【手続補正書】
【提出日】平成24年7月13日(2012.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質、および
１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質
を含む、溶剤系担体中の材料、あるいは、
エポキシ樹脂、アクリルモノマー、ビニルモノマー、または、ウレタンアルキド以外のアルキド樹脂を含む材料であって、
該材料は、周囲条件下で硬化された後に、基材上に拡がり、書き込み消去可能表面を有する硬化被覆物を形成することを特徴とし、
該書き込み消去可能表面に、着色剤および溶剤を含むマーキング物質でマーキングした後に、該マーキング物質を、該書き込み消去可能表面から効果的に不可視に消去することができる、
材料。
【請求項２】
書き込み消去可能表面用の溶剤系被覆物のための組成物であって、
脂肪族ジイソシアネートまたはそのホモポリマーおよびオリゴマー、
アクリルポリオール、
有機溶剤、ならびに
任意に促進剤および／または酸プロモーター
を含む、組成物。
【請求項３】
書き込み消去可能表面用の溶剤系被覆物のための組成物であって、
脂肪族ジイソシアネートまたはそのホモポリマーおよびオリゴマー、アクリルポリオール、促進剤、酸プロモーター、ならびに有機溶剤を含む、組成物。
【請求項４】
二酸化チタン、表面添加剤、湿潤剤、または消泡剤をさらに含む、または顔料または着色剤をさらに含む、請求項２または３に記載の組成物。
【請求項５】
２成分系として存在し、好ましくは、前記基材への適用前に最終被覆配合物を得るために、所望される場合に、混合される２つの被覆材料から成る、請求項１に記載の材料または請求項２〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
書き込み消去可能製品であって：
基材上に拡がり、書き込み消去可能表面を有する硬化被覆物を含み、
該被覆物は、周囲条件下で硬化性であり、１つまたはそれ以上の材料から形成され、該材料は、それぞれ独立して、１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質、および１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質を含み、１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つは溶剤系担体に存在し；
該製品において、該書き込み消去可能表面に、着色剤および溶剤を含むマーキング物質でマーキングした後に、該マーキング物質を該書き込み消去可能表面から効果的に不可視に消去することができる；
書き込み消去可能製品。
【請求項７】
前記マーキング物質を前記書き込み消去可能表面から実質的に不可視に消去することができ、好ましくは、
該書き込み消去可能表面が、約１００より多いサイクルの、同じ位置での書き込みおよび消去後に、実質的に不可視に消去され、さらに好ましくは、
該書き込み消去可能表面が、約５，０００より多いサイクルの、同じ位置での書き込みおよび消去後に、実質的に不可視に消去される、
請求項１に記載の材料、または請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項８】
前記硬化被覆物が架橋している、または
前記被覆物が周囲条件下で架橋される、
請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項９】
（ａ）前記硬化被覆物が、約４０パーセント未満の多孔率を有する、または
（ｂ）前記硬化被覆物が、約０．００１インチ〜約０．１２５インチの厚さを有する、または
（ｃ）前記硬化被覆物が、約１００ｍｇ／１，０００サイクル〜約１２５ｍｇ／１，０００サイクルのテーバー摩耗値を有する、または
（ｄ）前記硬化被覆物が、約１０より大きいスオード硬度を有する、または
（ｅ）前記硬化被覆物が、約５パーセント〜約４００パーセントの破断点伸びを有する、または
（ｆ）前記硬化被覆物が、約４ミル〜約２４ミルの垂れ下り抵抗を有する、または
（ｇ）前記書き込み消去可能表面が、約７，５００ｎｍ未満の平均表面粗さ（Ｒａ）を有する、または
（ｈ）前記書き込み消去可能表面が、約１０，０００ｎｍ未満の最大表面粗さ（Ｒｍ）を有する、または
（ｉ）前記書き込み消去可能表面が、約３５度より大きい接触角を有する、または
（ｊ）前記書き込み消去可能表面が、約１５０度未満の接触角を有する、
請求項１に記載の材料、または請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項１０】
前記１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質、または前記ジイソシアネートが、下記から成る群：
ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、テトラメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、２−メチルペンタン−１，５−ジイソシアネート、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ｍ−およびｐ−フェニレンジイソシアネート、ビトリレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート（ＣＨＤＩ）、ビス−（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、ダイマー酸ジイソシアネート（ＤＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートおよびそのメチルエステル、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ポリフェニレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、水素化メチレンジフェニルイソシアネート（ＨＭＤＩ）、テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、またはそれらのオリゴマーおよびホモポリマー、ならびにそれらの混合物；
から選択される、請求項１に記載の材料、または請求項２もしくは３に記載の組成物、または請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項１１】
前記１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質、または前記イソシアネート基が、脂肪族ジイソシアネートもしくはそのオリゴマーおよびホモポリマー、またはそれらの混合物を含み、好ましくは、該脂肪族ジイソシアネートが、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネートを含む、請求項１に記載の材料、または請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項１２】
前記１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質、または前記ヒドロキシル基が、α，ω−ジオールを含む、請求項１に記載の材料、または請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項１３】
前記１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質が、高分子物質を含み、好ましくは、
該高分子物質がアクリルポリオールである、
請求項１に記載の材料、または請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項１４】
前記溶剤系担体または前記溶剤が、炭化水素、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリット、バイオ系溶剤、およびそれらの混合物から成る群から選択される、または
該溶剤系担体が、下記から成る群：
エチルベンゼン、キシレン、ｎ−ブチルアセテート、メチルイソアミルケトン、ストッダード溶剤、ｔ−ブチルアセテート、アセトン、イソプロピルアルコール、２−ブトキシエタノール、トルエン、メタノール、プロパノール、２−ブタノール、イソ−アミルアルコール、メチルアミルアルコール、ペンタン、ヘプタン、無臭ミネラルスピリット、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコール、メチルアミルケトン、エチルアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルヘプチルケトン、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、プロピルアセテート、イソブチルアセテート、ｎ−ブチルアセテート、グリコールエーテルＥＭアセテート、アミルアセテート、イソブチルイソブチレート、グリコールエーテルＥＥアセテート、グリコールエーテルＥＢアセテート、２−エチルヘキシルアセテート、グリコールエーテルＤＥアセテート、グリコールＤＢアセテート、メチルイソブチルケトン、ジプロピレングリコールブトキシエーテル、植物油、トウモロコシ油、ヒマワリ油、およびそれらの混合物；
から選択される、
請求項１に記載の材料、または請求項２もしくは３に記載の組成物、または請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項１５】
前記基材が、セルロース系材料、ガラス、壁、ファイバーボード、パーティクルボード、石膏ボード、木材、プラスチック、高密度化セラミック、石および金属から成る群から選択される、または
該基材が、軟質フィルムまたは硬質構造物を含む、
請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項１６】
前記書き込み消去可能製品がホワイトボードの形態であり、該ホワイトボードにおいて、前記硬化被覆物がファイバーボードの形態の基材上に拡がっている、または
前記書き込み消去可能表面が、構造物の壁の一部を形成する、または
前記書き込み消去可能製品が複数のシートの形態であり、各シートが、紙の形態の基材を含み、その上に拡がっている該硬化被覆物を有する、
請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項１７】
（ａ）前記促進剤がジブチル錫ジラウレートを含む、または
（ｂ）前記被覆物が酸プロモーターをさらに含み、好ましくは、
前記酸プロモーターがプロピオン酸を含む、または
（ｃ）前記マーキング物質が、水、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリット、バイオ系溶剤またはそれらの混合物を含む溶剤を含む、
請求項２もしくは３に記載の組成物、または請求項６に記載の書き込み消去可能製品。
【請求項１８】
書き込み消去可能製品を作製する方法であって、下記の工程：
被覆物を基材に適用する工程であって、該被覆物が、１つまたはそれ以上の材料から形成され、該材料は、それぞれ独立して、１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質、１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質を含み、１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つは溶剤系担体に存在する工程；
該被覆物を周囲条件下で硬化させて、書き込み消去可能表面を規定する硬化被覆物を得る工程；
を含み、
該方法において、該書き込み消去可能表面に、着色剤および溶剤を含むマーキング物質でマーキングした後に、該マーキング物質を該書き込み消去可能表面から効果的に不可視に消去することができる；
方法。
【請求項１９】
（ａ）前記マーキング物質を前記書き込み消去可能表面から実質的に不可視に消去することができる、または
（ｂ）前記被覆物が、前記１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質と、前記１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質とを組合せることによって調製され、好ましくは、組合せる前に、該１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質は第１容器に含有され、該１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質は第２容器に含有されている、または
（ｃ）該１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質を含む１つまたはそれ以上の材料が、架橋剤も含む、または
（ｄ）該マーキング物質が、水、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリット、バイオ系溶剤またはそれらの混合物を包む溶剤を含む、
請求項１８に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
本開示の１つまたはそれ以上の実施についての詳細が、添付の図面および下記の説明において示されている。他の特徴および利点は、この説明および図面ならびに請求の範囲から明らかである。
本発明は、例えば以下の項目を提供する。
（項目１）
書き込み消去可能製品であって：
基材上に拡がり、書き込み消去可能表面を有する硬化被覆物を含み、
該被覆物は、周囲条件下で硬化性であり、１つまたはそれ以上の材料から形成され、該材料は、それぞれ独立して、１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質、および１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質を含み、１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つは溶剤系担体に存在し；
該製品において、該書き込み消去可能表面に、着色剤および溶剤を含むマーキング物質でマーキングした後に、該マーキング物質を該書き込み消去可能表面から効果的に不可視に消去することができる；
書き込み消去可能製品。
（項目２）
前記マーキング物質を前記書き込み消去可能表面から実質的に不可視に消去することができる、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３）
前記硬化被覆物が架橋している、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目４）
前記被覆物が周囲条件下で架橋される、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目５）
前記硬化被覆物が、約４０パーセント未満の多孔率を有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目６）
前記硬化被覆物が、約０．００１インチ〜約０．１２５インチの厚さを有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目７）
前記硬化被覆物が、約１００ｍｇ／１，０００サイクル〜約１２５ｍｇ／１，０００サイクルのテーバー摩耗値を有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目８）
前記硬化被覆物が、約１０より大きいスオード硬度を有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目９）
前記硬化被覆物が、約５パーセント〜約４００パーセントの破断点伸びを有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１０）
前記硬化被覆物が、約４ミル〜約２４ミルの垂れ下り抵抗を有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１１）
前記１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質が、下記から成る群：
ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、テトラメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、２−メチルペンタン−１，５−ジイソシアネート、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ｍ−およびｐ−フェニレンジイソシアネート、ビトリレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート（ＣＨＤＩ）、ビス−（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、ダイマー酸ジイソシアネート（ＤＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートおよびそのメチルエステル、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ポリフェニレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、水素化メチレンジフェニルイソシアネート（ＨＭＤＩ）、テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、またはそれらのオリゴマーおよびホモポリマー、ならびにそれらの混合物；
から選択される、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１２）
前記１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質が、脂肪族ジイソシアネートもしくはそのオリゴマーおよびホモポリマー、またはそれらの混合物を含む、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１３）
前記１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質が、高分子物質を含む、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１４）
前記脂肪族ジイソシアネートが、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネートを含む、項目１２に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１５）
前記１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質が、α，ω−ジオールを含む、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１６）
前記１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質が、高分子物質を含む、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１７）
前記高分子物質がアクリルポリオールである、項目１６に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１８）
前記溶剤系担体が、炭化水素、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリット、バイオ系溶剤、およびそれらの混合物から成る群から選択される、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目１９）
前記溶剤系担体が、下記から成る群：
エチルベンゼン、キシレン、ｎ−ブチルアセテート、メチルイソアミルケトン、ストッダード溶剤、ｔ−ブチルアセテート、アセトン、イソプロピルアルコール、２−ブトキシエタノール、トルエン、メタノール、プロパノール、２−ブタノール、イソ−アミルアルコール、メチルアミルアルコール、ペンタン、ヘプタン、無臭ミネラルスピリット、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコール、メチルアミルケトン、エチルアミルケトン、ジイソブチルケトン、メチルヘプチルケトン、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、プロピルアセテート、イソブチルアセテート、ｎ−ブチルアセテート、グリコールエーテルＥＭアセテート、アミルアセテート、イソブチルイソブチレート、グリコールエーテルＥＥアセテート、グリコールエーテルＥＢアセテート、２−エチルヘキシルアセテート、グリコールエーテルＤＥアセテート、グリコールＤＢアセテート、メチルイソブチルケトン、ジプロピレングリコールブトキシエーテル、植物油、トウモロコシ油、ヒマワリ油、およびそれらの混合物；
から選択される、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２０）
前記書き込み消去可能表面が、約１００より多いサイクルの、同じ位置での書き込みおよび消去後に、実質的に不可視に消去される、項目２に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２１）
前記書き込み消去可能表面が、約５，０００より多いサイクルの、同じ位置での書き込みおよび消去後に、実質的に不可視に消去される、項目２に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２２）
前記書き込み消去可能表面が、約７，５００ｎｍ未満の平均表面粗さ（Ｒａ）を有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２３）
前記書き込み消去可能表面が、約１０，０００ｎｍ未満の最大表面粗さ（Ｒｍ）を有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２４）
前記書き込み消去可能表面が、約３５度より大きい接触角を有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２５）
前記書き込み消去可能表面が、約１５０度未満の接触角を有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２６）
前記基材が、セルロース系材料、ガラス、壁、ファイバーボード、パーティクルボード、石膏ボード、木材、プラスチック、高密度化セラミック、石および金属から成る群から選択される、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２７）
前記基材が、軟質フィルムまたは硬質構造物を含む、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２８）
前記マーキング物質が、水、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリット、バイオ系溶剤またはそれらの混合物を包む溶剤を含む、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目２９）
繊維状材料を含むイレーザーでマークを拭くことによって、前記マーキング物質を前記書き込み消去可能表面から効果的に不可視に消去することができる、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３０）
前記イレーザーが、水、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリットおよびそれらの混合物から成る群から選択される１つまたはそれ以上の溶剤をさらに含む、項目２９に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３１）
前記書き込み消去可能製品がホワイトボードの形態であり、該ホワイトボードにおいて、前記硬化被覆物がファイバーボードの形態の基材上に拡がっている、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３２）
前記書き込み消去可能表面が、構造物の壁の一部を形成する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３３）
前記書き込み消去可能製品が複数のシートの形態であり、各シートが、紙の形態の基材を含み、その上に拡がっている前記硬化被覆物を有する、項目１に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３４）
書き込み消去可能製品であって：
基材上に拡がり、書き込み消去可能表面を有する硬化被覆物を含み；
該被覆物は、周囲条件下で硬化性であり、ヘキサメチレンジイソシアネート、そのオリゴマーまたはホモポリマーの１つまたはそれ以上を含む１つまたはそれ以上の材料；１つまたはそれ以上のアクリルポリオールを含む１つまたはそれ以上の材料、および１つまたはそれ以上の促進剤から形成され；１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つは溶剤系担体に存在し；
該製品において、該書き込み消去可能表面に、着色剤および溶剤を含むマーキング物質でマーキングした後に、該マーキング物質を該書き込み消去可能表面から効果的に不可視に消去することができる；
書き込み消去可能製品。
（項目３５）
前記マーキング物質を前記書き込み消去可能表面から実質的に不可視に消去することができる、項目３４に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３６）
前記促進剤がジブチル錫ジラウレートを含む、項目３４に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３７）
前記被覆物が酸プロモーターをさらに含む、項目３４に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３８）
前記酸プロモーターがプロピオン酸を含む、項目３７に記載の書き込み消去可能製品。
（項目３９）
前記マーキング物質が、水、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリット、バイオ系溶剤またはそれらの混合物を含む溶剤を含む、項目３４に記載の書き込み消去可能製品。
（項目４０）
書き込み消去可能製品の作製法であって、下記の工程：
被覆物を基材に適用する工程であって、該被覆物が、１つまたはそれ以上の材料から形成され、該材料は、それぞれ独立して、１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質、１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質を含み、１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つは溶剤系担体に存在する工程；
該被覆物を周囲条件下で硬化させて、書き込み消去可能表面を規定する硬化被覆物を得る工程；
を含み、
該方法において、該書き込み消去可能表面に、着色剤および溶剤を含むマーキング物質でマーキングした後に、該マーキング物質を該書き込み消去可能表面から効果的に不可視に消去することができる；
書き込み消去可能製品の作製法。
（項目４１）
前記マーキング物質を前記書き込み消去可能表面から実質的に不可視に消去することができる、項目４０に記載の方法。
（項目４２）
前記被覆物が、前記１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質と、前記１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質とを組合せることによって調製される、項目４０に記載の方法。
（項目４３）
組合せる前に、前記１つまたはそれ以上のイソシアネート基を含む１つまたはそれ以上の物質は第１容器に含有され、前記１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質は第２容器に含有されている、項目４２に記載の方法。
（項目４４）
前記１つまたはそれ以上のヒドロキシル基を含む１つまたはそれ以上の物質を含む１つまたはそれ以上の材料が、架橋剤も含む、項目４０に記載の方法。
（項目４５）
前記マーキング物質が、水、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリット、バイオ系溶剤またはそれらの混合物を包む溶剤を含む、項目４０に記載の書き込み消去可能製品。
（項目４６）
変更可能に情報を提示する方法であって、下記の工程：
ａ）  項目１に記載の書き込み消去可能表面に、着色剤および溶剤を含むマーキング物質を使用して、第１情報をマーキングする工程；
ｂ）  該第１情報のマーキングを、該書き込み消去可能表面から、効果的に不可視に消去する工程；
ｃ）  該書き込み消去可能表面に、第２情報をマーキングする工程；および
ｄ）  該第２情報のマーキングを、該書き込み消去可能表面から、効果的に不可視に消去する工程；
を含む方法。
（項目４７）
前記第１情報および前記第２情報を、前記書き込み消去可能表面から、実質的に不可視に消去することができる、項目４６に記載の方法。
（項目４８）
前記マーキング物質が、水、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリット、バイオ系溶剤またはそれらの混合物を含む溶剤を含む、項目４６に記載の方法。
（項目４９）
工程ｃ）およびｄ）を繰り返すことをさらに含む、項目４６に記載の方法。
（項目５０）
工程ｂ）およびｄ）が、イレーザーを前記消去可能表面に適用することによって行なわれる、項目４６に記載の方法。
（項目５１）
前記イレーザーが繊維状材料を含む、項目５０に記載の方法。
（項目５２）
前記イレーザーが、水、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリットおよびそれらの混合物から成る群から選択される１つまたはそれ以上の溶剤をさらに含む、項目５１に記載の方法。
（項目５３）
脂肪族ジイソシアネートまたはそのホモポリマーおよびオリゴマー、アクリルポリオール、促進剤、酸プロモーター、ならびに有機溶剤を含む組成物。
（項目５４）
二酸化チタン、表面添加剤、湿潤剤、または消泡剤をさらに含む、項目５３に記載の組成物。
（項目５５）
顔料または着色剤をさらに含む、項目５３に記載の組成物。
（項目５６）
書き込み消去可能製品であって：
基材上に拡がり、書き込み消去可能表面を有する硬化被覆物を含み；
該被覆物が、周囲条件下で硬化性であり、１つまたはそれ以上の材料から形成することができ、１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つは溶剤系担体に存在し；
該製品において、該書き込み消去可能表面に、着色剤および溶剤（該溶剤は、水、アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリット、バイオ系溶剤またはそれらの混合物の１つまたはそれ以上を含む）を含むマーキング物質でマーキングした後に、該マーキング物質を該書き込み消去可能表面から効果的に不可視に消去することができる；
書き込み消去可能製品。
（項目５７）
前記マーキング物質を前記書き込み消去可能表面から実質的に不可視に消去することができる、項目５６に記載の書き込み消去可能製品。
（項目５８）
前記１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つが、エポキシ樹脂を含む、項目５６に記載の書き込み消去可能製品。
（項目５９）
前記１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つが、アクリルモノマーを含む、項目５６に記載の書き込み消去可能製品。
（項目６０）
前記１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つが、ビニルモノマーを含む、項目５６に記載の書き込み消去可能製品。
（項目６１）
前記１つまたはそれ以上の材料の少なくとも１つが、ウレタンアルキド以外のアルキド樹脂を含む、項目５６に記載の書き込み消去可能製品。