【手続補正書】
【提出日】平成23年11月17日(2011.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状基材と、
（ａ）  ＳｎＯ2の層、および／またはＦｅ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＨｆＯ2から選択される金属酸化物層  （前記の層はＭｏおよび／またはＷをドープされており、その際、ＳｎＯ2の層はＳｎＯ2層の金属のモルに対して０．１〜６０モル％のＭｏおよび／またはＷを含み、且つ、Ｆｅ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＨｆＯ2の金属酸化物層は該金属酸化物の金属のモルに対して０．１〜１０モル％のＭｏおよび／またはＷを含む）とを含む顔料、または板状基材と、
（ａ’）  Ｆｅ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＨｆＯ2から選択される金属酸化物層  （前記の層はＮｂおよび／またはＴａをドープされており、その際、Ｆｅ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＨｆＯ2の金属酸化物層は該金属酸化物の金属のモルに対して０．１〜１０モル％、特に０．１〜５モル％のＮｂおよび／またはＴａを含み、ただし、Ｎｂおよび／またはＴａをドープされた少なくとも２層が存在している）
とを含む顔料。
【請求項２】
金属酸化物がＴｉＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、またはＦｅ2Ｏ3とＴｉＯ2との混合物である、請求項１に記載の顔料。
【請求項３】
金属酸化物がＴｉＯ2であり、且つ該金属酸化物層がＴｉＯ2中のＴｉのモルに対して０．１〜５モル％のＭｏおよび／またはＷを含む、請求項２に記載の顔料。
【請求項４】
ドーピング剤がＭｏである、請求項３に記載の顔料。
【請求項５】
金属酸化物層が他に炭素、Ｂ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3および／またはＭｇＯを含む、請求項２に記載の顔料。
【請求項６】
顔料が以下の層構造：
Ａｌ／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）；
Ａｌ／ＳｉＯ2／Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）、
ＴＲＡＳＵＢ／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）、
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）；
ＴＲＡＳＵＢ／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）／ＳｎＯ2／ＴｉＯ2＆Ｆｅ2Ｏ3（Ｍｏ）
（ここで、前記ＴＲＡＳＵＢは低屈折率を有する透明または半透明の基材、特に天然または合成マイカ、他の層状シリケート、天然または合成ガラス、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯz、特にＳｉＯ2、ＳｉＯ2／ＳｉＯｘ／ＳｉＯ2（０．０３≦ｘ≦０．９５）、ＳｉＯ1.40-2.0／ＳｉＯ0.70-0.99／ＳｉＯ1.40-2.0、またはＳｉ／ＳｉＯz（０．７０≦ｚ≦２．０、特に１．４０≦ｚ≦２．０）である）
を有する；  または
顔料が以下の層構造
【表１】
2011504193.tif 000001
（ここで、前記ＴＲＡＳＵＢは、低屈折率を有する透明または半透明基材であり、特に天然または合成マイカ、他の層状シリケート、天然または合成ガラス、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯz、特にＳｉＯ2、ＳｉＯ2／ＳｉＯx／ＳｉＯ2（０．０３≦ｘ≦０．９５）、ＳｉＯ1.40-2.0／ＳｉＯ0.70-0.99／ＳｉＯ1.40-2.0、またはＳｉ／ＳｉＯz（０．７０≦ｚ≦２．０、特に１．４０≦ｚ≦２．０）であり、且つ、前記ＳＴＬは半透明層、例えばＣｕ、Ａｇ、ＣｒまたはＳｎの半透明金属層、または半透明炭素層であって、その際、二酸化スズを二酸化チタンおよび／またはＴｉＯ2（Ｍｏ）沈着の前に堆積できる）
を有する；  または
顔料が小薄板状基材と、（ａ）層構造：
ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2、またはＴｉＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2；  またはＴｉＯ2（Ｍｏ）／低屈折率の金属酸化物層、特にＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＡｌＯＯＨ、Ｂ2Ｏ3、またはそれらの混合物  （ここでアルカリまたはアルカリ土類金属酸化物は追加成分として含有されてよい）／高屈折率の金属酸化物層、特にＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3、ＺｎＯまたはそれらの酸化物の混合物；  または
ＴｉＯ2（Ｍｏ）／低屈折率の金属酸化物層、特にＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＡｌＯＯＨ、Ｂ2Ｏ3、またはそれらの混合物（ここでアルカリまたはアルカリ土類金属酸化物は追加成分として含有されてよい）／ＴｉＯ2（Ｍｏ）
とを含む、請求項１に記載の顔料。
【請求項７】
ＴｉＯ2層が金属によって均質にドープされているか、またはドーピング金属の含有率が基材の隣で最も高く、且つＴｉＯ2層を横切って減少する；  および／または該金属がＴｉＯ2層の最表面２０ｎｍに取り込まれている、請求項３に記載の顔料。
【請求項８】
顔料が、以下の層構造：
板状（透明）基材／［ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｍｏ）］n  （ｎ＝１、２、３、４、または５、特に２、３、４、または５）；または
板状（透明）基材／［ＳｎＯ2（Ｍｏ）／ＴｉＯ2］n  （ｎ＝１、２、３、４、または５、特に２、３、４、または５）
を有する、請求項１に記載の顔料。
【請求項９】
顔料が、以下の層構造：
板状（透明）基材／［ＳｎＯ2／ＴｉＯ2（Ｎｂ）］n  （ｎ＝１、２、３、４、または５、特に２、３、４、または５）；
を有する、請求項１に記載の顔料。
【請求項１０】
板状基材を少なくとも２つの金属酸化物で、相応する水溶性金属化合物の加水分解による湿式法で被覆し、分離し、乾燥させ、そしてそのように得られた顔料を随意に焼成することにより、その際、第一の金属酸化物がＳｎＯ2；  またはＦｅ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＨｆＯ2から選択され、且つ、第二の金属酸化物がＭｏおよびＷから選択される；  または第一の金属酸化物がＦｅ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＨｆＯ2から選択され、且つ、第二の金属酸化物がＮｂおよびＴａから選択される、請求項１に記載の（干渉）顔料の製造方法。
【請求項１１】
塗料、インクジェット印刷における、テキスタイルの染色のための、被覆物、印刷インク、プラスチック、化粧品、セラミックスおよびガラス用の上薬の顔料着色ための、請求項１から９までのいずれか１項に記載の顔料の使用。
【請求項１２】
請求項１から９までのいずれか１項に記載の顔料を用いて顔料着色された塗料、印刷インク、プラスチック、化粧品、セラミックスおよびガラス。
【請求項１３】
高分子量有機材料を顔料着色するための方法において、請求項１に記載の顔料を、前記の高分子量有機材料内に、効果的な顔料着色量で取り込むことによる方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記の課題は、板状基材と、
（ａ）  ＳｎＯ2の層、および／またはＦｅ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＨｆＯ2から選択される金属酸化物層（前記の層はＭｏおよび／またはＷをドープされている）とを含む顔料、または板状基材と、
（ａ’）  Ｆｅ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＨｆＯ2から選択される金属酸化物層（前記の層はＮｂおよび／またはＴａをドープされている、ただし、Ｎｂおよび／またはＴａをドープされた少なくとも２層が存在している）、
とを含む顔料によって解決される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
以下の層構造を有する顔料が特に好ましい：
【表１】
2011504193.tif 000002
（ここで、前記ＴＲＡＳＵＢは、低屈折率を有する透明または半透明基材であり、特に天然または合成マイカ、他の層状シリケート、ガラス、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯz、特にＳｉＯ2、ＳｉＯ2／ＳｉＯx／ＳｉＯ2（０．０３≦ｘ≦０．９５）、ＳｉＯ1.40-2.0／ＳｉＯ0.70-0.99／ＳｉＯ1.40-2.0、またはＳｉ／ＳｉＯz（０．７０≦ｚ≦２．０、特に１．４０≦ｚ≦２．０）であり、且つ、前記ＳＴＬは半透明層、例えばＣｕ、Ａｇ、ＣｒまたはＳｎの半透明金属層、または半透明炭素層であって、その際、二酸化スズを二酸化チタンおよび／またはＴｉＯ2（Ｍｏ）沈着の前に堆積できる）。３０ｎｍよりも厚いＴｉＯ2を有するＴｉＯ2層に隣接するＳｎＯ2層がルチル改質物を得るために有利である。