(57)【要約】【課題】保護化デオキシヌクレオシドの製造中間体であるＮ６−アシル化−２’−デオキシアデノシン誘導体を工業的に製造する方法を提供する。【解決手段】一般式（２）で表される化合物存在下、芳香族炭化水素及び水により、分配を行うことにより一般式（１）を含む溶液より一般式（２）に示される化合物を除去する。【効果】工業的スケールにおいて一般式（１）に示されるＮ６−アシル化デオキシアデノシン誘導体を単離精製することが可能になった。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）［化１］
【化１】
2004307406.tif 000008
（式中、Ｒ１は水素原子，置換されている水酸基を表す、Ｒ２は置換されてもよいフェニル基、置換されてもよいフェニルアセチル基、置換されてもよいフェノキシアセチル基を表す）を含む溶液より、芳香族炭化水素を用いて一般式（２）［化２］
【化２】
2004307406.tif 000009
（式中，Ｒ２は前記に同じ、Ｒ３は炭素数１〜３の置換されてもよいアルキル基を表す）で表されるエステル類を除去する方法。
【請求項２】
芳香族炭化水素がトルエン，キシレン、イソプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼンあるいはそれらの混合物である、請求項１に記載のエステル類を除去する方法。
【請求項３】
Ｒ２がフェニル基であり、Ｒ３がエチル基である請求項１または２に記載のエステル類を除去する方法。
【請求項４】
一般式（１）において、Ｒ１が水素原子であり、Ｒ２がフェニル基である請求項１から３のいずれか１項に記載のエステル類を除去する方法。
【請求項５】
芳香族炭化水素の量および水の量が一般式（１）に示される化合物の５重量倍以上である請求項１から４のいずれか１項に記載のエステル類を除去する方法。
【請求項６】
一般式（１）を含む溶液が、一般式（３）［化３］
【化３】
2004307406.tif 000010
（式中、Ｒ１は前記に同じ）であらわされる化合物をピリジン中Ｒ２−ＣＯＣｌ（Ｒ２は前記に同じ）を用いてアシル化した後に、単離することなく加水分解して得た一般式（１）（式中、Ｒ１，Ｒ２は前記に同じ）を含有する溶液である事を特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のエステル類を除去する方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、保護化デオキシヌクレオシドに関する。さらに詳しくは、本発明は保護化２’−デオキシヌクレオシドの製造方法に関する。保護化２’−デオキシヌクレオシド類は近年開発されつつあるアンチセンスＤＮＡなどの原料として有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ゲノム創薬の進展に伴い、アンチセンスＤＮＡ医薬などが急速に開発されている。それに伴い、原料となるＤＮＡオリゴマー、さらにオリゴマーの原料となる保護化デオキシヌクレオシド類の需要が増大している。その中で、Ｎ６−アシル化デオキシアデノシン誘導体は保護化デオキシヌクレオシド類の製造の際の重要な中間体として用いられている。
【０００３】
Ｎ６−アシル化デオキシアデノシン誘導体の合成法においては、いくつかの方法が知られている。一つ目は、ジャーナル  オブ  アメリカン  ケミカル  ソサエティ  第１０４巻  １３１６項（１９８２）の方法に代表される方法で、２’−デオキシアデノシンをピリジン中、トリメチルシリルクロリドでＮおよびＯ原子のシリル化をしたのちにベンゾイルクロリドによりＮ−ベンゾイル化を行い、さらにアンモニア水によりシリル基の加水分解を行いＮ６−ベンゾイルー２’−デオキシアデノシンを得る方法である。この方法においては加水分解後シリル基由来の不純物や安息香酸エステルや安息香酸アミドなどを酢酸エチルを用いて除去している。しかしながら、ピリジン存在下の酸エチルによる抽出の方法においては、生成したＮ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン自身も一部抽出されてしまうため、一旦ほぼ完全に溶媒を除去したのちに分液操作をする方法がとられており，非常に煩雑で工業的には問題がある。また、別の方法としてジャーナルオブ  アメリカン  ケミカル  ソサエティ  第８５巻  ３８２１項（１９６３年）（  Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  ８５，  ３８２１（１９６３）．）で知られているように、２’−デオキシアデノシンをベンゾイルクロリドを用いてＮ，Ｎ，Ｏ３’、Ｏ５’−テトラベンゾイルー２’−デオキシアデノシンに変換したのち、加水分解をおこないＮ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシンを合成する方法が知られているが、この方法においては加水分解後、生成した安息香酸エステル類を除去するためにジエチルエーテルによる分液除去を行っているが、やはりピリジン存在下でジエチルエーテル抽出を行うと生成物自身も抽出されてしまうために、一旦ほぼ完全に溶媒を留去する操作を必要としているため煩雑である。さらにジエチルエーテルは工業的に取り扱いが難しい。
【０００４】
【非特許文献１】Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  ８５，  ３８２１（１９６３）
【０００５】
【非特許文献２】ジャーナル  オブ  アメリカン  ケミカル  ソサエティ  第１０４巻  １３１６項（１９８２）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
以上述べた従来知られていたＮ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン類の製造方法においては、不純物を除去する分液工程で除去効率を高めるために、一旦高濃度に濃縮する必要があり、安全性や効率などに問題が生じているため、これらを改善するような工業的に利用可能な不純物除去法が求められていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、芳香族炭化水素類を抽出溶媒に用いることにより、加水分解反応後濃縮操作をすることなしに効率的に不純物を除去できることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、
［１］一般式（１）［化４］
【０００８】
【化４】
2004307406.tif 000002
【０００９】
（式中、Ｒ１は水素原子，置換されている水酸基を表す、Ｒ２は置換されてもよいフェニル基、置換されてもよいフェニルアセチル基、置換されてもよいフェノキシアセチル基を表す）を含む溶液より、芳香族炭化水素を用いて一般式（２）［化５］
【００１０】
【化５】
2004307406.tif 000003
【００１１】
（式中，Ｒ２は前記に同じ、Ｒ３は炭素数１〜３の置換されてもよいアルキル基を表す）で表されるエステル類を除去する方法であり、
［２］  芳香族炭化水素がトルエン，キシレン、イソプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼンあるいはそれらの混合物である、［１］に記載のエステル類を除去する方法であり、
［３］  Ｒ２がフェニル基であり、Ｒ３がエチル基である［１］または［２］に記載のエステル類を除去する方法であり、
［４］  一般式（１）において、Ｒ１が水素原子であり、Ｒ２がフェニル基である［１］から［３］のいずれか１項に記載のエステル類を除去する方法であり、
［５］  芳香族炭化水素の量および水の量が一般式（１）に示される化合物の５重量倍以上である［１］から［４］のいずれか１項に記載のエステル類を除去する方法であり、
［６］  一般式（１）を含む溶液が、一般式（３）［化６］
【００１２】
【化６】
2004307406.tif 000004
【００１３】
（式中、Ｒ１は前記に同じ）であらわされる化合物をピリジン中Ｒ２−ＣＯＣｌ（Ｒ２は前記に同じ）を用いてアシル化した後に、単離することなく加水分解して得た一般式（１）  （式中、Ｒ１，Ｒ２は前記に同じ）を含有する溶液である事を特徴とする［１］〜［５］のいずれか１項に記載のエステル類を除去する方法である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
一般式（１）に示される化合物のＲ１における置換されている水酸基とは、水酸基の先にアルキル基、あるいは他の官能基によりさらに置換されているアルキル基を表す。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基、ベンジルオキシメトキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などが挙げられる。
【００１５】
Ｒ２における置換されてもよいフェニル基とは、置換基がフェニル基の芳香環２位、３位，４位いずれの位置にあってもよい。また、複数の位置に置換基があってもよい。置換基としてはたとえばメチル基、エチル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、２−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基などのアルキルオキシ基、ニトロ基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基などのアルキルアミノ基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基などのアシル基、フェニル基、ピリジニル基等が挙げられる。具体的にはフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，４−ジニトロフェニル基などが挙げられる。
【００１６】
Ｒ２における置換されてもよいフェニルメチル基とは、フェニル基あるいはメチル基部分にそれぞれ置換基を有してもよいフェニルメチル基を表す。具体的には、フェニルメチル基、２−ニトロフェニルメチル基、３−ニトロフェニルメチル基、４−ニトロフェニルメチル基、４−メトキシフェニルメチル基などが挙げられる。
【００１７】
Ｒ２における置換されてもよいフェノキシメチル基とはフェニル基、あるいはメチル基部分にそれぞれ置換基を有してもよいフェノキシメチル基を表す。具体的にはフェノキシメチル基、４−ニトロフェノキシメチル基、４−メトキシフェノキシメチル基などが挙げられる。
【００１８】
Ｒ３における炭素数１〜３の置換されてもよいアルキル基とは、アルキル基の先にさらに水酸基あるいはＲ２−ＣＯ−Ｏ−基で任意に置換されてもよいアルキル基を表す。具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−プロピル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ベンゾイルオキシエチル基、３−ベンゾイルオキシプロピル基、３−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル基等が挙げられる。
【００１９】
芳香族炭化水素とは芳香族の官能基を有する炭化水素類を表す。これらは単一でも、混合物であってもかまわない。具体的には、ベンゼン，トルエン、エチルベンゼン、キシレン、クメン、シメン、イソプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリイソプロピルベンゼン等があげられる。中でも、トルエン，キシレン，ジイソプロピルベンゼンが望ましい。芳香族炭化水素のうち位置異性体を有する化合物については、その位置異性体それぞれ単一であっても、それらを任意の割合で含む混合物であってもかまわない。具体的にはキシレンにおいては１，２−キシレン、１，３−キシレン，１，４−キシレンのいずれでも、それらの混合物でもかまわなく、ジイソプロピルベンゼンの場合は１，２−ジイソプロピルベンゼン、１，３−ジイソプロピルベンゼン、１，４−ジイソプロピルベンゼンのいずれでも、それらの混合物でもかまわない。
【００２０】
芳香族炭化水素の量については，不純物の除去に十分であればいずれでもかまわないが、炭化水素量があまりに多いと容積効率が低下する。一般式（１）で表される化合物の４倍量から１００倍量が望ましく、さらに望ましくは５倍量から３０倍量である。
【００２１】
芳香族炭化水素を加えた際に、二層分離が不充分な場合は水を加えることができる。加える水の量は二層分離に十分な量かつ不純物の除去に十分な量であればいずれでもかまわないが、一般式（１）で表される化合物の４倍量から１００倍量がのぞましく、さらに望ましくは５倍量から３０倍量である。
【００２２】
不純物を除去する操作については、１回の分液で十分な精製効果が現れるが、複数回の抽出洗浄を行うことによりより高度に精製することもできる。また、芳香族炭化水素層にごく少量抽出された一般式（１）の化合物は、さらに芳香族炭化水素層を水で抽出することにより、芳香族炭化水素層から回収することができる。
【００２３】
芳香族炭化水素層で不純物を除去する際の水層のｐＨは、一般式（１）の化合物が分解しない範囲であれば任意のｐＨでかまわないが，ｐＨ６．５から１０の間が望ましく、さらに望ましくはｐＨ７〜９の間である。分液操作を行う際の温度は、一般式（１）の化合物が容易に分解しない範囲であれば任意の温度でかまわないが、０℃から４０℃の間が望ましく、さらに望ましくは１０℃から３５℃である。
【００２４】
このようにして不純物を除去したのちにさらに濃縮、結晶化などの方法により精製単離精製を行うことができる。結晶化による不純物の除去においては、不純物を除去可能な溶媒であればいずれでもかまわないが、水が特に望ましい。結晶化時におけるｐＨについては、生成物が分解しない範囲であればいずれでもかまわないが，ｐＨ７〜９が望ましく、さらに望ましくはｐＨ８〜８．５である。結晶化の際の温度については結晶化に十分な温度であればいずれでもかまわないが、−２℃から５℃が望ましくさらに望ましくは−１℃から２℃である。
【００２５】
以上、本発明により、高収率高純度のＮ６−アシル化−２’−デオキシアデノシン類を工業的に得ることができるようになった。
【００２６】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【００２７】
実施例及び比較例のＨＰＬＣ分析条件
2004307406.tif 000005
【００２８】
〔Ａ液〕
水（２９４０ｍｌ）にＮａＨ２ＰＯ４・２水和物（１．９２ｇ）、Ｎａ２ＨＰＯ４（２．４３ｇ）を溶解後、ＭｅＯＨ（６０ｍｌ）を加え混和し、脱気する。
〔Ｂ液〕
水（３００ｍｌ）にＮａＨ２ＰＯ４・２水和物（１９６ｍｇ）、Ｎａ２ＨＰＯ４（２４８ｍｇ）を溶解後、ＭｅＯＨ（２７００ｍｌ）を加え混和し、脱気する。
【００２９】
実施例１    Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオシキアデノシン一水和物の製造
２’−デオシキアデノシン１００ｇをピリジン７００ｇに懸濁し、ベンゾイルクロライド２８７ｇを室温で滴下し、３時間反応した。反応終了後、反応液にエタノール２２０ｇを加え１時間攪拌後、０℃まで冷却し３６％ＮａＯＨ水溶液４０５ｇを加え、同温で３時間反応した。得られた反応液を３５％塩酸水で中和後、トルエン９００ｇ、水９５０ｇを加えて分液し、更に有機層を同量の水を加え洗浄した。得られた水層を合わせて濃縮したのちに冷却し、析出した沈殿物をろ取、洗浄、乾燥し、目的物であるＮ６−ベンゾイル−２’−デオシキアデノシン  一水和物１１７ｇ（８４．４％）を得た。
【００３０】
実施例２，３，４および比較例１，２
２’−デオシキアデノシン１００ｇをピリジン７００ｇに懸濁し、ベンゾイルクロライド２８７ｇを室温で滴下し、３時間反応した。反応終了後、反応液にエタノール２２０ｇを加え１時間攪拌後、０℃まで冷却し３６％ＮａＯＨ水溶液４０５ｇを加え、同温で３時間反応した。得られた反応液を３５％塩酸水で中和後、この溶液４０ｇをとり、有機溶媒４０ｇ、および水４０ｇを加え分液操作を行った後、有機層及び水層中の安息香酸エチル量および生成物のＮ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシンの量を分析した。結果を表１に示した。
【００３１】
【表１】
2004307406.tif 000006
【００３２】
実施例５〜８
２’−デオシキアデノシン１００ｇをピリジン７００ｇに懸濁し、ベンゾイルクロライド２８７ｇを室温で滴下し、３時間反応した。反応終了後、反応液にエタノール２２０ｇを加え１時間攪拌後、０℃まで冷却し３６％ＮａＯＨ水溶液４０５ｇを加え、同温で３時間反応した。得られた反応液を３５％塩酸水で中和後、この溶液４０ｇをとり、トルエン４０ｇ、および水を加え分液操作を行った後、有機層及び水層中の安息香酸エチル量および生成物のＮ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシンの量を分析した。結果を表２に示した。
【００３３】
【表２】
2004307406.tif 000007
【００３４】
【発明の効果】
Ｎ６−アシル化−２’−デオキシアデノシン誘導体の製造において、反応液から不純物を除去する際に反応液を濃縮することなく不純物を除去することが出来、工業的に有用な方法が提供される。