Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年4月21日(2003.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ポリイソシアネートを主成分とする主剤と、芳香族ポリアミンおよび可塑剤を含有する硬化剤とを、常温で混合、塗工して硬化せしめるポリウレタン塗膜材の製造方法において、ａ．ポリイソシアネートとして１−イソシアネート−３，３，５−トリメチル−５−イソシアネートメチルシクロヘキサンとポリエステルポリオールとの反応によって得られるイソシアネート末端プレポリマーのイソシアネート含有率が２〜８重量％である、イソシアネート末端プレポリマーを使用し、ｂ．芳香族ポリアミンの主成分としてジエチルトルエンジアミンを使用し、ｃ．可塑剤をイソシアネート末端プレポリマーの使用量１００重量部に対し５〜１００重量部使用し、ｄ．主剤と硬化剤とを、主剤のイソシアネート基と硬化剤中の芳香族ポリアミンのアミノ基との当量比が０．９〜２．０となるように混合、塗工して硬化せしめることを特徴とする常温硬化型ポリウレタン塗膜材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記した主剤のイソシアネート基と硬化剤中の芳香族ポリアミンのアミノ基との当量比が０．９〜１．５の範囲である請求項１記載の常温硬化型ポリウレタン塗膜材の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】すなわち本発明は、ポリイソシアネートを主成分とする主剤と、芳香族ポリアミンおよび可塑剤を含有する硬化剤とを、常温で混合、塗工して硬化せしめるポリウレタン塗膜材の製造方法において、ａ．ポリイソシアネートとして１−イソシアネート−３，３，５−トリメチル−５−イソシアネートメチルシクロヘキサンとポリエステルポリオールとの反応によって得られるイソシアネート末端プレポリマーのイソシアネート含有率が２〜８重量％である、イソシアネート末端プレポリマーを使用し、ｂ．芳香族ポリアミンの主成分としてＤＥＴＤＡを使用し、ｃ．可塑剤を、イソシアネート末端プレポリマーの使用量１００重量部に対し５〜１００重量部使用し、ｄ．主剤と硬化剤とを、主剤のイソシアネート基と硬化剤中の芳香族ポリアミンのアミノ基との当量比が０．９〜２．０となるように混合、塗工して硬化せしめることを特徴とする常温硬化型ポリウレタン塗膜材の製造方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】本発明の方法を実施するには、ＩＰＤＩとポリエステルポリオールとの反応によって得られるイソシアネート末端プレポリマーを主成分とする主剤と、ＤＥＴＤＡを主成分とする芳香族ポリアミン架橋剤、所定量の可塑剤、さらには必要に応じて触媒、充填剤、顔料、安定剤等を配合してなる硬化剤とを、主剤のＮＣＯ基と硬化剤中の芳香族ポリアミンのＮＨ２基との当量比が０．９〜２．０となるように施工現場で混合し、被塗物上に塗工して硬化せしめる。主剤のＮＣＯ基と硬化剤中のＮＨ２基との当量比が０．９未満では物性が低下し、未反応のアミンにより塗膜が黄変し易くなり、２．０を越えると硬化性が遅くなり過ぎ、硬化塗膜の強度が弱くなる。塗膜物性も含めて最も好ましいＮＣＯ基とＮＨ２との当量比は、０．９〜１．５の範囲である。主剤と硬化剤とを上述したような割合で混合することによって、施工環境温度下（通常のウレタン塗膜剤では５〜３５℃）で２０分以上１５０分以下といった可使時間を保持することができる。２０分以上の可使時間があれば、補修あるいは小面積施工が可能であり、１５０分を越えると硬化が遅くなるので好ましくない。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【表２】
1998017819.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月26日(2003.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで、成形体の長尺方向をダイスの水平方向としてプレス方向の少なくとも一方が凸型からなる圧粉体を成形する方法が考えられ、図２１に示すように、粉末５をダイス１の水平方向に長い成形空間２に充填して少なくとも上パンチ３が凹型からなる上下パンチを用いてプレス方向の直交方向に長い成形体を成形しようとした場合、プレス成形後の圧粉体はプレス成形方向の密度ばらつきが大きくなるために焼結時にプレス方向の変形が著しく大きくなり、製品の削り代を大きくする必要があり歩留まりが悪く、加工にも大変多くの時間が費やされ生産性が悪いという問題がある。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月24日(2003.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
（２）  （１）で得られた上清部分を、ＮａＣｌで１Ｍに調整し、１５分間撹拌した後、予め５０ｍＭ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ（ｐＨ  ７．４）、１ｍＭ  ＥＤＴＡおよび１Ｍ  ＮａＣｌよりなる緩衝液で平衡化したブチルトヨパール６５０Ｍカラムに付した。  カラムを同じ緩衝液で洗浄した後、プロテインをＮａＣｌ（１−０Ｍ）の直線グラジュエントにより溶出した。  ＰＡＦアセチルヒドロラーゼ活性は、１−０Ｍ  ＮａＣｌフラクション中において、単一ピークとして溶出された。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
【配列表】
1998017600.tif 000001
1998017600.tif 000002
1998017600.tif 000003
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
1998017600.tif 000004
1998017600.tif 000005
1998017600.tif 000006
1998017600.tif 000007
1998017600.tif 000008
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
1998017600.tif 000009
1998017600.tif 000010
1998017600.tif 000011
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
1998017600.tif 000012
1998017600.tif 000013
1998017600.tif 000014
1998017600.tif 000015
1998017600.tif 000016
1998017600.tif 000017
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月20日(2004.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
即ち、電極間に適正な電圧をかけると、スプレー装置が正常に稼動している場合、電極間に噴霧ミストを通じて微妙な電流が流れるため、電極間の電流値、電圧値、抵抗値等の電気的特性値が計測可能となり、一方、スプレー装置に目詰まりや液切れによる未噴霧が生じると、電極間に電流が流れず、電極間の電流値及び電圧値は０（抵抗値は最大）となる。更に、電極間に流れる電流はミストの密度やミストの電極との接触状態によって変化するため、例えばミストの流量が多くなって密度が高まったり、ミストの噴霧角度が大きくなって電極との接触が良好になれば、電極間により多くの電流が流れ、電極間電圧値も大きくなる。従って、電極間の電気的測定値を計測することにより、噴霧ミストの有無のみならず、噴霧ミストの流量、密度及び噴霧角度をも監視することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月31日(2003.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部品供給部から装着ヘッドにより部品を取り出して基板上に装着するに際し、基板に形成された認識マークを検出して基板の位置を検出する基板検出工程を有し、装着ヘッドにより取り出された部品を基板の所定の部品装着位置に装着するに先立ち、基板検出工程で得られた検出結果を元に部品装着位置を補正して部品装着を行い、装着後に基板検出工程により再び前記認識マークの位置を検出し、装着前に検出した値と比較した値が、ある一定量を超えた場合に不良とすることを特徴とする電子部品実装方法。
【請求項２】
装着前と装着後に検出した認識マークの位置を比較した値が、ある一定量を超えた場合に警告を発することを特徴とする請求項１記載の電子部品実装方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の電子部品実装方法は、部品供給部から装着ヘッドにより部品を取り出して基板上に装着するに際し、基板に形成された認識マークを検出して基板の位置を検出する基板検出工程を有し、装着ヘッドにより取り出された部品を基板の所定の部品装着位置に装着するに先立ち、基板検出工程で得られた検出結果を元に部品装着位置を補正して部品装着を行い、装着後に基板検出工程により再び前記認識マークの位置を検出し、装着前に検出した値と比較した値が、ある一定量を超えた場合に不良とするものであり、実装動作中における基板の位置ずれを適切に検出し、不良基板を後工程に流してしまうのを防止でき、信頼性の高い基板生産を行うことができる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、装着前と装着後に検出した認識マークの位置を比較した値が、ある一定量を超えた場合に警告を発すると、作業者に直ちに告知でき、必要な対策を速やかに講じることができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図５に上記の動作の概略を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月28日(2004.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加入者の端末をネットワークに接続するネットワーク接続サービスと、前記加入者の端末にネットワーク接続サービス以外の付加的サービスであるアクセス制御サービスを提供するネットワーク接続装置であって、
加入者を認証するための加入者情報を、加入者が利用可能なアクセス制御サービスに関するアクセス制御情報と共に記憶する加入者情報記憶手段と、
加入者の端末より第１のネットワークへの接続要求を受付けると、当該端末より入手した加入者情報と、前記加入者情報記憶手段に記憶されている加入者情報とを用いて、当該加入者を認証する加入者認証手段と、
前記加入者認証手段により認証された加入者の端末を、前記第１のネットワークに接続すると共に、当該加入者の識別情報と共に前記加入者情報記憶手段に記憶されているアクセス制御情報に従って、当該加入者の端末を含む所定ノードへのアクセスを制御するサービス提供手段と、を有すること
を特徴とするネットワーク接続装置。
【請求項２】
請求項１記載のネットワーク接続装置であって、
前記サービス提供手段は、
前記加入者情報記憶手段に記憶されれいるアクセス制御情報に従って、前記第１のネットワークとは別の第２のネットワークに属する所定のサーバが、前記加入者の端末からのみアクセスされるように制御することで、前記所定のサーバおよび前記加入者の端末を含む閉域ネットワークを構成すること
を特徴とするネットワーク接続装置。
【請求項３】
請求項２記載のネットワーク接続装置であって、
前記第２のネットワークおよび前記加入者の端末が属する第３のネットワークは、ＩＥＥＥ８０２．３で標準化されているネットワークであり、
前記サービス提供手段は、
前記加入者の端末と前記所定のサーバとの間をブリッジ接続することで、前記所定のサーバおよび前記加入者の端末を含む閉域ネットワークを構成すること
を特徴とするネットワーク接続装置。
【請求項４】
請求項２記載のネットワーク接続装置であって、
前記第２のネットワークおよび前記加入者の端末が属する第３のネットワークは、ＩＰ（Internet Protocol）網であり、
前記サービス提供手段は、
前記加入者の端末と前記所定のサーバとの間をルータ接続することで、前記所定のサーバおよび前記加入者の端末を含む閉域ネットワークを構成すること
を特徴とするネットワーク接続装置。
【請求項５】
請求項１記載のネットワーク接続装置であって、
前記サービス提供手段は、
前記加入者情報記憶手段に記憶されているアクセス制御情報に従って、前記第１のネットワークと前記加入者の端末との間を行き来するパケットを、フィルタリングすること
を特徴とするネットワーク接続装置。
【請求項６】
請求項５記載のネットワーク接続装置であって、
前記加入者認証手段により認証された加入者の端末より前記アクセス制御情報を受付け、これを前記加入者の加入者情報と共に前記加入者情報記憶手段に記憶する設定受付手段をさらに有すること
を特徴とするネットワーク接続装置。
【請求項７】
加入者の端末をネットワークに接続するネットワーク接続サービスと、前記加入者の端末にネットワーク接続サービス以外の付加的サービスであるアクセス制御サービスを提供するネットワーク接続方法であって、
加入者の端末より第１のネットワークへの接続要求を受付けると、当該端末より入手した加入者情報と、加入者情報記憶手段に記憶されている加入者情報とを用いて、当該加入者を認証する第１のステップと、
認証された加入者の端末を、前記第１のネットワークに接続すると共に、当該加入者の識別情報と共に前記加入者情報記憶手段に記憶されているアクセス制御情報に従って、当該加入者の端末を含む所定ノードへのアクセスを制御する第２のステップと、を有すること
を特徴とするネットワーク接続方法。
【請求項８】
請求項７記載のネットワーク接続装置であって、
前記第２のステップは、
前記加入者情報記憶手段に記憶されれいるアクセス制御情報に従って、前記第１のネットワークとは別の第２のネットワークに属する所定のサーバが、前記加入者の端末からのみアクセスされるように制御することで、前記所定のサーバおよび前記加入者の端末を含む閉域ネットワークを構成すること
を特徴とするネットワーク接続方法。
【請求項９】
請求項７記載のネットワーク接続方法であって、
前記第２のステップは、
前記加入者情報記憶手段に記憶されているアクセス制御情報に従って、前記第１のネットワークと前記加入者の端末との間を行き来するパケットを、フィルタリングすること
を特徴とするネットワーク接続方法。
【請求項１０】
請求項９記載のネットワーク接続方法であって、
認証された加入者の端末より前記アクセス制御情報を受付け、これを前記加入者の加入者情報と共に前記加入者情報記憶手段に記憶する第３のステップをさらに有すること
を特徴とするネットワーク接続方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月3日(2003.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の画像に対して疑似中間調処理を行い、第２の画像を生成する生成手段と、
前記第２の画像を構成する領域毎に圧縮処理を行う圧縮手段とを備え、
更に前記圧縮手段は、
前記領域毎に、注目画素と、当該注目画素と所定の位置関係にある参照画素とを用いて、当該注目画素と当該参照画素の値とがほぼ同じであるか否かを判断し、当該判断の結果、ほぼ同じである場合、前記注目画素の値が前記参照画素の値と同じであることを示す情報と、前記所定の位置関係を示す情報を、ほぼ同じでない場合、前記注目画素の値を順次記録していくことで前記領域毎の圧縮データを生成することを特徴とする画像圧縮装置。
【請求項２】
前記第１の画像はカラーの静止画像であって、前記第２の画像は前記第１の画像よりも１画素を構成するビット数が少ないことを特徴とする請求項１に記載の画像圧縮装置。
【請求項３】
前記生成手段は、前記第１の画像に対してディザパターンを用いて疑似中間調処理を行うことで前記第２の画像を生成することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像圧縮装置。
【請求項４】
前記圧縮手段は更に、前記第２の画像を所定のサイズのブロック毎に分割する分割手段を備え、分割されたブロック単位で前記領域毎に圧縮を行うことを特徴とする請求項１乃至３に記載の画像圧縮装置。
【請求項５】
前記圧縮手段は更に、
前記参照画素の候補となる複数の参照画素候補と前記注目画素との位置関係を示す情報を格納する格納手段と、
前記格納手段に格納されている夫々の前記情報により特定される夫々の参照画素候補と前記注目画素とを用いて、夫々の参照画素候補に対する圧縮データのサイズを求め、当該サイズが所定の条件を満たした場合の参照画素候補と前記注目画素との位置関係を特定する位置関係特定手段とを備え、
前記注目画素と前記位置関係特定手段により特定された位置関係にある画素を前記参照画素とし、当該参照画素と前記注目画素とを用いて、前記領域毎に圧縮を行うことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像圧縮装置。
【請求項６】
前記格納手段が格納する前記参照画素の候補となる複数の参照画素候補と前記注目画素との位置関係を示す情報は、前記疑似中間調処理の種類、前記領域に応じたものであることを特徴とする請求項５に記載の画像圧縮装置。
【請求項７】
前記格納手段が格納する前記参照画素の候補となる複数の参照画素候補と前記注目画素との位置関係を示す情報は、前記注目画素の位置に対する夫々の参照画素候補の相対位置を示す情報であることを特徴とする請求項５又は６のいずれか１項に記載の画像圧縮装置。
【請求項８】
前記相対位置は、前記注目画素の位置からの直上ライン数とライン方向のずれ量を示すことを特徴とする請求項７に記載の画像圧縮装置。
【請求項９】
前記相対位置は、前記注目画素の位置からの直上ライン数を示すことを特徴とする請求項７に記載の画像圧縮装置。
【請求項１０】
前記位置関係特定手段は、前記格納手段に格納されている夫々の前記情報により特定される夫々の参照画素候補と前記注目画素とを用いて、夫々の参照画素候補に対する圧縮データのサイズを求め、当該サイズを最小にする参照画素候補と前記注目画素との位置関係を特定することを特徴とする請求項５に記載の画像圧縮装置。
【請求項１１】
前記位置関係特定手段は、前記格納手段に格納されている夫々の前記情報により特定される夫々の参照画素候補と前記注目画素とを用いて、夫々の参照画素候補に対する圧縮データのサイズを求め、当該サイズを所定のサイズ以下にする参照画素候補と前記注目画素との位置関係を特定することを特徴とする請求項５に記載の画像圧縮装置。
【請求項１２】
前記領域は色プレーンであることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の画像圧縮装置。
【請求項１３】
疑似中間調処理を施され、領域毎に圧縮された圧縮データに含まれる、注目画素の値が参照画素の値と同じであるか否かを示す第１の情報と、注目画素と参照画素との位置関係を示す第２の情報とを格納する格納手段と、
前記第１の情報が、注目画素の値が参照画素の値と同じであることを示す情報であると判断した場合、前記第２の情報を参照して前記注目画素に対する参照画素を特定し、前記第１の情報を特定した前記参照画素の値に更新し、
前記第１の情報が、注目画素の値が参照画素の値と同じでないことを示す情報であると判断した場合、前記第１の情報を前記注目画素の値とする伸長手段と
を備えることを特徴とする画像伸長装置。
【請求項１４】
第１の画像に対して疑似中間調処理を行い、第２の画像を生成する生成工程と、
前記第２の画像を構成する領域毎に圧縮処理を行う圧縮工程とを備え、
更に前記圧縮工程は、
前記領域毎に、注目画素と、当該注目画素と所定の位置関係にある参照画素とを用いて、当該注目画素と当該参照画素の値とがほぼ同じであるか否かを判断し、当該判断の結果、ほぼ同じである場合、前記注目画素の値が前記参照画素の値と同じであることを示す情報と、前記所定の位置関係を示す情報を、ほぼ同じでない場合、前記注目画素の値を順次記録していくことで前記領域毎の圧縮データを生成することを特徴とする画像圧縮方法。
【請求項１５】
前記圧縮工程は更に、前記第２の画像を所定のサイズのブロック毎に分割する分割工程を備え、分割されたブロック単位で前記領域毎に圧縮を行うことを特徴とする請求項１４に記載の画像圧縮方法。
【請求項１６】
前記圧縮工程は更に、
前記参照画素の候補となる複数の参照画素候補と前記注目画素との位置関係を示す情報を所定の格納手段に格納する格納工程と、
前記格納手段に格納されている夫々の前記情報により特定される夫々の参照画素候補と前記注目画素とを用いて、夫々の参照画素候補に対する圧縮データのサイズを求め、当該サイズが所定の条件を満たした場合の参照画素候補と前記注目画素との位置関係を特定する位置関係特定工程とを備え、
前記注目画素と前記位置関係特定工程で特定された位置関係にある画素を前記参照画素とし、当該参照画素と前記注目画素とを用いて、前記領域毎に圧縮を行うことを特徴とする請求項１４又は１５に記載の画像圧縮方法。
【請求項１７】
疑似中間調処理を施され、領域毎に圧縮された圧縮データに含まれる、注目画素の値が参照画素の値と同じであるか否かを示す第１の情報と、注目画素と参照画素との位置関係を示す第２の情報とを所定の格納手段に格納する格納工程と、
前記第１の情報が、注目画素の値が参照画素の値と同じであることを示す情報であると判断した場合、前記第２の情報を参照して前記注目画素に対する参照画素を特定し、前記第１の情報を特定した前記参照画素の値に更新し、
前記第１の情報が、注目画素の値が参照画素の値と同じでないことを示す情報であると判断した場合、前記第１の情報を前記注目画素の値とする伸長工程と
を備えることを特徴とする画像伸長方法。
【請求項１８】
コンピュータに請求項１４乃至１６のいずれか１項に記載の画像圧縮方法を実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項１９】
コンピュータに請求項１７に記載の画像伸長方法を実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項２０】
請求項１８又は１９に記載のプログラムを格納し、コンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成15年2月13日(2003.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】草取り爪
【特許請求の範囲】
【請求項１】先端を爪（２）とした草取り爪本体（１）に指装着部（３）を形成し、この本体（１）に装着した指先の当たるところへ凹部（４）を設け、爪先の方を適度に内側へ曲げた草取り爪。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、草取り爪に関する。
【０００２】
【従来の技術】小さい草は指先で取ることがある。
先願  実願昭５５−１３３８５３
実願昭６２−６６５３１
実登平６−３００３２２８
特願平９−３２５１３３
特願２００２−２３５０１４
実登３０６３３０２２
【０００３】
【発明が開発しようとする課題】指先は丸みがあり軟らかいので小さい草が摘まみにくく、ちぎれやすい。また従来の草取り爪においては爪先に力が入りにくい問題点があった。
【０００４】本発明は、素手の指先や手袋をした指先でも其の上に装着して使用すれば二つ葉位の小さい草から少し大きくなった草まで根元からちぎれずに取りやすくするために、草取り爪の爪先に力を入りやすくすると共に指にかかる圧力を和らげる事を目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する為に、先端を爪とした草取り爪本体に指装着部を形成し、この本体に装着した指先が当たる所へ凹部を設け、爪先の方を適度に内側に曲げると効果的である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
発明の実施の形態を実施例に基づき図面を参照して説明する。
図１（ａ）に示される展開図では、先端を爪２とした草取り爪本体１に凹部４を設け、其の両側縁に指装着部３を形成している。図（ｂ）に示される斜視図では、本体１を指の内側にし、指装着部３を指に沿わせて曲げる。そして、装着した指先がこの本体１に当たる所へ凹部４を設け、爪先の方を適度に内側に曲げている。
【０００７】
図２は草取り爪の使用方法示す斜視図で、手袋６をした指にこの草取り爪を装着し凹部４にその指先を当てて持ち、草７の根元に爪２を差し込もうとしている所である。そして、差し込みこれと親指とで草を摘まみ取る。
【０００８】
【発明の効果】
本発明は、以上説明した様に構成されているので、以下に記載される様な効果を奏する
【０００９】
草取り爪が簡単で小さいので製造コストを抑え、また、指の様で持った感じがしないほどで手に負担をかけない。そして、これを装着したままでも、向きを変えれば他の器具を握って使うことが出来、紛失するおそれもない。
【００１０】
さらに、草取り爪本体に凹部を設けているので、これに装着した指先を当てて持てば、爪先に力が入り草の根元に差し込みやすくなると共に、指装着部の縁部８の圧力が指にかかるのを和らげる。
【００１１】
そして、丸みのある指先や手袋した指先だけで草を取るのに比べ、この草取り爪の爪先は差し込み易いから此れと親指とで摘まめば、柔らかい小さな草から少し大きくなった草まで根元からちぎれずに取り易いので、はかどり其の後始末も嵩張らず労力を軽減する事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】草取り爪の形態の実施例を示す展開図と斜視図である。
【図２】草取り爪を使用している実施例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１      草取り爪本体
２      爪
３      指装着部
４      凹部
５      凹部４の裏凸部


【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2003174802.tif 000001
【図２】
2003174802.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月16日(2004.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル放送を受信するチューナ手段と、
前記チューナ手段により受信された受信ストリームを復調する伝送路復調手段と、
前記伝送路復調手段により復調されたストリームを記録する蓄積手段と、
前記伝送路復調手段による復調時に受信ストリームのエラーを検出するエラー検出処理手段と、
前記エラー検出処理手段における検出結果に基づいて前記蓄積手段を制御する蓄積制御手段とを具備し、
前記エラー検出処理手段が受信ストリームのトランスポート・パケットの構成要素であるエラー・インジケータ情報を検出することにより、前記蓄積制御手段はエラーがないトランスポート・パケットは記録し、エラーが検出されたトランスポート・パケットは記録しないように前記蓄積手段を制御することを特徴とするデジタル放送受信装置。
【請求項２】
デジタル放送を受信するチューナ手段と、
前記チューナ手段により受信された受信ストリームを復調する伝送路復調手段と、
前記伝送路復調手段により復調されたストリームを記録する蓄積手段と、
前記伝送路復調手段による復調時に受信ストリームのエラーを検出するエラー検出処理手段と、
前記エラー検出処理手段における検出結果に基づいて前記蓄積手段を制御する蓄積制御手段とを具備し、
前記エラー検出処理手段が受信ストリームのトランスポート・パケットの構成要素であるエラー・インジケータ情報を検出することにより、前記蓄積制御手段はエラーがないトランスポート・パケットは記録し、エラーが検出された場合には、記録中の番組コンテンツを削除するように前記蓄積手段を制御することを特徴とするデジタル放送受信装置。
【請求項３】
前記蓄積制御手段は、エラーがないトランスポート・パケットは記録し、エラーが検出された場合には、記録中の番組コンテンツを削除するように前記蓄積手段を制御することを特徴とする請求項１に記載のデジタル放送受信装置。
【請求項４】
デジタル放送を受信するチューナ手段と、
前記チューナ手段により受信された受信ストリームを復調する伝送路復調手段と、
前記伝送路復調手段により復調されたストリームを記録する蓄積手段と、
前記伝送路復調手段による復調時に受信ストリームのエラーを検出するエラー検出処理手段と、
前記エラー検出処理手段における検出結果に基づいて前記蓄積手段を制御する蓄積制御手段とを具備し、
前記エラー検出処理手段が受信ストリームのビットエラーレート情報を検出することにより、前記蓄積制御手段は予め設定された閾値より小さいビットエラーレートのトランスポート・パケットは記録し、該閾値より大きいビットエラーレートのトランスポート・パケットは記録しないように前記蓄積手段を制御することを特徴とするデジタル放送受信装置。
【請求項５】
デジタル放送を受信するチューナ手段と、
前記チューナ手段により受信された受信ストリームを復調する伝送路復調手段と、
前記伝送路復調手段により復調されたストリームを記録する蓄積手段と、
前記伝送路復調手段による復調時に受信ストリームのエラーを検出するエラー検出処理手段と、
前記エラー検出処理手段における検出結果に基づいて前記蓄積手段を制御する蓄積制御手段とを具備し、
前記エラー検出処理手段が受信ストリームのビットエラーレート情報を検出することにより、前記蓄積制御手段は予め設定された閾値より小さいビットエラーレートのトランスポート・パケットは記録し、ビットエラーレートが該閾値より大きくなった場合には、記録中の番組コンテンツを削除するように前記蓄積手段を制御することを特徴とするデジタル放送受信装置。
【請求項６】
前記蓄積制御手段は、予め設定された閾値より小さいビットエラーレートのトランスポート・パケットは記録し、ビットエラーレートが該閾値より大きくなった場合には、記録中の番組コンテンツを削除するように前記蓄積手段を制御することを特徴とする請求項４に記載のデジタル放送受信装置。
【請求項７】
前記蓄積制御手段は、番組コンテンツのジャンル情報に基づいて、前記蓄積手段を制御することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載のデジタル放送受信装置。
【請求項８】
前記蓄積手段に蓄積された、映像、文字情報、または、音声を外部に出力する出力手段を備えてなることを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれかに記載のデジタル放送受信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月11日(2003.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒドロシリル化剤、白金含有ヒドロシリル化触媒、及びエキステンダー油又はプロセス油の存在下の動的加硫により熱可塑性樹脂と不飽和ゴムのブレンドを架橋する方法であって、ルイス塩基の化学的挙動を有する物質を実質的に含まない油を使用することを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記油が、硫黄、燐、錫、窒素、又はヒ素を含む物質を実質的に含まない、請求項１の方法。
【請求項３】
ルイス塩基の化学的挙動を有する物質の白金に対するモル比が5000：１未満である、請求項１の方法。
【請求項４】
前記ヒドロシリル化触媒が、ゴムの重量に基づいて白金金属として表して約0.01乃至約４ ppmの量の白金を含有する、請求項１の方法。
【請求項５】
ゴムが主に立体的に妨害されていない炭素−炭素二重結合を有するジエンモノマーを含む、請求項１の方法。
【請求項６】
前記油が、約30 ppm未満の硫黄と約100 ppm未満の窒素しか含まないパラフィン系白色油である、請求項１の方法。
【請求項７】
熱可塑性エラストマー組成物の製造方法であって、a) 熱可塑性樹脂と、ルイス塩基の化学的挙動を有する物質を実質的に含まないエキステンダー油を含む不飽和ゴムとを混合する工程、b) ヒドロシリル化剤を工程(a)からの混合物に添加する工程、c) 工程(b)からの混合物を混合物を流動化するのに十分な温度でブレンドする工程、d) 所望によりルイス塩基の化学的挙動を有する物質を実質的に含まないプロセス油を混合物に配合する工程、e) 白金金属として表して、ゴムの重量に基づいて、ゴムの約0.01乃至約20 ppmの範囲内の量の白金含有ヒドロシリル化触媒を混合物に配合する工程、及びf) ゴムが架橋するまで熱と剪断条件下に工程(e)からの混合物を混練りする工程、を含む方法。
【請求項８】
熱可塑性樹脂、ゴムプロセス油又はエキステンダー油、及びヒドロシリル化剤と白金含有ヒドロシリル化触媒を使用する動的加硫によって架橋された不飽和ゴムを含む熱可塑性エラストマー組成物であって、前記油がルイス塩基の化学的挙動を有する物質を実質的に含まない組成物を含んで成ることを特徴とする熱可塑性エラストマー組成物。
【請求項９】
熱可塑性樹脂と不飽和ゴムのブレンドを含む組成物を動的加硫によりヒドロシリル化架橋する方法であって、主に立体的に妨害されていない炭素−炭素二重結合を有するジエンモノマーを含むゴムと組み合わせてヒドロシリル化架橋剤とゴムの重量に基づいて約0.01乃至約４ ppmの白金含有ヒドロシリル化触媒を使用して、熱可塑性樹脂のマトリックス中において架橋したゴムを得ることを特徴とする、方法。
【請求項１０】
熱可塑性樹脂がポリオレフィン樹脂である、請求項1、7及び9のいずれかの方法。
【請求項１１】
ポリオレフィン樹脂がポリプロピレンである、請求項10の方法。
【請求項１２】
ゴムがジエンモノマーとして5-ビニル-2-ノルボルネンを含むＥＰＤＭゴムである、請求項5、7及び9のいずれかの方法。
【請求項１３】
動的加硫の後に、ゴムが熱可塑性樹脂のマトリックス中の離散した粒子の形態であり、架橋可能なゴムの約５重量％未満しかゴム用溶媒によって熱可塑性エラストマー生成物から抽出できない程度まで架橋されている、請求項1〜７及び9〜12のいずれかの方法。
【請求項１４】
白金含有ヒドロシリル化触媒が、クロロ白金酸、クロロ白金酸とsym-ジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体、及びジクロロ−ビス（トリフェニルホスフィン）白金（II）から成る群から選択される、請求項9の方法。
【請求項１５】
熱可塑性エラストマーにさらに金属キレート剤を添加することを含む、請求項9の方法。
【請求項１６】
金属キレート剤が１，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイル）ヒドラジンである、請求項15の方法。
【請求項１７】
熱可塑性エラストマーにさらに残留の水素化珪素と反応する化合物を添加することを含む、請求項9の方法。
【請求項１８】
熱可塑性エラストマー組成物の製造方法であって、a) 熱可塑性樹脂と、主に立体的に妨害されていない炭素−炭素二重結合を有するジエンモノマー成分を含むゴムとを混合する工程、b) ヒドロシリル化剤を工程(a)からの混合物に添加する工程、c) 工程(b)からの混合物を混合物を流動化するのに十分な温度でブレンドする工程、d) 白金金属として表して、ゴムの重量に基づいてゴムの約0.01乃至約４ ppmの範囲内の量の白金含有ヒドロシリル化触媒を混合物に配合する工程、及びe) ゴムが架橋するまで工程(d)からの混合物を混練りする工程、を含む方法。
【請求項１９】
熱可塑性樹脂、及び動的加硫によって架橋された不飽和ゴムのブレンドを含む熱可塑性エラストマー組成物であって、ゴムが主に立体的に妨害されていない炭素−炭素二重結合を有するジエンモノマー成分を含み、ヒドロシリル化架橋剤と、白金金属として表して、ゴムの重量に基づいて約0.01乃至約４ ppmの白金含有ヒドロシリル化触媒を使用して架橋された組成物を含んで成ることを特徴とする熱可塑性エラストマー組成物。
【請求項２０】
ヒドロシリル化剤、白金含有ヒドロシリル化触媒、及びエキステンダー油又はプロセス油の存在下の動的加硫により熱可塑性樹脂と不飽和ゴムのブレンドを架橋する方法であって、熱可塑性樹脂としてポリプロピレンを使用し、不飽和ゴムとして5-ビニル-2-ノルボルネンを含むＥＰＤＭゴムを使用し、ヒドロシリル化触媒としてゴムの重量に基づいて約0.01乃至約４ ppmの白金を使用し、そして油として約300 ppm未満の硫黄と約100 ppm未満の窒素しか含まないパラフィン系白色油を使用することを特徴とする方法。
【請求項２１】
ヒドロシリル化触媒が0価の白金金属錯体である、請求項1〜7、9〜18及び20のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
請求項1〜7、9〜18、20及び21のいずれかの方法によって製造された熱可塑性エラストマー生成物。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月5日(2003.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プロピレン重合体、その製造に用いる触媒、製造法および使用法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マグネシウム化合物、ハロゲン、シリカゲルを担体として、およびカルボン酸エステルを電子供与化合物として含有するチタン含有固体成分ａ）、助触媒としてのアルミニウム化合物ｂ）、および他の電子供与化合物ｃ）を含有するチーグラー・ナッタ触媒の存在下にプロピレンとＣ2 −Ｃ10アルケン−１との二段階の重合により得られ、０−１５重量％の共重合したＣ2 −Ｃ10アルケン−１を含有するプロピレン重合体（Ｉ）２５−９７重量％と、１５−８０重量％の共重合したＣ2 −Ｃ10アルケン−１を含有する他のプロピレン重合体（ＩＩ）３−７５重量％から成るプロピレン重合体であって、第一反応段階でＣ2 −Ｃ10アルケン−１の存在下または不存在下に、５０−１００℃、１５−４０バールの圧力、および０．５−５時間の平均滞留時間でプロピレンを重合させ、第二の反応段階でプロピレンと他のＣ2 −Ｃ10アルケン−１との混合物を、３０−１００℃、１５−４０バールの圧力、および０．５−５時間の平均滞留時間で、第一の反応段階で得られたプロピレン重合体上に重合させ、チタン含有固体成分の担体として使用するシリカゲルの平均粒径が５−２００μｍであり、一次粒子の平均粒径が１−１０μｍ、空隙または溝の平均径が１−１０μｍであり、この空隙または溝の全粒子に対する巨視的容積割合が５−２０％の範囲にあることを特徴とするプロピレン重合体。
【請求項２】
使用するシリカゲルの空隙および溝の平均径が１−５μｍであり、この空隙および溝の全粒子に対する巨視的容積割合が５−１５％であることを特徴とする請求項１に記載のプロピレン重合体。
【請求項３】
使用するシリカゲルが噴霧乾燥されていることを特徴とする請求項１または２に記載のプロピレン重合体。
【請求項４】
他の電子供与化合物ｃ）が、式（ＩＩＩ）
Ｒ１ｎＳｉ（ＯＲ２）４−ｎ    （ＩＩＩ）
で表され、式中Ｒ1 がそれぞれ同一か或いは異なるＣ1 −Ｃ20アルキル基、Ｃ1−Ｃ10アルキル基を有してもよい５員から７員のシクロアルキル基、またはＣ6−Ｃ20アリールまたはアリールアルキル基を意味し、Ｒ2 が同一か或いは異なるＣ1 −Ｃ20アルキル基を意味し、ｎが１、２または３を意味する珪素有機化合物であることを特徴とする請求項１に記載のプロピレン重合体を製造するために用いる触媒。
【請求項５】
プロピレン重合体（Ｉ）がプロピレン単独重合体であることを特徴とする請求項１に記載のプロピレン重合体。
【請求項６】
使用されるＣ2 −Ｃ10アルケンがエチレンであることを特徴とする請求項１に記載のプロピレン重合体。
【請求項７】
マグネシウム化合物、ハロゲン、シリカゲルを担体として、およびカルボン酸エステルを電子供与化合物として含有するチタン含有固体成分ａ）、助触媒としてのアルミニウム化合物ｂ）、および他の電子供与化合物ｃ）を含有するチーグラー・ナッタ触媒の存在下にプロピレンとＣ2 −Ｃ10アルケン−１との二段階の重合により得られ、０−１５重量％の共重合したＣ2 −Ｃ10アルケン−１を含有するプロピレン重合体（Ｉ）２５−９７重量％と、１５−８０重量％の共重合したＣ2 −Ｃ10アルケン−１を含有する他のプロピレン重合体（ＩＩ）３−７５重量％から成るプロピレン重合体の製造法であって、第一反応段階でＣ2 −Ｃ10アルケン−１の存在下または不存在下に、５０−１００℃、１５−４０バールの圧力、および０．５−５時間の平均滞留時間でプロピレンを重合させ、第二の反応段階でプロピレンと他のＣ2 −Ｃ10アルケン−１との混合物を、３０−１００℃、１５−４０バールの圧力、および０．５−５時間の平均滞留時間で、第一の反応段階で得られたプロピレン重合体上に重合させ、チタン含有固体成分の担体として使用するシリカゲルの平均粒径が５−２００μｍであり、一次粒子の平均粒径が１−１０μｍ、空隙または溝の平均径が１−１０μｍであり、この空隙または溝の全粒子に対する巨視的容積割合が５−２０％の範囲にあることを特徴とするプロピレン重合体の製造法。
【請求項８】
０．５〜３時間の平均滞留時間で重合を行うことを特徴とする請求項７に記載のプロピレン重合体の製造法。
【請求項９】
請求項１に記載のプロピレン重合体を、フィルム、繊維または成形体として使用する方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
アルミニウム化合物ｂ）のみではなく、更なる助触媒として電子供与化合物ｃ）、例えば単官能性または多官能性カルボン酸、無水カルボン酸、およびカルボン酸エステル、およびケトン、エステル、アルコール、ラクトン、または有機隣化合物および有機珪素化合物を使用すると好ましい。本発明で、好ましく用いられる電子供与化合物は、一般式（ＩＩＩ）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
Ｒ１ｎＳｉ（ＯＲ２）４−ｎ （ＩＩＩ）
で表され、式中Ｒ1 がそれぞれ同一か或いは異なるＣ1 −Ｃ20アルキル基、Ｃ1−Ｃ10アルキル基を有してもよい５員から７員のシクロアルキル基、またはＣ6−Ｃ20アリールまたはアリールアルキル基を意味し、Ｒ2 が同一か或いは異なるＣ1 −Ｃ20アルキル基を意味し、ｎが１、２または３を意味する珪素有機化合物である。このような化合物のうち、式中Ｒ1 がＣ1 −Ｃ8 アルキル基、または５員から７員のシクロアルキル基を意味し、Ｒ2 がＣ1 −Ｃ4 アルキル基を意味し、ｎが１または２を意味する化合物が好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月21日(2003.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属基材と、前記金属基材上に形成されたセラミック熱遮蔽層とを具備する耐熱部材において、
前記セラミック熱遮蔽層は、前記金属基材上に形成された0.1μmから200μmの範囲の膜厚と、45 GPa以上の高い弾性率E１と、高い硬度H1とを有する第１のセラミックス層と、前記第１のセラミックス層上に形成された50μmから3000μmの範囲の膜厚と、45 GPa未満の低い弾性率E２と、H2 < H1を満足する低い硬度H２とを有する第２のセラミックス層とを具備することを特徴とする耐熱部材。
【請求項２】
前記第１および第２のセラミックス層の合計膜厚は100μmから3000μmの範囲であることを特徴とする請求項１記載の耐熱部材。
【請求項３】
前記第１のセラミックス層は表面粗さR1を有し、且つ前記第２のセラミックス層はR2 > R1を満足する表面粗さR2を有することを特徴とする請求項１または２記載の耐熱部材。
【請求項４】
請求項１記載の耐熱部材は、さらに前記第２のセラミックス層上に形成された式E3 ≧ E2を満足する高い弾性率E3と、式H3 > H2を満足する高い硬度H3を有することを特徴とする。
【請求項５】
金属基材と、前記金属基材上に形成された金属結合層を介して被覆形成されたセラミック熱遮蔽層とを具備する耐熱部材において、
前記金属結合層を介して前記金属基材上に形成されたセラミック熱遮蔽層セラミック熱遮蔽層は、前記金属結合層上に形成された0.1μmから200μmの範囲の膜厚と、45 GPa以上の高い弾性率E１と、高い硬度H1とを有する第１のセラミックス層と、前記第１のセラミックス層上に形成された50μmから3000μmの範囲の膜厚と、45 GPa未満の低い弾性率E２と、H2 < H1を満足する低い硬度H２とを有する第２のセラミックス層とを具備することを特徴とする耐熱部材。
【請求項６】
前記金属結合層は、M-Cr-Al-Y合金(ただし、MはFe、NiおよびCoから選ばれた少なくとも１種の元素である)からなり、かつ前記第１のセラミックス層と前記金属結合層との界面にアルミナ層が形成されていることを特徴とする
【請求項７】
金属基材と、前記金属基材上に形成されたセラミック熱遮蔽層とを具備する耐熱部材において、
前記セラミック熱遮蔽層は、前記金属基材上に形成された0.1μmから200μmの範囲の膜厚と、45 GPa以上の高い弾性率E１と、高い硬度H1、88 %以上の相対密度とを有する第１のセラミックス層と、前記第１のセラミックス層上に形成された50μmから3000μmの範囲の膜厚と、45 GPa未満の低い弾性率E２と、H2 < H1を満足する低い硬度H２と、88 %未満の相対密度を有する第２のセラミックス層とを具備することを特徴とする耐熱部材。
【請求項８】
前記第１のセラミックス層はPVD法、CVD法、およびスピンコーティング法から選ばれる１種により形成されたセラミックス層で、前記第２のセラミックス層は溶射法により形成されたセラミックス層であることを特徴とする請求項１乃至８記載の耐熱部材。
【請求項９】
前記第１のセラミック層は細粒粉末を用いた高密度溶射法により形成されたセラミックス層であり、前記第２のセラミックス層は粗粒粉末を用いた低密度溶射法により形成されたセラミックス層であることを特徴とする請求項１乃至８記載の耐熱部材。
【請求項１０】
前記セラミックス熱遮蔽層はジルコニア、アルミナ、アルミナーチタニア系酸化物、マグネシア、スピネル、窒化ケイ素、サイアロン、窒化アルミニウム、窒化チタン、および炭化ケイ素の群から選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする請求項１乃至９記載の耐熱部材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１の耐熱部材は、金属基材と、この金属基材上に形成されたセラミック熱遮蔽層とを具備する耐熱部材であって、
前記セラミック熱遮蔽層は、金属基材上に形成された0.1μmから200μmの範囲の膜厚と、45 GPa以上の高い弾性率E１と、高い硬度H1とを有する第１のセラミックス層と、前記第１のセラミックス層上に形成された50μmから3000μmの範囲の膜厚と、45 GPa未満の低い弾性率E２と、H2 < H1を満足する低い硬度H２とを有する第２のセラミックス層とを具備することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の請求項５の耐熱部材は、金属基材と、この金属基材上に形成された金属結合層を介して被覆形成されたセラミック熱遮蔽層とを具備する耐熱部材において、前記金属結合層を介して前記金属基材上に形成されたセラミック熱遮蔽層セラミック熱遮蔽層は、前記金属結合層上に形成された0.1μmから200μmの範囲の膜厚と、45 GPa以上の高い弾性率E１と、高い硬度H1とを有する第１のセラミックス層と、前記第１のセラミックス層上に形成された50μmから3000μmの範囲の膜厚と、45 GPa未満の低い弾性率E２と、H2 < H1を満足する低い硬度H２とを有する第２のセラミックス層とを具備することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の耐熱部材は、例えば、金属基材の上に直接あるいは金属基材の上に形成された金属結合層上に、PVD法、CVD法、およびスピンコーティング法から選ばれた１種の方法により第１のセラミックス層を形成し、さらに前記第２のセラミックス層上に溶射法により第２のセラミックス層を形成することにより得ることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の耐熱部材は、また、金属基材の上に直接あるいは金属基材の上に形成された金属結合層上に、細粒粉末を用いて高密度溶射法により第１のセラミックス層を形成し、さらにこの第１のセラミックス上に粗粒粉末を用いた低密度溶射法により第２のセラミックス層を形成することにより形成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月8日(2004.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤外線吸収剤を含有する、自己修復性および耐擦傷性を有するポリウレタン樹脂（Ａ）のフィルム。
【請求項２】
フィルムの少なくとも片面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる反射防止薄膜層（Ｃ）を有する請求項１のフィルム。
【請求項３】
自己修復性および耐擦傷性を有するポリウレタン樹脂（Ａ）の層とポリウレタン樹脂（Ａ）以外の合成樹脂（Ｂ）の層とを含み、少なくとも片面がポリウレタン樹脂（Ａ）の表面層であり、かつポリウレタン樹脂（Ａ）および合成樹脂（Ｂ）の少なくとも一方が赤外線吸収剤を含有する積層体からなるフィルム。
【請求項４】
合成樹脂（Ｂ）が、熱可塑性アクリル樹脂からなる、請求項３のフィルム。
【請求項５】
合成樹脂（Ｂ）が、ポリウレタン樹脂（Ａ）以外の熱可塑性ポリウレタン樹脂からなる、請求項３のフィルム。
【請求項６】
合成樹脂（Ｂ）の層が、２層以上からなる請求項３のフィルム。
【請求項７】
ポリウレタン樹脂（Ａ）の表面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる反射防止薄膜層（Ｃ）を有する請求項３、４、５または６のフィルム。
【請求項８】
最大吸収波長が７５０〜１１００ｎｍである、請求項１〜７のいずれかのフィルム。
【請求項９】
ポリウレタン樹脂（Ａ）が、官能基数２〜３であるポリエステル系のポリオールおよび脂肪族もしくは脂環族のジイソシアネートまたは３価以上のポリイソシアネートから得られたポリウレタン樹脂である請求項１〜８のいずれかのフィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
合成樹脂（Ｂ）の役割の１つは、赤外線吸収剤を溶解保持することにより、それ自体は耐擦傷性は持たないが、ポリウレタン樹脂（Ａ）と積層したときに、積層体表面の耐擦傷性を発現し、かつ積層体に赤外性吸収能を付与することである。
合成樹脂（Ｂ）が赤外線吸収剤を含有する場合には、ポリウレタン樹脂（Ａ）は赤外線吸収剤を含有していてもいなくてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月17日(2003.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ポリエステル（Ａ）部分を構成するテレフタル酸は、全ジカルボン酸に対して５０モル％以上である必要がある。該占有割合が５０モル％未満の場合には、ブロック化反応時の融点降下が早く制御が困難となり好ましくない。該占有割合は好ましくは８０モル％以上である。他のジカルボン酸成分として共重合可能な成分は、テレフタル酸以外の芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸等を挙げることができ、具体的には、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、炭素数８〜１２の直鎖状ジカルボン酸、１，６−シクロヘキサンジカルボン酸等を挙げることが出来る。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、溶融混練が１ｍｍＨｇを超える圧力下で行われると、ブロック化反応速度が遅くなるため好ましくない。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
更に、ポリエステル弾性体の融点が、ポリエステル（Ｂ）の融点よりも２℃以上低くなっていないと、ブロック化反応が十分進行しておらず、得られるポリマーはポリエステル（Ａ）とポリエステル（Ｂ）との混合物としての特性を示し、十分な弾性回復性能を示さなくなる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
［実施例５］
実施例１において「イルガノックス１０７６」に代えてリン酸トリメチル０．０５重量部を添加し、且つ重縮合反応温度を２５０℃に設定したこと以外は同様の操作を行ってポリエステル弾性体を得た。得られたポリエステル弾性体の特性及びカラー測定結果を表１に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記明礬石又はその混合物の焼成処理は、好ましくは８５０〜１２００℃、より好ましくは９００〜１１００℃、特に９００〜１０００℃の範囲の温度で行われる。また、このような焼成処理は、通常０．５〜２時間、好ましくは０．５〜１時間行われる。この焼成温度が８５０℃よりも低すぎると焼成が十分には行われず明礬石の十分な活性化が得られにくいし、１２００℃よりも高すぎると焼成物の反応性、中でもそのうちの酸化カルシウムの反応性が低下するのを免れない。
明礬石の所定温度以上の焼成物が好結果をもたらすのは、明礬石そのままではそれを用いた土質安定材が通常のセメント系固化材を凌駕する改良効果を得にくく、明礬石を焼成すると、特に８５０℃以上で焼成すると、明礬石中の硫酸根が離脱して活性化されるためであると推測される。
（Ａ）成分として特に有利なのは、明礬石を８５０〜１２００℃、より好ましくは９００〜１１００℃、特に９００〜１０００℃の範囲の温度で焼成した後に粉砕して得た粉末であり、さらには２０００ｃｍ2／ｇ以上の比表面積を有するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月17日(2003.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
カチオン基を含有するよう改質されかつ抑制された減成デンプンを含むデンプン組成物であって、ここで該抑制された減成デンプンは乾燥デンプン質量を基にして０．００１〜０．０５パーセントの量の減成剤で抑制され、該デンプンの最終ピーク粘度が５００センチポイズ未満でありかつ非抑制減成カチオン化デンプンの粘度の１１０〜１０００パーセントである上記組成物。