Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月9日(2012.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
実施例４
Ｃｅｒｅｎｏｌ（商標）Ｈ１７４０およびアクリロイル塩化物から出発するポリ（トリメチレンエーテル）グリコールのアクリル酸エステルの合成
４９.８ｇのポリ（トリメチレンエーテル）グリコール（Ｍｎ＝１７４０）および６.９ｇのトリエチルアミン（Ａｌｄｒｉｃｈ、９９.５％）を三ツ口ガラス反応器に取った。その後、氷浴を用いて混合物を８℃に冷却した。乾燥窒素ガスを１時間にわたり反応混合物上に通して、空気および水分を除去した。混合物を完全に攪拌するとともに温度を１２℃未満に保ちつつ、６.３ｇのアクリロイル塩化物（Ａｌｄｒｉｃｈ、９８％）をゆっくり添加した。添加が完了した後、氷浴の氷を水と交換して、抑制された方法で反応温度を上げ、温度のいかなる急上昇も避けた。反応を２８℃にもっていった後、反応混合物を３０分にわたり攪拌した。反応温度を６０℃にゆっくり上げ、その温度で６時間にわたり維持した。反応混合物を約３５℃に冷却し、その後、５０ｍＬの５％ＫＯＨ溶液、１００ｍＬのジクロロメタンおよび５０ｍＬの水を添加した。混合物を３０分にわたり完全に攪拌し、分液漏斗に移送した。得られた生成物を放置して一晩沈殿させた。混合物の有機部分を単離し、５００ｐｐｍの４−メトキシフェノールを添加した。３０℃において、減圧（３００〜５００ｍＴｏｒｒ）下でロータリーエバポレータを用いて溶媒を除去した。２００ｐｐｍのＢＨＴを最終生成物に添加した。得られた生成物を表１において示した通りＮＭＲを用いて分析した。
【表１】
2012513525.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
以下、本発明を要約すると下記のとおりである。
１．式（Ｉ）
ＣＨ2＝ＣＲ1−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｑ−ＯＲ2（Ｉ）
［式中、Ｑはヒドロキシル基引抜き後のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールを表し、Ｒ1はＨまたはＣＨ3であり、Ｒ2の各々はＨまたはＣＨ2＝ＣＲ1−Ｃ（Ｏ）である］
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの（メタ）アクリル酸エステルを、開始剤の存在下で、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、ヘプチルアクリレート、２−ヘプチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルブチルアクリレート、ドデシルアクリレート、ヘキサデシルアクリレート、イソボルニルアクリレートおよびシクロヘキシルアクリレートからなる群から選択される１つまたはそれ以上のアクリレートエステルモノマーと反応させることを含む方法。
２．式（Ｉ）
ＣＨ2＝ＣＲ1−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｑ−ＯＲ2（Ｉ）
［式中、Ｑはヒドロキシル基引抜き後のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールを表し、Ｒ1はＨまたはＣＨ3であり、Ｒ2の各々はＨまたはＣＨ2＝ＣＲ1−Ｃ（Ｏ）である］
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの（メタ）アクリル酸エステルを、開始剤の存在下で、アクリロニトリル、ブタジエン、スチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンおよび酢酸ビニルからなる群から選択される１つまたはそれ以上のモノマーと反応させることを含む方法。
３．ポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの（メタ）アクリル酸エステルの量が１〜９９質量％である、上記１または２に記載の方法。
４．開始剤が、過酸化物、ヒドロペルオキシド、アゾ化合物、レドックス開始剤および光開始剤からなる群から選択される、上記１または２に記載の方法。
５．上記１に記載の方法の生成物を含むセラミック材料。
６．上記１に記載の方法の生成物を含むレザー製品。
７．上記１に記載の方法の生成物を含む織布または不織布。
８．上記１に記載の方法の生成物を含む塗料材料。
９．上記１に記載の方法の生成物を含むパーソナルケア製品調合物。
１０．上記１に記載の方法の生成物を含むインク。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
ＣＨ2＝ＣＲ1−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｑ−ＯＲ2（Ｉ）
［式中、Ｑはヒドロキシル基引抜き後のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールを表し、Ｒ1はＨまたはＣＨ3であり、Ｒ2の各々はＨまたはＣＨ2＝ＣＲ1−Ｃ（Ｏ）である］
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの（メタ）アクリル酸エステルを、開始剤の存在下で、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、ヘプチルアクリレート、２−ヘプチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルブチルアクリレート、ドデシルアクリレート、ヘキサデシルアクリレート、イソボルニルアクリレートおよびシクロヘキシルアクリレートからなる群から選択される１つまたはそれ以上のアクリレートエステルモノマーと反応させることを含む方法。
【請求項２】
式（Ｉ）
ＣＨ2＝ＣＲ1−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｑ−ＯＲ2（Ｉ）
［式中、Ｑはヒドロキシル基引抜き後のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールを表し、Ｒ1はＨまたはＣＨ3であり、Ｒ2の各々はＨまたはＣＨ2＝ＣＲ1−Ｃ（Ｏ）である］
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの（メタ）アクリル酸エステルを、開始剤の存在下で、アクリロニトリル、ブタジエン、スチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンおよび酢酸ビニルからなる群から選択される１つまたはそれ以上のモノマーと反応させることを含む方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法の生成物を含むセラミック材料。
【請求項４】
請求項１に記載の方法の生成物を含むレザー製品。
【請求項５】
請求項１に記載の方法の生成物を含む織布または不織布。
【請求項６】
請求項１に記載の方法の生成物を含む塗料材料。
【請求項７】
請求項１に記載の方法の生成物を含むパーソナルケア製品調合物。
【請求項８】
請求項１に記載の方法の生成物を含むインク。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月8日(2012.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
追加のキャプチャを用いて、装置位置の履歴の軌跡を、（上に説明したように）提供してもよく、これは、装置において、構成要素またはエネルギー消費の余分なコストがかからない。よって、本発明は、位置の臨時または警告クエリを有する、長いバッテリ寿命の装置に、特に適している。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月6日(2012.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
骨髄組織の異常を評価するための方法であって、当該方法が、
（ｉ）骨髄の組織を、αｖβ３インテグリンポリペプチドを発現する細胞との結合能力を有する放射性標識分子と接触させる段階と、
（ｉｉ）前記放射性標識分子と前記骨髄の組織との結合レベルを検出する段階であって、前記放射性標識分子と前記組織との結合は前記組織がαｖβ３インテグリンポリペプチドを発現する細胞を有していることを示し、検出し得る結合が存在しないことは前記組織がそのような細胞を含んでいないことを示す、段階と
を含んでおり、
（ｉｉｉ）検出し得る結合が存在するときは、前記骨髄が異常であり、検出し得る結合が存在しないときは前記骨髄が正常であると決定される、方法。
【請求項２】
前記骨髄組織がヒトの骨髄組織である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記放射性標識分子が抗体である、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記放射性標識分子がＲＧＤペプチドである、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記放射性標識分子が99mＴｃ−ＮＣ−１００６９２である、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記放射性標識分子が骨髄組織を有する哺乳動物に投与される、請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
スロット：０    １      ２      ３      ４        ５      ６      ７      ８
Ａ０  Ｅ８０  Ｅ９６  Ｄ４８  Ｅ１１２  Ｄ６４ Ｃ３２  Ｂ１６  Ｅ１２８
キャプチャＥ８０、Ｅ９６、Ｅ１１２、Ｅ１２８が書かれ、Ｄ４０、Ｃ２４、Ｄ５６およびＡ８を上書きする（４０、２４、５６および８は、１６の倍数ではないため）。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月2日(2012.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶性ポリオレフィンポリマーを含む第１の領域、及び第１の平均孔径を有する該第１の領域内の第１の濃度を有する第１の核剤と、
結晶性ポリオレフィンポリマーを含む第２の領域、及び第２の平均孔径を有する該第２の領域内の第２の濃度を有する第２の核剤と、
を含む多孔性膜であって、
前記第１の領域及び第２の領域内の前記結晶性ポリマーが同じであり、
前記第１の平均孔径が前記第２の平均孔径と同じではなく、
前記第１の核剤及び前記第２の核剤が同じであるか又は異なり、
前記第１の濃度及び前記第２の濃度の剤が同じであるか又は異なり、
ただし、前記第１の核剤及び前記第１の濃度が、前記第２の核剤及び前記第２の濃度と同じではない、多孔性膜。
【請求項２】
前記第１の核剤及び第２の核剤が、独立して、溶解性核剤又は非溶解性核剤である、請求項１に記載の膜。
【請求項３】
前記第１の濃度が前記第２の濃度未満であり、前記第１の平均孔径が前記第２の平均孔径を超える、請求項１に記載の膜。
【請求項４】
前記第１の核剤が前記第２の核剤と同じである、請求項１に記載の膜。
【請求項５】
結晶性ポリマーを含む第１の領域、及び第１の平均孔径を有する該第１の領域内の第１の濃度を有する第１の溶解性核剤と、
結晶性ポリマーを含む第２の領域、及び第２の平均孔径を有する該第２の領域内の第２の濃度を有する第２の溶解性核剤と、
を含む多孔性膜であって、
前記第１の領域及び第２の領域内の前記結晶性ポリマーが同じであり、
前記第１の平均孔径が前記第２の平均孔径と同じではなく、
前記第１の核剤及び前記第２の核剤が同じであるか又は異なり、
前記第１の濃度及び前記第２の濃度の剤が同じであるか又は異なり、
ただし、前記第１の核剤及び前記第１の濃度が、前記第２の核剤及び前記第２の濃度と同じではなく、前記第１の濃度が前記第２の濃度未満であり、前記第１の平均孔径が前記第２の平均孔径を超える、多孔性膜。
【請求項６】
多孔性膜の製造方法であって、
第１の結晶性ポリマーと、第１の核剤と、希釈剤とを含み、前記第１の核剤の第１の濃度を有する、第１の組成物を、第１の比エネルギー入力で操作される第１の押出成形機の中で形成することと、
第２の結晶性ポリマーと希釈剤とを含む第２の組成物を、第２の比エネルギー入力で操作される第２の押出成形機の中で形成することと、
前記第１の組成物及び前記第２の組成物を共押し出しして、多層物品を形成することと、
前記結晶性ポリマーから希釈剤を相分離させて多孔性膜を形成するために、前記多層物品を冷却することと、
を含み、
前記第１の比エネルギー入力が前記第２の比エネルギー入力と同じではなく、
前記第２の組成物が、前記第２の組成物内に第２の濃度で存在する第２の核剤を更に含み、
前記第１の核剤の前記第１の濃度が、前記第２の核剤の前記第２の濃度と異なり、
前記第１の組成物及び第２の組成物が、マルチマニホールドダイを通して押し出される、方法。
【請求項７】
多孔性膜の製造方法であって、
第１の結晶性ポリオレフィンポリマーと、第１の核剤と、希釈剤とを含み、前記第１の核剤の第１の濃度を有する、第１の組成物を、第１の押出成形機の中で形成することと、
第２の結晶性ポリオレフィンポリマーと、第２の核剤と、希釈剤とを含み、前記第２の核剤の第２の濃度を有する、第２の組成物を、第２の押出成形機の中で形成することと、
前記第１の組成物及び前記第２の組成物を共押し出しして、多層物品を形成することと、
前記結晶性ポリマーから希釈剤を相分離させて多孔性膜を形成するために、前記多層物品を冷却することと、
を含み、
前記第１の領域及び第２の領域内の前記結晶性ポリマーが同じであり、
前記第１の核剤及び前記第２の核剤が同じであるか又は異なり、
前記第１の濃度及び前記第２の濃度の剤が同じであるか又は異なり、
ただし、前記１の核剤及び前記第１の濃度が、前記第２の核剤及び前記第２の濃度と同じではない、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月23日(2012.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向軸と横方向軸とを有する基材上に基準を作製するように構成される装置であって、
前記基材上に、前記長手方向軸に対して有限でゼロでない傾斜を有する少なくとも１つの連続的な部分を含む１つの基準を作製するように構成される第１の基準デバイスと、
前記第１の基準デバイスに機械的に連結され、前記基材上に前記長手方向軸に対して有限でゼロでない傾斜を有する少なくとも１つの連続的な部分を含む別の基準を作製するように構成される第２の基準デバイスと、
前記長手方向軸に沿って、前記基材と前記第１の基準デバイス及び前記第２の基準デバイスとの間に相対運動を提供するように構成される移動機構と、
前記基準を作製するための前記第１の基準デバイス及び前記第２の基準デバイスの動作中、並びに前記基材と前記第１の基準デバイス及び前記第２の基準デバイスとの間の前記相対運動中に、横方向軸の構成要素を有する軌道に沿って、前記第１の基準デバイス及び前記第２の基準デバイスを共に前記基材を横切って往復移動させるように構成されるアクチュエータと、を備える装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月14日(2012.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レスピレータシステムに配置される曝露指標デバイスであって、曝露指標デバイスが、光学的回折エレメントを含み、化学物質蒸気への曝露に相関して変化する屈折率を有する材料を含み、そして前記化学物質蒸気への曝露に相関して光学的特性が変化する光学的信号を提供する、曝露指標デバイス。
【請求項２】
前記材料が、前記化学物質蒸気への曝露に相関して変化する屈折率を有するナノ多孔質材料を含む、請求項１に記載の曝露指標デバイス。
【請求項３】
前記光学的回折エレメントが、前記ナノ多孔質材料で形成されている、請求項２に記載の曝露指標デバイス。
【請求項４】
前記光学的回折エレメントが、前記ナノ多孔質材料内に実質的に埋め込まれており、前記光学的回折エレメントが、取り囲んでいる前記ナノ多孔質材料の、前記化学物質蒸気に曝露する前の屈折率に実質的に等しい屈折率を有する回折格子を含む、請求項２に記載の曝露指標デバイス。
【請求項５】
前記回折格子が、パターンになった微多孔性非晶質炭素材料を含む、請求項３に記載の曝露指標デバイス。
【請求項６】
前記ナノ多孔質材料が、シリコン、炭素、水素及び酸素を含む、約０．５〜約１０ナノメートルの範囲の平均孔径を有する非晶質ランダム共有結合ネットワークを含む、請求項４に記載の曝露指標デバイス。
【請求項７】
吸着材料を含む交換可能な空気浄化レスピレータカートリッジが少なくとも１つ搭載されたフェースマスクを含むレスピレータシステムに配置された曝露指標デバイスであって、
基材上に形成された光学的回折エレメントを含み、前記基材が少なくとも１つのレスピレータカートリッジの内側側壁に取り付けられ、ここにおいて少なくとも１つのレスピレータカートリッジの側壁上の取り付け位置は実質的に透明であり、またここにおいて前記曝露指標デバイスが化学物質蒸気への曝露に相関して変化する屈折率を有するナノ多孔質材料を含み、またここにおいて前記曝露指標デバイスが前記化学物質蒸気への曝露に相関して光学的特性が変化する光学的信号を提供する、曝露指標デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月6日(2012.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体からの体液の試料において前立腺癌細胞の存在を検出ないし決定するための方法であって、
（i）試料から細胞を単離し、細胞試料を得ること、
（ii）前立腺抗原を結合することができる特異的結合メンバーと該細胞試料とを接触させること、及び／又は、
（iii）一又は複数のミニ染色体維持（ＭＣＭ）ポリペプチドを結合することができる特異的結合メンバーと該細胞試料とを接触させること、そして、
（iv）一又は複数の該特異的結合メンバーの細胞試料への結合を決定すること、を含む方法。
【請求項２】
体液が尿又は精液である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
体液が尿である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前立腺抗原が前立腺組織に特異的な抗原である、請求項１から３のいずれか一に記載の方法。
【請求項５】
前立腺抗原が、前立腺酸性ホスファターゼ（ＰＳＡＰ）、前立腺特異的抗原（ＰＳＡ）、前立腺特異的Ｇプロテイン結合レセプター（ＰＳＧＲ）及びａ−メチルアシル−補酵素Ａラセマーゼ（ＡＭＡＣＲ）からなる群から選択される、請求項１から４のいずれか一に記載の方法。
【請求項６】
ＭＣＭがＭＣＭ２、３、４、５、６及び７からなる群から選択される、請求項１から５のいずれか一に記載の方法。
【請求項７】
ＭＣＭがＭＣＭ７である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
特異的結合メンバーが抗体又はその断片である、請求項１から７のいずれか一に記載の方法。
【請求項９】
（i）試料から細胞を単離し、細胞試料を提供する、
（ii）前立腺抗原に対する特異的結合メンバーと該細胞試料を接触させる、
（iii）ミニ染色体維持（ＭＣＭ）ポリペプチドに対する一又は複数の特異的結合メンバーと該細胞試料を接触させる、そして、
（iv）該特異的結合メンバーの細胞試料への結合を決定する、という工程を含む、請求項１から８のいずれか一に記載の方法。
【請求項１０】
前立腺抗原に対する特異的結合メンバーとＭＣＭポリペプチドに対する一又は複数の特異的結合メンバーとを含有してなる組成物。
【請求項１１】
請求項１０に記載の組成物を含む、被検体からの体液の試料において前立腺癌細胞の存在を検出するか又は決定するためのキット。
【請求項１２】
前立腺組織を（i）正常又は（ii）潜在的又は実際に前癌性ないし癌性であるか、形成異常であるか又は腫瘍性であるかに分類する方法であって、前立腺抗原を結合することができる特異的結合メンバー及び／又は一又は複数のミニ染色体維持（ＭＣＭ）ポリペプチドを結合することができる特異的結合メンバーの体液試料への結合を決定することを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月17日(2012.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザー作成デジタルオブジェクト（ＵＧＤＯ）の権利を交換し、執行する普遍的なシステムであって、１つ以上のプロセッサーによって実行されるとき、
第１の参加アプリケーションを実行している第１の計算機システムを操作している承認された第１のユーザーから受信した登録情報に従って、第１のＵＧＤＯを登録するステップと、
前記承認された第１のユーザーから受信した情報をリスティングすることによって少なくとも１つの交換シナリオが利用可能なように、コマースリスティングサービス上に前記ＵＧＤＯをリスティングするステップと、
前記第１のＵＧＤＯをストアし、前記登録項目独立と、１人以上のユーザーが前記第１のＵＧＤＯに有している権利を含むリスティング情報とを含む第１のメタデータを前記第１のＵＧＤＯと独立にストアするステップと、を含む方法を実行する計算機実行可能命令をストアしている１つ以上の計算機可読記憶媒体を含むシステム。
【請求項２】
前記方法が更に、
第２の参加アプリケーションを実行する第２の計算機システムを操作している承認された第２のユーザーから選択された少なくとも１つの交換シナリオのうち１つを完了するためのリクエストを受信するステップであって、前記第２の参加アプリケーションが前記コマースリスティングサービスと対話するものと、
前記選択された交換シナリオに従って、前記第１のメタデータの更新によって前記承認された第２のユーザーへ前記第１のＵＧＤＯの権利を移動し、前記承認された第２のユーザーの前記権利を前記第１のＵＧＤＯに反映するために更新した第１のメタデータを生成するステップと、を含む請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記第２の参加アプリケーションそれ自体は、前記第１のＵＧＤＯを利用できないが、前記第２の計算機システム又は第３の計算機システムが実行している第３のアプリケーションが、前記第１のＵＧＤＯを利用できることを特徴とする請求項２記載のシステム。
【請求項４】
前記第１の計算機システムがクローズド計算環境であって、前記第２の計算機システムがオープン計算環境であることを特徴とする請求項２記載のシステム。
【請求項５】
前記更新された第１のメタデータが、前記第１のＵＧＤＯのオンライン利用及びオフライン利用に対し、異なる権利を指定することを特徴とする請求項２記載のシステム。
【請求項６】
前記第２の参加アプリケーションが、前記承認された第２のユーザーによって前記第１のＵＧＤＯのオンライン利用権を執行することを特徴とする請求項５記載のシステム。
【請求項７】
前記選択したシナリオが、１人以上のユーザーが第２のＵＧＤＯに有している権利を示している第２のメタデータに関連付けられている前記第２のＵＧＤＯ内の権利と、前記第１のＵＧＤＯ内の権利と、の交換を含んでいて、前記方法が更に、
前記第２のメタデータの更新による前記選択された交換シナリオに従って、前記第１の認証ユーザーへ前記第２のＵＧＤＯの権利を移動し、前記第１の認証ユーザーの権利を前記第２のＵＧＤＯに反映するために前記第２の更新メタデータを生成するステップを含むことを特徴とする請求項２記載のシステム。
【請求項８】
前記第１のメタデータが、拡張可能マークアップ言語（ＸＭＬ）を含むことを特徴とする請求項１記載のシステム。
【請求項９】
前記承認された第１のユーザーが、第１の認証サービスによって前記システムを利用することを認証されることと、前記承認された第２のユーザーが、第２の認証サービスによって前記システムを利用することを認証されることと、を特徴とする請求項２記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月16日(2012.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基質上で電子がトンネリング可能なギャップによって隔てられた少なくとも二つのトンネル電極と、このギャップに電界を印加して、その電界による偏向によって、トンネル電極の間をトンネリングする電子の有効障壁長を延ばす手段とを有するトリプルゲート又はマルチゲート素子において、
上記の手段が、基質上に配置された少なくとも二つの制御電極を有し、これらの制御電極の間の最も短い接続線が、上記のギャップを通り抜けるか、上記のギャップの上を横切って延びるか、或いは上記のギャップの下を横切って延びることを特徴とする素子。
【請求項２】
基質上で電子がトンネリング可能なギャップによって隔てられた少なくとも二つのトンネル電極と、このギャップに電界を印加する手段であって、その電界の電気力線が、これらのトンネル電極の中の一つに終端すること無く、トンネル電極の間の最も短い経路と交差する手段とを有するトリプルゲート又はマルチゲート素子において、
上記の手段が、基質上に配置された少なくとも二つの制御電極を有し、これらの制御電極の間の最も短い接続線が、上記のギャップを通り抜けるか、上記のギャップの上を横切って延びるか、或いは上記のギャップの下を横切って延びることを特徴とする素子。
【請求項３】
当該の基質が絶縁体であることを特徴とする請求項１又は２に記載の素子。
【請求項４】
当該の基質がプラスチックを含むことを特徴とする請求項１から３までのいずれか一つに記載の素子。
【請求項５】
当該のギャップ内が真空であるか、或いは気体で満たされていることを特徴とする請求項１から４までのいずれか一つに記載の素子。
【請求項６】
当該のトンネル電極が、所定の動作温度で超伝導特性を有することを特徴とする請求項１から５までのいずれか一つに記載の素子。
【請求項７】
当該の制御電極とそれぞれ別の制御電極又はトンネル電極との最も短い間隔が、トンネル電極の間の最も短い間隔よりも大きいことを特徴とする請求項１から６までのいずれか一つに記載の素子。
【請求項８】
少なくとも一つのトンネル電極と少なくとも一つの制御電極の中の片方又は両方が、当該のギャップに向かって尖った形で延びていることを特徴とする請求項１から７までのいずれか一つに記載の素子。
【請求項９】
当該の尖った形の先端部分の開口角が、３０°以下である、有利には、１０°以下であることを特徴とする請求項８に記載の素子。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか一つに記載の素子として構成されていることを特徴とする電子スイッチ。
【請求項１１】
請求項１から９までのいずれか一つに記載の素子として構成されていることを特徴とするトランジスタ。
【請求項１２】
多くのトランジスタを有するプロセッサにおいて、
請求項１１に記載の少なくとも一つのトランジスタを有することを特徴とするプロセッサ。
【請求項１３】
基質上で電子がトンネリング可能なギャップによって隔てられた少なくとも二つのトンネル電極と、このギャップに電界を印加する手段であって、その電界による偏向によって、トンネル電極の間をトンネリングする電子の有効障壁長を延ばすか、その電界の電気力線が、これらのトンネル電極の中の一つに終端すること無く、トンネル電極の間の最も短い経路と交差するか、或いはその両方である手段とを有するトリプルゲート素子を用いて、ナノスケールで試料の電子移動度を測定する方法において、
この試料の少なくとも一部をトンネル電極の間のギャップ内に設置する工程と、
このギャップにトンネル電流を加える工程と、
このギャップに、トンネル電流に対して垂直な成分を持つ磁界を加える工程と、
トンネル電流で運ばれる電荷の分離度合いを測定する工程と、
を有する方法。
【請求項１４】
請求項１から９までのいずれか一つに記載のトリプルゲート素子を選定することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月29日(2012.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラッシュ・メモリ・デバイスに書き込むための方法であって、
前記フラッシュ・メモリにおける少なくとも１つのターゲット・セルに書き込まれるべきプログラム・データを獲得するステップと、
前記ターゲット・セルより後にプログラミングされるべき少なくとも１つのアグレッサ・セルに関するプログラム・データの１つまたは複数のビットを獲得するステップであり、前記少なくとも１つのアグレッサ・セルは、前記ターゲット・セルに隣接する１つまたは複数のセルを備え、前記ターゲット・セルに隣接する前記１つまたは複数のセルは、前記フラッシュ・メモリ・デバイスのために使用されるプログラミング・シーケンス・スキームを分析することによって識別されるステップと、
事前補償されたプログラム値を生成することによって、前記ターゲット・セルに関するセル間干渉を事前補償するステップを備える方法。
【請求項２】
前記フラッシュ・メモリ・デバイスは、ページ・アクセス技術およびワード線レベル・アクセス技術の１つまたは複数を使用してプログラミングされる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つのアグレッサ・セルは、前記ターゲット・セルと同一のワード線における複数の隣接セルの１つまたは複数、および前記ターゲット・セルに隣接する上位または下位のワード線における複数のセルを備える請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのアグレッサ・セルの少なくとも１つは、前記少なくとも１つのアグレッサ・セルのすべてが利用可能になるまで、バッファの中に格納される請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ターゲット・セルに関する前記事前補償されたプログラム値を、前記フラッシュ・メモリ・デバイスのメモリ・アレイに書き込むためにインタフェース上で供給するステップをさらに備える請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記獲得するステップは、少なくとも１つのターゲット・セルに書き込まれるべき前記プログラム値、および少なくとも１つのアグレッサ・セルに関するプログラム・データの前記１つまたは複数のビットをインタフェースから獲得し、さらに前記事前補償されたプログラム値は、前記フラッシュ・メモリ・デバイスに関連するプロセッサによって計算される請求項１に記載の方法。
【請求項７】
マルチステップ・ページ・プログラミング・シーケンスの１つまたは複数のステップに適用される請求項１に記載の方法。
【請求項８】
セル間干渉を算出する前記ステップは、対角線上で隣接するアグレッサ・セルからの前記ターゲット・セルに関するセル間干渉を無視する請求項１に記載の方法。
【請求項９】
セル間干渉を算出する前記ステップは、偶／奇プログラミング・シーケンスに関する同一のワード線における１つまたは複数の隣接セルからの前記ターゲット・セルに関するセル間干渉を無視する請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
フラッシュ・メモリ・デバイスに書き込むためのシステムであって、
メモリと、
前記メモリに結合され、
前記フラッシュ・メモリにおける少なくとも１つのターゲット・セルに書き込まれるべきプログラム・データを獲得し、
前記ターゲット・セルより後にプログラミングされるべき少なくとも１つのアグレッサ・セルに関するプログラム・データの１つまたは複数のビットを獲得し、前記少なくとも１つのアグレッサ・セルは、前記ターゲット・セルに隣接する１つまたは複数のセルを備え、前記ターゲット・セルに隣接する前記１つまたは複数のセルは、前記フラッシュ・メモリ・デバイスのために使用されるプログラミング・シーケンス・スキームを分析することによって識別され、さらに
事前補償されたプログラム値を生成することによって、前記ターゲット・セルに関するセル間干渉を事前補償するように動作する少なくとも１つプロセッサとを備えるシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月9日(2012.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
以上、本発明を詳細に、その特定の実施形態を参照して説明してきたが、添付の特許請求の範囲において定義された発明の範囲から逸脱することなく、変形及び変更が可能であることは明らかであろう。具体的には、本開示の一部の態様は、好適又は特に有利なものとして特定されているが、本発明は、こうした発明の態様に必ずしも限定されないと考えられる。例えば、次の態様が考えられる。
＜１＞導電性の受け板に接合されたシリコン電極を備える多要素電極を再生するプロセスであって、
硫酸、過酸化水素、及び水を含み、実質的にアルコールを含まないＤＳＰ溶液に前記多要素電極を浸漬すると共に、前記多要素電極を脱イオン水によりリンスすることにより、前記多要素電極から金属イオンを除去するステップと、
金属イオンの除去後に前記多要素電極の一つ以上の表面を研磨するステップと、
フッ化水素酸、硝酸、酢酸、及び水を含む混合酸溶液により前記研磨済み多要素電極を処理すると共に、前記処理済み多要素電極を脱イオン水によりリンスすることにより、前記多要素電極のシリコン面から汚染物を除去するステップと、を備えるプロセス。
＜２＞前記ＤＳＰ溶液は、体積で水を最も多く含む＜１＞記載のプロセス。
＜３＞前記ＤＳＰ溶液は、体積で過酸化水素を硫酸より多く含む＜２＞記載のプロセス。
＜４＞前記ＤＳＰ溶液は、体積で少なくとも約８０％の水を含む＜１＞記載のプロセス。
＜５＞前記ＤＳＰ溶液は、体積で約７０乃至９０％の水と、約１０乃至２０％の過酸化水素と、約１０％までの硫酸とを含む＜１＞記載のプロセス。
＜６＞前記ＤＳＰ溶液は、体積で約８０％の水と、約１５％の過酸化水素と、約５％の硫酸とを含む＜１＞記載のプロセス。
＜７＞前記多要素電極から金属イオン及び汚染物を除去するために使用される前記脱イオン水の電気抵抗は、少なくとも約１２ＭΩ・ｃｍである＜１＞記載のプロセス。
＜８＞前記多要素電極から金属イオン及び汚染物を除去するために使用される前記脱イオン水の温度は、約２０±５℃以下である＜１＞記載のプロセス。
＜９＞前記表面研磨は、約２０±５℃以下の温度と、前記電極表面での約２５℃を超える前記脱イオン水の温度上昇を抑制する上で十分な流量とにおいて提供される、実質的に連続した脱イオン水流の下で実行される＜１＞記載のプロセス。
＜１０＞前記汚染物は、前記研磨済み多要素電極を前記混合酸により処理する前に、脱イオン水中で前記多要素電極に対して超音波洗浄動作を施すことにより、前記多要素電極のシリコン面から除去され、
前記超音波洗浄動作において使用される前記脱イオン水の前記温度は、約２０±５℃以下であり、
前記超音波洗浄動作において使用される前記脱イオン水の超音波出力密度は、約４０ｋＨｚで約１．５ワット／ｃｍ2 乃至約３．１ワット／ｃｍ2である
＜１＞記載のプロセス。
＜１１＞前記研磨済み多要素電極は、前記電極表面を前記混合酸溶液によりワイピングすることにより処理される＜１＞記載のプロセス。
＜１２＞前記多要素電極は、シャワーヘッド電極を備え、前記ワイピング動作は、前記電極を固定具において保持し、加圧窒素ガスを前記シャワーヘッド電極のシャワーヘッド通路を介して送り、前記混合酸溶液が前記シャワーヘッド通路内へ取り込まれることを防止した状態で実行する＜１１＞記載のプロセス。
＜１３＞前記ワイピング動作に続いて、約２０±５℃以下以上の温度での脱イオン水リンス動作を行う＜１１＞記載のプロセス。
＜１４＞ＫＯＨ溶液により前記電極表面をワイピングすることにより、前記研磨済み多要素電極から汚れを除去する＜１＞記載のプロセス。
＜１５＞フッ化水素酸、硝酸、及び水を含む酸洗溶液により、前記導電性の受け板の表面をワイピングすることにより、前記研磨済み多要素電極から汚れを除去する＜１＞記載のプロセス。
＜１６＞前記多要素電極は、導電性のアルミニウムベースの受け板又は導電性のグラファイトベースの受け板に接合されたシリコン電極を備える＜１＞記載のプロセス。
＜１７＞前記多要素電極は、シャワーヘッド電極、或いはシャワーヘッド電極を取り囲むリング状電極として構成される＜１＞記載のプロセス。
＜１８＞前記プロセスは、更に、ＣＯ2ペレットを前記多要素電極の表面に対して、或いは表面を横切って、４０ｐｓｉを超えない圧力で流動させることにより、汚染物を除去するステップを備える＜１＞記載のプロセス。
＜１９＞前記多要素電極は、汚染物を除去するために、脱イオン水によるリンス後に、前記混合酸溶液により前記電極表面を繰り返しワイピングすることにより処理される＜１＞記載のプロセス。
＜２０＞導電性のアルミニウムベースの受け板に接合されたシリコン電極を備える多要素電極を再生するプロセスであって、
体積で約７０乃至９０％の水と、約１０乃至２０％の過酸化水素と、約１０％までの硫酸とを含み、実質的にアルコールを含まないＤＳＰ溶液に前記多要素電極を浸漬すると共に、電気抵抗が少なくとも約１２ＭΩ・ｃｍであり、温度が約２０±５℃である脱イオン水により前記多要素電極をリンスすることにより、前記多要素電極から金属イオンを除去するステップと、
金属イオンの除去後に、約２０±５℃の温度と、前記電極表面での約２５℃を超える前記脱イオン水の温度上昇を抑制する上で十分な流量とにおいて提供される、実質的に連続した脱イオン水流の下で、前記多要素電極の一つ以上の表面を研磨するステップと、
フッ化水素酸、硝酸、酢酸、及び水を含む混合酸溶液により前記研磨済み多要素電極を処理する前に、温度が約２０±５℃であり、超音波出力密度が約４０ｋＨｚで約１．５ワット／ｃｍ2乃至約３．１ワット／ｃｍ2である脱イオン水中において、前記多要素電極に対して超音波洗浄動作を施すと共に、前記処理済み多要素電極を脱イオン水によりリンスすることにより、前記多要素電極のシリコン面から汚染物を除去するステップと
を備えるプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラッシュ・メモリ・デバイスを読み取るための方法であって、
少なくとも１つのターゲット・セルに関する読み取り値を獲得すること、
前記ターゲット・セルより後にプログラミングされた少なくとも１つのアグレッサ・セルの中に格納された電圧を表す値を獲得すること、
前記少なくとも１つのアグレッサ・セルからの前記ターゲット・セルに関するセル間干渉を算出すること、および
前記読み取り値から前記算出されたセル間干渉を除去することによって前記ターゲット・セルの中に格納されたデータを表す新たな読み取り値を計算することを備える方法。
【請求項２】
少なくとも１つのアグレッサ・セルの中に格納された電圧を表す前記値は、測定された値、予期される値、推定される値、平均値、量子化された値、および検出された値の１つまたは複数を備える請求項１に記載の方法。
【請求項３】
復号誤りが生じた場合、１つまたは複数のセル間干渉軽減パラメータを調整するステップをさらに備える請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記セル間干渉軽減パラメータは、考慮されるアグレッサ・セルの数を備える請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記セル間干渉軽減パラメータは、ハード電圧値に加えてソフト電圧値を使用することを備える請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つのアグレッサ・セルは、前記ターゲット・セルに隣接する１つまたは複数のセルを備える請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記算出するステップは、少なくとも１つのアグレッサ・セルの中に格納された電圧を表す前記値に基づいて、セル間干渉を計算する請求項１に記載の方法。
【請求項８】
少なくとも１つのアグレッサ・セルの中に格納された電圧を表す前記値は、前記アグレッサ・セルが前記ターゲット・セルと同一のページまたは同一のワード線にある場合、測定された値を備え、さらに少なくとも１つのアグレッサ・セルの中に格納された電圧を表す前記値は、前記アグレッサ・セルが前記ターゲット・セルと異なるページまたは異なるワード線にある場合、推定される値を備える請求項１に記載の方法。
【請求項９】
マルチステップ・ページ・プログラミング・シーケンスの１つまたは複数のステップに適用される請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
フラッシュ・メモリ・デバイスを読み取るためのシステムであって、
メモリと、
前記メモリに結合され、
少なくとも１つのターゲット・セルに関する読み取り値を獲得し、
前記ターゲット・セルより後にプログラミングされた少なくとも１つのアグレッサ・セルの中に格納された電圧を表す値を獲得し、
前記少なくとも１つのアグレッサ・セルからの前記ターゲット・セルに関するセル間干渉を算出し、さらに
前記読み取り値から前記算出されたセル間干渉を除去することによって前記ターゲット・セルの中に格納されたデータを表す新たな読み取り値を計算するように動作する少なくとも１つのプロセッサとを備えるシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月15日(2012.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リモートクライアントへのサービスによるオンライン配信に対して再生リストの中へメディアコンテンツ番組をプログラムするための方法であって、
前記サービス利用者のコミュニティに関連する統計を集めるステップであって、前記統計が、前記メディアコンテンツの再生リスト形式の、メディアコンテンツの識別及び前記関連したユーザーコミュニティによる消費を含むものと、
利用者に特有の情報を集めるステップであって、前記情報が、少なくとも前記利用者のソーシャルグラフを含むものと、
前記統計及び情報に応答する前記再生リストの中に含めるためのメディアコンテンツを選択することによって、１つ以上の前記利用者用のカスタマイズされた再生リストを生成するステップと、
オンラインインターフェースを介し前記リモートクライアントへ前記１つ以上のカスタマイズされた再生リストを配信するステップであって、前記配信が、前記利用者と前記サービスとの間の利用条項に従っているものと、を含む方法。
【請求項２】
更に、前記リモートクライアント上のユーザーインターフェースにデータを提供するステップであって、前記利用者が前記１つ以上のカスタマイズされた再生リストを閲覧し、その中から選択するように前記データが利用可能であるもの、を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記利用条項が、広告に基づくビジネスモデル、受信契約に基づくビジネスモデル、又は再生リストレンタルモデルの少なくとも１つを支援することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記利用条項が、再生回数又は再生時間によって、前記１つ以上のカスタマイズされた再生リスト中のメディアコンテンツのレンダリングに対する制限を課すことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記制限が、前記リモートクライアント上で作動可能であるＤＲＭシステムを使用して執行されることを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項６】
更に、前記オンラインインターフェースを介し前記再生リスト中の前記メディアコンテンツに関連付けられたメタデータを前記クライアントに提供するステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項７】
更に、アーティスト、アルバム、グループ、アルバムアートワーク、プロダクション、作曲家、レーベル、歌詞、ライナーノート、インタビュー、ディスコグラフィー、リミックス、別バージョン、解説、レビュー、格付け、又は献辞の少なくとも１つに関連している情報を含むように前記メタデータを構成するステップを含む請求項６記載の方法。
【請求項８】
更に、俳優、ディレクター、プロデューサー、スタジオ、アウトテイク、ＮＧ集、別エンディング、ディレクターズカット、特集、未評価バージョン、インタビュー、解説、レビュー、格付け、ドキュメンタリー作成、舞台裏シーン、又は削除シーンの少なくとも１つに関連する情報を含むように前記メタデータを構成するステップを含む請求項６記載の方法。
【請求項９】
更に、前記リモートクライアントへオンライン配信するために１つ以上の仮想ジュークボックスの中にイベントに関する標的とされるメディアコンテンツの複数の一部を事前にパッケージ化するステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項１０】
更に、前記リモートクライアント上の前記仮想ジュークボックスに関連するデータを提供するステップであって、前記利用者が前記仮想ジュークボックスを閲覧し、その中から選択するように前記データが利用可能であるもの、を含む請求項９記載の方法。
【請求項１１】
更に、オンラインインターフェースを介し、前記リモートクライアントへ前記仮想ジュークボックスの前記選択された１つを配信するステップであって、前記仮想ジュークボックスへのアクセスが、時間制限されたレンタル期間に従っているものと、を含む請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記イベントの標的化が、活動に焦点を合わされていることを特徴とする請求項９記載の方法。
【請求項１３】
前記イベントの標的化が、誕生日、パーティ、又は結婚イベントにメディアを関連付けることを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記アクセスが、広告を基本とするビジネスモデルを含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
更に、前記レンタルを達成するための機能へのポータルを提供するステップを含む請求項１４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月25日(2012.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザにエンティティの評判（レピュテーション）を伝達する、コンピュータにより実施される方法であって、
複数のクライアントに関連付けられた、前記クライアントの信頼性の評価を表す衛生スコアであって、前記クライアントにおけるマルウエア検出の頻度に基づき決定された衛生スコアを特定するステップと、
前記クライアントの前記衛生スコアに基づいて、少なくとも閾値レベルの信頼性を示す衛生スコアを有する、信頼できるクライアントのセットを識別するステップと、
エンティティを使用したことのある前記信頼できるクライアントに応じて、複数のクライアントのうちの１つが遭遇した前記エンティティのレピュテーションスコアを計算するステップであって、前記計算されるレピュテーションスコアは、前記エンティティに悪意があるか否かの評価を表すステップと、
前記エンティティに遭遇した前記クライアントに前記レピュテーションスコアを提示するステップであって、前記レピュテーションスコアは、前記レピュテーションスコアが信頼できると考えられる他のクライアントに基づくことを示すメッセージが付随するステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記レピュテーションスコアは、前記エンティティを使用したことのあるすべてのユーザに対する、前記エンティティを使用したことのある信頼できるクライアントの比率という測定基準を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記レピュテーションスコアは、前記エンティティを使用したことのある信頼できるクライアントの数という測定基準を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記レピュテーションスコアは、前記エンティティを使用したことのあるクライアントセットの前記衛生スコアの数学的変換を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記エンティティはファイルであり、前記エンティティに遭遇するステップは、前記エンティティをダウンロードするステップ、または前記エンティティをダウンロードしようとするステップを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記エンティティはウェブサイトであり、前記エンティティに遭遇するステップは、前記ウェブサイトを見るステップ、または前記ウェブサイトを見ようとするステップを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記信頼できるクライアントは、閾値を超える衛生スコアを有するクライアントのセットである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
コンピュータプロセッサにより実行可能なコンピュータプログラムであって、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法を実行するようにコンピュータプロセッサを制御する１つまたは複数のモジュールを含むコンピュータプログラム。
【請求項９】
エンティティの評判（レピュテーション）をユーザに伝達する、コンピュータにより実施される方法であって、前記方法は、
クライアントが遭遇したエンティティに悪意があるか否かの評価を表すレピュテーションスコアを受信するステップであって、前記レピュテーションスコアは、信頼できるクライアントによる前記エンティティの使用の統計的測定を含み、信頼できるクライアントは閾値を超える衛生スコアを有し、クライアントの衛生スコアは、前記クライアントの信頼性の評価を表すと共に、前記クライアントにおけるマルウエア検出の頻度に基づき決定される、ステップと、
前記クライアントの出力装置を介して前記レピュテーションスコアを前記ユーザに伝達するステップと、
前記クライアントの前記出力装置を介して、前記レピュテーションスコアが信頼できるクライアントに基づくことを示すメッセージを前記ユーザに伝達するステップとを含む、方法。
【請求項１０】
前記レピュテーションスコアは、前記エンティティを使用したことのあるすべてのクライアントに対する、前記エンティティを使用したことのある信頼できるクライアントの比率という測定基準を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記レピュテーションスコアは、前記エンティティを使用したことのある信頼できるクライアントの数という測定基準を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記レピュテーションスコアは、前記エンティティを使用したことのあるクライアントセットの前記衛生スコアの数学的変換を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記エンティティはファイルであり、前記エンティティに遭遇するステップは、前記エンティティをダウンロードするステップ、または前記エンティティをダウンロードしようとするステップを含む、請求項９〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記エンティティはウェブサイトであり、前記エンティティに遭遇するステップは、前記ウェブサイトを見るステップ、または前記ウェブサイトを見ようとするステップを含む、請求項９〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
コンピュータプロセッサにより実行可能なコンピュータプログラムであって、請求項９〜１４のいずれか一項に記載の方法を実行するようにコンピュータプロセッサを制御する１つまたは複数のモジュールを含むコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月1日(2012.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光放射を引き起こす放射画像エリアを有するタイル型ディスプレイであって、
ａ．前記放射画像エリアを設けるように位置合わせされる複数のディスプレイタイルを備え、該ディスプレイタイルはそれぞれ、
ｉ．前記放射画像エリアにおいてピクセルグループ内に配置される複数の発光ピクセルと、
ｉｉ．複数の順次に配置されるピクセル駆動回路であって、各ピクセル駆動回路は、そのようなピクセルの前記光放射を制御するために特定のピクセルグループに電気的に接続される、ピクセル駆動回路と、
ｉｉｉ．前記ディスプレイタイルから離れており、画像情報を受信すると共に、データを生成するために構成されるものであって、各ピクセル駆動回路の動作を制御するためのデータを与える複数の並列信号通信線と、前記順次に配置されるピクセル駆動回路の最初の一つに情報に供給するように、１つまたは複数の最初の直列信号通信線とを含んでいるデータ源と
を備え、
ｉｖ．各ピクセル駆動回路は、ピクセルの対応するグループの光放射を制御するように、前記複数の並列信号通信線を介して、前記データ源からの前記データの一部を受信し、１つまたは複数の第２の直列信号通信線を経て、次の順次ピクセル駆動回路に情報を与えて、そのような次の順次ピクセル駆動回路に該次の順次ピクセル駆動回路の対応するデータに応答させて該次の順次ピクセル駆動回路の発光ピクセルグループの動作を制御させると共に、所定の数のピクセル駆動回路が前記放射エリアから所望の光放射を引き起こすまで、この動作を繰り返し、
前記ディスプレイタイルは、互いに平行である第１のエッジと、該第１のエッジに対して垂直な第２のエッジとを含み、
各ディスプレイタイルのピクセル駆動回路の配列は、前記第１のエッジに沿って整列配置され、
前記複数の並列信号通信線及び前記１つまたは複数の最初の直列信号通信線は、前記データ源に前記第２のエッジを通して接続され、
各ディスプレイタイルは、専用の基板を含む
タイル型ディスプレイ。
【請求項２】
前記第１のエッジは前記第２のエッジよりも長い、請求項１に記載のタイル型ディスプレイ。
【請求項３】
各ピクセル駆動回路は、前記基板上に実装されると共に、前記複数の並列信号通信線に電気的に接続される、別個に製造された第１の集積回路と、前記次の順次ピクセル駆動回路とを含む、請求項１に記載のタイル型ディスプレイ。
【請求項４】
前記第１の集積回路は前記複数の並列信号通信線からデータを受信し、
前記タイル型ディスプレイは、前記基板上に実装されると共に、前記第１の集積回路に電気的に接続される、別個に製造された第２の集積回路と、光放射を制御するための、該第２の集積回路の対応する発光ピクセルグループとをさらに含む、請求項３に記載のタイル型ディスプレイ。
【請求項５】
各ピクセルはＯＬＥＤを含む、請求項１に記載のタイル型ディスプレイ。
【請求項６】
前記基板は金属を含む、請求項１に記載のタイル型ディスプレイ。
【請求項７】
前記金属基板は前記発光ピクセルとの間で電気を通す、請求項６に記載のタイル型ディスプレイ。
【請求項８】
各タイルは基板をさらに含み、該基板と反対側にある面から光が放射される、請求項１に記載のタイル型ディスプレイ。
【請求項９】
複数のタイルを有し、放射画像エリアから光放射を引き起こすディスプレイであって、
各タイルは、
ａ．前記放射画像エリアにおいてピクセルグループ内に配置される複数の発光ピクセルと、
ｂ．複数の順次に配置されるピクセル駆動回路であって、該各ピクセル駆動回路は、そのようなピクセルの前記光放射を制御するために特定のピクセルグループに電気的に接続される、該ピクセル駆動回路と、
ｃ．前記ディスプレイタイルから離れており、画像情報を受信すると共に、データを生成するために構成されるものであって、各ピクセル駆動回路の動作を制御するためのデータを与える複数の並列信号通信線と、前記順次に配置されるピクセル駆動回路の最初の一つに情報に供給するように、１つまたは複数の最初の直列信号通信線とを含んでいるデータ源と
を備え、
ｄ．各ピクセル駆動回路は、ピクセルの対応するグループの光放射を制御するように、前記複数の並列信号通信線を介して、前記データ源からの前記データの一部を受信し、１つまたは複数の第２の直列信号通信線を経て、次の順次ピクセル駆動回路に情報を与えて、そのような次の順次ピクセル駆動回路に、該次の順次ピクセル駆動回路の対応するデータに応答させて、該次の順次ピクセル駆動回路の発光ピクセルグループの動作を制御させると共に、所定の数のピクセル駆動回路が前記放射エリアから所望の光放射を引き起こすまで、この動作を繰り返し、
前記ディスプレイタイルは、互いに平行である第１のエッジと、該第１のエッジに対して垂直な第２のエッジとを含み、
各ディスプレイタイルのピクセル駆動回路の配列は、前記第１のエッジに沿って整列配置され、
前記複数の並列信号通信線及び前記１つまたは複数の最初の直列信号通信線は、前記データ源に前記第２のエッジを通して接続され、
各ディスプレイタイルは、専用の基板を含む
ディスプレイ。
【請求項１０】
各ピクセル駆動回路は、前記基板上に実装されると共に、前記複数の並列信号通信線に電気的に接続される、別個に製造された第１の集積回路と、前記次の順次ピクセル駆動回路とを含む、請求項９に記載のディスプレイ。
【請求項１１】
前記第１の集積回路は前記複数の並列信号通信線からデータを受信し、
前記タイル型ディスプレイは、前記基板上に実装されると共に、前記第１の集積回路に電気的に接続される、別個に製造された第２の集積回路と、光放射を制御するための、該第２の集積回路の対応する発光ピクセルグループとをさらに含む、請求項１０に記載のディスプレイ。
【請求項１２】
各ピクセルはＯＬＥＤを含む、請求項９に記載のディスプレイ。
【請求項１３】
前記基板は金属を含む、請求項９に記載のディスプレイ。
【請求項１４】
前記金属基板は前記発光ピクセルとの間で電気を通す、請求項１３に記載のディスプレイ。
【請求項１５】
各タイルは基板をさらに含み、該基板と反対側にある面から光が放射される、請求項９に記載のディスプレイ。