(57)【要約】【課題】磁気記録媒体及び磁気記録装置に関し、磁気ヘッドのロード・アンロード時の磁気記録媒体上の損傷の発生を、磁気記録媒体側で解決する。【解決手段】記録を行う内周部２と磁気ヘッドをロードする外周部３からなる磁気記録媒体１の内周部２と外周部３とを互いに異なる潤滑剤４，５で被覆する。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録を行う内周部と磁気ヘッドをロードする外周部からなる磁気記録媒体において、前記内周部と外周部とを互いに異なる潤滑剤で被覆することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
上記外周部と内周部との境界に、混合潤滑剤の逃げ溝を設けたことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
上記外周部を被覆する潤滑剤の厚さを、上記内周部を被覆する潤滑剤の厚さより厚くしたことを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
上記外周部を被覆する潤滑剤として、リン含有フッ素化合物を含有する潤滑剤を用いることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体を搭載したことを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気記録媒体及び磁気記録装置に関するものであり、特に、磁気ヘッドのランプロード・アンロード機構を採用した磁気記録装置におけるロード時の損傷の発生を防止するための潤滑剤構成に特徴のある磁気記録媒体及び磁気記録装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
情報の記録再生を行う磁気ヘッドを、情報記録媒体から退避・復帰させる機構、即ち、磁気ヘッドロード・アンロード機構は、非動作時の耐衝撃性が向上する、磁気ヘッド吸着が生じない等の点で、磁気ヘッドが常に情報記録媒体上に存在するＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストップ）方式の装置に対して有利とされている。
【０００３】
この様な磁気ヘッドロード・アンロード機構は、古くから知られているが、近年の磁気記録装置の記録密度の向上や、耐衝撃性の向上の要求に伴って、磁気ヘッドの低浮上化や耐衝撃性の向上を目的として、特に、携帯用のノート型パーソナルコンピュータに搭載するＨＤＤ装置等に採用されている。
【０００４】
ここで、図７を参照して、ランプロード・アンロード機構を説明する。
図７参照
図７は、ランプロード・アンロード機構による磁気ヘッドのロード動作の説明図であり、ランプ６１は、ＨＤＤ装置のロータリアクチュエータ（図示を省略）により移動する磁気ヘッド６５の半径方向の軌跡上の外側に設けられており、傾斜路６２、水平路６３、及び、磁気ヘッド６５を停止保持する停止部６４から構成される。
【０００５】
磁気ヘッド６５は、停止状態で停止部６４のアウタ側に押しつけられた位置に停止しているが、ホストからの指令を受信して磁気ディスク７１に位置決めする場合には、停止部６４から磁気ディスク７１側に移動を開始し、水平路６３から傾斜路６２を通って磁気ディスク７１の周辺部に設けたランディング領域７２にロードする。
【０００６】
この時、磁気ヘッド６５の移動速度は、磁気ディスク７１上でのシーク速度に比べて十分遅い１／１０以下のゆっくりした速度で移動させ、ロード時にディスク面に衝突することなく滑らかにランディング領域７２において磁気ヘッド６５が浮上状態で位置するように制御している。
【０００７】
次に、図８を参照して、従来の磁気ディスクの構成を説明する。
なお、図においては、ガラス基板の一方の主面側のみを示しているが、実際のは両主面側に対称に形成されるものである。
図８参照
まず、２．５インチ（≒６．５ｃｍ）のガラス基板７３の両面にＮｉＰ層７４を介して厚さが、例えば、３ｎｍのＣｒＭｏ下地層７５、及び、厚さが、例えば、２０ｎｍのＣｏＣｒＰｔ磁気記録層７６を順次積層させる。
【０００８】
次いで、ＰＶＤ法やＣＶＤ法等の種々の方法によって、ＣｏＣｒＰｔ磁気記録層７６上に１０ｎｍ程度のＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）保護膜７７を設け、さらにその全面を厚さが１〜２ｎｍ程度の潤滑剤７８で被覆することで、耐久性、耐蝕性の向上を図っている。
【０００９】
なお、ＤＬＣ保護膜７７上に塗布する潤滑剤７８としては、末端へ各種極性基を付与したフッ素系潤滑剤であるパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を用い、ディッピング法、スピンコート法、或いは、スプレー法などでＤＬＣ保護膜７７上へ塗布・付着させている。
【００１０】
【特許文献１】
特開２００１−３３８４７８号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述のランプロード・アンロード機構においても、磁気ヘッドのロード・アンロード時に媒体上に損傷が発生するという問題がある。
【００１２】
したがって、本発明は、磁気ヘッドのロード・アンロード時の磁気記録媒体上の損傷の発生を、磁気記録媒体側で解決することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
図１は本発明の原理的構成の説明図であり、この図１を参照して本発明における課題を解決するための手段を説明する。
図１参照
上述の目的を達成するため、本発明は、記録を行う内周部２と磁気ヘッドをロードする外周部３からなる磁気記録媒体１において、内周部２と外周部３とを互いに異なる潤滑剤４，５で被覆することを特徴とする。
【００１４】
この様に磁気記録媒体１の内周部２と外周部３とに異なる潤滑剤４，５を塗布することによって、磁気ヘッドをロードする外周部３のみの耐衝撃性を向上することができ、内周部２はスライダーの浮上特性に適した潤滑剤４，５を用いることができる。
【００１５】
また、外周部３を被覆する潤滑剤５の厚さを、内周部２を被覆する潤滑剤４の厚さより厚くすることが望ましく、それによって、磁気ヘッドをロードする外周部３における耐衝撃性をさらに向上することができる。
【００１６】
また、外周部３と内周部２との境界に、潤滑剤４，５の逃げ溝６を設けても良く、それによって、外周部３を被覆する潤滑剤５と内周部２を被覆する潤滑剤４，５との混合を防止することができる。
【００１７】
なお、外周部３を被覆する潤滑剤５として、リン含有フッ素化合物を含有する潤滑剤、例えば、フォスファゼン環を有するフッ素化合物を用いることが望ましい。
【００１８】
なお、内周部２を被覆する潤滑剤４としては、フッ素を含む合成油、例えば、ＰＦＰＥ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏａｌｋｙｌ  Ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ）を用いることが望ましい。
【００１９】
また、この様な構成の磁気記録媒体１を製造する場合には、内周部２をマスクで被覆した状態で、外周部３に第１の潤滑剤５をディッピング法或いはスプレー塗布法のいずれかによって被覆したのち、外周部３をマスクで被覆した状態で、内周部２に第１の潤滑剤５より耐衝撃性に劣る第２の潤滑剤４をディッピング法或いはスプレー塗布法のいずれかによって被覆すれば良い。
なお、被覆順序は逆でも良い。
【００２０】
或いは、内周部２と外周部３との境界に潤滑剤４，５の逃げ溝６を設け、内周部２に第１の潤滑剤４を滴下するとともに、外周部３に第１の潤滑剤４より耐衝撃性に優れた第２の潤滑剤５を滴下してスピン塗布しても良いものである。
【００２１】
上述の構成を有する磁気記録媒体１を搭載することによって、耐衝撃性に優れた磁気記録装置を実現することができ、特に、携帯用の情報処理装置に搭載する磁気記録装置として好適となる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
ここで、図２乃至図３を参照して、本発明の第１の実施の形態の磁気ディスクの製造方法を説明する。
図２（ａ）参照
まず、２．５インチ（≒６５ｍｍ）のガラス基板２１の両面の最外周寄りに、例えば、幅が０．８ｍｍで、深さが１μｍの潤滑剤の逃げ溝２２を形成し、記録を行うデータゾーンとなる内周部１１と磁気ヘッドのランディングを行う外周部１２に分割する。
なお、逃げ溝２２の中心位置は、ガラス基板２１の中心から３０ｍｍの位置とし、磁気ヘッドのランディング位置は約３０．５ｍｍとする。
【００２３】
図２（ｂ）参照
次いで、ガラス基板２１の両面にＮｉＰ層２３を介して厚さが、例えば、３ｎｍのＣｒＭｏ下地層２４、及び、厚さが、例えば、２０ｎｍのＣｏＣｒＰｔ磁気記録層２５を順次積層させたのち、５ｎｍ程度のＤＬＣ保護膜２６を設ける。
【００２４】
図３（ｃ）参照
次いで、磁気ディスク１０の内周部１１の中心寄りに下記の構造式（１）を有する潤滑剤２７、例えば、フッ素系潤滑剤であるパーフルオロポリエーテルを滴下するとともに、外周部１２の逃げ溝２２寄りにパーフルオロポリエーテルにリン含有フッ素化合物、例えば、フォスファゼン環を有するフッ素化合物を５〜１０％、例えば、１０％添加して耐衝撃性を高めた潤滑剤２８を滴下しながらスピン塗布する。
【００２５】
図３（ｄ）参照
図３（ｄ）は、逃げ溝２２近傍の拡大図であり、内周部１１に滴下された潤滑剤２７がスピン塗布に起因する遠心力により外周部２側に押しやられても、逃げ溝２２に収容され、逃げ溝２２を越えて外周部１２に達し、外周部１２に滴下された潤滑剤２８と混合することはない。
なお、この場合の潤滑剤２７，２８の厚さは、共に例えば、１ｎｍとする。
【００２６】
この様に、本発明の第１の実施の形態においては、磁気ヘッドがランディングする外周部１２に、内周部１１に塗布する潤滑剤２７より耐衝撃性に優れる潤滑剤２８を塗布しているので、磁気ヘッドのロード・アンロード時に磁気ディスク１０に衝撃による破損が発生することを効果的に抑制することができる。
【００２７】
また、内周部１１と外周部１２との間に逃げ溝２２を設けているので、一度のスピン塗布工程において、内周部１１と外周部１２に互いに特性の異なった潤滑剤を同時に塗布することができ、塗布工程を簡素化することができる。
【００２８】
次に、図４及び図５を参照して、本発明の第２の実施の形態の磁気ディスクの製造工程を説明する。
図４（ａ）参照
まず、２．５インチ（≒６５ｍｍ）のガラス基板２１の両面にＮｉＰ層２３を介して厚さが、例えば、３ｎｍのＣｒＭｏ下地層２４、及び、厚さが、例えば、２０ｎｍのＣｏＣｒＰｔ磁気記録層２５を順次積層させたのち、５ｎｍ程度のＤＬＣ保護膜２６を設ける。
【００２９】
図４（ｂ）参照
次いで、磁気ディスク１０の内周部１１を覆うように一対の断面が凹状の遮蔽マスク２９でパッキン（図示を省略）を介して挟持した状態で、磁気ディスク１０をフォスファゼン環を有するフッ素化合物及びＰＦＰＥを溶媒に溶解させた溶液３０中にディッピングし、ゆっくり引き上げたのち乾燥させることによって、外周部１２に厚さが、例えば、１ｎｍの潤滑剤２８を設ける。
【００３０】
図５（ｃ）参照
次いで、遮蔽マスク２９を除去したのち、磁気ディスク１０の外周部１２を覆うように新たな環状の遮蔽マスク３１でパッキン（図示を省略）を介して挟持した状態で、磁気ディスク１０をＰＦＰＥを溶媒に溶解させた溶液３２中にディッピングし、ゆっくり引き上げたのち乾燥させることによって、内周部１１に厚さが、例えば、１ｎｍの潤滑剤２７を設ける。
【００３１】
図５（ｄ）参照
次いで、遮蔽マスク３１を除去することによって、外周部１２に内周部１１に設けた潤滑剤２７より耐衝撃性に優れた潤滑剤２８を設けた磁気ディスク１０が得られる。
【００３２】
この様に、本発明の第２の実施の形態においては、遮蔽マスクを用いて部分的に異なった特性を有する潤滑剤を設けているので、逃げ溝２２を設ける必要はなくなる。
【００３３】
次に、図６を参照して、本発明の第１乃至第２の実施の形態の磁気ディスクを搭載した磁気ディスク装置に関する第３の実施の形態を説明する。
図６（ａ）参照
図６（ａ）は、本発明の第３の実施の形態の磁気ディスク装置の概略的平面図であり、ハウジング４１に固定されたスピンドルモータ４２に磁気ディスク１０が取り付けられており、スピンドルモータ４２によって所定の回転速度で回転されることになる。
また、この磁気ディスク１０に記録された磁気情報を読み書きする磁気ヘッド４５はサスペンション４４に支持されて、磁気ディスク１０の回転に伴って発生する気流によって浮上する。
【００３４】
また、サスペンション４４はハブに取り付けられたキャリッジ４６によって保持され、このキャリッジ４６はアクチュエータ４７によって、図において矢印で示したヘッドの退避方向或いはヘッドの復帰方向へ駆動される。
また、サスペンション４４の先端にはリフトタブ４３が取り付けられているとともに、磁気ヘッド４５の退避時にリフトタブ４３を保持するランプ４８が設けられている。
【００３５】
図６（ｂ）参照
図６（ｂ）は、図６（ａ）におけるＡ−Ａ′を結ぶ一点鎖線に沿った概略的断面図であり、磁気ヘッド４５の退避時には、ランプ４８の傾斜路４９及び水平路５０からなるカム曲面をガイドとしてリフトタブ４３を摺動させ、水平路５０の外側に設けられた停止部５１のパーキング位置において停止するように構成されている。
【００３６】
なお、図６では、磁気ヘッド４５より先端のリフトタブ４３をランプ４８と摺動させているが、磁気ヘッド４５よりも後端側のサスペンション４４の一部をランプ４８と摺動させても、磁気ヘッド４５の退避・復帰動作は可能である。
【００３７】
以上、本発明の各実施の形態を説明してきたが、本発明は各実施の形態に記載した構成に限られるものではなく、各種の変更が可能である。
例えば、上記の第１及び第２の実施の形態の説明においては、内周部１１に塗布する潤滑剤と外周部１２に塗布する潤滑剤の厚さを同じにしているが、同じにする必要はなく、耐衝撃性をより高めるために、外周部１２に設ける潤滑剤２８の厚さを、内周部１１に設ける潤滑剤２７の厚さより厚くしても良いものである。
例えば、内周部１１に設ける潤滑剤２７の厚さを１ｎｍとすると、外周部１２に設ける潤滑剤２８の厚さは、例えば、２ｎｍとする。
【００３８】
また、上記の第１及び第２の実施の形態の説明においては、内周部１１に塗布する潤滑剤としてＰＦＰＥを用い、外周部１２に塗布する潤滑剤としてＰＦＰＥにフォスファゼン環を有するフッ素化合物を添加した潤滑剤を用いているが、この様な組合せに限られるものではない。
【００３９】
例えば、内周部１１に設ける潤滑剤としては、ＰＦＰＥ以外のフッ素を含む合成油を用いても良いものである。
【００４０】
また、外周部１２に設ける潤滑剤としては、フォスファゼン環を有するフッ素化合物以外のリンを含有するフッ素化合物を用いても良いものである。
【００４１】
また、上記の第１及び第２の実施の形態においては、内周部１１に設ける潤滑剤２７と外周部１２に設ける潤滑剤２８を同じ潤滑剤としているが、互いに異なった末端基のＰＦＰＥ潤滑剤の組合せを用いても良く、少なくとも外周部１２に塗布する潤滑剤２８の耐衝撃性が内周部１１に設ける潤滑剤２７より優れていれば良い。
【００４２】
また、上記の第２の実施の形態においては、遮蔽マスクを用いてディッピング法によって潤滑剤２７，２８を選択的に設けているが、遮蔽マスクを用いる場合には、スプレー塗布法により潤滑剤２７，２８を選択的に設けても良いものである。
【００４３】
また、上記の第２の実施の形態においては、内周部１１に潤滑剤２７を設けたのち、外周部１２に潤滑剤２８を設けているが、外周部１２に潤滑剤２８を設けたのち、内周部１１に潤滑剤２７を塗布しても良いものである。
【００４４】
また、上記の第１及び第２の実施の形態における磁気ディスクの層構造及び材料構成は単なる一例であり、公知の各種の層構造及び材料構成を有する磁気ディスクにも適用されることは言うまでもない。
【００４５】
ここで、再び、図１を参照して、本発明の詳細な特徴を説明する。
図１参照
（付記１）  記録を行う内周部２と磁気ヘッドをロードする外周部３からなる磁気記録媒体１において、前記内周部２と外周部３とを互いに異なる潤滑剤４，５で被覆することを特徴とする磁気記録媒体。（１）
（付記２）  上記外周部３と内周部２との境界に、上記潤滑剤４，５の逃げ溝６を設けたことを特徴とする付記１記載の磁気記録媒体。
（付記３）  上記外周部３を被覆する潤滑剤５の厚さを、上記内周部２を被覆する潤滑剤４の厚さより厚くしたことを特徴とする付記１または２に記載の磁気記録媒体。
（付記４）  上記外周部２を被覆する潤滑剤５として、リン含有フッ素化合物を含有する潤滑剤を用いることを特徴とする付記１乃至３のいずれか１に記載の磁気記録媒体。
（付記５）  記録を行う内周部２と磁気ヘッドをロードする外周部３からなる磁気記録媒体１の製造方法において、前記内周部３をマスクで被覆した状態で、前記外周部３に第１の潤滑剤５をディッピング法或いはスプレー塗布法のいずれかによって被覆する工程と、前記外周部３をマスクで被覆した状態で、前記内周部２に前記第１の潤滑剤５より耐衝撃性の劣る第２の潤滑剤４をディッピング法或いはスプレー塗布法のいずれかによって被覆する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体１の製造方法。
（付記６）  記録を行う内周部２と磁気ヘッドをロードする外周部３からなるとともに、前記内周部２と外周部３との境界に潤滑剤４，５の逃げ溝６を設けた磁気記録媒体１の製造方法において、前記内周部２に第１の潤滑剤４を滴下するとともに、前記外周部３に前記第１の潤滑剤４より耐衝撃性に優れた第２の潤滑剤５を滴下してスピン塗布することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（付記７）  付記１乃至４のいずれか１に記載の磁気記録媒体１を搭載したことを特徴とする磁気記録装置。
【００４６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、磁気ディスクの外周部に設ける潤滑剤を内周部に設ける潤滑剤より耐衝撃性に優れた潤滑剤としているので、ランプロード・アンロード機構を有する磁気ディスク装置において、磁気ヘッドのロード時の衝撃による損傷の発生を防止することができ、ひいては、高記録密度磁気ディスク装置に長寿命化、信頼性の向上に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の磁気ディスクの途中までの製造工程の説明図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態の磁気ディスクの図２以降の製造工程の説明図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態の磁気ディスクの途中までの製造工程の説明図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態の磁気ディスクの図４以降の製造工程の説明図である。
【図６】本発明の第３の実施の形態の磁気ディスク装置の構成説明図である。
【図７】ランプロード・アンロード機構による磁気ヘッドのロード動作の説明図である。
【図８】従来の磁気ディスクの概略的断面図である。
【符号の説明】
１  磁気記録媒体
２  内周部
３  外周部
４  潤滑剤
５  潤滑剤
６  逃げ溝
１０  磁気ディスク
１１  内周部
１２  外周部
２１  ガラス基板
２２  逃げ溝
２３  ＮｉＰ層
２４  ＣｒＭｏ下地層
２５  ＣｏＣｒＰｔ磁気記録層
２６  ＤＬＣ保護膜
２７  潤滑剤
２８  潤滑剤
２９  遮蔽マスク
３０  溶液
３１  遮蔽マスク
３２  溶液
４１  ハウジング
４２  スピンドルモータ
４３  リフトタブ
４４  サスペンション
４５  磁気ヘッド
４６  キャリッジ
４７  アクチュエータ
４８  ランプ
４９  傾斜路
５０  水平路
５１  停止部
６１  ランプ
６２  傾斜路
６３  水平路
６４  停止部
６５  磁気ヘッド
７１  磁気ディスク
７２  ランディング領域
７３  ガラス基板
７４  ＮｉＰ層
７５  ＣｒＭｏ下地層
７６  ＣｏＣｒＰｔ磁気記録層
７７  ＤＬＣ保護膜
７８  潤滑剤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004199723.tif 000009
【図８】
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