Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月2日(2014.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部容積を画定するチャンバであって、前記内部容積内への開口と、前記内部容積内への物質の流入を受け入れる入口と、前記内部容積からの物質の流出を排出する出口と、を有するチャンバと、
前記開口を密閉して閉じ、及び、前記内部容積内における物質の処理のために前記チャンバ内に集束音響エネルギーを伝達する、前記開口内の窓であって、約１００ｋＨｚ〜１００ＭＨｚの周波数を有する音響エネルギーをほぼ透過する窓と、
前記窓及び前記チャンバから離間された音響エネルギー源であって、前記内部容積内に音響エネルギーの焦点ゾーンを生成するために約１００ｋＨｚ〜１００ＭＨｚの周波数を有する音響エネルギーを放射する音響エネルギー源と、
前記音響エネルギー源から前記窓に音響エネルギーを伝達する結合媒体であって、液体又は固体である結合媒体と、を備える、音響エネルギーによって物質を処理するシステムであって、
前記システムは、１時間を超える長期間の間、約２００ワット以上に相当する出力エネルギーで動作する前記音響エネルギー源によって前記内部容積内で物質を音響的に処理する、システム。
【請求項２】
前記窓は、前記音響エネルギー源に面する凸面を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記凸面の形状は、前記音響エネルギー源によって生成されて前記凸面に入射する音響エネルギーの波面の形状と同様である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記窓の形状は、前記窓によって前記内部容積内に伝達される前記音響エネルギー源からの音響エネルギーに対して集束影響を有する、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記窓は前記チャンバの底面にあり、前記チャンバは、前記チャンバの上面上に前記内部容積の外観検査用の第２窓をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記チャンバの全体が音響結合媒体によって囲まれる、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記チャンバの全体が液体結合媒体中に浸漬される、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記チャンバは、外面に、前記結合媒体と熱を交換する熱交換器を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記チャンバは樽形状を有し、前記入口及び前記出口の各々は、前記樽形状の長手方向軸線に沿って前記チャンバから離れるように延びる導管を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
内部容積と当該内部容積へのアクセスのための開口とを有する容器であって、前記開口が前記内部容積内に前記チャンバを配置するために前記チャンバを受け入れる容器をさらに備え、前記音響エネルギー源及び前記結合媒体は前記内部容積内に配置される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記容器の前記開口を閉じるキャップをさらに備え、前記入口及び前記出口の各々が、前記チャンバから離れて前記キャップを通って延びる導管を含む、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記チャンバの壁に冷却流体を供給するために前記チャンバの少なくとも一部に関連付けられた冷却ジャケットをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記チャンバは、前記内部容積の形状及びサイズを少なくとも部分的に規定する挿入子を含み、前記挿入子は複数の核生成部位を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記挿入子は、円錐状に形成された内面を有するスリーブを含む、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記チャンバ及び前記窓は、前記内部容積内の加圧環境を維持する、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月6日(2014.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２４５】
本開示の範囲及び趣旨から外れることなく、本発明の予測可能な修正及び変更が当業者には自明であろう。本発明は、説明を目的として本出願に記載される各実施形態に限定されるべきものではない。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［１０］に記載する。
［１］
反射防止構造化表面と、前記反射防止構造化表面の上にシリカナノ粒子の多孔質ネットワークを含む焼結コーティングと、を有する透明基材を含む物品であって、ここで、前記シリカナノ粒子が隣接するシリカナノ粒子に結合している、物品。
［２］
前記シリカナノ粒子の多孔質ネットワークが三次元ネットワークである、項目１に記載の物品。
［３］
前記焼結コーティングが、前記透明基材の反射防止構造化表面に対するコンフォーマルコーティングである、項目１又は２に記載の物品。
［４］
前記ナノ粒子が二峰性サイズ分布を有する、項目１〜３のいずれかに記載の物品。
［５］
前記焼結コーティングが、前記透明基材の反射防止構造化表面に対するコンフォーマルコーティングである、項目１〜４のいずれかに記載の物品。
［６］
前記焼結コーティングが、前記表面構造それ自体よりも、広い範囲の入射光角度にわたって高い光透過率を有する、項目１〜５のいずれかに記載の物品。
［７］
前記透明基材がフィルムである、項目１〜６のいずれかに記載の物品。
［８］
前記反射防止構造化表面をもつ透明フィルムが、静電気消散性材料を含む、項目７に記載の物品。
［９］
前記透明フィルムの前記反射防止構造化表面が、光に対して反射防止する構造化面を有し、少なくとも前記反射防止構造が架橋ポリマー材料を含み、前記構造化表面が、前記フィルムの残部よりも高い架橋ポリマー密度を有する、項目７に記載の物品。
［１０］
光エネルギー受容面を有する光吸収剤と、
光エネルギーの供給源と前記光エネルギーを受容する面との間にあるように配置された項目１〜９のいずれかに記載の物品と、を含む、光エネルギー吸収デバイスであって、この間にわたって前記供給源からの光エネルギーが前記光吸収剤により吸収される、光エネルギー吸収デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射防止構造化表面と、前記反射防止構造化表面の上にシリカナノ粒子の多孔質ネットワークを含む酸性焼結コーティングと、を有する透明基材を含む物品であって、ここで、前記シリカナノ粒子が隣接するシリカナノ粒子に結合している、物品。
【請求項２】
前記シリカナノ粒子の多孔質ネットワークが三次元ネットワークである、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記焼結コーティングが、前記透明基材の反射防止構造化表面に対するコンフォーマルコーティングである、請求項１又は２に記載の物品。
【請求項４】
光エネルギー受容面を有する光吸収剤と、
光エネルギーの供給源と前記光エネルギーを受容する面との間にあるように配置された請求項１〜３のいずれか一項に記載の物品と、を含む、光エネルギー吸収デバイスであって、この間にわたって前記供給源からの光エネルギーが前記光吸収剤により吸収される、光エネルギー吸収デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月25日(2014.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）１種以上の担体材料を供給する工程；
（ｉｉ）該１種以上の担体材料上に１種以上のポリマーを供給する工程；及び
（ｉｉｉ）該１種以上の坦持されたポリマー上に１種以上の金属を供給する工程；
（ｉｖ）工程（ｉｉｉ）の生成物をか焼する工程；を有する触媒の製造方法であって、
工程（ｉｉ）における１種以上のポリマーが、架橋したポリマー及び／又は架橋剤と反応したポリマーを含まないことを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記１種以上の担体材料が、１種以上の粒状担体材料を含む請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
工程（ｉ）で供給された前記１種以上の担体材料が、１種以上の金属酸化物を含んでいる請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
工程（ｉｉ）で前記担体材料上に供給される前記１種以上のポリマーが、工程（ｉｉｉ）で供給される前記１種以上の金属の１種以上と配位、錯化、及び／又は結合し得る１種以上の官能基を有するホモポリマー及び／又はコポリマーからなる群から選択される請求項１〜３の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記１種以上のポリマーの１種以上が極性溶媒及びこれらの混合物からなる群から選択される１種以上の溶媒に可溶性である請求項１〜４の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
工程（ｉｉ）で前記担体材料上に供給される前記１種以上のポリマーが、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸及びこれらの２種以上の混合物のホモポリマー及び／又はコポリマーからなる群から選択される１種以上のポリマーを含む請求項１〜５の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記１種以上のポリマーが、１００〜５００，０００ｇ／モルの範囲に含まれる平均分子量ＭＷを有する１種以上のポリマーを含む請求項１〜６の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
工程（ｉｉ）で得られるような前記１種以上のポリマーの、前記１種以上の担体材料における合計負荷量が、前記１種以上の担体材料の合計量１００質量％に対して０．１〜５０質量％の範囲に含まれる請求項１〜７の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
工程（ｉｉ）において前記１種以上のポリマーを、含浸によって前記担体材料上に供給する請求項１〜８の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
工程（ｉｉｉ）において前記１種以上の金属が、遷移金属からなる群から選択される請求項１〜９の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
工程（ｉｉｉ）において前記１種以上の金属の、前記１種以上の担体材料における合計負荷量が、前記１種以上の担体材料の合計量１００質量％に対して０．０１〜３０質量％の範囲に含まれる請求項１〜１０の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
工程（ｉｉｉ）において前記１種以上の金属を、含浸により前記坦持されたポリマー上に供給する請求項１〜１１の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
工程（ｉｉ）において前記１種以上のポリマーを前記１種以上のポリマーの溶液として供給する請求項１〜１２の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記溶液中の前記１種以上のポリマーの前記合計濃度が、０．０１〜５０％の範囲である請求項１３に記載の製造方法。
【請求項１５】
工程（ｉｉｉ）における前記１種以上の金属を、前記１種以上の金属の溶液として供給する請求項１〜１４の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１６】
工程（ｉｉ）及び／又は（ｉｉｉ）の分離を、前記溶媒のろ過及び／又は蒸発により達成する請求項１３〜１５の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１７】
工程（ｉｉ）及び／又は（ｉｉｉ）の乾燥を、５０〜２００℃の範囲に含まれる温度で実施する請求項１３〜１６の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
か焼を４５０〜１，５００℃の範囲に含まれる温度で実施する請求項１〜１７の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１９】
工程（ｉｉｉ）が、前記１種以上の坦持されたポリマー上に供給された前記１種以上の金属の１種以上を還元する工程を含まない請求項１〜１８の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２０】
請求項１〜１９の何れか１項に記載の製造方法によって得られる触媒。
【請求項２１】
前記触媒が、
内燃エンジンと、
該エンジンに流体連通する排気ガス管路とを含む自動車の排気ガス流のための処理システムに含まれ、
前記触媒が、前記排気ガス管路内部に設けられている請求項２０に記載の触媒。
【請求項２２】
（ａ）請求項２０又は２１に記載の触媒を供給する工程；、及び
（ｂ）該触媒上で、及び／又は該触媒を介して自動車のエンジン排気ガス流を流通させる工程；を含む自動車のエンジン排気ガスの処理方法であって、
前記自動車のエンジン排気ガス流が、希薄燃焼内燃エンジンに由来することを特徴とする処理方法。
【請求項２３】
排気ガス浄化触媒として請求項２０又は２１に記載の触媒を使用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月7日(2014.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）表裏となる第１の表面と第２の表面とを有する可撓性裏張りと、
（ｂ）前記可撓性裏張りの前記第１の表面に配置される複数の研磨粒子を含む研磨層と、
（ｃ）耐荷重性粒子と接着母材とを含み、前記可撓性裏張りの前記第２の表面に配置される接着層と、を含み、
前記耐荷重性粒子の少なくとも一部分は、前記接着母材に実質的に包まれ、可撓性裏張りの前記第２の表面と接触する、研磨物品。
【請求項２】
前記耐荷重性粒子を含む前記接着層に取り付けられる剛性支持体を更に含む、請求項１に記載の研磨物品。
【請求項３】
前記耐荷重性粒子の少なくとも一部分は、前記剛性支持体と接触する、請求項２に記載の研磨物品。
【請求項４】
前記耐荷重性粒子は、
（ｉ）錫、銅、インジウム、亜鉛、ビスマス、鉛、アンチモン、銀、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される金属又はその合金、
（ｉｉ）ポリウレタン、ポリメチルメタクリレート、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されるポリマー、
（ｉｉｉ）金属酸化物、ランタニド酸化物からなる群から選択されるセラミック材料、
（ｉｖ）コアシェルタイプの粒子、
からなる群から選択される、請求項１に記載の研磨物品。
【請求項５】
前記耐荷重性粒子は、前記接着層の厚さと実質的に等しい平均直径を有する、請求項１に記載の研磨物品。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月12日(2014.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＷＣを含んでなる硬質相とバインダー相とを含んでなる油およびガス用途のための超硬合金であって、超硬合金組成が、ＷＣと、３〜１１質量％のＮｉ、０．５〜７質量％のＣｒ、０．３〜１．５質量％のＭｏ、０〜１質量％のＮｂ、および０〜０．２質量％のＣｏとを含んでなることを特徴とする、超硬合金。
【請求項２】
超硬合金組成が、ＷＣと、５〜７質量％のＮｉ、１．５〜２．５質量％のＣｒ、０．５〜１．５質量％のＭｏ、０質量％より多く０．５質量％未満のＮｂ、および０〜０．２質量％のＣｏとを含んでなる、請求項１記載の超硬合金。
【請求項３】
超硬合金組成が、ＷＣと、５〜７質量％のＮｉ、１．５〜２．５質量％のＣｒ、０．５〜１．５質量％のＭｏ、０〜０．５質量％のＮｂ、および０質量％より多く０．２質量％未満のＣｏとを含んでなる、請求項１〜２のいずれかに記載の超硬合金。
【請求項４】
ＷＣ含有量が８０〜９５質量％であり、バインダー含有量が５〜２０質量％である、請求項１〜３のいずれかに記載の超硬合金。
【請求項５】
超硬合金組成がさらに、０質量％より多く０．２質量％未満のＳｉ、０〜１質量％のＦｅ、および０〜０．０８質量％のＭｎを含んでなる、請求項１〜４のいずれかに記載の超硬合金。
【請求項６】
超硬合金組成がさらに、０〜０．２質量％のＳｉ、０質量％より多く１質量％未満のＦｅ、および０〜０．０８質量％のＭｎを含んでなる、請求項１〜５のいずれかに記載の超硬合金。
【請求項７】
超硬合金組成がさらに、０〜０．２質量％のＳｉ、０〜１質量％のＦｅ、および０質量％以上０．０８質量％未満のＭｎを含んでなる、請求項１〜６のいずれかに記載の超硬合金。
【請求項８】
バインダー相中のＣｒ／Ｎｉの質量比が０．１〜０．５である、請求項１〜７のいずれかに記載の超硬合金。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の超硬合金を含んでなる流量制御装置。
【請求項１０】
腐食性、摩耗性および浸食性環境における油およびガス用途のための請求項１〜８のいずれかに記載の超硬合金を使用する方法。
【請求項１１】
流量制御装置における請求項１〜８のいずれかに記載の超硬合金を使用する方法。
【請求項１２】
流量制御装置が、チョークおよび制御バルブ成分を含んでなる、請求項１１に記載の使用する方法。
【請求項１３】
チョークおよび制御バルブ成分が、針、シート、ステム、密封装置、及びライナーから選択される、請求項１１または１２に記載の使用する方法。
【請求項１４】
ＷＣを含んでなる硬質相とバインダー相とを含んでなる請求項１〜８記載の超硬合金を作製する方法であって、原料として、ＷＣ粉末と、５５〜６５質量％のＮｉ、１５〜２５質量％のＣｒ、５〜１２質量％のＭｏ、０〜６質量％のＮｂ、および０〜１質量％のＣｏを含んでなるさらなる１以上の粉末とを用いることによって特徴づけられる、方法。
【請求項１５】
さらなる粉末が、５５〜６５質量％のＮｉ、１５〜２５質量％のＣｒ、５〜１２質量％のＭｏ、０質量％より多く６質量％未満のＮｂ、および０〜１質量％のＣｏを含んでなる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
少なくとも１つのさらなる粉末がプレアロイ金属ベースの粉末を含んでなる、請求項１４〜１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
少なくとも１つのさらなる粉末が元素粉末を含んでなる、請求項１４〜１６のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月8日(2014.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
さらに、各記載の範囲は、本明細書に含まれる特定の数値と範囲の全ての組み合わせ及びサブコンビネーションを包含する。さらに、本明細書で引用又は記載した各特許、特許出願及び刊行物の開示は、それらの全内容を引用により本明細書に援用する。
本発明に関連する発明の実施態様の一部を以下に示す。
［態様１］
応力弾性率対温度曲線の傾きが約−０．５０×１０６〜約−３．００×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）であるポリウレタン分散体を含む犠牲床コーティング組成物。
［態様２］
犠牲床コーティング組成物は、ポリマー膨潤溶剤と接触した場合に、犠牲床コーティング組成物が適用された基材から実質的に除去できる、請求項１に記載の犠牲床コーティング。
［態様３］
前記基材が、ビニル、ビニル組成物、花崗岩、大理石、リノリウム、テラゾ、セラミック、ゴム、クレイ、スレート、木材、積層材、又はコンクリートである、請求項１に記載の犠牲床コーティング。
［態様４］
応力弾性率対温度曲線の傾きが約−１．００×１０６〜約−２．７５×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）である、請求項１に記載の犠牲床コーティング。
［態様５］
応力弾性率対温度曲線の傾きが約−１．６５×１０６〜約−２．４０×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）である、請求項１に記載の犠牲床コーティング。
［態様６］
応力弾性率対温度曲線の傾きが約−１．８０×１０６〜約−２．３０×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）である、請求項１に記載の犠牲床コーティング。
［態様７］
前記ポリウレタン分散体が天然油ポリオールに基づくポリウレタンを含む、請求項１に記載の犠牲床コーティング。
［態様８］
応力弾性率対温度曲線の傾きが約−１．００×１０６〜約−２．７５×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）である、請求項７に記載の犠牲床コーティング。
［態様９］
応力弾性率対温度曲線の傾きが約−１．６５×１０６〜約−２．４０×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）である、請求項７に記載の犠牲床コーティング。
［態様１０］
応力弾性率対温度曲線の傾きが約−１．８０×１０６〜約−２．３０×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）である、請求項７に記載の犠牲床コーティング。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
応力弾性率対温度曲線の傾きが−０．５０×１０６〜−３．００×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）であるポリウレタン分散体を含む犠牲床コーティング組成物。
【請求項２】
前記ポリウレタン分散体が天然油ポリオールに基づくポリウレタンを含む、請求項１に記載の犠牲床コーティング組成物。
【請求項３】
応力弾性率対温度曲線の傾きが−１．００×１０６〜−２．７５×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）である、請求項１又は２に記載の犠牲床コーティング組成物。
【請求項４】
応力弾性率対温度曲線の傾きが−１．６５×１０６〜−２．４０×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）である、請求項１又は２に記載の犠牲床コーティング組成物。
【請求項５】
応力弾性率対温度曲線の傾きが−１．８０×１０６〜−２．３０×１０６ダイン毎（ｃｍ２）（℃）である、請求項１又は２に記載の犠牲床コーティング組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月3日(2014.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィン；及び
下記の構造（Ｉ）のジフェノキシベンゼン：
【化５】
2013544907.tif 000001
（式中、Ｒ１〜Ｒ１４は同じ又は異なり、Ｒ１〜Ｒ１４のそれぞれが、水素、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基、置換されたＣ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基、及び、それらの組合せからなる群から選択される）
を含むポリマー組成物。
【請求項２】
前記ポリオレフィンがポリエチレンである、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項３】
ポリオレフィン；及び
下記の構造（ＩＩ）のベンズアニリド：
【化６】
2013544907.tif 000002
（式中、Ｒ１〜Ｒ１０は同じ又は異なり、Ｒ１〜Ｒ１０のそれぞれが、水素、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基、置換されたＣ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基、及び、それらの組合せからなる群から選択される）
を含むポリオレフィン組成物。
【請求項４】
前記ポリオレフィンがポリエチレンである、請求項３に記載のポリマー組成物。
【請求項５】
導体；及び
請求項１から４のいずれかに記載のポリマー組成物を含む前記導体上の被覆物
を含む被覆された導体。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月25日(2014.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応器中に、スチレン系モノマー、（メタ）アクリル系モノマー、またはこれらの混合物を含む約２０質量％〜約８０質量％のビニルモノマーと、
約０．２５質量％〜約５質量％の重合開始剤と、
約２０質量％〜約８０質量％の反応溶媒を含む混合物を連続的に投入し；
前記反応器を約１２０℃〜約１６５℃の温度に維持して前記ビニルモノマーからオリゴマーを製造し；
該オリゴマーを単離する各工程を含むオリゴマーの製造方法であって、
前記オリゴマーは微量のオレフィン性不飽和結合を含み、前記オリゴマーの前記反応器における滞留時間が約５分間〜約６０分間であることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記オリゴマーが、１６４５ｃｍ−１〜１６１０ｃｍ−１の範囲に大きなＩＲ吸収を示さないことを特徴とする請求項１の方法。
【請求項３】
１Ｈ−ＮＭＲにおいてテトラメチルシランを標準として４．５〜５．５ｐｐｍの範囲に大きな共鳴を示さないことを特徴とする請求項１または２の方法。
【請求項４】
前記ビニルモノマーが、スチレン系モノマーと（メタ）アクリル系モノマーを含む請求項１〜３のいずれか一項の方法。
【請求項５】
前記ビニルモノマーが（メタ）アクリル系モノマーを含む請求項１〜３のいずれか一項の方法。
【請求項６】
前記重合開始剤が、アゾ化合物、過酸化物、またはこれらのいずれか２つ以上の混合物である請求項１〜５のいずれか一項の方法。
【請求項７】
前記（メタ）アクリル系モノマーが、エチルアクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリル酸、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、またはヒドロキシブチル（メタ）アクリレートを含む請求項４〜６のいずれか一項の方法。
【請求項８】
前記（メタ）アクリル系モノマーがグリシジル（メタ）アクリレートを含む請求項４〜６のいずれか一項の方法。
【請求項９】
前記スチレン系モノマーがスチレンまたはα−メチルスチレンを含む請求項４、及び６〜８のいずれか一項の方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項の方法で製造されるオリゴマーを含む印刷インク、表面塗液または重ね塗りワニス。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか一項の方法で製造されるオリゴマーを含む顔料分散剤。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれか一項の方法で製造されるオリゴマーを含む鎖延長高分子組成物。
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれか一項の方法で製造されたオリゴマーと；
生分解性プラスチック、ポリエチレンテレフタレート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリ（乳酸−グリコール酸）、ポリヒドロキシブチラート、またはポリヒドロキシブチラート−コ−バレレートとを含む鎖延長組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月19日(2014.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）：
【化１】
2013544901.tif 000001
［式中、
Ｒ’は、水素又は以下の基のいずれか１種であり、
【化２】
2013544901.tif 000002
但し、
Ｒ’’は、水素、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル基又は−（ＣＨ２）ｑ−ＣＯＯＭ基（ｑ＝１〜５）であり、
ｎ及びｍは、いずれの場合も０〜５の整数であり、
Ｒ’’’は、水素又はＣ１〜Ｃ１２−アルキル基又はＣ２〜Ｃ１２−アルケニル基（これらは、更に、５個以下のヒドロキシル基で置換されていても良い）
又は以下の基のいずれか１種であり、
【化３】
2013544901.tif 000003
但し、
ｏ及びｐはいずれの場合も０〜５の整数であり、及び
Ｍは互いに独立して、対応する化学量論量の、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は置換されたアンモニウムである］
で表される１種以上の錯化剤塩を含む顆粒を、
当該開始水性溶液の総重量に基づいて１０〜８０質量％の濃度の前記１種以上の錯化剤塩を含む開始水性溶液から製造する方法であって、
噴流装置(jet apparatus)の中央に位置し、底部から頂部に向いたガスの駆動噴流口(gaseous driving jet)、又は噴流装置の中心軸領域に位置する１個以上のガスの駆動噴流口が内部ループ運動を誘導し、且つ当該内部ループ運動が、噴流帯域(jet zone)を形成し、  該噴流帯域はその上部末端である噴水帯域(fountain zone)に接続し、該噴水帯域は噴流装置の壁領域の回帰帯域(return zone)に合流し、回帰帯域はその下部領域にて、順に噴流帯域に合流することで誘導される噴流装置において、前記開始水性溶液を、１個以上のガスの駆動噴流中に噴霧し、それにより乾燥して顆粒を得て、顆粒を噴流装置から放出することを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記噴流装置が、下部領域において円錐状に先細り、且つ中央のガスの駆動噴流を噴霧する円筒形装置である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記噴流装置が、下部において先細る矩形断面を有し、且つ噴流装置の中心軸領域に位置し、底部から頂部に向いた１個以上のガスの駆動噴流口を有する装置である請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
１個以上のガスの駆動噴流が、噴流装置における圧力よりも２．０ｋＰａ（２０ｍｂａｒ）〜０．１ＭＰａ（１ｂａｒ）の範囲の陽圧下のガスから形成され、該噴流装置においては、噴流装置の開口部を経て圧力を減らし、それによりガスの駆動噴流を形成する請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記開始水性溶液が、１個以上の単一材料又は二種材料ノズルを経て、前記噴流装置の下部領域に噴霧される請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
平均粒径が約１〜１００μｍ、好ましくは１〜２０μｍの範囲の結晶性細塵が、前記開始水性溶液が噴霧される位置とは異なる噴流装置における位置で、前記開始水性溶液とは別に、前記噴流装置に加えられる請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記結晶性細塵が、前記開始水性溶液に存在するものと同じ一種以上の錯化剤塩を含むか、又はこれらとは異なる１種以上の錯化剤塩を含む請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
開始水性溶液と、平均粒径が約１〜１００μｍ、好ましくは１〜２０μｍの範囲の結晶性細塵とを予め混合して懸濁液を得て、当該懸濁液を噴流装置の下部領域に噴霧し、駆動噴流によって吸い込ませる請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記駆動噴流を形成するガス流が、８０〜４５０℃の範囲、更に好ましくは、１２０〜２４０℃の範囲の温度を有する請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記噴流帯域、噴水帯域及び回帰帯域における温度が、７０〜１５０℃の範囲である請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記噴流装置における顆粒の平均滞留時間が、１分〜１時間、好ましくは、１０分〜４０分である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月9日(2014.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアクリル酸を含む第一の重合体材料；
ポリエチレングリコール以外のポリグリコールを含む第二の重合体材料；および
ビニル官能基を有する１種以上の化学種
を含む、ヒドロゲル。
【請求項２】
前記第一の重合体材料および前記第二の重合体材料のうち少なくとも１つは、ホモ重合体である、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項３】
前記ポリグリコールは、ポリテトラメチレンエーテルグリコールである、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項４】
ビニル官能基を有する前記１種以上の化学種のうち少なくとも１種は、アクリル酸、メチルアクリル酸、ビニルアルコール、酢酸ビニル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ビニル、ビニル安息香酸、ビニルベンジルアルコール、ビニルボロン酸ジブチルエステル、ビニルホルムアミド、メタクリル酸ビニル、ビニルピリジン、１−ビニル−２−ピロリドン、ビニルスルホン酸、およびビニルトリメトキシシランから選択される、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項５】
さらに、ジ（エチレングリコール）ジビニルエーテル、ジアクリル酸ジ（エチルグリコール）、およびΝ，Ν’−メチレンビス（アクリルアミド）からなる群より選択される架橋剤を含む、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項６】
ビニル官能基を有する前記１種以上の化学種のうち少なくとも１種は、第一の重合体材料と共有結合している、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項７】
ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約１０倍の保水力、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約５０倍の保水力、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約１０％、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約２０％、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約１００％、および、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約１０００％の保水力からなる群より選択される保水力を有する、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項８】
第一の重合体材料対第二の重合体材料の重量比は、１：３〜１：６の間である、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項９】
セルロース、ゼラチン、粘土、カルボキシメチルセルロース、肥料、シリカ、ポリエチレン、および、ポリスチレンのうち１種以上をさらに含む、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項１０】
約１０００ｇ／ｃｍ２〜約４０００ｇ／ｃｍ２の引張強度を示すこと、および、約１０００ｇ／ｃｍ２〜約４０００ｇ／ｃｍ２の衝撃強度を示すことの少なくとも１つを特徴とする、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項１１】
第一の重合体材料のＭｗ（ｇ／ｍｏｌ）は、約２５０，０００〜約１，０００，０００であること、および、第二の重合体材料のＭｗ（ｇ／ｍｏｌ）は、約６５０〜約２，０００であることの少なくとも１つを特徴とする、請求項１に記載のヒドロゲル。
【請求項１２】
反応容器に、ポリアクリル酸を含む第一の重合体材料、ポリエチレングリコール以外のポリグリコールを含む第二の重合体材料、およびビニル官能基を有する１種以上の化学種を投入して、第一の重合体材料、第二の重合体材料、およびビニル官能基を有する１種以上の化学種の混合物とすること；および
混合物を撹拌すること
を含む、ヒドロゲルの形成法。
【請求項１３】
前記第一の重合体材料および前記第二の重合体材料のうち少なくとも１つは、ホモ重合体である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
第一の重合体材料および第二の重合体材料は、１：３〜１：６の重量比でそれぞれ投入される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記混合物を加熱すること、および前記混合物を約１５℃〜３０℃の温度で混合することの少なくとも１つをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
ビニル官能基を有する前記１種以上の化学種のうち少なくとも１種は、アクリルアミド、アクリル酸、メチルアクリル酸、ビニルアルコール、酢酸ビニル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ビニル、ビニル安息香酸、ビニルベンジルアルコール、ビニルボロン酸ジブチルエステル、ビニルホルムアミド、メタクリル酸ビニル、ビニルピリジン、１−ビニル−２−ピロリドン、ビニルスルホン酸、およびビニルトリメトキシシランからなる群より選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
ポリアクリル酸を含む第一の重合体材料；および
ポリエチレングリコール以外のポリグリコールを含む第二の重合体材料
を含むゲルであって、
第一の重合体材料は第二の重合体材料と水素結合している、ゲル。
【請求項１８】
前記第一の重合体材料および前記第二の重合体材料のうち少なくとも１つは、ホモ重合体である、請求項１７に記載のゲル。
【請求項１９】
ポリグリコールは、ポリテトラメチレンエーテルグリコールである、請求項１７に記載のゲル。
【請求項２０】
第一の重合体材料対第二の重合体材料の重量比は、約１：３と約１：６の間である、請求項１７に記載のゲル。
【請求項２１】
約１０００ｇ／ｃｍ２〜約４０００ｇ／ｃｍ２の引張強度を示すこと、および、約１０００ｇ／ｃｍ２〜約４０００ｇ／ｃｍ２の衝撃強度を示すことの少なくとも１つを特徴とする、請求項１７に記載のゲル。
【請求項２２】
第一の重合体材料のＭｗ（ｇ／ｍｏｌ）は、約２５０，０００〜約１，０００，０００であること、および、第二の重合体材料のＭｗ（ｇ／ｍｏｌ）は、約６５０〜約２，０００であることの少なくとも１つを特徴とする、請求項１７に記載のゲル。
【請求項２３】
請求項１７に記載のゲルを含むヒドロゲル。
【請求項２４】
ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約１０倍の保水力、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約５０倍の保水力、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約１０％、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約２０％、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約１００％、および、ヒドロゲル自身の重量の少なくとも約１０００％の保水力からなる群より選択される保水力を有する、請求項２３に記載のヒドロゲル。
【請求項２５】
セルロース、ゼラチン、粘土、カルボキシメチルセルロース、肥料、シリカ、ポリエチレン、および、ポリスチレンのうち１種以上をさらに含む、請求項２３に記載のヒドロゲル。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月22日(2014.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１１０）をコーティングする方法であって、前記方法は、
スパッタされた材料の層（８０６）を前記基板（１１０）上に形成することを含み、スパッタされた材料の前記層を形成することが、
少なくとも１つの回転ターゲット（１２０’）から材料を前記基板（１１０）の上方にスパッタすることと、
前記少なくとも１つの回転ターゲット（１２０’）と前記基板（１１０）の間の相対位置を第１の位置（Ｉ）へ変化させ、前記第１の位置を所定の第１の時間間隔の間、維持することと、
前記少なくとも１つの回転ターゲットと前記基板の間の前記相対位置を第２の位置（ＩＩ）へ変化させ、前記第２の位置を、所定の第２の時間間隔の間、維持することと
を含み、前記所定の第１の時間間隔と前記所定の第２の時間間隔のうちの少なくとも一方が少なくとも１秒である方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの回転ターゲット（１２０’）が回転ターゲットのアレイである、請求項１に記載のコーティング方法。
【請求項３】
前記回転ターゲット（１２０’、１２０”）に関連づけられたカソードアセンブリ（３１０、５０２）に電圧を印加すること
をさらに含み、
前記相対位置を変化させることが、前記相対位置を前記第１の位置から前記第２の位置へ変化させることを含み、前記相対位置が前記第１または前記第２の位置に対応するときの方が、前記相対位置が前記第１の位置と前記第２の位置の間の位置に対応するときよりも、前記電圧が高い、
請求項１または２に記載のコーティング方法。
【請求項４】
前記相対位置が前記第１の位置と前記第２の位置の間の位置に対応するときに前記電圧が実質的にゼロであり、及び／または、前記相対位置を変化させている間に、前記電圧を、時間の経過とともに、方形波の波形に従って変化させる、請求項３に記載のコーティング方法。
【請求項５】
厚さの均一性が少なくとも±１０％、好ましくは少なくとも±５％、さらに好ましくは少なくとも±１％であるスパッタされた材料の前記層が形成されるような態様で、前記相対位置を変化させる、請求項１から４のいずれか一項に記載のコーティング方法。
【請求項６】
前記相対位置を変化させることが、スパッタされた材料の前記層を形成する前記基板の表面に実質的に平行な平面に沿って、前記基板（１１０）を、前記少なくとも１つの回転ターゲット（１２０）に対して変位させることを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載のコーティング方法。
【請求項７】
前記回転ターゲットが、その円筒対称軸を軸に回転可能な実質的に円筒形のターゲット（１２０’）である、請求項１から６のいずれか一項に記載のコーティング方法。
【請求項８】
基板（１１０）をコーティングする方法であって、前記方法は、
スパッタされた材料の層を前記基板（１１０）上に形成することを含み、スパッタされた材料の前記層を形成することが、
少なくとも１つの回転ターゲット（１２０、１２０’、１２０”）から材料を前記基板の上方にスパッタすること、および
前記少なくとも１つの回転ターゲットと前記基板（１１０）の間の相対位置を、前記少なくとも１つの回転ターゲットと前記基板の間の距離を変化させることによって変化させること
を含む方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの回転ターゲット（１２０）から材料をスパッタすることが、少なくとも２つの膜分布（８０２、８０４）を重ね合わせることを含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも２つの膜分布（８０２、８０４）が実質的に相補的である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
材料をスパッタすることが、前記少なくとも２つの膜分布の形状が実質的に正弦波の形になるように配置された複数の回転ターゲット（１２０ａ’、１２０ｂ’、１２０ｃ’、１２０ｄ’、１２０ｅ’、１２０ｆ’、１２０ａ”、１２０ｂ”、１２０ｃ”、１２０ｄ”）から実行される、請求項８から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
基板をコーティングするシステムであって、材料を前記基板（１１０）上でスパッタするための少なくとも１つの回転ターゲット（１２０’）を備え、前記少なくとも１つの回転ターゲット（１２０’）が、前記基板（１１０）のコーティング中に、前記少なくとも１つの回転ターゲット（１２０’）と前記基板（１１０）の間の相対位置が変化するような態様で移動するよう構成されたシステム。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの回転ターゲット（１２０’）が、回転ターゲット（１２０ａ’、１２０ｂ’、１２０ｃ’、１２０ｄ’、１２０ｅ’、１２０ｆ’）のアレイである、請求項１２に記載の基板をコーティングするシステム。
【請求項１４】
基板をコーティングするシステムであって、材料を前記基板（１１０）上でスパッタするための少なくとも１つのターゲット（１２０、１２０’、１２０”）を備え、前記少なくとも１つのターゲットが、前記基板（１１０）のコーティング中に、前記少なくとも１つのターゲット（１２０、１２０’、１２０”）と前記基板（１１０）の間の距離が変化するような態様で移動するように構成されたシステム。
【請求項１５】
前記少なくとも１つのターゲットが、回転ターゲット（１２０’）または回転ターゲット（１２０ａ’、１２０ｂ’、１２０ｃ’、１２０ｄ’、１２０ｅ’、１２０ｆ’）のアレイである、請求項１４に記載の基板をコーティングするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月13日(2014.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非導電性表面を有する塗膜を備えた工作物の塗膜を除去するための方法であって、前記方法が電解液を用いて行われ、以下の工程、すなわち、
−浴槽を準備する工程であって、前記浴槽の内部に、給電装置の１つの極に接続可能な電極が設けられている、工程と、
−前記浴槽中に電解液を満たす工程であって、その結果、前記電極が前記電解液と接触する、工程と、
−前記電解液中に１つまたは複数の工作物を浸す工程と、
−前記工作物を少なくとも部分的に塗膜除去するために、工作物と電極との間に電圧をかける工程と
を含む方法において、前記少なくとも部分的に塗膜除去する際の前記電圧は、第１の時点で、第１の電圧がかけられ、より遅い時点で、前記第１の電圧と比較してより高くかつ孔の発生にはつながらない第２の電圧がかけられるように制御され、このとき前記第１の時点でより高い前記第２の電圧をかけると、孔の発生につながりうることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記少なくとも部分的に塗膜除去する際の前記電圧は、電極と工作物との間の電位差の値が、連続的におよび／または段階的に上がるように制御されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも部分的に塗膜除去する際の前記電圧は、単調に、好ましくは厳格に単調に上昇することを特徴とする請求項１および２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４】
前記電圧は、前記塗膜除去の当初には、第１の時間間隔ＥＩ１に渡って前記電位差を実質的に第１の値Ｕ１に一定に保ち、前記第１の時間間隔に続く時間間隔ＥＩ２の間は、前記電位差を、第２の値Ｕ２に一定に保つように制御され、ここでＵ１＜Ｕ２であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月18日(2014.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属表面をその融点以下の温度まで加熱すること、
前記金属表面を加熱している間、そこへ真空を適用すること、及び
前記金属表面を加熱している間、前記真空を解除し、第１のパージガスで埋め戻すこと、
を含んで構成される金属表面にコーティングを配置する方法であって、
前記第１のパージガスは、加熱された前記金属表面と反応して、前記金属表面にコーティングの少なくとも１つの層を配置する、金属表面にコーティングを配置する方法。
【請求項２】
さらに、前記コーティングを配置した後、及び前記金属表面を加熱している間、そこへ真空を再適用することを含んで構成される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記金属表面を加熱している間、前記真空を解除し、第２のパージガスで埋め戻すことにより、前記コーティングの少なくとも１つの追加層を配置することを含んで構成される請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記コーティングは、太陽熱受熱器の金属表面に配置され、前記真空は、太陽放射線を少なくとも部分的に透過する材料により定義される外側の表面と、金属チューブにより定義される内側の表面とを有するアニュラスへ適用され、
前記金属表面を加熱することは、前記金属チューブを加熱することを含んで構成される請求項１に記載の方法。
【請求項５】
太陽放射線を少なくとも部分的に透過する前記材料は、ガラスを含んで構成される請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記コーティングを配置した後、及び前記金属チューブを加熱している間、前記アニュラスへ真空を再適用することをさらに含んで構成される請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記真空を維持するように前記アニュラスを密閉することをさらに含んで構成される請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記金属チューブは、炭素鋼、ステンレス鋼、及びそれらの任意の組み合わせから成るグループから選択される金属を含んで構成される請求項４に記載の方法。
【請求項９】
前記温度は少なくとも約４００度である請求項１又は請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１のパージガスは、空気、水蒸気、酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、窒素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、四フッ化ケイ素、六フッ化硫黄、四フッ化硫黄、三フッ化リン、五フッ化リン、三フッ化窒素、亜酸化窒素、窒素酸化物、二酸化窒素、四酸化二窒素、ジイミド、水素、ガス状有機物、及びそれらの任意の組み合わせから成るグループから選択される請求項１又は請求項４に記載の方法。
【請求項１１】
前記コーティングは、酸化コーティング、窒化コーティング、炭化コーティング、又はフッ化コーティングの少なくとも１つを含んで構成される請求項１又は請求項４に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１のパージガスはさらに、前記金属表面と反応しない希釈ガスを含んで構成される請求項１又は請求項４に記載の方法。
【請求項１３】
請求項４に記載の方法により製造される太陽熱受熱器。
【請求項１４】
前記金属チューブの内部空間内に配置される熱伝導流体を含んで構成される請求項１３に記載の太陽熱受熱器。
【請求項１５】
前記コーティングは、酸化コーティング、窒化コーティング、炭化コーティング、又はフッ化コーティングの少なくとも１つを含んで構成される請求項１３に記載の太陽熱受熱器。
【請求項１６】
前記コーティングは、ナノ構造コーティングを含んで構成される請求項１３に記載の太陽熱受熱器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月10日(2014.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単一鎖基準で１５，０００〜５０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均モル質量、および凝集体基準で水溶液中に４〜２０×１０5ｇ／ｍｏｌの重量平均モル質量を有し、水溶液中で濃度≧１％で２５℃および中性のｐＨでゲル形態で存在し、２％の濃度で水に溶解された場合、３５〜６０℃の（ゲルからゾルへの）融解温度を有するグルカン。
【請求項２】
単一鎖基準で２０，０００〜４０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均モル質量を有する、請求項１に記載のグルカン。
【請求項３】
３７〜６０℃の（ゲルからゾルへの）融解温度を有する、請求項１または請求項２に記載のグルカン。
【請求項４】
４０℃の（ゲルからゾルへの）融解温度を有する、請求項３に記載のグルカン。
【請求項５】
前記グルカンが２％〜４％の濃度の水溶液で存在する、請求項１から４のいずれか１項に記載のグルカン。
【請求項６】
２％の濃度の水溶液で存在する、請求項５に記載のグルカン。
【請求項７】
酵母に由来する、請求項１から６のいずれか１項に記載のグルカン。
【請求項８】
サッカロミュケス・ケレウィシアエ（Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ  ｃｅｒｅｖｉｓｉａｅ）に由来する、請求項７に記載のグルカン。
【請求項９】
β−（１，３）連結グルコシル残基の骨格、および２個以上のβ−（１，３）連結グルコシル残基を含む側鎖を含むベータグルカンである、側鎖がβ−（１，６）連結経由で骨格に結合している、請求項１から８のいずれか１項に記載のグルカン。
【請求項１０】
繰り返しのβ−（１，６）連結グルコシル残基を本質的に含まない、請求項１から９のいずれか１項に記載のグルカン。
【請求項１１】
水溶液中１〜６％の濃度のグルカンを含むゲルグルカン製品であって、グルカンが凝集体基準で４〜２０×１０5ｇ／ｍｏｌの重量平均モル質量、および単一鎖基準で１５，０００〜５０，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均モル質量を有し、ゲルグルカン製品が３５〜６０℃の（ゲルからゾルへの）融解温度を有する、ゲルグルカン製品。
【請求項１２】
請求項１から１０のいずれか１項に記載のグルカンを製造する方法であって、以下のステップ：
ａ）グルカンの水素結合を解離する薬剤でグルカン分子の水溶液を処理し；
ｂ）ステップａ）の製品を、グルカン内の水素結合の再形成を可能にする薬剤と接触させること、
を含む、製造方法。
【請求項１３】
水素結合を解離する薬剤が、アルカリ塩、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、尿素またはホルムアミドである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
水素結合を解離する薬剤が水酸化ナトリウムである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
水素結合を解離する薬剤が、５０ｍＭを超える最終濃度で使用される、請求項１２から１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
水素結合を解離する薬剤が、１５０ｍＭの最終濃度で使用される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
水素結合の再形成を可能にする薬剤が強酸である、請求項１２から１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記酸が、塩酸、ギ酸、硫酸、リン酸、酢酸またはクエン酸である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
ステップｂ）が１０分未満でゲル形成を引き起こす、請求項１２から１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
ステップｂ）が４分未満でゲル形成を引き起こす、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
ステップａ）およびｂ）の薬剤が等モル量添加される、請求項１２から２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
β−（１，６）結合グルコシル側鎖を除去し微粒子グルカンを可溶性化するために、微粒子グルカン出発物質をギ酸に懸濁する、加ギ酸分解のステップが先に実施される、請求項１２から２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
請求項１２から２２のいずれか１項に記載の方法によって入手可能なグルカン。
【請求項２４】
請求項１から１０および２３のいずれか１項に記載のグルカン、および１種または複数の薬学的に許容される希釈剤または担体を含む、医薬組成物。
【請求項２５】
請求項１から１０および２３のいずれか１項に記載のグルカンを含む、創傷または潰瘍の治癒を支援するまたは口腔の粘膜炎または癌を治療する必要のある対象における、創傷または潰瘍の治癒を支援するまたは口腔の粘膜炎または癌を治療するための医薬組成物であって、前記対象に投与される、医薬組成物。
【請求項２６】
対象に局所的に適用される、請求項２５に記載の医薬組成物。
【請求項２７】
前記潰瘍が糖尿病性潰瘍である、請求項２５に記載の医薬組成物。
【請求項２８】
創傷または潰瘍の治癒を支援するまたは口腔の粘膜炎または癌を治療する必要のある対象における、創傷または潰瘍の治癒を支援するまたは口腔の粘膜炎または癌を治療するための医薬を製造するための、請求項１から１０および２３のいずれか１項に記載のグルカンの使用。
【請求項２９】
前記潰瘍が糖尿病性潰瘍である、請求項２８に記載の使用。
【請求項３０】
請求項１から１０および２３のいずれか１項に記載のグルカンが適用または含浸されている、物理的支持体。
【請求項３１】
織布、不織布、編み物、発泡体または接着性の基材、貼付剤、包帯、膏薬、絆創膏、フィルム、およびガーゼからなる群から選択される、請求項３０に記載の物理的支持体。
【請求項３２】
請求項１から１０および２３のいずれか１項に記載のグルカンに皮膚細胞の集団を接触させることを含む、皮膚細胞増殖のインビトロの方法。