Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月16日(2011.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルガスをテストするための方法において、
サンプルガスの圧力レベルを調整するステップと、
上記調整されたサンプルガスの組成を決定するステップと、を含み、
上記調整は、分光分析による測定が正確ではない低い圧力から、分光分析によって正確にサンプルガスの組成を決定できる十分に適当な範囲内のより高い圧力へと圧力レベルを調整することを含み、及び
上記圧力レベルを調整するステップは、上記サンプルガスに加圧された不活性ガスを加える段階を含む、方法。
【請求項２】
上記圧力レベルを調整するステップは、可変出口オリフィスを有するチャンバにおいて上記サンプルガスに加圧された不活性ガスを加える段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記圧力レベルを調整するステップは、可変出口オリフィスを制御する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
上記調整されたサンプルガスの組成を決定するステップは、上記サンプルガスの圧力レベルが調整される前及び後に、上記サンプルガスの圧力を測定する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
上記調整されたサンプルガスの組成を決定するステップは、上記サンプルガス及び上記サンプルガスの圧力レベルを調整するために上記サンプルガスに加えられた基準ガスの組成を算出する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
サンプルガスをテストするための装置において、
テストすべきガスを収容するように適応されたチャンバと、
上記チャンバに結合され且つ上記チャンバへサンプルガスを分配するように適応されたフイッティングと、
上記チャンバにおける上記サンプルガスの圧力レベルを調整するように適応されたコントローラと、を備え、
上記調整は、分光分析による測定が正確ではない低い圧力から、分光分析によって正確にサンプルガスの組成を決定できる十分に適当な範囲内のより高い圧力へと圧力レベルを調整することを含み、及び
上記コントローラは、加圧不活性ガス供給源に結合されている、装置。
【請求項７】
上記コントローラは、可変出口オリフィスを含む、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
サンプルガスをテストするためのシステムにおいて、
テストすべきガスを収容する複数の分離可能なスペースを有する処理ツールと、
テストすべきサンプルガスを収容するように適応されたチャンバと、
上記チャンバを上記複数のスペースへ選択的に結合するためのフイッティングと、
上記チャンバにおける上記サンプルガスの圧力レベルを調整するように適応されたコントローラと、を備え、
上記コントローラは、加圧不活性ガス供給源を含む、システム。
【請求項９】
上記コントローラは、可変出口オリフィスを含む、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
サンプルガスをテストするための方法において、
サンプルガスの圧力レベルを調整するステップと、
上記調整されたサンプルガスの組成を決定するステップと、を含み、
上記調整は、分光分析による測定が正確ではない低い圧力から、分光分析によって正確にサンプルガスの組成を決定できる十分に適当な範囲内のより高い圧力へと圧力レベルを調整することを含み、及び
上記圧力レベルを調整するステップは、
分離可能なチャンバにおいて上記サンプルガスに付加的なサンプルガスを加える段階と、
付加的なサンプルガスを供給する可調整ブースターポンプを制御する段階とを含む、方法。
【請求項１１】
上記可調整ブースターポンプを制御する段階はさらに、圧力監視装置からフィードバックを受け取る段階を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
上記フィードバックに基づいて可調整ブースターポンプの動作を調整するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
望ましい圧力範囲が達成されるとサンプルセルを分離するステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
上記調整されたサンプルガスの組成を決定するステップは、上記サンプルガスの圧力レベルが調整される前及び後に、上記サンプルガスの圧力を測定する段階を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
上記測定された圧力が、上記サンプルガスの組成の正確な決定のために適したレベルに達しているかを決定するステップをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
サンプルガスをテストするための装置において、
テストすべきガスを収容するように適応されたチャンバと、
上記チャンバに結合され且つ上記チャンバへサンプルガスを分配するように適応されたフイッティングと、
上記チャンバにおける上記サンプルガスの圧力レベルを調整するように適応されたコントローラと、を備え、
上記調整は、分光分析による測定が正確ではない低い圧力から、分光分析によって正確にサンプルガスの組成を決定できる十分に適当な範囲内のより高い圧力へと圧力レベルを調整することを含み、及び
上記コントローラは、サンプルガス源に結合され、且つ上記コントローラに結合された可調整ブースターポンプを制御して上記チャンバにおいて上記サンプルガスに付加的なサンプルガスを供給することによって上記圧力レベルを調整するように適応されている、装置。
【請求項１７】
上記コントローラは、圧力監視装置に結合されている、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
上記圧力監視装置は、上記圧力レベルについてのフィードバックを上記コントローラに提供するように適応されている、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
サンプルガスをテストするためのシステムにおいて、
テストすべきガスを収容する複数の分離可能なスペースを有する処理ツールと、
テストすべきサンプルガスを収容するように適応されたチャンバと、
上記チャンバを上記複数のスペースへ選択的に結合するためのフイッティングと、
上記チャンバにおける上記サンプルガスの圧力レベルを調整するように適応されたコントローラと、を備え、
上記コントローラは、サンプルガス供給源に結合されている、システム。
【請求項２０】
上記コントローラは、ブースターポンプに結合されている、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
上記コントローラは、可調整ブースターポンプに結合されている、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２２】
上記コントローラは圧力監視装置に結合されており、且つ上記圧力監視装置は、上記圧力レベルについてのフィードバックを上記コントローラに提供するように適応されている、請求項１９に記載のシステム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年10月29日(2012.10.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
典型的には、第２選択ミラー１０８は、入力光線を波長コンバータ１０６と整合させる
ための上下傾斜および左右傾斜の調節機能を有することができる。本発明の１実施例によ
れば、第２選択ミラーは、意図的に第１波長の光線をほぼ１００％反射するように設計さ
れた狭波長帯域ノッチリフレクタを含んでおり、公称波長の第１波長からは、幾分外れている波長に対しては、反射率は、急速に実質０％にまで降下する。このノッチリフレクタは、励起波長を公称波長に維持し、第１波長光線１０２からの出力波長電力配分のバリエーションとは、関係なく第２波長の出力光線を維持する。例えばこのようなバリエーションは、第１波長光線源１０２の様々な加熱によって発生し、是正されない限り輝度に不都合な変動をもたらすであろう。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月26日(2011.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、望ましい厚さとターゲット炭素濃度を有するエピタキシャル層スタックを形成する方法であって、
（ａ）該基板上に、炭素含有シリコンを含む第一シリコン層を形成するステップと、
（ｂ）該第一シリコン層上に、炭素を含有しないシリコンを含む第二シリコン層を形成するステップと、
（ｃ）該第一シリコン層からの炭素を該第二シリコン層に分布させるステップと、
（ｄ）該エピタキシャル層スタックをエッチングして、該第二シリコン層の一部を除去するステップと、
（ｅ）該エッチングされたエピタキシャル層スタックが望ましい厚さになるまで、（ａ）から（ｄ）のステップを繰り返すステップと、
（ｆ）該第一シリコン層の（ｉ）初期炭素濃度、（ｉｉ）厚さ、（ｉｉｉ）堆積時間の一つ以上を制御して、該エッチングされたエピタキシャル層スタックのターゲット炭素濃度を達成するステップと、
を含む、前記方法。
【請求項２】
該ターゲット炭素濃度が、約２００ｐｐｍ〜５原子％である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該初期炭素濃度が、約０．５原子％〜１０原子％である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
該第一シリコン層と該基板との間に炭素を含有しないエピタキシャル層を形成するステップを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
該望ましい厚さが、約１０オングストローム〜２０００オングストロームである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
該初期炭素濃度が、該ターゲット炭素濃度より大きい或いは等しい、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
該エピタキシャル層スタックをエッチングするステップが、Ｃｌ２を含むエッチャントガス中で該エピタキシャル層スタックをエッチングする工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
該第二シリコン層が、該エッチャントガスと該第一シリコン層との間に反応が生じるのを防ぐ厚さを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
該第一シリコン層及び該第二シリコン層の少なくとも１つの形成が、約７００℃以下の温度で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
基板上に形成されたエピタキシャル層スタックの炭素濃度を制御する方法であって、
該エピタキシャル層スタックの望ましい炭素濃度を決定するステップと、
エピタキシャル層スタックを、
（ａ）該基板上に、炭素を含む第一エピタキシャル層を形成し、
（ｂ）該第一エピタキシャル層上に、炭素を含有しないキャップ層を形成し、
（ｃ）該第一エピタキシャル層からの炭素を該キャップ層に分布させ、
（ｄ）エッチングして該キャップ層の一部を除去し、
（ｅ）該エッチングされたエピタキシャル層スタックが望ましい厚さになるまで、（ａ）から（ｄ）のステップを繰り返し、
（ｆ）該第一エピタキシャル層の（ｉ）初期炭素濃度、（ｉｉ）厚さ、（ｉｉｉ）堆積時間の一つ以上を制御して、該エッチングされたエピタキシャル層スタックのターゲット炭素濃度を達成する
ことによって形成するステップと、
を含む、前記方法。
【請求項１１】
該第一エピタキシャル層と該基板との間にシードエピタキシャル層を形成するステップを更に含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
該ターゲット炭素濃度が、約２００ｐｐｍ〜５原子％である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
各第一エピタキシャル層が、約２オングストローム〜１００オングストロームの厚さを有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
該エッチングが、Ｃｌ２を用いて該エピタキシャル層スタックをエッチングする工程を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
該エピタキシャル層スタックとして第一エピタキシャル層とキャップ層を更に交互に形成するステップを更に含む、請求項１０に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年8月31日(2012.8.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
粘度は固体含有量にも依存し得る（粘度は固体含有量と共に増大する）。粘度は、組成物が噴出し得るようなものであるべきである。組成物の固体含有量は、０．５％〜６％、１％〜４％、１．５％〜３％の範囲であってよく、いくつかの場合において、好ましくは、２％である。固体含有量は、乾燥後のフィルムの形状にも影響する。固体含有量が高すぎる場合、結果として、フィルムはドーム形を形成するのに対し、固体含有量が低すぎる場合には、結果として、過剰なコーヒーリング効果が生じる。塩基性添加物の添加はグリセロールのような高沸点添加物に比べて高い固体含有量の使用を可能にし、それは以前の組成物に対してフィルム厚の増強を可能にすることが見出された。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６０】
導電性有機素材の中和に必要な量(＞〜1%−＞20%)より過剰に添加されると、乾燥とス（物理的）ウォース接合排除において、アミンは組成物の蒸発速度を減少させる高沸点溶媒として作用する。２％の固体含有量は、塩基性添加物を含まない製剤に比べてフィルム厚の増加をもたらす。結果として、インクジェットプリンティング製剤は、電気的スウォース接合を避けるために正しい抵抗性を有するものであり、成分は蒸発速度を低下させ、物理的スウォースを排除するものである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２０】
３．フィルム特性
エタノールアミンを含む上記組成物を、インクウェルを含む画素化された基体上にインクジェットプリントし、Zygo 白色干渉計を用いて、フィルム厚特性を基体の横列にわたり各画素で測定した。結果は、フィルムは横列にわたり、スウォース接合部においてさえ、同様の特性を有することが示された。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２２】
フィルムプロフィール測定はZygo干渉計を用いて測定した。これは横方向か縦方向のいずれかに１画素以上でスキャンし、層の厚さを記録するのに用いることができる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２５】
【表２】
2009545844.tif 000001
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２７】
驚くべきことに、本発明の組成物は塩基性添加物を含まない組成物よりもなめらかなフィルムを提供することが見出された。たとえば、アミンを添加したＰＥＤＯＴ／ＰＳＳのインクジェットプリンティングは厚さの偏差＋／−２ｎｍのフィルムを与えた（標準偏差として測定）、一方アミンを添加しないＰＥＤＯＴ／ＰＳＳのプリンティングは偏差＋／−５ｎｍのフィルムを与えた。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年8月6日(2012.8.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のＲＦアンテナ要素を有するマルチチャネル送信／受信アンテナ装置を動作させる方法であって、
‐１若しくはそれより多くの前記ＲＦアンテナ要素のどれが、ＲＦ信号を送信するか、及び／又は、１若しくはそれより多くの前記ＲＦアンテナ要素のどれが、ＲＦ信号を受信するかを選択するステップ、並びに／又は
‐前記少なくとも１つの送信ＲＦアンテナ要素により送信される前記ＲＦ信号の振幅及び／又は位相を、各々の前記送信ＲＦアンテナ要素に対して、個々に且つ独立に制御するステップが、
前記ＲＦアンテナ要素の１つに各々割り当てられる、複数の送信チャネル及び／又は受信チャネルを制御することによってなされ、
前記ＲＦアンテナ要素を選択するステップ及び／又は制御するステップが、前記アンテナ装置により生成されるＲＦ場内に位置される少なくとも１つの受信ＲＦアンテナ要素により受信される受信ＲＦ信号の少なくとも１つのレベルに依存してなされる、方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの受信ＲＦアンテナ要素が、前記アンテナ装置により生成される前記ＲＦ場内に位置されるピックアップ／チューンコイルである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
マルチチャネル送信／受信アンテナ装置を動作させる請求項１又は２に記載の方法を行うための回路構成であって、複数の前記ＲＦアンテナ要素と、制御ユニットと、前記アンテナ要素の１つに各々割り当てられる複数の前記送信チャネル及び複数の前記受信チャネルとを有し、前記制御ユニットは、ＲＦ信号を送信する前記アンテナ要素を選択するため、及びＲＦ信号を受信する前記ＲＦアンテナ要素を選択するため、並びに／又は、前記送信されたＲＦ信号の振幅及び／又は位相を個々に調整するために前記送信チャネルを制御するために設けられる回路構成。
【請求項４】
前記制御ユニットは、前記アンテナ装置により生成される前記ＲＦ場内に位置される、少なくとも１つのピックアップ／チューンコイルにより受信される受信ＲＦ信号の少なくとも１つのレベルに依存して、前記送信チャネルを制御するステップ、及び／又は、前記アンテナ要素を選択するステップのために設けられる、請求項３に記載の回路構成。
【請求項５】
前記受信されたＲＦ信号を処理すると共に、前記受信ＲＦ信号の電圧レベルがトリップレベルを上回る場合に送信ＲＦ信号の送信を抑制するために、該受信ＲＦ信号を少なくとも１つのトリップレベルと比較するピックアップコイル検出ユニットを有する、請求項４に記載の回路構成。
【請求項６】
各々の前記送信チャネルにおいて、個々に独立して前記送信ＲＦ信号を増幅するために、前記制御ユニットにより制御される複数の１チャネルＲＦ増幅器、又は１つのマルチチャネルＲＦ増幅器を有する、請求項３に記載の回路構成。
【請求項７】
請求項３乃至５の何れか一項に記載の回路構成を有する、磁気共鳴画像化システムの使用のためのマルチチャネル増幅器。
【請求項８】
請求項３乃至５の何れか一項に記載の回路構成を有する、磁気共鳴画像化システムの使用のためのスペクトロメータ。
【請求項９】
請求項３乃至６の何れか一項に記載の回路構成を有する、磁気共鳴画像化システム。
【請求項１０】
請求項１又は２に記載の方法をコンピュータに実施させるためのコンピュータプログラムコード手段を有するコンピュータプログラム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のコンピュータプログラムコード手段を有し、コンピュータ読み出し可能な媒体に記憶される、コンピュータプログラム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
図１は、マルチチャネル送信／受信アンテナ装置を動作する回路構成の好ましい実施例の概略的なブロック図を示し、該回路構成は、磁気共鳴画像化（ＭＲＩ）システムの一部であり、特に関連付けられたマルチチャネルデータ獲得システムの一部である。回路構成は、Ｂ１場を生成すると共に、検査されるべきオブジェクトから緩和信号を受信するためのｎコイル（又はコイルセグメント）ＴｘＲｘ１、...ＴｘＲｘｎを有する送信／受信アンテナ構成を動作させるように、例示的に設けられる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年10月12日(2012.10.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ金属およびケイ素の合金を気体状の水素と接触させて、対応する水素化物（単数種または複数種）を形成させる工程を包含する可逆的水素貯蔵方法であって、
平衡系が用いられ、該系は、式：
【化１】
2008538226.tif 000001
（式中、Ｍは、ＮａおよびＫの中から選択され、原子比ＸＭは、値：
【数１】
2008538226.tif 000002
をとり、
ｎは、形成された水素化物（単数種または複数種）の化学量論に対応する水素原子数である）
に対応することを特徴とする方法。
【請求項２】
アルカリ金属およびケイ素の合金を気体状の水素と接触させて、対応する水素化物（単数種または複数種）を形成させる工程を包含する可逆的水素貯蔵方法であって、
式：
【化２】
2008538226.tif 000003
（式中、Ｍは、ＮａおよびＫの中から選択され、原子比ＸＳｉ＝Ｓｉ／Ｍは、１〜４の値をとる）
に対応する平衡系が用いられる方法。
【請求項３】
アルカリ金属およびケイ素の合金は、固体形態として供給される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
アルカリ金属およびケイ素の合金は、分散された形態として供給される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
アルカリ金属およびケイ素の合金は、破砕によって得られる、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
車載水素の貯蔵に適用される、請求項１〜５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
固定された貯蔵に適用される、請求項１〜５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項８】
持ち運び式の貯蔵に適用される、請求項１〜５のいずれか１つに記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年12月21日(2011.12.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のモジュールを有する特定のプラズマクラスタツールを設定するための方法であって、
一般的なプラズマクラスタツールのための一般的な設定定義（configuration definitions）を含む、モジュールオプション定義ファイルのセットを提供することと、
意図される前記設定の為の特定のプラズマクラスタツールを特に識別するデータを含む、ツール特定保護情報のセットを提供することと、
前記特定のプラズマクラスタツールに指定されるオプションを特定する、ツール特定オプション仕様のセットを提供することと、
前記特定のプラズマクラスタツールに課される設定制約（configuration restrictions）をカプセル化し、前記特定のプラズマツールを設定することにおいて必要とされるように構成される、キーファイルを生成すること、
を有する方法。
【請求項２】
前記キーファイルが、前記特定のプラズマクラスタツールだけに設定することを制約する情報を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記情報がホストコンピュータと関連するＭＡＣ（メディアアクセスコントローラ）アドレスを含み、前記ホストコンピュータが生産環境において前記プラズマクラスタツールを制御するように設定される請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記情報はホストコンピュータと関連するインターネットプロトコル（ＩＰ）アドレスを含み、前記ホストコンピュータが生産環境において前記プラズマクラスタツールを制御するように設定される請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記キーファイルが、前記プラズマクラスタツールの許可された使用がいつ期限切れになるのかを指定する情報を含む請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記キーファイルが、前記プラズマクラスタツールの特定のコンポーネントの許可された使用がいつ期限切れになるのかを指定する情報を含む請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記ツール特定オプション仕様のセットの少なくとも一部がカスタマ注文システムから自動的に抽出される請求項１に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
本発明は、一実施形態で、複数のモジュールを有する特定のプラズマクラスタツールを設定するための方法に関する。この方法は、モジュールオプション定義ファイルのセットを提供することを含み、モジュールオプション定義ファイルのセットは一般的なプラズマクラスタツールのための一般的な設定定義を含む。方法はツール特定保護情報のセットを提供することをさらに含み、ツール特定保護情報のセットは、設定が意図される特定のプラズマクラスタツールを特に識別するデータを含む。この方法は、ツール特定オプション仕様を提供することをさらに含み、ツール特定オプション仕様は、特定のプラズマクラスタツールのために指定されるオプションを特定する。この方法は、キーファイルを生成することをさらに含み、このキーファイルは特定のプラズマクラスタツールに課される設定制約をカプセル化し、キーファイルが特定プラズマツールを設定することにおいて必要とされるファイルとなるように設定されている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
説明を容易にするために、用語「コンポーネント」は、クラスタツールの非可分な集合または複数の部分からなる集合を指す。したがって、コンポーネントはガス管線と同程度に簡略であるか、あるいはプロセスモジュール全体と同程度に複雑であってもよい。（プロセスモジュール等の）マルチパートコンポーネントは、同様に他のマルチパートコンポーネントまたはアトミックコンポーネントから形成されてもよい（真空システム、ガスシステム、電源システム等の）他のマルチパートコンポーネントから形成される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
説明したように、キーファイル３０８は、設定ソフトウェアの無許可の実行／著作権侵害に対する保護だけではなく、設定オプションに対する制約も実現する。キーファイル３０８は、３つの別々のデータソース、つまりモジュールオプション定義ファイル４０２の集合、ツール特定オプション仕様４０４、及びツールに特定の保護情報４０６から生成される。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
ツール特定オプション仕様４０４は、カスタマ注文データベース４０４ａから、または工場指定の入力４０６ｂから生じることがある。ツール特定オプション仕様４０４は、特定のツールの構成要素のために許可される１つまたは複数の設定オプションを指定する。一例に、カスタマは、ターボポンプの最高３つの異なるモデルを設置するオプションを購入できる。したがって、カスタマによって購入される、クラスターツールのためのツールに特定のオプション仕様は３つすべてのターボポンプのための設定オプションを含むことができる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
一実施形態では、セキュリティアプリケーション４２０が、キーファイル３０８を生成するためにモジュールオプション定義ファイル４０２、ツール特定オプション仕様４０４、及びツールに特定の保護情報４０６のセットを処理するために利用される。一実施形態では、セキュリティアプリケーションのネットワーク態様は必ずしも必要とされていないがセキュリティアプリケーション４２０は、グローバルアクセス機能を提供するためにウェブをベースにしている。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年9月20日(2012.9.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８８】
図９、図１０及び図１１において、設備の構造を示すため、その部品が互いに３つの異なる位置にある設備２０Ｃの３つの斜視図が示されている。設備２０Ｃは、図９にて最も良く示すように、入口端部キャップ７０と、外側円筒体７４と、出口端部キャップ７２とを有している。入口端部キャップ７０は、運動エネルギ流体３２及び原材料４２をそれぞれ受け入れる、運動エネルギ流体の入口ポート６６と、原材料の入口ポート６８とを有している。該入口端部キャップは、外側円筒体７４の一端に配置され、出口端部キャップ７２は、他端に配置されている。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９１】
図１１には、設備２０Ｃの更に別の斜視図が示されており、外側円筒体は、引き出されて長手方向に伸びる凹状部分８４を有する内側円筒体８２の大きい部分を露出させ、また、外側円筒体７４の内面に対する内側円筒体８２の外側円筒面を示し、このため、長手方向の凹状部分８４は、原材料が流れるための狭小な湾曲経路を提供し、これにより比較的狭小な湾曲端縁を提供し、該端縁に対して運動エネルギが流れてニュートン流体、粘性のある原材料、懸濁した粒子又はより可動の液体又はこれらの組み合わせを噴霧する。内側円筒体８２は、出口端部キャップ７２に対して回転可能であるから、この凹状部分８４は、中央切断部分７８の衝撃面および衝撃面４０と整合させ又は非整合状態とし、これにより噴霧の周角度値を制御することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９４】
図１４には、外方に伸びる棚状突起４２６と、外側円筒体７４Ａの端部と棚状突起４２６との間の原料の出口開口部４２４とを有する厚さ制御インサート４２２を備える設備２０Ｄの側面図が示されており、このため、円筒体７４Ａの平面端部と平面棚状突起４２６との間に原料の１つの寸法が存在し、また、別の寸法部分が開口部４２４の曲率に沿って存在し、第三の寸法は、内側円筒体の外面と外側円筒体の内面との間の棚状突起４２６の厚さ４３０であり、この厚さは、原料が棚状突起４２６の方向に向けて流れるときに通る開口部４２４の厚さに相応する。運動エネルギ流体は、開口部４２４を通って外方に移動して、設備２０Ｄから拡げられる液滴の寸法分布状態を制御する。この開口部は、交換可能なインサート４２２により決定された、制御した厚さ、長さ、幅及び曲率を有する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１８】
捕集器１６２及び針５０Ａないし５０Ｅは、１２７ｍｍないし２５４ｍｍ（５ないし１
０インチ）隔てられており、勾配電圧はセンチメートル当たり約４ないし６００Ｖである
。電位を印加しなければ、非配向のナノファイバを製造することができる。電位が印加さ
れると、ナノファイバにより互いの間の長さにて互いに平行であるマイクロメートル直径
の繊維から成るマットが得られ、顕著な長さを有する組織状マットが形成され、このマッ
トは、多くの生物医療用途にて有用な優れた細胞接着能力を有する。ナノ粒子を形成する
ことが望まれるとき、粘度及び電位を変化させれば、細かい粒子を電気噴霧することが可
能となる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２３】
基部４６４は、電位電源１６４とも電気的に接続され、負電位を受け取り且つ原材料４７６の粒子をその表面に吸引する。好ましい実施の形態において、基部４６４は、モータ１６６Ａ、１６６Ｂによってコンベアとして駆動される包帯系材料である一方、粒子は、その表面に蓄積してマット４５６を形成する。好ましい実施の形態において、このマットは、その表面積が大きいため、優れた包帯を提供するよう処方することができるキトサンである。好ましい実施の形態において、原材料は、流体的であり且つ設備２０Ｇから放出することができるように十分な溶媒を含む。しかし、溶媒は、設備から去った後に蒸発し、リガメントは凝固してストランド及び（又は）粒子になる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２５】
図３１には、センチメートル当たり約１００Ｖの電位勾配にて静止型捕集器まで引き抜かれて、薄フィルム又は紙を形成する非配向キトサン繊維のＳＥＭが示されている。回転速度が遅いとき、図３３に示したマットのようなマットが形成される。図３３において、マイクロメートル直径範囲（０．５ないし１．５）のキトサン繊維１７２と、ナノメートル範囲の繊維１７４と架橋結合されたマイクロメートル繊維１７２を有するナノメートル範囲のキトサン繊維１７４とを含むマットのＳＥＭが示されている。流量は、毎時、全体として０．２マイクロリットルないし１０マイクロリットルの範囲であり、電極間の距離は、約２ｃｍないし６０ｃｍの範囲、好ましくは、８ないし３０ｃｍの範囲にあるものとする。繊維は、材料を形成するとき、酸を中和する必要がないから、塩を含んでいない。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２６】
図３２にて、より迅速な回転速度及び高い電位勾配により得られた配向繊維（長手方向軸線が互いに平行である）が示されている。電位勾配の制限は、繊維間の円弧に関係しており、繊維間の空間が増大するに伴い増すことができるが、最終のマットに形成された製品中の平方インチ当たりの繊維が少ないという犠牲を伴う。原材料中に塩不純物がないキトサンマット及び繊維が得られる。溶液の粘度は、３０センチポイズ（ｃＰ）ないし２０００センチポイズの範囲である必要がある。２１．８％トルクにて６５．４センチポイズのとき、表面張力は３２．１ダインであり、１７．９％トルクにて５３７センチポイズのとき、表面張力は３１．５ダインである。針オリフィス５０Ａないし５０Ｅは、全体として２０ゲージである。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２９】
配向繊維の構造は、約１０μｍの平均孔直径を有する薄膜のように見える。アニソトロピックな機械的性質は、軟骨工学のような特定の用途にとって重要だから、背向繊維マットは、従来の薄膜又は繊維に勝る有利な効果を提供する。マットをヒートガンにて乾燥させると、直径は１０分の１に減少するから（図示せず）、繊維は溶媒にて膨張した状態にて現れる。繊維の直径は、溶液の物理的性質の関数であることに加えて、ＰＥＯの濃度に強く依存する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年1月19日(2012.1.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１５１】
第ＩＩＩ相の日焼け止め添加剤を、６４．５ｇのＳＵＡＶＥボディウォッシュに添加し、均一になるまで撹拌した。最後に、２．３ｇの二酸化チタンを撹拌しながら添加した。最終組成物は日焼け止め剤／ボディウォッシュであった。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年1月19日(2012.1.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６０】
次式：
【化１】
2008538557.tif 000001
［式中、
Ａ1は窒素原子及びＣＨ基からなる群から選択され、
Ｒ11は水素原子、低級アルキル基、アミノカルボニル基、フェニル基又はフェニル低級アルキル基を表わし、ここで、フェニル基は非置換又は、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、シクロ低級アルキル基により一−又は二−置換されていてよく、
Ｒ12は水素原子又は低級アルキル基を表わすか、又はＲ12は、Ｒ11及びそれらに結合されている窒素原子と一緒になって、最大で三つのヘテロ原子を更に含む４員ないし６員ヘテロ芳香族環を形成し、
Ｒ13は水素原子、アミノ基、モノ−又はジ−低級アルキルアミノヘテロ芳香族基、アミノカルボニル基又はフェニル基を表わし、ここで、フェニル基は非置換又は、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、又はハロゲン原子により一−又は二−置換されていてよく、そして
Ｒ’15及びＲ’16は、それらに結合されている炭素原子と一緒になった場合、シクロアルキル環又はフェニル環を形成し、これらは、非置換又は、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基又はトリフルオロメチル基によりされていてよい。］で表わされるアゾール化合物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
次式：
【化２】
2008538557.tif 000002
［式中、
Ａ1 は上記において定義されたものと同じ意味を表わし、
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は上記において定義されたものと同じ意味を表わし、
Ｒ'15及びＲ'16は、それらに結合されている炭素原子と一緒になった場合、シクロアルキル環又はフェニル環を形成し、これらは、非置換又は、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基又はトリフルオロメチル基によりされていてよい。］で表わされるもの。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０２６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０２６５】
【化３】
2008538557.tif 000003
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年2月14日(2012.2.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）式：
【化１】
2008538744.tif 000001
〔式中、Ｒ2およびＲ3は、互いに独立に−Ｈまたは−ＯＨである〕である化合物、
２）Ｋ+、Ｎａ+、Ｌｉ+、Ｒｂ+、Ｃｓ+、Ｓｒ2+、Ｂａ2+、ＮＨ4+または（ＣＨ3）4Ｎ+から構成される群から選択された少なくとも１つの陽イオンおよびＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＮＯ3-、ＨＣＯＯ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、Ｈ2ＰＯ3-、ＨＰＯ32-、ＰＯ33-、ＳＯ42-、ＣＯ32-、ＨＣＯ3-、ＢＯ2-、ＰＦ6-、ピクレート-およびシトレート3-から構成される群から選択された少なくとも１つのアニオンを含有する塩；および
３）水性液体
を含むゲル。
【請求項２】
前記化合物がグアノシン−５′−ヒドラジドである、請求項１記載のゲル。
【請求項３】
塩が、式ＭyＸmの塩に対して中性の全電荷を生じるために、ＸがＣｌ-、ＮＯ3-、ＨＣＯＯ-、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＨＣＯ3-、Ｈ2ＰＯ3-、ＨＰＯ32-、ＳＯ42-、ＣＯ32-、ＰＯ33-およびシトレート3-から構成される群から選択されたアニオンであり、ＭがＮａ+、Ｋ+、Ｓｒ2+、ＮＨ4+または（ＣＨ3）4Ｎ+から構成される群から選択された陽イオンであり、かつｙおよびｍが１、２または３から個別的に選択されているような式ＭyＸmを有する、請求項１記載のゲル。
【請求項４】
水性液体が水であるかまたは水とエタノール、ジプロピレングリコールまたはプロピレングリコールとの均一な混合物である、請求項１記載のゲル。
【請求項５】
水性液体が５〜８から構成されたｐＨを有する、請求項１記載のゲル。
【請求項６】
次のもの：
芳香成分である少なくとも１つの活性物質および
請求項１に定義されたようなゲル、または請求項１に定義されたような前記ゲルの成分を混合することによって得ることができる活性ゲル。
【請求項７】
請求項６記載のゲルを含有するかまたは当該ゲルと関連する消費製品。
【請求項８】
芳香デバイスまたは衛生デバイス、おむつ手桶用フレッシュナー、自動車用フレッシュナー、クロゼット用フレッシュナー、猫砂の入った容器用フレッシュナー、靴用フレッシュナーまたは厨芥バケツ用フレッシュナー、練り歯磨き、化粧用クリームまたは製薬学的クリーム、ヘアケア製品またはボディケア製品、クリーニング製品、表面艶出し製品、殺虫剤、または昆虫誘引剤または昆虫忌避剤デバイスの形である、請求項７記載の消費製品。
【請求項９】
式
【化２】
2008538744.tif 000002
〔式中、Ｒ2およびＲ3は、互いに独立に−Ｈまたは−ＯＨである〕で示される化合物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年8月14日(2012.8.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩化ナトリウム水溶液をイオン選択透過性膜を有するセル(1)で電気分解し、一方で塩素誘導体製造装置(6)で転化される塩素(16)、及び他方で水酸化ナトリウムを含む水溶液(19)を製造し、水酸化ナトリウムを含む該水溶液を炭酸塩化し、生じた炭酸塩化水溶液(18)を蒸発させて炭酸ナトリウム結晶(21)及び母液を製造して、該結晶を分離することによる炭酸ナトリウム及び塩素誘導体の共同製造のための統合方法であって、炭酸塩化(2)が、少なくとも部分的に、該統合方法に電気及び/又はスチームを供給する熱電併給装置(5)から生じる排煙ガス(13)に存在する二酸化炭素を用いて行われる、方法。
【請求項２】
熱電併給装置(5)で製造されるスチーム(12)の少なくとも一部(20)を用いて、炭酸塩化水溶液(18)を蒸発(3)させる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
炭酸ナトリウム水溶液(18)が、多段階の蒸発装置及び機械的蒸気再圧縮蒸発装置から選択される蒸発装置-晶析装置(3)で蒸発される、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
熱電併給装置(5)で製造されたスチーム(12)の少なくとも一部(25)が、塩素誘導体(26)を製造するための装置(6)で用いられる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
炭酸塩化(2)が、排煙ガス(13)及び水酸化ナトリウムを含む水溶液(19)の間の直接接触によって、該水溶液の炭酸ナトリウムの結晶の水性スラリー(16)への転化を引き起こすような条件下で行われる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
排煙ガス(13)と水酸化ナトリウム水溶液(19)の直接接触が、少なくとも2つの開口により孔のある隔壁によって分けられている少なくとも2つの重なったセグメントのスタックからなる塔(2)において、前記溶液を排煙ガスに対して向流で循環することによって行われ、該セグメントが、前記セグメントにおける懸濁液の対流を引き起こすための少なくとも1つの横断壁を含む、請求項５記載の方法。
【請求項７】
水酸化ナトリウムを含む水溶液(19)が、二酸化炭素と直接接触するときに本質的に炭酸イオン(炭酸水素イオン)を含まない、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
電気分解(1)を調節することで水酸化ナトリウム水溶液(19)が約32質量%の水酸化ナトリウムを含み、炭酸塩化(2)の操作条件を調節することで炭酸塩化水溶液(18)が炭酸ナトリウム一水和物の結晶を含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
蒸発装置-晶析装置(3)における操作条件を調節することで、蒸発から生じる炭酸ナトリウム結晶を炭酸ナトリウム一水和物の結晶にする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
塩素誘導体(26)が、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンから選択される、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
全ての適切な手段を、水酸化ナトリウム水溶液と排煙ガスの直接接触に用いることができる。本発明の特別な実施態様では、少なくとも2つの開口により孔のある隔壁によって分けられている少なくとも2つの重なったセグメントのスタックからなる塔を含む反応器で、水酸化ナトリウム水溶液を二酸化炭素含有ガスに対して向流で循環することが特に推奨され、該セグメントは前記セグメントにおける懸濁液の対流を引き起こすための少なくとも1つの横断壁を含む。そのような反応器は、ガスと液体の反応、従って炭酸ナトリウムの結晶化を容易にし且つ促進させる。
本発明の方法の好ましい実施態様では、水酸化ナトリウム含有水溶液が、二酸化炭素と直接接触するときに本質的に炭酸及び/又は炭酸水素イオンを含まない。従って、本発明のこの実施態様では、前記水溶液を二酸化炭素と直接接触させる前に炭酸塩化又は部分的な炭酸水素塩化に付すことが、明らかに回避される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年12月16日(2011.12.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の名称
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の名称】感熱性を有する誘電材料をレーザパルスで精密に研磨する方法
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工される材料の表面に、ピコセカンドやサブピコセカンド域の超短レーザパルスを照射し、
該表面への該レーザパルスの照射時間を、１０−１３秒から１０−１１秒の範囲とし、
該レーザパルスのフルエンスを、前記材料のアブレーションに十分な閾値フルエンスよりも低く、かつクーロン爆発を誘発するに十分なように調整する、
感熱性を有する誘電材料をレーザパルスで精密に研磨する方法。
【請求項２】
前記加工される表面での前記レーザパルスのフルエンスは、フルエンス閾値の７０％から９５％の間に設定される、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記レーザパルスは、前記加工される表面の方向に焦点を合わせられ、該加工される表面は前記レーザパルスの焦点の手前に配置される、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記加工される表面は前記レーザパルスで走査される、
請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記加工される表面に照射されるレーザパルスのプロファイルとして、トップハット・プロファイルが設定される、
請求項４記載の方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、感熱性を有する誘電材料をレーザビームで精密に研磨する方法に関する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
したがって、本発明の目的は、感熱性を有する誘電材料、特に、熱膨張係数が小さい材料をレーザビームで精密に研磨する方法を開示することにある。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
この目的は、加工される材料の表面に  極めて強い超短パルスレーザビームが導かれ、該表面へのレーザビームの照射時間が１０−１３秒から１０−１１秒の範囲となるように調整され、アブレーションの閾値よりも低いがクーロン爆発を誘発するに十分なようにレーザパルスのエネルギーが調整される方法によって、本発明により達成される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年5月15日(2012.5.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
図１は、本発明に従う発電装置の軸方向断面を示す。これに関して、ローター１．２の配置は発電機１のスターター１．１に対する内部ローターとして描かれている。特に好ましくは、ブラシレスの、別個に励磁された交流同期発電機の利用であり、参照番号６を与えられた装置は励磁機器として使用される。ローター１．２に対して同軸的に配置された静水式モーターは、発電機１の電力供給のために使用され、前記静水式モーターは内部歯車モーター２として構成される。これに関して、発電機１のローター１．２は内部歯車モーター２を取り囲み、結果として、特に小型で大幅に騒音を低減する装置となっている。内部歯車モーター２による駆動力の伝達は、内部歯車モーター２の回転軸と一直線上のピニオン４を介して起こり、前記ピニオンは発電機１のローター１．２の内部歯車３とかみ合う。図１に示されるように、内部歯車モーター２の包封は、発電機１におけるU字型形状の断面をしたローター１．２の実施形態によって行われ、内部歯車３は、内部歯車モーター２を覆うローター１．２のU字型形状の２つの脚部の連結ロッド領域に構成される。有利な実施形態によれば、発電機のローター１．２は内部歯車モーター２のハウジングに支持される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ローター（１．２）を有する発電機（１）と、
前記発電機（１）の電力供給用の少なくとも１つの静水式モーターであって、該静水式モーターの少なくとも１つが内部歯車モーター（２）として構成される、静水式モーターと、
同軸的に前記内部歯車モーター（２）を取り囲む前記発電機（１）のローター（１．２）であって、前記ローター（１．２）が内部歯車（３）を介してピニオン（４）とかみ合い、前記ピニオンが前記内部歯車モーター（２）によって少なくとも間接的に駆動される、前記ローター（１．２）と、
前記内部歯車モーターに配置される始動装置（５）と、
を備える発電装置。
【請求項２】
前記内部歯車モーター（２）に加えて、さらなる静水式モーターが使用され、前記さらなる静水式モーターは回転的に構成され、その回転軸は前記内部歯車モーター（２）の軸と一直線であることを特徴とする、請求項１に記載の発電装置。
【請求項３】
前記さらなる静水式モーターは、前記発電機（１）の前記始動装置（５）として使用されることを特徴とする、請求項２に記載の発電装置。
【請求項４】
前記発電機（１）は、前記始動装置（５）として作動されるモーターであることを特徴とする、請求項１又は２のいずれか１項に記載の発電装置。
【請求項５】
前記発電機（１）における付加的な巻き線は、前記始動装置（５）としての役割を果たすことを特徴とする、請求項４に記載の発電装置。
【請求項６】
回転ピストンに横断的に移動可能な摺動ボディ（５．２）を有する、前記内部歯車モーター（２）の駆動用作動流体と共に移動する前記回転ピストン（５．１）が、前記始動装置（５）として使用され、前記回転ピストン（５．１）を作動動作させる場合、前記摺動ボディ（５．２）が、前記発電装置の回転部品に積極的又は摩擦的な接触状態になり、前記回転部品の駆動及び捩れが前記内部歯車モーター（２）の回転移動を生じることを特徴とする、請求項１又は２のいずれか１つに記載の発電装置。
【請求項７】
同期発電機が、前記発電機（１）として使用されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の発電機。
【請求項８】
一体化された励磁機器を有する、ブラシレスであるとともに別個に励磁された交流同期発電機が、前記発電機（１）として使用されることを特徴とする、請求項７に記載の発電機。
【請求項９】
前記内部歯車モーター（２）の駆動用前記作動流体が、前記発電機（１）及び前記発電機の電力用電子部品の冷却用に使用されることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の発電機。
【請求項１０】
前記内部歯車モーター（２）の駆動用前記作動流体が、前記発電機の軸受け部品の減摩用に使用されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の発電機。
【請求項１１】
前記発電機（１）のローター（１．２）が、前記内部歯車モーター（２）のハウジングに支持されていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の発電機。
【請求項１２】
前記内部歯車モーター（２）及び前記さらなる静水式モーターは、離間した供給回路によって作動流体を供給されることを特徴とする、請求項２に記載の発電機。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
ストランド片６が、鋳造工程の開始時に、ストランドガイド３全体を通過し、正確に仕上げられた厚さｄを備えるので、本発明によれば、ストランド片６は、装置の個々のローラ対４を較正するため、即ち、ストランドガイド３のその箇所で望まれる基準値となるように、ローラ対４のローラ間隙５の大きさを調整するために、利用される。