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【手続補正書】
【提出日】平成24年6月6日(2012.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(A) 一酸化窒素ガス前駆体；
(B)a)(i)一酸化窒素ガス前駆体を一酸化窒素ガスに変換する活性を有するか、もしくは
(ii)一酸化窒素ガス前駆体の一酸化窒素ガスへの変換を引き起こす触媒を生成させる活性を基質に対して有する、
単離された酵素、もしくは内因性酵素と一酸化窒素前駆体を発現する生細胞；または
b)一酸化窒素ガス前駆体を一酸化窒素ガスに変換するための触媒を生成する生細胞；及び
(C)担体
とを含む組成物。
【請求項２】
前記担体が、天然ポリマー、合成ポリマー、ヒドロゲル、天然ゲル、可溶性フィルム、複数部分を有するかまたは層状の可溶性フィルム、マイクロカプセル、リポソーム、炭化水素ベースのマトリックスまたはワセリンから選択されるマトリックスを含む、請求項1に記載の組成物。
【請求項３】
クリーム、スラブ、ゲル、ヒドロゲル、可溶性フィルム、スプレー、ペースト、乳剤、パッチ、リポソーム、バームまたはマスクである、請求項1に記載の組成物。
【請求項４】
一酸化窒素ガスを罹患組織に送達するためのデバイスであって、バリア表面および一酸化窒素ガス透過性の接触表面を備え、前記バリア表面と前記接触表面との間に配置される請求項1から3のいずれか一項に記載の組成物を含有するケーシングを具備するデバイス。
【請求項５】
前記ケーシングが前記組成物を前記組織と隔て、前記ケーシングが前記組成物を透過させない、請求項4に記載のデバイス。
【請求項６】
前記罹患組織が、傷ついた皮膚、微生物に感染した皮膚、及び/または皮膚障害に罹患している皮膚を含み、前記ケーシングまたは組成物が前記皮膚への局所投与に適している、請求項4または5に記載のデバイス。
【請求項７】
前記触媒がプロトンを含み、前記プロトンが前記酵素反応の生成物または副生成物である、請求項1から6のいずれか一項に記載のデバイスまたは組成物。
【請求項８】
前記酵素および基質が、リパーゼおよびトリグリセリド、エステラーゼおよびエステル、リパーゼおよびエステル、エステラーゼおよびトリグリセリド、プロテアーゼおよびタンパク質、トリプシンおよびタンパク質、キモトリプシンおよびタンパク質を含む、請求項1から6のいずれか一項に記載のデバイスまたは組成物。
【請求項９】
前記酵素がリパーゼであり、前記基質がトリアセチンである、請求項1から8のいずれか一項に記載のデバイスまたは組成物。
【請求項１０】
前記バリア表面が酸素不透過性である、請求項5から9のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記細胞または酵素または前駆体が、貯蔵部中で固定化されている、請求項1から10のいずれか一項に記載のデバイスまたは組成物。
【請求項１２】
前記一酸化窒素ガスを回収するための、スペーサー、ガス用のセルを有する構造またはスポンジを備える前記一酸化窒素ガス濃縮用物質を更に含む、請求項4に記載のデバイス。
【請求項１３】
前記ケーシングが複数の層を備え、前記層が、
a)バリア層と、
b)接触層と、
c)活性層と
を備える、請求項4に記載のデバイス。
【請求項１４】
貯蔵層をさらに備える、請求項13に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記活性層と前記貯蔵層とをつなぐ少なくとも1つの弁をさらに備え、前記弁が、前記細胞または酵素が前記前駆体と隔てられている最初の閉位置、および前記活性層と貯蔵層とが流体連通しており、前記細胞または酵素または前駆体が前記層間で流れることができるようになる開位置を有する、請求項14に記載のデバイス。
【請求項１６】
前記弁が一方向弁を備え、前記開位置では前記酵素または細胞または前記前駆体のいずれかが前記層間で流れることができるようになり、前記弁が、前記デバイスに加圧により前記閉位置から前記開位置に作動できる圧力作動弁を備える、請求項15に記載のデバイス。
【請求項１７】
前記デバイスまたは組成物が、不活性な組成状態および活性な組成状態を有し、前記不活性な組成状態では、前記組成物は脱水されており、前記前駆体は前記酵素または触媒と相互作用してNOガスを生成することはなく、前記活性な組成状態では、前記組成物は水和されて前記前駆体が前記酵素または触媒によりNOガスに変換される、請求項1から16のいずれか一項に記載のデバイスまたは組成物。
【請求項１８】
その必要がある対象における創傷、微生物感染症および/または皮膚障害を治療するための、請求項1から17のいずれか一項に記載のデバイスまたは組成物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月16日(2012.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属又はポリマー支持体を含み、当該支持体上に下記構造（Ｉ）：
【化１】
2011525156.tif 000001
（式中、Ｒ1及びＲ2は、独立に、水素、又はＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルケニル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アシル、Ｃ1〜Ｃ6アシルオキシ、フェニル、ハロもしくはシアノ基であるか、又はＲ1及びＲ2は一緒になって環式基を形成していてもよく、
Ｒ3は、水素、又はＣ1〜Ｃ6アルキル、フェニル、ハロもしくはシアノ基であり、
Ｒ4及びＲ5は独立に水素又はメチル基であり、
Ｒ6は水素又はＣ1〜Ｃ12アルキル基であり、
Ｘ1は−Ｏ−又は−ＮＲ−であり、ここでＲは水素又はアルキルもしくはアリール基であり
Ｘ2は−ＮＲ’−であり、ここでＲ’は水素又はアルキルもしくはアリール基であり、
ｍは１５〜２００の整数であり、ｎは１〜１２の整数である）
により表されるトリアルコキシシリルポリエチレングリコールアクリレートを含む中間層を有する基材。
【請求項２】
Ｒ1及びＲ2が独立に水素又はＣ1〜Ｃ4 アルキル基もしくはフェニル基であり、Ｒ3が水素又はＣ1〜Ｃ3アルキルもしくはフェニル基であり、Ｒ6 がＣ1〜Ｃ4アルキル基であり、Ｘ1が−Ｏ−、−ＮＨ−又は−ＮＣＨ3−であり、Ｘ2が−ＮＨ−又は−ＮＣＨ3−であり、ｍは２０〜７０の整数であり、ｎは２〜６の整数である、請求項１に記載の基材。
【請求項３】
アルミニウム含有支持体を含む請求項１又は２に記載の基材。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材を含み、当該基材上に、画像形成輻射線への露光後に処理液への不溶性がより高くなる画像形成性層を有するネガ型画像形成性要素。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材を含み、当該基材上に、
遊離基重合性成分、
画像形成赤外線への露光によって遊離基重合性基の重合を開始するのに十分な遊離基を生成することのできる開始剤組成物、
主鎖を有し、当該主鎖にペンダントポリ（アルキレンオキシド）側鎖、シアノ基、又は両方が結合しており、必要に応じて離散粒子の形態で存在する一次ポリマーバインダー、及び
赤外線吸収性化合物、
を含む画像形成性層を有する、ネガ型の印刷機上で現像可能な画像形成性要素。
【請求項６】
前記開始剤組成物が、ヨードニウム化合物、又はジアリールヨードニウムカチオンとホウ素含有アニオンとの組み合わせを含み、前記ジアリールヨードニウムカチオンが下記構造（ＩＢ）：
【化２】
2011525156.tif 000002
（式中、Ｘ及びＹは、独立に、ハロ、アルキル、アルコキシ、アリール又はシクロアルキル基であるか、あるいは、２つ若しくは３つ以上の隣接するＸ又はＹ基が結合して、それぞれのフェニル基と縮合炭素環式環又は複素環式環を形成していてもよく、ｐ及びｑは独立に０又は１〜５の整数であり、ただし、ｐ又はｑは少なくとも１である）
により表され、
前記ホウ素含有アニオンが下記構造（ＩＢｚ）：
【化３】
2011525156.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 及びＲ4は、独立に、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はヘテロシクリル基であるか、又は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3 及びＲ4のうちの２つ又は３つ以上が連結してホウ素原子を有する複素環式環を形成していてもよく、かかる環は７個以下の炭素、窒素又は酸素原子を有する）
により表される、請求項５に記載の画像形成性要素。
【請求項７】
Ａ）赤外の画像形成輻射線を使用して請求項４〜６のいずれか一項に記載の画像形成性要素を像様露光して露光領域及び非露光領域を生成すること、
Ｂ）露光後のベーキング工程有り又は無しで、像様露光された要素を現像して、主に非露光領域のみを除去すること、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月31日(2012.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の一実施形態は、前記シャフトの長手方向における前記載置面の延長部の半分の位置に前記たわみの最高点が位置するよう、前記シャフト上に前記ロータを配置したことを特徴としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記シャフト（２）の長手方向における前記載置面（８）の延長部の半分の位置に前記たわみの最高点（１５）が位置するよう、前記シャフト（２）上に前記ロータ（７）を配置したことを特徴とする請求項１記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月2日(2012.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを基材に塗布する方法であって、
液体ビヒクルおよび前記ビヒクル中に分散された少なくとも帯電した色素粒子を含むインクを調製すること；
インク用の出口ノズルに第一の電位を印加すること；
出口ノズル近傍に配置された１つ以上の補助電極に少なくとも第二の電位を印加すること；および
インクの液滴を出口ノズルから基材上の標的区域に対して放出させることを含む方法であり、
１つ以上の補助電極は、ノズルから出るインクの液滴に電界を印加するために配置され、出口ノズルおよび１つ以上の補助電極の配置、ならびに第一および第二の電位の値は、色素粒子が、液滴が落ちるにつれノズルから出るインクの前記液滴の中心に向かって電気泳動的に濃縮され、それによって、インク中の色素粒子の濃度よりも高い濃度を有する色素粒子の分量が標的区域内に沈着するよう選択されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
色素粒子が永久電荷を有する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
色素粒子が誘導電荷を有する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
印加電位を利用して塗布過程の間に色素の放射状に内向きの電気泳動運動を引き起こし、色素粒子を前記液滴の中心に向かって、従って標的区域内に濃縮するために設計される、請求項１〜３のいずれか一項記載の方法。
【請求項５】
印加電位を利用して液体流体力学的な力をインクの液滴の液体ビヒクルに対して生じさせ、液体ビヒクルを標的区域から分散させるために設計される、請求項１〜４のいずれか一項記載の方法。
【請求項６】
出口ノズル近傍に配置された１つ以上の補助電極が、ノズルにより形成される電極周辺で同軸上に配置される、請求項１〜５のいずれか一項記載の方法。
【請求項７】
基材が、インクの液滴がノズルから標的区域に対して放出される間、規定の電気で維持される、請求項１〜６のいずれか一項記載の方法。
【請求項８】
基材が接地電位または地電位で維持される、請求項７記載の方法。
【請求項９】
出口ノズルと１つ以上の補助電極との間の電位差が、少なくとも出口ノズルと基材との間の電位差と同じ大きさである、請求項１〜８のいずれか一項記載の方法。
【請求項１０】
出口ノズルと１つ以上の補助電極との間の電位差が１〜１００Ｖの範囲内にある、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
少なくとも１つ以上の補助電極を、基材の裏側で、ノズルにより形成される電極と同じ共通軸上に配置することを含む、請求項１〜５のいずれか一項記載の方法。
【請求項１２】
基材を支えるための基板を備え、前記基板が規定の電位で維持される、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
基板が接地電位または地電位で維持される、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
基板が基材の裏側に配置され、前記基材がノズルと基板との間に配置される、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
基板が基材とノズルの間に配置される、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１６】
ノズルおよび基材の裏側の少なくとも１つの補助電極が、基材に対して相対的に可動式であり、ノズルおよび前記少なくとも１つの補助電極の移動が、同期されている、請求項１１記載の方法。
【請求項１７】
複数の電極および対応する穴が、固定された絶対位置で維持される、請求項１１記載の方法。
【請求項１８】
ノズルおよび補助電極が固定された位置で維持され、基材はそれに対して相対的に移動する、請求項１１記載の方法。
【請求項１９】
補助電極の電位が、ノズルの電位よりも荷電ナノ粒子をさらに引き付けるよう維持される、請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
補助電極とノズルの電位の比が、補助電極近傍の基板における穴の半径とノズルの半径の比よりも大きく保たれる、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
インクを基材に塗布するための装置であって、
インクの出口を規定するノズルであって、少なくともそのノズルの一部が電気導電性であるノズル；
出口ノズルに第一の電位を印加するための第一の電源；
出口ノズル近傍に配置された１つ以上の補助電極；
前記１つ以上の補助電極に第二の電位を印加するための第二の電源；および
液体ビヒクルおよび前記ビヒクル中に分散された少なくとも帯電した色素粒子を含むインクの液滴を、ノズルから基材上の標的区域に対して放出させるための手段を含む装置であり、
出口ノズル近傍に配置された１つ以上の補助電極は、ノズルから出るインクの液滴に電界を印加するために配置され、出口ノズルおよび１つ以上の補助電極の配置、ならびに第一および第二の電位の値は、色素粒子が、液滴が落ちるにつれノズルから出るインクの前記液滴の中心に向かって電気泳動的に濃縮され、それによって、インク中の色素粒子の濃度よりも高い濃度を有する色素粒子の分量が標的区域内に沈着するよう選択されることを特徴とする、装置。
【請求項２２】
出口ノズル近傍に配置された１つ以上の補助電極が、ノズルにより形成される電極周辺で同軸上に配置されたものである、請求項２１記載の装置。
【請求項２３】
電源が、少なくとも出口ノズルと基材との間の電位差と同じ大きさの出口ノズルと１つ以上の補助電極との間の電位差を維持するために配置されたものである、請求項２２記載の装置。
【請求項２４】
電源が、出口ノズルと１つ以上の補助電極との間の電位差を１〜１００Ｖの範囲内に維持するために配置されたものである、請求項２３記載の装置。
【請求項２５】
ノズルにより形成される電極と同じ共通軸上で、ノズルの向こう側に配置された少なくとも１つの補助電極を含み、使用に際して基材がノズルと前記少なくとも１つの補助電極の間にあることを特徴とする、請求項２１記載の装置。
【請求項２６】
基材を支えるために配置された基板を含み、当該基板は規定の電位で維持されることを特徴とする、請求項２５記載の装置。
【請求項２７】
電源が、ノズルの電位よりも荷電ナノ粒子をさらに引き付けるよう補助電極の電位を維持するために配置される、請求項２６記載の装置。
【請求項２８】
電源が、補助電極とノズルとの電位の比を、補助電極近傍の基板における穴の半径とノズルの半径との比より大きく保つために配置される、請求項２７記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月2日(2012.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｔｏｌｌ様受容体３（ＴＬＲ３）によってのみ仲介される自然免疫を開始するための薬学的組成物であって、他のＴｏｌｌ様受容体またはＲＮＡヘリカーゼを活性化することなく、あるいは１以上の炎症促進性サイトカインを過剰な量で誘導することなく、ＴＬＲ３を活性化するのに十分な量の少なくともポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）を含み、該組成物は被験体に投与される、前記組成物。
【請求項２】
ポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）が、被験体において、自己免疫損傷または神経変性によって開始されている、少なくともサイトカイン産生または同時刺激分子シグナル伝達を再調節する、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
微生物に感染した被験体を治療するための薬学的組成物であって、Ｔｏｌｌ様受容体３（ＴＬＲ３）に結合し、そして微生物による被験体の感染を減少させるかまたは排除するのに十分な量のポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）を含む、前記組成物。
【請求項４】
被験体が、細菌、原生動物、およびウイルスからなる群より選択される微生物に感染している、請求項３記載の組成物。
【請求項５】
腫瘍または他の形質転換細胞を所持する被験体を治療するための薬学的組成物であって、Ｔｏｌｌ様受容体３（ＴＬＲ３）に結合し、そして被験体における腫瘍または他の形質転換細胞の増殖を減少させるかまたは排除するのに十分な量のポリ（Ｉ：１１−１４Ｕ）を含む、前記組成物。
【請求項６】
被験体が、癌を引き起こすウイルスに感染している、請求項５記載の組成物。
【請求項７】
少なくとも、微生物に感染しているか、あるいは腫瘍または他の形質転換細胞を所持する被験体を治療するための薬学的組成物であって、樹状細胞成熟を誘導するのに十分な量のポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）を含む薬学的組成物を含む、前記組成物。
【請求項８】
被験体に微生物または腫瘍に対するワクチンを接種するための組み合わせ組成物であって、（ｉ）微生物または腫瘍に対する免疫反応を誘導するワクチンまたは樹状細胞調製物、および（ｉｉ）Ｔｏｌｌ様受容体３（ＴＬＲ３）に結合し、そして被験体において、ワクチンまたは樹状細胞調製物の微生物抗原または腫瘍抗原に対する免疫反応を刺激するのに十分な量のポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）を含む薬学的組成物を含む、前記組成物。
【請求項９】
微生物または癌または他の形質転換細胞が、ＴＬＲ３アゴニストとしてのみ作用するポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）の作用のみに感受性である、請求項３〜８のいずれか一項記載の組成物。
【請求項１０】
微生物または癌または他の形質転換細胞が、ＴＬＲ３アゴニストとしてのみ作用するポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）によって活性化される特異的サイトカイン反応パターンに感受性である、請求項３〜８のいずれか一項記載の組成物。
【請求項１１】
微生物または癌または他の形質転換細胞が、抗原に対する免疫反応を開始するｉｎ  ｓｉｔｕターゲットとして、ポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）に自然に選択される抗原を発現している、請求項３〜１０のいずれか一項記載の組成物。
【請求項１２】
ポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）が、被験体において、微生物または癌または他の形質転換細胞によって開始されている、少なくともサイトカイン産生または同時刺激分子シグナル伝達を再調節する、請求項３〜１１のいずれか一項記載の組成物。
【請求項１３】
被験体がヒトである、請求項１〜１１のいずれか一項記載の組成物。
【請求項１４】
ポリ（Ｉ：Ｃ１２−１４Ｕ）が静脈内注入される、請求項１〜１３のいずれか一項記載の組成物。
【請求項１５】
ポリ（Ｉ：Ｃ１１−１４Ｕ）が、皮内、皮下、または筋内注射されるか：鼻内または気管内吸入されるか；あるいは中咽頭または舌下適用される、請求項１〜１４のいずれか一項記載の組成物。
【請求項１６】
微生物に感染したか、癌または他の形質転換細胞を所持するか、あるいは微生物、癌細胞、または他の形質転換細胞に対してワクチン接種された被験体の免疫細胞上のＴｏｌｌ様受容体３（ＴＬＲ３）に結合する薬剤を製造するための、ミスマッチ二本鎖リボ核酸（ｄｓＲＮＡ）の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月15日(2012.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記クーラー及び前記ヒーターの間に絶縁体をさらに含む請求項６に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月12日(2012.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】薬剤ディスペンサー及びその製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の側面、
第一の側面から間隔を開けて配置され、実質的に第一の側面に対向する第二の側面、
第一の側面および第二の側面の間に位置する薬剤収納構造、
第一の側面と第二の側面の間に伸延するピボット構造、および
第一の側面および第二の側面に隣接して位置する主ロック構造を含み、
薬剤収納構造は、薬剤収納構造が第一の側面および第二の側面によって実質的に囲まれた閉鎖状態から、薬剤収納構造が第一の側面および第二の側面の少なくとも一つから実質的に露出された露出状態へピボット構造の周囲を回転可能であり、
主ロック構造は、薬剤収納構造の回転が主ロック構造によって防止されるロック状態と薬剤収納構造の回転が主ロック構造によって妨げられない非ロック状態の間を第一の側面および第二の側面に対して移動するように構成されている、薬剤ディスペンサー。
【請求項２】
第一の側面が第一のロック受容部を含み、第一のロック受容部は第一の側面の残りの部分よりも可撓性が高く、ロック状態にある場合に主ロック構造上の対応する係合構造と連結する係合構造を有するものであり、第二の側面は第二のロック受容部を含み、第二のロック受容部は第二の側面の残りの部分よりも可撓性が高く、ロック状態にある場合に主ロック構造上の対応する第二の係合構造と連結する第二の係合構造を有する、請求項１に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項３】
第一のロック受容部が、第一の側面の端部から第一の側面の内側部分へ伸延する一対のスリットによって規定され、該スリットが第一のロック受容部と第一の側面の残りの部分との間の相対的な可撓性に寄与する、請求項２に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項４】
第一の側面と第二の側面との間に位置する中間の側面をさらに含む、請求項１に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項５】
中間の側面と主ロック構造との間に位置する一体蝶番をさらに含む、請求項４に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項６】
主ロック構造、一体蝶番、中間の側面、第一の側面および第二の側面が、単一の一つにまとまった構築物から一体に形成され、すべて同一の連続的な材料から形成される、請求項５に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項７】
第一の側面と第二の側面と間に位置する中間の側面をさらに含む、請求項２に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項８】
中間の側面、第一の側面、第二の側面、第一のロック受容部および第二のロック受容部が、単一の一つにまとまった構築物から一体に形成され、すべて同一の連続的な材料から形成される、請求項７に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項９】
第一のロック受容部の係合構造が、開口および第一の側面に実質的に垂直な方向に伸延するタブの少なくとも一つを含み、主ロック構造の対応する係合構造が、開口および第一の側面に実質的に垂直な方向に伸延するタブの少なくとも一つを含んでいる、請求項２に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項１０】
薬剤収納構造が裏張基材、ブリスター基材および薬剤を含み、ブリスター基材は複数の独立した３次元ブリスター形状を含み、裏張基材は独立した３次元ブリスター形状の各位置で破断することができるように構成された、請求項１に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項１１】
裏張基材が金属箔を含み、ブリスター基材がプラスチックを含む、請求項１０に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項１２】
主ロック構造が、開口および主ロック構造の壁に実質的に垂直に伸延する軸の少なくとも一つを含み、第一の側面および第二の側面の少なくとも一つが開口および第一の側面および第二の側面の対応するいずれかに実質的に垂直に伸延する軸の少なくとも一つを含む、請求項１に記載の薬剤ディスペンサー。
【請求項１３】
第一の型を用意し、
第一の型に材料を射出して第一の側面、第二の側面、および第一の側面と第二の側面との間に位置する中間の面を形成し、
主ロック構造を設け、
薬剤収納構造を設け、
第一の側面を中間の面に対して中間の面に向かって折り、
第二の側面と第一の側面とが互いに実質的に対向するまで第二の側面を中間の面に対して中間の面に向かって折り、
薬剤収納構造を第一の側面と第二の側面との間に回転自在に取り付け、
主ロック構造を第一の側面および第二の側面に向かって移動させ、
主ロック構造を第一の側面および第二の側面にロックすることを含む、薬剤ディスペンサーの製造方法。
【請求項１４】
第１の型に材料を射出する際に、主ロック構造を該材料で同時に形成し、主ロック構造が中間の面から伸延する、請求項１３に記載の薬剤ディスペンサーの製造方法。
【請求項１５】
第一の側面および第二の側面の少なくとも一つにピボット構造を設けることをさらに含み、薬剤収納構造を回転自在に付ける際に、ピボット構造を薬剤収納構造の開口を通す、
請求項１３に記載の薬剤ディスペンサーの製造方法。
【請求項１６】
薬剤収納構造を回転自在に取り付けた後に主ロック構造を第一の側面および第二の側面にロックして、主ロック構造により薬剤収納構造の回転を防止する、請求項１３に記載の薬剤ディスペンサーの製造方法。
【請求項１７】
主ロック構造、第一の側面および第二の側面の少なくとも一つに位置する軸と、対応する主ロック構造、第一の側面および第二の側面の別のいずれかに位置する開口により、第一の側面および第二の側面の少なくとも一つに主ロック構造を回転自在に取り付けることをさらに含む、
請求項１３に記載の薬剤ディスペンサーの製造方法。
【請求項１８】
射出の際に主ロック構造と中間の面との間の一体蝶番を形成し、主ロック構造を一体蝶番を介して中間の面に回転自在に取り付ける、請求項１３に記載の薬剤ディスペンサーの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月19日(2012.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最低１種のＣＭＶ抗原若しくは該最低１種のＣＭＶ抗原をコードする核酸、または
抗原提示細胞およびＴリンパ球が感作有効量の最低１種のＣＭＶ抗原でｉｎ  ｖｉｔｒｏで感作されている、有効量の該抗原提示細胞、該Ｔリンパ球若しくは双方、
を含んでなる製薬学的に許容できる組成物であって、該製薬学的に許容できる組成物が、ＣＭＶ抗原を発現する細胞に対する免疫応答を誘発するためのものであり、該細胞が、前癌細胞、癌細胞、若しくはＣＭＶと関連する癌を発症させる細胞型を特徴とする、上記組成物。
【請求項２】
アジュバントをさらに含んでなる、請求項１に記載の製薬学的に許容できる組成物。
【請求項３】
アジュバントが、ＧＭ−ＣＳＦ、Ｇ−ＣＳＦ、ＩＬ−２、ＩＬ−４、ＩＬ−７、ＩＬ−１２、ＩＬ−１５、ＩＬ−２１、ＴＮＦ−α、Ｍ−ＣＳＦ、フロイントの不完全アジュバント（モンタニドＩＳＡ  ５１）およびコリネバクテリウム  グラヌロサム（Ｃｏｒｙｎｅｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｇｒａｎｕｌｏｓｕｍ）Ｐ４０よりなる群から選択される、請求項２に記載の製薬学的に許容できる組成物。
【請求項４】
被験体における癌の処置若しくは重症度の低下における使用のための、予防的若しくは治療的有効量の請求項１−３のいずれか１つに記載の製薬学的に許容できる組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月18日(2012.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の多細胞体（各多細胞体は、互いに凝集し合っている複数の生体細胞を含む）と、複数の離散したフィラー体（各フィラー体は、細胞が前記多細胞体から前記フィラー体に移動および内殖するのを妨げると共に、前記多細胞体中の細胞が前記フィラー体に接着するのを妨げる生体適合性物質を含む）とを含む３次元構造体であって、
各多細胞体が少なくとも１つの他の多細胞体または少なくとも１つのフィラー体と接触するパターンで、前記多細胞体とフィラー体が配列されている３次元構造体。
【請求項２】
前記多細胞体のそれぞれの長手方向軸に沿って切断した断面の平均面積が、約７，８５０平方マイクロメートル〜約３６０，０００平方マイクロメートルの範囲である、請求項１に記載の３次元構造体。
【請求項３】
前記多細胞体のそれぞれの長さが約３０センチメートル未満である、請求項１〜２に記載の３次元構造体。
【請求項４】
各多細胞体が本質的に単一の細胞型の細胞からなる、請求項１〜３に記載の３次元構造体。
【請求項５】
前記多細胞体の１つ以上が、第１の細胞型の複数の生体細胞と、第２の細胞型の複数の生体細胞と、任意で第３の型の複数の生体細胞とを含み、前記第１、第２、および第３の細胞型のそれぞれが、前記第１、第２、および第３の細胞型のうちの他の型と異なる、請求項１〜３に記載の３次元構造体。
【請求項６】
前記細胞が内皮細胞、平滑筋細胞、または線維芽細胞である、請求項４〜５に記載の３次元構造体。
【請求項７】
前記多細胞体の形状が実質的に均一であると共に、任意で前記フィラー体の形状が実質的に均一である、請求項１〜６に記載の３次元構造体。
【請求項８】
前記多細胞体が細長い形状であると共に、任意で前記フィラー体が細長い形状である、請求項１〜７に記載の３次元構造体。
【請求項９】
前記多細胞体の少なくともいくつかが、シートを形成するように配置されている、請求項１〜８に記載の３次元構造体。
【請求項１０】
前記多細胞体が実質的に円筒形であると共に、実質的に円形の断面を有する、請求項１〜９に記載の３次元構造体。
【請求項１１】
前記多細胞体の上に、その多細胞体と実質的に同一である別の多細胞体があるときに、その各多細胞体が前記別の多細胞体の重量を支えられるほど、各多細胞体中の細胞の凝集力が十分に強力である、請求項１〜１０に記載の３次元構造体。
【請求項１２】
前記複数の多細胞体の少なくともいくつかが、管様構造体を形成するように配列されており、その管様構造体の内側に、前記フィラー体の少なくとも１つが存在する、請求項１〜１１に記載の３次元構造体。
【請求項１３】
前記多細胞体が、第１および第２の組の多細胞体を含み、前記第１の組の各多細胞体が内皮細胞を含み、前記第２の組の各多細胞体が平滑筋細胞を含み、
前記第１の組の多細胞体が、前記少なくとも１つのフィラー体を実質的に取り囲む内層を形成するように配列されており、前記第２の組の多細胞体が、前記少なくとも１つのフィラー体と、前記第１の組の多細胞体によって形成された内層とを実質的に取り囲む第２の層を形成するように配列されており、
任意で、前記多細胞体が第３の組の多細胞体をさらに含み、前記第３の組の各多細胞体が線維芽細胞を含み、前記第３の組の多細胞体が、前記少なくとも１つのフィラー体と、前記第１の組の多細胞体によって形成された前記内層と、前記第２の組の多細胞体によって形成された前記第２の層とを実質的に取り囲む層を形成するように配列されており、前記第３の組における線維芽細胞の数の非線維芽細胞の数に対する比率が、前記第１の組または前記第２の組における線維芽細胞の数の非線維芽細胞の数に対する比率よりも大きい、請求項１２に記載の３次元構造体。
【請求項１４】
前記多細胞体が第１の組の多細胞体を含み、前記第１の組の各多細胞体が、複数の内皮細胞と複数の平滑筋細胞とを含み、前記第１の組の多細胞体が、前記少なくとも１つのフィラー体を実質的に取り囲む内層を形成するように配列されており、任意で、前記多細胞体が第２の組の多細胞体を含み、前記第２の組の各多細胞体が線維芽細胞を含み、前記第２の組の多細胞体が、前記少なくとも１つのフィラー体と、前記第１の組の多細胞体によって形成された内層とを実質的に取り囲む層を形成するように配列されており、前記第２の組における線維芽細胞の数の非線維芽細胞の数に対する比率が、前記第１の組における線維芽細胞の数の非線維芽細胞に対する比率よりも大きい、請求項１２に記載の３次元構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月7日(2012.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子装置付近の対象物の存在の有無を感知するための容量性近接装置であって、受信電極に容量的に結合された放射電極と、前記放射電極と前記受信電極との間の交流電場のための放射信号を生成するための発振器と、前記受信電極に接続された感知回路とを有し、前記感知回路は前記受信電極からの測定信号を受信し、前記感知回路は前記対象物と前記電子装置との間の距離に比例する出力信号を生成するための第１の検出回路を有し、前記測定信号はノイズを有し、前記感知回路は更に第１の検出回路に入力する前に前記測定信号からのノイズを低減するためのノイズ抑制手段を有し、前記ノイズ抑制手段は、前記測定信号から補正信号を減算することにより、前記測定信号からのノイズの少なくとも一部を有するノイズ信号を生成するための第１の差動増幅器を有し、前記補正信号は、前記放射信号と実質的に同じ周波数及び同じ位相を持ち、感知された放射信号に比例する振幅を持つ、容量性近接装置。
【請求項２】
前記電子装置に起因するノイズの少なくとも一部を有するノイズ信号を感知するため、前記放射信号からシールドされる他の受信電極を有する、請求項１に記載の容量性近接装置。
【請求項３】
前記ノイズ抑制手段は、更に可変利得増幅器と、第２のＬＰＦを持つ第２の同期検出回路である第２の検出回路と、積分回路とを有し、第２のＬＰＦを持つ第２の同期検出回路は、前記感知された放射信号の実効振幅の信号を生成するため前記ノイズ信号を受信し、前記積分回路は、前記実効振幅の信号を受信し、前記可変利得増幅器に供給される利得信号を生成し前記可変利得増幅器の利得を定めるために基準レベル（グランド）と前記実効振幅の信号を比較し、前記可変利得増幅器は、前記放射信号及び前記利得信号を受信し、前記補正信号を生成するために、前記利得信号に従って前記放射信号の振幅を適合させる、請求項１又は２に記載の容量性近接装置。
【請求項４】
前記ノイズ抑制手段は、前記出力信号を生成するための第１の検出回路へ後に供給されるノイズ低減測定信号を生成するための第２の差動増幅器を有し、第２の差動増幅器は前記測定信号から前記ノイズ信号を減算することにより、前記ノイズ低減測定信号を生成する、請求項２又は３に記載の容量性近接装置。
【請求項５】
前記補正信号が前記出力信号を生成するための第１の検出回路へ供給される、請求項２又は３に記載の容量性近接装置。
【請求項６】
前記ノイズ抑制手段が、前記放射信号の周波数以外の前記測定信号内の規則的及び／若しくは周期的信号成分を識別するために出力信号、並びに／又は前記測定信号を解析するためのビート検出器を有する、請求項１乃至５の何れか一項に記載の容量性近接装置。
【請求項７】
前記ビート検出器は、前記対象物と前記容量性近接装置との間の距離を示す出力信号及び／又は前記測定信号を受信するための手段と、前記感知された放射信号内の規則的及び／又は周期的信号成分を示す、前記容量性近接装置に対する前記対象物の規則的及び／又は周期的距離変動を検出するための前記測定信号及び／又は出力信号を解析するための手段と、斯様な規則的及び／又は周期的距離変動が識別される場合、前記放射信号の周波数を変えるための周波数信号を前記発振器へ送信するための手段とを有する、請求項６に記載の容量性近接装置。
【請求項８】
前記発振器が、中心周波数の周りの所定の範囲の周波数へ切り換える、請求項７に記載の容量性近接装置。
【請求項９】
基準信号と前記感知された放射信号との間の位相差を最小にするための位相制御回路を有し、前記基準信号は、第１の同期検出回路である第１の検出回路及び／又は第２の同期検出回路をトリガするために使用される、請求項１乃至８の何れか一項に記載の容量性近接装置。
【請求項１０】
前記位相制御回路は、可変位相コントローラ、第３のＬＰＦを備える第３の同期検出回路、及び第２の積分回路を有し、第３のＬＰＦを備える第３の同期検出回路は、前記測定信号を受信し、前記基準信号に対して位相が９０度シフトされた位相シフト基準信号を使用して、前記測定信号を検出し、第２の積分回路は、前記可変位相コントローラへ供給される位相制御信号を生成し、前記基準信号の位相を規定するため、第３のＬＰＦの出力を基準レベル（グランド）と比較する、請求項９に記載の容量性近接装置。
【請求項１１】
前記放射信号が前記基準信号を有する、請求項９又は１０に記載の容量性近接装置。
【請求項１２】
前記対象物の存在の有無を決定するため前記出力信号を第１の近接基準レベルと比較するための第１の比較器と、近接レンジで前記対象物の存在の有無を決定するため前記出力信号を第２の近接基準レベルと比較するための第２の比較器とを有する、請求項１乃至１１の何れか一項に記載の容量性近接装置。
【請求項１３】
前記容量性近接装置の周囲の変化を補正するため、前記対象物がいない間に、前記容量性近接装置の間欠的較正を実施するための手段を有する、請求項１乃至１２の何れか一項に記載の容量性近接装置。
【請求項１４】
第１の検出回路に入力する前に前記測定信号のノイズを低減するためのノイズ抑制手段を有する、請求項１乃至１４の何れか一項に記載の容量性近接装置のための感知回路であって、前記ノイズ抑制手段は、前記測定信号から補正信号を減算することにより、前記測定信号からのノイズの少なくとも一部を有するノイズ信号を生成するための第１の差動増幅器を有し、前記補正信号は、前記放射信号と実質的に同じ周波数及び同じ位相を持ち、感知された放射信号に比例する振幅を持つ、感知回路。
【請求項１５】
電子装置付近の対象物の存在の有無を感知するための方法であって、受信電極に容量的に結合された放射電極と前記受信電極との間の交流電場のための放射信号を生成するステップと、感知回路の前記受信電極からノイズを有する測定信号を受信するステップと、前記感知回路のノイズ抑制手段により、第１の検出回路に入力する前に前記測定信号からのノイズを低減するステップと、前記感知回路の第１の検出回路の前記対象物と前記電子装置との間の距離に比例する出力信号を生成するステップとを有し、ノイズを低減するステップは、前記測定信号から補正信号を減算することによりノイズ信号を生成するステップを有し、前記ノイズ信号は、前記測定信号からのノイズの少なくとも一部を有し、前記補正信号は、前記放射信号と実質的に同じ周波数及び同じ位相を持ち、感知された放射信号に比例する振幅を持つ、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月13日(2012.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アシネトバクター属の種からの野生型株の１つ の可溶性ピロロキノリン-キノン-依存的グルコースデヒドロゲナーゼ (sPQQGDH)と比較して、基質結合領域の領域において３から５のアミノ酸の挿入を有することを特徴とするsPQQGDHであって、該挿入が野生型 アシネトバクター・カルコアセチカス LMD 79.41の配列に基づいて位置Q168とL169との間で起こる、sPQQGDH。
【請求項２】
配列番号1ないし配列番号18からの挿入配列を有する請求項１記載のsPQQGDH。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月15日(2012.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高いレベルのＴＳＧ−６タンパク質を発現する条件下でＴＮＦ−α、ＩＬ１、及びＬＰＳの１つ又は複数と接触した間葉系幹細胞（ＭＳＣ）の精製集団。
【請求項２】
前記精製集団が、精製された迅速自己更新性の間葉系幹細胞（ＲＳ−ＭＳＣ）を含む、請求項１に記載のＭＳＣの精製集団。
【請求項３】
請求項１に記載の細胞の集団を含んでなる医薬組成物。
【請求項４】
（ａ）ＴＳＧ−６タンパク質をコードする異種ヌクレオチド配列を含み、かつ（ｂ）前記ＴＳＧ−６タンパク質を発現する、遺伝子組換え間葉系幹細胞（ＭＳＣ）の集団。
【請求項５】
前記集団が精製された、請求項４に記載の遺伝子組換えＭＳＣの集団。
【請求項６】
請求項４に記載の細胞の集団を含んでなる医薬組成物。
【請求項７】
（ａ）ＲＳ−ＭＳＣを含む細胞の第１集団を提供し、
（ｂ）前記細胞の集団を（ｉ）ＰＯＤＸＬに特異的に結合する抗体、及び（ｉｉ）ＣＤ４９ｆに特異的に結合する抗体、の一方又は双方に接触させ、及び
（ｃ）前記抗体の一方又は双方に結合する細胞を分離し、それによって精製ＲＳ−ＭＳＣの集団を産生する、
ことを含む、迅速自己更新性の間葉系幹細胞（ＲＳ−ＭＳＣ）の精製方法。
【請求項８】
請求項７の方法によって産生された迅速自己更新性の間葉系幹細胞（ＲＳ−ＭＳＣ）の精製集団。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月29日(2012.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチノイド誘導核因子（ＲＩＮＦ）をコードし、かつ、配列番号１または配列番号２の配列、またはその機能的断片もしくは変異体、またはそれとハイブリダイズ可能な機能的に同等の単離ＤＮＡ配列、またはそれに対応するｍＲＮＡを含んでなる、核酸。
【請求項２】
レチノイド誘導核因子（ＲＩＮＦ）であり、かつ、配列番号３（ＣＸＸＣ５）の配列またはその機能的断片もしくは変異体を含んでなる、タンパク質またはタンパク質誘導体。
【請求項３】
それを必要とする哺乳類における、造血疾患の予防および／または治療のための医薬組成物、または造血細胞の分化もしくは細胞死の誘導もしくは増進のための医薬組成物の製造のための、請求項２に記載のタンパク質もしくはタンパク質配列、または請求項１に記載の核酸の使用。
【請求項４】
in vitroまたはそれを必要とする哺乳類における、造血細胞の分化の障害もしくは阻止のための医薬組成物、または幹細胞の増加のための医薬組成物の製造のための、請求項２に記載のタンパク質もしくはタンパク質配列、または請求項１に記載の核酸、または請求項１もしくは請求項２の配列のうちの１つと相互作用する化合物の使用。
【請求項５】
前記造血細胞が、骨髄細胞、末梢血液細胞、臍帯血液細胞もしくは胎盤血液細胞であるか、または前記造血細胞が、腫瘍性、もしくは正常、すなわち非腫瘍性である、請求項３または４に記載の使用。
【請求項６】
骨髄細胞、リンパ系細胞、または急性骨髄性白血病（ＡＭＬ）細胞、急性リンパ性白血病（ＡＬＬ）細胞もしくは骨髄異形成（ＭＤＳ）細胞の最終分化が回復される、請求項３に記載の使用。
【請求項７】
前記造血疾患が、骨髄異形成（ＭＤＳ，骨髄異形成症候群）、急性骨髄性白血病（ＡＭＬ）、急性リンパ性白血病（ＡＬＬ）、骨髄増殖性症候群（ＭＰＳ）、慢性骨髄性白血病（ＣＭＬ）および慢性リンパ性白血病（ＣＬＬ）からなる群から選択される、請求項３に記載の使用。
【請求項８】
癌の予防および／または治療のための医薬組成物の製造のための、請求項２に記載のタンパク質もしくはタンパク質配列、または請求項１に記載の核酸の使用であって、
前記癌が、好ましくは、白血病、骨髄異形成（ＭＤＳ，骨髄異形成症候群）、急性骨髄性白血病（ＡＭＬ）、急性リンパ性白血病（ＡＬＬ）、骨髄増殖性症候群（ＭＰＳ）、慢性骨髄性白血病（ＣＭＬ）、慢性リンパ性白血病（ＣＬＬ）および固形腫瘍（乳癌、黒色腫、肺癌、甲状腺癌、前立腺癌、神経芽腫、および腎癌）を含んでなる群から選択される、使用。
【請求項９】
ＲＩＮＦの発現を、レトロウイルスまたはレンチウイルスのベクター（過剰発現）を用いることにより、または請求項１に記載の配列の一部に作用するｓｈＲＮＡ分子（抑制）により調節する、方法。
【請求項１０】
レチノイド応答性の予後の、または請求項３〜９のいずれか一項に記載の疾患の予後のための方法であって、請求項１に記載の核酸、および／または請求項２に記載のタンパク質もしくはタンパク質配列の状態を参照と比較することを特徴とし、該方法が、好ましくは、発現レベル、突然変異、メチル化、再配列および転座の検出により状態を評価する、方法。
【請求項１１】
癌または造血疾患、または骨髄造血減少状態の診断のための方法であって、請求項１に記載の核酸の発現レベルおよび／または状態、または請求項２に記載のタンパク質またはタンパク質配列の発現レベルおよび／または状態の検出を含んでなり、前記タンパク質またはタンパク質配列の発現レベルおよび／または局在性が、好ましくは抗体の使用により決定され、前記抗体が、好ましくは請求項２に記載のタンパク質またはタンパク質配列、より好ましくは配列番号２のアミノ酸４５〜４８と反応する、方法。
【請求項１２】
急性前骨髄球性白血病（ＡＰＬ）遺伝子型の検出、または哺乳類における白血病、前白血病（骨髄異形成）または癌の状態の判定のための、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
ＲＩＮＦまたはそのエピトープもしくは一部に対するモノクローナルまたはポリクローナル抗体の製造のための、請求項２に記載のタンパク質もしくはタンパク質配列、または請求項１に記載の核酸の使用。
【請求項１４】
請求項２に記載のタンパク質またはタンパク質配列の一部と相互作用するＲＩＮＦ抗体であって、好ましくは配列番号２のアミノ酸４５〜４８と反応する、ＲＩＮＦ抗体。
【請求項１５】
モノクローナル抗体である、請求項１４に記載のＲＩＮＦ抗体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月6日(2012.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
図１は、太陽電池を備える代表的な基板１００の断面を示す。光子１０１は、矢印により示すように、上面１０５を通って太陽電池１００に入る。これらの光子は、基板１００に浸透する光子の数を最大にし、基板に反射される光子の数を最小にするように設計された反射防止膜１１０を通過する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
外部負荷を介して、エミッタ領域１３０をベース１４０に外部接続することにより、電流を導き電力を供給することができる。これを実現するために、典型的には金属のコンタクト１５０ａ、１５０ｂを、エミッタ領域及びベースの外部表面に置く。ベースは光子を直接受けないため、典型的に、そのコンタクト１５０ｂは、全外部表面に沿って置く。対照的に、エミッタ領域の外部表面は、光子を受けるので、コンタクトで完全に覆うことはできない。しかしながら、電子がコンタクトまでの長い距離を進まなければならない場合、太陽電池の直列抵抗が増加して、電力出力を低くする。これらの２つの検討事項、すなわち、自由電子がコンタクトまで進まなければならない距離及びエミッタ表面１６０の露出部の面積、のバランスをとる試みにおいて、ほとんどのアプリケーションは、指の形のコンタクト１５０ａを用いる。図２は、図１の太陽電池の上面図である。コンタクトは、太陽電池の幅方向に延び、比較的薄くなるように典型的に形成する。このように、自由電子は長距離を進む必要はないが、エミッタの外表面の多くは光子にさらされる。基板の正面側の典型的な指の形のコンタクト１５０ａは、＋／−0.1mmの精度で0.1mmである。これらの指の形のコンタクト１５０ａは、典型的に、互いに１〜５mmの間、離れている。これらの寸法は典型的であるが、他の寸法は可能であり、本明細書で検討する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
もっと正確なアプローチは、基板のエッジに沿ってのような、基準マーク又は基準を含むことである。システムは、これらの基準マークに基づいてイオンビームに関する基板の位置を決定することができて、それに応じて動作することができる。システムは、動作の開始前に注入パターンに関する情報を必要としないという点で、この方法は好ましい。基板上のパターンは、システムが基板に正しく注入するために必要な情報を供給する。そのようなパターン及びマーキングシステムは、当業者に周知である。図８は、注入領域１７０及び基準３０、３１を有する基板１００の一実施形態の図である。上記のように、この基準３０、３１又は基準点は、基板１００の特殊マーク又は特徴であることが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月15日(2012.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それを必要とする患者の眼の眼圧を低下させるための薬剤の製造におけるラタノプロストの使用であって、前記ラタノプロストは持続放出製剤として処方され、前記持続放出製剤はラタノプロストを涙点プラグ送達システムから少なくとも９０日間にわたり連続的に放出し、および点眼補助組成物は追加的に前記患者の前記眼に投与される使用。
【請求項２】
前記点眼補助組成物は、炭酸脱水酵素阻害薬、ベータ遮断薬、アルファアドレナリン作動薬、プロスタグランジン類似体、縮瞳薬およびエピネフリン化合物からなる群から選択される眼圧低下薬を含む、請求項１の使用。
【請求項３】
前記点眼補助組成物はプロスタグランジン類似体を含む、請求項２の使用。
【請求項４】
前記プロスタグランジン類似体はラタノプロストを含む、請求項３の使用。
【請求項５】
前記点眼補助組成物は、約１０日間より少ない日数にわたり１日１回投与される、請求項２の使用。
【請求項６】
前記点眼補助組成物は、約５日間にわたり１日１回投与される、請求項５の使用。
【請求項７】
前記点眼補助組成物は、前記涙点プラグ送達システムが前記患者の涙点に挿入される同じ日に開始し、１日１回投与される、請求項１の使用。
【請求項８】
前記点眼補助組成物は、前記涙点プラグ送達システムが前記患者の涙点に挿入された後約４週間以内に開始し、１日１回投与される、請求項１の使用。
【請求項９】
前記点眼補助組成物は、前記涙点プラグ送達システムが前記患者の涙点に挿入された後約９０日以内に開始し、１日１回投与される、請求項１の使用。
【請求項１０】
前記点眼補助組成物は、前記涙点プラグ送達システムの取外し後に開始し、１日１回投与される、請求項１の使用。
【請求項１１】
前記点眼補助組成物は、前記涙点プラグ送達システムが前記患者の涙点に挿入されるおよそ５日前に開始し、１日１回投与される、請求項１の使用。
【請求項１２】
前記点眼補助組成物は、第１の涙点プラグ送達システムが取り外された後、第２の涙点プラグ送達システムが前記患者の涙点に挿入される前に投与される、請求項１の使用。
【請求項１３】
前記眼圧の低下は、最高約７日間、最高約１４日間、最高約２１日間、最高約２８日間、最高約５２日間、最高約８８日間、および最高約１０５日間からなる群より選択される連続的な期間にわたり保持される、請求項１の使用。
【請求項１４】
前記眼圧の低下は、少なくとも約９０日間の連続的な期間にわたり保持される、請求項１の使用。
【請求項１５】
前記眼圧の低下は、少なくとも約２５％である、請求項１３または１４の使用。
【請求項１６】
前記眼圧は、ラタノプロストおよび点眼補助組成物投与が開始された後約１日で少なくとも１０％低下する、請求項１の使用。
【請求項１７】
前記持続放出製剤は持続放出マトリックスを含む、請求項１の使用。
【請求項１８】
前記持続放出マトリックスは非生分解性ポリマーである、請求項１７の使用。
【請求項１９】
前記非生分解性ポリマーはシリコーンを含む、請求項１８の使用。
【請求項２０】
前記涙点プラグ送達システムは前記患者の少なくとも１つの涙点に挿入される、請求項１の使用。
【請求項２１】
前記涙点プラグ送達システムは前記患者の両方の眼の各々の１つの涙点に挿入される、請求項２０の使用。
【請求項２２】
前記眼圧は高眼圧に関連する、請求項１の使用。
【請求項２３】
前記眼圧は緑内障に関連する、請求項１の使用。
【請求項２４】
前記緑内障は、原発開放隅角緑内障、閉塞隅角緑内障、正常眼圧緑内障および続発緑内障からなる群から選択される、請求項２３の使用。
【請求項２５】
眼圧亢進を治療するための薬剤の製造におけるラタノプロストの使用であって、前記ラタノプロストは涙点プラグ送達システムからそれを必要とする患者の眼に放出され、前記涙点プラグ送達システムは前記患者の少なくとも１つの涙点に挿入され、前記涙点プラグ送達システムは、約１４マイクログラムのラタノプロストを含む持続放出薬物サプライを含み、前記涙点プラグ送達システムは少なくとも約９０日間にわたり挿入されたままであり、点眼補助組成物は追加的に患者の眼に投与され、前記点眼補助組成物は最高約１４日にわたり投与される使用。
【請求項２６】
前記点眼補助組成物は約１０日間にわたり投与される、請求項２５の使用。
【請求項２７】
前記点眼補助組成物は約５日間にわたり投与される、請求項２５の使用。
【請求項２８】
前記涙点プラグ送達システムは、前記持続放出薬物サプライを薬物コアの形態で収容するように構成されたキャビティを含む、請求項２５の使用。
【請求項２９】
それを必要とする対象の緑内障を治療するための薬剤の製造におけるラタノプロストの使用であって、前記ラタノプロストは涙点プラグ送達システムから前記対象の眼に放出され、前記涙点プラグ送達システムはプラグ本体およびラタノプロストインサートを含み、前記涙点プラグ送達システムは単一挿入工程で前記対象の少なくとも１つの涙点に挿入され、前記涙点プラグ送達システムから少なくとも９０日間にわたり前記対象へのラタノプロストの前記持続放出を提供し、点眼補助組成物は前記対象の対応する眼に少なくとも１回投与され、および前記点眼補助組成物はラタノプロストを含む使用。
【請求項３０】
点眼補助組成物の１滴中のラタノプロストの量はおよそ１．５マイクログラムである請求項４の使用。
【請求項３１】
それを必要とする対象の緑内障関連眼圧亢進を治療するための薬剤の製造におけるラタノプロストの使用であって、前記ラタノプロストは涙点プラグ送達システムから前記対象の眼に放出され、前記涙点プラグ送達システムはプラグ本体およびラタノプロストインサートを含み、前記涙点プラグ送達システムは前記対象の少なくとも１つの涙点に挿入され、点眼補助組成物は前記対象の眼に投与され、前記点眼補助組成物はラタノプロストを含み、前記涙点プラグ送達システムは、前記対象にラタノプロストの持続放出を提供し、ならびに前記涙点プラグ送達システムからのラタノプロストの前記放出および前記点眼補助ラタノプロスト組成物の前記投与は合わせて、前記関連する眼の前記眼圧の少なくとも６ｍｍＨｇの低下をもたらす使用。