【手続補正書】
【提出日】平成15年8月18日(2003.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面検査装置により該表面検査装置に対応した大きさに満たない基板に対して同点測定を行う方法であって、
前記基板の表面の少なくとも２箇所にマークを付すとともに、該基板を、前記表面検査装置に対応した大きさを有するとともに、前記基板を収容する収容部と、該収容部に収容された基板を固定するための固定部を有する表面検査用補助治具に収容して前記表面検査装置により基板の表面を検査して検出された測定点の座標を計測し、該測定点の座標データを、座標変換機能を具備する外部計算機に入力し、
前記基板を補助治具から外した後、再度前記表面検査装置により前記基板の表面を検査する際、基板を前記補助治具に再度収容して前記基板に付したマークの座標を計測し、該マークの座標データを前記外部計算機に入力し、該マークの座標に基づいて前記測定点の座標データを変換し、該座標変換データに基づいて同点測定を行うことを特徴とする同点測定方法。
【請求項２】
表面検査装置により該表面検査装置に対応した大きさに満たない基板に対して前記表面検査装置以外の他の検査装置により同点測定を行う方法であって、
前記基板の表面の少なくとも２箇所にマークを付すとともに、該基板を、前記表面検査装置に対応した大きさを有するとともに、前記基板を収容する収容部と、該収容部に収容された基板を固定するための固定部を有する表面検査用補助治具に収容して前記表面検査装置により基板の表面を検査して検出された測定点の座標を計測し、該測定点の座標データを、座標変換機能を具備する外部計算機に入力し、
前記基板を補助治具から外した後、前記他の検査装置により前記基板表面上の測定点について同点測定を行う際、前記基板に付したマークの座標を計測し、該マークの座標データを前記外部計算機に入力し、該マークの座標に基づいて前記測定点の座標データを変換し、該座標変換データに基づいて前記他の検査装置により同点測定を行うことを特徴とする同点測定方法。
【請求項３】
前記表面検査用補助治具として、前記収容部が、前記表面検査装置に対応した大きさを有する半導体ウエーハの中央に形成されたくり貫き部またはザグリ部からなるものを使用することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の同点測定方法。
【請求項４】
前記表面検査用補助治具として、前記収容部が、該収容部に収容される基板の外周から１ｍｍ〜５ｍｍ大きく形成されているものを使用することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の同点測定方法。
【請求項５】
前記表面検査用補助治具として、前記収容部の内側に、該収容部に収容される基板の位置決めをするためのガイド手段が設けられているものを使用することを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の同点測定方法。
【請求項６】
前記基板として、オリエンテーションフラット又はノッチが形成された半導体基板を用いることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の同点測定方法。
【請求項７】
前記表面検査装置により前記補助治具に収容した基板の表面の測定を行う際、前記基板の外周部より外側を測定対象から除くことを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の同点測定方法。
【請求項８】
前記表面検査装置として、パーティクルカウンタを使用することを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか一項に記載の同点測定方法。
【請求項９】
前記他の検査装置として、座標に基づく測定が可能な光学顕微鏡または走査型電子顕微鏡を使用することを特徴とする請求項２ないし請求項８のいずれか一項に記載の同点測定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明では、表面検査装置により該装置に対応した大きさに満たない基板の表面を検査する際に使用する補助治具であって、前記表面検査装置に対応した大きさを有するとともに、前記基板を収容する収容部と、該収容部に収容された基板を固定するための固定部を有することを特徴とする表面検査用補助治具が提供される。
装置に対応した大きさに満たない基板を上記のような補助治具に収容して固定することで、補助治具と基板が一体化される。そして、補助治具は表面検査装置に対応した大きさを有しているので、補助治具と一体化された基板について、物理的制約を受けることなく検査装置により安定して表面検査を行うことができる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この場合、収容部は、表面検査装置に対応した大きさを有する半導体ウエーハの中央に形成されたくり貫き部またはザグリ部からなることが好ましい。
このように装置に対応した所望の大きさを有する半導体ウエーハからなる補助治具とし、これにくり貫き部またはザグリ部を形成して収容部とすれば、装置対応直径未満の半導体基板の表面を検査する場合の補助治具として好適に使用することができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、固定部は、収容部の底面に設けられた吸着用の孔を有する膜または粘着膜からなることが好ましい。
このような膜を用いた補助治具であれば、基板を収容部内にしっかりと固定することができるため、測定時に移送されたり、回転されたりした場合でも、基板が治具から飛び出すのを防ぐことができ、また、測定する半導体基板等の着脱も容易となる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
さらに、収容部は、該収容部に収容される基板の外周から１ｍｍ〜５ｍｍ大きく形成されていることが好ましい。
このように収容される基板より若干大きい程度の収容部であれば、基板の外周と収容部の内周が必要以上に擦れ合わず、発塵を防ぐことができる。また、治具の中心と基板の中心が大きくずれることもないので、基板の表面全体を好適に測定することができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、前記収容部の内側に、該収容部に収容される基板の位置決めをするためのガイド手段を設けることもできる。
このようなガイド手段を設けておけば、治具内で基板がずれたり、回転したりするのを確実に防ぎ、位置決めが容易となるので表面検査をより好適に行うことができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明では、前記したような表面検査補助治具を用いた同点測定方法が提供される。
すなわち、表面検査装置により該表面検査装置に対応した大きさに満たない基板に対して同点測定を行う方法であって、
前記基板の表面の少なくとも２箇所にマークを付すとともに、該基板を前記本発明に係る補助治具に収容して前記表面検査装置により基板の表面を検査して検出された測定点の座標を計測し、該測定点の座標データを、座標変換機能を具備する外部計算機に入力し、
前記基板を補助治具から外した後、再度前記表面検査装置により前記基板の表面を検査する際、基板を前記補助治具に再度収容して前記基板に付したマークの座標を計測し、該マークの座標データを前記外部計算機に入力し、該マークの座標に基づいて前記測定点の座標データを変換し、該座標変換データに基づいて同点測定を行うことを特徴とする同点測定方法が提供される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
さらに本発明では、表面検査装置により測定を行った後、他の検査装置により同点測定を行う方法も提供される。
すなわち、表面検査装置により該表面検査装置に対応した大きさに満たない基板に対して前記表面検査装置以外の他の検査装置により同点測定を行う方法であって、
前記基板の表面の少なくとも２箇所にマークを付すとともに、該基板を前記本発明に係る補助治具に収容して前記表面検査装置により基板の表面を検査して検出された測定点の座標を計測し、該測定点の座標データを、座標変換機能を具備する外部計算機に入力し、
前記基板を補助治具から外した後、前記他の検査装置により前記基板表面上の測定点について同点測定を行う際、前記基板に付したマークの座標を計測し、該マークの座標データを前記外部計算機に入力し、該マークの座標に基づいて前記測定点の座標データを変換し、該座標変換データに基づいて前記他の検査装置により同点測定を行うことを特徴とする同点測定方法が提供される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記方法により、測定すべき基板としては、オリエンテーションフラット又はノッチが形成された半導体基板を好適に用いることができる。
このように本発明に係る同点測定方法を半導体基板表面の同点測定に適用すれば、装置対応直径未満の半導体基板表面上のパーティクル、欠陥、突起、マウンド等について好適に追跡観察することができる。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
さらに本発明では、前記表面検査装置により前記補助治具に収容した基板の表面の測定を行う際、前記基板の外周部より外側を測定対象から除くことが好ましい。
基板を補助治具に収容して表面検査装置により測定を行う場合、補助治具の内周部や基板の外周部はパーティクルや欠陥の集合体として誤って検出されることがあるが、上記のように基板の外周部より外側を測定対象から除くことで、そのような誤った検出を防ぐことができる。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
前記表面検査装置としては、パーティクルカウンタを好適に使用することができる。
パーティクルカウンタを用いれば、基板表面上のパーティクル、欠陥、マウンド等を輝点として検出し、その位置の座標を計測することができるので、好適に追跡観察を行うことができる。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、前記他の検査装置としては、座標に基づく測定が可能な光学顕微鏡または走査型電子顕微鏡を好適に使用することができる。
このような検査装置を使用して同点測定を行えば、レビュー式半導体基板表面検査装置と同様な効果が得られ、基板表面上のパーティクルや欠陥等について詳細に評価することができる。