【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年6月13日(2012.6.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
b、ブレード塗布、浸漬、塗布又は押出の成膜方式を用いて、前記成膜液を支持体の細孔又は隙間に担持させ、湾曲できる平板複合膜を製造し、溶媒を蒸発・乾燥させ、スパイラル型炭素膜の前駆体を製造する。溶媒を蒸発・乾燥する際の温度は80℃〜120℃であり、時間は1時間〜3時間である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
＜実施例２＞
ブレンド法によりSiO2をポリアミド酸に加え、超音波作用下で0.5時間分散させて均一に混合・分散させ、SiO2の固形分20%（wt）の成膜液を調製した。ブレード塗布により、成膜液を前処理済の高強度織布、ナイロン製ろ過網、炭素繊維布、多孔質ポリマー網、ステンレス網、銅網及び鉄網から選択されるいずれかの細孔又は隙間にそれぞれ担持させ、湾曲できる平板複合膜を作製した。100℃で2時間乾燥させ、スパイラル型炭素膜の前駆体膜を作製した。膜を間歇式炭化炉に投入し炭化を行い、スパイラル型炭素膜の基底膜を得た。炭化工程の条件は、最終炭化温度が600℃で、昇温速度が5℃/minで、定温時間が2時間で、保護ガスが窒素ガスである。作製されたスパイラル型炭素膜の基底膜の構造性能を表1に示す。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
b、ブレード塗布、浸漬、塗布又は押出の成膜方式を採用し、前記成膜液を支持体の細孔又は隙間に担持させ、湾曲できる平板複合膜を作製し、溶媒を蒸発・乾燥させ、スパイラル型炭素膜の前駆体を作製する。溶媒を蒸発・乾燥する際の温度は80℃〜120℃であり、時間は1時間〜3時間である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一体的に形成された一層又は複数層の、湾曲できる膜層から構成される炭素膜材料であるスパイラル型炭素膜材料であって、
前記スパイラル型炭素膜は、一層の一体的に形成された湾曲できる膜層から構成され、
多孔質支持体と前記多孔質支持体の表面、細孔、隙間の中に担持された充填物を含む前駆体ポリマー膜とを、高温炭化することにより作製され、
細孔構造を有し、高い機械的強度及び靭性を有し、異なる分子サイズの気体又は液体混合物を直接分離し、
前記支持体は、高強度織布、ナイロン製ろ過網、炭素繊維布、炭素繊維シート、炭素繊維フェルト、ポリマー薄膜、多孔質ポリマー網、ステンレス網、アルミニウム網、ニッケル網、銅網、又は、鉄網から構成され、
前記充填物は、無機ナノ粒子、無機塩、金属粒子、金属塩、バイオマス、及び、有機添加剤からなる群から選択される一種又はそれらの混合物からなり、
前記充填物の無機ナノ粒子は、ゼオライト分子篩、多孔質炭素、SiO2、TiO2、ZnO、NiO、Fe2O3、FeOから選択される一種であり、前記充填物の金属粒子は、Ag、Fe、Cu、Pt、Pd、又は、Auであり、金属塩は、AgNO3又はCuNO3であり、前記充填物の無機塩は、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸カルシウムからなる群から選択される一種であり、前記充填物のバイオマスは、おがくず、リグニン、もみ殻、堅果の殻、又は、藁であり、前記充填物の有機添加剤は、ポリエチレングリコール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、ABS、又は、ポリビニルアルコールであり、
前記スパイラル型炭素膜の製造方法は、
a）選択された前記前駆体ポリマーに、一種又は数種の前記充填物を加え、ブレンド法、Sol-Gel法、又はin situ合成方法により、それらを均一に混合、分散、又は溶媒に溶解させて成膜液を調製し、前記充填物の質量含有量を通常10％〜50％（wt）に制御し、超音波分散又は高速攪拌で分散を行い、超音波分散の場合、所要時間は1時間〜2時間であり、高速攪拌の場合、所要時間は1時間〜5時間である工程；
b）ブレード塗布、浸漬、塗布又は押出から選択される成膜方式を用いて、前記成膜液を前記支持体の細孔又は隙間に担持させ、湾曲できる平板複合膜を作製し、溶媒を蒸発・乾燥させ、スパイラル型炭素膜の前駆体膜を作製し、溶媒を蒸発・乾燥する際の温度は80℃〜120℃であり、時間は1時間〜3時間である工程；
c）調製された前記前駆体膜を直接炭化炉に投入し炭化を行う、或いは予め酸化した後に炭化炉に投入し炭化を行う、或いは直接炭化炉に投入し予め酸化した後炭化を行い、スパイラル型炭素膜の基底膜を作製し、炭化工程の条件として、昇温速度が0.2℃〜10℃/minであり、最終炭化温度が500℃〜1,000℃であり、定温保持時間が1時間〜5時間であり、保護ガスがアルゴンガス又は窒素ガスである工程；を含む、
ことを特徴とするスパイラル型炭素膜。
【請求項２】
前記スパイラル型炭素膜は、互いに一体に結合する、湾曲できる基底膜と分離層から構成され、或いは、互いに緊密に結合する、湾曲できる基底膜、遷移層及び分離層から構成され、
前記基底膜は、前記多孔質支持体と前記多孔質支持体の表面、細孔、隙間の中に担持された充填物を含む前駆体ポリマー膜とを、高温炭化することにより作製され、前記a工程からc工程と同様な操作で作製され、
前記遷移層は一層の中間層であり、充填物を含む前駆体ポリマー膜を、高温炭化することにより作製され、前記遷移層は、基底膜上に形成され、前記a工程からc工程と同様な操作で作製され、
前記分離層は薄膜であり、前駆体ポリマー溶液または一種や数種の前記充填物の前駆体ポリマー溶液を、スパイラル型炭素膜の基底膜または遷移層に均一に塗布することにより作製され、前記分離層の作製プロセスを下記に示し、コーティング液として、前記前駆体ポリマーのいずれか一種を溶液に調製し、或いは一種又は数種の前記充填物を加えた混合溶液に調製し、前記充填物の質量含有量を通常10％〜30％（wt）に制御し、浸漬、スプレー、超音波による沈殿、又はin situ沈殿の方法により前記コーティング液をスパイラル型炭素膜の基底膜または遷移層に均一に塗布して分離層を作製し、溶媒の蒸発、乾燥、及び炭化を行い、又は予め酸化処理した後に炭化を行うことによって、スパイラル型複合炭素膜を作製し、溶媒を蒸発・乾燥する際の温度は80℃〜120℃であり、時間は1時間〜3時間であり、炭化工程の条件として、昇温速度が0.2℃〜5℃/minであり、最終炭化温度が500℃〜800℃であり、定温保持時間が2時間〜5時間であり、保護ガスがアルゴンガス又は窒素ガスである、ことを特徴とする請求項１に記載のスパイラル型炭素膜。
【請求項３】
前記前駆体ポリマーは、ポリアミド酸、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリフタルアジノンエーテルスルフォンケトン、ポリフルフリルアルコール、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、各種のセルロース、ポリスルフォン、及びポリエーテルスルフォンからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載のスパイラル型炭素膜。
【請求項４】
前記充填物の無機塩、金属粒子、金属塩、バイオマスが、ナノ粒、又は、マイクロ粒子であることを特徴とする請求項１に記載のスパイラル型炭素膜。
【請求項５】
前記ゼオライト分子篩は、ZSM-5、β型、Y型、T型、4A、SBA-15、MCM-41又はMCM-48であり、前記多孔質炭素は、CMK-3、カーボンナノチューブ、秩序化炭素、多孔質グラファイト、炭素分子篩、又は、活性化炭素である、ことを特徴とする請求項１に記載のスパイラル型炭素膜。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のスパイラル型炭素膜の製造方法であって、
a）選択された前記前駆体ポリマーに、一種又は数種の前記充填物を加え、ブレンド法、Sol-Gel法、又はin situ合成方法により、それらを均一に混合、分散、又は溶媒に溶解させて成膜液を調製し、前記充填物の質量含有量を通常10％〜50％（wt）に制御し、超音波分散又は高速攪拌で分散を行い、超音波分散の場合、所要時間は1時間〜2時間であり、高速攪拌の場合、所要時間は1時間〜5時間である工程；
b）ブレード塗布、浸漬、塗布又は押出から選択される成膜方式を用いて、前記成膜液を前記支持体の細孔又は隙間に担持させ、湾曲できる平板複合膜を作製し、溶媒を蒸発・乾燥させ、スパイラル型炭素膜の前駆体膜を作製し、溶媒を蒸発・乾燥する際の温度は80℃〜120℃であり、時間は1時間〜3時間である工程；
c）調製された前記前駆体膜を直接炭化炉に投入し炭化を行う、或いは予め酸化した後に炭化炉に投入し炭化を行う、或いは直接炭化炉に投入し予め酸化した後炭化を行い、スパイラル型炭素膜の基底膜を作製し、炭化工程の条件として、昇温速度が0.2℃〜10℃/minであり、最終炭化温度が500℃〜1,000℃であり、定温保持時間が1時間〜5時間であり、保護ガスがアルゴンガス又は窒素ガスである工程；
d）選択的に、前記a工程からc工程と同様な操作で遷移層を作製する工程；
e）選択的に、コーティング液として、前記前駆体ポリマーのいずれか一種を溶液に調製し、或いは一種又は数種の前記充填物を加えた混合溶液に調製し、前記充填物の質量含有量を通常10％〜30％（wt）に制御し、浸漬、スプレー、超音波による沈殿、又はin situ沈殿の方法により前記コーティング液をスパイラル型炭素膜の基底膜または遷移層に均一に塗布して分離層を作製し、溶媒の蒸発、乾燥、及び炭化を行い、又は予め酸化処理した後に炭化を行うことによって、スパイラル型複合炭素膜を作製し、溶媒を蒸発・乾燥する際の温度は80℃〜120℃であり、時間は1時間〜3時間であり、炭化工程の条件として、昇温速度が0.2℃〜5℃/minであり、最終炭化温度が500℃〜800℃であり、定温保持時間が2時間〜5時間であり、保護ガスがアルゴンガス又は窒素ガスである工程、を含むことを特徴とするスパイラル型炭素膜の製造方法。
【請求項７】
前記炭化が、間歇式炭化工程又は連続式炭化工程であることを特徴とする請求項６に記載のスパイラル型炭素膜の製造方法。
【請求項８】
前記遷移層が、前記a工程からc工程と同様な操作で作製できる、一層又は複数層構造であることを特徴とする請求項６に記載のスパイラル型炭素膜の製造方法。
【請求項９】
前記スパイラル型炭素膜が、各種の気体混合物又は液体混合物の分離に用いられることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のスパイラル型炭素膜。