(57)【要約】【課題】露光用の光源を排気を用いずに冷却すると共に，露光によるフォトマスクや基板の温度上昇を防止する。【解決手段】光源である超高圧水銀ランプ１１の楕円集光鏡１２の基部２０を金属で成形し，その表面にメッキ２１を介して光吸収膜２２を形成する。光吸収膜２２の上面には短波長光反射膜２３を形成する。楕円集光鏡１２の基部２０の裏面には冷却管２５を取り付ける。超高圧水銀ランプ１１から照射された光のうち，露光に必要な短波長光のみが楕円集光鏡１２の表面で反射する。長波長光は短波長光反射膜２３を通過し光吸収膜２２で吸収される。長波長光の熱エネルギは基部２０を通じて冷却管２５から排出される。超高圧水銀ランプ１１から発生する熱は周辺雰囲気に放出される前に排出されて，結果的に超高圧水銀ランプ１１は冷却される。フォトマスクや基板には，温度上昇の原因となる長波長光が照射されない。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光するために，光源から放射された光を反射させる露光用反射鏡であって，
露光用反射鏡の基部には，冷却部材が取り付けられており，
前記露光用反射鏡の基部の表面には，光吸収膜が形成され，その上層に所定の短波長光のみを選択的に反射させる短波長光反射膜が形成されていることを特徴とする，露光用反射鏡。
【請求項２】
請求項１に記載の露光用反射鏡は，光源から放射された光を反射し集光する集光鏡であることを特徴とする，露光用反射鏡。
【請求項３】
前記基部の材質には，熱伝導性の優れた金属が用いられていることを特徴とする，請求項１又は２のいずれかに記載の露光用反射鏡。
【請求項４】
前記冷却部材は，冷媒が流通する冷却管であることを特徴とする，請求項１，２又は３のいずれかに記載の露光用反射鏡。
【請求項５】
基板を露光する露光装置であって，
露光用の光源と，
前記光源から放射された光を反射させる露光用反射鏡を備え，
前記露光用反射鏡の基部には，冷却部材が取り付けられており，
前記露光用反射鏡の基部の表面には，光吸収膜が形成され，その上層に所定の短波長光のみを選択的に反射させる短波長光反射膜が形成されていることを特徴とする，露光装置。
【請求項６】
前記露光用反射鏡は，光源から放射された光を反射し集光する集光鏡であることを特徴とする，請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記露光用反射鏡の基部の材質には，熱伝導性の優れた金属が用いられていることを特徴とする，請求項５又は６のいずれかに記載の露光装置。
【請求項８】
前記冷却部材は，冷媒が流通する冷却管であることを特徴とする，請求項５，６又は７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項９】
前記露光用反射鏡以外の他の露光用反射鏡をさらに備え，
前記他の露光用反射鏡の表面には，前記短波長光反射膜が形成され，
前記他の露光用反射鏡の裏面には，光を反射させない非反射膜が形成されていることを特徴とする，請求項５，６，７又は８のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１０】
前記露光用反射鏡以外の他の露光用反射鏡をさらに備え，
前記他の露光用反射鏡の入射表面には，光を反射させない非反射膜が形成され，
前記他の露光用反射鏡の裏面には，前記短波長光反射膜が形成されていることを特徴とする，請求項５，６，７又は８のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１１】
前記露光用反射鏡以外の他の露光用反射鏡をさらに備え，
前記他の露光用反射鏡の表面には，前記短波長光反射膜が形成され，
前記他の露光用反射鏡の基材は，光吸収材が用いられていることを特徴とする，請求項５，６，７又は８のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１２】
前記光源の周辺には，当該光源によって温められた雰囲気を冷却する冷却体が配置されていることを特徴とする，請求項５，６，７，８，９，１０又は１１のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１３】
基板を露光する露光装置であって，
露光用の光源を備え，
当該光源の周辺には，当該光源によって温められた雰囲気を冷却する冷却体が配置されていることを特徴とする，露光装置。
【請求項１４】
前記冷却体は，冷媒が流通する冷却管であることを特徴ととする，請求項１２又は１３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１５】
前記光源に対し気体を吹き付ける吹き付け部材をさらに備えたことを特徴とする，請求項５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３又は１４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１６】
少なくとも前記光源を収容する筐体と，
前記筐体を冷却する冷却部をさらに備えたことを特徴とする，請求項５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４又は１５のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１７】
前記筐体の内壁面は，黒色に着色されていることを特徴とする，請求項１６に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，露光用反射鏡及び基板の露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば液晶ディスプレイの製造工程におけるフォトリソグラフィ工程では，基板に対し所定のパターンを露光する露光処理が行われている。
【０００３】
上述の露光処理は，通常露光装置において行われ，露光装置は，例えば光源となる超高圧水銀ランプと，この超高圧水銀ランプから出射した光を集光する楕円鏡と，楕円鏡からの光を反射させる第１反射鏡と，シャッタと，光の照度分布を均等にするフライアイレンズと，フライアイレンズを通過した光を反射させる第２反射鏡と，第２反射鏡からの光を基板の照射面に平行に反射させる球面鏡などから構成された光学系を備えている。第２反射鏡と基板の照射面との間には，所定のパターンが面付けされたマスクが配置されている。そして，露光処理時には，シャッタを切ることによって，超高圧水銀ランプからの光が楕円鏡，第１反射鏡，フライアイレンズ，第２反射鏡，球面鏡を順に経由し，マスクを通過して基板の照射面に照射されて，基板に所定のパターンが露光されていた（例えば，特許文献１参照。）。
【０００４】
ところで，基板サイズの大型化に伴って，超高圧水銀ランプには，十数ｋＷ程度の高出力のものが用いられるようになっている。また，露光装置は，通常１日に２４時間連続して稼働しており，超高圧水銀ランプも２４時間点灯し続けている。このため，超高圧水銀ランプからは，大量の熱が発生する。この大量の熱が露光装置内に放射されると，周辺機器に悪影響を及ぼすのみならず，露光されるフォトマスクや基板の温度を上昇させてしまい，露光処理が適正に行われない。そこで，その熱対策として，超高圧水銀ランプを含めた光学系の大部分を筐体で覆い，当該筐体内を大排気量で排気することによって，その光源から生じる熱を排出するようにしていた。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１０−１４２８０４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，上述のように大量の熱を排気によって排出するには，例えば十数ｋＷ程度の超高圧水銀ランプの場合，２０〜５０ｍ２／ｍｉｎ程度の大排気量の排気系が必要になる。また，工場には，通常露光装置が複数台設置されており，上記熱を排出するための排気系は，各露光装置の光学系毎に必要になる。したがて，工場では，大型の排気系が複数系統必要になり，排気設備が複雑化，大型化していた。
【０００７】
また，露光装置の設置された工場のクリーンルーム内の雰囲気は，空調設備によって温度と湿度が厳密に調整されている。したがって，露光装置においてクリーンルーム内の雰囲気が大流量で排気されると，その分空調設備への負荷が大きくなり，空調設備の消費エネルギが増大する。また，空調設備で所定の温湿度に調整されたいわゆる高価な雰囲気を大量に排気することは，工場全体のランニングコストを考えても好ましくはない。
【０００８】
ところで，従来の露光装置では，光源によっては熱放射を行う比較的長波長の光も基板に照射されていた。本来，基板の露光は，３００ｎｍ〜４５０ｎｍ程度の短波長光を用いて行うものであり，熱を持った長波長光が基板やフォトマスクに照射されると，基板やフォトマスクの照射面の温度が上昇し，寸法が違ってしまうことがあった。
【０００９】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，超高圧水銀ランプなどの光源から生じる大量の熱を排気を用いずに排出でき，また基板の照射面における昇温を防止できる露光用反射鏡及び基板の露光装置を提供することをその目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために，本発明は，基板を露光するために，光源から放射された光を反射させる露光用反射鏡であって，露光用反射鏡の基部には，冷却部材が取り付けられており，前記露光用反射鏡の基部の表面には，光吸収膜が形成され，その上層に所定の短波長光のみを選択的に反射させる短波長光反射膜が形成されていることを特徴とする。なお，短波長光とは，基板の露光に必要な比較的波長の短い光であり，例えば可視光線よりも短い，４５０ｎｍ以下の波長をいう。
【００１１】
本発明によれば，露光用反射鏡の基部の表面に短波長光反射膜が形成されているので，露光に必要な短波長のみを選択的に反射できる。短波長光反射膜の下層には，光吸収膜が形成されているので，反射面で反射せずに透過した長波長光を光吸収膜で吸収できる。そして，露光用反射鏡の基部に冷却部材が設けられているので，前記長波長光の吸収により蓄熱された熱を冷却部材を介して排出できる。つまり，かかる露光用反射鏡は，光源からの熱放射を行う長波長光を積極的に吸収し，その長波長光の持つ熱エネルギを排出できる。この結果，光源から生じる熱は，露光用反射鏡から排出できる。したがって，従来のように光源から生じる熱を排気によって排出する必要がないので，例えば空調設備の負荷が軽減され，空調設備の消費エネルギを低減できる。また，大がかりな排気系が必要ないので，露光用反射鏡が用いられた露光設備を簡素化し小型化できる。さらに，露光用反射鏡において長波長光が除去されるので，基板まで長波長光が到達しなくなり，基板の昇温が防止されて，基板の露光が適正に行われる。
【００１２】
請求項１に記載の露光用反射鏡は，光源から放射された光を反射し集光する集光鏡であってもよい。かかる場合，光源から放出された長波長光が，放出直後に漏れなく吸収されるので，長波長光の持つ熱エネルギをより確実に効率的に排出できる。
【００１３】
前記基部の材質には，熱伝導性の優れた金属が用いられていてもよく，かかる場合，光吸収膜で吸収した長波長光の熱を基部内に伝導させ，当該熱を基部に取り付けられた冷却部材により好適に排出することができる。なお，前記冷却部材は，冷媒が流通する冷却管であってもよい。
【００１４】
本発明は，基板を露光する露光装置であって，露光用の光源と，前記光源から放射された光を反射させる露光用反射鏡を備え，前記露光用反射鏡の基部には，冷却部材が取り付けられており，前記露光用反射鏡の基部の表面には，光吸収膜が形成され，その上層に所定の短波長光のみを選択的に反射させる短波長光反射膜が形成されていることを特徴とする。
【００１５】
この発明によれば，露光用反射鏡において，光源からの短波長光のみを反射させ，熱エネルギを持つ長波長光が吸収される。そして，露光用反射鏡は，吸収した長波長光の熱エネルギを冷却部材により排出できる。したがって，従来のように光源の熱エネルギを排気によって排出する必要がないので，例えば空調設備への負荷が軽減され，空調設備の消費エネルギが低減できる。また，大がかりな排気系が必要ないので，露光設備を簡略化し小型化できる。さらに，基板に長波長光が到達しないので，基板の昇温が防止されて基板の露光が適正に行われる。
【００１６】
なお，前記露光装置は，前記露光用反射鏡が光源から放射された光を反射し集光する集光鏡であってもよく，前記露光用反射鏡の基部の材質に，熱伝導性の優れた金属が用いられていてもよい。また，前記冷却部材は，冷媒が流通する冷却管であってもよい。
【００１７】
上述の露光装置は，前記露光用反射鏡以外の他の露光用反射鏡をさらに備え，前記他の露光用反射鏡の入射表面には，前記短波長光反射膜が形成され，前記他の露光用反射鏡の裏面には，光を反射させない非反射膜が形成されていてもよい。かかる場合，前記他の露光用反射鏡の入射表面において，短波長光が反射され，当該他の露光用反射鏡の表面を透過した長波長光は，前記他の露光用反射鏡の裏面で反射せず，そのまま裏面から出射される。この結果，前記他の露光用反射鏡で光が反射される際に，光源の光の中に残る長波長光が排除され，最終的に基板の照射面には，所望の短波長光のみが照射される。それ故，例えば長波長光により基板の照射面の温度が上昇し露光の寸法が変わることを防止できる。
【００１８】
上述の露光装置は，前記露光用反射鏡以外の他の露光用反射鏡をさらに備え，前記他の露光用反射鏡の表面には，光を反射させない非反射膜が形成され，前記他の露光用反射鏡の裏面には，前記短波長光反射膜が形成されていてもよい。かかる場合，他の露光用反射鏡の表面では，総ての波長の光が透過する。そして当該他の露光用反射鏡の裏面では，短波長光のみが反射され，長波長光はそのまま裏面から出射される。他の露光用反射鏡の裏面で反射した短波長光は，総て表面から出射される。この結果，他の露光用反射鏡によって短波長光のみを反射させ，長波長光を除去できるので，長波長光が基板まで届くことがなく，例えば基板の照射面が上昇し露光の寸法が変更されることを防止できる。
【００１９】
上記露光装置は，前記露光用反射鏡以外の他の露光用反射鏡をさらに備え，前記他の露光用反射鏡の表面には，前記短波長光反射膜が形成され，前記他の露光用反射鏡の基材には，光吸収材が用いられていてもよい。かかる場合，前記他の露光用反射鏡の表面で短波長光が反射され，その表面を透過した長波長光は，当該他の露光用反射鏡の光吸収材料により吸収される。それ故，基板には，短波長のみが照射され，例えば基板の照射面が昇温し露光の寸法が変わることがなくなる。
【００２０】
前記光源の周辺には，当該光源によって温められた雰囲気を冷却する冷却体が配置されていてもよい。この冷却体により，光源からその周辺に放出された熱が排出される。したがって，例えば露光用反射鏡で吸収しきれなかった熱を捕らえて排出できる。
【００２１】
本発明は，基板を露光する露光装置であって，露光用の光源を備え，当該光源の周辺には，当該光源によって温められた雰囲気を冷却する冷却体が配置されていることを特徴とする。この発明によれば，冷却体により，光源の周辺雰囲気が冷却されるので，従来のように排気系を用いずに光源からの熱を排出できる。したがって，空調設備の負荷が軽減され，空調設備の消費エネルギが低減できる。また，排気設備が必要ないので，工場の露光用設備の簡素化と小型化が図られる。
【００２２】
前記冷却体は，冷媒が流通する冷却管であってもよい。また，上記露光装置は，前記光源に対し気体を吹き付ける吹き付け部材をさらに備えていてもよい。この吹き付け部材により，光源を直接冷却できる。
【００２３】
前記露光装置は，少なくとも前記光源を収容する筐体と，前記筐体を冷却する冷却部をさらに備えていてもよい。この冷却部により，例えば光源から放出され，筐体に達した熱や加熱された空気を排気系を使わずに排熱できる。なお，前記筐体の内壁面は，黒色に着色されていてもよい。この場合，筐体内の輻射熱を積極的に回収し，例えば前記冷却部によって排熱できる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本発明にかかる露光装置１の構成の概略を示す説明図である。
【００２５】
露光装置１は，例えば基板Ｇを載置し当該基板Ｇを所定の照射位置に位置させるステージ１０を備えている。露光装置１は，光源として超高圧水銀ランプ１１を備え，当該超高圧水銀ランプ１１には，露光用反射鏡としての楕円集光鏡１２が設けられている。楕円集光鏡１２からステージ１０上の基板Ｇまでの光路Ｍには，他の露光用反射鏡としての第１の反射鏡１３，照射時間及び照射タイミングを制御するシャッタ１４，光の照度分布が均等になるように調節するフライアイレンズ１５，第２の反射鏡１６，球面鏡１７が順に配置されている。球面鏡１７とステージ１０上の基板Ｇとの間には，所定のパターンが面付けされたマスク１８が配置されている。また，例えば上記超高圧水銀ランプ１１，楕円集光鏡１２，第１の反射鏡１３，シャッタ１４，フライアイレンズ１５及び第２の反射鏡１６は，筐体１９内に収容されている。
【００２６】
超高圧水銀ランプ１１は，例えば筐体１９内において上方に向けられて配置されている。超高圧水銀ランプ１１には，例えば１０ｋＷ程度の高出力のものが用いられ，超高圧水銀ランプ１１からは，ｇ線，ｈ線，ｉ線を含む４５０ｎｍ以下の短波長光と，それ以上の長波長光が放射される。
【００２７】
図２は，楕円集光鏡１２の構成を説明する縦断面の説明図である。楕円集光鏡１２の基部２０の材質（基材）には，例えば熱導電性の優れた金属，例えば銅又は真鍮が用いられている。例えば基部２０の反射面側の表面には，図３に示すようにメッキ２１が施され，その上層には，光吸収材料，例えば酸化クロムが蒸着されて光吸収膜２２が形成されている。さらに，光吸収膜２２の上層であって，楕円集光鏡１２の反射面１２ａには，露光に用いられる例えば４５０ｎｍ以下の短波長光Ｓのみを選択的に反射させる短波長光反射膜２３が形成されている。短波長光反射膜として，例えばダイクロイックミラーが用いられる。したがって，超高圧水銀ランプ１１から放射される光のうち，短波長光Ｓは，反射面１２ａの短波長光反射膜２３で反射され，それ以外の４５０ｎｍ以上の長波長光Ｌは，短波長光反射膜２３を通過して光吸収膜２２で吸収される。
【００２８】
例えば図２に示すように楕円集光鏡１２の基部２０の裏面には，冷却水供給源２４から供給される冷却水が流通する冷却部材としての冷却管２５が取り付けられている。冷却管２５は，例えば楕円集光鏡１２の裏面全体に偏り無く配置されている。この冷却管２５は，基部２０の裏面に対し例えば半田付けや熱伝導接着剤で接合される。光吸収膜２２で吸収された長波長光Ｌが有する熱エネルギは，基部２０に伝導し蓄積され，当該熱は，冷却管２５を通じて排出される。
【００２９】
第１の反射鏡１３は，図１に示すように例えば超高圧水銀ランプ１１の上方で楕円集光鏡１２に対向するように配置されている。第１の反射鏡１３は，平面鏡であり，その基材には，光を透過するガラスが用いられている。第１の反射鏡１３の入射表面には，図４に示すように短波長光反射材料が被覆されており，短波長光反射膜３０が形成されている。第１の反射鏡１３の裏面には，例えば多層膜の反射防止膜などの非反射膜３１が形成されている。第１の反射鏡１３に下方から光が照射されると，短波長光Ｓは，入射表面で反射され，長波長光Ｌは，第１の反射鏡１３内を通って裏面から上方へ出射される。
【００３０】
図１に示す第２の反射鏡１６は，例えば平面鏡で，第１の反射鏡１３からの光を球面鏡１８に向けて反射できる。球面鏡１８は，ステージ１０に対向する位置に設けられ，入射した光を平行光にして反射させて，ステージ１０上の基板Ｇに対して平行に照射できる。
【００３１】
次に，以上のように構成された露光装置１の作用について説明する。露光処理の際には，先ず図１に示すように基板Ｇがステージ１０上に載置され，基板Ｇが所定の照射位置に移動される。基板Ｇが照射位置に移動すると，例えばシャッタ１４が開放され，超高圧水銀ランプ１１の光が光路Ｍに沿って進んで基板Ｇに照射される。このとき超高圧水銀ランプ１１から放射された光は，先ず楕円集光鏡１２で集光され，反射される。この際，図３に示したように最表面の短波長光反射膜２３により，短波長光Ｓのみが反射し，長波長光Ｌは，光吸収膜２２に吸収される。吸収された長波長光Ｌの持つ熱エネルギは，楕円集光鏡１２内に蓄熱される。楕円集光鏡１２の熱は，基部２０を通って冷却管２５に伝導し，冷却水を介して排熱される。こうして，長波長光Ｌは，超高圧水銀ランプ１１から放射された直後に回収され，長波長光Ｌの有する熱が排出される。この熱の排出により，超高圧水銀ランプ１１から周囲の大量の熱が放出されることが防止される。
【００３２】
一方，楕円集光鏡１２で反射した光は，第１の反射鏡１３に入射する。第１の反射鏡１３に入射する光は，基本的に短波長光Ｓであるので，短波長光反射膜３０によって，第１の反射鏡３０の表面で斜め下方に向けて反射される。しかし，楕円集光鏡１２で反射した光の中には，僅かに長波長光Ｌが混ざっている場合があるが，その長波長光Ｌは，第１の反射鏡１３内を通過し，非反射膜３１により裏面から上方に放射される。こうして，基板Ｇに照射される光から長波長光Ｌが完全に除去され，所望の短波長光Ｓのみが光路Ｍを進行する。
【００３３】
第１の反射鏡１３で反射した光は，フライアイレンズ１５を通って照度分布が均等化され，第２の反射鏡１６で斜め上方向に反射する。そして，球面鏡１７で反射し，平行光となって，マスク１８を通過して基板Ｇに照射される。
【００３４】
以上の実施の形態によれば，楕円集光鏡１２の最表面に短波長光反射膜２３を形成し，その下層に光吸収膜２２を形成したので，超高圧水銀ランプ１１から放射された光のうち，露光に必要な短波長光Ｓのみ反射させ，熱放射となる長波長光Ｌを回収できる。そして，楕円集光鏡１２の基部２０の材質に熱伝導性の優れた金属を用い，当該基部２０に冷却管２５を設けたので，回収した長波長光Ｌの有する熱を冷却管２５を介して排熱できる。かかる場合，超高圧水銀ランプ１１から大量の熱が放出される原因である長波長光Ｌを回収するので，従来のように排気を用いずに排熱できる。この結果，例えば露光装置１が設置された工場の空調設備の負荷が軽減され，消費エネルギが低減される。また，排気系が必要ないので，排気設備を簡素化し小型化できる。
【００３５】
また，楕円集光鏡１２において，基板Ｇに照射される光の中から長波長光Ｌが除去されるので，長波長光Ｌの照射によりフォトマスクが膨張することを防止できる。加えて，第１の反射鏡１３の表面にも短波長光反射膜３０を形成し，第１の反射鏡１３の裏面に非反射膜３１を形成したので，過って楕円集光鏡１２で反射された僅かな長波長光Ｌは，第１の反射鏡１３で反射する際に除去され，基板Ｇの昇温がより確実に防止される。
【００３６】
なお，前記実施の形態の楕円集光鏡１２で採用した短波長光のみを反射させ，長波長光を吸収し，その長波長光の熱を排出する構成，例えば短波長光反射膜２３，光吸収膜２２，冷却管２５から成る構成は，第１の反射鏡１３や第２の反射鏡１６の他の反射鏡に適用してもよい。
【００３７】
また，図５に示すように第１の反射鏡４０の表面には，非反射材料が被覆され，非反射膜４１が形成され，第１の反射鏡４０の裏面には，短波長光反射材料が被覆され，短波長光反射膜４２が形成されていてもよい。この場合，楕円集光鏡１２から第１の反射鏡４０に照射された光は，総て表面を通過し，裏面において短波長光Ｓのみが反射される。この反射した短波長光Ｓは，再び表面から出射され，第２の反射鏡１６に向けて放射される。第１の反射鏡４０に照射された光の中にある長波長光Ｌは，第１の反射鏡４０の裏面を通過し当該裏面から出射される。この場合でも，基板Ｇに照射される光の中から長波長光Ｌが完全に排除されるので，長波長光Ｌの照射により基板Ｇが昇温することが防止される。
【００３８】
また，図６に示すように，第１の反射鏡５０の表面には，短波長光反射材料が被覆されて短波長光反射膜５１が形成され，第１の反射鏡５０の基材には，光吸収材，例えば黒色基材が用いられていてもよい。かかる場合，短波長光Ｓは，第１の反射鏡５０の表面で反射され，長波長光Ｌは，第１の反射鏡５０自体の光吸収材に吸収される。したがって，この場合にも基板Ｇに照射される光から長波長光Ｌが排除されるので，長波長光Ｌの照射による基板Ｇの昇温が防止される。
【００３９】
なお，前記実施の形態において第１の反射鏡１３，４０，５０で採用した構成を第２の反射鏡１６に採用してもよい。楕円集光鏡１２から基板Ｇまでの光路Ｍにある複数の反射鏡のうち，少なくとも一つの反射鏡を，帯域通過フィルタ（バンドパスフィルタ）を用いて所定の長波長域の光を排除してもよい。また，複数の反射鏡のそれぞれの反射特性を変えて，光が総ての反射鏡を通過し終えた時に，結果的に所定の長波長域の光が排除されるようにしてもよい。
【００４０】
上記実施の形態において，超高圧水銀ランプ１１の周辺に，超高圧水銀ランプ１１により温められた雰囲気を冷却する冷却体を設けるようにしてもよい。図７は，かかる一例を示すものであり，超高圧水銀ランプ１１の上部には，冷却水供給源６０に連通し，冷却水が流通する冷却体としてのフィンチューブ６１が配置されている。フィンチューブ６１は，例えば光路Ｍの外周に沿った環状に形成され，その環状のフィンチューブ６１が光路Ｍに沿って複数並設されている。また，フィンチューブ６１の外方には，図示しない気体供給源に連通し，超高圧水銀ランプ１１に直接気体を吹き付ける吹き付け部材６２が設けられている。この吹き付け部材６２は，例えばフィンチューブ６１の隙間から超高圧水銀ランプ１１に気体を吹き付けることができる。
【００４１】
そして，超高圧水銀ランプ１１の点灯時には，超高圧水銀ランプ１１から周辺雰囲気に放射された熱がフィンチューブ６１に取り込まれ，周辺雰囲気が冷却される。また，吹き付け部材６２からは，超高圧水銀ランプ１１に直接冷気が吹き付けられ，超高圧水銀ランプ１１自体も冷やされる。こうすることによって，点灯時に超高圧水銀ランプ１１から周囲に拡散される熱が低減される。したがって，上記楕円集光鏡１２と併せて，超高圧水銀ランプ１１から生じる熱をより完全に排熱することができる。なお，楕円集光鏡１２に上述したような排熱機能を設けず，この例のフィンチューブ６１のみで排熱してもよい。かかる場合も，従来のような排気を用いずに超高圧水銀ランプ１１の排熱を行うことができる。
【００４２】
さらに，前記実施の形態で記載した筐体１９を冷却するようにしてもよい。かかる場合，例えば図８に示すように筐体１９の上面に，冷却水供給源７０に連通し，冷媒としての冷却水が流通する冷却部としてのフィンチューブ７１を取り付けてもよい。かかる場合，超高圧水銀ランプ１１から放出され，熱気に乗って上昇した熱を筐体１９によって吸熱して排熱することができる。したがって，超高圧水銀ランプ１１から生じる熱をより完全に排熱することができる。また，筐体１９内が超高圧水銀ランプ１１により昇温し，例えば筐体１９周辺の機器に悪影響を及ぼすことを防止できる。なお，フィンチューブ７０は，筐体１９の内壁全体に配置してもよい。また，冷却用のチューブを筐体１９の壁面内に内蔵させ，筐体１９の内壁面を黒色に着色してもよい。かかる場合も，超高圧水銀ランプ１１の熱を筐体１９で積極的に吸熱し排出することができる。この場合，筐体１９の材質には，熱伝導性の優れた金属を用いてもよい。さらに，筐体１９の内壁をヒートシンク状にし，筐体１９の内壁面の表面積を増大させて，筐体１９に加熱空気の熱を効率的に吸収させるようにしてもよい。
【００４３】
以上の実施の形態は，本発明の一例を示すものであり，本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば，以上の実施の形態において光源は，超高圧水銀ランプ１１であったが，高圧水銀ランプ，ハロゲンランプなどの他の光源であってもよい。また，露光装置１の光学系の構成も，その露光処理の態様に応じて任意に変更でき，反射鏡の数も任意に選択できる。
【００４４】
【発明の効果】
本発明によれば，光源から発生する大量の熱を排気を用いずに排熱できるので，工場の空調設備への負荷が低減され，消費エネルギの低減が図られる。また，露光時の光の照射により基板が変形することがないので，基板の露光処理が適正に行われ歩留まりの向上が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態にかかる露光装置の構成の概略を示す説明図である。
【図２】楕円集光鏡の縦断面の説明図である。
【図３】図２の楕円集光鏡の一部を拡大した縦断面である。
【図４】第１の反射鏡の縦断面の説明図である。
【図５】第１の反射鏡の他の構成例を示す縦断面の説明図である。
【図６】第１の反射鏡の他の構成例を示す縦断面の説明図である。
【図７】フィンチューブを設けた楕円集光鏡の構成を示す縦断面の説明図である。
【図８】筐体にフィンチューブを設けた場合の露光装置の構成の概略を示す説明図である。
【符号の説明】
１  露光装置
１１  超高圧水銀ランプ
１２  楕円集光鏡
１３  第１の反射鏡
２０  基部
２１  メッキ
２２  光吸収膜
２３  短波長光反射膜
２５  冷却管
Ｇ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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