【手続補正書】
【提出日】平成15年8月28日(2003.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、複数のデータ線と、該複数のデータ線に交差する複数の走査線と、前記各データ線及び前記各走査線に対応して設けられたスイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子に対応して設けられたマトリクス状に配置された複数の画素電極とが設けられており、
前記画素電極はコンタクトホールを介して前記スイッチング素子に接続されてなり、前記コンタクトホールは、前記画素電極に画像信号を供給するためのデータ線と、当該データ線と隣り合うデータ線との間のほぼ中心位置に開孔されてなることを特徴とする電気光学パネル。
【請求項２】
前記基板上に、前記画素電極に所定蓄積容量を夫々付与する容量線が前記走査線とほぼ平行に設けられており、
前記コンタクトホールは、相隣接する容量線及び走査線の間に開孔されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学パネル。
【請求項３】
前記スイッチング素子の下で、前記コンタクトホールの直下に、少なくとも嵩上げ膜を設けることを特徴とする請求項１乃至請求項２のいずれか一項に記載の電気光学パネル。
【請求項４】
前記スイッチング素子は薄膜トランジスタからなり、該薄膜トランジスタのソース領域がデータ線に電気的に接続されており、該薄膜トランジスタのドレイン領域が画素電極に接続されており、前記嵩上げ膜は該ドレイン領域と電気的に接続しており、導電膜であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の電気光学パネル。
【請求項５】
前記嵩上げ膜は、前記走査線及び容量線と重ならない位置に設けられることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の電気光学パネル。
【請求項６】
前記嵩上げ膜の膜厚は、前記走査線及び容量線の膜厚とほぼ同一であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の電気光学パネル。
【請求項７】
各画素の開口領域は、前記コンタクトホールに対して線対称な平面形状を持つことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の電気光学パネル。
【請求項８】
前記画素の開口領域の中心点にレンズ中心を有するように、夫々の画素電極に対向する位置にマイクロレンズを設けることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の電気光学パネル。
【請求項９】
所定の間隔で配置された複数のデータ線を有する第１非画素開口領域と、
前記第１非画素開口領域に交差する複数の走査線を有する第２非画素開口領域と、
各データ線と走査線に接続されたスイッチング素子と、
画素開口領域に形成された画素電極と、
スイッチング素子と画素電極とを電気的に接続するコンタクトホールと
前記コンタクトホールは、互いに隣接する第１非画素領域間の第２非画素開口領域のほぼ中央に配置されていることを特徴とする電気光学パネル。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載の電気光学パネルを備えたことを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気光学パネルは上記課題を解決するために、基板上に、複数のデータ線と、該複数のデータ線に交差する複数の走査線と、前記各データ線及び前記各走査線に接続されたスイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子に接続されてマトリクス状に配置された複数の画素電極とが設けられており、前記画素電極はコンタクトホールを介して前記スイッチング素子に接続されてなり、前記コンタクトホールは、前記画素電極に画像信号を供給するためのデータ線と、当該データ線と隣り合うデータ線との間のほぼ中心位置に開孔されてなることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この電気光学パネルによれば、スイッチング素子であるＴＦＴのドレイン領域と画素電極を接続するために層間絶縁膜に開孔するコンタクトホールの形成位置を、対応する画素電極に画像信号を供給するためのデータ線と、当該データ線と隣り合うデータ線との間のほぼ中心位置に開孔することにより、データ線と画素電極との短絡を防ぐことができ、画素が微細化しても、工程歩留まりや画素開口率の低下を招くことがない。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、電気光学パネルは、前記基板上に、前記画素電極に所定蓄積容量を夫々付与する容量線が前記走査線とほぼ平行に設けられており、前記コンタクトホールは、相隣接する容量線及び走査線の間に開孔されていると良い。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この電気光学パネルによれば、スイッチング素子であるＴＦＴと画素電極を接続するためのコンタクトホールは、その段差形状により液晶のディスクリネーションを引き起こすが、走査線と容量線の間にコンタクトホールを設けることにより、画素電極間の横方向電界による液晶のディスクリネーションが発生する領域に合わせ込むことが可能となる。これにより、従来は液晶のディスクリネーションが発生することにより遮光せざるを得なかった非開口領域を最小限に抑えることができる。また、画素の書き込み電荷を保持するために画素電極に付加する蓄積容量を形成するための容量線をディスクリネーション発生領域に設けることにより、画素開口率を低下させずに、表示品位の高い電気光学パネルが実現できる。更に、コンタクトホールは、開口領域を挟むことなく相隣接する容量線及び走査線の間にあるスペースを利用して、開孔されているので、容量線及び走査線によりデータ線に沿った方向の幅が規定された線対称な開口領域を、マトリクス状に配置された各画素内において広くとることができる。従って、従来のように各画素のコーナーにコンタクトホールが形成される場合と比較して、光の利用効率が改善される。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、電気光学パネルは、前記スイッチング素子の下で、前記コンタクトホールの直下に、少なくとも嵩上げ膜を設けると良い。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
この電気光学パネルによれば、スイッチング素子であるＴＦＴと画素電極を接続するためのコンタクトホールを開孔する所定の位置において、ＴＦＴの半導体層下に嵩上げ膜を敷設することにより、コンタクトホールをエッチング工程において開孔する際にＴＦＴの半導体層を突き抜けても画素欠陥とならないように防止することができる。これにより、半導体層を薄膜化することが可能となり、高速な書き込み特性が得られることから、コントラスト比の高い電気光学パネルが実現できる。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、電気光学パネルは、前記スイッチング素子は薄膜トランジスタからなり、該薄膜トランジスタのソース領域がデータ線に電気的に接続されており、該薄膜トランジスタのドレイン領域が画素電極に接続されており、前記嵩上げ膜は該ドレイン領域と電気的に接続しており、導電膜であると良い。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この電気光学パネルによれば、嵩上げ膜は、スイッチング素子であるＴＦＴの半導体層のドレイン領域に電気的に接続するようにする。また、嵩上げ膜の材質として、ポリシリコン膜やＷ（タングステン），Ｔｉ（チタン），Ｃｒ（クロム），Ｍｏ（モリブデン），Ｔａ（タンタル）といった高融点金属膜或いはその合金膜といった導電膜で形成することにより、コンタクトホールをエッチング工程において開孔する際に、万が一、半導体層を突き抜けたとしても、電気的に導通が取れているため、画素欠陥を生じることはない。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、電気光学パネルは、前記嵩上げ膜は、前記走査線及び容量線と重ならない位置に設けられると良い。


【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
この電気光学パネルによれば、ＴＦＴの半導体層のドレイン領域下に設けられる嵩上げ膜と、当該半導体層の上方にゲート絶縁膜を介して設けられる走査線及び容量線と重ならないように敷設する。これは、半導体層のドレイン領域上の層間絶縁膜の表面をほぼ平らにすることができることを意味している。これにより、前記層間絶縁膜の所定の領域にコンタクトホールを開孔するのに、層間絶縁膜を取り除かない領域にはレジストマスクを形成するが、このレジストマスクをフォトリソグラフィ工程で露光する際に、層間絶縁膜の表面が平坦化されていれば、膜表面での光の反射を抑制することができ、レジストが後退することがないため、ほぼマスク寸法とおりのコンタクトホールが形成できる。従って、コンタクトホールの開孔形状寸法が広がることがないので、画素欠陥による歩留まりの低下を招くことがない。また、コンタクトホールの寸法を微細化できるので、画素の微細化が可能となり、電気光学パネルの高精細化や小型化が実現できる。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、電気光学パネルは、前記嵩上げ膜の膜厚は、前記走査線及び容量線の膜厚とほぼ同一であることを特徴とする。


【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
この電気光学パネルによれば、嵩上げ膜の膜厚を走査線や容量線の膜厚とほぼ同一に形成することで、ＴＦＴのドレイン領域上の層間絶縁膜の表面を更に平坦にすることが可能となる。これにより、レジストマスクの後退を更に防止することができ、コンタクトホールの寸法を更に微細化することができ、更なる画素の微細化が可能となり、電気光学パネルの高精細化や小型化に有利である。


【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、電気光学パネルは、各画素の開口領域は、前記コンタクトホールに対して線対称な平面形状を持つことを特徴とする。


【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
この電気光学パネルによれば、ＴＦＴのドレイン領域と画素電極を電気的に接続するコンタクトホールは、各画素の開口領域の中心線に対して線対称な位置に開孔されているので、マトリクス状に配置されて四角い平面形状を持つ各画素内の中央付近に位置する線対称な開口領域を広くとることができる。
そしてコンタクトホールの周囲における画素電極の段差が開口領域に対して線対称となる。従って、右回りの液晶を用いた場合でも左回りの液晶を用いた場合でも、リバースティルト等の液晶の配向不良の起き易さは、殆ど同じとなる。即ち、どちらか一方回りの液晶を用いると、配向不良が顕著に発生してしまうような事態を未然に防ぐことが可能となり、どちら回りの液晶でも等しく採用でき実用上便利である。また、図１６に示す従来例のように各画素の角にコンタクトホールが形成され線対称でない開口領域内に対称形でない光照射領域が形成される場合と比較して、光の利用効率が改善される。


【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、電気光学パネルは、前記開口領域の中心線にレンズ中心を有するように、夫々の画素電極に対向する位置にマイクロレンズを設けると良い。


【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
この電気光学パネルによれば、マイクロレンズによる円形等の光照射領域の中心点を、画素の開口領域の中心線に合わせるようにすることで、当該開口領域に対する光照射領域が占める割合を高め、光利用効率が改善することができる。これにより、画素が微細化しても明るい電気光学パネルを実現することができる。


【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明の電子機器は、上述した電気光学パネルを備えたことを特徴とする。


【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
この電子機器によれば、電子機器は、上述した本願発明の電気光学パネルを備えており、画素が微細化しても歩留まりの低下を招くことがなく、また、開口領域に対する光照射領域が広く、光の利用効率が改善された電気光学パネルにより、明るく高品位の画像表示が可能となる。