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【手続補正書】
【提出日】平成23年8月31日(2011.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受容者の外皮表面に移植した際の毛包細胞による毛包の形成を増強するためのシステムであって、該システムは、表皮刺激（ＥＳ）によって該受容者の外皮表面から角化細胞を除去するための手段、および該ＥＳの前または後に、該受容者の外皮表面下に該毛包細胞を移植するための手段を含む、システム。
【請求項２】
前記ＥＳが前記毛包細胞を移植するための手段よりも前に実施される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記ＥＳが前記毛包細胞を移植するための手段よりも後に実施される、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記ＥＳが、前記外皮表面から角化細胞を除去するために、粘着テープを用いるテープ剥がしにより達成される、請求項１から３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記毛包細胞が、真皮乳頭（ＤＰ）細胞を含む、またはそれからなる、請求項１から４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項６】
前記毛包細胞が、真皮鞘（ＤＳ）細胞を含む、またはそれからなる、請求項１から５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項７】
前記毛包細胞が、外毛根鞘（ＯＲＳ）細胞を含む、またはそれからなる、請求項１から６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項８】
前記毛包細胞が、真皮乳頭（ＤＰ）細胞、真皮鞘（ＤＳ）細胞および外毛根鞘（ＯＲＳ）細胞からなる群から選択される毛包細胞の混合物を含む、またはそれからなる、請求項１から７のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項９】
前記毛包細胞が角化細胞を含む、請求項１から８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ＥＳが皮膚擦傷法により達成される、請求項１から９のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１１】
前記ＥＳが化学的表皮剥離により達成される、請求項１から１０のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記ＥＳが創傷形成により達成される、請求項１から１１のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１３】
美容処置用である、請求項１から１２のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１４】
医療処置用である、請求項１から１２のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１５】
前記毛包細胞を移植するための手段が、制御送達デバイス（例えば、ＰＢ６００−１反復ディスペンサーを取り付けたＨａｍｉｌｔｏｎシリンジなどの、反復ディスペンサーを取り付けたシリンジ）である、請求項１から１４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１６】
実質的に本明細書に記載するような、受容者の外皮表面に移植した際の毛包細胞による毛包の形成を増強するためのシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明の具体的実施形態を、限定せずに、添付の図を参照しながら以下に説明する。
本発明の好ましい実施形態では、例えば以下が提供される：
（項目１）
受容者の外皮表面に移植した際の毛包細胞により、毛包の形成を増強するための方法であって、該方法は、表皮刺激（ＥＳ）によって該受容者の外皮表面から角化細胞を除去するステップ、および該ＥＳの前または後に、該受容者の外皮表面下に該毛包細胞を移植するステップを含む、方法。
（項目２）
前記ＥＳが移植の前に実施される、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記ＥＳが移植の後に実施される、項目１に記載の方法。
（項目４）
前記ＥＳが、前記外皮表面から角化細胞を除去するために、粘着テープを用いるテープ剥がしにより達成される、項目１から３のいずれか一項に記載の方法。
（項目５）
前記毛包細胞が、真皮乳頭（ＤＰ）細胞を含む、またはそれからなる、項目１から４のいずれか一項に記載の方法。
（項目６）
前記毛包細胞が、真皮鞘（ＤＳ）細胞を含む、またはそれからなる、項目１から５のいずれか一項に記載の方法。
（項目７）
前記毛包細胞が、外毛根鞘（ＯＲＳ）細胞を含む、またはそれからなる、項目１から６のいずれか一項に記載の方法。
（項目８）
前記毛包細胞が、真皮乳頭（ＤＰ）細胞、真皮鞘（ＤＳ）細胞および外毛根鞘（ＯＲＳ）細胞からなる群から選択される毛包細胞の混合物を含む、またはそれからなる、項目１から７のいずれか一項に記載の方法。
（項目９）
前記毛包細胞が角化細胞を含む、項目１から８のいずれか一項に記載の方法。
（項目１０）
前記ＥＳが皮膚擦傷法により達成される、項目１から９のいずれか一項に記載の方法。
（項目１１）
前記ＥＳが化学的表皮剥離により達成される、項目１から１０のいずれか一項に記載の方法。
（項目１２）
前記ＥＳが創傷形成により達成される、項目１から１１のいずれか一項に記載の方法。
（項目１３）
美容処置である、項目１から１２のいずれか一項に記載の方法。
（項目１４）
医療処置である、項目１から１２のいずれか一項に記載の方法。
（項目１５）
前記毛包細胞が、制御送達デバイス（例えば、ＰＢ６００−１反復ディスペンサーを取り付けたＨａｍｉｌｔｏｎシリンジなどの、反復ディスペンサーを取り付けたシリンジ）を用いて移植される、項目１から１４のいずれか一項に記載の方法。
（項目１６）
実質的に本明細書に記載するような、受容者の外皮表面に移植した際の毛包細胞により、毛包の形成を増強するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月22日(2011.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2010540469.tif 000001
式中、ｎおよびｍは独立して１、２、３および４から選択され、ただし３≦ｎ＋ｍ≦６であり；
Ｃ−４とＣ−５との間の二重結合は（Ｅ）立体配置にあり、Ｃ−（７＋ｎ）とＣ−（８＋ｎ）との間の結合は（Ｚ）立体配置にある、
で表される化合物。
【請求項２】
（４Ｅ，８Ｚ）−１２−メチルオキサシクロテトラデカ−４，８−ジエン−２−オン、（４Ｅ，８Ｚ）−１３−メチルオキサシクロペンタデカ−４，８−ジエン−２−オン、（４Ｅ，８Ｚ）−１４−メチルオキサシクロヘキサデカ−４，８−ジエン−２−オン、（４Ｅ，９Ｚ）−１２−メチルオキサシクロテトラデカ−４，９−ジエン−２−オン、（４Ｅ，９Ｚ）−１３−メチルオキサシクロペンタデカ−４，９−ジエン−２−オン、（４Ｅ，９Ｚ）−１４−メチルオキサシクロヘキサデカ−４，９−ジエン−２−オン、（４Ｅ，９Ｚ）−１５−メチルオキサシクロヘプタデカ−４，９−ジエン−２−オン、（４Ｅ，１０Ｚ）−１３−メチルオキサシクロ−ペンタデカ−４，１０−ジエン−２−オン、（４Ｅ，１０Ｚ）−１４−メチルオキサシクロヘキサデカ−４，１０−ジエン−２−オン、（４Ｅ，１０Ｚ）−１５−メチルオキサシクロヘプタデカ−４，１０−ジエン−２−オン、（４Ｅ，１１Ｚ）−１４−メチルオキサシクロヘキサ−デカ−４，１１−ジエン−２−オンおよび（４Ｅ，１１Ｚ）−１５−メチルオキサシクロヘプタデカ−４，１１−ジエン−２−オンから選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
式（Ｉ）
【化２】
2010540469.tif 000002
式中、ｎおよびｍは独立して１、２、３および４から選択され、ただし３≦ｎ＋ｍ≦６であり；
Ｃ−４とＣ−５との間の二重結合は（Ｅ）立体配置にあり、Ｃ−（７＋ｎ）とＣ−（８＋ｎ）との間の結合は（Ｚ）立体配置にある、
で表される化合物またはそれらの混合物の、フレグランスとしての使用。
【請求項４】
請求項１において定義した式（Ｉ）で表される化合物またはそれらの混合物および消費者製品ベースを含む、フレグランス利用品。
【請求項５】
式（ＩＩ）
【化３】
2010540469.tif 000003
式中、ｎおよびｍは独立して１、２、３および４から選択され、ただし３≦ｎ＋ｍ≦６である、
で表される化合物のアルキンメタセシスを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩素イオンチャネル活性化剤による治療に伴う胃腸副作用を低減させるための医薬組成物であって、オピオイド拮抗薬を含む、医薬組成物。
【請求項２】
副作用が、吐き気又は嘔吐又はこれらの双方である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項３】
塩素イオンチャネル活性化剤を投与する前に投与される、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項４】
塩素イオンチャネル活性化剤が、ルビプロストンである、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項５】
オピオイド拮抗薬が、ナロキソンである、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項６】
オピオイド拮抗薬が、末梢性オピオイド拮抗薬である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項７】
末梢性オピオイド拮抗薬が、メチルナルトレキソンである、請求項6に記載の医薬組成物。
【請求項８】
末梢性オピオイド拮抗薬が、ピペリジン-N-アルキルカルボキシレート化合物である、請求項6に記載の医薬組成物。
【請求項９】
末梢性オピオイド拮抗薬が、第4級モルフィナン化合物である、請求項6に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
第4級モルフィナン化合物が、N-メチルナルトレキソン、N-メチルナロキソン、N-メチルナロルフィン、N-ジアリルノルモルフィン、N-アリルレバロルファン、及びN-メチルナルメフェンからなる群より選ばれる化合物の第4級塩を含む、請求項9に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
オピオイド拮抗薬が、μオピオイド拮抗薬である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
オピオイド拮抗薬が、κオピオイド拮抗薬である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
オピオイド拮抗薬が、μオピオイド拮抗薬とκオピオイド拮抗薬の組み合わせである、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
ルビプロストンの投与に伴う有害な胃腸副作用を治療するための医薬組成物であって、ルビプロストンとオピオイド拮抗薬を含む、医薬組成物。
【請求項１５】
有害な副作用が、吐き気、嘔吐、下痢、腹部の膨満と痛み又はこれらの組み合わせである、請求項14に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
有害な副作用が、吐き気又は嘔吐又はこれらの双方である、請求項15に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
オピオイド拮抗薬が、第4級モルフィナン化合物である、請求項14に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
第4級モルフィナン化合物が、N-メチルナルトレキソン、N-メチルナロキソン、N-メチルナロルフィン、N-ジアリルノルモルフィン、N-アリルレバロルファン、及びN-メチルナルメフェンからなる群より選ばれる化合物の第4級塩を含む、請求項17に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
第4級モルフィナン化合物の第4級塩が、N-メチルナルトレキソンである、請求項18に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
ルビプロストンの便秘防止作用を増強し且つ/又はルビプロストン誘発性胃腸副作用の頻度及び/又は重症度を軽減するための医薬組成物であって、オピオイド拮抗薬を含む、医薬組成物。
【請求項２１】
胃腸副作用が、吐き気、嘔吐、下痢、腹部の膨満と痛み、又はこれらの組み合わせである、請求項20に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
ルビプロストンを投与する前に投与される、請求項20に記載の医薬組成物。
【請求項２３】
経口、舌下、筋肉内、皮下、静脈内、又は経皮投与される、請求項20に記載の医薬組成物。
【請求項２４】
投与が、経口である、請求項23に記載の医薬組成物。
【請求項２５】
オピオイド拮抗薬が、メチルナルトレキソンである、請求項20に記載の医薬組成物。
【請求項２６】
メチルナルトレキソンの有効量が、1日あたり約0.001mg/kg〜約80mg/kg体重である、請求項25に記載の医薬組成物。
【請求項２７】
メチルナルトレキソンの有効量が、1日あたり約0.05mg/kg〜約50mg/kg体重である、請求項26に記載の医薬組成物。
【請求項２８】
メチルナルトレキソンの有効量が、1日あたり約1mg/kg〜約20mg/kg体重である、請求項26に記載の医薬組成物。
【請求項２９】
ルビプロストンとメチルナルトレキソンが、便秘を相乗的に治療する、請求項20に記載の医薬組成物。
【請求項３０】
胃腸障害を治療するための医薬組成物であって、塩素イオンチャネル活性化剤とオピオイド拮抗薬を含む、医薬組成物。
【請求項３１】
胃腸障害が、慢性特発性便秘、オピオイド誘発性腸機能不全、オピオイド誘発性便秘、術後イレウス、過敏性腸症候群、便秘による過敏性腸症候群、胃腸運動障害、機能性胃腸障害、胃食道逆流性疾患、十二指腸胃逆流、機能性胸やけ、消化不良、胃不全麻痺、慢性腸偽閉塞、又は結腸偽閉塞である、請求項30に記載の医薬組成物。
【請求項３２】
胃腸障害が、特発性慢性便秘又は便秘による過敏性腸症候群である、請求項31に記載の医薬組成物。
【請求項３３】
便秘防止剤の投与後の吐き気を治療するための医薬組成物であって、オピオイド拮抗薬と便秘防止剤を含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月12日(2012.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単球数の増加を促す感染症治療用または癌治療用の医薬を製造するための、単球媒介免疫応答を引き起こす組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体の使用であって、
上記医薬が、組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体の効果的な複数回投与単位からなることを特徴とする使用。
【請求項２】
各投与単位は、０．２５〜３０ｍｇの上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体を含むことを特徴とする請求項１に記載の使用。
【請求項３】
各投与単位は、６〜３０ｍｇの上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体を含むことを特徴とする請求項２に記載の使用。
【請求項４】
組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体の上記複数回投与単位が、少なくとも１２週間にわたって１週間〜数週間ごとに１回、１３日±２日の無投与期間をあけて１回の投与単位を投与できるように調剤されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の使用。
【請求項５】
上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体の各投与単位が、皮下投与または静脈投与できるように調剤されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の使用。
【請求項６】
上記複数回投与単位は、上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体を、少なくとも６回投与できるように調剤されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の使用。
【請求項７】
上記複数回投与単位は、上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体を２週間おきに投与できるように調剤されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の使用。
【請求項８】
組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体の上記投与単位が、抗癌もしくは抗感染症の免疫治療特性または化学治療特性を有する化合物の投与の前に、該化合物の投与と同時に、あるいは、該化合物の投与の後に、投与できるように調剤されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の使用。
【請求項９】
上記化合物が、化学療法薬剤からなる群より選択されることを特徴とする請求項８に記載の使用。
【請求項１０】
上記化学療法薬剤が、パクリタキセルおよびドセタキセルなどのタキサン、ドキソルビシンなどのアントラサイクリン、ならびにゲムシタビンからなる群より選択されることを特徴とする請求項９に記載の使用。
【請求項１１】
上記化合物が、ＡＤＣＣ（抗体依存性細胞障害作用）によって腫瘍細胞を殺傷する治療抗体と、該治療抗体の混合物とからなる群より選択されることを特徴とする請求項８に記載の使用。
【請求項１２】
上記治療抗体が、リツキシマブ、セチュキマブ、エドレコロマブおよびトラスツズマブからなる群より選択されることを特徴とする請求項１１に記載の使用。
【請求項１３】
上記複数回投与単位は、抗癌もしくは抗感染症の免疫治療特性もしくは化学治療特性を有する上記化合物の最初の投与の後に、上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体を投与できるように調剤されていることを特徴とする請求項８〜１２のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１４】
上記複数回投与単位は、抗癌もしくは抗感染症の免疫治療特性もしくは化学治療特性を有する上記化合物を投与してから１２時間から９６時間後に、上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体を投与できるように調剤されていることを特徴とする請求項８〜１３のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１５】
上記複数回投与単位は、抗癌もしくは抗感染症の免疫治療特性もしくは化学治療特性を有する上記化合物の最初の投与から１日あるいは２日後に、上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体を投与できるように調剤されていることを特徴とする請求項８〜１４のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１６】
同時に、別々に、または連続して使用するための、組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体と、請求項１１または１２に記載の治療抗体とを含む、部品のキット。
【請求項１７】
同時に、別々に、または連続して使用するための、組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体と、請求項９または１０に記載の抗癌性の化学治療特性を有する化合物とを含む、部品のキット。
【請求項１８】
単球媒介免疫応答を引き起こす組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体の効果的な複数回投与単位を含むことを特徴とする医薬。
【請求項１９】
上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体の少なくとも６回分の投与単位を含むことを特徴とする請求項１８に記載の医薬。
【請求項２０】
各投与単位は、０．２５〜３０ｍｇの上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体を含むことを特徴とする請求項１８または１９に記載の医薬。
【請求項２１】
各投与単位は、６〜３０ｍｇの上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体を含むことを特徴とする請求項２０に記載の医薬。
【請求項２２】
上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体の各投与単位は、皮下投与用または静脈投与用に調剤されていることを特徴とする請求項１８〜２１のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項２３】
上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体は、組換え可溶性ヒトＬＡＧ−３ｌｇ融合タンパク質ＩＭＰ３２１を含むことを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の使用。
【請求項２４】
上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体は、組換え可溶性ヒトＬＡＧ−３ｌｇ融合タンパク質ＩＭＰ３２１を含むことを特徴とする請求項１６または１７に記載の部品のキット。
【請求項２５】
上記組換えＬＡＧ−３タンパク質またはその誘導体は、組換え可溶性ヒトＬＡＧ−３ｌｇ融合タンパク質ＩＭＰ３２１を含むことを特徴とする請求項１８〜２２のいずれか１項に記載の医薬。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月8日(2011.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超吸収体と、抗菌剤およびポリオールを有する溶液とを、前記超吸収体を表面架橋剤と接触させるのと同時にまたは接触させた直後に、且つ表面架橋を完成させる硬化段階に先立って接触させること、および／または前記超吸収体と、前記抗菌剤および２００から５０００ｇ／モルの間の分子量のポリアルキレングリコールを有する溶液とを、表面架橋の完成後に接触させることを含む、抗菌剤のコーティングを有する超吸収体の製造方法。
【請求項２】
前記抗菌剤がトリクロサンである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ポリオールがグリコールである、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記ポリオールが１，２−プロパンジオールである、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記ポリアルキレングリコールがポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールである、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記ポリアルキレングリコールが、４００ｇ／モルの平均分子量のポリエチレングリコールである、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
請求項１から６までのいずれか１項記載の方法によって製造されている、抗菌剤のコーティングを有する超吸収体。
【請求項８】
請求項７記載の超吸収体を含む衛生用品。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年4月27日(2012.4.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
ひとつの実施形態では、第2微細孔層材は、(i) Mwが少なくとも約1×106 (UHMWPE-2)の第4ポリエチレン、(ii) Mwが1×106未満の第3ポリエチレンと、UHMWPE-2と、第4ポリエチレンであって、第4ポリエチレンの量が第3及び第4ポリエチレンの総重量に対し少なくとも約8wt%である材料、または(iii) UHMWPE-2及びPP-2、または(iv) PE-2、UHMWPE-2及びPP-2の内の、いずれかから成る。
上記の(ii), (iii)及び(iv)のひとつの実施形態では、高強度の多層微細孔ポリオレフィン膜を製造するために、UHMWPE-2は、UHMWPE-2, PE-2及びPP-2の総重量に対し少なくとも約8wt%、または少なくとも約20 wt%、または少なくとも25 wt%含まれる。
上記の(iii)及び(iv)のひとつの実施形態では、PP-2少なくともホモポリマーまたはコポリマーのいずれかであり、第2微細孔層材の総重量に対し25wt%以下含まれ、または約2%から約15%の範囲で含まれ、または約3%から約10%の範囲で含まれる。
ひとつの実施形態では好ましいPE-2はPE-1と同一であるが、独立して選択することもできる。ひとつの実施形態では、好ましいUHMWPE-2はUHMWPE-1と同一であるが、独立して選択することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月1日(2012.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排水処理装置であって、１つ又は複数の接続部（３、４）によって上部及び／又は底部が互いに接合される少なくとも２つのタンク（１、２）を備え、接続部（４）は、タンク（１）のガス貯留領域とタンク（２）のガス貯留領域との間に設けられ、タンクの少なくとも一方は、
ガス貯留領域（ａ）と、
細菌が付着する固定担体又は移動担体（１０）を含む排水処理領域（ｃ）と、
排水貯留領域（ｂ）と、
沈降領域（ｄ）とを備え、
排水処理装置は、
タンク（１）の沈降領域とタンク（２）の沈降領域との間に接続部（３）が設けられ、接続部（３）には隔離弁（５）及び／又は調節弁（６）が設けられること、並びに
排水処理装置は、
再循環ポンプ（７）を備え、ポンプ（７）は、タンク（１、２）を機能的に接続する導管に設けられていることを特徴とする、排水処理装置。
【請求項２】
排水が再循環する方向を反転させることを可能にする弁を備えることを特徴とする、請求項１に記載の排水処理装置。
【請求項３】
ガス貯留領域（ａ）は排水処理領域（ｃ）の上に位置することを特徴とする、請求項１又は２に記載の排水処理装置。
【請求項４】
タンク（１、２）の底部と機能的に連結されている、スラッジを排出する導管（１１）と、タンク（１、２）の上部と機能的に連結されている、排水処理装置のガスを排出する導管（１２）とを備えることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の排水処理装置。
【請求項５】
排出ポンプ（９）及び／又は少なくとも１つの熱交換機（８）を備えることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の排水処理装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の排水処理装置の洗浄方法であって、
タンク（１、２）を底部で連結する接続部（３）に設けられているタンクの隔離弁（５）を閉じることによってタンク（１、２）の接続部を底部で閉じることにより、排水処理装置の排水貯留領域（ｂ）にある容積の排水を得る工程と、
タンク（１、２）を機能的に連結する導管に設けられる再循環ポンプ（７）を作動することによってタンク（１、２）内の排水の液位差を生じさせる工程と、
タンク（１、２）内の排水位が平衡に達するまで、タンクの隔離弁（５）を開放することによって前記容積の排水を数秒で解放する工程と、
に従って水力学的制約を定期的に生じさせることを含む、洗浄方法。
【請求項７】
タンク（１、２）間の接続部（３）を底部で閉じるために、タンク（１、２）を該底部で連結する接続部（３）に設けられるタンクの隔離弁（５）を閉じることによって、排水処理装置のタンクの一方の排水貯留領域において最大排水容積（Ｈｍａｘ）と、排水処理装置のタンクの他方の排水貯留領域において最小排水容積（Ｈｍｉｎ）とを得る工程と、
再循環ポンプ（７）を作動することによってタンク（１、２）内で最大排水位差（ΔＨ）を得る工程と、
タンク（１、２）の隔離弁（５）を開放することによって、タンク（１、２）内で排水位の平衡（ａｖｅｒａｇｅＨ）が得られるまで排水を再循環させる工程と、
を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
排水の再循環する方向（１５）は反転させることができる、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
洗浄工程を周期的に繰り返す、請求項６〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
隔離弁（５）の通過断面及び隔離弁（５）の開放速度によって、液位差によるタンク内の排水速度を決定することを含む、請求項６〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
洗浄期間中の排水の再循環速度は０．１ｍ／秒〜１０ｍ／秒の範囲である、請求項６〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
排水の再循環流量は、１時間当たり該２つのタンクの容積の半分から２倍の範囲である、請求項６〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
隔離弁（５）を定期的に開放することによって、最大排水位差（ΔＨ）よりも少ない排水位の変化を生じさせる工程を含む、請求項６〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
嫌気性細菌を使用する処理方法、又は請求項１〜５のいずれか１項に記載の排水処理装置を使用して液体有機性廃棄物をガスに変える方法を含む排水を処理する方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年4月25日(2012.4.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部プロセスチャンバー及び引抜成形開口部を含むハウジングと、
前記ハウジングに保持され、入口端、出口端、及び中央軸を有する開口を含むノズルとを有し、前記入口端は前記引抜成形開口部によって前記プロセスチャンバーと連通している含浸ダイであって、
前記開口が、前記入口端に隣接する第１のテーパー部分と、前記第１のテーパー部分から下流の第１の直線部分と、前記第１の直線部分から下流の第２のテーパー部分と、前記第２のテーパー部分から下流であり、前記出口端に隣接する第２の直線部分とを含むことを特徴とする含浸ダイ。
【請求項２】
前記第１のテーパー部分は、前記第１の直線部分に向かって収束する請求項１記載の含浸ダイ。
【請求項３】
前記第１のテーパー部分は、直線状のテーパーを有する請求項２記載の含浸ダイ。
【請求項４】
前記第１のテーパー部分は、湾曲したテーパーを有する請求項２記載の含浸ダイ。
【請求項５】
前記第２のテーパー部分は、前記第２の直線部分に向かって収束する請求項１記載の含浸ダイ。
【請求項６】
前記第２のテーパー部分は、直線状のテーパーを有する請求項５記載の含浸ダイ。
【請求項７】
前記第２のテーパー部分は、湾曲したテーパーを有する請求項５記載の含浸ダイ。
【請求項８】
前記第１の直線部分及び前記第２の直線部分は、前記開口の前記中央軸に対して対称に配置されている請求項１記載の含浸ダイ。
【請求項９】
前記第１のテーパー部分は長さＬ１を有し、前記第１の直線部分は長さＬ２を有し、前記第２のテーパー部分は長さＬ３を有し、前記第２の直線部分は長さＬ４を有し、Ｌ２＞Ｌ４である請求項１記載の含浸ダイ。
【請求項１０】
前記長さＬ１及び前記長さＬ３は、０．５乃至５．０ｍｍである請求項９記載の含浸ダイ。
【請求項１１】
前記第１の直線部分は直径Ｄ２を有し、前記第２の直線部分は直径Ｄ４を有しＤ２＞Ｄ４である請求項９記載の含浸ダイ。
【請求項１２】
Ｌ４／Ｄ４＝１．４乃至３．４である請求項１１記載の含浸ダイ。
【請求項１３】
前記第１のテーパー部分は、第１の端部が直径Ｄ１、第２の端部がＤ２を有し、Ｄ２＝Ｄ１／２である請求項９記載の含浸ダイ。
【請求項１４】
前記ハウジングは、溶融熱可塑性樹脂の供給開口を含む請求項１記載の含浸ダイ。
【請求項１５】
前記ハウジングは、連続繊維ストランドの導入開口を含む請求項１記載の含浸ダイ。
【請求項１６】
前記導入開口は、実質的に前記引抜成形開口の反対側である請求項１５記載の含浸ダイ。
【請求項１７】
前記プロセスチャンバーには、フィラメントスプレダーが設けられている請求項１記載の含浸ダイ。
【請求項１８】
前記ハウジングは、前記内部プロセスチャンバーを複数の内部プロセスチャンバーに分割する少なくとも１つの仕切りを含む請求項１記載の含浸ダイ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルターアレイ及び大気バリアを製造する方法であって、基材上に半反射性材料層をコーティングする工程、前記半反射性層の上に実質的に透明な層を蒸着して１つの厚さを有する光干渉層を形成する工程、及び１つ又は２つ以上の段階であって、それぞれの段階が、前記光干渉層上に印刷することによりパターン化層を生成させること、前記パターン化層全体にわたって実質的に透明な層を蒸着して最初の又は前の光干渉層と組み合わされた場合に光干渉層を提供すること、溶剤により前記パターン化層を除去すること、及び最後の光干渉層の上方に第２の半反射性材料層をコーティングすることを含む１つ又は２つ以上の段階を含む、カラーフィルターアレイ及び大気バリアを製造する方法。
【請求項２】
前記パターン化層が各段階で除去される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記パターン化層が最終段階の後で除去される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記半反射層が薄い金属コーティングを含む、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項５】
使用される金属がアルミニウムである、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記半反射性層が、高屈折率と低屈折率とを備えた交互の金属酸化物から成る多数の層を有する多層ブラッグ反射器を構成している、請求項１、２または３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記半反射性層が、高屈折率と低屈折率とを備えた交互の金属酸化物から成る多数の層を有する多層ブラッグ反射器を構成しており、当該多層ブラッグ反射器において、前記層の厚さの比が、変化する観察角度に伴う色の変化を減少させるように最適化されている、請求項１、２または３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月25日(2012.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を深さ分解して光学的に捕捉するための方法であって、
試料またはその一部が線状の照明によって走査され、
前記試料の照明が焦点内で少なくとも１つの空間方向において周期的に構造化され、
前記試料から来る光が検出されて前記試料の画像が生成され、
前記画像を基に少なくとも１つの光学的断面画像および／または解像度が高められた画像が計算される当該方法において、
平面検出器またはカメラ上でラインごとに非デスキャン検出するために、照明された試料領域からの検出光によって露光されるラインの間に間隙が生成されることを特徴とする方法。
【請求項２】
ラインごとの照明および検出の際に、前記照明が複数回スイッチオンおよびオフされる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
照明された２つの試料部分の間に間隙が存在するように、試料走査の際に光中断が繰り返される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
画像の計算は、照明された試料領域の間の間隙に割り当てられたカメラ領域を部分的にまたは完全にマスキングし、それによって取得された画像を差引計算することによって行われる、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記差引計算は、隣で走査された試料領域が、差引計算された画像内で正しくスケーリングして隣に割り当てられるように行われる、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
試料を深さ分解して光学的に捕捉するための方法であって、
前記試料またはその一部が線状の照明によって試料と照明光との相対移動により走査され、
前記試料の照明が焦点内で少なくとも１つの空間方向において周期的に構造化され、
前記試料から来る光が検出されて前記試料の画像が生成され、
前記画像を基に少なくとも１つの光学的断面画像および／または解像度が高められた画像が計算される当該方法において、
走査過程中に、前記検出器の前で、ラインによる前記試料の走査方向におけるさらなる光偏向が行われることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
光偏向の速度が、試料と照明光の間の相対移動の速度より大きい、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
光偏向がステップ状又は連続的に行われる、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
照明ラインの回転の際に、照明光の偏光が回転と同期して回転される、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
複数回の走査が行われ、前記試料上での前記周期的構造化の位置および／または前記試料上での前記照明光の位置が変位されて、異なる画像位相を有する複数の画像が記録され、それを基に断面画像が計算される、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
異なる画像位相を有する複数の画像の記録が、照明／検出される区間の間に一定の間隙をあけて行われるか、または、該間隙の位置が変えられることでそれぞれ１つの位置に対し異なる画像位相を有する複数の画像が記録され、それを基に断面画像が計算される、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記構造化の１つの位置で前記間隙の位置が変えられて試料画像が記録され、この過程がその後、前記構造化のさらなる位置に対して繰り返され、前記間隙の位置が本質的に全ての試料領域を次々に線状に照明するように変えられて試料光が検出される、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
光中断が、電気光学式変調器および／または音響光学式変調器による強度の低減によって行われる、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記照明を周期的に構造化するために、１つの光ビームが複数の部分光ビームに分けられ、前記複数の部分光ビームが干渉して重なり合い、１本のラインへと成形される、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記照明と前記試料またはその一部との非線形の相互作用から生じる光が検出される、請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記線状の走査が、複数のラインによって同時に行われることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
様々な変調周波数で構造を結像させることにより、光学的断面厚または光学的解像度を変化させ、複数の波長でそれぞれ照明する際に各々対応する変調周波数を適合させることによって断面厚さが同じに調整されることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
試料を深さ分解して光学的に捕捉するための装置であって、
少なくとも１つの波長で前記試料を線状に照明する手段と、
少なくとも１つの平面内で照明光を空間的に構造化する手段と、
試料と照明光との間の相対移動を生じさせる手段と、
少なくとも１つの検出器上に、前記試料によって影響を及ぼされた光を結像させる手段と、
前記試料によって影響を及ぼされた光の位置情報から少なくとも１つの光学的断面画像および／または解像度が高められた画像を計算する手段と、
を含む当該装置において、
試料光を非デスキャン検出するために平面検出器またはカメラが設けられており、
照明された試料領域間に間隙を生成するため、および／または前記平面検出器上で前記照明された試料領域からの検出光によって露光されたライン間に間隙を生成するために、走査過程中に光を中断させる手段が設けられていることを特徴とする装置。
【請求項１９】
照明用ビーム経路内に強度制御手段が設けられているとともに、前記光中断のために電気光学変調器または音響光学変調器が設けられている、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
試料を深さ分解して光学的に捕捉するための装置であって、
少なくとも１つの波長で前記試料を線状に照明する手段と、
少なくとも１つの平面内で照明光を空間的に構造化する手段と、
試料と照明光との間の相対移動を生じさせる手段と、
少なくとも１つの検出器上に、前記試料によって影響を及ぼされた光を結像させる手段と、
前記試料によって影響を及ぼされた光の位置情報から少なくとも１つの光学的断面画像および／または解像度が高められた画像を計算する手段と、
を含む当該装置において、
ラインごとの走査過程中に前記検出器上における試料光をラインごとに不連続的または連続的に広げるために、検出用ビーム経路内にスキャナが設けられている、請求項１８又は１９に記載の装置。
【請求項２１】
相対移動を生じさせる手段として、少なくとも１つのスキャナが設けられることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記構造化の異なる画像位相を設定するために、少なくとも１つのスキャナの位置が調節可能であることを特徴とする請求項２０又は２１に記載の装置。
【請求項２３】
照明を構造化する手段として、光軸の周りを回転可能でその透過性が構造化された光学素子が設けられることを特徴とする請求項２０乃至２２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２４】
異なる周波数構造を設定するために、ビーム経路内に旋回可能である異なる周期性を有する複数の格子が設けられることを特徴とする請求項２０乃至２３のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月27日(2012.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
流れ装置であって、
少なくとも１つの導管（２０）と、
前記少なくとも１つの導管（２０）の運動を測定するためのピックオフ信号（３５）を送信するピックオフ（３０）と、
前記少なくとも１の導管（２０）を共振周波数で振動させるための第一の信号（５５）を受信し、前記共振周波数とは異なる周波数で前記少なくとも１つの導管を振動させるための第二の信号（５６）を受信するドライブ（４０）と、
前記第一の信号（５５）および前記第二の信号（５６）を生成し、前記ピックオフ（３０）から前記ピックオフ信号（３５）を受信し、前記ドライブ（４０）により加えられる前記第二の信号（５６）と前記ピックオフ（３０）より検出される前記第二の信号（５６）との間の時間的シフトの変化を測定する一または複数の電子機器（５０）と
を備えてなる、流れ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
流れ装置を動作させるための方法であって、
少なくとも１つの導管（２０）を共振周波数で振動させるための第一の信号（５５）を受信し、前記少なくとも１つの導管（２０）の前記共振周波数とは異なる周波数で前記少なくとも１つの導管を振動させるための第二の信号（５６）を受信するドライブ（４０）を用いるステップと、
前記少なくとも１つの導管（２０）の運動を測定するためのピックオフ信号（３５）を送信するピックオフ（３０）を用いるステップと、
前記第一の信号（５５）および前記第二の信号（５６）を生成し、前記ピックオフ（３０）から前記ピックオフ信号（３５）を受信し、前記ドライブ（４０）により加えられる前記第二の信号（５６）と前記ピックオフ（３０）により検出される前記第二の信号（５６）との間の時間的シフトの変化を測定する一または複数の電子機器（５０）を用いるステップと
を有する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月2日(2012.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｒ１（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｘＯＨ（式中、Ｒ１は、炭素原子が２０個〜１００個の直鎖アルキル又は分岐鎖アルキルであり、かつ、ｘは２〜１００である）の少なくとも１つの共添加物化合物の効果的な量をフィルム形成前のポリオレフィンに添加することを含む、ポリオレフィンとともに使用される極性添加物の効力を改善するための方法。
【請求項２】
前記極性添加物がスリップ剤である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
２つ以上のスリップ剤が添加される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記スリップ剤が脂肪酸アミドである、請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
前記脂肪酸アミドが、エルクアミド、エチレン−ビス−オレアミド、エチレン−ビス−ステアルアミドからなる群から選択される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記スリップ剤が１０００ｐｐｍ以下の量で添加される、請求項２から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記共添加物化合物が４００ｇ／モル〜２０００ｇ／モルの範囲での分子量を有する、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記共添加物化合物が２００ｐｐｍ〜１５００ｐｐｍの量で添加される、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記共添加物化合物が、Ｉｒｇａｓｕｒｆ（商標）ＨＬ５６０、Ｕｎｉｔｈｏｘ（商標）４８０及びＵｎｉｔｈｏｘ（商標）５５０からなる群から選択される、請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
粘着防止剤を添加することをさらに含む、請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記粘着防止剤がシリカである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記シリカが３０００ｐｐｍ未満の量で添加される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
エチレンオキシド含有量が前記共添加物化合物の２０重量パーセント〜８０重量パーセントを構成する、請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
極性スリップ剤と、フィルム形成前のポリオレフィンに対する式Ｒ１（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｘＯＨ（式中、Ｒ１は、炭素原子が２０個〜６０個の直鎖アルキル又は分岐鎖アルキルであり、かつ、ｘは２〜１００である）の化合物とを含む、添加物組成物。
【請求項１５】
５０よりも大きい光沢、並びに、１４パーセント未満のヘイズ及び０．３未満のフィルム対フィルムの動摩擦係数の組合せによって特徴づけられる、フィルム層。
【請求項１６】
前記フィルム対フィルムの動摩擦係数が０．２未満である、請求項１５に記載のフィルム層。
【請求項１７】
フィルム形成前のポリオレフィンに対する式Ｒ１（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｘＯＨ（式中、Ｒ１は、炭素原子が２０個〜６０個の直鎖アルキル又は分岐鎖アルキルであり、かつ、ｘは２〜１００である）の少なくとも１つの化合物が、３０００ｐｐｍ未満のシリカ系粘着防止剤が使用されることを可能にするために効果的な量で存在することによってさらに特徴づけられる、請求項１５または１６に記載のフィルム層。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月15日(2011.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）基板を用意する工程；
（ｂ）該基板に堆積阻害材料を含む組成物を適用する工程、該堆積阻害材料は、有機化合物又はポリマーであり、該ポリマーは、任意選択的に架橋されていてもよい；
（ｃ）工程（ｂ）の後又は該堆積阻害材料を適用するのと同時に、該堆積阻害材料をパターン化して、該堆積阻害材料を事実上有さない選択された基板領域を提供する工程；
（ｄ）一連のガス流を、実質的に平行な細長い出力開口に沿って同時に配向することを含む、該基板上に無機薄膜を堆積する工程、ここで、一連のガス流は、順に、少なくとも、第１反応ガス材料と、不活性パージガスと、そして第２反応ガス材料とを含み、任意選択的に複数回繰り返され、該第１反応ガス材料は、該無機薄膜を形成するために、該第２反応ガス材料で処理された基板表面と反応することができ、該第１反応ガス材料は、揮発性有機金属前駆体化合物である；
を含んで成るパターン付き薄膜を形成するための原子層堆積方法であって、
実質的に大気圧で、又は大気圧を上回る圧力で実施され、堆積中の該基板の温度は３００℃未満であり、そして、該無機薄膜は、該堆積阻害材料を事実上有さない選択された該基板領域内だけに実質的に堆積される原子層堆積方法。
【請求項２】
該無機薄膜が金属であるか又は金属含有化合物を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該金属含有化合物が、亜鉛、アルミニウム、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、又はインジウムを含有するか、又は該金属が、銅、タングステン、アルミニウム、ニッケル、ルテニウム、又はロジウムである請求項２に記載の方法。
【請求項４】
該堆積阻害材料が、ポリ（ペルフルオロアルキルメタクリレート）；ポリ（ペルフルオロアルキルメタクリレート）；ポリ（メチルメタクリレート）；ポリ（シクロヘキシルメタクリレート）；ポリ（ベンジルメタクリレート）；ポリ（イソ−ブチレン）；ポリ（９，９−ジオクチルフルオレニル−２，７−ジイル）；ポリスチレン；ポリ（ビニルアルコール）；ポリ（メチルメタクリレート）；ポリ（ヘキサフルオロブチルメタクリレート）、及びこれらのコポリマーから成る群から選択され、それぞれの前記アルキルの炭素原子数が１〜６である請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
該堆積阻害材料の阻害力が、少なくとも５０Åである請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
該堆積阻害材料を適用してパターン化する工程が、均一な堆積阻害材料層を堆積し、そして続いて該層をパターン化することを含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
該層が、フォトリソグラフィによって均一に堆積され、そして続いてパターン化される請求項６に記載の方法。
【請求項８】
該堆積阻害材料を適用してパターンする工程が、該堆積阻害材料をパターン様に堆積することを含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
該一連のガス流が、平面図において該基板に向いている、原子層堆積供給ヘッドの出力面内にある実質的に平行な一連の細長い出力開口を含む堆積装置によって提供され、該出力面は該基板に近接して該基板上に配置されており、該堆積装置の該出力面は該基板表面から１ｍｍ以内の間隔が開いている請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
該第１反応ガス材料及び該第２反応ガス材料のための細長い出力開口の間に、細長い排気開口が設けられている請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
該基板の所与の面積が、１００ミリ秒未満にわたって細長い出力開口内のガス流に暴露される請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
堆積装置に対する該基板の相対運動が、少なくとも０．１ｃｍ／秒の速度である請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
該方法が、薄膜トランジスタ内の半導体を形成するために用いられ、薄膜が酸化亜鉛系材料を含み、該方法が、基板温度２５０℃以下で基板上に、少なくとも１層の酸化亜鉛系材料層を形成することを含み、該酸化亜鉛系材料が少なくとも２つの反応ガスの反応生成物であり、第１の反応ガスが有機亜鉛前駆体化合物を含み、第２の反応ガスが反応性酸素含有ガス材料を含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
該基板又は該基板のための支持体が、可動ウェブを含み、該基板のための支持体が、堆積装置の出力面から０．３ｍｍ以内の分離距離のところで該基板の表面を維持する請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
ｎ型酸化亜鉛系薄膜半導体内の少なくとも１つの薄膜を製造するために、該方法を用いることをさらに、含む請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月16日(2011.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学膜又は光学アレイを製造する方法であって、
ａ） 第１薄膜を基板上に形成するために、実質的に平行な細長チャネルに沿って一連のガス流を同時に方向付けする工程、ここで該一連のガス流は、順番に、少なくとも第１反応ガス材料と、不活性パージガスと、第２反応ガス材料とを含み、該第１反応ガス材料は、該第１薄膜を形成するために、該第２反応ガス材料で処理された基板表面と反応することができる；
ｂ） 第１光学特性を有する第１膜層の第１厚を生成するように、工程ａ）を複数回繰り返す工程、ここで該方法は大気圧で、又は大気圧を上回る圧力で行われる；
ｃ） 第２膜層を生成するように、工程ａ）及びｂ）を繰り返す工程
を含み；
そして、該方法が実質的に大気圧で、又は大気圧を上回る圧力で行われる、
光学膜又は光学アレイを製造する方法。
【請求項２】
該堆積中の該基板の温度が２５０℃未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
光学膜又は光学アレイを製造する方法であって、
ａ）  第１薄膜を基板上に形成するために、実質的に平行な細長チャネルに沿って一連のガス流を同時に方向付けする工程、ここで該一連のガス流は、順番に、少なくとも第１反応ガス混合物と、不活性パージガスと、第２反応ガス混合物とを含み、該第１反応ガス混合物は、該第１薄膜を形成するために、該第２反応ガス混合物で処理された基板表面と反応することができる；
ｂ）  第３反応ガス混合物で、工程ａ）を繰り返す工程；
ｃ）  第１光学特性を有する第１膜層の第１の厚みを生成するように、工程ａ）及びｂ）を複数回繰り返す工程
を含み；
そして該方法が大気圧で、又は大気圧を上回る圧力で行われる、
光学膜又は光学アレイを製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月14日(2011.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
かかる医薬経口固定用量組み合わせ剤は、各成分についてアリスキレンおよびバルサルタンの自由投与量組み合わせ剤にできるだけ類似しているＡＵＣおよび好ましくはまたＣｍａｘを有し、そしてかかる医薬経口固定用量組み合わせ剤は、かかる自由組み合わせ剤と最も好ましくは生物学的に同等である。アリスキレンおよびバルサルタンについて、それぞれ最初の２０分間および６０分間にどの速度で活性成分が放出されるかは問題ではないため、上記溶解データがこのように重大であるのは驚きであった。ＢＣＳ(生物薬剤学分類体系)クラス３化合物(高溶解度、低透過性)について、固定用量組み合わせ剤からのアリスキレンの放出速度およびその後の溶解速度は、溶解速度が既存のアリスキレンフィルムコート錠に類似するかそれより速い限り、重要でないはずである。実際、薬物動態学的パラメーターの一つ、曲線下面積(ＡＵＣ)は、最初の１時間以内の放出速度およびその後の溶解速度が重要とはならないように、２４時間の期間にわたり取る。それにも関わらず、これらの成分、すなわちアリスキレンまたはバルサルタンの少なくとも一方の溶解プロファイル、典型的にアリスキレンの溶解プロファイルが上記範囲の外にあるならば、ヒト薬物動態学的試験においてＡＵＣおよび／またはＣｍａｘの類似性がなく、故に、固定用量組み合わせ剤について生物学的同等性が見られなかった。例えばアリスキレンの場合、上記よりも速い溶解は、自由組み合わせ剤と比較して固定組み合わせ剤への実質的に低い暴露に至った。アリスキレンについて溶解と吸収の間に反比例関係が存在し、それにより、アリスキレンの速い溶解の投与形態は、低いバイオアベイラビリティを有することが判明した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
生物学的同等性：
ここで使用する用語“生物学的同等性”は、次のバイオアベイラビリティに関する。ここで使用する用語“バイオアベイラビリティ”は、投与形態の投与後に全身循環が未変化に到達する活性成分の割合および量として測定される。本発明の医薬経口固定用量組み合わせ剤のバイオアベイラビリティは、対応する自由投与量組み合わせ剤のバイオアベイラビリティと同等である。試験(固定用量組み合わせ剤)製剤および参照(自由投与量組み合わせ剤)製剤を対象に経口投与し、血漿サンプルを経時的に採取する。血漿サンプルについて、バルサルタンおよびアリスキレンの濃度を測定する。最高血漿濃度(Ｃｍａｘ)および時間曲線に対する血漿濃度下面積(ＡＵＣ)を計算する。アリスキレンおよびバルサルタンのログ変換したＡＵＣ０−ｔｌａｓｔ(０時から最後の測定可能濃度サンプリング時間までのＡＵＣ)、ＡＵＣ０−∞(０時から無限までのＡＵＣ)、Ｃｍａｘを、順序、処置および期間からの固定効果、および対象からの変量効果と共に、線形混合効果モデルを使用して、別々に分析する。推定値(試験製剤対参照製剤のＣｍａｘまたはＡＵＣの幾何平均の比)および対応する９０％信頼区間を使用して、生物学的同等性を評価する。生物学的に同等である試験製品および参照製品について、ＡＵＣおよびＣｍａｘ推定値両方についての９０％信頼区間は０.８−１.２５に入らなければならない。試験製品および参照製品の間で得られる生物学的同等性は、特に複数活性成分の組み合わせ剤について挑戦的であり、結果は先験的に予測できない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
次の結果は、製品の質を述べる：
【表６】
2010540548.tif 000001
【表７】
2010540548.tif 000002
ｐＨ４.５での溶解は実施例２に記載の通り実施。
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月13日(2011.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
このような医薬経口固定用量組み合わせ剤は、アリスキレンとバルサルタンの自由用量組み合わせとできる限り類似した個々の有効成分のＡＵＣおよび好ましくはまたＣｍａｘを有し、このような医薬経口固定用量組み合わせ剤は最も好ましくはこのような自由組み合わせと生物学的に同等である。アリスキレンおよびバルサルタンに関しては、それぞれ最初の２０分および６０分の間に有効成分が放出される速度は重要ではないはずであるので、上記の溶解データが極めて重要であったことは驚くことであった。ＢＣＳ(biopharmaceutical classification system)クラス３化合物(高溶解度、低透過性)として、固定用量組み合わせからのアリスキレンの放出速度およびその後の溶解速度は、溶解速度が既存のアリスキレンフィルムコーティング錠剤と類似しているかまたはそれよりも速い限り、重要でないはずである。実際に、薬物動態パラメーターの１つである曲線下面積(ＡＵＣ)を２４時間にわたってとると、最初の１時間以内では放出速度およびその後の溶解速度は重要であるとは考えられない。しかしながら、少なくとも１つの成分、すなわち、アリスキレンまたはバルサルタンの溶解特性、一般にはアリスキレンの溶解特性が上述の範囲の外側にあれば、その固定用量組み合わせに関するＡＵＣおよび／またはＣｍａｘにおける類似性、従って生物学的等価性は見られないことが分かった。例えば、アリスキレンの場合、溶解が上述のものより速いと、自由組み合わせに比べて固定組み合わせからの曝露が実質的に低い。アリスキレンの溶解と吸収の間には逆の関係が存在し、これにより、アリスキレンの溶解の速い投与形はバイオアベイラビリティが低いということが見出されたのは驚くことである。