【手続補正書】
【提出日】平成23年11月21日(2011.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置の表面の少なくとも一部分を滅菌または汚染除去することができる装置であって、
表面と、
前記表面の少なくとも一部分を滅菌または汚染除去するプラズマを生成する手段と、
を備え、
前記プラズマを生成する手段は、
前記表面の近くに配置された１つまたは複数の第１の電極と、
前記１つまたは複数の第１の電極の近くに配置された１つまたは複数の第２の電極と、
前記表面の少なくとも一部分を滅菌または汚染除去する前記プラズマを生成するために、前記１つまたは複数の第１の電極のうちの少なくとも１つの第１の電極と、前記１つまたは複数の第２の電極のうちの少なくとも１つの第２の電極の間に電圧を印加するための電源と、
を備え、
前記表面が、前記装置の第１の部分上にあり、前記１つまたは複数の第１の電極と前記１つまたは複数の第２の電極が、前記装置の第２の部分上にあり、あるいは、前記表面と前記１つまたは複数の第１の電極が、前記装置の第１の部分上にあり、前記１つまたは複数の第２の電極が、前記装置の第２の部分上にあり、あるいは、前記表面、前記１つまたは複数の第１の電極、および、前記１つまたは複数の第２の電極が、第１の部分上にあり、
前記第１の部分と前記第２の部分が、互いに可動式に接続されて、前記第１の部分と前記第２の部分が、第１の位置と第２の位置間で移行することができ、
前記第１の部分と前記第２の部分が前記第１の位置にあるときに、前記１つまたは複数の第１の電極が、前記表面の近くにあり、前記１つまたは複数の第１の電極のうちの前記少なくとも１つの第１の電極と、前記１つまたは複数の第２の電極のうちの前記少なくとも１つの第２の電極の間に前記電圧を印加することによって、前記表面を滅菌しかつ／または汚染除去するプラズマが生成されることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記プラズマを生成する手段は、抵抗バリア放電手段、誘電体バリア放電手段、大気圧プラズマ・ジェットを生成する手段、浮遊電極誘電体バリア放電手段、のうちの少なくとも１つを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記装置が手術面または切断板である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記表面の潜在的汚染または前記表面の汚染を検出するための１つまたは複数のセンサをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記１つまたは複数の第１の電極のうちの前記少なくとも１つの第１の電極が、前記１つまたは複数のセンサのうちの少なくとも１つのセンサとして利用され、前記少なくとも１つのセンサとして利用される前記少なくとも１つの第１の電極が、少なくとも１つの容量性または連続性センサである、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記１つまたは複数のセンサが、前記１つまたは複数の第１の電極および／または前記１つまたは複数の第２の電極と一体化されるかその近くに配置されている、あるいは、前記表面から離れた場所に位置決めされている、請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記表面は、積層材上にあり、
前記積層材は、
前記１つまたは複数の第１の電極を有する第１の電極層と、
前記１つまたは複数の第２の電極を有する第２の電極層と、
誘電体層と、
を備え、
前記誘電体層の誘電体は、前記１つまたは複数の第１の電極のうちの前記少なくとも１つの第１の電極と、前記１つまたは複数の第２の電極のうちの前記少なくとも１つの第２の電極との間に配置されて、プラズマを生成するために間に前記電圧が供給される、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記少なくとも１つの第１の電極と前記少なくとも１つの第２の電極が、前記少なくとも１つの第１の電極と前記少なくとも１つの第２の電極の間に印加された電圧により、誘電体バリア放電が生じるように構成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの第１の電極と前記少なくとも１つの第２の電極が、前記電源によって位相遅延機構として駆動される、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記表面は、湾曲しており、前記表面は、サンプル材料を取得し解放することができ、前記装置は、第１のサンプル材料を解放し第２のサンプル材料を取得する間に前記表面の滅菌を可能にする、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記表面の少なくとも一部分は、球状である、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記装置は、前記装置の容器部分内に流体を保持することができ、前記表面は、前記装置の前記容器部分の表面である、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記積層材の第１の側から、前記積層材の前記第１の側と反対の前記積層材の第２の側まで貫通する複数の孔をさらに備え、
前記印加電圧は、前記複数の孔内にプラズマ放電を生成し、前記表面は、前記複数の孔のうちの少なくとも１つの孔の表面である、請求項７に記載の装置。
【請求項１４】
前記プラズマが、前記第１の側に向けて外方に射出され、前記第１の側に向けて射出された前記プラズマが、前記第１の側の第１の外側面を滅菌する、あるいは、前記プラズマが、前記第２の側に向けても射出され、前記第２の側に向けて射出された前記プラズマが、前記第２の側の第２の外側面を滅菌する、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記第１の位置において、前記第１の部分が、前記第２の部分に格納されている、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記第１の位置において、前記第２の部分が、前記第１の部分を取り囲むように伸長されている、あるいは、前記第１の部分内に伸長されている、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
連動スイッチをさらに有し、前記連動スイッチが、前記第１の位置と前記第２の位置の間の前記第１の部分と前記第２の部分の移行を制御する、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記表面、前記１つまたは複数の第１の電極、および前記１つまたは複数の第２の電極が、第１の部分上にあり、
前記第１の部分を前記装置の第２の部分から伸長することができ、前記プラズマの生成中に、前記表面を前記プラズマによる滅菌対象物の少なくとも一部分の上に移動させることができ、前記対象物の滅菌後に前記第１の部分を前記第２の部分に格納することができる、請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
連動スイッチをさらに有し、前記連動スイッチが、前記第２の部分に対する前記第１の部分の伸長と格納を制御する、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記表面は、前記装置の内側面であり、前記装置は、ビーカー、フラスコ、薬剤送達ポートまたはピペットである、請求項１に記載の装置。
【請求項２１】
前記表面は、柔軟面または織面である、請求項１に記載の装置。
【請求項２２】
前記表面は、テフロン（登録商標）を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項２３】
前記１つまたは複数の第１の電極と前記１つまたは複数の第２の電極は、画素化電極マトリクスを構成する、請求項１または請求項４に記載の装置。
【請求項２４】
前記画素化電極は、１μｍ〜１００μｍの範囲の断面直径、または、１μｍ〜１０μｍの範囲の断面直径を有する、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記１つまたは複数の第１の電極が、第１のワイヤ電極を含み、前記１つまたは複数の第２の電極が、第２のワイヤ電極を含み、前記第１のワイヤ電極と前記第２のワイヤ電極が編み組みされた、請求項１に記載の装置。
【請求項２６】
前記表面が、管の外側面または内側面であり、前記編み組された第１のワイヤ電極と第２のワイヤ電極が、前記管の本体内に位置決めされている、請求項２５に記載の装置。
【請求項２７】
前記１つまたは複数の電極が環境に露出されないように、前記表面の近くの前記１つまたは複数の第１の電極の上に被覆をさらに有する、請求項１または請求項７に記載の装置。
【請求項２８】
前記環境に露出された前記誘電体被覆の表面は、前記プラズマの前記生成を強化する導電性または半導電性材料で被覆されている、請求項７に記載の装置。
【請求項２９】
前記１つまたは複数の第１の電極は、前記プラズマの前記生成を強化する導電性または半導電性材料で被覆されている、請求項１または請求項７に記載の装置。
【請求項３０】
前記被覆は、前記プラズマの前記生成を強化する導電性または半導電性材料の第２の被覆で覆われている、請求項２７に記載の装置。
【請求項３１】
前記導電性または半導電性材料は、カーボンナノチューブ、ナノワイヤ、導電性高分子およびナノロッドのうちの１つまたは複数を含む、請求項２８〜請求項３０のいずれかに記載の装置。
【請求項３２】
前記装置は、前記表面に位置決めされた１つまたは複数の対象物を滅菌または汚染除去することができる、請求項１に記載の装置。