【手続補正書】
【提出日】平成24年11月5日(2012.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最終光学素子を有する投影系と、
可動ステージであり、前記最終光学素子と前記可動ステージの表面との間にギャップが存在しかつ前記表面と前記最終光学素子との間の前記ギャップに浸液が満たされるように前記投影系の下方位置に移動可能な、前記可動ステージと、
前記表面と前記最終光学素子との間に液浸を維持する保持部材と、を備え、
前記保持部材は、
出口部と、
前記投影系によって前記浸液を通じて前記可動ステージ上に投影されるパターン像が通過する開口と、
前記出口部を覆うとともに、前記ステージの前記表面と面する第１面と、第１チャンバと接し前記第１面と対向する第２面とを有する、第１液体透過性部材と、
前記第１液体透過性部材の前記第２面に隣接しかつ離間して配置される第２液体透過性部材であり、前記第１液体透過性部材の前記第２面に面する第１面と、前記第２液体透過性部材の前記第１面と対向する第２面とを有するとともに、前記第２液体透過性部材の前記第２面が前記第１チャンバと異なる第２チャンバと接する、前記第２液体透過性部材と、
を有する、液浸リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記第１液体透過性部材の前記第１面から前記第１液体透過性部材の前記第２面へ前記第１液体透過性部材内を通して、前記浸液を前記第１チャンバ内に吸引するように、前記第１チャンバに接続された第１真空系をさらに備える請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記第２チャンバに接続された第２真空系をさらに備え、前記第２真空系によって前記第２液体透過性部材内を通して前記第１チャンバから前記第２チャンバに前記浸液を吸引する請求項１または２記載の装置。
【請求項４】
前記第１液体透過性部材が水平に配置され、前記第２液体透過性部材の前記第１面が前記第１液体透過性部材の前記第２面に対して垂直方向に離れた位置に配置される請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記第２液体透過性部材と前記第１液体透過性部材との間の距離が、前記第２液体透過性部材の前記第１面の異なる複数の部分で変化する請求項１〜４のいずれか一項記載の装置。
【請求項６】
前記第２液体透過性部材の前記第１面が凸である請求項５記載の装置。
【請求項７】
前記第２液体透過性部材が前記第１液体透過性部材に対して傾斜している請求項５記載の装置。
【請求項８】
前記第１液体透過性部材および前記第２液体透過性部材の少なくとも一つがメッシュである請求項１〜７のいずれか一項記載の装置。
【請求項９】
前記第１液体透過性部材および前記第２液体透過性部材の少なくとも一つが多孔質材である請求項１〜８のいずれか一項記載の装置。
【請求項１０】
前記多孔質材がスポンジである請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記多孔質材が、その中を通して伸びる複数の孔を有するプレートである請求項９記載の装置。
【請求項１２】
前記第１液体透過性部材の前記第２面と前記第２液体透過性部材の前記第１面との間の距離が、少なくとも約３ｍｍである請求項１〜１１のいずれか一項記載の装置。
【請求項１３】
前記第１液体透過性部材と前記第２液体透過性部材とは、孔のサイズ、厚さ、および空隙率のうち少なくとも一つが異なる請求項１〜１２のいずれか一項記載の装置。
【請求項１４】
前記保持部材が前記投影系の最終光学素子を実質的に囲む請求項１〜１３のいずれか一項記載の装置。
【請求項１５】
前記ステージは、基板ホルダを有し、
前記基板ホルダの上面、前記基板ホルダに保持された基板の上面、又はその両方が、前記最終光学素子との間に前記ギャップを形成する前記表面に相当する、請求項１〜１４のいずれか一項記載の装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項記載の装置における前記投影系及び浸液を通じて基板上にパターン化された像を投影して前記基板を露光することと、
露光された前記基板を現像すること、
を含むデバイス製造方法。
【請求項１７】
液浸リソグラフィシステムにおける投影系と露光対象物との間のギャップを含む液浸領域からの浸液回収方法であって、
前記液浸領域から前記第１液体透過性部材内を通じて保持部材の少なくとも一部の範囲内に配置される第１チャンバ内に前記浸液を吸引する工程であり、前記保持部材は、出口部と、対象物に投影されるパターン像が通過する開口とを有し、前記出口部は、前記出口部を覆う前記第１液体透過性部材を有し、前記第１液体透過性部材は、前記対象物に面する第１面と、前記第１チャンバと接しかつ前記第１面と対向する第２面とを有する、前記工程と、
前記第１チャンバから第２液体透過性部材内を通じて第２チャンバ内に前記浸液を吸引する工程であり、前記第２液体透過性部材は、第１チャンバと第２チャンバとの間の境界に配置されかつ、前記第１液体透過性部材の前記第２面に面しかつ離間して配置される第１面と、前記第２液体透過性部材の前記第１面と対向しかつ前記第２チャンバと接する第２面とを有する、前記工程と、
を含む浸液回収方法。
【請求項１８】
前記第１チャンバを第１真空系に接続することにより前記浸液が前記第１液体透過性部材を通じて前記第１チャンバに吸引され、前記第２チャンバを第２真空系に接続することにより前記浸液が前記第２液体透過性部材を通じて前記第２チャンバに吸引される請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
前記第２液体透過性部材と前記第１液体透過性部材との間の距離が、前記第２液体透過性部材の前記第１面の異なる複数の部分で変化する請求項１７または１８記載の方法。
【請求項２０】
前記第２液体透過性部材の前記第１面が凸である請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
前記第２液体透過性部材が前記第１液体透過性部材に対して傾斜している請求項１９記載の方法。
【請求項２２】
前記第１液体透過性部材および前記第２液体透過性部材の少なくとも一つがメッシュである請求項１７〜２１のいずれか一項記載の方法。
【請求項２３】
前記第１液体透過性部材および前記第２液体透過性部材の少なくとも一つが多孔質材である請求項１７〜２２のいずれか一項記載の方法。
【請求項２４】
前記多孔質材がスポンジである請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
前記多孔質材が、その中を通して伸びる複数の孔を有するプレートである請求項２３記載の方法。
【請求項２６】
前記第１液体透過性部材の前記第２面と前記第２液体透過性部材の前記第１面との間の距離が、少なくとも約３ｍｍである請求項１７〜２５のいずれか一項記載の方法。
【請求項２７】
前記第１液体透過性部材および前記第２液体透過性部材が、穴のサイズ、厚さ、および空隙率のうち少なくとも一つが異なる請求項１７〜２６のいずれか一項記載の方法。
【請求項２８】
最終光学素子を有する投影系と、
基板ホルダを含み、前記最終光学素子と前記基板ホルダの上面及び前記基板ホルダに保持された基板の上面の一方又は両方との間にギャップが存在するように、前記投影系の下方位置に移動可能な可動ステージと、
前記ギャップに浸液を維持する保持部材と、を備え、
前記保持部材は、
出口部と、
前記投影系によって前記浸液を通じて前記可動ステージ上に投影されるパターン像が通過する開口と、  
前記保持部材と前記基板ホルダの上面及び前記基板ホルダに保持された前記基板の上面の一方又は両方との間のギャップから前記出口部を通じて前記浸液が吸引される第１チャンバと、
前記第１チャンバから実質的に前記浸液のみが回収される、前記第１チャンバとは異なる第２チャンバと、を有する、
液浸リソグラフィ装置。
【請求項２９】
前記第１チャンバは、前記出口部を通じて前記第１チャンバに前記浸液が吸引されるように、第１真空系に接続される請求項２８に記載の装置。
【請求項３０】
前記第１真空系は、前記第１チャンバから前記浸液を回収しない請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
前記第２チャンバは、前記第１チャンバから前記浸液を吸引するように、前記第２真空系に接続される請求項２８〜３０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項３２】
前記保持部材は、実質的に前記投影系の前記最終光学素子を囲む請求項２８〜３１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項３３】
請求項２８〜３２のいずれか一項に記載の装置の前記投影系と浸液とを介して基板上にパターン像を投影して基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。