(57)【要約】【課題】耐大気圧構造体の洗浄において、液中より引き上げる際に、配置間隔が狭くても、問題となる液を介しての耐大気圧構造体同士の接触なくすことで同時に多数の洗浄を可能とする。【解決手段】液中よりの引き上げの際に、液面と並行方向に振動させる機構をもつ。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置においてフェースプレートとリアプレートの間に配置される大気圧構造体（スペーサ）の洗浄について、
洗浄液中、もしくはリンス液中で液面に垂直方向の揺動による洗浄後、洗浄治具および、非洗浄物である大気圧構造体を液中より引き上げる際に、液面に平行方向に振動させる機構を有することを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
請求項目１において、洗浄治具を配置する部分自体が液面に垂直方向の揺動および液面と平行方向に振動することを特徴とする洗浄装置。
【請求項３】
請求項目１における、液面に平行方向に振動させる機構が、洗浄槽の壁面に凹凸を有し、これに対向して、洗浄治具をこの凹凸に押さえつける手段を有することを特徴とする洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は平面型の真空容器内に電子放出源と、画像形成部材（蛍光体）とを対向に配置し電子線の照射により画像を形成する画像表示装置の作成方法に関し、特に、リアプレートと、フェースプレートとの間に配置される大気圧構造体の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子放出素子を使用した画像表示装置は、薄型で省スペース、かつ軽量であるため、従来のブラウン管を使用した画像表示装置にかわるものとして、開発が進められている。
【０００３】
図７は、電子放出素子として冷陰極素子を使用した画像表示装置の斜視図であり、内部構造を示すためにパネルの一部を切り欠いて示している。
【０００４】
図中、７１はリアプレ−ト、７２は側壁、７３はフェ−スプレ−トであり、７１〜７３により表示パネルの内部を真空に維持するための気密容器を形成している。上記気密容器の内部は１０のマイナス６乗［Ｔｏｒｒ］程度の真空に保持されるので、大気圧や不意の衝撃などによる気密容器の破壊を防止する目的で、耐大気圧構造体として、スペーサ７８が設けられている。
【０００５】
リアプレ−ト７１には、基板７４が固定されているが、該基板上には冷陰極素子７５複数形成されている。フェ−スプレ−ト７３の下面には、蛍光膜７６が形成されている。また、蛍光膜７６をなす上記各色蛍光体の間には黒色体（不図示）が設けてあり、さらに蛍光膜７６上には、Ａｌ等からなるメタルバック７７が形成されている。
【０００６】
前記画像表示装置は、冷陰極素子７５より電子の放出が行われると同時に、前記メタルバック７７に数百から数千［Ｖ］の高圧を印可して電子を加速し、前記フェースプレート７３に衝突させ、前記蛍光膜７６をなす蛍光体が励起されて発光し、画像を表示する。
【０００７】
上述のようにスペーサは、高電圧（Ｖａ）が印加され、スペーサ表面は高電界中にさらされる。さらに、電子源から放出された電子がスペーサに衝突し、その影響で表面が帯電してしまう。よって、このスペーサ沿面での放電が問題となる。
【０００８】
この問題を解決するために、スペーサに微小電流が流れるようにして帯電を除去する提案がなされている（特開昭５７−１１８３５５号公報、特開昭６１−１２４０３１号公報）。そこでは絶縁性のスペーサの表面に高抵抗薄膜を形成することによりスペーサ表面に微小電流が流れるようにして、表面での帯電を減らし、沿面耐圧の向上を図っている。
【０００９】
このように用いられるスペーサは、画像領域内に配置されるため、画像への影響を考慮して，薄く細長い形状のガラスなどが用いられる。
【００１０】
このような形状の大気圧構造体の洗浄においては、大気圧構造体が、厚みの一番薄い方向において衝撃に対し弱いため、治具を用いて洗浄液中に浸漬をし、揺動もしくは超音波洗浄によって洗浄を行い、その後、治具に固定したまま乾燥をする手段をとる必要がある。
【００１１】
このように、治具にガラスを固定したまま洗浄を行なう例として、洗浄方法の一例を図２、を用いて簡略に説明する。
【００１２】
図２に示されるように、大気圧構造体１１が挿入配置される部分２１と、該大気圧構造体を押さえる部分２２とにより治具に固定され、治具および、大気圧構造体１１を洗浄液中に浸漬し、揺動および、超音波により洗浄をおこなう。
【００１３】
続けて、同様に洗浄液の置換用の液中に、浸漬し、揺動、および超音波による置換を行なう。
【００１４】
その後液中より、治具および、大気圧構造体を取り出し、必要に応じてブロー後、加熱し乾燥させる。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
前述のように、多数の耐大気圧構造体を同時に洗浄する場合には、それぞれを並列に並べて治具上に配置し洗浄する手段が選ばれる。
【００１６】
しかしながら、耐大気圧構造体同士の配置間隔が狭い場合においては、洗浄液、または、リンス液という液中から、被洗浄対象物を大気中に引き上げる際に、図３に示すように、その液の抵抗により耐大気圧構造体が湾曲し、耐大気圧構造体同士が液の表面張力により接触したままとなることがある。
【００１７】
この場合、液がその部分に残ってしまうため、洗浄工程内における次工程に持ち込むことになってしまい、以下の問題を引き起こす。
【００１８】
まず、洗浄液を、次工程であるリンス工程に持ち込むことにより、リンス液中の混入異物が増大し、リンス効果の低下、例えば、リンス終了時の異物の再付着といった問題がおきることがあった。
【００１９】
また、リンス液を、次工程の乾燥工程に持ち込むことにより、リンス液が付着した部分で乾燥むらができてしまうという問題がおきることがあった。
【００２０】
このようにしておきる、異物の付着および、乾燥むらとよばれる部分は、後に、パネル形状となった際に、残った異物からのガス放出に起因する電子源素子特性の劣化を引き起こしたり、大気圧構造体に前述の高抵抗膜を成膜する際には剥がれの原因となり、これがメタルバックに高電圧をかける際の耐圧の低下を引き起こしたりする場合があった。
【００２１】
なお、洗浄時におけるこの耐大気圧構造体同士の接触は、それぞれの配置間隔によって、大きく影響を受けるため、配置間隔を狭めると特に顕著に表れる傾向にあり、同時に大量の耐大気圧構造体を洗浄する際には、この耐大気圧構造体同士の接触が大きな問題となっていた。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記問題を鑑み、画像形成装置の大気圧構造体の洗浄において、特に、該大気圧構造体を同時に並列にならべて多数同時に洗浄する場合に、洗浄液、もしくはリンス液中で洗浄後、洗浄治具および、非洗浄物である該大気圧構造体を液中から引き上げる際に、該大気圧構造体同士が接触し，それぞれの液を洗浄工程内の次工程に持ち込むことを防止するための機構を設けたことを特徴とする洗浄装置を提供するものである。
【００２３】
すなわち、（請求項１）画像形成装置においてフェースプレートとリアプレートの間に配置される大気圧構造体（スペーサ）の洗浄について、洗浄液中、もしくはリンス液中で液面に垂直方向の揺動による洗浄後、洗浄治具および、非洗浄物である大気圧構造体を液中より引き上げる際に、液面に平行方向に振動させる機構を有することを特徴とする洗浄装置。
【００２４】
（請求項２）請求項目１において、洗浄治具を配置する部分自体が液面に垂直方向の揺動および液面と平行方向に振動することを特徴とする洗浄装置。
【００２５】
（請求項３）請求項目１における、液面に平行方向に振動させる機構が、洗浄槽の壁面に凹凸を有し、これに対向して、洗浄治具をこの凹凸に押さえつける手段を有することを特徴とする洗浄装置である。
【００２６】
【発明の実施の形態】
図１、図２、図４、図５および図６を用いて、後述する本発明の実施例１、および、２に係わる、本発明の画像形成装置における大気圧構造体の洗浄方法を以下に詳細に示す。
【００２７】
工程Ａ
図２に示すように大気圧構造体を洗浄治具にセットする。
【００２８】
配置治具３１には、溝が掘られており大気圧構造体１１が配置できるようになって該大気圧構造体を配置後、押さえ治具３２を上部にかぶせる。
工程Ｂ−１　洗浄
工程Ａにおいて、セットされた大気圧構造体および、洗浄治具を、洗浄液中に浸漬し（図１▲１▼）、揺動（図１▲２▼）、および超音波による洗浄を行なう。
【００２９】
工程Ｂ−２　液中よりひきあげ
任意の洗浄時間経過後、本発明の特徴である、液面と平行方向に振動させる機構を用いて、耐大気圧構造体の長手方向と垂直な方向に振動させながら、液中よりひきあげる（図１▲３▼）。
【００３０】
この液面と平行に振動させる機構については、例えば、図４に示すように、縦方向の揺動機構ごと、液面と平行方向に振動を加える、機械的な構造を設けてもよいし、また、図５に示すように、洗浄装置壁面に凹凸を設け、バネなどにより洗浄治具をこの凹凸に押さえつける手段を設け、引き上げの際に洗浄治具だけが振動するようにしてもよい。
【００３１】
なお、振動の振幅、速度、縦方向の範囲については、被洗浄物である耐大気圧構造体の形状、洗浄治具の支え部分の幅、洗浄液、リンス液等にあわせて適宜選択をする。
【００３２】
また、振動の手段として、２例を示したが特にこれに限定されるものではない。
【００３３】
以上のように、本発明の洗浄装置の特徴である液面と平行方向の振動を与えることで、液中より大気中に洗浄治具が出る際に、各々のスペーサは、ほぼ同じような傾きや湾曲となるため、図２に示したのようなスペーサ同士が、近づくことにより引き起こされる、液を介して接触する部分はなくなる。
【００３４】
なお、工程Ｂ−１およびＢ−２については、洗浄手段によって洗浄を繰り返すことがあるが、その場合、各洗浄液ごとに適宜くりかえすのが望ましい。
【００３５】
工程Ｃ　リンス
工程Ｂ−１およびＢ−２と同様にして、洗浄液の置換剤により、リンスをおこなう。
【００３６】
このリンス工程においても、本発明の特徴である、液面と平行方向に振動させる機構を用いて液中からの引き上げをおこない、適宜リンスを繰り返す。
【００３７】
工程Ｄブローおよび乾燥
液中より、治具および、大気圧構造体を取り出し、必要に応じて適宜、ブロー、乾燥をおこなう。
【００３８】
なお、ブローのための気体は窒素、大気、アルゴンなどが望ましい。
【００３９】
以下、本発明を実施例により、さらに説明するが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
【００４０】
（実施例１）
本実施例では、本発明の方法で、長さ５００ｍｍ、高さ２ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの大気圧構造体の洗浄を行い、冷陰極素子を電子源に用いた画像形成装置を作製した例を説明する。
【００４１】
本実施例に使用した洗浄装置は、実施態様における図４に示したような機械的な動作機構をもち、３槽、（１槽目洗浄槽、２槽目リンス槽、３槽目リンス槽）に対して、全槽を一様に縦方向の揺動、および液面と平行方向の方向の振動が可能となっているものを用いた。
【００４２】
また、洗浄治具は、溝の幅を０．８ｍｍ、溝の長さを３ｍｍ、溝の高さを２．２ｍｍ、各溝の間隔を８ｍｍとしたものを用いた。
【００４３】
この治具に、スペーサを配置し、界面活性剤　アルパス　７７７　（ヘンケル・ジャパン社製）に浸漬、揺動および超音波による洗浄をおこなったのち、洗浄液から、洗浄治具を引き上げる際に液中において、液面より１０ｃｍの深さから、大気中、液面より１０ｃｍの高さまで、２０ｃｍの範囲で、液面と平行方向に５ｃｍの振幅で、２秒に１往復の速度で振動させながら１ｃｍ／ｓｅｃ．の速度で引き上げた。
【００４４】
続けてリンス材（洗浄液の置換剤）　ラフィニット　Ｇ　（ヘンケル・ジャパン社製）中に浸漬、揺動し、リンス液から、洗浄治具を引き上げる際も、洗浄液中からの引き上げと全く同様にして引き上げた。
【００４５】
その後、同様にもう一度、ラフィニット　Ｇ　によりリンスをおこない、スペーサ全体に窒素をブローし、ラフィニット　Ｇを吹き飛ばした。
【００４６】
その後、治具ごと乾燥炉において８０℃　２０分の加熱をおこなった。
【００４７】
以上の説明のように洗浄したスペーサを、高抵抗膜を成膜後使用し、図７に示した冷陰極を用いた画像形成装置を作製した。
【００４８】
このようにして、作製した画像形成装置においては、本発明の洗浄方法装置による洗浄によって、従来引きおこされていた、洗浄中にスペーサ同士の接触することがなく、液残りがなかったため、異物の付着や乾燥むらもなく、次工程の成膜においても膜剥れが見られなかった。
【００４９】
そのため、メタルバックに高電圧をかけた際に耐圧が以前にくらべ高く、また、汚れからのガス放出がないため、パネル内が高真空に保たれ電子源の寿命も長かった。
【００５０】
（実施例２）
本実施例では、本発明の方法で、長さ８００ｍｍ、高さ１．６ｍｍ、厚さ０．２ｍｍの大気圧構造体の洗浄を行い、冷陰極素子を電子源に用いた画像形成装置を作製した例を説明する。
【００５１】
本実施例に使用した洗浄装置は、実施態様における図５に示したように、洗浄槽の内壁に凹凸が形成されており、また、この凹凸に向かって、洗浄治具の固定台上で押し付けられる構造をもっており、（１槽目　洗浄槽、　２槽目　リンス槽、３槽目　リンス槽）に対して、それぞれ、同様となっているものを用いた。
【００５２】
本実施例においては、洗浄治具は、溝の幅を０．５ｍｍ、溝の長さを２ｍｍ、溝の高さを２ｍｍ、各溝の間隔を６ｍｍとした。
【００５３】
この治具に、スペーサを配置し、アルカリ系洗浄剤ＴＭＡＨ（０．４％）に浸漬、揺動および超音波による洗浄をおこなったのち、洗浄液から、洗浄治具を引き上げる際に液中において、液面より２０ｃｍの深さから、大気中、液面より２０ｃｍの高さまで、４０ｃｍの範囲で、液面と平行方向に３ｃｍの振幅で振動させながら引き上げた。
【００５４】
続けて洗浄液の置換剤として、純水中に浸漬、揺動する工程を２回行い、純水から、洗浄治具を引き上げる際も、洗浄液中からの引き上げと全く同様にして引き上げた。
【００５５】
その後大気中に引き上げ、図６に示した配置治具上でスペーサ全体に窒素をブローし、吹き飛ばした。
【００５６】
その後、治具ごと乾燥炉において１２０℃３０分の加熱をおこなった。
【００５７】
以上の説明のように洗浄したスペーサを、高抵抗膜を成膜後使用し、図７に示した冷陰極を用いた画像形成装置を作製した。
【００５８】
このようにして、作製した画像形成装置においては、本発明の洗浄方法装置による洗浄によって、従来引きおこされていた、洗浄中にスペーサ同士の接触することがなく、液残りがなかったため、異物の付着や乾燥むらもなく、次工程の成膜においても膜剥れが見られなかった。
【００５９】
そのため、メタルバックに高電圧をかけた際に耐圧が以前にくらべ高く、また、汚れからのガス放出がないため、パネル内が高真空に保たれ電子源の寿命も長かった。
【００６０】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の洗浄方法を用いれば、画像形成装置に用いられる大気圧構造体（スペーサの）洗浄を行なう工程において、本発明の洗浄装置の特徴である液面と平行方向の振動を与えることで、液中より大気中に洗浄治具が出る際に、各々のスペーサは、ほぼ同じような傾きや湾曲となるため、図２に示したのようなスペーサ同士が、近づくことにより引き起こされる、液を介して接触する部分はなくなる。
【００６１】
この効果により，洗浄時の耐大気圧構造体の配置間隔を従来より狭めることが可能で、同時に多数の耐大気圧構造体を洗浄することが可能となった。
【００６２】
また、本発明の洗浄を行なった耐大気圧構造体においては、洗浄液をリンス液中に持込むことに起因していたリンス終了時の異物の再付着といった問題がおきることもなく、また、リンス液を多量に、次工程の乾燥工程に持ち込むことにより、リンス液が付着した部分で乾燥むらができてしまうという問題がおきることもなくなった。
【００６３】
また、本発明により洗浄したスペーサは、異物の再付着、および乾燥むらによる汚れがないため、高抵抗膜を成膜しても膜剥れがおきず、画像形成装置になった際、メタルバックに引加する電圧に対して耐圧が高いという効果があり、一方で、この汚れからのガス放出がないため、パネル内が高真空に保たれ、以前に比べ寿命が長くなるという効果があった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる洗浄装置の動きを示す図。
【図２】耐大気圧構造体を洗浄する際の洗浄冶具を示す図。
【図３】従来の洗浄における耐大気圧構造体同士が接触した状態を示す図。
【図４】本発明による洗浄装置の揺動および振動の機構を示す図。
【図５】本発明による洗浄装置の揺動および振動の機構を示す図。
【図６】図５の断面を示す図。
【図７】本発明の係わるスペーサおよび冷陰極電子源を用いた画像表示装置を示す図。
【符号の説明】
１１　耐大気圧構造体
２１　従来の配置冶具
２２　従来の押さえ冶具
３１　液中より取り出した際の液の抵抗により湾曲した耐大気圧構造体
４１　可動軸
５１　洗浄治具を配置する台
５２　凹凸部へ洗浄治具５５を押せつける手段（スプリング）
５３　凹凸部へ洗浄治具５５を押せつける手段（抑え部）
５４　洗浄機内壁の凹凸
５５　洗浄治具（２１、２２）および耐大気圧構造体（１１）
７１　リアプレート
７２　側壁
７３　フェースプレート
７４　基板
７５　冷陰極素子
７６　蛍光膜
７７　メタルバック
７８　スペーサ
７９　行配線
８０　列配線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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