(57)【要約】　　　（修正有）【課題】テクスチャーの形状を正確に制御することができ、磁気異方性の向上を図ることができる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板２１は、中心に円孔２１ａを有する円盤状に形成され、その表面には円周方向へ同心円を描きながら延びる複数の尾根状のテクスチャーが形成されている。同情報記録媒体用ガラス基板２１の表面形状を、原子間力顕微鏡を使用し、１辺が５μｍ四方の測定範囲内で測定したとき、測定された粗さ曲線の平均線よりも１．５ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数は２００個以下である。これに加え、該平均線よりも２．０ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数は２０個以下である。【選択図】　　　　図２
2004103182.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に円孔を有する円盤状に形成され、表面には円周方向へ同心円を描きながら延びる複数の尾根状のテクスチャーが設けられた情報記録媒体用ガラス基板であって、
原子間力顕微鏡を使用して１辺が５μｍ四方の測定範囲内における表面形状を測定したとき、測定された粗さ曲線の平均線よりも１．５ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数が２００個以下であり、かつ該平均線よりも２．０ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数が２０個以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４ｎｍ以下となるまで表面を研磨されたガラス基板の同表面に研磨剤を供給しながら研磨用摺接部材を円周方向へ摺接させて当該表面にテクスチャーを形成するテクスチャー加工を施した後、当該テクスチャー加工が施された表面を純水で洗浄し、その後、同表面をアルカリ性水溶液で洗浄することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記アルカリ性水溶液は、そのｐＨが１１．０〜１３．０であることを特徴とする請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記純水での洗浄は、表面をスクラブ部材で摺りながら行うことを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばハードディスク等のような情報記録装置の磁気記録媒体である磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法に関するものである。より詳しくは、その表面に円周方向へ同心円を描きながら延びる複数のテクスチャーが形成された情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、上記のような情報記録媒体の１つである磁気ディスクは、その中心に円孔を有する円盤状の情報記録媒体用ガラス基板（以下、略して「ガラス基板」とも記載する）の表面に磁性膜等を積層することによって作製される。そして、同磁気ディスクは、円孔に支持軸であるスピンドルが嵌挿されることによってハードディスク装置等の内部に装着され、同スピンドルを中心に回転可能に支持されて使用される。
【０００３】
該ガラス基板として、磁気ディスクとして要求される磁気異方性を高めて品質を向上させるため、その表面に円周方向へ延びるライン状のテクスチャーが形成されたものが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。同テクスチャーは、ガラス基板の材料となるガラス素板の表面を複数段階にわたって研磨し、平滑面とした後、同表面に研磨剤を供給しながら研磨用摺接部材である研磨テープを円周方向に摺接させることにより形成される。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−２５１７１６号公報　（段落［００３２］−［００５７］）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来のガラス基板は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等で測定される算術平均粗さ（Ｒａ）、最大山高さ（Ｒｐ）、二乗平均平方根粗さ（Ｒｍｓ）等のパラメータを制御することによって品質の向上が図られていた。しかし、これらパラメータの制御のみでは、前記テクスチャーの形状を十分に制御することができないという問題があった。
【０００６】
すなわち、当該テクスチャーは、断面形状が山状をなし、その尾根がガラス基板の円周方向へ一様な高さで連なるものが理想の形状とされ、この形状としたときに良好な磁気異方性が得られると考えられている。前に挙げたパラメータは、ガラス基板の表面の凹凸の測定結果より算出されるものであり、これらパラメータを制御することにより、テクスチャーの高さ、幅等を制御することが可能である。しかし、該パラメータによる制御でテクスチャーの尾根を一様な高さで連なる形状に制御することは難しかった。その結果、該パラメータが所望とする値を満たすガラス基板であっても、実際には尾根に存在する凹部、凸部等によりテクスチャーの尾根が荒れたり、途切れたり等しており、所望の磁気異方性を満たしていない場合があった。
【０００７】
この発明は、上記のような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、テクスチャーの形状を正確に制御することができ、磁気異方性の向上を図ることができる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の発明は、中心に円孔を有する円盤状に形成され、表面には円周方向へ同心円を描きながら延びる複数の尾根状のテクスチャーが設けられた情報記録媒体用ガラス基板であって、原子間力顕微鏡を使用して１辺が５μｍ四方の測定範囲内における表面形状を測定したとき、測定された粗さ曲線の平均線を基準に、同平均線よりも１．５ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数が２００個以下であり、かつ該平均値よりも２．０ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数が２０個以下であることを特徴とするものである。
【０００９】
請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４ｎｍ以下となるまで表面を研磨されたガラス基板の同表面に研磨剤を供給しながら研磨用摺接部材を円周方向へ摺接させて当該表面にテクスチャーを形成するテクスチャー加工を施した後、当該テクスチャー加工が施された表面を純水で洗浄し、その後、同表面をアルカリ性水溶液で洗浄することを特徴とするものである。
【００１０】
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項２に記載の発明において、前記アルカリ性水溶液は、そのｐＨが１１以上であることを特徴とするものである。
【００１１】
請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項２又は請求項３に記載の発明において、前記純水での洗浄は、表面をスクラブ部材で摺りながら行うことを特徴とするものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、この発明を具体化した一実施形態を、図面に基づいて説明する。
図３に示すように、実施形態における情報記録媒体用ガラス基板２１（以下、略して「ガラス基板２１」とも記載する）は中心に円孔２１ａを有する円盤状に形成されている。同ガラス基板２１に使用されるガラス材料としては、フロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。また、これらガラス材料に酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）等を添加した化学強化用ガラスを使用してもよい。なお、ソーダライムガラスは、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）及び酸化カルシウム（ＣａＯ）を主成分とするガラス材料である。アルミノシリケートガラスは、ＳｉＯ２、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、Ｒ２Ｏ（Ｒ＝カリウム（Ｋ）、ナトリウム（Ｎａ）、リチウム（Ｌｉ））を主成分とするガラス材料である。結晶化ガラスとしては、酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）−ＳｉＯ２系ガラス、Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス、ＲＯ（Ｒ＝マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ））−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス等が挙げられる。
【００１３】
当該ガラス基板２１の表面２２に、例えばコバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）等の金属又は合金よりなる磁性膜、保護膜等を形成することにより、磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体が構成される。そして、当該情報記録媒体、特に垂直記録方式の情報記録媒体に要求される磁気異方性等の磁気特性を高めるため、ガラス基板２１の表面２２にはテクスチャーとして、複数の円周テクスチャー２３が形成されている。同円周テクスチャー２３は、それぞれがガラス基板２１の円周方向に沿って延び、同心円状に配設されるように形成されている。
【００１４】
図４は、当該円周テクスチャー２３の一部を示す概略図である。同図に示すように、円周テクスチャー２３は、断面形状が山型をなす複数の凸部がその峰を円周方向へ連ねることによって尾根状をなすように形成されている。同円周テクスチャー２３は、図４中で最も右側に位置するもののように、その尾根２４が凹凸なく一様な高さで連なるものが理想の形状とされている。しかし、実際の円周テクスチャー２３は、図４中で中間部及び最も左側に位置するもののように、その尾根２４にうねりが形成され、沢２５、丘２６等のような凹凸を有する形状となっている。そこで、該ガラス基板２１では、円周テクスチャー２３を形成する凸部の高さを所定範囲内で揃えることにより、当該尾根２４におけるうねりの発生を抑える試みがなされている。
【００１５】
円周テクスチャー２３を形成する凸部の高さは、具体的にはデジタルインスツルメント社製の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用い、測定範囲を１辺５μｍ四方、１辺当たりの走査線を２５６本として測定される。同ＡＦＭでは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１の規定に従って各走査線毎の粗さ曲線を求めることが可能であり、同粗さ曲線に基づいて該ガラス基板２１の表面２２の凹凸が鳥瞰図として示される。
【００１６】
そして、尾根２４の形状は、粗さ曲線のピーク部分の線密度（ピークカウント）で規定することが可能である。つまり、該ガラス基板２１においては、ピークカウントを測定したとき、尾根２４が荒れた状態ならば、粗さ曲線のうねりが大きくなってピーク部分が増加するため、ピークカウントは増大すると考えられる。これとは逆に、尾根２４が略一定の高さならば、粗さ曲線のうねりがなだらかとなってピーク部分が減少するため、ピークカウントが減少すると考えられる。
【００１７】
前記尾根２４の形状は、次のようにして測定される。すなわち、まずＡＦＭでの測定結果による粗さ曲線から、図４中に示す平均線２７が求められる。そして、平均線２７よりも１．５ｎｍ高い位置にある第１観測線２８と、２．０ｎｍ高い位置にある第２観測線２９との２箇所でピークカウントが観測される。そして、該ガラス基板２１は、第１観測線２８で観測されるピークカウントが２００個以下であり、かつ第２観測線２９で観測されるピークカウントが２０個以下となるように形成されている。このため、該ガラス基板２１においては、円周テクスチャー２３を形成する凸部の高さが揃えられ、その尾根２４がうねりの発生を抑えられ、ほぼ一様な高さで連なるため、磁気特性が良好に高められる。
【００１８】
さらに、隣接する円周テクスチャー２３の尾根２４の間の距離で示される幅は、好ましくは２０〜２００ｎｍである。同幅が２０ｎｍ未満の場合、円周テクスチャー２３の形状が安定せず、良好な磁気特性を得ることができなくなるおそれがある。同幅が２００ｎｍを超える場合、円周テクスチャー２３が略扁平な形状となり、良好な磁気特性を得ることができなくなるおそれがある。
【００１９】
また、該ガラス基板２１は、円周テクスチャー２３が形成された状態で、ＡＦＭで測定される算術平均粗さ（Ｒａ）が０．５ｎｍ以下であり、かつ最大山高さ（Ｒｐ）が１０ｎｍ以下であることが好ましい。Ｒａが０．５ｎｍ、Ｒｐが１０ｎｍを超えると、ガラス基板２１の表面２２が荒れ、記録された情報を読み取るためのヘッドが移動しにくくなったり、グライドエラー等の不具合を発生させたり等するおそれがある。
【００２０】
そして、該ガラス基板２１は、その表面２２に磁性膜等が形成されて情報記録媒体とされたとき、磁気配向性が１．１〜１．４であることが好ましい。磁気配向性が１．１未満の場合、垂直記録方式の情報記録媒体としての使用が難しくなる。磁気配向性が１．４を超えるガラス基板２１の製造には、より高度な技術が求められ、ほとんど作製することができない。
【００２１】
次に、上記ガラス基板２１の製造方法について説明する。
図１は、このガラス基板２１の製造工程を示す工程図である。同図に示すように、ガラス基板２１は、円盤加工工程１１、内外周端面面取り工程１２、主表面研磨工程１３、化学強化工程１４、強化後洗浄工程１５、テクスチャー加工工程１６、スクラブ洗浄工程１７及びアルカリ洗浄工程１８を経て製造される。
【００２２】
円盤加工工程１１においては、シート状のガラス板を超硬合金又はダイヤモンド製のカッターを用いて切断することにより、ガラス基板２１がその中心に円孔２１ａを有する円盤状に形成される。次工程である内外周端面面取り工程１２においては、ガラス基板２１の外径寸法及び内径寸法が所定長さとなるように内外周端面が研削加工されるとともに、内外周端面の角部が研磨されて面取り加工される。具体的には、ガラス基板２１はダイヤモンド砥粒等の砥粒が付着した回転砥石を用い、その内外周端面が研削加工され、かつ内外周端面の角部が面取り加工される。さらに、面取り加工が施されたガラス基板２１の内外周端面は、研磨材によって平滑面となるように研磨加工される。
【００２３】
主表面研磨工程１３においては、ガラス基板２１の表面２２に研磨加工が施されることにより、同表面２２が平滑面とされる。同研磨加工は、前段研磨加工と、後段研磨加工との２段階に大きく分けられる。これらのうち、前段研磨加工は、ガラス基板２１の厚みを所定値にするとともに、反りやうねりを取除いて表面２２の平坦性を向上させたり、凹凸やクラック等の大きな欠陥を取除いて表面２２を平坦面とする目的で行われる。従って、同前段研磨加工では、その研磨剤は比較的粒径の粗いものが使用され、研磨パッドは使用しないか、あるいは硬質で目の粗いものが使用される。
【００２４】
後段研磨加工は、情報記録媒体として要求される平滑性を満たすために行われる。従って、研磨剤は、比較的粒径が細かく、ガラスに対する親和力が高い、例えば酸化セリウムや酸化ランタン等の希土類酸化物、コロイダルシリカ等が使用される。また、研磨パッドには、合成樹脂発泡体、スウェード等を材料とした軟質で目の細かいものが使用される。なお、前段研磨加工及び後段研磨加工は、ガラス基板２１の研磨効率、表面２２の平滑性等の向上を図るため、さらに複数段階に分けて施してもよい。さらに、主表面研磨工程１３の後には、ガラス基板２１の表面２２に残留する研磨剤等を除去するために洗浄を行うことが好ましい。
【００２５】
上記の主表面研磨工程１３において、ガラス基板２１は、その表面２２のＲａが好ましくは１．５ｎｍ以下となるまで研磨加工が施される。主表面研磨工程１３を経た後のガラス基板２１のＲａが１．５ｎｍを超える場合、前記円周テクスチャー２３を微細かつ正確に形成することが難しくなる。また、この時点でのガラス基板２１のＲａは、小さいほど、高品質なガラス基板２１となるため、より好ましくは１．０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは０．６ｎｍ以下である。一方、Ｒａが小さいほど、研磨時間が長くなり、歩留まりも減少することから、Ｒａの下限は０．１ｎｍである。
【００２６】
化学強化工程１４においては、情報記録媒体として要求される耐衝撃性、耐振動性、耐熱性等を向上させるため、ガラス基板２１の表面２２に化学強化処理が施される。同化学強化処理とは、ガラス基板２１中に含まれるリチウムイオンやナトリウムイオン等の一価の金属イオンを、それよりイオン半径が大きいナトリウムイオンやカリウムイオン等の一価の金属イオンにイオン交換することをいう。そして、同化学強化処理により、ガラス基板２１の表面には圧縮応力層が形成され、その表面２２が化学強化される。
【００２７】
化学強化処理は、硝酸カリウム（ＫＮＯ３）、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ３）、硝酸銀（ＡｇＮＯ３）等が加熱溶融された化学強化処理液にガラス基板２１を浸漬して行われる。同化学強化処理時の温度は、ガラス基板２１の歪点よりも好ましくは５０〜１５０℃程度低い温度であり、より好ましくは化学強化処理液自体の温度が３５０〜４００℃程度である。
【００２８】
化学強化工程１４の後、ガラス基板２１の表面２２には化学強化塩、鉄系の異物等の付着物が付着している可能性があり、同付着物により平滑性が低下する場合がある。このため、化学強化工程１４の後には、強化後洗浄工程１５が実施される。同強化後洗浄工程１５では、中性水溶液を用いた洗浄処理、アルカリ性水溶液を用いた洗浄処理及び酸性水溶液を用いた洗浄処理のうち少なくともいずれか１つの洗浄処理が施される。前記中性水溶液としては、主に純水が使用され、その他にも界面活性剤、有機溶液、キレート剤等が使用される。アルカリ性水溶液としては、アンモニア水、水酸化カリウム水溶液等の無機アルカリ水溶液、テトラアンモニウムハイドライド等の有機アルカリ水溶液等が使用される。酸性水溶液としては、フッ化水素酸、ケイフッ化水素酸、硫酸、硝酸、塩酸、スルファミン酸、酢酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、マロン酸、シュウ酸等が使用される。
【００２９】
上記の強化後洗浄工程１５によって、化学強化処理後にガラス基板２１の表面２２に付着した付着物が除去される。同強化後洗浄工程１５においては、超音波の照射、ブラシスクラブなどの処理を加えることで、洗浄効果の向上を図ることが可能である。また、洗浄効果の向上を図る場合、後に続くテクスチャー加工工程１６で、ガラス基板２１の表面２２における異物による傷の発生を防止することが可能である。
【００３０】
前記強化後洗浄工程１５の後、テクスチャー加工工程１６でガラス基板２１に対してテクスチャー加工が施され、その表面２２に円周テクスチャー２３が形成される。同テクスチャー加工では、アルミニウム基板のテクスチャー処理などで一般的に使用される、所謂テクスチャーマシンが使用される。
【００３１】
図２に示すように、当該テクスチャーマシンは、ガラス基板２１の直上位置に回動自在に支持されたローラ３１を備えている。同ローラ３１は、その長さがガラス基板２１の半径にほぼ等しく、ガラス基板２１の半径方向に延びるように配設されている。当該ローラ３１とガラス基板２１の表面２２との間には、研磨用摺接部材としてのテープ部材３２がローラ３１の一側方からこれらの間を通って他側方へ移動するように配設されている。テープ部材３２は、織物、不織布、植毛品などをテープ状に形成したものであり、ガラス基板２１とローラ３１との間を通る際、ローラ３１からの圧力によってガラス基板２１の表面２２に押圧されて摺接される。また、ガラス基板２１の表面２２には、研磨剤としてのダイヤモンドスラリー３３が滴下される。そして、ガラス基板２１を図２中の矢印方向に回転させながら、テープ部材３２をガラス基板２１の表面２２に摺接させることにより、同表面２２が研磨され、円周テクスチャー２３が形成される。
【００３２】
前記テープ部材３２の材質は特に制限されず、ポリエチレン繊維など、この種のテクスチャー形成に使用されるものであればいかなるものも用いることができる。また、ダイヤモンドスラリー３３に含まれるダイヤモンド砥粒の粒径、形状は特に制限されず、要求される円周テクスチャー２３の密度に応じて適宜選択される。具体的に、ダイヤモンド砥粒の粒径は、平均粒径（Ｄ５０）で好ましくは０．０５〜０．３μｍであり、より好ましくは０．０８〜０．２５μｍである。Ｄ５０が０．０５μｍ未満の場合、ガラス基板２１に対する研磨能力の低下を招き、円周テクスチャー２３の形成速度が遅くなるため、歩留まりの低下、加工コストの高騰を招くおそれがある。一方、０．３μｍを越えると、ガラス基板２１の半径方向で円周テクスチャー２３を均等に形成することができなくなるおそれがある。
【００３３】
次に、テクスチャー加工工程１６の後には、スクラブ洗浄工程１７が施され、テクスチャー加工時にガラス基板２１の表面に残留するダイヤモンドスラリー３３等の異物が除去される。同スクラブ洗浄工程１７において、ガラス基板２１は、その表面２２に純水がシャワーされながら、同表面２２をスクラブ部材で擦ることによって洗浄が行われる。このスクラブ部材には、スポンジ等の合成樹脂発泡体が使用され、その材質は特に制限されない。また、尾根状をなす円周テクスチャー２３を効率良く擦るため、同スクラブ部材にはＳＲＩＳＯ１０１に規定されるアスカーＣ硬度が４０以上のものを使用することが好ましい。
【００３４】
そして、スクラブ洗浄工程１７の後、アルカリ洗浄工程１８でガラス基板２１はアルカリ水溶液を使用してその表面２２がエッチングされるとともに、洗浄される。同アルカリ性水溶液には、例えば水酸化カリウム水溶液等のようなガラス材料に対するエッチング能が低いものが好んで使用される。具体的には、ｐＨが１１．０〜１３．０のアルカリ性水溶液が使用される。ｐＨが１１．０未満の場合、エッチング能が低く、ガラス基板２１の表面２２を十分にエッチングすることができず、ｐＨが１３．０を超えると表面２２が過剰にエッチングされ、前記尾根２４が荒れてしまう。当該アルカリ洗浄工程１８では、前に挙げたようにスクラブ部材を用いた洗浄方法、アルカリ性水溶液にガラス基板２１を浸積させながら超音波を照射する洗浄方法のいずれの方法を用いてもよい。また、アルカリ洗浄工程１８の後には、ガラス基板が乾燥される。乾燥方法としては、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）による乾燥法、スピン乾燥法などが挙げられる。
【００３５】
同アルカリ洗浄工程１８は、必ず純水によるスクラブ洗浄工程１７の後に行われる。これは、ガラス基板２１への影響のない純水で表面２２を洗浄し、確実に異物を除去した後、エッチング能の低いアルカリ性水溶液で極僅かにガラス基板２１の表面２２をエッチングすることにより、円周テクスチャー２３の高さを揃えるためである。
【００３６】
実際に、スクラブ洗浄工程１７後のガラス基板２１の表面２２は、図５に示すように、円周テクスチャー２３の高さが揃っておらず、その尾根２４に荒れが確認される。そして、スクラブ洗浄工程１７後にアルカリ洗浄工程１８を経た後のガラス基板２１の表面２２は、図６に示すように、表面が極僅かにエッチングされることにより、円周テクスチャー２３の高さが揃い、その尾根２４が略直線状に延びていることが確認される。
【００３７】
なお、上記ガラス基板２１は、組成がＳｉＯ２　６３モル％、Ａｌ２Ｏ３　１６モル％、Ｎａ２Ｏ　１１モル％、Ｌｉ２Ｏ　４モル％、ＭｇＯ　２モル％、ＣａＯ４モル％のアルミノシリケート製で厚み０．６３５ｍｍ、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍである。テクスチャー加工は、次に示す条件でが施された。すなわち、ポリエチレンテレフタレート製のテープ部材３２を張力　２２．２（Ｎ）、移動速度　５．１（ｃｍ／ｍｉｎ）で使用し、ローラ３１の硬度を８０（Ｄｕｒｏ）、押圧力を４０（Ｎ）とし、ガラス基板２１の回転速度を３００（ｒｐｍ）とした。また、ダイヤモンドスラリー３３には、粒度分布がＤ１０　０．０７μｍ、Ｄ５０　０．１２μｍ、Ｄ９０　０．２４μｍのものを用い、その供給量を１０（ｍｌ／ｍｉｎ）とした。そして、アルカリ性水溶液には、濃度が３ｇ／Ｌ、ｐＨが１１．７の水酸化カリウム水溶液を使用した。
【００３８】
前記実施形態によって発揮される効果について、以下に記載する。
・　本実施形態のガラス基板２１によれば、その表面２２には尾根状の円周テクスチャー２３が形成されている。同ガラス基板２１の表面２２をＡＦＭを使用して１辺が５μｍ四方の測定範囲で測定したとき、粗さ曲線の平均線２７よりも１．５ｎｍ高い第１観測線２８で測定されるピークカウント、つまり円周テクスチャー２３の尾根２４の数は、２００個以下である。これに加え、粗さ曲線の平均線２７よりも２．０ｎｍ高い第２観測線２９で測定されるピークカウント、つまり円周テクスチャー２３の尾根２４の数は、２０個以下である。このため、形成された円周テクスチャー２３の尾根２４は、その高さがほぼ一定に揃ったうねりのない形状となる。従って、該ガラス基板２１によれば、円周テクスチャー２３の形状を正確に制御することができ、磁気異方性の向上を図ることができる。
【００３９】
・　また、該ガラス基板２１は、円周テクスチャー２３を形成し、純水で洗浄した後、アルカリ性水溶液で洗浄される。このため、ガラス基板２１は、異物を除去した後、その表面２２がアルカリ性水溶液で極僅かにエッチングされる。そして、このエッチングでは、円周テクスチャー２３の尾根２４に形成された凸部分が主に取り除かれるため、尾根２４は、その高さがほぼ一定に揃ったうねりのない形状となる。従って、円周テクスチャー２３の形状を正確に制御しながら、情報記録媒体としたときに要求される磁気異方性を向上させたガラス基板２１を製造することができる。
【００４０】
・　また、前記アルカリ性水溶液は、そのｐＨが１１．０〜１３．０である。このため、アルカリ性水溶液のガラス基板２１に対するエッチング能を適度なものとすることができる。従って、円周テクスチャー２３の形状をより正確に制御することができる。
【００４１】
・　また、前記純水による洗浄は、ガラス基板２１の表面２２をスクラブ部材で摺りながら行われる。従って、円周テクスチャー２３の表面に付着した異物を確実に除去することができる。
【００４２】
なお、前記実施形態又は実施例を次のように変更して構成してもよい。
・　情報記録媒体として要求される強度等を満たすことが可能であるならば、化学強化工程１４を省略してもよい。この場合、強化後洗浄工程１５を省略し、主表面研磨工程１３の後、テクスチャー加工工程１６を行ってもよい。さらにこの場合、主表面研磨工程１３とテクスチャー加工工程１６の間に洗浄工程を設けてもよい。
【００４３】
・　ガラス基板２１の洗浄時には、無機塩の水溶液を電気分解することにより得られた電解水又はガスが溶解されたガス溶解水等の機能水を使用してもよい。この無機塩としては、塩化ナトリウム等のアルカリ金属塩が挙げられる。また、電解水には、電気分解時に陽極側及び陰極側で得られる水のいずれを使用してもよい。
【００４４】
次に、前記実施形態から把握できる技術的思想について以下に記載する。
・　原子間力顕微鏡を使用して測定された算術平均粗さ（Ｒａ）が０．５ｎｍ以下であり、かつ前記平均線からの最大山高さ（Ｒｐ）が１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。このように構成した場合、表面に荒れのないガラス基板を得ることができる。
【００４５】
・　請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の表面に少なくとも磁性膜が形成され、磁気配向性が１．１〜１．４であることを特徴とする情報記録媒体。このように構成した場合、特に垂直記録方式の情報記録媒体として用いることができる。
【００４６】
【発明の効果】
以上詳述したように、この発明によれば、次のような効果を奏する。
請求項１に記載の発明の情報記録媒体用ガラス基板によれば、テクスチャーの形状を正確に制御することができ、磁気異方性の向上を図ることができる。
【００４７】
請求項２に記載の発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、テクスチャーの形状を正確に制御しながら、磁気異方性を向上させたガラス基板を製造することができる。
【００４８】
請求項３に記載の発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、請求項２に記載の発明の効果に加えて、ガラス基板に対するエッチング能を適度なものとすることができ、テクスチャーの形状をより正確に制御することができる。
【００４９】
請求項４に記載の発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、請求項２又は請求項３に記載の発明の効果に加えて、テクスチャーの表面に付着した異物を確実に除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】情報記録媒体用ガラス基板の製造工程を示す工程図。
【図２】ガラス基板にテクスチャーを形成する状態を示す概念図。
【図３】情報記録媒体用ガラス基板を示す表面図。
【図４】テクスチャーを示す一部を破断した斜視図。
【図５】アルカリ洗浄工程前のガラス基板を示すＡＦＭによる鳥瞰図。
【図６】アルカリ洗浄工程後のガラス基板を示すＡＦＭによる鳥瞰図。
【符号の説明】
２１…情報記録媒体用ガラス基板、２１ａ…円孔、２２…表面、２４…尾根、２７…平均線。
【図１】
2004103182.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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