Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月6日(2012.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正しい符号語を復元するように誤り訂正（ＥＣ）符号化された符号語を復号するＥＣデコーダを備える装置であって、
前記デコーダは、上位プロセッサによって発生された初期値の初期セットに基づいて、メッセージの第１のセットを発生するように適合され、
前記初期セットは、前記ＥＣ符号化された符号語に対応し、
前記初期セット内の各初期値は、前記ＥＣ符号化された符号語の異なるビットに対応し、
前記デコーダは、
スケールファクタおよびオフセット値に基づいて、メッセージの前記第１のセットをスケーリングおよびオフセットされたメッセージに変換するように適合された１つまたは複数のブロックと、
前記スケールファクタおよび前記オフセット値を選択するように適合されたコントローラとを備える、装置。
【請求項２】
前記ＥＣデコーダは、変数ノード・メッセージを発生するように適合された変数ノードユニットを備え、
メッセージの前記第１のセットは、前記変数ノード・メッセージであり、
前記１つまたは複数のブロック（たとえば、３１０）は、前記スケールファクタおよび前記オフセット値に基づいて、前記変数ノード・メッセージをスケーリングおよびオフセットされた変数ノード・メッセージに変換するように適合された、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ＥＣデコーダは、チェックノード・メッセージを発生するように適合されたチェックノード・ユニットを備え、
メッセージの前記第１のセットは、前記チェックノード・メッセージであり、
前記１つまたは複数のブロック（たとえば、３４６）は、前記スケールファクタおよび前記オフセット値に基づいて、前記チェックノード・メッセージをスケーリングおよびオフセットされたチェックノード・メッセージに変換するように適合された、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記ＥＣデコーダは、ｍｉｎ−ｓｕｍアルゴリズムを実装し、
前記ＥＣデコーダは、ｍｉｎ−ｓｕｍアルゴリズムの第１の最小および第２の最小絶対値を発生するように適合されたチェックノード・ユニットを備え、
メッセージの前記第１のセットは、前記第１の最小および第２の最小絶対値であり、
前記１つまたは複数のブロック（たとえば、３３４）は、前記スケールファクタおよび前記オフセット値に基づいて、前記第１の最小および第２の最小絶対値をスケーリングおよびオフセットされた第１の最小および第２の最小絶対値に変換するように適合された、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記コントローラは、１のスケールファクタを設定することができ、
前記コントローラは、０のオフセット値を設定することができる、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記１つまたは複数のブロックは、スケーリングおよびオフセットの両方を行うスケーリングおよびオフセットブロックを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記デコーダは、低密度パリティチェック（ＬＤＰＣ）デコーダであり、
前記上位プロセッサから受け取られた前記値は、ハード決定ビットと１つまたは複数の信頼値ビットとを有するソフト出力値である、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記コントローラが、（ｉ）初期スケールファクタおよび初期オフセット値を選択し、かつ（ｉｉ）その後に前記初期スケールファクタおよび初期オフセット値の少なくとも１つを変更するように適合された、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記コントローラは、前記ＥＣデコーダが所定の復号反復回数以内に正しい符号語に収束しないと前記コントローラが判定した後に、前記初期スケールファクタおよび前記初期オフセット値の前記少なくとも１つを変更する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
正しい符号語を復元するように誤り訂正（ＥＣ）符号化された符号語を復号する方法であって、
（ａ）スケールファクタおよびオフセット値を選択し、
（ｂ）上位プロセッサから初期値の初期セットを受け取ることを含み、前記初期セットは、前記ＥＣ符号化された符号語に対応し、前記初期セット内の各初期値は、前記ＥＣ符号化された符号語の異なるビットに対応するものであり、さらに、
（ｃ）初期値の前記初期セットに基づいて、メッセージの第１のセットを発生し、そして、
（ｄ）前記スケールファクタおよび前記オフセット値に基づいて、メッセージの前記第１のセットをスケーリングおよびオフセットされたメッセージに変換する、ことを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月15日(2012.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図２Ｂを参照すると、幾つかの実施形態においては、複数のガス出口２１０を、バッフル２００の前側２０１上に円形パターンで均等に離間配置することができる。代替的に、複数のガス出口２１０を、基板１０６の表面へのガスの流れを容易にするのに必要な任意の好適なパターンで離間配置することもでき、従って、その構成は、均等又は円形に離間配置することに限定されるものではない。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月13日(2010.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カメラにおいて、
少なくとも１つの物体を含む１つのシーンの第１の画像を捕捉するためのメインセンサ（２）と、
該メインセンサ（２）のための対物レンズと、
該メインセンサ（２）に対し間隔をおいて配置された少なくとも１つの補助センサ（６）が設けられており、該補助センサ（６）は前記メインセンサ（２）とは異なる視角で前記少なくとも１つの物体を含むシーンの第２の画像を捕捉し、
前記第１の画像と前記第２の画像とに基づき、前記少なくとも１つの物体までの距離をステレオスコピック方式により求めるための評価装置（９）と、
求められた距離に応じて前記対物レンズの焦点を調節するためのオートフォーカス装置（８）と、
少なくとも１つの物体を選択するためのパターン認識装置（１０）および選択確認機構が設けられており、
前記評価装置（９）は、時間的にシーケンシャルに記録された複数の第１の画像と、時間的にシーケンシャルに記録された複数の第２の画像とに基づき、選択された物体のトラジェクトリを推定し、
前記オートフォーカス装置（８）は、今後の時点に対して推定されたトラジェクトリに基づき前記対物レンズ（３）の焦点をまえもって計算して調節することを特徴とするカメラ。
【請求項２】
前記補助センサ（６）はグレー値センサである、請求項１記載のカメラ。
【請求項３】
捕捉された前記第２の画像の輝度に応じてメインセンサ（２）の露光を調節するための露光調節装置がさらに設けられている、請求項１または２記載のカメラ。
【請求項４】
カメラの制御方法において、
メインセンサ（２）を用いて、１つのシーンにおける少なくとも１つの第１の画像を捕捉し、該第１の画像の捕捉とパラレルに、前記メインセンサ（２）とは異なる視角から少なくとも１つの補助センサ（６）を用いて、前記シーンにおける少なくとも１つの第２の画像を捕捉するステップと、
前記第１の画像における画像オブジェクトのうち１つの画像オブジェクトと、前記第２の画像における画像オブジェクトのうち１つ画像オブジェクトを、フォーカシングの対象となる１つの物体に割り当てるステップと、
第１の画像において割り当てられた画像オブジェクトと第２の画像において割り当てられた画像オブジェクトとの変位に基づき、前記物体までの距離を求めるステップと、
求められた距離に応じて前記メインセンサ（２）のための対物レンズ（３）の焦点を調節するステップと、
パターン認識装置（１０）と選択確認機構により少なくとも１つの物体を選択するステップと、
時間的にシーケンシャルに記録された複数の第１の画像と、時間的にシーケンシャルに記録された複数の第２の画像とに基づき、選択された物体のトラジェクトリを推定し、
今後の時点で推定されたトラジェクトリに基づき前記対物レンズ（３）の焦点をまえもって計算し調節するステップ
を有することを特徴とする、
カメラの制御方法。
【請求項５】
前記第１の画像が前記第２の画像よりも高い分解能を有しているならば、前記第１の画像に合わせて前記動き推定を実行し、前記第２の画像が前記第１の画像よりも高い分解能であれば、前記第２の画像に合わせて前記動き推定を実行する、請求項４記載の方法。
【請求項６】
パターン認識装置により前記画像オブジェクトが前記物体に割り当てられる、請求項４または５記載の方法。
【請求項７】
前記補助センサ（６）の画像データが前記メインセンサ（２）の画像データといっしょに格納される、請求項４から６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記メインセンサ（２）の捕捉範囲は前記物体の推定されたトラジェクトリに応じてシフトされる、請求項４から７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
さらに前記メインセンサ（２）の露光が前記捕捉された第２の画像の輝度に従い調整される、請求項４から８のいずれか１項記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
カメラに顔認識システムを実装することもできる。この場合、撮影される画像において、顔認識により顔のポジションが検出される。ついで、顔であると認識された画像セクションに焦点合わせ手順が適用される。この種のカメラは人物写真に制約されているし、しかも衣類や髭などによって顔が部分的に覆われていると問題が生じてしまう。
US 6 320 610 B1には、旋回およびフォーカシングユニットを備えたコンパクト撮影装置が開示されており、この装置は少なくとも１つのカメラを有しており、有利には２つのカメラを有している。この場合、対象物に対するカメラの傾きや旋回を求めて補正するためにカメラの画像が評価される。さらにこの文献には、被写体となる人物の目の虹彩の画像を用いた画像分析法に基づき人物を識別できるようにすることも開示されている。
US 6 130 787 Aには、三角測量法に従いステレオスコピック方式により対象物体の撮影および位置測定を行えるようにした光学システムが開示されている。
DE 103 43 406 A1には、２つのカメラを含む三角測量装置により対象物体の距離を求める方法が開示されている。
DE 10 2004 053 416 A1には、偏向ミラー部材を有するステレオスコピック式距離測定装置が開示されている。
JP 2004 322 128 A1には、距離測定に適したステレオスコピック式光学システムが開示されている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月4日(2012.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
符号化データストリームにおける潜在的変更にアクセスするステップであって、前記潜在的変更は変更可能な構文要素であり、前記符号化データストリームは符号化ビデオストリームである、前記ステップと、
前記変更を適用する前に、オブザーバに対する前記変更の検出可能性を判断するステップと、
前記変更を適用する前に、復号化手段のために前記変更の復元可能性を判断するステップと、
前記変更を適用する前に、符号化手段のために前記変更の埋め込み可能性を判断するステップと、
検出可能性、復元可能性、及び埋め込み可能性のための閾値基準に合致する変更のリストを生成するステップと、
前記変更可能な構文要素のために、前記検出可能性、復元可能性、及び埋め込み可能性の関数である特徴ベクトルを決定するステップと、
前記特徴ベクトルのための制限を設定し、前記制限と合致する前記変更だけを前記リストに加えるステップと、
前記検出可能性、復元可能性、及び埋め込み可能性の間のバランス基準を設定し、前記バランス基準と合致する前記変更だけを加えるステップと、
を含む方法。
【請求項２】
符号化データ用のリストにおける、構文要素、元の値及び１または複数の候補代替値を有する変更にアクセスするステップと、
前記変更のリストから、符号化プロトコルに準拠している準拠変更のグループをサブセットとして決定するステップと、
構文要素毎に１つの候補代替値だけを有する前記サブセットとなり、かつ少なくとも１つのパフォーマンス基準と合致する準拠変更だけを前記サブセットのために選択するステップと、
を含む方法。
【請求項３】
前記符号化プロトコルはＣＡＢＡＣ符号化プロトコルであり、前記変更は透かしであり、前記符号化データはビデオストリームである、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記透かしの忠実性、復元可能性、又はロバスト性を決定するステップと、
前記忠実性、復元可能性、又はロバスト性に応じて前記サブセット内から透かしを除去するか又は透かしが前記サブセット内にあることを防止するステップと
を含み、
前記忠実性、復元可能性、又はロバスト性はパフォーマンス基準である、請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記透かしに対して少なくとも２つのパフォーマンス値を決定するステップと、
前記少なくとも２つのパフォーマンス値のいくつかの集合的メトリックを決定するステップと、
前記いくつかの集合的メトリックに応じて前記サブセット内から透かしを除去するか又は透かしが前記サブセット内にあることを防止するステップと、
を含む、請求項３記載の方法。
【請求項６】
符号化データのリスト内の、構文要素、元の値及び１または複数の候補代替値を有する変更又は透かしにアクセスするステップと、
前記変更又は透かしから、アプリケーション要件、符号化プロトコルに準拠している準拠変更のグループ又は準拠透かしのグループをサブセットとして決定するステップと、
前記符号化プロトコル以外の少なくとも１つのパフォーマンス基準を有する準拠変更又は準拠透かしだけを前記サブセットのために選択するステップと、
トランスポートストリームに前記符号化データを供給するステップと、
トランスポートストリームパケット境界を横断する構文要素を有する前記サブセット内から変更又は透かしを除去するか又は変更又は透かしがその横断する構文要素を有する前記サブセット内にあることを防止するステップと、
を含む、方法。
【請求項７】
前記変更又は透かしの忠実性、復元可能性、又はロバスト性を決定するステップと、
前記忠実性、復元可能性、又はロバスト性に応じて前記サブセット内から変更又は透かしを除去するか又は変更又は透かしが前記サブセット内にあることを防止するステップと、を備え、忠実性、復元可能性、及びロバスト性はパフォーマンス基準である、請求項６記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月16日(2012.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スライスに分割されるエンコードされたビデオデータにアクセスするステップと、
エンコードされたビデオデータに対する可能な変更のリストをコンパイルするステップと、
前記可能な変更の中の少なくとも１つを実施することによって引き起こされうる、エンコードされたビデオデータに対する結果として起こる変更の伝播マップを構成するステップと、
前記伝播マップに基づいて前記可能な変更の中の１つを適用するステップと
を有し、
前記前記可能な変更はビデオウォータマークである、方法。
【請求項２】
前記コンパイルするステップは、
前記可能な変更の前記リストを生成するステップ、
既存のリストから前記可能な変更にアクセスするステップ、又は
前記可能な変更の一部を生成し、前記可能な変更の残りを前記既存のリストからアクセスするステップ
の中の１つのステップを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記スライスはブロックを有し、
当該方法は、結果として起こる少なくとも１つの変更に応答して、当該結果として起こる変更がスライスにおいて直接のブロック及び少なくとも１つの隣接するブロックを含み又はそれらに作用する場合に、フレーム間予測により前記伝播マップを構成するべきかどうかを決定するステップを更に有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記伝播マップに応答して、前記可能な変更の中の１つによって引き起こされるあらゆる可視的な歪みの程度を決定するステップと、
前記可視的な歪みの程度に基づいて前記可能な変更の中の前記１つを取り除くステップと
を更に有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記伝播マップに応答して、前記可能な変更の中の１つが前の変更の伝播経路に落ち着くことができる範囲を決定するステップと、
前記経路のオーバーラップの前記範囲に基づいて前記可能な変更の中の前記１つを取り除くステップと
を更に有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記伝播マップに応答して、前記可能な変更の各１つごとの検出のための範囲を決定するステップと、
前記検出範囲に基づいて前記可能な変更の中の１つを選択するステップと
を更に有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
結果として起こる少なくとも１つの変更に応答して、当該結果として起こる変更が直接のブロック及び少なくとも１つの隣接するブロックを含み又はそれらに作用する場合に、フレーム内予測により前記伝播マップを構成するべきかどうかを決定するステップを更に有し、
夫々のスライスは前記直接のブロック及び前記少なくとも１つの隣接するブロックを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記伝播マップに応答して、前記結果として起こる変更が前記直接のブロック及び前記少なくとも１つの隣接するブロックを含み又はそれらに作用する場合に、フレーム内予測により前記伝播マップを構成すべきかどうかを決定するステップを更に有する、請求項３に記載の方法。
【請求項９】
前記伝播マップに応答して、可能な変更のフィデリティに対する影響を決定するステップと、
フィデリティの閾値に基づいて前記可能な変更を取り除くステップと
を更に有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記伝播マップに基づいて可能な変更のフィデリティに対する影響を決定するステップと、
フィデリティの閾値に基づいて可能な変更を取り除くステップと、
前記伝播マップを構成するよう、Ｂスライスである選択されたスライス及び該選択されたスライスに関連する運動ベクトルの変化を識別するステップと、
デコーダにおいて前記伝播マップを用いるステップと
を更に有する、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記スライスはブロックを有し、
当該方法は、
前記伝播マップに基づいて、前記可能な変更の中の１つの可能な変更の伝播経路が前の変更の伝播経路と重複する範囲を決定し、一部のブロックを前記前の変更及び前記１つの可能な変更の伝播経路から離すステップと、
前記一部のブロックに対する変更に基づいて前記１つの可能な変更を取り除くステップと
を更に有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記可能な変更のための伝播マップを初期化するステップと、
個々のマクロブロック・パーティションがエンプティであり、当該個々のマクロブロック・パーティションに対する変更がないかどうかを、マクロブロック・パーティションごとに決定するステップと、
当該個々のマクロブロック・パーティションがエンプティでない場合に、当該個々のマクロブロック・パーティションの隣接マクロブロック・パーティションが変形されているかどうかを決定するステップと、
当該個々のマクロブロック・パーティションの前記隣接マクロブロック・パーティションが変形されている場合に、該隣接マクロブロック・パーティションを前記伝播マップに加えるステップと、
次の個々のマクロブロック・パーティションがエンプティであるまで、変形されている個々の隣接マクロブロック・パーティションを加えることによって、前記伝播マップを更新するステップと
を更に有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
個々のマクロブロック・パーティション及びその隣のマクロブロック・パーティションの運動ベクトルの差に基づいて、当該個々のマクロブロック・パーティションの隣接マクロブロック・パーティションが変形されているかどうかを決定するステップを更に有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
個々のパーティション及びその隣のマクロブロック・パーティションの運動ベクトル情報に基づいて、当該個々のマクロブロック・パーティションの隣接マクロブロック・パーティションが変形されているかどうかを決定するステップを更に有する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
個々のマクロブロック・パーティションを基準としても用いるフレーム内予測に基づいて、当該個々のマクロブロック・パーティションの隣接マクロブロック・パーティションが変形されているかどうかを決定するステップを更に有する、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月26日(2012.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信信号（510）の品質を決定する方法であって、
第１の部分（2001）および第２の部分（2002）を含む信号（510）を受信するステップであって、当該受信信号の少なくとも前記第２の部分がスクランブリング系列期間を含む、ステップと、
前記受信信号に含まれる前記第２の部分についての干渉を、前記スクランブリング系列期間を利用して除去することによって、前記受信信号の前記第１の部分についての第１の雑音干渉電力を決定するステップ（420; 4020）と
を含み、
前記第１の部分（2001）は、サービングセルから送信された基準シンボルを含み、
前記第２の部分（2002）は、隣接セルから送信された基準シンボルを含む
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
第１の雑音干渉電力を決定する前記ステップは、
第１の時間におけるチャネル推定値および受信信号の差分と、第２の時間におけるチャネル推定値および受信信号の差分と、の差分のエルミート共役について、第１の周波数区間および第１の時間区間の範囲にわたる総和を求めるステップを含み、
前記エルミート共役には、前記第１の時間におけるチャネル推定値および受信信号の差分と、前記第２の時間におけるチャネル推定値および受信信号の差分と、の差分が乗算され、
前記第１の時間と前記第２の時間との間の前記差分は、前記スクランブリング系列期間の倍数に等しい
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第１の雑音干渉電力を決定する前記ステップは、
2012500545.tif 000001
に従って実行され、
Ｋbias／２は定数であり、
2012500545.tif 000002
は、サブキャリヤ周波数κおよび時刻λにおける瞬時の雑音干渉電力の推定値ｅκ,λの集合Ｓ(k, l)に含まれる値の、インデックスκ，λにわたる総和であり、
Ｈは、エルミート共役を表し、
ｄは、スクランブリング系列期間の長さを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
チャネル推定値と受信信号との差分のエルミート共役の、第１の周波数区間および第１の時間区間にわたる総和を求めることによって、第２の雑音干渉電力を決定するステップ（420）をさらに含み、
前記エルミート共役には、チャネル推定値と受信信号との差分が乗算されており、
前記方法は、さらに、前記第１の雑音干渉電力および前記第２の雑音干渉電力のうちの最小値を決定するステップ（425）を含む
ことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の雑音干渉電力を前記第２の雑音干渉電力と比較するステップと、
前記第１の雑音干渉電力が前記第２の雑音干渉電力と実質的に等しい場合には、前記受信信号に含まれる前記第１の部分と前記第２の部分との間の干渉は他のリースに起因していると判定し、それ以外の場合には、当該干渉は隣接干渉に起因していると判定するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の雑音干渉電力および前記第２の雑音干渉電力のうちの前記最小値をテーブルへのインデックスとして使用した、当該テーブルの検索に基づいて、ＣＱＩ値を決定するステップをさらに含むことを特徴とする請求項４または５に記載の方法。
【請求項７】
受信信号の前記品質は、
ユーザ装置の速度が１０Ｈｚ以下のドップラー周波数の範囲内である場合には、前記第１の雑音干渉電力として決定され、
それ以外の場合には、前記第１の雑音干渉電力および前記第２の雑音干渉電力のうちの前記最小値として決定される
ことを特徴とする請求項４乃至６の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
受信信号（510）の品質を決定する装置であって、
第１の部分（2001）および第２の部分（2002）を含む信号（510）を受信する少なくとも１つの受信機（513）であって、当該受信信号の少なくとも前記第２の部分がスクランブリング系列期間を含む、少なくとも１つの受信機と、
前記受信信号に含まれる前記第２の部分についての干渉を、前記スクランブリング系列期間の長さを利用して除去することによって、前記受信信号の前記第１の部分についての第１の雑音干渉電力を決定する少なくとも１つの推定器（508）と
を備え、
前記第１の部分（2001）は、サービングセルから送信された基準シンボルを含み、
前記第２の部分（2002）は、隣接セルから送信された基準シンボルを含む
ことを特徴とする装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの推定器は、
第１の時間におけるチャネル推定値および受信信号の差分と、第２の時間におけるチャネル推定値および受信信号の差分と、の差分のエルミート共役について、第１の周波数区間および第１の時間区間の範囲にわたる総和を求めることによって、前記第１の雑音干渉電力を決定し、
前記エルミート共役には、前記第１の時間におけるチャネル推定値および受信信号の差分と、前記第２の時間におけるチャネル推定値および受信信号の差分と、の差分が乗算され、
前記第１の時間と前記第２の時間との間の前記差分は、前記スクランブリング系列期間の倍数に等しい
ことを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの推定器（508）は、さらに、チャネル推定値と受信信号との差分のエルミート共役の、第１の周波数区間および第１の時間区間にわたる総和を求めることによって、第２の雑音干渉電力を決定し、
前記エルミート共役には、チャネル推定値と受信信号との差分が乗算されており、
前記装置は、さらに、前記第１の雑音干渉電力および前記第２の雑音干渉電力のうちの最小値を決定する
ことを特徴とする請求項８または９に記載の装置。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの推定器は、さらに、前記第１の雑音干渉電力を前記第２の雑音干渉電力と比較し、
前記少なくとも１つの推定器は、
前記第１の雑音干渉電力が前記第２の雑音干渉電力と実質的に等しい場合には、前記受信信号に含まれる前記第１の部分と前記第２の部分との間の干渉は他のソースに起因していると判定し、それ以外の場合には、当該干渉は隣接セル干渉に起因していると判定する
ことを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの推定器は、さらに、前記第１の雑音干渉電力および前記第２の雑音干渉電力のうちの前記最小値をテーブルへのインデックスとして使用した、当該テーブルの検索に基づいて、ＣＱＩ値を決定することを特徴とする請求項１０または１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記装置は、
ユーザ装置の速度が１０Ｈｚ以下のドップラー周波数の範囲内である場合には、受信信号の前記品質を、前記第１の雑音干渉電力として決定し、
それ以外の場合には、受信信号の前記品質を、前記第１の雑音干渉電力および前記第２の雑音干渉電力のうちの前記最小値として決定する
ことを特徴とする請求項１０乃至１２の何れか１項に記載の装置。
【請求項１４】
受信信号の品質を決定するシステムであって、
請求項８乃至１３の何れか１項に記載の装置と、
サービングセルと、
少なくとも１つの隣接セルと
を備えることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月23日(2012.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶質の濃縮及び位置特定のための装置（１）であって、
基板（２）と、
上記基板（２）から垂直に突出し、上記基板（２）が超疎水性となるように周期的に互いに離間して配置された複数のプリズムリソグラフィー微細構造体（４）と、
を備える装置（１）。
【請求項２】
上記微細構造体（４）は、それぞれ上面（８）を有し、上記上面（８）の表面が起伏のある状態となるよう配置されたナノメートル構造体を各上面（８）に有する請求項１記載の装置。
【請求項３】
上記ナノメートル構造体には、連続した波状フィルムが含まれる請求項２記載の装置。
【請求項４】
上記ナノメートル構造体には、上記上面（８）の表面に垂直に配置された複数のナノシリンダーが含まれる請求項２記載の装置。
【請求項５】
上記ナノメートル構造体には、複数のナノ球体が含まれる請求項２記載の装置。
【請求項６】
上記ナノメートル構造体は、上記上面（８）において周期的配列を有する請求項２〜５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
上記リソグラフィー微細構造体（４）は、平行六面体の形状を有する請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
上記リソグラフィー微細構造体（４）は、２０〜５０μｍの範囲に含まれる距離（６）互いに離間された請求項１〜７のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
溶質の濃縮及び位置特定のための装置を得る方法であって、
基板（２）から垂直に突出し、上記基板（２）が超疎水性となるように周期的に互いに離間して配置された複数のプリズムリソグラフィー微細構造体（４）を上記基板（２）上に設ける工程と、
上記上面（８）の表面が起伏のある状態となるよう配置されたナノメートル構造体を各リソグラフィー微細構造体（４）の上面（８）に設ける工程と、を備える方法。
【請求項１０】
上記のナノメートル構造体を設ける工程が、
貴金属の無電解析出を実行する工程と、
予め決定された材料の複数の単層を析出させる工程と、
を備える請求項９記載の方法。
【請求項１１】
上記のナノメートル構造体を設ける工程が、
高い解像度での電子ビームリソグラフィーと貴金属の無電解析出とを組み合わせて実行する工程と、
予め決定された材料の複数の単層を析出させる工程と、
を備える請求項９記載の方法。
【請求項１２】
溶質を濃縮し位置特定を行うための方法であって、
請求項１〜８のいずれかに記載の、溶質の濃縮及び位置特定のための装置（１）を提供する工程と、
ａ）濃縮及び位置特定を行うため、上記装置上に、溶質を含む溶液の液滴を付着させる工程（５０）と、
ｂ）液滴が蒸発するように、予め決定された期間待機し、部分的に体積を減少させ溶質の濃度を増加させる工程（５５）と、
ｃ）上記液滴が、上記装置（１）上において予め決定された領域（１０）を占有するような、予め決定された最小の体積に達するまで工程ｂ）を繰り返す工程と、を備える方法。
【請求項１３】
上記装置（１）が、ナノメートル構造体を有し、
当該方法が、
予め決定された電界を有する入射光ビームを上記領域（１０）に照射する工程と、
上記領域（１０）により反射された反射光であって、上記ナノメートル構造体の存在により入射光の電界より大きい電界を有する反射光を取得する工程と、
上記溶液中に存在する溶質を上記反射光の分光分析により明らかにする工程と、
を備える方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月4日(2012.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記の駆動ユニットにおいて、上述した態様は、場合によっては駆動モーターの負荷を増加させる原因となり、これにより騒音がより高くなる恐れがある。自動車ロックの様々な部品と部品との間には無数に遊びがあるため、様々な位置において当該部品間の相互作用を明確に決定することおよび／または自動車の作動中にそれらの部品の特定の位置を維持することは困難である。
上記の点を鑑み、従来技術の課題を少なくとも部分的に解決することが本発明の目的である。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【特許文献１】  仏国特許出願公開第２８５２９９３号明細書
【特許文献２】  米国特許出願公開第２００６／２８４４２６号明細書
【特許文献３】  英国特許出願公開第２１１２４４３号明細書
【特許文献４】  欧州特許出願公開第１１０１８９０号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月9日(2012.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】白金族ミネラルの同定方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギ分散型Ｘ線検出器のエネルギスペクトルを構成する、それぞれ予め定められたエネルギを有する複数の離間する連続的なエネルギチャンネルを区画し、
異なった白金族ミネラル（ＰＧＭ）種の標準化スペクトルの参照テーブルを作成し、
PGM中又はそれに関連して見出される元素のみに関する各エネルギチャンネルのスペクトルカウント値を前記参照テーブルから抽出し、
サンプルミネラルを走査型電子顕微鏡に掛けて、該サンプルのエネルギ分散型スペクトルを作成し、かつ
単一チャンネルのスペクトルの振幅を、前記参照テーブルから抽出したデータと比較して、ＰＧＭの、又はＰＧＭと関連した既知の成分の特定元素を検出する、
工程を含んで成る白金族ミネラル（ＰＧＭ）の同定方法。
【請求項２】
各エネルギチャンネル幅が約２０ｅＶである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
元素の最強チャンネルである元素Ｘ線ピークの頂点に、特定の元素の単一チャンネルが位置し、かつそのチャンネル内のカウントのみを元素の存在を確認するために使用する、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月15日(2012.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
電子部品に印加された電圧の少なくとも一つの値を測定する装置であって、
電子部品（１）と、
第一の切換信号（２８）を出力することが可能な第一の信号変換器（１４）と、
第一の信号変換器（１４）と接続された、第一の切換信号（２８）を用いて切り換えることが可能な第一のスイッチ（２）であって、電子部品（１）が、この第一のスイッチ（２）と直列に接続されるとともに、この第一のスイッチを用いて、第一の切換時点（ｔ１）で電気エネルギー源（３）と接続することが可能である第一のスイッチと、
第二の切換信号（３２）を出力することが可能な第二の信号変換器（１７）と、
第二の信号変換器（１７）と接続された、第二の切換信号（３２）を用いて切り換えることが可能な第二のスイッチ（１１）と、
アナログ・デジタル変換器（１２）と、
を備えた装置において、
第二のスイッチ（１１）と直列に接続されるとともに、この第二のスイッチを用いて、電子部品（１）又は電子部品（１）と第一のスイッチ（２）から成る直列回路と直に並列に接続することが可能であり、第一の切換時点（ｔ１）から所定の時間差後の測定時点（ｔ３）で再び切り離すことが可能な容量性アキュムレータ（１０）が配備されており、アナログ・デジタル変換器（１２）が、この容量性アキュムレータ（１０）と並列に接続されていることを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
電子部品で発生した信号インパルスの少なくとも一つの値を走査する方法であって、
ａ）第一の切換時点（ｔ１）で、電子部品（１）に電圧を印加するか、或いは電子部品（１）に電流を供給する工程を有する方法において、
ｂ）容量性アキュムレータ（１０）を電子部品（１）に対して直に並列に接続する工程と、
ｃ）測定時点（ｔ３）が、第一の切換時点（ｔ１）から所定の時間差後の時点であり、その測定時点（ｔ３）で、容量性アキュムレータ（１０）を電子部品（１）から切り離す工程と、
ｄ）測定時点（ｔ３）で容量性アキュムレータ（１０）に加わっている電圧を検出してデジタル化する工程と、
を有することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月15日(2012.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄鋼を製造するための高亜鉛含有鉄鉱石を処理するための改善された方法において、
平均粒度が３５〜７０μｍの鉄酸化物と平均粒度が２５〜６０μｍの炭素質材料と平均粒度が４５〜８５μｍのフラックスとの混合物を含んでなる凝集塊を生成して、有機結合材と無機結合材との組合せ及び水分を用いて８〜１５ｍｍの粒度の凝集塊を形成し、前記凝集塊の所望の特性を達成する工程と、
炉中で前記凝集塊の脱亜鉛及び金属化を行う工程と、
前記の還元された凝集塊を熱装入条件及び冷装入条件で融解して溶銑を形成し、粗鋼を製造する工程と、
従来の亜鉛抽出プロセスを実施することによって、前記炉の廃ガス流から亜鉛有価物を回収する工程と、
を含んでなる、上記方法。
【請求項２】
前記凝集塊の前記所望の特性が、６〜８の範囲の湿式滴数と、１０〜１５の範囲の乾式滴数と、１．５ｋｇ／ペレットの未焼成圧潰強度と、１５ｋｇ／ペレットの乾燥圧潰強度とを含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記の脱亜鉛及び金属化を行う工程は、
８０℃〜１５０℃の温度で水分蒸発を行う間、凝集塊の間隙率（一次間隙）を連続的に調整する工程と、
１３０℃〜３００℃の間の温度で前記有機結合材を蒸発させて、第２の間隙を作る工程と、
前記炭素質材料を、５００℃〜１２００℃の間の温度の還元状態で消耗させて三次間隙を作る工程と、
を含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記の脱亜鉛及び金属化を行う工程は、
前記凝集塊を形成する前記諸成分の平均粒度を選択することによって、ガス生成物の迅速な運搬を行うための間隙チャネルを提供する工程
を更に含んでなる、請求項１又は３に記載の方法。
【請求項５】
前記の脱亜鉛及び金属化を行う工程は、
前記間隙チャネルの閉塞が回避されるように、前記の形成されたスラグの粘度を、前記フラックスの組合せによって制御する工程であって、前記ガス生成物が円滑に放出されるのを可能にする工程
を更に含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記炉は、回転炉床炉、非シャフト炉及び多炉床炉のタイプから選ばれる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記鉄酸化物が、鉄鉱石由来の０．０１〜１％の範囲の高亜鉛濃度を含有する鉄鉱石と、電気アーク炉ダストと、工場廃棄物とそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記炭素質材料が、無煙炭、歴青炭、粘結炭、ペトコール、粉コークス、他の炭素質材料及びそれらの組合せを含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記結合材は、無機結合材、有機結合材、及びそれらの組合せを含み、しかも、前記無機結合材は、０．５〜２％の間の投与量で用いられ、前記有機結合材は、１〜５％の間の投与量で用いられる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記有機結合材は、デキストリン、セルロース、デンプン、小麦粉、及びそれらの組合せ、モノアクリレート、ポリアクリレート、及びアクリルアミド、及びそれらの組合せ、グアールガムのようなガムを含む、請求項１又は９に記載の方法。
【請求項１１】
前記無機結合材が、ベントナイト、コロイドシリカ、膨潤粘土、及びそれらの組合せ、セメント、ナトリウム、ケイ酸塩を含む、請求項１又は９に記載の方法。
【請求項１２】
前記凝集塊を生成する工程は、
供給材料（鉄鉱石、石炭、結合材及びフラックス）を調製して、表面積を含めて所要の粒度及び粒度分布を達成する工程と、
前記供給材料の微粉を調合して混合し、予備湿潤化を行って、凝集化のために必要な混合を達成する工程と、
所望の水分レベル及びプロセスパラメータを有する皿形及びドラム型の造粒機又はブリケット製造機で前記凝集塊を調製して、前記凝集塊の望ましい特性及び品質を達成する工程と、
１１０〜３００℃の温度範囲で前記凝集塊を乾燥させて、前記水分を除去し、一次間隙を形成する工程と、
を含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記の脱亜鉛及び金属化は、様々な温度が様々な帯域で維持される炉の中で行われ、それによって、初期段階で前記有機結合材を除去して、相互連結された間隙チャネルを形成し、次いで、より高い温度で亜鉛を還元し蒸発させる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記フラックスは、前記スラグ中の前記Ｆｅの損失を最小限に抑える、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記フラックスは、ＣａＯ、ＭｇＯ及びＳｉＯ２の酸化物、並びに、それらの化合物を含んでなる、請求項１、１２及び１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記亜鉛有価物は、前記廃ガスの温度を９００℃未満に低下させることによって、且つ、前記廃ガスのＣＯ／ＣＯ２比を、導入空気によって調整することによって、前記炉の廃ガス流から分離される、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記の分離された亜鉛有価物は、廃ガス流から回収される前記生成物中の亜鉛濃度を高めるように、炉中で処理され、しかも、前記廃ガス流から回収される前記化合物は、４０％を超える亜鉛含有量を有し、且つ、従来のプロセスによって亜鉛を抽出するのに適合している、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
鉄鋼を製造するための、高亜鉛含有鉄鉱石を処理するための改善された方法であって、添付図面に関連して本明細書に実質的に記述され且つ例示される方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月22日(2012.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
温度を測定する装置であって、
１つ以上の材料部を含む第１の材料に取り囲まれた第１の温度センサおよび第２の温度センサと、
測定対象の体に接触する接触面とを備え、
前記第１の温度センサおよび第２の温度センサは、前記接触面からの深さが異なるように配置されており、
前記接触面から前記第１の温度センサおよび第２の温度センサを介して当該装置を横断する正味の熱伝導率が、前記接触面に対して平行な方向である横方向における当該装置の正味の熱伝導率よりも大きい温度測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の温度測定装置において、
前記第１の材料が異方性の熱伝導率を有する温度測定装置。
【請求項３】
請求項２に記載の温度測定装置において、
前記第１の材料の熱伝導率の異方性比が少なくとも２である温度測定装置。
【請求項４】
請求項１に記載の温度測定装置において、
さらに、熱伝導率が前記第１の材料よりも小さく、かつ、前記第１の材料の少なくとも一部を取り囲む第２の材料を備える温度測定装置。
【請求項５】
請求項４に記載の温度測定装置において、
前記第１の材料の熱伝導率が少なくとも０．５Ｗ／(ｍ・Ｋ)である温度測定装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の温度測定装置において、
前記第１の材料が、前記第２の材料よりも熱伝導率が少なくとも４倍大きい温度測定装置。
【請求項７】
請求項４から６のいずれか一項に記載の温度測定装置において、
前記第２の材料が第１の材料を完全に取り囲んでいる温度測定装置。
【請求項８】
請求項７に記載の温度測定装置において、
前記第２の材料は、前記接触面および前記接触面と反対側の表面を覆う厚さよりも前記第１の材料の横方向の端部を覆う厚さのほうが大きい温度測定装置。
【請求項９】
請求項４から８のいずれか一項に記載の温度測定装置において、
前記第１の材料が、ほぼ円板形であり、当該円板の平面が前記接触面にほぼ平行である温度測定装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の温度測定装置において、
前記第２の材料が、前記円板形の第１の材料の周りにリング形の環体を形成しており、当該リングの平面が前記円板の平面とほぼ一致している温度測定装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の温度測定装置において、
前記第１の温度センサおよび第２の温度センサについての前記接触面からの深さが、前記接触面にほぼ垂直な軸に沿った前記接触面から各温度センサまでの距離である温度測定装置。
【請求項１２】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の温度測定装置において、
前記第１の温度センサおよび第２の温度センサについての前記接触面からの深さが、前記接触面から各温度センサまでの正味の熱伝導係数によって定義される熱的な深さである温度測定装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の温度測定装置において、
前記接触面にほぼ垂直な軸に沿った前記接触面から前記第１の温度センサまでの距離と、前記接触面にほぼ垂直な軸に沿った前記接触面から前記第２の温度センサまでの距離とが同一である温度測定装置。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の温度測定装置において、
前記第１の材料の表面が前記接触面の少なくとも一部を形成している温度測定装置。
【請求項１５】
請求項４から１０のいずれか一項に記載の温度測定装置において、
前記第１の材料が、熱伝導率が相異なる少なくとも第１の材料部および第２の材料部を含んでおり、前記第１の温度センサは前記第１の材料部に埋め込まれており、前記第２の温度センサは前記第２の材料部に埋め込まれている温度測定装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の温度測定装置において、
前記接触面の少なくとも一部が、前記第１の材料部および第２の材料部によって形成されている温度測定装置。
【請求項１７】
請求項１から１６のいずれか一項に記載の温度測定装置において、
当該装置を横断する正味の熱伝導率が横方向において最も小さい温度測定装置。
【請求項１８】
請求項４から１０のいずれか一項に記載の温度測定装置において、
前記第１の材料が熱伝導性ポリマーである温度測定装置。
【請求項１９】
請求項４から１０のいずれか一項に記載の温度測定装置において、
前記第１の材料における前記接触面から離れた表面が、使用時に露出している温度測定装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の温度測定装置において、
前記離れた表面が、前記第１の材料よりも大きい熱伝導率を有する薄い層を支持している温度測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月22日(2012.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の強度最大値および強度最小値を含む干渉パターンを発生させる電磁放射線干渉パターン発生器と、
前記発生器により生成される干渉パターンの少なくとも一部を検出するよう動作する電磁放射線検出器であり、干渉パターンの複数の強度最大値及び／又は強度最小値をほぼ同時に検出するよう配列された検出素子のアレイを有する電磁放射線検出器と、
を有する測定システムであって、
検出される強度最大値及び／又は強度最小値に基づいて、当該システムの物理的特性または当該システムの物理的特性の変化を決定する、測定システム。
【請求項２】
前記検出器において、干渉パターンは二次元の干渉パターンであり、検出素子は検出器において一次元のアレイまたは二次元のアレイにて配列される、請求項１記載の測定システム。
【請求項３】
その位置が測定されるべき物体をさらに含む、請求項１又は２に記載の測定システム。
【請求項４】
その位置が測定されるべき物体は、
（ｉ）電磁放射線干渉パターン発生器、または（ｉｉ）電磁放射線検出器、のいずれかと一定の空間的関係を有する、請求項３記載の測定システム。
【請求項５】
使用時、第１の位置から第２の位置への物体の動きは、検出器で捕らえられる干渉パターンの変化を引き起こし、
物体は、（ｉ）３つの直交並進軸の少なくとも１つに沿う並進に対応した移動、及び／又は（ｉｉ）３つの直交回転軸の少なくとも１つの周りの回転に対応した移動、により移動可能であり、
物体の移動、あるいはこれらの移動の組み合わせは、検出器により検出される干渉パターンにおけるあるいは干渉パターンの一部における変化を提供する、請求項３又は４に記載の測定システム。
【請求項６】
干渉パターン発生器は、光源を含み、干渉パターン発生器により提供される電磁放射線は、空間的にコヒーレントであり、
干渉パターン発生器は、干渉パターンを発生するために一つ若しくは複数の光学素子を含み、
光学素子は、光の透過及び回折用の光透過絞りの配列を含む、
請求項１から５のいずれかに記載の測定システム。
【請求項７】
当該システムは、さらに、第２の検出器を含み、この第２の検出器は、第１の検出器とは異なる強度パターン部分を検出する、請求項１から６のいずれかに記載の測定システム。
【請求項８】
第１及び第２の検出器は、単一の主検出器の部分である、請求項７に記載の測定システム。
【請求項９】
当該システムは、さらに、第２の電磁放射線検出器を含み、第１及び第２の検出器の各々は、前記発生器により生じる干渉パターンのそれぞれの部分を検出するよう動作し、発生器と第１及び第２の検出器との間の各光路の屈折率は、既知量にて意図的に異ならせ、第１及び第２の検出器により検出されるパターンは、電磁放射線の波長を決定するのに使用可能である、請求項１から６のいずれかに記載の測定システム。
【請求項１０】
発生器から検出器へ電磁放射線のための少なくとも２つの異なる経路長を提供し、少なくとも２つの異なる経路長に対応する少なくとも２つの干渉パターンを検出器で提供するための経路変更手段を更に含む、請求項１から６のいずれかに記載の測定システム。
【請求項１１】
経路変更手段は、それぞれの経路長に沿って電磁放射線の反射における差を提供する、請求項１０記載の測定システム。
【請求項１２】
発生器と検出器との間にエタロンが設けられ、異なる経路長は、使用時に、検出器に到達する前にエタロンを横切る電磁放射線の異なる通過数によって与えられる、請求項１１記載の測定システム。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれかに記載の測定システムを含む位置決定装置。
【請求項１４】
請求項１から１２のいずれかに記載の測定システムを含む波長決定装置。
【請求項１５】
請求項１から１２のいずれかに記載の測定システムを含む屈折率決定装置。