【手続補正書】
【提出日】平成26年1月6日(2014.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のチャネルを含むハニカムモノリス基材を、触媒成分を含有する液体でコーティングする方法であって、
（ｉ）ハニカムモノリス基材を実質的に垂直に維持し、
（ｉｉ）前記液体の予め決定された量を前記基材の下端で前記チャネルの開放端部を介して前記基材内に注入し、
（ｉｉｉ）前記基材内の注入した液体を密封維持し、
（ｉｖ）前記維持した液体を含む基材を反転させ、及び
（ｖ）前記基材の反転した下端で前記基材のチャネルの開放端部に真空を付与し、前記液体を前記基材のチャネルに沿って吸引する、各工程を含んでなる、方法。
【請求項２】
工程（ｉ）と工程（ｉｉ）との間に、前記基材の外部表面を前記基材の下端で前記チャネルの開放端部と密封させる工程を含んでなる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記工程（ｖ）で前記液体を維持させる密封が、真空付与の後のみ解除される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記基材が、フィルタである、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
複数のチャネルを含むハニカムモノリス基材を、触媒成分を含有する液体でコーティングする装置であって、
（ａ）前記ハニカムモノリス基材を実質的に垂直に維持するための手段と、
（ｂ）前記基材内に前記液体の予め決定された量を前記基材の下端で前記チャネルの開放端部を介して注入するための手段と、
（ｃ）前記基材内の前記注入された液体を密封維持するための手段と、
（ｄ）前記維持された液体を含む前記基材を反転させるための手段と、及び
（ｅ）前記基材の反転した下端で前記基材のチャネルの開放端部に真空を付与し、前記液体を前記基材のチャネルに沿って吸引するための手段とを備えなる、装置。
【請求項６】
前記保持手段が、前記基材の少なくとも下端を収容するためのハウジングを備えてなる、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記保持手段が、前記基材の外部表面と結合するために、前記ハウジングの内部表面に設けられてなる膨張可能なカラーを備えてなる、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記液体注入手段が、シリンダ内で往復運動するピストンを備えてなる、請求項５〜７の何れか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記ピストンが、第１位置と第２位置との間で往復運動してなり、
前記ピストンヘッドがシリンダヘッドに隣接してなるものであり、
前記シリンダの内壁、シリンダヘッドおよびピストンヘッドが少なくとも部分的に変位容積を定義する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記ピストンヘッドの表面が、前記ピストンが前記第１位置に位置する時、前記基材の下端を支持するものである、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記シリンダのケーシングが、前記シリンダボアに前記液体を供給するためのバルブを含んでなる、請求項８〜１０の何れか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記基材内の前記注入された液体を密封維持するための手段が、前記ピストンヘッドの表面を備えてなる、請求項８〜１１の何れか一項に記載の装置。
【請求項１３】
前記ハウジング、ピストン、およびシリンダが、前記反転手段によって反転する、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記基材の外部表面を前記基材の下端で前記チャネルの開放端部から密封させるための手段を含む請求項５〜１３の何れか一項に記載の装置。
【請求項１５】
請求項７において、
前記基材の外部表面を前記基材の下端で前記チャネルの開放端部から密封させるための手段が、前記膨張可能カラーを備えてなる、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記真空手段が、前記基材の反転した端部を収容する、端部が広い漏斗を備えてなる、請求項５〜１５の何れか一項に記載の装置。
【請求項１７】
請求項１〜４の何れか一項に記載の方法工程を行う装置を制御するためのコンピュータ動作手段を備えてなる、請求項５〜１６の何れか一項に記載の装置。
【請求項１８】
ウォールフローフィルタ基材モノリスの入口チャネルに、軸方向に沿って実質的に均一な触媒ウォッシュコートを有する、微細に分離された無機固体を含む表面メンブラン層がプリコーティングされたウォールフローフィルタ基材モノリスの出口チャネルをコーティングする方法であって、
（ｉ）ハニカムモノリス基材を実質的に垂直に維持する工程と、
（ｉｉ）触媒ウォッシュコートの予め決定された量を前記基材の下端で前記出口チャネルの開放端部を介して前記基材内に注入させる工程と、
（ｉｉｉ）前記基材内の注入された触媒ウォッシュコートを密封しながら維持させる工程と、
（ｉｖ）前記維持された触媒ウォッシュコートを含む基材を反転させる工程と、
（ｖ）前記基材の反転した下端で前記基材の入口チャネルの開放端部に真空を加え、前記触媒ウォッシュコートを前記基材の出口チャネルに沿って吸引する工程
を含む方法。
【請求項１９】
ウォールフローフィルタ基材の入口チャネルに微細に分離された耐火性固体物を含む表面メンブラン層をプレコーティングした、触媒化されたウォールフローフィルタ基材モノリスであって、
出口チャネルが、軸方向に沿って実質的に均一な触媒ウォッシュコートのコーティングプロファイルを備えてなり、
請求項１〜４の何れか一項に記載の方法を用いてウォールフローフィルタの出口チャネルを触媒ウォッシュコートでコーティングすることによって得られる、触媒化されたウォールフローフィルタ基材モノリス。
【請求項２０】
前記ウォールフローフィルタ基材モノリスのコーティング前の空隙率が、４０〜８０％である、請求項１９に記載の触媒化されたウォールフローフィルタ基材モノリス。
【請求項２１】
前記ウォールフローフィルタ基材モノリスのコーティング前の平均空隙容積が、８〜４５μｍである、請求項１９又は２０に記載の触媒化されたウォールフローフィルタ基材モノリス。
【請求項２２】
前記触媒ウォッシュコートが、ＮＯｘトラップ、担持された白金族金属を含んでなる触媒化された煤フィルタウォッシュコート、又はＮＨ３−ＳＣＲ触媒である、請求項１９〜２１の何れか一項に記載の触媒化されたウォールフローフィルタ基材モノリス。
【請求項２３】
前記ＮＨ３−ＳＣＲ触媒が、ゼオライトで置換された遷移金属を含んでなる、請求項２２に記載の触媒化されたウォールフローフィルタ基材モノリス。
【請求項２４】
前記遷移金属が、銅、鉄、セリウムおよびこれらの二種以上の混合物からなる群より選択されてなり、
前記ゼオライトが、フェリエライト、ＣＨＡ、ＢＥＡおよびＭＦＩ（ＺＳＭ−５）からなる群より選択されてなる、請求項２３に記載の触媒化されたウォールフローフィルタ基材モノリス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
ハニカムモノリス基材を自動コーティングするための装置は、例えば、ＷＯ９９／４７２６０およびＵＳ５，４２２，１３８から分かる。後者の文献は、ハニカムモノリス基材を実質的に垂直に維持するための手段と、液体を基材の内部に基材の下端でチャネルの開放端部を介して注入するための手段、すなわち、本発明の請求項５の（ａ）と（ｂ）の特徴を含む装置を開示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
加えられる真空は、一般的に−５ｋｐａ〜−５０ｋｐａの次数であり、約０．３秒〜約２秒の時間の間、ウォッシュコート固体含有量（真空時間が長いほど、ウォッシュコート固体含有量は低くなる）および部分の大きさ（部分が大きいほど、時間は長くなり、真空は高くなる）に左右される。しかし、一般的に、真空適用は、約１秒の次数であり得る。より大きい基材（例えば、重量（ｈｅａｖｙ−ｄｕｔｙ）ディーゼル車両に対して使用される）は、−４０〜５０ｋｐａのような高い真空適用が要求されることになる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
他の態様によれば、本発明は、ウォールフローフィルタ基材モノリスの入口チャネルに、軸方向に沿って実質的に均一な触媒ウォッシュコートを有する、微細に分離された無機固体を含む表面メンブラン層がプリコーティングされたウォールフローフィルタ基材モノリスの出口チャネルをコーティングする方法であって、
（ｉ）ハニカムモノリス基材を実質的に垂直に維持する工程と、
（ｉｉ）触媒ウォッシュコートの予め決定された量を前記基材の下端で前記チャネルの開放端部を介して前記基材内に注入させる工程と、
（ｉｉｉ）前記基材内の注入された触媒ウォッシュコートを密封しながら維持させる工程と、
（ｉｖ）前記維持された触媒ウォッシュコートを含む基材を反転させる工程と、
（ｖ）前記基材の反転した下端で前記基材の入口チャネルの開放端部に真空を加え、前記触媒ウォッシュコートを前記基材の出口チャネルに沿って吸引する工程
を含む方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
他の態様によれば、本発明は、触媒ウォールフローフィルタ基材モノリスを提供するが、前記ウォールフローフィルタ基材モノリスの製造者は、その入口チャネルに微細に分離された耐火性固体を含む表面メンブラン層にプリコーティングし、前記出口チャネルは、軸方向に沿って実質的に均一な触媒ウォッシュコートのコーティングプロファイルを有し、触媒ウォールフローフィルタ基材は、本発明の方法を用いてウォールフローフィルタの出口チャネルを触媒ウォッシュコートでコーティングすることによって製造される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
実施形態において、コーティングに先立ち、本発明の後者の態様にかかる前記ウォールフローフィルタ基材モノリスの空隙率は、４０〜８０％である。好ましい実施形態において、本発明で用いるためのフィルタの空隙率は、一般的に＞４０％または＞５０％および４５〜７５％（例えば、５０〜６５％または５５〜６０％）である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
結果が図９に示されている。