(57)【要約】【課題】分解能、特に描画面に対する副走査方向の分解能の切り替えの自動化を可能にすることにより、操作者が作業する工程と人件費を削減でき、製品や部品の短納期化およびコストダウンを図ることができるレーザ直描装置を提供する。【解決手段】描画面に対して主走査方向にビームを偏向させつつ、描画面を副走査方向に移動させて、描画面上に所望のパターンを描画するレーザ直描装置において、レーザ直描装置は、分解能を設定する分解能設定手段と、描画面での分解能をモニタするモニタ手段と、モニタ手段によるモニタ結果により、分解能設定手段を制御する制御手段とを有する。【選択図】　　　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画面に対して主走査方向にビームを偏向させつつ、前記描画面を副走査方向に移動させて、前記描画面上に所望のパターンを描画するレーザ直描装置において、
前記レーザ直描装置は、分解能を設定する分解能設定手段と、
前記描画面での分解能をモニタするモニタ手段と、
前記モニタ手段によるモニタ結果により、前記分解能設定手段を制御する制御手段と、を有すること、を特徴とするレーザ直描装置。
【請求項２】
前記分解能設定手段は、操作者が所望の分解能を設定できる入力部を有し、
前記制御手段は、前記入力部に入力された分解能に応じて、前記分解能設定手段を制御すること、を特徴とする請求項１に記載のレーザ直描装置。
【請求項３】
前記レーザ直描装置は、前記ビームを前記描画面上に導く光学系を有し、
前記分解能設定手段は、前記光学系の一部を光軸中心に回転駆動させる駆動手段と、
一本のビームを一列に配列された複数のビームに分割するビーム分割手段と、を有し、
前記光学系の一部を光軸中心に回転駆動させて、一列に配列された複数の前記ビームの傾きを変化させることにより、分解能を設定すること、を特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載のレーザ直描装置。
【請求項４】
前記レーザ直描装置は、通過する光束を光軸中心に回転させる回転手段を有し、
前記光学系の一部は、前記回転手段であること、を特徴とする請求項３に記載のレーザ直描装置。
【請求項５】
前記光学系の一部は、前記ビーム分割手段であること、を特徴とする請求項３に記載のレーザ直描装置。
【請求項６】
前記レーザ直描装置は、通過する光束を光軸中心に回転させる回転手段を有し、
前記光学系の一部は、前記回転手段と、
前記ビーム分割手段と、であること、を特徴とする請求項３に記載のレーザ直描装置。
【請求項７】
前記モニタ手段は、前記描画面上と共役の位置に配設された固体撮像素子を有すること、を特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載のレーザ直描装置。
【請求項８】
前記モニタ手段は、前記固体撮像素子が受光した一列に配列された複数の前記ビームの両端のビームの副走査方向の間隔をモニタすること、を特徴とする請求項７に記載のレーザ直描装置。
【請求項９】
前記レーザ直描装置は、前記描画面を副走査方向に移動させる描画テーブルを有し、
前記制御手段は、設定された分解能に応じて、前記描画テーブルの副走査方向の移動速度を変化させること、を特徴とする請求項１〜請求項８のいずれかに記載のレーザ直描装置。
【請求項１０】
前記レーザ直描装置は、前記描画面に対して前記ビームを偏向させ、回転することによって前記ビームを主走査方向に走査させるポリゴンミラーを有し、
前記制御手段は、設定された分解能に応じて、前記ポリゴンミラーの回転数を変化させること、を特徴とする請求項１〜請求項８のいずれかに記載のレーザ直描装置。
【請求項１１】
前記レーザ直描装置は、前記ビームの出力を調整するビーム調整手段を有し、
前記制御手段は、設定された分解能に応じて、前記ビーム調整手段を制御すること、を特徴とする請求項１〜請求項８のいずれかに記載のレーザ直描装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、描画面に対して主走査方向にレーザビームを偏向させつつ、描画面を副走査方向に移動させて、描画面上に所望のパターンを描画するレーザ直描装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レーザ描画装置の主な用途としては、基板上のフォトレジスト層にレーザビームを露光させて、回路パターンを生成することなどが挙げられる。描画方式としては、描画面に対して主走査方向にレーザビームを偏向させつつ、描画面を副走査方向に移動させることにより、描画面上に所望のパターンを描画する方式などがある。マスクを用いて露光を行うマスク露光装置と比較すると、このレーザ描画装置は、マスク不要によるプロセスレス、ランニングコストのダウンなどのメリットがあり、近年広く普及している。
【０００３】
また近年、製品や部品などの短納期化、コストダウンなどの要求が高まるにつれて、製造ラインの高速化、自動化などが求められている。製造ラインの高速化には、マルチビームで描画面上にパターンを描画するように構成し、露光処理を高速化し、製造ラインの自動化には、自動基板供給装置などの外部装置との連携を可能にし、自動化を図っているものもある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したレーザ描画装置は、操作者の作業を必要とする工程が種々あり、例えば分解能、特に描画面に対する副走査方向の分解能は、その設定を変更するために操作者が手動で調節を行い、分解能を設定している。そのため、マルチビームを用いて露光処理の高速化を図った場合でも、前述の手動作業などに時間が掛かってしまい、製造ラインの高速化は達成困難となってしまう。また、この作業による人件費も掛かってしまい、コストダウンも達成困難となってしまう。
【０００５】
そこで、本発明は上記の事情に鑑み、レーザ描画装置において、分解能、特に描画面に対する副走査方向の分解能の切り替えの自動化を可能にすることにより、操作者が作業する工程と人件費を削減でき、製品や部品の短納期化およびコストダウンを図ることができるレーザ直描装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を達成するため、請求項１に記載のレーザ直描装置は、描画面に対して主走査方向にビームを偏向させつつ、描画面を副走査方向に移動させて、描画面上に所望のパターンを描画するレーザ直描装置において、レーザ直描装置は、分解能を設定する分解能設定手段と、描画面での分解能をモニタするモニタ手段と、モニタ手段によるモニタ結果により、分解能設定手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする。このようにレーザ直描装置を構成すると、分解能の切り替えが自動化できるため、操作者が作業する工程と人件費が削減でき、製品や部品の短納期化およびコストダウンを図ることができる。
【０００７】
また、請求項２に記載のレーザ直描装置は、分解能設定手段は、操作者が所望の分解能を設定できる入力部を有し、制御手段は、入力部に入力された分解能に応じて、分解能設定手段を制御することを特徴とする。このようにレーザ直描装置を構成すると、操作者はワークステーションなどにインプットするだけで分解能が設定できるため、分解能の切り替えが自動化でき、操作者が作業する工程と人件費が削減でき、製品や部品の短納期化およびコストダウンを図ることができる。
【０００８】
また、請求項３に記載のレーザ直描装置は、ビームを描画面上に導く光学系を有し、分解能設定手段は、光学系の一部を光軸中心に回転駆動させる駆動手段と、一本のビームを一列に配列された複数のビームに分割するビーム分割手段とを有し、光学系の一部を光軸中心に回転駆動させて、一列に配列された複数のビームの傾きを変化させることにより、分解能を設定することを特徴とする。このように光学系の一部を光軸中心に回転駆動させ、その光学系の回転に伴いビーム列も回転するように構成すると、構成が簡略化でき、小型化、コストダウンを図ることができる。
【０００９】
また、請求項４に記載のレーザ直描装置は、通過する光束を光軸中心に回転させる回転手段を有し、光学系の一部は、回転手段であることを特徴とする。このようにレーザ直描装置を構成することにより、分解能の切り替えにおいて、回転角に制限がない回転手段を用いることができるため、あらゆる分解能を設定することができる。
【００１０】
また、請求項５に記載のレーザ直描装置は、光学系の一部は、ビーム分割手段であることを特徴とする。このようにレーザ直描装置を構成することにより、ビーム分割手段を分解能の切り替えに用いることができるため、構成が簡略化でき、小型化、コストダウンを図ることができる。
【００１１】
また、請求項６に記載のレーザ直描装置は、通過する光束を光軸中心に回転させる回転手段を有し、光学系の一部は、回転手段と、ビーム分割手段とであることを特徴とする。このようにレーザ直描装置の分解能の切り替えに、回転手段とビーム分割手段の両方を用いて行うハイブリット方式に構成することで、より高い分解能が達成可能となる。
【００１２】
また、請求項７に記載のレーザ直描装置は、モニタ手段は、描画面上と共役の位置に配設された固体撮像素子を有することを特徴とする。このようにレーザ直描装置を構成することにより、ビーム位置の検知を画像処理で行うことができる。
【００１３】
また、請求項８に記載のレーザ直描装置は、モニタ手段は、固体撮像素子が受光した一列に配列された複数のビームの両端のビームの副走査方向の間隔をモニタすることを特徴とする。このようにレーザ直描装置を構成することにより、制御部は分解能の自動切り替えにおいて、安定した制御を行うことができる。
【００１４】
また、請求項９に記載のレーザ直描装置は、描画面を副走査方向に移動させる描画テーブルを有し、制御手段は、設定された分解能に応じて、描画テーブルの副走査方向の移動速度を変化させることを特徴とする。このようにレーザ直描装置を構成することにより、描画面に走査されるビームの分解能を常に一定に保つことができる。
【００１５】
また、請求項１０に記載のレーザ直描装置は、描画面に対してビームを偏向させ、回転することによってビームを主走査方向に走査させるポリゴンミラーを有し、制御手段は、設定された分解能に応じて、ポリゴンミラーの回転数を変化させることを特徴とする。このようにレーザ直描装置を構成することにより、描画面に走査されるビームの分解能を常に一定に保つことができる。
【００１６】
また、請求項１１に記載のレーザ直描装置は、レーザ直描装置は、ビームの出力を調整するビーム調整手段を有し、制御手段は、設定された分解能に応じて、ビーム調整手段を制御することを特徴とする。このようにレーザ直描装置を構成することにより、描画面に走査されるビームの露光エネルギーを常に一定に保つことができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施形態のレーザ直描装置１００の概略構成を示す斜視図である。レーザ直描装置１００は、床面上に据え付けられる基台１０を有し、基台１０上に設置される各部品により構成されている。基台１０上には一対のレール２０が設けられている。この一対のレール２０上には、Ｘテーブル２１が設けられている。また、Ｘテーブル２１上にはθテーブル２２が設けられ、さらにθテーブル２２上には描画テーブル２３が設けられている。描画テーブル２３上にはレーザ直描装置１００により回路パターンが描画されるフォトレジスト層を有する基板２００が、外部装置により搬送され、描画テーブル２３上に複数個並べられる。
【００１８】
Ｘテーブル２１は、図示しないステッピングモータ２１ａと接続され、このモータにより一対のレール２０上を、副走査方向（図１中の両矢印方向）に沿って移動される。また、Ｘテーブル２１の移動に伴い、θテーブル２２と描画テーブル２３も副走査方向に移動される。
【００１９】
固定テーブル３０は、基台１０上に設けられている。固定テーブル３０内には後述する光学系５０が設けられ、この光学系５０は描画テーブル２３に向けて、描画テーブル２３の主走査方向（Ｙ方向）に対して略平行な方向に走査する走査ビームを照射させる。この時描画テーブル２３は、上述した副走査方向の移動を行い、その移動に伴い基板２００も移動される。主走査方向に対して略平行に走査ビームが照射されている間、基板２００は、この光学系５０に対して副走査方向（Ｘ方向）に移動するため、基板２００上のフォトレジスト層には、所望の回路パターンの全体が描画される。
【００２０】
図２は、本発明の第１の実施形態の光学系５０の構成を示す図である。光学系５０は、アルゴンレーザ発振器５１と、ＤＢＳ（Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｖｅ　Ｂｅａｍ　Ｓｅｐａｒａｔｏｒ）５２と、コリメートレンズ５３と、音響光学素子５４と、ローテータ５５と、ポリゴンミラー５６と、ｆθレンズ５７から構成されている。
【００２１】
アルゴンレーザ発振器５１は水冷式で、出力は１．８Ｗであり、４８８ｎｍの波長を有するレーザを発振する。アルゴンレーザ発振器５１により発振されたビームは、ＤＢＳ５２に入射される。
【００２２】
ＤＢＳ５２は、透明な樹脂材料、または硝材で形成されており、入射光を回折させて複数の光束に分割する透過型のグレーティング型光束分割素子である。ＤＢＳ５２は、高い回折効率で入射光を分割することが可能で、本発明の実施形態において、ＤＢＳ５２に入射したビームは１７本の列状の光束に分割される。ただし、偶数本の光束の方が、データとして扱いやすいため、本発明の実施形態においては、高次光の光束のうち１本は使用しないものとする。そのため、実際に使用する光束は１６本となる。ＤＢＳ５２に分割された光束は、１６本の光束としてコリメートレンズ５３に入射される。なお、図には一部の光束のみを示す。
【００２３】
コリメートレンズ５３は、ＤＢＳ５２から射出された１６本の光束を平行光に変換する。この平行光に変換された１６本の光束は、音響光学素子５４に入射する。
【００２４】
音響光学素子５４は、所定の媒体内にビームと音響波が存在する時、全ての光学媒体において、音響光学効果が起こることを利用した素子で、コリメートレンズ５３から射出された１６本の光束を、超音波の発生の有無によって、回折させる。超音波の発生の有無は、ＣＰＵ８０が制御する。ＣＰＵ８０は操作者によって与えられたパターン描画のデータに基づいて制御を行う。この音響光学素子５４では、描画を行うビームは回折され、描画を行わないビームは回折されない。音響光学素子５４によって回折された各光束は、ローテータ５５に導かれる。また、音響光学素子５４に回折されなかった各光束は、音響光学素子５４を透過した後、固定テーブル３０の内壁や遮光板などに吸収される。
【００２５】
ローテータ５５は、台形プリズムと平行平面板を有する光学素子で、ステッピングモータ７０の駆動によって光軸中心に回転するよう構成される。音響光学素子５４から射出された各光束は、列状に並べられている。ローテータ５５が光軸中心に回転駆動すると、そのビーム列が有する傾きはローテータ５５の回転に伴い変化する。このローテータ５５の回転は、後述するＣＰＵ８０の制御によって行われる。ローテータ５５によって回転されたビーム列は、ポリゴンミラー５６に導かれる。
【００２６】
ポリゴンミラー５６は、回転軸周りに６つの反射面を、それぞれの反射面が回転中心から等距離に位置するように備え、図示しないモータによって回転軸中心に図中反時計回りに回転駆動される。ローテータ５５から射出されたビーム列は、ポリゴンミラー５６の回転中心に向けて照射され、これらの反射面によって反射し、偏向される。反射し、偏向されたビーム列は、ｆθレンズ５７に入射する。ポリゴンミラー５６の回転速度と音響光学素子５４による変調のタイミングによって、描画パターンの主走査方向の分解能が決定する。
【００２７】
ｆθレンズ５７は、ポリゴンミラー５６によって反射し、偏向されたビーム列の主走査方向の走査速度を一定にする素子である。ビーム列はこのｆθレンズ５７によって収束され、図示しないミラーやレンズを介して、描画テーブル２３に導かれる。そして、このビーム列によって描画テーブル２３上に並べられた複数の基板２００に、１６本の走査ラインが同時に形成され、所望の回路パターン２００ａが描画される。
【００２８】
図３は、描画テーブル２３とＣＣＤ６０との位置関係を示す図である。図３に示すようにＣＣＤ６０は、描画テーブル２３の主走査方向の側辺に、ＣＣＤ６０の受光面６０ａと描画テーブル２３の描画平面が、同一の高さを有するように、固定支持されている。このことは、両者が光学系５０に対して共役の位置に配置されていることを意味する。ＣＣＤ６０は、描画テーブル２３に導かれたビーム列の走査間隔を、後述する検知方法によって検知するためのビーム間隔検知用のＣＣＤとして使用される。
【００２９】
図４は、描画位置におけるビーム配列を示す図である。描画テーブル２３に投影されるビーム列は、主走査方向（Ｙ方向）に対して平行ではなく、微少な傾きＤを有する。この傾きＤを増減させると、副走査方向におけるビーム間隔Δｄ（すなわち、走査線間隔）が変化する。つまり、傾きＤの増減によって副走査方向の分解能は変化する。傾きＤの回転中心は、光軸ビーム１５０と一致させる。また、ローテータ５５の回転軸と光軸ビーム１５０も同様に一致するよう光学調整を行う。このように光学調整を行うことによって、描画テーブル２３上のビーム列の傾きＤとローテータ５５の回転角が、等価の関係となる。なおこの時、１６本の走査線により描画される副走査領域の方向の長さが変化するため、これに合わせて描画テーブル２３の副走査方向の移動速度を変える。以下に、描画テーブル２３の副走査方向の移動速度について説明する。
【００３０】
図３に、最初に走査した１６本の走査線により描画された描画パターン２１０と、描画パターン２１０の次に走査した１６本の走査線により描画された描画パターン２２０を示す。描画パターン２１０の１ラインの走査線毎のビーム間隔をｄ１とする。また、描画パターン２１０と、描画パターン２２０とのビーム間隔、すなわち描画パターン２１０において描画パターン２２０に最も近い走査線と、描画パターン２２０において描画パターン２１０に最も近い走査線とのビーム間隔をｄ２とする。分解能は、描画面上において、常に一定である必要があるため、ＣＰＵ８０は、どのような分解能に設定された場合でも、ｄ１とｄ２が等しくなるように、描画テーブル２３の副走査方向の移動速度を設定する。つまり、描画パターン２１０の走査開始から描画パターン２２０の走査開始までの間に描画テーブル２３は、副走査方向に１６×ｄ１の距離分だけ移動するような速度に設定される。
【００３１】
図５は、本発明の実施形態における副走査方向の分解能を設定するフローチャートである。以下に、このフローチャートの説明を示す。まず操作者が、ワークステーションなどを操作することによって、基板２００に描画される回路パターンの描画分解能が設定される（Ｓ１）。ＣＰＵ８０は、ＣＰＵ８０が有する図示しないデータテーブルから、この分解能に対応するデータを読み出し、設定された分解能に応じた、描画テーブル２３の副走査方向の移動速度を設定する（Ｓ２）。ローテータ５５が光軸中心に時計方向、または半時計方向に回転する（Ｓ３）。この回転によって描画テーブル２３上のビーム列の傾きＤが変化し、副走査方向のビーム間隔Δｄも変化する。ビーム間隔ΔｄをＣＣＤ６０によって検知する。この検知結果のΔｄが設定された分解能の公差内に収まる値になれば、処理を終了する。検知結果のΔｄが設定された分解能の公差から外れた値であれば、再びローテータ５５を回転させる（Ｓ４）。ＣＰＵ８０は、このビーム間隔Δｄが、設定された分解能のレベルに到達するまで、ローテータ５５を回転させるクローズドループを繰り返す。
【００３２】
なお、本発明の実施形態において、設定できる分解能は２．５、５．０、１０．０μｍとなっている。ただし、この実施形態のように、分解能の変更にローテータ５５を使用する場合は、ローテータ５５に回転角度の制約がないため、より多くの分解能を設定することもできる。
【００３３】
次に、ＣＣＤ６０を用いたビーム列の走査間隔を検知する検知方法を説明する。上述したようにＣＣＤ６０の受光面６０ａと描画テーブル２３の描画平面は、光学的に等価な位置に配置されており、この受光面６０ａにｎ本のビームを有するビーム列の両端のビームだけを走査させる。そして、得られた両ビーム間の線像の間隔を画像処理装置により計測し、得られた値からビーム間隔Δｄを算出する。この計測方法の場合、両端のビームの間隔を計測しているため、各ビームの間隔が平均化された値を算出することができ、安定した判定を行うことができる。図６は、その両端のビームだけを走査させた場合のＣＣＤ６０の画像を示す図である。円内部がＣＣＤの視野で、ハッチングされたラインが両端のビームの走査光の線像である。
【００３４】
図７は、本発明の第２の実施形態の光学系５０ａの構成を示す図である。なお、光学系５０ａにおいて、図２で示す第１の実施形態の光学系５０と同一の構成には、同一の符号を付してここでの詳細な説明は省略する。この実施形態において分解能の変更は、ローテータではなくＤＢＳ５２を回転させて行う。
【００３５】
ＤＢＳ５２は、ステッピングモータ７０ａの駆動によって光軸中心に回転するよう構成され、その回転軸と図４に示す光軸ビーム１５０が一致するよう光学調整される。このように光学調整を行うことによって、描画テーブル２３上のビーム列の傾きＤとＤＢＳ５２の回転角が、等価の関係となる。ステッピングモータ７０ａは、ＣＰＵ８０によって、第１の実施形態のステッピングモータ７０と同様に制御をされる。
【００３６】
音響光学素子５４は１６個のチャンネルを有する。この各チャンネルは、ＤＢＳ５２によって生成されたビーム列と同等の配列、および間隔で構成されている。各チャンネルには、各ビームが回折するための回折有効範囲があり、この回折有効範囲は各ビーム径よりも大きく構成されている。ＤＢＳ５２が回転すると、各ビームはその回転分シフトして、各チャンネルに入射する。この時各チャンネルに入射したビームが回折有効範囲から出てしまうと、回折ロスが発生してしまい、光量不足によって正確な回路パターン２００ａが描画できなくなる。そのため、ＤＢＳ５２の回転角の範囲は、各ビームが回折有効範囲から出ないような範囲になる。
【００３７】
本発明の第２の実施形態においては、分解能の変更にＤＢＳ５２を使用することで、部品の削減を図っている。そのため、この実施形態では、小型化やコストダウンを図ることができる。
【００３８】
以上が本発明の実施形態である。本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく様々な範囲で変形が可能である。
【００３９】
上記実施形態は、ローテータ５５またはＤＢＳ５２のいずれか１つを回転させて、分解能の変更を行っていたが、ローテータ５５とＤＢＳ５２の両方を回転させて、分解能の変更を行ってもよい。この場合、上記実施形態では実現できない高分解能を達成することができる。例えば、ローテータ５５を駆動するステッピングモータ７０と、ＤＢＳ５２を駆動するステッピングモータ７０ａとの停止角度の位相をずらしたり、各ステッピングモータのステップ角を異なった角度にしたりすることにより、その差分を利用することで、高分解能を得ることができる。
【００４０】
上記実施形態は、操作者によって設定された分解能に応じて、描画テーブル２３の副走査方向の移動速度を設定しているが、ポリゴンミラー５６の回転数を設定された分解能に応じて設定してもよい。ポリゴンミラー５６は、描画テーブル２３に比べて重量が軽いため、モータにかかる負荷が小さい。そのため、ステッピングモータ２１ａの回転速度を増加させて、描画テーブル２３の移動速度を速くするより、ポリゴンミラー５６のモータの回転速度を増加させて、ポリゴンミラー５６の回転数を速くするほうが、装置全体として、モータなどの駆動機構の小型化や、コストダウンを図ることができる。また、アルゴンレーザ発振器５１の光源出力などを設定された分解能に応じて設定してもよい。また、レジスト材の感度を分解能の設定に応じて選択してもよい。この場合は、描画パターンが描画されるレジスト材の材料を分解能の設定に応じて選択すればよく、モータや光源を分解能の設定に応じて変更しなくてもよい。
【００４１】
【発明の効果】
以上のように本発明のレーザ直描装置は、光学系の一部を光軸中心に回転駆動させ、その光学系の回転に伴い回転する描画面上のビーム間隔をモニタし、駆動手段を駆動制御するように構成した。そのため、分解能を切り替える工程が自動化され、操作者が作業する工程と人件費が削減でき、製品や部品の短納期化およびコストダウンが実現可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態のレーザ直描装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の光学系の構成を示す図である。
【図３】本発明の実施形態の描画テーブルとＣＣＤとの位置関係を示す図である。
【図４】本発明の実施形態の描画位置におけるビーム配列を示す図である。
【図５】本発明の実施形態における副走査方向の分解能を設定するフローチャートである。
【図６】本発明の実施形態のビーム間隔検出用ＣＣＤによるビーム間隔検知方法の説明図である。
【図７】本発明の第２の実施形態の光学系の構成を示す図である。
【符号の説明】
１０　基台
５０　固定テーブル
５２　ＤＢＳ
５５　ローテータ
６０　ＣＣＤ
８０　ＣＰＵ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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