Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月17日(2003.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示パネルと、この液晶表示パネルの観察側に対する背面側に配置されるバックライトユニットと、これら液晶表示パネルとバックライトユニットをモジュール化させる筐体と、を備える液晶表示装置において、
前記筐体は、底面と側面とを有し、該側面は前記底面よりも背面側に延在する突出部を備えることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
液晶表示パネルと、この液晶表示パネルの観察側に対する背面側に配置されるバックライトユニットと、バックライトユニットを収納する樹脂枠体と、電源回路と、を備える液晶表示装置において、
前記樹脂枠体は、底面と側面とを有し、該側面は前記底面よりも背面側に延在する突出部を備えるとともに、
前記電源回路は、樹脂枠体の底面であって前記突出部の間に配置させたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
前記液晶表示パネルは、その一辺に搭載された映像信号駆動回路と、この映像信号駆動回路に接続されるコントロール回路を備え、
前記コントロール回路は前記筐体の側面に収納されていることを特徴とする請求項１および２記載のうちいずれか記載の液晶表示装置。
【請求項４】
バックライトユニットは、液晶表示パネルに対向して配置される複数の陰極線管と、この陰極線管からの光を該液晶表示パネル側へ導く反射板とから構成されていることを特徴とする請求項１および２記載のうちいずれか記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記突出部の高さは該筐体の底面に配置された電源回路の厚みより高く構成されていることを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項６】
電源回路はインバータ回路からなることを特徴とする請求項２および５記載のうちいずれか記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月19日(2003.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【発明の効果】
以上の説明からも明らかなように、本発明によれば、接合深さの極めて浅い不純物拡散層の上でその表面状態に極めて敏感な金属膜を用いてシリサイド化を行う場合にも、十分に低い抵抗率を有し、かつ膜厚が均一で接合破壊を起こす虞れのないシリサイド層を形成することができる。したがって本発明は、微細なデザイン・ルールにもとづいて製造される半導体装置の高集積化、高性能化、高歩留り化に極めて有効である。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月9日(2004.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
ＴＭＧ……トリメチル・ガリウム、ＴＭＡ……トリメチル・アルミニウム、ＴＭＩ……トリメチル・インジウム、ＤＭＺ……ジメチル亜鉛、ＴＭＡｓ……トリメチル砒素、ＡｓＨ3 ……アルシン、ＰＨ3 ……ホスフィン、Ｈ2 Ｓｅ……セレン化水素、４２……第１量子井戸、４４……第２量子井戸、４６……第３量子井戸
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月27日(2003.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板と、
上記絶縁基板上に、接着層を介して搭載される集積回路チップと、
上記集積回路チップを搭載した上記絶縁基板の面側に形成される複数の導体パターンであって、該各導体パターンの少なくとも一部が、上記集積回路チップの下に位置するものと、
上記集積回路チップ下の上記導体パターンが配置されない領域に、該領域が複数に分割された領域となるよう配置されたパターンと、を備えた半導体装置。
【請求項２】
上記パターンは、千鳥状に配置されたブロック状の複数のパターンから構成される請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
上記ブロック状のパターンにより囲まれる各領域は、その直径が０．９ｍｍ以下である請求項２記載の半導体装置。
【請求項４】
上記ブロック状のパターンは、その直径が０．１〜１．０ｍｍである略正方形状のパターンである請求項３記載の半導体装置。
【請求項５】
上記集積回路チップは、その回路形成面を上にして上記絶縁基板上に搭載される請求項１、２、３又は４記載の半導体装置。
【請求項６】
上記絶縁基板は、上記導体パターンの一部の下にスルーホールを有し、上記集積回路チップを搭載した絶縁基板の面と反対側の面から、上記スルーホールを介して上記導体パターンの一部に接合される、外部接続用の半田バンプを備えた請求項１、２、３、４又は５記載の半導体装置。
【請求項７】
第１の面と当該第１の面の反対側に位置する第２の面と上記第１の面と上記第２の面との間を貫通する複数の貫通孔を有する絶縁基板と、
上記絶縁基板の第１の面側に接着層を介して搭載される集積回路チップと、
上記絶縁基板の第１の面上に形成され、上記絶縁基板の集積回路チップ搭載領域内に位置する第１の接続ランド部と上記集積回路チップ搭載領域外に位置する第２の接続ランド部とをそれぞれ有する複数の導体パターンと、
上記絶縁基板の第１の面上に形成され、上記集積回路チップ搭載領域内に位置して互いに離間している複数のパターン要素と、
上記絶縁基板の第２の面側に設けられ、上記複数の第１の接続ランド部に上記複数の貫通孔を介してそれぞれ電気的に接続される複数の外部接続端子と、
を有する半導体装置。
【請求項８】
上記複数のパターン要素が千鳥状に配置された複数の矩形パターンである請求項７に記載の半導体装置。
【請求項９】
上記集積回路チップの複数の電極パッドと上記複数の第２の接続ランド部とをそれぞれ電気的に接続する複数の導体を有し、
上記集積回路チップの上記複数の電極が形成されている素子形成面と逆側の裏面が上記絶縁基板の第１の面に上記接着層により接着されている請求項７又は８に記載の半導体装置。
【請求項１０】
上記絶縁基板の第１の面側に上記集積回路チップを封止するための封止樹脂が形成されている請求項７、８又は９に記載の半導体装置。
【請求項１１】
上記複数の導体パターンと上記複数のパターン要素とが同じ材料により形成されている請求項７、８、９又は１０に記載の半導体装置。
【請求項１２】
上記複数の外部接続端子が上記複数の貫通孔にそれぞれ設けられている請求項７、８、９、１０又は１１に記載の半導体装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置のパッケージ構造に関し、特に、ＣＳＰ型の集積回路パッケージに適用して好適なるものに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月4日(2003.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子上に設けられた複数の電極パッドと、それぞれ該複数の電極パッドの対応するものとワイヤを介して接続される複数のリードと、前記半導体素子上に配置され、前記複数の電極パッドのうち対応するいくつかを電気的に接続させる共通ラインとを有する半導体装置において、
前記共通ラインの少なくとも表面には絶縁部材が設けられている
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記共通ラインは電源用ラインと接地用ラインとで構成され、該電源用ラインと該接地用ラインとはそれぞれ独立して構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記半導体素子上は電源用電極パッドおよび接地用電極パッドを有し、前記電源用ラインと前記複数のリードのうち対応するものとが該電源用電極パッドを介して電気的に接続され、前記接地用ラインと前記複数のリードのうち対応するものとが該接地用電極パッドを介して電気的に接続されている
ことを特徴とする請求項２記載の半導体装置。
【請求項４】
前記共通ラインは、最上層が絶縁層となるように、導電層と絶縁層とが交互に配置された多層構造を有し、前記電源用ラインと前記接地用ラインとは互いに異なる層となる前記導電層を用いたものである
ことを特徴とする請求項２または請求項３記載の半導体装置。
【請求項５】
前記接地ラインに用いられる導電層は前記電源用ラインに用いられる導電層より上層に位置する
ことを特徴とする請求項４記載の半導体装置。
【請求項６】
前記共通ラインは、最上層が絶縁層となるように、導電層と絶縁層とが交互に配置された多層構造を有する
ことを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項７】
前記絶縁層は絶縁性の接着テープで構成されている
ことを特徴とする請求項４〜６のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項８】
前記導電層は銅から構成されるものである
ことを特徴とする請求項４〜７のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項９】
前記複数の電極パッドは前記共通ラインに並行して配置され、前記共通ラインは、該共通ラインと接続される電極パッド上を覆う突出部を有する
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項１０】
前記複数の電極パッドは整列配置され、前記共通ラインは、前記複数の電極パッドのうち前記リードとワイヤにて接続される電極パッドが露出するように孔が設けられ、該整列配置された複数の電極パッドの両脇を通過するように配置されている
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項１１】
前記電極パッドの対応するいくつかと前記共通ラインとの電気的な接続として金属バンプを用いる
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項１２】
半導体素子上に設けられ複数の電極パッドを避けるよう第１の絶縁性接着テープを貼り付ける工程と、
前記半導体素子における共通の信号を取り扱う電極パッドと導通する状態で前記第１の絶縁性接着テープ上に導電性接着剤を積層する工程と、
前記導電性接着剤の表面を覆う状態で第２の絶縁性接着テープを積層する工程と、
前記導電性接着剤および前記第２の絶縁性接着テープが積層されていない電極パッドから外部との信号入出力を行うリードとをボンディングワイヤーで接続するにあたり、該第２の絶縁性接着テープをまたぐとともに該第２の絶縁性接着テープと接触する状態で引き回して接続する工程と
を備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
半導体素子上に設けられ複数の電極パッドを避けるよう第１の絶縁性接着テープを貼り付ける工程と、
前記半導体素子における電源信号を取り扱う電極パッドと導通する状態で前記第１の絶縁性接着テープ上に第１の導電性接着剤を積層する工程と、
前記第１の導電性接着剤の表面を覆う状態で第２の絶縁性接着テープを積層する工程と、
前記半導体素子における接地レベルとなる電極パッドと導通する状態で第２の絶縁性接着テープ上に第２の導電性接着剤を積層する工程と、
前記第２の導電性接着剤の表面を覆う状態で第３の絶縁性接着テープを積層する工程と、
前記第１の導電性接着剤、前記第２の導電性接着剤、前記第２の絶縁性接着テープおよび前記第３の絶縁性接着テープが積層されていない電極パッドから外部との信号入出力を行うリードとをボンディングワイヤーで接続するにあたり、該第３の絶縁性接着テープをまたぐとともに該第３の絶縁性接着テープと接触する状態で引き回して接続する工程と
を備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
半導体素子上に設けられ複数の電極パッドを避けるよう第１の絶縁性接着テープを貼り付ける工程と、
前記半導体素子における共通の信号を取り扱う電極パッド上の金属バンプと導通する状態で前記第１の絶縁性接着テープ上に金属箔を積層する工程と、
前記金属箔の表面を覆う状態で第２の絶縁性接着テープを積層する工程と、
前記金属箔および前記第２の絶縁性接着テープが積層されていない電極パッドから外部との信号入出力を行うリードとをボンディングワイヤーで接続するにあたり、該第２の絶縁性接着テープをまたぐとともに該第２の絶縁性接着テープと接触する状態で引き回して接続する工程と
を備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明はこのような課題を解決するために成された半導体装置およびその製造方法である。すなわち、本発明は、半導体素子上に設けられた複数の電極パッドと、それぞれ複数の電極パッドの対応するものとワイヤを介して接続される複数のリードと、半導体素子上に配置され、複数の電極パッドのうち対応するいくつかを電気的に接続させる共通ラインとを有する半導体装置であり、この共通ラインの少なくとも表面に絶縁部材が被着しているものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月16日(2004.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
請求項１記載の自動車において、イグニションキー（５）が＋ＡＰＣ位置又は＋ＡＣＣ位置にある時に、シフトレバー（１）をＰ位置へ移動させた場合、かつまたブレーキペダル（４）を押圧した場合、シフトレバー（１）を解除するアクチュエータ（２）が即時起動されるように、作動論理が構成されていることを特徴とする、自動車。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月19日(2003.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子構造中にエーテル基、エステル基、水酸基、スルホン酸基及びカルボキシル基のうちの少なくとも１種を含むフッ素含有高分子を含み、且つ該高分子が、溶解性パラメータ値が８．７（ｃａｌ・ｃｍ-3）1/2以下の溶剤に不溶である成分で構成されていることを特徴とする磁気ディスク用潤滑剤。
【請求項２】
前記フッ素含有高分子が、末端にピペロニル基と水酸基の両方又は一方を有するパーフロロポリエーテル樹脂である、請求項１記載の磁気ディスク用潤滑剤。
【請求項３】
前記溶剤が、脂肪族炭化水素類、エステル類、ケトン類又はエーテル類である、請求項１又は２記載の磁気ディスク用潤滑剤。
【請求項４】
前記溶剤が炭素数５〜１０の脂肪族炭化水素である、請求項１又は２記載の磁気ディスク用潤滑剤。
【請求項５】
分子構造中にエーテル基、エステル基、水酸基、スルホン酸基及びカルボキシル基のうちの少なくとも１種を含むフッ素含有高分子１重量部を、溶解性パラメータ値が８．７（ｃａｌ・ｃｍ-3）1/2以下である溶剤２重量部以上に十分に混合し、そして該溶剤に不溶な成分のみを精製潤滑剤として回収する工程を含む、磁気ディスク用潤滑剤の精製方法。
【請求項６】
前記フッ素含有高分子が、末端にピペロニル基と水酸基の両方又は一方を有するパーフロロポリエーテル樹脂である、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記溶剤が、脂肪族炭化水素類、エステル類、ケトン類又はエーテル類である、請求項５又は６記載の方法。
【請求項８】
前記溶剤が炭素数５〜１０の脂肪族炭化水素である、請求項５又は６記載の方法。
【請求項９】
磁気記録媒体表面に、分子構造中にエーテル基、エステル基、水酸基、スルホン酸基及びカルボキシル基のうちの少なくとも１種を含むフッ素含有高分子を塗布して製膜し、この塗布膜を溶解性パラメータ値が８．７（ｃａｌ・ｃｍ-3）1/2以下の溶剤にて処理して可溶成分のみ溶解除去する工程を含む、磁気ディスク装置の製造方法。
【請求項１０】
前記フッ素含有高分子が、末端にピペロニル基と水酸基の両方又は一方を有するパーフロロポリエーテル樹脂である、請求項９記載の磁気ディスク装置の製造方法。
【請求項１１】
前記溶剤が、脂肪族炭化水素類、エステル類、ケトン類又はエーテル類である、請求項９又は１０記載の磁気ディスク装置の製造方法。
【請求項１２】
分子構造中にエーテル基、エステル基、水酸基、スルホン酸基及びカルボキシル基のうちの少なくとも１種を含むフッ素含有高分子を含み、且つ該高分子が、溶解性パラメータ値が８．７（ｃａｌ・ｃｍ-3）1/2以下の溶剤に不溶である成分で構成されていることを特徴とする潤滑剤層。
【請求項１３】
前記フッ素含有高分子が、末端にピペロニル基と水酸基の両方又は一方を有するパーフロロポリエーテル樹脂である、請求項１２記載の潤滑剤層。
【請求項１４】
前記溶剤が、脂肪族炭化水素類、エステル類、ケトン類又はエーテル類である、請求項１２又は１３記載の潤滑剤層。
【請求項１５】
請求項１２乃至１４に記載の潤滑剤層を表面に備えたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１６】
表面に、分子構造中にエーテル基、エステル基、水酸基、スルホン酸基及びカルボキシル基のうちの少なくとも１種を含むフッ素含有高分子を塗布して製膜し、この塗布膜を溶解性パラメータ値が８．７（ｃａｌ・ｃｍ-3）1/2以下の溶剤にて処理して可溶成分のみ溶解除去することにより得られる潤滑剤層を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載の磁気記録媒体を含むことを特徴とする磁気ディスク装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるエラスターゼ阻害物質を含むことを特徴とするエラスターゼ阻害剤。
【請求項２】
ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である請求項１に記載のエラスターゼ阻害剤。
【請求項３】
ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるエラスターゼ阻害物質を含むことを特徴とする皮膚外用剤。
【請求項４】
ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である請求項３に記載の皮膚外用剤。
【請求項５】
ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるエラスターゼ阻害物質の含有量が、前記皮膚外用剤に対し０．０１〜１０質量％である請求項３から４のいずれかに記載の皮膚外用剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。
＜１＞  ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるエラスターゼ阻害物質を含むことを特徴とするエラスターゼ阻害剤である。
＜２＞  ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である前記＜１＞に記載のエラスターゼ阻害剤である。
＜３＞  ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）の少なくともいずれかを抽出して得られたエラスターゼ阻害物質を含有する前記＜２＞に記載のエラスターゼ阻害剤である。
＜４＞  ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）の少なくともいずれかを水、親水性有機溶媒及びこれらの混合物から選択されるいずれかの溶媒で抽出処理して得られる抽出物を含む前記＜２＞から＜３＞のいずれかに記載のエラスターゼ阻害剤である。
＜５＞  ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるエラスターゼ阻害物質を含むことを特徴とする皮膚外用剤である。
＜６＞  ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である前記＜５＞に記載の皮膚外用剤である。
＜７＞  ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるエラスターゼ阻害物質の含有量が、前記皮膚外用剤に対し０．０１〜１０質量％である前記＜５＞から＜６＞のいずれかに記載の皮膚外用剤である。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
エラスターゼ阻害作用を有する抽出物は、他のヒマラヤユキノシタ属植物、例えば、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）、等からも得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】テストステロン−５α−レダクターゼ阻害剤、並びに、化粧料及び飲食品


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるテストステロン−５α−レダクターゼ阻害物質を含むことを特徴とするテストステロン−５α−レダクターゼ阻害剤。
【請求項２】
ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である請求項１に記載のテストステロン−５α−レダクターゼ阻害剤。
【請求項３】
ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるテストステロン−５α−レダクターゼ阻害物質を含むことを特徴とする化粧料。
【請求項４】
ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である請求項３に記載の化粧料。
【請求項５】
ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるテストステロン−５α−レダクターゼ阻害物質を含むことを特徴とする飲食品。
【請求項６】
ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である請求項５に記載の飲食品。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、テストステロン−５α−レダクターゼ阻害剤、およびテストステロン−５α−レダクターゼ阻害作用を付与した化粧料及び飲食品に関するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。
＜１＞  ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるテストステロン−５α−レダクターゼ阻害物質を含むことを特徴とするテストステロン−５α−レダクターゼ阻害剤である。
＜２＞  ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である前記＜１＞に記載のテストステロン−５α−レダクターゼ阻害剤である。
＜３＞  ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）の少なくともいずれかを水、親水性有機溶媒及びこれらの混合物から選択されるいずれかの溶媒で抽出処理して得られる抽出物を含む前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載のテストステロン−５α−レダクターゼ阻害剤である。
＜４＞  ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるテストステロン−５α−レダクターゼ阻害物質を含むことを特徴とする化粧料である。
＜５＞  ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である前記＜４＞に記載の化粧料である。
＜６＞  ヒマラヤユキノシタ属植物から抽出されるテストステロン−５α−レダクターゼ阻害物質を含むことを特徴とする飲食品である。
＜７＞  ヒマラヤユキノシタ属植物が、ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）から選択される少なくとも１種である前記＜６＞に記載の飲食品である。
＜８＞  ベルゲニア・クラッシフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｆｏｌｉａ）及びベルゲニア・パープラセンス（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）の少なくともいずれかを抽出したテストステロン−５α−レダクターゼ阻害物質を添加してなる前記＜６＞から＜７＞のいずれかに記載の飲食品である。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
テストステロン−５α−レダクターゼ阻害作用を有する抽出物は、他のヒマラヤユキノシタ属植物、例えば、ベルゲニア・シリアータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｉｌｉａｔａ）、ベルゲニア・コルディフォリア（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）、ベルゲニア・リグラータ（Ｂｅｒｇｅｎｉａ  ｌｉｇｕｌａｔａ）、等からも得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月5日(2003.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗糖尿病剤であって、
１．ザクロ（Ｐｕｎｉｃａ  ｇｒａｎａｔｕｍ、ザクロ科）の花の粉末及び／又は抽出物、並びに
２．（１）タラノキ（Ａｒａｌｉａ  ｅｌａｔａ、ウコギ科）植物、
（２）ホオキギ（Ｋｏｃｈｉａ  ｓｃｏｐａｒｉａ、アカザ科）の種子、
（３）紅景天属（Ｒｈｏｄｉｏｌａ属、ベンケイソウ科）植物、及び、
（４）サラシア属（Ｓａｌａｃｉａ属、ニシキギ科）植物、
から成る群から選ばれる少なくとも１種の粉末及び／又は抽出物であり、
当該サラシア属植物が、サラシア  オブロンガ（Ｓａｌａｃｉａ  ｏｂｌｏｎｇａ）及び／又はサラシア  プリノイデス（Ｓａｌａｓｉａ  ｐｒｉｎｏｉｄｅｓ）から選ばれたもの、
を有効成分とすることを特徴とする抗糖尿病剤。
【請求項２】
ザクロの花の粉末及び／又は抽出物、並びにタラノキ植物の粉末及び／又は抽出物を有効成分とすることを特徴とする抗糖尿病剤。
【請求項３】
ザクロの花の粉末及び／又は抽出物、並びにホオキギの種子の粉末及び／又は抽出物を有効成分とすることを特徴とする抗糖尿病剤。
【請求項４】
ザクロの花の粉末及び／又は抽出物、並びに紅景天属植物の粉末及び／又は抽出物を有効成分とすることを特徴とする抗糖尿病剤。
【請求項５】
ザクロの花の粉末及び／又は抽出物、並びにサラシア  オブロンガ（Ｓａｌａｃｉａ  ｏｂｌｏｎｇａ）及び／又はサラシア  プリノイデス（Ｓａｌａｓｉａ  ｐｒｉｎｏｉｄｅｓ）の粉末及び／又は抽出物を有効成分とすることを特徴とする抗糖尿病剤。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月26日(2003.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
次に、ステップＳ２でかご１４が移動したかを判断する。かご１４が移動しなければ、ステップＳ１へ戻る。もし、電磁ブレーキ９に異常があり、制動力が不足し、ブレーキ車６がブレーキシュー７に押圧されたまま、かご１４が移動すると、ステップＳ３で位置検出器２０によって移動量が検出され、これが第１基準範囲（通常「床合せゾーン」と呼ばれ、例えば１０〜１００ｍｍ）内であるかを判断する。第１基準範囲内であれば、ステップＳ４へ進み、床合せ装置３が作動してブレーキコイル８が付勢されるとともに、電動機５が制御されてかご１４は床合せ動作に移行する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月25日(2003.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【実施例】以下に、実施例を挙げて、本発明について更に詳細に説明を加えるが、本発明が、これら実施例にのみ限定を受けないのは言うまでもない。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月12日(2003.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体を帯電する帯電手段と、画像情報に基づき前記像担持体に静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像にトナーを供給し、前記静電潜像をトナー像として可視化する現像手段と、前記トナー像を転写材に転写する転写手段とを有する画像形成ユニットを複数個備えた画像形成装置において、前記転写手段の転写電流が、画像形成ユニット毎に異なることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
各転写手段の転写電流は、像担持体上のトナーが転写材へ転写される割合と、転写材に一度転写されたトナーが他の画像形成ユニットの像担持体へ戻った後の前記転写材上に残ったトナーの割合とに基づき決定されることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
複数の画像形成ユニットの内、先頭の画像形成ユニットにおいて、転写電流を最も多く必要とするトナーを用いることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項４】
複数の画像形成ユニットの内、最後段の画像形成ユニットにおいて、転写電流が最も少ないトナーを用いることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的は、像担持体を帯電する帯電手段と、画像情報に基づき前記像担持体に静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像にトナーを供給し、前記静電潜像をトナー像として可視化する現像手段と、前記トナー像を転写材に転写する転写手段とを有する画像形成ユニットを複数個備えた画像形成装置において、前記転写手段の転写電流が、画像形成ユニット毎に異なることにより達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月1日(2003.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示素子を有し、該画像表示素子は駆動回路から入力される映像信号を用いて画像表示を行い、該駆動回路にＧＮＤ電位を供給する基板を有する画像表示装置において、
画像表示装置の画像表示素子の非観察者側に導電性の下フレームを有し、該下フレームと前記ＧＮＤ電位を供給する基板は導電性の接続部材で多点で電気的に接続されることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記画像表示素子と前記下フレームの間にバックライトユニットを有し、該バックライトの少なくとも一端部には光源が配置され、前記下フレームの少なくとも一部は前記光源の下側と上側の双方に配置され、前記光源の上側に形成された下フレームと前記ＧＮＤ電位を供給する基板の間に配置された前記導電性の接続部材を有することを特徴とする請求項１記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記導電性の接続部材がスプリング性を有することを特徴とする請求項２記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記ＧＮＤ電位を供給する基板より観察者側に配置された上フレームを有し、該上フレームはへこみ部を有し、該へこみ部により前記ＧＮＤ電位を供給する基板に圧力を加えることで前記導電性の接続部材に圧力を加えることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記ＧＮＤ電位を供給する基板に電圧、信号を供給するコントローラ基板を有し、前記下フレームと該コントローラ基板のＧＮＤおよび前記下フレームと前記ＧＮＤ電位を供給する基板のＧＮＤがそれぞれ電気的に接続していることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の画像表示装置。
【請求項６】
前記コントローラ基板と前記ＧＮＤ電位を供給する基板が一体に形成されていることを特徴とする請求項５記載の画像表示装置。
【請求項７】
前記光源と前記下フレームの間に絶縁シートが設けられていることを特徴とする請求項２記載の画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月23日(2003.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の閉じ補助装置の前記回転規制手段は、前記開閉体を開いてから閉じる途中において、前記閉じ補助部材の下端部が前記装置本体に接触するとき、前記開閉体の開閉端側の前記閉じ補助部材と前記閉じ補助部材の下端部が接触する前記装置本体の面とのなす角度（例えば、図４に示す角度α）が鋭角になるように、前記閉じ補助部材を回転規制している。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月25日(2003.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記熱変形試験は、熱変位測定器として真空理工社製のマルチ熱分析ステーション（ＴＭ−９３００）を使用して行うもので、図５はその測定構造を示すものであり、具体的測定方法は下記のとおりである。
図５の符合１０，１１は、ＰＥＴ製の長方形状の薄板（縦２０ｍｍ、幅４ｍｍ、厚さ１５０μｍ）である固定基材および変位基材である。固定基材１０の一端部の片面に、本実施形態の上記粘着層３，４を形成する粘着剤１２を高さ４ｍｍ、幅４ｍｍ、厚さ２５〜３０μｍで塗布し、この粘着剤１２を介して変位基材１１の一端部の片面を貼り合わせ試料１３とする。この試料１３を、１５０℃雰囲気下に１時間放置した後、室温に放置してさましたものを測定用試料とする。次に、この試料１３を２０℃に設定されている高温槽１４にセットした後、変位基材１１の下端部に５ｇの錘１６を吊り下げて高温槽１４内を２０℃から５℃／分の昇温速度で１５０℃まで昇温する。変位基材１１は、粘着剤１２の粘度と錘１６の重力の相関関係のもとに下方に変位し、１５０℃における変位量を測定する。この熱変形試験の測定結果すなわち変位基材１１の下方への変位量は、前記の変位量を十分満足するものであった。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月22日(2003.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス信号を発生するパルス発振部と、出力ビームを照射するタイミングを決める照射指令部と、上記パルス発振部のパルス信号と上記照射指令部の出力信号を合成する同期制御部と、上記同期制御部のパルス出力を分周する分周器部と、予め設定された電流値設定部の設定値と電流検出部の出力値を比較するとともに、該電流検出部の出力値が安定するようにフィードバックし得る比較制御部と、上記分周部のパルス出力を上記比較制御部の出力値によりスイッチング電源を駆動するためのパルス信号に変換するパルス幅変調部と、上記パルス幅変調部のパルス出力で駆動されるスイッチング電源を設けたレーザ発振装置。
【請求項２】
上記パルス幅変調部のパルス幅が所定値を超えた場合に警報を出す、若しくは装置本体の運転を停止させるインターロック動作を行う警報手段が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のレーザ発振装置。
【請求項３】
レーザ媒体ガスを放電により励起してレーザ光を発するガスレーザ共振器を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザ発振装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
このレーザ発振装置３０では、パルス発振部２８から発生したパルス信号と、レーザ光２２（以下、出力ビームという）を照射するタイミングを決める照射指令部４３の出力信号を同期制御部２７で合成する。一方、予め設定された電流値設定部４２の設定値と電流検出部２３の出力値を比較するとともに、電流検出部２３の出力値が安定するように比較制御部２９でフィードバック制御する。そして、上記同期制御部２７のパルス出力を上記比較制御部２９の出力値によりパルス幅変調部２５でスイッチング電源を駆動するためのパルス信号に変換し、レーザ共振器２１にスイッチング電源２４より電力が供給され、照射指令部４３の指令時間だけ出力ビームが照射される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、上記レーザ発振装置３０では、同期制御部２７でパルス発振部２８の出力信号がＬからＨに立ち上がる時に照射指令部４３の出力信号を確認し、その出力信号がＨの期間だけ、同期制御部２７よりパルス出力信号を出力するように制御している。かかる方式では、パルス発振部２８の発振周波数の周期が照射指令部４３の照射指令時間の分解能（設定時間間隔）になってしまい、微少な出力ビームの時間制御が出来なくなってしまう。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図１は、本発明の実施の形態に係るレーザ発振装置１０のブロック構成図である。このレーザ発振装置１０は、スイッチング電源４を駆動する為のパルス信号を発生するパルス発振部８と、レーザ光２（以下、出力ビームという）を照射するタイミングを決める照射指令部１３と、上記パルス発振部８のパルス信号と上記照射指令部１３の出力信号を合成する同期制御部７と、上記同期制御部７のパルス出力を分周する分周部６と、予め設定された電流値設定部１２の設定値と電流検出部３の出力値を比較するとともに、該電流検出部３の出力値が安定するようにフィードバックする比較制御部９と、上記分周部６のパルス出力を上記比較制御部９の出力値によりスイッチング電源４を駆動するためのパルス信号に変換するパルス幅変調部５と、上記パルス幅変調部５の出力で動作するスイッチング電源４と、スイッチング電源４によりの電流を検出する電流検出部３とスイッチング電源４よりの電力で出力ビーム２を発するレーザ共振器１とを有している。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図２の信号（Ｂ）は照射指令部１３の出力信号で出力ビームを照射する時間だけＬからＨに変化する。また、信号（Ａ）はパルス発振部８のパルス出力信号で一定の間隔で常時Ｌ，Ｈ，を繰り返していて、ＬからＨに立ち上がる時に、照射指令部１３の出力信号を確認し、出力信号（Ｂ）がＨの期間だけ同期制御部７よりパルス信号（Ｃ）を出力する。この信号（Ｃ）を分周器６で分周した波形（Ｄ）は、パルス幅変調部５で三角波信号（Ｅ）に変換後、比較制御部９の出力信号（Ｆ）とによりスイッチング電源４を駆動するための、パルス信号（Ｇ）に変換される。このパルス信号（Ｇ）は幅が広くなるとスイッチング電源４よりレーザ共振器１に電力が多く供給され、出力ビーム２の強度も強くなる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ところで、上記レーザ発振装置１０が長期にわたり使用された場合に、本実施の形態において用いられるガスレーザ共振器１内のレーザ媒体用ガスの劣化や真空不良による空気の混入等の要因により、レーザ共振器１内の負荷インピーダンスが変化して、スイッチング電源４よりの電流が流れ難くなり、フィードバック制御により、予め設定された電流値に安定することが困難となることが考えられる。また、不慮の事故によりスイッチング電源４の出力線の断線又は電源の故障の場合も同様にフィードバック制御をすることが出来なくなることも考えられる。そこで、レーザ発振装置１０にはパルス幅変調部５のパルス幅が所定値を超えた場合にインターロック動作を行う警報手段１５が設けられている。本実施の形態では、この警報手段１５が定期点検が必要であるか否かを表す表示灯であり、上記パルス幅が所定値を超えた場合に点灯する。しかし、これに限定されることなく、この警報手段１５は上記パルス幅が所定値を超えた場合に、レーザ発振装置１０の運転を強制的に停止するものであってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月23日(2003.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版上の回路パターンを基板上に焼き付けるための半導体露光装置において、あらかじめ決められたショットレイアウトに基づき前記基板上の複数ショットに対して順次露光を行う際に、前記原版上の回路パターンの露光範囲外部分を覆うマスキングブレードの駆動を行わずに露光することができるショットのうち隣接したものを連続して露光するためのグループ化する手段を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記グループ内での全てのショットに対する露光が終了した後、他のグループの露光を行うためにグループ間の移動を行う際、前記マスキングブレードの駆動量が最小になるグループを選択する手段を有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記選択する手段は、選択したグループのショットの中で、最後に露光を行ったショット位置からの移動距離が最小になるショットを選択し、そのショット位置に移動する手段を有することを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記グループ内での全てのショットに対する露光が終了した後、他のグループの露光を行うためにグループ間の移動を行う際、最後に露光を行ったショット位置から未露光の各グループにおける移動距離が最小になるショット位置への移動時間およびマスキングブレードの駆動に要する時間から、露光を行うまでに要する時間が最も短くなるグループを選択し、そのグループの前記移動距離が最小になるショット位置に移動する手段を有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
同一グループ内で次に露光するショットの位置へ移動する際に、ショット間の距離を参照して移動量が最小になるショットを選択し、そのショット位置へ移動する第２の移動手段を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項６】
原版上の回路パターンを基板上に焼き付けて半導体デバイスを製造する方法において、あらかじめ決められたショットレイアウトに基づき前記基板上の複数ショットに対して順次露光を行う際に、前記原版上の回路パターンの露光範囲外部分を覆うマスキングブレードの駆動を行わずに露光することができるショットのうち隣接したものをグループ化し、このグループ毎に露光を行うことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、原版上の回路パターンを基板上に焼き付けるための半導体露光装置において、あらかじめ決められたショットレイアウトに基づき基板上の複数ショットに対して露光を行う際に、前記原版上の回路パターンの露光範囲外部分を覆うマスキングブレードの駆動を行わずに露光することができるショットのうち隣接したものを連続して露光するためのグループ化する手段を有することを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のデバイス製造方法は、原版上の回路パターンを基板上に焼き付けて半導体デバイスを製造する方法であって、あらかじめ決められたショットレイアウトに基づき前記基板上の複数ショットに対して順次露光を行う際に、前記原版上の回路パターンの露光範囲外部分を覆うマスキングブレードの駆動を行わずに露光することができるショットのうち隣接したものをグループ化し、このグループ毎に露光を行うことを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
ステップＦ１１−Ｓ４では、ステップＦｌ１−Ｓ１からステップＦ１１−Ｓ３において求められた現在ショットと全ての未露光グループとのマスキングブレードの駆動量差分が、最小であるグループを選択し、ステップＦ１１−Ｓ５で、それらのグループのショット中、現在ショットに最近傍のショットを選択して、そのショットを次に露光するショット（次ショット）とする。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月26日(2003.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明または実質的に透明な成形性かつ／または可撓性で、厚さ２００μｍ以下のガラス層（４）と、プラスチック層（２）とからなる複合構造体を、可撓性光源又は可撓性ディスプレイの基板として使用することを特徴とする複合構造体の使用方法。
【請求項２】
請求項１記載の使用方法において、前記ガラス層（４）の厚さは、１００μｍ未満、好ましくは５０μｍ未満であることを特徴とする複合構造体の使用方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の使用方法において、前記プラスチック層（２）の厚さは、１ｍｍ以下、好ましくは２００μｍ以下であることを特徴とする複合構造体の使用方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の使用方法において、前記ガラス層（４）と前記プラスチック層（２）との間に接着層を備えることを特徴とする複合構造体の使用方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の使用方法において、２層のプラスチック層の間にガラス層（４）が位置するように、プラスチック層（２）をさらに備えることを特徴とする複合構造体の使用方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の使用方法において、前記複合構造体の少なくとも１つの層が、光反応特性を変化させる添加物を含むことを特徴とする複合構造体の使用方法。
【請求項７】
可撓性有機デバイスであって、
厚さ２００μｍ以下のガラス層（４）と、プラスチック層（２）とからなる可撓性かつ／または成形性の複合構造体と、
前記複合構造体に重畳する透明または実質的に透明な第１の電極層（６）と、
前記第１の電極層に重畳する電気的に活性な有機材料の少なくとも１つの層（８、１０）と、
前記有機材料の層（８、１０）に重畳する第２の電極層（１２）と、
からなることを特徴とする有機デバイス。
【請求項８】
請求項７記載の有機デバイスにおいて、２層のプラスチック層の間にガラス層（４）が位置するように、複合構造体がプラスチックの付加的な層（２）を備えることを特徴とする有機デバイス。
【請求項９】
請求項７または８記載の有機デバイスにおいて、第２の電極層（１２）に隣接する更なる封入層（１４）を備えることを特徴とする有機デバイス。
【請求項１０】
有機デバイスを製造する方法であって、
ａ）厚さ２００μｍ以下のガラス層（４）とプラスチック層（２）とからなる複合構造体を作製し、
ｂ）前記複合構造体の上に、透明または実質的に透明な電極層（６）を付着させ、
ｃ）少なくとも１つの電気的に活性な有機層（８、１０）を付着させ、
ｄ）前記有機層（８、１０）の上に第２の電極層（１２）を付着させることからなることを特徴とする有機デバイスの製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の方法において、バッチ、半連続、または連続プロセスにより、前記ガラス層（４）に対して前記プラスチック層（２）を積層することによって工程ａ）を実施することを特徴とする有機デバイスの製造方法。
【請求項１２】
請求項１０記載の方法において、プラスチック被覆により前記ガラス層（４）を被覆して前記プラスチック層（２）を設けることによって工程ａ）を実施することを特徴とする有機デバイスの製造方法。
【請求項１３】
有機デバイスを製造する方法であって、
第１の透明または実質的に透明な電極材料（６）を用いてプラスチック層（２）を被覆し、前記第１の電極材料（６）の上に電気的に活性な有機材料の少なくとも１つの層（８、１０）を付着させ、
前記有機材料の層（８、１０）の上に第２の電極層（１２）を付着させ、
厚さ２００μｍ以下であるガラス層（４）に対して、前記工程によって形成された構造体を積層することからなることを特徴とする有機デバイスの製造方法。
【請求項１４】
有機デバイスを製造する方法であって、
第１の透明または実質的に透明な電極材料（６）を用いてガラス層（４）を厚さ２００μｍ以下で被覆し、
第１の電極材料（６）の上に電気的に活性な有機材料の少なくとも１つの層（８、１０）を付着させ、前記有機材料の層（８、１０）の上に第２の電極層（１２）を付着させ、
プラスチック層（２）に対して、前記工程によって形成された構造体を積層することからなることを特徴とする有機デバイスの製造方法。
【請求項１５】
請求項１０乃至１４のいずれか１項に記載の方法において、前記第２の電極層（１２）に隣接して付加的な封入層（１４）を設けることを特徴とする有機デバイスの製造方法。
【請求項１６】
有機デバイスを製造する方法であって、
金属封入層（１４）を設け、
前記金属封入層（１４）の上に陰極層（１２）を付着させ、
前記陰極層（１２）の上に少なくとも１つの電気的に活性な有機層（８、１０）を付着させて構造体とし、
厚さが２００μｍ以下であるガラス層（４）と、プラスチック層（２）と、陽極材料の被覆体（６）とからなる複合構造体を形成し、
最上部の有機発光層（８、１０）に陽極材料の層（６）を隣接させて、前記工程によって形成された前記構造体に対して前記複合構造体を積層することを特徴とする有機デバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月19日(2003.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一方の面に略同一の頂角を有するプリズム列が多数並列に形成されたプリズムシートにおいて、頂角の二等分線と透明基材の平面とのなす角が異なる断面形状を有する少なくとも３種のプリズム列から構成され、これらのうち少なくとも２種のプリズム列が頂角の二等分線と透明基材の平面とのなす角が透明基材の平面の法線に対して略対称である断面形状を有していることを特徴とするプリズムシート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
頂角の二等分線と透明基材の平面とのなす角が透明基材の平面の法線に対して略対称である断面形状を有する２種のプリズム列と、頂角の二等分線と透明基材の平面とが略直交する断面形状を有する１種のプリズム列とから構成されることを特徴とする請求項１記載のプリズムシート。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明のプリズムシートは、透明基材の少なくとも一方の面に略同一の頂角を有するプリズム列が多数並列に形成されたプリズムシートにおいて、頂角の二等分線と透明基材の平面とのなす角が異なる断面形状を有する少なくとも３種のプリズム列から構成され、これらのうち少なくとも２種のプリズム列が頂角の二等分線と透明基材の平面とのなす角が透明基材の平面の法線に対して略対称である断面形状を有していることを特徴とするものである。また、本発明の面光源素子は、透明板状体の少なくとも一つの側端面を光入射面とし、これと略直交する光出射面とを有する導光体と、前記光入射面に対向して配置された光源と、前記光出射面上に配置された上記のようなプリズムシートとからなることを特徴とするものである。