【事件の表示】
　平成　８年特許願第　７１５７７号「研磨材組成物及び磁気記録媒体用基板の製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　９年　７月２２日出願公開、特開平　９−１９０６２６］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、特許法第４１条に基づく優先権主張（優先日：平成７年１１月１０日）を伴う平成８年３月２７日の出願であって、平成１４年８月２９日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月２４日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１１月２２日付で手続補正がなされたものである。
　
２．平成１４年１１月２２日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　　平成１４年１１月２２日付の手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正は、補正前の請求項１を削除し、請求項１を引用する請求項２を減縮すると伴に項番号を請求項１とし、補正前の請求項３〜６に関して前記削除に伴う項番号のずれを解消するためそれぞれを順に請求項２〜５と項番号を形式的に変更するものである。
　補正された明細書及び図面の記載から見て、その請求項１〜５に係る発明のうち請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）は、特許請求の範囲の請求項１に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
　「水と研磨材と研磨促進剤とを含有する磁気記録媒体基板製造用研磨材組成物において、上記研磨材として一次粒子の平均粒径が
１０〜
ｍの
り、ｐＨが５以下であり、上記中間アルミナがγ−アルミナ、θ−アルミナ、δ−アルミナ、η−アルミナ、又は無定型アルミナで
　上記補正は、補正前の請求項２に記載された発明を特定するために必要な事項である研磨材としての中間アルミナの一次粒子の平均粒径の下限を１０ｎｍとし、更に該中間アルミナをγ−アルミナ、θ−アルミナ、δ−アルミナ、η−アルミナ、又は無定型アルミナとするもの（なお、「ｐＨが５以下で」は、補正前の請求項２にもとからある限定である。）であって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するものと認める。更に、該減縮は、出願当初の明細書に「一次粒子の平均粒径で１０ｎｍ以上であることが好ましい。」（段落【００１５】参照）こと、及び「「中間アルミナ粒子」とは、α−アルミナ以外のアルミナ粒子の総称をいい、具体的には、γ−アルミナ、θ−アルミナ、δ−アルミナ、η−アルミナ、又は無定型アルミナ等が挙げられる。」（段落【００１４】参照）ことが記載されているから、新規事項の追加にも当たらない。
　そこで、本願補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前の刊行物である特開平６−３３９８５３号公報（以下、「引用例１」という。）には、高密度磁気ディスクの基板として使用されるカーボン基板の鏡面仕上研磨方法に関し、
　（1-i）「炭素材からなるカーボン基板を、水、アルミナ砥粒及び研磨助剤を用いて鏡面仕上げ研磨するカーボン基板の鏡面仕上研磨方法において、前記アルミナ砥粒は水及び研磨助剤からなる研磨液中に中に１０重量％以下分散させたものであり、前記研磨助剤は、水中にて重クロム酸基、硝酸基及び塩素基からなる群から選択された酸化性基とアルミニウム塩を構成する水溶性の無機物質であることを特徴とするカーボン基板の鏡面仕上研磨方法。」（特許請求の範囲の請求項１参照）、及び、
　（1-ii）「【０００９】　この場合に、前記アルミナ砥粒は、平均粒径が２μｍ以下の粉砕アルミナ系砥粒、平均粒径が５μｍ以下の六角板状アルミナ系砥粒及び平均粒径が１μｍ以下の微粒子アルミナ系砥粒からなる群から選択されたものを使用することができる。」（段落【０００９】参照）こと、
　（1-iii）「【００１１】　（前略）・・・。　その結果、炭素材からなるカーボン基板を鏡面加工するに当たり、重クロム酸基、硝酸基及び塩素基からなる群から選択された酸化性基とアルミニウム塩を構成する水溶性の無機物質の共存下において、アルミナ研磨微粉を用いて鏡面加工を行う場合には、前記研磨助剤を使用しない場合と比較して著しく良質の研磨表面が生成されると共に、研磨速度又は研削速度も著しく増加することを見出した。」（段落【００１１】行参照）こと、
　（1-iv）「【００１４】　例えば、使用するアルミナ研磨微粉は、その粒子が微細になる程、欠陥の増大を少なくすことができるが、加工に要する時間は長くなる等の相反関係にある。　・・・（後略）。」（段落【００１４】参照）こと、
　（1-v）「【００１８】　これらの現象から、メカノケミカル研磨における化学的研磨の効果比率を高める程、欠陥の増大が抑制されるものと推察される。　特に、γアルミナ系砥粒を用いる場合には、粒径、硬度及び結晶特性等の諸因子が複合するものと推察され、欠陥数を基板自体が本来有する数まで低減できる。」（段落【００１８】参照）こと、
　（1-vi）「【００２２】　実施例１〜５　　スピードファム社製９Ｂ５Ｐ型両面研磨機の定盤にロデールニッタ社製のＩＣ−６０硬質パッドを装着した定盤を用い、重量比率４％のアルミナ砥粒を分散させた濃度１重量％の該当研磨助剤水溶液にてポリッシュ研磨した。」（段落【００２２】参照）こと、
　（1-vii）その実施例１は、アルミナ砥粒の品種がγアルミナ、砥粒の粒径が０．０５μｍ、研磨助剤の品種が硝酸アルミニウムである研磨助剤水溶液を用いたものである旨（段落【００２７】の表１参照）、
　（1-viii）「【００３２】　【発明の効果】　以上説明したように、本発明はダイヤ砥粒に比して極めて安価なアルミナ砥粒を研磨剤とし、研磨助剤として研磨液中において酸化性基とアルミニウム塩を構成する水溶性の無機物質を使用するので、この研磨助剤によりカーボン基板の表面層が軟化及びエッチングされるため、高品質な研磨面が得られると共に、極めて高い研磨効率が得られる。このため、工業的規模にて通常使用される両面研磨機を使用して、カーボン基板の鏡面仕上研磨を大量研磨処理することができる。従って、従来、サンプル品としての供試段階に過ぎなかったカーボン基板を、工業的規模で数量的にも安定して供給することができるようになり、本発明はカーボン基板の低コスト化及び安定供給に著しい貢献をなす。　【００３３】　また、使用するアルミナ砥粒の品種及び粒径は、研磨対象となるカーボン基板自体の品質及び商品としての要求品質に対応して選定すれば良い。更に、鏡面加工工程の全てを同一条件にすることは必ずしも必要とされず、前加工として、基板表面の一次的改善を目的として研磨速度を重視した鏡面加工を施した後に、最終的な鏡面仕上研磨を施すという２段階鏡面仕上方法を採用することもでき、この場合は処理コストを更に低減することができる。」（段落【００３２】〜【００３３】参照）こと、が記載されている。
　
　これらの記載によれば、引用例１には、高密度磁気ディスクの基板として使用されるカーボン基板の鏡面仕上研磨方法に使用される研磨助剤水溶液に関し、
　「水とアルミナ砥粒と研磨助剤とを含有する高密度磁気ディスク基板製造用研磨助剤水溶液において、上記アルミナ砥粒として平均粒径が０．０５μｍ（即ち、５０ｎｍ）のγアルミナ粒子を用い、上記アルミナ砥粒の重量比率が４％であり、上記研磨助剤は硝酸基などの酸化性基とアルミニウム塩を構成する水溶性の無機物質である硝酸アルミニウムでありその濃度が１重量％である研磨剤水溶液。」
の発明（以下、「引用例１発明」という。）が開示されていると認める。
　
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前の刊行物である特開平５−９４６３号公報（以下、「引用例２」という。）には、
　（2-i）「【請求項１】水とアルミナ研磨材及び研磨促進剤からなる金属材料の研磨用組成物に於いて、該研磨促進剤が硝酸クロム(III) 、硝酸ランタン、硝酸アンモニウムセリウム(III) 及び硝酸ネオジムのうちから選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする金属材料の研磨用組成物。」（【請求項１】参照）、
　（2-ii）「【０００６】例えば、特公昭６４−４３６号公報には、硫酸ニッケルを研磨促進剤に用いた中性ないし、弱酸性のプラスチック製品やメモリーハードディスク用の研磨用組成物が、また特公平２−２３５８９号公報には、硝酸ニッケルまたは硝酸アルミニウム等の研磨促進剤を含むメモリーハードディスクの研磨用組成物が開示されている。　【０００７】　硫酸ニッケルや硝酸ニッケルを研磨促進剤として用いた場合、ｐＨは中性ないし弱酸性であるが、研磨能率が充分でなく、微少なピットやノジュール等の表面欠陥が発生しやすいとの欠点を有する。　硝酸アルミニウムを研磨促進剤として用いた場合、硫酸ニッケルや硝酸ニッケルに比べ、研磨能率は高いが、ｐＨが２〜４と強酸性である為、作業性が悪くまた、研磨機器の腐食という欠点を有している。」（段落【０００７】参照）こと、
　（2-iii）「硝酸クロム(III) を研磨促進剤として用いた場合には、従来知られている硝酸アルミニウムを用いた場合と同様、ｐＨ２〜４の酸性領域の研磨用組成物が得られる」（段落【００１２】参照）こと、との記載がある。
　
（３）対比、判断
　本願補正発明と引用例１発明を対比する。
　（イ）引用例１発明の「アルミナ砥粒」、「研磨剤水溶液」は、それぞれ本願発明の「研磨材」、「研磨材組成物」に相当し、（ロ）引用例１発明のγアルミナは、「γ−アルミナ」そのものであって本願補正発明の「中間アルミナ」に相当し、（ハ）引用例１発明の「研磨助剤」は、「硝酸基などの酸化性基とアルミニウム塩を構成する水溶性の無機物質である硝酸アルミニウム」であるから、本願発明の硝酸基などの酸化性基を含む金属塩であって、その実施例で硝酸アルミニウムを採用しいてる「研磨促進剤」に相当する。　そして、（ニ）引用例１発明の研磨材即ちアルミナ砥粒の重量比率が４％であることは、本願補正発明の「研磨材の含有量が０．０５〜３０重量％」であることを満たしていて、（ホ）引用例１発明の研磨助剤である硝酸アルミニウムの濃度が１重量％であることは、本願補正発明の実施例１で硝酸アルミニウムを１ｗｔ％用いている「研磨促進剤の含有量が０．０５〜３０重量％」であることを満たしている。
　してみると、両発明は、「水と研磨材と研磨促進剤とを含有する磁気記録媒体基板製造用研磨材組成物において、上記研磨材として中間アルミナ粒子を用い、上記中間アルミナがγ−アルミナであることを特徴とする研磨材組成物。」の発明で一致し、更に、引用例１発明の上記アルミナ砥粒（研磨材）の含有量が０．０５〜３０重量％の範囲内にあり、上記研磨助剤（研磨促進剤）の含有量が０．０５〜３０重量％の範囲内にあるが故に、研磨材及び研磨促進剤の含有量についても一致するものの、他方、次の（ａ）、（ｂ）の点で一応相違している。
　（ａ）組成物のｐＨに関して、本願補正発明では「ｐＨが５以下」と特定されているのに対して、引用例１発明ではｐＨの言及が無い点、
　（ｂ）γ−アルミナの研磨材である「中間アルミナの一次粒子の平均粒径」に関して、本願補正発明では「１０〜４０ｎｍ」と規定されているのに対して、引用例１発明では「０．０５μｍ（即ち、５０ｎｍ）」である点。
　
　（ａ）の点について検討する。
　本願発明では、ｐＨ５以下にすることに関して、「研磨材組成物のｐＨを５以下にするためには、例えば、該研磨材組成物に後述の酸化性基を有する金属塩、硫酸、硝酸等の無機酸や有機酸等を添加すればよい。」（段落【００１７】参照）と説明され、即ち、ｐＨを５以下にするためには、研磨促進剤として用いられ酸化性基を含む金属塩を添加すれば足りるように説明され、かつ、実施例と比較例２では該研磨促進剤である硝酸アルミニウムの添加（１ｗｔ％）の有無のみでｐＨが３．８と７．２（注：中性）になっていることからみて、１ｗｔ％の硝酸アルミニウムの添加でｐＨを５以下にできるものと理解するしかない（なお、硝酸アルミニウムの水溶液が酸性になることは、知られている。例えば高本進ら編「化合物の辞典」、１９９７年１１月２０日、初版第１刷、株式会社朝倉書店発行、第２５３頁の「硝酸アルミニウム」の項など参照）。
　更に、引用例２の前記摘示から明らかなように、研磨助剤として硝酸アルミニウムを用いた場合にｐＨ２〜４になることが知られているものと認められる。
　ここで、引用例１発明の実施例においても、本願発明の実施例と同じ量である１ｗｔ％の硝酸アルミニウムが研磨助剤（研磨促進剤）として用いられているから、前記の理解及び周知技術を併せ勘案すれば、引用例１発明の実施例においてもｐＨは５以下になっているものと判断するのが相当である。
　
　ところで、本願発明では、「ｐＨを５以下にすることで研磨工程中に基板表面の酸化が起こり、機械的な研磨による表面の除去が進行しやすくなり、基板の表面粗さを極めて小さくすることが可能となるため」（段落【００１７】参照）としているが、実施例をみてもｐＨ３．８の実施例とｐＨ７．２の比較例２があるだけで、ｐＨ５との数値限定にが臨界的なものであることは示されていない。
　そうであれば、仮に引用例１発明の実施例においてｐＨ５以下であるとのｐＨ値が確定しなくても、その水溶液（即ち研磨材組成物）は酸性であることは明らかであり、研磨組成物のｐＨが２〜４程度のものが知られていることを考慮すれば、ｐＨ５以下は当業者が容易に採用し得る程度のことにすぎないというしかなく、その点に格別の創意工夫が必要とは認められない。
　
　（ｂ）の点について検討する。
　（ｉ）引用例１には、加工に要する時間は長くなるが、アルミナ研磨微粉はその粒子が微細になる程、欠陥の増大を少なくすることができることが記載されていて、この点で本願発明も軌を一にするものである。　また、（ｉｉ）基板等の表面の鏡面加工において研磨材（砥粒）の平均粒径が小さくなる程、低粗度の仕上げ面粗さが得られることは良く知られている技術事項であり、かつ、高密度磁気ディスクを得るため磁気ヘッドを基板に近づけること、そのため基板表面をできるだけ低表面粗さにすることが好ましいことは明らかである（研磨面粗度Ｒａが０．３ｎｍ、０．４ｎｍ（３Å、４Å）程度のものは、例えば、特開平７−５２０３０号公報（表３など）において達成されている。）
　これら（ｉ）または（ｉｉ）のことを考慮すると、引用例１発明の中間アルミナであるγ−アルミナの平均粒径として、実施例のある０．０５μｍ、即ち５０ｎｍよりも更に小さいものについて検討し、本願補正発明の４０ｎｍ以下に至る程度のことは当業者が容易になし得ることである［なお、γ−アルミナの平均一次粒径としてその程度のものは知られている、例えば特開平７−２５６５５５号公報（比較例４として平均一次粒径が０．０１μｍ、即ち１０ｎｍ）や特開昭６２−２４１６７１号公報（第２頁左下欄〜右下欄，γ−酸化アルミニウムのサイズは０．１〜０．０１ミクロン、即ち１００〜１０ｎｍと従来の研磨剤に比べ小さくできる旨）など参照］。
　なお、研磨材の平均粒径が小さくなる程、鏡面加工の時間が長くなるのであるから、平均粒径の下限をどの程度にするかは、単なる設計的事項に過ぎない。
　
　この点に関して、審判請求理由において請求人は、次の（Ａ），（Ｂ）の点を主張している。
　（Ａ）「粒径の小さな研磨材を用いても、欠陥の発生が必ずしも低下する訳ではないことが判明しています。」と主張し、その根拠として、本願の比較例１の粒径１０００ｎｍという大粒径のものでは欠陥に差がないことを挙げている。
　（Ｂ）欠陥の発生を低下させることと、表面粗さを低くすることは全く別次元の課題である。　そして、「表面粗さの低い媒体を得るためには粒径の小さい砥粒を用いることが、表面粗さと砥粒に関する一般的な概念」である旨の認定（拒絶査定の備考）については出願人も首肯するところとしつつも、本願の実施例１，２と比較例３との対比から、粒径４０ｎｍと４５ｎｍとで研磨材の表面性等に大きな違いがあるため、平均粒径４０ｎｍを境として研磨対象物の表面粗さが劇的に低くなる臨界性がある旨主張している。
　しかしながら、
　（Ａ）の点に関しては、引用例１の方がはるかに多くの実例を示して説明していることに鑑みれば、たまたま傾向に反する１例が示されただけでその主張を採用することなどできない。そのような傾向に反する例が仮に有るとしても、引用例の示唆を否定できるものではない。
　（Ｂ）の点に関しては、出願人も認める一般的な概念を否定する程のものとは言えず、劇的と解するほどのものとも言えない。
　
　よって、（ｂ）の点は、周知技術を勘案して当業者が容易に想到し得る構成と認められる。
　
　したがって、本願補正発明は、周知技術乃至引用例２の記載を勘案し引用例１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１４年１１月２２日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成１４年８月９日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　「水と研磨材と研磨促進剤とを含有する磁気記録媒体基板製造用研磨材組成物において、上記研磨材として一次粒子の平均粒径が４０ｎｍ以下の中間アルミナ粒子を用い、上記研磨材の含有量が０．０５〜３０重量％であり、上記研磨促進剤の含有量が０．０５〜３０重量％であることを特徴とする研磨材組成物。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１、および、その記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比、判断
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明から、「研磨材としての中間アルミナ粒子の一次粒子の平均粒径の下限値が１０ｎｍ」、「ｐＨが５以下」及び「中間アルミナがγ−アルミナ、θ−アルミナ、δ−アルミナ、η−アルミナ、又は無定型アルミナ」との構成を省いたものであるので、前記「２．（３）」に記載したと同様の理由により、周知技術を勘案し引用例１に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。