【手続補正書】
【提出日】平成26年7月3日(2014.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イメージング装置で試料を収容し、位置決定をする試料ホルダーであって、
前記試料を収容し保持する容器と、
電磁放射ビーム用の受信機と、
前記イメージング装置内の予め選んだ場所に前記試料を配置し且つ前記電磁放射ビームを抑制するため、前記受信機と前記容器の間に取り付けられている細長バレルと、
ピントで前記試料上に前記電磁放射ビームを受信しフォーカスするための、前記細長バレル内に取り付けられている調整可能なレンズと、を有し、
前記電磁放射ビームは、前記光学エネルギービームのピントに隣接している前記試料の一部のエネルギーレベルを増加させることを特徴とする試料ホルダー。
【請求項２】
前記電磁放射ビームは、赤外線、可視光、紫外線、Ｘ線から構成されるグループから選択される、請求項１記載の試料ホルダー。
【請求項３】
前記電磁放射ビームは、0.01ｎｍから300μｍまでの波長を備えている、請求項１記載の試料ホルダー。
【請求項４】
前記電磁放射ビームをアライメントするために前記受信機は更にコリメーターを備える、請求項１記載の試料ホルダー。
【請求項５】
前記調整可能なレンズは、更に前記電磁放射ビームを様々なスポットサイズのあるピントにフォーカスする対物レンズを備える、請求項１記載の試料ホルダー。
【請求項６】
前記電磁放射ビームは、赤外レーザーで、前記可変のスポットサイズは10μｍから200μｍまでの前記調整可能なレンズによって調整される、請求項５記載の試料ホルダー。
【請求項７】
前記可変のスポットサイズは、10μｍから3ｍｍまでの前記調整可能なレンズによって調整される、請求項５記載の試料ホルダー。
【請求項８】
前記ピントは、前記調整可能なレンズによって前記試料上を平行移動する、請求項１記載した試料ホルダー。
【請求項９】
前記ピントは、試料の径に渡って均一で対照的な濃縮された熱エネルギーが分布している試料上のよく定められたビームスポットである、請求項１記載の試料ホルダー。
【請求項１０】
更に前記調整可能なレンズは、前記電磁放射ビームを前記ピントにあわせるために、研磨された表面を更に含む、請求項１記載した試料ホルダー。
【請求項１１】
前記研磨された表面は、更に鏡を含む、請求項１０記載の試料ホルダー。
【請求項１２】
前記鏡は、調整可能である、請求項１１記載の試料ホルダー。
【請求項１３】
前記鏡は、凸面、凹面、球面を含むグループから選択される、請求項１１記載の試料ホルダー。
【請求項１４】
イメージング装置で試料を収容し、位置決定をする試料ホルダーであって、
前記試料を収容し保持する閉鎖されたセル容器であって、その中にコントロールされた環境を有する内部チャンバーを搭載し、前記イメージング装置に関して透過的であり、電磁放射ビームがフォーカスされる前記閉鎖されたセル容器と、
前記コントロールされた環境の流体コンポーネントを導入する少なくとも一つのポートと、
前記受信機と前記イメージング装置内の予め選んだ場所に前記試料を配置するため、前記ポートから前記内部チャンバーへ前記コントロールされた環境の前記流体コンポーネントを移動させる少なくとも一つのコンジットを含む細長バレルと、
を有することを特徴とする試料ホルダー。
【請求項１５】
前記容器は、前記内部チャンバーをその中に有する本体を更に含む、請求項１４記載の試料ホルダー。
【請求項１６】
前記内部チャンバーは、蓋アセンブリで密封されている、請求項１４記載の試料ホルダー。
【請求項１７】
前記蓋アセンブリは、前記本体に相対移動可能である、請求項１４記載の試料ホルダー。
【請求項１８】
前記蓋アセンブリは、前記イメージング装置に透過的であるオリフィスを更に含む、請求項１７記載の試料ホルダー。
【請求項１９】
前記蓋アセンブリは、操作位置に固定されうる、請求項１７記載の試料ホルダー。
【請求項２０】
前記内部チャンバーは、前記イメージング装置に透過的であるオリフィスを更に含む、請求項１４記載の試料ホルダー。
【請求項２１】
前記蓋アセンブリは、操作位置にあり前記内部チャンバーを密封している時、前記内部チャンバーの前記オリフィスは前記蓋アセンブリの前記オリフィスとアライメントしている、請求項１４記載の試料ホルダー。
【請求項２２】
前記内部チャンバーは、前記内部チャンバーの前記オリフィスと前記蓋アセンブリの前記オリフィスの少なくとも一つに隣接して固定されている前記イメージング装置に透過的である少なくとも一つのシーリングウィンドウを更に含む、請求項１４記載の試料ホルダー。
【請求項２３】
前記試料は、少なくとも一つのシーリングウィンドウに隣接して固定されている、請求項２２記載の試料ホルダー。
【請求項２４】
前記試料と少なくとも一つの前記シーリングウィンドウの間に固定されている少なくとも一つのスペーサーを更に含む、請求項２２記載の試料ホルダー。
【請求項２５】
前記スペーサーは、前記イメージング装置に透過的であるオリフィスを更に含む、請求項２４記載の試料ホルダー。
【請求項２６】
前記内部チャンバー内に固定されている環境セルを形成する、複数のスペーサーと複数のシーリングウィンドウの間に前記試料が挟まれている、請求項２４記載の試料ホルダー。
【請求項２７】
前記少なくとも一つのスペーサーと前記試料は、前記コントロールされた環境を含む2番目のチャンバーを形成する、請求項２４記載の試料ホルダー。
【請求項２８】
前記少なくとも一つのシーリングウィンドウには内表面がある、請求項２２記載の試料ホルダー。
【請求項２９】
複数のシーリングウィンドウが、前記内表面が互いに向き合うように前記内部チャンバー内に固定されている、請求項２８記載の試料ホルダー。
【請求項３０】
前記複数のシーリングウィンドウの内表面間の距離は、0 から500ミクロンの範囲で調整可能である、請求項２９記載の試料ホルダー。
【請求項３１】
前記コントロールされた環境を作り出すために、前記流体の導入のための外部流体輸送系を更に含む、請求項１４記載した試料ホルダー。
【請求項３２】
前記流体は、少なくとも一つのプロセスガス又は液体を更に含む、請求項１４記載の試料ホルダー。
【請求項３３】
前記流体は、内部チャンバーに導入される前に混合された複数のプロセスガス又は液体を更に含む、請求項１４記載の試料ホルダー。
【請求項３４】
イメージング装置で試料を収容し、配置する試料ホルダーであって、
前記試料を収容し保持する閉鎖されたセル容器であって、その中にコントロールされた環境を有する内部チャンバーを搭載し、前記イメージング装置に関して透過的である前記閉鎖されたセル容器と、
電磁放射のビーム用の受信機と、
前記コントロールされた環境の流体組成物を導入する少なくとも一つのポートと、
前記イメージング装置内のあらかじめ選んだ場所に前記試料を設置するために、前記受信機と前記閉鎖されたセル容器との間に取り付けらた細長バレルであって、前記コントロールされた環境にある前記流体組成物を前記ポートから前記内部チャンバーへと移動させる少なくとも一つのコンジットがあり、前記電磁放射ビームを更に含む前記細長バレルと、
ピントで前記閉鎖されたセル容器内にある前記試料上に前記電磁放射ビームを受信しフォーカスするための、前記細長バレル内に固定されているレンズと、を有し、
前記電磁放射ビームは、前記電磁放射ビームのピントに隣接している前記試料のエネルギーレベルを増加させることを特徴とする試料ホルダー。
【請求項３５】
前記電磁放射ビームは、赤外線、可視光、紫外線、Ｘ線から構成されるグループから選択される、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項３６】
前記電磁放射ビームは、波長が0.01ｎｍから300μｍまでの、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項３７】
前記電磁放射ビームのアラインメントために前記受信機は、更にコリメーターを備える、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項３８】
前記調整可能なレンズは、更に前記電磁放射ビームを種々のスポットサイズがあるピントにフォーカスする対物レンズを備える、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項３９】
前記電磁放射ビームは、赤外レーザーで、前記種々のスポットサイズは、10μｍから200μｍまでの前記調整可能なレンズによって調整される、請求項３８記載の試料ホルダー。
【請求項４０】
前記可変のスポットサイズは、10μｍから3ｍｍまでの前記調整可能なレンズによって調整される、請求項３８記載の試料ホルダー。
【請求項４１】
前記ピントは、前記調整可能なレンズによって前記試料上を平行移動する、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項４２】
前記ピントは、試料の径に渡って均一で対照的な濃縮された熱エネルギーが分布している試料上のよく定められた円形のビームスポットである、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項４３】
前記調整可能なレンズは、前記電磁放射ビームを前記ピントにあわせるために、研磨された表面を更に含む、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項４４】
前記研磨された表面は、鏡を含む、請求項４３記載の試料ホルダー。
【請求項４５】
前記鏡は、調整可能である、請求項４４記載の試料ホルダー。
【請求項４６】
前記鏡は、凸面、凹面、球面からなるグループから選ばれる、請求項４４記載の試料ホルダー。
【請求項４７】
前記容器は、前記内部チャンバーをその中に有する本体を更に含む、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項４８】
前記内部チャンバーは、蓋アセンブリで密封されている、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項４９】
前記蓋アセンブリは、前記本体に相対移動可能である、請求項４８記載の試料ホルダー。
【請求項５０】
前記蓋アセンブリは、前記イメージング装置に透過的であるオリフィスを更に含む、請求項４８記載した試料ホルダー。
【請求項５１】
前記蓋アセンブリは、操作位置に固定されうる、請求項４８記載の試料ホルダー。
【請求項５２】
前記内部チャンバーは、前記イメージング装置に透過的であるオリフィスを更に含む、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項５３】
前記蓋アセンブリが操作位置にあり前記内部チャンバーを密封している時、前記内部チャンバーの前記オリフィスは、前記蓋アセンブリの前記オリフィスとアライメントしている、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項５４】
前記内部チャンバーは、前記内部チャンバーの前記オリフィスと前記蓋アセンブリの前記オリフィスの少なくとも一つに隣接して固定されている前記イメージング装置に透過的である少なくとも一つのシーリングウィンドウを更に含む、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項５５】
前記試料は、少なくとも一つのシーリングウィンドウに隣接して固定されている、請求項５４記載の試料ホルダー。
【請求項５６】
前記試料と少なくとも一つの前記シーリングウィンドウとの間に固定されている少なくとも一つのスペーサーを更に含む、請求項５４記載の試料ホルダー。
【請求項５７】
前記スペーサーは、前記イメージング装置に透過的であるオリフィスを更に含む、請求項５６記載の試料ホルダー。
【請求項５８】
前記内部チャンバー内に固定されている環境セルを形成する複数のスペーサーと複数のシーリングウィンドウの間に前記試料が挿入されている、請求項５６記載の試料ホルダー。
【請求項５９】
前記少なくとも一つのスペーサーと前記試料は、前記コントロールされた環境を含む2番目のチャンバーを形成する、請求項５６記載の試料ホルダー。
【請求項６０】
前記少なくとも一つのシーリングウィンドウには内表面がある、請求項５４記載の試料ホルダー。
【請求項６１】
複数のシーリングウィンドウが、前記内表面が互いに向き合うように前記内部チャンバー内に固定されている、請求項６０記載の試料ホルダー。
【請求項６２】
前記複数のシーリングウィンドウの内表面は、0 から500ミクロンの範囲で調整可能である、請求項６１記載の試料ホルダー。
【請求項６３】
前記コントロールされた環境を作り出すために、前記流体の導入のために外部流体輸送系を更に含む、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項６４】
前記流体には少なくとも一つのプロセスガス又は液体を含む、請求項３４記載の試料ホルダー。
【請求項６５】
前記流体は、内部チャンバーに導入される前に混合された複数のプロセスガス又は液体を更に含む、請求項３４記載の試料ホルダー。