(57)【要約】【課題】熱現像性感光材料を迅速で均一に現像する熱現像装置であり、長期間に亙り、熱現像装置内の熱ドラムの汚れがなく、熱現像された熱現像性感光材料の汚れが転写することのない、高品質画像を与える耐久性に優れた熱現像処理装置の提供にある。【解決手段】支持体の少なくとも一方の面に銀塩及び還元剤を含有する感光層と該感光層を保護する層を有する熱現像性感光材料を熱現像処理する熱現像処理装置において、該熱現像処理装置の熱ドラム又は対向ローラーを非フッ素化ポリシロキサンで被覆し、更に、該被覆層上にフッ素化炭化水素ポリマーで被覆することを特徴とする熱現像処理装置。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の少なくとも一方の面に銀塩及び還元剤を含有する感光層と該感光層を保護する層を有する熱現像性感光材料を熱現像処理する、熱ドラムおよび対向ローラー有する熱現像装置を備えた熱現像処理装置において、該熱現像処理装置の熱ドラム又は対向ローラーを下記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンで被覆し、更に、該被覆層上に下記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーで被覆することを特徴とする熱現像処理装置。
【化１】
2004272161.tif 000016
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は水素原子又は炭素数１〜１６の炭化水素基、Ｗ１は重合可能なビニル基を有する基、ａは１０〜１００００の整数、ｂ及びｃは０〜１０００の整数、Ｚは水素原子又は炭素数１〜１６の炭化水素基又は下記一般式（２）で表される基である。）
【化２】
2004272161.tif 000017
（式中、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ炭素数１〜１６の炭化水素基を表す。）
【化３】
2004272161.tif 000018
（式中、Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜１６の炭化水素基から選ばれる基を表し、少なくとも１つはフッ素原子であり、Ｘ５〜Ｘ１０はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜１６の炭化水素基から選ばれる基を表し、ｔは０又は１、ｐは１０〜８０００の整数、ｑは１〜３０００の正の整数を表す。但し、Ｘ１〜Ｘ１０がすべてフッ素原子であることはない。）
【請求項２】
前記一般式（１）において、ａが１００〜９０００で、且つｃが１０〜３００の整数であり、前記一般式（３）で表されるＸ１〜Ｘ４がすべてフッ素原子であることを特徴とする請求項１記載の熱現像処理装置。
【請求項３】
前記一般式（１）において、ｂが１０〜５００であり、一般式（３）で表される式中、Ｘ５〜Ｘ１０で表される置換基の１つが酸素原子を有する置換基であることを特徴とする請求項１又は２記載の熱現像処理装置。
【請求項４】
前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン中に無機充填剤が含まれ、該無機充填剤がアルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、マグネシア、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化カルシウム、炭化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化アルミニウム、炭化アルミニウム、ホウ化チタン、窒化チタン及び炭化チタンからなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【請求項５】
前記非フッ素化ポリシロキサン中に含まれる無機充填剤の平均粒子径が、１０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項４に記載の熱現像処理装置。
【請求項６】
前記無機充填剤をフッ素化界面活性剤の存在下で含有させることを特徴とする請求項４又は５記載の熱現像処理装置。
【請求項７】
前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン及び一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーのそれぞれの被覆厚が１００ｎｍ〜１ｍｍであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【請求項８】
前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンが架橋され、かつ架橋が白金触媒及び有機過酸化物から選ばれる１つ以上の触媒で促進されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項記載の熱現像処理装置。
【請求項９】
前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンの重合可能なビニル基を有する基が、アクリロイル基又はメタクリロイル基であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【請求項１０】
前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン及び一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーのそれぞれの被覆層の塗膜が８０〜４００℃で同時又はそれぞれ独立に熱処理されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【請求項１１】
熱ドラムまたは対向ローラーが芯金属に前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンを被覆し、更に、該被覆層上に前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーを被覆したものであり、該熱ドラム又は対向ローラーの芯金属上に非フッ素化ポリシロキサンを被覆するに先立ち、アルコキシシラン化合物又はアルコキシ金属化合物で処理されたプライマー成分を塗設することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【請求項１２】
熱ドラムまたは対向ローラーが芯金属に前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンを被覆し、更に、該被覆層上に前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーを被覆したものであり、前記非フッ素化ポリシロキサンの被覆後、フッ素化ポリシロキサンを含むプライマー層を塗設後、前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーを被覆することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱現像により画像を形成する熱現像性感光材料を処理する熱現像装置に関し、詳しくは熱現像性感光材料を長期間に亙って多量に迅速でしかも均一、高画質に現像する耐久性のある熱現像処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
Ｘ線撮影による医療画像診断の分野では、特に、ＣＲ（コンピューテッドラジオグラフィー）などの診断画像のモダリティーが普及し、このシステムではドライ処理が普及している。
【０００３】
このシステムは、被写体を透過したＸ線エネルギーをイメージングプレート上の輝尽性蛍光体に吸収させ、紫外線、可視光線又は赤外線等で時系列的に輝尽性蛍光体を励起し、蓄積されたＸ線エネルギーを蛍光として放射させ、この蛍光を光電的に読み取り電気信号を得、得られた電気信号をレーザー光の強度に変換し、このレーザー光で熱現像性感光材料中のハロゲン化銀に潜像を形成させ、これを熱現像して被写体又は被検体のＸ線像を可視画像として再生することを基本としている。熱現像は８０〜２００℃の温度の熱ダラム上で加熱処理して黒色画像を得る。
【０００４】
熱現像性感光材料（以下、単にフィルムとも言う）中の感光層には、ハロゲン化銀、有機銀塩と還元剤の他にカブリ防止剤、光カブリ防止剤、安定剤、現像促進剤、延展剤及び結合剤等の添加剤が含まれ、その保護層には、延展剤、マット剤、帯電防止剤および結合剤等が含まれている。これらのうち数種が熱現像時に過熱されて軟化し、時には揮発、蒸散或いは昇華等が微少ながら発生し、熱ドラムの最外層に付着し、この付着物が熱現像感光材料に転写して画質を劣化させる。
【０００５】
熱ドラム上に付着する物質は、熱現像性感光材料中からのみではなく、外部からの塵芥の侵入による場合もある。塵芥のような付着物は静電気を帯び付着するので、帯電防止剤等で対処されているが、この方法で完全に防げるわけではなく、このような付着物質による汚れが、１〜１０万時間と長期に運転すると肥大し、熱ドラムを微少ながら変形させたり、クラックを生じさせ、この上を搬送される熱現像性感光材料の熱現像に不均一性を与えて画質を損なう。
【０００６】
熱ドラムには、耐熱性をもたせるほか、異物の付着を避ける方法として、熱ドラムをシリコンポリマーで被覆するなどの方法が開示されているが（特許文献１記載）、長時間に亙る汚れを完全に防止することは不可能であった。また熱ドラムの表面をフッ素樹脂にする方法が提案されているが（特許文献２記載）、フッ素樹脂では直下の基材との接着性が劣り、膜剥がれを起こし、長期の熱現像処理に耐えないという問題があった。それ故、長期に亙って汚れの付着を少なくすることと、高い膜強度を得るという両者を満足させる技術が強く求められていた。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００１−２７２７５１号公報
【０００８】
【特許文献２】
特開２００２−２９６７５２号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、熱現像性感光材料を迅速で均一に現像する熱現像装置であり、長期間に亙り、熱現像装置内の熱ドラムの汚れがなく、熱現像された熱現像性感光材料の汚れが転写することのない、高品質画像を与える耐久性に優れた熱現像処理装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は以下の手段によって達成される。
【００１１】
（１）支持体の少なくとも一方の面に銀塩及び還元剤を含有する感光層と該感光層を保護する層を有する熱現像性感光材料を熱現像処理する、熱ドラムおよび対向ローラー有する熱現像装置を備えた熱現像処理装置において、該熱現像処理装置の熱ドラム又は対向ローラーを前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンで被覆し、更に、該被覆層上に前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーで被覆することを特徴とする熱現像処理装置。
【００１２】
（２）前記一般式（１）において、ａが１００〜９０００で、且つｃが１０〜３００の整数であり、前記一般式（３）で表されるＸ１〜Ｘ４がすべてフッ素原子であることを特徴とする前記１記載の熱現像処理装置。
【００１３】
（３）前記一般式（１）において、ｂが１０〜５００であり、一般式（３）で表される式中、Ｘ５〜Ｘ１０で表される置換基の１つが酸素原子を有する置換基であることを特徴とする前記１又は２記載の熱現像処理装置。
【００１４】
（４）前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン中に無機充填剤が含まれ、該無機充填剤がアルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、マグネシア、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化カルシウム、炭化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化アルミニウム、炭化アルミニウム、ホウ化チタン、窒化チタン及び炭化チタンからなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【００１５】
（５）前記非フッ素化ポリシロキサン中に含まれる無機充填剤の平均粒子径が、１０〜１００ｎｍであることを特徴とする前記４に記載の熱現像処理装置。
【００１６】
（６）前記無機充填剤をフッ素化界面活性剤の存在下で含有させることを特徴とする前記４又は５記載の熱現像処理装置。
【００１７】
（７）前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン及び一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーのそれぞれの被覆厚が１０ｎｍ〜２０ｍｍであることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【００１８】
（８）前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンが架橋され、かつ架橋が白金触媒及び有機過酸化物から選ばれる１つ以上の触媒で促進されていることを特徴とする前記１〜７のいずれか１項記載の熱現像処理装置。
【００１９】
（９）前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンの重合可能なビニル基を有する基が、アクリロイル基又はメタクリロイル基であることを特徴とする前記１〜８のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【００２０】
（１０）前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン及び一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーのそれぞれの被覆層の塗膜が８０〜４００℃で同時又はそれぞれ独立に熱処理されることを特徴とする前記１〜８のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【００２１】
（１１）熱ドラムまたは対向ローラーが芯金属に前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンを被覆し、更に、該被覆層上に前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーを被覆したものであり、該熱ドラム又は対向ローラーの芯金属上に非フッ素化ポリシロキサンを被覆するに先立ち、アルコキシシラン化合物又はアルコキシ金属化合物で処理されたプライマー成分を塗設することを特徴とする前記１〜１０のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【００２２】
（１２）熱ドラムまたは対向ローラーが芯金属に前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンを被覆し、更に、該被覆層上に前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーを被覆したものであり、前記非フッ素化ポリシロキサンの被覆後、フッ素化ポリシロキサンを含むプライマー層を塗設後、前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーを被覆することを特徴とする前記１〜１１のいずれか１項に記載の熱現像処理装置。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態及び実施例を説明する。
（熱現像装置）
発明に係る熱現像処理装置とは、ＣＲ、放射線ＣＴ装置、スキャナ等の画像発信装置から送信されたデジタル画像信号に基づき、強度変調されたレーザ光を、回転多面鏡によって偏向して、フィルム上を主走査すると共に、フィルムをレーザ光に対して主走査の方向と略直角の方向に相対移動させることにより副走査し、レーザ光を用いてフィルム上に潜像を形成させ、この潜像を熱現像して黒色画像を得るものである。
【００２４】
本発明の熱現像装置の概略断面図を図１に、本発明の実施の形態にかかる熱現像部の構成を示す概略図を図２に示した。図２（ａ）は、フレームの一部破断面を含む現像部の概略斜視図であり、図２（ｂ）は、Ａ−Ａ′に沿った熱ドラムの概略断面図である。尚、本図２（ｂ）では、本発明の熱ドラム１の構成を説明するため対向ローラーは省略してある。
【００２５】
図１に示した熱現像装置１００は、シート状の熱現像性感光材料（以下、単にフィルムともいう）Ｆを１枚ずつ供給する供給部１１０、供給されるフィルムＦを露光する露光部１２０、露光されたフィルムＦを現像する熱現像部１３０及び現像を停止させる冷却部１５０を有している。
【００２６】
供給部１１０は上下２段に設けられ、ケースＣに収納されたフィルムＦを、ケースＣごと格納する。取り出し装置１４０の吸引装置と搬送ローラにより、フィルムＦをケースＣから取り出し、図中矢印方向（水平右方向）に引き出す。更に、ケースＣから引き出されたフィルムＦを、ローラ対からなる搬送装置１４１により、図中矢印方向（下方）に搬送する。
【００２７】
熱現像装置１００の下方に搬送されてきたフィルムＦを、搬送装置１４２により、図中矢印方向（左方）に搬送する。熱現像装置１００の左側面から、矢印で示す方向（上方）に、ローラ対からなる搬送装置１４３により搬送し、その際露光部１２０において、赤外域７８０〜８６０ｎｍ範囲内のレーザ光Ｌ、例えば８１０ｎｍで走査露光する。
【００２８】
フィルムＦはレーザ光Ｌを受けることにより潜像を形成する。その後、更にフィルムＦは矢印に示す方向（上方）に搬送され、供給ローラ対１４４に到達した時点で、そのまま熱ドラム１に供給される。すなわち、ランダムなタイミングで供給する形式のものである。また、到達した時点で一旦停止させるようにしても良い。この場合、供給ローラ対１４４は、一定の回転速度で回転する現像部１３０の熱ドラム１に、フィルムＦを供給するタイミングを決定する機能を有し、かかる熱ドラム１周上の次の被供給位置に回転したとき、供給ローラ対１４４が回転を開始することにより、フィルムＦを、熱ドラム１の外周上の一定の位置に供給する形式のものであってもよい。
【００２９】
更に、熱ドラム１はフィルムＦを外周上に保持しながら、矢印の方向に回転する。かかる状態で、フィルムＦを熱ドラム１が加熱して熱現像し、潜像から可視画像を形成する。その後、図１の熱ドラム１が右方まで回転したとき、熱ドラム１からフィルムＦを分離ツメ６により離脱させ、矢印の方向に搬送し冷却部１５０の複数の搬送ローラ対１４５により冷却搬送された後、熱現像装置１００の上部から取り出せるように排出トレイ１６０に排出される。
（熱ドラム及び対向ローラー群）
本発明に好ましく用いられる熱ドラム１又は対向ローラー群２の芯金属としてはアルミニウム、鉄、ニッケル、チタン、モリブデン、マグネシウム、マンガン、銅、銀、錫、クロム、タングステン、コバルト等の金属や金属化合物及びこれらの２種以上からなる合金類が挙げられる。合金類の具体例としては炭素鋼、Ｎｉ鋼、Ｃｒ鋼、Ｎｉ−Ｃｒ鋼、Ｃｒ−Ｍｏ鋼、ステンレス鋼、ケイ素鋼、パーマロイ等の合金鋼、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｍｇ、Ａｌ−Ｓｉ、Ａｌ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ等のアルミニウム合金、黄銅、青銅（ブロンズ）、ケイ素青銅、ケイ素黄銅、洋白、ニッケル青銅等の銅合金、ニッケルマンガン（Ｄニッケル）、ニッケル−アルミニウム（Ｚニッケル）、ニッエルケイ素、モネルメタル、コンスタンタン、ニクロミインコネル、ジャステロイ等のニッケル合金等が挙げられる。さらに、アルミニウム系金属については、純アルミニウム、アルミニュウの酸化物、Ａｌ−Ｃｕ系、Ａｌ−Ｓｉ系、Ａｌ−Ｍｇ系及びＡｌ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系、高力アルミニウム合金、耐食アルミニウム合金等の鋳造物又は展伸用のアルミニウム合金を用いることができる。さらにまた鉄系金属としては、純鉄、酸化鉄、炭素鋼、Ｎｉ鋼、Ｃｒ鋼、Ｎｉ−Ｃｒ鋼、Ｃｒ−Ｍｏ鋼、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｍｏ鋼、ステンレス鋼、ケイ素鋼、パーマロイ、不感磁性鋼、磁石鋼、鋳鉄類等を用いることができる。
【００３０】
熱ドラムは、８０〜２００℃の現像温度に耐える必要があることから、支持部材である金属はステンレス、アルミニウム、銅、マグネシウム合金、ジュラルミン等が好ましい。同様に対向ローラー２の芯金属も上記金属から選択される。
【００３１】
上記金属は、腐食防止等を目的として、金属表面に電気メッキ、熔融メッキ、クロマイジング、シリコナイジング、カロライジング、シェラダイジング、溶射等を施して他の金属を被膜したり、リン酸塩処理によりリン酸塩被膜を形成させたり、陽極酸化や加熱酸化により金属酸化物を形成させたり、電気化学的防食を基材へ施すこともできる。更に、接着性を向上させることを目的として、金属基材表面をリン酸、硫酸、クロム酸、シュウ酸等による化成処理を施したり、サンドブラスト、ショットブラスト、グリッドブラスト、ホーニング、ペーパースクラッチ、ワイヤースクラッチ、ヘアーライン処理等の表面粗面化処理を施してもよく、意匠性を目的として、金属表面に着色、印刷、エッチング等を施してもよい。
【００３２】
本発明の実施態様では、接着性を向上させる目的として、後述するポリマー層を金属表面に塗設する。
【００３３】
図２（ａ）において、現像部１３０はフィルムＦを外周にほぼ密着して保持すると共に加熱可能な加熱部材として、熱ドラム１を有している。熱ドラム１は、フィルムＦを所定の最低熱現像温度以上に、所定の熱現像時間維持することによって、フィルムＦに形成された潜像を可視画像として形成する機能を有する。ここで、最低熱現像温度とは、フィルムＦに形成された潜像が熱現像され始める最低温度のことであり、本実施の形態のフィルムにおいては１００℃以上である。一方、熱現像時間とは、フィルムＦの潜像を所望の現像特性に現像するために、最低熱現像温度以上に維持するべき時間をいう。尚、フィルムＦは、４０℃以下では実質的に熱現像されないものであることが好ましい。
【００３４】
熱ドラム１の外周には付勢部材として小径の対向ローラ２が複数本設けられており、熱ドラム１に対向しかつ、ドラム１の周方向に等間隔に配置されている。熱ドラム１の両端には、フレーム２０に支持されている案内ブラケット４が両側に備えられている。
【００３５】
Ｘ、Ｙは検知手段を示す。該検知手段Ｘ、Ｙを適用して熱ドラム１の加熱温度、加熱時間及びフィルムへの露光量を制御する。尚、検知手段Ｘは現像部本体のフレーム（不図示）に固定されている。一方、検知手段Ｙは熱ドラム内にて固定部材（不図示）により固定されている。
【００３６】
各案内ブラケット４には、放射状に延びた長孔５が形成されている。この長孔５から、対向ローラ２の両端部に設けられたシャフト２１が突出する。シャフト２１には、それぞれコイルばね２２の一端が取り付けられており、コイルばね２２の他端は、案内ブラケット４の内方縁近傍に取り付けられている。従って、各対向ローラ２は、コイルばね２２の付勢力に基づく所定の力で、熱ドラム１の外周に付勢される。フィルムＦは、熱ドラム１の外周と対向ローラ２との間に侵入したときに、かかる所定の力で熱ドラム１の外周面に対して押圧され、それによりフィルムＦを全面的に均一に加熱できる。
【００３７】
熱ドラム１に同軸に連結されたシャフト１１は、フレーム２０の端部外方に延在しており、シャフトベアリング４０により、フレーム２０に対して回転自在に支承されている。シャフト１１の下方に配置され、フレーム２０に取り付けられたマイクロステップモータ（不図示）の回転軸２３には、ギヤ（不図示）が形成されている。一方、シャフト１１にもギヤが形成されている。両ギヤを連結するタイミングベルト（ギヤが刻まれているベルト）２５を介して、マイクロステップモータの動力がシャフト１１に伝達され、それにより熱ドラム１が回転する。
【００３８】
尚、回転軸２３からシャフト１１への動力の伝達は、タイミングベルト２５ではなくチェーンやギヤ列を介して行ってもよい。
【００３９】
図２（ｂ）において、熱ドラム１は、支持部材であるアルミ製の支持チューブ３５と、該チューブの内周には、板状のヒータ（不図示）が全周にわたって取り付けられており、ＣＰＵとメモリーを搭載した制御手段１７０の制御下で加熱するようになっている。
【００４０】
また、現像を均一にするため、熱ドラム１のアルミ製の支持チューブ３５と対向ローラー２の芯金属（不図示）の少なくとも一方にプライマー層３６を設け、その上に前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロクサン層３７が塗布され、該ポリマー層３７の上に、プライマー層３８を設け、その上に前記一般式（３）で表されるフッ素化されたポリマー層３９が被覆される。
【００４１】
即ち、アルミ製の支持チューブ３５と非フッ素化ポリシロクサン層３７、非フッ素化ポリシロクサン層３７とフッ素化されたポリマー層３９との各々の層間にプライマー層３７及び３９を設けることで接着性能を向上せしめる。
【００４２】
以下に、前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン及び前記一般式（３）で表されるフッ素化されたポリマーについて説明する。
（非フッ素化ポリシロキサン）
前記一般式（１）において、Ｒ１〜Ｒ４は水素原子又は炭素数１〜１６の炭化水素基、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基等、Ｗ１は重合可能なビニル基、例えば、アクロイル基、メタクロイル基、ビニルスルホニル基等、ａは１０〜１００００の整数で、好ましくは１００〜９０００、ｂ及びｃは、それぞれ０〜１０００の整数、特にｃは１０〜３００であり、Ｚはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１６の炭化水素（前記Ｒ１〜Ｒ４で表される基と同義）、又は前記一般式（２）で表される基を表し、該式中Ｒ５〜Ｒ７は炭素数１〜１６の炭化水素（前記Ｒ１〜Ｒ４で表される基と同義）基を表す。
【００４３】
本発明に使用する非フッ素化ポリシロキサンは、主鎖がケイ素原子と酸素原子が交互に直列に並んだポリマーであるが、枝分かれしてもよい。置換基の並び方はランダムでも交互でも、ブロック型でもよい。高い強度の非フッ素化ポリシロキサンは、平均重合度の低い（平均重合度１０〜３０００）非フッ素化ポリシロキサンを予め調製し、該非フッ素化ポリシロキサンを芯金属上に被覆し、熱処理することにより重合度を高めることや分子間架橋の促進により得ることができる。
【００４４】
本発明に使用する前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンの好ましい具体例を下記に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４５】
【化４】
2004272161.tif 000002
【００４６】
【化５】
2004272161.tif 000003
【００４７】
上記ポリマーの熱処理後の数平均重合度は、１００〜１００００程度の範囲を適宜選択することができる。上記範囲外でも可能であるが、数平均重合度が１００未満であると充分な機械的強度及び弾性が得られず、数平均重合度が１００００を越えると組成物の加工性が劣化し好ましくない。
【００４８】
非フッ素化ポリシロキサンの合成方法は、例えば、特開平５−１８６７００号の記載を参考にして容易に合成することができる。
【００４９】
非フッ素化ポリシロキサンの分子間架橋は、ケイ素原子に水素原子が結合したシリルハイドロジェン基（Ｓｉ−Ｈ）を持つポリシロキサン分子とビニル基（例えば、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−）を持つ非フッ素化ポリシロキサン分子との間を付加反応架橋させることにより硬度を上げることができる。Ｓｉ−Ｈ基を活性化する架橋触媒として金属触媒が好ましく、白金、パラジウム、ルテニウム、イリジウム等のハロゲン化物、或いは配位子としてカルボニル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、チオシアン基を持つ錯体化合物等を挙げることができる。また、ビニル基を持つ非フッ素化ポリシロキサン分子同士を分子間架橋させてもよい。ビニル基を活性化する触媒として、有機過酸化物触媒を挙げることができる。
【００５０】
以下に、有機過酸化物触媒として好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（Ｕ−１）メチルエチルケトンパーオキサイド
（Ｕ−２）シクロヘキサノンパーオキサイド
（Ｕ−３）２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド
（Ｕ−４）ビス−３，３，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド
（Ｕ−５）ラウロイルパーオキサイド
（Ｕ−６）ベンゾイルパーオキサイド
（Ｕ−７）クメンハイドロパーオキサイド
（Ｕ−８）ジクミルパーオキサイド
（Ｕ−９）ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド
（Ｕ−１０）３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド
（Ｕ−１１）２，２−ジ−ｔ−ブチルパーオキシブタン
（Ｕ−１２）ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート
（Ｕ−１３）ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート
（Ｕ−１４）ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート
（Ｕ−１５）ジイソプロピルパーオキシジカーボネート
（Ｕ−１６）ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート
上記架橋剤としての金属触媒や過酸化物触媒は、非フッ素化ポリシロキサンの塗設前に添加しておき、塗布液の状態で予め数平均重合度を上げておいてもよいし、塗設後８０〜４００℃、好ましくは１２０〜２００℃の熱処理により数平均重合度を上げて、最終的な平均組成の非フッ素化ポリシロキサンとすることもできる。
【００５１】
貴金属触媒や過酸化物触媒は、適当な有機溶媒、例えばトルエン、キシレン、ジオキソラン、アセトン、メチルエチルケトン等に溶かして添加してもよいし、微粒子状態にした固形のまま使用してもよい。
【００５２】
上記化合物の配合量は、一般式（１）で表される化合物の１００質量部に対して０．１〜１０質量部が好ましく、０．１質量部未満では機械的強度が不足し、１０質量部を越えると加工性が劣化する。
【００５３】
上記非フッ素化ポリシロキサンの成型体の膜厚は１００ｎｍ〜１ｍｍの範囲が好ましく、さらに好ましいのは１μｍ〜２００μｍである。１００ｎｍ未満では、非フッ素化ポリシロキサンの被覆において、密着度が不充分になり、現像が不均一となり、１ｍｍを越えると非フッ素化ポリシロキサンの均一な平面を得ることが難しくなる。
（フッ素化炭化水素ポリマー）
次ぎに、本発明に係わる前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーについて述べる。
【００５４】
前記一般式（３）において、Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素等の原子）、炭素数１〜１６の炭化水素基（例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基等）を表し、Ｘ１〜Ｘ４の少なくとも１つはフッ素原子であり、Ｘ５〜Ｘ１０はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１６の炭化水素基又は酸素原子を含む炭化水素置換基から選ばれる基を表し、ハロゲン原子は全く含まなくてもよい。ｐは１００〜９０００、ｑは１００〜６００の整数、ｔは０又は１〜４の整数を表す。酸素原子を含む置換基としては、カルボキシル基、カルボキシルアルキルエステル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルキルオキシ基、ヒドロキシアルキルオキシアルキル基、ヒドロキシアルキル（ポリアルキルオキシ）アルキル基、アルキル（ポリオキシアルキル）オキシ基、グリシジルアルキルオキシ基、グリシジルオキシアルキル基、グリシジルオキシアルキルオキシ基等を挙げることができる。前記Ｘ１〜Ｘ１０が同時にすべてフッ素原子であることはない。
【００５５】
前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーの数平均重合度は、１００〜１００００程度の範囲を適宜選択することができる。前記範囲外でも可能であるが、数平均重合度が１００未満では充分な機械的強度及び弾性が得られず、数平均重合度が１００００を越えると、組成物の加工性が劣化し好ましくない。
【００５６】
前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーポリマーの合成法は、例えば、国際出願ＷＯ９８／５０２２９を参考にして合成することができる。
【００５７】
前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマー層の被覆膜厚は１００ｎｍ〜１ｍｍの範囲が好ましく、さらに好ましいのは１μｍ〜２００μｍである。被覆膜厚が１００ｎｍ未満では、フッ素化炭化水素ポリマーの被覆において、密着度が不充分になり、現像が不均一となり、１ｍｍを越えるとフッ素化炭化水素ポリマー層の被覆加工が難しくなる。
【００５８】
前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン層と前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマー層の塗膜厚比は、１／１００００〜１００００までが好ましい。前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーの好ましい具体例を下記に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５９】
【化６】
2004272161.tif 000004
【００６０】
（プライマー）
本発明のプライマーについて説明する。
【００６１】
本発明において、プライマーとは、熱ドラムの芯金属と一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン層との接着性及び非フッ素化ポリシロキサン層とその上のフッ素化炭化水素ポリマー層との接着性を向上させるために使用するもので、前者をプライマー１と呼び、後者をプライマー２と呼ぶ。
〈プライマー１〉
プライマー１は芯金属と一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン層との接着であるので、一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン中にシランカップリング剤、金属アルコキシド、例えばアルミニウムアルコキシド（アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムエトキシド等）、チタンアルコキシド、例えば、チタンプロポキシド、チタンブトキシド等のカップリング剤を含ませたものをプライマーとして使用できる。シランカップリング剤としては、トリトリアルコキシシラン基を有するシランカップリング剤が好ましく、特に好ましいシランカップリング剤を下記に示す。
【００６２】
【化７】
2004272161.tif 000005
【００６３】
シランカップリング剤は、一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン１００質量部に対して１／１０００〜４０質量部の範囲、より好ましくは１／１０〜１８質量部のまま範囲で使用することが好ましい。この範囲未満では接着性が弱く、膜剥がれし易く、上記範囲を越えると膜が弱くなり膜剥がれし易くなる。
【００６４】
非フッ素化ポリシロキサンの添加方法は、エチルアルコール、メチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコール類やアセトンやメチルエチルケトン等のケトン類に溶解して添加してもよく、無溶媒で使用してもよい。
【００６５】
塗膜の厚さは、１０ｎｍ〜３００μｍが好ましく、より好ましくは１００ｎｍ〜１００μｍである。上記未満では、プライマー層の接着効果が得にくく、上記範囲を越えると接着性が低下してくるので好ましくない。
〈プライマー２〉
非フッ素化ポリシロキサンとフッ素化炭化水素ポリマーの両者を接着させるプライマー２は、両者の組成分をもつものが好ましく、本発明では、前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサンと前記一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーを混合した組成が経済的である。更に、好ましい方法としては、下記一般式（４）で表されるフッ素化ポリシロキサンを用いることである。
【００６６】
【化８】
2004272161.tif 000006
【００６７】
一般式（４）において、Ｒ５〜Ｒ９はそれぞれ独立に水素原子、アクロイル基、メタクリロイル基又は炭素数１〜１６の炭化水素基（例えば、メチル基、エチル基ピロピル基、ブチル基、オクチル等）を表し、Ｒｆはフッ素化炭化水素基（パーフロロメチル基、パーフロロエチル基、パーフロロプロピル基（例えば、パーフロロヘキシル基、パーフロロオクチル基、パーフロロノネニル等）、Ｌ１は２価の連結基（メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキサメチレン基等）、ａ及びｃは０〜１０００の整数、ｂは１〜８０００の整数、ａ及びｃが同時に０になることはない。
【００６８】
上記プライマーの塗膜方法は、前述したアルコール類やケトン類に溶解又は分散して使用してもよいし、無溶媒で加温して液状にして塗設してもよい。塗膜の厚さ等はプライマー１と同様に設定することができる。一般式（４）で表される化合物の好ましい具体例を下記に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６９】
【化９】
2004272161.tif 000007
【００７０】
本発明では、前記一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン又は一般式（３）で表されるフッ素化炭化水素ポリマーの組成物中に必要により無機充填剤を含有せしめることができる。特に一般式（１）で表される非フッ素化ポリシロキサン中に含有させることが好ましい。無機充填剤を添加する目的は、塗膜の強度、熱伝導性、電気抵抗、滑り性調節等である。
【００７１】
無機充填剤としては、一定の強度であれば特に制限されないが、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、マグネシア、酸化亜鉛、酸化カルシウム等の酸化物系無機物、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、炭化アルミニウム、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタン等の非酸化物系無機物等が挙げられる。その中でも、酸化物系無機物、より好ましくはアルミナ、シリカ、チタニアが工業的に多量に製造され入手し易く経済的で好ましい。
【００７２】
本発明で使用する無機充填剤は、その原料、製造方法等は特に限定されず、繊維状、針状（ウィスカーを含む）、粒状、鱗片状等種々の形状のものを用いることができ、各塗膜において、無機充填剤をそれぞれ単独で使用してもよく、或いは２種以上を併用してもよい。また、種々の形状のものを混合して用いてもよい。更に、２種以上の無機充填剤を併用する場合があっても、それらの混合割合は特に限定されず、任意に選択することができる。
【００７３】
塗膜製造において、これらの無機充填剤の分散の均一性を確保するため、また、塗膜中に均一に分散させるために、無機充填剤は１００μｍ以上の粗大径のものを含まないことが望ましい。また、無機充填剤の平均粒径は、塗膜の厚さも考慮して定めればよいが、通常平均２０μｍ以下であり、平均５μｍ以下のものがより好ましい。下限は減退されないが、通常１０ｎｍ程度である。平均粒径が１０ｎｍ未満では、微粒子化のコストが高くなり、１００μｍ以上では成型品の表面の凹凸が大きく現像が不均一になり、画質が損なわれる。
【００７４】
無機充填剤の配合量は、一般式（１）で表される非フッ素化シロキサンの１００質量部に対して０．３〜３００質量部まで任意に設定することができるが、５〜９５質量部が好ましい。
【００７５】
無機充填剤の分散を良好にするために、界面活性剤を使用することが好ましい。界面活性剤は、組成物中の無機充填剤を均一に分散させることのできるものであればよく、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤のいずれも使用できる。例えば、ナトリウムアルキルサルフェート（例えば、ナトリウムラウリルサルフェート、ナトリウムオクチルサルフェート等）、ナトリウムアルキルエーテルサルフェート（例えば、ナトリウムラウリルエーテルサルフェート、ナトリウムドデシルエーテルサルフェート等）、トリエタノールアルキルサルフェート、トリエタノールアミンアルキルエーテルサルフェート、アンモニウムアルキルサルフェート、アンモニウムアルキルエーテルサルフェート、アルキルエーテルリン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム等のアニオン性界面活性剤、アルキルアンモニウム塩、アルキルベンジルアンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンフェニルエーテルである。本発明に特に好ましい構造を下記一般式（５）に示す。
【００７６】
【化１０】
2004272161.tif 000008
【００７７】
一般式（５）において、Ｒｆはそれぞれ炭素数１〜１２のフッ化アルキル基（例えば、パーフロロメチル基、パーフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基等）、アルケニル基（例えば、パーフロロプロペニル基、パーフロロブテニル基、パーフロロノネニル基等）を表し、Ｌ１及びＬ２は２価の連結基（例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基、ヘキサメチレン基等）を、Ｙは２〜４価の基を表し、Ａはアニオン基（スルホン酸基又はカルボン酸基）又はその塩（例えば、ナトリウム、カリウム、リチウムの各塩）を表し、ｍ及びｎは０又は１を表し、ｐ及びｑは１〜４の整数を表す。
【００７８】
一般式（５）で表される化合物の合成は、フッ素原子を導入した炭素数１〜１２のアルキル基（例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、パーフロロブチル基）、アルケニル基（例えば、パーフロロプロペニル基及びパーフロロブテニル基、パーフロロノネニル基等）を有するアルコール化合物、酸クロリド化合物又は沃化物）とそれぞれフッ素原子を有してもよい３〜６価のアルカノール化合物、水酸基を３又は４個有する芳香族化合物又はヘテロ化合物との縮合反応又は付加反応によって得るこができる。
【００７９】
また、別の合成法としては、非フッ素化構造の化合物を合成し、電解フッ素化して合成することができる。アルカノール化合物を使用する場合は、グリセリン、ペンタエリスリトール、２−メチル−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルペンテン、１、２、６−ヘキサントリオール、１，１，１−トリス（ヒドロキシメチル）プロパン、２，２−ビス（ブタノール）−３、脂肪族トリオール、テトラメチロールメタン、Ｄソルビトール、キシリトール、Ｄ−マンニトール等が原料として有用である。以下に、一般式（５）で表される化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【００８０】
【化１１】
2004272161.tif 000009
【００８１】
【化１２】
2004272161.tif 000010
【００８２】
本発明に好ましく用いられる前記一般式（５）で表される化合物の添加方法は水、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、トルエンやキシレン等の芳香族系やノルマルヘキサンやデカン等の芳香族系等の溶媒に溶解又は部粒子分散して添加してもよいし、固体微粉末のまま添加してもよい。添加量は、無機微粒子１ｇ当たり１μｇ〜１３ｇの範囲が好ましく、特に１〜３００ｍｇの範囲が好ましい。この範囲未満では、無機微粒子の分散効果が得られにくく、これを越えると泡沫が発生し易く、生産性が低下する。
【００８３】
本発明で用いるポリマー分散組成物中には、用途によって種々の添加剤を配合することができる。
【００８４】
添加剤としては、例えば、安定剤、顔料、増粘剤、分解促進剤、防錆剤、消泡剤等が挙げられる。
【００８５】
各被覆組成物の溶媒としては、フッ素化ポリマーや無機充填剤を均一に分散させるため、また、加熱処理後に揮散するような有機溶剤が用いられる、例えば、メチルエチルケトン、ジオキサン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチレングルコール、エタノール、ｎ−メチルピロリドン、ジアセトアルコール、トルエン、ベンゼン、キシレン等が挙げられる。
【００８６】
各被覆組成物の塗膜の塗布方法としては、公知の各種の塗布方法を採用することができる。例えばスプレーコート法、バーコート法、フローコート法、ディップ法、キャスティング法及びスピンコート法等が挙げられる。
【００８７】
特に、スプレート法は、塗膜の膜厚を均一にし易すい点で好適である。スプレート法の場合に用いられる塗布機としいは、公知のものが使用できる。
【００８８】
熱処理は８０〜４００℃程度、より好ましくは１２０〜１８０℃の温度で行うのがよい。熱処理温度が８０℃未満では、熱処理時間を長くする必要があり、一方、４００℃を越える場合には、非フッ素化ポリシロキサン又はフッ素化炭化水素ポリマーが分解する恐れが生じるので好ましくない。熱処理時間は特に限定されるものではないが、通常１０〜６０分程度でよい。
（熱現像材料）
熱現像材料は、支持体上に少なくとも１層の感光層を設け、この感光層の下部（支持体と感光層の間）にＡＨ層、感光層上部に保護層が塗設されている。更に、支持体に対して感光層のある側と反対側にバッキング層（ＢＣ層）、その上部に保護層がそれぞれ塗設されている。感光層中には、ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤及びバインダー（高分子結合剤）が含まれている。ＡＨ層、ＢＣ層には、感光波長に対して吸収効率が高く、残色になりにくい染料をバインダー中に存在させて熱現像材料の構成層界面での乱反射による鮮鋭性の劣化や干渉縞の防止行う。
【００８９】
ＡＨ層、ＢＣ層及び保護層等のバインダーは、感光層と同種や異種の素材を使用することができる。ＢＣ層に染料を使用する場合、ＡＨ層を設けない場合もある。ＡＨ層やＢＣ層の染料に由来する残色を低減させるため、熱により消色する染料を、更に熱消色を促進するために塩基発生前駆体を場合によっては使用することができる。バインダーの硬化は、保護層のみに関わらず感光層、ＡＨ層及びＢＣ層等をエポキシ架橋剤、酸無水物化合物及び塩基発生前駆体を適宜選択することにより、写真性能を損なわない範囲で使用することができる。以下に、熱現像材料に使用する素材について順次詳述する。
（感光性ハロゲン化銀）
本発明の熱現像感光材料に使用される感光性ハロゲン化銀は、シングルジェットもしくはダブルジェット法等の写真技術の分野で公知の任意の方法により、例えばアンモニア法、中性法、酸性法等の何れかの方法で調製できる。この方法で予め調製し、次いで本発明の他の成分と混合して、本発明の組成物中に導入することができる。この場合、感光性ハロゲン化銀と後述の有機銀塩との接触を充分に行わせるため、例えば、感光性ハロゲン化銀を調製するときの保護ポリマーとして米国特許第３，７０６，５６４号、同第３，７０６，５６５号、同第３，７１３，８３３号、同第３，７４８，１４３号、英国特許第１，３６２，９７０号等の各明細書に記載されているポリビニルアセタール類等のゼラチン以外のポリマーを用いる手段や、英国特許第１，３５４，１８６号明細書に記載されているような感光性ハロゲン化銀乳剤のゼラチンを酵素分解する手段又は米国特許第４，０７６，５３９号明細書に記載されているように感光性ハロゲン化銀を界面活性剤の存在下で調製することによって、保護ポリマーの使用を省略する手段等の各手段を適用することが出来る。
【００９０】
ハロゲン化銀は、良好な画質を得るために粒子サイズが小さくて感度の高いものが好ましい。粒子サイズが小さいと粒状性や解像度が良いからである。しかし、感度は低くなるので、分光増感や化学増感により増感され易い結晶形が好ましい。
【００９１】
具体的には、平均粒子サイズは０．１μｍ以下、好ましくは０．０１〜０．１μｍ、特に好ましくは０．０２〜０．０８μｍである。また、ハロゲン化銀の形状としては、特に制限はないが、立方体、八面体の所謂正常晶等の粒子が好ましい。また、ハロゲン化銀組成としては塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよいが沃臭化銀が好ましい。
【００９２】
上記ハロゲン化銀の量は、ハロゲン化銀及び後述の有機銀塩の総量に対し５０質量％以下、好ましくは２５〜０．１質量％、さらに好ましくは１５〜０．１質量％である。
【００９３】
本発明の熱現像感光材料に使用される感光性ハロゲン化銀は、英国特許第１，４４７，４５４号明細書に記載されているように、後述する有機銀塩を調製する際に、ハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共存させ、これに銀イオンを注入することで、有機銀塩の生成とほぼ同時に生成させることができる。
【００９４】
さらに、他の方法としては、予め調製された有機銀塩の溶液若しくは分散液、又は有機銀塩を含むシート材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
【００９５】
このようにして形成されたハロゲン化銀は、有機銀塩と有効に接触しており、好ましい作用を呈する。
【００９６】
これらのハロゲン化銀は、有機銀塩に対して化学量論的には少量用いられる。
通常、その範囲は、有機銀塩１モルに対し０．００１〜０．７モル、好ましくは０．０３〜０．５モルある。ハロゲン化銀形成成分は、上記の範囲で２種以上併用されてもよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて、有機塩の一部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反応時間、反応圧力等の諸条件は、作製の目的に合わせて適宜設定することができる。通常、反応温度は−２３〜７４℃、反応時間は０．１秒〜７２時間であり、その反応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。
【００９７】
この反応は、また、後述するバインダーとして使用されるポリマーの存在下に行われることが好ましい。この際のポリマーの使用量は、有機銀塩１質量部当たり０．０１〜１００質量部、好ましくは０．１〜１０質量部である。
【００９８】
上記、各種の方法によって調製された感光性ハロゲン化銀は、例えば、含硫黄化合物、白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感することができる。化学増感の方法及び手順については、例えば米国特許第４，０３６，６５０号、英国特許第１，５１８，８５０号の各明細書、特開昭５１−２２４３０号、同５１−７８３１９号、同５１−８１１２４号に記載されている。
（化学増感剤）
本発明に、好ましい用いられる化学増感剤は、有機カルコーゲン増感剤であり、カルコーゲンとして硫黄原子、セレン原子又はテルル原子を分子内に含む有機化合物が好ましい。化学構造においては、カルコーゲン原子が炭素原子や燐原子に直接結合している化合物であり、即ち、炭素原子の４本の手のうち、２本はカルコーゲンであり、その他の２本は任意の有機の置換基であること、或いは燐原子の５本の結合手のうち、２本はカルコーゲン原子と結合し、その他は、任意の有機の置換基であり、任意の置換基がアリール基であることが好ましい。
【００９９】
アリール基としては、芳香族基又はヘテロ原子を含む複素環化合物が好ましく、最も好ましいものは、フェニル基又はフッ素原子で置換されたフェニル基である。好ましい具体例としては、トリフェニルホスフィンセレナイド、トリフェニルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンテルライド等である。
【０１００】
化学増感剤の添加方法は、ハロゲン化銀の分散溶液中に、水や有機溶媒に溶解して添加してもよいし、微粒子や粉末のまま添加してもよい。添加量はハロゲン化銀１モル当たり、１×１０−９〜１×１０−２モルが適当であり、好ましくは１×１０−８〜１×１０−４モルである。化学増感時の熟成温度は３０〜９０℃、熟成時間は２０分〜８時間、通常は４０〜９０分が好ましい。
【０１０１】
感光性ハロゲン化銀には、照度不軌、階調処理、感度、カブリ及び保存性等のために遷移金属、特に元素周期律表の６〜１０族に属する金属の第４〜第６周期の化合物がドープ（含有）されることが好ましい。
【０１０２】
具体的にはＲｈ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｆｅ等のイオン、錯体又は錯イオンが好ましい。
【０１０３】
ドープ量は、ハロゲン化銀１モル当たり１×１０−９〜１×１０−２モルが適当であり、好ましくは１×１０−８〜１×１０−４モルである。これらの金属イオン又は錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり、核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特に、核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長、の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段階である。
【０１０４】
添加に際しては数回に亙って分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭６３−２９６０３号、特開平２−３０６２３６号、同３−１６７５４５号、同４−７６５３４号、同６−１１０１４６号、同５−２７３６８３号等に記載されているように粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。
（バインダー）
本発明の熱現像感光材料の感光層又は非感光層に用いられるバインダーとしては、ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤が反応する場として好ましい素材、例えば、ヒドロキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレオキシド、アクリル酸アミド−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、スチレン−ブタジェン共重合体、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジェン−アクリル酸共重合体などが挙げられる。更に、乾燥後、膜を形成した後、その塗膜の平衡含水率の低いものが好ましい。
（マット剤）
本発明の熱現像感光材料は、感光層上の保護層やＢＣ層にマット剤を含有することが好ましい。本発明に好ましく用いられるマット剤の材質は、有機物又は無機物の何れでもよく、例えば、無機物としては、スイス特許第３３０，１５８号等に記載のシリカ、仏国特許第１，２９６，９９５号等の記載のガラス粉、英国特許第１，１７３，１８１号等に記載のアルカリ金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤として用いることができる。有機物としては、米国特許第２，３２２，０３７号等に記載の澱粉、ベルギー特許第６２５，４５１号や英国特許第９８１，１８８号等に記載された誘導体、特公昭４４−３６４３号公報に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第３３０，１５８号等に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリレート、米国特許第３，０７８，２５７号等に記載のポリアクリロニトリル、同第３，０２２，１６９号等に記載のポリカーボネートのような有機マット剤を用いることができる。
【０１０５】
マット剤の形状は定形、不定形どちらでもよいが、好ましくは定形で、球形が好まう用いられる。
【０１０６】
マット剤の大きさは、マット剤の体積を球形に換算したときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒径とは、球形に換算したときの直径のことを示すものとする。
【０１０７】
本発明に用いられるマット剤は、平均粒径が０．５〜１０μｍであることが好ましく、更に好ましくは１．０〜８．０μｍである。また、粒子の単分散度は５０以下であることが好ましく、更に好ましくは４０以下であり、特に好ましくは２０以下であるマット剤である。
【０１０８】
ここで、粒子の単分散度とは、粒子径の標準偏差を粒子径で除した値に１００を乗じた値である。
【０１０９】
マット剤の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また、複数の種類のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
（有機銀塩）
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、還元可能な銀源（有機銀塩）、触媒活性量のハロゲン化銀、ヒドラジン誘導体、還元剤及び必要に応じて銀の色調を制御する色調剤を、通常有機バインダーマトリックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材料であることが好ましい。
【０１１０】
本発明の熱現像感光材料は、常温で安定であるが、露光後、高温（例えば、８０〜２００℃）に加熱することで現像される。加熱は、一定の温度で一定時間加熱する１段階方式と予備加熱、本加熱或いは後加熱のような段階的に加熱する方法等があるが、適宜加熱する方式を選択することができる。
【０１１１】
加熱することで、有機銀塩（酸化剤として機能する）と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。
【０１１２】
この酸化還元反応は、露光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は、黒色画像を提供し、これらは、非露光領域と対照をなし、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から水等の処理液を供給することなく進行する。
【０１１３】
還元可能な銀イオン源を含有する有機酸としては、ヘテロ有機酸及び酸ポリマーの銀塩などが用いられる。また、配位子が４．０〜１０．０の銀イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩錯体も有用である。これらの銀塩の例は、例えばＲｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ（以下、単にＲＤ）１７０２９及び２９９６３に記載されており、特に好ましいものとしては、例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸、アラキジン酸、エルカ酸等の銀塩である。
（還元剤）
本発明の熱現像感光材料に含有される還元剤は、米国特許第３，７７０，４４８号、同第３，７７３，５１２号、同第３，５９３，８６３号等に記載されており、好ましい還元剤として次のものが挙げられる。
（Ｋ−１）  １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，５−トリメチルヘキサン
（Ｋ−２）  ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタン
（Ｋ−３）  ２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン
（Ｋ−４）  ４，４−エチリデン−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェノール）
（Ｋ−５）  ２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン
前記に示された化合物は、水に分散したり、有機溶媒に溶解して使用する。有機溶媒としては、メタノールやエタノール等のアルコール類やアセトンやメチルエチルケトン等のケトン類、トルエンやキシレン等の芳香族系の溶媒を任意に選択することができる。
【０１１４】
還元剤の使用量は、銀１モル当たり１×１０−２〜１×１０モル、好ましくは１×１０−２〜１×１．５モルである。
（色調剤）
本発明のドライイメージング材料には、色調剤を添加することが好ましい。好適な色調剤の例としては、例えば、メロシアニン染料、（例えば、３−エチル−５−（（３−エチル−２−ベンゾチアゾリニリデン（ベンゾチアゾリニリデン））−１−メチルエチリデン）−２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン）；フタラジノン、フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩（例えば、４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノン、５，７−ジメチルオキシフタラジノン及び２，３−ジヒドロ−１，４−ポリハロメタン化合物ジオン）；フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ（例えば、６−クロロフタラジノン＋ベンゼンスルフィン酸ナトリウム又は８−メチルフタラジノン＋ｐ−トリスルホン酸ナトリウム）；ポリハロメタン化合物＋フタル酸の組み合わせ；ポリハロメタン化合物（ポリハロメタン化合物の付加物を含む）とマレイン酸無水物及びフタル酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸又はｏ−フェニレン誘導体及びその無水物（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物）から選択される少なくとも１つの化合物との組み合わせ；キナゾリンキオン類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導体；ベンズオキサジン−２，４−ジオン類（例えば、１，３−ベンズオキサジン−２，４−ジオン）；ピリミジン類及び不斉−トリアジン類（例えば、２，４−ジヒドロキシピリミジン）及びテトラアザペンタレン誘導体（例えば、３，６−ジメルカプト−１，４−ジフェニル−１Ｈ、４Ｈ−２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペンタレン）等を挙げることができる。
（分光増感色素）
本発明の熱現像感光材料には、例えば、特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４５号、米国特許第４，６３９，４１４号、同第４，７４０，４５５号、同第４，７４１，９６６号、同第４，７５１，１７５号、同第４，８３５，０９６号に記載された増感色素が好ましく使用できる。
【０１１５】
本発明に使用される有用な増感色素は、例えば、特開平９−３４０７８号、同９−５４４０９号、同９−８０６７９号に記載の化合物が好ましく用いられる。
（支持体）
本発明の熱現像感光材料に好ましく用いられる支持体としては紙、合成紙、不織布、金属箔、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネートやポリプロピラン等のプラスチック等の支持体が使用可能であり、また、これらを組み合わせて複合シートを任意に用いてもよい。
【０１１６】
【実施例】
以下、実施例を挙げて、本発明を詳細に説明するが、本発明の実施の態様はこれらに限定されるものではない。
【０１１７】
実施例１
（熱ドラムの被覆）
外径１００ｍｍ、長さ４５０ｍｍ、肉厚８ｍｍのアルミニウム製の円筒形熱ドラムを、以下に示す組成で被覆した。対向ローラーはステンレス材を用い無被覆のままとした。
〈プライマー１の塗設〉
表１記載の非フッ素化ポリシロキサン１００ｇ中に表１記載のシランカップリング剤６ｇを添加し、良く混練した後、アルミニウム芯金属上に、厚さ１μｍで塗設し、５０℃で１０分間乾燥した。
〈ポリシロキサンの塗設〉
次に、それぞれ表１記載の非フッ素化ポリシロキサン１種又は２種を３００ｇ（ただし、２種の場合は各１５０ｇ）、表１記載の貴金属触媒１０ｍｇ、過酸化物３ｇ及び無機充填剤（平均粒子径表１記載）５６ｇを加えてニーダーでよく混練した後、プライマー１の上に厚さ３ｍｍになるように均一に塗設し、５０℃で１０分間乾燥した。乾燥膜厚は表１に記載した。
〈プライマー２の塗設〉
各ドラムのそれぞれ表１記載の非フッ素化ポリシロキサン層を塗設した上に、表１記載の同じ非フッ素化ポリシロキサン１００ｇ（２種用いている場合には５０ｇずつ）及び表２記載のフッ素化ポリシロキサンを３ｇ（２種用いている場合はそれぞれ１．５ｇずつ）、表２記載の貴金属触媒１．２ｍｇ、過酸化物３ｇ添加して混練し、前記ポリシロキサン層上に１μｍの厚さで塗設した。
〈フッ素化炭化水素ポリマーの塗設〉
次いで、表２記載のフッ素化炭化水素ポリマー１種又は２種を３００ｇ（ただし、２種の場合は各１５０ｇ）、表２記載の平均粒子径の無機充填剤１０ｇ及び界面活性剤３ｇを加えて、ニーダーでよく混練しながら８０℃で１時間加熱反応させた後、塗設し、５０℃で１０分間乾燥した。乾燥後、表２記載の温度で塗設の完了した熱ドラムをオーブン中で３時間熱処理した。乾燥膜厚は表２に記載した。
【０１１８】
なお、比較１として非フッ素化ポリシロキサンの被覆液は、下記のように調製した。
【０１１９】
ビニル基及びシリルハイドロジェン基のないポリシロキサン（平均重合度３００）を４０ｇに、平均粒子径６μｍのシリカを４３ｇを加え、ニーダーでよく混練しながら１８０℃で１時間加熱反応させた後、熱ドラムに厚さ４００μｍで被覆し乾燥した。
【０１２０】
また、その上に塗設する、比較２としてのフッ素化炭化水素ポリマーの被覆は、下記のように塗設した。
【０１２１】
ポリフッ化エチレン（数平均重合度２２００のテフロン（Ｒ））を被覆し乾燥した。乾燥後１８０℃４時間熱処理をした。
（熱現像用熱現像感光材料の作製）
〈下引済み写真用支持体の作製〉
厚さ１７５μｍのポリエチレンテレフタレート支持体の塗布面に０．８ｍＷ／ｃｍ２・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に、下記下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し、乾燥させて下引層Ａ−１とし、また、反対側の面に、下記、下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し、乾燥させて下引層Ｂ−１とした。
〈下引塗布液ａ−１〉
ブチルアクリレート（３０質量％）
ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％）
スチレン（２５質量％）
２−ヒドロキシエチルアクリレート（２５質量％）
の共重合体ラテックス液（固形分３０％）                      ２７０ｇ
ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア）              ０．８ｇ
水で１リットルに仕上げる。
〈下引塗布液ｂ−１〉
ブチルアクリレート（４０質量％）
スチレン（２０質量％）
グリシジルアクリレート（４０質量％）
の共重合体ラテックス液（固形分３０％）                    ２７０ｇ
ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア）              ０．８ｇ
水で１リットルに仕上げる。
【０１２２】
引き続き、下引層Ａ−１及び下引層Ｂ−１の上表面に、８Ｗ／ｍ２・分のコロナ放電を施し、下記層Ａ−１の上には、下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μｍになるように下記層Ａ−２として、下引層Ｂ−１の上には下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８μｍになるように帯電防止機能をもつ下引上層Ｂ−２として塗設した。
〈下引上層塗布液ａ−２〉
ゼラチン                                                ０．４ｇ／ｍ２
シリカ粒子（平均粒径３μｍ）                                ０．１ｇ
水で１リットルに仕上げる。
〈下引上層塗布液ｂ−２〉
スチレンブタジェン共重合ラテックス液（固形分２０％）          ８０ｇ
ポリエチレングリコール（重量平均分子量６００）                  ６ｇ
水で１リットルに仕上げる。
（感光性ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）
水９００ｍｌ中にイナートゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解して温度３５℃、ｐＨ３．０に合わせた後、硝酸銀７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比の臭化カリウムとヨウ化カリウムを含む水溶液をｐＡｇ７．７に保ちながらコントロールドダブルジェット法で１０分間かけて添加した。その後、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン０．３ｇを添加し、ＮａＯＨでｐＨを５に調整して平均粒子サイズ０．０６μｍ、投影直径面積の変動係数８％、〔１００〕面比率８７％の立方体ヨウ臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後、フェノキシエタノール０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整して感光性ハロゲン化銀乳剤Ａを得た。
（分散有機銀塩の調製）
４７２０ｍｌの純水にベヘン酸１１１．４ｇ、アラキジン酸８３．８ｇ、ステアリン酸５４．９ｇを８０℃で溶解した。次に高速で撹拌しながら１．５モルの水酸化ナトリウム水溶液５４０．２ｍｌを添加し、濃硝酸６．９ｍｌを加えた後、５５℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液を得た。上記の有機酸ナトリウム溶液の温度を５５℃に保ったまま、上記感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ（銀０．０３８モルを含む）と純水４５０ｍｌを添加し５分間撹拌した。次に１モルの硝酸銀溶液７６０．６ｍｌを２分間かけて添加し、さらに２０分間撹拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。その後、濾液の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで脱イオン水による水洗、濾過を３回繰り返し乾燥させ分散有機銀塩を得た。
〈バック面側塗布〉
バック層及びバック層保護層を、以下の組成物をメチルエチルケトン溶液中に加えて調製した塗布液を、以下の付き量になるように減圧押し出し同時重層塗布した。
【０１２３】
バック層（第１層）
ＰＶＢ−１                                              １．１ｇ／ｍ２
染料：Ｃ                                                １２ｍｇ／ｍ２
コロイダルシリカ                                        １２ｍｇ／ｍ２
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム                    １３ｍｇ／ｍ２
バック層保護膜（第２層）
セルロースアセテートブチレート                          ０．８ｇ／ｍ２
マット剤（ＰＭＭＡ：平均粒径５μｍ）                  ０．０２ｇ／ｍ２
活性剤：Ｎ−プロピルオクチルスルホンアミド酢酸        ０．０２ｇ／ｍ２
硬膜剤：１，２−ビス（ビニルスルホンアミド）エタン    ０．０２ｇ／ｍ２
〈感光層面塗布〉
ＡＨ層（第１層）
ＰＶＢ−１                                              ０．３ｇ／ｍ２
染料：Ｃ                                                  ８ｍｇ／ｍ２
感光層（第２層）
感光層の調製は、以下の組成物のメチルケトン溶解体を加えて塗布液を調製した。この塗布液を３５℃に保ち、以下の付き量になるように塗布乾燥した。
【０１２４】
2004272161.tif 000011
【０１２５】
【化１３】
2004272161.tif 000012
【０１２６】
表面保護層（第３層）
セルロースアセテートブチレート                          １．２ｇ／ｍ２
フタラジン                                              ０．１ｇ／ｍ２
４−メチルフタル酸                                      ０．７ｇ／ｍ２
テトラクロロフタル酸                                    ０．２ｇ／ｍ２
シリカマット剤（平均粒径３μｍ）                        ０．５ｇ／ｍ２
帯電防止剤：Ｅ                                          ０．１ｇ／ｍ２
上記の組成物を上記付き量で、塗布速度２６０ｍ／分で同時重層塗布し、４８℃５６秒で乾燥した。
（膜密着力試験）
作製した各々の熱ドラムの４ｃｍ２相当の最外表面に１ｃｍ２当たり１００個の碁盤目を入れ、下記の条件下に放置した後、常温に戻し、セロハン粘着テープにより圧着剥離試験を行った。
【０１２７】
２２０℃で２時間放置後、−１０℃で１時間放置×１２サイクルの膜密着力試験結果において、碁盤目の剥離％で評価し、剥離の少ないものほど密着性がよく、例えば、５０％は半分の面積が剥離されたことを示し、２０％以下ならば、実用的に問題ないレベルである。
（膜汚れ評価試験）
作製した熱ドラムの汚れ評価は、濃度１．５に仕上がるように露光した上記熱現像性熱現像材料を幅２ｃｍ、長３０ｃｍに裁断し、熱現像温度１２０℃、熱現像時間１０秒、１時間当たりの処理枚数１００枚、一日１０００枚処理で５日間処理した後、各々の表面の汚れを評価した。
【０１２８】
評価方法は、処理試験後の熱ドラム及び対向ローラーを水：メタノール：アセトンの１：３：１の溶液で表面を洗浄（２ｍｌ／ｃｍ２）し、この溶液の濃度をデジタル示差濃度計ＤＤ７（アタゴ社製）で測定した。測定値は小さい程（最小０．０００％）汚れが少なく、数値が大きい程（最大２．０００％）汚れが大である。汚れは１％表示であれば、実用的に問題のないレベルである。これらの結果をまとめて表示したが、表１にはプライマー１及びポリシロキサンの塗設内容、表２にはプライマー２及びフッ素化炭化水素ポリマー層の塗設内容、表３には性能試験の結果を示した。
【０１２９】
【表１】
2004272161.tif 000013
【０１３０】
【表２】
2004272161.tif 000014
【０１３１】
【表３】
2004272161.tif 000015
【０１３２】
表１、２、３より熱ドラムを非フッ素化ポリシロキサンで被覆した上に、フッ素化炭化水素ポリマーを塗設した熱現像装置による現像処理では、汚れが付かないこと、剥離試験で膜剥がれが生じないことが分かる。
【０１３３】
【発明の効果】
本発明により、長期間に亙り、熱現像装置内の熱ドラムの汚れがなく、熱現像された熱現像性感光材料の汚れが転写することなく高品質画像を与える耐久性に優れた熱現像処理装置が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図１】熱現像装置の概略断面図である。
【図２】熱現像部の構成を示す概略図である。
【符号の説明】
１  ヒートドラム
２  対向ローラー
４  ブラケット
５  長孔
６  分離ツメ
１１  シャフト
２０  フレーム
２１  シャフト
２２  コイルばね
２３  回転軸
２５  タイミングベルト
３５  支持チュ−ブ
３６  プライマー層
３７  非フッ素化ポリシロキサン層
３８  プライマー層
３９  フッ素化炭化水素ポリマー層
４０  シャフトベアリング
１００  熱現像装置
１１０  供給送部
１２０  露光部
１３０  熱現像部
１４０  取り出し装置
１４１  １４２、１４３  搬送装置
１４４  供給ローラー対
１４５  搬送ローラー対
１５０  冷却部
１６０  排出トレイ
１７０  制御手段
Ｆ  フィルム
Ｃ  ケース
Ｌ  レーザ光
【図１】
2004272161.tif 000019
【図２】
2004272161.tif 000020