(57)【要約】【課題】転写時の皺入りや、転写前後に生じる金属薄膜層の汚染などを無くすことができる金属薄膜転写用フィルムを提供せんとする。【解決手段】厚さ約５μｍ〜２００μｍの基材２表面上に、フッ素樹脂、オレフィン樹脂或いはポリビニルアルコール樹脂からなる離型層３及び金属薄膜層４を順次積層して金属薄膜転写用フィルム１を構成した。離型性を備えた樹脂の中でも特に優れた離型性を備えたフッ素樹脂、オレフィン樹脂或いはポリビニルアルコール樹脂から離型層３を形成することにより、金属薄膜層４を剥離する際に金属薄膜側に離型樹脂や溶剤などが残って金属薄膜層４が汚染されるのを防ぐことができる。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さ約５μｍ〜２００μｍの基材表面上に、フッ素樹脂、オレフィン樹脂或いはポリビニルアルコール樹脂からなる離型層及び金属薄膜層を順次積層してなる構成を備えた金属薄膜転写用フィルム。
【請求項２】
厚さ約５μｍ〜２００μｍで、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率が約１０００〜４０００Ｍｐａである基材の表面上に、厚さ約１〜５０μｍのエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体からなるフィルムを貼り合せ、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体面に加熱蒸着又はスパッタリングにより金属薄膜層を積層してなる構成を備えた金属薄膜転写用フィルム。
【請求項３】
厚さ約５μｍ〜２００μｍで、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率が約１０００〜４０００Ｍｐａである基材の表面上に、厚さ約１〜５０μｍのポリ４−メチルペンテンー１からなるフィルムを貼り合せてエージングし、ポリ４−メチルペンテンー１面に加熱蒸着又はスパッタリングにより金属薄膜層を積層してなる構成を備えた金属薄膜転写用フィルム。
【請求項４】
基材として、厚さ約２０〜２００μｍのＰＥＴフィルムを用いてなる請求項１〜３のいずれかに記載の金属薄膜転写用フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の金属薄膜転写フィルムの金属薄膜層を、接着剤を介して被着体に重ねて加熱圧着し、該金属薄膜層から基材及び離型層を剥がしてなる構成を備えた電気導体回路層積層基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基材表面に金属薄膜層を形成するための金属薄膜転写用フィルム、詳しくはフレキシブルプリント配線板等の電気導体回路層を転写加工するのに適した金属薄膜転写用フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気導体回路の形成方法として、金属箔層を積層してなる金属薄膜積層転写フィルムの該金属箔層をエッチングするなどして回路パターンを形成し、この回路パターンを絶縁基板に転写することにより電気導体回路を形成する方法が知られており、この種の用途に用いる金属薄膜積層転写フィルムとして様々なものが提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１は、プラスチック製のキャリヤーフィルム上に、ポリビニルホルマールとシリコーンの混合物、或いはエポキシ樹脂とシリコーンの混合物等からなる離型剤層を介して金属箔を加熱圧着した後、エッチングにより導電性回路を形成し、該導電性回路を被覆するように前記導電性回路側面全面にエポキシ樹脂またはフェノール樹脂による接着剤層を形成してなる導電性回路転写用シートを開示している。
【０００４】
特許文献２は、厚さ１〜６００μｍのポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等からなるプラスチックシートの表面をシリコーン系剥離剤、フッ素系剥離剤、長鎖アクリル系剥離剤、硫化モリブデン等で表面処理してなる易剥離性シートの上に、中間層を介して金属膜を転写可能に形成してなる転写シートを開示している。
【０００５】
特許文献３は、基材フィルム上に電子線硬化樹脂又は紫外線硬化樹脂からなる剥離樹脂層及び金属蒸着層を順次積層してなる蒸着転写フィルムを開示している。
また、特許文献４は、配線層の転写工程においても配線間の寸法誤差のない寸法精度に優れた配線層を形成するため、樹脂フィルムの表面にアクリル系、ゴム系、シリコン系、エポキシ系等公知の接着剤接着層を介して金属層を形成し、該金属層を絶縁基板表面に転写して導体回路を形成するための転写シートにおいて、前記金属層の厚みを１〜１００μｍとし、前記樹脂フィルムの厚みを１０〜５００μｍとすることにより１００℃で１時間加熱後の収縮が０．０５％以下であり、且つ前記樹脂フィルムへの金属層の粘着力が５０〜７００ｇ／２０ｍｍである転写フィルムを開示している。
【０００６】
【特許文献１】
特開平５−９０７４０号
【特許文献２】
特開平５−１８５８００号
【特許文献３】
特開平７−１９５８５５号
【特許文献４】
特開平１０−５１１０８号
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このような金属薄膜積層転写フィルムを利用した回路形成は、絶縁基板が各種薬品と接触しない点や、導体回路を圧力印加して絶縁基板に転写させるために導体回路が絶縁基板中に埋め込まれ、導体回路と絶縁基板との密着性に優れる点などにおいて高く評価される反面、回路の精密化・高密度化が進むにつれ、転写時の皺入りや汚染などが問題視されるようになって来ている。例えば、転写した金属薄膜に皺が入り、この皺が原因で配線間に寸法誤差が生じたり、基材上に離型層等を積層させるために使用する溶剤が金属薄膜層に回り込んで該金属薄膜層を汚染したり、金属薄膜層を剥離する際に金属薄膜側に離型樹脂が残って金属薄膜層を汚染したりすることがあり、これらの問題は回路が精密化するつれて益々回路動作への影響が心配される。
【０００８】
そこで本発明は、転写時の皺入りや、転写前後に生じる金属薄膜層の汚染などを無くすことができる金属薄膜転写用フィルムを提供せんとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の金属薄膜転写用フィルムは、厚さ約５μｍ〜２００μｍの基材表面上に、フッ素樹脂、オレフィン樹脂或いはポリビニルアルコール樹脂からなる離型層及び金属薄膜層を順次積層してなる構成を備えた金属薄膜転写用フィルムである。
離型性を備えた樹脂の中でも特に優れた離型性を備えたフッ素樹脂、オレフィン樹脂或いはポリビニルアルコール樹脂から離型層を形成することにより、金属薄膜層を剥離する際に金属薄膜側に離型樹脂や溶剤などが残って金属薄膜層が汚染されるのを防ぐことができ、より精密な電気導体回路を形成することができる。
【００１０】
より好ましくは、例えば厚さ約５μｍ〜２００μｍで、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率が約１０００〜４０００Ｍｐａである基材の表面上に、厚さ約１〜５０μｍのエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体からなるフィルムを貼り合せ、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体面に加熱蒸着又はスパッタリングにより金属薄膜層を積層してなる構成を備えた金属薄膜転写用フィルムである。
【００１１】
また、厚さ約５μｍ〜２００μｍで、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率が約１０００〜４０００Ｍｐａである基材の表面上に、厚さ約１〜５０μｍのポリ４−メチルペンテンー１からなるフィルムを貼り合せた後エージングし、ポリ４−メチルペンテンー１面に加熱蒸着又はスパッタリングにより金属薄膜層を積層してなる構成を備えた金属薄膜転写用フィルムである。
【００１２】
上記の如き構成を備えた金属薄膜転写用フィルムは、その金属薄膜層を接着剤を介して被着体に重ねて加熱圧着し、該金属薄膜層から基材及び離型層を剥がすことによって、皺入りなく、しかも金属薄膜の汚染もなく金属薄膜を被着体に転写することができるから、例えばフレキシブルプリント配線板等の電気導体回路を形成するのに特に適した金属薄膜転写用フィルムを形成することができる。
【００１３】
なお、特許請求の範囲において、請求項１における「フッ素樹脂、オレフィン樹脂或いはポリビニルアルコール樹脂からなる離型層」など、「Ａからなる」という表現が用いられているが、これはＡのみからなるという意ではなく、Ａを主材料として含んでいれば（少なくとも５０％以上含有）、本発明の趣旨を阻害しない範囲でＡ以外の他の物質を含んでいても包含する意である。
また、請求項１における「離型層」とは、離型性を備えた樹脂からなり、転写する際には基材側に残り、かつ金属薄膜層を容易に剥離させる役割を果たす層の意である。また、金属薄膜層は転写される金属膜の意であり、その厚さを厳密に問題とする意図はない。
請求項２における「エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体からなるフィルム」とは、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体のみを樹脂成分とするフィルムは勿論、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体が主材であれば、その他の樹脂を含むフィルムも包含する意である。
請求項３における「ポリ４−メチルペンテンー１からなるフィルム」とは、ポリ４−メチルペンテンー１のみを樹脂成分とするフィルムは勿論、ポリ４−メチルペンテンー１が主材であれば、その他の樹脂を含むフィルムを包含する意である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【００１５】
金属薄膜転写用フィルム１は、図１に示すように、基材２の表面上に離型層３及び金属薄膜層４を順次積層して構成することができる。
【００１６】
基材２は、所望の剛性（例えば曲げ弾性）を備えたフィルム乃至シート状体であれば、その材質については特に制限なく用いることができる。例えば、鉄箔、銅箔、アルミ箔等の金属箔乃至シート、セルロース、トリアセチルセルロース、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリアリレート、ポリカーボネート等の高分子フィルム乃至シート等を挙げることができる。中でも、基材２の成形性、平滑性、柔軟性、離型層との接着性、同接着加工性、金属薄膜加工性及び金属薄膜転写加工性等の観点からＰＥＴフィルムを用いるのが特に好ましい。
【００１７】
基材２の剛性は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率が約１０００〜４０００Ｍｐａであるのが好ましい。
上記下限値未満の樹脂では、転写時に皺入りが発生したり、伸びてしまったり、破断したりするおそれがある。他方、剛性率が上記上限値より大きいとフィルムを巻いた場合にブロッキングを起こし、又、フィルムを巻き出す際にタック性が強いために安定して巻き出せないおそれがある。
【００１８】
基材２の厚さは、約５〜２００μｍとするのが好ましい。
厚さが５μｍ未満では、金属薄膜転写時に皺入りやカールなどが生じる可能性があり生産効率が低下するおそれがある。他方、２００μｍを越えると、柔軟性が低下し過ぎて金属薄膜転写加工時に被着体への密着濡れが弱まる可能性があるほか、加工作業性（ハンドリング性）が悪化し、さらに他の材料との積層時加熱温度の接着面への伝達が悪くなったり、押圧力を圧着部分に加えることが困難になる等の問題が生じる可能性がある。
【００１９】
基材２は、さらに２０℃における引張弾性率と上記厚さの積が約１×１０３  〜１×１０６  （Ｎ／ｍ）であるのが好ましい。
１×１０３  （Ｎ／ｍ）未満では、基材の剛性が低く、巻物として保管時に皺たるみや変形が発生し易く、１×１０６を越えると基材の剛性が強過ぎるために他の材料との積層加工が困難になる可能性がある。
【００２０】
また、基材２と離型層３との接着強度は約１０〜１０００ｇｆ／１００ｍｍ幅の範囲内にあることが好ましい。
接着強度が１０ｇｆ／１００ｍｍ幅未満であると離型層３との剥離が生じる可能性がある。その一方、１０００ｇｆ／１００ｍｍ幅を越えると、他の材料と貼合せた後、基材２を剥離して離型層３表面を形成させる際に離型層３が変形したり、貼合せた他の材料との接着が剥がれて浮きが生じる等のトラブルが発生し易い。特に離型層３の厚さが１０μｍ以下、さらには５μｍ以下の極薄フィルムではその影響が大きい。
【００２１】
なお、上記物性のうち引張弾性率と厚さの積については材料の選択と厚さにより、接着強度については材料の選択、積層条件、表面処理の方法や条件等によって制御できる。
【００２２】
基材２は単層のものでも、２層以上の多層からなるものでもよい。
【００２３】
離型層３は、フッ素樹脂、オレフィン樹脂、或いはポリビニルアルコール樹脂から形成するのが好ましく、中でもフッ素樹脂はその成分がより転写し難くなるので特に好ましい。形態としてはフィルムを採用するのが好ましい。
【００２４】
離型層３を構成するフッ素樹脂としては、モノマー成分としてフッ化ビニリデン、フッ化ビニル、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロアルキルビニルエーテル、クロロトリフルオロエチレン等の含フッ素モノマー成分を含む単独重合体、前記含フッ素モノマー成分のうちの二種類以上の組合わせからなる共重合体、ブレンド体或いは積層体、又は、前記含フッ素モノマー成分のうちのいずれか一種或いは二種類以上の組合わせに、エチレン、プロピレン、アルキルビニルエーテルなどの非フッ素系モノマー成分を併用してなる共重合体、ブレンド体或いは積層体を用いることができる。
具体的には、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリビニリデンフルオライド等が挙げられる。
なお、非フッ素系モノマー成分を併用してなるブレンド体或いは積層体の場合は、離型層３の金属薄膜形成面にフッ素樹脂が含まれる構成とする必要がある。
【００２５】
離型層３を構成するオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン及びその他のオレフィン単独重合体、エチレン・プロピレン共重合体（ＥＰＭ）、エチレン・プロピレン・ジエン共重合体（ＥＰＤＭ）、エチレン・酢ビ共重合体（ＥＶＡ）、エチレン・アクリル酸エチル共重合体（ＥＥＡ）及びその他のオレフィン系共重合体、ポリプロピレンをハードセグメントとしＥＰＤＭをソフトセグメントとしたもの、高密度ポリエチレンをハードセグメントとし非結晶ポリエチレンをソフトセグメントとしたもの、その他オレフィン系樹脂をハードセグメントとしゴム成分若しくは非結晶オレフィン系樹脂をソフトセグメントとしてなるオレフィン系熱可塑性エラストマ（ＴＰＯ）からなる単独体、ブレンド体或いは積層体を用いることができる。なお、ブレンド体或いは積層体の場合は、離型層３の金属薄膜形成面にオレフィン樹脂が含まれる構成とする必要がある。
【００２６】
上記フッ素樹脂、オレフィン樹脂及びポリビニルアルコール樹脂の中でも好ましいのは、厚さ約１〜５０μｍ、好ましくは約１〜５μｍのエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体或いはポリ４−メチルペンテンー１である。
エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルムやポリ４−メチルペンテンー１フィルムは、特に金属薄膜の成形性、同成形時耐熱性、被着体への転写性、同接着加工性、更には、例えばフレキシブルプリント配線板等の電気導体回路層を転写加工するために金属薄膜形成後転写前に行う配線加工時の密着性などにおいて優れている。
また、厚さ１μｍ未満の場合は、離型層３の成形性や基材２との接着加工性が損なわれる可能性があるほか、溶液系のコーティング剤を用いた場合に、低分子量成分が離型層３に残存し、被着体への転写加工時に低分子量成分が移行して金属薄膜層表面を汚染するおそれがある。
【００２７】
離型層３を基材２上に積層する方法としては、接着層を介してのラミネート加工、熱プレス加工、熱ロールラミネート、押出ラミネート、共押出加工、エマルジョンコーティングなど現在公知の積層方法を採用することができる。例えば、フッ素樹脂フィルム、オレフィン樹脂フィルム、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤などを接着剤として貼り合せて積層することができる。
この際、密着性を高めるために、基材２或いは離型層３の片面若しくは両面に予めプライマー処理や放電処理、化学処理などの表面処理を施してもよい。
【００２８】
金属薄膜層４は、金、白金、銀、銅、コバルト、クロム、ニッケル、アルミニウム、ニッケル、タングステン、鉄、スズ、インジウム等の金属単体のほか、適宜二種類以上の金属の固溶体などのあらゆる種類の金属、その他導電体物質を使用することができる。特に電気導体として応用する場合には、その抵抗値や配線加工性、耐酸化性などの点で銅により金属薄膜層４を構成するのが好ましい。
【００２９】
金属薄膜層４の形成手段は特に限定するものではなく、予め形成した金属フィルム乃至シートを離型層３上にラミネートすることも可能ではあるが、蒸着・スパッタリング等によるＰＶＤ法が膜性能の点で好ましい。具体的には、真空蒸着加工法、スパッタリング加工法、イオンプレーティング加工法、反応性真空蒸着加工法、反応性スパッタリング加工法、反応性イオンプレーティング加工法などの物理的薄膜加工法を採用することができる。この際、加熱蒸着を採用すれば生産性が向上し、スパッタリングを採用すれば室温に近い状態での加工で密着性を得ることができる
なお、離型層３としてポリ４−メチルペンテンー１を用いた場合は、フィルムを貼り合せ、エージングした後、加熱蒸着或いはスパッタリングを行うのが好ましい。
金属薄膜層４の厚さは特に制約するものではなく、用途により８ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内の適宜厚さに設定するのが好ましい。
【００３０】
（金属薄膜転写用フィルムの利用）
上記構成を備えた金属薄膜転写用フィルム１を被着体（例えばポリイミドフィルム）に転写するには、金属薄膜転写用フィルム１の金属薄膜層４を被着体面に重ねて、熱ロールや熱プレス圧着、接着剤を介してのラミネート加工などを行えば、転写する薄膜金属に皺を入らせることなく効率的に転写加工することができ、フレキシブルプリント配線板等に用いる電気導体回路の形成（例えば配線加工など）に好適に供することができる。
【００３１】
なお、配線加工等の処理は、基板転写後のほか、転写前の金属薄膜転写用フィルム１のフィルム面においても行うことができる。
例えば、金属薄膜層４上にフォトレジスト、スクリーン印刷等の方法で導体回路状にレジストを形成した後、不要な部分をエッチング除去することで所望の導体回路を得る。次に、導体回路が形成されてなる金属薄膜転写用フィルム１を絶縁基板に積層して圧力を印加する。この時、絶縁基板として、絶縁基板を構成する有機樹脂を含む絶縁スラリーをドクターブレード法等によりシート状に成形した半硬化状態のシートを用いることにより、機械的圧力によってレジストおよび導体回路を絶縁基板内に埋め込むことができる。そして、基材２を離型層３とともに剥がして絶縁基板に導体回路を転写させることにより、導体回路が絶縁基板の埋め込まれた単層の回路基板を作製することができる。その後、絶縁基板を熱処理して完全硬化することによって配線基板を作製することができる。
【００３２】
なお、離型層３としてポリビニルアルコールを用いた場合、金属薄膜層４を汚染するおそれがあるため、転写後に水で洗浄するのが好ましい。
【００３３】
（実施例１）
テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体を押出機で口金温度３４０℃にて押出して厚さ２０μｍのフィルムを得、同フィルムの片面にプラズマエッチング加工による表面処理を施した。
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率１０００Ｍｐａ）に溶液系アクリル系接着剤を３μｍ塗布し、１５０℃の加熱ニップロールにて表面処理面と接着剤加工面とを貼り合せて積層フィルムを形成した。
該積層フィルムのテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体面に銅を厚さ３００μｍとなるように加熱蒸着して金属薄膜転写フィルムを得た。
被着体とした厚さ５０μｍのポリイミドフィルムにエポキシ系接着剤１０μｍ塗布した後、ニップロールにて金属薄膜転写フィルムとラミネートし、積層フィルムを剥離した。すると、皺入りもなく、銅の薄膜を被着体のポリイミドフィルムに転写することができた。
【００３４】
（実施例２）
ポリ４−メチルペンテン−１を押出機で口金温度２９０℃にて押出して厚さ２０μｍのフィルムを得、同フィルムの片面にコロナ処理加工による表面処理を施した。
厚さ２５０μｍのＰＥＴフィルム（ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率１０００Ｍｐａ）にウレタン系接着剤を３μｍ塗布し、ニップロールにて表面処理面と接着剤加工面とを貼り合せて、４０℃で一日エージングして積層フィルムを得た。
実施例１と同様に銅を加熱蒸着し、同様にポリイミドフィルムに転写を行ったところ、僅かに皺入りが見られたが、銅の薄膜を被着体に転写することができた。
【００３５】
（実施例３）
エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体を押出機で口金温度３００℃にて押出して厚さ５μｍのフィルムを得、同フィルムの片面にコロナ処理加工による表面処理を施した。
厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率１０００Ｍｐａ）にウレタン系接着剤を３μｍ塗布し、ニップロールにて表面処理面と接着剤加工面とを貼り合せて、４０℃で一日エージングして積層フィルムを得た。
実施例１と同様に銅を加熱蒸着し、同様にポリイミドフィルムに転写を行ったところ、皺入りもなく銅の薄膜を被着体に転写することができた。
【００３６】
（実施例４）
エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体を押出機で口金温度３００℃にて押出して厚さ５μｍのフィルムを得、同フィルムの片面にコロナ処理加工による表面処理を施した。
厚さ１５μｍのＰＥＴフィルム（ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率１０００Ｍｐａ）にウレタン系接着剤を３μｍ塗布し、ニップロールにて表面処理面と接着剤加工面とを貼り合せて、４０℃で一日エージングして積層フィルムを得た。
実施例１と同様に銅を加熱蒸着し、同様にポリイミドフィルムに転写を行ったところ、僅かに皺入りが見られたが銅の薄膜を被着体に転写することができた。
【００３７】
（実施例５）
エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体を押出機で口金温度３００℃にて押出して厚さ５μｍのフィルムを得、同フィルムの片面にコロナ処理加工による表面処理を施した。
厚さ３５０μｍのＰＥＴフィルム（ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率１０００Ｍｐａ）にウレタン系接着剤を３μｍ塗布し、ニップロールにて表面処理面と接着剤加工面とを貼り合せて、４０℃で一日エージングして積層フィルムを得た。
実施例１と同様に銅を加熱蒸着し、同様にポリイミドフィルムに転写を行ったところ、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルムとＰＥＴフィルムとのラミネート加工直後の巻き取り時に周長差による皺入りが見られたが、銅の薄膜を被着体に転写することができた。
【００３８】
（比較例１）
厚さ１００μｍのウレタン表面処理ＰＥＴフィルム（ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率１０００Ｍｐａ）のフィルム面上に、溶液型シリコーン系離型剤を厚さ０．１μｍ塗布し、１５０℃１分で乾燥硬化させて積層フィルムを得た。実施例１と同様に銅を加熱蒸着し、同様にポリイミドフィルムに転写を行ったところ、皺入りもなく銅の薄膜を被着体に転写することができたが、銅表面にシリコーン低分子量物の汚染が確認された。
【００３９】
（比較例２）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率１０００Ｍｐａ）のフィルム面上に、銅を厚さ３００ｎｍとなるように直接加熱蒸着し、実施例１と同様に銅を加熱蒸着し、同様にポリイミドフィルムに転写を行ったところ、銅の薄膜がＰＥＴフィルムから剥離しなかった。
【００４０】
（比較例３）
エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体を、押出機で口金温度３００℃にて押出して厚さ５０μｍのフィルムを得た。
このフィルムに厚さ３００ｎｍとなるように銅を直接加熱蒸着し、実施例１と同様に銅を加熱蒸着し、同様にポリイミドフィルムに転写を行ったところ、銅の薄膜を被着体のポリイミドフィルムに転写することはできたが、転写加工時にニップロールの間でエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体のフィルムに皺が入り、その影響で銅の薄膜にも折れや皺、傷が入り、更に一部に転写しないところも見られた。
【００４１】
（比較例４）
厚さ１００μｍのウレタン表面処理ＰＥＴフィルム（ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３による曲げ弾性率１０００Ｍｐａ）のフィルム面上に、溶液型フッ素系コーティング剤を厚さ３μｍ塗布し、１５０℃１分で乾燥硬化させて積層フィルムを得た。実施例１と同様に銅を加熱蒸着し、同様にポリイミドフィルムに転写を行ったところ、皺入りもなく銅の薄膜を被着体に転写することができたが、銅表面にフッ素系の低分子量物の汚染が確認された。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例に係る金属薄膜転写用フィルムの一例を示した断面図である。
【符号の説明】
１    金属薄膜転写用フィルム
２    基材
３    離型層
４    金属薄膜層
【図１】
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