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【手続補正書】
【提出日】平成24年3月16日(2012.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気相堆積処理システムにおいて使用される化学前駆物質を発生させるための機器であって、
アンプルに結合され、前記アンプルと流体連通する第１の加熱式バルブ組立体を備え、前記第１の加熱式バルブ組立体が、さらに、
本体と、
少なくとも部分的に前記本体内に収容される加熱源と、
少なくとも部分的に前記本体内に収容される入口チャネルであって、前記入口チャネルの一端が前記アンプルに結合され、前記アンプルと流体連通する入口チャネルと、
前記入口チャネルに沿って前記本体に結合され、前記入口チャネル内の流体の流れを制御するように配置された第１の空気バルブおよび第１の手動バルブと、
少なくとも部分的に前記本体内に収容される出口チャネルであって、前記出口チャネルの一端が前記アンプルに結合され、前記アンプルと流体連通する出口チャネルと、
前記出口チャネルに沿って前記本体に結合され、前記出口チャネル内の流体の流れを制御するように配置された第２の空気バルブおよび第２の手動バルブと、
バイパスチャネルであって、前記バイパスチャネルの第１の端部が前記入口チャネルに結合され、前記バイパスチャネルの第２の端部が前記出口チャネルに結合された、バイパスチャネルと、
前記本体に結合され、前記バイパスチャネル内の流体の流れを制御するように配置されたバイパスバルブであって、開位置にあるときは前記バイパスチャネルを介した入口チャネルと出口チャネルの間の流体連通をもたらすバイパスバルブと
を備え、前記機器がさらに、
前記第１の加熱式バルブ組立体に結合され当該組立体と流体連通する第２の加熱式バルブ組立体を備え、前記第１及び第２の加熱式バルブ組立体が独立的に所定の温度を得るように構成され、前記第２の加熱式バルブ組立体が、さらに、
第２の本体と、
少なくとも部分的に前記第２の本体内に収容される少なくとも１つの加熱源と、
前記第２の本体に結合される、追加の少なくとも３つのバルブと
を備える、前記機器。
【請求項２】
前記第２の加熱式バルブ組立体の前記少なくとも１つの加熱源が、少なくとも１つの内蔵された電気加熱器を備える、請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記第２の加熱式バルブ組立体がさらに、前記少なくとも１つの加熱源に結合されたサーモスタットを備える、請求項１に記載の機器。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月19日(2012.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を用意し、
前記基板上にスパッタリングされるタンタルの少なくとも一部によりターゲットを提供することによりＴａＮ層を被着し、
窒素および不活性ガスを含むスパッタリングガスを提供し、
複数のパルスで陽極と陰極との間に電力を印加し、当該陰極は前記ターゲットを含み、ここで１０Ｈｚから１０００Ｈｚの範囲の周波数でさらに０．０１％と２０％の間のデューティサイクルで各パルスが印加され、そして前記ターゲット上に０．１Ａ／ｃｍ２以上１０Ａ／ｃｍ２以下の電流密度を生じ、
前記ターゲットの表面に隣接した磁場を印加し、
前記電源の各パルスの間、前記ターゲットから前記基板の上へ反応的にタンタルをスパッタリングしてＴａＮシード層を形成し、
前記ターゲットの表面に隣接した磁場を提供することによって、前記ＴａＮシード層の上へＴａ層を被着し、
不活性スパッタリングガスを供給し、
複数のパルスで陽極と陰極との間に前記電力を印加し、当該陰極は前記ターゲットを含み、ここで各パルスは１０Ｈｚから１０００Ｈｚの範囲の周波数でさらに０．０１％と２０％の間のデューティサイクルで各パルスが印加され、そして前記ターゲットの上で０．１Ａ／ｃｍ２と１０Ａ／ｃｍ２との間の電流密度を生じ、
前記ターゲットの表面に隣接した磁場を印加し、
前記基板を支持するペデスタルに高周波信号を印加し前記基板に隣接して自己バイアス場を発生させ、
前記電源の各パルスの間前記ターゲットから前記ＴａＮ層の上にタンタルを被着させタンタル層を形成する金属化構造体を被着する方法。
【請求項２】
前記高周波信号は前記ＴａＮシード層の被着の間前記ペデスタルに印加されない請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ＴａＮ層の上に前記Ｔａ層を被着するために、前記高周波信号が最初に前記ペデスタルに印加される前に前記陽極と陰極の間に前記電源が印加される請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記高周波信号は前記電源の前記各パルスと同期がとられている請求項１から３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
前記Ｔａ層の被着の間、前記陽極と前記陰極との間に前記電源の各パルスが印加される前に前記高周波信号の印加が開始され；前記陽極と前記陰極の間に前記電源が印加されている間および前記陽極と前記陰極との間の電源のパルスが終了した後一定の期間、前記高周波信号の印加が維持され；さらに前記陽極と陰極との間の電源のパルスが終了した後一定の期間の満期の後のみ前記高周波信号の印加が終了する請求項１から３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
スパッタリングの間基板を支持するためのペデスタルと、
前記基板の上にスパッタされるべきタンタルから少なくとも一部が形成されるターゲットの表面に隣接して磁場を提供するためのアセンブリと、
複数のパルスで陽極と陰極との間に電力を印加するための第１の電源と、前記陰極は前記ターゲットを含み、当該陰極は前記ターゲットを含み、前記各パルスは１０Ｈｚから１０００Ｈｚの範囲の周波数、さらに０．０１％と２０％の間のデューティサイクルを有し、そして前記ターゲットの上で０．１Ａ／ｃｍ２と１０Ａ／ｃｍ２との間の電流密度を生じ、
前記基板を支持するペデスタルに高周波信号を印加し前記基板に隣接して自己バイアス場を発生する第２の電源とを備え、ここで前記金属化構造体を製造するために、ＴａＮシード層の被着の間前記高周波数信号は前記ペデスタルに印加されず、さらに前記ＴａＮシード層の上へタンタル層の被着の間前記高周波数信号が前記ペデスタルに印加される金属化構造体を製造する装置を動作させる方法。
【請求項７】
前記Ｔａ層の上に前記Ｔａ層を被着するために、前記第１の電源からの電力は、前記高周波数信号が最初に前記ペデスタルに印加される前、前記陽極と前記陰極との間に印加される請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記高周波信号は前記第１の電源の前記各パルスと同期がとられている請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
前記Ｔａ層の被着の間、前記陽極と前記陰極との間に前記第１の電源の各パルスが印加される前に前記高周波信号の印加が開始され；前記陽極と前記陰極の間に前記第１の電源が印加されている間および前記陽極と前記陰極との間の第１の電源のパルスが終了した後ある期間、前記陽極と前記陰極の間に前記第１の電源が印加されている間、前記高周波信号の印加が維持され；さらに前記陽極と前記陰極との間の第１の電源のパルスが終了した後ある期間の満期の後のみ前記高周波信号の印加が終了する請求項６から８のうちいずれか一つに記載の方法
【請求項１０】
前記第１の電源はＤＣ電源であり、ＤＣ電圧の各パルスは前記陽極と前記陰極との間に印加される請求項６から９のいずれかひとつに記載の方法。
【請求項１１】
スパッタリングの間基板を支持するためのペデスタルと、
前記基板上にスパッタされる導電物質から少なくとも一部形成される少なくとも１個のターゲットと、
前記ターゲットの表面に隣接して磁場を提供するための磁気的なアセンブリと、
複数のパルスで陽極と陰極との間に電力を供給するための第１の電源とを備え、
ここで前記陰極は前記ターゲットを含み、ここで前記各パルスは１０Ｈｚから１０００Ｈｚの範囲の周波数、さらに０．０１％と２０％の間のデューティサイクルを有し、そして前記ターゲットの上で０．１Ａ／ｃｍ２と１０Ａ／ｃｍ２との間の電流密度を生じ、
さらに前記基板を支持するペデスタルに高周波信号を印加し、前記基板に隣接して自己バイアス場を発生させるための第２の電源と、
前記第１の電源の前記各パルスを前記ペデスタルに印加される前記高周波信号と同期化させるための手段とを備えた装置。
【請求項１２】
前記第１の電源はＤＣ電源である請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第１の電源の前記パルス繰り返し周波数は調整可能である請求項１１又は１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記ペデスタルに印加される前記高周波信号を調節するための手段を更に備えてなる請求項１１から１３のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１５】
前記第１の電源の各パルスが前記陽極と前記陰極との間に印加される前に前記高周波信号を開始する手段と；
前記第１の電源が前記陽極と前記陰極との間に印加されている間および前記陽極と前記陰極との間の第１の電源の前記パルスが終了した後ある期間前記高周波信号を維持する手段と；
前記陽極と前記陰極との間の前記パルスが終了した後ある期間の満期の後のみ前記高周波信号を終了させるための手段を前記装置が備えてなる請求項１１から１４のいずれか一つに記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月24日(2011.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘導式回転角センサであって、
上に、励磁部導電路（１．４）と、第一受信導電路（１．１１，１．１２）、第二受信導電路（１．２１，１．２２）および第三受信導電路（１．３１，１．３２）が設けられている導電基板（１）と、
導電基板（１）に対して相対的に回転自在であると共に、第一目盛トラック（２．１）および第二目盛トラック（２．２）を含んでいる目盛要素（２）と、を含んでおり、
第一および第二目盛トラック（２．１，２．２）と第一および第二受信導電路（１．１１，１．１２；１．２１，１．２２）の構成が、目盛要素（２）が導電基板（１）に対して相対的に一回転する間に、第一受信導電路（１．１１，１．１２）により第一周期数（ｎ１）を有する信号（Ｓ１．１１，Ｓ１．１２）を、そして第二受信導電路（１．２１，１．２２）により第二周期数（ｎ２）を有する信号（Ｓ１．２１，Ｓ１．２２）を発生できるようになっている、誘導式回転角センサにおいて、
目盛要素（２）が第三目盛トラック（２．３）を有しており、そして第三目盛トラック（２．３，２．３’）と第三受信導電路（１．３１，１．３２）の構成が、目盛要素（２）が導電基板（１）に対して相対的に一回転する間に、第三受信導電路（１．３１，１．３２）により第一周期数（ｎ１）を有する信号（Ｓ１．３１，Ｓ１．３２）を発生できるようになっている、ことを特徴とする誘導式回転角センサ。
【請求項２】
請求項１に記載の誘導式回転角センサにおいて、
回転角センサの特に導電基板（１）が、第三受信導電路（１．３１，１．３２）の信号（Ｓ１．３１，Ｓ１．３２）を第一受信導電路（１．１１，１．１２）の信号（Ｓ１．１１，Ｓ１．１２）と一緒に全体信号（Ｓ１，Ｓ２）に組み合わせできる手段を含んでおり、その全体信号から、導電基板（１）と目盛要素（２）間の相対的角度位置（φ）を特定する、ことを特徴とする誘導式回転角センサ。
【請求項３】
請求項１または２に記載の誘導式回転角センサにおいて、
第一周期数（ｎ１）が第二周期数（ｎ２）より小さい、ことを特徴とする誘導式回転角センサ。
【請求項４】
回転角センサを作動させる方法であって、その回転角センサが、
上に、励磁部導体路（１．４）と第一受信部導体路（１．１１，１．１２）、第二受信部導体路（１．２１，１．２２）および第三受信部導体路（１．３１，１．３２）が設けられている導電基板（１）を含んでおり、そして更に、
導電基板（１）に対して相対的に回転すると共に、第一目盛トラック（２．１）、第二目盛トラック．２）、第三目盛トラック（２．３，２．３’）を含む目盛要素（２）を含んでおり、
第一、第二、第三目盛トラック（２．１，２．２，２．３，２．３’）と第一、第二、第三受信導電路（１．１１，１．１２；１．２１，１．２２；１．３１，１．３２）の構成が、目盛要素（２）が導電基板（１）に対して相対的に一回転する間に、第一および第三受信導電路（１．１１，１．１２，１．３１，１．３２）により第一周期数（ｎ１）を有する信号（Ｓ１．１１，Ｓ１．１２；Ｓ１．３１，Ｓ１．３２）を、そして第二受信導電路（１．２１，１．２２）により第二周期数（ｎ２）を有する信号（Ｓ１．２１，Ｓ１．２２）を発生するようになっており、
第一周期数（ｎ１）を有する信号（Ｓ１．１１，Ｓ１．１２，Ｓ１．３１，Ｓ１．３２）を全体信号（Ｓ１，Ｓ２）に組み合わせ、そしてその全体信号（Ｓ１，Ｓ２）から導電基板（１）と目盛要素（２）間の相対的角度位置（φ）を特定する、ことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法において、
第一周期数（ｎ１）を有する信号（Ｓ１．１１，Ｓ１．１２，Ｓ１．３１，Ｓ１．３２）を、加算または減算操作を使って全体信号（Ｓ１，Ｓ２）に組み合わせる、ことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項４または５に記載の方法において、
第一周期数（ｎ１）が第二周期数（ｎ２）より小さい、ことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月12日(2012.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予測される凝固特性に基づく乳のオンラインチャネリングのための方法であって、
動物を搾乳するための搾乳ステーションと動物から搾乳された乳を収集するための集乳ポイントとの間のミルクライン中を通行中の生乳を試料採取するステップと、
生乳試料に対し分析を実行するステップと、
分析に基づいてミルクライン中を流れているときの少なくとも１つの凝固パラメータをオンラインで予測するステップと、
少なくとも１つの凝固パラメータに基づいてミルクラインを流れているときの生乳を複数の給送先の１つにチャネリングするステップと
を含む方法。
【請求項２】
少なくとも１つの凝固パラメータに基づいて生乳試料を生乳とともに複数の給送先の１つに流すステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
分析はスペクトル分析、超音波及び電気伝導性の少なくとも１つに基づいている、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
スペクトル分析はＮＩＲ分光法、可視光分光法及び蛍光分光法の少なくとも１つにより実現される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
スペクトル分析は、各々が３６５ｎｍ〜９５０ｎｍの範囲内の異なる波長で生乳試料を照射するように構成された、複数のＬＥＤを用いて実行される、請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
スペクトル分析は、生乳試料を透過した光、生乳試料から反射した光、及び生乳試料からの光散乱の少なくとも１つを検出するために１つ以上の検出器を用いて実行される、請求項３〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
スペクトル分析は、２９０ｎｍから４３０ｎｍの間の事前選択された波長を有する複数の光源を用いて実行され、かつ実質的に９０度に散乱した光を検出することを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項８】
既知の凝固特性を有する様々な乳牛および搾乳セッション中の様々な期間からの多数の試験試料の統計分析から得た経験的係数を含む所定の多項式に基づいて、生乳試料の凝固特性を決定するステップを含み、既知の凝固特性は、試験試料にレンネットを添加した後の試験試料の各々の測定から決定される、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
試料採取は脈動乳流に対して実行される、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
凝固パラメータはＣｙ（９０）、Ｃｙ（６０）、およびＲＣＴを含む群から選択され、生乳試料の分析は、乳への凝固剤の添加を含まない、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
生乳の予測される凝固特性に従って乳をオンラインチャネリングするためのシステムであって、
動物を搾乳するための搾乳ステーションと動物から搾乳された乳を収集するための集乳ポイントとの間に乳流をもたらすように構成されたミルクラインと、
搾乳ステーションからの脈動乳試料を受け取るように構成された試料採取チャンバと、
ミルクライン中を流れるときの生乳の試料の少なくとも１つの特性を決定するように構成された分析装置であって、搾乳ステーションと集乳ポイントとの間の流動ラインに沿って一体化された分析装置と、
決定された少なくとも１つの特性に基づいて乳の凝固特性を予測するように動作する処理装置と、
処理装置から予測値を受け取りかつ予測された凝固特性に応答する給送先に流動ライン内の生乳をチャネリングする制御装置と
を含むシステム。
【請求項１２】
試料採取チャンバは乳試料をミルクラインに流すように構成される、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
分析装置はＮＩＲ分光分析装置又は蛍光分光分析装置である、請求項１１又は１２に記載のシステム。
【請求項１４】
規定の多項式関数に基づいて分析装置からの出力を試料の少なくとも１つの凝固特性に関連付ける経験的係数を格納するためのメモリユニットを含み、経験的係数は、既知の凝固特性を有する様々な乳牛および搾乳セッション中の様々な期間からの多数の試験試料の統計分析から得られ、凝固特性はＣｙ（９０）、Ｃｙ（６０）、およびＲＣＴを含む群から選択されるパラメータから決定される、請求項１１〜１３のいずれかに記載のシステム。
【請求項１５】
制御装置は、乳の各脈動試料の分解能で又は２秒毎に約１回の分解能で乳をチャネリングするように構成される、請求項１１〜１４のいずれかに記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月23日(2012.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの演算増幅器を含む容量成分の漏れ電流を測定する装置であって、
反転入力で直列接続された容量成分から入力を受け取るように構成される第１段の増幅器と、
前記第１段の増幅器の帰還と、を備え、
前記帰還経路の抵抗値は、前記漏れ電流の予測値と、前記第１段の増幅器の対応する最大測定限界電圧とに依存することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記帰還経路の抵抗値はプログラム可能であり、
前記抵抗値を複数の値のうちの１つにプログラムする手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１段の増幅器の出力に接続される第２段の増幅器をさらに備え、
前記第２段の増幅器はプログラム可能な利得を含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記第１段の増幅器の前記出力は、前記第２段の増幅器の非反転入力に接続されることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
ユニティー利得からユニティー利得より大きい値へプログラム可能な利得を切替えるように構成されるスイッチをさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記第２段の増幅器の出力から前記第１段の増幅器の反転入力の加算接合点への帰還経路をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記第２段の増幅器の前記出力から前記第１段の増幅器の前記反転入力の前記加算接合点までの前記帰還経路は、
前記第２段の出力が規定の値の範囲を超えるまで、前記第２段の増幅器の前記出力から前記第１段の増幅器の前記反転入力の前記加算接合点への電流の流れを阻止する手段と、
前記加算接合点から前記第２段の増幅器の前記出力への方向の電流の流れを制限する手段と、を備えることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記規定の範囲は、前記第２段の増幅器の飽和電圧より大きい値を含むことを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記第１段の増幅器の出力から前記第１段の増幅器の前記反転入力への帰還経路をさらに備え、
前記帰還経路は、前記第１段の増幅器の出力値が前記第１段の増幅器の飽和を示すときに、前記反転入力への入力を減少させるように構成されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１段の増幅器の出力に接続される第２段の増幅器と、
前記第２段の増幅器の出力から前記第１段の増幅器の前記反転入力への帰還経路と、をさらに備え、
前記帰還経路は、前記第２段の増幅器の出力値が前記第２段の増幅器の飽和を示すときに、前記反転入力への入力を減少させるように構成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月29日(2012.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
請求項１３に記載の装置において、該装置はさらに、
前記複数の増幅器の複数の出力ポートのうち第５の出力ポートに連結された第１の入力ポート、前記複数の増幅器の複数の出力ポートのうち第１の出力ポートに連結された第２の入力ポート、および出力ポートを有する第４のコンバイナを備え、
第４のコンバイナの出力ポートは、前記コンパレータの第５の入力ポートに連結されていることを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明のいくつかの実施形態では、電気配線を検知する手持ち式装置を提供し、同装置は、複数のセンサ電極と、複数の増幅器であって各々が複数のセンサ電極の独立した１つに連結された入力ポートを有し、各々がさらに出力ポートも有する複数の増幅器と、複数の増幅器の複数の出力ポートのうち第１の出力ポートに連結された第１の入力ポート、複数の増幅器の複数の出力ポートのうち第２の出力ポートに連結された第２の入力ポート、および出力ポートを有するコンバイナと、コンバイナの出力ポートに連結された第１の入力と、複数の増幅器の複数の出力ポートのうち第３の出力ポートに連結された第２の入力、および出力ポートを有するコンパレータと、コンパレータの出力ポートのシグナルに敏感な表示器とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図１１は、本発明による、図１０Ａないし図１０Ｄに示すように電気配線１０と装置１００との距離を様々に変化させたときに壁２０に沿って検出された測定結果を示す図である。得られた曲線７３、７４および７５は、中央の電極Ｃからの測定結果が、少なくとも、他のすべてのセンサ測定結果より大きくなるとは限らないことを示している。この場合、曲線７３は、電極ＵＲからのセンサ測定結果を示し、曲線７４は、電極Ｃ、ＵＬおよびＬＲからのセンサ測定結果を示し、曲線７５は、電極ＬＬからのセンサ測定結果を示している。電気配線１０が中央の電極Ｃの近くまたはその上に位置している間、センサ測定結果は、少なくとも他の２つのセンサ信号 （すなわちＬＬおよびＵＲ）より大きくなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図１３は、本発明による、図７の装置１００用の回路の概略図である。第１のセンサ電極１１０ａ（ＵＲ）は、生のセンサ信号を第１の増幅器１２０ａに提供する。第１の増幅器はこの信号を増幅し、第１の増幅されたセンサ信号を生成する。第２の電極１１０ｂ（ＬＲ）は、生のセンサ信号を第２の増幅器１２０ｂに提供する。第２の増幅器は、この信号を増幅し、第２の増幅されたセンサ信号を生成する。第１および第２の増幅された信号は、コンバイナ１５２への入力値として用いられる。コンバイナ１５２は入力値を合算してよい。あるいはコンバイナは、入力値の平均値を算出してもよい。これによって得られる組み合わせ信号は、仮想電極（ＶＲ）からの信号と見なすことができる。第３のセンサ電極１１０ｃ（C）は、生のセンサ信号を第３の増幅器１２０ｃに提供する。第３の増幅器は、この信号を増幅し、第３の増幅されたセンサ信号を生成する。この第３の増幅されたセンサ信号は基準信号として用いられ、基準信号は、コンパレータ１５４への第１の入力となる。組み合わせ信号（ＶＲ）は、コンパレータ１５４への第２の入力信号として用いられる。コンパレータは出力信号として判定を下す。例えば、基準信号がＶＲ信号より大きい場合には、電気配線１０が仮想電極ＶＲの左に位置すると判定してよい。図１３Aの回路は、この複製を作って追加の仮想電極を形成してよく、これによってハードウェアは、この回路を小さくして電気配線１０に適用する必要がある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
電気配線１０が装置１００に近づき、通過すると、判定された１つ以上の方向ベクトルが方向を変えることとなる。例えば、その後の第１の操作段階では、電極ＶＬが電極ＬＲより小さくなる。この方向の変化は、電気配線１０が装置１００の近辺にあることを示すものであるから、装置１００は作業者に電気配線１０が近くにあることを表示してよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2011516827.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３Ｂ】
2011516827.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
2011516827.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月14日(2011.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検体の有無を検出するための装置であって、
流路、流体透過膜、及び前記流体透過膜内又は前記流体透過膜上に配置される比色センサ構成要素を含む本体を有し、
前記比色センサ構成要素が、ジアセチレン含有重合体と受容体とを含む重合組成物を有し、前記受容体が、前記重合組成物に組み込まれて、１つ又は複数のプローブ及び／又は検体と結合した際に色変化を提供するトランスデューサを構成する装置。
【請求項２】
検体の有無を検出するための装置であって、
流路と複層構造を構成する複数の層とを含む本体と、
第１層と第２層との間に形成された第１流れ通路部分と第２流れ通路部分とによって画定された前記流路と、
前記第１層と第２層との間に配置されたセンサ構成要素であって、前記第２流れ通路部分から前記第１流れ通路部分を分離するセンサ構成要素とを有する装置。
【請求項３】
検体の有無を検出するための装置であって、
流路と複層構造を構成する複数の層とを含む本体と、
第１層と第２層との間に形成された第１流れ通路部分と第２流れ通路部分とによって画定された前記流路と、
前記第１層と前記第２層との間に挟まれたパターン化層であって、チャンバ、前記第１流れ通路部分及び前記第２流れ通路部分を構成するパターン化層と、
前記パターン化層によって構成された前記チャンバ内に配置されるセンサ構成要素と、を有する装置。
【請求項４】
試料流路と、
センサ構成要素を含むゾーンと、
前記センサ構成要素の前にある前記試料流路の１つ又は複数の別個のゾーン内に配置された試料調製用の１つ又は複数の試薬と、
任意選択的に、前記センサ構成要素の前にある試料流路内の別個のゾーン内に配置され、前記１つ又は複数の試料調製試薬と異なるプローブと、を有する装置。
【請求項５】
試料調製と目標検体の分析のための装置であって、
試料流路と、
前記試料流路の１つ又は複数の別個のゾーン内に配置された試料調製用の１つ又は複数の試薬と、
前記試料調製試薬の少なくとも１つの下流の前記試料流路内に配置されるプローブを含むゾーンと、
比色センサ構成要素を含むゾーンと、を有し、
前記比色センサが、ジアセチレン含有重合体と受容体とを含む重合組成物を有し、前記受容体が、前記重合組成物に組み込まれて、１つ又は複数のプローブ及び／又は検体と結合した際に色変化を提供するトランスデューサを構成する装置。
【請求項６】
１つ又は複数の目標検体を含む疑いのある試験試料を提供する工程と、
請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置を提供する工程であって、試験試料と接触する前にセンサ構成要素を有する前記装置を提供する工程と、
任意選択的に、前記１つ又は複数の目標検体の間接検定に適した１つ又は複数のプローブを提供する工程と、
前記センサ構成要素の下流で第１流路部分から第２流路部分までの試験試料の流れを誘導する工程と、
前記目標検体が前記試験試料中に存在する場合に、前記試験試料を前記センサ構成要素にさらして、１つ又は複数の目標検体及び／又は１つ又は複数のプローブを前記センサ構成要素と結合して前記センサ構成要素における検出可能な変化を引き起こす工程と、
前記目標検体及び／又はプローブと結合した際に前記センサ構成要素における前記検出可能な変化を識別する工程と、を含む方法。
【請求項７】
検体の有無のための試料を調製して分析する方法であって、
１つ又は複数の目標検体を含む疑いのある試験試料を提供する工程と、
請求項４又は５に記載の装置を提供する工程であって、センサ構成要素と１つ又は複数の試料調製試薬とを有する装置を提供する工程と、
前記センサ構成要素の下流で第１流路部分から第２流路部分までの試験試料の流れを誘導する工程と、
前記試験試料と、前記第１流路部分内の前記試料調製試薬の少なくとも１つとの間の反応に有効な状態を提供する工程と、
検体及び／又はプローブを前記センサ構成要素と結合して検出可能な変化を生成するのに有効な条件下で、前記センサ構成要素に前記試験試料を露出する工程と、
前記目標検体及び／又はプローブと結合した際に前記センサ構成要素における検出可能な変化を識別する工程と、を含む方法。
【請求項８】
検体の有無を検出する方法であって
流路と複層構造を構成する複数の層とを含む本体であって、前記流路が、第１層と第２層との間に形成された第１流れ通路部分と第２流れ通路部分とによって画定される本体と、前記第１層と前記第２層との間に配置された流体透過膜であって、前記第１流れ通路部分を前記第２流れ通路部分から分離する流体透過膜とを有する装置を提供する工程と、
１つ又は複数の目標検体を含む疑いのある試験試料を提供する工程と、
任意選択的に、１つ又は複数の目標検体の間接検定に適した１つ又は複数のプローブを提供する工程と、
前記試験試料、任意選択のプローブ及びセンサ構成要素を組み合わせて混合物を形成する工程と、
センサ構成要素を提供する工程と、
前記流体透過膜を横切って前記第１流れ通路部分から前記第２流れ通路部分まで前記混合物の流れを誘導して、前記センサ構成要素及び結合された標的検体及び／又はプローブを収集する工程と、
前記目標検体及び／又はプローブと結合した際に前記センサ構成要素における前記検出可能な変化を識別する工程と、を含む検出方法。
【請求項９】
検体の有無を検出する方法であって、
流路と複層構造を構成する複数の層とを含む本体であって、前記流路が、第１層と第２層の間に形成された第１流れ通路部分と第２流れ通路部分によって画定される本体と、前記第１層と前記第２層との間に挟まれたパターン化層であって、チャンバ、前記第１流れ通路部分及び第２流れ通路部分を構成するパターン化層と、前記パターン化層によって構成される前記チャンバ内に配置された流体透過膜と、を有する装置を提供する工程と、
１つ又は複数の目標検体を含む疑いのある試験試料を提供する工程と、
任意選択的に、前記１つ又は複数の目標検体の間接検定に適した１つ又は複数のプローブを提供する工程と、
センサ構成要素を提供工程と、
前記試験試料、任意選択のプローブ及びセンサ構成要素を組み合わせて混合物を形成する工程と、
前記チャンバ内の前記流体透過膜を横切って前記第１流れ通路部分から前記第２流れ通路部分まで前記混合物の流れを誘導して、前記センサ構成要素と結合された目標検体及び／又はプローブを収集する工程と、
前記目標検体及び／又はプローブと結合する際に前記センサ構成要素における前記検出可能な変化を識別する工程と、を含む検出方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月1日(2012.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む物質を、蛍光標準として使用するために含む、少なくとも一つのサンプルを収容するためのサンプルプレートであって、
前記サンプルプレートがウェルプレートであり、該ウェルプレートにおいて、複数のウェルが該ウェルプレートを完全に貫通して延び、これらのウェルのサイズは、これらのウェル中に導入されるサンプルが、毛管力のために重力に抗して該ウェル中に保持される寸法を持つこと、
前記蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む前記物質が、蛍光標準として使用されるために、前記ウェルプレートの複数ウェルの少なくとも一つの中に配置され、かつ、該ウェルプレートのウェルの形状に事実上合致する形状を有することを特徴とする、前記サンプルプレート。
【請求項２】
前記サンプルプレートが、前記蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む前記物質から完全に構成されることを特徴とする、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項３】
前記蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む前記物質が、担体基質中に埋設されることを特徴とする、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項４】
前記サンプルプレートが、複数のウェルを有するマイクロタイタープレートであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のサンプルプレート。
【請求項５】
前記蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む前記物質が、蛍光標準として使用されるために、前記サンプルプレートの複数ウェルの少なくとも一つの中に、すなわち、取り外し可能となるように、あるいは、該サンプルプレートに対し恒久的に接着されるように配置されることを特徴とする、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項６】
前記サンプルプレートが、毛細管、セル、反応容器、ゲル、ポリマー、チューブ、または微少流チップであることを特徴とする、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項７】
光学的標準または蛍光標準としての、蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む物質の、請求項１〜６のいずれか１項に記載のサンプルプレートに統合しての使用であって、該鉱物が、天然産鉱物または合成的に生産される鉱物であることが可能である使用。
【請求項８】
前記蛍光鉱物が、コランダム、特に、ルビーまたはサファイア、ほたる石、緑光ほたる石、トルコ石、ジルコン、ゾイサイト、アイオライトまたは菫青石、スピネル、トパーズ、フッ化カルシウム、閃亜鉛鉱またはジンクブレンド、ウルツ鉱、方解石またはキャルクスパ、アパタイト、灰重石またはタングステン酸カルシウム、パウエル石、ケイ酸亜鉛鉱、長石、ソーダライト、ウラニウム鉱石、アパタイトまたはフルオロアパタイトまたはクロールアパタイトまたはヒドロキシルアパタイト、岩塩、タンザナイト、アクアマリン、電気石、透閃石、ジェントヘルビン、ゴナルダイト、ヘルビン、メイオナイト、リューコフェナイト、タグタパイト、ビリオム石、バリライト、ベルリーライト、曹長石、方沸石、ウォーレル石、バスタム石、セレスタイン、コンドロダイト、貴橄欖石または単斜貴橄欖石、金緑石、異極鉱、ヘキサハイドライト、ストロンチアナイト、アンモライト、中性長石、アンケライト、霰石、バーマイト、玉髄、白鉛鉱、チャロアイト、ダイヤモンド、透輝石、ダイアスポア、エカナイト、ユージアライト、フリーデライト、硫カドミウム鉱、グロシュラ、クンツァイト、ラピス・ラズリ、リシア雲母、鉛丹、ノルベルグ石、オリゴクレース、オパール、ペイナイト、フォスゲン石、フォスフォフィライト、ローディサイト、菱マンガン鉱、マグネサイト、硫黄、ショータイト、菱鉄鉱、スパーライト、リシア輝石、鉛重石、バナジナイト、鉄マンガン重石、モリブデン鉛鉱、YAG（ヤグ、イットリウムアルミニウムガーネット）、紅亜鉛鉱、辰砂、ズニアイト、菱亜鉛鉱、硫酸鉛鉱、微斜長石、正長石、ダンブリ石、ラウリオン石、パララウリオン石、ブラソフ石、トール石、ベニト石、フェナカイト、ユークリプタイト、ドロマイト、スワブ石、ペクトライト、チロディ閃石、マンガン斧石、エスパー石、ロブリンガイト、ハースティジャイト、菱カドミウム鉱、ジョンバウム石、藍晶石、ウバロバイト、玻璃長石、スカポライト、モアサナイト（SiC）、キュービックジルコニア、琥珀、珊瑚類、真珠類、真珠層、象牙、または、Al3+または酸化物または水酸化物鉱物を含む鉱石であることを特徴とする、請求項７に記載の使用。
【請求項９】
下記の群：二価のマンガン、鉛、アンチモン、セリウム、特に、三価のセリウム、三価のクロム、二価または三価の鉄、三価または四価のチタン、銅、銀、二価のサマリウム、二価または三価のユーロピウム、三価のテルビウム、三価のジスプロシウム、三価のホルミウム、三価のエルビウム、ウラニル化合物、ルテニウム化合物、錫化合物、タリウム化合物、ビスマス化合物、タングステン酸化合物、モリブデン酸化合物、硫黄、バナジウム化合物、ランタン化合物、プラセオジム化合物、ネオジム化合物、プロメチウム化合物、ガドリニウム化合物、ツリウム化合物、イッテルビウム化合物、ルテチウム化合物、から選ばれる活性剤または複数の活性剤の組み合わせを、前記蛍光鉱物が含むことを特徴とする、請求項７に記載の使用。
【請求項１０】
前記鉱物において、前記活性剤または複数活性剤が、添加不純物として0.001%から20%（重量パーセント）含まれることを特徴とする、請求項９に記載の使用。
【請求項１１】
前記蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む前記物質が、円筒形、プリズム型、平板型、薄片、ペレットまたはビーズ、ナノ粒子、または粉末として存在することを特徴とする、請求項７に記載の使用。
【請求項１２】
前記蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む前記物質が、ポリマー、ゲル、ヒドロゲル、ガラス、または担体基質において埋設または重合されることを特徴とする、請求項７に記載の使用。
【請求項１３】
蛍光標準としての前記使用が、蛍光の強度、偏光、寿命、位相シフト、および／または回転相関時間の測定を含むことを特徴とする、請求項７に記載の使用。
【請求項１４】
前記蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む前記物質が、光学器械を較正するための蛍光標準として使用されることを特徴とする、請求項７に記載の使用。
【請求項１５】
前記蛍光鉱物、または蛍光鉱物を含む前記物質が、光学測定器械の器械自己試験を実施するために、または、器械の機能性をチェックするために、蛍光標準として使用されることを特徴とする、請求項７に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月2日(2012.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプル流体中の生物材料を分離するためのサンプル処理装置であって、
前記サンプル流体を供給し、前記サンプル流体を電極アレイに導く少なくとも１つの入口と、
前記電極アレイから前記サンプル流体を受け取る少なくとも１つの出口
とを含み、
前記電極アレイは、電極の少なくとも１つの小区画部が、電極の残りの小区画部と異なるように帯電することができることにより、異なるように帯電した前記電極によって、前記電極においての異なるように帯電した誘電泳動（ＤＥＰ）力領域（ｆｏｒｃｅ  ｒｅｇｉｏｎ）を構成し、前記異なるように帯電したＤＥＰ力領域によって、前記生物材料の分離を開始できるように形成された複数の電極を含む、サンプル処理装置。
【請求項２】
前記電極アレイは、
前記装置の前記入口と前記出口との間の平面領域に配列される複数の交流（ＡＣ）電極と、
前記ＡＣ電極に隣接して配列される複数の直流（ＤＣ）電極
とを含む、請求項１に記載のサンプル処理装置。
【請求項３】
前記ＤＣ電極は、前記ＡＣ電極の前記平面領域の外側に延在する、請求項２に記載のサンプル処理装置。
【請求項４】
前記ＡＣ電極の少なくとも１つの小区画部は、前記残りのＡＣ電極の小区画部と、電流の周波数が異なるＡＣ電流が流される、請求項２に記載のサンプル処理装置。
【請求項５】
前記電極は、電解作用による腐食に対して抵抗性がある強固な材料で構成される、請求項１に記載のサンプル処理装置。
【請求項６】
多孔性材料が電解作用による腐食に対して抵抗性を示すように、前記多孔性材料の積層が前記電極に形成されている、請求項１に記載のサンプル処理装置。
【請求項７】
前記装置から分析物の流れを排出する少なくとも１つの分析物の出口をさらに含む、請求項１に記載のサンプル処理装置。
【請求項８】
生物材料を分離するためのシステムであって、
請求項１に記載のサンプル処理装置と、
前記サンプル処理装置の前記電極に選択的に電圧を加え、前記生物材料の分離を開始させるように形成されるコントローラ
とを含む、システム。
【請求項９】
前記生物材料から分離される生物学的成分の前記分離工程および解析のモニタリングに関連する検出システムをさらに含む、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
生物材料を分離する方法であって、
前記生物材料を、電極の少なくとも１つの小区画部が、電極の残りの小区画部と異なるように帯電できることにより、異なるように帯電した前記電極によって、前記電極において異なるように帯電した誘電泳動（ＤＥＰ）力領域を構成できるように形成された、複数の前記電極を有する電極アレイを備えたサンプル処理装置に供給すること、
前記電極を選択的に電圧を加え、前記異なるように帯電した電極によって、前記電極において異なるように帯電したＤＥＰ力領域を構成すること、
前記異なるように帯電したＤＥＰ力領域によって、前記生物材料を、前記サンプル処理装置の分析物の出口に供給される少なくとも１種の分離された分析物成分と前記生物材料の残りの成分とに分離すること
を含む、方法。
【請求項１１】
分離される生物学的成分の分離工程および解析のモニタリングをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記分離することは、前記電極の小区画部の１つに少なくとも１種の生物材料が保持されることを含む、請求項１０に記載の方法であって、
前記サンプル処理装置に試薬を導入すること、
前記サンプル処理装置において前記導入した試薬を前記保持された生物材料種と反応させること
を含む、方法。
【請求項１３】
生物材料を分離するためのシステムであって、
電界が外側の電極チャンバーから通過できる孔（ポータル、穴）を持つ内側のチャンバー構造体により区切られ、かつ各々が電極を有する２つ以上の異なる電極チャンバー構造体と、前記生物材料を供給する前記内側のチャンバーへの入口と、前記生物材料の分離された成分を前記内側のチャンバーから受け取る少なくとも１つの分析物の出口と、前記生物材料の残りの成分を受け取る別の出口と、
前記電極に選択的に電圧を加え、前記生物材料の分離を開始させるように形成されたコントローラと、
分離された生物学的成分の分離工程および解析のモニタリングに関連する検出システムと
を含む、システム。
【請求項１４】
生物材料を分離する方法であって、
前記生物材料を、外側の電極チャンバー構造体を有する内側のチャンバー構造体、前記生物材料を供給する入口、前記生物材料の分離された成分を前記内側のチャンバーから受け取る少なくとも１つの分析物の出口、前記生物材料の残りの成分を受け取る出口、および分離された生物学的成分の分離工程および解析のモニタリングに関連する検出システムに、前記電極を選択的に電圧を加えることにより供給すること、
前記生物材料を、前記内側のチャンバー構造体の分析物の出口に供給される少なくとも１種の分離された分析物成分と、前記生物材料の残りの成分とに分離すること
を含む、方法。
【請求項１５】
請求項１１又は１２に記載のシステムが、分子、ポリマー、ＤＮＡおよびタンパク質誘導体化ナノ粒子、量子ドット、ナノチューブおよび同種のものなどのナノ要素、ならびにメソスケールの成分の三次元高次構造体、材料および装置へのアシスト型自己組織化（ａｓｓｉｓｔｅｄ  ｓｅｌｆ−ａｓｓｅｍｂｌｙ）を行うのに使用される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月30日(2012.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学系と、
前記光学系の物体面の領域内に物体を搭載するための物体支持体と、
暗視野光源と、
前記光学系の像平面の領域内に配置された放射線感受性基板を有する画像検出器とを備えた検査システムであって、
前記光学系は、撮像ビーム経路及び暗視野照射ビーム経路を提供すると共に、対物レンズと投射レンズとを備え、当該対物レンズ及び投射レンズは、
ａ）以下の構成要素：前記物体面、前記対物レンズ及び前記放射線感受性基板が、この順番で前記撮像ビーム経路内に配列され、かつ、
ｂ）以下の構成要素：前記暗視野光源、前記投射レンズ及び前記物体面が、この順番で前記暗視野照射ビーム経路内に配列されるように配置され、
前記暗視野照射ビーム経路の主光線の配向が、前記放射線感受性基板上に撮像された物体視野を横切って５度未満だけ変化し、
前記撮像ビーム経路の主光線の配向が、前記物体視野を横切って５度未満だけ変化し、
前記物体面の側にある前記撮像ビーム経路の開口数が、０．１未満であり、
前記物体面の側にある前記暗視野照射ビーム経路の開口数が、０．１未満であり、
以下の関係の少なくとも１つが満足されることを特徴とする検査システム。
ｉ）前記物体視野の直径が２００ｍｍよりも大きく、前記物体面から前記像平面までの前記撮像ビーム経路の全長が１１００ｍｍ未満である；
ii）前記物体視野の直径で除算した、前記物体面から前記像平面までの前記撮像ビーム経路の全長が、６．０未満である；及び
iii）前記物体視野の直径が、前記物体の直径の０．６倍よりも大きい
【請求項２】
前記投射レンズは、２つのレンズ面を有する非接合単レンズ素子であり、より大きな面曲率を有する前記レンズ面は、前記より大きな面曲率を有する前記レンズ面の曲率半径によって除算した前記投射レンズの自由直径が０．５よりも大きいという関係を満たす請求項１に記載の検査システム。
【請求項３】
前記物体面に最も近接した前記投射レンズのレンズ面は、２ｍ未満の曲率半径を有する凸面である請求項１に記載の検査システム。
【請求項４】
前記暗視野光源に最も近接した前記投射レンズのレンズ面は、１０ｍよりも大きい曲率半径を有する実質的に平坦な面である請求項１に記載の検査システム。
【請求項５】
前記物体の直径が２００ｍｍよりも大きい請求項１に記載の検査システム。
【請求項６】
前記物体が半導体ウェハを含む請求項１に記載の検査システム。
【請求項７】
前記暗視野照射ビーム経路内の前記物体面の下流に前記物体面で反射される照射ビームの一部を受光するように配置されたビームダンプをさらに備えた請求項１に記載の検査システム。
【請求項８】
前記物体の直径が３００ｍｍ以上である請求項５に記載の検査システム。
【請求項９】
前記半導体ウェハが３００ｍｍウェハを含む請求項６に記載の検査システム。
【請求項１０】
前記ビームダンプは、第１及び第２光吸収部を備え、
前記ビームダンプの前記第１光吸収部は、厚さ１ｍｍにおいて１×１０-7から０．８までの範囲内の入射光透過率を提供する光吸収材料で形成されている請求項７に記載の検査システム。
【請求項１１】
前記ビームダンプの前記第２光吸収部は、前記第１光吸収部で反射される前記照射ビームの一部を受光するように配置されている請求項１０に記載の検査システム。
【請求項１２】
前記第１光吸収部は、間隔を置いた位置で表面と交差する面法線の対が集束するように整形された前記表面上に前記物体で反射される前記照射ビームの一部を受光するように配置されている請求項１０に記載の検査システム。
【請求項１３】
前記ビームダンプの前記第１光吸収部の前記光吸収材料の表面は、反射防止コーティングを担持する請求項１０に記載の検査システム。
【請求項１４】
前記ビームダンプの前記第１光吸収部の前記光吸収材料の表面の反射率は、０．０１未満である請求項１３に記載の検査システム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月4日(2012.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
伝送路のインパルス応答を推定する方法であって、
初期信号を与えるステップと、
時間シフト関数を前記初期信号へ適用して、送信信号を生成するステップと、
前記送信信号を送信するステップと、
受信信号を受信するステップと、
前記受信信号を前記初期信号から生成したかのように、該受信信号からインパルス応答を計算する、あるいはインパルス応答推定の本質部分としてタイムシフト関数の逆関数を適用することによりインパルス応答を計算する、ステップと、
前記インパルス応答を使用して、異なる距離範囲にある物体からの反射により生じる受信信号を弁別するステップと、を含む方法。
【請求項２】
前記時間シフト関数の逆関数を、前記計算されたインパルス応答へ適用するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記対象とする物体以外の物体からの前記受信信号に対する寄与を識別するステップを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記受信信号又はこの受信信号から計算された前記インパルス応答における前記寄与を補償するステップを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
サンプリング窓に対応する複数のタイムフレームを規定するステップと、
複数の受信信号から計算されたインパルス応答の行列を規定するステップであって、隣接するタイムフレームのインパルス応答が該行列の中で相互に隣接しているステップと、
方向を有する前記物体のうちの１つの物体の移動を検出するステップと、
前記移動の方向に整列した線形フィルタを前記インパルス応答の行列へ適用するステップと、を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
サンプリング窓に対応する複数のタイムフレームを規定するステップと、
複数の受信信号から計算されたインパルス応答の行列を規定するステップであって、隣接するタイムフレームのインパルス応答が該行列の中で相互に隣接しているステップと、
前記タイムフレームの長さを、２つの隣接するフレームの間で変更するステップと、
前記行列を分析して、前記物体のうちの１つに関する情報を推論するステップと、を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
必要なときに前記タイムフレームの長さを変更して２つの重畳されたエコーを分解するステップを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記受信信号の部分集合から動き特性を決定するステップと、前記動き特性と閾値又は所定の特性の集合とを比較するステップとを含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記比較の結果に基づいて前記部分集合を無視、除去、又はフィルタ除去するステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記送信信号は超音波信号である、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
物体を追跡するステップと、
前記追跡に応答して電子デバイスを制御するステップと、を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法を実行するように構成された携帯機器。
【請求項１３】
超音波送信機と、別個の又は統合された超音波受信機とを備える携帯機器であって、
その少なくとも１つの動作が、請求項１から１１のいずれか一項に記載される方法に従いユーザの手の移動を決定することによって制御されるように構成された携帯機器。
【請求項１４】
伝送路のインパルス応答を推定する装置であって、
初期信号を与える手段と、
時間シフト関数を前記初期信号へ適用して、送信信号を生成する手段と、
前記送信信号を送信するように構成された送信機と、
受信信号を受信するように構成された受信機と、
前記受信信号を前記初期信号から生成したかのように、該受信信号からインパルス応答を計算する、あるいはインパルス応答推定の本質部分としてタイムシフト関数の逆関数を適用することによりインパルス応答を計算する手段と、
前記インパルス応答を使用して、異なる距離範囲にある物体からの反射により生じる受信信号を弁別する手段と、を備える装置。
【請求項１５】
コンピュータ上で実行したとき、伝送路のインパルス応答を推定するように設定されたコンピュータ・ソフトウェア製品であって、
信号生成器を制御して、初期信号を与え、時間シフト関数を該初期信号へ適用して送信信号を生成するように配列されたロジックと、
送信機を制御して、前記送信信号を送信するように配列されたロジックと、
受信信号を受信機から受信するように構成された入力部と、
前記受信信号を前記初期信号から生成したかのように、該受信信号からインパルス応答を計算する、あるいはインパルス応答推定の本質部分としてタイムシフト関数の逆関数を適用することによりインパルス応答を計算するように適応されたロジックと、
前記インパルス応答を使用して、異なる距離範囲にある物体からの反射により生じる受信信号を弁別するように適応されたロジックと、を有するコンピュータ・ソフトウェア・製品。