(57)【要約】【課題】  ハードディスクの回転によって浮上するヘッド組立体の飛行高さ測定方法とそのシステムとを提供する。【解決手段】  飛行高さの測定対象であるヘッド組立体３０の最低飛行高さよりも高く突出された少なくとも１つの突起４１を有するディスク４０を回転させ，上記ディスクに対してヘッド組立体のスライダ３１を浮上させ，ディスクの回転によって上記スライダが上記突起の上端部を切断する段階と，測定器５０により上記切断された突起の高さを物理的に測定する段階とを含む飛行高さ測定方法が提供される。かかる構成により，切断された突起を有するディスクの表面プロファイルを測定してヘッド組立体の飛行高さを測定できる。従って，大容量化よって飛行高さが低くなる趨勢にも十分に対応できる。【選択図】    図１１
2004199862.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハードディスクドライブにおけるハードディスクの回転によって浮上するヘッド組立体の飛行高さ（ＦＨ：Ｆｌｙｉｎｇ  Ｈｅｉｇｈｔ）を測定する飛行高さ測定方法であって：
飛行高さの測定対象であるヘッド組立体の最低飛行高さよりも高く突出された少なくとも１つの突起を有するディスクを回転させ，前記ディスクに対してヘッド組立体のスライダを浮上させ，ディスクの回転によって前記スライダが前記突起の上端部を切断する段階と；
測定器により前記切断された突起の高さを物理的に測定する段階と；
を含むことを特徴とする，飛行高さ測定方法。
【請求項２】
前記ヘッド組立体は，磁気ヘッド組立体であり，前記ディスクは，磁気記録ディスクであることを特徴とする，請求項１に記載の飛行高さ測定方法。
【請求項３】
前記突起は，前記ディスクにおける基底層物質の移動（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）によるアスペリティ（ａｓｐｅｒｉｔｉｅｓ）生成に起因していることを特徴とする，請求項２に記載の飛行高さ測定方法。
【請求項４】
前記測定器は，ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ  ｆｏｒｃｅ  ｍｉｃｒｏｓｓｃｏｐｙ）であることを特徴とする，請求項１から３のいずれか１項に記載の飛行高さ測定方法。
【請求項５】
飛行高さの測定対象であるヘッド組立体と；
前記ヘッド組立体の最低飛行高さよりも高く突出された少なくとも１つの突起を有し，その回転により前記ヘッド組立体のスライダが浮上し，このスライダの飛行高さよりも高く突出された突起の上側部が前記スライダにより切断されるディスクと；
前記スライダにより切断された突起の残った部分の高さを物理的に測定するための測定器と；
を含むことを特徴とする，飛行高さ測定システム。
【請求項６】
前記ヘッド組立体は，磁気ヘッド組立体であり，前記ディスクは，磁気記録ディスクであることを特徴とする，請求項５に記載の飛行高さ測定システム。
【請求項７】
前記突起は前記ディスクにおける基底層物質の移動によるアスペリティ生成に起因していることを特徴とする，請求項６に記載の飛行高さ測定システム。
【請求項８】
前記測定器は，ＡＦＭであることを特徴とする，請求項５から７のいずれの１項に記載の飛行高さ測定システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，ハードディスクドライブにおけるハードディスクの回転によって浮上するヘッド組立体の飛行高さ（ＦＨ：Ｆｌｙｉｎｇ  Ｈｅｉｇｈｔ）を測定する飛行高さ測定方法および測定システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に，ハードディスクは，ハードディスクドライブ（以下，ＨＤＤと言う。）内のベース上に回転可能に設けられている。ＨＤＤには，ハードディスク面の磁気領域を磁化または検知することにより情報を書き込みまたは読み取る，回転するハードディスクの記録／再生面でペアとなる，少なくとも１つの磁気ヘッドが備わっている。
【０００３】
上記磁気ヘッドは，ＨＤＤ内のベース上に回動可能に設けられた磁気ヘッド組立体の終端方向に設けられ，磁気ヘッド組立体の回動によって回転するハードディスク上の適正位置に移動される。
【０００４】
上記磁気ヘッド組立体は，ハードディスクに情報を記録もしくは記録されている情報を読み込む磁気ヘッドをその先端側に備えた磁気ヘッドスライダと，回動軸に回転可能に結合されるアクチュエータアームと，このアクチュエータアームに結合され，上記磁気ヘッドスライダが設けられるサスペンションとを含む。
【０００５】
磁気ヘッドスライダは，サスペンションによりハードディスク側に偏り，ハードディスクが回転し始めると，ハードディスクの回転によって発生する空気動圧により，ハードディスクに対して浮上し，その状態を維持したまま飛行する。磁気ヘッドスライダが浮上したままで飛行する時の磁気ヘッドスライダに設けられた磁気ヘッドとハードディスクの表面間の間隔を飛行高さ（ＦＨ：Ｆｌｙｉｎｇ  Ｈｅｉｇｈｔ，以下，ＦＨ）という。このようなＦＨはコンピュータシミュレーションを使用して設計される。
【０００６】
一方，最近のハードディスクは，その容量が増加すると共に，ＴＰＩ（Ｔｒａｃｋｓ  Ｐｅｒ  Ｉｎｃｈ）も増加して，トラックの幅はむしろ減少する方向にある。
【０００７】
このように，ハードディスクのトラック幅を狭めようとすると，磁気ヘッドのうちハードディスクに磁気信号を入力する書き込みヘッドの幅もそれに合わせて狭めなければならない。また，読み取りヘッドを利用して相対的に小さい幅のトラックに書き込まれた磁気フィールドを読み取るためには，磁気ヘッドのＦＨも下げる必要がある。
【０００８】
このように，最近の大容量化に合わせた，ハードディスクの面当たりの記録密度を高めるための重要な要素のうちの１つは磁気ヘッドのＦＨである。従って，正確なＦＨの測定はＨＤＤの信頼性確保に非常に重要である。
【０００９】
最近では磁気ヘッドスライダをグラスディスク上に飛行させた状態で，光源から出射された光を，グラスディスクを通じて磁気ヘッドスライダに照射し，その磁気ヘッドスライダから反射される光の強さを測定してＦＨを計算するＦＨ測定器が使われている。ここで，上記光源には単一光源，もしくは，単一光源による測定誤差を減らすためにマルチ光源を使用する。また，上記グラスディスクは光の透過が可能なディスクである。
【００１０】
ＦＨは，グラスディスクの表面から反射される光と磁気ヘッドスライダから反射される光による干渉光の強さを測定すれば計算できる。
【００１１】
ところで，ＦＨは，使われるディスクの表面粗度，材料，機構的特性により影響を受ける。従って，上記ＦＨ測定器で使われるグラスディスクとハードディスクとは互いに異なるために，上記のようなＦＨ測定方式によっては，ハードディスクに対する磁気ヘッドの正確なＦＨを測定できない。
【００１２】
また，最近ではハードディスクの大容量化によってＦＨが非常に低く設計されており，上記のような光を利用したＦＨ測定器の測定限度に近づいている。これは，ＦＨがあまり低くなり，上記のような光を利用した測定方式に使用する光波長に起因して分解能に限界がきて，測定の反復性が落ちるためである。従って，今後，ＦＨがさらに低く設計されるとすれば，上記のような光を利用した測定方式によっては測定値の信頼性に問題が発生し，シミュレーションにより設計されたＦＨの検出には限界が生じる。
【００１３】
【特許文献１】特開平６−２１５５１４号公報
【特許文献２】米国特許第５８８０８９９号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は上記のような問題点を改善するために案出されたものであり，別途のグラスディスクを使用せずに，ハードディスクの大容量化によるＦＨの短間隔化にも対応可能な，新規かつ改良された飛行高さ測定方法および測定システムを提供することにその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，ハードディスクドライブにおけるハードディスクの回転によって浮上するヘッド組立体の飛行高さ（ＦＨ：Ｆｌｙｉｎｇ  Ｈｅｉｇｈｔ）を測定する飛行高さ測定方法であって：飛行高さの測定対象であるヘッド組立体の最低飛行高さよりも高く突出された少なくとも１つの突起を有するディスクを回転させ，上記ディスクに対してヘッド組立体のスライダを浮上させ，ディスクの回転によって上記スライダが上記突起の上端部を切断する段階と；測定器により上記切断された突起の高さを物理的に測定する段階と；を含むことを特徴とする，飛行高さ測定方法が提供される。
【００１６】
上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，飛行高さの測定対象であるヘッド組立体と；上記ヘッド組立体の最低飛行高さよりも高く突出された少なくとも１つの突起を有し，その回転により上記ヘッド組立体のスライダが浮上し，このスライダの飛行高さよりも高く突出された突起の上側部が上記スライダにより切断されるディスクと；上記スライダにより切断された突起の残った部分の高さを物理的に測定するための測定器と；を含むことを特徴とする，飛行高さ測定システムが提供される。
【００１７】
また，上記ヘッド組立体は磁気ヘッド組立体であり，上記ディスクは磁気記録ディスクであるとしても良い。
【００１８】
この時，上記突起は，上記ディスクにおける基底層物質の移動（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）によるアスペリティ（ａｓｐｅｒｉｔｉｅｓ）生成に起因したものでありうる。
【００１９】
また，上記測定器はＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ  ｆｏｒｃｅ  ｍｉｃｒｏｓｓｃｏｐｙ）であることが望ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば，ヘッド組立体の最低ＦＨよりも高く突出された突起を有するディスクに対してヘッド組立体のスライダを浮上させ，ヘッド組立体の最低ＦＨよりも突出された突起の上側部を上記スライダにより切断し，この切断された突起を有するディスクの表面プロファイルを測定してヘッド組立体のＦＨを測定するので，大容量化によってＦＨが低くなる趨勢にも十分に対応できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書および図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２２】
図１は磁気記録ディスクの層構造を概略的に示した断面図である。
【００２３】
図１を参照すれば，磁気記録ディスク１０は，基板１１と，基底層１３および磁気記録層１５を含む。
【００２４】
上記基板１１は，アルミニウム材質，例えばＡｌ−Ｍｇ合金からなる。
【００２５】
上記磁気記録層１５が垂直磁気記録層である場合には，図１に図示されたように，磁気記録層１５の底面，すなわち上記基底層１３と磁気記録層１５間には，上記磁気記録層１５の垂直配向性を誘導する下地膜１４がさらに設けられる。上記下地膜１４は，例えばＣｒからなりうる。
【００２６】
上記基底層１３はＮｉ−Ｐからなりうる。このような基底層１３は，磁気記録層１５をさらに均一かつ安定した磁気的性能保持が可能な層にする。また，上記基底層１３は，磁気記録層１５が基板１１から受ける熱的／力学的影響による磁気的な性能変化を減少させる。また，基底層１３は，基板１１をなすアルミニウム層の強さを補強し，下地膜１４をなすＣｒ層形成時の加工性を向上させる。
【００２７】
一方，磁気記録ディスク１０は，磁気記録層１５を外部的衝撃から保護するための保護層１７をさらに備えることが望ましい。上記保護層１７は，例えばＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ−Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）のような炭素系物質からなりうる。
【００２８】
また，上記磁気記録ディスク１０は，円滑な動作のために，上記保護層１７上に潤滑層１９をさらに備えることが望ましい。
【００２９】
上記のような層構造を有する磁気記録ディスク１０は，アルミニウム材質の基板１１上にそれぞれの機能によってさまざまな層をスパッタリングして構成される。
【００３０】
磁気記録ディスク１０では，高温高湿の環境で腐蝕を起こさせないため，磁気記録層１５上に上記のような炭素系物質からなる保護層１７を形成する。しかし，このような保護層１７は，それ以下の層を完全にシーリングしないので，磁気記録ディスク１０には図２に示されたようにピンホール２０および／または深いあや（ｔｅｘｔｕｒｅｓ）などが生じ，これにより基底層１３をなすＮｉ物質が移動（ｍｉｇｒａｔｅ）される。
【００３１】
図３は，３．０ｋＶのエネルギーで磁気記録ディスク表面を観測して得た映像を示す。図４は，２０ｋＶのエネルギーで磁気記録ディスクの表面を観測して得た映像を示す。図３および図４はピンホールを通じて形成されたニッケル移動によるアスペリティ２１，２３の実際の様子を示している。図３および図４で分かるように，磁気記録ディスク表面にはピンホール２０を通じてアスペリティ２１，２３が生成される。
【００３２】
図３のように３．０ｋＶで映像を得た時は，アスペリティ２１の中心部分にピンホールが観測されない。しかし，図４のように２０ｋＶエネルギーで映像を得た時は全てのアスペリティ２３でピンホール２０が確認された。
【００３３】
このようにピンホール２０が，図３に示した３ｋＶ程度の相対的に低いエネルギーでは観測されないが，図４に示した２０ｋＶ程度の高エネルギーにおいて観測される理由は，基底層１３の物質の移動が多く起こった場合，腐蝕生成物がピンホール２０を覆ってしまうが，このようにピンホール２０を覆っている移動生成物は密度が非常に低く，層も薄いためであると推測される。
【００３４】
図２および図４で分かるように，磁気記録ディスク１０には，スパッタリング途中においてピンホール２０や深いあやなどを生じる。例えばピンホール２０を通じたニッケル移動のメカニズムは次の通りである。
【００３５】
磁気記録ディスクドライブ，例えばＨＤＤ内部で部品の表面に存在する腐蝕性ガスや湿気が，ＨＤＤの動作中に発生する熱や，高温高湿の実験時の熱により磁気記録ディスク１０の表面に移動し，このように移動した表面の腐蝕性ガスや湿気が，スパッタリング途中に磁気記録ディスク１０に生じたピンホール２０を通じて，基底層１３，すなわちニッケル層まで浸透し，ニッケルと反応して腐蝕生成物を形成し，この腐蝕生成物が磁気記録ディスク１０の表面に移動される。従って，磁気記録ディスク１０の表面にはアスペリティ２１，２３が生成される。
【００３６】
図５は，上記のようなニッケル物質の移動により生成されたアスペリティの三次元形状を示す。図６は，磁気記録ディスクのあやに沿ったニッケル−移動により生成されたアスペリティを示す。図５および図６はＡＦＭ測定映像を示す。図６に示されたように，ニッケル−移動によるアスペリティはディスクのあやに沿って生成されることもある。
【００３７】
図７Ａはニッケル物質の移動により生成されたアスペリティをＡＦＭで測定したセクション分析結果を示す。図７Ａで，横軸はμｍ単位，縦軸はｎｍ単位を示す。測定は，図７Ｂに示されたように，若干ずれた２本のスキャンライン２４に沿ってなされている。図７Ｂで，スキャンライン上に位置した白く表示された部分がアスペリティである。
【００３８】
図５〜図７Ｂから分かるように，磁気記録ディスクの表面にはニッケル物質の移動によりアスペリティが形成されるが，その高さは要望される磁気ヘッド組立体のＦＨより高い数十ｎｍに達することが理解される。もちろん，このアスペリティの断面積はそれほど大きくない。
【００３９】
従って，上記に示した基底層物質の移動を伴ったアスペリティの生成によって，その表面にＦＨより高い突起が生成された磁気記録ディスクを使用する場合，図８Ａおよび図８Ｂで図示したように，磁気記録ディスク１０の回転によりその表面からＦＨほど浮上したスライダ２５，例えば磁気ヘッドスライダは，そのＦＨより大きく突出された突起の上側部分を打つようになり，ヘッドの最も低い位置である最小ＦＨに該当する突起部分だけ残してその上側部は切断される。図８Ａで，参照番号２７ａは切断される前の突起を示し，図８Ｂで参照番号２７ｂはスライダ２５により切断された突起を示す。
【００４０】
図９Ａはスライダにより切断された１つの突起をＡＦＭで測定したセクション分析結果を示す。測定は，図９Ｂに示されたスキャンライン２８に沿ってなされた。図９Ｂで，スキャンライン上に位置した白く表示された部分がアスペリティである。
【００４１】
切断された他の突起をＡＦＭで測定した他の例として，図１０Ａはスライダにより切断された突起をＡＦＭで測定したセクション分析結果を示す。測定は，図１０Ｂに示したスキャンライン２９に沿ってなされた。図１０Ｂで，スキャンライン上に位置した白く表示された部分がアスペリティである。
【００４２】
従って，上記の通りに磁気ヘッド組立体のスライダでニッケル物質の移動により形成された突起の上側部を切断し，例えばＡＦＭを利用してこの切断された突起の高さを測定すれば，実際ヘッドの最も低い所のＦＨを測定することが可能である。
【００４３】
このように基底層物質の移動メカニズムによりディスクの表面にアスペリティが形成されることを利用し，磁気ヘッド組立体のＦＨを測定することが本実施形態の主要特徴である。
【００４４】
図１１は本実施形態によるＦＨ測定システムの構成を概略的に示した図面である。
【００４５】
図１１を参照すれば，本実施形態によるＦＨ測定システムはＦＨ測定対象磁気ヘッド組立体３０と，上記磁気ヘッド組立体３０の最低ＦＨよりも高く突出された少なくとも１つの突起を有する磁気記録ディスク４０と，上記磁気ヘッド組立体３０のスライダ３１により切断された突起４１の高さを物理的に測定するための測定器５０とを含んで構成される。
【００４６】
上記磁気ヘッド組立体３０は，磁気記録ディスク４０，例えばハードディスクの回転によって浮上するスライダ３１を備え，そのスライダ３１の先端部には磁気ヘッド（図示せず）が設けられている。上記スライダ３１のＦＨはディスク４０の回転時，ディスク４０に対して浮上するスライダ３１の最下端と上記ディスク４０の基準表面間の間隔である。ディスク４０に対して浮上した状態にあるスライダ３１の最下端部は磁気ヘッドが位置したスライダ３１の先端部である。従って，本実施形態において，スライダ３１のＦＨは実質的に磁気ヘッドのＦＨを意味する。
【００４７】
ここで，磁気ヘッド組立体は多種存在し，本実施形態によるＦＨ測定システムはいかなる種類の磁気ヘッド組立体でもスライダの最低ＦＨを測定することが可能である。ここで，磁気ヘッド組立体については磁気記録／再生分野で広く知られているので，その具体的な例示は省略する。
【００４８】
上記磁気記録ディスク４０は，そのディスクを構成する物質，特に基底層物質のニッケルの移動メカニズムにより表面に突起が形成される。上記磁気記録ディスク４０を回転させれば，磁気ヘッド組立体３０のスライダ３１が所定高さほど磁気記録ディスク４０の表面から離隔されるように浮上するが，磁気記録ディスク４０の回転によって上記スライダ３１の最も低い部分は，磁気記録ディスク４０表面にスライダ３１の最低ＦＨより高く突出形成された突起を打つ。従って，スライダ３１が通過した磁気記録ディスク４０の表面にはスライダ３１の最低ＦＨの高さもしくはそれより低く切断された突起４１が存在する。
【００４９】
この時，磁気記録ディスク４０の表面からスライダ３１により切断された突起４１の上端までの距離は，スライダ３１の最低ＦＨとほぼ同じになる。
【００５０】
従って，スライダ３１により切断された突起４１の，磁気記録ディスク４０の表面に対する高さを上記測定器５０で測定すればスライダ３１の最低ＦＨが分かる。
【００５１】
ここで，本実施形態によるＦＨ測定システムでは，磁気ヘッド組立体３０のＦＨを測定するための磁気記録ディスク４０としての，基底層物質，特にニッケルの移動により表面に突起が形成された磁気記録ディスクの代わりに，欠陥が多く，磁気記録および／または再生用として実施に使用することが不可能な磁気記録ディスクや，デコボコの突起をわざと形成した磁気記録ディスクを使用することもできる。もちろん，この時にも磁気記録ディスクには測定対象磁気ヘッド組立体の最低ＦＨよりも高く突出された突起が形成されていなければならない。
【００５２】
一方，磁気記録ディスク４０の大容量化によってスライダ３１の最低ＦＨは数ｎｍ〜数十ｎｍほどと非常に低くなったため，上記測定器５０は，磁気記録ディスク４０の表面を原子スケールほどに観測できなければならない。
【００５３】
従って，上記測定器５０としては，ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ）を備えることが望ましい。
【００５４】
上記ＡＦＭは，物質表面の構造に対する立体的な情報を把握でき，Å単位までの表面の原子配置を比較的簡単な方法で把握できるスキャニングプローブマイクロスコピー（ＳＰＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ）である。上記ＡＦＭは物質表面の電気的性質に制限がなく，試料の表面を処理せずに観察できる。ＡＦＭは，電気を通さない不導体を含めた水溶液状の固体物質の表面も観察できる。
【００５５】
ＡＦＭは，チップと呼ぶ小さくて鋭い検針で物質表面を二次元的にスキャニングして三次元的な表面情報を得るものであり，試料表面と検針間に反発力を一定に，すなわち検針と試料表面間の距離を一定に保持しつつ，検針高さの空間的な分布をイメージに変換させる原理を適用したものである。反発力は全ての物質に普遍的に作用する力であるから，ＡＦＭは電気を通さない不導体にも応用できる。
【００５６】
上記に示したように測定器５０として，原子スケールほどに表面を観測できるＡＦＭを利用すれば，数ｎｍ〜数十ｎｍの高さを有する突起を観測でき，磁気ヘッド組立体３０におけるスライダ３１の十分に低い最低ＦＨを測定できる。従って，大容量化によってＦＨが数ｎｍ〜数十ｎｍほどと十分に低くなった場合にもＦＨの測定が可能である。
【００５７】
上記の通りにＦＨ測定システムが構築されれば，磁気記録ディスク４０を回転させつつ，磁気ヘッド組立体３０のスライダ３１を浮上させ，スライダ３１が通り過ぎて突起が切断された磁気記録ディスク４０の表面を測定器５０，例えばＡＦＭで観測し，切断された突起４１の高さを測れば，測定対象磁気ヘッド組立体３０の最低ＦＨが分かる。この時，測定対象の磁気ヘッド組立体３０のＦＨは，切断された突起３１の高さとなる。
【００５８】
本発明者は，ＦＨを０．４５μｍで設計した磁気ヘッド組立体のＦＨを上記のようなＦＨ測定システムにより確認した。ここでＦＨは，ディスク上に生成されたアスペリティを磁気ヘッド組立体が打って通り過ぎた後，ＡＦＭで測定したデータから，垂直距離が約１５〜１６ｎｍ，実際の磁気ヘッド組立体の最低ＦＨは約０．６μｉｎｃｈと判断された。
【００５９】
上記の例のように，磁気ヘッド組立体の実際ＦＨはコンピュータシミュレーションを利用した設計値と，実際のＦＨとは差が出る。本実施形態によるＦＨ測定システムによれば，磁気ヘッド組立体の実際のＦＨを正確に測定できる。
【００６０】
上記のような本実施形態によれば，グラスディスクを利用する従来とは異なり，実際に使われるディスク（磁気ヘッド組立体である場合には磁気記録ディスク）を使用するので，より信頼性あるＦＨデータを得られる。また，一層低いＦＨを設計する場合，従来の光干渉方式測定の限界を克服できる。
【００６１】
一方，上記のようなＦＨ測定システムは，磁気記録ディスクが採用されるドライブと別途に特別な治具を作らなくともよい。すなわち，磁気ヘッドの最低ＦＨよりも高く突出された突起が形成された磁気記録ディスクを実際のドライブに設け，磁気ヘッドを浮上させ，その後この磁気記録ディスクを取り出して測定器，すなわちＡＦＭまたはその他正確なプロファイルを得られる装備を介してＦＨを確認すればよい。
【００６２】
以上では，本実施形態によるＦＨ測定システムにより，磁気ヘッド組立体のＦＨを測定すると説明かつ図示したが，本発明が必ずしもこれに限定されるものではない。
【００６３】
すなわち，本発明によるＦＨ測定システムは，磁気ヘッド組立体の代わりに，他種のヘッド組立体のＦＨ測定用に使われることもある。このように，本発明によるＦＨ測定システムおよび測定原理はヘッド組立体の種類に限定されず，測定対象のヘッド組立体の種類に使われるディスクの種類を合わせればよい。もちろん，この時にもディスクには自然と生成されたものであろうが，人為的に形成されたものであろうが，測定対象のヘッド組立体の最低ＦＨよりも高く突出された突起が形成されていなければならない。
【００６４】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の飛行高さ（ＦＨ）測定方法およびその測定システムは，さらに大容量のハードディスクを実現するために効果的に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】磁気記録ディスクの層構造を概略的に示した断面図である。
【図２】磁気記録ディスクにピンホールが形成されることを示した断面図である。
【図３】３．０ｋＶのエネルギーで磁気記録ディスク表面を観測して得た映像を示す図面である。
【図４】２０ｋＶのエネルギーで磁気記録ディスクの表面を観測して得た映像を示す図面である。
【図５】ニッケル物質の移動により磁気記録ディスクの表面に生成されたアスペリティの三次元形状を示す斜視図である。
【図６】磁気記録ディスクのあやに沿ってニッケル−移動により生成されたアスペリティを示した図面である。
【図７Ａ】ニッケル物質の移動により生成されたアスペリティをＡＦＭで測定したセクション分析結果を示すグラフである。
【図７Ｂ】図７Ａの測定結果を得るのに使われた磁気記録ディスクの表面を概略的に示した図面である。
【図８Ａ】磁気記録ディスクの回転によりその表面からＦＨほど浮上したスライダが突起の上部分を打つ前の状態を概略的に示した図面である。
【図８Ｂ】磁気記録ディスクの回転によりその表面からＦＨほど浮上したスライダが突起の上部分を打って，その上部分が切断された状態を示す図面である。
【図９Ａ】スライダにより切断された１つの突起をＡＦＭで測定したセクション分析結果を示すグラフである。
【図９Ｂ】図９Ａの結果を得るのに使われた磁気記録ディスクの表面を概略的に示した図面である。
【図１０Ａ】スライダにより切断された他の突起をＡＦＭで測定したセクション分析結果を示すグラフである。
【図１０Ｂ】図１０Ａの結果を得るのに使われた磁気記録ディスクの表面を概略的に示した図面である。
【図１１】本実施形態によるＦＨ測定システムの構成を概略的に示した図面である。
【符号の説明】
【００６７】
３０  ヘッド組立体
３１  スライダ
４０  ディスク
４１  突起
５０  測定器
【図１】
2004199862.tif 000003
【図２】
2004199862.tif 000004
【図３】
2004199862.tif 000005
【図４】
2004199862.tif 000006
【図５】
2004199862.tif 000007
【図６】
2004199862.tif 000008
【図７Ａ】
2004199862.tif 000009
【図７Ｂ】
2004199862.tif 000010
【図８Ａ】
2004199862.tif 000011
【図８Ｂ】
2004199862.tif 000012
【図９Ａ】
2004199862.tif 000013
【図９Ｂ】
2004199862.tif 000014
【図１０Ａ】
2004199862.tif 000015
【図１０Ｂ】
2004199862.tif 000016
【図１１】
2004199862.tif 000017