(57)【要約】【課題】エクスチェンジバイアス方式において、狭トラック化においても再生感度の向上を図ることができるとともに、サイドリーディングの発生を抑制できる磁気検出素子及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域にバックフィルギャップ層３５の端部３５ａを設け、前記第２反強磁性層３３を記録媒体との対向面側から前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａ上にかけて形成する。これによりフリー磁性層２８の後方領域では、磁性層内部でのバイアス磁界が前方領域に比べて弱まり、前記フリー磁性層の素子中央部での外部磁界に対する再生感度を、交換スティフネス定数を低減させることなく、従来に比べて向上させることが可能になるとともに、サイドリーディングの発生を抑制可能な磁気検出素子を製造することができる。【選択図】　　図１
2004054962.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下から第１反強磁性層、固定磁性層、非磁性材料層、フリー磁性層を有する多層膜が設けられ、
前記フリー磁性層のトラック幅方向における素子両側端部上には第２反強磁性層が設けられ、前記第２反強磁性層の交換結合磁界が生じる領域のハイト側後端面が、少なくとも前記フリー磁性層のトラック幅方向における素子中央部のハイト側後端面よりも記録媒体との対向面側に位置していることを特徴とする磁気検出素子。
【請求項２】
前記フリー磁性層上には第３反強磁性層が設けられ、前記第３反強磁性層のトラック幅方向における素子両側端部上に前記第２反強磁性層が設けられる請求項１記載の磁気検出素子。
【請求項３】
下から第１反強磁性層、固定磁性層、非磁性材料層、フリー磁性層を有する多層膜が設けられ、
少なくとも前記フリー磁性層のトラック幅方向における素子両側端部のハイト側の後方領域上には絶縁層が設けられ、
第２反強磁性層が、前記フリー磁性層の前記素子両側端部上であって、記録媒体との対向面側から前記絶縁層上にかけて形成されることを特徴とする磁気検出素子。
【請求項４】
前記フリー磁性層上には第３反強磁性層が設けられ、前記絶縁層が、前記第３反強磁性層の前記素子両側端部のハイト側の後方領域上に設けられ、
前記第２反強磁性層が、前記第３反強磁性層の前記素子両側端部上であって、記録媒体との対向面側から前記絶縁層上にかけて形成される請求項３記載の磁気検出素子。
【請求項５】
前記絶縁層は、前記多層膜のハイト側後端面よりもさらにハイト側後方に広がって形成される請求項３または４に記載の磁気検出素子。
【請求項６】
膜厚方向における前記絶縁層とフリー磁性層間、あるいは前記絶縁層と第３反強磁性層間には非磁性層が設けられる請求項３ないし５のいずれかに記載の磁気検出素子。
【請求項７】
前記非磁性層は、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｒｈ、Ｃｒのいずれか１種または２種以上で形成される請求項６記載の磁気検出素子。
【請求項８】
前記第３反強磁性層は２０Å以上で５０Å以下の膜厚で形成される請求項２または４に記載の磁気検出素子。
【請求項９】
以下の工程を有することを特徴とする磁気検出素子の製造方法。
（ａ）下から第１反強磁性層、固定磁性層、非磁性材料層、フリー磁性層の順に多層膜を形成する工程と、
（ｂ）前記フリー磁性層のトラック幅方向における素子両側端部上であって、ハイト側の後方領域上に絶縁層を設ける工程と、
（ｃ）第２反強磁性層を前記フリー磁性層の前記素子両側端部上であって、記録媒体との対向面側から前記絶縁層上にかけて形成する工程。
【請求項１０】
以下の工程を有することを特徴とする磁気検出素子の製造方法。
（ｄ）下から第１反強磁性層、固定磁性層、非磁性材料層、フリー磁性層、第３反強磁性層及び非磁性層の順に多層膜を形成する工程と、
（ｅ）前記多層膜のハイト側後端面を所定形状に画定する工程と、
（ｆ）前記多層膜のハイト側の後方領域上から、前記多層膜のハイト側後端面よりもさらにハイト側後方に向けて絶縁層を形成する工程と、
（ｇ）前記絶縁層と重ねられていない露出状態の前記非磁性層を削る工程と、
（ｈ）前記第３反強磁性層上から前記絶縁層上にかけて第２反強磁性層を形成する工程と、
（ｉ）前記第３反強磁性層のトラック幅方向における素子両側端部上にマスク層を形成し、前記マスク層に覆われていない前記第２反強磁性層のトラック幅方向における素子中央部を削り、前記素子両側端部上に、記録媒体との対向面側から、前記第３反強磁性層のハイト側後方領域上に設けられた前記絶縁層上にかけて前記第２反強磁性層を残す工程。
【請求項１１】
前記非磁性層を、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｒｈ、Ｃｒのいずれか１種または２種以上で形成する請求項１０記載の磁気検出素子の製造方法。
【請求項１２】
前記非磁性層を成膜時、３Å以上で１０Å以下の膜厚で形成する請求項１１記載の磁気検出素子の製造方法。
【請求項１３】
前記第３反強磁性層を２０Å以上で５０Å以下の膜厚で形成する請求項１０ないし１２のいずれかに記載の磁気検出素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は主に、フリー磁性層の磁化制御をエクスチェンジバイアス方式で行う磁気検出素子に係り、特に、狭トラック化においても再生感度の向上を図ることができるとともに、サイドリーディングの発生を抑制できる磁気検出素子及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図２０は、従来の磁気検出素子の構造を記録媒体との対向面側から見た部分断面図である。
【０００３】
符号１は第１反強磁性層であり、前記第１反強磁性層１の上に固定磁性層２、非磁性材料層３及びフリー磁性層４からなる多層膜７が形成されている。
【０００４】
図２０に示す磁気検出素子では、前記フリー磁性層４の素子両側端部４ａ上に第２反強磁性層５が形成され、さらに前記第２反強磁性層５上に電極層６が形成されている。
【０００５】
図２０に示すように前記第２反強磁性層５のトラック幅方向（図示Ｘ方向）における下面間の間隔でトラック幅Ｔｗが規制される。
【０００６】
図２１は、図２０に示す磁気検出素子を真上から見た部分平面図である。なおこの平面図では図２０に示す電極層６は省略されている。図２１に示すように前記第２反強磁性層５は、前記フリー磁性層４の素子両側端部４ａ上全体に形成されている。
【０００７】
図２２は、図２０に示す磁気検出素子を一点鎖線の位置からＹ−Ｚ平面と平行な方向に切断し、切断された磁気検出素子を矢印Ｅ方向から見た前記磁気検出素子の部分縦断面図である。
【０００８】
図２２に示すように前記多層膜７のハイト側後端面７ａは傾斜面で形成され、このハイト側後端面７ａよりもさらにハイト側（図示Ｙ方向）後方には絶縁層８が埋められている。そして前記第２反強磁性層５は前記多層膜７上から前記絶縁層８上に延びて形成されていることがわかる。
【０００９】
図２０に示す磁気検出素子では、前記フリー磁性層４の素子両側端部４ａと第２反強磁性層５間に交換結合磁界が発生すると、前記フリー磁性層４の素子両側端部４ａは図示Ｘ方向に磁化固定される。図２１に示すように前記第２反強磁性層５は前記フリー磁性層４の素子両側端部４ａ上全体を覆い、上記の交換結合磁界によって前記素子両側端部４ａ全体が図示Ｘ方向に強固に磁化固定される。
【００１０】
一方、前記フリー磁性層４の素子中央部４ｂは弱く図示Ｘ方向に単磁区化された状態であり、外部磁界が前記素子中央部４ｂに図示Ｙ方向から侵入してくると前記フリー磁性層４の素子中央部４ｂの磁化は回転し、磁気抵抗効果により外部磁界が検出される。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで高記録密度化に対応するためにトラック幅Ｔｗを狭くすると、図２０に示す磁気検出素子では以下のような問題が発生した。
【００１２】
図２０に示すような前記フリー磁性層４を、第２反強磁性層５を用いたエクスチェンジバイアス方式で磁化制御する方法では、前記フリー磁性層４の素子中央部４ｂの磁化は、前記フリー磁性層４内部の隣接スピン間に働く交換相互作用により媒介されたバイアス磁界によって図示Ｘ方向に揃えられる。
【００１３】
ところが狭トラック化が進むと、前記バイアス磁界の影響を強く受ける領域が前記素子中央部４ｂ内で相対的に大きくなるため、前記フリー磁性層４の外部磁界に対する再生感度が低下するといった問題が発生した。特に前記フリー磁性層４の素子中央部４ｂの両端４ｂ１付近では、上記のバイアス磁界の影響を強く受けて、外部磁界に対し適切に磁化反転しなくなり、その結果、狭トラック化が進むほど再生感度の低下を招いた。
【００１４】
上記した問題を解決する方法としては、前記フリー磁性層４を交換スティフネス定数の小さい材質で形成することが考えられる。
【００１５】
交換スティフネス定数とは、スピンの分布に対する交換エネルギーの大きさを規定する定数であり、前記交換スティフネス定数が小さい磁性材料ほど、隣接するスピンの向きを急激に変化させることが容易になる。なお前記交換スティフネス定数については、「近角聡信著　強磁性体の物理（下）　裳華房　１９８４」の第１６６頁から第１６９頁に詳しい記載があるので、そちらを参照されたい。
【００１６】
このように再生感度の向上を図るには前記フリー磁性層４の交換スティフネス定数を小さくすればよいが、交換スティフネス定数が低下しすぎるとキュリー温度が低下するため、前記フリー磁性層４の磁化の熱揺らぎが問題となり、熱揺らぎにより誘発された強磁性共鳴によるノイズやバルクハウゼンノイズの発生などが深刻化してしまう。
【００１７】
また前記フリー磁性層４の素子両側端部４ａと第２反強磁性層５間に発生する交換結合磁界を弱めると再生感度を向上させることができる。例えば前記第２反強磁性層５の膜厚を薄くすれば、前記交換結合磁界を弱めることができる。
【００１８】
しかしながら前記交換結合磁界が弱まると、前記素子両側端部４ａでの磁化固定が弱くなるため前記素子両側端部４ａの磁化が外部磁界によって磁化反転することで起こるサイドリーディングの問題が発生してしまう。
【００１９】
さらに、前記フリー磁性層４の膜厚を薄くすることで、前記フリー磁性層４の単位面積当たりの磁気モーメント（飽和磁化Ｍｓ×膜厚ｔ）を小さくし、再生感度を向上させる方法もあるが、前記フリー磁性層４の膜厚を薄くしすぎると再生波形の安定性が低下したり、熱揺らぎによる雑音の発生が問題となってしまう。
【００２０】
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、エクスチェンジバイアス方式において、狭トラック化においても再生感度の向上を図ることができるとともに、サイドリーディングの発生を抑制できる磁気検出素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
本発明における磁気検出素子は、下から第１反強磁性層、固定磁性層、非磁性材料層、フリー磁性層を有する多層膜が設けられ、
前記フリー磁性層のトラック幅方向における素子両側端部上には第２反強磁性層が設けられ、前記第２反強磁性層の交換結合磁界が生じる領域のハイト側後端面が、少なくとも前記フリー磁性層のトラック幅方向における素子中央部のハイト側後端面よりも記録媒体との対向面側に位置していることを特徴とするものである。
【００２２】
本発明では、前記フリー磁性層の前記素子中央部の後方領域は、前記第２反強磁性層の交換結合磁界が生じる領域と隣接しなくなるため、少なくとも前記フリー磁性層の前記素子中央部のハイト側後方領域では、磁性層内部での交換相互作用により媒介されたバイアス磁界を弱めることができ、前記フリー磁性層の前記素子中央部での外部磁界に対する感度を、前記フリー磁性層の交換スティフネス定数を低減させることなく、従来に比べて向上させることができる。
【００２３】
しかも本発明では、前記フリー磁性層の素子両側端部の、前記第２反強磁性層との間で交換結合磁界が生じる領域は、記録媒体との対向面側に適切に形成されているので、前記フリー磁性層の素子両側端部の記録媒体との対向面側の領域は適切にトラック幅方向に磁化固定されており、サイドリーディングが発生するといった不具合も生じない。
【００２４】
よって本発明によれば、高記録密度化に適切に対応するために狭トラック化を促進させても、サイドリーディングの発生を抑制しつつ、前記フリー磁性層の外部磁界に対する再生感度を向上させることができ、高記録密度化においても効果的に再生出力の向上を図ることが可能な磁気検出素子を製造することができる。
【００２５】
また本発明では、前記フリー磁性層上には第３反強磁性層が設けられ、前記第３反強磁性層のトラック幅方向における素子両側端部上に前記第２反強磁性層が設けられることが好ましい。
【００２６】
また本発明における磁気検出素子は、下から第１反強磁性層、固定磁性層、非磁性材料層、フリー磁性層を有する多層膜が設けられ、
少なくとも前記フリー磁性層のトラック幅方向における素子両側端部のハイト側の後方領域上には絶縁層が設けられ、
第２反強磁性層が、前記フリー磁性層の前記素子両側端部上であって、記録媒体との対向面側から前記絶縁層上にかけて形成されることを特徴とするものである。
【００２７】
この発明では、前記フリー磁性層の前記素子両側端部のハイト側後方領域に絶縁層が設けられ、前記第２反強磁性層が、記録媒体との対向面側から前記絶縁層上にかけて形成されている点に特徴がある。
【００２８】
前記絶縁層よりも記録媒体との対向面側の前方領域では、前記フリー磁性層と第２反強磁性層間で適切な大きさの交換結合磁界が生じ、前記フリー磁性層の素子両側端部の前記前方領域は適切にトラック幅方向に磁化固定される。一方、前記フリー磁性層の素子両側端部の後方領域では、前記第２反強磁性層との間に絶縁層が設けられているから、前記フリー磁性層の後方領域と前記第２反強磁性層との間に交換結合磁界は発生せず、従って前記フリー磁性層の後方領域は、前方領域のように強固にトラック幅方向に磁化固定されるといったことがない。
【００２９】
その結果、前記フリー磁性層の後方領域では、磁性層内部で生じる交換相互作用により媒介されたバイアス磁界が前方領域に比べて弱まり、後方領域でのバイアス磁界を弱めた結果、前記フリー磁性層の素子中央部での外部磁界に対する再生感度を従来に比べて向上させることが可能になる。
【００３０】
ここで前記フリー磁性層の素子両側端部の後方領域では、前記バイアス磁界が弱まる分、サイドリーディングの発生が懸念される。しかし、前記外部磁界は、前記フリー磁性層の後方領域まで辿り着くまでに減衰するなどの理由から従来に比べてサイドリーディングが発生しやすくなるという不具合は発生しないものと考えられる。
【００３１】
特に本発明では前記フリー磁性層の素子両側端部の前方領域は、前記第２反強磁性層との間で生じる交換結合磁界によって強固にトラック幅方向に磁化固定されている。前記フリー磁性層の素子両側端部の前方領域の磁化状態は、後方領域に比べてサイドリーディングの発生の有無に大きく関与するため、本発明のように前記フリー磁性層の素子両側端部の前方領域を適切に磁化固定することで、サイドリーディングの発生を適切に抑制することが可能である。
【００３２】
また本発明では、前記フリー磁性層上には第３反強磁性層が設けられ、前記絶縁層が、前記第３反強磁性層の前記素子両側端部のハイト側の後方領域上に設けられ、
前記第２反強磁性層が、前記第３反強磁性層の前記素子両側端部上であって、記録媒体との対向面側から前記絶縁層上にかけて形成されることが好ましい。
【００３３】
本発明では、上記のようにフリー磁性層上に第３反強磁性層を設け、この第３反強磁性層の素子両側端部の記録媒体との対向面側の前方領域上から後方領域の絶縁層上にかけて第２反強磁性層を設けている。従って前記フリー磁性層の素子両側端部の前方領域上では、前記第２反強磁性層と前記第３反強磁性層とを合わせた膜厚の厚い反強磁性層が形成されており、この反強磁性層との間で発生する交換結合磁界によって前記フリー磁性層の素子両側端部の前方領域は、適切にトラック幅方向に磁化固定された状態になっている。一方、フリー磁性層の素子中央部は、外部磁界に対し磁化回転できる程度に弱く単磁区化されている。
【００３４】
また本発明では、前記絶縁層は、前記多層膜のハイト側後端面よりもさらにハイト側後方に広がって形成されることが好ましい。これにより前記絶縁層の製造工程を容易化できる。また前記絶縁層はバックフィルギャップ層とも呼ばれる。
【００３５】
また本発明では、膜厚方向における前記絶縁層とフリー磁性層間、あるいは前記絶縁層と第３反強磁性層間には非磁性層が設けられることが好ましい。また前記非磁性層は、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｒｈ、Ｃｒのいずれか１種または２種以上で形成されることが好ましい。前記絶縁層はその下の層を酸化から防止するための酸化防止層としての役割を有している。
【００３６】
また本発明では、前記第３反強磁性層は２０Å以上で５０Å以下の膜厚で形成されることが好ましい。これにより前記フリー磁性層の素子中央部では、前記第３反強磁性層との間で大きな交換結合磁界は生じず、前記フリー磁性層の素子中央部が強固に磁化固定されるのを防ぐことができる。
【００３７】
また本発明における磁気検出素子は、以下の工程を有することを特徴とするものである。
（ａ）下から第１反強磁性層、固定磁性層、非磁性材料層、フリー磁性層の順に多層膜を形成する工程と、
（ｂ）前記フリー磁性層のトラック幅方向における素子両側端部上であって、ハイト側の後方領域上に絶縁層を設ける工程と、
（ｃ）第２反強磁性層を前記フリー磁性層の前記素子両側端部上であって、記録媒体との対向面側から前記絶縁層上にかけて形成する工程。
【００３８】
上記の（ａ）ないし（ｃ）工程を用いることにより、前記フリー磁性層の前記素子両側端部の後方領域上に絶縁層を設けることができるとともに、前記第２反強磁性層を前記フリー磁性層の素子両側端部の記録媒体との対向面側から前記絶縁層上にかけて形成でき、従来よりも前記フリー磁性層の素子中央部での再生感度が高く、しかもサイドリーディングの発生を適切に抑制することが可能な磁気検出素子を容易且つ適切に製造することが可能である。
【００３９】
また本発明における磁気検出素子は、以下の工程を有することを特徴とするものである。
（ｄ）下から第１反強磁性層、固定磁性層、非磁性材料層、フリー磁性層、第３反強磁性層及び非磁性層の順に多層膜を形成する工程と、
（ｅ）前記多層膜のハイト側後端面を所定形状に画定する工程と、
（ｆ）前記多層膜のハイト側の後方領域上から、前記多層膜のハイト側後端面よりもさらにハイト側後方に向けて絶縁層を形成する工程と、
（ｇ）前記絶縁層と重ねられていない露出状態の前記非磁性層を削る工程と、
（ｈ）前記第３反強磁性層上から前記絶縁層上にかけて第２反強磁性層を形成する工程と、
（ｉ）前記第３反強磁性層のトラック幅方向における素子両側端部上にマスク層を形成し、前記マスク層に覆われていない前記第２反強磁性層のトラック幅方向における素子中央部を削り、前記素子両側端部上に、記録媒体との対向面側から、前記第３反強磁性層のハイト側後方領域上に設けられた前記絶縁層上にかけて前記第２反強磁性層を残す工程。
【００４０】
前記（ｄ）工程から（ｉ）工程を用いれば、前記フリー磁性層の前記素子両側端部の後方領域上に容易に且つ適切な位置に絶縁層を設けることができるとともに、前記フリー磁性層の前記素子両側端部の前方領域と前記第３反強磁性層との間で適切な大きさの交換結合磁界を生じさせることができ、前記フリー磁性層の素子両側端部の前方領域を適切に磁化固定できる。しかも前記フリー磁性層上に形成された第３反強磁性層の素子両側端部の後方領域上には絶縁層を介して前記第２フリー磁性層が形成されているので、前記第３反強磁性層と第２反強磁性層は一体の反強磁性層として機能せず、前記フリー磁性層の素子両側端部の後方領域で交換結合磁界が生じないため、前記フリー磁性層の後方領域での磁性層内で生じる交換相互作用により媒介されたバイアス磁界は弱まり、その結果、前記フリー磁性層の素子中央部での再生感度が従来に比べて高く、しかもサイドリーディングの発生を適切に抑制できる磁気検出素子を容易且つ適切に製造することが可能である。
【００４１】
また本発明では、前記非磁性層を、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｒｈ、Ｃｒのいずれか１種または２種以上で形成することが好ましく、また前記非磁性層を成膜時、３Å以上で１０Å以下の膜厚で形成することが好ましい。この程度の薄い膜厚であれば、前記非磁性層を低エネルギーのイオンミリングで削って容易に膜厚調整でき、前記非磁性層下の層に前記イオンミリングにおけるダメージを与える心配がない。
【００４２】
また本発明では前記第３反強磁性層を２０Å以上で５０Å以下の膜厚で形成することが好ましい。本発明では前記第３反強磁性層をあまり厚く形成してはいけない。前記第３反強磁性層を厚く形成すると、磁場中アニールによって規則化しやすくなり、前記フリー磁性層の素子中央部と前記第３反強磁性層の素子中央部間でも大きな交換結合磁界が発生し、前記フリー磁性層の素子中央部が磁化固定されてしまうからである。
【００４３】
【発明の実施の形態】
図１は本発明における磁気検出素子（スピンバルブ型薄膜素子）の構造を記録媒体との対向面側から見た部分断面図である。
【００４４】
符号２０は基板である。前記基板２０上には、ＮｉＦｅ合金、ＮｉＦｅＣｒ合金あるいはＣｒなどで形成されたシードレイヤ２１が形成されている。前記シードレイヤ２１は、例えば（Ｎｉ０．８Ｆｅ０．２）６０ａｔ％Ｃｒ４０ａｔ％の膜厚６０Åで形成される。
【００４５】
前記シードレイヤ２１の上には第１反強磁性層２２が形成されている。第１反強磁性層２２は、ＰｔＭｎ合金、または、Ｘ―Ｍｎ（ただしＸは、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｎｉ，Ｆｅのいずれか１種または２種以上の元素である）合金で、あるいはＰｔ―Ｍｎ―Ｘ′（ただしＸ′は、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｏｓ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｒ，Ｎｅ，Ｘｅ，Ｋｒのいずれか１または２種以上の元素である）合金で形成される。
【００４６】
第１反強磁性層２２として、これらの合金を使用し、これを熱処理することにより、大きな交換結合磁界を発生する第１反強磁性層２２及び固定磁性層２３の交換結合膜を得ることができる。特に、ＰｔＭｎ合金であれば、４８ｋＡ／ｍ以上、例えば６４ｋＡ／ｍを越える交換結合磁界を有し、前記交換結合磁界を失うブロッキング温度が３８０℃と極めて高い優れた第１反強磁性層２２及び固定磁性層２３の交換結合膜を得ることができる。
【００４７】
これらの合金は、成膜直後の状態では、不規則系の面心立方構造（ｆｃｃ）であるが、熱処理によってＣｕＡｕＩ型の規則型の面心正方構造（ｆｃｔ）に構造変態する。
【００４８】
第１反強磁性層２２の膜厚は、トラック幅方向の中心付近において８０〜３００Åである。
【００４９】
前記第１反強磁性層２２の上には、固定磁性層２３が形成されている。前記固定磁性層２３は人工フェリ構造である。前記固定磁性層２３は磁性層２４、２６とその間に介在する非磁性中間層２５の３層構造である。
【００５０】
前記磁性層２４、２６は、例えばＮｉＦｅ合金、Ｃｏ、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、ＣｏＮｉ合金などの磁性材料で形成される。前記磁性層２４と磁性層２６は、同一の材料で形成されることが好ましい。
【００５１】
また、非磁性中間層２５は、非磁性材料により形成されるもので、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕのうち１種またはこれらの２種以上の合金で形成されている。特にＲｕによって形成されることが好ましい。
【００５２】
前記固定磁性層２３の上には、非磁性材料層２７が形成されている。非磁性材料層２７は、固定磁性層２３とフリー磁性層２８との磁気的な結合を防止し、またセンス電流が主に流れる層であり、Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｕ，Ａｇなど導電性を有する非磁性材料により形成されることが好ましい。特にＣｕによって形成されることが好ましい。
【００５３】
前記非磁性材料層２７の上にはフリー磁性層２８が形成されている。図１に示す実施形態では前記フリー磁性層２８は２層構造である。符号２９の層は、ＣｏやＣｏＦｅなどからなる拡散防止層である。この拡散防止層２９はフリー磁性層２８と非磁性材料層２７の相互拡散を防止する。そして、この拡散防止層２９の上にＮｉＦｅ合金などで形成された磁性材料層３０が形成されている。
【００５４】
前記フリー磁性層２８の上には第３反強磁性層３１が形成される。第３反強磁性層３１は、第１反強磁性層２２と同様に、ＰｔＭｎ合金、または、Ｘ―Ｍｎ（ただしＸは、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｎｉ，Ｆｅのいずれか１種または２種以上の元素である）合金で、あるいはＰｔ―Ｍｎ―Ｘ′（ただしＸ′は、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｏｓ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｒ，Ｎｅ，Ｘｅ，Ｋｒのいずれか１または２種以上の元素である）合金で形成される。
【００５５】
図１に示す実施形態では、前記第３反強磁性層３１の上に、非磁性層３２が形成される。さらに前記非磁性層３２の素子両側端部Ｃ上には、第２反強磁性層３３が形成される。前記第２反強磁性層３３は、第１反強磁性層２２や第３反強磁性層３１と同様に、ＰｔＭｎ合金、または、Ｘ―Ｍｎ（ただしＸは、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｎｉ，Ｆｅのいずれか１種または２種以上の元素である）合金で、あるいはＰｔ―Ｍｎ―Ｘ′（ただしＸ′は、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｏｓ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｒ，Ｎｅ，Ｘｅ，Ｋｒのいずれか１または２種以上の元素である）合金で形成される。前記第２反強磁性層３３は前記第３反強磁性層３１と同じ材質で形成されていることが好ましい。
【００５６】
そして前記第２反強磁性層３３上には電極層３４が形成される。前記電極層３４は、例えば、Ａｕ、Ｗ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｔａ、Ｒｈなどで形成される。
【００５７】
図１に示す実施形態では、前記第２反強磁性層３３の内側端部３３ｃ及び電極層３４の内側端部３４ａは、下方から上方に向う（図示Ｚ方向）にしたがって、徐々に前記第２反強磁性層３３間の間隔が広がる傾斜面あるいは湾曲面で形成される。
【００５８】
図１に示す実施形態の磁気検出素子の特徴的部分について図２及び図３を参照しながら以下に説明する。
【００５９】
図２は、図１に示す磁気検出素子を一点鎖線からＸ−Ｙ平面と平行な方向で切断し、その切断された磁気検出素子を矢印Ａ方向から見た部分平面図である。
【００６０】
図２では図示下側が記録媒体との対向面であり、図示上方向（図示Ｙ方向）がハイト方向となっている。また図２の斜線領域はフリー磁性層２８の形成領域を示し、色濃領域は、バックフィルギャップ層（絶縁層）３５の形成領域を指している。
【００６１】
また図３は図１に示す磁気検出素子を点線部分からＹ−Ｚ平面と平行な方向で切断し、その切断された磁気検出素子を矢印Ｂ方向から見たときの部分縦断面図である。
【００６２】
図１ないし図３を見てわかるように前記第２反強磁性層３３は、前記フリー磁性層２８上に形成された前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃ上に形成され、さらに前記シードレイヤ２１から非磁性層３２までの各層からなる多層膜３６のハイト側後端面３６ａよりもさらにハイト方向（図示Ｙ方向）に広がって形成されているバックフィルギャップ層（絶縁層）３５上にまで形成されている。
【００６３】
図２及び図３を見てわかるように、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃのハイト側後方領域上には前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａが乗り上げ形成されており、この上に第２反強磁性層３３が形成されている。
【００６４】
すなわち図１ないし図３に示す実施形態では前記第２反強磁性層３３は、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの記録媒体との対向面側の前方領域上から、前記後方領域に形成されたギャップフィルギャップ層３５の端部３５ａ上にかけて形成されており、前記第３反強磁性層３１の前記素子両側端部Ｃの後方領域と第２反強磁性層３３間の間隔は、前記第３反強磁性層３１の前記素子両側端部Ｃの前方領域と第２反強磁性層３３間の間隔よりも広くなっている。
【００６５】
前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域では、その上に形成された第２反強磁性層３３と一体の反強磁性層として機能し、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域とフリー磁性層２８間には適切な大きさの交換結合磁界が発生し、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域の磁化Ｋは図２に示すようにトラック幅方向（図示Ｘ方向）に強固に固定される。
【００６６】
一方、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの後方領域では、前記第２反強磁性層３３との間にバックフィルギャップ層３５の端部３５ａが介在し、そのため前記第３反強磁性層３１と第２反強磁性層３３間には反強磁性的な相互作用が生じず一体の反強磁性層として機能しない。後述するように前記第３反強磁性層３１の膜厚ｈ１は２０Åから５０Åという薄い膜厚で形成されるため、前記第３反強磁性層３１単独では反強磁性としての性質を帯びず、その結果、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの後方領域とフリー磁性層２８間には交換結合磁界が発生せず、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域は図示Ｘ方向に強固に磁化固定されない。
【００６７】
図１ないし図３に示す実施形態では、このフリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域を前方領域のように図示Ｘ方向に強固に固定せず、磁性層内部で生じる交換相互作用によるバイアス磁界を従来よりも小さくして弱く単磁区化することに特徴がある。そして図２に示すように、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域の磁化Ｈは、外部磁界が図示Ｙ方向から侵入してくると図２のように若干、磁化変動をするものと考えられる。
【００６８】
そして前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域でのバイアス磁界が弱められたことで、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの後方領域には、さらに弱いバイアス磁界が作用することになる。換言すれば、素子両側端部Ｃ上に形成された第２反強磁性層３３と、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの後方領域は膜厚方向で隣接しなくなるため、従来のように強いバイアス磁界が作用しなくなり、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの後方領域の磁化Ｉは、従来に比べて弱く単磁区化された状態となる。特に前記素子中央部Ｄの後方領域での磁化Ｉは、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの前方領域の磁化Ｊよりも弱いバイアス磁界によって磁化変動しやすくなり（図２では磁化変動する角度が磁化Ｉの方が磁化Ｊに比べて大きく描かれている）、トータル的に見ると、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄでの磁化は、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの全面が第２反強磁性層３３との間で生じる交換結合磁界によって強固に磁化固定された場合に比べて、外部磁界に対し磁化回転しやすくなり、再生感度の向上を図ることが可能になる。
【００６９】
このように図１ないし図３に示す実施形態では前記フリー磁性層２８の後方領域で作用するバイアス磁界を従来よりも弱めることで、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄでの再生感度を向上させることが可能になっている。
【００７０】
図１ないし図３のような、前記フリー磁性層２８の後方領域で作用するバイアス磁界を弱めて再生感度の向上を図る手段を用いれば、前記フリー磁性層２８の交換スティフネス定数を低下させることなく、また前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域とフリー磁性層２８間で生じる交換結合磁界を低下させることもない。
【００７１】
ところで前述したように、前記フリー磁性層２８に図示Ｙ方向からの外部磁界が侵入してくると、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域の磁化Ｈが若干、磁化回転する可能性があるが、これによってサイドリーディングが発生しやすくなることはないと考えられる。
【００７２】
その理由はまず第１に、前記サイドリーディングの発生を抑制するために最も重要な部分の磁化制御領域は、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域であるからである。この部分が最も強く外部磁界の影響を受けやすいからであり、図２に示すようにこの実施形態では前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域は強固に図示Ｘ方向に磁化固定されている。したがって前記サイドリーディングの発生を適切に抑制できる構造となっている。
【００７３】
第２に、外部磁界が図示Ｙ方向から侵入してきても、前記外部磁界は前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域に辿り着くまでに減衰するため、後方領域の磁化Ｈを変動させる外部磁界の大きさは非常に小さくなり、サイドリーディングを発生させるほどの磁化変動は生じないものと考えられる。
【００７４】
第３に、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域には、確かに交換結合磁界が生じていないため、素子両側端部Ｃの前方領域に比べて弱いバイアス磁界しか作用しないが、前記素子両側端部Ｃの前方領域と隣接する後方領域との距離が短いため、前記後方領域でのバイアス磁界は、前記素子中央部Ｄの後方領域に作用するバイアス磁界ほど弱くはなく、従って非常に弱い外部磁界が前記後方領域まで侵入してきてもほとんど磁化変動を起さない程度に単磁区化された状態になっているものと考えられる。
【００７５】
以上のような理由によって図１ないし図３に示す磁気検出素子では、サイドリーディングの発生を適切に抑制できるものと考えられる。
【００７６】
図１ないし図３に示す磁気検出素子によれば、特に今後の高記録密度化のためにトラック幅Ｔｗが狭小化しても、従来に比べて再生感度を向上させることができるとともに、サイドリーディングの発生も適切に抑制できる磁気検出素子を製造することが可能である。
【００７７】
なお図１に示すトラック幅Ｔｗ（前記トラック幅Ｔｗは第２反強磁性層３３の下面間のトラック幅方向（図示Ｘ方向）における幅寸法で規制される）は、０．１μｍ〜０．２μｍ程度の非常に小さい値であることが好ましく、この程度のトラック幅Ｔｗを有する磁気検出素子に本発明を効果的に利用することができる。
【００７８】
次に図２に示す「前方領域」及び「後方領域」の定義であるが、図２では、「後方領域」は第３反強磁性層３１上にバックフィルギャップ層３５の端部３５ａが乗り上げ形成されている領域、「前方領域」は、その「後方領域」よりも記録媒体との対向面側の前方の領域と定義できる。
【００７９】
あるいは別の定義としては、「前方領域」とは、前記第２反強磁性層３３が前記第３反強磁性層３１と一体の反強磁性層となり、フリー磁性層２８との間で交換結合磁界が生じる領域、「後方領域」とは前記交換結合磁界が生じない領域と定義できる。
【００８０】
従って、この別の定義からすれば図１ないし図３に示す磁気検出素子は、前記第２反強磁性層３３の交換結合磁界が生じる領域のハイト側後端面３３ａが、前記フリー磁性層２８のハイト側後端面２８ａよりも記録媒体との対向面側に位置している構造と定義することもできる。
【００８１】
また図１ないし図３に示す実施形態では、前記「前方領域」のハイト方向（図示Ｙ方向）への長さ寸法Ｌ１が前記フリー磁性層２８のハイト方向（図示Ｙ方向）への長さ寸法Ｌ２の７０％から８０％を占めていることが好ましい。あるいは前記長さ寸法Ｌ１の具体的な数値は０．０３μｍよりも大きいことが好ましい。前記「前方領域」のハイト方向への長さ寸法Ｌ１が０．０３μｍ以下であると、記録媒体からの漏れ磁界の、「後方領域」に辿り着くまでの減衰の割合が小さくなり、前記後方領域での磁化Ｈが磁化回転しやすくなる結果、サイドリーディングを発生しやすくなるので、前記長さ寸法Ｌ１は０．０３μｍよりも大きいことが好ましい。
【００８２】
次に図１ないし図３に示す磁気検出素子では、前記フリー磁性層２８の上に第３反強磁性層３１が設けられているが、前記第３反強磁性層３１は設けられていなくてもよい。すなわち前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域上にバックフィルギャップ層３５の端部３５ａが乗り上げ形成され、前記第２反強磁性層３３が前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域上から前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａ上にかけて形成されていてもよい。
【００８３】
ただし前記第３反強磁性層３１は前記フリー磁性層２８上に形成されていた方が好ましい。前記第３反強磁性層３１は、素子両側端部Ｃの前方領域で、前記フリー磁性層２８との間で適切な大きさの交換結合磁界を生じさせるために必要な層である。後述する製造方法で説明するように、成膜段階ではまず前記フリー磁性層２８上に前記第３反強磁性層３１も連続して成膜するが、このように連続成膜し、さらに前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域上に第２反強磁性層３３を設けることで、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域と前記第２反強磁性層３３とを一体の反強磁性層として機能させることができ、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域との間で適切な大きさの交換結合磁界を生じさせることができる。
【００８４】
ただし、前記第３反強磁性層３１の膜厚ｈ１は、２０Å以上で５０Å以下の薄い膜厚で形成されることが好ましい。より好ましくは３０Å以上で４０Å以下である。この程度に薄い膜厚で形成されると、前記第３反強磁性層３１の素子中央部Ｄは、磁場中アニールによっても規則化変態しにくく、前記第３反強磁性層３１の素子中央部Ｄと前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄとの間で交換結合磁界が発生せずあるいは発生してもその値は小さい。前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄでは大きな交換結合磁界が生じてしまうと前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄが磁化固定されてしまうため、これを防ぐために前記第３反強磁性層３３の膜厚を２０Å以上で５０Å以下の薄い膜厚としている。
【００８５】
なお前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域の膜厚と第２反強磁性層３３の膜厚を合わせた総合膜厚は８０Å以上で３００Å以下であることが好ましい。これによって前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域は適切に反強磁性の性質を有し、磁場中アニールによって前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域は規則化変態し、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域と前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域との間で交換結合磁界が発生し、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域をトラック幅方向に磁化固定することが可能になる。
【００８６】
次に非磁性層３２について説明する。前記非磁性層３２は、後述する製造方法で説明するように、大気暴露によって第３反強磁性層３１が酸化されるのを防止するために設けられた保護層的役割を有している。
【００８７】
前記非磁性層３２は、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｒｈ、Ｃｒのいずれか１種または２種以上で形成されることが好ましい。この中でも特にＲｕを選択することが好ましい。これら貴金属で形成された非磁性層３２は大気暴露によっても酸化されにくい材質である。またこれら貴金属で形成された非磁性層３２を構成する元素が、前記第３反強磁性層３１や第２反強磁性層３３中に拡散しても、反強磁性層の性質は劣化しない。
【００８８】
前記非磁性層３２を構成する元素が前記第３反強磁性層３１や第２反強磁性層３３中に拡散しているか否かは、例えばＳＩＭＳ分析装置や透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）によるＥＤＸ分析などによって測定できる。拡散領域では、例えば成膜段階で第３反強磁性層３１がＰｔＭｎ合金で形成され、非磁性層３２がＲｕで形成されていると、磁場中アニールなどでＲｕ−Ｐｔ−Ｍｎなる合金の拡散層が形成される。Ｒｕ−Ｐｔ−Ｍｎ合金は適切に反強磁性層として機能する。
【００８９】
次に前記非磁性層３２の膜厚について以下に説明する。前記非磁性層３２の膜厚は成膜時、３Å以上で１０Å以下の薄い膜厚で形成される。上記したＲｕなどからなる非磁性層３２は、大気暴露によっても酸化されにくい緻密な層であるため、薄い膜厚であっても適切に第３反強磁性層３１を大気暴露による酸化から防止することが可能である。
【００９０】
成膜時の膜厚は、前記第３反強磁性層３１上に乗り上げ形成されたバックフィルギャップ層３５の端部３５ａ下に残される前記非磁性層３２の端部３２ａにそのまま残される。前記非磁性層３２の端部３２ａはイオンミリングの影響を受けないからである。
【００９１】
従って、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの後方領域上には、バックフィルギャップ層３５の端部３５ａの他に、３Å〜１０Åの膜厚を有する非磁性層３２の端部３２ａも設けられるので、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの後方領域と第２反強磁性層３３間の距離を効果的に広げることができ、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの後方領域とフリー磁性層２８間に交換結合磁界がより適切に発生しないようにすることができる。
【００９２】
またバックフィルギャップ層３５の端部３５ａの厚みが薄い場合、後述のイオンミリング工程で前記端部３５ａが消滅し、厚い非磁性層３２の端部３２ａのみが残される場合もある。この場合であっても後方領域には、厚い非磁性層３２ａが第３反強磁性層３１と第２反強磁性層３３の間に介在しているので両者が一体の反強磁性層として機能せず、上記した効果と同等の効果を発揮することができる。
【００９３】
また例えば図１及び図２では前記非磁性層３２は、前記第２反強磁性層３３間の間隔Ｌにも残されるが、その膜厚は、前記非磁性層３２の端部３２ａの膜厚よりも薄くなっている。なお前記間隔Ｌ内での非磁性層３２及び前記非磁性層３２ｂは形成されていなくてもよい。
【００９４】
前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａ下に重ねて形成された非磁性層３２の端部３２ａ以外の非磁性層３２はイオンミリングの影響を受けて膜厚が小さくなる。そして特に第２反強磁性層３３と重ねられる非磁性層３２ｂの膜厚を上記したように３Å以下の非常に薄い膜厚とすることで前記第２反強磁性層３３と第３反強磁性層３１とを一体の反強磁性層として機能させることが可能になる。
【００９５】
なお非磁性層３２を３Å以下の非常に薄い膜厚で残すことができるのは、低エネルギーのイオンミリングを使用できるからである。元々、前記非磁性層３２は成膜段階で３Å〜１０Åと薄い膜厚で形成されている。このため低エネルギーのイオンミリングであっても十分に前記非磁性層３２の膜厚調整をすることができ、低エネルギーであるからミリングレートは、高エネルギーの場合に比べて遅く、非磁性層３２の途中まで削った段階でミリングを止めるように制御することも比較的簡単に行えるのである。
【００９６】
また図１及び図２に示すように前記第２反強磁性層３３は、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの前方領域には形成されていないが、薄い膜厚で形成されていてもかまわない。このとき前記第２反強磁性層３３の膜厚と前記第３反強磁性層３１との膜厚が５０Å以下となるように、前記素子中央部Ｄの前方領域に残される前記第２反強磁性層３３の膜厚を調整する。これによって前記第３反強磁性層３１の素子中央部Ｄの前方領域とフリー磁性層２８間に交換結合磁界が生じずあるいは生じてもその値は小さく、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの前方領域が強固に磁化固定されるといったことが無い。
【００９７】
また図２及び図３に示すように前記バックフィルギャップ層３５は、多層膜３６のハイト側後端面３６ａよりもさらにハイト側後方に広がって形成されているが、このような形態により後述する製造工程で前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａを容易に且つ適切に前記多層膜３６上に乗り上げ形成することができる。
【００９８】
図４は本発明における別の磁気検出素子の構造を示す部分平面図であるが、図４に示す磁気検出素子では、フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの後方領域が、前記フリー磁性層２８の記素子両側端部Ｃよりもハイト方向（図示Ｙ方向）に出っ張って形成され、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃ上全体が前記第２反強磁性層３３と膜厚方向で重なり、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃ全体が図示Ｘ方向に強固に磁化固定された状態となっている。すなわち換言すれば図４に示す磁気検出素子では、前記第２反強磁性層３３の交換結合磁界が生じる領域のハイト側後端面３３ａが、前記フリー磁性層２８の前記素子中央部Ｄのハイト側後端面２８ａよりも記録媒体との対向面側に位置している。
【００９９】
図４では前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの後端領域は、ハイト方向（図示Ｙ方向）に出っ張っていることで、この後端領域では、磁性層内部で生じる交換相互作用により媒介されたバイアス磁界が弱まり、素子中央部Ｄの後方領域での磁化Ｉが前方領域での磁化Ｊよりも磁化反転しやすくなり、トータル的に見ると、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄでの再生感度を従来よりも向上させることができる。また前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃが完全に図示Ｘ方向に磁化固定されたことでサイドリーディングが発生する心配もない。
【０１００】
図４では、前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃには、前記素子中央部Ｄのようにハイト側に後方領域が形成されていないが、点線で示すように前記素子両側端部Ｃにも前記素子中央部Ｄとトラック幅方向（図示Ｘ方向）と同じ位置に後方領域がハイト方向に延びて形成されていることが好ましい。それは前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの後方領域での単磁区化を適正に行うためで、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの後方領域の磁化を適切に図示Ｘ方向に単磁区化するには、そのトラック幅方向の両側から前記素子中央部Ｄの後方領域に向けてバイアス磁界が供給されるように、フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃに、後方領域が形成されていることが好ましい。
【０１０１】
図４に示す第２反強磁性層３３は例えば図３に示す第２反強磁性層３３と異なる形状で形成される。図５は図４に示す磁気検出素子を一点鎖線からＹ−Ｚ平面と平行な方向に切断し、その切断された面を矢印Ｍ方向から見た部分縦断面図である。
【０１０２】
なお図５に示す磁気検出素子は、前記フリー磁性層２８及び第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃに素子中央部Ｄと同様にハイト方向（図示Ｙ方向）に延びる後方領域が形成された形態で示されている。
【０１０３】
図５に示すように前記第２反強磁性層３３は、前記フリー磁性層２８上に形成された第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域に部分的に形成され、前記第２反強磁性層３３は図３のように、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの後方領域上、およびバックフィルギャップ層３５上にまで延びて形成されていない。
【０１０４】
図５に示すように前記第２反強磁性層３３のハイト側後端面３３ａは、前記フリー磁性層２８のハイト側後端面２８ａよりも記録媒体との対向面側に位置し、前記第２反強磁性層３３のハイト側後端面３３ａよりもハイト側（図示Ｙ方向側）には前記バックフィルギャップ層３５が形成された状態になっている。そして前記第２反強磁性層３３上から前記バックフィルギャップ層３５上にかけて電極層３４が形成されている。
【０１０５】
次に本発明におけるフリー磁性層２８の形態について説明する。
図１ないし図５に示す磁気検出素子では、すべてフリー磁性層２８は２層構造であり、非磁性材料層２７と接する側の層が、ＣｏＦｅやＣｏなどの拡散防止層２９となっている。磁性材料層３０はＮｉＦｅ合金などの磁性材料で形成されている。
【０１０６】
前記フリー磁性層２８は磁性材料の単層で形成されていてもよい。磁性材料としてはＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、ＣｏＦｅＮｉ合金、Ｃｏ、ＣｏＮｉ合金などを選択できる。このうち特に前記フリー磁性層２８をＣｏＦｅＮｉ合金で形成することが好ましい。
【０１０７】
図６は、前記フリー磁性層２８の部分を中心に図示した部分拡大断面図である。断面は記録媒体との対向面側から見ている。
【０１０８】
図６に示す形態ではフリー磁性層２８は３層構造である。前記フリー磁性層２８を構成する符号３７ａ、３７ｂ、３７ｃの各層はすべて磁性材料の層であり、磁性材料層３７ａは、非磁性材料層２７との間で元素の拡散を防止するための拡散防止層である。前記磁性材料層３７ａはＣｏＦｅやＣｏなどで形成される。
【０１０９】
磁性材料層３７ｃは、第３反強磁性層３１と接して形成されている。前記磁性材料層３７ｃは、ＣｏＦｅ合金で形成されることが好ましく、これによって前記磁性材料層３７ｃと前記第３反強磁性層３１間で発生する交換結合磁界を大きくできる。
【０１１０】
図６に示す３層構造の材質の組合わせとしては、例えば磁性材料層３７ａ：ＣｏＦｅ／磁性材料層３７ｂ：ＮｉＦｅ／磁性材料層３７ｃ：ＣｏＦｅを提示できる。
【０１１１】
磁性材料のみで形成されたフリー磁性層２８の膜厚は３０Å〜５０Å程度で形成されることが好ましい。またフリー磁性層２８に使用されるＣｏＦｅ合金の組成比は、例えばＣｏが９０ａｔ％、Ｆｅが１０ａｔ％である。
【０１１２】
図７は、前記フリー磁性層２８の別の実施形態を示す部分拡大断面図である。図７に示すフリー磁性層２８は積層フェリ構造と呼ばれる構造である。これにより前記フリー磁性層２８の物理的な厚みを極端に薄くすることなしに、磁気的な実効的フリー磁性層の膜厚を薄くでき、外部磁界に対する感度を向上させることができる。
【０１１３】
符号３９、４１の層は磁性層であり、符号４０の層は非磁性中間層である。磁性層３９および磁性層４１は、例えばＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、ＣｏＦｅＮｉ合金、Ｃｏ、ＣｏＮｉ合金などの磁性材料で形成される。このうち特に前記磁性層３９及び／または磁性層４１は、ＣｏＦｅＮｉ合金で形成されることが好ましい。組成比としては、Ｆｅが９ａｔ％以上で１７ａｔ％以下、Ｎｉが０．５ａｔ％以上で１０ａｔ％以下、残りがＣｏのａｔ％であることが好ましい。
【０１１４】
これにより前記磁性層３９、４１間に働くＲＫＫＹ相互作用による結合磁界を大きくできる。具体的にはスピンフロップ磁界（Ｈｓｆ）を約２９３（ｋＡ／ｍ）以上にできる。以上により、磁性層３９と磁性層４１との磁化を適切に反平行状態にできる。また上記した組成範囲内であると、フリー磁性層２８の磁歪を−３×１０−６から３×１０−６の範囲内に収めることができ、また保磁力を７９０（Ａ／ｍ）以下に小さくできる。
【０１１５】
さらに、前記フリー磁性層２８の軟磁気特性の向上、非磁性材料層２７間でのＮｉの拡散による抵抗変化量（ΔＲ）や抵抗変化率（ΔＲ／Ｒ）の低減の抑制を適切に図ることが可能である。
【０１１６】
また前記非磁性中間層４０は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕのうち１種または２種以上で形成されることが好ましい。
【０１１７】
前記磁性層３９の膜厚は例えば３５Å程度で、非磁性中間層４０は例えば９Å程度で、前記磁性層４１の膜厚は例えば１５Å程度で形成される。
【０１１８】
また前記磁性層３９と非磁性材料層２７との間には、ＣｏＦｅ合金やＣｏで形成された拡散防止層が設けられていてもよい。さらには、前記磁性層４１と第３反強磁性層３１間にＣｏＦｅ合金で形成された磁性層が介在していてもよい。
【０１１９】
かかる場合、磁性層３９及び／または磁性層４１がＣｏＦｅＮｉ合金で形成されるとき、前記ＣｏＦｅＮｉ合金のＦｅの組成比は７原子％以上で１５原子％以下で、Ｎｉの組成比は５原子％以上で１５原子％以下で、残りの組成比はＣｏであることが好ましい。
【０１２０】
これにより前記磁性層３９、４１間で発生するＲＫＫＹ相互作用における交換結合磁界を強くすることができる。具体的には、スピンフロップ磁界（Ｈｓｆ）を約２９３（ｋＡ／ｍ）にまで大きくすることができる。よって磁性層３９、４１の磁化を適切に反平行状態にすることができる。
【０１２１】
また上記した組成範囲内であると、フリー磁性層２８の磁歪を−３×１０−６から３×１０−６の範囲内に収めることができ、また保磁力を７９０（Ａ／ｍ）以下に小さくできる。さらに、前記フリー磁性層２８の軟磁気特性の向上を図ることができる。
【０１２２】
図８は本発明におけるフリー磁性層２８の別の形態を示す部分拡大断面図である。図８に示すフリー磁性層２８には、磁性層４２、４４間にスペキュラー膜４３が形成されている。前記スペキュラー膜４３には、図８に示すように欠陥部（ピンホール）Ｇが形成されていてもよい。また図８に示す実施形態ではスペキュラー膜（鏡面反射層）４３を挟んだ磁性層４２及び磁性層４４は同じ方向（矢印方向）に磁化されている。
【０１２３】
磁性層４２、４４にはＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、ＣｏＦｅＮｉ合金、Ｃｏ、ＣｏＮｉ合金などの磁性材料が使用される。
【０１２４】
図８のようにスペキュラー膜４３がフリー磁性層２８内に形成されていると前記スペキュラー膜４３に達した伝導電子（例えばアップスピンを持つ伝導電子）は、そこでスピン状態（エネルギー、量子状態など）を保持したまま鏡面反射する。そして鏡面反射した前記アップスピンを持つ伝導電子は、移動向きを変えてフリー磁性層内を通り抜けることが可能になる。
【０１２５】
このため本発明では、スペキュラー膜４３を設けることで、前記アップスピンを持つ伝導電子の平均自由行程λ＋を従来に比べて伸ばすことが可能になり、よって前記アップスピンを持つ伝導電子の平均自由行程λ＋と、ダウンスピンを持つ伝導電子の平均自由行程λ−との差を大きくすることができ、従って抵抗変化率（ΔＲ／Ｒ）の向上とともに、再生出力の向上を図ることが可能になる。
【０１２６】
前記スペキュラー膜４３の形成は、例えば磁性層４２までを成膜し、前記磁性層４２表面を酸化する。この酸化層をスペキュラー膜４３として機能させることができる。そして前記スペキュラー膜４３上に磁性層４４を成膜する。
【０１２７】
前記スペキュラー膜４３の材質としては、Ｆｅ−Ｏ、Ｎｉ−Ｏ、Ｃｏ−Ｏ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｏ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｎｉ−Ｏ、Ａｌ−Ｏ、Ａｌ−Ｑ−Ｏ（ここでＱはＢ、Ｓｉ、Ｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉから選択される１種以上）、Ｒ−Ｏ（ここでＲはＣｕ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗから選択される１種以上）の酸化物、Ａｌ−Ｎ、Ａｌ−Ｑ−Ｎ（ここでＱはＢ、Ｓｉ、Ｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉから選択される１種以上）、Ｒ−Ｎ（ここでＲはＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗから選択される１種以上）の窒化物、半金属ホイッスラー合金などを提示できる。
【０１２８】
図９は本発明におけるフリー磁性層２８の別の形態を示す部分拡大断面図である。
【０１２９】
図９に示すフリー磁性層２８は、磁性層４５とバックド層４６とで構成されている。前記バックド層４６は例えばＣｕ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｒｕなどで形成される。前記磁性層４５はＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、ＣｏＦｅＮｉ合金、Ｃｏ、ＣｏＮｉ合金などの磁性材料で形成される。
【０１３０】
前記バックド層４６が形成されることによって、磁気抵抗効果に寄与するアップスピンの伝導電子（上向きスピン：ｕｐ　ｓｐｉｎ）における平均自由行程（ｍｅａｎ　ｆｒｅｅ　ｐａｔｈ）を延ばし、いわゆるスピンフィルター効果（ｓｐｉｎ　ｆｉｌｔｅｒ　ｅｆｆｅｃｔ）によりスピンバルブ型磁気素子において、大きな抵抗変化率が得られ、高記録密度化に対応できるものとなる。また前記バックド層４６は交換結合を媒介する作用も有するため、第３反強磁性層３１と磁性層４５間の交換結合磁界は若干、減少するものの十分な値に保たれる。
【０１３１】
ところで図１ないし図５に示す磁気検出素子は、基板２０から非磁性層３２までの多層膜の素子両側端部Ｃ上に第２反強磁性層３３を介して電極層３４が設けられ、前記多層膜内に流れる電流が、前記多層膜内を各層の膜面に対して平行な方向に流れるＣＩＰ（ｃｕｒｒｅｎｔ　　ｉｎ　　ｔｈｅ　ｐｌａｎｅ）型の磁気検出素子と呼ばれる構造である。
【０１３２】
本発明では、ＣＩＰ型の磁気検出素子に限らず、前記多層膜の上下に電極層が設けられ、前記電極層から前記多層膜内に流れる電流が、前記多層膜の各層の膜面に対し垂直方向に流れるＣＰＰ（ｃｕｒｒｅｎｔ　　ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌａｒ　ｔｏ　ｔｈｅ　　ｐｌａｎｅ）型と呼ばれる構造であってもよい。
【０１３３】
ただしかかる場合、図１ないし図５において電極層３４が形成される部分はＡｌ２Ｏ３やＳｉＯ２などの絶縁層で形成される。さらにこの絶縁層、あるいは前記絶縁層と別工程で形成された絶縁層が第２反強磁性層３３の内側端面３３ａ上にも延びて形成されていることが好ましい。また基板２０は下部電極を兼ね備えた磁性材料の下部シールド層で形成され、さらに前記絶縁層上から前記第２反強磁性層３３のトラック幅方向（図示Ｘ方向）に形成された間隔Ｌ内にかけて上部電極を兼ね備えた磁性材料の上部シールド層が形成される。
【０１３４】
また必要であれば、少なくとも前記間隔Ｌ内に非磁性層（図示しない）を設けてもよい。前記非磁性層は、Ｔａ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕなどの非磁性導電材料で形成されることが好ましい。前記非磁性層は上部ギャップ層として機能する。
【０１３５】
また上記のＣＰＰ型の磁気検出素子では磁気検出素子を構成する非磁性材料層２７がＣｕなどの非磁性導電材料で形成されてもよいし、あるいは前記非磁性材料層２７がＡｌ２Ｏ３やＳｉＯ２などの絶縁材料で形成されてもよい。前者の磁気検出素子はスピンバルブＧＭＲ型磁気抵抗効果素子（ＣＰＰ−ＧＭＲ）と呼ばれる構造であり、後者の磁気検出素子はスピンバルブトンネル型磁気抵抗効果型素子（ＣＰＰ−ＴＭＲ）と呼ばれる構造である。
【０１３６】
トンネル型磁気抵抗効果型素子は、スピントンネル効果を利用して抵抗変化を生じさせるものであり、固定磁性層２３とフリー磁性層２８との磁化が反平行のとき、最も前記非磁性材料層２７を介してトンネル電流が流れにくくなって、抵抗値は最大になり、一方、前記固定磁性層２３とフリー磁性層２８との磁化が平行のとき、最もトンネル電流は流れ易くなり抵抗値は最小になる。
【０１３７】
この原理を利用し、外部磁界の影響を受けてフリー磁性層２８の磁化が変動することにより、変化する電気抵抗を電圧変化（定電流動作時）あるいは電流変化（定電圧動作時）としてとらえ、記録媒体からの洩れ磁界が検出されるようになっている。
【０１３８】
図１０ないし図１９は図１に示す磁気検出素子の製造方法を示す一工程図である。
【０１３９】
図１０は製造工程中の磁気検出素子を記録媒体との対向面側から見た部分断面図である。
【０１４０】
図１０に示す工程では、基板２０上に、シードレイヤ２１、第１反強磁性層２２、固定磁性層２３、非磁性材料層２７、フリー磁性層２８、第３反強磁性層３１、および非磁性層３２を連続成膜する。成膜にはスパッタや蒸着法が使用される。前記スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ＲＦスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法などを使用できる。
【０１４１】
図１０に示す固定磁性層２３は、例えばＣｏＦｅ合金などで形成された磁性層２４と磁性層２６と、両磁性層２４、２６間に介在するＲｕなどの非磁性の中間層２５との積層フェリ構造である。前記フリー磁性層２８は、ＣｏＦｅ合金などの拡散防止層２９とＮｉＦｅ合金などの磁性材料層３０との積層構造である。
【０１４２】
本発明では前記第１反強磁性層２２及び第３反強磁性層３１を、ＰｔＭｎ合金、または、Ｘ―Ｍｎ（ただしＸは、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｎｉ，Ｆｅのいずれか１種または２種以上の元素である）合金で、あるいはＰｔ―Ｍｎ―Ｘ′（ただしＸ′は、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｏｓ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｒ，Ｎｅ，Ｘｅ，Ｋｒのいずれか１または２種以上の元素である）合金で形成することが好ましい。
【０１４３】
また前記ＰｔＭｎ合金及び前記Ｘ−Ｍｎの式で示される合金において、ＰｔあるいはＸが３７〜６３ａｔ％の範囲であることが好ましい。また、前記ＰｔＭｎ合金及び前記Ｘ−Ｍｎの式で示される合金において、ＰｔあるいはＸが４７〜５７ａｔ％の範囲であることがより好ましい。特に規定しない限り、〜で示す数値範囲の上限と下限は以下、以上を意味する。
【０１４４】
また、Ｐｔ−Ｍｎ−Ｘ’の式で示される合金において、Ｘ’＋Ｐｔが３７〜６３ａｔ％の範囲であることが好ましい。また、前記Ｐｔ−Ｍｎ−Ｘ’の式で示される合金において、Ｘ’＋Ｐｔが４７〜５７ａｔ％の範囲であることがより好ましい。さらに、前記Ｐｔ−Ｍｎ−Ｘ’の式で示される合金において、Ｘ’が０．２〜１０ａｔ％の範囲であることが好ましい。ただし、Ｘ’がＰｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｎｉ，Ｆｅのいずれか１種または２種以上の元素である場合には、Ｘ’は０．２〜４０ａｔ％の範囲であることが好ましい。
【０１４５】
また本発明では前記第１反強磁性層２２の膜厚を８０Å以上で３００Å以下で形成することが好ましい。この程度の厚い膜厚で前記第１反強磁性層２２を形成することにより磁場中アニールで、前記第１反強磁性層２２と固定磁性層２３間に大きな交換結合磁界を発生させることができる。具体的には、４８ｋＡ／ｍ以上、例えば６４ｋＡ／ｍを越える交換結合磁界を発生させることができる。
【０１４６】
また本発明では前記第３反強磁性層３１の膜厚を２０Å以上で５０Å以下で形成することが好ましく、より好ましくは３０Å以上で４０Å以下で形成する。
【０１４７】
上記のように前記第３反強磁性層３１を５０Å以下の薄い膜厚で形成することにより、前記第３反強磁性層３１は非反強磁性の性質を帯びる。このため下記の第１の磁場中アニールを施しても、前記第３反強磁性層３１は規則化変態しにくく、前記第３反強磁性層３１とフリー磁性層２８間に交換結合磁界が発生せずあるいは発生してもその値は小さく、前記フリー磁性層２８の磁化が、固定磁性層２３と同じように強固に固定されることがない。
【０１４８】
また前記第３反強磁性層３１が２０Å以上、好ましくは３０Å以上で形成されるとしたのは、この程度の膜厚がないと、後工程で前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域上に第２反強磁性層３３を形成しても、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域が反強磁性の性質を帯び難く、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域とフリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域間に適切な大きさの交換結合磁界が発生しないからである。
【０１４９】
また図１０工程のように前記第３反強磁性層３１上に非磁性層３２を形成することで、図１０に示す多層膜が大気暴露されても前記第３反強磁性層３１が酸化されるのを適切に防止できる。
【０１５０】
ここで前記非磁性層３２は大気暴露によって酸化されにくい緻密な層である必要がある。また熱拡散などにより前記非磁性層３２を構成する元素が第３反強磁性層３１内部に侵入しても反強磁性層としての性質を劣化させない材質である必要がある。
【０１５１】
本発明では前記非磁性層３２をＲｕ、Ｒｅ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｒｈのいずれか１種または２種以上からなる貴金属またはＣｒで形成することが好ましい。
【０１５２】
Ｒｕなどの貴金属からなる非磁性層３２は大気暴露によって酸化されにくい緻密な層である。したがって前記非磁性層３２の膜厚を薄くしても前記第３反強磁性層３１が大気暴露によって酸化されるのを適切に防止できる。
【０１５３】
本発明では前記非磁性層３２を３Å以上で１０Å以下で形成することが好ましい。この程度の薄い膜厚の非磁性層３２によっても適切に前記第３反強磁性層３１が大気暴露によって酸化されるのを適切に防止することが可能である。このように薄い膜厚で前記非磁性層３２を形成したことによって図１５工程でのイオンミリングを低エネルギーで行うことができミリング制御を従来に比べて向上させることができる。この点については図１５工程で詳しく説明する。
【０１５４】
図１０に示すように基板２０上に非磁性層３２までの各層を積層した後、第１の磁場中アニールを施す。トラック幅Ｔｗ（図示Ｘ方向）と直交する方向である第１の磁界（図示Ｙ方向）を印加しつつ、第１の熱処理温度で熱処理し、第１の反強磁性層２２と固定磁性層２３を構成する磁性層２４との間に交換結合磁界を発生させて、前記磁性層２４の磁化を図示Ｙ方向に固定する。もう一方の磁性層２６の磁化は、前記磁性層２４との間で働くＲＫＫＹ相互作用による交換結合によって図示Ｙ方向とは逆方向に固定される。なお例えば前記第１の熱処理温度を２７０℃とし、磁界の大きさを８００（ｋＡ／ｍ）とする。
【０１５５】
また上記したように、この第１の磁場中アニールによって前記第３反強磁性層３１とフリー磁性層２８を構成する磁性材料層３０との間には交換結合磁界は発生しないかあるいは発生してもその値は小さい。前記第３反強磁性層３１は５０Å以下の薄い膜厚で形成されており、反強磁性としての性質を有していないからである。
【０１５６】
また上記した第１の磁場中アニールによって、非磁性層３２を構成するＲｕなどの貴金属元素が、第３反強磁性層３１内部に拡散するものと考えられる。従って熱処理後における前記第３反強磁性層３１の表面近くの構成元素は、反強磁性層を構成する元素と貴金属元素とから構成される。また前記第３反強磁性層３１内部に拡散した貴金属元素は、前記第３反強磁性層３１の下面側よりも前記第３反強磁性層３１の表面側の方が多く、拡散した貴金属元素の組成比は、前記第３反強磁性層３１の表面から下面に向うに従って徐々に減るものと考えられる。このような組成変調は、ＳＩＭＳ分析装置やＴＥＭによるＥＤＸ分析などで確認することが可能である。
【０１５７】
次に図１１に示す工程を施す。図１２は製造工程中の磁気検出素子を真上から見た部分平面図であり、図１２の一点鎖線から前記磁気検出素子をＹ−Ｚ平面と平行な方向に切断し、その切断された断面を矢印Ｎ方向から見た縦断面図が図１１である。なお図１２は図１１に示す磁気検出素子の図に比べて縮小して示されている。
【０１５８】
図１１工程及び図１２工程を見てわかるように、図１０工程後、前記非磁性層３２上にリフトオフ用のレジスト層６０を形成する。前記レジスト層６０は真上から見ると例えば図１２のような形状であり、図１２に示すレジスト層６０内の点線６０ａは、前記レジスト層６０の下方に形成された切欠部６０ｂの側面６０ａを示している（図１１を参照されたい）。
【０１５９】
なおこのレジスト層６０は前記シードレイヤ２１から非磁性層３２までの多層膜３６の形状、特に前記多層膜３６のハイト側後端面３６ａを所定形状に画定するためのものであり、次の図１３工程では前記レジスト層６０に覆われていない前記多層膜３６をイオンミリングで除去する。
【０１６０】
図１３は図１１と同様の断面から見た製造工程中の磁気検出素子の縦断面図であり、前記レジスト層６０に覆われていないシードレイヤ２１から非磁性層３２までの多層膜３６をイオンミリングで除去する。このときの前記イオンミリングのミリング角度は、基板２０表面に対し垂直方向かあるいはそれに近い角度であることが好ましい。図１３に示すように前記イオンミリングによってハイト側後端面３６ａ及び記録媒体との対向面側前端面３６ｂは、ハイト方向（図示Ｙ方向）への長さ寸法が下方から上方に向けて（図示Ｚ方向に向けて）徐々に小さくなるように傾斜面あるいは湾曲面として形成される。なお前記多層膜３６の平面形状は、図１２に示すレジスト層６０の平面形状とほぼ同じ形状となる。
【０１６１】
次に図１４工程（製造工程中の磁気検出素子の部分縦断面図）では、前記多層膜３６の周囲にバックフィルギャップ層（絶縁層）３５をスパッタ成膜する。図１４に示す縦断面では前記バックフィルギャップ層３５が前記多層膜３６のハイト側後端面３６ａよりもハイト側（図示Ｙ方向）の領域及び記録媒体との対向面側前端面３６ｂよりも記録媒体との対向面側（図示Ｙ方向と逆方向）の領域に成膜されることがわかる。
【０１６２】
しかもこの工程では、前記バックフィルギャップ層３５を成膜するときのスパッタ角度を適切に調整し、前記レジスト層６０に形成された切欠部６０ｂ内にも前記バックフィルギャップ層３５を潜り込ませ、前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａが前記多層膜３６上に乗り上げ形成されるようにしている。
【０１６３】
この工程において前記バックフィルギャップ層３５を成膜するときのスパッタ角度θ１は、基板２０表面に対し垂直方向から３０°〜７０°傾いた角度とすることが好ましい。これにより前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａを適切に前記多層膜３６上に乗り上げ形成することができる。また前記バックフィルギャップ層３５を成膜するときのスパッタ角度のみならず、図１２工程で前記レジスト層６０の下面のハイト方向における長さ寸法Ｔ１（図１４を参照されたい）を適切に調整することで、前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａの多層膜３６上に乗り上げた長さ寸法Ｔ２を所定範囲内に調整できる。なおこの長さ寸法Ｔ２は図１９の最終工程で「記録媒体との対向面」が画定されたとき、前記フリー磁性層２８の前記記録媒体との対向面からハイト側後端面２８ａまでの長さ寸法に対し２０％から３０％程度占めるように、調整される。
【０１６４】
またこの工程で、前記レジスト層６０上にもバックフィルギャップ層３５と同じ材質の絶縁材料層３５ｂが付着する。
【０１６５】
次に図１５工程（製造工程中の磁気検出素子の部分縦断面図）では図１４工程のレジスト層６０を除去し、前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａ間に現われた非磁性層３２をイオンミリングで除去する。
【０１６６】
図１５に示すイオンミリング工程では、低エネルギーのイオンミリングを使用できる。その理由は、前記非磁性層３２が３Å〜１０Å程度の非常に薄い膜厚で形成されているからである。本発明では、Ｒｕなどで形成された非磁性層３２は３Å〜１０Å程度の薄い膜厚であっても、第３反強磁性層３１が酸化されるのを十分に防止でき、低エネルギーのイオンミリングによって前記非磁性層３２の途中でミリングを止めるようにミリング制御しやすい。
【０１６７】
このように本発明では低エネルギーのイオンミリングを使用でき、従来に比べてミリング制御を向上させることができる。ここで低エネルギーのイオンミリングとは、ビーム電圧（加速電圧）が１０００Ｖ未満のイオンビームを用いたイオンミリングであると定義される。例えば、１００Ｖ〜５００Ｖのビーム電圧が用いられる。本実施の形態では、２００Ｖの低ビーム電圧のアルゴン（Ａｒ）イオンビームを用いている。
【０１６８】
図１５に示す工程では、上記のイオンミリングによって前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａ間に現われた非磁性層３２が削られ、図１５では前記端部３５ａ間の前記非磁性層３２が非常に薄い膜厚で残される。前記端部３５ａ間の非磁性層３２はすべて除去されてもよいが、図１５のように一部、前記端部３５ａ間に非磁性層３２を残す場合、その膜厚は３Å以下であることが好ましい。
【０１６９】
その理由は、後の工程で前記端部３５ａ間の非磁性層３２上に第２反強磁性層３３を形成するが、前記非磁性層３２の膜厚が厚いと、その下の第３反強磁性層３１と前記第２反強磁性層３３とが一体の反強磁性層として機能しなくなり、適切に前記フリー磁性層２８の磁化制御を行うことができないからである。
【０１７０】
また図１５に示すように、前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａ下の前記非磁性層３２の端部３２ａは、上記のイオンミリングの影響を受けないので、前記非磁性層３２の端部３２ａは成膜時の膜厚で残されることになる。従って図１５工程終了後、前記非磁性層３２の端部３２ａがバックフィルギャップ層３５の端部３５ａ間に露出した非磁性層３２の膜厚よりも厚い状態で残されることになる。
【０１７１】
次に図１６工程（成膜中の磁気検出素子の部分縦断面図）では、前記前記バックフィルギャップ層３５に覆われておらず露出している非磁性層３２及びバックフィルギャップ層３５の全面に、真空状態を破らずに第２反強磁性層３３及び電極層３４を連続してスパッタ成膜する。
【０１７２】
前記第２反強磁性層３３を第３反強磁性層３１と同じＰｔＭｎ合金、または、Ｘ―Ｍｎ（ただしＸは、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｎｉ，Ｆｅのいずれか１種または２種以上の元素である）合金で、あるいはＰｔ―Ｍｎ―Ｘ′（ただしＸ′は、Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｒｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｏｓ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｒ，Ｎｅ，Ｘｅ，Ｋｒのいずれか１または２種以上の元素である）合金で形成することが好ましい。また前記電極層３４を、例えば、Ａｕ、Ｗ、Ｃｒ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｔａなどで形成する。
【０１７３】
次に図１７工程は、製造工程中の磁気検出素子を真上から見た部分平面図である。なお図１７は図１６に示す製造工程中の磁気検出素子の大きさよりも縮小した図である。図１７工程では、図１６に示す電極層３４上に図１７に示す形状のマスク層６１を形成する。前記マスク層６１は、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃとなる平面領域とほぼ同位置に形成される。前記マスク層６１はレジストであってもよいし、あるいはメタル層や絶縁層であってもよい。例えば前記マスク層６１をメタル層や絶縁層で形成する場合は、図１７に示すマスク層６１を形成する領域以外の部分に露光現像でレジスト層を形成し、マスク層６１が形成されるべき領域にメタル層や絶縁層をスパッタ成膜した後、前記レジスト層を除去する。前記マスク層６１をメタル層で形成するとき、例えば前記マスク層６１をＴａ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｗで形成する。なお前記マスク層６１はメタル層であることが好ましい。その理由はこのマスク層６１を次工程のエッチング終了後も電極の一部として機能させることができるからである。
【０１７４】
ここで図１７に示すトラック幅方向（図示Ｘ方向）におけるマスク層６１間に開けられた間隔の幅Ｔ３は、トラック幅Ｔｗを規制すべき幅よりやや大きい幅となるため、できる限り前記幅Ｔ３を狭く形成することが好ましい。この工程では前記幅Ｔ３を０．１μｍ〜０．３μｍ程度で形成することが好ましい。
【０１７５】
また図１７に示す点線部分は、シードレイヤ２１から非磁性層３２までの多層膜３６の形成領域を示している。このように前記マスク層６１が前記多層膜３６と重なる部分での、前記マスク層６１の平面形状の大きさを前記多層膜３６の平面形状の大きさよりも若干大きく形成する。これは前記多層膜３６の素子両側端部Ｃ上を確実に第２反強磁性層３３で覆うことができるようにし、前記フリー磁性層２８の磁化制御を適切に行うためである。
【０１７６】
そして図１８工程（製造工程中の磁気検出素子を記録媒体との対向面側から見た部分断面図）では、前記マスク層６１に覆われていない前記電極層３４及び第２反強磁性層３３をイオンミリングやリアクティブ・イオン・エッチング（ＲＩＥ）などで除去する（点線部分の電極層３４及び第２反強磁性層３３が除去される）。このときのエッチング方向は、基板２０表面に対し垂直方向かあるいはそれに近い方向であることが好ましい。
【０１７７】
図１８の記録媒体との対向面側から見た断面図に示すように、ＲＩＥなどによって前記電極層３４及び第２反強磁性層３３の図面の中央部が削られ、そこに間隔Ｌが形成される。
【０１７８】
ここでどの層までＲＩＥによって削り込むかであるが、図１８のように素子中央部Ｄから非磁性層３２が露出した瞬間、エッチングを止めてもよいし、あるいは露出した前記非磁性層３２も除去し、その下の第３反強磁性層３１が露出した瞬間、エッチングを止めてもよい。またこのとき前記第３反強磁性層３１の素子中央部Ｄが若干削り込まれてもよい。または図１８に示すように前記素子中央部Ｄに薄い膜厚の第２反強磁性層３３ｂが残されてもよい。ただしこのとき前記第２反強磁性層３３ｂの膜厚と第３反強磁性層３１の膜厚とを足し合わせた総合膜厚が５０Å以下となるように、前記第２反強磁性層３３ｂの膜厚を調整する。そうしないと前記素子中央部Ｄでも大きな交換結合磁界が発生することで、前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄが強く磁化固定されてしまうからである。
【０１７９】
またこの図１８工程において、素子両側端部Ｃ上に残された第２反強磁性層３３及び電極層３４の内側端面３３ａ、３４ａは、下方から上方に向うにしたがって徐々に前記間隔Ｌのトラック幅方向への幅寸法が大きくなる傾斜面あるいは湾曲面として形成される。
【０１８０】
またこの図１８工程で前記電極層３４上に形成されたマスク層６１もＲＩＥ等の影響を受けて削られ、成膜時よりも薄い膜厚の前記マスク層６１が前記電極層３４上に残されたり、あるいは前記マスク層６１がすべて除去される。
【０１８１】
また図１８に示すように前記第２反強磁性層３３の間隔Ｌ内における下面間の幅でトラック幅Ｔｗが決定される。このトラック幅Ｔｗは、図１７に示すマスク層６１間の幅Ｔ３よりやや狭い幅となるので、前記トラック幅Ｔｗを０．１μｍ〜０．２μｍ程度の非常に小さい値に設定することができる。
【０１８２】
ところでこの図１８工程が終了した時点で、前記第２反強磁性層３３は、図２や図３に示すのと同じ形成位置、すなわち第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域から後方領域に形成されたバックフィルギャップ層３５の端部３５ａ上にかけて残された状態となっている。
【０１８３】
次に第２の磁場中アニールを施す。このときの磁場方向は、トラック幅方向（図示Ｘ方向）である。なおこの第２の磁場中アニールは、第２の印加磁界を、第１反強磁性層２２の交換異方性磁界よりも小さく、またフリー磁性層２８の保磁力や異方性磁界よりも大きく、しかも熱処理温度を、前記第１反強磁性層２２のブロッキング温度よりも低くする。これによって前記第１反強磁性層２２、第３反強磁性層３１及び第２反強磁性層３３をすべて同様の材質、例えばＰｔＭｎ合金を用いて形成しても、前記第１反強磁性層２２の交換異方性磁界の方向をハイト方向（図示Ｙ方向）に向けたまま、前記第３反強磁性層３１の交換異方性磁界をトラック幅方向（図示Ｘ方向）に向けることができる。なお第２の熱処理温度は例えば２５０℃であり、磁界の大きさは２４（ｋＡ／ｍ）である。
【０１８４】
上記のように第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域上に非磁性層３２を介して第２反強磁性層３３が形成されることで、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域と第２反強磁性層３３間の反強磁性的な相互作用が強まり、単独では反強磁性の性質を有さなかった前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域が反強磁性の性質を帯びる。
【０１８５】
このため上記の第２の磁場中アニールによって、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域は適切に規則化変態し、前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域とフリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域との間に適切な大きさの交換結合磁界が発生する。これによって前記フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの前方領域の磁化は、トラック幅方向（図示Ｘ方向）に固定される。
【０１８６】
一方、上記の第２の磁場中アニールによっても、フリー磁性層２８の素子中央部Ｄや素子両側端部Ｃの後方領域には第３反強磁性層３１と間で直接的には交換結合磁界が発生しない。
【０１８７】
そして本発明では、既に説明した図２に示すように、特にフリー磁性層２８の素子両側端部Ｃの後方領域が磁化固定されず、ここでのバイアス磁界が弱められることで前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄの後方領域での磁化反転を従来よりも良好にし、これによって前記フリー磁性層２８の素子中央部Ｄでの再生感度を従来よりも向上させることができるとともに、サイドリーディングの発生を適切に抑制できる磁気検出素子を容易且つ適切に製造することができる。
【０１８８】
図１９は最終製造工程を示す図であり、図１９は製造工程中の磁気検出素子の部分縦断面図である。
【０１８９】
図１９に示す工程では、磁気検出素子をＸ−Ｚ平面と垂直な方向から矢印Ｙ方向に一点鎖線の位置まで研磨していく。この工程では前記磁気検出素子の下に形成された例えばＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣで形成されたスライダ（図示しない）も同時に研磨されていく。
【０１９０】
図１９に示す一点鎖線の位置まで研磨すると、そのＺ−Ｘ平面が「記録媒体との対向面」となり、図１ないし図３に示す磁気検出素子が完成する。ここで、どこまで前記磁気検出素子を削り込むかであるが、それは図１９に示す「前方領域」のハイト方向への長さ寸法が、フリー磁性層２８の記録媒体との対向面からハイト側後端面２８ａまでのハイト方向への長さ寸法に対し７０％から８０％占めるように、具体的には前記「前方領域」のハイト方向への長さ寸法が０．０３μｍよりも大きくなるように、前記磁気検出素子に対する削り込み位置を決定する。
図１９に示すように前記第２反強磁性層３３は、素子両側端部Ｃの前方領域では第３反強磁性層３１上に非常に薄い膜厚の非磁性層３２を介して対向して形成され、一方、素子両側端部Ｃの後方領域では第３反強磁性層３１上のバックフィルギャップ層３５の端部３５ａ上に形成される。
【０１９１】
なお上記の第２の磁場中アニール工程は、図１９工程の終了時点で行ってもよいが、かかる場合、反強磁性層としてＰｔＭｎ合金を用いず、Ｉｒ２０Ｍｎ８０等が第２反強磁性層３３、第３反強磁性層３１として用いられる。
【０１９２】
図１０ないし図１９に示す製造工程で最も特徴的なのは図１４工程で、バックフィルギャップ層３５の端部３５ａを多層膜３６上に乗り上げ形成する点である。この工程を用いることで前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの後方領域上にバックフィルギャップ層３５の端部３５ａを介して第２反強磁性層３３を形成することができる。
【０１９３】
特に図１４工程ではリフトオフ用のレジスト層６０を用い、前記バックフィルギャップ層３５を成膜するときのスパッタ角度を調整し、さらに前記レジスト層６０のハイト方向への長さ寸法Ｔ１を適切に調整することで、前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａを所定の長さで前記多層膜３６上に乗り上げ形成することができる。
【０１９４】
さらに図１３工程で前記多層膜３６のハイト側後端面３６ａを所定形状に画定した後、図１４工程を施すことで、前記バックフィルギャップ層３５を前記多層膜３６のハイト側後端面３６ａよりもさらにハイト側へ埋め込む作業と、前記バックフィルギャップ層３５の端部３５ａを前記多層膜３６の後方領域上へ乗り上げ形成する作業とを同時に行うことができ、製造工程の簡略化を図ることができて好ましい。
【０１９５】
また図１０ないし図１９工程では、第３反強磁性層３１上に酸化防止層となる非磁性層３２を設けているが、この非磁性層３２の材質や膜厚を適切に調整することで、図１５工程で低エネルギーのイオンミリングを使用して前記非磁性層３２を除去でき、よって第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの前方領域と第２反強磁性層３３とを適切に一体の反強磁性層として機能させることができ、前記フリー磁性層２８の磁化制御をより適切に行うことが可能になる。
【０１９６】
また前記非磁性層３２の端部３２ａは図１５工程時、バックフィルギャップ層３５の端部３５ａ下に形成され、このバックフィルギャップ層３５の端部３５ａの存在により、イオンミリングの影響を受けず、成膜当初の膜厚で残される。
【０１９７】
よって第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの後方領域上に、バックフィルギャップ層３５の端部３５ａと成膜当初の膜厚を有する非磁性層３２の端部３２ａとを残すことができ、前記第２反強磁性層３３と前記第３反強磁性層３１の素子両側端部Ｃの後方領域間の距離を効果的に離すことが可能になる。
【０１９８】
なお磁気検出素子をＣＰＰ型の磁気検出素子とする場合は、図１０工程で基板２０を下部電極を兼ね備えた下部シールド層として形成し、また図１６工程で電極層３４が形成されるべき領域に絶縁層を形成し、さらに図１８工程後、前記絶縁層上から間隔Ｌ内にかけて上部電極を兼ね備えた上部シールド層を形成すればよい。
【０１９９】
なお上述したＣＩＰ型の磁気検出素子を用いて磁気ヘッドを構成するときには、基板２０とシードレイヤ２１の間に、アルミナなどの絶縁性材料からなる下地層、この下地層上に積層される磁性合金からなる下部シールド層、及びこの下部シールド上に積層される絶縁性材料からなる下部ギャップ層が形成される。磁気検出素子は前記下部ギャップ層上に積層される。また、この磁気検出素子上には、絶縁性材料からなる上部ギャップ層、及びこの上部ギャップ層上に積層される磁性合金からなる上部シールド層が形成される。また、前記上部シールド層上に書き込み用のインダクティブ素子が積層されてもよい。
【０２００】
また本発明における磁気検出素子はハードディスク装置に内蔵される磁気ヘッドに装備されるほか磁気センサなどにも使用可能である。
【０２０１】
【発明の効果】
以上詳細に説明した本発明によれば、フリー磁性層の素子両側端部のハイト側後方領域に絶縁層を設け、前記第２反強磁性層を、記録媒体との対向面側から前記絶縁層上にかけて形成する。
【０２０２】
前記絶縁層よりも記録媒体との対向面側の前方領域では、前記フリー磁性層と第２反強磁性層間で適切な大きさの交換結合磁界が生じ、前記フリー磁性層の素子両側端部の前記前方領域を適切にトラック幅方向に磁化固定できる。一方、前記フリー磁性層の素子両側端部の後方領域では、前記第２反強磁性層との間に絶縁層が設けられているため、前記フリー磁性層の後方領域と前記第２反強磁性層との間に交換結合磁界は発生せず、従って前記フリー磁性層の後方領域が、前方領域のように強固にトラック幅方向に磁化固定されるといったことがない。
【０２０３】
その結果、前記フリー磁性層の後方領域では、磁性層内部で生じる交換相互作用により媒介されたバイアス磁界が前方領域に比べて弱まり、後方領域でのバイアス磁界を弱めた結果、前記フリー磁性層の素子中央部での外部磁界に対する再生感度を、交換スティフネス定数を低減させることなく、従来に比べて向上させることが可能になる。
【０２０４】
しかも本発明では、前記フリー磁性層の素子両側端部の、前記第２反強磁性層との間で交換結合磁界が生じる領域は、記録媒体との対向面側に適切に形成されているので、前記フリー磁性層の素子両側端部の記録媒体との対向面側の領域は適切にトラック幅方向に磁化固定されており、サイドリーディングが発生するといった不具合も生じない。
【０２０５】
よって本発明によれば、高記録密度化に適切に対応するために狭トラック化を促進させても、サイドリーディングの発生を抑制しつつ、前記フリー磁性層の外部磁界に対する再生感度を向上させることができ、高記録密度化においても効果的に再生出力の向上を図ることが可能な磁気検出素子を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態である磁気検出素子の構造を記録媒体との対向面側から見た部分断面図、
【図２】図１に示す磁気検出素子をＸ−Ｙ平面と平行な方向に一点鎖線の位置で切断し、その切断された磁気検出素子を矢印Ａ方向から見た部分平面図、
【図３】図１に示す磁気検出素子をＹ−Ｚ平面と平行な方向に点線の位置で切断し、その切断された磁気検出素子を矢印Ｂ方向から見た部分縦断面図、
【図４】本発明の別の実施の形態である磁気検出素子の構造を真上から見た部分平面図、
【図５】図４に示す磁気検出素子をＹ−Ｚ平面と平行な方向に一点鎖線の位置で切断し、その切断された磁気検出素子を矢印Ｍ方向から見た部分縦断面図、
【図６】本発明におけるフリー磁性層の形態を記録媒体との対向面側から見た部分拡大断面図、
【図７】本発明におけるフリー磁性層の別の形態を記録媒体との対向面側から見た部分拡大断面図、
【図８】本発明におけるフリー磁性層の別の形態を記録媒体との対向面側から見た部分拡大断面図、
【図９】本発明におけるフリー磁性層の別の形態を記録媒体との対向面側から見た部分拡大断面図、
【図１０】図１の形態の磁気検出素子の製造工程を示す一工程図であり、製造工程中の磁気検出素子を記録媒体との対向面側から見た部分断面図、
【図１１】図１０の次に行なわれる一工程図であり、図１２に示す磁気検出素子をＹ−Ｚ平面と平行な方向に一点鎖線の位置で切断し、その切断された磁気検出素子を矢印Ｎ方向から見た部分縦断面図、
【図１２】図１１に示す工程図を真上から見た図、
【図１３】図１１の次に行なわれる一工程図であり、製造工程中の磁気検出素子の部分縦断面図、
【図１４】図１３の次に行なわれる一工程図であり、製造工程中の磁気検出素子の部分縦断面図、
【図１５】図１４の次に行なわれる一工程図であり、製造工程中の磁気検出素子の部分縦断面図、
【図１６】図１５の次に行なわれる一工程図であり、製造工程中の磁気検出素子の部分縦断面図、
【図１７】図１６の次に行なわれる一工程図であり、製造工程中の磁気検出素子を真上から見た部分平面図、
【図１８】図１７の次に行なわれる一工程図であり、製造工程中の磁気検出素子を記録媒体との対向面側から見た部分断面図、
【図１９】図１８の次に行なわれる一工程図であり、製造工程中の磁気検出素子の部分縦断面図、
【図２０】従来における磁気検出素子の構造を記録媒体との対向面側から見た部分断面図、
【図２１】図２０に示す磁気検出素子を真上から見た部分平面図、
【図２２】図２０に示す磁気検出素子をＹ−Ｚ平面と平行な方向に一点鎖線の位置で切断し、その切断された磁気検出素子を矢印Ｅ方向から見た部分縦断面図、
【符号の説明】
２０　基板
２１　シードレイヤ
２２　第１反強磁性層
２３　固定磁性層
２７　非磁性材料層
２８　フリー磁性層
３１　第３反強磁性層
３２　非磁性層
３３　第２反強磁性層
３４　電極層
３５　バックフィルギャップ層（絶縁層）
３６　多層膜
６０　レジスト層
６１　マスク層
Ｃ　素子両側端部
Ｄ　素子中央部
【図１】
2004054962.tif 000003
【図２】
2004054962.tif 000004
【図３】
2004054962.tif 000005
【図４】
2004054962.tif 000006
【図５】
2004054962.tif 000007
【図６】
2004054962.tif 000008
【図７】
2004054962.tif 000009
【図８】
2004054962.tif 000010
【図９】
2004054962.tif 000011
【図１０】
2004054962.tif 000012
【図１１】
2004054962.tif 000013
【図１２】
2004054962.tif 000014
【図１３】
2004054962.tif 000015
【図１４】
2004054962.tif 000016
【図１５】
2004054962.tif 000017
【図１６】
2004054962.tif 000018
【図１７】
2004054962.tif 000019
【図１８】
2004054962.tif 000020
【図１９】
2004054962.tif 000021
【図２０】
2004054962.tif 000022
【図２１】
2004054962.tif 000023
【図２２】
2004054962.tif 000024