Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月31日(2012.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲルの総質量に対してペルフルオロカーボン10〜90wt％、界面活性剤１〜５wt％及び水８〜70wt％を含み、該ペルフルオロカーボンが、ペルフルオロ(tert−ブチルシクロヘキサン)である、ペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項２】
界面活性剤が、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロック共重合体を含み、該ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロック共重合体が、好ましくはポロキサマー105及び／又はポロキサマー188を含む、請求項１に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項３】
組成物が、ビタミンＥ 0.01〜10wt％をさらに含み、好ましくは該組成物がビタミンＥ 0.03wt％を含む、該請求項１又は２に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項４】
組成物が、保存剤0.02〜3.20wt％をさらに含み、好ましくは該保存剤がポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド)、ポリ(アクリルアミド−コ−ジアリルジメチルアンモニウムクロリド)及び／又はエチレンジアミン四酢酸を含み、そして好ましくは該保存剤が、ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0〜0.40wt％、ポリ(アクリルアミド−コ−ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0.01〜0.80wt％及びエチレンジアミン四酢酸0.01〜2.00wt％を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項５】
組成物が、ペルフルオロカーボン90wt％、水８wt％、及び界面活性剤２wt％を含むか、又は該組成物が、ペルフルオロカーボン30〜50wt％、水48〜70wt％、及び界面活性剤２wt％を含むか、又は該組成物が、ペルフルオロカーボン86.86wt％、水10.42wt％、界面活性剤2.69wt％及びビタミンＥ 0.03wt％を含み、好ましくは該組成物が、ペルフルオロ(tert−ブチルシクロヘキサン) 86.86wt％、水10.42wt％、ポロキサマー105 2.43wt％、ポロキサマー188 0.26wt％及びビタミンＥ 0.03wt％を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項６】
組成物が、ペルフルオロ(tert−ブチルシクロヘキサン) 84〜88wt％、水９〜11wt％、ポロキサマー105 ２〜３wt％、ポロキサマー188 0.01〜１wt％、ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0〜0.40wt％、ポリ(アクリルアミド−コ−ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0.01〜0.80wt％及びエチレンジアミン四酢酸0.01〜2.00wt％を含み、好ましくは該組成物が、ペルフルオロ(tert−ブチルシクロヘキサン) 85.98wt％、水10.28wt％、ポロキサマー105 2.45wt％、ポロキサマー188 0.31wt％、ポリ(アクリルアミド−コ−ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0.74wt％及びエチレンジアミン四酢酸0.25wt％を含むか、又は該組成物が、ペルフルオロ(tert−ブチルシクロヘキサン) 86.73wt％、水10.37wt％、ポロキサマー105 2.47wt％、ポロキサマー188 0.31wt％、ポリ(アクリルアミド−コ−ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0.10wt％及びエチレンジアミン四酢酸0.03wt％を含むか、又は該組成物が、ペルフルオロ(tert−ブチルシクロヘキサン) 85.98wt％、水10.28wt％、ポロキサマー105 2.45wt％、ポロキサマー188 0.31wt％、ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0.25wt％、ポリ(アクリルアミド−コ−ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0.50wt％及びエチレンジアミン四酢酸0.25wt％を含むか、又は該組成物が、ペルフルオロ(tert−ブチルシクロヘキサン) 86.73wt％、水10.37wt％、ポロキサマー105 2.47wt％、ポロキサマー188 0.31wt％、ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0.03wt％、ポリ(アクリルアミド−コ−ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 0.07wt％及びエチレンジアミン四酢酸0.03wt％を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項７】
尿素過酸化水素及び／又は銅0.10〜２wt％をさらに含み、好ましくは該銅が酸化銅（II）である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項８】
0.2cc／時間〜20.0cc／時間の速度で、最大で２４時間まで組織に酸素を連続的に送達することを特徴とし、好ましくは該組成物が、2.0cc／時間の速度で、２４時間、組織に酸素を連続的に送達する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項９】
0.2cc／時間〜20.0cc／時間の速度で、最大で２４時間まで組織に酸素を連続的に送達するために使用する、請求項１〜８のいずれか１項に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項１０】
対象の皮膚の張りを増加させるか、若しくは対象の皮膚の小じわ、しわ若しくは瘢痕を減らすために使用する、又はそれらに罹患する対象の創傷、熱傷又は酒さの治療のために使用する、請求項１〜８のいずれか１項に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項１１】
対象のざ瘡を治療するため、対象のざ瘡の瘢痕化を減らすため、対象の皮膚毛胞のプロピオニバクテリウム・アクネスの感染を減らすため、対象の真皮におけるプロピオニバクテリウム・アクネスの増殖を減らすため、対象のざ瘡の予防のため、又は対象の皮膚上若しくは皮膚内のプロピオニバクテリウム・アクネスを殺菌するために使用する、請求項１〜８のいずれか1項に記載のペルフルオロカーボンゲル組成物であって、該ペルフルオロカーボンは好ましくは医薬組成物又は化粧用組成物に含まれる、上記ペルフルオロカーボンゲル組成物。
【請求項１２】
ａ）容器中水相成分を混合する工程；
ｂ）その混合物をホモジナイズする工程；
ｃ）その混合物に高速ホモジナイゼーション中ペルフルオロカーボンを時間をかけて添加する工程；及び
ｄ）ゲルを得る工程
を含む、ペルフルオロカーボンゲル組成物の製造方法であって、
該ペルフルオロカーボンは好ましくはペルフルオロ(tert−ブチルシクロヘキサン)である、上記製造方法。
【請求項１３】
工程ａ）において、水相成分が、蒸留水、界面活性剤及び／又は保存剤を含み、そして好ましくは容器が、ガラス、ポリエチレン、PET、又はステンレス鋼容器である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
工程ｂ）において、ホモジナイザーがローターステーターホモジナイザーである、請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
工程ｂ）において、混合物を４〜６分間ホモジナイズし、好ましくは該混合物を５分間ホモジナイズし、そして好ましくは該混合物を10,000〜35,000RPMでホモジナイズする、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
工程ｃ）において、ペルフルオロカーボンを１０〜３０分かけて連続的に又はアリコートに分けて添加する、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月29日(2012.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｔｃｌ１上のエピトープに結合する抗体であって、当該抗体は、当該エピトープとアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）の間の相互作用、の少なくとも１つを調節する、前記抗体。
【請求項２】
請求項１に記載の抗体を含む、医薬組成物。
【請求項３】
哺乳動物においてアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）の活性が改変される、Ｂ−ＣＬＬ疾患状態を治療するための医薬組成物であって、Ｔｃｌ１タンパク質上のエピトープに結合可能な抗体を含み、ここで当該抗体はＴｃｌ１が増進するアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）の活性を調節する、前記医薬組成物。
【請求項４】
哺乳動物においてアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）の活性が改変される、Ｂ−ＣＬＬ疾患状態を治療するための医薬組成物であって、アクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）のペプチド断片を含み、ここで当該ペプチド断片は、アクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）に結合し、そして、Ｔｃｌ１が増進するアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）のキナーゼ活性を調節する、前記医薬組成物。
【請求項５】
Ｔｃｌ１模倣体を含む化合物であって、当該Ｔｃｌ１模倣体は、いかなる細胞においてもアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）に結合し、そしてＴｃｌ１が増進するアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）の活性化を模倣するのに機能的に活性である、前記化合物。
【請求項６】
哺乳動物においてアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）の活性が改変される、Ｂ−ＣＬＬ疾患状態を治療するための医薬組成物であって、Ｔｃｌ１模倣体を含み、ここで当該Ｔｃｌ１模倣体は、アクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）に結合し、そして、Ｔｃｌ１が増進するアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）のキナーゼ活性を活性化する、前記医薬組成物。
【請求項７】
Ｔｃｌ１アンタゴニストを含む化合物であって、ここで当該Ｔｃｌ１アンタゴニストは、いかなる細胞においてもアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）に結合し、そしてＴｃｌ１が増進するアクチベータータンパク質１（ＡＰ−１）の活性化を調節するのに機能的に活性である、前記化合物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年11月5日(2012.11.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
以下において、例を使って本発明をより詳細に説明する。図１は、装置の第一のシーケンスを形成する、流動床を備えた尿素造粒機１、造粒機スクラバーダスト段２、及び造粒機スクラバー酸段３、及び生成物冷却機５、及び装置の第二のシーケンスを形成する生成物冷却スクラバーダスト段４、蒸発ユニット６、凝縮機ユニット７、及び主なプロセスの流れを備えた、尿素造粒機のブロック図を示している。該尿素造粒機は、流動床を具えた造粒機又はその他の造粒機の代わりのドラム式造粒機であることができ、これは新鮮な空気を使用するものである。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
【表１】
2012509833.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月11日(2012.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器についての異なる充満度の表示と、
容器がどの程度満たされているのかの見積もりをこのシステムへ指示するための手動入力装置と、
梱包容器の一以上の特徴を識別する容器入力装置と、
見積もられた充満度、および上記容器の一以上の特徴に基づいて、上記容器へ分配すべきダンネージがどれくらいかを示す出力信号を供給する電子制御装置と
を含み、
前記手動入力装置は、前記表示と関連して、梱包される一以上の物品を有している梱包容器の、見積もられた充満度を入力するための装置を含み、
前記制御装置は、前記容器入力装置および前記手動入力装置と通信し、入力された上記見積もられた充満度および入力された容器の識別に基づいて、容器へ分配されるダンネージの量を決定する空隙充填梱包システム。
【請求項２】
前記制御装置は、前記手動入力装置からの信号および前記容器入力装置からの信号に基づいて、容器へ分配するダンネージの量を示す出力信号を供給する
請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記表示は、
（ａ）少なくとも２つの入力オプションを示す表示要素、および
（ｂ）空の状態と充満している状態との間の、入力オプション連続的な範囲を示す表示要素
の一つ以上を含む請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記容器入力装置は、
（ａ）容器の形状を示すためのセンサ、および、
（ｂ）梱包ステーションにおいて容器の重さを計るためのはかり
の一つ以上を含み、
前記制御装置は、より低い出荷料とするためにどのくらい少ないダンネージが分配されるべきかを決定するため、並びに、見積もられた充満度および一以上の容器の特徴に基づいて容器へ分配されるダンネージがどれくらいかを示す出力信号に加えて、削減されたダンネージの量を示す信号を出力するために、容器の重量と出荷料表とを比較する
請求項１から３の何れか１項に記載のシステム。
【請求項５】
前記手動入力装置は、
（ａ）梱包される一以上の製品によって容器が満たされている相対的な度合いを示す複数の入力オプションから、一の離散的な入力オプションを選択するための手段、
（ｂ）容器の相対的な充満の度合いを示すための一以上の位置センサおよび一以上のスイッチ、および
（ｃ）空の状態と一杯に満たされた状態との間の複数の入力オプションと一体となった、可変の充満レベルのインジケータ
の一つ以上を含む
請求項１から４の何れか１項に記載のシステム。
【請求項６】
前記手動入力装置は、
（ａ）およそ２つからおよそ５つの離散的な入力オプション、
（ｂ）空の状態と一杯に満たされた状態との間の入力オプションの範囲、
（ｃ）実質的に連続する、空の状態と一杯に満たされた状態との間の入力オプションの範囲、および
（ｄ）空の状態，２５％満たされた状態，５０％満たされた状態，７５％満たされた状態，および一杯に満たされた状態を含む入力オプション
の一つ以上を提供する
請求項１から５の何れか１項に記載のシステム。
【請求項７】
前記制御装置と通信する、指示されたダンネージの量を分配するダンネージ分配装置を含み、
前記ダンネージ分配装置は、
（ａ）素材をダンネージ製品へ変換する変換機、および
（ｂ）手動でダンネージを分配するためのダンネージ分配入力装置
の一つ以上を含む
請求項１から６の何れか１項に記載のシステム。
【請求項８】
容器についての異なる充満度を表示する手段、
梱包されるべき一以上の製品によって容器が満たされている相対的な度合いを手動入力するための手段、
容器の一以上の特徴を識別するための手段、および
手動入力された相対的な充満の度合い、および、識別された容器の特徴に基づいて、分配するダンネージの量を示す信号を出力するための手段
を含み、
前記手動入力するための手段は、前記表示する手段と関連して、梱包される一以上の物品を有している梱包容器の、相対的な充満の度合いを入力するための手段を含み、
前記出力するための手段は、前記識別するための手段および前記手動入力するための手段と通信し、手動入力された上記相対的な充満の度合いおよび入力された容器の識別に基づいて、容器へ分配されるダンネージの量を決定する梱包システム。
【請求項９】
梱包容器へ分配されるダンネージの量を制御するための方法であって、
出荷容器内に一以上の包装物品が収容されている容器の一以上の特徴を識別する工程、
容器の見積もられた充満の度合いを手動入力する工程、
および、
見積もられた充満の度合い、および、一以上の識別された容器の特徴に基づいて、容器へ供給するダンネージの量を示す出力信号を供給する工程
を含み、
前記手動入力する工程は、
（ａ）本体の位置が検知されるように、見積もられた充満の度合いの表示付近に本体を配置する工程、
（ｂ）およそ２つから５つの離散的な入力オプションから選択する工程、
（ｃ）空の状態，２５％満たされた状態，５０％満たされた状態，７５％満たされた状態，および一杯に満たされた状態を含む離散的な入力オプションから選択する工程、および
（ｄ）ほぼ空の状態，半分満たされた状態，およびほぼ一杯に満たされた状態を含む離散的な入力オプションから選択する工程
の一つ以上を含む方法。
【請求項１０】
（ａ）前記識別する工程が、容器の一以上の寸法を検知することを含むこと、
（ｂ）出力信号に基づいて、指示されたダンネージの量を分配する工程、
（ｃ）識別された容器の特徴に基づいて、容器の空の状態の容量を決定する工程、
（ｄ）容器の空の状態の容量および容器の見積もられた充満の相対的な度合いに基づいて、容器の空きの容量を決定する工程、および
（ｅ）ある量のダンネージを手動で分配する工程
の一つ以上を含む
請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記供給する工程は、
（ａ）指示された量のダンネージを分配するため、前記出力信号をダンネージ分配装置へ送信する工程、および
（ｂ）指示された量のダンネージを分配するため、素材をダンネージ製品へ変換するダンネージ変換機へ、前記出力信号を送信する工程
の一つ以上を含む
請求項９または１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気消費電池（３０）に空気を供給するための空気マネージャ（１２）であって、
空気消費電池セル（３０）の空気消費電極（４０）と流体連通するように適合されたプレナム（２８）を定めるハウジング部材（２０）と、
前記プレナム（２８）と流体連通して前記プレナム（２８）内に空気を注入するための空気注入プライマ（１６）であって、
空気注入部分（１９）とユーザ作動部分（１７）を備え、空気注入部分は前記空気作動部分のユーザ作動によって移動し、前記流体消費電池セル（３０）内で使用するための空気を前記プレナム（２８）内に注入する、空気注入プライマ（１６）と、
起動可能摺動プレートと、
前記バルブを起動するアクチュエータと、を備えた、
ことを特徴とする空気マネージャ（１２）。
【請求項２】
前記空気注入プライマ（１６）は、手動で動作させるエアームーバを備えることを特徴とする、請求項１に記載の流体マネージャ。
【請求項３】
前記手動で動作させるエアームーバは、伸縮するベローズ（１６）を備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載の流体マネージャ（１２）。
【請求項４】
前記ベローズは、前記プレナム（２８）から外部環境に通じる開口部（１８）を備え、前記開口部（１８）は、ユーザによる前記ユーザ作動部分の作動によって係合するように適合されることを特徴とする、請求項３に記載の流体マネージャ（１２）。
【請求項５】
前記手動で動作させるエアームーバは手動で始動するファンを備えることを特徴とする、請求項２に記載の流体マネージャ（１２）。
【請求項６】
前記空気注入部分（１９）は圧縮可能であることを特徴とする、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の流体マネージャ（１２）。
【請求項７】
前記空気マネージャ（１２）は、前記アクチュエータを制御して前記バルブを開閉させるコントローラをさらに備えることを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の空気マネージャ（１２）。
【請求項８】
前記アクチュエータはＳＭＡを備えることを特徴とする、請求項７に記載の空気マネージャ。
【請求項９】
前記バルブは少なくとも１つの移動プレートを含み、前記アクチュエータは前記少なくとも１つの移動プレートを開放位置と閉鎖位置の間で移動させて前記空気消費電極（４０）に供給される流体を制御することを特徴とする、請求項７または請求項８のいずれかに記載の流体マネージャ。
【請求項１０】
１つ又はそれ以上の開口部を有する電池ハウジングと、
前記電池ハウジング内に配置され、前記１つ又はそれ以上の開口部と流体連通する空気消費電極（４０）を備えた空気消費セルと、
請求項１から請求項９のいずれか１つの請求項に記載の流体マネージャ（１２）と、
を備えた空気消費電池（３０）。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月31日(2012.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのスイッチング要素（２）がスイッチ筐体（３）に配置され、前記スイッチング要素（２）が、前記スイッチ筐体（３）から突出しスリーブ（１９）内を案内されかつ被覆要素（４）によって被覆されたタペット（１１）を含み、前記スリーブ（１９）が前記スイッチ筐体（３）の開口（１８）を介して外側に突出し、前記被覆要素（４）が前記スリーブ（１９）に接続され、前記スリーブ（１９）が、取り付けられた状態で前記スイッチ筐体（３）の外面（３ｃ）に当接支持される外向きに延びるつば（１９ａ）を有し、かつ前記スリーブ（１９）が、取り付けられた状態で前記スイッチ筐体（３）の内面（３ｂ）に当接支持する固定リング（２３）によって前記スイッチ筐体（３）に着脱自在に保持される、昇降装置を手動で作動させるための操作装置（１）であって、前記被覆要素（４）がねじリング（１７）に固定され、前記スリーブ（１９）が第１雄ねじ（１９ｃ）および第２雄ねじ（１９ｄ）を有し、前記第１雄ねじ（１９ｃ）および前記第２雄ねじ（１９ｄ）が前記つば（１９ａ）によって互いに分離され、取り付けられた状態で前記固定リング（２３）が前記第１雄ねじ（１９ｃ）と係合し、取り付けられた状態で前記ねじリング（１７）が前記第２雄ねじ（１９ｄ）と係合し、前記つば（１９ａ）が組み立てられた状態で前記スイッチ筐体（３）の支持面（３ｃ）に当接することを特徴とする操作装置。
【請求項２】
前記スリーブ（１９）が前記スイッチ筐体（３）に対してねじれを防止するように固定されることを特徴とする、請求項１に記載の操作装置。
【請求項３】
前記スリーブ（１９）が、前記スイッチ筐体（３）に配置された凹部（２５）と係合する半径方向外向きに突出する突耳（２４）を前記つば（１９ａ）の領域に有することを特徴とする、請求項２に記載の操作装置。
【請求項４】
前記被覆要素（４）のねじリング（１７）が、取り付けられた状態で前記スイッチ筐体（３）の外面（３ｃ）に押し付けられることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか一項に記載の操作装置。
【請求項５】
前記被覆要素（４）が接続リング（４ｃ）を持つハットとして構成され、前記ねじリング（１７）が前記接続リング（４ｃ）によって密閉され、かつ前記接続リング（４ｃ）の一部分が、前記スイッチ筐体（３）の外面（３ｃ）と前記ねじリング（１７）との間に固締されることを特徴とする、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の操作装置。
【請求項６】
前記スイッチ筐体（３）が、前記スイッチング要素（２）のための開口（１８）の領域に、前記接続リング（４ｃ）の下方部分に対向して位置する囲繞壁（３ｄ）を持つ凹部（２０）を有することを特徴とする、請求項５に記載の操作装置。
【請求項７】
前記被覆要素（４）がその接続リング（４ｃ）の領域に組立治具（２１）のための外側輪郭（４ｆ）を有することを特徴とする、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の操作装置。
【請求項８】
前記接続リング（４ｃ）の前記外側輪郭（４ｆ）が、前記囲繞壁（３ｄ）に対向して位置する前記接続リング（４ｃ）の領域の外側に配置されることを特徴とする、請求項７に記載の操作装置。
【請求項９】
前記被覆要素（４）がその接続リング（４ｃ）の領域で、前記スイッチ筐体（３）の方向に円錐状に増大するように構成されることを特徴とする、請求項１ないし８のいずれか一項に記載の操作装置。
【請求項１０】
前記接続リング（４ｃ）が、前記ねじリング（１７）の外歯と係合する内歯を有することを特徴とする、請求項４ないし９のいずれか一項に記載の操作装置。
【請求項１１】
前記被覆要素（４）が接着剤またはボンディング接続によって前記スイッチ筐体（３）に固定されることを特徴とする、請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の操作装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月10日(2012.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子であって、
第１の入力面を有し、前記第１の入力面に対して垂直な第１の光線を透過するように配置される第１の色選択性ダイクロイックフィルタと、
第２の入力面を有し、前記第２の入力面に対して垂直な第２の光線を透過するように配置される第２の色選択性ダイクロイックフィルタと、
第３の入力面を有し、前記第３の入力面に対して垂直な第３の光線を透過するように配置される第３の色選択性ダイクロイックフィルタと、
前記第１の光線及び前記第２の光線を約４５度の角度で横切るように配置される第１の反射型偏光子と、
前記第３の光線を約４５度の角度で横切るように配置される第２の反射型偏光子と、
反射体であり、当該反射体に対して垂直な線が前記第２の反射型偏光子を約４５度の角度で横切るように配置される反射体と、
前記第１、第２、及び第３の色選択性ダイクロイックフィルタ並びに前記反射体のそれぞれに面してそれぞれ配置される、第１、第２、第３、及び第４の位相差板と、
を備え、
前記第１及び第２の反射型偏光子、並びに前記位相差板が、第２の偏光状態の前記第１、第２、及び第３の光線を第１の偏光状態の前記第１、第２、及び第３の光線にそれぞれ変換するように配置される、光学素子。
【請求項２】
光学素子であって、
第１の入力面を有し、前記第１の入力面に対して垂直な第１の光線を透過するように配置される第１の色選択性ダイクロイックフィルタと、
第２の入力面を有し、前記第２の入力面に対して垂直な第２の光線を透過するように配置される第２の色選択性ダイクロイックフィルタと、
第３の入力面を有し、前記第３の入力面に対して垂直な第３の光線を透過するように配置される第３の色選択性ダイクロイックフィルタと、
前記第１の光線及び前記第２の光線を約４５度の角度で横切るように配置される第１の反射型偏光子と、
前記第３の光線を約４５度の角度で横切るように配置される第２の反射型偏光子と、
前記第１の反射型偏光子と前記第２の反射型偏光子との間に配置される１／２波長位相差板と、
前記第１、第２、及び第３の色選択性ダイクロイックフィルタのそれぞれに面してそれぞれ配置される、第１、第２、及び第３の１／４波長位相差板と、
を備え、
前記第１及び第２の反射型偏光子、並びに前記位相差板が、第２の偏光状態の前記第１、第２、及び第３の光線を第１の偏光状態の前記第１、第２、及び第３の光線にそれぞれ変換するように配置される、光学素子。
【請求項３】
光学素子であって、
第１の入力面を有し、前記第１の入力面に対して垂直な第１の光線を透過するように配置される第１の色選択性ダイクロイックフィルタと、
第２の入力面を有し、前記第２の入力面に対して垂直な第２の光線を透過するように配置される第２の色選択性ダイクロイックフィルタと、
第３の入力面を有し、前記第３の入力面に対して垂直な第３の光線を透過するように配置される第３の色選択性ダイクロイックフィルタと、
前記第１の光線及び前記第２の光線を約４５度の角度で横切るように配置される第１の反射型偏光子と、
前記第３の光線を約４５度の角度で横切るように配置される第２の反射型偏光子と、
前記第３の色選択性ダイクロイックフィルタに面し、前記第２の反射型偏光子に対向して配置される１／２波長位相差板と、
前記第１、第２、及び第３の色選択性ダイクロイックフィルタのそれぞれに面してそれぞれ配置される、第１、第２、及び第３の１／４波長位相差板と、
を備え、
前記第１の反射型偏光子、並びに前記第１及び第２の位相差板が、第２の偏光状態の前記第１及び第２の光線を第１の偏光状態の前記第１及び第２の光線にそれぞれ変換するように配置され、前記第２の反射型偏光子及び前記第３の位相差板が、第１の偏光状態の前記第１、第２、及び第３の光線を第２の偏光状態の前記第１、第２、及び第３の光線にそれぞれ変換するように配置される、光学素子。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気記録媒体および記憶層を有する装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体であって、
磁性粒子を含む少なくとも１つの記憶層と、
少なくとも２つの低飽和磁化層とを備え、前記少なくとも２つの低飽和磁化層は、前記少なくとも１つの記憶層の磁性粒子間に弱い均一な直接交換結合をもたらすよう構成されている、磁気記録媒体。
【請求項２】
非磁性中間層をさらに備え、前記少なくとも２つの低飽和磁化層の一方は前記非磁性中間層と前記少なくとも１つの記憶層との間にある、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記少なくとも１つの記憶層は、六方稠密構造を含む、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記非磁性中間層は、面心立方構造を含む、請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記少なくとも２つの低飽和磁化層の各々は、六方稠密構造、面心立方構造、および非結晶質構造のいずれか一つを含む、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
装置であって、
磁性粒子を含み、垂直異方性を有する記憶層と、
前記記憶層の磁性粒子間に弱い均一な直接交換結合をもたらすよう構成されている低飽和磁化層とを備える、装置。
【請求項７】
非磁性中間層をさらに備え、前記低飽和磁化層は前記非磁性中間層と前記記憶層との間にある、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記記憶層は、六方稠密構造を含む、請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記非磁性中間層は、面心立方構造を含む、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記低飽和磁化層は、六方稠密構造、面心立方構造、および非結晶質構造のいずれか一つを含む、請求項６に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月13日(2012.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
[00043]  マスクＭＡと一致する対物面における照明の非均一性を減少するために、瞳ラスタ素子１５０に対するフィールドラスタ素子１１０の割り当ては、線１８０によって図２に示す割り当てとは異なりうる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
[00066]  図４に示すように、ディテクタ３０１の第１の光学面Ｓ１は、中間集光点ＩＦを、ＰＦＭフレーム、すなわち第２の光学面Ｓ２上に配置される２Ｄ  ＰＤＳ３２５上に結像する複数のミラー３２０を含む。このようにすると、（コレクタに対する）プラズマＸおよびＹ位置決め、および剛体ＸおよびＹ位置決めによって決定される、中間集光点ＩＦにおける光分布のＸおよびＹ位置を測定することが可能となる。中間集光点ＩＦ周りの放射源モジュールＳＯの回転は、この回転下ではミラー３２０を横断する光線の経路が変化しないので検出されない。結果として、第２の分岐３１０を用いることによって、剛体ＸおよびＹ移動と、剛体ＲｙおよびＲｘ移動とを区別することができる。この第２の分岐３１０を用いて剛体ＸおよびＹ自由度に応じた変位の測定を行うために、１対のミラー‐ＰＳＤのみの使用で十分でありうる。ここでは、ミラー‐ＰＳＤ対とは、ミラーと、その上にミラーが中間集光点ＩＦの像を投影するＰＳＤとから構成される対である。プラズマＸおよびＹ位置も、少なくとも１つの追加のミラー‐ＰＳＤ対が用いられる場合に求めることができる。この場合、これらの２対は、図６に示すように垂直に向けられることが望ましい。図６は、このような２つのミラー‐ＰＳＤ対を示し、それぞれ、ミラー３２０ａと２Ｄ  ＰＳＤ３２５ａ、および、ミラー３２０ｂと２Ｄ  ＰＳＤ３２５ｂから構成される。図６に示すようなディテクタの配置によって、プラズマＸおよびＹ変位を測定する代替の方法を可能にする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
[00073]  ２つのセンサが同じ像シフトを検出しない場合、このことはプラズマが移動したことを示す。既知の倍率を用いて、プラズマ移動（方向および大きさ）を計算することができる。この原理を図８ａ及び図８ｂに示し、また、この原理は１つのミラー‐ＰＳＤ対がＹＺ面内にあり、別のミラー‐ＰＳＤ対がＸＺ面にあると想定する。あらゆる他の直交する向きでは、サジタル移動およびメリジオナル移動への同様の分解を行うことができることは理解されよう。図６を参照すると、ミラー３２０ａ（簡単にするためだけにレンズとして概略的に示す）および２Ｄ  ＰＳＤ３２５ａは共にＹＺ面内にあるミラー‐ＰＳＤ対を形成し、また、同様に、対のミラー３２０ｂ‐２Ｄ  ＰＳＤ３２５ｂは共にＸＺ面内にあるミラー‐ＰＳＤ対を形成する。２Ｄ  ＰＳＤ３２５ａはＹセンサと呼ばれ、２Ｄ  ＰＳＤ３２５ｂはＸセンサと呼ばれる。図６に加えて、図８は、本発明の一実施形態にしたがって、剛体移動とプラズマ移動とを区別するために２つの直交するセンサ‐ミラー対を用いる検出スキームを概略的に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月19日(2012.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッジ発光型半導体レーザチップ（１）であって、
・半導体基体（１００）と、
・少なくとも１つのコンタクトストリップ（２）と、
・少なくとも２つの制限構造体（４）とを備えており、
前記半導体基体（１００）は、少なくとも１つの活性領域（１４）を有しており、当該活性領域（１４）内で、前記半導体レーザチップ（１）の作動中に電磁ビーム（１０）が形成され、
前記コンタクトストリップ（２）は、前記半導体基体（１００）の表面で被覆面（１ａ）上に配置されており、
前記制限構造体は、前記コンタクトストリップ（２）と前記活性領域（１４）との間の電流拡張を制限し、
前記制限構造体（４）は、前記コンタクトストリップ（２）の両側に配置されている形式のものにおいて、
前記制限構造体（４）は、少なくとも１０％、最大で９０％の充填率で、前記コンタクトストリップ（２）の両側に配置されている、
ことを特徴とするエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項２】
少なくとも１つの制限構造体（４）は、前記半導体基体（１００）の粗面部（４１）を有している、請求項１記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項３】
少なくとも１つの制限構造体（４）は、前記半導体基体（１００）に接している側面（４０）を有しており、
当該側面（４０）は、前記半導体基体（１００）の被覆面（１ａ）と、２０°から８０°までの間の角度（α）を成す、請求項１または２記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項４】
少なくとも１つの制限構造体（４）は、前記半導体基体（１００）に接している側面（４０）を有しており、
当該側面（４０）は、前記コンタクトストリップ（２）の主要延在方向（Ｒ）と、１５°から７５°までの間の角度（β）を成す、請求項１から３までのいずれか１項記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項５】
複数の制限構造体（２）を有しており、
当該制限構造体（２）は、前記コンタクトストリップ（２）の主要延在方向（Ｒ）において相互に間隔をあけて配置されている、請求項１から４までのいずれか１項記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項６】
前記半導体基体（１００）は、
・前記コンタクトストリップ（２）に接しているコンタクト層（１６）と、
・当該コンタクト層（１６）の、前記コンタクトストリップ（２）とは反対側の面に接している外被層（１５）と、
・当該外被層（１５）の、前記コンタクト層（２）とは反対側の面に接している導波路層（１３）とを備えており、
・前記制限構造体（４）の少なくとも１つは前記外被層（１５）内まで延在し、前記導波路層（１３）は前記制限構造体（４）を有していない、請求項１から５までのいずれか１項記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項７】
少なくとも１つの制限構造体（４）は前記導波路層（１３）内まで延在し、前記活性領域（１４）は前記制限構造体（４）を有していない、請求項１から６までのいずれか１項記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項８】
少なくとも１つの制限構造体（４）が、最大で３０μｍの間隔（ｄ）で、コンタクトストリップ（２）の側方に配置されている、請求項１から７までのいずれか１項記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項９】
前記制限構造体（４）は、２つの制限ストリップ（６）において、前記コンタクトストリップ（２）の両側に配置されており、
当該制限ストリップ（６）はそれぞれ、最大で１ｍｍの幅（Ｖ）を有している、請求項１から８までのいずれか１項記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項１０】
少なくとも１つの制限構造体（４）は、半導体基体（１００）内の注入領域によって形成される、請求項１から９までのいずれか１項記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項１１】
少なくとも１つの制限構造体（４）は、半導体基体（１００）内の陥入部によって形成される、請求項１から１０までのいずれか１項記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項１２】
前記陥入部は、前記半導体基体（１００）とは異なる少なくとも１つの充填材料（４１）によって充填される、請求項１１記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【請求項１３】
前記コンタクトストリップ（２）の両側に、当該コンタクトストリップ（２）に沿って、それぞれ１つの電流バリア（５）が延在しており、
前記コンタクトストリップ（２）および前記制限構造体（４）は水平方向に、前記複数の電流バリア（５）の間に配置されている、請求項１から１２までのいずれか１項記載のエッジ発光型半導体レーザチップ（１）。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子基板を処理する方法であって、
第１ステンシルプリンタの上方軌道上に第１の電子基板を装着し、
前記第１ステンシルプリンタの前記上方軌道を上昇させ、
前記第１ステンシルプリンタの下方軌道を、第２ステンシルプリンタの上方軌道と前記第１ステンシルプリンタの下方軌道とが一列に並ぶような位置に移動させ、
前記第１ステンシルプリンタの下方軌道上に第２の電子基板を装着し、
前記第２の電子基板を前記第２ステンシルプリンタの上方軌道に運搬することを特徴とする方法。
【請求項２】
更に、第３の電子基板を前記第１ステンシルプリンタの下方軌道上に装着し、前記第３の電子基板を第３ステンシルプリンタの上方軌道道に運搬することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
更に、前記第１の電子基板を前記第２および第３ステンシルプリンタの下方軌道を通って運搬することで第１の電子基板を取り除くことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
更に、
第４の電子基板を前記第第１ステンシルプリンタの上方軌道上に装着し、
前記第１ステンシルプリンタの下方軌道か前記第３ステンシルプリンタの下方軌道の一方を介して前記第２の回路基板を運搬することで、前記第２の電子基板を取り除き、
第５の電子基板を前記第２ステンシルプリンタの上方軌道上に装着し、
前記第３の電子基板を取り除き、
第６の電子基板を前記第３ステンシルプリンタの上方軌道上に装着し、
前記第４、第５および第６の各電子基板を取り除くことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
選択的に電子基板を取り除くことは、該電子基板の装着方向に対し角度を成す方向に電子基板を移動することからなることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
更に、取り除かれた電子基板を、カプセル化ステーション、検査ステーション、バーコードリーダーの内の少なくとも１つへと運搬することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
更に、前記カプセル化ステーション、前記検査ステーション、前記バーコードリーダーの内の前記少なくとも１つでの処理直後に、前記取り除かれた電子基板を、前記第１、第２、第３ステンシルプリンタの内の１つに再導入することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の電子基板を取り除くことは、前記第１ステンシルプリンタの上方軌道を、第２、第３ステンシルプリンタの各下方軌道と前記第１ステンシルプリンタの上方軌道とが一列に並ぶような位置まで下げることからなることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項９】
更に、前記第１の電子基板と第２の電子基板の内の少なくとも一方に対し、前記第１ステンシルプリンタと前記第２ステンシルプリンタの内の少なくとも一方の中で検査作業を実行することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
更に、前記第１ステンシルプリンタの前記下方軌道の搬送幅を調整することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１ステンシルプリンタの下方軌道の搬送幅の前記調整は、コントローラからの信号に応じて実行されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記コントローラは、前記第１、第２および第３ステンシルプリンタの内の少なくとも１つに結合されていることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の電子基板は、前記第２の電子基板が第１ステンシルプリンタの下方軌道上に装着される方向とは異なった方向で、第１ステンシルプリンタの上方軌道上に装着されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１の基板の少なくとも１つが前記第１ステンシルプリンタの上方軌道上に装着されると共に、前記第２の基板は、コントローラからの信号に応じて前記第１ステンシルプリンタの下方軌道に装着されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記コントローラは、前記第１ステンシルプリンタの下流にある設備の少なくとも一部分の作動状態と製品要求の内の少なくとも１つに関する情報を受け取ると共に、前記コントローラは、その情報に基づいて、前記第１ステンシルプリンタの上方軌道と前記第１ステンシルプリンタの下方軌道の内の少なくとも一方の上に電子基板を装着する決定を下すことを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
更に、
前記第１ステンシルプリンタの第２の上方軌道に第３の電子基板を装着し、
前記第１ステンシルプリンタの前記第２の上方軌道を上昇させ、
前記第１ステンシルプリンタの第２の下方軌道を、第３ステンシルプリンタの上方軌道と前記第１ステンシルプリンタの第２の下方軌道とが一列に並ぶような位置に移動させ、
前記第１ステンシルプリンタの第２の下方軌道上に第４の電子基板を装着し、
前記第４の電子基板を前記第３ステンシルプリンタの上方軌道に運搬することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
更に、前記第１ステンシルプリンタの第２の下方軌道に前記第４の電子基板を装着するに先立ち、第１ステンシルプリンタの第２の下方軌道の搬送幅を調整することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
更に、前記第４の電子基板に対し、前記第１ステンシルプリンタと前記第２ステンシルプリンタの内の少なくとも一方の中で検査作業を実行することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
更に、前記第１ステンシルプリンタでの処理に先立ち、前記第１の電子基板を、カプセル化ステーション、検査ステーション、バーコードリーダーの内の少なくとも１つへと運搬することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月20日(2012.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のウェーハのエッジにエッチング液を塗布するためのウェーハエッジ・エッチング液塗布システムであって、
前記エッチング液を保持するように構成された液溜めと、
前記液溜めに連通した液体中に外面を有するローラーであって、当該ローラーはその上に前記エッチング液を有するように構成されており、前記ウェーハは前記液溜めに包含された前記エッチング液に直接接触するのを抑制されている、ローラーと、
その内部に置かれたウェーハを、前記ウェーハのエッジが前記ローラーと接触するように保持するために構成されたウェーハカセットであって、前記ウェーハが軸周りで軸回転するのを可能にしているウェーハカセットと、を含むことを特徴とするシステム。
【請求項２】
少なくともいくつかのウェーハは、テラス領域にハンドル酸化物を有しており、
前記システムは、前記テラス領域内でのノジュール成長を阻害するために、前記ハンドル酸化物を前記テラス領域から剥離するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記ローラーの少なくとも一部分は、前記液溜め内に配置されており、
前記ローラーの前記外面は、前記液溜め内に接触したときに前記エッチング液の少なくとも一部を保持するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記ウェーハカセットは、その内部に置かれた複数のウェーハが、前記ウェーハの平面に垂直な軸の周りで軸回転できるように構成されており、
前記ウェーハの前記軸は、前記ローラーの長手軸に垂直であることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記ウェーハカセットは、前記ローラーの前記外面に沿って各ウェーハの周縁エッジと接触できるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記ローラーの前記外面は、前記外面に保持されるエッチング液の量を増加するために、機械的に変形されていることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記ローラーの前記外面にほぼ隣接して前記ウェーハカセット内に形成された開口をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項８】
前記ウェーハカセット内に形成された前記開口により、各ウェーハの前記周縁エッジと前記ローラーの前記外面とが接触できることを特徴とする請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記ローラーの前記外面の少なくとも一部分の上に配置されたカバーをさらに含み、
前記カバーは、前記液溜め内に接触したときに前記エッチング液の少なくともいくらかを保持するように構成されており、
前記カバーが取り外し可能であることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
ウェーハのエッジにエッチング液を塗布する方法であって、
ウェーハのエッジを、ローラーに接触させて位置付ける工程と、
前記ローラーの長手軸の周りで前記ローラーを回転させる工程であって、前記エッチング液が前記ウェーハのエッジに塗布されるように前記ローラーの少なくとも一部分は回転中に液溜め内に含まれるエッチング液と接触し、前記ウェーハが前記液溜めに包含された前記エッチング液に直接接触するのを抑制されている、前記ローラーを回転させる工程と、を含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
前記ウェーハのエッジを位置付ける前記工程は、ウェーハカセット内に前記ウェーハを位置付ける過程を含み、
前記ウェーハカセットは、前記ウェーハの平面に垂直な軸の周りで回転するのを可能にしつつ、前記ウェーハの横方向への動きを防止し、
前記軸は、前記ローラーの長手軸に平行であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
複数のウェーハが前記ウェーハカセット内に位置付けられており、
前記ウェーハカセットは、前記ウェーハの周縁エッジと前記ローラーの前記外面とが接触できるようにするために、前記ウェーハカセット内に形成された開口を有していることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ローラーを回転させる工程において、前記ウェーハを回転させることをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
各ウェーハはハンドル絶縁層を含み、前記エッチング液が前記ハンドル絶縁層を剥離することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
各ウェーハはシリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）ウェーハであり、前記ウェーハは前の工程中に貼り合わせされていることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
シリコン最上層を平滑又は薄膜にするために各ＳＯＩウェーハをガス状エッチャントを含む高温雰囲気にさらす工程、又はエピタキシャル成長工程をさらに含み、
各ＳＯＩウェーハにエピタキシャル成長処理を行う工程と、
各ＳＯＩウェーハを前記ウェーハカセットから取り出して、劈開操作により各ＳＯＩウェーハから層を分離する工程と、をさらに含むことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
貼り合わせウェーハのエッジにエッチング液を塗布する方法であって、
ハンドルウェーハとドナーウェーハとから貼り合わせウェーハを形成する工程と、
ウェーハエッジ・エッチング液塗布システムにより、前記貼り合わせウェーハの前記エッジにエッチング液を塗布する工程と、を含み、
前記ウェーハエッジ・エッチング液塗布システムは、
前記エッチング液を保持するように構成された液溜めと、
前記液溜めに連通した液体中に外面を有するローラーであって、当該ローラーはその上に前記エッチング液を有するように構成されており、前記ウェーハは前記液溜めに包含された前記エッチング液に直接接触するのを前記ローラーによって抑制されている、ローラーと、
その内部に置かれた貼り合わせウェーハを、前記貼り合わせウェーハのエッジが前記ローラーと接触するように保持するために構成されたウェーハカセットであって、前記ウェーハが軸周りで軸回転するのを可能にしている前記ウェーハカセットと、を含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記エッチング液は、前記貼り合わせウェーハを分離する前に塗布され、
前記エッチング液は、前記貼り合わせウェーハから前記ドナーウェーハのバルクを除去する前に塗布され、
前記方法が、前記貼り合わせウェーハの前記エッジにエッチング液を塗布する工程の後に、前記貼り合わせウェーハを分離する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記貼り合わせウェーハは、劈開操作により前記貼り合わせウェーハから前記ドナーウェーハを除去することによって分離されることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月24日(2012.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセッサと、
前記プロセッサに結合されたキャッシュと、
前記キャッシュに結合されたキャッシュ制御回路と
を有するデータ処理システムであって、前記キャッシュ制御回路は誤り検出を実行し、前記キャッシュ制御回路は、キャッシュエラーが検出された場合に行われる複数のエラー処理の内の1つを選択するための制御値が格納されているユーザによりプログラム可能なエラー処理制御レジスタを更に有し、ユーザにより選択される前記制御値の第1の値は、前記キャッシュエラーを含むキャッシュラインを、該キャッシュラインがダーティであるか又はクリーンであるかによらず例外処理を行うことなく自動的に無効化するのに使用され、ユーザにより選択される前記制御値の第2の値は、前記キャッシュエラーを含むキャッシュラインを、該キャッシュラインがダーティであるか又はクリーンであるかによらず例外処理と共に自動的に無効化するのに使用され、行われるエラー処理が透明な処理であるか又は透明でない処理であるかを決める前記制御値は、前記ユーザにより動的にプログラムされる、データ処理システム。
【請求項２】
前記ユーザによりプログラム可能なエラー処理制御レジスタにおける前記制御値の第3の値は、検出したエラーに関する情報を無効化することなくかつ例外を生成することなく、前記検出したエラーの訂正を自動的に行うのに使用される、請求項1記載のデータ処理システム。
【請求項３】
前記ユーザによりプログラム可能なエラー処理制御レジスタにおける前記制御値の第3の値は、検出したエラーを自動的に訂正しかつ例外を生成するのに使用され、キャッシュエラーを含むキャッシュラインについて該キャッシュエラーを訂正するためにエラー訂正コード(ECC)処理を実行し、訂正されたキャッシュラインをキャッシュから出力する、請求項1記載のデータ処理システム。
【請求項４】
前記制御値が前記第1の値に設定されていた場合、時間インターバルの第1部分の間にアプリケーションの第1部分が実行される際に前記プロセッサにとってキャッシュエラーが透明であり、前記制御値が前記第2の値に設定されていた場合、時間インターバルの第2部分の間にアプリケーションの第2部分が実行される際に前記プロセッサにとってキャッシュエラーが可視的である、請求項1記載のデータ処理システム。
【請求項５】
前記キャッシュラインがクリーンキャッシュラインであった場合、前記ユーザによりプログラム可能なエラー処理制御レジスタにおける前記制御値の第3の値は、前記キャッシュエラーを含む前記キャッシュラインの自動的な無効化を行うのに使用され、前記キャッシュラインがダーティキャッシュラインであった場合、例外が生成され、該キャッシュラインが無効化されないように前記キャッシュラインが不変のまま残される、請求項1記載のデータ処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】データ処理システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
一実施例によるデータ処理システムは、
プロセッサと、
前記プロセッサに結合されたキャッシュと、
前記キャッシュに結合されたキャッシュ制御回路と
を有するデータ処理システムであって、前記キャッシュ制御回路は誤り検出を実行し、前記キャッシュ制御回路は、キャッシュエラーが検出された場合に行われる複数のエラー処理の内の1つを選択するための制御値が格納されているユーザによりプログラム可能なエラー処理制御レジスタを更に有し、ユーザにより選択される前記制御値の第1の値は、前記キャッシュエラーを含むキャッシュラインを、該キャッシュラインがダーティであるか又はクリーンであるかによらず例外処理を行うことなく自動的に無効化するのに使用され、ユーザにより選択される前記制御値の第2の値は、前記キャッシュエラーを含むキャッシュラインを、該キャッシュラインがダーティであるか又はクリーンであるかによらず例外処理と共に自動的に無効化するのに使用され、行われるエラー処理が透明な処理であるか又は透明でない処理であるかを決める前記制御値は、前記ユーザにより動的にプログラムされる、データ処理システムである。