【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年6月7日(2012.6.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
微結晶または超微細結晶（ｓｕｂ−ｍｉｃｒｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ）のＳｉＯ２が、バーナーまたは白熱灯の封入物の成分に関して拡散を抑える効果を有するということがわかっている。その場合、微結晶のＳｉＯ２と超微細結晶のＳｉＯ２の混合物と、例えば、狭い結晶子サイズの分布の両方が本発明の範囲内に包含される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
微結晶構造およびその場合の微結晶ＳｉＯ２の少し薄い層は、同時に、容器基板の、例えば放電容器基板の透明度を確実に維持する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
微結晶および／または超微細結晶のＳｉＯ２のこのような拡散バリア層を付着させるための特に経済的な方法がＣＶＤ法である。本明細書では、ＰＩＣＶＤ（プラズマ衝撃化学気相成長）、ＰＥＣＶＤ（プラズマ促進化学気相成長）、ＰＡＣＶＤ（プラズマ利用化学気相成長）およびＴＣＶＤ（熱化学気相成長）などの反応コーティング方法が好ましい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
本発明によるバリア層の目的は、したがってイオンの拡散に対して効果的な拡散バリア層であり、結晶子は、微結晶および／または超微細結晶である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
石英ガラス上の微結晶および／または超微細結晶のＳｉＯ２の、本発明による拡散バリア層の他の利点は、付着したイオンの基板材料に対する親和性が非常に高く、したがってかなり高温のときでさえ基板上の層の付着性が顕著なことである。この場合の特定の利点は、拡散バリア層が基板とほぼ同じ材料から作られていることである。したがって、両方の材料の熱膨張係数が同じなので、高温ではひび割れがまったくないかまたは非常に軽微なひび割れしかないことが予期される。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
微結晶および／または超微細結晶のＳｉＯ２のコーティングの典型的な層の厚さは、１０から１０００ｎｍ、好ましくは５０から５００ｎｍである。最大の結晶子サイズは、選択された層の厚さに影響される可能性がある。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
本発明の改善点においては、微結晶および／または超微細結晶のＳｉＯ２の拡散バリア層は、石英ガラス基板の内部表面をコーティングすることによって付着されるのではなく、ランプ容器、例えば容器内部、すなわちガス放電ランプの放電空間を有する放電容器の石英ガラス基板の境界面のゾーン中に形成される。これは、容器の表面、例えばガス放電ランプの放電容器の内部表面を熱処理することによって行われる。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
ＰＩＣＶＤ法を使用するときは、石英ガラス基板の内部表面ゾーンへのこの加熱を好都合に制御することができる。ここで再び、微結晶および／または超微細結晶の結晶構造は、内部表面ゾーンのＳｉＯ２中に生成される。その場合も、バーナー封入物の成分の拡散を抑える効果が観察される。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
ＰＩＣＶＤ法においては、反応ガス、好ましくは例えば酸素および／または六フッ化硫黄などの反応性エッチング・ガスによるプラズマ処理によって表面の熱処理を実行することが特に推薦できる。その場合、プラズマの励起およびしたがってエッチング・ガスの効率を、マイクロ波プロセス・パラメータの選択によって好都合に調整できる。ここで再び、非常に重要なパラメータは、マイクロ波の電力密度であり、その電力密度は、パルス振幅およびパルス幅とパルス間隔の比によって調節することができる。高温での非常に反応性のあるガスのエッチング・プロセスによって、石英ガラス層を、薄いゾーンにおいて少なくとも部分的に結晶させることができ、ガス体積の外へのガスの原子の拡散に対するブロック効果を増大させた薄い微結晶および／または超微細結晶の層を生成する。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
本発明の他の好ましい実施形態は、それぞれ上述したような、２つの異なる方法で作製された拡散バリア層の組合せである。まず、微結晶および／または超微細結晶の結晶構造を、好ましくはプラズマ放電、例えばエッチング・ガスを用いて加熱することによって石英ガラス基板の内部表面ゾーンのＳｉＯ２中に生成する。その後に、さらなる微結晶および／または超微細結晶のＳｉＯ２層を、ＣＶＤ法によってこの層の上に付着させる。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４８】
２つの異なる方法で作製された拡散バリア層の組合せの利点は、最初に作製された微結晶または超微細結晶の結晶構造が、ＣＶＤプロセスによって付着される第２の拡散バリア層にとって適切な下塗りを構成することである。特に、化学的な組成における可能な違いの他に、異なる方式で作製された２つの微結晶または超微細結晶の層は、特に、それらの平均結晶子サイズ、それらの結晶子サイズの分布およびそれらの結晶子の優先的な向き（形態）において異なるであろう。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
したがって、まず超微細結晶層を適切な熱処理によって、例えばエッチング・ガスを用いて、石英ガラス電球上に生成し、そこで初めて微結晶コーティングをＣＶＤコーティング・プロセスによって付着させることが有利であるかもしれない。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
図２から４はそれぞれ、放電容器、例えば石英ガラス放電容器２の壁面の拡大した細部を示す。この場合、拡散層２２および２４はそれぞれ、放電空間の方向に面している。
図２は、放電容器の石英ガラス基板２１の内部表面上のコーティングとしての拡散バリア層２２を示す。そのコーティングは、ＰＩＣＶＤ法によって石英ガラス基板２１のガラス状のＳｉＯ２２３上に、微結晶および／または超微細結晶のＳｉＯ２層として付着されている。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
図３は、放電容器の石英電球基板２１の内部表面のゾーンとしての拡散バリア層２４を示す。この同様に微結晶および／または超微細結晶のＳｉＯ２層は、プラズマ放電による加熱による放電容器の石英ガラス基板２１の内部表面ゾーンの結晶化によって生成されている。石英ガラス基板の背面のガラス状のゾーン２３が、この拡散バリア層２４のすぐ隣にそれとかみ合うように配置されている。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
図４は、図２および３に対応する２つの拡散バリア層の組合せを示す。まず、拡散バリア層２４が、プラズマ放電による加熱による放電容器の石英ガラス基板２１の内部表面ゾーンの結晶化によって、石英電球基板２１の内部表面のゾーンとして生成される。それに続いて、さらなる拡散バリア層２２が、ＰＩＣＶＤ法によって、拡散バリア層２４として構成された石英電球基板２１の内部表面上にコーティングとして付着される。原子の相互作用によって、これらの２つの微結晶および／または超微細結晶のＳｉＯ２層は、互いに良好な付着を示す。上述の例示的な実施形態を、他のランプのタイプおよび他の基板材料のために同様に使用することができる。石英ガラスの他にも、その代わりにまたはさらに硬質ガラスまたはセラミックなどの他の材料から作製することができる、具体的にはハロゲン・ランプのガラス容器も、本明細書で想定される。