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【手続補正書】
【提出日】平成15年9月18日(2003.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溝削りが行なわれる管の周囲に配され、自身の軸を中心に中空になっている円筒形ハウジングと、該ハウジングの内部に同軸に配された回転ローラフレームと、該回転ローラフレームの内部に設けられたボールとを含み、管の内面に溝を作る回転管壁加工工具において、該管壁加工工具のハウジングの他端部は、同様に自身の軸を中心に中空になっている蓋と組合せ可能であり、円形の内面を有して前記ハウジングの内部に設置される回転ローラフレームは２つの部品からなり、これらの部品の間には、前記ボールを定位置に保持する板様ボールホルダが設けられていることを特徴とする管壁加工工具。
【請求項２】
請求項１に記載の加工工具において、前記ハウジングと前記蓋との間の間隔は、それらの間に設けられた調節板によって調節可能であることを特徴とする加工工具。
【請求項３】
請求項２に記載の加工工具において、前記調節板の強度および数量を変えることができることを特徴とする加工工具。
【請求項４】
請求項１に記載の加工工具において、前記回転ローラフレーム部品は、実質的に同様の形状であり、前記ハウジング内に互いに相対して配置されて、該フレーム部品間に残るクリアランスの大きさは前記回転ローラフレームの内部に設けられているボールの直径の８〜 12%であることを特徴とする加工工具。
【請求項５】
請求項１に記載の加工工具において、前記回転ローラフレームの両部品の内面は、軸方向に30〜90°の弧をなす円弧を形成していることを特徴とする加工工具。
【請求項６】
請求項１に記載の加工工具において、前記回転ローラフレームの半径は、前記ボールの半径より７〜15% 大きいことを特徴とする加工工具。
【請求項７】
請求項１に記載の加工工具において、前記回転ローラフレームの半径は、前記ボールの半径より８〜12% 大きいことを特徴とする加工工具。
【請求項８】
請求項１に記載の加工工具において、前記回転ローラフレーム部品とボールとの接点が点様であることを特徴とする加工工具。
【請求項９】
請求項８に記載の加工工具において、前記回転ローラフレーム部品と前記ボールとの間の接触部が該ボールの中心点に対して形成するローラ角αが75〜 110°の範囲内にあることを特徴とする加工工具。
【請求項１０】
請求項１に記載の加工工具において、前記板様ボールホルダの中央部には、各ボールの直径で決まる円弧の少なくとも55% にあたる距離に沿って実質的に等しい長さの縁を有するクリアランスが設けられていることを特徴とする加工工具。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月2日(2003.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジョブ情報に含まれるジョブの実行環境と画像形成装置の環境とを比較する比較手段と、
前記比較手段での比較結果に応じて前記ジョブの実行を制御する制御手段とを備えることを特徴とする画像形成システム。
【請求項２】
前記制御手段は、前記比較結果が異なる場合、その旨、画像形成装置の表示手段に表示し、前記ジョブを実行するか否かを促すことを特徴とする請求項１に記載の画像形成システム。
【請求項３】
更に、前記ジョブ情報にコンピュータを特定する特定情報を含み、前記制御手段は前記比較結果が異なる場合、その旨、前記特定情報で特定されるコンピュータに伝達し、前記ジョブを実行するか否かを促すことを特徴とする請求項１に記載の画像形成システム。
【請求項４】
前記ジョブの環境は、給紙カセットに装備されている用紙の色、形、紙質、穴あきであるか否か、穴の位置の何れかであることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の画像形成システム。
【請求項５】
前記ジョブの環境は、ファクス機能の有無であることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の画像形成システム。
【請求項６】
前記ジョブの環境は、画像ファイル機能の有無であることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の画像形成システム。
【請求項７】
ジョブ情報に含まれるジョブの実行環境と画像形成装置の環境とを比較する比較工程と、
比較結果に応じて前記ジョブの実行を制御する制御工程とを有することを特徴とする画像形成システムの制御方法。
【請求項８】
前記制御工程は、前記比較結果が異なる場合、その旨、画像形成装置の表示手段に表示し、前記ジョブを実行するか否かを促すことを特徴とする請求項７に記載の画像形成システムの制御方法。
【請求項９】
更に、前記ジョブ情報にコンピュータを特定する特定情報を含み、前記制御工程は前記比較結果が異なる場合、その旨、前記特定情報で特定されるコンピュータに伝達し、前記ジョブを実行するか否かを促すことを特徴とする請求項７に記載の画像形成システムの制御方法。
【請求項１０】
前記ジョブの環境は、給紙カセットに装備されている用紙の色、形、紙質、穴あきであるか否か、穴の位置の何れかであることを特徴とする請求項７乃至請求項９の何れか一項に記載の画像形成システムの制御方法。
【請求項１１】
前記ジョブの環境は、ファクス機能の有無であることを特徴とする請求項７乃至請求項９の何れか一項に記載の画像形成システムの制御方法。
【請求項１２】
前記ジョブの環境は、画像ファイル機能の有無であることを特徴とする請求項７乃至請求項９の何れか一項に記載の画像形成システムの制御方法。
【請求項１３】
前記ジョブの環境は、画像情報を記憶する記憶媒体の有無であることを特徴とする請求項７乃至請求項９の何れか一項に記載の画像形成システムの制御方法。
【請求項１４】
ジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とを比較する比較手段と、
前記比較手段によりジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致しない場合、ジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致しないことを示す画面を表示する表示手段と、
前記比較手段によりジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致する場合、画像形成装置にジョブを実行させる手段とを有することを特徴とする画像形成システム。
【請求項１５】
前記環境情報は、用紙の種類を含むことを特徴とする請求項１４に記載の画像形成システム。
【請求項１６】
前記画面は、ジョブをキャンセルする指示を行う画面を含むことを特徴する請求項１４に記載の画像形成システム。
【請求項１７】
ジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とを比較する比較工程と、
前記比較工程によりジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致しない場合、ジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致しないことを示す画面を表示させる表示工程と、
前記比較工程によりジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致する場合、画像形成装置にジョブを実行させる工程とを有することを特徴とする画像形成システムの制御方法。
【請求項１８】
前記環境情報は、用紙の種類を含むことを特徴とする請求項１７に記載の画像形成システムの制御方法。
【請求項１９】
前記画面は、ジョブをキャンセルする指示を行う画面を含むことを特徴する請求項１７に記載の画像形成システムの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の画像形成システムは、ジョブ情報に含まれるジョブの実行環境と画像形成装置の環境とを比較する比較手段と、前記比較手段での比較結果に応じて前記ジョブの実行を制御する制御手段とを備えることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また上記目的を達成するために、本発明の画像形成システムの制御方法は、ジョブ情報に含まれるジョブの実行環境と画像形成装置の環境とを比較する比較工程と、比較結果に応じて前記ジョブの実行を制御する制御工程とを有することを特徴とする。
更に上記目的を達成するために、本発明の画像形成システムは、ジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とを比較する比較手段と、前記比較手段によりジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致しない場合、ジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致しないことを示す画面を表示する表示手段と、前記比較手段によりジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致する場合、画像形成装置にジョブを実行させる手段とを有することを特徴とする。また上記目的を達成するために、本発明の画像形成システムの制御方法は、ジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とを比較する比較工程と、前記比較工程によりジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致しない場合、ジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致しないことを示す画面を表示させる表示工程と、前記比較工程によりジョブの環境情報と画像形成装置の環境情報とが一致する場合、画像形成装置にジョブを実行させる工程とを有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、所定のジョブを実行時、予期せぬ結果を防止することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年7月15日(2003.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミシンのアーム機枠の前壁部に操作パネルを装着し前記アーム機枠の上方開口部に天板を装着するミシンに於けるカバー装置であって、前記アーム機枠の後壁側に設けた基端部を中心として回動自在に支持されて開放位置と閉鎖位置との２状態とするトップカバーを設け、該トップカバーの先端側に、前記操作パネルを覆う閉鎖位置と操作パネルを目視可能に開放位置の２状態となるようにパネルカバーを回動自在に設け、前記パネルカバーを閉鎖状態の前記トップカバーの下側に重ねられるように配設することを特徴とするミシンに於けるカバー装置。
【請求項２】
ミシンのアーム機枠の前壁部に操作パネルを装着し、前記アーム機枠の上方開口部に天板を装着するミシンに於けるカバー装置であって、前記アーム機枠の後壁側に設けた基端部を中心として回動自在に支持されて開放位置と閉鎖位置との２状態とするトップカバーを設け、前記アーム機枠の前壁側に配置した前記操作パネルを覆う閉鎖位置と操作パネルを目視可能に開放位置の２状態となるように前記アーム機枠の前壁側に設けた基端部にパネルカバーを回動自在に設け、上方に回動された開放位置の前記パネルカバーを閉鎖状態の前記トップカバーの下側に重ねられるように配設することを特徴とするミシンに於けるカバー装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ミシンのアーム機枠の前壁部に操作パネルを装着し前記アーム機枠の上方開口部に天板を装着するミシンに於けるカバー装置であって、前記アーム機枠の後壁側に設けた基端部を中心として回動自在に支持されて開放位置と閉鎖位置との２状態とするトップカバーを設け、該トップカバーの先端側に、前記操作パネルを覆う閉鎖位置と操作パネルを目視可能に開放位置の２状態となるようにパネルカバーを回動自在に設け、前記パネルカバーを閉鎖状態の前記トップカバーの下側に重ねられるように配設することにより課題を解決することができた。
さらに本発明は、ミシンのアーム機枠の前壁部に操作パネルを装着し、前記アーム機枠の上方開口部に天板を装着するミシンに於けるカバー装置であって、前記アーム機枠の後壁側に設けた基端部を中心として回動自在に支持されて開放位置と閉鎖位置との２状態とするトップカバーを設け、前記アーム機枠の前壁側に配置した前記操作パネルを覆う閉鎖位置と操作パネルを目視可能に開放位置の２状態となるように前記アーム機枠の前壁側に設けた基端部にパネルカバーを回動自在に設け、上方に回動された開放位置の前記パネルカバーを閉鎖状態の前記トップカバーの下側に重ねられるように配設することにより課題を解決することができた。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月2日(2003.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下方に走行装置２を設けた機体フレーム１の上方にエンジン１１および燃料タンク１２を設けた作業車において、前記燃料タンク１２にはエアー抜きホース５５の一端側を接続し、該エアー抜きホース５５の他端側は前記エンジン１１のエンジンルームの一部を構成し前記燃料タンク１２より上方に位置する筒状の横フレーム５６内に開口して設けたことを特徴とする作業車。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下方に走行装置２を設けた機体フレーム１の上方にエンジン１１および燃料タンク１２を設けた作業車において、前記燃料タンク１２にはエアー抜きホース５５の一端側を接続し、該エアー抜きホース５５の他端側は前記エンジン１１のエンジンルームの一部を構成し前記燃料タンク１２より上方に位置する筒状の横フレーム５６内に開口して設けたことを特徴とする作業車としたものである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【効果】
本発明は、下方に走行装置２を設けた機体フレーム１の上方にエンジン１１および燃料タンク１２を設けた作業車において、前記燃料タンク１２にはエアー抜きホース５５の一端側を接続し、該エアー抜きホース５５の他端側は前記エンジン１１のエンジンルームの一部を構成し前記燃料タンク１２より上方に位置する筒状の横フレーム５６内に開口して設けたことを特徴とする作業車としたものであるから、燃料タンク１２内の燃料をエンジン１１に供給する際、燃料が減少すると、横フレーム５６より空気を吸引し、このとき横フレーム５６は燃料タンク１２より高かく位置しているので、機体が傾斜しても、燃料が漏れることはない。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月28日(2003.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生化学分析、免疫分析、ＤＮＡ検査を含む医療上の検査や理化学分析に用いられ、微量の流体をハンドリングし検出する分析装置の機能別に分離された複数の機能手段の少なくとも１つを有する小型分析装置であって、
前記複数の機能手段は、
自己制御機能を有さない検出手段と、該機能手段に対する流体ハンドリング及び該検出手段からのデータ処理を行う他の機能手段と、を少なくとも含み構成され、
前記複数の機能手段のそれぞれが、互いに電気的制御手段で制御するための電気的接続部を備えることを特徴とする小型分析装置。
【請求項２】
前記機能手段は、前記他の機能手段と連通する流路を形成するための流体用接続部を有することを特徴とする請求項１に記載の小型分析装置。
【請求項３】
生化学分析、免疫分析、ＤＮＡ検査を含む医療上の検査や理化学分析を微量の流体をハンドリングし検出する際に使用される小型分析装置の駆動方法であって、
前記分析装置が行う検出の種別により複数の機能手段に分離して、各機能手段を共通の制御手段により制御するとともに、
検出に用いられる機能手段を、他の機能手段に具備される流体ハンドリングのための制御手段及びデータ処理を行う制御手段によって間接的に駆動することを特徴とする小型分析装置の駆動方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、単に複数の試薬の供給や試料のハンドリング可能な構成にすると、検出部と電気的な制御及びデータ処理部、液体ハンドリング部等との接続時の逆流を考慮する必要がある。この時、検出部から液体ハンドリング部に血液等の試料が流入すると流路が詰まる恐れがある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
さらに、検出部を液体ハンドリング部から切り離した場合、液体ハンドリング部の流路が露出すると試薬が乾燥して流路が詰まる恐れがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで本発明は、検出部が安価でありながら、液体のハンドリングやデータ処理が可能な小型分析装置及びその駆動方法を提供することを目的とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成するために、生化学分析、免疫分析、ＤＮＡ検査を含む医療上の検査や理化学分析に用いられ、微量の流体をハンドリングし検出する分析装置の機能別に分離された複数の機能手段の少なくとも１つを有する小型分析装置であって、前記複数の機能手段は、自己制御機能を有さない検出手段と、該機能手段に対する流体ハンドリング及び該検出手段からのデータ処理を行う他の機能手段と、を少なくとも含み構成され、前記複数の機能手段のそれぞれが、互いに電気的制御手段で制御するための電気的接続部を備える小型分析装置を提供する。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、生化学分析、免疫分析、ＤＮＡ検査を含む医療上の検査や理化学分析を微量の流体をハンドリングし検出する際に使用される小型分析装置の駆動方法であって、前記分析装置が行う検出の種別により複数の機能手段に分離して、各機能手段を共通の制御手段により制御するとともに、検出に用いられる機能手段を、他の機能手段に具備される流体ハンドリングのための制御手段及びデータ処理を行う制御手段によって間接的に駆動する小型分析装置の駆動方法を提供する。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、検出部が安価でありながら、液体のハンドリングやデータ処理が可能な小型分析装置及びその駆動方法を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月15日(2004.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理容器が載置される耐熱性且つ絶縁性の材料からなるトッププレートと、このトッププレートの下方に配置され前記調理容器を加熱する複数の加熱手段と、加熱調理に関する入力操作を行うための複数の操作手段と、これらの操作手段への各々の入力操作に応じて各操作手段に対応した加熱手段を各々制御する制御手段とを具備し、
前記複数の加熱手段は、少なくとも１つの誘導加熱手段を含んで構成されていると共に、前記誘導加熱手段は使用者が調理を行う手前側に配置され、
前記操作手段は、前記トッププレートの面内で且つ前記誘導加熱手段より手前側に配置されていると共に、前記トッププレートの表面側から前記入力操作が可能に構成されていることを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記誘導加熱手段の加熱制御部を送風して冷却する冷却ファンを備え、
前記操作手段は、前記冷却ファンによる送風の一部を受けて冷却されるように配置されていることを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記トッププレートの表面における前記誘導加熱手段と前記操作手段との間に位置する部分に突起部を設けたことを特徴とする請求項１または２記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記突起部を、前記トッププレートとは別体で構成したことを特徴とする請求項３記載の加熱調理器。
【請求項５】
前記突起部を、複数個断続的に配置したことを特徴とする請求項３または４記載の加熱調理器。
【請求項６】
前記トッププレートに、前記複数の加熱手段毎に、前記調理容器を載置する位置と前記操作手段の操作を行う位置とを示す表示を設けると共に、
前記トッププレートに、前記複数の加熱手段と前記操作手段との各々の対応関係を示す表示を設けたことを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載の加熱調理器。
【請求項７】
前記操作手段は、前記トッププレート表面を前記使用者が接触することによる静電容量の変化を検出して、前記制御手段に操作信号を出力するように構成されていることを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の加熱調理器。
【請求項８】
前記複数の操作手段は、左右方向に一列に並ぶように配置されていることを特徴とする請求項１乃至７の何れかに記載の加熱調理器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１記載の加熱調理器は、調理容器が載置される耐熱性且つ絶縁性の材料からなるトッププレートと、このトッププレートの下方に配置され前記調理容器を加熱する複数の加熱手段と、加熱調理に関する入力操作を行うための複数の操作手段と、これらの操作手段への各々の入力操作に応じて各操作手段に対応した加熱手段を各々制御する制御手段とを具備し、
前記複数の加熱手段は、少なくとも１つの誘導加熱手段を含んで構成されていると共に、前記誘導加熱手段は使用者が調理を行う手前側に配置され、
前記操作手段は、前記トッププレートの面内で且つ前記誘導加熱手段より手前側に配置されていると共に、前記トッププレートの表面側から前記入力操作が可能に構成されていることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
斯様に構成すれば、誘導加熱手段自体は直接高温で発熱する熱源を有しないので、その手前側で且つトッププレートの面内に操作手段を配置しても、熱の影響を殆ど受けることがない。また、操作手段を複数の加熱手段に各々対応するように分けて前側に配置したので、操作手段の奥行寸法が小さくなることで、加熱調理部を広くすることができるようになる。更に、操作手段と加熱手段との対応関係が明確になるので、操作性が向上する。そして、使用者は、調理を行う場合には姿勢を変えることなく且つ安全に操作手段をトッププレートの表面側から入力操作することができるので、この点からも操作性が向上する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
以上の場合において、請求項７に記載したように、前記操作手段を、前記トッププレート表面を前記使用者が接触することによる静電容量の変化を検出して、前記制御手段に操作信号を出力する構成とするのが好ましい。斯様に構成すれば、操作手段が存在する位置に対応するトッププレートの表面を、操作子などの突起物が無い平面状にすることができ、清掃などがより容易となる。
また、請求項８に記載したように、前記複数の操作手段を、一列に並ぶように配置しても良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
【発明の効果】
本発明は以上説明した通りであるので、以下の効果を奏する。
請求項１記載の加熱調理器によれば、誘導加熱手段自体は直接高温で発熱する熱源を有しないので、その手前側で且つトッププレートの面内に操作手段を配置しても熱の影響を殆ど受けることがないから、使用者は、調理を行う場合には姿勢を変えることなく且つ安全に操作手段をトッププレートの表面側から入力操作することができ、操作性を向上させることができる。また、操作手段を複数の加熱手段に各々対応するように分けて前側に配置したので、操作手段の奥行寸法が小さくなって加熱調理部を広くすることができ、更に、操作手段と加熱手段との対応関係が明確になるので、より操作性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月26日(2004.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口を有し、かつ内部に第１の端子が設けられる装置筺体と、
円盤形状情報記録媒体を載置するロータと、前記ロータを回転させるモータと、が配置され、前記開口を通じて前記装置筺体の内部と外部とを移動可能であり、かつ第２の端子が設けられる移動部と、
前記第１、第２の端子間を電気的に接続するフレキシブル回路であって、フレキシブルな材料からなる帯形状の基板と、前記基板に配置される導電体とを有し、前記装置筺体の底板の内壁面に沿って配置される第１の部分と、装置筺体に対する前記移動部の移動によって配置が変化し、かつ前記移動部が前記装置筺体に挿入されたときに前記底板の内壁面に沿って配置される第２の部分とに区分されるフレキシブル回路と、
を具備することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記移動部が前記装置筺体から引き出されたときに、前記第２の部分が屈曲されて前記装置筺体の天板の内壁面に沿って配置される
ことを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記移動部が前記装置筺体に挿入されたときに、前記第２の部分が前記底板の内壁面に沿って前記装置筺体と前記移動部との間に配置される
ことを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記第１、第２の部分間で前記フレキシブル回路が折り返されている
ことを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記フレキシブル回路の第１の部分の前記底板の内壁面側に配置されている面が、前記第２の部分の前記天板側に配置されている面に対応する
ことを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記第１の部分が前記第１の端子に接続され、前記第２の部分が前記第２の端子に接続される
ことを特徴とする請求項１記載の情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及び表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に下地膜と、
前記下地膜上にチャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を有する島状の活性層と、
前記活性層上にゲイト絶縁膜と、
前記活性層上に前記ゲイト絶縁膜を介してゲイト電極と、
前記ゲイト絶縁膜及び前記ゲイト電極上には窒化珪素膜と樹脂膜を積層した層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上にはソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記ゲイト絶縁膜及び前記層間絶縁膜には前記ソース領域及び前記ドレイン領域へ貫通するコンタクトホールが形成され、
前記層間絶縁膜上の前記ソース電極及び前記ドレイン電極は前記コンタクトホールにおいて、前記ソース領域又は前記ドレイン領域と接していることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
基板上に下地膜と、
前記下地膜上にゲイト電極と、
前記ゲイト電極上にゲイト絶縁膜と、
前記ゲイト絶縁膜上にチャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を有する島状の活性層と、
前記ゲイト絶縁膜及び前記活性層上には窒化珪素膜と樹脂膜を積層した層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上にはソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記層間絶縁膜には前記ソース領域及び前記ドレイン領域へ貫通するコンタクトホールが形成され、
前記層間絶縁膜上の前記ソース電極及び前記ドレイン電極は前記コンタクトホールにおいて、前記ソース領域又は前記ドレイン領域と接していることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
基板上に下地膜と、
前記下地膜上にチャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を有する島状の２つの活性層と、
前記活性層上にゲイト絶縁膜と、
前記活性層上に前記ゲイト絶縁膜を介してゲイト電極と、
前記ゲイト絶縁膜及び前記ゲイト電極上には窒化珪素膜と樹脂膜を積層した層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上にはソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記２つの活性層のうち、一方はソース領域及びドレイン領域がＮ型の導電性を有し、他方はソース領域及びドレイン領域がＰ型の導電性を有し、
前記ゲイト絶縁膜、前記層間絶縁膜には前記ソース領域及び前記ドレイン領域へ貫通するコンタクトホールが形成され、
前記層間絶縁膜上の前記ソース電極及び前記ドレイン電極は前記コンタクトホールにおいて、前記ソース領域又は前記ドレイン領域と接し、
前記２つの活性層のドレイン領域は、前記ドレイン電極で電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、前記樹脂膜はポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、エポキシ、アクリルのいずれか一からなることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、前記下地膜は酸化珪素膜であることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５において記載された半導体装置を具備したことを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項６において、前記表示装置はフラットパネルディスプレイであることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項６において、前記表示装置は液晶表示装置、ＥＬディスプレイ又はプラズマディスプレイのいずれか一であることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重金属元素を含むシリコン上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成された複数の薄膜トランジスタと、
を有し、
前記重金属元素とはＦｅ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｎのうちの少なくとも1つの元素であり、
前記シリコンはガラスに貼り合わされていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
重金属元素を含むシリコン上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された複数の薄膜トランジスタと、
を有し、
前記重金属元素とはＦｅ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｎのうちの少なくとも1つの元素であり、
前記シリコンはプラスチックに貼り合わされていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記シリコン中に含まれる重金属元素の濃度は5×1010atoms/cm3を超える濃度であることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、前記シリコン中の欠陥密度は半導体グレードのシリコン基板に許容される欠陥密度よりも大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、前記絶縁膜は気相法により形成された絶縁膜と、熱酸化法により形成された熱酸化膜との積層膜であることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、前記複数のトランジスタの活性層は、互いにほぼ平行に方向性をもって成長した複数の棒状または偏平棒状結晶が集合してなる結晶が構造体でなることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、前記薄膜トランジスタのサブスレッショルド係数は60〜100mV/decadeであることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、前記絶縁膜の膜厚は0.5〜5μｍであることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、前記薄膜トランジスタのソース／ドレイン領域はシリサイド化されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、前記薄膜トランジスタはトップゲイト型であることを特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、前記薄膜トランジスタはボトムゲイト型であることを特徴とする半導体装置。
【請求項１２】
重金属を含むシリコン上に絶縁膜を形成する工程と、
前記シリコン上に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜上に複数の薄膜トランジスタを形成する工程とを有し、
前記薄膜トランジスタが形成されたシリコンとガラスとを貼り合わせることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
重金属を含むシリコン上に絶縁膜を形成する工程と、
前記シリコン上に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜上に複数の薄膜トランジスタを形成する工程とを有し、
前記薄膜トランジスタが形成されたシリコンとプラスチックとを貼り合わせることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１２または請求項１３において、前記重金属元素とはＦｅ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｎのうちの少なくとも1つの元素であることを特徴とした半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
重金属元素を含むシリコン上に熱酸化膜を形成する工程と、
前記熱酸化膜上に複数のトランジスタを形成する工程と、
を有し、
前記重金属元素とはＦｅ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｎのうちの少なくとも1つの元素であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１６】
重金属元素を含むシリコン上に絶縁膜を形成する工程と、
前記シリコンを熱酸化する工程と、
前記熱酸化膜上に複数のトランジスタと形成する工程とを有し、
前記重金属元素とはＦｅ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｎのうちの少なくとも1つの元素であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１７】
請求項１２乃至請求項１６において、前記シリコン中に含まれる重金属元素の濃度は5×1010atoms/cm3を超える濃度であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１８】
請求項１２乃至請求項１７のいずれか一項において、前記シリコン中の欠陥密度は半導体グレードのシリコン基板に許容される欠陥密度よりも大きいことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１９】
請求項１２乃至請求項１８のいずれか一項において、前記複数の薄膜トランジスタの活性層は、結晶化を助長する触媒元素により、結晶化されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２０】
請求項１９において、前記結晶化を助長する触媒元素としてＮｉ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕから選ばれた一種または複数種を用いることを特徴とした半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に下地膜を形成し、
前記下地膜上に珪素を有する島状の活性層を形成し、
前記活性層を覆うようにゲイト絶縁膜を形成し、
前記ゲイト絶縁膜を介して前記活性層上にゲイト電極を形成し、
前記ゲイト電極をマスクとして前記活性層に不純物元素のイオンを添加して、ソース領域及びドレイン領域を形成し、
前記ゲイト絶縁膜及び前記ゲイト電極上に、窒素珪素膜と樹脂膜を積層した層間絶縁膜を形成し、
前記ゲイト絶縁膜及び前記層間絶縁膜に、前記ソース領域及び前記ドレイン領域へ貫通するコンタクトホールを形成し、
前記層間絶縁膜上に、前記ソース領域と接するソース電極及び前記ドレイン領域と接するドレイン電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、前記窒化珪素膜はプラズマＣＶＤ法により形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１乃至２のいずれか一項において、前記樹脂膜はスピンコート法により形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、前記樹脂膜はポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、エポキシ、アクリルのいずれか一からなることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、前記下地膜は酸化珪素膜であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月2日(2003.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】窒化物系化合物半導体装置とその製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化物系化合物半導体からなるコンタクト層の上に金属電極が形成された窒化物系化合物半導体装置において、
前記コンタクト層は、前記金属電極側に向かって単結晶から多結晶へ結晶性を連続的に変化させたことを特徴とする窒化物系化合物半導体装置。
【請求項２】
窒化物系化合物半導体からなるコンタクト層の上に金属電極が形成された窒化物系化合物半導体装置において、
前記コンタクト層は、前記金属電極側に向かって単結晶からアモルファスへ結晶性を連続的に変化させたことを特徴とする窒化物系化合物半導体装置。
【請求項３】
前記コンタクト層が、ＧａxＩｎ1-xＮ（０≦ｘ≦１）からることを特徴とする請求項１または２に記載の窒化物系化合物半導体装置。
【請求項４】
前記コンタクト層のＧａの組成比ｘが前記金属電極側より０から１まで段階的または連続的に変化していることを特徴とする請求項３に記載の窒化物系化合物半導体装置。
【請求項５】
窒化物系化合物半導体からなるコンタクト層の上に金属電極が形成された窒化物系化合物半導体装置の製造方法において、前記コンタクト層は、前記金属電極側に向かって、単結晶が得られる温度から徐々に基板温度を下げながら気相成長させられることを特徴とする窒化物系化合物半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記コンタクト層は、ＧａxＩｎ1-xＮ（０≦ｘ≦１）からなり、成膜中の原料ガスの組成比を変化させて気相成長させられることを特徴とする請求項５に記載の窒化物系化合物半導体装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、窒化物系化合物半導体装置とその製造方法に関し、特に、機械的強度に優れた電極構造を有する窒化物系化合物半導体装置とその製造方法に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
さらに、特に、前記コンタクト層は、Ｇａの組成比ｘが前記金属電極側より０から１まで段階的または連続的に変化していることを特徴とする窒化物系半導体装置を提供する。
さらにまた、本発明による窒化物系化合物半導体からなるコンタクト層の上に金属電極が形成された窒化物系化合物半導体装置の製造方法においては、そのコンタクト層は、金属電極側に向かって、単結晶が得られる温度から徐々に基板温度を下げながら気相成長させられることを特徴としている。その製造方法において、コンタクト層は、ＧａxＩｎ1-xＮ（０≦ｘ≦１）からなり、成膜中の原料ガスの組成比を変化させて気相成長させられることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月17日(2003.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学的及び／又は物理的な反応を適用して基板上のレジストを剥離する乾式レジスト剥離方法であって、
該反応を該基板の中央部に比べ該基板の端部に集中し、該基板端部のレジスト剥離速度を該基板の中央部に比べ向上させたことを特徴とする乾式レジスト剥離方法。
【請求項２】
請求項１記載の乾式レジスト剥離方法において、
該反応がプラズマを利用するものであり、
該基板周辺にプラズマ集光治具を配し、該基板端部にプラズマを集光し、該基板端部のレジスト剥離速度を向上させたことを特徴とする乾式レジスト剥離方法。
【請求項３】
請求項２記載の乾式レジスト剥離方法において、
該プラズマ集光治具はカートリッジ式の交換可能なものであり、適用する基板の大きさに対応させて、異なる大きさを有するカートリッジ式プラズマ集光治具の群の中から選択されたものであることを特徴とする乾式レジスト剥離方法。
【請求項４】
請求項２または請求項３のいずれか記載の乾式レジスト剥離方法において、
該プラズマ集光治具は、該基板上のレジスト面より１ｍｍ以上５０ｍｍ以下の高さを有するように該基板周辺に配設されることを特徴とする乾式レジスト剥離方法。
【請求項５】
請求項２乃至請求項４のいずれか一項記載の乾式レジスト剥離方法において、
該プラズマ集光治具は、該基板端より１ｍｍ以上２０ｍｍ以下の距離を有するように該基板周辺に配設されることを特徴とする乾式レジスト剥離方法。
【請求項６】
請求項２乃至請求項５のいずれか一項記載の乾式レジスト剥離方法において、
前記基板は平行した円形平板電極内に載置された角型形状を有するフォトプレートであることを特徴とする乾式レジスト剥離方法。
【請求項７】
プラズマを用いて基板上のレジストを剥離する乾式レジスト剥離装置において、
該基板周辺にプラズマ集光治具を配設し、該プラズマを該基板の中央部に比べ該基板の端部に集中し、該基板端部のレジスト剥離速度を該基板の中央部に比べ向上させたことを特徴とする乾式レジスト剥離装置。
【請求項８】
請求項７記載の乾式レジスト剥離装置において、
該プラズマ集光治具はカートリッジ式の交換可能なものであり、適用する基板の大きさに対応させて、異なる大きさを有するカートリッジ式プラズマ集光治具の群の中から選択されたものであることを特徴とする乾式レジスト剥離装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項４記載の発明は、請求項２または請求項３のいずれか記載の乾式レジスト剥離方法において、
該プラズマ集光治具は、該基板上のレジスト面より１ｍｍ以上５０ｍｍ以下の高さを有するように該基板周辺に配設されることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項５記載の発明は、請求項２乃至請求項４のいずれか一項記載の乾式レジスト剥離方法において、
該プラズマ集光治具は、該基板端より１ｍｍ以上２０ｍｍ以下の距離を有するように該基板周辺に配設されることを特徴とする。
請求項６記載の発明は、請求項２乃至請求項５のいずれか一項記載の乾式レジスト剥離方法において、
前記基板は平行した円形平板電極内に載置された角型形状を有するフォトプレートであることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項７記載の発明は、プラズマを用いて基板上のレジストを剥離する乾式レジスト剥離装置において、
該基板周辺にプラズマ集光治具を配設し、該プラズマを該基板の中央部に比べ該基板の端部に集中し、該基板端部のレジスト剥離速度を該基板の中央部に比べ向上させたことを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項８記載の発明は、請求項７記載の乾式レジスト剥離装置において、
該プラズマ集光治具はカートリッジ式の交換可能なものであり、適用する基板の大きさに対応させて、異なる大きさを有するカートリッジ式プラズマ集光治具の群の中から選択されたものであることを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
請求項４乃至請求項６記載の発明によれば、プラズマの集光効率が高めるとともに、基板の設置等の取扱い作業を容易とすることが可能となる。
請求項７及び請求項８記載の発明によれば、下部電極に置かれたフォトプレート周囲に、フォトプレート外周と同程度の大きさを有するように取替え可能なカートリッジ式のプラズマ集光治具を配設し、フォトプレートの上面中央部付近の剥離速度を低下させること無く、剥離速度の遅い基板端部にプラズマ密度を集中させて、フォトプレート端部のレジスト剥離速度を向上する新規な乾式レジスト剥離装置の提供が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月17日(2003.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ドライプロセス監視方法及び装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドライプロセス中に発生する反応発光色を受像手段によってフルカラーで受像し、受像した画像信号に基づいてプロセス状態を監視することを特徴とするドライプロセス監視方法。
【請求項２】
上記受像した画像信号に基づいてプロセスの終了を検知すると共に、前記画像信号によってプロセス異常を検知することを特徴とする請求項１記載のドライプロセス監視方法。
【請求項３】
上記プロセス異常の検知は、上記プロセスを阻害する発光色に関する画像信号が予め設定した基準値を越えた場合に異常と判断することを特徴とする請求項２記載のドライプロセス監視方法。
【請求項４】
上記受像した画像信号に基づいたプロセス状態の監視が、三原色の階調分布の変化の監視、又は、色度図における色度座標の変化の監視であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のドライプロセス監視方法。
【請求項５】
ドライプロセス中に発生する反応発光色をフルカラーで受像する受像手段と、前記受像した画像信号に基づいてプロセス状態を監視する監視手段とを備えることを特徴とするドライプロセス監視装置。
【請求項６】
上記受像手段が、固体撮像素子或いは固体撮像カメラであることを特徴とする請求項５記載のドライプロセス監視装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はドライプロセス監視方法及び装置に関するものであり、特に、ドライ・エッチングプロセス中における異常検出を精度良く行うためのドライプロセス監視方法及び装置に関するものである。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
図１は本発明の原理的構成の説明図であり、この図１を参照して本発明における課題を解決するための手段を説明する。
図１参照
（１）本発明は、ドライプロセス監視方法において、ドライプロセス中に発生する反応発光色を受像手段２によってフルカラーで受像し、受像した画像信号に基づいてプロセス状態を監視することを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（２）また、本発明は、上記（１）において、受像した画像信号に基づいてプロセスの終了を検知すると共に、画像信号によってプロセス異常を検知することを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（３）また、本発明は、上記（２）において、プロセス異常の検知は、プロセスを阻害する発光色に関する画像信号が予め設定した基準値を越えた場合に異常と判断することを特徴とする。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
なお、ドライプロセスを中断させた場合には、監視ユニット４からの外部アラームによってドライプロセスを含む製造ラインを停止することによって、不良ウェハの加工を中止することができる。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（４）また、本発明は、上記（１）乃至（３）のいずれかにおいて、受像した画像信号に基づいたプロセス状態の監視が、三原色の階調分布の変化の監視、又は、色度図における色度座標の変化の監視であることを特徴とする。


【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
或いは、画像信号処理手段２としては、色度図、即ち、ＣＩＥ（Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌｅ  ｄｅ  Ｅｎｌｕｍｉｎｕｒｅ）表色系における色度座標を表示する図を用い、所定の色度座標からのずれの量が予め設定した値を越えた場合に異常と判定することによっても、ドライプロセスの監視が可能である。


【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（５）また、本発明は、ドライプロセス監視装置において、ドライプロセス中に発生する反応発光色をフルカラーで受像する受像手段２と、前記受像した画像信号に基づいてプロセス状態を監視する監視手段とを備えることを特徴とする。
（６）また、本発明は、上記（５）において、受像手段２が、固体撮像素子或いは固体撮像カメラであることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の現在位置を検出する現在位置検出手段と、
車外画像の撮像を指示する撮像指示手段と、
車両の舵角を検出する舵角検出手段と、
前記撮像指示手段で撮像の指示がされた場合に、前記舵角検出手段で検出された舵角が変化する場合、所定舵角毎に車外の撮像を行う撮像手段と、
前記撮像手段で撮像された車外画像を、前記現在位置検出手段により得られる撮像位置の情報と共に、同一経路を走行する後続の車両に送信する送信手段と、
を具備することを特徴とする経路案内装置。
【請求項２】
前記送信手段は、前記現在位置検出手段により得られる、撮像指示手段による撮像指示位置、または、前記撮像手段による撮像開始位置を撮像位置情報として、前記撮像手段で撮像された車外画像と共に送信することを特徴とする請求項１に記載の経路案内装置。
【請求項３】
前記撮像指示手段は、撮像スイッチのオン、方向指示器のオン、または、舵角が所定値になった場合に、撮像を指示することを特徴とする請求項１、または、請求項２に記載の経路案内装置。
【請求項４】
他の車両で撮像した車外画像とその撮像位置の情報を、通信を用いて獲得する画像獲得手段と、
前記現在位置検出手段で検出される現在位置から、前記画像獲得手段により獲得した撮像位置の情報に対応する所定位置に車両が到達したか否かを判断する位置判断手段と、
この位置判断手段により所定位置に車両が到達したと判断された場合、前記画像獲得手段で獲得した車外画像を表示する画像表示手段と、
を具備することを特徴とする請求項１に記載の経路案内装置。
【請求項５】
前記画像表示手段により車外画像を表示する所定位置から所定距離手前において、画像案内の予告をする画像案内予告手段
を具備することを特徴とする請求項４に記載の経路案内装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載した発明では、車両の現在位置を検出する現在位置検出手段と、車外画像の撮像を指示する撮像指示手段と、車両の舵角を検出する舵角検出手段と、前記撮像指示手段で撮像の指示がされた場合に、前記舵角検出手段で検出された舵角が変化する場合、所定舵角毎に車外の撮像を行う撮像手段と、前記撮像手段で撮像された車外画像を、前記現在位置検出手段により得られる撮像位置の情報と共に、同一経路を走行する後続の車両に送信する送信手段と、を経路案内装置に具備させて前記第１の目的を達成する。
請求項２に記載の発明では、請求項１に記載した経路案内装置において、前記送信手段は、前記現在位置検出手段により得られる、撮像指示手段による撮像指示位置、または、前記撮像手段による撮像開始位置を撮像位置情報として、前記撮像手段で撮像された車外画像と共に送信する。
請求項３に記載の発明では、請求項１、または、請求項２に記載の経路案内装置において、前記撮像指示手段は、撮像スイッチのオン、方向指示器のオン、または、舵角が所定値になった場合に、撮像を指示する。
請求項４に記載の発明では、請求項１に記載した経路案内装置において、他の車両で撮像した車外画像とその撮像位置の情報を、通信を用いて獲得する画像獲得手段と、前記現在位置検出手段で検出される現在位置から、前記画像獲得手段により獲得した撮像位置の情報に対応する所定位置に車両が到達したか否かを判断する位置判断手段と、この位置判断手段により所定位置に車両が到達したと判断された場合、前記画像獲得手段で獲得した車外画像を表示する画像表示手段と、を具備させて前記第２の目的を達成する。
請求項５に記載の発明では、請求項４に記載の経路案内装置において、前記画像表示手段により車外画像を表示する所定位置から所定距離手前において、画像案内の予告をする画像案内予告手段を具備させる。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１から請求項３に記載した各発明によれば、車外画像により視覚的に進路を認識できる進路情報を送信することができる。
また、請求項４、請求項５に記載した各発明によれば、車外画像により視覚的に進路を認識できる進路情報を受信して表示することができる。