【手続補正書】
【提出日】平成26年2月12日(2014.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リレー装置（３０２）において、
（Ａ）磁界生成用の第１コイル（３０６）を有する第１基板（５０２）と、
（Ｂ）電気スイッチを含む第２基板と、
を有し、
前記第１コイルは、第１面に平面状に配置され、前記第１コイルと前記第１基板とはモノリシックに集積形成され、
前記電気スイッチは、第１電気接点と第２電気接点とを含み、前記第１電気接点は、磁界により駆動され、
前記電気スイッチと前記第２基板とは、モノリシックに集積形成され、  
前記第１電気接点は、前記第１面と平行な第２面を選択的に移動可能である
ことを特徴とするリレー装置。
【請求項２】
前記第１基板は、磁界強化用の第２コイルを更に有し、
前記第２コイルは、前記第１面に平面状に配置され、前記第２コイルと前記第１基板とはモノリシックに集積形成される
ことを特徴とする請求項１記載のリレー装置。
【請求項３】
前記第１基板は、磁界強化用の第２コイルを更に有し、
前記第２コイルは、前記第１面に平行な第３面に平面状に配置され、前記第１コイルと第２コイルとは同軸に配置され、
前記第２コイルと前記第１基板とはモノリシックに集積形成される
ことを特徴とする請求項１記載のリレー装置。
【請求項４】
前記第１基板は、第３の電気接点と第４の電気接点とを含み、
前記第１基板は、第１表面と第２表面とを有し、
前記第１コイルは、前記第１表面側の近傍で且つ前記第２表面とは離れた側に配置され、
前記第３電気接点と第４電気接点は、前記第２表面の近傍で且つ前記第１表面とは離れた側に配置され、
前記第１コイルは、前記第３電気接点と第４電気接点との間を流れる第１電流に基づいて磁界を生成する
ことを特徴とする請求項１記載のリレー装置。
【請求項５】
前記第１基板は、第５電気接点と第６電気接点とを更に有し、
前記第１電気接点と第５電気接点は、電気的に結合され、
前記第２電気接点と第６電気接点は、電気的に結合され、
前記第５電気接点と第６電気接点は、前記第２表面の近傍で第１表面とは離れた側に配置され、
前記磁界は、前記第１電気接点を動かし前記第２電気接点を物理的に接触させ、これにより、前記第５電気接点と第６電気接点の間に第２電流が流れる
ことを特徴とする請求項４記載のリレー装置。
【請求項６】
前記磁界を、前記電気スイッチを介して前記磁界をチャネリングする閉鎖磁気回路を更に有し、前記閉鎖磁気回路は、第１磁気コアと第２磁気コアを有し、
前記第１磁気コアは、前記第１電気接点を含み、
前記第２磁気コアは、前記第２電気接点を含む
ことを特徴とする請求項５記載のリレー装置。
【請求項７】
リレー装置において、
（Ａ）磁界を生成する第１コイルと、
前記第１コイルは、第１面に平面状に配置され、
（Ｂ）前記磁界をチャネリングする第１磁気コアと、
前記第１磁気コアは、第１電気端子と可動な第１電気接点とを含み、前記第１コイルは、前記第１面で第１磁気コアを包囲し、
（Ｃ）前記磁界を強化する第２コイルと、
前記第２コイルは、平面状に第２面に配置され、
（Ｄ）前記磁界をチャネリングする第２磁気コアと、
前記第２磁気コアは、第２電気端子と第２電気接点とを含み、前記第２コイルは、前記第２面で第２磁気コアを包囲し、
を有し、
前記第１電気接点と第２電気接点とは、一体になって、磁気駆動スイッチを形成し、これにより、前記第１電気接点と第２電気接点との間の電流の流れを制御する
ことを特徴とする装置。
【請求項８】
前記第１面と第２面は、同一面である
ことを特徴とする請求項７記載のリレー装置。
【請求項９】
前記磁界を電気スイッチを介してチャネリングする閉鎖磁気回路を更に有し、
前記閉鎖磁気回路は、（Ｃ）第１磁気コアと（Ｄ）第２磁気コアとを有し、
前記第１磁気コア（Ｃ）は、
（Ｃ１）前記第１基板を貫通する第１バイアスと、
前記第１バイアスと複数のコイルの内の第１コイルは、同心状に配置され、
（Ｃ２）前記第２基板を貫通する第２バイアスと、
（Ｃ３）前記第２面を移動可能な第１部材を含む第１アンカーと、を有し、
前記第１部材は、前記第１電気接点を含み、
前記第２基板と第１アンカーと第１部材は、モノリシックに集積形成され、
前記第１バイアスと第２バイアスと第１アンカーは、強磁性材料製であり、
を含み、
前記第２磁気コア（Ｄ）は、
（Ｄ１）前記第１基板を貫通する第３バイアスと、
前記第３バイアスと複数のコイルの内の第２コイルは、同心状に配置され、
（Ｄ２）前記第２基板を貫通する第４バイアスと、
（Ｄ３）前記第２電気接点を含む第２アンカーと、を有し、
前記第２基板と第２アンカーとは、モノリシックに集積形成され、
前記第３バイアスと第４バイアスと第２アンカーは、強磁性材料製であり、
を含む
ことを特徴とする請求項１記載のリレー装置。
【請求項１０】
第２コイルを更に有し、前記第２コイルは、前記第１コイルと協同して、前記磁界を生成するような大きさであり、そのように配置され、
前記第１基板は、前記第２コイルを有し、
前記第３バイアスと前記第２コイルは、同軸に配置されている
ことを特徴とする請求項９記載のリレー装置。
【請求項１１】
（Ａ）磁界生成用の第１コイルを有する第１基板を用意するステップと、
前記第１コイルは、第１面に平面状に配置され、
（Ｂ）磁気駆動されるスイッチである電気スイッチを含む第２基板を用意するステップと、
前記電気スイッチは、第１電気接点と第２電気接点とを含み、前記第１電気接点は、前記第１面に平行な第２面を選択的に移動し、
（Ｃ）前記第１基板と第２基板とを第１構成体に配置するステップと、
（Ｄ）前記磁界と電気スイッチとの結合を形成するステップと
を有する
ことを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記（Ｄ）ステップは、
（Ｄ１）第１磁気コアを用意するステップと、
（Ｄ２）第２磁気コアを用意するステップと、
を有し、
前記第１コイルは、前記第１面で、前記第１磁気コアを包囲し、
前記第１磁気コアと前記第２磁気コアは、一体となって、閉鎖磁気回路を形成し、
前記第１磁気コアと前記第２磁気コアは、前記電気スイッチを介して、前記磁界のチャネリングを構成するよう配置される
ことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記（Ｄ１）ステップは、
（Ｄ１１）前記第１基板を貫通する第１バイアスを形成するステップと、
（Ｄ１２）前記第２基板を貫通する第２バイアスを形成するステップと、
（Ｄ１３）前記第２基板上に第１アンカーを形成するステップと、
を有し、
前記第１アンカーは、前記第２面を移動可能な第１部材を含み、
前記第１部材は、前記第１電気接点を含み、
前記第１バイアスと第２バイアスと第１アンカーは、強磁性材料製であり、
前記（Ｄ２）ステップは、
（Ｄ２１）前記第１基板を貫通する第３バイアスと、
（Ｄ２２）前記第２基板を貫通する第４バイアスと、
（Ｄ２３）前記第２基板上に第２アンカーを形成するステップと、
を有し、
前記第２アンカーは、前記第２電気接点を含み、
前記第３バイアスと第４バイアスと第２アンカーは、強磁性材料製であり、
前記第１配列により、
前記第１バイアスと第２バイアスとの間に磁気結合が形成され、
前記第３バイアスと第４バイアスとの間に磁気結合が形成される
ことを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
（Ｅ）第３電気接点を用意するステップと、
（Ｆ）第４電気接点を用意するステップと、
（Ｇ）第５電気接点を用意するステップと、
（Ｈ）第６電気接点を用意するステップと
を更に有し、
前記第３電気接点と第４電気接点と第１コイルは、電気的に結合され、
前記第１電気接点と第５電気接点は、電気的に結合され、
前記第２電気接点と第６電気接点は、電気的に結合され、
前記第１基板は、第３電気接点と第４電気接点と第５電気接点と第６電気接点を含み、
前記第１基板は、第１表面と第２表面とを有し、
前記第１コイルは、前記第１表面側の近傍で且つ前記第２表面とは離れた側に配置され、
前記第３電気接点と第４電気接点と第５電気接点と第６電気接点は、前記第２表面の近傍で且つ前記第１表面とは離れた側に配置される
ことを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
（Ｉ）磁界強化用の第２コイルを用意するステップ
を更に有し、
前記第１基板は、前記第２コイルを有し、
前記第２コイルは、前記第１面に平面状に配置される
ことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１６】
（Ｊ）磁界強化用の第２コイルを用意するステップ
を更に有し、
前記第１基板は、前記第２コイルを有し、
前記第２コイルは、前記第１面に平行な第３面に平面状に配置され、前記第１コイルと第２コイルとは同軸に配置される
ことを特徴とする請求項１１記載の方法。