(57)【要約】【課題】  本発明では、構成から低コスト化を実現でき、且つ、防汚性、導電性を有する、着色の少ない反射防止部材を提供する。【解決手段】  基材の少なくとも片面に、高屈折率層（第１層）を積層し、さらに第１層の上に低屈折率層（第２層）を積層した反射防止部材であって、第２層が、Ｓｉ（ＯＲ）４で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ａと、Ｒ’ｍＳｉ（ＯＲ）４−ｍで示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｂの共重合体を含むマトリックス中に、平均粒径０．５〜２００ｎｍ、屈折率１．１０〜１．３４の無機微粒子を含むことを特徴とする反射防止部材としたものである。【選択図】図１
2004252437.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも片面に、高屈折率層（第１層）を積層し、さらに第１層の上に低屈折率層（第２層）を積層した反射防止部材であって、第２層が、下記一般式（１）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ａと、下記一般式（２）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｂの共重合体を含むマトリックス中に、平均粒径０．５〜２００ｎｍ、屈折率１．１０〜１．３４の無機微粒子を含むことを特徴とする反射防止部材。
Ｓｉ（ＯＲ）４                （１）
（但し、Ｒはアルキル基である）
Ｒ’ｍＳｉ（ＯＲ）４−ｍ        （２）
（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）
【請求項２】
前記低屈折率層（第２層）が、組成物Ａと組成物Ｂに加え、さらに下記一般式（３）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｃを含むことを特徴とする請求項１記載の反射防止部材。
Ｒ’’ｎＳｉ（ＯＲ）４−ｎ        （３）
（但し、Ｒ’’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）
【請求項３】
前記高屈折率層（第１層）の、光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９０〜２．１５の範囲にあり、かつ前記低屈折率層（第２層）が、光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．４０の範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止部材。
【請求項４】
前記高屈折率層（第１層）の厚みが６〜１３ｎｍの範囲であり、かつ前記低屈折率層（第２層）の厚みが１１０〜１３５ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項５】
前記高屈折率層（第１層）が導電性を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項６】
前記組成物Ａと前記組成物Ｂのモル比が、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ＝１：０．０１〜１、または、前記組成物Ａと前記組成物Ｂと前記組成物Ｃのモル比が、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ：前記組成物Ｃ＝１：０．０１〜０．４：０．０１〜０．６であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項７】
前記無機微粒子の添加量が、５〜９５ｗｔ％であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項８】
前記高屈折率層（第１層）が、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化亜鉛−酸化ガリウム（ＧＺＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止部材。
【請求項９】
該フィルム基材と第１層との間に硬質有機樹脂層が設けられていることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はディスプレイの表示画面表面に設けられた偏光フィルム、あるいはディスプレイ上に適用される反射防止部材に関する物である。
【背景技術】
【０００２】
多くのディスプレイは、室内外を問わず外交などが入射するような環境下で使用される。この外光などの入射光は、ディスプレイ表面等において反射され、反射像が表示光と混合し表示画像を見にくくしている。特に、オフィスのＯＡ化に伴い、コンピュータを使用する頻度が増し、ディスプレイと相対していることが長時間化した。これにより反射像等による表示品質の低下は、目の疲労などを引き起こす要因とも考えられる。
【０００３】
携帯電話やカーナビゲーションシステムの普及により、室外でディスプレイを使用する機会が増える傾向にあり、また、液晶ディスプレイの省電力化に伴い、ディスプレイ表面の反射光を低減し、表示画像を明確することが要求されてきている。
【０００４】
これらの要求を満たす為に、ディスプレイの表面に、反射防止の光学理論に基づいて、金属酸化物などからなる高屈折率層と低屈折率層を積層させたフィルム、あるいは無機または有機フッ素化合物などの低屈折率層を積層させたフィルムを貼りつけて可視光の反射防止を行ってきた。
【０００５】
これらの反射防止部材は、第一に可視光の反射率低減、第二に表示品質を向上させるためにディスプレイの色味を大きく変化させることは望ましくないため着色が少ないこと、第三にディスプレイの最前面に設置されるので、汚れ付着防止（防汚性）があること、第四に加工工程上及び使用中の帯電による塵付着防止の観点から、導電性があることが求められている。
【０００６】
前述の有機フッ素化合物などの低屈折率層のみを積層させた反射防止部材は層数が少ないため、低コストにて、且つ、フッ素成分により汚れが付着しにくい反射防止部材ができるが、低屈折率のフィルム基材では十分な反射防止性能を持たせることが難しくなる。また、低屈折率層に導電性を付与させる為に、導電微粒子や４級アミン等を加えることにより達成できるが、低屈折率層の屈折率を上げてしまったり、また、機械強度を下げることにつながり、実質的に反射防止と導電性を同時に付与することは難しい。
【０００７】
単層よりも反射率を低減させ、且つ、最もコストの低い反射防止膜は２層である。この場合、最表面層の低屈折率層として光学的に理想的な無機化合物は、フッ化マグネシウムに代表されるフッ素化合物が挙げられる。しかしながら、フッ素化合物をもちいると反射防止部材の密着性等の機械強度が十分でないためにほとんど用いられていない。強度を持たせる為に、フッ素化合物の代わりに酸化ケイ素が用いると機械強度は満足するも、屈折率がフッ素化合物よりも高い為に色味が青くなり、ディスプレイの表示品質を低下させる。加えてディスプレイの最表面に用いる場合には最表面に汚れ防止等を目的とした防汚層が必要となる。
【０００８】
これまで、ディスプレイ等の最表面に設置され、単層よりも反射率の低い機械強度の必要な反射防止部材は３層以上の構成により作製されてきた。この場合、金属酸化物からなる高屈折率層と低屈折率層を３層以上積層させ、最表面に汚れ防止等の目的とした防汚層設置させるが、層数が多いためにコストが高くなっていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであって、構成から低コスト化を実現でき、且つ、防汚性、導電性を有する、着色の少ない反射防止部材を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１の発明は、基材の少なくとも片面に、高屈折率層（第１層）を積層し、さらに第１層の上に低屈折率層（第２層）を積層した反射防止部材であって、第２層が、下記一般式（１）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ａと、下記一般式（２）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｂの共重合体を含むマトリックス中に、平均粒径０．５〜２００ｎｍ、屈折率１．１０〜１．３４の無機微粒子を含むことを特徴とする反射防止部材である。
【００１１】
Ｓｉ（ＯＲ）４                （１）
（但し、Ｒはアルキル基である）
Ｒ’ｍＳｉ（ＯＲ）４−ｍ        （２）
（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）
請求項２の発明は、前記低屈折率層（第２層）が、組成物Ａと組成物Ｂに加え、さらに下記一般式（３）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｃを含むことを特徴とする請求項１記載の反射防止部材である。
【００１２】
Ｒ’’ｎＳｉ（ＯＲ）４−ｎ        （３）
（但し、Ｒ’’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）
請求項３の発明は、前記高屈折率層（第１層）の、光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９０〜２．１５の範囲にあり、かつ前記低屈折率層（第２層）が、光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．４０の範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止部材である。
【００１３】
請求項４の発明は、前記高屈折率層（第１層）の厚みが６〜１３ｎｍの範囲であり、かつ前記低屈折率層（第２層）の厚みが１１０〜１３５ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止部材である。
【００１４】
請求項５の発明は、前記高屈折率層（第１層）が導電性を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止部材である。
【００１５】
請求項６の発明は、前記組成物Ａと前記組成物Ｂのモル比が、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ＝１：０．０１〜１、または、前記組成物Ａと前記組成物Ｂと前記組成物Ｃのモル比が、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ：前記組成物Ｃ＝１：０．０１〜０．４：０．０１〜０．６であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止部材である。
【００１６】
請求項７の発明は、前記無機微粒子の添加量が、５〜９５ｗｔ％であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止部材である。
【００１７】
請求項８の発明は、前記高屈折率層（第１層）が、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化亜鉛−酸化ガリウム（ＧＺＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止部材である。
【００１８】
請求項９の発明は、該フィルム基材と第１層との間に硬質有機樹脂層が設けられていることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止部材である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明では、基材上の少なくとも片面に導電性を有する高屈折率層を積層し、該高屈折率層上に、有機珪素化合物組成物中に無機微粒子を含む低屈折率コーティング剤からなる低屈折率層を形成していることから以下のような利点がある。単層の反射防止部材よりも反射率が低い。また、他の２層反射防止部材と比較して着色が少ない。さらに、導電性を有する為、帯電による埃及び塵が付着し難い。加えて、擦過などによる傷が付きにくく、剥離がなく、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが容易に拭き取れやすい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明するが、これに限るものではない。
【００２１】
図１は、本発明の反射防止部材の一例を示した断面図である。
【００２２】
図１の反射防止部材１は、フィルム基材２、硬質有機樹脂層３、反射防止層４から構成されている。更に反射防止層４は、高屈折率層（第１層）４ａと、低屈折率層（第２層）４ｂからなる。
【００２３】
本発明における基材は、ガラスや種種の有機高分子からなる基材を挙げることができる。一般的に、ポリエチレンレテフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリル（ＰＭＭＡ）、ナイロン（Ｎｙ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリ塩化ビニール（ＰＶＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロール（ＴＡＣ）等のプラスチックフィルムが汎用されている。
【００２４】
これらのフィルム基材２を構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有させた物も使用することができる。
【００２５】
また、このフィルム基材２としては、単層、あるいは、複数の有機高分子を積層したものでもよい。また、その厚みは特に限定されるものではないが、５０〜２００μｍが好ましい。
【００２６】
本発明では、硬質有機樹脂層３を設けることができる。硬質有機樹脂層３としては、基材２の表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、基材がフィルム基材である場合の屈曲による反射防止層のクラック発生を抑制することができ、反射防止部材の機械的強度が改善できる。
【００２７】
硬質有機樹脂層３は電離放射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性の樹脂が使用でき、特に紫外線硬化型であるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系や、有機珪素系の樹脂、熱硬化型のポリシロキサン樹脂等が好適である。
【００２８】
硬質有機樹脂層３は基材１と屈折率が同等若しくは近似していることがより好ましい。膜厚は３〜２０μｍの範囲であれば十分な機械強度が発現するが、透明性、塗工精度、取り扱いから、より望ましくは５〜１５μｍの範囲が好ましい。
【００２９】
本発明における反射防止層４は高屈折率層（第１層）４ａと低屈折率層（第２層）４ｂを、順次、所定の膜厚で積層させることにより機能を発現するものである。単層構成の反射防止部材よりも反射率が低く、且つ、反射防止部材自身の着色を少なく抑えるには、高屈折率層（第１層）の光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９０〜２．１５の範囲であり、かつ低屈折率層（第２層）の光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．４０の範囲にあるとよい。また、高屈折率層（第１層）の厚みが６〜１３ｎｍの範囲であり、さらに、低屈折率層（第２層）の厚みが１１０〜１３５ｎｍの範囲内であるとよい。
【００３０】
本発明の高屈折率層（第１層）を形成する材料としては、高屈折率であり且つ、可視光において透明と言う観点から、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化亜鉛−酸化ガリウム（ＧＺＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物がよい。
【００３１】
また、前記高屈折率層（第１層）は、導電性を有することが好ましい。このようなものとしては、上記したようなものがあげられる。導電性を有することにより、帯電防止機能などが付与できる。
【００３２】
前記高屈折率層（第１層）の形成方法としては、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等のＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法並びにＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法の様な公知の方法が挙げられる。
【００３３】
前記高屈折率層（第１層）の膜厚は、６〜１３ｎｍの範囲が好ましく、これよりも薄くなると、帯電防止及び反射防止の機能を発現しなく、また、これよりも厚くなるとフィルムに着色が生じる。
【００３４】
また、必要であれば、第１層の形成前に基材若しくは硬質有機樹脂層に密着性向上させる前処理を行ってもよい。前処理方法として、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタリング法、アルカリ処理法、酸処理法、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等を挙げることができる。特に、アルカリ処理が有効である。アルカリ処理法に使用するアルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液、それらに更にアルコール等の各種有機溶媒を加えたアルカリ水溶液等を挙げることができる。アルカリ処理の条件は、例えば、水酸化ナトリウム水溶液を用いた場合、０．１〜１０Ｎの濃度の水溶液として使用することが望ましく、更には、１〜２Ｎの濃度が望ましい。また、アルカリ水溶液の温度は、０〜１００℃、好ましくは、２０〜８０℃である。アルカリ処理の時間は、０．０１〜１０時間、好ましくは、０．１〜１時間である。
【００３５】
本発明の低屈折率層（第２層）は、一般式（１）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ａと、下記一般式（２）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｂの共重合体を含むマトリックス中に、平均粒径０．５〜２００ｎｍ、屈折率１．１０〜１．３４の無機微粒子を含むことを特徴とする。また低屈折率層（第２層）は、防汚性を有することを特徴とする。
【００３６】
Ｓｉ（ＯＲ）４                （１）
（但し、Ｒはアルキル基である）
Ｒ’ｍＳｉ（ＯＲ）４−ｍ        （２）
（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）
また、組成物Ａと組成物Ｂに加え、さらに下記一般式（３）で示される有機珪素化合物を加えても良い。
【００３７】
Ｒ’’ｎＳｉ（ＯＲ）４−ｎ        （３）
（但し、Ｒ’’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）
前記組成物Ａに用いられる一般式（１）Ｓｉ（ＯＲ）４（但し、Ｒはアルキル基である）で表される有機珪素化合物としては、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓｉ〔ＯＣＨ（ＣＨ３）２〕４、Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）４等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
【００３８】
前記組成物Ｂに用いられる一般式（２）Ｒ’ｍＳｉ（ＯＲ）４−ｍ（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）で表される有機珪素化合物としては、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
【００３９】
前記組成物Ｃに用いられる一般式（３）Ｒ’’ｎＳｉ（ＯＲ）４−ｎ（但し、Ｒ’’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）で表される有機珪素化合物としては、ビニル基含有珪素化合物〔ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等〕、アミノ基含有珪素化合物〔Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン等〕、エポキシ基含有珪素化合物〔３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等〕、クロル基含有珪素化合物〔３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン等〕、メタクリロキシ基含有珪素化合物〔３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、アクリロキシ基含有珪素化合物〔３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、イソシアナート基含有珪素化合物〔３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等〕等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
【００４０】
前記一般式（１）と、一般式（２）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体を用いて共重合体を作製する方法、又は一般式（１）と一般式（２）に、さらに一般式（３）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体を用いて共重合体を作製する方法は、特に限定されるものではないが、加水分解によって作製するにあたっての触媒としては、公知の、塩酸、蓚酸、硝酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、蓚酸、アンモニア、アルミニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が例示でき、それらを単独に、或いは２種類以上併せて用いてもよい。
【００４１】
前記組成物Ａと前記組成物Ｂのモル比は、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ＝１：０．０１〜１の範囲内であることが好ましい。また、さらに組成物Ｃを含む場合、前記組成物Ａと前記組成物Ｂと前記組成物Ｃのモル比は、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ：前記組成物Ｃ＝１：０．０１〜０．４：０．０１〜０．６であることが好ましい。
【００４２】
前記組成物Ｂがこの範囲より少ないと防汚性が低下し、多いと機械強度が弱くなる。また、前記組成物Ｃがこの範囲より少ないと密着性が低下し、多いと機械強度が弱くなる。
【００４３】
前記の有機珪素化合物から成るマトリックス中に、屈折率１．１０〜１．３４の、無機微粒子を添加することにより、低屈折率化が可能となる。
【００４４】
このような無機粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）など様々なものを用いることができる。
【００４５】
無機微粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｎｍの範囲内であれは良い。
【００４６】
この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、無機微粒子が凝集しやすくなってしまう。
【００４７】
前記コーティング溶液は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、溶媒は１種類のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能である。
【００４８】
前記低屈折率コーティング剤は、ウェットコーティング法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）により表面処理を行ったハードコート層上に塗工される。塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。
【００４９】
本発明について、実施例をあげて詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限るものではない。
【実施例１】
【００５０】
基材としてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）を用い、それぞれライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ（共栄社製）８０重量部と光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバガイギー製）５重量部をメチルエチルケトン中に混合溶解し、バーコート法によりおよそ１０μｍ塗工し、オーブンにて溶媒除去後、超高圧水銀ランプにより発生した紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量にて照射し硬化させ、ＰＥＴ及びＴＡＣ基材上に硬質有機樹脂層を作製した。
【００５１】
前記フィルムをそれぞれ、真空槽にいれ、１０〜３Ｐａまで排気し、１００ｍＬ／ｍｉｎの流量にてＡｒガスを該真空槽に導入し、圧力を１．０Ｐａに調整した。酸化インジウム−酸化スズをターゲットとして、ターゲットに電圧を印可してスパッタリングにより、該硬質有機樹脂層上に５５０ｎｍにおける屈折率が１．９９の酸化インジウム−酸化スズ層を１０ｎｍの膜厚にて成膜し、第１層とした。
【００５２】
次に低屈折率層（第２層）の組成物ＡとしてＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）４を８９ｍｏｌ％、組成物ＢとしてＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３を５ｍｏｌ％、組成物ＣとしてＯＣＮ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３を１ｍｏｌ％で混合したマトリックスに対して、平均粒径６０ｎｍ、屈折率１．３０のフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）微粒子を５０ｗｔ％添加し、１．０Ｎ−ＨＣｌを触媒に用いた低屈折率コーティング剤を作製した。上記酸化インジウム−酸化スズ層の上にマイクログラビア法を用いてコーティング溶液を１２３ｎｍの膜厚にて塗布し、１２０℃で１分間乾燥を行うことにより、第２層を形成し、反射防止部材を作製した。
得られた反射防止部材について以下の評価を行った。
＜光学特性＞
（反射率測定）
フィルム面をサンドペーパーでこすり、艶消しの黒色塗料を塗布した後、入射角５゜にて積層面の可視光における反射率を測定し、視感反射率Ｙ及び色度（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）を求めた。
＜防汚性＞
（接触角測定）
接触角計〔ＣＡ−Ｘ型：協和界面科学（株）製〕を用いて、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で直径１．８μｌの液滴を針先に作り、これを積層した表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体が接する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。液体には、蒸留水を使用した。
（油性ペンの拭き取り性）
積層した表面に付着した油性ペンをセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定にて行った。判定基準を以下に示す。
【００５３】
○：油性ペンを完全に拭き取ることが出来る。
【００５４】
△：油性ペンの拭き取り跡が残る。
【００５５】
×：油性ペンを拭き取ることが出来ない。
（指紋の拭き取り性）
基材表面に付着した指紋をセルロース製不織布〔ベンコットＭ−３：旭化成（株）製〕で拭き取り、その取れ易さを目視判定にて行った。判定基準を以下に示す。
【００５６】
○：指紋を完全に拭き取ることが出来る。
【００５７】
△：指紋の拭き取り跡が残る。
【００５８】
×：指紋の拭き取り跡が拡がり、拭き取ることが出来ない。
＜機械強度＞
（耐擦傷性）
基材表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール（株）製〕により２５０ｇ／ｃｍ２で２０回擦り、傷の有無を目視判定にて行った（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す。
【００５９】
○：傷を確認することが出来ない。
【００６０】
△：数本傷を確認できる。
【００６１】
×：傷が多数確認できる。
（密着性）
ＪＩＳ  ５４００に準拠した碁盤目法にて評価した。
＜導電性＞
ＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠して行った
＜各種物性評価結果＞
表１及び２に実施例評価結果を示す。
【００６２】
【表１】
2004252437.tif 000003
【００６３】
【表２】
2004252437.tif 000004
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の反射防止部材を説明する構成断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１      反射防止部材
２      基材
３      硬質有機樹脂層
４      反射防止層
４ａ    導電性を有する高屈折率である第１層
４ｂ    防汚性を有する低屈折率である第２層
【図１】
2004252437.tif 000005