(57)【要約】【課題】光磁気ディスクで使用する光磁気変調コイルにおいて、媒体書き込み用のレンズ部に残膜を残さない光磁気変調コイルおよびその製造方法を提供するものである。【解決手段】ガラス基板１上に磁性層６及び冷却用ヒートシンクパッドが成膜され、その上にコイルが張り付けられた光磁気変調コイルであって、前記ガラス基板１に、媒体書き込み用レンズ部のガラスが張り付けられた光磁気変調コイルとする。【選択図】　図３
2004103150.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に磁性層及冷却用ヒートシンクパッドが成膜され、その上にコイルが張り付けられた光磁気変調コイルにおいて、前記ガラス基板に、媒体書き込み用レンズ部が張り付けられたことを特徴とする光磁気変調コイル。
【請求項２】
前記光磁気変調コイルにおいて、前記媒体書き込み用レンズ部の厚みが５０〜１００μｍ、媒体書き込み用レンズ部の表面開口部の直径が１８０μｍφ〜２２０μｍφであり、前記媒体書き込み用レンズ部は、その形状が円柱あるいは側面テーパー状の円柱であり、側面から見た場合の形状は四角または台形であることを特徴とする請求項１に記載の光磁気変調コイル。
【請求項３】
前記冷却用ヒートシンクパッドは、その材質をＣｕ、あるいはＡｌ、あるいはパーマロイとすることを特徴とする請求項１または２に記載の光磁気変調コイル。
【請求項４】
ガラス基板上に磁性層及冷却用ヒートシンクパッドを成膜し、その上にコイルを張り付ける光磁気変調コイルの製造方法において、前記磁性層及冷却用ヒートシンクパッドを成膜終了後のガラス基板に、媒体書き込み用レンズ部のガラスを張り付けることを特徴とする光磁気変調コイルの製造方法。
【請求項５】
前記光磁気変調コイルの製造方法において、媒体書き込み用レンズ部の厚みを５０〜１００μｍ、媒体書き込み用レンズ部の表面開口部の直径を１８０μｍφ〜２２０μｍφ、また、媒体書き込み用レンズ部を円錐とし、側面から見た形状を四角または楕円とすることを特徴とする請求項４に記載の光磁気変調コイルの製造方法。
【請求項６】
前記冷却用ヒートシンクパッドは、その材質をＣｕ、あるいはＡｌ、あるいはパーマロイとすることを特徴とする請求項４または５に記載の光磁気変調コイルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、主に光磁気ディスクに使用する光磁気変調コイルおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の光磁気変調コイルは、ガラス基板をサンドブラスト等によりエッチングを行い、媒体書き込み用のレンズ部を作製した後にガラス基板上にＣｕ層および磁性層を成膜し、該磁性層上にコイルを接着配置した構造である。
【０００３】
図４および図５は、従来の光磁気変調コイルの構造および製造方法の一例を示す概要図である。また、図６は、従来の光磁気変調コイルの平面図の一例を示す概要図である。
【０００４】
（１）図４（ａ）に示すように、ガラス基板１４を用意する。
（２）図４（ｂ）に示すように、ガラス基板１４上にレジスト１５をスピンコート等で形成する。ここで、レジスト１５の厚みは１５μｍとする。
（３）図４（ｃ）に示すように、ガラス基板１４上にフォトリソグラフィによりレジスト１５のパターンを形成する。
（４）図４（ｄ）に示すように、ガラス基板１４上をサンドブラスト等のエッチングにより溝を形成する。
（５）図４（ｅ）に示すように、ガラス基板１４上のレジスト１５を取り除く。
（６）図４（ｆ）に示すように、ガラス基板１４上にレジスト１６をスピンコート等で形成する。ここで、レジスト１６の厚みは１５μｍとする。
（７）図４（ｇ）に示すように、ガラス基板１４上にフォトリソグラフィによりレジスト１６のパターンを形成する。
（８）図４（ｈ）に示すように、ガラス基板１４およびレジスト１６上にＣｕ層１７、１８をスパッタ等により形成する。ここでＣｕ層の厚みは１０μｍとする。
【０００５】
（９）図５（ａ）に示すように、レジスト１６を露出した部分よりエッチング等で除去する、いわゆるリフトオフによりレジスト１６およびＣｕ層１８を除去し、Ｃｕ層１７を形成する。
（１０）図５（ｂ）に示すように、ガラス基板１４およびＣｕ層１７上にレジスト１９をスピンコート等で形成する。ここで、レジスト１９の厚みは１５μｍとする。
（１１）図５（ｃ）に示すように、ガラス基板１４およびＣｕ層１７上にフォトリソグラフィによりレジスト１９のパターンを形成する。
（１２）図５（ｄ）に示すように、Ｃｕ層１７およびレジスト１９上に磁性層２０、２１をスパッタ等により形成する。ここで磁性層の厚みは３μｍとする。
（１３）図５（ｅ）に示すように、レジスト１９を露出した部分よりエッチング等で除去する、いわゆるリフトオフによりレジスト１９および磁性層２１を除去し、磁性層２０とＣｕ層１７を形成する。
（１４）図５（ｆ）に示すように、磁性層２０およびＣｕ層１７の上に巻線コイル２２とコイル引出電極２３を接着剤２４により張り付ける。ここで、図５（ｆ）の断面構造は、図６のＡ−Ａ’断面図に相当する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従来の光磁気変調コイルでは、サンドブラスト等によりエッチングを行い、媒体書き込み用のレンズ部を作製した後にガラス基板上にＣｕ層および磁性層を成膜する際に媒体書き込み用のレンズ部にＣｕ層および磁性層の残膜が残ってしまう欠点があった。
【０００７】
従って、本発明の目的は、光磁気ディスクで使用する光磁気変調コイルにおいて、媒体書き込み用のレンズ部に残膜を残さない光磁気変調コイルおよびその製造方法を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の光磁気変調コイルは、ガラス基板上に磁性層及冷却用ヒートシンクパッドが成膜され、その上にコイルが張り付けられた光磁気変調コイルにおいて、前記ガラス基板に、媒体書き込み用レンズ部のガラスが張り付けられた光磁気変調コイルである。
【０００９】
また、本発明は、前記光磁気変調コイルにおいて、前記媒体書き込み用レンズ部の厚みが５０〜１００μｍ、媒体書き込み用レンズ部の表面開口部の直径が１８０μｍφ〜２２０μｍφであり、前記媒体書き込み用レンズ部は、その形状が円柱あるいは側面テーパー状の円柱であり、側面から見た場合の形状は四角または台形とする光磁気変調コイルである。
【００１０】
また、本発明は、前記冷却用ヒートシンクパッドは、その材質をＣｕ、あるいはＡｌ、あるいはパーマロイとする光磁気変調コイルである。
【００１１】
また、本発明は、ガラス基板上に磁性層及冷却用ヒートシンクパッドを成膜し、その上にコイルを張り付ける光磁気変調コイルの製造方法であって、前記磁性層及冷却用ヒートシンクパッドを成膜終了後のガラス基板に、媒体書き込み用レンズ部のガラスを張り付ける光磁気変調コイルの製造方法である。
【００１２】
また、本発明は、前記光磁気変調コイルの製造方法において、媒体書き込み用レンズ部の厚みを５０〜１００μｍ、媒体書き込み用レンズ部の表面開口部の直径を１８０μｍφ〜２２０μｍφ、また、媒体書き込み用レンズ部を円錐とし、側面から見た形状を四角または楕円とする光磁気変調コイルの製造方法である。
【００１３】
また、本発明は、前記冷却用ヒートシンクパッドは、その材質をＣｕ、あるいはＡｌ、あるいはパーマロイとする光磁気変調コイルの製造方法である。
【００１４】
本発明は、ガラス基板上にＣｕ層１０μｍ、磁性層３μｍを成膜した後に媒体書き込み用のレンズを後から張り付けることにより、レンズ部にＣｕ層、磁性層等の残膜を残さないことを特徴とする光磁気変調コイルである。
【００１５】
ここで、媒体書き込み用レンズ部の厚みが５０μｍ以下だとコイルが媒体書き込み用レンズ部より突き出てしまい、媒体と接触する可能性が生じてしまう。１００μｍ以上だとレーザー光の屈折を妨げるので５０〜１００μｍに制御した。
【００１６】
また、媒体書き込み用レンズ部の表面開口部の直径は、１８０μｍφ以下ではレーザー光の屈折を妨げ、２２０μｍφ以上では巻線コイルの内径が大きくなりすぎ、コイルをはめ込むことができなくなるため、媒体書き込み用レンズ部の表面開口部の直径を１８０μｍφ〜２２０μｍφに制御した。また、媒体書き込み用レンズ部は、その形状が円柱あるいは側面テーパー状の円柱であり、側面から見た場合の形状は四角または台形となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態による光磁気変調コイルおよびその製造方法について、図面を参照して説明する。
【００１８】
図１および図２は、本発明の光磁気変調コイルの構造および製造方法を示す概要図の一例である。また、図３は、本発明の光磁気変調コイルの平面図を示す概要図の一例である。
【００１９】
（１）図１（ａ）に示すように、ガラス基板１を用意する。
（２）図１（ｂ）に示すように、ガラス基板１上にレジスト２をスピンコート等で形成する。ここで、レジスト２の厚みは１５μｍとする。
（３）図１（ｃ）に示すように、ガラス基板１上にフォトリソグラフィによりレジスト２のパターンを形成する。
（４）図１（ｄ）に示すように、ガラス基板１およびレジスト２上にＣｕ層３、４をスパッタ等により形成する。ここで、Ｃｕ層の厚みは１０μｍとする。
（５）図１（ｅ）に示すように、レジスト２を露出した部分よりエッチング等で除去する、いわゆるリフトオフによりレジスト２およびＣｕ層４を除去し、Ｃｕ層３を形成する。
（６）図１（ｆ）に示すように、ガラス基板１およびＣｕ層３上にレジスト５をスピンコート等で形成する。ここで、レジスト５の厚みは１０μｍとする。
（７）図１（ｇ）に示すように、ガラス基板１およびＣｕ層３上にフォトリソグラフィによりレジスト５のパターンを形成する。
【００２０】
（８）図２（ａ）に示すように、Ｃｕ層３およびレジスト５上に磁性層６、７をスパッタ等により形成する。ここで、磁性層の厚みは３μｍとする。
（９）図２（ｂ）に示すように、レジスト５を露出した部分よりエッチング等で除去する、いわゆるリフトオフによりレジスト５および磁性層７を除去し、磁性層６とＣｕ層３を形成する。
（１０）図２（ｃ）に示すように、ガラス基板１上に開口部８の径と同等またはその径より小さい径のレンズ９となるガラスを接着剤１０を用いて張り付ける。
（１１）図２（ｄ）に示すように、磁性層６およびＣｕ層３の上に巻線コイル１１とコイル引出電極１２を接着剤１３により張り付ける。ここで、図２（ｄ）の断面構造は、図３のＡ−Ａ’断面図に相当する。
【００２１】
このように、ガラス基板上にＣｕ層１０μｍ、磁性層３μｍを成膜した後に媒体書き込み用のレンズを後から張り付けることにより、レンズ部にＣｕ層、磁性層等の残膜が残るようなことがない。
【００２２】
ここで、媒体書き込み用レンズ部の厚みは、５０μｍ以下だとコイルが媒体書き込み用レンズ部より突き出てしまい、媒体と接触する可能性が生じてしまう。１００μｍ以上だとレーザー光の屈折を妨げるので５０〜１００μｍに制御する。
【００２３】
また、媒体書き込み用レンズ部の表面開口部の直径は、１８０μｍφ以下ではレーザー光の屈折を妨げ、２２０μｍφ以上では巻線コイルの内径が大きくなりすぎコイルをはめ込むことができなくなるため、媒体書き込み用レンズ部の表面開口部の直径を１８０μｍφ〜２２０μｍφに制御する。また、媒体書き込み用レンズ部は円錐であり、側面から見た場合の形状は四角または台形となる。
【００２４】
以上により、ガラス基板１と磁性層６に巻線コイル１１およびコイル引出電極１２の間に冷却用ヒートシンクパッドとなるＣｕ層３を配した構造およびレンズを後から張り付ける光磁気変調コイルが完成する。
【００２５】
本発明の光磁気変調コイルの製造方法では、冷却用ヒートシンクパッドとしてＣｕ層を使用したが、Ａｌやパーマロイのような熱伝導率の良く磁気特性に影響を及ぼさないような材質のものであればＣｕに限ったものではない。
【００２６】
【発明の効果】
本発明により、効率の良い放熱特性を持ったレンズ部に残膜の残らない光磁気変調コイルおよびその製造方法が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態である光磁気変調コイルの構造および製造方法を示す概要図の一例。
【図２】本発明の実施の形態である光磁気変調コイルの構造および製造方法を示す概要図の一例。
【図３】本発明の実施の形態である光磁気変調コイルの説明図。図３（ａ）は断面図［図３（ｂ）のＡＡ断面図］、図３（ｂ）は上面図。
【図４】従来の光磁気変調コイルの構造および製造方法の一例を示す概要図。
【図５】従来の光磁気変調コイルの構造および製造方法の一例を示す概要図。
【図６】従来の光磁気変調コイルの平面図の一例を示す概要図。
【符号の説明】
１，１４　　ガラス基板
２，５，１５，１６，１９　　レジスト
３，４，１７，１８　　Ｃｕ層
６，７，２０，２１　　磁性層
８　　開口部
９　　レンズ
１０，１３，２４　　接着剤
１１，２２　　巻線コイル
１２，２３　　コイル引出電極
２４　　接着剤
【図１】
2004103150.tif 000003
【図２】
2004103150.tif 000004
【図３】
2004103150.tif 000005
【図４】
2004103150.tif 000006
【図５】
2004103150.tif 000007
【図６】
2004103150.tif 000008