Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月14日(2004.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのレンズ装置（５）と、光の進路（２５）の中に設けられ、前記レンズ装置（５）よりも質量の小さい少なくとも１つのエレメント（７，６ｂ）と、前記光の進路（２５）に沿って前記少なくとも１つのエレメント（７，６ｂ）を移動させる作動装置（９）と、前記少なくとも１つの移動可能なエレメント（７，６ｂ）の位置を検出する位置センサ（２７）とを備えた、受光装置の結像装置において、前記位置センサ（２７）が、前記少なくとも１つの移動可能なエレメント（７，６ｂ）に取り付けられた可動エレメントを備えることを特徴とする結像装置。
【請求項２】
請求項１において、前記光の進路（２５）の中に設けられた前記少なくとも１つのエレメント（７，６ｂ）が光センサ（７）である結像装置。
【請求項３】
請求項２において、前記光センサ（７）が複数の光感応性表面領域を備えており、前記光センサ（７）が前記作動装置（９）により移動する時に、これらの表面領域が光によりほぼ垂直に同時に照らされるように保持されている結像装置。
【請求項４】
請求項２において、前記光センサ（７）がＣＣＤである結像装置。
【請求項５】
請求項１において、前記光の進路（２５）の中に設けられた前記少なくとも１つのエレメント（７，６ｂ）が、その間にほぼ９０°の角度を挟み各々に光を受ける２つの反射面（６１，６３）を有するミラー（６ｂ）である結像装置。
【請求項６】
請求項１において、前記少なくとも１つのエレメント（７，６ｂ）が、前記作動装置（９）により移動可能な搬送ボード（１５，１５′）上に設けられている結像装置。
【請求項７】
請求項１において、前記位置センサ（２７）は、位置を電気信号に変換する容量性のトランスジューサを備える結像装置。
【請求項８】
請求項７において、前記トランスジューサは、２つの定置ボード（Ａ，Ｂ）と、その間に配置された可動ボード（Ｃ）とを備える結像装置。
【請求項９】
請求項６または８において、前記トランスジューサの前記可動ボード（Ｃ）が前記搬送ボード（１５，１５′）の一部である結像装置。
【請求項１０】
請求項６または８において、前記トランスジューサの前記可動ボード（Ｃ）と前記搬送ボード（１５，１５′）とが一体物である結像装置。
【請求項１１】
請求項６において、前記搬送ボード（１５，１５′）がプリント回路基板の一部である結像装置。
【請求項１２】
請求項１において、前記作動装置（９）は、駆動回路と相互に作用するコイル（１３）と、そのコイル（１３）と相互に作用するマグネット（１３）とを備える結像装置。
【請求項１３】
請求項８において、矩形波の電圧信号が前記容量性トランスジューサ（９）の前記２つの定置ボード（Ａ，Ｂ）に印加される結像装置。
【請求項１４】
請求項８において、反対極性の矩形波電圧信号が前記容量性トランスジューサ（９）の前記２つの定置ボード（Ａ，Ｂ）に印加される結像装置。
【請求項１５】
請求項８において、電気信号が前記可動ボード（Ｃ）からピックアップされ、かつ、位置判定回路に送られる結像装置。
【請求項１６】
請求項１２において、出力信号が位置判定回路からピックアップされ、コントロールループを形成するために、前記作動装置（９）に送られる結像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月22日(2003.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１結像光学系によって第１面の中間像を形成し、第２結像光学系によって前記中間像の再結像を第２面上に形成し、前記第１結像光学系からの光束を第２結像光学系へ導くように反射面を設け、
前記第１結像光学系を、前記第１面からの光束が往路のみ透過する往路光学系と、凹面鏡と該凹面鏡ヘの入射光と反射光との双方が透過するレンズ群とからなる往復光学系とによって形成した反射屈折光学系において、
前記往路光学系を、前記第１面側から順に、負屈折力の往路光学系第１群と、正屈折力の往路光学系第２群と、負屈折力の往路光学系第３群とを有するように形成したことを特徴とする反射屈折光学系。
【請求項２】
前記往路光学系第１群は、少なくとも前記第１面に凹面を向けたレンズを有する、請求項１記載の反射屈折光学系。
【請求項３】
前記往路光学系第３群は、少なくとも前記往復光学系に凹面を向けたレンズを有する、請求項１又は２記載の反射屈折光学系。
【請求項４】
前記第１結像光学系と第２結像光学系との結像倍率のうち、少なくともいずれか一方は縮小倍率である、請求項１、２又は３記載の反射屈折光学系。
【請求項５】
前記往復光学系と前記第２結像光学系との間に配置された反射面を有することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の反射屈折光学系。
【請求項６】
前記往路光学系と前記往復光学系との間の光路中に配置された反射面をさらに有することを特徴とする請求項５に記載の反射屈折光学系。
【請求項７】
前記第２結像光学系中に配置された反射面をさらに有することを特徴とする請求項５に記載の反射屈折光学系。
【請求項８】
前記往復光学系と前記第２結像光学系との間に配置された前記反射面は中間結像付近に配置されることを特徴とする請求項５乃至７の何れか一項に記載の反射屈折光学系。
【請求項９】
前記第１結像光学系は一体であり、且つ前記第２結像光学系は前記第１結像光学系とは独立の構造であることを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の反射屈折光学系。
【請求項１０】
レチクルの回路パターンをウエハに縮小転写する露光装置において、
請求項１乃至９の何れか一項に記載の反射屈折光学系を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
前記レチクルと前記ウエハとを前記光学系の縮小比に対応して互いに異なる速度で移動させつつ露光を行うことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
レチクルの回路パターンをウエハに縮小転写する露光方法において、
請求項１乃至９の何れか一項に記載の反射屈折光学系を用いて前記レチクルのパターン像を前記ウエハ上に形成することを特徴とする露光方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月23日(2003.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの画素が有する画像信号が複数の色信号から構成され、画素の位置に応じて少なくとも１つ以上の色信号が欠落する画像信号を処理する画像信号処理装置において、
上記画像信号から、指定された画素を包含する所定サイズの局所領域の色信号を抽出する抽出手段と、
この抽出手段で抽出された局所領域内の各色信号ごとに所定のパラメータを算出し、このパラメータに基づき１つの色信号を選択する色信号選択手段と、
この色信号選択手段で選択された色信号以外の色信号に関して、上記パラメータが選択された色信号のパラメータと同一となるように色信号を変形する変形手段と、
この変形手段で変形された複数の各色信号と上記色信号選択手段によって選択された色信号とを合成して複数の参照候補画像を生成する候補画像生成手段と、
この候補画像生成手段で生成された複数の参照候補画像から、所定の評価関数に基づき１つの参照画像を選択する参照画像選択手段と、
上記参照画像選択手段で選択された参照画像に基づき、欠落する色信号を復元する復元手段と、
を具備することを特徴とする画像信号処理装置。
【請求項２】
１つの画素が有する画像信号が複数の色信号から構成され、画素の位置に応じて少なくとも１つ以上の色信号が欠落する画像信号を入力処理する画像入力処理装置において、
色収差を生じる光学レンズ系と、この色収差量に基づき色信号の出現頻度が調整された撮像装置とからなる入力手段と、
この入力手段から得られた画像信号から、指定された画素を包含する所定サイズの局所領域の色信号を抽出する抽出手段と、
この抽出手段で抽出された局所領域内の各色信号中で、色収差量の少ない色信号を所定の構造モデルと評価関数に基づき変形および合成することで近似参照画像を生成する近似参照画像生成手段と、
この近似参照画像生成手段で生成された近似参照画像を色収差量の多い色信号の色収差量に基づき平滑化する平滑化手段と、
上記近似参照画像生成手段で生成された近似参照画像と上記平滑化手段で平滑化された近似参照画像とに基づき参照画像を生成し、欠落する色信号を復元する復元手段と、
を具備することを特徴とする画像入力処理装置。
【請求項３】
１つの画素が有する画像信号が複数の色信号から構成され、画素の位置に応じて少なくとも１つ以上の色信号が欠落する画像信号を処理する画像信号処理装置において、
上記画像信号から、指定された画素を包含する所定サイズの局所領域の色信号を抽出する抽出手段と、
この抽出手段で抽出された局所領域内の各色信号を所定の構造モデルと評価関数とに基づいて変形及び合成することで参照画像を生成する参照画像生成手段と、
この参照画像生成手段で生成された参照画像に基づき、欠落する色信号を復元する復元手段と、
を具備することを特徴とする画像信号処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、第２の発明に係る画像入力処理装置は、１つの画素が有する画像信号が複数の色信号から構成され、画素の位置に応じて少なくとも１つ以上の色信号が欠落する画像信号を入力処理する画像入力処理装置において、色収差を生じる光学レンズ系と、この色収差量に基づき色信号の出現頻度が調整された撮像装置とからなる入力手段と、この入力手段から得られた画像信号から、指定された画素を包含する所定サイズの局所領域の色信号を抽出する抽出手段と、この抽出手段で抽出された局所領域内の各色信号中で、色収差量の少ない色信号を所定の構造モデルと評価関数に基づき変形および合成することで近似参照画像を生成する近似参照画像生成手段と、この近似参照画像生成手段で生成された近似参照画像を色収差量の多い色信号の色収差量に基づき平滑化する平滑化手段と、上記近似参照画像生成手段で生成された近似参照画像と上記平滑化手段で平滑化された近似参照画像とに基づき参照画像を生成し、欠落する色信号を復元する復元手段とを具備する。
また、第３の発明に係る画像入力処理装置は、１つの画素が有する画像信号が複数の色信号から構成され、画素の位置に応じて少なくとも１つ以上の色信号が欠落する画像信号を処理する画像信号処理装置において、上記画像信号から、指定された画素を包含する所定サイズの局所領域の色信号を抽出する抽出手段と、この抽出手段で抽出された局所領域内の各色信号を所定の構造モデルと評価関数とに基づいて変形及び合成することで参照画像を生成する参照画像生成手段と、この参照画像生成手段で生成された参照画像に基づき、欠落する色信号を復元する復元手段と、を具備する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、第２の発明に係る画像入力処理装置は、１つの画素が有する画像信号が複数の色信号から構成され、画素の位置に応じて少なくとも１つ以上の色信号が欠落する画像信号を入力処理するにあたって、まず、上記画像入力処理装置において色収差を生じる光学レンズ系と色収差量に基づき色信号の出現頻度を調整した撮像装置とからなる入力手段を用い、この入力手段から得られた画像信号中の指定された画素を包含する所定サイズの局所領域の色信号を抽出する。次に、抽出された局所領域内の各色信号中で、色収差量の少ない色信号を所定の構造モデルと評価関数に基づき変形および合成することで近似参照画像を生成する。次に、この生成された近似参照画像を色収差量の多い色信号の色収差量に基づき平滑化する。そして、生成された近似参照画像と平滑化された近似参照画像とに基づき参照画像を生成し、欠落する色信号を復元する。
また、第３の発明に係る画像入力処理装置は、１つの画素が有する画像信号が複数の色信号から構成され、画素の位置に応じて少なくとも１つ以上の色信号が欠落する画像信号を処理するにあたって、まず、上記画像信号から、指定された画素を包含する所定サイズの局所領域の色信号を抽出する。次に、抽出された局所領域内の各色信号を所定の構造モデルと評価関数とに基づいて変形及び合成することで参照画像を生成する。そして、この生成された参照画像に基づき、欠落する色信号を復元する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
【発明の効果】
請求項１または３に記載の発明によれば、欠落する色信号を高精度に復元することができるようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月30日(2003.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
たとえば、特表昭５７−５００３１１号公報、同５７−５００３５４号公報および「アンシャープで粒状の目立つ写真画像のディジタル強調方法」、電子画像処理国際会議録、１９８２年７月、第１７９〜１８３頁（P.G.Powell and B.E.Bayer, “A Method for the Digital Enhancement of Unsharp,Grainy Photographic Images” , Proceedings of the International Conference on Electronic Image Processing,Jul.26-28,1982,pp.179-183)に開示されたポーウェルおよびバイヤーらの処理法では、粒状抑制方法として平滑化処理法（ローパスフィルタ）を用い、シャープネス強調方法としてアンシャープマスク（ハイパスフィルタ）による処理法を用いている。平滑化処理はｎ×ｎ画素の信号値にGaussian型等の重み付けを乗じて信号を平滑化することによって、粒状を抑制する処理である。シャープネス強調処理は、先ずｍ×ｍ画素の画像信号を用いて、中心画素から周囲画素の方向の微分値を求め、その値が設定した閾値より小さい場合は粒状や雑音と見做してコアリング処理で除去し、残った閾値より大きい微分値の和をとり、１．０以上の定数を乗じて上記の平滑化信号に加算することによりシャープネス強調を行う。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、原画像から粒状（雑音）領域と輪郭領域を信号レベルで分離する従来法では、原画像とぼけ画像の差分信号から輪郭領域と平坦領域を識別し、それぞれの領域に対してアンシャープマスクやラプラシアン等の異なる係数を用いて処理することによって、平坦領域では粒状を抑制しつつ、輪郭領域ではシャープネスを強調してエッジをぼかすことなく粒状抑制をしているが、輪郭領域と粒状領域の認識・分離が閾値となる信号レベルで一律に行われるため、その境界で不連続性が生じるという問題があった。
さらに、このような従来法では、エッジ強調あるいはシャープネス強調方法としてアンシャープマスクやラプラシアンが用いられているが、画像の輪郭・エッジ部にマッキーラインのような縁取りが発生し易く、視覚的に不自然な印象を与えるという問題があった。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
５）次に、エッジと粒状の識別・分離工程における粒状とエッジの重み付けについて説明する。
ここでは、粒状成分とエッジ成分を識別し、分離するには、粒状とエッジの特徴を利用する。先ず、空間的な領域では、粒状はフィルム全体すなわち画像全体にあるが、被写体の輪郭やエッジの部分よりも平坦な部分で目立つ。一方、エッジは画像中の主として被写体の輪郭部分と被写体表面の微細構造のある部分にある。また、濃度領域では、図３に示すように、粒状は主として撮影に用いた写真感光材料の粒状で構成されているので、図中点線で示されるように、濃度差は小さいものが多いが、エッジは被写体のコントラストに依存しており、画像によって大きく異なるが図中実線で示されるように、濃度差は微小なものから非常に大きいものまで変化に富んだものとなっている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月2日(2003.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像符号化方法および画像符号化装置、並びに画像伝送方法および画像伝送装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を直交変換して得られる直交変換係数に重み付けをし、適応的に変化する量子化ステップで量子化することにより前記画像を符号化する画像符号化方法であって、
前記直交変換係数に付す重みを、前記量子化ステップが小さい比率で変化するように制御する
ことを特徴とする画像符号化方法。
【請求項２】
前記直交変換係数に付す重みの制御を、所定の単位の前記画像を符号化するごとに行う
ことを特徴とする請求項１に記載の画像符号化方法。
【請求項３】
前記直交変換係数を所定の係数で除算することにより重み付けを行う場合において、
前記直交変換係数に付す重みの制御として、前記所定の係数を小さい値にする  ことを特徴とする請求項１に記載の画像符号化方法。
【請求項４】
前記直交変換係数を固定の量子化ステップで量子化する１パス目の処理を行うことにより得られる符号化データの発生符号量に基づいて、所定の目標符号量を設定し、その後、前記画像についての発生符号量が前記所定の目標符号量に一致するように、前記量子化ステップを設定して量子化を行う２パス目の処理を行う場合において、
前記直交変換係数に付す重みを、前記２パス目の処理における前記量子化ステップの設定範囲が、所定の範囲に含まれるように制御する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像符号化方法。
【請求項５】
前記直交変換係数に付す重みを、１パス目の処理により得られる前記発生符号量と目標符号量との比に基づいて制御する
ことを特徴とする請求項４に記載の画像符号化方法。
【請求項６】
画像を符号化する画像符号化装置であって、
前記画像を直交変換して、直交変換係数を出力する直交変換手段と、
前記直交変換係数に重み付けをする重み付け手段と、
前記重み付け手段により重み付けされた前記直交変換係数を適応的に変化する量子化ステップで量子化する量子化手段と
を備え、
前記重み付け手段は、前記量子化ステップが小さい比率で変化するように、前記直交変換係数に対して重み付けを行う
ことを特徴とする画像符号化装置。
【請求項７】
画像を符号化して得られる符号化データを伝送する画像伝送方法であって、
前記符号化データは、
前記画像を直交変換して得られる直交変換係数に重み付けをし、適応的に変化する量子化ステップで量子化することにより前記画像を符号化する場合において、
前記直交変換係数に付す重みを、前記量子化ステップが小さい比率で変化するように制御する
ことにより得られたものである
ことを特徴とする画像伝送方法。
【請求項８】
画像を符号化して得られる符号化データを伝送する画像伝送装置であって、
前記符号化データは、
前記画像を直交変換して得られる直交変換係数に重み付けをし、適応的に変化する量子化ステップで量子化することにより前記画像を符号化する場合において、
前記直交変換係数に付す重みを、前記量子化ステップが小さい比率で変化するように制御する
ことにより得られたものである
ことを特徴とする画像伝送装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像符号化方法および画像符号化装置、並びに画像伝送方法および画像伝送装置に関し、特に、復号画像の画質を均一にすることができるようにする画像符号化方法および画像符号化装置、並びに画像伝送方法および画像伝送装置に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項７に記載の画像伝送方法、および請求項８に記載の画像伝送装置は、符号化データが、画像を直交変換して得られる直交変換係数に重み付けをし、適応的に変化する量子化ステップで量子化することにより画像を符号化する場合において、直交変換係数に付す重みを、量子化ステップが小さい比率で変化するように制御することにより得られたものであることを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項７に記載の画像伝送方法、および請求項８に記載の画像伝送装置においては、符号化データが、画像を直交変換して得られる直交変換係数に重み付けをし、適応的に変化する量子化ステップで量子化することにより画像を符号化する場合において、直交変換係数に付す重みを、量子化ステップが小さい比率で変化するように制御することにより得られたものとなっている。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
請求項７に記載の画像伝送方法、および請求項８に記載の画像伝送装置によれば、符号化データが、画像を直交変換して得られる直交変換係数に重み付けをし、適応的に変化する量子化ステップで量子化することにより画像を符号化する場合において、直交変換係数に付す重みを、量子化ステップが小さい比率で変化するように制御することにより得られたものとなっている。従って、その符号化データから、画質の均一な復号画像を得ることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月17日(2003.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学機械研磨を行なうため、ウエハキャリア及び研磨パッド調整器を組み合わせた装置であって、
研磨パッドを調整する調整装置と、
調整用表面と関連し、前記ウエハを保持するキャリア装置と、
を備え、
前記ウエハ及び前記調整用表面が、前記研磨パッドを調整し、同時に前記ウエハを研磨するユニットとして前記研磨パッドに接触して配置され、且つ
前記調整装置は、更に、調整用表面を備え、前記調整用表面は、複数の調整歯を有する歯付結晶基板の調整用表面を有し、且つ、前記複数の調整歯の各々は、研磨パッドのセル構造の寸法及び間隔に匹敵する間隔及び大きさを有することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記調整装置が、本質的に円形であり、さらに前記キャリヤ装置が、前記調整装置により囲まれるほぼ円形の領域である請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記調整装置が、超音波エネルギを前記研磨パッドに向けて、研磨パッドのセル構造の内部からスラリー堆積物を取り除く超音波エミッタを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
選択された領域がウェハに接触して研磨した直後に、前記調整装置が、研磨パッド上の選択された領域を調整することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記調整装置がキャリヤ装置に結合し、前記調整用表面が、前記キャリヤ装置の回転に相応して回転する請求項１に記載の装置。
【請求項６】
さらに、前記調整装置の下向き力と前記キャリヤ装置の下向き力を独立して制御する独立制御機構を備える請求項１に記載の装置。
【請求項７】
ウエハ上でＣＭＰプロセスを実効する方法であって、
ウエハをキャリア装置と研磨パッドに接触させるステップと、
同時に、ウエハを研磨パッドで研磨し、研磨パッドを調整用表面で調整するために、ウエハがキャリア装置と研磨パッドに接触すると同時に、キャリア装置の調整用表面を研磨パッドに関連させるステップと、
複数の調整歯を有する歯付結晶基板の調整用表面で前記研磨パッドを調整するステップと、
を有し、前記複数の調整歯の各々は、研磨パッドのセル構造の寸法及び間隔に匹敵する間隔及び大きさを有することを特徴とする方法。
【請求項８】
同時に、ウェハを研磨し、ウェハを囲む調整用表面をもつ調整領域で研磨パッドを調整するステップを更に有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
超音波エネルギを研磨パッドに向けることによって、研磨パッド内部および上部からスラリー堆積物を取り除くように研磨パッドを調整するステップを更に有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
研磨パッドがウェハに相対的に動き、選択された領域がウェハに接触して研磨する直前に、研磨パッドの所定の領域を調整するステップを更に有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
研磨パッドがウェハに相対的に動き、選択された領域がウェハに接触して研磨した直後に、研磨パッドの選択された領域を調整するステップを更に有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
キャリヤ装置が、選択された速度で、研磨パッドに対して選択された向きに回転し、キャリヤ装置と関係して調整用表面を回転するステップを更に有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
ウエハを研磨するＣＭＰシステムであって、
ウエハを保持するキャリア装置と、
所定の速度及び向きで回転するプラテンと、
前記プラテンに関連して、ウエハを研磨する研磨パッドと、
前記ウエハが研磨パッドに接触するにしたがって、前記研磨パッドを潤滑させ、さらにウエハを緩やかに研磨するためのスラリーコーティングと、
を含み、
前記キャリア装置は、前記研磨パッドを調整するためのものであり、且つ更に前記研磨パッドを調整する調整用表面を有し、前記キャリア装置は、ウエハ及び前記調整用表面が同時に前記研磨パッドを調整し、ウエハを研磨するために前記研磨パッドに接触するように前記ウエハを保持し、且つ
前記調整用表面は、複数の調整歯を有する歯付結晶基板の調整用表面を有し、前記複数の調整歯の各々は、研磨パッドのセル構造の寸法及び間隔に匹敵する間隔及び大きさを有することを特徴とするシステム。
【請求項１４】
複数のウェハの各々に関係する前記研磨パッド上の各位置を別個に同時に調整する一方で、前記研磨パッド上の複数のウェハを同時に研磨するための複数の前記キャリヤ装置を更に備えることを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記調整用表面が、ほぼ輪状のディスクであって、前記キャリヤ装置が、前記調整用表面の中に配置されるほぼ円形のディスクであることを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１６】
前記調整用表面が、超音波エミッタを備え、前記研磨パッドに超音波エネルギを向け、前記研磨パッドの内部およびその上部からスラリー堆積物を取り除くことを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
パッドのセル構造の内部でこれらの粒子およびスラリーにしばしば生じる問題は、ボイド内のスラリーの濃度が高くなることである。この問題を解決するためには、多くのＣＭＰシステムが、パッド表面を引っ掻く(scratch)研磨パッド調整器を使用し、パッドの多孔性構造内のスラリーを取り除き、事実上、研磨パッド表面を「再び新しく(renew)」する。パッド調整器は、使用されたすなわち汚染されたスラリーが研磨パッド多孔性構造のボイド内に残るため、あまり効果がない。
従来のタイプのパッド調整器を使用するＣＭＰシステムの別の問題は、それらが、パッド調整器を研磨パッドに接触する位置に置くロボットアームあるいは別の同様の機構により制御されることである。これらの調整器は、代表的には弧状のＸ−Ｙ移動と制限があるＺ移動を行なうコンピュータ制御されたロボットを構成して、調整ヘッドを配置し且つ下向力を定める、後研磨あるいは元位置(in situ)システムのいずれかであってよい。これらのアームは、研磨プラテンの周囲で取り付けプレートを必要とし、調整後にヘッドをクリーンにするためのリンスステーションを必要とする。このことは、ソフトウェア制御の複雑さが増すことと同様に、研磨ツールに対する複雑さ及びツールに必要な別のスペースが増える。後研磨調整器は、研磨中のパッドのグレイジング(glazing)を補正する。元位置パッド調整器は、実施するためには扱いづらく、ツールの信頼性を制限するものとなる。これらが研磨パッドを調整する際に、パッドが半導体ウェハに接触する前に、調整器が、研磨パッドをスイープしてパッドを調整する。ロボットアームのスイープ、および半導体ウェハと接触する前加工された表面の高い割合を維持する必要性のために、研磨パッドは大きくなければならない。多くのＣＭＰシステムにおいて、研磨パッドは、半導体ウェハ領域の何倍にもなることがある。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月6日(2003.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体雰囲気中で処理される物品を均一かつ効率的に支持するための固定装置において、処理される物品に対して複数の点接触支持位置を提供する支持構造を含み、該複数の点接触支持位置が、処理される該物品を支持するのに十分であり、しかも、該物品と該気体雰囲気との接触を、該気体雰囲気による該物品の実質的に均一な処理を妨げる程度に遮るものではないことを特徴とする固定装置。
【請求項２】
該眼用物品がコンタクトレンズである請求項１記載の固定装置。
【請求項３】
該物品が眼用レンズであり、該支持構造が、
（ａ）内側開口を中に画定する周方向支持フレームと、
（ｂ）該フレームに取り付けられ、該フレームから内側に延びる少なくとも１個の支持部材とを含む請求項１記載の固定装置。
【請求項４】
該物品が該支持部材上に配置され、該フレームの実質的中心に位置付けられたとき、該周方向支持フレームが、該物品の縁よりも先まで延びている請求項３記載の固定装置。
【請求項５】
該支持部材がワイヤまたはポリマー線である請求項３記載の固定装置。
【請求項６】
該物品の支持された面の１％未満を覆い隠す請求項１記載の固定装置。
【請求項７】
該複数の点接触支持位置が少なくとも３カ所あり、該物品が眼用レンズであり、該支持構造が、
（ａ）フレームと、
（ｂ）該フレームに取り付けられた非強磁性の第一のワイヤと、
（ｃ）該第一のワイヤと交差するように該フレームまたは該第一のワイヤに取り付けられた非強磁性の第二のワイヤとを含む請求項１記載の固定装置。
【請求項８】
該処理が該物品の被覆である請求項１記載の固定装置。
【請求項９】
（ａ）処理される物品を用意する段階と、
（ｂ）該物品に対して支持構造を設ける段階と、
（ｃ）該物品が複数の点接触支持位置で支持されるように該物品を該支持構造上に配置する段階と、
（ｄ）該物品に対して実質的に均一な表面処理を施す時間および条件で該物品を処理ガスに暴露する段階と、
を含むことを特徴とする、気体雰囲気中で物品を均一かつ効率的に処理する方法。
【請求項１０】
該物品がコンタクトレンズである請求項９記載の方法。
【請求項１１】
該処理ガスがプラズマガスであり、該物品上にポリマー被覆を形成する請求項９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月20日(2003.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個人情報が格納された情報格納体と、
前記情報格納体から前記個人情報を入力する個人情報入力部と、
目的情報を入力する目的情報入力部と、
前記個人情報入力部および目的情報入力部に入力された前記個人情報および目的情報を送信する通信部と、
前記通信部から送信された前記個人情報および目的情報に基づいて予め格納されている案内情報を選択し出力する情報選択部と、
前記情報選択部から出力された前記案内情報を前記通信部を介して入力し前記案内情報を音声，文字および画像のうちの少なくとも１つの形態で出力する出力部とを備えた案内装置。
【請求項２】
個人情報が格納された情報格納体と、
前記情報格納体から前記個人情報を入力する個人情報入力部と、
目的情報を入力する目的情報入力部と、
前記個人情報入力部および目的情報入力部に入力された前記個人情報および目的情報を送信する通信部と、
前記通信部から送信された前記個人情報および目的情報に基づいて案内情報を生成し出力する情報生成部と、
前記情報選択部から出力された前記案内情報を前記通信部を介して入力し前記案内情報を音声，文字および画像のうちの少なくとも１つの形態で出力する出力部とを備えた案内装置。
【請求項３】
情報格納体が目的情報入力部を有することを特徴とする請求項１または２記載の案内装置。
【請求項４】
出力部が携帯可能であることを特徴とする請求項１，２または３記載の案内装置。
【請求項５】
個人情報が格納された情報格納体と、案内操作部と、情報選択部とからなる案内装置であって、
前記案内操作部は、
前記情報格納体から前記個人情報を入力する個人情報入力部と、
目的情報を入力する目的情報入力部と、
前記個人情報入力部および目的情報入力部に入力された前記個人情報および目的情報を前記情報選択部に送信する通信部と、
前記情報選択部から出力された前記案内情報を前記通信部を介して入力し前記案内情報を音声，文字および画像のうちの少なくとも１つの形態で出力する出力部とを備え、
前記情報選択部は、前記通信部から送信された前記個人情報および目的情報に基づいて予め格納されている案内情報を選択して前記通信部に送信する案内装置。
【請求項６】
案内操作部と情報選択部とは別室に設けられ、案内操作部と情報選択部とは通信により情報の伝達を行う請求項５記載の案内装置。
【請求項７】
案内情報を出力する案内操作部が携帯可能である請求項５または６記載の案内装置。
【請求項８】
個人情報が格納された情報格納体と、案内操作部と、情報選択部とからなる案内装置であって、
前記案内操作部は、
前記情報格納体から前記個人情報を入力する個人情報入力部と、
目的情報を入力する目的情報入力部と、
前記個人情報入力部および目的情報入力部に入力された前記個人情報および目的情報を前記情報選択部に送信する通信部と、
前記情報選択部から出力された前記案内情報を前記通信部を介して入力し前記案内情報を音声，文字および画像のうちの少なくとも１つの形態で出力する出力部とを備え、
前記情報選択部は、前記通信部から前回送信された個人情報および目的情報と今回送信された個人情報および目的情報とに基づいて予め格納されている案内情報を選択して前記通信部に送信する案内装置。
【請求項９】
案内操作部を複数備え、情報選択部は今回個人情報および目的情報を送信した案内操作部の通信部に案内情報を送信する請求項８記載の案内装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このように出力部を携帯できることにより、案内情報を得ながら、目的の場所への移動や目的を実現するための行動を行うことが可能となる。
本発明の請求項５記載の案内装置は、個人情報が格納された情報格納体と、案内操作部と、情報選択部とからなる案内装置であって、前記案内操作部は、前記情報格納体から前記個人情報を入力する個人情報入力部と、目的情報を入力する目的情報入力部と、前記個人情報入力部および目的情報入力部に入力された前記個人情報および目的情報を前記情報選択部に送信する通信部と、前記情報選択部から出力された前記案内情報を前記通信部を介して入力し前記案内情報を音声，文字および画像のうちの少なくとも１つの形態で出力する出力部とを備え、前記情報選択部は、前記通信部から送信された前記個人情報および目的情報に基づいて予め格納されている案内情報を選択して前記通信部に送信する。
本発明の請求項６記載の案内装置は、請求項５記載の案内装置において、案内操作部と情報選択部とは別室に設けられ、案内操作部と情報選択部とは通信により情報の伝達を行う。
本発明の請求項７記載の案内装置は、請求項５または６記載の案内装置において、案内情報を出力する案内操作部が携帯可能である。
本発明の請求項８記載の案内装置は、個人情報が格納された情報格納体と、案内操作部と、情報選択部とからなる案内装置であって、前記案内操作部は、前記情報格納体から前記個人情報を入力する個人情報入力部と、目的情報を入力する目的情報入力部と、前記個人情報入力部および目的情報入力部に入力された前記個人情報および目的情報を前記情報選択部に送信する通信部と、前記情報選択部から出力された前記案内情報を前記通信部を介して入力し前記案内情報を音声，文字および画像のうちの少なくとも１つの形態で出力する出力部とを備え、前記情報選択部は、前記通信部から前回送信された個人情報および目的情報と今回送信された個人情報および目的情報とに基づいて予め格納されている案内情報を選択して前記通信部に送信する。
本発明の請求項９記載の案内装置は、請求項８記載の案内装置において、案内操作部を複数備え、情報選択部は今回個人情報および目的情報を送信した案内操作部の通信部に案内情報を送信する。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月6日(2004.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
複数の貫通穴が設けられた配管接続部品と、この配管接続部品の片面を覆い、上記配管接続部品との間に混合室を形成するカバー部品と、上記配管接続部品に設けられた貫通穴に挿入され、気液２相冷媒を上記混合室に流入させる冷媒供給管と、上記配管接続部品に設けられた貫通穴に挿入され、上記混合室で混合された冷媒を分配して流出させる複数の冷媒分配管とを備え、上記冷媒供給管から流入する冷媒を、上記混合室の壁面に衝突させた後、上記冷媒分配管に流出させるように構成したことを特徴とする冷媒分配器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
冷媒供給管の周囲に、複数の冷媒分配管を上記冷媒供給管と同方向に配置したことを特徴とする請求項１記載の冷媒分配器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
複数の貫通穴が設けられた配管接続部品を、上記配管接続部品の片面を覆い、上記配管接続部品との間に混合室を形成するカバー部品に挿入すると共に、上記配管接続部品に設けられた複数の貫通穴に、冷媒供給管と複数の冷媒分配管を同一方向より挿入して仮組立を行い、上記配管接続部品と上記カバー部品、上記配管接続部品と上記冷媒供給管、及び上記配管接続部品と上記複数の冷媒分配管とを一括接合するようにしたことを特徴とする冷媒分配器の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の構成による冷媒分配器は、複数の貫通穴が設けられた配管接続部品と、この配管接続部品の片面を覆い、上記配管接続部品との間に混合室を形成するカバー部品と、上記配管接続部品に設けられた貫通穴に挿入され、気液２相冷媒を上記混合室に流入させる冷媒供給管と、上記配管接続部品に設けられた貫通穴に挿入され、上記混合室で混合された冷媒を分配して流出させる複数の冷媒分配管とを備え、上記冷媒供給管から流入する冷媒を、上記混合室の壁面に衝突させた後、上記冷媒分配管に流出させるように構成したものである。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、この発明の第２の構成による冷媒分配器は、冷媒供給管の周囲に、複数の冷媒分配管を上記冷媒供給管と同方向に配置したものである。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、この発明の冷媒分配器の製造方法は、複数の貫通穴が設けられた配管接続部品を、上記配管接続部品の片面を覆い、上記配管接続部品との間に混合室を形成するカバー部品に挿入すると共に、上記配管接続部品に設けられた複数の貫通穴に、冷媒供給管と複数の冷媒分配管を同一方向より挿入して仮組立を行い、上記配管接続部品と上記カバー部品、上記配管接続部品と上記冷媒供給管、及び上記配管接続部品と上記複数の冷媒分配管とを一括接合するようにしたものである。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
【発明の効果】
以上のように、この発明の第１の構成による冷媒分配器によれば、複数の貫通穴が設けられた配管接続部品と、この配管接続部品の片面を覆い、上記配管接続部品との間に混合室を形成するカバー部品と、上記配管接続部品に設けられた貫通穴に挿入され、気液２相冷媒を上記混合室に流入させる冷媒供給管と、上記配管接続部に設けられた貫通穴に挿入され、上記混合室で混合された冷媒を分配して流出させる複数の冷媒分配管とを備え、上記冷媒供給管から流入する冷媒を、上記混合室の壁面に衝突させた後、上記冷媒分配管に流出させるように構成したので、確実に気液混合された冷媒を分配管に流すことができ、分配性能の優れた分配器が得られる効果がある。
また、部品構造が簡単で安価なものが得られるとともに、ろう付け等の作業も容易となり、製造工程が簡略化される効果がある。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
また、この発明の第２の構成による冷媒分配器によれば、冷媒供給管の周囲に、複数の冷媒分配管を上記冷媒供給管と同方向に配置したので、部品構造が簡単で安価なものが得られるとともに、ろう付け等の作業も容易となり、製造工程が簡略化される効果がある。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
また、この発明の冷媒分配器の製造方法によれば、複数の貫通穴が設けられた配管接続部品を、上記配管接続部品の片面を覆い、上記配管接続部品との間に混合室を形成するカバー部品に挿入すると共に、上記配管接続部品に設けられた複数の貫通穴に、冷媒供給管と複数の冷媒分配管を同一方向より挿入して仮組立を行い、上記配管接続部品と上記カバー部品、上記配管接続部品と上記冷媒供給管、及び上記配管接続部品と上記複数の冷媒分配管とを一括接合するようにしたので、接合工程を一工程で行え、再加熱により一旦ろう付した部分からろう材が流出したり、不要な部分にろう材が流入したりすることのない高品質で安価な分配器が得られる効果がある。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月4日(2003.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信方法において、当該方法が、
（Ａ）  モバイル局に関連しているリンク識別子にアクセスするステップと、
（Ｂ）  基地局が単一あるいは複数個のメッセージをサービス提供プロセッサにルーティングすることを可能にするルーティングラベルを包含させる目的で前記リンク識別子を修正するステップと
を有することを特徴とする通信方法。
【請求項２】
前記ステップ（Ｂ）が、
（Ｂ１）  複数個の前記基地局のうちのあらゆるものに対して前記サービス提供プロセッサ宛に前記単一あるいは複数個のメッセージをルーティングすることを可能にするルーティングラベルを構成するように前記ルーティングラベルを選択するステップ
を有することを特徴とする請求項第１項に記載の通信方法。
【請求項３】
前記ステップ（Ｂ１）が、
（Ｂ１．１）  前記複数個の基地局のうちの第一基地局が前記サービス提供プロセッサ宛に前記モバイル局に関連している第一メッセージをルーティングすることを可能にし、かつ、前記複数個の基地局のうちの第二基地局が前記サービス提供プロセッサ宛に前記モバイル局に関連している第二メッセージをルーティングすることを可能にするルーティングラベルを構成するように前記ルーティングラベルを選択するステップ
を有することを特徴とする請求項第２項に記載の通信方法。
【請求項４】
前記ステップ（Ａ）が、
（Ａ１）  特定のモバイル局を識別し、かつ、汎用パケット無線サービス標準に従う一時的な論理リンク識別子をアクセスするステップを有しており、
ステップ（Ｂ）が、
（Ｂ２）  前記モバイル局と利用可能な複数個のプロセッサのうちから選択されたプロセッサとの間の関連を表示し、かつ、前記基地局が前記単一あるいは複数個のメッセージを前記選択されたプロセッサ宛にルーティングすることを可能にするルーティングラベルを構成するように前記ルーティングラベルを選択するステップと、
（Ｂ３）  前記基地局が前記少なくとも一つのメッセージを前記選択されたプロセッサ宛にルーティングすることを可能にするルーティングラベルを包含させるように前記一時的論理リンク識別子を修正するステップとを有し、
前記単一あるいは複数個のメッセージのうちの少なくとも一つが複数個のモバイル局のうちのある特定のモバイル局に関連していることを特徴とする請求項１に記載の通信方法。
【請求項５】
前記ステップ（Ｂ）が、
（Ｂ４）  前記基地局に前記サービス提供プロセッサのアドレスをルーティングテーブルの使用を通じて決定させることを可能にするルーティングラベルを構成する前記ルーティングラベルを選択するステップを有し、
前記サービス提供プロセッサが第一サービス提供プロセッサを含んでおり、さらに、
（Ｂ４．１）  前記第一サービス提供プロセッサが利用不可能であるという決定がなされた際に、前記ルーティングラベルを第二サービス提供プロセッサのアドレスに関連させる目的で前記ルーティングテーブルを更新するステップと、
（Ｂ４．２）  単一あるいは複数個のメッセージを前記第二サービス提供プロセッサ宛にルーティングする目的で前記ルーティングラベル及び前記ルーティングテーブルを使用するステップとを
有することを特徴とする請求項１に記載の通信方法。
【請求項６】
通信システムにおいて、当該システムが、
モバイル局に関連しているリンク識別子にアクセスするコンポーネント、及び、
基地局が単一あるいは複数個のメッセージをサービス提供プロセッサにルーティングすることを可能にするルーティングラベルを包含させる目的で前記リンク識別子を修正するコンポーネント
を有することを特徴とする通信システム。
【請求項７】
前記ルーティングラベルが、複数個の前記基地局のうちのあらゆるものに対して前記サービス提供プロセッサ宛に前記単一あるいは複数個のメッセージをルーティングすることを可能にし、さらに、
前記ルーティングラベルが、前記複数個の基地局のうちの第一基地局が前記サービス提供プロセッサ宛に前記モバイル局に関連している第一メッセージをルーティングすることを可能にし、かつ、前記複数個の基地局のうちの第二基地局が前記サービス提供プロセッサ宛に前記モバイル局に関連している第二メッセージをルーティングすることを可能にすることを特徴とする請求項６に記載の通信システム。
【請求項８】
前記ルーティングラベルが、前記モバイル局と利用可能な複数個のプロセッサのうちから選択されたプロセッサとの間の関連を表示し、かつ、前記基地局が前記単一あるいは複数個のメッセージを前記選択されたプロセッサ宛にルーティングすることを可能にし、
前記単一あるいは複数個のメッセージのうちの少なくとも一つが複数個のモバイル局のうちのある特定のモバイル局に関連していて、前記リンク識別子は、前記特定のモバイル局を識別し、かつ、汎用パケット無線サービス標準に従う一時的な論理リンク識別子を有しており、
前記コンポーネントは、基地局が少なくとも一つのメッセージを選択されたプロセッサにルーティングすることを可能にするルーティングラベルを含む一時的な論理リンク識別子を修正する一つのコンポーネントを備えたサービス提供プロセッサに、基地局が単一あるいは複数個のメッセージをルーティングすることを可能にする目的でルーティングラベルを含むリンク識別子を修正することを特徴とする請求項６に記載の通信システム。
【請求項９】
前記ルーティングラベルは、前記基地局に前記サービス提供プロセッサのアドレスをルーティングテーブルの使用を通じて決定させ、
前記基地局と前記サービス提供プロセッサとの組合せにおいて、前記サービス提供プロセッサは第一サービス提供プロセッサを有し、前記基地局は前記コンポーネントと通信をして前記ルーティングテーブルを更新し、前記第一サービス提供プロセッサが利用不可能であるという決定がなされた際に、前記ルーティングラベルを第二サービス提供プロセッサのアドレスに関連させ、
前記基地局は、単一あるいは複数個のメッセージを前記第二サービス提供プロセッサ宛にルーティングする目的で前記ルーティングラベル及び前記ルーティングテーブルを使用する
ことを特徴とする請求項６に記載の通信システム。
【請求項１０】
コンピュータで読み取り可能な信号生成媒体と、
基地局に関連したリンク識別子にアクセスするための媒体に配置された手段と、
基地局がサービス提供プロセッサ宛に単一あるいは複数のメッセージをルーティングすることを可能にするルーティングラベルを含むリンク識別子を修正するための媒体に配置された手段とを有する通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャパシタを有する半導体装置において、
上記キャパシタは、下部電極及び上部電極と該各電極間に設けられた誘電体膜とを有し、
上記誘電体膜が、五酸化タンタルと五酸化ニオブの固溶体からなることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
キャパシタを有する半導体装置において、
上記キャパシタは、下部電極及び上部電極と該各電極間に設けられた誘電体膜とを有し、
上記誘電体膜が、五酸化タンタルニオブ（（Ｔａ，Ｎｂ）２Ｏ５）からなることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
上記誘電体膜が、比誘電率が５０以上で厚さが１０ｎｍ以下の膜であることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置。
【請求項４】
上記誘電体膜が、六方晶結晶構造を有することを特徴とする請求項３に記載の半導体装置。
【請求項５】
上記六方晶結晶構造が、基底面内で０.３６ｎｍあるいはその整数倍周期であることを特徴とする請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】
上記六方晶結晶構造が、基底面内で０.６３ｎｍあるいはその整数倍周期であることを特徴とする請求項４に記載の半導体装置。
【請求項７】
上記下部電極が、白金及びルテニウムの中から選ばれた少なくとも１種から構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置。
【請求項８】
半導体基板と、
該半導体基板の主表面に形成されたＭＯＳトランジスタと、
該ＭＯＳトランジスタのソース領域又はドレイン領域と電気的に接続されたプラグと、
該プラグ上に設けられた層間絶縁膜と、
上記層間絶縁膜内に設けられた凹型の孔と、
該凹型の孔内に形成されたキャパシタとを有し、
該キャパシタが、
上記凹型の孔の少なくとも内側側面及び底面上に形成され、かつ、上記プラグと電気的に接続された下部電極と、
該下部電極上に設けられた五酸化タンタルと五酸化ニオブの固溶体からなる誘電体膜と、
該誘電体膜上に設けられた上部電極とからなることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
半導体基板と、
該半導体基板の主表面に形成されたＭＯＳトランジスタと、
該ＭＯＳトランジスタのソース領域又はドレイン領域と電気的に接続されたプラグと、
該プラグ上に設けられた層間絶縁膜と、
上記層間絶縁膜内に設けられた凹型の孔と、
該凹型の孔内に形成されたキャパシタとを有し、
該キャパシタが、
上記凹型の孔の少なくとも内側側面及び底面上に形成され、かつ、上記プラグと電気的に接続された下部電極と、
該下部電極上に設けられた五酸化タンタルニオブ（（Ｔａ，Ｎｂ）２Ｏ５）からなる誘電体膜と、
該誘電体膜上に設けられた上部電極とからなることを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
上記誘電体膜が、比誘電率が５０以上で厚さが１０ｎｍ以下の膜であることを特徴とする請求項８又は９に記載の半導体装置。
【請求項１１】
上記誘電体膜が、六方晶結晶構造を有することを特徴とする請求項１０に記載の半導体装置。
【請求項１２】
上記六方晶結晶構造が、基底面内で０.３６ｎｍあるいはその整数倍周期であることを特徴とする請求項１１に記載の半導体装置。
【請求項１３】
上記六方晶結晶構造が、基底面内で０.６３ｎｍあるいはその整数倍周期であることを特徴とする請求項１１に記載の半導体装置。
【請求項１４】
上記下部電極が、白金及びルテニウムの中から選ばれた少なくとも１種から構成されていることを特徴とする請求項８又は９に記載の半導体装置。
【請求項１５】
層間絶縁膜内に凹型の孔を設ける工程と、
該凹型の孔の少なくとも内側側面及び底面上に下部電極を形成する工程と、該下部電極上に、厚さが１０ｎｍ以下の五酸化タンタルと五酸化ニオブの固溶体からなる誘電体膜を、ペンタエトキシタンタルとペンタエトキシニオブの混合原料を用いる化学的気相成長法により形成する工程と、
該誘電体膜上に上部電極を形成する工程を有し、
上記下部電極，上記誘電体膜及び上記上部電極とによりキャパシタを構成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１６】
上記下部電極を形成する工程を、ビスエチルシクロペンタジエニルルテニウムをテトラヒドロフランに０.１ｍｏｌ／ｌの濃度で溶解した溶液を液体搬送する化学的気相成長法により行なうことを特徴とする請求項１５に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１７】
上記下部電極を形成する工程を、メチルシクロペンタジエニルトリメチル白金をテトラヒドロフランに０.１ｍｏｌ／ｌの濃度で溶解した溶液を液体搬送する化学的気相成長法により行なうことを特徴とする請求項１５に記載の半導体装置の製造方法。