【事件の表示】
　平成　４年特許願第２３３３９８号「薄膜磁気ヘッド及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　６年　３月２５日出願公開、特開平　６−　８４１３５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　経緯
　　特許出願　　　　　　　　　　　平成　４年　９月　１日
　　拒絶理由通知１　　　　　　　　平成１３年　６月１８日
　　意見書・手続補正書１　　　　　平成１３年　８月２４日
　　拒絶理由通知２　　　　　　　　平成１４年　４月１６日
　　意見書・手続補正書２　　　　　平成１４年　６月２１日
　　拒絶査定　　　　　　　　　　　平成１４年　９月２７日
　　審判請求書　　　　　　　　　　平成１４年１０月３１日
　　手続補正書３　　　　　　　　　平成１４年１１月２９日
　　前置報告　　　　　　　　　　　平成１５年　１月２４日
　
２　本願発明
　本件の特許請求の範囲請求項１〜３に係る発明は、上記手続補正書３の特許請求の範囲請求項１〜３に記載されたとおりのものであり、そのうち請求項１は次のものである。
「【請求項１】　非磁性層上に、下部磁性層、絶縁層及び前記絶縁層に埋設されたコイル、上部磁性層を備えると共に、
　前記非磁性層は、平坦部と前記平坦部に傾斜部を介して連設された底部とを備え、前記平坦部は、アペックスよりもギャップデプスとは逆側の位置で前記傾斜部を介して前記底部に連設し、前記非磁性層の底部に、前記平坦部と底部の段差よりも薄い膜厚で１層目の下部磁性層が形成され、前記非磁性層の平坦部、傾斜部及び前記１層目の下部磁性層を覆う２層目の下部磁性層が形成されたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。（以下、本願発明という。）」
　
３　引用例
（１）　引用例
　拒絶の理由に引用された、本件出願前公知の刊行物である特開昭６１−１５３８１６号公報には次の記載がある。
（なお、符号の下の下線は省略した。）
　
ａ　特許請求の範囲請求項１，２に、
「１）リングヘッド類似形状の磁気導体が非磁性基板上に設けられ、その二つの磁極片の記録媒体に対向する磁極末端部がヘッドの連動方向において特定のギャップ幅を保って前後に配置されたギャップ幅に比べて大きな間隔を保って並列する磁極片部分が書込み・読出し巻線のターンを納める中間室を形成する垂直磁化用の磁気ヘッドにおいて、基板（３）がくぼみ（１３）を備え、このくぼみ（１３）に一方の磁極片（６）から大きな間隔を保つ他方の磁極片（７）の部分（７ａ）の少なくとも大部分と書込み・読出し巻線（１８）のターンが設けられていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
２）両方の磁極片（５，７）がその磁極末端部区域に達するまで磁気増強層（１５，１６）を備え、この層が磁気導体（５）の外形を形成することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。」、
　
ｂ　第２頁左上欄第８行〜第１０行に、
「［産業上の利用分野］
　この発明は垂直磁化される記録媒体に対する薄膜構成の磁気ヘッドに関する。」、
　
ｃ　第３頁右上欄第１３行〜右下欄第９行に、　
「　別の問題は基板側の磁極片が書込み・読出し尖端となっている末端部に至るまで数μｍ厚さの磁性材料層で補強され磁気導体の磁気抵抗を低下させ磁気ヘッド全体としての効率を高めるようになっていることから生ずる。公知の磁気ヘッドではこの磁気補強層は磁極片尖端のできるだけ近くまで拡げておくのが有利であるとすえられていた。しかしこれによって磁気補強層の前方の縁端と外側の磁極片の間で磁束線が短絡されて書込み・読出し尖端となっている末端部を通して導かれなくなる危険が生ずる。
　〔発明が解決しようとする問題点〕
　この発明の目的は冒頭に挙げた磁気ヘッドを改良して再現性の良い製作が可能となり、許されない構造誤差が充分防止されるようにすることである。更に書込みと読出しの両機能において高い効率が確保されるようにすることもこの発明の目的である。
　〔問題点を解決するための手段〕
　これらの目的は特許請求の範囲第１項に特徴として挙げた構造とすることによって構成される。　この発明による磁気ヘッドではそれを構成する層が平面基板上に重ね合わされずにヘッドの大部分が基板のくぼみに埋め込まれ、書込み・読出し機能に必要な磁極末端部は直接基板表面に接している。この構成は特に基板から遠い磁極片の末端部の微細構造化に対して不利な背の高いヘッド構成を少くともある程度まで避けることができ、それによって両末端部を高情度でラック塗装し高分解能のマスキング過程により構造化することができるという利点がある。更に基板に接する下側の磁極片の磁気補強層に基く磁束の短絡の危険は磁極片の磁気補強層がこの磁極片の外例面に置かれることによって避けられる。この場合磁極片と補強層が共同で磁気導体を構成する。」、
　
ｄ　第３頁右下欄第１２行〜第５頁左上欄第１３行に、
「〔実施例〕
　この発明の実施例の断面の概略を示す図面についてこの発明を更に詳細に説明する。
　図面に一部分だけを示した書込み・読出し磁気ヘッドは垂直磁化に使用される公知のリングヘッド類似の薄膜積層磁気ヘッドを基本にするものである（例えば前述の欧州特許明細書または欧州特許第００７１４８９Ａ２明細書）。全体が２として示されているヘッドは飛翔体と呼ばれている素子の前面又は背面を形成する基板３にとりつけられている。このヘッドは垂直方向に磁化される記録媒体Ｍに対して例えば０．２μｍの高度を保つて移動する。一般に記録媒体の方がヘッドの下で移動し、ヘッドに対する記録媒体の相対的運動方向は矢印ｖで示されている。
　磁気ヘッド２は軟磁性材料から成る磁束響導体５を含む。この磁性材料の磁化容易方向は常に磁束響導方向に少くとも近似的に垂直でなければならない。磁気導体５は二つの磁極片６と７から構成され、これらの磁極片の記録媒体に対向する末端部８と９は少くとも近似的に記録媒体面に垂直であり、この部分に磁極Ｐ１又はＰ２が作られる。これらの末端部の間にはエアギャップ１１が形成されるが、その長手即ち運動方向ｖの幅ｗは１μｍ以下特に０．５μｍ以下とするのが有利である。ヘッド２の中央区域１２では両方の磁極片６と７の間の間隔がエアギャップの幅ｗに比べて拡げられている。そのためこの区域において基板３に皿形のくぼみ１３が作られ、磁極片７の一部分７ａがこのくぼみの底面の上に拡がっている。これによって基板３に接する磁極片７はその末端部９に続く磁極片部分７ａが基板から遠い直線形の磁極片６から大きな間隙ｓを保つて平行する。記録媒体Ｍに対して反対の側では磁極片７が区域１２の外で磁極片６との結合区域１４に移り磁気ヘッド２にリングヘッド類似の形態を与える。
　磁極片６と７は更に図面に示すように末端部８又は９の区域に至るまで磁性材料から成る補強層１５又は１６を備える。これらは磁気導体５の外側面を形成するようにするのが有利である。
　読出し・書込み両用の垂直磁化式磁気ヘッド２は更に多層構造の扁平巻線１８を備え、そのターンは磁極片６と７の中央区域１２の間に形成された中間層１９内に収められている。薄膜磁気ヘッド２は書込み機能に対する大きな電流負荷に備えなければならないから、それに対応して充分な冷却が必要となる。そのためにはヘッドを基板３に埋め込みヘッドと基板の間に大きな接触面を作ることが有効である。基板材料としてはＡｌ２Ｏ３層を備えＡｌ２Ｏ３を３０％含むＴｉＣが使用される。この材料はそのＴｉＣ成分によって導電性であるから基板３には絶縁分離用のＡｌ２Ｏ３層を付加しなければならない。ＴｉＣの代りにＡｌＮを基板材料として使用することも有利である。この材料は高い熱伝導率を示すのに加えて電気絶縁性である。
　磁気ヘッド２の製作に際してはまず基板３の所定個所にマスクを使用するイオンビーム照射又は反応性イオンエッチングによってくぼみ１３を作る。続いて補強用の磁性層例えばＮｉＦｅ１６を蒸着又はスパッタリングにより２乃至３μｍの厚さに形成させる。その際くぼみ１３の外の基板表面に析出した材料は例えば機械的の研磨により除去する。これには斜めイオン照射が有利である。これについては例えば「表面のイオン衡激変調（Ion Bombardment Modification of Surfaces ）」　Elserier出版、１９８４年、３７２，３７３，３８３ページに記載されている。このイオン昭射の方向は図に波線Ｈで近似的に示されている。イオン昭射に際して磁極片部分９と区域１２の間の移行部においてほぼ垂直に入射するイオンは外側磁性層１６の一部を除去して短縮又は傾斜させるのに対して反対側の部分１４と１２の間の移行部では基板縁端による遮蔽効果によりこのような除去作用は生じない。続いて磁極片７の本体を形成する磁性層２１を約１μｍの厚さに形成させる。この層は磁性層・絶縁層・磁性層のサンドイッチ構造とする。部分９と区域１２の間の移行部では磁性層１６の上記の傾斜成形により磁性層２１が直接斜めの基板表面に接する。従って上記の傾斜成形により磁性層２１と２３の間の間隔が急速に増大し磁極片末端部８と９の区域で磁束の流れを増強する。以後の工程段は書込み・読出し巻線１８のターンの形成であり、いくつかの段階に分けて絶縁ラック、銅、絶縁ラックの重層構造が作られる。その際最外側ラック層がくぼみの外側の基板表面４に析出した磁極片７の層２１の部分と面を合わせるようにすると有利である。続いて両磁極片６と７の間の絶縁分離の外特にエアギャップ１１を埋めるための薄い絶縁層２２を設ける。この層にはＳｉＯ２又はＡｌ２Ｏ３が使用される。最後に上の磁性片６が厚さ約１μｍの磁性層・絶縁層・磁性層重層と厚さ約３乃至４μｍの補強層から成るサンドイッチ層２３の形に作られる。以後の工程は完全な磁気ヘッドにするための公知工程段である。しかし図面にはこの発明の磁気ヘッドの構成に必要な絶縁分離層はギャップ層２２を除いて示されていない。」。
　
ｅ　即ち、引用例には、
「非磁性基板上に、一方の磁極片（６）、両磁極片６と７の間の絶縁分離（絶縁ラック）、書込み・読出し巻線（１８）のターン、他方の磁極片（７）を有し、
　基板３の所定個所には、マスクを使用するイオンビーム照射又は反応性イオンエッチングによって作られたくぼみ１３を有し、
　補強用の磁性層１６を蒸着又はスパッタリングにより形成し、くぼみ１３の外の基板表面に析出した材料は斜めイオン照射で除去し、磁極片部分９と区域１２の間の移行部においてほぼ垂直に入射するイオンは外側磁性層１６の一部を除去して短縮又は傾斜させ、反対側の部分１４と１２の間の移行部では基板縁端による遮蔽効果によりこのような除去作用は生じないようにし、磁極片７の本体を形成する磁性層２１を、部分９と区域１２の間の移行部では磁性層１６の上記の傾斜成形により磁性層２１が直接斜めの基板表面に接するよう形成した磁気ヘッド」
が記載されている。
　
（２）　周知例
　周知例として、本件出願前公知の刊行物である特開平４−１９２１０５号公報（以下、周知例という。）を示す。周知例は薄膜磁気ヘッドに係り、特に高記録密度を達成するために、基板に凹部を形成し、その内部に磁性体、絶縁膜、コイルを形成した構造を有する磁気ヘッド・・・に関するものであり、次の記載がある。
　
ａ　特許請求の範囲請求項４に、
「上部磁性体はギャップ深さ零の点から立上がり、下部磁性体はギャップ深さ零より後方で、かつ凹部の立下がり点で立下がる・・・」、
　
ｂ　第３頁右下欄第８行〜第１３行に、
「更に、下部磁性体を２相構造にし、下層の下部磁性体（Ｉ）のパターン先端は凹部のテーパ部分から形成され、この凹部のテーパ部はその上に積層される下部磁性体（ＩＩ）と２相構造になるようにしている。」、
　
ｃ　第４頁右下欄第１５行〜第５頁左上欄第６行に、
「次いで、凹部の中に下部磁性体（Ｉ）９を形成する。膜厚は約１μｍ程度でよく、本実施例の特徴は下部磁性体（Ｉ）９の先端位置が凹部のテーパ部班にないに形成されることである。次いで、約２μｍ程度の下部磁性体（ＩＩ）１０を形成する。
　下部磁性体（ＩＩ）１０は、第４−ａ図及び第４−ｂ図に示すように、凹部の立下がり点からパターンが広がるようになっている。このように、下部磁性体（Ｉ）９」の形成位置及び下部磁性体（ＩＩ）１０のパターンの工夫により、凹部テーパ部での磁束の飽和を防止している。」、
　
ｄ　第５頁左下欄第１４行〜第２０行に、
「上記技術を用いて第１コイル５を形成した後、第１コイル上に、第２層絶縁層６を形成する。本実施例のもう１つの特徴は、第２図に示すように第２層絶縁層６の先端形成位置を基板凹部の立下がり位置より前に形成することにある。これにより、素子の並び精度を向上させ、ギャップ深さ零の位置を決定する。」
　
４　本願発明と引用例との対比・判断
（１）　対応関係
　引用例の「非磁性基板」、「一方の磁極片（６）」、「絶縁ラック」、「書込み・読出し巻線（１８）のターン」、「他方の磁極片（７）」は本願発明の「非磁性層」、「下部磁性層」、「絶縁層」、「前記絶縁層に埋設されたコイル」、「上部磁性層」に夫々相当する。
　引用例のくぼみ１３は、図面も参照すると、符号９の磁極片末端部が平坦部であり、符号７ａの磁極片の部分は底部と前記平坦部の間に移行部が示されている。また、引用例の「磁極片部分９と区域１２の間の移行部」という記載から見て、「移行部」が本願発明の「傾斜部」に相当する。
　そして、引用例の「補強用の磁性層１６」は本願発明の「１層目の下部磁性層」に、引用例の「磁性層２１」は本願発明の「２層目の下部磁性層」に相当し、引用例の「補強用の磁性層１６」はくぼみ１３内に形成され、くぼみ１３には、「書込み・読出し巻線（１８）のターン」を収納するスペース（中間室）を有するので、当然にして、その厚さは平坦部と底部の段差よりも薄い膜厚である。
　
（２）　一致点
　すると、本願発明と引用例とは次の点で一致する。
「非磁性層上に、下部磁性層、絶縁層及び前記絶縁層に埋設されたコイル、上部磁性層を備えると共に、
　前記非磁性層は、平坦部と前記平坦部に傾斜部を介して連設された底部とを備え、前記非磁性層の底部に、前記平坦部と底部の段差よりも薄い膜厚で１層目の下部磁性層が形成され、２層目の下部磁性層が形成されたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド」
　
（３）　相違点
（相違点１）
　本願発明の「前記平坦部は、アペックスよりもギャップデプスとは逆側の位置で前記傾斜部を介して前記底部に連設し」いるのに対して、引用例のものは、図示されているものの明記されていない点、
　
（相違点２）
　本願発明の「前記非磁性層の平坦部、傾斜部及び前記１層目の下部磁性層を覆う２層目」であるのに対して、引用例の引用例の磁性層２１は、「記録媒体に対向する磁極末端部から始まり、磁極片７の一部分７ａがこのくぼみの底面の上に拡がっている。これによって基板３に接する磁極片７はその末端部９に続く磁極片部分７ａが基板から遠い直線形の磁極片６から大きな間隙ｓを保つて平行する。記録媒体Ｍに対して反対の側では磁極片７が区域１２の外で磁極片６との結合区域１４に移り磁気ヘッド２にリングヘッド類似の形態となっている」ことは明示されているが、移行部を覆っているのか不明である点。
　
（４）　相違点の検討
（相違点１について）
　基板に凹部を形成し、その内部に磁性体、絶縁膜、コイルを形成した構造を有する磁気ヘッドにおいて、上部磁性体はギャップ深さ零の点から立上がり、下部磁性体はギャップ深さ零より後方で、かつ凹部の立下がり点で立下がるようにすること及び第２層絶縁層６の先端形成位置を基板凹部の立下がり位置より前に形成するは、周知例に示されている。
　本願発明のアペックスは絶縁層の先端部であり、ギャップデプスは引用例の磁極片末端部９付近である。そうすると、引用例の平坦部はアペックスよりもギャップデプスとは逆側の位置で移行部（傾斜部）を介して底部に連設している図を考慮すると、周知例の技術を合わせて見れば本願発明のように、前記平坦部は、アペックスよりもギャップデプスとは逆側の位置で前記傾斜部を介して前記底部に連設するようにすることは、当業者が容易に想到することができたものであり、この相違点１は格別なものではない。
　
（相違点２について）
　周知例において、「下部磁性体（ＩＩ）１０は、第４−ａ図及び第４−ｂ図に示すように、凹部の立下がり点からパターンが広がるようになっている。このように、下部磁性体（Ｉ）９」の形成位置及び下部磁性体（ＩＩ）１０のパターンの工夫により、凹部テーパ部での磁束の飽和を防止している」ことから、「非磁性層の平坦部、傾斜部及び前記１層目の下部磁性層を覆う」は当業者が任意に設定できた事項であると認められ、この相違点２も格別のものではない。
　
　また、各相違点を総合的に見ても格別のものではない。
　
（４）　容易性
　してみると、本願発明は、引用例及び周知例記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものである。
　
５　まとめ
　本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであるので、他の請求項に係る発明を検討するまでもなく本件は拒絶を免れ得ない。
　よって、結論のとおり審決する。