【手続補正書】
【提出日】平成24年10月29日(2012.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
アンモニアで飽和されたメタノールに化合物６を溶解し、続いて触媒量のラネーニッケルを添加する。溶液混合物を水素（１５０ｐｓｉ）下にて室温で一晩置く。触媒を濾過し、反応混合物を濃縮し、化合物４が得られる。
次に、本発明の態様を示す。
１.  次式
【化４２】
2012513465.tif 000001
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミン。
２.  前記ポリ（トリメチレンエーテル）アミンが、生物学的に誘導された１，３−プロパンジオールの重縮合から得られるポリ（トリメチレンエーテル）グリコールから形成される、上記１に記載のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミン。
３.  次式
【化４３】
2012513465.tif 000002
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化４４】
2012513465.tif 000003
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールをチオニルハロゲン化物と、任意にジメチルホルムアミドと、任意に溶媒の存在下にて、約２５℃未満の温度で接触させて、反応混合物を形成する工程；
ｂ）前記反応混合物の温度を５０〜１５０℃の温度に上昇させ、前記反応混合物を前記上昇温度で約２〜２４時間保持する工程；
ｃ）次式
【化４５】
2012513465.tif 000004
（式中、Ｘは、ＣｌまたはＢｒである）
のポリ（トリメチレンエーテル）ハロゲン化物を形成する工程；
ｄ）溶媒の存在下にて、温度２５〜２００℃で前記ポリ（トリメチレンエーテル）をアルカリ金属アジ化物１〜１０モル当量と合わせて、次式
【化４６】
2012513465.tif 000005
のポリ（トリメチレンエーテル）アジドを形成する工程；
ｅ）溶媒または溶媒混合物中で、圧力約１５〜５００ｐｓｉおよび温度２５〜２００℃にて、還元剤と、または水素ガス下で触媒量の触媒と前記ポリ（トリメチレンエーテル）アジドを接触させて、以下の構造
【化４７】
2012513465.tif 000006
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）アミンを形成する工程；
を含む、方法。
４.  工程（ａ）の前記溶媒がトルエンであり；工程（ｄ）の前記アジ化物がアジ化ナトリウムであり、かつ工程（ｄ）の前記溶媒が、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、およびイソプロパノールから選択される、上記３に記載の方法。
５.  工程（ｅ）の前記触媒がパラジウム／炭素である、上記３に記載の方法。
６.  次式
【化４８】
2012513465.tif 000007
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化４９】
2012513465.tif 000008
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの鎖末端ヒドロキシル基を脱離基へと転化して、次式
【化５０】
2012513465.tif 000009
（式中、Ｚは、メシレート（−ＯＭｓ）、トシレート（−ＯＴｓ）、ノシレート（−ＯＮｓ）、ブロシレート（−ＯＢｓ）、トリフレート（−ＯＴｆ）、ノナフレート、トレシレート、ヨージド（−Ｉ）からなる群から選択される）
の化合物を形成する工程；
ｂ）工程（ａ）からの前記化合物をアルカリ金属アジ化物１〜１０モル当量と溶媒の存在下にて温度２５〜２００℃にて合わせ、次式
【化５１】
2012513465.tif 000010
のポリ（トリメチレンエーテル）アジドを形成する工程；
ｃ）溶媒または溶媒混合物中で、圧力約１５〜５００ｐｓｉおよび温度２５〜２００℃にて、前記ポリ（トリメチレンエーテル）アジドを還元剤と、または水素ガス下にて触媒量の触媒と接触させ、以下の構造
【化５２】
2012513465.tif 000011
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）アミンを形成する工程；
を含む方法。
７.  次式
【化５３】
2012513465.tif 000012
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化５４】
2012513465.tif 000013
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールをチオニルハロゲン化物と、任意に触媒量のジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）と、任意に溶媒の存在下にて、約２５℃未満の温度で接触させて、反応混合物を形成する工程；
ｂ）前記反応混合物の温度を５０〜１５０℃の温度に上昇させ、前記反応混合物を前記上昇温度で約２〜２４時間保持して、ポリ（トリメチレンエーテル）ハロゲン化物；
【化５５】
2012513465.tif 000014
（式中、Ｘは、ＣｌまたはＢｒである）
を形成する工程；
ｃ）前記ポリ（トリメチレンエーテル）ハロゲン化物を無水アンモニアと、またはアンモニア水と適切な溶媒との混合物と、圧力１５〜５００ｐｓｉ下にて、温度２５〜１５０℃で接触させ、次式
【化５６】
2012513465.tif 000015
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを形成する工程；
を含む、方法。
８.  次式
【化５７】
2012513465.tif 000016
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化５８】
2012513465.tif 000017
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの鎖末端ヒドロキシル基をより良い脱離基に転化し、次式
【化５９】
2012513465.tif 000018
（式中、Ｚは、メシレート（−ＯＭｓ）、トシレート（−ＯＴｓ）、ノシレート（−ＯＮｓ）、ブロシレート（−ＯＢｓ）、トリフレート（−ＯＴｆ）、ノナフレート、トレシレートおよびヨージド（−Ｉ）からなる群から選択される）
の化合物を形成する工程；
ｂ）圧力約１５〜５００ｐｓｉおよび温度２５〜１５０℃にて、工程（ａ）の前記化合物を無水アンモニアまたはアンモニア水と溶媒との混合物と合わせ、次式
【化６０】
2012513465.tif 000019
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを形成する工程；
を含む方法。
９.  次式
【化６１】
2012513465.tif 000020
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化６２】
2012513465.tif 000021
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの鎖末端ヒドロキシル基をニトリル基へと転化し、次式
【化６３】
2012513465.tif 000022
のニトリル末端ポリ（トリメチレンエーテル）を形成する工程；
ｂ）水素および触媒の存在下にて、温度５０〜２５０℃、圧力８０〜４０００ｐｓｉにて、前記ニトリル末端ポリ（トリメチレンエーテル）を還元し、次式
【化６４】
2012513465.tif 000023
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを形成する工程；
を含む方法。
１０.  前記ポリ（トリメチレンエーテル）グリコールが生物学的に誘導されている、上記３から９のいずれか一項に記載の方法。
１１.  前記ポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを精製することをさらに含む、上記１０に記載の方法。
１２.  前記精製が、
（ａ）溶媒で洗浄し、かつ抽出することによって、前記ポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを処理すること；
（ｂ）１つまたは複数のイオン交換カラムに通すことによって、前記ポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを処理すること；
（ｃ）膜を通して溶媒に対して透析することによって、前記ポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを処理すること；
（ｄ）活性炭で前記ポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを処理すること；
（ｅ）（ａ）〜（ｄ）の組み合わせを用いて、前記ポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを処理すること；
からなる群から選択される方法を含む、上記１１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式
【化１】
2012513465.tif 000024
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミン。
【請求項２】
前記ポリ（トリメチレンエーテル）アミンが、生物学的に誘導された１，３−プロパンジオールの重縮合から得られるポリ（トリメチレンエーテル）グリコールから形成される、請求項１に記載のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミン。
【請求項３】
次式
【化２】
2012513465.tif 000025
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化３】
2012513465.tif 000026
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールをチオニルハロゲン化物と、任意にジメチルホルムアミドと、任意に溶媒の存在下にて、約２５℃未満の温度で接触させて、反応混合物を形成する工程；
ｂ）前記反応混合物の温度を５０〜１５０℃の温度に上昇させ、前記反応混合物を前記上昇温度で約２〜２４時間保持する工程；
ｃ）次式
【化４】
2012513465.tif 000027
（式中、Ｘは、ＣｌまたはＢｒである）
のポリ（トリメチレンエーテル）ハロゲン化物を形成する工程；
ｄ）溶媒の存在下にて、温度２５〜２００℃で前記ポリ（トリメチレンエーテル）をアルカリ金属アジ化物１〜１０モル当量と合わせて、次式
【化５】
2012513465.tif 000028
のポリ（トリメチレンエーテル）アジドを形成する工程；
ｅ）溶媒または溶媒混合物中で、圧力約１５〜５００ｐｓｉおよび温度２５〜２００℃にて、還元剤と、または水素ガス下で触媒量の触媒と前記ポリ（トリメチレンエーテル）アジドを接触させて、以下の構造
【化６】
2012513465.tif 000029
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）アミンを形成する工程；
を含む、方法。
【請求項４】
次式
【化７】
2012513465.tif 000030
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化８】
2012513465.tif 000031
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの鎖末端ヒドロキシル基を脱離基へと転化して、次式
【化９】
2012513465.tif 000032
（式中、Ｚは、メシレート（−ＯＭｓ）、トシレート（−ＯＴｓ）、ノシレート（−ＯＮｓ）、ブロシレート（−ＯＢｓ）、トリフレート（−ＯＴｆ）、ノナフレート、トレシレート、ヨージド（−Ｉ）からなる群から選択される）
の化合物を形成する工程；
ｂ）工程（ａ）からの前記化合物をアルカリ金属アジ化物１〜１０モル当量と溶媒の存在下にて温度２５〜２００℃にて合わせ、次式
【化１０】
2012513465.tif 000033
のポリ（トリメチレンエーテル）アジドを形成する工程；
ｃ）溶媒または溶媒混合物中で、圧力約１５〜５００ｐｓｉおよび温度２５〜２００℃にて、前記ポリ（トリメチレンエーテル）アジドを還元剤と、または水素ガス下にて触媒量の触媒と接触させ、以下の構造
【化１１】
2012513465.tif 000034
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）アミンを形成する工程；
を含む方法。
【請求項５】
次式
【化１２】
2012513465.tif 000035
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化１３】
2012513465.tif 000036
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールをチオニルハロゲン化物と、任意に触媒量のジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）と、任意に溶媒の存在下にて、約２５℃未満の温度で接触させて、反応混合物を形成する工程；
ｂ）前記反応混合物の温度を５０〜１５０℃の温度に上昇させ、前記反応混合物を前記上昇温度で約２〜２４時間保持して、ポリ（トリメチレンエーテル）ハロゲン化物；
【化１４】
2012513465.tif 000037
（式中、Ｘは、ＣｌまたはＢｒである）
を形成する工程；
ｃ）前記ポリ（トリメチレンエーテル）ハロゲン化物を無水アンモニアと、またはアンモニア水と適切な溶媒との混合物と、圧力１５〜５００ｐｓｉ下にて、温度２５〜１５０℃で接触させ、次式
【化１５】
2012513465.tif 000038
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを形成する工程；
を含む、方法。
【請求項６】
次式
【化１６】
2012513465.tif 000039
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化１７】
2012513465.tif 000040
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの鎖末端ヒドロキシル基をより良い脱離基に転化し、次式
【化１８】
2012513465.tif 000041
（式中、Ｚは、メシレート（−ＯＭｓ）、トシレート（−ＯＴｓ）、ノシレート（−ＯＮｓ）、ブロシレート（−ＯＢｓ）、トリフレート（−ＯＴｆ）、ノナフレート、トレシレートおよびヨージド（−Ｉ）からなる群から選択される）
の化合物を形成する工程；
ｂ）圧力約１５〜５００ｐｓｉおよび温度２５〜１５０℃にて、工程（ａ）の前記化合物を無水アンモニアまたはアンモニア水と溶媒との混合物と合わせ、次式
【化１９】
2012513465.tif 000042
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを形成する工程；
を含む方法。
【請求項７】
次式
【化２０】
2012513465.tif 000043
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを製造する方法であって：
ａ）次式
【化２１】
2012513465.tif 000044
のポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの鎖末端ヒドロキシル基をニトリル基へと転化し、次式
【化２２】
2012513465.tif 000045
のニトリル末端ポリ（トリメチレンエーテル）を形成する工程；
ｂ）水素および触媒の存在下にて、温度５０〜２５０℃、圧力８０〜４０００ｐｓｉにて、前記ニトリル末端ポリ（トリメチレンエーテル）を還元し、次式
【化２３】
2012513465.tif 000046
（式中、ｎは、４〜１７０である）
のポリ（トリメチレンエーテル）ジアミンを形成する工程；
を含む方法。