【手続補正書】
【提出日】平成24年2月1日(2012.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細要素の物質分析のための方法であって、
帯電粒子ビームによって、前記微細要素の少なくとも一部分を含むエリアを照明し、
前記帯電粒子ビームに応答して前記エリア内に生成される粒子を検出し、前記検出された粒子を分析して、前記微細要素の物質特性についての指標をもたらすステップを含み、
照明動作は、それぞれが、連続するスポットモード照明期間同士の間にもたらされる一連の走査モード照明期間において実施され、
方法がさらに、前記走査モード照明期間の間に取得した画像に基づいて、前記微細要素に対する前記帯電粒子ビームの変位を評価し、連続する前記スポットモード照明期間の間に、必要に応じて空間調整対策を適用して、それによって、前記帯電粒子ビームのドリフトを補償するステップを含む、方法。
【請求項２】
前記微細要素に対する前記帯電粒子ビームの変位を前記評価するステップは、２つまたはそれ以上の前記画像を比較し、前記微細要素のある１つの位置における変化を査定するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
１つまたは複数の前記走査モード照明期間の間に照明されるエリアの長さは、
ｉ．前記帯電粒子ビームの前記ドリフトにもかかわらず、前記微細要素の大部分を含むほど十分に大きい、
ｉｉ．１つまたは複数の前記スポットモード照明期間の間に照明されるエリアの長さより約１０倍大きい、
ｉｉｉ．前記微細要素の幅より約１０倍大きい、
ｉｖ．２５０ｎｍから１０００ｎｍの間であり、１つまたは複数の前記スポットモード照明期間の間に照明されるエリアの長さは、３０ｎｍから４０ｎｍの間である、
のうちの１つである、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
２つあるいはそれ以上の前記イメージを前記比較するステップは、
走査モード照明期間の間に取得した画像を、それ以前のスポットモード照明期間の前に取得した１つまたはそれ以上の画像と比較するステップを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記帯電粒子ビームの変位レートを計算し、前記微細要素の有効部分が前記スポットモード照明期間全体にわたって照明されるように、前記スポットモード照明期間の所望の長さを決定するステップをさらに含む、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
スポットモード照明期間の間に、前記空間調整を適用するステップは、補償信号を帯電電子ビーム光学部に与えて、それによって、前記スポットモード照明期間の有効部分の間に、前記微細要素を含む前記エリアに向かって前記帯電粒子ビームを方向付けるステップを含む、請求項１ないし５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記帯電粒子ビームの予想変位レートに応答して、前記スポットモード照明期間の前記長さを決定するステップをさらに含む、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
走査モード照明期間の長さを決定するステップをさらに含む、請求項１ないし７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
微細要素の物質分析のためのシステムにおいて、
それぞれが、連続するスポットモード照明期間同士の間にもたらされる一連の走査モード照明期間において、帯電粒子ビームによりエリアを照明するため、および電圧供給ユニットによって与えられる制御信号に応答して前記帯電粒子ビームを偏向させるための偏向要素を含む帯電粒子光学部と、
前記帯電粒子ビームに応答して前記エリア内に生成される粒子を検出するための物質分析検出器と、
前記物質分析検出器および前記電圧供給ユニットに結合されており、前記物質分析検出器によって検出された前記粒子を分析して、前記微細要素の物質特性についての指標をもたらすように構成されているプロセシングユニットとを備え、
前記プロセシングユニットは、前記走査モード照明期間の間に取得した画像に基いて、前記微細要素に対する前記帯電粒子ビームの変位を評価するように、および連続するスポットモード照明期間の間に補償信号を前記電圧供給ユニットに与えて、それによって、前記帯電粒子ビームのドリフトを補償するようにさらに構成されている、システム。
【請求項１０】
前記プロセシングユニットは、前記変位を評価する際に、２つまたはそれ以上の前記画像を比較し、前記微細要素のある１つの位置における変化を査定するようにさらに構成されている、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記プロセシングユニットは、１つまたは複数の前記スポットモード照明期間および／あるいは１つまたは複数の前記走査モード照明期間の長さを制御するようにさらに構成されている、請求項９または１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記プロセシングユニットは、１つまたは複数の前記スポットモード照明期間および／あるいは１つまたは複数の前記走査モード照明期間の間に照明されるエリアの長さを制御するようにさらに構成されている、請求項９または１０に記載のシステム。
【請求項１３】
１つまたは複数の前記走査モード照明期間の間に照明されるエリアの前記長さは、
ｉ．前記帯電粒子ビームの前記ドリフトにもかかわらず、前記微細要素の大部分を含むほど十分に大きい、
ｉｉ．１つまたは複数の前記スポットモード照明期間の間に照明されるエリアの長さより約１０倍大きい、
ｉｉｉ．前記微細要素の幅より約１０倍大きい、
ｉｖ．２５０ｎｍから１０００ｎｍの間であり、１つまたは複数の前記スポットモード照明期間の間に照明されるエリアの長さが３０ｎｍから４０ｎｍの間である、
のうちの１つである、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記プロセシングユニットは、走査モード照明期間の間に取得した画像を、それ以前のスポットモード照明期間の前に取得した１つまたはそれ以上の画像と比較するように構成されている請求項９ないし１３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１５】
前記プロセシングユニットは、前記帯電粒子ビームの変位レートを計算するように構成され、前記微細要素の有効部分が前記スポットモード照明期間全体にわたって照明されるように、前記スポットモード照明期間の所望の長さを決定するようにさらに構成されている、請求項９ないし１４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１６】
前記プロセシングユニットは、連続するスポットモード照明期間の間に前記補償信号を前記電圧供給ユニットに与えるように構成されており、それにより、前記ビームが、前記スポットモード照明期間の有効部分の間に、前記微細要素を含むエリアに向かって方向付けられるようになる、請求項９ないし１５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１７】
前記プロセシングユニットは、前記帯電粒子ビームの予想変位レートに応答して、前記スポットモード照明期間の前記長さを決定するようになされている、請求項９ないし１６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１８】
前記プロセシングユニットは、前記走査モード照明期間の長さを決定するようになされている、請求項９ないし１７のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１９】
前記検出するステップは、前記帯電粒子ビームに応答して前記エリア内に生成されるＸ線、オージェ電子、後方散乱電子および光子のうちのいずれか１つを検出するステップを含む、請求項１ないし８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記物質分析検出器は、前記帯電粒子ビームに応答して前記エリア内に生成されるＸ線、オージェ電子、後方散乱電子および光子のうちのいずれか１つを検出するようになされている、請求項９ないし１７のいずれか一項に記載のシステム。