【手続補正書】
【提出日】平成26年5月28日(2014.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応シャフト、下層炉およびアップテイクを備えた浮遊溶解炉の熱平衡の制御方法であって、前記反応シャフトは、囲壁構体と該囲壁構体の上端にあるルーフ構体とを備えたシャフト構造体を有し、該シャフト構造体は、該シャフト構造体の内部において反応チャンバを画成し、該反応チャンバは前記下層炉と連通した下端を有し、前記反応シャフトは、微細固形物および反応ガスを前記反応チャンバ内に供給する精鉱バーナを備え、該方法は、
前記反応シャフトのシャフト構造体に、該反応シャフトの反応チャンバ内へ吸熱材料を供給する少なくとも１つの冷却手段を設け、
少なくとも１つの冷却手段を用いて前記反応シャフトの反応チャンバ内に吸熱材料を供給し、
ｈを前記反応チャンバの高さとして、該反応チャンバの下端から計測して少なくとも0.3ｈの高さ位置に少なくとも１つの冷却手段を設けることを特徴とする浮遊溶解の熱平衡の制御方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、該方法は、前記精鉱バーナからある距離だけ離隔し分離した形で前記シャフト構造体に、少なくとも１つの冷却手段を設けることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、該方法は、前記精鉱バーナからある距離だけ離隔し分離した形で前記シャフト構造体のルーフ構体に、少なくとも１つの冷却手段を設けることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法において、該方法は、
ノズルを備えた少なくとも１つの冷却手段を設け、
該ノズルを調整して、水平面に対して65度から85度までの角度で前記反応シャフトの反応チャンバ内に吸熱材料を供給することを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、該方法は、前記シャフト構造体の囲壁構体に少なくとも１つの冷却手段を設けることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、該方法は、
ノズルを備えた少なくとも１つの冷却手段を設け、
該ノズルを調整して、水平面に対して30度から60度まで、好ましくは40度から50度までの角度で前記反応シャフトの反応チャンバ内に吸熱材料を供給することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の方法において、該方法は、前記シャフト構造体の囲壁構体に肩形成部を設け、該肩形成部に少なくとも１つの冷却手段を配設することを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の方法において、該方法は、
前記シャフト構造体の囲壁構体に少なくとも１つの冷却手段を設けることによって、第１の垂直反応域および第２の垂直反応域を前記反応チャンバに形成し、
前記シャフト構造体の囲壁構体における前記少なくとも１つの冷却手段を用いて吸熱材料を前記反応チャンバ内に供給して、該反応チャンバに吸熱材料の存在しない第１の垂直反応域を形成し、前記反応チャンバ内で前記第１の垂直反応域の下方に第２の垂直反応域を形成し、該第２の垂直反応域は吸熱材料を含むことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれかに記載の方法において、該方法は、
前記シャフト構造体の囲壁構体に少なくとも１つの冷却手段を設けることによって、第１の垂直反応域および第２の垂直反応域を前記反応チャンバに形成し、
前記シャフト構造体の囲壁構体における前記少なくとも１つの冷却手段を用いて吸熱材料を前記反応チャンバ内に供給して、該反応チャンバに第１の垂直反応域を形成し、前記反応チャンバ内で該第１の垂直反応域の下方に第２の垂直反応域を形成し、該第２の垂直反応域は前記第１の垂直反応域よりも多量の吸熱材料を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の方法において、該方法は、
前記第１の垂直反応域と前記第２の垂直反応域との間に肩形成部を設け、
前記第１の垂直反応域と前記第２の垂直反応域との間の前記肩形成部に、少なくとも１つの冷却手段を設けることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項８ないし10のいずれかに記載の方法において、該方法は、
ノズルを備えた少なくとも１つの冷却手段を設け、
該ノズルを調整して、水平面に対して30度から60度まで、好ましくは40度から50度までの角度で前記反応シャフトの反応チャンバ内に吸熱材料を供給することを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項８ないし11のいずれかに記載の方法において、該方法は、前記第１の垂直反応域および前記第２の垂直反応域を形成して該第１の垂直反応域の平均断面積が該第２の垂直反応域の平均断面積より小さくなるようにすることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項８ないし12のいずれかに記載の方法において、該方法は、前記第１の垂直反応域を前記反応チャンバの最上部分に形成することを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項８ないし13のいずれかに記載の方法において、該方法は、
前記シャフト構造体の囲壁構体において該シャフト構造体の囲壁構体の垂直方向で少なくとも２つの異なる位置に冷却手段を設けることによって、前記第２の垂直反応域を少なくとも２つの垂直下位反応域に分割し、
前記シャフト構造体の囲壁構体の垂直方向において少なくとも２つの異なる位置から前記反応チャンバ内に吸熱材料を供給して、該反応チャンバに吸熱材料の存在しない第１の垂直反応域を形成し、該第１の反応域の下方に少なくとも２つの垂直下位反応域を形成し、該下位反応域は吸熱材料を含むことを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項８ないし13のいずれかに記載の方法において、該方法は、
前記シャフト構造体の囲壁構体において該シャフト構造体の囲壁構体の垂直方向で少なくとも２つの異なる位置に冷却手段を設けることによって、前記第２の垂直反応域を少なくとも２つの垂直下位反応域に分割し、
前記シャフト構造体の囲壁構体の垂直方向において少なくとも２つの異なる位置から前記反応チャンバ内に吸熱材料を供給して、前記反応チャンバに第１の垂直反応域を形成し、該第１の反応域の下方に少なくとも２つの垂直下位反応域を形成し、該下位反応域は該第１の反応域よりも多量の吸熱材料を含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項14または15に記載の方法において、該方法は、
２つの隣接する垂直下位反応域の間に肩形成部を形成し、
２つの隣接する垂直下位反応域の間の肩形成部に少なくとも１つの冷却手段を設けることを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項14ないし16のいずれかに記載の方法において、該方法は、
ノズルを備えた少なくとも１つの冷却手段を設け、
該ノズルを調整して、水平面に対して30度から60度まで、好ましくは40度から50度までの角度で前記反応シャフトの反応チャンバ内に吸熱材料を供給することを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１ないし17のいずれかに記載の方法において、該方法は、ｈを前記反応チャンバの高さとして、該反応チャンバのルーフ構体から計測して0.3ｈから0.7ｈまでの距離だけ、好ましくは0.4ｈから0.6ｈまでの距離だけ離隔して少なくとも１つの冷却手段を設けることを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１ないし18のいずれかに記載の方法において、該方法は、水、公共の下水といった排水、硫酸または弱酸といった様々な強度の酸、石灰水、硫酸銅または硫酸ニッケルといった金属塩および金属硫酸塩のうちの少なくとも１つを吸熱材料として使用することを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１ないし19のいずれかに記載の方法において、該方法は、前記精鉱バーナを用いて前記反応シャフト内に供給される微細固形物に対し追加として、また前記精鉱バーナを用いて前記反応シャフト内に供給される反応ガスに対し追加として、吸熱材料を供給することを特徴とする方法。
【請求項２１】
請求項１ないし20のいずれかに記載の方法において、該方法は、吸熱材料を流体状で、好ましくは液体状で使用することを特徴とする方法。
【請求項２２】
反応シャフト、下層炉およびアップテイクを備え、該反応シャフトは、囲壁構体と該囲壁構体の上端にあるルーフ構体とを備えたシャフト構造体を有し、該シャフト構造体は反応チャンバを画成し、前記反応シャフトは、微細固形物および反応ガスを前記反応チャンバ内に供給する精鉱バーナを備えている浮遊溶解炉において、
前記反応シャフトのシャフト構造体は、該反応シャフトの反応チャンバ内へ吸熱材料を供給する冷却手段を備え、
ｈを前記反応チャンバの高さとして、該反応チャンバの下端から計測して少なくとも0.3ｈの高さ位置に少なくとも１つの冷却手段が配設されていることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項２３】
請求項22に記載の浮遊溶解炉において、前記シャフト構造体には、前記精鉱バーナから離隔し分離された冷却手段があることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項２４】
請求項22または23に記載の浮遊溶解炉において、前記シャフト構造体のルーフ構体には、前記精鉱バーナから離隔し分離された冷却手段があることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項２５】
請求項24に記載の浮遊溶解炉において、該溶解炉は、
ノズルを備えた少なくとも１つの冷却手段を含み、
前記ノズルを調整して、水平面に対して65度から85度までの角度で前記反応シャフトの反応チャンバ内に吸熱材料を供給することを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項２６】
請求項22ないし25のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、前記シャフト構造体の囲壁構体には冷却手段があることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項２７】
請求項26に記載の浮遊溶解炉において、該溶解炉は、
ノズルを備えた少なくとも１つの冷却手段を含み、
該ノズルを調整して、水平面に対して30度から60度まで、好ましくは40度から50度までの角度で前記反応シャフトの反応チャンバ内に吸熱材料を供給することを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項２８】
請求項22ないし27のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、前記シャフト構造体の囲壁構体には肩形成部があり、該肩形成部には少なくとも１つの冷却手段があることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項２９】
請求項22ないし28のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、
前記反応チャンバは、第１の垂直反応域と、該第１の垂直反応域の下方にある第２の垂直反応域とを含み、
前記シャフト構造体の囲壁構体には少なくとも１つの冷却手段が配設され、該冷却手段は、吸熱材料を前記反応チャンバ内に供給するように配設されて、前記第２の垂直反応域は吸熱材料を含み、前記第１の垂直反応域は吸熱材料を含まないことを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３０】
請求項22ないし28のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、
前記反応チャンバは、第１の垂直反応域と、該第１の垂直反応域の下方にある第２の垂直反応域とを含み、
前記シャフト構造体の囲壁構体には、少なくとも１つの冷却手段が配設され、該冷却手段は、吸熱材料を前記反応チャンバ内に供給するように配設されて、前記第２の垂直反応域が前記第１の垂直反応域よりも多量の吸熱材料を含むようにすることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３１】
請求項29または30に記載の浮遊溶解炉において、該溶解炉は、
前記第１の垂直反応域と前記第２の垂直反応域との間に肩形成部を含み、
前記第１の垂直反応域と前記第２の垂直反応域との間の肩形成部には冷却手段があることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３２】
請求項29ないし30のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、該溶解炉は、
ノズルを備えた少なくとも１つの冷却手段を含み、
該ノズルを調整して、水平面に対して30度から60度まで、好ましくは40度から50度までの角度で前記反応シャフトの反応チャンバ内に吸熱材料を供給することを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３３】
請求項29ないし32のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、前記第１の垂直反応域の平均断面積は前記第２の垂直反応域の平均断面積より小さいことを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３４】
請求項29ないし33のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、前記第１の垂直反応域は前記反応チャンバの最上部分に形成されていることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３５】
請求項29ないし34のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、
前記第２の垂直反応域は少なくとも２つの垂直下位反応域に分割され、
前記シャフト構造体の囲壁構体の垂直方向において少なくとも２つの異なる位置から前記反応チャンバ内に吸熱材料を供給する冷却手段が配設されて、前記反応チャンバに吸熱材料の存在しない第１の垂直反応域を形成し、該第１の垂直反応域の下方に少なくとも２つの垂直下位反応域を形成し、該少なくとも２つの垂直下位反応域は吸熱材料を含むことを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３６】
請求項29ないし34のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、
前記第２の垂直反応域は少なくとも２つの垂直下位反応域に分割され、
前記シャフト構造体の囲壁構体における垂直方向において少なくとも２つの異なる位置から前記反応チャンバ内に吸熱材料を供給する冷却手段が配設されて、前記反応チャンバに第１の垂直反応域を形成し、該第１の垂直反応域の下方に少なくとも２つの垂直下位反応域を形成し、該少なくとも２つの垂直下位反応域は前記第１の垂直反応域よりも多量の吸熱材料を含むことを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３７】
請求項35または36に記載の浮遊溶解炉において、該溶解炉は、
２つの隣接する垂直下位反応域の間に肩形成部を含み、
該２つの隣接する垂直下位反応域の間の肩形成部には少なくとも１つの冷却手段があることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３８】
請求項35ないし37のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、該溶解炉は、
ノズルを備えた少なくとも１つの冷却手段を含み、
該ノズルを調整して、水平面に対して30度から60度まで、好ましくは40度から50度までの角度で前記反応シャフトの反応チャンバ内に吸熱材料を供給することを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項３９】
請求項22ないし38のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、該溶解炉は、ｈを前記反応チャンバの高さとして、該反応チャンバのルーフ構体から計測して0.3ｈから0.7ｈまでの距離だけ、好ましくは0.4ｈから0.6ｈまでの距離だけ離隔して少なくとも１つの冷却手段が配設されていることを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項４０】
請求項22ないし39のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、少なくとも１つの冷却手段が配設されて、水、公共の下水といった排水、硫酸または弱酸といった様々な強度の酸、石灰水、硫酸銅または硫酸ニッケルといった金属塩および金属硫酸塩のうちの少なくとも１つを吸熱材料として供給することを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項４１】
請求項22ないし40のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、少なくとも１つの冷却手段が配設されて、前記精鉱バーナを用いて前記反応シャフト内に供給される微細固形物に対し追加として、また前記精鉱バーナを用いて前記反応シャフト内に供給される反応ガスに対し追加として、吸熱材料を供給することを特徴とする浮遊溶解炉。
【請求項４２】
請求項22ないし41のいずれかに記載の浮遊溶解炉において、少なくとも１つの冷却手段が配設されて、吸熱材料を流体状で、好ましくは液体状で供給することを特徴とする浮遊溶解炉。