【手続補正書】
【提出日】平成24年4月17日(2012.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
第１の表面１２に印加される圧力が増加されたときに、図２に示されるように、膜は室６内部に基板２の方に歪みかつ曲がる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
シリコンの膜
半径５ｍｍ
厚さ５０μｍ
間隙２５μｍ
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体貯留槽に接続されるのに適した流体入口と、供給場所に接続されるのに適した流体出口（１３）とを有する、受動タイプの流体流れ調整器（１）であって、
前記調整器が、剛基板（２）及び弾性膜（３）を具備し、これらが、前記剛基板と前記弾性膜との間に室（６）を画定するように所定の連結部分（４）で共に固く連結され、
前記室（６）が、前記流体出口（１３）に接続される一方で、前記膜（３）が、前記流体入口に接続される前記室（６）の反対側に第１の表面（１２）を有し、
前記膜（３）が、前記流体入口から前記流体出口（１３）への流体のための経路を画定するために、前記室と隣接する貫通孔（１５）を有し、流体が第１の所定の閾値よりも大きい圧力を前記第１の表面（１２）に印加した場合に、前記室（６）内部で前記貫通孔（１５）を含む部分と共に前記基板（２）と接触することができるように柔軟であり、それにより、流体が前記貫通孔（１５）を通過して流れることを防ぐ、
前記調整器において、
前記膜（３）が、前記室（６）と隣接する少なくとも１つのさらなる貫通孔（１５）を具備し、
前記さらなる貫通孔（１５）が、流体が前記第１の所定の閾値よりも大きいが第２の所定の閾値よりも小さい圧力を前記第１の表面（１２）に印加する場合に、前記流体が、当該さらなる貫通孔を通過して流れることができるように構成され、
前記膜（３）及び前記さらなる貫通孔（１５）がさらに、流体流量がおよそ前記第１の所定の閾値から前記第２の所定の閾値までの範囲内で前記第１の表面（１２）に印加される圧力の関数としてほぼ線形であるように構成された、
前記調整器。
【請求項２】
前記膜（３）が、前記室（６）と隣接するｎ個のさらなる貫通孔（１５）を具備し、
各ｊ番目のさらなる貫通孔が、流体がｊ番目の所定の閾値よりも大きいが（ｊ＋１）番目の所定の閾値よりも小さい圧力を前記第１の表面（１２）に印加する場合に、前記流体がｊ番目のさらなる貫通孔を通過して流れることができるように構成され、
前記膜及び前記ｎ個のさらなる貫通孔がさらに、流体流量がおよそ前記第１の所定の閾値から（ｎ＋１）番目の前記所定の閾値までの範囲内で前記第１の表面に印加される圧力の関数としてほぼ線形であるように構成される、
請求項１に記載の調整器（１）。
【請求項３】
各前記貫通孔（１５）が、前記流体流量がほぼ一定であるように、およそ前記第１の所定の閾値から各前記貫通孔の対応する所定の上方閾値までの圧力範囲内で前記第１の表面（１２）に印加される圧力の関数として線形に増加する流体抵抗を有するように構成される、
請求項２に記載の調整器（１）。
【請求項４】
前記貫通孔（１５）が、鋭いエッジがない形状を有する、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の調整器（１）。
【請求項５】
各前記貫通孔（１５）が、円形、楕円形、長楕円形及び細長い形状などの形状を有することのできる、
請求項４に記載の調整器（１）。
【請求項６】
前記貫通孔（１５）が、らせん曲線に沿って前記膜（３）にわたって分布される、
請求項１〜５のいずれか１項に記載の調整器（１）。
【請求項７】
前記貫通孔（１５）が、一連（６０２，６０３，６０４）の形に配置され、
前記調整器（１）が、少なくとも第１の位置及び第２の位置の間で移動可能であるように、前記膜（６００，７００）に対して配置される閉塞要素（６１０，７１０)を具備し、
前記閉塞要素が、
少なくとも１つの開口（６１２，７１２）を有し、
前記第１の位置で少なくとも１つの前記一連の貫通孔を選択的に塞ぐことができ、かつ前記一連の貫通孔と前記開口を一致させることによって前記第２の位置で前記一連の貫通孔を開かせることができるように構成される、
請求項２〜６のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項８】
前記閉塞要素が、前記膜上で回転可能な薄フィルムである、
請求項７に記載の調整器。
【請求項９】
前記閉塞要素（６１０，７１０）が、流体流量、温度、流体粘度又は流体特性を含むグループ内のパラメータのいずれか又は当該パラメータの任意の組み合わせを調節する少なくとも２つの互いに異なる位置同士の間で回転可能であるように構成される、
請求項７又は８に記載の調整器。
【請求項１０】
調整器が、さらなる剛基板（４２０，５２０）を具備し、
当該さらなる剛基板が、さらなる剛基板（４２０，５２０）と前記弾性膜（４０１，５０１）との間にさらなる室（４０６，５０６）を画定するように前記第１の表面側の所定の連結部分で前記弾性膜（４０１，５０１）に固く連結され、
各さらなる剛基板が、対応する室と接続される入口／出口孔（４２１，５２１）を有する、
請求項１〜６のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項１１】
前記基板及び前記膜の両方が、少なくとも前記結合部分（４）で０．５〜１００ｎｍＲＭＳの範囲の粗さを有する、
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項１２】
前記室（６）内で前記貫通孔（１５）の前に少なくとも１つの柱（８０３）を具備する、
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項１３】
前記貫通孔（１５）の反対側に少なくとも１つのさらなる柱（８０８）を具備する、
請求項１２に記載の調整器。
【請求項１４】
前記貫通孔（１５）の反対側のさらなる柱（８０８）が、チェックバルブを作るように膜と接触する、
請求項１３に記載の調整器。
【請求項１５】
膜（３）及び柱（８０３，８０８）の両方又は一方の上に接合防止層を具備する、
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項１６】
前記圧力が所定の高い値に達したときに閉じる、
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項１７】
前記圧力が所定の高い値に達したときでも開いたままである、
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項１８】
膜の変形を測定するための手段を具備する、
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項１９】
粒子フィルタを具備する、
請求項１〜１８のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項２０】
流体と接触する部品が、親水性物質で覆われている、
請求項１〜１９のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項２１】
変形センサが、外部の手段により電力供給され監視される、
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の調整器。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれかによる流体流れ調整器（１）の製作のための方法であって、
ａ）弾性膜（３）を提供する段階、
ｂ）前記弾性膜の第１の表面（１２）に犠牲層を適用する段階、
ｃ）前記膜で複数の孔をエッチングする段階であって、前記犠牲層がエッチング停止作用を画定する段階、
ｄ）前記犠牲層にさらなる層を適用する段階、
ｅ）前記孔内部の前記犠牲層を取り除く段階、
ｆ）前記膜と剛基板（２）との間に室（６）を画定するように、前記膜の前記第１の表面とは反対側の所定の結合部分（４）で剛基板（２）と前記膜とを組み付ける段階、
ｇ）前記膜内の貫通孔（１５）を仕上げるように所定の位置で前記さらなる層を除去する段階、
から構成される段階を含む、
方法。
【請求項２３】
段階ｅ）及び段階ｇ）が同時に行われる、
請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記さらなる層が、吹き付け、スピニング加工又はラミネーションによって適用される重合体層である、
請求項２２又は２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記基板が、柱及び出口孔を生成するようにエッチングされる、
請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
薬物貯留槽を具備する薬物注入装置であって、
薬物貯留槽が、
請求項１〜２１のいずれかによる流体流れ調整器（１）と、
患者の体内に薬物を供給するための注入手段と、
に接続される、
薬物注入装置。
【請求項２７】
請求項１〜２１のうちの１項で画定される少なくとも１つの調整器を具備する水頭症用自動調整バルブ。