【事件の表示】
　平成　７年特許願第３３８８６８号「露光装置および露光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　７月１１日出願公開、特開平　９−１８０９８９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．本願は、平成７年１２月２６日の出願であって、原審において、拒絶査定され、審判請求された後、当審において拒絶の理由が通知され、その指定期間内に提出された平成１６年６月１８日付け手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その請求項２に係る発明（以下、「本願第２発明」という。）は、請求項２に記載された次のとおりのものである。
　請求項２
　レチクルとウェーハとを移動させながら、前記レチクルに形成されたパターン像をスキャンして前記ウェーハ上に投影し、前記ウェーハの露光面を前記レチクルのパターン像により露光する露光方法において、
　前記レチクルのスキャン方向への移動にともなう、前記レチクルのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の変化を連続的に測定し、
　その測定の結果より、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置を、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の測定値にもとづく合焦位置より、前記レチクルのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の変化分だけオフセットさせるための補正値を算出し、
　この補正値と、前記ウェーハのスキャン方向への移動にともなう、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の測定値とにもとづいて、逐次、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置を調整しながら露光するようにしたことを特徴とする露光方法。
　
２．当審の拒絶の理由に引用した引用例
引用例１　特開平７−２２１０１２号公報
　
２．１ 引用例１の記載内容
　引用例１の【００１２】〜【００１４】段落には、
「【００１２】なお、投影光学系が等倍でない一般の露光装置においても、マスクの位置情報および基板の位置情報を検出し、その間隔が所定間隔になるようにマスクおよび基板の少なくとも一方を移動制御して、転写パターンの焦点ずれを実質的に回避することができる。この場合、検出したマスクの位置情報および基板の位置情報に基づいて、マスクおよび基板をそれぞれ所定位置に移動させるのが好ましい。このように、本発明によれば、たとえば斜入射フォーカス検出光学系を利用してマスクおよび基板の位置情報を検出し、その間隔が一定または所定間隔を保つように制御することによって、転写パターンの焦点ずれを実質的に回避することができる。
【００１３】
【実施例】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の実施例にかかる露光装置の構成を示す斜視図である。また、図２は、図１の露光装置の位置検出系の構成を示す図である。図１および図２に示すように、本実施例の露光装置では、マスク２１に形成されたパターンを照明手段（不図示）により均一に照明し、等倍投影光学系２２を介して基板であるプレート２３に転写する。
【００１４】図示のように、マスク２１およびプレート２３が大型になると、投影光学系２２の有効視野がマスク２１およびプレート２３上でそれぞれ２５および２６の範囲しか確保することができない。この場合、マスク２１およびプレート２３を投影光学系２２に対して一体的に図中矢印の方向に相対移動させることによって、すなわち一方向に露光走査することによって、所望の広い露光面積全体を投影露光する。」
と記載されている。
　引用例１の【００１９】〜【００２３】段落には、
「【００１９】図４は、等倍投影光学系とマスクおよびプレートとの共役関係を示す図である。図４において、マスク３１に形成されたパターンは、等倍投影光学系３２を介してプレートのような基板３３上に結像する。マスク３１が図中上方に距離ｄだけ移動して破線で示すように３１′の位置にくると、パターンの結像位置は基板３３の位置より距離ｄだけ図中上方に移動する。すなわち、マスク３１と基板３３との間隔を一定に保持するように、基板３３を図中破線で示す位置に移動すれば、共役関係が保たれ転写パターンの焦点ずれが発生しない。
【００２０】したがって、図１および図２に示すような露光装置において、距離ＬおよびＬ′が常に一定になるように、駆動制御装置２８および駆動装置２９、３０によってマスク２１およびプレート２３のうち少なくとも一方を移動制御すれば、転写パターンの焦点ずれを実質的に回避することができる。また、マスク２１およびプレート２３からの反射光が図２中実線で示す光路を進み、二次元センサ１１上においてそれぞれ所定位置で受光されるように、ひいてはマスク２１およびプレート２３がそれぞれ所定位置に位置決めされるように、マスク２１およびプレート２３の双方を移動制御してもよい。
【００２１】
　図５は、マスクの自重による撓みおよびプレート表面の傾斜がある様子を示す図であって、（ａ）は予備走査（非露光）前のマスクおよびプレートの様子を、（ｂ）は予備走査後に位置決め補正されたマスクおよびプレートの様子を示している。
　一般に、マスクは周辺支持されているので自重による撓みが問題となる。また、プレートはステージにより全面支持されているので撓み変形は問題とならないが、表面傾斜が問題になる。
【００２２】
　図５（ａ）に示すように、マスク４１が自重により撓み、プレート４３の表面に傾斜が付いているような場合には、たとえばマスク４１の中心Ｏにおいてプレート４３との間隔を所定間隔Ｈに保持しても、マスク４１とプレート４３の間隔を走査方向（図中矢印で示す）に亘って所定間隔Ｈに保持することはできない。その結果、図中矢印方向に走査しながら等倍投影光学系４２を介してマスク４１に形成されたパターンをプレート４３に転写すると、プレート４３の中央Ｏ′の付近では焦点ずれが発生しないが周辺領域では転写パターンの焦点ずれが発生してしまう。
【００２３】
　そこで、図２の位置検出光学系を用いて、非露光の状態で予備走査しながらマスク４１およびプレート４３の位置情報を検出する。検出した位置情報に基づいて、マスク４１とプレート４３との間隔と所定間隔Ｈとの偏差が走査方向に亘ってできるだけ小さくなるように、マスク４１およびプレート４３の少なくとも一方を位置決め制御する。
　こうして、図５（ｂ）に示すように予備走査後に位置決め補正し、マスク４１に形成されたパターンを等倍投影光学系４２を介してプレート４３に転写すると、プレート４３のほぼ全面に亘り転写パターンの焦点ずれのない投影露光が可能になる。」
と記載されている。
　引用例１の【００２８】段落には、
「【００２８】さらに、上述の実施例では、等倍投影光学系を有する露光装置について本発明を説明したが、非等倍の投影光学系を有する露光装置においても、マスクの位置情報および基板の位置情報に基づいて、マスクと基板との間隔が所定間隔になるように、あるいはマスクの位置および基板の位置がそれぞれ所定位置になるように位置決め制御して、転写パターンの焦点ずれを回避することができる。」
と記載されている。
　
２．２ 引用例１記載の発明
　引用例１記載の発明は、「マスク２１およびプレート２３を投影光学系２２に対して一体的に図中矢印の方向（当該「矢印の方向」は、第１図を参照すると、投影光学系２２に垂直な方向である。）に相対移動させることによって、すなわち一方向に露光走査することによって、所望の広い露光面積全体を投影露光する」（【００１４】段落）ものであって、「位置検出光学系を用いて、非露光の状態で予備走査しながらマスク４１およびプレート４３の位置情報を検出する。検出した位置情報に基づいて、マスク４１とプレート４３との間隔と所定間隔Ｈとの偏差が走査方向に亘ってできるだけ小さくなるように、マスク４１およびプレート４３の少なくとも一方を位置決め制御する」（【００２３】段落）発明であって、「マスクおよび基板の位置情報を検出し、その間隔が一定または所定間隔を保つように制御することによって、転写パターンの焦点ずれを実質的に回避する」ものである。
　
３．対比
　本願第２発明と引用例１記載の発明を対比する。
　引用例１記載の「マスク」、「プレート」及び「走査」は、本願第２発明の、「レチクル」、「ウェーハ」及び「スキャン」に相当する。
　また、引用例１記載の「マスク４１およびプレート４３の位置情報」は、マスク４１およびプレート４３の走査方向と直交する方向の位置情報であり、引用例１記載の発明は、マスクおよび基板の位置情報を検出し、その間隔が一定または所定間隔を保つように制御することによって、転写パターンの焦点ずれを実質的に回避するものであるから、引用例１記載の発明は、実質的に、本願第２発明の「ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置を、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の測定値にもとづく合焦位置より、前記レチクルのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の変化分だけオフセットさせるための補正値を算出」に相当するものである。
　したがって、本願第２発明及び引用例１記載の発明は、
「レチクルとウェーハとを移動させながら、前記レチクルに形成されたパターン像をスキャンして前記ウェーハ上に投影し、前記ウェーハの露光面を前記レチクルのパターン像により露光する露光方法において、
　前記レチクルのスキャン方向への移動にともなう、前記レチクルのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の変化を連続的に測定し、
　その測定の結果より、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置を、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の測定値にもとづく合焦位置より、前記レチクルのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の変化分だけオフセットさせるための補正値を算出し、
　この補正値と、前記ウェーハのスキャン方向への移動にともなう、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の測定値とにもとづいて、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置を調整しながら露光するようにしたことを特徴とする露光方法。」
において一致し、本願第２発明は、「レチクルのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の変化分だけオフセットさせるための補正値を算出し、
　この補正値と、前記ウェーハのスキャン方向への移動にともなう、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置の測定値とにもとづいて、逐次、前記ウェーハのスキャン方向と直交する方向の高さ位置を調整しながら露光する」こと、即ち、補正値の算出と同時にウェーハの高さ位置を調整しながら露光するのに対し、引用例１記載の発明は、予備走査によって補正値を算出し、その後、補正値を用いて露光するものである点において両者は相違（以下、「相違点」という。）する。
　
４．判断
　上記相違点について検討すると、補正値の算出と同時にウェーハの高さ位置を調整しながら露光することは、周知手段（例えば特開平７−３０２７５４号公報及び特開昭６１−２５１０２９号公報等参照）にすぎず、引用例１記載の発明に対し、上記周知手段を適用することは当業者が容易に想到できたことであり、また、その効果も当業者が予測できた程度のものにすぎない。
　
５．そうすると、本願請求項２に係る発明は、引用例１及び周知手段にに基いて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって結論のとおり審決する。