(57)【要約】【課題】外部への磁気漏れを低減することができ、かつ、磁石が発生する磁束を効率よく利用して高い磁気処理能力を有する磁気処理装置を提供する。【解決手段】ヨーク２４とヨーク２４に配設された複数の磁石２２を備えた磁気発生部２０を収容する一対のケース１１を、管体１を挟んで着脱自在に合着してなる磁気処理装置Ｓにおいて、磁石２２は、ヨーク２４の管体１側の面において管体１の長さ方向に所定間隔離間すると共に、隣合う磁石２２の発生する磁束方向がヨーク２４に対して反対になるように配置され、管体１を挟んで対向する一対の磁気発生部２０に配設された複数の磁石２２は、異磁極同士が正対し、磁石２２の対向する方向において、磁石２２の厚みに対してヨーク２４の磁石２２が配設された箇所の厚みが、１．０〜２．３の範囲の厚みに設定された。【選択図】        図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヨークと該ヨークに配設された複数の磁石とを備えた磁気発生部が、流路を挟んで対向して配置され、
前記磁石は、前記ヨークの流路側の面において前記流路の方向に沿って所定間隔離間すると共に、前記流路の方向に沿って隣合う磁石から発生する磁束の方向が前記ヨークに対して反対になるように配置され、
前記流路を挟んで対向する一対の磁気発生部に配設された複数の磁石は、異磁極同士が対向することを特徴とする磁気処理装置。
【請求項２】
前記流路を挟んで対向する一対の磁気発生部が、前記流路の周方向に複数の対に配設されたことを特徴とする請求項１に記載の磁気処理装置。
【請求項３】
前記磁気発生部の対向する方向において、前記磁石の厚みに対する前記ヨークの前記磁石が配設された箇所の厚みの比が、１．０〜２．３の範囲に設定されたことを特徴とする請求項１に記載の磁気処理装置。
【請求項４】
前記磁気発生部の対向する方向において、前記磁石の厚みに対する前記ヨークの前記磁石が配設された箇所の厚みの比が、１．２〜２．０の範囲に設定されたことを特徴とする請求項１に記載の磁気処理装置。
【請求項５】
前記流路を挟んで対向する磁気発生部は、複数のケースにそれぞれ収容され、
該ケースは前記流路を挟んで着脱自在に配設してなることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気処理装置に係り、特に飲料水、工業用水、排水、農業用水、燃料等の液体の質の改善や浄化を磁気によって行う磁気処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液体、例えば水は、水の分子同士が水素結合により互いに引き付け合い水分子の集合体（クラスター）を形成している。そして、このようなクラスターを形成している水を磁気処理すると水分子の結合構造が分解され、磁気処理された水（磁化水）は浸透力、溶解力が高められることが知られている。
【０００３】
このような磁気処理を行なう磁気処理装置として、水道管を挟み込むようにして磁石が配置される構造を有するものがある。例えば、ステンレス鋼製の通水パイプの一部を偏平状に形成し、偏平状に形成した面の上下両面に磁石を対向させて、通水パイプの長さ方向に等間隔に複数個づつ配置する技術がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
上記技術によれば、偏平状に形成した面の上下において、それぞれ複数の磁石の外側がマグネットホルダ裏板によって支持されている。そして、さらに鋼板材からなるスペーサがマグネットホルダ裏板の外側に配置され、これらをＳＵＳやＳＰＨＣ等の筐体によって覆う構成とし、磁束を外に漏らさないようにしている。
【０００５】
このように、通水パイプが偏平状に形成されたので、対向する磁石が接近して配置され且つ磁石に接触する通水パイプの面積が大きくなるので、通水パイプを通過する水道水に効果的に磁場の影響を与えることができる。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００１−１７９７９号公報（第２−３頁、第１図−第３図）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記技術では磁石間に配置される通水パイプが磁気処理装置の一部として構成されているため、既存のパイプに外側から容易に取着して使用するものではなく取付けに手間が掛かるという問題があった。
【０００８】
また、上記技術では通水パイプを挟んで磁石を対向して配置しているので、通水パイプ側のＮ極から発生する磁束は通水パイプを横切り他方の磁石に達するものの、マグネットホルダ裏板側のＮ極から発生する磁束は磁路が確保されていないので外部へ漏れ易い。
【０００９】
このため上述のように磁気漏れを防ぐために筐体によって周囲を覆わなくてはならず、装置が大型化するという問題があった。なお、上記技術では通水パイプを含んで磁気処理装置が構成されているので、筐体で略全面を覆う構成とすることができるものである。
【００１０】
また、磁石を通水パイプの長さ方向に対して複数個配置しているが、それぞれ独立して配置されているだけであって、隣合う磁石間の磁気を有効利用するものではないという問題があった。
【００１１】
本発明の目的は、上記問題に鑑み、流路の対して外部から容易に取着することができると共に、外部への磁気漏れを低減することができ、かつ、磁石が発生する磁束を効率よく利用して高い磁気処理能力を有する磁気処理装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
前記課題は、請求項１に記載の磁気処理装置によれば、ヨークと該ヨークに配設された複数の磁石とを備えた磁気発生部が、流路を挟んで対向して配置され、前記磁石は、前記ヨークの流路側の面において前記流路の方向に沿って所定間隔離間すると共に、前記流路の方向に沿って隣合う磁石から発生する磁束の方向が前記ヨークに対して反対になるように配置され、前記流路を挟んで対向する一対の磁気発生部に配設された複数の磁石は、異磁極同士が対向することにより解決される。
【００１３】
このように、本発明の磁気処理装置は、ヨークと、ヨークに対して磁束方向が反対となるようにして離間して配置された磁石を備えた磁気発生部を、流路を挟んで周方向の対称な位置に磁石の異極同士が対向するように配置した構成となっている。
【００１４】
これにより、管体を挟んで対称な位置にある磁気発生部には、対向する磁石間及び隣合う磁石間のヨークに磁気の閉ループが形成され、磁石が発生する磁束を流路を通過する流体に対して流路方向において複数箇所で効率的に作用させることができる。
【００１５】
また、請求項２に記載のように前記流路を挟んで対向する一対の磁気発生部が、前記流路の周方向に複数の対に配設されれば好適である。このように構成すれば、磁気の閉ループが複数形成され、この複数の磁気の閉ループによって流路を通過する流体に対して複数箇所で効率的に作用させることができ、流路の直径が大きいものであっても十分な磁気処理能力を確保することが可能となる。
【００１６】
また、請求項３に記載のように前記磁気発生部の対向する方向において、前記磁石の厚みに対する前記ヨークの前記磁石が配設された箇所の厚みの比が、１．０〜２．３の範囲に設定されることにより、磁気の方向を制御してヨークの外部周辺への磁気漏れを効果的に低減することができると共に、挟持された管体内を通過する流体に対して強い磁束を与えることによる高い磁気処理能力を有することが可能となる。
【００１７】
また、請求項４に記載のように前記磁気発生部の対向する方向において、前記磁石の厚みに対する前記ヨークの前記磁石が配設された箇所の厚みの比が、１．２〜２．０の範囲に設定されれば好適である。このように設定することにより、さらにヨークの外部周辺への磁気漏れを低減することができると共に、挟持された管体内を通過する流体に対して強い磁束を与えることによる高い磁気処理能力を有することが可能となる。
【００１８】
また、請求項５に記載のように前記流路を挟んで対向する磁気発生部は、複数のケースにそれぞれ収容され、該ケースは前記流路を挟んで着脱自在に配設してなるように構成することができる。このように構成すれば、流路の対して容易に着脱することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施例を説明する。図１は本発明の磁気処理装置の斜視図、図２は磁気処理装置の縦断面図、図３は磁気処理装置の断面図、図４及び図５は磁気処理装置の磁束の流れを示す説明図、図６はヨーク厚と磁石厚の比に対するヨーク外面における磁束密度の関係を表わす図、図７は図６の部分拡大図である。
【００２０】
図８は第２実施例の磁気処理装置の縦断面図、図９は第２実施例の磁気処理装置の断面図、図１０は第３実施例の磁気処理装置の縦断面図、図１１は第３実施例の磁気処理装置の断面図、図１２は第４実施例の磁束の流れを示す説明図である。以下に説明する配置、形状等は、本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨に沿って各種改変することができることは勿論である。
【００２１】
図１に示すように、第１実施例の磁気処理装置Ｓは磁気発生部２０を内部にそれぞれ有する２つのケース１１が流路としての非磁性材料からなる管体１を挟持して、４本のボルト２及びナット（不図示）によって着脱自在に配設して一体に組み合わされる構成となっている。第１実施例では管体１の直径を４０ｍｍとした例を示す。なお、管体１は断面円形として説明しているが、断面矩形状、偏平状であってもよく、断面の形状に限定はない。
【００２２】
図２及び図３に磁気処理装置Ｓの断面図を示す。２つのケース１１は対称に形成されたものである。合成樹脂製の中空半円筒状のケース１１内には、磁気発生部２０が気密的に収容されている。磁気発生部２０は、２つの矩形状の磁石（ネオジウムフェライトボロン磁石）２２と、磁石２２を保持する略矩形状のヨーク２４とを備えて構成されている。
【００２３】
ケース１１は、断面略半円状の外周部１１ａと、略半円状の側面部１１ｂと、略矩形状の当接部１１ｃとからなり、当接部１１ｃの中央部にはその長さ方向に沿って管体１の外周と当接するための断面円弧状の当接凹部１１ｄが形成されている。したがって、２つのケース１１を、当接部１１ｃが略平行になるようにして管体１を挟持して組み付けると、管体１は図３に示すように当接部１１ｃの略中央に配置される。
【００２４】
なお、磁気処理装置Ｓは、ボルト２及びナットによって２つの磁気発生部２０間の距離を調整することにより、所定範囲の大きさの直径の管体１を挟みこんで使用することができる。
【００２５】
ヨーク２４は鉄鋼材料（ＳＳ４００）からなり、２つのケース１１が組み合わされたときに、ヨーク２４の長手方向が管体１の長さ方向に沿うように配置されている。そして、ヨーク２４の一方の面には長手方向に所定の距離だけ離間して２つの磁石２２が配設されている。
【００２６】
また、磁石２２は、ヨーク２４との当接面と反対側の面が当接部１１ｃの内壁面の中央部に当接して取付けられている。このとき、２つの磁石２２は、ヨーク２４に対して磁束方向が反対になるように配設されている。すなわち、一方の磁石２２はＮ極側が当接部１１ｃの内壁面と当接し、他方の磁石２２はＳ極側が当接部１１ｃの内壁面と当接している。ヨーク２４，磁石２２はそれぞれ長手方向の長さが約８０ｍｍ、約２３ｍｍとなるように設定されている。
【００２７】
本実施例の磁石２２は、材質がＮｄＦｅＢ（ネオジウムフェライトボロン）であって、その特性は残留磁束密度Ｂｒが１．２８３Ｔ、保持力Ｈｃｂが９９１．５ｋＡ／ｍ、保持力Ｈｃｊが１１６８ｋＡ／ｍ、最大エネルギー積ＢＨｍが３２２．２ｋＪ／ｍ３である。また、磁石５２の表面磁束密度はＮ極，Ｓ極とも０．４６〜０．４８Ｔ程度である。
【００２８】
磁石２２及びヨーク２４は、ケース１１内に気密的に収容されており、外気にふれない状態に維持される。このように、磁石２２及びヨーク２４は錆びが防止されているので、磁気処理装置Ｓの有する磁気処理能力の低減が抑えられ長期間使用できるようになっている。
【００２９】
次に、図４及び図５に基づき本実施例の磁気処理装置Ｓの磁束の流れについて説明する。図４及び図５は２つのケース１１が組み付けられた状態の磁石２２及びヨーク２４の配置を示したものであり、この状態では、２つの磁気発生部２０の磁石２２は管体１を挟んで異磁極同士が正対する。ここで、図中上側の磁気発生部２０の左側の磁石２２，右側の磁石２２をそれぞれ、磁石２２ａ，磁石２２ｄとする。また、図中下側の磁気発生部２０の左側の磁石２２，右側の磁石２２をそれぞれ、磁石２２ｂ，磁石２２ｃとする。
【００３０】
上述のように磁石２２ａ乃至２２ｄが配置されているので、磁石２２ａのＮ極から発生する磁束は管体１を横切り、正対して配置された磁石２２ｂのＳ極に到達する。そして、磁石２２ｂのＮ極から発生する磁束は磁石２２ｂと当接するヨーク２４を通って、磁石２２ｃのＳ極へ到達する。
【００３１】
また、磁石２２ｃのＮ極から発生する磁束は管体１を横切り、正対して配置された磁石２２ｄのＳ極に到達する。そして、磁石２２ｄのＮ極から発生する磁束は磁石２２ｄと当接するヨーク２４を通って、磁石２２ａのＳ極へ到達する。
【００３２】
このように、本実施例の磁気処理装置Ｓでは、管体１を介して磁気の閉ループが形成され、外部に磁気を漏らさない構成となっている。したがって、磁石２２から発生する磁束はほとんど全てが管体１及びヨーク２４を横切り、管体１内を流れる水道水の磁気処理を行なう。このように本実施例の磁気処理装置Ｓは磁石２２の発生する磁束を効率よく利用することができる。
【００３３】
また、本実施例の磁石２２は上述のように長手方向の長さが約２３ｍｍに設定されているが、磁石２２の長手方向の長さをさらに大きく設定してもよい。このように大きく設定することにより、管体１を横切る磁路の面積が大きくなり、管体１内の流体に及ぼす磁気処理能力をより向上させることができる。
【００３４】
次に、本実施例の磁気処理装置Ｓの磁気発生部２０の磁気漏洩を防止する構造について説明する。本実施例の磁気発生部２０の磁石２２は、管体１の径方向の厚みＸが約１３ｍｍに設定されている。また、ヨーク２４は、磁石２２が位置する部分での管体１の径方向の厚みＹは、約２０ｍｍに設定されている。
【００３５】
図６は、磁石２２の厚みＸに対するヨーク２４の厚みＹの比（厚み比Ｚ）を変化させた場合のヨーク２４周辺における磁束密度の変化を示したものである。横軸は、厚み比Ｚである。◆はＡ点、■はａ点、▲はｂ点、○はｃ点、×はｄ点における磁束密度の変化である。ここで、図６に示すようにＡ点は正対する磁石２２の中心部、ａ点は磁石２２のＮ極の表面、ｂ点は磁石２２に対応するヨーク２４の外側表面、ｃ点，ｄ点はそれぞれヨーク２４の長さ方向の端部の外側表面である。
【００３６】
図６から明らかなように、Ａ点における磁束密度は厚み比Ｚが小さいと小さい値をとり、厚み比Ｚが１．５０程度のときに最大値をとり、さらに厚み比Ｚが大きくなると次第に減少するものとなる。Ａ点において厚み比Ｚが０．０の場合は磁束密度が０．１８５Ｔであるが、厚み比Ｚが１．５０程度の場合では磁束密度が０．３５Ｔ程度と倍程度にまで増大する。
【００３７】
ａ点における磁束密度の変化もＡ点と同様な傾向を有する。そして、厚み比Ｚが０．０の場合では磁束密度が０．４４Ｔであり、厚み比Ｚが１．５０程度の場合では磁束密度が０．５５Ｔ程度となる。
【００３８】
管体１内を通過する水道水を効率的に磁気処理するという観点からは、磁石２２の表面付近（ａ点）の磁束ではなく、実質的に管体１内を通過する水道水を磁気処理するのに寄与する効果が大きい部位である２つの磁石２２の中央部（Ａ点）での磁束が大きくなるように設計することが望ましい。
【００３９】
したがって、Ａ点を基準として厚み比Ｚを適正な値とすることにより、例えば、厚み比Ｚを０．７〜２．３とすれば、Ａ点において０．２Ｔ程度以上の磁束密度を得ることができる。また、厚み比Ｚを１．０〜２．３とすれば、Ａ点において０．２５Ｔ程度以上の磁束密度を得ることができる。また、さらに望ましくは厚み比Ｚを１．２〜２．０とすれば、Ａ点において０．３Ｔ程度以上の磁束密度を得ることができる。
【００４０】
一方、図６に示すように厚み比Ｚが小さいと磁石２２からの漏れ磁束が大きくなるため、ｂ点、ｃ点、ｄ点における磁束密度は大きな値となるが、厚み比Ｚが大きくなると急激に減少し、厚み比Ｚが１．５０程度で略下げ止まり０．００５Ｔ以下となる。図７は図６の拡大図である。厚み比Ｚが１．５０程度を超えるとｂ点においては磁束密度はさらに減少する傾向にある。しかし、ｃ点及びｄ点ではむしろ増加するものとなり、厚み比Ｚが２．０程度で０．００６Ｔ、厚み比Ｚが２．４程度で０．０３Ｔとなる。
【００４１】
ｂ点、ｃ点、ｄ点における漏れ磁束の大きさは、厚み比Ｚが０．５以下では０．２Ｔを超える大きな漏れ磁束となっている。すなわち、ヨーク２４の厚みが薄いと磁束はヨーク２４を突き抜けて外部へ漏れ易くなることが分かる。
【００４２】
しかし、図７より厚み比Ｚが１．５０程度となると漏れ磁束の大きさは、極小値をとることが分かる。すなわち、ヨーク２４の外側への漏れ磁束を低減するには、厚み比Ｚを適正な範囲とすることが効果的である。
【００４３】
外部への磁束の漏れ防止という観点からは、ｂ点、ｃ点、ｄ点での磁束密度が小さいことが望ましい。したがって、厚み比Ｚを適正な値とすることにより、例えば、厚み比Ｚを１．０〜２．３とすればｂ点、ｃ点、ｄ点において０．０８Ｔ程度以下の磁束密度に抑えることができる。また、望ましくは厚み比Ｚを１．２〜２．３とすればｂ点、ｃ点、ｄ点において０．０５Ｔ程度以下の磁束密度に抑えることができる。さらに厚み比Ｚを１．４〜２．２とすればｂ点、ｃ点、ｄ点において０．０２５Ｔ程度以下の磁束密度に抑えることができる。
【００４４】
以上より、磁気処理効率を向上させ、かつ、外部への漏れ磁束を低減するためには、厚み比Ｚを１．０〜２．３にするとよい。この場合、管体１内の流体に対しては磁束密度は０．２５Ｔ程度以上の磁束を与えることができ、漏れ磁束は０．０８Ｔ程度以下に抑えることができる。
【００４５】
また、望ましくは厚み比Ｚを１．２〜２．０にするとよい。この場合、管体１内の流体に対しては磁束密度は０．３Ｔ程度以上の磁束を与えることができ、漏れ磁束は０．０５Ｔ程度以下に抑えることができる。また、さらに望ましくは厚み比Ｚを１．４〜２．０にするとよい。この場合、管体１内の流体に対しては磁束密度は０．３Ｔ程度以上の磁束を与えることができ、漏れ磁束は０．０２５Ｔ程度以下に抑えることができる。
【００４６】
本実施例の磁気処理装置Ｓでは厚み比Ｚが１．５４（Ｘ＝１３、Ｙ＝２０）に設定されている。そして、本実施例の磁気処理装置Ｓにおいては、直径４０ｍｍの管体１を挟持した状態で、Ａ点，ａ点，ａ´点（磁石２２のＳ極表面）での磁束密度の実測値は、それぞれ０．３５８Ｔ，０．５５６Ｔ，０．４４５Ｔとなった。
【００４７】
また、ｂ点（磁石２２のＳ極に対応するヨーク２４の外側表面），ｂ´点（磁石２２のＮ極に対応するヨーク２４の外側表面），ｃ点、ｄ点での磁束密度の実測値は、０．００３２Ｔ，０．００２２Ｔ，０．００３６Ｔ，０．００４６Ｔと極めて低い値に抑えられた。
【００４８】
以上のように、本実施例の磁気処理装置Ｓは、略矩形状のヨーク２４の一方の面に配設され、かつ、ヨーク２４との当接面に対して磁束方向が反対となるように配設された２つの磁石２２を有する磁気発生部２０が管体１を挟んで、管体１の周方向に対して略１８０度反対側にそれぞれ配置されている。そして、このとき２つの磁気発生部２０の各々が有する磁石２２は、管体１を挟んで異極が正対するようになっている。したがって、本実施例の磁気処理装置Ｓは、管体１に取付けたときに管体１を介して４つの磁石２２と２つのヨーク２４とからなる安定した磁気閉ループが形成される。
【００４９】
そして、ヨーク２４の厚みＹを適正な値に設定することにより、０．３５Ｔ程度の磁束密度（Ａ点）を有する磁界を発生させ、この磁界により管体１内を通過する水道水に対して２度の磁気処理を行っているので、磁気処理装置Ｓを通過する水道水に効果的に磁気処理作用を及ぼすことができる。
【００５０】
また、外部には磁気を漏らさないように適正にヨーク２４の厚みＹが設定されているので、ヨーク２４の表面おいても０．００５Ｔ以下の漏れ磁束に抑えることができる。したがって、磁気処理装置Ｓの周辺に配置された外部装置と磁気処理装置Ｓとの距離をも考慮すると、殆ど磁気処理装置Ｓから外部装置に対して磁界の影響が及ぶことはないので、使用者は安心して磁気処理装置Ｓを使用することができる。
【００５１】
また、外部への磁気漏れを防止するために別途磁石２２を覆うように筐体を設ける必要がないので、磁気処理装置Ｓをコンパクトに構成することができると共に、製造コストを低減することができる。
【００５２】
また、水の磁気処理を行うことにより同時に殺菌処理が行われることが実験により明らかとなった。殺菌のメカニズムは明らかではないが推察するに、磁気処理が行われた磁化水は水の分子構造が小さくなるので、細菌の細胞内の萌芽に浸透し、これにより飽和した萌芽が中から破裂してしまうということが想像される。
【００５３】
また、磁気と遠赤外線のエネルギーを受けて水分子同士の水素結合が分断（細分化）されると、ガスや溶存酸素，窒素が弾き出され、水分子の体積収縮現象により細菌類も弾き出されると考えられる。このとき、好気性バクテリア（生命維持に酸素を必要とする腐敗菌，一般細菌，大腸菌等）は酸欠状態に陥り死滅するものと想像される。
【００５４】
また、微生物類は感受性が強く、磁力線や遠赤外線等の電磁波エネルギーが、微生物自体がもつ固有の振動に影響し、生体側の活動に影響を与える。微生物類は体の熱を外に逃がす容量が非常に小さいため、吸収した遠赤外線が熱に変わることで大きな影響を受けると想像される。
【００５５】
本実施例の磁気処理装置Ｓを利用して殺菌効果の試験を行った結果を以下に示す。なお、試験では温泉水を磁気処理し、磁気処理する前後の温泉水５５０ｍｌ中の生菌数、大腸菌反応、レジオネラ菌数を検出した。磁気処理前には、それぞれ３．３×１０００／ｍｌ、陰性、３．０×１０００（５５０ｍｌあたり）であったものが、磁気処理後には、それぞれ０．１１×１０００／ｍｌ、陰性、１０（５５０ｍｌあたり）となった。
【００５６】
また、別の殺菌効果の試験では、溜池の水を循環させて磁気処理を行った。この結果、磁気処理前は大腸菌群の検出値が２．００×１０１０（５０ｍｌあたり）であったものが、磁気処理を開始して６０分経過後には全く検出されなかった。このように、磁気処理には極めて有効な殺菌作用があることが分かった。
【００５７】
次に、図８及び図９に第２実施例の磁気処理装置Ｓの断面図を示す。第２実施例の磁気処理装置Ｓは、第１実施例の磁気処理装置Ｓよりも直径が大きな管体１に適したものである。図８及び図９に示す管体１の直径は７０ｍｍとしている。
【００５８】
第１実施例の磁気処理装置Ｓは、管体１の周方向に２つの磁気発生部２０が略１８０度の間隔をもって配置されていたが、第２実施例の磁気処理装置Ｓは管体１の周方向に４つの磁石発生部２０が略９０度の間隔をもって配置された構成となっている。
【００５９】
すなわち、管体１の直径が大きくなると、第１実施例の磁気処理装置Ｓでは、管体１内を通過する水道水に対する磁気処理能力が十分でなくなる場合があるので、磁気発生部２０の数を倍増させたものである。
【００６０】
なお、第２実施例の磁気処理装置Ｓに用いられている磁気発生部２０は、第１実施例の磁気処理装置Ｓに用いられている磁気発生部２０と同じである。磁気発生部２０は、ケース１１内に気密的に収容された構成となっている。また、第１実施例と同様に磁石２２の長手方向の長さを大きく設定することにより、磁気処理能力を向上させるようにしてもよい。
【００６１】
図９に第２実施例の磁気処理装置Ｓにおける磁束の流れを示す。第２実施例の磁気処理装置Ｓにおいても、管体１を挟んで略１８０度対称な位置関係にある２つの磁気発生部２０が基本的に一対の磁気の閉ループを形成する。すなわち、第２実施例の磁気処理装置Ｓでは、二対の磁気の閉ループが形成されている。
【００６２】
磁石２２のＮ極から発生し管体１を横切った磁束は、そのほとんどが管体１を挟んで反対側に位置する磁石２２のＳ極に到達する。しかし、磁石２２のＮ極から発生した磁束の一部は、管体１に対して略９０度だけ離れた位置に配置された磁石２２のＳ極に到達する。
【００６３】
一方、磁束を受けた磁石２２のＮ極（すなわち、ヨーク２４との当接面側）から発生する磁束は、ヨーク２４の長さ方向に沿ってヨーク２４内を通過してもう一つの磁石２２のＳ極に到達する。このように、第２実施例の磁気処理装置Ｓにおいても、二対の磁気発生部２０によって磁気の閉ループが形成されている。
【００６４】
この場合、２つの磁気の閉ループを形成する磁束によって、管体１内を通過する水道水に対して計４箇所で磁気処理を効率的に施すことができる。また、漏れ磁束に関しても、第１実施例と同様にほとんどの磁束はヨーク２４内に閉じ込められた状態で閉ループ内を循環するので、第２実施例においても第１実施例の磁気処理装置Ｓと同程度の漏れ磁束に抑えることができる。
【００６５】
なお、図８及び図９に示した磁気処理装置Ｓでは、磁気発生部２０を管体１の周方向に略均等（９０度間隔）に配置した例を示したが、これに限らず、対となる磁気発生部２０が管体１を挟んで略１８０の間隔に配置されれば、他方の一対の磁気発生部２０との角度間隔は周方向に９０度でなくてもよい。一方のケース１１内に収容された磁気発生部２０同士の角度間隔を、例えば４５度や６０度としてもよい。
【００６６】
次に、図１０及び図１１に第３実施例の磁気処理装置Ｓの断面図を示す。第３実施例の磁気処理装置Ｓは、第２実施例の磁気処理装置Ｓよりもさらに直径が大きな管体１に適したものである。図１０及び図１１に示す管体１の直径は９０ｍｍとしている。
【００６７】
第３実施例の磁気処理装置Ｓは、管体１の周方向に磁気発生部２０が略６０度の間隔をもって配置された構成となっている。このように、第３実施例の磁気処理装置Ｓでは、管体１の直径が大きくなるに伴ない、磁気発生部２０の数をさらに増加させている。
【００６８】
なお、磁気発生部２０は、第１実施例の磁気処理装置Ｓに用いられている磁気発生部２０と同じであり、また、磁気発生部２０はケース１１内に気密的に収容されている。また、第１実施例と同様に磁石２２の長手方向の長さを大きく設定することにより、磁気処理能力を向上させるようにしてもよい。
【００６９】
図１１に第３実施例の磁気処理装置Ｓにおける磁束の流れを示す。第３実施例の磁気処理装置Ｓにおいても、管体１を挟んで略１８０度対称な位置関係にある磁気発生部２０が基本的に一対の磁気の閉ループを形成する。すなわち、第３実施例の磁気処理装置Ｓでは、三対の磁気の閉ループが形成され、磁気処理能力の向上を図っている。磁石２２から発生した磁束の流れについては、第２実施例と略同様であるので説明を省略する。
【００７０】
第３実施例の磁気処理装置Ｓにおいては、３つの磁気の閉ループを形成する磁束によって、管体１内を通過する水道水に対して計６度の磁気処理を効率的に施すことができる。また、漏れ磁束に関しても、第３実施例の磁気処理装置Ｓは第１実施例の磁気処理装置Ｓと同程度の漏れ磁束に抑えることができる。
【００７１】
なお、第２実施例及び第３実施例の磁気処理装置Ｓにおいて、管体１の周方向に隣合う磁石２２の極性の配置については特に制限がなく、隣合う磁石２２が同極を管体１側に向けて配置されてもよいし、異極を管体１側に向けて配置されてもよい。
【００７２】
また、第１乃至第３実施例において、ヨーク２４には一方の面において２つの磁石２２を離間して配設し、かつ、各磁石２２の磁束方向がヨーク２４に対して異なるように配設された構成となっているが、これに限らず、図１２に示す第４実施例のような構成としてもよい。
【００７３】
すなわち、隣合う磁石２２の間の距離を略同一にしてヨーク２４に３つ以上の磁石２２を配設し、かつ、隣合う磁石２２の磁束方向がヨーク２４に対して異なるようにして配設されれば、管体１を挟んで対称な位置に配置される同一構成の他方の磁気発生部２０との間に複数の磁気の閉ループが構成される。同図（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ３個の磁石２２，４個の磁石２２をヨーク２４の長さ方向に配設した例であり、それぞれ２つの磁気の閉ループ，３つの磁気の閉ループが形成される。なお、図１２にはヨーク２４に磁石２２を３つ又は４つ配設した例を示したが、５つ以上であってもよい。
【００７４】
なお、図１２では、両側を他の磁石２２で挟まれる位置にある磁石２２は、ヨーク２４の端部に配設される磁石２２と比べて、その流路方向の長さを倍に形成してある。すなわち、図１２における磁気発生部２０は、図４に示す磁気発生部２０を流路方向に連結した構成に相当する。ただし、これに限定されるものではなく、両側を他の磁石２２で挟まれる位置にある磁石２２の流路方向の長さを適宜に設定してもよい。
【００７５】
このように磁気発生部２０に２以上の磁石２２を配設することにより、磁気処理装置Ｓは、管体１を挟んで配設された一対の磁気発生部２０の間に、複数箇所（同図（Ａ）では３箇所、同図（Ｂ）では４箇所）の磁路を有する構成とすることができる。このように複数の磁路において流体は磁気処理されるので、磁気処理装置Ｓの磁気処理能力を向上させることができる。また、管体１の直径が大きい場合でも、このように構成することにより、磁気処理能力を確保することができると共に、漏れ磁束を低減することができる。
【００７６】
また、図１２に示すように磁気発生部２０に３以上の磁石２２を配設する代わりに、第１実施例の磁気発生部２０を管体１の長さ方向に連続的又は断続的に連結した構成としてもよい。また、さらに第１実施例と同様に磁石２２の長手方向の長さを大きく設定することにより、磁気処理能力を向上させるようにしてもよい。
【００７７】
このように本発明の磁気処理装置Ｓでは、流路方向に対して磁石２２を多段的に配置した構成とすることによって、管体１内を流れる流体に対して流路方向の所定の長さ範囲で連続的に複数回の磁気処理を行なうことができ、効果的に流体に対して磁気処理効果を及ぼすことが可能である。また、磁気発生部２０において隣合う磁石２２の間隔及び磁石２２の長さは適宜に設定することができる。したがって、上記流路方向の所定の長さ範囲を、流体に対する磁気処理回数，磁石２２の間隔及び長さに応じて適宜設定することができる。
【００７８】
また、第１乃至第３実施例に限定されず、管体１の周方向に偶数個の磁石２２が配置されるように磁気発生部２０を配置すれば、磁気発生部２０の数に制限はない。
【００７９】
【発明の効果】
以上のように、本発明の磁気処理装置によれば、ヨークと、ヨークに対して磁束方向が異なるようにして離間して配置された磁石を備えた磁気発生部を、流路を挟んで周方向の対称な位置に磁石の異極同士が正対するように配置した。
【００８０】
これにより、流路を挟んで対称な位置にある磁気発生部には磁気の閉ループが形成され、磁石が発生する磁束を制御して、流路内を通過する流体に対して大きな磁束密度の磁束を効率的に作用させることができ、高い磁気処理能力を発揮させることが可能となった。
【００８１】
さらに、本発明の磁気処理装置では、磁気発生部を流路を挟んで外部から取着可能であるにもかかわらず、磁気発生部の磁石の径方向の厚みとヨークの径方向の厚みが所定の関係となるように構成されたので、ヨークの外部周辺への磁気漏れを効果的に低減することが可能となった。
【００８２】
以上のように、本発明によれば、流路の対して外部から容易に取着することができると共に、外部への磁気漏れを低減することができ、かつ、磁石が発生する磁束を効率よく利用して高い磁気処理能力を有する磁気処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気処理装置の斜視図である。
【図２】本発明の磁気処理装置の縦断面図である。
【図３】本発明の磁気処理装置の断面図である。
【図４】本発明の磁気処理装置の磁束の流れを示す説明図である。
【図５】本発明の磁気処理装置の磁束の流れを示す説明図である。
【図６】ヨーク厚と磁石厚の比に対するヨーク外面における磁束密度の関係を表わす図である。
【図７】図６の部分拡大図である。
【図８】第２実施例の磁気処理装置の縦断面図である。
【図９】第２実施例の磁気処理装置の断面図である。
【図１０】第３実施例の磁気処理装置の縦断面図である。
【図１１】第３実施例の磁気処理装置の断面図である。
【図１２】第４実施例の磁束の流れを示す説明図である。
【符号の説明】
１  管体
２  ボルト
１１  ケース
１１ａ  外周部
１１ｂ  側面部
１１ｃ  当接部
１１ｄ  当接凹部
２０  磁石発生部
２２，２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ  磁石
２４  ヨーク
Ｓ  磁気処理装置
Ｘ，Ｙ  厚み
Ｚ  厚み比
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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