【手続補正書】
【提出日】平成23年12月1日(2011.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５４】
本開示の範囲及び趣旨から逸脱することなく本開示の様々な修正形態及び変更形態が、当業者には、明らかとなろう。また、本開示は、本明細書に記載した例示的な要素に限定されないことが理解されるべきである。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［３６］に列記する。
［１］
機能化された膜を作製する方法において、前記方法が
第１の主表面、間隙の表面、及び第２の主表面を有する多孔質基材を提供すること、
前記多孔質基材に少なくとも１つのグラフト可能な種を適用して、被覆された多孔質基材を提供すること、並びに
前記被覆された多孔質基材を電子ビーム照射により処理して、機能化された膜を提供すること、を含み、前記電子ビーム照射が、グラフトされた種の濃度が前記第２の主表面における濃度よりも前記第１の主表面において高いような前記多孔質基材に結合した前記グラフトされた種を含む勾配で、前記多孔質基材にグラフト可能な種を結合させる、機能化された膜を作製する方法。
［２］
前記多孔質基材が親水性、又は疎水性である、項目１に記載の方法。
［３］
前記多孔質基材が、フィルム、不織ウエブ、織製ウエブ、及び前出のものの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される、項目１に記載の方法。
［４］
前記多孔質基材が微多孔性の熱誘起相分離膜を含む、項目１に記載の方法。
［５］
前記熱誘起相分離膜がポリ（フッ化ビニリデン）を含む、項目４に記載の方法。
［６］
前記多孔質基材がナイロンを含む、項目１に記載の方法。
［７］
前記機能化された膜の前記第１の主表面が親水性であり、前記機能化された膜の前記第２の主表面が疎水性である、項目１に記載の方法。
［８］
前記機能化された膜の前記第１の主表面が親水性であり、前記機能化された膜の前記第２の主表面が疎水性である、項目１に記載の方法。
［９］
前記少なくとも１つのグラフト可能な種がフリーラジカル重合性基を含む、項目１に記載の方法。
［１０］
前記少なくとも１つのグラフト可能な種が前記フリーラジカル重合性基と、エチレン系不飽和基、エポキシ基、アザラクトン基、イオン基、アルキレンオキシド基、及び前出のものの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される、追加の官能基と、を含む、項目９に記載の方法。
［１１］
前記イオン基がスルホン酸又はスルホン酸塩である、項目１０に記載の方法。
［１２］
前記イオン基がアミン又は四級アンモニウム塩である、項目１０に記載の方法。
［１３］
前記追加の官能基が求核性化合物と反応する、項目１０に記載の方法。
［１４］
前記求核性化合物が、一級アミノ基、二級アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、及び前出のものの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される求核性基を含む、項目１３に記載の方法。
［１５］
前記少なくとも１つのグラフト可能な種が少なくとも２個の官能基を含む、項目１に記載の方法。
［１６］
前記少なくとも１つのグラフト可能な種がポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートを含む、項目１に記載の方法。
［１７］
前記少なくとも１つのグラフト可能な種が、グリシジル（メタ）アクリレート、イソシアナトアルキル（メタ）アクリレート、ビニルアザラクトン、及び前出のものの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される、項目１に記載の方法。
［１８］
第１の層と第２の層との間に前記被覆された多孔質基材を配置して、多層構造物を形成することを更に含み、前記第１の層が前記第１の主表面に隣接して配置され、前記第２の層が前記第２の主表面に隣接して配置されており、前記被覆された多孔質基材を電子ビーム照射により処理することが前記電子ビーム照射に前記多層構造物を曝露することを含む、項目１に記載の方法。
［１９］
前記被覆された多孔質基材を電子ビーム照射により処理した後で、前記多層構造物から前記第１の層と前記第２の層を除去することを更に含む、項目１８に記載の方法。
［２０］
前記第１の主表面に隣接する前記被覆された多孔質基材上に第１の層を配置して、二層構造物を形成すること、及び前記被覆された多孔質基材を電子ビーム照射に暴露することを更に含む、項目１に記載の方法。
［２１］
前記被覆された多孔質基材を電子ビーム照射により処理した後で、前記二層構造物から前記第１の層を除去することを更に含む、項目２０に記載の方法。
［２２］
前記被覆された多孔質基材を不活性雰囲気により処理して、前記機能化された膜を提供することを更に含む、項目１に記載の方法。
［２３］
前記被覆された多孔質基材に送達される電子ビーム照射の線量が、約０ｋＧｙ以上約１２０ｋＧｙ以下の範囲内にある、項目１に記載の方法。
［２４］
前記電子ビーム照射が、約１２０ｋｅＶ以上約２５０ｋｅＶ以下の範囲内の電圧で操作される、項目１に記載の方法。
［２５］
前記グラフトされた種の一部がゲルを形成する、項目１に記載の方法。
［２６］
前記多孔質基材に少なくとも１つのグラフト可能な種を適用することが、前記多孔質基材に２つのグラフト可能な種を適用することを含む、項目１に記載の方法。
［２７］
前記２つのグラフト可能な種が、前記多孔質基材に同時に適用される、項目２６に記載の方法。
［２８］
前記２つのグラフト可能な種が前記多孔質基材に順次に適用され、第１のグラフト可能な種が前記多孔質基材に適用されて、前記被覆された多孔質基材を提供し、前記被覆された多孔質基材の電子ビーム照射による処理の前に、第２のグラフト可能な種が前記被覆された多孔質基材に適用される、項目２６に記載の方法。
［２９］
前記機能化された膜に少なくとも１つの追加のグラフト可能な種を適用し、その後、前記機能化された膜を電子ビーム照射の第２の処理により処理して、前記機能化された膜に前記追加のグラフト可能な種を結合することを更に含み、前記機能化された膜が少なくとも１つの追加のグラフトされた種を有する、項目１に記載の方法。
［３０］
前記少なくとも１つの追加のグラフトされた種の濃度が、前記第１の主表面における濃度よりも前記第２の主表面において高い、項目２９に記載の方法。
［３１］
機能化された膜を作製する方法において、前記方法が、
第１の主表面、間隙表面、及び第２の主表面を有する多孔質基材を提供すること、
前記多孔質基材を電子ビーム照射により処理して、開始部位の勾配を含む照射多孔質基材を提供すること、並びに、
前記照射多孔質基材に少なくとも１つのグラフト可能な種を適用して、機能化された膜を提供することを含み、前記グラフト可能な種が、グラフトされた種の濃度が前記第２の主表面における濃度よりも前記第１の主表面において高いような前記多孔質基材に結合した前記グラフトされた種を含む勾配で、前記多孔質基材上の前記開始部位に結合する、方法。
［３２］
第１の主表面、間隙表面、及び第２の主表面を有する多孔質基材と、
グラフトされた種の濃度が前記第２の主表面における濃度よりも前記第１の主表面において高いような前記第１の主表面から前記第２の主表面へと前記多孔質基材を通って延びる勾配で、前記多孔質基材に結合したグラフトされた種と、を含む、機能化された膜。
［３３］
前記多孔質基材が非対称である、項目３２に記載の機能化された膜。
［３４］
前記多孔質基材が対称である、項目３２に記載の機能化された膜。
［３５］
前記第１の主表面の平均孔径が、前記第２の主表面の平均孔径よりも大きい、項目３３に記載の機能化された膜。
［３６］
前記第１の主表面の平均孔径が、前記第２の主表面の平均孔径よりも小さい、項目３３に記載の機能化された膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能化された膜を作製する方法において、前記方法が
第１の主表面、間隙の表面、及び第２の主表面を有する多孔質基材を提供すること、
前記多孔質基材に少なくとも１つのグラフト可能な種を適用して、被覆された多孔質基材を提供すること、並びに
前記被覆された多孔質基材を電子ビーム照射により処理して、機能化された膜を提供すること、を含み、前記電子ビーム照射が、グラフトされた種の濃度が前記第２の主表面における濃度よりも前記第１の主表面において高いような勾配で、前記多孔質基材にグラフト可能な種を結合させる、機能化された膜を作製する方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つのグラフト可能な種がフリーラジカル重合性基を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つのグラフト可能な種が前記フリーラジカル重合性基と、エチレン系不飽和基、エポキシ基、アザラクトン基、イオン基、アルキレンオキシド基、及び前出のものの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される、追加の官能基と、を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのグラフト可能な種が少なくとも２個の官能基を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つのグラフト可能な種が、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、イソシアナトアルキル（メタ）アクリレート、ビニルアザラクトン、及び前出のものの２つ以上の組み合わせから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記被覆された多孔質基材に送達される電子ビーム照射の線量が、約０ｋＧｙ以上約１２０ｋＧｙ以下の範囲内にある、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記電子ビーム照射が、約１２０ｋｅＶ以上約２５０ｋｅＶ以下の範囲内の電圧で操作される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記機能化された膜に少なくとも１つの追加のグラフト可能な種を適用し、その後、前記機能化された膜を電子ビーム照射の第２の処理により処理して、前記機能化された膜に前記追加のグラフト可能な種を結合することを更に含み、前記機能化された膜が少なくとも１つの追加のグラフトされた種を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
機能化された膜を作製する方法において、前記方法が、
第１の主表面、間隙表面、及び第２の主表面を有する多孔質基材を提供すること、
前記多孔質基材を電子ビーム照射により処理して、開始部位の勾配を含む照射多孔質基材を提供すること、並びに、
前記照射多孔質基材に少なくとも１つのグラフト可能な種を適用して、機能化された膜を提供することを含み、前記グラフト可能な種が、グラフトされた種の濃度が前記第２の主表面における濃度よりも前記第１の主表面において高いような前記多孔質基材に結合した前記グラフトされた種を含む勾配で、前記多孔質基材上の前記開始部位に結合する、方法。
【請求項１０】
第１の主表面、間隙表面、及び第２の主表面を有する多孔質基材と、
グラフトされた種の濃度が前記第２の主表面における濃度よりも前記第１の主表面において高いような前記第１の主表面から前記第２の主表面へと前記多孔質基材を通って延びる勾配で、前記多孔質基材に結合したグラフトされた種と、を含む、機能化された膜。