(57)【要約】      （修正有）【課題】基板の搬入搬出時において、処理ガスが外部に漏出せず、基板の連続処理が可能でスループット性にもすぐれた基板処理装置を提供する。【解決手段】箱形をした本体の対向した一対の側壁１５にスリット状の基板搬入口１０及び基板搬出口１１がそれぞれ形成されており、ローラーコンベア１２によって本体内に搬入された基板２に向かって本体内に設けられた処理ガス用ノズル５から処理ガスを噴射する様になった基板処理装置において、本体内の基板搬入口１０及び基板搬出口１１寄りの位置にそれぞれ側壁１５と平行な隔壁１３を設け、これら隔壁１３の基板搬入口１０及び基板搬出口１１と対応する位置に基板通過用スリット１４を形成すると共に、本体の周壁の前記隔壁１３の前後の位置にそれぞれ排気口１８を設け、これら排気口１８を外部と遮断された排気回路２０に接続した。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
箱形をした本体の対向した一対の側壁にスリット状の基板搬入口及び基板搬出口がそれぞれ形成されており、ローラーコンベアによって本体内に搬入された基板に向かって本体内に設けられた処理ガス用ノズルから処理ガスを噴射する様になった基板処理装置において、本体内の基板搬入口及び基板搬出口寄りの位置にそれぞれ側壁と平行な隔壁を設け、これら隔壁の基板搬入口及び基板搬出口と対応する位置に基板通過用スリットを形成すると共に、本体の周壁の前記隔壁の前後の位置にそれぞれ排気口を設け、これら排気口を外部と遮断された排気回路に接続したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
ローラーコンベアの送り速度が変更可能となっていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
ローラーコンベアが逆転可能となっていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
基板搬入口、基板搬出口のどちらか一方又はその両方にその開口部を閉塞するシャッター機構が付設されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項５】
基板搬入口、基板搬出口のどちらか一方又はその両方にエアーカーテン機構が付設されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項６】
基板搬入口、基板搬出口のどちらか一方側又はその両方側の隔壁を複数個とし、隔壁によって仕切られた箇所にそれぞれ排気口を設けると共に、隔壁に設けられた基板通過用スリットの開口面積を本体内側に行くに従って小さくしたことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項７】
基板搬入口、基板搬出口のどちらか一方側又はその両方側の隔壁を複数個とし、隔壁によって仕切られた箇所にそれぞれ排気口を設けると共に、排気口の排気量を外側へ行くに従って大きくしたことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は基板処理装置、詳しくは、半導体製造工程、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＬＴＰＳ−ＴＦＴを含むＦＰＤ製造工程、プリント基板製造工程などにおいて、基板をガス処理する為の基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体、ＦＰＤ、プリント基板などの製造の際には、基板表面の洗浄や乾燥などの為、ガスを吹き付けて処理することがあり、基板処理装置によってこの作業を行っている。この際に用いるガスには、有毒な成分を含むものや腐食性のある成分を含むものも多く、処理装置の外部にこれらガスが漏出しない様に配慮する必要がある。図１はこのガスを用いた基板処理装置の一例の断面図であり、箱形をした処理装置本体１は上下二部分に分割されており、上下に分離可能であると共に、上下部分を結合した状態においては、気密状態を保つことができる様になっており、その内部には被処理物である基板２を載置する処理テーブル３が設けられており、この処理テーブル３は回転軸４によって水平方向に回転する様になっている。又、この本体１の内部の上方には、処理ガス用ノズル５及び置換ガス用ノズル６がそれぞれ位置しており、基板２に向かって処理ガス２１を噴射出来る様になっていると共に、本体１内に無害な置換用ガスも放出出来る様になっている。更に、本体１の底面には排気口７が形成されており、該排気口７には外部と遮断された排気回路のダクト８が接続されている。
【０００３】
この従来の基板処理装置においては、本体１を上下に分離して処理テーブル３を露出させ、その上に被処理物である基板２を載置した後、本体１の上下二部分を結合密閉させ、処理テーブル３を回転させながら、処理ガス用ノズル５から基板２に向かって処理ガス２１を吹き付け、ガス処理を行い、ガス処理終了後は処理ガス２１の噴射を停止し、置換ガス用ノズル６から本体１内に無害な置換用ガスを放出すると共に、排気口７から排気回路８に本体１内の処理ガス２１を排出して本体１内を無害な置換用ガスに置換した後、本体１を上下に分離して処理済みの基板２を取り出していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
この様に、従来の基板処理装置においては、基板２をガス処理する毎に、本体１内の処理ガス２１を無害な置換用ガスで置換しなければならず、このガスの置換作業に大変時間がかかると共に、基板２の出し入れの毎に本体１を上下二部分に分離しなければならず、基板２の搬入、ガス処理、搬出を連続的に行うことは不可能であった。本発明は各種基板のガス処理に関する上記従来の問題点を解決することを目的とするものであり、ガスの置換作業を全く必要とせず、被処理物である基板２の搬入搬出時にも処理ガス２１は外部に漏出せず、基板２の連続処理が可能で、スループット性にもすぐれた基板処理装置を提供せんとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
箱形をした本体の対向した一対の側壁にスリット状の基板搬入口及び基板搬出口がそれぞれ形成されており、ローラーコンベアによって本体内に搬入された基板に向かって本体内に設けられた処理ガス用ノズルから処理ガスを噴射する様になった基板処理装置において、本体内の基板搬入口及び基板搬出口寄りの位置にそれぞれ側壁と平行な隔壁を設け、これら隔壁の基板搬入口及び基板搬出口と対応する位置に基板通過用スリットを形成すると共に、本体の周壁の前記隔壁の前後の位置にそれぞれ排気口を設け、これら排気口を外部と遮断された排気回路に接続することにより、上記課題を解決した。
【０００６】
【実施の形態】
図２はこの発明に係る基板処理装置の一実施形態の断面図である。図中９は箱形をした処理装置の本体であり、対向した一対の側壁１５、１５にはスリット状の基板搬入口１０、基板搬出口１１がそれぞれ形成されており、本体９の外部及び内部に配されたローラーコンベア１２，…によって被処理物である基板２を基板搬入口１０から本体９内に送り込み、基板搬出口１１から本体９外へ搬出する様になっている。又、本体９内には処理ガス用ノズル５がローラーコンベア１２上に載置される基板２の方向を向いて設置されている。
【０００７】
更に、本体９内の基板搬入口１０寄りの位置には、側壁１５と平行に隔壁１３が、同じく基板搬出口１１寄りの位置には、側壁１５と平行に隔壁１３がそれぞれ設けられており、これら隔壁１３の基板搬入口１０及び基板搬出口１１と対応する位置には、基板通過用スリット１４、１４が設けられている。これら基板搬入口１０、基板通過用スリット１４、１４、基板搬出口１１は、被処理物である基板２が通過出来る様に、横方向から見て一線上に並んでいることになる。
【０００８】
又、前記側壁１５と隔壁１３によって挟まれた空間は排気室１６、基板搬入口１０側の隔壁１３、基板搬出口１１側の隔壁１３によって挟まれた中央部分は処理室１７となっており、排気室１６の周壁の適当箇所及び処理室１７の隔壁１３寄りの周壁の適当箇所には排気口１８がそれぞれあけられており、これら排気口１８は外気とは遮断された排気回路のダクト２０にそれぞれ接続されている。
【０００９】
この実施の形態は上記の通りの構成を有するものであり、排気口１８から処理室１７内の雰囲気２２を吸引しながらローラーコンベア１２によって被処理物である基板２を本体１内に搬入し、処理室１７においてその表裏に処理ガス用ノズル５から処理ガス２１を噴射してガスによる処理を行い、処理完了後はローラーコンベア１２によって基板搬出口１１から外部に搬出して一連の作業を終了する。このとき、排気口１８からは、本体１内の処理ガス２１を含んだ雰囲気２２が吸引されており、処理室１７内の雰囲気２２及び外部の雰囲気２３の流れは図３に示す様に、基板搬入口１０及び基板搬出口１１付近では、本体９内へ流れ込む外部の雰囲気２３の方が優勢となり、基板搬入口１０及び基板搬出口１１から処理ガス２１を含んだ処理室１７内の雰囲気２２が外部へ漏出することはない。
【００１０】
なお、上記実施の形態においては、ローラーコンベア１２は等速度で回転しており、基板２の送り速度は一定であるが、ローラーコンベア１２に速度可変機構を設け、図４に示す様に、基板２の先端が処理ガス用ノズル５の位置に到達するまでは高速搬送、その後端が処理ガス用ノズル５の位置に達するまでは低速搬送、その後は再度高速搬送される様にしても良く、この様にした場合には、基板２に効率よく大量の処理ガス２１を当てることが出来、処理室１７の小型化及びスループットの短縮が可能である。
【００１１】
又、ローラーコンベア１２に逆転機構を設け、図５に示す様に、基板２の先端が処理ガス用ノズル５の位置に到達するまでは高速搬送、その後端が処理ガス用ノズル５の位置に達するまでは低速搬送、その後ローラーコンベア１２を逆転させ、低速搬送で基板２を後退させながら、もう一度処理ガス２１の噴射を行い、その後は再度高速搬送させる様にしても良く、この様にした場合には、処理室１７の小型化、これに伴う処理ガスの使用量の低減化も可能となる。
【００１２】
なお、排気口１８によって本体９内の雰囲気２２は常に吸引されているので、処理室１７内の処理ガス２１が基板搬入口１０及び基板搬出口１１から外部に漏出することはないが、基板搬入口１０、基板搬出口１１のどちらか一方又は両方にシャッター機構を設けたり、エアーカーテン機構を設けても良く、その様にした場合には、より一層確実に処理ガス２１の外部漏出を防止することが出来、安全性は向上する。
【００１３】
又、図６に示す様に、隔壁１３を複数枚設けて排気室１６を複数にし、隔壁１３にあけられた基板通過用スリット１４を内側に行くに従って小面積にしても良く、この様にした場合には、複数の排気室１６、１６でそれぞれ排気が行われるので、処理ガスの外部漏出をなお一層確実に阻止出来ると共に、処理ガス２１の排気口１８からの排出量は必要最小限に抑制され、処理室１７内の処理ガス２１の濃度低下を抑え、処理ガス２１の供給量を少なくすることが出来る。更に、図７に示す様に、複数の排気室１６を設け、排気口１８の排気量を外側にするに従って大きくしても良く、この様にした場合にも、処理ガス２１の外部漏出をなお一層確実に阻止出来ると共に、処理ガス２１の排気口１８からの排出量は必要最小限に抑制され、処理室１７内の処理ガス２１の濃度低下を抑え、処理ガス２１の供給量を少なくすることが出来る。
【００１４】
【発明の効果】
この発明は上記の通りの構成を有するものであり、被処理物である基板２の搬入、搬出とガス処理とを同時連続的に実施でき、基板を次々と投入して処理することが可能で、スループットにすぐれていると共に、処理室内のガス濃度を必要以上に上げる必要もなく、処理コストの低減化、安全性の向上も期待でき、更には装置全体の小型化にも寄与し得る効果を有し、すぐれた実用的価値を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の基板処理装置の一例の断面図。
【図２】この発明に係る基板処理装置の一実施形態の断面図。
【図３】図２に示す実施形態における気流の流れを模式的に描いた説明図。
【図４】この発明に係る基板処理装置において、ローラーコンベア１２の回転速度を変更可能にした際の基板２の動きを模式的に描いた説明図。
【図５】この発明に係る基板処理装置において、ローラーコンベア１２を逆転可能とした際の基板２の動きを模式的に描いた説明図。
【図６】この発明に係る基板処理装置の他の実施形態の部分断面図。
【図７】この発明に係る基板処理装置の他の実施形態の部分断面図。
【符号の説明】
１    本体
２    基板
３    処理テーブル
４    回転軸
５    処理ガス用ノズル
６    置換ガス用ノズル
７    排気口
８    ダクト
９    本体
１０    基板搬入口
１１    基板搬出口
１２    ローラーコンベア
１３    隔壁
１４    基板通過用スリット
１５    側壁
１６    排気室
１７    処理室
１８    排気口
２０    ダクト
２１    処理ガス
２２    雰囲気
２３    雰囲気
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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