Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月17日(2014.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部粒子表面を有し、ポリマーバインダー相および該相の中に封入された金属フレークまたは金属小板を含有するトナー粒子であって、金属フレークまたは金属小板が、相対的に小さな厚み寸法により区別される対向する主表面を有した実質的に二次元の粒子であり、主表面の相当円の直径が本来的に２ミクロン〜５０ミクロンの範囲内であり、アスペクト比が少なくとも２であり、該トナー粒子が該トナー粒子内に形成された離散した細孔をさらに含有し、少なくとも１０体積％の内部多孔度を有するトナー粒子。
【請求項２】
ポリマーバインダー相が固体状の組成的に連続した相を含有し、該固体状の組成的に連続した相内で離散した細孔が分散されている請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項３】
金属フレークが主として離散した細孔内に存在している請求項２に記載のトナー粒子。
【請求項４】
粒子の内部多孔度が２０〜９０％である請求項１に記載のトナー粒子。
【請求項５】
以下の工程を含む請求項１に記載のトナー粒子の製造方法：
分散された金属フレークを含有する第１水性相を供給する工程；
ポリマーバインダーを含有する有機溶液に該第１水性相を分散させて、第１エマルションを形成する工程；
第２水性相に該第１エマルションを分散させて、第２エマルションを形成する工程；
該第２エマルションを粒状安定化剤の存在下、剪断して、第２水性相中で第１エマルションの液滴を形成する工程；および
該液滴から有機溶液を蒸発させて、金属フレークが封入された多孔質トナー粒子を形成する工程。
【請求項６】
以下の工程を含むトナー画像の形成方法：
金属フレークが封入された多孔質トナー粒子からなる請求項１に記載のトナー粒子を含むトナー画像を支持体上に形成する工程；および
熱の適用によりトナー粒子を支持体に融着させて、トナー粒子を支持体に定着させる工程において、トナー粒子内の細孔が金属フレークに空間を提供し、該金属フレークが、融着により受像用支持体表面と相対的により平行になるように、トナー粒子バインダー相内で再配向する工程。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月14日(2014.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グラフィックリッチなアプリケーションの出力を表示先のディスプレイシステムへリダイレクトするための方法であって、
プロセッサーを用いて、描画呼出しをインターセプトすることによって、ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の描画抽象化レイヤーへ描画を行うグラフィックリッチコンテンツ生成アプリケーションからの第１のコンテンツをインターセプトするステップと、
前記インターセプトされた第１のコンテンツをネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーへリダイレクトするステップと、
前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーを用いて、前記インターセプトされた第１のコンテンツを、第２のコンテンツを描画する出力表面と同期させるステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記第１のコンテンツをインターセプトし前記第１のコンテンツを前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーへリダイレクトするための、リダイレクトフレームワークユーティリティを呼び出すステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記グラフィックリッチコンテンツ生成アプリケーションから前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の描画抽象化レイヤーへの前記描画呼出しをインターセプトするステップを含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記グラフィックリッチコンテンツ生成アプリケーションからの第１のコンテンツをインターセプトするステップは、前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の描画抽象化レイヤーの表面へ描画を行う前記グラフィックリッチコンテンツ生成アプリケーションからの前記第１のコンテンツをインターセプトするステップを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記グラフィックリッチコンテンツ生成アプリケーションから前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の描画抽象化レイヤーへの描画呼出しをインターセプトするステップを含む、前記第１のコンテンツをインターセプトするステップと、
前記描画呼出しに紐付いた前記第１のコンテンツを前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーへリダイレクトするステップと、
を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記インターセプトされた第１のコンテンツをネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーへリダイレクトするステップは、前記インターセプトされた第１のコンテンツを前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーの表面へリダイレクトするステップを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記インターセプトされた第１のコンテンツを第２のコンテンツを描画する出力表面と同期させるステップは、前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーの表面を別のプロセスと共有する、前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーの同期表面共有機能を利用するステップを含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記グラフィックリッチコンテンツ生成アプリケーションのために、前記出力表面によって描画される前記第２のコンテンツと動的に同期させるための前記第１のコンテンツを生成するステップを含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法を実行するためのプログラム。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法を実行するためのプログラムを記録した記録媒体。
【請求項１１】
グラフィックリッチなアプリケーションの出力を表示先のディスプレイシステムへリダイレクトするためのシステムであって、
ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の描画抽象化レイヤーへ描画を行うグラフィックリッチコンテンツ生成アプリケーションからの第１のコンテンツを、描画呼出しをインターセプトすることによってインターセプトするように構成されたコンテンツインターセプトコンポーネントと、
前記コンテンツインターセプトコンポーネントと動作可能に結合され、前記インターセプトされた第１のコンテンツをネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーへリダイレクトするように構成されたリダイレクトコンポーネントと、
前記リダイレクトコンポーネントと動作可能に結合され、前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーを用いて、前記インターセプトされた第１のコンテンツを、第２のコンテンツを描画する出力表面と同期させるように構成された同期コンポーネントと、
を含むシステム。
【請求項１２】
前記第１のコンテンツをインターセプトし前記第１のコンテンツを前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーへリダイレクトするように構成されたリダイレクトフレームワークユーティリティを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第１のコンテンツをインターセプトするために前記グラフィックリッチコンテンツ生成アプリケーションから前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の描画抽象化レイヤーへの描画呼出しをインターセプトし、
前記描画呼出しに紐付いた前記第１のコンテンツを前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーへリダイレクトする
ように構成されたＤＬＬオブジェクトを含む、請求項１１又は１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記出力表面に前記第２のコンテンツを描画する出力ディスプレイコンポーネントを含む、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１５】
前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の描画抽象化レイヤーへ描画を行う前記グラフィックリッチコンテンツ生成アプリケーションは、前記第２のコンテンツとの動的な同期のためのグラフィックリッチなコンテンツを動的に生成するように構成されたアプリケーションを含む、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１６】
前記第２のコンテンツは、前記出力表面からディスプレイへ描画される予め生成されたコンテンツを含み、
前記第１のグラフィックコンテンツは、前記第２のコンテンツと同期される動的に生成されたグラフィックリッチなコンテンツを含む、
請求項１１〜１５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１７】
前記ネイティブ画像処理装置（ＧＰＵ）の表面同期抽象化レイヤーは、プロセス境界を越えて第１のグラフィック表面を第２のグラフィック表面と共有するように構成される、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月14日(2013.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面および下面を備えた表面弾性波伝播基板と、
前記基板上に配置されるように構成された多層カバーシートとを有し、前記カバーシートは、
上面および下面を備えた荷重分散層を有し、前記荷重分散層の上面は、物体からのタッチ入力を受けるように構成され、
上面および下面を備えた柔軟層を有し、前記柔軟層の上面は前記荷重分散層の下面に結合されるように構成され、
上面および下面を備えた抗スティッキング層を有し、前記抗スティッキング層の上面は前記柔軟層の下面に結合されるように構成され、前記抗スティッキング層の下面は前記基板の上面に近接して配置されるように構成されていることを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
前記抗スティッキング層は、くっ付かない特性を有することを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記抗スティッキング層は、剛性材料の薄い層を備えることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記抗スティッキング層は、くっ付かない特性を有するコーティングであることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記カバーシートは、少なくとも１つの付加層またはコーティングを更に有することを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記カバーシートは実質的に透明であることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記柔軟層はエラストマー材料からなり、前記荷重分散層は前記エラストマー材料に比べて比較的剛い材料を備えることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記基板は、金属、ガラス、セラミックまたは複合材料の少なくとも１つを備えることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記荷重分散層は、ガラス、ガラスマイクロシートまたはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を備えることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記抗スティッキング層は、コーティング、蒸着、スプレーイング、ディッピング、プラズマ処理、ラミネーティング、プリンティング、加熱および同時押出しの少なくとも１つを用いて柔軟層に結合されることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記カバーシートは、前記荷重分散層と前記柔軟層との間に、付加柔軟層および付加荷重分散層を更に有し、前記付加柔軟層は上面および下面を備え、前記付加柔軟層の上面は前記荷重分散層の下面に結合されるように構成され、前記付加荷重分散層は上面および下面を備え、前記付加荷重分散層は前記付加柔軟層より剛く構成され、前記付加荷重分散層の上面は前記付加柔軟層の下面に結合されるように構成され、前記付加荷重分散層の下面は柔軟層の上面に結合されるように構成されていることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項１２】
前記荷重分散層は５０ミクロンと６００ミクロンとの間の厚さを有し、前記柔軟層は少なくとも７５ミクロンの厚さを有することを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
【請求項１３】
上面および下面を備えた表面弾性波伝播基板と、
前記基板上に配置されるように構成された多層カバーシートとを有し、前記カバーシートが、
上面および下面を備えかつ画像を表示するように構成されたフレキシブルディスプレイ層を有し、前記フレキシブルディスプレイ層の上面は物体からのタッチ入力を受けるように構成され、
上面および下面を備えた柔軟層を有し、前記柔軟層の上面は前記フレキシブルディスプレイ層の下面に結合されるように構成され、
上面および下面を備えた抗スティッキング層を更に有し、前記抗スティッキング層の上面は前記柔軟層の下面に結合されるように構成され、前記抗スティッキング層の下面は前記基板の上面に近接して配置されるように構成されていることを特徴とするタッチパネル。
【請求項１４】
前記フレキシブルディスプレイ層は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）層を備えることを特徴とする請求項１３記載のタッチパネル。
【請求項１５】
前記フレキシブルディスプレイ層は、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ）層を備えることを特徴とする請求項１３記載のタッチパネル。
【請求項１６】
前記抗スティッキング層は、くっ付かない特性を有することを特徴とする請求項１３記載のタッチパネル。
【請求項１７】
前記基板、前記柔軟層または前記抗スティッキング層のうち少なくとも１つは実質的に不透明な材料を備えることを特徴とする請求項１３記載のタッチパネル。
【請求項１８】
前記抗スティッキング層は剛性材料の薄い層を備えることを特徴とする請求項１３記載のタッチパネル。
【請求項１９】
前記抗スティッキング層は、くっ付かない特性を有するコーティングであることを特徴とする請求項１３記載のタッチパネル。
【請求項２０】
前記抗スティッキング層は、コーティング、蒸着、スプレーイング、ディッピング、プラズマ処理、ラミネーティング、プリンティング、加熱および同時押出しの少なくとも１つを用いて柔軟層に結合されることを特徴とする請求項１３記載のタッチパネル。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月1日(2014.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）連続的した水性液相と、
ｂ）少なくとも１ミクロンの平均粒径を有するポリマー粒子を含み、かつ硬化性または重合性樹脂か、固化可能な熱可塑性ポリマーのいずれかから調製されるポリマー粒子を含み、前記ポリマー粒子の外面がコロイド状固体材料を含みかつ前記ポリマー粒子はその中に少なくとも１種類の化学薬剤が分布している、少なくとも１種類の分散固相と
を含む水性分散濃縮組成物。
【請求項２】
前記化学薬剤が農薬有効成分である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記農薬有効成分が、固体を含みかつ分散固相内に分布しているか、あるいは液体でありかつ分散固相内に分布している、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記分散相が少なくとも１種類の非架橋性の可動性化学薬剤を含み、それにより前記分散相からの前記化学薬剤の抽出が、前記有効成分の外部への拡散を可能にするやり方でそれを多孔質にするようにする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリマー粒子を構成する前記ポリマー分子は、それらが前記有効成分の外部への拡散を可能にするように前記ポリマー粒子をより透過性にするやり方で、水に曝露した時に水和する親水基を含有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
任意選択で各分散相が、前記有効成分の放出を遅らせるための拡散バリヤーとして働く少なくとも１種類の非多孔質粒状無機材料を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記連続相（ａ）が、水と、実質的に水混和性の非水性液又は水溶性溶質とを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記連続相（ａ）が、少なくとも１種類の農薬有効成分をさらに含み、かつ前記有効成分が、溶液、エマルション、ミクロエマルション、あるいはマイクロカプセルまたは微粒子の懸濁液から選択される状態である、請求項２〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記コロイド状固体が、微粒子の形態の、かつ前記ポリマー粒子の表面に分布されるピッカリング安定剤として機能する農薬有効成分を含む、請求項２〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
各分散固相（ｂ）が、硬化したエポキシ樹脂ポリマー；硬化したフェノール樹脂ポリマー；硬化したポリウレタンポリマー；硬化したポリ尿素樹脂ポリマー；硬化したアミノプラスト樹脂ポリマー；ポリエステルまたはビニルエステル樹脂ポリマー；熱可塑性のポリスチレンまたはポリアクリラートポリマー、あるいは生分解性の熱可塑性ポリマーを含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
請求項２〜１０のいずれか１項に記載の濃縮組成物の有効量を水および液肥から選択される水性液状キャリアで希釈し、前記希釈組成物を植物種またはその場所に散布することによって、有害生物が前記植物種に蔓延するのを防除または駆除する、あるいは植物成長を調節する方法。
【請求項１２】
請求項２に記載の水性液分散濃縮液の製造方法であって、
ａ）少なくとも１種類の農薬有効成分を、任意選択で少なくとも１種類の非架橋性の可動性化学薬剤を含有する、任意選択で非多孔質粒状無機物を含有する、また任意選択で化学硬化剤を含有する液状の硬化可能な、固化可能な、または重合可能な樹脂中に溶解または懸濁させるステップ、
ｂ）前記溶液または懸濁液を、コロイド状固体エマルション安定剤および任意選択で化学硬化剤を含有する水性液と一緒にし、前記溶液または懸濁液のエマルションを形成するのに十分な機械的撹拌を施すステップ、および
ｃ）前記樹脂の硬化、固化、または重合を引き起こしてポリマー粒子の水性液分散液を生成するステップであって、前記ポリマー粒子が、少なくとも１種類の農薬有効成分と、前記ポリマー粒子の表面に分布したコロイド状固体とを含有する、ステップ
を含む、方法。
【請求項１３】
請求項２に記載の水性液分散濃縮液の製造方法であって、
ａ）少なくとも１種類の農薬有効成分を、任意選択で非多孔質粒状無機物を含有し、また任意選択で非架橋性の可動性化学薬剤を含有する揮発性溶媒に溶かした熱可塑性ポリマーの溶液中に溶解または懸濁させるステップ、
ｂ）前記溶液または懸濁液を、コロイド状固体エマルション安定剤を含有する水性液と一緒にし、前記溶液または懸濁液のエマルションを形成するのに十分な機械的撹拌を施すステップ、および
ｃ）熱を加えて前記揮発性溶媒を蒸発させてポリマー粒子の水性液分散液を生成するステップであって、前記ポリマー粒子が、少なくとも１種類の農薬有効成分と、前記ポリマー粒子の表面に分布したコロイド状固体とを含有する、ステップ
を含む、方法。
【請求項１４】
請求項２に記載の水性液分散濃縮液の製造方法であって、
ａ）少なくとも１種類の農薬有効成分を、任意選択で非多孔質粒状無機物を含有し、また任意選択で非架橋性の可動性化学薬剤を含有する熱可塑性ポリマーの溶融液中に溶解または懸濁させるステップ、
ｂ）前記溶液または懸濁液を、コロイド状固体エマルション安定剤を含有する水性液と一緒にし、前記溶液または懸濁液のエマルションを形成するのに十分な機械的撹拌を施すステップ、および
ｃ）前記エマルションを冷却して前記分散相を固化し、それによってポリマー粒子の水性液分散液を生成するステップであって、前記ポリマー粒子が、少なくとも１種類の農薬有効成分と、前記ポリマー粒子の表面に分布したコロイド状固体とを含有する、ステップ
を含む、方法。
【請求項１５】
ポリマー粒子であって、前記ポリマー粒子内に均一または不均一に分布するか、前記粒子内にドメインの形で存在するかのいずれかである少なくとも１種類の封入された農薬有効成分を含み、かつ前記粒子の外面領域がコロイド状固体材料を含み、かつ任意選択で少なくとも１種類の可動非架橋性化学薬剤を含む、粒子。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月27日(2014.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エザチオスタット塩酸塩の結晶性非溶媒和物、顆粒内賦形剤、および顆粒外賦形剤を含む医薬的に許容される錠剤であって、エザチオスタット塩酸塩が錠剤の７５〜８２重量パーセントを構成する、錠剤。
【請求項２】
エザチオスタット塩酸塩が結晶形Ｄを含む、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項３】
該錠剤が１００ｍｇ〜１２５０ｍｇのエザチオスタット塩酸塩を含む、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項４】
顆粒内賦形剤がマンニトール、クロスカルメロースナトリウム、およびヒプロメロースからなる群から選択される、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項５】
顆粒内賦形剤がマンニトール、クロスカルメロースナトリウム、およびヒプロメロースの混合物を含む、請求項４に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項６】
顆粒内賦形剤が錠剤の１７〜２１重量パーセントを構成する、請求項５に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項７】
顆粒内賦形剤の総量が錠剤の１９〜２０重量パーセントである、請求項６に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項８】
顆粒内賦形剤混合物に用いられるマンニトールの量が錠剤の１３〜１５重量パーセントの範囲にある、請求項７に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項９】
顆粒内賦形剤混合物に用いられるクロスカルメロースナトリウムの量が錠剤の１．５〜３．５重量パーセントの範囲にある、請求項７に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１０】
顆粒内賦形剤混合物に用いられるヒプロメロースの量が錠剤の２〜４重量パーセントの範囲にある、請求項７に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１１】
顆粒内賦形剤混合物に用いられるマンニトールの量が錠剤の１３．５〜１４．５重量パーセント、顆粒内賦形剤混合物に用いられるクロスカルメロースナトリウムの量が錠剤の２〜３重量パーセント、および顆粒内賦形剤混合物に用いられるヒプロメロースの量が錠剤の２．５〜３．５重量パーセントである、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１２】
顆粒外賦形剤がクロスカルメロースナトリウムおよびステアリン酸マグネシウムの１つ以上から選択される、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１３】
顆粒外賦形剤混合物に用いられるクロスカルメロースナトリウムの量が錠剤の１．５〜３．５重量パーセントである、請求項１２に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１４】
顆粒外賦形剤混合物に用いられるステアリン酸マグネシウムの量が錠剤の０．５〜１．５重量パーセントである、請求項１２に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１５】
顆粒外賦形剤混合物に用いられるクロスカルメロースナトリウムの量が錠剤の２〜３重量パーセント、およびステアリン酸マグネシウムの量が錠剤の１重量パーセントである、請求項１２に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１６】
顆粒内賦形剤混合物に用いられるマンニトールの量が錠剤の１３．５〜１４．５重量パーセント、顆粒内賦形剤混合物に用いられるクロスカルメロースナトリウムの量が錠剤の２〜３重量パーセント、および顆粒内賦形剤混合物に用いられるヒプロメロースの量が錠剤の２．５〜３．５重量パーセントであり；
さらに、顆粒外賦形剤混合物に用いられるクロスカルメロースナトリウムの量が錠剤の２〜３重量パーセントの範囲、および顆粒外混合物に用いられるステアリン酸マグネシウムの量が錠剤の１重量パーセントである、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１７】
該錠剤がフィルムコーティングをさらに含む、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１８】
該錠剤が５００ｍｇのエザチオスタット塩酸塩を含む、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項１９】
該錠剤が７５０ｍｇのエザチオスタット塩酸塩を含む、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項２０】
該錠剤が１ｇのエザチオスタット塩酸塩を含む、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項２１】
該錠剤が１．２５ｇのエザチオスタット塩酸塩を含む、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項２２】
該錠剤が乾燥剤と共に容器内に保存される、請求項１に記載の医薬的に許容される錠剤。
【請求項２３】
エザチオスタット塩酸塩の結晶性非溶媒和物、顆粒内賦形剤、および顆粒外賦形剤を含む医薬的に許容される錠剤であって、エザチオスタット塩酸塩が錠剤の７５〜８２重量パーセントを構成する、錠剤。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月3日(2014.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのハロゲン不含の難燃剤および少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物を含有する粒子を製造するための方法であって、少なくとも次の工程：
（Ａ）少なくとも１つの難燃剤および少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物の少なくとも１つの前駆体化合物を含有する水性乳濁液を製造する工程、
（Ｂ）コアシェル型粒子を形成させる工程、但し、少なくとも１つの難燃剤は、粒子のコア中に存在し、かつ少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物は、粒子のシェル中に存在するものとし、および
（Ｃ）場合により工程（Ｂ）からのコアシェル型粒子を乾燥させる工程、
または
（Ｄ）水、少なくとも１つの極性溶剤、少なくとも１つのハロゲン不含の難燃剤および少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物の少なくとも１つの前駆体化合物を含有する混合物を製造する工程、
（Ｅ）少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物の少なくとも１つの前駆体化合物を少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物に変換し、少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物および少なくとも１つのハロゲン不含の難燃剤を含有する粒子を得る工程、および
（Ｆ）場合により工程（Ｅ）からの粒子を乾燥させる工程を含み、
この場合ハロゲン不含の難燃剤は、標準条件で液状である、上記方法。
【請求項２】
少なくとも１つのハロゲン不含の難燃剤は、トリフェニルホスフィン、ジフェニル（ｏ−トルイル）ホスフィン、トリブチルホスフィンオキシド、トリオクチルホスフィンオキシド、ジフェニルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジメチルメチルホスホネート、ジオクチルフェニルホスホネート、トリフェニルホスフェート、トリトルイルホスフェートおよびその混合物からなる群から選択されたものであるか、
または
レソルシノール−ビス（ジフェニルホスフェート）、ビスフェノールＡ−ビス（ジフェニルホスフェート）、ポリ（ｍ−フェニレンメチルホスホネート）およびその混合物からなる群から選択されたものであることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物は、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3およびその混合物からなる群から選択されたものであることを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
ＳｉＯ2のための前駆体化合物として、一般式（ＩＸ）
【化１】
2013528243.tif 000001
〔式中、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29およびＲ30は、互いに無関係に、水素、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基および／またはアリールオキシ基を表わす〕で示される化合物が使用されることを特徴とする、請求項３記載の方法。
【請求項５】
工程（Ｂ）でコアシェル型粒子の形成は、乳濁液のｐＨ値の変化によって行なわれることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
工程（Ｄ）での少なくとも１つの極性溶剤は、少なくとも１つのアルコールであることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
少なくとも１つのハロゲン不含の難燃剤およびＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3およびその混合物からなる群から選択された、少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物を含有する粒子であって、この粒子は、少なくとも１つのハロゲン不含の難燃剤がコア中に存在し、かつ少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物がシェル中に存在するコアシェル型粒子であり、この場合ハロゲン不含の難燃剤は、標準条件で液状であることを特徴とする、上記粒子。
【請求項８】
少なくとも１つのハロゲン不含の難燃剤およびＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3およびその混合物からなる群から選択された、少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物を含有する粒子であって、少なくとも１つのハロゲン不含の難燃剤および少なくとも１つの金属酸化物または半金属酸化物が本質的に均一な分布で含有されており、この場合ハロゲン不含の難燃剤は、標準条件で液状であることを特徴とする、上記粒子。
【請求項９】
粒子の全質量に対するコア材料の濃度が５０質量％を上廻る、請求項７または８記載の粒子。
【請求項１０】
請求項７から９までのいずれか１項に記載の粒子および少なくとも１つの熱可塑性ポリマーまたは熱硬化性ポリマーを含有するポリマー成形材料。
【請求項１１】
請求項１０記載のポリマー成形材料を製造するための方法であって、前記粒子と少なくとも１つの熱可塑性ポリマーまたは熱硬化性ポリマーとを混合することによる、請求項１０記載のポリマー成形材料を製造するための方法。
【請求項１２】
ポリマー成形材料における請求項７から９までのいずれか１項に記載の粒子の使用方法。
【請求項１３】
ポリマー成形材料に難燃性を付与するための、請求項７から９までのいずれか１項に記載の粒子の使用方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月6日(2014.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３２】
結果は同様に、熱可塑性組成物の組成を適切に選択することにより、考慮される主要なタイプの脅威に関して弾道性能を調整できるということをも示している。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
１．弾道保護システムを製造するための熱可塑性組成物であって、第２の熱可塑性ポリマーの融点よりも高い融点を有する第１の熱可塑性ポリマーを少なくとも含み、前記第２の熱可塑性ポリマーが前記第１の熱可塑性ポリマーの連続相または共連続相中に分散している、熱可塑性組成物。
２．前記第２の熱可塑性ポリマーが球形粒子、細長い回転楕円体形状、楕円、分岐フィラメント様構造の網状組織および／または複合包接体として存在する、前記１に記載の熱可塑性組成物。
３．前記第２の熱可塑性ポリマーの粒子の直径が０．０１μｍ〜１５μｍの範囲内にあり、前記直径が前記粒子の限界内でトレース可能な最小の特徴的直径である、前記１に記載の熱可塑性組成物。
４．前記第２の熱可塑性ポリマーの重量百分率が、前記熱可塑性組成物の総重量に基づいて１〜６５である、前記１に記載の熱可塑性組成物。
５．前記第２の熱可塑性ポリマーの前記重量百分率が、前記熱可塑性組成物の総重量に基づいて３０〜５５である、前記１〜４のいずれか一項に記載の熱可塑性組成物。
６．前記第１の熱可塑性ポリマーが７５〜４００℃の範囲内の融点を有する、前記１に記載の熱可塑性組成物。
７．前記第２の熱可塑性ポリマーが２５℃〜２５０℃の範囲内の融点を有する、前記１に記載の熱可塑性組成物。
８．前記第１の熱可塑性ポリマーが、ポリビニル、ポリオレフィン、重縮合物および／またはそれらの組合せの中から選択される、前記１に記載の熱可塑性組成物。
９．前記第１の熱可塑性ポリマーが、ポリプロピレン、ポリプロピレンコポリマー、ポリウレタン、ポリウレタンコポリマー、ポリエステル、ポリエーテル−エステルブロックコポリマー、ポリアミド、ポリアミドコポリマーおよび／またはそれらの組合せの中から選択される、前記１に記載の熱可塑性組成物。
１０．前記第１の熱可塑性ポリマーが、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリアミドコポリマー、ポリエステルポリマーまたはコポリマーおよび／またはそれらの組合せの中から選択される、前記１に記載の熱可塑性組成物。
１１．前記第２の熱可塑性ポリマーが、ポリビニル、ポリオレフィン、重縮合物、熱可塑性エラストマーブロックコポリマーおよび／またはそれらの組合せの中から選択される、前記１に記載の熱可塑性組成物。
１２．前記第２の熱可塑性ポリマーが、ポリウレタン、ポリウレタンコポリマー、ポリブチレン、ポリブチレンコポリマー、熱可塑性エラストマーブロックコポリマー、エチレンコポリマー、ポリエチレンおよび／またはそれらの組合せの中から選択される、前記１に記載の熱可塑性組成物。
１３．前記第２の熱可塑性ポリマーが、熱可塑性エラストマーブロックコポリマー、ポリエチレン、ポリエチレンコポリマーおよび／またはそれらの組合せの中から選択される、前記１に記載の熱可塑性組成物。
１４．
ａ．少なくとも１つの弾道布帛と、
ｂ．弾道用途において使用するための少なくとも１つの熱可塑性組成物と
を含む弾道保護システムであって、
前記熱可塑性組成物が、第２の熱可塑性ポリマーの融点よりも高い融点を有する第１の熱可塑性ポリマーを少なくとも含み、前記第２の熱可塑性物質が前記第１の熱可塑性ポリマーの連続相または共連続相中に分散しており；
前記少なくとも１つの弾道布帛が前記熱可塑性組成物と組合わされている、
弾道保護システム。
１５．弾道布帛を補強するための方法であって、熱可塑性組成物を前記弾道布帛に塗布するステップを含み、前記熱可塑性組成物は、第２の熱可塑性ポリマーの融点よりも高い融点を有する第１の熱可塑性ポリマーを少なくとも含み、前記第２の熱可塑性ポリマーが前記第１の熱可塑性ポリマーの連続相または共連続相中に分散している、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾道保護システムを製造するための熱可塑性組成物であって、第２の熱可塑性ポリマーの融点よりも高い融点を有する第１の熱可塑性ポリマーを少なくとも含み、前記第２の熱可塑性ポリマーが前記第１の熱可塑性ポリマーの連続相または共連続相中に分散している、熱可塑性組成物。
【請求項２】
ａ．少なくとも１つの弾道布帛と、
ｂ．弾道用途において使用するための少なくとも１つの熱可塑性組成物と
を含む弾道保護システムであって、
前記熱可塑性組成物が、第２の熱可塑性ポリマーの融点よりも高い融点を有する第１の熱可塑性ポリマーを少なくとも含み、前記第２の熱可塑性物質が前記第１の熱可塑性ポリマーの連続相または共連続相中に分散しており；
前記少なくとも１つの弾道布帛が前記熱可塑性組成物と組合わされている、
弾道保護システム。
【請求項３】
弾道布帛を補強するための方法であって、熱可塑性組成物を前記弾道布帛に塗布するステップを含み、前記熱可塑性組成物は、第２の熱可塑性ポリマーの融点よりも高い融点を有する第１の熱可塑性ポリマーを少なくとも含み、前記第２の熱可塑性ポリマーが前記第１の熱可塑性ポリマーの連続相または共連続相中に分散している、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月9日(2014.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのチオビスフェノール酸化防止剤及び少なくとも１，０００の重量平均分子量の少なくとも１つのポリアルキレングリコール（ＰＡＧ）から本質的になる添加剤混合物であって、０．１：１〜２：１のチオビスフェノール酸化防止剤とＰＡＧとの重量比で、チオビスフェノール酸化防止剤及びＰＡＧが存在する添加剤混合物。
【請求項２】
請求項１に記載の混合物を調製する方法であって、ＰＡＧ及びチオビスフェノール酸化防止剤を共通の溶媒に溶解させる工程を含む方法。
【請求項３】
ポリエチレン、請求項１に記載の混合物及び有機過酸化物を含む架橋性ポリエチレン組成物。
【請求項４】
固体チオビスフェノール酸化防止剤をポリエチレンと混合する方法であって、（Ａ）チオビスフェノール酸化防止剤をポリアルキレングリコール（ＰＡＧ）と混合してブレンドを形成する工程及び（Ｂ）ブレンドをポリエチレンと混合する工程を含む方法。
【請求項５】
Ａ．高圧法により調製されるエチレンの架橋した低密度ホモポリマー；及び
Ｂ．請求項１に記載の添加剤混合物
を含む組成物で周りを囲まれている導電体を含むケーブル。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月22日(2014.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明によれば、この目的は、請求項１に特定される特徴を有するブラインドリベット、及び請求項９に特定される特徴を有する締結構成によって達成される。本発明の有利な改善点は、他の請求項において特定される。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月7日(2014.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセッサであって、
第１の仮想接地端子と、
第２の仮想接地端子と、
前記第１の仮想接地端子に結合され、前記第１の仮想接地端子に電流を提供するための回路と、
前記第１の仮想接地端子と前記第２の仮想接地端子との間に結合される第１の調整トランジスタと、
前記第１の調整トランジスタに並列に結合され、前記第２の仮想接地端子を前記第１の仮想接地端子に直接接続することによって前記第１の調整トランジスタを選択的にディセーブルするための第１のディセーブルトランジスタと、
前記第２の仮想接地端子と第１の接地端子との間に結合される第２の調整トランジスタと、
前記第２の調整トランジスタに並列に結合され、前記第２の仮想接地端子を前記第１の接地端子に直接接続することによって前記第２の調整トランジスタを選択的にディセーブルするための第２のディセーブルトランジスタとを備える、プロセッサ。
【請求項２】
電源電圧端子と前記第２の仮想接地端子との間に結合されるとともに、前記第１の仮想接地端子に結合される入力を有し、かつ前記第１の調整トランジスタの制御電極に結合される出力を有する第１のバイアス回路と、
前記電源電圧端子と前記接地端子との間に結合されるとともに、前記第２の仮想接地端子に結合される入力を有し、かつ前記第２の調整トランジスタの制御電極に結合される出力を有する第２のバイアス回路とをさらに備える、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項３】
前記回路によって第１のノードに提供される電流は、低電力モード中に発生する漏れ電流である、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項４】
前記回路は電源電圧端子に結合され、前記第１の仮想接地端子における電圧は前記電源電圧端子における電圧よりも低く、接地よりも高い、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項５】
前記第１の仮想接地端子における電圧は前記電源電圧端子における電圧よりも低く、前記第２の仮想接地端子における前記電圧よりも高い、請求項４に記載のプロセッサ。
【請求項６】
前記回路はメモリを備え、前記メモリにおける状態の喪失が防止されるように前記第１の調整トランジスタおよび前記第２の調整トランジスタのうちの一方のみが低電力モード中にイネーブルされる、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項７】
前記回路はプロセッサ動作を実行する機能ブロックを備え、前記第１の調整トランジスタおよび前記第２の調整トランジスタの１つまたは複数は、低電力モード中イネーブルされる、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項８】
前記低電力モードを終了すると、前記第２の調整トランジスタは前記第１の調整トランジスタをディセーブルする前にディセーブルされる、請求項７に記載のプロセッサ。
【請求項９】
プロセッサであって、
第１の仮想端子と、
第２の仮想端子と、
第１の電源端子と、
第２の電源端子と、
前記第２の電源端子と前記第１の仮想端子との間に結合される回路と、
前記第１の仮想端子と前記第２の仮想端子との間に結合される第１の電圧調整器と、
前記第２の仮想端子と前記第１の電源端子との間に結合される第２の電圧調整器とを備え、
前記第１の電圧調整器がイネーブルされるとき、前記第２の電源端子と前記第１の仮想端子との間の電圧は前記第２の電源端子と前記第２の仮想端子との間の電圧よりも低く、
前記第２の電圧調整器がイネーブルされるとき、前記第２の電源端子と前記第２の仮想端子との間の電圧は前記第２の電源端子と前記第１の電源端子との間の電圧よりも低い、プロセッサ。
【請求項１０】
前記第１の電圧調整器がディセーブルされているとき、前記第２の電源端子と前記第１の仮想端子との間の電圧は前記第２の電源端子と前記第２の仮想端子との間の電圧と実質的に同じであり、
前記第２の電圧調整器がディセーブルされているとき、前記第２の電源端子と前記第２の仮想端子との間の電圧は前記第２の電源端子と前記第１の電源端子との間の電圧と実質的に同じである、請求項９に記載のプロセッサ。
【請求項１１】
前記第１の電源端子は接地基準端子である、請求項９に記載のプロセッサ。
【請求項１２】
前記回路はメモリを備え、低電力モード中、前記メモリの状態の喪失を防止するために前記第１の電圧調整器および前記第２の電圧調整器のうちの一方のみがイネーブルされる、請求項９に記載のプロセッサ。
【請求項１３】
前記回路はプロセッサ動作を実行する機能ブロックを備え、低電力モード中、前記第１の電圧調整器および前記第２の電圧調整器のうちの１つまたは複数はイネーブルされる、請求項９に記載のプロセッサ。
【請求項１４】
ディープ低電力モード中、前記第１の電圧調整器および前記第２の電圧調整器の両方がイネーブルされる、請求項１３に記載のプロセッサ。
【請求項１５】
前記ディープ低電力モードを終了すると、前記第２の電圧調整器は前記第１の電圧調整器をディセーブルする前にディセーブルされる、請求項１４に記載のプロセッサ。
【請求項１６】
プロセッサであって、
第１の仮想電源端子と、
第２の仮想電源端子と、
第３の仮想電源端子と、
第１の電源端子と、
第２の電源端子と、
前記第２の電源端子および前記第１の仮想電源端子の間に結合され、プロセッサ動作を実行する機能回路と、
前記第１の仮想電源端子および前記第２の仮想電源端子の間に結合される第１の電圧調整器と、
前記第２の電源端子および前記第３の仮想電源端子の間に結合されるメモリと、
前記第３の仮想電源端子および前記第２の仮想電源端子の間に結合される第２の電圧調整器と、
前記第２の仮想電源端子および前記第１の電源端子の間に結合される第３の電圧調整器とを備え、
前記第１の電圧調整器がイネーブルされるとき、前記第２の電源端子と前記第１の仮想電源端子との間の電圧は前記第２の電源端子と前記第２の仮想電源端子との間の電圧より
も低く、
前記第２の電圧調整器がイネーブルされるとき、前記第２の電源端子と前記第３の仮想電源端子との間の電圧は前記第２の電源端子と前記第２の仮想電源端子との間の電圧よりも低く、
前記第３の電圧調整器がイネーブルされるとき、前記第２の電源端子と前記第２の仮想電源端子との間の電圧は前記第２の電源端子と前記第１の電源端子との間の電圧よりも低い、プロセッサ。
【請求項１７】
前記第１の電圧調整器がディセーブルされているとき、前記第１の仮想電源端子は前記第２の仮想電源端子に直接接続され、
前記第２の電圧調整器がディセーブルされているとき、前記第３の仮想電源端子は前記第２の仮想電源端子に直接接続され、
前記第３の電圧調整器がディセーブルされているとき、前記第２の仮想電源端子は前記第２の電源端子に直接接続される、請求項１６に記載のプロセッサ。
【請求項１８】
低電力モード中、前記メモリの状態の喪失を防止するために前記第２の電圧調整器および前記第３の電圧調整器のうちの一方のみがイネーブルされる、請求項１７に記載のプロセッサ。
【請求項１９】
ディープ低電力モード中、前記第１の電圧調整器および前記第２の電圧調整器の両方がイネーブルされる、請求項１７に記載のプロセッサ。
【請求項２０】
前記ディープ低電力モードを終了すると、前記第３の電圧調整器は前記第２の電圧調整器をディセーブルする前にディセーブルされる、請求項１９に記載のプロセッサ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月20日(2014.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生物学的試料中の分析物濃度を決定するための方法であって、以下：
生物学的試料から少なくとも１個の出力シグナルを生成すること；
前記の少なくとも１個の出力シグナルからの少なくとも１個のエラーパラメーターに応じる少なくとも１個の指数関数を決定すること；そして
前記の少なくとも１個の出力シグナルおよび前記の少なくとも１個の指数関数に応じる勾配補正方程式から前記生物学的試料中の分析物濃度を決定すること、ここで該勾配補正方程式に少なくとも１個の基準相関および少なくとも１個の勾配偏差が含まれる；
を含む、前記方法。
【請求項２】
さらに中間シグナルおよび二次出力シグナルの少なくとも一方から前記の少なくとも１個の指数関数を引き出すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
その生物学的試料中の分析物濃度の決定に、前記出力シグナルを前記生物学的試料中の分析物濃度に関連づける相関を、前記勾配補正方程式を用いて調整することが含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記決定された分析物濃度の％−バイアスが±１０．４である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記決定された分析物濃度の％−バイアスが±５．４である、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記生物学的試料中の分析物濃度の決定に、前記勾配補正方程式無しで決定された分析物濃度を前記勾配補正方程式を用いて修正することが含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記決定された分析物濃度の％−バイアスが±１０．４である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記決定された分析物濃度の％−バイアスが±５．４である、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記生物学的試料中の分析物濃度の決定に、前記少なくとも１個の出力シグナルを勾配補正方程式を用いて調整することが含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記決定された分析物濃度の％−バイアスが±１０．４である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記決定された分析物濃度の％−バイアスが±５．４である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記勾配補正方程式がその少なくとも１個のエラーパラメーターの切片偏差に応じる、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記の少なくとも１個の指数関数が前記の少なくとも１個のエラーパラメーターの勾配偏差および前記の少なくとも１個のエラーパラメーターの切片偏差に応じる、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記指数関数が複合指数関数および予測関数の一部の少なくとも一方であり、前記勾配補正方程式が該複合指数関数、または該予測関数に応じる、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記予測関数がその全体の勾配偏差に応じる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
さらに除外試験に応じる複合指数関数中に含ませるための項を選択することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記の少なくとも１個の勾配偏差が前記の少なくとも１個の出力シグナルから他の方法で決定されたその分析物濃度の％−バイアスに応じる、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
生物学的試料中の分析物濃度を決定するための方法であって、以下：
生物学的試料から少なくとも１個の分析的出力シグナルを生成すること；
前記生物学的試料から少なくとも１個の二次出力シグナルを生成すること；
前記の少なくとも１個の二次出力シグナルからの少なくとも１個のエラーパラメーターに応じる少なくとも１個の指数関数を決定すること；
前記の少なくとも１個の分析的出力シグナルから生物学的試料中の分析物濃度を決定するための相関を、前記の少なくとも１個の指数関数に応じる勾配補正方程式を用いて調整すること、ここで該勾配補正方程式には少なくとも１個の基準相関および少なくとも１個の勾配偏差が含まれ；そして
前記の少なくとも１個の分析的出力シグナルおよび前記相関からその生物学的試料中の分析物濃度を決定すること；
を含む、前記方法。
【請求項１９】
試料中の分析物濃度を決定するためのバイオセンサー系であって、以下：
細片により形成されるリザーバーに隣接した試料インターフェイスを有する試験センサー；および
センサーインターフェイスに接続された処理装置を有する測定装置
を含み、前記センサーインターフェイスが前記試料インターフェイスと電気的通信を有し、前記処理装置が記憶媒体と電気的通信を有し；そして
ここで前記試験センサーおよび測定装置が前記リザーバー中の生物学的試料から少なくとも１個の出力シグナルを生成し；
ここで前記処理装置がその少なくとも１個の出力シグナルからの少なくと１個のエラーパラメーターに応じる少なくとも１個の指数関数を決定し；そして
ここで前記処理装置が、前記の少なくとも１個の出力シグナルおよび前記の少なくとも１個の指数関数に応じる勾配補正方程式からその生物学的試料中の分析物濃度を決定し、ここで該勾配補正方程式に少なくとも１個の基準相関および少なくとも１個の勾配偏差が含まれる、
前記バイオセンサー系。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月16日(2014.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
・道路と接触することを意図する少なくとも１つの半径方向外側部分(３a)を備えたトレッド(３)を含むクラウン(２)；
・２つの非伸張性ビード(４)、これらのビード(４)をトレッド(３)に連結している２つの側壁(５)、２つの側壁(５)内に入り込み、各ビード(４)内に固定されているカーカス補強材(６)；
・トレッド(３)の前記半径方向外側部分(３a)と前記カーカス補強材(６)の間に円周方向に配置されたクラウン補強材即ちベルト(７)；
・“内部クラウン層”と称し、その配合がトレッドの前記半径方向外側部分(３a)の配合と異なり、この内部クラウン層自体は、前記トレッド(３)の半径方向外側部分(３a)と
前記クラウン補強材(７)の間、または前記クラウン補強材(７)と前記カーカス補強材(６)の間のいずれかに円周方向に配置されているところの半径方向内側エラストマー層(８)；を含む自動車用のラジアルタイヤ(１)であって、
前記内部クラウン層(８)が、少なくとも、50〜100phrの、スチレンとブタジエンをベースとし−40℃よりも高いガラス転移温度を有するコポリマー、補強用充填剤、炭化水素系可塑化用樹脂および架橋系を含むゴム組成物を含むことを特徴とする前記ラジアルタイヤ(１)。
【請求項２】
スチレンとブタジエンをベースとする前記コポリマーが、スチレン-ブタジエンコポリマー、スチレン-ブタジエン-イソプレンコポリマー、およびそのようなコポリマーのブレンドからなる群から選ばれる、請求項１記載のタイヤ。
【請求項３】
スチレンとブタジエンをベースとする前記コポリマーが、スチレン-ブタジエンコポリマーである、請求項２記載のタイヤ。
【請求項４】
スチレンとブタジエンをベースとする前記コポリマーが、0℃よりも高いガラス転移温度を有する、請求項１〜３のいずれか１項記載のタイヤ。
【請求項５】
スチレンとブタジエンをベースとする前記コポリマーを、50phrよりも多くない、スチレンとブタジエンをベースとする前記コポリマーとは異なる少なくとも１種の第２ジエンエラストマーとの混合物として使用し、
前記第２ジエンエラストマーが、天然ゴム、合成ポリイソプレン、ポリブタジエンおよびイソプレンコポリマー、並びにこれらのエラストマーのブレンドからなる群から選ばれる、請求項１〜４のいずれか１項記載のタイヤ。
【請求項６】
前記第２ジエンエラストマーが、天然ゴムである、請求項５記載のタイヤ。
【請求項７】
前記内部クラウン層のゴム組成物中の補強用充填剤の含有量が、30〜90phrの範囲内にある、請求項１〜６のいずれか１項記載のタイヤ。
【請求項８】
前記炭化水素系可塑化用樹脂の含有量が、5phrと60phrの間の量である、請求項１〜７のいずれか１項記載のタイヤ。
【請求項９】
前記内部クラウン層が、“キャップ・ベース”構造を有するトレッドの基部を構成する、請求項１〜８のいずれか１項記載のタイヤ。