(57)【要約】【課題】高湿度下に保存しておいた場合でもテープ形状（寸法）の変形度が低く、高い形状安定性を有し、かつ再生出力の低下が少ない磁気テープを提供する。【解決手段】長手方向に延伸した非磁性支持体１と、非磁性支持体１の一主面に、斜方柱状構造を有する複数の蒸着磁性膜２ａ，２ｂが積層されて形成され、積層された各蒸着磁性膜２ａ，２ｂの成長方向が長手方向に対して逆方向に構成された磁性層２と、磁性層２上に形成された保護層３と、非磁性支持体の他方の面に形成されたバックコート層５とを有し、１００℃、５％ＲＨで３０分保存した時の長手方向および幅方向の熱収縮率が０．５０％以下であり、かつ湿度膨張係数が１×１０−６／％ＲＨ以下に規定されている。なお、本願明細書において、湿度膨張係数（吸湿膨張係数）は、温度２５℃における湿度膨張係数を意味する。【選択図】図１
2004253060.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に延伸した非磁性支持体と、
前記非磁性支持体の一主面に、斜方柱状構造を有する複数の蒸着磁性膜が積層されて形成され、積層された各蒸着磁性膜の成長方向が前記長手方向に対して逆方向に構成された磁性層と、
前記磁性層上に形成された保護層と、
前記非磁性支持体の他方の面に形成されたバックコート層とを有し、
１００℃、５％ＲＨで３０分保存した時の前記長手方向および幅方向の熱収縮率が０．５０％以下であり、かつ湿度膨張係数が１×１０−６／％ＲＨ以下に規定されている
磁気テープ。
【請求項２】
前記熱収縮率および前記湿度膨張係数が前記の条件を満たすように、前記非磁性支持体の厚さが４．０μｍ以上１０．０μｍ以下に規定されている
請求項１記載の磁気テープ。
【請求項３】
前記熱収縮率および前記湿度膨張係数が前記の条件を満たすように、前記磁性層の厚みが１０ｎｍ以上７５ｎｍ以下に規定されている
請求項１記載の磁気テープ。
【請求項４】
前記熱収縮率および前記湿度膨張係数が前記の条件を満たすように、磁気テープの全厚／磁性層の厚みが１０００以下に規定されている
請求項１記載の磁気テープ。
【請求項５】
前記磁気テープの幅が１．２７ｃｍに規定されている
請求項１記載の磁気テープ。
【請求項６】
前記熱収縮率および前記湿度膨張係数が前記の条件を満たすように、前記非磁性支持体の厚さが４．０μｍ以上１０．０μｍ以下に規定され、前記磁性層の厚みが１０ｎｍ以上７５ｎｍ以下に規定され、磁気テープの全厚／磁性層の厚みが１０００以下に規定されている
請求項１記載の磁気テープ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気テープに関し、特に、データを記録するために外部記録媒体として用いられ、磁性層が蒸着磁性膜により形成された磁気テープに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ミニコンピュータ、パーソナルコンピュータ、あるいはワークステーションなどのオフィスコンピュータの普及に伴って、外部記録媒体としてコンピュータデータを記録するための磁気テープ（所謂、バックアップテープ）の研究が盛んに行われている。
【０００３】
このようなデータストレージ用途の磁気テープの実用化に際しては、特にコンピュータの小型化や情報処理能力の増大と相まって、記録容量の増大が強く要求される。また磁気テープは、コンピュータの使用環境の広がりによって幅広い環境条件下（特に、変動の激しい温湿度条件下など）で使用される。
【０００４】
従ってこのような環境下においても高速での繰り返し使用による高い走行耐久性やデータの安定した記録、読み出し等の性能に対する信頼性、長期間保存した場合でも安定して再生できる信頼性などが従来に増して強く要求される。
【０００５】
従来、データストレージ用途としての磁気テープとしては、非磁性支持体上に粉未磁性材料を有機結合剤中に分散せしめた磁性塗料を塗布、乾燥することにより作製される塗布型の磁気テープが広く使用されている。そして、塗布型の磁気テープの長期信頼性を確保すべく様々な磁気テープの条件が規定されている（特許文献１参照）。
【０００６】
これに対して、上記した高密度磁気記録への要求の高まりと共に、金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段によって非磁性支持体上に直接被着した、金属磁性薄膜型の磁気テープ、いわゆる蒸着テープが提案され注目を集めている。
【０００７】
ところで、データストレージ用途としての磁気テープの記録再生のシステムには、ヘリカルスキャン方式と、リニア方式の２種類が実用化されている。このうち、体積に制約の少ないデータストレージ用途では、上記リニア方式が幅広く実用化され、市場においてもＤＬＴ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｌｉｎｅａｒ  Ｔａｐｅ）やＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ  ｔａｐｅ−Ｏｐｅｎ）といった商品が主流となっている。
【０００８】
リニア方式とは、磁気テープの幅方向にトラックを設け、長手方向に双方向に記録再生を行う方式である。高速でテープを走行させることが容易であると同時に、磁気ヘッドを並列に数多く並べることによって記録再生の転送レートを向上させることが可能である。
【０００９】
こうしたリニア方式のデータストレージ用途の磁気テープとしては、塗布型の磁気テープのみが用いられており、斜方蒸着による磁気テープは用いられてこなかった。これは、リニア方式では双方向に動くため、記録再生に際してテープの長手方向の正方向と逆方向とで、最適記録電流、位相特性、ＣＮ比、出力特性などの特性が大きく異なってしまうという欠点があったためである。
【００１０】
ところが、この問題を解決する方法として、斜方蒸着の成長方向が互いに異なる２層の斜方蒸着膜により磁性層を構成した斜方蒸着テープが提案されており（特許文献２，３参照）、リニア方式のデータストレージ用途の磁気テープ媒体として、斜方蒸着による磁気テープが再び脚光を浴びてきている。
【００１１】
【特許文献１】
特開平１１−９６５４５号公報
【特許文献２】
特開平４−３５３６２２号公報
【特許文献３】
特開平１０−１９８９４０号公報
【非特許文献１】
「磁気抵抗ヘッド−基礎と応用  林和彦  訳」丸善株式会社発行
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
コンピュータデータ記録用磁気テープは、前述のようにパーソナルコンピュータなどの急速な普及に伴って温湿度の変化の激しい環境下で使用する機会も多くなっている。従って斜方蒸着による磁気テープを採用する場合に、このような使用環境の厳しい条件下であってもエラーの発生がなく、データの入出力を安定して行うことができる信頼性の高いものであることが望まれる。
【００１３】
特に、大きな記録容量を達成するために磁気テープの全厚を薄くする傾向にあるため、従来に増してテープ自体に強い剛性、耐摩耗性などが要求されると共に、温湿度の変化に対しも変形度が少なく、形状（寸法）安定性に優れていることが望まれる。
【００１４】
また、より高い記録密度を達成するために、従来に比べて更に狭いトラック幅にデータの記録再生が可能なシステムの開発も進められている。従って、このような磁気記録再生システムにおいても充分適応できる形状安定性の高い蒸着テープが求められている。
【００１５】
しかしながら、本発明者の検討では、従来のコンピュータデータ記録用磁気テープとして蒸着テープを採用した場合に、テープの形状安定性においてはなお充分とは言えないことが判明した。例えば、一般に磁気テープは、その製造工程で長手方向に引き延ばされ易く、また製造後、保存中に徐々に収縮する傾向があるが、従来のコンピュータデータ記録用に蒸着テープを採用した場合においても、その収縮率が比較的大きく、従ってこのテープを用いて記録再生を行った場合には、トラッキング精度が低下し、これが原因で再生出力の低下が生じ易くなることがわかった。
【００１６】
また、製造後の蒸着テープを高湿度下に保存しておいた場合には、テープは吸湿して膨張し、テープ形状が変形し易いこともわかった。これによって上記と同様に出力の低下が生じ易くなる。
【００１７】
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、高湿度下に保存しておいた場合でもテープ形状（寸法）の変形度が低く、高い形状安定性を有し、かつ再生出力の低下が少ない磁気テープを提供することにある。また本発明の目的は、高密度記録が可能な磁気記録再生システム用として最適化されたコンピュータデータ記録用の磁気テープを提供することでもある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明の磁気テープは、長手方向に延伸した非磁性支持体と、非磁性支持体の一主面に、斜方柱状構造を有する複数の蒸着磁性膜が積層されて形成され、積層された各蒸着磁性膜の成長方向が前記長手方向に対して逆方向に構成された磁性層と、前記磁性層上に形成された保護層と、前記非磁性支持体の他方の面に形成されたバックコート層とを有し、１００℃、５％ＲＨで３０分保存した時の前記長手方向および幅方向の熱収縮率が０．５０％以下であり、かつ湿度膨張係数が１×１０−６／％ＲＨ以下に規定されている。なお、本願明細書において、湿度膨張係数（吸湿膨張係数）は、温度２５℃における湿度膨張係数を意味する。
【００１９】
上記の本発明の磁気テープによれば、熱収縮率および湿度膨張係数が前記の条件を満たすように、磁気テープを作製することにより、長期間の保存や高湿下での使用においても形状変形が少なく、従って再生出力の低下が少ない磁気テープが得られる。このような磁気テープは、例えばコンピュータデータ記録用として好適に用いられる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の磁気テープの実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００２１】
図１は、本実施形態に係る磁気テープの一例を示す概略構成図である。
図１に示すように、本実施形態に係る磁気テープ１０は、非磁性支持体（ベースフィルム）１の一主面上に、磁性層２として強磁性金属材料からなる複数の金属磁性薄膜が形成され、この磁性層２上に保護膜３が形成され、この保護膜３上に最上層として潤滑剤層４が形成されている。とくに磁性層２は、下層磁性薄膜２ａと上層磁性薄膜２ｂの２層構造により形成されている。磁性層２形成側とは反対側における非磁性支持体１の面には、バックコート層５が形成されている。
【００２２】
非磁性支持体１としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等のプラスチックが挙げられる。
【００２３】
上記の非磁性支持体１は、樹脂により形成されておりいずれも熱収縮や湿度膨張をしやすい。従って、本実施形態では、ベースとなる非磁性支持体１上に形成された硬い磁性層２や保護膜３の膜厚等を適切に設定することにより、磁気テープ全体として１００℃、５％ＲＨで３０分保存した時のテープ長さ方向および幅方向の熱収縮率が０．５０％以下となるように、かつ湿度膨張係数が１×１０−６／％ＲＨ以下となるように規定する。
【００２４】
非磁性支持体１の厚さは、４μｍ〜１０μｍの範囲であることが好ましい。これは、非磁性支持体１の厚さが薄すぎると磁気テープの安定な走行の妨げとなるからであり、厚すぎると磁性層２や保護膜３による補強が十分でなく、熱収縮率や湿度膨張係数が大きくなってしまい、記録テープ保存特性が悪くなるからである。
【００２５】
磁性層２は、非磁性支持体１上に強磁性金属材料を直接被着することにより形成された下層磁性薄膜２ａと上層磁性薄膜２ｂの２層構造により形成されている。この磁性層２となる強磁性の金属薄膜２ａ，２ｂとしては、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金或いはこれらにＣｒ、Ａｌ等の金属が含有された強磁性金属材料よりなるものが挙げられる。リニア方式用としては２層以上の構造が望ましく、図１には２層構造の場合を例に示している。
【００２６】
磁性層２は、非磁性支持体１が上記の厚さの場合に、複数の磁性薄膜２ａ，２ｂの合計の厚みが１０ｎｍ以上７５ｎｍ以下となるようにすることが好ましい。さらに、テープの全厚／磁性層厚が１０００以下となるようにすることが好ましい。
【００２７】
磁性層２の厚さを上記の範囲に規定するのは、磁性層の厚みが薄すぎると非磁性支持体１の補強が十分でなく、テープ全体の熱収縮率や湿度膨張係数を上記の範囲に抑えることができなくなるからであり、厚すぎると正方向（図中Ａ方向）と逆方向（図中Ｂ方向）の出力差が大きくなってしまうからである。
【００２８】
さらに、テープの全厚／磁性層厚が１０００以下となるようにするのは、磁性層２が非磁性支持体１を補強する作用は、磁性層２と非磁性支持体１との膜厚の相対的な比率も関係してくると考えられるからであり、テープ全体に示す磁性層の膜厚が小さいとそれだけ、テープ全体の熱収縮率や湿度膨張係数を上記の範囲に抑えることができなくなるからである。ここで、テープ全厚としたのは、テープ全体の厚さに最も寄与するのは非磁性支持体１の厚みであるから、近似できしても問題ないからである。
【００２９】
磁性層２は、例えば、真空下で強磁性金属材料を加熱蒸発させて被着させる真空蒸着法によって形成する。真空蒸着法は、１×１０−２Ｐａ〜１×１０−６Ｐａの真空下で強磁性金属材料を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱等により蒸発させ、非磁性支持体１上に蒸発金属（強磁性金属材料）を沈着させるものであり、一般に高い抗磁力を得るために非磁性支持体１に対して上記強磁性金属材料を斜めに蒸着する斜方蒸着が用いられる。さらに、より高い抗磁力を得るために酸素雰囲気中で上記蒸着を行うものも含まれる。
【００３０】
図２は、上記磁性層２を形成する真空蒸着装置として適用される連続巻き取り式の真空蒸着装置の構成を示す図である。
図２に示す真空蒸着装置２０は、いわゆる斜方蒸着用として構成され、内部が例えば１×１０−２Ｐａ〜１×１０−６Ｐａ程度の真空にされた真空室２１内に、例えば−２０℃程度に冷却され、図中矢印Ａで示す方向に回転する冷却キャン２２と、これに対向するように強磁性金属薄膜用の蒸着源２３が配置されている。
【００３１】
真空蒸着装置２０においては、真空室２１内に、図中の供給ロール２４と、巻き取りロール２５も配設されており、下地層２が形成された後の非磁性支持体１は供給ロール２４から図中矢印Ｂで示す方向に繰り出され、冷却キャン２２の周面に沿って走行した後、巻き取りロール２５に巻き取られる。
【００３２】
なお、供給ロール２４と冷却キャン２２との間、及び冷却キャン２２と巻き取りロール２５との間にはそれぞれガイドローラー２７、２８が配置され、供給ロール２４から冷却キャン２２、及びこの冷却キャン２２から巻き取りロール２５に従って走行する非磁性支持体１に所定のテンションをかけ、非磁性支持体１が円滑に走行するようになされている。
【００３３】
蒸着源２３は、坩堝等の容器にＣｏ等の強磁性金属材料が収容されたものであり、この真空蒸着装置２０においては、この蒸着源２３の強磁性金属材料を加熱、蒸発させるための電子ビーム発生源２９も配設されている。電子ビーム発生源２９から電子ビーム３０を蒸着源２３の強磁性金属材料に加速照射することにより、蒸着源２３の強磁性金属材料が加熱されて、図中矢印Ｃで示すように蒸発される。強磁性金属材料は蒸着源２３と対向する冷却キャン２２の周面に沿って走行する非磁性支持体１上に被着し、強磁性金属薄膜が形成される。
【００３４】
蒸着源２３と冷却キャン２２との間に第１のシャッタ３１、および第２のシャッタ３２が設けられている。第１のシャッタ３１は走行する非磁性支持体１の前段側に位置し、第２のシャッタ３２は走行する非磁性支持体１の後段側に位置する。第１のシャッタ３１および第２のシャッタ３２は冷却キャン２２の周面に沿って走行する非磁性支持体１のうちの所定領域のみを外方に露出させている。
【００３５】
強磁性金属薄膜の蒸着に際しては、図示しない酸素ガス導入口を介して非磁性支持体１の表面近傍に酸素ガスを供給し、これによって強磁性金属薄膜の磁性特性、耐久性及び耐候性の向上が図られるようにすることが好ましい。また、蒸着源を加熱するためには、上述のような電子ビームによる加熱手段の他、例えば抵抗加熱手段、高周波加熱手段、レーザ加熱手段等の公知の手段を使用できる。
【００３６】
上記構成の真空蒸着装置２０においては、蒸着源２３から強磁性金属材料を蒸発させるとともに冷却キャン２２の周面に非磁性支持体１を走行させる。蒸発した強磁性金属材料は、第１のシャッタ３１および第２のシャッタ３２の間から外方に露出した部分のみに堆積することとなる。
【００３７】
真空蒸着装置２０は、第１のシャッタ３１側から第２のシャッタ３２側に向かって非磁性支持体１を走行させるため、蒸発した強磁性金属材料は、先ず第１のシャッタ３１側の非磁性支持体１上に堆積する。そして第１のシャッタ３１側から第２のシャッタ３２側に向かって非磁性支持体１が走行するに連れて、蒸発した強磁性金属材料が順次堆積することとなる。従って、上述した成膜方法によって磁性微粒子の入射角度を制限して形成した磁性層は斜方構造をとる特徴がある。
【００３８】
本実施形態における、高感度ＭＲヘッドを用いたリニア方式の磁気記録テープシステムに適した斜方蒸着テープの磁性層２は、下層磁性薄膜２ａの斜方柱状構造の傾きと上層磁性薄膜２ｂの斜方柱状構造の傾きが逆となっている構造をとっている。
【００３９】
上述した磁性層２の構造を得るには、ロール状の非磁性支持体１を一方向に進行させながら斜方蒸着を行うことにより、下層磁性薄膜２ａを成膜した後、ロール状に巻き取る。巻きと取られたロールを供給ロール２４に代え、図２に示すようにして再び斜方蒸着を行う。これにより、斜方構造の傾きが異なった２層構造をもつ磁性層２を得ることができる。
【００４０】
保護膜３は、カーボンからなり、磁性層２上に形成される。特に、保護膜３として、比較的硬度の高いダイヤモンドライクカーボンよりなるものが好ましく例示される。保護膜３は、硬度が高いことから、磁性層２とともに非磁性支持体１の補強をし、テープ全体の熱収縮率や湿度膨張係数を上記した範囲に抑える。
【００４１】
保護膜３は、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等により形成される。ＣＶＤ法によって保護膜３を形成する場合には、例えば、真空容器中に炭化水素ガス、或いは炭化水素と不活性ガスとの混合ガスを導入し、１０Ｐａ〜１００Ｐａ程度の圧力に保持した状態で、真空容器内に放電させて、炭化水素ガスのプラズマを発生させ、磁性層２上に保護膜３を形成する。
【００４２】
放電形式としては、外部電極方式、内部電極方式の何れでも良く、放電周波数については、実験的に決めることができる。また、磁性層２が形成された非磁性支持体１側に配された電極に０〜−３ｋＶの電圧を印加することにより、保護膜３の硬度の増大及び密着性を向上させることができる。
【００４３】
保護膜３の材料となる上記炭化水素としては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、エチレン、アセチレン、プロペン、ブテン、ペンテン、ベンゼンなどを用いることができる。
【００４４】
潤滑剤層４はテープの走行性を良好にするために設けられるものであり、例えば、パーフルオロカルボン酸、パーフルオロアルキルスルホン酸、パーフルオロポリエーテル等より構成され、溶液塗布法，真空蒸着法等で形成する。
【００４５】
バックコート層５は、テープの走行性を良好にするために設けられるものであり、非磁性支持体１の磁性層２が成膜される面とは反対側の主面に形成される。このバックコート層５は、主として、無機粉末成分と結合剤樹脂とを有機溶媒に混合分散させたバックコート用塗料を非磁性支持体１に塗布することにより形成される。
【００４６】
上述の本実施形態に係る磁気テープ１０は、ＭＲヘッドを用いて、双方向に高速で走行しながら記録再生を行う、リニア方式の磁気記録テープシステム用に好適に適用可能である。
【００４７】
ここでＭＲヘッドとは、磁気テープからの信号を磁気抵抗効果を利用して検出する再生専用の磁気ヘッドである。一般にＭＲヘッドとは、電磁誘導を利用して記録再生を行うインダクティブ型磁気ヘッドよりも感度が高く再生出力が大きいので、高密度記録の磁気記録媒体に好適である。
【００４８】
ＭＲヘッドは、例えばＮｉ−Ｚｎ多結晶フェライトのような軟磁性材料からなる一対の磁気シールドに絶縁体を介して挟持された略矩形状のＭＲ素子部を備えるものである。ＭＲ素子部の両端からは、一対の端子が導出されており、これらの端子を介してＭＲ素子部にセンス電流を供給できるようになされている。
【００４９】
ＭＲヘッドを用いて磁気記録媒体からの信号を再生する際には、磁気テープにＭＲ素子部を摺動させる。そしてこの状態でＭＲ素子部の両端に接続された端子を介して、ＭＲ素子部にセンス電流を供給し、当該センス電流の電圧変化を検出する。
【００５０】
磁気テープにＭＲ素子部を摺動させた状態でＭＲ素子部にセンス電流を供給すると磁気テープからの磁界に応じて、ＭＲ素子部の磁化方向が変化し、ＭＲ素子部に供給されたセンス電流と磁化方向との相対角度が変化する。そして、ＭＲ素子部の磁化方向とセンス電流の方向とがなす相対角度に依存して抵抗値が変化する。
【００５１】
このため、ＭＲ素子部に供給するセンス電流の値を一定にすることにより、センス電流に電圧変化が生じることになる。そこでこのセンス電流の電圧変化を検出することにより、磁気テープからの信号磁界が検出され、磁気テープに記録されている信号が再生される。なお、再生用磁気ヘッドとしては、いわゆる巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＧＭＲヘッド）も適用可能である。
【００５２】
ＭＲ素子にバイアス磁界を印加する手法は、ＳＡＬバイアス方式の他、例えば永久磁石バイアス方式、シャント電流バイアス方式、自己バイアス方式、交換バイアス方式、バーバーポール方式、分割素子方式、サーボバイアス方式等、種々の手法が適用可能である。なお、巨大磁気抵抗効果素子や各種バイアス方式については、例えば非特許文献１に詳細に記載されている。
【００５３】
【実施例】
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
【００５４】
図１に示すように、本実施例の磁気テープは、非磁性支持体１であるベースフィルム上に強磁性金属或いはその合金の薄膜からなる磁性層２が形成されるとともに、磁性層２上に保護膜３および潤滑剤層４が形成され、磁性層２の形成面とは反対側の面にバックコート層５が形成されてなる磁気テープ１０である。特に磁性層は２層構造とすることでリニア用途として用いられて好適なものである。
【００５５】
このようにして得られた磁気テープについて以下の方法で熱収縮率を測定した。
熱収縮率の測定方法はＪＩＳ−Ｃ２３１８に従った。この場合の試料サイズは、幅が１０ｍｍであり、標線間隔が２００ｍｍであった。また、測定条件は、温度が１００℃であり、処理時間が３０分であり、無荷重の状態とした。そして、１００℃におけるテープの熱収縮率を下記式（１）より求めた。
【００５６】
【数１】
熱収縮率（％）＝｛（Ｌ０−Ｌ）／Ｌ０｝×１００      （１）
【００５７】
上記式中、Ｌ０は加熱処理前の標線間隔であり、Ｌは、加熱処理後の標線間隔である。
【００５８】
また、磁気テープの湿度膨張係数は以下の方法で測定した。
長さ１００ｍｍの磁気テープを２５℃、１０％ＲＨ（相対湿度）の環境下に４時間放置した後、磁気テープの長さを測定した。その後、結露を防ぐために、５０℃ドライ（相対湿度１０％以下）の環境下に１０分間放置した後、更にこの磁気テープを２５℃、８０％ＲＨの環境下に４時間放置し、その後、磁気テープの長さを測定した。上記で得られた磁気テープのそれぞれの湿度下における測定値から下記式（２）を用いて湿度膨張係数を算出した。
【００５９】
【数２】
湿度膨張係数＝（Ａ−Ｂ）／（８０−１０）×Ａ        （２）
【００６０】
但し、Ａは２５℃、８０％ＲＨでの磁気テープの長さであり、Ｂは２５℃、１０％ＲＨでの磁気テープの長さである。
【００６１】
以下、更に具体的に本発明の一実施例について、比較例と対比で説明する。
【００６２】
（実施例１）
まず、非磁性支持体（ベース）１である、高さ１５ｎｍの突起を５０００万個／ｍｍ２  設けた８．０μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に、真空蒸着装置を使用して斜め蒸着法により酸素を少量導入しながらＣｏを被着させ、磁性層となる強磁性金属薄膜を３０ｎｍ蒸着し下層磁性薄膜２ａとした。このときの配向角はおよそ６０°であった。さらに、得られたテープを逆方向に走行させながら、１回目とは逆に磁性層のカラムが成長するように同様に強磁性金属薄膜を２０ｎｍ蒸着し上層磁性薄膜２ｂとした。２回目の蒸着によって得られた磁性膜の配向角は６０°であるが、そのベクトルの面内成分は下層磁性薄膜２ａに対して１８０度反対方向であった。これにより、下層磁性薄膜２ａと上層磁性薄膜２ｂの合計膜厚が５０ｎｍの磁性層２を形成した。
【００６３】
次に、上記逆２層金属薄膜からなる磁性層２上に、エチレンとアルゴンの混合ガスの高周波プラズマにより、電極と、磁気記録媒体原反自身を対向電極として、原反に−１．５ｋＶの直流電圧を印加し、放電を行い、上記磁性層２上に膜厚が約１０ｎｍであるカーボン保護膜からなる保護膜３を形成した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる非磁性支持体１の磁性層２が形成された面とは反対側の面に、カーボン及びポリウレタン樹脂よりなる膜厚０．５μｍのバックコート層５を形成した。さらに、潤滑剤としてパーフルオロポリエーテルをヘキサン溶媒に溶解したものを、上記保護膜３表面に塗布量が５ｍｇ／ｍ２  となるように塗布して潤滑剤層４を形成した。
【００６４】
最後に幅が１／２インチ（１．２７ｃｍ）になるようにカットし、サンプルテープを作製した。この磁気テープの熱収縮率を測定したところ、０．２％であった。また、湿度膨張係数は０．４×１０−６／％ＲＨであった。
【００６５】
（実施例２）
下層磁性薄膜２ａの厚さが１５ｎｍ、上層磁性薄膜２ｂの厚さが１０ｎｍの計２５ｎｍの厚さの磁性層２を形成した以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．２５％、湿度膨張係数は０．５×１０−６／％ＲＨであった。
【００６６】
（実施例３）
下層磁性薄膜２ａの厚さが５０ｎｍ、上層磁性薄膜２ｂの厚さが２５ｎｍの計７５ｎｍの厚さの磁性層２を形成した以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．１％、湿度膨張係数は０．３×１０−６／％ＲＨであった。
【００６７】
（実施例４）
非磁性支持体１の厚みを６μｍとした以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．２％、湿度膨張係数は０．４×１０−６／％ＲＨであった。
【００６８】
（実施例５）
非磁性支持体１の材料をポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）とした以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．１％、湿度膨張係数は０．４×１０−６／％ＲＨであった。
【００６９】
（実施例６）
非磁性支持体１の材料をアラミド（ＡＲＡＭＩＤ）とした以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０％、湿度膨張係数は０．３×１０−６／％ＲＨであった。
【００７０】
（実施例７）
下層磁性薄膜２ａの厚さが５ｎｍ、上層磁性薄膜２ｂの厚さが５ｎｍの計１０ｎｍの厚さの磁性層２を形成した以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．５％、湿度膨張係数は１×１０−６／％ＲＨであった。
【００７１】
（実施例８）
下層磁性薄膜２ａの厚さが１０ｎｍ、上層磁性薄膜２ｂの厚さが５ｎｍの計１５ｎｍの厚さの磁性層２を形成した以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．３５％、湿度膨張係数は０．７×１０−６／％ＲＨであった。
【００７２】
（実施例９）
非磁性支持体１の厚みを４μｍとした以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．１％、湿度膨張係数は０．３×１０−６／％ＲＨであった。
【００７３】
（実施例１０）
非磁性支持体１の厚みを９μｍとした以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．２％、湿度膨張係数は０．４×１０−６／％ＲＨであった。
【００７４】
（比較例１）
カーボン保護膜からなる保護膜３を成膜しなかった以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．７％、湿度膨張係数は５．０×１０−６／％ＲＨであった。
【００７５】
（比較例２）
下層磁性薄膜２ａの厚さが５ｎｍ、上層磁性薄膜２ｂの厚さが２．５ｎｍの計７．５ｎｍの厚さの磁性層２を形成した以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．７％、湿度膨張係数は４．０×１０−６／％ＲＨであった。
【００７６】
（比較例３）
下層磁性薄膜２ａの厚さが１００ｎｍ、上層磁性薄膜２ｂの厚さが５０ｎｍの計１５０ｎｍの厚さの磁性層２を形成した以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．２％、湿度膨張係数は０．３×１０−６／％ＲＨであった。
【００７７】
（比較例４）
非磁性支持体１の厚みを３μｍとした以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．２％、湿度膨張係数は０．４×１０−６／％ＲＨであった。
【００７８】
（比較例５）
非磁性支持体１の厚みを１５μｍとした以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．７％、湿度膨張係数は３×１０−６／％ＲＨであった。
【００７９】
（比較例６）
磁性層２が単層で５０ｎｍの厚さに形成した以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．２％、湿度膨張係数は０．４×１０−６／％ＲＨであった。
【００８０】
（比較例７）
非磁性支持体１の厚みを１０μｍとし、下層磁性薄膜２ａの厚さが５ｎｍ、上層磁性薄膜２ｂの厚さが５ｎｍの計１０ｎｍの厚さの磁性層２を形成した以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．６％、湿度膨張係数は２×１０−６／％ＲＨであった。
【００８１】
（比較例８）
下層磁性薄膜２ａの厚さが６ｎｍ、上層磁性薄膜２ｂの厚さが２．５ｎｍの計８．５ｎｍの厚さの磁性層２を形成した以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．６％、湿度膨張係数は３．０×１０−６／％ＲＨであった。
【００８２】
（比較例９）
非磁性支持体１の厚みを２μｍとした以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．１％、湿度膨張係数は０．２×１０−６／％ＲＨであった。
【００８３】
（比較例１０）
非磁性支持体１の厚みを１２μｍとした以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。このときの熱収縮率は０．６％、湿度膨張係数は２．５×１０−６／％ＲＨであった。
【００８４】
（評価結果）
そして、以上のようにして作製された磁気テープについて、保存性についての評価試験を行った。
まず、ＤＬＴ７０００ドライブを改造したものに、記録ヘッド（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎ  Ｇａｐ、ギャップ０．１５μｍ、１．８Ｔ）と、再生ヘッド用ＭＲヘッド（最適Ｂｒ・ｔ：０．００３５Ｔ・μｍ）とを取り付けた。
【００８５】
これらのヘッドは固定ヘッドである。このドライブを用いて磁気テープにトラック幅１０μｍ、線記録密度１００ｋＦＣｌで信号を記録し、４０℃、８０％ＲＨの雰囲気中で１００時間保存した後、データを再生して、当該データの再生状況からテープの保存性を評価した。
【００８６】
評価は、テープにトラックずれがなく、正常に再生した場合を○と評価し、一部に読み取り不可が見られた場合を×として評価した。テープの走行方向による出力差も上記のテストドライブにて行った。ここで、正逆出力差は、１ｄＢ以下を合格とする。これらの結果を図３に示す。
【００８７】
実施例１〜１０については、磁性層厚、非磁性支持体の材料や厚み等が変わっても、熱収縮率、湿度膨張係数が請求項に記載の本発明の範囲内、すなわち、熱収縮率が０．５０％以下、かつ湿度膨張係数が１×１０−６／％ＲＨ以下になっているいることから、記録テープ保存性が良い。また、正逆出力差も１ｄＢ以下と小さい。
【００８８】
比較例１は保護膜３が無いため、熱収縮率、湿度膨張係数が大きく、記録テープ保存特性が悪い。このため、熱収縮率および湿度膨張係数を上述した範囲内に収めて記録テープ保存性を向上させるためには、磁性層２による補強だけでなく保護膜３の存在も必要なことがわかる。
【００８９】
比較例２は磁性層２が薄すぎるため、熱収縮率、湿度膨張係数が大きく、記録テープ保存特性が悪い。また、このテープは正逆の出力差が小さいが、磁性層２が薄すぎるために、十分な出力が取れなかった。実施例７では磁性層２の厚さが１０ｎｍの場合に熱収縮率および湿度膨張係数が上記した範囲内に収まっていることからして、磁性層２の厚さは１０ｎｍ以上必要であることがわかる。
【００９０】
比較例３は磁性層２が厚すぎるために、正逆の出力差が大きくなっている。実施例３では磁性層２の厚さが７５ｎｍの場合に正逆の出力差が１ｄＢ以内に収まっていることからして、磁性層２の厚さは７５ｎｍ以下とする必要があることがわかる。
【００９１】
比較例４は非磁性支持体１の厚さが薄すぎるため、安定した走行が出来なかった。実施例９では非磁性支持体１の厚さが４μｍの場合に安定した走行が確保されていることからして、非磁性支持体１の厚さは４μｍ以上とする必要があることがわかる。
【００９２】
比較例５は非磁性支持体１が厚すぎるため、磁性層２および保護膜３による補強が十分でなく、熱収縮率、湿度膨張係数が大きくなってしまい、記録テープ保存特性が悪い。
【００９３】
比較例６は磁性層２が単層であるために、正逆の出力差が大きくなっている。このため、正逆の出力差を１ｄＢ以下にするためには、少なくとも磁性層が２層構造となっている必要があることがわかる。
【００９４】
比較例７は磁性層厚、全厚は請求項に記載の本発明の範囲を満たしているが、全厚／磁性層厚が１０００を越えているため、熱収縮率、湿度膨張係数が大きく、記録テープ保存特性が悪い。
【００９５】
比較例８は磁性層２が薄すぎるため、熱収縮率、湿度膨張係数が大きく、記録テープ保存特性が悪い。また、このテープは正逆の出力差が小さいが、磁性層が薄すぎるために、十分な出力が取れなかった。実施例７では磁性層２の厚さが１０ｎｍの場合に熱収縮率および湿度膨張係数が上記した範囲内に収まっていることからして、磁性層２の厚さは１０ｎｍ以上必要であることがわかる。
【００９６】
比較例９は非磁性支持体１の厚さが薄すぎるため、安定した走行が出来なかった。実施例９では非磁性支持体１の厚さが４μｍの場合に安定した走行が確保されていることからして、非磁性支持体１の厚さは４μｍ以上とする必要があることがわかる。
【００９７】
比較例１０は非磁性支持体１が厚すぎるため、成膜した層による補強が十分でなく、熱収縮率、湿度膨張係数が大きくなってしまい、記録テープ保存特性が悪い。実施例１０では非磁性支持体１の厚さが９μｍの場合に熱収縮率、湿度膨張係数が上述した範囲にあることからして、非磁性支持体１の厚さは１０μｍ以下とする必要があることがわかる。
【００９８】
以上の実施例に示すように、コンピュータデータ記録用等の磁気テープとして、テープの熱収縮率及び湿度膨張係数をそれぞれ上記した一定値以下に調整することにより、保存後や湿度変化の激しい環境下で使用した場合でもテープの変形度が少なく、従って再生出力の低下が少ない。
【００９９】
そして、熱収縮率および湿度膨張係数が上記した一定値以下となるように、磁気テープの全厚が４．０μｍ以上１０．０μｍ以下に規定する必要がある。同様に、磁性層の合計の厚みが１０ｎｍ以上７５ｎｍ以下に規定する必要がある。さらに、磁気テープの全厚／磁性層の厚みが１０００以下に規定する必要がある。特に、上記の熱収縮率および温度膨張係数は、少なくとも磁気テープの幅が１／２インチ（１．２７ｃｍ）の場合には、再生出力の低下に影響を与えるようなテープ形状（寸法）の変形度はないことが保証された。
さらに、好ましくは上記の非磁性支持体１および磁性層２の厚さおよび相対的な厚さの比率が上記の条件を全て満たす必要がある。
【０１００】
これにより、例えば、従来に比べて狭いトラックピッチへの記録再生が可能な磁気記録再生システムに本発明の磁気テープを装着して作動させた場合でも磁気テープの変形度が少ないために、オフトラックなどが生じることが少ない。
またこのようなシステムが利用できることにより、更に高密度記録が可能となる。また、正方向と逆方向の出力差が小さいため、双方向での記録再生を行うリニアテープシステムにおいても高い記録密度が可能となる。
【０１０１】
本発明は、上記の実施形態の説明に限定されない。例えば、磁気テープの構成は上記したものに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での変更、例えば必要に応じて非磁性支持体上に下塗層を形成したり、潤滑剤、防錆剤などの層を形成することは何等差し支えない。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
【０１０２】
【発明の効果】
本発明によれば、１００℃、５％ＲＨで３０分保存した時の前記長手方向および幅方向の熱収縮率が０．５０％以下、かつ湿度膨張係数が１×１０−６／％ＲＨ以下となるように、磁気テープを作製することにより、長期間の保存や高湿下での使用においても形状変形が少なく、従って再生出力の低下が少ない磁気テープが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態に係る磁気テープの一例を示す概略構成図である。
【図２】磁性層を形成する真空蒸着装置として使用される連続巻き取り式の真空蒸着装置の構成を示す図である。
【図３】本実施例の磁気テープについて、評価した結果を示す図である。
【符号の説明】
１…非磁性支持体、２…磁性層、２ａ…下層磁性薄膜、２ｂ…上層磁性薄膜、３…保護膜、４…潤滑剤層、５…バックコート層、１０…磁気テープ、２０…真空蒸着装置、２１…真空室、２２…冷却キャン、２３…蒸着源、２４…供給ロール、２５…巻き取りロール、２７，２８…ガイドローラー、２９…電子ビーム蒸着源、３０…電子ビーム、３１…第１のシャッタ、３２…第２のシャッタ。
【図１】
2004253060.tif 000003
【図２】
2004253060.tif 000004
【図３】
2004253060.tif 000005