【手続補正書】
【提出日】平成24年1月16日(2012.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの第一モノマー及び下記構造式ＩＡ：
【化１】
2011510135.tif 000001
｛式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して：ブチル、ｔｅｒｔ‐ブチル、イソブチル、
【化２】
2011510135.tif 000002
からなる群から選択され；Ｘは、２〜８個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖アルキレン基を含む二価の炭化水素基であり；ｎは、１〜１００の整数であり；そしてＲは、エチレン性不飽和基である。｝
で表される少なくとも１つの第二モノマーに由来し、かつ−１５℃〜１２℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、ラテックスポリマー。
【請求項２】
Ｒが、アクリレート、Ｃ１−Ｃ６アルキルアクリレート、アリル、ビニル、マレエート、イタコネート及びフマレートからなる群から選択される、請求項１に記載のポリマー。
【請求項３】
Ｒが、アクリロ基、メタクリロ基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、ジアリルアミノ基、アリルエーテル基、ビニルエーテル基、α−アルケニル基、マレイミド基、スチレニル基及びα−アルキルスチレニル基からなる群の少なくとも１つから選択される、請求項１に記載のポリマー。
【請求項４】
Ｒが、化学構造：ＲａＣＨ＝Ｃ（Ｒｂ）ＣＯＯ−｛式中、ＲａがＨであるならば、ＲｂはＨ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、若しくは−ＣＨ２ＣＯＯＸであるか；Ｒａが−Ｃ（Ｏ）ＯＸであるならば、ＲｂはＨ若しくは−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＸ３であるか；又はＲａがＣＨ３であるならば、ＲｂはＨであり、そしてＸａはＨ若しくはＣ１−Ｃ４アルキルである｝を有する、請求項１に記載のポリマー。
【請求項５】
Ｒが、化学構造：−ＨＣ＝ＣＹＺ又は−ＯＣＨ＝ＣＹＺ｛式中、Ｙは、Ｈ、ＣＨ３、若しくはＣｌであり；Ｚは、ＣＮ、Ｃｌ、−ＣＯＯＲＣ、−Ｃ６Ｈ４Ｒｃ、−ＣＯＯＲｄ、若しくは−ＨＣ＝ＣＨ２であり；Ｒｄは、Ｃ１−Ｃ８アルキル若しくはＣ２−Ｃ８ヒドロキシアルキルであり；そしてＲｃは、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、若しくはＣ１−Ｃ４アルキルである。｝を有する、請求項１に記載のポリマー。
【請求項６】
第二モノマーが、下記構造式ＩＢ：
【化３】
2011510135.tif 000003
｛式中、ｎは、１〜１００の範囲であり、そしてＲ４は、Ｈ、Ｃ１−Ｃ６アルキル及びＣ２−Ｃ８ヒドロキシアルキルからなる群から選択される。｝
で表される、請求項１に記載のポリマー。
【請求項７】
ｎが、３〜８０の整数である、請求項６に記載のポリマー。
【請求項８】
ｎが、１０〜５０の整数である、請求項７に記載のポリマー。
【請求項９】
ｎが、２０〜５０の整数である、請求項８に記載のポリマー。
【請求項１０】
第二モノマーが、下記構造式ＩＢ−１：
【化４】
2011510135.tif 000004
｛式中、ｎは、１〜１００の範囲であり、そしてＲ４は、Ｈ、Ｃ１−Ｃ６アルキル及びＣ２−Ｃ８ヒドロキシアルキルからなる群から選択される。｝
で表される、請求項１に記載のポリマー。
【請求項１１】
ｎが、３〜８０の整数である、請求項１０に記載のポリマー。
【請求項１２】
ｎは、１０〜５０の整数である、請求項１１に記載のポリマー。
【請求項１３】
ｎが、２０〜５０の整数である、請求項１２に記載のポリマー。
【請求項１４】
第一モノマーが、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル及びそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つのアクリルモノマーを含む、請求項１に記載のポリマー。
【請求項１５】
さらに、ポリマーが、スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ウレイドメタクリレート、酢酸ビニル、分岐鎖三級モノカルボン酸のビニルエステル、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、エチレン、及びＣ４−Ｃ８共役ジエンからなる群から選択される少なくとも１つの第三モノマーに由来する、請求項１４に記載のポリマー。
【請求項１６】
−５℃〜５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の記載のポリマー。
【請求項１７】
−５℃〜０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項１〜１６のいずれか１項に記載のポリマー。
【請求項１８】
２００ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項１〜１７のいずれか１項に記載のポリマー。
【請求項１９】
１９０ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項１〜１８のいずれか１項に記載のポリマー。
【請求項２０】
１７５ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項１〜１９のいずれか１項に記載のポリマー。
【請求項２１】
（ａ）請求項１〜２０のいずれか１項に記載の少なくとも１つのラテックスポリマー；及び
（ｂ）水、
を含み、そして凍結融解に安定である、ラテックスコーティング組成物。
【請求項２２】
下記構造式：
【化５】
2011510135.tif 000005
｛式中、ｎは、１〜１００の整数であり、Ｒ５は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＯＣ６Ｈ１３、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＣＮ、ホスホネート（−ＰＯ３−Ｍ＋）、ホスフェート（ＰＯ４−Ｍ＋）、スルフェート（ＳＯ４−Ｍ＋）、スルホネート（ＳＯ３−Ｍ＋）、カルボキシレート（ＣＯＯ−Ｍ＋）、非イオン性基、及び四級アンモニウムイオンからなる群から選択され、そしてＭ＋は、カチオンである。｝
で表される凍結融解添加剤をさらに含む、請求項２１に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項２３】
凍結融解添加剤が、ポリマーの１．３質量％より大きい量で存在する、請求項２２に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項２４】
凍結融解添加剤が、ポリマーの１．６質量％より大きい量で存在する、請求項２２に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項２５】
凍結融解添加剤が、ポリマーの２質量％より大きい量で存在する、請求項２２に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項２６】
凍結融解添加剤が、ポリマーの４質量％より大きい量で存在する、請求項２２に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項２７】
凍結融解添加剤が、ポリマーの７．５質量％より大きい量で存在する、請求項２２に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項２８】
凍結融解添加剤が、ポリマーの８質量％より大きい量で存在する、請求項２２に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項２９】
凍結融解添加剤が、ポリマーの１０質量％より大きい量で存在する、請求項２２に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項３０】
（１）少なくとも１つの第一モノマーを（２）下記構造式ＩＡ：
【化６】
2011510135.tif 000006
｛式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して：ブチル、ｔｅｒｔ‐ブチル、イソブチル、
【化７】
2011510135.tif 000007
からなる群から選択され；Ｘは、２〜８個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖アルキレン基を含む二価の炭化水素基であり；ｎは、１〜１００の整数であり；そしてＲは、エチレン性不飽和基である。｝
で表される少なくとも１つの第二モノマーと共重合する工程を含むラテックスポリマーの製造方法であって、該ポリマーは、−１５℃〜１２℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、製造方法。
【請求項３１】
ポリマーが、−５℃〜５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
ポリマーが、−５℃〜０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
ポリマーが、２００ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３４】
ポリマーが、１９０ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３５】
ポリマーが、１７５ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項３０に記載の方法。
【請求項３６】
少なくとも１つの第一モノマーを（ｉ）構造式ＩＢ：
【化８】
2011510135.tif 000008
｛式中、ｎは、１〜１００の整数であり、そしてＲ４は、Ｈ、Ｃ１−Ｃ６アルキル及びＣ２−Ｃ８ヒドロキシアルキルからなる群から選択される。｝
で表される少なくとも１つの第二モノマー又は（ｉｉ）構造式ＩＢ−１：
【化９】
2011510135.tif 000009
｛式中、ｎは、１〜１００の整数であり、そしてＲ４は、Ｈ、Ｃ１−Ｃ６アルキル及びＣ２−Ｃ８ヒドロキシアルキルからなる群から選択される。｝
で表される少なくとも１つの第二モノマーと共重合する工程を含むラテックスポリマーの製造方法であって、該ポリマーは、−１５℃〜１２℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、製造方法。
【請求項３７】
ポリマーが、−５℃〜５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
ポリマーが、−５℃〜０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項３６に記載の方法。
【請求項３９】
ポリマーが、２００ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項３６に記載の方法。
【請求項４０】
ポリマーが、１９０ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項３６に記載の方法。
【請求項４１】
ポリマーが、１７５ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項３６に記載の方法。
【請求項４２】
（ａ）少なくとも１つのラテックスポリマー；
（ｂ）少なくとも１つの顔料；
（ｃ）水；及び
（ｄ）低揮発性有機化合物（ＶＯＣ）ラテックスコーティング組成物に凍結融解安定性を与えるのに有効な量で存在し、かつ下記構造式ＩＩＡ：
【化１０】
2011510135.tif 000010
｛式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して：ブチル、ｔｅｒｔ‐ブチル、イソブチル、
【化１１】
2011510135.tif 000011
からなる群から選択され；Ｘは、２〜８個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖アルキレン基を含む二価の炭化水素基であり；ｎは、１〜１００の整数であり；Ｒ５は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＯＣ６Ｈ１３、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＣＮ、ホスホネート（−ＰＯ３−Ｍ＋）、ホスフェート（ＰＯ４−Ｍ＋）、スルフェート（ＳＯ４−Ｍ＋）、スルホネート（ＳＯ３−Ｍ＋）、カルボキシレート（ＣＯＯ−Ｍ＋）、非イオン性基、及び四級アンモニウムイオンからなる群から選択され；そしてＭ＋は、カチオンである。｝
で表される添加剤
を含む低ＶＯＣラテックスコーティング組成物であって、該添加剤は、該ポリマーの１．６質量％より大きい量で存在し、そして該ポリマーは、−１５℃〜１２℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、ラテックスコーティング組成物。
【請求項４３】
ｎは、３〜８０の整数である、請求項４２に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項４４】
開放時間が６分を超えることを特徴とする、請求項４２に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項４５】
（ａ）少なくとも１つのラテックスポリマー；
（ｂ）少なくとも１つの顔料；
（ｃ）水；及び
（ｄ）低ＶＯＣラテックスコーティング組成物に凍結融解安定性を与えるのに有効な量で存在し、かつ下記構造式：
【化１２】
2011510135.tif 000012
（式中、ｎは、１〜１００の整数であり、Ｒ５は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＯＣ６Ｈ１３、−ＯＣ４Ｈ９、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＣＮ、ホスホネート（−ＰＯ３−Ｍ＋）、ホスフェート（ＰＯ４−Ｍ＋）、スルフェート（ＳＯ４ーＭ＋）、スルホネート（ＳＯ３ーＭ＋）、カルボキシレート（ＣＯＯーＭ＋）、非イオン性基、及び四級アンモニウムイオンからなる群から選択され、
そしてＭ＋は、カチオンである。｝
で表される添加剤
を含む低ＶＯＣラテックスコーティング組成物であって、該ポリマーは、−１５℃〜１２℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、ラテックスコーティング組成物。
【請求項４６】
ｎが、３〜８０の整数である、請求項４５に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項４７】
添加剤が、ポリマーの１．６質量％より大きい量で存在する、請求項４５に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項４８】
ポリマーが、−５℃〜５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項４５に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項４９】
ポリマーが、１９０ｎｍ未満の平均粒径を有する、請求項４５に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項５０】
開放時間が６分を超えることを特徴とする、請求項４５に記載のラテックスコーティング組成物。
【請求項５１】
低ＶＯＣコーティング組成物に下記構造式ＩＩＡ：
【化１３】
2011510135.tif 000013
｛式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、独立して：ブチル、ｔｅｒｔ‐ブチル、イソブチル，
【化１４】
2011510135.tif 000014
からなる群から選択され；Ｘは、２〜８個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖アルキレン基を含む二価の炭化水素基であり；ｎは、１〜１００の整数であり；Ｒ５は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＯＣ６Ｈ１３、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＣＮ、ホスホネート（−ＰＯ３−Ｍ＋）、ホスフェート（ＰＯ４ーＭ＋）、スルフェート（ＳＯ４ーＭ＋）、スルホネート（ＳＯ３−Ｍ＋）、カルボキシレート（ＣＯＯーＭ＋）、非イオン性基、及び四級アンモニウムイオンからなる群から選択され；そしてＭ＋は、カチオンである。｝
で表される有効量の添加剤を加える工程を含む、低ＶＯＣコーティング組成物に凍結融解安定性を与える方法。
【請求項５２】
低ＶＯＣコーティング組成物に下記構造式：
【化１５】
2011510135.tif 000015
｛式中、ｎは、１〜１００の整数であり、Ｒ５は、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＯＣ６Ｈ１３、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＣＮ、ホスホネート（−ＰＯ３ーＭ＋）、ホスフェート（ＰＯ４−Ｍ＋）、スルフェート（ＳＯ４−Ｍ＋）、スルホネート（ＳＯ３ーＭ＋）、カルボキシレート（ＣＯＯーＭ＋）、非イオン性基、及び四級アンモニウムイオンからなる群から選択され、そしてＭ＋は、カチオンである。｝
で表される有効量の添加剤を与える工程を含む、低ＶＯＣコーティング組成物に凍結融解安定性を与える方法。