【事件の表示】
　平成　５年特許願第２５６５２２号「ポリッシング装置及び方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　６年　７月１９日出願公開、特開平　６−１９８５６１］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成５年９月２１日（国内優先権主張平成４年９月２４日、平成４年９月３０日）の出願であって、その請求項１〜５に係る発明（以下それぞれを、「本願発明１」等という。）は、平成１５年９月８日付手続補正書により補正された明細書及び願書に最初に添付された図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜５に記載された、以下のとおりのものと認める。
「【請求項１】ターンテーブルとトップリング本体とを有し、前記ターンテーブルとトップリング本体との間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧し摺動させることによって該ポリッシング対象物の表面を研磨するポリッシング装置において、前記トップリング本体を回転駆動するための駆動装置に連結されたトップリング駆動軸を設け、前記トップリング本体とトップリング駆動軸とは、ポリッシング対象物の研磨時に該トップリング本体をトップリング駆動軸に対して傾動可能とし、かつ該トップリング本体上昇時に該トップリング本体を柔らかく水平に保つよう連結されており、前記トップリング本体から前記ポリッシング対象物を受け取るポリッシング対象物受渡し機構を備え、該ポリッシング対象物受渡し機構のポリッシング対象物載置部は、該ポリッシング対象物載置部が前記ポリッシング対象物を該トップリング本体から受け取る際、前記ポリッシング対象物に衝撃力を与えないよう緩衝機構を具備し、該緩衝機構は前記ポリッシング対象物載置部の軸を支持するスプリングからなることを特徴とするポリッシング装置。
【請求項２】前記ポリッシング対象物受渡し機構が上下動できることを特徴とする請求項１記載のポリッシング装置。
【請求項３】前記ポリッシング対象物は前記ポリッシング対象物受渡し機構に受け取られた後、洗浄部で洗浄されることを特徴とする請求項１記載のポリッシング装置。
【請求項４】ターンテーブルとトップリング本体との間にポリッシング対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研磨するポリッシング方法において、前記トップリング本体をポリッシング対象物を載置したポリッシング対象物受渡し機構の上方に移動させ、該ポリッシング対象物受渡し機構のポリッシング対象物載置部を上昇させて前記トップリング本体下面に該ポリッシング対象物を渡し、前記トップリング本体下面に前記ポリッシング対象物を吸着させ、該トップリング本体を前記ターンテーブル上に移動させ該ターンテーブルに押圧し摺動させて該ポリッシング対象物を研磨した後、該トップリング本体をポリッシング対象物受渡し機構の上方に移動させ、該ポリッシング対象物受渡し機構のポリッシング対象物載置部を上昇させて、該トップリング本体から該ポリッシング対象物受渡し機構のポリッシング対象物載置部に設けられた吸着パッドの上面に開口する複数の真空孔により研磨後のポリッシング対象物を真空により吸着し受け取り、該ポリッシング対象物載置部を下降させた後、ポリッシング対象物を洗浄液で洗浄することを特徴とするポリッシング方法。
【請求項５】前記ポリッシング対象物を前記ポリッシング対象物受渡し機構が受け取る際、前記トップリング本体は水平に保たれていることを特徴とする請求項４記載のポリッシング方法。」
　
２．刊行物記載の発明（及び事項）
＜刊行物１＞
　これに対して、当審の拒絶の理由に引用された特開昭５８−１２６０６３号公報（以下、「刊行物１」という。）には、以下の事項が記載されている。
ア　公報第３頁左上欄第３行〜左下欄第２行
「・・研摩機本体Ａのターンテーブル１０に対するワークピース４０の装着ならびにターンテーブル１０から該ワークピース４０を取り出す操作を通じて、該揺動アーム３０をローディング装置Ｂとアンローディング装置Ｃとの間に回動させ、また、研摩作業を通じて該ワークピース４０がターンテーブル１０上を往復運動するように揺動させることができるようにされている。上記揺動アーム３０の前方には中空回転軸２１が垂下され、その下端にはトッププレート２０が連結保持されており、このトッププレート２０は、その底面に凹陥部２２が設けられると共に該凹陥部の内周囲にゴムリング２３が装着されている。上記中空回転軸２１は揺動アーム３０内に設置したモータ２４にギアを介して連結されており、必要に応じ研摩作業を通じてトッププレート２０を強制回転できるようにされている。・・なお、第５図には図示してないが、上記中空回転軸２１にはエアシリンダ機構が取付けられていて、ワークピース４０のターンテーブル１０に対する装着ならびに取り出し作業を通じてトッププレート２０を上下動できる構造とされている。」
イ　公報第３頁左下欄第９〜１７行
「本発明装置におけるワークピース保持盤５０は、上記トッププレート２０と類似構成でその表面に平坦な底面の凹陥部５１を有すると共に該凹陥部の内周縁にゴムリング５２を装着してなり、これはアーチ形支持アーム５３に対し、反転駆動機構５４により１８０°回転できるように保持され、該支持アーム５３は３本の支持脚５５ならびにエアシリンダ５６に支持されて上下動自在の構造とされている。」
ウ　公報第４頁左上欄第１５行〜右下欄第６行
「・・研摩機本体Ａに取付けた揺動アーム３０を（第５図参照）、上方から見て時計方向に回動させて、揺動アーム３０に吊下保持したトッププレート２０がローディング装置Ｂの真上にきたところでその回動を停止し、ついで揺動アームの中空回転軸２１に取付けたエアシリンダを作動して該トッププレート２０を押下げ、トッププレートに装着したゴムリング２３を、保持盤上のワークピース４０の裏面周縁部に密接させ、中空回転軸２１内の吸引パイプ２５を通じて凹陥部２２内の空気を抜き取り、トッププレート２０にワークピース４０を吸着保持する。つぎに、該中空回転軸２１を上昇させてから、今度は揺動アーム３０を反時計方向に回動して、トッププレート２０をターンテーブル１０上に位置させ、該中空回転軸２１を再びわずかに下降してワークピース４０の被研摩面をターンテーブル上の研摩面１０ａに密接させ、ついでワークピース４０のトッププレート２０に対する真空吸着を解除して研摩作業の準備を完了する。このようにして準備が完了したら、従来公知の方法にしたがって研摩作業を行ない、ワークピースの表面に所定の鏡面研摩が達成されたら、再びトッププレート２０にワークピース４０を吸着保持して、中空回転軸２１を上昇させてワークピース４０をターンテーブル１０から離した後、揺動アーム３０を反時計方向に回動させて、トッププレート２０がアンローディング装置Ｃの真上に来たところでその回動を停止し、ついで中空回転軸２１と共にトッププレート２０を押下げる。このように上記トッププレート２０に吸着保持した下向きワークピース４０の表面周縁部がアンローディング装置Ｃ（第１図参照）の保持盤（５０）上のゴムリング（５２）に接触したら、トッププレート２０の下降を停止すると共にワークピースの真空吸着を解除する。引続き上記保持盤（５０）による真空吸着を行なってから、この保持盤（５０）を反転駆動装置（５４）により１８０°反転させた後、保持盤（５０）をエアシリンダ（５６）により下降させ、ワークピース４０の裏面をコンベア（６０）に接触させ、最後に保持盤（５０）によるワークピース４０の真空吸着を解除する。このようにして、コンベア（６０）に置かれた研摩後のワークピース４０は、ベルトコンベアあるいはローラコンベアを用いて所定個所に搬出される。」
　したがって、上記記載事項ア〜ウから、刊行物１には、以下の装置の発明（以下、「刊行物１記載の発明１」という。）及び方法の発明（以下、「刊行物１記載の発明２」という。）が記載されているものと認める。
＜刊行物１記載の発明１＞
「ターンテーブル１０とトッププレート２０とを有し、前記ターンテーブル１０とトッププレート２０との間にワークピース４０を介在させて所定の力で押圧し摺動させることによって該ワークピース４０の表面を研摩する研摩機本体Ａにおいて、前記トッププレート２０を回転駆動するためのモータ２４に連結された中空回転軸２１を設け、前記トッププレート２０と中空回転軸２１とは連結されており、前記トッププレート２０から前記ワークピース４０を受け取るアンローディング装置Ｃを備え、該アンローディング装置Ｃはワークピース保持盤５２を有する研摩機本体Ａ。」
＜刊行物１記載の発明２＞
「ターンテーブル１０とトッププレート２０との間にワークピース４０を介在させて該ワークピース４０の表面を研摩する研摩方法において、前記トッププレート２０をワークピース４０を載置したローディング装置Ｂの上方に移動させ、該トッププレート２０を下降させて前記トッププレート２０下面に該ワークピース４０を渡し、前記トッププレート２０下面に前記ワークピース４０を吸着させ、該トッププレート２０を前記ターンテーブル１０上に移動させ該ターンテーブル１０に押圧し摺動させて該ワークピース４０を研摩した後、該トッププレート２０をアンローディング装置Ｃの上方に移動させ、該トッププレート２０を下降させて、該トッププレート２０から該アンローディング装置Ｃのワークピース保持盤５０に設けられたゴムリング５２を有する凹陥部５１により研摩後のワークピース４０を真空により吸着し受け取り、該ワークピース保持盤５０を下降させた後、ワークピース４０を所定個所に搬出する研摩方法。」
＜刊行物２＞
　また、当審の拒絶の理由に引用された特公昭６２−６２４６３号公報（以下、「刊行物２」という。）には、以下の事項が記載されている。
エ　公報第１頁右欄第２１行〜第２４行
「 本発明は、薄膜形成処理の前後でウエハの表面に損傷が発生するのを防止し、かつ、ウエハの移送操作を自動化して作業性の向上を図つたCVD装置用ウエハセツターを提供するものである。」
オ　公報第２頁右欄第１０行〜第２３行
「バキュームヘッド１３の先端部には、第３図に示す如く、ウエハ６を水平状態で保持するようにすり鉢状の収容部１８が形成されている。バキュームヘッド１３は、この収容部１８に開口した中空部１９を介して図示しない排気機構に連通しており、排気機構によって収容部１８内を減圧状態にすることにより、ウエハ６を保持するようになっている。また、バキュームヘッド１３には、ヒータブロック１５上のヒータ２０面にウエハ６が当接する際の衝撃を緩和するためのばね２１と、任意の角度のヒータプレート２０面に対してウエハ６が完全に密着するように球面軸受２２が内蔵されている。」
カ　公報第３頁左欄第４行〜第１５行
「全ての供給用チヤツク２……上にウエハ６が載置されると、ウエハセンサ８の信号を受けて排気機構は吸着部７を所定の減圧状態にする。その結果、ウエハ６は吸着部７に吸着して固定される。次いで、昇降シリンダ４が駆動して供給用チヤツク２……を、バキユームヘツド１３の収容部１８にウエハ６が達するまで上昇させる。収容部にウエハ６が収容されると排気機構によつてバキユームヘツド１３の収容部１８内が所定の減圧状態に設定されると共に、供給用チヤツク２……内の減圧状態が解除され、ウエハ６は収容部１８内に固定される。」
キ　公報第３頁左欄第４０行〜右欄第７行
「次に、収容部１８にウエハ６を固定した状態でバキユームヘツド１３がヘツドガイド１６まで上昇し、駆動モータ２３の逆回転によつてウエハ供給搬出部１の搬出用チヤツク３……の上方まで戻る。このバキユームヘツド１３に保持されたウエハ６に吸着部７が当接するまで昇降シリンダ４によつて搬出用チヤツク３……が上昇する。次いで、バキユームヘツド１３の減圧状態が解除されると共に、搬出用チヤツク３の方が減圧状態に設定され、ウエハ６は、バキユームヘツド１３から搬出用チヤツク３に移される。」
ク　公報第３頁右欄第３９行〜第４頁左欄第１行
「バキユームヘツド１３内に内蔵されたばね２１により、ウエハ６とヒータプレート２０との接触強さを小さくすると共に、球面軸受２２によりウエハ６を任意の傾斜角のヒータプレート２０面に倣つて密着させることができるので、ウエハ６をヒータプレート２０に着脱する際に損傷が生じるのを防止できる。」
　したがって、上記記載事項エ〜クから、刊行物２には、以下の事項１〜３（以下、「刊行物２記載の事項１」等という。）が記載されているものと認める。
＜刊行物２記載の事項１＞
「ウエハを保持して搬送するバキュームヘッドに、任意の角度の面に対してウエハが密着するように球面軸受を内蔵し、ウエハを任意の角のプレート面に倣って密着させる点。」
＜刊行物２記載の事項２＞
「ウエハを保持して搬送するバキュームヘッドに、ウエハが当接する際の衝撃を緩和するためのばねを内蔵し、ウエハと当接する部材との接触強さを小さくする点。」
＜刊行物２記載の事項３＞
「ウエハの移送操作を自動化したものにおいて、ウエハを保持して搬送するバキュームヘッドへのウエハの受け渡しと受け取りを、ウエハの供給用チャック及びウエハの搬出用チャックを上昇させて行う点。」
＜刊行物３＞
　また、同じく当審の拒絶の理由に引用された特開平４−２０６９４６号公報（以下、「刊行物３」という。）には、以下の事項が記載されている。
ケ　公報第３頁右上欄第１行〜第７行
「ウエーハ４（薄板状部材）の保持装置２０は次のように構成されている。即ち、２１はポンプに連通した多数の空気孔２２を設けたセラミックスプレートで、その下面には合成樹脂等の弾性体に水を含ませた含水吸着パッド２３が取り付けてある。この含水吸着パッド２３には上記空気孔２２と連通する空気孔２４が設けてある。」
＜刊行物４＞
　そして、同じく当審の拒絶の理由に周知例として引用された特開昭６１−６５７７０号公報（以下、「刊行物４」という。）には、以下の事項が記載されている。
コ　公報第３頁左下欄９行〜第１８行
「設定研磨時間が経過すると、制御装置２１からの指令により研磨圧が低圧になり、中心ギヤ４が回転して、研磨が終了した被加工物１を装填した空孔部が６ａ’（第２図）の位置へ来る。シリンダ１６のピストン１６ａが上昇し、空孔部６ａ’内の被加工物１がピストン１６ａ上に載置されると、このピストン１６ａが下降し、取出された被加工物１は脱イオン水中に浸される。そして、この脱イオン水中を流れて、下流側にある収納ケース１５内へ自動的に収納される。」
サ　公報第４頁左上欄第５行〜第７行
「研磨終了後、被加工物１を流れる脱イオン水中に浸漬するようにしたので、研磨面への異物の付着を防止することができる。」
　
３．対比・判断
３．１　本願発明１について
　本願発明１と刊行物１記載の発明１とを対比すると、後者の「ターンテーブル１０」、「トッププレート２０」、「ワークピース４０」、「研摩機本体Ａ」、「モータ２４」、「中空回転軸２１」、「アンローディング装置Ｃ」、及び「ワークピース保持盤５０」は、それぞれ前者の「ターンテーブル」、「トップリング本体」、「ポリッシング対象物」、「ポリッシング装置」、「駆動装置」、「トップリング駆動軸」、「ポリッシング対象物受渡し機構」、及び「ポリッシング対象物載置部」に相当する。
　してみると、両者の一致点及び相違点は以下のとおりである。
＜一致点＞
「ターンテーブルとトップリング本体とを有し、前記ターンテーブルとトップリング本体との間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧し摺動させることによって該ポリッシング対象物の表面を研磨するポリッシング装置において、前記トップリング本体を回転駆動するための駆動装置に連結されたトップリング駆動軸を設け、前記トップリング本体とトップリング駆動軸とは連結されており、前記トップリング本体から前記ポリッシング対象物を受け取るポリッシング対象物受渡し機構を備え、該ポリッシング対象物受渡し機構はポリッシング対象物載置部を有するポリッシング装置。」
＜相違点１＞
　本願発明１では、トップリング本体とトップリング駆動軸とが、「ポリッシング対象物の研磨時に該トップリング本体をトップリング駆動軸に対して傾動可能とし、かつ該トップリング本体上昇時に該トップリング本体を柔らかく水平に保つよう」連結されているのに対し、刊行物１記載の発明１では、どのように連結されているか不明である点。
＜相違点２＞
　本願発明１では、ポリッシング対象物載置部が、「ポリッシング対象物を該トップリング本体から受け取る際、ポリッシング対象物に衝撃力を与えないよう緩衝機構を具備し、該緩衝機構は前記ポリッシング対象物載置部の軸を支持するスプリングからなる」のに対し、刊行物１記載の発明１では、そのようになっていない点。
　上記相違点１〜２について、以下検討する。
＜相違点１について＞
　ウエハを任意の角のプレート面に倣って密着させるよう、球面軸受を用いることが刊行物２記載の事項１に記載されており、また、ウエハを研磨面に常に密着して滑らかに研磨するには、研磨面に従って多少傾ける必要があることは周知の課題であるから（必要であれば、特開昭６１−４６６２号公報第２頁右上欄第３行〜第１４行を参照のこと。）、刊行物１記載の発明１におけるトップリング本体とトップリング駆動軸との連結に刊行物２記載の事項１を用いることは、当業者であれば容易に想到しうることである。
　そして、「トップリング本体上昇時に該トップリング本体を柔らかく水平に保つ」との事項について、刊行物２記載の事項１によっても、トップリング本体は、上昇時に柔らかく水平に保たれるものと認められ、また、出願当初の明細書段落【００４７】にある「上昇させた状態時にスプリング４１は柔らかくトップリング本体３を水平に保つ機能を奏する」点についても、トップリング本体とトップリング駆動軸との間にばねを設けることが周知の技術と認められる以上（例えば、特開昭６１−４６６２号公報第２頁左上欄第２行〜第５行を参照のこと。）、上記「トップリング本体上昇時にトップリング本体を柔らかく水平に保つ」との構成となすことが、当業者にとって格別困難なものと認められない。
＜相違点２について＞
　ウエハが当接する際の衝撃を緩和するためのばねを設け、ウエハとそれに当接する部材の接触強さを小さくすることが、刊行物２記載の事項２に記載され、また、ウエハが当接する際の衝撃を緩和するためのばねを設けるのに、ウエハを受け渡す側に設けるか、ウエハを受け取る側に設けるかによって、その効果に顕著な差が現れるものとも認められないから、刊行物１記載の発明１において、ポリッシング対象物載置部の側にばねからなる緩衝機構を設け、相違点２に係る構成となすことは、刊行物２記載の事項２から、当業者であれば容易になしえたものと認められる。
　そして、本願発明１の効果は、刊行物１記載の発明１及び刊行物２記載の事項から、当業者であれば予測することができる程度のものであって格別なものとはいえない。
　したがって、本願発明１は、刊行物１記載の発明１及び刊行物２記載の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
３．２　本願発明４について
　本願発明４と刊行物１記載の発明２とを対比すると、後者の「ターンテーブル１０」、「トッププレート２０」、「ワークピース４０」、「研摩方法」、「ローディング装置Ｂ」、「アンローディング装置Ｃ」、及び「ワークピース保持盤５０」は、それぞれ前者の「ターンテーブル」、「トップリング本体」、「ポリッシング対象物」、「ポリッシング方法」、受け渡し側の「ポリッシング対象物受渡し機構」、受け取り側の「ポリッシング対象物受渡し機構」、及び「ポリッシング対象物載置部」に相当し、後者の「凹陥部５１」は、真空により吸着する孔である点で、前者の「真空孔」に相当する。
　してみると、両者の一致点及び相違点は以下のとおりである。
＜一致点＞
「ターンテーブルとトップリング本体との間にポリッシング対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研磨するポリッシング方法において、前記トップリング本体をポリッシング対象物を載置したポリッシング対象物受渡し機構の上方に移動させ、前記トップリング本体下面に該ポリッシング対象物を渡し、前記トップリング本体下面に前記ポリッシング対象物を吸着させ、該トップリング本体を前記ターンテーブル上に移動させ該ターンテーブルに押圧し摺動させて該ポリッシング対象物を研磨した後、該トップリング本体をポリッシング対象物受渡し機構の上方に移動させ、該トップリング本体から該ポリッシング対象物受渡し機構のポリッシング対象物載置部に設けられた真空孔により研磨後のポリッシング対象物を真空により吸着し受け取り、該ポリッシング対象物載置部を下降させるポリッシング方法。」
＜相違点３＞
　本願発明４では、ポリッシング対象物受渡し機構とトップリング本体との間におけるポリッシング対象物の受け渡しと受け取りを、「ポリッシング対象物受渡し機構のポリッシング対象物載置部を上昇させて」行うのに対し、刊行物１記載の発明２では、トップリング本体を下降させて行う点。
＜相違点４＞
　本願発明４では、ポリッシング対象物を真空により吸着する真空孔が、「吸着パッドの上面に開口する複数の真空孔」であるのに対し、刊行物１記載の発明２では、ゴムリングを有する凹陥部である点。
＜相違点５＞
　本願発明４では、ポリッシング対象物載置部を下降させた後、「ポリッシング対象物を洗浄液で洗浄するのに対し、刊行物１記載の発明２では、「所定個所に搬出する」としか特定されていない点。
　上記相違点３〜５について、以下検討する。
＜相違点３について＞
　ウエハを移送する際に、ウエハを供給する供給用チャック、及びウエハを搬出する搬出用チャックを上昇させ、ウエハを搬送するバキュームヘッドにウエハの受け渡しと受け取りを行わせることが刊行物２記載の事項３に記載されており、受け渡し又は受け取りにおいては、どちらを移動させるかは相対的なものであることを考えると、刊行物２記載の事項３を刊行物１記載の発明２におけるポリッシング対象物の受け渡しと受け取り方法として採用し、相違点３に係る構成となすことが、当業者に格別困難なものと認めることができない。
＜相違点４について＞
　ウエハ等の薄板状部材を真空により吸着する保持装置として、吸着パッドに複数の真空吸着用の孔を設けたものを用いることは刊行物３に記載されており、また、刊行物１記載の発明２において、真空により吸着する保持装置として刊行物３に記載のものを採用することを妨げる特段の事情も見出せないから、刊行物１記載の発明２において刊行物３記載の保持装置を採用し、相違点４に係る構成となすことは、当業者であれば容易になし得るものと認められる。
＜相違点５について＞
　刊行物１記載の発明２には研磨後に関する記載はないものの、研磨終了後にポリッシング対象物を洗浄しなければならないことは技術常識であり、研磨機に洗浄部を設け、研磨後に洗浄を行うことは刊行物４に記載されている以上、刊行物４に記載の構成を刊行物１記載の発明２に適用し、相違点５に係る構成となすことは、当業者であれば容易になし得るものと認められる。
　そして、本願発明４の効果は、刊行物１記載の発明２及び刊行物２〜４記載の事項から、当業者であれば予測することができる程度のものであって格別なものとはいえない。
　したがって、本願発明４は、刊行物１記載の発明２及び刊行物２〜４記載の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明２、３、及び５について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。