【手続補正書】
【提出日】平成15年10月10日(2003.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板上に配向膜を形成し、該配向膜に入射光を照射することによって所定の配向方向および配向角度を設定し、液晶分子の配向を制御する液晶表示装置の製造方法において、前記入射光をホログラフィック回析格子を透過させることにより所定の照射方向および照射角度を有する回析光を生成し、該回析光を前記配向膜に照射することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、前記ホログラフィック回折格子の回折パターンが、前記液晶分子の配向方向および配向角度に応じて設けられ、前記入射光を前記ホログラフィック回折格子を透過させることにより所定の照射方向および照射角度を有する複数の回折光を生成し、該複数の回折光の各々を前記配向膜に照射することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
絶縁基板上に形成された配向膜に入射光を照射することによって所定の配向方向および配向角度を設定し、液晶分子の配向を制御する液晶表示装置の製造装置において、前記入射光を、前記液晶分子の配向方向または配向角度に応じて回折パターンが設けられたホログラフィック回折格子を透過させることにより所定の照射方向および照射角度を有する複数の回折光を生成し、該複数の回折光の各々を前記配向膜に照射することを特徴とする液晶表示装置の製造装置。
【請求項４】
絶縁基板上に配向膜を形成し、該配向膜に入射光を照射することによって所定の配向方向および配向角度を設定し、液晶分子の配向を制御する液晶表示装置の製造方法において、前記液晶分子の配向方向または配向角度に応じて前記配向膜を複数の領域に分割するとともに、該各領域ごとに配向力の異なる配向膜を形成し、前記入射光を所定の照射方向および照射角度で前記配向膜に一様に照射することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
配向膜が一面に形成された絶縁基板同士を対向して設け、前記配向膜に施された光配向処理によって、前記絶縁基板間の液晶分子の配向が制御される液晶表示装置において、前記液晶分子の配向方向に応じて前記配向膜が複数の領域に分割され、該領域ごとに配向力の異なる配向膜が設けられ、前記対向して設けられた絶縁基板の少なくとも一方側に設けられた前記配向膜により、前記領域ごとの前記液晶分子の配向が制御されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
前記入射光が偏光した光であることを特徴とする請求項１、２、４のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記入射光が偏光した光であることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置の製造装置。
【請求項８】
基板上に形成される、配向膜形成用化合物からなる層に、直線偏光を照射して配向膜を製造する工程において、ホログラム素子を通して前記偏光を照射することを特徴とする配向膜の製造方法。
【請求項９】
複数の前記偏光を、それぞれ異なる入射角で、前記配向膜形成用化合物からなる層に照射することを特徴とする請求項８に記載の配向膜の製造方法。
【請求項１０】
前記配向膜形成用化合物が感光性基を含む配向膜形成用化合物であることを特徴とする請求項８または９に記載の配向膜の製造方法。
【請求項１１】
前記偏光が紫外光であることを特徴とする請求項８から１０のいずれかに記載の配向膜の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１記載の発明は、絶縁基板上に配向膜を形成し、該配向膜に入射光を照射することによって所定の配向方向および配向角度を設定し、液晶分子の配向を制御する液晶表示装置の製造方法において、前記入射光をホログラフィック回折格子を透過させることにより所定の照射方向および照射角度を有する回折光を生成し、該回折光を前記配向膜に照射するように構成されている。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、請求項２記載の発明は、前記請求項１記載の液晶表示装置の製造方法において、前記ホログラフィック回折格子の回折パターンが、前記液晶分子の配向方向および配向角度に応じて設けられ、前記入射光を前記ホログラフィック回折格子を透過させることにより所定の照射方向および照射角度を有する複数の回折光を生成し、該複数の回折光の各々を前記配向膜に照射するように構成されている。


【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに、請求項３記載の発明は、絶縁基板上に形成された配向膜に入射光を照射することによって所定の配向方向および配向角度を設定し、液晶分子の配向を制御する液晶表示装置の製造装置において、前記入射光を、前記液晶分子の配向方向または配向角度に応じて回折パターンが設けられたホログラフィック回折格子を透過させることにより所定の照射方向および照射角度を有する複数の回折光を生成し、該複数の回折光の各々を前記配向膜に照射するように構成されている。


【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そして、請求項４記載の発明は、絶縁基板上に配向膜を形成し、該配向膜に入射光を照射することによって所定の配向方向および配向角度を設定し、液晶分子の配向を制御する液晶表示装置の製造方法において、前記液晶分子の配向方向または配向角度に応じて前記配向膜を複数の領域に分割するとともに、該各領域ごとに配向力の異なる配向膜を形成し、前記入射光を所定の照射方向および照射角度で、前記配向膜に一様に照射するように構成されている。


【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
そして、請求項５記載の発明は、配向膜が一面に形成された絶縁基板同士を対向して設け、前記配向膜に施された光配向処理によって、前記絶縁基板間の液晶分子の配向が制御される液晶表示装置において、前記液晶分子の配向方向に応じて前記配向膜が複数の領域に分割され、該領域ごとに配向力の異なる配向膜が設けられ、前記対向して設けられた絶縁基板の少なくとも一方側に設けられた前記配向膜により、前記領域ごとの前記液晶分子の配向が制御されるように構成されている。
そして、請求項６記載の発明は、請求項１、２、４のいずれかの構成に加え、前記入射光が偏光した光であるように構成されている。
そして、請求項７記載の発明は、請求項３の構成に加え、前記入射光が偏光した光であるように構成されている。
そして、請求項８記載の発明は、基板上に形成される、配向膜形成用化合物からなる層に、直線偏光を照射して配向膜を製造する工程において、ホログラム素子を通して前記偏光を照射するように構成されている。
そして、請求項９記載の発明は、複数の前記偏光を、それぞれ異なる入射角で、前記配向膜形成用化合物からなる層に照射するように構成されている。
そして、請求項１０記載の発明は、前記配向膜形成用化合物が感光性基を含む配向膜形成用化合物であるように構成されている。
そして、請求項１１記載の発明は、請求項８から１０のいずれかの構成に加え、前記偏光が紫外光であるように構成されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
以上の本発明に適用される第１および第２の配向処理方法を用いた液晶表示装置の製造方法の実施例を説明する。
まず、ホログラム板を用いた第１の配向処理方法に基づく液晶表示装置の製造方法の一実施例を、図１の概略断面図および図４のフローチャートを参照して説明する。なお、従来技術と同等の処理工程については説明を省略する。


【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
次に、液晶表示装置の製造装置について説明する。
本発明は、第１の配向処理方法に基づく製造方法を適用して良好な製造装置であって、紫外線照射機構における光源を削減して光学系を簡略化した構成を有していることを特徴としている。すなわち、配向膜へのプレチルト角の設定は偏光紫外線の斜め照射により行われるが、液晶分子の配向が２分割あるいは４分割された液晶パネルを実現する際にはプレチルト角のチルト方向を反転して設定する必要があるため、たとえば２方向に光源を設置するか、あるいは単一光を屈折反射させて所定の傾斜光を生成する光学系を備える必要がある。本発明の製造装置によれば、絶縁基板上に重ねられたホログラム板により、所望の照射方向および角度の回折光（照射光）を生成することができるため、単一の光源が設置されていればよい。また、光マスクを使用しないため分割配向を実現するための光マスクの交換機構を必要としない。このように、従来技術に示した複数の光マスクを使用した紫外線照射処理を必要としないため、光学系および光マスク交換機構系を大幅に簡略化することができるとともに、紫外線照射工程の所用時間を短縮して、スループットの改善を図ることができる。


【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
次に、配向力の異なる配向膜を用いた第２の配向処理方法に基づく液晶表示装置の製造方法の一実施例、またこの製造方法により実現される液晶表示装置について、図３の概略断面図および図５のフローチャートを用いて説明する。
本実施例においては、配向力の低い第１の光配向膜材料として上記実施例で示したＰＶＣｉを用い、また配向力の高い第２の光配向膜材料として、たとえば日産化学製のＳＴＮ用ハイプレチルト材料ｓ６１０を用いた。配向膜形成工程として、まず絶縁基板１上に第１の光配向膜材料であるＰＶＣｉを上記実施例同様に塗布（Ｓ３２）、焼成（Ｓ３３）して配向膜２ａを形成し、次いで第２の光配向膜材料ｓ６１０を全面に塗布した後、フォトレジストを用いて所定のパターニング（Ｓ３４）を行ない、２５０℃で焼成（Ｓ３５）して配向膜２ｂを形成した。次いで、偏光紫外線４ｂを配向膜２ａ、２ｂに対して４５゜傾斜させて照射した（Ｓ３６）。なお、上記の実施例で示した偏光紫外線を配向膜２に垂直に照射する前露光処理は形成された配向膜の物性を理想状態とするために行うものであって、必須の処理ではないので本実施例では省略した。このような偏光紫外線４ｂの斜め照射（Ｓ３６）により、下層の配向膜２ａ（ＰＶＣｉ）が露出している領域Ａでは、たとえば０．５゜のプレチルト角３ａが得られ、最上層の配向膜２ｂ（ｓ６１０）が被覆している領域Ｃでは、たとえば１０゜のプレチルト角３ｂを得ることができた。