(57)【要約】【課題】ホルダーを用いてマスター担体とスレーブ媒体とを密着させて磁気転写を行う際に、弾性材、シール材などからのガス成分の発生を規制し、雰囲気に含まれるガス成分に起因する剥離不良、コンタミネーション等のマスター担体やスレーブ媒体への影響を解消し、高品位の磁気転写を継続する。【解決手段】情報を担持したマスター担体３，４と、転写を受けるスレーブ媒体２をホルダー１０に収容し密着させ、転写用磁界を印加して磁気転写を行う際に、ホルダー１０の内部空間が、ガス状で存在する有機シリコン量がシリコン原子換算で０．２マイクロモル／ｍ３以下の条件、ガス状で存在する有機スズ量がスズ原子換算で１００ピコモル／ｍ３以下の条件および総有機ガス量が炭素原子換算で４０マイクロモル／ｍ３以下の条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を満足する雰囲気下で磁気転写を行う。弾性材８、シール材７ｂ，７ｃから放出されるガス成分を含む雰囲気が上記条件を満足するように材質等を設定する。【選択図】　　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報を担持したマスター担体と、転写を受けるスレーブ媒体とをホルダーの内部空間に収容して対峙密着させ、転写用磁界を印加して磁気転写を行う磁気転写装置において、
前記ホルダーの内部空間が、ガス状で存在する有機シリコン量がシリコン原子換算で０．２マイクロモル／ｍ３以下の条件、ガス状で存在する有機スズ量がスズ原子換算で１００ピコモル／ｍ３以下の条件、および総有機ガス量が炭素原子換算で４０マイクロモル／ｍ３以下の条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を満足する雰囲気下で、前記マスター担体とスレーブ媒体とを密着させて磁気転写を行うことを特徴とする磁気転写装置。
【請求項２】
前記ガス状で存在する有機スズ量がスズ原子換算で５０ピコモル／ｍ３以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気転写装置。
【請求項３】
前記総有機ガス量が炭素原子換算で２０マイクロモル／ｍ３以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気転写装置。
【請求項４】
前記ホルダーの内部空間が密閉され、減圧状態となった際に、該内部空間の雰囲気が、前記条件を満足することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気転写装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報が担持されたマスター担体とスレーブ媒体とをホルダーに収容して密着させ磁気転写する磁気転写装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
本発明の対象とする磁気転写は、少なくとも表層に磁性層を有するサーボ信号等の転写パターンが凹凸形状あるいは埋め込み構造で形成されたマスター担体（パターンドマスター）を、磁気記録部を有するスレーブ媒体と密着させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体に担持した情報に対応する磁化パターンをスレーブ媒体に転写記録するものである。
【０００３】
上記スレーブ媒体がハードディスクまたは高密度フレキシブルディスクのような円盤状媒体の場合には、このスレーブ媒体の片面または両面に円盤状のマスター担体を密着させた状態で、その片側または両側に電磁石装置、永久磁石装置による磁界印加装置を配設して転写用磁界を印加する。
【０００４】
この磁気転写における転写品質を高めるためには、スレーブ媒体とマスター担体とをいかに均一に密着させることが重要な課題である。つまり密着不良があると、磁気転写が起こらない領域が生じ、磁気転写が起こらないとスレーブ媒体に転写された磁気情報に信号抜けが発生して信号品位が低下し、記録した信号がサーボ信号の場合にはトラッキング機能が十分に得られずに信頼性が低下するという問題がある。また、上記密着面には塵埃が介在しないことも重要であり、塵埃が付着していると、付着部を中心とし周辺に及ぶ範囲までマスター担体とスレーブ媒体の密着が確保できず、信号抜けが発生して信号品位が低下する。
【０００５】
また、磁気転写を行う際の雰囲気に、イオウ系ガスが存在すると、これがスレーブ媒体に付着して磁気転写に悪影響を及ぼすことから、磁気転写装置に使用するグリースより発生するイオウ系ガス量を規制する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
また、上記のような磁気転写では、マスター担体およびスレーブ媒体を、接離移動する片側ホルダーと他側ホルダーとを備えるホルダーの内部空間に収容して対峙密着させるものであるが、マスター担体とスレーブ媒体とを全面にわたって密着させるため、ホルダーの押圧内面に弾性材を設置し、この弾性材を介してマスター担体またはスレーブ媒体の裏面を押圧し、この弾性材によりマスター担体とスレーブ媒体との密着面に均等に密着力を作用させて密着性を向上することを提案している。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００１−３５７５２１号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記のような磁気転写を行う際には、ホルダーに収容したマスター担体およびスレーブ媒体に対して、前述のグリースより発生するイオウ系ガスのほかに、そのホルダーの弾性材、シール材（Ｏリング）等の部材から発生するガス成分により剥離不良、コンタミネーションなどが発生する問題があることが判明した。特にホルダー内を減圧したときに、これらの部材よりガス成分が雰囲気中に放出されやすい状態となる。
【０００９】
例えば、上記ホルダーの部材その他から発生するガス成分による弊害が問題となるのは、シロキサンガス等の有機シリコン成分、有機スズ成分、その他有機ガス成分である。
【００１０】
これらのガス成分は、ホルダー内においてマスター担体とスレーブ媒体とを密着させたときに液化し、この液化物が密着面に介在してマスター担体とスレーブ媒体とを強い力で吸着させる作用を有し、磁気転写後の剥離時に剥離不良の原因となり、無理に剥離することによりマスター担体やスレーブ媒体の表面を荒らす場合がある。また、上記液化物が周囲の塵埃を取り込んだり、ガス成分が粒子に変化して浮遊塵埃となるなどの現象により、これらの粒子状異物がマスター担体とスレーブ媒体との密着面に介在することによって、マスター担体やスレーブ媒体の表面を損傷させ、転写信号品位の低下を招くことがあった。特にスレーブ媒体へのダメージは、ヘッドクラッシュにつながり、品質低下を招く問題がある。
【００１１】
本発明はこのような問題に鑑みなされたもので、ホルダーを用いてマスター担体とスレーブ媒体とを密着させて磁気転写を行う際の雰囲気に含まれるガス成分に起因する剥離不良、コンタミネーション等のマスター担体やスレーブ媒体への影響を解消するようにした磁気転写装置を提供することを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気転写装置は、情報を担持したマスター担体と、転写を受けるスレーブ媒体とをホルダーの内部空間に収容して対峙密着させ、転写用磁界を印加して磁気転写を行う磁気転写装置において、
前記ホルダーの内部空間が、ガス状で存在する有機シリコン量がシリコン原子換算で０．２マイクロモル／ｍ３以下の条件、ガス状で存在する有機スズ量がスズ原子換算で１００ピコモル／ｍ３以下の条件、および総有機ガス量が炭素原子換算で４０マイクロモル／ｍ３以下の条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を満足する雰囲気下で、前記マスター担体とスレーブ媒体とを密着させて磁気転写を行うことを特徴とするものである。
【００１３】
また、前記ガス状で存在する有機スズ量がスズ原子換算で５０ピコモル／ｍ３以下であることが好ましい。また、前記総有機ガス量が炭素原子換算で２０マイクロモル／ｍ３以下であることが好ましい。
【００１４】
前記ホルダーの内部空間が密閉され、減圧状態となった際に、該内部空間の雰囲気が、前記条件を満足することが望ましい。
【００１５】
例えば、前述のホルダーの部材でガス成分を放出する弾性材およびシール材などの材質としては、非発泡ポリウレタン、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、水素添加ニトリルゴム（ＨＮＢＲ）、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＭ・ＥＰＤＭ）、フッ素ゴム、アクリルゴム、ハイトレル３０４６（商品名）、ハイトレル３５４８Ｌ（商品名）を用いることことにより、上記のようなガス成分の発生量が低い特性を有する材料で構成されてなる。これらの材質の選定においては、低発塵性のものを選択する。
【００１６】
【発明の効果】
本発明によれば、マスター担体およびスレーブ媒体を収容して密着するホルダーの内部空間が、ガス状で存在する有機シリコン量がシリコン原子換算で０．２マイクロモル／ｍ３以下の条件、ガス状で存在する有機スズ量がスズ原子換算で１００ピコモル／ｍ３以下（好ましくは５０ピコモル／ｍ３以下）の条件、および総有機ガス量が炭素原子換算で４０マイクロモル／ｍ３以下（好ましくは２０マイクロモル／ｍ３以下）の条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を満足する雰囲気下で磁気転写を行うことにより、ホルダー内においてマスター担体とスレーブ媒体とを密着させたときに上記ガス成分が液化することなく、液化物が密着面に介在してマスター担体とスレーブ媒体とを強い力で吸着させて磁気転写後の剥離が良好に行え、マスター担体やスレーブ媒体の表面が正常に保持され、また、ガス成分に起因する粒子状異物の密着面への付着も低減し、マスター担体やスレーブ媒体の表面の損傷、転写信号品位が低下することなく、高品質の磁気転写を継続でき、特にスレーブ媒体へのダメージがないことで磁気転写後のスレーブ媒体の使用状態におけるヘッドクラッシュの発生を招くことなく信頼性が高まる。
【００１７】
前記ホルダーの内部空間が密閉され、減圧状態となった際には、弾性材等よりガス成分が放出されやすいため、この減圧状態で前記条件を満足すると、より確実にガス成分によるマスター担体およびスレーブ媒体への影響が防止できる。
【００１８】
さらに、弾性材を使用してマスター担体とスレーブ媒体とを密着させると、均一密着が確保でき、高品位な磁気転写が実現できる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面に示す実施の形態に基づいて本発明を詳細に説明する。図１は一実施形態にかかる磁気転写装置のホルダーの開状態を示す概略断面図である。なお、各図は模式図であり各部の寸法は実際とは異なる比率で示している。
【００２０】
図１に示す磁気転写装置のホルダー１０は、両面同時磁気転写を行うものであり、接離移動可能な左側の片側ホルダー５と右側の他側ホルダー６とを備え、両者の接近に伴い外周のシール部７により密閉形成される内部空間に、スレーブ媒体２、両側のマスター担体３，４を配置して中心位置を合わせた状態でスレーブ媒体２とマスター担体３，４とを対峙密着させる。ここで対峙密着とは、接触密着、ごく僅かな隙間を空けて対峙することの双方の何れかを指すものとする。
【００２１】
片側ホルダー５の基準となる押圧内面５ａには、スレーブ媒体２の片面にサーボ信号等の情報を転写する一方のマスター担体３およびスレーブ媒体２を保持する。他側ホルダー６の押圧内面６ａには、弾性材によるシート状の弾性材８を備え、この弾性材８にスレーブ媒体２の他面にサーボ信号等の情報を転写する他方のマスター担体４を保持する。
【００２２】
つまり、前記片側ホルダー５は円盤状で、マスター担体３の外径より大きい円形状の押圧内面５ａの中央部に、マスター担体３の大きさに対応する範囲に吸引穴５ｂが開口され、この吸引穴５ｂに連通するエア通路５ｃが片側ホルダー５内に設置され、支持軸５ｄを通して外部に設置された不図示の真空ポンプに接続され、吸引圧の導入によりマスター担体３の裏面を吸着により保持する。
【００２３】
一方、他側ホルダー６も円盤状で、マスター担体４の外径より大きい押圧内面６ａには弾性材８の厚みに相当する深さの凹部が形成され、その凹部面には多数の吸引穴６ｂが開口され、この吸引穴６ｂに連通するエア通路６ｃが他側ホルダー６内に設置され、支持軸６ｄを通して外部に設置された不図示の真空ポンプに接続される。また、弾性材８には、上記内面６ａの吸引穴６ｂの一部と連通する吸引用の穴８ａが貫通開口されて、エア吸引が行われる。これにより、エア通路６ｃに導入された真空圧の一部により弾性材８を他側ホルダー６の内面６ａに吸着保持し、弾性材８の穴８ａを通した真空圧の残部により弾性材８の表面にマスター担体４を吸着保持する。
【００２４】
なお、他側ホルダー６への弾性材８の装着は、吸引保持に代えて、接着剤によって内面６ａに固着するようにしてもよい。マスター担体４の弾性材８への保持も接着剤を使用して行ってもよい。その際には、弾性材８への穴８ａの形成は不要となる。
【００２５】
また、他側ホルダー６の外周に設置されたシール部７はリング状であり、他側ホルダー６の外周面に突設されたフランジ６ｅに装着されて、弾性部材７ａを介して軸方向（接離方向）にその変形量だけ移動可能である。このシール部７の端面にはＯリングによる端面シール材７ｂを備え、片側ホルダー５の内面５ａに圧接して内部空間の開閉シールを行う。また、シール部７の内周面にはＯリングによる周面シール材７ｃを備え、他側ホルダー６の外周面との間の摺動シールを行う。
【００２６】
片側ホルダー５および他側ホルダー６の背面の中心位置には、それぞれ支持軸５ｄ，６ｄが突設され、不図示の装置本体に支持されている。この片側ホルダー５および他側ホルダー６は図示しない回転機構に連係されて磁気転写時に支持軸５ｄ，６ｄを中心に一体に回転駆動される。
【００２７】
なお、図示していないが、磁気転写装置は、ホルダー１０内の内部空間のエアを真空吸引し内部を減圧状態として密着力を得る真空吸引手段と、ホルダー１０を回転させつつ転写用磁界を印加する磁界印加装置とを備える。
【００２８】
上記真空吸引手段によりホルダー１０の内部空間を所定の真空度に制御し、スレーブ媒体２とマスター担体３，４とが所定の密着圧力となるように設定されると共に、両者の密着面のエア抜きが行われ、密着性が高められる。
【００２９】
なお、上記密着力の印加のために、真空吸引手段に加えてまたはこれに代えて、ホルダー１０を外部から機械的に加圧する押圧手段を備えてもよい。この押圧手段は加圧シリンダを備え、その押圧ロッドの先端がホルダー１０の支持軸５ｄまたは６ｄに所定の押圧荷重を印加するように構成すればよい。
【００３０】
前記片側ホルダー５および他側ホルダー６の少なくとも一方が軸方向（図で左右方向）に移動可能に支持され、両ホルダー５，６が互いに接離移動可能であり、図１に示すような分離状態からの接近移動に伴い、シール部７の端面シール材７ｂが片側ホルダー５の内面５ａに圧接して内部空間を閉じる。この密閉後に、内部空間を真空吸引手段により減圧すると共に、他側ホルダー６をさらに押圧する。これに伴い弾性材８が変形しつつスレーブ媒体２の両面にマスター担体３，４を所定の加圧力で密着させる。
【００３１】
そして、上記のようなホルダー１０を備えた磁気転写装置により磁気転写を行う際に、その内部空間の雰囲気は、ガス状で存在する有機シリコン量がシリコン原子換算で０．２マイクロモル／ｍ３以下の条件、ガス状で存在する有機スズ量がスズ原子換算で１００ピコモル／ｍ３以下（好ましくは５０ピコモル／ｍ３以下）の条件、および総有機ガス量が炭素原子換算で４０マイクロモル／ｍ３以下（好ましくは２０マイクロモル／ｍ３以下）の条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を満足する雰囲気下で磁気転写を行うものであり、全ての成分が上記範囲以下であることが特に好ましい。
【００３２】
上記雰囲気としては、マスター担体３，４およびスレーブ媒体２を収容したホルダー１０が閉じられる前の内部空間の雰囲気が上記条件を満足すればよいが、前記ホルダー１０が閉じられて内部空間が密閉され、減圧状態となった際の内部空間の雰囲気が上記条件を満足するのが、この減圧状態で弾性材８およびシール材７ｂ，７ｃよりガス成分が放出されやすいので望ましい。
【００３３】
上記雰囲気に対するガス成分の発生源の一つとなる前記弾性材８およびシール材７ｂ，７ｃなどの材質は、前述のガス成分、つまり、有機シリコン量、有機スズ量および総有機ガス量の放出量が少ないものが選択使用される。
【００３４】
上記ガス成分の測定法は、上記雰囲気の空気を、例えば、吸着材捕集とガスクロマトグラフィー質量分析法（ＧＣ−ＭＳ）によって定量する。この測定法は、ポリマー吸着材や活性炭を充填した捕集管に試料空気を通過させてガス成分を捕集し、熱脱着法または溶剤脱着法によって捕集成分を脱離して、ガスクロマトグラフィー質量分析法によって定量する。また、原子発光式検出器（ＡＥＤ）を備えたガスクロマトグラフィー質量分析法を用いてもよい。その他の測定法の適用も可能である。
【００３５】
前記弾性材８は均等に圧力を加えるためのもので、弾性特性を有する材料により円盤シート状に形成される。弾性特性を有する材料としては、例えば、非発泡ポリウレタン、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、水素添加ニトリルゴム（ＨＮＢＲ）、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＭ・ＥＰＤＭ）、フッ素ゴム、アクリルゴム、ハイトレル３０４６（商品名）、ハイトレル３５４８Ｌ（商品名）を用いることができ、これらは、上記のようなガス成分の放出量が低い特性を有する材料で構成されてなる。これらの材質の選定においては、加工性に優れ厚み、平面度等が高精度に製作できるもの、密着時に適正な変形量となる弾性率を有するもの、耐摩耗性に優れ保全性の高いもの、低発塵性のもの、温度に対する特性変化の少ないものなどを考慮して行う。シール材７ｂ，７ｃについても同様である。
【００３６】
なお、弾性材８は他側ホルダー６に加えて、片側ホルダー５の内面５ａにも設置してもよい。これらはスレーブ媒体２とマスター担体３，４の厚み、剛性等の関係に応じ、より高い密着性が得られるように設定され、片側で十分な場合と、両側に設置する方がよい場合とがある。両側に設置して両方のマスター担体３，４を吸着保持する場合には、それぞれに吸引用の穴を形成する。
【００３７】
一方、片側ホルダー５および他側ホルダー６に対するマスター担体３，４の位置決めは、位置決めマークをＣＣＤ等で撮影した画像処理によって合わせる方式、位置決め部材によって合わせる方式などが適宜採用可能である。
【００３８】
スレーブ媒体２は、両面または片面に磁気記録部（磁性層）が形成されたハードディスク、高密度フレキシブルディスクなどの円盤状磁気記録媒体が使用される。その磁気記録部は塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気記録層で構成される。
【００３９】
マスター担体３，４は円盤状ディスクに形成されている。このマスター担体３は、基板上に形成された微細凹凸パターンに磁性体が被覆されてなり、この面がスレーブ媒体２に密着される転写パターンが形成された転写情報担持面となる。これと反対側の面が両ホルダー５，６に吸着保持される。マスター担体３，４の基板としては、ニッケル、シリコン、石英板、ガラス、アルミニウム、合金、セラミックス、合成樹脂等を使用する。凹凸パターンの形成は、スタンパー法等によって行われる。磁性体の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜する。面内記録と垂直記録とで、ほぼ同様のマスター担体３，４が使用される。
【００４０】
転写用磁界および必要に応じて初期磁界を印加する不図示の磁界印加装置は、面内記録の場合には、例えば、スレーブ媒体２の半径方向に延びるギャップを有するコアにコイルが巻き付けられたリング型ヘッド電磁石がホルダー１０の両側に配設されてなり、両側で同じ方向にトラック方向と平行に発生させた転写用磁界を印加する。ホルダー１０を回転させて、スレーブ媒体２とマスター担体３，４の全面に転写用磁界を印加する。磁界印加装置を回転移動させるように設けてもよい。磁界印加装置は、片側にのみ配設するようにしてもよく、永久磁石装置を両側または片側に配設してもよい。また、垂直記録の場合の磁界印加装置は、極性の異なる電磁石または永久磁石をホルダー１０の両側に配置し、垂直方向に転写用磁界を発生させて印加する。部分的に磁界を印加するものでは、ホルダー１０を移動させるか磁界を移動させて全面の磁気転写を行う。
【００４１】
次に、磁気転写工程を説明する。上記磁気転写装置のホルダー１０では、同じマスター担体３，４により複数のスレーブ媒体２に対する磁気転写を行うものであり、まず片側ホルダー５および他側ホルダー６にマスター担体３，４を位置を合わせて保持させておく。
【００４２】
この他側ホルダー６と片側ホルダー５とを離間した開状態で、予め面内方向または垂直方向の一方に初期磁化したスレーブ媒体２を中心位置を合わせてセットした後、他側ホルダー６を片側ホルダー５に接近移動させる。
【００４３】
そして、ホルダー１０の内部空間を閉じた後に、真空吸引手段により内部空間のエア排出を行って減圧し、内部を所定の真空度とすると共に、さらに他側ホルダー６を作動させる。スレーブ媒体２にマスター担体４が接触し、真空度に応じて作用する外力（大気圧）による圧力で、弾性材８を介して片側ホルダー５に向けてスレーブ媒体２とマスター担体３，４とに均一かつ平行に密着力を加え、所定の密着圧力で密着させる。
【００４４】
その後、ホルダー１０の両側に磁界印加装置を接近させ、ホルダー１０を回転させつつ磁界印加装置によって初期磁化とほぼ反対方向に転写用磁界を印加し、マスター担体３の転写パターンに応じた磁化パターンをスレーブ媒体２の磁気記録部に転写記録する。そして、少なくとも上記スレーブ媒体２とマスター担体３，４との密着から転写用磁界の印加に至る磁気転写工程を前述の雰囲気条件で行うものである。
【００４５】
上記磁気転写時に印加された転写用磁界は、マスター担体３，４の転写パターンにおけるスレーブ媒体２と密着した磁性体による凸部パターンに吸い込まれ、面内記録の場合にはこの部分の初期磁化は反転せずその他の部分の初期磁化が反転し、垂直記録の場合にはこの部分の初期磁化が反転しその他の部分の初期磁化は反転しない結果、スレーブ媒体２にはマスター担体３，４の転写パターンに応じた磁化パターンが転写記録される。
【００４６】
本実施形態によれば、スレーブ媒体２の両面にマスター担体３，４を密着させる際に、片方のマスター担体４を、ガス成分の放出が少ない弾性材８を介して均一に押圧し、この弾性材８の変形でマスター担体３，４とスレーブ媒体２との接触面を一致させて密着させ、スレーブ媒体２とマスター担体３，４間に隙間ができることなく全面で均等に密着させることができ、マスター担体３，４に形成された転写パターンに正確に対応した磁化パターンをスレーブ媒体２に転写記録することができる。弾性材８およびシール材７ｂ，７ｃよりのガス成分の放出が少なく、磁気転写時の雰囲気におけるガス状で存在する有機シリコン量、有機スズ量および総有機ガス量が前述の範囲以下であって、マスター担体３，４およびスレーブ媒体２への剥離不良、コンタミネーション等の影響を解消することができ、高品質の磁気転写を継続できる。
【００４７】
なお、上記実施形態は、スレーブ媒体２の両面にマスター担体３，４を密着させて両面同時に磁気転写を行う場合であるが、スレーブ媒体２の片面にマスター担体３または４を密着させて片面転写を行い、必要に応じて両面逐次転写を行う場合もあり、この片面転写においても弾性材がホルダー１０の両側押圧内面の片方または両方に設置されるものであり、この場合においても、この弾性材、シール材等から放出されるガス成分を含む内部空間の雰囲気は、前実施形態の条件を満足するように設定される。
【００４８】
次に、前述の内部空間の雰囲気条件と磁気転写後のスレーブ媒体のエラーレートとの関係を求めた実験結果を、下記表１に示す。
【００４９】
この実験は、下記条件：Ａ、条件：Ｂで磁気転写テストを繰り返し、同じマスター担体でスレーブ媒体の処理を所定枚数繰り返し、磁気転写後のスレーブ媒体に記録された信号の検査を行い、そのエラーレートを求めた。
【００５０】
＜条件：Ａ＞　有機シリコン濃度がオクタメチルシクロテトラシロキサン換算で１ｐｐｂ（シリコン原子換算で０．２マイクロモル／ｍ３）以下、有機スズ濃度がスズ原子換算で９５ピコモル／ｍ３以下、総有機ガス量がアクリル酸エチル換算で１００ｐｐｂ（炭素原子換算で３０マイクロモル／ｍ３）以下である。
【００５１】
＜条件：Ｂ＞　有機シリコン濃度がオクタメチルシクロテトラシロキサン換算で１０ｐｐｂ（シリコン原子換算で２マイクロモル／ｍ３）、有機スズ濃度がスズ原子換算で２５０ピコモル／ｍ３、総有機ガス量がアクリル酸エチル換算で１ｐｐｍ（炭素原子換算で２９０マイクロモル／ｍ３）である。
【００５２】
表１の結果、条件：Ａでは、３つのガス成分とも前記の雰囲気条件を満足するものであって、１０００枚の磁気転写でもエラーレートが増加せず、高品位の磁気転写が継続できた。これに対し、条件：Ｂでは、３つのガス成分とも前記の雰囲気条件より多く含み、処理枚数の増加に応じてエラーレートが増加している。
【００５３】
【表１】
2004103112.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一つの実施形態にかかる磁気転写装置のホルダーの開状態を示す概略断面図
【符号の説明】
１０　　ホルダー
２　　スレーブ媒体
３，４　　マスター担体
５　　片側ホルダー
５ａ　　押圧内面
６　　他側ホルダー
６ａ　　押圧内面
７　　シール部
７ｂ，７ｃ　　シール材
８　　　弾性材
【図１】
2004103112.tif 000004