(57)【要約】【課題】最も効率良くまた、コストと製品の表面清浄度のバランスを考えて管理できるエレクトロニクス製品の製造方法及びそれに用いる洗浄装置を提供する。【解決手段】少なくとも、電気伝導度が２０００ｎＳ／ｍｍ以下の工業用水を用いて洗浄する第１の洗浄手段と、電気伝導度が５〜２０ｎＳ／ｍｍの回収した純水を用いて洗浄する第２の洗浄手段と、電気伝導度が５ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いて洗浄する第３の洗浄手段と、を具備する洗浄装置を用いてエレクトロニクス製品を製造する。なお、電気伝導度が１ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いて洗浄する第４の洗浄手段を設けること、及び、第３の洗浄手段から純水を回収し、第２の洗浄手段へ供給する送水手段、又は、第４の洗浄手段から純水を回収し、第３の洗浄手段へ供給する送水手段を有することも好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高塩濃度の薬液を使用するエレクトロニクス製品の製造方法において、少なくとも、電気伝導度が２０００ｎＳ／ｍｍ以下の工業用水を用いる第１の洗浄工程と、電気伝導度が５〜２０ｎＳ／ｍｍの回収した純水を用いる第２の洗浄工程と、電気伝導度が５ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いる第３の洗浄工程を、具備することを特徴とするエレクトロニクス製品の製造方法。
【請求項２】
更に、電気伝導度が１ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いる第４の洗浄工程を、具備することを特徴とする請求項１記載のエレクトロニクス製品の製造方法。
【請求項３】
少なくとも、電気伝導度が２０００ｎＳ／ｍｍ以下の工業用水を用いて洗浄する第１の洗浄手段と、電気伝導度が５〜２０ｎＳ／ｍｍの回収した純水を用いて洗浄する第２の洗浄手段と、電気伝導度が５ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いて洗浄する第３の洗浄手段と、を具備することを特徴とする洗浄装置。
【請求項４】
更に、電気伝導度が１ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いて洗浄する第４の洗浄手段と、を具備することを特徴とする請求項３記載の洗浄装置。
【請求項５】
第３の洗浄手段から純水を回収し、第２の洗浄手段へ供給する送水手段を有することを特徴とする請求項３記載の洗浄装置。
【請求項６】
第４の洗浄手段から純水を回収し、第３の洗浄手段へ供給する送水手段を有することを特徴とする請求項３または４の何れかに記載の洗浄装置。
【請求項７】
第３の洗浄手段から純水を回収し、第２の洗浄手段へ供給する送水手段、又は、第４の洗浄手段から純水を回収し、第３の洗浄手段へ供給する送水手段において第２、第３の純水の電気伝導度が所定の条件に入るよう供給水量、水圧を調整する電気伝導度制御手段を有することを特徴とする請求項３から６の何れかの１に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はエッチング、メッキ等の塩濃度の高い薬液を用いる工程を有するエレクトロニクス製品の製造方法及びそれに用いる洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
エレクトロニクス製品の製造において、塩濃度の高い薬液処理を行った後の洗浄工程には多量の洗浄水が必要となる。しかし、一般の工業用水と比較して純水は製造コストが高く、純水の水量を増やすとコストが大きく上昇する。また、回収した純水を使用した場合であっても、塩濃度の高い薬液処理を行った直後の洗浄工程で、高い水圧、多くの水量を確保することは困難である。大量の水量を確保しようとすれば、新しい純水を大量に流さなくてはならず、コストが大幅に上昇するからである。
【０００３】
一方、コストの安い工業用水を大量に使用すれば、廃水の処理するためにコストがかかり環境にも良くない。また、製品表面の清浄度を考えると最終洗浄は純水を用いざるを得ない。
【０００４】
更に、製品を製造する際には、製造条件は一定で無い。特に何らかのトラブル等が起きた際には、大きく製造条件が変動してしまう。従来の技術ではこのような製造条件の変動に対し、殆ど対処出来なかった。
【０００５】
また、純水による洗浄を繰り返し行う場合もある。この場合において、電気伝導度による管理が行われるときもあるが、単に低ければ良いとの判断である。よって、コストを考えた、最適な水量、水圧を設定した洗浄を行うことは難しい。更にまた、コストダウンのために工業用水を用いる従来技術（特許文献１参照）がある。しかし、この方法では単に工業用水のイオン濃度（電気伝導度）が低いときに工業用水を用いるというものである。
【０００６】
【特許文献１】
特許第３２１６４２７号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであって、最も効率良くまた、コストと製品の表面清浄度のバランスを考えて管理できるエレクトロニクス製品の製造方法及びそれに用いる洗浄装置を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、高塩濃度の薬液を使用するエレクトロニクス製品の製造方法において、少なくとも、電気伝導度が２０００ｎＳ／ｍｍ以下の工業用水を用いる第１の洗浄工程と、電気伝導度が５〜２０ｎＳ／ｍｍの回収した純水を用いる第２の洗浄工程と、電気伝導度が５ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いる第３の洗浄工程を、具備することを特徴とするエレクトロニクス製品の製造方法である請求項２記載の発明は、更に、電気伝導度が１ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いる第４の洗浄工程を、具備することを特徴とする請求項１記載のエレクトロニクス製品の製造方法である。
請求項３記載の発明は、少なくとも、電気伝導度が２０００ｎＳ／ｍｍ以下の工業用水を用いて洗浄する第１の洗浄手段と、電気伝導度が５〜２０ｎＳ／ｍｍの回収した純水を用いて洗浄する第２の洗浄手段と、電気伝導度が５ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いて洗浄する第３の洗浄手段と、を具備することを特徴とする洗浄装置である。
請求項４に記載の発明は、更に、電気伝導度が１ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いて洗浄する第４の洗浄手段と、を具備することを特徴とする請求項３記載の洗浄装置である。
請求項５に記載の発明は、第３の洗浄手段から純水を回収し、第２の洗浄手段へ供給する送水手段を有することを特徴とする請求項３記載の洗浄装置である。
請求項６に記載の発明は、第４の洗浄手段から純水を回収し、第３の洗浄手段へ供給する送水手段を有することを特徴とする請求項３または４の何れかに記載の洗浄装置である。
請求項７に記載の発明は、第３の洗浄手段から純水を回収し、第２の洗浄手段へ供給する送水手段、又は、第４の洗浄手段から純水を回収し、第３の洗浄手段へ供給する送水手段において第２、第３の純水の電気伝導度が所定の条件に入るよう供給水量、水圧を調整する電気伝導度制御手段を有することを特徴とする請求項３から６の何れかの１に記載の洗浄装置である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明者らの検討により、塩濃度が高い薬液処理（例えば、１％以上）を行った直後の洗浄は、大量の水量を使用すると効率が良い事が明らかになった（何段階もの回収した純水を使用するより最初に大量の工業用水を使用した方が時間もかからず、製品表面の清浄度が良好である）。このため、電気伝導度２０００ｎＳ／ｍｍ以下の工業用水を塩濃度が高い薬液処理を行った直後の第１の洗浄工程に用いることとした。しかし、製品表面の清浄度を考えると、最終洗浄工程（第３又は第４の洗浄工程）は純水（電気伝導度が５ｎＳ／ｍｍ以下、より好ましくは１ｎＳ／ｍｍ以下）にすることが望ましい。洗浄に使用する純水の水量を最適にするため、回収した純水の水圧、水量を調節することにより、または、新しい純水若しくは工業用水を加えることにより得られた電気伝導度が５〜２０ｎＳ／ｍｍの回収した純水を用いる第２の洗浄工程を第１の洗浄工程と第３又は第４の洗浄工程の中間に行うこととした。
【００１０】
このような洗浄方法により、最も効率良くまた、コストと製品の表面清浄度のバランスを考えて管理できる洗浄を行うことが出来る。
【００１１】
また、上記方法を実施するためには、少なくとも、電気伝導度が２０００ｎＳ／ｍｍ以下の工業用水を用いて洗浄する第１の洗浄手段と、電気伝導度が５〜２０ｎＳ／ｍｍの回収した純水を用いて洗浄する第２の洗浄手段と、電気伝導度が５ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いて洗浄する第３の洗浄手段と、必要に応じて、電気伝導度が１ｎＳ／ｍｍ以下の純水を用いて洗浄する第４の洗浄手段と、を具備する洗浄装置が必要である。洗浄手段としては、公知の水槽とノズル又はスクリュー等の攪拌手段を用いることができる。
【００１２】
また、回収した純水を有効に利用するために、第３の洗浄手段から純水を回収し、第２の洗浄手段へ供給する送水手段や、第４の洗浄手段から純水を回収し、第３の洗浄手段へ供給する送水手段を設けることが好ましい。それぞれの送水手段としては、公知の送水管やポンプを用いることができる。
【００１３】
更に、各洗浄手段及び／又は送水手段には、電気伝導度を測定する装置を設け、所定の値を超えそうな場合には、供給する純水の水圧、水量を増やしたり、そうでない場合は、供給する工業用水の水圧、水量を増やしたりする、電気伝導度制御手段を設けても良い。
【００１４】
【実施例】
図１は本発明に係わる洗浄装置の一実施例を説明する模式図である。洗浄装置には、第１乃至第４の洗浄手段（それぞれ１乃至４）を有する。また、第３の洗浄手段から回収した純水を第２の洗浄手段へ供給する送水手段５と、第４の洗浄手段から回収した純水を第３の洗浄手段へ供給する送水手段６を有する。エレクトロニクス製品は搬送手段（図示せず）により図を左から右に流れる。
【００１５】
幅１ｍ、厚さ１ｍｍの鉄材からなる基材にレジストを半分コートしたサンプルを、塩濃度２０％の塩化第２鉄液を用いて処理を行った。この後まず、第１の洗浄手段に貯えられた電気伝導度１０００ｎＳ／ｍｍの工業用水を水量１００ｌ／ｍｉｎで吹き付け、第１の洗浄工程を行った。続いて第２の洗浄手段に貯えられた電気伝導度１０ｎＳ／ｍｍの回収した純水による第２の洗浄工程と、第３の洗浄手段に貯えられた電気伝導度５ｎＳ／ｍｍの回収した純水による第３の洗浄工程を回行った。そして最後に電気伝導度１ｎＳ／ｍｍ新しい純水にて洗浄を行った（第４洗浄）。新しい純水を回収して洗浄にて使用する純水（第３洗浄）の電気伝導度が約１０ｎＳ／ｍｍとなるよう供給される新しい純水（第４洗浄）の水量を電気伝導度制御により調整した（水量１０ｌ／ｍｉｎ）。洗浄の終わったサンプルを超純水にて１００℃３０分抽出し、サンプル表面に残る塩素イオン量を測定したところ塩素イオン量は１ｎｇ／ｃｍ２以下であった。
【００１６】
（比較例１）
実施例と同じ幅１ｍ、厚さ１ｍｍの鉄材からなる基材にレジストを半分コートしたサンプルを、塩濃度２０％の塩化第２鉄液を用いて処理を行った。この後回収した純水による洗浄を５回、電気伝導度１ｎＳ／ｍｍの新しい純水による洗浄を１回行った（合計６回洗浄）。新しい純水の供給量は実施例の倍の２０ｌ／ｍｉｎとした。洗浄の終わったサンプルを超純水にて１００℃３０分抽出し、サンプル表面に残る塩素イオン量を測定したところ３０ｎｇ／ｃｍ２の塩素イオンが検出された。
【００１７】
（比較例２）
実施例と同じ幅１ｍ、厚さ１ｍｍの鉄材からなる基材にレジストを半分コートしたサンプルを、塩濃度２０％の塩化第２鉄液を用いて処理を行った。この後、電気伝導度１０００ｎＳ／ｍｍの工業用水を水量１００ｌ／ｍｉｎにて行う洗浄を３回行った。洗浄の終わったサンプルを超純水にて１００℃３０分抽出し、サンプル表面に残る塩素イオン量を測定したところ１５０ｎｇ／ｃｍ２の塩素イオンが検出された。
【００１８】
【発明の効果】
本発明のエレクトロニクス製品の製造方法及び洗浄装置によれば、高塩濃度の薬液を使用した後の洗浄を行う際、所定の電気伝導度の純水等を用いることにより、コストと製品表面清浄度のみならず、廃水も少なくなり環境対応にも優れ、製造装置の製造条件の変動にも的確に対応できるなど、実用上優れた効果が得られる。
【００１９】
【図面の簡単な説明】
【図１】洗浄装置の概略を示す説明図である。
【符号の説明】
１  第１の洗浄手段
２  第２の洗浄手段
３  第３の洗浄手段
４  第４の洗浄手段
５  送水手段
６  送水手段
【図１】
2004230247.tif 000003