(57)【要約】【課題】誘電率が低く、かつ耐アルカリ性に優れる隔壁用ガラスの提供。【解決手段】モル％で、ＳｉＯ２：３０〜６５％、ＰｂＯ：１〜４７％、Ｂ２Ｏ３：０．１〜１０％、ＺｎＯ：０〜１５％、Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２：０〜２８％、Ｂｉ２Ｏ３：０〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：０〜２８％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ：０〜１２％、ＣｕＯ＋ＳｎＯ２＋ＣｅＯ２：０〜５％である隔壁用ガラス。また、ＳｉＯ２≧５２％、ＰｂＯ≧３４％、Ｂ２Ｏ３＜５％、Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２：０〜５％、Ｂｉ２Ｏ３：０〜１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：０〜１２％である前記ガラス。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記酸化物基準のモル％表示で本質的に、
ＳｉＯ２                       ３０〜６５％、
ＰｂＯ                          １〜４７％、
Ｂ２Ｏ３                    ０．１〜１０％、
ＺｎＯ                          ０〜１５％、
Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２  ０〜２８％、
Ｂｉ２Ｏ３                      ０〜３０％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ０〜２８％、
Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ       ０〜１２％、
ＣｕＯ＋ＳｎＯ２＋ＣｅＯ２      ０〜５％、
からなる隔壁用ガラス。
【請求項２】
モル％表示で、ＳｉＯ２が５２％以上、ＰｂＯが３４％以上、Ｂ２Ｏ３が５％未満、Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２が０〜５％、Ｂｉ２Ｏ３が０〜１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが０〜１２％、である請求項１に記載の隔壁用ガラス。
【請求項３】
モル％表示で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが５８％以下、Ｂ２Ｏ３が５〜８％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが０〜１０％、ＳｎＯ２が０〜１％、ＰｂＯ＋ＴｉＯ２＋ＺｎＯが２８〜４６％、Ｂ２Ｏ３＋ＺｎＯが８％以下、である請求項１に記載の隔壁用ガラス。
【請求項４】
軟化点が４７５〜６００℃、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が６５×１０−７〜８５×１０−７／℃、かつ、２０℃、１ＭＨｚにおける比誘電率が１４未満である請求項１、２または３に記載の隔壁用ガラス。
【請求項５】
質量百分率表示で本質的に、請求項１、２、３または４に記載の隔壁用ガラスの粉末  ５５〜９９．５％、セラミックスフィラー  ０．５〜４５％、耐熱顔料  ０〜２０％、からなる隔壁用ガラスセラミックス組成物。
【請求項６】
請求項５に記載の隔壁用ガラスセラミックス組成物であって、セラミックスフィラーがアルミナ粉末を含有し、当該組成物におけるアルミナ粉末の質量百分率表示含有量が０．５％以上である隔壁用ガラスセラミックス組成物。
【請求項７】
請求項５または６に記載の隔壁用ガラスセラミックス組成物であって、セラミックスフィラーがシリカ粉末を含有する隔壁用ガラスセラミックス組成物。
【請求項８】
請求項５、６または７に記載の隔壁用ガラスセラミックス組成物であって、耐熱顔料がチタニア粉末を含有し、当該組成物におけるチタニア粉末の質量百分率表示含有量が２０％以下である隔壁用ガラスセラミックス組成物。
【請求項９】
ガラス基板上にアドレス電極が形成され、当該アドレス電極が誘電体層によって被覆され、当該誘電体層上に請求項５、６、７または８に記載の隔壁用ガラスセラミックス組成物を焼成して得られた隔壁が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル背面基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、蛍光表示管（ＶＦＤ）等の隔壁形成に好適なガラスおよびガラスセラミックス組成物、さらにＰＤＰ背面基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型の平板型カラー表示装置であるＰＤＰまたはＶＦＤはそのパネル構造に多くの特徴を有するが、画素を区切るために画面全域に等間隔で形成される隔壁はその一つである。たとえばＰＤＰの隔壁は、典型的には幅（ライン幅）および高さがそれぞれ８０μｍ、１５０μｍであり、隔壁間隔（ピッチ）は２００〜３００μｍである。
【０００３】
ＰＤＰの隔壁はたとえば次のようにして形成される。
まず、隔壁形状を保持する等のためのセラミックスフィラー、固着材である低融点ガラス粉末、等からなるガラスセラミックス組成物をペースト化し、得られたガラスペーストを、アドレス電極およびそれを電気絶縁のために被覆する誘電体層が形成されたガラス基板上に塗布し乾燥する。
次に、この乾燥された塗布層の上にドライフィルムレジストをラミネートし、所望の隔壁パターンの露光マスクをセットして露光後、炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像し、前記塗布層の上に隔壁パターンを形成する。
この隔壁パターンが形成された塗布層の不要部をサンドブラストによって切削し、未焼成隔壁を得る。この未焼成隔壁の上に残っているドライフィルムを水酸化ナトリウム水溶液によって除去後、５００〜６２０℃で焼成しガラス基板上に隔壁を形成する。
前記低融点ガラスとしてはＳｉＯ２−ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３系ガラスが開示されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００４】
このようにして隔壁が形成された基板すなわちＰＤＰ背面基板は、表示面として使用されるＰＤＰ前面基板と対向させて封着後、Ｈｅ−Ｘｅ混合ガス、Ｎｅ−Ｘｅ混合ガス等を封入し、３５０〜４５０℃に数時間保持してＰＤＰとされる。
なお、ＰＤＰ前面基板はガラス基板であり、通常その表面には透明電極、当該電極を被覆する誘電体層および当該誘電体層を被覆するＭｇＯ膜が形成されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１６９１７８号公報（表１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
隔壁に用いられるガラスには種々の特性が求められる。
たとえば、５００〜６２０℃で焼成可能とするためには軟化点は４７５〜６００℃であることが好ましい。
従来使用されているガラス基板との膨張係数マッチングを図るためには５０〜３５０℃における平均線膨張係数は６５×１０−７〜８５×１０−７／℃であることが好ましい。
ＰＤＰ等の消費電力を小さくするためには２０℃、１ＭＨｚにおける比誘電率は１４未満であることが好ましい。
【０００７】
隔壁の電気絶縁性を高めるために、アルカリ金属酸化物は含有しない、または含有するとしてもその合計は１２モル％以下であることが好ましい。
また、ＰＤＰ用背面基板の製造工程において炭酸ナトリウム水溶液等によるドライフィルム現像、水酸化ナトリウム水溶液等によるドライフィルム除去、を受けるので耐アルカリ性が高いことが好ましい。
しかし隔壁に用いられるガラスとして従来知られているものにはこれらの特性をすべて満たすものはなかった。
本発明は、前記特性を満たす隔壁用ガラス、ガラスセラミックス組成物およびＰＤＰ背面基板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、下記酸化物基準のモル％表示で本質的に、ＳｉＯ２  ３０〜６５％、ＰｂＯ  １〜４７％、Ｂ２Ｏ３  ０．１〜１０％、ＺｎＯ  ０〜１５％、Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２  ０〜２８％、Ｂｉ２Ｏ３  ０〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ０〜２８％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ０〜１２％、ＣｕＯ＋ＳｎＯ２＋ＣｅＯ２  ０〜５％、からなる隔壁用ガラスを提供する。
また、質量百分率表示で本質的に、前記隔壁用ガラスの粉末  ５５〜９９．５％、セラミックスフィラー  ０．５〜４５％、耐熱顔料  ０〜２０％、からなる隔壁用ガラスセラミックス組成物を提供する。
また、ガラス基板上にアドレス電極が形成され、当該アドレス電極が誘電体層によって被覆され、当該誘電体層上に前記隔壁用ガラスセラミックス組成物を焼成して得られた隔壁が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル背面基板を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、耐アルカリ性に優れた隔壁用ガラスが得られるのでＰＤＰ背面基板の生産効率を向上させることができ、また誘電率が低い隔壁が得られるのでＰＤＰの消費電力を低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の隔壁用ガラス（以下、本発明のガラスという。）は通常、粉末化して使用される。この粉末化されたガラスは通常、セラミックスフィラー、耐熱顔料等と混合され、次に乳鉢、三本ロール等を用いてビヒクルと混練してガラスペーストとされる。このガラスペーストは、たとえば下地に塗布後サンドブラスト等によって所定パターンの未焼成隔壁とされ、その後焼成されて隔壁となる。
前記ビヒクルは通常、エチルセルロース、ニトロセルロース、等の樹脂をα−テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、酢酸イソペンチル、等の溶剤に溶解したものである。
以下ではＰＤＰの隔壁に用いる場合について説明するが、隔壁はＰＤＰの隔壁に限定されるわけではなくＶＦＤの隔壁等にも本発明のガラスおよび本発明の隔壁用ガラスセラミックス組成物（以下、本発明の組成物という。）は適用可能である。
【００１１】
本発明のガラスをＰＤＰの隔壁形成に用いる場合、前記下地はガラス基板であるが、通常はその上にアドレス用のデータ電極が形成され、そのアドレス電極の上には誤放電防止のための絶縁被覆層たる誘電体層が形成されている。
前記未焼成隔壁に対して行われる焼成の最高温度は通常、５００〜６２０℃である。５００℃未満では焼成後の隔壁に前記ビヒクル中の樹脂が一部残留し、ＰＤＰにおいてパネルを封着する際またはパネル放電時にこれら残留樹脂がガスとなって放出されるおそれがある。６２０℃超ではガラス基板が変形するおそれがある。
【００１２】
本発明のガラスの軟化点Ｔｓは４７５〜６００℃であることが好ましい。４７５℃未満では前記焼成時にガラスが流動しすぎ、所定の隔壁形状が得られないおそれがある。より好ましくは４９０℃以上である。６００℃超では焼成時のガラスの流動性が低下し、緻密な隔壁が得られないおそれがある。より好ましくは５９５℃以下、特に好ましくは５９０℃未満である。
本発明のガラスの５０〜３５０℃における平均線膨張係数αは６５×１０−７〜８５×１０−７／℃であることが好ましい。αがこの範囲外ではガラス基板との膨張係数マッチングが困難になるおそれがある。より好ましくは７０×１０−７〜８２×１０−７／℃である。なお、ガラス基板のαは典型的には８０×１０−７〜９０×１０−７／℃である。
本発明のガラスの２０℃、１ＭＨｚにおける比誘電率εは１４未満であることが好ましい。１４超ではＰＤＰの消費電力が大きくなるおそれがある。より好ましくは１３．５以下、特に好ましくは１３以下である。なお、εは典型的には１１以上である。
本発明のガラスは、Ｔｓが４７５〜６００℃、αが６５×１０−７〜８５×１０−７／℃かつεが１４未満であることがより好ましい。
【００１３】
本発明のガラスを粉末化して質量平均粒径が１．０〜３．０μｍのガラス粉末とし、この粉末について次のような耐アルカリ性試験を行ったときのガラス粉末単位表面積当たりのＢ２Ｏ３溶出量ＷＢ２Ｏ３は２００×１０−６ｇ／ｃｍ２以下であることが好ましい。２００×１０−６ｇ／ｃｍ２超では、前記炭酸ナトリウムを用いたドライフィルム現像時に該ドライフィルムが剥離する、隔壁の緻密性が不充分になる、または、隔壁表層部に偏析したＢ２Ｏ３がＰＤＰ製造時もしくはＰＤＰ使用時に揮発してパネル内壁等に付着してＨ２Ｏと結合しＰＤＰの信頼性を低下させるおそれがある。ＷＢ２Ｏ３はより好ましくは１５０×１０−６ｇ／ｃｍ２以下、特に好ましくは１００×１０−６ｇ／ｃｍ２以下である。
【００１４】
（耐アルカリ性試験）
ガラス粉末１０ｇを、温度が２５℃、質量百分率表示濃度が１．５％のＮａＯＨ水溶液１００ｇに入れて６時間マグネチックスターラを用いて撹拌する。撹拌後上澄み液を０．４５μｍのフィルタを用いて吸引ろ過する。ろ過された液中のＢ２Ｏ３濃度を、ＩＣＰ分析法を用いて測定する。
一方、同じガラス粉末について２００℃に２０分間保持する前処理を行った後、ＢＥＴ装置（たとえばマウンテック社製Ｍａｃｓｏｒｂ  ＨＭ  ｍｏｄｅｌ−１２０１）を用いてガラス粉末比表面積を測定する。前記Ｂ２Ｏ３濃度をこの比表面積で除してガラス粉末単位表面積当たりのＢ２Ｏ３溶出量を得る。
【００１５】
本発明のガラスがＺｎＯを含有する場合、前記耐アルカリ性試験においてろ過された液中のＢ２Ｏ３濃度を測定したと同様にそのＺｎＯ濃度を測定し、当該ＺｎＯ濃度を前記ガラス粉末比表面積で除して得られるガラス粉末単位表面積当たりのＺｎＯ溶出量ＷＺｎＯは２００×１０−６ｇ／ｃｍ２以下であることが好ましい。２００×１０−６ｇ／ｃｍ２超では、前記炭酸ナトリウムを用いたドライフィルム現像時に該ドライフィルムが剥離する、または隔壁の緻密性が不充分になるおそれがある。ＷＺｎＯはより好ましくは１５０×１０−６ｇ／ｃｍ２以下、特に好ましくは１００×１０−６ｇ／ｃｍ２以下である。
【００１６】
次に、本発明のガラスの組成についてモル％表示を用いて説明する。
ＳｉＯ２はガラスの骨格を形成し、ガラスを安定化し、またはεを低下させる成分であり、必須である。３０％未満ではガラスが不安定になる、またはεが高くなりすぎる。６５％超ではＴｓが高くなりすぎる。
ＰｂＯはＴｓを下げる成分であり、必須である。１％未満ではＴＳが高くなりすぎる。４７％超ではεが高くなりすぎる。
Ｂ２Ｏ３はガラスを安定化し、Ｔｓを下げ、またはεを低下させる成分であり、必須である。０．１％未満ではＴｓが高くなりすぎる。１０％超では耐アルカリ性が低下する。
【００１７】
ＺｎＯは必須ではないが、Ｔｓを下げるために１５％まで含有してもよい。１５％超ではガラスが不安定になるおそれがある。
Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２およびＺｒＯ２はいずれも必須ではないが、耐アルカリ性を高くするために合計で２８％まで含有してもよい。２８％超ではＴＳが高くなりすぎる。
ガラスをより安定化させたい、等の場合にはＡｌ２Ｏ３を含有することが好ましく、その場合のＡｌ２Ｏ３含有量は１％以上であることが好ましい。
【００１８】
Ｂｉ２Ｏ３は必須ではないが、Ｔｓを下げるために３０％まで含有してもよい。３０％超ではεが高くなりすぎるおそれがある。
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯはいずれも必須ではないが、ガラスを安定化させるために合計で２８％まで含有してもよい。２８％超ではガラスがかえって不安定になる、またはＴＳが高くなりすぎる。
【００１９】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏはいずれも必須ではないが、Ｔｓを下げるために合計で１２％まで含有してもよい。１２％超では電気絶縁性が不充分になるおそれがある。
ＣｕＯ、ＳｎＯ２およびＣｅＯ２はいずれも必須ではないが、アドレス電極に銀を用いた場合に前記誘電体層を通じて起こる銀起因発色を抑制するために合計で５％まで含有してもよい。５％超ではガラスが分相しやすくなる。
【００２０】
本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。当該その他の成分を含有する場合その含有量の合計は５％以下であることが好ましい。
前記その他の成分として、Ｌａ２Ｏ３等の希土類酸化物、Ｐ２Ｏ５、ＭｎＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＧｅＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＭｏＯ３、Ｒｈ２Ｏ３、Ａｇ２Ｏ、Ｉｎ２Ｏ３、ＴｅＯ２、ＷＯ３、ＲｅＯ２、Ｖ２Ｏ５、ＰｄＯ、が例示される。
【００２１】
耐アルカリ性をより高くしたい場合、本発明のガラスは、ＳｉＯ２が５２％以上、ＰｂＯが３４％以上、Ｂ２Ｏ３が５％未満、Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２が０〜５％、Ｂｉ２Ｏ３が０〜１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが０〜１２％、であることが好ましい（ガラスＡ）。ガラスＡの組成について以下に説明する。
ＳｉＯ２が５２％未満ではεが高くなりすぎる。好ましくは５５％以上である。また、６３％以下であることが好ましい。
ＰｂＯが３４％未満ではＴｓが高くなりすぎる。
Ｂ２Ｏ３が５％以上では所望の耐アルカリ性が得られない。好ましくは４％以下、より好ましくは３％未満、特に好ましくは２％未満である。
Ｔｓをより下げたい等の場合にはＰｂＯ＋Ｂ２Ｏ３は３５％以上であることが好ましい。
【００２２】
ＺｎＯを含有する場合、その含有量は、好ましくは１３％以下、より好ましくは１０％以下である。
Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２またはＺｒＯ２を含有する場合その含有量の合計が５％超ではＴｓが高くなりすぎる。好ましくは３％以下である。
Ｂｉ２Ｏ３を含有する場合、その含有量が１５％超ではεが高くなりすぎる。好ましくは１３％以下である。
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯまたはＢａＯを含有する場合その含有量の合計が１２％超ではガラスが不安定になる、またはＴｓが高くなりすぎる。好ましくは５％未満である。
【００２３】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯまたはＫ２Ｏを含有する場合その含有量の合計は５％未満であることが好ましい。
ＣｕＯ、ＳｎＯ２またはＣｅＯ２を含有する場合その含有量の合計は１％未満であることが好ましい。
【００２４】
Ｔｓを下げたい、またはεを低下させたい場合、本発明のガラスは、ＳｉＯ２が５８％以下、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが５８％以下、Ｂ２Ｏ３が５〜８％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが０〜１０％、ＳｎＯ２が０〜１％、ＰｂＯ＋ＴｉＯ２＋ＺｎＯが２８〜４６％、Ｂ２Ｏ３＋ＺｎＯが８％以下、であることが好ましい（ガラスＢ）。ガラスＢの組成について以下に説明する。
必須成分であるＳｉＯ２と必須ではない成分であるＡｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量との合計が５８％超ではＴｓが高くなりすぎる。前記含有量の合計が５６％以下であることが好ましい。
Ｂ２Ｏ３が５％未満では所望のＴｓが得られない。８％超では所望の耐アルカリ性が得られない。
【００２５】
ＺｎＯを含有する場合、Ｂ２Ｏ３とＺｎＯの含有量の合計が８％超では所望の耐アルカリ性が得られない。
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯまたはＫ２Ｏを含有する場合、それらの含有量の合計が１０％超では所望の電気絶縁性が得られないおそれがある。
Ｂｉ２Ｏ３を含有する場合、その含有量は１５％以下であることが好ましい。
ＳｎＯ２を含有する場合、その含有量が１％超ではガラスが分相しやすくなるおそれがある。
ＣｕＯ、ＳｎＯ２またはＣｅＯ２を含有する場合、それらの含有量の合計は１％以下であることが好ましい。
必須成分であるＰｂＯと必須ではない成分であるＺｎＯおよびＴｉＯ２の含有量の合計は２８〜４６％であることが好ましい。２８％未満ではＴｓが高くなりすぎるおそれがある。４６％超ではガラスが不安定になる、またはεが高くなりすぎるおそれがある。
【００２６】
次に、本発明の組成物の成分について質量百分率表示を用いて説明する。
本発明のガラスの粉末は固着材であり、必須である。５０％未満では焼結不足になる。好ましくは６０％以上、より好ましくは７０％以上、特に好ましくは８０％以上である。
前記粉末の質量平均粒径は１．０〜３．０μｍであることが好ましい。
このような粉末はたとえば次のようにして作製される。すなわち、本発明のガラスが得られるように原料を調合して混合し、１２００〜１３５０℃の電気炉中で白金坩堝を用いて１時間溶解し、得られた溶融ガラスを流し出して薄板状に成形し、この薄板状のガラスをアルミナボールミルで２０時間粉砕してガラス粉末とする。
【００２７】
セラミックスフィラーは隔壁の強度を高め隔壁形状を保持する成分であり、必須である。取り扱いやすさまたは入手しやすさの点から、アルミナ、ムライト、ジルコン、ジルコニア、コージェライト、チタン酸アルミニウム、β−スポジュメン、シリカおよびβ−ユークリプタイトから選ばれる一種以上の粉末であることが好ましい。セラミックスフィラーが０．５％未満では、隔壁形状を保持できなくなる。
【００２８】
隔壁強度をより高くしたい場合、セラミックスフィラーはアルミナ粉末を含有することがより好ましく、本発明の組成物中におけるその含有量はさらに好ましくは７％以上、特に好ましくは１０％以上である。また同含有量は、より好ましくは３５％以下、特に好ましくは２５％以下である。
隔壁のεをより低下させたい場合、セラミックスフィラーはシリカ粉末を含有することがより好ましい。なお、本発明の組成物中におけるその含有量はより好ましくは３５％以下、特に好ましくは２５％以下である。
【００２９】
耐熱顔料は必須ではないが隔壁の色調を調整するために２０％まで含有してもよい。耐熱顔料として、チタニア等の白色顔料、Ｆｅ−Ｍｎ複酸化物系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ複酸化物、Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ複酸化物系等の黒色顔料が例示される。耐熱顔料が２０％超では焼結不足になる、または隔壁のεが高くなりすぎる。
隔壁の反射率をより高くしたい場合、耐熱顔料はチタニア粉末を含有することが好ましい。
本発明の組成物は本質的に上記成分からなるが、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。当該その他の成分を含有する場合その含有量の合計は１０％以下であることが好ましい。
【００３０】
本発明のＰＤＰ背面基板は、たとえば次のようにして作製される。すなわち、ガラス基板の上にアドレス電極およびそれを電気絶縁のために被覆する誘電体層を形成し、その誘電体層の上に、先に述べたＰＤＰの隔壁の形成方法においてそのガラスセラミックス組成物として本発明の組成物を用いて隔壁を形成し本発明のＰＤＰ背面基板を作製できる。
【実施例】
【００３１】
表のＳｉＯ２〜ＳｎＯ２の欄にモル％で示す組成となるように、原料を調合して混合し、１２００〜１３５０℃の電気炉中で白金るつぼを用いて１時間溶解した。得られた溶融ガラスをステンレス鋼製ローラに流しこんでフレーク状（薄板状）ガラスを得た。このフレーク状ガラスを、アルミナボールミルを用いて２０時間粉砕しガラス粉末（質量平均粒径＝２．５μｍ）とした。例１〜５は実施例、例６、７は比較例である。
【００３２】
得られたガラス粉末について、Ｔｓ（単位：℃）、α（単位：１０−７／℃）、εおよびＷＢ２Ｏ３（単位：１０−６ｇ／ｃｍ２）を測定した。結果を表に示す（「−」は測定しなかったことを示す）。
【００３３】
Ｔｓ：昇温速度１０℃／分の条件で示差熱分析計を用いて測定した。
α：ガラス粉末を加圧成形し、６００℃で１０分間焼成して得た焼成体を直径５ｍｍ、長さ２ｃｍの円柱状に加工し、示差熱膨張計で測定した。
ε：ガラス粉末を再溶融して板状に成形後、５０ｍｍ×５０ｍｍ×３ｍｍに加工し、その両面にアルミニウムを蒸着して電極とし、ＬＣＲメーターを用いて測定した。
【００３４】
【表１】
2004277276.tif 000002