(57)【要約】【課題】トップリング及びドレッシングツールがターンテーブルの外側位置で待機する場合、洗浄液で湿潤状態に保つことにより、トップリング及びドレッシングツールに付着したスラリーを除去すると共に、該トップリング及びドレッシングツールの乾燥を防止することができるポリッシング装置、及びその運転方法を提供すること。【解決手段】研磨布を貼付たターンテーブル１０、被研磨物を保持するトップリング２０を具備し、該ターンテーブル１０の研磨布にトップリング２０に保持された被研磨物を押し当て該被研磨物の研磨面を研磨するポリッシング装置において、トップリング２０が１ロッドの被研磨物の研磨終了後、他のロッドの被研磨物が搬入されるまで、該トップリング２０の少なくとも下面を湿潤状態に保つ手段（洗浄水ノズル）を設けた。【選択図】図１
2004230555.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨布を貼付たターンテーブル、被研磨物を保持するトップリングを具備し、該ターンテーブルの研磨布に前記トップリングに保持された被研磨物を押し当て該被研磨物の研磨面を研磨するポリッシング装置において、
前記トップリングが１ロットの被研磨物の研磨終了後、他のロットの被研磨物が搬入されるまで、該トップリングの少なくとも下面を湿潤状態に保つ手段を設けたことを特徴とするポリッシング装置。
【請求項２】
請求項１に記載のポリッシング装置において、
前記湿潤状態に保つ手段は、前記トップリングの少なくとも下面に洗浄液を噴射するノズルであることを特徴とするポリッシング装置。
【請求項３】
請求項２に記載のポリッシング装置において、
前記湿潤状態に保つ手段は、前記ノズルから洗浄液を前記トップリングの少なくとも下面が乾燥しない時間間隔で間欠的に洗浄液を噴射させる制御手段を具備することを特徴とするポリッシング装置。
【請求項４】
請求項１に記載のポリッシング装置において、
前記湿潤状態に保つ手段は、洗浄液を満たした容器を具備し、該容器に前記トップリングの少なくとも下面を浸して湿潤状態を保つことを特徴とするポリッシング装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載のポリッシング装置において、
前記トップリングは湿潤状態に保たれている間中回転していることを特徴とするポリッシング装置。
【請求項６】
研磨布を貼付たターンテーブル、被研磨物を保持するトップリングを具備し、該ターンテーブルの研磨布に前記トップリングに保持された被研磨物を押し当て該被研磨物の研磨面を研磨するポリッシング装置の運転方法において、
前記トップリングが１ロットの被研磨物の研磨終了後、他のロットの被研磨物が搬入されるまで、該トップリングを待機位置に移動させ少なくとも下面を湿潤状態に保つことを特徴とするポリッシング装置の運転方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリッシング装置、及びその運転方法に関し、トップリング及びドレッシングツール洗浄装置がターンテーブルの外側位置で待機している間、湿潤状態に保つことができるポリッシング装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図３はポリッシング装置の平面概略構成を示す図である。図示するように、ポリッシング装置は上面に研磨布（図示せず）を貼付たターンテーブル１０、トップリング２０、ドレッシングツール３０を具備し、回転する（矢印Ａ方向）該ターンテーブル１０の研磨布に回転（矢印Ｃ方向）するトップリング２０の下面に保持された被研磨物（図示せず）を押し当て、該被研磨物の研磨面を研磨すると共に、回転する該ターンテーブル１０の研磨布に回転するドレッシングツール３０を押し当て該研磨布の研磨による経時的変化を修正し目立てを行なっている。
【０００３】
上記ポリッシング装置において、トップリング２０は被研磨物受渡位置Ｄでロボットアーム６０等から被研磨物を受取り、経路Ｅを通ってポリッシング位置Ｆで被研磨物を研磨し、研磨終了後同じく経路Ｅを通って被研磨物受渡位置Ｄに戻りロボットアーム６０に研磨終了した被研磨物を渡し、再び被研磨物をロボットアーム６０から受取り、ポリッシング位置Ｆで該被研磨物を研磨するという作業を１ロットの被研磨物の研磨終了迄続ける。そして該１ロットの研磨物の研磨が終了後はロット待ちとなって他のロットの被搬送物が搬入されるまで、トップリング２０は位置Ｄで待機する。また、位置Ｇはメンテナンス時のトップリング２０の待機位置である。
【０００４】
一方ドレッシングツール３０はその下面をドレッシング位置Ｈでターンテーブル１０の研磨布上面に押し当て、該研磨布が研磨等で経時的変化したのを修正し目立てを行う。ドレッシング終了後は経路Ｉを通って待機位置Ｊに移動し、該待機位置Ｊで次のポリッシングまで待機するようになっている。
【特許文献１】特表平７−５０８６８５号公報
【特許文献２】特開平７−２５１３７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記ポリッシング装置において、従来トップリング２０はメンテナンス時の待機位置Ｇで待機する場合、またドレッシングツール３０は待機位置Ｊで待機する場合、湿潤状態に維持することなく待機するため、トップリング２０及びドレッシングツール３０に付着したスラリーが乾燥し、該乾燥したスラリーがターンテーブル１０の研磨布の上に落ちて被研磨物の研磨等に悪影響を与えるという問題があった。
【０００６】
本発明は上述の点に鑑みてなされてもので、トップリング及びドレッシングツールがターンテーブルの外側位置で待機する場合、洗浄液で湿潤状態に保つことにより、トップリング及びドレッシングツールに付着したスラリーを除去すると共に、該トップリング及びドレッシングツールの乾燥を防止することができるポリッシング装置、及びその運転方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため請求項１に記載の発明は、研磨布を貼付たターンテーブル、被研磨物を保持するトップリングを具備し、該ターンテーブルの研磨布に前記トップリングに保持された被研磨物を押し当て該被研磨物の研磨面を研磨するポリッシング装置において、トップリングが１ロッドの被研磨物の研磨終了後、他のロッドの被研磨物が搬入されるまで、該トップリングの少なくとも下面を湿潤状態に保つ手段を設けたことを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のポリッシング装置において、記湿潤状態に保つ手段は、トップリングの少なくとも下面に洗浄液を噴射するノズルであることを特徴とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のポリッシング装置において、湿潤状態に保つ手段は、ノズルから洗浄液をトップリングの少なくとも下面が乾燥しない時間間隔で間欠的に洗浄液を噴射させる制御手段を具備することを特徴とする。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載のポリッシング装置において、湿潤状態に保つ手段は、洗浄液を満たした容器を具備し、該容器に前記トップリングの少なくとも下面を浸して湿潤状態を保つことを特徴とする。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のポリッシング装置において、トップリングは湿潤状態に保たれている間中回転していることを特徴とする。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、研磨布を貼付たターンテーブル、被研磨物を保持するトップリングを具備し、該ターンテーブルの研磨布に前記トップリングに保持された被研磨物を押し当て該被研磨物の研磨面を研磨するポリッシング装置の運転方法において、トップリングが１ロットの被研磨物の研磨終了後、他のロッドの被研磨物が搬入されるまで、該トップリングを待機位置に移動させ少なくとも下面を湿潤状態に保つことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、トップリング装置に、トップリングが１ロッドの被研磨物の研磨終了後、他のロッドの被研磨物が搬入されるまで、該トップリングの少なくとも下面を湿潤状態に保つ手段を設けたので、トップリングの少なくとも下面を研磨実行中と同じ状態に維持でき、ロッド間の被研磨物の研磨を同じ状態で行なうことが可能とると共に、湿潤手段による洗浄効果も期待でき、乾燥したスラリーがターンテーブル上に落下して悪影響を与えるという問題も除去できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明に係るポリッシング装置の概略構成を示す図である。なお、図１において、図３と同一符号を付した部分は同一又は相当部分を示す。また、他の図面においても同様とする。本ポリッシング装置は図示するように、メンテナンス時の待機位置Ｇにあるトップリング２０の下面に洗浄水４２を噴射する洗浄水ノズル４０を配置すると共に、待機位置Ｊにあるドレッシングツール３０の下面に洗浄水４３を噴射する洗浄水ノズル４１を配設している。
【００１５】
上記構成のポリッシング装置において、メンテナンス時の待機位置Ｇで待機しているトップリング２０の下面に洗浄水ノズル４０から洗浄水４２を噴射し、該トップリング２０の下面を湿潤状態に保つ。この時トップリング２０を回転させることにより、下面を均一に湿潤状態にすることが可能となる。また、ドレッシング終了後待機位置Ｊで待機しているドレッシングツール３０の下面にも洗浄水ノズル４１から洗浄水４３を噴射し、該ドレッシングツール３０の下面を湿潤状態に保つ。また、この時ドレッシングツール３０を回転することにより、下面を均一に湿潤状態にすることが可能となる。
【００１６】
上記洗浄水ノズル４０及び洗浄水ノズル４１による洗浄水４２及び洗浄水４３の噴射は、トップリング２０の下面及びドレッシングツール３０の下面を湿潤状態に維持することが主たる目的であるから、洗浄水４２及び洗浄水４３の噴射はトップリング２０及びドレッシングツール３０が待機している間中連続して噴射してもよいが、洗浄水の節約のため乾燥しない適当な時間間隔で間歇的に噴射するようにしても良い。このように間歇的に洗浄水を噴射させることにより、純水等からなる高価な洗浄水の節約が可能となる。
【００１７】
なお、上記実施例では洗浄水ノズル４０及び洗浄水ノズル４１により、トップリング２０及びドレッシングツール３０の下面を洗浄するように構成したが、下面のみではなく、下面を含む所定の範囲が湿潤状態に保たれるように洗浄水ノズルを構成し、又は複数の洗浄水ノズルを配置してもよい。
【００１８】
図２は本発明に係るポリッシング装置におけるトップリング及びドレッシングツール洗浄装置の概略構成を示す図である。本トップリング及びドレッシングツール洗浄装置は図示するように、トップリング２０のメンテナンス時の待機位置Ｇに洗浄水４６を満たした容器４４を配設し、ドレッシングツール３０の待機位置Ｊに洗浄水４７を満たした容器４５を配設している。
【００１９】
上記構成のポリッシング装置において、メンテナンス時の待機位置Ｇにあるトップリング２０を容器４４内の洗浄水４６に浸し、該トップリング２０の下面を含む所定の範囲を湿潤状態にする。この時トップリング２０を回転させることにより、洗浄効果も向上する。また、ドレッシング終了後のドレッシングツール３０を待機位置Ｊで容器４５の洗浄水４７に浸し、該ドレッシングツール３０の下面を含む所定の範囲を湿潤状態に保つ。この時ドレッシングツール３０を回転させることにより、洗浄効果も向上する。
【００２０】
また、容器４４には洗浄水の水位を所定レベルに保つフロー管４８を設け、供給管４９より洗浄水を少量ずつ又は間歇的に供給することにより、洗浄水４６の節約が可能となる。同様に容器４５にも洗浄水の水位を所定レベルに保つフロー管５０を設け、供給管５１より洗浄水を少量ずつ又は間歇的に供給することにより、洗浄水４７の節約が可能となる。また、容器４４及び容器４５のそれぞれの底部にはドレン管５２及びドレン管５３を設ける。
【００２１】
上記のようにターンテーブル１０の外側にある待機位置Ｇ及び待機位置Ｊにそれぞれ容器４４及び容器４５を配設し、該容器４４及び容器４５のそれぞれに洗浄水４６及び洗浄水４７を満たし、トップリング２０及びドレッシングツール３０を浸すようにすることにより、図１に示す洗浄ノズル４０及び洗浄水ノズル４１を配設する方法に比べて、確実に湿潤状態に保つことができると共に、洗浄水の飛散がなく、ポリッシャールームが汚れることがない。また、洗浄水の節水も可能となる。
【００２２】
なお、上記実施の形態では、トップリング２０及びドレッシングツール３０の両者をターンテーブル１０の外側の待機位置Ｇ、Ｊで湿潤状態に保つようにしたが、両者を湿潤状態に保つことにより、上記の乾燥したスラリーがターンテーブル１０の研磨布の上に落ちて悪影響を与えるのを防止するという効果は、より一層発揮されるが、場合によってはトップリング２０又はドレッシングツール３０の何れか一方のみを湿潤状態に保つように構成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明のトップリング及びドレッシングツール洗浄装置を具備するポリッシング装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明のトップリング及びドレッシングツール洗浄装置を具備するポリッシング装置の概略構成を示す図である。
【図３】ポリッシング装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００２４】
１０      ターンテーブル
２０      トップリング
３０      ドレッシングツール
４０      洗浄水ノズル
４１      洗浄水ノズル
４２      洗浄水
４３      洗浄水
４４      容器
４５      容器
４６      洗浄水
４７      洗浄水
４８      フロー管
４９      供給管
５０      フロー管
５１      供給管
５２      ドレン管
５３      ドレン管
【図１】
2004230555.tif 000003
【図２】
2004230555.tif 000004
【図３】
2004230555.tif 000005