Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月1日(2012.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
背景ジオメトリを含むＣＡＤシステムにおける、衝突のない配管経路（９６０）を自動作成する方法であって、
ａ）データ処理装置（１００）により、ＣＡＤ環境における管（８３０，８４０）の少なくとも１つの始点（Ａ）および終点（Ｃ）と前記管の直径とを定義する入力を受け取るステップ（５１０）と、
ｂ）前記データ処理装置（１００）により、前記始点（Ａ）と前記終点（Ｃ）とのあいだに、前記背景ジオメトリに衝突しない複数の標本点（Ｂ）を決定するステップ（５２０）と、
ｃ）前記データ処理装置（１００）により、複数の頂点としての前記標本点（Ｂ）および前記始点（Ａ）および前記終点（Ｃ）と、各頂点を接続する複数の辺とを含むグラフを形成するステップ（５３０）と、
ｄ）前記データ処理装置（１００）により、前記始点（Ａ）から前記終点（Ｃ）までの前記グラフを通る経路（８３０，８４０）を計算するステップ（５４０）と、
ｅ）前記データ処理装置（１００）により、該経路（８３０，８４０）内の頂点ごとに、該頂点に接続された各辺に沿って、ＣＡＤ環境における、管の直径にクリアランス値を加えた値に等しい直径を有する円柱と前記背景ジオメトリとの衝突が存在するか否かを検査し、該衝突が存在する箇所の辺は前記グラフから除去するステップと、
ｆ）前記データ処理装置（１００）により、前記衝突が存在しない場合、当該の経路を有効な経路とし、該有効な経路をユーザに表示するステップと
を有する
ことを特徴とするＣＡＤシステムにおいて衝突のない配管経路を自動作成する方法。
【請求項２】
前記データ処理装置（１００）により、有効な最短経路を決定する、請求項１記載のＣＡＤシステムにおいて衝突のない配管経路を自動作成する方法。
【請求項３】
経路長さおよび経路内の継手の数に基づいて前記最短経路を決定する、請求項２記載のＣＡＤシステムにおいて衝突のない配管経路を自動作成する方法。
【請求項４】
選択された最小直線長さよりも小さい経路の線分の数および経路内の自己交差の数に基づいて前記最短経路を決定する、請求項２記載のＣＡＤシステムにおいて衝突のない配管経路を自動作成する方法。
【請求項５】
前記衝突が存在しない場合、少なくとも１つの辺を検査済のものとしてマークする、請求項１記載のＣＡＤシステムにおいて衝突のない配管経路を自動作成する方法。
【請求項６】
さらに、計算された経路（９６０）に沿って複数の３Ｄ円柱を含む管を形成するステップを有する、請求項１記載のＣＡＤシステムにおいて衝突のない配管経路を自動作成する方法。
【請求項７】
有効な経路が存在しない場合、前記ステップｅ）および前記ステップｆ）を反復する、請求項１記載のＣＡＤシステムにおいて衝突のない配管経路を自動作成する方法。
【請求項８】
衝突のない配管経路（９６０）を自動作成するための、背景ジオメトリを含むＣＡＤシステムにおけるコンピュータのためのコンピュータプログラムであって、
前記コンピュータに、
ａ）ＣＡＤ環境における管（８３０，８４０）の少なくとも１つの始点（Ａ）および終点（Ｃ）と前記管の直径とを定義する入力を受け取るステップ（５１０）と、
ｂ）前記始点（Ａ）と前記終点（Ｃ）とのあいだに、前記背景ジオメトリに衝突しない複数の標本点（Ｂ）を決定するステップ（５２０）と、
ｃ）複数の頂点としての前記標本点（Ｂ）および前記始点（Ａ）および前記終点（Ｃ）と、各頂点を接続する複数の辺とを含むグラフを形成するステップ（５３０）と、
ｄ）前記始点（Ａ）から前記終点（Ｃ）までの前記グラフを通る経路（８３０，８４０）を計算するステップ（５４０）と、
ｅ）該経路（８３０，８４０）内の頂点ごとに、該頂点に接続された各辺に沿って、ＣＡＤ環境における、管の直径にクリアランス値を加えた値に等しい直径を有する円柱と前記背景ジオメトリとの衝突が存在するか否かを検査し、該衝突が存在する箇所の辺は前記グラフから除去するステップと、
ｆ）前記衝突が存在しない場合、当該の経路を有効な経路とし、該有効な経路をユーザに表示するステップと
を実行させる
ことを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項９】
衝突のない配管経路（９６０）を自動作成するための、背景ジオメトリを含むＣＡＤシステムにおけるコンピュータであって、
該コンピュータは、
ａ）ＣＡＤ環境における管（８３０，８４０）の少なくとも１つの始点（Ａ）および終点（Ｂ）と前記管の直径とを定義する入力を受け取り（５１０）、
ｂ）前記始点（Ａ）と前記終点（Ｃ）とのあいだに、前記背景ジオメトリに衝突しない複数の標本点（Ｂ）を決定し（５２０）、
ｃ）複数の頂点としての前記標本点（Ｂ）および前記始点（Ａ）および前記終点（Ｃ）と、各頂点を接続する複数の辺とを含むグラフを形成し（５３０）、
ｄ）前記始点（Ａ）から前記終点（Ｃ）までの前記グラフを通る経路（８３０，８４０）を計算し（５４０）、
ｅ）該経路（８３０，８４０）内の頂点ごとに、該頂点に接続された各辺に沿って、ＣＡＤ環境における、管の直径にクリアランス値を加えた値に等しい直径を有する円柱と前記背景ジオメトリとの衝突が存在するか否かを検査し、該衝突が存在する箇所の辺は前記グラフから除去し、
ｆ）前記衝突が存在しない場合、当該の経路を有効な経路とし、該有効な経路をユーザに表示する
ことを特徴とするコンピュータ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月20日(2012.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの成分ＡおよびＢを含有する被覆系であって、この場合成分Ａは、含分
Ａａ）
【化１】
2011526314.tif 000001
〔式中、
Ｙ(1)は、３−グリシジルオキシプロピル基であり、および
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、同一かまたは異なり、１〜６個の炭素原子を有するアルキル基である〕で示されるシランと
Ａｂ）水とからの、
Ａｃ）無機酸または有機酸から選択された触媒の存在下での少なくとも１つの反応生成物を含有し、
および成分Ｂは、Ｂｂ）第四アンモニウム化合物から選択された添加剤の存在下での含分Ｂａ）一般式
【化２】
2011526314.tif 000002
〔式中、
Ｙ(2)は、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピル基またはＮＨ2（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ）3−基であり、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3は、同一かまたは異なり、１〜６個の炭素原子を有するアルキル基である〕で示されるシランからの少なくとも１つの反応生成物を含有し、
成分Ａ、Ｂの少なくとも１つは、付加的に含分
ｄ）少なくとも１つの無機充填剤および
ｅ）８５℃以下の温度で沸点を有する溶剤を含有する、前記の２つの成分ＡおよびＢを含有する被覆系。
【請求項２】
Ｙ(2)がＮ−２−アミノエチル−３−アミノプロピル基である場合、少なくとも１つの基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がエトキシ基から選択され、および／または少なくとも１つの基Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3がエトキシ基から選択されており、或いは、Ｙ(2)がＮＨ2（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ）3−基である場合、少なくとも１つの基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3がメトキシ基から選択され、および／または少なくとも１つの基Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3がメトキシ基から選択されている、請求項１記載の被覆系。
【請求項３】
含分ｅ）が、一般式ＣnＨ2n+1ＯＨ〔式中、ｎは１〜４である〕で示される一連のアルコールまたはこれらのアルコールの混合物から選択されていてもよいし、アセトン、メチルエチルケトンから選ばれたケトンまたは該ケトンの混合物から選択されていてもよいし、またはアセテートから選択されていてもよい、請求項１記載の被覆系。
【請求項４】
成分Ａ、Ｂの少なくとも１つが、他の含分
ｃ）
【化３】
2011526314.tif 000003
〔式中、Ｙ(3)は、アルキル基、フルオロ基、フルオロアルキル基、メタクリル基、ビニル基、メルカプト基から選択されており、Ｒ''1、Ｒ''2、Ｒ''3は、１〜６個の炭素原子を有する同一または異なるアルキル基である〕で示される他のシランの少なくとも１つの反応生成物を含有する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の被覆系。
【請求項５】
表面被覆を支持体上に形成させる方法において、請求項１から４までのいずれか１項に記載の被覆系の成分ＡおよびＢの含分を
（ｉ）一緒にし、引続き
（ｉｉ）工程（ｉ）で得られた組成物を貯蔵し、引続き
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で得られた組成物を支持体上に施こし、引続き
（ｉｖ）そこで硬化させることを特徴とする、表面被覆を支持体上に形成させる方法。
【請求項６】
成分Ａにおいて、
５〜４０質量％の質量割合を有するＡａ）および
５〜２０質量％の質量割合を有するＡｂ）および
０．０５〜１質量％の質量割合を有するＡｃ）、および
成分Ｂにおいて、
５〜５０質量％の質量割合を有するＢａ）および
０．４〜２質量％の質量割合を有するＢｂ）および
成分Ａ、Ｂの少なくとも１つにおいて、
２〜２０質量％の質量割合を有するｄ）および
２〜６０質量％の質量割合を有するｅ）を使用し、
この場合この量の記載は、それぞれ被覆系に対するものであり、但し、この場合前記質量割合の総和は、全部合わせて１００％となる、請求項５記載の方法。
【請求項７】
成分Ａ、Ｂの少なくとも１つに０．５〜１０質量％の質量割合を有する含分ｃ）を混入し、この場合この量の記載は、被覆系に対するものであり、但し、この場合前記質量割合の総和は、全部合わせて１００％となる、請求項６記載の方法。
【請求項８】
成分Ａ、Ｂの少なくとも１つに他の含分として
ｆ）メラミン樹脂、アクリレートから選択される塗料結合剤またはこれらの塗料結合剤の混合物を、０．００１〜１５質量％の質量割合で、および／または
ｇ）エポキシ樹脂を、０．００１〜１５質量％の質量割合で混入し、
この場合この量の記載は、それぞれ被覆系に対するものであり、但し、この場合前記質量割合の総和は、全部合わせて１００％となる、請求項５から７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
工程（ｉｖ）で前記組成物を６０℃〜１５０℃の温度に加熱し、それによって前記組成物を硬化させる、請求項５から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
成分Ａ、Ｂの少なくとも１つにもう１つの含分として、
ｈ）酸化ジルコニウム、酸化セリウムまたは二酸化チタンから選択された無機ＵＶ吸収剤、またはこれら無機吸収剤の混合物、および／またはヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾフェノン、ＨＡＬＳ安定剤から選択された有機ＵＶ吸収剤、またはこれらの有機吸収剤の混合物を混入し、工程（ｉｖ）で前記組成物をＵＶ線で処理する、請求項５から９までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
含分ｈ）を０．５〜５質量％の質量割合で使用し、この場合この量の記載は、被覆系に対するものであり、但し、この場合前記質量割合の総和は、全部合わせて１００％となる、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
請求項５から１１までのいずれか１項に記載の方法で得られる、珪素−酸素−珪素結合を有する被覆。
【請求項１３】
被覆が５Ｎ〜２０Ｎのヴァインマン（Weinmann）による引掻硬度を有する、請求項１２記載の珪素−酸素−珪素結合を有する被覆。
【請求項１４】
被覆が０．１〜０．５質量％の耐磨耗性を有する、請求項１２または１３記載の被覆。
【請求項１５】
請求項１２から１４までのいずれか１項に記載の被覆を有する、少なくとも１つのポリマー表面を有する製品。
【請求項１６】
装置、アーマチュア、器械、測定器具、衛生器具、調理器具、家庭用器具、車両のインテリア、コックピット、ディスプレイ、覗き窓または家具を被覆するための、または板、シェル、成形部材、ケーシング、ノブ、レバー、脚部、ドア、蓋、床、側壁、グリップ、装飾パッドまたは吹付保護要素としての請求項１５記載の製品の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月31日(2012.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動ユニット（１０）によって駆動可能なカムシャフト（１１）と、調整ギヤ（１３）と、スタータエレメント（１５）及びロータエレメント（１６）を備えた制御ユニット（１４）と、を有し、前記駆動ユニット（１０）と前記カムシャフト（１１）との間の位相関係を調整するように構成されている位相調整ユニット（１２）と、前記制御ユニット（１４）の少なくとも一部を支持するように構成されているベアリング装置（１７）と、を備える、内燃機関のカムシャフトユニットであって、
前記ベアリング装置（１７）が、前記スタータエレメント（１５）と前記ロータエレメント（１６）との間の半径方向の許容誤差を補整するように構成されていることを特徴とするカムシャフトユニット。
【請求項２】
前記スタータエレメント（１５）と前記ロータエレメント（１６）とが、ベアリングなしに向き合って配置されていることを特徴とする、請求項１に記載のカムシャフトユニット。
【請求項３】
前記ベアリング装置（１７）が、前記制御ユニット（１４）の少なくとも一部を前記カムシャフト（１１）に対して支持するように構成されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載のカムシャフトユニット。
【請求項４】
前記ベアリング装置（１７）が、前記カムシャフト（１１）に対して前記ロータエレメント（１６）を支持するように構成されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のカムシャフトユニット。
【請求項５】
前記ベアリング装置（１７）が、前記制御装置（１４）の一部及び前記調整ギヤ（１３）の一部を支持するように構成されている支持エレメント（１８）を有していることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のカムシャフトユニット。
【請求項６】
前記ベアリング装置（１７）が、前記カムシャフト（１１）と同軸上で前記支持エレメント（１８）を支持するように構成されているベアリングユニット（１９）を有することを特徴とする、請求項５に記載のカムシャフトユニット。
【請求項７】
前記ロータエレメント（１６）と前記支持エレメント（１８）とが、軸方向に移動可能で、トルク耐性に互いに接続されていることを特徴とする、少なくとも請求項５に記載のカムシャフトユニット。
【請求項８】
前記制御ユニット（１４）が、前記ロータエレメント（１６）を軸方向に動かすために構成されている少なくとも１つの電磁アクチュエータ（２１）を備えた操作ユニット（２０）を有していることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載のカムシャフトユニット。
【請求項９】
前記制御ユニットがブレーキユニット（１４）として実施され、前記ロータエレメントが減速エレメント（１６）として実施されていることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載のカムシャフトユニット。
【請求項１０】
前記スタータエレメント（１５）が、前記減速エレメント（１６）に関して半径方向に拡大された摩擦面を備える摩擦ライニング（２２）を有していることを特徴とする、請求項９に記載のカムシャフトユニット。
【請求項１１】
前記調整ギヤ（１３）が、スーパインポーズドギヤとして形成されていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のカムシャフトユニット。
【請求項１２】
前記ブレーキユニット（１４）が、該ブレーキユニット（１４）を開くように構成されているスプリングユニット（２３）を有することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のカムシャフトユニット。
【請求項１３】
前記スプリングユニット（２３）が、前記スタータエレメント（１５）から分離されているサポートエレメント（２４）を有することを特徴とする、請求項１２に記載のカムシャフトユニット。
【請求項１４】
駆動ユニット（１０）によって駆動可能なカムシャフト（１１）と、調整ギヤ（１３）と、スタータエレメント（１５）及びロータエレメント（１６）を備えた制御ユニット（１４）と、を有し、前記駆動ユニット（１０）と前記カムシャフト（１１）との間の位相関係を調整するように構成されている位相調整ユニット（１２）と、前記制御ユニット（１４）の少なくとも一部を支持するように構成されているベアリング装置（１７）と、を備える、内燃機関のカムシャフトユニットのための方法であって、
前記ベアリングユニット（１７）によって、前記スタータエレメント（１５）と前記ロータエレメント（１６）との間の半径方向の許容誤差が補整されることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月21日(2012.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
【表２】
2011526331.tif 000001
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
［１］  カーボンファイバー（１）の官能基化のための方法であって、
ａ）カーボンファイバー（１）を、入り口（３）および出口（４）を有する反応器（２）中に設置し、
ｂ）該反応器（２）を１２５〜５００℃の範囲の温度に過熱し、
ｃ）硝酸（５）からの蒸気を、反応器（２）へ通過させ、および
ｄ）次いで、処理カーボンファイバー（１）を乾燥させる、
前記方法。
［２］  カーボンナノファイバー、特に３〜５００ｎｍの範囲の外径を有するカーボンナノファイバーを、カーボンファイバー（１）として用いることを特徴とする、［１］に記載の方法。
［３］  １０〜５００ｍ２／ｇの範囲、特に２０〜２００ｍ２／ｇの範囲のＢＥＴ表面積を有するカーボンファイバーをカーボンファイバー（１）として用いることを特徴とする、［１］に記載の方法。
［４］  凝縮器（６）を反応器出口（４）の後に設置し、凝縮物のための凝縮器出口（７）を、戻り配管（８）により硝酸のための貯蔵容器（９）に接続することを特徴とする、［１］に記載の方法。
［５］  ガラスフラスコを、特に油浴（１０）により過熱する硝酸のための貯蔵容器（９）として用いることを特徴とする、［４］に記載の方法。
［６］  工程ｂ）後に、反応器（２）を、前記温度で、３〜２０時間の範囲、特に５〜１５時間の範囲の間、保持することを特徴とする、［１］に記載の方法。
［７］  工程ｃ）を、０．５〜４時間の範囲の間にわたって、およびこれとは独立して８０〜１５０℃の範囲の温度で行うことを特徴とする、［１］に記載の方法。
［８］  ＸＰＳにより計測された原子表面濃度から誘導される炭素原子に対する酸素原子の割合は、０．１８を越えることを特徴とする、カーボンファイバー。
［９］  化学結合形態で炭素１ｇあたり３５０μｍｏｌを越えるカルボン酸基を含有することを特徴とする、カーボンファイバー。
［１０］  化学結合形態で炭素１ｇあたり合計４００μｍｏｌを越えるカルボン酸基およびカルボン酸無水物基を含有することを特徴とする、［９］に記載のカーボンファイバー。
［１１］  ４５％を越える化学結合酸素を、ＴＰＤ分析においてＣＯ２として脱離することを特徴とする、［９］または［１０］に記載のカーボンファイバー。
［１２］  繊維は３〜５００ｎｍの平均径および少なくとも５：１の長さと直径の割合を有することを特徴とする、［８］に記載のカーボンファイバー。
［１３］  ［１］に記載の方法により得られる、［８］〜［１２］のいずれかに記載のカーボンファイバー。
［１４］  複合材料における、エネルギー貯蔵における、センサーとしての、吸着剤としての、不均一触媒のための担体としての、または触媒活性材料としての［８］〜［１３］のいずれかに記載のカーボンファイバーの使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カーボンファイバー（１）の官能基化のための方法であって、
ａ）カーボンファイバー（１）を、入り口（３）および出口（４）を有する反応器（２）中に設置し、
ｂ）該反応器（２）を１２５〜５００℃の範囲の温度に過熱し、
ｃ）硝酸（５）からの蒸気を、反応器（２）へ通過させ、および
ｄ）次いで、処理カーボンファイバー（１）を乾燥させる、
前記方法。
【請求項２】
凝縮器（６）を反応器出口（４）の後に設置し、凝縮物のための凝縮器出口（７）を、戻り配管（８）により硝酸のための貯蔵容器（９）に接続することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ＸＰＳにより計測された原子表面濃度から誘導される炭素原子に対する酸素原子の割合は、０．１８を越えることを特徴とする、カーボンファイバー。
【請求項４】
化学結合形態で炭素１ｇあたり３５０μｍｏｌを越えるカルボン酸基を含有することを特徴とする、カーボンファイバー。
【請求項５】
化学結合形態で炭素１ｇあたり合計４００μｍｏｌを越えるカルボン酸基およびカルボン酸無水物基を含有することを特徴とする、請求項４に記載のカーボンファイバー。
【請求項６】
４５％を越える化学結合酸素を、ＴＰＤ分析においてＣＯ２として脱離することを特徴とする、請求項４または５に記載のカーボンファイバー。
【請求項７】
複合材料における、エネルギー貯蔵における、センサーとしての、吸着剤としての、不均一触媒のための担体としての、または触媒活性材料としての請求項３〜６のいずれかに記載のカーボンファイバーの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽光発電モジュールと、
バラストを収納し、前記太陽光発電モジュールに取り外し可能に対応付けられているバラストトレイと
を備え、
前記太陽光発電モジュールは、
太陽光発電積層体を含む太陽光発電デバイスと、
前記太陽光発電積層体に取着されており、第１のアームを含むフレームと
を有し、
前記バラストトレイの少なくとも一部分が前記太陽光発電積層体の垂直方向下方に配置され、前記バラストトレイの少なくとも一部分が前記第１のアームの垂直方向上方に配置され、前記太陽光発電モジュールが大きくずれないように制限する安定化状態を取る
太陽光発電モジュールアセンブリ。
【請求項２】
前記安定化状態では、前記バラストトレイは前記フレームに固定されていない請求項１に記載の太陽光発電モジュールアセンブリ。
【請求項３】
前記バラストトレイは、道具を用いることなく手動で前記安定化状態から取り外し可能である請求項１に記載の太陽光発電モジュールアセンブリ。
【請求項４】
前記第１のアームは、前記バラストトレイを前記安定化状態に誘導する位置合わせタブを形成する請求項１に記載の太陽光発電モジュールアセンブリ。
【請求項５】
前記バラストトレイには底面が設けられており、少なくとも１つの側壁が前記底面から延伸しており、前記側壁から前記底面とは反対側に縁部が突出しており、前記縁部は、前記安定化状態において、前記位置合わせタブを受け入れる大きさのチャネルを形成している請求項４に記載の太陽光発電モジュールアセンブリ。
【請求項６】
前記チャネルは、閉じた端面によって画定されており、前記位置合わせタブの終端は自由端であり、
前記安定化状態では、前記端面と前記自由端との間に間隙が形成される請求項５に記載の太陽光発電モジュールアセンブリ。
【請求項７】
前記第１のアームは、前記自由端の反対側に下面が設けられており、前記下面は平坦面に載置される面であり、
前記底面には、前記平坦面に載置される外面があり、
前記下面と前記自由端との間の垂直方向の距離は、前記底面の前記外面と前記チャネルの前記閉じた端面との間の垂直方向の距離よりも短い請求項１から６の何れか１項に記載の太陽光発電モジュールアセンブリ。
【請求項８】
前記太陽光発電積層体は外周を画定しており、前記フレームは前記外周の外側を囲む骨組部を含み、
前記第１のアームは前記骨組部から突出して開放領域を画定しており、前記安定化状態では前記バラストトレイの一部分が前記開放領域内に配置される請求項７に記載の太陽光発電モジュールアセンブリ。
【請求項９】
前記骨組部は、前方フレーム部材と、後方フレーム部材と、互いに対向する第１の側方フレーム部材および第２の側方フレーム部材とを含み、
前記第１のアームは、前記第１の側方フレーム部材から延伸している肩部分、および、前記前方フレーム部材と反対の方向に前記後方フレーム部材を長手方向に超えた位置にある端部まで前記肩部分から延伸している足部分を含み、
前記安定化状態では、前記バラストトレイの一部分が前記足部分の上方に配置される請求項８に記載の太陽光発電モジュールアセンブリ。
【請求項１０】
前記フレームはさらに、第２のアームを含み、前記第２のアームは、前記第２の側方フレーム部材から延伸している肩部分、および、前記前方フレーム部材とは反対の方向に前記後方フレーム部材を長手方向に超えた位置にある端部まで延伸している足部分を含み、
前記安定化状態では、前記第１のアームおよび前記第２のアームと、前記バラストトレイの一部分との間に配置されている前記バラストトレイが、前記第２のアームの前記足部分の上方に配置されている請求項９に記載の太陽光発電モジュールアセンブリ。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年6月29日(2012.6.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】
Ｒ０が、メチル基を示し、
Ｒ１が、−ＣＨ２−ＳＯ３Ｈ又は−ＣＮを示し、
Ｒ２が、メチル基又はエチル基を示し、
Ｒ３が、Ｈ、メチル基、メトキシ基、又はスルホ基を示し、
Ｒ４が、Ｈ、メチル基又はメトキシ基を示し、
Ｂが、式−ＣＲ５Ｒ６−を有する基（式中、
Ｒ５が、Ｈ、メチル基又はエチル基を示し、
Ｒ６が、置換されていないＣ１〜Ｃ４アルキル基、置換されていないアリール基又は置換されたアリール基を示すか、あるいは、Ｒ５とＲ６とは一緒になって６員の環状脂肪族環を形成し、その際、６員の環がそれ以上置換されていない。）を示す、
ことを特徴とする、請求項３に記載の化合物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
上記の式（Ｉ）の化合物中の少なくとも１つのアニオン性置換基は、Ｒ１及び／又はＲ３のうちのいずれか一方に好ましく位置する。より好ましくは、少なくとも１つのアニオン性置換基は置換基Ｒ２のいずれか一方に位置する。これは、置換基のうちの一つに好ましく位置するこの置換基がアニオン性の基であるとことも意味する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
上記の一般式（Ｉ）のさらにより好ましい化合物において、
Ｒ０は、メチル基を示し、
Ｒ１は、−ＣＨ２−ＳＯ３Ｈ又は−ＣＮを示し、
Ｒ２は、メチル基又はエチル基を示し、
Ｒ３は、Ｈ、メチル基、メトキシ基、又はスルホ基を示し、
Ｒ４は、Ｈ、メチル基又はメトキシ基を示し、
Ｂは、式−ＣＲ５Ｒ６−を有する基（式中、
Ｒ５は、Ｈ、メチル基又はエチル基を示し、
Ｒ６は、置換されていないＣ１〜Ｃ４アルキル基、置換されていないアリール基又は置換されたアリール基を示すか、あるいは、Ｒ５とＲ６とが一緒になって６員の環状脂肪族環を形成し、その際、６員の環はそれ以上置換されていない。）を示す。）
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
この染料を、塩化ナトリウムで塩析することによって単離し、ろ別し、そして低減された圧力下で５０℃で乾燥させることができるか、あるいは、一方、この反応混合物を、生成物を単離せずに直接染色に使用できる。これにより、ウール、及び特にポリアミド繊維に対して、非常に良好な光及び湿潤堅牢特性を有する黄色染色物（ラムダ（ｍａｘ）（λｍａｘ）＝４４５ｎｍ）がもたらされる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月30日(2012.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繰り返し単位として、式（Ｉ）
【化１】
2011526631.tif 000001
（但し、
Ｒが、ａ）Ｃ1-20アルキル基、ｂ）Ｃ2-20アルケニル基、ｃ）Ｃ2-20アルキニル基、ｄ）Ｃ1-20アルコキシ基、ｅ）−Ｙ−Ｃ3-10シクロアルキル基、ｆ）−Ｙ−Ｃ6-14アリール基、ｇ）−Ｙ−３−１２員のシクロヘテロアルキル基、又はｈ）−Ｙ−５−１４員のヘテロアリール基から独立して選ばれ、
ここで、Ｃ1-20アルキル基、Ｃ2-20アルケニル基、Ｃ2-20アルキニル基、Ｃ3-10シクロアルキル基、Ｃ6-14アリール基、３−１２員のシクロヘテロアルキル基、及び５−１４員のヘテロアリール基は、任意に１−４個のＲ1基で置換されていても良く、
Ｒ1が、ａ）Ｓ（Ｏ）m−Ｃ1-20アルキル基、ｂ）Ｓ（Ｏ）m−ＯＣ1-20アルキル基、ｃ）Ｓ（Ｏ）m−ＯＣ6-14アリール基、ｄ）Ｃ（Ｏ）−ＯＣ1-20アルキル基、ｅ）Ｃ（Ｏ）−ＯＣ6-14アリール基、ｆ）Ｃ1-20アルキル基、ｇ）Ｃ2-20アルケニル基、ｈ）Ｃ2-20アルキニル基、ｉ）Ｃ1-20アルコキシ基、ｊ）Ｃ3-10シクロアルキル基、ｋ）Ｃ6-14アリール基、ｌ）３−１２員のシクロヘテロアルキル基、又はｍ）５−１４員のヘテロアリール基から独立して選ばれ、
Ｙが、二価のＣ1-6アルキル基、又は共有結合から選ばれ；及び
ｍが、０、１又は２から独立して選ばれる、）
の基を含み、及び数平均分子量Ｍnが、５０００〜２０００００ｇ／ｍｏｌの範囲であることを特徴とするポリ（５，５’−ビス（チオフェン−２−イル）−ベンゾ［２，１−ｂ；３，４−ｂ’］ジチオフェン）。
【請求項２】
請求項１に記載のポリマーの１種以上を、液体媒体中に溶解した状態、又は分散した状態で含む組成物。
【請求項３】
請求項１に記載のポリマーの１種以上を含む薄いフィルム状の半導体。
【請求項４】
基材と、該基材上に沈澱した請求項３に記載の薄いフィルム状の半導体を含む複合体。
【請求項５】
請求項１に記載のポリマーを液体媒体中に溶解させ、溶液を形成し、該溶液を基材上に施し、そして溶媒を除去して、薄いフィルム状の半導体を基材上に形成することを含む、基材、及び請求項１に記載の１種以上のポリマーを含む、薄いフィルム状の半導体を含む複合体を製造する方法。
【請求項６】
溶液が、スピンコーティング、ドロップコーティング、ディップコーティング、又は印刷によって施されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
請求項３に記載の薄いフィルム状の半導体、又は請求項４に記載の複合体を含む、電界効果トランジスタデバイス。
【請求項８】
請求項３に記載の薄いフィルム状の半導体、又は請求項４に記載の複合体を含む、光起電装置。
【請求項９】
請求項３に記載の薄いフィルム状の半導体、又は請求項４に記載の複合体を含む、有機発光ダイオードデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月29日(2012.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
この染料を、塩化ナトリウムで塩析することによって単離し、ろ別し、そして低減された圧力下で５０℃で乾燥させることができるか、あるいは、一方、この反応混合物を、生成物を単離せずに直接染色に使用できる。これにより、ウール、及び特にポリアミド繊維に対して、非常に良好な光及び湿潤堅牢特性を有する黄色染色物（ラムダ（ｍａｘ）（λｍａｘ）＝４４５ｎｍ）がもたらされる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
λ  ｍａｘ  （ラムダ最大）は、ｎｍ（ナノメートル；１％酢酸溶液中で測定）で示す。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月4日(2012.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
最後に、レボノルゲストレル放出子宮内用システム（ＬＮＧ−ＩＵＳ、例えば、フィンランド国、トゥルク、バイエル シェーリング ファーマ オイ製の“ＭＩＲＥＮＡ”）は、重度の月経出血の処置に効果的であることが示されている（例えば、Luukkainen et al, Contraception. 1995 Nov; 52(5): 269-76、Andersson et al, Br J Obstet Gynaecol. 1990 Aug;97(8):690-4、Moller et al., Hum Reprod. 2005 May;20(5): 1410-7、Lethaby et al., Cochrane Database Syst Rev. 2005 Oct 19;(4):CD002126 and Cochrane Database Syst Rev. 2000;(2):CD002126を参照）。ＬＮＧ−ＩＵＳは、避妊のための効果的な方法および完全な可逆性を提供する局所性ホルモン避妊薬であり、許容成績も優れている。システムが放出する抵投与量のレボノルゲストレルは、ホルモン関連全身性副作用の最少化を確実にするので、副作用は使用開始から数ヶ月で徐々に消える。更にこのシステムは、使用者に避妊とは別の健康上の利益をもたらす。子宮内膜腔内におけるレボノルゲストレルの局所的放出は、結果として子宮内膜が卵巣エストラジオールに対して非感受性になるにつれて、子宮内膜の生長を強く抑制することになる。子宮内膜の抑制が、月経出血の期間および量の減少の原因であり、月経困難症の緩和となる。月経出血量を減少させることによって、ＬＮＧ−ＩＵＳは体内の鉄分量を増加するため、月経過多の効果的な治療にも有効である。月経過多症の女性の多くにおいてＩＵＳの使用は、子宮摘出または子宮内膜切除などのより侵襲性の外科療法の代替療法となり得る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロゲストーゲンまたはプロゲストーゲン活性を有する薬剤の制御放出を長期にわたり避妊に必要なレベルで実施するための子宮内用送達システムであって、該子宮内用送達システムは、ボディー構造体および少なくとも１つの貯蔵体を包含し、該貯蔵体は芯を包含し、芯は重合体組成物から実質的になり、該子宮内用送達システムが、子宮内膜の異常出血および不正出血の少なくとも一方を防止または抑制しうる少なくとも１種の治療学的に活性な物質を更に包含し、該物質はトラネキサム酸、メフェナム酸、ダナゾールおよび血管新生阻害剤からなる群より選ばれることを特徴とするシステム。
【請求項２】
貯蔵体が芯を覆うメンブランをさらに包含し、該メンブランは重合体組成物から実質的になり、該重合体組成物が芯の重合体組成物と同じまたは異なることを特徴とする、請求項１に記載の子宮内用送達システム。
【請求項３】
プロゲストーゲンまたはプロゲストーゲン活性を有する薬剤、ならびに子宮内膜の異常出血および不正出血の少なくとも一方を防止または抑制しうる治療学的に活性な物質が、同じ貯蔵体に含まれていることを特徴とする、請求項１または２に記載の子宮内用送達システム。
【請求項４】
プロゲストーゲンまたはプロゲストーゲン活性を有する薬剤、ならびに子宮内膜の異常出血および不正出血の少なくとも一方を防止または抑制しうる治療学的に活性な物質が、個別の貯蔵体に含まれていることを特徴とする、請求項１または２に記載の子宮内用送達システム。
【請求項５】
プロゲストーゲンまたはプロゲストーゲン活性を有する薬剤が、黄体ホルモンおよびその誘導体、酢酸シプロテロン、デソゲストレル、エトノゲストレル、レボノルゲストレル、リネストレノール、酢酸メドロキシプロゲステロン、ノルエチステロン、酢酸ノルエチステロン、ノルゲスチメート、ドロスピレノン、ゲストデン、１９−ノル−１７−ヒドロキシプロゲステロンエステル、１７α−エチニルテストステロンおよびその誘導体、１７α−エチニル−１９−ノルテストステロンおよびその誘導体、二酢酸エチノジオール、ジドロゲステロン、ノルエチノドレル、アリルエストレノール、メドロゲストン、ノルゲストリエノン、エチステロンならびにｄｌ−ノルゲストレルからなる群より選ばれることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の子宮内用送達システム。
【請求項６】
プロゲストーゲンまたはプロゲストーゲン活性を有する薬剤が、レボノルゲストレルであることを特徴とする、請求項５に記載の子宮内用送達システム。
【請求項７】
貯蔵体の芯が２つまたは３つ以上のセグメントを包含し、各セグメントは、同じまたは異なる重合体組成物からなり、プロゲストーゲンまたはプロゲストーゲン活性を有する薬剤、あるいは子宮内膜の異常出血および不正出血の少なくとも一方を防止または抑制しうる少なくとも１種の治療学的に活性な物質を含有することを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の子宮内用送達システム。
【請求項８】
少なくとも２つのセグメントが、該セグメントと同じまたは異なる重合体組成物から実質的になる不活性なメンブランまたは不活性なセグメントによって分離されていることを特徴とする、請求項７に記載の子宮内用送達システム。
【請求項９】
送達システム内の芯、メンブラン、および不活性な分離メンブランまたは分離セグメントを形成する重合体組成物が、下記の組成物からなる群より選ばれるものであることを特徴とする、請求項８に記載の子宮内用送達システム。
− ポリジメチルシロキサンを含む重合体組成物、
− シロキサン単位のケイ素原子に結合した３，３，３−トリフルオロプロピル基を含むシロキサン主体重合体を含む重合体組成物、
− ポリアルキレンオキシド基を含む重合体組成物であって、該ポリアルキレンオキシド基が、ケイ素−炭素結合によってポリシロキサン単位に結合したアルコキシ末端含有グラフトもしくはブロックの形態で存在しているか、または該グラフトと該ブロックが混合した形態で存在している重合体組成物、および
− 上記のうちの少なくとも２種の混合物。
【請求項１０】
シロキサン主体重合体のシロキサン単位のケイ素原子に結合した置換基の１〜約５０％が３，３，３−トリフルオロプロピル基であることを特徴とする、請求項９に記載の子宮内用送達システム。
【請求項１１】
ポリアルキレンオキシド基がポリエチレンオキシド基であることを特徴とする、請求項９に記載の子宮内用送達システム。
【請求項１２】
プロゲストーゲンまたはプロゲストーゲン活性を有する薬剤、ならびに異常出血および不正出血の少なくとも一方を防止または抑制しうる少なくとも１種の治療学的に活性な物質であってトラネキサム酸、メフェナム酸、ダナゾールおよび血管新生阻害剤からなる群より選ばれる物質の、避妊、月経問題の低減および無月経の誘導のための子宮内用送達システムの製造への使用。
【請求項１３】
子宮内用送達システムが、ボディー構造体および少なくとも１つの貯蔵体を包含し、該貯蔵体は芯を包含することを特徴とする、請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
貯蔵体が芯を覆うメンブランをさらに包含することを特徴とする、請求項１３に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月21日(2012.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低分子量の又は非常に低い分子量のヘパリンを含んで成る、慢性潰瘍の治療において使用するための医薬組成物において、当該ヘパリンの血漿半減期が2.3時間と6.9時間との間であり、そして当該ヘパリンの平均日用量が5,400 IU/日と10,000 IU/日との間であることを特徴とする医薬組成物。
【請求項２】
前記平均日用量が、前記血漿半減期に対して逆比例の態様で選択される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記ヘパリンの血漿半減期が6.5時間と6.9時間との間である場合、前記平均日用量が約5,400 IU/日である、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記ヘパリンの血漿半減期が4.0時間と4.4時間との間である場合、前記平均日用量が約7,600 IU/日である、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記ヘパリンの血漿半減期が約3.0時間である場合、前記平均日用量が約10,000 IU/日である、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記ヘパリンの血漿半減期が2.3時間と2.8時間との間である場合、前記平均日用量が約10,000 IU/日である、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記慢性潰瘍が糖尿病性足潰瘍である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記慢性潰瘍が圧迫潰瘍である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記低分子量ヘパリンが静脈内経路で投与される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記低分子量ヘパリンが皮下経路で投与される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記低分子量ヘパリンが経口投与される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記低分子量ヘパリンが局所経路で投与される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
慢性潰瘍の治療のために医薬の製造における、請求項１〜12のいずれか１項に記載の組成物の使用。
【請求項１４】
前記慢性潰瘍が糖尿病性足潰瘍である、請求項13に記載の使用。
【請求項１５】
前記慢性潰瘍が圧迫潰瘍である、請求項13に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月15日(2012.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：Ｒ１−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｈ）＝Ｃ（Ｈ）−ＯＲ２（Ｉ）（式中、Ｒ１は、フッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表すか、または、Ｒ１は、ＣＦ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２基を表し；Ｒ２、は少なくとも１個のハロゲン原子で置換されている、または置換されていないＣ１〜Ｃ１０アルキル基、アリール、または置換アリールを表す）に相当するアルケノンの製造方法であって、（ａ）式（ＩＩ）：Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘ（ＩＩ）（式中、Ｘはフッ素、塩素または臭素を表し、Ｒ１は上に与えられた意味を有する）に相当するカルボン酸ハロゲン化物を、式（ＩＩＩ）：ＣＨ２＝Ｃ（Ｈ）−ＯＲ２（ＩＩＩ）（式中、Ｒ２は上に与えられた意味を有する）に相当するビニルエーテルと、前記カルボン酸ハロゲン化物を含有する液体反応媒体中へビニルエーテルを導入することよって反応させて、前記アルケノンのハロゲン化前駆体を形成する工程と、（ｂ）前記前駆体からハロゲン化水素を脱離させて前記アルケノンを形成する工程とを含む方法。
【請求項２】
Ｒ１がフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｒ２がＣ１〜Ｃ４アルキル基である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記カルボン酸ハロゲン化物がトリフルオロアセチルクロリドである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記液体反応媒体が２０重量％から約１００重量％未満のカルボン酸ハロゲン化物を含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記液体反応媒体がカルボン酸ハロゲン化物から必須になる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記液体反応媒体が１重量％から約２０重量％未満のカルボン酸ハロゲン化物を含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記ビニルエーテルが、カルボン酸ハロゲン化物の１モル当たり０．０１〜２モル／時間の速度で前記液体反応媒体中へ導入される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
工程（ａ）の前記反応が塩基の実質的な不在下に実施される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
工程（ａ）の前記反応を第１温度で実施することと、工程（ｂ）を前記第１温度より高い第２温度で実施することとを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
工程（ａ）が第１反応ゾーンで実施され、工程（ｂ）が前記第１反応ゾーンとは異なる第２反応ゾーンで実施される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１反応ゾーンが撹拌される、または攪拌されないタンク型反応器であり、前記第２反応ゾーンが蒸留塔である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
バッチ式で実施される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
連続的に実施される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
さらに、工程（ｂ）で生成した前記アルケノンエーテルを、ハロゲン化水素、未反応カルボン酸ハロゲン化物および未反応ハロゲン化前駆体から分離する工程を含み、カルボン酸ハロゲン化物を工程（ａ）におよびハロゲン化前駆体を工程（ｂ）にリサイクルする工程を含む、または含まない、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月22日(2011.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冶金炉またはその同等物に関連して使用される冷却エレメントに冷却水導管系が配され、該冷却エレメントの基材は主に銅からなり、該基材を少なくとも部分的に金属コーティングで被覆する方法において、該方法は、主に銅からなる冷却エレメントの基材に前記金属コーティングを爆発溶接することを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
−前記冷却水導管系は、前記基材の外側から穴を穿孔することによって少なくとも部分的に機械加工して前記基材の表面に穴を形成し、
−該穴の少なくとも一部を、少なくとも部分的に栓によって塞ぎ、該栓は前記基材の外側表面の高さで穴に取り付けて、該基材に穿孔された穴が前記冷却水導管系の少なくとも一部を形成し、
−前記基材は、爆発溶接によって前記栓にて金属コーティングで被覆して、前記穴に取り付けられた栓を該金属コーティングが少なくとも部分的に被覆することを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、金属コーティングは、その厚さが100 mmより薄く、有利にはおよそ1〜20 mmで、好ましくはおよそ10 mmで作られていることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の方法において、
−前記冷却エレメントはまず、主に銅からなる基金属材片を鋳造することによって製造し、
−前記基金属材片は、前記金属コーティングを前記基金属材片に爆発溶接することによって少なくとも  部分的に被覆して、金属コーティングを備えた基金属材片を得、
−金属コーティングを備えた前記基金属材片を機械加工して前記冷却エレメントがその最終形状を得るようにすることを 特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の方法において、前記金属コーティングは少なくとも部分的に、クロム含有率が10.5％を超えるステンレス鋼からなることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の方法において、前記金属コーティングは、少なくとも部分的にステンレス鋼からなり、そのクロム含有率は約17〜30％、たとえば22〜24％、24〜28％または29〜30％であることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の方法において、前記金属コーティングは、少なくとも部分的に、ニッケルもしくは鉛、またはニッケルもしくは鉛の合金で作られることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の方法において、前記金属コーティングは、セラミック内張り用の接続アンカを備えることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の方法において、前記金属コーティングは、少なくとも部分的にセラミック内張りで被覆されることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の方法において、前記冷却エレメントの使用中、冶金炉またはその同等物に配された溶融金属に対向することになる前記基材の表面は、少なくとも部分的に金属コーティングで被覆されていることを特徴とする方法。
【請求項１１】
とくに冶金炉またはその同等物に関連して使用され、主に銅からなる基材を含み、その基材には冷却水導管系が配され、前記基材が少なくとも部分的に金属コーティングで被覆された冷却エレメントにおいて、前記金属コーティングは、主に銅からなる基材に爆発溶接されることを特徴とする冷却エレメント。
【請求項１２】
請求項11に記載の冷却エレメントにおいて、
−前記冷却水導管系は、前記基材の外側から穴を穿孔することによって少なくとも部分的に機械加工されて前記基材の表面に穴が形成され、
−該穴の少なくとも一部は、少なくとも部分的に栓によって塞がれ、該栓は前記基材の外側表面の高さで前記穴に取り付けられて、前記基材に穿孔された穴が前記冷却水導管系２の少なくとも一部を形成し、
−前記基材は、爆発溶接によって前記栓にて金属コーティングで被覆されて、前記穴に取り付けられた栓を該金属コーティングが少なくとも部分的に被覆することを特徴とする冷却エレメント。
【請求項１３】
請求項11または12に記載の冷却エレメントにおいて、 前記金属コーティングの厚さは、100 mmより薄く、有利にはおよそ1〜20 mmで、好ましくはおよそ10 mmであることを特徴とする冷却エレメント。
【請求項１４】
請求項11ないし13のいずれかに記載の冷却エレメントにおいて、 前記金属コーティングは少なくとも部分的に、クロム含有率が10.5％を超えるステンレス鋼からなることを特徴とする冷却エレメント。
【請求項１５】
請求項11ないし14のいずれかに記載の冷却エレメントにおいて、 前記金属コーティングは、少なくとも部分的にステンレス鋼からなり、そのクロム含有率は約17〜30％、有利には22〜28％、好ましくは22〜22％または24〜28％であることを特徴とする冷却エレメント。
【請求項１６】
請求項11ないし15のいずれかに記載の冷却エレメントにおいて、 前記金属コーティングは、少なくとも部分的に、ニッケルもしくは鉛、またはニッケルもしくは鉛の合金で作られていることを特徴とする冷却エレメント。
【請求項１７】
請求項11ないし16のいずれかに記載の冷却エレメントにおいて、 前記金属コーティングは、セラミック内張り用の接続アンカを備えていることを特徴とする冷却エレメント。
【請求項１８】
請求項11ないし17のいずれかに記載の冷却エレメントにおいて、 前記金属コーティングは、少なくとも部分的にセラミック内張りで被覆されていることを特徴とする冷却エレメント。
【請求項１９】
請求項11ないし13のいずれかに記載の冷却エレメントにおいて、 前記冷却エレメントの使用中、少なくとも冶金炉またはその同等物に配された溶融金属に対向することになる前記基材の表面は、少なくとも部分的に金属コーティングで被覆されていることを特徴とする冷却エレメント。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗ヒトＰＤ−１抗体の投与開始後に、免疫グロブリン、ＣＤ５Ｌおよびゲルソリンならびにそれら各々の断片からなる群から選択される一以上の判定マーカーの血中濃度が、投与開始前よりも優位に増加する癌患者を治療するための、抗ヒトＰＤ−１抗体を有効成分として含有する癌治療剤。
【請求項２】
抗ヒトＰＤ−１抗体の投与開始後の請求項１に定義される判定マーカーの血中濃度が、抗ヒトＰＤ−１抗体の投与開始後１２週目以前のいずれかの時期のものである請求項１記載の癌治療剤。
【請求項３】
抗ヒトＰＤ−１抗体の投与開始後の請求項１に定義される判定マーカーの血中濃度が、抗ヒトＰＤ−１抗体の投与開始後８週目以前のいずれかの時期のものである請求項１記載の癌治療剤。
【請求項４】
免疫グロブリンが、ＩｇＭ、ＩｇＧおよびＩｇＡからなる群から選択される一以上のイソタイプである請求項１記載の癌治療剤。
【請求項５】
ＩｇＧがＩｇＧ４である請求項４記載の癌治療剤。
【請求項６】
抗ヒトＰＤ−１抗体が、ヒト型抗ヒトＰＤ−１抗体である請求項１記載の癌治療剤。
【請求項７】
ヒト型抗ヒトＰＤ−１抗体が、国際公開第０６／１２１１６８号パンフレットに記載されている１７Ｄ８、４Ｈ１、５Ｃ４、４Ａ１１、７Ｄ３、５Ｆ４または２Ｄ３で特定される抗体である請求項６記載の癌治療剤。
【請求項８】
癌患者が、一種以上の固形癌を有する患者である請求項１記載の癌治療剤。
【請求項９】
一種以上の固形癌が、悪性黒色腫、腎癌、前立腺癌、乳癌、肺癌、膵癌、大腸癌、肝細胞癌、胆道癌、胃癌、卵巣癌、食道癌および尿路上皮癌からなる群から選択される癌である請求項８記載の癌治療剤。
【請求項１０】
抗ヒトＰＤ−１抗体の投与開始前後の癌患者由来の血液サンプル中の免疫グロブリン、ＣＤ５Ｌおよびゲルソリンならびにそれら各々の断片からなる群から選択される一以上の判定マーカーの濃度を測定し、抗ヒトＰＤ−１抗体の投与開始後の血液サンプル中の該判定マーカーの濃度が、投与開始前よりも優位に増加している血液サンプルを検出することを含む、抗ヒトＰＤ−１抗体によって癌を治療するのに適切な患者を選択する方法。