(57)【要約】【課題】着脱が容易であり、様々な噴射形態を有するガス噴射ノズルが形成されたアダプターを設けて様々な基板に最適に均一にガスを噴射させることができるガス供給装置を提供する。【解決手段】基板の表面に蒸着用ガスを供給するためのガス供給装置において、その内部に沿って環状に形成されたガス供給路と、前記ガス供給路から中心方向に形成された複数のガス分配路と、を有する環状のガス供給リングと；前記各ガス分配路に連通するガス噴射ノズルを有し、前記ガス供給リングの内側に脱着できるように結合される複数のアダプターを含み、前記複数のアダプターは、前記ガス噴射ノズルの噴射形態が異なることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に蒸着用ガスを供給するためのガス供給装置において、
その内部に沿って環状に形成されたガス供給路と、前記ガス供給路から中心方向に形成された複数のガス分配路と、を有する環状のガス供給リングと；
前記各ガス分配路に連通するガス噴射ノズルを有し、前記ガス供給リングの内側に脱着できるように結合される複数のアダプターを含み、
前記複数のアダプターは、前記ガス噴射ノズルの噴射形態が異なることを特徴とするガス供給装置。
【請求項２】
前記ガス噴射ノズルの噴射形態は、噴射角度と噴射位置との中で少なくともいずれか一つが異なることを特徴とする請求項１に記載のガス供給装置。
【請求項３】
前記ガス供給リングの前記ガス供給路は、複数設けられ、
前記アダプターは、前記ガス噴射ノズルと連通されるように上下方向に形成され、前記ガス分配路と連通されるガス連結路をさらに有することを特徴とする請求項２に記載のガス供給装置。
【請求項４】
前記ガス分配路をそれぞれ選択的に遮断することができる遮断手段をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載のガス供給装置。
【請求項５】
前記遮断手段は、各ガス分配路に挿入されて前記ガス分配路を遮断することができる複数の遮断部材を含むことを特徴とする請求項４に記載のガス供給装置。
【請求項６】
前記ガス供給リングには、前記各アダプターを収容するための複数のアダプター収容部が形成されていることを特徴とする請求項５に記載のガス供給装置。
【請求項７】
前記アダプター収容部の内の前記各ガス分配路の出口には、前記遮断部材を収容するための遮断部収容部が形成されていることを特徴とする請求項６に記載のガス供給装置。
【請求項８】
前記ガス噴射ノズルと連通されるように前記各アダプターに着脱できるように結合された複数の補助噴射ノズルをさらに含むことを特徴とする請求項７に記載のガス供給装置。
【請求項９】
前記アダプターには、前記ガス噴射ノズルと連通されて前記補助噴射ノズルを支持する補助噴射ノズル支持部が設けられたことを特徴とする請求項８に記載のガス供給装置。
【請求項１０】
前記補助噴射ノズルは、前記ガス噴射ノズルと所定の角度をなすことを特徴とする請求項９に記載のガス供給装置。
【請求項１１】
前記ガス噴射ノズルは、前記ガス連結路から水平に延長されていることを特徴とする請求項３、４及び８のうちいずれか一項に記載のガス供給装置。
【請求項１２】
前記ガス噴射ノズルは、前記ガス連結路から下向きに延長されていることを特徴とする請求項３、４及び８のうちいずれか一項に記載のガス供給装置。
【請求項１３】
前記噴射ノズルは、前記ガス連結路から上向きに傾斜に延長されることを特徴とする請求項３、４及び８のうちいずれか一項に記載のガス供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス供給装置にかかり、さらに詳しくは、チャンバー内に位置した基板の表面に蒸着用ガスを供給するための構造を改善したガス供給装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガス供給装置は、半導体製造工程のチャンバー内に位置したウェーハのような基板の表面に蒸着されるガスを供給するための装置である。
【０００３】
一般に、ガス供給装置は、基板の表面に均一にガスが分布されるようにガスを供給することが重要である。
【０００４】
これにより、このようなガス供給装置に関する先行技術が米国特許第6,143,078号のＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）工程のチャンバーのガス供給装置に開示されている。このような従来の基板に薄い膜を蒸着するためのガス供給装置は、図１２に示すように、工程チャンバー内のガス供給リング４１０に設けられた複数のポートと、複数のポートの中の一部に配置されて第１ガスを所定の距離に噴射させるための複数の第１ガスノズル４０４と、複数のポートの中で残りに配置されて第２ガスを所定の距離に噴射させるための複数の第２ガスノズル４０２と、を含む。
【０００５】
第１ガスノズル４０４及び第２ガスノズル４０２は、それぞれ異なる角度にガス供給リング４１０に固定されている。
【０００６】
これにより、第１ガスノズル４０４及び第２ガスノズル４０２を通じて異なるガスをチャンバー内に噴射することができるようになる。
【０００７】
ところが、最近には、様々なサイズのウェーハのような基板が開発されており、これにより様々な基板の表面に均一の蒸着のためには様々なガス噴射位置及びガス噴射角度を有するガス噴射ノズルが必要になる。
【０００８】
ところが、このような従来のガス供給装置は、ガス供給リング４１０に装着された第１ガスノズル４０４及び第２ガスノズル４０２が相互に異なるが固定された角度をなしているので、様々な基板に対応してガス噴射ノズルの噴射位置や噴射角度を様々に変化させることができないので、多様な基板に最適に均一な噴射をすることができないという問題がある。
【特許文献１】米国特許第6,143,078号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、様々な基板に最適に均一にガスを噴射することができるガス供給装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明は、基板の表面に蒸着用ガスを供給するためのガス供給装置において、その内部に沿って環状に形成されたガス供給路と、前記ガス供給路から中心方向に形成された複数のガス分配路と、を有する環状のガス供給リングと；前記各ガス分配路に連通するガス噴射ノズルを有し、前記ガス供給リングの内側に脱着できるように結合される複数のアダプターを含み、前記複数のアダプターは、前記ガス噴射ノズルの噴射形態が異なることを特徴とする。
【００１１】
ここで、前記ガス噴射ノズルの噴射形態は、噴射角度と噴射位置との中で少なくともいずれか一つが異なることが好ましい。
【００１２】
前記ガス供給リングの前記ガス供給路は、複数設けられ、前記アダプターは、前記ガス噴射ノズルと連通されるように上下方向に形成され、前記ガス分配路と連通されるガス連結路をさらに有することが好ましい。 
【００１３】
前記ガス分配路をそれぞれ選択的に遮断することができる遮断手段をさらに含むことが好ましい。
【００１４】
前記遮断手段は、各ガス分配路に挿入されて前記ガス分配路を遮断することができる複数の遮断部材を含むことが好ましい。
【００１５】
前記ガス供給リングには、前記各アダプターを収容するための複数のアダプター収容部が形成されていることが好ましい。
【００１６】
前記アダプター収容部の内の前記各ガス分配路の出口には、前記遮断部材を収容するための遮断部収容部が形成されていることが好ましい。
【００１７】
前記ガス噴射ノズルと連通されるように前記各アダプターに着脱できるように結合された複数の補助噴射ノズルをさらに含むことが好ましい。
【００１８】
前記アダプターには、前記ガス噴射ノズルと連通されて前記補助噴射ノズルを支持する補助噴射ノズル支持部が設けられたことが好ましい。
【００１９】
前記補助噴射ノズルは、前記ガス噴射ノズルと所定の角度をなすことが好ましい。
【００２０】
前記ガス噴射ノズルは、前記ガス連結路から水平に延長されていることが好ましい。
【００２１】
前記ガス噴射ノズルは、前記ガス連結路から下向きに延長されていることが好ましい。
【００２２】
前記噴射ノズルは、前記ガス連結路から上向きに傾斜に延長されることが好ましい。
【発明の効果】
【００２３】
前述したように、本発明によると、着脱が容易であり、様々な噴射形態を有するガス噴射ノズルが形成されたアダプターを設けて様々な基板に最適に均一にガスを噴射させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付の図面を参照して本発明を詳細に説明する。
【００２５】
図１は、本発明の第１実施形態によるガス供給装置が設けられたチャンバーの断面図である。この図面に示すように、チャンバー１は、ベース７と、ベース７の上側に設けられた環状のガス供給装置２０と、ガス供給装置２０の内側の中央に設けられてウェーハのような基板１０を支持する基板支持台１１と、ガス供給装置２０の上側に設けられたセラミック板３と、セラミック板３の上側に設けられたプラズマアンテナ５と、外部に位置した基板１０を基板支持台１１に安着させることができるように設けられた基板供給口（図示せず）と、ガス供給装置２０から供給されたガスを排出することができるように設けられたガス排出部１５等を含む。
【００２６】
プラズマアンテナ５は、セラミック板３の上側にコイル形状の銅線からなって交流電源が供給される。このようなプラズマアンテナ５は、ガス供給装置２０からチャンバー１の内に供給されるガスが容易に基板１０に蒸着されるようにプラズマ状態に作る役割をする。
【００２７】
図２乃至図４に示すように、本発明の第１実施形態によるガス供給装置２０は、その内部に形成されたガス供給路２３及びガス分配路２５を有する環状のガス供給リング２１と、各ガス分配路２５に連通されるガス噴射ノズル３１と、ガス供給リング２１の内側に着脱できるように結合される複数のアダプター３０と、を含む。
【００２８】
ガス供給路２３は、ガス供給リング２１の内部に沿って環状に形成されており、複数のガス分配路２５は、ガス供給路２３から中心方向に貫通されている。また、ガス供給リング２１は、このようなガス供給路２３が形成されることができるように上下に分離することができるように形成されることが好ましい。また、ガス供給リング２１には、各アダプター３０を収容するための複数のアダプター収容部２７が形成されていることが好ましい。また、ガス供給リング２１は、複数のガス分配路２５を選択的に遮断することができる遮断手段をさらに設けることが好ましい。
【００２９】
ガス供給路２３は、複数の異なるガスを供給することができるように複数形成されることが好ましく、本実施形態ではガス供給路２３が第１ガス及び第２ガスを供給することができるように第１ガス供給路２３ａ及び第２ガス供給路２３ｂからなる。また、各ガス供給路２３は、外部に設けられた各ガス供給部（図示せず）と連結されてガスが供給される。
【００３０】
ガス分配路２５は、第１ガスを第１ガス供給路２３ａからチャンバー１内部に供給するために第１ガス供給路２３ａと連通された複数の第１ガス分配路２５ａと、第２ガスを第２ガス供給路２３ｂからチャンバー１内部に供給するために第２ガス供給路２３ｂと連通された複数の第２ガス分配路２５ｂと、を有する。また、遮断手段は、ガス分配路２５を遮断することができるようにガス分配路２５の端部に設けられることが好ましい。
【００３１】
各アダプター収容部２７は、一つの第１ガス分配路２５ａ及び一つの第２ガス分配路２５ｂと連通できるようにアダプター３０の形状に対応してガス供給リング２１の内側に陥没される。また、アダプター収容部２７には、アダプター３０のスクリュー締結孔３５とスクリュー３７により締結されるようにスクリュー孔２８が形成される。
【００３２】
遮断手段は、各ガス分配路２５に挿入されてガス分配路２５を遮断することができる複数の遮断部材４０を含むことが好ましい。しかし、遮断手段は、複数のガス分配路２５を選択的に遮断することができる弁装置であることもできる。
【００３３】
遮断部材４０は、アダプター収容部２７の内の各ガス分配路２５の出口に設けられて遮断部材４０に対応して陥没された遮断部材収容部２９に挿入されることが好ましい。また、遮断部材４０は、円筒形状に設けられ、その中央領域にガスの漏出を防止することができるＯ-リングが設けられることが好ましい。また、このようなＯ-リング４１は、複数個設けられることもできる。
【００３４】
遮断部材収容部２９は、第１ガス分配路２５ａの出口に設けられた第１遮断部材収容部２９ａと、第２ガス分配路２５ｂの出口に設けられた第２遮断部材収容部２９ｂを含むことが好ましい。
【００３５】
これにより、遮断部材４０は、アダプター収容部２７の内側面に形成された第１遮断部材収容部２９ａ及び第２遮断部材収容部２９ｂの中の一つを選択的に遮断することができるようになる。
【００３６】
アダプター３０は、ガス供給リング２１に形成された複数のアダプター収容部２７に着脱できるように複数個が設けられる。また、アダプター３０のガス噴射ノズル３１は、噴射形態が異なることができるように様々な形態に製作される。このようなガス噴射ノズル３１の噴射形態は、噴射角度と噴射位置の中で少なくともいずれか一つが異なることが好ましい。また、アダプター３０は、ガス噴射ノズル３１と連通されるように上下方向に配置され、第１及び第２ガス分配路２５ａ、２５ｂと連通されるガス連結路３３をさらに有することが好ましい。また、アダプター３０は、スクリュー３７によりアダプター収容部２７のスクリュー孔２８と締結できるように一対のスクリュー締結孔３５を有することが好ましい。これによりアダプター３０は、ガス供給リング２１に着脱できるように結合されることができる。
【００３７】
ガス連結路３３は、ガス分配路２５の出口と接するアダプター３０に上下方向に陥没される。第１ガス分配路２５ａ及び第２ガス分配路２５ｂとガス分配路３１とを連結することができるだけでなく、ガス噴射ノズル３１の噴射位置が異なるように形成することができる。
【００３８】
このような様々なガス噴射ノズル３１が形成されたアダプター３０が図５ａ乃至図７ｂに示されている。
【００３９】
図５ａ乃至図５ｃには、ガス噴射ノズル３１がガス連結路３３から中心方向に水平以貫通された場合である。このような場合、ガス噴射ノズル３１がアダプター３０の中央領域に形成されることができ（図５ａ参照）、ガス噴射ノズル３１がアダプター３０の上部領域に形成されることができ（図５ｂ参照）、ガス噴射ノズル３１がアダプター３０の下部領域に形成されることもできる（図５ｃ参照）。
【００４０】
図６ａ及び図６ｂには、ガス噴射ノズル３１がガス連結路３３から中心方向に下向き傾斜に貫通された場合である。このような場合、ガス噴射ノズル３１をアダプター３０の下部領域に形成することもでき（図６ａ参照）、ガス噴射ノズル３１をアダプター３０の上部の領域に形成することもできる（図６ｂ参照）。
【００４１】
図７ａ及び図７ｂには、ガス噴射ノズル３１がガス連結路３３から中心方向に上向き傾斜に貫通された場合である。このような場合、ガス噴射ノズル３１をアダプター３０の下部領域に形成することができ（図７ａ参照）、ガス噴射ノズル３１をアダプター３０の上部領域に形成することもできる（図７ｂ参照）。
【００４２】
このような構成により、本発明の第１実施形態によるガス供給装置の結合及び作動過程は次の通りである。
【００４３】
まず、遮断部材４０を利用して各アダプター収容部２９に設けられた第１ガス分配路２５ａ及び第２ガス分配路２５ｂの中でいずれか一つを遮断する。また、前述のような様々な形態のガス噴射ノズル３１が形成されたアダプター３０を選択的に各アダプター収容部２７に結合する。これにより、基板支持第１１に位置した基板１０に対して噴射角度及び噴射位置を選択してガスを噴射することができる。また、基板１０の種類が変更される時には、様々な形態のアダプター３０を適用して実験することにより、最適の噴射形態を有するアダプター３０を選択することができる。
【００４４】
これにより、本発明の第１実施形態によるガス供給装置２０は、様々な形態のガス噴射ノズル３１が形成されたアダプター３０を選択的に容易に着脱させることができ、様々な基板１０に最適に均一にガスを噴射させることができる。
【００４５】
図８及び図９は、本発明の第２実施形態によるガス供給装置の斜視図及び部分分解斜視図である。
【００４６】
この図面に示すように、第２実施形態は、アダプター３０のガス噴射ノズル３１が噴射される出口領域にガス噴射ノズル３１と連通されるように各アダプター３１に着脱できるように結合された所定の長さの複数の補助噴射ノズル５０がさらに設けられることが第１実施形態の差である。
【００４７】
アダプター３０には、ガス噴射ノズル３１と連通されて補助噴射ノズル５０を支持する補助噴射ノズル支持部５１がさらに設けられることが好ましい。
【００４８】
補助噴射ノズル支持部５１は、アダプター３０に対して様々な角度に設けられることもできる（図１０ａ乃至図１０ｃ参照）。
【００４９】
図１０ａには、補助噴射ノズル５０がアダプター３０から水平方向にガスを噴射することができるように補助噴射ノズル支持部５１が形成される。図１０ｂには、補助噴射ノズル５０がアダプター３０から下向き傾斜にガスを噴射することができるように補助噴射ノズル支持部５１が形成される。図１０ｃには、補助噴射ノズル５０がアダプター３０から上向きに傾斜にガスを噴射することができるように補助噴射ノズル支持部５１が形成される。
【００５０】
また、図１０ａ乃至図１０ｃでは、中央領域で水平にガスが噴射されるガス噴射ノズル３１が形成されたアダプター３０に補助噴射ノズル支持部５１が形成された場合だけを示したが、このような補助噴射ノズル支持部５１が前述した第１実施形態の他の噴射形態を有するアダプター３０にも形成されることもできる。
【００５１】
このような構成により、本発明の第２実施形態によるガス供給装置も本発明の目的を達成することができ、補助噴射ノズル５０が所定の長さを有しているのでさらに正確に基板にガスを噴射させることができる。
【００５２】
図１１は本発明の第３実施形態によるガス供給装置の斜視図である。この図面に示すように、第３実施形態は、ガス供給リング２１に一つのガス供給路２３ｃが形成され、このような一つのガス供給路２３ｃに連通された複数のガス分配路２５ｃが設けられることが前述した実施形態との差である。
【００５３】
このような場合にも、第１実施形態のように様々な形態のアダプター３０を選択的に使用することができ、第２実施形態のように補助噴射ノズル５０を使用することもできる。
【００５４】
このように、本発明による基板の表面に蒸着用ガスを供給するためのガス供給装置は、その内部に沿って環状に形成されたガス供給路とガス供給路から中心方向に形成された複数のガス分配路を有する環状のガス供給リングと、各ガス分配路に連通するガス噴射ノズルを有しガス供給リングの内側に脱着できるように結合される複数のアダプターと、を含み、複数のアダプターはガス噴射ノズルの噴射形態が異なるようにして、様々な基板に最適に均一にガスを噴射させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の第１実施形態によるガス供給装置が設けられたチャンバーの断面図である。
【図２】図１のガス供給装置の部分切取斜視図である。
【図３】図１のガス供給装置の部分分解斜視図である。
【図４】図１のガス供給装置の断面図である。
【図５ａ】図１のガス供給装置に装着されるアダプターのガス噴射ノズルの形態を異なりにした断面図である。
【図５ｂ】図１のガス供給装置に装着されるアダプターのガス噴射ノズルの形態を異なりにした断面図である。
【図５ｃ】図１のガス供給装置に装着されるアダプターのガス噴射ノズルの形態を異なりにした断面図である。
【図６ａ】図１のガス供給装置に装着されるアダプターのガス噴射ノズルの形態を異なりにした断面図である。
【図６ｂ】図１のガス供給装置に装着されるアダプターのガス噴射ノズルの形態を異なりにした断面図である。
【図７ａ】図１のガス供給装置に装着されるアダプターのガス噴射ノズルの形態を異なりにした断面図である。
【図７ｂ】図１のガス供給装置に装着されるアダプターのガス噴射ノズルの形態を異なりにした断面図である。
【図８】本発明の第２実施形態によるガス供給装置の部分斜視図である。
【図９】図８のガス供給装置の部分分解斜視図である。
【図１０ａ】図８のガス供給装置に装着されるアダプターの補助噴射ノズルの形態を異なりにした斜視図である。
【図１０ｂ】図８のガス供給装置に装着されるアダプターの補助噴射ノズルの形態を異なりにした斜視図である。
【図１０ｃ】図８のガス供給装置に装着されるアダプターの補助噴射ノズルの形態を異なりにした斜視図である。
【図１１】本発明の第３実施形態によるガス供給装置の部分切取斜視図である。
【図１２】従来のガス供給装置のガス供給リングの斜視図である。
【符号の説明】
【００５６】
１   チャンバー
３   セラミック板
５   プラズマアンテナ
７   ベース
１０ 基板
１１ 基板支持台
１５ ガス排出口
２０ ガス供給装置
２１ ガス供給リング
２３ ガス供給路
２５ ガス分配路
２７ アダプター収容部
２８ スクリュー孔
２９ 遮断部材収容部
３０ アダプター
３１ ガス噴射ノズル
３３ ガス連結路
３５ スクリュー締結孔
４０ 遮断部材
４１ Ｏ−リング
５０ 補助噴射ノズル
５１ 補助噴射ノズル支持部
【図１】
2004307990.tif 000003
【図２】
2004307990.tif 000004
【図３】
2004307990.tif 000005
【図４】
2004307990.tif 000006
【図５ａ】
2004307990.tif 000007
【図５ｂ】
2004307990.tif 000008
【図５ｃ】
2004307990.tif 000009
【図６ａ】
2004307990.tif 000010
【図６ｂ】
2004307990.tif 000011
【図７ａ】
2004307990.tif 000012
【図７ｂ】
2004307990.tif 000013
【図８】
2004307990.tif 000014
【図９】
2004307990.tif 000015
【図１０ａ】
2004307990.tif 000016
【図１０ｂ】
2004307990.tif 000017
【図１０ｃ】
2004307990.tif 000018
【図１１】
2004307990.tif 000019
【図１２】
2004307990.tif 000020