【手続補正書】
【提出日】平成15年6月30日(2003.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面に配向膜を形成する工程と、
前記配向膜に配向処理を施す工程と、
前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の側から前記一対の基板に対して光照射を行い、前記シール材を硬化させる工程とを有し、
前記シール材を硬化させる工程において、前記一対の基板は前記シール材の内側領域において、照射される光が選択的に弱め或いは遮断した状態で光照射が行われることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面に配向膜を形成する工程と、
前記配向膜に配向処理を施す工程と、
前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の側から前記一対の基板に対して光照射を行い、前記シール材を硬化させる工程とを有し、
前記シール材を硬化させる工程において、光吸収性若しくは光反射性の光変調領域を備えた光学マスクを有する基体を介して前記一対の基板に光照射を行うことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２において、前記光学マスクは光変調領域を遮光領域とする遮光マスクであることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項４】
請求項２又は請求項３において、前記光学マスクは前記基体のうちの前記一対の基板に対向する側に設けられてなるとともに前記遮光膜と前記一対の基板とは５０μｍ〜１００μｍの間隔を隔てて配置し、前記一対の基板に光照射を行うことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項５】
請求項４において、前記基体には前記一対の基板に対向する面上にスペーサが形成されてなり、前記スペーサを前記一対の基板に当接させた状態で光照射することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項６】
一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面に配向膜を形成する工程と、
前記配向膜に配向処理を施す工程と、
前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、
前記一対の基板の一方の基板の前記シール材の内側領域に光吸収性若しくは反射性の光学マスクを形成する工程と、
前記一対の基板の前記光学マスクが形成された側から前記一対の基板に対して光照射を行い、前記シール材を硬化させる工程とを有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項７】
一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面に配向膜を形成する工程と、
前記配向膜に配向処理を施す工程と、
前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、
前記一対の基板の一方の基板上に前記シール材の内側領域に紫外線を吸収若しくは反射する遮光膜を有する透明基板を形成する工程と、
前記透明基板の側から前記一対の基板に対して光照射を行い、前記シール材を硬化させる工程とを有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項８】
一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、
前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面上に配向膜を形成する工程と、
前記配向膜に対して所定方向に配向処理を施す工程と、
前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、
前記一対の基板の少なくとも一方側から前記配向膜の前記所定方向に交差する方向に偏光された光を前記一対の基板に照射して前記シール材を硬化させる工程とを有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８において、前記一対の基板の内面にはそれぞれ前記配向膜が形成され、前記一対の基板における前記配向膜の配向処理方向は互いにほぼ直交する方向であって、前記照射される光は、いずれの前記一対の基板における前記配向処理方向に対してもほぼ４５度で交差する方向に偏光された直線偏光であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項８において、前記一対の基板の内面にはそれぞれ前記配向膜が形成され、両基板における前記配向膜の配向処理方向は互いにほぼ平行方向若しくは反平行方向であって、前記照射される光は、いずれの前記一対の基板における前記配向処理方向に対してほぼ直交する方向に偏光された直線偏光であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０までのいずれか１項において、前記一つの基板の内面には、互いに交差するように形成された複数の走査線と複数のデータ線と、前記走査線とデータ線に接続されたスイッチング素子と、前記スイッチング素子に接続された画素電極とを有し、
前記一対の基板における前記配向膜の配向処理方向を、前記走査線若しくはデータ線の延長方向にほぼ一致させることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明が講じた第１の手段は、一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面に配向膜を形成する工程と、前記配向膜に配向処理を施す工程と、前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の側から前記一対の基板に対して光照射を行い、前記シール材を硬化させる工程とを有し、前期シール材を硬化させる工程において、前記一対の基板は照射される光が前記シール材の内側領域において選択的に弱め或いは遮断した状態で光照射が行われることを特徴とする。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第２の手段は、一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面に配向膜を形成する工程と、前記配向膜に配向処理を施す工程と、前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の側から前記一対の基板に対して光照射を行い、前記シール材を硬化させる工程とを有し、前記シール材を硬化させる工程において、光吸収性若しくは光反射性の光変調領域を備えた光学マスクを有する基体を介して前記一対の基板に光照射を行うことを特徴とする。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
次に、第３の手段は、一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面に配向膜を形成する工程と、前記配向膜に配向処理を施す工程と、前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、前記一対の基板の一方の基板の前記シール材の内側領域に紫外線を吸収若しくは反射する光学マスクを形成する工程と、前記一対の基板の前記光学マスクが形成された側から前記一対の基板に対して光照射を行い、前記シール材を硬化させる工程とを有することを特徴とする。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
次に第４の手段は、一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面に配向膜を形成する工程と、前記配向膜に配向処理を施す工程と、前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、前記一対の基板の一方の基板上に前記シール材の内側領域に紫外線を吸収若しくは反射する光学マスクを有する透明基板を形成する工程と、前記透明基板の側から前記一対の基板に対して光照射を行い、前記シール材を硬化させる工程とを有することを特徴とする。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
第５の手段は、一対の基板間に液晶が挟持されてなる液晶装置の製造方法において、前記一対の基板の少なくとも一方の基板の内面上に配向膜を形成する工程と、前記配向膜に対して所定方向に配向処理を施す工程と、前記一対の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、前記一対の基板の少なくとも一方側から前記配向膜の前記所定方向に交差する方向に偏光された光を前記一対の基板に照射して前記シール材を硬化させる工程とを有することを特徴とする。