【手続補正書】
【提出日】平成24年5月10日(2012.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２４】
本開示の範囲及び趣旨から逸脱することなく本開示の様々な修正形態及び変更形態が、当業者には、明らかとなろう。また、本発明は、本明細書に記載した例示的な要素に限定されないことが理解されるべきである。
本発明はまた、以下の内容を包含する。
（１）再湿潤可能な非対称な膜の形成方法であって、
第１主表面、間隙孔、及び第２主表面を有する多孔質基材を提供する工程と、
重合可能組成物を前記多孔質基材の前記第１主表面に適用して、コーティングされた多孔質基材を提供する工程であって、前記重合可能組成物は、
ｉｖ）少なくとも１つの重合可能種、
ｖ）親水性基及び疎水性基を含む少なくとも１つのコポリマー、及び
ｖｉ）少なくとも１つの光開始剤を含む、工程と、
前記重合可能組成物を重合し、前記再湿潤可能な非対称な膜を提供するために、前記コーティングされた多孔質基材を紫外線に曝露する工程であって、前記膜は、前記第１主表面から前記第２主表面まで延びる重合物質の勾配を含み、前記重合物質によって占められてない前記間隙孔の部分内でコポリマーを備え、前記第２主表面は前記重合物質を実質的に有さない、工程と、を含む、再湿潤可能な非対称な膜の形成方法。
（２）前記重合可能組成物が溶媒を更に含む、項目（１）に記載の方法。
（３）前記溶媒の少なくとも一部を前記再湿潤可能な非対称な膜から取り除く工程を更に含む、項目（２）に記載の方法。
（４）前記重合可能な組成物が架橋剤を更に含む、項目（１）に記載の方法。
（５）前記コポリマーを前記重合物質によって占められていない前記間隙孔の前記部分上に沈殿させるために、前記再湿潤可能な非対称な膜を液浴に浸漬する工程を更に含む、項目（１）に記載の方法。
（６）前記多孔質基材がミクロ孔質である、項目（１）〜（５）のいずれか一項に記載の方法。
（７）前記多孔質基材がミクロ孔質の熱誘起相分離膜を含む、項目（１）〜（５）のいずれか一項に記載の方法。
（８）前記多孔質基材がポリオレフィン、ポリアミド、フッ素化ポリマー、ポリ（エーテル）スルホン、セルロース誘導体、ポリ（エーテル）イミド、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、セラミックス、又はこれらの組み合わせを含む、項目（１）に記載の方法。
（９）前記多孔質基材がポリオレフィンを含む、項目（８）に記載の方法。
（１０）前記ポリオレフィンがポリエチレン又はポリプロピレンを含む、項目（９）に記載の方法。
（１１）前記多孔質基材がポリアミドを含む、項目（８）に記載の方法。
（１２）前記ポリアミドがナイロン６，６を含む、項目（１１）に記載の方法。
（１３）前記重合可能種の少なくとも１つが、アクリレート、メタクリレート、（メタ）アクリルアミド、スチレン、アリル、ビニルエーテル、又はこれらの組み合わせを含む、項目（１）に記載の方法。
（１４）前記重合可能種の少なくとも１つがイオン基を含む、項目（１）に記載の方法。
（１５）前記イオン基がスルホン酸又はスルホン酸塩を含む、項目（１４）に記載の方法。
（１６）前記イオン基がアミン又は四級アンモニウム塩を含む、項目（１４）に記載の方法。
（１７）前記イオン基がカルボン酸又はカルボン酸塩を含む、項目（１４）に記載の方法。
（１８）前記イオン基がホスホン酸又はホスホン酸塩を含む、項目（１４）に記載の方法。
（１９）前記イオン基が正電荷を帯びているか、負電荷を帯びているか、又はこれらの組み合わせである、項目（１４）に記載の方法。
（２０）前記重合可能種の少なくとも１つがイオン基を含む、項目（１４）〜（１９）のいずれか一項に記載の方法。
（２１）非イオン基を含む少なくとも１つの重合可能種を更に含む、項目（２０）に記載の方法。
（２２）前記重合可能組成物が架橋剤を更に含む、項目（１）〜（２１）のいずれか一項に記載の方法。
（２３）前記紫外線源が複数の単色放射線源を含む、項目（１）に記載の方法。
（２４）前記複数の単色放射線源が、エキシマランプ源、水銀ランプ源、発光ダイオード、レーザー源、又はこれらの組み合わせを含む、項目（２３）に記載の方法。
（２５）前記紫外線源が複数の蛍光放射線源を含む、項目（１）に記載の方法。
（２６）前記紫外線源が単色放射線源、蛍光放射線源、又はこれらの組み合わせを含む、項目（２３）〜（２５）のいずれか一項に記載の方法。
（２７）前記紫外線源が約３４０ｎｍ未満のピーク放射波長を含む、項目（１）に記載の方法。
（２８）前記コーティングされた多孔質基材を、透明な第１層と第２層との間に位置付けて多層構造を形成し、前記透明な第１層は前記第１主表面に隣接して位置付けられ、前記第２層は前記第２主表面に隣接して位置付けられ、前記透明な第１層は前記紫外線源に最も近い、工程を更に含み、前記コーティングされた多孔質基材を前記紫外線源に曝露する工程が、前記多層構造を前記紫外線に曝露する工程を含む、項目（１）に記載の方法。
（２９）前記コーティングされた多孔質基材を、３４０ｎｍ未満のピーク放射波長を有する前記紫外線源で処理した後に、前記透明な第１層及び前記第２層を前記多層構造から取り除く工程を更に含む、項目（２８）に記載の方法。
（３０）項目（１）〜（２９）のいずれか一項に記載の方法によって形成される再湿潤可能な親水性の膜。
（３１）前記多孔質基材内に保持される重合物質及びコポリマーを有する多孔質基材を含む再湿潤可能な非対称な膜であって、前記コポリマーが、前記重合物質によって占められていない間隙孔の一部上に集まり、第２主表面が、前記重合物質を実質的に有さないように、前記重合物質は第１主表面において、前記第２主表面におけるよりも高い濃度を有する、再湿潤可能な非対称な膜。
（３２）項目（３１）に記載の軟水化膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
再湿潤可能な非対称な膜の形成方法であって、
第１主表面、間隙孔、及び第２主表面を有する多孔質基材を提供する工程と、
重合可能組成物を前記多孔質基材の前記第１主表面に適用して、コーティングされた多孔質基材を提供する工程であって、前記重合可能組成物は、
ｉ）少なくとも１つの重合可能種、
ｉｉ）親水性基及び疎水性基を含む少なくとも１つのコポリマー、及び
ｉｉｉ）少なくとも１つの光開始剤を含む、工程と、
前記重合可能組成物を重合し、前記再湿潤可能な非対称な膜を提供するために、前記コーティングされた多孔質基材を紫外線に曝露する工程であって、前記膜は、前記第１主表面から前記第２主表面まで延びる重合物質の勾配を含み、前記重合物質によって占められてない前記間隙孔の部分内でコポリマーを備え、前記第２主表面は前記重合物質を実質的に有さない、工程と、を含む、再湿潤可能な非対称な膜の形成方法。
【請求項２】
前記コポリマーを前記重合物質によって占められていない前記間隙孔の前記部分上に沈殿させるために、前記再湿潤可能な非対称な膜を液浴に浸漬する工程を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記多孔質基材がミクロ孔質である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記重合可能種の少なくとも１つが、アクリレート、メタクリレート、（メタ）アクリルアミド、スチレン、アリル、ビニルエーテル、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記重合可能種の少なくとも１つが、スルホン酸またはスルホン酸塩、アミンまたは四級アンモニウム塩、カルボン酸またはカルボン酸塩、及びホスホン酸またはホスホン酸塩から選択されるイオン基を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記紫外線源が約３４０ｎｍ未満のピーク放射波長を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記コーティングされた多孔質基材を、透明な第１層と第２層との間に位置付けて多層構造を形成し、前記透明な第１層は前記第１主表面に隣接して位置付けられ、前記第２層は前記第２主表面に隣接して位置付けられ、前記透明な第１層は前記紫外線源に最も近い、工程を更に含み、前記コーティングされた多孔質基材を前記紫外線源に曝露する工程が、前記多層構造を前記紫外線に曝露する工程、並びに前記コーティングされた多孔質基材を、３４０ｎｍ未満のピーク放射波長を有する前記紫外線源で処理した後に、前記透明な第１層及び前記第２層を前記多層構造から取り除く工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記多孔質基材内に保持される重合物質及びコポリマーを有する多孔質基材を含む再湿潤可能な非対称な膜であって、前記コポリマーが、前記重合物質によって占められていない間隙孔の一部上に集まり、第２主表面が、前記重合物質を実質的に有さないように、前記重合物質は第１主表面において、前記第２主表面におけるよりも高い濃度を有する、再湿潤可能な非対称な膜。