【手続補正書】
【提出日】平成26年2月7日(2014.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の金属−配位子錯体：
【化１】
2013520418.tif 000001
｛式中、
各ＬＱは、存在しないか、又はＬであり；
各Ｌは、独立に、存在しないか、又はハロゲン原子、水素原子、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）Ｎ（（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビル）、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）Ｏ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、ＲＫＲＬＮ−、ＲＬＯ−、ＲＬＳ−又はＲＫＲＬＰ−（ここで、各ＲＫ及びＲＬは、独立に、水素、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、［（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル］３Ｓｉ、［（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル］３Ｓｉ（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル、又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルであるか、あるいはＲＫとＲＬが一緒になって（Ｃ２−Ｃ４０）ヒドロカルビレン又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成している）であるか、あるいはＬとＬＱが一緒になって（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）−Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２を形成しており、各Ｌは、独立に、Ｍ１に結合しているモノアニオン性部分であり；
ｎは０〜３の整数であり；
各Ｘは、独立に、存在しないか、又はＲＸＮＲＫＲＬ、ＲＫＯＲＬ、ＲＫＳＲＬもしくはＲＸＰＲＫＲＬである中性ルイス塩基基（ここで、各ＲＸは、独立に、水素、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、［（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル］３Ｓｉ、［（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル］３Ｓｉ（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル、又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルであり、ＲＫ及びＲＬは、独立に、先に定義したとおりである）であり；
Ｊは式（Ｊ１）〜（Ｊ７）：
ＲＫＲＬＲＸＰ＝Ｎ−      （Ｊ１），（式中、ＲＫ、ＲＬ及びＲＸの各々は、独立に、先に定義したとおりである）；
ＲＫＲＬＢ−Ｏ−      （Ｊ２），（式中、ＲＫ及びＲＬの各々は、独立に、先に定義したとおりである）；
【化２】
2013520418.tif 000002
（式中、−−−は２つの非局在化したπ結合を示し、
各ＲＷ１及びＲＷ２は独立にＲＸであり、Ｍ２はＡｌ−ＲＡ、Ｇａ−ＲＡ又はＺｎであり、ここで、各ＲＡは独立に（Ｃ１−Ｃ４０）アルキル、ＲＫＲＬＮ−又はＲＬＯ−であり、各ＲＪは独立に（Ｃ６−Ｃ１２）アリールである）；
ＲＫＲＬＮ−Ｏ−      （Ｊ４），（式中、ＲＫ及びＲＬの各々は、独立に、先に定義したとおりである）；
ＲＫＲＬＣ＝Ｎ−      （Ｊ５），（式中、ＲＫ及びＲＬの各々は、独立に、先に定義したとおりである）；
ＲＫ（ＲＬＲＸＮ）Ｃ＝Ｎ−      （Ｊ６），（式中、ＲＫ、ＲＬ及びＲＸの各々は、独立に、先に定義したとおりである）；
（ＲＬＲＸＮ）２Ｃ＝Ｎ−      （Ｊ７），（式中、ＲＫ、ＲＬ及びＲＸの各々は、独立に、先に定義したとおりである）；
のいずれか１つのモノアニオン性部分であるか、あるいは、
ｎは１、２又は３であり、１つのＸとＪが一緒になって式（Ｋ１）〜（Ｋ６）：
【化３】
2013520418.tif 000003
（式中、ＲＫ、ＲＬ及びＲＸの各々は、独立に、先に定義したとおりである）
のうちのいずれか１つのモノアニオン性二座部分ＸＪ−ＪＸを形成しており；
各Ｍ１は、独立に、第４族金属であり、これは、Ｍ１がハフニウム（Ｈｆ）、ジルコニウム（Ｚｒ）又はチタン（Ｔｉ）であることを意味し、当該金属は＋３又は＋４の形式酸化状態にあり；
ｍは０〜３の整数であり；
各Ｒ１は、独立に、Ｈ、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルであり；
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の各々は、独立に、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＯ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＳ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＳ（Ｏ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＳ（Ｏ）２−、（（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル）２Ｎ−、（（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル）２Ｐ−、又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルであるか、あるいは、Ｒ４は、先に定義したとおりであり、Ｒ２とＲ３が一緒になって式（Ｒ２３）：
【化４】
2013520418.tif 000004
（式中、Ｒ２Ａ及びＲ３Ａの各々は、独立に、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＯ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＳ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＳ（Ｏ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＳ（Ｏ）２−、（（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル）２Ｎ−、（（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル）２Ｐ−、又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルである）
のジラジカルを形成しており；
各Ｒ５は、独立に、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルであるか；あるいは
Ｒ１とＲ２、Ｒ１とＲ４、Ｒ１とＲ２Ａ、Ｒ２とＲ３、Ｒ２とＲ５、Ｒ２ＡとＲ３Ａ、Ｒ２ＡとＲ５、Ｒ３とＲ４、Ｒ３ＡとＲ４、Ｒ４とＲ５、Ｒ１もしくはＲ５とＸもしくはＪのＲＫ、又はＲ１もしくはＲ５とＬもしくはＪのＲＬは一緒になって（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、それらの残りは先に定義したとおりであるか；あるいは
Ｒ１もしくはＲ５とＬが一緒になって、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン−Ｃ（Ｏ）Ｎ（（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビル）、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン、又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成しており、それらの残りは先に定義したとおりであるか；あるいは
Ｒ１〜Ｒ５、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、ＸもしくはＪのＲＫ及びＬもしくはＪのＲＬのうちのいずれか３つ又は４つが一緒になって、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンの各三価又は四価の類似体を形成しており、それらの残りは先に定義したとおりであり；あるいは
Ｒ１もしくはＲ５と、Ｒ１〜Ｒ５の残りとＲ２Ａ、Ｒ３Ａ、ＸもしくはＪのＲＫ及びＬもしくはＪのＲＬのうちのいずれか１つ又は２つとがＬと一緒になって、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン−Ｃ（Ｏ）Ｎ（（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビル）、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン、又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンの各三価又は四価の類似体を形成しており、Ｒ１〜Ｒ５、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、ＸもしくはＪのＲＫ及びＬもしくはＪのＲＬの残りは先に定義したとおりであり；
上記（Ｃ６−Ｃ１２）アリール、（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル、（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビル、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン、（Ｃ２−Ｃ４０）ヒドロカルビレン、及び（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンの各々は、独立に、同じであるか又は異なり、置換されていないかもしくは１個以上の置換基ＲＳにより置換されており；
各ＲＳは、独立に、ハロゲン原子、ポリフルオロ、ペルフルオロ、非置換（Ｃ１−Ｃ１８）ヒドロカルビル、Ｆ３Ｃ−、ＦＣＨ２Ｏ−、Ｆ２ＨＣＯ−、Ｆ３ＣＯ−、オキソ、Ｒ３Ｓｉ−、ＲＯ−、ＲＳ−、ＲＳ（Ｏ）−、ＲＳ（Ｏ）２−、Ｒ２Ｐ−、Ｒ２Ｎ−、Ｒ２Ｃ＝Ｎ−、ＮＣ−、ＲＣ（Ｏ）Ｏ−、ＲＯＣ（Ｏ）−、ＲＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）−、又はＲ２ＮＣ（Ｏ）−であり、ここで、各Ｒは独立に非置換（Ｃ１−Ｃ１８）ヒドロカルビルであり；
各
【化５】
2013520418.tif 000005
は、独立に、結合フラグメントを示し；
各Ｌ、ＬＱ、及びｍは、式（Ｉ）の金属−配位子錯体が集合体で中性であるように、金属Ｍ１の形式酸化状態に応じて選択される｝。
【請求項２】
Ｒ２とＲ３が一緒になって式（Ｒ２３）：
【化６】
2013520418.tif 000006
のジラジカルを形成しているために、式（Ｉ）の金属−配位子錯体は、式（ＩＩ−Ｂ）、（ＩＩ−Ｅ）、（ＩＩ−Ａ）、（ＩＩ−Ｈ）又は（ＩＩ−Ｉ）： 
【化７】
2013520418.tif 000007
［式（ＩＩ−Ｂ）において、各Ｒ３４は、独立に、Ｃ（Ｒ３５）２、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）２、Ｎ（ＲＮ）、Ｓｉ（ＲＣ）２又はＰ（ＲＰ）であり、ここで、各Ｒ３５は、独立に、Ｈ又は（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビルであり、各ＲＮ、ＲＣ及びＲＰは、独立に、（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビルである］；
【化８】
2013520418.tif 000008
[式（ＩＩ−Ｅ）において、各−−−−は、存在しないか、又はπ結合である］
【化９】
2013520418.tif 000009
［式（ＩＩ−Ａ）において、各Ｒ３４は、独立に、Ｃ（Ｒ３５）２、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）２、Ｎ（ＲＮ）、Ｓｉ（ＲＣ）２又はＰ（ＲＰ）であり、ここで、各Ｒ３５は、独立に、Ｈ又は（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビルであり、各ＲＮ、ＲＣ及びＲＰは、独立に、（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビルである］；
【化１０】
2013520418.tif 000010
[式（ＩＩ−Ｈ）において、Ｒ２Ａは、Ｈ又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルであり、Ｒ３ＡとＲ４は一緒になって（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビレン又は（Ｃ１−Ｃ２０）ヘテロヒドロカルビレンを形成している］；又は
【化１１】
2013520418.tif 000011
［式（ＩＩ−Ｉ）において、Ｒ２Ａは、Ｈ又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルであり、Ｒ３ＡとＲ４は一緒になって（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビレン又は（Ｃ１−Ｃ２０）ヘテロヒドロカルビレンを形成している］
の金属−配位子錯体である、請求項１に記載の金属−配位子錯体。
【請求項３】
式（ＩＩＩ）：
【化１２】
2013520418.tif 000012
［式中、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ｂ及びＲ４の各々は、独立に、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＯ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＳ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＳ（Ｏ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＳ（Ｏ）２−、（（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル）２Ｎ−、（（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル）２Ｐ−又は（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルである］
の金属-配位子錯体であるか、または、ｎが１であり、ＸとＪが一緒になって式（Ｋ１）〜（Ｋ６）のいずれか１つの上記のモノアニオン性二座部分ＸＪ−ＪＸを形成していて、かかる金属−配位子錯体は式（ＩＶ）：
【化１３】
2013520418.tif 000013
により表されるものである、請求項１に記載の金属−配位子錯体。
【請求項４】
式（Ｉ）において；あるいは、式（ＩＩ−Ｂ）、（ＩＩ−Ｅ）又は（ＩＩ−Ａ）において；あるいは、式（ＩＩＩ）において、ＪがＲＫＲＬＲＸＰ＝Ｎ−（Ｊ１）又はＲＫＲＬＣ＝Ｎ−（Ｊ５）であり、ｎが０であり、Ｘが存在しない、請求項１〜３のいずれか一項に記載の金属−配位子錯体。
【請求項５】
前記金属−配位子錯体が式（１）〜（１２）：
【化１４】
2013520418.tif 000014
【化１５】
2013520418.tif 000015
（式中、Ｍｅはメチルであり、ｉ−Ｐｒはｉｓｏ−プロピルを意味し、ｔ−Ｂｕは１，１−ジメチルエチルを意味し、Ｐｈはフェニルを意味する）
のいずれか１つにより表されるものである、請求項１に記載の金属−配位子錯体。