【手続補正書】
【提出日】平成26年4月28日(2014.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低流動プラズマを維持するよう構成されたトーチであり、前記トーチは、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記外側チューブは歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いる前記トーチ内で低流動プラズマの生成を可能にするために有効な長さを備える、トーチ。
【請求項２】
前記トーチの前記外側チューブは、前記外側チューブの全半径が実質的に同じであるように実質的に対称であり、前記スロットが前記外側チューブの一端に位置づけられる、請求項１に記載のトーチ。
【請求項３】
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブより、少なくとも２５％長い、請求項１に記載のトーチ。
【請求項４】
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブより、約９ｍｍ長い、請求項１に記載のトーチ。
【請求項５】
前記歪みのないスロットの幅は、従来のトーチの歪んだスロットの幅とほぼ同じである、請求項１に記載のトーチ。
【請求項６】
前記補助チューブは、長さ約８３ｍｍであり、前記歪みのないスロットは、長さ約１５ｍｍである、請求項１に記載のトーチ。
【請求項７】
前記トーチの前記外側チューブは、少なくとも３つの歪みのないスロットを備える、請求項１に記載のトーチ。
【請求項８】
前記３つのスロットのそれぞれは、従来のトーチにあるスロットより約２５％短い、請求項７に記載のトーチ。
【請求項９】
前記３つの歪みのないスロットのそれぞれは、ほぼ同じ長さである、請求項７に記載のトーチ。
【請求項１０】
前記補助チューブは、長さ約８３ｍｍであり、前記３つの歪みのないスロットのそれぞれは、長さ約１５ｍｍである、請求項７に記載のトーチ。
【請求項１１】
低流動プラズマを維持するよう構成されたトーチであり、前記トーチは外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて生成された低流動プラズマを前記トーチが維持するために有効な長さを備え、前記補助チューブの前記長さは、らせん状の負荷コイルを備える従来のトーチ内で従来のプラズマを維持するよう構成された補助チューブの長さよりも長い、トーチ。
【請求項１２】
前記補助チューブの前記長さは、約８リットル／分以下のプラズマガス率を用いて維持される前記低流動プラズマの形状に合うよう選択される、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１３】
前記外側チューブは、少なくとも１つの歪みのないスロットを備える、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１４】
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブの長さより約９ｍｍ長い、請求項１３に記載のトーチ。
【請求項１５】
前記歪みのないスロットは、従来のトーチにある歪んだスロットの長さより約５ｍｍ短い、請求項１３に記載のトーチ。
【請求項１６】
前記外側チューブは、少なくとも３つの歪みのないスロットを備える、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項１７】
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブの長さより約９ｍｍ長い、請求項１６に記載のトーチ。
【請求項１８】
前記歪みのないスロットのそれぞれは、従来のトーチにある歪んだスロットの長さより少なくとも５ｍｍ短い、請求項１７に記載のトーチ。
【請求項１９】
前記補助チューブは長さ約８３ｍｍであり、前記外側チューブは、一端に長さ約１５ｍｍの歪みのないスロットを備える、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項２０】
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブより約９ｍｍ長く、前記外側チューブは、歪みのないスロットを備え、前記外側チューブにおける前記歪みのないスロットは、従来のトーチにおける歪んだスロットより少なくとも５ｍｍ短い、請求項１１に記載のトーチ。
【請求項２１】
低流動プラズマと共に動作する低流動注入器であり、前記低流動注入器は、有効な量のサンプルを、約８リットル／分以下のプラズマガスと共に動作する前記低流動プラズマに導入するよう構成された、低流動注入器。
【請求項２２】
前記注入器の長さは、従来のプラズマトーチと共に動作可能な従来の注入器よりも長い、請求項２１に記載の低流動注入器。
【請求項２３】
前記低流動注入器の前記長さは、約１５０ｍｍである、請求項２２に記載の低流動注入器。
【請求項２４】
前記低流動注入器は、アルミナ、石英、サファイア、チタニア、チタン、インコネル合金、または不活性物質のうち１つまたは複数を備える、請求項２１に記載の低流動注入器。
【請求項２５】
テーパエンドをさらに備える、請求項２１に記載の低流動注入器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
さらなる態様、特徴、例、および実施形態が、以下により詳細に記載される。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
（項目１）
低流動プラズマを維持するよう構成されたトーチであり、前記トーチは、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記外側チューブは歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いる前記トーチ内で低流動プラズマの生成を可能にするために有効な長さを備える、トーチ。
（項目２）
前記トーチの前記外側チューブは、前記外側チューブの全半径が実施的に同じであるように実質的に対称であり、前記スロットが前記外側チューブの一端に位置づけられる、項目１に記載のトーチ。
（項目３）
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブより、少なくとも２５％長い、項目１に記載のトーチ。
（項目４）
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブより、約９ｍｍ長い、項目１に記載のトーチ。
（項目５）
前記歪みのないスロットの幅は、従来のトーチの歪んだスロットの幅とほぼ同じである、項目１に記載のトーチ。
（項目６）
前記補助チューブは、長さ約８３ｍｍであり、前記歪みのないスロットは、長さ約１５ｍｍである、項目１に記載のトーチ。
（項目７）
前記トーチの前記外側チューブは、少なくとも３つの歪みのないスロットを備える、項目１に記載のトーチ。
（項目８）
前記３つのスロットのそれぞれは、従来のトーチにあるスロットより約２５％短い、項目７に記載のトーチ。
（項目９）
前記３つの歪みのないスロットのそれぞれは、ほぼ同じ長さである、項目７に記載のトーチ。
（項目１０）
前記補助チューブは、長さ約８３ｍｍであり、前記３つの歪みのないスロットのそれぞれは、長さ約１５ｍｍである、項目７に記載のトーチ。
（項目１１）
低流動プラズマを維持するよう構成されたトーチであり、前記トーチは外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて生成された低流動プラズマを前記トーチが維持するために有効な長さを備え、前記補助チューブの前記長さは、らせん状の負荷コイルを備える従来のトーチ内で従来のプラズマを維持するよう構成された補助チューブの長さよりも長い、トーチ。
（項目１２）
前記補助チューブの前記長さは、約８リットル／分以下のプラズマガス率を用いて維持される前記低流動プラズマの形状に合うよう選択される、項目１１に記載のトーチ。
（項目１３）
前記外側チューブは、少なくとも１つの歪みのないスロットを備える、項目１１に記載のトーチ。
（項目１４）
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブの長さより約９ｍｍ長い、項目１３に記載のトーチ。
（項目１５）
前記歪みのないスロットは、従来のトーチにある歪んだスロットの長さより約５ｍｍ短い、項目１３に記載のトーチ。
（項目１６）
前記外側チューブは、少なくとも３つの歪みのないスロットを備える、項目１１に記載のトーチ。
（項目１７）
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブの長さより約９ｍｍ長い、項目１６に記載のトーチ。
（項目１８）
前記歪みのないスロットのそれぞれは、従来のトーチにある歪んだスロットの長さより少なくとも５ｍｍ短い、項目１７に記載のトーチ。
（項目１９）
前記補助チューブは長さ約８３ｍｍであり、前記外側チューブは、一端に長さ約１５ｍｍの歪みのないスロットを備える、項目１１に記載のトーチ。
（項目２０）
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブより約９ｍｍ長く、前記外側チューブは、歪みのないスロットを備え、前記外側チューブにおける前記歪みのないスロットは、従来のトーチにおける歪んだスロットより少なくとも５ｍｍ短い、項目１１に記載のトーチ。
（項目２１）
低流動プラズマと共に動作する低流動注入器であり、前記低流動注入器は、有効な量のサンプルを、約８リットル／分以下のプラズマガスと共に動作する前記低流動プラズマに導入するよう構成された、低流動注入器。
（項目２２）
前記注入器の長さは、従来のプラズマトーチと共に動作可能な従来の注入器よりも長い、項目２１に記載の低流動注入器。
（項目２３）
前記低流動注入器の前記長さは、約１５０ｍｍである、項目２２に記載の低流動注入器。
（項目２４）
前記低流動注入器は、アルミナ、石英、サファイア、チタニア、チタン、インコネル合金、または不活性物質のうち１つまたは複数を備える、項目２１に記載の低流動注入器。
（項目２５）
テーパエンドをさらに備える、項目２１に記載の低流動注入器。
（項目２６）
ストレート穴をさらに備える、項目２１に記載の低流動注入器。
（項目２７）
前記注入器は、毛細管として構成される、項目２１に記載の低流動注入器。
（項目２８）
前記注入器は、毛細管を備える、項目２１に記載の低流動注入器。
（項目２９）
前記注入器は、全ガス流が９リットル／分以下の場合、サンプルを前記低流動プラズマに導入するよう動作する、項目２１に記載の低流動注入器。
（項目３０）
前記低流動プラズマは、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備えるトーチ内で維持され、前記外側チューブは、少なくとも１つの歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは、長さ約８３ｍｍであり、前記歪みのないスロットは、長さ約１５ｍｍである、項目２１に記載の低流動注入器。
（項目３１）
低流動プラズマを維持するためのシステムであり、前記システムは、
低流動トーチを受け取るよう構成された開口部を備えるプレート電極と、
前記プレート電極の前記開口部の少なくとも一部内に位置づけられるよう形成および配置された低流動トーチを備え、
前記トーチは、歪みのないスロットを備える外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記補助チューブは、前記トーチ内で前記低流動プラズマを維持するために有効な長さを備える、システム。
（項目３２）
前記補助チューブは、長さ約８３ｍｍであり、前記歪みのないスロットは、長さ約１５ｍｍである、項目３１に記載のシステム。
（項目３３）
前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブよりも長い、項目３１に記載のシステム。
（項目３４）
前記歪みのないスロットは、従来のトーチにある歪んだスロットよりも短い、項目３３に記載のシステム。
（項目３５）
前記歪みのないスロットは、長さ約１５ｍｍであり、前記補助チューブは、長さ約８３ｍｍである、項目３４に記載のシステム。
（項目３６）
前記プレート電極に電気的に結合された発振器をさらに備える、項目３１に記載のシステム。
（項目３７）
前記低流動トーチを受け取るよう構成された開口部を備える追加のプレート電極をさらに備える、項目３１に記載のシステム。
（項目３８）
前記プレート電極と前記追加のプレート電極に電気的に結合された発振器をさらに備える、項目３１に記載のシステム。
（項目３９）
前記発振器は、独立して前記プレート電極と前記追加のプレート電極を制御するように構成されている、項目３８に記載のシステム。
（項目４０）
前記低流動トーチに光学的に結合された検出器をさらに備える、項目３９に記載のシステム。
（項目４１）
８リットル／分以下のプラズマガスを用いて低流動トーチ内で維持された低流動プラズマであり、前記低流動トーチは、歪みのないスロットを備える外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備える、低流動プラズマ。
（項目４２）
前記低流動トーチの前記補助チューブは、従来のトーチの補助チューブより長い、項目４１に記載の低流動プラズマ。
（項目４３）
前記補助チューブは、長さ約８３ｍｍである、項目４２に記載の低流動プラズマ。
（項目４４）
前記歪みのないスロットは、従来のトーチの外側チューブにあるスロットよりも短い、項目４１に記載の低流動プラズマ。
（項目４５）
前記スロットは、長さ約１５ｍｍである、項目４４に記載の低流動プラズマ。
（項目４６）
前記低流動プラズマの発光領域およびプラズマ領域は圧縮される、項目４１に記載の低流動プラズマ。
（項目４７）
前記低流動プラズマは、前記外側チューブに３つの歪みのないスロットを備えるトーチ内に維持される、項目４１に記載の低流動プラズマ。
（項目４８）
前記３つの歪みのないスロットは、外側チューブの周辺に等しい間隔で配置される、項目４７に記載の低流動プラズマ。
（項目４９）
前記低流動プラズマは、アルゴンを用いて維持される、項目４１に記載の低流動プラズマ。
（項目５０）
前記低流動プラズマを維持するために使われる全ガス流は、９リットル／分未満である、項目４１に記載の低流動プラズマ。
（項目５１）
外側チューブにおける歪みのないスロットと前記外側チューブ内の補助チューブを備える低流動トーチ内で低流動プラズマを維持する方法であり、前記補助チューブは前記低流動トーチ内で前記低流動プラズマを維持するために有効な長さを備え、前記方法は、
前記低流動トーチに約８リットル／分以下の率でプラズマガスを導入することと、
少なくとも１つのプレート電極から前記トーチにエネルギーをもたらすことによって前記低流動トーチ内で前記低流動プラズマを維持することと
を備える、方法。
（項目５２）
前記歪みのないスロットを、長さ約１５ｍｍになるよう構成することをさらに備える、項目５１に記載の方法。
（項目５３）
少なくとも３つの歪みのないスロットを有する前記低流動トーチを構成することをさらに備える、項目５１に記載の方法。
（項目５４）
従来のトーチにある補助チューブより少なくとも２５％長くなるよう前記補助チューブを構成することをさらに備える、項目５１に記載の方法。
（項目５５）
前記低流動トーチの前記補助チューブを、長さ約８３ｍｍになるよう構成することをさらに備える、項目５４に記載の方法。
（項目５６）
低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、低流動プラズマを維持するよう構成されたトーチを提供することを備え、前記トーチは外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記外側チューブは歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて前記トーチ内に維持された低流動プラズマの形状に合うよう有効な長さを備える、方法。
（項目５７）
低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブを備えるプラズマトーチで使用するために構成された補助チューブを提供することを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて前記プラズマトーチ内に維持された低流動プラズマの形状に合うよう有効な長さを備える、方法。
（項目５８）
低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、補助チューブを備えるプラズマトーチで使用するために構成された歪みのない外側チューブを提供することを備え、前記歪みのない外側チューブは、平らなプレート電極を用いて前記プラズマトーチ内で低流動プラズマの生成を可能にするために有効な長さを有するスロットを備える、方法。
（項目５９）
低流動プラズマへのサンプルの導入を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備える低流動プラズマトーチにサンプルを導入するために有効な長さを備える注入器を提供することを備え、前記外側チューブは歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて前記トーチ内で低流動プラズマの生成を可能にするために有効な長さを備える、方法。
（項目６０）
低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備えるトーチを提供することを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて生成された低流動プラズマを前記トーチが維持するために有効な長さを備え、前記補助チューブの前記長さはらせん状の負荷コイルを備える従来のトーチ内で従来のプラズマを維持するよう構成された補助チューブの長さより長い、方法。
（項目６１）
低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブを備えるプラズマトーチで使用するために構成された補助チューブを提供することを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて生成された低流動プラズマを前記トーチが維持するために有効な長さを備え、前記補助チューブの前記長さはらせん状の負荷コイルを備える従来のトーチ内で従来のプラズマを維持するよう構成された補助チューブの長さより長い、方法。
（項目６２）
低流動プラズマへのサンプルの導入を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備える低流動プラズマトーチにサンプルを導入するために有効な長さを備える注入器を提供することを備え、前記外側チューブは歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて生成された低流動プラズマを前記トーチが維持するために有効な長さを備え、前記補助チューブの前記長さはらせん状の負荷コイルを備える従来のトーチ内で従来のプラズマを維持するよう構成された補助チューブの長さより長い、方法。