(57)【要約】【課題】高い寸法精度のランドグルーブ形状を有する磁性部を備え、且つ、磁性部に対する光入射側に充分に薄い光透過性保護膜を備える、フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】光磁気記録媒体Ｘ１の製造方法は、スタンパのプリグルーブ形成面に樹脂材料を成膜した後にこれを硬化させ、プリグルーブ形成面の凹凸形状が転写されたプリグルーブ面１０ａと平坦面１０ｂとを有する光透過性保護膜１０を形成する工程と、平坦面１０ｂに粘着材を介して補助基板を接合する工程と、保護膜１０とスタンパを分離する工程と、保護膜１０のプリグルーブ面１０ａに材料を成膜することにより、記録再生機能部を含む材料膜構造部２０を形成する工程と、当該構造部２０に接着材３０を介して基板Ｓを接合する工程と、粘着材の粘着性を低下させる工程と、保護膜１０と補助基板を分離する工程とを含む。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリグルーブ形成面を有するスタンパにおける当該プリグルーブ形成面上に、樹脂材料を成膜するための工程と、
前記プリグルーブ形成面上の前記樹脂材料を硬化させることにより、前記プリグルーブ形成面における凹凸形状が転写されたプリグルーブ面、および、これとは反対の平坦面、を有する光透過性の保護膜を形成するための工程と、
前記保護膜の前記平坦面に対し、粘着性を有する粘着材を介して第１基板を接合するための工程と、
前記保護膜と前記スタンパとを分離するための工程と、
前記保護膜における前記プリグルーブ面の上に材料を成膜することにより、記録機能および再生機能を担う磁性部を含む材料膜構造部を形成するための工程と、
前記材料膜構造部に対し、第２基板を接合するための工程と、
前記粘着材の前記粘着性を低下させるための粘着性低下工程と、
前記保護膜と前記第１基板とを分離するための工程と、を含むことを特徴とする、光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記粘着性低下工程では、前記粘着材に対する光照射または加熱により、当該粘着材の粘着性を低下させる、請求項１に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記樹脂材料は、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、または触媒硬化性樹脂を含む、請求項１または２に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
プリグルーブが形成されたプリグルーブ面を有し、且つ、厚さが１０〜４０μｍである、光透過性の保護膜と、
記録機能および再生機能を担う磁性部を含み、且つ、前記保護膜のプリグルーブ面上に材料を成膜することにより形成された、材料膜構造部と、
前記材料膜構造部に対して前記保護膜とは反対の側に設けられた基板と、を含む積層構造を有することを特徴とする、光磁気記録媒体。
【請求項５】
前記材料膜構造部は、前記磁性部から前記基板までの間に位置する軟磁性膜を有する、請求項４に記載の光磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体の製造方法、および、これにより製造される光磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光磁気記録媒体が注目を集めている。光磁気記録媒体は、磁性材料における種々の磁気特性を利用して構成され、熱磁気的な記録および磁気光学効果を利用した再生という２つの機能を担う書換え可能な記録媒体である。光磁気記録媒体は、垂直磁化膜からなる記録層を有し、当該記録層の所定箇所をレーザ照射により昇温させつつ当該箇所に磁界を印加することにより、記録層において磁化方向の変化として所定の信号が記録される。この記録信号は、再生信号読み取り用の所定の光学系で読み取られる。
【０００３】
光磁気記録媒体の記録密度を向上するための手法の一つとして、記録処理の際に媒体に対してレーザを照射する領域のサイズ、即ちスポット径を、小さくすることが知られている。スポットの小径化により、媒体のトラックピッチを短く設計したり、記録マーク長を短くすることが可能となり、記録密度の向上を図ることができるのである。スポット径は、照射レーザの波長を短くしたり、当該照射レーザを集光するための対物レンズ（媒体に対面するレンズ）の開口数ＮＡを大きくすることにより、小さくすることができる。レーザについては、例えば、従来の波長６６０ｎｍのものから、波長４０５ｎｍを有するブルーレーザが実用可能となってきた。また、開口数ＮＡについては、例えば、ＮＡ０．５５の従来のレンズから、ＮＡ０．８５のレンズが実用可能となってきた。
【０００４】
しかしながら、開口数ＮＡの大きなレンズほど、焦点距離が短いため、従来のバックイルミネーション方式の光磁気記録媒体に適用するのが困難となる傾向にある。バックイルミネーション方式の光磁気記録媒体では、記録処理および再生処理において、記録層を含む磁性部に対して、比較的分厚い透明基板の側からレーザ照射が行われるために、レンズに対しては比較的長い焦点距離が求められるからである。バックイルミネーション方式の光磁気記録媒体の製造においては、媒体の剛性を確保するための分厚い透明基板に対して所定の材料を順次成膜することにより、例えば、誘電体層、磁性部（記録層を含む）、誘電体層、および放熱層などが順次形成される。基板における積層面にはプリグルーブが予め形成されており、プリグルーブの凹凸形状は、当該プリグルーブ上に誘電体層を介して磁性部に反映され、当該磁性部におけるランドグルーブ形状が形成される。レーザ照射の対象である磁性部は、基板のプリグルーブに対して比較的近接して形成されるため、比較的高い寸法精度を有して平坦性に優れたランドグルーブ形状を有する。
【０００５】
開口数ＮＡの大きなレンズを活用すべく、光磁気記録媒体の技術の分野においては、バックイルミネーション方式に代えてフロントイルミネーション方式の実用化に対する要求が高い。フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体では、磁性部に対して基板とは反対の側に比較的薄い透明保護膜が設けられ、記録処理および再生処理において、比較的薄い透明保護膜の側から磁性部に対してレーザ照射が行われる。
【０００６】
フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体の製造においては、媒体の剛性を確保するための分厚い基板に対して所定の材料を順次成膜することにより、例えば、放熱層、誘電体層、磁性部（記録層を含む）、誘電体層、および透明保護膜などが順次形成される場合が多い。基板における積層面にはプリグルーブが予め形成されており、プリグルーブの凹凸形状は、当該プリグルーブ上に成膜形成される放熱層や誘電体層などを介して磁性部に反映され、当該磁性部におけるランドグルーブ形状が形成される。
【０００７】
このように、フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体では、一般に、基板において所望の寸法に設計されたプリグルーブの上に多数の層が形成された後に、レーザ照射の対象である磁性部が積層形成される。そのため、フロントイルミネーション方式では、バックイルミネーション方式と比較して、基板のプリグルーブに対して磁性部のレーザ照射面は、遠くに配置する場合が多い。この場合、磁性部のランドグルーブ形状について、高い寸法精度を達成するのは困難である。磁性部のランドグルーブ形状は、丸みをおびて鈍くなる傾向にある。このような磁性部では、再生信号において良好なＣＮＲが得られない場合が多い。
【０００８】
フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体において、磁性部のランドグルーブ形状について高い寸法精度を得ることを目的とする技術は、例えば下記の特許文献１に記載されている。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００１−３５７５７０号公報
【００１０】
この文献に記載されている光磁気記録媒体の製造方法では、まず、所望の寸法に設計されたプリグルーブを有する第１の基板における当該プリグルーブ面上に剥離層を形成する。次に、剥離層上に第１の保護層、記録層、第２の保護層、および反射層を順次形成する。次に、媒体の剛性を確保するための分厚い第２の基板を、接着剤を介して反射層に貼り合わせる。次に、第１の基板を剥離層とともに第１の保護層から剥離する。これにより、第１の保護層の膜面が露出することとなる。次に、接着剤を介して第３の基板を第１の保護層に貼り合わせる。この第３の基板は、第１の基板および第２の基板よりも薄く、且つ、透明である。
【００１１】
このような製造方法では、記録層や保護層が積層形成される第１の基板は、充分な剛性を有するべく比較的分厚い必要がある。この分厚い第１の基板は、後に、薄く透明な第３の基板に取り替えられ、これにより、第３の基板側からのレーザ照射が可能となり、フロントイルミネーション方式が実現される。記録層のレーザ照射面は、製造過程において、第１の基板のプリグルーブに対し比較的近接して形成されるので、本製造方法によると、フロントイルミネーション方式光磁気記録媒体の従来の一般的な製造方法によるよりも、記録層において高い寸法精度のランドグルーブ形状が得られる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１によると、第３の基板の厚さは０．０５〜０．３ｍｍであり、特許文献１に記載の方法によると、当該第３の基板について、良好な平面性を維持しつつ更に薄くするのは困難である。加えて、第１の保護層に対する第３の基板の張り合わせは、接着剤を介して行われる。特許文献１によると、当該接着剤は１〜２００μｍ程度である。したがって、特許文献１に記載されているフロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体では、第３の基板の露出表面から保護層までの透明部の厚さは、０．５ｍｍに至ってしまう場合がある。
【００１３】
光入射側の透明部の厚さについては、特に記録方式として磁界変調方式を採用する場合には薄い方が望ましい。当該透明部が薄いほど、磁気記録ヘッドを記録層に近づけることが可能となり、当該近接配置により、所望の磁界を印加するために磁気記録ヘッドに流すべき電流を低減することが可能となる。その結果、より高周波での記録すなわち高速記録を適切に実現することが可能となる。このような高速記録化は、記録密度の高い垂直磁気記録媒体の実用化を図るうえで重要である。透明部の厚さが例えば０．５ｍｍであると、このような高速記録化を実現するのは困難である。
【００１４】
本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、高い寸法精度のランドグルーブ形状を有する磁性部を備え、且つ、磁性部に対する光入射側に充分に薄い光透過性保護膜を備える、フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体を提供することを、目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の側面によると光磁気記録媒体の製造方法が提供される。この製造方法は、プリグルーブ形成面を有するスタンパにおける当該プリグルーブ形成面上に、樹脂材料を成膜するための工程と、プリグルーブ形成面上の樹脂材料を硬化させることにより、プリグルーブ形成面と接するプリグルーブ面およびこれとは反対の平坦面を有する光透過性の保護膜を形成するための工程と、保護膜の平坦面に対し、粘着性を有する粘着材を介して第１基板を接合するための工程と、保護膜とスタンパとを分離するための工程と、保護膜におけるプリグルーブ面の上に材料を成膜することにより、記録機能および再生機能を担う磁性部を含む材料膜構造部を形成するための工程と、材料膜構造部に対し、第２基板を接合するための工程と、粘着材の粘着性を低下させるための粘着性低下工程と、保護膜と第１基板とを分離するための工程と、を含むことを特徴とする。本発明におけるプリグルーブは、スタンパにおいて設計されたランドグルーブ形状（凹凸形状）が転写されて形成される形状であり、スタンパのランドグルーブ形状を直接に反映する形状である。したがって、本発明におけるプリグルーブには、スタンパのランドグルーブ形状が転写されて形成される形状の表面に材料が成膜されることにより生ずる凹凸形状は、含まれない。保護膜について光透過性とは、記録処理および再生処理において使用されるレーザに対し、当該処理を実現するうえで必要とされる透過性をいうものとする。また、粘着性低下工程と、保護膜および第１基板を分離するための工程とは、並行して行ってもよいし、個別に行ってもよい。
【００１６】
このような方法によると、フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体において、高い寸法精度のランドグルーブ形状を有する磁性部を形成することができる。本発明の第１の側面では、磁性部や誘電体層などを含む材料膜構造部の形成に際し、スタンパのプリグルーブ形成面の形状が直接に転写されて形成されたプリグルーブを有する保護膜の当該プリグルーブ面上に、バックイルミネーション方式の媒体と同様の順序で、即ち当該保護膜を光入射側とする順序で、所定の材料が順次成膜される。したがって、磁性部のレーザ照射対象面は、従来のバックイルミネーション方式光磁気記録媒体と同様に、プリグルーブに対して近接して設けることができる。その結果、磁性部のランドグルーブ形状について、高い寸法精度を達成することができるのである。磁性部のランドグルーブ形状の寸法精度が高いほど、即ち、磁性部の形状がシャープでその外郭の平面粗さが小さいほど、再生信号におけるＣＮＲの値は向上する傾向にある。
【００１７】
また、本発明の第１の側面に係る方法によると、フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体において、磁性部に対する光入射側に充分に薄い光透過性保護膜を設けることができる。本発明の第１の側面に係る方法によると、樹脂成膜工程では、例えばスピンコート法により、樹脂を所望の薄さで成膜することができる。保護膜形成工程では、この樹脂を硬化させることにより、スタンパとの界面にてプリグルーブが形成され且つ所望の薄さを有する保護膜が形成される。保護膜の厚さは例えば１０〜４０μｍとすることができる。光磁気記録媒体の製造過程において、記録層や誘電体層が積層形成される対象である基材ないし基板には充分な剛性が要求され、当該基材は比較的分厚い必要があるところ、本発明の第１の側面においては、積層対象面であるプリグルーブ面を有する保護膜は第１基板により裏打ちされて補強されている。保護膜自体は薄く従って充分な剛性を有さない場合があるけれども、保護膜および第１基板よりなる基材は、充分な剛性を有するのである。保護膜のプリグルーブ面上に形成された材料膜構造部に第２基板が接合されて媒体の剛性が確保された後、当該保護膜に対する裏打ち基板（第１基板）は剥離され、これにより、磁性部ないし材料膜構造部に対する光入射側に薄い光透過性保護膜が露出することとなる。フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体において、光入射側の透明保護膜が薄いほど、所望磁界を印加するために磁気記録ヘッドに流すべき電流を低減することができ、その結果、より高周波での記録すなわち高速記録を適切に実現することが可能となる。このような高速記録化は、高い記録密度を有する光磁気記録媒体の実用化を図るうえで重要である。
【００１８】
以上のように、本発明の第１の側面によると、フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体において、高い寸法精度のランドグルーブ形状を有する磁性部を形成するとともに、磁性部に対する光入射側に充分に薄い光透過性保護膜を設けることができるのである。
【００１９】
本発明の第１の側面において、好ましくは、粘着性低下工程では、粘着材に対する光照射または加熱により、当該粘着材の粘着性を低下させる。この場合、本発明では、粘着剤としては、光照射または加熱により、適切な粘着性を失うものが使用される。光照射ないし紫外線照射により適切な粘着性が失われる粘着剤を使用する場合、第１基板としては、光透過性を有するものが採用される。これらの構成によると、保護膜と第１基板とを分離するための工程において、当該保護膜および第１基板を適切に分離することができる。
【００２０】
好ましくは、樹脂材料は、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、または触媒硬化性樹脂を含む。これらの樹脂は、本発明において、スタンパ上に所望の薄さで形成すべき透明保護膜の構成材料として実用的である。
【００２１】
本発明の第２の側面によると光磁気記録媒体が提供される。この光磁気記録媒体は、プリグルーブが形成されたプリグルーブ面を有し且つ厚さが１０〜４０μｍである光透過性の保護膜と、記録機能および再生機能を担う磁性部を含み、且つ、保護膜のプリグルーブ面上に材料を成膜することにより形成された、材料膜構造部と、材料膜構造部に対して保護膜とは反対の側に設けられた基板と、を含む積層構造を有することを特徴とする。
【００２２】
このような構成の光磁気記録媒体は、本発明の第１の側面に係る方法により製造されるものである。したがって、本発明の第２の側面に係るフロントイルミネーション方式光磁気記録媒体は、厚さ１０〜４０μｍと薄い光透過性保護膜を磁性部に対する光入射側に具備しつつ、高い寸法精度のランドグルーブ形状を有する磁性部を具備することができる。このような光磁気記録媒体は、再生信号において高ＣＮＲを達成したり、高速記録を実現するうえで、好適である。
【００２３】
本発明の第２の側面において、好ましくは、保護膜の厚さは１０〜２０μｍである。塵埃に対する耐久性を維持しつつ記録処理の高速化を図るうえでは、保護膜についてはこのような厚さ範囲が特に好ましい。
【００２４】
好ましくは、材料膜構造部は、磁性部から基板までの間に位置する軟磁性層を有する。大きな飽和磁化と小さな保磁力とを有する軟磁性層が、いわゆる裏打ち軟磁性膜として、磁性部に含まれる記録層に近接して存在すると、記録処理時において、磁気記録ヘッドから記録層に印加される記録磁界の磁束は当該記録層にて拡散せずに集中する。したがって、記録層の記録磁界感度は、軟磁性層が存在しない場合よりも向上し得る。記録層の記録磁界感度の向上は、磁気記録ヘッドによる所望磁界の印加に必要な電流の低減を可能にし、より高周波での記録すなわち高速記録を実現するうえで好適である。
【００２５】
好ましくは、材料膜構造部は、光透過性を有してプリグルーブ面と接するいわゆるエンハンス層を有し、当該エンハンス層の厚さは５０ｎｍ以上である。このような構成は、再生処理時の反射光において実質的に大きなカー回転角を得るうえで好適である。
【００２６】
光磁気記録媒体の技術の分野では、再生信号読取り用の光学系における分解能の限界を超えて高密度に記録された信号を実用的に再生するための、種々の再生方式が開発されている。例えば、ＭＳＲ（ｍａｇｎｅｔｉｃａｌｌｙ  ｉｎｄｕｃｅｄ  ｓｕｐｅｒ  ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ）、ＭＡＭＭＯＳ（ｍａｇｎｅｔｉｃ  ａｍｐｌｉｆｙｉｎｇ  ｍａｇｎｅｔｏ−ｏｐｔｉｃａｌ  ｓｙｓｔｅｍ）、および、ＤＷＤＤ（ｄｏｍａｉｎ  ｗａｌｌ  ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ  ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ）である。本発明の第２の側面において、材料膜構造部は、このようなＭＳＲ方式再生、ＭＡＭＭＯＳ方式再生、またはＤＷＤＤ方式再生を実現するための多層磁性構造を有するのが好ましい。本発明の効果は、再生分解能に優れたＭＳＲ方式、ＭＡＭＭＯＳ方式、およびＤＷＤＤ方式の光磁気記録媒体において本発明を実施する場合に、特に実益が高い。
【００２７】
【発明の実施の形態】
図１および図２は、本発明の第１の実施形態に係る光磁気記録媒体Ｘ１を表す。光磁気記録媒体Ｘ１は、保護膜１０と、材料膜積層部２０と、基板Ｓとを備え、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されたものである。図１は、光磁気記録媒体Ｘ１の部分断面を模式的に表したものであり、図２は、光磁気記録媒体Ｘ１の情報トラックとして利用されるランド部および／またはグルーブ部における積層構成を表す。
【００２８】
保護膜１０は、光磁気記録媒体Ｘ１の記録用レーザおよび再生用レーザに対して充分な透過性を有する樹脂よりなり、その厚さＬ１は１０〜４０μｍである。保護膜１０を構成するための樹脂材料としては、例えばアクリル樹脂が挙げられる。また、保護膜１０は、プリグルーブ面１０ａおよび平坦面１０ｂを有する。プリグルーブ面１０ａには、所望の寸法で設計されたプリグルーブが設けられている。したがって、保護膜１０は、いわゆるプリグルーブ層としても機能する。プリグルーブの深さＬ２は例えば２０〜６０ｎｍであり、幅Ｌ３は例えば３００〜３５０ｎｍであり、形成ピッチＬ４は例えば３２０〜７００ｎｍである。平坦面１０ｂは外部に露出しており、記録処理時に磁気記録ヘッドが対向する面である。
【００２９】
材料膜積層部２０は、本実施形態では、図２に示すように、誘電体層２１と、記録層２２と、記録補助層２３と、熱良伝導層２４と、熱分布調整層２５と、熱良伝導層２６とからなる積層構造を有する。また、材料膜積層部２０は、図１に示すように、保護膜１０のプリグルーブ面１０ａの凹凸形状に応じたランドグルーブ形状を有する。
【００３０】
誘電体層２１は、記録層２２および記録補助層２３に対する外部からの磁気的影響を回避ないし抑制するための部位であり、例えば、ＳｉＮ，ＳｉＯ２，ＹＳｉＯ２，ＺｎＳｉＯ２，ＡｌＯ，またはＡｌＮよりなる。誘電体層２１の厚さは、例えば２０〜６０ｎｍである。誘電体層２１は、カー回転角を実質的に増大するための、いわゆるエンハンス層として構成するのが好ましい。誘電体層２１をエンハンス層として機能させるためには、当該誘電体層２１の厚さは例えば５０ｎｍ以上であるのが好ましい。
【００３１】
記録層２２は、ランド部および／またはグルーブ部において、熱磁気的な記録および磁気光学効果を利用した再生という２つの機能を担う部位であり、希土類元素と遷移金属とを含むアモルファス合金よりなり、且つ、垂直磁気異方性を有して垂直方向に磁化された垂直磁化膜である。垂直方向とは、層を構成する磁性膜の膜面に対して垂直な方向をいう。記録層２２を構成するアモルファス合金に含まれる希土類元素としては、Ｔｂ，Ｇｄ，Ｄｙ，Ｎｄ，またはＰｒなどを用いることができる。遷移金属としては、ＦｅやＣｏなどを用いることができる。より具体的には、記録層２２は、例えば、所定の組成を有するＴｂＦｅＣо，ＤｙＦｅＣо，またはＴｂＤｙＦｅＣоよりなる。記録層２２の厚さは、例えば１５〜５０ｎｍである。
【００３２】
記録補助層２３は、記録層２２との間に交換結合力を生じて当該記録層２２の記録磁界感度を向上する機能を有する。記録補助層２３は、希土類−遷移金属アモルファス合金よりなる垂直磁化膜である。
【００３３】
本実施形態では、記録再生機能を担う磁性部は、記録層２２および記録補助層２３よりなる。本発明では、このような構成に代えて、当該磁性部は、記録機能および再生機能を併有する単一の記録層のみにより構成してもよい。或は、磁性部は、相対的に保磁力が大きくて記録機能を担う記録層と、再生用レーザにおけるカー回転角が相対的に大きくて再生機能を担う再生層とからなる、２層構造を有してもよい。或は、磁性部は、ＭＳＲ方式再生、ＭＡＭＭＯＳ方式再生、またはＤＷＤＤ方式再生を実現するための、記録層、再生層、およびこれらの間の中間層よりなる３層構造を有してもよい。
【００３４】
これらのような磁性構造の磁性部を設ける場合、磁性部のとり得る各構造における各層は、希土類元素と遷移金属とのアモルファス合金よりなり、垂直磁気異方性を有して垂直方向に磁化された垂直磁化膜である。希土類元素としては、Ｔｂ，Ｇｄ，Ｄｙ，Ｎｄ，またはＰｒなどを用いることができる。遷移金属としては、ＦｅやＣｏなどを用いることができる。より具体的には、記録層は、上述のように、例えば、所定の組成を有するＴｂＦｅＣо，ＤｙＦｅＣо，またはＴｂＤｙＦｅＣоよりなる。再生層を設ける場合、当該再生層は、例えば、所定の組成を有するＧｄＦｅＣо，ＧｄＤｙＦｅＣо，ＧｄＴｂＤｙＦｅＣо，ＮｄＤｙＦｅＣо，ＮｄＧｄＦｅＣо，またはＰｒＤｙＦｅＣоよりなる。中間層を設ける場合、当該中間層は、例えば、所定の組成を有するＧｄＦｅ，ＴｂＦｅ，ＧｄＦｅＣо，ＧｄＤｙＦｅＣо，ＧｄＴｂＤｙＦｅＣо，ＮｄＤｙＦｅＣо，ＮｄＧｄＦｅＣо，またはＰｒＤｙＦｅＣоよりなる。各層の厚さは、磁性部に所望される磁性構造に応じて決定される。
【００３５】
熱良伝導層２４，２６および熱分布調整層２５は、光磁気記録媒体Ｘ１において、レーザ照射時などに磁性部（記録層２２、記録補助層２３）にて発生する熱を適切に基板Ｓに伝導するための放熱部を構成する。熱良伝導層２４，２６は、高熱伝導材料よりなる。当該高熱伝導材料としては、例えばＡｇＰｄＣｕＳｉ合金やＡｇＰｄＣｕ合金を採用することができる。熱分布調整層２５は、熱良伝導層２４，２６よりも熱伝導率が低く、例えばＳｉＮよりなる。ＳｉＮよりなる熱分布調整層２５は、基板Ｓと磁性部との間の誘電体層としても機能する。熱良伝導層２４，２６の厚さは、例えば５〜８０ｎｍであり、熱分布調整層２５の厚さは、例えば５〜８０ｎｍである。本発明では、放熱部についてこのような構成に代えて、単層の熱良伝導層により構成してもよいし、熱良伝導層および熱分布調整層の２層構造を採用してもよい。
【００３６】
基板Ｓは、光磁気記録媒体Ｘ１の剛性を確保するためのものであり、接着材３０を介して材料膜積層部２０と接合している。このような基板Ｓは、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、エポキシ樹脂、またはポリオレフィン樹脂よりなる。或は、基板Ｓとしては、ガラス基板を採用してもよい。
【００３７】
図３から図５は、光磁気記録媒体Ｘ１の製造方法を表す。光磁気記録媒体Ｘ１の製造においては、まず、図３（ａ）に示すようなスタンパ４１を用意する。スタンパ４１は、例えば平坦なガラス基板で裏打ちされているいわゆるＮｉスタンパであり、プリグルーブ形成面４１ａを有する。プリグルーブ形成面４１ａには、所望の寸法で形成されたプリグルーブパターンが設けられている。図３および図４においては、当該プリグルーブパターンは、トラック横断方向の断面の凹凸形状として表されている。
【００３８】
次に、図３（ｂ）に示すように、スタンパ４１のプリグルーブ形成面４１ａ上に液状の樹脂組成物１０’を成膜する。成膜手法としてはスピンコート法を採用することができる。成膜厚さは、形成すべき保護膜１０の厚さＬ１に応じて調節される。樹脂組成物１０’としては、保護膜１０を構成するための樹脂材料を主成分として、紫外線硬化性、熱硬化性、または触媒硬化性を有するものを使用する。
【００３９】
次に、図３（ｃ）に示すように、成膜された樹脂組成物１０’を硬化させて保護膜１０を形成する。硬化手法としては、樹脂組成物１０’の硬化特性に応じて、樹脂組成物１０’に対する紫外線照射、樹脂組成物１０’の加熱、或は、主成分樹脂材料に対して触媒を作用させる方法が採用される。触媒を利用する場合には、成膜時の樹脂組成物１０’に対して予め当該触媒を添加しておく。本工程で形成される保護膜１０は、スタンパ４１との界面にプリグルーブ面１０ａを有し、これとは反対の側に平坦面１０ｂを有する。プリグルーブ面１０ａは、スタンパ４１のプリグルーブ形成面４１ａが転写されて形成されたプリグルーブ形状を有する。プリグルーブ面１０ａのプリグルーブ形状は、所望の寸法で形成されたプリグルーブ形成面４１ａが直接に転写されて生ずるものであるため、高い寸法精度を有し、且つ、外形の平坦性に優れている。
【００４０】
光磁気記録媒体Ｘ１の製造においては、次に、図４（ａ）に示すように、保護膜１０の平坦面１０ｂに、粘着材４２を介して基板４３が接合される。粘着材４２としては、例えば、紫外線照射または加熱により粘着性が低下する粘着シートや粘着液を使用することができる。紫外線により粘着性が低下する粘着材４２を採用する場合、基板４３としては、当該紫外線に対して透過性を有するものを採用する。そのような基板４３は、例えば、ガラス基板や透明樹脂基板である。
【００４１】
次に、図４（ｂ）に示すように、基板４３と接合している保護膜１０から、スタンパ４１を剥離する。次に、図４（ｃ）に示すように、保護膜１０上に、材料膜積層部２０を積層形成する。具体的には、スパッタリング法により、保護膜１０のプリグルーブ面１０ａに対して、各層に応じた所定の材料を順次成膜するこにより、上述の誘電体層２１、記録層２２、記録補助層２３、熱良伝導層２４、熱分布調整層２５、および熱良伝導層２６を順次形成する。このとき、保護膜１０は、プリグルーブ層として機能している。
【００４２】
次に、図５（ａ）および図５（ｂ）に示すように、材料膜積層部２０に対し、接着材３０を介して基板Ｓが接合される。接着材３０としては、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、または触媒硬化性樹脂を採用することができる。紫外線硬化型樹脂を採用する場合、基板Ｓとしては、当該紫外線に対して透過性を有するものを採用する。
【００４３】
次に、図５（ｃ）に示すように、粘着材４２の粘着性を低下させ、当該粘着材４２とともに基板４３を保護膜１０から剥離する。粘着材４２の粘着性の低下と剥離操作とは、並行して行ってもよいし、個別に行ってもよい。粘着性低下手法としては、粘着材４２の特性に応じて、紫外線照射や加熱が採用される。以上のようにして、光磁気記録媒体Ｘ１を製造することができる。
【００４４】
図３（ｂ）を参照して上述した樹脂成膜工程では、スピンコート法により、樹脂組成物１０’を所望の薄さで成膜することができる。図３（ｃ）を参照して上述した保護膜形成工程では、この樹脂組成物１０’を硬化させることにより、スタンパ４１との界面にてプリグルーブが形成され且つ所望の薄さを有する保護膜１０が形成される。図４（ｃ）を参照して上述した材料膜積層部形成工程では、保護膜１０は基板４３により裏打ちされて補強されているので、薄い保護膜１０上であっても適切に材料膜積層部２０を形成することができる。図５（ｃ）を参照して上述した工程では、材料膜積層部２０に基板Ｓが接合されて媒体の剛性が確保されている状態にて、保護膜１０から基板４３が剥離され、光入射側に薄い保護膜１０が露出することとなる。フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体において、光入射側の透明保護膜が薄いほど、磁気記録ヘッドによる所望磁界の印加に必要な電流の低減が可能となり、その結果、より高周波での記録すなわち高速記録を適切に実現することが可能となる。
【００４５】
加えて、図４（ｃ）を参照して上述した材料膜積層部２０の形成工程では、スタンパ４１のプリグルーブ形成面４１ａの形状が直接に転写されて形成されたプリグルーブを有する保護膜１０のプリグルーブ面１０ａ上に、バックイルミネーション方式の媒体と同様の順序で、即ち保護膜１０を光入射側とする順序で、所定の材料が順次成膜される。したがって、材料膜積層部２０に含まれる記録層２２のレーザ照射対象面は、従来のバックイルミネーション方式光磁気記録媒体と同様に、プリグルーブ面１０ａに対して近接して設けることができる。その結果、記録層２２（磁性部）のランドグルーブ形状について、高い寸法精度を達成することができる。磁性部のランドグルーブ形状の寸法精度が高いほど、即ち、磁性部の形状がシャープでその平面粗さが小さいほど、再生信号におけるＣＮＲの値は向上する。
【００４６】
このように、光磁気記録媒体Ｘ１においては、高い寸法精度のランドグルーブ形状を有する記録層２２（磁性部）を具備するとともに、記録層２２（磁性部）に対する光入射側に充分に薄い光透過性の保護膜１０を具備することができるのである。
【００４７】
図６および図７は、本発明の第２の実施形態に係る光磁気記録媒体Ｘ２を表す。光磁気記録媒体Ｘ２は、保護膜１０と、材料膜積層部２０’と、基板Ｓとを備え、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されたものである。図６は、光磁気記録媒体Ｘ２の部分断面を模式的に表したものであり、図７は、光磁気記録媒体Ｘ２の情報トラックとして利用されるランド部および／またはグルーブ部における積層構成を表す。光磁気記録媒体Ｘ２は、材料膜積層部２０とは異なる積層構造の材料膜積層部２０’を有する点において、光磁気記録媒体Ｘ１と相違する。保護膜１０および基板Ｓの構造や構成材料については、光磁気記録媒体Ｘ１に関して上述したのと同様である。
【００４８】
材料膜積層部２０’は、本実施形態では、図７に示すように、誘電体層２１と、記録層２２と、記録補助層２３と、熱良伝導層２４と、熱分布調整層２５と、熱良伝導層２６と、軟磁性層２７とからなる積層構造を有する。すなわち、材料膜積層部２０’は、第１の実施形態における材料膜積層部２０における熱良伝導層２６の側に更に軟磁性層２７を有する構造を有する。このような材料膜積層部２０’は、保護膜１０のプリグルーブ面１０ａの凹凸形状に応じたランドグルーブ形状を有する。
【００４９】
軟磁性層２７は、大きな飽和磁化と小さな保磁力とを有する軟磁性材料よりなり、記録磁気ヘッドから発せられる磁界の磁束を記録層２２にて集中させることによって当該記録層２２の記録磁界感度を向上させる機能を有する。このような軟磁性層２７は、例えば、ＦｅＣなどのＦｅ系アモルファス材料、Ｃｏ系アモルファス材料、パーマロイ、またはセンダストより構成することができる。軟磁性層２７の厚さは、例えば０．２〜２μｍである。
【００５０】
光磁気記録媒体Ｘ２においては、軟磁性層２７が記録層２２に近接して存在するので、記録処理時において、磁気記録ヘッドから記録層２２に印加される記録磁界の磁束は当該記録層２２にて拡散せずに集中する。したがって、記録層２２の記録磁界感度は、軟磁性層２７が存在しない場合よりも向上する。記録層２２の記録磁界感度の向上は、磁気記録ヘッドによる所望磁界の印加に必要な電流の低減を可能にし、より高周波での記録すなわち高速記録を実現するうえで好適である。
【００５１】
また、光磁気記録媒体Ｘ２においては、第１の実施形態に係る光磁気記録媒体Ｘ１に関して上述したのと同様の理由に基づき、高い寸法精度のランドグルーブ形状を有する記録層２２（磁性部）を具備するとともに、記録層２２（磁性部）に対する光入射側に充分に薄い光透過性の保護膜１０を具備することができる。
【００５２】
【実施例】
次に、本発明の実施例について比較例とともに説明する。
【００５３】
【実施例１】
〔光磁気記録媒体の作製〕
図８に示す積層構成を有するフロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして、本実施例の光磁気記録媒体を作製した。本実施例の光磁気記録媒体の作製においては、まず、平坦なガラス基板（外径８６ｍｍ、厚さ６ｍｍ）で裏打ちされたＮｉスタンパ（外径８６ｍｍ、厚さ０．３ｍｍ）のプリグルーブ形成面上に、スピンコート法により、紫外線硬化性樹脂（商品名：ユピマーＵＶ、三菱化学製）を１５μｍの厚さに成膜した。Ｎｉスタンパのプリグルーブ形成面には、内径２５ｍｍおよび外径８４ｍｍの領域にプリグルーブパターン（ランド領域幅０．２７５μｍ、グルーブ領域幅０．２７５μｍ、グルーブ深さ５０ｎｍ）が予め形成されている。次に、紫外線照射により当該紫外線硬化性樹脂膜を硬化させ、Ｎｉスタンパ上に透明な保護膜（厚さ１５μｍ）を形成した。保護膜におけるＮｉスタンパとの界面には、Ｎｉスタンパのプリグルーブパターンに応じたプリグルーブ形状が形成された。当該保護膜は、本実施例ではプリグルーブ層に相当する。
【００５４】
次に、保護膜の露出面に、粘着シート（商品名：ウエハダイシング用ＵＶテープ  ＵＣ−２２８Ｗ−１１０、古河電工製）を介して第１のガラス基板（外径８６ｍｍ、厚さ６ｍｍ）を圧着接合した。この粘着シートは、紫外線が照射されると粘着性を失う特性を有する。この後、ガラス基板とともに保護膜をスタンパから剥離した。
【００５５】
次に、ＤＣマグネトロンスパッタリング装置を使用して行うＤＣスパッタリング法により、保護膜のプリグルーブ面上にＳｉＮを成膜することにより、厚さ５０ｎｍの誘電体層を形成した。具体的には、Ｓｉターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスおよびＮ２ガスを使用して行う反応性スパッタリングにより、基板上にＳｉＮを成膜した。本スパッタリングでは、ＡｒガスおよびＮ２ガスの流量比を２：１とし、スパッタガス圧力を０．３Ｐａとし、放電電力を５００Ｗとした。
【００５６】
次に、ＤＣスパッタリング法により、所定の組成を有するＴｂＦｅＣｏアモルファス合金を誘電体層上に成膜することにより、厚さ２５ｎｍの記録層を形成した。本スパッタリングにおいては、ＴｂＦｅＣｏ合金ターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスを使用し、スパッタガス圧力を１．５Ｐａとし、放電電力を５００Ｗとした。
【００５７】
次に、ＤＣスパッタリング法により、所定の組成を有するＧｄＦｅＣｏアモルファス合金を記録層上に成膜することにより、厚さ５ｎｍの記録補助層を形成した。本スパッタリングでは、ＧｄＦｅＣｏ合金ターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスを使用し、スパッタガス圧力を０．５Ｐａとし、スパッタ電力を５００Ｗとした。このようにして、記録層（ＴｂＦｅＣｏ、厚さ２５ｎｍ）および記録補助層（ＧｄＦｅＣｏ、厚さ５ｎｍ）よりなり記録機能および再生機能を担う磁性部を形成した。
【００５８】
次に、ＤＣスパッタリング法により、記録補助層上にＡｇＰｄＣｕＳｉ合金を成膜することにより、厚さ３０ｎｍの第１の熱良伝導層を形成した。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ合金ターゲットとＳｉターゲットを用いたコスパッタリングを行い、スパッタガスとしてＡｒガスを使用し、スパッタガス圧力を１．５Ｐａとし、放電電力を５００Ｗとした。
【００５９】
次に、ＤＣスパッタリング法により、第１の熱良伝導層上にＳｉＮを成膜することによって、厚さ５ｎｍの熱分布調整層を形成した。具体的には、Ｓｉターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスおよびＮ２ガスを使用して行う反応性スパッタリングにより、基板上にＳｉＮを成膜した。本スパッタリングでは、ＡｒガスおよびＮ２ガスの流量比を２：１とし、スパッタガス圧力を０．３Ｐａとし、放電電力を５００Ｗとした。
【００６０】
次に、ＤＣスパッタリング法により、熱分布調整層上にＡｇＰｄＣｕＳｉ合金を成膜することにより、厚さ１０ｎｍの第２の熱良伝導層を形成した。具体的なスパッタリング条件については、第１の熱良伝導層の形成に関して上述したのと同一である。このようにして、第１の熱良伝導層（ＡｇＰｄＣｕＳｉ、厚さ３０ｎｍ）、熱分布調整層（ＳｉＮ、厚さ５ｎｍ）、および第２の熱良伝導層（ＡｇＰｄＣｕＳｉ、厚さ１０ｎｍ）からなる放熱部を形成した。
【００６１】
本実施例の光磁気記録媒体の作製においては、次に、第２の熱良伝導層の露出面に、接着材としての液状の紫外線硬化性樹脂（商品名：ダイキュアクリアＳＤ、大日本インキ製）を介して、第２のガラス基板（外径８６ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ）を接合した。
【００６２】
次に、第１のガラス基板の側から紫外線を照射することにより、当該第１のガラス基板と保護膜との間に介在する粘着シートの粘着性を失わせた後、当該粘着シートとともに第１のガラス基板を保護膜から剥離した。以上のようにして、本実施例の光磁気記録媒体を作製した。
【００６３】
〔１トラック記録特性〕
本実施例の光磁気記録媒体について、記録特性を調べた。具体的には、まず、本実施例の光磁気記録媒体（光磁気ディスク）における情報トラック（ランドトラックまたはグルーブトラック）に対し、長さ０．１５μｍのスペースを介して記録マーク長０．１５μｍの信号を繰り返し記録した。当該記録処理は、所定の光ディスク評価装置を使用して磁界変調記録方式により行った。この評価装置における対物レンズの開口数ＮＡは０．８５であり、レーザ波長は４０５ｎｍである。当該記録処理では、レーザ走査速度を７．５ｍ／ｓとし、単一の情報トラックに所定パワーのレーザを連続照射しつつ、２００Ｏｅの印加磁界を変調した。
【００６４】
次に、当該光磁気記録媒体を再生し、再生信号のＣＮＲ（ｄＢ）を測定した。当該再生処理は、記録処理と同一の評価装置を使用して行い、レーザーパワーを２．４ｍＷとし、レーザ走査速度を７．５ｍ／ｓとした。再生信号のＣＮＲは、スペクトラムアナライザを使用して測定した。
【００６５】
このような記録処理およびその後の再生処理を、記録処理におけるレーザのパワーを変化させて、各記録レーザーパワーごとに行い、各記録レーザーパワーにおけるＣＮＲを測定した。ランドトラックおよびグルーブトラックにおいて略同一の結果が得られた。この結果を、図１１のグラフにて線Ｅ１で表す。図１１のグラフにおいては、横軸にて記録レーザーパワー（ｍＷ）を表し、縦軸にてＣＮＲ（ｄＢ）を表す。
【００６６】
〔３トラック記録特性〕
本実施例の光磁気記録媒体について、別の態様で記録特性を調べた。具体的には、まず、本実施例の光磁気記録媒体（光磁気ディスク）における情報トラック（ランドトラックまたはグルーブトラック）に対し、長さ０．１５μｍのスペースを介して記録マーク長０．１５μｍの信号を繰り返し記録した。当該記録処理は、上述の記録特性測定におけるのと同一の評価装置を使用して磁界変調記録方式により行った。当該記録処理では、レーザ走査速度を７．５ｍ／ｓとし、隣接する３つの情報トラックに対して情報トラックごとに所定パワーのレーザを連続照射しつつ、２００Ｏｅの印加磁界を変調した。
【００６７】
次に、当該光磁気記録媒体を再生し、隣接する３つの情報トラックにおける中央のトラックの再生信号のＣＮＲ（ｄＢ）を測定した。当該再生処理は、記録処理と同一の評価装置を使用して行い、レーザーパワーを２．４ｍＷとし、レーザ走査速度を７．５ｍ／ｓとした。再生信号のＣＮＲは、スペクトラムアナライザを使用して測定した。
【００６８】
このような記録処理およびその後の再生処理を、記録処理におけるレーザのパワーを変化させて、各記録レーザーパワーごとに行い、各記録レーザーパワーにおけるＣＮＲを測定した。ランドトラックおよびグルーブトラックにおいて略同一の結果が得られた。この結果を、図１２のグラフにて線Ｅ２で表す。図１２のグラフにおいては、横軸にて記録レーザーパワー（１３ｍＷ）を表し、縦軸にてＣＮＲ（ｄＢ）を表す。
【００６９】
〔ビットエラーレート特性〕
本実施例の光磁気記録媒体について、再生信号におけるビットエラーレートの記録磁界依存性を調べた。具体的には、まず、本実施例の光磁気記録媒体（光磁気ディスク）における情報トラック（ランドトラックまたはグルーブトラック）に対し、ランダムな信号を記録した。当該記録処理は、上述の記録特性測定におけるのと同一の評価装置を使用して磁界変調記録方式により行った。当該記録処理では、レーザ走査速度を７．５ｍ／ｓとし、単一の情報トラックにレーザ（レーザーパワー２．４ｍＷ）を連続照射しつつ、所定の印加磁界を変調した。
【００７０】
次に、当該光磁気記録媒体を再生し、記録時の変調信号と再生時の復調信号とを比較することにより、記録変調信号に対する再生復調信号の誤り率をビットエラーレート（ＢＥＲ）として算出した。当該再生処理は、記録処理と同一の評価装置を使用して行い、レーザーパワーを２．４ｍＷとし、レーザ走査速度を７．５ｍ／ｓとした。
【００７１】
このような記録処理およびその後の再生処理を、記録処理における印加磁界（記録磁界）を変化させて各記録磁界ごとに行い、各記録磁界におけるＢＥＲを測定した。ランドトラックおよびグルーブトラックにおいて略同一の結果が得られた。この結果を、図１３のグラフにて線Ｅ３ａで表す。図１３のグラフにおいては、磁気記録ヘッドに流した電流の大きさを横軸にて表し、縦軸にてＢＥＲを表す。横軸にて表される電流の大きさは、所定の相対値として表されており、従って、任意の単位で表されている。
【００７２】
【比較例】
図９に示す積層構成を有するフロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして、本比較例の光磁気記録媒体を作製した。本比較例の光磁気記録媒体の作製においては、まず、平坦なガラス基板（外径８６ｍｍ、厚さ６ｍｍ）の上に、いわゆる２Ｐ法により、紫外線硬化性樹脂（商品名：ユピマーＵＶ、三菱化学製）よりなるプリグルーブ層を積層形成した。このプリグルーブ層は、その露出面に、実施例１の保護膜のプリグルーブ面に形成したのと同一のプリグルーブ形状を有する。
【００７３】
次に、ＤＣスパッタリング法により、当該プリグルーブ層上に、第２の熱良伝導層（ＡｇＰｄＣｕＳｉ、厚さ１０ｎｍ）、熱分布調整層（ＳｉＮ、厚さ５ｎｍ）、第１の熱良伝導層（ＡｇＰｄＣｕＳｉ、厚さ３０ｎｍ）、記録補助層（ＧｄＦｅＣｏ、厚さ５ｎｍ）、記録層（ＴｂＦｅＣｏ、厚さ２５ｎｍ）、および誘電体層（ＳｉＮ、厚さ５０ｎｍ）を順次形成した。各層を形成する際のスパッタリング条件は、実施例１における各層を形成する際のスパッタリング条件と同一である。
【００７４】
本比較例の光磁気記録媒体の作製においては、次に、スピンコート法により、誘電体層上に紫外線硬化性樹脂（商品名：ダイキュアクリアＥＸ、大日本インキ製）を１５μｍの厚さに成膜した。この後、紫外線照射により当該紫外線硬化性樹脂膜を硬化させ、誘電体層上に透明な保護膜（厚さ１５μｍ）を形成した。
【００７５】
〔１トラック記録特性および３トラック記録特性〕
本比較例の光磁気記録媒体について、実施例１と同様にして、１トラック記録特性を調べた。この結果は、図１１のグラフにて線Ｃ１で表す。また、本比較例の光磁気記録媒体について、実施例１と同様にして、３トラック記録特性を調べた。この結果は、図１２のグラフにて線Ｃ２で表す。
【００７６】
【実施例２】
〔光磁気記録媒体の作製〕
図１０に示す積層構成を有するフロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして、本実施例の光磁気記録媒体を作製した。本実施例の光磁気記録媒体の作製においては、まず、実施例１と同様にして、平坦なガラス基板（外径８６ｍｍ、厚さ６ｍｍ）で裏打ちされたＮｉスタンパ（外径８６ｍｍ、厚さ０．３ｍｍ）のプリグルーブ形成面上に、透明な保護膜（厚さ１５ｎｍ）を形成した。Ｎｉスタンパのプリグルーブ形成面には、内径２５ｍｍおよび外径８４ｍｍの領域にプリグルーブパターン（ランド領域幅０．２７５μｍ、グルーブ領域幅０．２７５μｍ、グルーブ深さ５０ｎｍ）が予め形成されている。当該保護膜は、本実施例ではプリグルーブ層に相当する。この後、実施例１と同様にして、粘着シートを介して第１のガラス基板（外径８６ｍｍ、厚さ６ｍｍ）を保護膜の露出面に圧着接合した。
【００７７】
第１のガラス基板とともに保護膜をＮｉスタンパから剥離した後、実施例１と同様にして、保護膜のプリグルーブ面上に、誘電体層（ＳｉＮ、厚さ５０ｎｍ）、記録層（ＴｂＦｅＣｏ、厚さ２５ｎｍ）、記録補助層（ＧｄＦｅＣｏ、厚さ５ｎｍ）、第１の熱良伝導層（ＡｇＰｄＣｕＳｉ、厚さ３０ｎｍ）、熱分布調整層（ＳｉＮ、厚さ５ｎｍ）、および第２の熱良伝導層（ＡｇＰｄＣｕＳｉ、厚さ１０ｎｍ）を順次形成した。
【００７８】
本実施例の光磁気記録媒体の作製においては、次に、ＤＣスパッタリング法により、第２の熱良伝導層上にＦｅＣを成膜することにより、厚さ３００ｎｍの軟磁性層を形成した。本スパッタリングでは、ＦｅＣターゲットを用い、スパッタガスとしてＡｒガスを使用し、スパッタガス圧力を０．５Ｐａとし、スパッタ電力を５００Ｗとした。
【００７９】
次に、軟磁性層の露出面に、接着材としての液状の紫外線硬化性樹脂（商品名：ダイキュアクリアＳＤ、大日本インキ製）を介して、第２のガラス基板（外径８６ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ）を接合した。
【００８０】
次に、第１のガラス基板の側から紫外線を照射することにより、当該第１のガラス基板と保護膜との間に介在する粘着シートの粘着性を失わせた後、当該粘着シートとともに第１のガラス基板を保護膜から剥離した。以上のようにして、本実施例の光磁気記録媒体を作製した。
【００８１】
〔ＢＥＲ特性〕
本実施例の光磁気記録媒体について、実施例１と同様にして、ＢＥＲ特性を調べた。この結果は、図１３のグラフにて線Ｅ３ｂで表す。
【００８２】
【評価】
〔１トラック記録特性について〕
図１１のグラフからは、７．５ｍＷ以上の記録レーザーパワー範囲において、実施例１の光磁気記録媒体は、比較例の光磁気記録媒体よりも高いＣＮＲを示すことが判る。具体的には、測定に係る殆どの記録レーザーパワー範囲において、実施例１の光磁気記録媒体は、比較例の光磁気記録媒体よりも、４ｄＢ程度高いＣＮＲを示した。
【００８３】
比較例の光磁気記録媒体では、再生処理におけるレーザ照射対象面（記録層の光反射表面）は、基板上のプリグルーブ層から７５ｎｍ（放熱部の厚さ＋記録補助層の厚さ＋記録層の厚さ）隔てた箇所に設けられている。これに対し、実施例１の光磁気記録媒体では、再生処理におけるレーザ照射対象面（記録層の光反射表面）は、プリグルーブ層としての保護膜から５０ｎｍ（ＳｉＮ誘電体層の厚さ）隔てた箇所に設けられている。このように、実施例１におけるレーザ照射対象面は、比較例におけるそれよりも、所望の寸法に設計されたプリグルーブ形状に対して近接して設けられている。そのため、実施例１の光磁気記録媒体におけるレーザ照射対象面は、高い寸法精度を有してプリグルーブ形状に近いシャープな形状を有しており、比較例のそれは、より丸みをおびている。このようなレーザ照射対象面の寸法精度の相違に起因して、実施例１の光磁気記録媒体は、比較例の光磁気記録媒体よりも高いＣＮＲを示すものと考えられる。
【００８４】
〔３トラック記録特性について〕
３トラック記録においては、脇のトラックに対する記録処理の際のレーザ照射により中央のトラックにおける記録信号が影響を受けるという、クロスイレーズの問題が内在している。クロスイレーズの問題は、記録レーザーパワーが増大するほど顕著となる。図１２のグラフからは、実施例１の光磁気記録媒体では、記録レーザーパワーが増大しても高いＣＮＲが維持されるのに対し、比較例の光磁気記録媒体では、記録レーザーパワーが８．５ｍＷ以上となるとＣＮＲが急激に低下してしまうことが判る。３トラック記録特性におけるこのような相違は、比較例の光磁気記録媒体では、実施例１の光磁気記録媒体におけるよりも、記録層のランドグルーブ形状が丸みをおびていることに起因して熱拡散が大きいためであると考えられる。
【００８５】
〔ＢＥＲ特性について〕
図１３のグラフからは、同一のＢＥＲを達成するために磁気記録ヘッドに流すべき電流については、実施例２の光磁気記録媒体は実施例１の光磁気記録媒体よりも、少なくてすむことが判る。また、磁気記録ヘッドに流す電流が同一である場合、実施例２の光磁気記録媒体は実施例１の光磁気記録媒体よりも、低いＢＥＲを達成できることが判る。ＢＥＲ特性に表れるこのような相違は、実施例２の光磁気記録媒体では、実施例１の光磁気記録媒体におけるよりも、印加磁界に対する記録層の感度が高いこと示している。記録磁界感度の相違は、軟磁性層の有無に起因する。光磁気記録媒体における記録層の記録磁界感度を向上するために軟磁性層に求められる厚さは、比較的厚く、例えば２００ｎｍ以上である。このような分厚い軟磁性層を、仮にプリグルーブ層と記録層の間に設けると、プリグルーブ層の凹凸形状は事実上消失し、記録層において適切なランドグルーブ形状を形成することができない。これに対し、本発明に係る実施例２の光磁気記録媒体では、軟磁性層は、記録層に対してプリグルーブ層（保護膜）とは反対の側に設けられている。このような構成によると、記録層においてはプリグルーブに応じた適切なランドグルーブ形状を形成することができ、且つ、充分な厚さの軟磁性層を記録層に近接して設けることが可能なのである。
【００８６】
以上のまとめとして、本発明の構成およびそのバリエーションを以下に付記として列挙する。
【００８７】
（付記１）プリグルーブ形成面を有するスタンパにおける当該プリグルーブ形成面上に、樹脂材料を成膜するための工程と、
前記プリグルーブ形成面上の前記樹脂材料を硬化させることにより、前記プリグルーブ形成面における凹凸形状が転写されたプリグルーブ面、および、これとは反対の平坦面、を有する光透過性の保護膜を形成するための工程と、
前記保護膜の前記平坦面に対し、粘着性を有する粘着材を介して第１基板を接合するための工程と、
前記保護膜と前記スタンパとを分離するための工程と、
前記保護膜における前記プリグルーブ面の上に材料を成膜することにより、記録機能および再生機能を担う磁性部を含む材料膜構造部を形成するための工程と、
前記材料膜構造部に対し、第２基板を接合するための工程と、
前記粘着材の前記粘着性を低下させるための粘着性低下工程と、
前記保護膜と前記第１基板とを分離するための工程と、を含むことを特徴とする、光磁気記録媒体の製造方法。
（付記２）前記粘着性低下工程では、前記粘着材に対する光照射または加熱により、当該粘着材の粘着性を低下させる、付記１に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
（付記３）前記第１基板は光透過性を有する、付記１または２に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
（付記４）前記樹脂材料は、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、または触媒硬化性樹脂を含む、付記１から３のいずれか１つに記載の光磁気記録媒体の製造方法。
（付記５）プリグルーブが形成されたプリグルーブ面を有し、且つ、厚さが１０〜４０μｍである、光透過性の保護膜と、
記録機能および再生機能を担う磁性部を含み、且つ、前記保護膜のプリグルーブ面上に材料を成膜することにより形成された、材料膜構造部と、
前記材料膜構造部に対して前記保護膜とは反対の側に設けられた基板と、を含む積層構造を有することを特徴とする、光磁気記録媒体。
（付記６）前記保護膜の厚さは１０〜２０μｍである、付記５に記載の光磁気記録媒体。
（付記７）前記材料膜構造部は、前記磁性部から前記基板までの間に位置する軟磁性層を有する、付記５または６に記載の光磁気記録媒体。
（付記８）前記材料膜構造部は、光透過性を有して前記プリグルーブ面と接するエンハンス層を有し、当該エンハンス層の厚さは５０ｎｍ以上である、付記５から７のいずれか１つに記載の光磁気記録媒体。
（付記９）前記磁性部は、ＭＳＲ方式再生、ＭＡＭＭＯＳ方式再生、またはＤＷＤＤ方式再生を実現するための多層磁性構造を有する、付記５から８のいずれか１つに記載の光磁気記録媒体。
【００８８】
【発明の効果】
本発明によると、高い寸法精度を有して外形の平坦性に優れたランドグルーブ形状を有する磁性部を備え、且つ、磁性部に対する光入射側に充分に薄い光透過性保護膜を備える、フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体を得ることができる。したがって、本発明によると、フロントイルミネーション方式の光磁気記録媒体において、適切に高記録密度化を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光磁気記録媒体の部分断面図である。
【図２】図１の光磁気記録媒体の積層構成を表す。
【図３】図１に示す光磁気記録媒体の製造方法における一部の工程を表す。
【図４】図３の後に続く工程を表す。
【図５】図４の後に続く工程を表す。
【図６】本発明の第２の実施形態に係る光磁気記録媒体の部分断面図である。
【図７】図６の光磁気記録媒体の積層構成を表す。
【図８】実施例１に係る光磁気記録媒体の情報トラックにおける積層構成を表す。
【図９】比較例に係る光磁気記録媒体の情報トラックにおける積層構成を表す。
【図１０】実施例２に係る光磁気記録媒体の情報トラックにおける積層構成を表す。
【図１１】実施例１および比較例の光磁気記録媒体について、１トラック記録特性を表すグラフである。
【図１２】実施例１および比較例の光磁気記録媒体について、３トラック記録特性を表す他のグラフである。
【図１３】実施例１および実施例２の光磁気記録媒体について、ビットエラーレートの記録磁界依存性を表すグラフである。
【符号の説明】
Ｘ１，Ｘ２      光磁気記録媒体
１０      保護膜
１０’      樹脂組成物
１０ａ      プリグルーブ面
１０ｂ      平坦面
２０，２０’      材料膜積層部
２１      誘電体層
２２      記録層
２７      軟磁性層
３０      接着材
４１      スタンパ
４１ａ      プリグルーブ形成面
４２      粘着材
４３，Ｓ      基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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