【手続補正書】
【提出日】平成24年9月3日(2012.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの前駆体ガスの速度を制御するための流量コントローラと、
少なくとも１つの基板を受け取るように構成され、選択した圧力に排気することができるチャンバと、
前記少なくとも１つの前駆体ガスからプラズマを生成するためのプラズマ源と、
パルス無線周波数電力源と前記プラズマとの間の結合効率に基づいて選択した無線周波数で前記プラズマにパルス無線周波数電力を供給するための超高周波無線周波数電力源であり、前記無線周波数電力の少なくとも１つのパラメータが、前記パルス無線周波数電力を前記プラズマに供給することによって形成されるナノ粒子の少なくとも１つの特性に基づいて選択可能である、超高周波無線周波数電力源と
を備える低圧高周波パルス・プラズマ反応器システム。
【請求項２】
前記流量コントローラが、ガス流量コントローラ、質量流量コントローラ、電気制御質量流量コントローラ、又は精密ロタメータのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記少なくとも１つの前駆体ガスが流されている間大気圧未満である真空レベルまで排気することができる誘電体管を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記真空レベルが１×１０−７〜５００Ｔｏｒｒの間にある、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記真空レベルが１００〜３００Ｔｏｒｒの間にある、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記真空レベルが１×１０−７〜１×１０−３Ｔｏｒｒの間にある、請求項４に記載のシステム。
【請求項７】
前記プラズマ源が二重リング電極を含み、上流リングがＶＨＦ無線周波数にバイアスされ、下流リングが接地されるか、又はプッシュプル（１８０°位相外れ）で動作する前記リング電極により作動されるＶＨＦ無線周波数にバイアスされる、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記プラズマ源が、
前記ＶＨＦ無線周波数電力源に結合される電極を囲む誘電体管であり、前記電極が、前記管の内部で、鋭い先端と、接地したリングとの間に可変距離を有する前記先端を備え、前記ＶＨＦ無線周波数電力源が約３０〜３００ＭＨｚの周波数範囲で作動し、前記ＶＨＦ無線周波数にバイアスされた先端電極と、接地したリングとの間の距離が、前記前駆体ガスのパッシェンの曲線によって決定される前記少なくとも１つの前駆体ガスの最小絶縁破壊電圧に基づいて選択される、誘電体管、
ＶＨＦ無線周波数電力源に結合される電極を囲む誘電体管であり、前記電極が、前記先端とプッシュプル（１８０°位相外れ）で作動されるＶＨＦ無線周波数電力供給リングとの間に可変距離を有する前記鋭い先端を備える、誘電体管、
前記ＶＨＦ無線周波数電力源に結合された少なくとも２つの平行プレートであり、そのため、前記ＶＨＦ無線周波数電力源により前記少なくとも２つの平行プレート間に形成された電界によって、無線周波数電力が前記少なくとも１つの前駆体ガスに送り出される、少なくとも２つの平行プレート、
前記ＶＨＦ無線周波数電力源に結合された少なくとも１つの誘導コイルであり、そのため、前記誘導コイルにより形成された電界によって、前記無線周波数電力が前記少なくとも１つの前駆体ガスに送り出される、少なくとも１つの誘導コイル、又は、
貫流シャワーヘッド設計態様であり、ＶＨＦ無線周波数でバイアスされる上流多孔性電極プレートが下流多孔性電極プレートから分離され、前記プレートの細孔が互いに位置合せされ、前記下流多孔性電極プレートが接地されるか、又は前記上流多孔性プレートに対してプッシュプル法（１８０°位相外れ）で作動されるＶＨＦ無線周波数によってバイアスされる、貫流シャワーヘッド設計態様
のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記上流多孔性電極プレートと前記下流多孔性電極プレートとを分離する距離が可変であり、前記少なくとも１つの前駆体ガス又は誘電体媒体で満たされる、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ＶＨＦ無線周波数電力源が可変無線周波数で無線周波数電力を供給するように構成され、前記プラズマを生成するのに使用される前記無線周波数が、複数の無線周波数での前記ＶＨＦ無線周波数電力源と前記プラズマとの間の複数の結合効率の測定に基づいて選択され、前記少なくとも１つの前駆体ガス中のプラズマ滞留時間、粒子核形成滞留時間、平均粒子サイズ、粒子サイズ分布、及び凝集速度のうちの少なくとも１つに基づいて選択される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記ＶＨＦ無線周波数電力源が、前記少なくとも１つの前駆体ガスへの電力結合効率と誘電体管圧力とを最大にするようにインサイチュで周波数調整され得る、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記ＶＨＦ無線周波数電力源が、
前記１つ又は複数の前駆体ガスによって生成された前記プラズマへの連続的無線周波数電力、
前記無線周波数電力の振幅を変調することによるパルス無線周波数電力、
前記無線周波数電力の周波数を変調することによるパルス無線周波数電力、又は
交互のオン及びオフ状態のパルス無線周波数電力
のうちの少なくとも１つを供給するように構成される、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記結合されたプラズマ放電へのＶＨＦ無線周波数電力源が３Ｗ／ｃｍ２から８００Ｗ／ｃｍ２までの電力密度を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記チャンバが、基板を保持するのに使用されるチャックを含み、前記チャックが、
可変速度回転、
前記ＶＨＦ無線周波数源に対する可変位置、
−１５℃から３００℃の範囲に制御される温度、
直流バイアス、
無線周波数バイアス、又は
ロードロック可能な機能
のうちの少なくとも１つを提供するように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記チャンバが、
前記上流ＶＨＦ無線周波数プラズマ中で合成されたナノ粒子のインサイチュ・ガス相機能化のための２次的な１３．５６ＭＨｚプラズマ・システム、又は
前記上流ＶＨＦ無線周波数プラズマ中で合成されたナノ粒子のインサイチュ・ガス相機能化のための熱化学気相堆積源
の少なくとも一方を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１６】
前記基板が、
ロール・ツー・ロール材料、
真空適合固体、又は
真空適合液体
のうちの少なくとも１つである、請求項１に記載のシステム。
【請求項１７】
前記上流ＶＨＦ無線周波数放電で合成された前記ナノ粒子が、前記低圧チャンバから排気され、エアロゾルで大気圧に導かれる、請求項１に記載のシステム。
【請求項１８】
コア／シェル・ナノ粒子を生成する方法であって、
少なくとも１つの前駆体ガスのＶＨＦ無線周波数低圧グロー放電を供給するステップであり、前記ＶＨＦ無線周波数がＶＨＦ無線周波数電力源とプラズマとの間のプラズマ電力結合効率に基づいて選択される、ステップと、
ナノ粒子コアを核形成及び成長させるように前記ＶＨＦプラズマ中で前記少なくとも１つの前駆体ガスを解離させるステップと、
前記合成されたナノ粒子の表面にシェルを成長させるステップであり、前記シェルが無機体又は有機体である、ステップと
を含む方法。
【請求項１９】
プラズマの高イオン・エネルギー、密度及び滞留時間を制御して、前記少なくとも１つの前駆体ガス中のプラズマ滞留時間、コア・ナノ粒子核形成滞留時間、平均コア・ナノ粒子サイズ、コア・ナノ粒子サイズ分布、及び凝集速度のうちの少なくとも１つを制御するように、前記ＶＨＦ無線周波数低圧放電が振幅変調、周波数変調、又は、交互のオン及びオフ状態のうちの少なくとも１つを介してパルス化され、前記合成されたコア・ナノ粒子が前記ガス相においてシェルによって被覆される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
組み合わせたナノ粒子／アモルファス薄膜を生成する方法であって、
ＶＨＦ無線周波数低圧プラズマ放電中で少なくとも１つのナノ粒子前駆体ガスを少なくとも１つのアモルファス薄膜前駆体ガスと混合するステップであり、前記少なくとも１つのナノ粒子前駆体ガスが、ＳｉＨ４、ＳｉＣｌ４、Ｈ２ＳｉＣｌ２、ＢＣｌ３、Ｂ２Ｈ６、ＰＨ３、ＧｅＨ４、又はＧｅＣｌ４のうちの少なくとも１つを含む、ステップ
を含む方法。
【請求項２１】
ドープしたナノ粒子／アモルファス薄膜を生成する方法であって、
ＶＨＦ無線周波数低圧プラズマ放電中で少なくとも１つのナノ粒子前駆体ガス及び少なくとも１つのアモルファス薄膜前駆体ガスを少なくとも１つのドーパント前駆体ガスと混合するステップであり、前記少なくとも１つのナノ粒子前駆体ガスが、ＳｉＨ４、ＳｉＣｌ４、Ｈ２ＳｉＣｌ２、ＢＣｌ３、Ｂ２Ｈ６、ＰＨ３、ＧｅＨ４、又はＧｅＣｌ４のうちの少なくとも１つを含む、ステップ
を含む方法。