【事件の表示】
　平成　９年特許願第１０８７７５号「光ファイバとその線引装置及び製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年　５月　６日出願公開、特開平１０−１１４５５０］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成９年４月２５日の出願であって、平成１４年４月２４日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年８月２６日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに同年９月２５日付で手続補正がなされたものである。
　
２．平成１４年９月２５日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１４年９月２５日付の手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「シリカ系の光ファイバの製造方法において、光ファイバ母材を溶融させつつ未被覆光ファイバを引出す過程と、引出された未被覆光ファイバの径が一定となるように線引力を制御する過程と、引出された未被覆光ファイバを常温まで冷却して金属の被覆処理を施す過程と、この被覆処理を続けて、不活性気体の供給による無酸素雰囲気で被覆後の金属被覆光ファイバを冷却する過程と、を実施し、その引出された未被覆光ファイバに金属の被覆処理を施す過程で、引出された未被覆光ファイバを、溶融させた金属に通して被覆処理を施すとともに、未被覆光ファイバに被覆される金属の被覆厚を、該金属の溶融温度と光ファイバの線引速度により制御するようにし、その線引速度により未被覆光ファイバと溶融金属との接触時間を０．００１〜０．１秒とするようにしたことを特徴とする光ファイバの製造方法。」
と補正された。
　上記の補正は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「未被覆光ファイバに金属の被覆処理を施す過程」について「未被覆光ファイバを常温まで冷却して金属の被覆処理を施す過程」と「被覆処理の条件」を限定し、また、「未被覆光ファイバを溶融金属に接触させる時間につき
０．００１〜０．１秒とすること」を「その線引速度により未被覆光ファイバと溶融金属との接触時間を０．００１〜０．１秒とするようにしたこと」とその表現を整理したもので、いずれも特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平３−１０９２４０号公報（以下、「引用例１」という）には、「ガラス光ファイバを線引きした直後に溶融金属中に導き、ガラス光ファイバの周囲に金属を被覆する金属被覆光ファイバの製造法において、ガラス光ファイバを溶融金属中に導く前に、ガラス光ファイバが、室温もしくはそれ以下の温度の気体の流れにより該ガラス光ファイバを冷却する冷却装置を通過させられ、該気体の流量を調節することにより金属被覆の厚さを調整することを特徴とする金属被覆光ファイバの製造法」（第１頁左下欄第５〜１３行）が記載され、金属被覆の厚さの調整手段として未被覆光ファイバの冷却温度を制御する発明が開示されているとともに、従来技術として「アルミ被覆光ファイバのアルミの厚さを多様な要求に応え得るように変化させることについては、これ迄あまり検討されておらず、適当な手段がなかった。尤も、アルミ被覆光ファイバの引取速度を変化させることによりアルミ被覆の厚さをある程度は変化させることができる」（第2頁左下欄4〜9行）ことが開示されている。
　これらの記載を総合すれば、引用例１には従来技術として「シリカ系の光ファイバの製造方法において、光ファイバ母材を溶融させつつ未被覆光ファイバを引出す過程と、引出された未被覆光ファイバを金属の被覆処理を施す過程と、を実施し、その引出された未被覆光ファイバに金属の被覆処理を施す過程で、引出された未被覆光ファイバを、溶融させた金属に通して被覆処理を施すとともに、未被覆光ファイバに被覆される金属の被覆厚を、光ファイバの線引速度により制御するようにしたことを特徴とする光ファイバの製造方法。」（以下、「引用例１発明」という）が記載されていると云える。
　
（３）対比
　本願訂正発明と引用例１発明とを対比すると、両者は上記の構成で一致し、以下の点で相違する。
　相違点１：本願補正発明では、引出された未被覆光ファイバの径が一定となるように線引力を制御する過程を有しているのに対し、引用例１発明では、係る過程を有するか否か明確でない点。
　相違点２：本願補正発明では、未被覆光ファイバを常温まで冷却して金属の被覆処理を施しているのに対し、引用例１には、未被覆光ファイバを冷却することについて記載されていない点。
　相違点３：本願補正発明では、不活性気体の供給による無酸素雰囲気で被覆後の金属被覆光ファイバを冷却しているのに対し、引用例１には、被覆後の金属被覆光ファイバを冷却することについて記載されていない点。
　相違点４：本願補正発明では、金属の被覆厚を、該金属の溶融温度によっても制御しているのに対し、引用例１発明では、該点について明確でない点。
　相違点５：本願補正発明では、線引速度により未被覆光ファイバと溶融金属との接触時間を０．００１〜０．１秒とするようにしているのに対し、引用例１には、未被覆光ファイバと溶融金属との接触時間についての具体的な記載はない点。
　
（４）判断
　相違点１について：ガラス光ファイバの外径を一定にすることは、当該技術分野において当然要請される事項であり、しかも、引用例１には「ガラス光ファイバの外径は前記の通り線引き直後に非接触型の外径測定器１０により測られ、この出力信号により引取装置７の引取速度変えて線径を制御することができる」（第4頁左上欄8〜11行）と記載されていることから、引用例１発明において、引出された未被覆光ファイバの径が一定となるように線引力を制御する過程を設けることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　相違点２について：引用例１には「凝固付着する金属層の厚さは、溶融金属中に導入されるガラス光ファイバの温度が低いほど大きい」（第4頁左下欄4〜8行）ことが示唆され、さらに、溶融金属中に導入されるガラス光ファイバの冷却器を設けず、従来技術のように自然冷却されている場合の問題点として、引取速度を小さくすれば、溶融金属に導入されるガラス光ファイバの温度は低くなり、金属の凝固付着量は大きくなるが、溶融金属中を移動する時間が長くなり再溶融量が大きくなるので、結局、金属被覆層の厚さは薄くなり、逆に、引取速度を大きくすれば、再溶融量は小さいが、溶融金属中に導入されるガラス光ファイバの温度が高くなり、金属被覆層の厚さはそれほど大きくならない旨の記載（第4頁右下欄9行〜第5頁左上欄5行）があることから、係る問題を解決し、より厚い金属被覆層を形成するため、未被覆光ファイバを冷却する過程を設けることは当業者が容易に想到し得たものである。そして、どの程度まで冷却するかは当業者は種々の条件を考慮し適宜決定し得るものであり、特に常温まで冷却したことによる格別な技術的意義も認められない。
　相違点３について：原査定の拒絶の理由に引用された特開平３−２１５３３２号公報（以下、「引用例２」という）には、「フッ化物ガラス光ファイバにおけるフッ化物ガラスの転移温度以下の融点を有する金属または合金を、溶融状態で、線引き後のフッ化物ガラス光ファイバの表面に連続的に塗布することを特徴とする金属被覆フッ化物ガラス光ファイバの製造方法」に関する発明が記載されており、第１図及び第3頁左下欄9〜11行の記載によれば、コーティング後の光ファイバを強制冷却装置７において、流量５ｌ／分のＨｅガス、すなわち不活性ガスを供給し冷却することが記載されている。ここで、引用例１及び２記載の発明は、線引き後のガラス光ファイバの表面を溶融金属中を通過させ金属被覆処理を施す点で同一の技術分野に属する発明であり、金属被覆後のガラス光ファイバを冷却することは、引用例１発明においても当然要求されるものであるから、引用例１発明における金属被覆処理後に、引用例２記載の冷却過程を付加することは、当業者にとって容易に実施し得ることである。
　相違点４について：引用例１には、「ガラス光ファイバに凝固付着させられる溶融アルミの温度が変化すれば、アルミ被覆の厚さも或る程度変化する」（第2頁左下欄18〜末行）と、溶融金属の温度が被覆金属の厚さに影響することが示唆されているのであるから、引用例１発明において、被覆金属の厚さを調整するに当たり、溶融金属の温度も制御の対象とすることは、当業者であれば当然考慮すべきことにすぎない。
　相違点５について：引用例１の第4頁左下欄6〜7行には、再溶融する金属の量は溶融金属中をガラス光ファイバが通過する時間、すなわち未被覆光ファイバと溶融金属との接触時間に依存すること、が開示されており、金属の再溶融量をできるだけ少なくするため、未被覆光ファイバと溶融金属との接触時間をできるだけ短くすることは、当業者であれば当然考慮すべき事項であり、具体的にどの程度の時間とするかは、当業者がその実施に当たり種々の条件を考慮して適宜決定しうることであり、接触時間を０．００１〜０．１秒と限定したことによる格別な技術的意義も認められない。
　そして、本願補正発明の作用効果も、引用例１の記載から当業者が予測することができる範囲のものであり、格別顕著なものと云うことはできない。
　したがって、本願補正発明は、引用例１及び２の発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１４年９月２５日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という）は、平成１２年２月１０日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「シリカ系の光ファイバの製造方法において、光ファイバ母材を溶融させつつ未被覆光ファイバを引出す過程と、引出された未被覆光ファイバの径が一定となるように線引力を制御する過程と、引出された未被覆光ファイバに金属の被覆処理を施す過程と、この被覆処理を続けて、不活性気体の供給による無酸素雰囲気で被覆後の金属被覆光ファイバを冷却する過程と、を実施し、その引出された未被覆光ファイバに金属の被覆処理を施す過程で、引出された未被覆光ファイバを、溶融させた金属に通して被覆処理を施すとともに、未被覆光ファイバに被覆される金属の被覆厚を、該金属の溶融温度と光ファイバの線引速度により制御するようにし、未被覆光ファイバを溶融金属に接触させる時間につき０．００１〜０．１秒とすることを特徴とする光ファイバの製造方法。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１および２の記載事項は、前記「２．（２）、（４）」に記載したとおりである。
（２）対比・判断
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明から、金属の被覆処理を施すときの未被覆光ファイバの温度の「常温まで冷却」との限定事項を省き、かつ、「その線引速度により未被覆光ファイバと溶融金属との接触時間を
０．００１〜０．１秒とするようにしたこと」を「未被覆光ファイバを溶融金属に接触させる時間につき０．００１〜０．１秒とするようにしたこと」と表現を形式的に変更したものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件について形式的に変更したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（３）」に記載したとおり、引用例の記載に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例の記載に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（３）むすび
　以上の通り、本願発明は、引用例の記載に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。