【手続補正書】
【提出日】平成24年3月27日(2012.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
本発明の範囲及び趣旨から逸脱しない本発明の様々な変更や改変は、当業者には明らかとなるであろう。本発明は、本明細書で述べる例示的な実施形態及び実施例によって不当に限定されるものではないこと、また、こうした実施例及び実施形態は、本明細書において以下に記述する特許請求の範囲によってのみ限定されることを意図する、本発明の範囲に関する例示のためにのみ提示されることを理解すべきである。
本願発明に関連する発明の実施形態について以下に列挙する。
[実施形態１]
重合性組成物であって、
ｉ）カチオン性共有結合したアンモニウム基、及び
ｉｉ）必要に応じて共有結合したエチレン性不飽和重合性基、を含む第一のカチオン性ナノ粒子成分ａ）と、
ｉ）アニオン性ポリエーテル化合物、及び
ｉｉ）必要に応じてエチレン性不飽和重合性アニオン性化合物、を含む第二のアニオン性成分ｂ）と、を含み、
前記重合性組成物が、少なくとも１つのａ）ｉｉ）又はｂ）ｉｉ）を含む、重合性組成物。
[実施形態２]
エチレン性不飽和（メタ）アクリレートモノマーを含む第三の成分を更に含む、実施形態１に記載の組成物。
[実施形態３]
ｉ）カチオン性共有結合したアンモニウム基、及び
ｉｉ）共有結合したエチレン性不飽和重合性基、
を含む第一のカチオン性ナノ粒子成分ａ）と、
ｉ）アニオン性ポリエーテル化合物、及び
ｉｉ）エチレン性不飽和重合性アニオン性化合物、
を含む第二のアニオン性成分ｂ）と、を含む、実施形態１に記載の組成物。
[実施形態４]
前記第二の成分のアニオン性ポリエーテル化合物、及び前記第二成分のエチレン性不飽和重合性アニオンは、それぞれ独立して、カルボキシレート、スルホネート、ホスフェート、及びホスホネートからなる群から選択されるアニオン性基を含む、実施形態３に記載の組成物。
[実施形態５]
前記エチレン性不飽和重合性基は、それぞれ独立して、（メタ）アクリレート基又は（メタ）アクリルアミド基を含む、実施形態３に記載の組成物。
[実施形態６]
前記カチオン性ナノ粒子のアンモニウム基及びエチレン性不飽和重合性基が、シロキサン結合を介して、ナノ粒子に共有結合している、実施形態１に記載の組成物。
[実施形態７]
前記共有結合したアンモニウム基が、化学式ＩＩのピリジニウム基を含む、
【化１】
2011523667.tif 000001
〔式中、Ｚは二価のスペーサ基、各Ｒ１１は独立して、水素原子、アルキル基、又はハロゲン基であり、ｘは１〜５の整数である。〕実施形態１に記載の組成物。
[実施形態８]
前記共有結合したアンモニウム基が、化学式Ｉで表される、
【化２】
2011523667.tif 000002
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル又はヘテロアルキル基、４〜１０個の炭素原子を有するアリール基であり、或いは、Ｒ２及びＲ３は共に環を形成し、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの２つ以下は水素原子であり、Ｚは二価のスペーサ基である。〕実施形態１に記載の組成物。
[実施形態９]
前記アニオン性ポリエーテル化合物が、化学式Ｖで表される、
【化３】
2011523667.tif 000003
〔式中、Ｒ５は、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又はアルカリール基であり、あるいはエチレン性不飽和重合性基を含み、
各Ｒ６は独立して、水素原子又はメチル基であり、あるいはエチレン性不飽和重合性基を含み、
Ｒ７は、アルキレン基又はアリーレン基であり、
Ｑ−は、カルボキシレート、スルホネート、ホスフェート、及びホスホネートからなる群から選択されるアニオン性基であり、
ｎは、１〜１００の整数である。〕実施形態１記載の組成物。
[実施形態１０]
コーティングされた物品の製造方法であって、
ａ）表面を有する物品を提供する工程と、
ｂ）請求項１に記載の組成物を前記物品の表面に適用する工程と、
ｃ）前記組成物を重合する工程と、
を含む、製造方法。
[実施形態１１]
前記重合工程が、前記組成物に化学線を当てることを含む、実施形態１０に記載の方法。
[実施形態１２]
前記組成物が、エチレン性不飽和（メタ）アクリレートモノマーを更に含む、実施形態１０に記載の方法。
[実施形態１３]
前記物品が、セラミック、シリケート、金属、あるいはポリマー又はポリマー／木複合材を含む、実施形態１０に記載の方法。
[実施形態１４]
実施形態１に記載の重合された組成物が表面の少なくとも一部にコーティングされた基板を含み、前記表面の少なくとも一部は抗菌表面を含む、コーティングされた物品。
[実施形態１５]
前記重合された組成物が、１０重量％以下の水への溶解度を有する、実施形態１４に記載の物品。
[実施形態１６]
前記カチオン性ナノ粒子が、共有結合されたエチレン性不飽和重合性基を更に含む、実施形態１４に記載の物品。
[実施形態１７]
前記第二の成分が、エチレン性不飽和重合性アニオンを更に含む、実施形態１４に記載の物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性組成物であって、
ｉ）カチオン性共有結合したアンモニウム基、及び
ｉｉ）共有結合したエチレン性不飽和重合性基、を含むか又は含まない第一のカチオン性ナノ粒子成分ａ）と、
ｉ）アニオン性ポリエーテル化合物、及び
ｉｉ）エチレン性不飽和重合性アニオン性化合物、を含むか又は含まない第二のアニオン性成分ｂ）と、を含み、
前記重合性組成物が、少なくとも１つのａ）ｉｉ）又はｂ）ｉｉ）を含む、重合性組成物。
【請求項２】
エチレン性不飽和（メタ）アクリレートモノマーを含む第三の成分を更に含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ｉ）カチオン性共有結合したアンモニウム基、及び
ｉｉ）共有結合したエチレン性不飽和重合性基、
を含む第一のカチオン性ナノ粒子成分ａ）と、
ｉ）アニオン性ポリエーテル化合物、及び
ｉｉ）エチレン性不飽和重合性アニオン性化合物、
を含む第二のアニオン性成分ｂ）と、を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記第二の成分のアニオン性ポリエーテル化合物、及び前記第二成分のエチレン性不飽和重合性アニオンは、それぞれ独立して、カルボキシレート、スルホネート、ホスフェート、及びホスホネートからなる群から選択されるアニオン性基を含む、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記エチレン性不飽和重合性基は、それぞれ独立して、（メタ）アクリレート基又は（メタ）アクリルアミド基を含む、請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
前記共有結合したアンモニウム基が、化学式ＩＩのピリジニウム基を含む、
【化４】
2011523667.tif 000004
〔式中、Ｚは二価のスペーサ基、各Ｒ１１は独立して、水素原子、アルキル基、又はハロゲン基であり、ｘは１〜５の整数である。〕、あるいは、前記共有結合したアンモニウム基が、化学式Ｉで表される、
【化５】
2011523667.tif 000005
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル又はヘテロアルキル基、４〜１０個の炭素原子を有するアリール基であり、或いは、Ｒ２及びＲ３は共に環を形成し、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの２つ以下は水素原子であり、Ｚは二価のスペーサ基である。〕請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記アニオン性ポリエーテル化合物が、化学式Ｖで表される、
【化６】
2011523667.tif 000006
〔式中、Ｒ５は、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又はアルカリール基であり、あるいはエチレン性不飽和重合性基を含み、
各Ｒ６は独立して、水素原子又はメチル基であり、あるいはエチレン性不飽和重合性基を含み、
Ｒ７は、アルキレン基又はアリーレン基であり、
Ｑ−は、カルボキシレート、スルホネート、ホスフェート、及びホスホネートからなる群から選択されるアニオン性基であり、
ｎは、１〜１００の整数である。〕請求項１記載の組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の重合された組成物が表面の少なくとも一部にコーティングされた基板を含み、前記表面の少なくとも一部は抗菌表面を含む、コーティングされた物品。
【請求項９】
前記重合された組成物が、１０重量％以下の水への溶解度を有する、請求項８に記載の物品。
【請求項１０】
前記カチオン性ナノ粒子が、共有結合されたエチレン性不飽和重合性基を更に含む、請求項８に記載の物品。
【請求項１１】
前記第二の成分が、エチレン性不飽和重合性アニオンを更に含む、請求項８に記載の物品。