【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
９９．５重量パーセントを超える純度を有し、約５００ｐｐｍ未満のいずれかの他の飽和フルオロカーボンを含有する２，３，３，３−テトラフルオロプロペン生成物の製造法であって、
蒸留分離不能な２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパンと約５００ｐｐｍより多い量の少なくとも一つの不純物の供給ストリームを準備し；
供給ストリームを少なくとも一つの不純物が実質的に除去されるまで処理し；そして
供給ストリームを脱ハロゲン化水素して２，３，３，３−テトラフルオロプロペンを製造する
ことを含む方法。
【請求項２】
不純物が、１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン（ＨＦＣ−２４５ｃｂ）、１，１，１，２−テトラフルオロプロパン（ＨＦＣ−２５４ｅｂ）、１，１，１，３−テトラフルオロプロパン（ＨＦＣ−２５４ｆｂ）、３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２４３ｚｆ）、２，３−ジクロロ−３，３−ジフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３２ｘｆ）、２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ）、１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ）、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２２３ｘｄ）、クロロテトラフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２２４異性体）、１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２２５ｙｅ（シス及びトランス異性体））、１，３，３，３−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｚｅ（シス及びトランス異性体））、及び３，３，３−トリフルオロプロピンならびにそれらの組合せからなる群から選ばれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
不純物が、供給ストリーム中に下記の量：すなわち、０〜約４００ｐｐｍの３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２４３ｚｆ）、０〜約２００ｐｐｍの２，３−ジクロロ−３，３−ジフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３２ｘｆ）、０〜約２００ｐｐｍの２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ）、０〜約２００ｐｐｍの１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ）、０〜約２００ｐｐｍの１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２２３ｘｄ）、０〜約２００ｐｐｍのクロロテトラフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２２４異性体）、０〜約２００ｐｐｍの１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２２５ｙｅ（シス及びトランス異性体））、０〜約２００ｐｐｍの１，３，３，３−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｚｅ（シス及びトランス異性体））、０〜約２００ｐｐｍの１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン（ＨＦＣ−２４５ｃｂ）、０〜約２００ｐｐｍの１，１，１，２−テトラフルオロプロパン（ＨＦＣ−２５４ｅｂ）、０〜約２００ｐｐｍの１，１，１，３−テトラフルオロプロパン（ＨＦＣ−２５４ｆｂ）、及び０〜約２００ｐｐｍの３，３，３−トリフルオロプロピンで供給される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
処理工程が、供給ストリームを光塩素化反応に付することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
処理工程が、供給ストリームを水素化反応に付することを含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
【表２】
2014503494.tif 000001
本発明は以下の態様を含む。
［１］  ９９．５重量パーセントを超える純度を有し、約５００ｐｐｍ未満の何らかのその他の飽和フルオロカーボンしか含有しない２，３，３，３−テトラフルオロプロペン生成物の製造法であって、
蒸留分離不能な２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパンと約５００ｐｐｍより多い量の少なくとも一つの不純物の供給ストリームを準備し；
供給ストリームを少なくとも一つの不純物が実質的に除去されるまで処理し；そして
供給ストリームを脱ハロゲン化水素して２，３，３，３−テトラフルオロプロペンを製造する
ことを含む方法。
［２］  不純物が、１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン（ＨＦＣ−２４５ｃｂ）、１，１，１，２−テトラフルオロプロパン（ＨＦＣ−２５４ｅｂ）、１，１，１，３−テトラフルオロプロパン（ＨＦＣ−２５４ｆｂ）、３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２４３ｚｆ）、２，３−ジクロロ−３，３−ジフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３２ｘｆ）、２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ）、１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ）、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２２３ｘｄ）、クロロテトラフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２２４異性体）、１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２２５ｙｅ（シス及びトランス異性体））、１，３，３，３−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｚｅ（シス及びトランス異性体））、及び３，３，３−トリフルオロプロピンならびにそれらの組合せからなる群から選ばれる、［１］に記載の方法。
［３］  不純物が、供給ストリーム中に下記の量：すなわち、０〜約４００ｐｐｍの３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２４３ｚｆ）、０〜約２００ｐｐｍの２，３−ジクロロ−３，３−ジフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３２ｘｆ）、０〜約２００ｐｐｍの２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｘｆ）、０〜約２００ｐｐｍの１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ）、０〜約２００ｐｐｍの１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２２３ｘｄ）、０〜約２００ｐｐｍのクロロテトラフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２２４異性体）、０〜約２００ｐｐｍの１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２２５ｙｅ（シス及びトランス異性体））、０〜約２００ｐｐｍの１，３，３，３−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｚｅ（シス及びトランス異性体））、０〜約２００ｐｐｍの１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン（ＨＦＣ−２４５ｃｂ）、０〜約２００ｐｐｍの１，１，１，２−テトラフルオロプロパン（ＨＦＣ−２５４ｅｂ）、０〜約２００ｐｐｍの１，１，１，３−テトラフルオロプロパン（ＨＦＣ−２５４ｆｂ）、及び０〜約２００ｐｐｍの３，３，３−トリフルオロプロピンで供給される、［２］に記載の方法。
［４］  処理工程が、供給ストリームを光塩素化反応に付することを含む、［１］に記載の方法。
［５］  処理工程が、供給ストリームを水素化反応に付することを含む、［１］に記載の方法。
［６］  ２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパン供給材料から一つ又は複数の不純物を除去するための方法であって、
前記２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパン供給材料を光塩素化法に付し；そして
２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパンを精製して実質的に純粋な２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパンを製造する
ことを含む方法。
［７］  前記光塩素化反応が、電磁放射線の存在下で、不純物を塩素（Ｃｌ２）と反応させることを含む、［６］に記載の方法。
［８］  電磁放射線が紫外線スペクトルの中にある、［７］に記載の方法。
［９］  ２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパン供給材料から一つ又は複数の不純物を除去するための方法であって、
前記２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパン供給材料を水素化法に付し；そして
２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパンを精製して実質的に純粋な２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパン供給材料を製造する
ことを含む方法。
［１０］  水素化法が、一つ又は複数の触媒の存在下で不純物を水素（Ｈ２）と反応させることを含む、［９］に記載の方法。
［１１］  触媒が、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、及びそれらの混合物からなる群から選ばれ、不活性担体上に担持されていないか又は担持されているのいずれかである、［１０］に記載の方法。
［１２］  担体が、活性炭、アルミナ、様々な金属酸化物、ゼオライト、アルミノケイ酸塩、及びモレキュラーシーブからなる群から選ばれる、［１１］に記載の方法。