【手続補正書】
【提出日】平成24年10月22日(2012.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
種々の難燃性化合物が市販品として入手可能である。長年の広範囲に及ぶ研究にもかかわらず、当該技術分野は、極めて効果的な臭素化芳香族難燃剤を生成するために容易に臭素化できる新しい芳香族炭化水素をなおも求め続けている。ドイツ特許第ＤＥ−Ａ−１９５  １６  ５６３号は、エチルベンゼンが連載移動剤であり、スチレンが反復単位である連鎖移動反応について記載している。該ＤＥ出願は、１，５００〜４１，８００ダルトンの範囲のＭｗおよび１．６〜５５．９の範囲の多分散性を有する高分子量のスチレン重合体を形成するための、エチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルリチウム、カリウムｔｅｒｔ‐ブトキシド、およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）から形成される触媒のシクロヘキサン中の反応を含む。高分子物質に加えて、ドイツ特許第ＤＥ−Ａ−１９５  １６  ５６３号は、１８時間の期間にわたって、過剰エチルベンゼン中の触媒にスチレンを飢餓供給することによる、上述した触媒組成物を用いたスチレンに対するエチルベンゼンの付加物の形成を開示する。さらに、ドイツ特許第ＤＥ−Ａ−１９５  １６  ５６３号は、ある連鎖移動が生じるスチレン生成物を得るための、ｐ−キシレン中におけるスチレンの重合について報告している。英国特許第ＧＢ  １  ３４２  １０１号の実施例ＸＶＩは、ｎ−ブチルリチウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）から形成される触媒を用いて、分子量がＭｎ＝１１８０（ＶＰＯ）である短鎖重合体の分布物を形成する、トルエン中におけるスチレンの短鎖重合を開示している。日本国特許第ＪＰ  ０８  １８８６２２号は、ラジカル重合のための連鎖移動剤としてＣ３−２０アルキルメルカプタンまたはα−メチル−スチレン二量体を用いるラジカル条件下で臭素化スチレンの溶液重合から形成される、低分子量のポリ臭素化スチレン重合体を開示している。当該技術分野における最新の開発のうちのいくつかは、アニオン的に開始されるスチレンの重合によって形成される線状スチレン重合体の臭素化のための新しいプロセス技術に関与する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、新規分岐または星型分岐スチレンの重合体、短鎖重合体、および単量体生成物の分布物も本発明によって提供される。そのような生成物の分布物は、１．０００〜約２．０００の範囲の多分散性（ＰＤ）とともに、約２１１〜約１０５０の範囲のＭｎ、約２１１〜約２６００の範囲のＭｗ、および約２１１〜約３５００の範囲のＭｚを有する、本発明の１つ以上のスチレン重合体の分布物、または１つ以上のスチレン短鎖重合体の分布物、または１つ以上のスチレン由来付加物の分布物を含み、以下の式（Ｉ）によって表される少なくとも１つ以上の異なる分子を含み、
（Ｉ）      （ＣＨ３）ｂＣ６Ｈｋ（ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨＣ６Ｈ５）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｃ６
Ｈ５）ｃ
式中、
各Ｃ６Ｈ５はフェニル基であり、各Ｃ６ＨＫは置換フェニル基であり、
ｎは整数であって、独立して、０＜ｎ＜８の範囲であり、
ｋは、独立して、２、３、または４に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、または３に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｋ＋ｂ＋ｃの合計＝６である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の特に好ましい新規組成物は、約１．１〜約２．０の範囲のＰＤとともに、約３００〜約１０５０の範囲のＭｎ、約３５０〜約２６００の範囲のＭｗ、および約４００〜約３５００の範囲のＭｚを有し、以下の式（ＩＩ）によって表される少なくとも１つの化合物を含む、分岐および／または星型分岐短鎖重合体の分布物から成り、
（ＩＩ）    （ＣＨ３）ｂＣ６Ｈｋ（ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨＣ６Ｈ５）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｃ６
Ｈ５）ｃ
式中、
各Ｃ６Ｈ５はフェニル基であり、各Ｃ６Ｈｋは置換フェニル基であり、
ｎは整数であって、独立して、０＜ｎ＜８の範囲であり、
ｋは、独立して、２、３、または４に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、または３に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｋ＋ｂ＋ｃの合計＝６である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の特に好ましい第２の群の新規組成物は、約１．００２〜約１．１５０の範囲のＰＤとともに、約２１２〜約４９０の範囲のＭｎ、約２１２〜約２３００の範囲のＭｗ、および約２２６〜約２８００の範囲のＭｚを有し、以下の式（ＩＩＩ）によって表される少なくとも１つの化合物を含む、分岐および／または星型分岐短鎖重合体の分布物から成り、
（ＩＩＩ）  （ＣＨ３）ｂＣ６Ｈｋ（ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨＣ６Ｈ５）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｃ６
Ｈ５）ｃ
式中、
各Ｃ６Ｈ５はフェニル基であり、各Ｃ６Ｈｋは置換フェニル基であり、
ｎは整数であって、独立して、０＜ｎ＜３の範囲であり、
ｋは、独立して、２、３、または４に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、または３に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｋ＋ｂ＋ｃの合計＝６である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の特に好ましい第３の群の新規組成物は、１．０００〜約１．１００の範囲のＰＤとともに、約２１１〜約５１１の範囲のＭｎ、約２１１〜約５１１の範囲のＭｗ、および約２１１〜約５１１の範囲のＭｚを有し、以下の式（ＩＶ）によって表される少なくとも１つの化合物を含む、１つ以上の付加物の分岐および／または星型分岐分布物から成り、
（ＩＶ）    （ＣＨ３）ｂＣ６Ｈｋ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）ｃ
式中、
各Ｃ６Ｈ５はフェニル基であり、各Ｃ６Ｈｋは置換フェニル基であり、
ｋは、独立して、２、３、または４に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、または３に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｋ＋ｂ＋ｃの合計＝６である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そのような副産物は、式
（Ｖ） Ｃ６Ｈ５ＣＨ２ＣＨ２Ｃ６Ｈｋ（ＣＨ３）ｂ（ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨＣ６Ｈ５
）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）ｃ
によって表すことができ、
式中、
各Ｃ６Ｈ５はフェニル基であり、各Ｃ６Ｈｋは置換フェニル基であり、
ｎは、整数であって、０＜ｎ＜８の範囲であり、
ｋは、独立して、１、２、または３に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、３、または４に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｋ＋ｂ＋ｃの合計＝５である。
これらの副産物を含有する生成物の分布物は、式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、および（ＩＶ）で表される分布物に関して上に示したのと同じ分子量分布を有する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の上記分布物を生成および臭素化するためのプロセスも本発明によって提供される。本発明は、特に、式
（ＶＩ）    （ＣＨ３）ｂＣ６ＨｘＢｒｙ（ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨＣ６ＨｉＢｒｊ）ｎＣＨ
２ＣＨ２Ｃ６ＨｉＢｒｊ）ｃ
の本発明の臭素化芳香族生成物の分布物を含む臭素化難燃性組成物をさらに提供し、
式中、
各Ｃ６ＨｉＢｒｊは臭素化フェニル基であり、各Ｃ６ＨｘＢｒｙは臭素化置換フェ
ニル基であり、
ｎは整数であって、独立して、０＜ｎ＜８の範囲であり、
ｘは、０〜４に等しい整数であり、
ｙは、０〜４に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、または３に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
ｉは、０〜５に等しい整数であり、
ｊは、０〜５に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｘ＋ｙ＋ｂ＋ｃの合計＝６であり、ｉ＋ｊの合計＝５であり、上記分布物は、約４２０〜約３３００の範囲のＭｎ、約４２０〜約６２５０の範囲のＭｗ、約４２０〜約１０９３７の範囲のＭｚ、および約１．００〜約２．００の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とし、本発明の臭素化生成物の分布物においてＸＲＦによって決定される臭素の重量パーセントは、約５０重量％〜約７９重量％の範囲である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
式
（ＶＩＩ）  （ＣＨ３）ｂＣ６ＨｘＢｒｙ（ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨＣ６ＨｉＢｒｊ）ｎＣＨ
２ＣＨ２Ｃ６ＨｉＢｒｊ）ｃ
の本発明の臭素化芳香族基質の分布物を含む好ましい臭素化難燃性組成物であり、
式中、
各Ｃ６ＨｉＢｒｊは臭素化フェニル基であり、各Ｃ６ＨｘＢｒｙは臭素化置換フェ
ニル基であり、
ｎは整数であって、独立して、０＜ｎ＜８の範囲であり、
ｘは、０〜４に等しい整数であり、
ｙは、０〜４に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、または３に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
ｉは、０〜５に等しい整数であり、
ｊは、０〜５に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｘ＋ｙ＋ｂ＋ｃの合計＝６であり、ｉ＋ｊの合計＝５であり、上記分布物は、約９００〜約３３００の範囲のＭｎ、約１１００〜約６６００の範囲のＭｗ、約１２５０〜約１１０００の範囲のＭｚ、および約１．０〜約２．０の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とし、本発明の臭素化生成物の分布物においてＸＲＦによって決定される臭素の重量パーセントは、約６８重量％〜約７４重量％の範囲である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の別の好ましい臭素化難燃性組成物は、式
（ＶＩＩＩ）  （ＣＨ３）ｂＣ６ＨｘＢｒｙ（ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨＣ６ＨｉＢｒｊ）ｎＣ
Ｈ２ＣＨ２Ｃ６ＨｉＢｒｊ）ｃ
の本発明の臭素化芳香族基質の分布物を含み、
式中、
各Ｃ６ＨｉＢｒｊは臭素化フェニル基であり、各Ｃ６ＨｘＢｒｙは臭素化置換フェ
ニル基であり、
ｎは整数であって、独立して、０＜ｎ＜４の範囲であり、
ｘは、０〜４に等しい整数であり、
ｙは、０〜４に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、または３に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
ｉは、０〜５に等しい整数であり、
ｊは、０〜５に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｘ＋ｙ＋ｂ＋ｃの合計＝６であり、ｉ＋ｊの合計＝５であり、上記分布物は、約４２０〜約２３００の範囲のＭｎ、約４２０〜約３１００の範囲のＭｗ、約４５２〜約４０００の範囲のＭｚ、および約１．００〜約２．００の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とし、本発明の臭素化生成物の分布物においてＸＲＦによって決定される臭素の重量パーセントは、約５０重量％〜約７９重量％の範囲である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明のさらに別の好ましい臭素化難燃性組成物は、式
（ＩＸ）    （ＣＨ３）ｂＣ６ＨｘＢｒｙ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ６ＨｉＢｒｊ）Ｃ
の本発明の臭素化芳香族基質付加物の分布物を含み、
式中、
各Ｃ６ＨｉＢｒｊは臭素化フェニル基であり、各Ｃ６ＨｘＢｒｙは臭素化置換フェ
ニル基であり、
ｘは、０〜４に等しい整数であり、
ｙは、０〜４に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、または３に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
ｉは、０〜５に等しい整数であり、
ｊは、０〜５に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｘ＋ｙ＋ｂ＋ｃの合計＝６であり、ｉ＋ｊの合計＝５であり、式中、ｙは、平均して約２未満であり、ｉは、平均して約２未満であり、上記分布物は、約４２０〜約１４２０の範囲のＭｎ、約４２０〜約１４２０の範囲のＭｗ、約４２０〜約１４２０の範囲のＭｚ、および約１．００〜約２．００の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とし、本発明の臭素化生成物の分布物においてＸＲＦによって決定される臭素の重量パーセントは、約４５重量％〜約６１重量％（酸化アンチモン等のアンチモン相乗剤の非存在下で組成物が使用される場合）および約４５重量％〜約７９重量％（難燃性相乗剤の存在下で組成物が使用される場合）の範囲である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
そのような臭素化副産物は、式
（Ｘ） Ｃ６ＨｉＢｒｊＣＨ２ＣＨ２Ｃ６Ｈｘ−１Ｂｒｙ（ＣＨ３）ｂ（ＣＨ２（Ｃ
Ｈ２ＣＨＣ６ＨｉＢｒｊ）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｃ６ＨｉＢｒｊ）ｃ
によって表すことができ、
式中、
各Ｃ６ＨｉＢｒｊは臭素化フェニル基であり、各Ｃ６Ｈｘ−１Ｂｒｙは臭素化置換
フェニル基であり、
ｎは整数であって、独立して、０＜ｎ＜８の範囲であり、
ｘは、０〜４に等しい整数であり、
ｙは、０〜４に等しい整数であり、
ｂは、独立して、０、１、２、３、または４に等しい整数であり、
ｃは、独立して、１、２、３、または４に等しい整数であり、
ｉは、０〜５に等しい整数であり、
ｊは、０〜５に等しい整数であり、
任意の別個の分子については、ｘ＋ｙ＋ｂ＋ｃの合計＝５であり、ｉ＋ｊの合計＝５である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
（Ｉ）    （ＣＨ３）ｂＣ６Ｈｋ（ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨＣ６Ｈ５）ｎＣＨ２ＣＨ２
Ｃ６Ｈ５）ｃ
の分岐または星型分岐スチレン生成物の分布物の混合物を含む組成物であって、
式中、各Ｃ６Ｈ５はフェニル基であり、各Ｃ６Ｈｋは置換フェニル基であり、前記式の各分子については、ｎは、整数であって、独立して、０＜ｎ＜８の範囲であり、ｋは、独立して、２〜４の範囲の整数であり、ｂは、独立して、０〜３の範囲の整数であり、ｃは、独立して、１〜４の範囲の整数であり、任意の別個の分子については、ｋ＋ｂ＋ｃの合計＝６であるが、但し、さらに、前記分布物は、随意的に、０．１重量％以下の量で連鎖移動剤（ＣＴＡ）をさらに含有するものとし、前記分布物は、２６３〜７５５の範囲のＭｎ、３２２〜１１７８の範囲のＭｗ、３２８〜２１５７の範囲のＭｚ、１．１０〜１．８３の範囲のＰＤ、および８４〜５６５の標準偏差を有することをさらに特徴とする、組成物。
【請求項２】
前記分布物は、３００〜７５５の範囲のＭｎ、３５０〜１１７８の範囲のＭｗ、４００〜２１５７の範囲のＭｚ、１．１〜１．８３の範囲のＰＤ、および８４〜５６５の標準偏差を有することをさらに特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ｎは、整数であって、独立して、０＜ｎ＜４の範囲であり、式中、ｎ＝０であり、ｃ＝１である式（Ｉ）の構造によって表される分子は、＜５ＧＰＣ面積％のレベルまで除去され、前記分布物は、２７５〜５４７の範囲のＭｎ、３２２〜６０５の範囲のＭｗ、３８７〜６７２の範囲のＭｚ、および１．１〜１．３３の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
式
（ＩＶ）  （ＣＨ３）ｂＣ６Ｈｋ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）ｃ
の分岐または星型分岐スチレン単量体生成物の分布物の混合物を含む、請求項１に記載の組成物であって、
式中、各Ｃ６Ｈ５はフェニル基であり、各Ｃ６Ｈｋは置換フェニル基であり、前記式の各分子については、ｋは、独立して、２〜４の範囲の整数であり、ｂは、独立して、０〜３の範囲の整数であり、ｃは、独立して、１〜４の範囲の整数であり、任意の別個の分子については、ｋ＋ｂ＋ｃの合計＝６であるが、但し、さらに、前記分布物は、随意的に、０．１重量％以下の量で連鎖移動剤（ＣＴＡ）をさらに含有するものとし、前記分布物は、約２１１〜約５５１の範囲のＭｎ、約２１１〜約５５１の範囲のＭｗ、約２１１〜約５５１の範囲のＭｚ、および約１．０００〜約１．１００の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とする、組成物。
【請求項５】
以下の式Ｖ、
（Ｖ）    Ｃ６Ｈ５ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ６Ｈｋ（ＣＨ３）ｂ（ＣＨ２（ＣＨ２Ｃ
ＨＣ６Ｈ５）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）ｃ
の分岐または星型分岐スチレン単量体生成物の分布物の混合物を含み、
存在するＶの量は０〜５重量％の範囲であり、式中、各Ｃ６Ｈ５はフェニル基であり、各Ｃ６Ｈｋは置換フェニル基であり、ｎは、整数であって、独立して、０＜ｎ＜８の範囲であり、ｋは、独立して、１〜３の範囲の整数であり、ｂは、独立して、０〜４の範囲の整数であり、ｃは、独立して、１〜４の範囲の整数であり、任意の別個の分子については、ｋ＋ｂ＋ｃの合計＝５である、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
請求項１に記載の組成物を生成するためのプロセスであって、
Ｉ）  連鎖移動剤（ＣＴＡ）、アルキルリチウム、ならびにＴＭＥＤＡおよび／またはＰＭＤＴＡ促進剤を含む構成成分から形成される攪拌した反応混合物に、（ｉ）１５〜１５０の範囲のスチレンのモル／連鎖移動剤（ＣＴＡ）のモル／時間、および（ｉｉ）０．１５〜３．０の範囲のスチレンのモル／アルキルリチウムのモル／時間の速度で、０．１〜１０の範囲のスチレン：連鎖移動剤（ＣＴＡ）のモル比、６０〜３６０の範囲のスチレン：アルキルリチウムのモル比、および０．９５〜８の範囲の促進剤：アルキルリチウムのモル比で、スチレンを供給し、７０℃〜１２０℃の範囲の前記反応混合物の実質的に一定である温度を維持することであって、前記攪拌は、前記反応混合物において実質的に均一な濃度プロファイルを維持するのに少なくとも十分である、維持することと、
ＩＩ）  プロトン性溶媒を用いて、約９５℃未満の温度である間に前記反応混合物を反応停止させることであって、（ｉ）水が前記反応停止溶媒である場合は、少なくとも１つの相切断を行い、（ｉｉ）水以外の反応停止溶媒が使用される場合は、洗浄水を添加して相切断を行う、反応停止させることと、
ＩＩＩ）  前記反応混合物から前記促進剤および未反応連鎖移動剤（ＣＴＡ）を分離および回収し、それによって、水もまた前記反応混合物から除去され、前記得られた生成物混合物の前記連鎖移動剤（ＣＴＡ）の含有量が０．１重量％未満になるように前記分離を継続することと、を含む、プロセス。
【請求項７】
前記反応停止において用いられる前記プロトン性溶媒は、脱酸素水である、請求項６に記載のプロセス。
【請求項８】
前記反応停止において用いられる前記プロトン性溶媒は、水以外であり、前記添加された洗浄水は、脱酸素水である、請求項６に記載のプロセス。
【請求項９】
前記プロセスは、前記促進剤としてＴＭＥＤＡを使用して行われ、（ｉ）０．４〜約３の範囲のスチレンのモル／連鎖移動剤（ＣＴＡ）のモル／時間、および（ｉｉ）４０〜１５０の範囲のスチレンのモル／アルキルリチウムのモル／時間の速度で、０．５〜１０の
範囲のスチレン：連鎖移動剤（ＣＴＡ）のモル比、８０〜３００の範囲のスチレン：アルキルリチウムのモル比、および０．９５〜８の範囲のＴＭＥＤＡ：アルキルリチウムのモル比で行われ、７０℃〜１２０℃の範囲の前記反応混合物の前記温度を維持する、請求項６〜８のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項１０】
前記プロセスは、前記促進剤としてＴＭＥＤＡを使用して行われ、（ｉ）０．１５〜０．８０の範囲のスチレンのモル／連鎖移動剤（ＣＴＡ）のモル／時間、および（ｉｉ）３０〜８０の範囲のスチレンのモル／アルキルリチウムのモル／時間の速度で、０．１〜１の範囲のスチレン：連鎖移動剤（ＣＴＡ）のモル比、６０〜１５０の範囲のスチレン：アルキルリチウムのモル比、および０．９５〜８の範囲のＴＭＥＤＡ：アルキルリチウムのモル比で行われ、７０℃〜１１５℃の範囲の前記反応混合物の前記温度を維持する、請求項６〜８のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項１１】
前記連鎖移動剤（ＣＴＡ）および／または促進剤（複数可）は、蒸留によって回収され、前記プロセスにおいて再利用される、請求項６〜８のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項１２】
連鎖移動剤（ＣＴＡ）：スチレンのモル比が１：１である付加物が形成され、前記付加物は、蒸留によって回収され、前記プロセスにおいて再利用される、請求項６〜８のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項１３】
連鎖移動剤（ＣＴＡ）：スチレンのモル比が１：１である付加物が形成され、前記付加物、前記連鎖移動剤（ＣＴＡ）、および／または促進剤（複数可）は、蒸留によって回収され、前記プロセスにおいて再利用される、請求項６〜８のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項１４】
式
（ＶＩ）    （ＣＨ３）ｂＣ６ＨｘＢｒｙ（ＣＨ２（ＣＨ２ＣＨＣ６ＨｉＢｒｊ）
ｎＣＨ２ＣＨ２Ｃ６ＨｉＢｒｊ）ｃ
の臭素化芳香族基質の分布物を含む臭素化難燃性組成物であって、
式中、各Ｃ６ＨｉＢｒｊは臭素化フェニル基であり、各Ｃ６ＨｘＢｒｙは臭素化置換フェニル基であり、前記式の各分子については、ｎは、整数であって、独立して、０＜ｎ＜８の範囲であり、ｂは、独立して、０〜３の範囲の整数であり、ｃは、独立して、１〜４の範囲の整数であり、ｘは、独立して、０〜４の範囲の整数であり、ｙは、独立して、０〜４の範囲の整数であり、ｉは、独立して、０〜５の範囲の整数であり、ｊは、独立して、０〜５の範囲の整数であり、任意の別個の分子については、ｘ＋ｙ＋ｂ＋ｃの合計＝６であり、ｉ＋ｊの合計＝５であり、前記分布物は、４２０〜３３００の範囲のＭｎ、４２０〜６２５０の範囲のＭｗ、４２０〜１０９３７の範囲のＭｚ、および１．００〜２．００の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とし、前記臭素化生成物の分布物においてＸＲＦによって決定される臭素の重量パーセントは、４５重量％〜７９重量％の範囲である、臭素化難燃性組成物。
【請求項１５】
前記分布物は、９００〜３３００の範囲のＭｎ、約１１００〜６６００の範囲のＭｗ、１２５０〜１１０００の範囲のＭｚ、および１．０〜２．０の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とし、本発明の前記臭素化生成物の分布物においてＸＲＦによって決定される臭素の重量パーセントは、６８重量％〜７４重量％の範囲である、請求項１４に記載の臭素化難燃性組成物。
【請求項１６】
ｎは整数であって、独立して、０＜ｎ＜４の範囲であり、前記分布物は、４２０〜２３００の範囲のＭｎ、４２０〜３１００の範囲のＭｗ、４５２〜４０００の範囲のＭｚ、お
よび１．００〜２．００の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とする、請求項１４に記載の臭素化難燃性組成物。
【請求項１７】
前記臭素化芳香族基質の分布物は、式
（ＩＸ）  （ＣＨ３）ｂＣ６ＨｘＢｒｙ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ６ＨｉＢｒｊ）ｃを有し、式中、各Ｃ６ＨｉＢｒｊは臭素化フェニル基であり、各Ｃ６ＨｘＢｒｙは臭素化置換フェニル基であり、前記式の各分子については、ｂは、独立して、０〜３の範囲の整数であり、ｃは、独立して、１〜４の範囲の整数であり、ｘは、独立して、０〜３の範囲の整数であり、ｙは、独立して、０〜３の範囲の整数であり、ｉは、独立して、０〜５の範囲の整数であり、ｊは、独立して、０〜５の範囲の整数であり、任意の別個の分子については、ｘ＋ｙ＋ｂ＋ｃの合計＝６であり、ｉ＋ｊの合計＝５であり、前記分布物は、４２０〜１４２０の範囲のＭｎ、４２０〜１４２０の範囲のＭｗ、４２０〜１４２０の範囲のＭｚ、および１．００〜２．００の範囲のＰＤを有することをさらに特徴とする、請求項１４に記載の臭素化難燃性組成物。
【請求項１８】
以下の式Ｘ
（Ｘ）    Ｃ６ＨｉＢｒｊＣＨ２ＣＨ２Ｃ６Ｈｘ−１Ｂｒｙ（ＣＨ３）ｂ（ＣＨ２
（ＣＨ２ＣＨＣ６ＨｉＢｒｊ）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｃ６ＨｉＢｒｊ）ｃ
の分岐または星型分岐スチレン単量体の生成物の分布物の混合物をさらに含み、
そのような副産物の量は０〜５ＧＰＣ面積％の範囲であり、式中、各Ｃ６ＨｉＢｒｊは臭素化フェニル基であり、各Ｃ６Ｈｘ−１Ｂｒｙは臭素化置換フェニル基であり、ｎは、整数であって、独立して、０＜ｎ＜８の範囲であり、ｘは、独立して、０〜４の範囲の整数であり、ｙは、独立して、０〜４の範囲の整数であり、ｂは、独立して、０〜４の範囲の整数であり、ｃは、独立して、０〜４の範囲の整数であり、ｉは、独立して、０〜５の範囲の整数であり、ｊは、独立して、０〜５の範囲の整数であり、任意の別個の分子については、ｘ＋ｙ＋ｂ＋ｃの合計＝５であり、ｉ＋ｊの合計＝５であり、前記組成物の臭素含有量は、４５重量％〜７９重量％の範囲である、請求項１４〜１７のうちのいずれかに記載の組成物。
【請求項１９】
臭素化芳香族重合体は、３５０℃を超える温度に達するまで、ＴＧＡは５％の重量減少を示さないことをさらに特徴とする、請求項１４〜１８のうちのいずれかに記載の臭素化難燃性組成物。
【請求項２０】
前記臭素化芳香族重合体は、３００℃で、検出限界未満の５０ｐｐｍ〜約２００ｐｐｍ以下の範囲の熱ＨＢｒ値を有することをさらに特徴とする、請求項１４〜１８のうちのいずれかに記載の臭素化難燃性組成物。
【請求項２１】
前記臭素化芳香族重合体は、Ｈｕｎｔｅｒ溶液による色値試験において、３〜１７の範囲のΔＥ値を有することをさらに特徴とする、請求項１４〜１８のうちのいずれかに記載の臭素化難燃性組成物。
【請求項２２】
前記臭素化芳香族重合体は、４０℃〜１６０℃の範囲のガラス転移温度を有することをさらに特徴とする、請求項１４〜１８のうちのいずれかに記載の臭素化難燃性組成物。
【請求項２３】
臭素化難燃性組成物を生成するためのプロセスであって、触媒量のルイス酸臭素化触媒および溶媒の存在下で、臭素化剤を用いて、請求項１に記載の分岐および／もしくは星型分岐スチレン重合体、短鎖重合体、または付加物の分布物を臭素化することを含み、前記臭素化の少なくとも実質的に全ては、−１０℃〜０℃の範囲内の温度で起こり、ＸＲＦによって決定される５０重量％〜７９重量％の範囲の臭素含有量を有する組成物を形成する、プロセス。
【請求項２４】
前記臭素化は、（ｉ）前記臭素化剤および臭素化触媒の組み合わせ、および（ｉｉ）臭素化溶媒と混合した前記スチレン重合体の分布物を、最初に前記溶媒または前の反応混合物の残留物を含有し、その後、前記溶媒中の反応混合物を含有する反応域に、別々ではあるが同時に供給することによって達成され、前記供給することは、（ｉ）および（ｉｉ）の構成成分の局所的に高い濃度が達成されるように、（ｉ）および（ｉｉ）の前記供給物は、前記反応域内で互いに近接しているか、または、互いに対して直接衝突するように方向付けられ、前記供給は、前記反応混合物中の液相下で行われることをさらに特徴とする、請求項２３に記載のプロセス。
【請求項２５】
前記臭素化は、（ｉ）前記臭素化剤、および（ｉｉ）臭素化溶媒と混合した前記スチレン重合体の分布物を、前記反応域に導入する前に、別々ではあるが同時に予混合域に供給することによって達成され、前記予混合域において形成される混合物は、その後、前記反応域に導入され、前記反応域は、最初に前記溶媒および前記臭素化触媒、ならびに随意的に残留物の一部を含有し、前記予混合された供給物の導入は、前記反応混合物中の液相下で行われる、請求項２３に記載のプロセス。
【請求項２６】
用いられる前記ルイス酸臭素化触媒は、三臭化アルミニウム、三塩化アルミニウム、またはそれらの混合物である、請求項２３〜２５のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項２７】
前記臭素化触媒は、三臭化アルミニウムである、請求項２６に記載のプロセス。
【請求項２８】
前記臭素化触媒は、三塩化アルミニウムである、請求項２６に記載のプロセス。
【請求項２９】
前記臭素化触媒は、塩化第二鉄、臭化第二鉄、三ハロゲン化アンチモン、または上記のうちの少なくとも２つの組み合わせである、請求項２３〜２５のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項３０】
用いられる前記臭素化剤は、臭素である、請求項２３〜２９のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項３１】
前記溶媒は、主としてブロモクロロメタンから成る、請求項２３〜３０のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項３２】
用いられる前記ルイス酸臭素化触媒は、三臭化アルミニウムであり、用いられる前記臭素化剤は、臭素であり、前記溶媒は、主としてブロモクロロメタンから成る、請求項２３〜２５のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項３３】
用いられる前記ルイス酸臭素化触媒は、三塩化アルミニウムであり、用いられる前記臭素化剤は、臭素であり、前記溶媒は、主としてブロモクロロメタンから成る、請求項２３〜２５のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項３４】
前記臭素化溶媒中のスチレン重合体の前記分布物は、供給する前に、極性アミン不純物を除去するために固体吸着剤を通過させられる、請求項２３〜３３のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項３５】
前記プロセスは、（１）前記臭素化触媒を不活性化するために水中で前記反応混合物を反応停止させることであって、（ａ）存在する任意の臭素化剤の含有量を減少させるための還元剤が随意的に添加される、および／または（ｂ）水相中に形成する可能性がある任意のエマルジョンを破壊するために、必要に応じて表面活性剤が随意的に添加される、前
記水相および有機相を形成する、反応停止させることと、（２）前記有機相を前記水相から分離することと、をさらに含む、請求項２３〜３４のうちのいずれかに記載のプロセス。
【請求項３６】
前記反応停止に続いて、前記分離された有機相またはそれに由来する任意の他の有機相は、存在する可能性があるＮ‐臭化アミンの含有量を減少させるために塩基性ＮａＢＨ４水溶液で洗浄され、そのような洗浄（複数回可）は、４５℃〜６５℃の範囲の温度で行われる、請求項３５に記載のプロセス。
【請求項３７】
前記洗浄された有機相は、前記臭素化スチレン重合体の分布物を得るために、溶媒を除去する前に、共沸乾燥され、固体吸着剤を通過させられる、請求項３６に記載のプロセス。
【請求項３８】
難燃量の請求項１４〜２２のうちのいずれかに記載の前記組成物を含有する、ＨＩＰＳ系配合物。
【請求項３９】
難燃量の請求項１４〜２２のうちのいずれかに記載の前記組成物を含有する、ＡＢＳ系配合物。
【請求項４０】
難燃量の請求項１４〜２２のうちのいずれかに記載の前記組成物を含有する、ポリオレフィン系配合物。
【請求項４１】
難燃量の請求項１４〜２２のうちのいずれかに記載の組成物が含まれた熱硬化性樹脂を含有する、難燃性熱硬化性樹脂組成物
【請求項４２】
前記熱硬化性樹脂は、ノボラック樹脂である、請求項４１に記載の組成物。
【請求項４３】
難燃量の請求項１４〜２２のうちのいずれかに記載の組成物を含有する、工学的熱可塑性物質系配合物。
【請求項４４】
前記工学的熱可塑性物質は、熱可塑性ポリエステルまたは熱可塑性ポリアミドである、請求項４３に記載の配合物。
【請求項４５】
前記難燃量は、前記配合物の総重量に基づいて、１〜９５重量％の範囲である、請求項３８〜４４のうちのいずれかに記載の配合物。
【請求項４６】
前記配合物は、相乗量の難燃性相乗剤をさらに含有する、請求項３８、３９、４０、４３、４４、または４５のうちのいずれかに記載の配合物。
【請求項４７】
前記難燃性相乗剤は、アンチモン含有相乗剤であり、前記相乗剤の量は、前記配合物の総重量に基づいて、１〜１２重量％の範囲である、請求項４６に記載の配合物。
【請求項４８】
ポリウレタンを調製するための配合物であって、請求項１６〜１８のうちのいずれかに記載の組成物を難燃剤として含有することによって特徴づけられる、配合物。
【請求項４９】
少なくとも１つの難燃性相乗剤をさらに含む、請求項４８記載の配合物。
【請求項５０】
前記相乗剤は、アルキル化トリフェニルホスフェートである、請求項４９に記載の配合物。