【手続補正書】
【提出日】平成26年10月20日(2014.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
【表２】
2014501715.tif 000001
本発明に関連する発明の実施態様の一部を以下に示す。
［態様１］
（ａ）バイナリー炭素原子間隔（Ｃ２間隔）で互いに分離された少なくとも２個の非第３級アミン基を有するバイナリー成分と、必要に応じて、第２の炭素原子間隔により互いに分離された少なくとも２個の窒素含有基を有する第２の成分を有する１又は２種以上の窒素含有化合物を含む反応組成物を用意する工程、及び
（ｂ）前記反応組成物を、水素化／脱水素化触媒の存在下で、アミノ基転移反応にかけて、環状ポリアミン含有混合物を得る工程；
を含む環状ポリアミン含有生成物混合物の製造方法。
［態様２］
（ａ）バイナリー炭素原子間隔（Ｃ２間隔）で互いに分離された少なくとも２個の非第３級アミン基を有するバイナリー成分と、第２の炭素原子間隔により互いに分離された少なくとも２個の窒素含有基を有する第２の成分を有する反応組成物のモル比の関数として、アミノ基転移生成物混合物組成物を示す情報を用意する工程；及び
（ｂ）前記情報を使用して反応混合物を用意する工程；並びに
（ｃ）前記反応混合物を、水素化／脱水素化触媒の存在下で、アミノ基転移反応にかける工程；
を含む環状ポリアミン含有生成物混合物の製造方法。
［態様３］
前記バイナリー成分及び第２の成分が単一の窒素含有化合物で用意される、上記態様１又は２に記載の方法。
［態様４］
（ａ）（ｉ）Ｈ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２、もしくはＨ２ＮＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２、又はそれらの混合物、又は
（ｉｉ）１，３−ジアミノプロパンとエチレンジアミンの混合物、あるいは
（ｉｉｉ）１，３−ジアミノプロパンと１，２−プロパンジアミンの混合物、
を含む反応組成物を用意する工程；及び
（ｂ）前記反応組成物を、水素化／脱水素化触媒の存在下で、アミノ基転移反応にかけて、ホモピペラジン及び／又はホモピペラジン部分を含む生成物混合物を得る工程；
を含むホモピペラジン及び／又はホモピペラジン部分の製造方法。
［態様５］
バイナリー成分が、式：
【化１】
2014501715.tif 000002
（式中、Ｚ１及びＺ２は、独立に、第１級又は第２級アミンであり；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、独立に、Ｈ又は置換及び非置換ヒドロカルビルである）
により表されるポリアミンを含む、上記態様１又は２に記載の方法。
［態様６］
第２の成分が、
【化２】
2014501715.tif 000003
（式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれＣＮであり；
ｘは１〜約１０の整数であり；
Ｒ１及びＲ２は、独立に、Ｈ又は置換及び非置換ヒドロカルビルである）；又は
式：
【化３】
2014501715.tif 000004
（式中、Ｚ１及びＺ２は、独立に、第１級又は第２級アミンであり；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、独立に、Ｈ又は置換及び非置換ヒドロカルビルであり；
ｗは２以上の整数である）
から選ばれる式により表される、上記態様１、２、４又は５に記載の方法。
［態様７］
第２の成分が、（ｉ）ターナリー炭素原子間隔（Ｃ３間隔）で互いに分離された少なくとも２個の非第３級アミン基、（ｉｉ）ユニタリー炭素原子間隔（Ｃ１間隔）で分離された少なくとも２個のニトリル官能基、（ｉｉｉ）バイナリー炭素原子間隔（Ｃ２間隔）で互いに分離された少なくとも１個のニトリル官能基と１個の非第３級アミン官能基、又は（ｉｖ）それらの組み合わせ、を有する第２の窒素含有化合物を含む、上記態様１又は２に記載の方法。
［態様８］
前記ポリアミン生成物混合物がポリアミン生成物の同族体の混合物を含む、上記態様１〜７のいずれか一つに記載の方法。
［態様９］
バイナリー成分と第２の成分のモル比が約０．１：１〜約１０：１の範囲内にある、上記態様１、２及び４〜８のいずれか一つに記載の方法。
［態様１０］
前記モル比が約１：１である、上記態様９に記載の方法。
［態様１１］
前記モル比が約１：１未満である、上記態様１、２及び４〜９のいずれか一つに記載の方法。
［態様１２］
前記触媒が、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏ及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、上記態様１〜１１のいずれか一つに記載の方法。
［態様１３］
アミノ基転移が、Ｎｉ及びＲｅを含む不均一系触媒の存在下で起こる、上記態様１〜１２のいずれか一つに記載の方法。
［態様１４］
前記反応組成物が、さらに、反応物１モル当り約０．１〜約５０モル％の水素を含む、上記態様１〜１３のいずれか一つに記載の方法。
［態様１５］
上記態様１〜１４のいずれか一つに記載の方法により得られるポリアミンの混合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）バイナリー炭素原子間隔（Ｃ２間隔）で互いに分離された少なくとも２個の非第３級アミン基を有するバイナリー成分と、必要に応じて、第２の炭素原子間隔により互いに分離された少なくとも２個の窒素含有基を有する第２の成分を有する１又は２種以上の窒素含有化合物を含む反応組成物を用意する工程、及び
（ｂ）前記反応組成物を、水素化／脱水素化触媒の存在下で、アミノ基転移反応にかけて、環状ポリアミン含有混合物を得る工程；
を含む環状ポリアミン含有生成物混合物の製造方法。
【請求項２】
（ａ）バイナリー炭素原子間隔（Ｃ２間隔）で互いに分離された少なくとも２個の非第３級アミン基を有するバイナリー成分と、第２の炭素原子間隔により互いに分離された少なくとも２個の窒素含有基を有する第２の成分を有する反応組成物のモル比の関数として、アミノ基転移生成物混合物組成物を示す情報を用意する工程；及び
（ｂ）前記情報を使用して反応混合物を用意する工程；並びに
（ｃ）前記反応混合物を、水素化／脱水素化触媒の存在下で、アミノ基転移反応にかける工程；
を含む環状ポリアミン含有生成物混合物の製造方法。
【請求項３】
（ａ）（ｉ）Ｈ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２、もしくはＨ２ＮＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２、又はそれらの混合物、又は
（ｉｉ）１，３−ジアミノプロパンとエチレンジアミンの混合物、あるいは
（ｉｉｉ）１，３−ジアミノプロパンと１，２−プロパンジアミンの混合物、
を含む反応組成物を用意する工程；及び
（ｂ）前記反応組成物を、水素化／脱水素化触媒の存在下で、アミノ基転移反応にかけて、ホモピペラジン及び／又はホモピペラジン部分を含む生成物混合物を得る工程；
を含むホモピペラジン及び／又はホモピペラジン部分の製造方法。
【請求項４】
第２の成分が、
【化４】
2014501715.tif 000005
（式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれＣＮであり；
ｘは１〜約１０の整数であり；
Ｒ１及びＲ２は、独立に、Ｈ又は置換及び非置換ヒドロカルビルである）；又は
式：
【化５】
2014501715.tif 000006
（式中、Ｚ１及びＺ２は、独立に、第１級又は第２級アミンであり；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、独立に、Ｈ又は置換及び非置換ヒドロカルビルであり；
ｗは２以上の整数である）
から選ばれる式により表される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
バイナリー成分と第２の成分のモル比が約０．１：１〜約１０：１の範囲内にある、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。