【手続補正書】
【提出日】平成15年9月3日(2003.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】Ｘ線発生装置及びＸ線露光装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的部材をプラズマ化することによりＸ線を取り出し、かつ、放出される飛散粒子を阻止するためにバッファガスを用いるＸ線発生装置であって、
前記Ｘ線が通過する開口部を有する部材であり、前記標的部材及び／または前記プラズマから放出される飛散粒子を遮蔽する飛散粒子遮蔽部材を前記標的部材及びプラズマ近傍に設け、且つ、前記Ｘ線を取り出す範囲に相当する立体角領域に隣接または近接する飛散粒子阻止部材を設けた事を特徴とするＸ線発生装置。
【請求項２】
標的部材をプラズマ化することによりＸ線を取り出し、かつ、放出される飛散粒子を阻止するためにバッファガスを用いるＸ線発生装置であって、
前記Ｘ線が通過する開口部を有する部材であり、前記標的部材及び／または前記プラズマから放出される飛散粒子を遮蔽する飛散粒子遮蔽部材を前記標的部材及びプラズマ近傍に設け、且つ、前記Ｘ線を取り出す範囲に相当する立体角領域内に飛散粒子阻止部材を設けた事を特徴とするＸ線発生装置。
【請求項３】
前記飛散粒子遮蔽部材に励起エネルギービームが通過する別の開口部をさらに設けた事を特徴とする請求項１〜２記載のＸ線発生装置。
【請求項４】
前記飛散粒子遮蔽部材は、前記飛散粒子の全放出範囲または略全ての範囲を覆う形状を有することを特徴とする請求項１〜３記載のＸ線発生装置。
【請求項５】
前記飛散粒子遮蔽部材に排気用の開口部を設けたことを特徴とする請求項１〜４記載のＸ線発生装置。
【請求項６】
前記飛散粒子遮蔽部材にガス導入用の開口部を設けたことを特徴とする請求項１〜５記載のＸ線発生装置。
【請求項７】
前記飛散粒子遮蔽部材内に導入するガスがヘリウム、酸素、窒素、空気、アルゴン、クリプトンのいずれかを含むことを特徴とする請求項６記載のＸ線発生装置。
【請求項８】
前記標的部材及び／または前記プラズマから放出される飛散粒子の放出量の方向分布を制御する飛散粒子制御部材であり、前記Ｘ線を取り出す方向への飛散粒子の放出量を低減させる飛散粒子制御部材をさらに設けたことを特徴とする請求項１〜７記載のＸ線発生装置。
【請求項９】
前記飛散粒子制御部材に用いる材料がタンタル、タングステン、ダイヤモンド、セラミック、ステンレスのいずれかを含むことを特徴とする請求項８記載のＸ線発生装置。
【請求項１０】
前記飛散粒子阻止部材を冷却する手段をさらに設けたことを特徴とする請求項１〜９記載のＸ線発生装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載のＸ線発生装置を用いたＸ線露光装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線露光装置、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線分析装置などのＸ線装置に用いられるＸ線発生装置及びそれを用いたＸ線露光装置に関するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決する為の手段】そのため、本発明は第一に「標的部材をプラズマ化することによりＸ線を取り出し、かつ、放出される飛散粒子を阻止するためにバッファガスを用いるＸ線発生装置であって、前記Ｘ線が通過する開口部を有する部材であり、前記標的部材及び／または前記プラズマから放出される飛散粒子を遮蔽する飛散粒子遮蔽部材を前記標的部材及びプラズマ近傍に設け、且つ、前記Ｘ線を取り出す範囲に相当する立体角領域に隣接または近接する飛散粒子阻止部材を設けた事を特徴とするＸ線発生装置（請求項１）」を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明は第二に「標的部材をプラズマ化することによりＸ線を取り出し、かつ、放出される飛散粒子を阻止するためにバッファガスを用いるＸ線発生装置であって、前記Ｘ線が通過する開口部を有する部材であり、前記標的部材及び／または前記プラズマから放出される飛散粒子を遮蔽する飛散粒子遮蔽部材を前記標的部材及びプラズマ近傍に設け、且つ、前記Ｘ線を取り出す範囲に相当する立体角領域内に飛散粒子阻止部材を設けた事を特徴とするＸ線発生装置。（請求項２）」を提供する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明は第三に「前記飛散粒子遮蔽部材に励起エネルギービームが通過する別の開口部をさらに設けた事を特徴とする請求項１〜２記載のＸ線発生装置（請求項３）」を提供する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明は第四に「前記飛散粒子遮蔽部材は、前記飛散粒子の全放出範囲または略全ての範囲を覆う形状を有することを特徴とする請求項１〜３記載のＸ線発生装置（請求項４）」を提供する。また、本発明は第五に「前記飛散粒子遮蔽部材に排気用の開口部を設けたことを特徴とする請求項１〜４記載のＸ線発生装置（請求項５）」を提供する。
また、本発明は第六に「前記飛散粒子遮蔽部材にガス導入用の開口部を設けたことを特徴とする請求項１〜５記載のＸ線発生装置（請求項６）」を提供する。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明は第七に「前記飛散粒子遮蔽部材内に導入するガスがヘリウム、酸素、窒素、空気、アルゴン、クリプトンのいずれかを含むことを特徴とする請求項６記載のＸ線発生装置（請求項７）」を提供する。また、本発明は第八に「前記標的部材及び／または前記プラズマから放出される飛散粒子の放出量の方向分布を制御する飛散粒子制御部材であり、前記Ｘ線を取り出す方向への飛散粒子の放出量を低減させる飛散粒子制御部材をさらに設けたことを特徴とする請求項１〜７記載のＸ線発生装置（請求項８）」を提供する。
また、本発明は第九に「前記飛散粒子制御部材に用いる材料がタンタル、タングステン、ダイヤモンド、セラミック、ステンレスのいずれかを含むことを特徴とする請求項８記載のＸ線発生装置（請求項９）」を提供する。また、本発明は第十に「前記飛散粒子阻止部材を冷却する手段をさらに設けたことを特徴とする請求項１〜９記載のＸ線発生装置（請求項１０）」を提供する。また、本発明は第十一に「請求項１〜１０のいずれか１項に記載のＸ線発生装置を用いたＸ線露光装置（請求項１１）」を提供する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
そのため、Ｘ線の取り出し方向について、不都合な飛散粒子の付着、堆積（飛散粒子阻止用薄膜や清浄光学面などへの付着、堆積）を低減できる。従って、本発明のＸ線発生装置によれば、長時間安定してＸ線発生装置を使用できる。図１に本発明のＸ線発生装置（一例）にかかる各部材の配置を示す。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
飛散粒子の遮蔽を確実に行うために、飛散粒子遮蔽部材は、飛散粒子の全放出範囲または略全ての放出範囲を覆う形状にすることが好ましい。例えば、ドーム形状や箱型形状が好ましい。標的部材等からの飛散粒子が増大して、標的部材と飛散粒子遮蔽部材との間の真空度が悪くなることがあり、これは励起エネルギー光（例えば、パルスレーザー光）の繰り返し周波数が高くなるにつれて顕著となる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
標的部材と飛散粒子遮蔽部材との間の真空度が悪くなると、励起エネルギー光が標的部材に到達する前にブレークダウンしたり、またプラズマから放出されるＸ線が吸収されて、使用する（取り出す）Ｘ線強度が低下するという問題が発生する。従って、飛散粒子遮蔽部材に排気用の開口部を設けることが好ましい。排気用の開口部に排気装置からの配管を接続して、標的部材と飛散粒子遮蔽部材との間の空間を排気すれば、前記真空度の悪化を防ぐことができるので、Ｘ線強度の低下も防ぐことができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
なお、励起エネルギービームが通過する開口部またはＸ線が通過する別の開口部を排気用の開口部として兼用してもよい。また、飛散粒子遮蔽部材にガス導入用の開口部を設けることが好ましい。ガス導入用の開口部に真空容器外のガスボンベからの配管を接続して、標的部材と飛散粒子遮蔽部材との間の空間にガスを導入すれば、ガスにより飛散粒子を前記空間外に排出して、前記真空度の悪化を防ぐことができるので、Ｘ線強度の低下も防ぐことができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
ガスの導入量は、標的部材と飛散粒子遮蔽部材との間の空間における、導入ガスによるＸ線吸収量が問題とならない程度にすることが好ましい。飛散粒子の放出量の方向分布を制御する飛散粒子制御部材であり、Ｘ線を取り出す方向への飛散粒子の放出量を低減させる飛散粒子制御部材をさらに設けると、Ｘ線の取り出し方向における飛散粒子阻止効果が増大するので好ましい。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明にかかる飛散粒子阻止部材を冷却する冷却手段をさらに設けると、該部材が飛散粒子を吸着しやすくなって、阻止効果が増大するので好ましい。或いは、飛散粒子を吸着しやすいように、飛散粒子阻止部材の表面を加工（例えば、つや消し加工）することも好ましい。本発明にかかる標的部材の形状は、巻き取り可能なテープ状が特に好ましいが板状、バルク状、円柱状でもよい。また、標的部材の材料は、Ｔａ，Ｗなどが好ましい。