(57)【要約】【課題】  コンピュータ等のデジタルデータから赤外線レーザを用いるダイレクト製版が可能であり、耐傷性に優れ、現像ラチチュードが広い感熱性平版印刷版を提供する。【解決手段】  支持体上に、水不溶性かつアルカリ性水溶液可溶性高分子を含む２層の画像形成層を有する感熱性平版印刷版であって、該画像形成層の上層にカルボキシル基又はカルボン酸無水物基を有する特定の構造を有する共重合体を含有することを特徴とする感熱性平版印刷版。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、水不溶性かつアルカリ性水溶液可溶性高分子を含む２層の画像形成層を有する感熱性平版印刷版であって、該画像形成層の上層に下記一般式（Ａ）で示されるモノマー単位を有する共重合体を含有することを特徴とする感熱性平版印刷版。
【化２１】
2004252427.tif 000024
式（Ａ）中、
Ｗはカルボキシル基を表す。
Ｘは２価の連結基を表す。
Ｙは水素原子又はカルボキシル基を表す。
Ｚは水素原子、アルキル基又はカルボキシル基を表す。
または、ＷとＺもしくはＹとＺは、互いに結合して酸無水物基−（ＣＯ）−Ｏ−（ＣＯ）−を表す。
ｎは０又は１を表す。
【請求項２】
下記一般式（Ａ）で示されるモノマー単位が、下記一般式（Ａ’）で示されるモノマー単位であることを特徴とする請求項１に記載の感熱性平版印刷版。
【化２２】
2004252427.tif 000025
式（Ａ’）中、
Ｚ’は水素原子またはアルキル基を表す。
Ｘ’は置換基を有していてもよいアリーレン基または下記式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される構造のうちのいずれかを表す。
【化２３】
2004252427.tif 000026
式（Ｘ１）〜（Ｘ３）中、
Ａｒは置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
Ｒ'は２価の連結基を表す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はオフセット印刷用原版として使用できる画像記録材料に関するものであり、特にコンピュータ等のデジタルデータから直接製版できるいわゆるダイレクト製版用の感熱性平版印刷版に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年におけるレーザの発展は目覚ましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小型の装置が容易に入手できるようになっている。このような赤外線レーザを光源とするダイレクト製版用の感熱性平版印刷版は、明室での取り扱いが可能であり、製版作業上非常に好ましく有用である。
【０００３】
このダイレクト製版用の感熱性平版印刷版として、例えば、特許文献１（国際公開第９７／３９８９４号パンフレット）、特許文献２（特開平１１−４４９５６号公報）などには、アルカリ水溶液可溶性バインダー樹脂と光を吸収して熱を発生する赤外線吸収染料などを含有する感熱層（画像形成層）を有するポジ型の感熱性平版印刷版が記載されている。この画像形成層の未露光部では、赤外線吸収染料などがバインダー樹脂と相互作用してバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる。すなわち、赤外線吸収染料などが溶解阻害剤として働く。露光部では、露光によって発生した熱によりその相互作用が弱まり、バインダー樹脂はアルカリ現像液に可溶性となる。この露光部と未露光部との溶解性の差を利用して現像を行い、平版印刷版が形成される。
【０００４】
しかしながら、このポジ型感熱性平版印刷版では、様々な使用条件における未露光部（画像部）の現像液に対する耐溶解性と、露光部（非画像部）の溶解性との間の差が未だ十分とは言えず、使用条件の変動による現像過剰（画像部も溶け出して画像膜が薄くなる膜減り現象）や現像不良（非画像部が溶解しきれないで残る残膜）が起きやすいという問題があった。
また、画像形成層も強度が低いので、取り扱い時に表面に触れるなどによって微細なキズが生ずるなど表面状態が変動しやすく、このような微細のキズなどのわずかな表面状態の変動でも、その周辺の溶解性が増大してしまい、現像後の画像部がキズ跡状となり、耐刷性の劣化や着肉不良を引き起こすという問題があった。
さらに、感熱性平版印刷版の画像形成能は、赤外線レーザ露光による発熱に依存しているが、支持体への熱の拡散がおこる支持体近傍では、画像形成層の可溶化に用いられる熱量が少なくなるため、露光未露光の差が小さくなってハイライト再現性が不充分になるという問題もあった。
【０００５】
このような問題は、ポジ型感熱性平版印刷版とＵＶ露光により製版する従来のポジ型感光性平版印刷版（ポジＰＳ版）との製版メカニズムの本質的な相違に由来する。すなわち、ポジＰＳ版では、画像形成層がアルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂とオニウム塩やキノンジアジド化合物類を含み、このオニウム塩やキノンジアジド化合物類が、未露光部でバインダー樹脂との相互作用により溶解阻害剤として働くだけでなく、露光部では、光によって分解して酸を発生することによって溶解促進剤として働くという二つの役割を果たしている。
【０００６】
これに対して感熱性平版印刷版における赤外線吸収剤等は、未露光部の溶解阻害剤として働くのみで、露光部の溶解を促進するものではない。従って、感熱性平版印刷版は、未露光部と露光部との溶解性の差を出すため、バインダー樹脂として、あらかじめアルカリ現像液に対する溶解性の高いものを使用せざるを得ず、そうすると、膜減りを起こしたり
、耐傷性を劣化させたり、現像前の状態が不安定となるなどの問題を抱えることになる。逆に、未露光部を強くするため、バインダー樹脂のアルカリ現像液に対する溶解性を低くすれば感度の低下が引き起こされる。このように、感熱性平版印刷版においては、未露光部と露光部との溶解性差が小さいため、この差を識別して画像形成する現像条件の範囲（現像ラチチュード）が狭く制約される。
【０００７】
このため、露光部では溶解抑制がなくなり、未露光部では溶解抑制が維持されるといった選択的な溶解阻止剤の開発が種々検討されている。例えば、特許文献３（特開平７−２８５２７５号公報）等には、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料の記録層に、光熱変換剤と、熱分解性でありかつ熱分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質とを添加することによって、該記録層の溶解性を阻害し耐傷性を向上させる一方で、露光部では、光熱変換剤により変換された熱により該物質が分解されて、アルカリ可溶性樹脂の溶解抑制作用を失い、感度を向上させ得る技術が開示されている。
【０００８】
特許文献４（特開平１０−２５０２５５号公報）には、支持体上に、アルカリ性水溶液に可溶性のポリマーを含む疎水性層、さらにその上に赤外線に感受性の層を有することを特徴とする感熱性平版印刷版が記載されている。この感熱性平版印刷版では、上層にカーボンブラックとニトロセルロースなどを用いている。露光すると上層が部分的に消失し、これによって上層はよりアルカリ性水溶液浸透性となり、現像時にこの上層をマスクにして下層を選択的に除去し、画像が形成される。
【０００９】
また、特許文献５（特開２００２−２５１００３号公報）には、スルホンアミド基等を有する特定の水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を含む下層と、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収染料を含み、露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増加する上部感熱層とを有する感熱性平版印刷版が、良好な耐刷性と現像ラチチュードを有することが記載されている。
【００１０】
しかし、このような支持体上に２層の画像形成層を有する感熱性平版印刷版では、上部感熱層を薄くすることにより感度を向上させることができるが、その反面耐傷性が低下する。耐傷性を向上させるために上部感熱層を厚くすると感度が低下する。すなわち、このような感熱性平版印刷版では、感度と耐傷性とがトレードオフとなる問題があった。
【００１１】
【特許文献１】国際公開第９７／３９８９４号パンフレット
【特許文献２】特開平１１−４４９５６号公報
【特許文献３】特開平７−２８５２７５号公報
【特許文献４】特開平１０−２５０２５５号公報
【特許文献５】特開２００２−２５１００３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、赤外線レーザを用いるダイレクト製版用の感熱性平版印刷版における従来技術の欠点を克服することにある。すなわち、本発明の目的は、耐傷性に優れ、現像ラチチュードが広いダイレクト製版用の感熱性平版印刷版を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は鋭意研究を重ねた結果、下記手段によって上記目的が達成されることを見出した。すなわち、本発明は以下の通りである。
【００１４】
（１）支持体上に、水不溶性かつアルカリ性水溶液可溶性高分子を含む２層の画像形成層を有する感熱性平版印刷版であって、該画像形成層の上層に下記一般式（Ａ）で示されるモノマー単位を有する共重合体を含有することを特徴とする感熱性平版印刷版。
【００１５】
【化１】
2004252427.tif 000002
【００１６】
式（Ａ）中、
Ｗはカルボキシル基を表す。
Ｘは２価の連結基を表す。
Ｙは水素原子又はカルボキシル基を表す。
Ｚは水素原子、アルキル基又はカルボキシル基を表す。
または、ＷとＺもしくはＹとＺは、互いに結合して酸無水物基−（ＣＯ）−Ｏ−（ＣＯ）−を表す。
ｎは０又は１を表す。
【００１７】
（２）  一般式（Ａ）で示されるモノマー単位が、下記一般式（Ａ'）で示されるモノマー単位であることを特徴とする上記（１）に記載の感熱性平版印刷版。
【００１８】
【化２】
2004252427.tif 000003
【００１９】
式（Ａ'）中、
Ｚ'は水素原子またはアルキル基を表す。
Ｘ'は置換基を有していてもよいアリーレン基または下記式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される構造のうちのいずれかを表す。
【００２０】
【化３】
2004252427.tif 000004
【００２１】
式（Ｘ１）〜（Ｘ３）中、
Ａｒは置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
Ｒ'は２価の連結基を表す。
【００２２】
本発明は、鋭意検討の結果、水不溶性かつアルカリ性水溶液可溶性樹脂を含む
層を２層構成にし、その上層に特定のアルカリ性水溶液可溶性樹脂を含有させる
ことによって、現像におけるディスクリミネーションすなわち画像部と非画像部
との識別性を大幅に向上できることを見出したことに基づいており、このディス
クリミネーション向上によって、飛躍的な現像ラチチュードの向上および耐傷性
の改良が得られた。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、赤外線レーザを用いるダイレクト製版が可能で、耐傷性に優れ、現像ラチチュードが広い感熱性平版印刷版を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の平版印刷版は、支持体上に、水不溶性かつアルカリ性水溶液可溶性高分子を含む２層の画像形成層を有するポジ型の感熱性平版印刷版である。画像形成層の露光部は、露光によって発生した熱によってアルカリ性水溶液に対する溶解性を増大し、現像処理で溶解除去され、ポジ画像を形成する。
【００２５】
［画像形成層］
（一般式（Ａ）で示されるモノマー単位を有する共重合体）
本発明の画像形成層上層（支持体から遠い方の層）は、下記一般式（Ａ）で示されるモノマー単位を有する共重合体（以下、適宜、（Ａ）共重合体と称する）を含有することを特徴とする。
【００２６】
【化４】
2004252427.tif 000005
【００２７】
式（Ａ）中、
Ｗはカルボキシル基を表す。
Ｘは２価の連結基を表す。
Ｙは水素原子又はカルボキシル基を表す。
Ｚは水素原子、アルキル基又はカルボキシル基を表す。
または、ＷとＺもしくはＹとＺは、互いに結合して酸無水物基−（ＣＯ）−Ｏ−（ＣＯ
）−を表す。
ｎは０又は１を表す。
【００２８】
Ｘが表す２価の連結基は特に限定されないが、単結合、アルキレン基、アリーレン基が好ましい。アルキレン基、アリーレン基は、それらの中あるいは隣にエーテル結合（−Ｏ−）、チオエーテル結合（−Ｓ−）、エステル結合（−ＣＯＯ−）またはアミド結合（−ＣＯＮＲ−；Ｒは水素原子またはアルキル基）を有していても良い。これらの中で、メチレン基とエーテル結合またはエステル結合の組み合わせが特に好ましい。
Ｚが表すアルキル基は炭素数５以下のアルキル基が好ましく、なかでもメチル基がより好ましい。
【００２９】
上記一般式（Ａ）で表されるモノマー単位を形成しうるモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等のα、β−不飽和カルボン酸およびα、β−不飽和カルボン酸無水物類を挙げることができる。
【００３０】
一般式（Ａ）で示されるモノマー単位は、下記一般式（Ａ'）で示されるモノマー単位であることが好ましい。
【００３１】
【化５】
2004252427.tif 000006
【００３２】
式（Ａ'）中、
Ｚ'は水素原子またはアルキル基を表す。
Ｘ'は置換基を有していてもよいアリーレン基または下記式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される構造のうちのいずれかを表す。
【００３３】
【化６】
2004252427.tif 000007
【００３４】
式（Ｘ１）〜（Ｘ３）中、
Ａｒは置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
Ｒ'は２価の連結基を表す。
【００３５】
Ｒ’が表す２価の連結基としては、置換基を有していてもよいアルキレン基、アリーレン基、イミド基、オキシアルキレン基が挙げられる。これらの置換基としては、アルキル基、水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子、フェニル基、ジメチルアミノ基、エチレンオキサイド基、ビニル基、ｏ−カルボキシベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
【００３６】
以下に一般式（Ａ’）で表される繰り返し単位に相当するモノマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３７】
【化７】
2004252427.tif 000008
【００３８】
【化８】
2004252427.tif 000009
【００３９】
一般式（Ａ）で表されるモノマー単位は、共重合体（Ａ）中に５モル％以上含まれていることが好ましく、１０モル％以上含まれていることがより好ましく、２０モル％以上含まれていることが更に好ましい。この範囲で、アルカリ水への良好な溶解性が得られ、現像ラチチュードを十分に向上させることができる。
【００４０】
一般式（Ａ’）で表されるモノマー単位の共重合体中の含有量は、好ましくは５〜９０モル％、より好ましくは１０〜５０モル％、更に２０〜３５モル％であることが好ましい。上記範囲内で良好な現像性および未露光部の残膜率が得られる。
【００４１】
一般式（Ａ）のモノマー単位を形成するモノマーと共重合するその他のモノマーとしては、下記（ｍ１）〜（ｍ１１）に挙げるモノマーを例示することができるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
（ｍ１）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類。
（ｍ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等のアルキルアクリレート。
【００４３】
（ｍ３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
（ｍ４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド。
【００４４】
（ｍ５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（ｍ６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（ｍ７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
【００４５】
（ｍ８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（ｍ９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（ｍ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（ｍ１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
【００４６】
共重合モノマー成分として好ましくは、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド誘導体及びスチレン誘導体が挙げられる。この共重合モノマー成分は、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド誘導体及びスチレン誘導体から選ばれる１種で構成されていてもよいし、これらの任意の２種で構成されていてもよいし、３種以上で構成されていてもよい。即ち、例えば、（メタ）アクリル酸エステルから選ばれた２種と、スチレン誘導体から選ばれる２種の計４種という構成でもよい。
なお、本明細書において、アクリル及びメタアクリルを総称して（メタ）アクリルという。「共重合成分として、（メタ）アクリル酸エステルを含む」という時、アクリル酸エステル及びメタアクリル酸エステルの少なくともいずれかを含むことを意味する。（メタ）アクリルアミド誘導体についても同様である。
【００４７】
上記共重合モノマー成分の（メタ）アクリル酸エステルは、置換又は無置換のアルキルエステル又はアリールエステル等である。アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられる。またアリール基としては、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、ベンジル等が挙げられる。アルキル基またはアリール基は置換されていてもよく、置換基としては、水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子、フェニル基、ジメチルアミノ基、エチレンオキサイド基、ビニル基、ｏ−カルボキシベンゾイルオキシ基などが挙げられる。
本発明の（メタ）アクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチルを用いることがより好ましい。
また、本発明で用いられる（メタ）アクリル酸エステルは単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
（メタ）アクリル酸エステルの共重合体中の含有量は、好ましくは０〜９５モル％、より好ましくは５〜９０モル％、更に１０〜８０モル％であることが好ましい。
【００４８】
本発明の共重合モノマー成分を構成しうる（メタ）アクリルアミド誘導体としては、（メタ）アクリルアミドの誘導体であれば特に限定されないが、下記一般式（ｃ）で表されるものが好ましい。
【００４９】
【化９】
2004252427.tif 000010
【００５０】
式中、Ｒ1は水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基を示す。但し、Ｒ2とＲ3は共に水素原子となることはない。
【００５１】
上記Ｒ1は水素原子又はアルキル基を示す。好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。
上記Ｒ2及びＲ3における炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられる。また、炭素数６〜１０のアリール基としては、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル等が挙げられる。アルキル基またはアリール基は置換されていてもよく、置換基としては、水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子、フェニル基、ジメチルアミノ基、エチレンオキサイド基、ビニル基、ｏ−
カルボキシベンゾイルオキシ基などが挙げられる。但し、Ｒ2とＲ3は共に水素原子となることはない。
（メタ）アクリルアミド誘導体の具体例を以下に示すが、本発明ではこれらに限定されない。
【００５２】
（ｃ−１）  Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド
（ｃ−２）  Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）アクリルアミド
（ｃ−３）  Ｎ−ｔ−ブチルメタクリルアミド
（ｃ−４）  Ｎ−(１，１−ジメチル−３−オキソブチル)アクリルアミド
（ｃ−５）  Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド
（ｃ−６）  Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
（ｃ−７）  Ｎ−イソプロピルアクリルアミド
（ｃ−８）  Ｎ−メチルメタクリルアミド
（ｃ−９）  Ｎ−フェニルメタクリルアミド
（ｃ−１０）Ｎ−[３−(ジメチルアミノ)プロピル]アクリルアミド
【００５３】
共重合モノマー成分において、（メタ）アクリルアミド誘導体は単独で用いてもよいし２種以上併用してもよい。
（メタ）アクリルアミド誘導体の共重合体中の含有量は、好ましくは０〜９５モル％、より好ましくは５〜９０モル％、更に２０〜８０モル％であることが好ましい。
【００５４】
本発明の共重合モノマー成分を構成しうるスチレン誘導体としては、スチレンの誘導体であれば特に限定されないが、下記一般式（ｂ）で表されるものが好ましい。
【００５５】
【化１０】
2004252427.tif 000011
【００５６】
式中、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を示す。ｎは１〜５の整数を表す。かかる置換基としては特に限定されないが、アルキル基、アリール基、水酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
スチレン誘導体の具体例を以下に示すが、本発明ではこれらに限定されるものではない。
【００５７】
（ｂ−１）    ４−ブロモスチレン
（ｂ−２）    β−ブロモスチレン
（ｂ−３）    ４−クロロ−α−メチルスチレン
（ｂ−４）    ３−クロロスチレン
（ｂ−５）    ４−クロロスチレン
（ｂ−６）    ２，６−ジクロロスチレン
（ｂ−７）    ２−フルオロスチレン
（ｂ−８）    ３−フルオロスチレン
（ｂ−９）    ４−フルオロスチレン
（ｂ−１０）  メチルスチレン
（ｂ−１１）  ビニルトルエン
（ｂ−１２）  ｔｒａｎｓ−β−メチルスチレン
【００５８】
【化１１】
2004252427.tif 000012
【００５９】
上記の他にもスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチル、ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム塩、ｐ−スチレンスルフィン酸カリウム塩、ｐ−アミノメチルスチレン、１，４−ジビニルベンゼン等が挙げられる。以上に挙げたスチレン誘導体は、単独で用いてもよいし２種以上併用してもよい。
スチレン誘導体の共重合体中の含有量は、好ましくは０〜９５モル％、より好ましくは５〜９０モル％、更に２０〜８０モル％であることが好ましい。
【００６０】
以上の一般式（Ａ）のモノマー及び共重合モノマー成分から得られる共重合体はそれ自体で好ましい物性、例えば、好ましい現像許容度をもたらすが、更に、第三の共重合モノマー成分を共重合させることによりその他の諸物性を改善または修飾することができる。その諸物性には、例えば、耐薬品性、耐刷性、感度、現像性等が含まれる。第三の共重合モノマー成分としては、アクリロニトリル、マレイミド、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン等があげられる。
【００６１】
本発明に用いられる共重合体の重量平均分子量は、好ましくは５，０００〜２００，０００更に好ましくは１０，０００〜１２０，０００、特に好ましくは２０，０００〜８０，０００である。分子量を上記範囲とすることで、十分な塗膜が得られ、良好な現像性が
得られる。
共重合の方法としては、従来知られているグラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることができる。
【００６２】
上記一般式（Ａ）のモノマー単位を有する共重合体の上層における含有量は、上層全固形分中、１質量％〜４０質量％であることが好ましく、更に２質量％〜３０質量％であることが好ましい。４０質量％以上であると、バーニング時の耐刷性が低下するため好ましくない。
【００６３】
本発明の上層は、上記一般式（Ａ）のモノマー単位を有する共重合体を必須成分として含有するが、その他のアルカリ可溶性樹脂を含有することができる。以下に含有できるアルカリ可溶性樹脂について説明するが、このアルカリ可溶性樹脂は、本発明の支持体に近い方の層（下層）用のアルカリ可溶性樹脂としても用いられる。なお、アルカリ可溶性樹脂として上記一般式（Ａ）のモノマー単位を有する共重合体を下層にも含有させることが可能であるが、この場合の該共重合体の下層における添加割合は、上層における共重合体の添加割合以下とすることが好ましい。
【００６４】
また、（Ａ）共重合体は、１種類或いは２種類以上併用しても良いが、画像形成層上層への添加量は、（Ａ）共重合体合計の含有量が、上層全固形分中１〜４５質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましく、３〜２０質量％であることが特に好ましい。
【００６５】
（水不溶性かつアルカリ性水溶液可溶性高分子）
本発明の画像形成層上層及び下層に使用される水不溶性かつアルカリ性水溶液可溶性高分子（以下、適宜、アルカリ可溶性高分子と称する）とは、高分子中の主鎖および／または側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体またはこれらの混合物を包含する。従って、本発明に係る画像形成層の上層及び下層は、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものである。
ここで用いられるアルカリ可溶性高分子としては、従来公知のものであれば特に制限はないが、（１）フェノール性水酸基、（２）スルホンアミド基、（３）活性イミド基のいずれかの官能基を分子内に有する高分子化合物であることが好ましい。
かかる高分子化合物として以下のものが例示されるが、これらに限定されるものではない。
【００６６】
（１）フェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が挙げられる。
【００６７】
また、フェノール性水酸基を有する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物を挙げることができる。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。
【００６８】
側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物を得るために用いるフェノール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的には、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（３
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｏ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（２−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、２−（３−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、２−（４−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート等を好適に使用することができる。
【００６９】
かかるフェノール性水酸基を有する樹脂は、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。更に、米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体を併用してもよい。
【００７０】
（２）スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性高分子化合物としては、スルホンアミド基を有する重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。スルホンアミドを有する重合性モノマーとしては、１分子中に、窒素原子上に少なくとも１つの水素原子が結合したスルホンアミド基−ＮＨ−ＳＯ2−と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ１つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、無置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。
具体例としては、特公平７−６９６０５号公報に記載の化合物を挙げることができる。中でも、３−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（４−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００７１】
（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶性高分子化合物は、活性イミド基を分子内に有するものが好ましく、この高分子化合物としては、１分子中に活性イミド基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。
このような化合物としては、具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００７２】
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させるモノマー成分としては、下記（ｎ１）〜（ｎ１２）に挙げる化合物を例示することができるが、これらに限定されるものではない。
（ｎ１）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（ｎ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
（ｎ３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリ
ル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
（ｎ４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
【００７３】
（ｎ５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（ｎ６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（ｎ７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（ｎ８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（ｎ９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（ｎ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（ｎ１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（ｎ１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【００７４】
本発明においてアルカリ可溶性高分子が、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体の場合、重量平均分子量が２，０００以上、数平均分子量が５００以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が５，０００〜３００，０００で、数平均分子量が８００〜２５０，０００であり、分散度（重量平均分子量／数平均分子量）が１．１〜１０のものである。
また、本発明においてアルカリ可溶性高分子がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が５００〜２０，０００であり、数平均分子量が２００〜１０，０００のものが好ましい。
【００７５】
本発明の画像形成層上層で用いられるより好ましいアルカリ可溶性高分子としては、未露光部では強い水素結合性を形成しており、露光部においては一部の水素結合が容易に解除される点から、フェノール性水酸基を有する樹脂が挙げられ、中でもノボラック樹脂が特に好ましい。
また、もう１種類のアルカリ可溶性樹脂として、フェノール性水酸基を有する樹脂と相溶性が低いアクリル樹脂をさらに混合することも好ましい。そのようなフェノール性水酸基を有する樹脂と相溶性が低いアクリル樹脂の例としては、スルホアミド基を有するアクリル樹脂を挙げることができる。このようにアルカリ可溶性高分子を２種以上混合使用する場合の混合比は自由に選択できるが、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子化合物がアルカリ可溶性高分子化合物中６０質量％以上であることが好ましい。
【００７６】
画像形成層上層中のアルカリ可溶性高分子化合物の添加量は、併せて５０〜９０質量％が好ましい。この範囲内で、良好な耐久性および感度が得られる。
また、アルカリ性水溶液に対し溶解速度の異なる２種類のアルカリ可溶性高分子化合物を任意の比率で組み合わせてもよい。
好ましくは、アルカリ可溶性高分子化合物中、未露光部では強い水素結合性を形成しており露光部において一部の水素結合が容易に解除されるフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子化合物が６０％〜９９．８％で用いられる。
フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子化合物が６０％未満であると、画像形成性が低下する。また、９９．８％を超えると、本発明の効果が期待できない。
【００７７】
下層に用いるアルカリ可溶性高分子としては、前記アルカリ可溶性高分子から１種類或いは２種類以上を組み合わせて選択できる。中でも好ましいアルカリ可溶性高分子としては、アクリル樹脂が挙げられ、アクリル樹脂の中でもスルホアミド基を有するものが特に好ましい。
【００７８】
（赤外線吸収染料）
本発明の画像形成層には、光吸収および光熱変換を効率よくして高感度化を図るため、赤外線吸収染料を含有させることができる。
本発明において用いられる赤外線吸収染料は、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収染料として知られる種々の染料を用いることができる。
【００７９】
本発明に係る赤外線吸収染料としては、市販の染料及び文献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明において、これらの染料のうち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。
【００８０】
そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料としては、例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭６０−７８７８７号の各公報、米国特許第４，９７３，５７２号明細書等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号の各公報等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号の各公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第４３４，８７５号明細書に記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【００８１】
また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書記載の近赤外吸収増感剤、米国特許第３，８８１，９２４号明細書記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号公報、同５−１９７０２号公報に記載されているピリリウム化合物等、米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料、市販品のエポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔIII−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ
III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ  III−１２５等も好適なものとして挙げられる。
【００８２】
これらの赤外線吸収染料は、画像形成層上層のみならず、下層にも添加することができ
る。下層に赤外線吸収染料を添加することで下層も赤外線感光層として機能させることができる。下層に赤外線吸収染料を添加する場合には、上層における物と互いに同じ物を用いてもよく、また異なる物を用いてもよい。
また、赤外線吸収染料は画像形成層とは別の層に添加してもよい。別の層としては、画像形成層に隣接する層が望ましい。
【００８３】
赤外線吸収染料の添加量は、画像形成層上層の場合、上層全固形分に対し０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜３０質量％、特に好ましくは１．０〜３０質量％の割合である。この範囲内で、画像形成層上層の均一性や耐久性を損なうことなく、良好な感度が得られる。
【００８４】
赤外線吸収染料の下層への添加量は、下層全固形分に対し０〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０〜１０質量％、特に好ましくは０〜５質量％である。
ただし、支持体近傍の厚さ０．２〜０．３μｍの領域では、支持体への熱拡散があるため、赤外線吸収染料を下層へ添加しても、下層の溶解性向上効果は無く、むしろ赤外線吸収染料自体の溶けにくさによって下層の溶解性が低下し、感度が低下する要因となるので、下層の溶解性を損なわない範囲で添加することが好ましい。具体的には、下層の溶解速度が３０ｎｍ／秒以上になるような量とすることが好ましい。
【００８５】
（その他の添加剤）
前記ポジ型画像形成層の下層および上層を形成するにあたっては、上記成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、種々の添加剤を添加することができる。添加剤は、必要に応じて、下層のみに含有させてもよいし、上層のみに含有させてもよいし、両方の層に含有させてもよい。以下に、添加剤の例を挙げて説明する。
【００８６】
（溶解性阻害化合物）
本発明の感熱性平版印刷版は、その溶解性阻害（インヒビション）を高める目的で、該画像形成層に、種々の溶解性阻害化合物（インヒビター）を含有させることができる。
該インヒビターとしては特に限定されないが、第４級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール系化合物等が挙げられる。
【００８７】
第４級アンモニウム塩としては、特に限定されないが、テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルアリールアンモニウム塩、ジアルキルジアリールアンモニウム塩、アルキルトリアリールアンモニウム塩、テトラアリールアンモニウム塩、環状アンモニウム塩、二環状アンモニウム塩が挙げられる。
具体的には、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラペンチルアンモニウムブロミド、テトラヘキシルアンモニウムブロミド、テトラオクチルアンモニウムブロミド、テトララウリルアンモニウムブロミド、テトラフェニルアンモニウムブロミド、テトラナフチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラステアリルアンモニウムブロミド、ラウリルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド、ベヘニルトリメチルアンモニウムブロミド、ラウリルトリエチルアンモニウムブロミド、フェニルトリメチルアンモニウムブロミド、３−トリフルオロメチルフェニルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ジベンジルジメチルアンモニウムブロミド、ジステアリルジメチルアンモニウムブロミド、トリステアリルメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ヒドロキシフェニルトリメチルアンモニウムブロミド、Ｎ−メチルピリジニウムブロミド等が挙げられる。特に特願２００１−２２６２９７号、特開２００３−１６７３３２、特開２００３−１０７６６８明細書記載の第４級アンモニウム塩が好ましい。
【００８８】
第４級アンモニウム塩の添加量は、画像形成層の全固形分量に対して固形分で０．０１〜２０質量％であることが好ましく、さらには、０．１〜１０質量％であることがより好ましい。上記範囲内で、良好な溶解性阻害効果が得られる。２０質量％を超えて添加した場合は、バインダーの製膜性に悪影響を与えることがある。
【００８９】
ポリエチレングリコール化合物としては、特に限定されないが、下記構造のものが挙げられる。
【００９０】
Ｒ1−｛−Ｏ−（Ｒ3−Ｏ−）m−Ｒ2｝n
【００９１】
（Ｒ1は多価アルコール残基又は多価フェノール残基、Ｒ2は水素原子、炭素数1〜２５の置換基を有しても良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキロイル基、アリール基又はアリーロイル基、Ｒ3は置換基を有しても良いアルキレン残基を示す。ｍは平均で１０以上の数、ｎは１以上４以下の整数である。）
【００９２】
上記構造のポリエチレングリコール化合物の例としては、ポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコール類、ポリエチレングリコールアルキルエーテル類、ポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコールアリールエーテル類、ポリプロピレングリコールアリールエーテル類、ポリエチレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリプロピレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレングリコールグリセリンエステル、ポリプロピレングリコールグリセリンエステル類、ポリエチレングリコールソルビトールエステル類、ポリプロピレングリコールソルビトールエステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリプロピレングリコール脂肪酸エステル類、ポリエチレングリコール化エチレンジアミン類、ポリプロピレングリコール化エチレンジアミン類、ポリエチレングリコール化ジエチレントリアミン類、ポリプロピレングリコール化ジエチレントリアミン類が挙げられる。
【００９３】
これらの具体例を示すと、ポリエチレングリコール１０００、ポリエチレングリコール２０００、ポリエチレングリコール４０００、ポリエチレングリコール１００００、ポリエチレングリコール２００００、ポリエチレングリコール５００００、ポリエチレングリコール１０００００、ポリエチレングリコール２０００００、ポリエチレングリコール５０００００、ポリプロピレングリコール１５００、ポリプロピレングリコール３０００、ポリプロピレングリコール４０００、ポリエチレングリコールメチルエーテル、ポリエチレングリコールエチルエーテル、ポリエチレングリコールフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジエチルエーテル、ポリエチレングリコールジフェニルエーテル、ポリエチレングリコールラウリルエーテル、ポリエチレングリコールジラウリルエーテル、ポリエチレングリコールノニルエーテル、ポリエチレングリコールセチルエーテル、ポリエチレングリコールステアリルエーテル、ポリエチレングリコールジステアリルエーテル、ポリエチレングリコールベヘニルエーテル、ポリエチレングリコールジベヘニルエーテル、ポリプロピレングリコールメチルエーテル、ポリプロピレングリコールエチルエーテル、ポリプロピレングリコールフェニルエーテル、ポリプロピレングリコールジメチルエーテル、ポリプロピレングリコールジエチルエーテル、ポリプロピレングリコールジフェニルエーテル、ポリプロピレングリコールラウリルエーテル、ポリプロピレングリコールジラウリルエーテル、ポリプロピレングリコールノニルエーテル、ポリエチレングリコールアセチルエステル、ポリエチレングリコールジアセチルエステル、ポリエチレングリコール安息香酸エステル、ポリエチレングリコールラウリルエステル、ポリエチレングリコールジラウリルエステル、ポリエチレングリコールノニル酸エステル、ポリエチレングリコールセチル酸エステル、ポリエチレングリコールステアロイルエステル、ポリエチレングリコールジステアロイルエステル、ポリエチレングリコールベヘン酸エステル、ポリエチレングリコールジベヘン酸エステル、ポリプロピレングリコールアセチルエステル、ポリプロピレングリコールジアセチルエステル、ポリ
プロピレングリコール安息香酸エステル、ポリプロピレングリコールジ安息香酸エステル、ポリプロピレングリコールラウリル酸エステル、ポリプロピレングリコールジラウリル酸エステル、ポリプロピレングリコールノニル酸エステル、ポリエチレングリコールグリセリンエーテル、ポリプロピレングリコールグリセリンエーテル、ポリエチレングリコールソルビトールエーテル、ポリプロピレングリコールソルビトールエーテル、ポリエチレングリコール化エチレンジアミン、ポリプロピレングリコール化エチレンジアミン、ポリエチレングリコール化ジエチレントリアミン、ポリプロピレングリコール化ジエチレントリアミン、ポリエチレングリコール化ペンタメチレンヘキサミンが挙げられる。
【００９４】
ポリエチレングリコール系化合物の添加量は画像形成層の全固形分量に対して固形分で０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましい。この範囲内で、画像形成性へ悪影響を与えることなく、良好な溶解性阻害効果が得られる。
【００９５】
また、上記インヒビションの強化の施策を行った場合、感度の低下が生じるが、この場合、ラクトン化合物を添加することが有効である。このラクトン化合物は、露光部に現像液が浸透した際、現像液とラクトン化合物が反応し、新たにカルボン酸化合物が発生し、露光部の溶解に寄与して感度が向上するものと考えられる。
ラクトン化合物としては、特に限定されないが、下記一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）で表される化合物が挙げられる。
【００９６】
【化１２】
2004252427.tif 000013
【００９７】
【化１３】
2004252427.tif 000014
【００９８】
一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）において、Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3及びＸ4は、環の構成原子又は原子団であって、同じでも異なってもよく、それぞれ独立に置換基を有してもよく、かつ一般式（Ｌ−Ｉ）におけるＸ1，Ｘ2及びＸ3の少なくとも一つ及び一般式（Ｌ−II）におけるＸ1，Ｘ2，Ｘ3及びＸ4の少なくとも一つは、電子吸引性置換基又は電子吸引性基で置換された置換基を有する。
Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3及びＸ4で表される環の構成原子又は原子団は、環を形成するための二つの単結合を有する非金属原子又は該非金属原子を含む原子団である。
好ましい非金属原子又は非金属原子団は、メチレン基、スルフィニル基、カルボニル基、チオカルボニル基、スルホニル基、硫黄原子、酸素原子及びセレニウム原子から選ばれる原子又は原子団であって、より好ましくは、メチレン基、カルボニル基及びスルホニル基から選ばれる原子団である。
【００９９】
一般式（Ｌ−Ｉ）におけるＸ1，Ｘ2及びＸ3の少なくとも一つ又は一般式（Ｌ−II）におけるＸ1，Ｘ2，Ｘ3及びＸ4の少なくとも一つは、電子吸引性基を有する。本明細書において電子吸引性置換基は、ハメットの置換基定数σｐが正の価を取る基を指す。ハメットの置換基定数に関しては、Journalof  Medicinal  Chemistry,1973,Vol.16,No.11,1207-1216等を参考にすることができる。ハメットの置換基定数σｐが正の価を取る電子吸引性基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子（σｐ値：０．０６）、塩素原子（σｐ値：０．２３）、臭素原子（σｐ値：０．２３）、ヨウ素原子（σｐ値：０．１８））、トリハロアルキル基（トリブロモメチル（σｐ値：０．２９）、トリクロロメチル（σｐ値：０．３３）、トリフルオロメチル（σｐ値：０．５４））、シアノ基（σｐ値：０．６６）、ニトロ基（σｐ値：０．７８）、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基（例えば、メタンスルホニル（σｐ値：０．７２））、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基（例えば、アセチル（σｐ値：０．５０）、ベンゾイル（σｐ値：０．４３））、アルキニル基（例えば、Ｃ≡ＣＨ（σｐ値：０．２３））、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル（σｐ値：０．４５）、フェノキシカルボニル（σｐ値：０．４４））、カルバモイル基（σｐ値：０．３６）、スルファモイル基（σｐ値：０．５７）、スルホキシド基、ヘテロ環基、オキソ基、ホスホリル基等が挙げられる。
【０１００】
好ましい電子吸引性基は、アミド基、アゾ基、ニトロ基、ニトリル基、炭素数１〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜５のアシル基、炭素数１〜９のアルキルスルホニル基、炭素数６〜９のアリールスルホニル基、炭素数１〜９のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜９のアリールスルフィニル基、炭素数６〜９のアリールカルボニル基、チオカルボニル基、炭素数１〜９の含フッ素アルキル基、炭素数６〜９の含フッ素アリール基、炭素数３〜９の含フッ素アルケニル基、オキソ基及びハロゲン元素から選ばれる基である。
より好ましくは、ニトロ基、炭素数１〜５のフルオロアルキル基、ニトリル基、炭素数１〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜５のアシル基、炭素数６〜９のアリールスルホニル基、炭素数６〜９のアリールカルボニル基、オキソ基及びハロゲン元素から選ばれる基である。
以下に、一般式（Ｌ−Ｉ）及びは一般式（Ｌ−II）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
【０１０１】
【化１４】
2004252427.tif 000015
【０１０２】
【化１５】
2004252427.tif 000016
【０１０３】
一般式（Ｌ−Ｉ）及び一般式（Ｌ−II）で表される化合物の添加量は、画像形成層の全固形分量に対して固形分で０．１〜５０％が好ましくは、１〜３０％がより好ましい。０．１％以下では効果が少なく、５０％以上添加した場合、画像形成性が劣る。
このラクトン化合物は、いずれか一種を用いても、併用してもよい。また２種類以上の一般式（Ｌ−Ｉ）の化合物、又は２種類以上の一般式（Ｌ−II）の化合物を合計添加量が上記範囲内で任意の比率で併用してもよい。
【０１０４】
また、本発明の感熱性平版印刷版においては更に、熱分解性でありかつ熱分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を含有することが、露光部未露光部の溶解性の差を更に拡大する点から好ましい。
この熱分解性でありかつ熱分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質としては、特に限定されないが、種々のオニウム塩、キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等が挙げられる。特に熱分解性の点から、オニウム塩であることが好ましい。
【０１０５】
オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げるきおとができる。本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えばS.  I.  Schlesinger,  Photogr.  Sci.  Eng.,  １８,  ３８７(１９７４)、T.  S.  Bal  et  al,  Polymer,  ２１,  ４２３(１９８０)  、特開平５−１５８２３０号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４,０６９,０５５号、同４,０６９,０５６  号、同  Re  ２７,９９２号に記載のアンモニウム塩、D.  C.  Necker  et  al,Macromolecules,１７,  ２４６８(１９８４)、C.  S.  Wen  et  al,  Teh,  Proc.  Conf.  Rad.  CuringASIA,  p４７８Tokyo,  Oct  (１９８８)、米国特許第４,０６９,０５５  号、同４,０６９,０５６  号に記載のホスホニウム塩、J.  V.Crivello  et  al,  Macromorecules,  １０(６),  １３０７  (１９７７)、Chem.  &  Eng.  News,  Nov.  ２８,p３１  (１９８８)、欧州特許第１０４,１４３  号、特開平２-１５０８４８号、特開平２-２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、J.V.  Crivello  et  al,  Polymer  J.  １７,  ７３  (１９８５)、J.  V.  Crivello  etal.  J.  Org.  Chem.,４３,  ３０５５  (１９７８)、W.  R.  Watt  et  al,  J.Polymer  Sci.,  Polymer  Chem.  Ed.,  ２２,  １７８９  (１９８４)  、J.  V.  Crivello  et  al,  PolymerBull.,  １４,  ２７９  (１９８５)  、J.
V.  Crivello  et  al,Macromorecules,  １４(５)  ，１１４１(１９８１)、J.V.  Crivello  et  al,  J.  Polymer  Sci.,  Polymer  Chem.  Ed.,  １７,  ２８７７  (１９７９)  、欧州特許第３７０,６９３号,  同２３３,５６７  号、同２９７,４４３  号、同２９７,４４２  号、米国特許第４,９３３,３７７  号、同４,７６０,０１３  号、同４,７３４,４４４  号、同２,８３３,８２７  号、独国特許第２,９０４,６２６号、同３,６０４,５８０  号、同３,６０４,５８１号に記載のスルホニウム塩、J.  V.  Crivello  et  al,  Macromorecules,  １０(６),  １３０７  (１９７７)、J.  V.Crivello  etal,  J.  Polymer  Sci.,  Polymer  Chem.  Ed.,  １７,  １０４７  (１９７９)  に記載のセレノニウム塩、C.S.  Wen  et  al,  Teh,  Proc.  Conf.  Rad.Curing  ASIA,
p４７８  Tokyo,Oct  (１９８８)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
上記オニウム塩の中でもジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平５−１５８２３０号公報記載のものが挙げられる。
【０１０６】
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等からのアニオンを挙げることができる。これらの中でも特にヘキサフルオロホスフェート、トリイソプロピルナフタレンスルホナートや２，５−ジメチルベンゼンスルホナートのごときアルキル芳香族スルホナートが好適である。
【０１０７】
上記オニウム塩の添加量は、画像形成層固形分の好ましくは０．１〜５０質量％、更に
好ましくは０．１〜３０質量％、特に好ましくは０．３〜３０質量％である。
【０１０８】
好適なキノンジアジド類としてはｏ−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジアジドは熱分解によりアルカリ可溶性樹脂の溶解抑制能を失うことと、ｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により画像形成層の溶解性を助ける。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」（JohnWiley  &  Sons.  Inc.)第３３９〜３５２頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステルまたはスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されているようなベンゾキノン（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第３,０４６,１２０号および同第３,１８８,２１０  号に記載されているベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
【０１０９】
さらにナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公昭４９−１７４８１号、米国特許第２,７９７,２１３号、同第３,４５４,４００号、同第３,５４４,３２３号、同第３,５７３,９１７号、同第３,６７４,４９５号、同第３,７８５,８２５号、英国特許第１,２２７,６０２号、同第１,２５１,３４５号、同第１,２６７,００５号、同第１,３２９,８８８号、同第１,３３０,９３２号、ドイツ特許第８５４,８９０号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。
【０１１０】
本発明で使用されるｏ−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは画像形成層全固形分に対し、１〜５０質量％、更に好ましくは５〜３０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％の範囲である。これらの溶解阻止化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
【０１１１】
また、画像形成層表面の溶解阻害性の強化とともに表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開２０００−１８７３１８号公報に記載されているような、分子中に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を２又は３個有する（メタ）アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することができる。
添加量としては、層固形分中に占める割合は０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。
【０１１２】
（現像促進剤）  
また、本発明の画像形成層には、感度を更に向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。
酸無水物類としては環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては無水酢酸などが挙げられる。フェノール類としては、ビスフェノールＡ、２，２'−ビスヒドロキシスルホン、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４′，４″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
【０１１３】
更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平２−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の層固形分中に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
【０１１４】
（界面活性剤）
本発明における上層および下層中には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開昭６２−１７０９５０号公報、特開平１１−２８８０９３号公報、特開２００３−５７８２０号明細書に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
【０１１５】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一工業（株）製）等が挙げられる。
【０１１６】
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、ＤＢＥ−２２４，ＤＢＥ−６２１，ＤＢＥ−７１２，ＤＢＰ−７３２，ＤＢＰ−５３４、独Ｔｅｇｏ社製、Ｔｅｇｏ  Ｇｌｉｄｅ１００等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。
【０１１７】
上記界面活性剤の画像形成層固形分中に占める割合は、０．０１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．０５〜５質量％、さらに好ましくは０．１〜０．５質量％である。
【０１１８】
（焼出し剤／着色剤）
本発明の画像形成層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、
画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６４４号及び同６３−５８４４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
【０１１９】
画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレットラクトン、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、画像形成層全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で用いられる。
【０１２０】
（可塑剤）
更に本発明の画像形成層には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
【０１２１】
（ワックス剤）
本発明の画像形成層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許第６１１７９１３号明細書、特願2001-261627号明細書、特願2002-032904号明細書、特願2002-165584号明細書に用いられているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることが出来る。
添加量は、好ましくは画像形成層固形分の０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜５質量％である。
【０１２２】
［感熱性平版印刷版の形成］
本発明の感熱性平版印刷版における画像形成層上層及び下層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより形成される。
用いられる溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
【０１２３】
また、塗布に用いる溶剤としては、原則的に、画像形成層上層に用いるアルカリ可溶性高分子と下層に用いるアルカリ可溶性高分子に対して溶解性の異なるものを選ぶことが好ましいが、新たな機能を付与するために積極的に部分相溶を行うことも可能である。
【０１２４】
２つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれるアルカリ可溶性樹脂と上層に含まれるアルカリ可溶性樹脂との溶剤溶解性の差を利用する方法、画像形成層上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げられる。以下、これらの方法について詳述するが、２つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
【０１２５】
下層に含まれるアルカリ可溶性樹脂と上層に含まれるアルカリ水溶液可溶性樹脂との溶剤溶解性の差を利用する方法は、アルカリ水溶液可溶性樹脂を塗布する際に、下層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のいずれもが不溶な溶媒系を用いるものである。これにより、二層塗布を行っても、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、メチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノ−ル等のアルカリ水溶液可溶性樹脂を溶解する溶剤に不溶な下層成分を構成するアルカリ可溶性樹脂を選択し、該下層成分を構成する共重合体を溶解する溶剤系を用いて該アルカリ可溶性樹脂主体とする下層を塗布・乾燥し、その後、アルカリ水溶液可溶性樹脂を主体とする上層をメチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノ−ル等下層成分を溶解しない溶剤を用いて塗布することにより二層化が可能になる。
【０１２６】
一方、二層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾燥させる方法は、帯状支持体の走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エア−を吹き付けることや、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロ−ル（加熱ロ−ル）より帯状支持体の下面から伝導熱として熱エネルギ−を与えること、あるいはそれらを組み合わせることにより達成できる。
２つの層が本発明の効果を十分に発揮するレベルにおいて層間を部分的に相溶させる方法としては、上記溶剤溶解性の差を利用する方法、２層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾燥させる方法何れにおいても、その程度を調整する事によって可能となる。
【０１２７】
塗布液中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
画像形成層上層塗布時に下層へのダメージを防ぐため、画像形成層上層の塗布方法は非接触式である事が望ましい。また接触型ではあるが溶剤系塗布に一般的に用いられる方法としてバーコーター塗布を用いる事も可能であるが、下層へのダメージを防止するために順転駆動で塗布する事が望ましい。
【０１２８】
この感熱性平版印刷版の下層の乾燥後塗布量は、０．５〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．６〜２．５ｇ／ｍ2の範囲である。この範囲内で、良好な耐刷性、画像再現性及び感度が得られる。
また画像形成層上層の乾燥後塗布量は０．０５ｇ／ｍ2〜１．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．０８〜０．７ｇ／ｍ2の範囲である。この範囲内で、良好な現像ラチチュード、耐傷性、及び感度が得られる。
上下層を合わせた塗布量としては、０．６ｇ／ｍ2〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは０．７〜２．５ｇ／ｍ2の範囲である。この範囲内で、良好な耐刷性、画像再現性及び感度が得られる。
【０１２９】
［支持体］
本発明の感熱性平版印刷版に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物が挙げられ、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。
【０１３０】
本発明の支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％以下である。
【０１３１】
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。
【０１３２】
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
【０１３３】
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなり、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなったりする。陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７３４号及び第３，９０２，７３４号に開示されているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム
及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７２号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
【０１３４】
［下塗層］
本発明に適用される感熱性平版印刷版は、支持体上に少なくとも画像形成層上層と下層を積層して設けたものであるが、必要に応じて支持体と下層との間に下塗層を設けることができる。
下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種以上混合して用いてもよい。
【０１３５】
また、下塗層にオニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物は、特開２０００−１０２９２号、特開２０００−１０８５３８号、特開２０００−２４１９６２号等の公報に詳述されている。
なかでも好ましいものとして、ｐ-ビニル安息香酸などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。具体例としては、p-ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、p-ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などが挙げられる。
【０１３６】
この有機下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の濃度０．００５〜１０質量％溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨ１〜１２の範囲に調整することもできる。また、感熱性平版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
有機下塗層の被覆量は、２〜２００ｍｇ／ｍ2が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2である。この範囲内で良好な耐刷性が得られる。
【０１３７】
［製版、印刷］
感熱性平版印刷版は、画像様に露光され、その後、現像処理される。
像露光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またｇ線、ｉ線、Deep−ＵＶ光、高密度エネルギービーム（レーザービーム）も使用される。レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザ
ー、ＫｒＦエキシマレーザー等が挙げられる。
本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
【０１３８】
本発明の感熱性平版印刷版の現像に用いる現像液および補充液としては、従来から知られている、緩衝作用を有する有機化合物と塩基とを主成分とし、実質上、二酸化ケイ素を含有しないアルカリ現像液を用いることができる。本発明では、このような現像液を以下、「非シリケート現像液」と称する。なお、ここで「実質上」とは不可避の不純物及び副生成物として微量の二酸化ケイ素の存在を許容することを意味する。
本発明の感熱性平版印刷版の現像工程に、このような非シリケート現像液を適用することで、傷の発生抑制効果は発現され、画像部に欠陥のない、良好な平版印刷版を得ることができる。アルカリ現像液としては、特にｐＨ１２．５〜１３．５のものが好ましい。
【０１３９】
本発明の感熱性平版印刷版の現像に用いる「非シリケート現像液」は、前記したように緩衝作用を有する有機化合物と塩基とを主成分とするものである。緩衝作用を有する有機化合物としては、特開平８−２２０７７５号公報に緩衝作用を有する化合物として記載されている糖類（特に一般式（Ｉ）又は（II）で表されるもの）、オキシム類（特に一般式（III）で表されるもの）、フェノール類（特に一般式（IV）で表されるもの）及びフッ素化アルコール類（特に一般式（Ｖ）で表されるもの）等が挙げられる。一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化合物のなかでも、好ましいものは、一般式（Ｉ）又は（II）で表される糖類、一般式（IV）で表されるフェノール類であり、さらに好ましくは一般式（Ｉ）又は（II）で表される糖類のうち、サッカロース等の非還元糖又はスルホサリチル酸である。非還元糖には、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖アルコール等が包含される。本発明ではこれらのいずれも好適に用いられる。
【０１４０】
前記トレハロース型少糖類としては、例えば、サッカロースやトレハロースが挙げられ、前記配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。
前記糖アルコールとしては、例えば、Ｄ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−アンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられる。
さらには、二糖類の水素添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体（還元水あめ）等も好適に挙げることができる。
【０１４１】
上記のうち、非還元糖としては、糖アルコール、サッカロースが好ましく、中でも特に、Ｄ−ソルビット、サッカロース、還元水あめが、適度なｐＨ領域に緩衝作用がある点でより好ましい。
これらの非還元糖は、単独でも、二種以上を組み合わせてもよく、現像液中に占める割合としては、０．１〜３０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。
【０１４２】
前記緩衝作用を有する有機化合物には、塩基としてアルカリ剤を、従来公知のものの中から適宜選択して組み合わせることができる。
前記アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウム等の無機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸ナトリウム等が挙げられる。
【０１４３】
さらに、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソブロパノールアミシ、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も好適に挙げることができる。
これらのアルカリ剤は、単独で用いても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１４４】
なかでも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由は、非還元糖に対する添加量を調整することにより、広いｐＨ領域においてｐＨ調整が可能となるためである。
また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等もそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。
【０１４５】
更に、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液および補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。更に現像液および補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
【０１４６】
上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感熱性平版印刷版の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【０１４７】
また、本発明の感熱性平版印刷版には、上記補充方式を有する自動現像機の他に、露光済みの感熱性平版印刷版１枚ごとに実質的に未使用の現像液を供給して現像処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【０１４８】
本発明の感熱性平版印刷版においては、画像露光し、現像し、水洗及び／又はリンス及び／又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
【０１４９】
以上のようにして本発明の感熱性平版印刷版より得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
【０１５０】
整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ2（乾燥重量）が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー（たとえば富士写真フイルム（株）より販売されているバーニングプロセッサー：「ＢＰ−１３００」）などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲が好ましい。
【０１５１】
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
【０１５２】
この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【実施例１】
【０１５３】
以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。
【０１５４】
支持体の作製例  
（支持体Ａの作製）  
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板(Ｓｉ：０.  ０６質量％、Ｆｅ：０．３０質量％、Ｃｕ：０.  ０１４質量％、Ｍｎ：０．００１質量％、Ｍｇ：０．００１質量％、Ｚｎ：０．００１質量％、Ｔｉ：０．０３質量％を含有し、残部はＡｌと不可避不純物のアルミニウム合金)に対し以下に示す表面処理を連続的に行った。
【０１５５】
６０Ｈｚの交流を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０ｇ／ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／ｌ、アンモニウムイオンを０．００７質量％含む。）、温度８０℃であった。水洗後、アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ2溶解し、スプレーによる水洗を行った。その後、温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、スプレーによる水洗を行った。
【０１５６】
上記粗面化処理を行ったアルミニウム板に、二段給電電解処理法の陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行った。電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ2であった。
陽極酸化処理されたアルミニウム板を温度３０℃の３号ケイ酸ソーダ１質量％水溶液中へ、１０秒間、浸漬することでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記のようにして得られたシリケート処理後のアルミニウム板上に、下記組成の下塗液を塗布し、８０℃で１５秒間乾燥して、乾燥被覆量１７ｍｇ／ｍ2の下塗り塗膜を形成させて、支持体Ａを作製した。
【０１５７】
＜下塗液組成＞
・下記化合物                                                ０．３ｇ
・メタノール                                                １００ｇ
・水                                                            １ｇ
【０１５８】
【化１６】
2004252427.tif 000017
【０１５９】
（支持体Ｂの作製）
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質：ＪＩＳ  Ａ  １０５０）を苛性ソーダ濃度３０ｇ／ｌ、アルミニウムイオン濃度１０ｇ／ｌ、液温６０℃で１０秒間エッチング処理を行い、流水で水洗し、１０ｇ／ｌ硝酸で中和洗浄後、水洗した。これを印加電圧Ｖａ＝２０Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、塩化水素濃度１５ｇ／ｌ、アルミニウムイオン濃度１０ｇ／ｌ、液温３０℃の水溶液中で、５００Ｃ／ｄｍ2の電気量で電気化学的な粗面化処理を行い水洗後、苛性ソーダ濃度３０ｇ／ｌ、アルミニウムイオン濃度１０ｇ／ｌ、液温４０℃で１０秒間エッチング処理を行い、流水で水洗した。次に、硫酸濃度１５質量％、液温３０℃の硫酸水溶液中でデスマット処理を行い水洗した。さらに、液温2０℃の１０質量％硫酸水溶液中、直流にて電流密度６Ａ／ｄｍ2の条件下で、陽極酸化皮膜量が２．５ｇ／ｍ2相当となるように陽極酸化処理し、水洗、乾燥した。その後、珪酸ナトリウム２．５質量％水溶液で３０℃において１０秒間処理し、支持体を作製した。この支持体の中心線平均粗さ（Ｒａ）を直径２μｍの針を用いて測定したところ、０．４８μｍであった。
上記のようにして得られたシリケート処理後のアルミニウム板上に、支持体Ａの作製の場合と同様にして、下塗液塗布（乾燥被覆量１７ｍｇ／ｍ2）を行って、支持体Ｂを作製した。
【０１６０】
（支持体Ｃの作製）
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに２０％硝酸に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ2であった。次にこの板を、７％硫酸を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ2で３ｇ／ｍ2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、さらに、３０℃の珪酸ナトリウム２．５質量％水溶液で１０秒処理した。このようにして得られたシリケート処理後のアルミニウム板上に、支持体Ａの作製の場合と同様にして、下塗液塗布を行って、支持体Ｃを作製した。乾燥後の塗膜の被覆量は１７ｍｇ／ｍ2であった。
【０１６１】
（支持体Ｄの作製）
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板(Ｓｉ：０.  ０６質量％、Ｆｅ：０．３０質量％、Ｃｕ：０.  ０１４質量％、Ｍｎ：０．００１質量％、Ｍｇ：０．００１質量％、Ｚｎ：０．００１質量％、Ｔｉ：０．０３質量％を含有し、残部はＡｌと不可避不純物のアルミニウム合金)に対し以下に示す表面処理を連続的に行った。
比重１．１２の研磨剤（ケイ砂）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。その後、カセイソーダ濃度２．６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％、温度７０℃でスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を６ｇ／ｍ2  溶解し
、スプレーによる水洗を行った。更に、温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、スプレーで水洗した。その後、６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０ｇ／ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／ｌ、アンモニウムイオンを０．００７質量％含む。）、温度８０℃であった。水洗後、アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ2溶解し、スプレーによる水洗を行った。その後、温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、スプレーによる水洗を行った。
二段給電電解処理法の陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行った。電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ2であった。
陽極酸化処理されたアルミニウム板を温度３０℃の３号ケイ酸ソーダ１質量％水溶液中へ、１０秒間、浸漬することでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記のようにして得られたシリケート処理後のアルミニウム板上に、上記組成の下塗液を塗布し、８０℃で１５秒間乾燥して、乾燥被覆量１５ｍｇ／ｍ2の下塗り塗膜を形成させて、支持体Ｄを作製した。
【０１６２】
（支持体Ｅの作製）
支持体Ｄの作製で用いたものと同じアルミニウム板に以下に示す表面処理を連続的に行った。
６０Ｈｚの交流を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０ｇ／ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／ｌ、アンモニウムイオンを０．００７質量％含む。）、温度８０℃であった。水洗後、アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ2溶解し、スプレーによる水洗を行った。その後、温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、スプレーによる水洗を行った。
上記のようにして電気化学粗面化処理されたアルミニウム板に、支持体Ｄの作製の場合と同様にして、陽極酸化処理、シリケート処理および下塗液塗布を行って支持体Ｅを作製した。
【０１６３】
（支持体Ｆの作製）
下記（ａ）〜（ｌ）の処理をこの順に行って支持体Ｆを作製した。
（ａ）機械的粗面化処理  厚さ０．３mmのＪＩＳ-Ａ-１０５０アルミニウム板を用いて、比重１．１２の研磨剤（ケイ砂）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は８μｍ、最大粒径は５０μｍであった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロン、毛長５０mm、毛の直径は０．３mmであった。ナイロンブラシはφ３００mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００mm）の距離は３００mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐｍであった。
【０１６４】
（ｂ）アルカリエッチング処理  上記で得られたアルミニウム板に温度７０℃のＮａＯＨ水溶液（濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％）をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6ｇ／ｍ2溶解した。その後、井水を用いてスプレーに
よる水洗を行った。
【０１６５】
（ｃ）デスマット処理  温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【０１６６】
（ｄ）電気化学的粗面化処理  ６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／ｌ）、温度５０℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ＤＵＴＹ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ2であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１６７】
（ｅ）アルカリエッチング処理  アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１６８】
（ｆ）デスマット処理  温度３０℃の硫酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【０１６９】
（ｇ）電気化学的粗面化処理  ６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸７．５ｇ／ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／ｌ含む。）、温度３５℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１７０】
（ｈ）アルカリエッチング処理  アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．１０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１７１】
（ｉ）デスマット処理  温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１７２】
（ｊ）陽極酸化処理  電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、硫酸濃度１７０ｇ／ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度は４３℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約３０Ａ／ｄｍ2であった。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ2であった。
【０１７３】
（ｋ）シリケート処理  支持体Ｄの作製の場合と同様にシリケート処理を行った。シリケート付着量は３．５mg／ｍ2であった。
【０１７４】
（ｌ）下塗りの形成  支持体Ｄの作製の場合と同様に下塗り液の塗布を行った。乾燥後の被覆量は１５mg／ｍ2であった。
【０１７５】
実施例１
得られた支持体Ａに下記の下層用塗布液１を塗布量が０．８５ｇ／ｍ2になるようバーコーターで塗布したのち１６０℃で４４秒間乾燥し、直ちに１７〜２０℃の冷風で支持体の温度が３５℃になるまで冷却した。次に下記の上層用塗布液１を塗布量が０．２２ｇ／ｍ2になるようにバーコーター塗布したのち、１４８℃で２５秒間乾燥し、更に２０〜２６℃の風で徐冷し、感熱性平版印刷版１を作成した。
【０１７６】
（下層用塗布液１）
Ｎ−（４−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／
アクリロニトリル／メタクリル酸メチル
（36／34／30質量％：重量平均分子量50000、酸価2.65）     ２．０  ｇ
シアニン染料Ａ（下記構造）                                ０．１５ｇ
４，４’−ビスヒドロキシフェニルスルホン                  ０．１  ｇ
無水テトラヒドロフタル酸                                  ０．２  ｇ
ｐ−トルエンスルホン酸                                    ０．０１ｇ
３−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート                              ０．０３ｇ
エチルバイオレットの対イオンを
６−ヒドロキシ−２−ナフタレンスルホン酸に変えたもの    ０．１  ｇ
メガファックＦ−７８０Ｆ(固形分３０%)（大日本インキ
化学工業（株）製、塗布面状改良フッ素系界面活性剤）      ０．０２ｇ
メチルエチルケトン                                      ２５      ｇ
１−メトキシ−２−プロパノール                          １３      ｇ
γ−ブチロラクトン                                      １３      ｇ
【０１７７】
【化１７】
2004252427.tif 000018
【０１７８】
（上層用塗布液１）
ｍ，ｐ−クレゾールノボラック樹脂（ｍ／ｐ比＝６／４、
重量平均分子量４５００、
未反応クレゾール０．８質量％含有）            （表１記載の処方量）
シアニン染料Ａ（上記構造）                              ０．０５ｇ
エチルメタクリレート／イソブチルメタクリレート／
アクリル酸共重合体                                      ０．１  ｇ
下記式（Ｂ）で表されるアンモニウム化合物                ０．１  ｇ
メガファックＦ−７８０Ｆ(固形分３０%)
（大日本インキ化学工業（株）製）                      ０．０３ｇ
メガファックＦ−７８１Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製) ０．０７ｇ
メチルエチルケトン                                    ２０      ｇ
１−メトキシ−２−プロパノール                        ４０      ｇ
【０１７９】
【化１８】
2004252427.tif 000019
【０１８０】
実施例２
実施例１における支持体Ａを前記作製例の支持体Ｂに変更した以外は実施例１と同様に感熱性平版印刷版２を作製した。
【０１８１】
実施例３
実施例１における支持体Ａを前記作製例の支持体Ｃに変更した以外は実施例１と同様に感熱性平版印刷版３を作製した。
【０１８２】
実施例４〜３１
実施例１における上層用塗布液１のエチルメタクリレート／イソブチルメタクリレート／アクリル酸共重合体を、表１に記載の化合物に変更した以外は実施例１と同様に感熱性平版印刷版４〜３１を作製した。
【０１８３】
比較例１
実施例１における上層用塗布液１を、下記の上層用塗布液２に変更した以外は実施例１と同様に比較例１の感熱性平版印刷版を作製した。
【０１８４】
（上層用塗布液２）
ｍ，ｐ−クレゾールノボラック樹脂（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平
均分子量  ４５００、未反応クレゾール０．８質量％含有）    １．０  ｇ
シアニン染料Ａ（上記構造）                                ０．０５ｇ
上記式（Ｂ）で表されるアンモニウム化合物                  ０．１  ｇ
メガファックＦ−７８０Ｆ(固形分３０%)
（大日本インキ化学工業（株）製）                        ０．０３ｇ
メガファックＦ−７８１Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製)   ０．０７ｇ
メチルエチルケトン                                      ２０      ｇ  
１−メトキシ−２−プロパノール                          ４０      ｇ
【０１８５】
比較例２
実施例１における上層用塗布液１のエチルメタクリレート／イソブチルメタクリレート／アクリル酸共重合体を、表１に記載の化合物に変更した以外は実施例１と同様に比較例２の感熱性平版印刷を作製した。
【０１８６】
（感熱性平版印刷版の評価）
＜感度評価＞  得られた感熱性平版印刷版１〜３１および比較例１および２の感熱性平版印刷版の感度を以下のようにして測定した。
感熱性平版印刷版を、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒにてビーム強度２〜１０Ｗの範囲、ドラム回転速度１５０ｒｐｍでベタ画像を描き込んだ後、富士写真フイルム（株）製非シリケート系現像液ＤＴ−２（１：８で希釈したもの）及び富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＧ−１（１：１で希釈したもの）を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーLP940Hを用い、液温を３０℃に保ち、現像時間１２秒で現像した。この時の現像液の電導度は４３ｍＳ／ｃｍであった。
現像後の版を２５倍のルーペで観察し、実質上印刷汚れにならないレベルの残膜の有無を評価し、残膜が観測されないところの露光ビーム強度から、実際の露光エネルギーを計算し、感度とした。その結果を表１に示した。露光エネルギーが小さいものほど高感度である。
【０１８７】
＜耐キズ性評価＞  得られた感熱性平版印刷版１〜３１および比較例１および２の感熱性平版印刷版をＨＥＩＤＯＮ社製引っかき試験機を用いてサファイヤ針（先端φ計１．０ｍｍ）に荷重をかけてプレートを引っかき、その後直ちに、上記感度評価の場合と同じ現像処理条件で現像した。
現像後の版面を観察し、傷が目視で確認できなくなった荷重を耐キズ性の値とした。その結果を表１に示した。数値が大きいほど耐キズ性に優れている。
【０１８８】
＜現像ラチチュードの評価＞  得られた感熱性平版印刷版１〜３１および比較例１および２の感熱性平版印刷版を、Creo社製Trendsetterにてビーム強度９ｗ、ドラム回転速度１５０rpmでテストパターンの描き込みを行った後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−２Ｒを１：５に希釈し、電導度が３７mS／cmになるまで炭酸ガスを吹き込んだ液及び富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＧ−１（１：１で希釈したもの）を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ９４０Ｈを用い、液温を３０℃に保ち、現像時間１２秒で現像した。その後、現像液にＤＴ−２Ｒ（１：５に希釈したもの）を適量加え、電導度を３９mS/cmに調整し、同じくテストパターンを描き込んだ感熱性平版印刷版を現像した。更に電導度を２mS/cmづつ上げ、画像の現像による膜減りが顕著に観察されるまでこの作業を続けた。
この時、各電導度で現像した版の非画像部を、現像不良の画像形成層残膜に起因する汚れや着色がないか確認し、良好に現像が行えた現像液の電導度を決定した。次に、実質上耐刷に影響を及ぼさない程度に現像膜減りが維持される限界の電導度を決定した。
良好に現像が行えた現像液の電導度と実質上耐刷に影響を及ぼさない程度に現像膜減りが維持される限界の電導度の幅を現像ラチチュードとした。その結果を表１に示した。数値が大きいほど現像ラチチュードが広いことを表す。
【０１８９】
【表１】
2004252427.tif 000020
【０１９０】
表１に記載のモノマーは下記の通りである。
一般式（Ａ）で表されるモノマー単位を形成するモノマー（モノマーＡ欄）
Ａ−１：アクリル酸
Ａ−２：メタクリル酸
Ａ−３：マレイン酸
Ａ−４、Ａ−５：下記式で表される構造のもの
【０１９１】
【化１９】
2004252427.tif 000021
【０１９２】
共重合モノマー（モノマーＢ欄、モノマーＣ欄、モノマーＤ欄）
Ｂ−１：アリルメタクリレート
Ｂ−２：アクリロニトリル
Ｂ−３：ベンジルアクリレート
Ｂ−４：ベンジルメタクリレート
Ｂ−５：シクロヘキシルメタクリレート
Ｂ−６：エチルアクリレート
Ｂ−７：エチルメタクリレート
Ｂ−８：イソブチルアクリレート
Ｂ−９：イソブチルメタクリレート
Ｂ−10：イソプロピルアクリレート
Ｂ−11：イソプロピルメタクリレート
Ｂ−12：イソプロピルアクリルアミド
Ｂ−13：メチルアクリレート
Ｂ−14：メチルメタクリレート
Ｂ−15：ノルマルブチルアクリレート
Ｂ−16：ノルマルブチルメタクリレート
Ｂ−17：ヒドロキシエチルメタクリレート
比較例で一般式（Ａ）のモノマー代わりに用いたモノマー（モノマーＡ欄）
Ｃ−１：Ｎ−（４−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド
【０１９３】
表１から、本発明の感熱性平版印刷版１〜３１は、比較例１〜２に比べ、現像ラチチュードが大幅に拡大し、感度および耐傷性は良好なレベルに保持されていることが分かる。
【０１９４】
＜実施例３２〜６８および比較例３〜５＞
［感熱性平版印刷版の作製］
上記のようにして得られた支持体に、下記の下層用塗布液２を塗布した後、TABAI社製、PERFECT  OVEN  PH２００にてWind  Controlを７に設定して１３０℃で５０秒間乾燥し、乾燥塗布量が０．８５ｇ／ｍ2の下層を設けた。次にその上に、上層用塗布液３を乾燥塗布量が０．２５ｇ／ｍ2になるよう塗布した。乾燥条件は、１4０℃、１分間であった。
なお、実施例３２〜６８および比較例３〜５に対応して用いる一般式（Ａ’）のモノマー単位を有する共重合体の種類と塗布液への添加量を表２に示した。
【０１９５】
（下層用塗布液２）
・Ｎ−（４−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／
アクリロニトリル／メタクリル酸メチル共重合体
（36／34／30質量％：重量平均分子量50000、酸価2.65）      2.133ｇ
・シアニン染料Ａ（前記構造）                                 0.109ｇ
・４，４'−ビスヒドロキシフェニルスルホン                    0.126ｇ
・シス−Δ4−テトラヒドロフタル酸無水物                     0.190ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸                                     0.008ｇ
・３−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート                               0.030ｇ
・エチルバイオレットの対イオンを
６−ヒドロキシ−２−ナフタレンスルホナートに変えたもの     0.100ｇ
・メガファックＦ１７６（大日本インキ化学工業（株）製、
塗布面状改良フッ素系界面活性剤)                          0.035ｇ
・メチルエチルケトン                                        25.38 ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                            13.0 ｇ
・γ−ブチロラクトン                                        13.2 ｇ
【０１９６】
（上層用塗布液３）
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック樹脂（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量
４５００、未反応クレゾール０．８質量％含有）             0.3478ｇ
・本発明の共重合体                    （表２に種類および添加量を記載）
・シアニン染料Ａ                                             0.0192ｇ
・下記構造のアンモニウム化合物                               0.0115ｇ
【０１９７】
【化２０】
2004252427.tif 000022
【０１９８】
・メガファックＦ１７６(20%)
（大日本インキ化学工業（株）製、面状改良界面活性剤）         0.022ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                            13.07ｇ
・メチルエチルケトン                                         6.79ｇ
なお、比較例の場合は、本発明の共重合体の代わりに、表２に示したメタクリル酸／メタクリル酸メチル共重合体を用いた。
【０１９９】
［現像ラチチュードの評価］
得られた平版印刷版原版をCREO社製Trendsetterにてビーム強度９ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍでテストパターンを画像状に描き込みを行った後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−２Rを１容量部に対して水５容量部の割合で希釈（以下では、１：５に希釈したものと略記する）し、電導度が37mS/cmになるまで炭酸ガスを吹き込んだ液及び富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦG−１（１：１で希釈したもの）を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーLP940Hを用い、液温を３０度に保って現像時間
１２秒で現像した。その後、現像液にDT−２R(１：５に希釈したもの)を適量加え、電導度を39mS/cmに調整し、先ほどと同じくテストパターンを画像状に描き込んだ平版印刷版原版を現像した。更に電導度を2mS/cmづつ上げ、画像の現像による膜減りが顕著に観察されるまでこの作業を続けた。
この時、各電導度で現像した版を、現像不良の非画像部残膜に起因する汚れや着色がないかを確認し、良好に現像が行なえた現像液の電導度を決定した。次に、実質上耐刷に影響を及ぼさない程度に現像膜減りが維持される限界の電導度を決定した。
良好に現像が行えた現像液の電導度と実質上耐刷に影響を及ぼさない程度に現像膜減りが維持される限界の電導度の幅を現像ラチチュードとした。
さらに、ＤＴ−２Ｒ（１：５に希釈したもの）に代えて、下記組成の現像液を用いて同様の評価を行った。
【０２００】
（アルカリ現像液Ｂ組成）
ＳｉＯ2・Ｋ2Ｏ（Ｋ2Ｏ／ＳｉＯ2＝１／１（モル比）） 3.8質量％
クエン酸                                           0.5質量％
水                                                95.7質量％
【０２０１】
［耐傷性評価］
得られた本発明の平版印刷版原版をHEIDON社製引っかき試験機を用いてサファイヤ（先端径1.0ｍｍ）に荷重をかけてプレートを引っかき、その後直ちに、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−2（１：８で希釈したもの）及び富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＧ-1（１：１で希釈したもの）を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサーLP940Hを用い、液温を３０度に保ち、現像時間１２秒で現像した。この時の現像液の電導度は43ｍＳ／ｃｍであった。傷が目視で確認できなくなった荷重を耐傷性の値とした。数値が大きいほど耐傷性に優れていると評価した。
【０２０２】
【表２】
2004252427.tif 000023
【０２０３】
表２に記載の本発明の共重合体に用いた共重合モノマーを以下に示す。
モノマーａ：一般式（Ａ’）で表されるモノマー単位を形成するモノマー
例示化合物ａ−１〜ａ−３６
モノマーｂ：スチレン誘導体
例示化合物ｂ−１〜ｂ−１７
モノマーｃ：アクリルアミド誘導体
例示化合物ｃ−１〜ｃ−１０
モノマーｄ：アクリル酸エステル
ｄ−１：アクリル酸メチル
ｄ−２：メタクリル酸メチル
ｄ−３：メタクリル酸エチル
ｄ−４：メタクリル酸イソプロピル
ｄ−５：メタクリル酸ｎ−ブチル
【０２０４】
表２から明らかなように、本発明の実施例３２〜６８は、比較例３〜５に比べ、現像ラチチュードが大幅に拡大し、耐傷性も顕著に向上している。