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【手続補正書】
【提出日】平成15年6月23日(2003.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から発射された光束を光学素子を介して被検出面に照射すると共に、前記被検出面で反射した前記光束に基づいて前記被検出面の位置を検出する位置検出装置において、
前記被検出面の位置を検出する通常動作時及び、前記光源及び又は前記光学素子の調節時に、前記光学素子がほぼ同じ所定温度となるように温度制御する温度制御手段を具えることを特徴とする位置検出装置。
【請求項２】
前記光学素子は、複数配設されており、
前記温度制御手段は、各前記光学素子をそれぞれ個別に加熱又は冷却することにより該各光学素子の温度をそれぞれ所定温度となるように温度制御することを特徴とする請求項１に記載の位置検出装置。
【請求項３】
前記光学素子は、複数配設されており、
前記温度制御手段は、各前記光学素子全体を一括して加熱又は冷却することにより該各光学素子の温度をそれぞれ所定温度となるように温度制御することを特徴とする請求項１または２に記載の位置検出装置。
【請求項４】
前記温度制御手段は、ペルチエ素子を用いて前記光学素子を加熱又は冷却することを特徴とする請求項１〜３の少なくとも一項に記載の位置検出装置。
【請求項５】
前記温度制御手段は、所定の流体を間接的に用いて前記光学素子を加熱又は冷却することを特徴とする請求項１〜４の少なくとも一項に記載の位置検出装置。
【請求項６】
前記温度制御手段は、前記光学素子の温度を計測する温度センサを設けることを特徴とする請求項１〜５の少なくとも一項に記載の位置検出装置。
【請求項７】
前記温度制御手段は、前記複数の光学素子の１つの光学素子の温度を検出して温度制御を行うことを特徴とする請求項２又３に記載の位置検出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月5日(2003.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）オレフィン系熱可塑性樹脂９９〜１wt%と、（Ｂ）アクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体１〜９９wt％、を含有する樹脂組成物１００重量部（Ａ＋Ｂ）に対して、（Ｃ）エポキシ基を含有する熱可塑性樹脂の、１〜１００重量部を配合したことを特徴とする熱可塑性樹脂組成物から構成されるシート状物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために発見した組成物の範囲は次の通りである。
（Ａ）オレフィン系熱可塑性樹脂、９９〜１wt%と、
（Ｂ）アクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体の、１〜９９wt％を包含する樹脂組成物１００重量部（Ａ＋Ｂ）に対して、
（Ｃ）エポキシ基を含有する熱可塑性樹脂の、１〜１００重量部からなることを特徴とする熱可塑性組成物は、非常に溶融混合性（分散性）が良く、そのためにウエルダー特性、成形加工性、シートにした時の成型品の外観等の商業化要件が十分満たされることを発見した。
【０００９】
（Ｂ）アクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体の説明。
本発明のアクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体にはアクリロニトリル、スチレン、アルキル（メタ）アクリレートを必須成分として含有する共重合体であり、アルキル（メタ）アクリレートとしては、ブチルアクリレート、２ーエチルヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、メチルアクリレート、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル等があり、少なくとも１種類以上のアルキル（メタ）アクリレートを用いたものである。
【００１０】
また、二官能性アクリレート類、二官能性メタクリレート類、三官能性アクリレート類、三官能性メタクリレート類、およびジビニルベンゼン等により部分的に架橋させたものでもよい。
このようなアクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体は公知であり、３０℃より高い温度でラジカル乳化重合により製造し得る。例えば、特開平６ー３２２０３７に記載された方法で得ることができ、市販されているグッドイヤー社製の商品名サニガム等がこれに相当する。
【００１３】
以上のエポキシ基を含有する熱可塑性樹脂の中で、本発明の（Ｃ）成分として好ましいものとしては、ジエン系ブロック共重合体の二重結合にエポキシ基を導入して得られた熱可塑性樹脂があげられる。
ジエン系ブロック共重合体を構成するビニル芳香族化合物としては、例えばスチレン、αーメチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−第３級ブチルスチレン、ジビニルベンゼン、ｐ−メチルスチレン、１、１ージフェニルスチレン等の中から１種又は２種以上が選択でき、中でもスチレンが好ましい、又共役ジエン化合物としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、１、３ーペンタジエン、２、３ージメチルー１、３ーブタジエン、ピペリレン、３ーブチルー１、３ーオクタジエン、フェニルー１、３ーブタジエン等の中から１種又は２種以上が選ばれ、中でもブタジエン、イソプレン及びこれらの組合せが好ましい。
【００２２】
表１
オレフィン系熱可塑性樹脂（住友化学（株）製、商品名：住友ＴＰＥー４７６２）                                                    ７０重量部
アクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体（グッドイヤー社製、商品名：サニガムＰ７３９５）                  ３０重量部
エポキシ基を含有する熱可塑性樹脂（参考例１、又は２）                                                      ５重量部
ホスファイト系抗酸化剤（旭電化工業（株）製、商品名：Ａ０ー６０）                                                              １重量部
フェノール系抗酸化剤（旭電化工業（株）製、商品名：ＰＥＰー３６）                                                      ０．１重量部
滑剤（旭電化工業（株）製、商品名：ＬＳ−５）          ０．３重量部
顔料（特殊色料工業（株）製、商品名：ＭＢＥー１１６９０）                                                      ５重量部
【００２５】
【発明の効果】
請求項に記載された発明は、環境を汚染することなく、高周波ウエルダー特性を有するので、ポリ塩化ビニル樹脂の代替材料となり得る。
添付図１は、オレフィン系熱可塑性樹脂（Ａ成分）、アクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体（Ｂ成分）に、エポキシ基を含有する熱可塑性樹脂（Ｃ成分）を配合した本発明組成物（実施例）の場合の混合状態を示す電子顕微鏡写真を模写したもので、Ｂ＋Ｃ成分の粒子（この中の黒く見える部分がＣ成分）が島となり、Ａ成分が海となる組成であるが、図１の図示単位は２μｍである。
【００２６】
添付図２は、オレフィン系熱可塑性樹脂（Ａ成分）、アクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体（Ｂ成分）からなり、エポキシ基を含有する熱可塑性樹脂（Ｃ成分）を除いた配合（比較例）における混合状態を示す電子顕微鏡写真を模写したものであるが、図２の図示単位は５０μｍであり、このスケールの違いから、本発明の混合状態の改良が示される。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】オレフィン系熱可塑性樹脂（Ａ成分）、アクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体（Ｂ成分）に、エポキシ基を含有する熱可塑性樹脂（Ｃ成分）を配合した本発明組成物（実施例）の場合の混合状態を示す電子顕微鏡写真を模写したもの。
【図２】オレフィン系熱可塑性樹脂（Ａ成分）、アクリロニトリルースチレンーアルキル（メタ）アクリレート系共重合体（Ｂ成分）からなり、エポキシ基を含有する熱可塑性樹脂（Ｃ成分）を除いた配合（比較例）における混合状態を示す電子顕微鏡写真を模写したもの。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月21日(2003.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外装と、この外装内に設けられ、食品を収納する加熱室と、この加熱室内の食品を加熱する加熱手段と、設定温度を含む調理条件を入力する操作部と、前記加熱室内で空気を循環させるファンと、前記食品の温度を検知するセンサーと、調理終了を報知する報知手段とを備えた調理器において、前記食品を加熱終了後、前記加熱手段の動作を終了し、前記センサーの検知温度が、前記設定温度に下降するまで、前記ファンの駆動によって前記食品を冷却するとともに、前記センサーの検知温度が前記設定温度に下降すると、前記報知手段により調理終了を報知することを特徴とする調理器。
【請求項２】
前記ファンの付近に、着脱可能なフィルタを設けたことを特徴とする請求項１記載の調理器。
【請求項３】
外装と、この外装内に設けられ、食品を収納する加熱室と、この加熱室内の食品を加熱する加熱手段と、設定温度を含む調理条件を入力する操作部と、前記加熱室内に外気を送り込む冷却ファンと、前記食品の温度を検知するセンサーと、調理終了を報知する報知手段とを備えた調理器において、前記食品を加熱終了後、前記加熱手段の動作を終了し、前記センサーの検知温度が、前記設定温度に下降するまで、前記冷却ファンの駆動によって前記加熱室内に外気を送り込んで前記食品を冷却するとともに、前記センサーの検知温度が前記設定温度に下降すると、前記報知手段により調理終了を報知することを特徴とする調理器。
【請求項４】
前記冷却ファンにより、前記加熱手段を冷却することを特徴とする請求項３記載の調理器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の調理器は、外装と、この外装内に設けられ、食品を収納する加熱室と、この加熱室内の食品を加熱する加熱手段と、設定温度を含む調理条件を入力する操作部と、前記加熱室内で空気を循環させるファンと、前記食品の温度を検知するセンサーと、調理終了を報知する報知手段とを備えた調理器において、前記食品を加熱終了後、前記加熱手段の動作を終了し、前記センサーの検知温度が、前記設定温度に下降するまで、前記ファンの駆動によって前記食品を冷却するとともに、前記センサーの検知温度が前記設定温度に下降すると、前記報知手段により調理終了を報知させた。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月6日(2003.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線信号を用いて移動端末位置を計算する装置であって、
無線信号を受信する信号受信手段と、
該受信信号を用いて位置計算に必要な位置計算情報を作成する位置計算情報生成手段と、
該位置計算情報を用いて位置計算に使用可能な基地局を選択する使用基地局選択手段と、
該使用基地局選択手段により選択された基地局の数を数える基地局数算出手段と、
前記選択された基地局の数に応じて位置計算方法を制御するための位置計算方法制御信号を作成する位置計算方法制御手段と、
該位置計算方法制御信号に応じた位置計算方法を用いて、前記位置計算情報と前記使用基地局選択手段により選択された基地局情報から移動端末位置を計算する位置計算手段と、
該移動端末位置を用いて利用者に情報を提供する位置情報利用部とを備えることを特徴とする移動端末位置を計算する装置。
【請求項２】
請求項１に記載の移動端末位置を計算する装置であって、
前記位置計算手段は、前記位置計算方法制御手段から入力される前記位置計算方法制御信号が位置計算に使用可能な基地局数が三局以上であることに対応する場合は、前記位置計算手段は上記三局以上の基地局の位置情報を用いて位置計算を行い、前記位置計算方法制御信号が位置計算に使用可能な基地局数が二局であることに対応する場合は、前記位置計算手段は二基地局用位置計算手段を用いた位置計算を行い、前記位置計算方法制御信号が位置計算に使用可能な基地局数が一局であることに対応する場合は、前記位置計算手段は一基地局用位置計算手段を用いた位置計算を行うことを特徴とする移動端末位置を計算する装置。
【請求項３】
請求項２に記載の移動端末位置を計算する装置であって、
前記二基地局用位置計算手段は、位置計算に使用可能な二つの基地局の位置の平均値を計算し、該平均値を移動端末位置として出力する基地局位置平均化手段を備えることを特徴とする移動端末位置を計算する装置。
【請求項４】
請求項２に記載の移動端末位置を計算する装置であって、
前記二基地局用位置計算手段は、位置計算に使用可能な二つの基地局の位置をそれぞれの基地局の重みで重み付けした重み付け平均値を計算し、該重み付け平均値を移動端末位置として出力する基地局位置重み付き平均化手段を備えることを特徴とする移動端末位置を計算する装置。
【請求項５】
請求項４に記載の移動端末位置を計算する装置であって、
前記重み付き平均化手段は、重みとしてそれぞれの基地局からの受信信号の信号対雑音電力比の関数を用いることを特徴とする移動端末位置を計算する装置。
【請求項６】
請求項４に記載の移動端末位置を計算する装置であって、
前記重み付き平均化手段は、重みとしてそれぞれの基地局からの受信信号の受信電力を用いることを特徴とする移動端末位置を計算する装置。
【請求項７】
請求項２に記載の移動端末位置を計算する装置であって、
前記二基地局用位置計算手段は、前記位置計算情報を保持しておき、過去の位置計算において使用された基地局のうち、前記使用基地局選択手段により選択された第一及び第二の基地局とは異なる第三の基地局の位置計算情報を選択し出力する基地局情報保持手段と、前記第一、第二及び第三の基地局の位置計算情報を用いて位置計算を行う計算手段を備えることを特徴とする移動端末位置を計算する装置。
【請求項８】
請求項２に記載の移動端末位置を計算する装置であって、
前記一基地局用位置計算手段は、位置計算に使用可能な一つの基地局の位置を移動端末位置として出力する基地局位置出力手段を備えることを特徴とする移動端末位置を計算する装置。
【請求項９】
請求項２に記載の移動端末位置を計算する装置であって、
前記一基地局用位置計算手段は、前記位置計算情報を保持しておき、過去の位置計算において使用された基地局のうち、前記使用基地局選択手段により選択された第一の基地局とは異なる第二及び第三の基地局の位置計算情報を選択し出力する基地局情報保持手段と、前記第一、第二及び第三の基地局の位置計算情報を用いて位置計算を行う計算手段を備えることを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の移動端末位置を計算する装置であって、
前記位置情報利用部は前記移動端末位置に加えて、前記使用基地局選択手段により選択された基地局の数に応じて、利用者に提供する情報を制御することを特徴とする装置。
【請求項１１】
無線信号を用いて移動端末位置を計算する方法であって、
無線信号を受信して受信信号を作成し、
該受信信号を用いて位置計算に必要な位置計算情報を作成し、
該位置計算情報を用いて位置計算に使用可能な基地局を選択し、
前記位置計算に使用可能な基地局の数を数え、前記使用可能な基地局の数に応じて位置計算方法を制御するための位置計算方法制御信号を作成し、
該位置計算方法制御信号に応じた位置計算方法を用いて、前記位置計算情報と前記使用基地局選択手段により選択された基地局情報から移動端末位置を計算することを特徴とする移動端末位置を計算する方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の移動端末位置を計算する方法であって、
前記位置計算方法制御信号が位置計算に使用可能な基地局数が三局以上であることに対応する場合は、上記三局以上の基地局の位置情報を用いて位置計算を行い、前記位置計算方法制御信号が位置計算に使用可能な基地局数が二局であることに対応する場合は、二基地局用位置計算方法を用いた位置計算を行い、前記位置計算方法制御信号が位置計算に使用可能な基地局数が一局であることに対応する場合は、一基地局用位置計算方法を用いた位置計算を行うことを特徴とする移動端末位置を計算する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
（ａ）コムジェネレータ基準信号発振器とコムジェネレータとコムジェネレータ出力較正用疑似天体信号発振器と局部発振器とを具備する信号発振装置と、
（ｂ）被測定用超伝導ミクサとコムジェネレータ出力較正用超伝導ミクサとを有するデュワーと、
（ｃ）温度較正装置と、
（ｄ）前記デュワーの出力部に接続されるスペクトラムアナライザーと、
（ｅ）前記信号発振装置と前記デュワーと前記温度較正装置と前記スペクトラムアナライザーに接続される電子制御装置とを備え、
（ｆ）コムジェネレータ出力信号を前記デュワーに入力することにより、被測定用超伝導ミクサのサイドバンド比を導出することを特徴とするコムジェネレータを用いた超伝導ミクサのサイドバンド比の測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
〔４〕コムジェネレータを用いた超伝導ミクサのサイドバンド比の測定装置において、コムジェネレータ基準信号発振器とコムジェネレータとコムジェネレータ出力較正用疑似天体信号発振器と局部発振器とを具備する信号発振装置と、被測定用超伝導ミクサとコムジェネレータ出力較正用超伝導ミクサとを有するデュワーと、温度較正装置と、前記デュワーの出力部に接続されるスペクトラムアナライザーと、前記信号発振装置と前記デュワーと前記温度較正装置と前記スペクトラムアナライザーに接続される電子制御装置とを備え、コムジェネレータ出力信号を前記デュワーに入力することにより、被測定用超伝導ミクサのサイドバンド比を導出することを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
この図において、１はデュワー（４Ｋクライオスタット）、２，６はＣＧＣ（クロスガイドカプラー）、３は被測定用超伝導（ＳＩＳ）ミクサ、４，９はＨＥＭＴ増幅器、５，７はホーン、８はコムジェネレータ出力較正用超伝導（ＳＩＳ）ミクサ（バックショート付）、１１は温度較正装置、１２は回転ミラー、１３は常温黒体（３００Ｋ）、１４は液体窒素冷却黒体（７７Ｋ）、２１は信号発振装置、２２はコムジェネレータ基準信号発振器（〜数ＧＨｚ）、２３はコムジェネレータ、２４，２６は方向性結合器、２５はコムジェネレータ出力較正用疑似天体信号発振器、２７はＬＯ（局部発振）用ＧＵＮＮ発振器、３１はコンピュータ（電子制御装置）、３２はＡＯＳ（音響光学型分光計）、３３はスペクトラムアナライザーである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
（Ｅ）雑音温度、電流−電圧特性、ＩＦ帯域特性については、電子制御装置によって制御される回転ミラーを回転させることにより、常温黒体、冷却黒体の測定を自動的に行い、温度の較正を行うことができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１    デュワー（４Ｋクライオスタット）
２，６    ＣＧＣ（クロスガイドカプラー）
３    被測定用超伝導（ＳＩＳ）ミクサ
４，９    ＨＥＭＴ増幅器
５，７    ホーン
８    コムジェネレータ出力較正用超伝導（ＳＩＳ）ミクサ（バックショート付）
１１    温度較正装置
１２    回転ミラー
１３    常温黒体（３００Ｋ）
１４    液体窒素冷却黒体（７７Ｋ）
２１    信号発振装置
２２    コムジェネレータ基準信号発振器（〜数ＧＨｚ）
２３    コムジェネレータ
２４，２６    方向性結合器
２５    コムジェネレータ出力較正用疑似天体信号発振器
２７    ＬＯ（局部発振）用ＧＵＮＮ発振器
３１    コンピュータ（電子制御装置）
３２    ＡＯＳ（音響光学型分光計）
３３    スペクトラムアナライザー
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月15日(2003.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光導波シートに実装するための面型光素子と、前記光素子から出射される光の進行方向を該光導波シートに対して平行となるように変化させる光路変換手段、もしくは前記光導波シート中を伝搬する光の進行方向を該光導波シートに対して垂直方向に変化させる光路変換手段とを、備えることを特徴とする光装置。
【請求項２】
前記光路変換手段は反射作用で光路変換することを特徴とする請求項１に記載の光装置。
【請求項３】
前記光路変換手段は、円錐形状の反射面を有する請求項２記載の光装置。
【請求項４】
前記光路変換手段は、半球形状の反射面を有する請求項２記載の光装置。
【請求項５】
前記光路変換手段は、角錐形状の反射面を有する請求項２記載の光装置。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れかに記載の光装置が前記光導波シートに配置されていることを特徴とする光導波装置。
【請求項７】
請求項６に記載の光導波装置と、前記光導波装置に電気的に接続された電気回路基板とを備えたことを特徴とする光電気混載基板。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月1日(2003.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域の縁辺部に沿って一対の液晶基板を相互に固着するシール材の硬化時に上記一対の液晶基板の少なくとも一方に対向配置された紫外線光源装置からの紫外線光を遮光する遮光マスクと、
上記遮光マスクに設けられ、上記紫外線光源装置からの紫外線光の光束を上記液晶基板の内側から外側に傾斜させて上記シール材の内壁面に導く光学レンズと、を具備したことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項２】
上記光学レンズは、上記液晶基板上に上記表示領域を規定するための遮光膜と上記シール材との間隙から、上記シール材の内壁面に紫外線光を導くことを特徴とする請求項１記載の液晶装置の製造装置。
【請求項３】
前記遮光マスクはスリットを有し、前記スリットの位置は前記シール材に対応する領域よりも前記液晶基板の表示領域側に偏った位置に設けられることを特徴とする請求項１記載の液晶装置の製造装置。
【請求項４】
前記遮光マスクはスリットを有し、前記スリットの幅は前記シール材よりも幅広に形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶装置の製造装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４の少なくともいずれか一つの液晶装置の製造装置によってシール材が硬化されて製造されたことを特徴とする液晶装置。
【請求項６】
表示領域の縁辺部に沿って一対の液晶基板を相互に固着するシール材の硬化時に上記一対の液晶基板の少なくとも一方に対向配置された紫外線光源装置からの紫外線光を遮光する遮光マスクと、
紫外線光の進行方向が上記液晶基板の内側から外側に向かって傾斜される光学部材と、を具備したことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このような構成によれば、シール材に対して遮光マスクの配設位置に微小なズレが生じた場合にも、遮光膜によって紫外線光の表示領域への漏洩を防止することができる。
上記遮光マスクはスリットを有し、上記スリットの位置は上記シール材に対応する領域よりも上記液晶基板の表示領域側に偏った位置に設けられることを特徴とする。
このような構成によれば、紫外線光はシール材の内壁面に直接照射されるので、シール材の内壁面を確実に硬化させることができ、未硬化のシール材が液晶内に溶出することを防止できる。
上記遮光マスクはスリットを有し、前記スリットの幅は上記シール材よりも幅広に形成されることを特徴とする。このような構成によれば、シール材に照射される紫外線光の光量を増大させることができ、シール材の紫外線硬化を短時間で確実に行うことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
このような構成によれば、シール材の内壁面を確実に硬化させることができ、未硬化のシール材が液晶内に溶出することを防止できる。
本発明に係る液晶装置の製造装置は、表示領域の縁辺部に沿って一対の液晶基板を相互に固着するシール材の硬化時に上記一対の液晶基板の少なくとも一方に対向配置された紫外線光源装置からの紫外線光を遮光する遮光マスクと、
紫外線光の進行方向が上記液晶基板の内側から外側に向かって傾斜される光学部材と、を具備したことを特徴とする。
このような構成によれば、シール材の硬化時に、紫外線光源装置からの紫外線光の光束は、光学部材によって液晶基板の内側から外側に傾斜された状態でシール材の内壁面に導かれ、シール材を硬化させる。紫外線光の光束を液晶基板の内側から外側に傾斜させた状態でシール材の内壁面に導くことにより、シール材に対して遮光マスクの配設位置が微小にズレた場合にも確実にシール材の内壁面に紫外線光を照射することができ、また、紫外線光はシール材の内壁面に直接照射されるので、シール材の内壁面を確実に硬化させることができ、未硬化のシール材が液晶内に溶出することを防止できる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月1日(2003.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶装置及びその製造方法並びに光学部材の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に、前記シール材の硬化時に照射される紫外線光を前記シール材に導く光学部材を具備したことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記光学部材は、前記液晶基板の周面に設けられた紫外線光の入射面と、
前記入射面から入射された紫外線光を内部で反射して前記シール材に導く反射面と、を具備したことを特徴とする請求項１記載の液晶装置。
【請求項３】
前記反射面は、屈折率の異なる光学材料を組み合わせて構成されることを特徴とする請求項２記載の液晶装置。
【請求項４】
前記光学部材は、入射された紫外線光を集光して前記シール材に導く光学レンズを具備したことを特徴とする請求項１記載の液晶装置。
【請求項５】
前記光学レンズは、エッチングにより形成されることを特徴とする請求項４記載の液晶装置。
【請求項６】
前記光学部材は、少なくとも前記液晶基板上の表示領域よりも紫外線透過率の高い材料で構成されていることを特徴とする請求項１記載の液晶装置。
【請求項７】
シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に、前記シール材の硬化時に照射される紫外線光を内部で反射して前記シール材に導く反射面を備えた光学部材の製造方法であって、
エッチングガスを所定の傾斜方向からマザーガラス基板に吹き付けることで前記マザーガラス基板上にテーパ面を設ける異方性ドライエッチング工程と、
テーパ面に接着剤を塗布する工程と、
前記テーパ面近傍において、前記マザーガラス基板をスクライブブレイクする工程と、
からなることを特徴とする光学部材の製造方法。
【請求項８】
シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に紫外線光を前記シール材に導く光学部材を具備した液晶装置の製造方法であって、前記光学部材の入射面に対向する位置にスリットが設けられた遮光板を介して前記紫外線光を前記液晶装置に導くことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
このような構成によれば、光学部材に入射された紫外線光は、光学部材を透過してシール材に導かれる。少なくとも液晶基板上の表示領域よりも紫外線透過率の高い材料で光学部材を構成することにより、たとえ紫外線光の一部が表示領域に照射された場合にも紫外線光の配向膜への漏洩を最小限に抑えることができる。従って、照射される紫外線光の光束をシール材の幅よりも広く設定することができ、紫外線光をシール材に精度よく照射することができる。
また、上記光学部材の製造方法は、シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に、上記シール材の硬化時に照射される紫外線光を内部で反射して上記シール材に導く反射面を備えた光学部材の製造方法であって、エッチングガスを所定の傾斜方向からマザーガラス基板に吹き付けることで上記マザーガラス基板上にテーパ面を設ける異方性ドライエッチング工程と、テーパ面に接着剤を塗布する工程と、上記テーパ面近傍において、上記マザーガラス基板をスクライブブレイクする工程と、
からなることを特徴とする。
このような構成によれば、シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に、上記シール材の硬化時に照射される紫外線光を内部で反射して上記シール材に導く反射面を備えた光学部材を製造できる。
また、シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に紫外線光を前記シール材に導く光学部材を具備した液晶装置の製造方法であって、前記光学部材の入射面に対向する位置にスリットが設けられた遮光板を介して前記紫外線光を前記液晶装置に導くことを特徴とする。
このような構成によれば、紫外線光源装置からの紫外線光がスリットを介して光学部材の入射面に照射されるようになる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月28日(2003.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】有機化合物のスペクトル予測装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機化合物の部分構造とその部分構造におけるフォーカスノードの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおける化学シフト情報との相関情報を蓄積する相関ファイルが部分構造のサイズ別に複数格納されている知識ベースを備え、スペクトル予測対象有機化合物を構成する原子のうち水素の結合する原子をフォーカスノードとする部分構造とサイズ及び構造が一致する部分構造を持つ相関情報を前記知識ベースから検索し、該検索に失敗した場合、前記部分構造よりはサイズが小さいが当該サイズ分の構造は一致する部分構造を持つ相関情報を前記知識ベースから検索し、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおける化学シフト値の予測を行う有機化合物のスペクトル予測装置。
【請求項２】
有機化合物の部分構造を示す部分構造表記とその部分構造におけるフォーカスノードの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおける化学シフト情報との相関情報を蓄積する相関ファイルを、部分構造のサイズ別に複数格納してある知識ベースと、
スペクトル予測対象有機化合物を構成する各原子およびそれらの間の結合関係を示す構造情報を入力する入力手段と、
前記入力された構造情報に基づき、スペクトル予測対象有機化合物を構成する原子のうち、水素の結合する原子をフォーカスノードとし且つ所定サイズの部分構造全てについての部分構造表記を生成する部分構造抽出手段と、
前記生成された部分構造表記毎に、該部分構造表記に一致する部分構造表記を持つ相関情報を前記知識ベースから検索し、該検索に失敗した場合、前記部分構造表記よりはサイズの小さい部分構造の表記であるが当該サイズ分の表記は一致する部分構造表記を持つ相関情報を前記知識ベースから検索する化学シフト予測手段と、
前記検索された相関情報中の化学シフト情報を含む予測化学シフト値情報を出力する出力手段とを備える有機化合物のスペクトル予測装置。
【請求項３】
有機化合物の部分構造を示す部分構造表記とその部分構造におけるフォーカスノードの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおける化学シフト情報との相関情報を蓄積する相関ファイルを、部分構造のサイズ別に複数格納してある知識ベースと、
スペクトル予測対象有機化合物を構成する各原子およびそれらの間の結合関係を示す構造情報と、サイズ指定情報とを入力する入力手段と、
前記入力された構造情報に基づき、スペクトル予測対象有機化合物を構成する原子のうち、水素の結合する原子をフォーカスノードとし且つ前記サイズ指定情報に応じたサイズの部分構造全てについての部分構造表記を生成する部分構造抽出手段と、
前記サイズ指定情報がオートモードにかかるサイズ指定情報である場合は、前記生成された部分構造表記毎に、該部分構造表記に一致する部分構造表記を持つ相関情報を前記知識ベースから検索し、該検索に失敗した場合、前記部分構造表記よりはサイズの小さい部分構造の表記であるが当該サイズ分の表記は一致する部分構造表記を持つ相関情報を前記知識ベースから検索し、前記サイズ指定情報が固定モードにかかるサイズ指定情報である場合は、前記生成された部分構造表記毎に、該部分構造表記に一致する部分構造表記を持つ相関情報を前記知識ベースから検索する化学シフト予測手段と、
前記検索された相関情報中の化学シフト情報と検索に成功した部分構造のサイズとを含む予測化学シフト値情報を出力する出力手段とを備える有機化合物のスペクトル予測装置。
【請求項４】
前記化学シフト予測手段は、フォーカスノードのコードがＣＨ２を示す部分構造表記については、フォーカスノードのコードを２種の化学シフトを有するジェミナルプロトンが存在することを示す第１のコードと第２のコードとに置き換えた２種類の部分構造表記に基づいて検索を行い、検索に失敗したときは元の部分構造表記に基づいて検索を行う構成を有する請求項２または３記載の有機化合物のスペクトル予測装置。
【請求項５】
前記入力された構造情報から予測対象有機化合物の原子の結合関係を抽出し、前記予測化学シフト値情報において化学シフト情報が予測されているものについて、理論的に可能なＨ−Ｈ  ＣＯＳＹスペクトルのクロスピーク情報を作成するクロスピーク予測手段を備える請求項２、３または４記載の有機化合物のスペクトル予測装置。
【請求項６】
前記クロスピーク予測手段は、結合関係にある原子が両者共に炭素の場合、その両者について化学シフト情報が予測されていれば、その結合関係にある原子の化学シフト情報の対をクロスピーク情報として作成し、かつ、２種の化学シフトを有するジェミナルプロトンが存在する場合は、ジェミナルプロトンを構成するプロトン同士のカップリングによるクロスピーク情報をも作成する構成を有する請求項５記載の有機化合物のスペクトル予測装置。
【請求項７】
前記知識ベースは、部分構造のサイズ別の複数の相関ファイルを測定溶媒の種類毎に備え、前記化学シフト予測手段は、利用者から指定された測定溶媒名に対応する種類の相関ファイル群の中から実際に検索対象とする相関ファイルを選択する構成を有する請求項２、３、４、５または６記載の有機化合物のスペクトル予測装置。
【請求項８】
多数の有機化合物のそれぞれについて、その化合物を構成する各原子とそれらの間の結合関係とを示す構造情報とその化合物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルの測定データと測定に使用した溶媒の名前を含む測定条件とを蓄積する化合物データベースと、
該化合物データベースに蓄積された情報を統計処理して、前記知識ベース中の相関ファイルを作成する知識ベース構築手段とを備えた請求項２、３、４、５、６または７に記載の有機化合物のスペクトル予測装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月17日(2003.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
ａのコーティング層がショ糖脂肪酸エステルを含有する請求項１、２又は３記載のフィルム状トローチ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
水溶性且つ非吸水性の多糖類が水溶性澱粉、プルラン、プルランエーテル（メチル、エチル、プロピル）及びプルランエステル（アセテート、ブチレート）の少なくとも１つであり、軟化剤がグリセリン、エチレングリコール、Ｄ−ソルビトール、マルチトール、マンニトール及びキシリトールの少なくとも１つであり、殺菌・消毒薬が塩化セチルピリジニウム、塩化デカリニウム、塩酸クロルヘキシジン及びグルコン酸クロルヘキシジンの少なくとも１つであり、抗ヒスタミン薬がマレイン酸クロルフェニラミン、フマル酸クレマスチン、塩酸ジフェンヒドラミン及び塩酸プロメタジンの少なくとも１つであり、抗炎症薬がグリチルリチン酸、グリチルリチン酸二カリウム及びグリチルリチン酸二ナトリウムの少なくとも１つであり、可食性水溶性高分子物質がＨＰＣ、ＨＰＭＣ、ＨＰＥＣ、ＭＣ、水溶性ＥＣ、水溶性ＨＥＣ、ＣＭＣ・Ｎａ、ＰＶＡ、ＰＶＰ、カルボキシビニルポリマー、アルギン酸ナトリウム及びアクリル酸ナトリウムの少なくとも１つであり、甘味料がサッカリン、サッカリンナトリウム、アスパルテーム、ステビオサイド、砂糖、果糖及びグルコースの１つであり、ポリエチレングリコールがマクロゴール３００及びマクロゴール４００の少なくとも１つである請求項１又は１０記載のフィルム状トローチ。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月20日(2003.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】抗菌・坑カビ加工用ピリチオン亜鉛含有分散液、抗菌・坑カビ加工用ピリチオン亜鉛含有加工液、及びこの分散液又は加工液を用いた繊維類の抗菌・坑カビ加工方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピリチオン亜鉛を界面活性剤及び水の存在下、懸濁状態で粉砕することにより得た抗菌・抗カビ加工用ピリチオン亜鉛含有分散液であって、分散液中の鉄及び銅の含有率をピリチオン亜鉛に対して０．１重量％以下としたことを特徴とする抗菌・抗カビ加工用ピリチオン亜鉛含有分散液。
【請求項２】
分散液中のピリチオン亜鉛濃度が４〜８０重量％であることを特徴とする請求項１に記載の抗菌・抗カビ加工用ピリチオン亜鉛含有分散液。
【請求項３】
ピリチオン亜鉛を界面活性剤及び水の存在下、懸濁状態で粉砕することにより得た抗菌・抗カビ加工用ピリチオン亜鉛含有分散液を希釈した加工液であって、この加工液中の鉄及び銅の含有率を、ピリチオン亜鉛に対して２０重量％以下としたことを特徴とする抗菌・抗カビ加工用ピリチオン亜鉛含有加工液。
【請求項４】
上記加工液は、浴中法で使用されるものであり、この加工液中のピリチオン亜鉛濃度が０．００１〜０．２重量％であることを特徴とする請求項３に記載の抗菌・抗カビ加工用ピリチオン亜鉛含有加工液。
【請求項５】
上記加工液は、気中法で使用されるものであり、この加工液中のピリチオン亜鉛濃度が０．０５〜４重量％であることを特徴とする請求項３に記載の抗菌・抗カビ加工用ピリチオン亜鉛含有加工液。
【請求項６】
繊維類を請求項１又は２に記載のピリチオン亜鉛含有分散液もしくはその希釈液、又は請求項３又は４に記載のピリチオン亜鉛含有加工液に浸漬し、常圧又は加圧下、８０〜１６０℃で浴中で加熱処理することを特徴とする繊維類の抗菌・抗カビ加工方法。
【請求項７】
繊維類を請求項１又は２に記載のピリチオン亜鉛含有分散液もしくはその希釈液、又は請求項３又は５に記載のピリチオン亜鉛含有加工液に浸漬し、前記繊維類に前記分散液もしくはその希釈液を含浸又は付着させ、次いで１１０〜２３０℃で気中で加熱処理することを特徴とする繊維類の抗菌・抗カビ加工方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月14日(2003.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁体と弁箱を備え、両者が摺動する面にそれぞれ弁座を有する弁において、それぞれの前記弁座の表面がコバルト基合金とニッケル基合金及び鉄基合金から選ばれた１種よりなり、金属ミクロ組織の基地部に粒径３０μｍ以下の粒状又は塊状をした共晶炭化物が分散する合金によって形成されていることを特徴とする弁。
【請求項２】
請求項１において、前記コバルト基合金とニッケル基合金及び鉄基合金から選ばれた１種よりなる板材が、炭素鋼又は低合金鋼又はステンレス鋼からなる前記弁座の基材に接合されていることを特徴とする弁。
【請求項３】
請求項２において、前記コバルト基合金とニッケル基合金及び鉄基合金から選ばれた１種よりなる板材が、前記弁座の基材に拡散接合されていることを特徴とする弁。
【請求項４】
請求項３において、前記コバルト基合金とニッケル基合金及び鉄基合金から選ばれた１種よりなる板材が、前記弁座の基材に液相拡散接合されていることを特徴とする弁。
【請求項５】
弁体と弁箱を備え、両者が接触する面にそれぞれ弁座を有する弁において、それぞれの前記弁座の表面がコバルト基合金とニッケル基合金及び鉄基合金から選ばれた１種よりなり、金属ミクロ組織の基地部に粒径３０μｍ以下の粒状又は塊状をした共晶炭化物が分散する合金によって形成されていることを特徴とする弁。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つにおいて、前記コバルト基合金が、重量でＣ０.６ 〜３％，Ｓｉ２％以下，Ｃｒ２５〜３２％，Ｗ１５％以下，Ｆｅ０〜３％，Ｎｉ０〜３％，Ｍｏ０〜６％を含み、残部がＣｏ及び不可避不純物からなり、前記ニッケル基合金が重量で
Ｃ１％以下，Ｓｉ７％以下，Ｃｒ７〜２０％，Ｗ５％以下，Ｂ３.５％ 以下を含み、残部がＮｉ及び不可避不純物からなり、前記鉄基合金が重量でＣ１.５ ％以下，Ｓｉ４％以下，Ｃｒ１５〜２７％，Ｍｏ８％以下を含み、残部がＦｅ及び不可避不純物からなることを特徴とする弁。
【請求項７】
弁体と弁箱を備え、両者が摺動する面にそれぞれ弁座を有する弁の製造方法において、それぞれの前記弁座の表面に、コバルト基合金とニッケル基合金及び鉄基合金から選ばれた１種よりなり、金属ミクロ組織の基地部に粒径が３０μｍ以下の粒状又は塊状をした共晶炭化物が分散する合金からなる板を当て、該板を該弁座に拡散接合によって金属的に接合することを特徴とする弁の製造方法。
【請求項８】
弁体と弁箱を備え、両者が接触する面にそれぞれ弁座を有する弁の製造方法において、それぞれの前記弁座の表面に、コバルト基合金とニッケル基合金及び鉄基合金から選ばれた１種よりなり、金属ミクロ組織の基地部に粒径が３０μｍ以下の粒状又は塊状をした共晶炭化物が分散する合金からなる板を当て、該板を該弁座に拡散接合によって金属的に接合することを特徴とする弁の製造方法。
【請求項９】
請求項７，８において、前記拡散接合が液相拡散接合であることを特徴とする弁の製造方法。
【請求項１０】
弁体と弁箱を備え、両者が摺動する面にそれぞれ弁座を有する弁の製造方法において、それぞれの前記弁座の表面に、コバルト基合金とニッケル基合金及び鉄基合金から選ばれた１種よりなり、金属ミクロ組織の基地部に粒径が３０μｍ以下の粒状又は塊状をした共晶炭化物が分散する合金からなる板を、前記弁座及び該板よりも低融点のインサート材を間に介して押し当て、この状態で液相拡散接合を行なって該板を該弁座に金属的に接合し、前記インサート材に含まれる成分を該板及び該弁座の基材中に拡散させることを特徴とする弁の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０において、前記インサート材が重量でＳｉ１〜８％，Ｂ１〜５％を含むニッケル基合金からなることを特徴とする弁の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０において、前記インサート材が重量でＳｉ１〜８％，Ｂ１〜５％及びＣｒ５〜２０％を含むニッケル基合金からなることを特徴とする弁の製造方法。
【請求項１３】
請求項７〜１２のいずれか１つにおいて、前記弁座の基材が炭素鋼，低合金鋼またはステンレス鋼からなることを特徴とする弁の製造方法。
【請求項１４】
請求項７〜１３のいずれか１つにおいて、前記コバルト基合金が重量でＣ０.６ 〜３％，Ｓｉ２％以下，Ｃｒ２５〜３２％，Ｗ１５％以下，Ｆｅ０〜３％，Ｎｉ０〜３％，Ｍｏ０〜６％を含み、残部がＣｏ及び不可避不純物からなり、前記ニッケル基合金が重量で
Ｃ１％以下，Ｓｉ７％以下，Ｃｒ７〜２０％，Ｗ５％以下，Ｂ３.５％ 以下を含み、残部がＮｉからなり、前記鉄基合金が重量でＣ１.５％以下 ，Ｓｉ４％以下，Ｃｒ１５〜２７％，Ｍｏ８％以下を含み、残部がＦｅ及び不可避不純物からなることを特徴とする弁の製造方法。
【請求項１５】
請求項１０において、炭素鋼，低合金鋼又はステンレス鋼からなる前記弁座基材の表面に、重量でＳｉ１〜８％，Ｂ１〜５％を含むニッケル基合金からなるインサート材を介して、重量でＣ０.６ 〜３％，Ｃｒ２５〜３２％，Ｗ１５％以下を含むコバルト基合金からなる板を押し当て、この状態で液相拡散接合を行って前記コバルト基合金からなる板を前記弁座基材に接合し、前記インサート材に含まれるＳｉとＢを前記コバルト基合金及び弁座基材中に拡散させることを特徴とする弁の製造方法。
【請求項１６】
水蒸気又は高温水が循環する循環系統を有する発電プラントにおいて、前記循環系統内に配置された弁が、請求項１〜６のいずれかに記載の弁によって構成されていることを特徴とする発電プラント。
【請求項１７】
原子力発電プラントにおいて、原子炉の冷却材が循環する循環系統内に配置された弁が請求項１〜６のいずれかに記載の弁によって構成されていることを特徴とする原子力発電プラント。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月23日(2004.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
従来、例えば油圧ショベル等の旋回作業機では、無限軌道帯であるクローラを左右に回転自在に有するクローラ走行装置が採用されており、このクローラ走行装置は装置本体としてクローラフレームを備えている。
かかる旋回作業機のクローラフレームは、一般に、掘削装置(掘削作業機)、キャビン、エンジン、ボンネット等が搭載された旋回フレームを回転自在に支持するリングギヤ付き旋回ベアリングをその中央部に有するセンタフレームと、このセンタフレームの左右両端に連結され前後方向に延びる左右一対のトラックフレームとを備えており、このトラックフレームは、その前後端にクローラが巻き付けられるアイドラと駆動輪を有している。
そして、従来では上部旋回体の荷重を十分に支えるようにするため、上記クローラフレームのセンタフレームとトラックフレームとを連結する手段として、センタフレームの四方に鋼板の板金溶接により形成した合計４本の連結脚部を備え、平面視において全体に略Ｈ型、または略Ｘ型に形成されたフレームを採用している。(上記の特許文献１、２，３を参照)


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
旋回ベアリングをその中央部に有するセンタフレームは、鋼板等の板金溶接によりトラックフレームに対する連結脚部は略Ｈ型に形成され、旋回ベアリングを載置する台板に相当する中央板部の下面側を前後縦壁、中央縦壁部、これと連結しトラックフレームまで延びる両縦側壁部、および左右一対の連結縦壁部等で支持して旋回ベアリングにかかる荷重をこれらにより直接受けもつようにすると共に、これらの縦壁部の上端と下端には上部連結板、下部連結板を溶接することにより構成している。
上部連結板は比較的前後方向に幅があり、左右のトラックフレームにまで延びる平らな板で構成されているので、左右のトラックフレームに至るまでこの上部連結板が多少傾斜しているものの、この上部連結板の上面に油圧ショベル等の建設機械の掘削、運搬作業に伴い泥土が飛んできたり浸入したりして、付着、堆積しやすい構造になっている。(上記の特許文献１を参照)
また、旋回ベアリングをその中央部に有するセンタフレームは、鋼板等によりトラックフレームに対する連結脚部は略Ｈ型に形成され、旋回ベアリングを載置する部材を中央部の丸胴で形成し、旋回ベアリングにかかる荷重をこの中央部の丸胴で直接受けもつようにすると共に、この丸胴に左、右のトラックフレームにまで延びる４本の脚部を溶接固着している。
これら４本の脚部には旋回ベアリングにかかる荷重を支持できるようにするため縦板部材を適宜用いて形成されており、４本の脚部等の上面は、トラックフレームに向かって比較的ゆるやかな傾斜の平らな鋼板で形成されているので、泥土が飛んできたり、浸入してきたときに、付着、堆積がしやすい構造になっている。(上記の特許文献２を参照)
さらにまた、旋回ベアリングをその中央部に有するセンタフレームは、鋼板等の板金溶接によりトラックフレームに対する連結脚部は略Ｘ型に形成され、旋回ベアリングを載置する台板を左右の横縦部材、前縦部材、および後縦部材で支持して旋回ベアリングにかかる荷重をこれらにより直接受けもつようにすると共に、これらの縦壁部の上端と下端にはかぶせ板を溶接することにより左、右のトラックフレームにまで延びる４本の脚部も連続して形成するようにしている。
このものも脚部等の上面は、トラックフレームに向かって比較的ゆるやかな傾斜の平らな鋼板で形成されているので泥土が飛散、浸入してきたときに、付着、堆積しやすい構造になっている。(上記の特許文献３を参照)


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のセンタフレームは、左右のトラックフレーム間を鋼板等の板金溶接で形成した４本の脚部で繋ぐようにしているため、この４本の脚部を形成する鋼板等の形状が多岐にわたり板取が複雑であり、部材点数も多くなる。
また、ケガキ、切断、折り曲げおよび溶接等の多くの工程が必要であると共に、溶接箇所が多くかつ複雑な溶接線のため溶接工数が増大し、製造に時間がかかり製造費が高価になるという欠点がある。
また、センタフレームは左右のトラックフレームに連結する左右に延びる脚部を有し、この脚部は上面が、トラックフレームに向かって比較的ゆるやかな傾斜の平らな鋼板で形成されているため、油圧ショベル等が掘削作業、旋回運搬作業を行うこと、あるいは、油圧ショベル等が走行することに伴い飛んできたり浸入したりしてくる泥土が該脚部等の上面に多量に付着、堆積する。
この付着、堆積した泥土は、やがてセンタフレームの上部中央部にあるリングギヤ付き旋回ベアリングに浸入してこれを損傷させる原因となる。
また、脚部に付着、堆積した泥土は、やがてトラックフレームの上面に移動して溜り、そして、この溜まった泥土は上転輪の回転を阻止したり、上転輪を偏摩耗させたりする原因となる。
また、堆積した泥土は洗浄により除去することになるが、除去するために多量の洗浄水と多くの洗浄工数がかかり洗浄の費用が増大する。
また、油圧ショベル等の建設機械をレンタルする業者は建設機械の洗浄を行った後洗浄場所に多量の泥土が溜まることになり、この泥土の廃棄が問題となる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月15日(2003.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置本体から排出された用紙の搬送方向の中央部を綴じ合わせ処理する中綴じ手段と、前記用紙の搬送方向の中央部を二つ折り処理する中折り手段とを有する後処理装置において、
前記用紙を搬送する搬送手段を駆動する駆動源と、
前記用紙を排紙する排紙手段を駆動する駆動源と、
前記後処理装置により後処理された用紙を積載する昇降トレイの駆動源と、
前記用紙を中間スタッカ上に積載して整合する整合手段の駆動源と、
前記中間スタッカに積載された用紙束を綴じ処理する綴じ手段の駆動源と、
前記用紙束の中央部を折る中折り手段の駆動源と、
前記中折り処理された用紙束を搬送して折り目を押圧する中折り搬送手段の駆動源と、
前記各駆動源に電力を供給する単一の電源部と、
前記各駆動源を制御する制御手段と、から構成し、
前記制御手段は、前記中折り搬送手段の駆動源を駆動している時には、前記各駆動源のうち少なくとも１つの他の駆動源の駆動開始を禁止するように制御することを特徴とする後処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記用紙が所定枚数以上に設定された時、
前記各駆動源のうち少なくとも１つの駆動源の駆動開始を禁止するように制御することを特徴とする請求項１に記載の後処理装置。
【請求項３】
前記制御手段は、設定枚数に応じて、各駆動源の動作禁止負荷を切り替え制御することを特徴とする請求項１に記載の後処理装置。
【請求項４】
前記画像形成装置本体と前記請求項１〜３の何れか１項に記載の後処理装置とから成ることを特徴とする画像形成システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（２）本発明の画像形成システムは、画像形成装置本体と前記後処理装置とから成ることを特徴とするものである（請求項４）。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９４】
本発明の後処理装置により、駆動源に多大な負荷を生じる中折り処理及び折り目の押圧処理の動作時に、中折り処理以外の処理に要する負荷を低減して、後処理装置の電源の大容量化が防止される。また、後処理装置に大容量電源を装備する必要がなく、後処理装置が小型化する。また、後処理装置に別電源を装備することなく、電源コードやケーブル等の配線が簡単になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月27日(2003.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【実施例】
以下に本発明の組成物をさらに詳しく説明する。下記表１には、本発明の好ましい実施例を示すとともに、比較として、（Ａ）成分と（Ｂ）成分が含まれず、これらに代えて安息香酸を含んでいる例を比較例１とし、（Ｄ）成分及び（Ｃ）成分を含まない例を比較例２とし、（Ｃ）成分のみを含まない例を比較例３としてそれぞれ示した。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【表４】
2001072967.tif 000001
表２〜表４から、（Ａ）成分と（Ｂ）成分が含まれず、これらに代えて安息香酸を含んでいる比較例１に係る組成物が、硬水成分の存在下で腐食防止機能が低下して、アルミニウムに金属腐食が生じ、（Ｄ）成分及び（Ｃ）成分を含まない例を比較例２に係る組成物が、アルミニウムに黒変を生じ、（Ｃ）成分のみを含まない比較例３に係る組成物が、アルミニウムの伝熱面における金属の腐食が生じているのに対し、実施例に係る組成物にあっては、硬水成分の存在下でも腐食防止機能が低下せずに優れた金属腐食防止性を有していること、アルミニウムの黒変を引き起こさないこと、さらにはアルミニウムの伝熱面における金属腐食防止性に優れることが確認された。