【手続補正書】
【提出日】平成15年10月1日(2003.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
自動補正に用いられる少なくとも１つのエッチング条件について得られる、少なくとも１種類の膜のエッチングレートの基準値からの変動量と、該エッチングレートがその条件に固有の管理範囲内に保たれるよう、その条件において前記エッチングレートの変動量に基づいて補正すべき少なくとも１種のエッチングパラメータおよびその補正量との関係、および、前記少なくとも１種類の膜を含む２種類以上の異種膜間のエッチングレート比の基準値からの変動量と、該エッチングレート比がその条件に固有の管理範囲内に保たれるよう、その条件において前記エッチングレート比の変動量に基づいて補正すべき少なくとも１種のエッチングパラメータおよびその補正量との関係を記憶するメモリと、前記エッチングパラメータの制御手段と、前記エッチングレートの変動量および／または前記エッチングレート比の変動量が与えられた時にそれに応じて補正すべきエッチングパラメータおよびその補正量を前記メモリから読み出し、読み出されたエッチングパラメータの制御手段にその補正量を与える自動補正手段と、を有することを特徴とする自動補正ドライエッチング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
請求項９に記載の自動補正ドライエッチング装置であって、
さらに、前記膜のエッチングレートおよびエッチングレート比を測定する手段を有し、この測定手段は、予め事前に測定される各種類の膜の膜厚を記憶するメモリと、前記自動補正に用いられるエッチング条件下でのプラズマの発光強度を計測する手段と、この計測手段によって計測された前記プラズマの発光強度の変化から検知される前記膜のエッチオフ時間と前記メモリから読み出された予め測定される前記膜の膜厚とから前記膜のエッチングレートを算出し、算出された２種類以上の膜のエッチングレートからそのエッチングレート比を算出する手段を有することを特徴とする自動補正ドライエッチング装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
自動補正に用いられる少なくとも１つの放電条件下で得られる１つの膜のエッチング時における２種類以上の発光種間の発光強度比を計測する手段と、これらの２種類以上の発光種間の発光強度比の基準値からの変動量と、該発光強度比がその条件に固有の管理範囲内に保たれるよう、その条件において前記発光強度比の変動量に基づいて補正すべき少なくとも１種のエッチングパラメータおよびその補正量との関係を記憶するメモリと、前記エッチングパラメータの制御手段と、前記発光強度比の計測手段から計測された発光強度比の変動量に応じて補正すべきエッチングパラメータおよびその補正量を前記メモリから読み出し、読み出されたエッチングパラメータの制御手段にその補正量を与える自動補正手段と、を有することを特徴とする自動補正ドライエッチング装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記２種類以上の発光種間の発光強度比の基準値が、同一製品ウェハを連続エッチングする際における、先頭ウェハ処理時の所定の時間帯における２種類以上の発光種間の発光強度比であり、自動補正に供される発光強度比が後続のウェハ処理時の前記所定の時間帯に相当する時間帯における同発光種間の発光強度比であることを特徴とする請求項１２に記載の自動補正ドライエッチング装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、ドライエッチング装置間およびドライエッチング装置内の性能変動を長期的変動であっても、短期的変動であっても常に所定許容範囲内に抑えるように手動でもしくは自動的に合わせ込みや補正をすることができ、ドライエッチングプロセスの安定化を図ることができるドライエッチング装置の管理方法、および、その補正を自動的に行うことのできる自動補正ドライエッチング装置を提供することにある。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明は、自動補正に用いられる少なくとも１つのエッチング条件について得られる、少なくとも１種類の膜のエッチングレートの基準値からの変動量と、該エッチングレートがその条件に固有の管理範囲内に保たれるよう、その条件において前記エッチングレートの変動量に基づいて補正すべき少なくとも１種のエッチングパラメータおよびその補正量との関係、および、前記少なくとも１種類の膜を含む２種類以上の異種膜間のエッチングレート比の基準値からの変動量と、該エッチングレート比がその条件に固有の管理範囲内に保たれるよう、その条件において前記エッチングレート比の変動量に基づいて補正すべき少なくとも１種のエッチングパラメータおよびその補正量との関係を記憶するメモリと、前記エッチングパラメータの制御手段と、前記エッチングレートの変動量および／または前記エッチングレート比の変動量が与えられた時にそれに応じて補正すべきエッチングパラメータおよびその補正量を前記メモリから読み出し、読み出されたエッチングパラメータの制御手段にその補正量を与える自動補正手段と、を有することを特徴とする自動補正ドライエッチング装置を提供するものである。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明は、上記自動補正ドライエッチング装置であって、
さらに、前記膜のエッチングレートおよびエッチングレート比を測定する手段を有し、この測定手段は、予め事前に測定される各種類の膜の膜厚を記憶するメモリと、前記自動補正に用いられるエッチング条件下でのプラズマの発光強度を計測する手段と、この計測手段によって計測された前記プラズマの発光強度の変化から検知される前記膜のエッチオフ時間と前記メモリから読み出された予め測定される前記膜の膜厚とから前記膜のエッチングレートを算出し、算出された２種類以上の膜のエッチングレートからそのエッチングレート比を算出する手段を有することを特徴とする自動補正ドライエッチング装置を提供するものである。
ここで、前記２種類以上の異種膜が、イオンアシスト主体でエッチングされる膜と、ラジカル主体でエッチングされる膜とからそれぞれ少なくとも１種類ずつ選択されるのが好ましい。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明は、自動補正に用いられる少なくとも１つの放電条件下で得られる１つの膜のエッチング時における２種類以上の発光種間の発光強度比を計測する手段と、これらの２種類以上の発光種間の発光強度比の基準値からの変動量と、該発光強度比がその条件に固有の管理範囲内に保たれるよう、その条件において前記発光強度比の変動量に基づいて補正すべき少なくとも１種のエッチングパラメータおよびその補正量との関係を記憶するメモリと、前記エッチングパラメータの制御手段と、前記発光強度比の計測手段から計測された発光強度比の変動量に応じて補正すべきエッチングパラメータおよびその補正量を前記メモリから読み出し、読み出されたエッチングパラメータの制御手段にその補正量を与える自動補正手段と、を有することを特徴とする自動補正ドライエッチング装置を提供するものである。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
ここで、前記２種類以上の発光種間の発光強度比の基準値が、同一製品ウェハを連続エッチングする際における、先頭ウェハ処理時の所定の時間帯における２種類以上の発光種間の発光強度比であり、自動補正に供される発光強度比が後続のウェハ処理時の前記所定の時間帯に相当する時間帯における同発光種間の発光強度比であるのが好ましい。
また、前記発光種が、ポリマー形成因子と、ポリマー阻害因子またはエッチング生成物とから少なくとも１種類ずつ選択されて用いられるのが好ましい。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
ここで、装置本体１１は、上面が半球状をなす石英放電管１２によって囲撓され、プラズマが発生するエッチングチャンバー（放電室）１４と、このエッチングチャンバー１４の下部に配置されるウエハー１６を図示しない静電チャック機構等で固定支持するとともに下部電極を構成するウエハーステージ１８と、石英放電管１２を上側から覆い、マイクロ波をエッチングチャンバー１４に誘導する、下部が円形をなす導波管２０と、導波管２０の閉塞端に設けられ、マイクロ波を発生するマグネトロン２２と、プラズマが発生するエッチングチャンバー１４に磁場を印加するために導波管２０の下部にエッチングチャンバー１４に外周を覆うように配置されるソレノイドコイル２４と、エッチングチャンバー１４内のエッチングプロセスをモニターし、ウエハー１６の１つの膜のエッチング時に得られる２種以上の発光種間の発光強度を計測するエッチングモニター２６と、エッチングチャンバー１４内を所定の真空度（例えば１０-2〜１００Ｐａ）に保持するために排気を行う排気口２８と、複数のエッチングガスをエッチングチャンバー１４内に導入するエッチングガスの導入管３０と、エッチングチャンバー１４内外へのウエハー１６の搬入搬出を行うウエハー搬送口３２と、複数のエッチングガスを導入管３０に供給するエッチングガス源３４と、導入管３０から供給される複数のエッチングガスの量をそれぞれ制御するマスフローコントローラ３６と、ウエハーステージ１８を加温もしくは冷却するチラー３８と、イオンの入射を制御するために下部電極であるウエハーステージ１８に高周波（ＲＦ）バイアスを印加するための高周波電源４０と、マグネトロン２２の電源４２と、排気口２８に接続され、図示しないターボ分子ポンプとドライポンプからなる真空源４４と、マスフローコントローラ（ガス切換制御器）３６、チラー３８、高周波電源４０、マグネトロン電源４２および真空源４４を一括制御する一括制御器４６とを有する。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
本発明に係るドライエッチング装置の管理方法および自動補正ドライエッチング装置について、実施例を含め種々の例を挙げて説明したが、本発明は上述した例、特に、実施例の装置、放電形式、ガス種、発光種、膜種等に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改良や設計の変更が可能であることは言うまでもない。