(57)【要約】【課題】石英ガラスやグラファイト製モールドの損傷を防止すると共に、石英ガラスとグラファイト製モールドとの反応を防止する石英ガラスの熱間成形方法及び成形装置を提供する。【解決手段】グラファイト製モールド１５内に石英ガラス２５を収容して、石英ガラス２５を加熱加圧することにより、所望の形状に成形する方法において、グラファイト製モールド１５の内壁面に、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布すると共に、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させて離型層２７を形成した後に、グラファイト製モールド１５内に石英ガラス２５を収容して加熱加圧する。【選択図】  図１
2004307263.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グラファイト製モールド内に石英ガラスを収容して、該石英ガラスを加熱加圧することにより、所望の形状に成形する方法において、
前記グラファイト製モールドの内壁面に、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布すると共に、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させて離型層を形成した後に、前記グラファイト製モールド内に前記石英ガラスを収容して加熱加圧することを特徴とする石英ガラスの成形方法。
【請求項２】
グラファイト製モールド内に石英ガラスを収容して、該石英ガラスを加熱加圧することにより、所望の形状に成形する方法において、
前記グラファイト製モールドの内壁面に、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布し、乾燥後、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させて離型層を形成し、次いで、前記グラファイト製モールド内に前記石英ガラスを収容して加熱加圧することを特徴とする石英ガラスの成形方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の成形方法において、前記離型層のカーボン粒子の層とＳｉＣ粒子の層との厚さがそれぞれ３０μｍ〜１０００μｍであることを特徴とする石英ガラスの成形方法。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一つに記載の成形方法において、前記カーボン粒子とＳｉＣ粒子の平均粒子径がそれぞれ０．０１μｍ〜１００μｍであることを特徴とする石英ガラスの成形方法。
【請求項５】
請求項１に記載の成形方法において、前記カーボン粒子の層と前記ＳｉＣ粒子の層とが二重構造、又は、前記カーボン粒子と前記ＳｉＣ粒子とが混在した層になっていることを特徴とする石英ガラスの形成方法。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一つに記載の成形方法において、前記グラファイト製モールド内の離型層を真空雰囲気中、又は、塩素含有ガス雰囲気中での熱処理によって純化処理を行うことを特徴とする石英ガラスの成形方法。
【請求項７】
グラファイト製モールド内に石英ガラスを収容して、該石英ガラスを加熱加圧することにより、所望の形状に成形する成形装置において、
前記グラファイト製モールドの内壁面に、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布すると共に、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させて離型層を形成したことを特徴とする石英ガラスの成形装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、グラファイト製モールド内に石英ガラスを収容して加熱しつつ、加圧して均質な石英ガラスを所定形状に成形するための成形方法及び成形装置、特に、グラファイト製モールドと石英ガラスとの離型性等を向上させた成形方法及び成形装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、ＩＣ、ＬＳＩ等の集積回路パターン転写には、主に投影露光装置（または光リソグラフィ装置）が用いられている。この装置に用いられる投影光学系には、集積回路の高集積化に伴い、広い露光領域と、その露光領域全体にわたって、より高い解像力が要求される。投影光学系の解像力の向上については、露光波長をより短くするか、あるいは投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくすることが行われる。
【０００３】
露光波長については、ｇ線（４３６ｎｍ）からｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦ（２４８ｎｍ）やＡｒＦ（１９３ｎｍ）エキシマレーザーへと短波長化が進められている。また、更に高集積化を進めるに当たって、現在、Ｆ２（１５７ｎｍ）エキシマレーザ，Ｘ線，電子線を光源に用いる方法が検討されている。この中で、これまでの設計思想を生かして作製することが可能なＦ２エキシマレーザを用いた縮小投影露光装置がにわかに脚光を浴びてきている。
【０００４】
一般に、ｉ線より長波長の光源を用いた縮小投影露光装置の照明光学系あるいは投影光学系のレンズ部材として用いられる光学ガラスは、ｉ線よりも短い波長領域では光透過率が急激に低下し、特に２５０ｎｍ以下の波長領域ではほとんどの光学ガラスでは透過しなくなる。そのため、エキシマレーザを光源とした縮小投影露光装置の光学系を構成するレンズの材料には、石英ガラスとフッ化カルシウム結晶のみが使用可能である。この２つの材料はエキシマレーザの結像光学系で色収差補正を行う上で不可欠な材料である。
【０００５】
縮小投影露光装置でウェハー上に回路を焼き付けるためのもう一つの重要な要素としてレチクルが挙げられる。このレチクルに用いられる材料としては、エキシマレーザ耐久性はもとより、基板の発熱による熱膨張が大きな問題になるため、耐久性が良好でなおかつ熱膨張係数の小さい、直接法と呼ばれる方法（火炎加水分解により透明石英ガラスを製造する方法）で合成された石英ガラスが用いられている。
【０００６】
直接法では、石英ガラス製バーナにて支燃性ガス（酸素含有ガス、例えば酸素ガス）及び可燃性ガス（水素含有ガス、例えば水素ガスあるいは天然ガス）を混合・燃焼させ、前記バーナの中心部から原料ガスとして高純度のケイ素化合物（例えば、四塩化ケイ素ガス）をキャリアガス（通常酸素ガス）で希釈して噴出させ、前記原料ガスを周囲の前記酸素ガス及び水素ガスの燃焼により反応（加水分解反応）させて石英ガラス微粒子を発生させ、その前記石英ガラス微粒子を、前記バーナ下方に配置され、回転および揺動および引き下げ運動を行う不透明石英ガラス板からなるターゲット上に堆積させ、同時に前記酸素ガス及び水素ガスの燃焼熱により溶融・ガラス化して石英ガラスインゴットを得ている。
【０００７】
この方法によると、比較的大きな径の石英ガラスインゴットを得易いため、インゴットからブロックを切り出して所望の形状，大きさの光学部材を製造することができる。
【０００８】
また、近年、大型のレンズやレチクル、或いは大型の液晶ディスプレイ等、広い面積の面を有する光学部材を得るため、予め形成されたインゴット等の石英ガラス塊を加熱加圧成形することにより扁平形状にして面積を拡大する成形方法が利用されている。
【０００９】
この成形方法では、石英ガラス塊をモールド内に収容して加熱した状態で、加圧板により加圧することにより成形を行い、その後モールド内で徐冷したり、更にアニール処理を行い、扁平形状で上下面の面積が拡大された所定形状の成形体を得ることができる。
【００１０】
このような加熱加圧成形を行うものとして、例えば、グラファイト製のモールド内で、絶対圧が  ０．１Ｔｏｒｒ以上大気圧以下のヘリウムガス雰囲気下に、１７００℃以上の温度に加熱加圧成形し、ついで１１００〜１３００℃まで急冷する方法が知られている。また、石英ガラスとモールドの型材との熱膨張率差に起因する応力を緩和する構造を有するグラファイト製のモールドを用いて１６００℃〜１７００℃で加圧成形する方法（下記、特許文献１参照。）や、そのグラファイト製のモールドが２分割以上の縦型構造である成型装置が提案されている（下記、特許文献２及び３参照。）。更には、黒鉛製のモールド内面に石英粉末からなる被覆層を設けて、１５５０℃〜１７００℃で加圧成形する方法（下記、特許文献４参照。）も知られている。
【００１１】
【特許文献１】
特公平４−５４６２６号公報。
【００１２】
【特許文献２】
特開昭５６−１２９６２１号公報。
【００１３】
【特許文献３】
特開昭５７−６７０３１号公報。
【００１４】
【特許文献４】
特開２００２−２２０２０号公報。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の石英ガラスの成形方法では、石英ガラスをグラファイト製モールドにて加熱加圧成形処理を行う場合、熱膨張係数が大きいグラファイト製モールドの内部に同係数が小さい石英ガラスが配置されており、高温での成形後、同モールドと成形後の石英ガラスとは実質的に隙間が無い状態となり、室温まで温度を下げることにより、石英ガラスと比べて熱膨張係数が一桁大きいグラファイト製モールドの方がより大きく収縮するため、この発生する石英ガラスとグラファイトの収縮量の差を逃がす必要がある。収縮量の差を逃しきれない場合には、石英ガラス及びグラファイト製モールドに不必要な応力が加わり、処理した石英ガラスのひび割れや、グラファイト製モールドの破損を招くことがある。特に、屈折率を変化させるような成分を混入させた場合、熱膨張係数の他に粘性もかなり異なってくることから、通常の石英ガラス以上にひび割れ等が発生し易い。
【００１６】
また、上記の熱膨張係数の差に起因する不都合に加えて、石英ガラスは高温になるとグラファイト製モールドと反応して炭化ケイ素をつくると共に、１４００℃〜１６００℃程度では結晶化が起こる。そのため、処理後の石英ガラスの表面は、処理温度によっては表面に凸凹が生じ、そこから亀裂が生じることもあった。
【００１７】
さらには、石英ガラスとグラファイト製モールドが反応して融着し、モールドはおろか被処理物（石英ガラス）までも破損してしまうことがあった。
【００１８】
そこで、この発明は、石英ガラスやグラファイト製モールドの損傷を防止すると共に、石英ガラスとグラファイト製モールドとの反応を防止する石英ガラスの熱間成形方法及び成形装置を提供することを課題としている。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題について鋭意検討を行った結果、以下のようにすれば解決できることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【００２０】
すなわち、請求項１に記載の発明は、グラファイト製モールド内に石英ガラスを収容して、該石英ガラスを加熱加圧することにより、所望の形状に成形する方法において、前記グラファイト製モールドの内壁面に、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布すると共に、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させて離型層を形成した後に、前記グラファイト製モールド内に前記石英ガラスを収容して加熱加圧する石英ガラスの成形方法としたことを特徴とする。
【００２１】
請求項２に記載の発明は、グラファイト製モールド内に石英ガラスを収容して、該石英ガラスを加熱加圧することにより、所望の形状に成形する方法において、前記グラファイト製モールドの内壁面に、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布し、乾燥後、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させて離型層を形成し、次いで、前記グラファイト製モールド内に前記石英ガラスを収容して加熱加圧する石英ガラスの成形方法としたことを特徴とする。
【００２２】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の成形方法において、前記離型層のカーボン粒子の層とＳｉＣ粒子の層との厚さがそれぞれ３０μｍ〜１０００μｍであることを特徴とする。
【００２３】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３の何れか一つに記載の成形方法において、前記カーボン粒子とＳｉＣ粒子の平均粒子径がそれぞれ０．０１μｍ〜１００μｍであることを特徴とする。
【００２４】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の成形方法において、前記カーボン粒子の層と前記ＳｉＣ粒子の層とが二重構造、又は、前記カーボン粒子と前記ＳｉＣ粒子とが混在した層になっていることを特徴とする。
【００２５】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５の何れか一つに記載の成形方法において、前記グラファイト製モールド内の離型層を真空雰囲気中、又は、塩素含有ガス雰囲気中での熱処理によって純化処理を行うことを特徴とする。
【００２６】
請求項７に記載の発明は、グラファイト製モールド内に石英ガラスを収容して、該石英ガラスを加熱加圧することにより、所望の形状に成形する成形装置において、前記グラファイト製モールドの内壁面に、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布すると共に、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させて離型層を形成した石英ガラスの成形装置としたことを特徴とする。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態について説明する。
【００２８】
図１は、この実施の形態の成形装置１０を示す。
【００２９】
この成形装置１０は、四塩化ケイ素、シラン、有機ケイ素等のケイ素化合物を原料として製造される合成石英ガラスのインゴットやその一部、又は、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｂ、Ｆ、Ａｌ等の屈折率を変化させる成分を添加した合成石英ガラスのインゴットやその一部等の石英ガラス塊から、例えば、大型の液晶用マスク、半導体用マスク等のレチクル（フォトマスク）用基板、結像光学系の大型のレンズ材料などのように広い面を有する板状体やその他の大型ガラスブロックを成形するための装置である。
【００３０】
この成形装置１０は、金属製の真空チャンバー１１の内壁に、全面にわたって設けられた断熱材１２と、断熱材１２の縦壁内に設けられたカーボンヒータ１３とを有し、更に、真空チャンバー１１内部の略中央部に、中空部２１を有するグラファイト製モールド１５（以下「モールド１５」という）が収容されている。
【００３１】
このモールド１５は、底板１６及び受板１７を備えた底部１８と、この底部１８の上側に四角筒状に形成された側壁部２０とを備え、この筒状の側壁部２０と底部１８とにより中空部２１が形成されている。
【００３２】
この中空部２１内には、この中空部２１の形状に対応する形状の天板２３が配置され、天板２３の押圧面２３ｂ（上面）を、真空チャンバー１１の外部に配設されたプレス装置としての油圧シリンダのシリンダロッド２６で押圧することにより、モールド１５の底部１８側に移動可能となっている。
【００３３】
なお、このシリンダロッド２６を備えた油圧シリンダは、外部から供給する油圧を調整することにより加圧されて移動するように構成されているが、詳細な図示は省略されている。
【００３４】
これらのモールド１５及び天板２３は、塊状の石英ガラス２５の成形時における温度及び圧力に対する耐熱性及び強度を有し、且つ、成形時に塊状の石英ガラス２５と接触しても不純物を混入し難い材料から形成されており、ここでは全てグラファイトにより形成されている。
【００３５】
そして、そのモールド１５の内壁面１５ａ及び天板２３の加圧面２３ａ（下面）には、離型層２７が設けられている。この離型層２７は、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布し、乾燥後、更にＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させることにより成形されている。
【００３６】
ここで、カーボン粒子やＳｉＣ粒子を懸濁液とする際の溶媒の種類は、塗布後の乾燥や取扱い易さなどの理由で、アルコール系のものが望ましく、この実施の形態ではエチルアルコールを使用している。このエチルアルコールにカーボン粒子又はＳｉＣ粒子を分散させて刷毛で塗って塗布する。なお、ＳｉＣ粒子は結晶系がβ形を使用するのが望ましい。
【００３７】
次に、成形装置１０を用いて塊状の石英ガラス２５を所定の形状の成形する場合について説明する。
【００３８】
まず、真空チャンバー１１内に配置されたモールド１５の内壁面に、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布し、乾燥後、更にＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させて離型層２７を形成する。
【００３９】
このようにカーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布し、乾燥後、更にＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布するようにしたため、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布し易い。カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液が未乾燥の状態で、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗ろうとすると、部分的にカーボン粒子が剥がれる傾向がある。
【００４０】
この離型層２７は、カーボン粒子とＳｉＣ粒子の平均粒子径がそれぞれ０．０１μｍ〜１００μｍであると共に、カーボン粒子層とＳｉＣ粒子層の厚さがそれぞれ３０μｍ〜１０００μｍで、二重構造に形成されている。なお、カーボン粒子とＳｉＣ粒子とが混在した層とすることもできる。
【００４１】
このように離型層２７を成形した後、モールド１５内の純化処理を行う。この純化処理には、２種類あり、その一つは、真空雰囲気中で加熱（１０００℃〜２０００℃）して、不純物を蒸発させて除去する方法と、塩素含有ガス雰囲気中で加熱して塩素と金属不純物とを反応させて蒸発させて除去する方法がある。
【００４２】
その後、モールド１５の中空部２１内に塊状の石英ガラス２５を配置する。この実施の形態では、塊状の石英ガラス２５として合成石英ガラスインゴットを用いており、リードタイムの短縮化のために、モールド１５の中空部２１に収容する前に、予め３００℃未満の温度で予熱している。
【００４３】
次いで、中空部２１内に収容した塊状の石英ガラス２５の上部に天板２３を配置し、更に、天板２３の押圧面２３ｂに油圧シリンダのシリンダロッド２６の押圧部位２６ａを当接させてセットする。そして、真空チャンバー１１内を不活性ガスで置換し、真空チャンバー１１内を圧力を、所定の圧力とする。
【００４４】
次に、カーボンヒータ１３により、モールド１５及びその中空部２１に収容された塊状の石英ガラス２５を加熱する。
【００４５】
また、この成形に際しては、塊状の石英ガラス２５の全体の温度を、結晶化温度以上軟化点以下に昇温するのが好ましいが、成形の開始段階で、塊状の石英ガラス２５の頂部２５ａ付近を加圧する時点では、少なくとも頂部２５ａ側が、成形温度に到達していればよい。
【００４６】
そして、このように塊状の石英ガラス２５を加熱した状態で、油圧シリンダへの油圧を制御調整することにより、シリンダロッド２６を下方へ移動させて、シリンダロッド２６の押圧部位２６ａで天板２３の押圧面２３ｂを押圧する。これにより、天板２３がモールド１５の底部１８側の加圧方向へ移動し、天板２３の加圧面２３ａと底部１８との間で塊状の石英ガラス２５が加圧される。
【００４７】
石英ガラス２５が所定形状に成形された段階で、天板２３による加圧を終了する。その後、板状に成形された石英ガラス２５を、モールド１５内に配置した状態のままで冷却し、そして、モールド１５から石英ガラス２５を取り出すことにより成形が完了する。
【００４８】
以上のようにして、塊状の石英ガラス２５を扁平形状に成形すれば、カーボン粒子により、離型性が向上することから、冷却時のモールド１５と石英ガラス２５との間に収縮量の差が発生しても、モールド１５の離型層２７と石英ガラス２５との間で相対移動を生じさせ易いことから、収縮量の差を逃がすことができる。
【００４９】
従って、石英ガラス２５及びモールド１５に不必要な応力が加わることなく、処理した石英ガラス２５のひび割れや、モールド１５の破損を防止することができる。特に、屈折率を変化させるような成分を混入させ、粘性が低い場合でも、石英ガラス２５のひび割れ等を効果的に防止することができる。
【００５０】
また、ＳｉＣ粒子により、モールド１５の酸化を防止でき、モールド１５の汚染防止を図ることができると共に、モールド１５と石英ガラス２５との反応を防止することができ、石英ガラス２５への浸炭防止を図り、変質層が縮小され、品質良好部分の拡大が図られる。従って、処理後の石英ガラス２５は、表面に凸凹が生じることなく、亀裂の発生も防止できる。
【００５１】
しかも、離型層２７を設けることにより、石英ガラス２５とモールド１５とが反応して融着するのを防止できるため、モールド１５や石英ガラス２５の破損を防止することができる。
【００５２】
【実施例】
以下、実施例について説明する。
【００５３】
［実施例］
合成された合成石英ガラスインゴットを所定の形状に加工した後、上記成形装置１０を用いて表１の実施例１〜４に示すような条件で処理を行った。この際の昇温速度は６００℃／ｈｒである。また、表２には、その処理により得られた石英ガラス２５の特性を示した。
【００５４】
すなわち、表１に示すように、実施例１〜４は、剥離層２７の塗布材がカーボン粒子（Ｃ）及びＳｉＣ粒子の２種類である。そして、実施例１では、カーボン粒子径が０．１μｍ、ＳｉＣ粒子径が０．１μｍ、構造が二重構造（カーボン粒子層とＳｉＣ粒子層との二重構造）、真空中で純化処理されたものである。
【００５５】
実施例２は、カーボン粒子径が１０μｍ、ＳｉＣ粒子径が１μｍ、構造が二重構造、Ｃｌ２ガス中で純化処理されたものである。
【００５６】
実施例３は、カーボン粒子径が０．０１μｍ、ＳｉＣ粒子径が０．０１μｍ、構造が混在構造（カーボン粒子とＳｉＣ粒子とが混在した層）、真空中で純化処理されたものである。
【００５７】
実施例４は、カーボン粒子径が１μｍ、ＳｉＣ粒子径が１０μｍ、構造が混在構造、Ｃｌ２ガス中で純化処理されたものである。
【００５８】
［比較例］
合成された合成石英ガラスインゴットを所定の形状に加工し、表１の比較例１〜４に示すような条件で処理を行った。表２には、その処理により得られた石英ガラスの特性を示した。
すなわち、表１に示すように、比較例１〜４では、塗布材がカーボン粒子又はＳｉＣ粒子の何れか一方で、両方が塗布されたものはない。
【００５９】
比較例１は、カーボン粒子径が１μｍ、ＳｉＣ粒子は存在せず、純化処理もされていないものである。
【００６０】
比較例２は、カーボン粒子は存在せず、ＳｉＣ粒子径が１０μｍ、純化処理もされていないものである。
【００６１】
比較例３は、カーボン粒子径が０．１μｍ、ＳｉＣ粒子は存在せず、真空中で純化処理されたものである。
【００６２】
比較例４は、カーボン粒子は存在せず、ＳｉＣ粒子径が０．１μｍ、真空中で純化処理されたものである。
【００６３】
ここで、表２に基づいて、実施例１〜４と比較例１〜４とを比較すると、実施例１〜４では透過率分布（Δｎ）の数値が全体的に小さいのに対し、比較例１〜４では透過率分布（Δｎ）の数値が全体的に大きい。
【００６４】
実施例１〜４では複屈折率の数値が全体的に小さいのに対し、比較例１〜４では複屈折率の数値が全体的に大きい。
【００６５】
実施例１〜４では透過率が９９．５％／ｃｍ〜９９．７％／ｃｍの範囲であるのに対し、比較例１〜４では透過率が９９．０％／ｃｍ〜９９．４％／ｃｍの範囲であり、実施例１〜４の方が、比較例１〜４より透過率が良好であることが分かる。
【００６６】
実施例１〜４では耐久性がすべて良いのに対し、比較例１〜４では耐久性がすべて悪い結果が出た。
【００６７】
実施例１〜４では、外周からの変質層の厚さが、５ｍｍ〜１０ｍｍの範囲であるのに対し、比較例１〜４では外周からの変質層の厚さが、１５ｍｍ〜２５ｍｍの範囲であり、実施例１〜４の方が、比較例１〜４より、外周からの変質層の厚さが薄いことが分かる。
【００６８】
【表１】
2004307263.tif 000003
【００６９】
【表２】
2004307263.tif 000004
【００７０】
【発明の効果】
以上説明してきたように、各請求項に記載の発明によれば、グラファイト製モールドの内壁面に、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布すると共に、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布して乾燥させて離型層を形成したため、石英ガラスやグラファイト製モールドの損傷を防止すると共に、石英ガラスとグラファイト製モールドとの反応を防止することができる。これにより、四塩化ケイ素，シラン，有機ケイ素等のケイ素化合物を原料として製造される合成石英ガラス、またはＧｅ，Ｔｉ，Ｂ，Ｆ，Ａｌ等の屈折率を変化させる成分を添加した合成石英ガラスを加熱加圧成形してレチクル（フォトマスク）基板や結像光学系のレンズ材料に適する大型ガラスブロックを歩留まりよく製造することができる。
【００７１】
請求項２に記載の発明によれば、カーボン粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布し、乾燥後、更にＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布するようにしたため、部分的にカーボン粒子が剥がれることなく、ＳｉＣ粒子を主な固形成分とする懸濁液を塗布し易い。
【００７２】
請求項６に記載の発明によれば、グラファイト製モールド内の離型層を真空雰囲気中もしくは塩素含有ガス雰囲気中での熱処理によって純化処理を行うことにより、石英ガラス中への不純物の拡散が微小に抑えられ、品質の良好な部分を拡大させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態の成形装置の一部を示す概略縦断面図である。
【符号の説明】
１０  成形装置
１１  真空チャンバ
１３  カーボンヒータ
１５  グラファイト製モールド
２３  天板
２５  石英ガラス
２６  シリンダロッド
２７  離型層
【図１】
2004307263.tif 000005