【手続補正書】
【提出日】平成26年5月7日(2014.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルを抽出するためのシステムにおいて、
多孔性のサンプル収集材料の連続した部分からなるサンプル収集デバイスであって、前記多孔性のサンプル収集材料は前記サンプルが前記多孔性のサンプル収集材料の表面の下方に侵入することが可能な態様で前記サンプルを吸収することが可能である、前記サンプル収集デバイスと、
連続した前記多孔性のサンプル収集材料にてサンプル抽出液の流れを封じ込めるためのバリア領域を画成する所定の領域と、
前記サンプル抽出液の流れを封じ込めるために前記バリア領域の前記多孔性のサンプル収集材料をコーティングする疎水性材料と、
前記多孔性のサンプル収集材料の前記表面に前記抽出液を塗布するため、及び、前記多孔性のサンプル収集材料の前記表面から抽出したサンプルを含有する抽出液を液体抽出表面サンプリングプローブによって引き離すべく前記多孔性のサンプル収集材料の前記表面に負圧を加えるための液体抽出表面サンプリングプローブと、
前記多孔性のサンプル収集材料及び前記液体抽出表面サンプリングプローブの下流において、前記抽出された溶解済みサンプル材料をイオン化するためのデバイスとを備える、システム。
【請求項２】
前記多孔性のサンプル収集材料は親水性材料を含む請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記多孔性のサンプル収集材料は、紙、繊維、多孔質セラミック材料、およびその組合せからなる群から選択される請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
基材は、前記多孔性のサンプル収集材料に対する機械的支持を提供する請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記疎水性材料は、シリコーン、フッ素化アルカン、およびワックスからなる群から選
択される請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記疎水性材料は、前記サンプルを堆積する前にサンプルウェルを形成する、前記サンプル表面の前記多孔性のサンプル収集材料内のパターンを備える請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記サンプルウェルからの前記サンプルのオーバフローを閉じ込めるために、疎水性バリアおよびモートをさらに備える請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
疎水性層は、前記サンプルを閉じ込める前記多孔性のサンプル収集材料の領域を覆って形成する請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記疎水性材料は、２９３．１５Ｋの固相を含む請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記サンプルは生物学的材料を含む請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記サンプルは血液を含む請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記液体は、前記サンプルを溶解する溶媒を含む請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記溶解済みサンプル材料をイオン化するためのデバイスは、エレクトロスプレーイオン化デバイス、大気圧化学イオン化デバイス、誘導結合式プラズマイオン化デバイス、および大気圧光イオン化デバイスからなる群から選択される請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記イオン化された溶解済みサンプル材料は、質量分析計によって分析される請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記バリア領域は少なくとも一部において前記多孔性のサンプル収集材料の表面よりも下方にある、請求項１に記載のシステム。
【請求項１６】
前記バリア領域はサンプル収集層に複数のサンプルウェルと画成する、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記バリア領域は側部のバリア領域と連結した底部のバリア領域を画成する、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記サンプルウェルの前記側部のバリア領域はコーティングされていない多孔性のサンプル収集材料によって取り囲まれることでオーバーフロー領域を画成する、請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】
前記オーバーフロー領域は、サンプルウェルから前記オーバーフロー領域内へと溢れ出る溶媒を封じ込めるためのモート壁と画成するバリア領域によって取り囲まれる、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記バリア領域は前記サンプル収集材料の表面にある、請求項１に記載のシステム。
【請求項２１】
表面を有するサンプル収集材料からサンプルを抽出するための方法において、
多孔性の前記サンプル収集材料の表面上にサンプルを堆積させる工程であって前記サンプルが前記多孔性のサンプル収集材料の表面よりも下方に侵入する、サンプルを堆積させる工程と、
前記サンプル収集材料内にバリア領域を画成する工程と、
抽出液とサンプルの流れをバリア領域によって封じ込めるために前記多孔性のサンプル収集材料の前記バリア領域に疎水性材料を塗着する工程と、
前記サンプル収集材料の前記表面上に液体抽出表面サンプリングプローブによってサンプル抽出液を塗布する工程であって、それにより、前記サンプルを溶解して、溶解済みサンプル材料を形成し、前記バリア領域は前記多孔性のサンプル収集材料を通じた前記抽出液の拡散を妨害する、サンプル液を塗布する工程と、
前記液体抽出表面サンプリングプローブによって負圧を加えることによって前記液体抽出表面サンプリングプローブを用いて前記サンプル表面から前記溶解済みサンプル材料を抽出する工程であって、前記抽出液は前記液体抽出表面サンプリングプローブを介した前記負圧によって前記多孔性のサンプル収集材料から引き出された前記抽出されたサンプルを含有する、抽出する工程とを備える、方法。
【請求項２２】
前記多孔性のサンプル収集材料は疎水性材料を含んでなる請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記多孔性のサンプル収集材料は、紙、繊維、多孔質セラミック材料、およびその組合せからなる群から選択される請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
機械的支持は、基材によって前記多孔性のサンプル収集材料に提供される請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記疎水性材料は、シリコーン、フッ素化アルカン、およびワックスからなる群から選択される請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
前記サンプルを堆積する前に前記多孔性のサンプル収集材料の前記バリア領域にサンプルウェルを形成する請求項２１に記載の方法。
【請求項２７】
前記サンプルウェルからの前記サンプルのオーバフローを閉じ込めるために、疎水性バリアおよびモートをさらに設ける請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
疎水性層は、前記サンプルを閉じ込める前記多孔性のサンプル収集材料の領域の上に形成する請求項２１に記載の方法。
【請求項２９】
前記疎水性材料は、２９３．１５Ｋの固相を含む請求項２１に記載の方法。
【請求項３０】
前記サンプルは前記多孔性のサンプル収集材料に埋め込まれる請求項２１に記載の方法。
【請求項３１】
前記サンプルは生物学的材料を含んでなる請求項２１に記載の方法。
【請求項３２】
前記サンプルは血液を含んでなる請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記液体は、前記サンプルを溶解する溶媒を含んでなる請求項２１に記載の方法。
【請求項３４】
前記溶解済みサンプル材料をイオン化するためのデバイスは、エレクトロスプレーイオン化デバイス、大気圧化学イオン化デバイス、誘導結合式プラズマイオン化デバイス、および大気圧光イオン化デバイスからなる群から選択される請求項２１に記載の方法。
【請求項３５】
前記イオン化された溶解済みサンプル材料は、質量分析計によって分析される請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記バリア領域は少なくとも一部において前記多孔性のサンプル収集材料の表面よりも下方にあり、前記疎水性材料は前記多孔性のサンプル収集材料の表面よりも下方に侵入して前記表面よりも下方の前記バリア領域の多孔性サンプル収集材料をコーティングする、請求項２１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【図１Ａ】本出願人の教示の種々の実施形態による、液体微小接合表面サンプリング
プローブを含む従来技術のマイクロイオンスプレーデバイス、および、マイクロイオンスプレーデバイス内の流体流路の概略を示す断面図。
【図１Ｂ】本出願人の教示の種々の実施形態による、従来技術の液体微小接合表面サ
ンプリングプローブの近位端の概略を示す断面図。
【図２Ａ】本出願人の教示の種々の実施形態による、サンプルを含む吸収層の垂直方
向における概略を示す断面図である。
【図２Ｂ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料の塗着前の基材上に
サンプルを含む吸着性の層の垂直方向における概略を示す断面図。
【図２Ｃ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料の塗着後の基材上に
サンプルを含む吸着性の層の垂直方向における概略を示す断面図。
【図３Ａ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料の塗着前の基材上に
サンプルを含む親水性吸着層の概略を示す断面図。
【図３Ｂ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料の塗着に続く基材上
にサンプルを含む親水性吸着層の概略を示す断面図。
【図３Ｃ】本出願人の教示の種々の実施形態による、サンプリングプローブの動作中
の、疎水化処理済み表面およびサンプルならびに液体微小接合表面サンプリングプローブの近位端の概略を示す断面図。
【図３Ｄ】本出願人の教示の種々の実施形態による、サンプリングプローブの動作後
の、疎水化処理済み表面およびサンプルならびに液体微小接合表面サンプリングプローブの近位端の概略を示す断面図。
【図４Ａ】サンプルを堆積し埋め込む前の、疎水性バリアを有する親水性吸着層の概
略を示す断面図（側部および下部の疎水性バリアは、本出願人の教示の種々の実施形態に従って、側部を超えるまた下部から出るサンプルおよび抽出溶媒の拡散を防止する）。
【図４Ｂ】サンプルが堆積され埋設された後の、疎水性バリアを有する親水性吸着層
の概略を示す断面図（側部および下部の疎水性バリアは、本出願人の教示の種々の実施形態に従って、側部を超えるまた下部から出るサンプルおよび抽出溶媒の拡散を防止する）。
【図４Ｃ】サンプルを堆積し埋め込む前の、疎水性吸着層の概略を示す断面図（下部
の疎水性バリアおよび交互の疎水性バリアと親水性側部オーバフローモートは、本出願人の教示の種々の実施形態に従って、内部領域がサンプルで過剰充填されるときに、抽出溶媒の横方向拡散を防止し、内部サンプリング領域内にサンプルの一定容積を維持する）。
【図４Ｄ】過剰のサンプルが堆積され埋設された状態の、疎水性吸着層の概略を示す
断面図（下部の疎水性バリアおよび交互の疎水性バリアと親水性側部オーバフローモートは、本出願人の教示の種々の実施形態に従って、内部領域がサンプルで過剰充填されるときに、抽出溶媒の横方向拡散を防止し、内部サンプリング領域内にサンプルの一定容積を維持する）。
【図５Ａ】本出願人の教示の種々の実施形態による、血斑(blood spot)サンプルを含
む紙をサンプリングするピペットおよびロボットアームを使用する実験セットアップの連
続的な側面図のうちの１つの概略を示す側面図。
【図５Ｂ】本出願人の教示の種々の実施形態による、血斑サンプルを含む紙をサンプ
リングするピペットおよびロボットアームを使用する実験セットアップの連続的な側面図のうちの１つの概略を示す側面図。
【図５Ｃ】本出願人の教示の種々の実施形態による、血斑サンプルを含む紙をサンプ
リングするピペットおよびロボットアームを使用する実験セットアップの連続的な側面図のうちの１つの概略を示す側面図。
【図５Ｄ】本出願人の教示の種々の実施形態による、血斑サンプルを含む紙をサンプ
リングするピペットおよびロボットアームを使用する実験セットアップの連続的な側面図のうちの１つの概略を示す側面図。
【図５Ｅ】本出願人の教示の種々の実施形態による、血斑サンプルを含む紙をサンプ
リングするピペットおよびロボットアームを使用する実験セットアップの連続的な側面図のうちの１つの概略を示す側面図。
【図６】本出願人の教示の種々の実施形態による、未処理親水性順相高性能薄層クロ
マトグラフィ（ＨＰＴＬＣ）プレート上の吸収済み水滴および疎水性コーティング済み順相ＨＰＴＬＣプレート上の未吸収水滴の注釈付き写真。
【図７】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性コーティング済み吸収剤清
浄化組織(absorbent cleaning tissue)（ＫｉｍＷｉｐｅｓ（登録商標））上の未吸収水
滴を示す図。
【図８】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性コーティング済み血斑紙上
の未吸収水滴を示す図。
【図９Ａ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料コーティング済みゴ
ールデンシール根抽出物(goldenseal root extract)のサンプルに関するクロマトグラフ
ィから得られた現像後処理済み(post-development treated)順相ＨＰＴＬＣプレートの液体微小接合表面サンプルプローブスキャンからの、（ヒドラスチニンに対応する）１９０のｍ／ｚ設定における時間依存性読出しを示すグラフ。
【図９Ｂ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料コーティング済みゴ
ールデンシール根抽出物のサンプルに関するクロマトグラフィから得られた現像後処理済み順相ＨＰＴＬＣプレートの液体微小接合表面サンプルプローブスキャンからの、（ヒドラスチンに対応する）３８４のｍ／ｚ設定における時間依存性読出しを示すグラフ。
【図９Ｃ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料コーティング済みゴ
ールデンシール根抽出物のサンプルに関するクロマトグラフィから得られた現像後処理済み順相ＨＰＴＬＣプレートの液体微小接合表面サンプルプローブスキャンからの、（ジャトロリジンに対応する）３３８のｍ／ｚ設定における時間依存性読出しを示すグラフ。
【図９Ｄ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料コーティング済みゴ
ールデンシール根抽出物のサンプルに関するクロマトグラフィから得られた現像後処理済み順相ＨＰＴＬＣプレートの液体微小接合表面サンプルプローブスキャンからの、（ベルベラスチンに対応する）３５２のｍ／ｚ設定における時間依存性読出しを示すグラフ。
【図９Ｅ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料コーティング済みゴ
ールデンシール根抽出物のサンプルに関するクロマトグラフィから得られた現像後処理済み順相ＨＰＴＬＣプレートの液体微小接合表面サンプルプローブスキャンからの、（ベルベリンに対応する）３３６のｍ／ｚ設定における時間依存性読出しを示すグラフ。
【図９Ｆ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料コーティング済みゴ
ールデンシール根抽出物のサンプルに関するクロマトグラフィから得られた現像後処理済み順相ＨＰＴＬＣプレートの液体微小接合表面サンプルプローブスキャンからの、（カナダリンに対応する）３７０のｍ／ｚ設定における時間依存性読出しを示すグラフ。
【図９Ｇ】本出願人の教示の種々の実施形態による、疎水性材料コーティング済みゴ
ールデンシール根抽出物のサンプルに関するクロマトグラフィから得られた現像後処理済み順相ＨＰＴＬＣプレートの液体微小接合表面サンプルプローブスキャンからの、（テトラヒドロベルベリンに対応する）３４０のｍ／ｚ設定における時間依存性読出しを示すグ
ラフ。
【発明を実施するための形態】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
種々の実施形態では、疎水性材料は、サンプルに添加される前に、吸着層内に含浸されうる。疎水性バリアのパターン化領域およびサンプル用の疎水性吸収領域を囲むアンダーコーティングは、非パターン化手法と同様な方式で抽出液体を封じ込めうる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
疎水性層３２は、サンプル領域３０を覆って形成されうる。疎水性層３２は、サンプルがこの領域の吸着材料を既に飽和させているためにサンプルが存在しない吸着材料内に形成される疎水性バリア２２よりずっと薄くすることができる。層３２の薄さは、サンプルがこの領域の吸着材料を既に飽和させているため、２２にて形成される深く侵入する厚いバリアより薄くすることができる。疎水性層３２は、疎水性周囲部分２２内の埋設疎水性材料と同じ材料を含みうるが、ずっと薄いため、吸着層全体を通した液体の迅速かつ非制御式の拡散を防止するための特性を維持しながら、溶媒がサンプルに侵入することを可能にする。