【手続補正書】
【提出日】平成26年7月10日(2014.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査用に基板上に生物試料を準備するための装置であって、
基板グリッパを含む基板アームと、
前記基板アームに接続され、開放位置と試料処理位置との間で前記基板アームを動かすように構成される第１のアクチュエータと、
前記基板アーム上に前記基板グリッパで把持される基板を撹拌するように配置されかつ構成される第２のアクチュエータと、
前記基板アームが前記試料処理位置にある場合に前記基板と反対に位置する頂面を有するプラットフォームと、
前記基板が前記基板処理位置でオフセットのすべてに接触するときに前記基板と前記プラットフォームの頂面とが実質的に平行でありかつ少なくとも約５０ミクロンの離間部を形成するように、前記プラットフォームの前記頂面の上に配置される２つ以上のオフセットとを備える、装置。
【請求項２】
前記第１および第２のアクチュエータは、前記基板を動かすことおよび前記基板アーム上に前記基板グリッパで把持される基板を撹拌することの両方を行なうように構成される同じアクチュエータである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記プラットフォームの前記頂面の合計表面積は前記基板の合計表面積よりも小さい、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記プラットフォームの前記頂面の外側端縁に配置される少なくとも３つのオフセットが存在し、前記オフセットの先端は平面を規定する、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記基板グリッパの上に位置する吸引ポートをさらに備え、前記吸引ポートは吸引チューブを通して前記吸引ポートへの吸引を与えることにより前記基板を前記基板グリッパに保持するための吸引源に接続可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記プラットフォームの前記頂面上に位置する第１の染料ポートと、第１の染料貯蔵部と、前記第１の染料ポートに接続されて染料が前記第１の染料貯蔵部から前記第１の染料ポートへかつ前記離間部の中にポンピングされる流体経路を設けるための第１の染料導管とをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記プラットフォームの前記頂面上であって前記第１の染料ポートの場所とは異なる場所に位置する第２の染料ポートと、第２の染料貯蔵部と、第２の染料導管とをさらに備え、前記第１および第２の染料ポートの両者は、前記基板が前記試料処理位置にあるときに前記基板上の試料区域から間隔を空けて前記頂面上に配置され、前記第２の染料導管は、前記第２の染料ポートに接続されて染料が前記第２の染料貯蔵部から前記第２の染料ポートへかつ前記離間部の中へポンピングされる流体経路を設ける、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記プラットフォームの前記頂面上に位置する第１の固定剤ポートと、固定剤貯蔵部と、前記第１の固定剤ポートに接続されて固定剤が前記固定剤貯蔵部から前記第１の固定剤ポートへかつ前記離間部の中にポンピングされるための流体経路を設ける固定剤導管とをさらに備える、請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記プラットフォームの前記頂面上に位置する第１の濯ぎポートと、濯ぎ溶液貯蔵部と、前記第１の濯ぎポートに接続されて濯ぎ流体が前記濯ぎ溶液貯蔵部から前記第１の濯ぎポートへかつ前記離間部の中にポンピングされるための流体経路を設ける濯ぎチューブとをさらに備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記プラットフォームの前記頂面上に位置する第１の真空ポートと、第１の廃棄物容器と、前記第１の真空ポートに接続されて前記離間部または基板から流体を排出して前記流体を前記第１の廃棄物容器の中に入れる負圧の経路を設けるための第１の廃棄物導管とをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記プラットフォームの前記頂面上に位置する第２の真空ポートと、前記第２の真空ポートに接続されて前記離間部または基板から流体を排出して前記流体を前記第１の廃棄物容器の中に入れる負圧の経路を設けるための第２の廃棄物導管とをさらに備える、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１および第２の真空ポートは前記プラットフォームの前記頂面の対向端の上に位置する、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記プラットフォームは、
固定剤ポートと、
第１の染料ポートと、
第２の染料ポートと、
濯ぎポートと、
第１の真空ポートと、
第２の真空ポートとをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記プラットフォームを支持するように配置されるブロックをさらに備え、前記ブロックは、
固定剤ポートと、
第１の染料ポートと、
第２の染料ポートと、
濯ぎポートと、
第１の真空ポートと、
第２の真空ポートとを備え、
前記ブロック上の各々のポートは前記プラットフォームの中に位置するポートに対応する場所にある、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
第１の染料貯蔵部と、
第２の染料貯蔵部と、
固定剤貯蔵部と、
濯ぎ溶液貯蔵部と、
廃棄物容器と、
ポンプと、
前記ポンプおよび前記貯蔵部に接続され、かつ前記貯蔵部のうち任意の１つ以上から流体を供給するように配置される複数の流体導管と、
前記基板から前記廃棄物容器の中へ流体を排出するための真空源とをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記基板が前記開放位置に位置する場合に前記試料にわたって空気の流れを方向付けるように位置決めされる乾燥機をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
検査用に基板上に生物試料を準備する方法であって、
（ａ）  前記生物試料が表面に面し、かつ前記基板と前記表面とが実質的に平行でありかつ少なくとも約１００ミクロンの離間部を形成するように、表面に対して前記基板を位置決めするステップと、
（ｂ）  前記試料および前記表面と接触するのに十分な量の（ｉ）第１の固定剤溶液、（ii）第１の染料溶液、（iii）第２の染料溶液、および（iv）第１の濯ぎ溶液を前記基板と前記表面との間の前記離間部の中に順次供給するステップと、
（ｃ）  ステップ（ｂ）で溶液（ｉ）、（ii）、（iii）、および（iv）のうち各々１つを供給した後であってステップ（ｂ）で溶液（ｉ）、（ii）、（iii）、および（iv）の次の１つを供給する前に、
少なくとも第１の撹拌サイクルを行なうステップを備え、前記第１の撹拌サイクルは、供給された前記溶液が前記第１の撹拌サイクルの持続時間の間前記試料に接触しつつ、前記基板と表面との間の距離を変更することを備え、さらに
供給された前記溶液を前記離間部からおよび前記試料との接触から除去するステップを備える、方法。
【請求項１８】
各々の順次供給するステップは、わずか３秒の間、１秒当たり少なくとも７０マイクロリットルの流量で、ステップ（ｂ）で前記溶液のうち１つを供給するステップを備える、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１の撹拌サイクルは、
少なくとも１０ミクロンだけ前記基板と前記表面との間の前記距離を大きくすることと、
少なくとも５ミクロンだけ前記基板と前記表面との間の前記距離を小さくすることとを備える、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記供給された溶液を除去するステップは、少なくとも２秒間、大気圧よりも平方インチ当たり少なくとも１ポンド低い圧力を前記離間部に加えるステップを備える、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
検査用に基板上に生物試料を準備する方法であって、
（ａ）  前記試料が表面に面し、かつ前記基板が前記表面と前記基板の少なくとも部分との間に少なくとも約１００ミクロンの離間部を形成するように位置決めされるように、表面に対して前記基板を位置決めするステップと、
（ｂ）  固定段階を行なうステップとを備え、前記固定段階は、
（ｉ）  前記試料および前記表面に接触するのに十分な量の固定剤を前記基板と前記表面との間の前記離間部の中に供給することと、
（ii）  少なくとも第１の撹拌段階を行なうこととを備え、前記第１の撹拌段階は、前記固定剤が前記第１の撹拌段階の持続時間の間前記試料に接触しつつ前記基板と表面との間の距離を変更することを備え、さらに前記固定段階は、
（iii）  前記離間部および前記試料から前記固定剤を除去することを備え、さらに前記方法は、
（ｃ）  第１の染色段階を行なうステップを備え、前記第１の染色段階は、
（ｉ）  前記試料および前記表面に接触するのに十分な量の第１の染料を前記基板と前記表面との間の前記離間部の中に供給することと、
（ii）  少なくとも第２の撹拌段階を行なうこととを備え、前記第２の撹拌段階は、前記第１の染料が前記第２の撹拌段階の持続時間の間前記試料に接触しつつ前記基板と表面との間の前記距離を変更することを備え、前記第１の染色段階はさらに、
（iii）  前記離間部および前記試料から前記第１の染料を除去することを備え、さらに前記方法は、
（ｄ）  第２の染色段階を行なうステップを備え、前記第２の染色段階は、
（ｉ）  前記試料および前記表面に接触するのに十分な量の第２の染料を前記基板と前記表面との間の前記離間部の中に供給することと、
（ii）  少なくとも第３の撹拌段階を行なうこととを備え、前記第３の撹拌段階は、前記第２の染料が前記第３の撹拌段階の持続時間の間前記試料に接触しつつ前記基板と表面との間の前記距離を変更することを備え、前記第２の染色段階はさらに、
（iii）  前記離間部および前記試料から前記第２の染料を除去することを備え、さらに前記方法は、
（ｅ）  第１の濯ぎ段階を行なうステップを備え、前記第１の濯ぎ段階は、
（ｉ）  前記試料および前記表面に接触するのに十分な量の第１の濯ぎ液を前記基板と前記表面との間の前記離間部の中に供給することと、
（ii）  少なくとも第４の撹拌段階を行なうこととを備え、前記第４の撹拌段階は、前記第１の濯ぎ液が前記第４の撹拌段階の持続時間の間前記試料に接触しつつ前記基板と表面との間の前記距離を変更することを備え、前記第１の濯ぎ段階はさらに、
（iii）  前記離間部および前記試料から前記第１の濯ぎ液を除去することを備える、方法。
【請求項２２】
第２の濯ぎ段階を行なうステップをさらに備え、前記第２の濯ぎ段階は、
（ｉ）  前記試料および前記表面に接触するのに十分な量の第２の濯ぎ液を前記基板と前記表面との間の前記離間部の中に供給することと、
（ii）  少なくとも第５の撹拌段階を行なうこととを備え、前記第５の撹拌段階は、前記第２の濯ぎ液が前記第５の撹拌段階の持続時間の間前記試料に接触しつつ前記基板と表面との間の前記距離を変更することを備え、さらに前記第２の濯ぎ段階は
（iii）  前記第２の濯ぎ液を前記離間部および前記試料から除去することを備える、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記試料にわたって空気の流れを方向付けることによって乾燥サイクルを行なうステップをさらに備える、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
組合せられた方法ステップは６０秒未満で行なわれる、請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記方法は、６５０マイクロリットル未満の固定剤、第１の染料、第２の染料、および第１の濯ぎ流体を消費する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
組合せられた方法ステップは７０秒未満で行なわれる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
前記方法は、８５０マイクロリットル未満の固定剤、第１の染料、第２の染料、第１の濯ぎ液、および第２の濯ぎ流体を消費する、請求項２３に記載の方法。
【請求項２８】
自動化された試料検査システムであって、
サンプル試料を基板に塗布するアプリケータステーションと、
請求項１に記載の生物試料準備装置と、
前記試料準備装置による準備の後で前記生物試料を画像化する画像化ステーションとを備える、システム。
【請求項２９】
前記基板アームに対して前記基板グリッパを位置決めするように構成される整列機構をさらに備え、前記整列機構は、
前記基板アームに接続され、開口およびクランプ部材を備える第１の部材と、
前記基板グリッパに接続され、前記開口内に位置決めされるように構成される第２の部材とを備え、
前記第２の部材が前記開口内に位置決めされると、前記第２の部材の第１の側は前記第１の部材の表面に接するように位置決めされ、前記クランプ部材は、前記第１の側とは反対の前記第２の部材の第２の側に力を加えるように位置決めされる、請求項１に記載の装置。
【請求項３０】
前記整列機構は、前記第２の部材と前記基板グリッパとの間に位置決めされる偏向要素をさらに備え、前記第２の部材の外面の少なくとも部分は球形を有する、請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
凹部を有する支持ブロックをさらに備え、
前記プラットフォームは前記支持ブロックの前記凹部内に位置決めされ、
前記基板の前記頂面からの流体を前記凹部内で集めることができるように、前記基板の前記頂面は前記支持ブロックの頂面に対して持ち上げられる、請求項３に記載の装置。
【請求項３２】
前記基板アームは第１の基板アームであり、前記基板グリッパは第１の基板グリッパであり、さらに装置は、
第２の基板グリッパを含む第２の基板アームと、
少なくとも２つの位置の間で前記装置を平行移動させるように構成される平行移動装置とを備え、前記位置の第１の位置では、前記第１の基板グリッパは基板移動機から基板を取り出すように位置決めされ、前記位置の第２の位置では、前記第２の基板グリッパは前記基板移動機から基板を取り出すように位置決めされる、請求項１に記載の装置。
【請求項３３】
前記プラットフォームの前記頂面の対向側に位置する第１および第２の真空ポートと、
少なくとも１つの廃棄物容器と、
前記第１および第２の真空ポートに接続されて前記離間部または基板から流体を排出して前記流体を前記少なくとも１つの廃棄物容器の中に入れる負圧の通路を設けるための廃棄物導管とをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３４】
前記第１および第２のアクチュエータに接続される制御システムをさらに備え、前記制御システムは、前記装置の動作の間、前記制御システムが前記第１のアクチュエータを活性化して、流体が前記離間部から除去される前に前記基板を前記試料処理位置から移動させる、請求項１に記載の装置。
【請求項３５】
平行移動機構に接続される制御システムをさらに備え、前記制御システムは、前記装置の動作の間、前記制御システムが前記平行移動機構を活性化させ、それにより
基板が前記第２の基板グリッパに装着され、前記第２の基板アームが前記開放位置にある場合に、前記試料処理位置でまたは前記開放位置と前記試料処理位置との間の中間位置で、前記第１の基板グリッパが前記基板移動機から基板を取り出すように位置決めされ、かつ
基板が前記第１の基板グリッパに装着され、前記第１の基板アームが前記開放位置にある場合に、前記試料処理位置でまたは前記開放位置と前記試料処理位置との間の中間位置で、前記第２の基板グリッパが前記基板移動機から基板を取り出すように位置決めされる、ように構成される、請求項３２に記載の装置。
【請求項３６】
前記プラットフォームの前記頂面上に位置する固定剤ポートと、固定剤貯蔵部と、固定剤導管とを備える基板分散サブシステムに接続される制御システムをさらに備え、前記制御システムは、
前記固定剤分散サブシステムを用いて前記基板上に固定剤溶液を分散させること、および
前記第１のアクチュエータを活性化して前記基板を撹拌すること
によって、基板上に生物試料を準備するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３７】
前記制御システムは、前記プラットフォームの前記頂面上に位置する真空ポートと、廃棄物容器と、前記真空ポートに接続されて前記離間部または基板から流体を排出して前記流体を前記廃棄物容器の中に入れる負圧の経路を設けるための廃棄物導管とを備える真空サブシステムに接続され、前記制御システムは、前記真空サブシステムを用いて前記基板から前記固定剤溶液を排出することによって前記基板上に前記生物試料を準備するようにさらに構成される、請求項３６に記載の装置。
【請求項３８】
前記制御システムは、前記プラットフォームの前記頂面上に位置する第１の染料ポートと、第１の染料貯蔵部と、前記第１の染料ポートに接続されて染料が前記第１の染料貯蔵部から前記第１の染料ポートへかつ前記離間部の中にポンピングされる流体経路を設けるための第１の染料導管とを備える第１の染料サブシステムに接続され、前記制御システムは、
前記第１の染料サブシステムを用いて前記基板上に第１の染料溶液を分散させること、
前記第１のアクチュエータを活性化して前記基板を撹拌すること、および
前記真空サブシステムを用いて前記基板から前記第１の染料溶液を排出すること
によって、前記基板上に前記生物試料を準備するようにさらに構成される、請求項３７に記載の装置。
【請求項３９】
前記制御システムは、前記プラットフォームの前記頂面上に位置する第２の染料ポートと、第２の染料貯蔵部と、前記第２の染料ポートに接続されて染料が前記第２の染料貯蔵部から前記第２の染料ポートへかつ前記離間部の中にポンピングされる流体経路を設けるための第２の染料導管とを備える第２の染料サブシステムに接続され、前記制御システムは、
前記第２の染料サブシステムを用いて前記基板上に第２の染料溶液を分散させること、
前記第１のアクチュエータを活性化して前記基板を撹拌すること、および
前記真空サブシステムを用いて前記基板から前記第２の染料溶液を排出すること
によって、前記基板上に前記生物試料を準備するようにさらに構成される、請求項３８に記載の装置。
【請求項４０】
前記制御システムは、前記プラットフォームの前記頂面上に位置する濯ぎポートと、濯ぎ溶液貯蔵部と、前記濯ぎポートに接続されて濯ぎ流体が前記濯ぎ溶液貯蔵部から前記濯ぎポートへかつ前記離間部の中にポンピングされるための流体経路を設ける濯ぎチューブとを備える濯ぎサブシステムに接続され、前記制御システムは、
前記濯ぎサブシステムを用いて前記基板上に濯ぎ溶液を分散させること、
前記第１のアクチュエータを活性化して前記基板を撹拌すること、および
前記真空サブシステムを用いて前記基板から前記濯ぎ溶液を排出すること
によって、前記基板上に前記生物試料を準備するようにさらに構成される、請求項３９に記載の装置。
【請求項４１】
前記制御システムは、二度目に前記基板を濯ぐように、前記濯ぎサブシステムを用いて前記基板上に濯ぎ溶液を分散させるステップ、前記第１のアクチュエータを活性化して前記基板を撹拌するステップ、および前記真空サブシステムを用いて前記基板から前記濯ぎ溶液を排出するステップを繰り返すことによって、前記基板上に前記生物試料を準備するようにさらに構成される、請求項４０に記載の装置。
【請求項４２】
前記制御システムは乾燥機に接続され、前記制御システムは、前記基板にわたって空気の流れを方向付けるように前記乾燥機を用いることによって前記基板上に前記生物試料を準備するようにさらに構成される、請求項４１に記載の装置。