【手続補正書】
【提出日】平成16年1月22日(2004.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、
前記トップリングは、トップリング本体と、ポリッシング対象物を保持する保持面を有する保持プレートを設け、
更に前記トップリングは、前記トップリング本体と前記保持プレートの間にチャンバを形成し、前記チャンバに可変の流体圧を与える流体源を接続し、前記チャンバに可変の流体圧を供給することにより前記保持面を変形させるように構成し、
かつトップリングの周囲に配置され可変の押圧力で前記研磨面を押圧するとともにポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するリテーナリングを設けたことを特徴とするポリッシング装置。
【請求項２】
前記流体圧は、正圧又は負圧であることを特徴とする請求項１記載のポリッシング装置。
【請求項３】
トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、
前記トップリングは、トップリング本体と、ポリッシング対象物を保持する保持面を有する保持プレートを設け、
更に前記トップリングは、前記トップリング本体と前記保持プレートの間にチャンバを形成し、前記チャンバに可変の流体圧を与える流体源を接続し、前記チャンバに可変の流体圧を供給することにより前記保持面を変形させるように構成し、
前記ターンテーブルは、研磨中にポリッシング対象物の被研磨面を検知する膜厚計を有し、
前記膜厚計の検知結果に基づいて前記保持プレートの形状を変更するコントローラを有することを特徴とするポリッシング装置。
【請求項４】
前記トップリング本体の周囲に配置され、前記流体源とは独立の可変の流体圧を供給する流体圧バッグと、前記流体圧バッグに保持され、該流体圧バッグの可変の流体圧で前記研磨面を押圧するとともにポリッシング対象物を前記保持プレートの保持面内に保持するリテーナリングとを有することを特徴とする請求項３記載のポリッシング装置。
【請求項５】
トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、
前記トップリングは、トップリング本体と、ポリッシング対象物を保持する保持面を有する保持プレートを設け、
更に前記トップリングは、前記トップリング本体と前記保持プレートの間にチャンバを形成し、前記チャンバに可変の流体圧を与える流体源を接続し、前記チャンバに可変の流体圧を供給することにより前記保持面を変形させるように構成し、
前記保持プレートは保持面の外周に外周部を有し、該外周部には前記保持面が均一に変形されるための薄肉部が形成されていることを特徴とするポリッシング装置。
【請求項６】
トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング方法において、
前記トップリングがポリッシング対象物を保持する保持面を可変の流体圧によって所望の形状に変形させた状態でポリッシング対象物を研磨面に押圧するとともに、前記トップリングの周囲に配置されポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するためのリテーナリングにより前記研磨面を前記可変の流体圧とは独立の可変の流体圧で押圧しながら研磨し、
前記ターンテーブルに配置された膜厚計が研磨中にポリッシング対象物の形状を検知し、
前記膜厚計の検知結果に基づいて前記保持面形状を変更することを特徴とするポリッシング方法。
【請求項７】
トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、
前記トップリングがポリッシング対象物を加圧する加圧面を可変の流体圧によって変形可能にするとともに該加圧面とポリッシング対象物との間に流体圧バッグを設け、かつトップリングの周囲に配置され可変の押圧力で前記研磨面を押圧するとともにポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するリテーナリングを設けたことを特徴とするポリッシング装置。
【請求項８】
前記流体圧は、正圧又は負圧であることを特徴とする請求項７記載のポリッシング装置。
【請求項９】
前記流体圧バッグの内部は、加圧プレートに形成された開口及び流体流路を介して流体源に接続されていることを特徴とする請求項７記載のポリッシング装置。
【請求項１０】
前記加圧プレートには、前記流体圧バッグの表面に流体が行き渡るための多孔質プレートが設けられていることを特徴とする請求項９記載のポリッシング装置。
【請求項１１】
トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、
前記トップリングの周囲に配置され、前記研磨面を押圧するとともにポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するリテーナリングと、該リテーナリングを可変の押圧力で前記研磨面に押圧する押圧機構とを備え、該押圧機構は上下動可能なリング状部材と、該リング状部材をリテーナリングに押圧する可変の流体圧が供給される空間とを備えていることを特徴とするポリッシング装置。
【請求項１２】
前記保持面は、可変の流体圧によって変形可能であることを特徴とする請求項１１記載のポリッシング装置。
【請求項１３】
トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング方法において、
前記トップリングがポリッシング対象物を加圧する加圧面を可変の流体圧によって所望の形状に変形させた状態でかつ該加圧面とポリッシング対象物との間に設けられた流体圧バッグを介してポリッシング対象物を研磨面に押圧するとともに、前記トップリングの周囲に配置されポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するためのリテーナリングにより前記研磨面を可変の押圧力で押圧しながら研磨することを特徴とするポリッシング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上述した目的を達成するため、本発明の第１の態様のポリッシング装置は、トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、前記トップリングは、トップリング本体と、ポリッシング対象物を保持する保持面を有する保持プレートを設け、更に前記トップリングは、前記トップリング本体と前記保持プレートの間にチャンバを形成し、前記チャンバに可変の流体圧を与える流体源を接続し、前記チャンバに可変の流体圧を供給することにより前記保持面を変形させるように構成し、かつトップリングの周囲に配置され可変の押圧力で前記研磨面を押圧するとともにポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するリテーナリングを設けたことを特徴とするものである。
前記トップリングは、前記保持面を有した保持プレートを備え、該保持プレートの裏面のチャンバに可変の流体圧を供給することにより前記保持面を変形させるようにしてもよい。
また、前記リテーナリングは、トップリングに保持された流体圧バッグに可変の流体圧を供給することにより、その押圧力が可変になるようにしてもよい。
本発明の第２の態様のポリッシング装置は、トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、前記トップリングは、トップリング本体と、ポリッシング対象物を保持する保持面を有する保持プレートを設け、更に前記トップリングは、前記トップリング本体と前記保持プレートの間にチャンバを形成し、前記チャンバに可変の流体圧を与える流体源を接続し、前記チャンバに可変の流体圧を供給することにより前記保持面を変形させるように構成し、前記ターンテーブルは、研磨中にポリッシング対象物の被研磨面を検知する膜厚計を有し、前記膜厚計の検知結果に基づいて前記保持プレートの形状を変更するコントローラを有することを特徴とするものである。
本発明の好ましい態様によれば、前記トップリング本体の周囲に配置され、前記流体源とは独立の可変の流体圧を供給する流体圧バッグと、前記流体圧バッグに保持され、該流体圧バッグの可変の流体圧で前記研磨面を押圧するとともにポリッシング対象物を前記保持プレートの保持面内に保持するリテーナリングとを有する。
本発明の第３の態様のポリッシング装置は、トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、前記トップリングは、トップリング本体と、ポリッシング対象物を保持する保持面を有する保持プレートを設け、更に前記トップリングは、前記トップリング本体と前記保持プレートの間にチャンバを形成し、前記チャンバに可変の流体圧を与える流体源を接続し、前記チャンバに可変の流体圧を供給することにより前記保持面を変形させるように構成し、前記保持プレートは保持面の外周に外周部を有し、該外周部には前記保持面が均一に変形されるための薄肉部が形成されていることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また本発明の第１の態様のポリッシング方法は、トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング方法において、前記トップリングがポリッシング対象物を保持する保持面を可変の流体圧によって所望の形状に変形させた状態でポリッシング対象物を研磨面に押圧するとともに、前記トップリングの周囲に配置されポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するためのリテーナリングにより前記研磨面を前記可変の流体圧とは独立の可変の流体圧で押圧しながら研磨し、前記ターンテーブルに配置された膜厚計が研磨中にポリッシング対象物の形状を検知し、前記膜厚計の検知結果に基づいて前記保持面形状を変更することを特徴とするものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の第４の態様のポリッシング装置は、トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、前記トップリングがポリッシング対象物を加圧する加圧面を可変の流体圧によって変形可能にするとともに該加圧面とポリッシング対象物との間に流体圧バッグを設け、かつトップリングの周囲に配置され可変の押圧力で前記研磨面を押圧するとともにポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するリテーナリングを設けたことを特徴とするものである。
前記トップリングは、前記加圧面を有した加圧プレートを備え、該加圧プレートの裏面のチャンバに可変の流体圧を供給することにより前記加圧面を変形させるようにしてもよい。
また、前記リテーナリングは、可変の流体圧により、その押圧力が可変になるようにしてもよい。
本発明の好ましい態様によれば、前記流体圧バッグの内部は、加圧プレートに形成された開口及び流体流路を介して流体源に接続されている。
本発明の好ましい態様によれば、前記加圧プレートには、前記流体圧バッグの表面に流体が行き渡るための多孔質プレートが設けられている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また本発明の第２の態様のポリッシング方法は、トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング方法において、前記トップリングがポリッシング対象物を加圧する加圧面を可変の流体圧によって所望の形状に変形させた状態でかつ該加圧面とポリッシング対象物との間に設けられた流体圧バッグを介してポリッシング対象物を研磨面に押圧するとともに、前記トップリングの周囲に配置されポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するためのリテーナリングにより前記研磨面を可変の押圧力で押圧しながら研磨することを特徴とするものである。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明のその他の態様のポリッシング装置は、トップリングと研磨面を有するターンテーブルとを備え、前記トップリングとターンテーブルとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦かつ鏡面化するポリッシング装置において、前記トップリングの周囲に配置され、前記研磨面を押圧するとともにポリッシング対象物をトップリングの保持面内に保持するリテーナリングと、該リテーナリングを可変の押圧力で前記研磨面に押圧する押圧機構とを備え、該押圧機構は上下動可能なリング状部材と、該リング状部材をリテーナリングに押圧する可変の流体圧が供給される空間とを備えていることを特徴とするものである。
本発明によれば、リテーナリングが摩耗しても、リテーナリングの押圧機構はリテーナリングを所望の押圧力で押圧することができる。
本発明の好ましい態様によれば、前記保持面は、可変の流体圧によって変形可能である。