Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図２は大気圧のＨｅの直流放電の電流電圧特性を示す図である。図において、横軸は、陽極２と陰極３間の直流電圧を示し、縦軸は放電電流を示す。また、図中の○（白丸）は紫外線パルスレーザー光照射がある場合で、◆（菱形）は紫外線パルスレーザー光照射がない場合である。
図２から明らかなように、気体の放電開始電圧を低下させる補助的手段として、紫外線パルスレーザー光を照射することにより、大気圧Ｈｅの放電開始電圧は５００Ｖとなった。この電圧は、紫外線パルスレーザー光を照射しない場合の７００Ｖよりも２００Ｖ低下し、大気圧Ｈｅの放電開始電圧は約３０％低減化することができた。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
次に、図３は大気圧のＨｅの直流放電の電流電圧特性を示す図である。図の横軸と縦軸及び○と◆の印は、図２と同一であるので説明は省略する。
図３から明らかなように、紫外線パルスレーザー光を照射することにより、大気圧Ａｒの放電開始電圧は２１００Ｖとなり、紫外線パルスレーザー光照射しない場合には、３０００Ｖでも放電しなかった。以上の結果から、紫外線パルスレーザー光を照射することにより、大気圧のＡｒの放電開始電圧は、少なくとも約３０％以上は低減することができた。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
装置本体に形成された空気流入口に連通する貫通孔が形成された導体と、
先端部を前記貫通孔内に位置させて前記装置本体に取り付けられる放電針と、
前記空気流入口に連通する空気案内流路が形成され、前記貫通孔の内面に取り付けられる放電調整用の絶縁部材とを有し、
前記絶縁部材を絶縁性が高く水素を含まないセラミックスなどの無機物により形成したことを特徴とする静電気除去装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の静電気除去装置は、装置本体に形成された空気流入口に連通する貫通孔が形成された導体と、先端部を前記貫通孔内に位置させて前記装置本体に取り付けられる放電針と、前記空気流入口に連通する空気案内流路が形成され、前記貫通孔の内面に取り付けられる放電調整用の絶縁部材とを有し、前記絶縁部材を絶縁性が高く水素を含まないセラミックスなどの無機物により形成したことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
ブッシュ２２は絶縁性が高く水素を含まないセラミックスにより形成されている。したがって、放電針２１とヘッド１１との間に印加される電圧によってコロナ放電が起こると、空気がプラズマに変化してプラズマ中の活性種により絶縁材料であるブッシュ２２が改質されても、酸素、オゾンと結合せずに、水分が生成されることが防止される。ブッシュ２２の材料としては、水素を含まない材料であって絶縁性が高いものであれば、セラミックス以外の他の無機物を使用するようにしても良い。また、ブッシュ２２としては、吸水性がない材料を用いることが望ましい。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
一方、継手２４は耐プラズマ性材料により形成されており、耐プラズマ性材料としては、グラファイトやセラミックスなどを用いることができる。したがって、コロナ放電によって空気がプラズマ化されてプラズマ中の活性種つまりラディカルにより継手２４の内周面がスパッタ蒸発するという現象の発生が防止される。スパッタ蒸発により分子や原子が発生するとゴミの発生となり、それが酸素さらにはオゾンと結合して酸化物を形成することになるが、この静電気除去装置にあってはスパッタ蒸発の発生が防止されるので、そのようなゴミや酸化物の形成が防止される。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【発明の効果】
本発明によれば、コロナ放電により空気案内流路内を流れる空気をイオン化させるときに空気がプラズマ化されても、放電調整用の絶縁部材がセラミックスなどの無機物により形成されているので、絶縁部材が改質されてもゴミや水分が生成されることを防止できる。また、継手を耐プラズマ性の材料により形成したり、継手の内周面に耐プラズマ性材料の正面処理層を形成することにより、プラズマ中の活性種によるスパッタ蒸発が防止され、さらに、ゴミや酸化物の形成が防止される。これにより、静電気除去装置の耐久性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月30日(2003.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の実施の形態において各注文者の電話又はファクシミリ装置（「顧客獲得の無料ファクシミリ装置設置」）を含む）、電子メール、インターネット、オンライン、等ＩＴ利用の手段を備え、多種多用の生鮮食品を必要とする全国各町の注文者の注文を一括仕入れ出来る形態を店舖が備え、注文者の注文を受注、発注、宅配、配達又は取りに来る注文者、も店舗が備える、又注文者が生鮮食品の追加を求めてきた場合店舗は、店舗内販売及び店舗外販売の、生鮮食品を利用し、多種多様の追加を補う形態も兼ね備えた、店舗内外の追加処置により、店舗内販売促進及び顧客獲得の店舗追加販売促進も特徴とする店舗の店舗外販売システムを実施実行する、又店舗内販売を持たずに一式揃えて営業している店、会社（０００８記載で説明）では，上記記載のＩＴ及び通信販売カタロク等の利用の手段を備え販売しても良く、又請求項２のマグロの料理用Ａカット方法のマグロを加工会社が上記記載の電話又はファクシミリ装置（「顧客獲得の無料ファクシミリ装置設置」）を含む）、電子メール、インターネット、オンライン、等ＩＴ及び通信販売カタログ等の利用の手段を備え販売しても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月21日(2003.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】映像生成装置及び通信装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロプロセッサユニットが制御するバスと接続し、前記マイクロプロセッサユニットから映像符号化データとグラフィックデータを前記バスを介して入力し、映像データの動画像やグラフィックを表示する映像表示装置とインターフェース接続する映像生成装置であって、
前記マイクロプロセッサユニットから入力した動画像の映像符号化データを復号して映像データを生成する映像データ生成手段と、
映像データ生成手段にて生成された動画像の映像データあるいは前記マイクロプロセッサユニットから入力したグラフィックデータのいずれかを選択して前記映像表示装置に出力する選択手段と、を具備することを特徴とする映像生成装置。
【請求項２】
前記マイクロプロセッサユニットから入力した制御信号を記憶する信号記憶手段を具備し、
前記選択手段は、前記映像表示装置が動画像の映像データを表示する場合、前記制御信号と前記動画像の映像データとを共通の信号線を用いて時分割で前記映像表示装置に出力することを特徴とする請求項１記載の映像生成装置。
【請求項３】
前記選択手段は、前記映像データ生成手段が動画像の映像データを生成している場合、生成された動画像の映像データを前記映像表示装置に出力し、前記映像データ生成手段が動画像の映像データを生成していない場合、前記信号記憶手段に記憶された制御信号を前記映像表示装置に出力することを特徴とする請求項２記載の映像生成装置。
【請求項４】
前記選択手段が復号後の動画像の映像データを出力していない期間を示すフラグを記憶するフラグ記憶手段を具備し、
前記フラグ記憶手段は、前記マイクロプロセッサユニットからフラグの参照要求が入力された場合に、記憶している前記フラグを前記マイクロプロセッサユニットに出力することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の映像生成装置。
【請求項５】
画像データを前記映像表示手段に出力するタイミングを示す映像同期信号を生成して前記選択手段に出力する同期信号生成手段と、
前記選択手段の指示に従い制御信号の要求を示す要求信号を前記マイクロプロセッサユニットに出力する割り込み要求手段を具備し、
前記選択手段は、復号後の動画像の映像データと前記映像同期信号の入力が停止した時点で、前記割り込み信号の出力を前記割り込み要求手段に指示することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の映像生成装置。
【請求項６】
映像データの動画像やグラフィックを表示する映像表示手段と、
この映像表示手段を制御するマイクロプロセッサユニットと、
このマイクロプロセッサユニットとバス接続し、前記映像表示手段とインターフェース接続する映像生成手段とを具備する通信装置であって、
前記マイクロプロセッサユニットは、映像データを符号化した映像符号化データ及び前記映像表示手段にてグラフィックを表示するためのグラフィックデータを前記バスを介して前記映像生成手段に出力し、
前記映像生成手段は、前記マイクロプロセッサユニットから入力した動画像の映像符号化データを復号して前記映像表示手段に出力する一方、前記マイクロプロセッサユニットから入力したグラフィックデータをそのまま前記映像表示手段に出力することを特徴とする通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月24日(2003.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の棒状光伝送体が２枚の基板間に１層もしくは２層以上に平行配列され挟着された構造を有する光伝送体アレイ原板を平板上に固定し、該光伝送体アレイ原板の表面に溝を削り込み、この溝部において光伝送体アレイ原板を割断する工程を有することを特徴とする光伝送体アレイの製造方法。
【請求項２】
前記光伝送体アレイ原板の一方の基板表面から、その基板および棒状光伝送体を通過し他方の基板に達する深さの溝を削り込むことを特徴とする請求項１記載の光伝送体アレイの製造方法。
【請求項３】
前記光伝送体アレイ原板の両基板表面からそれぞれ、該光伝送体アレイ原板の厚さの３０％以上５０％未満の深さの溝を削り込むことを特徴とする請求項１記載の光伝送体アレイの製造方法。
【請求項４】
前記溝を削り込む際、前記光伝送体アレイ原板は前記平板に吸引吸着により固定されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の光伝送体アレイの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、複数の棒状光伝送体が２枚の基板間に１層もしくは２層以上に平行配列され挟着された構造を有する光伝送体アレイ原板を平板上に固定し、該光伝送体アレイ原板の表面に溝を削り込み、この溝部において光伝送体アレイ原板を割断する工程を有することを特徴とする光伝送体アレイの製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月24日(2003.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の棒状光伝送体を、複数の吸引孔あるいは長手方向が互いに平行になるように配置された複数の吸引溝を備えた平面状の配列面を有する平板上に吸引支持させながら平行配列する吸引配列装置において、各吸引孔の直径あるいは各吸引溝の幅の最大値が、配列される棒状光伝送体の直径以下であることを特徴とする棒状光伝送体の吸引配列装置。
【請求項２】
前記配列面上において、隣り合う吸引孔あるいは吸引溝の間の距離が、配列される棒状光伝送体の直径以下となるように吸引孔あるいは吸引溝が配置されていることを特徴とする請求項１記載の棒状光伝送体の吸引配列装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、複数の棒状光伝送体を、複数の吸引孔あるいは長手方向が互いに平行になるように配置された複数の吸引溝を備えた平面状の配列面を有する平板上に吸引支持させながら平行配列する吸引配列装置において、各吸引孔の直径あるいは各吸引溝の幅の最大値が、配列される棒状光伝送体の直径以下であることを特徴とする棒状光伝送体の吸引配列装置に関する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また本発明は、前記配列面上において、隣り合う吸引孔あるいは吸引溝の間の距離が、配列される棒状光伝送体の直径以下となるように吸引孔あるいは吸引溝が配置されていることを特徴とする請求項１記載の棒状光伝送体の吸引配列装置に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また本発明においては、前記平板が、気体が通過できるように表面から裏面にかけて３次元的に微細孔が貫通している構造を有する多孔質体からなっていてもよい。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月25日(2003.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】パタン形成方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）カルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を含有するバインダ樹脂を、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を含有する化合物と酸触媒付加反応させて得られる樹脂と、（ｂ）放射線照射により酸を生じる化合物とを含むレジスト液を基板に塗布し、塗膜を形成する工程と、
放射線を用いて前記塗膜に所定のパタン潜像を形成する工程と、
アルカリ水溶液を現像液としてパタンを現出させる現像工程とを有することを特徴とするパタン形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載のパタン形成方法において、上記成分（ａ）のバインダ樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）が、１．０〜２．０の範囲にあることを特徴とするパタン形成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載のパタン形成方法において、上記成分（ａ）のバインダ樹脂が、ベンゼン環を３つ以上、水酸基を３つ以上有し、かつ１つのベンゼン環に有する水酸基が２つ以下であるポリヒドロキシ化合物であることを特徴とするパタン形成方法。
【請求項４】
請求項１に記載のパタン形成方法において、上記成分（ａ）のビニルエーテル基を有する化合物が、少なくとも２個の水酸基を有する化合物の水酸基部分にビニルエーテル基が直接または連結基を介して結合している構造を有することを特徴とするパタン形成方法。
【請求項５】
アルカリ可溶性バインダ樹脂に含まれるカルボキシル基またはフェノール性水酸基と、ビニルエーテルとの付加により生じる架橋構造の樹脂を含む化学増幅系レジスト液を準備する工程と、
前記レジスト液を基板上に塗布する工程と、その後、
前記基板に放射線を照射、アルカリ水溶液で現像することにより所望のレジストパタンを得ることを特徴とするパタン形成方法。
【請求項６】
請求項５記載のパタン形成方法において、前記アルカリ可溶性バインダ樹脂は、重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜２００００の範囲であることを特徴とするパタン形成方法。
【請求項７】
請求項６記載のパタン形成方法において、前記アルカリ可溶性バインダ樹脂は、前記重量平均分子量に対する数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜２．０の範囲であることを特徴とするパタン形成方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置等の微細加工に用いられるパタン形成方法に係り、特にＸ線、電子線等の電離放射線のパタン露光によりパタン潜像形成部に酸を生成せしめ、この酸を触媒とする反応によって、照射部と未照射部のアルカリ水溶液に対する溶解性を変化させ、アルカリ水溶液を現像液とする現像工程によりパタンを現出させるパタン形成方法に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の目的は、高感度で高解像度のレジストパタンを形成できるパタン形成方法を提供することにある。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
【発明の効果】
本発明によれば、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線、その他の活性放射線に対して高感度で高解像度に優れたレジストパタンを形成できる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月12日(2003.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも結着樹脂、着色剤、離型剤及び、オキサゾリン系化合物又はオキサゾリン基を有する樹脂成分を含有するトナー粒子を有する乾式トナーであって、
該結着樹脂が、カルボキシル基又は酸無水物基を有する樹脂であり、
ｉ）分子中に２個以上のオキサゾリン基を有するオキサゾリン系化合物が、該結着樹脂１００重量部に対して、０．００１〜３０重量部含有されているか、又は、ｉｉ）分子中に２個以上のオキサゾリン基を有する樹脂成分が、該結着樹脂１００重量部に対して、０．０１〜５０重量部含有されており、且つ、
該離型剤が、少なくとも下記式（１）で示される化合物を含有していることを特徴とする乾式トナー。
【化１】
2000292968.tif 000001
【請求項２】
ｉ）オキサゾリン系化合物が、結着樹脂１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部含有されているか、又は、ｉｉ）オキサゾリン基を有する樹脂成分が、結着樹脂１００重量部に対して、０．０５〜３０重量部含有されている請求項１に記載の乾式トナー。
【請求項３】
離型剤として１〜３０ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価を有するワックスが含まれている請求項１又は請求項２に記載の乾式トナー。
【請求項４】
離型剤として１〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価を有するワックスが含まれている請求項１又は請求項２に記載の乾式トナー。
【請求項５】
離型剤が、マレイン酸、マレイン酸ハーフエステル、無水マレイン酸のうち少なくとも１種類以上から選択される酸モノマーによって変性されている請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の乾式トナー。
【請求項６】
結着樹脂のカルボキシル基又は酸無水物基が、マレイン酸、マレイン酸ハーフエステル、マレイン酸無水物の少なくとも１種以上から選択される酸モノマーから生成されたものである請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の乾式トナー。
【請求項７】
結着樹脂がスチレン系共重合体である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の乾式トナー。
【請求項８】
トナー粒子が着色剤として磁性体を含有する磁性トナー粒子である請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の乾式トナー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【課題を解決するための手段】
下記の目的は、以下の本発明により達成される。即ち、本発明は、少なくとも結着樹脂、着色剤、離型剤及び、オキサゾリン系化合物又はオキサゾリン基を有する樹脂成分を含有するトナー粒子を有する乾式トナーであって、
該結着樹脂が、カルボキシル基又は酸無水物基を有する樹脂であり、
ｉ）分子中に２個以上のオキサゾリン基を有するオキサゾリン系化合物が、該結着樹脂１００重量部に対して、０．００１〜３０重量部含有されているか、又は、ｉｉ）分子中に２個以上のオキサゾリン基を有する樹脂成分が、該結着樹脂１００重量部に対して、０．０１〜５０重量部含有されており、且つ、
該離型剤が、少なくとも下記式（１）で示される化合物を含有していることを特徴とする乾式トナーである。
【化２】
2000292968.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月12日(2003.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも結着樹脂、着色剤及びオキサゾリン系化合物又はオキサゾリン基を有する樹脂成分を含有するトナー粒子を有する乾式トナーであって、
該結着樹脂が、カルボキシル基又は酸無水物基を有する樹脂であり、且つ、
ｉ）分子中に２個以上のオキサゾリン基を有するオキサゾリン系化合物が、該結着樹脂１００重量部に対して、０．００１〜３０重量部含有されているか、又は、ｉｉ）分子中に２個以上のオキサゾリン基を有する樹脂成分が、該結着樹脂１００重量部に対して、０．０１〜５０重量部含有されており、
トナーの粘弾性特性を測定した場合に、７５℃における貯蔵弾性率Ｇ’７５が３００，０００〜３０，０００，０００Ｐａであり、１２５℃における貯蔵弾性率Ｇ’１２５が１，０００〜１００，０００Ｐａであり、且つ、１９５℃における貯蔵弾性率Ｇ’１９５が２００〜４０，０００Ｐａであることを特徴とする乾式トナー。
【請求項２】
ｉ）オキサゾリン系化合物が、結着樹脂１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部含有されているか、又は、ｉｉ）オキサゾリン基を有する樹脂成分が、結着樹脂１００重量部に対して、０．０５〜３０重量部含有されている請求項１に記載の乾式トナー。
【請求項３】
７５℃における貯蔵弾性率Ｇ’７５が１，０００，０００〜１０，０００，０００Ｐａであり、１２５℃における貯蔵弾性率Ｇ’１２５が３，０００〜３０，０００Ｐａであり、且つ、１９５℃における貯蔵弾性率Ｇ’１９５が１，０００〜３０，０００Ｐａである請求項１又は請求項２に記載の乾式トナー。
【請求項４】
トナーから抽出したテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）可溶成分のゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）のクロマトグラムにおいて、分子量３，０００〜３０，０００の領域にメインピークを有し、且つ、分子量３００，０００〜３，０００，０００の領域にサブピークを少なくとも有する請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の乾式トナー。
【請求項５】
トナーから抽出したテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）可溶成分のＧＰＣのクロマトグラムにおいて、分子量４，０００〜２０，０００の領域にメインピークを有し、且つ、分子量３００，０００〜１，０００，０００の領域にサブピークを少なくとも有する請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の乾式トナー。
【請求項６】
結着樹脂のカルボキシル基又は酸無水物基が、マレイン酸、マレイン酸ハーフエステル、マレイン酸無水物の少なくとも１種以上から選択される酸モノマーから生成されたものである請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の乾式トナー。
【請求項７】
結着樹脂が、スチレン系共重合体である請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の乾式トナー。
【請求項８】
トナー粒子が、着色剤として磁性体を含有する磁性トナー粒子である請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の乾式トナー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記の目的は、下記の本発明によって達成される。即ち、本発明は、少なくとも結着樹脂、着色剤及びオキサゾリン系化合物又はオキサゾリン基を有する樹脂成分を含有するトナー粒子を有する乾式トナーであって、
該結着樹脂が、カルボキシル基又は酸無水物基を有する樹脂であり、且つ、
ｉ）分子中に２個以上のオキサゾリン基を有するオキサゾリン系化合物が、該結着樹脂１００重量部に対して、０．００１〜３０重量部含有されているか、又は、ｉｉ）分子中に２個以上のオキサゾリン基を有する樹脂成分が、該結着樹脂１００重量部に対して、０．０１〜５０重量部含有されており、
トナーの粘弾性特性を測定した場合に、７５℃における貯蔵弾性率Ｇ’７５が３００，０００〜３０，０００，０００Ｐａであり、１２５℃における貯蔵弾性率Ｇ’１２５が１，０００〜１００，０００Ｐａであり、且つ、１９５℃における貯蔵弾性率Ｇ’１９５が２００〜４０，０００Ｐａであることを特徴とする乾式トナーである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
更に、上記構成において、ｉ）分子中に２個以上のオキサゾリン基を有するオキサゾリン系化合物が、結着樹脂１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部含有されているか、又は、ｉｉ）このような樹脂成分が、結着樹脂１００重量部に対して、０．０５〜３０重量部含有されている形態が好ましい。
又、７５℃における貯蔵弾性率Ｇ’７５が１，０００，０００〜１０，０００，０００Ｐａであり、１２５℃における貯蔵弾性率Ｇ’１２５が３，０００〜３０，０００Ｐａであり、且つ、１９５℃における貯蔵弾性率Ｇ’１９５が１，０００〜３０，０００Ｐａであることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月19日(2003.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】粒子計測装置のデータ異常判定方法および粒子計測装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準とする粒子計測装置に標準試料を供給し、得られた度数分布の正規分布に対する逸脱の度合を基準逸脱度として算出し、
対象とする粒子計測装置に標準試料を供給し、得られた度数分布の正規分布に対する逸脱の度合を比較逸脱度として算出し、
基準逸脱度と比較逸脱度とを比較し、その比較結果により、対象とする粒子計測装置から得られた度数分布が異常であるか否かを判定する粒子計測装置のデータ異常判定方法。
【請求項２】
基準および比較逸脱度が歪度である請求項１記載の粒子計測装置のデータ異常判定方法。
【請求項３】
基準および比較逸脱度が尖度である請求項１記載の粒子計測装置のデータ異常判定方法。
【請求項４】
基準とする粒子計測装置と、対象とする粒子計測装置とは、機種が同一である請求項１記載の粒子計測装置のデータ異常判定方法。
【請求項５】
標準試料から信号を検出する検出手段と、
検出手段によって得られた信号に基づいて分布図を作成する分布図作成部と、
分布図作成部において作成される分布図において各粒子の分画領域を決定する分画領域決定部と、
分画領域内における度数分布の正規分布に対する歪度を演算する演算部とを備える粒子計測装置。
【請求項６】
標準試料から信号を検出する検出手段と、
検出手段によって得られた信号に基づいて分布図を作成する分布図作成部と、
分布図作成部において作成される分布図において各粒子の分画領域を決定する分画領域決定部と、
分画領域内における度数分布の正規分布に対する尖度を演算する演算部とを備える粒子計測装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、粒子計測装置のデータ異常判定方法および粒子計測装置に関し、特に、粒子計測装置の各種測定条件が安定に保たれているか否かを決定するために、粒子計測装置から得られる分布データの異常性を判定する方法および粒子計測装置に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この発明は、基準とする粒子計測装置に標準試料を供給し、得られた度数分布の正規分布に対する逸脱の度合を基準逸脱度として算出し、対象とする粒子計測装置に標準試料を供給し、得られた度数分布の正規分布に対する逸脱の度合を比較逸脱度として算出し、基準逸脱度と比較逸脱度とを比較し、その比較結果により、対象とする粒子計測装置から得られた度数分布が異常であるか否かを判定する粒子計測装置のデータ異常判定方法を提供するものである。
また、この発明は、標準試料から信号を検出する検出手段と、検出手段によって得られた信号に基づいて分布図を作成する分布図作成部と、分布図作成部において作成される分布図において各粒子の分画領域を決定する分画領域決定部と、分画領域内における度数分布の正規分布に対する歪度を演算する演算部とを備える粒子計測装置を提供するものである。
また、この発明は、標準試料から信号を検出する検出手段と、検出手段によって得られた信号に基づいて分布図を作成する分布図作成部と、分布図作成部において作成される分布図において各粒子の分画領域を決定する分画領域決定部と、分画領域内における度数分布の正規分布に対する尖度を演算する演算部とを備える粒子計測装置を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月8日(2003.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図中Ｌ１は正の屈折力の第１群、Ｌ２は負の屈折力の第２群、Ｌ３は正の屈折力の第３群、Ｌ４は正の屈折力の第４群であり、負の屈折力の第４１群と正の屈折力の第４２群とを有している。ＳＰは開口絞りであり、第３群Ｌ３の前方に配置している。ＧＡはズームレンズの保護を目的とした必要に応じて設けられる保護ガラス、ＧＢは色分解プリズムやフェースプレートやフィルター等のガラスブロックである。ＩＰは像面であり、ＣＣＤ等の撮像素子が配置されている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月23日(2003.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
板状体の少なくとも一面に断面鋸歯状の微細な凸条を多数有し、該凸条の少なくとも垂直面に紫外線硬化塗膜からなる無反射遮光膜を具備している防眩透明樹脂成形体において、該紫外線硬化塗膜が、鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ５４００）  Ｈ以上の耐擦傷性、８５°鏡面光沢（ＪＩＳ  Ｚ  ８７４１  ）１０以下を示すように調製された紫外線硬化形塗料組成物で形成され、該紫外線硬化形塗料組成物が、光重合性プレポリマーをアクリル樹脂アクリレートとし、光重合性モノマーをアクリロイル基を１個以上有するモノマーとするものであることを特徴とする。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（３）上記構成の遮光膜１６は、光重合性プレポリマーをアクリル樹脂アクリレートとし、光重合性モノマーをアクリロイル基を１個以上有するモノマーとする紫外線硬化形塗料組成物により形成できる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】図１におけるＡ−Ａ線部位の一例を示す概略断面図
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月6日(2003.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２種類の分散の異なる材質からなる層を複数基盤上に積層し、使用波長領域全域で特定次数の回折効率を高くするようにした回折光学素子に於いて、該複数の層を基盤側から順番に第ｉ層とし、第１層と第２層の境界を第１の回折格子面、第２層と第３層の境界を第２の回折格子面、第Ｌ層と第Ｌ＋１層の境界を第Ｌの回折格子面としたとき、偶数層は全域で均等な厚みを有する均等厚層より成ると共に、それを挟む奇数層の中間の熱膨張特性を有し、該均等厚層を介して各回折格子が接合されていることを特徴とする回折光学素子。
【請求項２】
前記均等厚層の厚みは、それと接する回折格子の格子溝の深さより厚いことを特徴とする請求項１の回折光学素子。
【請求項３】
前記均等厚層は反射防止特性を有する均等厚より成っていることを特徴とする請求項１の回折光学素子。
【請求項４】
前記均等厚層を構成する材料は、プラスチック光学材料または、紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項１の回折光学素子。
【請求項５】
前記使用波長域が、可視光域であることを特徴とする請求項１の回折光学素子。
【請求項６】
前記第１層と前記基盤が同材質であることを特徴とする請求項１の回折光学素子。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項記載の回折光学素子を用いたことを特徴とする光学系。
【請求項８】
前記光学系は、結像光学系であることを特徴とする請求項７の光学系。
【請求項９】
前記光学系は、観察光学系であることを特徴とする請求項７の光学系。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【課題を解決するための手段】
本発明の回折光学素子は、
（１−１）少なくとも２種類の分散の異なる材質からなる層を複数基盤上に積層し、使用波長領域全域で特定次数の回折効率を高くするようにした回折光学素子に於いて、該複数の層を基盤側から順番に第ｉ層とし、第１層と第２層の境界を第１の回折格子面、第２層と第３層の境界を第２の回折格子面、第Ｌ層と第Ｌ＋１層の境界を第Ｌの回折格子面としたとき、偶数層は全域で均等な厚みを有する均等厚層より成ると共に、それを挟む奇数層の中間の熱膨張特性を有し、該均等厚層を介して各回折格子が接合されていることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月25日(2003.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶装置へのアクセスの制御において、アクションの許可を決定する方法であって、
記憶装置にアクセスする複数のグループを規定するステップと、
複数のアクションタイプを規定し、前記各々のグループについて許可のレベルを対応させるステップと、
少なくとも一連のアクションタイプについて、対応するアクションを実行する複数の装置を規定するステップと、前記装置は少なくともデータ記憶装置の少なくとも１部分に対応しており、
グループの少なくとも１つに対して、要求されたアクションに対して許可を決定するステップからなり、前記許可の決定は 
もし該アクションが装置の１つに対応すれば、前記１つのグループに対応するアクションタイプについて許可レベルを調べること、および要求されたアクションに対応する複数の装置を調べることにより許可が決定され、
もしアクションが装置の１つに対応しない場合に、その１つのグループに対応するアクションタイプに対する許可レベルを調べることにより許可が決定されるようになっている 
アクションの許可の決定方法。
【請求項２】
アクションタイプはデータ記憶装置へのシステムコールを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
許可されている要求されたアクションに反応して、アクションが実行する後続の要求に連結して使われるためのタグを返すステップをさらに有する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
記憶装置へのアクセスの制御において、アクションの許可を決定する装置であって、
記憶装置へアクセスする複数のグループを規定する手段と、
複数のアクションタイプを規定し、前記各々のグループについて許可のレベルを対応させる手段と、
少なくとも一連のアクションタイプについて、対応するアクションを実行する複数の装置を規定する手段と、前記装置は少なくともデータ記憶装置の一部には対応しており、
グループの少なくとも１つに対して、要求されたアクションに対して許可を決定する手段とからなり、前記手段による許可の決定は
もし該アクションが装置の１つに対応すれば、前記１つのグループに対応するアクションタイプについて許可レベルを調べること、および要求されたアクションに対応する複数の装置を調べることにより許可が決定され、
もしアクションが装置の１つに対応しない場合に、その１つのグループに対応するアクションタイプに対する許可レベルを調べることにより許可が決定されるように行われる
アクション許可を決定する装置。
【請求項５】
記憶装置へのアクセスの制御において、アクションの許可を決定する方法であって、
要求者が要求者リストに含まれるか否かを決定するステップと、
要求されたアクションが要求者に関連するアクションタイプのリスト中に含まれる否かを決定するステップと、
アクションが少なくとも１つの装置を使用する場合に、少なくとも１つの装置が要求者および要求されたアクションに関連する装置のリストに含まれるか否を決定するステップからなり、
装置のリストは、少なくとも、データ記憶装置に関連する装置を含むものである、
アクションの許可を決定する方法。
【請求項６】
要求者が要求者リスト中に含まれない場合、要求者リストからデフォルト要求者を使用するステップを有する請求項５に記載の方法。
【請求項７】
許可されている要求に反応して、アクションを実行する後続の要求と連結して使用するタグを返すステップをさらに有する請求項５に記載の方法。
【請求項８】
記憶装置へのアクセスの制御において、アクションの許可を決定する装置であって、
要求者が要求者リストに含まれるか否かを決定する手段と、
要求されたアクションが要求者に関連するアクションタイプのリスト中に含まれる否かを決定する手段と、
アクションが少なくとも１つの装置を使用する場合に、前記少なくとも１つの装置が要求者および要求されたアクションに関連する装置のリストに含まれるか否を決定する手段からなり、
装置のリストは、少なくとも、データ記憶装置に関連する装置を含むものである
アクションの許可を決定する装置。
【請求項９】
データ記憶装置の制御方法において、
データ記憶装置にアクセスする少なくとも１つの要求元のグループを提供するステップと、
データ記憶装置の中の少なくとも１つの装置のプールを提供するステップと、
複数のアクセスタイプを提供するステップと、
前記装置のプールの少なくとも１つの装置について、少なくとも１つの要求元のグループの１つの要求元による要求が、許可されているかどうかを決定するステップとからなり、それによりその装置が要求の対象となること、
からなる方法。
【請求項１０】
アクセスタイプは、ミラーリング、コピー、バックアップ、分割、およびトラッキングシステムコールの少なくとも１つを含む請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
少なくとも１つのグループと少なくとも１つの装置のプールは、唯一性を有するＩＤナンバーを有する論理ユニットと物理ユニットを含む請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも１つの装置プールは、データ記憶装置の通信ポートおよびデータ記憶装置のメモリの部分の少なくとも１つを含む請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
データ記憶装置を制御する装置において、
データ記憶装置にアクセスする少なくとも１つの要求元のグループを規定する手段と、
データ記憶装置の中の少なくとも１つの装置のプールを規定する手段と、
複数のアクセスタイプを規定する手段と、
前記装置のプールの少なくとも１つの装置について、少なくとも１つの要求元グループの中の１つの要求元による要求が、許可されているかどうかを決定する手段とからなり、それによりその装置がその要求の対象となる、
制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月29日(2003.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酵素反応を用いて被検液中のＡＤＰを測定する方法において、被検液を少なくともグルコース、ＡＤＰ依存性ヘキソキナーゼ、酸化型ＮＡＤ（Ｐ）類、グルコース−６−リン酸脱水素酵素およびマグネシウムイオン、コバルトイオンおよびマンガンイオンからなる群より選ばれた１種または２種以上のイオン放出性塩類の存在下、１５〜４５℃の温度条件にて反応させ、被検液中のＡＤＰを反応によって生成されるＡＭＰとともに、還元型ＮＡＤ（Ｐ）類の生成量に基づいて測定する方法。
【請求項２】
ＡＤＰが、存在または形成されたＡＤＰである請求項１に記載の測定する方法。
【請求項３】
ＡＤＰ依存性ヘキソキナーゼが、高度好熱性ＡＤＰ依存性ヘキソキナーゼである請求項１に記載の測定する方法。
【請求項４】
温度条件が２０〜４０℃である請求項１記載の測定する方法。
【請求項５】
ＡＤＰ依存性ヘキソキナーゼおよびグルコース−６−リン酸脱水素酵素が０．１〜１００Ｕ／ｍｌ、グルコースが０．５〜１００ｍＭ、酸化型ＮＡＤ（Ｐ）が０．５〜５０ｍＭ、イオン放出性塩類が０．１〜５０ｍＭの濃度である請求項１に記載の測定する方法。
【請求項６】
ＡＤＰ依存性ヘキソキナーゼおよびグルコース−６−リン酸脱水素酵素が０．１〜１００Ｕ／ｍｌ、グルコースが０．５〜１００ｍＭ、酸化型ＮＡＤ（Ｐ）が０．５〜５０ｍＭ、イオン放出性塩類が０．１〜５０ｍＭの濃度である生体試料中のＡＤＰ測定用組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は酵素反応を用いて被検液中のＡＤＰを測定する方法において、被検液を少なくともグルコース、ＡＤＰ依存性ヘキソキナーゼ（ＡＤＰ−ＨＫ）、酸化型ＮＡＤ（Ｐ）〔酸化型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（リン酸）〕類、グルコース−６−リン酸脱水素酵素（Ｇ６ＰＤＨ）およびマグネシウムイオン、コバルトイオンおよびマンガンイオンからなる群より選ばれた１種または２種以上のイオン放出性塩類の存在下、１５〜４５℃の温度条件にて反応させ、被検液中のＡＤＰを反応によって生成されるＡＭＰとともに、還元型ＮＡＤ（Ｐ）〔還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（リン酸）〕類の生成量に基づいて測定する方法および生体試料中のＡＤＰを測定する測定用組成物に関し、臨床検査などの分野で用いられ、血清、血漿、尿、髄液などの被検液中のＡＤＰを還元型ＮＡＤ（Ｐ）類の生成、増加量として簡便かつ正確に測定する目的である。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月17日(2003.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】廃棄物処理システムと方法及びそれにより製造されたセメント
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃棄物を熱分解するガス化炉と、
前記ガス化炉において熱分解により得られた生成物を燃焼させて溶融スラグを排出する溶融炉と、
前記溶融炉から排出された溶融スラグを冷却する冷却装置と、
前記冷却装置において冷却されたスラグをセメント原料として利用するセメント製造設備と、
を備えたことを特徴とする廃棄物処理システム。
【請求項２】
前記冷却装置は、前記溶融スラグを水にて冷却する水槽であることを特徴とする請求項１記載の廃棄物処理システム。
【請求項３】
前記廃棄物処理システムは、前記溶融炉の排ガスを処理する排ガス処理装置を備えると共に、前記セメント製造設備からの排ガスを、前記排ガス処理装置に供給することを特徴とする請求項１記載の廃棄物処理システム。
【請求項４】
廃棄物を熱分解するガス化工程と、
前記ガス化工程において熱分解により得られた生成物を燃焼させて溶融スラグを排出する溶融工程と、
前記溶融工程から排出された溶融スラグを冷却する冷却工程と、
前記冷却工程において冷却されたスラグをセメント原料として利用するセメント製造工程と、
からなることを特徴とする廃棄物処理方法。
【請求項５】
前記冷却工程は、前記溶融スラグを水にて冷却することを特徴とする請求項４記載の廃棄物処理方法。
【請求項６】
前記廃棄物処理方法は、さらに前記溶融工程から排出される排ガスを処理する排ガス処理工程を含み、前記セメント製造工程から排出される排ガスを、前記排ガス処理工程に供給することを特徴とする請求項４記載の廃棄物処理方法。
【請求項７】
廃棄物をガス化炉にて熱分解し、
前記ガス化炉において熱分解により得られた生成物を溶融炉にて燃焼させて溶融スラグを排出し、
前記溶融炉から排出された溶融スラグを冷却し、
前記冷却された溶融スラグをセメント原料として利用することにより製造されたことを特徴とするセメント。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、廃棄物の処理に係り、特に、廃棄物のガス化燃焼に伴ない得られるスラグを有効利用する廃棄物の処理システムと方法及びそれにより製造されたセメントに関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点を解消し、廃棄物の焼却により出る焼却灰を有効利用すると共に、ロータリーキルン排ガスを簡便に処理できる廃棄物処理システムと方法及びそれにより製造されたセメントを提供することを課題とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、廃棄物を熱分解するガス化炉と、前記ガス化炉において熱分解により得られた生成物を燃焼させて溶融スラグを排出する溶融炉と、前記溶融炉から排出された溶融スラグを冷却する冷却装置と、前記冷却装置において冷却されたスラグをセメント原料として利用するセメント製造設備と、を備えたことを特徴とする廃棄物処理システムとしたものである。
また、本発明では、廃棄物を熱分解するガス化工程と、前記ガス化工程において熱分解により得られた生成物を燃焼させて溶融スラグを排出する溶融工程と、前記溶融工程から排出された溶融スラグを冷却する冷却工程と、  前記冷却工程において冷却されたスラグをセメント原料として利用するセメント製造工程と、からなることを特徴とする廃棄物処理方法としたものである。
前記本発明において、溶融スラグの冷却は水で行い、また、前記廃棄物処理システムには、排ガスの処理装置を含み、前記溶融炉からの排ガスと前記セメント製造設備からの排ガスを一緒に処理することができる。
さらに、本発明では、廃棄物をガス化炉にて熱分解し、前記ガス化炉において熱分解により得られた生成物を溶融炉にて燃焼させて溶融スラグを排出し、前記溶融炉から排出された溶融スラグを冷却し、前記冷却された溶融スラグをセメント原料として利用することにより製造されたことを特徴とするセメントとしたものである。
前記処理方法において、排ガス処理工程は、脱塵、脱塩化水素及び脱硝処理を含み、また、前記セメントの原料は、セメントクリンカ焼成用のロータリーキルンで焼成され、そして、該ロータリーキルン排ガスは、前記排ガス処理工程で併せて処理するのが良い。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月24日(2003.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】飛灰中の重金属を固定化する方法及び重金属固定化剤
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飛灰にジチオカルバミン酸又はその塩と少なくとも一つ以上の１級又は２級アミノ基を有するアミン化合物とを水とともに添加し混練することを特徴とする飛灰中の重金属を固定化する方法。
【請求項２】
ジチオカルバミン酸又はその塩が、窒素数４以上のポリエチレンポリアミン又は窒素数２以上の環状ポリアミンから合成された化合物であることを特徴とする請求項１に記載の飛灰中の重金属を固定化する方法。
【請求項３】
少なくとも一つ以上の１級又は２級アミノ基を有するアミン化合物が、ポリエチレンポリアミンであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の飛灰中の重金属を固定化する方法。
【請求項４】
ポリエチレンポリアミンが、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、ヘキサエチレンヘプタミン及びヘプタエチレンオクタミンからなる群から選ばれる１種又は２種以上であることを特徴とする請求項３に記載の飛灰中の重金属を固定化する方法。
【請求項５】
少なくとも一つ以上の１級又は２級アミノ基を有するアミン化合物が、少なくとも一つ以上の脂肪族環状内２級アミノ基を有する環状ポリアミンであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の飛灰中の重金属を固定化する方法。
【請求項６】
少なくとも一つ以上の脂肪族環状内２級アミノ基を有する環状ポリアミンが、ピペラジン及び／又はＮ−アミノエチルピペラジンであることを特徴とする請求項５に記載の飛灰中の重金属を固定化する方法。
【請求項７】
少なくとも一つ以上の脂肪族環状内２級アミノ基を有する環状ポリアミンが、ピペラジンであることを特徴とする請求項５に記載の飛灰中の重金属を固定化する方法。
【請求項８】
少なくとも一つ以上の１級もしくは２級アミノ基を有するアミン化合物が、２級アミノ基のみからなるアミン化合物であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の飛灰中の重金属を固定化する方法。
【請求項９】
ジチオカルバミン酸又はその塩と少なくとも一つ以上の１級又は２級アミノ基を有するアミン化合物からなる重金属固定化剤。
【請求項１０】
ジチオカルバミン酸又はその塩が、窒素数４以上のポリエチレンポリアミン又は窒素数２以上の環状ポリアミンから合成された化合物であることを特徴とする請求項９に記載の重金属固定化剤。
【請求項１１】
少なくとも一つ以上の１級又は２級アミノ基を有するアミン化合物が、ポリエチレンポリアミンであることを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の重金属固定化剤。
【請求項１２】
ポリエチレンポリアミンが、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、ヘキサエチレンヘプタミン及びヘプタエチレンオクタミンからなる群から選ばれる１種又は２種以上であることを特徴とする請求項１１に記載の重金属固定化剤。
【請求項１３】
少なくとも一つ以上の１級又は２級アミノ基を有するアミン化合物が、少なくとも一つ以上の脂肪族環状内２級アミノ基を有する環状ポリアミンであることを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の重金属固定化剤。
【請求項１４】
少なくとも一つ以上の脂肪族環状内２級アミノ基を有する環状ポリアミンが、ピペラジン及び／又はＮ−アミノエチルピペラジンであることを特徴とする請求項１３に記載の重金属固定化剤。
【請求項１５】
少なくとも一つ以上の脂肪族環状内２級アミノ基を有する環状ポリアミンが、ピペラジンであることを特徴とする請求項１３に記載の重金属固定化剤。
【請求項１６】
少なくとも一つ以上の１級もしくは２級アミノ基を有するアミン化合物が、２級アミノ基のみからなるアミン化合物であることを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の重金属固定化剤。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月11日(2003.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部表面を有する光学装置（１２）に第１端を有する鞏膜（１０）をつなぎ止める方法であって、
（ｉ）光学装置（１２）内に放射状のボア（１６）を形成し、
（ii）光学装置（１２）の上部表面を通して放射状ボア（１６）と交差する軸方向ボア（１８）を形成し、そして
（iii）放射状ボア（１６）内に鞏膜（１０）の第１端を挿入することにより、
光学装置（１２）内に鞏膜（１０）の第１端を挿入する工程と、
赤外領域付近の波長を有するレーザー・ビームを使用して、軸方向ボア（１８）を通して前記第１端をそのレーザー・ビームに露出させることにより、露出された挿入鞏膜（１０）の第１端の一部を融溶させる工程と、
ビードに合着するように融溶した鞏膜（１０）を冷却させ、光学装置（１２）に鞏膜（１０）をつなぎ止める工程と、を含み、
鞏膜（１０）の一部を溶融させる工程がダイオード・レーザーの使用を含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
溶融工程が、
ダイオード・レーザー・ビームと照準ビームとを含む同軸レーザー・ビームを視準する工程であって、視準されたビームが長円形の断面を有するものである工程と、
顕微鏡対物レンズ（２６）を使用して、視準されたビームを軸方向ボア（１８）の内径よりも大きな短径を有する長円形ビームに焦点を合わせる工程と、
調整されたレーザー・ビームを軸方向ボア（１８）上に照射して、露出した鞏膜部分を加熱し、そしてその鞏膜（１０）の材料を溶融させる工程と、をさらに含む、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
溶融工程が、レーザー・ビームを鞏膜（１０）上に照射するための照準可視ビームの使用をさらに含み、照準ビームがレーザー・ビームと同軸である、請求項１記載の方法。
【請求項４】
ＣＣＤビデオ・カメラを用いてビームの照準を監視することにより、同軸ビームの照準を制御する工程をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
光学装置（１２）に、放射状ボア（１６）を通して光学装置（１０）内に挿入された鞏膜（１０）をつなぎ止めるためのレーザー装置であって、
レーザーが、光学装置（１２）上の軸方向ボア（１８）を通して、挿入された鞏膜（１０）部分を加熱し、
レーザー装置が、
赤外領域付近の波長を有するレーザー・ビームを作り出すレーザー源と、
照射光学装置固定具（２２）と、
照射光学装置固定具（２２）上に調整可能に載置された環状本体（２０）であって、共通の中心軸のまわりに、上部筒状セクション（２３）及び下部筒状セクション（２４）を有する本体と、
レーザー・ビームを視準するために本体下部セクション（２４）内に設置された視準器（３０）と、
レーザー源から視準器（３０）にレーザー・ビームを伝達するための光ファイバー・ケーブル（４２）と、を含み、
光ファイバー・ケーブル（４２）を支持し、本体上部セクション（２３）内及び視準器（３０）の上方に同心円状に設置されたフェルールと、
鞏膜（１０）と光学装置（１２）が照射光学装置固定具（２２）上の本体の下方に配置されるとき、軸方向ボア（１８）を通して鞏膜（１０）上に視準されたビームを調整し、焦点を合わせるように、視準されたビームと同一線上に本体下部セクション（２４）内に設置される対物レンズ（２６）とを含み、
レーザー源がダイオード・レーザー源であることを特徴とするレーザー装置。
【請求項６】
レーザー源が、レーザー・ビームと同軸で照準ビームをさらに作り出す、請求項５記載のレーザー装置。
【請求項７】
同軸ビームの照準を監視することを許容するＣＣＤビデオ・カメラをさらに含む、請求項６記載のレーザー装置。
【請求項８】
調整され、かつ、焦点を合わせられたレーザー・ビームが、約０．２mmに等しいか又はこれより大きな短径をもつ長円である、請求項５記載のレーザー装置。