【手続補正書】
【提出日】平成15年6月16日(2003.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクに形成された転写用のパターンの像を投影光学系を介して感光性の基板上に結像投影する投影露光装置において、
前記基板上に形成された位置合わせ用マークの位置を検出する基板位置検出手段と、
前記投影光学系の結像特性を補正する結像特性補正手段と、
該結像特性補正手段の駆動により発生する前記投影光学系による投影像の結像位置のずれ量を求める結像位置ずれ量検出手段と、
該結像位置ずれ量検出手段によって求められる結像位置のずれ量に基づいて、前記基板位置検出手段の検出結果、前記基板位置検出手段の検出中心と前記投影光学系による投影像の中心との間隔であるベースライン量、又は前記マスクの位置を補正する補正手段と、
を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の投影露光装置であって、
前記結像位置ずれ量検出手段は、前記結像特性補正手段の駆動量と前記投影光学系による投影像の結像位置のずれ量との関係を記憶しておき、該記憶された関係に基づいて前記投影像の結像位置のずれ量を求めることを特徴とする投影露光装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の投影露光装置であって、
前記結像特性補正手段は、前記投影光学系の一部の光学素子及び前記マスクの少なくとも一方を、前記投影光学系の光軸方向へ駆動するか、又は該光軸に垂直な面に対して傾斜させる駆動手段であることを特徴とする投影露光装置。
【請求項４】
請求項１又は２記載の投影露光装置であって、
前記結像特性補正手段は、前記投影光学系の一部の光学素子間の密封空間内の気体の圧力を変化させる気体圧力制御手段であることを特徴とする投影露光装置。
【請求項５】
請求項３に記載の投影露光装置であって、
前記駆動手段によって駆動される前記投影光学系の一部の光学素子の前記投影光学系の光軸に垂直な方向への変位を測定する変位センサをさらに有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の投影露光装置であって、前記補正手段は、前記結像特性補正手段の駆動量が所定の範囲内のとき前記結像位置のずれ量を補正し、それ以上の範囲においては前記ベースライン量を再計測することを特徴とする投影露光装置。
【請求項７】
マスク上の転写用のパターンの像を投影光学系を介して感光性の基板上に結像投影する投影露光装置において、
前記基板上に形成された位置合わせ用マークの位置を検出する基板位置検出手段と、
前記投影光学系の結像特性を補正する結像特性補正手段と、
前記基板位置検出手段の検出中心と前記投影光学系による投影像の中心との間隔であるベースライン量を計測するベースライン量計測手段と、
該ベースライン量計測手段により計測されるベースライン量に基づいて、前記基板位置検出手段の検出結果を補正する検出位置補正手段と、を備え、
前記結像特性補正手段を介して前記投影光学系の結像特性を補正した際に、前記ベースライン量計測手段によりベースライン量を再計測することを特徴とする投影露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明による第１の投影露光装置は、マスク（Ｒ）に形成された転写用のパターンの像を投影光学系（ＰＬ）を介して感光性の基板（Ｗ）上に結像投影する投影露光装置において、その基板（Ｗ）上に形成された位置合わせ用マークの位置を検出する基板位置検出手段（１２）と、その投影光学系（ＰＬ）の結像特性を補正する結像特性補正手段（５ａ，５ｂ，９ａ，９ｂ，１１ａ，１１ｂ，２０）と、この結像特性補正手段の駆動により発生するその投影光学系（ＰＬ）による投影像の結像位置のずれ量を求める結像位置ずれ量検出手段（１９）と、この結像位置ずれ量検出手段によって求められる結像位置のずれ量に基づいて、その基板位置検出手段の検出結果、その基板位置検出手段の検出中心とその投影光学系による投影像の中心との間隔であるベースライン量、又はそのマスクの位置を補正する補正手段（２４）と、を有するものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
斯かる本発明の第１の投影露光装置によれば、その結像特性補正手段により投影光学系（ＰＬ）の結像特性を補正することができる。また、その結像特性補正手段の駆動により生じた投影光学系（ＰＬ）による投影像の結像位置のずれを、結像位置ずれ量検出手段（１９）により検出して、補正手段（２４）により基板位置検出手段（１２）の検出結果、その基板位置検出手段の検出中心とその投影光学系による投影像の中心との間隔であるベースライン量、又はそのマスクの位置を補正するため、その結像特性補正手段の駆動による結像位置のずれが生じても、このずれは重ね合わせ誤差とはならない。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、その結像特性補正手段の一例は、その投影光学系（ＰＬ）の一部の光学素子（７，１０）及びそのマスク（Ｒ）の少なくとも一方を、その投影光学系（ＰＬ）の光軸（ＡＸ）方向へ駆動するか、又はその光軸に垂直な面に対して傾斜させる駆動手段（５ａ，５ｂ，９ａ，９ｂ，１１ａ，１１ｂ，２０）である。また、その結像特性補正手段の他の例は、その投影光学系（ＰＬ）の一部の光学素子間の密封空間（５６）内の気体の圧力を変化させる気体圧力制御手段（５７，５８）である。
また、駆動手段（５ａ，５ｂ，９ａ，９ｂ，１１ａ，１１ｂ，２０）によって駆動されるその投影光学系の一部の光学素子のその投影光学系の光軸に垂直な方向への変位を測定する変位センサ（３８，３９）をさらに有してもよい。さらに、その補正手段（２４）は、その結像特性補正手段（５ａ，５ｂ，９ａ，９ｂ，１１ａ，１１ｂ，２０）の駆動量が所定の範囲内のときその結像位置のずれ量を補正し、それ以上の範囲においてはそのベースライン量を再計測しても良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
【発明の効果】
本発明の第１の投影露光装置によれば、先ず投影光学系の投影像の結像特性が結像特性補正手段により補正される。そして、その結像特性補正手段を駆動したときに発生する投影光学系の投影像の結像位置のずれを検出し、基板位置を検出する基板位置検出手段により検出された基板位置、その基板位置検出手段の検出中心とその投影光学系による投影像の中心との間隔であるベースライン量、又はマスクの位置をその結像位置のずれに基づいて補正するので、結像特性補正手段の駆動に伴う重ね合わせ誤差の発生が抑えられ、高い結像特性及び高い重ね合わせ精度が得られる利点がある。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
また、結像特性補正手段が投影光学系の一部の光学素子及びマスクの少なくとも一方を、投影光学系の光軸方向へ駆動するか、又は光軸に垂直な面に対して傾斜させる駆動手段である場合には、特に光学素子を傾斜させるようなときに結像位置の横ずれが発生し易いため、本発明が有効である。また、結像特性補正手段が投影光学系の一部の光学素子間の密封空間内の気体の圧力を変化させる気体圧力制御手段である場合にも、気体の圧力調節で光学素子が斜めに移動するようなときには本発明が有効である。
また、駆動手段によって駆動されるその投影光学系の一部の光学素子のその投影光学系の光軸に垂直な方向への変位を測定する変位センサをさらに有することにより、正確に投影光学系の一部の光学素子の変位を測定することができる。さらに、その補正手段が、その結像特性補正手段の駆動量が所定の範囲内のときその結像位置のずれ量を補正し、それ以上の範囲においてはそのベースライン量を再計測すれば、スループットの低下を抑えることができる。