(57)【要約】【課題】磁気ディスク媒体の表裏各面用の第１および第２の磁気転写用マスター担体からなる１組の磁気転写用マスター担体を安価かつ容易に作製する。【解決手段】所望の情報に応じた凹凸パターンを表面に有する原盤Ｏから電鋳により第１のサブ原盤１を作製し、第１のサブ原盤１から電鋳により第２のサブ原盤２を複数枚作製し、第２のサブ原盤２のうちの１枚のサブ原盤２−１から電鋳により第３のサブ原盤３を作製し、第２のサブ原盤２の１枚を磁気ディスク媒体５５の一方の記録面５６用の第１の磁気転写用マスター担体５１の基板とし、第３のサブ原盤３を、磁気ディスク媒体５５の他方の記録面５７用の第２の磁気転写用マスター担体５２の基板とする。【選択図】          図３
2004280919.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両面に記録面を有する磁気ディスク媒体の表面および裏面のそれぞれに情報を磁気的に転写するための、第１の磁気転写用マスター担体および第２の磁気転写用マスター担体からなる１組の磁気転写用マスター担体であって、
前記第１の磁気転写用マスター担体が、所望の情報に応じた凹凸パターンを有する原盤から電鋳により第１のサブ原盤を作製し、該第１のサブ原盤から電鋳により第２のサブ原盤を作製し、該第２のサブ原盤から電鋳により第３のサブ原盤を作製するという電鋳工程を第ｎ（ｎは２以上の自然数）のサブ原盤ができるまで繰返して得られた前記第２のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの偶数番目のサブ原盤からなる基板を備えてなるものであり、
前記第２の磁気転写用マスター担体が、前記第１のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの奇数番目のサブ原盤からなる基板を備えてなるものであることを特徴とする磁気転写用マスター担体。
【請求項２】
前記所望の情報がサーボ信号であることを特徴とする請求項１記載の１組の磁気転写用マスター担体。
【請求項３】
両面に記録面を有する磁気ディスク媒体の表面および裏面のそれぞれに情報を磁気的に転写するための、第１の磁気転写用マスター担体および第２の磁気転写用マスター担体からなる１組の磁気転写用マスター担体の製造方法であって、
所望の情報に応じた凹凸パターンを有する原盤から電鋳により第１のサブ原盤を作製し、該第１のサブ原盤から電鋳により第２のサブ原盤を作製し、該第２のサブ原盤から電鋳により第３のサブ原盤を作製するという電鋳工程を第ｎ（ｎは２以上の自然数）のサブ原盤ができるまで繰返し、
前記第２のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの偶数番目のサブ原盤を基板として第１の磁気転写用マスター担体を作製し、
前記第１のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの奇数番目のサブ原盤を基板として第２の磁気転写用マスター担体を作製することを特徴とする１組の磁気転写用マスター担体の作製方法。
【請求項４】
レジストが塗布された円板上に、該円板を回転させながら前記所望の情報に応じて変調されたレーザビームもしくは電子ビームを照射した後現像して凹凸を形成して前記原盤を作製することを特徴とする請求項３記載の１組の磁気転写用マスター担体の作製方法。
【請求項５】
前記情報がサーボ信号であることを特徴とする請求項３または４記載の１組の磁気転写用マスター担体の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気転写用マスター担体に関し、特に、両面に磁気記録層を有する磁気ディスク媒体の表面および裏面に所望の信号を転写するための１組の磁気転写用マスター担体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、磁性体の微細凹凸パターンにより転写情報を担持した磁気転写用マスター担体と、転写を受ける磁気記録部を有するスレーブ媒体とを密着させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体に担持した情報（例えばサーボ信号）に対応する磁化パターンをスレーブ媒体に転写記録する磁気転写方法が知られている。
【０００３】
この磁気転写に使用されるマスター担体の作製方法としては、転写すべき情報に応じたレジストによる凹凸パターンが形成された原盤を基にして作製する、光ディスクスタンパー作製方法を応用した方法が考えられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−２５６６４４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、両面に記録層を有する磁気ディスク媒体が組込まれるドライブにおいては、各記録面毎にヘッドが備えられており、それぞれのヘッドは、磁気ディスク媒体を挟むようにしてその表面側および裏面側に互いに向き合った状態に配置されている。したがって、表裏面から同一の情報信号を再生しようとする場合、ヘッドの走査方向に応じて、表裏面で互いに鏡面対称な信号パターンが形成されている必要がある。一般的なサーボトラッキング方式としてはサーボ面サーボ方式やセクターサーボ方式、埋めこみサーボ方式が知られている。現在特に主流であるのがセクターサーボ方式である。従来の専用のサーボ・トラック・ライターによるサーボライトでは、ディスクを挟むようにして表面および裏面に向かい合って配されている各ヘッドにより各面にサーボ信号が書き込まれるため、同一の情報であるサーボ信号が表裏面では互いに鏡面対称な信号パターンとして記録される。セクターサーボ方式でのサーボ信号の具体例としては４バーストもしくは６バーストの振幅サーボ方式や位相サーボ方式などが挙げられ、サーボ信号は基本的にサーボＡＧＣ（プリアンブル）、サーボタイミングマーク、グレイコードアドレス、バースト信号部およびギャップ部とから構成されている。サーボ信号再生時、ヘッドは常にこのサーボＡＧＣ、サーボタイミングマーク、グレイコードアドレス、バースト信号の順序で信号を読み取る必要があり、順序が逆になるとサーボ信号として認識できず、サーボトラッキングが不能となる。
【０００６】
したがって、両面に記録面を有する磁気ディスク媒体の表裏にサーボ信号のような同一の情報をそれぞれに転写する場合であっても、互いに鏡面対称な信号パターンを有する表面用の磁気転写用マスター担体および裏面用の磁気転写用マスター担体がそれぞれ必要である。
【０００７】
そこで、従来はディスクの表面用および裏面用の各面に対応した信号パターンを担持する原盤をそれぞれ作製し、各原盤を基に表面用の磁気転写用マスター担体、裏面用の磁気転写用マスター担体を作製している。
【０００８】
しかしながら、原盤の作製には長時間を要し、作製コスト、検査手間等の負担も大きい。
【０００９】
本発明はこのような問題に鑑みなされたもので、安価で簡易に作製し得る、磁気ディスク媒体の表面および裏面にサーボ信号を転写するための１組の磁気転写用マスター担体およびその作製方法を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の１組の磁気転写用マスター担体は、両面に記録面を有する磁気ディスク媒体の表面および裏面のそれぞれに情報を磁気的に転写するための、第１の磁気転写用マスター担体および第２の磁気転写用マスター担体からなる１組の磁気転写用マスター担体であって、
前記第１の磁気転写用マスター担体が、所望の情報に応じた凹凸パターンを有する原盤から電鋳により第１のサブ原盤を作製し、該第１のサブ原盤から電鋳により第２のサブ原盤を作製し、該第２のサブ原盤から電鋳により第３のサブ原盤を作製するという電鋳工程を第ｎ（ｎは２以上の自然数）のサブ原盤ができるまで繰返して得られた前記第２のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの偶数番目のサブ原盤からなる基板を備えてなるものであり、
前記第２の磁気転写用マスター担体が、前記第１のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの奇数番目のサブ原盤からなる基板を備えてなるものであることを特徴とするものである。
【００１１】
すなわち、本発明の１組の磁気転写用マスター担体の第１の磁気転写用マスター担体および第２の磁気転写用マスター担体は、互いに鏡面対称な信号パターンを互いに反転した凹凸パターンにより担持する偶数番目のサブ原盤および奇数番目のサブ原盤を備えてなるものである。
【００１２】
前記所望の情報としてはサーボ信号が好適である。
【００１３】
本発明の１組の磁気転写用マスター担体の製造方法は、両面に記録面を有する磁気ディスク媒体の表面および裏面のそれぞれに情報を磁気的に転写するための、第１の磁気転写用マスター担体および第２の磁気転写用マスター担体からなる１組の磁気転写用マスター担体の製造方法であって、
所望の情報に応じた凹凸パターンを有する原盤から電鋳により第１のサブ原盤を作製し、該第１のサブ原盤から電鋳により第２のサブ原盤を作製し、該第２のサブ原盤から電鋳により第３のサブ原盤を作製するという電鋳工程を第ｎ（ｎは２以上の自然数）のサブ原盤ができるまで繰返し、
前記第２のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの偶数番目のサブ原盤を基板として第１の磁気転写用マスター担体を作製し、
前記第１のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの奇数番目のサブ原盤を基板として第２の磁気転写用マスター担体を作製することを特徴とするものである。
【００１４】
なお、前記原盤は、レジストが塗布された円板上に、該円板を回転させながら前記所望の情報に応じて変調されたレーザビームもしくは電子ビームを照射した後現像して凹凸を形成して作製することができる。
【００１５】
電鋳とは、母型（上記においては原盤もしくはサブ原盤）に所望の厚さの金属層を電着させ、これを母型から剥離して成形品を作製する方法をいう。なお、金属層としてＮｉもしくはＮｉを主成分とする合金を用いることが望ましい。
【００１６】
【発明の効果】
本発明の１組の磁気転写用マスター担体は、第１の磁気転写用マスター担体が、所望の情報に応じた凹凸パターンを有する原盤から電鋳により第１のサブ原盤を作製し、該第１のサブ原盤から電鋳により第２のサブ原盤を作製し、該第２のサブ原盤から電鋳により第３のサブ原盤を作製するという電鋳工程を第ｎ（ｎは２以上の自然数）のサブ原盤ができるまで繰返して得られた前記第２のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの偶数番目のサブ原盤からなる基板を備えてなるものであり、第２の磁気転写用マスター担体が、前記第１のサブ原盤から前記第ｎのサブ原盤のうちの奇数番目のサブ原盤からなる基板を備えてなるものであり、１つの原盤から得られた１組の磁気転写用マスター担体であるので安価にかつ簡易に作製することができる。第１および第２の磁気転写用マスター担体が鏡面対称な信号パターンを担持するものであるため、両磁気転写用マスター担体を用いて信号が転写された磁気ディスク媒体の両面からは同一の情報信号を得ることができる。
【００１７】
本発明の１組の磁気転写用マスター担体の作製方法によれば、所望の情報に応じた凹凸パターンを表面に有する原盤を作製し、この原盤をもとにして、第１および第２の磁気転写用マスター担体を作製するので、従来の個別に作製された原盤から第１および第２の磁気転写用マスター担体を作製する場合と比較して、作製時間、コスト、検査手間等を削減することができ、安価かつ容易に１組の磁気転写用マスター担体を得ることができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。図１は本発明の１組の磁気転写用マスター担体の概略模式図である。図１（ａ）は第１の磁気転写用マスター担体、同図（ｂ）は第２の磁気転写用マスター担体の平面図であり、各図において右図は左図の矢印を付した部分の断面であって、後述するサーボ領域６２、６２’の一部断面を示すものである。
【００１９】
第１の磁気転写用マスター担体５１は、表面に凹凸により所望の信号パターンが形成された円盤状の基板２上に軟磁性層２５が積層されてなるものである。信号パターンは外周側不使用領域６１ａおよび内周側不使用領域６１ｂを除く円環状領域に形成される。この所望のパターンは、転写情報がサーボ信号の場合であり、ディスク１１の同心円状トラックに等間隔で、中心部からほぼ放射方向に延びる細幅の領域（サーボ領域）６２が配置形成されてなる。なお、サーボ領域６２は、図示のように半径方向に連続した湾曲放射状に形成されるほか、直線放射形状に形成されることもある。
【００２０】
第２の磁気転写用マスター担体５２は、表面に凹凸により所望の信号パターンが形成された円盤状の基板３上に軟磁性層３５が積層されてなるものであるが、その信号パターンは、第１の磁気転写用マスター担体５１と鏡面対称な信号パターンであり、湾曲放射状のサーボ領域６２’の湾曲方向が第１の磁気転写用マスター担体５１のサーボ領域６２と逆になっている。なお、図１において矢印は互いに鏡面対称な部分を示すものである。この矢印を付した部分の一部断面図である右図に示すとおり、第１の磁気転写用マスター担体５１の基板の凹凸パターンと、第２の磁気転写用マスター担体５２の基板の凹凸パターンとは鏡面対称な位置同志で互いに反転した凹凸を有するものである。
【００２１】
図２は、図１に示す本発明の１組の磁気転写用マスター担体の作製工程を模式的に示した図である。
【００２２】
図２において左図は、右側に円盤で示す後述の原盤もしくはサブ原盤上の矢印を付した部分の一部断面図である。また、矢印を付した部分は互いに鏡面対称な信号部分を示すものである。なお、各円盤は図１に示したような信号パターンを表面に有するがここでは省略している。まず、所望の情報（ここではサーボ信号）に応じた凹凸パターンを表面に有する原盤Ｏを作製する。原盤Ｏの作製方法についての詳細は後述する。
【００２３】
この原盤Ｏから電鋳により、原盤の凹凸パターンが鏡面対称位置に反転凹凸パターンとして転写された第１のサブ原盤１を作製する。次に、この第１のサブ原盤１から電鋳により、該第１のサブ原盤１の凹凸パターンが鏡面対称位置に反転凹凸パターンとして転写された第２のサブ原盤２を作製する。すなわち、この第２のサブ原盤２は原盤Ｏの凹凸パターンと同一の形状を有するものである。さらにサブ原盤２から電鋳により、該第２のサブ原盤２の凹凸パターンが鏡面対称位置に反転凹凸パターンとして転写された第３のサブ原盤３を作製する。この第３のサブ原盤３はサブ原盤１の凹凸パターンと同一の形状を有するものである。
【００２４】
同様の電鋳工程を繰返し、さらに第４、第５・…第ｎのサブ原盤ｎを作製する。なお、電鋳工程は少なくとも２回行うものであり、すなわちｎは２以上の自然数である。
【００２５】
第１のサブ原盤１〜第ｎのサブ原盤ｎのうち、偶数番目のサブ原盤同士は同一の凹凸パターン形状を有し、また奇数番目のサブ原盤同士は同一の凹凸パターン形状を有するものとなる。また、偶数番目のサブ原盤と奇数番目のサブ原盤とは互いに鏡面対称なパターンかつ反転凹凸パターンとなる。なお、本実施形態においてはｎが奇数である場合のパターン形状を示しているが、ｎは２以上の自然数であれば奇数、偶数いずれであってもよい。
【００２６】
偶数番目のサブ原盤を基板として第１の磁気転写用マスター担体を作製し、奇数番目のサブ原盤を基板として第２の磁気転写用マスター担体を作製する。
【００２７】
１組の磁気転写用マスター担体の基板としては、１つの偶数番目のサブ原盤と１つの奇数番目のサブ原盤を用いればよく、何番目のサブ原盤を用いてもよい。例えば、第２のサブ原盤と第３のサブ原盤、第２のサブ原盤と第５のサブ原盤、第４のサブ原盤と第１のサブ原盤の組合わせ等いかなる組合わせを用いてもよい。なお、電鋳の母型として用いたサブ原盤をいずれかの磁気転写用マスター担体の基板として用いることも可能である。また、第ｍのサブ原盤を母型として第（ｍ＋１）のサブ原盤を複数枚作製することもできる（但し、ｍは１以上の自然数である）。
【００２８】
次に、第２のサブ原盤と第３のサブ原盤を基板として１組の磁気転写用マスター担体を作製する場合の工程を例としたより具体的な作製工程を図３および図４を用いて説明する。図３は第２のサブ原盤および第３のサブ原盤から１組の磁気転写用マスター担体を作製する作製工程を模式的に示した図である。
【００２９】
図３（ａ）〜（ｄ）において左図は、右側に示す円盤上の矢印部分の一部断面図である。なお、各円盤上の矢印部分は互いに対応する信号部分を示すものである。図３（ａ）に示すように、まず、所望の情報（ここではサーボ信号）に応じた凹凸パターンを表面に有する原盤Ｏを作製する。原盤Ｏの作製方法についての詳細は後述する。
【００３０】
この原盤Ｏから電鋳により、原盤の凹凸パターンが、鏡面対称位置に反転凹凸パターンとして転写された第１のサブ原盤１を作製する（図３（ｂ）参照）。
【００３１】
次に、この第１のサブ原盤１から電鋳により、該第１のサブ原盤１の凹凸パターンが、鏡面対称位置に反転凹凸パターンとして転写された第２のサブ原盤２を作製する（図３（ｃ）参照）。すなわち、この第２のサブ原盤２は原盤Ｏの凹凸パターンと同一の形状を有するものである。第１のサブ原盤１から第２のサブ原盤２を２−１〜２−１１まで計１１枚作製する。
【００３２】
次に、この第２のサブ原盤２のうちの第２のサブ原盤２−２〜２−１１の凹凸表面上に軟磁性層を形成して、該第２のサブ原盤を基板として備えてなる第１の磁気転写用マスター担体を作製し、第２のサブ原盤２のうちの他の１枚である第２のサブ原盤２−１から電鋳により、該第２のサブ原盤２−１の凹凸パターンが、鏡面対称位置に反転凹凸パターンとして転写された第３のサブ原盤３を作製する。（図３（ｄ）参照）。この第３のサブ原盤３はサブ原盤１の凹凸パターンと同一の形状を有するものである。第２のサブ原盤２−１から第３のサブ原盤３を３−１〜３−１０まで計１０枚作製する。なお、第２のサブ原盤２−２〜２−１１を基板として第１の磁気転写用マスター担体を作製する工程と、第２のサブ原盤２−１から第３のサブ原盤３を作製する工程はいずれの工程を先に行ってもよく、また、両工程を並行して行ってもよい。
【００３３】
さらに、第３のサブ原盤３−１〜３−１０の凹凸表面上に軟磁性層を形成して、該第３のサブ原盤を基板として備えてなる第２の磁気転写用マスター担体を作製する。
【００３４】
次に、原盤およびサブ原盤の作製を経る磁気転写用マスター担体のより詳細な作製方法を図４に作製過程における原盤およびサブ原盤の概略断面図を示して説明する。
【００３５】
表面が平滑なシリコン円板１１の上にレジスト密着用液を塗布し、その後、ポジ型レジスト液をスピンコート等で塗布した後、ベーキング処理してレジスト１２を形成し、図４（ａ）に示すように、サーボ信号に対応して変調したレーザビームもしくは電子ビームＢを照射し、円板１１上全面のレジスト１２に所定のトラッキングサーボパターンを露光描画する。ここで再度ベーキング処理を施す。
【００３６】
次に、図４（ｂ）に示すように、レジスト１２を現像処理し、露光部分を除去しレジスト１２による凹凸形状を形成する。ここでさらにベーキング処理を施すことによりレジストを硬化させ、レジストによる凹凸パターンを表面に有する原盤Ｏとする。
【００３７】
この原盤Ｏから電鋳により第１のサブ原盤１を作製する。具体的には、図４（ｃ）に示すように、原盤Ｏの凹凸表面にスパッタ法によりＮｉ導電膜１３ａを形成した後、Ｎｉ層１３ｂを電着させてＮｉ層１３とする。なお、Ｎｉ導電膜は無電界メッキによって形成してもよい。このＮｉ層１３を原盤Ｏから剥離して、凹凸表面に残留するレジスト１２を除去洗浄し、これを図４（ｄ）に示す第１のサブ原盤１とする。なお、原盤Ｏは通常剥離の際に破壊されてしまう。第１のサブ原盤１の表面の凹凸は、図４（ｂ）に示す原盤Ｏ上の凹凸形状が反転され、鏡面対称の信号パターンを担持するものとなる。
【００３８】
次に、第１のサブ原盤１から電鋳により第２のサブ原盤２を複数枚作製する。具体的には、図４（ｅ）に示すように、第１のサブ原盤１の凹凸表面を酸化処理して酸化皮膜１４を形成し、この酸化被膜１４が形成された凹凸表面上に新たなＮｉ層２３を電着させ、次に、図４（ｆ）に示すように、Ｎｉ層２３を第１のサブ原盤１から剥離してこれを第２のサブ原盤２−１とする。酸化処理の方法は、電界洗浄装置の陽極に第１のサブ原盤１（Ｎｉ層１３）を設置し、アルカリ溶液中で電界処理を行うことにより表面に酸化皮膜を形成する方法、あるいは、過マンガン酸カリウム水溶液中に第１のサブ原盤１を浸すことにより表面に酸化皮膜を形成する方法等が挙げられる。なお、第１のサブ原盤１に対し、酸化処理、Ｎｉ層電着、剥離を繰返し、第２のサブ原盤２−２〜２−１１を作製する。
【００３９】
次に、第２のサブ原盤２−１から電鋳により第３のサブ原盤を複数枚作製する。具体的には、図４（ｇ）に示すように、第２のサブ原盤２−１の凹凸表面を酸化処理して酸化被膜２４を形成し、この酸化被膜２４が形成された凹凸表面上にさらに新たなＮｉ層３３を電着させ、該Ｎｉ層３３を第２のサブ原盤２−１から剥離してこれを図４（ｈ）に示す第３のサブ原盤３−１とする。第２のサブ原盤２−１に対し、酸化処理、Ｎｉ層電着、剥離を繰返し、第３のサブ原盤３−２〜３−１０を作製する。
【００４０】
一方、図４（ｉ）に示すように、１０枚の第２のサブ原盤２−２〜２−１１（図４中では「２」とする）の各凹凸表面に軟磁性層２５を形成し、第２のサブ原盤２を基板とする第１の磁気転写用マスター担体５１を１０枚作製する。
【００４１】
同様に、図４（ｊ）に示すように、１０枚の第３のサブ原盤３−１〜３−１０（図４中では「３」とする）の各凹凸表面に軟磁性層３５を形成し、第３のサブ原盤３を基板とする第２の磁気転写用マスター担体５２を１０枚作製する。
【００４２】
第１の磁気転写用マスター担体５１と第２の磁気転写用マスター担体５２は、鏡面対称な信号パターンを、互いに逆形状の凹凸パターンにより担持するものであり、第１の磁気転写用マスター担体および第２の磁気転写用マスター担体１枚ずつの１組で磁気ディスク媒体の表裏の記録面への磁気転写を行う。
【００４３】
なお、各サブ原盤の材料としては、Ｎｉの他、Ｎｉ合金を使用してもよい。また、第１および第２の磁気転写用マスター担体の軟磁性層２５、３５は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜することができる。軟磁性層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）が用いることができる。特に好ましくはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。
【００４４】
なお、軟磁性層の上にＤＬＣ等の保護膜を設けることが好ましく、さらに潤滑剤層を設けてもよい。潤滑剤層は、スレーブ媒体との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などの耐久性の劣化を改善する。
【００４５】
次に上記のようにして作製した本発明の第１の磁気転写用マスター担体５１および第２の磁気転写用マスター担体５２を用いた磁気転写について説明する。
【００４６】
図５は本発明による磁気転写用マスター担体を使用した磁気転写方法を示す図であって、（ａ）は磁場を一方向に印加してスレーブ媒体を直流磁化する工程、（ｂ）はマスター担体とスレーブ媒体とを密着して反対方向に磁界を印加する工程、（ｃ）は磁気転写後の状態をそれぞれ示す図である。
【００４７】
磁気転写方法の概要は次のようなものである。まず図５（ａ）に示すように、最初にスレーブ媒体５５に初期磁界Ｈｉｎをトラック方向に沿った一方の向きに印加して、スレーブ媒体５５の表裏の記録面５６、５７の磁化を該一方の向きに初期磁化する。その後、図５（ｂ）に示すように、このスレーブ媒体５５の記録面５６と第１の磁気転写用マスター担体５１の基板２の微細凹凸パターンに軟磁性層２５が被覆されてなる情報担持面とを密着させ、記録面５７と第２の磁気転写用マスター担体５２の基板３の微細凹凸パターンに軟磁性層３５が被膜されてなる情報担持面とを密着させ、スレーブ媒体５５のトラック方向に前記初期磁界Ｈｉｎとは逆向きに転写用磁界Ｈｄｕを印加して磁気転写を行う。その結果、図５（ｃ）に示すように、スレーブ媒体２の記録面５６、５７には、それぞれの磁気転写用マスター担体５１、５２の軟磁性層２５、３５の密着凸部と凹部空間との形成パターンに応じた情報が磁気的に転写記録される。なお、図５（ｃ）の記録面における矢印は、磁化の方向を模式的に示したものである。
【００４８】
第１の磁気転写用マスター担体５１と、第２の磁気転写用マスター担体５２とは、凹凸形状が逆のパターンであるため、上記のように両面同時に磁気転写すると図５（ｃ）に示すとおり、磁化極性が逆のパターンとなる。したがって、このスレーブ媒体５５が組込まれるドライブ側においては、この逆極性に対応する施策が必要となる場合がある。例えば、ヘッドの配線を逆配線としたり、入力回路をクロスすることで対応することができる。またソフト上で対応することも可能である。
【００４９】
また、一方、別の転写方法として、上述の初期磁化工程を省き、片面ずつ逐次に転写する方法がある。この方法を図６にこの転写方法の工程を示す。図６（ａ）に示すように、まず、スレーブ媒体５５の一方の記録面５６に第１の磁気転写用マスター担体５１の情報担持面を密着させ、トラック方向に沿った一方の向きに第１の転写用磁界Ｈｄｕ１を印加する。これにより、記録面５６の第１の磁気転写用マスター担体５１の磁性層の凹部に対応する部分に第１の転写用磁界Ｈｄｕ１の向きに沿った磁化が発生する。次に、図６（ｂ）に示すように、スレーブ媒体５５の他方の記録面５７に第２の磁気転写用マスター担体５２の情報担持面を密着させ、第１の転写用磁界Ｈｄｕ１と逆向きの第２の転写用磁界Ｈｄｕ２を印加する。なお、第２の転写用磁界Ｈｄｕ２は、スレーブ媒体５５の保磁力Ｈｃより小さい値とする。これにより、図６（ｃ）に示すように、記録面５７の第２の磁気転写用マスター担体５２の磁性層の凹部に対応する部分に第２の転写用磁界Ｈｄｕ２の向きに沿った磁化が発生する。なお、凸部に対応する部分には、点線矢印で示すような、それぞれの転写用磁界の向きと逆向きの実効的な磁化が発生する。
【００５０】
このように初期磁化することなく、片面ずつ逐次に転写すれば、両面の転写極性が一致したスレーブ媒体を供給することができる。但し、この場合は逐次転写を行うことおよび初期磁化工程がないことによる転写信号のＳ／Ｎの劣化が生じる虞がある。
【００５１】
なお、スレーブ媒体５５としては、例えばハードディスク、高密度フレキシブルディスクなどの両面に記録層を有する磁気ディスク媒体が使用される。記録層は、塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気記録層いずれであってもよい。
【００５２】
なお、金属薄膜型磁気記録層を備えた磁気記録媒体の場合、磁性材料として、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ、Ｃｏ／Ｐｄ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。磁性層としては、磁束密度が大きいこと、面内記録なら面内方向、垂直記録なら垂直方向の磁気異方性を有することが、明瞭な転写を行えるため好ましい。好ましい磁性層厚は１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは２０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下である。
【００５３】
また、磁性層の下（基板側）には、該磁性層に必要な磁気異方性を持たせるために非磁性の下地層を設けることができる。下地層としては、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ、Ｐｄ等を用いることができるが、結晶構造および格子定数が、その上に設けられる磁性層の結晶構造および格子定数と一致するものを選択する必要がある。好ましい非磁性層の厚みは、１０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは２０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下である。
【００５４】
なお、上記実施形態においては、面内記録媒体をスレーブ媒体とした場合の磁気転写について説明したが、本発明のマスター担体は、面内記録媒体への磁気転写用に限るものではなく、垂直磁気記録媒体をスレーブ媒体とした場合についても使用することができ、同様に効果を奏する。但し、垂直磁気記録媒体の場合には、両面同時転写とする。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態による磁気転写用マスター担体を示す模式図
【図２】本発明の実施の形態による磁気転写用マスター担体の製造工程を示す模式図
【図３】本発明の実施の形態による磁気転写用マスター担体のより具体的な製造工程を示す模式図
【図４】本発明の実施の形態による磁気転写用マスター担体の詳細な製造工程を示す断面図
【図５】本発明の磁気転写用マスター担体を用いた磁気転写方法を示す断面図
【図６】本発明の磁気転写用マスター担体を用いた別の磁気転写方法を示す断面図
【符号の説明】
Ｏ    原盤
Ｂ    レーザビームもしくは電子ビーム
１    第１のサブ原盤
２    第２のサブ原盤
３    第３のサブ原盤
４    第４のサブ原盤
１１    シリコン円板
１２    電子ビーム描画用レジスト
１３，２３    Ｎｉ層
１４，２４    酸化膜
２５，３５    軟磁性層
５１    第１の磁気転写用マスター担体
５２    第２の磁気転写用マスター担体
５５    スレーブ媒体
５６，５７    記録面
６２，６２’    サーボ領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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