Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月13日(2012.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光源を具備する照明システムを制御するためのシステムであって、
前記光源の一つ以上の属性をコード化する、空間的光パターンが作られるという点で前記光源を制御するための当該光システムコントローラと、作られた空間的光パターンを捕捉し、捕捉された空間的光パターンに基づいて一つ以上の光源の制御を可能にするため、前記光システムコントローラと通信するための光パターン捕捉装置とを有するシステム。
【請求項２】
前記光システムコントローラは、前記空間的光パターンを作るように前記光源を設定するため、制御コードを前記光源へ伝送することにより前記光源を制御する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記光システムコントローラは、各光源の固有の識別子がコード化されるという点で前記空間的光パターンを作る前記光源を制御する、請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項４】
前記捕捉された空間的光パターンの処理が供給され、
前記捕捉された空間的光パターンの処理が、各光源の前記固有の識別子をデコードすることを有し、
前記光システムコントローラとの通信は、デコードされた固有の識別子を、前記光パターン捕捉装置から前記光システムコントローラへ送信することを有する、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記光システムコントローラは、所定の期間、種々異なる空間的光パターンが作られるという点で、時間的に変化する空間的光パターンを作るように前記光源を制御する、請求項１、２、３又は４に記載のシステム。
【請求項６】
作られた空間的光パターンを捕捉することは、前記所定の期間、作られた空間的光パターンをスキャンすることを有し、
捕捉された空間的光パターンを処理することは、連続する空間的光パターン間の差がポイント位置を検出するために処理されるという点で、スキャンされた空間的光パターンを解析することにより前記光パターン捕捉装置の前記ポイント位置を検出することを有する、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
これらの位置で光効果を調整するための前記光パターン捕捉装置の多くのポイント位置を選択すること、及び
選択されたポイント位置間に位置づけられる前記光源に対する補間光設定パラメータを計算することを更に有する、請求項１乃至６の何れか一項に記載のシステム。
【請求項８】
前記光システムコントローラとの通信は、捕捉された空間的光パターンに基づいて、前記光システムの前記光源を試運転するため、前記光システムコントローラを指示するユーザ命令を伝送することを有する、請求項１乃至７の何れか一項に記載のシステム。
【請求項９】
前記光システムコントローラとの通信は、捕捉された空間的光パターン及びユーザ入力に基づいて、前記照明システム内の前記光源で所望の照明シーンを作るように前記光システムコントローラを指示するユーザ命令を伝送することを有する、請求項１乃至８の何れか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れか一項に記載のシステムの光システムコントローラから制御コードを受信すると、前記光源の属性をコード化する、空間的光パターンを作る光パターン生成器を有する、請求項１乃至９の何れか一項に記載のシステムでのアプリケーション用壁面照明又はダウンライト光源。
【請求項１１】
前記光パターン生成器は、更に、作られた空間パターンで前記光源のアドレスをコード化する、請求項１０に記載の光源。
【請求項１２】
請求項１乃至９の何れか一項に記載のシステムの一つ以上の光源により作られた空間的光パターンを捕捉する空間的光パターン捕捉ユニットであって、ＣＣＤセンサ若しくはＣＭＯＳセンサ、機械的走査装置、又は光を検出できるバーコード走査ユニットである前記空間的光パターン捕捉ユニットと、
捕捉された光パターンでデコードされた前記光源の属性をデコードする光パターン処理及びデコードユニットと、
受信した属性が関係する、前記光源を制御するための光システムコントローラへ、デコードされた属性を通信する通信ユニットとを有する、
請求項１乃至９の何れか一項に記載のシステムでのアプリケーション用光パターン捕捉装置。
【請求項１３】
複数の光源で照明システムを制御するための方法であって、
前記光源の一つ以上の属性をコード化する空間的光パターンを作るように前記光源を設定するため、前記光源を制御するステップと、
作られた空間的光パターンを捕捉し、捕捉された空間的光パターンに基づいて、前記光源を制御するステップと、を有する方法。
【請求項１４】
プロセッサにより請求項１３に記載の方法を実施可能にするコンピュータプログラム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のコンピュータプログラムを格納する記録担体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月25日(2012.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学機械研磨用の安定なコロイド分散液であって：
（ａ）研磨剤成分、並びに
（ｂ）研磨剤成分の０．０５％〜１０重量％の：
（ｉ）１以上のカチオン性モノマー単位を含む少なくとも１つのパートＢ、及び
（ｉｉ）１以上のアニオン性モノマー単位を含む少なくとも１つのパートＡ
を含む水溶性ポリマー
を含み、１．５〜６のｐＨを有する、分散液。
【請求項２】
前記少なくとも１つのパートＢが少なくとも１つの高分子鎖Ｂを含み、前記少なくとも１つのパートＡは前記少なくとも１つの高分子鎖Ｂの一端に結合し、前記高分子鎖Ｂが第４級アンモニウム基又はイニウム基を有する１以上のエチレン性不飽和モノマー由来であり、前記パートＡが少なくとも１つのアニオン性基を含むポリマー又は非ポリマー基である、請求項１に記載の分散液。
【請求項３】
前記分散液が、窒化ケイ素及び酸化ケイ素を含む基材を少なくとも５０の逆選択比で研磨できる、請求項１に記載の分散液。
【請求項４】
前記分散液が、窒化ケイ素及び酸化ケイ素を含む基材を３０〜１２０の逆選択比（前記逆選択比と、酸化ケイ素の除去速度に対する窒化ケイ素の除去速度の比）で研磨できる、請求項１に記載の分散液。
【請求項５】
前記１以上のエチレン性不飽和モノマーが、トリメチルアンモニオプロピルメタクリレートクロリド、トリメチルアンモニオエチルアクリルアミド、トリメチルアンモニオエチルメタクリルアミドクロリド、トリメチルアンモニオエチルメタクリルアミドブロミド、トリメチルアンモニオブチルアクリルアミド、トリメチルアンモニオメチルアクリルアミドメチルスルフェート、トリメチルアンモニオプロピルメタクリルアミドメチルスルフェート（ＭＡＰＴＡ  ＭｅＳ）、（３−メタクリルアミドプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド（ＭＡＰＴＡＣ）、（３−アクリルアミドプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド（ＡＰＴＡＣ）、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリドメチルスルフェート、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム塩（ＡＤＡＭＱＵＡＴ）、１−エチル−２−ビニルピリジニウム、１−エチル−４−ビニルピリジニウムブロミド、１−エチル−２−ビニルピリジニウム、１−エチル−４−ビニルピリジニウムクロリド、１−エチル−２−ビニルピリジニウム、１−エチル−４−ビニルピリジニウムメチルスルフェート、Ｎ，Ｎ−ジメチルジアリルアンモニウムクロリド（ＤＡＤＭＡＣ）、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、Ｎ−（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド（ＤＩＱＵＡＴ）、式：
【化１】
2012503880.tif 000001
（式中、Ｘ-はアニオンである）のモノマー、またはそれらの混合物を含む、請求項２に記載の分散液。
【請求項６】
前記研磨剤成分が：
（ａ）セリウム、チタン、ケイ素、ジルコニウム、マンガン、アルミニウム又は鉄の酸化物、水酸化物又はオキシ水酸化物、
（ｂ）セリウムの酸化物、水酸化物又はオキシ水酸化物と、希土類金属又はスズから選択される少なくとも１つの他の元素との混合物、及び
（ｃ）ジルコニウムの酸化物、水酸化物又はオキシ水酸化物と、三価希土類金属の酸化物、水酸化物又はオキシ水酸化物との混合物
からなる群から選択される粒子を含む、請求項１に記載の分散液。
【請求項７】
基材を化学機械研磨する方法であって：
（ａ）窒化ケイ素層及び酸化ケイ素層を含む基材をコロイド分散液と接触させ（前記分散液は：
（ｉ）研磨剤成分、及び
（ｉｉ）研磨剤成分の０．３重量％〜５重量％の：
（ａａ）１以上のカチオン性モノマー単位を含む少なくとも１つのパートＢ、及び
（ｂｂ）１以上のアニオン性モノマー単位を含む少なくとも１つのパートＡ
を含む水溶性両性ポリマーを含み、
前記分散液は１．５〜６のｐＨを有する）、そして
（ｂ）前記基材に対してＣＭＰプロセスを実施する
ことを含む、方法。
【請求項８】
前記基材が少なくとも２７の逆選択比（前記逆選択比とは、窒化ケイ素層除去速度の酸化ケイ素層除去速度に対する比である）で研磨される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
基材を化学機械研磨するための方法であって：
（ａ）窒化ケイ素層及び酸化ケイ素層を含む基材をコロイド分散液と接触させ、前記分散液は窒化ケイ素層を加水分解することができ、これによって加水分解された窒化ケイ素層は機械的除去を受け易くなり、これによって基材を少なくとも２７の逆選択比（前記逆選択比とは、窒化ケイ素層除去速度の酸化ケイ素層除去速度に対する比である）で研磨し、そして
（ｂ）基材に関してＣＭＰプロセスを実施することを含む、方法。
【請求項１０】
前記分散液が：
（ａ）研磨剤成分、並びに
（ｂ）研磨剤成分の０．３重量％〜５重量％の：
（ｉ）１以上のカチオン性モノマー単位を含む少なくとも１つのパートＢ、及び
（ｉｉ）１以上のアニオン性モノマー単位を含む少なくとも１つのパートＡを含む、水性両性ポリマー
を含み、前記分散液が１．５〜６のｐＨを有する、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月25日(2012.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−  基板（１）と、
−  第１の電極（２）と、
−  第２の電極（４）と、
−  前記電極の少なくとも一方と電気伝導性に接続されるように配置されている電子伝導性層（３）とを有し、
前記電子伝導性層（３）は、金属中心原子を有する金属錯体と有機化合物との一緒の蒸着によって得られ、
前記一緒の蒸着によって、前記有機化合物は前記金属錯体に配位する、
有機エレクトロニクス素子。
【請求項２】
前記金属錯体は１つより多い金属中心原子を有する、請求項１記載の有機エレクトロニクス素子。
【請求項３】
前記金属中心原子又は複数の金属中心原子は、Ｃｒ、Ｍｏ又はＷから選択される、請求項１または２記載の有機エレクトロニクス素子。
【請求項４】
前記有機化合物は、Ｃ−Ｃ結合を介して芳香族と共役しているヘテロ芳香族を有する、請求項１から３までのいずれか１項記載の有機エレクトロニクス素子。
【請求項５】
前記有機化合物は、一般式
【化１】
2012503867.tif 000001
［式中、
−  環原子Ａ〜Ｆは相互に無関係にＣを表すか又は１つもしくは２つの環原子はＮであることができ、
−  ｎは２〜８であり、この場合、この末端の自由原子価はそれぞれ相互に無関係に、Ｈ、メチル、フェニル、２−ピリジル、３−ピリジル又は４−ピリジルにより飽和されていてもよく、
−  Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ相互に無関係に、Ｈ、メチル、フェニル、２−ピリジル、３−ピリジル又は４−ピリジルである及び／又はＲ1及びＲ2又はＲ3及びＲ4は、相互にブタジエン又はアザブタジエン単位により結合されていてもよく、ｎ番目の環とｎ＋１番目の環との間でエチレン単位又はアゾメチン単位により結合されていて、その際、フェナントレン単位又はアザフェナントレン単位が形成される］を有する、請求項１から４までのいずれか１項記載の有機エレクトロニクス素子。
【請求項６】
前記有機化合物は次のもの：
【化２】
2012503867.tif 000002
【化３】
2012503867.tif 000003
【化４】
2012503867.tif 000004
から選択される、請求項１から５までのいずれか１項記載の有機エレクトロニクス素子。
【請求項７】
前記有機化合物は次のもの：
【化５】
2012503867.tif 000005
【化６】
2012503867.tif 000006
【化７】
2012503867.tif 000007
【化８】
2012503867.tif 000008
から選択される、請求項１から６までのいずれか１項記載の有機エレクトロニクス素子。
【請求項８】
前記有機化合物の少なくとも一部が２つの金属錯体を相互に架橋して、前記金属錯体の鎖状の構造が形成され、及び／又は、前記有機化合物の少なくとも一部が２つより多くの金属錯体を相互に架橋して、前記金属錯体の網状の構造が形成される、請求項１から７までのいずれか１項記載の有機エレクトロニクス素子。
【請求項９】
更に有機発光層（５）を有する有機ＬＥＤ（ＯＬＥＤ）として構成された、請求項１から８までのいずれか１項記載の有機エレクトロニクス素子。
【請求項１０】
有機エレクトロニクス素子の製造方法において、次の方法工程
Ａ）  基板（１）を準備する工程、
Ｂ）  第１の電極（２）を設ける工程、
Ｃ）  前記基板（１）上に電子伝導性層（３）を析出させる工程、
Ｄ）  第２の電極（４）を設ける工程を有し、
前記電子伝導性層（３）の析出は金属錯体と有機化合物との同時蒸着により行い、
前記同時蒸着の際に前記有機化合物を気相中で前記金属錯体に配位させる、
有機エレクトロニクス素子の製造方法。
【請求項１１】
前記電子伝導性層（３）は、鎖状の構造又は網状の構造として析出される、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記電子伝導性層（３）の架橋の程度を、蒸着時の金属錯体と有機化合物との比率により制御する、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記有機化合物を前記蒸着の前に金属錯体と配位させない、請求項１０から１２までのいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月18日(2012.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
実験の結果、ガラスプレートは滑り落ちなかった。
本発明はまた、以下の内容を包含する。
（１）支持層と、
該支持層の一方の面上にあり、かつアクリルポリマー樹脂組成物で作製される、遮断パッド層と、
前記支持層のもう一方の面上にあり、かつ接着性ポリマー樹脂で作製される、接着層と、を含むガスケットであって、
前記アクリルポリマー樹脂組成物は、ウレタンアクリレートオリゴマー、第１アクリルモノマー、該第１アクリルモノマーより高いガラス転移温度を有する第２アクリルモノマー、及び充填剤を含む、ガスケット。
（２）前記遮断パッド層が、連続的又は不連続的な複数の凹凸突起パターンを有する表面を備える、項目（１）に記載のガスケット。
（３）前記突起パターンが、０．３〜１００マイクロメートルの高さを有する、項目（２）に記載のガスケット。
（４）前記接着が、防滑性試験手順２にしたがって測定されたときに、２ｍｍ×４０ｍｍの面積を有する前記ガスケットの細片上に８０ｇの重量のガラスプレートを配置したとき、傾斜９０°において、何も動かさない場合に、前記ガラスプレートを固定するのに十分な強度を有する、項目（１）に記載のガスケット。
（５）前記ウレタンアクリレートオリゴマーが、５，０００〜１００，０００の数平均分子量を有する、項目（１）に記載のガスケット。
（６）前記第１アクリルモノマーが、Ｃ６〜Ｃ１２アルキル基を有するアクリルモノマーを含む、項目（１）に記載のガスケット。
（７）前記第１アクリルモノマーが−８０〜０℃のガラス転移温度を有し、かつ前記第２アクリルモノマーが６０〜１２０℃のガラス転移温度を有する、項目（１）に記載のガスケット。
（８）前記アクリルポリマー樹脂組成物が、前記第１アクリルモノマー及び前記第２アクリルモノマーを、重量比９５〜６０：５〜４０で含む、項目（１）に記載のガスケット。
（９）前記アクリルポリマー樹脂組成物が、前記第１及び前記第２アクリルモノマーの混合物を１００重量部としたときに、
６０〜９５重量部の前記第１アクリルモノマーと、
５〜４０重量部の前記第２アクリルモノマーと、
５〜８０重量部の前記ウレタンアクリレートオリゴマーと、
０．１〜１００重量部の前記充填剤と、
を含む、項目（１）に記載のガスケット。
（１０）前記支持層が、ポリエチレンテレフタレートフィルムを含む、項目（１）に記載のガスケット。
（１１）前記接着性ポリマー樹脂がアクリルポリマー樹脂を含む、項目（１）に記載のガスケット。
（１２）前記接着層の、前記支持層とは反対側の面に剥離フィルムを更に含む、項目（１）に記載のガスケット。
（１３）画像ディスプレイモジュールと、
フレームと、
前記画像ディスプレイの一部の表面上、又は前記フレームの一部の表面上に配置された、項目（１）〜（１２）のいずれか一項に記載のガスケットと、を含む、ディスプレイ装置。
（１４）支持層の一方の面にアクリルポリマー樹脂組成物を適用する工程と、
前記支持層上に適用した前記アクリルポリマー樹脂組成物を硬化させることによって遮断パッド層を形成する工程と、
一方の面にラミネートされた前記遮断パッド層を備えた前記支持層の、もう一方の面上に、接着性ポリマー樹脂シロップ剤を適用し、次に前記接着性ポリマー樹脂シロップ剤を硬化させることによって接着層を形成する工程と、
を含む、ガスケットを製造する方法であって、
前記アクリルポリマー樹脂組成物の硬化工程が、２〜１０ｍＷ／ｃｍ２の強度を有する紫外線を照射する第１工程と、３０〜５０ｍＷ／ｃｍ２の強度を有する紫外線を照射する第２工程とを含む、方法。
（１５）前記の紫外線を照射する第１工程が、
強度２〜４ｍＷ／ｃｍ２を有する紫外線を照射する工程と、
強度４〜６ｍＷ／ｃｍ２を有する紫外線を照射する工程と、
強度７〜９ｍＷ／ｃｍ２を有する紫外線を照射する工程と、
を含む、項目（１４）に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持層と、
該支持層の一方の面上にあり、かつアクリルポリマー樹脂組成物で作製される、遮断パッド層と、
前記支持層のもう一方の面上にあり、かつ接着性ポリマー樹脂で作製される、接着層と、を含むガスケットであって、
前記アクリルポリマー樹脂組成物は、ウレタンアクリレートオリゴマー、第１アクリルモノマー、該第１アクリルモノマーより高いガラス転移温度を有する第２アクリルモノマー、及び充填剤を含む、ガスケット。
【請求項２】
画像ディスプレイモジュールと、
フレームと、
前記画像ディスプレイの一部の表面上、又は前記フレームの一部の表面上に配置された、請求項１に記載のガスケットと、を含む、ディスプレイ装置。
【請求項３】
支持層の一方の面にアクリルポリマー樹脂組成物を適用する工程と、
前記支持層上に適用した前記アクリルポリマー樹脂組成物を硬化させることによって遮断パッド層を形成する工程と、
一方の面にラミネートされた前記遮断パッド層を備えた前記支持層の、もう一方の面上に、接着性ポリマー樹脂シロップ剤を適用し、次に前記接着性ポリマー樹脂シロップ剤を硬化させることによって接着層を形成する工程と、
を含む、ガスケットを製造する方法であって、
前記アクリルポリマー樹脂組成物の硬化工程が、２〜１０ｍＷ／ｃｍ２の強度を有する紫外線を照射する第１工程と、３０〜５０ｍＷ／ｃｍ２の強度を有する紫外線を照射する第２工程とを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月24日(2012.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア基板（１）および複数の放射放出半導体部品（２）を備えているオプトエレクトロニクスモジュールであって、
−  前記キャリア基板（１）が、前記放射放出半導体部品（２）との電気接続を形成するための構造化された導体トラックを有し、
−  前記放射放出半導体部品（２）それぞれが、電磁放射を生成するのに適している活性層（２ａ）と、第１のコンタクト領域（２１）と、第２のコンタクト領域（２２）と、を備えており、前記第１のコンタクト領域（２１）それぞれが、前記キャリア基板（１）とは反対側の前記放射放出半導体部品（２）の面に配置されており、
−  前記放射放出半導体部品（２）に電気絶縁層（４）が設けられており、前記電気絶縁層（４）それぞれが、前記放射放出半導体部品（２）の前記第１のコンタクト領域（２１）の範囲に切取り部を有し、
−  前記電気絶縁層（４）の一部分の上に導電性構造（８）が配置されており、
−  前記導電性構造の１つが、放射放出半導体部品（２）の少なくとも前記第１のコンタクト領域（２１）を、さらなる放射放出半導体部品（２）のさらなる第１のコンタクト領域に、または前記キャリア基板（１）の導体トラックに、導電接続しており、
少なくとも前記放射放出半導体部品（２）の間に平坦化層（３）が配置されており、
前記電気絶縁層（４）は少なくとも部分的に前記平坦化層（３）の上に配置されている、
オプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項２】
前記平坦化層（３）が少なくとも１種類の変換要素を含んでいる、
請求項１に記載のモジュール。
【請求項３】
前記電気絶縁層（４）が少なくとも１種類の変換要素（６）を含んでいる、
請求項１または請求項２に記載のモジュール。
【請求項４】
前記放射放出半導体部品（２）が、前記キャリア基板（１）上に配置されているフレーム（７）によって一緒に囲まれている、
請求項１から請求項３のいずれかに記載のモジュール。
【請求項５】
前記キャリア基板（１）がフレキシブル基板である、
請求項１から請求項４のいずれかに記載のモジュール。
【請求項６】
前記放射放出半導体部品（２）が上に配置されている、前記キャリア基板（１）の面が、非平面的である、
請求項１から請求項５のいずれかに記載のモジュール。
【請求項７】
前記導電性構造（８）が、前記電気絶縁層（４）の上に配置されている異方性層によって形成されており、前記異方性層それぞれが、前記放射放出半導体部品（２）の少なくとも前記第１のコンタクト領域（２１）の範囲に導電性領域（８ａ）を有する、
請求項１から請求項６のいずれかに記載のモジュール。
【請求項８】
前記電気絶縁層（４）が、構造化された回路基板によって形成されており、前記導電性構造（８）が、前記回路基板から突き出している導電性ウェブによって形成されている、
請求項１から請求項６のいずれかに記載のモジュール。
【請求項９】
前記電気絶縁層（４）が、それぞれの前記放射放出半導体部品（２）の周囲、それぞれの前記放射放出半導体部品（２）の側面領域の一部分に延在しており、前記放射放出半導体部品（２）それぞれの前記第１のコンタクト領域（２１）が、前記キャリア基板（１）とは反対側の前記放射放出半導体部品（２）の面に前記第１のコンタクト領域（２１）が存在しないように、前記電気絶縁層（４）の上に配置されている、
請求項１から請求項８のいずれかに記載のモジュール。
【請求項１０】
オプトエレクトロニクスモジュールを製造する方法であって、
−  複数の放射放出半導体部品（２）をキャリア基板（１）上に配置するステップであって、前記キャリア基板（１）が、前記放射放出半導体部品（２）との電気接続を形成するための構造化された導体トラックを有し、前記放射放出半導体部品（２）それぞれが、電磁放射を発生させるのに適している活性層（２ａ）と、第１のコンタクト領域（２１）と、第２のコンタクト領域（２２）と、を備えており、前記第１のコンタクト領域（２１）それぞれが、前記キャリア基板（１）とは反対側の前記放射放出半導体部品（２）の面に配置されている、前記ステップと、
前記放射放出半導体部品（２）の間に平坦化層（３）を配置するステップと、
−  前記放射放出半導体部品（２）と前記平坦化層（３）に少なくとも部分的に電気絶縁層（４）を形成するステップであって、前記電気絶縁層（４）が、それぞれの前記放射放出半導体部品（２）の前記第１のコンタクト領域（２１）の範囲に切取り部（４ａ）を有する、前記ステップと、
−  前記電気絶縁層（４）の部分領域に導電性構造（８）を形成するステップであって、前記導電性構造（８）の１つが、放射放出半導体部品（２）の少なくとも前記第１のコンタクト領域（２１）を、さらなる放射放出半導体部品（２）のさらなる第１のコンタクト領域（２１）に、または前記キャリア基板（１）の導体トラックに、導電接続する、前記ステップと、
を含んでいる、方法。
【請求項１１】
前記導電性構造（８）が印刷法によって形成される、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記導電性構造（８）が蒸着によって形成される、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記導電性構造（８）が、前記電気絶縁層（４）の上に配置される異方性層によって形成され、前記異方性層が、前記放射放出半導体部品（２）の少なくとも前記第１のコンタクト領域（２１）の範囲において導電性として具体化される、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記導電性構造（８）それぞれが導電性ウェブとして具体化され、前記ウェブそれぞれが、前記放射放出半導体部品（２）の前記第１のコンタクト領域（２１）に、スタンピングウェッジ工程によって導電接続される、
請求項１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月18日(2012.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する方法であって、
前記基板の表面中へとオクタデカボランを注入するステップと、
前記注入された基板の表面を溶融させるステップと、
前記基板の表面を再固化させるステップと、
前記基板の表面をアニールするステップと、
前記基板の表面を酸化させるステップと、
を備え、
前記オクタデカボランの注入は、約１ｋｅＶよりも低い平均エネルギーを有するオクタデカボランイオンを前記基板に向けて導くことで行われ、
前記基板の表面を溶融させるステップは、レーザエネルギーを前記基板の表面に向けて導くことと、前記基板の表面の温度を約０．５秒未満の時間に亘り約１１００℃より高い温度に維持することとを備え、
前記基板の表面を再固化させるステップは、前記溶融された基板の表面を制御された速度で冷却することを備え、
前記基板の表面をアニールするステップは、前記基板の表面の温度を少なくとも約１分間、約４００℃以上の温度に維持することを備える、
方法。
【請求項２】
前記基板をプレヒートするステップを更に備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記注入された基板の表面を溶融させるステップは、前記注入された基板の表面の温度を、前記注入された基板の表面の融点以上の温度に維持することを更に備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記基板の表面をアニールするステップは、前記基板の表面の温度を制御された速度で冷却することを更に備える、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記基板の表面を再固化させるステップは、前記基板の表面を約２００℃／秒より小さい速度で冷却することを備える、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ボロンドープ半導体基板を形成する方法であって、
約１ｋｅＶよりも低い平均エネルギーを有するオクタデカボランイオンを前記基板に向けて導くことにより、前記基板のある部分中へボロン原子を注入するステップと、
前記注入された基板の部分を第一温度にプレヒートするステップと、
約０．５秒未満の時間に亘り前記注入された基板の部分の表面に向けてレーザエネルギーを導くことにより、前記注入された基板の部分の表面を溶融させるステップと、
約２００℃／秒より小さく制御された速度で前記基板を冷却することにより、前記注入された基板の部分を再固化させるステップと、
前記基板の温度を少なくとも約１分間、約４００℃以上の温度に維持することにより、前記基板をアニールするステップと、
を備える方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月15日(2012.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）と、外部光（４）に対する少なくとも１つのシールド（３）とを備える光電子構成素子（１０）であって、
前記発光ダイオードチップ（１）は、光電子構成素子の駆動時に電磁光線（２）を放射し、
前記シールド（３）は、発光ダイオードチップ（１）を部分的にだけ側方に取り囲み、
少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）を側方に完全に取り囲む反射器壁または吸収壁（３０）を備え、
端子支持体（２０）を備え、該端子支持体（２０）上には少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）が少なくとも直接的に固定されており、該端子支持体（２０）を介して少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）が電気接続されており、
各シールド（３）は、前記光電子構成素子（１０）のコンポーネント（２０，３０，４０，５０）と一体的に構成されており、
前記反射器壁または吸収壁（３０）は不均等な高さ（Ｈ）を有し、
前記少なくとも１つのシールド（３）は、残りの反射器壁または吸収壁（３０）よりも高く形成されている反射器壁または吸収壁（３０）のシールド領域（３３）によって少なくとも部分的に形成されており、
前記反射器壁または吸収壁（３０）は、少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）のためのレンズ（３１，５０）内に配置されており、
前記端子支持体（２０）は導体路基板であり、該導体路基板は電気絶縁性の基体を有し、該基体内に、または該基体上に少なくとも１つの電気接続箇所および導体路が構造化されており、
前記反射器壁または吸収壁（３０）は、前記電気絶縁性の基体と一体的に形成されている光電子構成素子。
【請求項２】
少なくとも１つのシールド（３）が、端子支持体（２０）のシールド領域（２３）により少なくとも部分的に形成されている請求項１記載の光電子構成素子。
【請求項３】
前記端子支持体（２０）は湾曲部（２４）を有し、該湾曲部は前記端子支持体（２０）の前記シールド領域（２３）を残りの端子支持体（２０）と接続する請求項１または２記載の光電子構成素子。
【請求項４】
前記シールド領域（２３）と前記残りの端子支持体（２０）は、１１０゜以下の角度（α）を互いになす請求項２または３記載の光電子構成素子。
【請求項５】
前記反射器壁または吸収壁（３０）は、少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）のための鋳込み材料（２１）に埋め込まれている請求項１記載の光電子構成素子。
【請求項６】
空洞部（４１）を有するハウジング本体（４０）を備え、該空洞部（４１）には少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）が配置されており、
前記少なくとも１つのシールド（３）が、前記ハウジング本体（４０）のシールド領域（４３）によって少なくとも部分的に形成されている請求項１から５までのいずれか１項記載の光電子構成素子。
【請求項７】
前記シールド領域（４３）は、残りのハウジング本体（４０）とともに射出成形、またはトランスファー成形されている請求項１から６までのいずれか１項記載の光電子構成素子。
【請求項８】
少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）のためのレンズ（３１，５０）を有し、
前記少なくとも１つのシールド（３）が、前記レンズ（３１，５０）のシールド領域（５３）により少なくとも部分的に形成されている請求項１から７までのいずれか１項記載の光電子構成素子。
【請求項９】
前記レンズ（３１，５０）はシールド領域（５３）では、偏光性、吸収性および／または反射性に構成されている請求項１から８までのいずれか１項記載の光電子構成素子。
【請求項１０】
前記シールド（３）は、少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）に向いた側の少なくとも反射領域（６）においては、前記発光ダイオードチップ（１）により前記光電子構成素子の駆動時に形成された電磁光線（２）に対して反射性に構成されている請求項１から９までのいずれか１項記載の光電子構成素子。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのシールド（３）は、少なくとも１つの発光ダイオードチップ（１）に向いた側の少なくとも吸収領域においては、前記発光ダイオードチップ（１）により前記光電子構成素子の駆動時に形成された電磁光線（２）に対して吸収性に構成されている請求項１から１０までのいずれか１項記載の光電子構成素子。
【請求項１２】
前記少なくとも１つのシールド（３）は湾曲部（５）を有する請求項１から１１までのいずれか１項記載の光電子構成素子。
【請求項１３】
前記シールド（３）は、光電子構成素子の光線出射面（８）の周囲に雨水を巡らすように構成されている請求項１から１２までのいずれか１項記載の光電子構成素子。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月13日(2012.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クライアントによって、前記クライアントの表面上に配置された物体を検出するステップと、
前記検出された物体がユーザーセッティングを保持するように構成されていることの判定に応じて、前記検出された物体から、１人の特定ユーザーに対応する１つまたは複数のユーザーセッティングを取り出すステップであって、前記１つまたは複数のユーザーセッティングは、前記１人の特定ユーザーが複数のユーザーから識別されることを可能にする、ステップと、
前記検出された物体がユーザーセッティングを保持するように構成されていないことの判定に応じて、前記表面を介した識別技法を用いて、前記１人の特定ユーザーを複数のユーザーから識別するのに使用可能な、前記検出された物体の一意の識別子を識別し、前記識別された１人の特定ユーザーに対応する１つまたは複数のユーザーセッティングを突き止めるステップと、
前記クライアントの前記表面上に表示するためのユーザーインターフェースであって前記クライアントの前記表面を介した直接的なユーザー相互作用を行うために構成されるユーザーインターフェースを、前記識別された１人の特定ユーザーに対応する前記１つまたは複数のユーザーセッティングを使用して構成するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記クライアントは、テーブルのフォームファクターを有し、
前記表面は、前記クライアントのテーブルトップの一部として含まれる
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
検出する前記ステップは、複数の前記物体について実行され、
前記ユーザーインターフェースを構成する前記ステップは、前記複数のユーザーに共通する前記ユーザーセッティングを使用して実行される
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
検出する前記ステップは、前記クライアントの前記表面の下に配置された前記クライアントの１つまたは複数のカメラを使用して実行される画像認識を介して実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
検出する前記ステップは、少なくとも部分的に、前記物体の少なくとも一部のバーコードスキャニングまたは光学文字認識を介して実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
検出する前記ステップは、少なくとも部分的に、１つまたは複数の無線周波数識別技法を使用することによって実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
１つまたは複数のアプリケーションに特有なセッティングを含む前記１つまたは複数のユーザーセッティングを使用してユーザーインターフェースを構成するステップと、
前記クライアントの前記表面の少なくとも一部を使用して前記ユーザーインターフェースを出力するステップと
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ユーザーインターフェースは、前記表面を有する前記クライアントにローカルな別のクライアントによって出力されるコンテンツを制御するように構成される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ユーザーインターフェースは、電子番組ガイド（ＥＰＧ）である、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記クライアントにローカルな別のクライアントを使用して前記ユーザーインターフェースを出力するステップ
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記別のクライアントは、テレビジョンである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
テーブルのフォームファクターを有するハウジングと、
前記ハウジングのテーブルトップに配置された表面と、
ローカルネットワーク接続を介してテレビジョンと相互作用し、
前記テレビジョンに現在表示されているコンテンツに関連するコンテンツを前記表面に表示し、
前記表面に配置された物体を検出し、
前記検出された物体がユーザーセッティングを保持するように構成されていることの判定に応じて、前記検出された物体から、１人の特定ユーザーに対応する１つまたは複数のユーザーセッティングであって、前記１人の特定ユーザーが複数のユーザーから識別されることを可能にするユーザーセッティングを取り出し、
前記検出された物体がユーザーセッティングを保持するように構成されていないことの判定に応じて、前記表面を介した識別技法を用いて、前記１人の特定ユーザーを複数のユーザーから識別するのに使用可能な、前記検出された物体の一意の識別子を識別し、前記識別された１人の特定ユーザーに対応する１つまたは複数のユーザーセッティングを突き止め、
前記表面を介するユーザーからの１つまたは複数の入力を検出し、
前記表面を介した直接的なユーザー相互作用を行うために前記識別された１人の特定ユーザーに対応する前記１つまたは複数のユーザーセッティングを使用して構成されるユーザーインターフェースであって、少なくとも１つの前記入力を使用して前記表面上の前記コンテンツの前記表示を制御し、別の前記入力を使用して前記テレビジョン上のコンテンツの前記表示を制御するように構成されるユーザーインターフェースを、前記表面を介して出力する
前記ハウジング内に配置された１つまたは複数のモジュールと、
を備えるクライアント。
【請求項１３】
前記表面に表示される前記コンテンツは、前記表面を介して出力される前記ユーザーインターフェースとの相互作用を介してセットされるアラートを含む、請求項１２に記載のクライアント。
【請求項１４】
前記テレビジョンに表示される前記コンテンツは、スポーツイベントであり、
前記表面に表示される前記コンテンツは、前記スポーツイベントに関連する統計を含む
請求項１２に記載のクライアント。
【請求項１５】
前記テレビジョンに表示される前記コンテンツは、テレビジョン番組であり、
前記表面に表示される前記コンテンツは、前記テレビジョン番組に対応するインターネットチャットを含む
請求項１２に記載のクライアント。
【請求項１６】
前記１つまたは複数のモジュールは、
前記表面に前記コンテンツを表示するリアプロジェクションシステムと、
前記表面に赤外光を投影する１つまたは複数の赤外線プロジェクターと、
前記表面の赤外線イメージを取り込む１つまたは複数の赤外線カメラと、
前記入力を検出するために前記赤外線イメージを処理する検出モジュールと
を含む、請求項１２に記載のクライアント。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月25日(2012.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）（成分Ａ、ＢおよびＣの重量部の合計に基づいて、）５５〜９０重量部の芳香族ポリカーボネートおよび／または芳香族ポリエステルカーボネートであって、１．２０〜１．３０の塩化メチレン中で測定される相対溶液粘度を有する芳香族ポリカーボネートおよび／または芳香族ポリエステルカーボネート、
Ｂ）（成分Ａ、ＢおよびＣの重量部の合計に基づいて、）１０〜４５重量部の
Ｂ．１）
Ｂ．１．１）Ｂ．１．１およびＢ．１．２の合計に基づいて、５〜９５重量％の少なくとも１つのビニルモノマーの、
Ｂ．１．２）Ｂ．１．１およびＢ．１．２の合計に基づいて、９５〜５重量％の、＜０℃のガラス転移温度を有する骨格としての１以上の粒子状ゴムにおける、
グラフト重合によって、エマルジョン重合によって製造される少なくとも１つのグラフトポリマー、
Ｂ．２）任意のゴム非含有ビニル（コ）ポリマー、
Ｂ．３）＜０℃のガラス転移温度を有し、バルク、溶液またはバルク−懸濁液重合法によって製造される、任意の少なくとも１つのビニルモノマーの少なくとも１つのゴム骨格におけるグラフトポリマー
を含有するゴム変性成分、
（ここでグラフトポリマーＢ．１およびＢ．３は任意に、グラフト粒子に加えて、その製造の結果として、ビニルモノマーのフリーの、すなわちゴム粒子に化学的に結合しない、および／またはグラフト粒子内に有機溶媒に不溶性の形態で含まれない（コ）ポリマーをも含有してもよい）
Ｃ）（成分Ａ、ＢおよびＣの重量部の合計に基づいて、）０〜２５重量部のポリマー添加剤
を含有する組成物であって、
（ｉ）ポリカーボネート組成物のゴム含有量は１〜６重量％であり、
（ｉｉ）成分Ｂにおいて少なくとも４０重量％のグラフト粒子は２００ｎｍまでの（超遠心分離によって測定される）直径を有する
ことを特徴とする組成物。
【請求項２】
ポリカーボネート組成物のゴム含有量が２．５〜５．０重量％である請求項１による組成物。
【請求項３】
成分Ｂにおいて少なくとも５０重量％のグラフト粒子は２００ｎｍまでの（超遠心分離によって測定される）直径を有することを特徴とする請求項１または２による組成物。
【請求項４】
成分Ｂにおいて２５重量％までのグラフト粒子は４００ｎｍを超える（超遠心分離によって測定される）直径を有することを特徴とする請求項３による組成物。
【請求項５】
成分Ａ、ＢおよびＣの重量部の合計に基づいて、）６５〜７５重量部の成分Ａを含有する請求項３による組成物。
【請求項６】
成分Ｂ．１は
Ｂ．１．１）（Ｂ．１．１およびＢ．１．２の重量％の合計に基づいて、）２５〜６０重量％の、
Ｂ．１．１．１）（Ｂ．１．１．１およびＢ．１．１．２の重量％の合計に基づいて、）５０〜９９重量％のビニル芳香族および／または環置換ビニル芳香族およびメタクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）アルキルエステルから成る群から選択される少なくとも１つのモノマーおよび
Ｂ．１．１．２）（Ｂ．１．１．１およびＢ．１．１．２の重量％の合計に基づいて、）１〜５０重量％のビニルシアニド、（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）アルキルエステル、不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸の誘導体から成る群から選択される少なくとも１つのモノマー
の混合物の、
Ｂ．１．２）（Ｂ．１．１およびＢ．１．２の重量％の合計に基づいて、）７５〜４０重量％の、＜−２０℃のガラス転移温度を有する１以上の骨格における
のグラフトポリマーである、
請求項３による組成物。
【請求項７】
成分Ｃ）として、（成分Ａ、ＢおよびＣの重量部の合計に基づいて、）０．１〜５重量部の、内部および外部潤滑剤および離型剤、流動助剤、帯電防止剤、導電性添加剤、安定剤、抗菌活性のある添加剤、耐引っ掻き性改良剤、ＩＲ吸収剤、光沢剤、蛍光剤、染料および顔料およびブレンステッド酸化合物から成る群から選択される少なくとも１つの添加剤を含有する請求項３による組成物。
【請求項８】
請求項１〜７の１つによる組成物から製造される、または含有する部品。
【請求項９】
表面の金属化側上に少なくとも部分的に湾曲した凹凸を備える金属化成形物を製造するための請求項１〜７の１つによる組成物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月18日(2012.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｉａ：
【化１】
2012521351.tif 000001
（式中、Ｒは、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ９Ｈ１９である直鎖アシル基である）によって表されるグリセロールの脂肪酸モノエステルを含む、患者のＴｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ  ｒｕｂｒｕｍにより引き起こされる真菌性状態の局所的治療または予防に使用するための医薬組成物。
【請求項２】
一般式Ｉａ：
【化２】
2012521351.tif 000002
（式中、Ｒは、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ９Ｈ１９である直鎖アシル基である）によって表されるグリセロールの脂肪酸モノエステル、およびその薬学的に許容され得る担体または賦形剤、および任意で第２の医薬活性剤を含む、患者のＴｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ  ｒｕｂｒｕｍにより引き起こされる真菌性状態の局所的治療または予防に使用するための医薬組成物。
【請求項３】
前記グリセロールの脂肪酸モノエステルが、０．１重量％〜２０重量％の量で存在する、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記グリセロールの脂肪酸モノエステルが、１重量％〜１０重量％の量で存在する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記組成物が、ネイルラッカー、エナメル、塗料、溶液、ローション、クリーム、ゲル、エアロゾル泡、およびエアロゾルスプレーからなる群から選択される局所投与剤形である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記組成物が、ネイルラッカーである、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記組成物が、ネイルラッカーであり、少なくとも１つの揮発性溶媒およびフィルム形成成分をさらに含む、請求項５または６に記載の組成物。
【請求項８】
前記少なくとも１つの揮発性溶媒が、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ブトキシエタノール、アセトン、酢酸エチル、および酢酸ブチルからなる群から選択される、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記少なくとも１つの揮発性溶媒が、イソプロピルアルコールおよびエタノールの混合物である、請求項７または８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの揮発性溶媒が、酢酸エチルおよびエタノールの混合物である、請求項７または８に記載の組成物。
【請求項１１】
前記フィルム形成成分が、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリドン、カルボマー、ＰＶＭ／ＭＡデカジエンクロスポリマー、ヒドロキシプロピルグアー、オクチルアクリルアミドアクリレートコポリマー、アミノアルキルメタクリレートコポリマー、アンモニオメタクリレートコポリマー、ＰＶＰ／ＶＡコポリマー、ＰＶＡ、ＰＶＭ／ＭＡコポリマーのＣ２-Ｃ４アルキルエステル、シェラック、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記フィルム形成成分が、ＰＶＭ／ＭＡコポリマーのブチルエステルである、請求項７〜１１のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
前記組成物が、エアロゾル泡である、請求項５に記載の組成物。
【請求項１４】
前記組成物が、エアロゾル泡であり、水、界面活性剤成分、および噴霧剤をさらに含む、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記水が、８０重量％〜９６重量％の量で存在する、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記水が、９０重量％〜９５重量％の量で存在する、請求項１４または１５に記載の組成物。
【請求項１７】
前記界面活性剤成分が、親水性界面活性剤を含み、親油性界面活性剤を含まないまたは実質的に含まない、請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１８】
前記親水性界面活性剤が、非イオン性親水性界面活性剤である、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記界面活性剤成分が、０．１重量％〜１０重量％の量で存在する、請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２０】
前記界面活性剤成分が、０．２５重量％〜２重量％の量で存在する、請求項１４〜１９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記噴霧剤が、炭化水素、クロロフルオロカーボン、ジメチルエーテル、ハイドロフルオロカーボン、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１４〜２０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２２】
前記噴霧剤が、炭化水素の混合物である、請求項１４〜２１のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２３】
前記噴霧剤が、５重量％〜１０重量％の量で存在する、請求項１４〜２２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２４】
前記組成物が、ｐＨ調整剤、湿潤剤、フィルム増量剤、キレート剤、酸化防止剤、保存剤、可塑剤、浸透促進剤、芳香剤、着色剤、界面活性剤、皮膚軟化剤、ゲル化剤、およびラジカル捕捉剤からなる群から選択される１つまたは複数の添加剤をさらに含む、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２５】
前記真菌性状態が、足白癬、股部白癬、皮膚糸状菌症、および爪真菌症からなる群から選択される、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項２６】
前記真菌性状態が、爪真菌症である、請求項２５に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月27日(2012.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
バルブホルダ５０の下端部には、半径内方向に若干だけ縮径した保持部５８が形成されると共に、前記保持部５８の上端部には、半径内方向に窪んだ環状溝６０が形成される。そして、保持部５８には、該保持部５８の外周面を覆うようにシートリング５２が装着され、前記シートリング５２の上端部に形成されたフック（折曲部）６６（後述する）が前記環状溝６０に挿入されて係合される。これにより、バルブホルダ５０の下端部にシートリング５２が一体的に接続される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月2日(2012.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照光デバイスを製造するための方法であって、
光結合部および隣接する光転向部を有する実質的に平面的な導光体を形成するステップを含み、前記光結合部が、光源から光を受けると共に、前記導光体を通る光を前記光転向部に伝播させるように構成され、前記光転向部が、前記導光体から出てくる前記光結合部からの光を方向付けるように構成され、
前記光転向部を形成するステップが、
少なくとも１つの参照波をホログラム記録材料に向けるステップと、
前記ホログラム記録材料の表面の垂線に対して第１〜第Ｎの照光角で、前記ホログラム記録材料の第１〜第Ｍの領域を物体波で照光するステップと、を含み、前記照光するステップが、前記ホログラム記録材料の第１〜第Ｍの領域にわたって、前記第１〜第Ｎの照光角のランダム分布または擬似ランダム分布を形成するステップを含む、方法。
【請求項２】
前記照光するステップが、前記ホログラム記録材料の低効率の光抽出領域を形成するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記照光するステップが、前記ホログラム記録材料の前記第１〜第Ｍの領域にわたって、回折格子の間隔のランダム分布または擬似ランダム分布を形成するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記照光するステップが、前記ホログラム記録材料の前記第１〜第Ｍの領域にわたって、回折格子の角度のランダム分布または擬似ランダム分布を形成するステップをさらに含み、前記回折格子の角度が、第１の領域の第１の回折格子に平行な第１の軸から、隣接する領域の第２の回折格子に平行な第２の軸に向かって測定される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
導光体と、
光を前記導光体に与えるように構成された少なくとも１つの光源と、
前記導光体と実質的に平行に配置されたディスプレイと、
前記導光体からの光を抽出して光を前記ディスプレイに提供するように構成されたホログラムと、
を含む装置であって、前記ホログラムが複数の領域を含み、各領域が、光を所定の角度で前記ディスプレイに提供するように構成された回折格子を有し、前記所定の角度が、前記複数の領域にわたってランダムまたは擬似的にランダムに分布する、装置。
【請求項６】
各領域の前記回折格子が、隣接する領域の前記回折格子に対して角度方向を有し、前記角度方向が、前記複数の領域にわたってランダムにまたは擬似的にランダムに分布する、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
選択領域にある前記回折格子が集束しない、請求項５または６に記載の装置。
【請求項８】
前記ホログラムの選択領域にある前記回折格子が、前記ホログラムの別の領域の前記回折格子よりも、光抽出が非効率であるように形成される、請求項５から７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記ディスプレイが複数の反射型の干渉変調器を含む、請求項５から８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
前記ホログラムが、反射型ホログラム、透過型ホログラム、または体積位相ホログラム回折格子を含むホログラムである、請求項５から９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記選択領域が、前記ディスプレイの実質的に均一な照光を実現するように選択された、請求項８に記載の装置。
【請求項１２】
光を導く手段と、
前記導光手段に光を与えるように構成された光源手段と、
前記導光手段と実質的に平行に配置されたディスプレイ手段と、
前記導光体からの光を抽出して光を前記ディスプレイに提供する手段と
を含む装置であって、前記光抽出手段が複数の領域を含み、各領域が、光を所定の角度で前記ディスプレイに提供するように構成された回折格子を有し、前記所定の角度が、前記複数の領域にわたってランダムまたは擬似的にランダムに分布する、装置。
【請求項１３】
各領域の前記回折格子が、隣接する領域の前記回折格子に対して角度方向を有し、前記角度方向が、前記複数の領域にわたってランダムにまたは擬似的にランダムに分布する、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記光抽出手段の選択領域にある前記回折格子が、前記光抽出手段の別の領域の前記回折格子よりも、光抽出が非効率であるように形成される、請求項１２または１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記ディスプレイ手段が複数の反射型の干渉変調器を含む、請求項１２から１４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記光抽出手段が、反射型ホログラム、透過型ホログラム、または体積位相ホログラムのうちの少なくとも１つを含む、請求項１２から１５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１７】
前記ディスプレイ手段と通信し、画像データを処理するように構成された論理システムをさらに含む、請求項１２から１６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１８】
前記画像データを前記論理システムに送信するように構成された画像ソースモジュールをさらに含む、請求項１７に記載の装置。