【手続補正書】
【提出日】平成24年6月1日(2012.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルにおける欠陥を検知する共通光路干渉イメージングシステムにおいて、
光（１１８）を発生し且つそれをサンプル（１１０）へ向けて指向させる照明光源（１１２）、
物体面と画像面とを有しており且つ該サンプルを実質的に該物体面に位置させる構成とされており且つ該サンプルからの光の実質的な鏡面成分（１２４）と散乱成分（１２８）とを回収する形態とされており、該散乱成分及び実質的な鏡面成分が相対的位相を有している光学的イメージングシステム（１００）、
該光学的イメージングシステムに対して動作可能に配置されており且つ前記散乱成分と実質的な鏡面成分との間の前記相対的位相を調節する形態とされている可変位相制御システム（１２２，１３０）、
実質的に該画像面に配置されており且つ前記相対的位相が調節された後に該散乱成分及び実質的な鏡面成分の結合の少なくとも一部を検知し且つそれを表す電子信号を発生する検知システム（１４０）、
を有しているシステム。
【請求項２】
請求項１において、更に、該電子信号に対応するサンプル位置情報を与えるために該検知システムに対して該サンプルを位置決めすべく形態とされているサンプル位置決めシステム（１５０）を有しているシステム。
【請求項３】
請求項１において、更に、該検知システムと動作可能に接続されているか又はその中に組み込まれており且つそれからの該電子信号を受け取り且つ欠陥の有無を判別するためにそれを参照信号と比較する形態とされている信号プロセッサ（１５２）を有しているシステム。
【請求項４】
請求項１において、該可変位相制御システムがアパーチャストップにおいて又はその近くに又は該光学的イメージングシステムのアパーチャストップの共役面において又はその近くに位置されているシステム。
【請求項５】
請求項１において、該可変位相制御システムが該実質的な鏡面成分の位相を調節することにより前記相対的位相を調節する形態とされているシステム。
【請求項６】
請求項１において、更に、該サンプルと該検知システムとの間で該実質的な鏡面成分の経路内に配置されている可変減衰システム（２２４）を有しているシステム。
【請求項７】
請求項６において、該実質的な鏡面成分の振幅が該検知システムにおける信号変調を増加させるために減衰されるシステム。
【請求項８】
請求項１において、更に、該サンプル上の入射照明の偏光、該検知システムに到達する該サンプルからの該実質的な鏡面成分の偏光、及び該検知システムに到達する該サンプルからの該散乱成分の偏光が選択的に可変であるように選択され且つ配置されている偏光光学コンポーネント（１０６０，１０６２）を有しているシステム。
【請求項９】
請求項１において、該サンプルにおける欠陥の振幅及び位相を派生するために各々が異なる相対的位相シフトで行なわれる或るサンプル点の３つ以上の比較を使用するシステム。
【請求項１０】
請求項１において、
前記照明光源（２８１８ａ，２８１８ｂ）が２つ以上の波長で光を派生し、
本システムが同時的な複数の波長操作のための１つ以上の波長スプリッタ（２８７２）を包含しており、該波長スプリッタは前記実質的な鏡面成分及び散乱成分の光路内にあり且つ選択的に該波長の内の幾つかを透過させ且つ他の波長を反射させ、且つ
前記可変位相制御及び検知システムが、該実質的な鏡面成分と散乱成分の相対的位相を各波長に対して調節することが可能であり且つ各波長に対する該実質的な鏡面成分及び散乱成分を同じ波長及び位置に対する参照信号と信号プロセッサにより比較させることが可能であるように配置されている各波長（２８７０ａ，２８７０ｂ）に対するシステムを包含している、
システム。
【請求項１１】
請求項１において、更に、アパーチャーストップにおいて又はその近くに、又は該光学的イメージングシステムのアパーチャーストップの共役面近くに光を選択的にブロックするためのフーリエ面フィルタリングシステム（７３０）を有しているシステム。
【請求項１２】
請求項１において、該サンプルへ向けて指向される該光の一部が該サンプルの表面から反射され且つ一部が該サンプルを介して透過して、それにより実質的な鏡面成分と散乱成分とからなる２つの相補的な組を発生し、且つ本システムが、更に、第２イメージングシステム（２４０２ｂ）と、補正板と、第２可変位相制御システム（２４７０ｂ）と、第２検知システム（２４４０ｂ）とを有しており、該実質的な鏡面成分と散乱成分との相対的位相を該サンプルからの透過ビーム及び反射ビームの両方に対して調節し且つ該透過ビーム及び反射ビームに対する該実質的な鏡面成分及び散乱成分に対応する夫々の信号を採取し且つ該サンプル上の同一の位置に対応するコンピュータにより発生された反射及び透過の夫々の参照信号と信号プロセッサ（１５２）によって比較するシステム。
【請求項１３】
請求項９において、該欠陥の前記派生された振幅及び位相を受け取り且つ前記振幅及び位相の特性の間の類似及び差異を使用して欠陥を分類すべくプログラムされているプロセッサ（１５２）を包含しているシステム。
【請求項１４】
請求項１において、各々が該サンプル上の１点に関連する実質的な鏡面成分と散乱成分との結合を有している複数の異なる信号の実質的に同時的な発生を可能とするために、該光学的イメージングシステムが、１個以上のビームスプリッタ（２８７２）と、複数の位相制御器システム（２８７０ａ，２８７０ｂ）と、複数の検知システム（２８４０ａ，２８４０ｂ）とを包含しているシステム。
【請求項１５】
請求項１において、オブスキュレーションを含む瞳面及び各々が透過光に露呈されるエッジを具備しているアパーチャプレート（４６０６）を有しており、前記エッジの各々が１次及びそれ以上の次数の画像を該検知システムから離れるように回折させる形態とされている複数個のセレーション（４６０８）を包含しており、且つ該複数個のセレーションは、使用されている光の波長に該イメージングシステムの瞳と該検知システムとの間のレンズの焦点距離を乗算し該センサーの最大フィールド半径の２倍で割算したもの未満の距離に離隔されているシステム。
【請求項１６】
サンプルにおける欠陥を検知するために共通光路干渉イメージングを使用する方法において、
光を該サンプルへ向けて指向させ、
該サンプルにより主に散乱された該光の散乱成分及び該サンプルにより主に反射されるか又は透過された該光の鏡面成分を光学的イメージングシステムで該サンプルから回収し、
可変位相制御システムを使用して該散乱成分と該鏡面成分との相対的位相を調節し、
前記位相調節の後に該散乱成分及び鏡面成分の少なくとも一部を検知し且つそれを表す第１電子信号を発生し、且つ
該第１電子信号と同じサンプル位置に対応する参照信号と該第１電子信号とを比較して前記同じサンプル位置における欠陥の有無を判別する、
ことを包含している方法。
【請求項１７】
請求項１６において、更に、画像面に到達する該鏡面成分の強度を変化させることを包含している方法。
【請求項１８】
請求項１６において、更に、該サンプル上の入射照明の偏光、検知面に到達する該サンプルからの鏡面成分の偏光、及び該検知面に到達する該サンプルからの該散乱成分の偏光、の内の一つ又はそれ以上を変化させることを包含している方法。
【請求項１９】
請求項１６において、欠陥の振幅及び位相を派生するために、各々が異なる相対的位相シフトで行われる３個又はそれ以上の同じサンプル点の比較を使用する方法。
【請求項２０】
請求項１９において、更に、振幅及び位相特性の間の類似及び差異に少なくとも部分的に基づいて１個又はそれ以上の欠陥を分類することを包含している方法。