(57)【要約】【課題】透過表示、反射表示の双方において高コントラストの表示を得ることができる半透過反射型の液晶表示装置を提供する。【解決手段】本発明の液晶表示装置１００は、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとを有し、反射表示領域Ｒに反射電極４２が設けられるとともに、反射表示領域Ｒにおける液晶層５０の層厚を透過表示領域Ｔにおける液晶層５０の層厚よりも小さくする液晶層厚調整層４６が設けられている。そして、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒの境界領域Ｋにあたる反射電極４２の縁部の表面がミラー反射面４２ｍとされている。【選択図】　　　　図５
2004054129.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と第２の基板との間に液晶層が挟持されてなる液晶表示装置であって、
前記第１の基板の外面から入射される光を透過して透過表示を行う透過表示領域と前記第２の基板の外面から入射される光を反射して反射表示を行う反射表示領域とを有し、前記反射表示領域に反射層が設けられるとともに、前記第１の基板および前記第２の基板のうちの少なくとも一方の基板の内面には、前記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前記透過表示領域における前記液晶層の層厚よりも小さくする液晶層厚調整層が設けられ、
前記透過表示領域と前記反射表示領域との境界領域にあたる前記反射層の縁部の表面がミラー反射面とされたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域において前記液晶層厚調整層の縁部が傾斜面をなしており、前記反射層の縁部の前記傾斜面に対応する領域がミラー反射面とされたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記反射層のうち、表面がミラー反射面とされた領域以外の領域に反射光を散乱させる光散乱手段が付与されたことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１の基板または前記第２の基板のいずれか一方にカラーフィルターが設けられたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか一項に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置および電子機器に関し、特に透過表示領域と反射表示領域とで液晶層の層厚を最適化したマルチギャップ方式の半透過反射型液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射表示と透過表示の２つの表示方式を兼ね備えた、いわゆる半透過反射型の液晶表示装置は、周囲の明るさに応じて反射モードまたは透過モードのいずれかの表示方式に切り替えることにより、消費電力を低減しつつ周囲が暗い場合でも明瞭な表示を行うことができるものである。
【０００３】
この種の半透過反射型液晶表示装置としては、上基板と下基板との間に液晶層が挟持されるとともに、例えばアルミニウム等の金属膜に光透過用のスリットを形成した反射膜を下基板の内面に備え、この反射膜を半透過反射膜として機能させる液晶表示装置が提案されている。この場合、反射モードでは上基板側から入射した外光が、液晶層を通過した後に下基板の内面に設けられた反射膜により反射され、再び液晶層を通過して上基板側から出射され、表示に寄与する。一方、透過モードでは下基板側から入射したバックライトからの光が、反射膜のスリットから液晶層を通過した後に上基板側から外部に出射され、表示に寄与する。したがってこの場合、反射膜のスリットが形成された領域が透過表示領域となり、反射膜のスリットが形成されていない領域が反射表示領域となる。
【０００４】
半透過反射型液晶表示装置において、偏光状態の変化は、液晶の屈折率異方性Δｎと液晶層の層厚ｄとの積（リタデーションΔｎ・ｄ）の関数となるため、この値を最適化すれば視認性の良い表示を行うことができる。しかしながら、透過表示光は液晶層を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は往復で液晶層を２回通過することになるので、透過表示光、反射表示光の双方に対してリタデーションΔｎ・ｄを最適化するのは困難である。したがって、反射モードの表示が視認性の良いものとなるように液晶層厚を設定すると、透過モードの表示が犠牲となる。逆に、透過モードの表示が視認性の良いものとなるように液晶層厚を設定すると、反射モードの表示が犠牲となる。
【０００５】
そこで、特開平１１−２４２２２６号公報には、反射表示領域における液晶層の層厚を透過表示領域における液晶層の層厚よりも小さくする構成が開示されている。このような構成はマルチギャップ方式と称せられ、例えば、下基板の透明電極の下層側、かつ反射膜の上層側に、透過表示領域に相当する部分が開口部となった液晶層厚調整層を設けることによって実現できる。すなわち、透過表示領域では反射表示領域と比較して液晶層厚調整層の膜厚分だけ液晶層の層厚が大きくなるので、透過表示光、反射表示光の双方に対してリタデーションΔｎ・ｄを最適化することができる。ここで、液晶層厚調整層を用いて液晶層の層厚を調整するには、液晶層厚調整層をかなり厚く形成する必要があり、このような厚い層の形成には例えば感光性樹脂などが用いられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のマルチギャップ方式の半透過反射型液晶表示装置において、感光性樹脂等で開口部を有する液晶層厚調整層を形成する際にはフォトリソグラフィー技術が用いられるが、その際の露光精度、あるいは現像の際のサイドエッチングなどの原因により、液晶層厚調整層の開口部の縁、すなわち透過表示領域と反射表示領域との境界領域がテーパ状の傾斜面を有する形状となってしまう。その結果、透過表示領域と反射表示領域との境界部分では液晶層の層厚が連続的に変化する結果、リタデーションΔｎ・ｄも連続的に変化することになり、この部分では透過表示光にとっても反射表示光にとっても不適切なリタデーションΔｎ・ｄとなってしまう。また、液晶層を構成する液晶分子は上下基板の配向膜によって初期の配向状態が規定されているが、傾斜面では配向膜の配向規制力が斜めに作用するので、この部分では液晶分子の配向が乱れることになる。
【０００７】
もしくは、層厚調整層の開口部の縁、すなわち透過表示領域と反射表示領域との境界領域が傾斜面とならず、基板面に対して垂直な階段状の段差が形成されたとしても、透過表示領域と反射表示領域との境界領域で液晶分子の配向乱れが生じることになる。
【０００８】
このため、従来のマルチギャップ方式の半透過反射型液晶表示装置において、例えばノーマリーホワイトで設計した場合、液晶層に電圧を印加すると黒表示となるはずであるが、実際には上記の透過表示領域と反射表示領域との境界領域で光漏れが生じ、コントラストが低下するという問題があった。
【０００９】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、透過表示、反射表示の双方において高コントラストの表示を得ることができる半透過反射型の液晶表示装置を提供することを目的とする。また、上記の液晶表示装置を備えた高品位の表示を実現可能な電子機器を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置は、第１の基板と第２の基板との間に液晶層が挟持されてなる液晶表示装置であって、前記第１の基板の外面から入射される光を透過して透過表示を行う透過表示領域と前記第２の基板の外面から入射される光を反射して反射表示を行う反射表示領域とを有し、前記反射表示領域に反射層が設けられるとともに、前記第１の基板および前記第２の基板のうちの少なくとも一方の基板の内面には、前記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前記透過表示領域における前記液晶層の層厚よりも小さくする液晶層厚調整層が設けられ、前記透過表示領域と前記反射表示領域との境界領域にあたる前記反射層の縁部の表面がミラー反射面とされたことを特徴とする。なお、本明細書における「境界領域」とは、反射層の端縁で規定される反射表示領域と透過表示領域との境界と、この境界に隣接する反射表示領域の端部とからなる領域をいう。
【００１１】
本発明の液晶表示装置においては、透過表示領域と反射表示領域の境界領域にあたる反射層の縁部表面がミラー反射面となっている点が最大の特徴点である。
この特徴点により、境界領域は反射層が存在している点では一応反射表示領域と言えるが、表面がミラー反射面であるため、第２の基板の外面から入射される外光がこの領域では正反射する。ところが、液晶表示装置を通常使用する場合、使用者は太陽光や照明光などの外光が正反射する方向から液晶表示装置を見ることはないため、黒表示時にミラー反射面で反射した光が使用者の目に入ることはなく、反射表示のコントラストが低下することがない。また、境界領域には反射層が存在しているので、透過表示に悪影響を及ぼすこともない。したがって、反射表示領域と透過表示領域との境界領域において液晶層厚調整層の厚さが連続的に変化し、この領域でのリタデーションΔｎ・ｄが連続的に変化している場合、あるいは液晶分子の配向が乱れている場合であっても、透過表示、反射表示ともに高コントラストの表示を実現することができる。
【００１２】
また、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域において前記液晶層厚調整層の縁部が傾斜面をなしており、前記反射層の縁部の前記傾斜面に対応する領域がミラー反射面とされた構成とすることができる。
【００１３】
上述したように、感光性樹脂を用いて層厚調整層を形成する際にはフォトリソグラフィー工程の事情により液晶層厚調整層の開口部の縁、すなわち透過表示領域と反射表示領域との境界領域が傾斜面となる場合があり、その場合、液晶層の層厚が連続的に変化する結果、リタデーションΔｎ・ｄも連続的に変化することになる。このような場合であっても、上記構成によれば、反射表示のコントラストを低下させる要因の発生がなく、透過表示、反射表示ともに高コントラストの表示を得ることができる。
【００１４】
さらに、前記反射層のうち、表面がミラー反射面とされた領域以外の領域に反射光を散乱させる光散乱手段を付与することが望ましい。
【００１５】
この構成によれば、表面がミラー反射面とされた領域以外の領域、すなわち実効的に反射表示に寄与する領域には光散乱手段が付与されているので、反射光が散乱されて使用者の目に入る光量が充分に確保でき、反射表示をより明るくすることができる。
【００１６】
前記第１の基板または前記第２の基板のいずれか一方にカラーフィルターを設けた構成としてもよい。
【００１７】
この構成によれば、カラー表示に対応した半透過反射型液晶表示装置を実現することができる。
【００１８】
本発明の電子機器は、上記本発明の液晶表示装置を備えたことを特徴とする。この構成によれば、透過表示と反射表示とを切換可能であって、高品位なカラー表示を実現可能な電子機器を提供することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の第１の実施の形態について図１〜図５に基づいて説明する。
本実施の形態では、素子基板上の画素電極が反射板を兼ねた内蔵反射板タイプのアクティブマトリクス方式の半透過反射型の液晶表示装置の例を挙げて説明する。図１は本実施の形態の液晶表示装置を各構成要素とともに対向基板の側から見た平面図であり、図２は図１のＨ−Ｈ’線に沿う断面図である。図３は、電気光学装置（液晶表示装置）の画像表示領域においてマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。なお、以下の説明に用いた各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００２０】
［液晶表示装置の全体構成］
図１および図２に示すように、本実施の形態の液晶表示装置１００は、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とがシール材５２によって貼り合わされ、このシール材５２によって区画された領域内に液晶層５０が封入されている。シール材５２の形成領域の内側の領域には、遮光性材料からなる遮光膜（周辺見切り）５３が形成されている。シール材５２の外側の領域には、データ線駆動回路２０１および外部回路実装端子２０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路２０４が形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺には、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路２０４の間を接続するための複数の配線２０５が設けられている。
また、対向基板２０の角部においては、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的導通をとるための基板間導通材２０６が配設されている。
【００２１】
なお、データ線駆動回路２０１および走査線駆動回路２０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に形成する代わりに、例えば、駆動用ＬＳＩが実装されたＴＡＢ（Ｔａｐｅ　Ａｕｔｏｍａｔｅｄ　Ｂｏｎｄｉｎｇ）基板とＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に形成された端子群とを異方性導電膜を介して電気的および機械的に接続するようにしてもよい。
なお、液晶表示装置１００においては、使用する液晶の種類、すなわち、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード等の動作モードや、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、位相差板、偏光板等が所定の向きに配置されるが、ここでは図示を省略する。
【００２２】
このような構造を有する液晶表示装置１００の画像表示領域においては、図３に示すように、複数のドット１００ａがマトリクス状に構成されているとともに、これらのドット１００ａの各々には、画素スイッチング用のＴＦＴ３０が形成されており、画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを供給するデータ線６ａがＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次で供給してもよく、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。また、ＴＦＴ３０のゲートには走査線３ａが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍをこの順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９は、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけオン状態とすることにより、データ線６ａから供給される画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを各画素に所定のタイミングで書き込む。このようにして画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、図２に示す対向基板２０の対向電極２１との間で一定期間保持される。また、保持された画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎがリークするのを防ぐために、画素電極９と対向電極２１との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量６０が付加されている。符号３ｂは蓄積容量６０を構成する容量線である。
【００２３】
［１ドットの詳細構成］
図４は、本実施の形態の液晶表示装置１００の画像を構成する１つのドット１００ａの概略構成を示す平面図である。図５は、図４のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。なお、ＴＦＴアレイ基板１０上には、実際にはデータ線６ａ、走査線３ａ等の配線やＴＦＴ３０等が形成されているが、図４においてはこれら配線やＴＦＴ等の図示は省略する。本実施の形態の液晶表示装置１００はカラー表示を行うものであって、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の隣り合う３つのドットで１つの画素が構成されている。
【００２４】
図４に示すように、対向基板２０上に格子状に設けられた遮光膜４０（ブラックマトリクス）によって区画された領域が１つのドット１００ａを構成している。一方、ＴＦＴアレイ基板１０上には反射板と画素電極の一部とを兼ねた反射電極４２が設けられている。反射電極４２の中央部には開口部４２ａが設けられるとともに、この開口部４２ａには透明電極４３が設けられている。これら反射電極４２と透明電極４３とで１つのドットの画素電極９が構成されている。この構成により、反射電極４２の開口部４２ａが、後述するバックライトからの射出光を用いて透過表示を行う透過表示領域Ｔ、反射電極４２の存在する部分が対向基板２０側から入射する外光を用いて反射表示を行う反射表示領域Ｒとなっている。そして、反射表示領域Ｒの大部分は、後述するように反射光が散乱して射出される構成となっているが、透過表示領域Ｔとの境界領域Ｋにあたる開口部４２ａの周辺は、反射光が正反射するミラー反射面となっている。
【００２５】
本実施の形態の液晶表示装置１００は、図５に示すように、上下に対向配置された透明のガラス等からなるＴＦＴアレイ基板１０、対向基板２０の間に液晶層５０が挟持された基本構造を具備している。また、ＴＦＴアレイ基板１０の外面側には、光源６１および導光板６２等を備えたバックライト６０が備えられている。対向基板２０の外面側（使用者側）には、位相差板１２と偏光板１３とが配置され、ＴＦＴアレイ基板１０の外面側（バックライト側）にも、位相差板１４と偏光板１５とが配置されている。偏光板１３，１５は、上側から入射する外光、および下側から入射するバックライト光に対し一方向の直線偏光のみを透過させるものである。また、位相差板１２，１４は、偏光板１３，１５を透過した直線偏光を円偏光（楕円偏光を含む）に変換するものである。したがって、偏光板１３，１５および位相差板１２，１４は、円偏光入射手段として機能している。
【００２６】
対向基板２０の内面側には、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層を有するカラーフィルター４５が設けられ、カラーフィルター４５上には、液晶層５０において層厚の大きな領域と層厚の小さな領域とを形成するための液晶層厚調整層（絶縁層）４６が反射表示領域Ｒに対応して形成されている。具体的には、液晶層厚調整層４６を形成したことで反射表示領域Ｒにおける液晶層５０の層厚が透過表示領域Ｔにおける液晶層５０の層厚よりも小さくなっている。また、凸状の液晶層厚調整層４６の間は、透過表示領域Ｔに対応して凹部が形成されており、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界領域は、凹部の底面から例えば１０°〜５０°の角度で傾斜した傾斜面４６ａとなっている。したがって、液晶層厚調整層４６は境界領域Ｋにおいて自身の層厚が連続的に変化しており、よって、液晶層５０の層厚も境界領域Ｋでは連続的に変化している。液晶層厚調整層４６には、例えばアクリル樹脂等の透光性絶縁材料が用いられる。
【００２７】
なお、本実施の形態では、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとで一様のカラーフィルター４５を設けているが、この構成に代えて、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとでカラーフィルターを作り分け、透過表示用カラーフィルターと反射表示用カラーフィルターとで分光特性が異なり、透過表示用カラーフィルターの色純度を反射表示用カラーフィルターよりも高くしたものを設けるようにしてもよい。この構成とすれば、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒにおける色の濃淡のバランスを調整することができる。
【００２８】
また、対向基板２０の内面には、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる対向電極２１がカラーフィルター４５および液晶層厚調整層４６を覆うように全面に形成され、さらに対向電極２１上には例えばポリイミド等の高分子材料膜に所定のラビング処理を施した配向膜２２が形成されている。
【００２９】
一方、ＴＦＴアレイ基板１０の内面側には、アルミニウム、銀等の高反射率の金属膜等からなる開口部を有する反射電極４２が形成され、反射電極４２の開口部４２ａにはＩＴＯ等の透明導電膜からなる透明電極４３が設けられている。上述したように、透明電極４３の形成領域が透過表示領域Ｔ、反射電極４２の形成領域が反射表示領域Ｒに対応している。反射電極４２および透明電極４３上には、対向基板２０側と同様、例えばポリイミド等の高分子材料膜に所定のラビング処理を施した配向膜２３が形成されている。
【００３０】
また、ＴＦＴアレイ基板１０の基板本体１０ａ表面のうち、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界領域Ｋを除く液晶層厚調整層４６の平坦面にあたる領域に、例えばアクリル樹脂等による凸部２５が形成されている。この凸部２５を覆うように反射電極４２が形成されたことにより、反射電極４２の表面には凸部２５の形状を反映した凹凸が形成されている。これにより、この部分に入射された光は反射時に散乱されて射出される。一方、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界領域Ｋには凸部２５が形成されていないので、この部分の反射電極４２の表面はミラー反射面４２ｍとなっており、入射された光が正反射の方向にのみ射出される。
【００３１】
一般に、半透過反射型液晶表示装置の表示形態において、反射表示領域では、入射光が液晶層を２回通過するが、透過表示領域では、バックライトから射出された光が液晶層を１回しか通過しない。ここで液晶層のリタデーションを考慮すると、反射表示と透過表示とで同じ電圧を印加して液晶の配向制御を行った場合には、液晶のリタデーションの違いにより液晶の透過率の状態に違いを生じる。
その点、本実施の形態の構造では、反射表示領域Ｒに液晶層厚調整層４６を設けたため、その反射表示領域Ｒの液晶層５０の層厚よりも透過表示領域Ｔの液晶層５０の層厚が大きくなり、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとで液晶層５０を光が通過する距離を揃えることができる。そのため、反射表示領域Ｒと透過表示領域ＴとのリタデーションΔｎ・ｄが均一化され、反射表示、透過表示ともに明るく高コントラストの表示が得られるようになる。
【００３２】
ところが、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界領域Ｋにおいては、液晶層厚調整層４６が傾斜面４６ａを有しているので、液晶層５０の層厚が連続的に変化する結果、リタデーションΔｎ・ｄも連続的に変化することになり、この部分では透過表示光にとっても反射表示光にとっても不適切なリタデーションΔｎ・ｄとなる。また、液晶層５０を構成する液晶分子は配向膜２２，２３によって初期の配向状態が規定されているが、傾斜面４６ａでは配向膜２３の配向規制力が斜めに作用するので、この部分では液晶分子の配向が乱れることになる。
【００３３】
これに対して、本実施の形態の場合、透過表示領域Ｔとの境界領域Ｋにあたる反射電極４２の表面がミラー反射面４２ｍとなっているため、対向基板２０側から入射される外光がこの領域では正反射する。ところが、液晶表示装置１００を通常使用する場合、使用者は太陽光や照明光などの外光が正反射する方向から液晶表示装置を見ることはなく、ほぼ正面（法線方向）から見るため、黒表示時にミラー反射面４２ｍで反射した光が使用者の目に入ることはなく、反射表示のコントラストが低下することがない。また、境界領域Ｋには反射電極４２が存在しているので、透過表示にとっては悪影響を及ぼすこともない。一方、境界領域Ｋを除く反射表示領域Ｒの大部分には反射電極４２の表面に凹凸が形成されているので、反射光が散乱されて反射表示を明るく視認することができる。したがって、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界領域Ｋにおいて液晶層厚調整層４６の厚さが連続的に変化し、この領域でのリタデーションΔｎ・ｄが連続的に変化しており、さらに液晶分子の配向が乱れていたとしても、透過表示、反射表示ともに高コントラストの表示を実現することができる。
【００３４】
本発明者の検討結果によれば、例えば境界領域（液晶層厚調整層が傾斜面を有する領域）に透明電極を設けた場合、すなわち透過表示領域とした場合、透過表示のコントラストが３０、反射表示のコントラストが５０であるのに対し、前記境界領域に反射電極を設け、さらにその他の反射表示領域と同様の凹凸の散乱層を形成した場合、透過表示のコントラストが１００、反射表示のコントラストが１５であった。これに対して、本実施の形態と同様、境界領域に反射電極を設けた上でミラー反射面とした場合、透過表示のコントラストを１００、反射表示のコントラストを５０とすることができ、透過表示、反射表示ともに高コントラストの表示が実現できることが実証された。
【００３５】
［第２の実施の形態］
以下、本発明の第２の実施の形態について図６に基づいて説明する。
本実施の形態の液晶表示装置の基本構成は第１の実施の形態と同様であるが、カラーフィルターを下基板側に設けていることから上基板側が素子基板となっており、液晶表示装置の断面構造のみが第１の実施の形態と異なっている。よって、第１の実施の形態の図５に相当する図６を用いて液晶表示装置の断面構造についてのみ説明するとともに、図６において図５と共通の構成要素には同一の符号を付し、共通部分の説明は省略する。
【００３６】
本実施の形態の液晶表示装置１０１は、図６に示すように、下基板１の内面に開口部７０ａを有する反射膜７０が形成され、反射膜７０上を含む基板本体１ａの内面にカラーフィルター４５が形成されている。本実施の形態の場合、反射膜７０は画素電極９を兼ねておらず、反射膜７０がある領域が反射表示領域Ｒ、反射膜７０の開口部７０ａにあたる領域が透過表示領域Ｔとなる。反射表示領域Ｒにおけるカラーフィルター４５上に液晶層厚調整層４６が形成され、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極９、配向膜２３が全面に形成されている。一方、液晶層５０を挟んで対向する上基板２の内面には、対向電極２１、配向膜２２が順次形成されている。本実施の形態の場合も、下基板１の基板本体１ａ上に形成された凸部２５によって反射膜７０の上面に凹凸が形成されているが、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界領域Ｋにあたる液晶層厚調整層４６の傾斜面４６ａに対応する領域には凹凸が形成されておらず、ミラー反射面７０ｍとなっている。
【００３７】
本実施の形態の液晶表示装置１０１においても、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界領域Ｋにあたる反射膜７０の表面がミラー反射面７０ｍであり、この領域では正反射が生じるため、この部分が反射表示領域Ｒであっても反射表示のコントラストが低下することがない。その結果、透過表示、反射表示ともに高コントラストの表示を実現できる、といった第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００３８】
［電子機器］
上記実施の形態の液晶表示装置を備えた電子機器の例について説明する。
図７は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図７において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００３９】
図８は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図８において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００４０】
図９は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図９において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００４１】
図７、図８、図９に示す電子機器は、上記実施の形態の液晶表示装置を用いた液晶表示部を備えているので、様々な環境下で明るく高コントラストの表示部を有する高品位なカラー表示を実現可能な電子機器を実現することができる。また、反射と透過の表示領域の境界においても表示不良の少ない表示部を備えた電子機器を実現することが可能となる。
【００４２】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明の液晶表示装置においては、透過表示領域と反射表示領域の境界領域にあたる反射膜の表面がミラー反射面であり、この領域では正反射が生じるため、この部分が反射表示領域であっても反射表示のコントラストが低下することがなく、透過表示、反射表示ともに高コントラストの表示を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態の液晶表示装置を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ’線に沿う断面図である。
【図３】同、液晶表示装置の画像表示領域においてマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
【図４】同、液晶表示装置の１ドットの概略構成を示す平面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【図６】本発明の第２の実施形態の液晶表示装置を示す断面図である。
【図７】本発明の液晶表示装置を備えた電子機器の一例を示す斜視図である。
【図８】同、電子機器の他の例を示す斜視図である。
【図９】同、電子機器のさらに他の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
９　画素電極
１０　ＴＦＴアレイ基板
２０　対向基板
２５　凸部
４２　反射電極
４２ａ　（反射電極の）開口部
４２ｍ，７０ｍ　ミラー反射面
４３　透明電極
４５　カラーフィルター
４６　液晶層厚調整層
４６ａ　（液晶層厚調整層の）傾斜面
５０　液晶層
７０　反射膜
Ｒ　反射表示領域
Ｔ　透過表示領域
Ｋ　境界領域
【図１】
2004054129.tif 000003
【図２】
2004054129.tif 000004
【図３】
2004054129.tif 000005
【図４】
2004054129.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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