(57)【要約】　　　（修正有）【課題】フロントエッジ面とバックエッジ面とのスリットから塗布液を連続的に押し出して塗布するエクストルージョン塗布装置において、高速で薄膜塗布が均一かつ安定な塗布を可能にした塗布装置及び塗布方法を提供する。【解決手段】（１）バックエッジの形状がｙ＝ａ(ｘ/Ｌb)nの曲線よりなる塗布装置。（断面上でｘは原点からの距離、Ｌbはバックエッジ面のＸ軸上への投影点の原点からの距離）（２）バックエッジの形状が２つ以上の曲率からなる塗布装置。（３）バックエッジが曲率を有する面と平面との組み合わせからなることを特徴とする塗布装置及び塗布方法。【選択図】図４
2004136282.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フロントエッジ面を有し支持体の走行方向に対して上流側に位置するフロントバー、バックエッジ面を有し該支持体の走行方向に対して下流側に位置するバックバー及び該フロントバーと該バックバーとの間に位置するスリットを有し、該支持体に塗布を施す塗布装置において、該支持体の走行方向における該塗布装置の断面上で、該フロントエッジ面の下流端における該フロントバーの接線より、該バックバーの一部が突出しており、且つ該フロントエッジ面の下流端と該バックエッジ面の上流端とを通る直線を、該バックエッジ面の上流端を原点、該支持体の走行方向を正方向とするＸ軸、該Ｘ軸に該原点で直交する直線を、該バックバーから該支持体に向かう方向を正方向とするＹ軸とした場合のＸ−Ｙ平面内において、該平面内での該バックエッジ面の形状が以下の関係式
ｙ＝ａ（ｘ／Ｌb）n
（但し、0.1≦ａ≦1.0，0.1≦ｎ≦0.7であり、
ｘは該断面上で該原点からの距離であり、ｙは該断面上で該Ｙ軸方向の値であり、
Ｌbは該断面上で、該バックエッジ面の該Ｘ軸上への投影点の原点からの距離であり、
0.2≦Ｌb≦5.0（mm）である。）を満たすことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
フロントエッジ面を有し支持体の走行方向に対して上流側に位置するフロントバー、バックエッジ面を有し該支持体の走行方向に対して下流側に位置するバックバー及び該フロントバーとバックバーとの間に位置するスリットとを有し、該支持体に塗布を施す塗布装置において、該支持体の走行方向における該塗布装置の断面上で、該フロントエッジ面の下流端における該フロントバーの接線より、該バックバーの一部が突出しており、該断面上での該バックエッジ面の形状が、該バックエッジ面の上流端から下流端にかけて該バックバー側にそれぞれ中心を有する曲率半径の異なる第１の円弧、第２の円弧及び第３の円弧が連続したものであることを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
該断面上で、該フロントエッジ面の下流端と該バックエッジ面の上流端とを通る直線を、該バックエッジ面の上流端を原点、該支持体の走行方向を正方向とするＸ軸、該Ｘ軸に該原点で直交する直線を、該バックバーから該支持体に向かう方向を正方向とするＹ軸とした場合のＸ−Ｙ平面内において、該平面内で該バックエッジ面の形状が以下の関係式
0.2 ≦   Ｌb  ≦ 5.0（mm）
0   ≦ｘ1／Ｌb≦ 0.5
0.2 ≦ｘ2／Ｌb≦ 0.8
−0.5 ≦Ｈb／Ｌb≦ 0.5
0.05≦   ｒ1  ≦ 2.0（mm）
0.5 ≦   ｒ2  ≦ 5.0（mm）
6.0 ≦   ｒ3  ≦30.0（mm）
（但し、ｘ1＜ｒ1，ｘ2−ｘ1＜ｒ2，Ｌb−ｘ2＜ｒ3であり、
ｒ1は第１の円弧の曲率半径、ｒ2は第２の円弧の曲率半径及びｒ3は第３の円弧の曲率半径を示し、
ｘ1は該断面上で該第１の円弧と該第２の円弧との接続点の該Ｘ軸上への投影の長さであり、ｘ2は該断面上で該第２の円弧と該第３の円弧との接続点の該Ｘ軸上への投影の長さであり、
Ｌbは該断面上で該バックエッジ面の該Ｘ軸上への投影点の原点からの距離であり、
Ｈbは該断面上で該バックエッジ面の該Ｙ軸上への投影点の原点からの距離である。（但し、ＨbはＹ軸の負側に位置する場合負符号を有する。））を満たし、該第１の円弧と該第２の円弧の接続点における該第１の円弧との接線と該第２の円弧との接線とのなす角が５度以内であり、且つ該第２の円弧と該第３の円弧の接続点における該第２の円弧との接線と該第３の円弧との接線とのなす角が５度以内であることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の塗布装置を用いて、該バックエッジ面の下流端における該バックバーの接線と該下流端より下流に位置する該支持体との成す角θが−10≦θ≦30（度）で塗布することを特徴とする塗布方法。
　
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明はエクストルージョン塗布装置及び塗布方法に関するもので、特に、塗布型の磁気記録媒体の塗布に適するもので、詳しくは高速・薄膜塗布において、均一で且つ安定な塗布を可能にした塗布装置及び塗布方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
　塗布装置としては、ロールコーター、グラビアコーター、エクストルージョンコーター、スライドビードコーター、カーテンコーター等が知られているが、磁気記録媒体の塗布装置としてはロールコーター、グラビアコーター、エクストルージョンコーターが多く使用されている。
【０００３】
　エクストルージョンコーターは、均一な塗布膜厚が得られやすいが、良好な塗布条件の幅が狭いという問題がある。特に塗布速度200ｍ／min以上の様な高速塗布、或いは4000cps以上の様な高粘度の磁性塗布液の場合には上記問題が顕著である。
【０００４】
　これらの塗布方法は、特開昭57-84771号、同58-104666号、同60-238179号、特開平1-184072号、同1-210072号、同1-288364号、同2-35959号、同3-162号等に開示されている。これらの技術において、バックバーの断面形状は単一の曲率半径を有する曲線か、或いは曲線の端部に切り欠きを有する形状で構成されている。
【０００５】
　図１は、従来の塗布装置の一例を示すバックバーの断面図であり、バックバーの形状が単一の曲率半径からなっている。同図において、１はフロントバー、２はバックバー、３はスリットであり、バックバー２の形状を同図に示す如く単一の曲率半径ｒ1，ｒ2，ｒ3，ｒ4とした場合、支持体ｗとバックバー２との距離、即ち塗布液層厚さをコントロールすることが難しい。
【０００６】
　同図においてｄ1，ｄ2，ｄ3は各々上流側から下流側に位置を変えた場合のバックバー表面と支持体との間隔を表す。例えば、曲率半径がｒ2の場合、位置により上記距離はｄ1，ｄ2，ｄ3の如く変わる。
【０００７】
　曲率半径がｒ1の場合、バックバーの上流側（スリット側端）での間隙が狭いためスリット出口での液溜まりが小さくなり、速度勾配の変化が大き過ぎてスリットから支持体とバックバー間への塗布液の引き伸ばしがスムースに行えず、空気の巻き込みやかき落とし、液流れの不均一をもたらし、均一塗布が行えない。
【０００８】
　また、曲率半径がｒ4の場合、ｄ1が大きく、ｄ2，ｄ3と次第に小さくなるため速度勾配の変化は緩やかだが、バックバーへの支持体からの力が全てｄ3付近に集中するためバックバー下流での当たりが強くなり過ぎて、塗布液のかき落としや流れの乱れを引き起こし均一塗布が行えない。
【０００９】
　曲率半径がｒ2又は曲率半径がｒ3の場合、前記との場合の中間の速度勾配変化も適度に緩やかで、且つ支持体からの力もｄ2，ｄ3にかけて分散され、均一塗布がし易くなる。しかし、これも塗布速度が200ｍ／min以上の様に高かったり、流量がウェット膜厚で10μm以下の様に少なかったりすると限界があり、やはり安定塗布が出来ない。
【００１０】
　また、図２は従来の塗布装置の一例を示す断面図であって、特開平2-35959号に開示されているものである。この例では、バックバー（同明細書ではドクターエッジ）のスリット側に直線部を設けてあるが、該直線部の下流側端角Ｅがある程度尖っていること、フロントバーが支持体の反対側に後退していること、更にフロントバーを支持体に接触させずに（微少の間隔を作りながら）塗布するため、支持体からの力が角Ｅに集中して液のかき落としや、流れの乱れを引き起こし均一な塗布が難しい。
【００１１】
　また、近年磁気記録媒体の記録密度の向上に伴って、重層の磁気記録媒体も数多くなってきた。その重層化を達成するためには、例えば特開昭51-119204号、同52-51908号及び同53-16604号等に開示されているように、支持体上に一層づつ塗布液を塗布・乾燥することにより重層の磁気記録媒体を形成する方法があり、これら重層対応の押し出し塗布方法が考案された後は、重層の磁気記録媒体は金属薄膜磁気記録媒体と比較して、コスト的に数段優れ、また電磁変換特性もかなり近いものが製作されるに到った。
【００１２】
　しかし、この方法では塗布・乾燥等の工程を繰り返すため生産性が悪いことや、最上層の薄膜化が難しい等の問題があり、特開昭48-99803号、同61-111168号にウエット−オン−ウエットの同時重層塗布による磁気記録媒体の製造方法が開示されているが、両方式ともバックロール上に保持された連続的に走行する支持体上に予め重層状態の塗布液を塗布する方法であり、バックロールの回転ブレ精度が不十分で塗布長手方向に塗布ムラが生じ易く最適な磁気記録媒体の製造が出来るには到らなかった。
【００１３】
　そこで、特開昭62-124631号に開示されている様な単層の押し出しコーターをバックロールの保持なしに支持体上に下層が湿潤状態のままで上層を塗布する方法があるが、最上層が例えば乾燥後に0.3μm以下になる様な塗布条件では幅方向や長手方向の上層膜厚分布が良好とはならない。
【００１４】
　それに対して、上記の欠点をカバーするために、特開昭63-88080号、特開平2-251265号に開示されている様な２つの塗布液が導出されるスリットを有したコーターヘッドが考案されている。
【００１５】
　この様な２つの塗布液が導出されるタイプのコーターヘッドは当然の事ながら、図３に示される様に、フロントバー１′、センターバー２′、バックバー３′の３つの部分より構成されている。このコーターヘッドを使用した場合、薄膜同時重層塗布の塗布性を決定する重要な因子は前記各バーの接液部又は連続的に走行する支持体に接する面の断面形状である。
【００１６】
　前記の従来の技術ではセンタバー及びバックバーの断面形状は単一の曲率半径で構成されていた。従って、図３の様に、例えばセンターバーと支持体との距離をｄ1，ｄ2，ｄ3とすると理想的にはｄ1＞ｄ2＞ｄ3の関係であることが重要である。これは先程も説明したが、支持体と塗布液の支持体進行方向の速度勾配を緩やかにする事に他ならない。
【００１７】
　しかし、前記公報等の技術では図３の様にこれらの距離に一部で逆転現象が起こり、電磁変換特性が良好で、且つ塗布故障が少ない薄膜重層構造の塗布型磁気記録媒体の塗布装置及び塗布方法が開示されていないのが現状である。
【００１８】
　押し出し塗布装置の塗布性やその塗布後の表面性を左右する一番の因子は各バーの形状である。その形状とはフロントバーが走行する支持体に接する、又は一番近い部分の形状とバックバーが塗布液に接触する部分の形状とその両バーの位置関係である。例えば、非常に微少な磁性粉を分散した塗布液を塗布する場合等は、粘度特性がニュートン流体からかなり外れ、かなりの塑性流動特性を示す。即ち、その塗布液が外部より非常に弱い力（ずり速度10sec-1以下）を受けている時は粘度が高く、強い力（ずり速度104sec-1以上）を受けている時は粘度が低くなる現象を引き起こす。そのため良好な塗布性と塗布表面の均一性を得る為にはバックバー上で塗布液が徐々に且つ非常にスムースに加速させられる必要があり、特に塗布速度が速い場合（300ｍ／min以上）には更に重要となる。
【００１９】
　また、フロントバーとバックバーとの位置関係も極めて重要であり、バックバーの形状と密接な関係がある。
【００２０】
　そこで、本発明は、バックバーの新規な形状とフロントバーの位置関係を明確にすることで、前記の様な従来の問題を解決し、高速で且つ重層又は単層の薄膜塗布が均一に安定塗布可能で、特に電磁変換性に優れた磁気記録媒体に適した塗布装置及び塗布方法を提供することを目的としており、本発明者らは鋭意研究した結果、以下に述べる塗布装置及び塗布方法によってこの目的を達成できることを見い出した。
【００２１】
　本発明にかかる目的は、単層塗布に関する場合、
(1) フロントエッジ面を有し支持体の走行方向に対して上流側に位置するフロントバー、バックエッジ面を有し該支持体の走行方向に対して下流側に位置するバックバー及び該フロントバーと該バックバーとの間に位置するスリットを有し、該支持体に塗布を施す塗布装置において、該支持体の走行方向における該塗布装置の断面上で、該フロントエッジ面の下流端における該フロントバーの接線より、該バックバーの一部が突出しており、且つ該フロントエッジ面の下流端と該バックエッジ面の上流端とを通る直線を、該バックエッジ面の上流端を原点、該支持体の走行方向を正方向とするＸ軸、該Ｘ軸に該原点で直交する直線を、該バックバーから該支持体に向かう方向を正方向とするＹ軸とした場合のＸ−Ｙ平面内において、該平面内での該バックエッジ面の形状が以下の関係式
ｙ＝ａ（ｘ／Ｌb）n
（但し、0.1≦ａ≦1.0，0.1≦ｎ≦0.7であり、ｘは該断面上で該原点からの距離であり、ｙは該断面上で該Ｙ軸方向の値であり、Ｌbは該断面上で、該バックエッジ面の該Ｘ軸上への投影長さであり、0.2≦Ｌb≦5.0（mm）である。）を満たすことを特徴とする塗布装置により達成される。この時、バックエッジ面の下流端におけるバックバーの接線と該下流端より下流に位置する支持体との成す角θが−10≦θ≦30（度）で、且つバックエッジ面の下流端が塗布液面に接する様にしながら塗布することが好ましい。
(2) フロントエッジ面を有し支持体の走行方向に対して上流側に位置するフロントバー、バックエッジ面を有し該支持体の走行方向に対して下流側に位置するバックバー及び該フロントバーとバックバーとの間に位置するスリットとを有し、該支持体に塗布を施す塗布装置において、該支持体の走行方向における該塗布装置の断面上で、該フロントエッジ面の下流端における該フロントバーの接線より、該バックバーの一部が突出しており、該断面上での該バックエッジ面の形状が、該バックエッジ面の上流端から下流端にかけて該バックバー側にそれぞれ中心を有する曲率半径の異なる第１の円弧、第２の円弧及び第３の円弧が連続したものであることを特徴とする塗布装置により達成される。
(3) フロントエッジ面を有し支持体の走行方向に対して上流側に位置するフロントバー、バックエッジ面を有し該支持体の走行方向に対して下流側に位置するバックバー及び該フロントバーと該バックバーとの間に位置するスリットとを有し、該支持体に塗布を施す塗布装置において、該支持体の走行方向における該塗布装置の断面上で、該フロントエッジ面の下流端における該フロントバーの接線より、該バックバーの一部が突出しており、該断面上での該バックエッジ面の形状が、該バックエッジ面の上流端から下流端にかけて該バックバー側にそれぞれ中心を有する曲率半径の異なる第１の円弧、第２の円弧及び直線が連続したものであることを特徴とする塗布装置により達成される。
【００２２】
　(2)及び(3)において、バックエッジ面の下流端におけるバックバーの接線と該下流端より下流に位置する支持体との成す角θが−10≦θ≦30（度）で、且つバックエッジ面の下流端が塗布液面に接する様にしながら塗布することが好ましい。
【００２３】
　更に、本発明にかかる目的は、重層塗布の場合、
(4) フロントエッジ面を有し支持体の走行方向に対して上流側に位置するフロントバー、バックエッジ面を有し該支持体の走行方向に対して下流側に位置するバックバー、該フロントバーと該バックバーとの間に位置しセンターエッジ面を有するセンターバー、該フロントバーと該センターバーとの間に位置する第１のスリット及び該センターバーと該バックバーとの間に位置する第２のスリットとを有し、該支持体に塗布を施す等装置において、該支持体の走行方向における該塗布装置の断面上で、該センターエッジ面の形状が、該センターエッジ面の上流端から下流端にかけて該センターバー側にそれぞれ中心を有する曲率半径の異なる第１の円弧、第２の円弧及び第３の円弧が連続したものであり、且つ該バックエッジ面の形状が、該バックエッジ面の上流端から下流端にかけて該バックバー側にそれぞれ中心を有する曲率半径の異なる第４の円弧、第５の円弧及び第６の円弧が連続したものであることを特徴とする塗布装置により達成される。
【００２４】
　この時、バックエッジ面の下流端におけるバックバーの接線と該下流端より下流に位置する支持体との成す角θが-10 ≦θ≦30（度）で、且つバックエッジ面の下流端が塗布液面に接する様にしながら塗布することが好ましい。
【００２５】
　以下、添付した図面に基づき本発明の実施態様について説明する。
【００２６】
　図４の（ａ）は、本発明にかかるコーターヘッドの一実施態様の斜視図で、（ｂ）は（ａ）の側面図で、（ｃ）は（ｂ）のＰ−Ｐで切断したときの断面図で、（ｄ）は（ｃ）のＱ部分を拡大したものであり、本明細書内の他の図面は特に断りのない限り、（ｃ）のＱ部分の拡大図に相当するものである。
【００２７】
　図５は本発明の塗布装置の一例、即ち、上記本発明の構成(1)にかかる塗布装置であって、同図は、フロントエッジ面の下流端（Ｃ）における該フロントバー（１）の接線より、該バックバー（２）の一部が突出しており、且つ該フロントエッジ面の下流端（Ｃ）と該バックエッジ面の上流端（Ａ）とを通る直線を、該バックエッジ面の上流端（Ａ）を原点、支持体（ｗ）の走行方向（Ｒ）を正方向とするＸ軸、該Ｘ軸に該原点で直交する直線を、該バックバー（２）から該支持体に向かう方向を正方向とするＹ軸とした場合のＸ−Ｙ平面内において、該平面内での該バックエッジ面の形状が以下の関係式
ｙ＝ａ（ｘ／Ｌb）n
（但し、0.1≦ａ≦1.0，0.1≦ｎ≦0.7であり、ｘは該断面上で該原点からの距離であり、ｙは該断面上で該Ｙ軸方向の値である）を満たし、Ｌbは該断面上で、該バックエッジ面の該Ｘ軸上への投影長さを示しており、0.2≦Ｌb≦5.0（mm）である。
【００２８】
　ここで、Ｘ軸をフロントエッジ面の下流端（Ｃ）とバックエッジ面の上流端（Ａ）とを結ぶ直線としたのは、本発明者らが、鋭意検討を重ねた結果、バックエッジ面の形状及びバックバー（２）とフロントバー（１）との位置関係で最適な形状があることがわかり、その点を考慮したバックエッジ面の形状を明確にするためである。これにより、従来は新規な塗布装置を作成する際は新規バックバーを製作し、フロントバーとの位置を調整しながらテストを行っていたのが、大幅に効率化された。
【００２９】
　そして、その位置関係を明確にし、バックエッジ面の形状を非常に滑らかな曲線にする事により、従来は塗布が難しかった高速薄膜塗布において非常に良好な結果が得られた。例えば、未乾燥での膜厚が10μm以下で、塗布速度が500ｍ／min以上の塗布が始めて達成され、上記条件下で非常に塗布ムラの少ない（収率99％以上）磁気記録媒体が製造可能になった。
【００３０】
　また、塗布速度を上げる場合は、バックエッジ面のＸ軸とフロントバー（１）とバックバー（２）との間に位置するスリット（３）との成す角は実際上−10度から＋30度程度まで可能であるが、装置の加工精度の維持や、良好な塗布性が得られる広範囲な塗布の条件範囲等を考慮すると−10度から＋20度が好ましい。
【００３１】
　図６，７及び８は本発明の構成(1)にかかるバックエッジ面の形状を表すグラフの例である。（但し、バックエッジ面のＸ軸上への投影長さＬb＝１の場合）また、図９は本発明の構成(2)にかかる塗布装置の一例であって、フロントエッジ面の下流端（Ｃ）における該フロントバー（１）の接線より、バックバー（２）の一部が突出しており、断面上での該バックエッジ面の形状が、該バックエッジ面の上流端（Ａ）から下流端（Ｂ）にかけて該バックバー（２）側にそれぞれ中心を有する曲率半径がｒ1，ｒ2，ｒ3の円弧が連続したものである。
【００３２】
　更に詳しく述べると、本発明にかかる塗布装置は、該フロントエッジ面の下流端（Ｃ）と該バックエッジ面の上流端（Ａ）とを通る直線を、該バックエッジ面の上流端（Ａ）を原点、支持体（ｗ）の走行方向（Ｒ）を正方向とするＸ軸、該Ｘ軸に該原点で直交する直線を、該バックバー（２）から該支持体に向かう方向を正方向とするＹ軸とした場合のＸ−Ｙ平面内において、該平面内での該バックエッジ面の形状が以下の関係式
0.2 ≦   Ｌb  ≦ 5.0（mm）
0   ≦ｘ1／Ｌb≦ 0.5
0.2 ≦ｘ2／Ｌb≦ 0.8
−0.5 ≦Ｈb／Ｌb≦ 0.5
0.05≦   ｒ1  ≦ 2.0（mm）
0.5 ≦   ｒ2  ≦ 5.0（mm）
6.0 ≦   ｒ3  ≦30.0（mm）
（但し、ｘ1＜ｒ1，ｘ2−ｘ1＜ｒ2，Ｌb−ｘ2＜ｒ3であり、ｒ1は第１の円弧の曲率半径、ｒ2は第２の円弧の曲率半径及びｒ3は第３の円弧の曲率半径を示し、ｘ1は該断面上で該第１の円弧と該第２の円弧との接続点の該Ｘ軸上への投影の長さであり、ｘ2は該断面上で該第２の円弧と該第３の円弧との接続点の該Ｘ軸上への投影の長さであり、Ｌbは該断面上で該バックエッジ面の該Ｘ軸上への投影点の原点からの距離であり、Ｈbは該断面上で該バックエッジ面の該Ｙ軸上への投影点の原点からの距離である。（但し、ＨbはＹ軸の負側に位置する場合、負符号を有する。））を満たし、図10において、該第１の円弧と該第２の円弧の接続点（ｂ1）における該第１の円弧との接線と該第２の円弧との接線とのなす角（θ1）が５度以内であり、且つ該第２の円弧と該第３の円弧の接続点（ｂ2）における該第２の円弧との接線と該第３の円弧との接線とのなす角（θ2）が５度以内であることである。
【００３３】
　フロントバー（１）とバックバー（２）との位置関係を明確にし、バックエッジ面の形状を複数の曲率半径を有する曲線にする事により、高速塗布性能が飛躍的に向上された。
【００３４】
　例えば、未乾燥での膜厚が10μm以上の時塗布速度800ｍ／min以上が始めて達成された。
【００３５】
　これは複数の曲率半径を有するバックエッジ面の形状が最適の塗布液の速度勾配をエッジ部表面と支持体（ｗ）の間で形成させるためと考えられる。特にメタル磁性粉の様に粒径が小さい（長軸で0.15μm以下）場合は、塗布液の流動特性がかなり複雑になり、この様なバックエッジ面形状が特に効果的である。
【００３６】
　それにより、上記条件下で非常に塗布ムラの少ない（収率99％以上）磁気記録媒体が製造可能になった。
【００３７】
　特にここで３つの曲率半径がバックバー（２）の上流端から下流端に向かって徐々に大きくなることが好ましい。つまり、２×ｒ1≦ｒ2≦１／２×ｒ3の関係を満たすことである。
【００３８】
　また、Ｘ軸上に投影されたバックバーの長さＬbは塗布速度が速くなるに連れて短くなることが好ましい。具体的には、３mm以下が好ましい。また、バックバーの加工精度上0.3mm以下では幅方向の膜厚分布の不均一を生じ好ましくない。
【００３９】
　また、バックバーの下流端（Ｂ）がＸ軸上に投影された点の原点からの距離ＬbとＹ軸上に投影された点の原点からの距離Ｈbの比であるＨb／Ｌbは−0.5から0.5であることが好ましいが、塗布速度が非常に速くなった場合は、０から0.4程度であることが更に好ましい。
【００４０】
　更に、この複数の曲率半径を持つ接合部の成す角度は塗布故障の発生を考慮すると１度以下が好ましい。
【００４１】
　また、図11の（ａ）は本発明の構成(3)にかかる塗布装置の一例を示すものである。バックエッジ面の下流端（Ｂ）が直線部で構成されることにより、バックバーの加工精度が向上し、乾燥前の膜厚で10μm以上であるならば、塗布速度が600ｍ／minまでの領域で電磁変換特性のかなり良好な磁気記録媒体の製造が可能になった。これは塗布後の表面性がバックエッジ面の下流端（Ｂ）の表面性に一番依存しているためである。バックエッジ面の形状が上流端（Ａ）から下流端（Ｂ）まで曲線で構成されていると薄膜及び高速塗布適性の限界は確かに向上するが、上記の理由により、塗布後の表面性はバックエッジ面の下流端に直線部を設けることにより両面の長所を得ることが可能となった為に他ならない。
【００４２】
　また、この様に下流端に直線部を設ける塗布装置においても、Ｘ軸上に投影されたバックバーの長さＬbは塗布速度が速くなるに連れて短くなることが好ましい。具体的には、３mm以下が好ましい。また、バックバーの加工精度上0.3mm以下では幅方向の膜厚分布の不均一を生じ好ましくない。
【００４３】
　また、バックバーの下流端（Ｂ）がＸ軸上に投影された点の原点からの距離ＬbとＹ軸上に投影された点の原点からの距離Ｈbの比であるＨb／Ｌbは−0.5から0.5であることが好ましいが、塗布速度が非常に速くなった場合は、０から0.4程度であることが更に好ましい。
【００４４】
　更に、異なる曲率半径の接合部の成す角度は塗布故障の発生を考慮すると１度以下が好ましい。
【００４５】
　以上本発明にかかる単層塗布の装置の説明を具体的に述べたが、その実際の塗布を行う条件として重要なことは、図11の（ｂ）及び（ｃ）においてバックエッジ面の下流端（Ｂ）の接線（ｌ）と支持体（ｗ）との成す角θを−10度から＋30度にする様な条件で塗布する事が好ましく、更に好ましくは、−５度から＋10度の範囲で塗布することである。
【００４６】
　上記のバックエッジ面の形状に対して、フロントエッジ面の形状も各種形状が使用可能であるが、フロントエッジ面の下流端に１mm以下の直線部を持つものや、下流端が曲率半径１mm以上20mm以下の円弧の一部を持つものが好ましい。
【００４７】
　また、支持体の膜厚は50μm以上の比較的腰の強いものでも塗布性は損なわれない。
【００４８】
　また、塗布液の粘度はＢ型粘度計で0.1cpsから10,000cps程度まで十分対応可能だが、塗布性上Ｂ型粘度計で50cpsから4,000cps、その他の高ずり速度対応型の粘度計で、ずり速度3,000sec-1で10cpsから200cps程度が好ましい。
【００４９】
　本発明にかかる塗布装置は支持体上に既に塗布層が塗布され湿潤状態の上に更に塗布を行う場合にも非常に優れた塗布性を示す。特に、その場合は上に塗布を行う塗布液の粘度が低いことが好ましい。具体的にはＢ型粘度計で上記の値の約半分以下の値を示すことが好ましい。
【００５０】
　更に、上記の単層塗布装置におけるスリットが途中で複数のスリットの集合からなり、複数の種類の塗布液が完全に層流状態で支持体上に塗布される場合でも非常に良好な塗布が行える。
【００５１】
　次に、フロントバー１′、センターバー２′、バックバー３′と２つのスリット４′，５′を有する重層の塗布装置について具体的に説明を行う。
【００５２】
　図12は本発明の構成(4)にかかる塗布装置の一例を示すものである。
【００５３】
　支持体（ｗ）の走行方向（Ｒ）における塗布装置の断面上で、センターエッジ面の形状が、該センターエッジ面の上流端（ＣＡ）から下流端（Ｂ）にかけてセンターバー（２′）側にそれぞれ中心を有する曲率半径の異なる第１の円弧、第２の円弧及び第３の円弧が連続したものであり、且つバックエッジ面の形状が、該バックエッジ面の上流端（ＢＡ）から下流端（Ｄ）にかけてバックバー（３′）側にそれぞれ中心を有する曲率半径の異なる第４の円弧、第５の円弧及び第６の円弧が連続したものである。
【００５４】
　更に詳しく述べると、本発明にかかる塗布装置は、該断面上で、該フロントエッジ面の下流端（Ｃ）と該センターエッジ面の上流端（ＣＡ）とを通る直線を、該センターエッジ面の上流端（ＣＡ）を原点、該支持体（ｗ）の走行方向を正方向とするＸ１軸、該Ｘ１軸に該原点で直交する直線を、該センターバー（２′）から該支持体（ｗ）に向かう方向を正方向とするＹ１軸とした場合のＸ１−Ｙ１平面内において、該断面上での該センターエッジ面の形状が以下の関係式
0.1 ≦   ＬC  ≦ 5.0（mm）
1   ≦ｘ1／ＬC≦ 0.5
0.2 ≦ｘ2／ＬC≦ 0.8
0   ≦ＨC／ＬC≦ 0.5
0.05≦   ｒ1  ≦ 1.0（mm）
0.5 ≦   ｒ2  ≦ 5.0（mm）
6.0 ≦   ｒ3  ≦30.0（mm）
（但し、ｘ1＜ｒ1，ｘ2−ｘ1＜ｒ2，ＬC−ｘ2＜ｒ3であり、ｒ1は第１の円弧の曲率半径、ｒ2は第２の円弧の曲率半径及びｒ3は第３の曲率半径を示し、ｘ1は該断面上で、該第１の円弧と該第２の円弧との接続点の該Ｘ１軸上への投影長さを示し、ｘ2は該断面上で、該第２の円弧と該第３の円弧との接続点の該Ｘ１軸上への投影長さを示し、ＬCは該断面上で、該センターエッジ面の該Ｘ１軸上への投影点の原点からの距離を示し、ＨCは該断面上で、該センターエッジ面の下流端の該Ｙ１軸上への投影点の原点からの距離を示す）を満たし、且つ該センターエッジ面の下流端（Ｂ）と該バックエッジ面の上流端（ＢＡ）とを通る直線を、該バックエッジ面の上流端（ＢＡ）を原点、該支持体（ｗ）の走行方向を正方向とするＸ２軸、該Ｘ２軸に該原点で直交する直線を、該バックバー（３′）から該支持体（ｗ）に向かう方向を正方向とするＹ２軸とした場合のＸ２−Ｙ２平面内において、該断面上での該バックエッジ面の形状が以下の関係式
0.2 ≦   Ｌb  ≦ 5.0（mm）
0   ≦ｘ3／Ｌb≦ 0.5
0.2 ≦ｘ4／Ｌb≦ 0.8
0   ≦Ｈb／Ｌb≦ 0.5
0.05≦   ｒ4  ≦ 5.0（mm）
6.0 ≦   ｒ5  ≦15.0（mm）
10.0 ≦   ｒ6  ≦30.0（mm）
（但し、ｘ3＜ｒ4，ｘ4−ｘ3＜ｒ5，Ｌb−ｘ4＜ｒ6であり、ｒ4は第４の円弧の曲率半径、ｒ5は第５の円弧の曲率半径及びｒ6は第６の円弧の曲率半径を示し、ｘ3は該断面上で、該第４の円弧と該第５の円弧との接続点の該Ｘ２軸上への投影長さを示し、ｘ4は該断面上で、該第５の円弧と該第６の円弧との接続点の該Ｘ２軸上への投影長さを示し、Ｌbは該断面上で、該バックエッジ面の該Ｘ２軸上への投影点の原点からの距離を示し、Ｈbは該断面上で、該バックエッジ面の下流端の該Ｙ２軸上への投影点の原点からの距離を示す）を満たし、該第１の円弧と該第２の円弧の接続点における該第１の円弧への接線と該第２の円弧への接線とのなす角が５度以内であり、且つ該第２の円弧と該第３の円弧の接続点における該第２の円弧への接線と該第３の円弧への接線とのなす角が５度以内であり、且つ該第４の円弧と該第５の円弧の接続点における該第４の円弧への接線と該第５の円弧への接線とのなす角が５度以内であり、且つ該第５の円弧と該第６の円弧の接続点における該第５の円弧への接線と該第６の円弧への接線とのなす角が５度以内であることである。
【００５５】
　前記３つのバーの位置関係は非常に密接したものであり、各バーの位置が変化することによりセンターエッジ面及びバックエッジ面の形状も前述の単層の塗布装置と同様に変化することが解明された。
【００５６】
　上記の様にバーに仮想の座標系を使用することにより、従来技術である特開昭63-88080号に示されている様な各エッジの接線どうしの成す角度で形状を規定するような実際上測定の精度が得られないことはかなり回避出来ることとなった。
【００５７】
　また、実際の塗布性はセンターバー、バックバーとも２つ以上３つ以下の複数の曲率半径を持つ円弧の一部より構成されているためセンターバー及びバックバーとも最適な塗布液の支持体の支持方向に対して平行な速度勾配が得られ、特にずり速度がかなり速い時（例えばずり速度106sec-1以上）に50cps以上の高粘度の塗布液どうしを同時に薄膜で高速塗布( 例えば未乾燥後の膜厚が上層が３μm以下、下層が10μm以下で塗布速度が500ｍ／min以上）を行う際には効果が暦然となる。また上層と下層の粘度差がずり速度106sec-1で50cps以上異なっている場合にも好ましい結果が得られる。
【００５８】
　上記の様なセンターエッジ面及びバックエッジ面の形状を使用することで、高速薄膜の塗布性の向上もさることながら、上層の膜厚分布の高度の均一性を保つことが出来る。
【００５９】
　それは磁気記録媒体の記録密度の急激な増加に伴い、記録波長が短くなることによる重層記録媒体の上層膜厚分布が非常に重要となっている昨今では貴重な特性である。即ち、その膜厚変動は即座にビデオテープを例を取った場合、電磁変換特性の中でも一番重要となるＲＦ出力の変動となり、モニター上で明らかに目視で確認できるため、重大な欠陥となる。
【００６０】
　また、塗布速度が速くなると、ＬC，Ｌbとも短くなることが好ましく、具体的には両者とも３mm以下が好ましいが、バーの加工精度上0.3mm以上であることが好ましい。
【００６１】
　実際の塗布を行う条件として重要なことは、バックエッジ面の下流端の接線と該下流端より下流に位置する支持体との成す角を−10度から＋30度にするような条件で塗布することが好ましく、更に好ましい条件としては、−５度から＋10度の範囲内で塗布を行う事である。
【００６２】
　上記のセンターエッジ面及びバックエッジ面の形状に対して、またフロントエッジ面の形状も各種形状が使用可能であるが、フロントエッジ面の下流端に１mm以下の直線部を持つものや、下流端が曲率半径１mm以上20mm以下の円弧の一部を持つものであることが好ましい。また支持体の膜厚は50μm以上の比較的腰の強いものでも塗布性は損なわれない。
【００６３】
　本発明の塗布装置に用いることのできる磁気記録媒体を構成する為の磁性塗料に使用される磁性粉としては、特開平3-12818号公報第４頁左上欄第６行目から第11行目までに記載のものが使用できる。
【００６４】
　本発明の磁気記録媒体を構成する為の磁性塗料に使用されるバインダとしては、特開平3-12818号公報第３頁左下欄第７行目から第４頁左上欄第１行目までに記載のものが使用可能である。
【００６５】
　これらのバインダ樹脂成分は、磁性粉末100重量部に対して約５〜100重量部、好ましくは10〜30重量部の範囲で使用される。
【００６６】
　本発明の磁気記録媒体を構成する為の磁性塗料に添加される他の部分として分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤等が加えられても良く、特開平3-12818号公報第４頁左上欄第18行目から左下欄第19行目までに記載のものを使用してよい。
【００６７】
　磁性塗料の製造に用いられる溶剤としては、特開平3-12818号公報第４頁左下欄第20行目から右下欄第10行目までに記載のものが使用可能である。
【００６８】
　特開平3-119518号公報第３頁右上表−１の（本発明に係る溶媒）の項目の中のものが特に好ましい。
【００６９】
　磁性粉やバインダ等が混練されて磁性塗料とされる訳であるが、混練に際しては、磁性粉末及び上述の各成分が全て同時に、あるいは個々順次に混練機に投入される。この磁性塗料の混練分散にあたっては各種の混練機、例えば二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、サンドグライダー、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機等で行われるが、混練機としては、加圧ニーダー、連続ニーダー、ヘンシェルミキサー等で分散されることが分散度を維持する上で好ましい。
【００７０】
　そして、上記のような磁性粉末、バインダ、各種の添加剤を溶剤に混練分散した磁性塗料を、非磁性の支持体上に塗布、配向、乾燥することによって塗布型の磁気記録媒体が得られる。
【００７１】
　このような方法により、支持体上に塗布された磁性層は必要により磁性層中の磁性粉末の配向処理を施した後、磁性層を乾燥する。又、必要により表面平滑化処理を施したり、所望の形状にカッティグして磁気記録媒体が得られる。
【００７２】
　本発明の磁気記録媒体に用いられる非磁性の支持体の素材としては、特開平3-176807号公報第２頁右下欄第７行目から第17行目に記載のものが使用可能であるがこれらに限定されるものではない。
【００７３】
　本発明により、高速且つ薄膜塗布が均一に安定塗布可能な塗布装置並びに塗布方法を提供することができた。
【実施例】
【００７４】
以下、実施例により本発明の効果を例証する。
実施例１
磁性塗料の作製は以下に示す組成のものを使用する。
〈磁性塗料〉
強磁性粉末（表１記載）                                   100部
塩化ビニル樹脂（日本ゼオン社製、ＭＲ110）                  8部
スルホン酸金属塩含有ポリウレタン樹脂
（東洋紡績（株）製、ＵＲ8700）                           5部
α-アルミナ                                                5部
カーボンブラック（粒径40μm）                              0.5部
ミリスチン酸                                               1部
ステアリン酸                                               1部
ブチルステアレート                                         1部
メチルエチルケトン                                        40部
トルエン                                                  40部
シクロヘキサノン                                          40部
【００７５】
【表１】
2004136282.tif 000003
　上記組成で溶剤を固形分濃度で約80％になるように一部添加し、磁性粉１kg当たり実負荷電力として0.2kw以上かけ10分間以上混練を行い、高速ディスパー等の混合機を使用して、上記処方値になるように希釈を行い、平均粒径1.0mmのジルコニヤビーズを使用してサンドミルにて分散を行い、最後にポリイソシアネート化合物（コロネートＬ５部）を添加して調整した。
【００７６】
　次に非磁性の塗料の作製は、
〈非磁性塗料〉
非磁性粉末（表２記載）                                   100部
塩化ビニル樹脂（日本ゼオン社製、ＭＲ110）                  1部
スルホン酸金属塩含有ポリウレタン樹脂
（東洋紡績（株）製、ＵＲ8700）                           5部
ミリスチン酸                                               1部
ステアリン酸                                               1部
ブチルステアレート                                         1部
メチルエチルケトン                                        35部
トルエン                                                  35部
シクロヘキサノン                                          35部
【００７７】
【表２】
2004136282.tif 000004
　上記組成で溶剤を非磁性粉末１kg当たり実負荷電力として0.2kw以上かかるように一部添加し、10分間以上混練を行い、高速ディスパー等の混合機を使用して上記処方値になるように希釈を行い、平均粒径1.0mmのジルコニヤビースを使用してサンドミルにて分散を行い、最後にポリイソシアネート化合物（コロネートＬ５部）を添加して調整した。
【００７８】
　上記に記載の組成の液を基本液として、メチルエチルケトン／トルエン／シクロヘキサノン＝１／１／１（重量比）の希釈液で、表４に示すずり速度下で所定の粘度になるように調整した。希釈液の添加量は予め一定量ずつ添加し、各ずり速度下での粘度を測定し、その結果より検量線を作成し添加量の大まかな値を推定しながら決定する方法が効果的である。尚、粘度測定にはロトビスコ粘度計（ハーケ社製）を使用した。
【００７９】
　作成された塗布分散液は、特開平2-35959号の記載のコーターを比較例とし、本発明の構成(1)で示したコーターを使用し８μmのペットベースに塗布を行なった。その際、スパンが500mmの二本のサポートロール間でほぼ中間の位置にヘッドの先端部を設定し、ヘッドをそのロールで支持されたベースに接触する位置を０としベース側に押し込み良好な塗布性が得られる位置で押し出し塗布を行った。
【００８０】
　塗布する条件としては、バックエッジ下流端の接線と連続的に走行する支持体とのなす角度は−５度から＋５度程度に保たれ、塗布性の良好な条件が適用された。
【００８１】
　その際コーターの巾は660mmとし、搬送時のテンションは20kg巾とした。塗布性の評価方法は塗布中にオンラインで連続的にＸ線を使用し、塗布方向に膜厚分布を測定し、膜厚分布が塗布方向で±10％変動した部分の１／２インチ巾スリットをＮＧとし、10000ｍ塗布後に良品率（塗布収率）（％）で評価を行った。コーターは660mm巾であるから両サイドの部分の不要部分を除くと、全体で50スリットが塗布乾燥後切断可能である。
【００８２】
　使用したコーターのパラメーター値を表３、実験結果を表４に示した。
【００８３】
【表３】
2004136282.tif 000005
【００８４】
【表４】
2004136282.tif 000006
　表より本発明の塗布装置により飛躍的な塗布の安定性が得られた事が解る。
【００８５】
　次に本発明の構成(2)で説明された塗布装置及びその方法について説明する。
【００８６】
　前述と同様な塗布分布液を、特開平2-35959号の記載のコーターを主な比較例とし、本発明の構成(2)で示したコーターを使用し、８μmのペットベースに塗布を行った。その際、スパンが500mmの二本のサポートロール間でほぼ中間の位置にヘッド先端部を設定し、ヘッドをそのロールで支持されたベースに接触する位置を０としベース側に押し込み良好な塗布性が得られる位置で押し出し塗布を行った。
【００８７】
　塗布する条件としては、バックエッジ下流端の接線と連続的に走行する支持体とのなす角度は−５度から＋５度程度に保たれ、塗布性の良好な条件が適用された。
【００８８】
　また前述の実施例と同様にコーターの巾は660mmとし、搬送時のテンションは20kg巾とした。塗布性の評価方法は塗布中にオンラインで連続的にＸ線を使用し、塗布方向に膜厚分布を測定し、膜厚分布が塗布方向で±10％変動した部分の１／２インチ巾スリットをＮＧとし、10000ｍ塗布後に良品率（塗布収率）（％）で評価を行った。
【００８９】
　使用したコーターのパラメーター値を表５、実験結果を表６に示した。
【００９０】
【表５】
2004136282.tif 000007
【００９１】
【表６】
2004136282.tif 000008
　複数バックエッジの曲率の効果より非常に速い塗布速度でも優れた塗布収率が得られる事が解る。
【００９２】
　また実験結果より、本発明の塗布装置は磁性粉体のみならず非磁性粉体を分散した塗布液でも優れた塗布性が得られることが解る。
【００９３】
　更に本発明の構成(3)に記載されている塗布装置である、バックエッジの断面の形状が一つ又は二つの曲率を持つ曲線と直線で構成される塗布装置を使用した実験結果を示す。使用したコーターのパラメータ値を表７、実験結果を表８に示した。
【００９４】
【表７】
2004136282.tif 000009
【００９５】
【表８】
2004136282.tif 000010
　尚、実験条件、塗布液等の表中に記載されていない条件は前述の実施例と全く同様であるから、電磁変換特性の値を比較するため、針状粉を使用した場合は長手方向に、板状粉を使用した場合には垂直に、電磁石を使用して6000ガウスの磁場配向を約２秒間行い、乾燥、カレンダー処理後スリット、ローディング８mmのカセットに行った。そして市販の８mmビデオレコーダー（Sony EVO9500）を用いて７MHzの単一波を記録し、この信号を再生し、７MHzの再生出力を、出力レベル測定機を使用し測定を行った。
【００９６】
　尚、電子変換特性としての出力は比較例−24のサンプルを０dbとした。結果として、磁性粉の違いによる全体的な違いがあるが、本発明の塗布装置を使用して作製されたサンプルの出力が比較例に比べて優れた値がでている事が解る。
【００９７】
　また塗布の収率においても比較例に比べてかなり優れている事が解る。この効果はバックエッジの下流端最終部分を直線にしたことによる表面性向上に他ならない。しかしながらこの塗布装置の高速塗布性は表６に示してある塗布装置に比べて高速タイプではなく、今回も塗布速度800ｍ／minは塗布不可能であった。従って、バックエッジを複数の曲率を有する断面形状で高速塗布性は向上し、全て曲率で構成される場合はより高速タイプの塗布装置となり、下流端部分を直線化することにより、幾分高速塗布性は阻害されるが、塗布乾燥後の表面性が向上する事が解る。
実施例２
実施例１で使用した磁性粉分散液及び微磁性粉末分散液を使用し、本発明の構成(3)に示してある二つのスリットとフロントバー、センターバー、バックバーよりなるウェットオンウェットの同時重層塗布装置を使用して、特開平2-251265号の記載のコーターを比較例とし、本発明の構成(3)で示したコーターを使用し８μmのペットベースに塗布を行った。その際、スパンが500mmの二本のサポートロール間でほぼ中間の位置にコーターヘッドの先端部を設定し、そのヘッドをそのロールで支持されたベースに接触する位置を０としベース側に押し込み良好な塗布性が得られる位置で押し出し塗布を行った。
【００９８】
　塗布する条件としては、バックエッジ下流端の接線と連続的に走行する支持体とのなす角度は−５度から＋５度程度に保たれ、塗布性の良好な条件が適用された。
【００９９】
　その際コーターの巾は660mmとし、搬送時のテンションは20kg巾とした。塗布性の評価方法は塗布中にオンラインで連続的にＸ線を使用し、塗布方向に膜厚分布を測定し、膜厚分布が塗布方向で±10％変動した部分の１／２インチ巾スリットをＮＧとし、10000ｍ塗布後に良品率（塗布収率）（％）で評価を行った。
【０１００】
　また、電磁変換特性の変動値を比較するため、針状粉を使用した場合は長手方向に、板状粉を使用した場合は垂直に、乾燥後の膜厚が上層0.3μ、下層が2.0μとなるように膜厚設定し、電磁石を使用して6000ガウスの磁場配向を約２秒間行い、乾燥、カレンダー処理後スリット、ローディングを８mmのカセットに行った。
【０１０１】
　そして市販の８mmビデオレコーダー（Sony EVO9500）を用いて７MHzの単一波を記録し、この信号を30秒間再生・測定し、７MHzの再生出力を出力レベル測定機を使用し、出力レベルの30秒間の変動の測定を行った。
【０１０２】
　また塗布条件で表中に記載のないものは、実施例１に示したものと全く同様に行った。
【０１０３】
　使用したコーターのパラメーター値を表９、実験結果を表10に示した。
【０１０４】
【表９】
2004136282.tif 000011
【０１０５】
【表１０】
2004136282.tif 000012
　結果の表より明らかなように、本発明の塗布装置を使用することによって、従来では非常に均一で且つ高速重層塗布が出来なかったものが、非常に優れた塗布が可能となった。
【０１０６】
　またそれに付随して、出力変動の極めて優れた重層記録媒体の製作が可能となった。特に本発明では、下層が非磁性塗布液である場合により好ましい結果が得られる。更にその場合、上層にふくまれる磁性粉が板状でその板面に垂直に磁気異方性軸を持つものであると好ましい結果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】従来の単層塗布装置の断面図。
【図２】従来の単層塗布装置の断面図。
【図３】従来の重層塗布装置の断面図。
【図４】（ａ）本発明にかかるエクストルーダーの一実施態様の一部を切断して示した斜視図、（ｂ）側面図、（ｃ）断面図、（ｄ）断面拡大図。
【図５】本発明にかかる塗布装置の断面図。
【図６】本発明にかかるバックエッジ面の形状を表すグラフ。
【図７】本発明にかかるバックエッジ面の形状を表すグラフ。
【図８】本発明にかかるバックエッジ面の形状を表すグラフ。
【図９】本発明にかかる単層塗布装置の断面図。
【図１０】本発明にかかる単層塗布装置の断面図。
【図１１】本発明にかかる単層塗布装置の断面図。
【図１２】本発明にかかる重層塗布装置の断面図。
【符号の説明】
【０１０８】
１，１′  フロントバー
２，３′  バックバー
２′  センターバー
３，４′，５′  スリット
ｄ1，ｄ2，ｄ3  バックバー表面と支持体との間隔
ｒ1，ｒ2，ｒ3，ｒ4  バーの形状を表す曲率半径
Ｗ  支持体
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ  バー表面の位置
【図１】
2004136282.tif 000013
【図２】
2004136282.tif 000014
【図３】
2004136282.tif 000015
【図４】
2004136282.tif 000016
【図５】
2004136282.tif 000017
【図６】
2004136282.tif 000018
【図７】
2004136282.tif 000019
【図８】
2004136282.tif 000020
【図９】
2004136282.tif 000021
【図１０】
2004136282.tif 000022
【図１１】
2004136282.tif 000023
【図１２】
2004136282.tif 000024