(57)【要約】【課題】光磁気媒体上の摺動膜において、従来、安定走行が充分な特性を発揮せず、実用化にはなお充分な課題を有していた。【解決手段】光磁気媒体の表面に、変性ポリシリコーン材の動粘度の適正化を図り制御すると、低摩擦化の効果が顕著に得られる。一方、低分子材を形成後、アニールして基板材との密着力を改良すると、くりかえし走行と低摩擦の特性を発揮し、また分子内中に置換基、剪断力の低下を発揮する構造の変性材を利用すれば広い温・湿度特性効果も期待できる。【選択図】　図２
2004103115.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に、下記の化学式（化１）に示すポリジメチルシリコーン組成物を備えた記録媒体において、当該組成物の動粘度適正値を有する状態で摺動膜を備えたことを特徴とする記録媒体。
【化１】
2004103115.tif 000008
【請求項２】
前記摺動膜をアクリル酸アクリル重合体の保護膜上に形成することを特徴とする請求項１記載の記録媒体。
【請求項３】
前記摺動膜を動粘度値の範囲が２５０〜６５０ｃＳｔの溶液で備えることを特徴とする請求項１記載の記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記ポリジメチルシリコーン組成物を、無極性の溶媒で炭素数５〜１０を有する炭化水素系溶媒で希釈した溶液で備えることを特徴とする請求項１記載の記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記炭化水素系溶媒が、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−デカンの単独または混合溶媒で希釈した溶液で備えることを特徴とする請求項１記載の記録媒体の製造方法。
【請求項６】
表面に、下記の化学式（化２）に示すシリル化合物を形成し、積層後、温度６０〜９０℃、時間５〜３０分でアニールして形成する摺動膜をアクリル酸アクリル重合体の保護膜上に形成することを特徴とする記録媒体。
【化２】
2004103115.tif 000009
【請求項７】
前記シリル化合物のＲ３が、２分岐構造、また３分岐構造を有することを特徴とする請求項６に記載の記録媒体。
【請求項８】
表面に、ポリ（ジメチルシロキサン−コ−ダイマー酸）ビス（パーフロロドデシル）ターミネィテド、ポリ（ジメチルシロキサン−コ−アルキルメチルシロキサン）、ポリ（ジメチルシロキサン）ジステアレートターミネィテドを単独または混合して炭化水素系溶媒で希釈した溶液を用い、またはポリ（ジメチルシロキサン）ビス（１２−ヒドロキシステアレート）ターミネィテドをアルコール系溶媒を用いて作成する摺動膜を有することを特徴とする記録媒体の製造方法。
【請求項９】
前記表面膜の厚みが分光評価法にてＡｂｓ０．０１〜０．０３に制御された表面膜であることを特徴とする請求項８に記載の記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報メディア、とりわけ映像・音響分野に応用される情報信号を記録するための光磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光磁気媒体は高密度記録メディアとして注目され、一部商品化もなされている。このメディアは、基板上に磁化反転をする記録層と、その前後に誘電層、そして、磁界変調を行う磁気ヘッド側に保護潤滑層が順次積層されて構成されている。
【０００３】
基板には、光学的に透明なガラス、プラスチックなどが用いられる。誘電層は窒化シランなどで形成され、記録層はＴｂＦｅＣｏなどのアモルファス合金膜で作られる。そして、磁化反転を行う磁気ヘッド側のディスク表面に、接触安定性、防湿性を確保するために樹脂や、セラミック、無機質などで保護潤滑層が形成されて構成される。
【０００４】
本発明の主題である保護潤滑層は、密着性、機械的強度、平滑性、耐摩擦・摩耗性、防湿性など実用化に重要な物性を要求されているにも拘わらず、厚みは磁化反転の特性要求から薄膜化を要望される。このような観点から各種のアプローチがなされている。
【０００５】
例えば従来、特許文献１、特許文献２または特許文献３に記載されたものが知られている。
【０００６】
しかしながらこの種の媒体は、例えば特許文献１であれば低分子シロキサンをあらかじめビニルポリマーＵＶ樹脂に含浸させて形成しているため走行性にとぼしく、特許文献２であればビニルポリマーの代換えにオレフィン樹脂を形成していることから同様な課題を有し、そして特許文献３では、低分子シロキサンの代換えにリン化合物を混入し、極圧効果をねらったものの表面にブリートアウトしないせいか走行性のみならず、腐食性の課題もあり、いずれも安定した長期走行性を実現するにはなお不充分であった。
【０００７】
【特許文献１】
特開２０００−１６３８１８号公報
【特許文献２】
特開平１１−４９９００号公報
【特許文献３】
特開平０５−３３４７４６号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
この情報メディアにおいては、記録・再生時に高速回転状態において磁気ヘッドが磁界反転の記録ピットを形成するため、きわめて一定した走行性が要求される。しかしながら、従来開示の技術では前記記述のように本要求に対してなお充分な特性が得られていなかった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために、本発明は、表面に変性シリコーン組成物を備えて形成する。
【００１０】
具体的には表面に、下記の化学式（化３）に示すポリジメチルシリコーン組成物を備えた記録媒体において、当該組成物の動粘度適正値を有する状態で摺動膜を備える。
【００１１】
【化３】
2004103115.tif 000003
【００１２】
前記動粘度特性は、摺動抵抗特性がこの物性値と相関関係にあることを仮定して選定している。すなわち動粘度値（以後ｃＳｔと記述する）によって、基材面上での密着保持と挙動抵抗のバランスがあるからである。また温度・湿度範囲が異なると、温度−粘度特性から特性変化を与えることも推定される。したがってこの適正範囲を実施することによって、実用化の範囲が決定される。
【００１３】
この値はあとの実施の形態でも示すように２５０〜６５０ｃＳｔで走行性が好ましい。さらに４５０ｃＳｔであれば利用の温・湿度特性がよく最も好ましい。
【００１４】
このポリジメチルシリコーン組成物は、分子量分布をもっているため比較的極性溶媒中では不溶物質も析出する。したがってこのままコートすると放射線状のコートむらも生じる。したがってこれの易溶媒である無極性の溶媒を使用するとよい。中でも炭素数５〜１０を有する炭化水素系溶媒でよいが、入手の容易さ、コスト、取り扱いの容易さでｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−デカンの単独または混合溶媒がより好ましい。
【００１５】
一方摺動抵抗の低下に対しては材料の動粘度に依存せず、低分子化合物の剪断力の低下効果に寄与させることも一考である。
【００１６】
表面に、下記の化学式（化４）に示すシリル化合物を形成し、積層後、温度６０〜９０℃、時間５〜３０分でアニールして形成する。
【００１７】
【化４】
2004103115.tif 000004
【００１８】
こうすると粘度抵抗よりもはるかに低い抵抗値を示す摺動膜が実現する。加えてアニールしているので、基材表面との密着性が改良されてその効果は持続性を発揮する。そしてシリル化合物のＲ３が、被覆効果の増加をねらって極圧性を制御するため２分岐構造、また３分岐構造を有すると、耐摩耗性も発揮される。
【００１９】
そして動特性に対してはポリジメチルシロキサン中の置換基に変性基を適正化し、選定した適正溶媒で調整する溶液を用いることも一考である。
【００２０】
例えば、ポリ（ジメチルシロキサン−コ−ダイマー酸）ビス（パーフロロドデシル）ターミネィテド、ポリ（ジメチルシロキサン−コ−アルキルメチルシロキサン）、ポリ（ジメチルシロキサン）ジステアレートターミネィテドを単独または混合して炭化水素系溶媒で希釈した溶液を用い、またはポリ（ジメチルシロキサン）ビス（１２−ヒドロキシステアレート）ターミネィテドをアルコール系溶媒を用いて表面膜を作成する。これらは、温・湿度特性に強いフロロデシル基や、摩擦係数の低下に発揮されるアルキルメチル基、ステアレート基、吸着しやすいヒドロキシステアレート基などを分子内中に有している。そしてこれらをＩＲなどの分光評価法によって、吸光度（Ａｂｓ）０．０１〜０．０３に厚みを制御して形成すると、磁気ヘッドスライダによる劣化も少なく、膜の充填密度も大きいためけずれなどがない耐摩耗性を有する記録媒体が得られる。
【００２１】
以上の解決手段を用いて表面膜を形成した光磁気媒体は、走行性の安定のみならず密着性も向上した効果を発揮することが期待される。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図１を用いて説明する。
【００２３】
図１において１は基板である。これは透明基板であればガラス、プラスチックなど特に差し支えない。厚みは１ｍｍ程度のディスク形状である。２は誘電層であり、０．２μｍくらいをスパッタなどの方法で窒化シラン膜などが形成される。３は光磁気記録層であり、ＴｂＦｅＣｏが用いられるが、磁化反転を示す材料の合金類があてはまる。４は反射膜であり、主としてアルミニウムなどがスパッタ等でよく形成されている。５は保護膜でありヘッドとの接触面に相当し、防湿、機械的強度、接着性の観点からアクリル、エポキシなどの光・熱硬化性樹脂がよく用いられ、厚みは５〜１０μｍである。中でも本発明のように、アクリル酸アクリル重合体の上に形成すると、表面に主としてアクリル酸基が露出するため、摺動膜を形成する製造において親和性が改良されるばかりか、これとの結合関係がより強固になりくりかえし走行特性が飛躍的に期待できる。
【００２４】
そして１から５は目的にあった機能性を発揮するなら本用途においては特に記載の材料に限定されない。
【００２５】
そして６は本発明の主題である摺動膜である。この膜に要求される物性は下記の具備すべき条件がある。
１）保護膜との密着性にすぐれること。
２）表面が均一に形成されること。
３）摺動対象である磁気ヘッド材・スライダ−との耐摩擦性がすぐれること。
４）温度・湿度範囲が広い範囲において特性変化を生じないこと。
５）安価・量産性にすぐれること。
がある。
【００２６】
したがって、本発明は、まさにこの観点によって開発されたものであり、本発明に開示する変性シリコーン材料を有する表面膜を備えることによって従来の課題を克服したものである。実施の形態を述べる。
【００２７】
（実施の形態１）
ポリジメチルシリコーンの動粘度（以下ｃＳｔと記載）を、（表１）に示すように調整し、イソプロピルアルコールの溶媒にて０．５ｗｔ％に調整した溶液を用いた。
【００２８】
【表１】
2004103115.tif 000005
【００２９】
各サンプルは、２インチのディスク上に各々所定の膜が形成されたものを実験Ｎｏ順に調べ、比較例として市販のＭＤを用いた。これ以後特に記載が無い限りは摺動材料以外の構成は以後の実施の形態もすべて同様である。評価は、ピンオンディスクタイプの回転試験機で、歪みゲージが付設され摩擦力が検出される装置を用いた。回転数は３０００ｒｐｍとし、ピンには１ｍｍ球の鋼球を用いた。
【００３０】
これを図２に示す。すると比較サンプルが、摩擦力が濃度範囲にわたってどれも大きかったのに対し、本発明に述べるディスクサンプルはｃＳｔ依存を示し、２５０ｃＳｔ以下のＮｏ．１、６５０ｃＳｔ以上のＮｏ．５では、比較例よりも摩擦力がやや大きくよくなかった。しかしながら、２５０＜ｃＳｔ＜６５０の範囲にあるＮｏ．２〜４ではどれも市販レベルより摩擦力が小さく実用化が可能であることがわかった。とりわけ、摩擦力が最小になるｃＳｔの値は４５０でありこの近傍に最適値があることがわかる。
【００３１】
したがって本発明に述べるように、ポリシリコーン材料の動粘度を適正に制御することにより耐摩擦低減の顕著な表面膜を有する、光磁気媒体が実現できることがわかった。
【００３２】
一方、この材料を備える時、材料の特性として分子量分布を有することから、アルコール系溶媒での希釈では高濃度になると不溶性の高分子物が生じてくる。
【００３３】
これまでアルコール系では放射状の厚みむらが見られたのに対し、溶解性のｎ−ヘプタンのような炭化水素系溶媒を用いると成膜後の表面は、非常に平滑で無色透明性を実現できた。
【００３４】
したがって本発明に述べるようにｎ−ヘプタン、ｎ−オクタンのような炭化水素系溶媒で希釈して溶液を調整すると平滑性がより改良されたすぐれた表面膜を実現できることがわかる。
【００３５】
（実施の形態２）
次に低分子シリル化合物を用いて、下記（表２）に示す材料の置換基と末端基のみをかえて、ＩＰＡに０．３ｗｔ％で希釈し形成した。その後８０℃で２０分アニールしたものをサンプルとしてくりかえし走行を調べた。
【００３６】
【表２】
2004103115.tif 000006
【００３７】
評価は、常温環境下で実施の形態１と同様に実施した。
【００３８】
これを図３に示す。
【００３９】
すると、比較試料は初期から、摩擦力が高く、かつくりかえし回数とともにその値は大きくなっていった。これに対し、本発明のＮｏ．６〜８はどれも摩擦力が比較の１／２程度で小さく、回数も３０００万回数を経てもその値は特に変化なかった。Ｎｏ．９は摩擦特性こそ同様の効果を発揮するものの１０００万回くらいからやや変動を生じてきた。
【００４０】
したがって、本発明のように、低分子シリル化合物を用いてアニールするとくりかえし走行性と従来より１／２の低摩擦の特性が飛躍することがわかる。
【００４１】
（実施の形態３）
次にポリ（ジメチルシロキサン−コ−ダイマー酸）ビス（パーフロロドデシル）ターミネィテド（Ｎｏ．１０）、ポリ（ジメチルシロキサン−コ−アルキルメチルシロキサン）（Ｎｏ．１１）、ポリ（ジメチルシロキサン）ジステアレートターミネィテド（Ｎｏ．１２）をｎ−ヘプタンで０．３ｗｔ％に希釈した溶液を用い、またはポリ（ジメチルシロキサン）ビス（１２−ヒドロキシステアレート）ターミネィテド（Ｎｏ．１３）をＩＰＡを用いて同濃度で調整した試料液を準備し、スピンコートで４５００ｒｐｍ、２ｓｅｃで形成した。摺動膜の厚みは赤外分光評価法にて吸光度（Ａｂｓ）で厚みを確認した。そしてこれらを１００万回数走行させ、温・湿度条件を変化させて調べた。これらを下記の（表３）に示す。
【００４２】
【表３】
2004103115.tif 000007
【００４３】
（表３）によると、比較試料は初期から、摩擦力が高く、かつくりかえし回数とともにその値は大きくなり、傷も大きく観察された。この特性は低温高湿や高温低湿の領域においてもほぼ同様の傾向にあった。これに対し、本発明のサンプルはどれも摩擦力は小さく、回数も１００万回数を経てもその値は特に変化なかった。また温度・湿度変化に対しても傷がないかまたはせいぜい筋程度の軽微な状態でいずれも実用化には問題がなかった。そしてこれらの特性は（表３）に示す厚み範囲内によってこの特性がいずれも達成されることがわかった。
【００４４】
したがって、本発明のように、ポジメチルシロキサン膜の内部に長い鎖や、フロロカーボンを部分的に有する化合物を用い、厚みを適切に制御した摺動膜で備えると温度・湿度変化に対しても耐久性が同じように得られることがいえる。
【００４５】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば下記に示す
１）ｃＳｔの適正化制御によって、走行性が改良される。
２）希釈溶媒の選定によって平滑仕上げ面が保証される。
３）くりかえし走行性と低摩擦の特性を示すロングライフ化が期待できる。
４）温度・湿度範囲の広い範囲において同じ特性が発揮される。
５）量産・低コストで実施可能である。
などの顕著な期待できる摺動膜を有した光磁気媒体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態による光磁気媒体の構成を示す図
【図２】本発明の実施の形態１による動粘度特性の適正化を示す図
【図３】本発明の実施の形態２によるロングライフ化の効果を示す図
【符号の説明】
１　基板
２　誘電層
３　光磁気媒体層
４　　反射膜
５　　保護膜
６　摺動膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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