(57)【要約】【課題】簡易な方法で、しかも確実に液化炭酸ガスが供給、噴出されているかを確認することができる洗浄方法を提供する。【解決手段】液化炭酸ガスを噴出ノズル５１から噴出させ、粉末状にドライアイス化させて被洗浄物５２表面にぶつけて洗浄する洗浄方法において、洗浄作業中、随時、噴出ノズル５１からの噴出物を受け部５５に向けて噴出させ、噴出物から該受け部５５に加わる力を荷重計５８で計測して、該計測値が所要値に達しているか否かを確認することで、液化炭酸ガスの噴出状態の良否を判別することを特徴とする。【選択図】                図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液化炭酸ガスを噴出ノズルから噴出させ、粉末状にドライアイス化させて被洗浄物表面にぶつけて洗浄する洗浄方法において、
洗浄作業中、随時、噴出ノズルからの噴出物を受け部に向けて噴出させ、噴出物から該受け部に加わる力を荷重計で計測して、該計測値が所要値に達しているか否かを確認することで、液化炭酸ガスの噴出状態の良否を判別することを特徴とする洗浄方法。
【請求項２】
前記噴出ノズルが洗浄工程中所定位置に固定される固定式のものであり、前記受け部が噴出ノズル前方の噴出物を受けることが可能な位置と噴出物を受けられない位置との間で移動可能に設けられた受け部であることを特徴とする請求項１記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記被洗浄物が磁気ヘッド製造用のウエハであることを特徴とする請求項１または２記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はウエハの洗浄に好適な洗浄方法に関する。
【０００２】
【背景技術】
磁気ヘッドを製造する場合には、アルミナチタンカーバイドなどからなるウエハ上に、スパッタリング、めっき等の薄膜技術により必要な層を多層に形成し、各層に必要な加工を施して磁気ヘッドに形成する。
このようなスパッタリング、めっき等の薄膜形成工程、加工工程において、各層の表面を洗浄する必要が生じる。
薄膜表面の洗浄には種々の方法があるが、その一つとして液化炭酸ガスを吹き付けて洗浄する方法がある。
液化炭酸ガスを大気中で噴出させると、液化炭酸ガスは断熱気化されるが、潜熱によって冷却され、一部が粉末状にドライアイス化され、このドライアイスがウエハ表面にぶつけられることにより、ウエハ表面が物理的に洗浄されるのである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
液化炭酸ガスによる洗浄の場合、粉末状のドライアイスがぶつけられるものであるため、洗浄作用が緩やかであり、またドライアイスはすぐに気化してしまい、ウエハ表面に残らないので、ウエハの洗浄に好適である。
しかしながら、液化炭酸ガスはドライアイス化してもすぐに気化するので、液化炭酸ガスが正常に供給され、噴出されているかが目視では判断しにくいという課題がある。
また、液化炭酸ガス供給装置に液化炭酸ガスの流量を計測する流量計などを設置すればよいが、マイナス数十度という超低温の液体の流量を計測する流量計は装置が複雑で、扱いにくいという課題がある。
【０００４】
そこで本発明は上記課題を解決すべくなされたもので、その目的とするところは、簡易な方法で、しかも確実に液化炭酸ガスが供給、噴出されているかを確認することができる洗浄方法を提供するにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる洗浄方法では、液化炭酸ガスを噴出ノズルから噴出させ、粉末状にドライアイス化させて被洗浄物表面にぶつけて洗浄する洗浄方法において、洗浄作業中、随時、噴出ノズルからの噴出物を受け部に向けて噴出させ、噴出物から該受け部に加わる力を荷重計で計測して、該計測値が所要値に達しているか否かを確認することで、液化炭酸ガスの噴出状態の良否を判別することを特徴とする。
【０００６】
前記噴出ノズルが洗浄工程中所定位置に固定される固定式のものであり、前記受け部が噴出ノズル前方の噴出物を受けることが可能な位置と噴出物を受けられない位置との間で移動可能に設けられた受け部のものを用いることができる。
磁気ヘッド製造用のウエハの洗浄に好適である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下本発明の好適な実施の形態を添付図面を参照して詳細に説明する。
図１〜図７は、磁気ディスク装置や磁気テープ装置に用いられる磁気ヘッドの製造工程の一例が示されている。
この磁気ヘッド工程において、種々の薄膜形成工程、めっき工程、加工工程が現れ、これらのいくつかの工程で薄膜の洗浄が必要となるので、以下、製造工程を簡単に説明する。
【０００８】
まず、図１に示すように、アルミナチタンカーバイド、フェライト、あるいはチタン酸カルシウムなどの材料からなる円板状のウエハ２０上に、アルミナよりなる基板保護膜２１、鉄−ニッケル合金よりなる下側の磁気シールド層２２、アルミナよりなる第１の非磁性絶縁層２３を形成する。
【０００９】
次に、絶縁層２３上に、磁気トランジューサ２４を形成する。この磁気トランジューサ２４は、絶縁層２３上に縦横に複数個、所要のパターンで形成される。磁気トランジューサ２４としては、異方性磁気抵抗効果素子、スピンバルブ磁気抵抗効果素子などがある。磁気トランジューサ２４の両端には、一対のリード２４ａが接続され、これらのリード２４ａは、絶縁層２３上に引き出される。
【００１０】
絶縁層２３上には、磁気トランジューサ２４およびリード２４ａを覆う、アルミナよりなる第２の非磁性絶縁層２５が形成される。この絶縁層２５上には、鉄−ニッケル合金よりなる上側の磁気シールド層２６が形成される。
この磁気シールド層２６に、厚さ０．２〜０．６μｍ程度のアルミナよりなる記録ギャップ層２７が形成される。
なお、誘導コイル型ヘッドでは、上側の磁気シールド層２６は下部磁極層を兼用するので、以下、下部磁極層２６と呼ぶ。
【００１１】
ギャップ層２７の上には、図４に示すように、第３および第４の非磁性絶縁層２８、２９に挟まれたコイル３０が形成される。絶縁層２８、２９とギャップ層２７には、コイル３０の中央を貫通する孔３１が形成されている。
なお、図４のＡ−Ａ線断面が図１となる。
【００１２】
次に、図２、図５に示すように、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等の合金よりなるめっきベース層３２を、ギャップ層２７、絶縁層２９、孔３１表面上に形成する。次いで、めっきベース層３２上にフォトレジスト３３を塗布し、露光、現像して、上部磁極形成用の窓３３ａを形成する。
【００１３】
次いで、電解めっきにより、窓３３ａ中に、数μｍの厚さで、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等の合金からなる上部磁極３４を形成する。次に、図３、図６に示すように、フォトレジスト３３を除去する。
上部磁極３４は、図７に示すように、磁気記録媒体に対向する領域では、細いポール部３４ａに形成されると共に、ポール部３４ａと反対側で孔３１を通して下部磁極２６に接続する形状となっている。
なお、磁気シールド層２２や、下部磁極２６、上部磁極３４を構成する材料は鉄−ニッケル合金に限られるものではない。また、電解めっき法でなく、スパッタリングなどによって成膜してもよい。
上記のようにして、上部磁極３４までが形成される。
【００１４】
前記したように、上記種々の工程で薄膜の洗浄が必要となる。
以下本発明での洗浄方法について説明する。
図８は洗浄装置５０の説明図である。
５１は液化炭酸ガスの噴出ノズルである。噴出ノズル５１は、適宜な配管（図示せず）を通じて液化炭酸ガスボンベ（図示せず）に接続されている。噴出ノズル５１もしくは配管中途部にはバルブ（図示せず）が配設され、バルブが開閉制御されることによって噴出ノズル５１からウエハ等の被洗浄物５２に向けて液化炭酸ガスが噴出される。
【００１５】
液化炭酸ガスは噴出ノズル５１から大気中に噴出されると、断熱気化されるが、その際、潜熱によって冷却され、一部が粉末状にドライアイス化し、これら噴出物が被洗浄物５２表面にぶつけられることになる。このドライアイスの物理的な洗浄力により、被洗浄物表面上の汚れ、異物５３が除去されることになる。
【００１６】
なお、本実施の形態では、噴出バルブ５１は所要位置に固定配置され、噴出バルブ５１の前方に配置される被洗浄物５２が適宜機構により図の矢印方向の前後左右に揺動されるようになっている。これにより、被洗浄物の表面に満遍なく液化炭酸ガスが噴出され、該表面が均一に洗浄されることになる。なお、実際には、液化炭酸ガスは噴出ノズル５１から被洗浄物５２表面に対して斜めに噴出される。
【００１７】
被洗浄物５２を噴出ノズル５１の前方の所定位置に自動的に給排する給排装置（図示せず）を設けて連続的に洗浄工程が行われるようにすると好適である。
また、被洗浄物５２を固定し、噴出ノズル５１側を被洗浄物５２に対して揺動させるように構成してもよい。
【００１８】
図８において、５５は受け部である。
受け部５５は皿状に形成され、噴出ノズル５１から噴出される噴出物を受け取ることができるようになっている。したがって、受け部５５には、噴出物が噴出されることにより荷重が加わることになる。
受け部５５は、回動アーム５６に固定され、この回動アーム５６をモータ５７によって１８０°回動させることによって、噴出ノズル５１前方の噴出物を受けることが可能な位置と噴出物を受けられない位置との間で移動可能に設けられている。この受け部５５の移動機構は上記に限られない。
【００１９】
回動アーム５６等にはロードセル等からなる荷重計５８が設けられ、噴出物から加わる受け部５５への荷重を計測できるようになっている。荷重計５８での計測値が制御部５９に入力され、制御部５９では、この入力された計測値とあらかじめ入力されている許容設定値幅とを比較し、入力された計測値が許容設定値幅から外れた場合に警報器６０を作動させるようになっている。
【００２０】
このように、本実施の形態では、噴出ノズル５１からの噴出物を受け部５５に向けて噴出させ、噴出物から該受け部５５に加わる力を荷重計５８で計測して、該計測値が所要値に達しているか否かを確認することで、液化炭酸ガスの噴出状態の良否を簡単に判別することができる。
この計測は、洗浄作業中、随時行うようにすればよい。
噴出ノズル５１が目詰まり等して、荷重計５８での計測値が設定値よりも低いなど、異常が発生した場合には制御部５９により警報器６０を作動させるので、直ちに異常に対処することができる。
【００２１】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、洗浄作業中、随時、噴出ノズルからの噴出物を受け部に向けて噴出させ、噴出物から該受け部に加わる力を荷重計で計測して、該計測値が所要値に達しているか否かを確認することで、液化炭酸ガスの噴出状態の良否を判別するようにしたので、目視により判別しにくい液化炭酸ガスの噴出状態を確実、かつ簡便に知ることができ、異常に直ちに対処できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
図１から図３は、磁気ヘッド先端側からみた磁気ヘッドの製造工程を示し、
【図１】ギャップ層までを形成した状態の磁気ヘッドの断面図、
【図２】フォトレジストに上部磁極形成用の窓を形成した状態の断面図、
【図３】上部磁極を形成した状態の断面図である。図４〜図６は、磁気ヘッドのコイル形成部分の側部からみた磁気ヘッドの製造工程を示し、
【図４】コイルを形成した段階の磁気ヘッドの断面図、
【図５】フォトレジストを塗布した状態の断面図、
【図６】上部磁極を形成した状態の断面図である。
【図７】上部磁極およびコイルを示す平面図である。
【図８】洗浄装置および洗浄方法を示す説明図である。
【符号の説明】
２０  ウエハ
２１  基板保護膜
２２  磁気シールド層
２３  絶縁層
２４  トランジューサ
２４ａ  リード
２５  絶縁層
２６  下部磁極（磁気シールド層）
２７  ギャップ層
２８、２９  絶縁層
３０  コイル
３１  孔
３２  めっきベース層
３３  フォトレジスト
３４  上部磁極
３４ａ  ポール部
５０  洗浄装置
５１  噴出ノズル
５２  ウエハ等の被洗浄物
５３  汚れ、異物
５５  受け部
５６  アーム
５７  モータ
５８  荷重計
５９  制御部
６０  警報器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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