【誤訳訂正書】
【提出日】平成23年6月16日(2011.6.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式を有するＮ−アルキル化モルフィナン（ＩＩ）を調製するプロセスであって、
【化１９】
2010533719.tif 000001
該プロセスが、ルテニウム不斉触媒、ロジウム不斉触媒、もしくはイリジウム不斉触媒および水素源の存在下でＮ−イミンモルフィナンまたはヘミアミナールモルフィナンを還元する工程を含み、該Ｎ−イミンモルフィナンまたはヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）が、以下の式を有し、
【化２０】
2010533719.tif 000002
式中、
Ｒ１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロ、または−ＯＲ１１１であり、
Ｒ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロ、または−ＯＲ２１１であり、
Ｒ３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または−ＯＲ３１１であり、
Ｒ６は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または−ＯＲ６１１であり、
Ｒ７は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または−ＯＲ７１１であり、
Ｒ８は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または−ＯＲ８１１であり、
Ｒ１４は、水素またはヒドロキシであり、
Ｒ１１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ２１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ３１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ６１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ７１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ８１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｚ１は、＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）または＞Ｎ＋＝ＣＨ（Ｒ９）であり、
Ｚ２は、＞ＮＣＨ２（Ｒ９）であり、
Ｒ９は、水素、アシル、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または複素環である、プロセス。
【請求項２】
前記触媒が、
（ａ）ジクロロ（アレーン）Ｒｕ（ＩＩ）二量体、ジクロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）Ｒｈ（ＩＩ）二量体、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジアセテート、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジクロリド、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジブロミド、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジヨージド、［ＲｕＣｌ（（ＲまたはＳ）ＢＩＮＡＰ）（Ｃ６Ｈ６）］Ｃｌ、またはジクロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）イリジウム（ＩＩＩ）二量体；
（ｂ）窒素、酸素またはリン供与原子を介して前記ルテニウム、ロジウムまたはイリジウム錯体によって錯体化された二座のキラル配位子；
（ｃ）野依触媒；および
（ｄ）以下から成る群から選択される触媒であって、
【化２２】
2010533719.tif 000003
式中、Ａｒはアリールである、触媒；
から選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
（ａ）または（ｂ）の前記触媒が、式（６７０）、式（６８０）、式（６９０）、または式（７００）を有するキラル配位子を含み、
【化２１】
2010533719.tif 000004
式中、Ｒ６７１、Ｒ６７２、Ｒ６７３、Ｒ６８１、Ｒ６９１、Ｒ６９２、Ｒ７０１、およびＲ７０２が、独立して、アルキルまたはアリールであり、Ｒ６９１およびＲ６９２並びにそれらが結合している炭素原子が、必要に応じて、環式化合物または二環式化合物を形成していてもよい、請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記水素源が、イソプロパノール、ギ酸、ギ酸の有機塩もしくは無機塩、またはそれらの組み合わせである、請求項１〜３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記プロセスが、ニトリル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アルコール、ハロカーボン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）、酢酸アルキル、トルエン、またはそれらの組み合わせから成る群から選択される溶媒中で実施される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６】
Ｒ１が、水素または−ＯＲ１１１であり、
Ｒ１１１が、水素、アルキル、アシル、アルカリール、アリール、またはヒドロキシル保護基であり、
Ｒ２が、水素または−ＯＲ２１１であり、
Ｒ２１１が、水素、アルキル、アシル、アルカリール、アリール、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ３が、水素または−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が、水素、アルキル、アシル、アルカリール、アリール、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ６が、水素、あるいは置換もしくは非置換のＣ１〜８アルキル、Ｃ２〜８アルケニル、フェニル、または−ＯＲ６１１であり、そして
Ｒ６１１が、Ｃ１〜８アルキル、Ｃ２〜８アルケニル、水素、またはヒドロキシ保護基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７】
Ｒ１が水素であり、
Ｒ２が水素であり、
Ｒ３が−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が水素またはＣ１〜８アルキルであり、
Ｚ１が、＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）または＞Ｎ＋＝ＣＨ（Ｒ９）であり、そして
Ｒ９が、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、シクロブチル、ペンチル、又はシクロペンチルである、
請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記Ｎ−アルキル化モルフィナン（ＩＩ）が、下記の式のブプレノルフィン
【化２３】
2010533719.tif 000005
である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項９】
前記プロセスが、約２０℃〜約４０℃の温度範囲で実施される、請求項１〜８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記ヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）が、下記の式を有するノル−モルフィナン（Ｘ）から調製され、
【化２４】
2010533719.tif 000006
前記プロセスが、前記ノル−モルフィナン（Ｘ）と式ＣＨ（Ｏ）Ｒ９のアルデヒドとを溶媒中において反応させて、下記の式を有するヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）を形成させる工程を含み、
【化２５】
2010533719.tif 000007
式中、
Ｚ１が＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）であり、
Ｒ９が、ヒドロカルビル、アシル、置換ヒドロカルビル、または複素環である、
請求項１に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記ヘミアミナールモルフィナンが、対応する前記Ｎ−イミンモルフィナンと平衡状態にあり、該ヘミアミナールが、Ｚ１に対して＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）部分を有し、該Ｎ−イミンモルフィナンが、Ｚ１に対して＞Ｎ＋＝ＣＨ（Ｒ９）部分を有する、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
Ｒ３が−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が水素であり、
Ｒ６が−ＯＲ６１１であり、
Ｒ６１１がメチルであり、
Ｒ７が置換アルキルまたは３，３−ジメチルブタン−２−オールであり、そして
Ｒ９がシクロプロピルである、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記反応が、およそ室温で生じ、前記溶媒がアセトニトリルである、請求項１１または１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記ノル−モルフィナン（Ｘ）がノル−ブプレノルフィンである、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記ヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）が、下記の式（ＸＩ）を有する６−ケト−ノル−モルフィナンを、エチレングリコールおよび酸と反応させて、
【化２６】
2010533719.tif 000008
以下の式（ＸＩＩ）を有する６−ケタールノル−モルフィナンを形成することによって調製される、
【化２７】
2010533719.tif 000009
請求項１に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記酸がメタンスルホン酸である、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記６−ケト−ノル−モルフィナン（ＸＩ）がノルオキシモルホンであり、前記６−ケタールノル−モルフィナン（ＸＩＩ）が６−ケタールノルオキシモルホンである、請求項１５または請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記６−ケタールノル−モルフィナン（ＸＩＩ）が、さらに、溶媒中で式ＣＨ（Ｏ）Ｒ９のアルデヒドと反応して、下記の式を有する前記ヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）を形成し、
【化２８】
2010533719.tif 000010
式中、
Ｚ１は、＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）であり、
Ｒ９は、ヒドロカルビル、アシル、置換ヒドロカルビル、または複素環である、請求項１５〜１７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記ヘミアミナールモルフィナンが、対応する前記Ｎ−イミンモルフィナンと平衡状態にあり、該ヘミアミナールモルフィナンが、Ｚ１に対して＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）部分を有し、該Ｎ−イミンモルフィナンがＺ１に対して＞Ｎ＋＝ＣＨ（Ｒ９）部分を有する、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項２０】
Ｒ３が−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が水素であり、
Ｒ９がシクロプロピルであり、
前記反応が、およそ室温で生じ、そして
前記溶媒がアセトニトリルである、請求項１９に記載のプロセス。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
他の目的および特徴は、一部については明らかであり、一部については本明細書の以下において指摘する。
本発明の好ましい実施形態では、例えば以下が提供される：
（項目１）
下記の式を有するＮ−アルキル化モルフィナン（ＩＩ）を調製するプロセスであって、
【化１９】
2010533719.tif 000011
該プロセスが、ルテニウム不斉触媒、ロジウム不斉触媒、もしくはイリジウム不斉触媒および水素源の存在下でＮ−イミンモルフィナンまたはヘミアミナールモルフィナンを還元する工程を含み、該Ｎ−イミンモルフィナンまたはヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）が、以下の式を有し、
【化２０】
2010533719.tif 000012
式中、
Ｒ１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロ、または−ＯＲ１１１であり、
Ｒ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロ、または−ＯＲ２１１であり、
Ｒ３は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または−ＯＲ３１１であり、
Ｒ６は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または−ＯＲ６１１であり、
Ｒ７は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または−ＯＲ７１１であり、
Ｒ８は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または−ＯＲ８１１であり、
Ｒ１４は、水素またはヒドロキシであり、
Ｒ１１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ２１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ３１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ６１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ７１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｒ８１１は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヒドロキシ保護基であり、
Ｚ１は、＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）または＞Ｎ＋＝ＣＨ（Ｒ９）であり、
Ｚ２は、＞ＮＣＨ２（Ｒ９）であり、
Ｒ９は、水素、アシル、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、または複素環である、プロセス。
（項目２）
前記触媒が、ルテニウム錯体またはロジウム錯体を含む、項目１に記載のプロセス。
（項目３）
前記触媒が、ジクロロ（アレーン）Ｒｕ（ＩＩ）二量体、ジクロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）Ｒｈ（ＩＩ）二量体、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジアセテート、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジクロリド、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジブロミド、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジヨージド、［ＲｕＣｌ（（ＲまたはＳ）ＢＩＮＡＰ）（Ｃ６Ｈ６）］Ｃｌ、またはジクロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）イリジウム（ＩＩＩ）二量体を含む、項目１または項目２に記載のプロセス。
（項目４）
前記触媒が、窒素、酸素またはリン供与原子を介して前記ルテニウム、ロジウムまたはイリジウム錯体によって錯体化された二座のキラル配位子を含む、項目１〜３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５）
前記触媒が、式（６７０）、式（６８０）、式（６９０）、または式（７００）を有するキラル配位子を含み、
【化２１】
2010533719.tif 000013
式中、Ｒ６７１、Ｒ６７２、Ｒ６７３、Ｒ６８１、Ｒ６９１、Ｒ６９２、Ｒ７０１、およびＲ７０２が、独立して、アルキルまたはアリールであり、Ｒ６９１およびＲ６９２並びにそれらが結合している炭素原子が、必要に応じて、環式化合物または二環式化合物を形成していてもよい、項目１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目６）
前記配位子が前記式（６７０）を有し、Ｒ６７２およびＲ６７３がフェニルであり、Ｒ６７１がアリールである、項目５に記載の方法。
（項目７）
Ｒ６７１が、トリル、メシチル、またはナフチルである、項目６に記載のプロセス。
（項目８）
前記配位子が前記式（６８０）を有し、Ｒ６８１が、トリル、メシチル、２，４，６−トリイソプロピルフェニル、またはナフチルである、項目５に記載のプロセス。
（項目９）
前記配位子が前記式（７００）を有し、Ｒ７０１およびＲ７０２が水素である、項目５に記載のプロセス。
（項目１０）
前記配位子が、（１Ｓ，２Ｓ）−（＋）−Ｎ−４−トルエンスルホニル−１，２−ジフェニルエチレン−１，２−ジアミン、（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−Ｎ−４−トルエンスルホニル−１，２−ジフェニルエチレン−１，２−ジアミン、ｄｌ−Ｎ−トシル−１，２−ジフェニルエチレンジアミン、Ｎ−トシル−１，２−ジフェニルエチレンジアミン、Ｎ−トシル−１，２−エチレンジアミン、またはＮ−トシル−１，２−ジアミノシクロヘキサンである、項目４〜５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１１）
前記触媒が、以下の式から成る群から選択され、
【化２２】
2010533719.tif 000014
式中、Ａｒはアリールである、項目１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１２）
前記触媒が野依触媒である、項目１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１３）
前記水素源がプロトン性化合物を含む、項目１〜１２のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１４）
前記水素源が、イソプロパノール、ギ酸、ギ酸の有機塩もしくは無機塩、またはそれらの組み合わせである、項目１３に記載のプロセス。
（項目１５）
前記水素源が、ギ酸およびトリエチルアミンの混合物である、項目１３または項目１４に記載のプロセス。
（項目１６）
ギ酸とトリエチルアミンとの比率が約５：２である、項目１５に記載のプロセス。
（項目１７）
前記プロセスが非プロトン性の極性溶媒中で実施される、項目１〜１６のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目１８）
前記溶媒が、ニトリル、テトラヒドロフラン、アルコール、ハロカーボン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリジノン、酢酸アルキル、トルエン、水、またはそれらの組み合わせである、項目１７に記載のプロセス。
（項目１９）
前記溶媒が、メタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、またはそれらの組み合わせである、項目１８に記載のプロセス。
（項目２０）
Ｒ１が、水素または−ＯＲ１１１であり、Ｒ１１１が、水素、アルキル、アシル、アルカリール、アリール、またはヒドロキシル保護基である、項目１〜１９のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２１）
Ｒ２が、水素または−ＯＲ２１１であり、Ｒ２１１が、水素、アルキル、アシル、アルカリール、アリール、またはヒドロキシ保護基である、項目１〜２０のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２２）
Ｒ３が、水素または−ＯＲ３１１であり、Ｒ３１１が、水素、アルキル、アシル、アルカリール、アリール、またはヒドロキシ保護基である、項目１〜２１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２３）
Ｒ３１１が、水素またはアルキルである、項目２２に記載のプロセス。
（項目２４）
Ｒ６が、水素、あるいは置換もしくは非置換のＣ１〜８アルキル、Ｃ２〜８アルケニル、フェニル、または−ＯＲ６１１であり、Ｒ６１１が、Ｃ１〜８アルキル、Ｃ２〜８アルケニル、水素、またはヒドロキシ保護基である、項目１〜２３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２５）
Ｒ６が−ＯＲ６１１であり、Ｒ６１１が、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、シクロブチル、水素、またはヒドロキシ保護基である、項目２４に記載のプロセス。
（項目２６）
Ｒ６１１が、メチル、エチル、水素、またはヒドロキシ保護基である、項目２５に記載のプロセス。
（項目２７）
Ｒ６１１が、水素またはヒドロキシル保護基である、項目２６に記載のプロセス。
（項目２８）
Ｒ１が水素であり、
Ｒ２が水素であり、
Ｒ３が−ＯＲ３１１であり、
Ｒ３１１が水素またはＣ１〜８アルキルである、
項目１〜２７のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目２９）
Ｒ６が−ＯＲ６１１であり、Ｒ６１１が、水素、メチル、またはヒドロキシル保護基である、項目１〜２８のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３０）
Ｒ８が水素である、項目１〜２９のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３１）
Ｒ７が、水素または３，３−ジメチルブタン−２−オールである、項目１〜３０のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３２）
Ｚ１が、＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）または＞Ｎ＋＝ＣＨ（Ｒ９）であり、Ｒ９が、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、シクロブチル、ペンチル、又はシクロペンチルである、項目１〜３１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３３）
Ｚ１が、＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）または＞Ｎ＋＝ＣＨ（Ｒ９）であり、Ｒ９がシクロプロピル又はシクロブチルである、項目１〜３２のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３４）
前記Ｎ−アルキル化モルフィナン（ＩＩ）が、下記の式のブプレノルフィン
【化２３】
2010533719.tif 000015
である、項目１に記載のプロセス。
（項目３５）
前記プロセスが、約０℃〜約１２０℃の温度範囲で実施される、項目１〜３４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３６）
前記プロセスが、約２０℃〜約４０℃の温度範囲で実施される、項目１〜３５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目３７）
前記ヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）が、下記の式を有するノル−モルフィナン（Ｘ）から調製され、
【化２４】
2010533719.tif 000016
前記プロセスが、前記ノル−モルフィナン（Ｘ）と式ＣＨ（Ｏ）Ｒ９のアルデヒドとを溶媒中において反応させて、下記の式を有するヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）を形成させる工程を含み、
【化２５】
2010533719.tif 000017
式中、
Ｚ１が＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）であり、
Ｒ９が、ヒドロカルビル、アシル、置換ヒドロカルビル、または複素環である、
項目１に記載のプロセス。
（項目３８）
前記ヘミアミナールモルフィナンが、対応する前記Ｎ−イミンモルフィナンと平衡状態にあり、該ヘミアミナールが、Ｚ１に対して＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）部分を有し、該Ｎ−イミンモルフィナンが、Ｚ１に対して＞Ｎ＋＝ＣＨ（Ｒ９）部分を有する、項目３７に記載のプロセス。
（項目３９）
Ｒ３が−ＯＲ３１１であり、Ｒ３１１が水素である、項目３７または項目３８に記載のプロセス。
（項目４０）
Ｒ６が−ＯＲ６１１であり、Ｒ６１１がメチルである、項目３７〜３９のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４１）
Ｒ７が置換アルキルである、項目３７〜４０のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４２）
Ｒ７が、３，３−ジメチルブタン−２−オールである、項目３７〜４１のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４３）
Ｒ９がシクロプロピルである、項目３７〜４２のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４４）
前記反応が、およそ室温で生じる、項目３７〜４３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４５）
前記溶媒がアセトニトリルである、項目３７〜４４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４６）
前記ノル−モルフィナン（Ｘ）がノル−ブプレノルフィンである、項目３７〜４５のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目４７）
前記ヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）が、下記の式（ＸＩ）を有する６−ケト−ノル−モルフィナンを、エチレングリコールおよび酸と反応させて、
【化２６】
2010533719.tif 000018
以下の式（ＸＩＩ）を有する６−ケタールノル−モルフィナンを形成することによって調製される、
【化２７】
2010533719.tif 000019
項目１に記載のプロセス。
（項目４８）
前記酸がメタンスルホン酸である、項目４７に記載のプロセス。
（項目４９）
前記反応が、およそ室温で生じる、項目４７または項目４８に記載のプロセス。
（項目５０）
前記６−ケト−ノル−モルフィナン（ＸＩ）がノルオキシモルホンであり、前記６−ケタールノル−モルフィナン（ＸＩＩ）が６−ケタールノルオキシモルホンである、項目４７〜４９のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５１）
前記６−ケタールノル−モルフィナン（ＸＩＩ）が、さらに、溶媒中で式ＣＨ（Ｏ）Ｒ９のアルデヒドと反応して、下記の式を有する前記ヘミアミナールモルフィナン（Ｉ）を形成し、
【化２８】
2010533719.tif 000020
式中、
Ｚ１は、＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）であり、
Ｒ９は、ヒドロカルビル、アシル、置換ヒドロカルビル、または複素環である、項目４７〜５０のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５２）
前記ヘミアミナールモルフィナンが、対応する前記Ｎ−イミンモルフィナンと平衡状態にあり、該ヘミアミナールモルフィナンが、Ｚ１に対して＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９）部分を有し、該Ｎ−イミンモルフィナンがＺ１に対して＞Ｎ＋＝ＣＨ（Ｒ９）部分を有する、項目５１に記載のプロセス。
（項目５３）
Ｒ３が−ＯＲ３１１であり、Ｒ３１１が水素である、項目５１または項目５２に記載のプロセス。
（項目５４）
Ｒ９がシクロプロピルである、項目５１〜５３のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５５）
前記反応が、およそ室温で生じる、項目５１〜５４のいずれか１項に記載のプロセス。
（項目５６）
前記溶媒がアセトニトリルである、項目５１〜５５のいずれか１項に記載のプロセス。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
（発明の詳細な説明）
本発明は、Ｎ−アルキル化モルフィナン、それらの塩、中間体、および類似体の調製のための改善された合成方法を対象とする。本発明の一態様において、当該合成方法は、ルテニウム不斉均一触媒、ロジウム不斉均一触媒、もしくはイリジウム不斉均一触媒および水素源を用いて、モルフィナンのＮ−イミン部分またはヘミアミナール部分（本明細書において、一括して「Ｎ−イミン／ヘミアミナールモルフィナン」と呼ぶ場合もある）を対応するアルキル基に還元する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
例示的モルフィナン（ＩＩ）生成物としては、以下のブプレノルフィン、６−ケタールナルトレキソン、ナルメフェン、ナルブフィン、およびジプレノルフィンが挙げられる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
【化６】
2010533719.tif 000021
ルテニウム不斉触媒、ロジウム不斉触媒、またはイリジウム不斉触媒
一般的に、本発明のルテニウム不斉触媒、ロジウム不斉触媒、またはイリジウム不斉触媒は、ヘミアミナール（Ｚ１＝＞ＮＣＨ（ＯＨ）（Ｒ９））部分および／またはイミン（Ｚ１＝＞Ｎ＋＝ＣＨ）（Ｒ９））部分の還元を促進する。一般的に、これらの不斉触媒は、（ａ）ルテニウム錯体、ロジウム錯体、イリジウム錯体、またはそれらの組み合わせからなる金属源、並びに（ｂ）１つ以上のキラル配位子、を含む。通常、金属とキラル配位子の比率は、約１：１である。一例において、当該金属源は、ルテニウム錯体またはロジウム錯体である。別の実施例において、当該金属源は、ジクロロ（アレーン）Ｒｕ（ＩＩ）二量体、ジクロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）Ｒｈ（ＩＩ）二量体、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジアセテート、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジクロリド、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジブロミド、ＢＩＮＡＰ−Ｒｕ（ＩＩ）ジヨージド、［ＲｕＣｌ（（ＲまたはＳ）ＢＩＮＡＰ）（Ｃ６Ｈ６）］Ｃｌ、またはジクロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）イリジウム（ＩＩＩ）二量体である。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
水素源
本プロセスの水素源は、当業者に既知の任意の水素源である。水素化の方法としては、インサイチューでの水素移動および高圧水素化が挙げられる。一例において、当該水素源は水素ガスである。しかしながら、この供給源を使用して還元を達成するためには、特別な反応器が必要である。調製規模において、これは、安全面での問題を提起し得る。水素ガスの代替案は、水素移動法によりインサイチューで水素を生成する方法である。インサイチューで水素源を生成することにより、標準的な水素化の圧力（ときには、５０ａｔｍのＨ２の場合もある）が回避され、それにより、より安全な調製環境が可能になる。さらに、これらの反応は、非常に穏和な傾向にある。例えば、記載された水素移動手法を使用した場合、エステル、アミド、エーテル、アルケン、ヒドロキシルなどの官能基は、当該プロセスを通して損なわれないままである。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
一般的に、本発明のプロセスのための水素源は、イソプロパノール、ギ酸、ギ酸の有機塩もしくは無機塩、またはそれらの組み合わせから選択される。いくつかの例において、少量の塩基を使用して触媒を活性化してもよい。例えば、イソプロパノール中において、活性化剤としてＫＯＨがしばしば使用される。他の例では、トリエチルアミンを使用してもよい。一例において、当該水素源は、ギ酸の有機または無機塩、好ましくは、ギ酸のトリエチルアミン塩を含む。好ましい例において、当該水素源は、ギ酸とトリエチルアミンの約５：２混合物である。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
溶媒
通常、本発明のプロセスのための溶媒は、ニトリル（例えば、アセトニトリル、プロピオンニトリル）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アルコール（例えば、メタノール、エタノールなど）、ハロカーボン（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、またはテトラクロロエチレンなどのクロロアルキル）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）、酢酸アルキル（例えば、酢酸エチルまたは酢酸プロピル）、トルエン、またはそれらの組み合わせから選択される。より限定的な例において、当該溶媒は、アセトニトリル、ＤＭＡｃ、あるいはアセトニトリルおよびメタノールの組み合わせである。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７３
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７４
【訂正方法】削除
【訂正の内容】