(57)【要約】【課題】感染性排水の滅菌処理の短縮化とランニングコストの低減を図る。【解決手段】真空給水処理Ａと、加熱・滅菌処理Ｂと、排水処理Ｃと、洗浄処理Ｄと、真空吸引処理Ｅとを行なう。真空給水処理Ａは、滅菌槽内を真空ポンプで脱気して最初に原水槽内の感染性排水を滅菌槽の槽本体に真空吸引する処理であり、加熱・滅菌処理Ｂは、槽本体内の感染性排水を間接加熱して、感染性排水を滅菌する処理であり、排水処理Ｃは、加熱・滅菌処理された排水を槽本体内から排出する処理であり、洗浄処理Ｄは、排水処理後、洗浄水をシャワーして槽本体内を洗浄する処理である。真空吸引処理Ｅは、洗浄処理によって負圧になった槽本体内に原水槽内の感染性排水を真空ポンプによらずに真空吸引させる処理であり、真空給水処理Ａに代えて行なう処理である。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、加熱・滅菌処理と、排水処理と、洗浄処理と、真空吸引処理とを有する感染性排水の滅菌処理方法であって、
加熱・滅菌処理は、蒸気の熱を槽本体の壁面を通して滅菌槽の槽本体内に吸引された感染性排水に作用させ、感染性排水を滅菌する処理であり、
排水処理は、加熱・滅菌処理された排水を槽本体内から排出する処理であり、
洗浄処理は、排水処理後の滅菌槽の槽本体に洗浄水をシャワーして槽本体内を洗浄する処理であり、
真空吸引処理は、洗浄処理後、原水槽内に残存する感染性排水あるいは新たに原水槽内に給水された感染性排水を洗浄処理によって負圧になった槽本体内に真空ポンプによらずに真空吸引させる処理であることを特徴とする感染性排水の滅菌処理方法。
【請求項２】
真空給水処理を有し、
真空給水処理は、滅菌槽の槽本体内を真空ポンプで脱気して原水槽内の感染性排水を槽本体に真空吸引する処理であり、滅菌槽の槽本体内に原水槽内の感染性排水を最初に吸引するときに用いられ、
真空吸引処理は、真空給水処理に引き続いて加熱・滅菌処理、排水処理、洗浄処理を行った後、洗浄処理によって負圧になった槽本体内に原水槽内の感染性排水を槽本体内に吸引させる処理であることを特徴とする請求項１に記載の感染性排水の滅菌処理方法。
【請求項３】
真空吸引処理は、真空給水処理に代えて行なう処理であることを特徴とする請求項１に記載の感染性排水の滅菌処理方法。
【請求項４】
真空吸引処理は、真空給水処理と併用される処理であることを特徴とする請求項１に記載の感染性排水の滅菌処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感染性排水の滅菌処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
医療施設から排出される感染病床排水、解剖室排水など（以下感染性排水という）には、病原性微生物が混入の虞のある血液や体液がふくまれているため、放流に際しては十分な滅菌処理が必要である。
【０００３】
医療施設から排出される感染性排水を滅菌処理する代表的な方法として、蒸気加熱滅菌法がある。蒸気加熱滅菌法は、敷地内の原水槽内に溜められた感染性排水を水中ポンプでくみ上げて滅菌槽内に移し、次いで滅菌槽内の感染性排水中に直接蒸気を吹き込み、感染性排水を高温の蒸気に一定時間（１００℃以上、５分以上）曝気して滅菌処理する方法である。蒸気加熱滅菌法によれば、ガスの流出や、ダイオキシン発生の危険がなく、放流に先立って排水の温度を一定温度以下に降温させるほかには格別厄介な後処理の必要はない。
【０００４】
この方法は、感染性排水を高温の蒸気に直接曝すことから、「直接加熱滅菌法」といわれている。滅菌処理後の排水は、滅菌槽の底部に設けたバルブを開いて冷却槽内に取り出され、冷却槽内に一旦溜め、冷却水として市水を混合し、常温（約４０℃）に降温してから下水管に放流される。直接加熱滅菌法は、滅菌槽内の感染性排水中に直接吹き込んだ蒸気の熱を排水中の感染性微生物に直接作用させて滅菌するため、滅菌効果に優れているものと考えられていた。
【０００５】
しかしながら、直接加熱滅菌法によるときには、排水を直接加熱できる範囲は、蒸気配管の周囲の或る限られた範囲内に限られ、滅菌槽が大型になればなるほど、十分に加温されない領域が生じ、滅菌効率が低下するという問題があることが明らかになった。滅菌槽の上方から感染性排水の水面下に差し込まれた蒸気配管から蒸気を噴出し、噴出した蒸気が水面に浮上する間に蒸気と接触する排水が加熱されるにすぎないからである。
【０００６】
もっとも、滅菌槽内に蒸気を噴出する蒸気配管の数を増やせば、蒸気配管を増やした分だけ加温されない領域を減少させてゆくことはできるが、蒸気配管の数を増すには自ずから限度があり、滅菌槽が、高さに比して幅または奥行きが長い槽、すなわち横型の槽には、実質的に適用することが難しい。
【０００７】
また、直接加熱滅菌法によるときには、滅菌効果の問題に止まらず、保守管理の点でも種々の問題があることが分かった。たとえば、直接滅菌法は、滅菌槽内に充填された感染性排水に直接蒸気を吹き込むため、蒸気が凝縮した水分が感染性排水に加わることになって、排水の処理量が増大し、冷却のために多量の市水が必要になる。
【０００８】
また、滅菌槽に圧入した余剰の蒸気は、配管を通して蒸気発生装置に戻されるが、その配管などから漏出して二次感染のおそれがあった。さらに、原水槽内の感染性排水をポンプでくみ上げて滅菌槽に送り込む方式では、ポンプ配管の清掃が厄介であり、ポンプ配管内に異物が詰まったときには、設備から配管を取り外して配管内から異物を除去しなければならず、その際に、病原性細菌と接触する危険があるという問題があった。
【０００９】
このような問題点を解消するため、滅菌槽内に充填された感染性排水を均一加熱して効率よく滅菌処理を行ない、しかもメンテナンスが容易な感染性排水の滅菌処理方法とその装置が開発された（特許文献１参照）。
【００１０】
【特許文献１】特開２００３−５３３２６
【００１１】
特許文献１に記載の方法は、以下の真空給水処理と、加熱・滅菌処理と、排水処理とを順次行うことによって感染性排水を滅菌する方法である。
真空給水処理は、滅菌槽の槽本体内を脱気して感染性排水を槽本体に真空吸引する処理であり、  加熱・滅菌処理は、蒸気の熱を槽本体の壁面を通して感染性排水に作用させ、感染性排水を滅菌する処理であり、排水処理は、加熱・滅菌処理された排水を槽本体内から排出する処理である。
【００１２】
この方法は、間接加熱方式の滅菌槽を用いて感染性排水の滅菌処理を行う方法であり、感染性排水の滅菌処理を効率よく行うとともに、滅菌処理の作業終了後の各部のメンテナンスを容易に行うことができる。特許文献１に記載の方法は、間接加熱方式の滅菌槽を用いること、原水槽から滅菌槽の槽本体内への感染性排水の給水を真空吸引によって行うことが大きな特徴であるといえる。
【００１３】
本発明の目的は、感染性排水を槽本体に真空吸引する真空ポンプの機能を利用して一連の処理の短縮化をはかり、ひいてはランニングコストの低減を図る感染性排水の滅菌処理方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明による感染性排水の滅菌処理方法においては、少なくとも、加熱・滅菌処理と、排水処理と、洗浄処理と、真空吸引処理とを有する感染性排水の滅菌処理方法であって、
加熱・滅菌処理は、蒸気の熱を槽本体の壁面を通して滅菌槽の槽本体内に吸引された感染性排水に作用させ、感染性排水を滅菌する処理であり、
排水処理は、加熱・滅菌処理された排水を槽本体内から排出する処理であり、
洗浄処理は、排水処理後の滅菌槽の槽本体に洗浄水をシャワーして槽本体内を洗浄する処理であり、
真空吸引処理は、洗浄処理後、原水槽内に残存する感染性排水あるいは新たに原水槽内に給水された感染性排水を洗浄処理によって負圧になった槽本体内に真空ポンプによらずに真空吸引させる処理である。
【００１５】
また、真空給水処理を有し、
真空給水処理は、滅菌槽の槽本体内を真空ポンプで脱気して原水槽内の感染性排水を槽本体に真空吸引する処理であり、滅菌槽の槽本体内に原水槽内の感染性排水を最初に吸引するときに用いられ、
真空吸引処理は、真空給水処理に引き続いて加熱・滅菌処理、排水処理、洗浄処理を行なった後、洗浄処理によって負圧になった槽本体内に原水槽内の感染性排水を槽本体内に吸引させる処理である。
【００１６】
また、真空吸引処理は、真空給水処理に代えて行なう処理である。
【００１７】
また、真空吸引処理は、真空給水処理と併用される処理である。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を図によって説明する。本発明による感染性排水の滅菌処理方法に用いる感染性排水の滅菌処理装置の１例を図１に示す。図１（ａ）において、感染性排水の滅菌処理装置は、病院などの施設の設備として設置されたものであり、間接加熱方式の滅菌槽１を有し、滅菌槽１は、槽本体２と、蒸気加熱手段３とから構成されている。図２に滅菌槽の構造の一例を示す。
【００１９】
槽本体２は、滅菌処理すべき感染性排水を受入れる槽であり、蒸気加熱手段３は、槽本体２に接して設置され、蒸気発生装置４に発生させた蒸気の供給を受ける加熱部５を有し、蒸気発生装置４に発生させた蒸気は、蒸気配管６を通じて加熱部５内に送り込まれ、槽本体２内の感染性排水は、蒸気の熱によって間接的に加熱される。
【００２０】
槽本体２には、真空ポンプ７と、放水手段８と、圧縮空気発生装置（コンプレッサ）９とがそれぞれの配管を通じて接続され、槽本体２の底部には、バルブ１０を介して排水放流配管１１が接続されている。院内に生じた感染性排水は、原水槽１２内に溜められる。
【００２１】
槽本体２と、原水槽１２間は、排水供給配管１３によって接続され、排水供給配管１３には、バルブ１４を有し、その下流側（槽本体側）には、バルブ１４ｂを介して蒸気発生装置４に通ずる蒸気配管１５が接続されている。
【００２２】
真空ポンプ７は、原水槽１２内の感染性排水を槽本体２内に真空吸引するものである。真空ポンプ７は、ポンプ配管１６を通じて槽本体２に接続され、ポンプ配管１６には、フィルター１７が装填されている。フィルター１７は、槽本体２内の空気を吸引するときに、吸引空気に含まれている菌を捕捉させるものである。ポンプ配管１６には、前記蒸気発生装置４の蒸気配管１５が接続され、フィルター１７の交換前には、ポンプ配管を含めて蒸気により滅菌処理される。
【００２３】
放水手段８は、シャワーである。市水の給水管１８に取付けられたシャワーが槽本体２内に取付られている。シャワーは、槽本体２内の洗浄用である。圧縮空気発生装置９は、コンプレッサである。圧縮空気発生装置９は、加圧用配管１９を通して槽本体２内に接続されている。圧縮空気発生装置９は、排水供給配管１３内の異物を除去する際に使用するものである。
【００２４】
槽本体２の底部に接続された排水放流配管１１は、滅菌処理された槽本体２内の処理済排水を下水として放流する配管である。排水放流配管１１の途中には、冷却水供給配管２０が接続され、冷却水として市水を排水放流配管１１内に給水し、放流に先立って滅菌処理された槽本体２内の排水は一定温度以下に冷却される。図１中、２１は温度センサである。温度センサ２１は、図２に示すように、滅菌槽１に斜めに差し込んで槽本体２の内底部に設置されている。
【００２５】
本発明において、病院内に発生した感染性排水は、一旦原水槽１２内に貯留される。原水槽１２内に溜められた感染性排水を滅菌処理するに際しては、真空給水処理、加熱・滅菌処理、排水処理、洗浄処理、真空吸引処理を順次行う。図３に処理のフローを示す。図３において、真空給水処理Ａは、滅菌槽１の槽本体２内を真空ポンプ７で脱気して原水槽１２内の感染性排水を槽本体２に真空吸引する処理である。真空給水処理に際しては、排水供給配管１３のバルブ１４を閉じた状態で真空ポンプ７を起動し、ポンプ配管１６を通じて槽本体２内を脱気する。槽本体２内が一定圧以上の負圧になったときに真空ポンプ７を停止し、バルブ１４を開くと、原水槽１２内の感染性排水は、排水供給配管１３内に真空吸引されて槽本体２内に送り込まれる。
【００２６】
加熱・滅菌処理Ｂは、蒸気の熱を槽本体２の壁面を通して感染性排水に作用させ、感染性排水を滅菌する処理であり、蒸気配管６を通じて蒸気発生装置４に発生させた蒸気を加熱部５内に送入する。加熱部５内部に送入された蒸気の熱は、槽本体２の壁面を通して内部の感染性排水に作用し、槽本体２内の感染性排水に熱対流を生じ、感染性排水は蒸気の熱によって、槽本体２の全体に渡り、均等に滅菌処理される。
【００２７】
なお、加熱・滅菌処理Ｂ中に真空ポンプ７を再駆動して槽本体２内を脱気することによって、滅菌効果を向上できる。
【００２８】
真空吸引によって負圧になった槽本体２内は、槽本体２内に発生する排水の蒸気によって、正圧側に戻る。滅菌処理に際しては、処理温度１２１℃、処理時間２０分処理することが規準として推奨されている。また、１日の作業終了時などの必要時においては、排水供給配管１３およびポンプ配管１６内に蒸気発生装置４に発生させた蒸気を導入して配管内の滅菌処理を行なう。
【００２９】
排水処理Ｃは、加熱・滅菌処理された排水を槽本体２内から排出する処理である。排水処理Ｃに際しては、加熱・滅菌処理後、槽本体２の底部のバルブ１０を開くことで排水から蒸気発生による正圧を利用でき、排水の進行で低下する正圧を補償するため、圧縮空気発生装置９に発生させた高圧空気を槽本体２内に吹き込んで一定圧力を加える事によって排出することができる。
【００３０】
洗浄処理Ｄは、排水処理後の滅菌槽１の槽本体２に洗浄水をシャワーして槽本体２内を洗浄する処理である。洗浄処理Ｄに際しては、空になった槽本体２内２に、放水手段８の給水管１８を通し市水を放水し、そのシャワーによって、槽本体２の内壁に付着した異物を洗い流し、槽本体２内を洗浄する。
【００３１】
真空吸引処理Ｅは、洗浄処理後、原水槽１２内に残存する感染性排水あるいは新たに原水槽１２内に給水された感染性排水を、洗浄処理Ｄによって負圧になった槽本体２内に真空ポンプ７によらずに真空吸引させる処理である。槽本体２内は、加熱・滅菌処理によって、高温（１００℃〜１３５℃）に加熱され、次いで排水後の洗浄処理によって、放水された市水のシャワーによって急激に冷やされ、槽本体の容量にもよるが、実験によって、１００〜２００リットルのもので真空度−０．０１〜−０．０４ＭＰａまで減圧されるというデータが得られている。
【００３２】
真空吸引処理Ｅによって、槽本体２内には、原水槽１２内から真空吸引された感染性排水によって満たされるが、吸引力が不足するときには、真空ポンプ７を駆動して正規の真空給水処理に切り替え、前述のように排水供給配管１３のバルブ１４を閉じた状態で真空ポンプ７を起動し、ポンプ配管１６を通じて槽本体２内を脱気する。槽本体２内が一定圧以上の負圧になったときに真空ポンプ７を停止し、バルブ１４を開き、原水槽１２内の感染性排水を槽本体２内に吸引させた後、加熱・滅菌処理Ｂ・排水処理Ｃ、洗浄処理Ｄ、真空吸引処理Ｅを繰り返し行なう。本発明の感染性排水の滅菌処理方法において、「少なくとも、加熱・滅菌処理と、排水処理と、洗浄処理と、真空吸引処理とを有する」とは、原水槽から最初に槽本体内に感染性排水を給水するときの「真空給水処理」を構成要件から除き、滅菌槽の槽本体内に感染性排水に充填されていることを前提に加熱・滅菌処理Ｂを行なうことを構成上の要件としたからである。
【００３３】
以上の一連の処理によって、原水槽１２内に排水がなくなれば、洗浄処理Ｄを最後に感染性排水を滅菌処理を終了する。滅菌処理の終了に際しては、バルブ１４を開いた状態で圧縮空気発生装置９に発生させた高圧空気を槽本体２内に圧入する。これによって、槽本体２内に圧入された高圧空気は排水供給配管１３内を逆流し、排水供給配管１３内に残存する異物などは導入された高圧空気に押し流されて原水槽１２に排出される。
【００３４】
以上のように本発明において、真空給水処理Ａは、真空ポンプ７を駆動して原水槽１２内の感染性排水を槽本体２内に吸引する処理であり、真空吸引処理Ｅは、真空ポンプによらず、排水処理Ｃに続く洗浄処理Ｄによって、負圧となった槽本体２内に原水槽１２内の感染性排水を吸引させる処理である。
【００３５】
本発明は、感染性排水の滅菌処理工程として、要するに、原水槽１２内の感染性排水を槽本体２内に吸引して行なう最初の感染性排水の滅菌処理に際しては、真空給水処理Ａ、加熱・滅菌処理Ｂ、排水処理Ｃ、洗浄処理Ｄの一連の処理を順に行なうが、次回以降、原水槽１２内の感染性排水を槽本体２内に吸引して行なう感染性排水の滅菌処理に際しては、真空給水処理Ａに代えて真空吸引処理Ｅを行ない、或いは真空吸引処理Ｅに真空給水処理Ａを併用して引き続き感染性排水の滅菌処理を行ない、真空ポンプを使用しない真空吸引処理Ｅを活用し、真空ポンプの負担を軽減し、併せて一連の処理工程を短縮し、効率よく作業を進めるものである。
【００３６】
本発明において、加熱・滅菌処理は、いわゆる“間接加熱方式”によるため、槽本体２内には蒸気が混入することがない。また、脱気後の加熱による滅菌効果が向上する。間接加熱によれば、蒸気が感染性排水に触れることがないため、余剰の蒸気を蒸気発生装置４側に戻しても、二次感染のおそれが全くない。また、蒸気の冷却によって生ずる水分が処理済の排水中に混入することがないため、排水量が増量せず、排水の処理量、排水冷却用の市水の使用量は、従来の直接加熱法に比べて少なくて済ませることができる。
【００３７】
本発明において、処理済の排水は、排水放流配管１１内を流出する排水中に給水された市水と混合することにより冷却処理して下水に放流されるが、その放流に際しては、コンプレッサ９を起動し、槽本体２内を昇圧して排水が排水放流管１１に圧送される。排水放流管１１には、図１（ｂ）に示すようにベンチュリー管を設け、市水をベンチュリー管のノズルから放出させると、そのエジェクター効果によって排水が吸引されるため、コンプレッサ９の負担を軽減できる。
【００３８】
また、間接加熱法によれば、槽本体２内で熱対流が均一に生じて槽本体内に無滅菌の領域が生ずる虞が少ない。本発明装置に用いる滅菌槽には、図２に示すような耐圧容器を蓋体で密閉して用いるが、滅菌槽１の槽本体２には、高さに比して幅または奥行きが長い横型の槽を用いるのが有利である。いわゆる“間接加熱”方式によれば、槽本体の周囲から加熱するため、横型の槽であっても、槽本体内で熱対流を生じさせて槽本体内の排水を均等に加熱して滅菌できる。
【００３９】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、洗浄処理後、洗浄処理によって生ずる槽本体の負圧を有効に利用して原水槽内の感染性排水を槽本体に真空吸引するため、真空ポンプに負担を掛けず、その稼働率を低減するとともに一連の処理の短縮化をはかり、ひいてはランニングコストの低減を図ることができる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は、本発明の１実施形態を示す構成図、（ｂ）は他の実施形態を示す図である。
【図２】本発明装置に用いる滅菌槽の１例を示す図である。
【図３】本発明による処理のフローを示す図である。
【符号の説明】
１  滅菌槽
２  槽本体
３  蒸気加熱手段
４  蒸気発生装置
５  加熱部
６  蒸気配管
７  真空ポンプ
８  放水手段
９  圧縮空気発生装置
１０  バルブ
１１  排水放流配管
１２  原水槽
１３  排水供給配管
１４，１４ｂ  バルブ
１５  蒸気配管
１６  ポンプ配管
１７  フィルター
１８  給水管
１９  加圧用配管
２０  冷却水供給配管
２１  温度センサ
Ａ  真空給水処理
Ｂ  加熱・滅菌処理
Ｃ  排水処理
Ｄ  洗浄処理
Ｅ  真空吸引処理
【図１】
2004313981.tif 000003
【図２】
2004313981.tif 000004
【図３】
2004313981.tif 000005