【手続補正書】
【提出日】平成15年12月16日(2003.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビーム源と縮小電子光学系とを有する電子ビーム露光装置において、
前記電子ビーム源と前記縮小電子光学系の間に設けられ、前記縮小電子光学系の光軸に直交する方向に前記電子ビーム源の中間像を複数形成するとともに、各中間像が前記縮小電子光学系よって被露光面に縮小投影される際に発生する収差を補正する補正電子光学系を有することを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項２】
前記補正電子光学系は、前記縮小電子光学系の像面湾曲に応じて前記縮小電子光学系の光軸方向に関する前記各中間像の位置を設定することを特徴とする請求項１の電子ビーム露光装置。
【請求項３】
前記補正電子光学系は、前記縮小電子光学系の歪曲に応じて前記縮小電子光学系の光軸に直交する方向に関する前記各中間像の位置を設定することを特徴とする請求項１または２の電子ビーム露光装置。
【請求項４】
前記各中間像毎に、前記中間像を形成する電子ビームが前記被露光面に到達しないように前記電子ビームを遮断する遮断手段を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項５】
前記被露光面に露光されるべきパターンに応じて、前記遮断手段を制御する制御手段を有することを特徴とする請求項４の電子ビーム露光装置。
【請求項６】
前記縮小電子光学系の光軸に直交する方向に関する前記各中間像の位置を調整する第１位置調整手段を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項７】
前記各中間像が前記縮小電子光学系よって縮小投影される位置を検出する位置検出手段と、前記位置検出手段の検出結果に基づいて前記第１位置調整手段を制御する手段とを有することを特徴とする請求項６の電子ビーム露光装置。
【請求項８】
前記縮小電子光学系の光軸方向に関する各中間像の位置を調整する第２位置調整手段を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項９】
前記各中間像が前記縮小電子光学系よって縮小投影される位置を検出する位置検出手段と、前記位置検出手段の検出結果に基づいて前記第２位置調整手段を制御する手段とを有することを特徴とする請求項８の電子ビーム露光装置。
【請求項１０】
前記縮小電子光学系は、前記縮小電子光学系の倍率を調整する倍率調整手段を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項１１】
前記各中間像が前記縮小電子光学系よって縮小投影される位置を検出する位置検出手段と、前記位置検出手段の検出結果に基づいて前記倍率調整手段を制御する手段とを有することを特徴とする請求項１０の電子ビーム露光装置。
【請求項１２】
前記縮小電子光学系は、前記被露光面内において前記複数の中間像の縮小像を偏向する偏向手段と、偏向の際に発生する収差を補正するための偏向収差補正手段とを有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項１３】
前記電子ビーム源の大きさを変更する手段を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項１４】
前記補正電子光学系は、前記電子ビーム源からの電子ビームを略平行にする電子光学系と、略平行となった前記電子ビームの一部から前記各中間像を形成するための複数の要素電子光学系とを有することを特徴とする請求項１の電子ビーム露光装置。
【請求項１５】
前記縮小電子光学系の像面湾曲に応じて、各前記要素電子光学系の焦点距離が設定されることを特徴とする請求項１４の電子ビーム露光装置。
【請求項１６】
前記縮小電子光学系の歪曲に応じて、前記縮小電子光学系の光軸に直交する方向に関する各前記要素電子光学系の位置が設定されることを特徴とする請求項１４の電子ビーム露光装置。
【請求項１７】
前記縮小電子光学系の非点収差またはコマ収差に応じて、各前記要素電子光学系の収差が設定されることを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項１８】
前記要素電子光学系のそれぞれは、前記電子ビーム源側に前記要素電子光学系の光軸近傍に入射する電子ビームを遮蔽する開口絞りを有することを特徴とする請求項１４乃至１７のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項１９】
前記要素電子光学系の焦点距離を切り替える手段を有し、前記要素電子光学系の焦点距離を予め決められた焦点距離に切り替えた際、前記要素電子光学系の前記被露光面側に前記要素電子光学系に入射した前記電子ビームを遮蔽する遮蔽絞りを有することを特徴とする請求項１８の電子ビーム露光装置。
【請求項２０】
前記遮蔽絞りは、前記縮小電子光学系の瞳に位置することを特徴とする請求項１９の電子ビーム露光装置。
【請求項２１】
前記要素電子光学系のそれぞれは、前記電子ビーム源側に前記要素電子光学系に入射する略平行の電子ビームを偏向する手段を有し、前記要素電子光学系に入射する前記電子ビームを偏向した際、前記要素電子光学系の前記被露光面側に前記電子ビームを遮蔽する遮蔽絞りを有することを特徴とする請求項１４乃至１８のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項２２】
前記遮蔽絞りは、前記縮小電子光学系の瞳に位置することを特徴とする請求項２１の電子ビーム露光装置。
【請求項２３】
複数の前記要素電子光学系を同一の基板上に形成したことを特徴とする請求項１４乃至２２のいずれかの電子ビーム露光装置。
【請求項２４】
請求項１乃至２３のいずれかの電子ビーム露光装置を用いてウエハを露光する段階と、前記ウエハを現像する段階とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項２５】
電子ビーム源からの電子ビームを用いて、縮小電子光学系により被露光面を投影露光する電子ビーム露光方法において、
前記電子ビーム源と前記縮小電子光学系の間に設けられた補正電子光学系によって、前記縮小電子光学系の光軸に直交する方向に前記電子ビーム源の中間像を複数形成するとともに各中間像が前記縮小電子光学系よって前記被露光面に縮小投影される際に発生する収差を補正する段階を有することを特徴とする電子ビーム露光方法。
【請求項２６】
前記各中間像が前記縮小電子光学系よって縮小投影される位置を検出する位置検出段階を有することを特徴とする請求項２５の電子ビーム露光方法。
【請求項２７】
前記位置検出段階の検出結果に基づいて、前記縮小電子光学系の光軸に方向に関する前記各中間像の位置を調整する段階を有することを特徴とする請求項２６の電子ビーム露光方法。
【請求項２８】
前記位置検出段階の検出結果に基づいて、前記縮小電子光学系の光軸と直交する方向に関する前記各中間像の位置を調整する段階を有することを特徴とする請求項２６の電子ビーム露光方法。
【請求項２９】
前記位置検出段階の検出結果に基づいて、前記縮小電子光学系の倍率を調整する段階を有することを特徴とする請求項２６の電子ビーム露光方法。
【請求項３０】
前記被露光面内において前記複数の中間像の縮小像を偏向する偏向段階と、偏向の際に発生する収差を補正するための偏向収差補正段階を有することを特徴とする請求項２５の電子ビーム露光方法。
【請求項３１】
前記偏向収差補正段階は、前記縮小電子光学系の光軸方向に関する前記各中間像の位置を調整する段階を有することを特徴とする請求項３０の電子ビーム露光方法。
【請求項３２】
請求項２５乃至３１のいずれかの電子ビーム露光方法を用いてウエハを露光する段階と、前記ウエハを現像する段階とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項３３】
被露光面上を複数の電子ビームを同一移動量で移動させるとともに、前記被露光面に形成すべき露光パターンに応じて前記複数の電子ビームを個別に遮断させる段階と、
前記複数の電子ビームを移動させる際、次の移動位置で全ての前記複数の電子ビームが遮断される場合は前記次の移動位置よりも後の移動位置に前記複数の電子ビームを移動させることを設定する段階を有することを特徴とする電子ビーム露光方法。
【請求項３４】
前記露光パターンに含まれる繰り返しパターンのピッチに応じて、前記複数の電子ビームの間隔を設定する段階を有することを特徴とする請求項３３の電子ビーム露光方法。
【請求項３５】
前記複数の電子ビームの間隔を前記露光パターンに含まれる繰り返しパターンのピッチの整数倍に設定する段階を有することを特徴とする請求項３４の電子ビーム露光方法。
【請求項３６】
請求項３３乃至３５のいずれかの電子ビーム露光方法を用いてウエハを露光する段階と、前記ウエハを現像する段階とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項３７】
電子ビーム源と、
前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、
前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、を備え、
前記第１電子光学系は、前記第２電子光学系の収差に基づいて前記中間像の形成位置を調整することを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項３８】
電子ビーム源と、
複数の要素電子光学系を用いて、前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、
前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、を備え、
前記第１電子光学系は、前記第２電子光学系の収差に基づいて前記要素電子光学系の電子光学特性を調整することを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項３９】
電子ビーム源と、
前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、
複数の偏向器および少なくとも１つの開口部を用いて、前記中間像を形成する電子ビームをブランキングするブランキング手段と、
前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、を備え、
前記ブランキング手段は、被露光パターンに応じて前記中間像を形成する電子ビームを個別にブランキングすることを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項４０】
電子ビーム源と、
前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、
複数の偏向器を用いて、前記中間像を形成する電子ビームを個別に偏向する第１偏向手段と、
前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、
前記複数の中間像を形成する電子ビームをまとめて偏向する第２偏向手段とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項４１】
複数の電子ビームを用いて被露光面上にパターンを形成する電子ビーム露光装置であって、
前記被露光面上で前記複数の電子ビームを走査する走査手段と、
前記パターンに応じて前記電子ビームを個別にブランキングするブランキング手段と、を備え、
前記走査手段は、前記複数の電子ビームが全てブランキングされる位置をスキップするように、前記被露光面上で前記複数の電子ビームを走査することを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項４２】
複数の電子ビームを用いて被露光面上にパターンを形成する電子ビーム露光装置であって、
前記被露光面上で前記複数の電子ビームを走査する走査手段と、
前記電子ビームを個別にブランキングするブランキング手段と、
前記パターンの周期に応じて前記複数の電子ビームの間隔を設定する手段と、を備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項４３】
電子ビーム源と、
前記電子ビーム源から放射された電子ビームを用いて被露光面上にパターンを投影する電子光学系と、
前記被露光面上で前記電子ビームを走査する走査手段と、を備え、
前記パターンに応じて、前記電子光学系の倍率および前記走査手段の走査量を調整することを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項４４】
電子ビーム源と、
前記電子ビーム源から放射された電子ビームを用いて被露光面上にパターンを投影する電子光学系と、
前記被露光面上で前記電子ビームを走査する走査手段と、
前記被露光面上に形成されているマークの位置を検出する検出系と、を備え、
前記検出系の検出結果に基づいて、前記電子光学系の倍率および前記走査手段の走査量を調整することを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項４５】
電子ビーム源と、
前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、
前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、
前記複数の中間像のうち少なくとも１つの中間像の前記第２電子光学系による投影位置を検出する検出系と、を備え、
前記第１電子光学系は、前記検出系の検出結果に基づいて前記中間像の形成位置を調整することを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項４６】
電子ビーム源と、
前記電子ビーム源から放射された電子ビームによりパターン像を形成する像形成手段と、
前記像形成手段で形成されたパターン像を被露光面上に投影する電子光学系と、を備え、
前記像形成手段と前記電子光学系の間に、前記電子ビームのエネルギーを高める手段を配置することを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項４７】
請求項３７乃至４６のいずれかの電子ビーム露光装置を用いてウエハを露光する段階と、前記ウエハを現像する段階とを有すること特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
またステンシルマスクに、大きさの異なるパターンがある場合、もしくは大きさの異なるパターンが結合されたような１つのパターンがある場合、パターンの大きさに応じて、空間電荷効果による露光パターンのぼけが異なる。そのぼけをリフォーカシングにより補正しようとしてもパターンの大きさによりリフォーカス量が異なり、実質的に上述のようなパターンはステンシルマスクのパターンとして使用出来ないという問題がある。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記した従来の問題点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、ステンシルマスクを用いずに、スループットの高い電子ビーム露光装置を提供することにある。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（１）本発明の電子ビーム露光装置の第１の形態は、電子ビーム源と縮小電子光学系とを有する電子ビーム露光装置において、前記電子ビーム源と前記縮小電子光学系の間に設けられ、前記縮小電子光学系の光軸に直交する方向に前記電子ビーム源の中間像を複数形成するとともに、各中間像が前記縮小電子光学系よって被露光面に縮小投影される際に発生する収差を補正する補正電子光学系を有することを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（２）本発明の電子ビーム露光方法の第１の形態は、電子ビーム源からの電子ビームを用いて、縮小電子光学系により被露光面を投影露光する電子ビーム露光方法において、前記電子ビーム源と前記縮小電子光学系の間に設けられた補正電子光学系によって、前記縮小電子光学系の光軸に直交する方向に前記電子ビーム源の中間像を複数形成するとともに各中間像が前記縮小電子光学系よって前記被露光面に縮小投影される際に発生する収差を補正する段階を有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（３）本発明の電子ビーム露光方法の第２の形態は、被露光面上を複数の電子ビームを同一移動量で移動させるとともに、前記被露光面に形成すべき露光パターンに応じて前記複数の電子ビームを個別に遮断させる段階と、前記複数の電子ビームを移動させる際、次の移動位置で全ての前記複数の電子ビームが遮断される場合は前記次の移動位置よりも後の移動位置に前記複数の電子ビームを移動させることを設定する段階を有することを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（４）本発明の電子ビーム露光装置の第２の形態は、電子ビーム源と、前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、を備え、前記第１電子光学系は、前記第２電子光学系の収差に基づいて前記中間像の形成位置を調整することを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（５）本発明の電子ビーム露光装置の第３の形態は、電子ビーム源と、複数の要素電子光学系を用いて、前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、を備え、前記第１電子光学系は、前記第２電子光学系の収差に基づいて前記要素電子光学系の電子光学特性を調整することを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（６）本発明の電子ビーム露光装置の第４の形態は、電子ビーム源と、前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、複数の偏向器および少なくとも１つの開口部を用いて、前記中間像を形成する電子ビームをブランキングするブランキング手段と、前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、を備え、前記ブランキング手段は、被露光パターンに応じて前記中間像を形成する電子ビームを個別にブランキングすることを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（７）本発明の電子ビーム露光装置の第５の形態は、電子ビーム源と、前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、複数の偏向器を用いて、前記中間像を形成する電子ビームを個別に偏向する第１偏向手段と、前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、前記複数の中間像を形成する電子ビームをまとめて偏向する第２偏向手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（８）本発明の電子ビーム露光装置の第６の形態は、複数の電子ビームを用いて被露光面上にパターンを形成する電子ビーム露光装置であって、前記被露光面上で前記複数の電子ビームを走査する走査手段と、前記パターンに応じて前記電子ビームを個別にブランキングするブランキング手段と、を備え、前記走査手段は、前記複数の電子ビームが全てブランキングされる位置をスキップするように、前記被露光面上で前記複数の電子ビームを走査することを特徴とする。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（９）本発明の電子ビーム露光装置の第７の形態は、複数の電子ビームを用いて被露光面上にパターンを形成する電子ビーム露光装置であって、前記被露光面上で前記複数の電子ビームを走査する走査手段と、前記電子ビームを個別にブランキングするブランキング手段と、前記パターンの周期に応じて前記複数の電子ビームの間隔を設定する手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（１０）本発明の電子ビーム露光装置の第８の形態は、電子ビーム源と、前記電子ビーム源から放射された電子ビームを用いて被露光面上にパターンを投影する電子光学系と、前記被露光面上で前記電子ビームを走査する走査手段と、を備え、前記パターンに応じて、前記電子光学系の倍率および前記走査手段の走査量を調整することを特徴とする。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（１１）本発明の電子ビーム露光装置の第９の形態は、電子ビーム源と、前記電子ビーム源から放射された電子ビームを用いて被露光面上にパターンを投影する電子光学系と、前記被露光面上で前記電子ビームを走査する走査手段と、前記被露光面上に形成されているマークの位置を検出する検出系と、を備え、 前記検出系の検出結果に基づいて、前記電子光学系の倍率および前記走査手段の走査量を調整することを特徴とする。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（１２）本発明の電子ビーム露光装置の第１０の形態は、電子ビーム源と、前記電子ビーム源から放射された電子ビームにより複数の中間像を形成する第１電子光学系と、前記第１電子光学系で形成された中間像を被露光面上に投影する第２電子光学系と、前記複数の中間像のうち少なくとも１つの中間像の前記第２電子光学系による投影位置を検出する検出系と、を備え、前記第１電子光学系は、前記検出系の検出結果に基づいて前記中間像の形成位置を調整することを特徴とする。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（１３）本発明の電子ビーム露光装置の第１１の形態は、電子ビーム源と、前記電子ビーム源から放射された電子ビームによりパターン像を形成する像形成手段と、前記像形成手段で形成されたパターン像を被露光面上に投影する電子光学系と、を備え、前記像形成手段と前記電子光学系の間に、前記電子ビームのエネルギーを高める手段を配置することを特徴とする。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【符号の説明】
１  電子銃
２  コンデンサーレンズ
３  補正電子光学系
３１、３２  要素電子光学系
４  縮小電子光学系
５  ウエハ
６  偏向器
７  ダイナミックフォーカスコイル
８  ダイナミックスティグコイル
９１、９２  偏向器
１０  ファラデーカップ
１１  ＸＹＺステージ
１２  ＣＰＵ
１３  インターフェース
１４  シーケンスコントローラ
１５  フォーカス制御回路
１６  ブランキング制御回路
１７  駆動制御装置
１８  光軸アライメント制御回路
１９  メモリ
２１  レーザ干渉系
１３０  要素電子光学系アレイ
１６０  光源形状整形の為の電子光学系
ＤＣＥ  減速用電極
ＡＣＥ  加速用電極
２４０  ホロビーム形成絞り