【手続補正書】
【提出日】平成15年9月5日(2003.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送させながら乾燥させる基板乾燥方法において、
（ａ）前記搬送される基板の前端付近及び後端付近の領域に、第１の風量でエアを噴出する工程と、
（ｂ）前記基板の前端付近及び後端付近以外の領域に、前記第１の風量と異なる第２の風量でエアを噴出する工程と
を具備することを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板乾燥方法において、
前記工程（ａ）は、
（ｃ）前記搬送される基板の前端を検知し、この検知に基づいて前記前端付近の領域に第１の風量でエアを噴出する工程と、
（ｄ）前記前端を検知した後、所定時間経過後に前記後端付近の領域に第１の風量でエアを噴出する工程と
を具備することを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項３】
基板を搬送させながら、所定の位置で基板に対しエアを噴出して乾燥させる基板乾燥方法において、
（ａ）前記搬送される基板の前端付近及び後端付近が前記所定の位置に到達したときに、基板の搬送速度を第１の速度にする工程と、
（ｂ）前記前端付近及び後端付近が前記所定の位置を通過した後に、基板の搬送速度を前記第１の速度と異なる第２の速度にする工程と
を具備することを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項４】
請求項３に記載の基板乾燥方法において、
前記工程（ａ）は、
（ｃ）前記搬送される基板の前端を検知し、この検知に基づいて基板の搬送速度を第１の速度にする工程と、
（ｄ）前記前端を検知した後、所定時間経過後に基板の搬送速度を第２の速度にする工程と
を具備することを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項５】
請求項２又は請求項４に記載の基板乾燥方法において、
前記工程（ｃ）の検知は、光センサにより行うことを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項６】
請求項２又は請求項４に記載の基板乾燥方法において、
前記工程（ｃ）の検知は、基板に対しエアが当るときの音の変動に基づいて行うことを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項７】
請求項１又は請求項３に記載の基板乾燥方法において、
前記エアを噴出し、前記基板の前端又は後端の一辺に対して所定の角度を有する長尺状のノズルを備え、
前記長尺状のノズルにおける、前記基板の前端に近い方の部位から噴出されるエアの風量を、前記基板の後端に近い方の部位から噴出されるエアの風量と異なるようにすることを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項８】
基板を搬送させる搬送手段と、
前記搬送手段により搬送される基板に対しエアを噴出して基板を乾燥させるエア噴出手段と、
前記エア噴出手段から噴出されるエアの風量を、前記搬送される基板の前端付近及び後端付近の領域で第１の風量にし、前記前端付近及び後端付近以外の領域で前記第１の風量と異なる第２の風量に制御する手段と
を具備することを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項９】
基板を搬送させる搬送手段と、
前記搬送手段により搬送される基板に対しエアを噴出して基板を乾燥させるエア噴出手段と、
前記搬送される基板の前端付近及び後端付近が所定の位置に到達したときに、基板の搬送速度を第１の速度にし、前記前端付近及び後端付近が前記所定の位置を通過した後に、基板の搬送速度を前記第１の速度と異なる第２の速度にする手段と
を具備することを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項１０】
請求項８又は請求項９に記載の基板乾燥装置において、
前記エア噴出手段は、前記基板の前端又は後端の一辺に対して所定の角度を有する長尺状のノズルを備え、
前記長尺状のノズルにおける、前記基板の前端に近い方の部位から噴出されるエアの風量を、前記基板の後端に近い方の部位から噴出されるエアの風量と異なるようにすることを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項１１】
前記第１の風量から前記第２の風量まで、又は、前記第２の風量から前記第１の風量まで徐々に風量を変化させることを特徴とする請求項１、２、６のいずれか１項に記載の基板乾燥方法。
【請求項１２】
基板の速度を可変することを特徴とする請求項１または２に記載の基板乾燥方法。
【請求項１３】
基板に液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
基板を搬送させる搬送手段と、
前記搬送手段により搬送される基板に対し液を供給する手段と、
前記搬送手段により搬送される基板に対しエアを噴出して基板を乾燥させるエア噴出手段と、
前記エア噴出手段から噴出されるエアの風量を、前記搬送される基板の前端付近及び後端付近の領域で第１の風量にし、前記前端付近及び後端付近以外の領域で前記第１の風量より少ない第２の風量に制御する手段と
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項１４】
基板に液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
基板を搬送させる搬送手段と、
前記搬送手段により搬送される基板に対し液を供給する手段と、
前記搬送手段により搬送される基板に対しエアを噴出して基板を乾燥させるエア噴出手段と、
前記エア噴出手段から噴出されるエアの風量を、前記搬送される基板の前端付近の領域で第１の風量にし、前記前端付近及び後端付近以外の領域で前記第１の風量より少ない第２の風量にし、前記搬送される基板の後端付近の領域で前記第１の風量より大きな風量に制御する手段と
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項１５】
基板の前端付近の領域内において、前記第１の風量から段階的も若しくは線形的に風量を減少させ、及び／又は基板の前端付近及び後端付近以外の領域から基板の後端付近の領域にかけて段階的若しくは線形的に風量を増加させることを特徴とする請求項１３または１４に記載の液処理装置。
【請求項１６】
基板に液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
基板を搬送させる搬送手段と、
前記搬送手段により搬送される基板に対し液を供給する手段と、
前記搬送手段により搬送される基板に対しエアを噴出して基板を乾燥させるエア噴出手段と、
前記搬送される基板の前端が所定の位置に到達したときに、基板の搬送速度を第１の速度にして基板の前端付近の領域にエアを供給し、所定時間経過後に搬送速度を上げて基板の前端付近及び後端付近以外の領域にエアを供給し、更に所定時間後搬送速度を減速して基板の後端付近の領域にエアを供給し、基板の後端が前記エア噴出手段を通過した後に再び搬送速度を上げるように制御する手段と
を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項１７】
基板の後端付近の領域にエアが供給されるときの基板の搬送速度を、前記第１の搬送速度より遅くすることを特徴とする請求項第１６に記載の液処理装置。
【請求項１８】
エアの音の変動を検知することにより、基板の前端が所定の位置に到達したと検知する手段を有することを特徴とする請求項第１６または１７に記載の液処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶デバイスの製造工程において、液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）等に使用されるガラス基板に対し所定の液処理を行った後に、ガラス基板を乾燥させる基板乾燥方法、基板乾燥装置及び液処理装置に関する。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の一の形態によれば、前記工程（ａ）は、（ｃ）前記搬送される基板の前端を検知し、この検知に基づいて前記前端付近の領域に第１の風量でエアを噴出する工程と、（ｄ）前記前端を検知した後、所定時間経過後に前記後端付近の領域に第１の風量でエアを噴出する工程とを具備する。例えば、工程（ｃ）の検知を光センサにより行うことも可能である。また一方、工程（ｃ）の検知を、基板に対しエアが当るときの「音」の変動に基づいて行うことも可能である。例えばこの「音」の強さ、周波数、音色等の変化に基づいて、基板の搬送速度を変化させることにより、基板全面にわたってばらつきなく処理液を完全に除去することができ乾燥ムラの発生を防止することができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の一の形態によれば、前記工程（ａ）は、（ｃ）前記搬送される基板の前端を検知し、この検知に基づいて基板の搬送速度を第１の速度にする工程と、（ｄ）前記前端を検知した後、所定時間経過後に基板の搬送速度を第２の速度にする工程とを具備する。例えば、工程（ｃ）を光センサにより行うことも可能であるし、基板に対しエアが当るときの音の変動に基づいて行うことも可能である。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明に係る第２の観点に係る基板乾燥装置は、基板を搬送させる搬送手段と、前記搬送手段により搬送される基板に対しエアを噴出して基板を乾燥させるエア噴出手段と、前記搬送される基板の前端付近及び後端付近が所定の位置に到達したときに、基板の搬送速度を第１の速度にし、前記前端付近及び後端付近が前記所定の位置を通過した後に、基板の搬送速度を前記第１の速度と異なる第２の速度にする手段とを具備する。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このような構成によれば、例えば第１の搬送速度を第２の搬送速度よりも遅くすることにより、基板全面にわたってばらつきなく処理液を完全に除去することができ、乾燥ムラの発生を防止することができる。特に基板の前端付近及び後端付近で残存することがあった処理液を除去することができる。
本発明の一の形態によれば、前記第１の風量から前記第２の風量まで、又は、前記第２の風量から前記第１の風量まで徐々に風量を変化させる。
本発明の一の形態によれば、基板の速度を可変する。
本発明に係る第３の観点に係る液処理装置は、基板に液を供給して液処理を行う液処理装置であって、基板を搬送させる搬送手段と、前記搬送手段により搬送される基板に対し液を供給する手段と、前記搬送手段により搬送される基板に対しエアを噴出して基板を乾燥させるエア噴出手段と、前記エア噴出手段から噴出されるエアの風量を、前記搬送される基板の前端付近及び後端付近の領域で第１の風量にし、前記前端付近及び後端付近以外の領域で前記第１の風量より少ない第２の風量に制御する手段とを具備する。
本発明に係る第４の観点に係る液処理装置は、基板に液を供給して液処理を行う液処理装置であって、基板を搬送させる搬送手段と、前記搬送手段により搬送される基板に対し液を供給する手段と、前記搬送手段により搬送される基板に対しエアを噴出して基板を乾燥させるエア噴出手段と、前記エア噴出手段から噴出されるエアの風量を、前記搬送される基板の前端付近の領域で第１の風量にし、前記前端付近及び後端付近以外の領域で前記第１の風量より少ない第２の風量にし、前記搬送される基板の後端付近の領域で前記第１の風量より大きな風量に制御する手段とを具備する。
本発明の一の形態によれば、基板の前端付近の領域内において、前記第１の風量から段階的も若しくは線形的に風量を減少させ、及び／又は基板の前端付近及び後端付近以外の領域から基板の後端付近の領域にかけて段階的若しくは線形的に風量を増加させることを特徴とする。
本発明に係る第４の観点に係る液処理装置は、基板に液を供給して液処理を行う液処理装置であって、基板を搬送させる搬送手段と、前記搬送手段により搬送される基板に対し液を供給する手段と、前記搬送手段により搬送される基板に対しエアを噴出して基板を乾燥させるエア噴出手段と、前記搬送される基板の前端が所定の位置に到達したときに、基板の搬送速度を第１の速度にして基板の前端付近の領域にエアを供給し、所定時間経過後に搬送速度を上げて基板の前端付近及び後端付近以外の領域エアを供給し、更に所定時間後搬送速度を減速して基板の後端付近の領域にエアを供給し、基板の後端が前記エア噴出手段を通過した後に再び搬送速度を上げるように制御する手段とを具備する。
本発明の一の形態によれば、基板の後端付近の領域にエアが供給されるときの基板の搬送速度を、前記第１の搬送速度より遅くすることを特徴とする。
本発明の一の形態によれば、エアの音の変動を検知することにより、基板の前端が所定の位置に到達したと検知する手段を有することを特徴とする。