【手続補正書】
【提出日】平成25年12月2日(2013.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2013514408.tif 000001
（式（Ｉ）中、
Ａは、以下の基
【化２】
2013514408.tif 000002
のいずれかであり、
Ｙは、−Ｐ（＝Ｘ2）sＲ3Ｒ4、Ｈ、直鎖または分岐状のＣ1−Ｃ12−アルキル基、Ｃ5−Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ12−アリール、またはベンジルであり、最後に挙げた四つの基は無置換であっても、一個以上のＣ1−Ｃ4−アルキル基またはＣ2−Ｃ4−アルケニル基で置換されていてもよく；  
Ｒ1とＲ2、Ｒ3、Ｒ4は、同一であっても異なっていてもよく、水素、ＯＨ、Ｃ1−Ｃ16−アルキル、Ｃ2−Ｃ16−アルケニル、Ｃ1−Ｃ16−アルコキシ、Ｃ2−Ｃ16−アルケンオキシ、Ｃ3−Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3−Ｃ10−シクロアルコキシ、Ｃ6−Ｃ10−アリール、Ｃ6−Ｃ10−アリールオキシ、Ｃ6−Ｃ10−アリール−Ｃ1−Ｃ16−アルキル、Ｃ6−Ｃ10−アリール−Ｃ1−Ｃ16−アルコキシ、ＳＲ9、ＣＯＲ10、ＣＯＯＲ11、またはＣＯＮＲ12Ｒ13であるか、二個の基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、またはＲ4が、これらの基が結合した燐原子、またはＰ−Ｏ−Ａ−Ｏ−Ｐ基とともに環状基を形成し；  
Ｒ5とＲ6、Ｒ7、Ｒ8は、同一であっても異なっていてもよく、Ｃ1−Ｃ16−アルキル、Ｃ2−Ｃ16−アルケニル、Ｃ1−Ｃ16−アルコキシ、またはＣ2−Ｃ16−アルケンオキシであり；  
Ｒ9とＲ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13は、同一であっても異なっていてもよく、Ｈ、Ｃ1−Ｃ16−アルキル、Ｃ2−Ｃ16−アルケニル、Ｃ6−Ｃ10−アリール、Ｃ6−Ｃ10−アリール−Ｃ1−Ｃ16−アルキル、またはＣ6−Ｃ10−アリール−Ｃ1−Ｃ16−アルコキシであり；  
Ｘ1とＸ2は、同一であっても異なっていてもよく、ＳまたはＯであり；  
ｒとｓは、同一であっても異なっていてもよく、０または１であり；  
Ｘ3とＸ4、Ｘ5、Ｘ6は、同一であっても異なっていてもよく、ＳまたはＯであり、
ｎは１〜５０の自然数である。）
で表わされるリン化合物を難燃剤として添加することを特徴とする、所定材料に難燃性を付与する方法。
【請求項２】
式（Ｉ）で表わされ、
Ａは、式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、または（ＩＶ）の基であり；  
Ｙは、（Ｘ2）rＰＲ3Ｒ4またはＨであり；  
Ｒ1とＲ2、Ｒ3、Ｒ4は、同一であっても異なっていてもよく、Ｃ6−Ｃ10−アリールオキシ、Ｃ1−Ｃ10−アリール−Ｃ1−Ｃ16−アルキル、またはＣ6−Ｃ10−アリール−Ｃ1−Ｃ16−アルコキシであり；  
Ｒ5とＲ6、Ｒ7、Ｒ8は、同一であっても異なっていてもよく、Ｈ、Ｃ1−Ｃ16−アルキル、Ｃ2−Ｃ16−アルケニル、Ｃ1−Ｃ16−アルコキシ、またはＣ2−Ｃ16−アルケンオキシであり；  
Ｘ1とＸ2は、同一であっても異なっていてもよく、ＳまたはＯであり；  
ｒとｓは、同一で０または１であり；  
Ｘ3とＸ4、Ｘ5、Ｘ6はＯであり、
ｎは１〜３０の自然数である、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式（Ｉ）で表わされ、
Ａは、式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、または（ＩＶ）の基であり；  
Ｙは、（Ｘ2）rＰＲ3Ｒ4であり；  
Ｒ1とＲ2、Ｒ3、Ｒ4は、同一であっても異なっていてもよく、フェニル、フェノキシ、フェニル−Ｃ1−Ｃ16−アルキル、またはフェニル−Ｃ1−Ｃ16−アルコキシであり；  
Ｒ5とＲ6、Ｒ7、Ｒ8はＨであり；  
Ｘ1とＸ2は、同一であっても異なっていてもよく、ＳまたはＯであり；  
ｒとｓは、同一であり、０または１であり；  
Ｘ3とＸ4、Ｘ5、Ｘ6はＯであり、
ｎは１である、
請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
式（Ｉ）で表わされ、
Ａは、式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、または（ＩＶ）の基であり；  
Ｙは、（Ｘ2）rＰＲ3Ｒ4であり；  
Ｒ1とＲ2、Ｒ3、Ｒ4は、同一であり、フェニルまたはフェノキシであり；  
Ｒ5とＲ6、Ｒ7、Ｒ8はＨであり；  
Ｘ1とＸ2は、同一であり、ＳまたはＯであり；  
ｒとｓは、同一であり、０または１であり；  
Ｘ3とＸ4、Ｘ5、Ｘ6は酸素であり、
ｎは１である、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
式（Ｉ）の化合物が下式
【化３】
2013514408.tif 000003
2013514408.tif 000004
で表わされる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
少なくとも１種の式（Ｉ）の化合物が添加される請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
少なくとも２種の式（Ｉ）の化合物が添加される請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
式（Ｉ）の化合物が一種以上の他の難燃化合物及び／又は一種以上のシナージストとの混合物として添加される請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
有機過酸化物、有機ポリスルフィド、Ｃ−Ｃ切断開始剤、元素状硫黄からなる群から選ばれるシナージストが用いられる請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
上記材料が一種以上のポリマーを含むポリマー材料である請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
一種以上のポリマーと請求項１〜９のいずれか一項に記載の難燃剤とを含むポリマー材料。
【請求項１２】
０．１〜２５重量％（ポリマー含量に対して）の上記難燃剤を含む請求項１１に記載のポリマー組成物。
【請求項１３】
ハロゲンフリーである請求項１１または１２に記載のポリマー組成物。
【請求項１４】
スチレンポリマーを含む請求項１１〜１３のいずれか一項に記載のポリマー組成物。
【請求項１５】
上記ポリマーがポリマー発泡体である請求項１１〜１４のいずれか一項に記載のポリマー組成物。
【請求項１６】
発泡性スチレンポリマー（ＥＰＳ）である請求項１４に記載のポリマー組成物。
【請求項１７】
ａ）スタチックミキサーおよび／またはダイナミックミキサーを使用して、少なくとも１５０℃の温度で、有機発泡剤と一種以上の請求項１〜５のいずれか一項に記載の式（Ｉ）の化合物と、必要なら他の助剤及び添加剤とをスチレンポリマーメルトに導入するために混合する工程、
ｂ）発泡剤を含むスチレンポリマーメルトを少なくとも１２０℃へ冷却する工程、
ｃ）金型出口における直径１．５ｍｍ以下の、有孔ダイプレートを通過して排出する工程、および
ｄ）ダイプレートの後方で、１〜２０ｂａｒの範囲の圧力の水中で、発泡剤を含むメルトの直接ペレット化する工程、
を含む請求項１６に記載の発泡性スチレンポリマー（ＥＰＳ）の製造方法。
【請求項１８】
ａ）一種以上のスチレンモノマーを懸濁液中で重合する工程、
ｂ）一種以上の請求項１〜５のいずれか一項に記載の式（Ｉ）の化合物、及び必要なら他の助剤及び添加剤を、重合前、重合中及び／又は重合後に添加する工程、  
ｃ）重合前、重合中及び／又は重合後に有機発泡剤を添加する工程、および
ｄ）一種以上の式（Ｉ）の化合物を含む発泡性スチレンポリマー粒子を該懸濁液から分離する工程、
を含む請求項１６に記載の発泡性スチレンポリマーの製造方法。
【請求項１９】
押出成型スチレンポリマー発泡体（ＸＰＳ）である請求項１５に記載のポリマー組成物。
【請求項２０】
ａ）少なくとも一種のスチレンポリマーを含むポリマー成分Ｐを加熱してポリマーメルトを形成する工程、
ｂ）発泡剤成分Ｔをポリマーメルトへ導入して発泡可能なメルトを形成する工程、
ｃ）発泡させながら比較的低圧領域に該発泡可能なメルトを押出して
押出成型発泡体を形成する工程、および  
ｄ）工程ａ）とｂ）の少なくとも一方で、難燃剤としての、少なくとも一種の請求項１〜５のいずれか一項に記載の式（Ｉ）の化合物、及び必要なら他の助剤及び添加剤を添加する工程、
を含む請求項１９に記載の押出成型スチレン発泡体（ＸＰＳ）の製造方法。
【請求項２１】
請求項１９に記載のハロゲンフリーポリマー組成物及び／又は請求項１６に記載のハロゲンフリーポリマー組成物を、発泡体の形態で含む絶縁材料。
【請求項２２】
以下の化合物、
−  ２，５−アンヒドロ−３，４−ジデオキシヘキシトールビス（ジヒドロゲンホスフェート）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロヘキシトール２，５−ビス（Ｐ，Ｐ−ジフェニルホスフィナイト）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロヘキシトールビス（ジプロピルホスフィナート）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロヘキシトールビス（ジエチルホスフィナイト）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロヘキシトールビス（ジプロピルホスフィノチオエート）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロヘキシトールビス（ジフェニルホスフィノチオエート）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ビス−Ｏ−（５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−イル）ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−１，３，２−ベンゾジオキサホスホル−２−イルヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ビス−Ｏ−（６−スルフィドジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル）ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロビス（ジヒドロゲンホスファイト）ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ビス−Ｏ−［（１１ｂＲ）−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−４−イル］ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ビス−Ｏ−（１６Ｈ−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン−８−イル）ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ビス−Ｏ−［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル］ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ビス−Ｏ−（４，８−ジメチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル）ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ジ−Ｏ−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イルヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロビス（ジ−２−ナフタレニルホスファイト）ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ビス−Ｏ−（５−メチル−５−プロピル−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−イル）ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロビス［ビス（２−エチルヘキシル）ホスファイト］ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ビス−Ｏ−（５，５−ジメチル−２−スルフィド−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−イル）ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−２，５−ビス−Ｏ−（５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−イル）ヘキシトール
−  １，４：３，６−ジアンヒドロヘキシトールビス（ジプロピルホスフィナイト）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロヘキシトールビス（メチルホスホナイト）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロヘキシトールビス（ヒドロゲンホスホネート）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロ−Ｄ−グリシトール２，５’：２’，５−ビス（フェニルホスホノチオエート）  
−  １，４：３，６−ジアンヒドロヘキシトール２，２’−（２−ヘキシルデシルホスファイト）５，５’−ビス［ビス（２−ヘキシル−デシル）ホスファイト］
−  ヘキシトール−２，３，４，５−テトラデオキシ−２，５−エピチオビス（ジフェニルホスフィナイト）
−  ヘキシトール−２，３，４，５−テトラデオキシ−２，５−エピチオビス［ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィナイト］  
−  ヘキシトール−２，３，４，５−テトラデオキシ−２，５−エピチオビス（ジシクロヘキシルホスフィナイト）、および
−  ヘキシトール−２，３，４，５−テトラデオキシ−２，５−エピチオビス（ジエチルホスフィナイト）
を除く請求項１〜５のいずれか一項に記載のリン化合物。