Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月9日(2012.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス分配システムのための緊急遮断安全バルブであって、
バルブ本体と、
前記バルブ本体に取り付けられる上部ケースと、
前記バルブ本体と前記上部ケースとの間に配置され、少なくとも一部分が前記バルブ本体の内部および前記上部ケースの内部に変位可能であり、ガスシステムの圧力に曝される第１の面、外側のＯリング、外側平坦部、外側湾曲部、中間平坦部、内側湾曲部、内側平坦部とを有しているダイアフラムと、
前記上部ケースの内部に配置され、前記ダイアフラムの前記ガスシステムの圧力とは反対側の第２の面にばね力を作用させる第１のスプリングおよび第２のスプリングと、
前記ダイアフラムの前記第１の面に接続され、緊急遮断栓を解放するカムを作動させるプランジャと、
を有する緊急遮断安全バルブ。
【請求項２】
前記外側湾曲部および内側湾曲部が同芯状になっている、請求項１に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項３】
板が、前記ダイアフラムに接続されている、請求項２に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項４】
前記板が、前記外側湾曲部および前記中間平坦部を覆う一方で、前記内側湾曲部、前記外側平坦部、および前記内側平坦部を覆われないままに残している、請求項３に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項５】
さらに、プラグに接触する第１のカム腕と、第２のカム腕と、第３のカム腕とを備えたカムを有し、前記第３のカム腕が、リセットピンに接するように構成され、該リセットピンが、前記バルブ本体に出入りするように可動である、請求項４に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項６】
前記リセットピンが、一端にリセットプラグを備えており、該リセットプラグが、前記第３のカム腕に接触するように構成された第１の段部を備えている、請求項５に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項７】
位置表示器が、前記リセットピンの第２の端部に取り付けられており、該位置表示器が、ラッチが解除された旨を知らせる突き出し位置から、ラッチの係合を知らせる引き込み位置まで、前記リセットピンと一緒に可動である、請求項６に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項８】
前記第２のカム腕が、リミットスイッチに接するように構成され、該リミットスイッチが、前記カムの回転に応答して長手方向に移動する、請求項７に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項９】
前記位置表示器が、弾性材料で形成されている、請求項８に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項１０】
前記第１および第２のスプリングの各長手軸が、同じ軸状の位置にある、請求項９に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項１１】
前記バルブ本体の外側に取り付けられたスナップ・リング・フランジを備えており、
該スナップ・リング・フランジが、当該緊急遮断安全バルブを制御弁に固定するように構成されており、一辺に開口を備えている、請求項１０に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項１２】
前記開口が、取り付け時の前記スナップ・リング・フランジの変形を可能にしている、請求項１１に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項１３】
前記第１のスプリングの前記ダイアフラムとは反対側の端部に配置された第１の調整キャップを備えている、請求項１２に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項１４】
前記第１の調整キャップが、前記上部ケースに螺合によって固定され、前記第１のスプリングの軸に沿って変位可能であり、該第１の調整キャップの変位によって、前記第１のスプリングによって生み出される前記ダイアフラムへのばね力の大きさが変化する、請求項１３に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項１５】
前記第２のスプリングの前記ダイアフラムとは反対側の端部に配置された第２の調整キャップを備えている、請求項１４に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項１６】
前記第２の調整キャップが、前記上部ケースに螺合によって固定され、前記第２のスプリングの軸に沿って変位可能であり、該第２の調整キャップの変位によって、前記第２のスプリングによって生み出される前記ダイアフラムへのばね力の大きさが変化する、請求項１５に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項１７】
前記板が、前記内側平坦部、内側湾曲部、および前記中間平坦部を覆う一方で、前記外側湾曲部および前記外側平坦部が覆われないように残されている、請求項３に記載の緊急遮断安全バルブ。
【請求項１８】
バルブ本体と、
前記バルブ本体に取り付けられた上部ケースと、
前記バルブ本体と前記上部ケースとの間に配置され、外側平坦領域、第１の湾曲部、中間平坦領域、第２の湾曲部、および内側平坦領域を備えているダイアフラムと、
前記上部ケースの内部に取り付けられ、前記ダイアフラムに取り付けられるように構成された前記第１の湾曲部および前記中間平坦領域を覆う第１のプレート、または前記ダイアフラムに取り付けられるように構成された前記内側平坦領域、前記第２の湾曲部、および前記中間平坦領域を覆う第２のプレートに接続されるように構成されている第１のスプリングおよび第２のスプリングと、
を備えている、緊急遮断安全装置。
【請求項１９】
ガス分配システムのための緊急遮断安全装置を組み立てる方法であって、
バルブ本体を用意するステップと、
前記バルブ本体に上部ケースを取り付けるステップと、
外側平坦領域、第１の湾曲部、中間平坦領域、第２の湾曲部、および内側平坦領域を備えているダイアフラムを、前記上部ケースと前記バルブ本体との間に固定するステップと、
第１および第２のスプリングを、前記上部ケースの内部に挿入するステップと、
前記第１のスプリングを、前記第１の湾曲部および前記中間平坦領域を覆う第１のプレートに取り付けるステップと、
前記第２のスプリングを、前記内側平坦領域、前記第２の湾曲部、および前記中間平坦領域を覆う第２のプレートに取り付けるステップと、
を含んでいる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月7日(2012.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基地ユニットと、
少なくとも一つの移動ユニットとを備えており、
前記移動ユニットおよび前記基地ユニットの各々が超音波信号を送受信するように動作可能であり、前記移動ユニットが、前記基地ユニットの送信の状態に従って、前もって決められた信号を送信するように構成されており、前記基地ユニットが、前記信号が前記移動ユニットから前記基地ユニットまで伝送されるのにかかる時間を測定し、それによって前記移動ユニットと前記基地ユニットとの間の距離を計算するように構成されてなる、超音波位置測定システム。
【請求項２】
前記移動ユニットが、前記基地ユニットによる送信の中断を検出した後に送信するように構成されてなる、請求項１に記載の超音波位置測定システム。
【請求項３】
前記システムが、複数の移動ユニットを有しており、各移動ユニットには、前記基地ユニットによる送信の中断から自身の信号を前記基地ユニットに送信するまでの固有の遅れが割り当てられてなる、請求項２に記載の超音波位置測定システム。
【請求項４】
前記移動ユニットが、該移動ユニットに送信するよう促す条件が満たされた後、可及的速やかに送信するように構成されてなる、請求項１から３のいずれかに記載の超音波位置測定システム。
【請求項５】
複数の移動ユニットを備えており、該移動ユニットが、前記基地ユニットからの送信と他の移動ユニットからの送信とを識別可能に構成されてなる、請求項１から４のいずれかに記載の超音波位置測定システム。
【請求項６】
互いに独立して移動可能な複数の移動ユニットを備えてなる、請求項１から５のいずれかに記載の超音波位置測定システム。
【請求項７】
前記少なくとも１つの移動ユニットのそれぞれがただ１つの超音波送信機を有している、請求項１から６のいずれかに記載の超音波位置測定システム。
【請求項８】
超音波信号を送受信するように動作可能であり、基地ユニットの送信の状態に従って、前もって決められた信号を送信するように構成されている、移動ユニット。
【請求項９】
前記基地ユニットによる送信の中断を検出し、前記基地ユニットによる送信の中断を検出した後、前もって決められた信号を送信するように構成されてなる、請求項８に記載の移動ユニット。
【請求項１０】
前記基地ユニットによる送信の中断後、前もって決められた時間に前記信号を送信する、請求項８または９に記載の移動ユニット。
【請求項１１】
前記移動ユニットが、超音波送受信機とそれに関連する処理手段とを含んだ自己充足型のデバイスである、請求項８から１０のいずれかに記載の移動ユニット。
【請求項１２】
前記移動ユニットが自身の電源をさらに備えてなる、請求項８から１１のいずれかに記載の移動ユニット。
【請求項１３】
前記超音波信号が３０〜５０ｋＨｚの間の周波数を有してなる、請求項１から１２のいずれかに記載のシステム、基地局または移動ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月15日(2011.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の発生に好適な活性領域を有する半導体本体と、前記半導体本体上に配置された２つの電気的なコンタクトとを備えたオプトエレクトロニクス部品であって、
前記コンタクトが前記活性領域と電気的に接続され、
前記コンタクトは、前記半導体本体の反対側に接続面を有し、
前記接続面は、前記オプトエレクトロニクス部品の接続側に位置し、
オプトエレクトロニクス部品の前記接続側とは異なる側が、ミラーコーティングされ、
前記オプトエレクトロニクス部品が側方発光部品として構成されることを特徴とするオプトエレクトロニクス部品。
【請求項２】
前記ミラーコーティングが、導電性ミラー層と誘電性ミラー層とを含むことを特徴とする請求項１記載のオプトエレクトロニクス部品。
【請求項３】
前記オプトエレクトロニクス部品の出力面が隆起部と窪み部とを有することを特徴とする請求項１又は請求項２記載のオプトエレクトロニクス部品。
【請求項４】
前記オプトエレクトロニクス部品のミラーコーティングされた面が、前記活性領域の上方で、前記活性領域に対して斜めに延びることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載のオプトエレクトロニクス部品。
【請求項５】
前記オプトエレクトロニクス部品が表面実装可能な部品として実装されることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載のオプトエレクトロニクス部品。
【請求項６】
複数のオプトエレクトロニクス部品の製造方法であって、
キャリア層と、このキャリア層上に配置され、放射線の発生に好適な活性領域をそれぞれ有する複数の半導体本体とを備えた複合素子を準備するステップと、
前記複合素子にミラー層を適用するステップと、
前記複合素子を、出力面とこの出力面とは異なり、前記複合素子を区切り、かつ、ミラー層で覆われた側面とを備える複数のオプトエレクトロニクス部品であって、側方発光部品として構成されるオプトエレクトロニクス部品に単数化するステップと、を含むことを特徴とするオプトエレクトロニクス部品の製造方法。
【請求項７】
前記ミラー層の形成前に、前記複合素子の一部に保護層を形成し、
前記ミラー層の形成後に、前記保護層を除去することを特徴とする請求項６記載のオプトエレクトロニクス部品の製造方法。
【請求項８】
前記出力面を形成するように意図された前記オプトエレクトロニクス部品の一面にミラー層を形成し、少なくとも一部の領域の前記ミラー層を除去することで、前記出力面を形成することを特徴とする請求項６又は請求項７記載のオプトエレクトロニクス部品の製造方法。
【請求項９】
前記出力面を形成するように意図された前記オプトエレクトロニクス部品の一面に前記保護層を形成し、前記保護層をミラーコーティングし、このミラーコーティングされた保護層をその後に除去することを特徴とする請求項８記載のオプトエレクトロニクス部品の製造方法。
【請求項１０】
前記ミラー層が形成される際に、前記オプトエレクトロニクス部品の前記出力面が形成される面が遮蔽されることを特徴とする請求項６乃至請求項８の何れか１項に記載のオプトエレクトロニクス部品の製造方法。
【請求項１１】
前記複合素子の単数化の際に、前記オプトエレクトロニクス部品の１つに前記出力面が形成されることを特徴とする請求項６又は請求項７記載のオプトエレクトロニクス部品の製造方法。
【請求項１２】
前記複合素子の単数化の際に、前記出力面に前記窪み部が形成されることを特徴とする請求項１１記載のオプトエレクトロニクス部品の製造方法。
【請求項１３】
前記単数化の際に、前記ミラー層が切断されることを特徴とする請求項６乃至請求項１２の何れか１項に記載のオプトエレクトロニクス部品の製造方法。
【請求項１４】
前記複合素子の上に前記ミラー層が堆積されることを特徴とする請求項６乃至請求項１３の何れか１項に記載のオプトエレクトロニクス部品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明のオプトエレクトロニクス部品は、放射線の発生に好適な活性領域を有する半導体本体と、この半導体本体上に配置された２つの電気的なコンタクトとを備えている。コンタクトは、活性領域と電気的に接続され、かつ、半導体本体の反対側に接続面を有する。接続面はオプトエレクトロニクス部品の接続側（特に、共通接続側）に位置し、この接続側以外の側はミラーコーティングされ、オプトエレクトロニクス部品が側方発光部品として構成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ミラー層の形成後、複合素子は、複数のオプトエレクトロニクス部品に単数化される。各部品は側方発光部品として構成される。各部品は、出力面と、この出力面とは異なり、ミラーコーティングされた側面とを有する。この側面は、上記部品を区切り、上記ミラー層が形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電性パッドを含む第１の基板と、
第２の導電性パッドを含む第２の基板と、
前記第１の導電性パッドを前記第２の導電性パッドに電気的かつ機械的に接続する相互接続構造体と
を含み、
前記相互接続構造体は、無はんだ金属コア構造体と、前記無はんだ金属コア構造体の第１の部分と直接機械的に接触する第１のはんだ構造体と、前記無はんだ金属コア構造体の第２の部分と直接機械的に接触する第２のはんだ構造体とを含み、
前記第１のはんだ構造体は、前記無はんだ金属コア構造体の前記第１の部分を前記第１の導電性パッドに電気的かつ機械的に接続し、
前記第２のはんだ構造体は、前記無はんだ金属コア構造体の前記第２の部分を前記第２の導電性パッドに電気的かつ機械的に接続し、
前記相互接続構造体は第３のはんだ構造体を含み、
前記無はんだ金属コア構造体は、球形状を備える第１の無はんだ金属コアと、前記球形状を備える第２の無はんだ金属コアとを含み、
前記第３のはんだ構造体は、前記第１の無はんだ金属コアを前記第２の無はんだ金属コアに電気的かつ機械的に結合させ、
前記無はんだ金属コア構造体の前記第１の部分は、前記第１の無はんだ金属コア上に配置され、
前記無はんだ金属コア構造体の前記第２の部分は、前記第２の無はんだ金属コア上に配置され、
前記第１のはんだ構造体は第１のはんだ材料を含み、
前記第２のはんだ構造体は第２のはんだ材料を含み、
前記第１のはんだ材料は、前記第２のはんだ材料とは異なる、
電気的構造体。
【請求項２】
前記無はんだ金属コア構造体は、銅、ニッケル、及び金からなる群から選択された金属材料を含む、請求項１に記載の電気的構造体。
【請求項３】
各前記無はんだ金属コア構造体は、当該無はんだ金属コア構造体を取り囲み、当該無はんだ金属コア構造体に含まれる材料とは異なる金属材料の付加的な層を含む、請求項１に記載の電気的構造体。
【請求項４】
前記第３のはんだ構造体は第３のはんだ材料を含み、
前記第３のはんだ材料は、前記第１のはんだ材料及び前記第２のはんだ材料とは異なる、
請求項１に記載の電気的構造体。
【請求項５】
前記第１の無はんだ金属コアを取り囲み、かつ前記第１の基板と接触するアンダーフィル封止材料の第１の層と、
前記第２の無はんだ金属コアを取り囲み、かつ前記第２の基板と接触するアンダーフィル封止材料の第２の層と
をさらに含み、
前記第１の層は第１の熱膨張係数を備え、
前記第２の層は第２の熱膨張係数を備え、
前記第１の熱膨張係数は、前記第２の熱膨張係数とは異なる、
請求項１に記載の電気的構造体。
【請求項６】
前記第１の基板は半導体デバイスであり、
前記第２の基板はチップ・キャリアであり、
前記第１の熱膨張係数は、前記第２の熱膨張係数よりも小さい、
請求項５に記載の電気的構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月9日(2012.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
無線通信システムにおけるサービング制御ノードにおいて移動局トランザクション情報を処理する方法であって、前記方法は、
移動局（１６０）の最初のハンドオーバに関係した転送制御ノードから前記サービング制御ノードへのトランザクション履歴記録を受信する工程（３１０，４１０）と、
前記サービング制御ノードについてのセル識別パラメータと、１つ以上のセル記述子と、前記移動局（１６０）が前記サービング制御ノードによりサービスを受ける時間の長さを示す１つ以上の時間パラメータとを付加することにより、更新されたトランザクション履歴記録を得るために、前記サービング制御ノードに関係する、前記サービング制御ノードで生成される移動局トランザクションデータを前記トランザクション履歴記録に付加する工程（３３，３４０，３５０，４６０）と、
前記移動局（１６０）の続くハンドオーバに関係するターゲット制御ノードに対する前記更新されたトランザクション履歴記録を前記ターゲット制御ノードに転送する工程（３６０，４７０）とを有することを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
無線通信システムにおいて用いられる、処理ユニットを含む第１の制御ノードであって、前記処理ユニットは、
移動局（１６０）の最初のハンドオーバに関係した転送制御ノードから前記第１の制御ノードへのトランザクション履歴記録を受信し、
前記第１の制御ノードに関係したセル識別パラメータと、１つ以上のセル記述子と、前記移動局（１６０）が前記第１の制御ノードによりサービスを受けた時間の長さを示す１つ以上の時間パラメータとを付加することにより、更新されたトランザクション履歴記録を得るために、前記第１の制御ノードに関係する、前記第１の制御ノードにより生成される移動局トランザクションデータを前記トランザクション履歴記録に付加し、
前記移動局（１６０）の続くハンドオーバに関係するターゲット制御ノードに前記更新されたトランザクション履歴記録を転送するように構成されることを特徴とする第１の制御ノード。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３４】
無線通信システムにおける制御ノードにおいて或は前記制御ノードとともに用いられるコンピュータプログラムであって、前記コンピュータプログラムは、
移動局（１６０）の最初のハンドオーバに関係した転送制御ノードからサービング制御ノードへのトランザクション履歴記録を受信する工程（３１０，４１０）と、
前記サービング制御ノードについてのセル識別パラメータと、１つ以上のセル記述子と、前記移動局（１６０）が前記サービング制御ノードによりサービスを受ける時間の長さを示す１つ以上の時間パラメータとを付加することにより、更新されたトランザクション履歴記録を得るために、前記サービング制御ノードに関係する、前記サービング制御ノードで生成される移動局トランザクションデータを前記トランザクション履歴記録に付加する工程（３３，３４０，３５０，４６０）と、
前記移動局（１６０）の続くハンドオーバに関係するターゲット制御ノードに対する前記更新されたトランザクション履歴記録を前記ターゲット制御ノードに転送する工程（３６０，４７０）とを有する方法を実行するためのコンピュータ可読命令を有することを特徴とするコンピュータプログラム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性表面と、
前記導電性表面からオフセット距離の位置に配置された２つ以上の導電性ストリップを有するアレーとを備え、前記２つ以上の導電性ストリップが１つまたは複数のギャップによって相互に離隔され、前記アレーの全幅がアンテナの基本放射モードの波長より短く、さらに、
複数の導体を備え、前記導体の各々が、対応する導電性ストリップを前記導電性表面に電気的に接続し、さらに、
複数の導電性リップを備え、前記導電性リップの各々が、対応するストリップに取り付けられ、前記導電性表面に向かって延びており、さらに、
平衡電流源によって駆動されると前記基本放射モードを励起するよう適合された一対の導電性板を備え、
前記一対の導電性板が前記ストリップのうちの１つの開口に位置し、そして、
前記一対の導電性板のうちの少なくとも１つの導電性板の縁部は、前記１つのストリップの縁部を超えて、前記１つのストリップと隣接ストリップとの間のギャップに延びる、アンテナ。
【請求項２】
複数の平坦な導電性仕切りをさらに備え、前記導電性仕切りの各々が、前記導電性表面に取り付けられ、対応するストリップに向かって延びる、請求項１に記載の発明。
【請求項３】
前記導体のそれぞれが、前記対応する導電性ストリップに取り付けられた第１縁部と、前記導電性表面に取り付けられた第２縁部とを有する平坦な導電性経路である、請求項１に記載の発明。
【請求項４】
前記導電性表面と前記２つ以上の導電性ストリップとの間に配置された固体誘電体基板をさらに備え、前記導体のそれぞれが、導電性材料で充填された前記固体誘電体基板内のバイアである、請求項１に記載の発明。
【請求項５】
前記導電性リップのそれぞれが前記導電性表面に向かって前記オフセット距離の約半分だけ延び、
前記平坦な導電性仕切りのそれぞれが前記対応するストリップに向かって前記オフセット距離の約半分だけ延びる、請求項２に記載の発明。
【請求項６】
前記導電性リップのそれぞれが、対応するストリップの縁部に取り付けられる、請求項１に記載の発明。
【請求項７】
前記ストリップのうちの少なくとも１つが前記導電性リップのうちの２つを有する、請求項６に記載の発明。
【請求項８】
誘電体基板を有する回路板をさらに備え、前記導電性表面が前記誘電体基板の第１の側に取り付けられ、前記２つ以上の導電性ストリップが前記誘電体基板の第２の側に取り付けられる、請求項１に記載の発明。
【請求項９】
前記導電性表面が第１および第２の部分を備え、
前記２つ以上の導電性ストリップが前記第１の部分からオフセット距離の位置に配置され、そして、
前記第２の部分が前記２つ以上の導電性ストリップと実質的に同一平面である、請求項１に記載の発明。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年1月6日(2012.1.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）：
ＣＨ３−［ＣＨ２］ｍ−ｘ−ＣＨ２−ＣＯＯＲ
（式中、ｍは０乃至２３の整数であり、
ｘは、Ｓ及びＳｅを含む群から選択され、
Ｒは水素又はＣ１−Ｃ４アルキルである）で示される脂肪酸類似体又はその塩の、肥満の予防用の医薬組成物を調製するための使用。
【請求項２】
ｍ≧１３である、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
ｘがイオウである、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
ｘがセレンである、請求項１に記載の使用。
【請求項５】
動物における肥満又は過体重状態の予防のための、請求項１に記載の使用。
【請求項６】
前記動物がヒトである、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
前記動物が、キジ類のトリ、ウシ、ヒツジ、ヤギ又はブタ哺乳動物を含む農業用動物である、請求項５に記載の使用。
【請求項８】
前記動物が、イヌ又はネコを含む家畜又は愛玩動物である、請求項５に記載の使用。
【請求項９】
前記動物が、サケ、タラ、テラピア、ハマグリ、カキ、ロブスター又はカニを含む魚貝類である、請求項５に記載の使用。
【請求項１０】
前記医薬組成物が、前記脂肪酸類似体又はその塩の予防的に有効な濃度がその投与の期間に動物の血中に実質的に持続的に維持されるように投与されるものとして意図されていることを特徴とする、請求項１に記載の使用。
【請求項１１】
前記医薬組成物が単位剤形であることを特徴とする、請求項１に記載の使用。
【請求項１２】
一般式（Ｉ）：
ＣＨ３−［ＣＨ２］ｍ−ｘ−ＣＨ２−ＣＯＯＲ
（式中、ｍは０乃至２３の整数であり、
ｘは、Ｓ及びＳｅを含む群から選択され、
Ｒは水素又はＣ１−Ｃ４アルキルである）で示される新規な脂肪酸類似体又はその塩。
【請求項１３】
動物における肥満の予防のための医薬組成物であって、前記医薬組成物が、一般式（Ｉ）：
ＣＨ３−［ＣＨ２］ｍ−ｘ−ＣＨ２−ＣＯＯＲ
（式中、ｍは０乃至２３の整数であり、
ｘは、Ｓ及びＳｅを含む群から選択され、
Ｒは水素又はＣ１−Ｃ４アルキルである）で示される脂肪酸類似体又はその塩を含む医薬組成物。
【請求項１４】
前記医薬組成物が脂肪酸類似体と混和物の形で製剤学的に許容される担体又は賦形剤を含む、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
ｍ≧１３である、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
ｘがイオウである、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
ｘがセレンである、請求項１３に記載の医薬組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９４】
2002514594.tif 000001
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９７】
ＢＨ４− 
４．アルキル−Ｓｅ−Ｓｅ−アルキル ⇒ ２アルキル−Ｓｅ− 
５．アルキル−Ｓｅ− ＋ Ｈａｌ−ＣＨ２−ＣＯＯＨ ⇒ アルキル−Ｓｅ−ＣＨ２−ＣＯＯＨ 
例えば、アルキルがテトラデシルであるときの最終化合物、（ＣＨ３−（ＣＨ２）13−Ｓｅ−ＣＨ２−ＣＯＯＨ（テトラデシルセレノ酢酸（ＴＳＡ））は、ジエチルエーテル及びヘキサンからの結晶化により精製することができる。この産物は、ＮＭＲ、ＩＲ及び分子量測定法により完全に特徴づけられうる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月25日(2012.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センサをキャリブレーションする組立体であって、
少なくとも１つの出力信号を有する感知素子と、
少なくとも１つの出力信号を生成し、少なくとも２つの入力信号を受信することが可能なマイクロプロセッサと、
少なくとも２つの入力信号を受信し、少なくとも２つの出力信号を生成する保護回路と、
前記保護回路に組立コネクタを介して接続されたプローブであり、前記保護回路を介して前記マイクロプロセッサに信号を伝送するとともに、前記保護回路を無効にして、組立体コネクタ内の少なくとも１つのピンを通じた双方向通信により、較正データ信号が前記保護回路から前記マイクロプロセッサに入力され得るようにする、該プローブと、
を備え、
前記少なくとも１つのピンは、前記保護回路が有効であるときに、出力専用ピンとして機能する、組立体。
【請求項２】
請求項１に記載の組立体において、前記マイクロプロセッサは、補償ルーチンと較正係数許容ルーチンとを含む、組立体。
【請求項３】
請求項１に記載の組立体において、前記マイクロプロセッサ又は他の信号調整回路からの補償された出力信号を、該補償された出力信号が前記保護回路に入力される前に、フィルタ処理するローパスフィルタをさらに備えた、組立体。
【請求項４】
請求項１に記載の組立体において、前記感知素子は、少なくとも２つの出力信号を生成し、当該感知素子からの当該少なくとも２つの出力信号は、前記マイクロプロセッサにより処理される、組立体。
【請求項５】
請求項４に記載の組立体において、前記保護回路は、少なくとも２つの保護集積回路を備え、前記感知素子からの前記出力信号の各々に対してそれぞれ１つの前記保護集積回路を設けた、組立体。
【請求項６】
請求項１に記載の組立体において、前記マイクロプロセッサが前記較正データ信号を受信した後、前記感知素子から前記マイクロプロセッサに入力される全ての信号は、前記較正データ信号を用いて補償される、組立体。
【請求項７】
感知信号を送信する感知素子、マイクロプロセッサ、及び保護回路を有するセンサ組立体のキャリブレーション方法であって、
前記センサ組立体にプローブを取り付けるプローブ取り付けステップであり、前記プローブは、信号を送信して前記保護回路を無効にし、これにより前記保護回路を経る双方向通信を可能にする、該プローブ取り付けステップと、
前記マイクロプロセッサのソフトウェアにおける較正係数許容ルーチンを有効にするステップと、
前記プローブから前記保護回路を介して前記マイクロプロセッサに較正係数を伝送するステップと、
前記較正係数を前記マイクロプロセッサの不揮発性メモリに格納して、前記マイクロプロセッサが前記感知素子から受信する前記感知信号を較正し得るようにする、ステップと、
を含む、方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法において、前記センサ組立体のフィルタ又は信号調整回路のいずれかをバイパスするステップをさらに含む、方法。
【請求項９】
請求項７に記載の方法において、前記マイクロプロセッサが、前記較正係数を受信すると、さらなる較正係数を受け入れないようにするステップをさらに含む、方法。
【請求項１０】
請求項７に記載の方法において、前記較正係数を、オフセット、ゲイン、線形性、及び温度変化を含む因子の補償に使用するステップをさらに含む、方法。
【請求項１１】
少なくともセンサ、マイクロプロセッサ、メモリ、保護回路、及び出力コネクタを有するセンサ組立体をキャリブレーションする方法であって、
プローブを前記出力コネクタの少なくとも単一のピンに接続するステップと、
前記プローブから前記単一のピンに較正係数を与えるステップと、
前記較正係数を前記メモリにロードするステップであって、前記較正係数は前記マイクロプロセッサにより前記センサ組立体内の変化を補償するのに用いられる、ステップと、
前記センサ組立体を、過電圧、逆電圧、及び静電気放電から保護するステップと、
を有する方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法において、前記センサ組立体内の変化は、ゲイン、線形性、及び温度変化からなるグループから選択される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月3日(2012.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビーム発生装置の電子出口窓を組立てる方法であって、
電子ビーム発生装置のハウジングに箔支持プレート（２０８；３０８）を配置する段階と、
窓箔（２０６；３０６）を少なくとも１本の連続した接着線（２１０；３１０）に沿って箔支持プレート（２０８；３０８）に接着する段階と、
箔支持プレート（２０８；３０８）の一部分たりとも外部の大気に露出させないように、前記少なくとも１本の接着線（２１０；３１０）より半径方向外方へ伸長する前記窓箔のスカート部分（２１２；３１２）を少なくとも１本の連続した取付け線に沿ってハウジングに取付ける段階とを含んで成る電子出口窓の組立て方法。
【請求項２】
ハウジングに形成される溝（２１６；３１６）の形態をした前記少なくとも１本の取付け線を備える段階と、その中にスカート部分（２１２；３１２）を位置決めする段階とを含んで成る請求項１に記載の方法。
【請求項３】
スカート部分（２１２；３１２）を前記溝に膠接着する段階を含んで成る請求項２に記載の方法。
【請求項４】
フレーム（３１８）によってスカート部分（３１２）を前記溝（３１６）内に拘束する段階を含んで成る請求項２に記載の方法。
【請求項５】
取付け線に沿って前記フレーム（３１８）をハウジングに膠接着する段階を含んで成る請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記箔支持プレート（２０８；３０８）をハウジングのフランジ（２０４；３０４）に配置する段階を含み、前記フランジ（２０４；３０４）は箔支持プレート（２０８；３０８）および窓箔（２０６；３０６）を取付けることでハウジングの他の部分から隔離される請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記窓箔（２０６；３０６）を箔支持プレート（２０８；３０８）に拡散結合する段階を含んで成る請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
箔支持プレート（２０８；３０８）および窓箔（２０６；３０６）を含んで構成される電子ビーム発生装置の電子出口窓組立体であって、
前記箔支持プレート（２０８；３０８）が電子ビーム発生装置のハウジングに取付けられ、
前記窓箔（２０６；３０６）が少なくとも１本の連続した取付け線（２１０；３１０）に沿って箔支持プレート（２０８；３０８）に接着され、
箔支持プレート（２０８；３０８）の一部分たりとも外部の大気に露出させないように、前記少なくとも１本の連続した取付け線（２１０；３１０）よりも半径方向外方へ伸長する前記窓箔（２０６；３０６）のスカート部分（２１２；３１２）が少なくとも１本の連続した取付け線に沿ってハウジングに取付けられる電子出口窓組立体。
【請求項９】
前記少なくとも１本の取付け線がハウジングに備えられた溝（２１６；３１６）として形成され、スカート部分（２１２；３１２）がその溝内に配置される請求項８に記載の電子出口窓組立体。
【請求項１０】
カート部分（２１２；３１２）が前記溝（２１６；３１６）に膠接着される請求項９に記載の電子出口窓組立体。
【請求項１１】
スカート部分（３１２）がフレーム（３１８）によって前記溝（３１６）の中に拘束される請求項９に記載の電子出口窓組立体。
【請求項１２】
前記フレーム（３１８）が取付け線に沿ってハウジングに膠接着さる請求項１１に記載の電子出口窓組立体。
【請求項１３】
前記窓箔（２０６；３０６）が箔支持プレート（２０８；３０８）に拡散接着される請求項８から請求項１２までのいずれか一項に記載の電子出口窓組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月8日(2012.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気通信塔（２００）のセクション（１００）を複数の中実壁で構成するための電気通信塔セグメント（３００）であって、
複数の電気通信塔セグメント（３００、３０１、３０２．．．）により前記電気通信塔の管状セクション（１００）を形成可能なように、前記電気通信塔セグメント（３００）は他の複数の電気通信塔セグメント（３０１、３０２）に取り付け可能であり、
前記電気通信塔セグメントは、凸状の第１の表面（３１０）を有し、
前記電気通信塔セグメントは第１の端部（５１０）と第２の端部（５２０）とを有し、
前記第１の表面（３１０）および第２の表面（３２０）は前記第１の端部（５１０）から前記第２の端部（５２０）まで広がり、
前記電気通信塔セグメントは、前記第１の端部（５１０）から前記第２の端部（５２０）の方を見たときに、漸増する外周を有し、
前記電気通信塔セグメントは、前記第１の表面の反対側に前記第２の表面（３２０）を有し、
開放型で成型された結果として前記第２の表面は平坦であるか、または一部平坦であり、
前記電気通信塔セグメントは、前記第１の端部から前記第２の端部まで延在する１つ以上の管又は管状の空洞を備えることを特徴とする電気通信塔セグメント（３００）。
【請求項２】
前記電気通信塔セグメント（３００）は、前記電気通信塔セグメント（３００）と同じ種類の、または同様の種類の、他の少なくとも１つの電気通信塔セグメント（３０１、３０２）に取り付け可能であり、
このような電気通信塔セグメント（３００、３０１、３０２）がいくつか配置されて、円錐台状の外面（３１０、３１１、３１２．．．）を描く電気通信塔セクション（１００）が形成されることを特徴とする請求項１に記載の電気通信塔セグメント（３００）。
【請求項３】
前記第２の表面は開口凹部を１つ以上備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気通信塔セグメント。
【請求項４】
前記電気通信塔の前記セクションを構成可能とするために、前記電気通信塔セグメントは、前記電気通信塔セグメントを別の電気通信塔セグメントに接続するために適した溝を備えた側面を少なくとも１つ有すること特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電気通信塔セグメント。
【請求項５】
前記電気通信塔セグメントは、長さがほぼ９メートル、最も幅広の端部の幅がほぼ２メートルであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電気通信塔セグメント。
【請求項６】
前記電気通信塔セグメントは鉄筋コンクリート製であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電気通信塔セグメント。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の電気通信塔セグメント（３００、３０１、３０２．．．）を複数備えた電気通信塔セクション（１００）。
【請求項８】
前記電気通信塔セクションの断面が外周円を形成することを特徴とする請求項７に記載の電気通信塔セクション。
【請求項９】
前記電気通信塔セクションは、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の電気通信塔セグメントを８つ含むことを特徴とする請求項８に記載の電気通信塔セクション。
【請求項１０】
請求項４に記載の電気通信塔セグメントを含み、
前記電気通信塔セグメントは、前記電気通信塔セグメントは、他の電気通信塔セグメントに、コンクリート又は接着性を有する別の材料の注入によって接続されるために適していることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の電気通信塔セクション。
【請求項１１】
前記電気通信塔セクションは電気通信塔のベースセクションを形成するようになっていることを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の電気通信塔セクション。
【請求項１２】
複数の中実壁を有する電気通信塔（２００）であって、
前記電気通信塔の電気通信塔セクション（１００）を形成する複数の電気通信塔セグメント（３００）を備え、
各々の前記電気通信塔セグメントは凸状の第１の表面（３１０）を有し、
各々の前記電気通信塔セグメントは第１の端部（５１０）と第２の端部（５２０）とを有し、
前記第１の表面（３１０）および第２の表面（３２０）は前記第１の端部（５１０）から前記第２の端部（５２０）まで広がり、
前記電気通信塔セグメントは、前記第１の端部（５１０）から前記第２の端部（５２０）の方を見たときに、漸増する外周を有し、
各々の前記電気通信塔セグメントは、前記第１の表面の反対側に前記第２の表面（３２０）を有し、
開放型で成型された結果として前記第２の表面は平坦であるか、または一部平坦であり、
各々の前記電気通信塔セグメントは、前記第１の端部から前記第２の端部まで延在する１つ以上の管又は管状の空洞を備えることを特徴とする電気通信塔（２００）。
【請求項１３】
電気通信塔（２００）の電気通信塔セクション（１００）を複数の中実壁で構成するための電気通信塔セグメント（３００）の製造方法において、
前記通信塔セグメント（３００）は別の通信塔セグメント（３０１、３０２）に取り付け可能であり、これによりそれらの複数の通信塔セグメント（３００、３０１、３０２．．．）が前記通信塔の中空セクション（１００）を形成でき、
前記電気通信塔セグメントは第１の端部（５１０）と第２の端部（５２０）とを有し、
第１の表面（３１０）および第２の表面（３２０）は前記第１の端部（５１０）から前記第２の端部（５２０）まで広がり、
前記電気通信塔セグメントは、前記第１の端部（５１０）から前記第２の端部（５２０）の方を見たときに、漸増する外周を有し、
前記電気通信塔セグメントは、凸状の前記第１の表面（３１０）と、前記第１の表面の反対側の前記第２の表面（３２０）と、を有し、
前記電気通信塔セグメントは、前記第１の端部から前記第２の端部まで延在する１つ以上の管又は管状の空洞を備え、
前記電気通信塔セグメントが開放型で成型されることを特徴とする製造方法。
【請求項１４】
複数の中実壁を有する電気通信塔（２００）の建造方法において、
−電気通信塔セクション（１００）を形成するために請求項１乃至６の何れか１項に記載の電気通信塔セグメント（３００）を複数組み付けるステップと、
−前記電気通信塔セクションを前記電気通信塔のセクションとして用いるステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月10日(2012.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子百分率で少なくとも９９％のイットリウムまたは原子百分率で少なくとも９５％のイットリウム、最大４％の希土類元素及び最大１％の不可避の微量元素を含むイットリウム混合物を含む第一元素と、Ｓｉ、Ｂ、Ｇｅ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｂｉの中から選択された第二元素と、から構成された非−蒸発性のゲッター合金を用いて、水素の存在に感受性があるデバイスから水素を除去する方法であって、
前記第一元素の原子百分率が：
前記第二元素が、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉの中から選択される場合、６５から９８％の間で構成され、
前記第二元素が、Ａｇである場合、５０から９８％の間で構成され、または
前記第二元素が、Ｂである場合、３０から９８％の間で構成され、残りが、前記第二元素によって与えられることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第二元素の原子百分率が、少なくとも５％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ゲッター合金が、薄膜形状で存在することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記非−蒸発性のゲッター合金が、ガス精製システムに受け入れられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ゲッター合金が、ゲッターポンプに使用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
原子百分率で少なくとも９９％のイットリウムまたは原子百分率で少なくとも９５％のイットリウム、最大４％の希土類元素及び最大１％の他の元素を含むイットリウム混合物を含む第一元素と、Ｓｉ、Ｂ、Ｇｅ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ａｇの中から選択された第二元素と、から構成された非−蒸発性のゲッター合金を用いて、水素が除去され、
前記第一元素の原子百分率が：
前記第二元素が、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉの中から選択される場合、６５から９８％の間で構成され、
前記第二元素が、Ａｇである場合、５０から９８％の間で構成され、または
前記第二元素が、Ｂである場合、３０から９８％の間で構成され、残りが、前記第二元素によって与えられることを特徴とする水素−感受性デバイス。
【請求項７】
前記デバイスが、太陽熱収集器であることを特徴とする請求項６に記載の水素−感受性デバイス。
【請求項８】
前記第二元素が、シリコンまたはアンチモンであることを特徴とする請求項７に記載の太陽熱収集器。
【請求項９】
前記デバイスが、照明であることを特徴とする請求項６に記載の水素−感受性デバイス。
【請求項１０】
前記第二元素が、Ｓｉ、Ｂ、Ｇｅの中から選択されることを特徴とする請求項９に記載の照明。
【請求項１１】
前記デバイスが、ゲッターポンプであることを特徴とする請求項６に記載の水素−感受性デバイス。
【請求項１２】
前記第二元素が、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｂｉの中から選択されることを特徴とする請求項１１に記載のゲッターポンプ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月11日(2012.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明のコーティングが多くの異なる方法で使用され得るが、良好な性質が実証されたという点で、本発明による、基本材料即ち前記摺動部材の材料としては、鋳鉄又は鋼が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月6日(2012.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブラシ、特に歯ブラシのための剛毛フィールドを製造するための方法であって、該方法は剛毛束（５）を、貯えられた剛毛サプライ（１０１）から分断して、ガス流または空気流（Ｐｆ１）によって搬送し、かつセンタプレート（２１）に設けられた穿孔（２２）内に導入する方法であって、センタプレート（２１）に設けられた穿孔（２２）内に引込み可能な孔ピン（４３ｂ）によって、軸方向で互いにずらされて位置する剛毛フィラメント（５ａ，５ｂ）を、センタプレート（２１）の同一の孔（２２）の内部で押し合わせ、剛毛束（５）を、センタプレート（２１）に設けられた穿孔（２２）内に引込み可能な前記孔ピン（４３ｂ）によってセンタプレート（２１）から除去して、剛毛束（５）を収容するための複数の穿孔（１０８）を有し、ただし該穿孔（１０８）の横断面はそれぞれ該穿孔（１０８）に供給された剛毛束（５）の横断面よりも小さく形成されているコンパクタプレート（１０６）内へ移送し、このときに剛毛束（５）の剛毛密度を高めることを特徴とする、ブラシのための剛毛フィールドを製造するための方法。
【請求項２】
センタプレート（２１）内に保持された剛毛束（５）を、まず輪郭プレート（１０５）内へ移送し、このときにセンタプレート（２１）の個々の剛毛束（５）を輪郭プレート（１０５）内で合流させて、より大きな１つの共通の剛毛束（５）を形成し、かつ／または前記個々の剛毛束（５）の横断面を変え、該剛毛束（５）を引き続き輪郭プレート（１０５）からコンパクタプレート（１０６）内へ移送する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
センタプレート（２１）に設けられたそれぞれ１つの穿孔（２２）内に、軸方向で互いにずらされた状態で複数の剛毛束（５）を順次に導入し、該剛毛束（５）を、輪郭プレート（１０５）またはコンパクタプレート（１０６）への移送前に、センタプレート（２１）の穿孔（２２）内へ引込み可能な孔ピン（４３ｂ）によって押し合わせる、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
剛毛束（５）の使用側端部をプロファイリングし、剛毛束（５）の、使用側端部とは反対の側の端部を面一に切り揃える、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
剛毛束（５）の結合側の端部を溶融させ、かつ／または該端部を取り囲むようにプラスチック材料を射出成形してブラシヘッドを形成する、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記溶融または射出成形による取り囲みの前に、剛毛束（５）をコンパクタプレート（１０６）から型カセット内へ移送する、請求項５記載の方法。
【請求項７】
特に請求項１から６までのいずれか１項記載の方法を実施するための、ブラシ、特に歯ブラシのための剛毛フィールドを製造するための装置であって、貯えられた剛毛サプライ（１０１）と、該剛毛サプライ（１０１）から個々の剛毛束（５）を取り出すための取出し装置（１０２）と、ガス流または空気流（Ｐｆ１）によって、センタプレート（２１）に設けられた穿孔（２２）内に剛毛束（５）を搬送するための搬送装置（１０３）とが設けられている形式の装置において、軸方向で互いにずらされて位置する剛毛フィラメント（５ａ，５ｂ）を、センタプレート（２１）の同一の孔（２２）の内部で押し合わせるために、センタプレート（２１）に設けられた穿孔（２２）内に引込み可能な孔ピン（４３ｂ）が設けられており、センタプレート（２１）の下流側にコンパクタプレート（１０６）が配置されており、該コンパクタプレート（１０６）が、剛毛束（５）を収容するための複数の穿孔（１０８）を有しており、該穿孔（１０８）の横断面が、それぞれ各穿孔（１０８）に供給された剛毛束（５）の横断面よりも小さく形成されており、さらに、センタプレート（２１）からコンパクタプレート（１０６）へ剛毛束（５）を送るための、センタプレート（２１）に設けられた穿孔（２２）内に引込み可能な孔ピン（４３ｂ）を備えた装置が設けられていることを特徴とする、ブラシのための剛毛フィールドを製造するための装置。
【請求項８】
コンパクタプレート（１０６）が輪郭プレート（１０５）の下流側に配置されており、該輪郭プレート（１０５）が複数の穿孔（１０７）を有していて、これらの穿孔（１０７）のうち少なくとも１つの穿孔（１０７）が、センタプレート（２１）の少なくとも２つの剛毛束（５）を収容するために寸法決めされており、かつ／またはセンタプレート（２１）の対応する穿孔（２２）の横断面とは異なる横断面を有している、請求項７記載の装置。
【請求項９】
搬送装置（１０３）が、センタプレート（２１）の穿孔（２２）の数に適合された数の中空管路（１０４）を有している、請求項７または８記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月7日(2012.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体内悪性組織のための粒子線照射処理装置の制御方法であって、
ａ）照射されるべき所定照射野に関する診断データを得るステップと、
ｂ）前記所定照射野に関する診断データに基づいて、前記所定照射野における粒子範囲を計算するステップと、
ｃ）計算された前記粒子範囲に基づいて粒子線特性、および、任意選択的に、計算された線量深度分布を含む照射モデルを設計するステップと、
ｄ）前記照射モデルの粒子線特性と比べて高いビームエネルギーで、前記所定照射野にシングルペンシルビームショットを印加するステップと、
ｅ）前記シングルペンシルビームショットのビーム範囲を前記所定照射野の下流側で測定するステップと、
ｆ）前記測定されたビーム範囲と、前記照射モデルに基づいて計算された参照ビーム範囲とを比較するステップと、
を備える、ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記粒子範囲を、ＣＴハウンズフィールド単位を粒子阻止能に変換する較正曲線に基づいて計算する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ステップｆ）における比較結果を、当該結果が予め定めたしきい値を超えるとき、前記構成曲線の補正に用いる、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記シングルペンシルビームショットの侵入点の位置を、前記所定照射野の不均一性に依存して定める、請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記ビーム範囲の測定は、ブラッグピークおよび／または前記シングルペンシルビームショットのブラッグピークの低下の測定を含む、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記ビーム範囲の測定を、１０ｍｍ未満の空間解像度で行う、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記ビーム範囲の測定を、５ｍｍ未満の空間解像度で行う、請求項５記載の方法。
【請求項８】
前記粒子線は陽子線である、請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
生体内悪性組織のための粒子線照射処理装置であって、
ａ）照射されるべき所定照射野に関する診断データを得る手段と、
ｂ）前記所定照射野に関する診断データに基づいて、前記所定照射野における粒子範囲を計算する手段と、
ｃ）計算された前記粒子範囲に基づいて粒子線特性、および、任意選択的に、計算された線量深度分布を含む照射モデルを設計する手段と、
ｄ）前記照射モデルの粒子線特性と比べて高いビームエネルギーで、前記所定照射野にシングルペンシルビームショットを印加する手段と、
ｅ）前記シングルペンシルビームショットのビーム範囲を前記所定照射野の下流側で測定する手段と、
ｆ）前記測定されたビーム範囲と、前記照射モデルに基づいて計算された参照ビーム範囲とを比較する手段と、
を備える、ことを特徴とする粒子線照射処理装置。
【請求項１０】
前記粒子範囲を、ＣＴハウンズフィールド単位を粒子阻止能に変換する較正曲線に基づいて計算する手段をさらに備える、請求項９記載の粒子線照射処理装置。
【請求項１１】
前記比較結果において、当該結果が予め定めたしきい値を超えるとき、前記構成曲線の補正に用いる、請求項１０記載の粒子線照射処理装置。
【請求項１２】
前記シングルペンシルビームショットの侵入点の位置を、前記所定照射野の不均一性に依存して定める、請求項９〜１１のいずれか１項記載の粒子線照射処理装置。
【請求項１３】
前記ビーム範囲の測定は、ブラッグピークおよび／または前記シングルペンシルビームショットのブラッグピークの低下の測定を含む、請求項９〜１２のいずれか１項記載の粒子線照射処理装置。
【請求項１４】
前記ビーム範囲の測定を、１０ｍｍ未満の空間解像度で行う、請求項１３記載の粒子線照射処理装置。
【請求項１５】
前記ビーム範囲の測定を、５ｍｍ未満の空間解像度で行う、請求項１３記載の粒子線照射処理装置。
【請求項１６】
前記粒子線は陽子線である、請求項９〜１５のいずれか１項記載の粒子線照射処理装置。