【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年2月16日(2012.2.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ガラス、シリカ及びポリマー材料から選択される材料からなる層を有する基板において、該層の外部表面の少なくとも１部分が、実質的に平坦な頂部を有する不規則な突出物をもつシート（ウェブ）の幾何形状を呈し、該突出物のうちの少なくとも８０％が４０〜２５０ｎｍの間に含まれる高さ、１〜５００ｎｍの間に含まれる平均直径（diametres moyens）を有し、隣接する２つの突出物の間の距離の少なくとも８０％が１〜５００ｎｍの間に含まれている、基板。
【請求項２】  突出物のうちの少なくとも８０％が６０ｎｍ以上の高さを有することを特徴とする請求項１に記載の基板。
【請求項３】  突出物のうちの少なくとも８０％が１９０ｎｍ以下の高さを有することを特徴とする請求項１〜２のいずれか１項に記載の基板。
【請求項４】  突出物のうちの少なくとも８０％が、基板の主平面に対し垂直な軸をもちかつ０〜６０°の間に含まれる頂部半角(demi-angles au sommet)をもつ錐体（cones）又は錐台（troncs de cones droits）を構成していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板。
【請求項５】  突出物の少なくとも８０％が４０〜３８０ｎｍの平均直径を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板。
【請求項６】  前記突出物が、単数又は複数の酸化及び／又は窒化処理生成物を含む材料の層、磁界支援陰極スパッタリングで形成される層、プラズママグネトロンで形成される層、プラズマＣＶＤで形成される層、常圧ＣＶＤで形成される層、粉体及び液体熱分解で形成される層、重合で形成される層、架橋プロセスで形成された層、ゾル−ゲル技術によって形成される層から選ばれる少なくとも１つからなる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板。
【請求項７】  ８０％以上の光透過率及び、５％以下の曇りを呈することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の基板。
【請求項８】  疎水性／疎油性であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の基板。
【請求項９】  その外部表面において、少なくとも一部分が、
ａ）  真空、蒸発、スパッタリング、ゾル−ゲル又はＣＶＤによって得られた化合物；
ｂ）  シリコーン及び／又は
ｃ）  化Ｉ
【化１】
2004502625.tif 000001
及び化ＩＩ
Ｒp′ＳｉＸ4-p′                    （II）
という化学式を満たし、式中
−  ｍ＝０〜１５；
−  ｎ＝１〜５；
−  ｐ＝０、１又は２；
−  Ｒは、線状又は有枝アルキル基又は水素原子であり、
−  Ｘは、ハロゲン、アルコキシ、アセトキシ、アシルオキシ、アミノ、ＮＣＯといったような加水分解可能な基であり、
−  ｐ′＝０、１、２又は３である、化合物、
で構成されていることを特徴とする請求項８に記載の基板。
【請求項１０】  親水性／親油性であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１１】  防汚特性を呈することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１２】  反射防止特性を呈することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１３】  電気伝導性をもつことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１４】  陸上輸送車両、船舶、航空機向け、建物向け、室内、屋外装飾要素向け、ストリートファニチャー向け又は家電用品向けのガラスである、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１５】  １μｍ〜１ｍｍの範囲内に含まれた主要平面内の寸法をもつ表面不規則性を有するレンズスクリーン又はマイクロプリズム基板である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１６】  ０.１〜１０μｍの範囲内の主平面内寸法をもつ、表面不規則性を有する、ランプ又は表示装置用のエッチングされたガラス基板である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基板。
【請求項１７】  化学又は生化学マイクロ反応装置であり、０.１〜５００ｎｍの間に含まれた直径をもつキャビティを有する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基板を有する反応装置。
【請求項１８】  ガラス、シリカ、重合体材料から選ばれる材料の層を有し、該層の外部表面の少なくとも１部分が、錐台、筒体及び柱体から選ばれる少なくとも１つの形状を有する不規則な突出物をもつシート（ウェブ）の幾何形状を呈し、該突出物のうちの少なくとも８０％が４０〜２５０ｎｍの間に含まれる高さ、１〜５００ｎｍの間に含まれる平均直径（diametres moyens）を有し、隣接する２つの突出物の間の距離の少なくとも８０％が１〜５００ｎｍの間に含まれている、基板。
【請求項１９】  前記基板上の水滴が少なくとも１６０°の前進角、少なくとも１２０°の後退角を有し、前進角と後退角の差が４３°より小さい、請求項１８に記載の基板。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明のその他の特徴に従うと：
−  突出物のうちの少なくとも８０％は、６０ｎｍ以上、特に８０ｎｍ以上の高さを有する；
−  突出物のうちの少なくとも８０％は、１９０ｎｍ以下、特に１７０ｎｍ以下の高さを有する；
−  突出物のうちの少なくとも８０％は、基板の主平面に対し垂直な軸をもちかつ頂部における半角（demi-angles au sommet）が０〜６０°特に０〜３０°の範囲内である錐体（cones）又は錐体の直切頭体（troncs de cones droits; right frustums of cones）をほぼ構成しており、この定義は極限的ケースにおいて円筒形(cylinders)をも意味する；
−  突出物の少なくとも８０％は、４０〜３８０ｎｍの平均直径を有し、この平均直径は、例えば中間高さでの錐体の切頭体（錐台; tronc de cone; frustum of cone）の直径ともみなされ得る。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
当然のことながら、本発明に従った数多くの突出物は、往々にして得られる形状の近似でしかない錐体、又は、錐体の切頭体もしくは円筒形（cone, tronc de cone ou cylindre; cone or frustum of cone or cylinder）の幾何形状とは多少の差こそあれ異なる幾何形状を有している。さらに言及すべきは、基板の主平面に対し垂直な柱状（colonnes; columns）で、規則的な又は不規則な断面をもち、ただし共に１〜５００ｎｍの領域内つまり本発明に従って規定された平均直径の領域内に含まれたそれぞれ最大及び最小の寸法に対応する２本の直交軸によって画定されている突出物である。有利には１〜４の間に含まれる前記最大寸法対最小寸法の比率を挙げることができる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
走査型電子顕微鏡を用い５００００倍の倍率で１５°の角度で見た得られた基板は、唯一の添付図面に表わされている。その少なくとも８０％が７０〜２００ｎｍの高さ、５０〜４００ｎｍの平均直径をもち、２つの隣接する突出物間の距離の少なくとも８０％が１〜５００ｎｍの間であるような突出物の形成が観察される。これらの突出物は、基板の主要平面に対し垂直な軸をもち、２０°未満小さな半角（於頂部）をもつ錐台として定義づけることができる。