【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年12月21日(2011.12.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
目視可能な表面仕上げ加工による線が存在しない透明部材を得る方法であって、該方法は、
屈折率ｎｓを有する透明材料製で、少なくとも１つの主面が０．００１〜０．０１μｍのＲａ値になるよう研削され、かつ研磨されているが、細い独立したスクラッチ状の目視可能な表面欠陥を該主面が有する基板を得る工程；
前記基板の前記研削され、かつ研磨された主面に、０．０１＜｜ｎｓ−ｎｃ｜≦０．１５である屈折率ｎｃを有し、厚さが１０μｍ未満であるマスクコーティングを重合により形成する、液状で重合性のマスクコーティング組成物を、該組成物の該基板との接触角が３０°以下の状態で、直接デポジットする工程；
前記マスクコーティング組成物を重合させる工程；および
前記基板の研削され、かつ研磨された主面が前記マスクコーティングにより直接覆われており、該基板の研削され、かつ研磨された主面には目視可能な細い表面仕上げ加工によるスクラッチが存在しない透明部材を回収する工程を含む。
【請求項２】
前記細い独立したスクラッチが、楔形状の断面を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記基板の前記研削され、かつ研磨された主面には、研磨処理の前にファイニングステップ（ｆｉｎｉｎｇ  ｓｔｅｐ）を実施されていないことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記細い独立したスクラッチの出現が、規則的な特徴を示さないことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記細い独立したスクラッチが、前記基板の前記主面上に同心状に位置することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記基板の前記主面との前記マスクコーティング組成物の接触角が２５°以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記基板の前記主面との前記マスクコーティング組成物の接触角が２°〜１７°であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記マスクコーティング組成物が、１．５〜８μｍの厚さを有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記マスクコーティング組成物が、エポキシ化合物を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記エポキシ化合物が１分子当たり少なくとも２つのエポキシ基を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記エポキシ化合物が、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル類、アルカノール類のジグリシジルエーテル類およびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記エポキシ化合物が、ビスフェノールＡ若しくはビスフェノールＦのジグリシジルエーテル類、ビスフェノールＡ若しくはビスフェノールＦのジグリシジルエーテル類の臭素化物、ブタンジオールのジグリシジルエーテルおよびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記マスクコーティング組成物が、（メタ）アクリレート化合物を含有しないことを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記マスクコーティング組成物が、光重合性の組成物であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも１つのカチオン開始剤を含むことを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記マスクコーティング組成物を、スピンコーティングまたはディップコーティングによりデポジットさせることを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
さらに、前記マスクコーティングの上面または上方に耐衝撃性プライマーコーティングを形成する工程を含むことを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
前記耐衝撃性プライマーコーティングを形成する工程が、前記マスクコーティングの上面または上方にラテックスをデポジットさせること、および、該ラテックスを少なくとも部分的に硬化させることを含むことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記ラテックスが、（メタ）アクリルラテックス類およびポリウレタンラテックス類から選択されることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記マスクコーティングと、前記耐衝撃性プライマーコーティングと、の間に干渉縞防止コーティングを形成する工程を含む請求項１７〜１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
前記干渉縞防止コーティングが、１／４波長板を構成することを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
さらに、耐衝撃性プライマーコーティング上に磨耗防止コーティングを形成する工程を含むことを特徴とする請求項１７〜２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
前記基板材料の屈折率ｎｓが１．６０以上であることを特徴とする請求項１〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
前記基板材料の屈折率ｎｓが１．６５以上であることを特徴とする請求項１〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
前記基板材料が、ポリチオウレタンのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリエピスルフィド類のホモポリマー若しくはコポリマー、ポリカーボネートのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリチオ（メタ）アクリレート類のホモポリマー若しくはコポリマー、およびこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項２３または２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記基板材料が、少なくとも１つのジイソシアネートと、少なくとも１つのポリチオールと、の重付加により得られるポリチオウレタンベースの材料であることを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記ジイソシアネートが、キシリレンジイソシアネート（Ｃ６Ｈ４（ＣＨ２ＮＣＯ）２）であることを特徴とする請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記ポリチオールが、トリチオール類およびテトラチオール類から選択されることを特徴とする請求項２６または２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記ポリチオールが、下記式を有する化合物から選択される請求項２８に記載の方法。
【化１】
2008547053.tif 000001
【請求項３０】
前記キシリレンジイソシアネートとポリチオールとの重付加から得られる前記基板材料が、下記式を有することを特徴とする請求項２６に記載の方法。
【化２】
2008547053.tif 000002
【請求項３１】
前記基板材料が、下記式を有するジエピスルフィドの重合または共重合から得られるポリエピスルフィドのホモポリマーまたはコポリマーであることを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【化３】
2008547053.tif 000003
【請求項３２】
光学レンズを構成することを特徴とする請求項１〜３１のいずれかに記載の方法。
【請求項３３】
屈折率ｎｓを有し、少なくとも１つの主面が０．００１〜０．０１μｍのＲａ値を有し、該主面が細い独立したスクラッチ状の目視可能な表面欠陥を有する基板、および、屈折率ｎｃを有し、厚さ１０μｍ未満で前記基板の前記主面を直接覆う透明マスクコーティングを含み、前記ｎｓおよびｎｃが、０．０１＜｜ｎｓ−ｎｃ｜≦０．１５の関係を満たす部材。
【請求項３４】
前記ｎｓおよびｎｃが、０．０５≦｜ｎｓ−ｎｃ｜≦０．１５の関係を満たす請求項３３に記載の部材。
【請求項３５】
前記細い独立したスクラッチが、楔形状の断面を有することを特徴とする請求項３３または３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記マスクコーティングが、アナターゼ結晶構造を有するＴｉＯ２およびＴｉＯ２がアナターゼ結晶構造を有するＴｉＯ２／ＺｒＯ２／ＳｉＯ２混合物から選択される鉱物コロイドを含んだγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランベースのワニスを含まないことを特徴とする請求項３３〜３５のいずれかに記載の部材。
【請求項３７】
前記細い独立したスクラッチの出現が、規則的な特徴を示さないことを特徴とする請求項３３〜３６のいずれかに記載の部材。
【請求項３８】
前記細い独立したスクラッチが、前記基板の前記主面上に同心状に位置することを特徴とする請求項３３〜３６のいずれかに記載の部材。
【請求項３９】
前記マスクコーティングが、１．５〜８μｍの厚さを有することを特徴とする請求項３３〜３８のいずれかに記載の部材。
【請求項４０】
前記マスクコーティング組成物が、エポキシ化合物を含むことを特徴とする請求項３３〜３９のいずれかに記載の部材。
【請求項４１】
前記エポキシ化合物が１分子当たり少なくとも２つのエポキシ基を含むことを特徴とする請求項４０に記載の部材。
【請求項４２】
前記エポキシ化合物が、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル類、アルカノール類のジグリシジルエーテル類およびそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項４１に記載の部材。
【請求項４３】
前記エポキシ化合物が、ビスフェノールＡ若しくはビスフェノールＦのジグリシジルエーテル類、ビスフェノールＡ若しくはビスフェノールＦのジグリシジルエーテル類の臭素化物、ブタンジオールのジグリシジルエーテルおよびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項４２に記載の部材。
【請求項４４】
前記マスクコーティング組成物が、（メタ）アクリレート化合物を含有しないことを特徴とする請求項３３〜４３のいずれかに記載の部材。
【請求項４５】
さらに、前記マスクコーティングの上に耐衝撃性プライマーコーティングを含むことを特徴とする請求項３３〜４４のいずれかに記載の部材。
【請求項４６】
前記耐衝撃性プライマーコーティングが、（メタ）アクリルラテックス類およびポリウレタンラテックス類から選択される硬化ラテックスからなることを特徴とする請求項４５に記載の部材。
【請求項４７】
前記マスクコーティングと、前記耐衝撃性プライマーコーティングと、の間に干渉縞防止コーティングを含むことを特徴とする請求項４５または４６に記載の部材。
【請求項４８】
前記干渉縞防止コーティングが、１／４波長板を構成することを特徴とする請求項４７に記載の部材。
【請求項４９】
前記耐衝撃性プライマーコーティング上に磨耗防止コーティングを含むことを特徴とする請求項４５〜４８のいずれかに記載の方法。
【請求項５０】
前記基板材料の屈折率ｎｓが１．６０以上であることを特徴とする請求項３３〜４９のいずれかに記載の部材。
【請求項５１】
前記基板材料の屈折率ｎｓが１．６５以上であることを特徴とする請求項３３〜４９のいずれかに記載の部材。
【請求項５２】
前記基板材料が、ポリチオウレタンのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリエピスルフィド類のホモポリマー若しくはコポリマー、ポリカーボネートのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリチオ（メタ）アクリレート類のホモポリマー若しくはコポリマー、およびこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項３３〜５１のいずれかに記載の部材。
【請求項５３】
光学レンズを構成することを特徴とする請求項３３〜５２のいずれかに記載の部材。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
上記の目的は、本発明による、目視可能な表面仕上げ加工による線が存在しない透明部材を得る方法により達成される。
該方法は、屈折率ｎｓを有する透明材料製で、少なくとも１つの主面が０．００１〜０．０１μｍのＲａ値になるよう研削され、かつ研磨されているが、細い独立したスクラッチ状の目視可能な表面欠陥を該主面が有する基板を得る工程；
前記基板の前記研削され、かつ研磨された主面に、０．０１＜｜ｎｓ−ｎｃ｜≦０．１５であり、好ましくは０．０５≦｜ｎｓ−ｎｃ｜≦０．１５である屈折率ｎｃを有し、厚さが１０μｍ未満である、マスクコーティングを重合により形成する、液状で重合性のマスクコーティング組成物を、該組成物の該基板との接触角が３０°以下の状態で、直接デポジットする工程；
前記マスクコーティング組成物を重合させる工程；および
前記基板の研削され、かつ研磨された主面が前記マスクコーティングにより直接覆われており、該基板の研削され、かつ研磨された主面には目視可能な細い表面仕上げ加工によるスクラッチが存在しない透明部材を回収する工程を含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
また、本発明は、屈折率ｎｓを有し、少なくとも１つの主面が０．００１〜０．０１μｍのＲａ値を有し、該主面が細い独立したスクラッチ状、好ましくは楔状の断面形状を有するスクラッチ状の表面欠陥を有する基板、および、屈折率ｎｃを有し、厚さ１０μｍ未満で前記基板の前記主面を直接覆う透明マスクコーティングを含み、前記ｎｓおよびｎｃが、０．０１＜｜ｎｓ−ｎｃ｜≦０．１５、好ましくは０．０５≦｜ｎｓ−ｎｃ｜≦０．１５の関係を満たす部材、特に光学部材、より具体的には眼用レンズ、好ましくは眼鏡レンズに関する。