【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年8月15日(2012.8.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パーソナルケア製品組成物であって、
ａ）式Ｉ
【化１】
2010512348.tif 000001
式中、
Ｒ１は、メチルおよびＣ１−Ｒ２、Ｃ３、Ｃ４およびＣ６アルカンから選択され、
Ｒ２は、２−エチルヘキシルオキシであり、
ｎは、０および１から選択され、
ｎが１のとき、Ｒ１はＣ１（メチル）である、
で表される、少なくとも１つのジオール化合物を含み、
ここで、該ジオール化合物は、１，２−ペンタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，２−オクタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオールおよび３−（２−エチルヘキシルオキシ）−１，２−プロパンジオールからなる群から選択され、
ここで、前記式Ｉの少なくとも１つの化合物が、０．１％から２％（ｗ／ｗ）の総濃度で存在し、および、
ｂ）式ＩＩ
【化２】
2010512348.tif 000002
式中、
Ｒ１およびＲ２は、水素、メチル、ヒドロキシ、メトキシから選択されるか、または、Ｒ１とＲ２が共に３，４−メチレンジオキシ置換基を形成し、
Ｒ１が水素の場合、Ｒ２は水素、メチル、ヒドロキシおよびメトキシから選択され、
Ｒ２がヒドロキシの場合、Ｒ１は水素、ヒドロキシおよびメトキシから選択される、
で表される、少なくとも１つの化合物を含み、
ここで、該化合物は、ベンズアルデヒド、４−メチルベンズアルデヒド、ヘリオトロピン、バニリン、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−メトキシベンズアルデヒド、３−メトキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベンズアルデヒドおよび４−ヒドロキシ−２−メトキシベンズアルデヒドからなる群から選択され、
ここで、前記式ＩＩの少なくとも１つの化合物が、０．０５％から０．５％（ｗ／ｗ）の総濃度で存在し、
ｃ）フェノキシエタノール、２−フェニルエタノールおよびベンジルアルコールからなる群から選択される少なくとも１つの化合物を、０．０５％から０．３％（ｗ／ｗ）の総濃度で任意に含み、
および、化粧品用に許容できる基材を含み、
ただし、前記組成物は、
細菌ホルムアルデヒド；ジアゾリジニル尿素、イミダゾリジニル尿素およびＤＭＤＭヒダントインを含むホルムアルデヒド供与体化合物；
メチルパラベン、エチルパラベン、プロピルパラベン、イソプロピルパラベン、ブチルパラベン、イソブチルパラベンおよびベンジルパラベンからなる群から選択されるパラベン、２，４−ジクロロベンジルアルコール、４−クロロ−３，５−ジメチルフェノール、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオールおよびヨードプロピニルブチルカルバメートを含むハロゲン化化合物、
および
クオタニウム−１５（ＣＡＳ  ５１２２９−７８−８）、メチル−クロロイソチアゾリノンおよびメチル−イソチアゾリノンから選択される殺真菌剤、
から選択される化合物を殺細菌、殺真菌、殺胞子の有効濃度または保存濃度で含まない、前記パーソナルケア製品組成物。
【請求項２】
少なくとも１つの化合物ａ）が、０．１から０．４％、０．１から０．３％および０．１５から０．２５％（ｗ／ｗ）から選択される濃度で存在する、請求項１に記載のパーソナルケア製品組成物。
【請求項３】
少なくとも１つの化合物ｂ）が、０．０７５から０．３％、および０．１から０．２％（ｗ／ｗ）から選択される濃度で存在する、請求項１に記載のパーソナルケア製品組成物。
【請求項４】
少なくとも１つの化合物ａ）が、０．１から０．３％（ｗ／ｗ）の濃度で存在し、少なくとも１つの化合物ｂ）が、０．０７５から０．３％および０．１から０．２％（ｗ／ｗ）から選択される濃度で存在する、請求項１に記載のパーソナルケア製品組成物。
【請求項５】
少なくとも１つの化合物ａ）が、０．１５から０．２５％（ｗ／ｗ）の濃度で存在し、少なくとも１つの化合物ｂ）が、０．０７５から０．３％および０．１から０．２％（ｗ／ｗ）から選択される濃度で存在する、請求項１に記載のパーソナルケア製品組成物。
【請求項６】
少なくとも１つの化合物ｃ）が、０．０５から０．３％（ｗ／ｗ）、０．０７５から０．２５％および０．１５から０．２％から選択される濃度で存在する、請求項２〜５のいずれかに記載のパーソナルケア製品組成物。
【請求項７】
手、顔または体に用いるクリーム、膏薬、ローションおよび軟膏、香料、オーデコロン、オードトワレ、防臭剤、制汗剤を含む、皮膚または頭皮に塗布され残存するパーソナルケア製品、ならびに、石鹸、液体石鹸、シャワージェルおよびシャンプーを含む、皮膚や頭皮に塗布され洗い流されるパーソナルケア製品のための組成物から選択される、請求項１〜６のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
スティック、ロールオン、スプレー、ポンプスプレー、エアゾール、ソープバー、パウダー、溶液、ゲル、クリーム、バルムおよびローションから選択される適用形態において選択される、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物を含むパーソナルケア製品。
【請求項９】
パーソナルケア製品組成物が脂質を含む、請求項１〜８のいずれかに記載のパーソナルケア製品またはその組成物。
【請求項１０】
組成物がエマルジョンである、請求項９に記載のパーソナルケア製品またはその組成物。
【請求項１１】
ｐＨが５から９である、請求項１〜１０のいずれかに記載のパーソナルケア製品またはパーソナルケア製品組成物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の少なくとも１つの化合物ａ）、および、請求項１〜１１のいずれかに記載の少なくとも１つの化合物ｂ）、および、任意に、請求項１〜１１のいずれかに記載の少なくとも１つの化合物ｃ）の、保存性を有するパーソナルケア製品組成物または保存性を有するパーソナルケア製品の製造のための使用。
【請求項１３】
有効量の請求項１〜６のいずれかに記載の少なくとも１つの化合物ａ）および少なくとも１つの化合物ｂ）および任意に少なくとも１つの化合物ｃ）をパーソナルケア製品の基材に混合し、請求項１に定義された条件をみたすパーソナルケア製品組成物を形成することによって、Pseudomonas aeruginosaおよびStaphylococcus aureusに対し、７日あたり少なくとも１０００の低減係数を有する十分な殺細菌性を有し、Aspergillus nigerに対し、７日あたり少なくとも１００の低減係数を有する十分な殺胞子性を有する、保存性を有するパーソナルケア製品組成物を形成する方法。
【請求項１４】
スティック、ロールオン、スプレー、ポンプスプレー、エアゾール、ソープバー、パウダー、溶液、ゲル、クリーム、バルムおよびローションを含む適切なパーソナルケア製品の適用形態に形成された請求項７に記載のパーソナルケア製品組成物を提供することによる、保存性を有するパーソナルケア製品を製造する方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
本発明の概要
第一の面として、パーソナルケア製品組成物であって、
ａ）少なくとも１つの式Ｉによるジオール化合物
【化５】
2010512348.tif 000003
式中、
Ｒ１は、メチルおよびＣ１−Ｒ２、Ｃ３（プロピル）、Ｃ４（ブチル）およびＣ６アルカン（ヘキシル）から選択され、
Ｒ２は、２−エチルヘキシルオキシであり、
ｎは、０および１から選択され、
ｎが１のとき、Ｒ１はＣ１（メチル）である、
で表される、少なくとも１つのジオール化合物を含み、
ここで、該ジオール化合物は、１，２−ペンタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，２−オクタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオールおよび３−（２−エチルヘキシルオキシ）−１，２−プロパンジオールからなる群から選択され、
ここで、前記式Ｉの少なくとも１つの化合物が、０．１％から２％（ｗ／ｗ）の総濃度で存在し、および、
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
ｂ）式ＩＩ
【化６】
2010512348.tif 000004
式中、
Ｒ１およびＲ２は、水素、メチル、ヒドロキシ、メトキシから選択されるか、または、Ｒ１とＲ２が共に３，４−メチレンジオキシ置換基を形成し、
Ｒ１が水素の場合、Ｒ２は水素、メチル、ヒドロキシおよびメトキシから選択され、
Ｒ２がヒドロキシの場合、Ｒ１は水素、ヒドロキシおよびメトキシから選択される、
で表される、少なくとも１つの化合物を含み、
ここで、該化合物は、ベンズアルデヒド、４−メチルベンズアルデヒド、ヘリオトロピン、バニリン、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシベンズアルデヒド、４−メトキシベンズアルデヒド、３−メトキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベンズアルデヒドおよび４−ヒドロキシ−２−メトキシベンズアルデヒドからなる群から選択され、
ここで、前記式ＩＩの少なくとも１つの化合物が、０．０５％から０．５％（ｗ／ｗ）の総濃度で存在し、
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
ｃ）フェノキシエタノール、２−フェニルエタノールおよびベンジルアルコールからなる群から選択される少なくとも１つの化合物を、０．０５％から０．３％（ｗ／ｗ）の総濃度で任意に含み、
および、化粧品用に許容できる基材を含み、
ただし、前記組成物は、
細菌ホルムアルデヒド；ジアゾリジニル尿素、イミダゾリジニル尿素およびＤＭＤＭヒダントインを含むホルムアルデヒド供与体化合物；
メチルパラベン、エチルパラベン、プロピルパラベン、イソプロピルパラベン、ブチルパラベン、イソブチルパラベンおよびベンジルパラベンからなる群から選択されるパラベン、
２，４−ジクロロベンジルアルコール、４−クロロ−３，５−ジメチルフェノール、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオールおよびヨードプロピニルブチルカルバメートを含むハロゲン化化合物、
および
クオタニウム−１５（ＣＡＳ  ５１２２９−７８−８）、メチル−クロロイソチアゾリノンおよびメチル−イソチアゾリノンから選択される殺真菌剤、
から選択される化合物を殺細菌、殺真菌、殺胞子の有効濃度または保存濃度で含まない、前記パーソナルケア製品組成物を提供する。