(57)【要約】【課題】ＭＣＶＤ法によるガラス材料の製造法において、長手方向に沿って従来以上に均一性の高い光学的特性や物理特性等を有するガラス材料を製造する方法を提供する。【解決手段】ガラス管内にガラス原料ガスを封入し、前記ガラス管内に封入された前記ガラス原料ガスを加熱することにより反応させてガラスを生成させ、前記ガラス管内表面に前記ガラスを付着させかつ堆積させることによりガラス微粒子層又はガラス層を形成させてガラス材料を製造する。上記製造法においては、Ｎ２（窒素）、アルゴン（Ａｒ）、ネオン（Ｎｅ）、及びヘリウム（Ｈｅ）からなる群から選ばれる一以上のプラズマ発生ガス、並びにガラス原料ガスをガラス管内に封入し、その封入されたガスに対し、ガラス管の外側から高周波電圧を印加してガラス管内にプラズマを発生させることにより、ガラス原料ガスを加熱してガラス微粒子を生成させることが好ましい。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス管内にガラス原料ガスを封入し、前記ガラス管内に封入された前記ガラス原料ガスを加熱することにより反応させてガラスを生成させ、前記ガラス管内表面に前記ガラスを付着させ、かつ堆積させることによりガラス微粒子層又はガラス層を形成させることを特徴とするガラス材料の製造法。
【請求項２】
前記ガラス管内の圧力を前記ガラス管内へ導入される前記ガラス原料ガスの圧力よりも低くし、さらに前記ガラス管内に前記ガラス原料ガスを導入した後、前記ガラス管を封止することを特徴とする請求項１記載のガラス材料の製造法。
【請求項３】
前記ガラス原料ガスをガス貯蔵用容器に保持し、さらに前記ガス貯蔵用容器から前記ガラス管内に前記ガラス原料ガスを導入した後、前記ガラス管を封止することを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス材料の製造法。
【請求項４】
Ｎ２（窒素）、アルゴン（Ａｒ）、ネオン（Ｎｅ）、及びヘリウム（Ｈｅ）からなる群から選ばれる一以上のプラズマ発生ガス、並びに前記ガラス原料ガスを前記ガラス管内に封入し、前記封入されたガスに対して前記ガラス管の外側から高周波電圧を印加して前記ガラス管内にプラズマを発生させることにより、前記ガラス原料ガスを加熱することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラス材料の製造法。
【請求項５】
ガラス管を保持する手段、前記ガラス管内にガラス原料ガス、又はガラス原料ガス及びプラズマ発生ガスを導入する手段、前記ガラス管を封止する手段、並びに前記ガラス管内に封入されたガラス原料ガスを加熱する手段を有し、前記ガラス管内に前記ガラス原料ガス、又は前記ガラス原料ガス及びプラズマ発生ガスを封入し、さらに前記ガラス原料ガスを加熱することにより生成されたガラスを前記ガラス管内面に付着させ、かつ堆積させて、前記ガラス管内にガラス微粒子層又はガラス層を形成させることを特徴とするガラス材料の製造装置。
【請求項６】
請求項１に記載された製造法により製造されたガラス材料を所望により加熱して透明化し、得られたガラス管を中実化することを特徴とするガラス棒の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、内付けＣＶＤ法（ＭＣＶＤ法：Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によるガラス材料の製造法に関するものであり、さらに詳しく述べるならば、出発材の内部にガラス原料ガスを封入し、そのガラス原料ガスを加熱、反応させてガラスを生成させ、生成されたガラスを前記出発材の内表面に付着させ、かつ堆積させることを特徴とするガラス材料の製造法及び、そのガラス材料を中実化して得られるガラス材料、さらには前記ガラス材料を製造するための装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバ母材等に用いるガラス材料の製造法として、ガラス管等の内部にガラス原料ガス（以下、単に「原料ガス」ともいう）を導入し、この原料ガスを酸化反応することにより、ガラスを生成させ、ガラス管内面に付着し、堆積させるガラス材料の製造法は、内付けＣＶＤ法（ＭＣＶＤ法）として知られている。
【０００３】
上記ＭＣＶＤ法においては、例えばガラス管を出発材として用い、出発材の長手方向を軸として回転させるとともに、バーナ等の加熱源を出発材の長手方向に沿って相対的往復運動させて出発材を加熱する。そして出発材内の空間にＳｉＣｌ４、Ｏ２等を含む原料ガスを供給し、出発材を加熱することによる熱エネルギーによって原料ガスからガラスを生成させ、生成されたガラスが出発材の内表面に付着され、かつ堆積される。したがって、ＭＣＶＤ法においては、出発材に対する加熱源の相対的往復運動に伴って上記出発材の加熱される部位が移動するため、出発材内の空間内における原料ガスの反応位置も出発材の長手方向に沿って移動する（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−２７１３２９号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
光ファイバ母材又はその中間母材として用いるガラス材料は円柱状又は円筒状の形状を有するが、その光学的特性及び物理的特性が材料の長手方向に沿って均一であることが好ましい。一般にＭＣＶＤ法においては、上述のとおり、出発材として両端開口部を有する円筒状材料が用いられ、その開口部の一端から原料ガスが供給され、他端の開口部から余剰ガス等が排気される。したがって、出発材内部空間において原料ガスの圧力勾配が生じ、出発材内部空間の全ての位置においてガス圧が一定になっているわけではない。原料ガスの圧力が変化するということは原料ガスの密度が変化するということであり、そうすると、たとえ同じ反応温度であっても原料ガスからのガラス生成反応速度が異なり、また出発材内面へのガラスの堆積量、堆積状態等も一定ではなくなる可能性が高く、結果として得られるガラス材料の特性、例えば屈折率等の光学特性、及び密度等の物理特性などが長手方向に沿って一定ではなくなる場合がある。
【０００６】
したがって、長手方向に沿って従来以上に均一性の高い光学的特性や物理特性等を有するガラス材料を製造することができる方法が求められている。すなわち、本発明は、従来以上に長手方向に均一性の高い上記各特性を有するガラス材料を製造するための製造法及び製造装置を提供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明のガラス材料の製造法は、ガラス管内に原料ガスを封入し、ガラス管内に封入された原料ガスを加熱することにより反応させてガラスを生成させ、ガラス管内表面に前記ガラスを付着させ、かつ堆積させることにより、ガラス微粒子層又はガラス層を形成させることを特徴とするものである。
さらに上記製造法においては、ガラス管内の圧力を、ガラス管内へ導入されるガラス原料ガスの圧力よりも低くし、さらにガラス管内にガラス原料ガスを導入した後、ガラス管を封止することが好ましい。
【０００８】
さらに上記製造法においては、ガラス原料ガスをガス貯蔵用容器に保持し、さらにガス貯蔵用容器からガラス管内にガラス原料ガスを導入した後、ガラス管を封止することが好ましい。
さらに上記製造法においては、Ｎ２（窒素）、アルゴン（Ａｒ）、ネオン（Ｎｅ）、及びヘリウム（Ｈｅ）からなる群から選ばれる一以上のプラズマ発生ガス、並びにガラス原料ガスをガラス管内に封入し、封入されたガスに対してガラス管の外側から高周波電圧を印加してガラス管内にプラズマを発生させることにより、ガラス原料ガスを加熱することが好ましい。
【０００９】
上記製造法を実施するための本発明の製造装置は、ガラス管を保持する手段、ガラス管内にガラス原料ガス、又はガラス原料ガス及びプラズマ発生ガスを導入する手段、ガラス管を封止する手段、並びにガラス管内に封入されたガラス原料ガスを加熱する手段を有し、ガラス管内にガラス原料ガス、又はガラス原料ガス及びプラズマ発生ガスを封入し、さらにガラス原料ガスを加熱することにより生成されたガラスをガラス管内面に付着させ、かつ堆積させて、ガラス管内にガラス微粒子層又はガラス層を形成させることを特徴とするものである。
さらに本発明のガラス棒の製造法は、上記製造法により製造されたガラス材料を所望により加熱して透明化し、得られたガラス管を中実化することを特徴とするものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の製造法は、出発材となるガラス管の内部空間にガラス原料ガスを封入し、このガラス管内部空間に封入されたガラス原料ガス全体を加熱してガラス生成反応を生じさせることによってガラス管内面にガラス微粒子層又はガラス層を形成させることにより、ガラス管の長手方向に沿った光学特性及び物理特性等の均一性をきわめて高くできることを見いだし完成したものである。
【００１１】
以下、本発明を図１に基づいて説明する。なお図１は、本発明の製造法を実施するための製造装置の一つの実施態様について、本発明を説明するために必要な部分を概念的に示した図であり、図示していない装置等を適宜用いることができ、また図示している各構成部分でも実施態様によっては不要となる場合もある。また、本発明は図１に示した実施態様に限定されるものではない。
【００１２】
図１は、出発材であるガラス管（１）、ガラス管を封止する密封手段（１２及び１３）、原料ガスを加熱する手段（３）等についてはガラス管の長手方向中心軸を含む垂直面における断面で示し、原料貯蔵容器（５）及びそれに結合されたヒータ（６）についても断面で示している。
【００１３】
図１において、出発材であるガラス管（１）は、保持手段（２）によって保持され、図面左側のガラス管の開口部は開口部を覆う密封手段（１２）によって覆われ、密封手段（１２）にはバルブ（２０）が結合される。このバルブ（２０）を閉じることによって、ガラス管（１）の図面左側の開口部は封止される。なお、本明細書における「封止する」とは、外部と通じていない密閉された状態にすることを示す意味に用いる。バルブ（２０）には排気手段（４）が連結される。
【００１４】
排気手段（４）としては、例えばポンプを用いることができるが、ガラス管（１）内部のガスを排気することができるものであればよく、ポンプに限定されるものではない。ガラス管（１）の図面右側開口部は、開口部を覆う密封手段（１３）によって覆われ、さらに密封手段（１３）には原料ガス等をガラス管（２）内に導入するための配管（１１）が結合される。
【００１５】
密封手段（１３）に結合された各配管（１１）にはバルブ（２１、２３、２６）が結合され、このバルブ（２１、２３、２６）を閉じることによって、ガラス管（２）の図面右側の開口部は封止される。密封手段（１３）に結合された配管の一つはバルブ（２１）を介してガラス原料ガス貯蔵用容器（以下、「原料ガス貯蔵容器」ともいう）（７）と配管で連結され、原料ガス貯蔵容器（７）は、配管及びバルブ（２２）を介して原料タンク（５）に連結される。原料タンク（５）は常温で液体の原料、例えばＳｉＣｌ４又はＧｅＣｌ４等を貯蔵するものとして想定しているものであり、原料を気化させるためのヒータ（６）が原料タンク（５）に配置される。原料ガス貯蔵用容器（７、１４）には、内部のガスの温度及び圧力を測定するための圧力測定手段（８、１５）が配置される。例えば、原料ガス貯蔵容器（７）を公知の方法により温度調節可能な構成として容器内のガス温度を調節し、さらに圧力測定手段（８）によって容器内部のガス圧力を測定することが好ましい。圧力測定手段（８）によって測定されるガス圧力と貯蔵容器内のガス温度とに基づいて、供給される原料ガスの量を求め、原料ガスの供給量が所定量となるようにヒータ（３０）を制御する。
【００１６】
密封手段（１３）に結合された配管の別の一つは、バルブ（２３）を介して原料ガス貯蔵容器（１４）と配管で連結され、原料ガス貯蔵容器（１４）はバルブ（２４）及びバルブ（２５）を介して配管でガスボンベ（９）と連結される。このガスボンベは常温で気体の原料ガスを想定しているものであり、そのような原料としては、例えばＨｅガスによって希釈されたＳｉＦ４ガス等が例示できる。さらに、実際にガラス材料を製造する場合に用いる原料の種類及び数によって、上記原料ガス貯蔵容器、原料タンク、及びガスボンベは所望の数を配置することができる。
【００１７】
密封手段（１３）に結合された配管のさらに別の一つは、バルブ（２６）を介して酸素（Ｏ２）をガラス管（１）内に導入することができるようにされる。酸素はガスボンベ又はガスタンク等から供給することができる。
【００１８】
図１においては、図面右側のガラス管（１）の開口部から原料ガス等を導入する場合を示したが、原料ガス等は、ガラス管（１）の両端の２つの開口部の両者から導入するようにしてもよい。
さらに、ガラス管（１）の内部の原料ガス等を加熱するための加熱手段（３）が配置される。なお、本発明の製造法においては、上記各手段は、公知の方法を適宜用いることができる。
【００１９】
本発明の製造法を手順にしたがって以下に説明する。
ガラス管（１）は、目的に応じて所望する組成のガラスを用いることができる。まずバルブ（２１、２３、２６）を閉じ、バルブ（２０）を開けて排気手段（４）により排気することによって、ガラス管（１）内部の圧力をガラス管（１）に供給する原料ガス、又は原料ガス及び以下に述べるプラズマ発生ガス等の圧力よりも低下させる。
【００２０】
すなわち、図１において、原料ガス貯蔵容器（７及び１４）内の原料ガスの圧力、並びに酸素ガスの圧力よりも低くなるように、ガラス管（１）内部の圧力を減圧しておくことが好ましい。ガラス管（１）内部は高真空にすることがさらに好ましい。ガラス管（１）内の圧力を原料ガス等の圧力より低くしておくことによって、原料ガス等がガラス管（１）内に速やかに流入し、原料ガス貯蔵容器（７及び１４）内に残るガスの量を少なくすることができる。また、原料ガス貯蔵容器（７及び１４）内のガスの圧力とガラス管内の圧力との圧力差に基づいて、原料ガス貯蔵容器からガラス管内に流入するガスの量が決まるため、前記圧力差を適当に調節することによって、原料ガス貯蔵容器からガラス管内に導入されるガスの量を制御することができる。
【００２１】
ガラス管（１）内を減圧したのち、バルブ（２０）が閉じられ、次にバルブ（２１）、バルブ（２３）、及びバルブ（２６）が開けられることによって、原料ガス貯蔵容器（７及び１４）内の原料ガス、並びに酸素ガスがガラス管（１）内に導入され、次に各バルブを閉じることによりガラス管（１）は封止されて密閉状態になる。
【００２２】
本発明の製造法においては、ガラス管（１）内に封入される原料ガスとして、例えばＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４、ＰＯＣｌ３、及びＢＣｌ３から選ばれる一以上のガス並びに酸素を含む混合ガスを用いることができる。この原料ガスはプラズマ発生ガスで希釈されることができ、酸素（Ｏ２）、窒素（Ｎ２）、アルゴン（Ａｒ）、ネオン（Ｎｅ）、及びヘリウム（Ｈｅ）からなる群から選ばれる一以上のガスをプラズマ発生ガスとして用いることが好ましいが、これらのガスに限定されるものではなく、原料ガスと実質的に反応しないガスであればプラズマ発生ガスとして用いることができる。プラズマ発生ガスとしてはプラズマを発生させやすいガスが好ましく、プラズマを発生させやすいことからＡｒが特に好ましい。
また、本発明において用いることができる原料ガスとしては、上記の酸素による酸化反応によってガラスを生成するものに限られない。
【００２３】
原料ガス、又は原料ガス及びプラズマ発生ガス（以下、単に「原料ガス等」という）をガラス管（１）内に導入する前に、原料ガス等を予め原料ガス貯蔵容器（７、１４）に貯蔵する。この貯蔵は本発明の製造法に用いる各ガスの種類ごとに別々の容器に貯蔵することも、ガスの種類によって、例えば混合しても反応せず後工程に問題ない場合等であれば、２種以上のガスを混合して一つの容器に貯蔵することもできる。
【００２４】
上記原料ガス貯蔵容器（７、１４）が容器内に貯蔵されたガス温度を調節可能な温度調節手段を具備しており、その温度調節手段によって原料ガス貯蔵容器（７、１４）内に貯蔵されたガスの温度を調節することが好ましい。さらに、原料ガス貯蔵容器（７、１４）に圧力測定手段（８、１５）を配置し、この圧力測定手段（８、１５）により容器内に貯蔵されるガスの圧力を測定することが好ましい。原料ガス貯蔵容器（７、１４）の内容積は通常一定であるから、原料ガスの温度及び圧力を測定することによって、容器内に貯蔵される原料ガスの量（モル数）を計算することができ、原料ガス貯蔵容器（７、１４）及びガラス管（１）内圧力との圧力差にしたがって、原料ガス貯蔵容器（７、１４）からガラス管（１）内に、所望する量の原料ガスを導入することができる。上記原料ガスの温度及び圧力を測定する手段は適宜、公知の方法を用いることができる。
【００２５】
また、図１においては原料ガス貯蔵容器に貯蔵したガスを、その容器及びガラス管（１）内の圧力差を利用してガラス管（１）内に導入する方法を示したが、本発明の製造法はこの方法に限られず、たとえば、ＭＦＣ（マスフローコントローラ）を使用し、必要な量の原料ガス等をガラス管（１）内に導入することもできる。
【００２６】
なお、原料ガス等を原料ガス貯蔵容器に気体として貯蔵する場合、原料が常温で液体であれば、図１に示すように原料タンク（５）に原料（３０）を貯蔵し、例えばヒータ（６）によって加熱することによって原料（３０）を気化させ、バルブ（２２）を開くことによって原料ガスを原料ガス貯蔵容器（７）に移すという方法を用いることができる。原料ガス等が常温で気体の場合は、ガスボンベ（９）中に貯蔵された原料ガス等をバルブの開閉によって直接原料ガス貯蔵容器（１４）に移すことができる。
図１に示す酸素ガスは、酸素ボンベ又は酸素タンク（図示せず）から供給するができる。
【００２７】
次に、ガラス管（１）内に封入された原料ガス等を、加熱することにより原料ガスを反応させてガラス微粒子を生成させる。このガラス微粒子がガラス管（１）内面に付着し、かつ堆積することにより、出発材であるガラス管（１）内面にガラス微粒子層又は透明ガラス層が形成される。ガラス管の温度及び加熱された原料ガスの温度が比較的低い場合は、前記ガラス微粒子層は多孔質層として形成されるが、前記温度が高くなるほど前記多孔質層の透明化が進行する。
【００２８】
ガラス管（１）内に封入された原料ガス等を加熱する方法としては、ヒータを加熱手段（３）として用い、ガラス管（１）を外側から加熱することによって行う方法が例示できる。この場合、得られるガラス材料の長手方向に沿った光学及び物理特性を均一にするためには、出発材であるガラス管（１）の長手方向にわたる全体を可能なかぎり同時かつ同じ温度に加熱することが好ましい。ただし、ガラス管（１）の加熱は可能なかぎり、できるだけ短時間内にガラス管全体が加熱できればよく、ガラス管長手方向の長さより短い長さのヒータ又はバーナをガラス管長手方向に沿って速やかに移動させることにより、ガラス管全体を加熱する方法を用いてもよい。
【００２９】
ガラス管（１）内に封入された原料ガス等を加熱する方法としては、ガラス管を外から加熱する上述した方法のほかに、ガラス管（１）内でプラズマを発生させることによって原料ガス等を加熱する方法を用いることでき、特に好ましい方法である。
【００３０】
プラズマを発生させて原料ガス等を加熱する場合は、Ｎ２（窒素）、アルゴン（Ａｒ）、ネオン（Ｎｅ）、及びヘリウム（Ｈｅ）からなる群から選ばれる一以上のプラズマ発生ガス、並びに前記原料ガスを前記ガラス管（１）内に封入し、その封入されたガスに対し、ガラス管の外側から高周波電圧を印加してガラス管内にプラズマを発生させる。原料ガスに上記プラズマ発生ガスを混合して高周波電圧を印加すると、プラズマを安定して発生させることができる。
【００３１】
プラズマを発生させるために高周波電圧をガラス原料ガスに印加する場合は、図１の加熱手段（３）として誘導コイルを用いる。原料ガス等にプラズマが発生するように適宜、印加する電圧及び周波数を決定することができる。
【００３２】
ガラス管（１）の空間内にプラズマを発生させることによって原料ガスを加熱する場合、ガラス管（１）自体を強く加熱することなく原料ガス等の温度を上昇させてガラス生成反応を起こさせることができるため、ガラス管（１）をバーナ等で直接加熱する場合よりもガラス管（１）の破損が起こりにくいという効果がある。また、プラズマによる加熱法は、ガラス管（１）を外部から加熱してガラス管内の原料ガス等を加熱する場合よりも、短時間で原料ガス等全体を加熱することができるため、原料ガスからのガラス生成反応も速やかに起こる。したがって、上記のプラズマによる加熱法は、ガラス管（１）内への原料ガス等の導入及び封入からガラスの生成までの時間が短く、生産性が高い。
【００３３】
なお、ガラス管（１）内に原料ガス等を導入し封入する場合、原料ガス等の導入前にガラス管（１）の温度を、原料ガスによるガラス生成反応が急激に生じない温度範囲であって、かつできるだけ高い温度にしておくことが好ましい。なぜなら、予めガラス管（１）の温度を高くしておくことによって、ガラス管（１）内に原料ガスを導入し、封入した後、原料ガスを加熱してガラスを生成させる際に、ガラスの生成反応を加熱開始から短時間内に起こさせることができ、それによりガラス管（１）内面へのガラス微粒子層又はガラス層の形成が速やかに起こり、さらに、これら形成されたガラス微粒子層又はガラス層のガラス管長手方向に沿った厚みが均一になりやすいからである。
【００３４】
ガラス管（１）内に封入された原料ガスを加熱することによって反応させ、かつガラス管（１）内面にガラス微粒子又はガラスを堆積させた後、バルブ（２０）を開いてガラス管（１）内のガスを排気し、ガラス管（１）内を減圧する。その後、バルブ（２０）を閉じ、続いてバルブ（２１）、（２３）、及び（２６）を開いて、原料ガス等をガラス管（１）内に再度導入し、バルブ（２１）、（２３）、及び（２６）を閉じてガラス管（１）を封止する。次に、加熱手段（３）によってガラス管（１）に封入された原料ガス等を加熱して、ガラスを生成させ、ガラス管（１）内面に付着させ、かつ堆積させる。これらの操作を繰り返すことによって、出発材のガラス管（１）内面に所定量のガラスを堆積させる。なお、原料ガス貯蔵容器（７）及び（１４）から原料ガス等がガラス管（１）内に移動した後は、原料タンク（５）又はガスボンベ（９）から必要な量のガスを原料ガス貯蔵容器（７）又は（１４）に充填する。
【００３５】
本発明の製造法により出発材のガラス管内面にガラス微粒子が堆積されて得られた、多孔質層を有する管状材料又は透明化されたガラス管材料の中空部を中実化することにより、光ファイバ母材等として用いることができるガラス棒を製造することができる。上記中空部を中実化する方法としては、本発明の製造法によって得られたガラス材料を加熱し、軟化させて潰すことによって中空部分をなくす方法、又は中空部にガラス棒等を挿入し、さらに加熱することによってガラス管を潰してガラス棒等に溶融・密着させて中実化する、ロッドインコラプス法として知られる方法を用いることが好ましい。なお、上記中実化するにあたり、材料の脱水法及び加熱法等、必要な方法は公知の方法を適宜用いることができる。こうして得られた中実化されたガラス材料は、長手方向に沿った光学及び物理特性の均一性が高く、例えば光ファイバ母材又は光ファイバの中間母材等として用いることができる。
【００３６】
【発明の効果】
本発明のガラス材料の製造法によれば、長手方向に沿って従来以上に均一性の高い光学的特性や物理特性等を有するガラス材料を製造することができる。また、ガラス原料ガスからのガラス生成反応が速やかに進行するため、本発明の製造法は従来以上に高い生産性を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明のガラス材料の製造法に用いる製造装置を示した概念図である。
【符号の説明】
１…ガラス管（出発材）
２…保持手段
３…加熱手段
４…排気手段
５…原料タンク
６…ヒータ
７…ガラス原料ガス貯蔵用容器
８…圧力測定手段
９…ガスボンベ
１１…配管
１２及び１３…密封手段
１４…ガラス原料ガス貯蔵用容器
１５…圧力測定手段
２０〜２６…バルブ
３０…原料
【図１】
2004338991.tif 000003