【事件の表示】
　平成　５年特許願第３４６９３５号「配向液晶高分子層の形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　７年　７月２８日出願公開、特開平　７−１９１３２２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成５年１２月２７日に出願された特許出願であって、原審において、平成１４年３月４日付で拒絶理由が通知され、同年５月１０日に手続補正がなされたところ、同年６月３日付で拒絶査定がなされ、これに対し同年７月５日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに手続補正がなされ、さらに同年８月２日に手続補正がなされたものであって、その請求項に係る発明は、上記手続補正がなされた明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１〜３に記載されたとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のものである。
　　
「【請求項１】　長尺の連続配向基板を、一定方向に搬送しながら、回転するラビングロールによりラビングし、
　このようにしてラビングされた配向基板面上に、液晶状態ではネマチック配向またはねじれネマチック配向し液晶転移点以下の温度ではガラス状態となるサーモトロピック液晶高分子層を形成し、そして
　この液晶高分子層を加熱しその後冷却することにより、配向された長尺の液晶高分子層を形成する方法であって、
　配向基板の搬送速度Ｖ、配向基板の搬送方向に垂直な方向とラビングロールの回転軸とがなす角θ、回転するラビングロールの円周上の速度ｖ、および配向基板の搬送方向と前記配向基板上に形成されかつ配向された液晶高分子層の液晶高分子の配向方向とがなす角αを次式
　　α＝ｔａｎ−１（ｖ・ｓｉｎθ／（Ｖ＋ｖ・ｃｏｓθ））
に従って制御することを特徴とする長尺の配向液晶高分子層の形成方法。」
　　
２．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平３−２９１６３３号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに、
（ア）「基板と、その基板上に形成された配向膜と、その配向膜上に形成されたサーモトロピック液晶性高分子薄膜とを主構成要素としてなり、該配向膜は・・・ラビング処理されたものであることを特徴とする液晶性高分子薄膜付基板。」（特許請求の範囲）、
（イ）「液晶は高分子液晶（液晶性高分子）と低分子液晶に大別されるが、このうち液晶性高分子は低分子液晶に較べて液晶状態で高粘性であるため、液晶状態で配向させたのち、ガラス転移点以下に冷却することによって液晶の配向状態を固定化することができるという低分子液晶に見られない特徴を有している。」（１頁右下欄５〜１１行）、
（ウ）「次に、本発明の液晶性高分子薄膜付基板の作製方法について第２図を参照して　説明する。　
　（ａ）まず、基板１上にポリアミック酸またはその誘導体を主成分とする被膜２”を形成する。・・・
　（ｂ）加熱によりポリアミック酸を閉環させてポリイミド酸２’とする 。・・・
　（ｃ）形成されたポリイミド膜の表面をラビング材４で一方向にラビング処理を行う。ラビング材４としては綿、ポリエステル、ナイロン等の植毛布または布、ウレタン、ナイロン等のスポンジが好適に用いられる。・・・
　（ｄ）液晶性高分子を有機溶媒に溶解させた溶液３’をポリイミド配向膜２上に塗布する。・・・
　（ｅ）液晶性高分子を塗布後、溶媒を乾燥して除去し、液晶性高分子が液晶性を示す温度で所定時間熱処理して液晶性高分子を配向させたのち、ガラス転移点以下の温度に冷却する。液晶性高分子を配向させるときの温度は、液晶性高分子のガラス転移点以上であることが必要で、液晶性高分子の等方性液体への転移温度より低いことが必要である。・・・一般的には５０℃〜３００℃の範囲が好ましく、１００℃〜２５０℃の範囲が特に好ましい。また、液晶性高分子の相との間連では、この処理温度において液晶性高分子はネマティック相またはコレステリック相であることが好ましく、・・・」（４頁右上欄８行〜５頁左上欄１７行）、
が記載され、さらに、第２図（ｄ）を参酌すると、
（エ）「ラビング材４は回転するラビングロールである。」ことが見てとれる。
　これら（ア）〜（エ）の記載によれば、引用例１には、
「配向膜が形成された基板を、回転するラビングロールによりラビングし、このようにしてラビングされた配向基板面上に、液晶状態ではネマチック配向またはコレステリック配向し液晶転移点以下の温度ではガラス状態となるサーモトロピック液晶性高分子薄膜を形成し、そして、この液晶性高分子薄膜を加熱しその後冷却することにより、配向された液晶性高分子薄膜を形成する方法。」
との事項が開示されていると認めることができる。（以下、「引用例１発明」という。）
　　
　また、同じく原査定の拒絶の理由に引用された特開昭５４−１３６３５５号公報（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
（オ）「本発明はガラス板、化粧板などの平板状被加工物に一定方向のマイクログルーブを形成するマイクログルーブ形成装置に関するものである。
　ガラス板、化粧板などの中には、第１図に示すように被加工物１に一定方向のマイクログルーブを矢印の如く矩形状被加工物１の辺に対し直角あるいは平行以外に形成する必要のものがある。液晶表示素子基板の場合には被加工物１の一辺に対し４０度〜５０度の角度でマイクログルーブを形成したとき配向特性の良好な素子基板が得られる。」（１頁左下欄１４行〜同頁右下欄４行）
（カ）「即ち本発明の特徴はテーブルの運動方向と円筒回転体の回転軸を９０度以外の角度に設定し、円筒回転体の速度ベクトルとテーブルの速度ベクトルとで合成された一定方向のマイクログルーブを形成するので、・・・」（２頁左上欄４〜８行）
（キ）「第５図に示すように被加工物１には円筒回転体３の周速ｖ１とテーブル２の送り速度ｖ２とを適当に選定することによって合成されたΘ方向（設定値）にマイクログルーブを形成することができる。」（２頁左上欄２０行〜同頁右上欄４行）
　さらに、第５図を参酌すると、
（ク）「テーブルの運動方向に対して円筒回転体３の回転軸が角度θ傾いている。」ことが見てとれる。
　　
３．対比
　そこで、本願発明と、引用例１発明とを、以下に比較すると、
　引用例１発明の「配向膜が形成された基板」と、本願発明の「長尺の連続配向基板」とは、「配向基板」である点で一致し、引用例１発明の「液晶状態ではネマチック配向またはコレステリック配向し液晶転移点以下の温度ではガラス状態となるサーモトロピック液晶性高分子薄膜」は、本願発明の「液晶状態ではネマチック配向またはねじれネマチック配向し液晶転移点以下の温度ではガラス状態となるサーモトロピック液晶高分子層」に相当するから、
　両者は、
「配向基板を、回転するラビングロールによりラビングし、このようにしてラビングされた配向基板面上に、液晶状態ではネマチック配向し液晶転移点以下の温度ではガラス状態となるサーモトロピック液晶高分子層を形成し、そして、この液晶高分子層を加熱しその後冷却することにより、配向された液晶高分子層を形成する方法。」
である点で一致し、次の点で相違している。
　　
［相違点１］本願発明の基板は、「長尺の連続配向基板」であるのに対して、引用例１発明の基板は、単に「配向基板」であって、長尺の連続した基板とはいえない点。
　　
［相違点２］本願発明の配向された長尺の液晶高分子層を形成する方法は、「配向基板の搬送速度Ｖ、配向基板の搬送方向に垂直な方向とラビングロールの回転軸とがなす角θ、回転するラビングロールの円周上の速度ｖ、および配向基板の搬送方向と前記配向基板上に形成されかつ配向された液晶高分子層の液晶高分子の配向方向とがなす角αを次式
　　α＝ｔａｎ−１（ｖ・ｓｉｎθ／（Ｖ＋ｖ・ｃｏｓθ））
に従って制御する」ものであるのに対して、引用例１発明には、係る制御方法が開示されていない点。
　　　
４．判断
［相違点１について］
　ラビングに際して、長尺の基板を用いることは周知技術である（例えば、特開平５−２９７３７４号公報の段落【００２１】及び【図７】、特開平５−６１０３９号公報の段落【００９６】，【００９７】を参照。）。
　したがって、引用例１発明において、長尺の基板を用いることは単なる周知技術の置換に相当し、当業者が容易になし得ることである。
　　
［相違点２について］
　上記引用例２には、２．（オ）〜（ク）に摘記したように、
「ガラス板、化粧板などの平板状被加工物、例えば液晶表示素子基板に一定方向のマイクログルーブを形成するマイクログルーブ形成装置に関し、被加工物を搬送するテーブルの運動方向と被加工物にマイクログルーブを形成する円筒回転体の回転軸を９０度以外の角度（角度θ）に設定し、
円筒回転体の速度ベクトルとテーブルの速度ベクトルとで合成された一定方向のマイクログルーブを形成する
円筒回転体３の周速ｖ
１
とテーブル２の送り速度ｖ
２
とを適当に選定することによって合成されたΘ方向（設定値）にマイクログルーブを形成することができる
　上記のうち、円筒回転体は、液晶表示素子基板など（本願発明の配向基板に相当）に一定方向のマイクログルーブを形成する回転体であるから、このものが本願発明の「ラビングロール」に相当することは明らかである。
　また、上記に加え第５図を参酌すれば、引用例２に記載された各速度及び角度と本願発明の各速度及び角度とは、以下のとおりの相当関係であることが解る。
　　
　　　[本願発明]　　　　　　　　　　　　[引用例２]
　配向基板の搬送速度Ｖ・・・・・・・テーブル２の送り速度ｖ２　
　ラビングロールの円周上の速度ｖ・・円筒回転体３の周速ｖ１　
　搬送方向と配向方向とがなす角α・・合成されたΘ方向（設定値）
　搬送方向に垂直な方向と回転軸とがなす角θ
　　　　　　　　　　　　　・・・・・９０°と搬送方向と回転軸とがなす角θとの差分の角度
　　
　そこで、上記角αを本願発明の数式にしたがって制御することが、引用例２に実質的に記載されているか否かについて以下に検討すると、
　（イ）引用例２には、速度Ｖと速度ｖを適当に選定することによって、角αを設定することが記載されている。
　（ロ）ここで、速度ｖは速度ベクトルであるから、上記（イ）の速度ｖを適当に設定することには、ラビングロールの周速度を設定することのみならず搬送方向に垂直な方向と回転軸とがなす角θを設定することも含まれることが理解できる。
　（ハ）したがって、引用例２の上記（イ）の記載から、角αを設定するパラメータは、速度Ｖと速度ｖ、それから角度θであることが容易に理解できる。
　（ニ）そして、第５図には上記各パラメータと角αとの関係図が示されている。
　してみると、引用例２には、制御の対象が角α（を設定すること）であること、これを設定するパラメータが、搬送速度Ｖ、円周上の速度ｖ及び搬送方向に垂直な方向と回転軸とがなす角θであること、が記載され、さらに各パラメータの幾何学的関係が図示されているのであるから、当業者がこれら記載事項から本願発明の数式を導出し得ることは自明であって、本願発明の数式は引用例２に記載されているに等しい事項であるといえる。
　そして、引用例１発明のラビング処理にあたり、引用例２に記載された本願発明と同様のラビング方法を採用するについて特段の阻害要因があるとはいえないから、上記相違点２は、引用例１及び引用例２に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得たことといえる。
　
　また、本願発明の作用効果も、引用例１，２に記載された発明及び上記周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　　
　なお、請求人は、請求理由において
「しかしながら、搬送速度と円周上の速度のベクトル和の方向となる場合に請求項１における関係式が当然の帰結として導かれるのであれば、前述のように回転体の軸とテーブルの移動方向との角度や、一定方向のマイクログルーブが円筒回転体の速度ベクトルとテーブルの速度ベクトルとで合成されることまで記載されている引例２において、なぜ、本願請求項１における関係式と同一あるいは類似の式なり関係を示す説明がないのかという疑問が残ります。
　前述のように引例２は、ラビング処理に関連した要素を数多く記載し、図５にはベクトル図まで記載し、さらに一定方向のマイクログルーブが円筒回転体の速度ベクトルとテーブルの速度ベクトルとで合成されることも記載しているにもかかわらず、これら要素を用いて配向角度を制御しようとする記載は引例２には何らありませんし、そもそも引例２の発明の目的は本願発明のそれとは異なり装置の小型化にあり、本願請求項１における関係式のような式が引例２に記載されていないのは当然であると思います。」（【請求の理由】（３）３−４．ＩＩＩ．を参照）と主張している。
　しかしながら、引用例２には、数式は明示されていないものの上記（イ）〜（ニ）に述べたように各パラメータを用いて配向角度を制御しようとすることは記載されており、また、既に判断したように、当業者であれば数式を導出し得ることは自明であるから、引用例２が数式を明示していないからといって「本願請求項１における関係式のような式が引例２に記載されていないのは当然である」という主張に合理的な理由はなく、したがって、請求人の上記主張は失当であるという外はない。
　
５．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　
　よって、結論のとおり審決する。