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【手続補正書】
【提出日】平成25年12月12日(2013.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担体上に金含有合金として金粒子および白金（０）粒子を含有する触媒組成物であって、（ａ）前記担体上の白金と金のモル比は約１００：１〜約１：４であり、（ｂ）前記白金（０）粒子の粒子寸法は実質的に約５〜約３０ナノメートルの範囲内である、触媒組成物。
【請求項２】
前記担体がチタニア、ジルコニア、シリカ、ゼオライト、炭素、およびモンモリロナイトから成る群から選択される、請求項１に記載の触媒組成物。
【請求項３】
第６族元素から選択される金属をさらに含む、請求項１または２に記載の触媒組成物。
【請求項４】
前記金粒子の粒子寸法が実質的に約２〜約２０ナノメートルの範囲内である、請求項１〜３のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項５】
前記白金粒子の少なくとも約５０％の寸法が約８〜約１２ナノメートルの範囲内である、請求項１〜４のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項６】
前記金粒子の少なくとも約５０％の寸法が約５〜約１２ナノメートルの範囲内である、請求項１〜５のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項７】
前記担体がチタニア、ジルコニア、およびシリカから成る群から選択される、請求項１〜６のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項８】
前記担体がチタニアを含有する、請求項１〜７のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項９】
白金と金のモル比が約１０：１〜約１：２の範囲内である、請求項１〜８のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１０】
白金と金のモル比が約３：１〜約１：２の範囲内である、請求項１〜９のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１１】
白金と金のモル比が約２：１〜約１：２の範囲内である、請求項１〜１０のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１２】
前記触媒の全金属負荷が約１０重量％以下である、請求項１〜１１のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１３】
前記触媒の全金属負荷が約１〜約８重量％である、請求項１〜１２のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１４】
前記触媒の全金属負荷が約２〜約４重量％である、請求項１〜１３のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１５】
第一アルコール基および少なくとも１つの第二アルコールを含有する組成物中で、第一アルコール基をカルボキシル基に選択的に変換するために有用な触媒組成物であって、白金および金ならびにジルコニアを含む担体を含有する、触媒組成物。
【請求項１６】
担体上に金含有合金として金粒子および白金（０）粒子を含有する触媒が存在し、（ａ）前記担体上の白金と金のモル比は約１００：１〜約１：４であり、（ｂ）前記白金（０）粒子の粒子寸法は実質的に約５〜約３０ナノメートルの範囲内であり、かつ、添加される塩基が実質的に無い状態で、グルコースを酸素源と反応させることを含む、グルカル酸またはその誘導体を調製する工程。
【請求項１７】
金−白金合金として金を含む、請求項１〜１４のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１８】
第１０族元素から選択される金属をさらに含む、請求項１〜１４のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項１９】
前記担体がジルコニアを含む、請求項１〜１４のいずれかに記載の触媒組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月30日(2014.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
体腔に流体を灌注するための装置であって、第１体積の流体を体腔に吐出し、かつ第２体積の流体を体腔に吐出しながら同時に少なくとも前記第２体積の流体を体腔から抜き取るように構成された手動操作型ポンプ機構を含む装置。
【請求項２】
前記ポンプ機構は、第１体積流量で体腔に流体を吐出しかつ同時に第２体積流量で体腔から流体を抜き取るように構成され、前記第１および前記第２体積流量の間には直線関係が存在する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記機構は、各々が体腔と流体連通するように構成された第１ポンプおよび第２ポンプを含み、前記第１ポンプおよび前記第２ポンプは、前記第２体積の流体を体腔に吐出すべく前記第２ポンプが作動すると、少なくとも前記第２体積の流体を体腔から抜き取るべく前記第１ポンプが起動するように、作動可能に連結される、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記機構は、各々が体腔と流体連通するように構成された第１ポンプおよび第２ポンプを含み、前記第１ポンプおよび前記第２ポンプは、少なくとも前記第２体積の流体を体腔から抜き取るべく前記第１ポンプが作動すると、前記第２体積の流体を体腔内に吐出すべく前記第２ポンプが起動するように、作動可能に連結される、請求項１または２に記載の装置。
【請求項５】
前記第１および前記第２ポンプはそれぞれ第１および第２ピストンポンプであり、前記第１ポンプの前記第１ピストンは前記第２ポンプの前記第２ピストンと作動可能に連結される、請求項３または４に記載の装置。
【請求項６】
前記第１ピストンおよび前記第２ピストンは、事前設定された移動範囲での前記第１ピストンおよび前記第２ピストンの独立した移動、ならびに前記事前設定された移動範囲を超える前記第１ピストンおよび前記第２ピストンの連結移動を可能にするように連結される、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
両方の前記ポンプが不作動状態である第１モードと、アクチュエータ部材が前記第１ポンプを起動させて初期体積の流体を装置から噴出させる第２モードとを有する、アクチュエータ部材をさらに含む、請求項３〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
前記アクチュエータ部材はさらに、前記アクチュエータ部材が前記第２ポンプを起動させてさらなる初期体積の流体を装置から噴出させる第３モードを有する、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記アクチュエータ部材はさらに、前記アクチュエータ部材が同時に、前記第２ポンプを起動させて流体を体腔内に吐出させ、かつ前記第１流体ポンプを起動させて体腔から流体を抜き取らせる、第４モードを有する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記アクチュエータ部材はさらに、前記アクチュエータ部材が前記第１流体ポンプのみを起動させて体腔から流体を抜き取らせる、第５モードを有する、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１および前記第２ポンプのうちの少なくとも１つは蠕動ポンプである、請求項３または４に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１ポンプは内部に負圧を有する容器であり、好ましくは前記第２ポンプは変形可能な袋である、請求項３または４に記載の装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の装置と、体腔内に導入するように適応されたチューブ組立体とを含む挿管システム。
【請求項１４】
体腔に流体を灌注する方法であって、
（ａ）第１体積の流体を体腔に手動で吐出するステップと、
（ｂ）第２体積の流体を手動で吐出し、かつ同時に少なくとも前記第２体積の流体を体腔から抜き取るステップ
とを含む方法。
【請求項１５】
体腔に流体を灌注するための装置であって、装置は、連結されたプランジャを有する２つの手動操作型シリンジを含み、第１シリンジの第１プランジャを予め定められた移動距離以上に押し込むと、第２シリンジの第２プランジャが引き戻される、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月16日(2014.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
体腔内に挿入するための小線源治療アプリケータデバイスであり、
− 前記体腔内に挿入するために成形されたアプリケータ（３）であり；部分管状形セグメント（３３、３４）の形の複数の接続可能部分を含む、前記アプリケータ；
を含み、前記接続可能部分の少なくとも一つが、前記体腔をたどるように成形された形状追随の壁表面を有し、前記一つの接続可能部分の内側壁表面（９０）が、前記形状追随の壁表面（９）から離間し前記一つの接続可能部分の前記内側壁表面に沿ったマルチチャネル開放溝構造体（３６）の溝に沿って複数のカテーテルを案内するために、前記溝構造体を有する、小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項２】
前記アプリケータが、カテーテルを前記溝構造体内に保持するのを助けるための手段を提供する充填ピース（１１）を含む、請求項１に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項３】
前記充填ピース（１１）が、異なる放射線遮蔽特性を有する異なる材料から作られた複数の連結セグメントを含む、請求項１に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項４】
前記接続可能部分が、前記部分の両側端に設けられた嵌合表面を伴って提供される、請求項１に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項５】
前記アプリケータが管状であり、前記接続可能部分が、ドーム形の遠位端を定める部分管状セグメントにより形成され、前記アプリケータデバイスに挿入される任意のカテーテルが、前記ドーム形状の周囲を放射状に前記溝構造体をたどる、請求項１に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項６】
前記アプリケータに対して固定でき、前記ドーム形遠位端の中央開口部から伸びる、子宮内中央管をさらに含む、請求項５に記載の小線源治療アプリケータデバイス
【請求項７】
体腔内に挿入するための小線源治療アプリケータデバイスであり、
− 前記体腔内に挿入するために成形されたアプリケータであり；前記アプリケータが、複数の接続可能部分を含み；前記接続可能部分が、コアピース（３３０）および外側スリーブ部分（３４０）を含む、前記アプリケータ
を含み、少なくとも前記外側スリーブ部分が、前記体腔をたどるように成形された、形状追随の壁表面を有し、前記コアピースの外側壁表面（９００）が、前記コア部分の前記外側壁表面に沿ったマルチチャネル開放溝構造体（３４５）の溝に沿って複数のカテーテルを案内するために、前記溝構造体を有する、小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項８】
前記アプリケータが、ドーム形の遠位端部（３１）を有し、前記溝が、前記遠位ドーム形端部内へ伸び、前記ドームの中央域の方へカーブする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項９】
前記溝構造体が、前記溝内に前記カテーテルを保持するために、その溝の長さの少なくとも一部に沿って半円周を超えて囲むように構築された溝を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項１０】
前記デバイスが、前記アプリケータの近位端に接続可能な複数のキャップコネクタを有するキャップ（６）をさらに含み、前記キャップが、前記溝構造体と位置合わせされるカテーテルロック構造体を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項１１】
前記キャップコネクタが、弾性ロックノブにより形成される、請求項１０に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項１２】
前記カテーテルロック構造体が、前記キャップ内に提供され対応する溝と位置合わせされる鍵穴により形成され、前記カテーテルを前記鍵穴内にロックするために、前記キャップ（６）が回転されうる、請求項１０に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項１３】
前記ロック構造体が、前記キャップ内に設けられた対応する凹部に挿入されるカテーテルロックインサート（５１）により形成される、請求項１０に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【請求項１４】
接続可能部分の対応するスロット内に摺動係合可能な接続可能ハンドルをさらに含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の小線源治療アプリケータデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月22日(2014.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体フレームと少なくても１つ以上のスライダーを有する性器（ペニス）拡張鍛錬器を含む性器拡張システムであり、
スライダーはフレーム上で前後にスライドでき、フレームとスライダーは性器の周りに閉鎖円を形成し、円は性器の断面に類似していて、円は円周方向に隙がなく、使用の際、性器は円内に挿入され、スライダーは性器の軸に向かって移動するように加圧され、閉鎖された円は小さくなり、性器はスライダーとフレームによってしっかり保持され、性器の軸は円に対して垂直であり、性器の上で移動する際、円は性器の周りに密着された状態で維持され、円形構造物は性器の軸方向に、性器の上で前後にスライドし、性器内部の血液は移動方向に海綿体前方部分を拡張させるように加圧される性器拡張システム。
【請求項２】
チューブ形状、又は半チューブ形状の、性器より多少大きな性器加熱器具をさらに含み、その加熱少子は遠赤外線を発生させられる素材で製造され、性器過熱器具は必要な制御電子回路と電力供給部を含み、使用の際、性器は加熱器具内に挿入され、遠赤外線が性器を覆って暖めることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
【請求項３】
前記スライダーは前記フレーム上で軸の周りにスライド、または回転できることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
【請求項４】
スライダーとフレームとの間の隙間に性器の皮膚が押し込まれていくことを防ぐためにチューブ、または半チューブ形状であり、柔軟な素材で製造された性器保護層を含み；この保護層は性器の周りに配置され、スライダーとフレームとの間の隙間から性器保護層を分離させることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月6日(2014.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カテーテルであって、
遠位端部と、複数の柔軟なセグメントと、前記柔軟なセグメントよりも柔軟性の劣る少なくとも１つの中間セグメントとを含む遠位部分を有する細長い本体であって、隣接する前記柔軟なセグメントが、前記少なくとも１つの中間セグメントによって互いに長手方向に離隔されており、各前記柔軟なセグメントが、少なくとも部分的に側壁を通って延在しかつかみ合い要素を形成する少なくとも１つの細長いギャップを有する側壁を含み、前記少なくとも１つの中間セグメントが前記柔軟なセグメントよりも短い本体と、
側壁とその内部を通って延在するルーメンとを有するルーメン延長部材であって、少なくとも部分的に前記遠位部分を通って延在し、前記柔軟セグメントの柔軟性を損なわないように構成されたルーメン延長部材と、
前記ルーメン延長部材を通って延在する複数の開口部と、
を備える、カテーテル装置。
【請求項２】
前記複数の柔軟なセグメントが電極を含み、および前記少なくとも１つの中間セグメントが非導電性部材を含む、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項３】
前記複数の開口部が第１のセットの開口部および第２のセットの開口部を含み、前記第１のセットの開口部における前記開口部のサイズが、前記第２のセットの開口部における前記開口部のサイズよりも大きい、請求項１又は２に記載のカテーテル。
【請求項４】
前記開口部のサイズが、前記遠位部分に沿って流体の流出を実質的に一定にするように構成されている、請求項１〜３のいずれかに記載のカテーテル。
【請求項５】
前記ルーメン延長部材内の前記ルーメンの直径が変化し、その直径は、前記遠位部分の長さに沿って流体の流れを実質的に一定にするように構成されている、請求項１〜４のいずれかにに記載のカテーテル。
【請求項６】
前記側壁が、少なくとも部分的に前記側壁を通って形成された細長いギャップを備える実質的にシリンダー状の側壁であり、前記ギャップが、前記側壁の外周の一部分の周りの環状ギャップ、前記側壁にらせん状パターンを形成するらせん状ギャップ、および交互のかみ合いブロックの輪郭を描くギャップの１つ以上として延在する、請求項１〜５のいずれかに記載のカテーテル。
【請求項７】
前記少なくとも１つの細長いギャップが、前記側壁の全体にわたって延在する、請求項１〜６のいずれかに記載のカテーテル。
【請求項８】
前記側壁を予め決められた構成に弾性的に付勢する付勢部材をさらに含む、請求項１〜７のいずれかに記載のカテーテル。
【請求項９】
前記遠位部分が、前記遠位部分の長手方向軸に対して約４０〜約４４度で曲がることができる、請求項１〜８のいずれかに記載のカテーテル。
【請求項１０】
前記側壁が、前記細長いギャップの対向する側に配置された交互のかみ合いブロックを含み、各前記ブロックが頭部とネック部とを有し、前記頭部は前記ネック部よりも幅広である、請求項１〜９のいずれかに記載のカテーテル。
【請求項１１】
カテーテル用の遠位部分であって、
遠位端部と、
複数の柔軟なセグメントと、
前記複数の柔軟なセグメントを予め決められた構成に弾性的に付勢する複数の付勢部材と、
少なくとも１つの中間セグメントであって、隣接する前記柔軟なセグメントが、前記少なくとも１つの中間セグメントによって長手方向に互いに離隔され、各前記柔軟なセグメントが、少なくとも部分的に側壁を通って延在しかつかみ合い要素を形成する少なくとも１つの細長いギャップを有する側壁を含み、前記少なくとも１つの中間セグメントが前記柔軟なセグメントよりも短く、前記細長いギャップが、前記柔軟なセグメントに柔軟性を与え、かつ長手方向軸に対して異なる動作形態を可能にする、中間セグメントと
を含む、遠位部分。
【請求項１２】
前記異なる構成が、静止長構成、短縮構成、実質的に直線の構成、アーチ形の構成、および断面形状が変化する構成の少なくとも１つを含む、請求項１１に記載の遠位部分。
【請求項１３】
前記柔軟なセグメントが、少なくとも１つのステムと、前記ステムから横方向に延在する対向するブロックとを含む、請求項１１又は１２に記載の遠位部分。
【請求項１４】
前記複数の柔軟なセグメントが電極を含み、および前記少なくとも１つの中間セグメントが非導電性部材を含む、請求項１１〜１３のいずれかに記載の遠位部分。
【請求項１５】
側壁と、側壁内部を通って延在するルーメンとを有するルーメン延長部材をさらに含み、前記ルーメン延長部材が、前記遠位部分を少なくとも部分的に通って延在する、請求項１１〜１４のいずれかに記載の遠位部分。
【請求項１６】
前記ルーメン延長部材が、前記ルーメン延長部材を貫通して延在する複数の開口部を含む、請求項１１〜１５のいずれかに記載の遠位部分。
【請求項１７】
前記複数の開口部が第１のセットの開口部および第２のセットの開口部を含み、前記第１のセットの開口部にある前記開口部のサイズが、前記第２のセットの開口部にある前記開口部のサイズよりも大きい、請求項１６に記載の遠位部分。
【請求項１８】
前記開口部のサイズが、前記遠位部分に沿って流体の流出を実質的に一定にするように構成されている、請求項１６又は１７に記載の遠位部分。
【請求項１９】
前記遠位部分が、前記遠位部分の長手方向軸に対して約４０〜約４４度で曲げられる、請求項１１〜１８のいずれかに記載の遠位部分。
【請求項２０】
前記柔軟なセグメントが、前記細長いギャップの対向する側に配置された交互のかみ合いブロックを含み、各前記ブロックが頭部とネック部とを有し、前記頭部が、前記ネック部よりも幅広である、請求項１１〜１９のいずれかに記載の遠位部分。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月20日(2014.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脊椎動物細胞へＲＮＡをインビボで送達するための非ビリオン粒子であって、ここで、
（ａ）該粒子は、
（ｉ）送達物質であって、免疫原をコードする自己複製ＲＮＡ分子を被包している、送達物質、または
（ｉｉ）送達物質であって、免疫原をコードする自己複製ＲＮＡ分子が、該送達物質に吸着させられている、送達物質
のいずれかを含み、
（ｂ）該ＲＮＡは、改変されたヌクレオチドを含まない、
非ビリオン粒子。
【請求項２】
前記粒子が、リポソームであり、前記ＲＮＡが、該リポソーム中に被包されている、請求項１に記載の粒子。
【請求項３】
前記粒子が、非毒性かつ生分解性のポリマー微粒子であり、前記ＲＮＡが、該ポリマー微粒子に吸着させられている、請求項１に記載の粒子。
【請求項４】
前記粒子が、ポリマー、架橋剤、荷電したモノマーおよび前記ＲＮＡを反応させることによって形成された、生分解性の架橋されたオリゴマーのポリマーナノ粒子である、請求項１に記載の粒子。
【請求項５】
前記リポソームが、カチオン性頭部を有する脂質を含む、請求項２に記載の粒子。
【請求項６】
前記リポソームが、両性イオン性頭部を有する脂質を含む、請求項２または請求項５に記載の粒子。
【請求項７】
前記リポソームが、５０ｎｍ〜２２０ｎｍの範囲の直径を有する、請求項２、請求項５または請求項６に記載の粒子。
【請求項８】
前記粒子が、ポリ（Ｄ，Ｌ−ラクチド−ｃｏ−グリコリド）を含む、請求項３に記載の粒子。
【請求項９】
前記粒子が、直径３０ｎｍ〜７μｍを有する、請求項３または請求項８に記載の粒子。
【請求項１０】
前記自己複製ＲＮＡ分子が、
（ｉ）該自己複製ＲＮＡ分子からＲＮＡを転写し得るＲＮＡ依存性ＲＮＡポリメラーゼ、および
（ｉｉ）免疫原
をコードする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の粒子。
【請求項１１】
前記ＲＮＡ分子が、２個のオープンリーディングフレームを有し、該２個のオープンリーディングフレームの第１のものが、アルファウイルスレプリカーゼをコードし、該２個のオープンリーディングフレームの第２のものが、前記免疫原をコードする、請求項１０に記載の粒子。
【請求項１２】
前記ＲＮＡ分子が、９０００〜１２０００ヌクレオチド長である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の粒子。
【請求項１３】
前記免疫原が、細菌、ウイルス、真菌もしくは寄生生物に対してインビボで免疫応答を誘
発し得る、請求項１から１２のいずれか一項に記載の粒子。
【請求項１４】
前記免疫原が、ＲＳウイルス糖タンパク質Ｆに対してインビボで免疫応答を誘発し得る、請求項１３に記載の粒子。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の粒子を含む、薬学的組成物。
【請求項１６】
脊椎動物において防御免疫応答を惹起するための医薬の製造における、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の粒子、または請求項１５に記載の薬学的組成物の使用。
【請求項１７】
脊椎動物において防御免疫応答を惹起するために使用される、請求項１５に記載の薬学的組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３０】
ＰＫＲは、二本鎖ＲＮＡ依存性プロテインキナーゼである。これは、先天的免疫系において重要な役割を果たす。「ＥＩＦ２ＡＫ２」（真核生物翻訳開始因子２−αキナーゼ２（ｅｕｋａｒｙｏｔｉｃ  ｔｒａｎｓｌａｔｉｏｎ  ｉｎｉｔｉａｔｉｏｎ  ｆａｃｔｏｒ  ２−ａｌｐｈａ  ｋｉｎａｓｅ  ２）について）は、この酵素をコードする遺伝子の承認されたＨＧＮＣ名であり、その特有のＨＧＮＣ  ＩＤは、ＨＧＮＣ：９４３７である。ヒトＰＫＲ遺伝子のＲｅｆＳｅｑ配列は、ＧＩ：２０８４３１８２５である。
特定の実施形態では、例えば以下が提供される：
（項目１）
脊椎動物細胞へＲＮＡをインビボで送達するための非ビリオン粒子であって、ここで、
（ａ）該粒子は、
（ｉ）送達物質であって、免疫原をコードする自己複製ＲＮＡ分子を被包している、送達物質、または
（ｉｉ）送達物質であって、免疫原をコードする自己複製ＲＮＡ分子が、該送達物質に吸着させられている、送達物質
のいずれかを含み、
（ｂ）該ＲＮＡは、改変されたヌクレオチドを含まない、
非ビリオン粒子。
（項目２）
前記粒子が、リポソームであり、前記ＲＮＡが、該リポソーム中に被包されている、項目１に記載の粒子。
（項目３）
前記粒子が、非毒性かつ生分解性のポリマー微粒子であり、前記ＲＮＡが、該ポリマー微粒子に吸着させられている、項目１に記載の粒子。
（項目４）
前記粒子が、ポリマー、架橋剤、荷電したモノマーおよび前記ＲＮＡを反応させることによって形成された、生分解性の架橋されたオリゴマーのポリマーナノ粒子である、項目１に記載の粒子。
（項目５）
前記リポソームが、カチオン性頭部を有する脂質を含む、項目２に記載の粒子。
（項目６）
前記リポソームが、両性イオン性頭部を有する脂質を含む、項目２または項目５に記載の粒子。
（項目７）
前記リポソームが、５０ｎｍ〜２２０ｎｍの範囲の直径を有する、項目２、項目５または項目６に記載の粒子。
（項目８）
前記粒子が、ポリ（Ｄ，Ｌ−ラクチド−ｃｏ−グリコリド）を含む、項目３に記載の粒子。
（項目９）
前記粒子が、直径３０ｎｍ〜７μｍを有する、項目３または項目８に記載の粒子。
（項目１０）
前記自己複製ＲＮＡ分子が、
（ｉ）該自己複製ＲＮＡ分子からＲＮＡを転写し得るＲＮＡ依存性ＲＮＡポリメラーゼ、および
（ｉｉ）免疫原
をコードする、前述の項目のいずれかに記載の粒子。
（項目１１）
前記ＲＮＡ分子が、２個のオープンリーディングフレームを有し、該２個のオープンリーディングフレームの第１のものが、アルファウイルスレプリカーゼをコードし、該２個のオープンリーディングフレームの第２のものが、前記免疫原をコードする、項目１０に記載の粒子。
（項目１２）
前記ＲＮＡ分子が、９０００〜１２０００ヌクレオチド長である、前述の項目のいずれかに記載の粒子。
（項目１３）
前記免疫原が、細菌、ウイルス、真菌もしくは寄生生物に対してインビボで免疫応答を誘
発し得る、前述の項目のいずれかに記載の粒子。
（項目１４）
前記免疫原が、ＲＳウイルス糖タンパク質Ｆに対してインビボで免疫応答を誘発し得る、項目１３に記載の粒子。
（項目１５）
前述の項目のいずれかに記載の粒子を含む、薬学的組成物。
（項目１６）
脊椎動物において防御免疫応答を惹起するための方法であって、該方法は、項目１〜１４に記載の粒子、または項目１５に記載の薬学的組成物の有効量を、該脊椎動物に投与する工程を包含する、方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年1月20日(2014.1.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１７２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１７２】
この混合物の一定部に、０．３３モル当量のＴＭＡ（グリシジルメタクリレートを基準にして）を加え、混合物を穏やかに加熱して還流させた。還流を２９時間続けた後、％可溶性物質について混合物を分析した。この実験では、％可溶性物質＝３９％であった。これは、ミクロゲルの収率が６１重量％であったことを示す。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年8月4日(2014.8.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
実施例１  インスリンＡｓｐａｒｔ(登録商標)の〜１６ｍＭの溶液の調製
２１６ｍｇの等電性沈殿Ｚｎを含まない[Ｂ２８-Ａｓｐ]ヒトインスリン(インスリンＡｓｐａｒｔ(登録商標))を２ｍｌの蒸留水に溶解し、ｐＨを２Ｎ水酸化ナトリウム溶液にて７．４に慎重に調整した。混合物をローター攪拌機にて穏やかに撹拌し、終夜立たせておき、１６ｍＭ以下のインスリンＡｓｐａｒｔ(登録商標)溶液(２７００ＩＵ／ｍｌ以下)を得た。溶液１とする。絶食させたＳＰＲＤラットの十二指腸に、蒸留水との比較で溶液を与え(０．４ｍｌ／ｋｇ、ｎ＝２)、血中グルコースの変化を図１に示す。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インスリン、インスリン六量体当たり２未満の亜鉛イオン及び６０ｍＭ以下のフェノール類成分を含有し、ヒスチジン化合物を含まず、インスリン濃度が１２ｍＭを超え、溶液のｐＨが６．５〜９．０の範囲である水溶液。
【請求項２】
溶液のｐＨが７．０から８．５である請求項１に記載の水溶液。
【請求項３】
インスリン濃度が２０ｍＭを超える、請求項１又は２に記載の水溶液。
【請求項４】
亜鉛を基本的に含まない、請求項１から３の何れか一項に記載の水溶液。
【請求項５】
フェノール類成分を基本的に含まない、請求項１から４の何れか一項に記載の水溶液。
【請求項６】
塩濃度が０．１５Ｍ未満である、請求項１から５の何れか一項に記載の水溶液。
【請求項７】
塩を基本的に含まない、請求項１から６の何れか一項に記載の水溶液。
【請求項８】
インスリン、インスリン六量体当たり２未満の亜鉛イオン及び６０ｍＭ以下のフェノール類成分、場合によって一又は複数の賦形剤を含有し、ヒスチジン化合物を含まず、インスリンの濃度が１２ｍＭを超える製薬組成物。
【請求項９】
インスリン濃度が１２ｍＭを超える、あるいは１５ｍＭ、２０ｍＭ、２５ｍＭ、３０ｍＭ又は３５ｍＭを超え、ヒスチジン化合物を含まないインスリン水溶液を調製する方法であって、 
ａ）インスリン六量体につき２未満の亜鉛イオンを含むインスリンないしはインスリンの結晶を水に懸濁又は溶解させる、  
ｂ）ｐＨを測定する、  
ｃ）ｐＨがｐＨ６．５未満又は９．０を超える場合にはｐＨをｐＨ６．５から９．０に調整する、そして、  
ｄ）場合によってインスリンを凍結乾燥又は噴霧乾燥させ、その後インスリンを水に再溶解させ、
インスリン六量体につき２未満の亜鉛イオンを含むインスリンを含有し、インスリン濃度が１２ｍＭを超えるか、あるいは１５ｍＭ、２０ｍＭ、２５ｍＭ、３０ｍＭ又は３５ｍＭを超え、ｐＨが６．５から９．０であるインスリン水溶液を得る
ことを含む方法。
【請求項１０】
インスリン、インスリン六量体当たり２未満の亜鉛イオン及び６０ｍＭ以下のフェノール類成分、及び場合によっては一又は複数の賦形剤を含有し、ヒスチジン化合物を含まない製薬組成物を調製するための方法において、
（ｉ）インスリン濃度が１２ｍＭを超えるか、あるいは１５ｍＭ、２０ｍＭ、２５ｍＭ、３０ｍＭ又は３５ｍＭを超えるインスリン水溶液を調製する工程であって、
ａ）インスリン六量体につき２未満の亜鉛イオンを含むインスリンないしはインスリンの結晶を水に懸濁又は溶解させる、  
ｂ）ｐＨを測定する、  
ｃ）ｐＨがｐＨ６．５未満又は９．０を超える場合にはｐＨをｐＨ６．５から９．０に調整する、そして、  
ｄ）場合によってインスリンを凍結乾燥又は噴霧乾燥させ、その後インスリンを水に再溶解させる、
ことを含むインスリン水溶液調製工程と、
（ｉｉ）インスリン水溶液と場合によっては一又は複数の賦形剤を混合して製薬組成物を調製する工程
を含んでなる方法。
【請求項１１】
医薬として使用するための、請求項１から８の何れか一項に記載の水溶液又は製薬組成物。
【請求項１２】
２型糖尿病又は１型糖尿病の治療又は予防のための医薬の調製のための、請求項１から８の何れか一項に記載の水溶液又は製薬組成物の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年10月22日(2013.10.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
試験方法
修正された遠心保持容量（Modified Centrifuge Retention Capacity(mCRC))試験
この試験は、ヒドロゲルを形成するポリマーの限定された液体条件における自由膨潤容量を決定する。得られる保持容量は、試料(g/g)のグラム重量当たりに保持される液体のグラム量として表される。この方法では、３００から６００μｍの粒群の乾燥超吸収性ポリマー組成物粒子0.2000±0.0050gがティーバッグに入れられる。超吸収性ポリマー組成物粒子を、例えば、米国オハイオ州メンターに事業所を持つＷ．Ｓ．タイラー社から入手可能なRO-TAP 機械式ふるい振とう機Model Bを用いて事前にふるい分けすることができる。ふるいは、１０分間行われる。形式番号1234Tの熱シール可能なフィルター紙等の例えばDexter Corporation (米国コネチカット州Windsor Locksに事業所を持つ）から入手可能な熱シール可能なティーバッグ材料が大半の用途で役に立つ。バッグは、このバッグ材料の５インチ×３インチ（１２．７ｃｍ×７．６ｃｍ）のサンプルを半分に折り、開放端のうちの２つを熱シールし２．５インチ×３インチ（６．４ｃｍ×７．６ｃｍ）の矩形のパウチを形成することにより作成される。熱シール部は、材料の端部の内側約０．２５インチ（０．６ｃｍ）である。
サンプルをパウチ内に入れた後、パウチの残っていた開放端も熱シールされる。空のバッグも対象例として用いられるべく作成することができる。１０ｍｌの生理的食塩水溶液（すなわち、０．９重量％の塩化ナトリウム水溶液）が容器内に入れられる。容器は、ティーバッグを平置きできるように十分大きいが、生理的食塩水が過度に大きな面積にわたって広がることを防止するべく十分に小さい。生理的食塩水のための容器は、８から１５平方インチ（５２から９７平方ｃｍ）の底部断面積を持つべきである。適切な容器は、VWR International（米国、ペンシルバニア州、ウェストチェスターに事業所を持つ）から入手可能なカタログナンバー25384-056の直径１００ｍｍのペトリ皿である。ティーバッグは、完全に湿潤するまで低く下げられて、生理的食塩水内に定められた時間置かれる（以下参照）。生理的食塩水内に定められた時間浸潤された後、２９０Ｇ（分散を含めて２８６から２９２Ｇ）で３分間遠心分離される。Ｇは、急速な加速あるいは重力を受ける物体にかかる慣性力の単位として定義され、海水面で３２ft/sec/secに等しい。
吸収された生理的食塩水の量は、ティーバッグの重量を測ることにより決定される。バッグ自身により留められている溶液を考慮に入れると、超吸収性ポリマー組成物試料により留められている溶液の量が、定められた浸潤時間で、超吸収性ポリマー組成物のグラム当たりの流体のグラム量として表現された超吸収性ポリマー組成物の修正された遠心保持容量(mCRC)である。さらに具体的には、修正された遠心保持容量は、次の式により定義される。
（（遠心分離後のサンプル及びバッグ重量）−（遠心分離後の空バッグ重量）−（乾燥サンプル重量））／（乾燥サンプル重量）
限定された液体条件下における超吸収性ポリマー組成物の自由膨潤容量を完全に特徴づけるために、超吸収性材料の複数のサンプルが上述したように準備され、複数のティーバッグに入れられる必要がある。各ティーバッグは、それぞれ自身の１０ｍｌの生理的食塩水溶液に浸潤されなければならない。個々のサンプルが生理的食塩水溶液に浸潤される時間は５分刻みで５から２４０分である。各浸潤時間は、ただ１つのレプリカで行われる。
本発明の典型的な容量の階段状膨潤挙動が仮説的に図１７に示されている。データ点は、上述したように特定の浸潤時間で測定された容量値である。最初の（初期の）吸収容量は、図１７に示されるように、膨潤曲線の最初のプラトーとして見ることができる。同様に、第２の吸収容量は、図１７に示されるように、膨潤曲線の第２のプラトーとして見ることができる。それ以降の吸収容量は、同様に決定することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月21日(2014.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のＩＣを含む基板をダイシングする方法であって、
基板の上にＩＣを覆い保護する多層マスクを形成する工程であって、多層マスクは、
ＩＣの上面の上に配置された第１マスク材料層と、
第１マスク材料層の上に配置された第２マスク材料層を含む工程と、
レーザスクライビングプロセスによって多層マスクをパターニングし、これによってＩＣ間の基板の領域を露出させるギャップをパターニングされたマスクに提供する工程と、
パターニングされたマスク内でギャップを貫通して基板をプラズマエッチングして、これによってＩＣを個片化する工程であって、第２マスク材料層は、エッチングプロセスの少なくとも一部に対して、プラズマへの曝露から第１マスク材料層を保護する工程と、
第１マスク材料層を溶解し、ＩＣの上面から第２マスク材料層をリフトオフする工程を含む方法。
【請求項２】
第１マスク材料層を溶解する工程は、第１マスク材料層が可溶で、第２マスク材料層が実質的に不溶である溶媒に多層マスクを曝す工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
溶媒は水溶液である請求項２記載の方法。
【請求項４】
溶媒は水である請求項３記載の方法。
【請求項５】
第１マスク材料層は水溶性ポリマーを含み、半導体基板をエッチングする工程は、第１
マスク材料層を１００℃未満に維持するディープトレンチエッチングプロセスによってトレンチをエッチングする工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項６】
多層マスクを形成する工程は、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（アクリルアミド）、又はポリ（エチレンオキシド）のうちの少なくとも１つをＩＣの上面に接触する第１マスク材料層として塗布する工程を含む請求項５記載の方法。
【請求項７】
多層マスクを形成する工程は、第１マスク材料層の上に非水溶性ポリマーを塗布する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項８】
非水溶性ポリマーを塗布する工程は、フォトレジスト及びポリイミドの少なくとも一方を塗布する工程を含む請求項７記載の方法。
【請求項９】
マスクを形成する工程は、ＩＣ間のストリートの上に２０μｍ以下、ＩＣの上部バンプ面の上に少なくとも１０μｍの厚さで多層マスクを形成する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項１０】
マスクをパターニングする工程は、５４０ナノメートル以下の波長と４００フェムト秒以下のレーザパルス幅を有するフェムト秒レーザによってパターンを直接描画する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項１１】
多層マスクを形成する工程は、
ＩＣの上面の上に第１マスク材料の溶液をスピンコーティングする工程と、
第１マスク材料層の上に、第２マスク材料層の溶液をスピンコーティングする工程、又は第２マスク材料を蒸着する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項１２】
裏面研削プロセスによって基板を薄化する工程を含み、第１マスク材料のスピンコーティングは、裏面研削後に実行される請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
第１マスク材料層の上に、第２マスク材料層の溶液をスピンコーティングする工程、又は第２マスク材料を蒸着する工程は、第１材料の上にアモルファスカーボン層を化学蒸着する工程を含む請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
複数のＩＣを含む半導体基板をダイシングする方法であって、
シリコン基板上に水溶性マスク材料層を形成する工程であって、水溶性マスク材料層はシリコン基板上に配置されたＩＣを覆い、ＩＣは二酸化ケイ素、低κ材料層及び銅層を含む薄膜スタックを含む工程と、
水溶性マスク材料層の上に非水溶性マスク材料層を形成する工程と、
非水溶性マスク材料層、水溶性マスク材料層、低κ材料層及び銅層をフェムト秒レーザでパターニングして、ＩＣ間のシリコン基板の領域を露出させる工程と、
シリコン基板の露出した領域をエッチングして、ＩＣを個片化する工程であって、非水溶性マスク材料層は、シリコン基板エッチングの少なくとも一部からプラズマへの曝露から水溶性マスク材料層を保護する工程と、
水溶性マスク材料層を溶解し、非水溶性マスク材料層をリフトオフする工程とを含む方法。
【請求項１５】
二酸化ケイ素層、低κ材料層及び銅層をフェムト秒レーザでパターニングする工程は、低κ材料層及び銅層ををアブレーション加工する工程の前に、二酸化ケイ素層をアブレーション加工する工程を含み、シリコン基板をエッチングする工程は、水溶性マスク材料層を１００℃未満の温度に維持しながら、ＳＦ６と、Ｃ４Ｆ８及びＣ４Ｆ６のうちの少なくとも１つとのプラズマに基板を曝露する工程を含む請求項１４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月24日(2014.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビデオ復号化方法において、
現在ブロックのオフセットパラメータと隣接ブロックのオフセットパラメータとが同一であるか否かを示すオフセット併合情報を、受信したビットストリームからパージングする段階と、
前記オフセット併合情報が前記隣接ブロックのオフセットパラメータと同一であることを示す場合、前記隣接ブロックのオフセットパラメータを用いて、前記現在ブロックのオフセットパラメータを決定する段階と、 
前記オフセット併合情報が前記隣接ブロックのオフセットパラメータと同一でないことを示す場合、前記ビットストリームから前記現在ブロックのオフセットパラメータを獲得する段階と、
前記現在ブロックのオフセットパラメータのうちオフセット値を用いて、復元ピクセルのサンプル値を補償する段階と、を含む、
ことを特徴とするビデオ復号化方法。
【請求項２】
前記オフセット併合情報が前記隣接ブロックのオフセットパラメータと同一であることを示す場合、前記ビットストリームから前記現在ブロックのオフセットパラメータをパージングしない、
ことを特徴とする請求項１に記載のビデオ復号化方法。
【請求項３】
前記隣接ブロックは、前記現在ブロックの左側ブロック及び上端ブロックのうちいずれか一つである、
ことを特徴とする請求項１に記載のビデオ復号化方法。
【請求項４】
ビデオ復号化装置において、
現在ブロックのオフセットパラメータと隣接ブロックのオフセットパラメータとが同一であるか否かを示すオフセット併合情報を、受信したビットストリームからパージングする受信部と、
前記オフセット併合情報が前記隣接ブロックのオフセットパラメータと同一であることを示す場合、前記隣接ブロックのオフセットパラメータを用いて前記現在ブロックのオフセットパラメータを決定し、前記オフセット併合情報が前記隣接ブロックのオフセットパラメータと同一でないことを示す場合、前記ビットストリームから前記現在ブロックのオフセット値を獲得するオフセット決定部と、
前記現在ブロックのオフセットパラメータのうちオフセット値を用いて、復元ピクセルのサンプル値を補償するサンプル補償部と、を備える、
ことを特徴とするビデオ復号化装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月24日(2014.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動き補償方法において、
現在ブロックがルマブロックである場合、１／４画素単位のルマ参照ピクチャを生成するために、参照ピクチャの整数画素単位のルマサンプルに対して７タップの補間フィルタを適用して１／４画素位置及び３／４画素位置のルマサンプルを生成する段階と、
前記現在ブロックがクロマブロックである場合、１／８画素単位のクロマ参照ピクチャを生成するために、前記参照ピクチャの整数画素単位のクロマサンプルに対して４タップの補間フィルタを適用して１／８画素位置、２／８画素位置及び３／８画素位置を含む位置のクロマサンプルを生成する段階と、
前記ルマ参照ピクチャ及び前記クロマ参照ピクチャのうち一つに動きベクトルを適用して、前記現在ブロックの参照ブロックを決定する段階を含み、
前記７タップの補間フィルタは７つのフィルタ係数を含み、
前記４タップの補間フィルタは４つのフィルタ係数を含むことを特徴とする動き補償方法。
【請求項２】
前記１／４画素位置のルマサンプルを生成するための７タップの補間フィルタの係数は｛−１，４，−１０，５８，１７，−５，１｝であり、
前記４タップの補間フィルタのうち、前記１／８画素位置のクロマサンプルを生成するための４タップの補間フィルタのフィルタ係数は｛−２，５８，１０，−２｝であり、前記３／８画素位置のクロマサンプルを生成するための４タップの補間フィルタのフィルタ係数は｛−６，４６，２８，−４｝であることを特徴とする請求項１に記載の動き補償方法。
【請求項３】
前記ルマサンプルを生成する段階は、前記７タップの補間フィルタを適用して生成されたサンプルを６ビットずつ縮小する段階を含み、
前記クロマサンプルを生成する段階は、前記４タップの補間フィルタを適用して生成されたサンプルを６ビットずつ縮小する段階を含むことを特徴とする請求項２に記載の動き補償方法。
【請求項４】
前記ルマサンプルを生成する段階は、前記７タップの補間フィルタを用いて水平方向及び垂直方向のうち少なくとも一つの方向にフィルタリングを行う段階を含み、
前記クロマサンプルを生成する段階は、前記４タップの補間フィルタを用いて水平方向及び垂直方向のうち少なくとも一つの方向にフィルタリングを行う段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の動き補償方法。
【請求項５】
動き補償装置において、
現在ブロックがルマブロックである場合、１／４画素単位のルマ参照ピクチャを生成するために、参照ピクチャの整数画素単位のルマサンプルに対して７タップの補間フィルタを適用して１／４画素位置及び３／４画素位置のルマサンプルを生成するルマ補間フィルタリング部と、
前記現在ブロックがクロマブロックである場合、１／８画素単位のクロマ参照ピクチャを生成するために、前記参照ピクチャの整数画素単位のクロマサンプルに対して４タップの補間フィルタを適用して１／８画素位置、２／８画素位置及び３／８画素位置を含む位置のクロマサンプルを生成するクロマ補間フィルタリング部と、
前記ルマ参照ピクチャ及び前記クロマ参照ピクチャのうち一つに動きベクトルを適用して、前記現在ブロックの参照ブロックを決定する参照ブロック決定部を備え、
前記７タップの補間フィルタは７つのフィルタ係数を含み、
前記４タップの補間フィルタは４つのフィルタ係数を含むことを特徴とする動き補償装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月10日(2014.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
亜硫酸塩によるアルカリ性の条件下で、一般式（ＩＩ）で表される化合物と一般式（ＩＩＩ）で表される化合物とを反応させる一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。
【化１】
2014523428.tif 000001
（式中、（＊）はキラル中心を表し、一般式（Ｉ）、一般式（ＩＩ）はＲ又はＳ配置化合物、又はラセミ混合物であり、
Ｒ１は炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル鎖から選ばれるものであり、
Ｒ２は水素原子、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル鎖から選ばれるものであり、
Ｒ３は炭素数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル鎖、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、置換されてもよいフェニル基、ヘテロ環基から選ばれるものであり、
Ｒ４はアルキル基、ハロアルキル基、置換されてもよいアリール基から選ばれるものであり、
置換基はカルボニル基、ハロゲン、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘテロ環基、置換ヘテロ環基、−ＮＲａＲｂ、−ＮＲａＣ（＝Ｏ）Ｒｂ、−ＮＲａＣ（＝Ｏ）ＮＲａＲｂ、−ＮＲａＣ（＝Ｏ）ＯＲｂ、−ＮＲａＳ（＝Ｏ）２Ｒｂ、−ＯＲａ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒａ−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲａ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａＲｂ、−ＯＣＨ２Ｃ（＝Ｏ）ＮＲａＲｂ、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲａＲｂ、−ＳＨ、−ＳＲａ、−ＳＯＲａ、−Ｓ（＝Ｏ）２ＮＲａＲｂ、−Ｓ（＝Ｏ）２Ｒａ、−ＳＲａＣ（＝Ｏ）ＮＲａＲｂ、−ＯＳ（＝Ｏ）２Ｒａ及び−Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲａを含み、その中、ＲａとＲｂは同一でも異なってもよく、それぞれ水素、アルキル基、ハロアルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、アリール基または置換アリール基である。）
【請求項２】
一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表される化合物のキラル中心（＊）はＳ配置である請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
Ｒ３はピリジル基又はチエニル基から選ばれるものである請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
Ｒ４はメチル基、トリフルオロメチル基、メチルフェニル基又はニトロフェニル基である請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
Ｒ１はメチル基、エチル基又はｎ−プロピル基であり、Ｒ２はメチル基又は水素原子であり、Ｒ３は３−ピリジル基又は２−チエニル基であり、Ｒ４は４−メチルフェニル基又は４−ニトロフェニル基である請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
Ｒ１はｎ−プロピル基であり、Ｒ２は水素原子であり、Ｒ３は２−チエニル基であり、Ｒ４は４−メチルフェニル基である請求項５記載の製造方法。
【請求項７】
前記亜硫酸塩は、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ土類金属亜硫酸塩、亜硫酸アンモニウム、又は亜硫酸亜鉛である請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項８】
アルカリ金属亜硫酸塩が亜硫酸ナトリウム又は亜硫酸カリウムであり、アルカリ土類金属亜硫酸塩が亜硫酸マグネシウム又は亜硫酸カルシウムである、請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
前記亜硫酸塩は亜硫酸ナトリウム又は亜硫酸カリウムである請求項７記載の製造方法。
【請求項１０】
亜硫酸塩と一般式（ＩＩ）で表される化合物とのモル比は０．８〜２．５：１である請求項１〜９のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１１】
亜硫酸塩と一般式（ＩＩ）で表される化合物とのモル比は１．３：１である請求項１０記載の製造方法。
【請求項１２】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物と一般式（ＩＩ）で表される化合物とのモル比は１．１〜５．０：１である請求項１〜１１のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１３】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物と一般式（ＩＩ）で表される化合物とのモル比は１．５：１である請求項１２記載の製造方法。
【請求項１４】
一般式（Ｉ）で表される化合物はロチゴチンである請求項１〜１３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれかに記載の製造方法で一般式（Ｉ）で表される化合物を製造する工程、及び一般式（Ｉ）で表される化合物を塩に転化する工程を含む、一般式（Ｉ）で表される化合物の塩の製造方法。
【請求項１６】
前記塩は塩酸塩である請求項１５記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月29日(2014.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光放射を反射ビームおよび透過ビームに分割するビームスプリッターを有する走査干渉計と、基準ビームを前記ビームスプリッターの第１の表面に最初に入射するように第１伝播経路に沿って前記干渉計に向かって発射する単色光放射源と、観測ビームを前記ビームスプリッターの前記第１表面に最初に入射し、かつ、前記第１表面において前記基準ビームと重なるように第２の伝播経路に沿って前記干渉計に向かって発射する観測光放射源とを備え、前記放射光源が協力して、前記第１表面においてそれぞれの第１伝播経路と第２伝播経路との間に、前記観測ビームの発散半角より大きい第１の角を形成することを特徴とする分光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の分光装置において、発射された前記基準ビームから生成された基準インターフェログラムを検出する基準検出器と、発射された前記観測ビームから観測インターフェログラムを検出する観測検出器とをさらに備え、各検出装置が他方のビームの前記ビーム経路の外に配置されることを特徴とする分光装置。
【請求項３】
請求項２に記載の分光装置において、前記検出されたインターフェログラムに対応する前記検出装置のそれぞれからの出力を受信するために動作可能なように接続されるデータ処理装置をさらに備え、前記基準ビームを前記第１角で発射した結果として前記観察検出器により検出された前記観察インターフェログラムから抽出されたスペクトル情報における誤差を修正するために、前記受信した出力を処理するように前記データ処理装置が特別に適合されることを特徴とする分光装置。
【請求項４】
請求項３に記載の分光装置において、前記基準ビームがビーム直径を有し、かつ、前記ミラーが並進するときに前記基準検出器からの出力が前記データ処理装置内における前記基準インターフェログラムからの周期的に繰り返される特徴の決定を可能にするのに十分な最低信号対雑音比を有するように選択された前記ビームスプリッターの前記第１表面におけるある程度の重なりを実現するために、前記ビーム直径に相関する前記第１角で前記基準ビームを発射するように単色放射光源が構成されることを特徴とする分光装置。
【請求項５】
前記単色放射光源からの基準ビームおよび前記観測光放射源からの発散観測ビームを、それぞれの伝播経路に沿って前記干渉計の前記ビームスプリッターの前記第１表面に向かって同時に発射するステップを含み、前記基準ビームが前記観測ビームの前記伝播経路に対して前記観測ビームの発散半角より大きい第１の角で前記第１表面に入射するようにその伝播経路に沿って発射されることを特徴とする、請求項１に記載の分光装置を動作させる方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、前記観測ビームから得たインターフェログラムをデータ処理装置において処理して、それから抽出されたスペクトル情報を前記基準ビームを前記第１角で発射したことに起因する誤差について修正するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法において、前記修正が実際の波長から第１角の余弦倍だけ異なる見掛けの波長を有する前記基準ビームの補償を含むことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項５に記載の方法において、
前記観測ビームに試料物質を通過させるステップと、前記観測ビームから得た前記インターフェログラムを前記データ処理装置において処理して前記試料物質のスペクトル情報特性を抽出するステップとをさらに含むことを特徴とする方法。