(57)【要約】【課題】動圧状態でウェーハの研磨を行なえるとともに、研磨終了の際に、又は研磨開始の際に、ウェーハを確実に搬送できるウェーハ研磨装置を提供する。【解決手段】スラリを供給しながら、ウェーハキャリアに保持されたウェーハを回転する研磨パッドに当接させて研磨するウェーハ研磨装置。ウェーハキャリアは、ウェーハに押圧力を付与するバックプレート２２と、ウェーハの径方向の移動を規制し研磨パッドを押圧するリテーナリング２３と、ウェーハ吸着用の吸着口を有しウェーハに接触してバックプレートからの押圧力をウェーハに伝達する保護シート２４とを有する。バックプレート２２とリテーナリング２３との間には、ウェーハを押圧する時にはバックプレートと保護シートとで形成される空間を外気と連通させ、ウェーハを吸着する時にはこの空間を外気と遮断させる流体逆止機構５０が設けられる。【選択図】          図５
2004253724.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スラリを供給しながら、ウェーハキャリアに保持されたウェーハを回転する研磨パッドに当接させて研磨するウェーハ研磨装置において、
前記ウェーハキャリアは、ウェーハに押圧力を付与するバックプレートと、ウェーハの径方向の移動を規制するとともに前記研磨パッドを押圧するリテーナリングと、ウェーハ吸着用の吸着口を有するとともにウェーハに接触して前記バックプレートからの押圧力をウェーハに伝達する保護シートと、を有し、
前記バックプレートと前記リテーナリングとの間、又は、前記バックプレートと前記保護シートとの間には、ウェーハを押圧する時には前記バックプレートと前記保護シートとで形成される空間を外気と連通させ、ウェーハを吸着する時には前記バックプレートと前記保護シートとで形成される空間を外気と遮断させる流体逆止機構が設けられていることを特徴とするウェーハ研磨装置。
【請求項２】
前記流体逆止機構は、可撓性の円環状部材であり、該円環の内周又は外周のいずれかが前記バックプレートと前記リテーナリングの一方、又は、前記バックプレートと前記保護シートの一方に固着されるとともに、該円環の内周又は外周のいずれかが前記バックプレートと前記リテーナリングの他方、又は、前記バックプレートと前記保護シートの他方に付勢されて接する構成の弁状部材を有する請求項１に記載のウェーハ研磨装置。
【請求項３】
前記流体逆止機構は、前記バックプレートの外側面及び／又は前記リテーナリングの内測面に形成されるとともに、断面が上方に広がった形状の溝を構成する円環状の切り欠きと、
前記切り欠き内に遊嵌されるリング状部材とで構成される請求項１に記載のウェーハ研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はウェーハの研磨装置に係り、特に、化学的機械研磨（ＣＭＰ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ  ）によるウェーハの研磨に好適に使用できるウェーハ研磨装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体技術の発展により、デザインルールの微細化、多層配線化が進み、またコスト低減を進める上においてウェーハの大口径化も進行してきている。そのため、従来のように、パターンを形成した層の上にそのまま次の層のパターンを形成しようとした場合、前の層の凹凸のために次の層では良好なパターンを形成することが難しく、欠陥などが生じやすかった。
【０００３】
そこで、パターンを形成した層の表面を平坦化し、その後で次の層のパターンを形成することが行われている。この場合の平坦化手段として、ＣＭＰ法によるウェーハの研磨装置が用いられている。
【０００４】
このＣＭＰ法によるウェーハの研磨装置として、表面に研磨パッドが貼付された円盤状の研磨定盤と、ウェーハの一面を保持してウェーハの他面を研磨パッドに当接させるウェーハキャリアとを有し、研磨定盤を回転させるとともに、ウェーハキャリアを回転させながらウェーハを研磨パッドに当接させ、研磨パッドとウェーハとの間に研磨材であるスラリを供給しながら、ウェーハの他面を研磨するＣＭＰ研磨装置が一般に広く知られている。
【０００５】
ウェーハを保持するウェーハキャリアには、ウェーハにエアによる押圧力を付与するバックプレートと、ウェーハの径方向の移動を規制するとともに研磨パッドを押圧するリテーナリングと、ウェーハ吸着用の吸着口を有するとともにウェーハに接触してバックプレートからのエアの押圧力をウェーハに伝達する保護シートと、を有し、ウェーハの裏面がバックプレートの硬い面に直接接触して傷が付くのを防止したものが公知である（たとえば、特許文献１参照。）。
【０００６】
このウェーハキャリアでは、バックプレートから噴射されるエアの圧力が保護シートを介してウェーハに伝えられ、ウェーハを研磨パッドに押圧する構造となっている。そのため、保護シートはウェーハを一様に押圧する必要があり、伸び難い性質を持ちながらも曲げやすい性質を持つ材質で形成されている。
【０００７】
保護シートにはウェーハ吸着用の吸着口が形成されており、ウェーハの搬送時にウェーハを吸着保持するために使用される。ウェーハを搬送する場合は、まずウェーハをウェーハキャリアのリテーナリング内に配置し、バックプレートのエア吸引口からエアを吸引して、保護シートの内側を減圧状態にする。
【０００８】
この保護シート内側の減圧雰囲気により、ウェーハは保護シート表面に密着し、この状態で搬送される。研磨パッドの上面に搬送されたウェーハは、エアの吸引が解除され、バックプレートのエア吸引口が今度はエア噴射口に変わり、ウェーハは保護シートを介した押圧力を受けて研磨パッドに押圧され、研磨が開始される。
【０００９】
この研磨の際には、バックプレートから噴射されるエアの圧力が保護シートを介してウェーハに伝えられるが、いわゆる動圧状態でウェーハを加圧するために、エアが連続的に供給され、このバックプレートと保護シートとで形成される空間内に供給されたエアは、定常的にバックプレートとリテーナリングとの僅かな隙間より排出される。なお、保護シートに形成されたウェーハ吸着用の吸着口は、研磨の際にはウェーハと密着しており、この吸着口より排出されるエアは殆ど無視できるレベルの量である。
【００１０】
【特許文献１】
特開２０００−３１７８１９号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、研磨終了の際に、又は研磨開始の際にウェーハを搬送する場合に、保護シート内側の減圧雰囲気が作りにくく、その結果、ウェーハが保護シート表面に密着しにくく、搬送不良となる問題点が指摘されている。
【００１２】
すなわち、いわゆる動圧状態で研磨を行うために設けた、バックプレートとリテーナリングとの僅かな隙間よりエアが流入し、保護シート内側の減圧雰囲気が（真空度）が低レベルになる構造的な問題がある。
【００１３】
これに対処すべく、エア吸引手段（ロータリー式真空ポンプ等）の排気量が大きいものを準備する案も考えられる。しかし、このような対処法では、設備面で負担となるのみならず、大量に流れるエアがウェーハ裏面付近のスラリを乾燥させ、ウェーハ裏面の外周部にスラリを固着させてしまうという懸念もある。
【００１４】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、いわゆる動圧状態でウェーハの研磨を行なえるとともに、研磨終了の際に、又は研磨開始の際に、誤動作なく、ウェーハを確実に搬送できるウェーハ研磨装置を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明は、スラリを供給しながら、ウェーハキャリアに保持されたウェーハを回転する研磨パッドに当接させて研磨するウェーハ研磨装置において、前記ウェーハキャリアは、ウェーハに押圧力を付与するバックプレートと、ウェーハの径方向の移動を規制するとともに前記研磨パッドを押圧するリテーナリングと、ウェーハ吸着用の吸着口を有するとともにウェーハに接触して前記バックプレートからの押圧力をウェーハに伝達する保護シートと、を有し、前記バックプレートと前記リテーナリングとの間、又は、前記バックプレートと前記保護シートとの間には、ウェーハを押圧する時には前記バックプレートと前記保護シートとで形成される空間を外気と連通させ、ウェーハを吸着する時には前記バックプレートと前記保護シートとで形成される空間を外気と遮断させる流体逆止機構が設けられていることを特徴とするウェーハ研磨装置を提供する。
【００１６】
本発明によれば、バックプレートとリテーナリングとの間、又は、バックプレートと保護シートとの間に流体逆止機構が設けられており、ウェーハを押圧して、いわゆる動圧状態でウェーハの研磨を行う時には、バックプレートと保護シートとで形成される空間を外気と連通させ、一方、ウェーハ搬送時にウェーハを吸着する時には、バックプレートと保護シートとで形成される空間を外気と遮断させる。これにより、いわゆる動圧状態でウェーハの研磨を行なえるとともに、研磨終了の際に、又は研磨開始の際に、誤動作なく、ウェーハを確実に吸着して搬送できる。
【００１７】
なお、このようなウェーハ研磨装置の加圧及び減圧は、通常はエアにより行うのが一般的であるが、流体逆止機構とあるように、本発明は、必ずしもエアによる加圧及び減圧に限定されず、他の流体、たとえば、窒素ガス、水、作動油等の流体による加圧及び減圧にも適用できる。
【００１８】
本発明において、前記流体逆止機構は、可撓性の円環状部材であり、該円環の内周又は外周のいずれかが前記バックプレートと前記リテーナリングの一方、又は、前記バックプレートと前記保護シートの一方に固着されるとともに、該円環の内周又は外周のいずれかが前記バックプレートと前記リテーナリングの他方、又は、前記バックプレートと前記保護シートの他方に付勢されて接する構成の弁状部材を有することが好ましい。
【００１９】
このように、可撓性の円環状部材が弁として機能し、いわゆる動圧状態でウェーハの研磨を行う時には、バックプレートと保護シートとで形成される空間を外気と連通させ、一方、ウェーハ搬送時にウェーハを吸着する時には、バックプレートと保護シートとで形成される空間を外気と遮断させる。したがって、比較的簡単な構成で本発明の目的を達成できる。
【００２０】
また、本発明において、前記流体逆止機構は、前記バックプレートの外側面及び／又は前記リテーナリングの内側面に形成されるとともに、断面が上方に広がった形状の溝を構成する円環状の切り欠きと、前記切り欠き内に遊嵌されるリング状部材とで構成されることが好ましい。
【００２１】
このように、断面が上方に広がった形状の溝が形成され、この中にリング状部材が配されると、減圧時又は無加圧時にはリング状部材は自重により溝を塞ぎ、バックプレートと保護シートとで形成される空間を外気と遮断させる。一方、加圧時にはリング状部材は強制的に持ち上げられ、バックプレートと保護シートとで形成される空間を外気と連通させる。したがって、比較的簡単な構成で本発明の目的を達成できる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に従って、本発明に係るウェーハ研磨装置の好ましい実施の形態について詳説する。なお、各図において、同一の部材については同一の番号又は記号を付している。
【００２３】
図１は、  本発明に係るウェーハ研磨装置の一実施形態を示す断面図である。ウェーハ研磨装置１０では、同図に示されるように、回転する研磨定盤１１の表面に研磨パッド１２が貼付されている。研磨パッド１２の上方にはウェーハキャリア２０が、ウェーハＷを保持しながら回転し、ウェーハＷを研磨パッド１２に当接させるように配置されている。
【００２４】
ウェーハキャリア２０は、キャリア本体２１、バックプレート２２、リテーナリング２３、保護シート２４（図２参照）、バックプレート用エアバッグ２８及びリテーナーリング用エアバッグ２９で構成されている。
【００２５】
バックプレート用エアバッグ２８は、ゴムシート２７とキャリア本体２１とで形成される空間で、エアライン５０Ｃからエアが供給され、バックプレート２２を研磨パッド１２に向けて加圧する。リテーナーリング用エアバッグ２９は、ゴムシート２７とキャリア本体２１とで形成される空間で、バックプレート用エアバッグ２８よりも外周側に設けられる。このリテーナーリング用エアバッグ２９には、エアライン５０Ｄからエアが供給され、リテーナリング２３を研磨パッド１２に向けて押圧する。
【００２６】
図２は、ウェーハキャリア２０のウェーハＷの加圧機構部を表わす拡大断面図である。バックプレート２２の下面には外周部にエア噴出口２２Ａ、２２Ａ…が、中央部にはエア噴出口２２Ｂ、２２Ｂ…が形成されている。エア噴出口２２Ａ、２２Ａ…はレギュレータ５４を経由してメインエア経路５５に、エア噴出口２２Ｂ、２２Ｂ…はレギュレータ５１を経由してサブエア経路５２に接続されている。サブエア経路５２は切替バルブ５６によって正圧ライン５３とレギュレータ５７を経由した負圧ライン５８又は大気開放ライン５９とに接続換えされる。
【００２７】
リテーナーリング２３はウェーハＷの径方向の動きを規制するとともに、研磨パッド１２を押圧してその表面を安定させる役目を果たしている。
【００２８】
保護シート２４は、周縁部でリテーナーリング２３に保持されており、ウェーハＷが硬いバックプレート２２に直接接触することを防止し、ウェーハＷに当接してバックプレート２２からのエア圧をウェーハＷに伝達する。バックプレート２２から噴射されたエアはバックプレート２２とリテーナーリング２３との隙間２３Ａから外部に排気される。メインエア経路５５によるエアの圧力とサブエア経路５２によるエアの圧力とをそれぞれ調整することによって、ウェーハＷの研磨形状が制御される。
【００２９】
正圧ライン５３、負圧ライン５８又は大気開放ライン５９との切替えや、メインエア経路５５によるエアの圧力とサブエア経路５２によるエアの圧力、及び負圧ライン５８による吸引圧力は、ＣＰＵ６０によってそれぞれ最適に制御される。
【００３０】
保護シート２４にはウェーハ吸着用の吸着口２４Ａ（図３参照）が形成されており、ウェーハＷの搬送時にウェーハＷを吸着保持するために使用される。すなわち、ウェーハＷの吸着時は切替バルブ５６がサブエア経路５２を負圧ライン５８に切替え、複数の吸着口を経由してウェーハＷに吸引力を伝達する。
【００３１】
ウェーハキャリア２０は以上のように構成され、このウェーハキャリア２０で保持したウェーハＷを研磨定盤１１上の研磨パッド１２に押し付けて、研磨定盤１１とウェーハキャリア２０とをそれぞれ回転させながら、研磨パッド１２上にスラリを供給することにより、ウェーハＷが研磨される。
【００３２】
図３は、保護シート２４とリテーナリング２３を示す下面図である。保護シート２４は、ウェーハＷのウェーハキャリア２０に保持される面を保護するとともに、バックプレート２２からのエア圧を伝達してウェーハＷを一様に押圧する必要があるため、伸び難い性質を持ちながらも、曲げやすい性質を持つ薄い材料でできている。また、スラリに含まれる酸又はアルカリへの耐性も必要である。
【００３３】
保護シート２４の材質は、たとえば、テフロン（ｄｕ  Ｐｏｎｔ  社の商標、ポリ四ふっ化エチレン）フィルム、ＰＥТ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ＰＦＡ（四ふっ化パーフルオロアルキルビニルエーテル）フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリエステルフィルム、シリコンゴムフィルム等が好ましい。
【００３４】
保護シート２４には中心部に吸着口２４Ａが形成されている。なお、保護シート２４に形成される吸着口２４Ａの位置及び個数は、これ以外の態様を採ることもできる。たとえば、保護シート２４の中心部に吸着口２４Ａが形成され、これを覆うように、円周上に４個の吸着口２４Ａ、２４Ａ…が形成される構成であってもよい。
【００３５】
保護シート２４のリテーナリング２３への固定は、図４に示される概念図のように行われる。同図において、（ａ）は拡大底面図であり、（ｂ）は（ａ）のＡＡ’線断面図である。リテーナリング２３は上部２３Ａと下部２３Ｂとに分割されており、固定ボルト４０、４０…により一体化される。保護シート２４はこの上部２３Ａと下部２３Ｂとに挟み込まれることにより固定される。
【００３６】
更に、リテーナリング２３には、保護シート２４の張力調整機構が設けられており、保護シート２４に撓みを生じた場合に対処できるようになっている。この張力調整機構は、上部２３Ａ下面に形成された嵌合溝４２と、下部２３Ｂに貫通して設けられたねじ孔４４と、ねじ孔４４に螺合する、先端に突起部４６Ａを有するボルト４６とより構成される。保護シート２４に撓みを生じた場合には、ボルト４６を締め込むことにより、保護シート２４が嵌合溝４２内に引き込まれ、保護シート２４に張力が付与される。
【００３７】
なお、図４（ｂ）に示されるように、下部２３Ｂの貫通孔２３Ｄは、ボルト４６の頭部がリテーナリング２３の下面より突出しないように、段差状に形成されており、図示しない固定ボルト４０用の貫通孔も、同様に、固定ボルト４０の頭部がリテーナリング２３の下面より突出しないように、段差状に形成されている。
【００３８】
なお、本実施の形態では、保護シート２４をリテーナーリング２３にボルト４０等を使用して固定しているが、これ以外の方法、たとえば、接着剤で接着して固定してもよい。
【００３９】
次に、本発明における流体逆止機構について説明する。図５は、流体逆止機構の第１の実施形態を示す要部断面図である。このうち、（ａ）は、ウェーハ搬送時にウェーハを吸着する際の、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間と外気とが流体逆止機構７０により遮断された状態を示しており、（ｂ）は、動圧状態でウェーハの研磨を行う際の、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間と外気とが流体逆止機構７０により連通された状態を示している。なお、図中の矢印は、エアの流れる方向を示している。
【００４０】
この流体逆止機構７０には、可撓性の円環状部材である弁状部材７２が使用されている。図５において、弁状部材７２の内周部がバックプレート２２の外周部の下端近傍に全周で隙間なく固着されており、弁状部材７２の外周部がリテーナリング２３の内周部に付勢されて接する構成となっている。
【００４１】
弁状部材７２の材質としては、可撓性であり、かつ、図５（ａ）に示されるように、外周部がリテーナリング２３の内周部に付勢された状態で、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間と外気とが遮断できるように柔軟な材質であることが好ましい。
【００４２】
また、図５（ｂ）に示されるように、外周部がリテーナリング２３の内周部に付勢された状態で、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間に所定の圧力のエアが供給された場合、弁状部材７２が撓んでエアが隙間２３Ａから外部に排気される程度の可撓性であることが好ましい。
【００４３】
このような材質としては、各種ゴム材料、軟質な樹脂材料、ばね鋼、リン青銅のような金属材料等が使用できる。
【００４４】
以上のような構成とすることにより、ウェーハＷを押圧して、いわゆる動圧状態でウェーハＷの研磨を行う時には、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間を外気と連通させ、一方、ウェーハ搬送時にウェーハＷを吸着する時には、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間を外気と遮断させることができる。これにより、いわゆる動圧状態でウェーハＷの研磨を行なえるとともに、研磨終了の際に、又は研磨開始の際に、誤動作なく、ウェーハＷを確実に吸着して搬送できる。
【００４５】
図６は、流体逆止機構の第２の実施形態を示す要部断面図である。このうち、（ａ）は、ウェーハ搬送時にウェーハを吸着する際の、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間と外気とが流体逆止機構８０により遮断された状態を示しており、（ｂ）は、動圧状態でウェーハの研磨を行う際の、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間と外気とが流体逆止機構８０により連通された状態を示している。なお、図中の矢印は、エアの流れる方向を示している。
【００４６】
この流体逆止機構８０には、可撓性の円環状部材である弁状部材８２が使用されている。図６において、弁状部材８２の内周部がバックプレート２２の下面の外周部近傍に全周で隙間なく固着されており、弁状部材８２の外周部が保護シート２４に付勢されて接する構成となっている。
【００４７】
弁状部材８２の材質としては、図５の弁状部材７２と同様に、可撓性であり、かつ、図６（ａ）に示されるように、外周部が保護シート２４に付勢された状態で、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間と外気とが遮断できるように柔軟な材質であることが好ましい。
【００４８】
また、図６（ｂ）に示されるように、外周部が保護シート２４に付勢された状態で、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間に所定の圧力のエアが供給された場合、弁状部材８２が撓んでエアが隙間２３Ａから外部に排気される程度の可撓性であることが好ましい。
【００４９】
このような材質としては、各種ゴム材料、軟質な樹脂材料、ばね鋼、リン青銅のような金属材料等が使用できる。
【００５０】
以上のような構成とすることによっても、第１の実施形態と同様の効果が得られ、その結果、いわゆる動圧状態でウェーハＷの研磨を行なえるとともに、研磨終了の際に、又は研磨開始の際に、誤動作なく、ウェーハＷを確実に吸着して搬送できる。
【００５１】
図７は、流体逆止機構の第３の実施形態を示す要部断面図である。このうち、（ａ）は、ウェーハ搬送時にウェーハを吸着する際の、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間と外気とが流体逆止機構９０により遮断された状態を示しており、（ｂ）は、動圧状態でウェーハの研磨を行う際の、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間と外気とが流体逆止機構９０により連通された状態を示している。なお、図中の矢印は、エアの流れる方向を示している。
【００５２】
この流体逆止機構９０は、バックプレート２２の外側面及びリテーナリング２３の内側面に形成される円環状の切り欠き２２Ｄ、２３Ｄと、この切り欠き２２Ｄ、２３Ｄにより形成される空間９２に遊嵌されるリング状部材９４とで構成される。この円環状の切り欠き２２Ｄ、２３Ｄは、いずれも断面が上方に広がった形状となっており、空間９２は断面が倒立ハ字状となっている。
【００５３】
このように、断面が倒立ハ字状となっている空間９２が形成され、この中にリング状部材９４が配されると、減圧時又は無加圧時には図７（ａ）に示されるように、リング状部材９４が自重により切り欠き２２Ｄ、２３Ｄの面に接するようにしてバックプレート２２とリテーナーリング２３との隙間２３Ａを塞ぎ、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間を外気と遮断させる。一方、加圧時には図７（ｂ）に示されるように、リング状部材９４はエア圧により強制的に持ち上げられ、バックプレート２２と保護シート２４とで形成される空間を外気と連通させる。
【００５４】
図７（ｂ）に示されるような状態で、エアの流量が極端に多く、エア圧も高くなる場合に、リング状部材９４が切り欠き２２Ｄ、２３Ｄの上端部と接して隙間２３Ａを塞ぐ懸念もあるが、このような極端な場合を想定し、切り欠き２２Ｄ、２３Ｄの上端部のフランジ状部分に凹凸を形成してエアの流れを確保できるようにしてもよい。
【００５５】
リング状部材９４の材質としては、隙間２３Ａを塞いだり、連通させたりできる機能を有するものであれば、特に制限されないが、たとえば、ゴム製のＯリングが好適に使用できる。また、ゴムのような可撓性のない材料、たとえば、金属、硬質樹脂等のようなものでも、半割りにしたものを現場で組み立てるようにすれば使用できる。
【００５６】
なお、円環状の切り欠き２２Ｄ、２３Ｄがバックプレート２２とリテーナリング２３の双方に形成されず、いずれか一方に形成される構成であっても、空間９２の断面が上方に広がった形状となっており、同様の機能が得られれば採用できる。
【００５７】
以上のような構成とすることによっても、第１及び第２の実施形態と同様の効果が得られ、その結果、いわゆる動圧状態でウェーハＷの研磨を行なえるとともに、研磨終了の際に、又は研磨開始の際に、誤動作なく、ウェーハＷを確実に吸着して搬送できる。
【００５８】
以上、本発明に係るウェーハ研磨装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。たとえば、図５及び図６に示される流体逆止機構の実施形態においては、弁状部材７２、８２がいずれもバックプレート２２に固着されているが、この弁状部材７２、８２をリテーナリング２３又は保護シート２４に固着させる構成であってもよい。
【００５９】
また、流体逆止機構は本実施形態で示された３種の例以外にも、同様の機能が得られるものであれば、各種の態様が採用できる。
【００６０】
また、保護シート２４のリテーナリング２３への固定方法、バックプレート２２とリテーナリング２３との間の位置関係等も各種の態様が採用できる。
【００６１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、バックプレートとリテーナリングとの間、又は、バックプレートと保護シートとの間に流体逆止機構が設けられており、ウェーハを押圧して、いわゆる動圧状態でウェーハの研磨を行う時には、バックプレートと保護シートとで形成される空間を外気と連通させ、一方、ウェーハ搬送時にウェーハを吸着する時には、バックプレートと保護シートとで形成される空間を外気と遮断させる。これにより、いわゆる動圧状態でウェーハの研磨を行なえるとともに、研磨終了の際に、又は研磨開始の際に、誤動作なく、ウェーハを確実に搬送できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るウェーハ研磨装置の断面図
【図２】ウェーハキャリアのウェーハ押圧機構部を表わす拡大断面図
【図３】保護シートとリテーナリングを示す下面図
【図４】保護シートのリテーナリングへの固定方法を示す概念図
【図５】流体逆止機構の第１の実施形態を示す要部断面図
【図６】流体逆止機構の第２の実施形態を示す要部断面図
【図７】流体逆止機構の第３の実施形態を示す要部断面図
【符号の説明】
Ｗ…ウェーハ、１０…ウェーハ研磨装置、１１…研磨定盤、１２…研磨パッド、２０…ウェーハキャリア、２１…キャリア本体、２２…バックプレート、２２Ａ、２２Ｂ…エア噴出口、２３…リテーナリング、２４…保護シート、２４Ａ…吸着口、７０、８０、９０…流体逆止機構
【図１】
2004253724.tif 000003
【図２】
2004253724.tif 000004
【図３】
2004253724.tif 000005
【図４】
2004253724.tif 000006
【図５】
2004253724.tif 000007
【図６】
2004253724.tif 000008
【図７】
2004253724.tif 000009