(57)【要約】      （修正有）【課題】線膨張係数が小さく、光学特性に優れ、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子用基板、有機ＥＬ表示素子基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などに適用できるガラスに代替可能な光学シートを提供する。【解決手段】透明樹脂（ａ）及びガラスフィラー(ｂ)からなり、該透明樹脂（ａ）の１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下である。前記透明樹脂（ａ）のガラス転位温度は１００℃以下であることが望ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂（ａ）及びガラスフィラー(ｂ)からなり、該透明樹脂（ａ）の１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下であることを特徴とする光学シート。
【請求項２】
前記ガラスフィラー(ｂ)がガラス繊維であることを特徴とする請求項１の光学シート。
【請求項３】
前記透明樹脂（ａ）のガラス転位温度が１００℃以下であることを特徴とする請求項１又は２の光学シート。
【請求項４】
前記透明樹脂（ａ）の屈折率とガラスフィラー（ｂ）の屈折率との差が０．０１以下である請求項１〜３いずれかの光学シート。
【請求項５】
前記透明樹脂（ａ）のアッベ数が４５以上である請求項１〜４いずれかの光学シート。
【請求項６】
前記透明樹脂（ａ）が２つ以上の官能基を有する（メタ）アクリレートを構成成分として架橋したアクリレート樹脂である請求項１〜５いずれかの光学シート。
【請求項７】
前記透明樹脂（ａ）が２つ以上の官能基を有するエポキシ樹脂を構成成分として硬化したエポキシ樹脂である請求項１〜５いずれかの光学シート。
【請求項８】
前記ガラスフィラー(ｂ)の屈折率が１.４５〜１.５５である請求項１〜７いずれかの光学シート。
【請求項９】
前記ガラスフィラー(ｂ)としてガラスクロスを用いることを特徴とする請求項１〜８いずれかの光学シート。
【請求項１０】
３０〜１５０℃における平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である請求項１〜９いずれかの光学シート。
【請求項１１】
厚みが５０〜２０００μｍである請求項１〜１０いずれかの光学シート。  
【請求項１２】
５５０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上である請求項１〜１１いずれかの光学シート。  
【請求項１３】
光学シートが、表示素子用プラスチック基板、又はアクティブマトリックス表示素子用基板である請求項１〜１２いずれかの光学シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、線膨張係数が小さく、光学特性に優れ、ガラスに代替可能な光学シートに関する。本発明の光学シートは、例えば、液晶表示素子用基板、有機ＥＬ表示素子用基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などに好ましい。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子用の表示素子基板(特にアクティブマトリッ
クスタイプ)、カラーフィルター基板、太陽電池用基板等としては、ガラス板が広く用い
られている。しかしながらガラス板は、割れ易い、曲げられない、比重が大きく軽量化に不向きなどの理由から、近年、その代替としてプラスチック素材が検討されている。
【０００３】
例えば、特許文献１や特許文献２には、エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤及び硬化触媒を含むエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化体からなる液晶表示素子用透明樹脂基板が記載されている。また、特許文献３には、特定のビス（メタ）アクリレートを含む組成物を活性エネルギー線等により硬化成形した透明基板を用いた液晶表示素子が記載されている。  
しかしながら、これら従来のガラス代替用プラスチック材料は、ガラス板に比べ線膨張係数が大きく、特に、アクティブマトリックス表示素子基板に用いるとその製造工程において反りやアルミ配線の断線などの問題が生じ、これら用途への使用は困難である。したがって、表示素子基板、特にアクティブマトリックス表示素子用基板に要求される、透明性、耐熱性等を満足しつつ線膨張係数の小さなプラスチック素材が求められている。
【０００４】
線膨張係数を低減するため、樹脂にガラス繊維等の無機フィラーを複合化することがよく行われている。しかしながら、これら樹脂と無機フィラーとの複合化では、通常透明な複合材料は得られない。これは無機フィラーの屈折率と樹脂の屈折率とが異なるため、樹脂中を透過する光が乱屈折することが主な原因である。
【０００５】
このような問題を解決するため、樹脂とガラス繊維との屈折率を合わせて透明化することが種々検討されている。例えば、特許文献３や特許文献４には、環状オレフィン樹脂とガラス繊維との屈折率差を小さくすることにより、透明な複合材料が得られることが示されている。また、非特許文献１には、エポキシ樹脂とその屈折率に近いガラス繊維を用いて透明な複合体が得られることが示されている。しかしながら、これら材料を直交した偏光板間（クロスニコル）に挟んで光をあてると偏光が乱れて光漏れが生じることがある。このため、これら材料を液晶表示素子基板などに用いると表示品位が低下する恐れがあった。
【０００６】
【特許文献１】特開平６−３３７４０８号公報
【特許文献２】特開平７−１２０７４０号公報
【特許文献３】特開平１０−９０６６７号公報
【特許文献４】特開平６−２５６６０４号公報
【特許文献５】特開平６−３０５０７７号公報
【非特許文献１】複合材料シンポジウム講演要旨集，２２，８６（１９９７）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、線膨張係数が小さく、光学特性に優れ、ガラスに代替可能な光学シートを提供することにある。本発明の光学シートは、アクティブマトリックスタイプを含む
液晶表示素子用基板、有機ＥＬ表示素子基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板などに好適に用いられる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した。その結果、透明樹脂（ａ）及びガラスフィラー(ｂ)からなり、該透明樹脂（ａ）の１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下であることを特徴とする光学シートが、光学特性に優れ、線膨張係数が小さいということを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、
（１）透明樹脂（ａ）及びガラスフィラー(ｂ)からなり、該透明樹脂（ａ）の１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下であることを特徴とする光学シート、
（２）前記ガラスフィラー(ｂ)がガラス繊維であることを特徴とする（１）の光学シート、
（３）前記透明樹脂（ａ）のガラス転位温度が１００℃以下であることを特徴とする（１）又は（２）の光学シート、
（４）前記透明樹脂（ａ）の屈折率とガラスフィラー（ｂ）の屈折率との差が０．０１以下である（１）〜（３）の光学シート、
（５）前記透明樹脂（ａ）のアッベ数が４５以上である（１）〜（４）いずれかの光学シート、
（６）前記透明樹脂（ａ）が２つ以上の官能基を有する（メタ）アクリレートを構成成分として架橋したアクリル樹脂である（１）〜（５）いずれかの光学シート、
（７）前記透明樹脂（ａ）が２つ以上の官能基を有するエポキシ樹脂を構成成分として硬化したエポキシ樹脂である（１）〜（５）いずれかの光学シート、
（８）前記ガラスフィラー(ｂ)の屈折率が１.４５〜１.５５である（１）〜（７）いずれかの光学シート、
（９）前記ガラスフィラー(ｂ)としてガラスクロスを用いることを特徴とする（１）〜（８）いずれかの光学シート
（１０）３０〜１５０℃における平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である（１）〜（９）いずれかの光学シート、
（１１）厚みが５０〜２０００μｍである（１）〜（１０）いずれかの光学シート、
（１２）５５０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上である（１）〜（１１）いずれかの光学シート、
（１３）光学シートが、表示素子用プラスチック基板、又はアクティブマトリックス表示素子用基板である（１）〜（１２）いずれかの光学シート、
である。
【発明の効果】
【００１０】
以上のように、本発明の光学シートは、線膨張係数が小さく、かつ広い波長範囲で高い光線透過率が得られ、さらに直交する偏光板間（クロスニコル）での光漏れが少ないなど光学特性に優れ、例えば、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネルに好適に利用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
つぎに、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明では、透明樹脂(ａ)及びガラスフィラー(ｂ)からなり、該透明樹脂（ａ）の１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下であることを特徴とする。
液晶表示素子基板として用いられているガラス基板を直交した偏光板間（クロスニコル）に挟んで光をあてると光は遮断され、光漏れはほとんど生じない。しかし、透明樹脂と
ガラスフィラーから成る透明な複合シートでは、光漏れが生じることがある。クロスニコルで光が漏れると、液晶表示素子基板として用いた場合に表示品位が低下する恐れがある。本発明者らは、クロスニコルでの光漏れの現象を詳細に解析した結果、この光漏れがガラスフィラー近傍に発生するリタデーションに由来するものと推定した。さらに、１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下の樹脂を用いると熱応力が低減し、クロスニコルでの光漏れが低減することを見出した。
【００１２】
本発明の透明樹脂（ａ）は、１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下であり、ガラスフィラーと複合化して透明になるものであれば、特に限定されない。本発明の透明樹脂（ａ）の弾性率は、０．５ＧＰａ以下であり、好ましくは０．３ＧＰａ以下、より好ましくは０．２ＧＰａ以下である。１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以上であるとガラスフィラーと複合化した場合に熱応力による歪みが発生しやすくなり、クロスニコルでの光り漏れも生じやすくなる。
【００１３】
本発明の透明樹脂（ａ）は、１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下であることに加えて、ガラス転位温度が１００℃以下であることが好ましい。より好ましくは８０℃、最も好ましくは６０℃以下である。ガラス転位温度が１００℃を超えるとガラスフィラーと複合化した場合に熱応力による歪みが発生しやすくなり、クロスニコルでの光り漏れも生じやすくなる。
ここで言うガラス転位温度は、粘弾性測定装置を用いて、昇温速度５℃／分、周波数１Ｈｚで測定したときのｔａｎδの最大値である。
【００１４】
透明樹脂(ａ)の屈折率とガラスフィラー(ｂ)の屈折率との差は、優れた透明性を維持するため０.０１以下であることが好ましく、０.００５以下がより好ましい。屈折率差が０.０１より大きい場合には、得られる光学シートの透明性が劣る傾向がある。
【００１５】
透明樹脂(ａ)とガラスフィラー(ｂ)との屈折率差を０.０１以下にするには、(1)ガラスフィラーとの屈折率差が０.０１以下の樹脂を選択する、(2)ガラスフィラーの屈折率を調整して樹脂の屈折率に合わせる、(3)樹脂の屈折率を調整してガラスフィラーの屈折率を
合わせる方法などが採用し得る。
【００１６】
しかしながら表示素子用基板に要求される種々の特性を満足しつつ、樹脂とガラスフィラーとの屈折率差が０.０１以下の組み合わせを選択することは容易でないため、樹脂ま
たはガラスフィラーの屈折率を調整して屈折率差を０.０１以下にするのが好ましい。ガ
ラスフィラーの屈折率を調整して樹脂の屈折率に合わせる方法では特殊なガラスフィラーを用いることになり、コストの面からは、樹脂の屈折率を調整してガラスフィラーの屈折率に合わせる方法が好ましい。
【００１７】
ガラスフィラーの屈折率に樹脂の屈折率を合わせるには、(1)屈折率の異なる２種以上
の樹脂を組み合わせる方法、(2)樹脂よりも屈折率が大きいか、小さい添加剤を添加して
調整する方法などが挙げられる。なかでも、ガラスフィラー(ｂ)よりも屈折率の高い樹脂とガラスフィラー(ｂ)よりも屈折率の低い樹脂を組み合わせて屈折率を調整する方法が好ましい。この方法によれば、樹脂の屈折率をＥガラス、Ｓガラス、ＮＥガラスなどの汎用的なガラスフィラーの屈折率に合わすことが比較的容易である。
【００１８】
本発明の透明樹脂（ａ）は、ガラスフィラー（ｂ）と複合化して優れた透明性を得るために、アッベ数が４５以上であることが好ましく、４８以上であることがより好ましい。ここでいうアッベ数（υｄ）とは、屈折率の波長依存性、すなわち分散の度合いを示すもので、υｄ＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）で求めることができる。ここで、ｎＣ、ｎＤ、ｎＦは、それぞれブラウンホーファーの線のＣ線（波長６５６ｎｍ）、Ｄ線（５８９ｎ
ｍ）、Ｆ線（４８６ｎｍ）に対する屈折率である。アッベ数が小さい材料は、波長によって屈折率が大きく変化する。一般的なガラスフィラーはアッベ数が５０以上であるため、アッベ数が４５以下の透明樹脂と複合化すると、波長５８９ｎｍで屈折率を合わせたとしても、例えば４００ｎｍ以下の波長では屈折率がずれてしまい、４００ｎｍ以下の光線透過率が低下する傾向にある。アッベ数が４５以上の透明樹脂を用いれば、一般的なガラスフィラーと広い波長範囲で屈折率を一致させることができ、例えば４００ｎｍ以下の波長においても優れた光線透過率を実現できる。
【００１９】
アッベ数が４５以上でかつ１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下の透明樹脂としては、柔軟鎖を含みかつ２つ以上の官能基を有する（メタ）アクリレートを構成成分として架橋したアクリレート樹脂、柔軟鎖を含みかつ２つ以上の官能基を有するエポキシ樹脂を構成成分として硬化したエポキシ樹脂、柔軟鎖を側鎖に有するノルボルネン誘導体やシクロヘキサンジエン誘導体を重合したシクロオレフィン樹脂、ゴムやエラストマーを含有した透明な熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂、可塑剤を含有した透明な熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂などをあげることができる。これらの中でも、高温での熱安定性や耐薬品性が優れることから、２つ以上の官能基を有する（メタ）アクリレートを構成成分として架橋したアクリレート樹脂や２つ以上の官能基を有するエポキシ樹脂を構成成分として硬化したエポキシ樹脂が好ましい。
【００２０】
架橋した樹脂の１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下で、かつアッベ数が４５以上となる２つ以上の官能基を有する（メタ）アクリレートとしては、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性水添ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレートなどがあげられ、特にガラス転位温度が低く、吸水率が小さく、反応性が高いことからプロピレングリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、ノナンジオールジアクリレートが好ましく、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレートが最も好ましい。カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレートの入手可能な製品としては、日本化薬製カラヤッドＨＸ−２２０やＨＸ−６２０がある。これら２つ以上の官能基を有する（メタ）アクリレートを構成成分として用いることにより、１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下、ガラス転位温度が１００℃以下、かつアッベ数が４５以上の架橋したアクリレート樹脂が得られる。
【００２１】
これら（メタ）アクリレートは、ガラスフィラーとの屈折率を合わせる目的で、他の（メタ）アクリレートを併用することが好ましい。また、要求された特性を極端に損なうことがない範囲で、単官能の（メタ）アクリレートを併用することもできる。
【００２２】
これら（メタ）アクリレートを架橋させる方法としては、活性エネルギー線により硬化させる方法、熱をかけて熱重合させる方法等があり、これらを併用することもできる。特に、反応の完結、線膨張係数を低減する等の目的で、活性エネルギー線による硬化及び／又は熱をかけて熱重合させる工程の後に、さらに高温での熱処理を併用することが好ましい。使用する活性エネルギー線としては、紫外線が好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、例えば、メタルハライドタイプ、高圧水銀灯ランプ等が挙げられる。
【００２３】
これら（メタ）アクリレートを紫外線等の活性エネルギー線により硬化させる場合は、樹脂組成物中にラジカルを発生する光重合開始剤を含有させることが好ましい。その際に
用いる光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドが挙げられる。これらの光重合開始剤は２種以上を併用しても良い。
【００２４】
光重合開始剤の樹脂中における含有量は、適度に硬化させる量であればよく、２つ以上の官能基を有する（メタ）アクリレートの合計１００重量部に対し、０．０１〜２重量部が好ましく、さらに好ましくは、０．０２〜１重量部であり、最も好ましくは、０．１〜０．５重量部である。光重合開始剤の添加量が多すぎると、重合が急激に進行し、複屈折の増大、着色、硬化時の割れ等の問題が発生する。また、少なすぎると組成物を十分に硬化させることができず、架橋後に型に付着して取れにくくなる等の問題が発生する。
【００２５】
活性エネルギー線による硬化及び／又は熱重合による架橋後に高温で熱処理する場合は、窒素雰囲気下又は真空状態で、２５０℃〜３００℃、１〜２４時間の熱処理工程を含ませることが好ましい。
【００２６】
硬化した樹脂の１００℃での弾性率が０．５ＧＰａ以下で、かつアッベ数が４５以上となる２つ以上の官能基を有するエポキシ樹脂としては、用いる硬化剤によっても異なるが、例えば酸無水物系硬化剤の場合には、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
【００２７】
これらエポキシ樹脂は、ガラスフィラーと屈折率を合わす目的で他のエポキシ樹脂も含めて２種以上を併用することが好ましい。また、要求される特性を極端に損なうことのない範囲で、単官能のエポキシ化合物を併用しても良い。
本発明に用いるエポキシ樹脂（ａ）は、硬化剤もしくは重合開始剤存在下、加熱もしくは活性エネルギー線を照射し、硬化して用いる。用いる硬化剤は、特に限定されないが、優れた透明性の硬化物が得られやすいことから、酸無水物系硬化剤やカチオン系硬化触媒が好ましい。
【００２８】
酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチル水添無水ナジック酸、水添無水ナジック酸などがあげられ、なかでも透明性が優れることからメチルヘキサヒドロ無水フタル酸やメチル水添無水ナジック酸が好ましい。
【００２９】
酸無水物系硬化剤を使用する場合は、硬化促進剤を併用することが好ましい。この硬化促進剤としては、１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７、トリエチレンジアミン等の三級アミン類、２−エチル−４−メチルイミダゾールや１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等のリン化合物、四級アンモニウム塩、有機金属塩類、およびこれらの誘導体等があげられ、これらのなかでも透明性が優れることからリン化合物や１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類が好ましい。これら硬化促進剤は、単独で用いても２種以上を併用して用いても良い。
【００３０】
エポキシ樹脂（ａ）と酸無水物系硬化剤との配合割合は、エポキシ樹脂（ａ）中のエポキシ基１当量に対して、酸無水物系硬化剤における酸無水物基が０．５〜１．５当量に設定することが好ましく、０．７〜１．２当量がより好ましい。
カチオン系触媒としては、酢酸、安息香酸、サリチル酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸、三フッ化ホウ素アミン錯体、三フッ化ホウ素のアンモニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨウドニウム塩、アルミニウム錯体を含有するカチオン系硬化触媒等をあげることができ、これらのなかでもアルミニウム錯体を含有するカチオン系硬化触媒が好ましい。
【００３１】
本発明で用いるガラスフィラー（ｂ）の屈折率は特に制限されないが、１．４５〜１．５５であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．５４である。ガラスフィラー（ｂ）の屈折率が１．５５以上では、同じ屈折率でアッベ数が４５以上の樹脂を選択するのが困難であり、１．４５以下では特殊な組成のガラスフィラーとなり、コスト的に不利である。特に、１．５０〜１．５４の範囲であれば、一般的なガラスフィラーが適用でき、かつ同じ屈折率でアッベ数が４５以上の樹脂の選択も容易である。
【００３２】
ガラスのフィラーとしては、Ｅガラス、Ｃガラス、Ａガラス、Ｓガラス、Ｄガラス、ＮＥガラス、Ｔガラス、石英ガラスなどがあげられ、中でもアッベ数が４５以上の樹脂で屈折率制御が容易で、かつ入手が容易なＳガラス、Ｔガラス、ＮＥガラスが好ましい。
【００３３】
本発明で用いるガラスフィラー（ｂ）としては、ガラス繊維、ガラスクロスやガラス不織布などのガラス繊維布、ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスパウダー、ミルドガラスなどがあげられ、中でも線膨張係数の低減効果が高いことから、ガラス繊維、ガラスクロス、ガラス不織布が好ましく、ガラスクロスが最も好ましい。
【００３４】
ガラスフィラー(ｂ)の配合量は１〜９０重量％が好ましく、より好ましくは１０〜８０重量％、さらに好ましくは３０〜７０重量％である。
【００３５】
本発明の光学シートにおいては、ガラスフィラーと樹脂とが密着しているほど、光学シートの透明性がよくなるため、ガラスフィラー表面をシランカップリング剤などの公知の表面処理剤で処理するのが好ましい。具体的には、アクリル樹脂の場合はアクリル基を有するシラン化合物で、エポキシ樹脂の場合はエポキシ基を有するシラン化合物で処理するのが好ましい。
【００３６】
また、本発明の複合体組成物中には、必要に応じて、透明性、耐溶剤性、耐熱
性等の特性を損なわない範囲で、少量の酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料、他
の無機フィラー等の充填剤等を含んでいても良い。
【００３７】
本発明の光学シートの製造方法には制限がなく、例えば、透明樹脂として２つ以上の官能基を有する（メタ）アクリレートを用いる場合には、樹脂とフィラーとを直接混合し、必要な型に注型したのち架橋させる方法、樹脂をガラスクロスやガラス不織布に含浸させたのち架橋させる方法などが挙げられる。
【００３８】
本発明の光学シートを、液晶表示素子用プラスチック基板、カラーフィルター用基板、有機ＥＬ表示素子用プラスチック基板、太陽電池基板、タッチパネル等の用途として用いる場合、基板の厚さは好ましくは５０〜２０００μｍであり、より好ましくは５０〜１０００μｍである。基板の厚さがこの範囲にあると平坦性に優れ、ガラス基板と比較して基板の軽量化を図ることができる。
【００３９】
また、この光学シートを前記光学用途として用いる場合、３０〜１５０℃における平均線膨張係数が４０ｐｐｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０ｐｐｍ以下、最も好ましくは２０ｐｐｍ以下である。例えば、この光学シートをアクティブマトリックス表示素子基板に用いた場合、この上限値を越えると、その製造工程において反りやアルミ
配線の断線などの問題が生じる恐れがある。
【００４０】
本発明の透明樹脂（ａ）とガラスフィラー（ｂ）からなる光学シートを、液晶表示素子用プラスチック基板などの表示素子用基板として用いる場合は、波長５５０ｎｍの光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であるのがより好ましい。光線透過率がこれよりさらに低いと光の利用効率が低下し光効率が重要な用途には好ましくない。
【００４１】
表示素子用プラスチック基板とする場合、平滑牲を向上させるために両面に樹脂のコート層を設けても良い。かかる樹脂は優れた透明性、耐熱性、耐薬品性を
有していることが好ましく、具体的には多官能アクリレートやエポキシ樹脂など
が好ましい。コート層の厚みは０.１〜５０μｍが好ましく、０.５〜３０μｍが
より好ましい。
【００４２】
本発明の表示素子用プラスチック基板は、必要に応じて水蒸気や酸素に対する
ガスバリア層や透明電極層を設けても良い。
【実施例】
【００４３】
以下に本発明を実施例及び比較例によりさらに具体的に説明するが、本発明は
これらにより限定されるものではない。
【００４４】
（実施例１）
１００μｍのＮＥガラス系ガラスクロス（日東紡製＃２１１６タイプ、屈折率１．５１０）を焼きだしして有機物を除去した後、アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン（アクリルシラン）で処理した。このガラスクロスに、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＸ−２２０、架橋後の屈折率１．４９３）８０重量部、ジシクロペンタジエニルジアクリレート（東亞合成(株)製  Ｍ−２０３、架橋後の屈折率１．５２７）３重量部、ビス［４−（アクリロイロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（東亞合成（株）試作品
ＴＯ−２０６５）１７重量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバスペシャリティケミカル製のイルガキュア１８４）０．５重量部とからなる樹脂（架橋後の屈折率１．５１０）を含浸し、脱泡した。この樹脂を含浸したクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、両面からトータルで約２０００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して架橋させた。さらに真空オーブン中、１００℃で２時間、さらに２
５０℃で３時間熱処理し、０．１ｍｍの透明シートを得た。
【００４５】
（実施例２）
平均粒子径３．２μｍのＮＥガラスパウダー(屈折率１.５１０、日東紡製)を焼きだし
して有機物を除去した後、アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン（アクリルシラン）で処理した。このガラスパウダー１００重量部にカプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＸ−２２０、架橋後の屈折率１．４９３）８０重量部、ジシクロペンタジエニルジアクリレート（東亞合成(株)製  Ｍ−２０３、架橋後の屈折率１．５２７）３重量部、ビス［４−（アクリロイロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（東亞合成（株）試作品  ＴＯ−２０６５）１７重量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバスペシャリティケミカル製のイルガキュア１８４）０．５重量部を溶融混合した樹脂（硬化後の樹脂の屈折率１．５１０）に分散し、脱泡した。これを厚さ８０μｍのアルミ箔をスペーサーとしてガラス板に挟み込み、両面からトータルで約２０００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して架橋させた。さらに真空オーブン中、１００℃で２
時間、さらに２５０℃で３時間熱処理し、０．１ｍｍの透明シートを得た。
【００４６】
（比較例１）
１００μｍのＥガラス系ガラスクロス（ユニチカクロス製Ｅ１０Ａ（＃２１１７）屈折率１．５６０）を焼きだしして有機物を除去した後、アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン（アクリルシラン）で処理した。このガラスクロスにジシクロペンタジエニルジアクリレート（東亞合成(株)製Ｍ−２０３、架橋後の屈折率１．５２７）５８重量部とビス［４−（アクリロイロキシエトキシ）フェニル］スルフィド（東亞合成（株）試作品ＴＯ−２０６６、架橋後の屈折率１．６０６）４２重量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバスペシャリティケミカル製のイルガキュア１８４）０．５重量部とからなる樹脂（架橋後の屈折率１．５６０）を含浸し、脱泡した。この樹脂を含浸したクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、両面からトータルで約２０００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して架橋させた。さらに真空オーブン中で、
約１００℃で２時間、さらに約２５０℃で３時間熱処理し、０．１ｍｍの透明シートを得た。
【００４７】
(評価方法)
前記の実施例、比較例にて作製した光学シートについて、下記の評価方法により各種の特性を測定した。
ａ）弾性率及びガラス転位温度
セイコー電子（株）製ＤＭＳ−２１０型粘弾性測定装置を用いて、５℃／分の速度で−３０℃から４００℃まで昇温し、１００℃の時の周波数１Ｈｚでの貯蔵弾性率を１００℃の弾性率とした。また、ｔａｎδの最大値をガラス転位温度とした。
ｂ）直交した偏光板間（クロスニコル）での光漏れ
作成した光学シートをクロスニコルにした偏光顕微鏡で観察した。偏光顕微鏡の光軸を
固定し、サンプルを回転させ、光学シートの一部分あるいは全体がもっとも明るくなる角度にセットした。そのときの画像を白黒変換し各画素（画素数６４０ｘ４８０）の階調（０〜２５５階調）の総和をとり、その総和が１０００万未満の場合を○、以上の場合を×とした。
ｃ）平均線膨張係数
セイコー電子（株）製ＴＭＡ／ＳＳ１２０Ｃ型熱応力歪測定装置を用いて、窒素の存在下、１分間に５℃の割合で温度を３０℃から４００℃まで上昇させて２０分間保持した後、１分間に５℃の割合で温度を０℃まで冷却して５分間保持した。その後、再度、１分間に５℃の割合で温度を上昇させて、３０℃〜１５０℃の時の値を測定して求めた。荷重を５ｇにし、引張モードで測定した。
ｄ）光線透過率
分光光度計Ｕ３２００（日立製作所製）で４００ｎｍ及び５５０ｎｍの光線透過率を測定した。
ｅ）屈折率、アッベ数
アタゴ社製アッベ屈折率計ＤＲ−Ｍ２を用いて、２５℃で波長５８９ｎｍの屈折率を測定した。また、波長６５６ｎｍ及び４８６ｎｍの屈折率を測定してアッベ数を求めた。
評価結果を表１に示す。
【００４８】
【表１】
2004252435.tif 000002