【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年11月8日(2013.11.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
本発明の別の態様によれば、化合物Cの溶媒和物結晶を単離精製する方法が提供され、該方法は、
（ａ）化合物Cを含有する反応液を、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンからなる群から選択される有機溶媒で抽出処理し、得られた抽出液を乾燥した後または乾燥せずに濃縮する工程、
（ｂ）化合物Cを含有する反応液を乾固することによって粗生成物を得た後に、該粗生成物を、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、およびエタノールからなる群から選択される有機溶媒に室温または加温下で溶解する工程、または
（ｃ）化合物Cを含有する反応液を乾固することによって粗生成物を得た後に、該粗生成物を、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、およびエタノールからなる群から選択される有機溶媒に室温または加温下で溶解し、得られた溶解液に、ヘプタン、ヘキサン、およびシクロヘキサンからなる群から選択される貧溶媒を加える工程
を含んでなる。本発明の好ましい実施態様によれば、前記工程（ａ）は、（ａ’）化合物Cを含有する反応液を、酢酸エチルで抽出処理し、得られた抽出液を乾燥した後または乾燥せずに濃縮する工程とされる。本発明の他の好ましい実施態様によれば、前記工程（ｂ）は、（ｂ’）化合物Cを含有する反応液を乾固することによって粗生成物を得た後に、該粗生成物を、酢酸エチルに室温または加温下で溶解する工程とされる。本発明の他の好ましい実施態様によれば、前記工程（ｃ）は、（ｃ’）化合物Cを含有する反応液を乾固することによって粗生成物を得た後に、該粗生成物を、酢酸エチルに室温または加温下で溶解し、得られた溶解液にヘキサンを加える工程とされる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７９】
化合物Cの結晶を得る好ましい態様としては、前記１．〜５．に記載の方法で得られる化合物Cを含有する反応液を、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、およびエーテルからなる群から選択される有機溶媒で抽出処理し、得られた抽出液を乾燥した後または乾燥せずに濃縮し、そのまま結晶化するか、反応液を乾固し、粗生成物を得た後に、該粗生成物を酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、エーテル、メタノール、およびエタノールからなる群から選択される有機溶媒に室温あるいは加温下で溶解すること、あるいはこの溶解液にさらにヘプタン、ヘキサン、およびシクロヘキサンからなる群から選択される貧溶媒を加えることにより結晶化して得る方法が挙げられる。この方法に用いられるエーテルは、好ましくはジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンから選択される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式C:
【化１】
2013521224.tif 000001
[式中、Rは、直鎖、分岐鎖または環状のC2-6アルキルカルボニル基(この基のアルキル部分が分岐鎖または環状であるときは、C3-6アルキルカルボニル基)を表す]
で表される化合物Cを製造する方法であって、
次式B1:
【化２】
2013521224.tif 000002
で表される化合物B1の1位および11位の水酸基を、塩基存在下または非存在下にて、アシル化剤を用いて１〜３の工程数で選択的にアシル化する工程を含んでなる、方法。
【請求項２】
化合物B1の1位および11位の水酸基を１つの工程でアシル化することにより化合物Cを得る、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
化合物B1の11位の水酸基を、アシル化剤を用いてアシル化することにより、次式B2：
【化３】
2013521224.tif 000003
[式中、Rは、請求項１における式Ｃで定義したとおりである]
で表される化合物B2を製造する工程、および
化合物B2の１位の水酸基をさらにアシル化する工程
からなる２つの工程でアシル化することにより化合物Cを得る、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
化合物B1の11位の水酸基をアシル化することによって、次式B2：
【化４】
2013521224.tif 000004
[式中、Rは、請求項１における式Ｃで定義したとおりである]
で表される化合物B2を製造する工程、
化合物B2の11位のアシル基を１位の水酸基に転移させることによって、次式B3：
【化５】
2013521224.tif 000005
[式中、Rは、請求項１における式Ｃで定義したとおりである]
で表される化合物B3を製造する工程、および
化合物B3の11位の水酸基をアシル化する工程
からなる３つの工程でアシル化することにより化合物Cを得る、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
式B1の化合物を製造する工程として、次式A1：
【化６】
2013521224.tif 000006
[式中、A1、A7およびA11は、同一または異なっていてもよく、アセチル基またはプロピオニル基を表す]
で表される化合物A1の1位、7位および11位のアシル基を、塩基を用いて加水分解する工程をさらに含んでなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
アシル化を塩基非存在下で行う、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
化合物B1の1位および／または11位の水酸基をアシル化する際に用いる塩基が2,4,6-コリジンまたは2,6-ルチジンである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
化合物B2を製造する工程において、化合物B1に対して１．０〜３．０等量の塩基を使用し、該工程と化合物B2の１位水酸基をさらにアシル化する工程とを併せて合計２．０〜４．５等量の塩基を使用する、請求項３に記載の方法。
【請求項９】
化合物B1に対して２．０〜５．０等量のアシル化剤を使用する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
化合物B2を製造する工程において、化合物B1に対して１．０〜３．５等量のアシル化剤を使用し、該工程と化合物B2の１位水酸基をさらにアシル化する工程とを併せて合計２．０〜４．５等量のアシル化剤を使用する、請求項３に記載の方法。
【請求項１１】
Rがシクロプロパンカルボニル基である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
化合物B2から化合物B3を製造する工程を塩基の存在下で行う、請求項４に記載の方法。
【請求項１３】
化合物B1から化合物Cを直接製造する工程または化合物B1から化合物B2を製造する工程において、Ｎ−メチル−２−ピロリジノンまたはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを溶媒として使用する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
化合物B1から化合物Cを直接製造する工程または化合物B1から化合物B2を製造する工程において、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを溶媒として使用する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
化合物Cを含有する反応液から、化合物Cを結晶化によって単離精製する工程をさらに含んでなる、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
次式C:
【化７】
2013521224.tif 000007
[式中、Rは、直鎖、分岐鎖または環状のC2-6アルキルカルボニル基(この基のアルキル部分が分岐鎖または環状であるときは、C3-6アルキルカルボニル基)を表す]
で表される化合物Cの溶媒和物結晶を単離精製する方法であって、
（ａ）化合物Cを含有する反応液を、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンからなる群から選択される有機溶媒で抽出処理し、得られた抽出液を乾燥した後または乾燥せずに濃縮する工程、
（ｂ）化合物Cを含有する反応液を乾固することによって粗生成物を得た後に、該粗生成物を、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、およびエタノールからなる群から選択される有機溶媒に室温または加温下で溶解する工程、または
（ｃ）化合物Cを含有する反応液を乾固することによって粗生成物を得た後に、該粗生成物を、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、およびエタノールからなる群から選択される有機溶媒に室温または加温下で溶解し、得られた溶解液に、ヘプタン、ヘキサン、およびシクロヘキサンからなる群から選択される貧溶媒を加える工程
を含んでなる、方法。