(57)【要約】【課題】通信装置のパルスマスク測定問題発生時におけるトランシーバ出力設定値の修正を支援する。【解決手段】パルスマスク波形整形支援装置１のパルス測定部１１により通信装置２からの出力パルス１０１を測定し、マスク判定部１３においてマスクデータ記憶部１２のマスクデータ１０３との比較を行う。その結果がマスクに収まらない場合、整形演算部１４において、トランシーバ部２１の適正なレジスタ設定値を演算し、制御端末３から設定を行う。これにより、必要となる全てのパルスマスク測定をクリアすることが可能となる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信装置から出力されるパルスを測定するパルス測定手段と、マスクデータを記憶するマスクデータ記憶手段と、前記パルス測定手段の測定結果と前記マスクデータを比較してマスク判定を行うマスク判定手段と、マスクデータ内に収まるようパルスを整形演算する整形演算手段と、演算結果を表示する表示手段とを備え、前記整形演算手段は前記通信装置に使用されるトランシーバの出力レベルを調整するレジスタ設定値を演算することを特徴とするパルスマスク波形整形支援装置。
【請求項２】
前記トランシーバのレジスタ設定値を変更する際、自動的にレジスタ値を更新することを特徴とする請求項１記載のパルスマスク波形整形支援装置。
【請求項３】
通信装置のインターフェースを回線終端する回線終端手段を含むことを特徴とする請求項１記載のパルスマスク波形整形支援装置。
【請求項４】
前記回線終端手段から通信装置へリンク検出用データパターンを送出することを特徴とする請求項３記載のパルスマスク波形整形支援装置。
【請求項５】
前記整形演算手段が、前記通信装置に使用されるトランシーバ周辺の回路修正案を演算することを特徴とする請求項１記載のパルスマスク波形整形支援装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、通信装置のパルスマスク波形に対して整形を行う際に、その支援を行うパルスマスク波形整形支援装置に関する。ここで通信装置とはルータや交換機等の一般的な通信装置の他、パーソナルコンピュータのＬＡＮポートのような通信インターフェースを持つ機器全般を対象とする。
【０００２】
【従来の技術】
図８は、従来のパルス波形測定システムの構成を示すブロック図である。パーソナルコンピュータ８１のデータ蓄積部８２に蓄積されたデジタルパルス信号波形の許容範囲を示すパルスマスクデータに基づいて、デジタルオシロスコープ８５のスクリーン上にパルスマスクを描く。
【０００３】
制御部８４は、パーソナルコンピュータ８１の指示を受け、装置８６からデジタルパルス信号を発生させ、同様にデジタルオシロスコープ８５のスクリーンに波形表示させる。このデジタルパルス信号の波形が、パルスマスク内に入っているか否かにより、デジタルパルス信号の波形の正常性判定を行っている。（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平０５−０９９９６５号公報
また、図９は、従来のインターフェース回路の波形整形回路の構成を示すブロック図である。ドライバ１０の端子Ｘ１，Ｘ２には抵抗Ｒ１，Ｒ２が接続されるとともに、波形整形回路２０を構成するダイオ−ドＤ１，Ｄ２夫々のカソ−ドが接続されており、ダイオ−ドＤ１，Ｄ２の共通接続されたアノ−ドは抵抗Ｒ３，Ｒ４の接続点に接続されている。一対の端子Ｘ１，Ｘ２夫々に一対のダイオ−ドＤ１，Ｄ２を接続されてこの一対の端子のハイレベル近傍の電位にプルアップされるようになる。これにより伝送パルス波形のアンダ−シュートを低減し、伝送パルス波形を予め規定されたパルスマスク内に収めることができる。（例えば、特許文献２参照。）。
【０００５】
【特許文献２】
特開平０３−１９８４１４号
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のパルスマスク判定装置は、通信装置から出力されるパルスのマスク判定自体を図っているものである。すなわち、パルスマスク判定を行うことが主目的であり、判定結果に問題があった場合の波形整形については考慮されていないという問題点があった。本来出力パルスはトランシーバ周辺の回路をメーカ推奨回路にすることでマスク内に収めることが可能だが、実際には基板の配線条件等によってマスクから外れてしまうことがある。また、トランシーバによっては出力レベルを変更することによって微調整できるものがある。しかし、パルスマスクの測定は一種類ではなく、データパルスやリンクパルス、10Mbpsや100Mbps等の速度の差異、ピーク電圧やジッタ測定等のように一つのインターフェースに対して複数の条件をクリアする必要があり、全ての条件を満たす設定値を見出すことは困難である。
【０００７】
また従来の波形整形回路では、アンダーシュートのみ修正することを目的としており、なおかつ修正後の測定結果に問題があった場合、さらに波形整形することについては考慮されていないという問題点があった。
【０００８】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであって、本発明は、通信装置から出力されるパルスマスク波形において、その判定結果に問題があった場合にその波形整形作業を容易に行うことが可能なパルスマスク波形整形支援装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、通信装置から出力されるパルスを測定するパルス測定手段と、マスクデータを記憶するマスクデータ記憶手段と、前記パルス測定手段の測定結果と前記マスクデータを比較してマスク判定を行うマスク判定手段と、マスクデータ内に収まるようパルスを整形演算する整形演算手段と、演算結果を表示する表示手段とを備え、前記整形演算手段は前記通信装置に使用されるトランシーバの出力レベルを調整するレジスタ設定値を演算することを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の構成を示すブロック図である。図１において、パルスマスク波形整形支援装置１は、例えばデジタルオシロスコープの機能を持つパーソナルコンピュータを想定しており、パルスマスク波形整形支援装置１の外部には通信装置２が接続されている。また、通信装置２は制御端末３と接続されている。パルスマスク波形整形支援装置１と通信装置２の間は、例えばLAN等の通信系インターフェースにより接続され、通信装置２と制御端末３の間は、例えばRS232C等のシリアルインターフェースにより接続されている。
【００１１】
またパルスマスク波形整形支援装置１は、パルス測定部１１と、マスクデータ記憶部１２と、マスク判定部１３と、整形演算部１４と、結果表示部１５と、回線終端部１６とから構成されている。
【００１２】
パルス測定部１１は、通信装置２から出力パルス１０１が入力され、マスク判定部１３に対してパルスデータ１０２を出力する。マスクデータ記憶部１２は、マスク判定部１３に対してマスクデータ１０３を出力する。マスク判定部１３は、パルス測定部１１からパルスデータ１０２が入力されると共にマスクデータ記憶部１２からマスクデータ１０３が入力され、整形演算部１４に対してパルスマスクデータ１０４を出力する。
【００１３】
整形演算部１４は、マスク判定部１３からパルスマスクデータ１０４が入力され、結果表示部１５に対してレジスタ修正データ１０５を出力する。結果表示部１５は、整形演算部１４からレジスタ修正データ１０５が入力される。回線終端部１６は通信装置２から出力パルス１０１が入力され、通信装置のインターフェースを回線終端する。また、回線終端部１６は測定するインターフェースやパルスマスクによって変更が可能である。
【００１４】
通信装置２は、トランシーバ部２１と、入出力部２２を有する。トランシーバ部２１は、制御端末３から設定データ２０２が入力され、入出力部２２に対して出力データ２０１を出力する。入出力部２２は、トランシーバ２１から出力データ２０１が入力され、パルス測定部１１および回線終端部１６に対して出力パルス１０１を出力する。また、入出力部２２がパルスを出力する条件として、入出力部２２が受信リンクを検出する事が必要である場合、回線終端部１６から入出力部２２へ要求するデータパターンを送出することが可能である。
【００１５】
制御端末３は、トランシーバ部２１に対して設定データ２０２を出力する。制御端末３は、トランシーバ部２１のインターフェースに合わせることによって、あらゆる通信装置にも対応が可能である。ただし、その場合トランシーバ部２１に合わせた方式で設定データ２０２を出力したり、設定データ２０２を介してトランシーバ部２１に必要となる初期設定をしたりすることも想定している。
【００１６】
次に、本発明の第１の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の動作について図面を参照して詳細に説明する。図２は、第１の実施形態のパルスマスク波形整形支援装置の動作を示すフローチャート図である。図３は、出力パルスレベルの演算に関する詳細動作を示すフローチャート図である。まず、全体の動作について図２を用いて説明する。図２において、測定するパルスマスクの選定をステップ（以下、「Ｓ」とする）１の処理で行った後、Ｓ２の処理でパルスマスク測定を行う。ここで、パルスマスクの選定とは、マスク波形の選定の他に回線終端部１６の選定も含まれる。
【００１７】
Ｓ２の処理で問題が無い（マスクに収まる）場合、Ｓ３の処理を行う。Ｓ２の処理で問題が有る（マスクに収まらない）場合、Ｓ４の処理を行う。Ｓ３の処理で必要なパルスマスクの全測定が完了している場合、終了とする。Ｓ３の処理で完了していない場合、Ｓ１へ戻り未測定のパルスマスクに変更した後、再度測定を行う。Ｓ４の処理で変更後のレジスタ設定値の算出を行った後、その結果をＳ５の処理で結果表示部１５に表示させる。更にＳ６の処理でＳ５の結果を元にトランシーバ部２１のレジスタ値を更新し、Ｓ２の処理を再度行う。
【００１８】
次にＳ４の処理内容について図３を用いて説明する。図３において、パルスマスク測定の結果ＮＧと判定されたポイントのリストアップをＳ４−１の処理で行った後、Ｓ４−２の処理で各ＮＧポイントの修正案、即ちトランシーバの出力レベルの調整案を作成する。この時点でＳ２の測定で問題となったパルスマスクについてはクリアできるレベルまでに至ることを仮定している。
【００１９】
次にＳ４−３の処理において他に必要となるパルスマスクの全てについてシミュレーションを実行する。ここでパルスマスク測定に問題がある場合、Ｓ４−１の処理に戻り再度ＮＧポイントの修正を行う。ただし、シミュレーションの精度には限度があるため、Ｓ２からＳ６までの実測定をもって補完する。Ｓ４−３の処理において問題が無い場合、Ｓ４−２の処理結果からトランシーバ部２１へ設定するレジスタ値をＳ４−４の処理で導き出す。
【００２０】
また、本実施形態では、例えば図４に示すように、パルスマスク波形整形支援装置１のマスクデータ記憶部１２、マスク判定部１３、整形演算部１４、結果表示部１５の機能を制御端末３で実現させてもよい。この場合、パルスマスク波形整形支援装置１の構成を縮小させることが可能となり、更に、整形演算部１４で得られた演算結果を人手を介すことなく直接トランシーバ部２１へ更新させることも可能となる。
【００２１】
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。図５は、本発明の第２の実施の形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の構成を示すブロック図である。図５に示す第２の実施形態は、図１の制御端末３と設定データ２０２を削除し、レジスタ修正データ１０５を回路修正データ１０６に置き換えた構成を特徴とし、それ以外の図１と同等部分については同一符号で示している。
【００２２】
第２の実施形態と第１の実施形態との機能的差異は、出力パルス１０１の波形を整形する手段として、第１の実施形態ではトランシーバ部２１の出力レベルを調整することにより実現しているのに対し、第２の実施形態ではトランシーバ周辺の回路構成を変更することによって実現していることである。
【００２３】
次に、第２の実施形態の動作について図面を参照して詳細に説明する。図６は、第２の実施形態のパルスマスク波形整形支援装置の動作を示すフローチャート図である。図７は、第２の実施形態の出力パルスレベル演算に関する詳細動作を示すフローチャート図である。まず、全体の動作について図６を用いて説明する。図６において、測定するパルスマスクの選定をＳ１の処理で行った後、Ｓ２の処理でパルスマスク測定を行う。ここで、パルスマスクの選定とは、マスク波形の選定の他に回線終端部１６の選定も含まれる。
【００２４】
Ｓ２の処理で問題が無い（マスクに収まる）場合、Ｓ３の処理を行う。Ｓ２の処理で問題が有る（マスクに収まらない）場合、Ｓ４’の処理を行う。Ｓ３の処理で必要なパルスマスクの全測定が完了している場合、終了とする。Ｓ３の処理で完了していない場合、Ｓ１へ戻り未測定のパルスマスクに変更した後、再度測定を行う。
【００２５】
Ｓ４’の処理では、予め回路やパターン配線条件による出力パルスのデータベースを入力しておき、通信装置２の回路構成を元に得られるシミュレーション結果から変更すべき抵抗およびコンデンサの定数の変更案を提示する。Ｓ５’の処理ではＳ４’の処理内容を結果表示部１５に表示させ、Ｓ６’の処理でＳ５’の表示結果を元に回路変更を行う。
【００２６】
次にＳ４’の処理内容について図７を用いて説明する。図７において、パルスマスク測定の結果ＮＧと判定されたポイントのリストアップをＳ４−１の処理で行った後、Ｓ４’−２の処理でＮＧポイントの結果から回路の修正案を作成する。
【００２７】
次にＳ４−３の処理において他に必要となるパルスマスクの全てについてシミュレーションを実行する。ここでパルスマスク測定に問題がある場合、Ｓ４−１の処理に戻り再度ＮＧポイントの修正を行う。Ｓ４−３の処理において問題が無い場合、Ｓ４’−４の処理でシミュレーションの結果から修正回路の決定を行う。
【００２８】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明によれば、通信装置のパルスマスク測定により問題が発生した際、トランシーバの設定値を自動演算すると共に、複数のパルスマスク条件を満たした設定値を試行錯誤することなく演算することが可能となる。更に、演算された設定値は必要となる全てのパルスマスクに対しても考慮されており、異なるパルスマスクの測定を繰り返しながら最適値を決定するという手間が必要無い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の構成を示すブロック図である。
【図２】第１の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の全体動作を示すフローチャート図である。
【図３】第１の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の出力パルスレベル演算の詳細動作を示すフローチャート図である。
【図４】第１の実施形態の他例を示すブロック図である。
【図５】本発明の第２の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の構成を示すブロック図である。
【図６】第２の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の全体動作を示すフローチャート図である。
【図７】第２の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の出力パルスレベル演算の詳細動作を示すフローチャート図である。
【図８】従来のパルスマスク測定方式の構成を示すブロック図である。
【図９】従来のインターフェース回路の波形整形方式の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
１    パルスマスク波形整形支援装置
２    通信装置
３    制御端末
１１    パルス測定部
１２    マスクデータ記憶部
１３    マスク判定部
１４    整形演算部
１５    結果表示部
１６    回線終端部
２１    トランシーバ部
２２    入出力部
１０１    出力パルス
１０２    パルスデータ
１０３    マスクデータ
１０４    パルスマスクデータ
１０５    レジスタ修正データ
１０６    回路修正データ
２０１    出力データ
２０２    設定データ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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