(57)【要約】【課題】検査時のレチクル−ホルダ間の相対位置と、露光装置搭載時のレチクル−ホルダ間の相対位置を一致させることができるレチクルホルダ等を提供する。【解決手段】レチクルホルダ１は、検査装置用のものと露光装置用のものが実質的に同一であり、吸着面３の周辺の非吸着面に、座標計測が可能なマーク７が形成されている。露光装置内において、レチクル１０上のマーク１３とレチクルホルダ１上のマーク７との位置の計測から求められる両マークの相対位置関係が、レチクル検査装置内で、レチクル１０のマーク１３とレチクルホルダ１のマーク７との位置の計測から求められた両マークの相対位置関係と等しくなるように、レチクル１０を露光装置内のレチクルホルダ１に置く。【選択図】        図１
2004165313.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられる電子線露光装置用及びレチクル検査装置で用いられるレチクルホルダであって、
保持するレチクルを吸着する面上で、レチクルと重ならない部分に、座標計測が可能な形状のマークを有し、
そのマークと吸着面との相対位置が露光装置と検査装置で等しいことを特徴とするレチクルホルダ。
【請求項２】
半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられる電子線露光装置用およびレチクル検査装置で用いられるレチクルホルダであって、
保持するレチクルを吸着する面上で、レチクルと重ならない部分に、座標計測が可能な形状のマークを有し、
そのマークと吸着面との相対位置が計測されていることを特徴とするレチクルホルダ。
【請求項３】
半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられるパターン原版であるレチクルを、電子線露光装置又はレチクル検査装置内で保持するレチクルホルダであって、
前記レチクルを吸着保持する吸着面、及び、該面の周辺の面（非吸着面）を有し、
該非吸着面に、座標計測が可能なマークが形成されており、
該マークと前記吸着面との相対位置関係が、露光装置用レチクルホルダと検査装置用レチクルホルダで等しいことを特徴とするレチクルホルダ。
【請求項４】
半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられるパターン原版であるレチクルを、電子線露光装置又はレチクル検査装置内で保持するレチクルホルダであって、
前記レチクルを吸着保持する吸着面、及び、該面の周辺の面（非吸着面）を有し、
該非吸着面に、座標計測が可能なマークが形成されており、
該マークと前記吸着面との相対位置が計測されていることを特徴とするレチクルホルダ。
【請求項５】
感応基板上に転写すべきデバイスパターンをレチクル上に形成し、該レチクルを検査装置上で検査し、該レチクルを露光装置内に搭載した後、該レチクルを電子線照明し該レチクルを通過した電子線を前記感応基板上に投影して前記パターンを転写する電子線露光方法であって、
前記レチクルを吸着保持するレチクルホルダは、前記検査装置用のものと前記露光装置用のものが実質的に同一であり、
前記レチクルホルダは、前記レチクルを吸着保持する吸着面、及び、該面の周辺の面（非吸着面）を有するとともに、該非吸着面に、座標計測が可能なマークが形成されており、
レチクル検査装置内で前記レチクルと前記レチクルホルダとの相対位置関係を計測しておき、
露光装置内に前記レチクルを搭載する際には、前記レチクルと前記レチクルホルダとの相対位置関係が前記レチクル検査装置内での両者の相対位置関係と等しくなるように前記レチクルを露光装置内のレチクルホルダに置くことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は主に、半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられるレチクルの検査装置、及び、同レチクルを用いてパターン転写を行う露光装置のレチクルホルダ等に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
通常、座標計測機でＥＢレチクルの検査を行う場合、露光装置と同じ吸着面を備えたレチクルホルダ（チャック）を計測装置のステージ上に設置し、そのホルダを用いてレチクルを保持している。そして、その状態でレチクル内に描画されている各種マークの位置や姿勢を計測していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ＥＢレチクルはチャックされた時の歪みが大きい。また、レチクルをチャックする位置が変わると、レチクルの歪みの形状が大きく変わる。また露光装置においては、プリアライメントを行うことによりレチクルホルダとレチクルの相対位置の管理は高精度で行えるが、一般的な座標計測機においてはそのような機構を備えていない。そのため、検査時のレチクル−ホルダ間の相対位置と、露光装置搭載時のレチクル−ホルダ間の相対位置を一致させることができなかった。その結果、検査時の歪み形状と、露光装置上でチャックした時の歪み形状を一致させることができず、検査時の座標位置データを露光時にフィードバックさせることが難しいという問題があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
この問題を解決するため、本発明の第１のレチクルホルダは、  半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられる電子線露光装置用及びレチクル検査装置で用いられるレチクルホルダであって、  保持するレチクルを吸着する面上で、レチクルと重ならない部分に、座標計測が可能な形状のマークを有し、  そのマークと吸着面との相対位置が露光装置と検査装置で等しいことを特徴とする。
【０００５】
本発明の第２のレチクルホルダは、  半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられるパターン原版であるレチクルを、電子線露光装置又はレチクル検査装置内で保持するレチクルホルダであって、  前記レチクルを吸着保持する吸着面、及び、該面の周辺の面（非吸着面）を有し、  該非吸着面に、座標計測が可能なマークが形成されており、  該マークと前記吸着面との相対位置関係が、露光装置用レチクルホルダと検査装置用レチクルホルダで等しいことを特徴とする。
【０００６】
本発明の第３のレチクルホルダは、  半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられる電子線露光装置用およびレチクル検査装置で用いられるレチクルホルダであって、  保持するレチクルを吸着する面上で、レチクルと重ならない部分に、座標計測が可能な形状のマークを有し、  そのマークと吸着面との相対位置が計測されていることを特徴とする。
【０００７】
本発明の第４のレチクルホルダは、  半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられるパターン原版であるレチクルを、電子線露光装置又はレチクル検査装置内で保持するレチクルホルダであって、  前記レチクルを吸着保持する吸着面、及び、該面の周辺の面（非吸着面）を有し、  該非吸着面に、座標計測が可能なマークが形成されており、  該マークと前記吸着面との相対位置が計測されていることを特徴とする。
【０００８】
本発明の露光方法は、  感応基板上に転写すべきデバイスパターンをレチクル上に形成し、該レチクルを検査装置上で検査し、該レチクルを露光装置内に搭載した後、該レチクルを電子線照明し該レチクルを通過した電子線を前記感応基板上に投影して前記パターンを転写する電子線露光方法であって、  前記レチクルを吸着保持するレチクルホルダは、前記検査装置用のものと前記露光装置用のものが実質的に同一であり、  前記レチクルホルダは、前記レチクルを吸着保持する吸着面、及び、該面の周辺の面（非吸着面）を有するとともに、該非吸着面に、座標計測が可能なマークが形成されており、  レチクル検査装置内で前記レチクルと前記レチクルホルダとの相対位置関係を計測しておき、  露光装置内に前記レチクルを搭載する際には、前記レチクルと前記レチクルホルダとの相対位置関係が前記レチクル検査装置内での両者の相対位置関係と等しくなるように前記レチクルを露光装置内のレチクルホルダに置くことを特徴とする。
【０００９】
本発明では検査装置及び露光装置上のレチクルホルダに基準となるマークを設け、検査装置での座標計測時には同マークも同時に計測し、そのデータを持っておく。レチクルを露光装置に搭載した後、レチクル上のアライメントマークと、レチクルホルダ上のマーク位置を計測し、両マークの相対位置関係を求める。そして、レチクル上のマークとレチクルホルダ上のマークの相対位置が、検査装置搭載時のレチクル上のマークとレチクルホルダ上のマークの相対位置と同様になるように、レチクルをホルダ上に搭載する。
【００１０】
上記手段により、レチクルホルダとレチクルの相対位置を検査装置上と露光装置上でそろえることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係るレチクルホルダを示す図であり、図１（Ａ）は平面図、図１（Ｂ）はレチクルの平面図である。
図１（Ａ）に示すレチクルホルダ１は、円形の形状で、中央のほぼ円形の部分（図の斜線部で示す）が吸着面３となっている。吸着面３の中央には、電子ビームを通過させるための開口部５が設けてある。吸着面３の外側のホルダ上には、ほぼ等間隔で、４個の座標計測が可能なアライメントマーク７が刻まれている。マーク７の形状は、十字、矩形、Ｌ字型等が望ましい。
このレチクルホルダ１においては、吸着面３と、外周部に刻まれたアライメントマーク７との相対的な位置誤差は、１μｍ以下であることが望ましい。
【００１２】
図１（Ｂ）に示すように、レチクル１０は円形で、中央に２ヶ所のパターンエリア１１が形成されている。各パターンエリア１１は薄膜化されており、縦横に分割されて複数のサブフィールドを形成している。各サブフィールドには、デバイスパターンが分割されて形成されている。パターンエリア１１の周囲には、６個のアライメントマーク１３が形成されている。マーク１３の形状に関しては、レチクルホルダ１のマーク７と同じく、十字、矩形、Ｌ字型等が望ましい。
【００１３】
図１（Ａ）のレチクルホルダ１と同じ形状のホルダを、レチクル検査装置及び露光装置に使用する。
【００１４】
図２は、レチクル検査装置のレチクルホルダ上にレチクルを載置した状態を示す平面図である。
レチクル検査装置５０内において、レチクル１０は、できるだけホルダ１の中央部に保持されることが望ましい。しかし、一般的な検査装置ではホルダ１に対して正確にレチクル１０を搬送する機構を持たないため、通常は図２に示すように、レチクル１０とホルダ１の中心とは、数１０〜数百μｍの位置ずれが起きる。そこで、検査の際には、通常のレチクル１０のサブフィールドの位置計測だけでなく、レチクル１０上のアライメントマーク１３、及び、レチクルホルダ１外周部のアライメントマーク７の位置も計測し、ホルダ１に対するレチクル１０の相対位置を把握しておく。計測には市販の座標測定機（例えば、ニコン光波干渉座標測定機）を用いることができる。
【００１５】
レチクル１０は、検査装置５０で検査された後、ローダ等によって露光装置内に搬送される。
【００１６】
図３は、露光装置のレチクルホルダ上にレチクルを載置した状態を示す平面図である。
露光装置１００内の、レチクル１０とレチクルホルダ１との相対位置関係と、検査装置５０内の、レチクル１０とレチクルホルダ１との相対位置とは、通常同じではない。そこで、露光装置１００のレチクルホルダ１にレチクル１０を搬送した後、レチクル１０上のアライメントマーク１３、及び、レチクルホルダ１上のアライメントマーク７の計測を行い、レチクル１０とレチクルホルダ１との相対位置関係を求める。計測にはレチクルアライメント顕微鏡を用いる。
【００１７】
そして、露光装置１００内において測定したレチクルとレチクルホルダとの相対位置関係を、検査装置５０内において測定されたレチクルとレチクルホルダとの相対位置関係と比較する。その結果、相対位置関係に差があれば、露光装置内で、レチクルを取り出し、再度搬送を行う。搬送後、同様にレチクル及びレチクルホルダのアライメントマークの計測を行う。そして、露光装置１００内で計測されるレチクルとレチクルホルダとの相対位置関係が、図２で示したレチクル検査装置で計測された位置関係になるまで、搬送と計測を繰り返す。最終的には、検査装置上と露光装置上でのレチクルとレチクルホルダとの相対位置の位置誤差を５μｍ（数字は後日訂正の可能性あり）以内にするまで行う。なお、搬送機構中に、レチクルの位置調整機構を設けておき、上記相対位置を調整できるようにしておくこともできる。
【００１８】
位置誤差が５μｍ以内に収まった後、レチクル１０をホルダ１に吸着して保持する。そして、レチクル１０を電子線で照明し、レチクル１０を通過した電子線を感応基板上に投影して、パターンを転写する。
【００１９】
また、レチクル検査装置と露光装置のレチクルホルダ１において、吸着面３とアライメントマーク７の位置に製造誤差が大きい場合は、あらかじめ吸着面３とアライメントマーク７の位置を計測しておく、そして、装置定数としてレチクルアライメント時の計測結果に足し込むことにより、ホルダの製造誤差が小さい場合と同様な効果を得ることができる。
【００２０】
【発明の効果】
本発明により、レチクル検査装置で計測されたデータを用いて露光装置内でレチクルがホルダ上に搬送された際の位置ズレの補正を行うことができるため、位置精度の高い露光を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るレチクルホルダを示す図であり、図１（Ａ）は平面図、図１（Ｂ）はレチクルの平面図である。
【図２】レチクル検査装置のレチクルホルダ上にレチクルを載置した状態を示す平面図である。
【図３】露光装置のレチクルホルダ上にレチクルを載置した状態を示す平面図である。
【符号の説明】
１  レチクルホルダ              ３  吸着面
５  開口部                      ７  アライメントマーク
１０  レチクル                  １１  パターンエリア
１３  アライメントマーク
５０  検査装置                １００  露光装置
【図１】
2004165313.tif 000003
【図２】
2004165313.tif 000004
【図３】
2004165313.tif 000005