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【手続補正書】
【提出日】平成24年8月16日(2012.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）２つ以上のＥＬタイルであって、各ＥＬタイルは発光素子の行及び列からなるアレイを含み、各発光素子は、行電極と列電極の直交アレイの間に挟まれた発光層から形成されており、該２つ以上のＥＬタイルの各々が、少なくとも１つの行ドライブ回路をさらに含む、ＥＬタイルと、
ｂ）前記少なくとも１つの行ドライブ回路の各々とともに、前記発光素子の各々からの光の放射を制御するために、前記行電極と前記列電極の間の電子の流れを制御するように動作する少なくとも１つの列ドライブ回路と、
ｃ）入力画像信号を受信し、各ＥＬタイル中の発光素子の所定の数の行のグループをある期間において同時に照射させるために、前記行電極と前記列電極を通して電子の流れを制御するように、前記２つ以上のＥＬタイルの中の前記の２つ以上の行ドライブ回路に、行ドライブ信号を同時に提供する、前記の行ドライブ回路と前記列ドライブ回路に結合された１つ以上のコントローラと、を有し、
２つのＥＬタイルの間の境界が照射される場合に、当該グループにおける照射される発光素子の行の数が前記所定の数より少なく、照射される発光素子の行の前記当該グループは、照射される発光素子の行の前のグループと重なることを第１の例外として、各ＥＬタイルにおいて、照射される発光素子の行のグループは、後続する２つの時間間隔においてオーバーラップ無しで選択される、
ことを特徴とするタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項２】
少なくとも２つのＥＬタイルであって、該少なくとも２つのＥＬタイル間に境界を有し、２つのＥＬタイルが、該境界に対して対向するエッジを有するようになっている、少なくとも２つのＥＬタイルが存在し、各ＥＬタイルの前記対向するエッジを同時に照射させる場合には、行ドライブ信号の数が、１つのＥＬタイル内において、前記所定の数より少ないことを第２の例外とする、請求項１に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項３】
各コントローラが、前記行ドライブ回路と前記列ドライブ回路に与える前に、前記入力画像信号を処理する、請求項１に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項４】
各コントローラは、前記入力画像信号を鮮明化又は分解する、請求項３に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項５】
複数の行電極と列電極の交点に対応する同時に活性化された発光素子のグループ内の発光素子の輝度レベルが、該グループ内の他の発光素子より明るい光を生じる、請求項１に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項６】
各画像に関して複数のフィールドが存在し、各フィールドにおいて光を放射する各々のＥＬタイル内に、少なくとも１つの発光素子が存在する、請求項１に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項７】
前記ＥＬディスプレイは、単一のコントローラを含む、請求項１に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項８】
前記コントローラが、入力画像信号を受信し、行および列ドライブ信号を決定する前に、隣接したＥＬタイルの間で輝度または色変化に対して補正を加える、請求項１に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項９】
前記ディスプレイ上で同時に照射させる発光素子の列の数の合計が、前記境界が照射される場合、行ドライブ信号の前記所定の数に等しい、請求項１に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項１０】
前記２つ以上のＥＬタイルの少なくとも一部が、単一の基板上に形成される、請求項１に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項１１】
前記２つ以上のＥＬタイルが、前記基板の一端に列コネクタを提供する、請求項１０に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項１２】
前記ディスプレイは、列ドライブ回路に接続を提供するために、ＥＬタイルを通って伸びる少なくとも１つの金属タイル・コネクタを含む、請求項１０に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項１３】
前記ディスプレイは、少なくとも３つのＥＬタイルから成る、請求項１０に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項１４】
タイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイは、２つ以上のＥＬタイルを単一の列ドライブ回路に接続するための金属タイル・コネクタを含む、請求項１０に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項１５】
前記２つ以上のＥＬタイルは、同時に被覆さている、請求項１０に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項１６】
異なるＥＬタイルを接続するための金属タイル・コネクタの幅が、前記列ドライブ回路からのＥＬタイルの長さの関数として異なる、請求項１０に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【請求項１７】
前記タイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイは、３つ以上のＥＬタイルから成る、請求項１０に記載のタイル状パッシブ・マトリクスＥＬディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月30日(2011.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ソフトウェア手段によって複数の物点に分割されたシーンを再構成するホログラフィック表示装置であって、
光変調器手段と、
前記光変調器手段をコヒーレントな光で照明する光源手段と、
前記光を変調波面として観察者ウィンドウ内に変換する再構成手段であって、少なくとも１つの観察者の眼が、前記観察者ウィンドウと前記光変調器手段との間に広がる再構成空間において前記変調波面により生成され、前記観察者ウィンドウ内で重ね合わされる前記物点のホログラフィック再構成を、前記観察者ウィンドウから観察し、システム制御器手段が、前記シーンの計算機生成ホログラム（ＣＧＨ）を計算し、当該ＣＧＨを前記光変調器手段上で符号化する、再構成手段と
を備え、
前記再構成空間内で再構成される各物点（ＯＰｎ）の前記光変調器手段により放射された前記変調波面を時間的又は空間的に変位する手段を再構成ビームパス中に備え、これにより、前記再構成手段は前記再構成された各物点（ＯＰｎ）を前記変位された当該物点と乗算し、該各物点の乗算された再構成は、前記観察者ウィンドウ内で当該再構成それ自体とインコヒーレントに重ね合わせられる
ことを特徴とするホログラフィック表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
２次元に乗算される物点毎に、結果として得られるパターンが生成されるように、ブラッグ格子（ＢＧ）が書き込まれた２つのボリュームホログラムは互いに関連して配置され、２つの隣接物点が垂直な偏光（ｐ及びｓ）を備え、その結果互いにインコヒーレントに再構成されるように常に重ね合わされることを特徴とする請求項１５記載のホログラフィック表示装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
３原色ＲＧＢを含むシーンのカラー再構成を達成するために、ボリュームホログラムが方向毎及び色毎に２つのブラッグ格子（ＢＧ）を備えるように、前記スペーサ（ＡＨ）を含む前記ブラッグ格子（ＢＧ）の組合せが前記ボリュームホログラムに書き込まれることを特徴とする請求項１７記載のホログラフィック表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月29日(2012.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ流体ネットワークを含む装置のチャネルにおいて、第１の液体を備える第１の栓および第２の液体を備える第２の栓の流れを確立することであって、該第１および第２の栓は、該第１および第２の液体と非混合性である流体によって分離されることと、
該第１の液体および／または該第２の液体のうちの少なくとも一部分を、該ネットワークの反応域に接触させることと、
該反応域の下流に配置される液体格納領域に含有される吸収材料によって該第１の液体および／または該第２の液体のうちの少なくとも一部分を吸収することであって、該格納領域は該チャネルと流体的に連絡する、ことと、
該チャネルにおける液体の流量を制御することと、
を含み、
該吸収作用は、該液体格納領域の上流の該チャネルを流れる該液体の流量を実質的に制御しない、方法。
【請求項２】
前記液体の前記流量を制御することは、前記装置の出口に真空源を適用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記液体の前記流量を制御することは、前記装置の入口に陽圧を適用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記液体の前記流量を制御することは、前記液体格納領域の上流の該液体の該流量を制御することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１および第２の液体と非混合性である前記流体は、気体である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記気体を前記装置の前記出口から逃すことを可能にすることをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記気体は、前記吸収材料の周囲を流れることによって、前記装置の前記出口から逃れる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記気体は、前記吸収材料の孔を通って流れることによって、前記装置の前記出口から逃れる、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記第１および第２の液体と非混合性である前記流体は、第３の液体である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記液体格納領域に含有される吸収材料により、前記第３の液体を吸収することをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記装置内を流れるいずれの前記液体も、使用中に前記装置を退出しない、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記マイクロ流体ネットワークは、チャネル交差を全く含まない、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記液体格納領域は、第１の親水性吸収材料と、第２の疎水性吸収材料とを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１および第２の液体は、水溶液であり、前記第３の液体は、疎水性である、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記液体格納領域において、前記装置を流れる実質的に全ての前記液体を吸収することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記液体格納領域は、廃棄物貯蔵部である、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
マイクロ流体ネットワークを含む装置であって、
該装置に関連する貯蔵部であって、該貯蔵部は、該装置の使用前には自身の中に格納される第１の液体試薬を含有し、第１のチャネルと流体的に連絡し、該第１の液体試薬は、格納の間、該第１の液体試薬と混合しない流体栓に流体的に連絡し、かつ隣接している、貯蔵部と、
該装置の使用の間、該第１のチャネルと流体的に連絡する、反応域と、
該反応域の下流に配置され、該装置の使用の間、該反応域と流体的に連絡する液体格納領域に含有される、吸収材料と、
該液体格納領域の下流に配置される、出口と、
該出口を該液体格納領域に流体接続する、接続チャネルと
を備える、装置。
【請求項１８】
前記液体格納領域の下流に配置される検出器をさらに備える、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記吸収材料は、前記出口を介してアクセスすることが不可能である、請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
前記液体格納領域は、前記装置の使用前に該液体格納領域内に貯蔵される消毒剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記第１の栓および前記第２の栓は、前記装置の最初の使用前に、該装置のチャネルに格納される、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記第１の栓および前記第２の栓は、前記装置の最初の使用前に、前記液体格納領域と流体連絡していない、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記検出器は、前記液体格納領域の下流で液体を検出した際に、前記チャネル内の液体の流量を制御する流体の流れの源を遮断し得るかまたは変調し得る制御システムに信号が送信されるように適応および配列される、請求項１８に記載の装置。
【請求項２４】
前記反応域に関連付けられた検出器を用いて、該反応域において前記第１の流体および／または前記第２の流体に含まれる成分を検出することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
前記反応域は、該反応域内に固定化された第１の成分を含み、前記方法は、該第１の成分と、前記第１の液体に含まれる第２の成分との間で化学的相互作用および／または生物学的相互作用を発生させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
前記第２の液体は、洗浄溶液を含み、前記方法は、前記化学的相互作用および／または生物学的相互作用を発生させるステップの後に前記反応域にわたり該第２の液体を通過させることを含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記接触させるステップおよび前記吸収するステップの間、一定圧で前記真空源を適用することを含む、請求項２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月19日(2012.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】流体調整器の組立体
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本開示は、一般的に、流体調整器の組立体、より具体的には、直列型の調節可能な流体調整器の組立体に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
記載されている別の実施例では、調節可能な流体調整器の組立体は、第１流体調整器、および、当該第１流体調整器に流動的に連結された第２流体調整器を備える。当該第１流体調整器および第２流体調整器は、直列型で２段階の流体調整器を形成する。当該第１流体調整器は、当該第１流体調整器の流体調整圧力を変化させるための調節器を備え、当該調節器は、当該第１流体調整器のバネの圧縮を変化させるために現場において調節可能となるように構成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体注入口および流体排出口を有する本体と、
第１流体調整器とを備え、
前記第１流体調整器は、
前記注入口から前記排出口への流量を制御するバルブと、
前記排出口に関連した圧力を受容する、軸部を通じて前記バルブに連結されたピストンと、
前記軸部の縦軸に沿って可動なバネ板と、
前記ピストンと前記バネ板との間に配置されたバネと、
前記バネの圧縮と当該流体調整器の調整された排出圧力とを変化させるために前記バネ板を動かす前記本体と係合した調節器と、
を備える、調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項２】
前記調節器を選択した位置に固定するために配置されたロックリングを備える、請求項１に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項３】
前記ピストンに向かって前記バネ板が移動すると、前記調整された排出圧力が増加し、ピストンから離れるように前記バネ板が移動すると、前記調整された排出圧力が減少する、請求項２に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項４】
前記本体は、開口部を含み、前記バネ板は、摺動可能に前記開口部に配置された突出部を含み、前記開口部は、前記バネ板の摺動を誘導する、請求項３に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項５】
当該リングの回転により前記軸部の縦軸に沿って前記バネ板が動くように、前記調節器が前記本体と係合したリングを備える、請求項４に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項６】
前記リングが前記本体とネジ留めされて係合している、請求項５に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項７】
前記本体が第２部位にネジ留めされて係合した第１部位を備える、請求項６に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項８】
前記第１流体調整器に直列に流動的に連結した第２流体調整器をさらに備え、
前記第１流体調整器および第２流体調整器が直列型の流体調整器を形成する、請求項１に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項９】
前記第２流体調整器が、前記注入口と前記第１流体調整器との間に流動的に連結される、請求項８に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１０】
前記第２流体調整器が所定の調節可能でない調整圧力を有する、請求項８に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１１】
前記第１流体調整器および第２流体調整器が前記本体の内部で統合される、請求項８に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１２】
第１流体調整器、および前記第１流体調整器に流動的に連結した第２流体調整器を備え、前記第１流体調整器および第２流体調整器が直列型で２段階の流体調整器を形成し、前記第１流体調整器が前記第１流体調整器の流体調整圧力を変化させるための調節器を備え、前記調節器が前記第１流体調整器のバネの圧縮を変化させるように現場において調節可能に構成されており、
前記調節器が、回転可能なリングおよびバネ板を備え、
前記リングの回転により前記バネ板を動かし、前記バネを圧縮するかまたは前記バネの延在を可能にする、調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１３】
前記調節器が前記調節可能な流体調整器の注入口および排出口の間に配置される、請求項１２に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１４】
前記第１流体調整器および第２流体調整器のそれぞれが、ピストンおよび前記ピストンに連結した軸部を備える、請求項１２に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１５】
前記第１流体調整器および第２流体調整器のそれぞれが、出力調整圧力を設定するバネを備える、請求項１２に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１６】
前記第１流体調整器および第２流体調整器が、実質的に円柱形の本体内に配置される、請求項１２に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１７】
前記調節器が前記調節可能な流体調整器の外面とネジ留めされて係合し、前記本体の縦軸に沿った前記調節器の移動を可能にする、請求項１２に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１８】
前記調節器が手動で調節可能である、請求項１２に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項１９】
前記調節可能な流体調整器が注入口および複数の排出口を備える、請求項１２に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【請求項２０】
前記バネの圧縮が所望の出力調整圧力に応じる、請求項１２に記載の調節可能な流体調整器の組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月20日(2011.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）生体適合性キャリヤー中にあるテトロフォスミンの99mＴｃ錯体、
（ｉｉ）テトロフォスミン、並びに
（ｉｉｉ）アスコルビン酸及びそれの生体適合性陽イオンとの塩から選択される放射線防護剤
を含んでなる放射性医薬組成物であって、テトロフォスミン（ｉ）＋（ｉｉ）と放射線防護剤（ｉｉｉ）とのモル比が０．１０：１．０〜１．０：１．０の範囲内にある放射性医薬組成物。
【請求項２】
さらに生体適合性還元剤を含む、請求項１記載の放射性医薬組成物。
【請求項３】
さらにｐＨ調整剤を含む、請求項１又は請求項２記載の放射性医薬組成物。
【請求項４】
さらに、５−スルホサリチル酸及びグルコン酸並びにこれらの生体適合性陽イオンとの塩から選択される１種以上のトランスキレーターを含む、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の放射性医薬組成物。
【請求項５】
放射線防護剤がアスコルビン酸である、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の放射性医薬組成物。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の放射性医薬組成物を臨床グレードの容器又は注射器内に収容してなる99mＴｃ−テトロフォスミン放射性医薬品の単位患者用量であって、放射性医薬品の99mＴｃ放射能含有量が１人の患者のイメージングに適している、単位患者用量。
【請求項７】
施術者を放射線量から保護するためのシリンジシールドを有する注射器に入れて供給される、請求項６記載の単位患者用量。
【請求項８】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の放射性医薬組成物を調製するための非放射性キットであって、当該キットが、
（ｉ）テトロフォスミン、
（ｉｉ）アスコルビン酸及びそれの生体適合性陽イオンとの塩から選択される放射線防護剤、並びに
（ｉｉｉ）生体適合性還元剤
を含む製剤を内部に収容した適当な容器を含んでなり、テトロフォスミンと放射線防護剤とのモル比は請求項１に定義した通りである、非放射性キット。
【請求項９】
前記製剤が凍結乾燥されている、請求項８記載の非放射性キット。
【請求項１０】
前記容器が、無菌健全性を維持しながら溶液の添加及び抜取りを許すクロージャーを備えた密封無菌容器である、請求項８又は請求項９記載の非放射性キット。
【請求項１１】
前記クロージャーは、容器内容物に接触するその表面がエチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）又はその改質バージョンを含むコーティングで被覆されている、請求項１０記載の非放射性キット。
【請求項１２】
単一の多用量キットから４〜３０回分の単位患者用量の99mＴｃ−テトロフォスミン放射性医薬品を得ることができるように処方された多用量キットであり、前記単位用量が請求項６又は請求項７で定義した通りである、請求項１０又は請求項１１記載のキット。
【請求項１３】
容器が容積２０〜４０ｃｍ3の隔膜封止バイアルである、請求項１２記載のキット。
【請求項１４】
99mＴｃ−テトロフォスミン放射性医薬品の複数回分の単位患者用量の調製方法であって、
（ｉ）請求項１２又は請求項１３のいずれかに記載の多用量キットを99mＴｃ−過テクネチウム酸塩の無菌溶液で再構成するか、或いは最初に生体適合性キャリヤーで、次いで99mＴｃ−過テクネチウム酸塩の無菌溶液で再構成する段階、
（ｉｉ）任意には、段階（ｉ）を抗菌保存剤の存在下で実施する段階、
（ｉｉｉ）99mＴｃ−テトロフォスミン錯体を形成させて、所望の99mＴｃ−テトロフォスミン放射性医薬品のバルク供給材料を含む溶液を得る段階、
（ｉｖ）任意には、99mＴｃ−テトロフォスミン錯体のバルク供給材料の放射化学純度を確認する段階、
（ｖ）段階（ｉｉｉ）のバルク供給材料から単位用量を適当な注射器又は容器内に抜き取る段階、及び
（ｖｉ）後の時点で追加の注射器又は容器を用いて段階（ｖ）を繰り返すことで追加の単位用量を得る段階
を含んでなる方法。
【請求項１５】
段階（ｉ）で使用する99mＴｃ−過テクネチウム酸塩が０．２〜１００ＧＢｑの範囲内の放射能含有量を有する、請求項１４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月15日(2011.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者におけるサルコシンレベルを増大させるための組成物であって、該組成物は、該患者におけるペルオキシソーム増殖因子活性化レセプターα型（ＰＰＡＲα）を活性化するための化合物を含む、組成物。
【請求項２】
患者におけるＮ−メチル−Ｄ−アスパラギン酸（ＮＭＤＡ）レセプター活性化を促進するための請求項１に記載の組成物であって、該組成物は、該患者におけるサルコシンレベルを増大させるための化合物を含む、組成物。
【請求項３】
患者における精神分裂病を処置するための請求項２に記載の組成物であって、該組成物は、該患者においてＮＭＤＡレセプター活性化を促進するための化合物を含む、組成物。
【請求項４】
前記組成物は、前記患者におけるドーパミンＤ２レセプターを拮抗するための化合物と組み合わせて投与されることを特徴とする、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記化合物は、クロフィブレート、ゲムフィブロジル、シプロフィブレート、ベザフィブレート、フェノフィブレート、シンフィブレート、およびクロフィブリド、ならびにその薬学的に受容可能な塩からなる群より選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
ＰＰＡＲα活性化は、任意の医学的に適した方法によって（例えば、クロフィブレート、ゲムフィブロジル、シプロフィブレート、ベザフィブレート、フェノフィブレート、シンフィブレート、およびクロフィブリド、ならびにその薬学的に受容可能な塩からなる群より選択される１種以上の化合物を投与することによって）、行われ得る。上記方法は、例えば、ＰＰＡＲαおよび他のレセプター（例えば、ＰＰＡＲγ）の両方を活性化する化合物を投与する工程を包含し得るか、または上記方法は、他のヒトＰＰＡＲレセプターに対して匹敵する効果を有しない「純粋な」ＰＰＡＲαアゴニストであり得る。
本発明の好ましい実施形態では、例えば以下が提供される：
（項目１）
患者におけるサルコシンレベルを増大させるための方法であって、該方法は、該患者におけるペルオキシソーム増殖因子活性化レセプターα型（ＰＰＡＲα）を活性化する工程を包含する、方法。
（項目２）
患者におけるＮ−メチル−Ｄ−アスパラギン酸（ＮＭＤＡ）レセプター活性化を促進するための方法であって、該方法は、該患者におけるサルコシンレベルを、項目１に記載の方法に従って増大させる工程を包含する、方法。
（項目３）
患者における精神分裂病を処置するための方法であって、該方法は、該患者においてＮＭＤＡレセプター活性化を項目２に記載の方法に従って促進する工程を包含する、方法。
（項目４）
前記患者におけるドーパミンＤ２レセプターを拮抗する工程をさらに包含する、項目３に記載の方法。
（項目５）
前記方法は、クロフィブレート、ゲムフィブロジル、シプロフィブレート、ベザフィブレート、フェノフィブレート、シンフィブレート、およびクロフィブリド、ならびにその薬学的に受容可能な塩からなる群より選択される化合物を投与する工程を包含する、項目１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月6日(2012.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎモノマーから形成される第１のポリマーの液相合成方法であって、以下の工程：
ａ）溶解された第１の化合物を提供すること、ここで該第１の化合物は、第１のモノマーおよび第１の特定の溶解度を有する第２のポリマーから形成され、ここで前記第１のモノマーおよび前記第２のポリマーは、第１の結合によって互いに結合し、ここで該第１の結合は、第１の開裂反応によって開裂することができ、ここで前記第１のモノマーは、活性なまたは活性化可能な第１の基を有する、
ｂ）溶解された第２の化合物を提供すること、ここで該第２の化合物は、第２のモノマーおよび第２の特定の溶解度を有する第３のポリマーから形成され、ここで前記第２のモノマーおよび前記第３のポリマーは、第２の結合によって互いに結合し、ここで該第２の結合は、第２の開裂反応によって開裂することができ、ここで前記第２のモノマーは、架橋反応によって第１および第２のモノマーの間に第３の結合の形成を伴って第１の基と反応することができる、活性なまたは活性化可能な第２の基を有し、ここで前記第１および第２の特定の溶解度は異なる、
ｃ）架橋反応を起こすために第１および第２の化合物を接触させること、ここで活性化可能な第１および／または第２の基が存在する場合、前記第１および／または第２の基を、活性化剤の添加により活性化させる、
ｄ）第２または第３のポリマーに対して特異的な沈殿反応を行うこと、ならびに本工程において沈殿した第１または第２の化合物、および工程ｃ）において形成された反応生成物のいずれをも分離すること、
ｅ１）分離された第１または第２の化合物および反応生成物を溶媒中に溶解し、工程ｄ）において行われた沈殿反応においては特異的ではなかった第２または第３のポリマーに対して特異的な沈殿反応を行い、当該工程で沈殿した反応生成物を分離すること、および反応生成物を前記溶媒または別の溶媒に溶解すること、
または、
ｅ２）分離された第１または第２の化合物および反応生成物を、本質的に反応生成物のみが溶解するが、工程ｄ）で沈殿した第１または第２の化合物は本質的に溶解しない溶媒に接触させること
ｆ）反応生成物の第２の開裂反応を行うこと、ここでさらなる反応生成物および第３のポリマーが形成され、ここで第１の活性基は前記さらなる反応生成物上に形成される、および
ｇ）工程ｂ）〜ｄ）を（ｎ−２）回繰り返すこと、ここで第１の化合物は、工程ｆ）において形成されたさらなる反応生成物に置き換えられ、第２の化合物は、その都度さらなる化合物と置き換えられ、ここで前記さらなる化合物は、さらなるモノマーおよび第３のポリマーから形成される、
を含み、前記第１および第２の両モノマーがヌクレオチドである、前記方法。
【請求項２】
工程ｇ）の後または工程ｆ）とｇ）との間に、
第２のポリマーに対して特異的な沈殿を行い、本処理で沈殿し、工程ｆ）で形成されたさらなる反応生成物を分離する、
または
第３のポリマーに対して特異的な沈殿を行い、本処理で沈殿し、工程ｆ）で形成された第３のポリマーを分離する、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
活性化可能な第１の基が、ヌクレオチドの５’炭素原子に結合した酸素原子および保護基、特にジメトキシトリチル基、第３のポリマーまたはジメトキシトリチル基に結合している第３のポリマーからなり、ここで保護基が前記酸素原子に結合している、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
活性化可能な第１の基が、特に活性化剤としての有機酸によって、酸素原子の還元を伴って保護基を切り離すことによって活性化される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
活性な第１の基が、第１のモノマーを形成しているヌクレオチドの５’炭素原子上に配置されたＯＨ基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
第２のモノマーがヌクレオシドホスホラミダイトである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
ヌクレオシドホスホラミダイトが、工程ｃ）による接触前または接触中に、特にＨ−テトラゾール、エチルチオテトラゾールもしくは別のテトラゾール誘導体またはジシアノイミダゾールによるプロトン化によって活性化される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
リン酸トリエステルを形成する亜リン酸トリエステルを酸化するために、特に酸化剤としてヨウ素によって、工程ｃ）とｇ）との間に酸化工程が行われる、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
第１のモノマーが、特にエーテル結合中またはエステル結合中の酸素原子を介して、第２のポリマーに結合している、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
工程ｂ）〜ｆ）を（ｎ−２）回繰り返した後、工程ｇ）による第１の開裂反応を行う、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
請求項８に記載の形成されたリン酸トリエステルが、第１の開裂反応の過程において還元される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
第１の開裂反応が、水酸化アンモニウム溶液によって行われる、請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
第２または第３のポリマーがポリエチレングリコールであり、ここで第２および第３のポリマーは常に異なる、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
第２または第３のポリマーがポリスチレンであり、ここで第２および第３のポリマーは常に異なる、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的は、モノマーから形成されるポリマーの液相合成方法を提供することであり、本方法により、前記ポリマーを大量におよび高純度で、安価に生成することができる。
この目的は請求項１の構成により達成される。本発明の有益な態様は特許請求の範囲に記載の構成にある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
ｅ１）分離された第１または第２の化合物および反応生成物を溶媒中に溶解し、工程ｄ）において行われた沈殿反応においては特異的ではなかった第２または第３のポリマーに対して特異的な沈殿反応を行い、本工程で沈殿した反応生成物を分離すること、および反応生成物を前記溶媒または別の溶媒に溶解すること、または、
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月29日(2012.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
増加した表面積を有する、無極性ＩＩＩ族窒化物基板を製造するための方法であって、
（ａ）ＩＩＩ族窒化物を自立型（ＦＳ）ＩＩＩ族窒化物基板の半極性表面上で半極性方向に成長させることと、
（ｂ）該ＩＩＩ族窒化物の頂面を得るために、無極性の面に沿って該ＩＩＩ族窒化物をスライスまたは研磨することであって、該ＩＩＩ族窒化物の頂面は、後の該ＩＩＩ族窒化物の無極性方向への成長に適した無極性表面であり、スライスまたは研磨されたＩＩＩ族窒化物は、無極性のＩＩＩ族窒化物基板である、ことと
を含む、方法。
【請求項２】
前記スライスまたは研磨するステップは、無極性のＩＩＩ族窒化物基板をもたらし、該無極性のＩＩＩ族窒化物基板は、前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板上に積み重ねられた前記ＩＩＩ族窒化物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（１）前記半極性表面は、前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板のスライス表面であり、
（２）該スライス表面は、ｃ面に対して第一の角度にあり、前記ＩＩＩ族窒化物の成長方向を決定し、
（３）該スライス表面の幅は、該第一の角度の正弦で除した該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板の厚さである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板は、ＦＳ  ＩＩＩ窒化物から前記第一の角度でスライスされ、該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物はｃ配向を有し、前記ｃ面は該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物の表面である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記無極性の面は、前記半極性の面に対して第二の角度にある、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記第一の角度と前記第二の角度との合計は、前記ＩＩＩ族窒化物の前記頂面の結晶配向を決定するように選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記合計は、９０度である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記無極性表面は無極性の面であり、前記成長方向は、前記ｃ面に対して直交する無極性表面の表面積と比較して該無極性表面の表面積を拡大するために、該ｃ面に対して直交していない、請求項３に記載の方法。
【請求項９】
前記無極性表面は、前記ｃ面に直交する前記無極性表面の前記表面積よりも２ｈＭＡＸ２倍大きく、ｈＭＡＸ２は、前記ＩＩＩ族窒化物の厚さである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記半極性表面の表面積と比較して前記無極性表面の表面積を拡大するために、該無極性表面は、該半極性表面に対して直交していない、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法を使用して製造される素子。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法を用いて製造される、増加した表面積を有する無極性ＩＩＩ族窒化物基板であって、無極性ＩＩＩ族窒化物基板は、５００マイクロメートルを超える厚さを有する、無極性ＩＩＩ族窒化物基板。
【請求項１３】
増加した表面積を有する、半極性ＩＩＩ族窒化物基板を製造するための方法であって、
（ａ）ＩＩＩ族窒化物を自立型（ＦＳ）ＩＩＩ族窒化物基板の無極性表面上で無極性方向に成長させることと、
（ｂ）該ＩＩＩ族窒化物の頂面を得るために、半極性の面に沿って該ＩＩＩ族窒化物をスライスまたは研磨することであって、該ＩＩＩ族窒化物の頂面は、後の該ＩＩＩ族窒化物の半極性方向への成長に適した半極性表面であり、スライスまたは研磨されたＩＩＩ族窒化物は、半極性のＩＩＩ族窒化物基板である、ことと
を含む、方法。
【請求項１４】
前記スライスまたは研磨するステップは、半極性のＩＩＩ族窒化物基板をもたらし、該半極性のＩＩＩ族窒化物基板は、前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板上に積み重ねられた前記ＩＩＩ族窒化物を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
（１）前記無極性表面は、前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板のスライス表面であり、
（２）該スライス表面は、ｃ面に対して第一の角度にあり、前記ＩＩＩ族窒化物の成長方向を決定し、
（３）該スライス表面の幅は、該第一の角度の正弦で除した該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板の厚さである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物基板は、ＦＳ  ＩＩＩ窒化物から前記第一の角度でスライスされ、該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物はｃ配向を有し、前記ｃ面は該ＦＳ  ＩＩＩ族窒化物の表面である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記半極性の面は、前記無極性の面に対して第二の角度にある、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記第一の角度と前記第二の角度との合計は、前記ＩＩＩ族窒化物の前記頂面の結晶配向を決定するように選択される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記合計は、９０度である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記半極性表面は半極性の面であり、前記成長方向は、前記ｃ面に対して直交していない半極性表面の表面積と比較して該半極性表面の表面積を拡大するために、該ｃ面に対して直交している、請求項１５に記載の方法。
【請求項２１】
前記半極性表面は、前記ｃ面に直交していない前記半極性表面の前記表面積よりも２ｈＭＡＸ２倍大きく、ｈＭＡＸ２は、前記ＩＩＩ族窒化物の厚さである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記無極性表面の表面積と比較して前記半極性表面の表面積を拡大するために、該半極性表面は、該無極性表面に対して直交していない、請求項１３に記載の方法。
【請求項２３】
請求項１３に記載の方法を使用して製造される素子。
【請求項２４】
請求項１３に記載の方法を用いて製造される、増加した表面積を有する半極性ＩＩＩ族窒化物基板であって、該半極性ＩＩＩ族窒化物基板は、５００マイクロメートルを超える厚さを有する、半極性ＩＩＩ族窒化物基板。
【手続補正書】
【提出日】平成23年7月12日(2011.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プレゼンテーションおよび複数の入力メディアを備えるマルチメディアメッセージを単一出力メディアに適合させる方法であって、
（ａ）前記プレゼンテーションを解析することと、
（ｂ）解析済の前記プレゼンテーションから前記複数の入力メディアの論理時間軸を生成することと、
（ｃ）前記論理時間軸から適合パイプラインを生成することと、
（ｄ）前記適合パイプラインを実行することによって、前記単一出力メディアを生成することと、のステップを備える方法。
【請求項２】
前記ステップ（ａ）は、前記プレゼンテーションを、前記複数の入力メディアの各々の時間および期間を表現する要素に分解することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ステップ（ｂ）は、
（ｉ）前記複数の入力メディアの各々の開始時間および期間を決定することと、
（ｉｉ）前記複数の入力メディア内のテキストメディアの存在を識別することと、
（ｉｉｉ）前記テキストメディア以外の全ての入力メディアを前記論理時間軸に挿入することと、
（ｉｖ）前記ステップ（ｉｉｉ）の後に前記テキストメディアを前記論理時間軸に挿入することと、のステップを含む、請求項１から２の何れか１項に記載の方法。
【請求項４】
前記ステップ（ｃ）は、前記論理時間軸の順序に従って前記適合パイプラインの形式で個々の適合命令ステップのシーケンスを生成することを含み、前記ステップ（ｄ）は、前記複数の入力メディア上で、前記単一出力メディアを生じる前記個々の適合命令ステップを実行することを含む、請求項１から３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
個々の適合命令ステップは、
トランスコードのための１以上の入力メディアを定義することと、
トランスコードパラメータ群を使用して、前記１以上の入力メディアのためのトランスコード動作を定義することと、
前記トランスコード動作の結果のためのそれぞれの宛先出力メディアを定義することと、
を備える請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ステップ（ｄ）は、それぞれの前記宛先出力メディアを前記単一出力メディアにマージすることを含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記単一出力メディアは、
音声ストリームを含む音声ファイル、
動画ストリームを含む動画ファイル、または
音声および動画ストリームを含む結合された音声および動画ファイル
の１つである、請求項１から６の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記ステップ（ｄ）は、前記複数の入力メディアのテキストメディアをグラフィック表現に変換することを含み、前記ステップ（ｄ）は、さらに前記動画ファイルあるいは前記結合された音声および動画ファイルそれぞれの動画ストリーム上に前記グラフィック表現を重ね合わせることを含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ステップ（ｄ）は、前記複数の入力メディアの画像メディアを動画表現に変換することと、前記動画ファイルまたは前記結合された音声および動画ファイルの動画ストリームにそれぞれ前記動画表現を挿入することを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記マルチメディアメッセージは、マルチメディアメッセージングサービス（ＭＭＳ）メッセージである、請求項１から９の何れか１項に記載の方法。
【請求項１１】
複数の入力メディアを有するマルチメディアメッセージを単一出力メディアに適合させるためのメディア適合システムであって、
前記マルチメディアメッセージのプレゼンテーションを解析するパーサモジュールと、
解析済の前記プレゼンテーションから前記複数の入力メディアの論理時間軸を生成する時間軸モジュールと、
前記論理時間軸から適合パイプラインを生成するパイプライン化モジュールと、
前記適合パイプラインを実行することによって前記単一出力メディアを生成するパイプライン実行モジュールと、
を備えるシステム。
【請求項１２】
前記パーサモジュールは、前記プレゼンテーションを、前記マルチメディアメッセージの前記複数の入力メディアの各々の時間および期間を表現する要素に分解することを有する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記時間軸モジュールは、
（ｉ）各入力メディアの開始時間および期間を決定し、
（ｉｉ）前記複数の入力メディア内のテキストメディアの存在を識別し、
（ｉｉｉ）前記テキストメディア以外の全ての入力メディアを前記論理時間軸に挿入し、
（ｉｖ）前記テキストメディアを前記論理時間軸に挿入する手段を有する、請求項１１から１２の何れか１項に記載のシステム。
【請求項１４】
前記パイプライン化モジュールは、前記論理時間軸の順序に従って前記適合パイプラインの形式で個々の適合命令ステップのシーケンスを生成する手段を含み、前記パイプライン実行モジュールは、前記複数の入力メディア上で、前記単一出力メディアを生じる前記個々の適合命令ステップを実行する手段を含む、請求項１１から１３の何れか１項に記載のシステム。
【請求項１５】
コンピュータに、請求項１から１０の何れか１項に記載の方法の前記ステップを実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月19日(2011.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信システムにおけるユーザ端末での無線リソースの割当を要求する方法であって、
基地局にスケジューリング要求を送信するために、前記ユーザ端末に所定の回数を示す情報を受信する段階と、
アップリンクデータの送信のためのアップリンク無線リソースの割当を要求する前記基地局へスケジューリング要求を送信する段階であって、前記アップリンク無線リソースが前記基地局により割り当てられるまで前記スケジューリング要求が前記所定の回数送信される段階と、
前記スケジューリング要求が前記所定の回数送信された後に前記の要求されたアップリンク無線リソースが割り当てられないと、前記アップリンク無線リソースの割当を要求するランダムアクセス手順を開始する段階と、を含む方法。
【請求項２】
前記所定の回数を示す情報が、システム情報に含まれ、前記ユーザ端末に受信される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記所定の回数を示す前記情報が、無線リソース制御（RRC）メッセージに含まれ、前記ユーザ端末に受信される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記スケジュール要求が前記所定の回数送信される間に、前記アップリンク無線リソースを前記ユーザ端末に割り当てると、前記ユーザ端末は前記スケジュール要求の前記送信を終了する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記スケジュール要求は１ビットの情報である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ランダムアクセス手順により割り当てられたアップリンク無線リソースに関する前記アップリンクデータを送信する段階をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記アップリンク無線リソースを割り当てるための情報が、前記ランダムアクセス手順の間に前記基地局から前記ユーザ端末に送信されるランダムアクセスレスポンスメッセージに含まれる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記スケジュール要求を送信する前に、バッファー状態報告の時間が経過し、前記ユーザ端末が送信すべきアップリンクデータを保持すると、前記バッファー状態報告の送信を開始する段階であって、前記アップリンクデータは前記バッファー状態報告である、段階をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
無線通信システムにおける使用のためのユーザ端末であって、
スケジュール要求を基地局に送信するために、前記ユーザ端末に対する所定の回数を示す情報を受信するように適合した受信機と、
アップリンク無線リソースが前記基地局から割り当てられるまで、アップリンクデータの送信のための前記アップリンク無線リソースを割り当てるための前記基地局への前記スケジュール要求と、前記所定の回数送信された前記スケジュール要求を送信するように適合した送信機とを備え、
前記の要求されたアップリンク無線リソースは、前記スケジュール要求が前記所定の回数送信された後でも、割り当てられないと、前記アップリンク無線リソースの割当を要求するために、ランダムアクセス手順が前記ユーザ端末により開始される、
ユーザ端末。
【請求項１０】
前記所定の回数を示す前記情報は、システム情報に含まれ、前記ユーザ端末に受信される、請求項９に記載のユーザ端末。
【請求項１１】
前記所定の回数を示す前記情報は、無線リソース 制御 (RRC) メッセージに含まれ、前記ユーザ端末に受信される、請求項９に記載のユーザ端末。
【請求項１２】
前記スケジュール要求を前記所定の回数送信する間に、前記ユーザ端末が前記アップリンク無線リソースに割り当てられると、前記ユーザ端末は前記スケジュール要求の送信を終了する、請求項９に記載のユーザ端末。
【請求項１３】
前記スケジュール要求は１ビットの情報である、請求項９に記載のユーザ端末。
【請求項１４】
前記送信機は、前記ランダムアクセス手順により割り当てられたアップリンク無線リソースについての前記アップリンクデータを送信するように更に適合した、請求項９に記載のユーザ端末。
【請求項１５】
前記アップリンク無線リソースを割り当てるための情報が、前記ランダムアクセス手順の間に、前記基地局から前記ユーザ端末に送信されるランダムアクセスメッセージに含まれる、請求項１４に記載のユーザ端末。
【請求項１６】
前記スケジュール要求を送信する前に、バッファー状態報告の時間が経過し、前記ユーザ端末が送信すべきアップリンクデータを保持すると、前記バッファー状態報告の送信が開始される、請求項９に記載のユーザ端末。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月16日(2011.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に形成された溝から破片を除去する方法であって：
前記基板の表面エネルギーよりも低い表面エネルギーを持つナノメートルスケールのコーティングを有するチップを前記溝内に位置付けるステップ；
前記破片を前記チップに付着させるために前記溝内の前記チップを移動させるステップ；
付着させた前記破片と共に前記溝から前記チップを遠ざけるステップ；及び
前記破片の表面エネルギーよりも低い表面エネルギーを有する物質のパッチであり、前記基板を支持するステージに取り付けられる物質のパッチに前記破片を埋め込むステップ；
を有する方法。
【請求項２】
前記チップのコーティングは、ポリテトラフルオロエチレンである、
請求項１の方法。
【請求項３】
前記チップを前記物質のパッチに押し込むことによって前記チップのコーティングを補給するステップを更に有する、
請求項１の方法。
【請求項４】
前記補給するステップは、前記物質のパッチに沿って前記チップを横に移動させることを含む、
請求項３の方法。
【請求項５】
前記チップの頂点から、前記チップを支持する原子間力顕微鏡のカンチレバーの方に、前記破片を押しのけるために、前記パッチを用いるステップを更に有する、
請求項１の方法。
【請求項６】
前記チップのコーティングは、金属材料である、
請求項１の方法。
【請求項７】
基板の表面から破片を取り除くためのシステムであって：
カンチレバーと、該カンチレバーによって支持されるチップであり、前記基板の表面エネルギーよりも低い表面エネルギーを持つナノメートルスケールのコーティングを有するチップとを含む原子間力顕微鏡、及び、
前記破片の表面エネルギーよりも低い表面エネルギーを有する物質のパッチであり、前記基板を支持するステージに取り付けられる物質のパッチ、
を有するシステム。
【請求項８】
前記チップのコーティングは、ポリテトラフルオロエチレンである、
請求項７のシステム。
【請求項９】
前記チップのコーティングは、金属材料である、
請求項７のシステム。
【請求項１０】
前記物質のパッチは、前記ステージに取り外し可能に取り付けられる、
請求項７のシステム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年9月19日(2012.9.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２】
請求項１に記載の測定器において、
前記拡大レンズ系のレンズの少なくとも一部のレンズ（１０，１２）は、ビーム経路の方向において前後にレンズバレル（６８）に組み込まれてなり、
前記レンズバレル（６８）は、ガイドボディ（５６）のガイド受容穴（６６）内を、前記レンズバレルの軸線方向に沿って移動可能にガイドされ、前記アダプタ（４２）が前記ガイドボディに連結されてなる測定器。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項５】
請求項２から４までのいずれか一項に記載の測定器において、
前記アダプタ（４２）と前記ガイドボディ（５６）との間で作用するとともに、前記拡大レンズ系の少なくとも第１のレンズ（１０）を、前記基準点（４６）に対して横方向に調整可能とする横方向調整手段（５２）が設けられてなる測定器。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
両方の収束レンズ２６，３０は、図示の実施例ではそれぞれ等しい焦点距離を有してい
る。収束レンズ２６の２つの焦点に参照符号３２，３４を付し、収束レンズ３０の２つの
焦点に参照符号３６，３８を付す。それらの負の焦点距離のために、拡散レンズ２４，２
８がそれぞれ次の収束レンズの焦点の後方に位置しているが、しかしながら、拡散レンズ
２４，２８の（虚の）焦点はそれぞれ次の収束レンズの焦点と一致する。すなわち、焦
点３２は同時にレンズ２４の（虚の）焦点であり、焦点３４，３６は、拡散レンズ２８
の同様にそれぞれ１つの（虚の）焦点と一致する。