(57)【要約】【課題】コギングによる外乱を抑制し、正確な位置決め制御を実行する。【解決手段】ステージ制御系２１は、コギング補正部２２と通常のＰＩＤ制御を行うフィードバック制御部２３とを有し、フィードバック制御部２３はＰＩＤ制御演算部２４を備える。フィードバック制御部２３には、露光装置全体を制御する露光制御系から移動指令値が入力される。フィードバック制御部２３では、この移動指令値と、レーザ干渉計により計測されたステージ位置とから位置偏差を算出し、この位置偏差に基づいてＰＩＤ制御演算部２４でステージ装置１０に出力する制御指令値を演算する。ステージ制御系２１は、コギング測定駆動におけるステージ位置とＰＩＤ制御演算部２４で演算された制御指令値とをコギング補正部２２のメモリ内に格納し、これらのデータからステージ位置に対する制御指令値の補正テーブルを作成する。【選択図】　　　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方向に移動する移動体を目標位置に駆動する駆動部と、前記移動体の位置を計測する位置計測部と、前記位置計測部で計測された計測位置と前記目標位置との偏差に基づいて前記移動体を駆動するための駆動制御値を算出する制御部とを備える移動体制御装置において、
前記移動体の計測位置と前記制御部で算出される前記駆動制御値とから補正テーブルを生成するテーブル生成部と、
前記移動体の計測位置に基づいて前記補正テーブルから補正値を求め、当該補正値を用いて前記駆動制御値を補正する補正部とを具備することを特徴とする移動体制御装置。
【請求項２】
前記補正テーブルは、前記移動体の前記補正テーブルを用いた制御開始前に前記移動体を予備的に移動させることにより生成されることを特徴とする請求項１に記載の移動体制御装置。
【請求項３】
前記補正テーブルは、前記移動体の前記補正テーブルを用いた制御が開始される度に前記移動体を予備的に移動させることにより生成されることを特徴とする請求項１に記載の移動体制御装置。
【請求項４】
前記補正値は、前記補正テーブルから求めた値に所定ゲインを乗じることにより算出されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の移動体制御装置。
【請求項５】
前記補正テーブルは、前記予備的な移動として、前記移動体を微小距離で連続的に移動させることにより得られる各々の静止位置での計測位置と駆動制御値とに基づいて生成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の移動体制御装置。
【請求項６】
前記予備的な移動により得られる各々の静止位置での駆動制御値に平均化処理を施す平均化処理部を更に備え、前記補正テーブルは、前記各々の静止位置での計測位置と、前記駆動制御値に平均化処理を施した値とに基づいて生成されることを特徴とする請求項５に記載の移動体制御装置。
【請求項７】
前記テーブル生成部により生成された前記補正テーブルを記憶する記憶部と、当該記憶部から前記補正テーブルを読み込んで一時的に格納するテーブル格納部とを更に備えることを特徴とする請求項１に記載の移動体制御装置。
【請求項８】
少なくとも一方向に移動する移動体を目標位置に駆動する駆動部と、前記移動体の位置を計測する位置計測部と、前記位置計測部で計測された計測位置と前記目標位置との偏差に基づいて前記移動体を駆動するための駆動制御値を算出する制御部とを備え、当該駆動制御値に基づいて前記移動体を駆動する移動体制御方法において、
前記移動体の計測位置と前記制御部で算出される前記駆動制御値とから補正テーブルを生成するテーブル生成工程と、
前記移動体の計測位置に基づいて前記補正テーブルから補正値を求め、当該補正値を用いて前記駆動制御値を補正する補正工程とを具備することを特徴とする移動体制御方法。
【請求項９】
露光光により原版上のパターンを基板上の表面に投影転写する露光装置であって、
前記原版と前記基板の少なくとも一方を保持するステージと、
少なくとも一方向に移動する前記ステージを目標位置に駆動する駆動部と、
前記ステージの位置を計測する位置計測部と、
前記位置計測部で計測された計測位置と前記目標位置との偏差に基づいて前記ステージを駆動するための駆動制御値を算出する制御部と、
前記ステージの計測位置と前記制御部で算出される前記駆動制御値とから補正テーブルを生成するテーブル生成部と、
前記ステージの計測位置に基づいて前記補正テーブルから補正値を求め、当該補正値を用いて前記駆動制御値を補正する補正部とを備え、
前記駆動部は、前記補正された駆動制御値に基づいて前記ステージを駆動して前記原版と前記基板とを相対的に位置決めすることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
露光光により原版上のパターンを基板上の表面に投影転写する露光方法であって、
前記原版と前記基板の少なくとも一方を保持すると共に、少なくとも一方向に移動するステージを目標位置に駆動する駆動工程と、
前記ステージの位置を計測する位置計測工程と、
前記位置計測工程で計測された計測位置と前記目標位置との偏差に基づいて前記ステージを駆動するための駆動制御値を算出する制御工程と、
前記ステージの計測位置と前記制御工程で算出される前記駆動制御値とから補正テーブルを生成するテーブル生成工程と、
前記ステージの計測位置に基づいて前記補正テーブルから補正値を求め、当該補正値を用いて前記駆動制御値を補正する補正工程とを備え、
前記駆動工程では、前記補正された駆動制御値に基づいて前記ステージを駆動して前記原版と前記基板とを相対的に位置決めすることを特徴とする露光方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導体デバイスを製造する工程とを有することを特徴とする半導体デバイス製造方法。
【請求項１２】
前記製造装置群をローカルエリアネットワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネットワークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの間で、前記製造装置群の少なくとも１台に関する情報をデータ通信する工程とをさらに有することを特徴とする請求項１１に記載の半導体デバイス製造方法。
【請求項１３】
前記露光装置のベンダ若しくはユーザが提供するデータベースに前記外部ネットワークを介してアクセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情報を得る、若しくは前記半導体製造工場とは別の半導体製造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ通信して生産管理を行うことを特徴とする請求項１２に記載の半導体デバイス製造方法。
【請求項１４】
請求項９に記載の露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するローカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネットワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能にするゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも１台に関する情報をデータ通信することを可能にすることを特徴とする半導体製造工場。
【請求項１５】
半導体製造工場に設置された請求項９に記載の露光装置の保守方法であって、前記露光装置のベンダ若しくはユーザが、半導体製造工場の外部ネットワークに接続された保守データベースを提供する工程と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信する工程とを有することを特徴とする露光装置の保守方法。
【請求項１６】
請求項９に記載の露光装置において、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネットワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさらに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワークを介してデータ通信することを可能にすることを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
前記ネットワーク用ソフトウェアは、前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接続され前記露光装置のベンダ若しくはユーザが提供する保守データベースにアクセスするためのユーザインタフェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネットワークを介して該データベースから情報を得ることを可能にすることを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子製造に用いられる露光装置や検査装置等に搭載され、露光原版や被露光物（基板）、被検査物を位置決めする移動体制御装置及び移動体制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体素子製造に用いられる露光装置として、ステッパと呼ばれる装置とスキャナと呼ばれる装置が知られている。ステッパは、ステージ装置によって半導体ウエハを投影レンズ下でステップ移動させながら、レチクル上に形成されたパターン像を投影レンズでウエハ上に縮小投影し、１枚のウエハ上の複数箇所に順次露光していくものである。
【０００３】
また、スキャナは、ウエハステージ上の半導体ウエハとレチクルステージ上のレチクルとを投影レンズに対して相対移動（スキャン）させ、このスキャン中にスリット状の露光光を照射することにより、レチクルパターンをウエハに投影するものである。スキャナは、解像度や重ね合わせ精度の面から露光装置の主流と見られている。
【０００４】
図９は、スキャナに用いられる従来のステージ装置の概略構成図である。
【０００５】
図９において、ステージ本体１１１にはステージ定盤１１２の上面部と側面部の間に不図示の静圧案内軸受が配設され、ステージ定盤１１２のガイド面１１３に案内されてＹ方向のみ移動可能に軸支されている。
【０００６】
ステージ本体１１１には不図示のレチクルチャックによりレチクルが搭載される。また、ステージ本体１１１上にはコーナーキューブ１１８が設けられており、不図示のレーザ干渉計から照射される計測光を反射し、ステージ本体１１１のＹ方向の位置が計測可能となっている。
【０００７】
また、ステージ本体１１１のＸ方向の両側面部には永久磁石からなる可動子１１４，１１５が取り付けられ、ステージ定盤１１２を保持する構造体に取り付けられた固定子１１６，１１７と共にローレンツ力を用いたリニアモータを構成している。
【０００８】
上記のように構成されたリニアモータによりステージ本体１１１はＹ方向に駆動力が与えられ、不図示のステージ制御系により高精度に位置決め制御される。
【０００９】
ステージ装置の性能を表す指標の一つに１時間あたりのウエハ処理枚数で表されるスループットがある。高スループットを達成するためには、ステージ装置には高速移動が要求され、それに伴い移動時の加減速が大きくなっている。
【００１０】
図９の従来の空芯型のローレンツ力を用いたリニアモータでは、加減速時に大きな推力を出そうとすると、固定子に巻かれたコイルの発熱が非常に大きくなり、熱がステージ定盤１１２を保持する構造体に伝わると、ステージ本体やレチクル自体が熱膨張し、露光時の重ね合わせ精度を悪化させてしまう。また、大電流を流すための電気系設備にも大きな負担を掛けることになる。
【００１１】
そこで、低発熱で大推力を発生できるリニアモータの構成として、図１０のような可動磁石型のリニアモータが提案されている。
【００１２】
このリニアモータの固定子１２１は櫛歯状の珪素鋼薄板を積層して構成された鉄心１２２にコイルが巻かれている。可動子１２４は永久磁石１２５をその極性が交互になるように並べて構成されている。永久磁石１２５と鉄心１２２の間には吸引力が発生するので、これを相殺するために磁石１２５を上下方向で挟み込むように固定子１２１が配置されている。このように構成されたリニアモータでは、同程度の大きさのローレンツ力を用いたリニアモータに比べて発熱量を数十分の１以下に低減することができる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図１０に示す可動磁石型リニアモータでは、コギングと呼ばれる力に起因した外乱が発生する。これは磁石１２５と鉄心１２２の位置関係によって、磁石１２５がある安定した位置に引き込まれるように力を受ける現象である。この力の方向はリニアモータの推進方向であり、コイルの電流の有無には依存していない。
【００１４】
コギングの発生周期は、可動磁石型リニアモータでは鉄心１２２の歯の間隔により定まる。コギング自体を減らすために歯や磁石の形状が工夫されてはいるが、完全に無くすことはできておらず、コギングはステージ位置制御に際して外乱として作用し、位置決め精度を悪化させて露光精度にも影響を与えてしまう。
【００１５】
本発明は、上記課題に鑑みてなされ、その目的は、コギングによる外乱を抑制し、正確な位置決め制御を実行できる移動体制御装置、移動体制御方法、露光装置並びに露光方法を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決し、目的を達成するために、本発明の移動体制御装置は、少なくとも一方向に移動する移動体を目標位置に駆動する駆動部と、前記移動体の位置を計測する位置計測部と、前記位置計測部で計測された計測位置と前記目標位置との偏差に基づいて前記移動体を駆動するための駆動制御値を算出する制御部とを備える移動体制御装置において、前記移動体の計測位置と前記制御部で算出される前記駆動制御値とから補正テーブルを生成するテーブル生成部と、
前記移動体の計測位置に基づいて前記補正テーブルから補正値を求め、当該補正値を用いて前記駆動制御値を補正する補正部とを具備する。
【００１７】
また、好ましくは、前記補正テーブルは、前記移動体の前記補正テーブルを用いた制御開始前に前記移動体を予備的に移動させることにより生成される。
【００１８】
また、好ましくは、前記補正テーブルは、前記移動体の前記補正テーブルを用いた制御が開始される度に前記移動体を予備的に移動させることにより生成される。
【００１９】
また、好ましくは、前記補正値は、前記補正テーブルから求めた値に所定ゲインを乗じることにより算出される。
【００２０】
また、好ましくは、前記補正テーブルは、前記予備的な移動として、前記移動体を微小距離で連続的に移動させることにより得られる各々の静止位置での計測位置と駆動制御値とに基づいて生成される。
【００２１】
また、好ましくは、前記予備的な移動により得られる各々の静止位置での駆動制御値に平均化処理を施す平均化処理部を更に備え、前記補正テーブルは、前記各々の静止位置での計測位置と、前記駆動制御値に平均化処理を施した値とに基づいて生成される。
【００２２】
また、好ましくは、前記テーブル生成部により生成された前記補正テーブルを記憶する記憶部と、当該記憶部から前記補正テーブルを読み込んで一時的に格納するテーブル格納部とを更に備える。
【００２３】
また、本発明の移動体制御方法は、少なくとも一方向に移動する移動体を目標位置に駆動する駆動部と、前記移動体の位置を計測する位置計測部と、前記位置計測部で計測された計測位置と前記目標位置との偏差に基づいて前記移動体を駆動するための駆動制御値を算出する制御部とを備え、当該駆動制御値に基づいて前記移動体を駆動する移動体制御方法において、前記移動体の計測位置と前記制御部で算出される前記駆動制御値とから補正テーブルを生成するテーブル生成工程と、前記移動体の計測位置に基づいて前記補正テーブルから補正値を求め、当該補正値を用いて前記駆動制御値を補正する補正工程とを具備する。
【００２４】
また、本発明の露光装置は、露光光により原版上のパターンを基板上の表面に投影転写する露光装置であって、前記原版と前記基板の少なくとも一方を保持するステージと、少なくとも一方向に移動する前記ステージを目標位置に駆動する駆動部と、前記ステージの位置を計測する位置計測部と、前記位置計測部で計測された計測位置と前記目標位置との偏差に基づいて前記ステージを駆動するための駆動制御値を算出する制御部と、前記ステージの計測位置と前記制御部で算出される前記駆動制御値とから補正テーブルを生成するテーブル生成部と、前記ステージの計測位置に基づいて前記補正テーブルから補正値を求め、当該補正値を用いて前記駆動制御値を補正する補正部とを備え、前記駆動部は、前記補正された駆動制御値に基づいて前記ステージを駆動して前記原版と前記基板とを相対的に位置決めする。
【００２５】
また、本発明の露光方法は、露光光により原版上のパターンを基板上の表面に投影転写する露光方法であって、前記原版と前記基板の少なくとも一方を保持すると共に、少なくとも一方向に移動するステージを目標位置に駆動する駆動工程と、前記ステージの位置を計測する位置計測工程と、前記位置計測工程で計測された計測位置と前記目標位置との偏差に基づいて前記ステージを駆動するための駆動制御値を算出する制御工程と、前記ステージの計測位置と前記制御工程で算出される前記駆動制御値とから補正テーブルを生成するテーブル生成工程と、前記ステージの計測位置に基づいて前記補正テーブルから補正値を求め、当該補正値を用いて前記駆動制御値を補正する補正工程とを備え、前記駆動工程では、前記補正された駆動制御値に基づいて前記ステージを駆動して前記原版と前記基板とを相対的に位置決めする。
【００２６】
更に、望ましくは、上記露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導体デバイスを製造する工程とを有する半導体デバイス製造方法にも適用される。
【００２７】
また、好ましくは、上記半導体デバイス製造方法では、前記製造装置群をローカルエリアネットワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネットワークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの間で、前記製造装置群の少なくとも１台に関する情報をデータ通信する工程とをさらに有する。
【００２８】
また、好ましくは、前記露光装置のベンダ若しくはユーザが提供するデータベースに前記外部ネットワークを介してアクセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情報を得る、若しくは前記半導体製造工場とは別の半導体製造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ通信して生産管理を行う。
【００２９】
更に、上記露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するローカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネットワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能にするゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも１台に関する情報をデータ通信することを可能にする半導体製造工場にも適用される。
【００３０】
また、半導体製造工場に設置された上記露光装置の保守方法であって、前記露光装置のベンダ若しくはユーザが、半導体製造工場の外部ネットワークに接続された保守データベースを提供する工程と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信する工程とを有する露光装置の保守方法にも適用される。
【００３１】
また、好ましくは、上記露光装置は、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネットワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさらに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワークを介してデータ通信することを可能にする。
【００３２】
また、好ましくは、前記ネットワーク用ソフトウェアは、前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接続され前記露光装置のベンダ若しくはユーザが提供する保守データベースにアクセスするためのユーザインタフェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネットワークを介して該データベースから情報を得ることを可能にする。
【００３３】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明する。
【００３４】
［ステージ装置の概略構成］
図１は、本発明に係る実施形態のステージ装置の概略構成図である。
【００３５】
図１において、本実施形態の移動体制御装置としてのステージ装置１０は、レチクル又はウエハの位置決め制御に用いられ、ステージ本体１１は、ステージ定盤１２の上面部と側面部に設けられた不図示の静圧軸受に軸支され、Ｙ方向に沿って移動可能に設けられている。同様に、ステージ本体１１は、ステージ定盤１２のＸ方向の側面部をガイド面１３として、不図示の静圧軸受によってＺ方向及びＺ軸まわりの回転であるωｚ方向への姿勢が保持される。
【００３６】
上記構成によって、ステージ本体１１はステージ定盤１２上においてＹ方向のみに移動可能となる。他の方向（Ｘ，Ｚ，ωｘ（Ｘ軸まわりの回転方向）、ωｙ（Ｙ軸まわりの回転方向）、ωｚ）は、静圧軸受の剛性によって姿勢が保持される。ステージ本体１１上には不図示のレチクルチャックが搭載され、レチクルを固定する。
【００３７】
ステージ本体１１の両側面部には可動子１４，１５が夫々取り付けられている。各々の可動子１４，１５は永久磁石で構成され、鉄心で構成される固定子１６，１７と夫々対になってリニアモータを構成する。
【００３８】
上記リニアモータの構成によって、ステージ本体１１はＹ方向に駆動力（推進力）が付加される。ステージ本体１１には不図示のレーザ干渉計からの計測光を反射するコーナーキューブ１８が設けられており、ステージ本体１１のＹ方向の位置が計測される。
【００３９】
尚、ここでは１軸（Ｙ）方向にのみ移動可能なステージ装置を例示したが、この構成に限らず、例えば、図１のステージ本体１１上に微動するステージを搭載したものにも適用できる。また、１軸ステージではなく、ＸＹ方向の２軸方向に移動可能となるようにリニアモータを構成した２軸ステージにも適用できる。
【００４０】
［第１の実施形態］
図２は、本発明に係る第１の実施形態としてステージ装置を制御するステージ制御系のブロック構成図である。
【００４１】
図示のステージ制御系２１は、コギング補正部２２と通常のＰＩＤ制御を行うフィードバック制御部２３とを有し、フィードバック制御部２３はＰＩＤ制御演算部２４を備える。
【００４２】
フィードバック制御部２３には、不図示の露光装置全体を制御する露光制御系から目標位置への移動指令値が入力される。フィードバック制御部２３では、この移動指令値と、レーザ干渉計により計測されたステージ位置とから位置偏差を算出し、この位置偏差に基づいてＰＩＤ制御演算部２４でステージ装置１０に出力する制御指令値を演算する。ステージ制御系２１は、デジタル計算機で構成されており、実際にステージ装置１０に制御指令値を出力するためには不図示のＤ／Ａ変換器が用いられる。
【００４３】
次に、コギング補正部２２で作成されるコギング補正テーブルについて説明する。
【００４４】
ステージ本体を全ストロークに亘って定速で移動させるには（これを「コギング測定駆動」と呼ぶ）、加減速時においてステージ本体を加速又は減速させる力が必要である。また、コギング外乱と加減速力を分離するためには、このコギング測定駆動における加減速区間はなるべく小さくなるような加減速度やステージ速度に設定することが好ましい。
【００４５】
ステージ本体が定速で移動中のときにはコギング外乱により偏差が生じ、これを抑制するための制御指令値がＰＩＤ制御演算部２４で演算される。換言すると、ステージ装置（リニアモータ）への制御指令値にコギング外乱の成分が含まれている。このコギング外乱は鉄心の歯と磁石との相対的な位置関係で定まり、非常に再現性の高いものである。
【００４６】
そこで、本実施形態では、コギング測定駆動におけるステージ位置とＰＩＤ制御演算部２４で演算された制御指令値とをコギング補正部２２のメモリ内に格納し、これらのデータからステージ位置に対する制御指令値の補正テーブルを作成する。この際、ステージ位置の数列は、理論的には次数が大きいほど精密な補正テーブルになるが、実際にはコギング外乱以外の外乱による影響があるため、次数を大きく、すなわち間隔を小さくしても意味が無い。
【００４７】
また、メモリ容量にも限度があるのでステージ位置の数列は適当な大きさにすることが望ましい。
【００４８】
このステージ位置の数列は、等間隔のステージ位置の計測値からなるが、コギング測定駆動により取得したステージ位置は、このステージ位置の数列とは必ずしも一致しないため、ステージ位置の数列に対する制御指令値の補正データを補正テーブルから算出する場合には適宜補間処理が実行される。
【００４９】
図３は、補間処理の概念図を示し、コギング測定駆動時の計測サンプル値は図３の黒丸で示されている。これに対して、補正テーブルから補正データを算出するときのステージ位置の数列は白抜き四角で示され、このステージ位置の間隔（ｄｘ１，ｄｘ２）は等間隔である（ｄｘ１＝ｄｘ２）。
【００５０】
このように、計測サンプル値と補正テーブルのステージ位置の数列とは必ずしも一致しないので線形補間処理を行なう。線形補間処理により得られた補正テーブルは、図３の白抜き四角を点線で結んだ直線上の値となる。このように、ステージ位置に対する制御指令値の補正データが補正テーブルとして作成される。
【００５１】
図２に戻り、ステージ制御系２１においてコギング補正を実行（オン）させる場合について説明する。
【００５２】
レーザ干渉計で計測されたステージ位置はコギング補正部２２に入力される。コギング補正部２２では上記ステージ位置と、コギング測定駆動により作成された補正テーブルからコギング補正指令値を算出する。このときに、補正テーブルから算出したステージ位置の数列とレーザ干渉計により計測されたステージ位置とは、必ずしも一致しないため適宜補間処理を行なう。
【００５３】
例えば、補正データのステージ位置の数列が０．１ｍｍ刻みであり、レーザ干渉計により計測されたステージ位置が１００．０５ｍｍである場合には、ステージ位置が１００．０ｍｍと１００．１ｍｍのときの制御指令値を線形補間（この場合は０．５対０．５となる）すればよい。
【００５４】
そして、コギング補正部２２からのコギング補正指令値をステージ装置１０に出力することにより、コギング外乱はリニアモータの推進力により略相殺され、見かけ上はコギング外乱を無くすことができる。コギング外乱は前述したように磁石と鉄心の相対的な位置関係により定まるため、磁石の減磁がない限り不変と考えてよい。
【００５５】
よって、コギング測定駆動は装置組立に伴う調整時に行なえばよく、通常の装置稼働中にはコギング測定駆動は必要とされない。実際に露光を行なう際にはコギング補正部２２によるコギング補正を実行（オン）させておけばよい。
【００５６】
尚、コギング外乱の度合は、装置毎に差が存在するため、各装置の組立時に装置毎に補正テーブルを作成することが望ましい。
【００５７】
［第２の実施形態］
図４は、本発明に係る第２の実施形態のコギング補正テーブルの作成方法を示すフローチャートである。
【００５８】
第２の実施形態で適用されるステージ装置は、第１の実施形態と同様の１軸ステージでもよいし、ＸＹ方向の２軸ステージでもよい。
【００５９】
第１の実施形態で算出されるコギング補正指令値は、完全にはコギング外乱を無くすことはできない。その理由は、以下の通りである。即ち、
上記コギング補正でのコギング外乱の抑圧は下記のようにして定まる。
【００６０】
コギング外乱の周波数はリニアモータの鉄心の歯のピッチと、ステージの移動速度により決まる。コギング外乱がステージ制御系に入力されたときに、どれだけ外乱を抑圧できるか、換言すると、どれだけ制御指令値にコギング外乱が正確に表れるかはステージ制御系の周波数特性に依存する。
【００６１】
即ち、ステージ制御系の外乱抑圧率は有限の値であるので、コギング測定駆動で得られた補正テーブルはコギング外乱と全く同じではない。従って、コギング補正指令値を入力してコギング補正を行ってもコギング外乱を零にすることはできず、力外乱が残ることになる。この力外乱の残り分は、さらにステージ制御系のフィードバック制御部により抑圧されることになる。
【００６２】
通常は１回のコギング補正により十分にコギング外乱を抑えることができるが、元のコギングが非常に大きい場合や、ステージの位置決め精度が非常に厳しい場合には、ステージ装置の性能として十分ではないことがある。
【００６３】
第２の実施形態は上記問題点を克服するためのコギング補正テーブルの作成方法を提案するものである。
【００６４】
具体的には、図４のステップＳ１〜Ｓ４では、第１の実施形態と同様の手順でコギング測定駆動によりコギング補正テーブルを作成し、コギング補正部２２からステージ装置１０に対してコギング補正指令値を出力する。
【００６５】
ステップＳ５では、再度コギング測定駆動を行なう。この再度のコギング測定駆動によりステージ制御系で生成される制御指令値は、先に説明した通り、コギング外乱を補正した残りの力外乱を抑圧する成分である。
【００６６】
ステップＳ６では、ステップＳ５で生成された制御指令値をフィードバック制御部で演算された制御指令値とコギング補正指令値とを加算した制御指令値として、再びステージ位置による制御指令値の補正テーブルを作成する。
【００６７】
このようにして得られた補正テーブルを前回の補正テーブルから更新する。理論的にはこの繰り返し補正の回数を増やすほどコギング外乱の抑圧はよくなるが、実際にはステージ定盤の振動などの不確定的な外乱のために真のコギング外乱を抽出することができず、補正テーブルの精度が低下することがある。
【００６８】
補正テーブルの精度が低下すると、コギング補正指令値のコギング外乱からのずれ量が新たな外乱として作用してしまい、ステージの位置決め精度を悪化させてしまう原因となるので、通常は１，２回の繰り返しにするのが望ましい。
【００６９】
［第３の実施形態］
図５は、第３の実施形態のコギング測定駆動を示すフローチャートである。
【００７０】
第１の実施形態のコギング測定駆動は全ストロークに亘って定速で行うのに対して、第３の実施形態のコギング測定駆動は、レチクルステージを全ストロークに亘って、微小ストロークでの移動を繰り返し実行するもので、各微小ストロークの移動後に各々の位置においてレチクルステージが静止状態ならば、フィードバック制御部によって位置偏差が零に抑制されており、このときの制御指令値は、コギング外乱に打ち勝ってステージを目標位置に保持するための値と略等価となる。
【００７１】
補正テーブルを用いたリニアモータ制御方法に関する発明は、例えば、特開平９−７４０５９号公報に記載されている。この公報には、予備駆動として一定低速度でレチクルステージを走査し、このときに得られるステージ位置情報と制御指令値とからオフライン処理によって補正テーブルを作成する方法が開示されている。
【００７２】
しかしながら、上記公報記載の方法では、たとえ低速であってもステージ駆動時における制御指令値を用いて補正テーブルを作成するため。動的な影響を受けることになる。従って、本来静的な（即ち、ステージ位置のみに依存し、速度等には依存しない）コギング外乱の影響を正確に反映することが困難であった。
【００７３】
このような不都合に対して、本実施形態では、補正テーブルはコギング外乱の影響を略完全に反映できることになり、より高精度の補正が可能となる。
【００７４】
具体的には、図５において、ステップＳ１１、Ｓ１２では、レチクルステージを一方のストローク端Ａまで移動させ、このストローク端Ａから他方のストローク端Ｂに向けて微小ストロークで移動させる。
【００７５】
ステップＳ１３〜Ｓ１５では、微小ストロークでの移動後にレチクルステージが静止するのを待ち、この移動による制御指令値の平均化処理を行い、平均化処理を施した制御指令値を補正テーブルに格納する。
【００７６】
ステップＳ１６では、上記ステップＳ１２〜Ｓ１５までの各処理を、レチクルステージが他方のストローク端Ｂに到達するまで繰り返し実行する。
【００７７】
上記構成によれば、一定速度によるコギング測定駆動と異なり、完全に静的な状態でのコギング補正データが取得できるため、ステージ駆動による動的特性の影響を受けずに、非常に正確な補正テーブルが生成できることになる。従って、コギング外乱の影響を略完全に除去することが可能となる。
【００７８】
［第４の実施形態］
図６は、本発明に係る第４の実施形態としてステージ装置を制御するステージ制御系のブロック構成図である。
【００７９】
上記第１の実施形態においてメモリに格納された補正テーブルは、通常、装置のリセット時に消失する。補正テーブルの作成に時間を要しない場合であれば装置がリセットされる度に補正テーブルを作成すればよいし、スループットの低下を引き起こすこともないが、上記第３の実施形態の微小ストロークでのコギング測定駆動による補正テーブルの作成では、非常に正確な補正テーブルが作成できる一方、補正テーブルの作成に要する時間が長く、装置のリセット毎に作成を行うとスループットの低下を招くこともある。
【００８０】
そこで、第４の実施形態では、図６に示すように、微小ストロークでのコギング測定駆動により作成された補正テーブルを作成した後、この補正テーブルをハードディスクなどの外部記憶装置３１などに記憶させ、装置のリセット毎に補正テーブルを作成する必要がなく、外部記憶装置３１からダウンロードすればよい構成とした。
【００８１】
図７は、外部記憶装置に補正テーブルを記憶させる場合の装置リセット時の初期化処理を示すフローチャートである。
【００８２】
図７において、装置がリセットされ初期化が開始された後、ステップＳ２１で外部記憶装置に既に補正テーブルが保存されているならば（ステップＳ２１でＹＥＳ）、ステップＳ２２で外部記憶装置から補正テーブルをダウンロードする。
【００８３】
また、ステップＳ２１で外部記憶装置に既に補正テーブルが保存されていないならば（ステップＳ２１でＮＯ）、ステップＳ２３、Ｓ２４でコギング測定駆動により補正テーブルを作成してメモリに格納すると共に、外部記憶装置に記憶させる。
【００８４】
上記実施形態によれば、コギング外乱を有するリニアモータを用いた場合でも見かけ上のコギング外乱を略完全に除去することができ、高精度の位置決め制御を実現できる。
【００８５】
また、補正テーブルを記憶、ダウンロードするための外部記憶装置を設けたことにより、コギング測定駆動をリセット毎に実行する必要がなくなり、装置のリセット時の初期化動作を高速に行うことができる。
【００８６】
［第５の実施形態］
図８は、本発明に係る第５の実施形態としてステージ装置を制御するステージ制御系のブロック構成図である。
【００８７】
第５の実施形態は、第２の実施形態と同じ目的で、第１の実施形態のコギング補正のみではコギング外乱を完全には抑圧できない点に着目している。
【００８８】
図８のコギング補正演算部３１ではステージ位置と、コギング測定駆動により作成された補正テーブルからコギング補正信号を生成する。この補正テーブルは、１回のコギング測定駆動により作成されたものである。このコギング補正信号は、ステージ制御系の周波数特性が有限であるため、真のコギング補正値からずれている。よって、コギング補正信号にコギング補正ゲインを乗じたものをコギング補正指令値としてステージ装置１０に出力する。
【００８９】
このコギング補正ゲインはステージ制御系の外乱抑圧率の不足分を補うための値である。また、補正ゲインを調整することにより、ステージの移動速度によりコギング周波数が変化する場合にも対応できる。このようにして、１回のコギング測定駆動で作成した補正テーブルに補正ゲインをさらに乗ずることにより、コギングの抑圧をより良くすることができる。
【００９０】
［露光装置の概要］
図１１は、上記実施形態のステージ装置を搭載する半導体デバイス製造用の露光装置を示し、ステージ定盤１２上にガイド面１３と固定子１６，１７が固設されている。可動子１４，１５を可動部５３として、ステージである可動ガイド５４に接続し、リニアモータの駆動によって可動ガイド５４を紙面法線方向に移動させる。可動部５３は、ステージ定盤１２の上面を基準に静圧軸受５５で、ガイド５２の側面を基準に静圧軸受５６で支持される。
【００９１】
可動ガイド５４を跨ぐようにして配置したステージであるステージ本体１１は静圧軸受５８によって支持されている。このステージ本体１１は、リニアモータによって駆動され、可動ガイド５４を基準にステージ本体１１が紙面左右方向に移動する。ステージ本体１１の動きは、ステージ本体１１に固設したコーナーキューブ１８およびレーザー干渉計６０を用いて計測する。
【００９２】
ステージ本体１１に搭載したチャック上に基板であるウエハＷを保持し、光源６１、投影光学系６２によって、原版であるレチクルＲの回路パターンをウエハＷに縮小転写する。
【００９３】
尚、上記と同様の構成を持つステージ装置を用いてレチクルＲをウエハＷに対して相対的に移動させ、所望の位置に位置決め制御する構成としてもよい。
【００９４】
［半導体生産システム］
次に、上記露光装置を利用した半導体等のデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の生産システムの例を説明する。これは、半導体製造工場に設置された製造装置のトラブル対応や定期メンテナンス、若しくはソフトウェア提供等の保守サービスを、製造工場外のコンピュータネットワーク等を利用して行うものである。
【００９５】
図１２は、全体システムをある角度から切り出して表現したものである。図中、１１０１は半導体デバイスの製造装置を提供するベンダ（装置供給メーカ）の事業所である。製造装置の実例として、半導体製造工場で使用する各種プロセス用の半導体製造装置、例えば、前工程用機器（露光装置、レジスト処理装置、エッチング装置等のリソグラフィ装置、熱処理装置、成膜装置、平坦化装置等）や後工程用機器（組立て装置、検査装置等）を想定している。事業所１１０１内には、製造装置の保守データベースを提供するホスト管理システム１１０８、複数の操作端末コンピュータ１１１０、これらを結んでイントラネット等を構築するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）１１０９を備える。ホスト管理システム１１０８は、ＬＡＮ１１０９を事業所の外部ネットワークであるインターネット１１０５に接続するためのゲートウェイと、外部からのアクセスを制限するセキュリティ機能を備える。
【００９６】
一方、１１０２〜１１０４は、製造装置のユーザとしての半導体製造メーカの製造工場である。製造工場１１０２〜１１０４は、互いに異なるメーカに属する工場であってもよいし、同一のメーカに属する工場（例えば、前工程用の工場、後工程用の工場等）であってもよい。各工場１１０２〜１１０４内には、夫々、複数の製造装置１１０６と、それらを結んでイントラネット等を構築するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）１１１１と、各製造装置１１０６の稼動状況を監視する監視装置としてホスト管理システム１１０７とが設けられている。各工場１１０２〜１１０４に設けられたホスト管理システム１１０７は、各工場内のＬＡＮ１１１１を工場の外部ネットワークであるインターネット１１０５に接続するためのゲートウェイを備える。これにより各工場のＬＡＮ１１１１からインターネット１１０５を介してベンダ１１０１側のホスト管理システム１１０８にアクセスが可能となり、ホスト管理システム１１０８のセキュリティ機能によって限られたユーザだけがアクセスが許可となっている。具体的には、インターネット１１０５を介して、各製造装置１１０６の稼動状況を示すステータス情報（例えば、トラブルが発生した製造装置の症状）を工場側からベンダ側に通知する他、その通知に対応する応答情報（例えば、トラブルに対する対処方法を指示する情報、対処用のソフトウェアやデータ）や、最新のソフトウェア、ヘルプ情報等の保守情報をベンダ側から受け取ることができる。各工場１１０２〜１１０４とベンダ１１０１との間のデータ通信及び各工場内のＬＡＮ１１１１でのデータ通信には、インターネットで一般的に使用されている通信プロトコル（ＴＣＰ／ＩＰ）が使用される。なお、工場外の外部ネットワークとしてインターネットを利用する代わりに、第三者からのアクセスができずにセキュリティの高い専用線ネットワーク（ＩＳＤＮ等）を利用することもできる。また、ホスト管理システムはベンダが提供するものに限らずユーザがデータベースを構築して外部ネットワーク上に置き、ユーザの複数の工場から該データベースへのアクセスを許可するようにしてもよい。
【００９７】
さて、図１３は、本実施形態の全体システムを図９とは別の角度から切り出して表現した概念図である。先の例では、それぞれが製造装置を備えた複数のユーザ工場と、該製造装置のベンダの管理システムとを外部ネットワークで接続して、該外部ネットワークを介して各工場の生産管理や少なくとも１台の製造装置の情報をデータ通信するものであった。これに対し本例は、複数のベンダの製造装置を備えた工場と、該複数の製造装置のそれぞれのベンダの管理システムとを工場外の外部ネットワークで接続して、各製造装置の保守情報をデータ通信するものである。図中、１２０１は製造装置ユーザ（半導体デバイス製造メーカ）の製造工場であり、工場の製造ラインには各種プロセスを行う製造装置、ここでは例として露光装置１２０２、レジスト処理装置１２０３、成膜処理装置１２０４が導入されている。なお、図１３では、製造工場１２０１は１つだけ描いているが、実際は複数の工場が同様にネットワーク化されている。工場内の各装置はＬＡＮ１２０６で接続されてイントラネット等を構成し、ホスト管理システム１２０５で製造ラインの稼動管理がされている。一方、露光装置メーカ１２１０、レジスト処理装置メーカ１２２０、成膜装置メーカ１２３０等、ベンダ（装置供給メーカ）の各事業所には、それぞれ供給した機器の遠隔保守を行うためのホスト管理システム１２１１，１２２１，１２３１を備え、これらは上述したように保守データベースと外部ネットワークのゲートウェイを備える。ユーザの製造工場内の各装置を管理するホスト管理システム１２０５と、各装置のベンダの管理システム１２１１，１２２１，１２３１とは、外部ネットワーク１２００であるインターネット若しくは専用線ネットワークによって接続されている。このシステムにおいて、製造ラインの一連の製造機器の中のどれかにトラブルが起きると、製造ラインの稼動が休止してしまうが、トラブルが起きた機器のベンダからインターネット１２００を介した遠隔保守を受けることで迅速な対応が可能で、製造ラインの休止を最小限に抑えることができる。
【００９８】
半導体製造工場に設置された各製造装置はそれぞれ、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、記憶装置にストアされたネットワークアクセス用ソフトウェアならびに装置動作用のソフトウェアを実行するコンピュータを備える。記憶装置としては内蔵メモリやハードディスク、若しくはネットワークファイルサーバ等である。上記ネットワークアクセス用ソフトウェアは、専用又は汎用のウェブブラウザを含み、例えば図１４に一例を示す様な画面のユーザインタフェースをディスプレイ上に提供する。各工場で製造装置を管理するオペレータは、画面を参照しながら、製造装置の機種１４０１、シリアルナンバー１４０２、トラブルの件名１４０３、発生日１４０４、緊急度１４０５、症状１４０６、対処法１４０７、経過１４０８等の情報を画面上の入力項目に入力する。入力された情報はインターネットを介して保守データベースに送信され、その結果の適切な保守情報が保守データベースから返信されディスプレイ上に提示される。また、ウェブブラウザが提供するユーザインタフェースは、さらに図示の如くハイパーリンク機能１４１０，１４１１，１４１２を実現し、オペレータは各項目の更に詳細な情報にアクセスしたり、ベンダが提供するソフトウェアライブラリから製造装置に使用する最新バージョンのソフトウェアを引出したり、工場のオペレータの参考に供する操作ガイド（ヘルプ情報）を引出したりすることができる。ここで、保守データベースが提供する保守情報には、上記説明した本発明に関する情報も含まれ、また前記ソフトウェアライブラリは本発明を実現するための最新のソフトウェアも提供する。
【００９９】
次に、上記説明した生産システムを利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図１５は、半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップＳ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立て工程を含む。ステップＳ６（検査）ではステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップＳ７）する。前工程と後工程はそれぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎に上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされる。また、前工程工場と後工程工場との間でも、インターネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や装置保守のための情報がデータ通信される。
【０１００】
図１６は、上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップＳ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップＳ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップＳ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造機器は上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もしトラブルが発生しても迅速な復旧が可能で、従来に比べて半導体デバイスの生産性を向上させることができる。
【０１０１】
【他の実施形態】
本発明は、前述した実施形態の機能を実現するソフトウェアのプログラム（本実施形態のステージ制御系における各制御ブロックの機能、コギング測定駆動方法、初期化処理、ステージ装置を用いたレチクルとウエハの位置決め制御など）を、システム或いは装置に直接或いは遠隔から供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータが該供給されたプログラムコードを読み出して実行することによっても達成される場合を含む。その場合、プログラムの機能を有していれば、形態は、プログラムである必要はない。
【０１０２】
従って、本発明の機能処理をコンピュータで実現するために、該コンピュータにインストールされるプログラムコード自体も本発明を実現するものである。つまり、本発明のクレームでは、本発明の機能処理を実現するためのコンピュータプログラム自体も含まれる。
【０１０３】
その場合、プログラムの機能を有していれば、オブジェクトコード、インタプリタにより実行されるプログラム、ＯＳに供給するスクリプトデータ等、プログラムの形態を問わない。
【０１０４】
プログラムを供給するための記録媒体としては、例えば、フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＭＯ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭ、ＤＶＤ（ＤＶＤ−ＲＯＭ，ＤＶＤ−Ｒ）などがある。
【０１０５】
その他、プログラムの供給方法としては、クライアントコンピュータのブラウザを用いてインターネットのホームページに接続し、該ホームページから本発明のコンピュータプログラムそのもの、もしくは圧縮され自動インストール機能を含むファイルをハードディスク等の記録媒体にダウンロードすることによっても供給できる。また、本発明のプログラムを構成するプログラムコードを複数のファイルに分割し、それぞれのファイルを異なるホームページからダウンロードすることによっても実現可能である。つまり、本発明の機能処理をコンピュータで実現するためのプログラムファイルを複数のユーザに対してダウンロードさせるＷＷＷサーバも、本発明のクレームに含まれるものである。
【０１０６】
また、本発明のプログラムを暗号化してＣＤ−ＲＯＭ等の記憶媒体に格納してユーザに配布し、所定の条件をクリアしたユーザに対し、インターネットを介してホームページから暗号化を解く鍵情報をダウンロードさせ、その鍵情報を使用することにより暗号化されたプログラムを実行してコンピュータにインストールさせて実現することも可能である。
【０１０７】
また、コンピュータが、読み出したプログラムを実行することによって、前述した実施形態の機能が実現される他、そのプログラムの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳなどが、実際の処理の一部または全部を行ない、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現され得る。
【０１０８】
さらに、記録媒体から読み出されたプログラムが、コンピュータに挿入された機能拡張ボードやコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに書き込まれた後、そのプログラムの指示に基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わるＣＰＵなどが実際の処理の一部または全部を行ない、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現される。
【０１０９】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、コギング外乱を有するリニアモータを用いた場合でも見かけ上のコギング外乱を略完全に無くすことができ、良好な位置決め制御が達成される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る実施形態のステージ装置の概略構成図。
【図２】本発明に係る第１の実施形態としてステージ装置を制御するステージ制御系のブロック構成図。
【図３】補間処理の概念図を示す図。
【図４】本発明に係る第２の実施形態のコギング補正テーブルの作成方法を示すフローチャート。
【図５】第３の実施形態のコギング測定駆動を示すフローチャート。
【図６】本発明に係る第４の実施形態としてステージ装置を制御するステージ制御系のブロック構成図。
【図７】外部記憶装置に補正テーブルを記憶させる場合の装置リセット時の初期化処理を示すフローチャート。
【図８】本発明に係る第５の実施形態としてステージ装置を制御するステージ制御系のブロック構成図。
【図９】従来のステージ装置の概略構成図。
【図１０】従来のリニアモータの概略構成図。
【図１１】本実施形態のステージ装置が搭載される露光装置の概略構成図。
【図１２】本発明の一実施形態に係る露光装置を含む半導体デバイスの生産システムをある角度から見た概念図。
【図１３】本発明の一実施形態に係る露光装置を含む半導体デバイスの生産システムを別の角度から見た概念図。
【図１４】本発明の一実施形態に係る露光装置を含む半導体デバイスの生産システムにおけるユーザインタフェースの具体例を示す図。
【図１５】本発明の一実施形態に係る露光装置によるデバイスの製造プロセスの流れを説明するフローチャート。
【図１６】本発明の一実施形態に係る露光装置によるウエハプロセスを説明する図。
【符号の説明】
１０　ステージ装置
１１　ステージ本体
１２　ステージ定盤
１３　ガイド面
１４，１５　可動子
１６，１７　固定子
１８　コーナーキューブ
２１　ステージ制御系
２２　コギング補正部
２３　フィードバック制御部
２４　ＰＩＤ制御演算部
３１　外部記憶装置
４１　コギング補正演算部
５５，５８　静圧軸受
６０　レーザー干渉計
６１　光源
６２　投影光学系
Ｒ　レチクル
Ｗ　ウエハ
【図１】
2004054520.tif 000003
【図２】
2004054520.tif 000004
【図３】
2004054520.tif 000005
【図４】
2004054520.tif 000006
【図５】
2004054520.tif 000007
【図６】
2004054520.tif 000008
【図７】
2004054520.tif 000009
【図８】
2004054520.tif 000010
【図９】
2004054520.tif 000011
【図１０】
2004054520.tif 000012
【図１１】
2004054520.tif 000013
【図１２】
2004054520.tif 000014
【図１３】
2004054520.tif 000015
【図１４】
2004054520.tif 000016
【図１５】
2004054520.tif 000017
【図１６】
2004054520.tif 000018