【手続補正書】
【提出日】平成26年7月9日(2014.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機溶剤と、金属イオン不含ケイ酸塩とを含有しない、水性アルカリ性洗浄組成物であって、前記組成物は、
（Ａ）  少なくとも１つの第一アミノ基および少なくとも１つのメルカプト基を有する少なくとも１つのチオアミノ酸、
（Ｂ）  少なくとも１つの第四級アンモニウム水酸化物、
（Ｃ）  少なくとも２つの第一アミノ基を有する脂肪族アミンおよび脂環式アミン、ならびに少なくとも１つの水酸基を有する脂肪族アミンおよび脂環式アミンからなる群から選択される少なくとも１つのキレート剤および／または腐食防止剤、
（Ｄ）  アセチレンアルコール、アルキルオキシ化されたアセチレンアルコールおよびアルキルオキシ化されたソルビタンモノカルボン酸モノエステルの群から選択される少なくとも１つの非イオン性界面活性剤
を有する、水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項２】
アミノ酸（Ａ）は、以下の一般式Ｉ：
【化１】
2013533360.tif 000001
［式中、ｎは１〜３の整数であり；
Ｒ１およびＲ２は、
−  水素原子；
−  直鎖のまたは分岐した、飽和または不飽和の、置換または非置換の、１〜１０の炭素原子を有する脂肪族残基；
−  置換または非置換の、飽和または不飽和の、３〜８の炭素原子を有する脂環式残基；
−  置換または非置換の、飽和または不飽和のアルキルシクロアルキル残基であって、その際、アルキル基が１〜４の炭素原子を有し、かつシクロアルキル基が３〜８の炭素原子を有する；
−  ６〜１６の炭素原子を有する、置換または非置換のアリール；
−  置換または非置換のアルキルアリール残基であって、その際、アルキル基が１〜４の炭素原子を有し、かつアリール基が６〜１６の炭素原子を有する；
−  置換または非置換のシクロアルキルアリール残基であって、その際、シクロアルキル基が３〜８の炭素原子を有し、かつアリール基が６〜１６の炭素原子を有する；
−  置換または非置換のヘテロアリール残基であって、ここで当該ヘテロアリール残基は、酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を有する；
−  置換または非置換のアルキルヘテロアリール残基であって、その際、アルキル基が１〜４の炭素原子を有し、かつヘテロアリール基が酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を有する；
−  置換または非置換のシクロアルキルヘテロアリール残基であって、その際、シクロアルキル基が３〜８の炭素原子を有し、かつヘテロアリール基が酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を有する；
−  置換または非置換のアリールヘテロアリール残基であって、その際、アリール基が６〜１６の炭素原子を有し、かつヘテロアリール基が酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を有する；
からなる群から互いに独立して選択されるか、あるいは、
Ｒ１およびＲ２は、互いに一緒になって、飽和または不飽和、置換または非置換の、３〜６の炭素原子を有する環を形成し、その際、炭素原子は置換されていないか、あるいは１または２つの炭素原子が酸素、硫黄、窒素およびリン原子からなる群から選択される１つのヘテロ原子により置換されており；
Ｒ３は、Ｒ１もしくはＲ２の単一の残基、あるいは共有結合、あるいは残基Ｒ１もしくはＲ２の１つまたは残基Ｒ１とＲ２により形成された環に対してアミノ基およびカルボキシル基を有する炭素原子をつなげる二価の基である］を有する、請求項１に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項３】
チオアミノ酸（Ａ）は、ラセミもしくはエナンチオマーの混合物であるか、または各エナンチオマーもしくはジアステレオマーのいずれかである、請求項２に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項４】
残基Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の少なくとも１つは水素原子である、請求項３に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項５】
チオアミノ酸（Ａ）の残基Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の全てが水素原子である、請求項４に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項６】
チオアミノ酸（Ａ）は、Ｌ−システインである、請求項５に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項７】
第四級アンモニウム水酸化物（Ｂ）は、以下の一般式ＩＩ：
【化２】
2013533360.tif 000002
［式中、残基Ｒ１は、水素原子を除いた上述で定義した意味を有し、一方で全ての残基Ｒ１は、同じであるか、あるいは少なくとも２つの残基Ｒ１は互いに異なっており、かつ全ての残基Ｒ１は単一の残基であるか、あるいは少なくとも２つの残基Ｒ１は、飽和または不飽和、置換または非置換の、３〜６の炭素原子を有する環を形成し、その際、炭素原子は置換されていないか、あるいは１または２つの炭素原子が酸素、硫黄、窒素およびリン原子の群から選択される１つのヘテロ原子により置換されている］を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項８】
一般式（ＩＩ）の残基Ｒ１は、メチルである、請求項７に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項９】
少なくとも２つの第一アミノ基を有する脂肪族アミン（Ｃ）は、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ｎ−ブチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ジプロピレントリアミン、ジ−ｎ−ブチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、トリプロピレンテトラアミンおよびトリ−ｎ−ブチレンテトラアミンからなる群から選択され；脂環式アミン（Ｃ）は、１，２−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサンおよび１，４−ジアミノシクロヘキサンからなる群から選択され；少なくとも１つの水酸基を有する脂肪族アミン（Ｃ）は、エタノールアミン、ジエタノールアミンおよびトリエタノールアミンからなる群から選択され；ならびに、少なくとも１つの水酸基を有する脂環式アミン（Ｃ）は、２−ヒドロキシシクロヘキシルアミン、３−ヒドロキシシクロヘキシルアミンおよび４−ヒドロキシシクロヘキシルアミンからなる群から選択される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項１０】
非イオン性界面活性剤（Ｄ）は、アセチレンモノアルコールおよびジオール；アルキルオキシ化されたアセチレンモノアルコールおよびジオール；ならびにアルキルオキシ化されたソルビタンモノカルボン酸脂肪酸モノエステルからなる群から選択される、請求項１〜９のいずれか１項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項１１】
成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）とは異なる少なくとも１つの機能性添加剤（Ｅ）をさらに有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項１２】
機能性添加剤（Ｅ）は、腐食防止剤、塩基、錯化剤またはキレート剤、被膜剤、界面活性剤ならびにｐＨ調整剤からなる群から選択される、請求項１１に記載の水性アルカリ性洗浄組成物。
【請求項１３】
基板の表面を、少なくとも１回は請求項１〜１２のいずれか１項に記載の少なくとも１つの水性アルカリ性洗浄組成物と接触させる加工工程を有する、電気デバイスおよび光学デバイスの製造に有益な基板を製造する方法。
【請求項１４】
加工工程は、表面処理工程、めっき前洗浄工程、ポストエッチ洗浄工程または化学研磨後洗浄工程の少なくとも１つである、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
電気デバイスは、半導体集積回路（ＩＣｓ）；液晶パネル；有機エレクトロルミネセントパネル；プリント回路基板；マイクロマシン；ＤＮＡチップ；マイクロプラントまたは磁気ヘッドであり、かつ光学デバイスは、光学ガラス；無機導電性膜；光集積回路；光スイッチング素子；光導波路；光学単結晶；固体レーザー単結晶；青色レーザーＬＥＤ用のサファイア基板；半導体単結晶または磁気ディスク用のガラス基板である、請求項１３または１４記載の方法。
【請求項１６】
電気デバイスおよび光学デバイスの製造に有益な基板を製造するための請求項１〜１２のいずれか１項に記載の水性アルカリ性洗浄組成物の使用。
【請求項１７】
基板の表面処理、めっき前洗浄、ポストエッチ洗浄または化学機械研磨後洗浄のための請求項１６記載の使用。