Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月2日(2014.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】印刷回路基板
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア絶縁層と、
前記コア絶縁層を貫通する少なくとも１つのビアと、
前記コア絶縁層の内部に埋め込まれている内部回路層と、
前記コア絶縁層の上部または下部に形成されている外部回路層と、を含み、
前記ビアは中心部が第１幅を有し、前記コア絶縁層の表面との接合面が第２幅を有し、  前記第１幅が前記第２幅より大きいことを特徴とする印刷回路基板。
【請求項２】
前記コア絶縁層は前記ビアの中心部から上領域を埋め込む第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の下部に前記ビアの中心部から下領域を埋め込む第２絶縁層と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の印刷回路基板。
【請求項３】
前記内部回路層は、前記第１絶縁層または前記第２絶縁層の内に埋め込まれていることを特徴とする請求項２に記載の印刷回路基板。
【請求項４】
前記内部回路層は、断面が三角形であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項５】
前記内部回路層は、断面が四角形であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項６】
前記ビア及び前記内部回路層は、同一な物質で形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項７】
前記ビアは、断面が六角形を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項８】
前記外部回路層は、前記コア絶縁層の上部または下部の表面に形成されているパターン溝を充填しながら形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項９】
前記パターン溝の断面は、Ｕ字型を有することを特徴とする請求項８に記載の印刷回路基板。
【請求項１０】
前記コア絶縁層の上部または下部に形成され、前記ビアを露出する接着層をさらに含むことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の印刷回路基板。
【請求項１１】
前記接着層は、プライマー樹脂を含むことを特徴とする請求項１０に記載の印刷回路基板。
【請求項１２】
コア絶縁層と、
前記コア絶縁層を貫通する少なくとも１つのビアと、
前記コア絶縁層の内部に埋め込まれている内部回路層と、
前記コア絶縁層の上部または下部に形成されている外部回路層と、を含み、
前記内部回路層及び前記外部回路層を含む２ｎ＋１（ｎは正の整数）の数を有する回路層を含むことを特徴とする印刷回路基板。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月25日(2014.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解質を収容する電解質容器と、
前記電解質容器の上方に支持され、かつ前記電解質中へと延伸する少なくとも１つのモジュラアノードアセンブリと、
前記モジュラカソードアセンブリの側にある少なくとも１つのモジュラカソードアセンブリと、
複数のカソードアセンブリ電気接点であって、前記カソードアセンブリ電気接点の各々が、前記少なくとも１つのモジュラカソードアセンブリとの機械的かつ電気的な接続を可能にする同じ物理的構成を有する、複数のカソードアセンブリ電気接点と、
複数のアノードアセンブリ電気接点であって、前記アノードアセンブリ電気接点の各々が、前記少なくとも１つのモジュラアノードアセンブリとの機械的かつ電気的な接続を可能にする同じ物理的構造を有する、複数のアノードアセンブリ電気接点と
を備え、
前記複数のカソードアセンブリ接点が、同じモジュラカソードアセンブリに電気的に接続するように構成された少なくとも２つのカソードアセンブリ接点を含み、
前記少なくとも２つのカソードアセンブリ接点が、異なる電力レベルを供給するように構成された、
電解酸化物還元システム。
【請求項２】
前記カソードアセンブリ電気接点のうちの少なくとも１つおよび前記アノードアセンブリ電気接点のうちの対応する１つが、前記モジュラアノードアセンブリおよび前記モジュラカソードアセンブリに等しいが反対の電力を供給する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記モジュラアノードアセンブリが、
アノードロッドが据えられ、かつ電気的に接続されるアノードブロックと、
前記アノードブロックに電力を供給するバスと、
前記バスに前記アノードブロックを電気的に結合するスリップジョイントと、
を含む、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記バスが、前記アノードアセンブリ電気接点のうちの１つに電気的かつ機械的に接続するように前記モジュラアノードアセンブリチャネルフレームから延伸するナイフエッジ接点を含む、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記スリップジョイントが、第２の方向の少なくとも１つの他の横方向部材と電気的に接触したままで、各他の横方向部材に対して第１の方向に移動可能な複数の横方向部材を含む、請求項３または４に記載のシステム。
【請求項６】
前記複数のカソードアセンブリ電気接点および前記複数のアノードアセンブリ電気接点が、それぞれ、前記モジュラアノードアセンブリのうちの１つおよび前記モジュラカソードアセンブリのうちの１つからのナイフエッジ電気接点を機械的に受けるためにフォーク形状を有する、請求項１から５のいずれかに記載のシステム。
【請求項７】
戦記複数のカソードアセンブリ電気接点が、第１の電源に電気的に接続された第１のカソードアセンブリ接点と、第１の電源とは別個の第２の電源に電気的に接続された第２のカソードアセンブリ接点とを含む、請求項１から６のいずれかに記載のシステム。
【請求項８】
前記複数のカソードアセンブリ電気接点および前記複数のアノードアセンブリ電気接点が、アノードアセンブリ接点のそれぞれに対して２つのカソードアセンブリ接点を含む、請求項１から７のいずれかに記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月24日(2013.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）加水分解性官能基を有するポリマーを提供すること、および、
（ii）安定化剤を前記ポリマーに導入すること、を含み、
前記安定化剤が、式
【化１】
2014501327.tif 000001
（式中、χは加水分解時に酸性化学種を形成する加水分解性基であり、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４はそれぞれ独立して、ハロゲン原子、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシラート基、またはヒドロカルビルオキシ基である）により定義される、加水分解性官能基を有するポリマーを処理する方法。
【請求項２】
χがハロゲン原子またはヒドロカルボキシラート基である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
安定化剤を導入する工程が、前記加水分解性官能基を有するポリマー１モルあたり０．８〜１．２当量のハロゲン原子またはヒドロカルボキシラート基の導入を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
安定化剤を導入する工程が、前記加水分解性官能基を有するポリマー１モルあたり０．９〜１．１当量のハロゲン原子またはヒドロカルボキシラート基の導入を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記安定化剤が、ハロゲン化シリル、シリルエステル、およびハロゲン化シリル−エステルからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ポリマーが、式
【化２】
2014501327.tif 000002
（式中、πはポリマー鎖であり、各Ｒ１１は独立して一価の有機基であり、各Ｒ１２は独立して一価の有機基であり、ｙは１〜３の整数である）により定義される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ポリマーは、１０％〜６０％のシス含量に特徴づけられる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ポリマーは、６０％を超えるシス含量に特徴づけられる、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記ポリマーは、実質的に非リビングポリマーである、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
安定化剤を導入する工程は、前記ポリマーを溶媒に溶解または懸濁させながら実行する、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
１つ以上の実施形態において、本発明の実践により安定化剤で処理されたポリマーセメントは、リビングポリマーを実質的に欠いており、それはポリマーまたはポリマーセメントの安定化および／または中和に適切な影響を及ぼす量よりも少ないリビングポリマー量を指す。言い換えれば、ポリマーセメントは実質的に非リビングポリマーである。当業者が理解するように、非リビングポリマーは追加のモノマーを付加することができないポリマーを含む。先に議論された通り、リビングポリマーは、追加のモノマーを反応性鎖末端に付加することができる。１つ以上の実施形態において、ポリマーセメントは、ポリマー鎖の総モル数に基づき、リビングポリマーの１０％未満、他の実施形態において５％未満、他の実施形態において２％未満、他の実施形態において１％未満、他の実施形態において０．５％未満含む。特定の実施形態において、ポリマーセメントはリビングポリマーを欠く。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
１つ以上の実施形態において、本発明の実践はポリマーの官能基停止、カップリング、および／またはポリマーのクエンチング後に安定化剤の逐次添加を含む。例えば１つ以上の実施形態において、リビングポリマーセメントは、官能基停止剤で部分的に停止され、部分的にカップリングされ、その後、プロトン性化合物、例えばアルコールでクエンチされもよい。このシーケンスの後、安定化剤をポリマーセメントに添加して、実質的に非リビングポリマーであるポリマーを処理してもよい。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年10月21日(2014.10.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃焼室（２）を有する内燃機関（１）のための噴射装置を操作する方法であって、第１の処理ステップで、第１の吸込み弁（１０）を前記燃焼室（２）に対し開口させるとともに、第１の噴射弁（１２）から燃料（３）を開口した前記第１の吸込み弁（１０）を通じて前記燃焼室（２）内へ噴射させ、且つ第１の処理ステップで、さらに第２の吸込み弁（２０）を前記燃焼室（２）に対し開口させるとともに、前記第１の噴射弁（１２）よりも大きな貫流量を有する第２の噴射弁（２２）から燃料（３）を開口した前記第２の吸込み弁（２０）を通じて前記燃焼室（２）内へ噴射させるようにした前記方法において、第２の処理ステップで、前記第１の噴射弁（１２）のみから更なる燃料（３）を、まだ開口している前記第１の吸込み弁（１０）を通じて前記燃焼室（２）内へ補充噴射することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１の処理ステップで、前記第２の噴射弁（２２）よりも少量の燃料（３）を前記第１の噴射弁（１２）から噴射することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の処理ステップで、該第１の処理ステップで前記第２の噴射弁（２２）から噴射される燃料（３）の６０パーセント未満の燃料（３）を前記第１の噴射弁（１２）から噴射することを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の噴射弁（１２）から燃料（３）を前記第１の吸い込み弁（１０）に対応する第１の吸込み穴（１０’）のじかに隣接する箇所に噴射することを特徴とする、上記請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
前記第２の処理ステップで、前記第１の噴射弁（１２）を、前記更なる燃料（３）を補充噴射するための補充噴射信号に依存して制御し、空気燃料混合気内の空気成分が高くなりすぎたことを算出および／または検出したときに前記補充信号を生成させることを特徴とする、上記請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
前記補充信号を前記内燃機関（１）の回転数、前記内燃機関（１）のスロットルバルブ調整量、および／または、前記内燃機関（１）の排ガス通路内に配置されるラムダセンサの信号、前記内燃機関（１）の吸込み管内に配置される空気量センサの信号、前記吸込み管内に配置される圧力センサの信号および／または温度センサの信号に依存して生成させることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
上記請求項のいずれか一つに記載の方法で使用するためにプログラミングされたことを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項８】
噴射装置の制御機構のための記憶媒体において、該記憶媒体に、請求項１から６までのいずれか一つに記載の方法で使用するためのコンピュータプログラムが記憶されていることを特徴とする記憶媒体。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
本発明の１つの有利な実施態様によれば、第２の処理ステップで、第１の噴射弁のみから更なる燃料を、まだ開口している第１の吸込み弁を通じて燃焼室内へ補充噴射する。従って、第１および第２の噴射弁は好ましくは互いに別個に制御される。このとき補充噴射はもっぱら第１の噴射弁によって行われ、その結果可能な限り少量の燃料を噴射可能である。これとは択一的に、第２の処理ステップで、第２の噴射弁から更なる燃料を、まだ開口している第２の吸込み弁を通じて燃焼室内へ補充噴射する。このケースでは、第１および第２の噴射弁は一緒に制御される。燃料必要量に応じて両補充態様間で可変に切換えることが考えられ、その結果利用可能な燃料配量範囲は技術水準に比べてかなり広くなる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
本発明の１つの有利な実施態様によれば、第１の噴射弁から燃料を第１の吸込み穴のじかに隣接する箇所に噴射する。これには、補充噴射される更なる燃料に対する飛翔時間が比較的わずかであり、その結果かなり後の時点でも補充噴射を導入できるという利点がある。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月25日(2013.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体流入口および流体流出口を有する制御バルブであって、前記制御バルブを通過する流体流を制御するために前記流体流入口と前記流体流出口との間で移動可能に位置決めされるバルブプラグを含み、前記バルブプラグは制御バルブステムに接続された、制御バルブと、
前記バルブプラグを移動させるためのアクチュエータであって、アクチュエータハウジングと、前記アクチュエータハウジング内に装着されたダイヤフラムとを含み、前記ダイヤフラムは前記アクチュエータハウジングを少なくとも２つのチャンバに分割し、アクチュエータステムが、一方端において前記ダイヤフラムに動作可能に接続され、前記ダイヤフラムの移動に応答して往復状に移動し、前記アクチュエータステムは他方端において前記制御バルブステムに接続された、アクチュエータと、
前記制御バルブと前記アクチュエータハウジングとの間に装着された液圧スリーブであって、前記制御バルブステムおよび前記アクチュエータステムのうちの１つに接続され、前記制御バルブステムまたは前記アクチュエータステムのいずれかを前記液圧スリーブ内の変化する液圧に応答して移動させる、液圧スリーブと、
を含む、スライドステムバルブ組立体。
【請求項２】
前記液圧スリーブは、
スリーブハウジングを形成する外側壁部および内側壁部と、
前記スリーブハウジング内で移動可能に配置され、前記スリーブハウジングの長手方向軸に沿って移動可能である、液圧ピストンと、
を備え、
前記アクチュエータステムおよび前記制御バルブステムのうちの１つは前記液圧スリーブを貫通し、前記液圧ピストンは前記アクチュエータステム、前記制御バルブステム、および前記アクチュエータステムと前記制御バルブステムとを接続するステムコネクタのうちの１つに取り付けられている、
請求項１に記載のスライドステムバルブ組立体。
【請求項３】
前記スリーブハウジングは長手方向開口部を含む、請求項２に記載のスライドステムバルブ組立体。
【請求項４】
前記スリーブハウジングは円筒形の、正方形の、三角形の、長方形の、または多角形の、形状を含む、請求項２に記載のスライドステムバルブ組立体。
【請求項５】
前記アクチュエータステムおよび前記制御バルブステムのうちの１つに取り付けられた位置表示器をさらに含む、請求項１に記載のスライドステムバルブ組立体。
【請求項６】
前記液圧スリーブは前記位置表示器に取り付けられている、請求項５に記載のスライドステムバルブ組立体。
【請求項７】
前記液圧スリーブは、前記制御バルブと前記位置表示器との間に配置されているかまたは、前記位置表示器と前記アクチュエータとの間に配置されている、請求項５に記載のスライドステムバルブ組立体。
【請求項８】
前記アクチュエータと前記制御バルブとの間に配置されたヨーク部をさらに含み、前記液圧スリーブは前記ヨーク部内に装着された、請求項１に記載のスライドステムバルブ組立体。
【請求項９】
前記液圧スリーブは、前記制御バルブを開放するように動作し、または前記制御バルブを閉止するように動作し、または前記アクチュエータをオーバーライドするように動作する、請求項１に記載のスライドステムバルブ組立体。
【請求項１０】
スライドステム制御バルブ組立体を手動により作動させる方法であって、
液圧スリーブを提供することと、
前記液圧スリーブを、制御バルブのアクチュエータステム、制御バルブステム、および前記アクチュエータステムと前記バルブステムとを接続するステムコネクタのうちの１つに取り付けることと、
前記液圧スリーブを作動させることにより前記アクチュエータステムおよび前記制御バルブステムのうちの１つが移動され、それにより前記制御バルブが開放または閉止されることと、
を含む方法。
【請求項１１】
液圧ピストンを前記液圧スリーブ内に提供することと、前記液圧ピストンを、前記アクチュエータステム、前記制御バルブステム、および前記ステムコネクタのうちの１つに取り付けることと、をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記液圧スリーブを前記制御バルブとアクチュエータとの間において前記スライドステム制御バルブに取り付けることをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2014501369.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2014501369.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
既定の配合表による成分を混合することにより液体溶液を調製する方法であって、液体溶液は複数の種を含み、１対以上の種は弱電解質由来であり、酸塩基対に対応し、液体溶液の導電率が、
（ｉ）弱電解質由来の種の各対について、各平衡方程式を解いて、液体溶液中の平衡状態にある弱電解質由来のすべてのイオン種を含む、そのような各種の実際のモル濃度を前記既定の配合表から計算し、
（ｉｉ）前記複数の種の各イオン種について、以下の式
Λ＝Λ0−Ｋ×Ｓｑｒｔ（ｃ）
［式中、Λは、モル導電率であり、Λ0は、無限希釈におけるモル導電率であり、ｃは、イオン種の濃度であり、Ｋは、コールラウシュ係数であり、Ｋ及びΛ0は、各イオン種のＫ及びΛ0の既定値を含むデータセットから得られる］によりモル導電率を計算し、
（ｉｉｉ）以下の式
κ＝ｃ×Λ
［式中、ｃ及びΛは、上で定義した通りである］により各イオン種の導電率κを計算し、
（ｉｖ）各種イオン種について段階（ｉｉｉ）で求めた導電率を合計して、液体溶液の予測される導電率を得る
ことによって予測される、方法。
【請求項２】
データセットが、イオン種の複数の異なる濃度及び異なるｐＨ値の、さらに適宜異なる温度における、イオン種を含む溶液の導電率を測定し、Ｋを得るために得られたデータを請求項１の段階（ｉｉ）における式に当てはめることによって得られるコールラウシュ係数Ｋの値を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記データセットが、前記当てはめにより得られるΛ0の値をさらに含む、請求項２記載の方法。
【請求項４】
コールラウシュ係数がＫ＝Ａ＋Ｂ×Λ0と表され、式中、Ａ及びＢは、温度依存性定数であり、Λ0は、請求項１で定義した通りであり、データセットにおけるＫの既定値が前記当てはめにより得られるＡ及びＢの値から計算される、請求項２又は請求項３記載の方法。
【請求項５】
コールラウシュ係数がＫ＝Ａ＋Ｂ＋ｗ×Λ0と表され、式中、Ａ及びＢは、温度依存性定数であり、ｗは、オンサガー因子であり、Λ0は、請求項１で定義した通りであり、データセットにおけるＫの既定値が前記当てはめにより得られるＡ、Ｂ及びｗの値から計算される、請求項２又は請求項３記載の方法。
【請求項６】
各イオン種の濃度がデバイ−ヒュッケルの式を含むアルゴリズムにより計算され、各種のイオン強度がイオン種の平均水和半径の計算に重み付きパラメーターとして用いられる、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
液体溶液が緩衝液である、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
緩衝液調合システム又はインライン希釈システムを制御するための請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の方法の使用。
【請求項９】
導電率が実験計画（ＤｏＥ）パラメーターとして用いられるスクリーニング実験における請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の方法の使用。
【請求項１０】
コンピュータに請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の方法の段階を実施させるための命令を含むコンピュータプログラム。
【請求項１１】
導電率センサー及び請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の導電率予測段階を後ろ向き計算方式で用いて測定導電率からｐＨを計算するための手段を含む、ｐＨを測定するための装置。
【請求項１２】
既定の配合表による成分を含む液体溶液の導電率を予測する方法であって、液体溶液は複数の種を含み、１対以上の種は弱電解質由来であり、酸塩基対に対応し、
（ｉ）弱電解質由来の種の各対について、各平衡方程式を解いて、液体溶液中の平衡状態にある弱電解質由来のすべてのイオン種を含む、そのような各種の実際のモル濃度を前記既定の配合表から計算し、
（ｉｉ）前記複数の種の各イオン種について、以下の式
Λ＝Λ0−Ｋ×Ｓｑｒｔ（ｃ）
［式中、Λは、モル導電率であり、Λ0は、無限希釈におけるモル導電率であり、ｃは、イオン種の濃度であり、Ｋは、コールラウシュ係数であり、Ｋ及びΛ0は、各イオン種のＫ及びΛ0の既定値を含むデータセットから得られる］によりモル導電率を計算し、
（ｉｉｉ）以下の式
κ＝ｃ×Λ
［式中、ｃ及びΛは、上で定義した通りである］により各イオン種の導電率κを計算し、
（ｉｖ）各種イオン種について段階（ｉｉｉ）で求めた導電率を合計して、液体溶液の予測される導電率を得る
段階を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月24日(2014.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
請求項９記載の組成物において、Ｂは式ＩＸまたは式Ｘ：
2014501307.tif 000001
の構造を有し、
Ａｒ３およびＡｒ４はそれぞれ独立して芳香族基であり、−Ｏ−Ａｒ３−Ｏ−および−Ｏ−Ａｒ４−Ｏ−はそれぞれ１若しくはそれ以上のアリール環を有するジヒドロキシ化合物に由来し、
Ｒはそれぞれ独立してＣ１−２０アルキル、Ｃ２−２０アルケン、Ｃ２−２０アルキン、Ｃ５−２０シクロアルキル、またはＣ６−２０アリールであり、
Ｌ1およびＬ２はそれぞれ独立して共有結合または単一のアリール基、ビアリール基、トリアリール基、テトラアリール基であり、
Ｆはそれぞれ独立して反応基であり、
Ｘはそれぞれ独立して分岐剤に由来する単位であり、
ｚはそれぞれ独立して１〜約１０の整数であり、
ｗ１およびｗ２はそれぞれ独立して１〜５の整数である組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
請求項１１記載の組成物において、２若しくはそれ以上のＸが式ＸＩ、式ＸＩＩ、または式ＸＩＩＩ、またはその組み合わせ：
2014501307.tif 000002
の部分によって結合され、
Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立して式ＸＩまたは式Ｘの超分岐オリゴホスホン酸塩であり、
Ａｒ５およびＡｒ６はそれぞれ独立して芳香族基であり、−Ｏ−Ａｒ５−Ｏ−および−Ｏ−Ａｒ６−Ｏ−はそれぞれ１若しくはそれ以上のアリール環を有するジヒドロキシ化合物に由来し、
Ｒはそれぞれ独立してＣ１−２０アルキル、Ｃ２−２０アルケン、Ｃ２−２０アルキン、Ｃ５−２０シクロアルキル、またはＣ６−２０アリールであり、
Ｘ１およびＸ２はそれぞれ独立して分岐剤に由来する単位であり、
ｓはそれぞれ独立して１〜約１０の整数である組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
関連出願書類の相互参照
本出願書類は、２０１０年１２月２２に提出された、表題「超分岐ヒドロキシおよびエポキシ末端オリゴホスホン酸塩、コ−オリゴ（ホスホン酸エステル）、およびコ−オリゴ（ホスホン酸カーボネート）」の米国仮出願番号６１／４２６，３４１の優先権を請求し、この参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
（先行技術文献）
（特許文献）
（特許文献１）  米国特許第２，７１６，１０１号明細書
（特許文献２）  米国特許第４，０３９，５１２号明細書
（特許文献３）  米国特許第４，１９６，１１９号明細書
（特許文献４）  米国特許第４，４１５，７１９号明細書
（特許文献５）  米国特許第４，７１９，２７９号明細書
（特許文献６）  米国特許第５，２１６，１１３号明細書
（特許文献７）  米国特許第６，８６１，４９９号明細書
（特許文献８）  米国特許第７，４４９，５２６号明細書
（特許文献９）  米国特許第７，６４５，８５０号明細書
（特許文献１０）  米国特許第７，８１６，４８６号明細書
（特許文献１１）  米国特許第７，８３８，６０４号明細書
（特許文献１２）  米国特許出願公開第２００６／０１４２４２７号明細書
（特許文献１３）  米国特許出願公開第２００９／００３２７７０号明細書
（特許文献１４）  特開２００１−０１９７４６号公報
（非特許文献）
（非特許文献１）  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｓｅａｒｃｈ  Ｒｅｐｏｒｔ  ｄａｔｅｄ  Ａｕｇ．２２，２０１２  ｆｏｒ  ＰＣＴ／ＵＳ２０１１／０６６８８１．
（非特許文献２）  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｓｅａｒｃｈ  Ｒｅｐｏｒｔ  ｄａｔｅｄ  Ａｕｇ．２７，２０１２  ｆｏｒ  ＰＣＴ／ＵＳ２０１１／０６６８２８．
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月31日(2014.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天然エステル油ベースの電気絶縁流体を製造する方法であって、（Ａ）粗製天然エステル油を脱ガムするステップ、（Ｂ）脱ガムした粗製油を、アルカリ性及び酸性漂白の少なくとも一つにかけるステップ、（Ｃ）場合によって、脱ガムし漂白した粗製油を脱蝋して、残った蝋状化合物を除去又はそれらの量を低減するステップ、（Ｄ）脱ガムし漂白し場合によって脱蝋した天然エステル油を脱臭して、残った揮発性不純物を除去又はそれらの量を低減し、ＲＢＤ又はＲＢＷＤ天然エステル油を生成するステップ、（Ｅ）ＲＢＤ又はＲＢＷＤ天然エステル油を、アルカリ及び／又はアルカリ土類金属を含む合成ケイ酸塩吸収剤と接触させるステップ、並びに（Ｆ）油から吸収剤を分離するステップを含む方法。
【請求項２】
天然エステル油を、油及び吸収剤の合計重量に対して０．１から３０重量％までの吸収剤と接触させる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
吸収剤が、濾過によって油から分離される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
合成ケイ酸塩吸収剤が、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム及びバリウムの１種又は複数を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれかに記載の方法によって作られる天然エステル油ベースの誘電性流体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本発明を、好ましい実施形態の上記の記載を通して特定の詳細と共に記載したが、この詳細は、例示の主目的のためである。以下の特許請求の範囲に記載された本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、多くの変化及び変更が、当業者によって行われ得る。
以下に、本願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］
天然エステル油ベースの電気絶縁性流体を製造する方法であって、（Ａ）精製し漂白し脱臭した（ＲＢＤ）天然エステル油、又は精製し漂白し脱蝋し脱臭した（ＲＢＷＤ）天然エステル油を、アルカリ及び／又はアルカリ土類金属を含む合成ケイ酸塩吸収剤と接触させるステップ、並びに（Ｂ）油から吸収剤を分離するステップを含む方法。
［２］
天然エステル油ベースの電気絶縁流体を製造する方法であって、（Ａ）粗製天然エステル油を脱ガムするステップ、（Ｂ）脱ガムした粗製油を、アルカリ性及び酸性漂白の少なくとも一つにかけるステップ、（Ｃ）場合によって、脱ガムし漂白した粗製油を脱蝋して、残った蝋状化合物を除去又はそれらの量を低減するステップ、（Ｄ）脱ガムし漂白し場合によって脱蝋した天然エステル油を脱臭して、残った揮発性不純物を除去又はそれらの量を低減し、ＲＢＤ又はＲＢＷＤ天然エステル油を生成するステップ、（Ｅ）ＲＢＤ又はＲＢＷＤ天然エステル油を、アルカリ及び／又はアルカリ土類金属を含む合成ケイ酸塩吸収剤と接触させるステップ、並びに（Ｆ）油から吸収剤を分離するステップを含む方法。
［３］
天然エステル、油ベースの電気絶縁流体を製造するための改善された方法であって、ＲＢＤ天然エステル油又はＲＢＷＤ天然エステル油を、吸収剤と接触させるステップを含み、改善は、吸収剤として、アルカリ及び／又はアルカリ土類金属を含む合成ケイ酸塩吸収剤を使用することを含む方法。
［４］
天然エステル油が、ヒマワリ油、カノーラ油、菜種油、ヒマシ油、大豆油、ヤシ油、メドウフォームシードオイル、ホホバ油、藻類油及び細菌又は真菌種からの生物油の少なくとも１種である、［１］から［３］までのいずれかに記載の方法。
［５］
天然エステル油を、油及び吸収剤の合計重量に対して０．１から３０重量％までの吸収剤と接触させる、［１］から［４］までのいずれかに記載の方法。
［６］
天然エステル油及び吸収剤を、０から１００℃までの温度において接触させる、［１］から［５］までのいずれかに記載の方法。
［７］
吸収剤が、濾過によって油から分離される、［１］から［６］までのいずれかに記載の方法。
［８］
合成ケイ酸塩吸収剤が、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム及びバリウムの１種又は複数を含む、［１］から［７］までのいずれかに記載の方法。
［９］
［１］から［８］までのいずれかに記載の方法によって作られる天然エステル油ベースの誘電性流体。
［１０］
［９］に記載の誘電性流体を収容する変圧器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４６】
本発明は、その好適な実施形態を参照して特に示されかつ記載されたが、その好適な実施形態においては、添付の特許請求の範囲に包含される本発明の範囲を逸脱せずに、形態および詳細において種々の変更がなされ得ることが当業者によって理解されるであろう。例えば、本発明は、ＯＣＴまたは分光分析だけに関連して記載されたが、本発明はまた、ＩＶＵＳ、ＦＬＩＶＵＳ、ＨＩＦＵ、圧力検知ワイヤおよび画像誘導治療装置とともに応用され得るであろう。
なお、本発明は、実施の態様として以下の内容を含む。
〔態様１〕
レーザ掃引光源を提供する工程と、
前記レーザ掃引光源のモード同期動作を制御し、掃引光信号を生成する工程と、
前記掃引光信号を、参照アームと、試料が位置する試料アームとを有する干渉計に伝送する工程と、
前記試料アームおよび前記参照アームから戻る前記掃引光信号を組み合わせて、干渉信号を生成する工程と、
前記干渉信号を検出する工程と、
前記検出された干渉信号から前記試料の画像情報を生成する工程とを備えた、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様２〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御する工程は、前記レーザ掃引光源のレーザキャビティ内の光を増幅する光利得素子へのバイアス電流を制御する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様３〕
態様２に記載の方法において、前記バイアス電流を制御する工程は、前記バイアス電流を前記レーザキャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様４〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御する工程は、前記レーザ掃引光源のレーザキャビティの利得を変調する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様５〕
態様４に記載の方法において、前記レーザキャビティの利得は、前記レーザキャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様６〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御する工程は、前記レーザ掃引光源のレーザキャビティ内の光信号の位相を変調する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様７〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源のモード同期動作を制御する工程は、レーザキャビティを制御して、当該レーザキャビティ内を循環するパルスの数を低減させる工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様８〕
同調帯域にわたり周波数同調される掃引光信号を生成する掃引レーザ光源であって、当該掃引レーザ光源のモード同期動作が制御される、掃引レーザ光源と、
前記掃引光信号を、参照アームと、試料に導く試料アームとの間で分割する干渉計と、
前記参照アームからおよび前記試料アームからの前記掃引光信号から生成される干渉信号を検出する検出器システムとを備えた、光コヒーレンス分析システム。
〔態様９〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源は、利得媒質と、前記掃引光信号の周波数を制御する同調素子とを含む、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１０〕
態様９に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源の前記モード同期動作が、前記利得媒質へのバイアス電流を変調することによって制御される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１１〕
態様１０に記載のシステムにおいて、前記バイアス電流は、前記キャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１２〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源の前記モード同期動作は、前記掃引レーザ光源のレーザキャビティ内の位相変調器によって制御される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１３〕
態様１２に記載のシステムにおいて、前記位相変調器は、前記キャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１４〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源の前記モード同期動作は、前記掃引レーザ光源のレーザキャビティの利得を変調することによって制御される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１５〕
態様１４に記載のシステムにおいて、前記レーザキャビティの前記利得は、前記レーザキャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１６〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源のレーザキャビティが制御されて、前記レーザキャビティ内を循環するパルスの数を低減させる、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１７〕
モード同期掃引レーザ光源であって、
光を増幅するレーザキャビティ内の利得素子と、
前記レーザキャビティ用の可変同調素子と、
前記可変同調素子を同調帯域にわたり掃引して、掃引光信号を生成する同調制御器とを備え、
当該モード同期掃引レーザ光源のモード同期動作が制御される、モード同期掃引レーザ光源。
〔態様１８〕
態様１７に記載の光源において、前記レーザキャビティ内を循環するパルスの数を低減させるように、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作が制御される、モード同期掃引レーザ光源。
〔態様１９〕
態様１７に記載の光源において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御するように、前記レーザキャビティの利得が変調される、モード同期掃引レーザ光源。
〔態様２０〕
態様１７に記載の光源において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御するように、前記レーザキャビティの位相光信号が変調される、モード同期掃引レーザ光源。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステント送達システムであって、
先端領域を有するインナーシャフトと、
前記先端領域の周囲に設置されたステントと、
前記インナーシャフトの周囲に摺動可能に設置されたイントロデューサシースと、
前記インナーシャフトに連結され、第一の保持部および第二の保持部を有するクリップ部材を含むハンドルであって、前記インナーシャフトは前記第一の保持部および前記第二の保持部を通って延びる、ハンドルと、
前記インナーシャフトに熱接合された保持用カフであって、前記第一の保持部と前記第二の保持部との間に位置付けられた保持用カフと、
を含むステント送達システム。
【請求項２】
前記保持用カフの断面形状が円形である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記保持用カフの断面形状が非円形である、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記保持用カフが前記ハンドルに対して回転可能である、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記保持用カフが前記ハンドルに対して回転不能である、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記保持用カフが高温クリップによって前記インナーシャフトに熱接合される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記保持用カフがレーザによって前記インナーシャフトに熱接合される、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記保持用カフがダイオードレーザによって前記インナーシャフトに熱接合される、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記保持用カフが溶接によって前記インナーシャフトに熱接合される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記クリップ部材の第一の保持部が張り出し基端部を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記イントロデューサシースの周囲に設置された外部部材をさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記インナーシャフトがその先端部に取り付けられたチップを有し、前記チップがそこに形成された１つまたは複数の平坦部を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記インナーシャフトがそこに形成された１つまたは複数の潅流ポートを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
ステント送達システムとともに使用するクリップ部材アセンブリであって、
クリップ部材本体と、
前記クリップ部材本体から延びる１つまたは複数の脚部であって、前記クリップ部材本体を前記ステント送達システムのハンドルに取り付けるように構成された脚部と、
前記クリップ部材本体に形成された第一の保持部と、
前記クリップ部材本体に形成された第二の保持部と、
前記第一の保持部と前記第二の保持部との間に位置付けられたカフであって、ステント送達システムの内部部材に熱接合されて、前記クリップ部材本体に対する前記内部部材の基端方向および先端方向への移動を防止するように構成されたカフと、
を含み、
前記第一の保持部および前記第二の保持部は、前記内部部材が前記第一の保持部と前記第二の保持部を通過できるように構成される、クリップ部材アセンブリ。
【請求項１５】
前記カフが、前記内部部材が前記ハンドルに対して回転できるように構成される、請求項１４に記載のクリップ部材アセンブリ。
【請求項１６】
前記カフが、前記内部部材が前記ハンドルに対して回転するのを防止するように構成される、請求項１４に記載のクリップ部材アセンブリ。
【請求項１７】
前記カフが高温クリップによって前記内部部材に熱接合される請求項１４に記載のクリップ部材アセンブリ。
【請求項１８】
前記カフがレーザによって前記内部部材に熱接合される、請求項１４に記載のクリップ部材アセンブリ。
【請求項１９】
前記カフがダイオードレーザによって前記内部部材に熱接合される、請求項１４に記載のクリップ部材アセンブリ。
【請求項２０】
前記カフが溶接によって前記内部部材に熱接合される、請求項１４に記載のクリップ部材アセンブリ。
【請求項２１】
前記クリップ部材の第一の保持部が張り出し基端部を有する、請求項１４に記載のクリップ部材アセンブリ。
【請求項２２】
ステント送達システムの製造方法において、
ハンドルを提供するステップであって、前記ハンドルが、そこに連結されて、第一の保持部と第二の保持部を含むクリップ部材を有するステップと、
インナーシャフトを提供するステップと、
前記インナーシャフトを前記第一の保持部および前記第二の保持部を通過するように延在させるステップと、
前記インナーシャフトの周囲の、前記第一の保持部と前記第二の保持部との間の一定位置にカフを設置するステップと、
前記カフを前記インナーシャフトに熱接合して、前記インナーシャフトのハンドルに対する長さ方向の位置を固定するステップと、
を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ステント送達システムおよびその製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月7日(2014.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
涙器と副鼻腔との間で形成される瘻孔を通じて涙器を副鼻腔へ流体接続するための、ヒトでのインプランテーションのためのインプラントデバイスであって、前記インプラントデバイスが、
前記デバイスの第一の長軸方向端での近位端と、
前記第一の長軸方向端と長軸方向に向かい合う前記デバイスの第二の長軸方向端での遠位端と、
近位端付近から遠位端付近に延びる導管と、
前記導管を通じて前記近位端と前記遠位端との間に延びる内部通路であって、前記内部通路は、前記近位端で第一の末端開口および前記遠位端で第二の末端開口を有している、内部通路と、
前記近位端と前記遠位端との間で、２ミリメートルから５０ミリメートルの範囲の、前記デバイスを長軸方向に沿ったデバイスの長さと、
０．２５ミリメートルから５ミリメートルの範囲の長さを横切る内部通路の幅と、
突起部エリアおよび陥凹エリアを備える固定表面特徴を備える導管の外部とを備え、
インプラントされて涙器から副鼻腔へ瘻孔を通じて流体接続するように構成された、インプラントデバイスであって、その結果、インプラントされた場合、
前記近位端が、涙器における内部通路開口部の第一端に配置され、
前記遠位端が、副鼻腔内に配置され、前記内部通路の第二端が副鼻腔内で開口しており、かつ
前記導管が、瘻孔を通じて配置されており、陥凹エリアの少なくとも一部が前記瘻孔内に配置され、かつ前記突起部エリアの少なくとも一部が前記瘻孔内に配置され、前記瘻孔内に配置された組織を係合してインプラントデバイスをアンカーする、
インプラントデバイス。
【請求項２】
前記突起部エリアが、前記陥凹エリアに相対して０．２〜０．７５ミリメートルの高さを有する、請求項１に記載のインプラントデバイス。
【請求項３】
前記突起部エリアが、少なくとも０．７５ミリメートルという中心間距離を有する突起部の存在を備える、請求項１または２に記載のインプラントデバイス。
【請求項４】
それぞれの前記突起部の存在は、前記導管の外周全体にわたって延びる外周リッジを含んでなる、請求項３に記載のインプラントデバイス。
【請求項５】
前記突起部エリアが、前記デバイスの前記長さに沿って少なくとも２ミリメートル延びる前記導管の長軸部分にあり、前記導管の長軸部分の近位端は前記インプラントデバイスの近位端から少なくとも４ミリメートルをもって設けられている、請求項１〜４のいずれか１項に記載のインプラントデバイス。
【請求項６】
前記突起部エリアが、前記導管の前記長軸部分に沿った前記エリアの２５パーセント以下をカバーする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のインプラントデバイス。
【請求項７】
前記突起部エリアが、少なくとも３つの間隔の空いた外周リッジを備え、各々の前記外周リッジが、前記導管の全外周に沿って延びる、請求項１〜６のいずれか１項に記載のインプラントデバイス。
【請求項８】
前記導管が、１．５ミリメートルから３ミリメートルの範囲内である外部幅であって、前記長さに対して横切る前記突起部エリアの程度によって規定される外部幅を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のインプラントデバイス。
【請求項９】
前記インプラントデバイスは前記導管に隣接するヘッドを前記近位端で備え、
前記ヘッドは、前記インプラントデバイスがインプラントされる際、前記瘻孔の外側でかつ隣接する組織を係合するように、前記導管に向かって配置され、かつ構成されている、前記ヘッドの側面上のフランジ状の組織係合表面を備える、請求項１〜２９のいずれか１項に記載のインプラントデバイス。
【請求項１０】
前記ヘッドは、２〜８ミリメートルの長さ寸法および、前記長さ寸法を横切る一定の幅寸法を有し、前記幅寸法に対する前記長さ寸法の比は、１．５〜４である、請求項９に記載のインプラントデバイス。
【請求項１１】
前記突起部エリアは、前記導管の長軸部分に、かつ前記ヘッドから少なくとも３ミリメートルの箇所に設けられた近位端を備えて設けられる、請求項９又は１０に記載のインプラントデバイス。
【請求項１２】
前記導管が、５０から１００の範囲のデュロメータ（ショアＡ）を有する高分子材料から構築される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のインプラントデバイス。
【請求項１３】
最初の瘻孔を形成するための第１の外科用ツールと、
請求項１〜１２のいずれか一項に記載のインプラントデバイスと、
遠位先端部を有する部材を備えるキャリアーであって、前記部材は涙器と副鼻腔との間の瘻孔を通って配置され、前記遠位先端部が副鼻腔内に位置するように適合され、かつ前記キャリアーは前記部材に接続された手技操作可能なハンドルを備える、前記キャリアーとを有したキットにおいて、
前記インプラントデバイスは前記ハンドルと前記遠位先端部の間においてキャリアー上に装着可能であり、前記部材は内部通路を通るように配置され、前記インプラントデバイスの近位端はハンドルを指向するように配置され、かつ前記インプラントデバイスの遠位端は、前記部材の遠位先端部を指向するように配置され、
前記キャリアーは、前記インプラントデバイスが前記瘻孔を通じて配置された一定のインプラント位置において、前記インプラントデバイスから離脱可能である、キット。
【請求項１４】
前記キャリアーは、前記ハンドルと前記部材とを通じて延びる内部通路を有する、請求
項１３に記載のキット。
【請求項１５】
副鼻腔炎の治療のための薬剤を含んでなる治療組成物を有する、請求項１３または１４に記載のキット。
【請求項１６】
前記治療組成物を収容するシリンジを備える、請求項１５に記載のキット。
【請求項１７】
前記治療組成物は、抗炎症薬、抗菌剤、鎮痛薬、粘液溶解薬、抗ウイルス薬、充血除去薬、ステロイド、抗ヒスタミン剤、抗生物質および抗真菌剤からなる群から選択された少なくとも１つの薬剤を含有する、請求項１５または１６に記載のキット。
【請求項１８】
前記治療組成物は抗生物質を含み、少なくとも１つの薬剤はステロイドおよび抗ヒスタミン剤からなる群から選択される、請求項１７に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月24日(2014.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モニタリングされるべき患者のデータを取得するプローブモジュールであって、唾液コルチゾールレベル又は血液コルチゾールレベルを測定する唾液コルチゾールアッセイを含む、プローブモジュールと、
前記取得されたデータに基づいて患者の不安状態を決定する評価モジュールであって、前記唾液コルチゾールレベル又は血液コルチゾールレベルに基づいて前記患者の状態を決定する、評価モジュールと、
前記決定された不安状態を担当スタッフにフィードバックするインジケータモジュールとを有する患者モニタリングシステム。
【請求項２】
前記プローブモジュールが、一次データを取得し、オプションとして前記患者の追加データを取得し、
前記評価モジュールが、
前記一次データから前記患者の不安状態の一次評価を行い、オプションとして前記追加データに基づいて前記患者の不安状態の微細評価を行い、
前記一次評価に基づいて前記追加データを取得し、前記微細評価に参加させるように前記プローブモジュールを制御する、請求項１に記載の患者モニタリングシステム。
【請求項３】
前記評価モジュールが、自己学習機能を含む、請求項１に記載の患者モニタリングシステム。
【請求項４】
前記評価モジュールが、患者基準データにアクセスし、前記患者基準データを考慮に入れて前記患者の状態を評価する、請求項１に記載の患者モニタリングシステム。
【請求項５】
前記プローブモジュールが、前記患者をモニタリングするカメラと、前記カメラにより取得された画像情報に基づいて前記患者の不安状態を評価する画像評価モジュールとを含む、請求項１に記載の患者モニタリングシステム。
【請求項６】
前記プローブモジュールが、生理学的センサと、前記生理学的センサにより取得された生理学的データに基づいて前記患者の不安状態を評価する生理学評価モジュールとを含む、請求項１に記載の患者モニタリングシステム。
【請求項７】
前記プローブモジュールが、前記患者にアンケートを提示し、前記アンケートに対する応答を受信する、請求項１に記載の患者モニタリングシステム。
【請求項８】
前記評価モジュールが、前記不安状態をフィードバックするように前記インジケータモジュールを制御するのにスタッフ供給力を考慮に入れる、請求項１に記載の患者モニタリングシステム。
【請求項９】
前記プローブモジュールが、前記患者に投与されるように作成される放射性トレーサの放射線を測定する機能を持ち、
前記評価モジュールが、
前記測定された放射線レベルを受信し、
前記測定された放射線レベル及び前記患者の不安状態に基づいて前記患者に前記放射性トレーサを投与する最適な瞬間を決定する、請求項１に記載の患者モニタリングシステム。
【請求項１０】
前記プローブモジュールが、前記患者に投与された放射性トレーサの放射線を測定する機能を持ち、
前記評価ユニットが、前記患者の不安状態及び前記測定された放射線のレベルに基づいて担当スタッフにフィードバックするように前記インジケータモジュールを制御する、請求項１に記載の患者モニタリングシステム。
【請求項１１】
患者の唾液又は血液におけるコルチゾールを測定するコルチゾールアッセイを含む、モニタリングされるべき患者のデータを取得するステップと、
前記取得されたデータに基づき、患者の不安状態の指示を決定するステップと、
前記不安状態の前記決定された指示を担当スタッフにフィードバックするステップとを有する患者モニタリング方法。
【請求項１２】
患者の唾液又は血液におけるコルチゾールを含む、モニタリングされるべき患者のデータを取得する命令と、
患者の不安状態を決定し、前記決定された不安状態を担当スタッフにフィードバックする命令とを含むコンピュータプログラム。