(57)【要約】【課題】ＶＡ液晶モードまたはＯＣＢ液晶モードの液晶表示装置に適した光学補償シートを得る。【解決手段】透明支持体上に、下記一般式（１）（式中、Ｃｙは５または６員環を部分構造として有する２価の連結基を表し、Ａｒで表される置換基以外の置換基によって置換されていてもよい。Ｒは置換基を表し、ＲとＲが結合しているベンゼン環とが縮環を形成することはない。Ｘは単結合または２価の連結基を表し、ｎは１〜５の整数を表す）で表される化合物を含有する光学異方性層を有する光学補償シートである。一般式（１）【化１】2004245864.tif 000021【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、液晶性化合物から形成される光学異方性層を有し、該光学異方性層が、少なくとも一つの下記一般式（１）で表される化合物を含有する光学補償シート。
一般式（１）
【化１】
2004245864.tif 000020
（式中、Ｃｙは５または６員環を部分構造として有する２価の連結基を表し、Ａｒで表される置換基以外の置換基によって置換されていてもよい。Ｒは置換基を表し、ＲとＲが結合しているベンゼン環とが縮環を形成することはない。Ｘは単結合または２価の連結基を表し、ｎは１〜５の整数を表す。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明支持体上に光学異方性層を有し、光学補償機能に優れる光学補償シートに関し、より詳細には、偏光板および液晶表示装置などに好ましく用いられる光学補償シートに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）液晶モードやＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードには、従来の液晶モードと比較すると、コントラスト比が高く、視野角が広く、応答が速いという特徴がある。しかし、従来から使用されているＣＲＴと比較すると、コントラスト比および視野角ともに、さらに改良が必要である。ＶＡ液晶モードやＯＣＢ液晶モードの液晶表示装置をさらに改良するため、従来の液晶モードと同様に光学補償シートを用いることが考えられる。ＶＡあるいはＯＣＢ液晶モードでは、棒状液晶性分子の多くが実質的に垂直配向している。実質的に垂直配向している棒状液晶性分子の光学異方性を、光学的に補償するためには、透明支持体の法線に対して光軸が傾斜していない負の大きな光学異方性を有する光学補償シートが必要である。延伸複屈折フィルムを用いて、上記の光学的な性質を有するフィルムを製造することは可能であるが、フィルムの寸度安定性や生産コストの観点で問題があった。
【０００３】
延伸複屈折フィルムに代えて、透明支持体上にディスコティック液晶性分子を含む光学的異方性層を有する光学補償シートを使用することも提案されている。光学的異方性層は、ディスコティック液晶性分子を配向させ、その配向状態を固定することにより形成する。軸が実質的に傾斜していない（５°未満とする）ディスコティック液晶分子を用いた光学補償シートが報告されており、ディスコティック液晶分子を実質的に傾斜させないように配向させる化合物として、１，３，５−トリアジン環を有する化合物が用いられている（例えば、特許文献１、２、３参照）。しかしながら、特許文献１〜３に記載の１，３，５−トリアジン環を有する化合物は、いずれも三置換体のメラミン化合物であり、分子量が大きく、合成コストが高く、また所望の配向を得るには多くの添加量を必要とする。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１１−３５２３２８号公報
【特許文献２】
特開２０００−３０４９３１号公報（第８−２１頁）
【特許文献３】
特開２００１−２７７０６号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の第一の目的は、合成コストが安価で、少量の添加で効果的にディスコティック液晶分子の軸を傾斜させないように配向させる化合物を提供することである。また第二の目的は、光軸が傾斜していない負の大きな光学異方性を有する光学補償シートを提供することである。さらに第三の目的は、ＶＡ液晶モードまたはＯＣＢ液晶モードの液晶表示装置に適した光学補償シートを提供することでもある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］  透明支持体上に、液晶性化合物から形成される光学異方性層を有し、該光学異方性層が、少なくとも一つの下記一般式（１）で表される化合物を含有する光学補償シート。
【０００７】
一般式（１）
【化２】
2004245864.tif 000002
【０００８】
式中、Ｃｙは５または６員環を部分構造として有する２価の連結基を表し、Ａｒで表される置換基以外の置換基によって置換されていてもよい。Ｒは置換基を表し、ＲとＲが結合しているベンゼン環とが縮環を形成することはない。Ｘは単結合または２価の連結基を表し、ｎは１〜５の整数を表す。
【０００９】
［２］  前記光学異方性層がディスコティック液晶分子をさらに含有し、該ディスコティック液晶分子の円盤面と透明支持体のなす傾斜角が５°未満で配向している前記［１］に記載の光学補償シート。
［３］  前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（２）で表される化合物である［１］または［２］に記載の光学補償シート。
【００１０】
一般式（２）
【化３】
2004245864.tif 000003
【００１１】
式中、Ｃｙ１は５または６員環を部分構造として有する２価の連結基を表し、Ａｒ１で表される置換基以外の置換基によって置換されていてもよい。Ｘ１は単結合または２価の連結基を表し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子または置換基を表し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のうち少なくとも１つは置換基を表す。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
本発明の光学補償シートの一実施形態は、透明支持体上に液晶性化合物から形成される光学異方性層を有し、該光学異方性層が下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも一種を含有する。
【００１３】
一般式（１）
【化４】
2004245864.tif 000004
【００１４】
式中、Ｃｙは５または６員環を部分構造として有する２価の連結基を表し、Ａｒで表される置換基以外の置換基によって置換されていてもよい。Ｒは置換基を表し、ＲとＲとが結合しているベンゼン環とが縮環を形成することはない。Ｘは単結合または２価の連結基を表し、ｎは１〜５の整数を表す。
【００１５】
まず、一般式（１）の化合物について詳細に説明する。
一般式（１）中、Ｒで表される置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜４０、より好ましくは炭素原子数２〜３０、特に好ましくは炭素原子数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基、２−オクテニル基、２−デセニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜４０、より好ましくは炭素原子数２〜３０、特に好ましくは炭素原子数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基、３−ヘキシニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは炭素原子数６〜２０、特に好ましくは炭素原子数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素原子数０〜４０、より好ましくは炭素原子数０〜３０、特に好ましくは炭素原子数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジドデシルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００１６】
アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ドデシルオキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは炭素原子数６〜１６、特に好ましくは炭素原子数６〜１２のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜４０、より好ましくは炭素原子数２〜３０、特に好ましくは炭素原子数２〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは炭素原子数７〜１６、特に好ましくは炭素原子数７〜１０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜４０、より好ましくは炭素原子数２〜３０、特に好ましくは炭素原子数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ドデカノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、
【００１７】
アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜４０、より好ましくは炭素原子数２〜３０、特に好ましくは炭素原子数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜４０、より好ましくは炭素原子数２〜３０、特に好ましくは炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは炭素原子数７〜１６、特に好ましくは炭素原子数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンドデカンスルホニルアミノ基、ゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜４０、より好ましくは炭素原子数０〜３０、特に好ましくは炭素原子数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、ジオクチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、ジオクチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００１８】
アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基オクチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは炭素原子数６〜１６、特に好ましくは炭素原子数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜４０、より好ましくは炭素原子数１〜３０、特に好ましくは炭素原子数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは炭素原子数３〜３０、特に好ましくは、炭素原子数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００１９】
Ｒで表される置換基としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基である。
【００２０】
Ｘで表される２価の連結基はアルキレン基、アルケニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲａ−（Ｒａは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＲａ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−およびそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アルキレンおよびアルケニレン基は、可能であれば１以上の置換基によって置換されていてもよい。該置換基は、Ｒで表される置換基と同義であり、好ましくは、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基である。
【００２１】
Ｃｙは５または６員環を部分構造として有する２価の連結基を表す。前記５または６員環には他の環が縮合していてもよい。Ｃｙはシクロヘキシル環、芳香族環または複素環であることが特に好ましい。芳香族環としては、ベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ビフェニル環、およびピレン環を挙げることができる。ベンゼン環、ビフェニル環、およびナフタレン環が特に好ましい。
【００２２】
Ｃｙで表される複素環を構成する複素原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環およびトリアジン環などを挙げることが出来る。複素環は芳香族性複素環であることが好ましく、６員環であることが更に好ましく、１，３，５−トリアジン環であることが特に好ましい。
【００２３】
Ｃｙで表される５または６員環を部分構造として有する２価の連結基は置換基を有していてもよく、この置換基としては、後述のＡｒで表される置換基以外の上述Ｒで表される置換基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。
以下にＣｙの例を示す。
【００２４】
【化５】
2004245864.tif 000005
【００２５】
前記一般式（１）中、ｎは１〜５の整数を表すが、ｎは２または３が好ましい。
【００２６】
前記一般式（１）で表される化合物の中でも、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。
【００２７】
一般式（２）
【化６】
2004245864.tif 000006
【００２８】
式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子またはＬ−Ｈｃ基を表し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のうち少なくとも１つは−Ｌ−Ｈｃ基を表す。Ｌは、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−Ｎ（Ｒｂ）ＣＯ−（Ｒｂは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｎ（Ｒｂ）ＳＯ２−（Ｒｂは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮ（Ｒｂ）−（Ｒｂは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−（ｎは１〜８の整数）を表し、Ｈｃは炭素原子数８〜２０の直鎖または分岐鎖の無置換アルキル基または末端にＣＦ３基を有し水素原子の６０％以上がフッ素原子で置換されている炭素原子数４〜１２のフッ化アルキル基を表す。Ｘ１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＯ−、−ＯＳＯ２−、―Ｎ（Ｒｂ）−（Ｒｂは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｎ（Ｒｂ）ＣＯ−（Ｒｂは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｎ（Ｒｂ）ＳＯ２−（Ｒｂは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−ＣＯＯ−を表す。Ｃｙ１は、前記一般式（１）中、Ｃｙにて表される５または６員環を部分構造として有する２価の連結基の具体例で挙げた（Ｃｙ−１）、（Ｃｙ−２）、（Ｃｙ−３）、（Ｃｙ−５）、（Ｃｙ−６）、（Ｃｙ−７）および（Ｃｙ−１４）のいずれかを表す。
【００２９】
更に詳細に説明する。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の少なくとも２つが、−Ｌ−Ｈｃ基であることが好ましく、Ｌは、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−Ｎ（Ｒｂ）ＣＯ−、−Ｎ（Ｒｂ）ＳＯ２−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−であることが好ましい。Ｌは特に好ましくは、−Ｏ−、−ＯＣＯ−および−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−である。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のうち１つが−Ｌ−Ｈｃ基である場合、Ｈｃは末端にＣＦ３基を有し水素原子の６０％以上がフッ素原子で置換されている炭素原子数４〜１２のフッ化アルキル基が好ましく、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のうち２つが−Ｌ−Ｈｃ基である場合、Ｈｃは炭素原子数１２〜２０の無置換のアルキル基または末端にＣＦ３基を有し水素原子の６０％以上がフッ素原子で置換されている炭素原子数４〜１２のフッ化アルキル基が好ましく、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の全てが−Ｌ−Ｈｃ基である場合、Ｈｃは炭素原子数８〜２０の無置換のアルキル基または末端にＣＦ３基を有し水素原子の６０％以上がフッ素原子で置換されている炭素原子数４〜１２のフッ化アルキル基が好ましい。
【００３０】
以下にＨｃの例を示す。
【化７】
2004245864.tif 000007
【００３１】
上記一般式（１）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【００３２】
【化８】
2004245864.tif 000008
【００３３】
【化９】
2004245864.tif 000009
【００３４】
【化１０】
2004245864.tif 000010
【００３５】
【化１１】
2004245864.tif 000011
【００３６】
前記一般式（１）で表される化合物は、一般的なヒドロキシ基のアルキル化反応、エステル化反応、および求核置換化反応等を組み合わせることによって容易に合成することができる。
【００３７】
前記一般式（１）で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物に対して０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％が特に好ましく、０．１〜５質量％が最も好ましい。
なお、前記一般式（１）で表される化合物は、各々単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００３８】
本発明の光学補償シートは、塗布溶剤、液晶性化合物（液晶性分子）、前記一般式（１）で表される化合物、およびその他必要に応じて添加する各種化合物を含有する液晶性組成物を、透明支持体上に設けられた配向膜上に塗布し、乾燥させた後に、液晶性分子を配向させ、その配向状態を固定することにより光学異方性層を形成して作製することができる。
以下に本発明の光学補償シートの光学異方性層に用いられる材料のうち、前記一般式（１）で表される化合物以外の材料について詳細に説明する。
【００３９】
［液晶性化合物］
本発明において、前記光学異方性層は、少なくとも一つの液晶性化合物から形成される光学異方性層である。前記光学異方性層を形成する液晶性化合物は、棒状液晶性化合物およびディスコティック液晶性化合物のいずれでもよく、また、高分子液晶および低分子液晶のいずれでもよい。さらに光学異方性層中で、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。本発明に用いる液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物が特に好ましい。なお、本発明で用いられる液晶性化合物は、単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００４０】
［棒状液晶化合物］
好ましい棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体の液晶性化合物も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻「液晶の化学」（日本化学会編、１９９４年）の第４章、第７章および第１１章、および「液晶デバイスハンドブック」（日本学術振興会第１４２委員会編）の第３章に記載がある。棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。この様な棒状液晶性化合物についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の５０頁７行〜５７頁末行に記載されている。
【００４１】
［ディスコティック液晶性化合物］
本発明に好ましく用いられるディスコティック液晶性化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ．Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。さらに、ディスコティック液晶性化合物としては、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造のものも含まれ、これらもすべて液晶性を示す。
【００４２】
また、光学異方性層が最終的に形成された際に、液晶性化合物はもはや液晶性を示す必要はない。例えば、熱、光等で反応する基を有する低分子のディスコティック液晶性化合物を用い、該液晶性化合物を熱、光等で反応により重合または架橋させ、前記液晶性化合物を結果的に高分子量化させて、配向を固定化し、光学異方性層を形成するのも好ましい。重合性ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載があり、本発明にも適用することができる。
【００４３】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定する方法の一例として、ディスコティック液晶性化合物として、ディスコティックコアに置換基として重合性基が結合した液晶性化合物を用い、ハイブリッド配向させた後、前記液晶性化合物を重合させて固定する方法がある。但し、ディスコティックコアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる傾向にある。そこで、ディスコティックコアと重合性基との間に、連結基を導入することが好ましい。重合性基を有する好ましいディスコティック液晶性化合物としては、下記一般式（３）で表される化合物が挙げられる。
【００４４】
一般式（３）
Ｄ（−Ｌ１−Ｐ）ｘ
式中、Ｄはディスコティックコアを表し、Ｌ１は２価の連結基を表し、Ｐは重合性基を表し、ｘは２〜１２のいずれかの整数を表す。前記ディスコティック液晶性化合物の具体例としては、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の５８頁６行〜６５頁８行に記載されている。
【００４５】
本発明では、２種類以上のディスコティック液晶性分子を併用して用いてもよい。また、例えば、上記の重合性ディスコティック液晶性分子と非重合性ディスコティック液晶性分子とを併用することも可能である。非重合性ディスコティック液晶性分子は、前述した重合性ディスコティック液晶性分子の重合性基（Ｐ）を、水素原子またはアルキル基に変更した化合物であることが好ましい。すなわち、非重合性ディスコティック液晶性分子は、下記式（４）で表される化合物であることが好ましい。
【００４６】
一般式（４）
Ｄ（−Ｌ２−Ｒ４）ｙ
式中、Ｄはディスコティックコアを、Ｌ２は２価の連結基を、Ｒ４は水素原子またはアルキル基を表し、ｙは４〜１２の整数である。
【００４７】
［光学異方性層の添加剤］
本発明の光学異方性層には、前記のディスコティック液晶性化合物や前記一般式（１）で表される化合物の他に、任意の添加剤を併用することができる。添加剤の例としては、ハジキ防止剤、重合開始剤、配向温度を低下させる添加剤（可塑剤）、重合性モノマー等である。
【００４８】
［ハジキ防止剤］
ディスコティック液晶性化合物とともに使用して、塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。
使用するポリマーとしては、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としては、セルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。ディスコティック液晶性化合物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００４９】
［配向膜プレチルト角制御剤］
配向膜のプレチルト角を制御する添加剤として、分子内に極性基および非極性基の双方を有する化合物が好ましい。
前記極性基としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＯＲ、−ＮＨ２、−ＮＨ−、−ＳＨ、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯＲ、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨＣＯ−、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ３−、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２ＮＨ−、−ＳＯ２ＮＨＳＯ２−、−Ｃ＝Ｎ−、ＨＯ−Ｐ（−）２、（ＨＯ−）２Ｐ−、Ｐ（−）３、ＨＯ−ＰＯ（−）２、（ＨＯ−）２ＰＯ−、ＰＯ（−）３、−ＮＯ２、−ＣＮ等が例として挙げられる。また、これらの極性基の塩（例えば、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、スルホニウム塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩）であってもよい。
前記極性基として特に好ましいのは、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｏ−、−ＮＨ２、−ＳＯ３Ｈ、ＨＯ−ＰＯ（−）２、（ＨＯ−）２ＰＯ−、ＰＯ（−）３またはこれらの塩である。
【００５０】
前記非極性基としては、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数１〜３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数１〜３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基）が例として挙げられる。
この非極性基の置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（１以上の環を含むシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（１以上の環を含むシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が好ましい例として挙げられる。
【００５１】
配向膜プレチルト制御剤を加えることで配向膜のプレチルト角は変えることができるが、その時の変化量はラビング密度に関係がある。ラビング密度が高い配向膜とラビング密度の低い配向膜を比較すれば、ラビング密度の低い配向膜の方が、同じ添加量であっても、プレチルト角は変わりやすい。
したがって、配向膜プレチルト制御剤の添加量は、配向膜のラビング密度および所望のプレチルト角の大きさ等によって変わるが、液晶性分子（好ましくはディスコティック液晶性分子）に対して、０．０００１質量％〜３０質量％が好ましく、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、更に０．００５質量％〜１０質量％が最も好ましい。
【００５２】
配向膜プレチルト制御剤の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【化１２】
2004245864.tif 000012
【００５３】
【化１３】
2004245864.tif 000013
【００５４】
【化１４】
2004245864.tif 000014
【００５５】
［重合開始剤］
本発明では、液晶性分子を傾斜角５°未満の配向状態で固定されていることが好ましく、そのため重合反応により液晶性分子を固定することが好ましい。
重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が挙げられる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００５６】
［重合性モノマー］
液晶性化合物の配向を固定化するため、液晶性化合物とともに重合性モノマーを使用してもよい。使用する重合性モノマーとしては、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
【００５７】
［塗布溶剤］
液晶性組成物の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００５８】
［塗布方式］
光学異方性層は、上記溶媒を用いて液晶性組成物の塗布液を調製し配向膜上に塗布し、液晶性分子を配向処理することで形成することができる。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。また、塗布液における液晶性化合物の含有量は１〜５０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましく、２０〜４０質量％がさらに好ましい。
【００５９】
［光学異方性層の厚さ］
本発明の前記一般式（１）で表される化合物を含有する光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【００６０】
［配向膜］
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜上に設けられる光学異方性層の液晶性分子に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点から、ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では「液晶便覧」（丸善（株））に記載されている方法により行うことが好ましい。
配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。
【００６１】
配向膜に用いられるポリマーは、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明の光学補償フィルム用の配向膜ではポリビニルアルコールおよびその誘導体が好ましく用いられ、疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向膜についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。
【００６２】
［配向膜のラビング密度］
配向膜のラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」（丸善（株））に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ）  Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。
ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
ラビング密度と配向膜のプレチルト角との間には、ラビング密度を高くするとプレチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとプレチルト角は大きくなる関係がある。
【００６３】
なお、配向膜を用いて液晶性化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみを透明支持体上に転写してもよい。配向状態の固定された液晶性化合物は、配向膜がなくても配向状態を維持することができる。そのため、本発明の光学補償シートでは、配向膜は（位相差板の製造において必須ではあるが）必須ではない。
【００６４】
［透明支持体］
本発明の光学補償シートは、光学異方性層を支持する透明支持体を有する。透明支持体として、主に光学的等方性のポリマーフィルムが用いられる。本発明では、支持体の光透過率が８０％以上であることが好ましい。
材料については特に制限はない。ポリマーの具体例として、セルロースエステル類（例、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。脂肪酸の炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであってもＷＯ００／２６７０５号明細書に記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。
【００６５】
前記透明支持体用のポリマーフィルムとしては、酢化率が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化率が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化率とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化率は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、前記セルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【００６６】
セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％以上４０％以下でアシル基で置換されていることが好ましく、さらには３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素原子数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【００６７】
透明支持体として用いるセルロースエステルフィルムの厚み方向のレターデーション値は、厚み方向の複屈折率にフィルムの厚みを乗じた値である。具体的には、測定光の入射方向をフィルム膜面に対して鉛直方向として、遅相軸を基準とする面内レターデーションの測定結果と、入射方向をフィルム膜面に対する鉛直方向に対して傾斜させた測定結果から外挿して求める。測定は、エリプソメーター（例えば、Ｍ−１５０：日本分光（株）製）を用いて実施できる。厚み方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）と面内レターデーション値（Ｒｅ）とは、それぞれ下記式（１）および（２）に従って算出する。
式（１）
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（２）
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘはフィルム平面内のｘ方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム平面内のｙ方向の屈折率であり、ｎｚはフィルム面に垂直な方向の屈折率であり、そしてｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。
【００６８】
本発明では、ポリマー基材のＲｅレターデーション値を２０〜７０ｎｍの範囲に、そして、Ｒｔｈレターデーション値を７０〜４００ｎｍの範囲に調節することが好ましい。液晶表示装置に二枚の光学異方性層を使用する場合、基材のＲｔｈレターデーション値は７０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。また、液晶表示装置に一枚の光学異方性層を使用する場合、基材のＲｔｈレターデーション値は１５０〜４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
なお、基材フィルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．０００２８〜０．０２０の範囲にあることが好ましい。また、厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．００１〜０．０４の範囲にあることが好ましい。
【００６９】
透明支持体として用いるポリマーフィルム、特にセルロースアセテートフィルムのレターデーションを調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【００７０】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【００７１】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。
二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１、ＷＯ００／２６１９Ａ１、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報、特願２００２−７０００９号明細書等に記載されている。
【００７２】
セルロースアセテートフィルムは、調製されたセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりを製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００７３】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフィルム化することもできる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによりフィルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルムの流延方法を用いてもよい。
【００７４】
上記の様にして作製したセルロースアセテートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％の範囲にあることが好ましい。前記セルロースアセテートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。
【００７５】
セルロースエステルフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【００７６】
セルロースエステルフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果が不充分となる傾向があり、添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。
特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。
【００７７】
セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【００７８】
透明支持体に用いるセルロースアセテートフィルムは、偏光膜との接着性の観点から、その表面エネルギーが５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。表面エネルギーを前記範囲に調整するために、前記セルロースアセテートフィルムの表面に、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【００７９】
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社  １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。前記セルロースアセテートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアセテートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【００８０】
セルロースアセテートフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常５〜５００μｍの範囲であり、さらに２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１８０μｍの範囲が最も好ましい。なお、光学用途としては３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。
【００８１】
本発明の光学補償シートは、偏光膜と組合わせて、透過型液晶表示装置に適用することにより視野角の拡大に寄与する。
本発明の光学補償シートの利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用光学補償シートは、米国特許５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号公報に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償シートは、特許番号第２８６６３７２号公報に記載がある。
【００８２】
本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用光学補償シートを作製することができる。本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードなど、種々のモードで駆動される液晶セルと組合わせて液晶表示装置に適用できる。本発明の光学補償シートは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モードまたはＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置において特に効果がある。
【００８３】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例に制限されるものではない。
【００８４】
［実施例１］
（透明支持体の作製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して、セルロースアセテート溶液（ドープ）を調製した。
【００８５】
セルロースアセテート溶液組成
酢化度６０．９％のセルロースアセテート              １００質量部
トリフェニルホスフェート                            ６．５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                    ５．２質量部
下記のレターデーション上昇剤（１）                  ０．１質量部
下記のレターデーション上昇剤（２）                  ０．２質量部
メチレンクロライド                            ３１０．２５質量部
メタノール                                      ５４．７５質量部
１−ブタノール                                  １０．９５質量部
【００８６】
レターデーション上昇剤（１）
【化１５】
2004245864.tif 000015
【００８７】
レターデーション上昇剤（２）
【化１６】
2004245864.tif 000016
【００８８】
得られたドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、１２０℃を越える領域で機械方向の延伸率が実質０％、（剥ぎ取り時に機械方向に４％延伸することを考慮して）幅方向の延伸率と機械方向の延伸率との比が０．７５となるように調整して、厚さ１００μｍのセルロースアセテートフィルムを作製した。作製したフィルムのレターデーションを波長６３２．８ｎｍで測定したところ、厚み方向のレターデーションが４０ｎｍ、面内のレターデーションが４ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを透明支持体として用いた。
【００８９】
（第１下塗り層の形成）
透明支持体の上に、下記の組成の塗布液を２８ｍＬ／ｍ２塗布し、乾燥して、第１下塗り層を形成した。
第１下塗り層塗布液組成
ゼラチン                                            ５．４２質量部
ホルムアルデヒド                                    １．３６質量部
サリチル酸                                          １．６０質量部
アセトン                                              ３９１質量部
メタノール                                            １５８質量部
メチレンクロライド                                    ４０６質量部
水                                                      １２質量部
【００９０】
（第２下塗り層の形成）
第１下塗り層の上に、下記の組成の塗布液を７ｍＬ／ｍ２塗布し、乾燥して、第２下塗り層を形成した。
第２下塗り層塗布液組成
下記のアニオン性ポリマー                            ０．７９質量部
クエン酸モノエチルエステル                          １０．１質量部
アセトン                                              ２００質量部
メタノール                                            ８７７質量部
水                                                  ４０．５質量部
【００９１】
アニオン性ポリマー
【化１７】
2004245864.tif 000017
【００９２】
（バック層の形成）
透明支持体の反対側の面に、下記の組成の塗布液を２５ｍＬ／ｍ２塗布し、乾燥して、バック層を形成した。
バック層塗布液組成
酢化度５５％のセルロースジアセテート                ６．５６質量部
シリカ系マット剤（平均粒子サイズ：１μｍ）          ０．６５質量部
アセトン                                              ６７９質量部
メタノール                                            １０４質量部
【００９３】
（配向膜の形成）
第２下塗り層の上に、長鎖アルキル変性ポリビニルアルコール（クラエポバールＭＰ−２０３：（株）クラレ）の水溶液を塗布し、６０℃の温風で９０秒間乾燥した後、ラビング処理を行い配向膜層を形成した。得られた配向膜層の膜厚は０．５μｍであった。
配向膜のラビング方向は、透明支持体の流延方向と平行であった。
【００９４】
［ラビング］
下記条件でラビングを実施し、以下で使用するラビング配向膜を作製した。
（ラビング条件）
ラビング回数                      １回
ラビングローラーの接触長          ０．３ｍｍ
ローラーの半径                    ６０ｍｍ
ローラーの回転数                  １０００ｒｐｍ
ステージ移動速度                  ７ｍｍ／ｓ
この条件下で作製した配向膜のプレチルト角は２．５°であった。
【００９５】
（光学異方性層の形成）
前記で作製したラビング配向膜上に、下記の組成を有する光学異方性層塗布液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布した。形成した光学異方性層の厚さは１．７４μｍであった。
【００９６】
光学異方性層塗布液
一般式（１）例示化合物Ｎｏ．１−１                    ０．４質量部
下記のディスコティック液晶性化合物（１）              １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９．９質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製          ３．３質量部
メチルエチルケトン                                    ３００質量部
【００９７】
ディスコティック液晶性化合物（１）
【化１８】
2004245864.tif 000018
【００９８】
上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１２５℃の恒温槽中に入れ、約２０秒間かけて１２０℃まで加熱し、そのまま１２０秒間保持した後、次いで約２０秒間で８０℃まで冷却した。同温度に保持したまま２Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、光学異方性層を形成した。形成した光学異方性層の厚さは１．８μｍであった。以上の如く光学異方性層を形成し光学補償シートを作製した。
【００９９】
［光学補償シートの評価］
得られたシートの光学異方性層における配向膜近傍の液晶分子傾斜角、空気界面近傍の傾斜角、および平均傾斜角は、エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所（株）製）を用いて、６３２．８ｎｍの波長を使用して観察角度を変えてレタデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想して、Ｄｅｓｉｇｎｉｎｇ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ  ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴに記載されている手法で算出した。
【０１００】
［実施例２〜８および比較例１］
実施例１で用いた例示化合物（１−１）を第１表の如く変更した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、同様に傾斜角を算出した。結果を第１表に示す。
【０１０１】
【表１】
2004245864.tif 000019
【０１０２】
上記第１表における実施例１〜８と比較例１の結果から判るように、本発明に係る前記一般式（１）で表される化合物を含有する光学異方性層は、液晶性化合物の傾斜角５度未満を実現しており、該光学異方性層は負の大きな光学異方性を有すると考えられる。
【０１０３】
【発明の効果】
本発明によれば、ディスコティック液晶性化合物と一般式（１）または（２）の化合物とを併用することにより、光学異方性層中の液晶性分子を傾斜角５°未満の配向状態で固定することができる。特に、ディスコティック液晶性化合物を、その円盤面と透明支持体表面との平均傾斜角が５度未満で配向させることができ、またその配向状態でディスコティック液晶性化合物を固定し、光軸が傾斜していない負の大きな光学異方性を有する光学補償シートを作製できる。
即ち、本発明によれば、合成コストが安価な化合物を利用して、しかも少量添加するだけで、効果的に、液晶性分子をその軸が傾斜しない配向とすることができる。また本発明によれば、光軸が傾斜していない負の大きな光学異方性を有する光学補償シートを提供することができる。さらに本発明によれば、ＶＡ液晶モードまたはＯＣＢ液晶モードの液晶表示装置に適した光学補償シートを提供することができる。