(57)【要約】【課題】ＭｇＯ膜自体の製造工程においてＭｇＯ膜の膜質を評価し、その評価値に基づきＭｇＯ膜の製造条件を管理することにより、プラズマディスプレイパネルの生産効率を高め、結果的に常に安定したＭｇＯ膜をプラズマディスプレイパネルに組み込むことができ、信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】ＭｇＯ膜蒸着工程１９とパネル封着工程２０の間に、光学特性測定工程２１を入れて、ＭｇＯ膜７の光学特性を測定し、得られたＭｇＯ膜７の屈折率や消衰係数の光学特性測定結果に基づき、以降のＭｇＯ膜７の蒸着条件、すなわち、基板温度、酸素分圧、成膜レート等の蒸着プロセスを変更して、膜質の悪化を早期に是正する。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面側の基板上には、走査電極と維持電極とで対をなすストライプ状の表示電極と、前記走査電極と維持電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層上に保護膜および２次電子放出膜として働くＭｇＯ膜とが形成され、前記前面側の基板と対向配置された背面側の基板上には絶縁体層で覆われたストライプ状のデータ電極が形成され、前記表示電極とデータ電極の交点が放電セルとなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、誘電体層上へのＭｇＯ膜の蒸着工程において、ＭｇＯ膜の光学特性を測定し、その測定結果に基づきＭｇＯ膜の蒸着条件を調製するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前面側の基板上には、走査電極と維持電極とで対をなすストライプ状の表示電極と、前記走査電極と維持電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層上に保護膜および２次電子放出膜として働くＭｇＯ膜とが形成され、前記前面側の基板と対向配置された背面側の基板上には絶縁体層で覆われたストライプ状のデータ電極が形成され、前記表示電極とデータ電極の交点が放電セルとなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、誘電体層上へのＭｇＯ膜の蒸着工程において、ＭｇＯ膜の光学特性を測定し、その測定結果に基づきプラズマディスプレイパネルのエージング条件を調製するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
光学特性が屈折率である請求項１あるいは請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
光学特性が消衰係数である請求項１あるいは請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、視認性に優れた薄型表示デバイスとしてテレビジョン受像機等に使用されるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来からプラズマディスプレイパネルには、大別して駆動的にはＡＣ型とＤＣ型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の２種類があるが、高精細度、大画面化および製造の簡便性から、現状ではＡＣ型で面放電型のプラズマディスプレイパネルが主流を占めるようになってきている。
【０００３】
プラズマディスプレイパネルの製造は、まず、ガラス基板上に電極や隔壁等となる各種の凸部を形成して前面板パネルと背面板パネルを製造し、両パネルを対向させた後、周囲をシールしてその内部に不活性ガスを封入する。そして、最後に制御回路やシャーシを組み立ててプラズマディスプレイパネルを完成する。
【０００４】
以下、一般的なＡＣ型で面放電型のプラズマディスプレイパネルの構成を図面を用いて説明する。図１は一般的なプラズマディスプレイパネルの構成斜視図、図２は図１のＡ−Ａ線における断面図、図３は図１のＢ−Ｂ線における断面図であり、ガラス基板等の透明な前面側の基板１上には、走査電極２と維持電極３とで対をなすストライプ状の表示電極４が複数対形成され、そして前面側の基板１上の隣り合う表示電極４間には遮光層５が配置形成されている。この走査電極２および維持電極３は、それぞれ透明電極２ａ、３ａおよびこの透明電極２ａ、３ａに電気的に接続された銀等の母線２ｂ、３ｂとから構成されている。また、前記前面側の基板１には、前記複数対の電極群を覆うように電荷をためる誘電体層６が形成され、その誘電体層６上には保護膜および２次電子放出膜として働くＭｇＯ膜７が蒸着形成されている。
【０００５】
また、前記前面側の基板１に対向配置される背面側の基板８上には、走査電極２および維持電極３の表示電極４と直交する方向に、絶縁体層９で覆われた複数のストライプ状のデータ電極１０が形成されている。このデータ電極１０間の絶縁体層９上には、データ電極１０と平行にストライプ状の複数の隔壁１１が配置され、隣接する隔壁１１間において、隔壁１１の側面および絶縁体層９の表面に蛍光体層１２が設けられている。
【０００６】
これらの前面側の基板１と背面側の基板８とは、走査電極２および維持電極３とデータ電極１０とが直交するように、微小な放電空間を挟んで対向配置されるとともに、周囲が封止され、そして前記放電空間には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノンの内の１種または混合ガスが放電ガスとして封入されている。また、放電空間は、隔壁１１によって複数の区画に仕切ることにより、表示電極４とデータ電極１０との交点が放電セル１３となり、それら複数の放電セル１３の内、データ電極１０によって選択された放電セル１３において、最初、表示電極４とデータ電極１０との間に規模の小さい書込放電が生じ、その後、走査電極２および維持電極３間に主放電が生じてプラズマディスプレイパネルのディスプレイ表示が行われる。
【０００７】
また、その各放電セル１３には、赤色、緑色および青色となるように蛍光体層１２が１色ずつ順次配置され、各放電セル１３間は遮光層５によって覆われており、放電セル１３の位置以外の放電は外部から見えない。
【０００８】
なお、上記構成のプラズマディスプレイパネルは、実駆動に先立ちエージングとして、走査電極２と維持電極３に交互に実駆動より高い電圧を印加して放電を起こし、パネル管内の活性化を行うことで、実駆動時における駆動電圧の低下と、パネル全面を安定に放電させることを図っている。
【０００９】
上記構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、ＭｇＯ膜７は２次電子放出膜として、走査電極２と維持電極３間に生じる放電を誘発する源であり、プラズマディスプレイパネルの放電状態を左右する重要な膜である。
【００１０】
このＭｇＯ膜７の膜質の変化によりプラズマディスプレイパネルの放電電圧が上下し、膜質によってはプラズマディスプレイパネルが所定の駆動電圧で点灯しない不具合が生じる。また、このＭｇＯ膜７は吸着性が強く不安定な膜であるため、ＭｇＯ膜７の蒸着プロセスのわずかな変化によって膜質が変ってしまいパネル特性の不具合につながる。
【００１１】
従って、上記ＭｇＯ膜７の膜質を常に把握してその結果に基づき、ＭｇＯ膜７の蒸着条件等の製造条件を調製することが必要である。
【００１２】
しかしながら、従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法においては、図４のＭｇＯ膜蒸着以降の製造工程フローチャートに示すように、ＭｇＯ膜蒸着工程１４以降、パネル封着工程１５、パネル排気工程１６、パネルエージング工程１７と加工、組み立てが行われ、最終のパネル点灯検査工程１８まで流れてしまい、結果として、ＭｇＯ膜７の膜質の評価は、ＭｇＯ膜７の蒸着工程等のＭｇＯ膜７自体の製造工程では把握されず、そのＭｇＯ膜７を組み込んだプラズマディスプレイパネルを点灯検査し、その駆動電圧の値でＭｇＯ膜７の膜質の評価を把握していた。
【００１３】
そのため、ＭｇＯ膜７の膜質が悪くて、そのＭｇＯ膜７を組み込んだプラズマディスプレイパネルの駆動電圧が所定電圧より高くてもＭｇＯ膜７の蒸着工程等ＭｇＯ膜７自体の製造工程ではＭｇＯ膜７が不適合とはならず、以降の組立工程等に流れてしまい、最終のパネル点灯検査工程での駆動電圧の測定結果に基づき、ＭｇＯ膜７の蒸着条件等の製造条件を調製していた。
【００１４】
なお、比較的低電圧で放電可能なプラズマディスプレイパネルを提供するために、プラズマディスプレイパネルの最表面に形成された酸化マグネシウム膜の光学屈折率が波長５５０ｎｍの光に対して１．６５以下であることが望ましいことが知られているが、その光学屈折率を何時測定し、測定結果をどのように利用するかについては明確ではなかった（例えば、特許文献１参照）。
【００１５】
また、前記プラズマディスプレイパネルのエージングは全てのパネルに対して同じ条件で行っているが、前面側の基板１の誘電体層６の膜厚のばらつき、背面側の基板８の蛍光体層１２の膜厚のばらつき、背面側の基板８の絶縁体層９の膜厚のばらつき、パネル内の不純ガス量、ＭｇＯ膜７への不純ガスや異物の吸着具合の差等様々な要因により、パネル間でエージングのかかり方に差が出てしまう。この差はパネルを点灯させる時の放電電圧の差として現われ、駆動電圧が所定の値よりも高くなるパネルがでて問題となる場合があった。
【００１６】
上記エージングのかかり方に差を生じる要因の内、ＭｇＯ膜７の膜質が主因であると考えられる。エージングによってパネル管内を活性化させるということは、水を吸収して水和物の膜ができ易く、また、異物や不純ガスを吸着し易いＭｇＯ膜７の表面を、エージングの放電による陽イオンが電極に衝突して起こるスパッタ現象で清浄化することである。
【００１７】
しかるに、ＭｇＯ膜７の膜質が悪化して、エージングによるパネル管内の活性化が進まず、駆動電圧が高くなったパネルについて、エージング時間、エージング周波数、エージング電圧等を変えてエージング効果を上げようとしても、従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法においては、前記図４のＭｇＯ膜蒸着以降の製造工程フローチャートに示すように、ＭｇＯ膜蒸着工程１４ではＭｇＯ膜７の膜質の調製は行われておらず、駆動電圧が高く、パネル点灯検査工程１８で不具合になる可能性のある膜質の悪いパネルでも、ＭｇＯ膜蒸着工程１４以降、パネル封着工程１５、パネル排気工程１６、パネルエージング工程１７と加工、組み立てが行われ、最終のパネル点灯検査工程１８まで流れてしまい、結果として、ＭｇＯ膜７の蒸着以降の生産性が低くなるという問題があった。
【００１８】
また、パネル間のばらつきによるエージング時間のばらつきを適正化するために、パネル内部の不純ガス量をガス成分分析器で測定したデータに基づいてエージング時間終了時間を制御することが知られているが、ＭｇＯ膜蒸着工程１４で測定したＭｇＯ膜７の膜質に基づいてエージング条件を調製を行うものではない（例えば、特許文献２参照）。
【００１９】
【特許文献１】
特開２００２−７５２２６号公報（第３頁、段落００１０）
【特許文献２】
特開２００１−２９１４７１号公報（第３頁、段落００１３）
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法においては、プラズマディスプレイパネルを構成するＭｇＯ膜は、プラズマディスプレイパネルの放電状態を左右する重要な膜であるが、吸着性が強く不安定な膜であり、そのＭｇＯ膜の評価は、蒸着プロセスにおいて行われず、不適合なＭｇＯ膜であっても蒸着プロセス以降の組立工程等に流れてしまい、最終のパネル点灯検査工程におけるパネルの駆動電圧値で判断することになり、最終のパネル点灯検査工程での歩留りが低下するという問題があった。
【００２１】
また、プラズマディスプレイパネルの駆動電圧はエージング後のパネル点灯検査工程で確認するものであるため、確認した駆動電圧に基づき、エージング前に予めエージング条件を調製できず、やはり、最終のパネル点灯検査工程での歩留りが低下するという問題があった。
【００２２】
本発明は上記の課題を解決するもので、ＭｇＯ膜自体の製造工程においてＭｇＯ膜の膜質を測定評価し、その評価値に基づきＭｇＯ膜の製造条件あるいはエージング条件を調製することにより、プラズマディスプレイパネルの生産効率を高め、結果的に常に安定したＭｇＯ膜をプラズマディスプレイパネルに組み込むことができ、信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを提供することができるものである。
【００２３】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明は、前面側の基板上には、走査電極と維持電極とで対をなすストライプ状の表示電極と、前記走査電極と維持電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層上に保護膜および２次電子放出膜として働くＭｇＯ膜とが形成され、前記前面側の基板と対向配置された背面側の基板上には絶縁体層で覆われたストライプ状のデータ電極が形成され、前記表示電極とデータ電極の交点が放電セルとなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、誘電体層上へのＭｇＯ膜の蒸着工程において、ＭｇＯ膜の光学特性を測定し、その測定結果に基づきＭｇＯ膜の蒸着条件を調製するプラズマディスプレイパネルの製造方法であり、ＭｇＯ膜をプラズマディスプレイパネルに組み込んだ後の最終パネル点灯検査工程ではなく、その前のＭｇＯ膜の蒸着工程においてＭｇＯ膜を評価できるので、最終パネル点灯検査工程におけるプラズマディスプレイパネルの歩留りを高めることができるものである。
【００２４】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、前面側の基板上には、走査電極と維持電極とで対をなすストライプ状の表示電極と、前記走査電極と維持電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層上に保護膜および２次電子放出膜として働くＭｇＯ膜とが形成され、前記前面側の基板と対向配置された背面側の基板上には絶縁体層で覆われたストライプ状のデータ電極が形成され、前記表示電極とデータ電極の交点が放電セルとなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、誘電体層上へのＭｇＯ膜の蒸着工程において、ＭｇＯ膜の光学特性を測定し、その測定結果に基づきＭｇＯ膜の蒸着条件を調製するプラズマディスプレイパネルの製造方法であり、誘電体層上へのＭｇＯ膜の蒸着工程において、ＭｇＯ膜の光学特性を測定することにより、ＭｇＯ膜の膜質をモニタリングできるという作用を有する。
【００２５】
本発明の請求項２に記載の発明は、前面側の基板上には、走査電極と維持電極とで対をなすストライプ状の表示電極と、前記走査電極と維持電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層上に保護膜および２次電子放出膜として働くＭｇＯ膜とが形成され、前記前面側の基板と対向配置された背面側の基板上には絶縁体層で覆われたストライプ状のデータ電極が形成され、前記表示電極とデータ電極の交点が放電セルとなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、誘電体層上へのＭｇＯ膜の蒸着工程において、ＭｇＯ膜の光学特性を測定し、その測定結果に基づきプラズマディスプレイパネルのエージング条件を調製するプラズマディスプレイパネルの製造方法であり、誘電体層上へのＭｇＯ膜の蒸着工程において、ＭｇＯ膜の光学特性を測定することにより、最適なエージング条件を把握できるという作用を有する。
【００２６】
本発明の請求項３に記載の発明は、光学特性が屈折率である請求項１あるいは請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であり、誘電体層上へのＭｇＯ膜の蒸着工程において、ＭｇＯ膜の屈折率を測定することにより、ＭｇＯの粒径のモニタリングあるいは最適なエージング条件を把握できるできるという作用を有する。
【００２７】
本発明の請求項４に記載の発明は、光学特性が消衰係数である請求項１あるいは請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であり、誘電体層上へのＭｇＯ膜の蒸着工程において、ＭｇＯ膜の消衰係数を測定することにより、ＭｇＯ膜の光吸収特性のモニタリングあるいは最適なエージング条件を把握できるという作用を有する。
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００２９】
（実施の形態１）
実施の形態１におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前記図１、図２、図３に示すＡＣ型で面放電型のプラズマディスプレイパネルの誘電体層６上に保護膜および２次電子放出膜として働くＭｇＯ膜７を蒸着形成する際に、図５のＭｇＯ膜蒸着以降の製造工程フローチャートに示すように、ＭｇＯ膜蒸着工程１９とパネル封着工程２０の間に、分光エリプソメーターや、分光反射率、透過率による光学式薄膜特性測定装置を使用する光学特性測定工程２１を入れてＭｇＯ膜７の蒸着形成されたパネル全数を非破壊検査により測定し、得られたＭｇＯ膜７の屈折率や消衰係数の測定結果に基づき、以降のＭｇＯ膜蒸着工程１９におけるＭｇＯ膜７の蒸着条件、すなわち、基板温度、酸素分圧、成膜レート等の蒸着プロセスを変更して、膜質の悪化を早期に是正することで常に安定したＭｇＯ膜７を蒸着し、以降、パネル排気工程２２、パネルエージング工程２３と加工、組み立てが行われ、最終のパネル点灯検査工程２４でパネル点灯検査が行われるものである。
【００３０】
ＭｇＯ膜７の屈折率に基づきＭｇＯ膜７の膜質を評価できるということは、一般に屈折率は、同じ物質で比較した場合、その物質の密度を表わすということに基づく。
【００３１】
ＭｇＯ膜は通常、基板上に三角柱や四角柱等の柱状で成長していくものであり、その際、基板温度、酸素分圧、成膜レート等の蒸着プロセスによりその形状が変化していくと考えられる。ＭｇＯが大きな結晶として成長、すなわち、ＭｇＯ粒径が大きく成長した場合は隣の結晶との隙間が空いてしまい、屈折率は小さくなってしまい、逆にＭｇＯが小さな結晶として成長、すなわち、ＭｇＯ粒径が小さく成長した場合は隣の結晶との隙間が少なく、密集した状態になるので屈折率は大きくなる。従って、ＭｇＯ膜７の屈折率を測定すれば、ＭｇＯの形状の差、すなわち、ＭｇＯが大きな結晶として成長しているか、小さな結晶として成長しているかを知ることができ、ＭｇＯ膜７の膜質を知ることができるのである。
【００３２】
また、ＭｇＯ膜７の膜質が悪化するのは、主に、吸着性が強く不安定なＭｇＯ結晶の表面に不純ガスが吸着し、ＭｇＯ結晶の表面が化学的に変質することで起こると考えられている。その場合、ＭｇＯ結晶の表面への不純ガスの吸着量が多くなるのは、ＭｇＯ結晶の粒径が小さく、ＭｇＯ結晶が密集してＭｇＯ膜７の屈折率が大きい時、ＭｇＯ結晶の表面積が大きくなるからであると考えられる。
【００３３】
また、ＭｇＯ膜７の消衰係数に基づきＭｇＯ膜７の膜質を評価できるということは、消衰係数が光の吸収に関係があり、消衰係数の高い物質は低い物質より多くの光を吸収するということに基づく。
【００３４】
ＭｇＯ膜７の表層は容易に変質するが、その変質が通常よりも大きく変質していれば、光の吸収が多く、消衰係数も大きくなる。
【００３５】
ＭｇＯ膜７の膜質とプラズマディスプレイパネルの駆動電圧には相関があり、ＭｇＯ結晶の表面に不純ガスが吸着し、ＭｇＯ結晶の表面が化学的に変質してＭｇＯ膜７の膜質が悪化すると、プラズマディスプレイパネルの駆動電圧は高くなる。そして、その駆動電圧の適、不適を判断するにはパネル全面が点灯する完全点灯電圧を用い、その完全点灯電圧が規定の設定電圧より高い場合は駆動電圧を設定電圧より高くしなければパネル全面が点灯しないのであるから、その場合の駆動電圧は、不具合な駆動電圧であるということになる。
【００３６】
しかし、完全点灯電圧が規定の設定電圧より低い場合であっても、完全点灯電圧と設定電圧の差が１０Ｖ以内の時は、点灯状態や点灯時の環境により、ちらつき等の点灯不良が発生するため、完全点灯電圧は設定電圧より１０Ｖ以上低いことが望ましい。
【００３７】
前記図５の製造工程フローチャートにおける光学特性測定工程２１で測定したＭｇＯ膜７の屈折率が測定波長６３３ｎｍ時、１．７以上であれば、完全点灯電圧と設定電圧の差が１０Ｖ以内もしくは、完全点灯電圧が設定電圧より高くなる場合が多く、逆に、その屈折率が１．７以下であれば、完全点灯電圧が設定電圧より１０Ｖ以上低くなる場合が多い。従って、屈折率が１．７以上になった場合に、ＭｇＯ膜７の蒸着条件、すなわち、基板温度、酸素分圧、成膜レート等の蒸着プロセスを変更して膜質を変化させ、屈折率が１．７以下になるように調製する。
【００３８】
また、光学特性測定工程２１で測定した消衰係数が測定波長１９３ｎｍ時、０．０４５以上になると、前記屈折率の場合と同様にＭｇＯ膜７の蒸着条件、すなわち、基板温度、酸素分圧、成膜レート等の蒸着プロセスを変更して膜質を変化させ、消衰係数が０．０４５以下になるように調製する。
【００３９】
以上のように、実施の形態１におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、ＭｇＯ膜７の蒸着形成されたパネル全数を、最終パネル点灯検査工程ではなく、その前のＭｇＯ膜７の蒸着工程における光学特性測定工程２１で屈折率や消衰係数を測定し、その測定結果に基づき、以降のＭｇＯ膜７の蒸着条件、すなわち、基板温度、酸素分圧、成膜レート等の蒸着プロセスを変更して、ＭｇＯ膜７の膜質、すなわち、ＭｇＯを大きな結晶として成長させるか、小さな結晶として成長させるかを調製できるので、最終パネル点灯検査工程におけるプラズマディスプレイパネルの歩留りを高めることができるものである。
【００４０】
（実施の形態２）
前記実施の形態１におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法では、図５の光学特性測定工程２１で測定したＭｇＯ膜７の屈折率や消衰係数の測定結果に基づき、以降のＭｇＯ膜蒸着工程１９におけるＭｇＯ膜７の蒸着条件を調製していたのに対し、実施の形態２におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、図６のＭｇＯ膜蒸着以降の製造工程フローチャートに示すように、光学特性測定工程２１で得たＭｇＯ膜７の屈折率や消衰係数の測定結果に基づき、最終のパネル点灯検査工程２４におけるプラズマディスプレイパネルの駆動電圧を把握し、その駆動電圧が所定値よりも高くなり、不良品となることが予測される場合にはパネルエージング工程２３におけるエージング時間、駆動周波数、印加電圧等のエージング条件を変更して、常に適切なエージングを行い安定した駆動電圧のプラズマディスプレイパネルを得るようにするものである。
【００４１】
エージング条件の変更の具体的な数値としては、例えば、光学特性測定工程２１で得たＭｇＯ膜７の屈折率が測定波長６３３ｎｍ時、１．７以上もしくは消衰係数が測定波長１９３ｎｍ時、０．０４５以上になった場合、エージング時間を従来の１．５倍長くするか、駆動周波数を従来の１．５倍高くするか、印加電圧を従来より２０Ｖ高くするかの何れかの手段で対応する。
【００４２】
（実施の形態３）
実施の形態３におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法が、前記実施の形態１、実施の形態２のプラズマディスプレイパネルの製造方法と異なるところは、図７のＭｇＯ膜蒸着以降の製造工程フローチャートに示すように、実施の形態１を示す図５や実施の形態２を示す図６では光学特性測定工程２１をＭｇＯ膜蒸着工程１９とパネル封着工程２０の間に入れて、ＭｇＯ膜７の蒸着形成されたパネル全数を非破壊検査により測定していたのに対し、ＭｇＯ膜蒸着工程１９で蒸着形成されたＭｇＯ膜７のパネルの内、適当な個数を抜き取り、光学特性測定工程２１で非破壊検査により測定している点だけであり、その他の点は実施の形態１、実施の形態２と同じである。
【００４３】
実施の形態３におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法により、最終パネル点灯検査工程におけるプラズマディスプレイパネルの歩留りを高めることができ、常に適切なエージングができるので、安定した駆動電圧のプラズマディスプレイパネルを得るという前記実施の形態１、実施の形態２の場合と同様の効果が得られる。
【００４４】
【発明の効果】
以上のように、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、ＭｇＯ膜をプラズマディスプレイパネルに組み込んだ後の最終パネル点灯検査工程ではなく、その前のＭｇＯ膜の蒸着工程において蒸着したＭｇＯ膜の光学特性を測定することにより、ＭｇＯ膜の膜質を評価でき、その評価結果に基づき、以降のＭｇＯ膜の蒸着条件あるいはエージング条件を変更することにより、安定した膜質のＭｇＯ膜を調製できるので、最終パネル点灯検査工程におけるプラズマディスプレイパネルの歩留りを高め、また、常に適切なエージングができるので、安定した駆動電圧のプラズマディスプレイパネルを得ることができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一般的なプラズマディスプレイパネルの構成斜視図
【図２】図１のＡ−Ａ線における断面図
【図３】図１のＢ−Ｂ線における断面図
【図４】従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法のＭｇＯ膜蒸着以降の製造工程フローチャート
【図５】本発明の実施の形態１におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法のＭｇＯ膜蒸着以降の製造工程フローチャート
【図６】本発明の実施の形態２におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法のＭｇＯ膜蒸着以降の製造工程フローチャート
【図７】本発明の実施の形態３におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法のＭｇＯ膜蒸着以降の製造工程フローチャート
【符号の説明】
１  前面側の基板
２  走査電極
２ａ，３ａ  透明電極
２ｂ，３ｂ  母線
３  維持電極
４  表示電極
５  遮光層
６  誘電体層
７  ＭｇＯ膜
８  背面側の基板
９  絶縁体層
１０  データ電極
１１  隔壁
１２  蛍光体層
１３  放電セル
１４，１９  ＭｇＯ膜蒸着工程
１５，２０  パネル封着工程
１６，２２  パネル排気工程
１７，２３  パネルエージング工程
１８，２４  パネル点灯検査工程
２１  光学特性測定工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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