【事件の表示】
　平成　５年特許願第３３６２５２号「磁気ヘッド」拒絶査定不服審判事件〔平成　７年　４月　７日出願公開、特開平　７−　９３７０９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯、本願発明
　本願は、平成５年１２月２８日の出願であって、その請求項１ないし４に係る発明は、平成１５年７月３０日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、本願特許請求の範囲の請求項１ないし４に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりである。
　「【請求項１】　酸化物磁性材料からなる一対の磁気コア基板のうち少なくとも一方の突合わせ面にギャップ膜が形成され、そのギャップ膜を突合わせ面としてこれら一対の磁気コア基板が突き合わされ、その突合わせ面間に磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドにおいて、
　上記一対の磁気コア基板は、非磁性ガラスにより接合一体化され、
　上記磁気ギャップのトラック幅は５０μｍ以下であり、
　上記ギャップ膜の膜厚が１５０ｎｍ以下であり、
　上記一対の磁気コア基板のうち少なくとも一方の突合わせ面に逆スパッタを施した後にギャップ膜が形成され、
　上記ギャップ膜として白金又は白金族を主とする金属若しくは合金よりなる膜を用いたことを特徴とする磁気ヘッド。」
　
２　引用例
（１）　原査定の拒絶の理由で引用された特開昭５３−５０４９９号公報（以下「引用例１」という。）には、次のとおり記載されている。
　（ア）「フェライトの、接着すべき面のそれぞれに金属膜を形成し、ガラスを用いて前記フェライトを接着することを特徴とするフェライトの接着方法。」（特許請求の範囲の請求項１、１頁左下欄５行〜８行）
　（イ）「特許請求の範囲第１項の記載において、フェライトの、接着をすべき面を、鏡面研磨し、さらに加工による変質層を除去してから、金属膜を形成することを特徴とするフェライトの接着方法。」（特許請求の範囲の請求項３、１頁左下欄１３行〜１７行）
　（ウ）「特許請求の範囲第１項、第２項または第３項の記載において、金属膜を少なくとも５０オングストロームの厚さに形成することを特徴とするフェライトの接着方法。」（特許請求の範囲の請求項４、１頁左下欄１８行〜右下欄１行）
　（エ）「金属膜としては、安定な金や白金、およびフェライト中に拡散しても障害の少ないクロムやマンガン、鉄、コバルト、ニッケルのうちの１種以上で形成することが望ましい。」（２頁左上欄７行〜１０行）
　（オ）「接着すべきフェライトの表面は、ダイヤモンドカッターによる切断面や、粗ラップ面よりも、鏡面状に加工しておくことが望ましい。鏡面研摩をすれば、フェライトの表面のひびや欠け、マイクロクラックなどを除去し、また大巾に減少させることができ、接着強度を向上させるとともに、磁気特性の劣化を除去することができる。さらに、鏡面研摩をしてから、加工による変質層を除去すれば、変質層の存在により低下した磁気特性を回復させることができるという効果がある。」（２頁左上欄１１行〜２０行）
　（カ）「本発明の方法を、磁気ヘッドの製造に適用した場合について、説明する。ＭｎＯ、ＺｎＯ、およびＦｅ２Ｏ３がそれぞれ２８モル％、１９モル％、５３モル％の組成比率のフェライトを切断、研摩し、第５図に示すような、所定の断面形状のフェライトチップ１１，１２を作った。ギャップ面の変質層を除去するために、窒素雰囲気中において１０００℃で３０分間保持した。それから、それぞれの接合すべき面に１５０オングストロームの金薄膜を蒸着により形成した。（中略）ガラスを用いて、窒素雰囲気中において７００℃で３０分間熱処理して、接着した。（中略）接着を完了してから、２００ミクロンの厚さに切断し、両面を鏡面状に仕上げた。」（３頁左上欄１７行〜右上欄１８行）
　（キ）「本発明の方法による磁気ヘッドの、高い周波数領域における特性低下がいちじるしく改善されているのは、実効ギャップが正確に形成されていること、すなわちギャップ部分におけるストレスの拡がりや、ガラス成分のフェライトへの拡散が少ないことによる。」（３頁左下欄２０行〜右下欄５行）
　（ク）「上述のようにして作った磁気ヘッドにおいて、金薄膜は５０〜１００オングストローム残っていた。」（３頁右下欄１０行〜１２行）
　（ケ）「これは金属膜に金を使用した場合であるが、金にかえ、白金、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケルを使用しても、あるいは金を含めたこれら金属の２種以上を使用しても、同じ効果が得られるのは言うまでもないことである。」（３頁右下欄１３行〜１７行）
　（コ）「本発明の方法によれば、フェライトを接合しているガラス中の気泡が少なくなり、接着力が向上するだけでなく、フェライトの表面がガラスによって侵食されることが抑制され、磁気特性がいちじるしく向上する。したがって、本発明の方法は、磁気ヘッドなどの製造に適用して、非常に有用な方法と言える。」（３頁右下欄１８行〜４頁左上欄４行）
　
（２）　同じく引用された特開昭６２−５７１１５号公報（以下「引用例２」という。）には、次のとおり記載されている。
　（サ）「ギャップスペーサを挟んで金属磁性材料よりなる薄膜を付設したフェライト材よりなる磁気ヘッドを製造するに際し、前記フェライト材に前記薄膜を施こす前にアルゴンを用いて逆スパッタリングを行なうようにした磁気ヘッドの製造方法」（特許請求の範囲の一部記載、１頁左下欄４行〜９行）
　（シ）「斯る磁気ヘッドの場合、フェライト上に前記金属薄膜を成膜するのにスパッタリング法を用いることが多い。そして、金属薄膜を成膜したフェライトに溝加工を施したり接合加工、スライング加工等を施して後、ヘッド化される訳であるが、これらの工程中（特に溝加工時）に金属薄膜が剥れることがあるが、成膜前のフェライト面の清浄度によっても、その剥れ易さは大きく異なる。従って、フェライト面を成膜直前にアルゴンイオンでたたくこと、所謂逆スパッタリングによってクリーニング処理を施すことが従来、行なわれていた。この処理によって付着力は大幅に強くなる。」（２頁左上欄４行〜１５行）
　
３　本願発明と引用例１に記載された発明との対比・判断
（１）対比
　本願発明と引用例１に記載された発明とを対比する。
　（ａ）　記載（ア）（カ）（キ）（コ）によれば、引用例１は磁気ヘッドに有用な技術に関し、引用例１に記載された磁気ヘッドは、ＭｎＺｎフェライト等からなるフェライトチップ１１，１２の、それぞれの接合すべきギャップ面に、金属膜を形成し、ガラスを用いて接着したものである。引用例１に記載された磁気ヘッドの金属膜はギャップ面に形成されているので、当該金属膜は、本願発明の「ギャップ膜」に相当している。そして、ＭｎＺｎフェライトは、酸化物磁性材料であるので、引用例１に記載された磁気ヘッドは、本願発明の「酸化物磁性材料からなる一対の磁気コア基板のうち少なくとも一方の突合わせ面にギャップ膜が形成され、そのギャップ膜を突合わせ面としてこれら一対の磁気コア基板が突き合わされ、その突合わせ面間に磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッド」に相当する構成を備え、「上記一対の磁気コア基板は、非磁性ガラスにより接合一体化され」ている構成を備えている。
　（ｂ）　記載（エ）（ケ）によれば、ギャップ面に形成される金属膜は、白金よりなる金属膜であり、また、記載（ウ）（カ）（ク）によれば、金属膜の膜厚は、５０オングストローム以上、１５０オングストローム、５０〜１００オングストロームが例示されていて、これらは、ｎｍの単位で表現すると、それぞれ５ｎｍ、１５ｎｍ、５〜１０ｎｍである。よって、引用例１に記載された磁気ヘッドは、本願発明と同様、「ギャップ膜として白金よりなる膜を用いた」ものであり、「ギャップ膜の膜厚が１５０ｎｍ以下」であるといえる。
　
（２）一致点・相違点
　そうすると、本願発明と引用例１に記載された発明は、
「酸化物磁性材料からなる一対の磁気コア基板のうち少なくとも一方の突合わせ面にギャップ膜が形成され、そのギャップ膜を突合わせ面としてこれら一対の磁気コア基板が突き合わされ、その突合わせ面間に磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドにおいて、
　上記一対の磁気コア基板は、非磁性ガラスにより接合一体化され、
　上記ギャップ膜の膜厚が１５０ｎｍ以下であり、
　上記ギャップ膜として白金よりなる膜を用いた磁気ヘッド。」
　である点で一致し、以下の点で相違している。
　（相違点１）　本願発明では、「磁気ギャップのトラック幅は５０μｍ以下」であるのに対し、引用例１には、トラック幅について記載がない点。
　（相違点２）  本願発明では、「一対の磁気コア基板のうち少なくとも一方の突合わせ面に逆スパッタを施した後にギャップ膜が形成され」るのに対して、引用例１には、逆スパッタについて記載がない点。
　
（３）相違点についての判断
（ａ）相違点１について
　引用例１に記載された磁気ヘッドは、上記（カ）によれば、約２００ミクロンの幅が例示されているので、２００ミクロンの幅の磁気ヘッドのトラック幅は、２００ミクロンよりさらに小さいことは明らかであるが、具体的な数値は不明である。
　磁気ヘッドの技術分野においては、高密度磁気記録のために、磁気ヘッドの構造として、狭いトラック幅および狭いギャップ長が望まれることは、周知の技術課題であって、引用例１に記載された磁気ヘッドにおいて、そのトラック幅を具体的な数値５０μｍ以下に選択することは当業者が適宜なし得る設計的事項にすぎない。
（ｂ）相違点２について
　引用例１には、ギャップ膜である金属膜を成膜する前に、フェライトの面を鏡面研摩し、加工による変質層を除去する、成膜前処理が記載されている（上記（イ）（オ）（カ））。そして、上記成膜前処理により、フェライトの表面のひびや欠け、マイクロクラックなどを除去また大巾に減少させることができ、接着強度を向上させるとともに、磁気特性の劣化を除去することができ、鏡面研摩をしてから加工による変質層を除去すれば、変質層の存在により低下した磁気特性を回復させることができることが示されている（上記（イ）（オ）（カ））。
　一方、引用例２には、磁気ヘッドの製造において、金属磁性膜をフェライト材に施す前に、フェライト材に逆スパッタリングを行うことが記載されている（上記（サ））。ここで成膜される金属膜は金属磁性膜であるが、引用例２には、フェライト面を成膜直前にアルゴンイオンでたたくこと、所謂逆スパッタリングによってクリーニング処理を施すことが従来行われていて、逆スパッタリング処理によって付着力は大幅に強くなると、記載されている（上記（シ））ように、フェライト材に逆スパッタリングを行うことにより、フェライト面の成膜前処理を行い付着力を向上させるという技術は、フェライト面に成膜される金属膜共通のものであり、磁性のものに限られないことは明らかである。
　そして、引用例１の記載によれば、金属膜の成膜前に、フェライトの面の成膜前処理が行われることが記載され、金属膜の成膜前にフェライト面の前処理が必要であることが示唆されていることから、フェライトの面の成膜前処理として公知の引用例２の逆スパッタリング処理を採用することは、当業者が容易に想到しうることである。
（ｃ）
　上記相違点１および２を総合的に検討するに、トラック幅が狭い磁気ヘッドにおいて、磁気ヘッド一般の技術を採用することは当然のことであるので、上記相違点１および２は、当業者が容易に想到し得る程度の事項である。また、本願発明の効果は、引用例１及び２に記載された発明から、当業者であれば予測することができる程度のものにすぎず、格別顕著なものではない。
　
４　請求人の主張について
　審判請求人は、請求の理由で、「本願発明は、このようなトラック幅Ｔｗを５０μｍ以下とする高密度記録対応型の磁気ヘッドにおいて、膜厚が１５０ｎｍ以下のギャップ膜を逆スパッタで形成することによって、磁気コア半体を接合するために用いる溶融した非磁性ガラスによる膜の侵食を抑え、良好な記録再生特性をもって高密度記録を実現したものである。」と主張している。
　しかしながら、引用例１には、安定な白金膜からなるギャップ膜を用いることにより、ガラスやフェライトの侵食がなくなり、磁気特性が向上する旨記載され（上記（エ）（コ））ていることから、請求人の主張する効果は、引用例１の記載および周知の技術課題から予測しうる程度のものにすぎない。
　また、審判請求人は、「更に、本願発明は、付き合わせ面に逆スパッタを施すことにより、磁気コアのギャップ形成面が平滑にし、精度の良い小トラック幅、小ギャップ長の磁気ヘッドの作製を実現するものであるが、このような考え方も、何れの引用文献にも示唆されていない。」と主張している。
　しかしながら、ギャップ形成面を平滑にすることについて、引用例１においても、鏡面研摩・変質層の除去という成膜前処理が行われているように、実質的に平滑化のための成膜前処理が行われており、また、ギャップが正確に形成され、特性低下が改善されるという効果（上記（キ））が示されていることから、ギャップ形成面を平滑化すると共に、ガラスやフェライトと侵食しないギャップ膜を形成すれば、精度の良いギャップが形成できるという思想が、引用例１に示されている。さらに、フェライト面への成膜前処理である引用例２の逆スパッタ処理の作用効果として示されているクリーニングも一種の平滑化といえるものであり、ギャップ形成面の精度を高めるものであることは明らかであるから、請求人の主張する効果は、引用例１および２の記載から予測しうる程度の効果にすぎず、請求人の主張は採用できない。
　
５　むすび
　したがって、本願発明は、本願出願前に頒布された刊行物である引用例１及び２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。