【手続補正書】
【提出日】平成26年1月8日(2014.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体供給容器と、前記流体供給容器に結合されたフロー回路と、を含む、筐体を通る換気ガスの流れに適応した前記筐体のための換気ガス管理システムであって、
前記筐体を通る換気ガス流を制御するために配置された流れ調整器と、
（ｉ）前記流体供給容器からの流体の漏れまたは前記筐体内の関連するフロー回路に付随する危険またはリスクのレベルに影響する、前記流体供給容器の特性、筐体の特性、または前記流体供給容器内にある若しくは前記流体供給容器から分配される流体の特性を監視して、（ｉｉ）前記監視された特性に相関する監視信号を出力するように構成された監視アセンブリと、
前記監視アセンブリから前記監視信号を受信し、前記筐体内の前記流体供給容器からの流体の漏れに関連する危険またはリスクのレベルに関して前記流れ調整器を応答的に調整するように配置されたコントローラと、を備える換気ガス管理システム。
【請求項２】
前記監視された特性が、前記流体供給容器の流体残量、前記流体供給容器の流体圧力、前記流体供給容器の下流側のガス送達マニホールドの流体圧力、前記流体供給容器の壁の歪度、前記流体を含む前記流体供給容器の重量、前記流体供給容器の内部容積に配置された物理吸着剤の物理吸着特性、前記流体供給容器の温度、前記筐体内の温度、前記流体供給容器から分配される流体の累積量、前記流体供給容器からの流体分配の継続時間、前記流体供給容器から分配される流体の流速、前記筐体の環境条件、前記流体供給容器内の流体条件、前記筐体のアクセス構造の開または閉特性、前記流体供給容器、フロー回路、筐体および／または前記分配された流体を消費するプロセスに関連する警報条件とから構成された群から選択される少なくとも１つの特性を含む、請求項１に記載の換気ガス管理システム。
【請求項３】
前記コントローラが、前記流体供給容器からの流体の分配中に前記筐体を通る換気ガスの流れを低減するように前記流れ調整器を応答的に調整するように配置される結果、前記流体の分配中、流体残量が減少するにつれて前記筐体を通過する換気ガス流が次第に減少する、請求項１に記載の換気ガス管理システム。
【請求項４】
換気ガス流を管理するように構成される場合に、前記筐体が、複数の流体供給容器のそれぞれに対して独立した副筐体を提供するために仕切られ、前記換気ガス管理システムが、各副筐体を通過する換気ガス流を管理するように配置される、請求項１に記載の換気ガス管理システム。
【請求項５】
半導体製造設備内のイオン注入装置のガスボックスとともに作用的に配置される場合に、前記ガスボックスを通過する換気ガスの流れを調整する、請求項１に記載の換気ガス管理システム。
【請求項６】
前記ガスボックスが吸着剤式の流体供給容器を含む、請求項５に記載の換気ガス管理システム。
【請求項７】
前記吸着剤式の流体供給容器が、水素化物ガス、ハロゲン化物ガス、気体有機金属化合物、シラン、ジボラン、ゲルマン、アンモニア、ホスフィン、アルシン、スチビン、硫化水素、セレン化水素、テルル化水素、三フッ化ホウ素、Ｂ2Ｆ4、六フッ化タングステン、塩素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、およびフッ化水素から構成された群から選択される流体を含む、請求項６に記載の換気ガス管理システム。
【請求項８】
流体が前記流体供給容器内に準大気圧で貯蔵される、請求項６に記載の換気ガス管理システム。
【請求項９】
前記ガスボックスが、内部圧力を調整した流体供給容器を含む、請求項５に記載の換気ガス管理システム。
【請求項１０】
前記内部圧力を調整した流体供給容器が、水素化物ガス、ハロゲン化物ガス、気体有機金属化合物、シラン、ジボラン、ゲルマン、アンモニア、ホスフィン、アルシン、スチビン、硫化水素、セレン化水素、テルル化水素、三フッ化ホウ素、Ｂ2Ｆ4、六フッ化タングステン、塩素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、およびフッ化水素から構成された群から選択される流体を含む、請求項９に記載の換気ガス管理システム。
【請求項１１】
換気ガスが通って流れる筐体内の流体源からガスを供給する方法であって、
前記流体源からの流体の漏れまたは前記筐体内の関連するフロー回路に付随する危険またはリスクのレベルに影響する、前記流体源の特性、筐体の特性、または前記流体源内にある若しくは前記流体源から分配される流体の特性を監視するステップと、
前記監視に応じて、前記筐体内の前記流体源からの流体の漏れに関連する危険またはリスクの前記レベルに関して前記筐体を通過する換気ガスの流れを調整するステップと、を含む方法。
【請求項１２】
前記監視された特性が、前記流体源の流体残量、前記流体源の流体圧力、前記流体供給容器の下流側のガス送達マニホールドの流体圧力、前記流体源の壁の歪度、前記流体を含む前記流体源の重量、前記流体源の内部容積に配置された物理吸着剤の物理吸着特性、前記流体源の温度、前記筐体の温度、前記流体源から分配される流体の累積量、前記流体源からの流体分配の継続時間、前記流体源から分配される流体の流速、前記筐体の環境条件、前記流体源の流体条件、前記筐体のアクセス構造の開または閉特性、および前記流体源、フロー回路および／または筐体に付随する警報条件から構成された群から選択される少なくとも１つの特性を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記監視された特性が、前記流体源から分配される圧力流体を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記調整するステップが、流量制御弁と、ダンパと、可変サイズ制限流量口デバイスと、質量流量コントローラと、可変速度ポンプと、可変速度送風機と、から構成された群から選択される流量制御デバイスを調整するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記調整するステップが、前記筐体の外部に配置されて前記監視のために前記筐体内の少なくとも１つのセンサと作動的に結合されたデータ収集モジュール内のデータを取得するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記調整するステップによって、非警報条件および前記筐体のアクセス構造の閉特性の下における前記流体源からの流体の分配時、前記筐体を通る換気ガスの流れが減少し、前記流体供給容器、前記フロー回路、前記筐体および／または前記分配された流体を消費するプロセスに関連する警報条件の発生時、または前記筐体の前記アクセス構造の開放時、前記筐体を通る換気ガスの流れが増加する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記調整するステップによって、前記流体源からの流体の分配中、前記筐体を通る換気ガスの流れが減少する結果、前記流体の分配中、流体残量が減少するにつれて前記筐体を通過する換気ガス流が次第に減少する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記筐体が、複数の流体源のそれぞれに対して独立した副筐体を提供するために仕切られ、前記方法が、各副筐体の換気ガスの流れを前記監視および調整するステップを実施するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
前記筐体としてイオン注入装置のガスボックスを備える半導体製造設備において実施される場合に、前記ガスボックスを通過する換気ガスの流れを調整する、請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
前記ガスボックスが前記流体源として吸着剤式の流体供給容器を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記吸着剤式の流体供給容器が活性炭素吸着剤を含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記吸着剤式の流体供給容器が、水素化物ガス、ハロゲン化物ガス、気体有機金属化合物、シラン、ジボラン、ゲルマン、アンモニア、ホスフィン、アルシン、スチビン、硫化水素、セレン化水素、テルル化水素、三フッ化ホウ素、Ｂ2Ｆ4、六フッ化タングステン、塩素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、およびフッ化水素から構成された群から選択される流体を含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
流体が前記流体供給容器内に準大気圧で貯蔵される、請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
前記ガスボックスが、内部圧力を調整した流体供給容器を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２５】
前記内部圧力を調整した流体供給容器が、水素化物ガス、ハロゲン化物ガス、気体有機金属化合物、シラン、ジボラン、ゲルマン、アンモニア、ホスフィン、アルシン、スチビン、硫化水素、セレン化水素、テルル化水素、三フッ化ホウ素、Ｂ2Ｆ4、六フッ化タングステン、塩素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素およびフッ化水素から構成された群から選択される流体を含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
プロセスユニットを通って流れる排気の動作を管理する方法であって、
前記プロセスユニットのリスクまたは危険レベルを決定する少なくとも１つの状態または動作変数を監視するステップと、
前記監視された状態または前記動作変数から決定した前記リスクまたは危険レベルに応じて前記排気を複数の代替的な排気配置の１つに経路指示するステップと、を含む方法。
【請求項２７】
前記排気の速度が、前記監視された状態または前記動作変数から決定された前記リスクまたは危険レベルにしたがって調整される、請求項２６に記載の方法。