【手続補正書】
【提出日】平成25年12月16日(2013.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化合物２および化合物３および必要に応じて化合物１：
【化１８５】
2013515006.tif 000001
の混合物を、対応する１２−ケト化合物３９：
【化１８６】
2013515006.tif 000002
［式中、
Ｐｇはヒドロキシル保護基であり、
Ｒは水素、ヒドロキシルまたは−ＯＰｇであり、
Ｒ１は胆汁酸の１７−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで該側鎖のカルボキシル官能基はＣ１−Ｃ６アルキル基で必要に応じてエステル化され、そして
Ｒ２は水素であるか、あるいは
Ｒ１およびＲ２はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基を形成し；そして
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立にＣ１−Ｃ３アルキルである］
に変換するプロセスであって；
該プロセスは、
先ず、該混合物を水素化条件下で反応させて、生成物を得る工程；および
次に、該工程によって形成された生成物を、酸化条件下で反応させて、化合物３９を得る工程；
を含むプロセス。
【請求項２】
１２−ケト化合物３：
【化１９２】
2013515006.tif 000003
を、対応するΔ−９，１１−エン化合物４：
【化１９３】
2013515006.tif 000004
［式中、
Ｐｇはヒドロキシル保護基であり、
Ｒは水素、ヒドロキシルまたは−ＯＰｇであり、
Ｒ１は胆汁酸の１７−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで該側鎖のカルボキシル官能基はＣ１−Ｃ６アルキル基で必要に応じてエステル化され、そして
Ｒ２は水素であり、または
Ｒ１およびＲ２はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基を形成する］
から調製するプロセスであって；
該プロセスが、
補助酸化剤の存在下、化合物４を、式（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）Ｃ−Ｏ−ＯＨ［ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立にＣ１−Ｃ３アルキルである］のアルキルヒドロペルオキシドと接触させて、化合物３を得る工程；
必要に応じて、化合物１および２のうちの一つまたは両方と混合させる工程；
【化１９４】
2013515006.tif 000005
必要に応じて、化合物２が存在する場合、化合物２をさらに酸化して、化合物３を得る工程；および
さらに必要に応じて、化合物１が存在する場合、化合物１を除去する工程
を含み、化合物３を得る、プロセス。
【請求項３】
前記接触が、１当量より多い当量のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドであるアルキルヒドロペルオキシドによってＣｕＩの存在下で行われる、請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記補助酸化剤が、水性次亜塩素酸ナトリウム、パラジウム炭素、Ｐｄ（ＯＣＯＣＦ３）２、Ｐｄ（ＯＡｃ）２およびＣｕＩから成る群から選択される、請求項２に記載のプロセス。
【請求項５】
式１の化合物：
【化１９５】
2013515006.tif 000006
［式中、
Ｐｇは、ヒドロキシル保護基であり；
Ｒは、水素、ヒドロキシルまたは−ＯＰｇであり；
Ｒ１は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の１７−側鎖であり、ここで、該側鎖のカルボキシル官能基は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基で必要に応じてエステル化され；
Ｒ２は、水素であり；または
Ｒ１およびＲ２は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成し；
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立に、Ｃ１−Ｃ３アルキルである］。
【請求項６】
式５の化合物：
【化１９８】
2013515006.tif 000007
［式中、
Ｐｇは、ヒドロキシル保護基であり；
Ｒは、水素、ヒドロキシルまたは−ＯＰｇであり；
Ｒ１は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の１７−側鎖であり、ここで、該側鎖のカルボキシル官能基は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基で必要に応じてエステル化され；
Ｒ２は、水素であり；または
Ｒ１およびＲ２は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成し；
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立に、Ｃ１−Ｃ３アルキルである］。
【請求項７】
式６の化合物：
【化２０１】
2013515006.tif 000008
［式中、
Ｐｇは、ヒドロキシル保護基であり；
Ｒは、水素、ヒドロキシルまたは−ＯＰｇであり；そして
Ｒ１およびＲ２は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成する］。
【請求項８】
化合物１２：
【化２０７】
2013515006.tif 000009
を調製するプロセスであって、化合物１３：
【化２０８】
2013515006.tif 000010
［式中、Ｐｇはヒドロキシル保護基である］
を、脱水条件下で接触させて、化合物１２を得る工程
を含むプロセス。
【請求項９】
式１４の化合物：
【化２１３】
2013515006.tif 000011
の調製するプロセスであって：
ａ）  ヒドロコルチゾン：
【化２１４】
2013515006.tif 000012
を、水素化条件下で、少なくとも１モル当量の水素に接触させて、４，５−ジヒドロ−ヒドロコルチゾン−化合物１５：
【化２１５】
2013515006.tif 000013
を得る工程；
ｂ）化合物１５を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも２ハイドライド当量の還元剤に接触させて、化合物１６：
【化２１６】
2013515006.tif 000014
を得る工程；
ｃ）  化合物１６を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物１７：
【化２１７】
2013515006.tif 000015
を得る工程；
ｄ）  化合物１７の３−ヒドロキシル基を選択的に保護して、式１３の化合物：
【化２１８】
2013515006.tif 000016
［式中、Ｐｇはヒドロキシル保護基である］
を得る工程；
ｅ）  式１３の化合物を、脱水条件下で接触させて、式１２の化合物；
【化２１９】
2013515006.tif 000017
を得る工程；および、
ｆ）  ヒドロキシル保護基を除去して、化合物１４を得る工程
を含む、プロセス。
【請求項１０】
式１８の化合物：
【化２２０−１】
2013515006.tif 000018
を調製するプロセスであって：
ａ）  ヒドロコルチゾン：
【化２２１】
2013515006.tif 000019
を、水素化条件下で、少なくとも１モル当量の水素に接触させて、化合物１５：
【化２２２】
2013515006.tif 000020
を得る工程；
ｂ）化合物１５を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも２ハイドライド当量の還元剤に接触させて、化合物１６：
【化２２３】
2013515006.tif 000021
を得る工程；
ｃ）  化合物１６を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物１７：
【化２２４】
2013515006.tif 000022
を得る工程；
ｄ）  化合物１７の３−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物１３：
【化２２５】
2013515006.tif 000023
［式中、Ｐｇはヒドロキシル保護基である］
を得る工程；
ｅ）  式１３の化合物を、脱水条件下で接触させて、化合物１２；
【化２２６】
2013515006.tif 000024
を得る工程；および
ｆ）  化合物１２を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物１８：
【化２２７】
2013515006.tif 000025
を形成する工程
を含む、プロセス。
【請求項１１】
デオキシコール酸またはその塩を調製するプロセスであって：
ａ）  ヒドロコルチゾン：
【化２２８】
2013515006.tif 000026
を、水素化条件下で、少なくとも１モル当量の水素に接触させて、化合物１５：
【化２２９】
2013515006.tif 000027
を得る工程；
ｂ）化合物１５を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも２ハイドライド当量の還元剤に接触させて、化合物１６：
【化２３０】
2013515006.tif 000028
を得る工程；
ｃ）  化合物１６を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物１７：
【化２３１】
2013515006.tif 000029
を得る工程；
ｄ）  化合物１７の３−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物１３：
【化２３２】
2013515006.tif 000030
［式中、Ｐｇはヒドロキシル保護基である］
を得る工程；
ｅ）  化合物１３を、脱水条件下で接触させて、化合物１２；
【化２３３】
2013515006.tif 000031
を得る工程；
ｆ）  化合物１２を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物１８：
【化２３４】
2013515006.tif 000032
を形成する工程；
ｇ）  化合物１８を、ルイス酸の存在下で、アルキルプロピオレートＣＨ≡ＣＣ（Ｏ）ＯＲまたはアルキルアクリレートＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＲ［ここでＲはアルキルである］と反応させて、化合物１９：
【化２３５】
2013515006.tif 000033
［式中、破線
【化２３６】
2013515006.tif 000034
は単結合または二重結合である］
を形成する工程；
ｈ）  式１９の化合物を、水素化条件下で、Ｈ２と反応させて、化合物２０：
【化２３７】
2013515006.tif 000035
を形成する工程；
ｉ）  化合物２０を酸化剤と反応させて、化合物２１：
【化２３８】
2013515006.tif 000036
を形成する工程；
ｊ）  化合物２１を、水素化条件下で、Ｈ２と反応させて、化合物２２：
【化２３９】
2013515006.tif 000037
を形成する工程；
ｋ）  化合物２２を還元剤と反応させて、化合物２３：
【化２４０】
2013515006.tif 000038
を形成する工程；ならびに
ｌ）  化合物２３を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸またはその塩を形成する工程
を含む、プロセス。
【請求項１２】
化合物２４：
【化２４１】
2013515006.tif 000039
を調製するプロセスであって、下記：
ａ）  化合物２５：
【化２４２】
2013515006.tif 000040
を、高圧に維持されたオートクレーブにおいて、アセトン、イソプロパノール、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびテトラヒドロフランから成る群から選択される溶媒中で、水素および少なくとも８ｗｔ％の５０％湿潤Ｐｄ炭素を含む水素化条件下で接触させて、化合物２６：
【化２４３】
2013515006.tif 000041
を得る工程；
ｂ）  化合物２６を、硫酸の存在下に、水が除去される条件下で脱水して、化合物２７：
【化２４４】
2013515006.tif 000042
を得る工程；
ｃ）  化合物２７を、−４０℃〜−４５℃の温度を包含する選択的還元条件下で、過剰のリチウムトリ−ｔ−ブトキシアルミニウムハイドライドに接触させて、化合物２８：
【化２４５】
2013515006.tif 000043
を得る工程；
ｄ）  化合物２８を、ウィッティヒ反応条件下で、過剰のエチルトリアリールホスホニウムハライドに接触させて、化合物２９：
【化２４６】
2013515006.tif 000044
を得る工程；
ｅ）  化合物２９の
【数４５】
2013515006.tif 000045
を、過剰の無水の無水酢酸を包含するアセチル化条件下で保護して、化合物３０：
【化２４７】
2013515006.tif 000046
を得る工程；
ｆ）  化合物３０を、アルキル化条件下で、過剰のＣ１−Ｃ２アルキルアルミニウムジクロリドの存在下で、過剰のメチルアクリレートに接触させて、化合物３１：
【化２４８】
2013515006.tif 000047
を形成する工程；
ｇ）  化合物３１を、オートクレーブを高圧に維持することを包含する水素化条件下で、不活性溶媒中で、水素、ならびに白金および乾燥パラジウム炭素から成る群から選択される水素化触媒に接触させて、化合物３２：
【化２４９】
2013515006.tif 000048
を得る工程；
ｈ）  不活性溶媒に溶解させた化合物３２を、酸化条件下、第一酸化剤としての過剰のＣ４−Ｃ６ｔ−アルキルヒドロペルオキシドおよび補助酸化剤としての過剰のＮａＯＣｌを包含する補助酸化条件下で接触させ、必要に応じて、それに続いて、わずかに過剰のピリジニウムクロロクロメートでさらに酸化して、化合物２４：
【化２５０】
2013515006.tif 000049
を得る工程；および
ｉ）  必要に応じて、化合物２４をメタノールで洗浄する工程
を含む、プロセス。
【請求項１３】
デオキシコール酸またはその塩を調製するプロセスであって、下記：
ａ）  化合物２４：
【化２５１】
2013515006.tif 000050
を、水素およびＰｄ炭素を含む水素化条件下で、水素およびＰｄ／Ｃに接触させ、必要に応じて、それに続いて、水素化の間に形成された任意の１２−ヒドロキシル基を酸化条件下でピリジニウムクロロクロメートで酸化して、化合物３３：
【化２５２】
2013515006.tif 000051
を得る工程；
ｂ）  化合物３３を、還元条件下で、リチウムトリ−ｔ−アルコキシアルミニウムハイドライドと反応させて、化合物３４：
【化２５３】
2013515006.tif 000052
を得る工程；および
ｃ）  化合物３４を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸またはその塩を形成する工程
を含む、方法。
【請求項１４】
化合物３１：
【化２５５】
2013515006.tif 000053
を調製するプロセスであって、
化合物３０：
【化２５４】
2013515006.tif 000054
を、ＥｔＡｌＣｌ２の存在下で、メチルアクリレートに接触させて、化合物３１を得る工程
を含む、プロセス。
【請求項１５】
化合物２６：
【化２５７】
2013515006.tif 000055
を調製するプロセスであって、
化合物２５：
【化２５６】
2013515006.tif 000056
を、アセトンを溶媒として使用して、水素および１０％Ｐｄ／Ｃを含む水素化条件下で接触させて、化合物２６を得る工程
を含む、プロセス。
【請求項１６】
９６％より高い純度を有するデオキシコール酸（ＤＣＡ）、またはその塩を調製するプロセスであって：
（ａ）  ＤＣＡ溶液を形成する条件下、約９５％以下の純度を有するＤＣＡを、ジクロロメタンを含む溶媒に接触させる工程；
（ｂ）  工程（ａ）で得たＤＣＡ溶液からＤＣＡを結晶化して、結晶性ＤＣＡを含有する溶液を得る工程；および
（ｃ）  ９６％より高い純度を有する結晶性ＤＣＡを回収する工程
を含む、プロセス。
【請求項１７】
９６％より高い純度を有するデオキシコール酸（ＤＣＡ）を調製するプロセスであって：
（ａ）  ＤＣＡ溶液を形成する条件下で、約９５％以下の純度を有するＤＣＡを、ジクロロメタンおよびメタノールを含む溶媒に接触させる工程；
（ｂ）  工程（１）で得たＤＣＡ溶液からＤＣＡを結晶化して、結晶性ＤＣＡを含有する溶液を得る工程；および
（ｃ）  該結晶性ＤＣＡを回収し、充分な量のジクロロメタンを除去して、９６％より高い純度を有するＤＣＡを得る工程
を含む、プロセス。
【請求項１８】
少なくとも９９％の純度を有する完全合成デオキシコール酸（ＤＣＡ）または薬学的に許容されうるその塩。
【請求項１９】
少なくとも９９％の純度を有する合成ＤＣＡ、または薬学的に許容されうるその塩、ならびに薬学的に許容されうる賦形剤を含む、組成物。
【請求項２０】
局所的脂肪の非外科的除去用の組成物であって、該組成物が、少なくとも９９％の純度を有する合成ＤＣＡまたは薬学的に許容されうるその塩から本質的になり、該ＤＣＡが、該組成物の本質的に単独の脂肪除去成分である、組成物。
【請求項２１】
ＤＣＡおよび溶媒を含む組成物であって、該溶媒がメタノールを含むか、または含まないジクロロメタンを含み、溶媒に対するＤＣＡの濃度が４０：１〜約１０：１である、組成物。
【請求項２２】
以下の式：
【化２５８】
2013515006.tif 000057
の、３−メトキシステロイド誘導体。
【請求項２３】
以下の式：
【化２５９】
2013515006.tif 000058
の化合物のうちの一つ以上［式中、Ｐｇはヒドロキシル保護基である］を作製するプロセスであって、
該プロセスは、ＣｕＩの存在下で、以下の式：
【化２６０】
2013515006.tif 000059
の化合物を、１当量より多い当量のｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドと接触させて、以下の式：
【化２６１】
2013515006.tif 000060
の化合物のうちの一つ以上を得る工程を含む、プロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
他の実施形態において、本発明はＤＣＡおよび溶媒を含む組成物を提供し、該溶媒はメタノール含有または不含有のジクロロメタンを含み、溶媒に対するＤＣＡの濃度は４０：１〜約１０：１である。
本発明は、例えば以下の項目を提供する。
（項目１）
１２−ケト化合物３：
【化１９２】
2013515006.tif 000061
を、対応するΔ−９，１１−エン化合物４：
【化１９３】
2013515006.tif 000062
［式中、
Ｐｇはヒドロキシル保護基であり、
Ｒは水素、ヒドロキシルまたは−ＯＰｇであり、
Ｒ１は胆汁酸の１７−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで該側鎖のカルボキシル官能基はＣ１−Ｃ６アルキル基で必要に応じてエステル化され、そして
Ｒ２は水素であり、または
Ｒ１およびＲ２はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基を形成する］
から調製するプロセスであって；
該プロセスが、
補助酸化剤の存在下、式（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）Ｃ−Ｏ−ＯＨ［ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立にＣ１−Ｃ３アルキルである］のアルキルヒドロペルオキシドとの反応によって、化合物４の１２位においてアリル酸化を行って、化合物１、２および３：
【化１９４】
2013515006.tif 000063
の混合物を先ず得る工程；および、
必要に応じて、化合物２をさらに酸化して、Δ−９，１１−エン−１２−オン化合物３を得る工程；
を含むプロセス。
（項目２）
１１−β−ヒドロキシステロイドを、対応する１２−ケトステロイドに変換するプロセスであって、該プロセスは：
ａ）  適切に保護された１１−β−ヒドロキシステロイドを選択する工程；
ｂ）  該１１−β−ヒドロキシステロイドを脱水して、該ステロイド中にΔ−９，１１−エン官能基を与える工程；
ｃ）  補助酸化剤の存在下、該ｂ）のステロイド生成物をアルキルヒドロペルオキシドと反応させることによって、１２位におけるアリル酸化を行う工程；および
ｄ）  Δ−９，１１−エン官能基を水素化して、９−α−ヒドロ−１１−ジヒドロ−１２−ケトステロイドを得る工程；および
ｅ）  必要に応じて、該ｄ）で生成された９−α−ヒドロ−１１−ジヒドロ−１２−ケトステロイドの１２−ケト官能基を、有効量の還元剤で還元して、９−α−ヒドロ−１１−ジヒドロ−１２−α−ヒドロキシステロイドを得る工程
を含む、プロセス。
（項目３）
前記１１−β−ヒドロキシステロイドが、対応する１１−ケトステロイドを少なくとも化学論量の還元剤で還元して１１−β−ヒドロキシステロイドを得ることによって調製される、項目２に記載のプロセス。
（項目４）
前記１１−β−ヒドロキシステロイドが、ヒドロコルチゾンまたはヒドロコルチゾン誘導体である、項目２に記載のプロセス。
（項目５）
前記アリル酸化が、１当量または１当量より多い当量のｔ−ブチルヒドロペルオキシドによってＣｕＩの存在下で行われる、項目１および２のいずれか一項に記載のプロセス。
（項目６）
前記補助酸化剤が、水性次亜塩素酸ナトリウム、パラジウム炭素、Ｐｄ（ＯＣＯＣＦ３）２、Ｐｄ（ＯＡｃ）２およびＣｕＩから成る群から選択される、項目１および２のいずれか一項に記載のプロセス。
（項目７）
式１の化合物：
【化１９５】
2013515006.tif 000064
［式中、
Ｐｇは、ヒドロキシル保護基であり；
Ｒは、水素、ヒドロキシルまたは−ＯＰｇであり；
Ｒ１は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の１７−側鎖であり、ここで、該側鎖のカルボキシル官能基は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基で必要に応じてエステル化され；
Ｒ２は、水素であり；または
Ｒ１およびＲ２は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成し；
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立に、Ｃ１−Ｃ３アルキルである］。
（項目８）
式２の化合物が、化合物４２、４３、４４、４５および４６：
【化１９６】
2013515006.tif 000065
【化１９７】
2013515006.tif 000066
から成る群から選択される、項目７に記載の化合物。
（項目９）
式５の化合物：
【化１９８】
2013515006.tif 000067
［式中、
Ｐｇは、ヒドロキシル保護基であり；
Ｒは、水素、ヒドロキシルまたは−ＯＰｇであり；
Ｒ１は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の１７−側鎖であり、ここで、該側鎖のカルボキシル官能基は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基で必要に応じてエステル化され；
Ｒ２は、水素であり；または
Ｒ１およびＲ２は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成し；
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立に、Ｃ１−Ｃ３アルキルである］。
（項目１０）
式５の化合物が、化合物４８、４９、５０、５１および５２：
【化１９９】
2013515006.tif 000068
【化２００】
2013515006.tif 000069
から成る群から選択される、項目９に記載の化合物。
（項目１１）
Ｒ１が、
【化２０３】
2013515006.tif 000070
［式中、Ｒ６は低級アルキルであり、波線
【化２０４】
2013515006.tif 000071
はステロイド骨格の１７位への結合点を表す］
から成る群から選択される、項目７または９のいずれか一項に記載の化合物。
（項目１２）
Ｒ１およびＲ２が、それらに結合している炭素原子と一緒になってケト基を形成する、項目７または９のいずれか一項に記載の化合物。
（項目１３）
Ｒ１およびＲ２が、それらに結合している炭素原子と一緒になって、
【化２０５】
2013515006.tif 000072
［式中、ｎは１、２または３であり、波線
【化２０６】
2013515006.tif 000073
は分子の残部への結合点を表す］
を形成する、項目７または９のいずれか一項に記載の化合物。
（項目１４）
化合物１２：
【化２０７】
2013515006.tif 000074
を調製する方法であって、化合物１３：
【化２０８】
2013515006.tif 000075
［式中、Ｐｇはヒドロキシル保護基である］
を、脱水条件下で接触させて、化合物１２を得る工程を含み、ここで、化合物１３は、化合物１７：
【化２０９】
2013515006.tif 000076
の３−ヒドロキシル基を選択的に保護する工程を含む方法によって調製され、ここで、化合物１７が、化合物１６：
【化２１０】
2013515006.tif 000077
を、酸化条件下でビシナルアルコール酸化剤に接触させる工程を含む方法によって調製される、方法。
（項目１５）
前記ビシナルアルコール酸化剤がＮａＩＯ４である、項目１４に記載の方法。
（項目１６）
化合物１６が、化合物１５：
【化２１１】
2013515006.tif 000078
を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも２当量の還元剤に接触させる工程を含む方法によって調製される、項目１５に記載の方法。
（項目１７）
前記還元剤がＮａＢＨ４を含む、項目１６に記載の方法。
（項目１８）
化合物１５が、ヒドロコルチゾン：
【化２１２】
2013515006.tif 000079
を、水素化条件下で、少なくとも１モル当量の水素に接触させる工程を含む方法によって調製される、項目１７に記載の方法。
（項目１９）
前記水素化条件が、Ｐｄ／Ｃを触媒として含み、ＤＭＦを溶媒として含む、項目１８に記載の方法。
（項目２０）
式１４の化合物：
【化２１３】
2013515006.tif 000080
の調製方法であって：
ａ）  ヒドロコルチゾン：
【化２１４】
2013515006.tif 000081
を、水素化条件下で、少なくとも１モル当量の水素に接触させて、４，５−ジヒドロ−ヒドロコルチゾン−化合物１５：
【化２１５】
2013515006.tif 000082
を得る工程；
化合物１５を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも２当量の還元剤に接触させて、化合物１６：
【化２１６】
2013515006.tif 000083
を得る工程；
ｃ）  化合物１６を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物１７：
【化２１７】
2013515006.tif 000084
を得る工程；
ｄ）  化合物１７の３−ヒドロキシル基を選択的に保護して、式１３の化合物：
【化２１８】
2013515006.tif 000085
［式中、Ｐｇはヒドロキシル保護基である］
を得る工程；
ｅ）  式１３の化合物を、脱水条件下で接触させて、式１２の化合物；
【化２１９】
2013515006.tif 000086
を得る工程；および、
ｆ）  ヒドロキシル保護基を除去して、化合物１４を得る工程
を含む、方法。
（項目２１）
式１８の化合物：
【化２２０】
2013515006.tif 000087
を調製する方法であって：
ａ）  ヒドロコルチゾン：
【化２２１】
2013515006.tif 000088
を、水素化条件下で、少なくとも１モル当量の水素に接触させて、４，５−ジヒドロ−ヒドロコルチゾン−化合物１５：
【化２２２】
2013515006.tif 000089
を得る工程；
化合物１５を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも２当量の還元剤に接触させて、化合物１６：
【化２２３】
2013515006.tif 000090
を得る工程；
ｃ）  化合物１６を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物１７：
【化２２４】
2013515006.tif 000091
を得る工程；
ｄ）  化合物１７の３−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物１３：
【化２２５】
2013515006.tif 000092
［式中、Ｐｇはヒドロキシル保護基である］
を得る工程；
ｅ）  式１３の化合物を、脱水条件下で接触させて、化合物１２；
【化２２６】
2013515006.tif 000093
を得る工程；および
ｆ）  化合物１２を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物１８：
【化２２７】
2013515006.tif 000094
を形成する工程
を含む、方法。
（項目２２）
デオキシコール酸またはその塩を調製する方法であって：
ａ）  ヒドロコルチゾン：
【化２２８】
2013515006.tif 000095
を、水素化条件下で、少なくとも１モル当量の水素に接触させて、４，５β−ジヒドロ−ヒドロコルチゾン−化合物１５：
【化２２９】
2013515006.tif 000096
を得る工程；
化合物１５を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも２当量の還元剤に接触させて、化合物１６：
【化２３０】
2013515006.tif 000097
を得る工程；
ｃ）  化合物１６を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物１７：
【化２３１】
2013515006.tif 000098
を得る工程；
ｄ）  化合物１７の３−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物１３：
【化２３２】
2013515006.tif 000099
［式中、Ｐｇはヒドロキシル保護基である］
を得る工程；
ｅ）  化合物１３を、脱水条件下で接触させて、化合物１２；
【化２３３】
2013515006.tif 000100
を得る工程；
ｆ）  化合物１２を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物１８：
【化２３４】
2013515006.tif 000101
を形成する工程；
ｇ）  化合物１８を、ルイス酸の存在下に、アルキルプロピオレートＣＨ≡ＣＣ（Ｏ）ＯＲまたはアルキルアクリレートＣＨ２＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＲ［ここでＲはアルキルである］と反応させて、化合物１９：
【化２３５】
2013515006.tif 000102
［式中、破線
【化２３６】
2013515006.tif 000103
は単結合または二重結合である］
を形成する工程；
ｈ）  式１９の化合物を、水素化条件下で、Ｈ２と反応させて、化合物２０：
【化２３７】
2013515006.tif 000104
を形成する工程；
ｉ）  化合物２０を酸化剤と反応させて、化合物２１：
【化２３８】
2013515006.tif 000105
を形成する工程；
ｊ）  化合物２１を、水素化条件下で、Ｈ２と反応させて、化合物２２：
【化２３９】
2013515006.tif 000106
を形成する工程；
ｋ）  化合物２２を還元剤と反応させて、化合物２３：
【化２４０】
2013515006.tif 000107
を形成する工程；ならびに
ｌ）  化合物２３を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸またはその塩を形成する工程
を含む、方法。