(57)【要約】【課題】適用する走査光学系の光路長や副走査横倍率に応じて入射ミラーの副走査方向の回転位置精度を効果的に保つように入射ミラーの副走査方向位置決めスパンの寸法設定を可能にする。【解決手段】光源６と光源６の出射光を偏向するポリゴンミラー８の間に、光源６、ポリゴンミラー８の間の光路を折り返すための入射ミラーＭを備える光走査装置において、以下の式を満足するようにする。Ｌ０／（Ｌ１＋Ｌ２）＞０．０６ｍｍここでＬ０：入射ミラーＭの副走査方向の位置決めスパンＬ１：入射ミラーＭの反射点からポリゴンミラー８までの光路長Ｌ２：ポリゴンミラー８から走査光学素子最終面までの光路長【選択図】　　　　図８
2004012550.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と前記光源の出射光を偏向する光偏向装置の間に、前記光源、光偏光装置の間の光路を折り返すための入射ミラーを備えるとともに、前記光偏光装置と被走査媒体の間に１つ以上の走査光学素子を備えた光走査装置の製造方法において、
Ｌ０を前記入射ミラーの副走査方向の位置決めスパン、Ｌ１を前記入射ミラーの反射点から前記光偏向装置までの光路長、Ｌ２を前記光偏向装置から前記走査光学素子最終面までの光路長としたときに、
Ｌ０／（Ｌ１＋Ｌ２）
を量産限界の寸法精度から規定して製造することを特徴とする光走査装置の製造方法。
【請求項２】
前記量産限界の寸法精度が０．０３ｍｍであることを特徴とする請求項１記載の光走査装置の製造方法。
【請求項３】
光源と前記光源の出射光を偏向する光偏向装置の間に、前記光源、光偏光装置の間の光路を折り返すための入射ミラーを備えるとともに、前記光偏光装置と被走査媒体の間に１つ以上の走査光学素子を備えた光走査装置において、
以下の式を満足することを特徴とする光走査装置。
Ｌ０／（Ｌ１＋Ｌ２）＞０．０６ｍｍ
ここで
Ｌ０：前記入射ミラーの副走査方向の位置決めスパン
Ｌ１：前記入射ミラーの反射点から前記光偏向装置までの光路長
Ｌ２：前記光偏向装置から前記走査光学素子最終面までの光路長
【請求項４】
光源と前記光源の出射光を偏向する光偏向装置の間に、前記光源、光偏光装置の間の光路を折り返すための入射ミラーを備えるとともに、前記光偏光装置と被走査媒体の間に１つ以上の走査光学素子を備えた光走査装置において、
以下の式を満足することを特徴とする光走査装置。
｜１／ｍ｜×（Ｌ０／Ｌ１）＞０．３ｍｍ
ここで、
Ｌ０：前記入射ミラーの副走査方向の位置決めスパン
Ｌ１：前記入射ミラーの反射点から前記光偏向装置までの光路長
ｍ：前記走査光学系全体の副走査方向の横倍率
【請求項５】
主走査断面方向から見て前記光偏向装置に到達する光束が走査光学系の略光軸方向から入射することを特徴とする請求項３または４に記載の光走査装置。
【請求項６】
主走査断面方向から見て前記光偏向装置への入射光と前記光偏向装置より後方の走査レンズ系の光軸とのなす角度をθとしたとき、
３０°＜θ＜１００°
であるとともに、
ハウジング内に複数の走査光を射出するための光路が配設されており、前記複数の光路同士が副走査断面方向に見て光路の途中で一回以上交叉することを特徴とする請求項３または４に記載の光走査装置。
【請求項７】
主走査断面方向から見て前記光偏向装置への入射光と前記光偏向装置より後方の走査レンズ系の光軸とのなす角度をθとしたとき、
３０°＜θ＜１００°
であるとともに、
ハウジング内に複数の走査光を射出するための光路が配設されており、前記複数の光路が副走査断面方向に見て略平行に積層されていることを特徴とする請求項３または４に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記光偏向装置へ入射する光束の副走査方向の角度を調整するために前記入射ミラーを回動する部材を備えたことを特徴とする請求項３ないし７のいずれか１つに記載の光走査装置。
【請求項９】
前記入射ミラーを回動する部材は、ステー部材であることを特徴とする請求項８記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記ステー部材は、回動軸が前記入射ミラー反射点を略通過するように構成されていることを特徴とする請求項９記載の光走査装置。
【請求項１１】
レバー部材の角度を調整して前記入射ミラーの副走査方向の角度を調整することを特徴とする請求項８ないし１０のいずれか１つに記載の光走査装置。
【請求項１２】
前記入射ミラーは、２つの支点により反射面を支持され、かつ前記２つの支点のまわりに回動可能であることを特徴とする請求項８ないし１１のいずれか１つに記載の光走査装置。
【請求項１３】
前記２つの支点を結ぶ回動の軸は、前記入射ミラー反射点を略通過するように構成されていることを特徴とする請求項１２記載の光走査装置。
【請求項１４】
請求項３ないし１３記載の光走査装置と、
前記光走査装置によって書き込まれた潜像を顕像化する画像形成手段と、
を含んでなる画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光源と前記光源の出射光を偏向する光偏向装置の間に、光源、光偏光装置の間の光路を折り返すための入射ミラーを備えた光走査装置及びこの光走査装置を製造する方法、並びに前記光走査装置を含んで構成された画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の光学走査装置としては、例えば特開２０００−１８０７７３号公報、特開平９−２８１４１９号公報などに開示されている。まず図１４、図１５は、従来多く見られるプリンタ、複写機、ファクシミリ等の画像形成装置に用いられる光走査装置の一例を示す。図１４が平面図、図１５が断面図である。画像形成装置１の内部に位置する光走査装置２は、光学素子を所定の位置に載置する光学ハウジング３と、光学ハウジング３の内部を外部と遮断し、防塵・防音の機能を果たすハウジングカバー４と、回転多面鏡８を用いた光偏向装置（以下ポリゴンモータ）５と、レーザ発振ユニット６および複数の光学素子で構成される。
【０００３】
レーザ発振ユニット６から射出された光束は、シリンダレンズ７を通って回転多面鏡（以下ポリゴンミラー）８に照射される。その後、ポリゴンミラー８を反射した光束は、ｆθレンズ９、長尺レンズ１０を通過し、防塵ガラス１１を通過して感光体１２に達する。ポリゴンミラー８の回転に伴って光束が直線上に感光体１２の表面を走査すると、感光体１２上に静電潜像が形成され、画像形成プロセスを経て画像が形成される。
【０００４】
ここで図１４に示す平面図の方向（以下、主走査断面方向）から見てポリゴンミラー８への入射光とポリゴンミラー８より後方の走査レンズ系（この例ではｆθレンズ９と長尺レンズ１０にあたる）の光軸Ａｘとのなす角度をθとしたとき、おおよそ
４０°＜θ≦９０°
となるように設定されることが多い。その理由は、光路を平面的にレイアウトをしようとした時に、ポリゴンミラー８の後に配置されるｆθレンズ８の外形部やその支持部にポリゴンミラー８への入射光が干渉しないように設定する必要や、主走査方向の有効書込幅の最大限の確保、レーザ発振ユニット６の大きさや配置、交換性等を考慮したレイアウト上の制約などがあるためである。
【０００５】
比較的大きめのθを設定すると、ポリゴンミラー８の回転に伴う光路長の変化、すなわちサグの光軸Ａｘに対する非対称性が大きくなる。これは主走査の像面の傾きや像面湾曲を大きくし、感光体１２上におけるビーム径の均一化に対し悪影響を及ぼす。またｆθ特性や左右倍率誤差、倍率誤差偏差についても同様であるし、シェーディングという主走査方向の像面光量分布のむらも光学系の方式によっては大きくなりやすい。そのため、図１４に示す平面図において、θは約６０°であるが、現実の光走査装置における望ましいθはおおよそ
θ＜７０°
である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで近年、光走査装置において、上記の様々な問題を回避するために光源（レーザ発振ユニット）６とポリゴンミラー８の中間に入射光を反射し方向を変えるための折り返しミラー（以下入射ミラーと言う）を装備するものが増加してきている。代表的な例について以下に説明する。図１、図２は入射ミラーＭを装備する光走査装置の一例を示す。図１が平面図、図２が断面図である。この例の特徴はポリゴンミラー８に到達する光束が走査光学系の略光軸方向から入射していることである。
【０００７】
このようにポリゴンミラー８に入射させることで、光学的に走査光学系光軸Ａｘに対しほぼ軸対称となるので上記の様々な問題を回避するのに好都合である。そのために入射ミラーＭが走査光学系光軸Ａｘの近傍に配置されており、そのためレーザ発振ユニット６やシリンダレンズ７のレイアウトは、図１４、図１５の例に比べて比較的自由度の高い設計を行うことができる。
【０００８】
ただし、図２に示す断面図を図１５のそれと比較すると、副走査断面方向には光路が平面状にできないためにレイアウトが複雑になっており、この点については設計および光学評価はより困難であり、光学ハウジング３や光学素子の固定部材などの部品コストなど上昇する等という問題もある。
【０００９】
もう一例として、以下に別の理由で入射ミラーを採用している例を挙げる。近来、画像形成装置のカラー化に伴い、特許第２７２５０６７号のように４連タンデム型配置に代表されるような複数の感光体に走査光を入射するものが考案、商品化されてきている。このようなタンデム型の画像形成部に対応する走査光学系として前記特許第２７２５０６７号の中でも記述されているが、もっともコストの高い部品のひとつであるポリゴンモータをできるだけ共通使用し、走査光学系の低コスト化、コンパクト化、および簡素化による高信頼性の確保などを図ろうとする考案や実施商品が増加している。
【００１０】
図３、図４に感光体が二つ（図の１２ａ、１２ｂ）のカラー画像形成装置の例を示す。カラー画像は一般にブラック、マゼンダ、イエロー、シアンの４つのトナー像を重ね合わせて形成される。この例では二つの感光体１２ａ、１２ｂが設置されており、それらに対応する二つの光束の光路がある。まず感光体１２ａに到達する第一の光路について説明すると、レーザ発振ユニット６ａから射出された光束がシリンダレンズ７ａを通ってポリゴンミラー８に照射される。また感光体１２ｂに到達する第二の光路については、レーザ発振ユニット６ｂから射出された光束がシリンダレンズ７ｂを通過した後、入射ミラーＭにて折り返され、ポリゴンミラー８に照射される。
【００１１】
ここで、図示はしていないが、副走査断面方向でのこれらの配置は、レーザ発振ユニット６ａからポリゴンミラー８までの第一の光路は水平よりやや下向きに傾くように配置されており、レーザ発振ユニット６ｂからポリゴンミラー８までの第二の光路は水平よりやや上向きに傾くように配置されている。二つの光路はポリゴンミラー８の反射点で略一致し、その後方で再び副走査方向に分離する。そしてｆθレンズ９内は２つの光路が通るようになっている。その後、第一の光路の光ビームはミラー１３ａ、長尺レンズ１０ａ、ミラー１４、防塵ガラス１１ａを通過し、左側の感光体１２ａに至る。第二の光路の光ビームは長尺レンズ１０ｂ、ミラー１３ｂ、防塵ガラス１１ｂを通過し、右側の感光体１２ｂに至る。
【００１２】
まず第一の光ビームにて感光体１２ａ上に静電潜像が形成され、ブラック現像部１５ａにてトナー像が作像される。また、これに一定の間隔を置いて第二の光ビームにて感光体１２ｂ上に静電潜像が形成され、マゼンダ現像部１５ｂにてマゼンダのトナー像が作像される。この二つのトナー像は中間転写ベルト１７上に位置が合うように転写される。次に再び第一の光ビームにて感光体１２ａにイエローの静電潜像が形成され、イエロー現像部１６ａにてトナー像が作像される。同じく、これに一定の間隔を置いて第二の光ビームにて感光体１２ｂ上にシアン現像部１６ｂにてシアンのトナー像が作像される。中間転写ベルト１７は先の工程のあと一回転し、これら二色のトナー像が先に転写された二色の上に重ね合わせて転写される。このようにして形成されたカラー画像は二次転写部１８にて転写紙に転写され、ハードコピーが得られる。
【００１３】
図５に従来多く行われている入射ミラーＭの支持方法を示す。一般にミラーの反射面の姿勢を３次元的に決定するためには、任意の三点を反射面に当接させて付勢すればよい。この例では光学ハウジング３に設置された当接部２１、２２、２３によって付勢されている。入射ミラーＭの副走査断面方向から見た傾きβを決定するのは、この図で見て上下に並んで配置された当接部２１、２２のそれぞれの位置精度である。また主走査断面方向から見た傾きαを決定するのは当接部２１、２２に対する当接部２３の位置精度である。
【００１４】
また、入射ミラーＭのこの図で見た上下方向の位置決めは、やはり先述の当接部２１、２２、２３と同様に光学ハウジング３に設置された二カ所の当接部２５での突き当てによりなされる。ただしこの上下方向の位置決めは、入射ミラーＭの端面に対してなされ、要求される位置精度という点では先述の三点を当接させてミラーＭの反射面の姿勢を付勢する場合と比較して１オーダー低い公差設定も可能である。これらの当接部２１〜２３、２５により付勢された入射ミラーＭを支持、押圧する板バネ等の二つの付勢部材２４が前後の当接部に対応して設置されている。ここでは省略するが前後方向の位置決めについても上述のように行えばよい。
【００１５】
さて、入射ミラーＭを用いる走査光学系における入射ミラーＭの副走査方向の傾きβに関する問題について以下に述べる。図６に示すように入射ミラーＭが本来設定された姿勢−ここでは垂直−からΔβだけ傾いたとする。するとミラーにおける反射の法則により、入射ミラーＭからポリゴンミラー８に達する光束は２Δβ傾く。当接部２１と２２のスパンをＬ０、これらの位置精度をΔとすると
Δβ＝ｔａｎ＾−１（Δ／Ｌ０）
となる。なお、以下の説明で＾は巾乗を示す。
【００１６】
ここで、Ｌ０は入射ミラーＭのコストや設置するためのスペースの関係から１０ｍｍ程度が多く、Δは光学ハウジングの量産可能な加工精度から最小限に見積もっても０．０３ｍｍであるので、Δβの実力は
Δβ≧ｔａｎ＾−１（０．０３／１０）
＝０．１７（ｄｅｇｒｅｅ）・・・・▲１▼
となる。
【００１７】
図７、図８にて入射ミラーＭのΔβの及ぼす影響について述べる。入射ミラーＭとポリゴンミラー８間の光路長をＬ１とすると、上記Δβによるポリゴンミラー８の反射点の副走査方向のズレｈ１は
ｈ１＝Ｌ１×ｔａｎ（２Δβ）
となる。ポリゴンミラー８にて反射した光束はやはり２Δβの傾きを持ち、副走査方向のズレは、長尺レンズ１０の第二面に到達するときにはｈ２となる。光偏向装置５から前記走査レンズ１０の最終面までの光路長をＬ２とすると
ｈ２＝ｈ１＋Ｌ２×ｔａｎ（２Δβ）
＝（Ｌ１＋Ｌ２）ｔａｎ（２Δβ）
である。
【００１８】
ところで、ｈ２はおおよそ０．５ｍｍ未満に押さえないと、各種光学性能が狙いから大きく外れてしまうことが光学計算上および経験的に分かっている。そこで、上式にこの数値を代入すると
（Ｌ１＋Ｌ２）ｔａｎ（２Δβ）＜０．５
となると都合がよいことになる。これをΔβについて解くと
Δβ＜ｔａｎ＾−１｛１／２（Ｌ１＋Ｌ２）｝
実際に設計されたある走査光学系の値として、Ｌ１＝６０ｍｍ、Ｌ２＝１６０ｍｍを用いると
１／２（Ｌ１＋Ｌ２）＝１／２（６０＋１６０）
＝２．２７×１０＾−３
であり、
Δβ＜ｔａｎ＾−１（２．２７×１０＾−３）
＝０．１３（ｄｅｇｒｅｅ）・・・・▲２▼
となる。
【００１９】
▲１▼式と▲２▼式を比較すると、実際の量産工程を考慮したときに入射ミラーＭのΔβを問題のない範囲に押さえ込むことが困難であるということになる。そのためΔの位置精度をたとえば０．０１ｍｍ程度の工程能力のでない高精度な設定にする必要があり、光学性能確保のために光学ハウジングの局所的な寸法管理などの労力を費やす必要があった。また、光学性能がΔβにより敏感に影響されるということは、光学ハウジング内外の温度上昇に代表される環境変動に対しても好ましくなく、光学ハウジングの熱膨張や熱変形に伴う走査光光学特性の低下がより大きな問題となる可能性がある。
【００２０】
本発明は、上記問題を鑑み、適用する走査光学系の光路長や副走査横倍率に応じて入射ミラーの副走査方向の回転位置精度を効果的に保つように入射ミラーの副走査方向位置決めスパンの寸法設定が可能となる光走査装置の製造方向及び前記走査装置並びに画像形成装置を提供することを目的とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
第１の手段は上記目的を達成するために、光源と前記光源の出射光を偏向する光偏向装置の間に、前記光源、光偏光装置の間の光路を折り返すための入射ミラーを備えるとともに、前記光偏光装置と被走査媒体の間に１つ以上の走査光学素子を備えた光走査装置の製造方法において、
Ｌ０を前記入射ミラーの副走査方向の位置決めスパン、Ｌ１を前記入射ミラーの反射点から前記光偏向装置までの光路長、Ｌ２を前記光偏向装置から前記走査光学素子最終面までの光路長としたときに、
Ｌ０／（Ｌ１＋Ｌ２）
を量産限界の寸法精度から規定して製造することを特徴とする。
【００２２】
第２の手段は、第１の手段において、前記量産限界の寸法精度が０．０３ｍｍであることを特徴とする。
【００２３】
第３の手段は、光源と前記光源の出射光を偏向する光偏向装置の間に、前記光源、光偏光装置の間の光路を折り返すための入射ミラーを備えるとともに、前記光偏光装置と被走査媒体の間には１つ以上の走査光学素子を備えた光走査装置において、
以下の式を満足することを特徴とする光走査装置。
【００２４】
Ｌ０／（Ｌ１＋Ｌ２）＞０．０６ｍｍ
ここで
Ｌ０：前記入射ミラーの副走査方向の位置決めスパン
Ｌ１：前記入射ミラーの反射点から前記光偏向装置までの光路長
Ｌ２：前記光偏向装置から前記走査光学素子最終面までの光路長
第４の手段は上記目的を達成するために、光源と前記光源の出射光を偏向する光偏向装置の間に、前記光源、光偏光装置の間の光路を折り返すための入射ミラーを備えるとともに、前記光偏光装置と被走査媒体の間には１つ以上の走査光学素子を備えた光走査装置において、
以下の式を満足することを特徴とする光走査装置。
【００２５】
｜１／ｍ｜×（Ｌ０／Ｌ１）＞０．３ｍｍ
ここで、
Ｌ０：前記入射ミラーの副走査方向の位置決めスパン
Ｌ１：前記入射ミラーの反射点から前記光偏向装置までの光路長
ｍ：前記走査光学系全体の副走査方向の横倍率
第５の手段は、第１、第２の手段において、主走査断面方向から見て前記光偏向装置に到達する光束が走査光学系の略光軸方向から入射することを特徴とする。
【００２６】
第６の手段は、第１、第２の手段において、主走査断面方向から見て前記光偏向装置への入射光と前記光偏向装置より後方の走査レンズ系の光軸とのなす角度をθとしたとき、
３０°＜θ＜１００°
であるとともに、
ハウジング内に複数の走査光を射出するための光路が配設されており、前記複数の光路同士が副走査断面方向に見て光路の途中で一回以上交叉することを特徴とする。
【００２７】
第７の手段は、第１、第２の手段において、主走査断面方向から見て前記光偏向装置への入射光と前記光偏向装置より後方の走査レンズ系の光軸とのなす角度をθとしたとき、
３０°＜θ＜１００°
であるとともに、
ハウジング内に複数の走査光を射出するための光路が配設されており、前記複数の光路が副走査断面方向に見て略平行に積層されていることを特徴とする。
【００２８】
第８の手段は、第１ないし第５の手段において、前記光偏向装置へ入射する光束の副走査方向の角度を調整するために前記入射ミラーを回動する部材を備えたことを特徴とする。
【００２９】
第９の手段は、第８の手段において、前記入射ミラーを回動する部材は、ステー部材であることを特徴とする。
【００３０】
第１０の手段は、第７の手段において、前記ステー部材は、回動軸が前記入射ミラー反射点を略通過するように構成されていることを特徴とする。
【００３１】
第１１の手段は、第８ないし第１０の手段において、レバー部材の角度を調整して前記入射ミラーの副走査方向の角度を調整することを特徴とする。
【００３２】
第１２の手段は、第８ないし第１１の手段において、前記入射ミラーは、２つの支点により反射面を支持され、かつ前記２つの支点のまわりに回動可能であることを特徴とする。
【００３３】
第１３の手段は、第１２の手段において、前記２つの支点を結ぶ回動の軸は、前記入射ミラー反射点を略通過するように構成されていることを特徴とする。
【００３４】
第１４の手段は、第３ないし第１３の手段に係る光走査装置と、前記光走査装置によって書き込まれた潜像を顕像化する画像形成手段とから画像形成装置を構成したことを特徴とする。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。ここで、図１と図２、図３と図４及び図８は本発明に係る光走査装置を示すが、その構成について既に説明したので、ここでは詳細な説明は省略する。
【００３６】
第一の実施形態について説明する。上述で導出された二つの式、
Δβ＝ｔａｎ＾−１（Δ／Ｌ０）
Δβ＜ｔａｎ＾−１｛１／２（Ｌ１＋Ｌ２）｝
からΔβを取り除き、両辺にｔａｎをかけると、
Δ／Ｌ０＜１／２（Ｌ１＋Ｌ２）
となる。
【００３７】
変形すると
Ｌ０／（Ｌ１＋Ｌ２）＞２Δ
ここで、Δに先に述べた量産限界の寸法精度である０．０３ｍｍを代入すると
Ｌ０／（Ｌ１＋Ｌ２）＞０．０６（ｍｍ）　・・・▲３▼
この▲３▼式に当てはまるように当接部２１と２２のスパンＬ０を設定することで本発明における課題を満足することができるようになる。一例として上記で用いた数字としてＬ１＝６０ｍｍ、Ｌ２＝１６０ｍｍを▲３▼式に入れると、
Ｌ０＞１３．２（ｍｍ）
という結果が出る。この例の光学系においてはＬ０を１４ｍｍ、入射ミラーＭの副走査方向の幅は、当接位置を上下両端から各１ｍｍ内側に確保するとして、１６ｍｍ幅にすれば十分であると思われる。
【００３８】
別の実施形態について図７、図８を参照して述べる。ここではまず、走査光学系の副走査横倍率ｍに着目する。
【００３９】
Ｌ：ポリゴンミラー８から感光体の像面までの光路長
ａ：ポリゴンミラー８から走査光学系副走査主点位置までの光路長
ｂ：走査光学系副走査主点位置から感光体の像面までの光路長
とすると、Ｌ＝ａ＋ｂ、副走査横倍率ｍは
ｍ＝−ｂ／ａ
と定義される。像面における光束の副走査方向のズレをｈとする。図９において、ポリゴンミラー反射点の副走査方向のズレｈ１は、先の実施形態の説明でしたように
ｈ１＝Ｌ１×ｔａｎ（２Δβ）
であるので
ｈ＝ｈ１×｜ｍ｜
＝Ｌ１×ｔａｎ（２Δβ）×｜
≒Ｌ１×（２Δ／Ｌ０）×｜｜
上式を変形する／
｜１／ｍ｜×（Ｌ０／Ｌ１）＝２Δ／ｈ
ここで、Δに先に述べた量産限界の寸法精度である０．０３ｍｍを、ｈに許される最大の値として従来の走査光学系での経験より、０．２ｍｍを代入すると
｜１／ｍ｜×（Ｌ０／Ｌ１）＞０．３（ｍｍ）　・・・▲４▼
この▲４▼式に当てはまるように当接部２１と２２のスパンＬ０を設定することで本考案における課題を満足することができるようになる。一例として上記で用いた数字としてｍ＝１．０、Ｌ１＝６０ｍｍを▲３▼式に入れると、
Ｌ０＞１８（ｍｍ）
という結果が出る。この例の光学系においてはＬ０を１９ｍｍ、入射ミラーＭの副走査方向の幅は、当接位置を上下両端から各１ｍｍ内側に確保するとして、２１ｍｍ幅にすれば十分であると思われる。
【００４０】
上記二つの実施形態とは逆に、コストやスペースの関係で十分なＬ０が確保できない場合は、上記β方向の回転調整を行う必要がある。その場合の具体的ないくつかの方式を以下に述べる。図１０に入射ミラーＭのβ方向の回転調整方式の一例を示す。この例では、光学ハウジング３に設置された当接部２２、２３を通過する回転軸Ａｘ１のまわりに入射ミラーＭはβ方向に回転する。回転調整は、反射面当接部の残りの一つを先端に持つ調節ネジ２６を回すことにより、入射ミラーＭの上方の位置を動かして行われる。これらの当接部２２、２３により付勢された入射ミラーＭを支持、押圧する板バネ等の二つの付勢部材２４が前後の当接部２２、２３に対応して設置されているのは図５の例と同様である。
【００４１】
図１１に入射ミラーＭのβ方向の回転調整方式の別の例を示す。この例では入射ミラーＭは、板金で形成されたステー部材２７により保持、付勢されている。ステー部材２７は水平断面がコの字型に折り曲げられ、両側面に計三カ所の当接部２７ａが形成され、入射ミラーＭを付勢している。その保持、固定は入射ミラーＭの両端の背面を押圧するように力を加えるような板バネ等で形成された付勢部材２８により行われる。
【００４２】
ステー部材２７は回転軸Ａｘ２のまわりに回動できるような軸２７ｂを両端に装備し、それらを保持する軸受け２９が光学ハウジング３に設置されており、入射ミラーＭのβ方向の調整が行えるようになっている。ステー部材２７の一端にはレバー部材３０が形成され、調節ネジ２６がレバー部材３０の先端の穴に組み付けられる。調節ネジ２６は光学ハウジング３に設置されたネジボス３２にねじ込まれ、コイルスプリング３３によって軸方向の初期応力がレバー部材３０にかかっている。調節ネジ２６を回転させることにより、レバー部材３０の先端が上下し、ステー部材２７に保持された入射ミラーＭはβ方向の回転調整が行われる。
【００４３】
この例では、レバー部材３０の長さを変えることで調節ネジ２６の回転と入射ミラーＭのβ方向の回転の調整度合いの比を自在に設定できる。そのため微妙な調整が行いやすいようにレバー比を設定することも容易にできる。また、調節ネジ２６の設置姿勢を垂直にできるので調整作業がやりやすくなる。またこの例において、図１０のように回転軸Ａｘ２が入射ミラー反射点を通過するように設定してあると、β方向の回転調整をした際に光路長の変化が起こらないので好都合である。
【００４４】
図１２、図１３に入射ミラーＭのβ方向の回転調整方式の別の例を示す。この例では、光学ハウジング３に設置された当接部２２、２３の先端の支点２２ａ、２３ａを通過する回転軸Ａｘ３のまわりに入射ミラーＭはβ方向に回転する。入射ミラーＭの背面には、Ｌ字型に形成されたレバー部材３４が装備されている。調節ネジ２６、ネジボス３２、コイルスプリング３３という要素にて構成され、回転調整が行えるようになっている点は図１１の例と同様である。入射ミラーＭの両端に付勢部材３５が当接部２２、２３に対応して設置される。
【００４５】
図１３は図１２の側面図を示し、付勢部材３５が入射ミラーＭの背面および上下の三方から支持、押圧している。当然この例においても、回転軸Ａｘ３が入射ミラー反射点を通過するように設定してあると、β方向の回転調整をした際に光路長の変化が起こらないので好都合である。この例は、ここまでの例の中で比較的簡易な構成でβ方向の回転調整を実現しつつ、光路長の変化も起こらないので、低コストで信頼性のある調整方式が提供できる。
【００４６】
ここまでの発明は、図１、図２や図３、図４のように入射ミラーＭを用いる光走査装置に適用できることは言うまでもなく、その他一つの光走査装置の中に複数の走査光を射出するための光路が配設されており、特第２７２５０６７号のなかでも記述されているような、複数の光路が副走査断面方向に見て略平行に積層されているような構成においても有効なのはもちろんである。本発明は入射ミラーＭを用いる全ての光走査装置に有効である。
【００４７】
なお、この実施形態では、特に図示していないが、これらの光走査装置は電子写真方式の画像形成装置の画像データ入力手段として使用される。すなわち、図示しない感光体に前記光走査装置によって光書き込みを行い、モノクロあるいはカラーあるいはフルカラーで潜像を前記感光体に書き込み、トナー現像して顕像化し、顕像化された画像と記録媒体、例えば用紙に転写して画像として出力する。このような形式の画像形成装置自体は公知なので、ここでの詳細な説明は省略する。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように請求項１ないし３記載の発明によれば、適用する走査光学系の光路長に応じて入射ミラーの副走査方向の回転位置精度を効果的に保つような入射ミラーの副走査方向位置決めスパンの寸法設定が可能となり、各種光学性能の低下をもたらす副走査方向の回転を未然に防止することができる。
【００４９】
請求項４記載の発明によれば、適用する走査光学系の光路長と副走査横倍率に応じて入射ミラーの副走査方向の回転位置精度を効果的に保つような入射ミラーの副走査方向位置決めスパンの寸法設定が可能となり、各種光学性能の低下をもたらす副走査方向のを未然に防止することができる。
【００５０】
請求項５記載の発明によれば、その搭載される光走査装置が、近来の光走査装置にてよく見られるところの主走査断面方向から見てポリゴンミラーに到達する光束が走査光学系の略光軸方向から入射している形式であるので、本発明の効果がそれぞれ非常に有効に作用し、良好な光学性能を得ることができる。
【００５１】
請求項６記載の発明によれば、その搭載される光走査装置が、複数の光路同士が副走査断面方向に見て光路の途中で一回以上交叉するような光走査装置である形式であるので、本発明の発明がそれぞれ非常に有効に作用し、良好な光学性能を得ることができる。そのため高品質なカラー画像を提供することができる。
【００５２】
請求項７記載の発明によれば、その搭載される光走査装置が、複数の光路が副走査断面方向に見て略平行に積層されている光走査装置であるので、本発明の効果がそれぞれ非常に有効に作用し、良好な光学性能を得ることができる。そのため高品質なカラー画像を提供することができる。
【００５３】
請求項８及び９記載の発明によれば、光偏向装置へ入射する光束の副走査位置の角度を調整できるので、コストやスペースの関係で入射ミラーの副走査方向位置決めスパンが長く取れないときに副走査方向の回転調整を可能とし、各種光学性能の低下を防止することができる。
【００５４】
請求項１０記載の発明によれば、ステー部材の回動軸が入射ミラー反射点を略通過するように構成されているので、副走査方向の回転調整をした際に光路長の変化が起こらないので好都合である。
【００５５】
請求項１１記載の発明によれば、レバー部材の設置角度を調整させることで入射ミラーが回動して、ポリゴンミラーへ入射する光束の副走査位置の移動ができるので、レバーの長さを変えることで調節ネジの回転と入射ミラーの副走査方向の回転の調整度合いの比を自在に設定でき、微妙な調整が行いやすいようにできる。また、調節ネジの設置姿勢を垂直にできるので調整作業がやりやすくなる。
【００５６】
請求項１２記載の発明によれば、入射ミラーが２つの支点により反射面を支持され、かつ前記２つの支点のまわりに回動が行える機構を持つので、比較的簡易な構成で副走査方向の回転調整を実現することができる。
【００５７】
請求項１３記載の発明によれば、２つの支点を結ぶ回動軸が入射ミラー反射点を略通過するように構成されているので、副走査方向の回転調整をした際に光路長の変化が起こらないので好都合である。
【００５８】
請求項１４記載の発明によれば、請求項３ないし１３記載の発明の効果を奏する画像形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光走査装置の一実施形態を示す平面図である。
【図２】図１の光走査装置を示す側面断面図である。
【図３】本発明に係る光走査装置の他の実施形態を示す平面図である。
【図４】図３の光走査装置を示す側面断面図である。
【図５】従来の入射ミラー保持部材を示す斜視図である。
【図６】図５の入射ミラーの反射角度のずれを示す説明図である。
【図７】入射ミラーの回転ずれによる影響を示す説明図である。
【図８】本発明に係る光走査装置を示す説明図である。
【図９】図８の入射ミラーの回転ずれによる影響を示す説明図である。
【図１０】本発明に係る入射ミラー保持部材の一例を示す斜視図である。
【図１１】本発明に係る入射ミラー保持部材の他の例を示す斜視図である。
【図１２】本発明に係る入射ミラー保持部材のさらに他の例を示す斜視図である。
【図１３】図１２の入射ミラー保持部材を示す側面図である。
【図１４】従来の光走査装置を示す平面図である。
【図１５】図１４の光走査装置を示す側面断面図である。
【符号の説明】
６　光源（レーザ発振ユニット）
８　ポリゴンミラー
Ｍ　入射ミラー
【図１】
2004012550.tif 000003
【図２】
2004012550.tif 000004
【図３】
2004012550.tif 000005
【図４】
2004012550.tif 000006
【図５】
2004012550.tif 000007
【図６】
2004012550.tif 000008
【図７】
2004012550.tif 000009
【図８】
2004012550.tif 000010
【図９】
2004012550.tif 000011
【図１０】
2004012550.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
2004012550.tif 000016
【図１５】
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