【手続補正書】
【提出日】平成24年2月22日(2012.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線焦点スポットを有するＸ線点源を利用したＸ線撮像装置のための多層のＸ線ミラーの位置合わせおよび走査システムであって、
多軸で調整可能なミラー載置台であって、その上に少なくとも１つの多層Ｘ線ミラーが載置されており、前記焦点スポットと位置合わせ可能な走査軸周りに回転可能なミラー載置台と、
前記ミラー載置台と連結され、コンピュータ制御されるミラー走査装置であって、前記ミラー走査装置の活性化時間が前記Ｘ線点源の活性化時間と同期されるように前記Ｘ線点源と動作において同期したミラー走査装置と、
を備え、
前記多層Ｘ線ミラーは、前記ミラー載置台から離れた基板と、前記基板上に配置された多層Ｘ線反射コーティングと、を含み、
前記Ｘ線点源が動作させられるときに、前記ミラー走査装置は前記走査軸周りに前記ミラー載置台を移動させる、
Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項２】
前記ミラー載置台は、前記焦点スポットに対して回転可能に載置される光学ブラケットに取り付けられている、
請求項１に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項３】
前記ミラー走査装置は、前記光学ブラケットとは反対方向に力を加える線形モータドライブを備え、前記光学ブラケットと前記ミラー載置台を前記走査軸周りに、前記焦点スポットと位置合わせされたまま回転させる、
請求項２に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項４】
前記ミラー載置台はさらに、３つの直交変換および２つの直交回転を有する５軸の光学ポジショナを備え、当該光学ポジショナは、前記焦点スポットおよび前記走査軸に対する前記ミラーの位置決めを可能にするように構成されている、
請求項１に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項５】
前記Ｘ線焦点スポットに対する前記ミラー載置台の前記走査軸を位置決めするように構成された２軸調整機構をさらに備えた、
請求項１に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項６】
前記少なくとも１つの多層Ｘ線ミラーは、ミラースタック内で互いに強固に固定された複数の多層ミラーを備えた、
請求項１に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項７】
前記ミラースタックはさらに、少なくとも、第１のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第１の複数の多層ミラーと、第２のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第２の複数の多層ミラーとを備えた、
請求項６に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項８】
ｉ）前記Ｘ線点源と前記ミラースタックの間に介挿されるか、またはｉｉ）前記ミラースタックと撮像されるべき項目との間に介挿されるかのいずれかで配置され、前記複数の多層ミラーの中の一部の多層ミラーに対応する寸法に合わせられた少なくとも１つのスロットを有する移動可能な不透過板をさらに備え、
前記スロットは、前記複数の多層ミラーのうち少なくとも１つが、少なくとも１つの対応するエネルギーを前記撮像されるべき項目へ伝達することを選択的に可能にし、前記不透過板は、前記複数のミラーのうち他のミラーが、少なくとも１つの異なった対応するエネルギーのＸ線を伝達するのを防止する、
請求項７に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項９】
前記第１の複数のミラーは実質的に第１のブロック内ですべて互いに隣接しており、前記第２の複数のミラーは実質的に第２のブロック内ですべて互いに隣接しており、
前記スロットは、Ｘ線が前記ブロックのうち一方によって伝達されることを可能にしつつ前記不透過板が前記ブロックの他方を遮断するように前記ブロックのいずれかに実質的に合うような寸法に合わせられたアパーチャを有する、
請求項８に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項１０】
前記第１および第２の複数の多層ミラーは、互いに点在させられ、
前記スロットは、Ｘ線が前記複数のミラーのうち１つによって伝達されることを可能にしつつ前記不透過板が前記複数のミラーのうち他のミラーを遮断するように前記複数のミラーのいずれかに実質的に合うような寸法に合わせられた複数のスロットを有する、
請求項８に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項１１】
走査非散乱グリッドをさらに備え、当該グリッドは、撮像されるべき項目とＸ線センサとの間に配置され、少なくとも１つのＸ線ミラーによって生成される照明パターンに組み合わせられた、減衰用の、スロットが付けられた板を有する、
請求項１に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項１２】
前記ミラー走査装置は、選択的に変更可能な速度で動作可能であり、それによって前記ミラーの走査速度の選択的制御を可能にする、
請求項１に記載された、Ｘ線撮像装置のための位置合わせおよび走査システム。
【請求項１３】
焦点スポットを有するＸ線点源と、
基板と、前記基板上に配置された多層Ｘ線反射コーティングと、を含む少なくとも１つの多層Ｘ線ミラーと、
前記基板から離れた多軸で調整可能なミラー載置台であって、その上に前記少なくとも１つの多層Ｘ線ミラーが載置されており、前記焦点スポットと位置合わせ可能な走査軸周りに回転可能なミラー載置台と、
前記ミラー載置台と連結され、コンピュータ制御されるミラー走査装置であって、前記ミラー走査装置の活性化時間が前記Ｘ線点源の活性化時間と同期されるように前記Ｘ線点源と動作において同期したミラー走査装置と、
を備え、
前記Ｘ線点源が動作させられるときに、前記ミラー走査装置は前記走査軸周りに前記ミラー載置台を移動させる、
Ｘ線撮像装置。
【請求項１４】
前記ミラー走査装置は、前記ミラー載置台とは反対方向に力を加える線形モータドライブを備え、前記ミラー載置台を前記走査軸周りに、前記焦点スポットと位置合わせされたまま回転させる、
請求項１３に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの多層Ｘ線ミラーは、ミラースタック内で互いに強固に固定された複数の多層ミラーを備えた、
請求項１３に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項１６】
前記ミラースタックはさらに、少なくとも、第１のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第１の複数の多層ミラーと、第２のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第２の複数の多層ミラーとを備えた、
請求項１５に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項１７】
ｉ）前記Ｘ線点源と前記ミラースタックの間に介挿されるか、またはｉｉ）前記ミラースタックと撮像されるべき項目との間に介挿されるかのいずれかで配置され、前記複数の多層ミラーの中の一部の多層ミラーに対応する寸法に合わせられた少なくとも１つのスロットを有する移動可能な不透過板をさらに備え、
前記スロットは、前記複数の多層ミラーのうち少なくとも１つが、少なくとも１つの対応するエネルギーを前記撮像されるべき項目へ伝達することを選択的に可能にし、前記不透過板は、前記複数のミラーのうち他のミラーが、少なくとも１つの異なった対応するエネルギーのＸ線を伝達するのを防止する、
請求項１６に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項１８】
前記第１の複数のミラーは実質的に第１のブロック内ですべて互いに隣接しており、前記第２の複数のミラーは実質的に第２のブロック内ですべて互いに隣接しており、
前記スロットは、Ｘ線が前記ブロックの一方によって伝達されることを可能にしつつ前記不透過板が前記ブロックの他方を遮断するように前記多層ミラーの前記ブロックのいずれかに実質的に合うような寸法に合わせられたアパーチャを有する、
請求項１７に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項１９】
前記第１および第２の複数の多層ミラーは、互いに点在させられ、
前記スロットは、Ｘ線が前記複数のミラーの１つによって伝達されることを可能にしつつ前記不透過板が前記複数のミラーの他のミラーを遮断するように前記複数のミラーのいずれかに実質的に合うような寸法に合わせられた複数のスロットを有する、
請求項１７に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項２０】
前記ミラー走査装置は、選択的に変更可能な速度で動作可能であり、それによって前記ミラーの走査速度の選択的制御を可能にする、
請求項１３に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項２１】
焦点スポットを有するＸ線点源と、
前記Ｘ線点源との間で伝達し、第１のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第１の多層ミラーと、第２のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第２の多層ミラーとを含む、複数の多層Ｘ線ミラーと、を備え、
前記多層ミラーの各々は、基板と、前記基板上に配置された多層Ｘ線反射コーティングと、を含み、
前記基板から離れた走査可能なミラー載置台であって、その上に前記複数の多層ミラーが載置されており、前記焦点スポットと位置合わせ可能なミラー載置台と、
ｉ）前記Ｘ線点源と前記多層ミラーの間に介挿されるか、またはｉｉ）前記多層ミラーと撮像されるべき項目との間に介挿されるかのいずれかで配置され、前記複数の多層ミラーの中の一部の多層ミラーに対応する寸法に合わせられた少なくとも１つのスロットを有する移動可能な不透過板であって、前記スロットは、前記複数の多層ミラーのうち少なくとも１つが、少なくとも１つの対応するエネルギーを前記撮像されるべき項目へ伝達することを選択的に可能にし、前記不透過板は、前記複数のミラーのうち他のミラーが、少なくとも１つの異なった対応するエネルギーのＸ線を伝達するのを防止する不透過板と、  を備えたＸ線撮像装置。
【請求項２２】
前記複数の多層ミラーは、ミラースタック内で互いに強固に固定されており、
前記第１の多層ミラーはさらに第１の複数の多層ミラーを有し、前記第２の多層ミラーはさらに第２の複数の多層ミラーを有し、前記第１の複数の多層ミラーは実質的に第１のブロック内ですべて互いに隣接しており、前記第２の複数の多層ミラーは実質的に第２のブロック内ですべて互いに隣接しており、
前記スロットは、Ｘ線が前記ブロックの一方によって伝達されることを可能にしつつ前記不透過板が前記ブロックの他方を遮断するように前記ブロックのいずれかに実質的に合うような寸法に合わせられたアパーチャを有する、
請求項２１に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項２３】
前記複数の多層ミラーは、ミラースタック内で互いに強固に固定されており、
前記第１の多層ミラーはさらに第１の複数の多層ミラーを有し、前記第２の多層ミラーはさらに第２の複数の多層ミラーを有し、
前記第１および第２の複数の多層ミラーは、互いに点在させられ、
前記スロットは、Ｘ線が前記複数のミラーの１つによって伝達されることを可能にしつつ前記不透過板が前記複数の多層ミラーの他の多層ミラーを遮断するように前記複数の多層ミラーのいずれかに実質的に合うような寸法に合わせられた複数のスロットを有する、
請求項２１に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項２４】
前記ミラー載置台は、前記焦点スポットと位置合わせ可能な走査軸周りに回転可能であって、
前記ミラー載置台と連結され、コンピュータ制御されるミラー走査装置であって、前記ミラー走査装置の活性化時間が前記Ｘ線点源の活性化時間と同期されるように前記Ｘ線点源と動作において同期したミラー走査装置をさらに備え、
前記Ｘ線点源が動作させられるときに、前記走査装置は前記走査軸周りに前記ミラー載置台を移動させる、
請求項２１に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項２５】
前記ミラー走査装置は、選択的に変更可能な速度で動作可能であり、それによって前記ミラーの走査速度の選択的制御を可能にする、
請求項２４に記載されたＸ線撮像装置。
【請求項２６】
焦点スポットを有するＸ線点源と、
前記Ｘ線点源との間で伝達し、第１基板と前記第１基板上に配置された第１の多層Ｘ線反射コーティングとを含み、第１のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第１の多層ミラーと、第２基板と前記第２基板上に配置された第２の多層Ｘ線反射コーティングとを含み、第２のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第２の多層ミラーとを含む、複数の多層Ｘ線ミラーと、
前記第１基板から離れた走査可能な第１のミラー載置台であって、その上に少なくとも前記第１のミラーが載置されており、前記焦点スポットと位置合わせ可能な第１のミラー載置台と、
前記第２基板から離れた走査可能な第２のミラー載置台であって、その上に少なくとも前記第２のミラーが載置されており、前記焦点スポットと位置合わせ可能な第２のミラー載置台と、
ｉ）前記Ｘ線点源と前記多層ミラーの間に介挿されるか、またはｉｉ）前記多層ミラーと撮像されるべき項目との間に介挿されるかのいずれかで配置され、前記第１又は第２の多層ミラーのいずれかに対応する寸法に合わせられた少なくとも１つのスロットを有する移動可能な不透過板であって、前記スロットは、前記第１又は第２の多層ミラーの一方が、対応するエネルギーを前記撮像されるべき項目へ伝達することを選択的に可能にし、前記不透過板は、前記第１又は第２の多層ミラーの他方が、少なくとも１つの異なった対応するエネルギーのＸ線を伝達するのを防止する不透過板と、
を備えたＸ線撮像装置。
【請求項２７】
実質的に単一エネルギーのＸ線を利用するＸ線撮像を実行する方法であって、
少なくとも、第１基板と前記第１基板上に配置された第１の多層Ｘ線反射コーティングとを有し、第１のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第１の多層ミラーと、第２基板と前記第２基板上に配置された第２の多層Ｘ線反射コーティングとを有し、第２のエネルギーのＸ線を反射するように構成された第２の多層ミラーとを含む、複数の多層Ｘ線ミラーを準備するステップと、
Ｘ線源からのＸ線が前記複数のミラーの少なくとも一方によって伝達され、前記複数のミラーの少なくとも他方からＸ線を遮断することを選択的に可能にするステップであって、それによって撮像のために伝達されるべきＸ線エネルギーを選択する、前記選択的に可能にするステップと、を含み、
前記選択的に可能にするステップは、
前記Ｘ線源と前記ミラーとの間、又は、前記ミラーと撮像されるべき項目との間に前記複数の多層ミラーのいずれかに対応する寸法のスロットを少なくとも１つ有する移動可能な不透過板を準備するステップと、
前記スロットを所望の前記Ｘ線ミラーと位置合わせするように、前記不透過板を選択的に移動させるステップと、
を含むことを特徴とする、実質的に単一エネルギーのＸ線撮像を実行する方法。
【請求項２８】
前記Ｘ線源の焦点スポットと位置合わせ可能な走査軸周りに回転可能であって、前記第１又は第２基板から離れたミラー載置台上に前記ミラーを載置するステップと、
前記Ｘ線焦点スポットとの前記走査軸の位置合わせを維持しつつ、前記ミラー載置台を前記走査軸周りに回転させるステップと、
をさらに有する、請求項２７に記載された、実質的に単一エネルギーのＸ線撮像を実行する方法。
【請求項２９】
前記走査軸周りに前記ミラー載置台の回転の速度を変更するステップであって、それによって前記ミラーの走査速度の選択的制御を可能にするステップ、
をさらに有する、請求項２８に記載された、実質的に単一エネルギーのＸ線撮像を実行する方法。
【請求項３０】
撮像されるべき項目に対する位置の機能としてＸ線の強度およびエネルギーをそれぞれ制御するために、前記速度を変更するステップと、前記不透過板を移動させるステップとを利用するステップ、
をさらに有する、請求項２９に記載された、実質的に単一エネルギーのＸ線撮像を実行する方法。
【請求項３１】
走査非散乱グリッドをさらに備え、当該グリッドは、撮像されるべき項目とＸ線センサとの間に配置され、少なくとも１つの多層Ｘ線ミラーによって生成される照明パターンに組み合わせられた、減衰用の、スロットが付けられた板を有する、
請求項１３に記載された、Ｘ線撮像装置。
【請求項３２】
走査非散乱グリッドをさらに備え、当該グリッドは、撮像されるべき項目とＸ線センサとの間に配置され、前記複数の多層Ｘ線ミラーによって生成される照明パターンに組み合わせられた、減衰用の、スロットが付けられた板を有する、
請求項２１に記載された、Ｘ線撮像装置。
【請求項３３】
走査非散乱グリッドをさらに備え、当該グリッドは、撮像されるべき項目とＸ線センサとの間に配置され、前記第１又は第２の多層Ｘ線ミラーの少なくとも１つによって生成される照明パターンに組み合わせられた、減衰用の、スロットが付けられた板を有する、
請求項２６に記載された、Ｘ線撮像装置。