【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年10月1日(2014.10.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）下記化学式１〜３で表示される化合物から選ばれる１種以上を含む塩基性化合物、（ｂ）下記化学式４で表示されるアミド化合物、（ｃ）極性溶媒、及び（ｄ）下記化学式５で表示されるポリオール化合物を含む、レジスト剥離液組成物：
【化１】
2013501958.tif 000001
【化２】
2013501958.tif 000002
【化３】
2013501958.tif 000003
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、水素、アミノ基で置換または非置換された炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数１〜１０のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、ヒドロキシ基で置換または非置換された炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基で置換または非置換されたアミノ基、フェニル基、またはベンジル基である。）
【化４】
2013501958.tif 000004
（式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数１〜１０のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１０のアルキル基、または炭素数１〜４のアルキル基で置換または非置換されたアミノ基である。）
【化５】
2013501958.tif 000005
（式中、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数２〜１０のアルケニレン基、炭素数１〜１０のヒドロキシアルキレン基、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１０のアルキレン基、または結合を示す。）
【請求項２】
前記（ａ）の塩基性化合物において、前記化学式１で表示される化合物が、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエタノール、２−（２−アミノエチルアミノ）−１−エタノールであり；
化学式２で表示される化合物がモルホリン、Ｎ−（３−アミノプロピル）モルホリン、Ｎ−（メトキシメチル）モルホリン、Ｎ−（ブトキシメチル）モルホリン、及びＮ−（２−ヒドロキシエチル）モルホリンであり；並びに
前記化学式３で表示される塩基性化合物がピペラジン、１−メチルピペラジン、２−メチルピペラジン、１，４−ジメチルピペラジン、１，４−ジエチルピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルピペラジン、１−（２−アミノエチル）ピペラジン、１−アミノ−４−メチルピペラジン、１−ベンジルピペラジン、１−フェニルピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ジ（メトキシメチル）ピペラジン、及びジ（ブトキシメチル）ピペラジンであることを特徴とする、請求項１に記載のレジスト剥離液組成物。
【請求項３】
前記（ｂ）化学式４で表示されるアミド化合物が、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アセトアミド、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、３−（２−エチルヘキシルオキシ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、及び３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミドよりなる群から選ばれる１種以上であることを特徴とする、請求項１に記載のレジスト剥離液組成物。
【請求項４】
前記（ｃ）極性溶媒は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、環状エーテル結合を持つアルコール類、ピロリドン化合物、イミダゾリジノン化合物、ラクトン化合物、スルホキシド化合物、フォスフェイト化合物、及びカーボネート化合物よりなる群から選ばれる１種以上であることを特徴とする、請求項１に記載のレジスト剥離液組成物。
【請求項５】
前記（ｃ）極性溶媒は、環状エーテル結合を持つアルコール類を１種以上含むことを特徴とする、請求項４に記載のレジスト剥離液組成物。
【請求項６】
前記環状エーテル結合を持つアルコール類は、フルフリルアルコール及びテトラヒドロフルフリルアルコールよりなる群から選ばれることを特徴とする、請求項５に記載のレジスト剥離液組成物。
【請求項７】
前記（ｃ）極性溶媒は、１種以上のプロトン性極性溶媒と１種以上の非プロトン性極性溶媒を含むことを特徴とする、請求項４に記載のレジスト剥離液組成物。
【請求項８】
前記（ｄ）化学式５で表示されるポリオール化合物が、シクロヘキサン１，４−ジオール、シクロヘキサン１，４−ジメタノール及びシクロヘキサン１，４−ジエタノールよりなる群から選ばれる１種以上であることを特徴とする、請求項１に記載のレジスト剥離液組成物。
【請求項９】
前記レジスト剥離用組成物は、組成物の総重量に対して（ａ）化学式１〜３で表示される化合物の中で選ばれる１種以上を含む塩基性化合物５〜３０重量％、（ｂ）化学式４で表示されるアミド化合物２０〜８０重量％、（ｃ）極性溶媒１０〜７０重量％、及び（ｄ）化学式５で表示されるポリオール化合物０．０５〜２０重量％を含むことを特徴とする、請求項１に記載のレジスト剥離液組成物。
【請求項１０】
前記レジスト剥離液組成物は、アルミニウムまたは銅を含む金属配線が形成されているフラットパネル用基板のレジスト剥離に使われることを特徴とする、請求項１に記載のレジスト剥離液組成物。
【請求項１１】
（Ｉ）フラットパネルディスプレイ基板上に導電性金属膜を蒸着する工程；
（ＩＩ）前記導電性金属膜上にレジスト膜を形成する工程；
（ＩＩＩ）前記レジスト膜を選択的に露光する工程；
（ＩＶ）前記露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程；
（Ｖ）前記レジストパターンをマスクとして前記導電性金属膜をエッチングする工程；
及び
（ＶＩ）前記エッチング工程の後、前記レジストパターンの形成及びエッチングによって変性及び硬化したレジストを請求項１のレジスト剥離液組成物を使って剥離する工程を含む、レジストの剥離方法。
【請求項１２】
請求項１のレジスト剥離液組成物を使ってフラットパネル用基板のレジストを剥離する工程を含むことを特徴とする、ディスプレイ装置用フラットパネルの製造方法。
【請求項１３】
請求項１のレジスト剥離液組成物を使ってフラットパネル用基板のレジストを剥離する工程を含むことを特徴とする、フラットパネルディスプレイ装置の製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
前記（ｃ）極性溶媒としてはプロトン性極性溶媒と非プロトン性極性溶媒を挙げることができ、これらはそれぞれ単独でまたは混合して使用できる。前記プロトン性極性溶媒の具体的な例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、環状エーテル結合を持つアルコール類などをあげることができ、これらは１種単独でまたは２種以上が一緒に使用できる。前記環状エーテル結合を持つアルコール類の例としては、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコールなどをあげることができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
前記非プロトン性極性溶媒の具体的な例としては、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ−エチルピロリドンなどのピロリドン化合物；１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジプロピル−２−イミダゾリジノンなどのイミダゾリジノン化合物；γ―ブチロラクトンなどのラクトン化合物；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホランなどのスルホキシド化合物；トリエチルフォスフェイト、トリブチルフォスフェイトなどのフォスフェイト化合物；ジメチルカーボネート、エチレンカーボネートなどのカーボネート化合物などをあげることができ、これらは単独でまたは２種以上を混合して使うことができる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
前記（ｃ）極性溶媒は１種以上のプロトン性極性溶媒と１種以上の非プロトン性極性溶媒を含むことが好ましい。また、１種以上の環状エーテル結合を持つアルコール類を含むことが好ましい。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８８】
（試験例５：極性溶媒の中で環状エーテル結合を持つアルコール含有によるレジストの剥離時間評価）
極性溶媒の中でプロトン性極性溶媒である環状エーテル結合を持つアルコール類の含有によるレジストの剥離時間を評価するために、４インチのベアー（ｂａｒｅ）ガラス基板にフォトレジストを２μｍ程度の厚さで塗布した後、１７０℃で１０分間ハードベーク（Ｈａｒｄ−ｂａｋｅ）を実施して、苛酷な条件のレジストが塗布された基板を製造した。また、前記基板を１．５ｃｍ（横）×１．５ｃｍ（縦）に切った後、５０℃で前記製造された実施例３、１１、１５及び１６のレジスト剥離液組成物原液に浸漬させた後、洗浄及び乾燥を実施して、レジストがまったく剥離されて肉眼で残留レジストが観察されない時間を測定した。レジスト剥離時間の測定は、製造された剥離液組成物別に５回実施し、完全に剥離される時間の範囲を下記表１０に示した。