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　平成　５年特許願第３１８４３９号「光磁気記録媒体の製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　７年　７月１４日出願公開、特開平　７−１７６０９４］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯、本願発明
　本願は、平成５年１２月１７日の出願であって、請求項１〜５に係る発明は、平成１４年３月２２日付け手続補正で補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜５に記載されたとおりのもの（但し請求項５の「半導体製造方法」は、「光磁気記録媒体の製造方法」の誤記と認める。）と認められるところ、そのうち請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりのものである。
　【請求項１】「光学的に透明な基板上に非晶質合金膜から成る記録層を成膜して成る光磁気記録媒体の製造方法において、記録膜を成膜した後、一定の回転角速度で前記光磁気記録媒体を回転させ、該光磁気記録媒体に局所的にレーザー光を照射して記録層の一部又は全部に加熱処理を施すものであって、加熱時の記録層の到達温度が内周から外周にかけて一定になるように、前記光磁気記録媒体の外周を照射する際のレーザー光のパワーを、内周を照射する際のレーザー光のパワーより大きくすることを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。」  
　
ＩＩ．引用例
　原査定の拒絶の理由で引用された本願出願前の刊行物である特開昭６１−１８２６５２号公報（以下、「引用例」という。）には、
　（i）「（１）膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する希土類−遷移金属非晶質フェリ磁性合金薄膜を記録層として具備する光磁気録媒体の製造方法において、前記記録層を成膜後、結晶化温度未満の温度で熱処理することにより、磁気特性が熱的に安定な状態に移行させることを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。　（２）前記希土類−遷移金属非晶質フェリ磁性合金薄膜がキューリー点記録方式の記録材料である場合、前記記録層の熱処理温度をキューリ−点以上とすることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気記録媒体の製造方法。」（第１頁左下欄特許請求の範囲請求項１，２参照）、及び、
　（ii）「記録層に希土類−性金属非晶質フェリ磁性合金薄膜（以下、ＲＥ−ＴＭ膜という）を用いた光磁気記録媒体は、書き換え可能な光記録媒体の中で最も実用に適したものとしてに注目されている。」（第１頁右下欄第１０〜１３行参照）こと、
　（iii）「このようにＲＥ−ＴＭ膜は、光磁気記録媒体の記録層として有望視されながらも、記録・消去の繰り返し回数が多数回に及ぶと熱によって磁気特性が変化するという問題があり、その対策が望まれていた。」（第２頁右上欄第１２〜１６行参照）こと、
　（iv）「この発明は、上記の問題点を克服するためになされたものであり、多数回の記録・消去の繰り返しに対しても磁気特性が安定に保持されるＲＥ−ＴＭ膜を記録層とする光磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。」（第２頁右上欄第１８行〜左下欄第２行参照）こと、
　（v）「すなわち、発明者らはＲＥ−ＴＭ膜について熱処理とその繰り返しによる磁気特性の変化を詳細に調べ、記録・消去時に光ビームの照射による加熱によって記録層が達すると思われる温度で熱処理すると、保磁力の低下等の磁気特性が変化すること、及び一回熱処理をすれば、その後の熱処理の繰り返しに対して保磁力や磁化の大きさ、カー回転角等の磁気特性の変化が無くなることを見いだした。　本発明はこのような知見に基き、従来のようにＲＥ−ＴＭ膜を成膜したままでの状態で記録層とするのではなく、成膜後に一旦熱処理を施して上記したような特性とすることによって、磁気特性の熱安定性を飛躍的に高めるものである。　本発明において、この熱処理の温度をＲＥ−ＴＭ膜の結晶化温度未満とするのは、結晶化温度以上とすると光磁気記録媒体としての基本的な特性が損なわれるためである。また、この熱処理温度の最適値は記録層の材質、特に記録時に記録層を構成するＲＥ−ＴＭ膜をどの程度の温度まで加熱するかによって異なる。例えばＲＥ−ＴＭ膜が記録層をキューリー点近傍まで加熱する、いわゆるキューリー点記録方式の材料である場合には、熱処理温度をキューリー点以上とする。　さらに、ＲＥ−ＴＭ膜が記録層をその補償温度まで加熱する補償温度記録方式の材料である場合には、熱処理温度を記録層の保磁力が５００［Ｏｅ］以下に低下する温度以上とする。」（第２頁左下欄第８行〜右下欄第１５行参照）こと、
　（vi）「［発明の他の実施例］　以上の説明では、ガラス基板を用いた光ディスクの場合について記述したが、さらに実用的にはコスト面およびトラッキング用のプリグルーブの形成のし易さ等の観点から、アクリル、エポキシ、ポリカーボネイト等の有機樹脂基板を用いることが望ましい。しかし、有機樹脂基板は電気炉中で２００℃に加熱すると変形をきたす。このような場合、以下に述べるように光ビームを用いて基板を昇温させずにＲＥ−ＴＭ膜からなる記録層のみを昇温させ、熱処理する方法が有効である。第１０図はＲＥ−ＴＭ膜からなる記録層を光ビームを用いて熱処理する装置の構成図である。２１は第９図に示したような光磁気ディスク、２２は回転軸、２３はＨｅ−Ｎｅレーザ、Ａｒレーザあるいは半導体レーザからなるレーザ光源、２４は反射鏡、２５は対物レンズ、２７は磁場発生装置である。２８は光磁気ディスク２１を装填した空間を密閉する容器、２９は排気口またはガス導入口である。対物レンズ２５の調整により、記録・消去・再生時よりも太いビーム径、例えばディスク２１の盤面上で約３μｍφのレーザービーム２６が光磁気ディスク２１上に照射されるようになっている。　このような構成で光磁気ディスク２１を回転軸２２を中心に回転させ、レーザービーム２６を連続照射して、１トラック毎にディスク２１の盤面全域にわたって熱処理をする。ディスク２１の回転数は２００［ｒ．ｐ．ｍ．］程度、照射するレーザービーム２６のパワーは盤面上で１２ｍＷ程度が適当である。また、熱処理を確実にするためには、１トラックにつき数十回転連続してレーザービーム２６を照射することが望ましい。」（第６頁左下欄第７行〜右下欄第１９行参照）こと、
　（vii）「このように、レーザビームの照射によりＲＥ−ＴＭ膜からなる記録層を熱処理すれば、基板が樹脂等の熱に弱い材質であっても基板を加熱・損傷させることなく、磁気特性が熱的に非常に安定な光磁気記録媒体を得ることができる。」（第７頁左上欄第１６〜２０行参照）ことが記載され、更に、
　（viii）無誘導ヒータ上にサンプルをセットし真空中で光磁気記録媒体全体を加熱し、ガラスなどの基板上に形成された記録層を熱処理する実施例（第３頁左上欄第３行〜右上欄第１行、第１図参照）も記載されている。
　
　これらの記載からすると、引用例には、磁気特性が安定に保持される希土類−遷移金属非晶質フェリ磁性合金薄膜（ＲＥ−ＴＭ膜）を記録層とする光磁気記録媒体の製造方法に関し、「ガラスや有機樹脂等の基板上に膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する希土類−遷移金属非晶質フェリ磁性合金薄膜から成る記録層を成膜して成る光磁気録媒体の製造方法において、記録層を成膜後、２００r.p.m. 程度の回転数で光磁気記録媒体である磁気ディスクを回転軸を中心に回転させ、磁気ディスクに１トラック毎に磁気ディスクの盤面全域にわたってレーザビームを照射し、記録層を結晶化温度未満、キューリー点以上の温度で熱処理する光磁気記録媒体の製造方法。」の発明が記載されているものと認める。
　
ＩＩＩ．対比、判断
　本願発明と引用例記載の発明を対比する。
　引用例記載の発明の「ガラスや有機樹脂等の基板」と「垂直な方向に磁化容易軸を有する希土類−遷移金属非晶質フェリ磁性合金薄膜から成る記録層」は、それぞれ本願発明の「光学的に透明な基板」と「非晶質合金膜から成る記録層」に相当する。そして、引用例記載の発明の「２００r.p.m. 程度の回転数」は、その回転数を維持（即ち回転角速度を維持）しながら処理が行なわれるものと認められるから、本願発明の「一定の回転角速度で」処理することに相当するものと認める。
　してみると、両発明は、磁気特性の安定化された光磁気記録媒体の製造方法に関するものであって、「光学的に透明な基板上に非晶質合金膜から成る記録層を成膜して成る光磁気記録媒体の製造方法において、記録膜を成膜した後、一定の回転角速度で前記光磁気記録媒体を回転させ、該光磁気記録媒体に局所的にレーザー光を照射して記録層の全部に加熱処理を施すものである光磁気記録媒体の製造方法。」で一致する。
　そして、本願発明では、「加熱時の記録層の到達温度が内周から外周にかけて一定になるように、光磁気記録媒体の外周を照射する際のレーザー光のパワーを、内周を照射する際のレーザー光のパワーより大きくする」点を必須の構成としているのに対して、引用例記載の発明では、そのような構成の言及はなく、記録層を結晶化温度未満、キューリー点以上の温度で熱処理している点で相違する。
　
　この相違について検討する。
　引用例に記載された発明において、記録層を結晶化温度未満、キューリー点以上の温度で熱処理することは、「熱処理の温度をＲＥ−ＭＴ膜の結晶化温度未満とするのは、結晶化温度以上とすると光磁気記録媒体としての基本的な特性が損なわれるためである。また、この熱処理温度の最適値は記録層の材質、特に記録時に記録層を構成するＲＥ−ＴＭ膜をどの程度の温度まで加熱するかによって異なる。例えばＲＥ−ＴＭ膜が記録層をキューリー点近傍まで加熱する、いわゆるキューリー点記録方式の材料である場合には、熱処理温度をキューリー点以上とする」（摘示（iv）参照）ためであり、それは、「記録・消去時に光ビームの照射による加熱によって記録層が達すると思われる温度で熱処理すると、保磁力の低下等の磁気特性が変化すること、及び一回熱処理をすれば、その後の熱処理の繰り返しに対して保磁力や磁化の大きさ、カー回転角等の磁気特性の変化が無くなることを見いだした」（摘示（iv）参照）ことによるのであるから、「記録層の温度がそのような記録・消去時に光ビームの照射による加熱によって記録層が達すると思われる温度になるように熱処理する」ことを意味すると解するのが相当である。
　そうであるから、記録・消去は記録媒体のあらゆる箇所で均一に行なうことが当然に望まれることからして、その達する温度をあえて内周と外周で異ならせることは望ましくないと認められる。　記録媒体のあらゆる箇所、例えば内周と外周で均一に記録・消去を行なうのが望ましいことは、光記録媒体の記録に際し角速度一定で記録する場合に、内外周で線速度が異なるために、外周に行くほど大きな記録パワーを必要とすることが知られている（例えば、特開昭６３−２０５８１９号公報、特開昭６０−２２４１２９号公報、特開昭６１−６６２２９号公報など参照）ことからも窺うことかできるし、一定の回転角速度で前記光磁気記録媒体を回転させ、外周に行くほど大きな記録パワーで記録、消去することは、周知の手段にすぎない。
　加えて、引用例には、熱処理の方法として無誘導ヒータを用い光磁気記録媒体全体を熱処理する方法も記載されていて、加熱時の記録層の到達温度を全体において一定にすることも示唆されているものと解される。
　してみると、「加熱時の記録層の到達温度が内周から外周にかけて一定になるように」することは当業者が容易に想到し得ることであり、それを実現する手段として、角速度一定との条件下においては、「光磁気記録媒体の外周を照射する際のレーザー光のパワーを、内周を照射する際のレーザー光のパワーより大きくする」ことがよく知られた手段といえる。
　
　ところで、本願明細書には、加熱時の到達温度が等しくなるようにすることは記載されているものの、それがどのような理由によるのかは説明はなく、実施例（及び比較例）でもｒ＝３０ｍｍの位置においてのみオーバライト特性を評価しているだけで、内周と外周を同じ出力パワーで熱処理して内周と外周の特性を対比した例は検討されておらず、比較例は単に熱処理を施さないものが示されているにすぎないから、審判請求理由で審判請求人が主張しているような「記録層のあらゆる部分における記録特性の経時変化を一定にすることができる」との作用効果は、当初明細書に記載もなくそれを裏付けるデータも示されていなかったものである。ただ、記録（消去）・再生を同じ条件下で行うべきことは、同じ結果、同じ現象を再現性良く得るために必要であることは論を待たず、当然に望まれていることにすぎないことに鑑みれば、熱処理を記録媒体全体に均一に施すべきことは自然の理であって、その熱処理の作用効果として記録媒体の全領域で同等の記録（消去）・再生がなされることは、当業者が当然に期待するものと解するのが相当といえる。
　そうであるから、「加熱時の記録層の到達温度が内周から外周にかけて一定になるように、光磁気記録媒体の外周を照射する際のレーザー光のパワーを、内周を照射する際のレーザー光のパワーより大きくする」という構成を備えることによる前記請求人の主張する作用効果は、少なくとも当業者が容易に想い到ることで期待する程度のものというべきである。
　よって、前記相違とした構成を採用することに格別の創意工夫が必要であるとは認められない。
　
ＩＶ．まとめ
　以上のとおりであるから、本願発明は、引用例に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。