(57)【要約】【課題】  透光部や遮光部に対応する複数のドット部を、互いに近づけ過ぎることなく、十分に平面的にランダムな状態に配列させる。【解決手段】  （ａ）単位領域Ａ０に複数のドット部４を１次的にランダムに配置し、（ｂ）単位領域Ａ０と形状が同じでドット部４の配置も同じである補助領域を単位領域Ａ０の周囲に連続して配置させ、（ｃ）単位領域Ａ０に含まれる複数のドット部４から１つの注目ドット部を選択し、（ｄ）注目ドット部の周りの複数の周囲ドット部のそれぞれと注目ドット部との間の距離ｄを演算し、（ｅ）演算された各ｄ値を基準距離ｓと比較し、（ｆ）複数の周囲ドット部の中でｄ≦ｓとなるものを注目ドット部から離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行い、さらに、（ｇ）単位領域Ａ０内の全てのドット部４について、移動が無くなるまで（ｃ）から（ｆ）の工程を繰り返すようにしたランダムパターンの作成方法である。【選択図】        図１
2004272195.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のドット部を不規則に配置して成るランダムパターンの作成方法において、
（ａ）前記ランダムパターン内の単位領域に前記複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する工程と、
（ｂ）前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
（ｃ）前記単位領域に含まれる複数のドット部から１つの注目ドット部を選択する工程と、
（ｄ）前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“ｄ”を演算する工程と、
（ｅ）演算された前記複数の距離“ｄ”のそれぞれを基準距離“ｓ”と比較する工程と、
（ｆ）前記複数の周囲ドット部の中にｄ≦ｓとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のＸＹ座標を前記注目ドット部に対してＸ方向又はＹ方向又はＸ及びＹの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
（ｇ）前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記（ｃ）から前記（ｆ）の工程を、前記ドット部間距離“ｄ”の全てがｄ＞ｓとなるまで繰り返す工程と、
を有することを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項２】
請求項１において、前記ドット部は円形部分又は多角形部分であることを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、前記複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する工程は、ランダム関数を用いて行うことを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３の少なくともいずれか１つにおいて、前記ドット部の最大外形寸法が約７．５μｍであり、必要となるドット部の合計の面積が前記単位領域の面積の約３０％であるとき、前記基準距離“ｓ”の値は約９μｍであることを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項５】
請求項１から請求項３の少なくともいずれか１つにおいて、前記ドット部の最大外形寸法が約１０μｍであり、必要となるドット部の合計の面積が前記単位領域の面積の約３０％であるとき、前記基準距離“ｓ”の値は約１３．５μｍであることを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項６】
請求項１から請求項５の少なくともいずれか１つに記載のランダムパターンの作成方法であって、
３原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
前記単位領域は、１つの着色要素に対応する表示ドット領域又は３原色の着色要素が集まって成る１つの画素領域とほぼ同じ領域であることを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項７】
透光部又は遮光部として機能する複数のドット部を不規則に配置して成るマスクの製造方法において、
ランダムパターンのデータを作成する工程と、
基材上に無パターンの遮光層を形成する工程と、
前記ランダムパターンのデータに基づいて前記遮光層をパターニングして前記複数のドット部を形成する工程とを有し、
前記ランダムパターンのデータを作成する工程は、請求項１から請求項６の少なくともいずれか１つに記載のランダムパターンの作成方法によって実行されることを特徴とするマスクの製造方法。
【請求項８】
基材と、該基材上に形成されていてその表面に凹凸を有する樹脂層と、該樹脂層の上に形成された光反射層と、該光反射層の上に設けられた電気光学物質層とを有する電気光学装置を製造するための製造方法において、
前記樹脂層の表面に凹凸を形成する工程は、請求項７に記載のマスクの製造方法を用いて製造されたマスクを用いて行われる
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８において、前記電気光学物質は液晶であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
複数のドット部を不規則に配置して成るランダムパターンの作成プログラムであって、コンピュータを、
（ａ）前記ランダムパターン内の単位領域に前記複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する手段、
（ｂ）前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる手段、
（ｃ）前記単位領域に含まれる複数のドット部から１つの注目ドット部を選択する手段、
（ｄ）前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“ｄ”を演算する手段、
（ｅ）演算された前記複数の距離“ｄ”のそれぞれを基準距離“ｓ”と比較する手段、
（ｆ）前記複数の周囲ドット部の中にｄ≦ｓとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のＸＹ座標を前記注目ドット部に対してＸ方向又はＹ方向又はＸ及びＹの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う手段、及び
（ｇ）前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記（ｃ）から前記（ｆ）の工程を、前記ドット部間距離“ｄ”の全てがｄ＞ｓとなるまで繰り返す手段、
として機能させるためのランダムパターンの作成プログラム。
【請求項１１】
３原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
（ア）１色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（イ）他の１色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（ウ）さらに他の１色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（エ）前記３種類のランダムパターンをつなぎ合わせた領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程とを有し、
前記４つの工程は、それぞれ、
（ａ）前記単位領域に前記複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する工程と、
（ｂ）前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
（ｃ）前記単位領域に含まれる複数のドット部から１つの注目ドット部を選択する工程と、
（ｄ）前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“ｄ”を演算する工程と、
（ｅ）演算された前記複数の距離“ｄ”のそれぞれを基準距離“ｓ”と比較する工程と、
（ｆ）前記複数の周囲ドット部の中にｄ≦ｓとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のＸＹ座標を前記注目ドット部に対してＸ方向又はＹ方向又はＸ及びＹの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
（ｇ）前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記（ｃ）から前記（ｆ）の工程を、前記ドット部間距離“ｄ”の全てがｄ＞ｓとなるまで繰り返す工程とを有し、さらに
（オ）前記（エ）工程における基準距離“ｓ”は、前記（ア）、（イ）、（ウ）の各工程における基準距離“ｓ”のうちの最も小さい値に設定する
ことを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
（ｉ）１つのドット部の径、
（ｉｉ）単位領域内におけるドット部の数、
（ｉｉｉ）単位領域の面積に対する当該単位領域内に存在する複数のドット部の合計の面積密度、及び
（ｉｖ）互いに隣り合う一対のドット部間の基準距離
の４つの項目のうちの少なくとも１つは、前記（ア）、（イ）、（ウ）の各工程相互間で異なることを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項１３】
請求項１１又は請求項１２において、前記３原色はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せ、又はＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３色の組合せであることを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項１４】
３原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
（ア）２色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（イ）他の１色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（ウ）前記２種類のランダムパターンをつなぎ合わせた領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程とを有し、
前記３つの工程は、それぞれ、
（ａ）前記単位領域に前記複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する工程と、
（ｂ）前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
（ｃ）前記単位領域に含まれる複数のドット部から１つの注目ドット部を選択する工程と、
（ｄ）前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“ｄ”を演算する工程と、
（ｅ）演算された前記複数の距離“ｄ”のそれぞれを基準距離“ｓ”と比較する工程と、
（ｆ）前記複数の周囲ドット部の中にｄ≦ｓとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のＸＹ座標を前記注目ドット部に対してＸ方向又はＹ方向又はＸ及びＹの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
（ｇ）前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記（ｃ）から前記（ｆ）の工程を、前記ドット部間距離“ｄ”の全てがｄ＞ｓとなるまで繰り返す工程とを有し、
（オ）前記（ウ）工程における基準距離“ｓ”は、前記（ア）、（イ）、（ウ）の各工程における基準距離“ｓ”のうちの最も小さい値に設定する
ことを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項１５】
請求項１４において、前記３原色はＲ、Ｇ、Ｂの３色の組合せであり、前記（ア）工程はＲ及びＧの２色に対応し、前記（イ）工程はＢ色に対応することを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項１６】
請求項１５において、Ｒ及びＧの２色に対応する前記ドット部の径は、Ｂ色に対応する前記ドット部の径よりも小さいことを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項１７】
請求項１６において、穴密度が同一でＲ及びＧの２色に対応する前記基準距離は、Ｂ色に対応する前記基準距離よりも小さいことを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【請求項１８】
請求項１７において、
Ｒ及びＧの２色に対応する前記ドット部の径は９μｍであり、Ｂ色に対応する前記ドット部の径は１０μｍであり、
Ｒ及びＧの２色に対応する前記基準距離は１２μｍであり、Ｂ色に対応する前記基準距離は１３．５μｍである
ことを特徴とするランダムパターンの作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数のドット部をランダムに配置させて成るランダムパターンの作成方法及びその方法を実現するプログラムに関する。また、本発明は、複数のドット部をランダムに配置させて成るマスクの製造方法、そのマスクを用いた電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、液晶装置等といった電気光学装置は広く知られている。この電気光学装置は、液晶等といた電気光学物質の層に光を供給すると共にその電気光学物質の層に印加される電圧を表示の最小単位である表示ドット毎に制御することによって光を変調し、これにより、文字、数字、図形等といった像を表示する。
【０００３】
このような電気光学装置において、電気光学物質の層に光を供給する方法として、その電気光学物質の層と平行に光反射層を設け、太陽光、室内光等といった外部光を、一旦、電気光学装置の内部へ取り込んだ後、その光を上記光反射層で反射して電気光学物質の層へ供給する方法が知られている。さらに、この方法において、光反射層の表面が平滑面、すなわち鏡面であると、文字、数字等の背景が鏡像となってしまって表示が見難くなるので、これを防止するため、光反射層の表面に細かな凹凸模様を形成して、反射光が散乱光となるようにした方法も知られている。また、電気光学装置に関しては、上記の光反射層の表面に凹凸模様を形成する場合に限られず、各種の光学要素の表面に必要に応じて微細な凹凸模様を形成する必要が生じる場合がある。
【０００４】
このように、光反射層、あるいはその他の光学要素の表面に凹凸模様を形成する場合、その凹凸模様が平面的に規則的な配列状態で設けられていると、反射光に干渉縞が発生して表示が見難くなるおそれがある。このことを防止するため、従来、凹凸模様の平面的な配列状態をランダム、すなわち不規則にする技術が提案されている。
【０００５】
また、そのようなランダムな配列状態を実現する具体的な方法の１つとして、従来、フォトリソグラフィ処理を用いて光反射層等を形成することにした上で、そのフォトリソグラフィ処理で用いる露光用マスクに形成する透光部又は遮光部、すなわちドット部の配置パターンを不規則、すなわちランダムにする方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。このように、複数のドット部がランダムに配列された構造の露光用マスクを作製するに際しては、複数のドット部がＸＹ座標上でランダムに配置された状態を表示する座標データ、すなわちランダムパターンのデータが予め決められている必要がある。
【０００６】
このようなランダムパターンの作成方法として、従来、例えば、内径５ｍｍ程度の多数、例えば２０００個程度のリング部材をＸＹ座標が描かれた平面上にばら撒くことにより、それらのリング部材をＸＹ座標上にランダムに配置させた上で、各リング部材のＸＹ座標を読み取ることにより、ランダムな配列のデータをＸＹ座標によって規定するようにした方法が知られている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−２５８２７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記のような従来のランダムパターンの作成方法では、複数のドット部の配列を完全にランダムにすることができず、その配列が意に反して部分的に規則性が増加してしまうことがあった。このようなランダムパターンに従って光反射層の表面に凹凸を形成する場合を考えると、その光反射層で反射した光に関して干渉縞の発生を防止することは不十分であった。
【０００９】
また、上記のような従来のランダムパターンの作成方法では、複数のドット部が互いに近づき過ぎてしまったり、あるいは、ドット部同士が重なったりすることがあった。このようなランダムパターンに従ってフォトリソグラフィ処理用のマスクを作製した上で、基材上に形成された樹脂膜をこのマスクを用いて露光及び現像してその樹脂膜の表面に凹凸を形成する場合を考えると、形成された凹凸の間隔が近づき過ぎたり、又は凹部同士が重なったりする状態が発生し、それらの個所において、樹脂膜が基材から剥がれ易くなるという問題があった。
【００１０】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、透光部や遮光部に対応する複数のドット部を、近づけ過ぎることなく、十分にランダムな状態に配列させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するため、本発明に係るランダムパターンの作成方法は、複数のドット部を不規則に配置して成るランダムパターンの作成方法において、
（ａ）前記ランダムパターン内の単位領域に複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する工程と、
（ｂ）前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
（ｃ）前記単位領域に含まれる複数のドット部から１つの注目ドット部を選択する工程と、
（ｄ）前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“ｄ”を演算する工程と、
（ｅ）演算された前記複数の距離“ｄ”のそれぞれを基準距離“ｓ”と比較する工程と、
（ｆ）前記複数の周囲ドット部の中にｄ≦ｓとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のＸＹ座標を前記注目ドット部に対してＸ方向又はＹ方向又はＸ及びＹの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
（ｇ）前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記（ｃ）から前記（ｆ）の工程を、前記ドット部間距離“ｄ”の全てがｄ＞ｓとなるまで繰り返す工程と、
を有することを特徴とする。
【００１２】
このランダムパターンの作成方法によれば、ランダムパターンの単位領域及びそれを複数個つなぎ合せて形成されるランダムパターンの全面積領域にわたって、ランダムパターンを構成する複数のドット部が互いに近づき過ぎて配置されることを防止できる。従って、例えば、このようなランダムパターンに従って露光用マスク内の複数のドット部、例えば複数の穴、の配列を決定し、さらに、ガラス等から成る基材上に形成された樹脂膜に関してこの露光用マスクを用いてパターン化を行えば、この樹脂膜に十分にランダム化された凹凸模様を形成できる。しかもこのとき、凹凸模様の凹部同士は互いに近づき過ぎたり、重なったりすることがないので、当該樹脂膜が基材から剥がれ易くなることを防止できる。
【００１３】
ところで、ランダムパターンの作成方法として、単位面積Ａ０という概念を考えずに、ランダムパターンの全面領域にわたって複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置させることも考えられるが、この方法では、ランダムパターンの全面領域にわたってランダムデータを形成することに関して非常に長時間を要し、コストも非常に高くなる。また、このランダムデータに従って露光装置によって実際に描画を行うことに関して非常に長時間を要し、コストも非常に高くなる。
【００１４】
これに対し、本発明に係るランダムパターンの作成方法では、ランダムパターンの全面領域にわたってランダムデータを形成するのではなく、ランダムパターンの一部分に相当する単位領域を考え、この単位領域内に複数のドット部をランダムに配置させ、さらに、そのような単位領域を平面的に順々につなぎ合わせることにより、ランダムパターンの全面領域に関して複数のドット部をランダムに配置させるようにしている。この方法によれば、ランダムデータを形成するのは単位領域だけで済むので、データ形成のための時間も短時間で済み、コストも安くて済む。
【００１５】
このような単位領域をつなぎ合わせる方法によれば、そのつなぎ合わせの境界線領域において、複数のドット部が近づき過ぎたり、重なり合ったりする状態が発生するおそれが高くなるが、本発明によれば、そのような境界線領域においても、ドット間の距離を確実に所定距離以上に離すことができる。
【００１６】
なお、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記ドット部は円形部分又は多角形部分とすることができる。
【００１７】
次に、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する工程は、ランダム関数を用いて行うことが望ましい。ランダム関数を用いれば、１次的なランダムデータを非常に簡単に取得することができる。例えば、ランダム関数は、０〜１の任意の値を取るものであるが、１操作目でＸ座標、２操作目でＹ座標、……と連続に２ｎ回繰り返せば１×１単位領域にｎ個の座標を取得できるため、表示ドットサイズにスケーリングすることでランダム位置座標を取得することができる。このようなランダム関数は、コンピュータのメモリにインストール可能なアプリケーションソフトとして広く一般的に提供されているものを使用できる。なお、このようなランダム関数に代えて、多数のドット要素、例えば多数の小さなリング部材を平面上に実際にばら撒いてランダムな配列を実現するという方法を用いることもできる。
【００１８】
次に、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記ドット部の最大外形寸法が約７．５μｍであり、必要となるドット部の合計の面積が前記単位領域の面積の約３０％であるとき、前記基準距離“ｓ”の値は約９μｍであることが望ましい。
【００１９】
こうすれば、複数のドット部は、少なくとも約９μｍ以上の距離をおいてランダムに配列されることになるので、このランダムパターンに従って光反射層の表面に凹凸を形成し、さらにその光反射層で光を反射させたとき、反射光に干渉縞が発生することを防止できる。また、このランダムパターンに従って樹脂膜に複数のドット部を形成したとき、その樹脂膜に剥がれが発生することを防止できる。
【００２０】
次に、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記ドット部の最大外形寸法が約１０μｍであり、必要となるドットの合計の面積が前記単位領域の面積の約３０％であるとき、前記基準距離“ｓ”の値は約１３．５μｍであることが望ましい。
【００２１】
こうすれば、複数のドット部は、少なくとも約１３．５μｍ以上の距離をおいてランダムに配列されることになるので、このランダムパターンに従って光反射層の表面に凹凸を形成し、さらにその光反射層で光を反射させたとき、反射光に干渉縞が発生することを防止できる。また、このランダムパターンに従って樹脂膜に複数のドット部を形成したとき、その樹脂膜に剥がれが発生することを防止できる。
【００２２】
次に、上記構成のランダムパターンの作成方法であって、３原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法においては、前記単位領域は、１つの着色要素に対応する表示ドット領域又は３原色の着色要素が集まって成る１つの画素領域とほぼ同じ領域であることが望ましい。
【００２３】
次に、本発明に係るマスクの製造方法は、透光部又は遮光部として機能する複数のドット部を不規則に配置して成るマスクの製造方法において、ランダムパターンのデータを作成する工程と、基材上に無パターンの遮光層を形成する工程と、前記ランダムパターンのデータに基づいて前記遮光層をパターニングして前記複数のドット部を形成する工程とを有し、前記ランダムパターンのデータを作成する工程は、以上に記載した構成のランダムパターンの作成方法によって実行されることを特徴とする。
【００２４】
以上に記載した構成のランダムパターンの作成方法によれば、ランダムパターンを構成する複数のドット部が互いに近づき過ぎて配置されたり、重なり合って配置されたりすることを防止できるので、このランダムパターンに従って露光用マスク内の複数のドット部、例えば複数の穴の配列を決定し、さらに、ガラス等から成る基材上に形成された樹脂膜に関してこの露光用マスクを用いてパターン化を行えば、この樹脂膜に十分にランダム化された凹凸模様を形成できる。しかもこのとき、複数のドット部に関して互いに近づき過ぎたり、重なり合ったりするものが形成されることを防止できるので、当該樹脂膜が基材から剥がれ易くなることを防止できる。
【００２５】
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、基材と、該基材上に形成されていてその表面に凹凸を有する樹脂層と、該樹脂層の上に形成された光反射層と、該光反射層の上に設けられた電気光学物質層とを有する電気光学装置を製造するための製造方法において、前記樹脂層の表面に凹凸を形成する工程は、上記のマスクの製造方法を用いて製造されたマスクを用いて形成されることを特徴とする。
【００２６】
以上に記載した構成のマスクの製造方法を用いて製造されたマスクに関しては、複数のドット部が互いに近づき過ぎることなく、しかも十分にランダム化された状態で配置されるので、このマスクを用いて樹脂層の表面に凹凸を形成した場合、その凹凸は、互いに近づき過ぎることなく、しかも十分にランダム化された状態に形成される。樹脂層の凹凸が互いに近づき過ぎない状態に形成されれば、当該樹脂層を基材上から剥がれ難くすることができる。また、樹脂層の凹凸を十分にランダム化できれば、当該樹脂層の上に形成された光反射層で反射する光、又は当該樹脂層を透過する光に干渉縞が発生することを確実に防止できる。
【００２７】
上記構成の電気光学装置の製造方法において、前記電気光学物質は液晶とすることができる。こうして形成される電気光学装置は、いわゆる液晶装置である。この液晶装置は、例えば、文字、数字、図形等といった像を表示するための表示装置として用いることができる。液晶装置には、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＤ（Thin Film Diode）等といった２端子型のスイッチング素子をアクティブ素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型のスイッチング素子をアクティブ素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置や、その他種々の構成の液晶装置が考えられる。
【００２８】
次に、本発明に係るランダムパターンの作成プログラムは、複数のドット部を不規則に配置して成るランダムパターンの作成プログラムであって、コンピュータを、
（ａ）前記ランダムパターン内の単位領域に前記複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する手段、
（ｂ）前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる手段、
（ｃ）前記単位領域に含まれる複数のドット部から１つの注目ドット部を選択する手段、
（ｄ）前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“ｄ”を演算する手段、
（ｅ）演算された前記複数の距離“ｄ”のそれぞれを基準距離“ｓ”と比較する手段、
（ｆ）前記複数の周囲ドット部の中にｄ≦ｓとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のＸＹ座標を前記注目ドット部に対してＸ方向又はＹ方向又はＸ及びＹの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う手段、及び
（ｇ）前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記（ｃ）から前記（ｆ）の工程を、前記ドット部間距離“ｄ”の全てがｄ＞ｓとなるまで繰り返す手段、
として機能させるためのプログラムである。
【００２９】
このプログラムに従って実行されるランダムパターンの作成方法によれば、ランダムパターンの単位領域及びそれを複数個つなぎ合せて形成されるランダムパターンの全面積領域にわたって、ランダムパターンを構成する複数のドット部が互いに近づき過ぎて配置されることを防止できる。従って、例えば、このようなランダムパターンに従って露光用マスク内の複数のドット部、例えば複数の穴、の配列を決定し、さらに、ガラス等から成る基材上に形成された樹脂膜に関してこの露光用マスクを用いてパターン化を行えば、この樹脂膜に十分にランダム化された凹凸模様を形成できる。しかもこのとき、凹凸模様の凹部同士は互いに近づき過ぎたり、重なったりすることがないので、当該樹脂膜が基材から剥がれ易くなることを防止できる。
【００３０】
次に、本発明に係る他のランダムパターンの作成方法は、３原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
（ア）１色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（イ）他の１色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（ウ）さらに他の１色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（エ）前記３種類のランダムパターンをつなぎ合わせた領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程とを有し、
前記４つの工程は、それぞれ、
（ａ）前記単位領域に前記複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する工程と、
（ｂ）前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
（ｃ）前記単位領域に含まれる複数のドット部から１つの注目ドット部を選択する工程と、
（ｄ）前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“ｄ”を演算する工程と、
（ｅ）演算された前記複数の距離“ｄ”のそれぞれを基準距離“ｓ”と比較する工程と、
（ｆ）前記複数の周囲ドット部の中にｄ≦ｓとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のＸＹ座標を前記注目ドット部に対してＸ方向又はＹ方向又はＸ及びＹの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
（ｇ）前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記（ｃ）から前記（ｆ）の工程を、前記ドット部間距離“ｄ”の全てがｄ＞ｓとなるまで繰り返す工程とを有し、さらに
（オ）前記（エ）工程における基準距離“ｓ”は、前記（ア）、（イ）、（ウ）の各工程における基準距離“ｓ”のうちの最も小さい値に設定することを特徴とする。
【００３１】
ここで、上記構成のランダムパターンの作成方法において、（ｉ）１つのドット部の径、（ｉｉ）単位領域内におけるドット部の数、（ｉｉｉ）単位領域の面積に対する当該単位領域内に存在する複数のドット部の合計の面積密度、及び（ｉｖ）互いに隣り合う一対のドット部間の基準距離の４つの項目のうちの少なくとも１つは、前記（ア）、（イ）、（ウ）の各工程相互間で異なることが望ましい。
【００３２】
また、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記３原色はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せ、又はＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３色の組合せであることが望ましい。
【００３３】
次に、本発明に係るさらに他のランダムパターンの作成方法は、３原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
（ア）２色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（イ）他の１色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
（ウ）前記２種類のランダムパターンをつなぎ合わせた領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程とを有し、
前記３つの工程は、それぞれ、
（ａ）前記単位領域に前記複数のドット部をＸＹ座標上で１次的にランダムに配置する工程と、
（ｂ）前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
（ｃ）前記単位領域に含まれる複数のドット部から１つの注目ドット部を選択する工程と、
（ｄ）前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“ｄ”を演算する工程と、
（ｅ）演算された前記複数の距離“ｄ”のそれぞれを基準距離“ｓ”と比較する工程と、
（ｆ）前記複数の周囲ドット部の中にｄ≦ｓとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のＸＹ座標を前記注目ドット部に対してＸ方向又はＹ方向又はＸ及びＹの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
（ｇ）前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記（ｃ）から前記（ｆ）の工程を、前記ドット部間距離“ｄ”の全てがｄ＞ｓとなるまで繰り返す工程とを有し、
（オ）前記（ウ）工程における基準距離“ｓ”は、前記（ア）、（イ）、（ウ）の各工程における基準距離“ｓ”のうちの最も小さい値に設定することを特徴とする。
【００３４】
ここで、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記３原色はＲ、Ｇ、Ｂの３色の組合せであり、前記（ア）工程はＲ及びＧの２色に対応し、前記（イ）工程はＢ色に対応することが望ましい。また、上記構成のランダムパターンの作成方法において、Ｒ及びＧの２色に対応する前記ドット部の径は、Ｂ色に対応する前記ドット部の径よりも小さいことが望ましい。また、上記構成のランダムパターンの作成方法において、Ｒ及びＧの２色に対応する前記基準距離は、Ｂ色に対応する前記基準距離よりも小さいことが望ましい。
【００３５】
また、上記構成のランダムパターンの作成方法において、Ｒ及びＧの２色に対応する前記ドット部の径は９μｍであり、Ｂ色に対応する前記ドット部の径は１０μｍであり、Ｒ及びＧの２色に対応する前記基準距離は１２μｍであり、Ｂ色に対応する前記基準距離は１３．５μｍであることが望ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
（ランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法の第１実施形態）
以下、ランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法を説明する。その説明の前に、まず、マスクの製造方法によって製造されるマスクについて簡単に説明する。
【００３７】
図１（ａ）及び図１（ｂ）は、マスクの一実施形態を示している。図１（ａ）は平面図であり、図１（ｂ）はＡ−Ａ線に従った断面図である。ここに示すマスク１は、透光性を有するガラスや透光性を有するプラスチック等によって形成された基材２と、その基材２の上に形成された遮光膜３とを有する。遮光膜３には、複数のドット部としての複数の透光用の穴４が設けられている。このマスク１を使って露光対象物、例えばレジストを露光する場合を考えれば、露光光は図１（ｂ）において矢印Ｂで示すように基材２側から照射されて穴４を通過する。なお、マスク１の全面領域の大きさＬ１×Ｌ２は、露光装置の構造に対応して決められるものであり、例えば、４５０ｍｍ×５５０ｍｍ程度である。
【００３８】
ドット部として穴を採用する場合には、その穴を通過した光が露光対象物、例えばレジストに照射される。このレジストがポジ型であれば、その露光部分が可溶性となって現像後に穴となる。一方、レジストがネガ型であれば、その露光部分が不溶性となって現像後に実在部として突状に残る。従って、露光対象物の材質及び露光対象物の現像後の形状等に応じて、ドット部は、穴すなわち透光部とされたり、あるいは逆に、島状の実在部すなわち遮光部とされたりする。
【００３９】
上記複数の穴４は、図１（ａ）において平面的に不規則、すなわちランダムに並べられている。図では、穴４を分かり易く示すために、実際よりも大きく且つ少ない数で描いてあるが、実際のところ、穴４は、例えば最大外径が７〜１０μｍ程度という非常に小さいものであり、その数も図示の状態より多数であって、より高い分布密度となっている。
【００４０】
また、図では、穴４が円形となっているが、図２に示すような６角形、あるいはその他の多角形とすることができる。なお、上記のように最大外径といったときには、円形ならばその直径を示し、多角形ならば図２における対角径Ｄ１を示すものとする。以下の説明では、ドット部として穴４を例示するが、その説明はドット部が多角形である場合にも適用できる。
【００４１】
図１（ａ）において、複数の穴４の配列パターンが平面的にランダムであることは既述の通りであるが、本発明によれば、複数の穴４の配列パターンは、まず初めに単位領域Ａ０の中に存在する複数の穴４に関してその配列がランダムに設定された後、その単位領域Ａ０を平面的につなぎ合せてマスク１の全面領域に複数の穴４を配列するという方法によって形成される。つまり、マスク１の全面領域の穴４の配列は、単位面積Ａ０内の穴４のランダムな配列の繰り返しによって形成される。
【００４２】
単位面積Ａ０の面積は、希望に応じて任意に設定できるが、このマスク１を表示装置における光反射層の表面に凹凸模様を形成するためのマスクとして用いる場合を考えれば、この単位面積Ａ０は、表示の最小単位である表示ドットと関連させて設定することが望ましい。例えば、単位面積Ａ０をその表示ドットとほぼ同じ面積に設定することができる。また、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）やＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）等といったカラー表示のための３原色に対応する３色の着色要素を用いてカラー表示を行う場合を考えれば、単位面積Ａ０は、３色の着色要素に対応する３つの表示ドットの集まりによって構成される１つの画素とほぼ同じ面積に設定することもできる。
【００４３】
以下、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示したマスク１の製造方法について説明する。図３は、マスクの製造方法を実施するための製造装置の一例を示している。
この製造装置は、ランダムパターンを作成するための一連の演算を行うＣＰＵ１１と、書き換えが不要である固定情報が記憶されたＲＯＭ１２と、各種データを一時的に記憶するＲＡＭ１３と、キーボードやマウス等といった入力装置１４と、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）やフラットパネルディスプレイ等といった映像表示装置１６と、第１ファイル１８ａ及び第２ファイル１８ｂを格納したメモリ１７と、露光光Ｒ０によって露光対象物１９の表面に適宜のパターン、すなわち模様を描画する露光装置２１とを有する。以上の各要素はバス２０によって互いに接続されている。
【００４４】
第１ファイル１８ａには、上記の各要素をランダムパターンの作成のために機能させるプログラム２２と、ランダムパターンの元データ２３と、単位領域Ａ０（図１（ａ）参照）をどのようにつなぎ合わせるかのデータである配列条件データ２４とが記憶されている。配列条件データ２４は、例えば、単位領域Ａ０を図４（ａ）のようにつなぎ合わせるか、あるいは、図４（ｂ）のようにつなぎ合わせるか、あるいはその他のつなぎ合せ方を採用するか等を表示するデータである。
【００４５】
元データ２３は、ランダム関数を用いたり、複数のドット部材を座標メモリ上にばら撒いたりすることによって、適宜の大きさの面積の中に複数のドット部を１次的にランダムに配置させた状態をＸＹ座標値として表示したデータである。
この元データはある程度ランダムなドット配置データであるが、場合によってはその中に規則的なドット配列が含まれてしまうことがあるようなデータである。
【００４６】
また、この元データは、図１（ａ）に示す単位領域Ａ０の２つを平面内でつなぎ合わせたときに、それらの領域の境界線の近傍領域内にドット間距離が狭すぎる複数のドット部が形成されたり、互いに重なり合ったりしてしまうような、ランダムパターンのデータである。
【００４７】
第２ファイル１８ｂには、図１（ａ）の単位領域Ａ０の大きさを記憶するための領域２６や、ドット部の大きさを記憶するための領域２７や、ドット部の数を記憶するための領域２８や、ドット部間の距離の基準値“ｓ”を記憶する領域２９等が設定されている。
【００４８】
以下、図３の装置によって行われるマスクの製造処理を図５に示すフローチャートを参照しながら説明する。なお、以下の説明ではドット部として穴を形成する場合を例示する。
【００４９】
図５の工程Ｐ１において、図３の基材２の表面にＣｒ等といった遮光材料を一様な厚さに積層して遮光層３を形成する。ここで、基材２は、矢印Ｃ方向から見て正方形、長方形、その他希望の平面形状に形成されている。次に、図５の工程Ｐ２において、遮光層３の上にレジスト（図示せず）を塗布する。次に、工程Ｐ３において、図３のＣＰＵ１１は、メモリ１７内の所定の記憶場所に記憶されているランダムパターンのデータ、すなわち複数の穴をランダムに配置させたデータ、を穴の中心の座標値（Ｘ０，Ｙ０），（Ｘ１，Ｙ１），……（Ｘｎ，Ｙｎ）として露光装置２１内のメモリ内へ供給して記憶させる。
【００５０】
次に、工程Ｐ４において、露光装置２１によって、座標位置（Ｘ０，Ｙ０），（Ｘ１，Ｙ１），……（Ｘｎ，Ｙｎ）の所に露光、すなわち光書き込みを行い、さらに現像を行って、レジストの内部にドット部としての複数の穴をランダムに形成する。そして、このレジストをマスクとして、工程Ｐ５において遮光層３をエッチングすることにより遮光層３の内部にドット部としての複数の穴を形成する。このときに形成される複数の穴も平面的に見てランダムに配置されている。
【００５１】
次に、工程Ｐ６において、レジストを除去することにより、図１に示すような、複数の穴４がランダムに配置された状態の遮光層３が基材２の表面に形成されて成るマスク１が作製される。こうして作製されたマスク１において、ドット部としての複数の穴４が完全にランダムな状態で形成されているかどうかは、図５の工程Ｐ４における露光装置２１を用いた露光処理において光の書き込み処理が完全にランダムに行われるかどうか、換言すれば、工程Ｐ３において露光装置２１に供給されるランダムパターンのデータ（Ｘ０，Ｙ０），（Ｘ１，Ｙ１），……（Ｘｎ，Ｙｎ）が完全にランダムであるかどうかに依存する。
【００５２】
仮に、図１に示すように形成されたマスク１において、複数の穴４の配列状態が完全にはランダムではなくて、一部に規則的な配列ができていると、当該マスク１を用いて光反射層の表面に凹凸模様を形成したときに当該光反射層で反射した光に干渉縞が発生して光学的特性が低下するおそれがある。また、複数の穴４の中に穴同士の間隔が小さくなり過ぎるものが存在すると、当該マスク１を用いて樹脂膜の表面に凹凸を形成したとき、凹部同士の間隔が小さくなり過ぎて、その部分で樹脂膜が剥がれるおそれがある。
【００５３】
これらの問題を解消するため、工程Ｐ３において露光装置２１に供給されるランダムパターンのデータは十分にランダムなデータ、すなわち、複数の穴が互いに近付き過ぎず、且つ重なり合うこともなく配列されていることが必要である。
以下、そのような十分にランダムなパターンを作成するための方法について図６に示すフローチャートを参照しながら説明する。
【００５４】
作業者は、まず、図１（ａ）の単位領域Ａ０のサイズや、ドット部としての穴の径や、穴の数や、穴間距離の基準値“ｓ”等といった各データを入力装置１４を通して入力する。図３のＣＰＵ１１は、図６のステップＳ１１において、上記の各データを図３の第２ファイル１８ｂ内の所定記憶場所に記憶する。
【００５５】
次に、ステップＳ１２において、図３の第１ファイル１８ａ内の元データ２３から穴数及び単位領域サイズ分を切り出して、１つの単位領域Ａ０分の１次ランダムデータを決める。このとき、元データのどの部分を切り出すかは、自由に決定できる。以上により、単位領域Ａ０内に複数の穴４が１次的にランダムに配置される。
【００５６】
次に、ステップＳ１３において、１つの単位領域Ａ０の周囲に補助領域をつなぎ合わせる。例えば、図４（ａ）又は図４（ｂ）に示すように、注目する単位領域３１の周囲に補助領域３２をつなぎ合わせる。このとき、補助領域３２の形状は単位領域Ａ０と同じであり、また、補助領域３２内における複数の穴の配列状態も単位領域Ａ０と同じである。このときのつなぎ合わせの態様は、図３の第１ファイル１８ａ内の配列条件データ２４の中から選択する。また、どの配列を選択するかは、作業者が入力装置１４を通して指示しても良いし、ＣＰＵ１１がプログラム２２に従って自動的に選択しても良い。
【００５７】
以上のようにしてつなぎ合わされたデータは、図３のＲＡＭ１３内にＸＹ座標のデータとして記憶、すなわち描画される。また、この描画データは必要に応じてメモリ１７内の所定の記憶場所に記憶しても良い。また、このときの複数の穴４の配置状態を映像表示装置１６の画面上に映像として表示するようにしても良い。
【００５８】
次に、ステップＳ１４において、ＣＰＵ１１は、単位領域３１に含まれる複数の穴から注目する穴を選択する。そして、ステップＳ１５において、その注目穴とその注目穴の周囲に存在する穴との間の距離“ｄ”を１つずつ演算する。そして、演算された距離“ｄ”が予め決められている基準距離“ｓ”と比較される。
【００５９】
その比較の結果、ｄ≦ｓであると判定された周囲穴が存在したときには（ステップＳ１６でＹＥＳ）、ステップＳ１７へ進んで、当該周囲穴のＸＹ座標値をＸ及びＹの両方向へ所定距離ずつ、例えば０．５μｍずつ、ｄ＞ｓとなるように注目穴から離す。このときの離す方向は、Ｘ方向だけ、又はＹ方向だけとすることもできる。同時に、ステップＳ１８では、移動した周囲穴に対応する補助領域３２内の穴も同様に移動する。ステップＳ１６でｄ＞ｓと判定された周囲穴に関しては（ステップＳ１６でＮＯ）、位置修正を行わずにそのままの位置に保持する。
【００６０】
その後、ステップＳ１９において、注目する単位領域３１内に存在する全ての穴を注目穴として選択して、その注目穴の周りに存在する複数の周囲穴に関して上述した位置修正処理を行う。そして、全ての穴に関する処理が終わったとき（ステップＳ１９でＹＥＳ）、注目する単位領域３１内における全ての穴の配列状態がランダムになったものと決められる（ステップＳ２０）。
【００６１】
その後、そのようにして決められた単位領域３１内のランダムデータを、ステップＳ２１において、平面的につなぎ合わせることにより、希望の大きさのランダムパターンの全面領域に関するランダムデータがＸＹ座標上の座標値として決められる。こうして形成されたランダムパターンのデータに従って複数の穴４を配列させれば、それらの穴４は完全にランダムに配置された状態となり、しかも、穴間の距離が小さくなり過ぎるような穴の存在もなくなる。特に、図１（ａ）の単位領域Ａ０をつなぎ合わせたときに、それらの単位領域の境界線近傍においては穴間隔が狭くなり過ぎる個所が発生するおそれがあるが、図６に示したプログラムによれば、単位領域だけではなくて、その周囲の領域である補助領域内の穴位置も考慮に入れているので、単位領域の境界線近傍におけるランダム配列も望ましいものとなる。
【００６２】
（電気光学装置の製造方法の実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を説明する。特に、電気光学装置としての液晶装置内に設けられる光反射層の表面に乱反射用の凹凸形状を形成する際に用いられる露光用マスクを、本発明に係るランダムパターンの作成プログラムを用いて製造する場合を例に挙げて説明する。
【００６３】
まず、液晶装置について簡単に説明する。本実施形態では、反射型表示と透過型表示の両方を実現できる、いわゆる半透過反射型の液晶装置であって、アクティブ素子としてＴＦＤ（Thin Film Diode）素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置を例示することにするが、本発明を適用できる液晶装置はその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
【００６４】
図７において、液晶装置４１は、液晶パネル４２と、それに組みつけられる照明装置４３とを有する。液晶パネル４２は、第１基板４４ａと第２基板４４ｂとを環状のシール材４６によって貼り合わせることによって形成されている。第１基板４４ａと第２基板４４ｂとの間には、図８に示すように、スペーサ５４によって維持される隙間、いわゆるセルギャップ５２が形成され、このセルギャップ５２内に液晶が封入されて液晶層５３が形成されている。
【００６５】
図８において、第１基板４４ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１基材５１ａを有する。その第１基材５１ａの液晶側表面には樹脂層５５が形成され、その上に反射層５６が形成される。また、反射層５６の上には遮光層５７が形成され、その遮光層５７の間にＲ，Ｇ，Ｂの各色着色要素５８が矢印Ｈ方向から見て所定の平面的な配列で形成される。そして、これら複数の着色要素５８によってカラーフィルタ６０が構成されている。また、遮光層５７及び着色要素５８の上にはオーバーコート層５９が形成され、その上に帯状の透明電極６１ａが形成され、その上に配向膜６２ａが形成される。配向膜６２ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜６２ａの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第１基材５１ａの外側表面には、図７において偏光板６３ａが貼着等によって装着されている。
【００６６】
図８において、樹脂層５５は第１層５５ａ及びその上に積層された第２層５５ｂを有する。これらの層は同じ材料によって形成できる。第１層５５ａの表面にはドット部としての複数の凹部６４が矢印Ｈ方向から見て平面的に不規則、すなわちランダムに配置されている。このため、第１層５５ａの上に積層された第２層５５ｂの表面には、これらの凹部６４及びそれに隣接する凸部に対応して凹凸が形成されている。第１層５５ａの表面に形成される凹凸は粗い状態であり、これに第２層５５ｂを積層することにより滑らかな凹凸が得られる。第２層５５ｂの表面、すなわち樹脂層５５の表面に凹凸を設けたことにより、その樹脂層５５に積層された反射層５６の表面にも凹凸が形成される。この凹凸の存在により、反射層５６に入射した光は散乱光となって反射する。
【００６７】
１本の帯状の透明電極６１ａは、図８の紙面垂直方向へ延びており、隣り合う電極６１ａの間には遮光層５７の幅にほぼ一致する間隔が設けられている。これにより、複数の電極６１ａは、矢印Ｈ方向から見てストライプ状に形成されている。
【００６８】
着色要素５８は、カラー表示の３原色であるＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色によって構成されている。これらの各色の着色要素５８は、矢印Ｈ方向から見たときに所定の平面配列、例えば図１０に示す縦ストライプ配置や、図１４に示すモザイク配置や、図１８に示すデルタ配置等に形成されている。
【００６９】
図１０の縦ストライプ配置は、図の縦方向に同じ色の着色要素５８が並べられる配列である。また、図１４のモザイク配置は、図の縦方向及び横方向の両方向で着色要素５８の色が順々に循環的に変化する配列である。そして、図１８のデルタ配置は、着色要素５８が三角形の頂点に位置するように配列されると共に横方向の色が順々に循環的に変化する配列である。なお、各色着色要素５８の配列の仕方に関しては、上記の３種類以外にも種々に提案されているので、必要に応じて、適宜の配列が選択される。
【００７０】
図８において、第１基板４４ａに対向する第２基板４４ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第２基材５１ｂを有する。その第２基材５１ｂの液晶側表面には、線状のライン配線６６、アクティブ素子としてのＴＦＤ素子６７及び透明なドット電極６１ｂが形成される。さらに、それらの要素の上に配向膜６２ｂが形成され、その配向膜６２ｂに配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜６２ｂの近傍の液晶分子の配向が決められる。第１基板４４ａ側の配向膜６２ａのラビング方向と第２基板４４ｂ側の配向膜６２ｂのラビング方向は、液晶の特性に応じて適宜の角度で交差するようになっている。また、第２基材５１ｂの外側表面には、図７において偏光板６３ｂが貼着等によって装着されている。
【００７１】
図８のドット電極６１ｂは、図７（ａ）に示すように、正方形又は長方形に近いドット形状に形成されており、ＴＦＤ素子６７を介してライン配線６６に接続されている。なお、図７（ａ）では、第２基板４４ｂ側に形成されるドット電極６１ｂ等を実線で示し、第１基板４４ａ側に形成される帯状電極６１ａを鎖線で示している。また、図８は、図７（ａ）のＥ−Ｅ線に従った断面図に相当する。
【００７２】
図７（ａ）に示すように、第１基板４４ａ側の帯状電極６１ａは、第２基板４４ｂ側のライン配線６６と直角の方向に延在し、且つそれと直角な方向に互いに間隔をおいて平行に、すなわち全体としてストライプ状に形成されている。また、個々の帯状電極６１ａは、ライン配線６６と直角の方向に列状に並ぶ複数のドット電極６１ｂに対向するように形成される。そして、ドット電極６１ｂと帯状電極６１ａとが重なる領域が、表示の最小単位である表示ドットＤを構成する。
【００７３】
図８において、反射層５６には、個々の表示ドットＤに対応して光通過用の開口６８が設けられている。これらの開口６８は、反射層５６に光を透過させる機能を持たせるための構成であるが、この開口６８を設ける代わりに反射層５６の厚さを薄くして、光を反射する機能と光を透過させる機能の両方を持たせるようにすることもできる。
【００７４】
また、個々の着色要素５８は表示ドットＤに対応して設けられている。着色要素５８を用いない白黒表示の場合は１つの表示ドットＤによって１つの画素が形成されるが、本実施形態のように３色の着色要素５８を用いてカラー表示を行う構造の場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素５８の集まりによって１つの画素が形成される。
【００７５】
ＴＦＤ素子６７は、図９に示すように、第１ＴＦＤ要素６７ａと第２ＴＦＤ要素６７ｂとを直列に接続することによって形成されている。このＴＦＤ素子６７は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、ＴａＷ（タンタルタングステン）によってライン配線６６の第１層６６ａ及びＴＦＤ素子６７の第１金属７１を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線６６の第２層６６ｂ及びＴＦＤ素子６７の絶縁膜７２を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線６６の第３層６６ｃ及びＴＦＤ素子６７の第２金属７３を形成する。
【００７６】
第１ＴＦＤ要素６７ａの第２金属７３はライン配線６６の第３層６６ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素６７ｂの第２金属７３の先端に重なるように、ドット電極６１ｂが形成される。ライン配線６６からドット電極６１ｂへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に沿って、第１ＴＦＤ要素６７ａでは第２電極７３→絶縁膜７２→第１金属７１の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素６７ｂでは第１金属７１→絶縁膜７２→第２金属７３の順に電気信号が流れる。
【００７７】
つまり、第１ＴＦＤ要素６７ａと第２ＴＦＤ要素６７ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Back-to-Back）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。
【００７８】
図７において、第２基板４４ｂは第１基板４４ａの外側に張り出す張出し部４７を有し、その張出し部４７の第１基板４４ａ側の表面には配線３９及び端子３８が形成されている。これらの配線３９及び端子３８が集まる領域に１つの駆動用ＩＣ３７ａ及び２つの駆動用ＩＣ３７ｂが図示しないＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）によって実装されている。
【００７９】
配線３９及び端子３８は第２基板４４ｂ上にライン配線６６やドット電極６１ｂを形成するときに同時に形成される。なお、ライン配線６６は張出し部４７の上にそのまま延び出て配線３９となって、駆動用ＩＣ３７ａに接続されている。
また、第１基板４４ａと第２基板４４ｂとを接着するシール材４６の内部には球形又は円筒形の導通材（図示せず）が混入されている。第１基板４４ａ上に形成された帯状電極６１ａは第１基板４４ａの上でシール材４６の所まで引き回された後、シール材４６中の導通材を介して第２基板４４ｂ上の配線３９に接続されている。これにより、第１基板４４ａ上の帯状電極６１ａは第２基板４４ｂ上の駆動用ＩＣ３７ｂに接続されている。
【００８０】
図７において、液晶パネル４２を構成する第１基板４４ａの外側表面に対向して配設された照明装置４３は、例えば、透明なプラスチックによって形成された方形状で板状の導光体８１と、点状光源としてのＬＥＤ８２とを有する。導光体８１のうち液晶パネル４２と反対側の面には光反射シート（図示せず）を装着することができる。また、導光体８１のうち液晶パネル４２に対向する面には光拡散シート（図示せず）を装着することができる。また、光拡散シートの上に、さらに、プリズムシート（図示せず）を装着することもできる。
【００８１】
ＬＥＤ８２は本実施形態では３個使用されているが、ＬＥＤ８２は必要に応じて１個とすることもでき、あるいは、３個以外の複数個とすることもできる。また、ＬＥＤ等といった点状光源に代えて、冷陰極管等といった線状光源を用いることも出来る。
【００８２】
以下、上記構成より成る液晶装置に関してその動作を説明する。
【００８３】
太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合、図８に矢印Ｆで示すように、外部光が第２基板４４ｂを通して液晶パネル４２の内部へ取り込まれ、この外部光が液晶層５３を通過した後に反射膜５６で反射して液晶層５３へ供給される。
【００８４】
他方、外部光が不十分である場合には、照明装置４３を構成するＬＥＤ８２（図７参照）を点灯する。このとき、ＬＥＤ８２から点状に出た光は導光体８１の入光面８１ａから該導光体８１の内部へ導入され、その後、液晶パネル４２に対向する面、すなわち光出射面８１ｂから面状に出射する。このようにして光出射面８１ｂの各所から出射する光が、図８において矢印Ｇで示すように反射膜５６に形成した開口６８を通って面状の光として液晶層５３へ供給される。
【００８５】
以上のようにして液晶層５３へ光が供給される間、液晶パネル４２に関しては、駆動用ＩＣ３７ａ及び３７ｂ（図７参照）によって制御されて、ライン配線６６に例えば走査信号が供給され、同時に、帯状電極６１ａに例えばデータ信号が供給される。このとき、走査信号とデータ信号との電位差に応じて特定表示ドットに付属するＴＦＤ素子６７が選択状態（すなわち、オン状態）になると、その表示ドット内の液晶容量に映像信号が書き込まれ、その後、当該ＴＦＤ素子６７が非選択状態（すなわち、オフ状態）になると、その信号は当該表示ドットに蓄えられて当該表示ドット内の液晶層を駆動する。
【００８６】
こうして、液晶層５３内の液晶分子が表示ドットごとに制御され、それ故、液晶層５３を通過する光が表示ドットＤごとに変調される。そして、このように変調された光が第２基板４４ｂ側の偏光板６３ｂを通過することにより、液晶パネル４２の有効表示領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。反射層５６で反射する外部光を利用して行われる表示が反射型表示である。また、照明装置４３からの光を利用して行われる表示が透過型表示である。本実施形態では、それらの反射型表示及び透過型表示を使用者の希望に応じて、あるいは外部環境の変化に応じて自動的に選択する。
【００８７】
図８の反射層５６を用いて上記の反射型表示を行うとき、反射層５６の表面に設けられた凹凸は矢印Ｈ方向から見て平面的に十分にランダムに配置されていることが望ましい。何故ならば、この凹凸の配置に関して一部分でも規則的な配列が存在すると、反射光に干渉縞が発生して、表示が見難くなるおそれがあるからである。
【００８８】
また、反射層５６の表面に設けられた凹凸のうち凹部同士間の距離は狭過ぎないことが望ましい。すなわち、樹脂層５５の凹凸のうち凹部同士間の距離は狭過ぎないことが望ましい。何故ならば，凹部同士間の距離が狭過ぎると、その部分において樹脂層５５が基材５１ａから剥がれ易くなるからである。
【００８９】
以下、上記構成の電気光学装置の製造方法について、図２２のフローチャートを参照して説明する。図２２において、工程Ｐ３１から工程Ｐ３４が図７の第２基板４４ｂを形成するための工程である。また、工程Ｐ４１から工程Ｐ４８が図７の第１基板４４ａを形成するための工程である。また、工程Ｐ５１から工程Ｐ５８がそれらの基板を組み合わせて液晶装置を完成させるための工程である。
【００９０】
なお、本実施形態の製造方法では、図７に示す第１基板４４ａ及び第２基板４４ｂを１つずつ形成するのではなく、第１基板４４ａに関しては、複数の第１基板４４ａを形成できる大きさの面積を有する第１マザー基板を用いて複数の第１基板４４ａを同時に形成する。また、第２基板４４ｂに関しては、複数の第２基板４４ｂを形成できる大きさの面積を有する第２マザー基板を用いて複数の第２基板４４ｂを同時に形成する。第１マザー基板及び第２マザー基板は、例えば、透明なガラス、透明なプラスチック等によって形成される。
【００９１】
まず、図２２の工程Ｐ３１において、第２マザー基板の表面に図７（ａ）のＴＦＤ素子６７及びライン配線６６を形成する。次に、工程Ｐ３２において、図７（ａ）のドット電極６１ｂをＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。次に、工程Ｐ３３において、図８の配向膜６２ｂを塗布や印刷等によって形成し、さらに工程Ｐ３４において、その配向膜６２ｂに配向処理、例えばラビング処理を施す。以上により、第２マザー基材の上に複数の第２基板４４ｂが形成される。
【００９２】
次に、図２２の工程Ｐ４１において、第１マザー基板の表面上に図８の樹脂層５５の第１層５５ａを、例えば感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。その第１層５５ａの表面には微細な凹凸が形成される。その後、第１層５５ａの上に同じ材料の第２層５５ｂを薄く塗布して、樹脂層５５を形成する。
【００９３】
次に、図２２の工程Ｐ４２において、図８の反射層５６を、例えばＡｌやＡｌ合金等を材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。このとき、表示ドットＤごとに開口６８を形成することにより、光反射部Ｒと透光部Ｔを形成する。次に、工程Ｐ４３において、図８の遮光層５７を、例えばＣｒを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって所定のパターン（例えば、複数の表示ドットＤの周りを埋めるような格子状パターン）に形成する。
【００９４】
次に、図２２の工程Ｐ４４において、図８の着色要素５８をＲ，Ｇ，Ｂの各色ごとに順々に形成する。例えば、各色の顔料や染料を感光性樹脂に分散させて成る着色材料をフォトリソグラフィ処理によって所定の配列に形成する。次に、工程Ｐ４５において、図８のオーバーコート層５９を、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。
【００９５】
次に、図２２の工程Ｐ４６において、図８の帯状電極６１ａをＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成し、さらに工程Ｐ４７において図８の配向膜６２ａを形成し、さらに工程Ｐ４８において配向処理としてのラビング処理を行う。以上により、第１マザー基材の上に複数の第１基板４４ａが形成される。
【００９６】
その後、図２２の工程Ｐ５１において、第１マザー基板と第２マザー基板とを貼り合わせる。これにより、第１マザー基板と第２マザー基板とが個々の液晶装置の領域において図７のシール材４６を挟んで貼り合わされた構造の大面積のパネル構造体が形成される。
【００９７】
次に、以上のようにして形成された大面積のパネル構造体に含まれるシール材４６（図７参照）を、工程Ｐ５２において硬化させて両マザー基板を接着する。
次に、工程Ｐ５３において、パネル構造体を１次切断、すなわち１次ブレイクして、図７の液晶パネル４２の複数が１列に並んだ状態で含まれる中面積のパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造体を複数形成する。シール材４６には予め適所に開口４６ａが形成されており、上記の１次ブレイクによって短冊状のパネル構造体が形成されると、そのシール材４６の開口４６ａが外部に露出する。
【００９８】
次に、図２２の工程Ｐ５４において、上記のシール材の開口４６ａを通して各液晶パネル部分の内部へ液晶を注入し、その注入の完了後、その開口４６ａを樹脂によって封止する。次に、工程Ｐ５５において、２回目の切断、すなわち２次ブレイクを行い、短冊状のパネル構造体から図７に示す個々の液晶パネル４２を切り出す。
【００９９】
次に、図２２の工程Ｐ５６において、図７の液晶パネル４２に偏光板６３ａ及び６３ｂを貼着によって装着する。次に、工程Ｐ５７において、図７の駆動用ＩＣ３７ａ及び３７ｂを実装し、さらに工程Ｐ５８において、図７の照明装置４３を取り付ける。これにより、液晶装置４１が完成する。
【０１００】
以上のような液晶装置の製造方法において、工程Ｐ４１の樹脂層形成工程では、図８の樹脂層５５の第１層５５ａの表面にドット部としての複数の凹部６４を平面的にランダムな配置で形成するために、図１に示す露光用マスク１を用いて第１層５５ａを露光及び現像する。このとき、マスク１のドット部すなわち穴４に対応して第１層５５ａの表面に凹部６４が形成される。
【０１０１】
マスク１に形成される複数の穴４は、既述の通り、図３に示すマスクの製造装置に含まれる露光装置２１の描画処理によって形成される。また、露光装置２１に供給されるランダムパターンのデータ（Ｘ０，Ｙ０），（Ｘ１，Ｙ１），……（Ｘｎ，Ｙｎ）は、図６に示した制御によって十分にランダム化され、しかも全ての穴４に関して隣接するもの同士が近づき過ぎないように配置される。
【０１０２】
なお、本実施形態に係る液晶装置の製造方法で用いるマスクに関しては、図１における単位領域Ａ０を、図１０、図１４及び図１８のそれぞれに例示したような、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色要素５８の配置の仕方との関連で決めるようにしてある。具体的には、単位領域Ａ０の面積は、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応した３個の着色要素５８の集まりである１つの画素とほぼ同じ面積に設定される。
【０１０３】
従って、図６のステップＳ１１では、単位領域サイズとして上記のような１画素の面積が読み込まれる。また、ステップＳ１２では、ランダムパターンの元データから１画素サイズ分を切り出して１次ランダムデータとして設定する。また、ステップＳ１３では、採用されている着色要素５８の配置の仕方に対応させて、注目する画素の周囲に補助領域をつなぎ合わせる。
【０１０４】
例えば、図１０の縦ストライプ配置が採用される場合には、図１１に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂの３つの着色要素５８から成る１つの画素に対応して注目する単位領域３１が設定される。また、図１２に示すように１つの画素分の１次ランダムデータ、すなわち１次的にランダムに配置されたデータとしての穴４、が元データから１画素分だけ切り出されて単位領域３１に割り当てられる。さらに、図１３に示すようにその注目する画素３１の周囲に、画素３１と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域３２がＲ，Ｇ，Ｂを１つのユニットとしてつなぎ合わされる。
【０１０５】
そして、ステップＳ１４で、注目画素３１内の複数の穴４の中から１つの注目穴４が選択され、さらにステップＳ１５で、その注目穴４とそれの周囲に存在する複数の周囲穴４のそれぞれとの間の距離“ｄ”が演算される。そして、そのｄ値が基準距離“ｓ”と比較される。
【０１０６】
ｄ≦ｓとなる周囲穴４が存在すれば（ステップＳ１６でＹＥＳ）、その注目画素３１及び補助領域３２内の周囲穴４のデータが注目穴４から離れる方向へ修正され（ステップＳ１７とステップＳ１８）、全ての穴４がｄ≦ｓの条件を満足するまでその処理が繰り返される。これにより、最終的に得られる注目画素３１についての穴４の配置データは、穴間距離が必ず基準値“ｓ”よりも大きく、しかも注目画素３１と補助領域３２との間の境界線近傍でも穴間距離は基準値“ｓ”よりも大きく維持される。
【０１０７】
このようにして作成された１つの画素に関するランダムデータを、必要となる面積分だけつなぎ合わせることにより、図１のマスク１の全面積に対応する大きさのランダムパターンのデータが作成される。
【０１０８】
なお、着色要素５８の配置の仕方として図１４に示すようなモザイク配置が採用された場合には、図１５に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素５８によって形成される１画素によって単位領域３１及び補助領域３２が決められる。また、図１６に示すように１つの画素分の１次ランダムデータとしての穴４が切り出される。さらに、図１７に示すようにその注目する画素３１の周囲に、画素３１と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域３２がＲ，Ｇ，Ｂを１つのユニットとしてつなぎ合わされる。
【０１０９】
また、着色要素５８の配置の仕方として図１８に示すようなデルタ配置が採用された場合には、図１９に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素５８によって形成される１画素によって単位領域３１及び補助領域３２が決められる。また、図２０に示すように１つの画素分の１次ランダムデータとしての穴４が切り出される。さらに、図２１に示すようにその注目する画素３１の周囲に、画素３１と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域３２がＲ，Ｇ，Ｂを１つのユニットとしてつなぎ合わされる。
【０１１０】
以上のように、ランダムパターンの単位領域を、着色要素５８によって形成されるカラーフィルタの１画素分に対応させて設定すれば、すなわち、単位領域の境界線が遮光層５７によって構成されるブラックマスクの中に含まれるように設定すれば、ランダムパターンによる光反射特性と着色要素５８によるカラー表示特性との間に画素ごとにバラツキが生じることを防止できる。
【０１１１】
なお、以上の説明から明らかなことであるが、ランダムパターン内に設ける複数のドット部と言う場合には、このドット部というのは概念的なものであって、具体的な穴とか、具体的なドット状の実在部分ということではない。そして、このランダムパターンに基づいて露光装置によってマスクを製造した場合には、複数のドット部に対応する位置には、透光用の穴や、遮光用のドット状実在部分が形成されることになる。
【０１１２】
また、以上の実施形態ではドット部４として円形部分を考えたが、ドット部４としては、図２に示すような６角形部分や、その他の多角形部分を考えることもできる。
【０１１３】
また、ランダムパターンの設計や、マスクの設計を行う際には、ドット部４の大きさや数が重要な設計要素となる。ドット部４の大きさを規定する場合にはその最大外形寸法を規定すれば良く、この最大外形寸法は、ドット部４が円形部分である場合にはその直径であり、多角形部分である場合には図２に符号Ｄ１で示す対角寸法である。
【０１１４】
ドット部４として図２の６角形状部分を採用した場合、そのドット部４の最大外形寸法Ｄ１＝７．５μｍ、幅寸法Ｄ２＝６μｍとすれば、その面積は約３３μｍ２となる。ランダムパターンの作成に際して、単位領域Ａ０内に切り出すべきドット部４の数を幾つにするかを決定するときには、必要なドット部４の全面積が図１のマスク１の単位領域Ａ０の面積の何％にすれば良いかを設定する。例えば、ドット部４の必要な合計面積を単位領域Ａ０の約３０％、具体的には３１％又は３２％であると設定すれば、ドット部４の１つの面積は上記の通りに約３３μｍ２であるから、ドット部４の必要数は計算によって求めることができる。
【０１１５】
発明者の実験によれば、図８に示すように、樹脂層５５を第１層５５ａ及び第２層５５ｂから成る２層構造とした場合には、（１）ドット部４としては図２の６角形状部分を採用し、（２）Ｄ１＝７．５μｍ、Ｄ２＝６μｍ、そしてドット部４の必要合計面積を単位領域Ａ０の３１％に設定し、さらに、（３）ドット間距離の基準値をｓ＝９μｍと設定することが、複数のドット部４を互いに近づき過ぎることなく、しかも十分にランダムに配置させることに関して有効であることが分かった。
【０１１６】
ところで、図８に示す樹脂層５５は、２層構造に限られず、１層構造にすることもできる。発明者の実験によれば、この１層構造を採用する場合には、（１）ドット部４としては図２の６角形状部分を採用し、（２）Ｄ１＝１０μｍ、Ｄ２＝９μｍ、そしてドット部４の必要合計面積を単位領域Ａ０の３２％に設定し、さらに、（３）ドット間距離の基準値をｓ＝１３．５μｍと設定することが、複数のドット部４を互いに近づき過ぎることなく、しかも十分にランダムに配置させることに関して有効であることが分かった。
【０１１７】
（その他の実施形態）
以上の実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素５８から成る１画素をランダムパターンの単位領域としたが、この単位領域はその他の任意の面積領域とすることができる。例えば、表示の最小単位である表示ドットＤの１つを最小単位とすることができる。
【０１１８】
また、以上の実施形態では、着色要素５８をＲ，Ｇ，Ｂの３色としたが、着色要素５８はＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）の組合せとすることもできる。
【０１１９】
また、以上の実施形態では、着色要素５８を用いてカラー表示を行う液晶装置に対して本発明を適用したが、本発明は、単色カラー表示の液晶装置や、着色要素５８を用いない白黒表示を行う液晶装置に対しても適用できる。
【０１２０】
また、以上に示した液晶装置は、ＴＦＤ素子をアクティブ素子とするアクティブマトリクス方式の液晶装置であるが、本発明は、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＴ等といった３端子型のスイッチング素子をアクティブ素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。
【０１２１】
また、以上の実施形態では、電気光学装置として液晶装置を例示したが、電気光学装置としては液晶装置以外に、ＥＬ（Electro Luminescence）装置、プラズマディスプレイ装置、ＥＰＤ（Electrophoretic Display：電気泳動ディスプレイ）、ＦＥＤ（Field Emission Display：電界放出表示装置）等も考えられる。
【０１２２】
（ランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法の第２実施形態）
次に、本発明に係るランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法の他の実施形態を説明する。以上に記載した実施形態では、図６を用いて説明したように、Ｒ，Ｇ，ＢやＣ，Ｍ，Ｙ等といった３色の表示ドットの集まりである１画素を単位領域としてランダムパターンを作成した。これから説明する実施形態は、単位領域として１画素以外の大きさを選定してランダムパターンを作成するものである。
【０１２３】
図２３は、そのようなランダムパターンの作成方法をコンピュータ、例えば図３に示すコンピュータを用いて実施する場合のフローチャートを示している。また、このランダムパターンの作成方法では、図２４に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色要素５８が縦ストライプ状に配列されて成るカラーフィルタ６０に対応してランダムパターンを作成するものとする。なお、以下の説明では、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色要素に対応する表示ドットを、それぞれ、Ｒ表示ドット、Ｇ表示ドット、Ｂ表示ドットと呼ぶことにする。また、以下の実施形態では、ランダムパターンのドット部として穴を形成するものとする。
【０１２４】
図２３に戻って、ステップＳ３１において、Ｒ表示ドットを単位領域と設定した上でそのＲ表示ドット内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、Ｒ表示ドットを単位領域と設定して図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０の処理を実行する。より詳細に説明すれば、まず、図６のステップＳ１１において１つの表示ドットに対応するサイズを単位領域のサイズとして読み込む。また、ドット部としての穴の穴径を“ａ１”、単位領域内の穴数を“ｍ１”、面積密度を“ｎ１”、穴間の基準距離を“ｓ１”として読み込む。ここで、面積密度とは、１つの穴の面積を「ａ」とし、単位領域内の穴数を「ｍ」とし、単位領域の面積を「Ａ」とするとき、
ａ×ｍ／Ａ
によって表される数値である。
【０１２５】
次に、図６のステップＳ１２で、ランダムパターンの元データから１表示ドット分を切り出して１次ランダムデータとして設定する。また、ステップＳ１３で、図２４のＲ表示ドットに対応する単位領域３１を注目する単位領域と設定し、さらにその注目単位領域の周囲に補助領域３２をつなぎ合わせる。また、図２５に示すように、１つの表示ドット分の１次ランダムデータ、すなわち１次的にランダムに配置されたデータとしての穴４、が元データから１表示ドット分だけ切り出されて単位領域３１に割り当てられる。さらに、図２６に示すように、その注目する単位領域３１の周囲に、単位領域３１と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域３２がつなぎ合わされる。
【０１２６】
次に、図６のステップＳ１４で、注目単位領域３１内の複数の穴４の中から１つの注目穴４が選択され、さらにステップＳ１５で、その注目穴４とそれの周囲に存在する複数の周囲穴４のそれぞれとの間の距離“ｄ”が演算される。そして、そのｄ値が基準距離“ｓ１”と比較される。
【０１２７】
ｄ≦ｓ１となる周囲穴４が存在すれば（ステップＳ１６でＹＥＳ）、その注目単位領域３１及び補助領域３２内の周囲穴４のデータが注目穴４から離れる方向へ修正され（ステップＳ１７とステップＳ１８）、全ての穴４がｄ≦ｓの条件を満足するまでその処理が繰り返される。これにより、最終的に得られる注目単位領域３１についての穴４の配置データは、穴間距離が必ず基準値“ｓ１”よりも大きく、しかも注目単位領域３１と補助領域３２との間の境界線近傍でも穴間距離は基準値“ｓ１”よりも大きく維持される。以上により、Ｒ表示ドットに対応する１つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成されて、図２３のステップＳ３１が終了する。作成されたランダムデータはコンピュータの記憶部に記憶される。
【０１２８】
次に、図２３のステップＳ３２において、図２４のＧ表示ドットを単位領域と設定した上でそのＧ表示ドット内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、Ｇ表示ドットの１つを単位領域と設定して図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップＳ３１における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。
【０１２９】
なお、このＧ表示ドットに対する処理においてコンピュータの処理部に読み込まれるデータについては、ドット部としての穴の穴径を“ａ２”、単位領域内の穴数を“ｍ２”、面積密度を“ｎ２”、そして穴間の基準距離を“ｓ２”とする。これらの穴径“ａ２”、穴数“ｍ２”、面積密度“ｎ２”、基準距離“ｓ２”の数値は、ステップＳ３１におけるＲ表示ドットの場合の穴径“ａ１”、穴数“ｍ１”、面積密度“ｎ１”、基準距離“ｓ１”の数値と全て同じとすることもできるし、あるいは、それらの一部を異なる値とすることもできる。
【０１３０】
ステップＳ３２において図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０までの一連の処理が終了すると、図２４のＧ表示ドットに対応する１つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成され、記憶部に記憶される。
【０１３１】
次に、図２３のステップＳ３３において、図２４のＢ表示ドットを単位領域と設定した上でそのＢ表示ドット内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、Ｂ表示ドットの１つを単位領域と設定して図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップＳ３１及びステップＳ３２における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。
【０１３２】
なお、このＢ表示ドットに対する処理においてコンピュータの処理部に読み込まれるデータについては、ドット部としての穴の穴径を“ａ３”、単位領域内の穴数を“ｍ３”、面積密度を“ｎ３”、そして穴間の基準距離を“ｓ３”とする。これらの穴径“ａ３”、穴数“ｍ３”、面積密度“ｎ３”、基準距離“ｓ３”の数値は、ステップＳ３１におけるＲ表示ドットの場合の穴径“ａ１”、穴数“ｍ１”、面積密度“ｎ１”、基準距離“ｓ１”や、ステップＳ３２におけるＧ表示ドットの場合の穴径“ａ２”、穴数“ｍ２”、面積密度“ｎ２”、基準距離“ｓ２”の数値と全て同じとすることもできるし、あるいは、それらの一部を異なる値とすることもできる。
【０１３３】
ステップＳ３３において図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０までの一連の処理が終了すると、図２４のＢ表示ドットに対応する１つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成され、記憶部に記憶される。
【０１３４】
以上により、Ｒ，Ｇ，Ｂの各表示ドットに対応するランダムデータが個別に作成されると、次に、図２３のステップＳ３４に進んで、Ｒ，Ｇ，Ｂの各表示ドットをつなぎ合わせた領域、すなわち１画素に相当する領域を単位領域と設定した上でその１画素内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、１画素に相当する領域を単位領域と設定して図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップＳ３１及びステップＳ３２における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。
【０１３５】
図２３のステップ３４において図６のステップＳ２０が終了すると、Ｒ，Ｇ，Ｂの各表示ドットのつなぎ合わせによって構成される１画素内のランダムデータが決定する。その後、図２３のステップ３５において、図６のステップＳ２１と同じ処理、すなわち、作成された１画素分のランダムデータを平面的につなぎ合わせることにより、希望する全面積分のランダムパターンを決定する。
【０１３６】
なお、図２３のステップ３４において図６のステップＳ１６の判断処理を行う場合、ステップＳ３１〜Ｓ３３の各ステップにおける穴間の基準距離ｓ１〜ｓ３が全て同じに設定されているときには、ステップ３４における基準距離ｓ４もそれらｓ１〜ｓ３の値と同じ値を選定することが望ましい。
【０１３７】
一方、ステップＳ３１〜Ｓ３３の各ステップにおける穴間の基準距離ｓ１〜ｓ３は互いに異なる値に設定されることがある。この場合には、ステップ３４における基準距離ｓ４は、それらｓ１〜ｓ３のうち最も小さい値に設定されることが望ましい。仮に、基準距離ｓ４をｓ１〜ｓ３のうちの最も小さい値以外の値に設定すると、コンピュータの演算過程において穴間隔を広く開け過ぎてしまう場合が生じ、そのため、適正な演算結果が得られなるおそれがある。また、コンピュータの演算処理に大きな負荷がかかるおそれもある。これらの結果、ランダムデータの作成に関して汎用性が低下するおそれがある。これに対し、本実施形態のように基準距離ｓ４をｓ１〜ｓ３のうち最も小さい値に設定すれば、ランダムデータの作成がより一般的になり、汎用性が増大する。
【０１３８】
（ランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法の第３実施形態）
次に、本発明に係るランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法のさらに他の実施形態を説明する。以上に記載した実施形態では、図２３を用いて説明したように、Ｒ，Ｇ，ＢやＣ，Ｍ，Ｙ等といった３色の表示ドットの１つずつを単位領域としてランダムパターンを作成した。これから説明する実施形態は、単位領域の選定の仕方に改変を加えたものである。
【０１３９】
図２７は、そのようなランダムパターンの作成方法をコンピュータ、例えば図３に示すコンピュータを用いて実施する場合のフローチャートを示している。また、このランダムパターンの作成方法では、図２８に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色要素５８が縦ストライプ状に配列されて成るカラーフィルタ６０に対応してランダムパターンを作成するものとする。この実施形態においても、ランダムパターンのドット部として穴を形成する場合を考える。
【０１４０】
図２７に戻って、ステップＳ４１において、Ｒ表示ドット及びＧ表示ドットの２つの表示ドット分の領域を単位領域と設定した上で、その単位領域内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、Ｒ表示ドット及びＧ表示ドットの合計の領域を単位領域と設定して図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０の処理を実行する。より詳細に説明すれば、まず、図６のステップＳ１１において２つの表示ドットに対応するサイズを単位領域のサイズとして読み込む。
【０１４１】
また、本実施形態では、Ｒ表示ドット内及びＧ表示ドット内の両方に同じ形状の穴を同じ数及び同じ面積密度で形成するものとする。従って、ステップＳ１１において、ドット部としての穴の穴径を“ａ１”、単位領域内の穴数を“ｍ１”、面積密度を“ｎ１”、穴間の基準距離を“ｓ１”として読み込む。
【０１４２】
次に、図６のステップＳ１２で、ランダムパターンの元データから２表示ドット分を切り出して１次ランダムデータとして設定する。また、ステップＳ１３で、図２８のＲ表示ドット及びＧ表示ドットの２つに対応する単位領域３１を注目する単位領域と設定し、さらにその注目単位領域の周囲に補助領域３２をつなぎ合わせる。また、図２９に示すように、２つの表示ドット分の１次ランダムデータ、すなわち１次的にランダムに配置されたデータとしての穴４、が元データから２表示ドット分だけ切り出されて単位領域３１に割り当てられる。さらに、図３０に示すように、その注目する単位領域３１の周囲に、単位領域３１と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域３２が２つの表示ドットを１つのユニットとしてつなぎ合わされる。
【０１４３】
次に、図６のステップＳ１４で、注目単位領域３１内の複数の穴４の中から１つの注目穴４が選択され、さらにステップＳ１５で、その注目穴４とそれの周囲に存在する複数の周囲穴４のそれぞれとの間の距離“ｄ”が演算される。そして、そのｄ値が基準距離“ｓ１”と比較される。
【０１４４】
ｄ≦ｓ１となる周囲穴４が存在すれば（ステップＳ１６でＹＥＳ）、その注目単位領域３１及び補助領域３２内の周囲穴４のデータが注目穴４から離れる方向へ修正され（ステップＳ１７とステップＳ１８）、全ての穴４がｄ≦ｓの条件を満足するまでその処理が繰り返される。これにより、最終的に得られる注目単位領域３１についての穴４の配置データは、穴間距離が必ず基準値“ｓ１”よりも大きく、しかも注目画素３１と補助領域３２との間の境界線近傍でも穴間距離は基準値“ｓ１”よりも大きく維持される。以上により、Ｒ表示ドット及びＧ表示ドットに対応する２つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成されて、図２７のステップＳ４１が終了する。作成されたランダムデータはコンピュータの記憶部に記憶される。
【０１４５】
次に、図２７のステップＳ４２において、図２８のＢ表示ドットを単位領域と設定した上でそのＢ表示ドット内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、Ｂ表示ドットの１つを単位領域と設定して図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップＳ４１における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。なお、このＢ表示ドットに対する処理においてコンピュータの処理部に読み込まれるデータについては、ドット部としての穴の穴径を“ａ２”、単位領域内の穴数を“ｍ２”、面積密度を“ｎ２”、そして穴間の基準距離を“ｓ２”とする。
【０１４６】
一般に、Ｒ色とＧ色との間の光散乱特性は近似しているのに対し、Ｂ色の光散乱特性はＲ色やＧ色に比べて大きく異なっている。具体的には、Ｂ色は、Ｒ色及びＧ色に比べて散乱角度が狭いことが知られている。このような散乱特性の違いを補償するため、本実施形態では、穴径に関してａ２＞ａ１となるようにａ２を設定し、面積密度に関してｎ２＝ｎ１となるように穴数ｍ２を設定する。また、穴径をａ２＞ａ１に設定したことに関連して、穴間距離ｓ２をｓ２＜ｓ１となるように設定する。例えば、Ｒ及びＧ表示ドットに関して、ａ１＝９μｍ（直径）とし、ｓ１＝１２μｍとする。また、Ｇ表示ドットに関して、ａ２＝１０μｍ（直径）として、ｓ２＝１３．５μｍとする。
【０１４７】
ステップＳ４２において図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０までの一連の処理が終了すると、図２８のＢ表示ドットに対応する１つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成され、記憶部に記憶される。以上により、Ｒ及びＧ表示ドットに対応するランダムデータ、並びにＢ表示ドットに対応するランダムデータが個別に作成されると、次に、図２７のステップＳ４３に進んで、Ｒ，Ｇ，Ｂの各表示ドットをつなぎ合わせた領域、すなわち１画素に相当する領域を単位領域と設定した上でその１画素分の領域内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、１画素に相当する領域を単位領域と設定して図６のステップＳ１１〜ステップＳ２０の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップＳ４１及びステップＳ４２における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。
【０１４８】
図２７のステップ４３において図６のステップＳ２０が終了すると、Ｒ，Ｇ，Ｂの各表示ドットのつなぎ合わせによって構成される１画素内のランダムデータが決定する。その後、図２７のステップ４４において、図６のステップＳ２１と同じ処理、すなわち、作成された１画素分のランダムデータを平面的につなぎ合わせる処理を行うことにより、希望する全面積分のランダムパターンを決定する。
【０１４９】
なお、本実施形態では、Ｒ，Ｇに対する穴間距離ｓ１及びＢに対する穴間距離ｓ２が、ｓ２＞ｓ１に設定されるので、図２７のステップ４３において図６のステップＳ１６の判断処理を行う際、ステップ４３における基準距離ｓは、それらｓ１、ｓ２のうちの小さい値に設定されることが望ましい。これにより、ランダムデータの作成がより一般的になり、汎用性が増大する。
【０１５０】
（変形例）
図２７では、Ｒ及びＧ表示ドットに関する処理（ステップＳ４１）をＢ表示ドットに関する処理（ステップＳ４２）に先立って行ったが、これとは逆に、Ｂ表示ドットに関する処理を先に行っても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１５１】
本発明に係るランダムパターンの作成方法は、マスクにランダムパターンを形成する再に好適に用いられる。また、本発明のマスクの製造方法は、マスク内にランダムパターンを形成する際に好適に用いられる。また、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、液晶装置、有機ＥＬ装置、電子放出素子（Field Emission Display及びSurface-Conduction Electron-Emitter Display等）等といった電気光学装置を製造する際に好適に用いられる。また、本発明に係るランダムパターンの作成プログラムは、コンピュータを用いてランダムパターンを作成する際に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１５２】
【図１】本発明に係るマスクの製造方法によって製造されるマスクの一例を示す図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図である。
【図２】ドット部の一例を示す図である。
【図３】本発明に係るマスクの製造方法を実施できる装置の一例を示すブロック図である。
【図４】図３の装置によって行われる演算を模式的に示す図であって、単位領域のつなぎ合わせ方を示す図である。
【図５】本発明に係るマスクの製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図６】本発明に係るランダムパターンの作成方法の一実施形態を示すフローチャートである。
【図７】本発明に係る電気光学装置の製造方法によって製造される電気光学装置の一例である液晶装置を示す図である。
【図８】図７の液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図９】図７の液晶装置で用いられるアクティブ素子の一例であるＴＦＤ素子の一例を示す斜視図である。
【図１０】カラーフィルタの一例を示す平面図である。
【図１１】図１０のカラーフィルタと単位領域との関係を示す図である。
【図１２】図１０のカラーフィルタに対応して単位領域に１次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。
【図１３】図１０のカラーフィルタに対応して単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図である。
【図１４】カラーフィルタの他の一例を示す平面図である。
【図１５】図１４のカラーフィルタと単位領域との関係を示す図である。
【図１６】図１４のカラーフィルタに対応して単位領域に１次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。
【図１７】図１４のカラーフィルタに対応して単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図である。
【図１８】カラーフィルタのさらに他の一例を示す平面図である。
【図１９】図１８のカラーフィルタと単位領域との関係を示す図である。
【図２０】図１８のカラーフィルタに対応して単位領域に１次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。
【図２１】図１８のカラーフィルタに対応して単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図である。
【図２２】本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図２３】本発明に係るランダムパターンの作成方法の他の実施形態を示すフローチャートである。
【図２４】カラーフィルタと単位領域との関係の他の例を示す図である。
【図２５】図２４の単位領域に１次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。
【図２６】図２５の単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図である。
【図２７】本発明に係るランダムパターンの作成方法のさらに他の実施形態を示すフローチャートである。
【図２８】カラーフィルタと単位領域との関係のさらに他の例を示す図である。
【図２９】図２８の単位領域に１次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。
【図３０】図２９の単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図である
【符号の説明】
【０１５３】
１：マスク、２：基材、３：遮光層、４：穴（ドット部）、１７：メモリ、１８ａ，１８ｂ：ファイル、１９：露光対象物、３１：単位領域、３２：補助領域、４１：液晶装置（電気光学装置）、４２：液晶パネル、４３：照明装置、４４ａ，４４ｂ：基板、４６：シール材、５１ａ，５１ｂ：基材、５３：液晶層、５５：樹脂層、５５ａ：第１層、５５ｂ：第２層、５６：反射層、５７：遮光層、５８：着色要素、５９：オーバーコート層、６０：カラーフィルタ、６１ａ，６１ｂ：電極、６４：凹部（ドット部、６６：ライン配線、６７：ＴＦＤ素子、Ａ０：単位領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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