩、ＩｎＢＯ３、ＳｃＢＯ３、ＹＢＯ３、ＬａＢＯ３、Ｍｇ３（ＢＯ３）２、Ｃｏ３（ＢＯ３）２、二硼酸塩（例えば、Ｍｇ２Ｂ２Ｏ５、Ｃｏ２Ｂ２Ｏ５）、メタ硼酸塩（例えば、ＬｉＢＯ２、Ｃａ（ＢＯ２）２、ＮａＢＯ２、ＫＢＯ２）、四硼酸塩（例えば、Ｎａ２Ｂ４Ｏ７・１０Ｈ２Ｏ）、五硼酸塩（例えば、ＫＢ５Ｏ８・４Ｈ２Ｏ、Ｃａ２Ｂ６Ｏ１１・７Ｈ２Ｏ、ＣｓＢ５Ｏ５）等を挙げることができる。中でも、速やかに架橋反応を起こすことができる点で、硼砂、硼酸、硼酸塩が好ましく、特に硼酸が好ましい。
【０３１８】
架橋剤として、上記以外の下記化合物を使用することもできる。
例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタールアルデヒド等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、シクロペンタンジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジクロロ−６−Ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン酸、１，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロ−ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；メラミン樹脂（例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン）；エポキシ樹脂；
【０３１９】
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート系化合物；米国特許明細書第３０１７２８０号、同第２９８３６１１号に記載のアジリジン系化合物；米国特許明細書第３１００７０４号に記載のカルボキシイミド系化合物；グリセロールトリグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；乳酸チタン、硫酸アルミ、クロム明ばん、カリ明ばん、酢酸ジルコニル、酢酸クロム等の金属含有化合物、テトラエチレンペンタミン等のポリアミン化合物、アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物、オキサゾリン基を２個以上含有する低分子又はポリマー等である。
上記の架橋剤は、一種単独でも、２種以上を組合わせて用いてもよい。
【０３２０】
架橋硬化は、微粒子、水溶性樹脂等を含有する塗布液（以下、「塗布液Ａ」ということがある）および／又は下記塩基性溶液に架橋剤を添加し、かつ、（１）前記塗布液を塗布して塗布層を形成すると同時、（２）前記塗布液を塗布して形成される塗布層の乾燥途中であって該塗布層が減率乾燥を示す前のいずれかのときに、ｐＨ８以上の塩基性溶液（以下、「塗布液Ｂ」ということがある）を前記塗布層に付与することにより行うことが好ましい。上記架橋剤の付与は、ホウ素化合物を例にすると下記のように行われることが好ましい。すなわち、色材受容層が、微粒子、ポリビニルアルコールを含む水溶性樹脂を含有する塗布液（塗布液Ａ）を塗布した塗布層を架橋硬化させた層である場合、架橋硬化は、（１）前記塗布液を塗布すると同時、（２）前記塗布液を塗布して形成される塗布層の乾燥塗中であって該塗布層が減率乾燥を示す前のいずれかのときに、ｐＨ８以上の塩基性溶液（塗布液Ｂ）を前記塗布層に付与することにより行われる。架橋剤たるホウ素化合物は、塗布液Ａ、又は塗布液Ｂのいずれかに含有すれば良く、塗布液Ａ及び塗布液Ｂの両方に含有させておいても良い。本発明で用いる（１）〜（６）から選ばれる一種又は二種以上の化合物を内包するマイクロカプセルは、上記塗布液Ａ、塗布液Ｂ、又はこれらとは別の塗布液Ｃの少なくとも何れかに含有させればよい。
架橋剤の使用量は、水溶性樹脂に対して、１〜５０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましい。
【０３２１】
（媒染剤）
本発明においては、更に形成画像の耐水性及び耐経時ニジミの向上を図るために、色材受容層に媒染剤を含有せしめることが好ましい。
このような媒染剤としては有機媒染剤としてカチオン性のポリマー（カチオン性媒染剤）、又は無機媒染剤が好ましく、該媒染剤を色材受容層中に存在させることにより、アニオン性染料を色材として有する液状インクとの間で相互作用し色材を安定化し、耐水性や耐経時ニジミを向上させることができる。有機媒染剤および無機媒染剤はそれぞれ単独種で使用しても良いし、有機媒染剤および無機媒染剤を併用してもよい。
媒染剤は、上記の塗布液Ａに添加するか、または微粒子との間で凝集を生じる懸念がある場合は、塗布液Ｂに添加してもよい。
【０３２２】
上記カチオン性媒染剤としては、カチオン性基として、第１級〜第３級アミノ基、又は第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が一般的に用いられる。一方、本発明では、カチオン性の非ポリマー媒染剤も使用することができる。
上記ポリマー媒染剤としては、第１級〜第３級アミノ基およびその塩、又は第４級アンモニウム塩基を有する単量体（媒染モノマー）の単独重合体や、該媒染モノマーと他のモノマー（以下、「非媒染モノマー」という。）との共重合体又は縮重合体として得られるものが挙げられる。また、これらのポリマー媒染剤は、水溶性ポリマー又は水分散性ラテックス粒子のいずれの形態でも使用できる。
【０３２３】
上記単量体（媒染モノマー）としては、例えば、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−オクチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（４−メチル）ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−フェニル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド；
【０３２４】
トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（３−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムアセテート；
【０３２５】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドのメチルクロライド、エチルクロライド、メチルブロマイド、エチルブロマイド、メチルアイオダイド若しくはエチルアイオダイドによる４級化物、又はそれらのアニオンを置換したスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、酢酸塩若しくはアルキルカルボン酸塩等が挙げられる。
【０３２６】
具体的には、例えば、モノメチルジアリルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド；
【０３２７】
Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムブロマイド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムブロマイド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムスルホネート、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムアセテート等を挙げることができる。
その他、共重合可能なモノマーとして、Ｎ―ビニルイミダゾール、Ｎ―ビニル−２−メチルイミダゾール等も挙げられる。
【０３２８】
また、アリルアミン、ジアリルアミンやその誘導体、塩なども利用できる。このような化合物の例としてはアリルアミン、アリルアミン塩酸塩、アリルアミン酢酸塩、アリルアミン硫酸塩、ジアリルアミン、ジアリルアミン塩酸塩、ジアリルアミン酢酸塩、ジアリルアミン硫酸塩、ジアリルメチルアミンおよびこの塩（該塩としては、例えば、塩酸塩、酢酸塩、硫酸塩など）、ジアリルエチルアミンおよびこの塩（該塩としては、例えば、塩酸塩、酢酸塩、硫酸塩など）、ジアリルジメチルアンモニウム塩（該塩の対アニオンとしてはクロライド、酢酸イオン硫酸イオンなど）が挙げられる。尚、これらのアリルアミンおよびジアリルアミン誘導体はアミンの形態では重合性が劣るので塩の形で重合し、必要に応じて脱塩することが一般的である。
また、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルホルムアミドなどの単位を用い、重合後に加水分解によってビニルアミン単位とすること、及びこれを塩にしたものも利用できる。
【０３２９】
前記非媒染モノマーとは、第１級〜第３級アミノ基およびその塩、又は第４級アンモニウム塩基等の塩基性あるいはカチオン性部分を含まず、インクジェットインク中の染料と相互作用を示さない、あるいは相互作用が実質的に小さいモノマーをいう。
上記非媒染モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等の（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸ベンジル等のアラルキルエステル；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステル類；酢酸アリル等のアリルエステル類；塩化ビニリデン、塩化ビニル等のハロゲン含有単量体；（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類、等が挙げられる。
【０３３０】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部位の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル等が挙げられる。
中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。
上記非媒染モノマーも、一種単独で又は二種以上を組合せて使用できる。
【０３３１】
更に、前記ポリマー媒染剤として、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ポリメタクリロイルオキシエチル−β−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライド、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン及びその誘導体、ポリアミド−ポリアミン樹脂、カチオン化でんぷん、ジシアンジアミドホルマリン縮合物、ジメチル−２−ヒドロキシプロピルアンモニウム塩重合物、ポリアミジン、ポリビニルアミン、ジシアンジアミド−ホルマリン重縮合物に代表されるジシアン系カオチン樹脂、ジシアンアミド−ジエチレントリアミン重縮合物に代表されるポリアミン系カオチン樹脂、エピクロルヒドリン−ジメチルアミン付加重合物、ジメチルジアリンアンモニウムクロリド−ＳＯ２共重合物、ジアリルアミン塩−ＳＯ２共重合物、第４級アンモニウム塩基置換アルキル基をエステル部分に有する（メタ）アクリレート含有ポリマー、第４級アンモニウム塩基置換アルキル基を有するスチリル型ポリマー等も挙げることができる。
【０３３２】
前記ポリマー媒染剤として、具体的には、特開昭４８−２８３２５号、同５４−７４４３０号、同５４−１２４７２６号、同５５−２２７６６号、同５５−１４２３３９号、同６０−２３８５０号、同６０−２３８５１号、同６０−２３８５２号、同６０−２３８５３号、同６０−５７８３６号、同６０−６０６４３号、同６０−１１８８３４号、同６０−１２２９４０号、同６０−１２２９４１号、同６０−１２２９４２号、同６０−２３５１３４号、特開平１−１６１２３６号の各公報、米国特許２４８４４３０、同２５４８５６４号、同３１４８０６１号、同３３０９６９０号、同４１１５１２４号、同４１２４３８６号、同４１９３８００号、同４２７３８５３号、同４２８２３０５号、同４４５０２２４号、特開平１−１６１２３６号、同１０−８１０６４号、同１０−１１９４２３号、同１０−１５７２７７号、同１０−２１７６０１号、同１１−３４８４０９号、特開２００１−１３８６２１号、同２０００−４３４０１号、同２０００−２１１２３５号、同２０００−３０９１５７号、同２００１−９６８９７号、同２００１−１３８６２７号、特開平１１−９１２４２号、同８−２０８７号、同８−２０９０号、同８−２０９１号、同８−２０９３号、同８−１７４９９２号、同１１−１９２７７７号、特開２００１−３０１３１４号、特公平５‐３５１６２号、同５−３５１６３号、同５‐３５１６４号、同５−８８８４６号、特開平７−１１８３３３号、特開２０００−３４４９９０号、特許第２６４８８４７号、同２６６１６７７号等の各公報に記載のもの等が挙げられる。中でもポリアリルアミン及びその誘導体が特に好ましい。
【０３３３】
本発明における有機媒染剤としては、特に経時ニジミ防止の観点から、重量平均分子量が１０００００以下のポリアリルアミン及びその誘導体が好ましい。
【０３３４】
本発明において、ポリアリルアミン又はその誘導体としては、公知の各種アリルアミン重合体及びその誘導体が使用できる。このような誘導体としては、ポリアリルアミンと酸との塩（酸としては塩酸、硫酸、リン酸、硝酸などの無機酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、酢酸、プロピオン酸、桂皮酸、（メタ）アクリル酸などの有機酸、あるいはこれらの組み合せや、アリルアミンの一部分のみを塩にしたもの）、ポリアリルアミンの高分子反応による誘導体、ポリアリルアミンと他の共重合可能なモノマーとの共重合体（該モノマーの具体例としては（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン類、（メタ）アクリルアミド類、アクリロニトリル、ビニルエステル類等）が挙げられる。
【０３３５】
ポリアリルアミンおよびその誘導体の具体例としては、特公昭６２−３１７２２号、特公平２−１４３６４号、特公昭６３−４３４０２号、同６３−４３４０３号、同６３−４５７２１号、同６３−２９８８１号、特公平１−２６３６２号、同２−５６３６５号、同２−５７０８４号、同４−４１６８６号、同６−２７８０号、同６−４５６４９号、同６−１５５９２号、同４−６８６２２号、特許第３１９９２２７号、同３００８３６９号、特開平１０−３３０４２７号、同１１−２１３２１号、特開２０００−２８１７２８号、同２００１−１０６７３６号、特開昭６２−２５６８０１号、特開平７‐１７３２８６号、同７−２１３８９７号、同９−２３５３１８号、同９−３０２０２６号、同１１−２１３２１号、ＷＯ９９／２１９０１号、ＷＯ９９／１９３７２号、特開平５−１４０２１３号、特表平１１−５０６４８８号等の各公報に記載の化合物が挙げられる。
【０３３６】
本発明における媒染剤としては無機媒染剤を用いることも好ましい。無機媒染剤としては多価の水溶性金属塩や疎水性金属塩化合物が挙げられる。
無機媒染剤の具体例としては、例えば、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、スカンジウム、チタン、バナジウム、マンガン、鉄、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ストロンチウム、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、インジウム、バリウム、ランタン、セリウム、プラセオジミウム、ネオジミウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、ジスロプロシウム、エルビウム、イッテルビウム、ハフニウム、タングステン、ビスマスから選択される金属の塩又は錯体が挙げられる。
【０３３７】
具体的には例えば、酢酸カルシウム、塩化カルシウム、ギ酸カルシウム、硫酸カルシウム、酢酸バリウム、硫酸バリウム、リン酸バリウム、塩化マンガン、酢酸マンガン、ギ酸マンガンニ水和物、硫酸マンガンアンモニウム六水和物、塩化第二銅、塩化アンモニウム銅（ＩＩ）二水和物、硫酸銅、塩化コバルト、チオシアン酸コバルト、硫酸コバルト、硫酸ニッケル六水和物、塩化ニッケル六水和物、酢酸ニッケル四水和物、硫酸ニッケルアンモニウム六水和物、アミド硫酸ニッケル四水和物、硫酸アルミニウム、アルミニウムミョウバン、塩基性ポリ水酸化アルミニウム、亜硫酸アルミニウム、チオ硫酸アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム九水和物、塩化アルミニウム六水和物、臭化第一鉄、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、フェノールスルホン酸亜鉛、臭化亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛六水和物、硫酸亜鉛、四塩化チタン、テトライソプロピルチタネート、チタンアセチルアセトネート、乳酸チタン、ジルコニウムアセチルアセトネート、酢酸ジルコニル、硫酸ジルコニル、炭酸ジルコニウムアンモニウム、ステアリン酸ジルコニル、オクチル酸ジルコニル、硝酸ジルコニル、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、酢酸クロム、硫酸クロム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム六水和物、クエン酸マグネシウム九水和物、りんタングステン酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムタングステン、１２タングストリん酸ｎ水和物、１２タングストけい酸２６水和物、塩化モリブデン、１２モリブドリん酸ｎ水和物、硝酸ガリウム、硝酸ゲルマニウム、硝酸ストロンチウム、酢酸イットリウム、塩化イットリウム、硝酸イットリウム、硝酸インジウム、硝酸ランタン、塩化ランタン、酢酸ランタン、安息香酸ランタン、塩化セリウム、硫酸セリウム、オクチル酸セリウム、硝酸プラセオジミウム、硝酸ネオジミウム、硝酸サマリウム、硝酸ユーロピウム、硝酸ガドリニウム、硝酸ジスプロシウム、硝酸エルビウム、硝酸イッテルビウム、塩化ハフニウム、硝酸ビスマス等が挙げられる。
【０３３８】
本発明の無機媒染剤としては、アルミニウム含有化合物、チタン含有化合物、ジルコニウム含有化合物、元素周期律表第ＩＩＩＢ族シリーズの金属化合物（塩又は錯体）が好ましい。
本発明で色材受容層に含まれる上記媒染剤量は、０．０１ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が好ましく、０．１ｇ／ｍ２〜３ｇ／ｍ２がより好ましい。
【０３３９】
（その他の成分）
本発明のインクジェット記録用シートは、必要に応じて、更に各種の公知の添加剤、例えば酸、紫外線吸収剤、酸化防止剤、蛍光増白剤、モノマー、重合開始剤、重合禁止剤、滲み防止剤、防腐剤、粘度安定剤、消泡剤、界面活性剤、帯電防止剤、マット剤、カール防止剤、耐水化剤等を含有することができる。
【０３４０】
本発明において、色材受容層は酸を含有していてもよい。酸を添加することで、色材受容層の表面ｐＨを３〜８、好ましくは５〜７．５に調整する。これにより白地部の耐黄変性が向上するので好ましい。表面ｐＨの測定は、日本紙パルプ技術協会（Ｊ．ＴＡＰＰＩ）の定めた表面ＰＨの測定の内Ａ法（塗布法）により測定を行う。例えば、前記Ａ法に相当する（株）共立理化学研究所製の紙面用ＰＨ測定セット「形式ＭＰＣ」を使用して該測定を行うことができる。
【０３４１】
具体的な酸の例としては、ギ酸、酢酸、グリコール酸、シュウ酸、プロピオン酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、グルタル酸、グルコン酸、乳酸、アスパラギン酸、グルタミン酸、サリチル酸、サリチル酸金属塩（Ｚｎ，Ａｌ，Ｃａ，Ｍｇ等の塩）、メタンスルホン酸、イタコン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、スチレンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、バルビツール酸、アクリル酸、メタクリル酸、桂皮酸、４−ヒドロキシ安息香酸、アミノ安息香酸、ナフタレンジスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、トルエンスルフィン酸、ベンゼンスルフィン酸、スルファニル酸、スルファミン酸、α−レゾルシン酸、β−レゾルシン酸、γ−レゾルシン酸、没食子酸、フロログリシン、スルホサリチル酸、アスコルビン酸、エリソルビン酸、ビスフェノール酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸、ほう酸、ボロン酸等が挙げられる。これらの酸の添加量は、色材受容層の表面ＰＨが３〜８になるように決めればよい。
上記の酸は金属塩（例えばナトリウム、カリウム、カルシウム、セシウム、亜鉛、銅、鉄、アルミニウム、ジルコニウム、ランタン、イットリウム、マグネシウム、ストロンチウム、セリウムなどの塩）、又はアミン塩（例えばアンモニア、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピペラジン、２−メチルピペラジン、ポリアリルアミンなど）の形態で使用してもよい。
【０３４２】
本発明においては、色材受容層が紫外線吸剤、酸化防止剤、滲み防止剤などの保存性向上剤を含有することが好ましい。
これら紫外線吸剤、酸化防止剤、滲み防止剤としては、アルキル化フェノール化合物（ヒンダードフェノール化合物を含む）、アルキルチオメチルフェノール化合物、ヒドロキノン化合物、アルキル化ヒドロキノン化合物、トコフェロール化合物、チオジフェニルエーテル化合物、２個以上のチオエーテル結合を有する化合物、ビスフェノール化合物、Ｏ−，Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、ヒドロキシベンジル化合物、トリアジン化合物、ホスホネート化合物、アシルアミノフェノール化合物、エステル化合物、アミド化合物、アスコルビン酸、アミン系抗酸化剤、２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール化合物、２−ヒドロキシベンゾフェノン化合物、アクリレート、水溶性又は疎水性の金属塩、有機金属化合物、金属錯体、ヒンダードアミン化合物（ＴＥＭＰＯ化合物を含む）、２−（２−ヒドロキシフェニル）１，３，５，−トリアジン化合物、金属不活性化剤、ホスフィット化合物、ホスホナイト化合物、ヒドロキシアミン化合物、ニトロン化合物、過酸化物スカベンジャー、ポリアミド安定剤、ポリエーテル化合物、塩基性補助安定剤、核剤、ベンゾフラノン化合物、インドリノン化合物、ホスフィン化合物、ポリアミン化合物、チオ尿素化合物、尿素化合物、ヒドラジト化合物、アミジン化合物、糖化合物、ヒドロキシ安息香酸化合物、ジヒドロキシ安息香酸化合物、トリヒドロキシ安息香酸化合物等が挙げられる。
【０３４３】
これらの中でも、アルキル化フェノール化合物、２個以上のチオエーテル結合を有する化合物、ビスフェノール化合物、アスコルビン酸、アミン系抗酸化剤、水溶性又は疎水性の金属塩、有機金属化合物、金属錯体、ヒンダードアミン化合物、ヒドロキシアミン化合物、ポリアミン化合物、チオ尿素化合物、ヒドラジド化合物、ヒドロキシ安息香酸化合物、ジヒドロキシ安息香酸化合物、トリヒドロキシ安息香酸化合物等が好ましい。
【０３４４】
具体的な化合物例は、特願２００２−１３００５号、特開平１０−１８２６２１号、特開２００１−２６０５１９号、特公平４−３４９５３号、特公平４−３４５１３号、特開平１１−１７０６８６号、特公平４−３４５１２号、ＥＰ１１３８５０９号、特開昭６０−６７１９０号、特開平７−２７６８０８号、特開２００１−９４８２９号、特開昭４７−１０５３７号、同５８−１１１９４２号、同５８−２１２８４４号、同５９−１９９４５号、同５９−４６６４６号、同５９−１０９０５５号、同６３−５３５４４号、特公昭３６−１０４６６号、同４２−２６１８７号、同４８−３０４９２号、同４８−３１２５５号、同４８−４１５７２号、同４８−５４９６５号、同５０−１０７２６号、米国特許第２，７１９，０８６号、同３，７０７，３７５号、同３，７５４，９１９号、同４，２２０，７１１号、
【０３４５】
特公昭４５−４６９９号、同５４−５３２４号、ヨーロッパ公開特許第２２３７３９号、同３０９４０１号、同３０９４０２号、同３１０５５１号、同第３１０５５２号、同第４５９４１６号、ドイツ公開特許第３４３５４４３号、特開昭５４−４８５３５号、同６０−１０７３８４号、同６０−１０７３８３号、同６０−１２５４７０号、同６０−１２５４７１号、同６０−１２５４７２号、同６０−２８７４８５号、同６０−２８７４８６号、同６０−２８７４８７号、同６０−２８７４８８号、同６１−１６０２８７号、同６１−１８５４８３号、同６１−２１１０７９号、同６２−１４６６７８号、同６２−１４６６８０号、同６２−１４６６７９号、同６２−２８２８８５号、同６２−２６２０４７号、同６３−０５１１７４号、同６３−８９８７７号、同６３−８８３８０号、同６６−８８３８１号、同６３−１１３５３６号、
【０３４６】
同６３−１６３３５１号、同６３−２０３３７２号、同６３−２２４９８９号、同６３−２５１２８２号、同６３−２６７５９４号、同６３−１８２４８４号、特開平１−２３９２８２号、特開平２−２６２６５４号、同２−７１２６２号、同３−１２１４４９号、同４−２９１６８５号、同４−２９１６８４号、同５−６１１６６号、同５−１１９４４９号、同５−１８８６８７号、同５−１８８６８６号、同５−１１０４９０号、同５−１１０８４３７号、同５−１７０３６１号、特公昭４８−４３２９５号、同４８−３３２１２号、米国特許第４８１４２６２号、同第４９８０２７５号等の各公報に記載のものが挙げられる。
【０３４７】
前記その他の成分は、１種単独でも２種以上を併用してもよい。この前記その他の成分は、水溶性化、分散化、ポリマー分散、エマルション化、油滴化して添加してもよく、マイクロカプセル中に内包することもできる。本発明のインクジェット記録用シートでは、上記その他の成分の添加量としては、０．０１〜１０ｇ／ｍ２が好ましい。
【０３４８】
また、無機微粒子の分散性を改善する目的で、無機表面をシランカップリング剤で処理してもよい。該シランカップリング剤としては、カップリング処理を行う部位の他に、有機官能性基（例えば、ビニル基、アミノ基（１級〜３級アミノ基、第４級アンモニウム塩基）、エポキシ基、メルカプト基、クロロ基、アルキル基、フェニル基、エステル基等）を有するものが好ましい。
【０３４９】
本発明において、色材受容層用塗布液（塗布液Ａ）は界面活性剤を含有しているものが好ましい。該界面活性剤としてはカチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、フッ素系、シリコン系界面活性剤のいずれも使用可能である。
上記ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルおよびポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル類（例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリーコールジエチルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等）、オキシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル類（例えば、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート等）、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類（例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレート等）、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル類（例えば、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット等）、グリセリン脂肪酸エステル類（例えば、グリセロールモノオレート等）、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル類（モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン、モノオレイン酸ポリオキシエチレングリセリン等）、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類（ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノオレート等）、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アセチレングリコール類（例えば、２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオール、及び該ジオールのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物等）等が挙げられ、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル類が好ましい。該ノニオン系界面活性剤は、第１の塗布液および第２の塗布液において使用することができる。また、上記ノニオン系界面活性剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０３５０】
上記両性界面活性剤としては、アミノ酸型、カルボキシアンモニウムベタイン型、スルホンアンモニウムベタイン型、アンモニウム硫酸エステルベタイン型、イミダゾリウムベタイン型等が挙げられ、例えば、米国特許第３，８４３，３６８号、特開昭５９−４９５３５号、同６３−２３６５４６号、特開平５−３０３２０５号、同８−２６２７４２号、同１０−２８２６１９号、特許第２５１４１９４号、特許２７５９７９５号、特開２０００−３５１２６９号の各公報等に記載されているものを好適に使用できる。上記両性界面活性剤のなかでも、アミノ酸型、カルボキシアンモニウムベタイン型、スルホンアンモニウムベタイン型が好ましい。上記両性界面活性剤は１種で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０３５１】
前記アニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩（例えばステアリン酸ソーダ、オレイン酸カリ）、アルキル硫酸エステル塩（例えばラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン）、スルホン酸塩（例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム）、アルキルスルホコハク酸塩（例えばジオクチルスルホコハク酸ナトリウム）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等が挙げられる。
前記カチオン系界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリウム塩などがあげられる。
【０３５２】
前記フッ素系界面活性剤としては、電解フッ素化、テロメリゼーション、オリゴメリゼーションなどの方法を用いてパーフルオロアルキル基を持つ中間体をへて誘導される化合物があげられる。
例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルトリアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどが挙げられる。
【０３５３】
前記シリコン系界面活性剤としては、有機基で変性したシリコンオイルが好ましく、シロキサン構造の側鎖を有機基で変性した構造、両末端を変性した構造、片末端を変性した構造をとり得る。有機基変性としてアミノ変性、ポリエーテル変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、カルビノール変性、アルキル変性、アラルキル変性、フェノール変性、フッ素変性等が挙げられる。
【０３５４】
本発明で界面活性剤の含有量としては、色材受容層用塗布液に対して０．００１〜２．０％が好ましく、０．０１〜１．０％がより好ましい。また、色材受容層用塗布液として２液以上を用いて塗布を行う場合には、それぞれの塗布液に界面活性剤を添加するのが好ましい。
【０３５５】
本発明において、色材受容層はカール防止用に高沸点有機溶剤を含有するのが好ましい。上記高沸点有機溶剤は常圧で沸点が１５０℃以上の有機化合物で、水溶性又は疎水性の化合物である。これらは、室温で液体でも固体でもよく、低分子でも高分子でもよい。
具体的には、芳香族カルボン酸エステル類（例えばフタル酸ジブチル、フタル酸ジフェニル、安息香酸フェニルなど）、脂肪族カルボン酸エステル類（例えばアジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチル、ステアリン酸メチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジブチル、アセチルクエン酸トリエチルなど）、リン酸エステル類（例えばリン酸トリオクチル、リン酸トリクレジルなど）、エポキシ類（例えばエポキシ化大豆油、エポキシ化脂肪酸メチルなど）、アルコール類（例えば、ステアリルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＤＥＧＭＢＥ）、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、グリセリンモノメチルエーテル、１，２，３−ブタントリオール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，４−ペンタントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、チオジグリコール、トリエタノールアミン、ポリエチレングリコールなど）、植物油（例えば大豆油、ヒマワリ油など）高級脂肪族カルボン酸（例えばリノール酸、オレイン酸など）等が挙げられる。
【０３５６】
（支持体）
本発明の支持体としては、プラスチック等の透明材料よりなる透明支持体、紙等の不透明材料からなる不透明支持体のいずれをも使用できる。色材受容層の透明性を生かす上では、透明支持体又は高光沢性の不透明支持体を用いることが好ましい。
【０３５７】
上記透明支持体に使用可能な材料としては、透明性で、ＯＨＰやバックライトディスプレイで使用される時の輻射熱に耐え得る性質を有する材料が好ましい。
該材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類；ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミド等を挙げることができる。中でも、ポリエステル類が好ましく、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
上記透明支持体の厚みとしては、特に制限はないが、取り扱い易い点で、５０〜２００μｍが好ましい。
【０３５８】
高光沢性の不透明支持体としては、色材受容層の設けられる側の表面が４０％以上の光沢度を有するものが好ましい。上記光沢度は、ＪＩＳ  Ｐ−８１４２（紙及び板紙の７５度鏡面光沢度試験方法）に記載の方法に従って求められる値である。具体的には、下記支持体が挙げられる。
【０３５９】
例えば、アート紙、コート紙、キャストコート紙、銀塩写真用支持体等に使用されるバライタ紙等の高光沢性の紙支持体；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類、ニトロセルロース，セルロースアセテート，セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル類、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミド等のプラスチックフィルムに白色顔料等を含有させて不透明にした（表面カレンダー処理が施されていてもよい。）高光沢性のフイルム；或いは、上記各種紙支持体、上記透明支持体若しくは白色顔料等を含有する高光沢性のフイルムの表面に、白色顔料を含有若しくは含有しないポリオレフィンの被覆層が設けられた支持体等が挙げられる。
白色顔料含有発泡ポリエステルフィルム（例えば、ポリオレフィン微粒子を含有させ、延伸により空隙を形成した発泡ＰＥＴ）も好適に挙げることができる。
更に銀塩写真用印画紙に用いられるレジンコート紙も好適である。
【０３６０】
上記不透明支持体の厚みについても特に制限はないが、取り扱い性の点で、５０〜３００μｍが好ましい。
【０３６１】
また、上記支持体の表面には、濡れ特性及び接着性を改善するために、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理等を施したものを使用してもよい。
【０３６２】
次に、前記レジンコート紙に用いられる原紙について詳述する。
上記原紙としては、木材パルプを主原料とし、必要に応じて木材パルプに加えてポリプロピレンなどの合成パルプ、あるいはナイロンやポリエステルなどの合成繊維を用いて抄紙される。上記木材パルプとしては、ＬＢＫＰ、ＬＢＳＰ、ＮＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＤＰ、ＮＤＰ、ＬＵＫＰ、ＮＵＫＰのいずれも用いることができるが、短繊維分の多いＬＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＢＳＰ、ＮＤＰ、ＬＤＰをより多く用いることが好ましい。
但し、ＬＢＳＰ及び／又はＬＤＰの比率としては、１０質量％以上、７０質量％以下が好ましい。
【０３６３】
上記パルプは、不純物の少ない化学パルプ（硫酸塩パルプや亜硫酸パルプ）が好ましく用いられ、漂白処理をおこなって白色度を向上させたパルプも有用である。
【０３６４】
原紙中には、高級脂肪酸、アルキルケテンダイマー等のサイズ剤、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタンなどの白色顔料、スターチ、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等の紙力増強剤、蛍光増白剤、ポリエチレングリコール類等の水分保持剤、分散剤、４級アンモニウム等の柔軟化剤などを適宜添加することができる。
【０３６５】
抄紙に使用するパルプの濾水度としては、ＣＳＦの規定で２００〜５００ｍｌが好ましく、また、叩解後の繊維長が、ＪＩＳ  Ｐ−８２０７に規定される２４メッシュ残分質量％と４２メッシュ残分の質量％との和が３０〜７０％が好ましい。尚、４メッシュ残分の質量％は２０質量％以下であることが好ましい。
【０３６６】
原紙の坪量としては、３０〜２５０ｇが好ましく、特に５０〜２００ｇが好ましい。原紙の厚さとしては、４０〜２５０μｍが好ましい。原紙は、抄紙段階または抄紙後にカレンダー処理して高平滑性を与えることもできる。原紙密度は０．７〜１．２ｇ／ｍ２（ＪＩＳ  Ｐ−８１１８）が一般的である。
更に、原紙剛度としては、ＪＩＳ  Ｐ−８１４３に規定される条件で２０〜２００ｇが好ましい。
【０３６７】
原紙表面には表面サイズ剤を塗布してもよく、表面サイズ剤としては、上記原紙中添加できるサイズと同様のサイズ剤を使用できる。
原紙のｐＨは、ＪＩＳ  Ｐ−８１１３で規定された熱水抽出法により測定された場合、５〜９であることが好ましい。
【０３６８】
原紙表面および裏面を被覆するポリエチレンは、主として低密度のポリエチレン（ＬＤＰＥ）および／または高密度のポリエチレン（ＨＤＰＥ）であるが、他のＬＬＤＰＥやポリプロピレン等も一部使用することができる。
【０３６９】
特に、色材受容層を形成する側のポリエチレン層は、写真用印画紙で広くおこなわれているように、ルチルまたはアナターゼ型の酸化チタン、蛍光増白剤、群青をポリエチレン中に添加し、不透明度、白色度および色相を改良したものが好ましい。ここで、酸化チタン含有量としては、ポリエチレンに対して、概ね３〜２０質量％が好ましく、４〜１３質量％がより好ましい。ポリエチレン層の厚みは特に限定はないが、表裏面層とも１０〜５０μｍが好適である。さらにポリエチレン層上に色材受容層との密着性を付与するために下塗り層を設けることもできる。該下塗り層としては、水性ポリエステル、ゼラチン、ＰＶＡが好ましい。また、該下塗り層の厚みとしては、０．０１〜５μｍが好ましい。
【０３７０】
ポリエチレン被覆紙は、光沢紙として用いることも、また、ポリエチレンを原紙表面上に溶融押し出してコーティングする際に、いわゆる型付け処理をおこなって通常の写真印画紙で得られるようなマット面や絹目面を形成したものも使用できる。
【０３７１】
支持体にはバックコート層を設けることもでき、このバックコート層に添加可能な成分としては、白色顔料や水性バインダー、その他の成分が挙げられる。
バックコート層に含有される白色顔料としては、例えば、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、珪藻土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、水酸化アルミニウム、アルミナ、リトポン、ゼオライト、加水ハロイサイト、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム等の白色無機顔料、スチレン系プラスチックピグメント、アクリル系プラスチックピグメント、ポリエチレン、マイクロカプセル、尿素樹脂、メラミン樹脂等の有機顔料等が挙げられる。
【０３７２】
バックコート層に用いられる水性バインダーとしては、例えば、スチレン／マレイン酸塩共重合体、スチレン／アクリル酸塩共重合体、ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、澱粉、カチオン化澱粉、カゼイン、ゼラチン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、スチレンブタジエンラテックス、アクリルエマルジョン等の水分散性高分子等が挙げられる。
バックコート層に含有されるその他の成分としては、消泡剤、抑泡剤、染料、蛍光増白剤、防腐剤、耐水化剤等が挙げられる。
【０３７３】
（インクジェット記録用シートの作製）
本発明のインクジェット記録用シートの色材受容層は、例えば、支持体表面に少なくとも微粒子と水溶性樹脂を含む塗布液Ａを塗布し、（１）該塗布と同時、（２）該塗布によって形成される塗布層の乾燥途中であって該塗布層が減率乾燥速度を示す前のいずれかに少なくとも媒染剤を含むｐＨが８以上の塗布液Ｂと言うこともある）を付与した後、該第二の塗布液を付与した塗布層を架橋硬化させる方法（Ｗｅｔ−ｏｎ−Ｗｅｔ法）により形成されるのが好ましい。ここで、本発明で用いる（１）〜（６）から選ばれる一種又は二種以上の化合物を内包するマイクロカプセルは、上記塗布液Ａ、塗布液Ｂ、又はこれらとは別の塗布液Ｃの少なくとも何れかに含有させればよい。
また、架橋剤も、上記塗布液Ａ、Ｂのどちらに含有されてもよい。
この様にして架橋硬化させた色材受容層を設けることは、インク吸収性や膜のヒビ割れ防止などの観点から好ましい。
【０３７４】
媒染剤を塗布液Ｂに付与すると、媒染剤が色材受容層の表面近くに多く存在するので、インクジェットの色材が十分に媒染され、印字後の文字や画像の耐水性が向上するので好ましい。媒染剤の一部は上記塗布液Ａに含有させてもよく、その場合は、塗布液Ａと塗布液Ｂの媒染剤は同じものでも異なっていてもよい。
【０３７５】
本発明において、少なくとも微粒子（例えば、気相法シリカ）と水溶性樹脂（例えば、ポリビニルアルコール）とを含有する色材受容層用塗布液（塗布液Ａ）は、例えば、以下のようにして調製することができる。即ち、
気相法シリカ微粒子と分散剤を水中に添加して（例えば、水中のシリカ微粒子は１０〜２０質量％）、高速回転湿式コロイドミル（例えば、エム・テクニック（株）製の「クレアミックス」）を用いて、例えば１００００ｒｐｍ（好ましくは５０００〜２００００ｒｐｍ）の高速回転の条件で例えば２０分間（好ましくは１０〜３０分間）かけて分散させた後、架橋剤（ホウ素化合物）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）水溶液（例えば、上記気相法シリカの１／３程度の質量のＰＶＡとなるように）を加え、更に本発明で用いる上記（１）〜（６）から選ばれる一種又は二種以上の化合物を内包するマイクロカプセルを色材受容層用塗布液に含ませる場合には該化合物を加えて、上記と同じ回転条件で分散を行うことにより調製することができる。得られた塗布液は均一なゾル状態であり、これを下記塗布方法で支持体上に塗布し乾燥させることにより、三次元網目構造を有する多孔質性の色材受容層を形成することができる。
【０３７６】
また、上記気相法シリカと分散剤とからなる水分散物の調製は、気相法シリカ水分散液をあらかじめ調製し、該水分散液を分散剤水溶液に添加してもよいし、分散剤水溶液を気相法シリカ水分散液に添加してよいし、同時に混合してもよい。また、気相法シリカ水分散液ではなく、粉体の気相法シリカを用いて上記のように分散剤水溶液に添加してもよい。
上記の気相法シリカと分散剤とを混合した後、該混合液を分散機を用いて細粒化することで、平均粒子径５０〜３００ｎｍの水分散液を得ることができる。該水分散液を得るために用いる分散機としては、高速回転分散機、媒体撹拌型分散機（ボールミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、形成されるダマ状微粒子の分散を効率的におこなうという点から、撹拌型分散機、コロイドミル分散機または高圧分散機が好ましい。
【０３７７】
また、各工程における溶媒として水、有機溶媒、又はこれらの混合溶媒を用いることができる。この塗布に用いることができる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エーテル、トルエン等が挙げられる。
【０３７８】
また、上記分散剤としてはカオチン性のポリマーを用いることができる。カオチン性のポリマーとしては、前述の媒染剤の例などが挙げられる。また、分散剤としてシランカップリング剤を用いることも好ましい。
上記分散剤の微粒子に対する添加量は、０．１％〜３０％が好ましく、１％〜１０％が更に好ましい。
【０３７９】
該色材受容層用塗布液の塗布は、例えば、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター等の公知の塗布方法によって行うことができる。
【０３８０】
色材受容層用塗布液（塗布液Ａ）の塗布と同時又は塗布した後に、該塗布層に塗布液Ｂが付与されるが、該塗布液Ｂは、塗布後の塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に付与してもよい。即ち、色材受容層用塗布液（塗布液Ａ）の塗布後、この塗布層が恒率乾燥速度を示す間に媒染剤を導入することで好適に製造される。
【０３８１】
ここで、前記「塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前」とは、通常、色材受容層用塗布液の塗布直後から数分間の過程を指し、この間においては、塗布された塗布層中の溶剤（分散媒体）の含有量が時間に比例して減少する「恒率乾燥速度」の現象を示す。この「恒率乾燥速度」を示す時間については、例えば、化学工学便覧（頁７０７〜７１２、丸善（株）発行、昭和５５年１０月２５日）に記載されている。
【０３８２】
上記の通り、塗布液Ａの塗布後、該塗布層が減率乾燥速度を示すようになるまで乾燥されるが、この乾燥は一般に５０〜１８０℃で０．５〜１０分間（好ましくは、０．５〜５分間）行われる。この乾燥時間としては、当然塗布量により異なるが、通常は上記範囲が適当である。
【０３８３】
上記第一の塗布層が減率乾燥速度を示すようになる前に付与する方法としては、▲１▼塗布液Ｂを塗布層上に更に塗布する方法、▲２▼スプレー等の方法により噴霧する方法、▲３▼塗布液Ｂ中に、該塗布層が形成された支持体を浸漬する方法、等が挙げられる。
【０３８４】
前記方法▲１▼において、塗布液Ｂを塗布する塗布方法としては、例えば、カーテンフローコーター、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター等の公知の塗布方法を利用することができる。しかし、エクストリュージョンダイコーター、カーテンフローコーター、バーコーター等のように、既に形成されている第一塗布層にコーターが直接接触しない方法を利用することが好ましい。
【０３８５】
該媒染剤溶液（塗布液Ｂ）の付与後は、一般に４０〜１８０℃で０．５〜３０分間加熱され、乾燥および硬化がおこなわれる。中でも、４０〜１５０℃で１〜２０分間加熱することが好ましい。
【０３８６】
また、上記媒染剤溶液（塗布液Ｂ）を、色材受容層塗布液（塗布液Ａ）を塗布すると同時に付与する場合、色材受容層塗布液（塗布液Ａ）および媒染剤溶液（塗布液Ｂ）を、該色材受容層塗布液（塗布液Ａ）が支持体と接触するようにして支持体上に同時塗布（重層塗布）し、その後乾燥硬化させることにより色材受容層を形成することができる。
【０３８７】
上記同時塗布（重層塗布）は、例えば、エクストルージョンダイコーター、カーテンフローコーターを用いた塗布方法により行うことができる。同時塗布の後、形成された塗布層は乾燥されるが、この場合の乾燥は、一般に塗布層を４０〜１５０℃で０．５〜１０分間加熱することにより行なわれ、好ましくは、４０〜１００℃で０．５〜５分間加熱することにより行なわれる。
【０３８８】
上記同時塗布（重層塗布）を、例えば、エクストルージョンダイコーターによりおこなった場合、同時に吐出される二種の塗布液は、エクストルージョンダイコーターの吐出口附近で、即ち、支持体上に移る前に重層形成され、その状態で支持体上に重層塗布される。塗布前に重層された二層の塗布液は、支持体に移る際、既に二液の界面で架橋反応を生じ易いことから、エクストルージョンダイコーターの吐出口付近では、吐出される二液が混合して増粘し易くなり、塗布操作に支障を来す場合がある。従って、上記のように同時塗布する際は、色材受容層塗布液（塗布液Ａ）および媒染剤溶液（塗布液Ｂ）の塗布と共に、バリアー層液（中間層液）を上記二液間に介在させて同時三重層塗布することが好ましい。
【０３８９】
上記バリアー層液は、特に制限なく選択できる。例えば、水溶性樹脂を微量含む水溶液や、水等を挙げることができる。上記水溶性樹脂は、増粘剤等の目的で、塗布性を考慮して使用されるもので、例えば、セルロース系樹脂（たとえば、ヒドロキシプロピルメチルセルロ−ス、メチルセルロ−ス、ヒドロキシエチルメチルセルロ−ス等）、ポリビニルピロリドン、ゼラチン等のポリマーが挙げられる。尚、バリアー層液には、上記媒染剤を含有させることもできる。
【０３９０】
支持体上に色材受容層を形成した後、該色材受容層は、例えば、スーパーカレンダ、グロスカレンダ等を用い、加熱加圧下にロールニップ間を通してカレンダー処理を施すことにより、表面平滑性、光沢度、透明性および塗膜強度を向上させることが可能である。しかしながら、該カレンダー処理は、空隙率を低下させる要因となることがあるため（即ち、インク吸収性が低下することがあるため）、空隙率の低下が少ない条件を設定して行なう必要がある。
【０３９１】
カレンダー処理をおこなう場合のロール温度としては、３０〜１５０℃が好ましく、４０〜１００℃がより好ましい。
また、カレンダー処理時のロール間の線圧としては、５０〜４００ｋｇ／ｃｍが好ましく、１００〜２００ｋｇ／ｃｍがより好ましい。
【０３９２】
上記色材受容層の層厚としては、インクジェット記録の場合では、液滴を全て吸収するだけの吸収容量をもつ必要があるため、層中の空隙率との関連で決定する必要がある。例えば、インク量が８ｎＬ／ｍｍ２で、空隙率が６０％の場合であれば、層厚が約１５μｍ以上の膜が必要となる。
この点を考慮すると、インクジェット記録の場合には、色材受容層の層厚としては、１０〜５０μｍが好ましい。
【０３９３】
また、色材受容層の細孔径は、メジアン径で０．００５〜０．０３０μｍが好ましく、０．０１〜０．０２５μｍがより好ましい。
上記空隙率および細孔メジアン径は、水銀ポロシメーター（（株）島津製作所製の商品名「ボアサイザー９３２０−ＰＣ２」）を用いて測定することができる。
【０３９４】
また、色材受容層は、透明性に優れていることが好ましいが、その目安としては、色材受容層を透明フイルム支持体上に形成したときのヘイズ値が、３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましい。
上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ：スガ試験機（株））を用いて測定することができる。
【０３９５】
本発明のインクジェット記録用シートの構成層（例えば、色材受容層あるいはバック層など）には、ポリマー微粒子分散物を添加してもよい。このポリマー微粒子分散物は、寸度安定化、カール防止、接着防止、膜のひび割れ防止等のような膜物性改良の目的で使用される。ポリマー微粒子分散物については、特開昭６２−２４５２５８号、同６２−１３１６６４８号、同６２−１１００６６号の各公報に記載がある。尚、ガラス転移温度が低い（４０℃以下の）ポリマー微粒子分散物を、前記媒染剤を含む層に添加すると、層のひび割れやカールを防止することができる。また、ガラス転移温度が高いポリマー微粒子分散物をバック層に添加しても、カールを防止することができる。
【０３９６】
また、本発明のインクジェット記録用シートは、特開平１０−８１０６４号、同１０−１１９４２３号、同１０−１５７２７７号、同１０−２１７６０１号、同１１−３４８４０９号、特開２００１−１３８６２１号、同２０００−４３４０１号、同２０００−２１１２３５号、同２０００−３０９１５７号、同２００１−９６８９７号、同２００１−１３８６２７号、特開平１１−９１２４２号、同８−２０８７号、同８−２０９０号、同８−２０９１号、同８−２０９３号の各公報に記載の方法でも作製可能である。
【０３９７】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、実施例中の「部」及び「％」は、特に断らない限り「質量部」及び「質量％」を表し、「平均分子量」及び「重合度」は、「質量平均分子量」及び「質量平均重合度」を表す。
【０３９８】
（支持体の作製）
ＬＢＫＰ１００部からなる木材パルプをダブルディスクリファイナーによりカナディアンフリーネス３００ｍｌまで叩解し、エポキシ化ベヘン酸アミド０．５部、アニオンポリアクリルアミド１．０部、ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリン０．１部、カチオンポリアクリルアミド０．５部を、いずれもパルプに対する絶乾質量比で添加し、長網抄紙機により秤量し１７０ｇ／ｍ２の原紙を抄造した。
【０３９９】
上記原紙の表面サイズを調整するため、ポリビニルアルコール４％水溶液に蛍光増白剤（住友化学工業（株）製の「Ｗｈｉｔｅｘ  ＢＢ」）を０．０４％添加し、これを絶乾質量換算で０．５ｇ／ｍ２となるように上記原紙に含浸させ、乾燥した後、更にキャレンダー処理を施して密度１．０５ｇ／ｃｃに調整された基紙を得た。
【０４００】
得られた基紙のワイヤー面（裏面）側にコロナ放電処理を行った後、溶融押出機を用いて高密度ポリエチレンを厚さ１９μｍとなるようにコーティングし、マット面からなる樹脂層を形成した（以下、樹脂層面を「裏面」と称する。）。この裏面側の樹脂層に更にコロナ放電処理を施し、その後、帯電防止剤として、酸化アルミニウム（日産化学工業（株）製の「アルミナゾル１００」）と二酸化ケイ素（日産化学工業（株）製の「スノーテックスＯ」）とを１：２の質量比で水に分散した分散液を、乾燥質量が０．２ｇ／ｍ２となるように塗布した。
【０４０１】
更に、樹脂層の設けられていない側のフェルト面（表面）側にコロナ放電処理を施した後、アナターゼ型二酸化チタン１０％、微量の群青、及び蛍光増白剤０．０１％（対ポリエチレン）を含有し、ＭＦＲ（メルトフローレート）３．８の低密度ポリエチレンを、溶融押出機を用いて、厚み２９μｍとなるように押し出し、高光沢な熱可塑性樹脂層を基紙の表面側に形成し（以下、この高光沢面を「オモテ面」と称する。）、支持体とした。
【０４０２】
（カプセル化物作製法）
表１に示す前記（１）〜（６）から選ばれる水不溶性化合物（疎水性添加剤）８．８部を酢酸エチル８．８部に溶解し、さらにジオクチルフタレート２．４部、７０％界面活性剤（Ｐ−Ａ４１Ｃ）２．４部、キシリレンジイソシアネート／トリメチロールプロパンアダクト体５．０部、酢酸エチル１０．８部に溶解し、カプセル芯となる油相を調整した。別途、アルカリ処理ゼラチン６重量％水溶液７０．０部に先の油相を添加、ホモジナイザー（日本精機製ＡＭ型）にて乳化分散し、平均粒径１μｍの乳化物が得られた。得られた乳化液に温水１２．０部加えた後、ゆっくり撹拌しながら４０℃に昇温し、３時間カプセル化反応を行わせた。減圧で酢酸エチルを除去した。
【０４０３】
（色材受容層用塗布液Ａの調製）
下記組成中の▲１▼気相法シリカ微粒子と▲２▼イオン交換水と▲３▼カチオンポリマーを混合し、ＫＤ−Ｐ（（株）シンマルエンタープライゼス製）を用いて、分散させた後、下記▲４▼ポリビニルアルコールと▲５▼ホウ酸と▲６▼ポリオキシエチレンラウリルエーテルと▲７▼下記表記載化合物のカプセル化物、▲８▼イオン交換水を含む溶液を加え、色材受容層用塗布液Ａを調製した。
シリカ微粒子と水溶性樹脂との質量比（ＰＢ比＝▲１▼／▲４▼）は、４．５であり、色材受容層用塗布液ＡのｐＨは、３．５で酸性を示した。
＜色材受容層塗布液Ａの組成＞
2004216685.tif 000063
【０４０４】
（インクジェット記録用シートの作製）
上記下塗り層付き支持体に、上記から得た色材受容層用塗布液Ａを、支持体のオモテ面にエクストルージョンダイコーターを用いて２００ｍｌ／ｍ２の塗布量で塗布し（塗布工程）、熱風乾燥機にて８０℃（風速３〜８ｍ／秒）で塗布層の固形分濃度が２０％になるまで乾燥させた。この塗布層は、この期間は恒率乾燥速度を示した。その直後、下記組成の媒染剤溶液Ｂ（ｐＨ９．６）に３０秒間浸漬して該塗布層上にその２０ｇ／ｍ２を付着させ（媒染剤溶液を付与する工程）、更に８０℃下で１０分間乾燥させた（乾燥工程）。これにより、乾燥膜厚３２μｍの色材受容層が設けられた本発明のインクジェット記録用シート（１）を作製した。
【０４０５】
＜媒染剤塗布液Ｂの組成＞
2004216685.tif 000064
【０４０６】
比較例
比較例１は、カプセル化した疎水性添加剤を用いない以外は実施例と同様にして、インクジェット記録用シートを作成したもので、比較例２，３は、カプセル化物を添加せず、カプセル化せずに添加可能な水溶性添加剤として表２に示す水溶性化合物０．４３ｇを色材受容層Ａに添加した以外は実施例と同様にして作成したものである。
（評価方法）
（１）＜耐オゾン性＞
インクジェットプリンター（セイコーエプソン（株）製の「ＰＭ−９５０Ｃ」）を用いて、各インクジェット記録用シート上にマゼンタとシアンのベタ画像をそれぞれ印画し、オゾン濃度５ｐｐｍの環境下で１６時間保管した。保管前と保管後のマゼンタとシアン濃度を、反射濃度測定計（Ｘｒｉｔｅ社製の「Ｘｒｉｔｅ９３８」）にて測定し、該マゼンタとシアン濃度の残存率を算出した。
残存率が、８０％以上の場合をＡ，７０〜８０％未満の場合をＢ，６０〜７０％未満の場合をＣ，６０％未満の場合をＤとして、評価した。
【０４０７】
（２）耐光性
インクジェットプリンター（セイコーエプソン（株）製の「ＰＭ−９５０Ｃ」）を用いて、各インクジェット記録用シート上にマゼンタとシアンのベタ画像を印画した後、３６５ｎｍ以下の波長領域の紫外線をカットするフィルターを通して、Ｘｅｎｏｎ  Ｗｅａｔｈｅｒ−ｏｍｅｔｅｒ  Ｃｉ６５Ａ（ＡＴＬＡＳ社製）を用いて、温度２５℃相対湿度３２％の環境条件下で３．８時間ランプを点灯し、その後ランプを消した状態で、温度２０℃相対湿度９１％の環境条件下に１時間放置するサイクルを１６８時間かけて行なった。この試験の前後の各色画像濃度を、反射濃度測定計（Ｘｒｉｔｅ社製の「Ｘｒｉｔｅ９３８」）にて測定し、各色濃度の残存率を算出した。
残存率が、９０％以上の場合をＡ，８０〜９０％未満の場合をＢ，７０〜８０％未満の場合をＣ、７０％未満の場合をＤとして、評価した。
【０４０８】
（３）経時ニジミ
インクジェットプリンタ（商品名：ＰＭ−９５０Ｃ、セイコーエプソン（株）製）およびインクを用いて、インクジェット記録用シート上にマゼンタインクとブラックインクとを隣り合わせにした格子状の線状パターン（線幅０．２８ｍｍ）を印画し、Ｘライト３１０ＴＲ（Ｘライト社製）によってビジュアル濃度を測定した（０Ｄｆ）。印画後ファイル保管した後、３０℃、相対湿度８０％の恒熱恒湿槽に３日間保管した後再度ビジュアル濃度を測定し（０Ｄｔ）、その濃度上昇率（０Ｄｔ／０Ｄｆ＊１００）によって評価した。該濃度上昇率の値が小さいほど経時ニジミの発生は抑制されている。測定結果は下記表に示す。
残存率が、１００〜１２０％の場合をＡ、１２０〜１４０％未満の場合をＢ、１４０〜１６０％未満の場合をＣとして、評価した。
【０４０９】
【表１】
2004216685.tif 000065
【０４１０】
【表２】
2004216685.tif 000066
【０４１１】
表１、２に示す通り、本発明品は、耐（オゾン）ガス性、耐光性、にじみにおいて優れたものであった。一方、カプセル化物を含まないものは、比較例１のようにすべての評価項目において劣っており、カプセル化しなかったものは、乳化物安定性が良くなかった。
【０４１２】
【発明の効果】
本発明によれば、良好なインク受容性能を有し、ひび割れ等の発生がなく強固で、高解像度な画像形成し得る、且つ十分長期に亙り耐オゾン性を向上させ、紙面着色を抑制したインクジェット記用録シートを提供することができる。