【手続補正書】
【提出日】平成26年2月20日(2014.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子分析器の中の粒子サンプルに対して測定パラメータを生成する方法であって、
（ａ）調査領域の長さに沿ってそれぞれ設置された調査器を用いて該粒子サンプルを調査することであって、該調査器は、始動調査器および１つ以上の二次調査器を備える、ことと、
（ｂ）該粒子サンプルからの第１の粒子の調査に基づいて、それぞれのパルスを生成することであって、該パルスは、該始動調査器に対応する始動パルスと、該二次調査器のうちの１つに対応する二次パルスとを備える、ことと、
（ｃ）該始動パルスに基づいて、一次パルス検出ウィンドウを決定することと、
（ｄ）該一次パルス検出ウィンドウおよび該第１の粒子の速度を含む因子に基づいて、該二次パルスを見出すための検査間隔を決定することと、
（ｅ）該第１の粒子の調査に基づいて動的に、該第１の粒子の速度の変動に対して該検査間隔を調整することと、
（ｆ）該調整された検査間隔の中の該二次パルスを識別することと、
（ｇ）該二次パルスのピーク値を決定するように該二次パルスを処理することと
を含む、方法。
【請求項２】
（ｈ）前記二次パルスのパルス幅値を決定するように該二次パルスを処理することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記パルス幅値は、前記二次パルスの前記ピーク値の所定の割合である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記調整するステップ（ｅ）は、
前記第１の粒子の調査に基づいて、調整のサイズを決定することと、
該調整のサイズに比例して前記検査間隔を増加させることと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記検査間隔は、前記一次パルス検出ウィンドウおよび前記第１の粒子の速度を含む因子に基づいて決定される二次パルス検出ウィンドウを備え、前記調整するステップ（ｅ）は、
該二次パルス検出ウィンドウの中の前記二次パルスの部分を識別することと、
該二次パルス検出ウィンドウの外側の該二次パルスの部分を含むように、該検査間隔を拡張することと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記二次パルス検出ウィンドウの継続時間は、前記一次パルス検出ウィンドウの継続時間に所定のウィンドウ拡張を加えたものに実質的に等しい、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記二次パルスを処理するステップ（ｇ）は、
（ｉ）前記二次パルス検出ウィンドウの内側の該二次パルスの部分に基づいて、該二次パルスに対する初期ピーク値を決定することと、
（ｉｉ）該初期ピーク値の所定の閾値において、該二次パルスを検出することと、
（ｉｉｉ）該二次パルスに対して検出される最高値を繰り返し記憶することと
を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
ステップ（ｉｉ）−（ｉｉｉ）は、前記二次パルスの再処理中に行われる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
検査間隔を決定するステップ（ｄ）は、
前記一次パルス検出ウィンドウの発生時間を決定することと、
前記始動調査器と前記二次調査器との間のレーザ遅延を決定することと、
該一次パルス検出ウィンドウの該発生時間および該レーザ遅延に基づいて、前記二次パルス検出ウィンドウの発生時間を計算することと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記レーザ遅延は、前記一次調査器から前記二次調査器までの分離距離、および前記第１の粒子の速度に基づいて決定される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記検査間隔を決定するステップ（ｄ）は、
前記一次パルス検出ウィンドウの継続時間を決定することと、
該一次パルス検出ウィンドウの該継続時間に基づいて、前記二次パルス検出ウィンドウの継続時間を設定することと
をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記二次パルス検出ウィンドウの前記継続時間を設定することは、所定のウィンドウ拡張にさらに基づいている、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記距離は、前記一次パルス検出ウィンドウの中心から測定される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
ステップ（ｃ）は、
所定のパルス閾値に対応する前記始動パルスにおける第１および第２の位置を検出することと、
該第１および第２の位置に基づいて、前記一次パルス検出ウィンドウを決定することと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記検査間隔は、前記一次パルス検出ウィンドウおよび前記第１の粒子の速度を含む因子に基づいて決定される二次パルス検出ウィンドウを備え、前記調整するステップ（ｅ）は、
前記第１の粒子に印加される摂動信号の特性を検出することと、
該一次パルス検出ウィンドウおよび該摂動信号の特性を含む因子に基づいて、該二次パルス検出ウィンドウをシフトすることと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記摂動信号は、前記粒子サンプルが通過させられるノズルに印加され、該ノズルは、前記調査器の前に設置される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記特性は、前記信号が前記第１の粒子に印加されている間の前記摂動信号の位相を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記摂動信号は、正弦波である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
（ｉ）前記二次パルスの前記ピーク値を報告することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
粒子分析器の中の粒子サンプルの測定パラメータを生成する方法であって、
（ａ）調査領域の長さに沿ってそれぞれ設置された調査器を用いて該粒子サンプルを調査することであって、該調査器は、始動調査器および１つ以上の二次調査器を備える、ことと、
（ｂ）該粒子サンプルからの第１の粒子の調査に基づいて、それぞれのパルスを生成することであって、該パルスは、該始動調査器に対応する始動パルスおよび該二次調査器のうちの１つに対応する二次パルスを備える、ことと、
（ｃ）該始動パルスに基づいて、一次パルス検出ウィンドウを決定することと、
（ｄ）該一次パルス検出ウィンドウおよび該第１の粒子の速度を含む因子に基づいて、二次パルス検出ウィンドウを決定することと、
（ｅ）該第１の粒子に印加される摂動信号の特性を検出することと、
（ｆ）該摂動信号の特性に基づいて、該二次パルス検出ウィンドウをシフトすることと、
（ｇ）調整された検査間隔の中の該二次パルスを識別することと、
（ｈ）該二次パルスの測定パラメータを決定するように該二次パルスを処理することと
を含む、方法。
【請求項２１】
少なくとも１つのプロセッサと、
該少なくとも１つのプロセッサに連結される粒子調査器であって、該粒子調査器は、
粒子流動の長さに沿ってそれぞれ設置された調査器を用いて粒子サンプルを調査することであって、該調査器は、始動調査器および１つ以上の二次調査器を備える、ことと、
該粒子サンプルからの第１の粒子の調査に基づいて、それぞれのパルスを生成することであって、該パルスは、該始動調査器に対応する始動パルスおよび該二次調査器のうちの１つに対応する二次パルスを備える、ことと
を行うように構成される、粒子調査器と、
該少なくとも１つのプロセッサに連結されるパルス分析器であって、該パルス分析器は、
一次パルス検出ウィンドウ作成器であって、
該始動パルスに基づいて一次パルス検出ウィンドウを決定するように構成される一次パルス検出ウィンドウ作成器と、
二次パルス検出ウィンドウ作成器であって、
該一次パルス検出ウィンドウおよび該第１の粒子の速度を含む因子に基づいて、該二次パルスを見出すための検査間隔を決定することと、
該第１の粒子に基づいて動的に、該第１の粒子の速度の変動に対して該検査間隔を調整することと
を行うように構成される二次パルス検出ウィンドウ作成器と、
二次パルスパラメータ発生器であって、
該調整された検査間隔の中の該二次パルスを識別することと、
該二次パルスのピーク値を決定するために、該二次パルスを処理することと
を行うように構成される二次パルスパラメータ発生器と
を備える、パルス分析器と
を備える、粒子分析器。
【請求項２２】
前記少なくとも１つのプロセッサに連結され、前記パルス分析器からパラメータを受信するように構成されるデータ分析器と、
該少なくとも１つのプロセッサに連結されるディスプレイと
をさらに備える、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記検査間隔は、前記一次パルス検出ウィンドウおよび前記第１の粒子の速度を含む因子に基づいて決定される二次パルス検出ウィンドウを備え、前記二次パルス検出ウィンドウ作成器は、
該二次パルス検出ウィンドウの中の前記二次パルスの部分を識別することと、
該二次パルス検出ウィンドウの外側の該二次パルスの部分を含むように該検査間隔を拡張することと
を行うようにさらに構成される、請求項２１に記載の装置。
【請求項２４】
前記検査間隔は、前記一次パルス検出ウィンドウおよび前記第１の粒子の速度を含む因子に基づいて決定される二次パルス検出ウィンドウを備え、前記二次パルス検出ウィンドウ作成器は、
前記第１の粒子に印加される摂動信号の特性を検出することと、
該一次パルス検出ウィンドウおよび該摂動信号の特性を含む因子に基づいて、該二次パルス検出ウィンドウをシフトすることと
を行うようにさらに構成される、請求項２１に記載の装置。
【請求項２５】
調査領域の長さに沿ってそれぞれ設置された調査器を用いて粒子サンプルのパラメータをコンピュータに生成させるためのプログラムを記録したコンピュータ可読記憶媒体であって、該調査器は、始動調査器および１つ以上の二次調査器を備え、該プログラムは、
始動パルスに基づいて、一次パルス検出ウィンドウを決定するステップと、
該一次パルス検出ウィンドウおよび該第１の粒子の速度を含む因子に基づいて、二次パルスを見出すための検査間隔を決定するステップと、
第１の粒子に基づいて動的に、該第１の粒子の速度の変動に対して該検査間隔を調整するステップと、
該調整された検査間隔の中の該二次パルスを識別するステップと、
該二次パルスのピーク値を決定するように該二次パルスを処理するステップと
を該コンピュータに実行させる、コンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに別の実施形態は、少なくとも１つのプロセッサ、粒子調査器およびパルス分析器を含む粒子分析器である。粒子調査器は、調査領域の長さに沿ってそれぞれ設置された調査器を用いて粒子サンプルを調査するように構成され、調査器は、始動調査器および１つ以上の二次調査器を備え、粒子サンプルからの第１の粒子の調査に基づいてそれぞれのパルスを生成するように構成され、パルスは、始動調査器に対応する始動パルスと、二次調査器のうちの１つに対応する二次パルスとを備える。パルス分析器は、始動パルスに基づいて、一次パルス検出ウィンドウを決定するように構成される一次パルス検出ウィンドウ作成器と、一次パルス検出ウィンドウおよびレーザ遅延を含む因子に基づいて、該二次調査器のうちの１つに対応する検査間隔を決定するように構成される二次パルス検出ウィンドウ作成器と、二次パルスパラメータ発生器とを含む。二次パルス検出ウィンドウ作成器はまた、第１の粒子の調査に基づいて、レーザ遅延変動に合わせて検査間隔を動的に調整するように構成することもできる。二次パルスパラメータ発生器は、調整された検査間隔の中の二次パルスを識別し、二次パルスを処理して二次パルスのピーク値を決定するように構成される。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
（項目１）
粒子分析器の中の粒子サンプルに対して測定パラメータを生成する方法であって、
（ａ）調査領域の長さに沿ってそれぞれ設置された調査器を用いて該粒子サンプルを調査することであって、該調査器は、始動調査器および１つ以上の二次調査器を備える、ことと、
（ｂ）該粒子サンプルからの第１の粒子の調査に基づいて、それぞれのパルスを生成することであって、該パルスは、該始動調査器に対応する始動パルスと、該二次調査器のうちの１つに対応する二次パルスとを備える、ことと、
（ｃ）該始動パルスに基づいて、一次パルス検出ウィンドウを決定することと、
（ｄ）該一次パルス検出ウィンドウおよびレーザ遅延を含む因子に基づいて、該二次パルスを見出すための検査間隔を決定することと、
（ｅ）該第１の粒子の調査に基づいて動的に、レーザ遅延変動に対して該検査間隔を調整することと、
（ｆ）該調整された検査間隔の中の該二次パルスを識別することと、
（ｇ）該二次パルスのピーク値を決定するように該二次パルスを処理することと
を含む、方法。
（項目２）
（ｈ）前記二次パルスのパルス幅値を決定するように該二次パルスを処理することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記パルス幅値は、前記二次パルスの前記ピーク値の所定の割合である、項目２に記載の方法。
（項目４）
前記調整するステップ（ｅ）は、
前記第１の粒子の調査に基づいて、調整のサイズを決定することと、
該調整のサイズに比例して前記検査間隔を増加させることと
を含む、項目１に記載の方法。
（項目５）
前記検査間隔は、前記一次パルス検出ウィンドウおよびレーザ遅延を含む因子に基づいて決定される二次パルス検出ウィンドウを備え、前記調整するステップ（ｅ）は、
該二次パルス検出ウィンドウの中の前記二次パルスの部分を識別することと、
該二次パルス検出ウィンドウの外側の該二次パルスの部分を含むように、該検査間隔を拡張することと
を含む、項目１に記載の方法。
（項目６）
前記二次パルス検出ウィンドウの継続時間は、前記一次パルス検出ウィンドウの継続時間に所定のウィンドウ拡張を加えたものに実質的に等しい、項目５に記載の方法。
（項目７）
前記二次パルスを処理するステップ（ｇ）は、
（ｉ）前記二次パルス検出ウィンドウの内側の該二次パルスの部分に基づいて、該二次パルスに対する初期ピーク値を決定することと、
（ｉｉ）該初期ピーク値の所定の閾値において、該二次パルスを検出することと、
（ｉｉｉ）該二次パルスに対して検出される最高値を繰り返し記憶することと
を含む、項目５に記載の方法。
（項目８）
ステップ（ｉｉ）−（ｉｉｉ）は、前記二次パルスの再処理中に行われる、項目７に記載の方法。
（項目９）
検査間隔を決定するステップ（ｄ）は、
前記一次パルス検出ウィンドウの発生時間を決定することと、
前記始動調査器と前記二次調査器との間の前記レーザ遅延を決定することと、
該一次パルス検出ウィンドウの該発生時間および該レーザ遅延に基づいて、前記二次パルス検出ウィンドウの発生時間を計算することと
を含む、項目１に記載の方法。
（項目１０）
前記レーザ遅延は、前記一次調査器から前記二次調査器までの分離距離、および前記第１の粒子の速度に基づいて決定される、項目９に記載の方法。
（項目１１）
前記検査間隔を決定するステップ（ｄ）は、
前記一次パルス検出ウィンドウの継続時間を決定することと、
該一次パルス検出ウィンドウの該継続時間に基づいて、前記二次パルス検出ウィンドウの継続時間を設定することと
をさらに含む、項目９に記載の方法。
（項目１２）
前記二次パルス検出ウィンドウの前記継続時間を設定することは、所定のウィンドウ拡張にさらに基づいている、項目１１に記載の方法。
（項目１３）
前記距離は、前記一次パルス検出ウィンドウの中心から測定される、項目１０に記載の方法。
（項目１４）
ステップ（ｃ）は、
所定のパルス閾値に対応する前記始動パルスにおける第１および第２の位置を検出することと、
該第１および第２の位置に基づいて、前記一次パルス検出ウィンドウを決定することと
を含む、項目１に記載の方法。
（項目１５）
前記検査間隔は、前記一次パルス検出ウィンドウおよびレーザ遅延を含む因子に基づいて決定される二次パルス検出ウィンドウを備え、前記調整するステップ（ｅ）は、
前記第１の粒子に印加される摂動信号の特性を検出することと、
該一次パルス検出ウィンドウおよび該摂動信号の特性を含む因子に基づいて、該二次パルス検出ウィンドウをシフトすることと
を含む、項目１に記載の方法。
（項目１６）
前記摂動信号は、前記粒子サンプルが通過させられるノズルに印加され、該ノズルは、前記調査器の前に設置される、項目１５に記載の方法。
（項目１７）
前記特性は、前記信号が前記第１の粒子に印加されている間の前記摂動信号の位相を含む、項目１５に記載の方法。
（項目１８）
前記摂動信号は、正弦波である、項目１７に記載の方法。
（項目１９）
（ｉ）前記二次パルスの前記ピーク値を報告することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目２０）
粒子分析器の中の粒子サンプルの測定パラメータを生成する方法であって、
（ａ）調査領域の長さに沿ってそれぞれ設置された調査器を用いて該粒子サンプルを調査することであって、該調査器は、始動調査器および１つ以上の二次調査器を備える、ことと、
（ｂ）該粒子サンプルからの第１の粒子の調査に基づいて、それぞれのパルスを生成することであって、該パルスは、該始動調査器に対応する始動パルスおよび該二次調査器のうちの１つに対応する二次パルスを備える、ことと、
（ｃ）該始動パルスに基づいて、一次パルス検出ウィンドウを決定することと、
（ｄ）該一次パルス検出ウィンドウおよびレーザ遅延を含む因子に基づいて、二次パルス検出ウィンドウを決定することと、
（ｅ）該第１の粒子に印加される摂動信号の特性を検出することと、
（ｆ）該摂動信号の特性に基づいて、該二次パルス検出ウィンドウをシフトすることと、
（ｇ）調整された検査間隔の中の該二次パルスを識別することと、
（ｈ）該二次パルスの測定パラメータを決定するように該二次パルスを処理することと
を含む、方法。
（項目２１）
少なくとも１つのプロセッサと、
該少なくとも１つのプロセッサに連結される粒子調査器であって、該粒子調査器は、
流動粒子の長さに沿ってそれぞれ設置された調査器を用いて粒子サンプルを調査することであって、該調査器は、始動調査器および１つ以上の二次調査器を備える、ことと、
該粒子サンプルからの第１の粒子の調査に基づいて、それぞれのパルスを生成することであって、該パルスは、該始動調査器に対応する始動パルスおよび該二次調査器のうちの１つに対応する二次パルスを備える、ことと
を行うように構成される、粒子調査器と、
該少なくとも１つのプロセッサに連結されるパルス分析器であって、該パルス分析器は、
一次パルス検出ウィンドウ作成器であって、
該始動パルスに基づいて一次パルス検出ウィンドウを決定するように構成される一次パルス検出ウィンドウ作成器と、
二次パルス検出ウィンドウ作成器であって、
該一次パルス検出ウィンドウおよびレーザ遅延を含む因子に基づいて、該二次パルスを見出すための検査間隔を決定することと、
該第１の粒子に基づいて動的に、レーザ遅延変動に対して該検査間隔を調整することと
を行うように構成される二次パルス検出ウィンドウ作成器と、
二次パルスパラメータ発生器であって、
該調整された検査間隔の中の該二次パルスを識別することと、
該二次パルスのピーク値を決定するために、該二次パルスを処理することと
を行うように構成される二次パルスパラメータ発生器と
を備える、パルス分析器と
を備える、粒子分析器。
（項目２２）
前記少なくとも１つのプロセッサに連結され、前記パルス分析器からパラメータを受信するように構成されるデータ分析器と、
該少なくとも１つのプロセッサに連結されるディスプレイと
をさらに備える、項目２１に記載の装置。
（項目２３）
前記検査間隔は、前記一次パルス検出ウィンドウおよびレーザ遅延を含む因子に基づいて決定される二次パルス検出ウィンドウを備え、前記二次パルス検出ウィンドウ作成器は、
該二次パルス検出ウィンドウの中の前記二次パルスの部分を識別することと、
該二次パルス検出ウィンドウの外側の該二次パルスの部分を含むように該検査間隔を拡張することと
を行うようにさらに構成される、項目２１に記載の装置。
（項目２４）
前記検査間隔は、前記一次パルス検出ウィンドウおよびレーザ遅延を含む因子に基づいて決定される二次パルス検出ウィンドウを備え、前記二次パルス検出ウィンドウ作成器は、
前記第１の粒子に印加される摂動信号の特性を検出することと、
該一次パルス検出ウィンドウおよび該摂動信号の特性を含む因子に基づいて、該二次パルス検出ウィンドウをシフトすることと
を行うようにさらに構成される、項目２１に記載の装置。
（項目２５）
コンピュータ使用可能媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、該媒体は、調査領域の長さに沿ってそれぞれ設置された調査器を用いて粒子サンプルのパラメータをコンピュータに生成させるための記憶された制御論理をその中に有し、該調査器は、始動調査器および１つ以上の二次調査器を備え、該制御論理は、
始動パルスに基づいて、一次パルス検出ウィンドウを決定することと、
該一次パルス検出ウィンドウおよびレーザ遅延を含む因子に基づいて、二次パルスを見出すための検査間隔を決定することと、
第１の粒子に基づいて動的に、レーザ遅延変動に対して該検査間隔を調整することと、
該調整された検査間隔の中の該二次パルスを識別することと、
該二次パルスのピーク値を決定するように該二次パルスを処理することと
を含む、製品。