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【手続補正書】
【提出日】平成16年1月8日(2004.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
これらの結果を図４に示す。
図４のグラフから明らかなように、本発明の薬物徐放用担体によれば、薬物の徐放性を様々なものに調節できることがわかった。すなわち、図４から、実施例１〜３の薬物徐放用担体では、同じ時期における薬物の積算放出量が調節されていることは明らかである。よって、本発明によれば、適用部位あるいは担持する薬物の種類に応じて、もっとも適切な徐放速度を有する薬物徐放用担体を得ることが可能である。また、例えば、薬物徐放期間が長期間であることが望まれる場合には、薬物徐放用担体の気孔率の小さい部分の占める割合を多くすることにより、係る事項を達成することが可能であることは勿論である。つまり、組み合わせる成形体の大きさ、気孔率等を相違させることにより、薬物を徐放する期間を容易に制御することが可能である。
さらに、同様の実験を実施例４〜６の薬物徐放用担体についても行ったところ、上記とほぼ同様の結果が得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月12日(2003.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光伝送体、光伝送体アレイ、光伝送体アレイの使用方法及びカラーイメージセンサ


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半径ｒが０．２ｍｍ≦ｒ≦０．３５ｍｍの円形断面を有し、光伝送体の中心軸から外周部に向かって少なくとも０．３ｒ〜Ｒ（０．８ｒ≦Ｒ≦ｒ）の範囲における屈折率分布が下記式（１）で規定する２次曲線で近似される分布を有し、０．５ｒよりも外側であって少なくとも０．７５ｒ〜Ｒの範囲に可視光及び近赤外光領域のうち少なくとも一部の波長域の光を吸収する光吸収剤が均一に含有されてなる光伝送体。
ｎ（Ｌ）＝ｎ０｛１−（ｇ２／２）Ｌ２｝ ・・・ （１）
（但し、式中ｎ０は光伝送体の中心部の屈折率、Ｌは光伝送体の中心部からの距離（０≦Ｌ≦ｒ）、ｇは光伝送体の屈折率分布定数（０．７１≦ｇ≦１．３２）、及びｎ（Ｌ）は光伝送体の中心軸から距離Ｌの位置の屈折率を示す。）
【請求項２】
請求項１の光伝送体の複数個を平行に配列した光伝送体アレイ。
【請求項３】
請求項１記載の光伝送体の一端から赤緑青３原色のＬＥＤ光源又は白色光源から出射する光を入射させ、この光伝送体の他端から透過光を出射させる光伝送体の使用方法。
【請求項４】
請求項２記載の光伝送体アレイの一端から赤緑青３原色のＬＥＤ光源又は白色光源から出射する光を入射させ、この光伝送体アレイの他端から透過光を出射させる光伝送体アレイの使用方法。
【請求項５】
赤緑青３原色のＬＥＤ光源もしくは白色光源、請求項２記載の光伝送体アレイ、及び光受光センサを順次配置したカラーイメージセンサ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の要旨は、半径ｒが０．２ｍｍ≦ｒ≦０．３５ｍｍの円形断面を有し、光伝送体の中心軸から外周部に向かって少なくとも０．３ｒ〜Ｒ（０．８ｒ≦Ｒ≦ｒ）の範囲における屈折率分布が下記式（１）で規定する２次曲線で近似される分布を有し、０．５ｒよりも外側であって少なくとも０．７５ｒ〜Ｒの範囲に可視光及び近赤外光領域のうち少なくとも一部の波長域の光を吸収する光吸収剤が均一に含有されてなる光伝送体にある。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
ｎ（Ｌ）＝ｎ０｛１−（ｇ２／２）Ｌ２｝ ・・・ （１）
（但し、式中ｎ０は光伝送体の中心部の屈折率、Ｌは光伝送体の中心部からの距離（０≦Ｌ≦ｒ）、ｇは光伝送体の屈折率分布定数（０．７１≦ｇ≦１．３２）、及びｎ（Ｌ）は光伝送体の中心軸から距離Ｌの位置の屈折率を示す。）
又、本発明の要旨は、前記光伝送体の複数個を平行に配列した光伝送体アレイにある。
又、本発明の要旨は、前記光伝送体あるいは光伝送体アレイの一端から赤緑青３原色のＬＥＤ光源又は白色光源から出射する光を入射させ、この光伝送体あるいは光伝送体アレイの他端から透過光を出射させる光伝送体あるいは光伝送体アレイの使用方法にある。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月21日(2003.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の定着回転体を接触させて定着ニップ部を構成し、未定着トナー像を担持した記録材を前記定着ニップ部にて挟持搬送しつつ加熱し、前記記録材上に前記トナー像を定着させる定着装置において、
前記定着ニップ部を加熱する加熱体と、
前記定着回転体の回転を制御する回転制御手段と、
前記加熱体の温度を制御する温度制御手段と、を備え、
該温度制御手段は、
少なくとも画像形成終了時の前記回転制御手段による前記定着回転体の後回転停止後に、前記定着ニップ部を前記トナーの軟化点以上の温度で所定時間にわたって加熱する第１の温度制御値を有するとともに、
前記回転制御手段による前記定着回転体の起動時に、前記加熱体による加熱開始以前に、前記定着回転体を回転させて温度を検出し該検出結果に基づいて定着時の制御温度を決定する、
ことを特徴とする定着装置。
【請求項２】
前記定着回転体の起動時の温度検出タイミングを、前記定着回転体のうちの起動前に前記定着ニップ部に位置した部分が該定着ニップ部から外れたときに設定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の定着装置。
【請求項３】
一対の定着回転体を接触させて定着ニップ部を構成し、未定着トナー像を担持した記録材を前記定着ニップ部にて挟持搬送しつつ加熱し、前記記録材上に前記トナー像を定着させる定着装置において、
前記定着ニップ部を加熱する加熱体と、
前記定着回転体の回転を制御する回転制御手段と、
前記加熱体の温度を制御する温度制御手段と、を備え、
該温度制御手段は、
少なくとも画像形成終了時の前記回転制御手段による前記定着回転体の後回転停止後に、前記定着ニップ部を前記トナーの軟化点以上の温度で所定時間にわたって加熱する第１の温度制御値を有するとともに、
前記回転制御手段による前記定着回転体の起動時に、該定着回転体が第２の制御温度未満の場合には、そのままの温度を定着時の制御温度を決定するために使用し、前記第２の制御温度以上の場合には、加熱開始以前に、前記定着回転体を回転させて該定着回転体の温度を検出し、該検出結果に基づいて定着時の制御温度を決定する、
ことを特徴とする定着装置。
【請求項４】
一対の定着回転体を接触させて定着ニップ部を構成し、未定着トナー像を担持した記録材を前記定着ニップ部にて挟持搬送しつつ加熱し、前記記録材上に前記トナー像を定着させる定着装置において、
前記定着ニップ部を加熱する加熱体と、
前記定着回転体の回転を制御する回転制御手段と、
前記加熱体の温度を制御する温度制御手段と、を備え、
該温度制御手段は、
少なくとも画像形成終了時の前記回転制御手段による前記定着回転体の後回転停止後に、前記定着ニップ部を前記トナーの軟化点以上の温度で所定時間にわたって加熱する第１の温度制御値を有するとともに、
前記回転制御手段は、
前記第１の制御温度値での加熱終了後に、前記定着ニップ部の温度がトナーの軟化点以下に下がったときに、前記定着回転体を、前記定着ニップ部のニップ幅以上の回転でかつ１回転以下だけ回転させた後、停止させる、
ことを特徴とする定着装置。
【請求項５】
前記回転制御手段による前記定着回転体の起動時に、該定着回転体の回転開始以前に該定着回転体の温度を検出して定着時の制御温度を決定するとともに、その後、前記定着回転体の回転開始前に所定時間の加熱を行う、
ことを特徴とする請求項４に記載の定着装置。
【請求項６】
定着時に前記記録材が前記定着ニップ部を抜けるのとほぼ同時に加熱を停止し、非加熱状態での前記定着回転体の回転の後の停止状態で、再度、前記定着ニップ部を加熱する、
ことを特徴とする請求項１、２、３、４、又は５に記載の定着装置。
【請求項７】
前記一対の定着回転体のうちの一方が、前記定着ニップ部において、前記記録材のトナー担持面側に配置された耐熱性の定着フィルムである、
ことを特徴とする請求項１、２、３、４、５、又は６に記載の定着装置。
【請求項８】
一対の定着回転体を接触させて定着ニップ部を構成し、未定着トナー像を担持した記録材を前記定着ニップ部にて挟持搬送しつつ加熱し、前記記録材上に前記トナー像を定着させる定着装置において、
定着動作を終了する場合、加熱を停止した後、前記定着回転体の回転を停止し、前記定着回転体の停止状態で、再度、前記定着ニップ部を加熱する、
ことを特徴とする定着装置。
【請求項９】
像担持体上にトナー像を形成し、該トナー像を記録材に転写する画像形成部と、
請求項１〜８のいずれか記載の定着装置と、を備える、
ことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項８の発明は、一対の定着回転体を接触させて定着ニップ部を構成し、未定着トナー像を担持した記録材を前記定着ニップ部にて挟持搬送しつつ加熱し、前記記録材上に前記トナー像を定着させる定着装置において、定着動作を終了する場合、加熱を停止した後、前記定着回転体の回転を停止し、前記定着回転体の停止状態で、再度、前記定着ニップ部を加熱する、ことを特徴とする。
請求項９の発明は、画像形成装置において、像担持体上にトナー像を形成し、該トナー像を記録材に転写する画像形成部と、請求項１〜８のいずれか記載の定着装置と、を備える、ことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
請求項９の発明は、画像形成装置が上述の請求項１〜８のいずれかの定着装置を備えるものであり、したがって、画像形成装置はその定着装置が上述の作用・効果を奏するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月26日(2004.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
（第２実施形態）
上記第１実施形態において、図４（ａ）の工程で、表面チャネル層５の表面をＳｉ終端にしたのち、その後の工程に移行する前に、超高真空中で表面チャネル層５の表面にＳｉＯｘ膜や窒化膜を保護膜としてデポジションするようにしても良い。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
なお、窒化膜を保護膜として用いれば、表面チャネル層５の表面に形成されるＳｉＯ２膜と保護膜（窒化膜）とによるＯＮＯ膜をゲート酸化膜７の代りに用いることもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月19日(2003.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】加熱処理装置及び加熱処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導入口および導出口を有し、基板を加熱処理するための処理室を形成するチャンバと、
このチャンバ内に配設され、前記基板を載置して加熱する熱板と、
この熱板の載置面上方に配設され、かつ前記チャンバの内壁と一定の隙間をもって収容された天板とを備え、
この天板を加熱する加熱器を前記処理室内に配設し、
この加熱器には、前記天板の加熱温度を前記基板の設定加熱温度に対応させて制御するコントローラが接続されている
ことを特徴とする加熱処理装置。
【請求項２】
前記天板の中央部に、上下方向に開口する流通口を形成したことを特徴とする請求項１に記載された加熱処理装置。
【請求項３】
前記天板に、上下方向に開口する複数のスリットを形成したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載された加熱処理装置。
【請求項４】
前記天板上に、放射方向に延在する伝熱器が配設されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載された加熱処理装置。
【請求項５】
前記加熱器が、前記天板の外周部に設けられた環状のヒータからなることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載された加熱処理装置。
【請求項６】
前記加熱器が前記天板の上面に配置されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載された加熱処理装置。
【請求項７】
前記天板上に前記加熱器を覆うカバーを配設し、このカバーに前記加熱器を冷却するための流通口を設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載された加熱処理装置。
【請求項８】
前記天板の下方に前記導入口を配置し、上方に前記導出口を配置したことを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載された加熱処理装置。
【請求項９】
前記導出口を前記チャンバの天井中央部に配置したことを特徴とする請求項８に記載された加熱処理装置。
【請求項１０】
前記加熱器の加熱温度が前記基板の設定加熱温度よりも低い温度に制御されることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれかに記載された加熱処理装置。
【請求項１１】
基板を載置して加熱処理を施す熱板と、前記基板を加熱処理する際に処理室を形成する蓋体とを有する加熱処理装置の加熱処理方法であって、
所定の温度に加熱された熱板に基板を載置し、加熱する工程と、
基板と対向する位置に設けられ前記蓋体の内側に設けられた天板を加熱する工程と、
前記熱板の加熱温度よりも前記天板の加熱温度が低くなるように温度を制御する工程と、
を有していることを特徴とする加熱処理方法。
【請求項１２】
前記処理室を形成した際に、気体を供給し、かつ前記気体を排気するように構成され、前記気体は、前記蓋体と前記天板との間を流動する際に加熱されることを特徴とする請求項１１に記載の加熱処理方法。
【請求項１３】
前記制御する工程は、さらに前記天板の温度を降温させる際に前記基板の設定加熱温度に対応させて予め求められた規定温度になるようにする工程を有することを特徴とする請求項１１に記載の加熱処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体デバイスや液晶ディスプレイ等の製造プロセスで使用して好適な加熱処理装置および加熱処理方法に関する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、このような技術的課題を解決するためになされたもので、早期にチャンバ温度を安定させることができ、基板の加熱開始時期を早めることができ、もってスループットを高めることができる加熱処理装置および加熱処理方法を提供することを目的とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、前記導出口を前記チャンバの天井中央部に配置することが望ましい。このように構成されているため、導入口からチャンバ内に供給された気体が天板の付近で熱を受けながら、天板縁部から天板中央部に向かって流動し、導出口からチャンバ外に排気される。
さらにまた、前記加熱器の加熱温度が前記基板の設定加熱温度よりも低い温度に制御されることが望ましい。
このように構成されているため、処理室内の上部が下部に比べて雰囲気温度が低くなり、対流が生じ、処理室雰囲気の濃度が拡散される。
また、前記した目的を達成するためになされた本発明に係る加熱処理方法は、基板を載置して加熱処理を施す熱板と、前記基板を加熱処理する際に処理室を形成する蓋体とを有する加熱処理装置の加熱処理方法であって、所定の温度に加熱された熱板に基板を載置し、加熱する工程と、基板と対向する位置に設けられ前記蓋体の内側に設けられた天板を加熱する工程と、前記熱板の加熱温度よりも前記天板の加熱温度が低くなるように温度を制御する工程と、を有していることを特徴としている。
このように、天板の加熱温度が熱板の加熱温度より低い温度に制御されるため、天板と熱板との空間において対流が生じ、熱板の良好な温度制御性を得ることができる。
ここで、前記処理室を形成した際に、気体を供給し、かつ前記気体を排気するように構成され、前記気体は、前記蓋体と前記天板との間を流動する際に加熱されることが望ましい。
また、前記制御する工程は、さらに前記天板の温度を降温させる際に前記基板の設定加熱温度に対応させて予め求められた規定温度になるようにする工程を有することが望ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなとおり、本発明に係る加熱処理装置および加熱処理方法によると、基板の加熱開始時期を早めることができ、スループットを高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月6日(2004.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一チャンバ内で半導体装置の製造に関する複数の処理を連続して行う処理装置本体と、この処理装置本体における処理の種類を選択すると共に、該処理装置本体に処理を開始するためのスタート信号及び処理を停止するためのストップ信号を与える装置コントローラ部とを備えた半導体製造装置であって、
前記処理装置本体の装置内部情報を外部に出力するための第１の端子と、前記装置コントローラ部からのスタート信号を外部に出力するための第２の端子と、第２の端子からのスタート信号を受けて前記装置内部情報を基に現在の処理に対するプロセス状態を計算して得られた結果に基づくストップ信号を前記装置コントローラ部に入力するための第３の端子とを設けてなり、第３の端子からのストップ信号の入力により前記装置コントローラ部により前記処理装置本体にストップ信号を送出し、前記処理装置本体による現在の処理を停止して次の処理に移行させることを特徴とする半導体製造装置。
【請求項２】
前記装置コントローラ部に外部計算機が接続され、この外部計算機は、第１の端子からの装置内部情報を基に複数の処理に対するプロセス状態を計算する機能を有し、第２の端子からのスタート信号によって現在の処理に対するプロセス状態の計算を開始し、現在の処理に対するプロセス状態が規定の状態に達したら第３の端子にストップ信号を送出するものであることを特徴とする請求項１記載の半導体製造装置。
【請求項３】
同一チャンバ内で半導体装置の製造に関する複数の処理を連続して行う処理装置本体と、
この処理装置本体における処理の種類を選択すると共に、該処理装置本体に処理を開始するためのスタート信号及び処理を停止するためのストップ信号を与える装置コントローラ部と、
前記処理装置本体の装置内部情報を基に複数の処理に対するプロセス状態を計算する機能を有し、前記装置コントローラ部からスタート信号が送出されたタイミングで現在の処理に対するプロセス状態の計算を開始し、プロセス状態が規定の状態に達した時点で前記装置コントローラ部にストップ信号を送出するプロセス制御コントローラ部と、
を備えた半導体製造装置であって、
前記装置コントローラ部は、前記プロセス制御コントローラ部からストップ信号が入力されると前記処理装置本体にストップ信号を送出し、該処理装置本体による現在の処理を停止して次の処理に移行させるものであることを特徴とする半導体製造装置。
【請求項４】
前記処理装置本体は、加熱機構を有するものであることを特徴とする請求項１又は３に記載の半導体製造装置。
【請求項５】
同一チャンバ内で半導体装置の製造に関する複数の処理を連続して行う処理装置本体と、この処理装置本体における処理の種類を選択すると共に、処理の開始及び停止を制御する装置コントローラ部と、前記処理装置本体の装置内部情報を基に複数の処理に対するプロセス状態を計算する機能を有するプロセス制御コントローラ部とを備えた半導体製造装置を用い、被処理基板に対して所定の処理を施す半導体装置の製造方法であって、
前記処理装置本体に被処理基板をセットした状態で、前記装置コントローラ部により所定の処理を開始させると共に、前記プロセス制御コントローラ部により現在の処理に対するプロセス状態の計算を開始し、この計算結果でプロセス状態が規定の状態に達したと判定されたら、前記装置コントローラ部により現在の処理を停止させて、次の処理に移行させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月12日(2003.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ金属，アルカリ土類金属，希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持したカーボンナノチューブを含むことを特徴とする電磁波吸収材。
【請求項２】
アルカリ金属，アルカリ土類金属，希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持したカーボンナノチューブが、該カーボンナノチューブよりも高電気抵抗率を有する物質の内部に分散しており、該高電気抵抗率を有する物質中に鉄とコバルトおよびニッケルのうちから選ばれた少なくとも１つを主成分とする磁性金属、あるいは鉄とコバルトとニッケルとアルミニウムとシリコンとチタンとバリウムとマンガンと亜鉛およびマグネシウムのうちから選ばれた少なくとも１つを含む酸化物と窒化物及び炭化物のいずれか１つ、あるいはカーボンブラックと黒鉛とコークス及びカーボンマイクロコイルのうちから選ばれた少なくとも１つが含まれていることを特徴とする電磁波吸収材。
【請求項３】
絶縁基板上に配線回路を有し、該配線回路が絶縁層によって被われたプリント配線基板において、前記絶縁基板の前記配線回路の形成面及びその反対面側の少なくとも一方に電磁波吸収材よりなる層を有し、該電磁波吸収材がアルカリ金属とアルカリ土類金属と希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持したカーボンナノチューブを該カーボンナノチューブよりも高電気抵抗率を有する物質の内部に分散したものからなることを特徴とするプリント配線基板。
【請求項４】
プリント配線基板上に搭載された電子素子が電磁波吸収材を有する金属製キャップによって被われ、該電磁波吸収材がカーボンナノチューブにアルカリ金属とアルカリ土類金属と希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持し、それらを該カーボンナノチューブよりも高電気抵抗率を有する物質の内部に分散してなるものからなることを特徴とする電子装置。
【請求項５】
プリント配線基板と、該基板上に搭載された電子素子とが電磁波吸収材を有する金属製筐体によって被われ、該電磁波吸収材がアルカリ金属とアルカリ土類金属と希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持したカーボンナノチューブを該カーボンナノチューブよりも高電気抵抗率を有する物質の内部に分散したものによって構成されていることを特徴とする電子装置。
【請求項６】
開口部を有する金属製筐体の内周面の少なくとも一部が、アルカリ金属とアルカリ土類金属と希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持したカーボンナノチューブを該カーボンナノチューブよりも高電気抵抗率を有する物質の内部に分散してなる電磁波吸収材によって形成されていることを特徴とする筐体。
【請求項７】
回路基板上に発光素子及び受光素子の少なくとも一方と、送信回路及び受信回路の少なくとも一方の回路とを有し、前記回路基板と前記素子及び前記回路の少なくとも一部が、アルカリ金属とアルカリ土類金属と希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持したカーボンナノチューブを該カーボンナノチューブよりも高電気抵抗率を有する物質の内部に分散してなる電磁波吸収材を有する部材によって被われていることを特徴とする光送信・受信モジュール。
【請求項８】
ゲート屋根が設けられた料金所と、該料金所を通行する車両に対して進入側に設けられた進入部アンテナと、前記車両に対して出路側に設けられた出路部アンテナと、路側通信装置と前記車両に搭載されている車載機との間で情報の授受を行う自動料金収受システムとを備えた自動料金所において、該料金所とその近傍の電磁波を反射する部材の表面の少なくとも一部にアルカリ金属とアルカリ土類金属と希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持したカーボンナノチューブを該カーボンナノチューブよりも高電気抵抗率を有する物質の内部に分散してなる電磁波吸収材が形成されていることを特徴とする自動料金所。
【請求項９】
ゲート屋根が設けられた料金所と、該料金所を通行する車両に対して進入側に設けられた進入部アンテナと、前記車両に対して出路側に設けられた出路部アンテナと、路側通信装置と前記車両に搭載されている車載機との間で情報の授受を行う自動料金収受システムとを備えた料金所において、前記ゲート屋根の前記車両走行側表面と、進入部アンテナ及び出路部アンテナを支える支柱の表面の少なくとも一部にアルカリ金属とアルカリ土類金属と希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持したカーボンナノチューブを該カーボンナノチューブよりも高電気抵抗率を有する物質の内部に分散してなる電磁波吸収材が形成されていることを特徴とする自動料金所。
【請求項１０】
高周波回路素子及びアンテナを有し、前記高周波回路素子を内部に実装した筐体をもつ通信装置であって、前記筐体の壁の少なくとも一部にアルカリ金属とアルカリ土類金属と希土類金属および元素周期律表第VIII族に含まれる金属から選ばれた少なくとも１種を担持したカーボンナノチューブを該カーボンナノチューブよりも高電気抵抗率を有する物質の内部に分散してなる電磁波吸収材が設けられていることを特徴とする高周波通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月14日(2003.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の計算機、前記第１の計算機に対してセション確立要求を行う第２の計算機および前記第１の計算機と前記第２の計算機との間に介在し両計算機間で送受信されるアプリケーションデータを中継する第３の計算機とを有するシステムであり、共通鍵暗号方式に基づいて前記第１の計算機と前記第２の計算機の間で前記アプリケーションデータを暗号化して送受信する暗号化通信システムの認証処理方法において、
前記第２の計算機からの当該セション固有のセションデータを含むセション確立要求に対し、前記第３の計算機によって生成された当該セション固有のセションデータを付加して前記第１の計算機へセション確立要求を送信し、前記第１の計算機によって生成された当該セション固有のセションデータと第１の電子証明書を前記第３の計算機へ送信し、前記第３の計算機によって受信した前記第１の電子証明書を認証後に前記第１の電子証明書と前記第２の計算機から得られた前記セションデータとを含めた第２の電子証明書を前記第２の計算機へ送信し、前記第２の計算機によって前記セションデータの少なくとも一部、前記第１の電子証明書及び前記第２の電子証明書を認証することを特徴とする認証処理方法。
【請求項２】
前記第２の計算機から暗号化された前記アプリケーションデータを受信した前記第３の計算機によって前記アプリケーションデータを復号化してデータチェックを行い、前記第１の計算機から暗号化された前記アプリケーションデータを受信した前記第３の計算機によって前記アプリケーションデータを復号化してデータチェックを行うことを特徴とする請求項１記載の認証処理方法。
【請求項３】
セション確立要求を受信する第１の計算機、前記第１の計算機に対してセション確立要求を行う第２の計算機および前記第１の計算機と前記第２の計算機との間に介在し両計算機間で送受信されるアプリケーションデータを中継する第３の計算機とを有するシステムであり、共通鍵暗号方式に基づいて前記第１の計算機と前記第２の計算機との間で前記アプリケーションデータを暗号化して送受信する暗号化通信システムの認証処理方法において、
前記第２の計算機からの当該セション固有のセションデータを含むセション確立要求に対し、前記第３の計算機によって生成された当該セション固有のセションデータを付加して前記第１の計算機へセション確立要求を送信し、前記第１の計算機によって生成された当該セション固有のセションデータを前記第３の計算機を介して前記第２の計算機へ送信し、前記第３の計算機によって前記セションデータのうちの少なくとも一部を含む第１の電子証明書を前記第２の計算機へ送信し、前記第２の計算機によって受信した前記セションデータと前記第１の電子証明書を認証後に前記第１の計算機から得られた前記セションデータを含む第２の電子証明書を前記第３の計算機へ送信し、前記第３の計算機によって受信した前記第２の電子証明書を認証後に前記第２の電子証明書と前記第１の計算機から得られた前記セションデータを含めた第３の電子証明書を前記第１の計算機へ送信し、前記第１の計算機によって前記セションデータの少なくとも一部、前記第２の電子証明書及び前記第３の電子証明書を認証することを特徴とする認証処理方法。
【請求項４】
前記第２の計算機から暗号化された前記アプリケーションデータを受信した前記第３の計算機によって前記アプリケーションデータを復号化してデータチェックを行い、前記第１の計算機から暗号化された前記アプリケーションデータを受信した前記第３の計算機によって前記アプリケーションデータを復号化してデータチェックを行うことを特徴とする請求項３記載の認証処理方法。
【請求項５】
第１の計算機、前記第１の計算機に対してセション確立要求を行う第２の計算機および前記第１の計算機と前記第２の計算機との間に介在し両計算機間で送受信されるアプリケーションデータを中継する第３の計算機とを有するシステムであり、共通鍵暗号方式に基づいて前記第１の計算機と前記第２の計算機の間で前記アプリケーションデータを暗号化して送受信する暗号化通信システムにおいて、
前記第２の計算機からの当該セション固有のセションデータを含むセション確立要求に対し、生成した当該セション固有のセションデータを付加して前記第１の計算機へセション確立要求を送信する前記第３の計算機に設けられる手段、生成した当該セション固有のセションデータと第１の電子証明書を前記第３の計算機へ送信する前記第１の計算機に設けられる手段、受信した前記第１の電子証明書を認証後に前記第１の電子証明書と前記第２の計算機から得られた前記セションデータを含めた第２の電子証明書を前記第２の計算機へ送信する前記第３の計算機に設けられる手段、および前記セションデータの少なくとも一部、前記第１の電子証明書及び前記第２の電子証明書を認証する前記第２の計算機に設けられる手段を有することを特徴とする認証処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成15年9月3日(2003.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御基板を収容しつつ同制御基板に接続されたケーブルを外部に導出する概略箱形の制御基板ボックスであって、
互いに上面を開口した薄箱形のケース部材を、その開口面を対面させつつ側壁部分を突き合わせて合体せしめて形成され、かつ、側壁における突き合わせ部分に凹部を形成して上記ケーブルが通過可能な内外に通じる連通口を形成し、
さらに、同連通口を形成した側壁において、一方のケース部材から他方のケース部材に向けて途中に細径部分を作った帯板片を延設させるとともに、同他方のケース部材の側壁には同帯板片の先端が挿入されて引き離し方向に抗するように係止させる係止構造を形成したことを特徴とする制御基板ボックス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１にかかる発明は、制御基板を収容しつつ同制御基板に接続されたケーブルを外部に導出する概略箱形の制御基板ボックスであって、互いに上面を開口した薄箱形のケース部材を、その開口面を対面させつつ側壁部分を突き合わせて合体せしめて形成され、かつ、側壁における突き合わせ部分に凹部を形成して上記ケーブルが通過可能な内外に通じる連通口を形成し、さらに、同連通口を形成した側壁において、一方のケース部材から他方のケース部材に向けて途中に細径部分を作った帯板片を延設させるとともに、同他方のケース部材の側壁には同帯板片の先端が挿入されて引き離し方向に抗するように係止させる係止構造を形成した構成としてある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記のように構成した請求項１にかかる発明においては、薄箱形のケース部材の上面を開口させてあり、両者の開口面を対面させつつ側壁部分を突き合わせて合体することにより、概略箱形のケースが形成される。ここにおいて、側壁における突き合わせ部分には凹部が形成されているので、合体時には連通口が形成され、収容される制御基板に接続されたケーブルは当該連通口を介して外部に導出される。ところで、この連通口が形成される側壁においては、係止構造が形成されている。すなわち、一方のケース部材から他方のケース部材に向けて途中に細径部分を作った帯板片が延設されており、同他方のケース部材の側壁に同帯板片の先端が挿入されて係止している。このため、連通口の部分をこじ開けようとしてもかかる引き離し方向に抗することになり、隙間を拡大することはできない。また、無理にこじ開けようとしたときには帯板片の細径部分が折れてしまう。これにより、こじ開けようとした跡が残る。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【発明の効果】
以上説明したように本発明は、ケーブルを導出させるための連通口を形成した側壁に、一方のケース部材から延設されるとともに屈曲した先端が他方のケース部材の側壁と係止して引き離し方向に抗する係止構造を形成したため、こじ開けようとすることができなくなるとともに、係止構造となる帯板片の途中に細径部分を形成してあるので、無理にこじ開けようとしたときには帯板片の細径部分が折れて跡が残り、これらにより、有効に不正を防止することが可能な制御基板ボックスを提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月20日(2003.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光体の累計回転時間を記憶させるための不揮発性記憶手段を有する静電写真方式の画像記録装置において、
画像記録中に所定時間が経過する度に所定時間間隔だけ画像記録を中断する記録制御手段と、
該記録制御手段により画像記録が中断されている記録中断期間に、画像形成用高圧の供給を中断させ、該記録中断期間以外の期間に、前記画像形成用高圧の供給を行う高圧供給制御手段と、
前記不揮発性記憶手段への電源供給を、前記記録中断期間に行ない、該中断期間以外の期間停止する電源供給制御手段と、
画像記録中の前記感光体ドラムの回転時間を計時する計時手段と、
前記中断期間に、前記不揮発性記憶手段から累計回転時間を読み出し、読み出された累計回転時間と、前記計時手段により計時された回転時間とを加算し、得られた値を前記不揮発性記憶手段に書き込む累計時間更新手段と
を備えたことを特徴とする画像記録装置。
【請求項２】
請求項１において、前記画像形成装置に対して、前記感光体と前記不揮発性記憶手段とを有し、前記高圧供給手段によって前記画像形成用高圧が供給されるプロセスカートリッジが着脱可能であって、
前記不揮発性記憶手段は前記プロセスカートリッジの外壁に取付けてある
ことを特徴とする画像記録装置。
【請求項３】
請求項１において、前記不揮発性記憶手段への素子選択信号の印加を阻止する阻止手段をさらに備えたことを特徴とする画像記録装置。
【請求項４】
請求項１において、前記高圧供給制御手段は所定単位の画像記録が終了してから所定時間の間に前記画像形成用高圧の供給を中断し、
前記電源供給制御手段は前記所定単位の画像記録が終了してから所定時間の間に前記不揮発性記憶手段への電源供給を行ない、
前記累計時間更新手段は、前記所定単位の画像記録が終了してから所定時間の間に、前記不揮発性記憶手段から累計回転時間を読み出し、読み出された累計回転時間と、前記計時手段により計時された回転時間とを加算し、得られた値を前記不揮発性記憶手段に書き込む
ことを特徴とする画像記録装置。
【請求項５】
請求項１において、前記累計時間更新手段を、前記中断期間が開始されてから所定時間が経過するまでの間、インアクティブにし、該所定時間が経過してから該中断期間が終了するまでの間、アクティブにする時間更新手段制御手段をさらに備えたことを特徴とする画像記録装置。
【請求項６】
請求項５において、前記所定時間は、前記画像形成用高圧の供給が中断されてから、その中断開始時点で本装置内に存在する用紙にチャージされている電荷が放電されるまでの時間であることを特徴とする画像記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、感光体の累計回転時間を記憶させるための不揮発性記憶手段を有する静電写真方式の画像記録装置において、画像記録中に所定時間が経過する度に所定時間間隔だけ画像記録を中断する記録制御手段と、該記録制御手段により画像記録が中断されている記録中断期間に、画像形成用高圧の供給を中断させ、該記録中断期間以外の期間に、前記画像形成用高圧の供給を行う高圧供給制御手段と、前記不揮発性記憶手段への電源供給を、前記記録中断期間に行ない、該中断期間以外の期間停止する電源供給制御手段と、画像記録中の前記感光体ドラムの回転時間を計時する計時手段と、前記中断期間に、前記不揮発性記憶手段から累計回転時間を読み出し、読み出された累計回転時間と、前記計時手段により計時された回転時間とを加算し、得られた値を前記不揮発性記憶手段に書き込む累計時間更新手段とを備えたことを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１において、画像形成装置に対して、感光体と不揮発性記憶手段とを有し、高圧供給手段によって画像形成用高圧が供給されるプロセスカートリッジが着脱可能であって、不揮発性記憶手段はプロセスカートリッジの外壁に取付けることができる。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項１において、不揮発性記憶手段への素子選択信号の印加を阻止する阻止手段をさらに備えることができる。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項１において、高圧供給制御手段は所定単位の画像記録が終了してから所定時間の間に前記画像形成用高圧の供給を中断することができ、電源供給制御手段は所定単位の画像記録が終了してから所定時間の間に前記不揮発性記憶手段への電源供給を行なうことができ、累計時間更新手段は、前記所定単位の画像記録が終了してから所定時間の間に、不揮発性記憶手段から累計回転時間を読み出し、読み出された累計回転時間と、計時手段により計時された回転時間とを加算し、得られた値を不揮発性記憶手段に書き込むことができる。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項１において、累計時間更新手段を、中断期間が開始されてから所定時間が経過するまでの間、インアクティブにし、該所定時間が経過してから該中断期間が終了するまでの間、アクティブにする時間更新手段制御手段をさらに備えることができる。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項５において、所定時間は、前記画像形成用高圧の供給が中断されてから、その中断開始時点で本装置内に存在する用紙にチャージされている電荷が放電されるまでの時間とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成15年12月15日(2003.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ブランク盤とスタンパーとその製作方法


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基盤上に架橋性物質層を形成し、上記架橋性物質層に第１の架橋反応を施すことで上記架橋性物質層の表面を不完全な架橋状態にした後、上記架橋性物質層の上にフォトレジスト層が設けられ、上記フォトレジスト層に記録すべき信号によって変調されたレーザビームの露光および現像を行った後、上記架橋性物質層と上記フォトレジスト層の各層に更に第２の架橋反応を施して、上記架橋性物質層と上記フォトレジスト層とを架橋結合させたスタンパーの製作方法であって、上記レーザビームの波長をλ、上記架橋性物質の屈折率をｎとしたとき、上記架橋性物質層の厚みが３λ／８ｎから５λ／８ｎの範囲であることを特徴とするスタンパーの製作方法。
【請求項２】
基盤上にその表面が不完全な架橋状態の架橋性物質層を有し、更にフォトレジスト層が設けられたブランク盤であって、上記フォトレジスト層にレーザビームを選択的に照射して上記フォトレジスト層を露光及び現像する際の上記レーザビームの波長をλ、上記架橋性物質の屈折率をｎとしたとき、上記架橋性物質層の厚みが３λ／８ｎから５λ／８ｎの範囲であることを特徴とするブランク盤。
【請求項３】
上記架橋性物質は有機ポリマーである請求項２に記載のブランク盤。
【請求項４】
基盤上に架橋性物質層が形成され、上記架橋性物質層に第１の架橋反応を施すことで上記架橋性物質層の表面を不完全な架橋状態にした後、上記架橋性物質層の上にフォトレジスト層が設けられ、上記フォトレジスト層に記録すべき信号によって変調されたレーザビームの露光および現像を行った後、上記フォトレジスト層の露光部が突起として上記架橋性物質層の上に形成され、その後、上記架橋性物質層と上記フォトレジスト層に形成された突起に更に第２の架橋反応が施され、上記架橋性物質層と上記フォトレジスト層に形成された突起とが架橋結合されたスタンパーであって、上記レーザビームの波長をλ、上記架橋性物質の屈折率をｎとしたとき、上記架橋性物質層の厚みが３λ／８ｎから５λ／８ｎの範囲であることを特徴とするスタンパー。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の第１態様によれば、基盤上に架橋性物質層を形成し、上記架橋性物質層に第１の架橋反応を施すことで上記架橋性物質層の表面を不完全な架橋状態にした後、上記架橋性物質層の上にフォトレジスト層が設けられ、上記フォトレジスト層に記録すべき信号によって変調されたレーザビームの露光および現像を行った後、上記架橋性物質層と上記フォトレジスト層の各層に更に第２の架橋反応を施して、上記架橋性物質層と上記フォトレジスト層とを架橋結合させたスタンパーの製作方法であって、上記レーザビームの波長をλ、上記架橋性物質の屈折率をｎとしたとき、上記架橋性物質層の厚みが３λ／８ｎから５λ／８ｎの範囲であることを特徴とするスタンパーの製作方法を提供する。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明の第２態様によれば、基盤上にその表面が不完全な架橋状態の架橋性物質層を有し、更にフォトレジスト層が設けられたブランク盤であって、上記フォトレジスト層にレーザビームを選択的に照射して上記フォトレジスト層を露光及び現像する際の上記レーザビームの波長をλ、上記架橋性物質の屈折率をｎとしたとき、上記架橋性物質層の厚みが３λ／８ｎから５λ／８ｎの範囲であることを特徴とするブランク盤を提供する。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明の第３態様によれば、上記架橋性物質は有機ポリマーである第２の態様に記載のブランク盤を提供する。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明の第４態様によれば、基盤上に架橋性物質層が形成され、上記架橋性物質層に第１の架橋反応を施すことで上記架橋性物質層の表面を不完全な架橋状態にした後、上記架橋性物質層の上にフォトレジスト層が設けられ、上記フォトレジスト層に記録すべき信号によって変調されたレーザビームの露光および現像を行った後、上記フォトレジスト層の露光部が突起として上記架橋性物質層の上に形成され、その後、上記架橋性物質層と上記フォトレジスト層に形成された突起に更に第２の架橋反応が施され、上記架橋性物質層と上記フォトレジスト層に形成された突起とが架橋結合されたスタンパーであって、上記レーザビームの波長をλ、上記架橋性物質の屈折率をｎとしたとき、上記架橋性物質層の厚みが３λ／８ｎから５λ／８ｎの範囲であることを特徴とするスタンパーを提供する。


【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
【発明の効果】
本発明によれば、上記架橋性物質層の厚みを３λ／８ｎから５λ／８ｎの範囲とするため、架橋性物質層とレジスト層の境界面が、基盤の反射で形成される定在波に対してほぼ節近くの位置又はほぼ節の位置になる。このため、突起の底面部の露光強度は小さくなり、現像後に形成される突起は裾引がなく、突起の傾斜角が十分とれた理想的な角度の傾斜を実現することができ、再生信号特性を向上させることが出来る。また、レジスト突起の形状が裾引きがない分、光ディスクのピット幅を小さくすることができるので、より高密度のディスクを作ることが出来る。
【手続補正書】
【提出日】平成15年8月19日(2003.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【発明の効果】
以上に説明したように、鉄塩水溶液中での沈殿反応によって生成したＦｅＯＯＨを低温焼成すると、α-Ｆｅ2Ｏ3の超微粒子が合成される。得られた超微粒子は電気化学的な活性度が高く比表面積も大きいため、リチウム二次電池の正極又は負極材料に使用すると、放電容量が大きく優れた充放電サイクル特性を呈するリチウム二次電池を製造できる。このリチウム二次電池は、可逆容量が大きく、安全性の高い駆動電圧が低下する傾向にあるＩＣメモリバックアップ用等に適した二次電池として使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成15年10月3日(2003.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの発光管と、
前記発光管の内部に封入された放電媒体と、
前記放電媒体を励起するための内部電極および外部電極とを備え、
前記内部電極は前記発光管の内部に配置されており、
前記外部電極は、第１の外部電極と前記第１の外部電極に電気的に接続された第２の外部電極とを含み、
前記第１の外部電極は、前記内部電極からの距離が異なり且つ不連続な複数の第１の接触部において前記発光管の外面に接触しており、
前記第２の外部電極は、第２の接触部において前記発光管の外面に接触しており、
前記第２の接触部は、前記第１の接触部よりも前記内部電極に近く且つ前記第１の接触部よりも面密度が高い光源装置。
【請求項２】
複数の前記第１の接触部が、前記発光管の管軸の方向に沿って配置されている請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記発光管は、ガラス管と、前記ガラス管の外面に形成された誘電体層とを含む請求項１に記載の光源装置。
【請求項４】
前記第１および第２の外部電極は、誘電体を介して前記発光管と接触している請求項１に記載の光源装置。
【請求項５】
前記放電媒体が、キセノンガス、クリプトンガス、アルゴンガス、ネオンガスおよびヘリウムガスから選ばれる少なくとも１つのガスを含む請求項１ないし４のいずれかに記載の光源装置。
【請求項６】
前記放電媒体が水銀を含まない請求項５に記載の光源装置。
【請求項７】
支持板と、前記支持板に支持された複数の前記発光管とを備え、
前記第１の外部電極は平行に配置された複数の第１の線状電極を含み、
前記発光管は前記線状電極と直交するように配置されている請求項１ないし６のいずれかに記載の光源装置。
【請求項８】
前記第２の外部電極は、前記第１の線状電極と略平行に配置された複数の第２の線状電極を含み、
前記第１の線状電極の間隔が１．０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であり、前記第２の線状電極の間隔が０．１ｍｍ以上１．０ｍｍ未満である請求項７に記載の光源装置。
【請求項９】
光源装置と、前記光源装置から発せられる光が透過する液晶パネルとを備える液晶表示装置であって、
前記光源装置は、少なくとも１つの発光管と、前記発光管の内部に封入された放電媒体と、前記放電媒体を励起するための内部電極および外部電極を備え、
前記内部電極は前記発光管の内部に配置されており、
前記外部電極は、電気的に接続された第１の外部電極と第２の外部電極とを含み、
前記第１の外部電極は、前記内部電極からの距離が異なり且つ不連続な複数の第１の接触部において前記発光管の外面に接触しており、
前記第２の外部電極は、第２の接触部において前記発光管の外面に接触しており、
前記第２の接触部は、前記第１の接触部よりも前記内部電極に近く且つ前記第１の接触部よりも面密度が高い液晶表示装置。
【請求項１０】
前記光源装置は、前記発光管から発せられた光を取り込んで出射する導光板をさらに備え、
前記導光板と対向するように前記液晶パネルが配置されている請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記光源装置は、支持板と、前記支持板に支持された複数の前記発光管とを備え、
前記第２の外部電極は平行に配置された複数の線状電極を含み、
前記発光管は前記線状電極と直交するように配置されている請求項９に記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
上記液晶表示装置では、前記光源装置は、前記発光管から発せられた光を取り込んで出射する導光板をさらに備え、前記導光板と対向するように前記液晶パネルが配置されていてもよい。