(57)【要約】【課題】一つの蒸着工程で、蒸着が必要なパネルパターン部に応じたパターン形成領域以外にはできる限り蒸着材料の供給を行わないようにして、蒸着後の作業を円滑に行うことを可能にし、また、無駄な蒸着材料の使用を避けて、有効に使用されなかった蒸着材料の回収率を高める。【解決手段】有機ＥＬ素子からなるパネルパターン部を形成する基板１と蒸着源２との間に防着板３を介在させる。この防着板３は、蒸着源２から発せられる蒸着流の通過量を制限することによって、パネルパターン部に対応するパターン形成領域以外の領域に供給される蒸着材料を遮断又は抑制する。【選択図】        図２
2004199919.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に有機ＥＬ素子からなる少なくとも一つのパネルパターン部を形成する蒸着工程を有し、該蒸着工程において、蒸着源から発せられる蒸着流の通過量を制限することによって、前記パネルパターン部に対応するパターン形成領域以外の領域に供給される蒸着材料を遮断又は抑制することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記通過量の制限は、通過開口部を有する防着板を前記蒸着源と前記基板間の蒸発領域内に介在させることによってなされることを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記基板上には前記パネルパターン部が複数形成され、前記パターン形成領域以外の領域は、前記パネルパターン部間のスペースに対応する領域であることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記パターン形成領域以外の領域は、蒸着が不要になったパネルパターン部に対応する領域を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記蒸着が不要になったパネルパターン部は、基板の中央部分であることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記蒸着が不要になったパネルパターン部は、前記蒸着工程以外の工程の検査部分であることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項７】
前記蒸着が不要になったパネルパターン部は、前記蒸着工程の前工程で不良と判定されたパネルパターン部であることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項８】
基板上に有機ＥＬ素子からなる少なくとも一つのパネルパターン部を形成する蒸着工程を有し、該蒸着工程において、複数の通過開口部を有する防着板を蒸着源と前記基板間の蒸発領域内に介在させ、前記通過開口部を選択的に閉塞することによって、蒸着が不要になった領域に供給される蒸着材料を遮断又は抑制することを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記蒸着工程の後、前記遮断又は抑制された蒸着材料を回収する工程を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
基板上に複数のパネルパターン部を形成するための蒸着処理を行う有機ＥＬ表示パネルの製造装置であって、前記基板に対向配置される蒸着源を備え、前記基板と前記蒸着源との間に配置され、前記パネルパターン部にそれぞれ対応した通過開口部が形成された防着板を備えることを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの製造装置。
【請求項１１】
前記防着板の各通過開口部は、選択的に閉塞体を着脱可能にしていることを特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造装置。
【請求項１２】
基板上に複数のパネルパターン部を形成した有機ＥＬ表示パネルにおいて、製造過程で蒸着不要になったパネルパターン部を非蒸着領域としたことを特徴とする有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１３】
前記非蒸着領域は、前記蒸着が不要になったパネルパターン部へ供給される蒸着材料を遮断又は抑制する防着板を介した蒸着処理によって形成されることを特徴とする請求項１２に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機ＥＬ表示パネルの製造方法、有機ＥＬ表示パネルの製造装置、有機ＥＬ表示パネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬ表示パネルは、透明ガラス等から成る基板上にＩＴＯ等の透明電極からなる陽極を形成し、その上に有機化合物からなる発光層を含む有機層を形成し、その上にＡｌ等の金属電極からなる陰極を形成してなる有機ＥＬ素子を基本構成としており、この有機ＥＬ素子を単位面発光要素として平面基板上にドットマトリクス状に配列させることで画像表示を行うものである。
【０００３】
この有機ＥＬ表示パネルの製造方法としては、一般にマスク蒸着法が採用されている。すなわち、基板をパネルパターンに応じた開口部を有する蒸着マスクで覆い、この蒸着マスクを介して電極又は有機層の蒸着を行うことで、基板上に有機ＥＬ素子からなるパネルパターン部を形成するものである。
【０００４】
また、このような有機ＥＬ表示パネルの製造方法においては、量産化の手法として、一枚の基板を複数のパターン形成領域１０１を有する多面取り用マスク１００で覆い（図１参照）、単一の蒸着源でこのマスク１００を介して基板上に複数のパネルパターン部を形成する方法が採用されている（下記特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−２３７０７３号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような有機ＥＬの製造方法によると、蒸着工程において、蒸着源から発せられる蒸着流はマスク１００の全面に到達することになり、基板上に蒸着パターンを形成するパターン形成領域１０１以外の領域１０２では大量の蒸着材料が付着した状態になる。これは複数のパターン形成領域１０１を有するマスク１００に限らず、単一のパターン形成領域を有するマスクでも同様であり、パターン形成領域以外の領域に大量の蒸着材料が付着することになる。このような状態になると、蒸着処理後にマスク１００を洗浄する際に蒸着材料の除去に時間が掛かり、作業性が悪いという問題があり、また、高価な有機化合物材料を大量に無駄にすることになるので、経済性にも問題があった。
【０００７】
また、比較的大型の基板に対してパネルパターン部を形成する場合には、蒸着前になされるフォトリソ工程で、スピンコートによる膜形成の際に基板中央部分の薄膜が不均一になる。従って、この基板中央部分に形成されるパネルパターン部は使用できないことになるが、一つの蒸着工程で基板全面に蒸着処理を行う従来の有機ＥＬの製造方法によると、このような基板中央部分にも有機化合物材料が蒸着されることになる。この際には、基板上に蒸着された有機化合物材料は、複数層になって単独の材料での回収が不可能になり、また、回収しようとすると基板上の有効なパネルパターン部を傷つけることにもなるので、実質的には回収不能になり、高価な材料を無駄に使ってしまうという問題があった。
【０００８】
また、通常、基板の端の部分には、各工程において検査を行うための部分が設けられるが、一つの蒸着工程で基板全面に蒸着処理を行う従来の有機ＥＬの製造方法によると、蒸着が不要なこの検査部分にも有機化合物材料が蒸着されることになり、蒸着された有機化合物材料は前述のように回収不能になるので、高価な材料を無駄に使ってしまうという問題があった。
【０００９】
また、基板上に複数のパネルパターン部を形成する場合には、蒸着の前工程や有機化合物を蒸着する前の陽極パターン形成工程等で複数あるパネルパターン部のいくつかに不良が発生することがある。このような不良パネルパターン部は蒸着前の検査工程ではじめて発覚するものであり、どの部分に発生するかを予測することはできないが、一つの蒸着工程で全てのパネルパターン部に対するパターン形成領域に蒸着材料を供給する従来の有機ＥＬの製造方法によると、このような不良パネルパターン部にも有機化合物材料が蒸着されることになり、蒸着された有機化合物材料は前述のように回収不能になるので、高価な材料を無駄に使ってしまうという問題があった。
【００１０】
そもそも蒸着源から蒸発した材料は、非常に純度の高いものであり、一つの蒸着工程毎に使用されなかった材料を回収して再利用することに成分上の問題はない。しかしながら、前述したように基板の蒸着不要部分に一旦蒸着されてしまうと回収が不能になるので、再利用のための回収率を低下させてしまうという問題がある。
【００１１】
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、一つの蒸着工程で、蒸着が必要なパネルパターン部に応じたパターン形成領域以外にはできる限り蒸着材料の供給を行わないようにして、蒸着後の作業を円滑に行うことを可能にし、また、無駄な蒸着材料の使用を避けて、有効に使用されなかった蒸着材料の回収率を高めること等が本発明の目的である。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明は、以下の各独立請求項に係る構成を少なくとも具備するものである。
【００１３】
第１には（請求項１）、有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、基板上に有機ＥＬ素子からなる少なくとも一つのパネルパターン部を形成する蒸着工程を有し、該蒸着工程において、蒸着源から発せられる蒸着流の通過量を制限することによって、前記パネルパターン部に対応するパターン形成領域以外の領域に供給される蒸着材料を遮断又は抑制することを特徴とする。
【００１４】
第２には（請求項８）、有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、基板上に有機ＥＬ素子からなる少なくとも一つのパネルパターン部を形成する蒸着工程を有し、該蒸着工程において、複数の通過開口部を有する防着板を蒸着源と前記基板間の蒸発領域内に介在させ、前記通過開口部を選択的に閉塞することによって、蒸着が不要になった領域に供給される蒸着材料を遮断又は抑制することを特徴とする。
【００１５】
第３には（請求項１０）、基板上に複数のパネルパターン部を形成するための蒸着処理を行う有機ＥＬ表示パネルの製造装置であって、前記基板に対向配置される蒸着源を備え、前記基板と前記蒸着源との間に配置され、前記パネルパターン部にそれぞれ対応した通過開口部が形成された防着板を備えることを特徴とする。
【００１６】
第４には（請求項１２）、基板上に複数のパネルパターン部を形成した有機ＥＬ表示パネルにおいて、製造過程で蒸着不要になったパネルパターン部を非蒸着領域としたことを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を説明する。本発明の実施形態は、以下の特徴を有するものである。
【００１８】
第１には、前述したように、有機ＥＬ表示パネルの製造方法として、基板上に有機ＥＬ素子からなる少なくとも一つのパネルパターン部を形成する蒸着工程を有し、該蒸着工程において、蒸着源から発せられる蒸着流の通過量を制限することによって、前記パネルパターン部に対応するパターン形成領域以外の領域に供給される蒸着材料を遮断又は抑制することを特徴とする。
【００１９】
これによると、一つの蒸着工程で、蒸着が必要なパネルパターン部に応じたパターン形成領域以外にはできる限り蒸着材料の供給を行わないようにすることで、パターン形成領域以外の領域に付着する蒸着材料を少なくし、マスク洗浄等の蒸着後の作業を円滑に行うことを可能にする。
【００２０】
第２には、第１の特徴を有する有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、前記通過量の制限は、通過開口部を有する防着板を前記蒸着源と前記基板間の蒸発領域内に介在させることによってなされることを特徴とする。これによると、蒸発領域に介在された防着板の通過開口部以外の部分で蒸着流を遮ることで、パターン形成領域以外の領域へ供給される蒸着材料を減らすことができる。また、防着板で遮られた蒸着材料を各蒸着工程毎に回収することによって、混じりのない材料毎の回収が可能になる。
【００２１】
第３には、前述の特徴を有する有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、前記基板上には前記パネルパターン部が複数形成され、前記パターン形成領域以外の領域は、前記パネルパターン部間のスペースに対応する領域であることを特徴とする。これによると、複数のパネルパターン部が形成された基板に対して、パネルパターン部間のスペースに対応した領域に供給される蒸着材料を減らすことができる。
【００２２】
第４には、前述の特徴を有する有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、前記パターン形成領域以外の領域は、蒸着が不要になったパネルパターン部に対応する領域を含むことを特徴とする。これによると、基板上の蒸着が不要になったパネルパターン部に蒸着されてしまい回収不能になる蒸着材料を減らすことができるので、蒸着源から蒸発されながら基板上に蒸着されなかった蒸着材料の回収率を高めることができる。
【００２３】
第５には、前述の特徴を有する有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、前記蒸着が不要になったパネルパターン部は、基板の中央部分であることを特徴とする。これによると、蒸着の前工程（フォトリソ工程等）で不均一膜が形成されやすい基板の中央部分に蒸着されてしまい回収不能になる蒸着材料を減らすことができるので、蒸着源から蒸発されながら基板上に蒸着されなかった蒸着材料の回収率を高めることができる。
【００２４】
第６には、前述の特徴を有する有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、前記蒸着が不要になったパネルパターン部は、前記蒸着工程以外の工程の検査部分（複数蒸着工程がある場合には、該当する蒸着工程（実際に行おうとしている蒸着工程）以外の他の蒸着工程における検査部分を含む。）であることを特徴とする。これによると、蒸着が不要な検査部分に蒸着されてしまい回収不能になる蒸着材料を減らすことができるので、蒸着源から蒸発されながら基板上に蒸着されなかった蒸着材料の回収率を高めることができる。
【００２５】
第７には、前述の特徴を有する有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、前記蒸着が不要になったパネルパターン部は、前記蒸着工程の前工程で不良と判定されたパネルパターン部であることを特徴とする。これによると、前工程で不良と判定されたパネルパターン部に蒸着されてしまい回収不能になる蒸着材料を減らすことができるので、蒸着源から蒸発されながら基板上に蒸着されなかった蒸着材料の回収率を高めることができる。
【００２６】
第８には、前述したように、有機ＥＬ表示パネルの製造方法として、基板上に有機ＥＬ素子からなる少なくとも一つのパネルパターン部を形成する蒸着工程を有し、該蒸着工程において、複数の通過開口部を有する防着板を蒸着源と前記基板間の蒸発領域内に介在させ、前記通過開口部を選択的に閉塞することによって、蒸着が不要になった領域に供給される蒸着材料を遮断又は抑制することを特徴とする。
【００２７】
これによると、蒸着工程の前に、基板上に蒸着が不要になった領域ができた場合にも、複数の通過開口部のいずれかを選択して蒸着が不要になった領域に対応する通過開口部を閉塞することが可能になる。したがって、基板上に形成された任意の蒸着不要領域に対して蒸着材料の供給を遮断又は抑制することができ、蒸着不要領域に蒸着されてしまい回収不能になる蒸着材料を減らすことができる。
【００２８】
第９には、前述の特徴を有する有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、前記蒸着工程の後、前記遮断又は抑制された蒸着材料を回収する工程を有することを特徴とする。これによると、蒸着源から蒸発されながら基板に蒸着されなかった蒸着材料を高い回収率で回収することができる。また、各蒸着工程毎に回収を行うので、混じりのない材料毎の回収が可能になる。したがって、高価な有機化合物材料を蒸着材料とする場合であっても無駄な使用が少なくなり経済的である。
【００２９】
第１０には、前述したように、有機ＥＬ表示パネルの製造装置として、基板上に複数のパネルパターン部を形成するための蒸着処理を行う有機ＥＬ表示パネルの製造装置であって、前記基板に対向配置される蒸着源を備え、前記基板と前記蒸着源との間に配置され、前記パネルパターン部にそれぞれ対応した通過開口部が形成された防着板を備えることを特徴とする。
【００３０】
これによると、パネルパターン部に対応したパターン形成領域には防着板の通過開口を通じて蒸着流が到達し、パネルパターン部間のスペース領域に対しては防着板によって蒸着材料の供給が遮断又は抑制されることになる。したがって、蒸着材料の無駄な供給を避けることができ、蒸着後のマスク洗浄作業における作業性や蒸着材料の回収性を向上させることができる。
【００３１】
第１１には、前述の特徴を有する有機ＥＬ表示パネルの製造装置において、前記防着板の各通過開口部は、選択的に閉塞体を着脱可能にしていることを特徴とする。これによると、蒸着工程の前に、基板上に蒸着が不要になったパネルパターン部ができた場合にも、複数の通過開口部の中から選択して、蒸着が不要になったパネルパターン部に対応する通過開口部に閉塞体を装着することができる。したがって、基板上に形成された任意の蒸着不要パネルパターン部に対して蒸着材料の供給を遮断又は抑制することができ、蒸着不要パネルパターン部に蒸着されてしまい回収不能になる蒸着材料を減らすことができる。
【００３２】
第１２には、前述したように、有機ＥＬ表示パネルとして、基板上に複数のパネルパターン部を形成した有機ＥＬ表示パネルにおいて、製造過程で蒸着不要になったパネルパターン部を非蒸着領域としたことを特徴とする。
【００３３】
これによると、基板上に複数のパネルパターン部を形成した有機ＥＬ表示パネルで、例えば製造工程で不良が判明したパネルパターン部に高価な蒸着材料が蒸着されることが無くなるので、有機ＥＬ表示パネルのコストを低減させることができる。
【００３４】
第１３には、前述の特徴を有する有機ＥＬ表示パネルにおいて、前記非蒸着領域は、前記蒸着が不要になったパネルパターン部へ供給される蒸着材料を遮断又は抑制する防着板を介した蒸着処理によって形成されることを特徴とする。これによると、前述したように有機ＥＬ表示パネルのコストを低減させることができると共に、防着板で遮断又は抑制された蒸着材料を回収することができるので、これを再利用して、パネルの大量生産時にもトータルの製造コストを低減することができる。
【００３５】
【実施例】
以下に、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。図２は、本発明の実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法及び製造装置の概要を示す説明図である。図において、基板１が蒸着チャンバ１０内に設置されて、この基板１に近接してマスク１００が設けられている。また、蒸着チャンバ１０内には、基板１に対向配置して蒸着源２が設けられている。そして、この蒸着源２と基板１間の蒸発領域２０内に防着板３を介在させている。この防着板３は、蒸発領域２０内であれば、基板１と平行に任意の位置に設けることが可能であり、例えば、マスク１００に近接した位置（３ａ）であってもよいし、蒸着源２に近い位置（３ｂ）であってもよい。また、防着板３は、設置される位置に応じて有効な面積を有するように構成されている。
【００３６】
ここで、マスク１００は前述した図１に示すものと同様であって、複数のパターン形成領域１０１を有しており、また、基板１には、パターン形成領域１０１に対応して、複数のパネルパターン部１Ａが形成されることになる。
【００３７】
図３及び図４は、このような実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法及び製造装置の作用を示す説明図である（図２と同様な部分には同じ符号を付して一部重複した説明を省略する。）。防着板３は、蒸着源２から発せられる蒸着流の通過量を制限するものであって、蒸着流が通過する通過開口部３Ａとこの通過開口部３Ａ間で蒸着材料を遮断又は抑制する防着部３Ｂによって構成されている。また、本実施例においては、通過開口部３Ａはパターン形成領域１０１或いは基板１のパネルパターン部１Ａに対応して形成されており、基板１の中央部分１Ａ１及び蒸着工程以外の工程の検査部分１Ａ２のパネルパターン部に対応する位置にも防着部３Ｂ１，３Ｂ２が形成されている。なお、図においては、蒸着源２の形状は方形としたが、これに限定されるものではなく、円形，多角形，長手方向を有するものであってもよい。また、蒸着源２の形状にしたがって蒸発領域２０が形成されるので、それに合わせて防着板３の形状を適宜決めることができる。
【００３８】
このような実施例では、図４に示されるように、基板１上に有機ＥＬ素子から成るパネルパターン部１Ａを形成する蒸着工程において、通過開口部３Ａを通過する蒸着流２Ａはマスク１００のパターン形成領域１０１に到達するが、蒸着流２Ａの一部は防着部３Ｂによって遮られることになる。これによって、基板１上に有機ＥＬ素子が形成されるパネルパターン部１Ａに対応するパターン形成領域以外の領域に対しては、蒸着材料の供給が遮断又は抑制されることになる。
【００３９】
これによると、複数のパネルパターン部１Ａの間に形成されるスペース１Ｂに対応するマスク１００表面上の領域には多量の蒸着材料が堆積することがなくなり、蒸着後のマスク洗浄等の工程を円滑に行うことができる。また、マスク表面上に堆積した蒸着材料を無駄にすることもなくなるので、経済性を向上させることができる。
【００４０】
そして、一般に、蒸着の前工程で行われるフォトリソ工程等で基板１の中央部分１Ａ１は薄膜形成の不均一等によって蒸着が不要になり、また、蒸着の前工程に対する検査で使用される基板１の端の検査部分１Ａ２も蒸着が不要になる。複数色の有機ＥＬ素子パターンを形成するために、各色毎の蒸着工程を有する場合には、各色の蒸着工程毎に検査部分があり、一つの蒸着工程においては他の蒸着工程の検査部分が蒸着不要になる。このように蒸着が不要になったパネルパターン部に対するパターン形成領域にも、防着板の中央部及び端部に形成された防着部３Ｂ１，３Ｂ２によって蒸着材料の供給を遮断又は抑制することができるので、このような蒸着不要のパネルパターン部が蒸着されて無駄な蒸着材料が使用される不都合を回避することができる。蒸着不要のパネルパターン部に蒸着材料が蒸着されてしまうと回収不能になるが、このようにして蒸着不要のパネルパターン部への蒸着を回避することで、蒸着源２から蒸発して有効に使用されなかった蒸着材料の回収率を高めることができる。
【００４１】
図５は、本発明の実施例に用いられる防着板３の他の例を示す説明図である。図は防着板３の防着部３Ｂの形態を示しており、この実施例においては、防着部３Ｂを方向性のある遮蔽部３ｂ１と開口部３ｂ２で形成している。これによると、蒸着流２Ａの方向性に応じて蒸着流２Ａの透過量を抑制することができる。防着板３の形態としては、これに限らず、メッシュ状等であってもよく、要するに、有機ＥＬ素子が形成されるパネルパターン部に対応するパターン形成領域以外の領域に対しては、蒸着材料の供給が遮断又は抑制されるものであればよい。
【００４２】
図６及び図７は、本発明の実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法及び製造装置の他の例を示す説明図である（前述の図と同様な部分には同じ符号を付して一部重複した説明を省略する。）。本実施例においては、通過開口部３Ａはパターン形成領域１０１或いは基板１のパネルパターン部１Ａに対応して形成されており、この通過開口部３Ａに対して閉塞体３０を着脱可能にしている。つまり、図７（図６におけるＸ−Ｘ断面図）に示すように、通過開口部３Ａに抜け止め部３１（図示においては、段差部を形成しているが、それに限らず、テーパ部等であってもよい。）を形成し、閉塞体３０側に係合部３０ａを形成している。
【００４３】
この実施例によると、通過開口部３Ａに閉塞体３０を装着することで、選択的に通過開口部３Ａを閉塞することができる。すなわち、蒸着の前工程で蒸着が不要なパネルパターン部になる中央部分１Ａ１或いは検査部分１Ａ２に対応する通過開口部３Ａに閉塞体３０を装着することによって、前述の実施例と同様に、この中央部分１Ａ１或いは検査部分１Ａ２のパネルパターン部に対するパターン形成領域に対して蒸着材料の供給を遮断又は抑制することができる。したがって、このような蒸着不要のパネルパターン部が蒸着されて無駄な蒸着材料が使用される不都合を回避することができる。
【００４４】
更には、蒸着前の検査工程で、複数のパネルパターン部１Ａの内の何れかが不良と判定された場合に、その不良と判定されたパネルパターン部に応じた通過開口部３Ａに閉塞体３０を装着して、不良と判定されたパネルパターン部に対するパターン形成領域に対して蒸着材料の供給を遮断又は抑制することができる。したがって、このような不良のパネルパターン部が蒸着されて無駄な蒸着材料が使用される不都合を回避することができる。
【００４５】
図８は、実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、前述した蒸着工程前後の工程を示したフローである。前工程Ｓ１は、基板１に対してＩＴＯ等の透明電極からなる陽極，絶縁層，陰極隔壁等のパターニングを行う工程で、主にフォトリソ工程が中心になる。この前工程Ｓ１の後、陽極，絶縁層，陰極隔壁等が形成された基板１を一旦洗浄する（Ｓ２）。
【００４６】
そして、前工程Ｓ１が適正になされているか否かの前検査Ｓ３を行う。この工程では、特に陽極のパターニング状況の検査が行われ、陽極の断線或いは短絡等のチェックがなされる。基板上に複数のパネルパターン部１Ａを形成する場合には、各パネルパターン部毎に検査を行い、不良が判明した場合にはそのパネルパターン部をチェックする。
【００４７】
次に、検査が行われた基板１を蒸着チャンバ１０内に搬入し（Ｓ４）、図２に示したように、蒸着チャンバ１０内に基板１を設置する。ここで、前述した防着板３に対して、前述の前検査Ｓ１で不良と判定されたパネルパターン部，或いは基板１の中央部分１Ａ１，検査部分１Ａ２等、蒸着が不要になったパネルパターン部に応じた通過開口部３Ａを閉塞体３０で閉塞して、防着部の選択を行う（Ｓ５）。
【００４８】
このように防着部が選択された防着板３を蒸着源２と基板１との間の蒸着領域に介在させ、必要なパターン形成領域１０１を有するマスク１００を基板１に近接させて、前述した蒸着工程を行う（Ｓ６）。
【００４９】
蒸着が完了すると、基板１からマスク１００を外して、蒸着がなされた基板１は蒸着チャンバの外に搬出される（Ｓ６）。蒸着チャンバ１０内では、蒸着源２から蒸発したが基板１上に蒸着されなかった蒸着材料が分散しているので、これを回収する（Ｓ８）。このような回収は一つの蒸着材料を用いた一蒸着工程毎に行われる。一旦蒸着源２から蒸発した蒸着材料は純度が高くなっているので再利用が可能である。また、有機ＥＬ素子の有機層を形成する有機化合物は非常に高価な材料であるので、再利用による経済的意義は大きい。そして、前述したように防着板３の作用によって、無駄に使用される蒸着材料を減らすことができるので、回収率を高めることができる。
【００５０】
防着板３の材質は特に限定されるものではないが、蒸着材料が付着し難く又付着しても剥離しやすいものが適する。一例としては、ガラス或いは金属によって形成できる。また、防着板３への蒸着材料の付着を防いで回収を容易にするために、防着部３Ｂの蒸着源側表面に凹凸を形成するようにしてもよい。
【００５１】
図９は、このように製造される有機ＥＬ表示パネルを示した説明図である。この有機ＥＬ表示パネルは、基板１上に複数のパネルパターン部１Ａ毎に、ＩＴＯ等の透明電極からなる陽極１１のパターン、絶縁層１２のパターン、陰極隔壁１３のパターンが形成されている。そして、前検査（Ｓ３）で良と判定されたパネルパターン部１Ａ（Ｇ）には、単層又は複数層から成る有機層１４及び陰極１５が形成されて有機ＥＬ素子のドットマトリクスパターンが形成されており、前検査（Ｓ３）で不良と判定されたか或いは基板１の中央部分（１Ａ１）や検査部分（１Ａ２）で、蒸着が不要となったパネルパターン部１Ａ（ＮＧ）においては、有機層１４及び陰極１５の形成がなされていない。
【００５２】
すなわち、本発明の実施例に係る有機ＥＬ表示パネルにおいては、基板１上に複数のパネルパターン部１Ａを形成した有機ＥＬ表示パネルで、前工程で不良が判明したパネルパターン部１Ａ（ＮＧ）に高価な有機化合物材料が蒸着されることが無くなるので、有機ＥＬ表示パネルのコストを低減させることができる。また、防着板３で遮断又は抑制された有機化合物材料を回収することができるので、これを再利用して、パネルの大量生産時にもトータルの製造コストを低減することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来技術の説明図である。
【図２】本発明の実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法及び製造装置の概要を示す説明図である。
【図３】本発明の実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法及び製造装置の作用を示す説明図である。
【図４】本発明の実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法及び製造装置の作用を示す説明図である。
【図５】本発明の実施例に用いられる防着板の他の例を示す説明図である。
【図６】本発明の実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法及び製造装置の他の例を示す説明図である。
【図７】本発明の実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法及び製造装置の他の例を示す説明図である（図６のＸ−Ｘ断面図）。
【図８】実施例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、蒸着工程前後の工程を示したフローである。
【図９】本発明の実施例に係る有機ＥＬ表示パネルを示した説明図である。
【符号の説明】
１  基板
１Ａ  パネルパターン部
１Ａ１  中央部分
１Ａ２  検査部分
１００  マスク
１０１  パターン形成領域
１０２  パターン形成領域以外の領域
２  蒸着源
２Ａ  蒸着流
２０  蒸発領域
３  防着板
３Ａ  通過開口部
３Ｂ  防着部
３０  閉塞体
【図１】
2004199919.tif 000003
【図２】
2004199919.tif 000004
【図３】
2004199919.tif 000005
【図４】
2004199919.tif 000006
【図５】
2004199919.tif 000007
【図６】
2004199919.tif 000008
【図７】
2004199919.tif 000009
【図８】
2004199919.tif 000010
【図９】
2004199919.tif 000011