【手続補正書】
【提出日】平成26年3月25日(2014.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キラルネマチック秩序を有するメソ多孔質シリカ質材料を調製するプロセスであって、
ａ）ナノ結晶性セルロース（ＮＣＣ）の水性懸濁液中で２超７以下の範囲のｐＨにおいてシリカ質前駆体を反応させてシリカ質材料とＮＣＣの水性混合物を形成するステップ、
ｂ）前記混合物をキャスティングするステップ、
ｃ）前記キャスト混合物から水を除去して、シリカ質材料マトリックス中に、キラルネマチック組織化を有するＮＣＣの複合体を生成させるステップ、及び
ｄ）前記シリカ質材料マトリックスの完全性を維持しながら前記複合体から前記ＮＣＣを焼成により除去するステップ
を含む上記プロセス。
【請求項２】
前記シリカ質前駆体が、加水分解可能なシリコン前駆体であり、ａ）における前記反応させるステップが前記ｐＨにおいて前記懸濁液中で加水分解可能なシリコン前駆体を加水分解してシリカとＮＣＣの水性混合物を形成することを含み、ｃ）及びｄ）における前記マトリックスがシリカマトリックスである、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記加水分解可能なシリコン前駆体が、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）又はテトラメチルオルトシリケート（ＴＭＯＳ）である、請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記シリカ質前駆体が、ビス（トリエトキシシリル）メタンであり、ａ）における前記反応させるステップが、前記ビス（トリエトキシシリル）メタンを重合させることを含む、請求項３に記載のプロセス。
【請求項５】
ｂ）における前記混合物の前記キャスティングするステップが、前記混合物のキャスト膜を形成することを含む、請求項１から４までのいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
ｃ）における前記除去するステップが、前記キャスト混合物から水を蒸発させて前記複合体中のキラルネマチック組織化を確立することを含む、請求項１から５までのいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記水性懸濁液が、約１〜１０重量％、好ましくは１〜６重量％のナノ結晶性セルロース（ＮＣＣ）の濃度を有する、請求項１から６までのいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記ｐＨが、２．４〜４である、請求項１から７までのいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
キラルネマチック秩序を有するメソ多孔質シリカ質材料。
【請求項１０】
シリカである請求項９に記載のメソ多孔質シリカ質材料。
【請求項１１】
約７５０〜３００ｍ２／ｇの範囲の表面積を有する請求項１０に記載のメソ多孔質シリカ。
【請求項１２】
シリカが、可逆的に水を吸収して透明且つ無色になることを特徴とする請求項１０又は１１に記載のメソ多孔質シリカ。
【請求項１３】
キラルネマチック秩序を有するシリカ質複合体を調製するプロセスであって、
ａ）ナノ結晶性セルロース（ＮＣＣ）の水性懸濁液中で２超７以下の範囲のｐＨにおいてシリカ質前駆体を反応させてシリカ質材料とＮＣＣの水性混合物を形成するステップ、
ｂ）前記混合物をキャスティングするステップ、及び
ｃ）前記キャスト混合物から水を除去して、シリカ質材料マトリックス中に、キラルネマチック秩序を有するＮＣＣの複合体を生成させるステップ、
を含む上記プロセス。
【請求項１４】
ステップａ）が、前記ｐＨにおいて加水分解可能なシリコン前駆体をナノ結晶性セルロース（ＮＣＣ）の水性懸濁液中で加水分解してシリカとＮＣＣの水性混合物を形成することを含み、ステップｃ）が、前記キャスト混合物から水を除去して、シリカマトリックス中に、キラルネマチック秩序を有するＮＣＣの複合体を生成させることを含む、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記加水分解可能なシリコン前駆体が、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）又はテトラメチルオルトシリケート（ＴＭＯＳ）である、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記シリカ質前駆体が、ビス（トリエトキシシリル）メタンであり、ａ）における前記反応させるステップが、前記ビス（トリエトキシシリル）メタンを重合させることを含む、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１７】
ｂ）における前記混合物の前記キャスティングするステップが、前記混合物のキャスト膜を形成することを含む、請求項１３から１６までのいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１８】
ｃ）における前記除去するステップが、前記キャスト混合物から水を蒸発させて前記複合体中のキラルネマチック秩序を確立することを含む、請求項１３から１７までのいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記水性懸濁液が、約１〜１０重量％、好ましくは１〜６重量％のナノ結晶性セルロース（ＮＣＣ）の濃度を有する、請求項１３から１８までのいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記ｐＨが、２．４〜４である、請求項１３から１９までのいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項２１】
その中にキラルネマチック秩序でＮＣＣが埋め込まれているシリカ質材料のマトリックスを含むシリカ質複合体。
【請求項２２】
前記シリカ質材料が、シリカである、請求項２１に記載のキラルネマチックシリカ質複合体。
【請求項２３】
請求項１３から２０までのいずれか一項に記載のプロセスによって得ることができるか又は得られたキラルネマチックシリカ質複合体。
【請求項２４】
請求項１から８までのいずれか一項に記載のプロセスによって得ることができるか又は得られた、キラルネマチック秩序を有するメソ多孔質シリカ質材料。
【請求項２５】
キラルネマチック秩序を有するメソ多孔質無機材料を調製するプロセスであって、
ａ）ナノ結晶性セルロース（ＮＣＣ）の水性懸濁液中で２超７以下の範囲のｐＨにおいて無機前駆体を反応させて無機材料とＮＣＣの水性混合物を形成するステップ、
ｂ）前記混合物をキャスティングするステップ、
ｃ）前記キャスト混合物から水を除去して、無機材料マトリックス中に、キラルネマチック秩序を有するＮＣＣの複合体を生成させるステップ、及び
ｄ）前記無機材料マトリックスの完全性を維持しながら前記複合体から前記ＮＣＣを焼成により除去するステップ
を含む上記プロセス。
【請求項２６】
前記無機材料が、ケイ素、スズ又はゲルマニウムの酸化物である、請求項２５に記載のプロセス。
【請求項２７】
ケイ素、スズ又はゲルマニウムの酸化物である、キラルネマチック秩序を有するメソ多孔質無機材料。
【請求項２８】
キラルネマチック秩序を有する無機／有機複合体を調製するプロセスであって、
ａ）無機前駆体を、ナノ結晶性セルロース（ＮＣＣ）の水性懸濁液中で２超７以下の範囲のｐＨにおいて反応させて無機材料とＮＣＣの水性混合物を形成するステップ、
ｂ）前記混合物をキャスティングするステップ、及び
ｃ）前記キャスト混合物から水を除去して無機材料マトリックス中にＮＣＣの複合体を生成させるステップであって、前記複合体はキラルネマチック秩序を有するステップ
を含む上記プロセス。
【請求項２９】
前記無機材料が、ケイ素、スズ又はゲルマニウムの酸化物である、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３０】
その中にキラルネマチック秩序でＮＣＣが埋め込まれている無機材料のマトリックスを含む無機／有機複合体。
【請求項３１】
前記無機材料が、ケイ素、スズ又はゲルマニウムの酸化物である、請求項３０に記載の複合体。
【請求項３２】
自己支持膜又は自立膜の形態の請求項９から１２までのいずれか一項に記載のメソ多孔質材料。
【請求項３３】
請求項９から１２までのいずれか一項に記載のメソ多孔質材料のコーティングをその上に有する基材を含む物品。