(57)【要約】　　　（修正有）【課題】供給ラインを２系統有しながら、配管が複雑でなく、切り替え部の占有スペースを最小化でき、配管内に生じるデッドスペースを最大限に抑制でき、高品質の精緻な製品を効率よく製造するのに寄与でき、切り替えの制御を簡易化できる、経済性に優れるスラリー供給方法及びスラリー供給装置の提供。【解決手段】膜研磨用スラリーを化学機械研磨装置１７に供給するためのリダンダンシー機能を有するスラリー供給方法において、スラリーを供給するためのラインが２系統設けられ、これらのラインのいずれか一方から化学機械研磨装置へとスラリーが供給され、もう一方のラインではスラリー又は純水が循環され、且つこれらの２系統のラインの切替えが、２個のエア駆動式の４方弁１，２によって行なわれることを特徴とするスラリー供給方法、及びスラリー供給装置。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜研磨用スラリーを化学機械研磨装置に供給するためのリダンダンシー機能を有するスラリー供給方法において、スラリーを供給するためのラインが２系統設けられ、これらのラインのいずれか一方から化学機械研磨装置へとスラリーが供給され、もう一方のラインではスラリー又は純水が循環され、且つこれらの２系統のラインの切替えが、２個のエア駆動式の４方弁によって行なわれることを特徴とするスラリー供給方法。
【請求項２】
更に、化学機械研磨装置へのスラリーの供給が、混合機能と供給機能とを有する混合装置を介して、或いは直接行なわれる請求項１に記載のスラリー供給方法。
【請求項３】
研磨する対象となる膜が、層間絶縁膜、ＳＴＩ酸化膜、メタル膜、Ｐｏｌｙ−Ｓｉ膜のいずれかである請求項１又は２に記載のスラリー供給方法。
【請求項４】
スラリーが、砥粒微粒子としてシリカ、アルミナ、ジルコニア、二酸化マンガン、酸化セリウムのいずれかを含む請求項１〜３のいずれか１項に記載のスラリー供給方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のスラリーの供給方法に用いるスラリー供給装置であって、２系統のスラリー供給ラインと、該２系統の供給ラインの切替えを行なうための２個のエア駆動式４方弁とを有することを特徴とするスラリー供給装置。
【請求項６】
更に、スラリーの混合機能と供給機能とを有する混合装置を有する請求項５に記載のスラリー供給装置。
【請求項７】
エア駆動式４方弁が、互いに隣接して配置された４つのエア駆動式のアクチュエーターと、各アクチュエーターのそれぞれに１つずつ接続された互いに９０度異なる向きに配置された４個のポートとを有し、対向する２個のポートがスラリーを導入するための２個の導入口であり、且つ対向する別の２個のポートがスラリーの排出口である請求項５又は６に記載のスラリー供給装置。
【請求項８】
更に、２系統の供給ラインの配管の切り替え動作に伴う２個のエア駆動式４方弁の制御を自動にて行うための自動制御装置を有する請求項５〜７のいずれか１項に記載のスラリー供給装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、化学機械研磨装置へ研磨用スラリーを供給する為のスラリー供給方法、及び該方法に用いるスラリー供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＬＳＩの高集積化、高性能化に伴い、ウエハ等の基板表面を高精度に平坦化するための加工手段としての化学機械研磨（ＣＭＰ）方式が注目されている。かかる方式では、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化セリウム（セリア）、二酸化マンガン等の微粒子からなる研磨砥粒を、水酸化カリウムやアンモニア等のアルカリ性水溶液や、界面活性剤を含む水に分散させた砥粒微粒子分散液に、更に、研磨対象に応じた、界面活性剤や、化学的作用を促進させるための過酸化水素水や硝酸鉄等の酸化剤を含有する添加剤溶液を混合することで調製したスラリーが使用されている。このため、化学機械研磨（ＣＭＰ）方式によれば、上記したようなスラリー中の添加剤溶液と基板との間に生じる化学的作用と、スラリー中の研磨砥粒と基板との間の機械的作用とを複合化させることで、優れた研磨処理が実現できる。
【０００３】
上記したようなスラリーを化学機械研磨装置へ供給する方法としては、スラリー供給装置１台から複数の化学機械研磨装置へとスラリーを供給する集中供給方式と、スラリー供給装置１台から化学機械装置１台へスラリーを供給する個別供給方式とがある。中でも集中供給方式は、化学機械研磨装置１台当たりのスラリー供給装置コストが抑えられること、発塵性が高いスラリーの供給装置或いはメンテナンスエリアを、プロセスエリアから分けることができること、装置管理がし易いという点、更には、装置間差の問題がないという点で、個別供給方式に比べて種々のメリットがある。
【０００４】
しかし、この集中供給方式では、並列して複数の化学機械研磨装置へとスラリーを供給しているため、スラリー供給装置にて停止を伴う重大な故障が発生した場合に、複数の化学機械研磨装置の生産処理に影響を与えてしまうという問題がある。又、個別供給方式に比べて配管が複雑になり、配管内にスラリーが流れない、所謂デッドスペースを生じることが起こる。そして、この配管内に生じたデッドスペースでは、この部分にスラリーが滞留或いは沈降し、大粒子化することが起こる。そして、この大粒子化したスラリーが供給ラインに混入すると、化学機械研磨後のウェハ基板上の膜に、スクラッチと呼ばれる傷を生じたり、或いは、研磨後の膜にデッシング等の膜減りを発生させる等のことがあり、この点からも改良すべき問題があった。
【０００５】
近年、化学機械研磨の対象とされるものは、デバイスの微細化に対応した層間絶縁膜やＳＴＩ膜、その他の酸化膜やメタル膜、Ｐｏｌｙ−Ｓｉ膜であるため、精度のよい精緻な研磨加工への要求は、益々増大している。このため、特に、上記したスラリーの滞留或いは沈降によって生じる研磨砥粒の大粒子化を防止することは、高い品質の製品を得るための重大な課題となっている。その一方で、生産コスト削減も大きな課題であり、スラリーの凝集化を簡易に抑制できると同時に、装置コストの低減を図ることが要望されている。
【０００６】
上記に挙げた問題のうち、スラリー供給装置において停止する故障を生じた場合の各化学機械研磨装置への影響については、現在では、同様な機能を有するスラリー供給ラインを別にもう一つ装置に組み込み、供給ラインを２系統設けておき、それらを切り替えて使用する、リダンダンシー機能を付加した方法によって解決が図られている。即ち、供給ラインを２系統設けることによって、一方の供給ラインの系に問題が発生した場合は勿論のこと、配管洗浄や消耗部材の交換等といった定期保全作業のためにスラリー供給装置を停止させる場合にも、もう一方の系統からスラリーを供給することが可能であるので、化学機械研磨装置のダウンタイムの発生を抑制し、効率化することが可能となる。
【０００７】
又、上記した供給ラインが２系統設けられている装置においては、先に述べたスラリー供給配管内に生じるデッドスペースにおけるスラリーの堆積や沈降の発生の問題についても、一方のスラリー供給ラインで化学機械研磨装置にスラリーを供給している間に、もう一方の系統を洗浄することが可能である為、スラリー供給配管内に生じるスラリー凝集物や堆積物を、ある程度は抑制することが可能となる。この供給ラインを２系統設ける方式においては、通常、ラインの切り替え部に、図５に示したように、例えば、エア駆動式の２方弁を複数個組合わせたり、或いは図６に示したように、エア駆動式の３方弁と２方弁を複数個組合わせてシステムを構築することが行なわれている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、スラリー供給ラインの切り替えに２方弁或いは３方弁を用いた場合は、図５及び６中に示したように、多数の弁が必要となり、切り替え部の占有スペースが増大し、これに伴って、ラインを切り替えた場合に、図中の点線で示した部分にはスラリーが流れず、或いは洗浄が出来ないようなデッドスペースが多く発生することになる。このため、先に述べた、これらのデッドスペース部分の配管内に生じる、スラリーの沈降や堆積の問題を充分に防止することはできなかった。
【０００９】
従って、本発明の目的は、供給ラインを２系統設けたリダンダンシー機能を有する方法或いは装置でありながら、配管が複雑でなく、切り替え部の占有スペースを最小化でき、配管内に生じるデッドスペースを最大限に抑制でき、高い品質の製品が得られ、しかも、切り替えの制御を簡易化することが可能な経済性に優れるスラリー供給方法及びスラリー供給装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、以下の本発明によって達成される。即ち、本発明は、膜研磨用スラリーを化学機械研磨装置に供給するためのリダンダンシー機能を有するスラリー供給方法において、スラリーを供給するためのラインが２系統設けられ、これらのラインのいずれか一方から化学機械研磨装置へとスラリーが供給され、もう一方のラインではスラリー又は純水が循環され、且つこれらの２系統のラインの切替えが、２個のエア駆動式の４方弁によって行なわれることを特徴とするスラリー供給方法である。
【００１１】
又、好ましい形態としては、上記構成において、更に、化学機械研磨装置へと供給されるスラリーが、混合機能と供給機能とを有する混合装置を介して供給される、或いは化学機械研磨装置へ直接スラリーを供給するスラリー供給方法が挙げられる。又、上記構成において、研磨する対象となる膜が、層間絶縁膜、ＳＴＩ膜、その他の酸化膜やメタル膜、Ｐｏｌｙ−Ｓｉ膜であるスラリー供給方法が挙げられる。ここで、メタルとしては、例えば、タングステンや銅等が挙げられる。又、上記構成において、スラリーが、砥粒微粒子としてシリカ、アルミナ、ジルコニア、二酸化マンガン、酸化セリウムの少なくともいずれかを含むスラリー供給方法或いは砥粒微粒子を含まないＣＭＰ用溶液の供給方法が挙げられる。
【００１２】
又、本発明の別の形態は、上記したスラリーの供給方法に用いるスラリー供給装置であって、２系統のスラリー供給ラインと、該２系統の供給ラインの切替えを行なうための２個のエア駆動式４方弁とを有することを特徴とするスラリー供給装置である。又、好ましい形態としては、上記構成において、更に、スラリーの混合機能と供給機能とを有する混合装置を有するスラリー供給装置が挙げられる。即ち、本願発明のスラリー供給装置においては、混合装置は必ずしも必要でなく、直接、化学機械研磨装置にスラリーを供給するように構成してもよい。かかる装置の好ましい形態としては、上記において、エア駆動式４方弁が、互いに隣接して配置された４つのエア駆動式のアクチュエーターと、各アクチュエーターのそれぞれに１つずつ接続された互いに９０度異なる向きに配置された４個のポートとを有し、対向する２個のポートがスラリーを導入するための２個の導入口であり、且つ対向する別の２個のポートがスラリーの排出口であるスラリー供給装置が挙げられる。更に、上記において、２系統の供給ラインの配管の切り替え動作に伴うエア駆動式４方弁の制御を自動にて行うための自動制御装置を有するスラリー供給装置が挙げられる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に、好ましい実施の形態を挙げて、本発明を更に詳細に説明する。
本発明者らは、上記した従来技術の課題を解決すべく鋭意検討した結果、２系統のラインの切り替え部に、特殊なエア駆動式４方弁を２個組み合わせて使うことによって、ラインの切り替えに伴って配管内にどうしても生じてしまうデッドスペースを最大限に減少させることができることを知見して本発明に至った。この結果、本発明によれば、デッドスペース部分で生じていたスラリーの沈降、堆積、滞留に起因する、大粒子化したスラリーが供給ラインに混入し、化学機械研磨後の膜に、傷や膜減り等を発生させるといった弊害を有効に防止し、良好な状態のスラリーを化学機械研磨装置に安定して供給することが可能となる。更に、本発明の構成によれば、既存の装置に比べて、スラリー供給装置内で使用する弁の個数を低減でき、スラリーの供給ラインの切り替えにかかる占有スペースを最小化できる。又、スラリーの供給ラインの切り替えのための制御の簡易化が達成でき、自動化することによって、装置コストの低減も可能となる。
【００１４】
図を参照しながら、本発明を更に詳細に説明する。本発明では、例えば、互いに隣接して配置された４つのエア駆動式のアクチュエーターと、各アクチュエーターのそれぞれに１つずつ接続された、各ポートが互いに９０度異なる向きに配置された４個のポートとを有し、対向する２個のポートがスラリーを導入するための２個の導入口であり、且つ対向する別の２個のポートがスラリーの排出口である、特殊な構造のエア駆動式の４方弁を２個使用する。
【００１５】
図３に、上記した構成を有する４方弁の例を示した。図３に示した４方弁は、ａ１、ａ２、ａ３、及びａ４の４個のアクチュエーターと、Ａポート、Ｂポート、Ｃポート、及びＤポートの４個のポートからなり、各アクチュエーターでエアの駆動源（不図示）により開閉が行われて、各ポートからスラリーの導入或いは排出が行なわれる。図３に示した４方弁は、アクチュエーターａ１とアクチュエーターａ３、アクチュエーターａ２とアクチュエーターａ４とが対で開閉し、各対の開閉は、それぞれ逆の動作となるように構成されている。例えば、アクチュエーターａ１とａ３が開、アクチュエーターａ２とａ４が閉の状態にある場合には、スラリーは、ＡポートからＢポートへ、及びＣポートからＤポートへ、それぞれ流れる。一方、アクチュエーターａ１とａ３が閉、アクチュエーターａ２とａ４が開の状態にある場合においては、スラリーは、ＡポートからＤポートへ、及びＢポートからＣポートに流れる。
【００１６】
図４に、上記した構成を有する４方弁を２個組合わせ、これを切り替えることで、タンクＴ１及びＴ２から、混合機能と供給機能とを有する混合装置１６へとスラリーをそれぞれ供給できるように構成した、スラリー供給ラインが２系統設けられているスラリー供給装置を示した。図４（ａ）に示した状態では、タンクＴ１から、４方弁１を介してスラリーが混合装置１６に供給され、該混合装置１６から戻されるスラリーは、４方弁２を介してタンクＴ１に戻される。この場合には、タンクＴ２のスラリーは、４方弁１及び４方弁２を介してタンクＴ２へと戻されて、循環した状態で待機している。
【００１７】
更に詳細に述べると、図４（ａ）に示した状態においては、タンクＴ１より出たスラリーは、４方弁１のＣポートからＤポートを通って、混合装置１６へと供給されている。更に、該混合装置１６から戻されるスラリーは、４方弁２のＢ’ポートから導入されて、Ｃ’ポートを通ってタンクＴ１へと戻され、スラリー供給ラインを１系統形成している。この際、もう１系統のスラリー供給ラインは、混合装置１６へとスラリーを供給することなく、タンクＴ２から出たスラリーが、４方弁１のＡポートからＢポート、更に４方弁２のＤ’ポート、Ａ’ポートを通って再びタンクＴ２へと戻されて、洗浄動作後、スラリーを循環した状態に保ち、スラリーの、沈降、堆積、滞留を防止した状態で待機している。
【００１８】
上記したタンクＴ１からのスラリー循環系統と、タンクＴ２からのスラリー循環系統は、図４（ａ）に示したように、完全に分離された状態となっている。又、図４（ａ）に示したタンクＴ２からの系統は、上記した説明では、スラリーを循環させて待機した状態としたが、タンクＴ２内に純水を収納させれば、スラリー循環系統を構成する配管内や、スラリー供給ラインを切り替えるための４方弁内を純水によって洗浄する動作を行なわせることができる。
【００１９】
又、図４（ｂ）は、上記の場合と異なり、スラリーを、タンクＴ２から混合装置１６へと供給する状態を示している。タンクＴ２からのスラリー供給ラインに切り替えた状態とした場合、タンクＴ１より出たスラリーは、４方弁１のＣポートからＢポート、４方弁２のＤ’ポートからＣ’ポートを通り、再びタンクＴ１に戻されて循環される。一方、タンクＴ２から出たスラリーは、４方弁１のＡポートからＤポートを通り、混合装置１６へと供給されて、該混合装置１６から戻されるスラリーは、４方弁２のＢ’ポートからＡ’ポートを通って、タンクＴ２へと戻る。この時、前記したと同様に、タンクＴ１のスラリー循環系統とタンクＴ２のスラリー循環系統は完全に分離されており、前記したと同様に、混合装置１６へとスラリーを供給することのないタンクＴ１からの系統は、スラリーを循環させて待機状態とするか、純水を循環させて洗浄動作を行うことができる。
【００２０】
上記したように、図４に示したスラリー供給装置では、混合装置１６へのスラリー供給ラインがタンクＴ１からのものと、タンクＴ２からのものの２系統設けられており、これらのライン中の２個の４方弁１及び２の流れ方向を随時切り替えることで、２系統あるスラリー供給ラインを適宜に切り替え、混合装置１６へと良好な状態のスラリーを間断なく供給することができる。即ち、上記したように、２系統あるスラリー供給ラインのうち、混合装置１６へとスラリーの供給を行なわない１系統のラインを、スラリーを耐えず循環させてスラリーの沈降、堆積、滞留を防止して、待機状態を保持する構成とすることで、混合装置１６へとスラリーを間断なく供給することを可能としている。更に、前記したように、混合装置１６へのスラリーの供給を行なわないラインに純水を循環させることで、配管内や４方弁内の洗浄動作を容易に行なうことができるので、混合装置１６へのスラリーの供給を停止することなく、スラリーの沈降、堆積、滞留による配管内の汚れを除去し、スラリー配管内をクリーンな状態に保つこともできる。
【００２１】
図１に、上記した形態をシステムに組み込んだ場合の一例の簡易フロー図を示した。先ず、タンクＴ１に充填されたスラリーは、５のポンプにより、９の供給ライン、１の特殊４方弁を介して１０の供給ラインから、該供給ライン１０の先に設置されている、混合機能と供給機能を有する１６の混合装置へと供給される。図１に示した例では、以上のようにしてタンクＴ１から混合装置１６へと供給されたスラリーは、該混合装置１６によって、化学機械研磨装置１７に所望の条件で適宜に供給される。又、図２に、上記したのと別の形態の簡易フロー図を示した。図２に示した形態では、図１の場合と異なり、混合装置１６を介さずに、直接、化学機械研磨装置１７へスラリーが供給される。
【００２２】
図１及び２に示したいずれの形態においても、タンクＴ１に収納されるスラリーは、スラリー原液であってもよいし、或いは、純水や添加剤等による希釈、混合スラリーであってもよい。タンクＴ１に収納されたものがスラリー原液の場合は、混合装置１６で、適宜に希釈、混合して、スラリーの供給先である各化学機械研磨装置で所望する状態のスラリーに調整すればよい。更に、この混合装置１６から化学機械研磨装置１７に供給されずに残ったスラリーは、混合装置１６を通り、１４の戻りライン、２の４方弁、１５のラインを介してタンクＴ１に戻る。このようにして、タンクＴ１のスラリーは、上記フローに従って常時循環されている。
【００２３】
一方、タンクＴ２に収納されているスラリーは、７のポンプにより、１１の供給ライン、１の４方弁、１３のライン、２の４方弁、１２の戻りラインを介してタンク２へと循環される。タンクＴ２に収納されるスラリーも、タンクＴ１の場合と同様に、スラリー原液であってもよいし、或いは、純水や添加剤等による希釈、混合スラリーであってもよい。
【００２４】
タンクＴ１内のスラリーが使用されて、ある一定の液面レベル以下になった場合や、或いはタンクＴ１からの循環系統での不具合により供給不可能になった場合には、４方弁１及び２を切り替えることで、タンクＴ２のスラリーが７のポンプによって、１１の供給ライン、４方弁１を介して１０の供給ラインへと供給され、１０の供給ラインの先に設置される混合装置１６を通って、化学機械研磨装置１７に所望の条件で供給することができる。更に、この混合装置１６から化学機械研磨装置１７に供給されずに残ったスラリーは、１４の戻りライン、２の４方弁、１２のラインを介してタンクＴ２に戻される。図１中の６は、アキュムレーターであり、ポンプ１０の脈動を抑制する等の機能を有する。
【００２５】
上記動作が、日常のタンクＴ１の液面レベル低下によって生じた場合には、タンクＴ１内及び９の供給ライン、１の４方弁、１３のライン、２の４方弁、１５の戻りライン内を純水にて洗浄するように構成することが好ましい。この際に使用する純水は、工場から供給されたものを使用すればよい。上記のようにして配管内及び４方弁内を純水によって洗浄することで、特にデッドスペース部分で生じる恐れのある大粒子化したスラリーを除去することができる。そして、その後に、スラリーをタンクＴ１内に充填して、５のポンプによって、９の供給ライン、１の４方弁、１３のライン、２の４方弁、１５の戻りラインを介してスラリーを循環させ、待機状態にするように制御すれば、常時、安定した状態のスラリーを供給することが可能となる。この結果、大粒子化したスラリーが供給ラインに混入することによって化学機械研磨後の膜に生じる、傷や膜減り等を有効に防止することができる。更に、これら一連の動作は、連続的に行われるので、集中制御管理システムであるコントローラー（ＰＬＣ）にて自動で制御させることができる。この結果、装置コストの削減が達成される。
【００２６】
上記した本発明のスラリー供給方法に用いることのできるスラリーとしては、砥粒微粒子として、シリカ、アルミナ、ジルコニア、二酸化マンガン、セリアの少なくともいずれかを含むもの或いは砥粒微粒子を含まないＣＭＰ用溶液が挙げられる。特に、沈降性の高いセリアスラリーに対して用いた場合であっても、上記構成によれば、配管中のデッドスペースでのスラリーの滞留と凝集化によって生じる研磨性能の劣化が、容易に抑制できる。
【００２７】
【実施例】
次に、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。
（実施例１）
図１〜３に示した、スラリー供給ラインを２系統設け、その切り替えを、特殊なエア駆動式の４方弁１及び２を使った構成を実施例１とした。
【００２８】
（比較例１及び２）
図５に示した、スラリー供給ラインを２系統設け、その切り替えをエア駆動式の２方弁を６個使った場合を比較例１とし、図６に示した、スラリー供給ラインを２系統設け、その切り替えをエア駆動式の３方弁２個と、エア駆動式の２方弁を２個使った場合を比較例２とした。
【００２９】
＜評価＞
実施例１と、比較例１及び２の、各スラリー供給フローを使った場合のデッドスペースを比較した。この結果を表１に示した。表１は、比較例１のエア駆動式２方弁の場合のデッドスペースを１００％として比べた場合を示した。この結果、比較例２の３方弁を用いた場合は、デッドスペースが３０％以上減少した。これに対して、特殊なエア駆動式の４方弁を２個使用する実施例１の場合は、表１に示した通り、９０％以上、デッドスペースが低減されることがわかった。又、実施例１の場合には、より理想的な形でスラリーを、安定して供給することが可能となることがわかった。
【００３０】
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【００３１】
実施例１、比較例１及び２の構成で、セリアを砥粒微粒子として含有するスラリーを用い、化学機械研磨装置に連続してスラリーを供給し、化学機械研磨処理を行なった。この結果、実施例１の方法によれば、化学機械研磨処理後の膜に対して、継続して傷や膜減りの発生が有効に防止され、連続して安定した化学機械研磨処理ができることが確認できた。
【００３２】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、スラリーの供給ラインを２系統設けたリダンダンシー機能を有するものでありながら、配管が複雑でなく、切り替え部の占有スペースを最小化でき、配管内に生じるデッドスペースを最大限に抑制でき、この部分で生じていたスラリーの沈降、堆積、滞留に起因する大粒子化したスラリーが供給ラインに混入することが有効に防止されたスラリー供給方法及びスラリー供給装置が提供される。この結果、傷や膜減り等の発生が有効に防止された、高品質の精緻な化学機械研磨処理を安定して効率よく行なうことができ、製品の品質向上と同時に、製造コスト及び製品コストの低減を達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のスラリー供給装置を使用したスラリー供給方法の一例を示すシステムフロー図。
【図２】本発明のスラリー供給装置を使用したスラリー供給方法の別の一例を示すシステムフロー図。
【図３】特殊４方弁の概要を示す模式図。
【図４】本発明のスラリー供給方法におけるスラリーの流れ、及びライン切り替えを説明するための図。
【図５】従来の２方弁を用いたライン切り替えシステム。
【図６】従来の３方弁を用いたライン切り替えシステム。
【符号の説明】
１、２：エア駆動式４方弁
Ｔ１、Ｔ２：タンク
５、７：ベローズポンプ
６、８：アキュムレーター
９〜１５：供給又は戻りライン
１６：混合装置
１７：化学機械研磨装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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