【手続補正書】
【提出日】平成23年12月22日(2011.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担体上に配置される１次触媒金属であって白金、パラジウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、それらの合金及びそれらの組み合わせから成る貴金属の群から選択される前記１次触媒金属と、
加えて、卑金属及び場合によりゼオライトの組み込み又は添加により更に改質されるセリウム酸化物含有相を含む２次触媒成分とを含む酸化触媒。
【請求項２】
酸化触媒が、いかなる貴金属も含有しないが、卑金属及び場合によりゼオライトの組み込み又は添加により更に改質されるセリウム酸化物含有相を含む触媒成分のみを含有する、酸化触媒。
【請求項３】
卑金属改質セリウム酸化物触媒成分が、セリウム及びジルコニウム酸化物の固溶体である、請求項１又は２に記載の酸化触媒。
【請求項４】
卑金属改質セリウムジルコニウム酸化物が、酸素イオン伝導特性を有する実質的に相純粋な固溶体（従来のＸ線回折法により測定される）であり、且つ
ａ．約９５％以下のジルコニウム
ｂ．約９５％以下のセリウム
ｃ．希土類、イットリウム、及びそれらの混合物から成る群から選択される約２０％以下の安定剤
を含む、請求項１から３までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項５】
卑金属改質セリウム含有酸化物が、遷移金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及びＩＩＩｂ族金属から成る群から選択される１種以上のドーパント卑金属種を含有する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項６】
導入される卑金属種の濃度が、セリウム酸化物相の約０．０１質量％〜約１０質量％である、請求項１から５までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項７】
導入される卑金属種の濃度が、セリウム酸化物相の０．１質量％〜約２．５質量％である、請求項１から６までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項８】
卑金属改質セリウム含有酸化物が、ＰＧＭ含有触媒と同じ層／パスにおいて適用される、請求項１から７までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項９】
卑金属改質セリウム含有酸化物が、ＰＧＭ含有触媒に後続の層／パスにおいて適用される、請求項１から７までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１０】
卑金属改質セリウム含有酸化物が、ＰＧＭ含有触媒の前の層／パスにおいて適用される、請求項１から７までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１１】
卑金属改質セリウム含有酸化物が、酸化触媒の出口に位置する領域において適用される、請求項１から７までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１２】
卑金属改質セリウム含有酸化物が、酸化触媒の入口に位置する領域において適用される、請求項１から７までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１３】
卑金属改質セリウム含有酸化物が、別個の第２のモノリスにおいて適用され、更に第２のモノリスが、１次ＰＧＭ含有触媒の出口に位置する、請求項１から７までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１４】
卑金属改質セリウム含有酸化物が、ハイウェイ運転又はＤＰＦ再生サイクルにおける車両の作動と関連する典型的な高温熱行程の間ＳＯｘ誘導毒の蓄積により被毒され得るＣＯ酸化機能の容易及び完全な再生を受ける、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１５】
卑金属が、金属カチオンの水酸化アンモニウム／アンモニア性錯体によりレドックス活性セリウム含有酸化物に導入される、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１６】
卑金属が、金属カチオンの有機アミン錯体によりレドックス活性セリウム酸化物含有材料に導入される、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１７】
卑金属が、金属カチオンの水酸化化合物によりレドックス活性セリウム酸化物含有材料に導入される、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１８】
セリウム含有酸化物生成物が、従来のＸ線回折法による相解析が実質的に相純粋な立方晶のフルオライト相（９５％超）を保持するように高レベルの分散度で卑金属を含有し、更にあらゆるバルク金属酸化物ドーパント相が５％未満で記録され、且つ線幅の広がり／シェラーの式の方法により測定されるドーパント金属酸化物の粒径が約３０Å〜約１００Åである、卑金属改質セリウム酸化物含有相を含有する、請求項１から１７までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項１９】
前記セリウム含有酸化物成分が、ＸＲＤによる相解析により、促進された材料が１０００℃での水熱酸化エージングの後で少なくとも９５％の立方晶のフルオライト相を維持することが明らかにされるような高レベルの分散度で卑金属を含有する、卑金属改質セリウム酸化物含有相を含有する、請求項１から１８までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項２０】
セリウム含有酸化物が、未改質セリウム含有酸化物と比較して従来の昇温還元（ＴＰＲ）方法により測定される、低温での酸素イオン伝導性の著しい促進を示す、１から１９までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項２１】
ＴＰＲにより測定されるレドックスの促進が、未改質セリウム含有酸化物と比較して、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）としてのその適用に適切な温度で高い水熱耐久性、即ち水蒸気の存在下で１０００℃までの温度における酸化条件下での耐久性を示す、卑金属改質セリウム酸化物含有相を含有する、請求項１から２０までのいずれか１項に記載の酸化触媒。
【請求項２２】
実質的に純粋な立方晶フルオライト構造を有する、ＣｅＺｒＯx固溶体に基づくレドックス活性材料に卑金属を導入する、請求項１から２１までのいずれか１項に記載の酸化触媒の製造方法であって、
前記固溶体への活性金属／カチオンの導入を、化学的に塩基性の条件下で、
金属カチオンの水酸化アンモニウム／アンモニア性錯体によって、又は
金属カチオンの有機アミン錯体によって、又は
金属カチオンの水酸化化合物によって、
行う、前記製造方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の方法により得られる、酸化触媒。
【請求項２４】
請求項１から２３までのいずれか１項に記載の触媒上に排出ガスを通過させることを含む排出ガスの処理方法。
【請求項２５】
基材の周囲に配置されるハウジングと；前記基材上に配置される圧縮点火酸化触媒であって、白金、パラジウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、それらの合金及びそれらの組み合わせから成る貴金属の群から選択される、担体上に配置される１次触媒金属、加えて卑金属及び場合によりゼオライトの組み込み又は添加により更に改質されるセリウム酸化物含有相を含む２次触媒成分を含む圧縮点火酸化触媒とを含む、触媒装置。
【請求項２６】
ハウジングと基材との間に配置される保持材料を更に含む、請求項２５に記載の触媒装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
本発明は、以下のように特徴付けることができる：
・担体上に配置される１次触媒金属であって白金、パラジウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、それらの合金及びそれらの組み合わせから成る貴金属の群から選択される前記１次触媒金属と、
加えて、卑金属及び場合によりゼオライトの組み込み又は添加により更に改質されるセリウム酸化物含有相を含む２次触媒成分とを含む酸化触媒。
・酸化触媒が、いかなる貴金属も含有しないが、卑金属及び場合によりゼオライトの組み込み又は添加により更に改質されるセリウム酸化物含有相を含む触媒成分のみを含有する、酸化触媒。
・卑金属改質セリウム酸化物触媒成分が、セリウム及びジルコニウム酸化物の固溶体である、上記酸化触媒。
・卑金属改質セリウムジルコニウム酸化物が、酸素イオン伝導特性を有する実質的に相純粋な固溶体（従来のＸ線回折法により測定される）であり、且つ
ａ．約９５％以下のジルコニウム
ｂ．約９５％以下のセリウム
ｃ．希土類、イットリウム、及びそれらの混合物から成る群から選択される約２０％以下の安定剤
を含む、上記酸化触媒。
・卑金属改質セリウム含有酸化物が、遷移金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及びＩＩＩｂ族金属から成る群から選択される１種以上のドーパント卑金属種を含有する、上記酸化触媒。
・導入される卑金属種の濃度が、セリウム酸化物相の約０．０１質量％〜約１０質量％である、上記酸化触媒。
・導入される卑金属種の濃度が、セリウム酸化物相の０．１質量％〜約２．５質量％である、上記酸化触媒。
・卑金属改質セリウム含有酸化物が、ＰＧＭ含有触媒と同じ層／パスにおいて適用される、上記酸化触媒。
・卑金属改質セリウム含有酸化物が、ＰＧＭ含有触媒に後続の層／パスにおいて適用される、上記酸化触媒。
・卑金属改質セリウム含有酸化物が、ＰＧＭ含有触媒の前の層／パスにおいて適用される、上記酸化触媒。
・卑金属改質セリウム含有酸化物が、酸化触媒の出口に位置する領域において適用される、上記酸化触媒。
・卑金属改質セリウム含有酸化物が、酸化触媒の入口に位置する領域において適用される、上記酸化触媒。
・卑金属改質セリウム含有酸化物が、別個の第２のモノリスにおいて適用され、更に第２のモノリスが、１次ＰＧＭ含有触媒の出口に位置する、上記酸化触媒。
・卑金属改質セリウム含有酸化物が、ハイウェイ運転又はＤＰＦ再生サイクルにおける車両の作動と関連する典型的な高温熱行程の間ＳＯｘ誘導毒の蓄積により被毒され得るＣＯ酸化機能の容易及び完全な再生を受ける、上記酸化触媒。
・卑金属が、金属カチオンの水酸化アンモニウム／アンモニア性錯体によりレドックス活性セリウム含有酸化物に導入される、上記酸化触媒。
・卑金属が、金属カチオンの有機アミン錯体によりレドックス活性セリウム酸化物含有材料に導入される、上記酸化触媒。
・卑金属が、金属カチオンの水酸化化合物によりレドックス活性セリウム酸化物含有材料に導入される、上記酸化触媒。
・セリウム含有酸化物生成物が、従来のＸ線回折法による相解析が実質的に相純粋な立方晶のフルオライト相（９５％超）を保持するように高レベルの分散度で卑金属を含有し、更にあらゆるバルク金属酸化物ドーパント相が５％未満で記録され、且つ線幅の広がり／シェラーの式の方法により測定されるドーパント金属酸化物の粒径が約３０Å〜約１００Åである、卑金属改質セリウム酸化物含有相を含有する、上記酸化触媒。
・前記セリウム含有酸化物成分が、ＸＲＤによる相解析により、促進された材料が１０００℃での水熱酸化エージングの後で少なくとも９５％の立方晶のフルオライト相を維持することが明らかにされるような高レベルの分散度で卑金属を含有する、卑金属改質セリウム酸化物含有相を含有する、上記酸化触媒。
・セリウム含有酸化物が、未改質セリウム含有酸化物と比較して従来の昇温還元（ＴＰＲ）方法により測定される、低温での酸素イオン伝導性の著しい促進を示す、卑金属改質セリウム酸化物含有相を含有する、上記酸化触媒。
・ＴＰＲにより測定されるレドックスの促進が、未改質セリウム含有酸化物と比較して、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）としてのその適用に適切な温度で高い水熱耐久性、即ち水蒸気の存在下で１０００℃までの温度における酸化条件下での耐久性を示す、上記酸化触媒。
・実質的に純粋な立方晶フルオライト構造を有する、ＣｅＺｒＯx固溶体がベースのレドックス活性材料に卑金属を導入する、上記酸化触媒の製造方法であって、
前記固溶体への活性金属／カチオンの導入を、化学的に塩基性の条件下で、
金属カチオンの水酸化アンモニウム／アンモニア錯体によって、又は
金属カチオンの有機アミン錯体によって、又は
金属カチオンの水酸化化合物によって、
行う、前記製造方法。
・上記方法により得られる、酸化触媒。
・上記触媒上に排出ガスを通過させることを含む排出ガスの処理方法。
・基材の周囲に配置されるハウジングと；前記基材上に配置される圧縮点火酸化触媒であって、白金、パラジウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、それらの合金及びそれらの組み合わせから成る貴金属の群から選択される、担体上に配置される１次触媒金属、加えて卑金属及び場合によりゼオライトの組み込み又は添加により更に改質されるセリウム酸化物含有相を含む２次触媒成分を含む圧縮点火酸化触媒とを含む、触媒装置。
・ハウジングと基材との間に配置される保持材料を更に含む、上記触媒装置。
ＤＯＣ技術の説明のための凡例：
部分Ａ：パス１  ６７．１ｇ／Ｌ  ＨＰ１４／１５０  ２０Ｐｄ  ４０Ｐｔ  パス２  ９１．５ｇ／Ｌ  ２ＣｕＯＳ３  ３０．５ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０
部分Ｂ：パス１  ６７．１ｇ／Ｌ  ＨＰ１４／１５０  ５０Ｐｄ  １０Ｐｔ  パス２  ９１．５ｇ／Ｌ  ２ＣｕＯＳ３  ３０．５ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０
部分Ｃ：パス１  ６７．１ｇ／Ｌ  ＨＰ１４／１５０  パス２  ９１．５ｇ／Ｌ  ２Ｃｕ−ＯＳ３  ３０．５ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０
部分Ｄ：６０ｇｃｆ２：１（Ｐｔ：Ｐｄ）における市販のＤＯＣ
部分Ｅ：パス１  ６７．１ｇ／Ｌ  ＨＰ１４／１５０  ７Ｐｄ  １４Ｐｔ  パス２  ９１．５ｇ／Ｌ  ２ＣｕＯＳ３  ３０．５ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０
部分Ｆ：パス１  ６７．１ｇ／Ｌ  ＨＰ１４／１５０  １０Ｐｄ  ２０Ｐｔ  パス２  ９１．５ｇ／Ｌ  ２ＣｕＯＳ３  ３０．５ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０
部分Ｇ：３０ｇｃｆ２：１（Ｐｔ：Ｐｄ）における市販のＤＯＣ
部分Ｈ：パス１  ６７．１ｇ／Ｌ  ＨＰ１４／１５０  １０Ｐｄ  ２０Ｐｔ  ９１．５ｇ／Ｌ  ２ＣｕＯＳ３  ３０．５ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０
部分Ｊ：パス１  ６７．２ｇ／Ｌ  ＨＰ１４／１５０  ３０Ｐｄ  ９０Ｐｔ  パス２  ９１．６５ｇ／Ｌ  ２Ｃｕ−ＯＳ３  ３０．５ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０
部分Ｋ：パス１  ８５．５  ＨＰ１５／１５０  Ｚｒ５  ７０Ｐｔ  ４７．７８ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０  パス２  ４８．９ｇ／Ｌ  ２Ｃｕ−ＯＳ３
部分Ｌ：パス１  ８５．５ｇ／Ｌ  ＨＰ１４／１５０  Ｚｒ５  １０Ｐｄ  ２０Ｐｔ  １８．３３ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０
パス２  部分の５０％に沿って被覆された７３．３２ｇ／Ｌ  ２Ｃｕ−ＯＳ３  １２．２ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０  
部分Ｍ：パス１  ８５．５ｇ／Ｌ  ＨＰ１４／１５０  Ｚｒ５  １０Ｐｄ  ２０Ｐｔ  ３０．２ｇ／Ｌ  βＳＡＲ４０
パス２  部分の５０％に沿って被覆された７３．３２ｇ／Ｌ  ２Ｃｕ−ＯＳ３