【手続補正書】
【提出日】平成23年11月21日(2011.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロリソグラフィのための照明光学系（２６）であって、
物体平面（１７）内で照明される物体視野（１９）に照明光を誘導するための光学アセンブリ（２６ａ）を含み、
照明光放射線束（３）を前記物体視野の照明の異なる照明角度に割り当てられた複数の放射線部分束（２８から３０）に分割し、
前記物体平面（１７）から離間し、かつ重ね合わせが発生する該物体平面（１７）内へ結像されない重ね合わせ平面（１６）内で前記放射線部分束（２８から３０）のうちの少なくとも一部が重ね合わされ、該重ね合わされた放射線部分束（２８から３０）の縁部（３２）が少なくとも部分的に一致するような方法で構成され、
前記一致は、縁部（３２）からの前記放射線束（３）を覆う個々の絞り（２７）を介して、全ての放射線部分束（２８から３０）に対して、照明角度に非依存の強度効果が利用可能であるようなものである、
ことを特徴とする照明光学系（２６）。
【請求項２】
マイクロリソグラフィのための照明光学系（２６）であって、
物体平面（１７）内で照明される物体視野（１９）に照明光を誘導するための光学アセンブリ（２６ａ）を含み、
視野ファセット（７）の像の縁部（３２）が重ね合わせ平面（１６）内で少なくとも部分的に一致するような方法で該重ね合わせ平面（１６）内に結像される複数の視野ファセット（７）を有する視野ファセットミラー（６）を含み、
前記重ね合わせ平面（１６）は、前記物体平面（１７）から離間し、かつ該物体平面（１７）内へ結像されず、
前記物体視野内の物体点における前記照明光の積分強度は、それぞれの個々の絞り（２７）のｙ位置によって調整可能である、
ことを特徴とする照明光学系（２６）。
【請求項３】
前記重ね合わせ平面（１６）に配置されて次に強度設定平面として機能する視野強度設定デバイス（２４）を含み、
前記視野強度設定デバイス（２４）は、前記物体視野（１９）にわたる前記照明光の強度分布の調節のために機能し、
前記重ね合わされた放射線部分束（２８から３０）の前記縁部（３２）は、それらが前記視野強度設定デバイス（２４）によって影響を受けることができる地点で一致する、
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の照明光学系。
【請求項４】
前記強度設定デバイス（２４）は、複数の個々の絞り（２７）を含み、これらは、互いに隣接して配置され、照明光をそれに露光された時に少なくとも減衰させ、かつ物体変位方向（ｙ）と平行な方向に照明光放射線束（３）内に挿入可能であることを特徴とする請求項３に記載の照明光学系（２６）。
【請求項５】
マイクロリソグラフィのための照明光学系（２６）であって、
物体平面（１７）内で照明される物体視野（１９）に照明光を誘導するための光学アセンブリ（２６ａ）と、
互いに隣接して配置され、照明光をそれに露光された時に少なくとも減衰させ、かつ物体変位方向（ｙ）と平行な方向に照明光放射線束（３）内に挿入可能である複数の個々の絞り（２７）を有し、前記物体視野（１９）にわたる強度分布を調節するための視野強度設定デバイス（２４）と、
を含み、
前記視野強度設定デバイス（２４）の全ての個々の絞り（２７）は、前記照明光放射線束（３）内に１つの同じ側から挿入可能であるように配置されており、
この挿入配置は、前記照明光放射線束（３）の強度が、個々の絞り（２７）の挿入位置を定めることによって所定の手法で均一化又は配分されうるようなものである、
ことを特徴とする照明光学系（２６）。
【請求項６】
前記視野強度設定デバイス（２４）は、前記光学アセンブリ（２６ａ）の視野平面に一致する強度設定平面（１６）に配置されることを特徴とする請求項３から請求項５のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項７】
前記物体平面（１７）は、前記強度設定平面（１６）と該物体平面（１７）の間に前記光学アセンブリ（２６ａ）の瞳平面が存在しないような方法で該強度設定平面（１６）に隣接することを特徴とする請求項６に記載の照明光学系。
【請求項８】
前記強度設定平面（１６）と前記物体平面（１７）の間の距離が、５ｍｍと２０ｍｍの間の範囲にあることを特徴とする請求項７に記載の照明光学系。
【請求項９】
前記光学アセンブリ（２６ａ）は、前記物体視野（１９）内で少なくとも部分的に重ね合わされる像を有する複数の視野ファセット（７）を備えた視野ファセットミラー（６）を含むことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項１０】
前記視野ファセット（７）は、前記物体視野（１９）よりも高いアスペクト比（ｘ／ｙ）を有し、これは、すなわち、それらが前記物体変位方向（ｙ）に見た時に該物体視野（１９）よりも幅狭であることを意味することを特徴とする請求項９に記載の照明光学系。
【請求項１１】
前記個々の絞り（２７）に面する前記照明光放射線束（３）の縁部（３２）が、前記視野平面（１６）内で前記視野ファセットミラー（６）の全ての視野ファセット（７）によって照明されることを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の照明光学系。
【請求項１２】
前記個々の絞り（２７）に面する前記照明光放射線束（３）の縁部（３２）が、前記視野平面（１６）内で前記視野ファセットミラー（６）の全ての視野ファセット（７）の部分群によって照明されることを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の照明光学系。
【請求項１３】
照明角度の所定の分布が、前記部分群の前記視野ファセット（７）に割り当てられることを特徴とする請求項１２に記載の照明光学系。
【請求項１４】
前記光学アセンブリ（２６ａ）は、前記照明光の光路内で前記視野ファセット（７）に割り当てられた複数の瞳ファセット（１１）を有する瞳ファセットミラー（１０）を含むことを特徴とする請求項９から請求項１３のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項１５】
前記瞳ファセット（１１）は、前記強度設定平面（１６）内で前記照明光の重ね合わせを調節するために傾斜可能であることを特徴とする請求項１４に記載の照明光学系。
【請求項１６】
前記個々の絞り（２７）は、少なくともいくつかの部分で少なくとも部分的に透明であることを特徴とする請求項４から請求項１５のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項１７】
５ｎｍと３０ｎｍの間の波長を有する照明光を前記物体視野（１９）に誘導するための請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項１８】
マイクロリソグラフィのための照明光学系（２６）であって、
５ｎｍと３０ｎｍの間の波長を有する照明光を物体平面（１７）内で照明される物体視野（１９）に誘導するための光学アセンブリ（２６ａ）と、
前記物体視野（１９）にわたる前記照明光の強度分布を調節するための視野強度設定デバイス（２４）と、
を含み、
前記視野強度設定デバイス（２４）は、照明光放射線束（３）に垂直な照明光によって形成される断面に対して、該視野強度設定デバイス（２４）に対向する該束の断面の縁部（３３ａ）が該視野強度設定デバイス（２４）の下流で変化しないままに留まるような効果を有し、
前記視野強度設定デバイス（２４）の効果が、前記物体視野（１９）上の照明角度に無関係である、
ことを特徴とする照明光学系（２６）。
【請求項１９】
請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載の照明光学系と、
光源（２）と、
を含むことを特徴とする照明系。
【請求項２０】
前記光源（２）は、ＥＵＶ光源であることを特徴とする請求項１９に記載の照明系。
【請求項２１】
請求項１９又は請求項２０に記載の照明系と、
物体視野（１９）を像平面（２１）内に結像するための投影対物系（２０）と、
を含むことを特徴とする投影露光装置（１）。
【請求項２２】
構造化構成要素を製造する方法であって、
少なくとも一部に感光材料の層が付加されたウェーハ（２３）を準備する段階と、
結像される構造を含むレチクル（１８）を準備する段階と、
請求項２１に記載の投影露光装置（１）を準備する段階と、
前記投影露光装置（１）を用いて、前記レチクル（１８）の少なくとも一部を前記ウェーハ（２３）上の前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の方法に従って製造された構造化構成要素。