Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月2日(2012.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱を、第一の相対的に冷たい媒体から第二の相対的に熱い媒体へと移動する方法において、
気体の含まれる量を回転軸の回りで回転させること、
そのようにして、該気体を回転軸から離れる方向に圧縮すること、
圧縮された気体から熱を第二の媒体に移動させること、
該気体を回転軸へ向かう方向に膨張させること、
該膨張された気体と該圧縮された気体との間での熱移動を少なくとも実質的に防止しつつ、第一の媒体から該気体へ熱を移動させること、
を含む前記方法。
【請求項２】
膨張の間に、熱が第一の媒体から気体へと移動される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
気体が少なくとも実質的に等エントロピー的に圧縮され、及び／又は少なくとも実質的に等温的に膨張される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
気体が膨張の後かつ圧縮の前に加熱される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
第一の媒体が環境に由来するものである、及び／又は環境の温度に少なくとも実質的に等しい温度を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
圧縮及び膨張が、種々の速度において回転する別々の複数のインペラーにより行われる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
気体が、原子番号（Ｚ）＞＝１８、好ましくは＞＝３６を有する単原子元素を含む、又は本質的に該単原子元素からなる、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
熱を、第一の相対的に冷たい媒体から第二の相対的に熱い媒体へと移動する装置において、フレーム（２）に回転可能に搭載された気密性のローター（４）及び
ローター（４）の中に搭載された
コンプレッサー（１０）、
熱を気体から第二の媒体へ少なくとも実質的に等圧的に移動させるための第一の熱交換器であって、ローター（４）の回転軸から相対的に遠くに配置された第一の熱交換器（８）、
該気体を膨張させるための膨張チャンバー（１１）及び
該膨張された気体を膨張チャンバー（１１）からコンプレッサー（１０）に運ぶためのチャンネル（１４）
を含み、第一の熱交換器（８）がチャンネル（１４）から熱的に隔離されている前記装置。
【請求項９】
膨張チャンバー（１１）に熱的に接続されている又は膨張チャンバー（１１）の一部を構成する第二の熱交換器（９）を含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
コンプレッサー（１０）が主ローター（４）に対して回転することができるローターを含む、請求項８又は９に記載の装置。
【請求項１１】
第一の熱交換器（８）が気密性のローター（４）の回転軸に平行に延在している、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
ローター（ｓ）を駆動させるための少なくとも１のモーター（７）を含み、該モーター（７）は、ローター（３）の内部に搭載されており、かつ膨張された気体を膨張チャンバー（１１）からコンプレッサー（１０）に運ぶためのチャンネル（１４）に熱的に接続されている請求項８〜１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
該熱交換器の１以上がプレート熱交換器を含む、請求項８〜１２のいずれか１項に記載の装置（１）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この目的に対して、本発明の方法は、気体（以下で圧縮性流体ということがある）の含まれる量を回転軸の回りで回転させること、該流体を回転軸から離れる方向に圧縮すること、圧縮された流体から熱を第二の相対的に熱い媒体に移動させること、第一の媒体から流体へ熱を移動させるが、膨張された流体と圧縮された流体との間での熱移動を少なくとも実質的に防止しつつ、該流体を回転軸へ向かう方向に膨張させることを含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
１：  装置
２：  固定ベースフレーム
３：  外部ケーシング
４：  ローター
５：  回転軸
６：  ボールベアリング
７：  モーター
８：  熱交換器
９：  熱交換器
１０：  コンプレッサー
１１：  膨張チャンバー
１２：  断熱体
１３：  パイプ
１４：  チャンネル
１５：  羽根
１６：  チャンバー
１７：  コイル状のチューブ
１８：  流体カップリング
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月11日(2012.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的に溶剤を含まずかつアルケニルシロキサン、水素シロキサン、ヒドロシリル化金属触媒および開始剤を含むシリコーン組成物から形成される、部分的硬化反応中間体を含む硬化性接着テープを形成する方法であって、
該シリコーン組成物を柔軟性基材に塗布する工程と、
該硬化性接着テープの該部分的硬化反応中間体中に未反応アルケニル基が残存するように、該シリコーン組成物を第一所望温度に第一期間加熱して、部分的硬化反応中間体を形成する工程と
を含む硬化性接着テープを形成する方法。
【請求項２】
実質的に溶剤を含まずかつアルケニルシロキサン、水素シロキサン、ヒドロシリル化金属触媒および開始剤を含むシリコーン組成物から、導電性基板上に絶縁層を形成する方法であって、
該シリコーン組成物を柔軟性基材に塗布する工程と、
該シリコーン組成物を第一所望温度に第一期間加熱して、未反応アルケニル基を有する部分的硬化反応中間体を形成する工程と、
該部分的硬化反応中間体を有する柔軟性基材を導電性基板上に配置する工程と、
該部分的硬化反応中間体を第二所望温度に第二期間さらに加熱して、部分的硬化反応中間体を完全に硬化させ、それにより導電性基板上に絶縁層を形成する工程と
を含む導電性基板上に絶縁層を形成する方法。
【請求項３】
前記シリコーン組成物を第一所望温度に第一期間加熱する工程が、シリコーン組成物のアルケニルシロキサンと水素シロキサンとの間のヒドロシリル化反応に十分であるが、それでも未反応アルケニル基がヒドロシリル化反応後の部分的硬化反応中間体中に残存する請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記開始剤が、前記シリコーン組成物を第一所望温度に第一期間加熱する工程の間、活性化されない請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記シリコーン組成物が、ヒドロシリル化金属触媒およびアルケニルシロキサンを含む第一成分と、水素シロキサンおよび開始剤を含む第二成分とを含む二成分系である請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記第一所望温度が１１８℃〜１２５℃である請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第一期間が１２０秒〜４５０秒とさらに定義される請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第二所望温度が１３５℃〜２００℃である請求項２に記載の方法。
【請求項９】
前記第二期間が５分〜４５分である請求項２に記載の方法。
【請求項１０】
前記導電性基板が、合金または金属を含むか、または母線である請求項２に記載の方法。
【請求項１１】
前記絶縁層が、ＡＳＴＭ  Ｄ４１３による測定で、少なくとも２．０ｐｓｉの導電性基板への接着力を有する請求項２に記載の方法。
【請求項１２】
前記柔軟性基材が、ガラス繊維のような繊維を典型的に含む織物とさらに定義される請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
導電性基板上に配置された絶縁層を含む物品であって、
該絶縁層が、未反応アルケニル基を有する部分的硬化反応中間体と開始剤との反応生成物で被覆された柔軟性基材を含む物品。
【請求項１４】
前記部分的硬化反応中間体が、アルケニルシロキサンと、ヒドロシリル化金属触媒と、水素シロキサンとの反応生成物を含む請求項１３に記載の物品。
【請求項１５】
前記導電性基板が、合金または金属を含むか、または母線である請求項１３または１４に記載の物品。
【請求項１６】
前記絶縁層が、ＡＳＴＭ  Ｄ４１３による測定で、少なくとも２．０ｐｓｉの導電性基板への接着力を有する請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１７】
前記柔軟性基材が、ガラス繊維のような繊維を典型的に含む織物とさらに定義される請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１８】
前記開始剤が有機過酸化物を含む請求項１３〜１７のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１９】
未反応アルケニル基を有する部分的硬化反応中間体で被覆された柔軟性基材を含む硬化性接着テープ。
【請求項２０】
前記部分的硬化反応中間体が、アルケニルシロキサン、ヒドロシリル化金属触媒、水素シロキサンおよび開始剤を含むシリコーン組成物の反応生成物である請求項１９に記載の硬化性接着テープ。
【請求項２１】
前記柔軟性基材が、ガラス繊維のような繊維を典型的に含む織物とさらに定義される請求項１９または２０に記載の硬化性接着テープ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月20日(2012.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
簡単なまたは複雑な形状を持つ、静止したまたは移動する金属基板を、５０〜５００ｎｍの厚さを持ち、基板上に付着された超薄無機／有機ハイブリッド被覆層により、被覆するための方法において、次の工程：
−  酸化物ナノ粒子を含む水溶液を塩基性ｐＨ条件下で調製する、
−  ポリアミン、ポリアルコール及びこれらの混合物からなる群内で選ばれた第一範疇の化合物と、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸無水物、ポリエポキシ、ポリイソシアネート及びこれらの少なくとも二つのいずれかの混合物からなる群から選ばれた第二範疇の化合物を混合することにより得られた重縮合反応からもたらされるプレポリマーと呼ばれる有機化合物を調製する；
−  プレポリマーの粘度を重合の進展状態を決定するために測定する；
−  プレポリマーの粘度が３０００〜２５０００ｍＰａ．ｓの値に達したとき、プレポリマーを前記水溶液中に溶解する；
−  この溶液を、５０℃未満の温度であると見出された基板上に付着する；
−  被覆された基板を、付着及び乾燥の合計時間が１０秒未満であるように加熱する；
を特徴とする方法。
【請求項２】
被覆される基板が、裸金属、好ましくは鋼、ステンレス鋼（もしくは耐腐食鋼）、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛もしくは銅、または第二金属で被覆された第一金属、好ましくは亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、銅、もしくはこれらの金属の少なくとも二つの合金の層で覆われた鋼ストリップのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
酸化物ナノ粒子が、ＳｉＯ２，ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，Ａｌ２Ｏ３，ＣｅＯ２，Ｓｂ２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３，ＺｎＯ，ＳｎＯ２及びこれらの酸化物の少なくとも二つのいずれかの混合物からなる群から選ばれ、１〜２０ｎｍの寸法を持ち、０．１〜１０％、好ましくは１〜１０％の含有量で溶液内に存在することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
酸化物ナノ粒子とプレポリマーの混合が９〜１３のｐＨで行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ナノ粒子とプレポリマーの質量割合Ｘが０．５〜２であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
付着される水溶液が５０℃未満の温度を持つことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
付着が、連続ライン上の金属ストリップ上で、ストリップの面上の付着溶液を一組の絞りローラーにより絞り取ることにより行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
付着が、連続ライン上の金属ストリップ上で、被覆ローラーのシステムにより行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
付着が、ストリップ以外のいずれかの金属製品上で、制御された噴霧または浸漬により行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
付着溶液が、次いで熱空気により、誘導によりまたは赤外線により乾燥されることを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月29日(2012.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クエチアピン、または、その薬学的に許容される塩、その多形体、その溶媒和物、その水和物のいずれかを少なくとも含む薬物と、
１つ以上の非ゲル化放出制御ポリマーと、
１つ以上の薬学的に許容される添加剤とを含む
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項２】
請求項１に記載の徐放性剤形であって、
前記剤形は、
マトリクス内に前記薬物を含む
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項３】
請求項１に記載の徐放性剤形であって、
前記剤形は、錠剤、カプセル、ペレット、顆粒を含む
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項４】
請求項１に記載の徐放性剤形であって、
前記非ゲル化放出制御ポリマーは、
酢酸セルロースと、ポリ（エチルアクリレート、メチルメタクリレート）ポリマー、アンモニオメタクリレートコポリマーを含むアクリル系ポリマーとを含む群から選択される
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項５】
請求項１に記載の徐放性剤形であって、
前記徐放性剤形は、さらに皮膜される
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項６】
ａ）クエチアピン、または、その薬学的に許容される塩、その多形体、その溶媒和物、その水和物および１つ以上の放出制御材料を含む第１の造粒と、
ｂ）  前記第１の造粒の前記１つ以上の放出制御材料と同じまたは異なる１つ以上の放出制御材料と、任意にはクエチアピン、または、その薬学的に許容される塩、その多形体、その溶媒和物、その水和物を含む第２の造粒とを含む
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項７】
請求項６に記載の徐放性剤形であって、
前記放出制御材料は、グリセリド、硬化ヒマシ油、硬化植物油、油、ろうまたはろう様物質、脂肪、脂肪酸、脂質、持続性デンプン（sustained starch）、脂肪アルコール、タンパク質、セラックを含む疎水性材料、または、不水溶性セルロースと、酢酸セルロースを含む非ゲル化ポリマーと、ポリ（エチルアクリレート、メチルメタクリレート）ポリマーを含むアクリル系ポリマーとを含む群から選択されたポリマーから選択される
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項８】
請求項６に記載の徐放性剤形であって、
５０％以上の薬物が８時間以内で放出されるようなｉｎ  ｖｉｔｒｏ放出プロファイルを有する
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項９】
請求項６に記載の徐放性剤形であって、
７０％以上の薬物が１２時間以内で放出されるようなｉｎ  ｖｉｔｒｏ放出プロファイルを有する
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項１０】
請求項６に記載の徐放性剤形であって、
８０％以上の薬物が２０時間以内で放出されるようなｉｎ  ｖｉｔｒｏ放出プロファイルを有する
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項１１】
クエチアピン、または、その薬学的に許容される塩、その多形体、その溶媒和物、その水和物および１つ以上の放出制御材料を含む第１の造粒に続いて、顆粒を粉砕することと、
第１の造粒の粉砕された顆粒と、粉砕が次ぐ前記第１の造粒の前記１つ以上の放出制御材料と同じまたは異なる１つ以上の放出制御材料とを用いた第２の造粒に続いて粉砕することと、
第２の造粒後の前記粉砕された顆粒を潤滑剤と混合し、その後圧縮して徐放性剤形を形成することと
を備えることを特徴とする徐放性剤形の調製方法。
【請求項１２】
ａ）クエチアピン、または、その薬学的に許容される塩、その多形体、その溶媒和物、その水和物および１つ以上の薬学的に許容される添加材を含む即効型コアと、
ｂ）１つ以上の非ゲル化放出制御材料を含む徐放性コーティングとを含む
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項１３】
活性物質クエチアピン、または、その薬学的に許容される塩、その多形体、その溶媒和物、その水和物を含み、
前記活性物質は、コアの全重量の４０重量％を超える量で存在する
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項１４】
請求項１３に記載の徐放性剤形であって、
前記放出制御材料は、疎水性材料または親水性材料から選択される
ことを特徴とする徐放性剤形。
【請求項１５】
ａ）クエチアピン、または、その薬学的に許容される塩、その多形体、その溶媒和物、その水和物および１つ以上の放出制御材料を含む第１の造粒と、
ｂ）前記第１の造粒の前記１つ以上の放出制御材料と同じまたは異なる１つ以上の放出制御材料を含む第２の造粒と
を含み、
クエチアピンは、コアの合計重量の４０重量％を超える量で存在する
ことを特徴とする徐放性剤形。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月2日(2012.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組み換え非植物の、トランスジェニック植物由来の異種増殖因子を含む、化粧品および／または医薬組成物。
【請求項２】
皮膚に塗布するための局所用組成物である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記増殖因子は、前記化粧品組成物に含まれるトランスジェニック植物抽出物の成分として提供される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記増殖因子は、全タンパク質含有量の約０．０１％〜約７０％の範囲の量で前記トランスジェニック植物抽出物に存在する、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記増殖因子は、一定量、より具体的には、全タンパク質含有量の約０．１％〜約３０％の範囲の量で前記トランスジェニック植物抽出物に存在する、請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
トランスジェニック植物由来の１つより多い増殖因子を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記植物抽出物は、前記増殖因子を約０．０１％〜約９９．９％の範囲、好ましくは約０．１％〜約９９．９％の範囲で含む、請求項３に記載の組成物。
【請求項８】
前記増殖因子は、植物特異的グリコシル化でグリコシル化される、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記増殖因子は、上皮細胞増殖因子（ＥＧＦ）、血管内皮増殖因子（ＶＥＧＦ）、血小板由来成長因子（ＰＤＧＦ）、エリスロポエチン（Ｅｐｏ）、線維芽細胞増殖因子４、５、６、８および９（ＦＧＦ４、ＦＧＦ５、ＦＧＦ６、ＦＧＦ８およびＦＧＦ９）、線維芽細胞増殖因子ａおよびｂ、Ｆｌｔ３リガンド、ヘパリン結合−ＥＧＦ（Ｈｂ−ＥＧＦ）、インスリン様成長因子−Ｉ（ＩＧＦ−Ｉ）、インスリン様成長因子−ＩＩ（ＩＧＦ−ＩＩ）、インターロイキン−１（ＩＬ−１；ＩＬ−１αおよびＩＬ１−βを含む）、インターロイキン−２（ＩＬ−２）、インターロイキン−４（ＩＬ−４）、インターロイキン−７（ＩＬ−７）、インターロイキン−６（ＩＬ−６）、インターロイキン−８（ＩＬ−８）、インターロイキン−１０（ＩＬ−１０）、インターロイキン−１５（ＩＬ−１５）、インターロイキン−１８（ＩＬ−１８）、インターロイキン−２０（ＩＬ−２０）、白血病抑制因子（ＬＩＦ）、ノギン、胎盤成長因子−１（ＰＩＧＦ−１）、幹細胞因子（ＳＣＦ）、ＴＧＦ  ｂ３を含む、形質転換成長因子αおよびβ（ＴＧＦａおよびＴＧＦｂ）、腫瘍壊死因子−ａ（ＴＮＦ−ａ）、腫瘍壊死因子−ｂ（ＴＮＦ−ｂ）、インターフェロン−ｇ（ＩＮＦ−ｇ）、顆粒球コロニー刺激因子（Ｇ−ＣＳＦ）、顆粒球マクロファージコロニー刺激因子（ＧＭ−ＣＳＦ）、マクロファージコロニー刺激因子（Ｍ−ＣＳＦ）、神経成長因子（ＮＧＦ）、ケラチノサイト成長因子（ＫＧＦ）、骨形成タンパク質（ＢＭＰ−４）、ならびにサイモシンβ４からなる群より選択される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記植物抽出物は、デヒドリン、グロブリンおよび他の種子タンパク質からなる群より選択される、抽出される植物に由来するタンパク質を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記組成物は、クリーム、ローション、ゲル、包帯剤、シャンプー、チンキ剤、ペースト、軟膏、膏薬、粉末、液剤または半液剤の製剤、パッチ、リポソーム製剤、溶液、懸濁液、リポソーム懸濁液、Ｗ／ＯまたはＯ／Ｗエマルション、軟膏、ポマードおよびペーストおよび皮膚軟化剤クリーム、美顔パック、マッサージクリーム、および栄養素クリームまたは栄養素エマルションからなる群より選択される形態中にある、請求項１または９に記載の化粧品組成物。
【請求項１２】
異種非植物増殖因子を発現するトランスジェニック植物から植物抽出物を調製する工程と、少なくとも１つの化粧品的に許容可能な賦形剤と混合する工程とを含む、局所用スキンケア製品を製造する方法。
【請求項１３】
前記トランスジェニック植物抽出物は、オオムギ種子抽出物である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記異種増殖因子は、形質転換成長因子ｂ（またはβ）（ＴＧＦ−ｂまたはＴＧＦ−β）、形質転換成長因子ａ（またはα）（ＴＧＦ−ａまたはＴＧＦ−α）、上皮細胞増殖因子（ＥＧＦ）、血小板由来成長因子（ＰＤＧＦ）、ＫＧＦ、線維芽細胞増殖因子ａおよびｂ（ａＦＧＦおよびｂＦＧＦ）、血管内皮増殖因子（ＶＥＧＦ）、エリスロポエチン（Ｅｐｏ）、インスリン様成長因子−Ｉ（ＩＧＦ−Ｉ）、インスリン様成長因子−ＩＩ（ＩＧＦ−ＩＩ）、ＩＬ−１αおよびＩＬ−１βを含むインターロイキン−１（ＩＬ−１）、インターロイキン−２（ＩＬ−２）、インターロイキン−７（ＩＬ−７）、インターロイキン−６（ＩＬ−６）、インターロイキン−８（ＩＬ−８）、インターロイキン−１０（ＩＬ−１０）、インターロイキン−１８（ＩＬ−１８）、インターロイキン−２０（ＩＬ−２０）、腫瘍壊死因子−ａ（ＴＮＦ−ａ）、腫瘍壊死因子−ｂ（ＴＮＦ−ｂ）、インターフェロン−ｇ（ＩＮＦ−ｇ）、顆粒球コロニー刺激因子（Ｇ−ＣＳＦ）、顆粒球マクロファージコロニー刺激因子（ＧＭ−ＣＳＦ）、マクロファージコロニー刺激因子（Ｍ−ＣＳＦ）、神経成長因子（ＮＧＦ）、ケラチノサイト成長因子（ＫＧＦ）、骨形成タンパク質（ＢＭＰ−４）、ならびにサイモシンβ４からなる群より選択される、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記異種増殖因子を前記トランスジェニック植物抽出物から単離する工程をさらに含む、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも部分的にアニオン性ラテックスで被覆されている微粒状填料の水性スラリーにおいて、このスラリーは、少なくとも１つの燐酸基含有モノマーを重合導入して含有する少なくとも１つのアニオン性ラテックスで微粒状填料の水性スラリーを処理することによって得られたものであり、この場合
モノエチレン系不飽和Ｃ3〜Ｃ8カルボン酸を場合によりモノアルコキシル化された、一般式（Ｉ）
Ｈ−［Ｘ］n−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）2  （Ｉ）
〔式中、
Ｘは、直鎖状または分枝鎖状Ｃ2〜Ｃ6アルキレンオキシド単位を表わし、ｎは、０〜２０の整数を表わす〕で示される燐酸とエステル化することによって得られる燐酸基含有モノマーを使用することを特徴とする、微粒状填料の水性スラリー。
【請求項２】
Ｘが、直鎖状または分枝鎖状Ｃ2〜Ｃ3アルキレンオキシド単位であり、およびｎが、５〜１５の整数である、式（Ｉ）のモノアルコキシル化された燐酸が使用されている、請求項１記載の水性スラリー。
【請求項３】
プロピレンオキシドの５〜１５個の単位を有する式（Ｉ）のモノアルコキシル化された燐酸の混合物が使用されている、請求項１または２記載の水性スラリー。
【請求項４】
モノエチレン系不飽和Ｃ3〜Ｃ8カルボン酸が、アクリル酸、メタクリル酸、ジメチルアクリル酸、エタクリル酸、マレイン酸、シトラコン酸、メチレンマロン酸、クロトン酸、フマル酸、メサコン酸、イタコン酸および／またはマレイン酸である、請求項１記載の水性スラリー。
【請求項５】
モノエチレン系不飽和Ｃ3〜Ｃ8カルボン酸が、アクリル酸およびメタクリル酸である、請求項４記載の水性スラリー。
【請求項６】
アニオン性ラテックスが、ａ）スチレンおよび／またはアクリルニトリルまたはメタクリルニトリル、ｂ）Ｃ1〜Ｃ10アルコールのアクリル酸エステルおよび／またはメタクリル酸エステルおよび場合によってはｃ）アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸および／またはイタコン酸、およびｄ）Ｘおよびｎが前記の意味を有する式（Ｉ）の場合によってはモノアルコキシル化された燐酸の（メタ）アクリル酸エステルからなる、請求項１から５までのいずれか１項に記載の水性スラリー。
【請求項７】
アニオン性ラテックスが、スチレン２〜２５質量％、アクリルニトリル２〜２５質量％、Ｃ1〜Ｃ4アルキルアクリレート５０〜９５質量％、アクリル酸０〜５質量％およびＸがプロピレンオキシド単位であり、およびｎが５〜１５の整数である式（Ｉ）のモノアルコキシル化された燐酸の（メタ）アクリル酸エステル０．１〜５質量％からなる、請求項６記載の水性スラリー。
【請求項８】
当該水性スラリーが少なくとも１つの微粒状填料１〜７０質量％および少なくとも１つのアニオン性ラテックスを填料に対して０．０１〜１０質量％含有する、請求項１から７までのいずれか１項に記載の水性スラリー。
【請求項９】
請求項１から８までのいずれか１項に記載の水性スラリーの製造法において、
少なくとも１つの微粒状填料の水性スラリーに、填料に対して少なくとも１つのアニオン性ラテックス０．０１〜１０質量％を添加するか、または微粒状填料の水性スラリーを、アニオン性ラテックスの水性分散液中に導入し、これらの成分を、そのつど混合するか、または微粒状填料を固体でアニオン性ラテックスの水性分散液中に導入することを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載の水性スラリーの製造法。
【請求項１０】
填料を含有する紙、填料を含有する厚紙または填料を含有するボール紙を紙料の脱水によって製造する際の紙料への添加剤としての、請求項１から８までのいずれか１項記載の水性スラリーの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．１ｍｍ３乃至１０００ｍｍ３の容量を有するドラッグデリバリーシステムであって、
生体適合性ポリマーマトリックス及び
癌遺伝子又は腫瘍増殖因子を標的にしたＲＮＡｉ（ＲＮＡ干渉）薬剤であって、前記ＲＮＡｉ薬剤は前記生体適合性ポリマーマトリックス内に取り込まれている、
を含み、
前記ドラッグデリバリーシステムは、固形癌内若しくはその近くに又は腫瘍床内への移植に適用される、ドラッグデリバリーシステム。
【請求項２】
前記生体適合性ポリマーマトリックスは、ポリ（グリコリド−コ−ラクチド）（ＰＬＧＡ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリグリコール酸（ＰＧＡ）及びポリエチレングリコール（ＰＥＧ）からなる群から選択されるポリマーを含む、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項３】
マンニトールをさらに含む、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項４】
前記ＲＮＡｉ薬剤は、低分子干渉ＲＮＡ（ｓｉＲＮＡ）、短ヘアピンＲＮＡ（ｓｈＲＮＡ）、ダイサー基質ｓｉＤＮＡ（ＤｓｉＲＮＡ）、ロック核酸（ＬＡＮ）、ミクロＲＮＡ及び非コードＲＮＡからなる群から選択される、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項５】
前記ＲＮＡｉ薬剤は、変異Ｋ−Ｒａｓ遺伝子を標的とする、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項６】
前記変異Ｋ−Ｒａｓ遺伝子はＫ−Ｒａｓ  Ｇ１２Ｄである、請求項５記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項７】
前記ＲＮＡｉ薬剤は、コレステロール、パルミチン酸、α−トコフェロル（ビタミン−Ｅ）、タンパク質トランスダクションドメイン、膜透過性ペプチド、多成分ポリマー及び親油性基からなる群から選択される基質と接合している、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項８】
前記ＲＮＡｉ薬剤は、カチオン性ペプチド、スペルミン、ホスファチジルエタノールアミン（セファリン）、Ｌ−α−セファリン、ＤＯＴＡＰ、ＤＯＰＥ、ポリエチレンイミン（ＰＥＩ）、ＰＥＩ誘導体、ポリアミン、カチオン性ポリマー、脂質、非カチオン性ポリマー及び天然ポリマーからなる群から選択される基質と複合化している、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項９】
１７乃至１９ゲージの直径を有する円筒状の針を用いて埋め込み可能となる、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項１０】
前記ドラッグデリバリーシステムにおける前記ＲＮＡｉ薬剤の量は少なくとも４μｇである、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項１１】
前記ドラッグデリバリーシステムは、埋め込み後、前記ＲＮＡｉ薬剤を１〜４ヶ月の期間に亘って放出される、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項１２】
前記ＲＮＡｉ薬剤をカプセル化するポリマーファイバをさらに含む、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項１３】
前記ポリマーマトリックスはナノ粒子を含む、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項１４】
ポリマー性の覆いをさらに含む、請求項１記載のドラッグデリバリーシステム。
【請求項１５】
０．１ｍｍ３乃至１０００ｍｍ３の容量を有するドラッグデリバリーシステムの製造方法であって、室温で実行される、
ＲＮＡｉ（ＲＮＡ干渉）薬剤及び生体適合性ポリマーマトリックスの溶液を作る工程、及び
前記溶液の溶媒を蒸発させる工程
を含み、それによって０．１ｍｍ３乃至１０００ｍｍ３の容量を有するドラッグデリバリーシステムを得る、製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月19日(2012.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鍵の長さｋをもつ暗号化鍵Ｋを使用した、メッセージＭを暗号化する方法であって、前記メッセージＭは、パケットのペイロードであって、ビットストリームのデータを含み、
当該方法は、暗号化装置で、
前記メッセージＭの長さが前記鍵の長さｋよりも長いか、前記鍵の長さｋに等しいか、又は前記鍵の長さｋよりも短いかを判定するステップと、
前記メッセージＭの長さが前記鍵の長さｋよりも長い場合、前記メッセージＭのうちの正確にｋビットを暗号化するステップと、
前記メッセージＭの長さが前記鍵の長さｋに等しい場合、前記メッセージＭのｋビットを暗号化するステップと、
前記メッセージＭの長さが前記鍵の長さｋよりも短い場合、前記メッセージＭと、前記ビットストリームのデータを含み、更なるパケットのペイロードである少なくとも１つの更なるメッセージとを連結して、少なくともｋビット長の長くされたメッセージを取得し、前記長くされたメッセージのうちの正確にｋビットを暗号化するステップと、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記メッセージＭはJPEG2000規格で符号化される、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
鍵の長さｋをもつ暗号化鍵Ｋを使用して、メッセージＭを暗号化する装置であって、前記メッセージＭは、パケットのペイロードであって、ビットストリームのデータを含み、
当該装置は、
前記メッセージＭの長さが前記鍵の長さｋよりも長いか、前記鍵の長さｋに等しいか、又は前記鍵の長さｋよりも短いかを判定し、前記メッセージＭの長さが前記鍵の長さｋよりも長い場合、前記メッセージＭのうちの正確にｋビットを暗号化し、前記メッセージＭの長さが前記鍵の長さｋに等しい場合、前記メッセージＭのｋビットを暗号化し、前記メッセージＭの長さが前記鍵の長さｋよりも短い場合、前記メッセージＭと、前記ビットストリームのデータを含み、更なるパケットのペイロードである少なくとも１つの更なるメッセージとを連結して、少なくともｋビット長の長くされたメッセージを取得し、前記長くされたメッセージのうちの正確にｋビットを暗号化するプロセッサを備える、
ことを特徴とする装置。
【請求項４】
鍵の長さｋをもつ復号鍵Ｋを使用して、暗号化されたメッセージ［Ｍ］を復号する方法であって、前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］は、パケットのペイロードであり、ビットストリームの暗号化されたデータを含み、
当該方法は、復号装置で、
前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］の長さが前記鍵の長さｋよりも長いか、前記鍵の長さｋに等しいか、又は前記鍵の長さｋよりも短いかを判定するステップと、
前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］の長さが前記鍵の長さｋよりも長い場合、前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］のうちの正確にｋビットを復号するステップと、
前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］の長さが前記鍵の長さｋに等しい場合、前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］のｋビットを復号するステップと、
前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］の長さが前記鍵の長さｋよりも短い場合、前記暗号化されたメッセージＭと、前記ビットストリームの暗号化されたデータを含み、更なるパケットのペイロードである少なくとも１つの更なる暗号化されたメッセージとを連結して、少なくともｋビット長の長くされたメッセージを取得し、前記長くされたメッセージのうちの正確にｋビットを復号するステップと、
ことを特徴とする方法。
【請求項５】
前記暗号化されたメッセージＭはJPEG2000規格で符号化されたデータを含む、
請求項４記載の方法。
【請求項６】
鍵の長さｋをもつ復号鍵Ｋを使用して、暗号化されたメッセージ［Ｍ］を復号する装置であって、前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］は、パケットのペイロードであり、ビットストリームの暗号化されたデータを含み、
当該装置は、
前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］の長さが前記鍵の長さｋよりも長いか、前記鍵の長さｋに等しいか、又は前記鍵の長さｋよりも短いかを判定し、前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］の長さが前記鍵の長さｋよりも長い場合、前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］のうちの正確にｋビットを復号し、前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］の長さが前記鍵の長さｋに等しい場合、前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］のｋビットを復号し、前記暗号化されたメッセージ［Ｍ］の長さが前記鍵の長さｋよりも短い場合、前記暗号化されたメッセージＭと、前記ビットストリームの暗号化されたデータを含み、更なるパケットのペイロードである少なくとも１つの更なる暗号化されたメッセージとを連結して、少なくともｋビット長の長くされたメッセージを取得し、前記長くされたメッセージのうちの正確にｋビットを復号する手段を備える、
ことを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月19日(2012.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶成長システムにおいて結晶成長を制御する方法であって、
当該結晶成長システムは、半導体融液を含み、該半導体融液から単結晶インゴットをチョクラルスキー法により成長させる、加熱された坩堝を有し、当該半導体融液から引き上げられたシード結晶上にて単結晶インゴットを成長させる方法において、
アンバランスなカスプ磁場を上記融液に付加する工程と、
上記インゴットを上記融液から引き上げつつ上記インゴット及び上記坩堝を同じ方向に回転させる工程と、を有し、
上記アンバランスなカスプ磁場は、第１磁場および第２磁場を含み、上記第１磁場は、上記第２磁場の磁場強度と異なる磁場強度を有し、上記第１磁場および上記第２磁場の少なくとも一方の磁場強度は、上記半導体融液において上記シード結晶の真下に形成されたカルマンセルを強固にするようなものであり、上記カルマンセルを強固にすることが、窪んだ融液−固体界面の形成を容易にすることを特徴とする方法。
【請求項２】
上記のアンバランスなカスプ磁場を付加する工程には、融液−固体界面の上側に第１磁場を付加し、当該融液−固体界面の下側に第２磁場を付加することが含まれ、
上記第１磁場の磁場強度は、上記第２磁場の磁場強度より弱いことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
上記第１磁場の磁場強度の、上記第２磁場の磁場強度に対する比率は、０．１０〜０．９０である請求項２記載の方法。
【請求項４】
上記のアンバランスなカスプ磁場を付加する工程には、上記融液−固体界面において、付加された磁場の軸方向成分が、付加された磁場の半径方向成分より大きくなるように、融液−固体界面の上側に第１磁場を付加し、当該融液−固体界面の下側に第２磁場を付加することが含まれる請求項１記載の方法。
【請求項５】
上記の融液−固体界面の上側に第１磁場を付加し、当該融液−固体界面の下側に第２磁場を付加する工程には、上記付加された磁場の、上記融液−固体界面における軸方向成分を維持することを容易にするため、一定の第１磁場及び一定の第２磁場を付加することが含まれる請求項４記載の方法。
【請求項６】
結晶成長システムにおいて成長させる結晶を制御することには、上記インゴットの融液−固体界面の形状を制御することが含まれる請求項１記載の方法。
【請求項７】
上記の融液−固体界面の形状を制御することには、上記インゴットに対して実質的に窪んだ融液−固体界面形状を有するインゴットの作製を容易にすることが含まれる請求項６記載の方法。
【請求項８】
融液−固体界面形状の制御を容易にするシリコン結晶成長システムであって、
当該シリコン結晶成長システムは、半導体融液を含み、該半導体融液から、単結晶インゴットをチョクラルスキー法により成長させる、加熱された坩堝を有し、
当該融液から引き上げられたシード結晶上にてインゴットを成長させ、
上記融液及び上記インゴットにより、それらの間に融液−固体界面が形成されるシリコン結晶成長システムにおいて、
アンバランスなカスプ磁場を発生させるため、上記坩堝の外部に近接して配置された第１セットのコイル及び第２セットのコイルと、
上記坩堝及び上記結晶を同じ方向に回転させるために配置された坩堝駆動ユニット及び結晶駆動ユニットと、を備え、
上記アンバランスなカスプ磁場は、第１磁場および第２磁場を含み、上記第１磁場は、上記第２磁場の磁場強度と異なる磁場強度を有し、上記第１磁場および上記第２磁場の少なくとも一方の磁場強度は、カルマンセルを強固にするものであって且つ浮揚セルを弱めるものであることを特徴とするシステム。
【請求項９】
上記第１セットのコイルは、上記融液−固体界面の上側に配置され、
上記第２セットのコイルは、上記融液−固体界面の下側に配置され、
上記第１セットのコイルは、第１磁場が発生するように構成され、
上記第２セットのコイルは、第２磁場が発生するように構成された請求項８記載のシステム。
【請求項１０】
上記第１セットのコイル及び上記第２セットのコイルは、上記融液−固体界面において半径方向成分より大きい軸方向成分を有する磁場を発生させるように構成された請求項９記載のシステム。
【請求項１１】
上記第１セットのコイルには、第１レベルの電流が供給され、上記第２セットのコイルには、第２レベルの電流が供給され、
上記第１レベルの電流は、上記第２レベルの電流より低い、請求項９記載のシステム。
【請求項１２】
坩堝駆動ユニット及び結晶駆動ユニットによりそれぞれ坩堝及び結晶を同じ方向に回転させつつ、上記第１セット及び第２セットのコイルによりアンバランスなカスプ磁場を発生させることによって、上記インゴットの融液−固体界面の形状を制御することを容易にする請求項９記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月29日(2012.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応管の内側にコーティングを含む被覆された反応管であって、前記コーティングが、二酸化ケイ素、ケイ酸ビスマス、およびそれらの混合物からなる群から選択される１種類以上の成分を含む、被覆された反応管。
【請求項２】
前記コーティングが１つ以上の層を含み、前記１つ以上の層が：（ｉ）クリストバライト（ｃｒｉｓｔｏｂａｌｌｉｔｅ）、石英、およびトリジマイトからなる群から選択される二酸化ケイ素層、ならびに（ｉｉ）結晶性Ｂｉ４Ｓｉ３Ｏ１２、およびＢｉ２Ｏ３とＳｉＯ２とを含む非晶質材料からなる群から選択される１種類以上の成分を含むケイ酸ビスマス層からなる群から選択される１つ以上の層を含む、請求項１に記載の被覆された管。
【請求項３】
高温（＞７００℃）において酸化環境下で、ビスマス含有化合物、およびビスマスとアルカリとを含有する化合物による腐食に対して抵抗性である、請求項１に記載の被覆された管。
【請求項４】
前記管が、セラミックおよびガラスからなる群から選択される１種類以上の材料を含み、セラミック材料を含む前記管が、炭化ケイ素、反応焼結炭化ケイ素、α焼結炭化ケイ素（たとえば、Ｈｅｘｏｌｏｙ（登録商標））、および窒化ケイ素からなる群から選択される１種類以上の材料を含む、請求項１に記載の被覆された管。
【請求項５】
被覆された反応管の製造方法であって：
ａ．７００℃を超える温度でケイ素含有前駆体および／またはビスマス含有前駆体を含有するエアロゾルを熱分解させることによって、その場でシリカ層を形成するステップと；
ｂ．ビスマス前駆体を含有するエアロゾルを熱分解させることによって、その場でケイ酸ビスマス層を形成するステップと
を含む、方法。
【請求項６】
ケイ酸ビスマス層を形成するステップが：
（ａ）好適な有機媒体中のケイ酸ビスマスガラス粉末の分散物を前記反応管の内側に塗布するステップと；
（ｂ）前記分散物を乾燥させるステップと；
（ｃ）被覆された管を焼成するステップであって、焼成によって前記ケイ酸ビスマス層を溶融させるステップと
を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
請求項５に記載の方法によって製造された被覆された反応管。
【請求項８】
二酸化ケイ素層およびケイ酸ビスマス層からなる内側のコーティングで構成されるセラミックまたはガラスの反応管を使用して、ビスマス含有前駆体、アルカリ含有前駆体、およびその他の前駆体を含む水溶液から、エアロゾルを形成し、続いて高温で分解させることによって、アルカリおよびビスマスを含有するガラスフリット粉末を製造する方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法によって製造されたガラスフリット粉末。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
比較例２−アルミナ管
比較例として、アルミナ管を、表に示されるように試験した。管の破壊形態として、変色およびピッチングが含まれた（アルミナ管の内側の領域からアルミナが除去された。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．反応管の内側にコーティングを含む被覆された反応管であって、前記コーティングが、二酸化ケイ素、ケイ酸ビスマス、およびそれらの混合物からなる群から選択される１種類以上の成分を含む、被覆された反応管。
２．前記被覆された管が被覆された反応管である、前記１に記載の被覆された管。
３．前記コーティングが１つ以上の層を含む、前記１に記載の被覆された管。
４．前記１つ以上の層が、二酸化ケイ素層およびケイ酸ビスマス層からなる群から選択される１つ以上の層を含む、前記３に記載の被覆された管。
５．前記管がセラミックおよびガラスからなる群から選択される１種類以上の材料を含む、前記１に記載の被覆された管。
６．前記被覆された反応管が高温（＞７００℃）において酸化環境下で、ビスマス含有化合物、およびビスマスとアルカリとを含有する化合物による腐食に対して抵抗性である、前記１に記載の被覆された管。
７．セラミック材料を含む前記管が炭化ケイ素、反応焼結炭化ケイ素、α焼結炭化ケイ素（たとえば、Ｈｅｘｏｌｏｙ（登録商標））、および窒化ケイ素からなる群から選択される１種類以上の材料を含む、前記５に記載の被覆された管。
８．前記二酸化ケイ素層が、クリストバライト（ｃｒｉｓｔｏｂａｌｌｉｔｅ）、石英、およびトリジマイトからなる群から選択される１つ以上の結晶形態を含む、前記４に記載の被覆された管。
９．前記ケイ酸ビスマス層が、結晶性Ｂｉ４Ｓｉ３Ｏ１２、およびＢｉ２Ｏ３とＳｉＯ２とを含む非晶質材料からなる群から選択される１種類以上の成分を含む、前記４に記載の被覆された管。
１０．前記非晶質材料が２Ｂｉ２Ｏ３・３ＳｉＯ２を含む、前記９に記載の被覆された管。
１１．被覆された反応管の製造方法であって：
ａ．７００℃を超える温度でケイ素含有前駆体および／またはビスマス含有前駆体を含有するエアロゾルを熱分解することによって、その場でシリカ層を形成するステップと；
ｂ．ビスマス前駆体を含有するエアロゾルを熱分解することによって、その場でケイ酸ビスマス層を形成するステップと
を含む、方法。
１２．前記２に記載の前記二酸化ケイ素およびケイ酸ビスマス層が、７００℃を超える温度でケイ素含有前駆体および／またはビスマス含有前駆体を含有するエアロゾルを熱分解することによってその場で形成される、前記１１に記載の方法。
１３．前記反応管の内側のコーティングが二酸化ケイ素およびケイ酸ビスマスを含む、前記１１に記載の方法。
１４．ケイ酸ビスマス層を形成するステップが：
（ａ）好適な有機媒体中のケイ酸ビスマスガラス粉末の分散物を前記反応管の内側に塗布するステップと；
（ｂ）前記分散物を乾燥させるステップと；
（ｃ）被覆された管を焼成するステップであって、焼成によって前記ケイ酸ビスマス層を溶融させるステップと
を含む、前記１１に記載の方法。
１５．前記ケイ酸ビスマスが、プラズマおよび溶射からなる群から選択される方法によって塗布される、前記１４に記載の方法。
１６．前記１１に記載の方法によって製造された被覆された反応管。
１７．二酸化ケイ素層およびケイ酸ビスマス層からなる内側のコーティングで構成されるセラミックまたはガラスの反応管を使用して、ビスマス含有前駆体、アルカリ含有前駆体、およびその他の前駆体を含む水溶液から、エアロゾルを形成し、続いて高温で分解させることによって、アルカリおよびビスマスを含有するガラスフリット粉末を製造する方法。
１８．前記１７に記載の方法によって製造されたガラスフリット粉末。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月15日(2012.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に無機又はハイブリッド有機／無機層を含むバリアフィルムを形成する方法であって、
前記基材上に第一金属アルコキシド層を形成する工程と、
前記第一金属アルコキシド層を水と接触させて前記層を硬化させる工程と、
を含み、ここで前記無機又はハイブリッド有機／無機層が減圧下で形成される、方法。
【請求項２】
基材上にハイブリッド有機／無機層を含むバリアフィルムを形成する方法であって、
金属アルコキシドと有機化合物とを含む層を形成して前記基材上に第一ハイブリッド層を形成する工程と、
前記ハイブリッド層を硬化させる工程と、
を含み、ここで前記ハイブリッド層が減圧下で形成される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月29日(2012.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）対向する第１及び第２主表面を有する支持層と、
（ｂ）前記第１主表面上の接着剤メークコートと、
（ｃ）前記メークコートに少なくとも部分的に埋設されることにより研磨面を画定する研磨粒子と、
（ｄ）前記第２主表面上の滑り止めコーティング層と、
を備える、サンドペーパーシート。
【請求項２】
前記滑り止めコーティング層が、天然ゴム、合成ゴム、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）、ポリビニルアセテート（ＰＶＡ）、熱可塑性加硫ゴム、アクリレート、アクリル系ポリマー、熱可塑性オレフィン、及びこれらの組合せから成る群から選択される材料を含む、請求項１に記載のサンドペーパーシート。
【請求項３】
前記合成ゴムが、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、エチレンプロピレンターポリマー（ＥＰＤＭゴム）、シリコーンゴム、及びポリウレタンゴムから成る群から選択される、請求項５に記載のサンドペーパーシート。
【請求項４】
前記支持層が、Ａ重量〜Ｃ重量の範囲の重さを有する紙である、請求項１に記載のサンドペーパーシート。
【請求項５】
前記滑り止めコーティング層が、ＡＳＴＭ  Ｄ  １８９４−０８に従って計測したとき、少なくとも約１グラムの平均ピーク静的摩擦係数を有する、請求項１に記載のサンドペーパーシート。
【請求項６】
前記滑り止めコーティング層が、ＡＳＴＭ  Ｄ  １８９４−０８に従って計測したとき、少なくとも約０．７５グラムの平均動的摩擦係数を有する、請求項１に記載のサンドペーパーシート。
【請求項７】
加工面を手で研磨するためのサンドペーパーシートであって、
（ａ）対向する第１及び第２主表面を有する紙製支持層と、
（ｂ）前記支持層の第１主表面上の接着剤メークコートと、
（ｃ）前記接着剤メークコートに少なくとも部分的に埋設されることにより研磨面を画定する研磨粒子と、
（ｄ）前記支持層の第２主表面上にあり、ＡＳＴＭ  Ｄ２９７９−８８により、滞留時間を１０秒、プローブ除去速度を１ｃｍ／ｓとして測定した場合に、約３００グラム以下の平均粘着度を有するエラストマーコーティング層を含み、約２０３．２マイクロメートル（８ミル）以下の厚さを有する、滑り止めコーティング層と、
を備える、サンドペーパーシート。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月20日(2012.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
布地裏材であって、所望によりプレサイズ層をその上に有する、布地裏材と、
前記布地裏材に隣接し、これに固定された研磨材層であって、前記研磨材層はメーク層、サイズ層、及び研磨材粒子を含む、研磨材層と、を含む、被覆研磨材物品であって、
前記メーク層又は前記プレサイズ層の少なくとも１つは、以下を含む結合剤前駆体の反応生成物を含み、
ａ）４５〜７５重量パーセントのレゾールフェノール樹脂、
ｂ）５〜４０重量パーセントのポリエポキシド、
ｃ）１〜１５重量パーセントの多官能性（メタ）アクリレート、及び
ｄ）前記結合剤前駆体をフリーラジカル的にＢステージ化するのに有効な量の光開始剤
前記成分ａ）からｃ）の重量パーセントは、前記成分ａ）からｃ）の全重量を基準とする、被覆研磨材物品。
【請求項２】
加工物を研磨する方法であって、
請求項１に記載の被覆研磨材物品を提供する工程と、
研磨材層を前記加工物の表面と摩擦接触させる工程と、
前記被覆研磨材物品及び前記加工物の少なくとも一方を、他方に対して動かして前記表面の少なくとも一部分を研磨する工程と、を含む、方法。
【請求項３】
研磨材物品を作製する方法であって、前記方法は、
布地裏材を提供する工程と、
メーク層前駆体を前記布地裏材に塗布する工程と、
研磨材粒子を前記メーク層前駆体中に埋め込む工程と、
前記メーク層前駆体を少なくとも部分的に硬化させて、少なくとも部分硬化したメーク層前駆体を提供する工程と、
サイズ層前駆体を前記少なくとも部分硬化したメーク層前駆体及び前記研磨材粒子の少なくとも一部に塗布する工程と、
前記サイズ層前駆体と、所望により前記少なくとも部分硬化したメーク層前駆体を少なくとも部分的に硬化させる工程と、含み、
前記メーク層前駆体は以下を含み、
ａ）４５〜７５重量パーセントのレゾールフェノール樹脂、
ｂ）５〜４０重量パーセントのポリエポキシド、
ｃ）１〜２０重量パーセントの多官能性（メタ）アクリレート、
ｄ）１０〜２０重量パーセントの水、及び
ｅ）前記メーク層前駆体をフリーラジカル的にＢステージ化するのに有効な量の光開始剤
前記成分ａ）からｃ）の重量パーセントは、前記成分ａ）からｃ）の全重量を基準とする、方法。
【請求項４】
研磨材物品を作製する方法であって、
布地裏材を提供する工程と、
プレサイズ層前駆体を前記布地裏材に塗布する工程であって、前記プレサイズ層前駆体は以下を含み、
ａ）４５〜７５重量パーセントのレゾールフェノール樹脂、
ｂ）５〜４０重量パーセントのポリエポキシド、
ｃ）１〜２０重量パーセントの多官能性（メタ）アクリレート、
ｄ）１０〜２０重量パーセントの水、及び
ｅ）前記プレサイズ前駆体をフリーラジカル的にＢステージ化するのに有効な量の光開始剤
前記成分ａ）からｃ）の重量パーセントは、前記成分ａ）からｃ）の全重量を基準とする、工程と、
前記プレサイズ層前駆体を少なくとも部分的に硬化させて、前記布地裏材に固定されたプレサイズ層を提供する工程であって、前記プレサイズ層は前記布地裏材を実質的に封止する、工程と、
前記プレサイズ層上に研磨材層を配置する工程と、を含む、方法。