(57)【要約】【課題】基板上のパターン形成材料から精度よくパターンを形成する。【解決手段】パターン形成装置は、パターン形成材料が一様に付与された基板９を保持するステージ、および、形成されるパターンの断面形状に対応して略波形に湾曲した薄板状の先端部４３１を有するブレード４３を備え、ブレード４３が基板９に対して相対的に移動する。ブレード４３の移動により、基板９上のパターン形成材料の一部がブレード４３の上側に導かれ、基板９上に残されたパターン形成材料によりパターンが形成される。ブレード４３の先端部４３１の上側凹部４３２には、ブレード４３の上側に導かれたパターン形成材料をブレード４３から分離する傾斜面４７１が設けられる。これにより、ブレード４３を基板９上にて円滑に移動させつつパターンを精度よく形成することができる。【選択図】　　　　図２
2004079479.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に付与されたパターン形成材料からパターンを形成するパターン形成装置であって、
基板を保持する保持部と、
略波形に湾曲した薄板状の先端を有するブレードと、
前記ブレードを前記先端側から基板の主面に沿って相対的に移動することにより基板上のパターン形成材料の一部を除去する移動機構と、
前記ブレードにより除去されたパターン形成材料を前記ブレードから分離する分離部と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成装置であって、
前記ブレードの先端面が、基板の主面の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜していることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、
前記ブレードの相対移動方向に垂直な方向に亘って前記ブレード上に取り付けられた補強部材をさらに備えることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
除去されたパターン形成材料を回収する回収部をさらに備えることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項５】
請求項４に記載のパターン形成装置であって、
前記回収部が、前記分離部近傍から除去されたパターン形成材料を吸引する吸引機構を有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記分離部が、前記ブレードの前記先端において基板とは反対側の凹部に導かれるパターン形成材料を前記凹部外へと導く傾斜面を有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記ブレードによる除去後に基板上に残されたパターン形成材料を順次硬化する硬化部をさらに備えることを特徴とするパターン形成装置。
【請求項８】
請求項７に記載のパターン形成装置であって、
前記硬化部が、基板上に残されたパターン形成材料に向けて光を出射することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記保持部が、パターン形成材料が付与された主面を水平方向よりも下側に向けて基板を保持することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のパターン形成装置であって、
保持される基板の主面を上方を向く状態から水平方向よりも下側を向く状態へと前記保持部の姿勢を変更する回動機構をさらに備えることを特徴とするパターン形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上にパターンを形成する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、プラズマ表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いられるパネルに隔壁や電極のパターンを形成する方法として、サンドブラスト法（フォトリソグラフィ法とも呼ばれる。）、スクリーン印刷法、リフトオフ法等が知られている。しかしながら、これらの方法は煩雑であり、生産コストを増加させる要因となっている。そこで、特開平１１−２８３４９７号公報では、パターン形成材料が一様に塗布された基板上にて、くし歯形状を有するとともに基板に対して垂直な姿勢の板状のブレードを相対的に移動することにより隔壁パターンを形成する手法が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記手法では、くし歯形状を有するブレードにより掻き分けられたパターン形成材料がブレードの相対移動方向の前方に蓄積するにつれてブレードの滑らかな移動が妨げられたり、整形前のパターン形成材料が有する平坦性が乱されてしまう等の問題があった。また、ブレードの移動を滑らかに行うためには粘度の低いパターン形成材料を使用することが好ましいが、この場合、硬化処理（例えば、乾燥処理や焼成処理等）が施されるまでに形成されたパターンの形状が重力等の影響により変形してしまうおそれがある。さらに、パターン形成材料がブレード（特にブレードの後側の面）に付着した場合には、パターンの形状に異常が生じたり、ブレードの移動が妨げられる等の問題があった。
【０００４】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、基板上に適切なパターンを形成することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板上に付与されたパターン形成材料からパターンを形成するパターン形成装置であって、基板を保持する保持部と、略波形に湾曲した薄板状の先端を有するブレードと、前記ブレードを前記先端側から基板の主面に沿って相対的に移動することにより基板上のパターン形成材料の一部を除去する移動機構と、前記ブレードにより除去されたパターン形成材料を前記ブレードから分離する分離部とを備える。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパターン形成装置であって、前記ブレードの先端面が、基板の主面の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜している。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載のパターン形成装置であって、前記ブレードの相対移動方向に垂直な方向に亘って前記ブレード上に取り付けられた補強部材をさらに備える。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載のパターン形成装置であって、除去されたパターン形成材料を回収する回収部をさらに備える。
【０００９】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載のパターン形成装置であって、前記回収部が、前記分離部近傍から除去されたパターン形成材料を吸引する吸引機構を有する。
【００１０】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記分離部が、前記ブレードの前記先端において基板とは反対側の凹部に導かれるパターン形成材料を前記凹部外へと導く傾斜面を有する。
【００１１】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記ブレードによる除去後に基板上に残されたパターン形成材料を順次硬化する硬化部をさらに備える。
【００１２】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載のパターン形成装置であって、前記硬化部が、基板上に残されたパターン形成材料に向けて光を出射する。
【００１３】
請求項９に記載の発明は、請求項１ないし８のいずれかに記載のパターン形成装置であって、前記保持部が、パターン形成材料が付与された主面を水平方向よりも下側に向けて基板を保持する。
【００１４】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載のパターン形成装置であって、保持される基板の主面を上方を向く状態から水平方向よりも下側を向く状態へと前記保持部の姿勢を変更する回動機構をさらに備える。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の第１の実施の形態に係るパターン形成装置１の概略構成を示す図である。パターン形成装置１は、プラズマ表示装置のガラス基板（以下、「基板」という。）９上にスリットコータやロールコータ等により一様の膜厚（例えば、１２０〜２００μｍ）にて塗布されたパターン形成材料９１（例えば、光開始剤が１〜３０％、アクリル系モノマー等のバインダが５〜５０％、複数種類の低軟化点ガラスフリットが４０〜９０％、その他、溶剤や添加剤が混合されたもの）から隔壁パターンを形成する装置であり、隔壁パターンが形成された基板９は他の工程を介してプラズマ表示装置の組立部品であるパネル（通常、リアパネル）となる。
【００１６】
パターン形成装置１では、基台１１上にステージ移動機構２が設けられ、基板９を吸引吸着により保持するステージ３がステージ移動機構２により図１中に示すＸ方向に移動可能とされる。基台１１にはステージ３を跨ぐようにしてフレーム１２が固定され、フレーム１２にはパターン形成ヘッド部４が取り付けられる。なお、基板９は吸引吸着以外の他の手法（例えば、チャックピンにより把持される等）によりステージ３に保持されてもよい。
【００１７】
ステージ移動機構２は、モータ２１にボールねじ２２が接続され、さらに、ステージ３に固定されたナット２３がボールねじ２２に取り付けられた構造となっている。ボールねじ２２の上方にはガイドレール２４が固定され、モータ２１が回転すると、ナット２３とともにステージ３がガイドレール２４に沿ってＸ方向に滑らかに移動する。
【００１８】
パターン形成ヘッド部４は、薄板状の先端を有するブレード４３、および、ブレード４３を着脱可能に支持する支持部材４２を有し、フレーム１２に固定されたベース４１の下部に支持部材４２が取り付けられる。パターン形成ヘッド部４は、さらに、ブレード４３の上面に位置する吸引ノズル４４、および、基板９に向けて紫外線を出射する光照射部４５を有する。吸引ノズル４４は吸引管４４１を介してポンプ４４２へと接続され、ポンプ４４２が吸引動作を行うことにより、吸引ノズル４４の吸引口近傍の不要なパターン形成材料が吸引される。また、光照射部４５は光ファイバ４５１を介して紫外線を発生する光源ユニット４５２に接続され、基板９に向かって光を出射する。
【００１９】
ステージ移動機構２のモータ２１、ポンプ４４２、および光源ユニット４５２は制御部６に接続され、これらの構成が制御部６により制御されることにより、パターン形成装置１による隔壁パターンを形成する動作が行われる。
【００２０】
図２はブレード４３の先端部４３１の近傍を示す斜視図である。なお、図２では基板９上のパターン形成材料９１の図示を省略している。図２に示すように、ブレード４３の先端部４３１は略波形に湾曲した薄板状となっている。すなわち、先端部４３１を基板９とは反対側から観察した場合、先端部４３１は相対移動方向（Ｘ方向）に伸びる複数の凹部（（＋Ｚ）方向に向かって開口する凹部であり、以下、「上側凹部」という。）４３２をＹ方向に配列して有し、先端部４３１を基板９側から観察した場合には、上側凹部４３２の間が相対移動方向（Ｘ方向）に伸びる凹部（（−Ｚ）方向に向かって開口する凹部であり、以下、「下側凹部」という。）４３３となっている。
【００２１】
また、先端部４３１の（＋Ｘ）側の端面（すなわち、パターン形成ヘッド部４の基板９に対する相対移動方向に関して前側の端面であり、以下、「先端面」という。）４３４は基板９の主面の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜している（換言すれば、先端面４３４の法線が相対移動方向（（＋Ｘ）方向）から下側へと傾斜している。）。
【００２２】
ブレード４３の上面には、補強部材４６が基板９に対する相対移動方向に垂直な方向（かつ、ブレード４３の上面に沿う方向、すなわち、Ｙ方向）に亘って取り付けられ、補強部材４６によりブレード４３がＺ方向へと撓むことが抑制される。各上側凹部４３２において補強部材４６の下方には、樹脂により形成された分離部４７が設けられ、分離部４７の前面４７１は、基板９の主面の法線方向から相対移動方向後側へと傾斜した（すなわち、相対移動方向に対して上側を向く）曲面となっている（以下、前面４７１を「傾斜面４７１」という。）。なお、傾斜面４７１は平面であってもよい。
【００２３】
補強部材４６の上方には吸引ノズル４４が配置され、吸引ノズル４４は相対移動方向側に開口する吸引口４４３を有する。吸引口４４３は相対移動方向に垂直な方向にブレード４３に沿って（すなわち、Ｙ方向に）伸びる長い開口となっている。
【００２４】
後述するように基板９上のパターン形成材料９１の一部は上側凹部４３２に沿って切り取られて先端面４３４から分離部４７へと送られ、分離部４７から吸引口４４３へと吸引される。すなわち、上側凹部４３２および分離部４７の傾斜面４７１により、不要なパターン形成材料を吸引口４４３へと導く排出路が形成される。吸引ノズル４４の後方または（±Ｙ）側には図１に示す吸引管４４１が接続されており、不要なパターン形成材料は吸引管４４１およびポンプ４４２を介して所定の回収場所へと回収される。
【００２５】
図３は、ブレード４３の先端部４３１の断面を示す斜視図であり、基板９上のパターン形成材料９１および吸引ノズル４４の図示を省略している。なお、図３では、先端部４３１をＹＺ平面に平行な面にて切断した断面を平行斜線を付して示している。図３に示すように、ブレード４３の相対移動方向後方には各下側凹部４３３に対応して光のスポットを基板９上に形成する光照射部４５が設けられる。
【００２６】
下側凹部４３３および上側凹部４３２の断面形状は略台形状となっており、下側凹部４３３の上底（上側の辺）の長さ（すなわち、下側凹部４３３の底面の幅）が６０μｍ、下底の長さ（すなわち、下側凹部４３３の開口側の幅）が９０μｍ、高さ（すなわち、下側凹部４３３の深さ）が１５０μｍとされ、上側凹部４３２の下底の長さ（すなわち、上側凹部４３２の基板９側の底面の幅）が３００μｍとされる。なお、先端部４３１の板厚は５μｍ程度であり、Ｘ方向に関するブレード４３の長さは３ｍｍ程度とされる。
【００２７】
次に、パターン形成装置１が基板９上のパターン形成材料９１から隔壁パターンを形成する動作について説明を行う。まず、図１に示すようにパターン形成材料９１が付与された基板９がパターン形成装置１に搬入されてステージ３に吸引吸着される。そして、制御部６が光源ユニット４５２を制御して光照射部４５から紫外線の出射が開始され、ポンプ４４２の吸引動作が開始されて吸引ノズル４４による吸引が開始される。続いて、ステージ移動機構２のモータ２１が駆動制御され、基板９の表面がブレード４３の下面に接触しながら（−Ｘ）方向に移動するようにステージ３が連続的に移動する。これにより、図４に示すようにブレード４３が基板９上のパターン形成材料９１中へと導かれて隔壁パターンの形成が行われる。
【００２８】
図５（ａ）および（ｂ）はブレード４３により基板９上のパターン形成材料９１から隔壁パターンが形成される様子を説明するための図である。ブレード４３によりパターン形成材料９１の一部が除去されて隔壁パターンが形成されることから、隔壁パターンの形成は、パターン形成材料９１の整形と捉えられてもよい。図５（ａ）はブレード４３によりパターン形成材料９１から隔壁パターンが形成される直前の様子を（＋Ｘ）側から示している。ブレード４３は基板９上を主面に沿って相対的に移動するため、ブレード４３が図５（ａ）に示すパターン形成材料９１の位置を通過することにより、図５（ｂ）に示すように、下側凹部４３３に対応する形状に隔壁パターン（符号９１を付している。）が形成される。
【００２９】
より詳細には、まず、図４に示すように、ブレード４３が先端部４３１側からパターン形成材料９１内へと進入し、先端部４３１において、パターン形成材料９１が下側凹部４３３に対応する部分と上側凹部４３２に対応する部分（正確には、先端部４３１の上面側全体に対応する部分）とに分離される。このとき、先端面４３４と下側凹部４３３の底面とのなす角（先端面４３４の上側の角）が鋭角であるため、ブレード４３のパターン形成材料９１内への進入を円滑に行うことが可能となる。
【００３０】
また、下側凹部４３３側に導かれたパターン形成材料９１は、上面および側面が下側凹部４３３の断面形状（すなわち、図３に示す断面形状）に対応する形状に成形され、上面および側面の形状精度の高い隔壁パターンが形成される。なお、先端面４３４を基板９の法線方向から相対移動方向の前側へと傾斜させることにより、隔壁パターンの上部側が下部側よりも先に形成されるため、隔壁パターンの上部側の形状をより精度よく形成することも実現される。
【００３１】
図４に示すように、ブレード４３によるパターン形成後すぐに基板９上に残された（すなわち、隔壁パターンとされた）パターン形成材料９１に向かって光照射部４５から紫外線が照射され、順次硬化が行われる。これにより、パターン形成後のパターン形成材料９１の形状が適切に保持される。その結果、隔壁パターンの基板９に接する部分の長さ（Ｗ）に対する高さ（Ｈ）の比（いわゆる、アスペクト比（Ｈ／Ｗ））が高く、かつ、安定した形状の（すなわち、十分に硬い）パターンが形成される。なお、紫外線照射による硬化は、形成された隔壁パターンが、重力や表面張力等により変形しない状態とされるのであれば、完全に硬化していない状態（いわゆる、半硬化状態）であってもよい。
【００３２】
一方、上側凹部４３２側に分離されたパターン形成材料９１の一部（すなわち、除去されたパターン形成材料であり、以下、「除去物」という。）は、ブレード４３の相対移動に従って、上側凹部４３２の底面から図４に示すように分離部４７の傾斜面４７１へと導かれる。そして、傾斜面４７１に沿って（すなわち、前述の排出路に沿って）滑らかに移動してブレード４３から分離され、上側凹部４３２外の吸引口４４３近傍へと導かれる。これにより、パターン形成材料９１からブレード４３に作用する力を抑えることができ、ブレード４３の基板９に対する相対移動を円滑に行うことができる。さらに、除去物は吸引ノズル４４により吸引されることから、除去物が隔壁パターンの形成やブレード４３の移動に悪影響を与えることも抑制される。
【００３３】
隔壁パターンの形成が基板９の移動と共に連続的に行われ、基板９上のパターン形成材料９１の終点がブレード４３を通過すると、ステージ３の移動制御、吸引動作および紫外線の出射が停止される。その後、基板９はパターン形成装置１外へと搬出され、形成された隔壁パターンは他の工程において焼成されてパターン形成材料中の樹脂分が除去されるとともに、低軟化点ガラスフリットが融着して隔壁が形成される。なお、使用されるパターン形成材料に応じて、焼成の前に乾燥工程等が適宜行われる。
【００３４】
以上のように、パターン形成装置１では、基板９上に付与されたパターン形成材料９１に対して、上側凹部４３２および下側凹部４３３を一体的に有する略波形とされた薄板状の先端部４３１を有するブレード４３が、基板９の主面に沿って相対的に移動することにより形状精度の高い隔壁パターンが形成される。また、除去物は分離部４７によりブレード４３から分離されることにより、ブレード４３の基板９に対する相対移動を円滑に行うことが実現される。
【００３５】
なお、パターン形成ヘッド部４としてＹ方向の幅が基板９よりも小さいものを用い、パターン形成ヘッド部４を基板９に対してＸ方向へと移動させる毎にＹ方向へと間欠的に移動させることにより、基板９の全面に隔壁パターンが形成されてもよい。
【００３６】
図６は本発明の第２の実施の形態に係るパターン形成装置１ａの概略構成を示す図である。パターン形成装置１ａは、パターン形成ヘッド部４ａにナット２３ａが固定され、ヘッド部移動機構２ａによりパターン形成ヘッド部４ａがＸ方向に移動可能とされる。パターン形成ヘッド部４ａは、吸引ノズル４４に代えて除去物を回収する回収部４８が設けられ、さらに、上下が反転されているという点を除いて第１の実施の形態に係るパターン形成ヘッド部４と同様となっている。基台１１にはヘッド部移動機構２ａを跨ぐフレーム１２ａが固定され、ステージ３がフレーム１２ａにより支持される。また、制御部６に接続されたモータ３１がフレーム１２ａに設けられ、モータ３１によりステージ３がＹ軸方向に平行な中心軸を中心に回動する。他の構成は第１の実施の形態と同様であり、同符号を付している。
【００３７】
パターン形成装置１ａが隔壁パターンを形成する際には、まず、パターン形成材料９１が付与された基板９が外部の基板搬送機構によりパターン形成装置１ａに搬入され、吸引吸着によりステージ３に保持される。続いて、制御部６がモータ３１を制御することにより、モータ３１がステージ３を回動させ、図７に示すように、パターン形成材料９１が付与された主面を下側（すなわち、（−Ｚ）方向）に向けて基板９がステージ３に保持される。そして、光照射部４５からの紫外線の出射が開始され、ヘッド部移動機構２ａによりパターン形成ヘッド部４ａが（−Ｘ）方向に移動する。
【００３８】
図８はブレード４３により隔壁パターンが形成される様子を示す拡大図である。図８に示すように、ブレード４３が基板９に当接しつつ滑るように移動することにより、パターン形成材料９１は第１の実施の形態と同様にブレード４３の先端部４３１において適切に分離される。
【００３９】
図９（ａ）および（ｂ）は隔壁パターンが形成される様子を説明するための図であり、図９（ａ）はブレード４３によりパターン形成材料９１から隔壁パターンが形成される直前の様子を（−Ｘ）側から示している。
【００４０】
図８および図９（ａ）に示すように、ブレード４３は基板９上を主面に沿って相対的に移動することにより、先端部４３１側からパターン形成材料９１内へと滑らかに移動する。そして、下側凹部（すなわち、基板９側に向かって開口する凹部）４３３へと導かれたパターン形成材料９１は下側凹部４３３に対応する形状を有する隔壁パターンとなる。
【００４１】
一方、基板９とは反対側の上側凹部４３２側に導かれたパターン形成材料（すなわち、除去物）は、分離部４７の傾斜面４７１に沿いつつ重力によりブレード４３から適切に分離される。除去物はブレード４３の下方に設けられた回収部４８へと落下して回収され、ブレード４３の基板９に対する相対移動が円滑に行われるとともに、除去物が隔壁パターンの形成やブレード４３の移動に与える影響を抑制することが実現される。
【００４２】
また、ブレード４３の後方から導出される形成後の隔壁パターンは速やかに光照射部４５により紫外線が照射されることにより、隔壁パターンの形状が重力等の影響により崩れてしまうことが防止され、図９（ｂ）に示すように、形状精度の高い隔壁パターン（符号９１を付している。）が形成される。
【００４３】
以上のように、パターン形成装置１ａでは、ステージ３がパターン形成材料９１が付与された主面を下側に向けて基板９を保持しつつ、ブレード４３を基板９の主面に沿って相対的に移動することにより、除去されたパターン形成材料がブレード４３から重力を利用して適切に分離され、ブレード４３を円滑に移動することができる。その結果、パターン形成材料９１から形状精度のよい隔壁パターンを形成することができる。
【００４４】
なお、パターン形成の際に基板９はパターン形成材料９１が付与された主面が真下に向けられる必要はない。例えば、パターン形成装置１ａ全体が傾斜した姿勢で設置されてもよい。この場合、モータ３１により、基板９の主面が上方を向く状態から水平方向よりも下側を向く状態へとステージ３の姿勢が変更されることとなる。すなわち、基板９の主面が水平方向よりも下側を向く状態とされることにより、除去物を基板９から重力を利用して容易に分離することが実現される。また、モータ３１が省略され、予め水平方向よりも下側に向いて固定されたステージ３に基板９が保持されてもよい。
【００４５】
図１０はパターン形成装置１（パターン形成装置１ａであってもよい。）がパターン形成システム８内に配置される様子を示す図である。パターン形成システム８では、まず、基板搬入部８１に載置されている基板９が搬送機構８０ａにより次の装置８２へと搬送される。装置８２としては、スリットコータやロールコータ等が配置され、基板９上にパターン形成材料が一様に付与される。
【００４６】
次に、基板９は搬送機構８０ｂによりパターン形成装置１へと送られ、既述のパターン形成材料からのパターン形成が行われ、基板９上に精度の高い隔壁パターンが形成される。パターン形成が完了した基板９は搬送機構８０ｃにより基板搬出部８４へと搬送される。さらに、基板９は基板搬出部８４から別途設置された乾燥装置や焼成装置等へと搬送される。
【００４７】
なお、技術的に可能な範囲内で装置８２とパターン形成装置１（または、パターン形成装置１ａ）とが一体化されてもよい。例えば、パターン形成材料を一様に塗布するスリットとブレード４３とを１つの装置に設けて、基板９を相対的に移動させながらパターン形成材料の塗布とパターン形成とが並行して行われてもよい。
【００４８】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００４９】
上記実施の形態では、パターン形成材料９１の表面が下側凹部４３３の底面よりも高い位置にある（すなわち、パターン形成材料９１の厚みが下側凹部４３３の深さよりも大きい）場合について説明を行ったが、図１１に示すようにパターン形成材料９１の表面が下側凹部４３３の底面よりも低い位置（すなわち、先端部４３１の高さがパターン形成材料９１の高さよりも高い。）とされてもよい。この場合、形成される隔壁パターンの側面のみが下側凹部４３３に対応する形状となるようにパターン形成が行われる。また、隔壁パターンの高さはパターン形成材料９１の膜厚により決定されることから、除去されるパターン形成材料９１の量を上記実施の形態の場合よりも減少させることができ、コストの削減を図ることができる。
【００５０】
パターン形成装置は、必ずしも基板９上に一様に塗布されたパターン形成材料９１から隔壁パターンを形成する必要はなく、基板９上に予め暫定的に形成されたパターンから形状精度の高い隔壁パターンが形成（すなわち、パターンが整形）されてもよい。例えば、パターン形成材料を多数の微小開口から吐出するノズルとブレード４３とを１つの装置に設けて、パターンの形成と整形とが並行して行われてもよい。
【００５１】
また、ブレード４３の先端が鋭利な刃物のように実質的に先端面４３４を有さず、ブレード４３をパターン形成材料９１内に滑らかに進入させることができるのであるならば、先端面４３４は必ずしも基板９の法線方向から傾斜している必要はない。さらに、パターン形成材料の硬さ等の性質によっては、ブレード４３の先端面４３４が、基板９の主面の法線方向から相対移動方向の後側へと傾斜していてもよい。
【００５２】
上記実施の形態では、光照射部４５からの紫外線は上方から基板９に向けて照射されるが、基板９がガラス基板である場合には、紫外線は基板９の裏面側から照射されてもよい。また、光照射部４５は必ずしも紫外線により隔壁パターンを硬化させる必要はなく、紫外線以外の他の種類の光や熱あるいはガス等を付与することにより硬化が行われてもよい。
【００５３】
また、上記実施の形態では、ブレード４３が基板９に接触しながら相対的に移動するため、基板９の表面を基準面とする絶対的な高さを制御したパターン形成が容易に実現されるが、形成される隔壁パターンに応じて、基板９とブレード４３の下面との間に間隙を設けてブレード４３が基板９に対して相対的に移動してもよい。
【００５４】
パターン形成装置１は、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の他の種類の平面表示装置（フラットパネルディスプレイ）における隔壁や配線、電極等のパターンの形成に利用されてもよい。また、基板９もガラス基板には限定されず、樹脂基板、半導体基板等であってもよい。
【００５５】
【発明の効果】
請求項１ないし１０の発明では、ブレードの基板に対する相対移動を円滑に行うことができるとともに精度よくパターンを形成することができる。
【００５６】
また、請求項２の発明では、パターン形成材料内へのブレードの進入を円滑に行うことができる。
【００５７】
また、請求項３の発明では、ブレードが撓むことを抑制することができる。
【００５８】
また、請求項４および５の発明では、除去されたパターン形成材料がパターン形成に悪影響を与えることを抑制することができる。
【００５９】
また、請求項６の発明では、除去されたパターン形成材料をブレードから円滑に分離することができる。
【００６０】
また、請求項７および８の発明では、形成されたパターンの形状を適切に保持することができる。
【００６１】
また、請求項９の発明では、除去されたパターン形成材料を重力を利用してブレードから分離することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】パターン形成装置の概略構成を示す図である。
【図２】ブレードの先端部近傍を示す斜視図である。
【図３】ブレードを示す斜視図である。
【図４】パターンが形成される様子を示す図である。
【図５】（ａ）および（ｂ）はパターンが形成される様子を説明するための図である。
【図６】第２の実施の形態に係るパターン形成装置の概略構成を示す図である。
【図７】ステージが回動する様子を示す図である。
【図８】パターンが形成される様子を示す図である。
【図９】（ａ）および（ｂ）はパターンが形成される様子を説明するための図である。
【図１０】パターン形成システムを示す図である。
【図１１】パターンが形成される様子を示す図である。
【符号の説明】
１，１ａ　パターン形成装置
２　ステージ移動機構
２ａ　ヘッド部移動機構
３　ステージ
９　基板
３１　モータ
４３　ブレード
４４　吸引ノズル
４５　光照射部
４６　補強部材
４７　分離部
４８　回収部
９１　パターン形成材料
４３１　先端部
４３２　上側凹部
４３４　先端面
４７１　傾斜面
【図１】
2004079479.tif 000003
【図２】
2004079479.tif 000004
【図３】
2004079479.tif 000005
【図４】
2004079479.tif 000006
【図５】
2004079479.tif 000007
【図６】
2004079479.tif 000008
【図７】
2004079479.tif 000009
【図８】
2004079479.tif 000010
【図９】
2004079479.tif 000011
【図１０】
2004079479.tif 000012
【図１１】
2004079479.tif 000013