(57)【要約】【課題】画像ムラを解消するとともに耐久性を向上し、かつオゾンや窒素酸化物の発生を抑制する。【解決手段】アルミ又はアルミ合金を用いた硬質陽極酸化皮膜３２の表面に無数に形成された微細孔に金属ナノ細線３５を二次電解で形成し、形成した金属ナノ細線３５の表面を平坦化加工処理して、帯電ローラ３０の表面に各々独立した金属ナノ細線３５の電子放射表面構造３６を形成する。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミ又はアルミ合金を用いた硬質陽極酸化皮膜の表面に無数に形成された微細孔にそれぞれ形成し、表面を平坦化加工処理した帯電電位を付与する金属ナノ細線を有することを特徴とする帯電部材。
【請求項２】
前記硬質陽極酸化皮膜の硬度はＨｖ４００〜６００であり、前記金属ナノ細線は、前記硬質陽極酸化皮膜の硬度より軟質の硬度Ｈｖ１００〜２５０の金属鍍金で形成した請求項１記載の帯電部材。
【請求項３】
アルミ又はアルミ合金を用いた硬質陽極酸化皮膜の表面に無数に形成された微細孔に帯電電位を付与する金属ナノ細線を、二次電解で形成し、形成した金属ナノ細線の表面を平坦化加工処理したことを特徴とする帯電部材の表面形成方法。
【請求項４】
前記金属ナノ細線の平坦化加工処理をバフ研摩処理、又はバフ研摩処理を一次処理とし、二次処理を砥粒メッシュ４０００〜１５０００番の研摩フィルムを用いた研摩加工で行なう請求項３記載の帯電部材の表面形成方法。
【請求項５】
前記金属ナノ細線を平坦化処理後に白金メッキを施した請求項３又は４記載の帯電部材の表面形成方法。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の帯電部材を有し、前記帯電部材で潜像を形成する感光部材の表面を帯電することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えば電子写真方式の画像形成装置の感光体に潜像を形成するため、感光体の表面を帯電する帯電ローラ等の帯電部材と帯電部材の表面形成方法及び帯電部材を使用した画像形成装置、特に画像形成時に発生する人体に有害なオゾンや画像ながれを発生させる窒素酸化物の発生量の抑制に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】特開平７−１９９５９７号公報
【特許文献２】特開平７−１９９５９９号公報
【特許文献３】特開平１０−２８８８８１号公報
【特許文献４】特開平９−３０５００２号公報
【特許文献５】特開２００１−２５０４６７号公報
電子写真方式を使用した複写機やレーザープリンタなどの画像形成装置に使用される有機感光体への帯電方法は、接触式帯電器と非接触式帯電器とが使用されている。接触式帯電器には弾性ローラを用いたローラ帯電器と、ファーブラシや磁気ブラシ又はブレード等を用いたものが実用化されている。非接触式帯電器では、ワイヤーを用いたコロナ帯電器や鋸刃状ブレードを用いたコロナ帯電器あるいは有機感光体に近接して配置される非接触ブレード帯電器又は非接触ローラ帯電器等が使用されている。
【０００３】
接触式帯電器では、有機感光体と弾性体のローラ表面を直接接触させて帯電させるため、記録紙の紙紛がローラ表面に付着堆積し、感光体への帯電電位が不均一となって画像ムラの原因となって耐久性を低下させてしまう。また、ファーブラシや磁気ブラシを用いた帯電器では、現像剤であるトナーや紙紛がブラシに固着し、同じく帯電電位が不均一となり、スジ状の画像ムラの原因となって耐久性を低下させている。さらに、接触式のブレードを用いた帯電器では、感光体に傷やトナーのフィルミングが起き易く耐久性の面で問題となる。
【０００４】
また、非接触式のコロナ帯電器では、有機感光体と放電部材であるワイヤーや鋸刃状ブレード先端との間隔が１〜１０ｍｍと広いから、４〜７ＫＶの高電圧でコロナ帯電させるため、コロナ放電で生じたオゾンが帯電器内で１〜２ｐｐｍと非常に多く発生し、画像形成装置の外に０．１ｐｐｍ程度で飛散し不快臭となったり、帯電器内で窒素酸化物を生成し、生成した窒素酸化物が有機感光体表面に付着して表面抵抗が減少し、画像のながれ現象等の不具合を生じる原因となっている。
【０００５】
この形成する画像の画像ムラを解消するため、特許文献１に示された帯電部材は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる支持体表面を陽極酸化して形成した多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜の孔中に金属を充填したり、遷移金属の酸素酸塩より形成された導電物又は純水を付着させ、その上に導電性の微粉末又は研磨剤を分散した有機又は無機高分子からなる表面保護層を形成し、この表面を感光体表面に直接接触させて電子注入型の帯電を行なうようにしている。
【０００６】
また、特許文献２に示された帯電部材は、芯金に弾性層と抵抗調整層を設け、感光体の非画像領域に対応する両端部に絶縁層を設けて、帯電部材の中央部である画像領域相当部よりも両端部の電気抵抗値が高くなるようにして、多くなりがちな両端部の放電量を抑制して画像ムラを解消するようにしている。
【０００７】
特許文献３には、帯電ローラを回転させたときの帯電ムラを防止をため、帯電ローラの帯電面に非接触に対向する位置に予備放電部材を設け、予備放電部材で帯電ローラをクリーニングするようにしている。
【０００８】
また、オゾンや窒素酸化物の発生を防止するため、特許文献４に示す平面型固体放電装置は、放電基板の第２の電極を低仕事関数や低スパッタ率を有するＬａＢ６やＷ，Ｔｉ等の素材で形成するとともに、第２電極開口部の主走査方向の長さ寸法を７０μｍ以下にして放電電圧を下げ、発生する窒素酸化物を減少するようにしている。また、放出面積を減少させて放出量を減少し、さらに、狭い放電域での電界容量を大きくし、開口部近辺での温度上昇とオゾンの熱分解反応を促進して、機外に排出するオゾンや窒素酸化物の量を低減するようにしている。
【０００９】
また、特許文献５に示された帯電部材は、大気圧中でも素子の劣化がなく、低電圧で安定した電子放出が可能としてオゾンや窒素酸化物の発生を少なくするため、先端部分に金属や合金又は金属を含む窒化物や炭化物やケイ化物あるいはホウ化物の少なくとも１種で被覆されたカーボンナノチューブを構成要素として有する。このカーボンナノチューブとして、単層タイプで直径が僅か１〜２ｎｍ、多層タイプで５〜５０ｎｍで長さが１０μｍ程度のものを使用している。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
特許文献１〜特許文献５では、いずれも形成する画像の画像ムラの解消と耐久性及び発生するオゾンや窒素酸化物を低減することを全て満足することはできないという短所があった。
【００１１】
この発明はかかる短所を改善し、画像ムラを解消するとともに耐久性を向上し、さらにオゾンや窒素酸化物の発生を抑制することができる帯電部材と帯電部材の表面形成方法及び画像形成装置を提供することを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明の帯電部材は、アルミ又はアルミ合金を用いた硬質陽極酸化皮膜の表面に無数に形成された微細孔にそれぞれ形成し、表面を平坦化加工処理した帯電電位を付与する金属ナノ細線を有し、オゾンや窒素酸化物の発生を抑制することを特徴とする。
【００１３】
前記硬質陽極酸化皮膜の硬度はＨｖ４００〜６００であり、前記金属ナノ細線は、前記硬質陽極酸化皮膜の硬度より軟質の硬度Ｈｖ１００〜２５０の金属鍍金で形成し、平坦化加工処理するとき硬質陽極酸化皮膜に疵が付くことを防ぎ、金属ナノ細線の先端部を選択的に平坦化加工する。
【００１４】
この発明の帯電部材の表面形成方法は、アルミ又はアルミ合金を用いた硬質陽極酸化皮膜の表面に無数に形成された微細孔に帯電電位を付与する金属ナノ細線を、二次電解で形成し、形成した金属ナノ細線の表面を平坦化加工処理したことを特徴とする。
【００１５】
また、金属ナノ細線の平坦化加工処理をバフ研摩処理、又はバフ研摩処理を一次処理とし、二次処理を砥粒メッシュ４０００〜１５０００番の研摩フィルムを用いた研摩加工で行なうと良い。
【００１６】
さらに、金属ナノ細線を平坦化処理後に白金メッキを施して、耐久性を高めるとともに低抵抗化を図る。
【００１７】
この発明の画像形成装置は、前記帯電部材を有し、帯電部材で潜像を形成する感光部材の表面を帯電することを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】
図１はこの発明の画像形成装置の構成図である。画像形成装置１は複写機能とプリンタ機能を有し、図に示すように、画像形成ユニット２の下部には記録紙を収納した２段の給紙カセット３ａ，３ｂが設けられ、画像形成ユニット２の上部には読取ユニット４を有する。給紙カセット３ａ，３ｂは給紙ローラ５ａ，５ｂを有し、給紙ローラ５ａ，５ｂにより給紙カセット３ａ，３ｂ内に積載された記録紙を１枚ずつ給紙する。給紙ローラ５ａ，５ｂの下流側近傍は合流して縦搬送経路６が形成されている。縦搬送経路６には、搬送ローラ７，８と画像形成ユニット２の画像形成部９と定着部１０が配置されている。画像形成部９は、有機感光体１１と、感光体１１の周囲に配置された帯電装置１２と現像装置１３と転写部１４及びクリーニングユニット１５と、レーザ光源やポリゴンミラー等が設けられ、感光体１１にレーザービームを照射して画像を書き込む書込ユニット１６を有する。
【００１９】
縦搬送経路６の下流端には排紙ローラ１７が設けられ、画像を形成した記録紙を排紙部１８に搬送する。また、縦搬送経路６の外側には、支軸１９を支点として回転方向に開閉可能な手差しトレイ２０が設けられている。画像形成ユニット２の側面で支軸１９の上部近傍には手差し給紙を行うための給紙口が設けられ、両面ユニット２１と共通に用いられる搬送経路である共通搬送経路２２が搬送ローラ８の上流側で縦搬送経路６と合流している。そして手差しトレイ２０を水平に開放したときに手差し給紙が可能となり、手差しトレイ２０にセットした記録紙は共通搬送経路２２から縦搬送経路６に搬送される。
【００２０】
給紙ユニット３ａ，３ｂあるいは手差しトレイ２０から給紙された記録紙は画像形成部９に搬送される。画像形成部９は、感光体１１の表面を帯電装置１２で帯電し、帯電した感光体１１に、書込ユニット１６から画像情報に応じたレーザビームを照射して静電潜像を形成する。感光体１１に形成された静電潜像は現像装置１３で現像され、現像した画像を転写部１４で記録紙に転写する。定着部１０は画像が転写された記録紙に熱及び圧力を加えて定着する。画像が定着された記録紙は排紙ローラ１７により排紙部１８に排出される。両面ユニット２１は装置本体２の外側部に設置され、記録紙の両面に画像を形成するときは、片面に画像を形成した記録紙を装置本体２の上部に設けた搬送ローラ２３によりスイッチバック経路２４に送り、スイッチバック経路２４から両面ユニット２１を介して再び縦搬送経路６に記録紙を搬送する。
【００２１】
画像形成装置１に設けられた帯電装置１２は、図２の斜視図に示すように、ローラ式非接触近接帯電ローラ３０を有し、感光体１１の表面にコロナ放電により帯電電位を付与する。この帯電ローラ３０の帯電電位付与面３１は、部分拡大図Ａに示すように、アルミ又はアルミ合金を用いた硬質陽極酸化皮膜３２の皮膜表面３３に、無数に形成された微細孔の底部のバリヤー層３４から銅やニッケル、コバルトの単体金属及びその合金を二次電解し、皮膜表面３３に１０〜１００ｎｍのナノサイズで、硬質陽極酸化皮膜３２の絶縁体により、先端が各々独立した電子放射表面構造３６を持った金属ナノ細線３５を形成している。
【００２２】
この無数の金属ナノ細線３５を形成する硬質陽極酸化皮膜３２は電析電流に対して障壁層として形成されるため、その皮膜形成時の厚さを非常に均一にすることができる。したがって硬質陽極酸化皮膜３２表面に無数に形成されるナノサイズの微細孔の深さも一定にすることができ二次電解で微細孔の底部のバリヤー層３４から金属ナノ細線３５を電析させると、表面に近くなるにしたがい金属イオンの動きは容易となり、電析条件のムラを拾って金属ナノ細線３５の集合した島構造が表面に突状に出来易くなる。そこで形成された金属ナノ細線３５の先端を加工して平坦化することにより、ナノサイズで硬質陽極酸化皮膜３２により、先端が各々独立した金属ナノ細線３５の電子放射表面構造３６を容易に得ることができる。
【００２３】
この帯電ローラ３０を感光体１１に対して配置する場合、帯電ローラ３０の両端に設けた帯電ギャップ形成端３７，３８を、感光体１１の両端に接触させて、感光体１１の帯電面３９の範囲に、部分拡大図Ｂに示すように、帯電ギャップａを３０〜１００μｍ形成し、その帯電ギャップａの幅の変動を５μｍ以下の精度で形成するように、帯電ローラ３０の帯電ギャップ形成端３７，３８の同軸精度を、帯電電位付与面３１の加工時に同時に加工して高精度に形成する。
【００２４】
そして帯電ローラ３０で感光体１１の表面を帯電するとき、金属ナノ細線３５の先端を平坦化加工処理した帯電ローラ３０の電子放射表面構造３６は、低電位で電子放射を容易にするナノサイズの先端形状を持ち、皮膜表面３３に絶縁性の硬質陽極酸化皮膜３２で各々独立した金属ナノ細線３５が配置されてコロナ放電電極４０となり、感光体１１の表面へ所望の帯電電位を与えることができる。そこで直流と交流を重畳した電源４１からスリップ電極４２を介して帯電ローラ３０に負電圧０．８〜１．５ＫＶを供給して感光体１１の表面を帯電する。
【００２５】
この感光体１１を帯電する帯電ローラ３０の二次電解で電析される金属ナノ細線３５は、先端が皮膜表面３３でナノサイズに硬質陽極酸化皮膜３２で絶縁されて、各々独立した電子放射表面構造３６となり、この独立した金属ナノ細線３５の先端からは容易に電子が放射され易くなり、低電圧で火花放電を伴わないコロナ放電の持続が可能となる。また、低電圧で火花放電を伴わないコロナ放電を持続することにより、画像形成時に発生する人体に有害なオゾンや画像ながれを発生させる窒素酸化物の発生量を抑制することができる。
【００２６】
この帯電ローラ３０の金属ナノ細線３５を作製するとき、二次電解で電析される金属ナノ細線３５は、バリヤー層３４から皮膜表面３３までは微細孔の径内に拘束されて成長するが、皮膜表面３３を越えるようになると電析電流は微細孔に拘束されなくなるため、部分的に電流の集中するところが発生し易くなり、金属ナノ細線３５の先端の径方向が拡大し、周囲の金属ナノ細線３５が集合するように島構造が形成されてしまう。このように島構造になると、低電圧で電子放出可能なナノサイズの先端形状を持つ電子放射表面構造３６が失われてしまう。そこで島構造が形成された部分及びその皮膜表面３３全体を研摩して平坦化加工処理し、金属ナノ細線３５の先端が皮膜表面３３でナノサイズに硬質陽極酸化皮膜３２で絶縁されて、各々独立した電子放射表面構造３６とする。
【００２７】
この帯電電位付与面３１の表面に形成された金属ナノ細線３５の表面平坦化加工の方法を図３を参照して説明する。
【００２８】
図３の部分拡大図Ａに示すように、金属ナノ細線３５を皮膜表面３３の微細孔から突状に二次電解形成した場合、微細孔の全ては金属ナノ細線３５で充填され、この金属ナノ細線３５が部分的に島構造４３を形成する。この島構造４３が微細な状態では、軽く擦ることにより容易に除去することができる。そこで島構造４３を形成する電析金属が他の金属ナノ細線３５の先端を強く変形させることが少ないように、図３の研磨工程Ｂで布を用いたバフ研摩法を用い、帯電ローラ３０を回転しながら研摩剤を使用しないバフ研摩布４４で帯電ローラ３０の表面を研磨し、その後、帯電ローラ３０を回転しながら砥粒メッシュ４０００〜１５０００番の研摩フィルム４５を用いて帯電ローラ３０の表面を研磨する。この研磨するとき、硬度ＨＳ２０〜５０のゴム製バックアップローラ４６を研摩フィルム４５の裏面から押し当てて、研摩フィルム４５を帯電ローラ３０の表面に荷重１００〜３００グラムで押圧しながら研摩すると、研摩フィルム４５が表面に馴染んで研摩ムラなく帯電ローラ３０の表面を平坦化加工処理することができる。この研磨により、図３の部分拡大図Ｃに示すように、ナノサイズで硬質陽極酸化皮膜３２の表面に各々独立した先端形状を持つ金属ナノ細線３５の平坦化した電子放射表面構造３６を得ることができる。
【００２９】
また、金属ナノ細線３５を二次電解形成したときに、図３の部分拡大図ｄに示すように、島構造４３は発現しないが、一部の金属ナノ細線３５が突状金属ナノ細線４７となり、皮膜表面３３から飛び出すと電子放射の核を形成するため除去する必要がある。この除去する突状金属ナノ細線４７は僅かであるため、バフ研摩は行なわず、砥粒メッシュ４０００〜１５０００番の研摩フィルム４５を用い、突状金属ナノ細線４７の除去と同時に、帯電ローラ３０の皮膜表面３３を例えば１μｍの範囲で研摩除去し、平坦化した電子放射表面構造３６を得る。
【００３０】
【実施例】
［実施例１］  外径１６ｍｍのマグネシウム系アルミ合金材料で荒加工して形成した帯電ローラ３０の帯電電位付与面３１を、フラットバイト用いて０．１μｍＲｚ（ＪＩＳＢ０６０１−１９９４）以下の鏡面加工をし、取り外さずに同時加工で帯電ギャップ形成端３７，３８を旋削加工し、同軸度を５μ以下に形成した。次に、溶剤で脱脂洗浄し、硫酸１０〜１５容量％、液温５〜１０℃の電解液で硬度Ｈｖ４００〜６００の硬質陽極酸化皮膜３２を膜厚６〜８μｍで形成した。その後、硫酸ニッケル２４０グラム／リットル、液温２０〜２５℃で、陰極電流密度０．１〜１Ａ／ｄｍ２、処理時間５〜２０分で金属ナノ細線３５が島構造４３となる表面構造を形成し、この帯電ローラ３０の帯電電位付与面３１を、直径１００ｍｍの研磨剤無しのバフ研摩布４４を３０００〜５０００ｒｐｍで回転させ、３００〜５００ｇで帯電ローラ３０の帯電電位付与面３１に押し付けて研摩加工した。その後、砥粒メッシュ４０００〜１５０００番の研摩フィルム４５を用い、帯電ローラ３０を回転数１００〜３００ｒｐｍで回転させ、硬度ＨＳ２０〜５０のゴム製バックアップローラ４６を研摩フィルム４５の裏面から１００〜３００グラムの荷重で押し付けて研摩し、平坦化した電子放射表面構造３６を得た後、膜厚０．２μｍの白金をメッキを施して金属ナノ細線３５を有する帯電ローラ３０を形成した。
【００３１】
［実施例２］  外径１６ｍｍのマグネシウム系アルミ合金材料で荒加工して形成した帯電ローラ３０の帯電電位付与面３１をフラットバイト用いて０．１μｍＲｚ（ＪＩＳＢ０６０１−１９９４）以下の鏡面加工をし、取り外さずに同時加工して帯電ギャップ形成端３７，３８を旋削加工し、同軸度を５μ以下に形成した。次に、次に、溶剤で脱脂洗浄し、硫酸１０〜１５容量％、液温５〜１０℃の電解液で硬度Ｈｖ４００〜６００の硬質陽極酸化皮膜３２を膜厚６〜８μｍで形成した。その後、硫酸ニッケル２４０グラム／リットル、液温２０〜２５℃で、陰極電流密度０．１〜１Ａ／ｄｍ２、処理時間５〜２０分で金属ナノ細線３５が微細孔にほぼ充填され、一部の金属ナノ細線３５が突状金属ナノ細線４７を形成した表面構造を形成した。この帯電ローラ３０の帯電電位付与面３１を砥粒メッシュ４０００〜１５０００番の研摩フィルム４５を用い、帯電ローラ３０を回転数１００〜３００ｒｐｍで回転させ、硬度ＨＳ２０〜５０のゴム製バックアップローラ４６を研摩フィルム４５の裏面から１００〜３００グラムの荷重で押し付けて研摩し、平坦化した電子放射表面構造３６を得た後、膜厚０．２μｍの白金をメッキを施して金属ナノ細線３５を有する帯電ローラ３０を形成した。
【００３２】
この実施例１と実施例２で表面に白金メッキを施した電子放射表面構造３６を有する帯電ローラ３０を感光体１１に対して所定の帯電ギャップで配置し、負電源４１に接続して感光体１１に帯電付与電位を与えたときの状態を図４の説明図を参照して説明する。
【００３３】
帯電ロータ３０はアルミ又はアルミ合金の基体４８に、硬質陽極酸化皮膜３２が形成され、硬質陽極酸化皮膜３２が誘電体であるため電子放射表面構造３６の表面が負極に分極し、その硬質陽極酸化皮膜３２の垂直方向に形成された金属ナノ細線３５は硬質陽極酸化皮膜３２に形成されたバリヤー層３４を介してコロナ放電のための電子５０の供給路となる。金属ナノ細線３５の表面積が硬質陽極酸化皮膜３２の表面の全表面積の２０〜５０％であり、負電源４１から印加された電圧に対して先端が平坦化されている金属ナノ細線３５は、一部の金属ナノ細線３５に電界が集中するということがなく、各々の先端に２〜５倍で電界が高まり、低電圧で電子放射を可能とすることができ、火花放電を伴わないコロナ放電を行うことができる。
【００３４】
また、先端が平坦化された金属ナノ細線３５の先端に白金メッキ４９を例えば０．２μｍ程度の厚さでメッキすると正イオンのスパッタ作用に対して溶融温度を高めることができ耐久性を向上するとともに電気的にも表面が非常に低抵抗となり電子放射を容易にすることができる。このため金属ナノ細線３５を形成しないステンレス等の金属表面やアルマイト表面又はゴムや樹脂などの高分子表面を持つ非接触近接帯電器によるコロナ放電の電子エネルギよりも放射電子５１のエネルギを低くでき、電子衝突で発生する酸素分子５２の解離からのオゾン５３の生成と、派生して生成する窒素酸化物５４を少なくして感光体１の表面を負イオンで帯電することができる。
【００３５】
【発明の効果】
この発明は以上説明したように、アルミ又はアルミ合金を用いた硬質陽極酸化皮膜の表面に無数に形成された微細孔にそれぞれ形成し、表面を平坦化加工処理した帯電電位を付与する金属ナノ細線を設け、金属ナノ細線を各々独立した表面構造とすることにより、独立した金属ナノ細線の先端からは容易に電子を放射することができ、低電圧で火花放電を伴わないコロナ放電を持続し、人体に有害なオゾンや窒素酸化物の発生量を抑制することができる。
【００３６】
また、硬質陽極酸化皮膜の硬度をＨｖ４００〜６００とし、金属ナノ細線は、前記硬質陽極酸化皮膜の硬度より軟質の硬度Ｈｖ１００〜２５０の金属鍍金で形成するから、平坦化加工処理するとき硬質陽極酸化皮膜に疵が付くことを防ぎ、金属ナノ細線の先端部を選択的に平坦化加工することができる。
【００３７】
また、金属ナノ線をアルミ又はアルミ合金を用いた硬質陽極酸化皮膜の表面に無数に形成された微細孔に二次電解で形成することにより、均一な大きさの金属ナノ細線を安定して形成することができる。
【００３８】
また、金属ナノ細線の平坦化加工処理をバフ研摩処理、又はバフ研摩処理を一次処理とし、二次処理を砥粒メッシュ４０００〜１５０００番の研摩フィルムを用いた研摩加工で行なうことにより、硬質陽極酸化皮膜に疵が付くことを防ぎ、金属ナノ細線の先端部を選択的に平坦化加工することができる。
【００３９】
さらに、金属ナノ細線を平坦化処理後に白金メッキを施すことにより、耐久性を高めるとともに低抵抗化を図り、放射電子のエネルギを低くでき、オゾンや窒素酸化物の発生を低減することができる。
【００４０】
また、この帯電部材を電子写真方式の画像形成装置に使用し、潜像を形成する感光部材の表面を帯電することにより、容易に電子を放射することができ、低電圧で火花放電を伴わないコロナ放電を持続することができ、画像形成時に発生する人体に有害なオゾンや画像ながれを発生させる窒素酸化物の発生量を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の画像形成装置の構成図である。
【図２】帯電ローラの構成を示す斜視図である。
【図３】帯電ローラの表面を形成する処理を示す工程図である。
【図４】帯電ローラにより感光体に帯電付与電位を与えたときの状態を示す説明図である。
【符号の説明】
１；画像形成装置、２；画像形成ユニット、３；給紙カセット、
４；読取ユニット、９；画像形成部、１０；定着部、１１；感光体、
１２；帯電装置、１３；現像装置、１４；転写部、
１５；クリーニングユニット、１６；書込ユニット、３０；帯電ローラ、
３１；帯電電位付与面、３２；硬質陽極酸化皮膜、３３；皮膜表面、
３４；バリヤー層、３５；金属ナノ細線、３６；電子放射表面構造。
【図１】
2004277763.tif 000003
【図２】
2004277763.tif 000004
【図３】
2004277763.tif 000005
【図４】
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