(57)【要約】【課題】搬送制御の煩雑化を抑制しつつ、テンションの増大を抑制する。【解決手段】洗浄液８を洗浄液貯留槽３から溢れ出させるための洗浄液補給部４を設け、洗浄液貯留槽３から洗浄液８を溢れ出させ、テープ基板９を洗浄液８上に浮かべて搬送しながら、洗浄液噴出部１から洗浄液８をテープ基板９上に噴出させることにより、テープ基板９の洗浄を行う。【選択図】      図１
2004352454.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流動体を貯留する貯留槽と、
前記流動体が前記貯留槽から溢れ出すように、前記貯留槽内に前記流動体を補給する流動体補給手段と、
前記流動体上に搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段とを備えることを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
搬送対象を支持する支持体と、
前記搬送対象の搬送方向に沿って流動体が流れるように、前記支持体上に流動体を供給する流動体供給手段と、
前記流動体上に前記搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段とを備えることを特徴とする搬送装置。
【請求項３】
洗浄液を貯留する貯留槽と、
前記洗浄液が前記貯留槽から溢れ出すように、前記貯留槽内に前記洗浄液を補給する洗浄液補給手段と、
前記洗浄液上に搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段と、
前記洗浄液上に浮かべられた搬送対象上に前記洗浄液を噴出させる洗浄液噴出手段とを備えることを特徴とする洗浄装置。
【請求項４】
前記貯留槽から溢れ出た洗浄液を回収する洗浄液回収槽と、
前記回収された洗浄液を前記貯留槽に循環させる洗浄液循環手段とを備えることを特徴とする請求項３記載の洗浄装置。
【請求項５】
搬送対象を支持する支持体と、
前記搬送対象の搬送方向に沿って洗浄液が流れるように、前記支持体上に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄液上に前記搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段と、
前記洗浄液上に浮かべられた搬送対象上に前記洗浄液を噴出させる洗浄液噴出手段とを備えることを特徴とする洗浄装置。
【請求項６】
薬液を貯留する貯留槽と、
前記薬液が前記貯留槽から溢れ出すように、前記貯留槽内に前記薬液を補給する薬液補給手段と、
前記薬液上に搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段と、
前記薬液上に浮かべられた搬送対象上に前記薬液を噴出させる薬液噴出手段とを備えることを特徴とする薬液処理装置。
【請求項７】
搬送対象を支持する支持体と、
前記搬送対象の搬送方向に沿って薬液が流れるように、前記支持体上に薬液を供給する薬液供給手段と、
前記薬液上に前記搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段と、
前記薬液上に浮かべられた搬送対象上に前記薬液を噴出させる薬液噴出手段とを備えることを特徴とする薬液処理装置。
【請求項８】
洗浄液または薬液を貯留槽から溢れ出させる工程と、
前記貯留槽から溢れ出した前記洗浄液または前記薬液上に回路基板を浮かべながら、前記回路基板を搬送する工程と、
前記搬送されている回路基板上に前記洗浄液または前記薬液を噴出させることにより、前記回路基板の洗浄または薬液処理を行う工程とを備えることを特徴とする回路基板の製造方法。
【請求項９】
テープ基板の搬送方向に沿って洗浄液または薬液を流す工程と、
前記テープ基板の搬送方向に沿って流れる洗浄液または薬液上に回路基板を浮かべながら、前記回路基板を搬送する工程と、
前記搬送されている回路基板上に前記洗浄液または前記薬液を噴出させることにより、前記回路基板の洗浄または薬液処理を行う工程とを備えることを特徴とする回路基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は搬送装置、洗浄装置、薬液処理装置および回路基板の製造方法に関し、特に、フレキシブル回路基板のウェット処理工程に適用して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の洗浄装置では、例えば、特許文献１に開示されているように、テープ基板を搬送しながら、洗浄液をテープ基板上に噴き付けることにより、テープ基板の洗浄を行う方法がある。ここで、テープ基板を搬送する場合、テープ基板をローラで支持することが行われている。このため、従来の洗浄装置では、ローラ間でのテープ基板の弛みを防止して、テープ基板を安定して搬送できるようにするため、テープ基板に大きなテンションをかけることが行われている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平６−１０４２３４号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、テープ基板を搬送する際にテープ基板に大きなテンションをかけると、歪みや折れ曲がりがテープ基板に発生し、テープ基板の品質が劣化するという問題があった。特に、テープ基板の幅が広くなったり、テープ基板の厚みが薄くなったりすると、テープ基板に大きなテンションをかけることはほとんど不可能になる。
【０００５】
一方、テープ基板に大きなテンションをかけることなく、ローラ上でテープ基板を搬送できるようにするため、ローラの回転速度をテープ基板の搬送速度に同調させながら、ローラを回転させる方法がある。
しかしながら、ローラの回転速度をテープ基板の搬送速度に同調させながら、ローラを回転させる方法では、搬送制御が煩雑化し、搬送装置の構成が複雑化するとともに、搬送装置のコストが上昇するという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、搬送制御の煩雑化を抑制しつつ、テンションの増大を抑制することが可能な搬送装置、洗浄装置、薬液処理装置および回路基板の製造方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係る搬送装置によれば、流動体を貯留する貯留槽と、前記流動体が前記貯留槽から溢れ出すように、前記貯留槽内に前記流動体を補給する流動体補給手段と、前記流動体上に搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段とを備えることを特徴とする。
【０００８】
これにより、搬送対象を流動体上で滑らせながら、搬送対象を搬送することが可能となり、搬送対象の保持面を平坦化することが可能となる。このため、搬送対象にかかるテンションを低減することが可能となり、搬送対象にダメージを与えることなく、搬送対象を搬送することが可能となる。また、流動体を貯留槽から溢れ出させることで、搬送対象を流動体上で搬送できるようにすることができ、搬送制御の煩雑化を抑制することを可能として、搬送装置のコストの上昇を抑制することができる。
【０００９】
また、本発明の一態様に係る搬送装置によれば、搬送対象を支持する支持体と、前記搬送対象の搬送方向に沿って流動体が流れるように、前記支持体上に流動体を供給する流動体供給手段と、前記流動体上に前記搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段とを備えることを特徴とする。
これにより、搬送対象を流動体で押し流しながら、搬送対象を搬送することが可能となり、搬送対象の保持面を平坦化することが可能となる。このため、搬送対象にかかるテンションを低減することが可能となり、搬送対象にダメージを与えることなく、搬送対象を搬送することが可能となる。また、搬送対象の搬送方向に沿って流動体を流すことで、搬送対象を流動体上で搬送できるようにすることができ、搬送制御の煩雑化を抑制することを可能として、搬送装置のコストの上昇を抑制することができる。
【００１０】
また、本発明の一態様に係る洗浄装置によれば、洗浄液を貯留する貯留槽と、前記洗浄液が前記貯留槽から溢れ出すように、前記貯留槽内に前記洗浄液を補給する洗浄液補給手段と、前記洗浄液上に搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段と、前記洗浄液上に浮かべられた搬送対象上に前記洗浄液を噴出させる洗浄液噴出手段とを備えることを特徴とする。
【００１１】
これにより、搬送対象を洗浄液上で滑らせながら、搬送対象を洗浄することが可能となる。このため、搬送対象にかかるテンションを低減することが可能となり、搬送対象にダメージを与えることなく、搬送対象を洗浄することが可能となるとともに、洗浄液を貯留槽から溢れ出させることで、搬送対象を洗浄液上で搬送できるようにすることができ、搬送制御の煩雑化を抑制することを可能として、洗浄装置のコストの上昇を抑制することができる。
【００１２】
また、本発明の一態様に係る洗浄装置によれば、前記貯留槽から溢れ出た洗浄液を回収する洗浄液回収槽と、前記回収された洗浄液を前記貯留槽に循環させる洗浄液循環手段とを備えることを特徴とする。
これにより、貯留槽から溢れ出した洗浄液を再利用することが可能となり、洗浄液の使用量の増大を抑制しつつ、搬送対象を洗浄液上で滑らせながら、搬送対象を搬送することが可能となる。
【００１３】
また、本発明の一態様に係る洗浄装置によれば、搬送対象を支持する支持体と、前記搬送対象の搬送方向に沿って洗浄液が流れるように、前記支持体上に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄液上に前記搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段と、前記洗浄液上に浮かべられた搬送対象上に前記洗浄液を噴出させる洗浄液噴出手段とを備えることを特徴とする。
【００１４】
これにより、搬送対象を洗浄液で押し流しながら、搬送対象を洗浄することが可能となる。このため、搬送対象にかかるテンションを低減することが可能となり、搬送対象にダメージを与えることなく、搬送対象を洗浄することが可能となるとともに、搬送対象の搬送方向に沿って洗浄液を流すことで、搬送対象を洗浄液上で搬送できるようにすることができ、搬送制御の煩雑化を抑制することを可能として、洗浄装置のコストの上昇を抑制することができる。
【００１５】
また、本発明の一態様に係る薬液処理装置によれば、薬液を貯留する貯留槽と、前記薬液が前記貯留槽から溢れ出すように、前記貯留槽内に前記薬液を補給する薬液補給手段と、前記薬液上に搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段と、前記薬液上に浮かべられた搬送対象上に前記薬液を噴出させる薬液噴出手段とを備えることを特徴とする。
【００１６】
これにより、搬送対象を薬液上で滑らせながら、搬送対象を薬液処理することが可能となる。このため、搬送対象にかかるテンションを低減することが可能となり、搬送対象にダメージを与えることなく、搬送対象を薬液処理することが可能となるとともに、薬液を貯留槽から溢れ出させることで、搬送対象を薬液上で搬送できるようにすることができ、搬送制御の煩雑化を抑制することを可能として、薬液処理装置のコストの上昇を抑制することができる。
【００１７】
また、本発明の一態様に係る薬液処理装置によれば、搬送対象を支持する支持体と、前記搬送対象の搬送方向に沿って薬液が流れるように、前記支持体上に薬液を供給する薬液供給手段と、前記薬液上に前記搬送対象を浮かべながら、前記搬送対象を搬送する搬送手段と、前記薬液上に浮かべられた搬送対象上に前記薬液を噴出させる薬液噴出手段とを備えることを特徴とする。
【００１８】
これにより、搬送対象を薬液で押し流しながら、搬送対象を薬液処理することが可能となる。このため、搬送対象にかかるテンションを低減することが可能となり、搬送対象にダメージを与えることなく、搬送対象を薬液処理することが可能となるとともに、搬送対象の搬送方向に沿って薬液を流すことで、搬送対象を薬液上で搬送できるようにすることができ、搬送制御の煩雑化を抑制することを可能として、薬液処理装置のコストの上昇を抑制することができる。
【００１９】
また、本発明の一態様に係る回路基板の製造方法によれば、洗浄液または薬液を貯留槽から溢れ出させる工程と、前記貯留槽から溢れ出した前記洗浄液または前記薬液上に回路基板を浮かべながら、前記回路基板を搬送する工程と、前記搬送されている回路基板上に前記洗浄液または前記薬液を噴出させることにより、前記回路基板の洗浄または薬液処理を行う工程とを備えることを特徴とする。
【００２０】
これにより、回路基板を洗浄液または薬液上で滑らせながら、回路基板の洗浄または薬液処理を行うことが可能となる。このため、回路基板にかかるテンションを低減することを可能としつつ、回路基板を搬送することが可能となり、回路基板の幅が増大したり、回路基板の厚みが薄くなったりした場合においても、歪みや折れ曲がりが回路基板に発生することを抑制しつつ、回路基板の洗浄または薬液処理を連続して行うことが可能となる。
【００２１】
また、本発明の一態様に係る回路基板の製造方法によれば、テープ基板の搬送方向に沿って洗浄液または薬液を流す工程と、前記テープ基板の搬送方向に沿って流れる洗浄液または薬液上に回路基板を浮かべながら、前記回路基板を搬送する工程と、前記搬送されている回路基板上に前記洗浄液または前記薬液を噴出させることにより、前記回路基板の洗浄または薬液処理を行う工程とを備えることを特徴とする。
【００２２】
これにより、回路基板を洗浄液または薬液で押し流しながら、回路基板の洗浄または薬液処理を行うことが可能となる。このため、回路基板にかかるテンションを低減することを可能としつつ、回路基板を搬送することが可能となり、回路基板の幅が増大したり、回路基板の厚みが薄くなったりした場合においても、歪みや折れ曲がりが回路基板に発生することを抑制しつつ、回路基板の洗浄または薬液処理を連続して行うことが可能となる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る洗浄装置および洗浄方法について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る洗浄装置の概略構成を示す断面図である。
【００２４】
図１において、洗浄液貯留槽３には洗浄液８が貯留され、洗浄液８を洗浄液貯留槽３から溢れ出させるための洗浄液補給部４が設けられている。また、洗浄液貯留槽３の上方には、洗浄液８を噴出させる洗浄液噴出部１が設けられ、洗浄液噴出部１には、洗浄液８をテープ基板９上に噴出するノズル２が設けられている。
【００２５】
また、洗浄液貯留槽３の下方には、洗浄液噴出部１から噴出された洗浄液８および洗浄液貯留槽３から溢れ出した洗浄液８を回収する洗浄液回収槽５が設けられている。そして、洗浄液回収槽５に回収された洗浄液８を洗浄液噴出部１に送り出すポンプ６が設けられるとともに、洗浄液回収槽５に回収された洗浄液８を洗洗浄液補給部４に送り出すポンプ７が設けられている。なお、洗浄液８としては、例えば、純水や超純水、硫酸、希塩酸、アルコールなどの有機溶媒などを用いることができる。
【００２６】
そして、テープ基板９の洗浄を行う場合、洗浄液回収槽５に溜まっている洗浄液８を、ポンプ７を介して洗浄液補給部４に供給し、洗浄液８を洗浄液貯留槽３から溢れ出させる。そして、洗浄液貯留槽３から洗浄液８を溢れ出させながら、テープ基板９を洗浄液８上に浮かべて搬送する。そして、テープ基板９を洗浄液８上で浮かべて搬送しながら、洗浄液噴出部１から洗浄液８をテープ基板９上に噴出させることにより、テープ基板９の洗浄を行う。
【００２７】
これにより、テープ基板９を洗浄液８上で滑らせながら、テープ基板９の洗浄を行うことが可能となる。このため、テープ基板９にかかるテンションを低減することを可能としつつ、テープ基板９を搬送することが可能となり、テープ基板９の幅が増大したり、テープ基板９の厚みが薄くなったりした場合においても、歪みや折れ曲がりがテープ基板９に発生することを抑制しつつ、テープ基板９の洗浄を連続して行うことが可能となる。
【００２８】
例えば、洗浄装置の長さが３０ｍ以上あり、テープ基板９の幅が１０５ｍｍ程度と広く、テープ基板９の厚みが２５μｍ程度と薄い場合においても、歪みや折れ曲がりがテープ基板９に発生することを抑制しつつ、テープ基板９をスムーズに搬送することが可能となる。
また、洗浄液８を洗浄液貯留槽３から溢れ出させることで、洗浄液８上でテープ基板９を搬送できるようにすることができ、テープ基板９の搬送制御の煩雑化を抑制することを可能として、洗浄装置のコストの上昇を抑制することができる。
【００２９】
なお、テープ基板９は、例えば、ＣＯＦ（チップ・オン・フィルム）、ＴＣＰ（テープ・キャリア、パッケージ）、ＴＣＭ（テープキャリアモジュール）などに用いることができる。
また、上述した実施形態では、洗浄液８上にテープ基板９を浮かべて搬送しながら、テープ基板９の洗浄を行う方法について説明したが、薬液上にテープ基板９を浮かべて搬送しながら、テープ基板９の薬液処理を行うようにしてもよい。
【００３０】
図２は、本発明の第２実施形態に係る洗浄装置の概略構成を示す断面図である。
図２において、洗浄液１８を流動させる洗浄液流動部１３には、洗浄液１８を洗浄液流動部１３上に補給する洗浄液補給部１４が設けられるとともに、洗浄液補給部１４から送出された洗浄液１８をテープ基板１９の搬送方向に沿って噴出する洗浄液噴出孔１３ａが設けられている。また、洗浄液流動部１３の上方には、洗浄液１８を噴出させる洗浄液噴出部１１が設けられ、洗浄液噴出部１１には、洗浄液１８をテープ基板１９上に噴出するノズル１２が設けられている。
【００３１】
また、洗浄液流動部１３の下方には、洗浄液噴出部１１から噴出された洗浄液１８および洗浄液流動部１３から漏れ出した洗浄液１８を回収する洗浄液回収槽１５が設けられている。そして、洗浄液回収槽１５に回収された洗浄液１８を洗浄液噴出部１１に送り出すポンプ１６が設けられるとともに、洗浄液回収槽１５に回収された洗浄液１８を洗洗浄液補給部１４に送り出すポンプ１７が設けられている。なお、洗浄液１８としては、例えば、純水、超純水、硫酸、希塩酸、アルコールなどの有機溶媒などを用いることができる。
【００３２】
そして、テープ基板１９の洗浄を行う場合、洗浄液回収槽１５に溜まっている洗浄液１８を、ポンプ１７を介して洗浄液補給部１４に供給し、テープ基板１９の搬送方向に沿って洗浄液１８を洗浄液流動部１３上で流動させる。そして、洗浄液１８を洗浄液流動部１３上で流動させながら、テープ基板１９を洗浄液１８上に浮かべて搬送する。そして、テープ基板１９を洗浄液１８上に浮かべて搬送しながら、洗浄液噴出部１１から洗浄液１８をテープ基板１９上に噴出させることにより、テープ基板１９の洗浄を行う。
【００３３】
これにより、テープ基板１９を洗浄液１８で押し流しながら、テープ基板１９の洗浄を行うことが可能となる。このため、テープ基板１９にかかるテンションを低減することを可能としつつ、テープ基板１９を搬送することが可能となり、テープ基板１９の幅が増大したり、テープ基板１９の厚みが薄くなったりした場合においても、歪みや折れ曲がりがテープ基板１９に発生することを抑制しつつ、テープ基板１９の洗浄を連続して行うことが可能となる。
【００３４】
また、テープ基板１９の搬送方向に沿って洗浄液１８を流すことで、洗浄液１８上でテープ基板１９を搬送できるようにすることができ、テープ基板１９の搬送制御の煩雑化を抑制することを可能として、洗浄装置のコストの上昇を抑制することができる。
なお、テープ基板１９は、例えば、ＣＯＦ（チップ・オン・フィルム）、ＴＣＰ（テープ・キャリア、パッケージ）、ＴＣＭ（テープキャリアモジュール）などに用いることができる。
【００３５】
また、上述した実施形態では、テープ基板１９を洗浄液１８で押し流しながら、テープ基板１９の洗浄を行う方法について説明したが、テープ基板１９を薬液で押し流しながら、テープ基板１９の薬液処理を行うようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る洗浄装置の概略構成を示す断面図。
【図２】本発明の第２実施形態に係る洗浄装置の概略構成を示す断面図。
【符号の説明】
１、１１  洗浄液噴出部、２、１２  ノズル、３  洗浄液貯留槽、４、１４  洗浄液補給部、５、１５  洗浄液回収槽、６、７、１６、１７  ポンプ、８、１８  洗浄液、９、１９  テープ基板、１３  洗浄液流動部、１３ａ  洗浄液噴出孔
【図１】
2004352454.tif 000003
【図２】
2004352454.tif 000004