【事件の表示】
　平成５年特許願第２４９１６５号「真空用動圧軸受装置」拒絶査定に対する審判事件［平成７年４月２１日出願公開、特開平７−１０５８８５］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
【一】本願発明
　本願は、平成５年１０月５日に出願されたものであって、その請求項１及び２に係る発明は、平成１５年９月３日付けの手続補正によって補正された明細書、及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された次のとおりのものと認める。
　
「【請求項１】　金属潤滑剤としてのガリウムまたはガリウム合金に対して耐食性を有する金属材料でなる回転体と、上記金属材料からなり、上記回転体を回転可能に支持する固定体とを備え、上記回転体に対向する上記固定体の対向面または上記固定体に対向する上記回転体の対向面の少なくとも一方に動圧溝が形成され、上記回転体の対向面と上記固定体の対向面との間の隙間に金属潤滑剤が充填されて、真空容器の内部に設けられる真空用動圧軸受装置において、
　上記金属潤滑剤に対して濡れ性を有する金属薄膜が、イオンプレーティングによって上記回転体の対向面および上記固定体の対向面に形成されており、上記金属薄膜の膜厚が上記対向面の少なくとも一方に形成される上記動圧溝の溝深さの略１０分の１とされ、膜厚調整のための後加工を不要とし、上記金属薄膜を大気中でも酸化しがたい材料にて作成し、Ｈ２還元処理不要としたことを特徴とする真空用動圧軸受装置。
　　【請求項２】　請求項１に記載の真空用動圧軸受装置において、
　イオンプレーティングによって上記金属潤滑剤に対して濡れ性を有する金属薄膜が形成される上記回転体の対向面および上記固定体の対向面がイオンボンバードされていることを特徴とする真空用動圧軸受装置。」
　
【二】引用刊行物に記載された事項
　これに対して、当審において通知した拒絶の理由に引用した、本件出願前に頒布された刊行物である、特公昭６０−２１４６３号公報（以下、「刊行物１」という。）、特開平４−３６３８４４号公報（以下、「刊行物２」という。）、実願平３−７４９２９号（実開平５−２７９５１号）のＣＤ−ＲＯＭ（以下、「刊行物３」という。）、社団法人日本潤滑学会編集・発行「潤滑　JOURNAL OF JAPAN SOCIETY OF LUBRICATION ENGINEERS　VOL.19 NO.11 1974」（株式会社養賢堂発売）第３０〜３１頁、第６４〜６７頁（以下、「刊行物４」という。）、特開昭５５−８８３０号公報（以下、「刊行物５」という。）、特開昭６２−３００１６号公報（以下、「刊行物６」という。）には、それぞれ以下の事項が記載されているものと認める。
　
（１）刊行物１〔特公昭６０−２１４６３号公報〕
　刊行物１には、「回転−陽極Ｘ−線管」に関し、図面とともに次の記載が認められる。
（ア）「本発明の目的は、Ｘ−線管が大きな軸受雑音を発生せず、寿命が長い回転−陽極Ｘ−線管を提供せんとするにある。本発明は少なくとも１種類の金属でなめらかにした軸受によって真空−密閉外厘内に支承される回転陽極を具えている回転−陽極Ｘ−線管において、前記Ｘ−線管の作動中に金属潤滑剤が液相状態にあり、前記軸受を摺動軸受とし、該軸受における互いに対向する金属軸受面が前記摺動軸受内の前記潤滑剤によっては殆どおかされず、融解した潤滑剤が前記軸受面と分子湿潤接触するように構成したことを特徴とする。なおこゝに云う分子−湿潤接触とは軸受面の金属原子と潤滑剤として作用する例えばＧａまたはＧａ合金の原子との間における直接的な相互作用の存在による湿潤接触のことを意味するものとする。」（２頁３欄７〜２３行参照）
（イ）「第１図に示す本発明によるＸ−線管１はナット４によって軸５に回転子３と一緒に取付けられる回転陽極２を具えており、上記軸５は２個の軸受７および８によって真空−密閉外厘６内で回転し得るように支承される。軸受７は、軸５に堅牢に取付けられて、かつ球状にくぼんだ支持部材１０内に収納される球状部分９をもって構成する。」（２頁４欄１７〜２３行参照）
（ウ）「球状部分９と支持部材１０との対向面は軸受７の軸受面を成すと共に、軸受ギャップ１１を包囲する。軸受ギャップ１１には潤滑剤として作用し、かつモリブデン（ＭＯ）製の球状部分９と支持部材１０との両軸受面を分子的に湿潤させるガリウム（Ｇａ）合金を充填して、軸受７の負荷状態において球状部分９と支持部材１０とを互いに完全に離間させるようにする。」（２頁４欄２３〜３１行参照）
（エ）「球状部分９には軸５の回転時にこの球状部分の軸受８から最も離間している方向に潤滑剤を押しやる条溝パターン１２を設ける。球状部分９には第２条溝パターン１３も設け、このパターンの条溝を第１条溝パターン１２の条溝とは反対方向に延在させて、潤滑剤を別の方向に押しやるようにする。このような条溝パターン１２，１３によって軸受７は、半径方向および軸線方向に特別高い負荷能力を呈する以外に、軸５の回転時に高い動負荷安定性を呈する。支持部材１０は、外厘６における鉢状凹所１６内に真空−密閉連結部１５によって取付けられる円筒構造部材１４内に取付ける。」（２頁４欄３１〜４３行参照）
（オ）「軸受８は軸５に堅牢に取付けられ、かつ円錐状にくぼんだ支持部材１９内に配置される円錐部分１８をもって構成する。円錐部分１８と支持部材１９の対向面は軸受８の軸受面を形成すると共に軸受ギャップ２０を包囲する。この軸受ギャップ２０には潤滑剤として作用し、かつＭＯ製の円錐部分１８と支持部材１９との両軸受面を分子的に湿潤させるＧａ合金を充填して、軸受８の負荷状態においてこれら円錐部分と支持部材との両軸受面を互いに完全に離間させる。円錐部分１８には潤滑剤を軸受ギャップ２０内に互いに反対方向に押しやる（球状部分９の条溝パターンに類似する）２つの条溝パターン２１および２２を設ける。」（３頁５欄３〜１６行参照）
（カ）「金属４１はＷ，ＭＯ，ＴａまたはＮｂのような金属の何れかとするのが好適である。その理由はこれらの金属はＧａ合金によって全く、または殆どおかされないからである。（３頁６欄１２〜１５行参照）
（キ）「本発明によるＸ−線管の軸受に使用するのに好適なものは第３ａ図に示す界面構造のものだけであり、……。或いはまた、金属表面４１を例えば水素のような還元雰囲気中で或る時間にわたり８００℃で加熱し、その後の金属表面に場合によっては十分に減圧した同じ還元雰囲気中にて約１μｍの厚さのＡｕ層を被着することもできる。Ａｕは空気中では酸化しないため、金属表面は空気中にて十分低い温度で融解Ｇａ合金に浸すことができる。」（４頁７欄１１〜２７行参照）
（ク）「軸受面にガリウム合金を適用する上述した方法には、空気中にて全て酸化しないか、またはごく僅かづつしか酸化しない金属または金属合金製の別の封止用外側層を使用し得ることは明らかである。」（４頁８欄８〜１２行参照）
　
　上記（イ）の記載のとおり、軸受７，８が真空−密閉外厘６内で使用されること、また、上記（エ）、（オ）の記載から明らかなように、軸受の球状部分９及び円錐部分１８の表面に条溝パターン１２、１３、２１、２２すなわち動圧溝が形成されていることを考慮すると、前記軸受７，８は、真空用動圧軸受装置と認められる。
　更に、上記（ア）、（ウ）、（オ）の記載から潤滑剤としてＧａまたはＧａ合金が使用されること、上記（ア）、（カ）の記載から前記球状部分９、支持部材１０、円錐部分１８、支持部材１９に、ＧａまたはＧａ合金に対して耐食性を有するＷ，ＭＯ，ＴａまたはＮｂのような金属材料が使用されること、上記（キ）の記載から潤滑剤に対して濡れ性を有する薄層として軸受面に約１μｍの厚さのＡｕ層が形成されることは明らかと認められる。
　
　したがって、刊行物１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認める。
[引用発明]
　軸受７，８に金属潤滑剤としてのＧａまたはＧａ合金に対して耐食性を有する金属材料でなる球状部分９及び円錐部分１８を備えた軸５を有する回転子３と、上記金属材料からなり、上記回転子３を回転可能に支持する支持部材１０、支持部材１９とを備え、上記支持部材１０、支持部材１９に対向する回転子３の前記球状部分９及び円錐部分１８に動圧溝となる条溝パターン１２、１３、２１、２２が形成され、上記回転子３の球状部分９及び円錐部分１８と上記支持部材１０、支持部材１９との間の隙間に金属潤滑剤が充填されて、回転陽極型Ｘ線管の真空容器の内部に設けられる真空用動圧軸受装置において、
　上記金属潤滑剤に対して濡れ性を有する厚さ１μｍのＡｕ層が、上記回転子３の球状部分９及び円錐部分１８並びに上記支持部材１０、支持部材１９に形成されている真空用動圧軸受装置。
　  
（２）刊行物２〔特開平４−３６３８４４号公報〕
　刊行物２には、「回転陽極型Ｘ線管」に関し、図面とともに次の記載が認められる。
（ケ）「一部に陽極ターゲットが固定された回転体と、この回転体を回転可能に保持する固定体と、前記回転体および固定体の嵌合部に設けられたらせん溝を有するすべり軸受部と、このすべり軸受部の軸受間隙に詰められた液体金属潤滑剤とを具備する回転陽極型Ｘ線管において、上記すべり軸受部の少なくとも一方の軸受面は、金属母材……の表面部に、該母材を構成している元素と、ガリウム、インジウム、ビスマス、および錫の中から選ばれた少なくとも１つの金属元素とを含む反応層が薄く形成されてなることを特徴とする回転陽極型Ｘ線管。」（２頁１欄２〜１３行参照）
（コ）「そこで、回転体12及び固定体15は、その母材がＭｏ又はＭｏ合金（以下、単にＭｏと記す）で構成されている。そして、両者の軸受面となる回転体内表面、および固定体外表面に、軸受母材の金属元素であるＭｏと少なくともＧａとを含む薄い反応層（以下、単にＭｏ−Ｇａ反応層）と記す）31、32がそれぞれ薄く形成されている。このＭｏ−Ｇａ反応層31、32は、予め、母材の表面に１〜１００マイクロメートルの範囲の厚さに形成される。」（２頁２欄３５〜４３行参照）
（サ）「軸受部の母材は、Ｍｏの他、Ｗ（これにはＷ主体の合金を含む）、ニオブ（Ｎｂ、これにはＮｂ主体の合金を含む）、又はタンタル（Ｔａ、これにはＴａ主体の合金を含む）の単体または合金で構成することができる。」（４頁５欄２９〜３３行参照）
（シ）「軸受面となる反応層は、母材を構成している元素と、Ｇａ、ビスマス（Ｂｉ）、Ｉｎ、あるいはＳｎから選択された少なくとも１つの元素とを含む反応層であればよい。」（４頁６欄９〜１２行参照）
（ス）「潤滑剤は、Ｇａ、Ｇａ−Ｉｎ合金、又はＧａ−Ｉｎ−Ｓｎ合金のようなＧａを主体とするものに限らず、例えばビスマス（Ｂｉ）を相対的に多く含むＢｉ−Ｉｎ−Ｐｂ−Ｓｎ合金、あるいはＩｎを相対的に多く含むＩｎ−Ｂｉ合金、又はＩｎ−Ｂｉ−Ｓｎ合金を使用し得る。」（４頁６欄１９〜２４行参照）
（セ）「すべり軸受面となる軸受母材表面部に、この母材を構成している元素と、ガリウム、インジウム、ビスマス、および錫の中から選ばれた少なとも１つとを含む反応層が薄く形成されてなるため、この軸受面に対する液体金属潤滑剤の濡れ性がすぐれ、動圧式すべり軸受の安定な動作を維持することができる。また、この軸受の組立てが容易で、信頼性の高い軸受動作性能をもつ回転陽極型Ｘ線管を得ることができる。」（４頁６欄３０〜３７行参照）
　以上からみて、刊行物２には、
「Ｍｏ、Ｗ、Ｗ主体の合金、Ｎｂ、Ｎｂ主体の合金、Ｔａ、Ｔａ主体の合金の単体または合金で構成する回転体１２と、上記金属材料からなり、上記回転体１２を回転可能に支持する固定体１５とを備え、上記回転体１２に対向する固定体１５の対向面または上記固定体１５に対向する回転体１２の対向面の少なくとも一方にらせん溝２０，２１が形成され、上記回転体１２の対向面と上記固定体１５の対向面との間の隙間に、金属潤滑剤としてＧａまたはＧａ合金が充填されて、回転陽極型Ｘ線管の真空容器の内部に設けられる真空用動圧軸受装置において、上記金属潤滑剤に対して濡れ性を有するＧａ、Ｂｉ、Ｉｎ、あるいはＳｎから選択された少なくとも１つの元素を含む反応層３１、３２が、上記回転体１２の対向面および上記固定体１５の対向面に形成されている真空用動圧軸受装置。」
が記載されているものと認められる。
　
（３）刊行物３〔実願平３−７４９２９号（実開平５−２７９５１号）のＣＤ−ＲＯＭ〕
　刊行物３には、「Ｘ線管用動圧軸受」に関し、図面とともに次の記載が認められる。
（ソ）「回転陽極を支持する円筒部と、上記円筒部内に所定の隙間を隔てて嵌合された軸部と、上記軸部と円筒部の少なくとも一方に形成された動圧発生溝と、上記軸部と円筒部との隙間に充填されたガリウムまたはガリウム合金の潤滑剤とを備えたＸ線管用動圧軸受において、上記円筒部と軸部は、タンタル素材の表面にガリウムを溶解もしくはイオン注入した金属材料で構成されていることを特徴とするＸ線管用動圧軸受。」（実用新案登録請求の範囲）
　      
（４）刊行物４〔潤滑 JOURNAL OF JAPAN SOCIETY OF LUBRICATION ENGINEERS VOL.19 NO.11 1974〕
　刊行物４には、「固体潤滑剤の応用」に関し、次の記載が認められる。
（タ）「潤滑剤として使用される金属は前述の金、銀、鉛のほかにインジウム、アルミニウム、錫、バリウムなどが用いられている．これら軟質金属はかたい試料面上に薄く被膜されて初めて潤滑性能を示すものであるから、薄く一様に被膜することが必要である．被膜方法としては電気めっき法、真空摩擦法、真空蒸着法、スパッタリング法およびイオンプレーティング法が用いられる．軸受へ被膜する場合軌道輪や玉の精度を低下しないように注意することが必要である．また被膜の付着強さは試料表面の清浄さに大きく影響されるので、試料表面の前処理を十分に行なう必要がある．その点イオンプレーティングとスパッタリングは被膜操作中に試料表面を清浄にする過程が含まれ、１回の操作で全面に一様に被膜できるので軸受に適した方法といえる．」（３１頁右欄１０〜２３行参照）
（チ）「真空蒸着膜およびスパタリング膜の場合には基板材料の差異による付着性能の差がみられないが、イオンプレーティング膜の場合はバイアス電圧の増加とともにこの差が顕著となってくる.……良好な付着特性が得られた原因としては、高運動エネルギを持ったイオンが基板面へ侵入するイオンボンバードメント現象が起こっていることと」（６６頁左欄１０〜１７行参照）
  
（５）刊行物５〔特開昭５５−８８３０号公報〕
　刊行物５には、「磁性体塗布装置における版胴ロール」に関し、図面とともに次の事項が記載されている。
（ツ）「イオンプレーティング法によって、チタニュームカーバイド層９を形成するから、熱歪が少く、胴周表面５のヘリカル溝８のパターンを損わない利点がある。」（２頁右上欄５〜８行参照）
　
（６）刊行物６〔特開昭６２−３００１６号公報〕
　刊行物６には、「耐食、耐摩スクリューヘッド」に関し、図面とともに次の記載が認められる。
（テ）「仕上加工後、イオンプレーティング……により、被覆処理を行なったが、変形量はともに１０μｍ以下であり、スクリューヘッドに要求される精度を十分満足するものであった。」（４頁左上欄８〜１２行参照）
　
【三】対比・判断
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）と上記引用発明とを対比すると、後者における「支持部材１０」及び「支持部材１９」は、前者の「固定体」に相当し、また、本願発明の「金属薄膜」と引用発明の「Ａｕ層」は、いずれも金属潤滑剤に対して濡れ性を有する「金属薄層」であるから、両者の一致点、相違点は次のとおりである。
　
［一致点］
「少なくとも軸受面が金属潤滑剤としてのガリウムまたはガリウム合金に対して耐食性を有する金属材料でなる回転体と、上記金属材料からなり、上記回転体を回転可能に支持する固定体とを備え、上記回転体の軸受面に対向する固定体の対向面または上記固定体に対向する回転体の対向面の少なくとも一方に動圧溝が形成され、上記回転体の対向面と上記固定体の対向面との間の隙間に金属潤滑剤が充填されて、真空容器の内部に設けられる真空用動圧軸受装置において、
　上記金属潤滑剤に対して濡れ性を有する金属薄層が、上記回転体の対向面および上記固定体の対向面に形成されている真空用動圧軸受装置。」
　
［相違点Ａ］
　本願発明は、「回転体」が金属潤滑剤としてのガリウムまたはガリウム合金に対して耐食性を有する金属材料でなるのに対して、引用発明では、回転体の軸受面を構成する「球状部分９」及び「円錐部分１８」は上記金属潤滑剤に対して耐食性を有する金属材料から構成されるものの、回転体自体がそのような金属材料から構成されるものかどうか明らかでない点
　
［相違点Ｂ］
　本願発明は、上記金属薄層が「イオンプレーティングによって」形成された「金属薄膜」であって、「上記金属薄膜の膜厚が上記対向面の少なくとも一方に形成される上記動圧溝の溝深さの略１０分の１とされ、膜厚調整のための後加工を不要とし」ているのに対して、引用発明では、上記金属薄層（Ａｕ層）がどのようにして形成されたものか明瞭でなく、また、上記金属薄層（Ａｕ層）の厚さは、本件出願の請求項１に係る発明の実施例と同等の約１μｍとなっているものの、動圧溝の溝深さとの相対関係が明瞭でない点
　
［相違点Ｃ］
　本願発明は、上記金属薄層を「大気中でも酸化しがたい材料にて作成し、Ｈ２還元処理不要とした」のに対し、引用発明ではその点が明確にされていない点
　
　そこで、上記各相違点について検討する。
　
（１）相違点Ａについて     
　真空軸受装置の金属潤滑剤としてガリウムまたはガリウム合金を用いる回転陽極型Ｘ線管において、「回転体」を上記金属潤滑剤に対して耐食性を有する金属材料で構成することは、上記刊行物２及び３に記載されているように、本件出願前斯界において公知である。
　したがって、真空軸受装置において、回転体の軸受部分のみならず、回転体自体を、金属潤滑剤としてのガリウムまたはガリウム合金に対して耐食性を有する金属材料で構成することは、上記刊行物２及び３に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得る事項とするのが相当である。
　
（２）相違点Ｂについて 
　引用発明においても、動圧溝による動圧効果を損なわないように考慮して金属薄層を形成することが技術上の必然的要請であって、金属薄層は、動圧溝の機能を損なわないように形成されているものと認められる。
　請求人は、この点に関し、平成１５年９月３日付け意見書において、単なる推測であって、根拠がない旨反論しているが、動圧溝表面に、後加工により動圧効果を損なうような厚さの層を設けることは動圧溝が動圧溝で無くなることであり、そのようなことが実際に採用されるとは到底考えられない。動圧溝表面に薄層を設ける場合には、その動圧効果を損なわない程度に実施されるとするのが当然のことである。
　また、金属薄層の厚さに関し、出願当初の明細書には、実施例として、「固定体２の外周面２ａおよび端面２ｂには、約１０μｍの深さの動圧溝が形成されている」こと（段落【００１０】、本件出願に係る公開公報３頁３欄３〜５行参照）、「固定体２の外周面２ａ及び端面２ｂにイオンプレーティングすることによって、インジウムを含む金属薄膜１０が約１μｍの厚さに形成されている」こと（段落【００１１】、同公報３頁３欄１３〜１６行参照）が記載され、また、「イオンプレーティングによれば、金属薄膜１０、１３の厚さを、動圧溝３，５の溝深さ１０μｍの１０分の１程度の厚さに精密に管理できるから、動圧溝３，５に必要なミクロンオーダーの溝寸法精度を容易に確保できる。」（段落【００１３】、同公報３頁３欄４７行〜４欄１行参照）との記載がある。
　これらの記載によれば、金属薄膜の厚さの数値が動圧溝の溝深さの数値の１０分の１である実施例が示されているだけであって、動圧溝の溝深さの略１０分の１の厚さとすることは、イオンプレーティングによればミクロンオーダーの寸法精度を確保できることの例として説明されているにすぎず、「略１０分の１」の数値そのものに臨界的意義があるとの説明はされていない。
　すなわち、出願当初の明細書からは、金属薄層の膜厚が動圧溝深さの略１０分の１とする点に技術的意義があるものと解することができず、実施例の数値は、動圧溝に必要な溝寸法精度に応じて採用されたものとするのが相当である。
　そして、上記引用発明の金属薄層（Ａｕ層）は、本件出願の実施例における金属薄膜と同等の厚さ（約１μｍ）に形成されるものである。
　他方で、イオンプレーティングは、機械加工後に適用される寸法精度の高い成膜技術として、本件出願前より多くの技術分野で採用されている周知の技術と認められ（例えば、上記刊行物４〜６参照）、膜厚調整のための後加工を不要とすることはイオンプレーティングによる方法を採用したことにより得られる効果にすぎない。
　このような技術背景にしたがえば、金属薄層を「イオンプレーティングによって」形成された「金属薄膜」とし、「上記金属薄膜の膜厚が上記対向面の少なくとも一方に形成される上記動圧溝の溝深さの略１０分の１とされ、膜厚調整のための後加工を不要とした」点は、技術上の必然的要請及び周知の技術に基づいて当業者が容易に想到し得たとするのが相当である。
　
（３）相違点Ｃについて
　引用発明のＡｕ層は、「Ａｕは空気中では酸化しないため、金属表面は空気中にて十分低い温度で融解Ｇａ合金に浸すことができる。」（上記摘記記載（キ）参照）とあるように、それ自身「大気中でも酸化しがたい材料」の一つであり、その場合にはＨ２還元処理が不要となることは明らかである。また、刊行物１には「空気中にて全て酸化しないか、またはごく僅かづつしか酸化しない金属または金属合金製の別の封止用外側層を使用し得る」（上記摘記記載（ク）参照）との記載もあり、金属薄層を「大気中でも酸化しがたい材料」にて作成し、「Ｈ２還元処理不要」とする点の技術的思想は十分に示唆されているものと解される。
　したがって、相違点Ｃに係る構成は、刊行物１の記載に基づいて、当業者であれば容易に想到し得ることである。
　
（４）まとめ
　このように、本願発明は、上記刊行物１〜３に記載された発明及び本件出願前周知の事項に基づいて、当業者が容易にその構成を想到し得るものであり、その作用効果も、上記刊行物に記載された発明及び上記周知の事項から予測し得る程度のものであって格別のものとはいえない。
　
【四】むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、その出願前日本国内において頒布された上記刊行物１〜３に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。