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【手続補正書】
【提出日】平成26年5月28日(2014.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オキサゾール、ピラゾール、チアゾール、ベンゾフラザン、トリテルペン、尿素、ローダミンチオ尿素以外のチオ尿素、ジニトロフェニル又はトリニトロフェニル以外のニトロアリール、ロテノイド、シクロリグナン、ヘテロビアリール、アゾアリール、ベンゾジアゼピン、ジゴキシゲニン、２,３,６,７-テトラヒドロ-１１-オキソ-１Ｈ,５Ｈ,１１Ｈ-［１］ベンゾピラノ［６,７,８-ｉｊ］キノリジン-１０-カルボン酸、又は７-ジエチルアミノ-３-カルボキシクマリンから選択されるハプテン；
リンカー；及び
チラミン又はチラミン誘導体
を含む、ハプテンコンジュゲート。
【請求項２】
チラミン又はチラミン誘導体が次の一般式
2013531801.tif 000001
を有し、ここで、Ｒ２５がヒドロキシル、エーテル、アミン、及び置換アミンから選択され；Ｒ２６がアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、-ＯＲｍ、-ＮＲｍ、及び-ＳＲｍから選択され、ここでｍが１−２０であり；ｎが１−２０であり；Ｚが酸素、硫黄、及びＮＲａから選択され、ここでＲａが水素、脂肪族、アリール、又はアルキルアリールから選択され、場合によってはチラミン又はチラミン誘導体が、次の化学構造
2013531801.tif 000002
を有する請求項１に記載のハプテンコンジュゲート。
【請求項３】
リンカーが、次の一般式
2013531801.tif 000003
を有し、ここで、各Ｘ１が独立して-ＣＨ２、酸素、硫黄、及び-ＮＲｃから選択され、ここで、Ｒｃが水素、脂肪族、アリール、及びアリールアルキルから選択され；Ｒｂがカルボニル及びスルホキシルから選択され；ｎが１−２０であり；そしてｐが０又は１である請求項１又は２に記載のハプテンコンジュゲート。
【請求項４】
リンカーが、次の化学構造
2013531801.tif 000004
を有する請求項１又は２に記載のハプテンコンジュゲート。
【請求項５】
2013531801.tif 000005
2013531801.tif 000006
から選択される式を有する、請求項１に記載のハプテンコンジュゲート。
【請求項６】
2013531801.tif 000007
から選択される式を有する、請求項１に記載のハプテンコンジュゲート。
【請求項７】
（ａ）サンプル中における第一標的上に第一ペルオキシダーゼを固定化させる工程であって、ここで、第一ペルオキシダーゼがペルオキシダーゼ−活性化可能アリール部分と反応できる工程；
（ｂ）サンプルを、請求項１−６の何れか一項に記載の第一ハプテンコンジュゲートを含んでなる溶液と接触させる工程；
（ｃ）サンプルを、過酸化物を含んでなる溶液と接触させ、それによって第一ハプテンコンジュゲートを第一ペルオキシダーゼ及び過酸化物と反応させ、固定化第一ペルオキシダーゼ又は固定化第一ペルオキシダーゼの近位に共有結合を形成する工程；及び
（ｄ）第一ハプテンコンジュゲートの第一ハプテンを検出することによって、サンプル中において第一標的を位置付ける工程
を含んでなる方法。
【請求項８】
ペルオキシダーゼが、標的を認識し結合できる部分にコンジュゲートされている請求項７に記載の方法。
【請求項９】
部分が、抗体、ヌクレオチド、オリゴヌクレオチド、タンパク質、ペプチド又はアミノ酸である請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
第一ハプテンコンジュゲートの第一ハプテンを検出する工程が、
サンプルを、第一ハプテンコンジュゲートの第一ハプテンを認識し結合できる第一抗ハプテン抗体、及び第一検出可能標識と接触させる工程；及び
第一検出可能標識を検出する工程
を更に含む、請求項７−９の何れか一項に記載の方法。
【請求項１１】
サンプルを、第一抗ハプテン抗体及び第一検出可能標識と接触させる工程が、サンプルを、第一抗ハプテン抗体コンジュゲートと接触させる工程を含み、第一抗ハプテン抗体コンジュゲートが第一抗ハプテン抗体及び第一検出可能標識を含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
サンプルを、第一抗ハプテン抗体及び第一検出可能標識と接触させる工程が、
サンプルを第一抗ハプテン抗体と接触させる工程；及び
サンプルを第一抗体コンジュゲートと接触させる工程であり、第一抗体コンジュゲートが、第一抗ハプテン抗体及び第一検出可能標識を認識し結合できる抗体を含む工程
を含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
第一検出可能標識が酵素、好ましくは西洋ワサビペルオキシダーゼ又はアルカリホスファターゼであり、又は第一検出可能標識が蛍光標識、好ましくは量子ドットである、請求項１０−１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項７に記載の方法であって、サンプルが２つ以上の標的を含み、該方法が、
工程（ｃ）の後に、サンプル中における後続標的上に後続ペルオキシダーゼを固定化する工程であり、後続ペルオキシダーゼがペルオキシダーゼ−活性化可能アリール部分と反応できる工程；
サンプルを、請求項１−６の何れか一項に記載の後続ハプテンコンジュゲートを含んでなる溶液と接触させる工程であり、後続ハプテンコンジュゲートが第一ハプテン又は何れか他の後続ハプテンと同じでない後続ハプテンを含む工程；
サンプルを、過酸化物を含んでなる溶液と接触させ、それによって、後続ハプテンコンジュゲートを後続ペルオキシダーゼ及び過酸化物と反応させ、固定化後続ペルオキシダーゼ又は固定化後続ペルオキシダーゼの近位に共有結合を形成させる工程；及び
第一及び後続ハプテンを検出することによってサンプル中における２つ以上の標的を位置づける工程
を更に含んでなる方法。
【請求項１５】
後続ペルオキシダーゼを固定化する工程の前に、第一ペルオキシダーゼを不活性化させる工程を更に含んでなる請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月7日(2014.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対物面を画像面に結像する、熱により引き起こされる応力複屈折への低減された感受性を有する結像レンズを設計する方法であって、前記結像レンズは前記対物面と前記画像面との間に位置する開口絞りと、前記開口絞りの対物面側に位置する第１レンズ要素群と、前記開口絞りの画像面側に位置する第２レンズ要素群とを有し、前記方法は：
前記レンズの幾何学的特性を記述する1組のレンズ設計属性を定義するステップと；
1組のレンズ性能基準を定義するステップであり、該レンズ性能基準には１つ以上の画像品質性能基準と熱により引き起こされる応力複屈折の基準とを含む、ステップと；
熱応力複屈折メトリックにより特徴付けられるように、熱により引き起こされる応力複屈折への僅かな感受性を有する第１の候補ガラスの組を定義するステップと；
前記熱応力複屈折メトリックにより特徴付けられるように、熱により引き起こされる応力複屈折に対して僅かな感受性よりも大きいが、最大でも中程度の感受性を有する、第２の候補ガラスの組を定義するステップと；
前記第１の候補ガラスの組から、前記開口絞りのすぐ近くに位置する、前記第１及び第２のレンズ要素群内のレンズ要素のガラスを選択するステップと；
前記第１又は第２の候補ガラスの組から、前記開口絞りのすぐ近くに位置しない、前記第１及び第２のレンズ要素群内のレンズ要素のガラスを選択するステップと；
コンピュータプロセッサを用いて、前記定義されたレンズ性能基準を満たしながら前記レンズ設計属性を達成する結像レンズの設計を決定するステップであって、前記レンズ設計は、前記第１及び第２のレンズ要素群内のレンズ要素の、厚さ、間隔、形状、及びガラスを特定する、ステップと、を含む方法。
【請求項２】
熱により引き起こされる応力複屈折への低減された感受性を有するレンズシステムを設計する方法であって、前記方法は：
レンズの幾何学的特性を記述する、1組のレンズ設計属性を定義するステップと；
1組のレンズ性能基準を定義するステップであり、該レンズ性能基準には１つ以上の画像品質性能基準と熱により引き起こされる応力複屈折の基準とを含む、ステップと；
熱応力複屈折メトリックにより定義されるように、熱により引き起こされる応力複屈折への僅かな感受性を有する第１の候補ガラスの組を定義するステップと；
前記熱応力複屈折メトリックにより定義されるように、熱により引き起こされる応力複屈折に対して僅かな感受性よりも大きいが、最大でも中程度の感受性を有する、第２の候補ガラスの組を定義するステップと；
開口絞りに関してレンズ要素の配置を定義するステップであり、そのレンズ要素は、少なくとも１つのレンズ要素群の中に配置される、ステップと；
前記第１の候補ガラスの組から、通過光から最大光学パワー密度を受ける少なくとも１つのレンズ要素群の中のレンズ要素のガラス、又は、前記開口絞りに近接して位置するレンズ要素のガラスを選択するステップと；
前記第１又は第２の候補ガラスの組から、少なくとも１つのレンズ要素群内のレンズ要素のガラスを選択するステップと；
コンピュータプロセッサを用いて、前記定義されたレンズ性能基準を満たしながら前記レンズ設計属性を達成するレンズシステムのレンズ設計を決定するステップであって、前記レンズ設計は、少なくとも１つのレンズ要素群内のレンズ要素の、厚さ、間隔、形状、及びガラスを特定する、ステップと、を含む方法。
【請求項３】
対物面を画像面に結像する、複数のレンズ要素を有する結像レンズを設計する方法であって、前記結像レンズは、熱により引き起こされる応力複屈折への低減された感受性を有し、前記方法は：
レンズの幾何学的特性を記述する、1組のレンズ設計属性を定義するステップと；
メリット関数を定義するステップであって、そのメリット関数は、１つ以上の画像品質性能の項と熱により引き起こされる応力複屈折の性能の項とを含む、ステップと；
熱応力複屈折メトリックにより定義されるように、熱により引き起こされる応力複屈折への僅かな感受性を有する第１の候補ガラスの組を定義するステップと；
前記熱応力複屈折メトリックにより定義されるように、熱により引き起こされる応力複屈折に対して僅かな感受性よりも大きいが、最大でも中程度の感受性を有する、第２の候補ガラスの組を定義するステップと；
コンピュータプロセッサを用いて、前記メリット関数に応じて最適化プロセスを適用することにより、前記特定されたレンズ設計属性を達成する結像レンズのレンズ設計を決定するステップと、を含む方法であり、前記レンズ設計は、レンズ要素の、厚さ、間隔、形状、及びガラスを特定し、前記レンズ要素のガラスは、第１及び第２の候補ガラスの組から選択され、前記レンズ要素のうち少なくとも１つのガラスは、第１の候補ガラスの組から選択される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月2日(2014.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１又は複数の機能薄膜層で被覆された基板である対象物をパターニングする方法であって、前記１又は複数の機能薄膜層は第１材料からなる第１層を含み、前記方法は、前記第１材料を溶解できる第１種を担持するスレッドを提供すること、前記スレッドを前記第１層に接触させて、前記第１層の少なくとも一部を除去するために表面効果、ウィッキング効果またはそれらの組み合わせにより該スレッドから溶存物質を運び出すことを含む、方法。
【請求項２】
前記第１種は、第１溶剤である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１層の第１主面は、第２材料からなる第２層の第１主面の一部または全部に隣接し、前記第１材料は前記第１溶剤に相対的に高い溶解度を有し、前記第２材料は前記第１溶剤に相対的に低い溶解度を有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
複数の種を担持するスレッドを提供すること、前記スレッドを１又は複数の機能薄膜層で被覆された前記基板に接触させて、複数の層を除去することを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記第１層と接触している間に、スレッドを１又は複数の機能薄膜層で被覆された前記基板に対してその軸方向に移動させることを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記スレッドの、１又は複数の機能薄膜層で被覆された前記基板に対する移動速度は、０ｍ／分から１０００ｍ／分の間である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
１又は複数の機能薄膜層で被覆された前記基板体は、前記スレッドと接触している間に前記スレッドと同じ方向に移動させられる、請求項５または請求項６に記載の方法。
【請求項８】
１又は複数の機能薄膜層で被覆された前記基板は、前記スレッドと接触している間に前記スレッドとは反対方向に移動させられる、請求項５または請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記第１種類は、第１溶剤であり、１又は複数の別のスレッドを提供することであって、前記別のスレッドの各々が前記第１溶剤を担持し、前記または各別のスレッドは平行に間隔のあけられた関係で延在している、前記提供すること、第１層をスレッドおよび別のスレッドに接触させることを含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
１又は複数の機能薄膜層で被覆された基板をパターニングする装置であって、前記１又は複数の機能薄膜層は第１材料からなる第１層を含み、前記装置はスレッドとガイドとを備えており、前記ガイドは前記スレッドを案内する手段を備えて、前記スレッドの厚さの少なくとも一部が前記案内する手段から突き出すようになっており、前記装置は、前記スレッドを前記案内する手段に対して移動させる手段と、前記スレッドが前記第１層に接触する前に、前記スレッドに前記第１材料を溶解できる種を付して、前記第１層の少なくとも一部を除去するために表面効果、ウィッキング効果またはそれらの組み合わせにより該スレッドから溶存物質を運び出す手段とを備える、装置。
【請求項１１】
前記移動させる手段は、前記スレッドを長手方向に移動させる移動手段を備える、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
１又は複数の機能薄膜層で被覆された基板をパターニングする装置であって、前記１又は複数の機能薄膜層は第１材料からなる第１層を含み、前記装置は、第１スレッドと、前記第１スレッドを装着して、該第１層に接触させるための前記第１スレッドの領域を提供する少なくとも２つのガイドと、前記第１層に接触する前に、前記スレッドに前記第１材料を溶解できる種を付して、前記第１層の少なくとも一部を除去するために表面効果、ウィッキング効果またはそれらの組み合わせにより該スレッドから溶存物質を運び出す手段とを備える、装置。
【請求項１３】
前記基板はウェブ状の材料を含んでおり、前記装置はその辺りに前記ウェブを案内する、もしくは案内できるローラをさらに備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記ガイドは、前記ウェブがロール付近に案内されると、前記スレッドを前記ウェブに接触させるように動作可能である、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
第１および第２のガイドは、前記第１スレッドを長手方向に移動させるローラを備える、請求項１２、１３または１４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月25日(2014.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビジネスインテリジェンスサーバ環境においてデータマートを作成するための方法であって、
前記方法は、
データを複数のデータソースに保持することを備え、前記複数のデータソースは少なくともリレーショナルデータベースおよび多次元データベースを含み、さらに、
ビジネスインテリジェンスサーバにおいて、前記複数のデータソースすべてを組込んだ仮想意味論的モデルを準備することと、
仮想意味論的モデルにおいて、前記複数のデータソースのうち１つ以上のデータソースにわたる集計用のレベルのリストを受取り、指定されたレベルのリストに基づき集計を記憶するために前記複数のデータソースの中から１つを指定することと、
ビジネスインテリジェンスサーバが、集計用のデータを記憶するための多次元キューブを作成し、前記多次元キューブを指定したデータソースに記憶することとを備える、方法。
【請求項２】
前記ビジネスインテリジェンスサーバが、指定されたデータソースのディメンションおよびキューブ用のメタデータのセットを作成することをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ビジネスインテリジェンスサーバが、レベル属性用のリレーショナルディメンションのセットを作成することをさらに備える、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記ビジネスインテリジェンスサーバが、リレーショナルディメンションからのキーに基づき、対象データソース用のディメンションのセットを作成することをさらに備える、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
リレーショナルディメンションからのキーに基づき、前記多次元キューブを作成することをさらに備える、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記複数のデータソースは、Oracle（登録商標）データベース、Oracle Essbaseデータベース、およびOracle Analytic Workspaceのうちの少なくとも１つをさらに含む、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記ビジネスインテリジェンスサーバが、メタデータを対象データソース内に構成するために、前記対象データソースのJava（登録商標）アプリケーションプログラミングインターフェイス（ＡＰＩ）を呼び出すことをさらに備える、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
ディメンションのセットが、多次元データベース集計のためのキューブ内に記憶される、請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記ビジネスインテリジェンスサーバ内において、キューブと物理的メタデータ層内におけるリレーショナルレベル集計との間で複雑な結合を作成することをさらに備える、請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
ビジネスインテリジェンスサーバ環境においてデータマートを作成するためのシステムであって、前記システムは、
企業内においてデータを保持する複数のデータソースを備え、前記複数のデータソースは少なくともリレーショナルデータベースおよび多次元データベースを含み、さらに、
前記複数のデータソースのすべてを統合する仮想論理意味論的モデルを準備するビジネスインテリジェンスサーバを備え、
前記ビジネスインテリジェンスサーバは、仮想論理意味論的モデルを用いることにより、レベルのリストの指定を受け、前記レベルのリストは前記複数のデータソースのうちの少なくとも２つのデータソースからのデータをまたがり、前記ビジネスインテリジェンスサーバは、レベルのリストに基づき集計データを記憶する複数のデータソースにおける対象データソースを受取り、
前記ビジネスインテリジェンスサーバは、集計データを記憶するための多次元キューブを生成し、
前記ビジネスインテリジェンスサーバは、前記多次元キューブを前記対象データソース内に記憶する、システム。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれかに記載の方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月24日(2014.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの放射素子により、空洞の中の対象物に、１ＭＨｚ乃至１００ＧＨｚの周波数範囲内の１又は複数の周波数の電磁エネルギを加えるための装置であって、
エネルギ印加区域内の第１の領域及び第２の領域を、前記第１及び第２の領域に加えられる第１の量のＲＦエネルギ及び前記第１の量のエネルギとは異なる第２の量のＲＦエネルギにそれぞれ関連させ、
複数の電磁場パターンから複数のフィールドパターンを選択して、前記第１及び第２の領域にエネルギの印加を向け、
前記第１の量のＲＦエネルギを前記エネルギ印加区域内の前記第１の領域に加え、前記第２の量のＲＦエネルギを前記エネルギ印加区域内の前記第２の領域に加えるために、前記エネルギ印加区域内の選択されたフィールドパターンを励起することによって、供給源を調整する、
ように構成されるプロセッサ
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、前記少なくとも１個のプロセッサが、前記第１の領域および前記第２の領域の位置を区別するように構成されることを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の装置において、前記少なくとも１個のプロセッサが、複数の異なる電磁場パターンを逐次的に選択するように構成されることを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１項に記載の装置において、前記少なくとも１個のプロセッサが、各領域内で散逸される前記エネルギについての指示に基づいて、前記第１の領域および前記第２の領域にエネルギを加えるように構成されることを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか１項に記載の装置において、前記供給源が、複数の放射素子により電磁エネルギを供給するように構成され、前記少なくとも１個のプロセッサが、異なる振幅を有するエネルギを少なくとも２つの放射素子に同時に供給するために、前記供給源を調整するように構成されることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか１項に記載の装置において、前記少なくとも１個のプロセッサは、前記第１の領域に加えられるエネルギ量が前記第２の領域に加えられるエネルギ量と異なり、前記第１の領域内で吸収されるエネルギが、前記第２の領域内で吸収される前記エネルギと実質的に同じであるよう、前記供給源を制御するように構成されることを特徴とする装置。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の装置において、前記少なくとも１個のプロセッサが、
前記エネルギ印加区域内の前記対象物の空間的位置を示す情報を求め、
前記対象物の前記空間的位置の第１のエリアに対応する第１の高強度領域を有する第１のフィールドパターンを識別し、
前記対象物の前記空間的位置の第２のエリアに対応する第２の高強度領域を有する第２のフィールドパターンを識別することにおいて、前記第１のエリアは前記第２のエリアと異なる、第２のフィールドパターンを識別し、
前記供給源を制御して前記エネルギ印加区域に前記第１のフィールドパターンおよび前記第２のフィールドパターンを適用するように構成されることを特徴とする装置。
【請求項８】
プロセッサにより調整される電磁エネルギの供給源を用いて、空洞の中の対象物に、１ＭＨｚ乃至１００ＧＨｚの周波数範囲内の１又は複数の周波数の電磁エネルギを加えるための方法であって、当該方法が、
前記プロセッサによって、第１の領域に加える第１の量のエネルギ及び第２の領域に加える第２の量のエネルギを割り当て、前記プロセッサによって、複数の電磁場パターンから複数のフィールドパターンを選択して、前記第１及び第２の領域にエネルギの印加を向けるステップと、
前記第１の量のエネルギを前記第１の領域に加え、前記第２の量のエネルギを前記第２の領域に加えるために、前記エネルギ印加区域内の選択されたフィールドパターンを励起することによって、前記供給源を調整するステップと、
を具え、
前記第１の量のエネルギが、前記第２の量のエネルギとは異なることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法において、前記第１及び第２の量のエネルギが、前記プロセッサによって決定されることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の方法において、
加えることには、前記エネルギ印加区域内に２つ以上の定在波を与えることが含まれ、前記定在波のそれぞれは、少なくとも１つの高強度領域と、少なくとも１つの低強度領域とを有し、高強度領域に関連するフィールド強度は、低強度領域に関連するフィールド強度よりも強く、調整するステップは、少なくとも１つの高強度領域が前記対象物の少なくとも一部の位置に一致する前記定在波の少なくとも１つを選択するステップと、前記選択した前記定在波の少なくとも１つを前記エネルギ印加区域に加えるステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項８乃至１０の何れか１項に記載の方法において、当該方法が、
前記エネルギ印加区域内の前記対象物の空間的位置を示す情報を求めるステップと、
前記対象物の前記空間的位置の第１のエリアに対応する第１の高強度領域を有する第１のフィールドパターンを識別するステップと、
前記対象物の前記空間的位置の第２のエリアに対応する第２の高強度領域を有する第２のフィールドパターンを識別するステップにおいて、前記第１のエリアは前記第２のエリアと異なる、第２のフィールドパターンを識別するステップと、
前記供給源を制御して前記エネルギ印加区域に前記第１のフィールドパターンおよび前記第２のフィールドパターンを適用するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法において、前記エネルギ印加区域内の前記第１の領域および前記第２の領域の位置を、前記第１のエリアおよび前記第２のエリアに従って決定するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の方法において、前記第１のエリア内で吸収されるエネルギが、前記第２のエリア内で吸収される前記エネルギと実質的に同じであるよう、前記供給源を制御するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項８乃至１１の何れか１項に記載の方法において、前記第１の領域内で吸収されるエネルギが、前記第２の領域内で吸収される前記エネルギと実質的に同じであるよう、前記供給源を制御するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月16日(2014.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動車用ガス放電ランプであって、
容器を有し、
前記容器は、前記容器の表面上に円周周りに配置されたストライプで部分的に被覆されており、
前記ストライプの第１の長辺は、前記自動車用ガス放電ランプのベース近くに置かれ、
前記ストライプの幅は、ランプ中心に定められる半径と前記ストライプの前記第１の長辺上のある１点との間の第１の角度がせいぜい５５°を有し、且つ、前記ランプ中心に定められる前記半径と前記ストライプの第２の長辺上のある１点との間の第２の角度がせいぜい５０°を有するような幅である、自動車用ガス放電ランプ。
【請求項２】
円周周りのストライプは、前記容器を完全に囲む、請求項１記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項３】
円周周りのストライプの長さは、前記容器の円周よりも短い、請求項１記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項４】
前記容器は、前記自動車用ガス放電ランプの長手方向の軸を通る水平面より下方の領域において、前記容器の表面上に長手方向に配置された少なくとも１つの他のストライプで部分的に被覆されている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項５】
長手方向のストライプは、前記ランプ中心を通る水平面と長手方向のストライプの上端とによって、前記自動車用ガス放電ランプの各側において、前記ランプ中心で定められる角度が少なくとも１０°、より好ましくは少なくとも１３°、さらに好ましくは少なくとも１５°を有するように、前記容器の表面上に配置される、請求項４記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項６】
前記ランプ中心を通る水平面と前記自動車用ガス放電ランプの一方の側にある長手方向のストライプの上端とによって前記ランプ中心で定められる第１の角度は、前記ランプ中心を通る水平面と前記自動車用ガス放電ランプの他方の側にある長手方向のストライプの上端とによって前記ランプ中心で定められる第２の角度と本質的に同じである、請求項５記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項７】
部分的な被覆は、単一の本質的に長方形のストライプを有する、請求項４乃至６のいずれか１項に記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項８】
部分的な被覆は、前記容器の表面上に長手方向に配置された、一対の本質的に長方形のストライプを有する、請求項４乃至６のいずれか１項に記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項９】
外側容器に封入された内側放電容器を有し、
前記内側放電容器の容量は、１５μｌ以上、且つ、２３μｌ以下であり、
前記内側放電容器の内径は、少なくとも２．０ｍｍ、且つ、せいぜい２．４ｍｍを有し、
前記内側放電容器の外径は、少なくとも５．２ｍｍ、且つ、せいぜい５．８ｍｍを有する、２５Ｗの定格電力の請求項１乃至８のいずれか１項に記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項１０】
部分的な被覆は、前記自動車用ガス放電ランプの外側容器の外面上に配置される、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項１１】
円周周りのストライプの幅は、せいぜい４．５ｍｍ、より好ましくはせいぜい４．０ｍｍ、さらに好ましくはせいぜい３．５ｍｍを有する、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項１２】
部分的な被覆は、一対の本質的に長方形の長手方向のストライプを有し、
長手方向のストライプの幅は、せいぜい１．９ｍｍ、より好ましくはせいぜい１．７ｍｍ、さらに好ましくはせいぜい１．５ｍｍを有する、請求項４乃至１１のいずれか１項に記載の自動車用ガス放電ランプ。
【請求項１３】
明／暗のカットオフライン及び肩を有する特定のビームプロファイルを与えるために、前記自動車用ガス放電ランプから生じた光を外側へ偏向させることを実現する反射内面を有し、
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の自動車用ガス放電ランプは、反射器内に水平に置かれ、
前記反射内面は、水平面より下方の７．５°と１５°との間の範囲の角度で前記自動車用ガス放電ランプから放射された光の一部を前記ビームプロファイル内の特定の領域へ偏向させることを実現する少なくとも１つのビーム形成領域を有する、自動車用ガス放電ランプのための反射器。
【請求項１４】
光の一部を前記ビームプロファイルのカットオフ境界に近い領域へ偏向させるための、前記自動車用ガス放電ランプの一方の側の少なくとも１つの第１のビーム形成領域と、
光の一部を前記ビームプロファイルの肩領域のカットオフ境界に近い領域へ偏向させるための、前記自動車用ガス放電ランプの他方の側の少なくとも１つの第２のビーム形成領域と、を有する、請求項１３記載の反射器。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の反射器と、
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の自動車用ガス放電ランプと、を有する、照明アセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月18日(2014.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の集電装置と、
前記集電装置の少なくとも１つと接触しているアノード活性材料と、
第１の平均粒度を有する第１の複数のリン酸鉄リチウム粒子および第２の平均粒度を有する第２の複数のリン酸鉄リチウム粒子を含むと共に前記集電装置の少なくとも１つと接触しているカソード活性材料とを具え、
前記カソード活性材料が、リン酸鉄リチウム粒子の二峰性分布からなり、
前記第１の平均粒度のサイズは前記第２の平均粒度のサイズより大きく、
前記第１の複数のリン酸鉄リチウム粒子の前記重量パーセンテージが、リン酸鉄リチウム粒子の前記全重量の関数として１０重量％〜４５重量％の範囲であることを特徴とするリチウムイオンバッテリ。
【請求項２】
請求項１に記載のリチウムイオンバッテリにおいて、前記第１の平均粒度が約３．５μｍであることを特徴とするリチウムイオンバッテリ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のリチウムイオンバッテリにおいて、前記第２の平均粒度が約０．７μｍであることを特徴とするリチウムイオンバッテリ。
【請求項４】
請求項１に記載のリチウムイオンバッテリにおいて、前記第１の複数のリン酸鉄リチウム粒子の前記重量パーセンテージが、リン酸鉄リチウム粒子の前記全重量の関数として１５重量％〜２５重量％の範囲であることを特徴とするリチウムイオンバッテリ。
【請求項５】
請求項４に記載のリチウムイオンバッテリにおいて、前記第１の複数のリン酸鉄リチウム粒子の前記重量パーセンテージがリン酸鉄リチウム粒子の前記全重量の関数として２０重量％であることを特徴とするリチウムイオンバッテリ。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか１項に記載のリチウムイオンバッテリにおいて、前記カソード活性材料が、前記カソード活性材料の全重量に基づいてバインダー約１〜１０重量％をさらに含むことを特徴とするリチウムイオンバッテリ。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項に記載のリチウムイオンバッテリにおいて、前記カソード活性材料が、前記第１の複数のリン酸鉄リチウム粒子のタップ密度または前記第２の複数のリン酸鉄リチウム粒子のタップ密度のどちらかよりも大きいタップ密度を有することを特徴とするリチウムイオンバッテリ。
【請求項８】
請求項７に記載のリチウムイオンバッテリにおいて、前記カソード活性材料が、前記第１の複数のリン酸鉄リチウム粒子の前記タップ密度および前記第２の複数のリン酸鉄リチウム粒子の前記タップ密度の両方よりも大きいタップ密度を有することを特徴とするリチウムイオンバッテリ。
【請求項９】
第１の抵抗を有する複数のリン酸鉄リチウム粒子を提供する工程と、
前記第１の抵抗より大きい第２の抵抗を有する複数のリン酸鉄リチウム粒子を前記第１の抵抗を有する前記複数のリン酸鉄リチウム粒子と混合して混合材を形成する工程において、前記混合材の抵抗が前記第１の抵抗以下である工程とを含むことを特徴とする、複数のリン酸鉄リチウム粒子を含有するカソード活性材料の抵抗を低減する方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法において、前記第１の抵抗を有する前記複数のリン酸鉄リチウム粒子が約０．７μｍの平均粒度を有し、前記第２の抵抗を有する前記複数のリン酸鉄リチウム粒子が約３．５μｍの平均粒度を有することを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の方法において、混合が、
リン酸鉄リチウム粒子の全重量の関数として前記第２の抵抗を有する前記リン酸鉄リチウム粒子５重量％〜６０重量％の範囲を前記混合材中に提供する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項９乃至１１の何れか１項に記載の方法において、混合が、
リン酸鉄リチウム粒子の前記全重量の関数として前記第２の抵抗を有する前記リン酸鉄リチウム粒子１０重量％〜４５重量％の範囲を前記混合材中に提供する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項９乃至１２の何れか１項に記載の方法において、混合が、
リン酸鉄リチウム粒子の前記全重量の関数として前記第２の抵抗を有する前記リン酸鉄リチウム粒子１５重量％〜２５重量％の範囲を前記混合材中に提供する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項９乃至１３の何れか１項に記載の方法において、混合が、
リン酸鉄リチウム粒子の前記全重量の関数として前記第２の抵抗を有する前記リン酸鉄リチウム粒子２０重量％を前記混合材中に提供する工程を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月11日(2014.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円形断面を有し、かつコアを取り囲むシェルを備える音響反射体であって、
前記シェルは、音波が、前記音波の入口の反対側の前記シェルの部分から後方に反射されるように前記シェルを、少なくとも部分的に、介して前記コア内を通過し、前記反射体から再放射されるように前記シェル内を部分的に通過することを、１つ以上の周波数にて可能にし、
前記シェルは、前記反射体が水中に配備されるときに、水が前記シェル内部を自由に出入りすることを可能する１つ以上のホールを有することを特徴とする音響反射体。
【請求項２】
前記シェルは、直径１ｍｍ〜２ｍｍの複数の前記ホールを有することを特徴とする請求項１に記載の音響反射体。
【請求項３】
前記シェルは、水溶性プラグにより水中に配備される前に初めに塞がれる直径１０ｍｍ以上のホールを有することを特徴とする請求項１に記載の音響反射体。
【請求項４】
前記コアは、シリコン系エラストマー材料を備えることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の音響反射体。
【請求項５】
前記シェルは、ガラス繊維強化ポリフタルアミド、エポキシ含浸炭素繊維、エポキシ含浸アラミド繊維、エポキシ含浸ポリ（ｐ−フェニレン−２，６−ベンゾビスオキサゾール）繊維又はエポキシ含浸ポリテン繊維を含む群から選択された非金属である、又はアルミニウム又はアルミニウム合金から選択された金属であることを特徴とする請求項１又は２に記載の音響反射体。
【請求項６】
前記シェルは、相互に結合された２つの半球体を備え、前記半球体のリムは、他方の前記半球体のリムに形成された溝内に係合する隆起部を有することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の音響反射体。
【請求項７】
文字及び／又は数字などの位置識別情報をスキャンソナーシステムに反射するフレーム上に取り付けた請求項１から６のいずれか一項に記載の音響反射体。
【請求項８】
前記コアの音響速度により除算された前記反射体の前記コアへの音響伝達の入口点からの距離の２倍より短い期間で音響放射の特有のパルスを発することを特徴とする音響放射源を組み合わせた請求項１から７のいずれか一項に記載の音響反射体。
【請求項９】
個々のパルスは、他の長パルスのパターン内に規則的に発生することを特徴とする請求項８に記載の音響反射体。
【請求項１０】
初めに航空機の構成部品に配備される請求項１から９のいずれか一項に記載の音響反射体。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月18日(2014.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クライアントデバイスであって、
表示のためにメディアコンテンツをレンダリングするように構成されるレンダリングシステムであって、前記メディアコンテンツは、前記メディアコンテンツのフルサイズのフレームよりも小さい部分に分割される分割されたビデオコンテンツを含む、レンダリングシステムと、
少なくともメモリーと、表示ユーティリティを実施するプロセッサーと
を備え、前記表示ユーティリティは、
前記分割されたビデオコンテンツが拡大倍率レベルで表示される場合に、前記分割されたビデオコンテンツの表示解像度品質を維持する、前記分割されたビデオコンテンツの部分を表示するためのフォーカスウィンドウを生成し、
前記クライアントデバイスから離れた前記メディアコンテンツのソースに、前記メディアコンテンツの前記フルサイズのフレームに対する相対的な前記フォーカスウィンドウの位置の指示を通信して、前記ソースが、前記メディアコンテンツの前記フルサイズのフレームを送信するのではなく、前記フォーカスウィンドウにおける表示のために、前記フォーカスウィンドウの相対的な位置に対応する前記分割されたビデオコンテンツの前記部分を含む前記分割されたビデオコンテンツのすべての部分よりも少ないものを送信することを可能にし、
前記フォーカスウィンドウにおける表示のために、前記メディアコンテンツのソースから、前記フォーカスウィンドウの前記相対的な位置に対応する前記分割されたビデオコンテンツの前記部分を受信し、
ナビゲーション入力に応答して、前記メディアコンテンツの異なる部分に前記フォーカスウィンドウを再配置すること及び前記フォーカスウィンドウを異なる倍率に拡大することのうちの少なくとも１つを行う
ように構成されるクライアントデバイス。
【請求項２】
前記フォーカスウィンドウに表示することができる前記分割されたビデオコンテンツの部分のみを受信するように構成されるメディアコンテンツ入力をさらに備える請求項１に記載のクライアントデバイス。
【請求項３】
前記メディアコンテンツの前記フルサイズのフレームの完全なデータを受信するのではなく、前記フォーカスウィンドウに表示される前記分割されたビデオコンテンツの部分及び前記フォーカスウィンドウに表示される前記部分に隣接する１つ又は複数のさらなる部分のみを受信するように構成されるメディアコンテンツ入力をさらに備える請求項１に記載のクライアントデバイス。
【請求項４】
前記メディアコンテンツの前記フルサイズのフレームではなく、前記分割されたビデオコンテンツの部分のみを表示するように構成される組み込まれたディスプレイをさらに備える請求項１に記載のクライアントデバイス。
【請求項５】
前記表示ユーティリティは、前記ナビゲーション入力に応答して、前記拡大倍率レベルの割合を制御するようにさらに構成される請求項１に記載のクライアントデバイス。
【請求項６】
前記表示ユーティリティは、拡大されない表示レベルで表示されるのと同じ画素数を表示することによって前記分割されたビデオコンテンツが前記拡大倍率レベルで表示される場合に、前記分割されたビデオコンテンツの表示解像度品質を維持するようにさらに構成される請求項１に記載のクライアントデバイス。
【請求項７】
動きをナビゲーション入力として検出するように構成される１つ又は複数のモーションセンサーをさらに備える請求項１に記載のクライアントデバイス。
【請求項８】
表示デバイス上にメディアコンテンツの部分を表示するためのフォーカスウィンドウを生成するステップであって、前記メディアコンテンツは、前記メディアコンテンツのフルサイズのフレームよりも小さい部分へと分割される分割されたビデオコンテンツを含み、前記メディアコンテンツの部分は前記分割された部分の少なくとも１つを含む、ステップと、
前記メディアコンテンツのメディアコンテンツソースに対する要求において、前記メディアコンテンツの前記フルサイズのフレームに対する相対的な前記フォーカスウィンドウの位置を指示するステップと、
前記メディアコンテンツソースから、前記フォーカスウィンドウにおける表示のために、前記フォーカスウィンドウの相対的な位置に対応する前記メディアコンテンツの前記部分を含む前記メディアコンテンツの前記フルサイズのフレームのすべての部分よりも少ないものを受信するステップと、
前記メディアコンテンツの前記部分が拡大倍率レベルで前記フォーカスウィンドウに表示される場合に前記フォーカスウィンドウにおける前記メディアコンテンツの前記部分の表示解像度品質を維持するステップと、
前記メディアコンテンツの異なる部分に前記フォーカスウィンドウを再配置すること及び前記表示解像度品質を維持しながら異なる倍率へ前記フォーカスウィンドウを拡大することのうちの少なくとも１つのためのナビゲーション入力を受信するステップと
を含むコンピューターにより実施される方法。
【請求項９】
前記メディアコンテンツのフルサイズの画像の完全なデータの送信を受信するのではなく、前記フォーカスウィンドウに表示される前記メディアコンテンツの部分のみを受信するステップをさらに含む請求項８に記載のコンピューターにより実施される方法。
【請求項１０】
前記フォーカスウィンドウに表示される前記メディアコンテンツの部分及び前記フォーカスウィンドウに表示される前記部分に隣接するさらなる部分のみを受信するステップをさらに含む請求項８に記載のコンピューターにより実施される方法。
【請求項１１】
前記フォーカスウィンドウにおける前記メディアコンテンツの前記部分の表示解像度品質を維持するステップは、拡大されない表示レベルについて表示されるのと同じ画素数を表示するステップを含む請求項８に記載のコンピューターにより実施される方法。
【請求項１２】
前記フォーカスウィンドウを再配置すること及び拡大することのうちの少なくとも１つのためのナビゲーション入力として、モーションセンサーにより動きを検出するステップをさらに含む請求項８に記載のコンピューターにより実施される方法。
【請求項１３】
前記モーションセンサーが前記表示デバイスに内蔵される請求項１２に記載のコンピューターにより実施される方法。
【請求項１４】
前記フォーカスウィンドウに表示されている前記表示デバイスの表示解像度よりも高い解像度品質で前記フォーカスウィンドウに前記メディアコンテンツの前記部分を表示するステップをさらに含む請求項８に記載のコンピューターにより実施される方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月6日(2014.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が、センサモジュールを有するカメラモジュール、またはセンサモジュールを有するカメラモジュールのための光学モジュールとなる複数の光学装置を、ウェハスケール上で製造する方法であって、
前記複数の光学装置の各々は、光学経路を規定し、
前記方法は、
レンズのパターンと、複数のフィルタ部を備えるためのパターンが形成され、赤色、緑色、または青色のサブ画像を取得するためのサブカメラのカラーフィルタである波長選択フィルタとを備える第１のウェハスケール基板を供給するステップと、
前記レンズの前記パターンに対応する穴のパターンに配置された複数の穴を有する、ウェハスケールスペーサを供給するステップと、
前記第１の基板と前記スペーサとを互いに積み重ねるステップとを備え、
前記穴および前記レンズは、整列され、
前記それぞれの光学経路が前記それぞれのフィルタ部を横断するように、前記複数のフィルタ部が配置されるとともに寸法づけられ、前記積み重ねるステップは、ウェハスケールスタックを与え、
前記ウェハスケールスタックを前記光学装置に分割するステップをさらに備える、方法。
【請求項２】
前記前記ウェハスケールスタックを前記分割するステップの前に、
第２のウェハスケール基板を供給するステップと、
前記第２のウェハスケール基板と前記スペーサとを互いに積み重ねるステップとをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２のウェハスケール基板は、光学要素のアレイを有する透明な光学基板である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２のウェハスケール基板は、前記センサモジュールのアレイを備える電気光学ウェハである、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記分割するステップの前に、
第２のスペーサを供給するステップと、
前記第２のスペーサと前記ウェハスケールスタックとを互いに積み重ねるステップとをさらに備える、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記フィルタは、前記第１の基板の表面に設けられ、
前記第１の基板の前記表面は、物面側を向くとともに、前記スペーサから離れる側を向く、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第１のウェハスケール基板は、第２のフィルタを備え、
前記第２のフィルタは、前記第１の基板の第２の表面に複数のフィルタ部を備え、
前記第２の表面は、像面側を向くとともに、前記スペーサを向く、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記フィルタは、前記第１の基板の表面に設けられ、
前記第１の基板の前記表面は、像面側を向くとともに、前記スペーサを向く、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記第１のウェハスケール基板は、前記第１の基板の表面に設けられた第２のフィルタを備え、
前記第１の基板の前記表面は、物面側を向くとともに、前記スペーサから離れる側を向く、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記複数の光学装置の各々は、他の光学装置のフィルタ部から間隔を空けて配置された１つのフィルタ部、または、前記光学経路に沿った伝搬方向に対応する方向に間隔を空けて配置されるとともに、各々が他の光学装置のフィルタ部から間隔を空けて配置される複数のフィルタ部を備える、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
本質的に平面である平行な２つの表面を有し、光学的に透明な材料の基板本体と、
前記２つの表面のうちの一方の表面に適用された波長選択フィルタとを備え、
前記フィルタは、互いに間隔を空けて配置されるとともにアレイ状に配置され、赤色、緑色、または青色のサブ画像を取得するためのサブカメラのカラーフィルタである複数のフィルタ部を備える、ウェハスケール光学基板。
【請求項１２】
カメラであって、
センサモジュールと、
光軸を規定する光学システムとを備え、
前記カメラは、
少なくとも１つのスペーサと、
前記光学システムの少なくとも１つの透明基板とをさらに備え、
前記基板は、光学要素を有し、
前記センサモジュールと、前記スペーサと、前記光学要素を有する前記基板とは、前記光軸に関して垂直に積み重ねられ、
少なくとも１つのフィルタが前記基板に接着され、
前記基板は、前記光軸に垂直な第１の領域を有し、
前記フィルタは、前記第１の領域よりも小さい第２の領域を有し、
前記光学システムおよび前記センサモジュールによって規定される光学経路は、前記フィルタを横断し、
前記フィルタは、赤色、緑色、または青色のサブ画像を取得するためのサブカメラのカラーフィルタである複数のフィルタ部を備える、カメラ。
【請求項１３】
前記光学システムは、不透明層に設けられた穴によって形成される開口をさらに備える、請求項１２に記載のカメラ。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載のカメラを用いて、赤色、緑色、または青色のサブ画像をそれぞれ取得するステップと、
前記サブ画像を組み合わせることによりカラー画像を生成するステップとを備える、カラー画像の生成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図４の実施の形態は空洞２３に材料が落下する問題を解決する一方で、（ダイシング前の）ウェハスタック内の第１のＩＲフィルタ１１．１が接触するが第２のＩＲフィルタはしないという事実から、残りのウェハ曲がりがいくらか生じ得る。従来技術と比較して、このウェハ曲がりの傾向は潜在的に低減される。これは、第２のＩＲフィルタの存在のために、第１のＩＲフィルタが単一のＩＲフィルタよりも薄くなり得るからである。この残りのウェハ曲がりがそれでもなお問題である場合には、図５に示されるように、（ダイシングの前に）接触するＩＲフィルタ全体を除去し、その結果として、残りの構築されたフィルタを潜在的に厚くすることが可能である。図５の実施の形態において、ＩＲフィルタ１１は、スペーサの方向を向く基板側に設けられる。ＩＲフィルタ１１は、基板とスペーサとの接触面にはＩＲフィルタの材料がない状態がなるように構築される。図６に示されるように、スペーサから離れた方向を向くとともに、物体の方向を向く基板側にＩＲフィルタを配置することも可能である。図６の実施の形態では、ＩＲフィルタ１１は、スペーサウェハ内のスルーホール６を超えて横方向に延在し得る（しかし必須ではない）。これは、ウェハ／スペーサ接触面での重複は、光学ウェハのスペーサを向く側でのＩＲフィルタの重複と比べて、不利でないからである。また、図６の実施の形態では、ＩＲフィルタは、ウェハスケールにおいて本質的に、接触するのではなく個別のＩＲフィルタ部によって構成されるべきである。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月15日(2014.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光アセンブリであって、当該発光アセンブリが、
第１の表面積を有し、少なくとも第１の表面上に導電性部分を含むバックプレーンと、
前記バックプレーンの第１の表面に配設された少なくとも第１及び第２の発光デバイスであって、各々が同じ方向に向かって外側に発光するように構成され、各々が第１の表面積よりも小さい表面積を有し、前記バックプレーンの前記導電性部分に電気的に接続されて１００ｃｍ2よりも大きい大面積ライティングパネルを形成する少なくとも第１及び第２の発光デバイスと、
第１の発光デバイスと第２の発光デバイスとの間に気密エッジシールのない状態で、前記少なくとも第１及び第２の発光デバイス上に延在してこれらのデバイスを気密シールする封入材料と、
付属する電気的なドライバと接続するための電気的な経路と、
前記少なくとも第１及び第２の発光デバイスの上に配設された超高バリア（ＵＨＢ）フィルムと
を備えており、前記封入材料が、前記ＵＨＢフィルムと前記発光デバイスの間に位置して前記少なくとも第１及び第２の発光デバイスを前記ＵＨＢフィルムに固定するとともに前記バックプレーンと前記発光デバイスの間に位置して前記少なくとも第１及び第２の発光デバイスを前記バックブレーンに固定する接着剤を含む、発光アセンブリ。
【請求項２】
前記封入材料が第１及び第２の発光デバイスを気密シールする、請求項１記載の発光アセンブリ。
【請求項３】
第１及び第２の発光デバイスがＯＬＥＤである、請求項１又は請求項２記載の発光アセンブリ。
【請求項４】
前記バックプレーンが可撓性又は非可撓性である、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の発光アセンブリ。
【請求項５】
前記少なくとも第１及び第２の発光デバイスの各々がフィリングファクタを最大化するため、前記バックプレーン上に配設される前に個別の気密エッジシールを有さない、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の発光アセンブリ。
【請求項６】
前記電気的な経路が前記バックプレーンの表面に沿って形成される導電性トレースを含む、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の発光アセンブリ。
【請求項７】
前記封入材料が光透過性である、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の発光アセンブリ。
【請求項８】
前記バックプレーンが酸素及び水蒸気に対して不浸透性である、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の発光アセンブリ。
【請求項９】
前記発光デバイスが、直列に、並列に、独立に、又は単一の共通バスにのうちのいずれかで接続される、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の発光アセンブリ。
【請求項１０】
前記バックプレーンが絶縁体でカバーされた第１の表面を有する不浸透性金属箔を含む、請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の発光アセンブリ。
【請求項１１】
前記バックプレーンが前記金属箔絶縁体内に位置合わせされた開口部、及び前記開口部上に配設される導電性パッチを含み、前記少なくとも第１及び第２の発光デバイスが前記パッチに電気的に接続される、請求項１０記載の発光アセンブリ。
【請求項１２】
前記絶縁体が前記不浸透性層を封入する、請求項１０記載の発光アセンブリ。
【請求項１３】
前記絶縁層が前記導電層と前記導電性部分の間に差し挟まれている、請求項１０記載の発光アセンブリ。
【請求項１４】
前記導電性部分が前記絶縁層上のトレースである、請求項１０記載の発光アセンブリ。
【請求項１５】
光アセンブリであって、当該光アセンブリが、
導電性部分を含む第１の表面を有するバックプレーンと、
フィリングファクタを最大化し、且つ隣接するＯＬＥＤ間のギャップを最小化するため、ＯＬＥＤ間に気密エッジシールのない隣接した関係で前記バックプレーン上に配設されて１００ｃｍ2よりも大きい大面積ライティングパネルを形成する第１及び第２のＯＬＥＤと、
第１及び第２のＯＬＥＤ並びに前記バックプレーンの第１の表面上の封入材料と、
前記少なくとも第１及び第２の発光デバイスの上に配設された超高バリア（ＵＨＢ）フィルムと
を備えており、前記封入材料が、第１及び第２のＯＬＥＤを前記ＵＨＢフィルムに固定するとともに第１及び第２のＯＬＥＤを前記バックブレーンに固定する接着剤を含む、光アセンブリ。
【請求項１６】
前記バックプレーンが可撓性又は非可撓性である、請求項１５記載の光アセンブリ。
【請求項１７】
ＯＬＥＤ光源を形成する方法であって、
バックプレーン及び超高バリア（ＵＨＢ）フィルムを用意するステップと、
個別のＯＬＥＤを前記バックプレーン上で隣接させて前記ＵＨＢフィルムの下で組み立てるステップと、
前記ＯＬＥＤを前記バックプレーン及びＵＨＢフィルムに接着剤で固定するステップと、
隣接ＯＬＥＤ間に気密エッジシールのない状態で、前記バックプレーン上の前記ＯＬＥＤを気密シールするステップと
を含む方法。
【請求項１８】
前記ＯＬＥＤを、前記シール段階前に前記バックプレーン上の導電性部分に電気的に接続することをさらに含む、請求項１７記載の方法。