【手続補正書】
【提出日】平成24年5月29日(2012.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料コンベアアセンブリ（１３９）であって、
基板支持表面を有するプラテン（１３８）と、
前記基板支持表面に支持材料（１３７）を供与するように構成された第１の材料位置決め機構と、
上に特徴点の規則正しいアレー（１３７Ａ）が形成される第１の表面を有する前記支持材料（１３７）と、
前記基板支持表面の少なくとも一部分を横切って移送される前記支持材料（１３７）を前記第１の材料位置決め機構から受け取るように構成された第２の材料位置決め機構を備える、材料コンベアアセンブリ（１３９）と、
前記第１の表面上方に配設される１つまたは複数のセンサアセンブリ（１４２）であって、前記第１の表面上に形成される前記特徴点の規則正しいアレー（１３７Ａ）の位置の変化を検知するように位置決めされ、電磁的エネルギ源（１４２Ａ）と、当該源（１４２Ａ）によって供給されるエネルギとパターン（１３７Ａ）内の特徴点との相互作用に起因する、エネルギの強度の変動を検出するようになされた検出器（１４２Ｂ）を備えるセンサアセンブリ（１４２）と、
前記１つまたは複数のセンサアセンブリ（１４２）から信号を受け取り、前記第１の材料位置決め機構または前記第２の材料位置決め機構に連結されるアクチュエータを使用して、前記基板支持表面上の前記支持材料（１３７）の位置を制御するように構成された制御器（１０１）を備えることを特徴とする、基板（１５０）を処理するための装置。
【請求項２】
前記電磁的エネルギ源（１４２Ａ）は前記支持材料（１３７）の前記第１の表面に近接して搭載され、
前記検出器（１４２Ｂ）は前記支持材料（１３７）の前記第１の表面に近接して搭載される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記支持材料（１３７）の前記第１の表面上に配設される前記基板（１５０）を監視するように位置決めされる第１のカメラ（１２０）を備える検査システム（２００）をさらに備え、前記制御器（１０１）が前記検査システム（２００）によって受信される情報に基づいて前記基板（１５０）を位置決めするように構成された、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記支持材料（１３７）が、前記第１の材料位置決め機構に連結される１つの端部と、前記第２の材料位置決め機構に連結される対向する端部とを有する材料の連続シートである、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
少なくとも１つのベルト（１１６）と前記少なくとも１つのベルト（１１６）に連結されるコンベアアクチュエータとを備えるコンベアをさらに備え、前記コンベアが前記少なくとも１つのベルト上に配設される前記基板（１５０）を前記支持材料（１３７）の前記第１の表面まで移送するように位置決めされる、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記複数の特徴点が、堆積される材料の規則正しく間隔をあけて配置される区域または前記支持材料（１３７）内の孔のパターン（１３７Ａ）を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記１つまたは複数のセンサアセンブリ（１４２）のそれぞれが、容量型式のセンサ、光学測定センサ、または渦電流測定センサを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
支持材料（１３７）の第１の表面上に基板（１５０）を受け取るステップであって、前記第１の表面がその上に形成される特徴点の規則正しいアレー（１３７Ａ）を有するステップと、
基板支持部の表面を横切って前記支持材料を移動させるステップと、
電磁的エネルギ源（１４２Ａ）と、当該源（１４２Ａ）によって供給されるエネルギとパターン（１３７Ａ）内の特徴点との相互作用に起因する、エネルギの強度の変動を検出するようになされた検出器（１４２Ｂ）を備えるセンサアセンブリ（１４２）を通り過ぎる、前記複数の特徴点（１３７Ａ）の移動を検知するステップと、
前記特徴点の規則正しいアレー（１３７Ａ）の前記検知された移動から受信するデータに少なくとも部分的に基づいて、前記基板支持部の前記表面上の前記基板（１５０）の位置を制御するステップを含むことを特徴とする、基板を処理する方法。
【請求項９】
第１のコンベア上に前記基板（１５０）を受け取るステップと、
前記支持材料（１３７）の前記第１の表面上に前記基板（１５０）を受け取る間に、前記第１のコンベアから前記支持材料（１３７）まで前記基板（１５０）を移送するステップと、
前記基板（１５０）が第１の位置にあるとき、前記基板支持部の前記表面を横切って移動する前記支持材料（１３７）を停止させるステップと、
前記第１の表面上に配設される前記基板（１５０）を、前記基板（１５０）が前記第１の位置に維持されるように保持するために、前記支持材料（１３７）の第２の表面の後ろの区域を空にするステップをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記基板支持部の前記表面上の前記基板（１５０）の前記位置を制御した後で、前記基板（１５０）をスクリーン印刷チャンバ（１０２）内に位置決めするステップと、
前記スクリーン印刷チャンバ（１０２）内に配設される前記基板（１５０）上に材料を堆積させるステップをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記複数の特徴点（１３７Ａ）の前記移動を検知するステップが、
前記源（１４２Ａ）からの電磁放射線を前記支持材料（１３７）の前記第１の表面上に放射するステップであって、前記放射される放射線が前記第１の表面上に形成される前記特徴点の規則正しいアレー（１３７Ａ）と相互作用するステップと、
前記電磁放射線の少なくとも一部分が前記複数の特徴点（１３７Ａ）と相互作用した後で、前記電磁放射線の強度を前記検出器（１４２Ｂ）によって受信するステップと、
前記基板支持部の前記表面上の前記基板（１５０）の前記位置を求めるために、前記受信される電磁放射線の前記強度を監視するステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記特徴点の規則正しいアレー（１３７Ａ）の前記移動を検知するステップが、容量型式のセンサ、光学測定センサ、または渦電流センサを通り過ぎる前記複数の特徴点（１３７Ａ）のうちの少なくとも１つの移動を検知するステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
カメラ（１２０）を使用して前記基板支持部上の第１の位置に配設される第１の基板（１５０）を検査するステップをさらに含み、
センサアセンブリ（１４２）を通り過ぎる前記複数の特徴点（１３７Ａ）の前記移動を検知するステップが、
前記支持材料の前記第１の表面上に源（１４２Ａ）からの電磁放射線を放射するステップであって、前記第１の表面を打つ前記放射された放射線が前記第１の表面上に形成される前記特徴点の規則正しいアレー（１３７Ａ）と相互作用するステップと、
前記電磁放射線のうちの少なくとも一部分が前記特徴点の規則正しいアレー（１３７Ａ）と相互作用した後で、前記電磁放射線の強度を受信するステップを含み、
前記検知された移動から受信したデータに少なくとも部分的に基づいて、前記基板支持部の前記表面上の前記基板（１５０）の位置を制御するステップが、
前記基板支持部の前記表面上の前記基板（１５０）の前記位置を求めるために、前記受信される電磁放射線の前記強度を監視するステップと、
前記受信された電磁放射線の前記強度を監視するステップから受け取られたデータに少なくとも部分的に基づいて、前記基板支持部の前記表面上の前記基板（１５０）の前記位置を調整するステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
第１の表面と、第１の端部および第２の端部を有する材料と、
前記第１の端部と第２の端部の間の方向に延びる、前記第１の表面のある区域上に形成され、間の開いた印刷インクの線、エンボス加工された特徴点、または取り除かれた支持材料から選択される特徴点の規則正しいアレー（１３７Ａ）とを備える、処理中に基板を支持するために使用される支持材料であって、
前記材料の第１の側の反対側に真空が加えられるとき、空気がその厚さを通過できるような十分な厚さを、前記第１の表面に対して実質的に直角な方向に有する、支持材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（複数の）本発明は、１つまたは複数の処理される基板上に繰り返し可能な、正確なスクリーン印刷されるパターンを供給することができる、スクリーン印刷チャンバ内で基板を処理するための装置および方法を提供する。一実施形態では、このスクリーン印刷チャンバは、基板が所望の材料でパターン化される、結晶シリコン太陽電池生産ラインの一部分内でスクリーン印刷工程を実施するようになされている。一実施形態では、このスクリーン印刷チャンバは、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ州Ｓａｎｔａ  ＣｌａｒａのＡｐｐｌｉｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．によって所有されるＡｐｐｌｉｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｉｔａｌｉａ  Ｓ．ｒ．ｌ．から入手可能な、Ｒｏｔａｒｙ  ｌｉｎｅ  ｔｏｏｌまたはＳｏｆｔｌｉｎｅ（商標）ｔｏｏｌ内に配置される処理チャンバである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
このシステム１００で利用される２つのスクリーン印刷ヘッド１０２は、スクリーン印刷工程中印刷ネスト１３１上に位置決めされる基板の表面上に所望のパターンで材料を堆積させるようになされた、Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｉｔａｌｉａ  Ｓ．ｒ．ｌ．から入手可能な従来型のスクリーン印刷ヘッドであることができる。一実施形態では、このスクリーン印刷ヘッド１０２は、太陽電池基板上に金属含有材料または絶縁体含有材料を堆積させるようになされている。一例では、この基板は、サイズで約１２５ｍｍと１５６ｍｍの間の幅と約７０ｍｍと１５６ｍｍの間の長さを有する太陽電池基板である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図６Ａは、支持材料１３７の移動を監視するために反射エネルギを使用するセンサアセンブリ１４２の一実施形態を示す、印刷ネスト１３１の側面横断面図である。この構成では、センサアセンブリ１４２は全体的に、パターン１３７Ａを含む支持材料１３７上の検出区域１４２Ｃ（図５Ｂ）を照射し、パターン１３７Ａとの干渉または相互作用によって変更される反射される光のある量を検出器１４２Ｂのところで受信する「Ｂ１」光源１４２Ａとから構成される。パターン１３７Ａとの相互作用に起因して検出器１４２Ｂによって受信されるこの変更されたエネルギは、支持材料１３７の移動および／または位置を制御できるようにシステム制御器１０１にフィードバックされる。一事例では、光源１４２Ａによって供給される電磁気的エネルギは、パターン１３７Ａの移動をシステム制御器１０１によって監視することができるように、支持材料１３７の表面またはパターン１３７Ａが形成される材料から選択的に反射されるように設計される。別の実施形態では、光源１４２Ａによって供給される電磁気的エネルギは、プラテン１３８から反射され、したがって、プラテン１３８内の支持材料１３７の存在または不在が支持材料１３７の移動および／または位置を監視するために使用される。さらに別の実施形態では、光源１４２Ａによって供給される電磁気的エネルギは、支持材料１３７の不透明な性質のために主としてプラテン１３８から反射され、したがって、支持材料１３７の表面上に形成されるパターン１３７Ａ（例えば、堆積されるインク区域）内の材料の存在および不在は反射されるエネルギを変更するために使用され、その結果センサアセンブリ１４２を通り過ぎる支持材料１３７の移動についての情報を提供する。代替の構成では、このセンサアセンブリ１４２は、印刷ネスト１３１内などの、プラテン１３８の下方に位置決めされる。この場合には、支持材料１３７の表面上に形成されるパターン１３７Ａは、プラテン１３８内に形成される孔（図示せず）を介して視ることができる。