【手続補正書】
【提出日】平成25年12月26日(2013.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィマシンであって、
前記リソグラフィマシンは、
１本以上の露光ビームをターゲット上に集束させる投影レンズシステム(１３２)と、
前記ターゲット（９）を支える可動テーブル(１３４)と、
前記投影レンズシステムの最後の集束要素(１０４)と前記ターゲット（９）の表面との間の距離に関連する測定を行なう静電容量感知システム(３００)と、
前記静電容量感知システムからの信号に少なくとも部分的に基づいて、前記ターゲット（９）の位置を調整するために、前記可動テーブル（１３４）の動きを制御する制御ユニット（４００）と、
を具備しており、
前記静電容量感知システム(３００)は、複数の静電容量センサ(３０)を具備しており、
各静電容量センサ(３０)は、薄膜構造を備えており、
前記薄膜構造は、感知電極と背部ガード電極とを備えており、
前記薄膜構造は、フレキシブルであり、
前記複数の静電容量センサと前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素(１０４)は、共通のベース(１１２)に直接にマウントされ、
前記複数の静電容量センサは、前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素の縁部の直ぐ近くに配置される、リソグラフィマシン。
【請求項２】
前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素と同じ支持要素上に前記複数の静電容量センサをマウントすることによって、前記複数の静電容量センサと前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素(１０４)が直接に接続される、請求項１のリソグラフィマシン。
【請求項３】
前記複数の静電容量センサは、フレキシブルなプリント回路構造に統合され、
前記フレキシブルなプリント回路構造は、フレキシブルな絶縁ベース層を具備している、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項４】
前記複数の静電容量センサ（３０）のうちの少なくとも幾つかは、前記静電容量センサの感知電極（３１）の底表面が前記ターゲットに面するようにさせており、
前記ターゲットは、前記ターゲットの前記表面に対して直角に交わるｚ軸方向において、前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素（１０４）の底表面から５０ミクロン以内に位置を定められる、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項５】
前記複数の静電容量センサのうちの少なくとも幾つかは、前記静電容量センサの背表面から、前記ターゲットに面している前記静電容量センサの感知電極の前表面までにおいて、５０乃至１５０ミクロン、好ましくは約１００ミクロンの厚さを有する、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項６】
前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素(１０４)は、１００乃至１５０ミクロンの厚さである、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項７】
前記複数の静電容量センサは、前記最後の集束要素の前記縁部までの前記リソグラフィマシンの視野のサイズの幅又は長さの範囲内に配置される、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項８】
前記静電容量感知システム(３００)は、前記感知電極から離れて配置されている能動電子素子を具備しており、
前記能動電子素子は、前記複数の静電容量センサと共に配置されていない、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項９】
前記複数の静電容量センサは、複数の静電容量センサの複数のペアを含む、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項１０】
前記リソグラフィマシンは、
前記複数の静電容量センサの１つペアのうちの第１のセンサに、前記複数の静電容量センサの前記１つのペアのうちの第２のセンサの電流又は電圧に対して位相が１８０度ずれている交流電流又は電圧で、エネルギを与えるように構成されている、１つ以上のＡＣ電力源、
を更に具備している、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項１１】
前記複数の静電容量センサの前記感知電極と前記背部ガード電極は、粘着剤を使用して前記フレキシブルな絶縁ベース層に固定されるか、粘着剤のない積層として形成されるか、又は、前記フレキシブルな絶縁ベース層上にプリントされ、
前記フレキシブルな絶縁ベース層は、前記フレキシブルなプリント回路構造をコネクタに接続する複数の細長い接続部材として機能する複数の延在部を含み、
複数の導電性トラックが前記複数の細長い接続部材にプリントされるか又は付けられ、
前記複数の導電性トラックの一方の端部は前記複数の静電容量センサの前記感知電極と前記背部ガード電極に、他方の端部は前記コネクタに電気的に接続される、請求項３のリソグラフィマシン。
【請求項１２】
前記背部ガード電極の外周部分は、前記感知電極を超えて、前記感知電極を囲み、前記背部ガード電極と一体の側部ガード電極を形成する、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項１３】
前記薄膜構造は、
直角に曲げられており、
前記感知電極と、前記複数の導電性トラックのうちの第１の導電性トラックと、を備える第１の導電性膜と、
前記背部ガード電極と、前記複数の導電性トラックのうちの第２の導電性トラックと、を備える第２の導電性膜と、
前記複数の導電性トラックのうちの第３の導電性トラックを備える第３の導電性膜と、を具備し、
前記第１の導電性膜は、前記第２の導電性膜と前記第３の導電性膜との間に配置され、
前記第１乃至第３の導電性膜は、複数の絶縁層によって離されている、請求項１又は２のリソグラフィマシン。
【請求項１４】
前記複数の導電性トラックのうちの第２の導電性トラック及び前記複数の導電性トラックのうちの第３の導電性トラックが、前記複数の導電性トラックのうちの第１の導電性トラックに対する複数の側部ガード電極として機能する外周部分を有するように、前記複数の導電性トラックのうちの第２の導電性トラック及び前記複数の導電性トラックのうちの第３の導電性トラックの外周部分は、前記複数の導電性トラックのうちの第１の導電性トラックよりも幅が広い、請求項１３のリソグラフィマシン。
【請求項１５】
前記薄膜構造は、
前記複数の導電性トラックのうちの第４の導電性トラックと、シールド電極と、を備える第４の導電性膜と、
前記複数の導電性トラックのうちの第５の導電性トラックを備える第５の導電性膜と、
を更に具備し、
前記第５の導電性膜は、前記第４の導電性膜に電気的に接続されており、
前記第２の導電性膜は、前記第４の導電性膜と前記第１の導電性膜との間に配置されており、
前記第３の導電性膜は、前記第５の導電性膜と前記第１の導電性膜との間に配置されており、
前記第１乃至第５の導電性膜は、複数の絶縁層によって離されている、請求項１３のリソグラフィマシン。
【請求項１６】
前記フレキシブルな絶縁ベース層は、前記フレキシブルなプリント回路構造をコネクタ接続する細長い接続部材として機能する延在部を含み、
前記細長い接続部材は、折り曲げられて、前記フレキシブルなプリント回路構造から上方に延在している、請求項３のリソグラフィマシン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４８】
本発明は、上述のある特定の実施形態を参照することによって記載されている。様々な構成と代替例が記載されており、当業者に分かるように、ここに記載されている実施形態の何れかと共に、これらの構成と代替例とを使用してもよいことに留意すべきである。更に、これらの実施形態は、本発明の意図及び範囲から逸脱することなく、当業者に周知の様々な変更及び代わりの形態が可能であることが分かるであろう。従って、特定の実施形態が記載されているが、これらは単に例であって、本発明の範囲を制限していない。本発明の範囲は、請求項において定められている。
以下に、本願出願時の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］リソグラフィマシンのための統合されたセンサシステムであって、
前記統合されたセンサシステムは、
１本以上の露光ビームをターゲット上に集束させる投影レンズシステム(１３２)と、
前記ターゲット（９）を支える可動テーブル(１３４)と、
前記投影レンズシステムの最後の集束要素(１０４)と前記ターゲット（９）の表面との間の距離に関連する測定を行なう静電容量感知システム(３００)と、
前記静電容量感知システムからの信号に少なくとも部分的に基づいて、前記ターゲット（９）の位置を調整するために、前記可動テーブル（１３４）の動きを制御する制御ユニット（４００）と、
を具備しており、
前記静電容量感知システム(３００)は、複数の静電容量センサ(３０)を具備しており、
各静電容量センサ(３０)は、薄膜構造を備えており、
前記複数の静電容量センサと前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素(１０４)は、共通のベース(１１２)に直接にマウントされ、
前記複数の静電容量センサは、前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素の前記縁部の直ぐ近くに配置される、統合されたセンサシステム。
［２］前記ターゲット（９）の前記表面に対して直角に交わるｚ軸方向において、前記ターゲットに面している前記静電容量センサ（３０）の感知電極（３１）の底表面が、前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素の底表面と実質的に同じ高さであるように、前記複数の静電容量センサ（３０）のうちの少なくとも幾つかの位置が定められる、前記［１］の統合されたセンサシステム。
［３］前記複数の静電容量センサ（３０）のうちの少なくとも幾つかは、前記静電容量センサの感知電極（３１）の底表面が前記ターゲットに面するようにさせており、
前記ターゲットは、前記ターゲットの前記表面に対して直角に交わるｚ軸方向において、前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素（１０４）の底表面から５０ミクロン以内に位置を定められる、前記［１］又は［２］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［４］前記複数の静電容量センサのうちの少なくとも幾つかは、前記静電容量センサの背表面から、前記ターゲットに面している前記静電容量センサの感知電極の前表面までにおいて、５０乃至１５０ミクロン、好ましくは約１００ミクロンの厚さを有する、前記［１］乃至［３］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［５］前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素(１０４)は、１００乃至１５０ミクロンの厚さである、前記［１］乃至［４］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［６］前記複数の静電容量センサは、前記最後の集束要素の前記縁部に対する前記リソグラフィマシンの視野のサイズの幅又は長さの範囲内に配置される、前記［１］乃至［５］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［７］前記最後の集束要素は、前記投影レンズシステムの底部の要素である、前記［１］乃至［６］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［８］前記複数の静電容量センサと、前記投影レンズシステムの前記最後の集束要素(１０４)は、一緒に直接に接続される、前記［１］乃至［７］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［９］前記静電容量感知システム(３００)は、複数の静電容量センサ(３０)を具備しており、
各静電容量センサ(３０)は、薄膜構造を備えており、
前記薄膜構造は、
第１の絶縁層（３４）と、
前記第１の絶縁層の第１の表面上に形成された感知電極(３１)を備える第１の導電膜と、
前記第１の絶縁層（３４）の第２の表面と第２の絶縁層（４３）の第１の表面との上に配置された背部ガード電極（３５）を備える第２の導電膜と、
を具備しており、
前記背部ガード電極の外周部分は、前記感知電極を越えて延在し、前記感知電極を囲み、前記背部ガード電極と一体をなす側部ガード電極を形成している、前記［１］乃至［８］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［１０］前記複数の静電容量センサの前記薄膜構造は、
前記第２の絶縁層（４３）の第２の表面上に配置されたシールド電極(４４)を備える第３の導電膜、
を更に具備している、前記［９］の統合されたセンサシステム。
［１１］前記薄膜構造は、フレキシブルである、前記［１］乃至［１０］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［１２］前記静電容量感知システム(３００)は、前記感知電極から離れて配置されている能動電子素子を具備しており、
前記能動電子素子は、前記複数の静電容量センサと共に配置されていない、前記［１］乃至［１１］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［１３］各静電容量センサは、フレキシブルなメンブレンを備えた細長い接続部材（１１０）を更に具備しており、
前記フレキシブルなメンブレン上に、導電性トラック（１１４ａ−ｃ）がプリントされ又は付けられていて、
前記導電性トラックは、一方の端部において、前記静電容量センサの前記感知電極（３１）と前記背部ガード電極（３５）とに電気的に接続され、他方の端部において、コネクタ（１１６）に電気的に接続されている、前記［１］乃至［１２］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［１４］前記導電性トラック（１１４ａ−ｃ）は、前記第１の絶縁層（３４）上に形成されており、
前記第１の絶縁層は、
前記感知電極（３１）と前記背部ガード電極（３５）とが配置されている第１のエリアと、
前記導電性トラックが形成されている第２の細長いエリアと、
を具備する、前記［１３］の統合されたセンサシステム。
［１５］前記複数の静電容量センサは、薄膜の絶縁性のベース層（３４、１０２、１２０）上に形成されている複数の静電容量センサの複数のペアを具備しており、
前記薄膜の絶縁性のベース層は、前記共通のベースに直接にマウントされている、前記［１］乃至［１４］の何れか１つの統合されたセンサシステム。
［１６］前記複数の静電容量センサは、前記薄膜の絶縁性のベース層（３４、１０２、１２０）上に形成されている複数の静電容量センサの複数のペアを具備しており、
前記統合されたセンサシステムは、
前記前記静電容量センサの１つペアのうちの第１のセンサに、前記複数の静電容量センサの前記１つのペアのうちの第２のセンサの電流又は電圧に対して位相が１８０度ずれている交流電流又は電圧で、エネルギを与えるように構成されている、１つ以上のＡＣ電力源、
を更に具備している、前記［１］乃至［１５］の何れか１つの統合されたセンサシステム。