【手続補正書】
【提出日】平成24年7月13日(2012.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペクトル領域光コヒーレンストモグラフィ（ＳＤ−ＯＣＴ）方法であって、
第１の測定および第２の測定を行なうステップを含み、各測定は、
対象物区域を測定光で照射するステップと、
対象物区域から戻った測定光を参照光と重畳するステップと、
重畳された光をスペクトル的に分散させるステップと、
スペクトル的に分散された光の複数の異なるスペクトル部分の強度を検出するステップとを含み、
前記第１の測定中には、対象物区域を照射する測定光が第１のスペクトルにしたがってスペクトル的に分配され、
前記第２の測定中には、対象物区域を照射する測定光が第２のスペクトルにしたがってスペクトル的に分配され、
前記第１のスペクトルの第１のスペクトル幅は、前記第２のスペクトルの第２のスペクトル幅よりも少なくとも１０％大きく、
前記第１の測定中にスペクトル部分の各々に含まれる波長範囲の幅は、前記第２の測定中にスペクトル部分の各々に含まれる波長範囲の幅よりも大きい、方法。
【請求項２】
前記第１のスペクトル幅は、第１の上限波長と第１の下限波長との差の最小値となるように決定され、前記第１の測定中には、前記第１の下限波長と前記第１の上限波長との間に波長を有する測定光の強度は、測定光の全強度の９０％となり、
前記第２のスペクトル幅は、第２の上限波長と第２の下限波長との差の最小値となるように決定され、前記第２の測定中には、前記第２の下限波長と前記第２の上限波長との間に波長を有する測定光の強度は、測定光の全強度の９０％となる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の測定において、前記複数の異なるスペクトル部分は所定の第１の検出波長範囲内にあり、
前記第２の測定において、前記複数の異なるスペクトル部分は所定の第２の検出波長範囲内にあり、
前記第１の検出波長範囲の幅は、前記第２の検出波長範囲の幅よりも大きい、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の検出波長範囲の幅および前記第１のスペクトル幅の比率が少なくとも０．７、特に少なくとも０．９になることと、
前記第２の検出波長範囲の幅および前記第２のスペクトル幅の比率が少なくとも０．７、特に少なくとも０．９になることとのうち、少なくとも一方が満たされる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記複数の異なるスペクトル部分の強度を検出するステップは、位置分解検出器の複数の異なる位置で強度を検出するステップを含む、請求項１〜４のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の測定および前記第２の測定の少なくとも一方において、重畳された光を分散させるステップは、重畳された光を第１の回折格子で回折させるステップを含む、請求項１〜５のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
重畳された光を分散させるステップは、回折された光に結像光学系を通させるステップ
を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の測定および前記第２の測定の両方において、重畳された光を分散させるステップは、重畳された光を前記第１の回折格子で回折させるステップを含み、
前記第１の測定中において、前記結像光学系は第１の焦点距離を有し、前記第２の測定中において、前記結像光学系は、前記第１の焦点距離よりも少なくとも１０％大きい第２の焦点距離を有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第２の測定中において、重畳された光を分散させるステップは、重畳された光を第２の回折格子で回折させるステップを含み、
前記第１の回折格子の格子周期は、前記第２の回折格子の格子周期よりも少なくとも１０％大きい、請求項６または７に記載の方法。
【請求項１０】
対象物区域を照射するステップはそれぞれ、対象物区域を測定光の照射ビームで走査させるステップを含み、前記照射ビームは、前記照射ビームのレイリー範囲が前記ＯＣＴ方法の軸方向視野に実質的に対応するように、前記対象物区域の平均深さに配置されるビームウェストを有する、請求項１〜９のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
測定光によって通された光路と参照光によって通された光路との差を変化させるステップをさらに含む、請求項１〜１０のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
スペクトル領域光コヒーレンストモグラフィ（ＳＤ−ＯＣＴ）システムであって、前記システムは、
対象物区域を測定光で照射するための光源を有する照射系を備え、測定光のスペクトルのスペクトル幅は調整可能であり、さらに、
前記対象物区域から戻りかつ参照光と重畳された測定光を、複数の空間的に分離された異なるスペクトル部分にスペクトル的に分散させるために、調整可能な分散を有する分光器と、
調整可能なスペクトル幅を調整し、かつ入力信号に基づいて前記分光器の前記調整可能な分散を調整するためのコントローラとを備える、システム。
【請求項１３】
空間的に分離されたスペクトル部分の空間的な分離の量は、前記分光器の分散を調整するために調整可能である、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記分光器は、空間的に分離されたスペクトル部分を少なくとも部分的に検出するための空間分解検出器を含む、請求項１２または１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記コントローラは、
前記位置分解検出器に入射する、分散された重畳された光の波長範囲と、調整されたスペクトル幅との重なりの幅が、調整されたスペクトル幅の少なくとも７０％、特に少なくとも９０％となるように、スペクトル幅および前記分光器の分散を調整するように適合化される、請求項１２〜１４のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１６】
前記照射系は、少なくとも１つのスペクトルフィルタと、照射ビーム経路に前記スペクトルフィルタを配列するための第１のアクチュエータとを含む、請求項１２〜１５のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１７】
前記分光器は、第１の回折格子と、重畳された光のビーム経路に前記第１の回折格子を配列するための第２のアクチュエータとを含む、請求項１２〜１６のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１８】
前記分光器は、前記位置分解検出器の上流において、重畳された光のビーム経路に配列された結像光学系を含む、請求項１４〜１７のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１９】
前記分光器は第２の回折格子を含み、前記第２のアクチュエータは、重畳された光のビーム経路に前記第２の回折格子を配列するために適合化され、
前記第１の回折格子の格子定数は、前記第２の回折格子の格子定数とは少なくとも１０％異なる、請求項１７または１８に記載のシステム。
【請求項２０】
掃引光源領域光コヒーレンストモグラフィ（ＳＳ−ＯＣＴ）方法であって、
第１の測定および第２の測定を行なうステップを含み、各測定は、
対象物区域を第１の測定光で照射するステップと、
照射された対象物区域から戻った第１の測定光を参照光と重畳して、第１の重畳された光を形成するステップと、
前記第１の重畳された光の強度を検出するステップと、次いで、
対象物区域を第２の測定光で照射するステップと、
照射された対象物区域から戻った第２の測定光を参照光と重畳して、第２の重畳された光を形成するステップと、
前記第２の重畳された光の強度を検出するステップとを含み、
前記第１の測定光および前記第２の測定光の各々は、あるピーク波長およびあるスペクトル幅を有するスペクトル分布を有し、ピーク波長は異なり、
前記第１の測定中のスペクトル幅の平均は、前記第２の測定中のスペクトル幅の平均の少なくとも２倍、特に少なくとも５倍大きい、方法。
【請求項２１】
スペクトル幅は２００ｐｍおよび５ｐｍの間、特に１００ｐｍおよび１０ｐｍの間である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
ピーク波長は、８００ｎｍおよび１３００ｎｍの間、特に９００ｎｍおよび１１００ｎｍの間である、請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２３】
光増幅器を用いて測定光を生成するステップと、
生成された測定光をスペクトル的にフィルタリングして、前記第１の測定および前記第２の測定の少なくとも一方において第１および第２の測定光を形成するステップとをさらに含む、請求項２０〜２２のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
フィルタリングするステップは、透過スペクトルフィルタ、特にファブリペロー型フィルタを測定光に通させるステップを含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
フィルタリングするステップは、回折格子で測定光を回折させるステップと、測定光を反射するステップとを含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
前記第１の測定光および前記第２の測定光の少なくとも一方によって通された光路と、前記参照光によって通された光路との差を変化させるステップをさらに含む、請求項２０〜２５のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
前記第１の測定光のピーク波長と前記第２の測定光のピーク波長との差の最大値は、前記第１の測定においては前記第２の測定よりも少なくとも２倍、特に５倍大きい、請求項２０〜２６のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
掃引光源領域光コヒーレンストモグラフィ（ＳＳ−ＯＣＴ）システムであって、前記シ
ステムは、
あるピーク波長およびあるスペクトル幅を有するスペクトル分布を有する測定光で対象物区域を照射するための照射系を備え、ピーク波長は掃引可能であり、スペクトル幅は調整可能であり、さらに、
スペクトル幅を調整するためのコントローラと、
対象物区域から戻った前記測定光を参照光と干渉的に重畳するための干渉計と、
重畳された光を検出するための検出器とを備える、システム。
【請求項２９】
スペクトル幅は５ｐｍおよび２００ｐｍの間、特に１０ｐｍおよび１００ｐｍの間で調整可能である、請求項２８に記載のシステム。
【請求項３０】
測定光のピーク波長は、８００ｎｍおよび１３００ｎｍの間、特に９５０ｎｍおよび１０５０ｎｍの間である、請求項２８または２９に記載のシステム。
【請求項３１】
前記照射系は、測定光を生成するための光増幅器と、第１の掃引可能スペクトルフィルタと、生成された測定光のビーム経路に前記第１の掃引可能スペクトルフィルタを配列するためのアクチュエータとを含む、請求項２８〜３０のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項３２】
前記照射系は第２の掃引可能スペクトルフィルタを含み、前記アクチュエータはさらに、生成された測定光のビーム経路に前記第２の掃引可能スペクトルフィルタを配列するために適合化され、前記第１の掃引可能スペクトルフィルタおよび前記第２の掃引可能スペクトルフィルタのフィルタ特性は異なる、請求項３１に記載のシステム。
【請求項３３】
前記第１のスペクトルフィルタおよび前記第２のスペクトルフィルタの少なくとも一方は、ファブリペロー型フィルタである、請求項３１または３２に記載のシステム。
【請求項３４】
前記第１のフィルタおよび前記第２のフィルタの少なくとも一方は、回折格子および反射器を含む、請求項３１または３３に記載のシステム。
【請求項３５】
前記照射系は、
前記第１の掃引可能スペクトルフィルタを用いてフィルタリングされた測定光が第１のスペクトル幅を有するスペクトル分布を有し、
前記第２の掃引可能スペクトルフィルタを用いてフィルタリングされた測定光が第２のスペクトル幅を有するスペクトル分布を有し、前記第１のスペクトル幅が前記第２のスペクトル幅よりも少なくとも２倍、特に少なくとも５倍大きくなるように、適合化される、請求項３２〜３４のうちいずれか１項に記載のシステム。