【手続補正書】
【提出日】平成26年8月15日(2014.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に関連付けられたデータを処理する方法であって、
基板上で少なくとも第１のタイプの特定の特徴部及び第２のタイプの特定の特徴部の特性を測定し、該第１のタイプの特定の特徴部が、該基板上の第１の複数の場所で測定されて第１の測定値群が生成され、該第２のタイプの特定の特徴部が、該基板上の第２の複数の場所で測定されて第２の測定値群が生成され、該第１及び第２の測定値群が、該基板の臨界寸法変動による影響を受ける段階と、
少なくとも前記第１の測定値群と前記第２の測定値群とを組み合わせることに基づいて組合せ測定値関数を定義し、少なくとも１つの測定値群が、１又は複数の別の測定値群と組み合わされる前に変換され、該変換が、係数群によって定義される段階と、
前記組合せ測定値関数、及び、前記測定値と前記臨界寸法との間の所定の関係に基づいて前記基板にわたる該臨界寸法の変動を決定する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記基板は、フォトマスク又は半導体ウェーハのうちの少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１のタイプの特定の特徴部は、第１のタイプの臨界特徴部を含み、前記第２のタイプの特定の特徴部は、第２のタイプの臨界特徴部を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項４】
測定される前記特性は、前記第１の複数の場所及び前記第２の複数の場所における前記基板の光学特性を含むことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
測定される前記特性は、前記第１の複数の場所及び前記第２の複数の場所における前記基板の透過率を含むことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
測定される前記特性は、前記第１の複数の場所及び前記第２の複数の場所における前記基板の反射率を含むことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記基板は、フォトマスクを含み、測定される前記特性は、該フォトマスク上の前記第１の複数の場所及び前記第２の複数の場所の各々における特定の特徴部又は特定の特徴部の組合せの透過率を含むことを特徴とする請求項４から請求項６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
測定される前記特性は、前記第１の複数の場所及び前記第２の複数の場所における前記基板による紫外線、深紫外線、又は極紫外線のうちの少なくとも１つの散乱を含むことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
測定される前記特性は、前記第１の複数の場所及び前記第２の複数の場所の各々における特定の特徴部の臨界寸法を含むことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
測定される前記特性は、前記第１の複数の場所及び前記第２の複数の場所の各々における前記基板上の特定の特徴部によるＸ線の散乱を含むことを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記基板上の前記第１の複数の場所及び前記第２の複数の場所における前記第１のタイプの特徴部及び前記第２のタイプの特徴部の２つ又はそれよりも多くの特性の組合せを測定する段階を含み、
前記特性は、前記基板の光学特性、該基板の透過率、該基板の反射率、特定の特徴部の透過率、特定の特徴部の反射率、特定の特徴部の組合せの透過率、特定の特徴部の組合せの反射率、紫外線の散乱、深紫外線の散乱、極紫外線の散乱、該基板の電気特性、該基板上の特定の特徴部の電気キャパシタンス、該基板上の特定の特徴部の電気抵抗、該基板上の特定の特徴部の空中結像臨界寸法、及び該基板上の特定の特徴部によるＸ線の散乱から構成される群から選択される、
ことを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記測定値と前記臨界寸法の間の前記所定の関係は、該測定値の変動と該臨界寸法の変動との間の線形関係を含むことを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
測定値又は変換された測定値の異なる群の間の境界を識別する段階を含むことを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
各境界に対して、前記組合せ測定値関数の２次微分を決定する段階を含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
基板に関連付けられたデータを処理する方法であって、
基板上で複数のターゲット群に対して測定を実施し、該複数のターゲット群が、第１のタイプのターゲット及び第２のタイプのターゲットを含み、該第１のタイプのターゲットが、該基板上の第１の場所群において測定されて第１の測定値群が生成され、該第２のタイプのターゲットが、該基板上の第２の場所群において測定されて第２の測定値群が生成され、該複数の測定値群が、該基板上の場所の関数である広域パラメータの変動による影響を受ける段階と、
前記測定の前記場所を考慮する前記複数の測定値群の組合せを表す組合せ測定値関数を定義し、少なくとも１つの測定値群が、１又は複数の別の測定値の群又は他の群と組み合わされる前に変換され、該変換が、１組の係数によって定義される段階と、
前記変換の前記係数の値を決定する段階と、
前記組合せ測定値関数及び前記測定値と前記広域パラメータの間の所定の関係に基づいて該広域パラメータの変動を決定する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】
前記広域パラメータは、前記基板にわたる臨界寸法を含むことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記測定値と前記広域パラメータの間の前記所定の関係は、該測定値の変動と該広域パラメータの変動の間の線形関係を含むことを特徴とする請求項１５又は請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
様々な場所で前記基板を修正して前記広域パラメータの前記変動を低減する段階を含むことを特徴とする請求項１５から請求項１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
前記係数の値を決定する段階は、前記組合せ測定値関数の曲率の滑らかさを高める前記変換の該係数値を選択する段階を含むことを特徴とする請求項１５から請求項１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
異なるターゲット群の間の境界を識別する段階を含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
各境界に対して、前記組合せ測定値関数の２次微分を決定する段階を含むことを特徴とする請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記係数の値を決定する段階は、異なるターゲット群に関連付けられた測定値の間の境界での前記組合せ測定値関数の全体としてのステップを低減する該係数値を選択する段階を含むことを特徴とする請求項１５から請求項２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
前記第１のタイプのターゲットに対して前記測定を実施する段階は、前記第１の場所群で放射線に対する前記基板の透過率を測定する段階を含み、前記第２のタイプのターゲットに対して該測定を実施する段階は、前記第２の場所群で該基板の透過率を測定する段階を含むことを特徴とする請求項１５から請求項２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
前記第１のタイプのターゲットは、第１のタイプの臨界特徴部を含み、前記第２のタイプのターゲットは、第２のタイプの臨界特徴部を含むことを特徴とする請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記広域パラメータは、１次元を有し、前記測定は、１次元空間において実施されることを特徴とする請求項１５から請求項２４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
前記広域パラメータは、２次元を有し、前記測定は、２次元空間において実施されることを特徴とする請求項１５から請求項２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
間接測定に基づいて広域パラメータを測定する方法であって、
Ｎを正の整数としてＮ次元空間内の様々な位置でＮ次元広域パラメータの間接測定値群を実施して複数の間接測定値を生成し、該間接測定値が、該広域パラメータの変動による影響を受ける段階と、
前記Ｎ次元空間内の前記間接測定の前記位置を考慮する１つ又はそれよりも多くの間接測定値群と１つ又はそれよりも多くの変換された間接測定値群との組合せに依存するターゲット関数を定義し、該１つ又はそれよりも多くの変換の各々が、１組の係数によって定義される段階と、
前記ターゲット関数を前記変換の係数値を最適化することによって最適化する段階と、
前記ターゲット関数及び前記間接測定値と前記広域パラメータの間の所定の関係に基づいて該広域パラメータの変動を決定する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２８】
前記広域パラメータに関連付けられたワークピースを修正して該広域パラメータを修正する段階を含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
２つ又はそれよりも多くのタイプの測定変量の測定に基づいてパラメータの分布を決定する方法であって、
複数の空間的場所で少なくとも２つのタイプの測定変量に対して測定を実施し、該測定変量が、パラメータの変動による影響を受ける段階と、
前記パラメータの前記変動に対する依存性に従って前記測定値を群に分割する段階と、
係数の群によって定義される少なくとも１つの変換を少なくとも１つの測定値群に適用して、変換された測定値を生成する段階と、
変換されていない前記測定値と前記変換された測定値とを空間的場所の関数として表す組合せ測定値関数を定義する段階と、
所定の基準に従って前記係数を選択する段階と、
前記組合せ測定値関数及び前記測定変量と前記パラメータの間の所定の関係に基づいて該パラメータの変動の分布を決定する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項３０】
前記パラメータは、基板上の臨界寸法を含み、前記測定変量は、該基板上の２つのタイプの臨界特徴部での透過率を含むことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
測定値群に変換を適用する段階は、該測定値群に線形変換を適用する段階を含むことを特徴とする請求項２９又は請求項３０に記載の方法。