【手続補正書】
【提出日】平成26年8月20日(2014.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高アスペクト比フィーチャーの表面を変性する方法であって、
前記高アスペクト比フィーチャーの前記表面を、添加剤組成物と接触させて、変性された表面を製造する工程
を含み、
リンス溶液が前記変性された表面と接触する時に前記高アスペクト比フィーチャーに作用する力が、少なくとも前記リンス溶液の除去の間、または少なくとも前記高アスペクト比フィーチャーの乾燥の間、前記高アスペクト比フィーチャーの屈曲または崩壊を防止するために十分に最小化される方法。
【請求項２】
前記変性された表面と接触する前記リンス溶液が、約７０度〜約１１０度の範囲の接触角を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記表面が、窒化ガリウム、窒化チタン、非晶質炭素、窒化タンタル、窒化タングステン、ケイ化コバルト、ケイ化ニッケル、ポリシリコン、窒化ケイ素および／またはルテニウム、酸化ルテニウム、窒化ルテニウム、他のルテニウム含有化合物からなる群から選択されるルテニウム含有化合物、あるいはそれらのあらゆる組み合わせを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記表面が、窒化チタン、非晶質炭素、窒化タンタル、窒化タングステン、ケイ化コバルト、ケイ化ニッケルおよび／またはルテニウム、酸化ルテニウム、窒化ルテニウム、他のルテニウム含有化合物からなる群から選択されるルテニウム含有化合物、あるいはそれらのあらゆる組み合わせを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
前記表面が、ドープまたは非ドープの単結晶Ｓｉ、ドープまたは非ドープの多結晶Ｓｉ、ポリシリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、あるいはそれらのあらゆる組み合わせを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
前記高アスペクト比フィーチャーが、窒化チタン、ルテニウム、酸化ルテニウム、窒化ルテニウム、他のルテニウム含有化合物、またはそれらのあらゆる組み合わせを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項７】
前記添加剤組成物が、界面活性剤、少なくとも１種の溶媒、任意選択的に少なくとも１種の共界面活性剤、任意選択的に少なくとも１種の緩衝剤、任意選択的に少なくとも１種の消泡剤、および任意選択的に少なくとも１種の安定剤を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記界面活性剤が、酸、塩基、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、双性イオン性界面活性剤およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記界面活性剤が、リン酸、ホスホン酸、ホスホン酸モノエステル、リン酸モノエステルおよびジエステル、カルボン酸、ジカルボン酸モノエステル、三カルボン酸モノおよびジエステル、硫酸モノエステル、スルホン酸、アミンおよびそれらの塩を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記界面活性剤が、（ｉ）２〜３０個の炭素原子を有する直鎖炭化水素基、（ｉｉ）２〜２０個の炭素原子を有する分枝状炭化水素基、（ｉｉｉ）２〜３０個の炭素原子を有する２個の直鎖炭化水素基、（ｉｖ）６〜３０個の炭素原子を有する２個の分枝状炭化水素基、（ｖ）式（Ｒ１）（Ｒ２）Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ３）（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、水素、ヒドロキシル、Ｃ２〜Ｃ３０アルキル、Ｃ２〜Ｃ３０アルケン、シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３０アルコキシおよびそれらのあらゆる組み合わせからなる群から選択される）の種、（ｖｉ）式（Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４）ＮＸ（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル、Ｃ２〜Ｃ３０アルケン、シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３０アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３０カルボキシレートおよびそれらのあらゆる組み合わせからなる群から選択され、そして、Ｘは−１の電荷を有する任意のアニオンである）の種、（ｖｉｉ）式［（Ｒ１）（Ｒ２）Ｎ］Ｃ（＝Ｏ）（ＣＲ３Ｒ４）ｎＣ（＝Ｏ）［Ｎ（Ｒ５）（Ｒ６）］（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、互いに独立して、水素、Ｃ２〜Ｃ３０アルキル、Ｃ２〜Ｃ３０アルケン、シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３０アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ３０カルボキシレートおよびそれらのあらゆる組み合わせからなる群から選択され、そしてｎ＝１〜１２の任意の整数である）の種、（ｖｉｉｉ）式Ｒ１Ｃ（＝Ｏ）（ＯＨ）（式中、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０アルキルまたはＣ２〜Ｃ３０アルキレン鎖から選択される）の種、（ｉｘ）式Ｒ１Ｃ（＝Ｏ）（ＯＨ）（ＣＨ２）ｎ（Ｏ＝）（ＨＯ）ＣＲ２（式中、Ｒ１またはＲ２は、互いに独立して、Ｃ１〜Ｃ３０アルキルまたはＣ２〜Ｃ３０アルキレン鎖から選択され、ｎは０〜２０の整数である）の種、（ｘ）７〜１４個の炭素原子を有するペルフッ素化炭化水素基、ならびに（ｘｉ）それらのあらゆる組み合わせからなる群から選択される種を含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記界面活性剤が、デシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、テトラデシルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、ビス（２−エチルヘキシル）ホスフェート、オクタデシルホスホン酸、ペルフルオロヘプタン酸、ペルフルオロデカン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ホスホノ酢酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、リン酸水素ジオクタデシル、リン酸二水素オクタデシル、オクタデシルホスホン酸、ドデセニルコハク酸モノジエタノールアミド、オクタデシルホスホン酸、ラウリン酸、パルミチン酸、オレイン酸、ビャクシン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸およびドデシルアミンからなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記界面活性剤が、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ドデセニルコハク酸モノジエタノールアミド、エチレンジアミンテトラキス（エトキシレート−ブロック−プロポキシレート）テトロール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシプロピレンスクロースエーテル、ｔ−オクチルフェノキシポリエトキシエタノール、ポリオキシエチレン（９）ノニルフェニルエーテル（分枝状）、ポリオキシエチレンソルビトールヘキサオレエート、ポリオキシエチレンソルビトールテトラオレエート、ポリエチレングリコールソルビタンモノオレエート、ソルビタンモノオレエート、アルキル−ポリグルコシド、エチルペルフルオロブチレート、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチル−１，５−ビス［２−（５−ノルボルネン−２−イル）エチル］トリシロキサン、単量体オクタデシルシラン誘導体、シロキサン変性ポリシラザン、シリコーン−ポリエーテルコポリマー、ヘプタデカンフルオロオクタンスルホン酸テトラエチルアンモニウム、ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド、４−（４−ジエチルアミノフェニルアゾ）−１−（４−ニトロベンジル）ピリジウムブロミド、セチルピリジニウムクロリド一水和物、ベンザルコニウムクロリド、ベンゼトニウムクロリド、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ジメチルジオクタデシルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムｐ−トルエンスルホネート、ジドデシルジメチルアンモニウムブロミド、ジ（水素化タロー）ジメチルアンモニウムクロリド、テトラヘプチルアンモニウムブロミド、テトラキス（デシル）アンモニウムブロミド、Aliquat（登録商標）336およびオキシフェノニウムブロミド、ジメチルジオクタデシルアンモニウムクロリド、ジメチルジヘキサデシルアンモニウムブロミド、ナトリウムポリオキシエチレンラウリルエーテル、ナトリウムジヘキシルスルホスクシネート、ジシクロヘキシルスルホスクシネートナトリウム塩、ナトリウム７−エチル−２−メチル−４−ウンデシルスルフェート、SODOSIL RM02、ホスフェートフルオロ界面活性剤、エチレンオキシドアルキルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルドデシルアミンＮ−オキシド、ナトリウムコカミンプロピオネート、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルミリスチルアンモニオ）プロパンスルホネート、（３−（４−ヘプチル）フェニル−３−ヒドロキシプロピル）ジメチルアンモニオプロパンスルホネート、グアニジンヒドロクロリド、テトラブチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
少なくとも１種の溶媒が、式Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｃ（ＯＨ）（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、水素、Ｃ２〜Ｃ３０アルキル、Ｃ２〜Ｃ３０アルケン、シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ３０アルコキシおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される）の化合物である、請求項７〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記少なくとも１種の溶媒が、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ブチレンカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）、トリプロピレングリコールメチルエーテル（ＴＰＧＭＥ）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル（ＤＰＧＰＥ）、トリプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、２，３−ジヒドロデカフルオロペンタン、エチルペルフルオロブチルエーテル、メチルペルフルオロブチルエーテル、アルキルカーボネート、アルキレンカーボネート、４−メチル−２−ペンタノール、高密度流体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される種を含む、請求項７〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記共界面活性剤ポリエチレングリコール／プロピレングリコールまたは緩衝剤を含む、請求項７〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
約２０度〜約１２０度の添加剤組成物プロセス温度を含む、請求項７〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
約６０〜約６０００秒の添加剤組成物プロセス時間を含む、請求項７〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記リンス溶液が、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ブチレンカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）、トリプロピレングリコールメチルエーテル（ＴＰＧＭＥ）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、２，３−ジヒドロデカフルオロペンタン、エチルペルフルオロブチルエーテル、メチルペルフルオロブチルエーテル、アルキルカーボネート、アルキレンカーボネート、４−メチル−２−ペンタノール、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１種の溶媒を含む、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記表面を前記添加剤組成物と接触させる前に、前記表面をリンスする工程をさらに含む、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記変性された表面をリンス溶液でリンスする工程をさらに含む、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記リンス溶液が、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ブチレンカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）、トリプロピレングリコールメチルエーテル（ＴＰＧＭＥ）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル（ＤＰＧＰＥ）、トリプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、２，３−ジヒドロデカフルオロペンタン、エチルペルフルオロブチルエーテル、メチルペルフルオロブチルエーテル、アルキルカーボネート、アルキレンカーボネート、４−メチル−２−ペンタノール、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１種の溶媒を含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記リンス溶液が、ヒドロキノン、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ブチル化ヒドロアニソール（ＢＨＡ）およびジフェニルアミンからなる群から選択される少なくとも１種のフリーラジカルを含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
前記リンス溶液が少なくとも１種のイオン交換樹脂を含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
前記リンスの後に前記変性された表面を乾燥する工程をさらに含む、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記乾燥工程が、スピンドライ、蒸気乾燥および窒素乾燥からなる群から選択される方法を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
リンス時間ｔ＝ｘにおける前記変性された表面の前記接触角は、リンス時間ｔ＝０における前記変性された表面の前記接触角とは約＋／−１０度以下異なり、ｘは約６０秒〜約６００秒以上の範囲にある、請求項１〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記添加剤組成物がその場でブレンドされる、請求項１〜２６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２８】
熱処理、反応性イオンエッチングまたはプラズマエッチングプロセスを通して、前記変性された表面を初期状態に戻す工程をさらに含む、請求項１〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
添加剤組成物および変性された表面を含む製造物品であって、前記添加剤組成物が、少なくとも１種の界面活性剤、少なくとも１種の有機溶媒、および任意選択的に少なくとも１種の共界面活性剤、任意選択的に少なくとも１種の消泡剤、任意選択的に少なくとも１種の緩衝剤、および任意選択的に少なくとも１種の安定剤を含む製造物品。
【請求項３０】
変性された高アスペクト比表面を含む製造物品であって、前記変性された表面が、吸着された界面活性剤化合物およびリンス溶液を含み、前記変性された表面と接触する前記組成物が、約７０度〜約１１０度の範囲の接触角を有し、そして前記変性された高アスペクト比表面が、窒化チタン、非晶質炭素、窒化タンタル、窒化タングステン、ケイ化コバルト、ケイ化ニッケル、ポリシリコン、窒化ケイ素、および／またはルテニウム、酸化ルテニウム、窒化ルテニウム、他のルテニウム含有化合物からなる群から選択されるルテニウム含有化合物、あるいはそれらのあらゆる組み合わせを含む製造物品。
【請求項３１】
変性された高アスペクト比表面を含む製造物品であって、前記変性された表面が、吸着された界面活性剤化合物およびリンス溶液を含み、前記変性された表面と接触する前記組成物が、約７０度〜約１１０度の範囲の接触角を有し、そして前記変性された高アスペクト比表面が、ドープまたは非ドープの単結晶Ｓｉ、ドープまたは非ドープの多結晶Ｓｉ、ポリシリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素またはそれらの組み合わせを含む製造物品。