【手続補正書】
【提出日】平成26年10月29日(2014.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影露光装置の作動中に照明される物体平面を像平面に結像するためのＥＵＶに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系であって、
投影対物系が、複数の別々のミラーセグメント（１６１〜１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；３１１，３１２；４１１，４１２；５１０〜５４０）を含む少なくとも１つのミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，３１０，４１０，５００）を有し、
互いに異なり、かつ物体平面（ＯＰ）の像平面（ＩＰ）内への結像をそれぞれもたらす部分ビーム経路は、同じミラーセグメント配列の前記ミラーセグメントに関連付けられ、該部分ビーム経路は、該像平面（ＩＰ）内で重ね合わされ、該像平面（ＩＰ）内の同じ点において重ね合わされる少なくとも２つの部分ビームは、同じミラーセグメント配列の異なるミラーセグメントによって反射されたものである、
ことを特徴とする投影対物系。
【請求項２】
前記少なくとも１つのミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，３１０，４１０，５００）は、前記像平面側で前記ビーム経路に関して最後のものである投影対物系の反射配列であることを特徴とする請求項１に記載の投影対物系。
【請求項３】
前記少なくとも１つのミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，３１０，４１０，５００）は、最大の大きさの合計光学的有効面を有する投影対物系の反射配列であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影対物系。
【請求項４】
前記少なくとも１つのミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，３１０，４１０，５００）は、少なくとも３つのミラーセグメント（１６１，１６２，１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；４１１，４１２；５１０〜５４０）、特に、少なくとも４つのミラーセグメント（２６１〜２６６，２８１〜２８４；５１０〜５４０）を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項５】
前記同じミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，４１０，５００）の前記ミラーセグメント（１６１〜１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；３１１，３１２；４１１，４１２；５１０〜５４０）は、それぞれ、隣接するミラーセグメントの間に任意的に存在する移行領域によってのみ中断される連続反射面を互いに形成することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項６】
各々が少なくとも２つの別々のミラーセグメント（２６１〜２６６，２８１〜２８４）を有する少なくとも２つのミラーセグメント配列（２６０，２８０）が設けられ、互いに異なり、前記物体平面（ＯＰ）の前記像平面（ＩＰ）内への結像をそれぞれもたらす、かつ該像平面（ＩＰ）内で重ね合わされるビーム経路は、前記同じミラーセグメント配列（２６０，２８０）の前記ミラーセグメント（１６１〜２６６，２８１〜２８４）に関連付けられることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項７】
一方のミラーセグメント配列（２６０）の前記ミラーセグメント（２６１〜２６６）のうちのそれぞれ１つが、他方のミラーセグメント配列（２８０）の前記ミラーセグメント（２８１〜２８４）のうちの１つに同じ部分ビーム経路との対毎の関係で関連付けられることを特徴とする請求項６に記載の投影対物系。
【請求項８】
前記少なくとも１つのミラーセグメント配列（３１０，４１０）の照明を該ミラーセグメント配列の異なるミラーセグメント（３１１，３１２，４１１，４１２）に選択的に制限することができるように設計されたシャッター配列（３１５，３１６，３１７，４１５）が更に設けられることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項９】
前記ミラーセグメント配列の少なくとも２つのミラーセグメントが、互いに対して移動可能であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１０】
投影露光装置の作動中に照明される物体平面を像平面に結像するためのＥＵＶに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系であって、
投影対物系が、複数のミラーを含み、
前記複数のミラーのうちで最大の大きさを有するミラーが、複数の別々のミラーセグメント（１６１〜１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；３１１，３１２；４１１，４１２；５１０〜５４０）を含むミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，３１０，４１０，５００）として形成される、
ことを特徴とする投影対物系。
【請求項１１】
掩蔽シャッター配列が更に設けられ、前記ミラーセグメント配列のミラーセグメントの間に残る少なくとも１つのミラーセグメント中間空間が、該掩蔽シャッター配列の遮光部に少なくとも部分的に配置されることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１２】
投影露光装置の作動において照明される物体平面を像平面に結像するためのＥＵＶに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系であって、
複数の別々のミラーセグメント（１６１〜１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；３１１，３１２；４１１，４１２；５１０〜５４０；６１０〜６５０）を含む少なくとも１つのミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，３１０，４１０，５００，６００）と、
前記ミラーセグメント配列のミラーセグメントの間に残る少なくとも１つのミラーセグメント中間空間が、掩蔽シャッター配列（７１０，７２０，９１０，９２０，９３０，９４０）の遮光部に少なくとも部分的に配置される掩蔽シャッター配列（７１０，７２０，９１０，９２０，９３０，９４０）と、
を含むことを特徴とする投影対物系。
【請求項１３】
前記ミラーセグメント配列のミラーセグメントの間に残る前記少なくとも１つのミラーセグメント中間空間は、回転対称、特に、環状幾何学形状のものであることを特徴とする請求項１１又は請求項１２に記載の投影対物系。
【請求項１４】
前記掩蔽シャッター配列は、回転対称、特に、環状幾何学形状のものであることを特徴とする請求項１１から請求項１３のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１５】
前記掩蔽シャッター配列（７１０，７２０，９１０，９２０，９３０，９４０）は、
2013543274.tif 000001
として定義されるパラメータＰ（Ｍ）が、少なくとも０．８、特に、少なくとも０．９であり、Ｄ（ＳＡ）が、部分開口直径を表し、Ｄ（ＣＲ）が、当該平面内の光学面Ｍ上の光学的使用視野の全ての視野点にわたって定められる最大主光線間隔を表す投影対物系の平面に配置されることを特徴とする請求項１１から請求項１４のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１６】
前記掩蔽シャッター配列（７１０，７２０，９１０，９２０，９３０，９４０）は、ｎがゼロよりも大きい自然数である場合に、光学系軸線に関してｎ重対称性、特に、４重対称性のものであることを特徴とする請求項１１から請求項１５のいずれか１項に記載の投影対物系。
【請求項１７】
投影露光装置の作動において照明される物体平面（ＯＰ）を像平面（ＩＰ）に結像するためのＥＵＶに向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系を製造する方法であって、
投影対物系が、複数のミラーを有し、
前記ミラーのうちの少なくとも１つが、複数の別々のミラーセグメント（１６１〜１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；３１１，３１２；４１１，４１２；５１０〜５４０）から構成され、
前記像平面（ＩＰ）内の同じ点において重ね合わされる少なくとも２つの部分ビームが、前記複数の別々のミラーセグメント（１６１〜１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；３１１，３１２；４１１，４１２；５１０〜５４０）の異なるミラーセグメントによって反射されたものである、
ことを特徴とする方法。
【請求項１８】
複数の別々のミラーセグメントで構成された前記ミラーは、前記像平面側でビーム経路に関して最後のものであることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
複数の別々のミラーセグメントで構成された前記ミラーは、最大の大きさの合計光学的有効面を有するミラーであることを特徴とする請求項１７又は請求項１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
前記ミラーセグメントのうちの少なくとも２つが、光学的に途切れることなく互いに結合されることを特徴とする請求項１７から請求項１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記ミラーセグメントのうちの少なくとも２つが、互いに対して有限の間隔で固定されることを特徴とする請求項１７から請求項２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系を光学的に調節する方法であって、
投影対物系が、調節作動中にリソグラフィ工程のためにそれらの作動位置に向けられた複数のミラーを有し、
前記投影対物系は、複数の別々のミラーセグメント（１６１，１６２，１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；３１１，３１２；４１１，４１２；５１０〜５４０）を含む少なくとも１つのミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，３１０，４１０，５００）を有し、
調節が、それぞれの調節段階において物体平面（ＯＰ）の像平面（ＩＰ）内への結像に寄与する前記ミラーセグメントに関して互いに異なる少なくとも２つの調節段階においてなされる、
ことを特徴とする方法。
【請求項２３】
マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物系を光学的に調節するための配列であって、
投影対物系が、調節作動中にリソグラフィ工程のためにそれらの作動位置に向けられる複数のミラーを有し、
前記投影対物系は、複数の別々のミラーセグメント（１６１，１６２，１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；３１１，３１２；４１１，４１２；５１０〜５４０）を含む少なくとも１つのミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，３１０，４１０，５００）を有し、
配列が、前記ミラーセグメント配列（１６０，２６０，２８０，３１０，４１０，５００）の照明を前記ミラーセグメント（１６１，１６２，１６３；２６１〜２６６，２８１〜２８４；３１１，３１２；４１１，４１２；５１０〜５４０）のうちの１つ又はそれよりも多くに選択的に制限することができる少なくとも１つの可変シャッター配列（３１５，３１６，３１７，４１５）を有する、
ことを特徴とする配列。