【手続補正書】
【提出日】平成25年1月16日(2013.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
時計ムーブメントの可動構成要素又は時計のばね−テンプ組立体の、発振周波数の調整及び／又は慣性調整及び／若しくはバランス修正のための方法であって、
前記構成要素又は前記組立体の少なくとも１つの構成要素において、少なくとも１つの変換手段を用いて、材料の除去及び／又は材料の追加及び／又は材料の置換を行うことであって、前記変換手段は、前記構成要素若しくは前記組立体の少なくとも１つの構成要素の材料及び／又は少なくとも１つの追加材料の材料に対して、それぞれ精密機械加工及び／又は微細融合操作を行い、これによって少なくとも１つの追加材料を、前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも１つの構成要素上に、前記変換手段の少なくとも１つのパルスの効果の下で、それぞれ気化及び／又は昇華及び／又は置換及び／若しくは溶接するための、少なくとも１つのレーザ又はプラズマ源を備えること、並びに、
前記少なくとも１つの変換手段のいずれのパルスを生成し、連続させ、中断するために配設された制御手段によって、前記少なくとも１つのパルスを制御することであって、前記制御手段を、前記変換手段から放出される少なくとも１つのビームの動きを制御するためにも配設し、また、前記制御手段を、測定若しくは比較手段に接続するか、又は前記測定若しくは比較手段で自動的に制御すること
を特徴とする、方法。
【請求項２】
前記制御手段を、前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも１つの構成要素の表面の少なくとも１つの特定の領域を画定するようプログラムし、この領域で、材料を除去及び／又は追加及び／又は置換すること、並びに、
前記制御手段を、前記変換手段の高平均周波数の少なくとも１つのパルスシーケンスを生成し、これによって、前記領域にわたって、前記少なくとも１つの変換手段が放射したビームが連続して衝突する少なくとも１つのラインを生成するようプログラムすること
を特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記高平均パルス周波数は、１００ｋＨｚ〜５００ｋＨｚの範囲内であることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記構成要素又は組立体又は前記変換手段のビームの方向は、前記少なくとも１つのパルスシーケンスの間、動くことを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
少なくとも１つの前記構成要素若しくは組立体は、前記少なくとも１つのパルスシーケンスの間、動くか、又は、前記変換手段のビームの方向は、前記少なくとも１つのパルスシーケンスの間、動くことを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記構成要素又は前記組立体は、前記変換手段の前記少なくとも１つのパルスシーケンスの間、その慣性主軸の周りで枢動すること、及び
前記測定又は比較手段を、前記構成要素又は前記組立体の慣性主軸に関して、前記構成要素の動的慣性を測定又は比較する目的で使用すること
を特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
単一の変換手段を使用し、振幅安定化手段を使用して、各パルスシーケンスの行程の間、前記構成要素又は前記組立体の前記枢動動作を、一定の振幅の発振に維持することを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記振幅は、１３７°又は３１６．５°の値の角度で安定化されることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
単一の変換手段を使用し、振幅安定化手段を使用して、各パルスシーケンスの行程の間、前記変換手段が放出する少なくとも１つのビームの動きを、前記構成要素又は前記組立体の枢動と共に維持することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも２つの前記変換手段を使用し、そのビームの動きは、前記構成要素の前記慣性主軸を通る平面に関して、又は前記構成要素の前記慣性主軸に関して対称であることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項１１】
前記構成要素又は前記組立体の少なくとも１つの構成要素内の材料の置換を、局所的な溶融、その後の溶融領域の置換、更にそれに続く冷却による固化によって行うか、又は、熱処置中に若しくは外力の影響下で、内部負荷を生成若しくは解除することによって行うか、又は変形可能な領域若しくはラグ若しくはピンを曲げることによって行うか、又は材料を広げることによって行うことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記材料の置換を、局所的な溶融、その後の溶融領域の置換、更にそれに続く冷却による固化によって行い、前記溶融した材料の前記置換は、重力によって、又は調整操作中の遠心力の作用によって、又は磁力及び／若しくは静電気力による牽引力の効果によってことを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも１つの構成要素を形成する材料の物理的状態の局所的な変化を、そのジオメトリ及び／又は密度を局所的に改変することによってその慣性を改変するために実施することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも１つの構成要素上での前記材料の除去及び／又は材料の追加及び／又は材料の置換を、時計ムーブメント内の前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも１つの構成要素について行うことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも１つの構成要素上での前記材料の除去及び／又は材料の追加及び／又は材料の置換を、時計ムーブメントのばね−テンプ内の前記構成要素について行うことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記変換手段として少なくとも１つのレーザ又はピコレーザを選択し、前記レーザ又はピコレーザの少なくとも１つのパルスの効果の下での微細彫刻によって、材料の除去を実施し、これによって、前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも１つの構成要素の固体材料を、昇華によって気体流へと直接変換すること、及び
前記少なくとも１つのレーザ又はピコレーザによる処理中、前記構成要素の両側に気圧差を確立して、これによって前記昇華に関わる気体及び／又は廃棄材料を排出すること
を特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
時計のばね−テンプ組立体の発振周波数調整のための、請求項１に記載の方法であって、
前記ばね−テンプ組立体は、ひげ玉において互いに接着されている周縁部のリム及び少なくとも１つのゼンマイばねを備える、少なくとも１つのテンプを備え、
前記ばね−テンプ組立体はバランス軸の周囲で枢動可能であり、
前記ばね−テンプ組立体の発振周波数調整を行うために材料の除去及び／又は追加及び／又は置換を行うこと、並びに
−前記ばね−テンプ組立体の前進又は遅延を、所望の発振周波数に対して評価し；
−前記材料を除去及び／又は追加及び／又は置換するべき少なくとも１つの特定の領域を画定するよう、前記制御手段をプログラムし、場合に応じて、前進を生成する必要がある場合の第１の代替例では、前記テンプの前記リム、又は、前記テンプが担持する構成要素若しくは慣性ブロック若しくはスタッド若しくはネジに前記領域を画定し、遅延を生成する必要がある場合の第２の代替例では、前記ゼンマイばねの少なくとも１つのコイルに前記領域を画定し；
−場合によって、前記テンプ上の材料を除去して慣性を削減することで前進を生成する、又は前記ゼンマイばねに材料を追加して前記ゼンマイばねの剛性を改変することで前進を生成する、又は前記テンプ若しくは前記ゼンマイばねの材料を置換することで前進を生成する、又は前記テンプに材料を追加して慣性を増大させることで遅延を生成する、又は前記ゼンマイばね上の材料を除去して前記ゼンマイばねの剛性を改変することで遅延を生成する、又は前記テンプ若しくは前記ゼンマイばねの材料を置換することで遅延を生成するように、前記制御手段をプログラムする、
第１のプロセスを含むこと
を特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記領域への微細彫刻操作を繰り返すことによって前記テンプにおいて前進を生成し、これによって、前記測定又は比較手段で制御可能な所望の周波数値を達成するよう、及び、前記測定又は比較手段で制御可能な所望の値に関する、その慣性主軸に対する前記ばね−テンプのバランス修正のために、前記領域への前記微細彫刻操作を生成するよう、前記制御手段をプログラムし、並びに、前記ゼンマイばねの少なくとも１つのコイルを、及び／又は前記ゼンマイばねがコイルを１つだけ有する場合にはその終端部の捩れ部分を尖滅するために、前記変換手段の少なくとも１つのパルスシーケンスの作用下で行われる微細彫刻により、前記ゼンマイばねの結晶構造又は熱伝導率を改変しないまま剛性を改変することで、遅延を生成するよう、前記制御手段をプログラムすることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの領域を、一方で前記テンプ又は前記テンプが担持する構成要素若しくは慣性ブロック若しくはスタッド若しくは調整ネジにおいて、他方で是機ゼンマイばねのゼンマイ部分又は終端カーブにおいて、金属表面のみから形成されるように画定すること、及び、
必要に応じて前進又は遅延を補正できるこのような金属表面が存在しない場合、第２のプロセスが実装され、前記第２のプロセスにより、場合によって前記テンプ及び／又は前記ゼンマイばね上での補正能力を再生成するよう、前記アンバランスの調整を行い、前記第２のプロセスによって、前記第１のプロセスを、許容公差内で所望の発振周波数が得られるまで再び続行すること
を特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
最初の静的及び動的バランス修正を前記ばね−テンプ組立体に対して行い、その慣性主軸を前記テンプ軸と一致させ、許容公差内で所望の慣性値を得ることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
発振周波数を調整するための請求項１に記載の方法を実装するために配設されるインデックス組立体を有さない、時計のばね−テンプ組立体であって、
アフターサービスにおける標準的な工具を使用できる形態に作製され、かつ、同一であり、同一の直径若しくは異なる直径に配置されるよう構成されているか、異なっており、同一の直径若しくは異なる直径に配置されるよう構成されている、複数の慣性ブロック、又は、溶融した材料を置換又は再配置するための１つ若しくは複数の閉鎖された内部チャンバ、又は、表面層若しくは犠牲部分、又は、外力の印加によって負荷を解除することができる予備負荷領域、又は、熱処置の影響の下で異なる物理的状態をとることができる領域、又は、帯電及び／若しくは帯磁領域、又は、可変負荷分布を有するポリメタル領域を備えることを特徴とする、時計のばね−テンプ組立体。
【請求項２２】
請求項１に記載の方法を実装するためのデバイスであって、
前記デバイスは、前記変換手段を形成する少なくとも１つのレーザ又はピコレーザ源と、前記レーザ又はピコレーザの少なくとも１つのパルスシーケンスを生成し、連続させ、中断するために配設される、前記源のための制御手段を備え、前記制御手段はまた、前記レーザ若しくはピコレーザが放出する少なくとも１つのビームの動き又は前記源自体の動きを制御するためにも配設され、また、前記デバイスは、前記制御手段に結合される測定及び比較手段と、特に慣性及び／又は発振周波数のための測定又は比較手段と、精密機械加工される構成要素又は組立体のための把持及び支持手段と、前記制御手段に結合される、前記構成要素又は前記組立体を枢動させるための駆動手段と、前記構成要素又は前記組立体の枢動を、一定の振幅の発振に維持するための振幅安定化手段と、を備えること、並びに
前記デバイスは、気圧差による材料の昇華に関連する気体及び／又は廃棄材料を排出するための手段を備えること
を特徴とする、デバイス。
【請求項２３】
前記レーザ又はピコレーザ（２）が放出する少なくとも１つのビーム（２０）の動きを、振幅安定化手段（８）の枢動と同期させることにより、前記少なくとも１つのレーザ又はピコレーザ源が放出する各パルスシーケンスの行程の間、前記構成要素又は前記組立体の前記少なくとも１つの構成要素の枢動を維持するための同期手段（９）を備えることを特徴とする、請求項２２に記載のデバイス（１）。
【請求項２４】
前記レーザ若しくはピコレーザが放出する前記ビームを分割するための手段を備え、前記制御手段はこの分割によって生まれる各ビームを制御するよう配設されること、及び／又は
複数の前記レーザ若しくはピコレーザ源を備え、前記制御手段は前記レーザ若しくはピコレーザ源の各ビームを制御するよう配設されること
を特徴とする、請求項２２に記載のデバイス。