Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月12日(2013.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
2013514345.tif 000001
の化合物、または薬学的に許容できるその塩
［式中、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３アルキルによって表され、
Ｒ２は、水素またはＣ１〜Ｃ３アルキルによって表され、
Ｒ３は、水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシによって表され、
Ｌは、存在しないか、または、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６アルキレン、Ｃ２〜Ｃ６アルケニレン、Ｃ２〜Ｃ６アルキニレン、
−（ＣＨ２）ｐ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ、
−（ＣＨ２）ｐ−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−
からなる群から選択される部分によって表され、
ｎは、０から４までの範囲の整数によって表され、
ｐは、０から４までの範囲の整数によって表され、
ｑは、０から６までの範囲の整数によって表され、
ｚは、１から４までの範囲の整数によって表され、
Ｄは、
ｉ）置換されていてもよい（Ｃ３〜Ｃ１０）シクロアルキル、
ｉｉ）置換されていてもよい（Ｃ６〜Ｃ１０）アリール、
ｉｉｉ）置換されていてもよいヘテロアリール、
ｉｖ）置換されていてもよい複素環
からなる群から選択される置換基によって表され、
Ｔは、存在しないか、または、−Ｓ−（ＣＨ２）ｚ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ、−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ−Ｓ−（ＣＨ２）ｎ、−（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｐ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｓ−（ＣＨ２）ｐ、置換されていてもよいＳ−Ｃ１〜Ｃ６アルキレン、置換されていてもよい−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ６アルキレン、−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２）ｐ−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ２）ｑ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｓ−（ＣＨ２）ｚ−Ｓ−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２）ｎ−ＳＨもしくは−（ＣＨ２）ｎ−ＯＨによって表され、
Ｇは、存在しないか、または、
ｉ）置換されていてもよい（Ｃ３〜Ｃ１０）シクロアルキル、
ｉｉ）置換されていてもよい（Ｃ６〜Ｃ１０）アリール、
ｉｉｉ）置換されていてもよいヘテロアリール、および
ｉｖ）置換されていてもよい複素環
からなる群から選択される置換基によって表される］。
【請求項２】
Ｒ１およびＲ２がそれぞれメチルである、請求項１に記載の化合物、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項３】
Ｒ３が水素である、請求項１または２に記載の化合物、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項４】
Ｒ−エナンチオマーである、請求項２または３に記載の化合物、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項５】
Ｌが存在しない、請求項１、２、３または４に記載の化合物、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項６】
ＧおよびＴが存在しない、請求項１、２、３、４または５に記載の化合物、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項７】
Ｄが、置換されていてもよい（Ｃ６〜Ｃ１０）アリールである、請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項８】
Ｄが、置換されていてもよいフェニルである、請求項６に記載の化合物、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項９】
（２Ｒ）−Ｎ−ヒドロキシ−２−メチル−２−（メチルスルホニル）−４−｛２−オキソ−４−［４−（２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−２−イル）フェニル］ピリジン−１（２Ｈ）−イル｝ブタンアミド、
（２Ｒ）−４−［４−（２，３−ジフルオロ−４−メトキシフェニル）−２−オキソピリジン−１（２Ｈ）−イル］−Ｎ−ヒドロキシ−２−メチル−２−（メチルスルホニル）ブタンアミド、
（２Ｒ）−Ｎ−ヒドロキシ−４−｛４−［４−（４−メトキシ−２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−２−イル）フェニル］−２−オキソピリジン−１（２Ｈ）−イル｝−２−メチル−２−（メチルスルホニル）ブタンアミド、および
（２Ｒ）−Ｎ−ヒドロキシ−２−メチル−２−（メチルスルホニル）−４−｛２−オキソ−４−［４−（１，３−チアゾール−２−イル）フェニル］ピリジン−１（２Ｈ）−イル｝ブタンアミド
から選択される化合物、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項１０】
（２Ｒ）−Ｎ−ヒドロキシ−２−メチル−２−（メチルスルホニル）−４−［２−オキソ−４−（２，３，４−トリフルオロフェニル）ピリジン−１（２Ｈ）−イル］ブタンアミド、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項１１】
（２Ｒ）−４−［４−（４−クロロ−２，３−ジフルオロフェニル）−２−オキソピリジン−１（２Ｈ）−イル］−Ｎ−ヒドロキシ−２−メチル−２−（メチルスルホニル）ブタンアミド、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項１２】
（Ｒ）−４−（４−（２−フルオロ−４−メトキシフェニル）−２−オキソピリジン−１（２Ｈ）−イル）−Ｎ−ヒドロキシ−２−メチル−２−（メチルスルホニル）ブタンアミド、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項１３】
（２Ｒ）−Ｎ−ヒドロキシ−４−［４−｛４−［（ｔｒａｎｓ−４−ヒドロキシシクロヘキシル）メトキシ］フェニル｝−２−オキソピリジン−１（２Ｈ）−イル］−２−メチル−２−（メチルスルホニル）ブタンアミド、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項１４】
（２Ｒ）−Ｎ−ヒドロキシ−２−メチル−２−（メチルスルホニル）−４−｛２−オキソ−４−［４−（２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−２−イル）フェニル］ピリジン−１（２Ｈ）−イル｝ブタンアミド、または薬学的に許容できるその塩。
【請求項１５】
請求項１から１４のいずれか一項に記載の化合物、または薬学的に許容できるその塩を、少なくとも１種の薬学的に許容できる添加剤と混合して含む、医薬組成物。
【請求項１６】
細菌感染症を治療するための、請求項１５に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月29日(2013.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
治療用組成物であって、
少なくとも１つの外来抗原、
少なくとも１つの１型炎症性サイトカイン、および
樹状細胞の成熟を引き起こすことが可能な少なくとも１つのエフェクター分子
を含む治療用組成物。
【請求項２】
前記外来抗原は同種抗原である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記外来抗原はＴ細胞で発現される請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記炎症性サイトカインは生体免疫細胞から生成される請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記エフェクター分子はＣＤ４０Ｌである請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記炎症性サイトカインは、ＩＦＮ−ガンマ、ＩＬ−２、ＴＮＦ−アルファ、ＴＮＦ−ベータ、ＧＭ−ＣＳＦ、ＩＬ−１２のうち１つ以上から選ばれる請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記エフェクター分子は免疫細胞の表面で発現される請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記エフェクター分子はＴｏｌｌ（トル）様受容体のリガンドである請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記Ｔ細胞はＣＤ４＋Ｔ細胞である請求項３に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ＣＤ４＋Ｔ細胞はＴｈ１細胞である請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
前記Ｔｈ１細胞は活性化される請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記Ｔｈ１細胞はＣＤ３とＣＤ２８の表面分子が架橋結合されることによって活性化される請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記ＣＤ２３とＣＤ２８の表面分子の架橋結合は、固定化された抗ＣＤ３モノクローナル抗体と抗ＣＤ２８モノクローナル抗体で達成される請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記抗ＣＤ３モノクローナル抗体と抗ＣＤ２８モノクローナル抗体はナノ微粒子またはミクロ微粒子上に固定される請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記ナノ微粒子またはミクロ微粒子は生分解性である請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
注入に適した媒体中に懸濁される請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
前記組成物は注入器に詰められる請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
ウエハまたはチップ上に埋め込まれる請求項１に記載の組成物。
【請求項１９】
請求項１から１８の何れか１項に記載の組成物を含み、治療のために使用される治療用組成物。
【請求項２０】
請求項１から１８の何れか１項に記載の組成物を含み、下記のｉ）からｖ）の少なくとも何れかのために使用される、治療用組成物。
ｉ）腫瘍の一掃
ｉｉ）Ｔｈ１応答の刺激及び維持
ｉｉｉ）Ｔｈ２応答の抑制
ｉｖ）樹状細胞の成熟
ｖ）腫瘍の免疫回避メカニズムの不能化
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月10日(2013.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の式Ｉのインビボイメージング剤。
【化１】
2013514319.tif 000001
式中、
Ａ1は−ＣＲ1Ｒ2−（ＣＨ2）n−（式中、Ｒ1及びＲ2は水素、フルオロ及びＣ1-3アルキルから独立に選択され、ｎは０、１又は２である。）であって、
Ａ2は−ＣＨ2−、−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＨ2−であるか、或いは
−Ａ1−Ａ2は−ＣＨ＝ＣＨ−である。
【請求項２】
Ａ1が−ＣＲ1Ｒ2−（ＣＨ2）n−である、請求項１記載のインビボイメージング剤。
【請求項３】
Ａ1が−（ＣＨ2）m−（式中、ｍは１、２又は３である。）である、請求項２記載のインビボイメージング剤。
【請求項４】
請求項１乃至請求３のいずれか１項記載のインビボイメージング剤の製造方法であって、18Ｆの適当な供給源を次の式ＩＩの前駆体化合物と反応させる段階を含む方法。
【化２】
2013514319.tif 000002
式中、Ａ1及びＡ2は請求項１乃至請求項３の式Ｉのインビボイメージング剤に関して定義した通りであり、ＬＧは脱離基である。
【請求項５】
ＬＧがクロリド、ブロミド、ヨージド、トシレート、メシレート及びトリフレートから選択される、請求項４記載の方法。
【請求項６】
当該方法が自動化される、請求項４又は請求項５記載の方法。
【請求項７】
請求項４乃至請求項６のいずれか１項記載の方法で定義される前駆体化合物。
【請求項８】
請求項１乃至請求３のいずれか１項記載のインビボイメージング剤を、哺乳動物への投与に適した形態の生体適合性キャリヤーと共に含む放射性医薬組成物。
【請求項９】
請求項６記載の方法を実施するためのカセットであって、
（ｉ）請求項７記載の前駆体化合物を含む容器と、
（ｉｉ）請求項４に記載された18Ｆの適当な供給源を用いて容器を溶出するための手段と
を備えるカセット。
【請求項１０】
被験体におけるＰＢＲ発現の分布及び／又は程度を決定するためのインビボイメージング方法に用いられる請求項８記載の放射性医薬組成物を製造するための、請求項１乃至請求３のいずれか１項記載のインビボイメージング剤の使用であって、前記インビボイメージング方法が、
（ｉ）請求項１乃至請求３のいずれか１項記載のインビボイメージング剤を予め投与しておいた被験体を用意する段階と、
（ｉｉ）前記インビボイメージング剤を前記被験体内のＰＢＲに結合させる段階と、
（ｉｉｉ）前記インビボイメージング剤の18Ｆから放出される信号をインビボイメージング技法によって検出する段階と、
（ｉｖ）前記信号の位置及び／又は量を表す画像を生成する段階と、
（ｖ）前記被験体におけるＰＢＲ発現の分布及び程度を決定する段階であって、前記発現は前記インビボイメージング剤から放出される前記信号と直接に相関している段階と
を含んでいる、使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月16日(2013.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジエンエラストマー、３０ｐｈｒを超える液体可塑剤、５０から１５０ｐｈｒの間の強化用フィラーを少なくとも含むゴム組成物がそのトレッドに含まれるタイヤであって、前記組成物が、水溶性微粒子からなる２から５０ｐｈｒの間の粉末、及び２から５０ｐｈｒの間の水溶性短繊維をさらに含むことを特徴とするタイヤ。
【請求項２】
ジエンエラストマーが、天然ゴム、合成ポリイソプレン、ポリブタジエン、ブタジエンコポリマー、イソプレンコポリマー、及びこれらのエラストマーの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載のタイヤ。
【請求項３】
前記組成物が、５０〜１００ｐｈｒの天然ゴム又は合成ポリイソプレンを含む、請求項２に記載のタイヤ。
【請求項４】
前記組成物が、９０％を超えるシス−１，４結合含有量を有するポリブタジエンを５０〜１００ｐｈｒ含む、請求項２に記載のタイヤ。
【請求項５】
液体可塑剤の含有量が４０ｐｒを超える、請求項１から４のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項６】
液体可塑剤が、ナフテン油、パラフィン油、ＭＥＳ油、ＴＤＡＥ油、鉱油、植物油、エーテル可塑剤、エステル可塑剤、ホスフェート可塑剤、スルホネート可塑剤、及びこれらの化合物の混合物からなる群から選択される、請求項１から５のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項７】
全強化用フィラーの含有量が、６０から１２０の間である、請求項１から６のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項８】
水溶性微粒子が金属塩の微粒子である、請求項１から７のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項９】
金属塩が、塩化物、炭酸塩、硫酸塩及びこのような塩の混合物からなる群から選択される、請求項８に記載のタイヤ。
【請求項１０】
金属塩の金属が、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である、請求項８又は９に記載のタイヤ。
【請求項１１】
水溶性微粒子が硫酸マグネシウム微粒子である、請求項１０に記載のタイヤ。
【請求項１２】
微粒子が、２から５００μｍの間の中間値サイズ（質量による）を有する、請求項１から１１のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項１３】
水溶性繊維が、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）繊維、セルロース繊維、多糖繊維、及びこのような繊維の混合物からなる群から選択される、請求項１から１２のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項１４】
水溶性繊維がＰＶＡ繊維である、請求項１３に記載のタイヤ。
【請求項１５】
水溶性繊維が、１ｍｍを超え３０ｍｍ未満の長さを有する、請求項１から１４のいずれか１項に記載のタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月16日(2013.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジエンエラストマー、３０ｐｈｒを超える液体可塑剤、５０から１５０ｐｈｒの間の強化用フィラーを少なくとも含むゴム組成物がそのトレッドに含まれるタイヤであって、前記組成物が、２から５００μｍの間の質量による中央値サイズを有する、少なくとも１種の金属酸化物の中空微粒子を３５〜５０ｐｈｒさらに含むことを特徴とするタイヤ。
【請求項２】
ジエンエラストマーが、天然ゴム、合成ポリイソプレン、ポリブタジエン、ブタジエンコポリマー、イソプレンコポリマー、及びこれらのエラストマーの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載のタイヤ。
【請求項３】
前記組成物が、５０〜１００ｐｈｒの天然ゴム又は合成ポリイソプレンを含む、請求項２に記載のタイヤ。
【請求項４】
前記組成物が、９０％を超えるシス−１，４結合含有量を有するポリブタジエンを５０〜１００ｐｈｒ含む、請求項２に記載のタイヤ。
【請求項５】
液体可塑剤の含有量が４０ｐｒを超える、請求項１から４のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項６】
液体可塑剤が、ナフテン油、パラフィン油、ＭＥＳ油、ＴＤＡＥ油、鉱油、植物油、エーテル可塑剤、エステル可塑剤、ホスフェート可塑剤、スルホネート可塑剤、及びこれらの化合物の混合物からなる群から選択される、請求項１から５のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項７】
全強化用フィラーの含有量が、６０から１２０の間である、請求項１から６のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項８】
金属酸化物の金属が、アルミニウム、ケイ素、ジルコニウム、遷移金属、及びこれらの金属の混合物からなる群から選択される、請求項１から７のいずれか１項に記載のタイヤ。
【請求項９】
金属酸化物が、アルミニウム酸化物及び／又は水酸化物、ケイ素酸化物及び／又は水酸化物、アルミニウム・ケイ素酸化物及び／又は水酸化物、並びにこのような酸化物及び／又は水酸化物の混合物からなる群から選択される、請求項８に記載のタイヤ。
【請求項１０】
金属酸化物が、アルミノケイ酸塩である、請求項９に記載のタイヤ。
【請求項１１】
中空金属酸化物微粒子が、５〜２００μｍの範囲内に含まれる中央値サイズを有する、請求項１から１０のいずれか１項に記載のタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月11日(2013.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の成分：
（Ａ）少なくとも１種のポリアリーレンエーテル２０〜７９質量％、
（Ｂ）少なくとも１種のポリアリーレンスルフィド５〜６４質量％、
（Ｃ）２５℃でＮ−メチル−２−ピロリドン中での１質量％溶液において測定して４５〜６５ｍｌ／ｇのＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １６２８−１による粘度数を有する、カルボキシル基を包含する少なくとも１種の官能化ポリアリーレンエーテル１〜１５質量％、
（Ｄ）少なくとも１種の繊維状又は粒子状の充填剤１５〜７０質量％及び
（Ｅ）更なる添加剤及び／又は加工助剤０〜４０質量％
を含有し、その際、成分（Ａ）〜（Ｅ）の質量％の合計が１００質量％である、熱可塑性成形材料。
【請求項２】
前記成分（Ａ）のポリアリーレンエーテルが、一般式Ｉ：
【化１】
2013514400.tif 000001
［式中、符号ｔ、ｑ、Ｑ、Ｔ、Ｙ、Ａｒ及びＡｒ1は、以下の意味を有する：
ｔ、ｑ：互いに無関係に、０、１、２又は３、
Ｑ、Ｔ、Ｙ：互いに無関係に、そのつど化学結合又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、Ｓ＝Ｏ、Ｃ＝Ｏ、−Ｎ＝Ｎ−及び−ＣＲaＲb−から選択される基、その際、Ｒa及びＲbは、同じであるか又は異なっていてよく、かつ、互いに無関係に、そのつど水素原子又はＣ1〜Ｃ12−アルキル基、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ基又はＣ6〜Ｃ18−アリール基を表し、かつ、その際、Ｑ、Ｔ及びＹからの少なくとも１つは−ＳＯ2−を表す、及び
Ａｒ、Ａｒ1：互いに無関係に、炭素原子６〜１８個を有するアリーレン基］の構成要素から成っている、請求項１記載の熱可塑性成形材料。
【請求項３】
前記式Ｉ中のＱ、Ｔ及びＹが、互いに無関係に、−Ｏ−及び−ＳＯ2−から選択されており、かつ、Ｑ、Ｔ及びＹからの少なくとも１つが−ＳＯ2−を表す、請求項２記載の熱可塑性成形材料。
【請求項４】
前記式Ｉ中のＡｒ及びＡｒ1が、互いに無関係に、１，４−フェニレン、１，３−フェニレン、ナフチレン及び４，４'−ビスフェニレンから成る群から選択されている、請求項２又は３記載の熱可塑性成形材料。
【請求項５】
前記成分（Ａ）のポリアリーレンエーテル及び前記成分（Ｃ）の官能化ポリアリーレンエーテルが、それぞれ前記一般式Ｉの同じ構成要素を含有する、請求項２から４までのいずれか１項記載の熱可塑性成形材料。
【請求項６】
前記カルボキシル基を包含する官能化ポリアリーレンエーテルが、前記一般式Ｉの構成要素並びに一般式ＩＩ
【化２】
2013514400.tif 000002
［式中、
ｎは、０、１、２、３、４、５又は６であり；
Ｒ1は、水素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル基、又は−（ＣＨ2）n−ＣＯＯＨを意味し；
Ａｒ2及びＡｒ3は、同じであるか又は異なっていてよく、かつ、互いに無関係にＣ6〜Ｃ18−アリーレン基であり、かつ、
Ｙは、化学結合又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、Ｓ＝Ｏ、Ｃ＝Ｏ、−Ｎ＝Ｎ−及び−ＣＲaＲb−から選択されている基を表し、その際、Ｒa及びＲbは、同じであるか又は異なっていてよく、かつ、互いに無関係に、そのつど水素原子又はＣ1〜Ｃ12−アルキル基、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ基又はＣ6〜Ｃ18−アリール基を表す］の構成要素を含有する、請求項２から５までのいずれか１項記載の熱可塑性成形材料。
【請求項７】
前記式Ｉ及び式ＩＩによる構成要素の合計を基準とした、前記一般式ＩＩによる構成要素の割合が、０．５〜３モル％、好ましくは０．６〜２モル％である、請求項６記載の熱可塑性成形材料。
【請求項８】
ｎ＝２であり、かつ、Ｒ1＝メチルである、請求項６又は７記載の熱可塑性成形材料。
【請求項９】
Ａｒ2及びＡｒ3＝１，４−フェニレンであり、かつ、Ｙ＝ＳＯ2である、請求項６から８までのいずれか１項記載の熱可塑性成形材料。
【請求項１０】
前記成分（Ｂ）のポリアリーレンスルフィドが、３０〜１００質量％が一般式−Ａｒ−Ｓ−による繰り返し単位から成り、その際、−Ａｒ−が、炭素原子６〜１８個を有するアリーレン基である、請求項１から９までのいずれか１項記載の熱可塑性成形材料。
【請求項１１】
前記成分（Ｂ）が、ポリフェニレンスルフィド、好ましくはポリ（１，４−フェニレンスルフィド）である、請求項１から１０までのいずれか１項記載の熱可塑性成形材料。
【請求項１２】
前記成分（Ｄ）がガラス繊維から成る、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
【請求項１３】
前記使用される成分を、高められた温度で混合することを包含する、請求項１から１２までのいずれか１項記載の熱可塑性成形材料の製造方法。
【請求項１４】
破断伸び率を高めるための又は衝撃強さを改善するための、少なくとも１種のポリアリーレンエーテル及び少なくとも１種のポリアリーレンスルフィドを含有する組成物における、請求項１から１２までのいずれか１項において定義したような、２５℃でＮ−メチル−２−ピロリドン中での１質量％溶液において測定して４５〜６５ｍｌ／ｇのＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １６２８−１による粘度数を有する、カルボキシル基を包含する官能化ポリアリーレンエーテルの使用。
【請求項１５】
成形部材を製造するための、請求項１から１２までのいずれか１項記載の熱可塑性成形材料の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月20日(2013.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検知領域内のオブジェクト運動を検出するように構成された検知素子と、
前記検知素子に接続された処理システムと、
を備える入力装置であって、
前記処理システムは、
ポインティングモードで動作し、該ポインティングモードの間、前記検知領域内の第１の種類のスライド入力を第１のポインティング指令と認識し、前記第１の種類のスライド入力は、第１の数のオブジェクトによって前記検知領域に対してなされる第１の運動から構成されており、
拡張ジェスチャモードで動作し、該拡張ジェスチャモードの間、複数の異なるジェスチャ動作に関連付けられた複数のジェスチャ指令を認識し、該拡張ジェスチャモードの間、前記検知領域内の前記第１の種類のスライド入力を前記複数のジェスチャ指令の第１のジェスチャ指令と認識し、
前記検知領域内の特徴的オブジェクト運動を認識することに応じて、前記ポインティングモードでの動作から前記拡張ジェスチャモードでの動作に変化する、
ように構成されている、入力装置。
【請求項２】
前記処理システムは、
前記特徴的オブジェクト運動の後に前記検知領域内で生じる後続オブジェクト運動の終端を検出すること、
前記特徴的オブジェクト運動の後に前記検知領域内で生じる後続スライド入力を、前記複数のジェスチャ指令のうち一つのジェスチャ指令と認識すること、
前記特徴的オブジェクト運動の後に前記検知領域内で生じる後続オブジェクト運動を終了指令と認識すること、及び、
所定量の時間の経過、
の少なくとも一つに応じて、前記拡張ジェスチャモードから前記ポインティングモードに変化する、
ように更に構成されている、請求項１に記載の入力装置。
【請求項３】
前記検知領域内の入力オブジェクトが接触可能な入力面を更に備え、
前記特徴的オブジェクト運動を認識することが、
前記特徴的オブジェクト運動が前記入力面上の複数の入力オブジェクトを含むと判定するステップと、
前記複数の入力オブジェクトの少なくとも一つが前記入力面に対する接触状態に変化することを前記特徴的オブジェクト運動が含むと判定するステップと、
を含んでいる、請求項１又は２に記載の入力装置。
【請求項４】
検知領域内のオブジェクト運動を検出するように構成された近接センサ装置と、視覚表示を提供するように構成された表示画面とを備える電子システムの動作方法であって、
ポインティングモードで動作するステップであって、前記電子システムが、該ポインティングモードの間、前記検知領域内の複数の種類のスライド入力を、前記視覚表示と相互作用するためのポインティング指令と認識するように構成されるステップと、
前記検知領域内の特徴的オブジェクト運動をモード変更ジェスチャと認識するステップと、
前記検知領域内の前記特徴的オブジェクト運動をモード変更ジェスチャと認識することに応じて、前記ポインティングモードでの動作から拡張ジェスチャモードでの動作に変化するステップであって、前記電子システムが、前記拡張ジェスチャモードの間、前記複数の種類のスライド入力を、複数の異なるジェスチャ動作に関連付けられた複数のジェスチャ指令と認識するように構成されるステップと、
前記電子システムが前記拡張ジェスチャモードで動作していることを示す、ユーザが感知可能なフィードバックを提供するステップと、
を含む方法。
【請求項５】
少なくとも一つの検知素子と、
入力オブジェクトによって接触される入力面と、
前記少なくとも一つの検知素子に接続された処理システムと、
を備える入力装置であって、
前記処理システムが、
前記少なくとも一つの検知素子を操作して、前記入力面に到来する入力オブジェクトおよび前記入力面から上昇する入力オブジェクトを検出し、
前記入力面に一組の入力オブジェクトが到来し、その後、該一組の入力オブジェクトの第１の部分集合が前記入力面から上昇する一方で、該一組の入力オブジェクトの第２の部分集合が前記入力面に残ることを含む入力シーケンスをモード変更ジェスチャと識別し、
前記モード変更ジェスチャの識別に応じて、第１の動作モードから第２の動作モードに変化する、
ように構成されている、入力装置。
【請求項６】
前記処理システムが、前記第２の部分集合のすべての入力オブジェクトが前記入力面から上昇することに応じて、前記第２の動作モードから変化することを示す第２の出力を提供するように更に構成されている、請求項５に記載の入力装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月29日(2013.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に配置される１つ以上の電極を備える、タッチセンス装置で使用するためのセンサであって、
前記電極のうちの少なくとも１つは、
透明又は半透明の第１の導電層と、
透明又は半透明の第２の導電層と、
前記第１の導電層と前記第２の導電層との間に配置された透明又は半透明の介在層と、を有し、
前記介在層は、前記第１の導電層と前記第２の導電層との間に導電経路を含む、センサ。
【請求項２】
前記介在層は、誘電体ポリマー又は無機誘電体材料を含む、請求項１に記載のセンサ。
【請求項３】
前記導電経路は、前記第１の導電層と前記第２の導電層との間の開口を通って延在する導電性リンクを含む、請求項１に記載のセンサ。
【請求項４】
前記介在層は、結合剤を含み、
前記導電経路は、前記結合剤中に懸濁されて前記第１の導電層と前記第２の導電層との間で延在する導電性粒子を備える、請求項１に記載のセンサ。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年7月4日(2014.7.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の外部荷重に対する機械的抵抗のための仕様に適合する強化されたパネルの各部の寸法を、コンピュータによる解析的に決定する方法において、
前記強化されたパネルが、
前記パネルに組み込まれたグリッドと呼ばれる三つの束の補強材と、均質で等方性材料よりなる平らな表皮からなり、前記補強材によって表皮上に決定されたポケットは三角形であり、前記補強材はブレードの形状であり、前記補強材の束間の角度が、前記三角形のポケットが任意の二等辺三角形のポケットを形成する角度となっている強化されたパネルであり、
前記コンピュータによる解析的に決定する方法が、下記各ステップを含み、
−０°、＋θ°又は−θ°に対して、Ａ０°ｓｔ、Ａ+θｓｔ及びＡ−θｓｔと表示される、補強材の各タイプに対する有効直線部分の定義に基づき前記補強材の座屈解析を行うステップが、前記ステップ中の補強材のポストバックリングに起因するパネルと補強材のグリッドとの間に印加される応力の再分布を考慮したステップで、
−ｔｓ_ｅｆｆと表されるパネルの有効厚みを計算するステップが、前記ステップ中のポケットのポストバックリングに起因するパネルと補強材のグリッドとの間に印加される応力の再分布を考慮したステップで、
−ランベルグ・オスグッド型構成方程式を用いて、材料の異なる特性、補強材に対するヤング率：Ｅ０°ｓｔ、Ｅ＋θｓｔ、Ｅ−θｓｔ、と、表皮に対するヤング率及びポアソン係数：Ｅｓｋｉｎ、νｅｐに関する反復処理を実施するステップが、前記ステップ中に印加された外部荷重の可塑性に起因するパネルと補強材のグリッドとの間に印加される応力の再分布を考慮したステップであり、
プロセスの開始時に入力される材料の五つのパラメータ、Ｅ０°ｓｔ，Ｅ+θｓｔ，Ｅ−θｓｔ，Ｅｓｋｉｎ，νeｐが塑性応力の計算後に得られる同じパラメータと等しくなるまで実行される、塑性応力を計算するための反復方法を使用して、前記可塑性を考慮に入れるために印加された荷重を補正するステップを含むことを特徴とするコンピュータによる解析的に決定する方法。
【請求項２】
前記コンピュータによる解析的に決定する方法が、座屈流れ容量及び二等辺三角形ポケットのための予備ファクタを計算するステップ５Ａを含み、前記予備ファクタの計算を考慮に入れるべき印加荷重は、前記表皮に影響を及ぼす応力のみであり、表皮流れである、使用される外部流れは、強化されたパネルの完全な荷重に一致しないことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記コンピュータによる解析的に決定する方法が、二つのサブステップを含み、
第１のサブステップは、有限要素法を使用することによって前記パネルの二等辺三角形ポケットを平面内で複合荷重を受ける三角形の板とみなし、当該三角形の板を純粋な荷重印加のケースの平面における二つの方向に従う圧縮、及びせん断荷重に従うものとして座屈流れ容量値を計算することであり、
第２のサブステップは、純粋な荷重印加のこれらのケース間の相関曲線を計算することを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記座屈流れ容量値の計算が、以下のサブステップ：
●三角形板のＦＥＭパラメータモデルを生成すること
●座屈結果を得るために、前記ＦＥＭパラメータモデルを用いた有限要素法により荷重印加のケースと前記束間の角度との種々の組合せをテストすること、及び
●前記荷重印加のケースと束間の角度との種々の組合せに対して有限要素法により求めた全ての相関曲線を表す解析多項式に適合するパラメータを得ること
を含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
純粋荷重印加のケースにおいて、相関曲線が以下のサブステップによって定義される：
−異なる二等辺角度を有する幾つかの三角形板の有限要素モデルを生成するサブステップであって、二等辺角度（θ）が二等辺三角形のベース角度として定義され、
−各二等辺角度に対して：
１／種々の板厚に対して、塑性補正のないしわの流れ容量を決定するために有限要素モデルによって計算を行うこと、
２／Ｄ／ｈ２（Ｄは板の剛性、ｈは三角形の高さ）に従って座屈流れ容量の曲線をトレースすることであって、この曲線はそのＤ／ｈ２比の小さな値に対して、この比に従う二次方程式：Ｋ１（Ｄ／ｈ２）２＋Ｋ２（Ｄ／ｈ２）によって決定され、前記二次方程式の係数Ｋ１とＫ２は、考察中の二等辺角度と荷重のケースに依存すること、
３／二等辺三角形の二等辺角度に従う多項式Ｋ１とＫ２の係数の展開をトレースすることであって、これらの係数は、考察中の三角形の板の二等辺角度及び二等辺角がいずれであれ前記Ｋ１、Ｋ２を計算することを可能とする前記多項式を決定するための補間に従ってトレースされることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
複合荷重のケースにおいて、以下の仮定が使用される：複合荷重の幾つかの成分が張力下にある場合、これらの成分は、その計算に対して考慮に入れられず、相関曲線は、以下のサブステップによって定義される：
−異なる二等辺角度を有する幾つかの三角形板の有限要素モデルを生成するサブステップであって、二等辺角度（θ）が二等辺三角形のベース角度として定義され、
−各二等辺角度に対して：
１／外部荷重の異なる分布に対応する座屈の固有値を決定するために有限要素モデル（ＦＥＭ）によって計算を行うこと、
２／各二等辺角度及び荷重の各組合せに対して相関曲線をトレースし、得られた曲線の全てをカバーする特異方程式：
ＲｃＸＡ＋ＲｃＹＢ＋ＲｓＣ＝１（Ｒｉ＝Ｎｉａｐｐ／Ｎｉｃｒｉｔ、Ｒｉは負荷率、ＮｉａｐｐとＮｉｃｒｉｔは軸ＸとＹに従う圧縮のケース及びせん断荷重のケースに対応するｉ＝ｃＸ，ｃＹ又はｓに対する、印加流れと限界流れである）で近似することであり、Ａ、Ｂ、Ｃは、実験係数である、
ことを特徴とする請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
単純に支持された又はクランプされた二等辺三角形板のケースにおいて、複合荷重のケースの場合、荷重の全てのケースに対して、相関曲線：ＲｃＸ+ＲｃＹ+Ｒｓ３／２＝１を使用することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
本方法は、全体的な不安定性を計算し、純粋な又は複合荷重条件下での平らな強化されたパネルに対する座屈流れ容量と予備ファクタに関するデータを提供するステップ６を備え、予備ファクタの計算を考慮するために印加された流れは、補強パネルの外部流れであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
コンピュータに請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法を実行させるために適合する一連の命令を含むプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の名称
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の名称】強化されたパネルの各部の寸法を、コンピュータによる解析的に決定する方法
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月10日(2013.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貨物専用コンテナの内容物を検査する装置であって、
ジュウテリウム又はトリチウムイオンを与えるべく構成されたイオン源と、ジュウテリウム又はトリチウムの少なくとも一つを含む標的ガスを保持する標的チャンバに向けて前記イオンを加速するべく構成された加速器とを含む中性子源と、
放射線検出器と
を含み、
前記標的ガスは１３３．３から１３３３Ｐａの範囲の圧力に維持され、
前記中性子源は、前記コンテナ内に中性子束を送達するべく構成され、
前記放射線検出器は、前記コンテナ内への前記中性子束の送達に引き続き前記コンテナから出る放射線を検出するべく構成される装置。
【請求項２】
前記放射線検出器は中性子を検出するべく構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記放射線検出器は、前記コンテナの内部をイメージングする中性子感度のあるフィルムである、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記検出器はカドミウム被覆中性子検出器である、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記放射線検出器は熱中性子から遮蔽される、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記放射線検出器は光子を検出するべく構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記放射線検出器はシンチレーション又は半導体ガンマ線検出器である、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記中性子源は定常状態の中性子束を与えるべく構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記中性子源は、前記中性子束が設定時間の間与えられるパルスとなるべく構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記設定時間は約１０マイクロ秒である、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記設定時間は５から６０秒である、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記放射線検出器は、画面上の表示又は画像への再構築を目的としてイメージングコンピュータにデータを送るべく構成された複数の中性子検出器を含む電子検出器である、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記中性子源及び放射線検出器は、貨物専用コンテナを検査するべく構成されたコンベアに接続される、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
貨物専用コンテナ内の物質を識別する方法であって、
中性子源装置により中性子束を生成するステップと、
前記中性子束を前記貨物専用コンテナに照射するステップであって、前記中性子束が前記物質と接触した後に前記物質により放射線シグネチャが発生するステップと、
前記放射線シグネチャを検出するステップと、
前記物質を識別するべく前記放射線シグネチャを評価するステップと
を含み、
前記中性子源装置は、
イオンビームの発生を目的としかつイオンビーム加速器に動作可能に接続されるイオン源であって、前記加速器は前記イオンビームを受け取り、かつ、前記イオンビームを加速して加速イオンビームをもたらすイオン源と、
前記加速イオンビームと反応して前記中性子束を放出する標的ガスを含むべく前記加速器に動作可能に接続された標的システムと
を含み、
前記標的ガスは、トリチウム又はジュウテリウムの少なくとも一つを含み、かつ、１３３．３から１３３３Ｐａの範囲の圧力に維持される方法。
【請求項１５】
前記評価するステップは、前記コンテナ内の識別された異なる元素の比を決定することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記比は、水素、炭素、窒素、及び酸素の２以上の比として計算される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記評価するステップは、前記コンテナ内の特殊核物質を識別するべく核分裂事象を検出することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記照射するステップは、設定持続時間の中性子束を与えることを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
前記設定持続時間は１０秒未満である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記検出するステップは、前記中性子束が与えられない間に行われる、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記検出するステップは５秒未満の間行われる、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記検出するステップは、特殊核物質を識別することを目的として遅発中性子を検出することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２３】
評価するステップは、特殊核物質を識別することを目的として時間差消滅評価を使用することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２４】
前記検出するステップは、熱中性子から遮蔽された中性子検出器を使用する、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記照射するステップは前記中性子源をパルスにすることを含み、前記検出するステップは前記照射するステップの後に開始される、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記検出するステップはガンマ線検出器を使用し、前記評価するステップは、前記物質を識別するべくガンマ線シグネチャを評価することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２７】
貨物専用コンテナの内容物を検査する装置であって、
中性子源と、
放射線検出器と
を含み、
前記中性子源は、前記コンテナ内に中性子束を送達するべく構成され、
前記放射線検出器は、前記コンテナ内への前記中性子束の送達に引き続き前記コンテナから出る放射線を検出するべく構成され、
前記中性子源及び放射線検出器は、船舶から貨物専用コンテナを降ろすべく構成されたクレーンに接続される装置。
【請求項２８】
前記中性子源は、
ジュウテリウム又はトリチウムイオンを与えるべく構成されたイオン源と、
ジュウテリウム又はトリチウムの少なくとも一つを含む標的に向けて前記イオンを加速するべく構成された加速器と
を含む、請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記標的は標的ガスを保持する標的チャンバを含み、
前記標的ガスは１３３．３から１３３３Ｐａの範囲の圧力に維持される、請求項２８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月6日(2013.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイパネルアセンブリであって、
ディスプレイパネルと、
実質的に透明な基材と、
前記ディスプレイパネルと前記実質的に透明な光学基材との間に配置された光学結合層であって、前記光学結合層が第１領域及び該第１領域を実質的に包囲する第２領域を含み、
前記第２領域が、脂肪族不飽和を含む第１のケイ素含有樹脂と、ケイ素結合水素を含む第２のケイ素含有樹脂とのヒドロシリル化によって形成された第２の硬化ケイ素含有樹脂を含み、
前記第２領域の硬度が前記第１領域の硬度より大きい、光学結合層と、を含む、ディスプレイパネルアセンブリ。
【請求項２】
ディスプレイパネルアセンブリであって、
ディスプレイパネルと、
実質的に透明な基材と、
前記ディスプレイパネルと前記実質的に透明な光学基材との間に配置された光学結合層であって、前記光学結合層が第１領域及び前記第１領域を実質的に包囲する第２領域を含み、
前記第２領域が、脂肪族不飽和を含む第１のケイ素含有樹脂と、ケイ素結合水素を含む第２のケイ素含有樹脂とのヒドロシリル化によって形成された第２の硬化ケイ素含有樹脂を含み、
前記第１領域が粘着性であり、前記第２領域が粘着性ではない、光学結合層と、を含む、ディスプレイパネルアセンブリ。
【請求項３】
光学結合の方法であって、
第１及び第２光学基材を提供する工程と、
第１のケイ素含有樹脂を含む第１組成物を提供する工程であって、前記第１のケイ素含有樹脂が、０．０１〜２の第１モル比で存在するケイ素結合水素と脂肪族不飽和とを含む、工程と、
第２のケイ素含有樹脂を含む第２組成物を提供する工程であって、前記第２のケイ素含有樹脂が、２〜１００の第２モル比で存在するケイ素結合水素と脂肪族不飽和とを含み、前記第１組成物及び／又は前記第２組成物が金属触媒を含む、工程と、
前記第１光学基材の第１主表面上に前記第１組成物を分配する工程と、
前記第１主表面上に前記第２組成物を分配する工程と、
前記第２光学基材の第２主表面を、前記第１主表面上に分配された前記第１組成物及び／又は前記第２組成物と接触させることにより、前記第１主表面と前記第２主表面との間に前記第１組成物及び前記第２組成物を含む硬化性層を形成する工程と、
前記硬化性層を硬化させて、第１及び第２領域を有する光学結合層を形成する工程であって、前記第２領域の硬度が前記第１領域の硬度よりも大きい、工程と、を含む、方法。
【請求項４】
光学結合の方法であって、
第１及び第２光学基材を提供する工程と、
第１のケイ素含有樹脂を含む第１組成物を提供する工程であって、前記第１のケイ素含有樹脂が、０．０１〜２の第１モル比で存在するケイ素結合水素と脂肪族不飽和とを含む、工程と、
第２のケイ素含有樹脂を含む第２組成物を提供する工程であって、前記第２のケイ素含有樹脂がケイ素結合水素を含み、脂肪族不飽和を含まず、前記第１組成物及び／又は第２組成物が金属触媒を含む、工程と、
前記第１光学基材の第１主表面上に前記第１組成物を分配する工程と、
前記第１主表面上に前記第２組成物を分配する工程と、
前記第２光学基材の第２主表面を、前記第１主表面上に分配された前記第１組成物及び／又は前記第２組成物と接触させることにより、前記第１主表面と前記第２主表面との間に前記第１組成物及び前記第２組成物を含む硬化性層を形成する工程と、
前記硬化性層を硬化させて、第１及び第２領域を有する光学結合層を形成する工程であって、前記第２領域の硬度が前記第１領域の硬度よりも大きい、工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月9日(2013.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイパネルアセンブリであって、
ディスプレイパネルと、
実質的に透明な基材と、
前記ディスプレイパネルと前記実質的に透明な光学基材との間に配置された光学結合層であって、前記光学結合層が第１領域及び該第１領域を実質的に包囲する第２領域を含み、該第２領域の硬度が前記第１領域の硬度よりも大きい、光学結合層と、を含む、ディスプレイパネルアセンブリ。
【請求項２】
ディスプレイパネルアセンブリであって、
ディスプレイパネルと、
実質的に透明な基材と、
前記ディスプレイパネルと前記実質的に透明な光学基材との間に配置された硬化性層であって、該硬化性層が第１組成物及び該第１組成物を実質的に包囲する第２組成物を含み、該第２組成物の粘度が前記第１組成物の粘度未満である、硬化性層と、を含む、ディスプレイパネルアセンブリ。
【請求項３】
前記第２組成物の粘度が第１組成物の粘度の１０倍未満である、請求項２に記載のディスプレイパネルアセンブリ。
【請求項４】
光学結合の方法であって、
ディスプレイパネル及び実質的に透明な光学基材を提供する工程と、
少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有する第１のエチレン性不飽和化合物を含む第１組成物を提供する工程と、
少なくとも２つのエチレン性不飽和基を有する第２のエチレン性不飽和化合物を含む第２組成物を提供する工程であって、前記第１組成物及び／又は前記第２組成物が触媒を含む、工程と、
前記第２組成物が前記第１組成物を実質的に包囲するように、前記第１組成物及び前記第２組成物を前記ディスプレイパネルの第１主表面上に分配する工程と、
前記実質的に透明な光学基材の第２主表面を、前記ディスプレイパネルの前記第１主表面上に分配された前記第１組成物及び／又は前記第２組成物と接触させて、これによって前記第１主表面と前記第２主表面との間に前記第１組成物及び前記第２組成物を含む硬化性層が形成される、工程と、
前記硬化性層を硬化させて、第１領域及び前記第１領域を実質的に包囲する第２領域を含む光学結合層を形成する工程であって、前記第２領域の硬度が、前記第１領域の硬度より大きい、工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月19日(2013.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バイオマスの処理のための反応器であって、
この反応器は、上方部分および下方部分を有する槽を含み、
上方部分は、（ｉ）バイオマスを受け入れるために適合され、かつ加圧気体を介してバイオマスを加圧および加熱するのに適合されており、（ｉｉ）少なくとも一つの上方壁によって規定されており、
下方部分は、（ｉ）加圧されたバイオマスを受け入れるために適合され、かつ過剰の液体または自由液体なしでバイオマスの加水分解または自動加水分解を促進するために適合されており、（ｉｉ）耐食材料を含む少なくとも一つの下方壁を含み、（ｉｉｉ）輸送液体なしでバイオマスを輸送するよう構成されており、
圧力筒状部（ｅｎｖｅｌｏｐｅ）が槽の外壁と少なくとも一つの下方壁との間に形成されており、
槽の上方部分と圧力筒状部は加圧ラインで操作上で（ｏｐｅｒａｔｉｖｅｌｙ）連結されているので圧力筒状部の圧力と上方部分の圧力とが等しくなっている、
バイオマスの処理のための反応器。
【請求項２】
下方部分が外部の撹拌または回転なしにバイオマスを輸送するように構成されている請求項１に記載の反応器。
【請求項３】
耐食材料がステンレススチール、チタニウム、ジルコニウム、耐食合金、セラミックコーティング、ポリテトラフルオロエチレンライニングまたはそれらの組合せを含む請求項１に記載の反応器。
【請求項４】
加圧気体が水蒸気である場合に、上方部分が約５〜２５バールの圧力までバイオマスを加圧するのに適合している請求項１に記載の反応器。
【請求項５】
加圧気体がアンモニアである場合に、上方部分が約６０パールの圧力までバイオマスを加圧するのに適合している請求項１に記載の反応器。
【請求項６】
上方部分がカーボンスチールからなる請求項１に記載の反応器。
【請求項７】
バイオマス原料を加水分解する方法であって、
上方部分と下方部分とを有する槽にバイオマス原料を供給する工程、
加圧用媒体を使用して上方部分のバイオマスを加圧する工程、
過剰な液体または自由液体なしに加水分解反応または自動加水分解反応が起こる下方部分へ加圧されたバイオマスを輸送する工程、
輸送液体の導入なしで下方部分から加水分解されたバイオマスを輸送する工程を含み、
圧力筒状部が槽の外壁と下方部分の少なくとも一つの壁との間に形成されており、
圧力筒状部と槽の上方部分とを連結する加圧ラインを介して、圧力筒状部の圧力と上方部分の圧力とを等しくする、
バイオマス原料を加水分解する方法。
【請求項８】
バイオマス原料を供給する工程が連続的に行われる請求項７に記載の方法。
【請求項９】
バイオマス原料を供給する工程がバッチ式プロセスで行われる請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
加圧用媒体がアンモニアを含み、上方部分でバイオマスを加圧する工程が約６０バールまでの圧力となる請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
加圧用媒体が水蒸気を含み、上方部分でバイオマスを加圧する工程が約５〜２５バールの圧力となる請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
下方部分から加水分解されたバイオマスを輸送する工程が、外部の撹拌または回転なしにさらに起こる請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
加水分解反応が硫酸、塩酸、フッ酸、リン酸またはそれらの組合せの添加で起こる請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
加水分解反応が酢酸、ギ酸またはそれらの組合せの添加で起こる請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
加水分解反応が硫酸の添加で起こる請求項７に記載の方法。
【請求項１６】
バイオマスが木材、草またはそれらの組合せを含む請求項７に記載の方法。
【請求項１７】
重力を介して槽にバイオマスを供給する工程をさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項１８】
スクリューコンベヤーまたはコンベヤーベルトを介して槽にバイオマスを供給する工程をさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項１９】
熱源を供給するために圧力筒状部内の凝縮液のレベルを維持することをさらに含む請求項７に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年4月15日(2014.4.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
デジタルセンサシステムを使用する際に不利であるのは、静止状態においてロータのおおよその位置しか推測できないことである。回転数が極めて低い場合、２つのデジタルセンサ信号間の時間間隔に起因して、ロータ位置を十分に推測することができず、良好な電流閉ループ制御および回転トルク電流閉ループ制御を行うことができない。このことは殊に動的な加速過程の場合に当てはまることである。これにより、ロータ位置を求めるためにデジタルセンサシステムを快適かつ許容可能に使用することは、車両のホイールと電気機械との間にハイドロリックトルクコンバータまたはスリップクラッチを有するパワートレインの場合にだけ可能になることになってしまうのである。殊にホイールに対する電気機械の変速比が低いドライブトレインにおいて、今日存在する制御の問題は、トルクジャークおよびノイズ形成の形態で極めて知覚され得るのである。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
図２には本発明の第１実施例がブロック図で示されている。車両停止状態から出発して、同期機械のコントロールされた始動および安定した制御動作への移行が以下に説明する方法によって可能になる。ロータの位置は、静止状態において比較的低い精度でしかわからない。ロータを所定の出発位置に設定しかつ安定領域での動作を保証するため、ステータ電流をまず、選択した最大値にする。これによってロータは、このスタータ電流によって形成される磁場方向を向く。従来の信号評価からは、この段階では信頼性の高いロータ位置情報はわからない。一般的にデジタルセンサシステムは、約１００回転／分の回転数になってはじめて、ロータ位置を満足のいく精度で計算するのに十分な信号を供給し、慣用のベクトル制御式の回転トルク閉ループ制御動作に移行する。設定回転トルクM＿V1が設定されている場合、本発明では第１ステップ２０１において同期機械１０１を設定回転トルクM＿V1よりも高い回転トルクM＿H1で始動させる。比較的高いこの回転トルクM＿H1により、回転数は最初のうち一層迅速に増大し、これによってドライブトレインにおけるあそびないしは緩みを克服しかつ変速機および駆動軸におけるパワートレインコンポーネントの弾性を可能な限りに迅速に補償して回転トルクをホイールに伝達する。上記の比較的高い回転トルクM＿H1により、結果的に得られる回転数経過を設定して、パワートレインに力がかかった状態にある間に機械的な振動が励起されないようにする。引き続き、第２ステップ２０２において上記の比較的高い回転トルクM＿H1を設定回転トルクM＿V1に減少させる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
図３には本発明の第２実施例がブロック図で示されている。以下に説明する方法により、車両停止状態から出発して、同期機械のコントロールされた始動および安定した制御動作への移行が可能になる。ロータの位置は、静止状態において比較的低い精度でしかわからない。ロータを所定の出発位置に設定しかつ安定領域での動作を保証するため、ステータ電流をまず、選択した最大値にする。これによってロータは、このスタータ電流によって形成される磁場方向を向く。従来の信号評価からは、この段階では信頼性の高いロータ位置情報はわからない。複数または例えば３つのホールセンサを使用する、位置検出装置としてのデジタルセンサは、一般的に約１００回転／分の回転数になってはじめて、ロータ位置を満足のいく精度で計算するのに十分な信号を供給して、慣用のベクトル制御式の回転トルク閉ループ制御動作に移行する。設定回転トルクM＿V1が設定されている場合、本発明では第１ステップ３０１において同期機械１０１を設定回転トルクM＿V1よりも高い回転トルクM＿H1で始動する。比較的高いこの回転トルクM＿H1により、回転数は最初のうち一層迅速に増大し、これによってドライブトレインにおけるあそびないしは緩みを克服しかつ変速機および駆動軸におけるパワートレインコンポーネントの弾性を可能な限りに迅速に補償して回転トルクをホイールに伝達する。比較的高いこの回転トルクM＿H1により、結果的に得られる回転数経過を設定して、パワートレインに力がかかった状態にある間に機械的な振動が励起されないようにする。第２ステップ３０２では比較的高いこの回転トルクM＿H1を、設定回転トルクM＿V1よりも小さい正の値M＿H1aに減少させる。引き続き、第３のステップ３０３ではこの回転トルクM＿H1aを設定回転トルクM＿V1に増大させる。