(57)【要約】【課題】高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒を用いることによって、繰り返し使用しても触媒活性低下とパラジウムのリーチングを抑制しつつ、効率よくアミドカルボニル化反応を進行させることによって、Ｎ−アシルアミノ酸類の実用的な製造方法を提供すること。【解決手段】アルデヒド、アミド、配位性化合物、酸、ハロゲン化合物、および高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒の存在下、有機溶剤中一酸化炭素加圧下に反応させてＮ−アシルアミノ酸類を得る。高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒としては、高分子化合物にパラジウム化合物を作用させて得られる架橋マイクロカプセル化パラジウム、具体的には、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）を挙げることができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（２）
【化１】
2004277338.tif 000007
（式中、Ｒ１は未置換若しくは置換基を有するアルキル基、未置換若しくは置換基を有するアルケニル基、未置換若しくは置換基を有するアルキニル基、未置換若しくは置換基を有するアリール基、又は未置換若しくは置換基を有するアラルキル基を示す。）で表されるアルデヒドと、一般式（３）
【化２】
2004277338.tif 000008
（式中、Ｒ２、Ｒ３は独立して、水素原子、未置換若しくは置換基を有するアルキル基、未置換若しくは置換基を有するアルケニル基、未置換若しくは置換基を有するアルキニル基、未置換若しくは置換基を有するアリール基、又は未置換若しくは置換基を有するアラルキル基を示す。）で表されるアミドを、高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒の存在下、有機溶剤中一酸化炭素加圧下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
【化３】
2004277338.tif 000009
（式中、Ｒ１は一般式（２）におけるＲ１と同じものを示し、Ｒ２、Ｒ３は一般式（３）におけるＲ２、Ｒ３と同じものを示す。）で表されるＮ−アシルアミノ酸類の製造方法。
【請求項２】
パラジウム触媒が、高分子化合物にパラジウム化合物を作用させて得られる架橋マイクロカプセル化パラジウムであることを特徴とする請求項１記載のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法。
【請求項３】
パラジウム化合物が、０価のパラジウム化合物であることを特徴とする請求項２記載のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法。
【請求項４】
高分子化合物が、式（４ａ）、（４ｂ）及び／又は一般式（４ｃ）
【化４】
2004277338.tif 000010
（式中、Ｒ４は低級アルキル基又は未置換若しくは置換基を有するアリール基を示す。）で表されるモノマーから誘導される式（５ａ）、（５ｂ）及び／又は一般式（５ｃ）
【化５】
2004277338.tif 000011
（式中、Ｒ４は一般式（４ｃ）におけるＲ４と同じものを示す。）で表される繰り返し構造単位を含む重合体又は共重合体組成物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法。
【請求項５】
有機溶剤が、双極性非プロトン性溶剤と芳香族系有機溶剤との混合溶剤系であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｎ−アシルアミノ酸類の製造方法に関し、より詳しくは、食品添加物や医農薬製造原料又はアミノ酸の極めて重要な中間体であるＮ−アシルアミノ酸類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、Ｎ−アシルアミノ酸類の製造方法としては、Ａ）アミノ酸のＮ−アシル化による方法や、Ｂ）アルデヒド、アミド及び、一酸化炭素を原料とするいわゆるアミドカルボニル化反応による方法等が知られている。Ａ）に挙げるＮ−アシル化法は天然型アミノ酸のＮ−アシル体を製造する場合には必ずしも不利ではないが、非天然型アミノ酸のＮ−アシル体の場合には、Ｂ）に挙げるアミドカルボニル化反応が有利であることはあきらかである。
【０００３】
アミドカルボニル化反応としては下記の方法が知られている。
（ａ）アルデヒド、アミド、一酸化炭素および、水素をコバルト化合物触媒の存在下に高圧下で反応させる方法（例えば、非特許文献１参照）。
（ｂ）アルデヒド、アミド、一酸化炭素および、酸をコバルト化合物触媒の存在下に高圧下で反応させる方法（例えば、特許文献１参照）。
（ｃ）アルデヒド、アミド、一酸化炭素および、酸をパラジウム化合物触媒の存在下に高圧下で反応させる方法（例えば、特許文献２参照）。
（ｄ）アルデヒド、ニトリル、一酸化炭素および、酸をパラジウム化合物触媒の存在下に高圧下で反応させる方法（例えば、特許文献３参照）。
（ｅ）アルデヒド、アミド、一酸化炭素および、酸をルテニウム、イリジウムあるいはロジウム化合物触媒の存在下に高圧下で反応させる方法（例えば、特許文献４参照）等が知られている。
【０００４】
しかしながら、（ａ）から（ｅ）のいずれの方法も、高価な金属化合物触媒が反応後回収できないため、金属化合物触媒を再生させるためには反応混合物から金属化合物を分離し精製したのちに、触媒の再生をしなければならず、工業的に不利であることは明らかである。
【０００５】
【非特許文献１】
Ｗａｋａｍａｔｓｕ  Ｈ．  Ｙａｍａｋａｍｉ  Ｎ．著  「Ｃｈｅｍ．  Ｃｏｍｍｕｎ．，」  １９７１年，  ｐ１５４０，  Ｒｏｙａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ出版
【特許文献１】
ＧＢ２２５２７７０
【特許文献２】
特開平２−６４４５号公報
【特許文献３】
特開平１１−３４９５４４号公報
【特許文献４】
特開２００１−３１６３３号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒を用いることによって、繰り返し使用しても触媒活性低下とパラジウムのリーチングを抑制しつつ、効率よくアミドカルボニル化反応を進行させることによって、Ｎ−アシルアミノ酸類の実用的な製造方法を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは前記課題を解決するために鋭意研究を行った結果、アルデヒド、アミド、配位性化合物、酸、ハロゲン化合物、および高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒の存在下、有機溶剤中一酸化炭素加圧下に反応させることにより効率よくＮ−アシルアミノ酸類が生成するという知見を得、ついに本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は、一般式（２）
【０００９】
【化６】
2004277338.tif 000002
【００１０】
（式中、Ｒ１は未置換若しくは置換基を有するアルキル基、未置換若しくは置換基を有するアルケニル基、未置換若しくは置換基を有するアルキニル基、未置換若しくは置換基を有するアリール基、又は未置換若しくは置換基を有するアラルキル基を示す。）で表されるアルデヒドと、一般式（３）
【００１１】
【化７】
2004277338.tif 000003
【００１２】
（式中、Ｒ２、Ｒ３は独立して、水素原子、未置換若しくは置換基を有するアルキル基、未置換若しくは置換基を有するアルケニル基、未置換若しくは置換基を有するアルキニル基、未置換若しくは置換基を有するアリール基、又は未置換若しくは置換基を有するアラルキル基を示す。）で表されるアミドを、高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒の存在下、有機溶剤中一酸化炭素加圧下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
【００１３】
【化８】
2004277338.tif 000004
【００１４】
（式中、Ｒ１は一般式（２）におけるＲ１と同じものを示し、Ｒ２、Ｒ３は一般式（３）におけるＲ２、Ｒ３と同じものを示す。）で表されるＮ−アシルアミノ酸類の製造方法（請求項１）や、パラジウム触媒が、高分子化合物にパラジウム化合物を作用させて得られる架橋マイクロカプセル化パラジウムであることを特徴とする請求項１記載のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法（請求項２）や、パラジウム化合物が、０価のパラジウム化合物であることを特徴とする請求項２記載のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法（請求項３）や、高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒を構成する高分子化合物が、式（４ａ）、（４ｂ）及び／又は一般式（４ｃ）
【００１５】
【化９】
2004277338.tif 000005
【００１６】
（式中、Ｒ４は低級アルキル基又は未置換若しくは置換基を有するアリール基を示す。）で表されるモノマーから誘導される式（５ａ）、（５ｂ）及び／又は一般式（５ｃ）
【００１７】
【化１０】
2004277338.tif 000006
【００１８】
（式中、Ｒ４は一般式（４ｃ）におけるＲ４と同じものを示す。）で表される繰り返し構造単位を含む重合体又は共重合体組成物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法（請求項４）や、有機溶剤が、双極性非プロトン性溶剤と芳香族系有機溶剤との混合溶剤系であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法（請求項５）に関する。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法は、一般式（２）で表されるアルデヒド化合物と、一般式（３）で表されるアミド化合物とを、高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒の存在下、有機溶剤中一酸化炭素加圧下に反応させる、一般式（１）で表されるＮ−アシルアミノ酸類の製造方法であれば特に制限されるものではなく、一般式（１）、（２）におけるＲ１は、未置換若しくは置換基を有するアルキル基、未置換若しくは置換基を有するアルケニル基、未置換若しくは置換基を有するアルキニル基、未置換若しくは置換基を有するアリール基、又は未置換若しくは置換基を有するアラルキル基を示し、一般式（１）、（３）におけるＲ２及びＲ３は、独立して水素原子、未置換若しくは置換基を有するアルキル基、未置換若しくは置換基を有するアルケニル基、未置換若しくは置換基を有するアルキニル基、未置換若しくは置換基を有するアリール基、又は未置換若しくは置換基を有するアラルキル基を示す。
【００２０】
一般式（１）、（２）及び（３）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３がそれぞれ表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基には、置換基を有していてもよい直鎖状、分岐状、環状の考えうる全ての結合異性体が含まれ、これらのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基は、それぞれ炭素数１〜２４であることが好ましい。一般式（１）、（２）及び（３）におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３がそれぞれ表すアリール基とアラルキル基は、それぞれ炭素数６〜６０であることが好ましく、アリール基とアラルキル基の芳香族部位（以下Ａｒと記す）としては、例えば、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、又は場合により窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を有する５、６又は７員のヘテロ芳香族基を挙げることができる。
【００２１】
上記アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、及びアラルキル基におけるアルキレン部への置換基としては、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の低級アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６の低級アルケニルオキシ基、Ｃ７〜Ｃ２０のアラルキルオキシ基、スルファニル基（ＲａＳ−）（Ｒａは直鎖状、分岐状、環状の考え得る総ての結合異性体を含むＣ１〜Ｃ２４のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、Ｃ６〜Ｃ２４のアリール基、Ｃ７〜Ｃ２４のアラルキル基を示す。以下、Ｒｂ、Ｒｃも同様のものを示す。）、スルフィニル基（Ｒｂ（ＳＯ）−）、スルフォニル基（Ｒｃ（ＳＯ２）−）、Ｃ６〜Ｃ１８のアリール基、Ｃ６〜Ｃ１８のアリールオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７のアルカノイル基、Ｃ７〜Ｃ１９のアリロイル基、Ｃ２〜Ｃ７のアルカノイルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルスルホニルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルアミノ基、ベンジルカルボニルアミノ基、Ｃ６〜Ｃ１８のアリールスルホニルアミノ基、アミノカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基等が挙げられる。また、上記アリール基、アラルキル基におけるＡｒへの置換基としては、Ｃ１〜Ｃ６の低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の低級アルケニル基、Ｃ７〜Ｃ２０のアラルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の低級アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６の低級アルケニルオキシ基、Ｃ７〜Ｃ２０のアラルキルオキシ基、Ｃ６〜Ｃ１８のアリ−ル基、Ｃ６〜Ｃ１８のアリ−ルオキシ基、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６のハロ低級アルキル基、Ｃ２〜Ｃ７のアルカノイル基、Ｃ７〜Ｃ１９のアリロイル基、Ｃ２〜Ｃ７のアルカノイルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルスルホニルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルアミノ基、ベンジルカルボニルアミノ基、Ｃ６〜Ｃ１８のアリ−ルスルホニルアミノ基、アミノカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
【００２２】
本発明の方法に用いられる一般式（２）で表されるアルデヒド類としては、任意のアルデヒドが使用可能であるが、具体例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、３−（メチルチオ）プロピオンアルデヒド、２−エチルヘキサナール、イソブチルアルデヒド、フルフラール、クロトンアルデヒド、アクロレイン、ベンズアルデヒド、置換ベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、２，４−ジヒドロキシフェニルアセトアルデヒド、グリオキサル酸及びα−アセトキシプロピオンアルデヒド等が使用できる。また、ジアルデヒド類も使用でき、同様に、上記の反応条件下でアルデヒドを形成することのできる物質、例えば、パラホルムアルデヒド、アセタール類、アリルアルコール類も使用できる。さらに、エポキシドも使用可能である。これらのアルデヒド類はいうまでもなく、前記置換基を有していてもよい。
【００２３】
本発明の方法に用いられる一般式（３）で表されるアミド類としては、任意のアミドが出発原料として使用されるが、具体例として、アセトアミド、ベンズアミド、プロピオンアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、脂肪酸アミド、アクリルアミド、ケイ皮酸アミド、フェニル酢酸アミド、アセトアニリド、尿素等が挙げられる。これらのアミド類はいうまでもなく、前記置換基を有していてもよい。
【００２４】
また、本発明の方法において、アミド成分は、相応するニトリルを酸触媒存在下加水分解することにより、本反応系内で製造することができる。このため、アミドの替わりに一般の脂肪族ニトリルや芳香族ニトリル類を用いることも可能である。これに適したニトリルの例は、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ベンジルシアニド、マロンジニトリル、アジポニトリル、ブチルシアニド、マンデル酸ニトリルなどである。
【００２５】
一般式（２）で表されるアルデヒドの使用量は、一般式（３）で表されるアミドに対して有利に０．２〜５当量、好ましくは０．５〜２当量である。
【００２６】
本発明のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法に使用する、高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒としては、文献（（１）Ｒｙｏ  Ａｋｉｙａｍａ，  Ｐｈ．Ｄ．  Ｔｈｅｓｉｓ，  （２）Ｒｙｏ  Ａｋｉｙａｍａ，  Ｓｈｕ  Ｋｏｂａｙａｓｈｉ，  Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  Ｔｈｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｉｎｃａｒｃｅｒａｔｅｄ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  ｔｈｅ  Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｈｉｇｈｌｙ  Ａｃｔｉｖｅ  Ｈｅｔｅｒｏｇｅｎｅｏｕｓ  Ｐａｌｌａｄｉｕｍ  Ｃａｔａｌｙｓｔｓ，  ｐｕｂｌｉｓｈｅｄ  ｏｎ  Ｗｅｂ  Ｍａｒｃｈ  ４，  ２００３．）に従って、高分子化合物にパラジウム化合物を作用させて得られる架橋マイクロカプセル化パラジウム、好ましくは、前記式（５ａ）、（５ｂ）及び／又は一般式（５ｃ）で表される繰り返し単位を含む重合体又は共重合体組成物にパラジウム化合物を作用させて得られる架橋マイクロカプセル化パラジウムを挙げることができる。かかる重合体又は共重合体組成物としては、式（４ａ）、（４ｂ）又は一般式（４ｃ）で表されるモノマーをそれぞれ単独で重合させて得られる式（５ａ）、（５ｂ）又は一般式（５ｃ）で表される繰り返し単位を含む重合体や、これらの重合体を混合して得られる組成物であってもよく、また、式（４ａ）、（４ｂ）又は一般式（４ｃ）で表されるモノマーの２種以上を共重合させて得られる式（５ａ）、（５ｂ）又は一般式（５ｃ）で表される繰り返し単位を２種以上含む共重合体組成物あってもよいが、式（４ａ）、（４ｂ）及び一般式（４ｃ）で表される３種のモノマーを共重合させて得られる式（５ａ）、（５ｂ）及び一般式（５ｃ）で表される３種の繰り返し単位を含む共重合体組成物であることが好ましい。かかる３種の繰り返し単位を含む共重合体組成物における各繰り返し単位の組成は、式（５ａ）で表される重合体が２０〜９０モル％、式（５ｂ）で表される重合体及び一般式（５ｃ）で表される重合体がそれぞれ５〜４０モル％の範囲の組成であることが好ましい。かかる高分子化合物に固定化されるパラジウム化合物としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）等の０価のパラジウム化合物を好適に挙げることができる。
高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒の中の金属パラジウム含有量は０．０５〜０．２ｍｍｏｌ／ｇが好ましい。
【００２７】
また、前記共重合体組成物は、式（４ａ）、（４ｂ）、一般式（４ｃ）で表されるモノマーを前記の組成範囲に適宜混合して重合させることで得られる。Ｒ４は入手の容易さから、メチル基、フェニル基が好適である。
【００２８】
高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒は含有されるパラジウムがアミドに対して、０．０００１〜３０モル％（触媒金属で計算して）、好ましくは０．００１〜１０モル％使用される。
【００２９】
かかる高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒使用の際に、配位子が添加されてもよい。配位子としては、殊にホスファン類が好ましく、例えば、トリアリールホスファン、トリアルキルホスファン、アルキルジアリールホスファン及びジアルキルアリールホスファンなどが挙げられる。より具体的には、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、フェニルジメチルホスフィン等を例示することができる。ホスファン類の使用量はアミドの０〜２０モル％の範囲で適宜使用できる。
【００３０】
更に、付加的に、助触媒としてハロゲン化合物を添加することにより反応を有利に進めることができる。かかるハロゲン化合物としてはイオン性のハロゲン化塩が有利であり、例えば、塩化アンモニウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、臭化アンモニウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化アンモニウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなどを使用することができる。これらのイオン性ハロゲン化塩は、アミドに対して、１〜１００モル％、好ましくは、１０〜５０モル％の量で使用するのが好ましい。
【００３１】
上記ハロゲン化合物に加え、別の助触媒として酸を添加することも有効である。かかる酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、リン酸などが使用可能である。使用量は、アミドに対して、好ましくは０．０１〜５０モル％、より好ましくは０．１〜１０モル％である。
【００３２】
本発明のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法に使用される溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、エチレングリコージメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、スルホラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。
溶媒量は基質に応じて適宜用いることができるが、一般的にはアミドの１〜１，０００（ｗ／ｖ）が可能であり、好ましくは１０〜２００（ｗ／ｖ）である。
【００３３】
さらに有利に本発明のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法を進行させるために、双極性非プロトン性溶媒と炭化水素系有機溶媒との混合溶媒を用いることが好ましい。双極性非プロトン性溶媒の例としては、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドが、炭化水素系有機溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロナフタレン等の芳香族系溶媒またはヘキサン、オクタン、デカン、デカリン等の脂肪族系溶媒が挙げられる。
【００３４】
上記双極性非プロトン性溶媒と炭化水素系有機溶媒は、任意の割合で混合され使用されてよい。双極性非プロトン性溶媒１に対して、炭化水素系有機溶媒が０．１〜１０の割合で、好ましくは、０．２〜３である。
【００３５】
本発明のＮ−アシルアミノ酸類の製造方法における一酸化炭素圧は、１〜２５０気圧、好ましくは１０〜１５０気圧で、反応温度は、０〜２００℃、好ましくは、５０〜１５０℃である。
【００３６】
【実施例】
以下実施例を示し、さらに詳しく説明するが、本発明の技術的範囲はこれに限定されることはない。
参考例：パラジウム触媒の調整
ポリスチレン８０モル％、式（５ｂ）で表されるスチレン誘導体の重合体１０モル％、一般式（５ｃ）におけるＲ４がフェニル基である重合体１０モル％と、パラジウム含量が０．１５ｍｍｏｌ／ｇになるようにテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムとを上記文献記載の方法に反応させ、高分子化合物に固定化されたパラジウム触媒を調製した。
【００３７】
実施例：Ｎ−アセチルシクロヘキシルグリシンの製造
シクロヘキサンカルボキシアルデヒド１８０μＬ（１．５ｍｍｏｌ）、アセトアミド５９ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、参考例で得られたパラジウム触媒６６ｍｇ（アセトアミドの１モル％相当）、臭化リチウム３０ｍｇ（アセトアミドの３５モル％）、硫酸１滴、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１．５ｍＬ及び１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン０．５ｍＬを５０ｍＬ  オートクレーブに仕込み、一酸化炭素圧６０バール、９０℃で撹拌しながら反応させた。１５時間反応させた後反応混合物をろ過し、濾液をＨＰＬＣ分析した。表記化合物１８３ｍｇ（収率９２％）を得た。