(57)【要約】【課題】干渉による色付きを低減し、反射むらのない理想的な表示を実現する。【解決手段】複数の異なる単位凹凸配列がマトリクス状に配置されてなる反射体である。各単位凹凸配列においては、それぞれ凹凸の少なくとも一部がフィボナッチ数列に相似、もしくは類似して配列される。また、フィボナッチ数列に相似、もしくは類似して凹凸が配列された領域においては、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占める。かかる反射体は、例えば反射体により形成される画素電極と、この画素電極により駆動される液晶層とを有する液晶表示装置に適用される。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の異なる単位凹凸配列がマトリクス状に配置されてなる反射体であって、
前記各単位凹凸配列においては、それぞれ凹凸の少なくとも一部がフィボナッチ数列に相似、もしくは類似して配列されるとともに、
前記フィボナッチ数列に相似、もしくは類似して凹凸が配列された領域においては、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占めることを特徴とする反射体。
【請求項２】
前記単位凹凸配列以上の広さを有する任意領域において、凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）分布が、略円形であることを特徴とする請求項１記載の反射体。
【請求項３】
前記単位凹凸配列以上の広さを有する互いに隣接する２つの任意領域において、凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）分布が略等しいことを特徴とする反射体。
【請求項４】
前記複数の異なる単位凹凸配列をマトリクス状に配置したものを１ブロックとし、
前記ブロックがマトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項１記載の反射体。
【請求項５】
前記ブロックが斜めズラシランダム配置されていることを特徴とする請求項４記載の反射体。
【請求項６】
前記ブロックが市松配置されていることを特徴とする請求項４記載の反射体。
【請求項７】
前記ブロックが斜めズラシ配置されていることを特徴とする請求項４記載の反射体。
【請求項８】
反射体により形成される画素電極と、この画素電極により駆動される液晶層とを有し、
前記反射体は、複数の異なる単位凹凸配列がマトリクス状に配置されてなる反射体であって、
前記各単位凹凸配列においては、それぞれ凹凸の少なくとも一部がフィボナッチ数列に相似、もしくは類似して配列されるとともに、
前記フィボナッチ数列に相似、もしくは類似して凹凸が配列された領域においては、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占めることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
前記反射体の液晶層を挟んで対向する位置にマトリクス状またはストライプ状の複数色からなるカラーフィルタを備え、
前記複数色のカラーフィルタの色周期と、前記複数の異なる単位凹凸配列の配置周期は、互いに素であることを特徴とする請求項８記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記反射体の液晶層を挟んで対向する位置にマトリクス状またはストライプ状の複数色からなるカラーフィルタを備え、
前記カラーフィルタの各色毎に対向する反射体の単位凹凸配列以上の広さを有する任意領域において、凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）分布が、略円形であることを特徴とする請求項８記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記反射体の液晶層を挟んで対向する位置にマトリクス状またはストライプ状の複数色からなるカラーフィルタを備え、
前記カラーフィルタの各色毎に対向する反射体の単位凹凸配列以上の広さを有する任意領域において、各色毎の凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）分布が略等しいことを特徴とする請求項８記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記反射体の液晶層を挟んで対向する位置にマトリクス状またはストライプ状の複数色からなるカラーフィルタを備え、
前記カラーフィルタは、１以上の透明領域を有するとともに、この透明領域に対向して前記反射体が形成されていることを特徴とする請求項８記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記反射体は、前記複数の異なる単位凹凸配列をマトリクス状に配置したものを１ブロックとし、当該ブロックがマトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項８記載の反射体。
【請求項１４】
前記ブロックが斜めズラシランダム配置されていることを特徴とする請求項１３記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記ブロックが市松配置されていることを特徴とする請求項１３記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記ブロックが斜めズラシ配置されていることを特徴とする請求項１３記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、散乱光形成手段として微細な凹凸が形成された反射体に関するものであり、さらには、このような反射体を備え外光を利用して表示を行う液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、パーソナルコンピュータ、テレビ、ワードプロセッサ、あるいは携帯電話等への液晶表示装置の応用がさらに進展しており、小型化、省電力化及び低コスト化等、さらなる高機能化に対する要望が出されている。そして、これらの要望を満たすべく、例えば、バックライトを用いずに外部から入射した周囲光を反射させて表示する反射型液晶表示装置や、透過機能と反射機能との両方を兼ね備えた反射透過型液晶表示装置の開発が進んでいる。
【０００３】
これら反射型液晶表示装置や反射透過型液晶表示装置では、どれだけ周囲光を効率良く利用して表示面を明るくできるかということが重要である。このため、この種の液晶表示装置に搭載される反射体は、あらゆる角度から入射する周囲光を効率良く利用して、最適な反射特性を有するようにされている。
【０００４】
具体的には、例えば反射体の表面に、直径３μｍ〜２０μｍ程度、高さ０．３μｍ〜１．２μｍ程度の曲面状に突出した凸パターンを散乱光を形成する散乱光形成手段として規則正しく配列する。このとき、中心が六角格子となるように６０°の角度をなす並進ベクトルに従い、距離が一定となるように凸パターンを規則正しく配列する。このような配列パターンを採用することで、正反射に加え散乱光が生ずるために、反射特性が最適化される。
【０００５】
ただし、前記のような規則正しい配列では、反射特性は改善されるものの、干渉による色付きが発生してしまうという不都合がある。干渉による色付きは、画像等の表示品位を大きく損なう要因となる。そこで、干渉による色付きを抑制する凹凸配列として、フィボナッチ数列を用いることが提案されている（例えば、特許文献１等を参照）。
【０００６】
フィボナッチ数列は、ある規則性に従って任意の直線上の点を非周期な間隔にすることができる。したがって、フィボナッチ数列を反射体の凹凸の配置に適用することで、任意の互いに平行な直線状断面における凹凸形状を互いに異なる形状とすることができ、これにより凹凸配置に起因する干渉を抑制することができるものと考えられる。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００２−１４２１１号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、特に半透過型、反射型液晶表示装置が適用される携帯電話等のモバイル用途では、表示装置を見る距離は４０ｃｍ前後と想定され、表示装置内における数ｍｍ以上の周期に起因する干渉であれば、これは視認し難く、前記フィボナッチ数列を反射体の凹凸の配置に適用することで凹凸配置による干渉を抑制すれば、表示装置全体の干渉を問題にならないレベルにまで抑えられるものと考えられる。
【０００９】
一方、液晶表示装置におけるドット周期や画素周期といった単位配列は、数十〜数百μｍであり、これらの周期は視認し得るため、たとえ単位配列にフィボナッチ数列を適用し、凹凸配置による干渉を抑制したとしても、ただ単にそれをドット単位で繰り返し配置するだけでは十分ではない。
【００１０】
また、フィボナッチ数列は、原点近傍の配置はほぼ等間隔であるのに対し、原点から離れる程、疎密の差が大きくなる特徴がある。この疎密の差、即ち凹凸間距離の偏りは、反射率や反射の視角異方性として特性に表われる。例えば、隣り合う任意領域での反射率や視角が異なると、反射むらとして視認される問題がある。これらの問題は、フィボナッチ数列を適用した凹凸配置のみならず、ランダム配置の場合でも同様に起こり得る。
【００１１】
本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、干渉による色付きを少なくし、反射むらのない理想的な表示を実現することが可能な反射体を提供することを目的とし、さらには、かかる反射体を適用することで表示品位に優れた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、本発明の反射体は、複数の異なる単位凹凸配列がマトリクス状に配置されてなる反射体であって、前記各単位凹凸配列においては、それぞれ凹凸の少なくとも一部がフィボナッチ数列に相似、もしくは類似して配列されるとともに、前記フィボナッチ数列に相似、もしくは類似して凹凸が配列された領域においては、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占めることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の液晶表示装置は、反射体により形成される画素電極と、この画素電極により駆動される液晶層とを有し、前記反射体は、複数の異なる単位凹凸配列がマトリクス状に配置されてなる反射体であって、前記各単位凹凸配列においては、それぞれ凹凸の少なくとも一部がフィボナッチ数列に相似、もしくは類似して配列されるとともに、前記フィボナッチ数列に相似、もしくは類似して凹凸が配列された領域においては、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占めることを特徴とする。
【００１４】
本発明は、散乱光形成手段である凹凸の配列に複数の異なる非周期配列を用いることで、散乱光形成手段の２次元的な配置の周期性を巨視的に低減し、干渉による色つきを抑えるというのが基本的な考えである。そして、本発明では、先ず第１に、非周期配列として、フィボナッチ数列に相似、もしくは類似した配列を採用する。また、第２に、フィボナッチ数列における次数が５００を越える配列では、疎密の差が大きくなり、その悪影響が特性に表れるので、フィボナッチ数列に相似、もしくは類似して凹凸が配列される領域においては、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占めるようにする。これらの構成により、本発明では、２次元的な配置の周期性が低減されて干渉による色つきが抑えられると同時に、配列の作り出す凹凸密度の偏りによる反射率、視角特性の違いも低減される。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の反射体及び液晶表示装置について、図面を参照しながら説明する。
【００１６】
先ず、本発明の反射体は、複数の異なる単位凹凸配列がマトリクス状に配置されてなる反射体である。同じ単位凹凸配列を繰り返し配置すると、その周期性による干渉が問題となる。そこで、本発明では、異なる配列を有する複数の単位凹凸配列をマトリクス状に配置することで、同じ単位凹凸配列が繰り返し配置されることによる周期性を解消する。
【００１７】
各単位凹凸配列は、非周期配列であるフィボナッチ数列に相似、もしくは類似した凸部（または凹部）の配列を含む。フィボナッチ数列に相似、もしくは類似した配列は、ひまわりの種の配列等にたとえられ、図１に示すような略々渦巻き状を呈する配列である。ここで、フィボナッチ数列に相似、もしくは類似した配列とは、フィボナッチ数列を基本とする配列であって、ここから多少ドットを抜いたもの等も含まれるものとする。
【００１８】
フィボナッチ数列は、整数ｎに対し、
（ｘ、ｙ）＝（√ｎ×ｃｏｓ（１３７．５／１８０×ｎπ）、√ｎ×ｓｉｎ（１３７．５／１８０×ｎπ）
からなる数列である。この整数ｎを以降、フィボナッチ数列の次数と称する。
【００１９】
本発明において重要なことは、前記各単位凹凸配列に適用するフィボナッチ数列に相似、もしくは類似した配列において、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占めるようにすることである。フィボナッチ数列における次数が５００を越える配列では、疎密の差が大きくなり、その悪影響が特性に表れる。具体的には、疎密の差、すなわち凹凸間距離の偏りは、反射率や反射の視角異方性として特性に表れる。そこで、本発明では、各単位凹凸配列において、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列を主体として、配列パターンを抽出する。
【００２０】
フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占めるようにすることが視角異方性の解消に有効であることは、凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）分布という指標を用いて説明することができる。
【００２１】
図２（ａ）〜図２（ｃ）に示すように、任意の凹凸表面の座標をＺ（ｘ、ｙ）とすると、凹凸傾斜角θｘとは、凹凸表面形状の断面をｘ方向で微分した値ｄＺ（ｘ、ｙ）／ｄｘである。同様に、凹凸傾斜角θｙとは、凹凸表面形状の断面をｙ方向で微分した値ｄＺ（ｘ、ｙ）／ｄｙである。
【００２２】
任意の方位における傾斜角は、θ＝ｔａｎ−１√（ｔａｎ２θｘ  ＋ｔａｎ２θｙ）で表される。任意の領域において、この凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）の頻度分布を評価し、そのヒストグラムを（θｘ、θｙ）の等頻度曲線で表すと、この凹凸傾斜角分布は、円形、楕円形、長方形といった形状を示す。
【００２３】
この形状から、視角特性を推定することできる。例えば、円形であれば、等方的な視角となり、一方、長方形のように軸が表われると視角異方性となる。本発明者らが検討した結果、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占めるようにすることにより、前記凹凸傾斜角分布が略円形になることがわかった。
【００２４】
図１（ａ）において、円Ａで囲まれる領域がフィボナッチ数列における次数５００以下の配列の領域であり、図１（ｂ）において矩形領域として示すように、円Ａで囲まれる領域の中からパターンＢを抽出し、各単位凹凸配列とする。この例では、円Ａで囲まれる領域の中から８つのパターンを抽出し、これらを前記複数の異なる単位凹凸配列として採用している。
【００２５】
そして、前記８つのパターンをそれぞれ単位凹凸配列とし、例えばこれらをランダムに並べ替えてマトリクス配置したものを１つのブロックとし、このブロックをさらにマトリクス状に配置して反射体を構成する。各ブロックの配置としては、斜めズラシランダム配置、市松配置、斜めズラシ配置等を挙げることができ、周期性を解消し得る配置であれば任意の配置を採用することが可能である。
【００２６】
以上のような反射体においては、単位凹凸配列以上の広さを有する任意領域においても、凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）分布が、略円形であることが好ましい。また、単位凹凸配列以上の広さを有する互いに隣接する２つの任意領域において、凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）分布が略等しいことが好ましい。
【００２７】
以上のような反射体は、例えば反射型液晶表示装置や、透過機能と反射機能との両方を兼ね備えた反射透過型液晶表示装置等、液晶表示装置の反射体（例えば画素電極）に適用することができる。以下、反射型の液晶表示装置を例にして、本発明の反射体が適用される液晶表示装置について説明する。
【００２８】
反射型の液晶表示装置は、図３に示すように、マトリクスアレイ基板１１と対向基板２２とを有し、これらマトリクスアレイ基板１１と対向基板２２の間に液晶材料が充填されて液晶層２７が形成されてなるものである。
【００２９】
ここで、マトリクスアレイ基板１１は、高歪点ガラス基板や石英基板等の絶縁性基板であるガラス基板１２を有し、このガラス基板１２上にはガラスコート層１３を介して絶縁膜１４が形成されている。また、この絶縁膜１４上には信号線１５が複数本平行に配設され、この信号線１５に対して絶縁された状態で信号線１５に対して直交する方向に図示しない走査線が複数本平行に配設され、これら信号線１５及び走査線の交差する部分にはスイッチング素子となる薄膜トランジスタが配設されている。
【００３０】
さらに、信号線１５を含む絶縁膜１４上には、透明保護絶縁膜１６が配設されている。そして、この透明保護絶縁膜１６上には、有機樹脂絶縁膜１７が配設され、この有機樹脂絶縁膜１７の信号線１５及び走査線で囲われたマトリクス状のそれぞれの部分の表面には、凸部１８ａ及び凹部１８ｂが形成される凹凸パターン１８が形成されている。
【００３１】
この有機樹脂絶縁膜１７上の凹凸パターン１８の位置する部分には、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）あるいは銀（Ａｇ）等の金属膜からなる反射体である反射画素電極１９が図示しない薄膜トランジスタに対応してマトリクス状に形成され、これら反射画素電極１９には有機樹脂絶縁膜１７の凹凸パターン１８に対応して凸部２０ａ及び凹部２０ｂが形成されて散乱光形成手段としての凹凸パターン２０が形成されている。なお、有機樹脂絶縁膜１７上には、さらに配向膜２１が配設されている。
【００３２】
一方、マトリクスアレイ基板１１に対向して配設される対向基板２２は、同様に高歪点ガラス基板や石英基板等の絶縁性基板であるガラス基板２３を有し、このガラス基板２３上にはマトリクス状またはストライプ状の複数色からなるカラーフィルタ２４が形成され、このカラーフィルタ２４上には対向電極２５が配設され、さらに、この対向電極２５上には配向膜２６が形成されている。
【００３３】
そして、マトリクスアレイ基板１１の配向膜２１と対向基板２２の配向膜２６とを対向させて配置し、マトリクスアレイ基板１１及び対向基板２２の間に液晶材料を挟持して液晶層２７を形成して、液晶表示装置を形成する。この液晶表示装置では、反射画素電極１９及び対向電極２５間に電圧を印加することにより、液晶層２７を駆動させて表示する。
【００３４】
以上の構成を有する液晶表示装置では、反射画素電極１９に前述の反射体を適用する。すなわち、散乱光形成手段としての凹凸パターン２０においては、複数の異なる単位凹凸配列がマトリクス状に配置されるようにし、各単位凹凸配列において凹凸がフィボナッチ数列に相似、もしくは類似して配列されるとともに、フィボナッチ数列における次数５００以下の配列が７割以上を占めるように配列する。
【００３５】
この凹凸パターン２０における凸部２０ａの配列は、先に説明した反射体における凸部の配列と同様であるが、液晶表示装置の場合、カラーフィルタ２４における色周期を考慮することが好ましく、複数の異なる単位凹凸配列の配置周期を前記色周期と互いに素にすることが好ましい。
【００３６】
また、カラーフィルタ２４の各色毎に対向する反射体（反射画素電極１９）の単位凹凸配列以上の広さを有する任意領域において、凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）分布が、略円形であることが好ましく、各色毎の凹凸傾斜角（θｘ、θｙ）分布が略等しいことが好ましい。
【００３７】
なお、以上は反射型の液晶表示装置の場合の例であるが、例えばＴＡＦと称される反射型液晶表示装置や、透過機能と反射機能との両方を兼ね備えた反射透過型液晶表示装置等にも適用することができる。ＴＡＦでは、反射体の液晶層を挟んで対向する位置にマトリクス状またはストライプ状の複数色からなるカラーフィルタを備えるとともに、前記カラーフィルタが１以上の透明領域を有するが、この透明領域に対向して反射体が形成されている。この反射体に本発明の反射体を適用することができる。
【００３８】
次に、本発明の反射体の形成方法について、前述の凹凸パターン２０を有する反射画素電極１９の形成方法を例にして説明する。図４は、反射画素電極１９の形成プロセスを工程順に示すものである。
【００３９】
前述の凹凸パターン２０を有する反射画素電極１９を形成するには、先ず、図４（ａ）に示すように、マトリクスアレイ基板１１の透明保護絶縁膜１６上に、ポジ型感光性樹脂等からなる有機樹脂絶縁膜１７を全面にスピンコート法等によって１μｍ〜４μｍ程度の厚さで塗布する。
【００４０】
次いで、図４（ｂ）に示すように、マトリクスアレイ基板１１をプリベークした後、フォトマスク３２を用いて露光する。ここで、反射画素電極１９の凸パターン２０を形成するための有機樹脂絶縁膜１７の凹凸パターン１８の凹凸の形状や密度は、フォトマスク３２の開口部の形状、密度及び露光量等によって制御することができ、例えばフォトマスク３２の遮光部３１の円の直径を５μｍ程度、隣接する円の中心の間隔の平均は８．５μｍ〜１１μｍの範囲となるようにフィボナッチ数列に従って配置した。なお、露光量は１０ｍＪ〜２００ｍＪとした。
【００４１】
そして、この露光された有機樹脂絶縁膜１７を現像することにより、図４（ｃ）に示すように、有機樹脂絶縁膜１７の表面に微細な凸部１８ｃと凹部１８ｄが形成される。なお、露光量を１０ｍＪ〜２００ｍＪとしてあるので、凹部１８ｄの底部が透明保護絶縁膜１６の表面まで到達することはない。
【００４２】
その後、図４（ｄ）に示すように、このマトリクスアレイ基板１１を加熱処理することにより、凹部１８ｄ及び凸部１８ｃの角が取れ、滑らかな凹部１８ｂ及び凸部１８ａを有する凹凸パターン１８とする。
【００４３】
次に、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）あるいは銀（Ａｇ）等の金属膜をスパッタリング法により１００ｎｍ程度の厚さで成膜し、図４（ｅ）に示すように、フォトエッチング法により所定の形状にパターニングして、反射画素電極１９を形成する。このように、凹凸パターン１８が形成された有機樹脂絶縁膜１７上に反射画素電極１９を形成することにより、反射画素電極１９には有機樹脂絶縁膜１７上に形成された凹凸パターン１８に対応した凹凸パターン２０が形成される。
【００４４】
以上のプロセスにおいて、反射画素電極１９の表面の凹凸の形状や密度は、フォトマスク３２の開口部の形状、密度あるいは露光量等によって任意に制御できるが、ここでは、例えば図１（ｂ）のマトリクスアレイの一格子単位をなす凹凸を単位凹凸配列とすること、この単位凹凸配列はフィボナッチ数列と相似な規則性から抽出すること、互いに異なる単位凹凸配列を複数抽出したものを１ブロックとすることを基本としてフォトマスク３２の開口部を設計する。
【００４５】
以上、本発明を適用した反射体及び液晶表示装置について説明してきたが、本発明がこれら実施形態に限られるものではない。例えば、凹凸パターンの配列としてフィボナッチ数列に基づく配列が１０割の場合を例として挙げたが、例えばフィボナッチ数列に基づく配列以外の領域をランダム配置等の非周期配列としても同様の効果を得ることができる。ただし、この場合、ランダム配置等の非周期配列は、単位凹凸配列の５割未満であることが好ましい。また、フィボナッチ数列に基づいて配列されるのは凸パターンを例にして説明したが、同様の配置で凹パターンを形成した場合にも同様の効果を得ることができる。
【００４６】
【実施例】
以下、本発明の具体的な実施例について、実験結果を基に説明する。
【００４７】
フィボナッチ数列の次数についての検討
本実験では、フィボナッチ数列にしたがって凸部を配列した場合の凹凸傾斜角分布について検証した。図５に示すように、フィボナッチ数列にしたがって凸部を形成した領域をａ１〜ｄ６まで２４分割し、各計算領域における凹凸傾斜角分布を求めた。なお、前記フィボナッチ数列において、最近接凹凸間隔を９μｍとした場合、次数５００以下の領域は直径約２００μｍ以内の領域（図中の円形領域）となる。
【００４８】
ａ１〜ｄ６までの領域における凹凸傾斜角分布を図６に示す。この図６から明らかなように、円形領域から外れた領域、例えばａ１，ａ６，ｄ１，ｄ６等においては凹凸傾斜角分布が略長方形になっているのに対して、円形領域内の領域、例えばｂ３，ｂ４，ｃ，３，ｃ４等においては凹凸傾斜角分布が略円形になっている。各領域における次数５００以下の領域（直径約２００μｍ以内に入る領域）の比率、及び凹凸傾斜角分布（視角）についてまとめたものが表１である。
【００４９】
【表１】
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表１を見ると明らかなように、次数５００以下の領域が７０％以上である領域において、凹凸傾斜角分布（視角）が略円形になっており、反射率や反射の視角異方性が解消されることがわかった。
【００５０】
実施例１
１×８のマトリクスに、図１（ｂ）に示すように、フィボナッチ配列から８つのパターン（単位凹凸配列）を抽出してランダムに配置した。各単位凹凸配列のサイズは５０μｍ×１５０μｍである。また、単位凹凸配列は次数５００以下の領域が７割以上とした。８つの単位凹凸配列は、フィボナッチ数列の一領域とそれぞれ相似であり、且つそれぞれ異なる。
【００５１】
各単位凹凸配列は、フィボナッチ数列という非周期性から、任意の互いに平行な直線状断面における凹凸形状が互いに独立である。また、それぞれの単位凹凸配列は互いに異なる配列であることから、１×８マトリクス内で任意の互いに平行な直線状断面における凹凸形状が互いに独立である。
【００５２】
このような凹凸を持つ反射体では干渉は生じなかった。また、前述の図３に示す液晶表示装置の反射画素電極１９として用いた場合にも同様の効果を得ることができた。
【００５３】
なお、１×８のマトリクスの単位凹凸配列以上の任意領域の凹凸傾斜角分布を評価したところ、図７（ａ）に示すように、ほぼ円形、乃至は軽微な楕円形であった。例えば、この１×８の単位凹凸配列をフィボナッチ数列のｎ＞５００とした場合、図７（ｂ）に示すような長方形となる。
【００５４】
また、１×８の単位凹凸配列を凹凸傾斜角分布が類似のものを隣り合わせて配置することで、単位配列間のむらが抑制できた。
【００５５】
実施例２
実施例１における１×８マトリクスを１ブロックとし、このブロックをマトリクス状に配置した。１×１の単位凹凸配列のみをマトリクス配置したものと比べると、１×８マトリクスのブロック配置では干渉が低減された。また、前述の図３に示す液晶表示装置の反射画素電極１９として用いた場合にも同様の効果を得ることができた。
【００５６】
実施例３
実施例２における１×８マトリクスを１ブロックとし、このブロックを図８に示すように、市松状に配置した。なお、図８において、＊印が各ブロックの先頭を表している。１×１の単位凹凸配列のみをマトリクス配置したものと比べると、１×８マトリクスからなるブロックを市松配置したものでは、干渉が低減された。また、前述の図３に示す液晶表示装置の反射画素電極１９として用いた場合にも同様の効果を得ることができた。
【００５７】
実施例４
実施例２における１×８マトリクスを１ブロックとし、このブロックを図９に示すように、斜めズラシランダム配置した。なお、図９において、＊印が各ブロックの先頭を表している。１×１の単位凹凸配列のみをマトリクス配置したものと比べると、１×８マトリクスからなるブロックを斜めズラシランダム配置したものでは、干渉が低減された。また、前述の図３に示す液晶表示装置の反射画素電極１９として用いた場合にも同様の効果を得ることができた。
【００５８】
実施例５
実施例２における１×８マトリクスを１ブロックとし、このブロックを図１０に示すように、斜めズラシ配置した。なお、図１０において、＊印が各ブロックの先頭を表している。１×１の単位凹凸配列のみをマトリクス配置したものと比べると、１×８マトリクスからなるブロックを斜めズラシ配置したものでは、干渉が低減された。また、前述の図３に示す液晶表示装置の反射画素電極１９として用いた場合にも同様の効果を得ることができた。
【００５９】
実施例６
実施例２における１×８マトリクスから１×３マトリクスを抽出して１ブロックとし、このブロックをさらにマトリクス状に配置した。また、同様に１×８マトリクスから１×２マトリクスを抽出して１ブロックとし、このブロックをさらにマトリクス状に配置した。単位凹凸配列のみをマトリクス状に配置したものに比べて、１×２マトリクスのブロックをマトリクス状に配置したもの、さらには１×３マトリクスのブロックをマトリクス状に配置したものの方が、反射体のみでは干渉低減が確認された。
【００６０】
前述の図３に示す液晶表示装置では、反射画素電極１９と対向して配設されるカラーフィルタ２４は赤、緑、青のストライプ状パターンの繰り返し周期となっている。したがって、１×３マトリクスのブロックをマトリクス状に配置した反射電極を有する液晶表示装置は、カラーフィルタ２４の色周期と同期するため、１×１の単位凹凸配列のみをマトリクス状に配置したものを反射画素電極１９とした場合と比べて干渉の差はなかった。一方、１×２マトリクスのブロックをマトリクス状に配置した反射画素電極１９を有する液晶表示装置では、干渉低減の効果を得ることができた。同様に、１×８マトリクスをブロックとし、このブロックをマトリクス状に配置した反射画素電極１９を有する液晶表示装置でも、十分な干渉低減の効果を得ることができた。これは、カラーフィルタ２４の色周期に対して、反射体の単位凹凸配列の配置周期が「素」であることによる。
【００６１】
実施例７
実施例２における１×８マトリクスをブロックとし、このブロックをマトリクス状に配置した凹凸反射電極を有する液晶表示装置では、対向するカラーフィルターに透明領域を有する場合にも、充分な干渉低減の効果を得た。
【００６２】
【発明の効果】
以上の説明からも明らかなように、本発明によれば、干渉による色付きを低減し、反射むらのない理想的な表示を実現することが可能な反射体を提供することが可能である。さらに、本発明によれば、かかる反射体を適用することで表示品位に優れた液晶表示装置を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】フィボナッチ数列による配列を示す平面図であり、（ａ）は次数５００以下の領域を示し、（ｂ）は８つのパターンの抽出を示す。
【図２】凹凸傾斜角分布を説明する図であり、（ａ）は凸部の平面形状を示す平面図、（ｂ）は凸部のＸ−Ｘ′線での断面図、（ｃ）は凸部のＹ−Ｙ′線での断面図である。
【図３】反射型液晶表示装置の構成例を示す要部概略断面図である。
【図４】反射画素電極における凹凸パターンの形成プロセスを示す概略断面図であり、（ａ）は有機樹脂絶縁膜形成工程、（ｂ）はフォトマスクを用いた露光工程、（ｃ）は有機樹脂絶縁膜現像工程、（ｄ）は加熱処理工程、（ｅ）は反射画素電極形成工程を示す。
【図５】フィボナッチ数列にしたがって凸部を形成した領域をａ１〜ｄ６まで３６分割した様子を示す図である。
【図６】ａ１〜ｄ６まで３６分割した各領域における凹凸傾斜角分布を示す図である。
【図７】（ａ）は１×８の単位凹凸配列をフィボナッチ数列の次数ｎ≦５００としたときの凹凸傾斜角分布を示す図であり、（ｂ）は１×８の単位凹凸配列をフィボナッチ数列の次数ｎ＞５００としたときの凹凸傾斜角分布を示す図である。
【図８】市松配置を示す図である。
【図９】斜めズラシランダム配置を示す図である。
【図１０】斜めズラシ配置を示す図である。
【符号の説明】
１１  マトリクスアレイ基板、１９  反射画素電極、  ２０  凹凸パターン、２２  対向基板、２４  カラーフィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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