【手続補正書】
【提出日】平成24年5月17日(2012.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス化システムであって、
ガス流入口およびガス流出口を備えるガス接触側と、液体流入口および液体流出口を備える液体接触側と、多孔質要素とを有する膜接触器であって、供給ガスは、前記ガス流入口を介して第１の圧力下で前記膜接触器の前記ガス接触側に方向付けられ、供給液は、前記液体流入口を介して前記膜接触器の前記液体接触側に方向付けられる、膜接触器と、
前記膜接触器の前記ガス流入口に流体的に接続されて、前記供給ガスのガス流量を制御するガス流量制御器と、
前記膜接触器の前記液体接触側に流体的に接続されて、前記供給液の液体流量を制御する液体流量制御器と、
前記膜接触器の前記ガス流出口に流体的に接続されて、前記膜接触器の前記ガス接触側の前記第１の圧力を第２の圧力まで低減する減圧デバイスであって、前記多孔質要素は、前記供給液が、前記膜接触器の前記ガス接触側に進入することを防止し、前記多孔質要素は、所定の量の前記供給ガスが前記供給液を通過し、前記供給液に溶解することを可能にして、ガス化液体を生成する、減圧デバイスと、
を備える、システム。
【請求項２】
前記膜接触器の前記液体流出口に接続される伝導度センサまたは濃度モニタと、
前記膜接触器の前記ガス流出口に接続される圧力センサと、
１つ以上の制御器と、
をさらに備え、
前記１つ以上の制御器は、
前記ガス流量制御器、前記液体流量制御器、前記減圧デバイス、前記伝導度センサもしくは濃度モニタ、前記圧力センサ、またはそれらの組み合わせから、１つ以上の入力信号を受信すること；
前記１つ以上の入力信号を対応する設定値と比較すること；及び
前記第１の圧力、前記供給ガスの前記ガス流量、前記供給液の前記液体流量、またはそれらの組み合わせを変更して、前記ガス化液体におけるガス濃度のレベルを前記設定値濃度の範囲内に維持するように、１つ以上の出力信号を生成すること；
を実行することが可能である、請求項１に記載のガス化システム。
【請求項３】
前記範囲は、前記設定値濃度の約１５％、１０％、５％、または３％以内である、請求項２に記載のガス化システム。
【請求項４】
前記減圧デバイスと前記膜接触器との間に配置される真空隔離弁を伴う、凝縮液トラップをさらに備える、請求項１に記載のガス化システム。
【請求項５】
前記供給ガスは二酸化炭素を含み、
質量流量制御器を介して前記二酸化炭素を前記膜接触器に提供するために前記質量流量制御器に流体的に接続されるガス源と、
前記ガス源と前記質量流量制御器との間に配置される二酸化炭素制御弁と、
前記質量流量制御器に連結される少なくとも１つの制御器と、
前記少なくとも１つの制御器と前記膜接触器との間に配置される窒素制御弁と、
前記膜接触器に流体的に接続される窒素源と、
をさらに備え、前記窒素制御弁が開放しているときは常に、前記二酸化炭素制御弁が閉鎖している、請求項１に記載のガス化システム。
【請求項６】
ガス化方法であって、
接触器の多孔質要素のガス接触側のガス流入口にガスを流入させるステップと、
前記接触器の前記多孔質要素の液体接触側の液体流入口に液体を流入させるステップであって、前記液体は、前記多孔質要素および前記接触器の筐体によって前記ガスから分離されるステップと、
前記接触器の前記多孔質要素の前記ガス接触側に減圧を印加するステップと、
前記減圧において、前記接触器のガス流出口から前記ガスを除去するステップと、
所定の量の前記ガスが前記多孔質要素を通過して、前記接触器の前記多孔質要素の前記液体接触側の前記液体に溶解することを可能にするステップと、
前記液体よりも高い伝導度を有し、無気泡または実質的に無気泡であるガス化液体を、前記接触器の液体流出口から除去するステップと、
を含む、方法。
【請求項７】
前記ガス化液体の前記伝導度を標的範囲内に維持するため、前記接触器から凝縮液を除去するため、またはそれらの組み合わせのために、前記減圧、ガス流量、液体流量、またはそれらの組み合わせを調節することをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記接触器の前記多孔質要素の前記ガス接触側の前記ガス流入口への前記ガスの流入を停止するために第１の弁を閉鎖するステップと、
前記接触器の前記多孔質要素の前記ガス接触側に中性ガスを進入させるために、第２の弁を開放するステップと、
をさらに含み、
前記第２の弁を開放するステップが、流量変化時に、または流量変化とほぼ同時に、前記第２の弁を開放するステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ガス化液体中の前記ガスの量は、約５０００万分の１（ｐｐｍ）以下、約５００ｐｐｍ以下、約５０ｐｐｍ以下、または約５ｐｐｍ以下である、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記伝導度は、約１０マイクロジーメンス以下または約５マイクロジーメンス以下である、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記減圧は、約４０ｐｓｉ以下、または約１５ｐｓｉ以下、または約２ｐｓｉ以下であ
る、請求項６に記載の方法。
【請求項１２】
ガス化システムであって、
ガス接触側と、液体接触側と、多孔質要素と、を有する接触器と、
前記接触器に供給ガスを提供するために前記接触器に流体的に接続されるガス源と、
前記接触器に供給液を提供するために前記接触器に流体的に接続される液体源と、
前記供給ガスのガス流量を制御するために前記ガス源および前記接触器に流体的に接続されるガス流量制御器と、
前記供給液の液体流量を制御するために前記液体源および前記接触器に流体的に接続される液体流量制御器と、
前記接触器の前記ガス接触側に流体的に接続される真空源であって、前記真空源は、所定の量の前記供給ガスが前記接触器の前記多孔質要素を通過して、前記液体接触側の前記供給液に溶解する速度を増加させることにより、前記供給液の伝導度よりも高い伝導度を有する、無気泡または実質的に無気泡であるガス化液体を形成する、真空源と、
を備える、システム。
【請求項１３】
前記ガス化液体中の前記ガス量を設定値の約±２０％以下に維持するために、前記ガス流量制御器、前記液体流量制御器、および前記真空源と通信可能に連結される、少なくとも１つの論理制御器をさらに備える、請求項１２に記載のガス化システム。
【請求項１４】
ガス化システムであって、
ガス流入口およびガス流出口を伴うガス接触側と、液体流入口および液体流出口を伴う液体接触側と、多孔質要素と、を有する、膜接触器であって、供給ガスが、前記ガス流入口を介して、第１の圧力下で前記膜接触器の前記ガス接触側に方向付けられ、供給液が、前記液体流入口を介して、前記膜接触器の前記液体接触側に方向付けられる、膜接触器と、
前記膜接触器の前記ガス接触側の前記第１の圧力を第２の圧力まで低減するために、前記膜接触器の前記ガス流出口に流体的に接続される減圧デバイスであって、前記多孔質要素は、前記供給液が、前記膜接触器の前記ガス接触側に進入することを防止し、前記多孔質要素は、所定の量の前記供給ガスが前記供給液を通過して前記供給液に溶解することを可能にして、ガス化液体を生成する、減圧デバイスと、
１つ以上の制御器であって、
ガス流量制御器、液体流量制御器、減圧デバイス、伝導度センサもしくは濃度モニタ、圧力センサ、またはそれらの組み合わせから、１つ以上の入力信号を受信すること；
前記１つ以上の入力信号を対応する設定値と比較すること；
前記ガス化液体の設定値濃度を決定すること；及び
前記第１の圧力、前記供給ガスの前記ガス流量、前記供給液の前記液体流量、またはそれらの組み合わせを変更するために、１つ以上の出力信号を生成することであって、それにより、前記ガス化液体におけるガス濃度のレベルを前記設定値濃度の範囲内に維持すること；
を実行することが可能である、１つ以上の制御器と、
を備える、システム。
【請求項１５】
前記供給ガスのガス流量を制御するために、前記膜接触器の前記ガス流入口に流体的に接続されるガス流量制御器をさらに備える、請求項１４に記載のガス化システム。
【請求項１６】
前記供給液の液体流量を制御するために、前記膜接触器の前記液体接触側に流体的に接続される液体流量制御器をさらに含む、請求項１４に記載のガス化システム。