【手続補正書】
【提出日】平成23年12月15日(2011.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メディカルデバイスの少なくとも１つの表面上に相互作用官能性を備えた少なくとも１種の基を有するメディカルデバイスを提供すること、
前記メディカルデバイスの表面官能性を備えた前記少なくとも１種の基と相補的な反応性を有する、親水性ブロック及び化学結合性単位ブロックを含む相互作用性セグメント化ブロックコポリマーを含む、表面変性剤を提供すること、
前記メディカルデバイスの相互作用官能性を有する前記少なくとも１つの表面と、前記表面変性剤とを接触させること、及び、
前記デバイスの表面及び表面変性剤を、前記デバイスの表面と前記表面変性剤との間に、静電相互作用、イオン性相互作用、錯体形成相互作用又は水素結合相互作用からなる群より選ばれる化学相互作用を形成するのに適するオートクレーブ処理条件下に付し、表面変性されたメディカルデバイスを形成すること、
を含む、表面変性されたメディカルデバイスを形成する方法。
【請求項２】
前記メディカルデバイスはケイ素含有モノマーを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ケイ素含有モノマーは、ケイ素含有ビニルカーボネート、ケイ素含有ビニルカルバメート、１つ以上のハード−ソフト−ハードブロックを有しかつ親水性モノマーでエンドキャップされたポリウレタン−ポリシロキサン、フマレート含有ケイ素含有モノマー、分子の２つ以上の末端が不飽和基でキャップされたポリ（オルガノシロキサン）、ポリウレタン−ポリシロキサンマクロモノマー及びそれらの混合物からなる群より選ばれるケイ素含有モノマーを含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記メディカルデバイスは共重合されるべきバルクモノマー混合物として、５〜５０質量％の１種以上のケイ素含有マクロモノマー、５〜７５質量％の１種以上のポリシロキサニルアルキル（メタ）アクリルモノマー、及び、１０〜５０質量％の親水性モノマーを含む、請求項２記載の方法。
【請求項５】
前記メディカルデバイスは共重合されるべきバルクモノマー混合物として、１０〜２５質量％の１種以上のケイ素含有マクロモノマー、３０〜６０質量％の１種以上のポリシロキサニルアルキル（メタ）アクリルモノマー、及び、２０〜４０質量％の親水性モノマーを含む、請求項２記載の方法。
【請求項６】
前記メディカルデバイスはヒドロゲル材料を含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記メディカルデバイスはケイ素含有ヒドロゲル材料を含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記メディカルデバイスは親水性モノマーと共重合したビニル官能化ポリジメチルシロキサンを含む、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記メディカルデバイスはフッ素化モノマーを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記メディカルデバイスは親水性モノマーと共重合したメタクリレート官能化フッ素化ポリエチレンオキシドを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記メディカルデバイスは、心臓弁、眼内レンズ、眼内レンズインサーター、コンタクトレンズ、子宮内デバイス、血管置換物、人工尿管、血管ステント、有水晶体眼内レンズ、無水晶体眼内レンズ、角膜インプラント、カテーテル、インプラント及び人工乳房組織からなる群より選ばれる、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
形成されるメディカルデバイスはソフトコンタクトレンズである、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記メディカルデバイスはケイ素含有ヒドロゲルコンタクトレンズ材料である、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは、スチレンボロン酸、３−メタクリルアミドスチレンボロン酸、トリメチル、２−メタクリロイルオキシエチルスルホン酸塩、３−メタクリルアミドプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウム塩、２−メタクリロイルオキシエチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウム塩及びアミン含有モノマー、たとえば、３−メタクリルアミドプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミンからなる群より選ばれる化学結合性単位モノマーを有する、請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリセロールメタクリレート、メタクリル酸、アクリル酸、メタクリルアミド、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミド、エチレン系不飽和ポリ（アルキレンオキシド）、環状ラクタム、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、親水性ビニルカーボネート、親水性ビニルカルバメートモノマー、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、グリセリル（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール（メタ）アクリレート）、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルアセトアミド、それらのコポリマー、誘導体及び組み合わせからなる群より選ばれる親水性単位モノマーを有する、請求項１記載の方法。
【請求項１６】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは下記一般式（Ｉ）
Ｒ１−［（Ａ）ｍ］ｐ−［（Ｂ）ｎ］ｑ−Ｘ      （Ｉ）
（上式中、Ｒ１は原子移動ラジカル重合のための開始剤として作用することができる部分の反応性残基であり、Ａは化学結合性単位ブロックであり、Ｂは親水性単位ブロックであり、ｍは１〜１０，０００であり、ｎは１〜１０，０００であり、ｐ及びｑは自然数であり、Ｘは原子移動ラジカル重合のための開始剤のハロゲンキャッピング基又は誘導反応生成物である）を有する、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは下記一般式（ＩＩ）
Ｒ１−［（Ａ）ｍ］ｐ−［（Ｂ）ｎ］ｑ−Ｒ２      （ＩＩ）
（上式中、Ｒ１はＲＡＦＴ剤又はフリーラジカル開始剤のラジカル形成性残基であり、Ａは化学結合性単位ブロックであり、Ｂは親水性単位ブロックであり、ｍは１〜１０，０００であり、ｎは１〜１０，０００であり、ｐ及びｑは自然数であり、Ｒ２は連鎖移動剤のチオカルボニルフラグメント又は誘導反応生成物である）を有する、請求項１記載の方法。
【請求項１８】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは下記一般式（ＩＩＩ）
Ｒ１−［（Ｂ）ｎ］ｑ−［（Ａ）ｍ］ｐ−Ｒ２  −［（Ａ）ｍ］ｐ−［（Ｂ）ｎ］ｑ−Ｒ１
（ＩＩＩ）
（上式中、Ｒ１はＲＡＦＴ剤又はフリーラジカル開始剤のラジカル形成性残基であり、Ａは化学結合性単位ブロックであり、Ｂは親水性単位ブロックであり、ｍは１〜１０，０００であり、ｎは１〜１０，０００であり、ｐ及びｑは自然数であり、Ｒ２はチオカルボニルチオ基である）を有する、請求項１記載の方法。
【請求項１９】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは１〜約１，０００単位含む化学結合性単位を有する、請求項１記載の方法。
【請求項２０】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは１〜約１００単位含む化学結合性単位を有する、請求項１記載の方法。
【請求項２１】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは１〜約３０単位含む化学結合性単位を有する、請求項１記載の方法。
【請求項２２】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは１〜約１０，０００単位含む親水性ブロックを有する、請求項１記載の方法。
【請求項２３】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは約１０〜約１，０００単位含む親水性ブロックを有する、請求項１記載の方法。
【請求項２４】
前記相互作用性セグメント化ブロックコポリマーは約２０〜約３００単位含む親水性ブロックを有する、請求項１記載の方法。
【請求項２５】
前記デバイス及び表面変性剤を含むパッケージをオートクレーブ処理の工程に付す前に、前記デバイス及び表面変性剤を含むパッケージに蓋材を適用する工程をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項２６】
オートクレーブ処理の後に前記表面変性剤を除去し、コーティングされたデバイスをリンスし、貯蔵溶液を提供しそして前記デバイスをさらにオートクレーブ処理して前記デバイスを無菌化する工程をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項２７】
前記化学結合性単位ブロック又は親水性ブロックの１つは統計共重合体又は組成的に不均一なブロックである、請求項１６記載の方法。
【請求項２８】
前記化学結合性単位ブロック又は親水性ブロックの１つは統計共重合体又は組成的に不均一なブロックである、請求項１７記載の方法。
【請求項２９】
前記化学結合性単位ブロック又は親水性ブロックの１つは統計共重合体又は組成的に不均一なブロックである、請求項１８記載の方法。
【請求項３０】
反応性セグメント化ブロックコポリマーは非結合性ブロック、非親水性ブロック及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる少なくとも１つのブロックをさらに含む、請求項１６記載の方法。
【請求項３１】
反応性セグメント化ブロックコポリマーは非結合性ブロック、非親水性ブロック及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる少なくとも１つのブロックをさらに含む、請求項１７記載の方法。
【請求項３２】
反応性セグメント化ブロックコポリマーは非結合性ブロック、非親水性ブロック及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる少なくとも１つのブロックをさらに含む、請求項１８記載の方法。