【事件の表示】
　平成　８年特許願第３５７５４３号「情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　７月２８日出願公開、特開平１０−１９４７８５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成８年１２月３０日の出願であって、平成１３年１２月２６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１４年２月７日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年３月８日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１４年３月８日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１４年３月８日付けの手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本願の請求項１に係る発明は、平成１４年３月８日付手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。
「ガラス基板の主表面を研磨する工程と、ガラス基板を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンより大きなイオン径の処理液中のイオンに置換することによりガラス基板を強化する化学強化工程とを含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、最終研磨工程以後の洗浄工程、前記化学強化工程の少なくとも一工程を、サーマル・アスフェリティー（ＴＡ：Thermal　Asperity）による再生機能の低下を防止するため、ガラス基板にサーマル・アスフェリティー（ＴＡ：Thermal　Asperity）の原因となるパーティクルが付着しないように、濾過された清浄な空気を循環した雰囲気下で実施することを特徴とする磁気抵抗型ヘッドで再生される磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。」
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という）が本願出願の際に独立して特許を受けることができるものであるかについて以下検討する。
（２）引用例記載の発明
（ａ）特開平８−１８０４０２号公報（以下、「引用例１」という）
　引用例１は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を記載したものであり、段落【0023】には、「このような板ガラスは一般に、常法に従って所定の円盤形状に加工し、内外周の面取加工を行った後、所定の板厚にラップ加工し、その後更に表面を研磨して平滑化した後、イオン交換処理による強化処理に供される。」と記載され、さらに該強化処理について段落【0024】には「硝酸化カリウム等の溶融塩中に１〜５０時間浸漬して、ガラス中の酸化物のＮａ＋イオンを、Ｋ＋イオン等のイオン半径の大きい金属イオンとイオン交換（・・・）することにより、表面に圧縮応力層を形成する。」と記載されている。
（ｂ）特開平７−３２１０８５号公報（以下、「引用例２」という）
　引用例２は、基板自動処理乾燥装置について記載したものであり、段落【０００４】には「・・・かかる構成においては、シロッコファン１１３の作動によって取り込まれた大気はヒーター１１４により加熱され、フィルター１１５により清浄化されて乾燥室１１０に送られる。」と記載されている。
（３）対比
　上記の記載によれば、引用例１には、ガラス基板の表面を研磨して平滑化した後、硝酸化カリウムの溶融塩からなる化学強化処理液に接触させ、ガラス基板中に含まれるＮａ＋イオンを、Ｋ＋イオン等のイオン半径の大きい金属イオンとイオン交換するイオン交換強化工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法が記載されているといえる。
　本願補正発明と引用例１の記載を対比すると、両者は上記の構成で一致するものの、本願補正発明では、最終研磨工程以後の洗浄工程、前記化学強化工程の少なくとも一工程を、サーマル・アスフェリティー（ＴＡ：Thermal　Asperity）による再生機能の低下を防止するため、ガラス基板にサーマル・アスフェリティー（ＴＡ：Thermal　Asperity）の原因となるパーティクルが付着しないように、濾過された清浄な空気を循環した雰囲気下で実施しているのに対し、引用例１には、係る工程については何ら記載されていない点で相違する。
（４）判断
　引用例１には、サーマル・アスフェリティーによる再生機能の低下についての記載はないが、「磁気ディスク記憶装置の大容量化に伴って、記憶密度の向上のために磁気ヘッド浮上量の低減が図られている。この磁気ヘッド浮上量の低減のためには平滑性に優れた磁気記録媒体が必要とされるが、一般に、磁気記録媒体の磁性膜厚は約０．５μｍ以下と薄く、基板の表面状態が磁気記録媒体の平滑性に大きく影響することから、磁気記録媒体用基板として、平滑性に優れた基板が要求されている」（段落【0002】）との課題は認識されていたことがうかがえる。
　そして、上記基板のように、きわめて高い精度が要求される部材の製造に当たって、洗浄液や処理液の純度を高めることに加え、外因性の固形物の付着などを防ぐため、雰囲気中の浮遊固形分濃度が低くなるよう、雰囲気ガスを濾過された空気を循環することは、引用例２にみられるように、本願出願前より広く実施されている技術であり、どの程度の純度ないし固形分濃度とするかは、製品が必要とする精度によって決まるものである。
　本願補正発明は、ガラス基板を磁気抵抗型ヘッドで再生される磁気ディスク用に限定するとともに、ＴＡによる再生機能の低下を防止するため、ガラス基板にＴＡの原因となるパーティクルが付着しないように、濾過された清浄な空気を循環した雰囲気下で実施することを構成要件としているが、ＴＡの原因となるパーティクルとして、本願明細書に実施例として記載される「２〜４ミクロン」（段落【0060】）の固形物は、引用例１の方法においても、その磁性膜厚からみて当然付着を防がなければならない大きさのものであり、引用例１に記載される方法において係る固形分が混入しないよう、化学強化処理工程の雰囲気から係る固形物を除去するようにすることは、当業者であれば容易に想到し得るものである。
　したがって、本願補正発明は、引用刊行物１及び２の記載に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により本願出願の際に独立して特許を受けることができない。
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
（１）本願発明
　平成１４年３月８日付けの手続補正はじょうきのとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という）は、平成１２年１０月３０日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に係る事項により特定される、以下のとおりのものである。
「ガラス基板の主表面を研磨する工程と、ガラス基板を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンより大きなイオン径の処理液中のイオンに置換することによりガラス基板を強化する化学強化工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、最終研磨工程以後の洗浄工程、前記化学強化工程の少なくとも一工程を、ガラス基板にパーティクルが付着しないように、濾過された清浄な空気を循環した雰囲気下で実施することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。」
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例、及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
（３）対比・判断
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明から、「情報記録媒体」の限定事項である「磁気抵抗型ヘッドで再生される磁気ディスク」、および「パーティクル」の限定事項である「サーマル・アスフェリティー（ＴＡ：Thermal　Asperity）による再生機能の低下を防止するため、ガラス基板にサーマル・アスフェリティー（ＴＡ：Thermal　Asperity）の原因となる」との構成を省いたものである。
　そうすると、本件発明の構成要件をすべて含み、さらに他の構成を付加したものに相当する本願補正発明が、「前記２．（３）（４）」に記載したとおり、引用刊行物１及び２の記載に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様な理由により、引用刊行物１及び２の記載に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
（４）むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、引用刊行物１及び２の記載に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。