Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月9日(2014.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３０６】
上記に引用した全ての特許、特許出願及び他の刊行物を、それらがあたかも完全に再現されたものとして本明細書に援用するものである。本発明の様々な態様の説明を容易にするために本発明の特定の実施例を上記に詳細に説明したが、本発明は、それら実施例の詳細に限定されるものではないことを理解すべきである。むしろ添付の「特許請求の範囲」により規定されるように本発明の趣旨及び範囲内にある全ての変形例、実施形態及び代替例を全て網羅しようとするものである。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［６］に記載する。
［１］
構造化された第１主表面と、相対する第２主表面と、を含む導光フィルムであって、前記構造化された第１主表面が、複数の単位個別構造を含み、各単位個別構造が、
主に光を導くための導光部分であって、
複数の第１側面であって、各第１側面が、前記導光フィルムの平面に対して約３５度〜約５５度の範囲の角度をなす、複数の第１側面と、
前記複数の第１側面で画定され、第１最小寸法を有する第１底面と、
第１最大高さと、を含む、導光部分と、
主に導光フィルムを表面に接着するための、前記複数の第１側面の上及び間に配置される接着部分であって、
複数の第２側面であって、各第２側面が、前記導光フィルムの平面に対して約７０度超の角度をなす、複数の第２側面と、
前記複数の第２側面によって画定され、前記第１最小寸法の約１０％未満の第２最小寸法を有する第２底面と、
第２最大高さであって、前記第２最大高さの前記第２最小寸法に対する比が少なくとも約１．５である、第２最大高さと、を含む、接着部分と、を含む、導光フィルム。
［２］
前記第２主表面が、第１平均高さを有する複数の微小構造と、第２平均粒径を有する複数の粒子を含み、前記第１平均高さの第２平均粒径に対する比が、約１０未満である、項目１に記載の導光フィルム。
［３］
前記第２最大高さの前記第２最小寸法に対する比が、少なくとも約５である、項目１に記載の導光フィルム。
［４］
構造化された第１主表面と、相対する第２主表面と、を含む導光フィルムであって、前記構造化された第１主表面が、同じ第１方向に沿って延在する複数の線形単位個別構造を含み、各線形単位個別構造が、
主に光を再利用するための、前記第１方向に沿って延在する線形導光部分であって、前記線形導光部分は相対する第１側面を備え、各第１側面が前記第１方向に沿って延在し、前記導光フィルムに対する垂線と約４０度超の第１角をなす、線形導光部分と、
主に導光フィルムを表面に接着するための、前記複数の第１側面の上及び間に配置される接着部分であって、
複数の第２側面であって、各第２側面が、前記導光フィルムに対する垂線と約３０度未満である第２角をなす、複数の第２側面と、
第２最小寸法を有する第２底面と、
第２最大高さであって、前記第２最大高さの前記第２最小寸法に対する比が少なくとも約１．５である、第２最大高さと、を含む、接着部分と、を含む、導光フィルム。
［５］
構造化された第１主表面と、相対する第２主表面と、を含む導光フィルムであって、前記構造化された第１主表面が、複数の単位個別構造を含み、各単位個別構造が、
主に光を導くための導光部分であって、
第１最小寸法を有する第１底面と、
第１最大高さであって、前記第１最大高さの前記第１最小寸法に対する比が約１未満である、第１最大高さと、を含む、導光部分と、
主に前記導光フィルムを表面に接着するための、前記導光部分の上に配置される接着部分であって、
前記第１最小寸法の約１０％未満の第２最小寸法を有する第２底面と、
第２最大高さであって、前記第２最大高さの前記第２最小寸法に対する比が約１．５超である、第２最大高さと、を含む、接着部分と、を含む、導光フィルム。
［６］
前記複数の単位個別構造内の単位個別構造の導光部分の各側面が、前記導光フィルムの平面に対し、約３５度〜約５５度の範囲の角度をなし、前記複数の単位個別構造内の単位個別構造の接着部分の各側面が、前記導光フィルムの平面に対し、約７０度超の角度をなす、項目５に記載の導光フィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造化された第１主表面と、相対する第２主表面と、を含む導光フィルムであって、前記構造化された第１主表面が、複数の単位個別構造を含み、各単位個別構造が、
主に光を導くための導光部分であって、
複数の第１側面であって、各第１側面が、前記導光フィルムの平面に対して約３５度〜約５５度の範囲の角度をなす、複数の第１側面と、
前記複数の第１側面で画定され、第１最小寸法を有する第１底面と、
第１最大高さと、を含む、導光部分と、
主に導光フィルムを表面に接着するための、前記複数の第１側面の上及び間に配置される接着部分であって、
複数の第２側面であって、各第２側面が、前記導光フィルムの平面に対して約７０度超の角度をなす、複数の第２側面と、
前記複数の第２側面によって画定され、前記第１最小寸法の約１０％未満の第２最小寸法を有する第２底面と、
第２最大高さであって、前記第２最大高さの前記第２最小寸法に対する比が少なくとも約１．５である、第２最大高さと、を含む、接着部分と、を含む、導光フィルム。
【請求項２】
前記第２主表面が、第１平均高さを有する複数の微小構造と、第２平均粒径を有する複数の粒子を含み、前記第１平均高さの第２平均粒径に対する比が、約１０未満である、請求項１に記載の導光フィルム。
【請求項３】
前記第２最大高さの前記第２最小寸法に対する比が、少なくとも約５である、請求項１に記載の導光フィルム。
【請求項４】
構造化された第１主表面と、相対する第２主表面と、を含む導光フィルムであって、前記構造化された第１主表面が、同じ第１方向に沿って延在する複数の線形単位個別構造を含み、各線形単位個別構造が、
主に光を再利用するための、前記第１方向に沿って延在する線形導光部分であって、前記線形導光部分は相対する第１側面を備え、各第１側面が前記第１方向に沿って延在し、前記導光フィルムに対する垂線と約４０度超の第１角をなす、線形導光部分と、
主に導光フィルムを表面に接着するための、前記複数の第１側面の上及び間に配置される接着部分であって、
複数の第２側面であって、各第２側面が、前記導光フィルムに対する垂線と約３０度未満である第２角をなす、複数の第２側面と、
第２最小寸法を有する第２底面と、
第２最大高さであって、前記第２最大高さの前記第２最小寸法に対する比が少なくとも約１．５である、第２最大高さと、を含む、接着部分と、を含む、導光フィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月11日(2014.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一体型容量性近接センサを有する表示装置であって、
前記表示装置の表示要素の一部分として配設され、相互容量性センサの送信器センサ電極機能と前記表示装置の共通電圧電極機能との両方を果たすように構成された複数のセンサ電極と、
前記複数のセンサ電極に接続され且つ前記複数のセンサ電極のうちの第１の少なくとも１つのセンサ電極に関して第１の電気信号を駆動するように構成されたセンサ駆動機構であり、前記第１の少なくとも１つのセンサ電極に対する駆動励起情報を選択するように構成された少なくとも１つのメモリ素子を備えるセンサ駆動機構と、
前記複数のセンサ電極と接続され且つ前記複数のセンサ電極のうちの第２の少なくとも１つのセンサ電極に関して第２の電気信号を駆動するように構成された表示駆動機構と、
を備える表示装置。
【請求項２】
前記複数のセンサ電極、前記センサ駆動機構及び前記表示駆動機構と接続された調停機構を更に備え、
前記調停機構は、前記第１の電気信号及び前記第２の電気信号が前記複数のセンサ電極のうちのどのセンサ電極にも同時には駆動されないように、前記第１の電気信号と前記第２の電気信号との間の調停を行うように構成されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１の電気振動及び前記第２の電気信号が同時に駆動される、請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記センサ駆動機構に接続され、且つ、前記第１の電気信号の極性を制御するように構成された極性制御装置を更に備える、請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項５】
前記複数のセンサ電極に接続されたガードバンド制御装置を更に備え、
前記ガードバンド制御装置は、前記センサ駆動機構が前記複数のセンサ電極のうちのガードされるセットに関して前記第１の電気信号を駆動するのを禁止するように構成されている、請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項６】
一体型容量性感知及び表示の方法であって、
複数のセンサ電極のうちの第１の少なくとも１つのセンサ電極に関して感知信号を駆動するステップと、
前記複数のセンサ電極のうちの第２のセンサ電極に関して表示信号を駆動するステップと、
を含み、前記複数のセンサ電極は、相互容量性センサの送信器センサ電極機能と表示装置の共通電圧電極機能とのの両方を果たすように構成されており、前記感知信号は、メモリ素子を備えるセンサ駆動機構により駆動され、前記センサ駆動機構は、前記複数のセンサ電極のうちの前記第１の少なくとも１つのセンサ電極に接続されており、前記メモリ素子は、前記第１の少なくとも１つのセンサ電極に対する駆動励起情報を選択するように構成されており、
前記表示信号は、前記第２のセンサ電極に接続された表示駆動機構により駆動され、前記感知信号及び前記表示信号は同時に駆動される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月8日(2014.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料電池スタック（１０）であって、複数個の燃料電池セルを有し、各セルは、少なくとも１つの入口（３２）及び少なくとも１つの出口（３４）を備えた電解質用チャンバ（Ｋ）及び電解質を前記セルの全てに並列に供給する少なくとも１つのヘッダ（３０）を備え、前記燃料電池スタックは、前記セルを流通した電解質を収集する手段（１４）を有し、各電解質チャンバ（Ｋ）は、フレーム（６２）によって構成されると共に酸化体ガスチャンバ（Ｏ）と燃料ガスチャンバ（Ｈ）との間に位置し且つ燃料電池を構成するようカソード電極（１９）及びアノード電極（１８）によってそれぞれ前記酸化体ガスチャンバ（Ｏ）及び前記燃料ガスチャンバ（Ｈ）から離隔されており、各セルに関し、前記電解質出口（３４）は、電解質フローチャネル（４１）と連通しており、前記電解質フローチャネル（４１）は、前記電解質チャンバ（Ｋ）を構成する前記フレーム（６２）の上方に位置し、前記電解質フローチャネル（４１）は、使用中、他のセルのための対応の電解質フローチャネル（４１）とは分離された前記電解質フローチャネル（４１）内に電解質の自由表面が存在するが、全ての前記電解質フローチャネルの自由表面が共通の圧力状態にあるよう配置されている、燃料電池スタック。
【請求項２】
各前記電解質フローチャネル（４１）は、前記流れを液滴の状態にばらばらにする手段（３９）を有する、請求項１記載の燃料電池スタック。
【請求項３】
各前記電解質フローチャネル（４１）は、前記電解質が前記電解質フローチャネル（４１）から自由に落下することができるようにする突出要素（３９）を有する、請求項１又は２記載の燃料電池スタック。
【請求項４】
各セルの前記出口（３４）は、前記燃料電池スタック（１０）の上面のところで前記電解質フローチャネル（４１）と連通しており、前記電解質フローチャネルは又、使用中、前記電解質が前記電解質フローチャネル（４１）をオーバーフロー前の一定の深さまで満たすようにする堰（３８）を備えている、請求項１〜３のうちいずれか一に記載の燃料電池スタック。
【請求項５】
バッフル（３５，３６，３７）が流れの一様性を促進するよう前記電解質チャンバ（Ｋ）内に配置されている、請求項１〜４のうちいずれか一に記載の燃料電池スタック。
【請求項６】
前記電解質チャンバ（Ｋ）は、前記電解質入口（３２）の近くに位置する横方向切欠き付きバッフル（３７）を有する、請求項５記載の燃料電池スタック。
【請求項７】
酸化体ガスが前記燃料電池スタック（１０）のフェースと連通した１本又は２本以上の入口チャネル（５２）を通って各酸化体ガスチャンバ（Ｏ）内に直接供給される、請求項１〜６のうちいずれか一に記載の燃料電池スタック。
【請求項８】
前記酸化体ガス入口チャネル（５２）を備えた前記燃料電池スタック（１０）の部分は、前記酸化体ガスが高い圧力状態で供給されるプレナム（１２ａ）内に納められている、請求項７記載の燃料電池スタック。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2013529361.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月3日(2014.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【図１】本発明に従うセラミック絶縁体を有するスパークプラグの部分図である。
【図２】図２Ａは、倍率２００ｘでの発明のセラミック材料（０８−Ｂ−１０）の１つの実施形態の顕微鏡写真であり、図２Ｂは倍率１０００ｘでの発明のセラミック材料（０８−Ｂ−１０）の１つの実施形態の顕微鏡写真である。
【図３】図３Ａは、倍率２００ｘでの先行技術のセラミック材料（０９−Ｂ−２３）の顕微鏡写真であり、図３Ｂは倍率５００ｘでの先行技術のセラミック材料（０９−Ｂ−２３）の顕微鏡写真である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
表２は、発明のセラミック材料の多数の実施形態のもう２つの特定的な実施形態である発明例２および３を含む。図２Ａは倍率２００ｘでの発明例１（０８−Ｂ−１０）の顕微鏡写真である。図２Ｂは、倍率１０００ｘでの発明例１（０８−Ｂ−１０）の顕微鏡写真である。表２は、別の先行技術のセラミック材料である比較例２も含む。図３Ａは倍率２００ｘでの先行技術の比較例２（０９−Ｂ−２３）の顕微鏡写真である。図３Ｂは、倍率５００ｘでの先行技術の比較例２（０９−Ｂ−２３）の顕微鏡写真である。焼結の後、発明例２のセラミック材料は約１．０重量％の量のガラス相を含み、比較例２のセラミック材料は約４．０重量％の量のガラス相を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
セラミック材料の間隙率および細孔サイズは、微分干渉コントラスト（ＤＩＣ）を用いるNikon ME600 DPなどの反射光顕微鏡を用いてセラミック材料のサンプルを見ることで定められる。顕微鏡は、定規、またはＥＤＳおよび各々の見える細孔の面積を測定する別の測定具を含む。図２Ａは、倍率２００ｘでの発明例１（０８−Ｂ−１０）の微細構造および細孔を示す。図２Ｂは、１０００ｘでの発明例１（０８−Ｂ−１０）の微細構造および細孔を示す。図２は、細孔および粒ならびにそれらの対応のサイズも同定する。図３Ａは。倍率２００ｘでの先行技術のセラミック材料、比較例２（０９−Ｂ−２３）の微細構造および細孔を示す。図３Ｂは、５００ｘでの比較例２（０９−Ｂ−２３）の微細構造および細孔を示す。図３は、細孔および粒ならびにそれらの対応のサイズも同定する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月24日(2014.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第１導管と第２導管とのフローコンダクタンスは同一である、請求項１記載の基板
処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記処理ガスを前記第１及び第２流量制御装置に供給する共有ガスパネルをさらに備え
る、請求項１記載の基板処理システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記処理ガスを前記第１チャンバに供給する第３流量制御装置と、
前記第３流量制御装置からの流量を検証するために、前記第３流量制御装置を前記質量
流量検証器に選択的に結合する第３導管をさらに備え、
前記第１、第２、第３流量制御装置のうちいずれか１つが前記質量流量検証器によって
検証されている間に、前記第１、第２、第３流量制御装置のうちいずれか２つは、前記処
理ガスを前記第１又は第２処理チャンバのうちの対応する１つに流すことができる、請求
項１記載の基板処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月25日(2014.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
したがって、図８の例では、時間Ｔ０から開始して、第１の基板の第２の区間に対する少なくとも１つの研磨パラメータは、その区間の研磨速度が増大する（その結果、指標トレース２２０の勾配も増大する）ように修正される。またこの例では、第２の基板の第１の区間に対する少なくとも１つの研磨パラメータは、その区間の研磨速度が増大する（その結果、指標トレース２３０の勾配も増大する）ように修正される。同様に、この例では、第２の基板の第２の区間に対する少なくとも１つの研磨パラメータは、その区間の研磨速度が低減する（その結果、指標トレース２４０の勾配も低減する）ように修正される。その結果、両基板の両区間は、ほぼ同じ時間にターゲット指標（したがって、ターゲット厚さ）に到達するはずである（または、両基板の研磨が同時に休止した場合、両基板の両区間はほぼ同じ厚さで終了する）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
いくつかの実装形態では、現在の基板に対する等式１または等式２のいずれかに対する計算で使用される適用誤差ｅｒｒは、１つ前の基板のスケール誤差と、１つ前の基板より前の基板からの適用誤差の加重平均との組合せとして計算される。これは、以下の等式で表すことができる。
適用ｅｒｒＸ＋１＝スケール誤差Ｘ＋全誤差Ｘ−１
スケール誤差Ｘ＝ｋ１＊ｅｒｒＸ
全誤差Ｘ−１＝ｋ２＊（ａ１＊適用ｅｒｒＸ−２＋ａ２＊適用ｅｒｒＸ−３＋．．．＋ａＮ＊適用ｅｒｒ（Ｘ−（Ｎ＋１））
ここでｋ１およびｋ２は定数であり、ａ１、ａ２、．．．ａＮは加重平均に対する定数であり、すなわちａ１＋ａ２＋．．．＋ａＮ＝１である。定数ｋ１は約０．７とすることができ、定数ｋ２は１とすることができる。ｅｒｒＸは、上記の手法の１つに従って１つ前の基板に対して計算される誤差であり、たとえば、図１２Ａ〜１２Ｄの実装形態の場合はｅｒｒＸ＝［（ＳＤ−Ｓ’）／ＳＤ］もしくはｅｒｒＸ＝［（Ｓ’−ＳＤ）／ＳＤ］であり、または図１３の実装形態の場合はｅｒｒＸ＝［（ＩＴ−ＡＩ）／（ＩＴ−ＳＩ）］である。適用ｅｒｒＸという項は、たとえば現在の基板が基板Ｘ＋１であると仮定すると、１つ前の基板に対する適用誤差であり、このとき適用ｅｒｒＸ−２は、３つ前の基板に対する適用誤差であり、適用ｅｒｒＸ−３は、４つ前の基板に対する適用誤差であり、以下同様である。等式１または等式２のいずれの場合も、ｅｒｒ＝適用ｅｒｒＸ＋１である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月11日(2014.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バルーン拡張型スキャフォールドをバルーンにクリンピングする方法であって、
Ｔｇ−ｌｏｗの下限値を有するガラス転移温度範囲によって特徴付けられたポリマーを備えるチューブを用意するステップと、
前記チューブを径方向に拡張してその径方向の硬度を増大させるステップと、
前記スキャフォールドを前記径方向に拡張されたチューブから形成するステップと、
前記スキャフォールドが約Ｔｇ−ｌｏｗからＴｇ−ｌｏｗの１５°低い温度までの間の温度を有する間に、前記スキャフォールドを前記バルーンにクリンピングするステップとを含み、
前記スキャフォールドをクリンピングする前に、
前記スキャフォールドを支持体上に配置するステップと、
前記スキャフォールドを脱イオン化して前記スキャフォールドに対する損傷を低減するステップであって、前記スキャフォールドが前記支持体上に配置されていた間に起こっていたであろう前記スキャフォールド上のあらゆる静的電荷の蓄積を低減するために、前記スキャフォールドが前記支持体上に着座している間に脱イオン化される、ステップと
をさらに含む方法。
【請求項２】
前記温度範囲が、摂氏約４８〜５４度である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ポリマーがＰＬＧＡである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記温度範囲が、約５％のＧＡ含有量に対して摂氏約４６〜５３度であり、または約１５％のＧＡ含有量に対して摂氏約４３〜５０度である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記温度範囲が、約Ｔｇ−ｌｏｗからＴｇ−ｌｏｗの１０度低い温度までの間である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記温度範囲が、約Ｔｇ−ｌｏｗからＴｇ−ｌｏｗの５度低い温度までの間である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ポリマーが、約５５℃の下限値を有するガラス転移温度範囲によって特徴付けられたＰＬＬＡであり、前記スキャフォールドが約４８℃〜５４℃の間の温度を有する間に前記スキャフォールドが前記バルーンにクリンピングされる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記スキャフォールドが、Ｗ字形状を有する閉セルと、前記Ｗ字形状のセルを連結する線形の結合ストラットとの円周方向の一連のものを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記Ｗ字形状の閉セルが、管状本体の中間セグメント内の基準セルと、前記管状本体の遠位及び近位の端部に端部セルとを含み、前記端部セルの前記線形の結合ストラットが、前記基準セルの前記線形の結合ストラットより軸方向に長い、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
リング構造が、一連のリングストラットの対によって形成され、各対は、互いに対してある内部角度で配向されたリングストラットを有し、前記内部角度は、約１２０度〜約１７９度の範囲内である、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
第１のクリンピングするステップにおいて、前記スキャフォールドが、クリンパーヘッドを第１の直径に置き、前記バルーンが第１の圧力まで膨張される間に前記クリンパーヘッドを前記第１の直径に保持することによって前記第１の直径にクリンピングされる、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
第２のクリンピングするステップにおいて、前記スキャフォールドのクリンパーヘッドが、前記第１の直径より小さい第２の直径まで動かされ、前記バルーンが第２の圧力まで膨張される間、前記第２の直径で前記クリンパーヘッドを保持するサブステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第２のクリンピングするステップの後、前記スキャフォールドのクリンパーヘッドが前記第２の直径より小さい第３の直径まで動かされること、及び前記クリンパーヘッドを前記第３の直径に保持するサブステップを含む第３のクリンピングするステップを実施し、前記スキャフォールドの直径を前記第３の直径に低減した後、前記スキャフォールドが、クリンピング装置から取り外され、前記バルーン上で調整され、次いで前記クリンピング装置内に再挿入され、前記バルーンにクリンピングされる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記支持体が、ロッド、マンドレル、又はカテーテルである、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記支持体が、カテーテルであり、該カテーテルが、前記バルーン、ロッド、又はマンドレルを備えている、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月24日(2014.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバー内へ水および二酸化炭素を注入する工程；
該チャンバー内で環状分散流を作り出すために、該二酸化炭素と水を混合する工程；
二酸化炭素と水の該環状分散流を加速する工程；
二酸化炭素と水の該加速された流れを方向付けして、剛体表面に衝突させ、それによって、該二酸化炭素を該水中へ可溶化するのに十分な圧力を作り出す工程；ならびに
該可溶化された二酸化炭素と水の混合物を収集する工程
を含む、水に二酸化炭素を可溶化する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月13日(2013.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上下に配置された2以上の個別反応チャンバーを備える、嫌気性反応器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月4日(2014.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
装置１は、液体をリザーバ３から流通させるための内部回路を備えた飲料調製モジュールを有する。モジュールは、ハウジング２ａによって覆われ、本体２を形成する脚部８を有する。ハウジング内の飲料調製モジュールは、風味付け原材料、特に、そのようなモジュールに供給される原材料等、カプセル内に事前に小分けされた原材料を保持し、液体をその中に流通させて飲料５０を形成するように構成される。そのようなモジュールの例は、参照によって本明細書にその教示が組み込まれる、国際公開第２００９／０７４５５０号パンフレット及び国際公開第２００９／１３００９９号パンフレットに開示される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
装置１は、例えばカプセル内の原材料をモジュール内に装填する及び／又はそのような原材料をモジュールから排出するための移送位置（図示せず）と、液体を原材料内に流通させるための（図１及び２に示す）流通位置との間で移動可能なハンドル１０を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
通常、ハンドル１０は、飲料調製モジュールの、抽出ユニット等の、原材料室を備えた原材料ホルダを、風味付け原材料をホルダ内に挿入し及び／又はホルダから排出するための移送位置と、液体を原材料ホルダ内のこの原材料内に流通させて飲料５０を形成するための流通位置とから操作させる。原材料ホルダ、例えば抽出ユニットは２つの相対的に移動可能な部分を有し、これらの部分は、離されて原材料ホルダを移送位置へと開き、近付けられて原材料ホルダを流通位置へと閉じる。この流通位置では、原材料ホルダは、液体を原材料内で適切に案内することを確実にするために、風味付け原材料を緊密に封入することができる。適切な抽出ユニットの構成の例は、例えば欧州特許第１６４６３０５号明細書、欧州特許第１８５９７１３号明細書、欧州特許第１８５９７１４号明細書及び国際公開第２００９／０４３６３０号パンフレットに開示されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
流通位置（図１及び２）では、ハンドル１０は、ハウジング２ａの上面に又はその中に載置されている。特に先端部１２を有するハンドル１０は、例えば本体２の表面の洗浄を容易にするために、対応する形状を有するハウジング２ａと同一面となることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
ハンドル１０は、人間工学的理由から、すなわちハンドル１０が移送位置（図示せず）から流通位置まで移動されるときにユーザの手に接触する面を好都合に配置することによってハンドル１０に力をかけることを容易にするために、その先端部１２においてわずかに湾曲され又は曲げられた直線バーとして全体的に成形された単一アームレバーである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
さらには、装置１は、飲料調製モジュール内で風味付け原材料内の液体の流通を開始するためのユーザインターフェース２０を含む。ユーザインターフェース２０は、さまざまな風味及び／又はさまざまなサイズ及び／さまざまなタイプの飲料の調製を開始するための複数のユーザセレクタを含むことができる。例えばユーザインターフェース２０は、エスプレッソコーヒー及びルンゴコーヒーの注出を選択するための、例えばプッシュアンドターンボタンの形態の第１のユーザセレクタ及び第２のユーザセレクタを含む。装置１はまた、マスタースイッチ又はスチーム２１を含むこともできる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
ハンドル１０及びユーザインターフェース２０は、ハンドル１０を流通位置になるように操作した際、人の手がハンドル１０の操作部１２と接触している間も、その手によってユーザインターフェース２０を操作可能であるように配置され得る。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月11日(2014.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個体において腫瘍細胞の増殖の抑制に使用するためのタンパク質をコードするポリヌクレオチドを含む組成物であって、
前記ポリヌクレオチドによってコードされたタンパク質が、免疫グロブリンFc部および前記腫瘍細胞によって発現されるレセプターのアンタゴニスト・ペプチドを含む融合タンパク質であること、
前記アンタゴニスト・ペプチドが、配列 KGVSLSYR（配列番号６）を含むこと
を特徴とする組成物。
【請求項２】
前記タンパク質をコードするポリヌクレオチドが、組換え腫瘍退縮性ワクシニアウイルス中に存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記融合タンパク質がさらにＴヘルパー・エピトープを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記FcがヒトIgG1 FcまたはヒトIgG3 Fcである、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記組成物が、全身投与による使用のための組成物である、請求項２に記載の組成物。
【請求項６】
前記使用が、さらに、前記個体に腫瘍血管破壊剤を投与することを含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記タンパク質をコードするポリヌクレオチドが、抗原提示細胞に存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
融合タンパク質をコードするポリヌクレオチドを含む組成物であって、
前記融合タンパク質が、免疫グロブリンFc部および腫瘍細胞によって発現されるレセプターのアンタゴニスト・ペプチドを含むこと、
前記アンタゴニスト・ペプチドが、配列 KGVSLSYR（配列番号６）を含むこと、
前記融合タンパク質の発現後、２つの融合タンパク質のFc部の間にジスルフィド結合が生じ、２つの前記アンタゴニスト・ペプチドの単量体ユニットに空間的な近接をもたらすこと、
前記単量体ユニットの間に連結アミノ酸が存在しないこと
を特徴とする組成物。
【請求項９】
請求項８に記載のポリヌクレオチドによってコードされるタンパク質を含む組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月9日(2014.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コーティングされた物品の製造方法であって、
ケイ酸質基材を熱処理する工程と、
前記ケイ酸質基材を、第四級アンモニウム化合物及びオルガノシラン化合物を含む第１の組成物と接触させる工程と、
を含み、
前記基材を熱処理する工程が、前記基材を十分な時間及び十分な温度で加熱し、揮発性表面不純物を除去する工程を含み、
前記ケイ酸質基材を前記第１の組成物と接触させる工程が、前記ケイ酸質基材の熱処理工程後に、前記ケイ酸質基材を前記第１の組成物と４時間以下接触させる工程を含む、方法。
【請求項２】
表面を含むケイ酸質基材と、
前記表面の上にコーティングされた、接着促進試薬を含む第１の層と、
前記第１の層の上にコーティングされた、第四級アンモニウム化合物及びオルガノシラン化合物を含む第２の層と、
を含む、物品。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月26日(2014.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カチオン性要素を含む第１ペンダント基と、
非極性要素を含む第２ペンダント基と、
第１有機ケイ素要素を含む第３ペンダント基と、を含む複数のペンダント基を有するビニルポリマーを含む、コーティング組成物と、
患者接触第１表面及び第２表面を有するエラストマー第１基材を含む医療機器と、を含む物品であって、
前記カチオン性要素が、第四級アミン要素、プロトン化した第三級アミン要素、及びプロトン化した第二級アミン要素からなる群から選択され、
前記ビニルポリマーが前記患者接触第１表面に耐久的に接着し、
前記組成物が無機充填剤を本質的に含まない、物品。
【請求項２】
カチオン性要素を含む第１ペンダント基と、
非極性要素を含む第２ペンダント基と、
第１有機ケイ素要素を含む第３ペンダント基と、を含む複数のペンダント基を有するビニルポリマーを含む、コーティング組成物と、
体液接触第１表面及び第２表面を有する体液接触するエラストマー基材と、を含む物品であって、
前記カチオン性要素が、第四級アミン要素、プロトン化した第三級アミン要素、及びプロトン化した第二級アミン要素からなる群から選択され、
前記ビニルポリマーが前記体液接触第１表面に耐久的に接着し、
前記組成物が無機充填剤を本質的に含まない、物品。
【請求項３】
前記コーティング組成物が付着され、かつ前記コーティング組成物中に存在する追加の遊離シランで硬化されており、かつ前記追加の遊離シランが、６〜２２個の炭素原子の少なくとも１つの直鎖又は分枝鎖アルキルを有する第四級アンモニウムシラン又はプロトン化した第三級アミノシランである、請求項１又は２に記載の物品。
【請求項４】
前記コーティング組成物が接着促進成分を更に含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の物品。
【請求項５】
コーティングされた物品の製造方法であって、
第１カチオン性要素を含む第１ペンダント基と、
非極性要素を含む第２ペンダント基と、
第１有機ケイ素要素を含む第３ペンダント基と、を含む複数のペンダント基を有するビニルポリマーを含み、無機充填剤を本質的に含まない、第１コーティング組成物の形成工程と、
前記ポリマーを第１基材の第１表面に接着するのに好適な条件下で、前記第１コーティング組成物を前記第１表面と接触させる工程と、を含み、
前記第１基材が医療機器のエラストマー構成要素を含む、コーティングされた物品の製造方法。
【請求項６】
コーティングされた物品の製造方法であって、
第１カチオン性要素を含む第１ペンダント基と、
非極性要素を含む第２ペンダント基と、
第１有機ケイ素要素を含む第３ペンダント基と、を含む複数のペンダント基を有するビニルポリマーを含み、無機充填剤を本質的に含まない、第１コーティング組成物の形成工程と、
前記ポリマーを第１基材の第１表面に接着するのに好適な条件下で、前記第１コーティング組成物を前記第１表面と接触させる工程と、を含み、
前記第１基材が体液接触するエラストマー基材を含む、コーティングされた物品の製造方法。
【請求項７】
コーティングを含む医療機器物品であって、前記コーティングが、
遊離シラン要素と、
第１の第四級アンモニウム要素を含む第１ペンダント基と、
第１有機ケイ素要素を含む第２ペンダント基と、を含む複数のペンダント基を有するビニルポリマーと、を含む組成物から誘導され、
前記ビニルポリマーが該物品の表面に耐久的に接着される、医療機器物品。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月24日(2014.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個体の神経障害または神経変性疾患を治療するための医薬組成物であって、前記個体の神経細胞および／またはグリア細胞内のプロテインキナーゼＤ１（ＰＫＤ１）の活性を調節する有効量の薬剤を含む組成物。
【請求項２】
前記薬剤がＰＫＤ１の小分子モジュレーターである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記薬剤が神経細胞内の活性のあるＰＫＤ１のレベルを低下させる抑制性核酸である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記薬剤が特異的にＰＫＤ１に結合する抗体である、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記神経変性疾患が、パーキンソン病、ハンチントン病、筋萎縮性側索硬化症、多発性硬化症またはアルツハイマー病である、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記神経障害が脳卒中、脊髄損傷、または頭部外傷である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
細胞内のプロテインキナーゼＤ１（ＰＫＤ１）のレベルを特異的に低下させる単離された干渉核酸。
【請求項８】
前記干渉核酸が低分子干渉ＲＮＡ（ｓｉＲＮＡ）である、請求項７に記載の干渉核酸。
【請求項９】
請求項７に記載の干渉核酸をコードするヌクレオチド配列を含む組換えコンストラクト。
【請求項１０】
プロテインキナーゼＤ１（ＰＫＤ１）に特異的に結合する単離された抗体。
【請求項１１】
前記抗体がポリクローナル抗体である、請求項１０に記載の抗体。
【請求項１２】
前記抗体がモノクローナル抗体である、請求項１０に記載の抗体。
【請求項１３】
前記抗体が、少なくとも約１０−７Ｍの親和性でＰＫＤ１ポリペプチドに結合する、請求項１０に記載の抗体。
【請求項１４】
内在性プロテインキナーゼＤ１（ＰＫＤ１）遺伝子に欠陥を含む遺伝子組換え非ヒト哺乳動物であって、前記遺伝子組換え非ヒト哺乳動物が、前記内在性ＰＫＤ１遺伝子に安定的に組み込まれた異種核酸を含み、その結果、前記遺伝子組換え非ヒト哺乳動物が、同じ種の対照哺乳動物におけるＰＫＤ１活性レベルと比較して、ＰＫＤ１活性レベルを減少させるという欠陥が、前記内在性ＰＫＤ１遺伝子にもたらされる、遺伝子組換え非ヒト哺乳動物。
【請求項１５】
前記哺乳動物が、内在性ＰＫＤ１遺伝子欠損についてヘテロ接合である、請求項１４に記載の遺伝子組換え非ヒト哺乳動物。
【請求項１６】
前記哺乳動物が、内在性ＰＫＤ１遺伝子欠損についてホモ接合である、請求項１４に記載の遺伝子組換え非ヒト哺乳動物。
【請求項１７】
前記哺乳動物が齧歯類である、請求項１４に記載の遺伝子組換え非ヒト哺乳動物。
【請求項１８】
前記哺乳動物が、空間記憶障害を呈する、請求項１４に記載の遺伝子組換え非ヒト哺乳動物。
【請求項１９】
内在性ＰＫＤ１遺伝子の欠陥が神経細胞特異的である、請求項１４に記載の遺伝子組換え非ヒト哺乳動物。
【請求項２０】
請求項１４に記載の遺伝子組換え非ヒト哺乳動物から単離された細胞であって、破壊された内在性ＰＫＤ１遺伝子を有する細胞。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月26日(2013.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
第二液体物質導入装置４４は、混合室７４へ通じる導入路１０８を含む。導入路１０８は、移送方向Ｔに沿って第一液体成分用の導入路１００が混合室７４へ通じる場所の下流の位置で、液体物質注入口７８において混合室７４へ通じる。この導入路１０８は、ケース７２の壁を貫通し、第二液体成分が半径方向にかつ直角に混合室７４へ導入されるように、中心軸Ｙ−Ｙに対して半径方向に配置されることが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
第二ステップにおいて、第一液体成分及び適用される場合には第二液体成分は、移送方向Ｔに対して半径方向にかつ直角に液体物質注入口７８へ、従って混合室７４内の乾燥物質の中へ導入される。第一液体成分の乾燥物質への導入は、第二液体成分の乾燥物質への導入とは別個に行われる。または、導入は、移送方向Ｔに対して半径方向または直角の成分を有するが厳密には半径方向または直角ではない方向に行われる。この場合、導入路１００及び１０８は、移送方向Ｔ及び軸Ｂ１に対して傾斜する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モルタルを使用して配管要素の内面をコーティングするように作られた設備であって、
モルタルの乾燥物質を供給するのに適した移送装置（３２）あって、供給室（４８）と、該供給室の中に配置された乾燥物質を供給するための部材（５４）とを含み、供給室（４８）が乾燥物質注入口（５０）と乾燥物質排出口（５２）とを有する前記移送装置（３２）、を備えた設備において、
モルタルを得るために乾燥物質を液体物質と混合するのに適した混合装置（３４）であって、乾燥物質を液体物質と混合するための混合部材（８２）と室（７４）とを有し、混合室が、乾燥物質注入口（７６）と液体物質注入口（７８）とモルタル排出口（８０）とを有する前記混合装置（３４）を備え、
移送装置（３２）の乾燥物質排出口（５２）が混合室（３４）の乾燥物質注入口（７６）へ通じ、供給部材（５４）と混合部材（８２）が別個の部材である、
ことを特徴とする設備。
【請求項２】
移送部材（５４）が軸（Ａ２）を規定し、混合部材（８２）が軸（Ｂ２）を規定し、移送部材（５４）と混合部材（８２）とが相互に軸方向に離間して、軸方向の空隙（ＥＣ）を形成することを特徴とする請求項１に記載の設備。
【請求項３】
移送部材及び混合部材の少なくとも一方がスクリュー（５６，８６）であることを特徴とする請求項１または２に記載の設備。
【請求項４】
移送部材がスクリュー（５６）であり、かつ混合部材がスクリュー（８６）であり、スクリュー（５６、８６）が、異なるスクリューピッチ（Ｐ１、Ｐ２）及び外径（Ｄ１、Ｄ２）の少なくとも一方を有することを特徴とする請求項３に記載の設備。
【請求項５】
移送室（４８）が室軸（Ａ１）を規定し、混合室（７４）が室軸（Ｂ１）を規定し、室軸が相互に同軸に配置されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の設備。
【請求項６】
移送室（４８）と混合室（７４）とが異なる横断面を有し、特に、移送室の横断面積が混合室の横断面積より大きいことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の設備。
【請求項７】
移送部材（５４）を駆動するのに適した第一駆動モーター（５８）と、混合部材（８２）を駆動するのに適した第二駆動モーター（８４）とを備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の設備。
【請求項８】
移送部材（５４）が駆動側（６２）と自由側（６４）とを有し、混合部材が駆動側（９０）と自由側（９２）とを有し、２つの自由側（６４、９２）が相互に隣接し、特に、２つの自由側が相互に向かい合うことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の設備。
【請求項９】
モルタルを射出するように作られた射出ヘッド（９４）を備え、射出ヘッド（９４）が、モルタル排出口（８０）が通じるヘッド注入口と、モルタル用の少なくとも１つの射出窓９８とを有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の設備。
【請求項１０】
射出ヘッド（９４）が、特に、円形断面を持つ中空円筒形でヘッド軸に沿って延びる本体（１１６）を有し、各射出窓（９８）が２つの非平行の辺を有することを特徴とする請求項９に記載の設備。
【請求項１１】
各射出窓（９８）が概して三角形または四辺形であることを特徴とする請求項９または１０に記載の設備。
【請求項１２】
射出ヘッド（９４）が少なくとも２つの射出窓（９８）を含み、各射出窓が幅広部（ＰＡＬ）と幅狭部（ＰＡＭ）とを有し、射出窓は、幅狭部と幅広部とが射出ヘッドの円周方向に交互になるように配置されることを特徴とする請求項１１に記載の設備。
【請求項１３】
各射出窓（９４）が概して二等辺三角形または正三角形であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の設備。
【請求項１４】
移送装置（３２）が、少なくとも第一乾燥成分と第二乾燥成分を混合するのに適した混合装置であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の設備。
【請求項１５】
液体物質を乾燥物質の中へ導入するのに適した液体物質供給装置（３９）、特に、第一液体成分を導入するための装置（４２）と第二液体成分を導入するための装置（４４）とを含む液体物質供給装置（３９）を含む請求項１〜１４のいずれか一項に記載の設備。
【請求項１６】
第一液体成分を導入するための装置と第二液体成分を導入するための装置が、第一液体成分と第二液体成分を相互に別個に導入するように作られることを特徴とする請求項１５に記載の設備。
【請求項１７】
液体成分を導入するための各装置が、充填材の移送方向（Ｔ）に対して直角の成分を持つ方向または移送方向（Ｔ）に対して直角の方向に液体成分を乾燥物質の中へ導入するように作られることを特徴とする請求項１５または１６に記載の設備。
【請求項１８】
配管要素の本体内面をモルタルライニングでコーティングするための、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の設備の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月18日(2014.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つのＴｎ３単量体足場を含むＴＲＡＩＬ  Ｒ２特異的組換え型多量体足場であって、
（ａ）各Ｔｎ３単量体足場が、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、およびＧと命名される７つのベータ鎖、およびＡＢ、ＢＣ、ＣＤ、ＤＥ、ＥＦ、およびＦＧと命名される６つのループ領域を含み、
（ｂ）Ｔｎ３単量体足場がタンデムに連結され、さらに
（ｃ）組換え型多量体足場が特異的にＴＲＡＩＬ  Ｒ２に結合する、
多量体足場。
【請求項２】
多量体足場が、３、４、５、６、７、または８つのＴｎ３単量体足場を含む、請求項１に記載の多量体足場。
【請求項３】
全てのＴｎ３単量体足場が、直鎖状タンデムフォーマットになっている、請求項２に記載の多量体足場。
【請求項４】
少なくとも１つのＴｎ３単量体足場が、直接に、リンカーにより、または異種の成分により、１、２、３、４、５、６、または７つの他のＴｎ３単量体足場に連結されている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の多量体足場。
【請求項５】
少なくとも２つのＴｎ３単量体足場が、ペプチドリンカーを含むリンカーにより連結されている、請求項４に記載の多量体足場。
【請求項６】
ペプチドリンカーが、（ＧｘＳ）ｙ配列を含み、ここで：
ｘおよびｙは整数であり；
ｘ＝１、２、３または４であり；
ｙ＝１、２、３、４、５、６、または７であり；且つ
場合によりｘ＝４およびｙ＝１である、
請求項５に記載の多量体足場。
【請求項７】
少なくとも１つのＴｎ３単量体足場が、異種の成分に融合されている、請求項１〜６のいずれか１項に記載の多量体足場。
【請求項８】
異種の成分が、タンパク質、ペプチド、タンパク質ドメイン、リンカー、薬剤、毒素、細胞傷害性薬物、造影剤、放射性核種、放射性化合物、有機ポリマー、無機ポリマー、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ビオチン、ヒト血清アルブミン（ＨＳＡ）、ＨＳＡ  ＦｃＲｎ結合部分、抗体、抗体のドメイン、抗体断片、単鎖抗体、ドメイン抗体、アルブミン結合ドメイン、酵素、リガンド、受容体、結合ペプチド、非ＦｎＩＩＩ足場、エピトープタグ、組換え型ポリペプチドポリマー、サイトカイン、および前記成分の２つ以上の組み合わせ、からなる群より選択される組成物を含む、請求項７に記載の多量体足場。
【請求項９】
足場がＰＥＧにコンジュゲートされており、場合により足場がN末端またはC末端でＰＥＧにコンジュゲートされている、請求項８に記載の多量体足場。
【請求項１０】
多量体足場が受容体アゴニストである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の多量体足場。
【請求項１１】
少なくとも２つのＴｎ３単量体足場がＴＲＡＩＬ  Ｒ２上の同じエピトープに結合する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の多量体足場。
【請求項１２】
少なくとも２つのＴｎ３単量体足場がＴＲＡＩＬ  Ｒ２上の異なるエピトープに結合する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の多量体足場。
【請求項１３】
少なくとも２つのＴｎ３単量体足場がアミノ酸配列：
ＩＥＶ（ＸＡＢ）ｎＡＬＩＴＷ（ＸＢＣ）ｎＣＥＬＸ１ＹＧＩ（ＸＣＤ）ｎＴＴＩＸ２Ｌ（ＸＤＥ）ｎＹＳＩ（ＸＥＦ）ｎＹＥＶＳＬＩＣ（ＸＦＧ）ｎＫＸ３ＴＦＴＴ
を含み、ここで：
ＸＡＢ、ＸＢＣ、ＸＣＤ、ＸＤＥ、ＸＥＦ、およびＸＦＧは、ＡＢ、ＢＣ、ＣＤ、ＤＥ、ＥＦ、およびＦＧループ中に存在するアミノ酸残基をそれぞれ表し；
Ｘ１はアミノ酸残基ＡまたはＴを表し；
Ｘ２はアミノ酸残基ＤまたはＧを表し；
Ｘ３はアミノ酸ＥまたはＧを表し；
さらにループの長さｎは２〜２６の整数であり；且つ
場合により；
ＡＢループが配列番号３５を含み、ＣＤループが配列番号３７を含み、さらにＥＦループは配列番号３９を含み；および/または
ＢＣループが、配列番号９７、９８、または１６８からなる群より選択される配列を含み；および/または
ＤＥループが、配列番号１０２、１０３、および１７９からなる群より選択される配列を含み；および/または
ＦＧループが、配列番号１０６、１０８、１０９、１６９、および１７０からなる群より選択される配列を含み；および/または
ＢＣループが配列番号９７を含み、ＤＥループが配列番号１７９を含み、さらにＦＧループが配列番号１７０を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の多量体足場。
【請求項１４】
足場が配列番号２０２、配列番号２０３、配列番号２０４、または配列番号１６７を含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の多量体足場。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項の多量体足場をコードする単離核酸分子。
【請求項１６】
請求項１５に記載の核酸を含む発現ベクター。
【請求項１７】
請求項１６に記載のベクターを含む宿主細胞。
【請求項１８】
核酸分子によりコードされた多量体足場が発現する条件下、請求項１７に記載の宿主細胞を培養するステップを含む組換え型多量体足場の製造方法。
【請求項１９】
薬学的に許容可能な賦形剤中に請求項１〜１４のいずれか１項に記載の組換え型多量体足場を含む組成物。
【請求項２０】
有効量の請求項１９に記載の組成物を投与することにより、癌の予防、治療、改善、または管理を、それを必要とする患者において行う方法。
【請求項２１】
ＴＲＡＩＬ  Ｒ２を発現している細胞のアポトーシスを誘導する方法であって、該細胞を請求項１〜１４のいずれか１項に記載の組換え型多量体足場と接触させることを含む、方法。
【請求項２２】
前記癌が、肺癌、非ホジキンリンパ腫、卵巣癌、結腸癌、結腸直腸癌、膵臓癌、および多発性骨髄腫、から選択される、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
前記方法が、追加の療法をさらに含み、その療法が免疫療法、生物学的療法、化学療法、放射線療法、または小分子薬物療法である、請求項２０〜２２のいずれか１項に記載の方法。