【手続補正書】
【提出日】平成26年7月9日(2014.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ−メチルイミノ二酢酸（ＭＩＤＡ）ボロネートを溶液から精製する方法であって、溶液をヘキサンで希釈し、それによってＭＩＤＡボロネートを選択的に沈殿させるステップと、沈殿したＭＩＤＡボロネートを単離するステップと、を含む、方法。
【請求項２】
単離が、沈殿したＭＩＤＡボロネートをろ過することを含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
沈殿したＭＩＤＡボロネートをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中に溶解させるステップをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
ＭＩＤＡボロネートを含む溶液がＴＨＦ溶液である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
ＭＩＤＡボロネートを含む溶液をヘキサンに滴加する、請求項１記載の方法。
【請求項６】
ヘキサンの体積が溶液の体積の約２倍〜約４倍である、請求項１記載の方法。
【請求項７】
ヘキサンの体積が溶液の体積の約３倍である、請求項１記載の方法。
【請求項８】
ＭＩＤＡボロネートを含む溶液が化学反応から得られる粗生成物混合物である、請求項１記載の方法。
【請求項９】
ＭＩＤＡボロネートが
【化１】
2013535452.tif 000001
によって表され、Ｒ１０が有機基を表し、Ｂがｓｐ３混成を有するホウ素を表し、Ｒ２０はメチルであり、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は独立して、水素および有機基からなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４が水素である、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
Ｎ−メチルイミノ二酢酸（ＭＩＤＡ）ボロネートを溶液から精製する方法であって、シリカプラグに前記溶液を通過させるステップと、前記シリカプラグに第１液体を通過させるステップと、前記シリカプラグに第２液体を通過させ、それによって前記ＭＩＤＡボロネートを第２液体中に溶出させるステップと、を含み、第１液体がジエチルエーテルを含有するか、または第１液体の極性が、９８．５：１．５（ｖ／ｖ）Ｅｔ２Ｏ：ＭｅＯＨの混合物の極性よりも低いかもしくはほぼ等しく、第２液体の極性がテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の極性よりも高いかもしくはほぼ等しい、方法。
【請求項１２】
第１液体がジエチルエーテルを含む、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
第１液体がジエチルエーテルである、請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
第１液体がジエチルエーテルとメタノールとの混合物である、請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
第１液体がジエチルエーテルとメタノールとの混合物であり、ジエチルエーテル対メタノールの比が９８．５：１．５（ｖ／ｖ）である、請求項１１記載の方法。
【請求項１６】
第２液体が、ＴＨＦ、ＭｅＣＮ、酢酸エチルもしくはアセトン、または類似した極性の溶媒である、請求項１１記載の方法。
【請求項１７】
第２液体が、ＴＨＦ、ＭｅＣＮ、酢酸エチルまたはアセトンである、請求項１１記載の方法。
【請求項１８】
第２液体がＴＨＦである、請求項１１記載の方法。
【請求項１９】
溶液が化学反応から得られる粗生成物混合物である、請求項１１記載の方法。
【請求項２０】
ＭＩＤＡボロネートが
【化２】
2013535452.tif 000002
によって表され、Ｒ１０が有機基を表し、Ｂがｓｐ３混成を有するホウ素を表し、Ｒ２０がメチルであり、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４が独立して、水素および有機基からなる群から選択される、請求項１１記載の方法。
【請求項２１】
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４が水素である、請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
Ｎ−メチルイミノ二酢酸（ＭＩＤＡ）ボロネートを溶液から精製する方法であって、前記溶液をヘキサンで希釈し、それによってＭＩＤＡボロネートを選択的に沈殿させるステップと、シリカプラグに希釈された溶液を通過させ、それによって沈殿したＭＩＤＡボロネートをシリカプラグ上に堆積させるステップと、シリカプラグに第１溶液を通過させるステップと、シリカプラグに第２液体を通過させ、それによってＭＩＤＡボロネートを第２液体中に溶出させるステップと、を含み、第１液体がジエチルエーテルを含むか、または第１液体の極性が、９８．５：１．５（ｖ／ｖ）Ｅｔ２Ｏ：ＭｅＯＨの混合物の極性よりも低いかもしくはほぼ等しく、第２液体の極性がテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の極性よりも高いかもしくはほぼ等しい、方法。
【請求項２３】
第１液体がジエチルエーテルを含む、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
第１液体がジエチルエーテルである、請求項２２記載の方法。
【請求項２５】
第１液体がジエチルエーテルとメタノールとの混合物である、請求項２２記載の方法。
【請求項２６】
第１液体がジエチルエーテルとメタノールとの混合物であり、ジエチルエーテル対メタノールの比が９８．５：１．５（ｖ／ｖ）である、請求項２２記載の方法。
【請求項２７】
第２液体が、ＴＨＦ、ＭｅＣＮ、酢酸エチルもしくはアセトン、または類似しているかもしくはそれ以上の極性を有する溶媒である、請求項２２記載の方法。
【請求項２８】
第２液体がＴＨＦ、ＭｅＣＮ、酢酸エチルまたはアセトンである、請求項２２記載の方法。
【請求項２９】
第２液体がＴＨＦである、請求項２２記載の方法。
【請求項３０】
溶液が化学反応から得られる粗生成物混合物である、請求項２２記載の方法。
【請求項３１】
ＭＩＤＡボロネートが
【化３】
2013535452.tif 000003
によって表され、Ｒ１０が有機基を表し、Ｂがｓｐ３混成を有するホウ素を表し、Ｒ２０はメチルであり、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は独立して、水素および有機基からなる群から選択される、請求項２２記載の方法。
【請求項３２】
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４が水素である、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
Ｎ−メチルイミノ二酢酸（ＭＩＤＡ）ボロネートを脱保護する方法であって、ＭＩＤＡボロネートおよび溶媒を含む溶液を固体で支持された水酸化アンモニウム試薬と接触させ、それによってＭＩＤＡボロネートを脱保護し、ボロン酸およびＭＩＤＡを形成するステップを含む、方法。
【請求項３４】
溶媒がＴＨＦを含む、請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
固体で支持された水酸化アンモニウム試薬がＭＩＤＡと結合する、請求項３３記載の方法。
【請求項３６】
溶媒をろ過によって除去するステップと、ボロン酸およびＭＩＤＡリガンドが固体で支持された水酸化アンモニウム試薬の内部にトラップされて残るステップと、さらなる溶媒を添加するステップと、をさらに含む、請求項３３記載の方法。
【請求項３７】
さらなる溶媒がＴＨＦである、請求項３６記載の方法。
【請求項３８】
固体で支持された水酸化アンモニウム試薬を、有機溶媒および酸を固体で支持された水酸化アンモニウム試薬を中和するために必要であるよりも多い量で含む有機溶液で洗浄し、それによってボロン酸を溶出させることをさらに含む、請求項３３記載の方法。
【請求項３９】
有機溶媒がＴＨＦである、請求項３８記載の方法。
【請求項４０】
酸が酢酸である、請求項３９記載の方法。
【請求項４１】
溶出されたボロン酸を塩基で処理して、酢酸を中和することをさらに含む、請求項４０記載の方法。
【請求項４２】
塩基が炭酸カリウムである、請求項４１記載の方法。
【請求項４３】
固体で支持された水酸化アンモニウム試薬を、塩酸を含む１，４−ジオキサン溶液で洗浄し、それによってボロン酸を溶出させることをさらに含む、請求項３３記載の方法。
【請求項４４】
固体で支持された水酸化アンモニウム試薬が強塩基アニオン交換樹脂である、請求項３３記載の方法。
【請求項４５】
固体で支持された水酸化アンモニウム試薬が、第４アンモニウム基を含有する架橋したスチレンジビニルベンゼンコポリマーベースの強塩基１型アニオン性巨大網状ポリマー樹脂である、請求項３３記載の方法。
【請求項４６】
Ｎ−メチルイミノ二酢酸（ＭＩＤＡ）ボロネートを脱保護する方法であって、ＭＩＤＡボロネートおよび溶媒を含む溶液をＮａＯＨの水溶液と接触させ、それによってＭＩＤＡボロネートを脱保護し、ボロン酸よび遊離ＭＩＤＡリガンドを形成するステップを含む、方法。
【請求項４７】
溶媒がテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を含む、請求項４６記載の方法。
【請求項４８】
ジエチルエーテルを添加し、それによって脱保護されたＭＩＤＡボロネートを含む有機相および水性相を含む二相混合物を生成するステップと、ボロン酸および遊離ＭＩＤＡリガンドを含む有機相を前記水性相から単離するステップと、をさらに含む、請求項４６記載の方法。
【請求項４９】
有機相を、硫酸マグネシウム、珪藻土、およびモレキュラーシーブからなる群から選択される１以上の乾燥剤と接触させ、それによってボロン酸および遊離ＭＩＤＡリガンドを含む有機相を乾燥するステップをさらに含む、請求項４８記載の方法。
【請求項５０】
ボロン酸および遊離ＭＩＤＡリガンドを含む乾燥有機相を脱酸素化することをさらに含む、請求項４９記載の方法。
【請求項５１】
ボロン酸および遊離ＭＩＤＡリガンドを含む有機相に乾燥無酸素ガスを吹き込むことを含む、請求項５０記載の方法。
【請求項５２】
無酸素ガスがアルゴンである、請求項５１記載の方法。
【請求項５３】
自動化小分子合成機であって、
（ｄ）精製モジュールと流体的に連通する、（ｃ）反応モジュールと流体的に連通する、（ｂ）乾燥および脱気モジュールと流体的に連通する、（ａ）脱保護モジュールと、
（ｅ）１つのモジュールから別のモジュールへと液体を移動させることができる少なくとも１つのポンプと、
（ｆ）ソフトウェアを備えたコンピュータと、
を含み、
モジュールが全てコンピュータの制御下にある、自動化小分子合成機。
【請求項５４】
脱保護モジュールが固体で支持された水酸化アンモニウム試薬を含む、請求項５３記載の自動化小分子合成機。
【請求項５５】
脱保護モジュールが水性脱保護モジュールである、請求項５３記載の自動化小分子合成機。
【請求項５６】
複数の脱保護モジュールと、複数の乾燥および脱気モジュールと、複数の反応モジュールと、複数の精製モジュールと、１つのモジュールから別のモジュールへと液体を移動させることができる少なくとも１つのポンプと、ソフトウェアを備えたコンピュータと、を含み、モジュールがすべてコンピュータの制御下にある、請求項５３記載の自動化小分子合成機。