【手続補正書】
【提出日】平成26年6月19日(2014.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
本発明は、このように記載され、同じことが多くの様式で変化できることが明らかであろう。そうした変化は、本発明の精神及び範囲から逸脱しているとみなされず、そしてそうした改変は、以下の請求項の範囲内に含まれることを目的とする。
（態様）
（態様１）
電解的に生成された塩素オキシアニオンの溶液を利用する自動再循環または単一経路クリーニング用途で使用する制御システムであって、
（ａ）電解溶液と、
（ｂ）塩素センサーと流体連通して接続された該電解溶液の第１の部分と、
（ｃ）該電解溶液の第１の部分と流体連通して接続され、約１０ｐｐｍ〜１０００ｐの塩素オキシアニオン濃度の正確な測定を可能にするｐＨ調整剤と、
（ｄ）該クリーニング用途への生成物と、
を含む、システム。
（態様２）
該電解溶液が、食品または飲料加工装置をクリーニングまたは殺菌するために使用される、態様１に記載の制御システム。
（態様３）
該電解溶液が、編織布または洗濯物処理装置をクリーニングまたは殺菌するために使用される、態様１〜２のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４）
該電解溶液が、施設の皿、ガラス、銀製食器または他の食品の調理および取り扱い装置をクリーニングまたは殺菌するために使用される、態様１〜３のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様５）
該電解溶液が、なんらかの電解的に生成された塩素オキシアニオン源である、態様１〜４のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様６）
該塩素オキシアニオン濃度が、約１０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍである、態様１〜５のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様７）
該電解溶液が、約５〜約１１の初期ｐＨを有する、態様１〜６のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様８）
該ｐＨ調整剤を提供するために、該電解溶液の第１の部分に流体連通して接続された流量制御弁をさらに含む、態様１〜７のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様９）
該電解溶液の第１の部分のｐＨを約５.５〜約７.５に調整するために、該ｐＨ調整剤が固定速度で該塩素センサーと流体連通した該電解溶液の第１の部分に加えられる、態様１〜８のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１０）
該ｐＨ調整剤が、二酸化炭素ガスである、態様１〜９のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１１）
該ｐＨ調整剤が、アルカリ性のｐＨ緩衝剤溶液である、態様１〜１０のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１２）
該ｐＨ調整剤が、酸性のｐＨの緩衝剤溶液である、態様１〜１１のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１３）
該ｐＨ調整剤が、中性のｐＨ緩衝剤溶液である、態様１〜１２のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１４）
該制御システムが、該ｐＨ調整剤または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の第１の部分のｐＨを、０.７５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様１〜１３のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１５）
該制御システムが、該ｐＨ調整剤または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の第１の部分のｐＨを、０.５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様１〜１４のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１６）
該制御システムが、該ｐＨ調整剤または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の第１の部分のｐＨを、０.２５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様１〜１５のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１７）
該電解溶液を生成できる電気化学セルをさらに含む、態様１〜１６のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１８）
該電解溶液の第１の部分および該塩素センサーに流体連通して接続されたｐＨプローブをさらに含む、態様１〜１７のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様１９）
目標設定点を達成するために、該システムへの電解溶液または水のさらなる追加を可能にする流量制御に流体連通して接続されたフィードバック制御ループをさらに含む、態様１〜１８のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様２０）
約５.５〜７.５のｐＨを達成するために、該電解溶液の第１の部分へのｐＨ調整剤のさらなる追加を可能にする流量制御に流体連通して接続されたフィードバック制御ループをさらに含む、態様１〜１９のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様２１）
電解的に生成された塩素オキシアニオンの溶液を利用する自動再循環または単一経路クリーニングシステムで使用される制御システムであって、
（ａ）電解溶液のｉｎ ｓｉｔｕ生産のための電気化学セルであって、該電解溶液の第１の部分が塩素センサーと流体連通しているセルと、
（ｂ）約１０ｐｐｍ〜１０００ｐｍの塩素オキシアニオン濃度の正確な測定を可能にするために、該電解溶液の第１の部分のｐＨの改変のための該電解溶液の第１の部分と流体連通している二酸化炭素供給源と、
（ｃ）該クリーニングシステムに電解溶液を送達するためのシステム出力と、
を含む、システム。
（態様２２）
該システム出力が、食品または飲料加工装置をクリーニングまたは殺菌するための電解溶液を送達する、態様２１に記載の制御システム。
（態様２３）
該システム出力が、施設の皿、ガラス、銀製食器または他の食品の調理、取り扱いおよび提供装置をクリーニングまたは殺菌するための電解溶液を送達する、態様２１〜２２のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様２４）
該システム出力が、編織布または洗濯物処理装置をクリーニングまたは殺菌するための電解溶液を送達する、態様２１〜２３のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様２５）
該電解溶液が、約１０ｐｐｍ〜約２００ｐｐｍの塩素含有量を有する、態様２１〜２４のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様２６）
該電解溶液が、約５〜約１１の初期ｐＨを有する、態様２１〜２５のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様２７）
該電解溶液の第１の部分が、約５.５〜約７.５のｐＨに調整される、態様２１〜２６のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様２８）
該制御システムが、該二酸化炭素または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の第１の部分のｐＨを、０．７５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様２１〜２７のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様２９）
該制御システムが、該二酸化炭素または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の第１の部分のｐＨを、０．５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様２１〜２８のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様３０）
該制御システムが、該二酸化炭素または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の第１の部分のｐＨを、０．２５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様２１〜２９のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様３１）
該電解溶液の第１の部分のｐＨを、約５.５〜約７.５のｐＨに調整するために、該二酸化炭素が固定速度で提供される、態様２１〜３０のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様３２）
ｐＨ改変のための該二酸化炭素を提供するために、該電解溶液の第１の部分に流体連通して接続された流量制御弁をさらに含む、態様２１〜３１のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様３３）
該電解溶液の第１の部分および該塩素センサーに流体連通して接続されたｐＨプローブをさらに含む、態様２１〜３２のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様３４）
目標設定点を達成するために、該システムへの電解溶液または水のさらなる追加を可能にする流量制御弁に流体連通して接続されたフィードバック制御ループをさらに含む、態様２１〜３３のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様３５）
該クリーニングシステム中で使用される該電解溶液中のオキシクロロ種のターゲット濃度を達成するために、該流量制御値が操作されることができる、態様２１〜３４のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様３６）
自動再循環または単一経路クリーニングシステムで使用される電解溶液の塩素オキシアニオン濃度を測定するための制御システムであって、
（ａ）電解溶液を生成するために使用される電解溶液濃縮物および希釈水供給源と、
（ｂ）該電解溶液の第１の部分に流体連通して接続された塩素センサーと、
（ｃ）約１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの塩素オキシアニオン濃度の正確な測定を可能にする該電解溶液の第１の部分に流体連通して接続された該電解溶液の第１の部分のｐＨを、約５.５〜７.５に制御できるｐＨ調整剤と、
（ｄ）該電解溶液中の該塩素オキシアニオン濃度を調整するために、該塩素センサー測定に基づいて開始されるフィードバックループメカニズムと、
を含む、システム。
（態様３７）
該電解溶液を生成するために使用される該電解溶液濃縮物の供給源および希釈水の供給源が、電解槽である、態様３６に記載の制御システム。
（態様３８）
該電解溶液濃縮物の供給源が、貯蔵容器である、態様３６〜３７のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様３９）
該電解溶液が、約５〜約１１の初期ｐＨを有する、態様３６〜３８のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４０）
該制御システムが、該ｐＨ調整剤または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の第１の部分のｐＨを、０．７５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様３６〜３９のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４１）
該制御システムが、該ｐＨ調整剤または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の第１の部分のｐＨを、０．５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様３６〜４０のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４２）
該制御システムが、該ｐＨ調整剤または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の第１の部分のｐＨを、０．２５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様３６〜４１のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４３）
該ｐＨ調整剤が、二酸化炭素ガスの供給源であり、そして該電解溶液の第１の部分のｐＨを調整するために、固定速度で提供される、態様３６〜４２のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４４）
該電解溶液の第１の部分および該塩素センサーに流体連通して接続されたｐＨプローブをさらに含む、態様３６〜４３のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４５）
電解溶液、電解溶液濃縮物または希釈水のさらなる追加を可能にする流量制御弁に流体連通して接続されたフィードバック制御ループをさらに含む、態様３６〜４４のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４６）
該クリーニングシステム中で使用される該電解溶液中のオキシクロロ種のターゲット濃度を達成するために、該流量制御値が操作される、態様３６〜４５のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４７）
該回路制御が該塩素オキシアニオン濃度によって始動される回路制御と連通して接続されたフィードバック制御ループをさらに含む、態様３６〜４６のいずれか一項に記載の制御システム。
（態様４８）
自動再循環または単一経路クリーニングシステムのための電解的に生成された塩素オキシアニオンを使用するクリーニングまたは殺菌のための方法であって、
（ａ）態様３６に記載の制御システムから電解溶液を得る工程と、
（ｂ）該クリーニングシステムに該電解溶液を適用する工程と、
を含む、方法。
（態様４９）
該電解溶液としての使用のためのオンサイト電解溶液を生成する工程をさらに含む、態様４８に記載のＣＩＰクリーニングまたは殺菌方法。
（態様５０）
該電解溶液が、なんらかの電解的に生成された塩素オキシアニオン源である、態様４８〜４９のいずれか一項に記載のＣＩＰクリーニングまたは殺菌方法。
（態様５１）
水供給源で該電解溶液を希釈する工程をさらに含む、態様４８〜５０のいずれか一項に記載のＣＩＰクリーニングまたは殺菌方法。
（態様５２）
該電解溶液との接触後に該クリーニングシステムをすすぐ工程をさらに含む、態様４８〜５１のいずれか一項に記載のＣＩＰクリーニングまたは殺菌方法。
（態様５３）
自動再循環または単一経路クリーニングシステムにおいて、電解的に生成された塩素オキシアニオンを使用する抗菌処理のための方法であって、
（ａ）電解溶液を生成するために水中で電解濃縮物を希釈する工程であって、該電解溶液中での塩素オキシアニオンの該濃度が、態様３６の該制御システムを用いて測定される工程と、
（ｂ）抗菌処理を必要とする該クリーニングシステムに該電解溶液を適用する工程と、
を含む、方法。
（態様５４）
該電解溶液が、５〜約１１の範囲内のｐＨを有する、態様５３に記載の抗菌処理方法。
（態様５５）
該制御システムが、該ｐＨ調整剤または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の測定された部分のｐＨを、０．７５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様５３〜５４のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
（態様５６）
該制御システムが、該ｐＨ調整剤または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の測定された部分のｐＨを、０．５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様５３〜５５のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
（態様５７）
該制御システムが、該ｐＨ調整剤または電解溶液の流量の調整なしで、該電解溶液の測定された部分のｐＨを、０．２５ｐＨ単位以下のｐＨ範囲内に維持する、態様５３〜５６のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
（態様５８）
該電解溶液の測定された部分のｐＨを調整するために、該ｐＨ調整剤が固定速度で提供される、態様５３〜５７のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
（態様５９）
該ｐＨ調整剤が、二酸化炭素ガスの供給源である、態様５３〜５８のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
（態様６０）
電解溶液および該塩素センサーの該測定された部分に流体連通して接続されたｐＨプローブをさらに含む、態様５３〜５９のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
（態様６１）
該クリーニングシステムで使用される目標とされる塩素オキシアニオン濃度を得るために、電解溶液の再循環または追加を可能にする流量制御弁に流体連通して接続されたフィードバック制御ループメカニズムをさらに含む、態様５３〜６０のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
（態様６２）
該回路制御が該塩素オキシアニオン濃度によって始動される回路制御と連通して接続されたフィードバック制御ループメカニズムをさらに含む、態様５３〜６１のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
（態様６３）
電解槽から電解溶液をｉｎ ｓｉｔｕで生成することをさらに含む、態様５３〜６２のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
（態様６４）
該クリーニングシステムが、食品または飲料加工装置、編織布または洗濯物処理装置、複数の皿、ガラス、銀製食器および他の食品の調理、取り扱いまたは提供装置、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、態様５３〜６３のいずれか一項に記載の抗菌処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解的に生成された塩素オキシアニオンの溶液を利用する自動再循環または単一経路クリーニング用途で使用する制御システムであって、
（ａ）電解溶液と、
（ｂ）塩素センサーと流体連通して接続された該電解溶液の第１の部分と、
（ｃ）該電解溶液の第１の部分と流体連通して接続され、該電解溶液の第１の部分を約５．５〜約７．５の安定化されたｐＨに保ち、約１０ｐｐｍ〜約１０００ｐの塩素オキシアニオン濃度の正確な測定を可能にするｐＨ調整剤と、
（ｄ）該ｐＨ調整剤を提供するために、該電解溶液の第１の部分と流体連通して接続された少なくとも１つの流量制御弁と、
（ｅ）該システムから目標とされる塩素オキシアニオン濃度を得るために、該電解溶液への電解溶液、水および／またはｐＨ調整剤の再循環または追加を可能にする該流量制御弁と流体連通して接続されたフィードバック制御ループと、
（ｆ）該クリーニング用途への生成物と、
を含み、
該塩素センサーと流体連通した該電解溶液の第１の部分の該安定化されたｐＨ範囲の結果として、該溶液または追加の化学添加物の流量の連続的な調整を必要とせずに、該システムが約１０ｐｐｍ〜約１０００ｐｐｍの制御された塩素濃度を有する電解溶液を生成し、そして、
塩素オキシアニオン濃度の測定に使用される該電解溶液の第１の部分が該システムから廃棄されるか、または該システム内で再循環される、システム。
【請求項２】
該電解溶液が、食品または飲料加工装置をクリーニングまたは殺菌するために使用される、請求項１に記載の制御システム。
【請求項３】
該電解溶液が、編織布または洗濯物処理装置をクリーニングまたは殺菌するために使用される、請求項１に記載の制御システム。
【請求項４】
該電解溶液が、施設の皿、ガラス、銀製食器または他の食品の調理および取り扱い装置をクリーニングまたは殺菌するために使用される、請求項１に記載の制御システム。
【請求項５】
該電解溶液が、なんらかの電解的に生成された塩素オキシアニオン源である、請求項１に記載の制御システム。
【請求項６】
該塩素オキシアニオン濃度が、約１０ｐｐｍ〜約２００ｐｐｍである、請求項５に記載の制御システム。
【請求項７】
該電解溶液が、約５〜約１１の初期ｐＨを有する、請求項５に記載の制御システム。
【請求項８】
該電解溶液の第１の部分に流体連通して接続された流量制御弁が該ｐＨ調整剤を提供する、請求項１に記載の制御システム。
【請求項９】
該電解溶液の第１の部分のｐＨを約５.５〜約７.５に調整するために、該ｐＨ調整剤が固定速度で該塩素センサーと流体連通した該電解溶液の第１の部分に加えられる、請求項１に記載の制御システム。
【請求項１０】
該ｐＨ調整剤が、二酸化炭素ガスである、請求項９に記載の制御システム。