【手続補正書】
【提出日】平成16年1月5日(2004.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動可能なステージと、
前記ステージを支持する支持部材と、
前記ステージの駆動に伴う反力をキャンセルするために前記支持部材に対する力を発生するアクチュエータと、
前記アクチュエータを支持すると共に前記反力を受けるための反力受け構造体と、
前記反力受け構造体を支持すると共に、前記反力受け構造体と床との間の振動伝達を遮断する弾性支持体と
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記アクチュエータ、前記反力受け構造体および前記弾性支持体は鉛直方向および水平方向の少なくとも一方の方向に対応して設けられていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記アクチュエータはリニアモータを含むことを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。
【請求項４】
前記ステージの重心の高さと前記アクチュエータの力作用位置の高さとがほぼ等しいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか記載の露光装置。
【請求項５】
前記支持部材を実質的に床に対し弾性支持するマウントをさらに有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか記載の露光装置。
【請求項６】
前記反力受け構造体は前記支持部材の下方に位置することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか記載の露光装置。
【請求項７】
前記弾性支持体は、前記床の固有振動数を含む振動数の振動の伝達を遮断することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか記載の露光装置。
【請求項８】
前記弾性支持体は、２０〜４０Ｈｚの振動の伝達を遮断することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか記載の露光装置。
【請求項９】
前記マウントは空気ばねを有することを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項１０】
前記ステージと前記支持部材との間に設けられ、かつ前記ステージの移動基準面を持った定盤を有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか記載の露光装置。
【請求項１１】
温調気体を吹出す吹出口を有し、前記吹出口が前記反力受け構造体で支持されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか記載の露光装置。
【請求項１２】
床に設置されたベースフレームを有し、前記マウントは、前記ベースフレームに支持されていることを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項１３】
床に設置されたベースフレームと、投影光学系を保持する鏡筒定盤と、前記鏡筒定盤を前記ベースフレーム上に支持するマウントとを有することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか記載の露光装置。
【請求項１４】
前記ステージおよび前記支持部材が前記鏡筒定盤によって支持されていることを特徴とする請求項１３記載の露光装置。
【請求項１５】
ステップ・アンド・スキャン型の露光装置であることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか記載の露光装置。
【請求項１６】
前記ステージの１つとしてのウエハステージと、前記支持部材の１つとしての、前記ウエハステージを支持する第１支持部材と、前記第１支持部材を実質的に床に対し支持する複数の第１マウントと、前記ステージの１つとしてのレチクルステージと、前記支持部材の１つとしての、前記レチクルステージを支持する第２支持部材と、前記第２支持部材を実質的に床に対し支持する複数の第２マウントとを有し、前記第１マウントで規定される多角形の重心位置と、前記第２マウントで規定される多角形の重心位置とがほぼ一致していることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項１７】
投影光学系の光軸が前記２つの重心位置とほぼ一致していることを特徴とする請求項１６記載の露光装置。
【請求項１８】
前記レチクルステージは前記ほぼ一致している重心位置の上を通って移動することを特徴とする請求項１６または１７記載の露光装置。
【請求項１９】
前記ステージの１つとしてのウエハステージと、前記支持部材の１つとしての、前記ウエハステージを支持する第１支持部材と、前記反力受け構造体の１つとしての、前記ウエハステージの駆動に伴う反力を受ける第１反力受け構造体と、前記ステージの１つとしてのレチクルステージと、前記支持部材の１つとしての、前記レチクルステージを支持する第２支持部材と、前記反力受け構造体の１つとしての、前記レチクルステージの駆動に伴う反力を受ける第２反力受け構造体とを有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項２０】
前記ステージの駆動に応じて前記アクチュエータの駆動を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項１乃至１９のいずれか記載の露光装置。
【請求項２１】
前記制御手段は、前記ステージの加速又は減速に対応して前記アクチュエータをフィードフォワード制御することを特徴とする請求項２０記載の露光装置。
【請求項２２】
前記制御手段は、前記ステージの移動に伴う荷重移動に対応して前記アクチュエータをフィードフォワード制御することを特徴とする請求項２０記載の露光装置。
【請求項２３】
前記支持部材の加速度を検出するセンサを有し、前記制御手段は、前記センサの出力に基づいて前記アクチュエータをフィードバック制御することを特徴とする請求項２０記載の露光装置。
【請求項２４】
前記支持部材は、前記ステージを駆動する駆動源の固定子であることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項２５】
請求項１乃至２４のいずれか記載の露光装置を用いて基板にパターンを露光する露光工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項２６】
移動可能なステージを支持する支持部材に対し、所定範囲の振動周波数に関して床からアイソレーションされた反力受け構造体に支持されたアクチュエータにより力を加えることを特徴とするステージ装置の反力受け方法。
【請求項２７】
前記所定範囲は床の固有振動数を含む範囲であることを特徴とする請求項２６記載の反力受け方法。
【請求項２８】
前記所定範囲は２０〜４０Ｈｚを含むことを特徴とする請求項２６又は２７記載の反力受け方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体リソグラフィ工程等で用いる露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法に関するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する第１の発明は、移動可能なステージと、前記ステージを支持する支持部材と、前記ステージの駆動に伴う反力をキャンセルするために前記支持部材に対する力を発生するアクチュエータと、前記アクチュエータを支持すると共に前記反力を受けるための反力受け構造体と、前記反力受け構造体を支持すると共に、前記反力受け構造体と床との間の振動伝達を遮断する弾性支持体とを有することを特徴とする露光装置である。また、第２の発明は、上記第１の発明の露光装置を用いて基板にパターンを露光する露光工程を含むことを特徴とするデバイス製造方法である。また、第３の発明は、移動可能なステージを支持する支持部材に対し、所定範囲の振動周波数に関して床からアイソレーションされた反力受け構造体に支持されたアクチュエータにより力を加えることを特徴とするステージ装置の反力受け方法である。上記課題を解決する本発明の露光装置のある形態は、被露光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる反力受け構造体とを有し、該反力受け構造体と床との間で所定周波数以上の振動伝達が遮断されていることを特徴とする。これにより、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽減することができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
【発明の効果】
本発明の露光装置によれば、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を軽減することで従来以上の高精度を達成することができる。またステージの加減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすることで、同一床に設置されている他の装置に与える影響を小さくすることができる。また本発明の露光装置を用いれば優れた生産性のデバイス製造方法を提供することができる。