(57)【要約】【課題】透明衝撃吸収層（Ａ）を形成した光学フィルターにおいて生じることのある反射像のゆがみや、当該光学フィルターをディスプレイに装着した際に発現する画質の低さと言う問題点をを改善する。【解決手段】透明衝撃吸収層（Ａ）もしくは光学フィルターを、透明衝撃吸収層の表面粗さを制御する、具体的には例えば熱処理などで、該表面の凹凸を低減あるいは消失させる平滑化処理を施すことにより、反射像の歪みがなく、優れた画質のディスプレイ映像を提供できる光学フィルターを得た。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明衝撃吸収層（Ａ）、反射防止および／または防眩層（Ｃ）を有する光学フィルターであって、該透明衝撃吸収層（Ａ）の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０１以上、１００以下であることを特徴とする光学フィルター。
【請求項２】
さらに透明導電層（Ｂ）を有することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ上に設置される光学フィルターに関するものであり、更には耐衝撃性に優れた光学フィルターに関するものであり、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いられる光学フィルターに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、社会が高度化するに従って、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター装置および情報端末装置用途にめざましく普及しつつある。その中でディスプレイの大型かつ薄型化、または携帯用途を目的とした小型かつ軽量化に対する市場の要求は高まる一方である。中でもプラズマディスプレイパネル［ＰＤＰ］、すでに広く市場に普及しつつある。ＰＤＰは、電磁波及び近赤外線を遮断することを目的とした光学フィルターを前面に備えている。
【０００３】
従来から用いられているＰＤＰ光学フィルターは、ガラス板を基板とし、電磁波遮断、近赤外線遮断等機能を有する他、画質を向上させる役割も担っているものが多く、大画面、高画質のＰＤＰテレビの特徴に貢献している。只、該ＰＤＰ光学フィルターは、ガラスを基板とするが故にＰＤＰパネルに設置する際に一定の隙間を設ける必要があり、結果としてディスプレイの反射像が多重になる為、高画質化が十分とは言えない。このため、市場からはより高い画質を実現できる光学フィルターが求められている。
【０００４】
ＰＤＰパネルに直接貼り合わせることを目的とした直貼りタイプＰＤＰ光学フィルターは、従来の光学フィルターと異なりディスプレイとフィルターとの隙間がないので、上記の多重反射像問題を解決することができると言うメリットがある。但し、ディスプレイに外から衝撃が加わった際に、その衝撃がＰＤＰパネルに緩和されることなく加わるという問題がある。その問題を避けるために、透明衝撃吸収層を有する直貼りタイプＰＤＰ光学フィルターが、特開２００２−２３６４９号公報（特許文献１）、特開２０００―６１０６号公報（特許文献２）等に提案されている。
【０００５】
本発明者は、上記透明衝撃吸収層を有する光学フィルターについて検討を行ったところ、反射像やディスプレイに装着した際の透過像に歪みが生じ、画質を損なうと言う現象に遭遇した。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２３６４９号公報
【特許文献２】特開２０００―６１０６号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
よって本発明の課題は、上記の透過像および反射像に歪みを生じず、且つ優れた衝撃吸収性を有する光学フィルター得ることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、上記透過像の歪みは、透明衝撃吸収層の表面が凹凸を有し、その表面平滑性が低いために生じることを突き止めた。また、透明衝撃吸収層の平滑化処理方法により、上記透明衝撃吸収層のの表面粗さを制御すると、透過像歪みのないＰＤＰ光学フィルターを提供することができるとの知見を得、本発明に至った。
すなわち本発明は、
（１）  透明衝撃吸収層（Ａ）、反射防止および／または防眩層（Ｃ）を有する光学フィルターであって、該透明衝撃吸収層（Ａ）の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が  ０．０１以上、１００以下であることを特徴とする光学フィルターであり、
（２）  さらに透明導電層（Ｂ）を有することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルターである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明における光学フィルターは、ディスプレイ装置に直接貼りつけて使用するものである。また、該光学フィルターは、少なくとも透明衝撃吸収（Ａ）、反射防止および／または防眩層（Ｃ）を有し、好ましくは透明衝撃吸収（Ａ）、透明導電層（Ｂ）、反射防止および／または防眩層（Ｃ）をする。より具体的な例として例えば、透明導電層（Ｂ）を有する透明導電性フィルム（Ｅ）、反射防止および／または防眩層（Ｃ）を有するフィルム（Ｆ）を用いた場合の構成を例示すると、Ａ／Ｅ／Ｆ、Ｅ／Ａ／Ｆ又はＡ／Ｆとなる。また透明導電層（Ｂ）を有する光学フィルターは、外部取り出し電極（Ｄ）を有することが好ましい。該光学フィルターの断面構成図を図１〜３に示した。
【００１０】
（透明衝撃吸収層（Ａ））
本発明における透明衝撃吸収層（Ａ）は、光学フィルターをＰＤＰパネルに設置した際に、外力を緩和するためのものである。該透明衝撃吸収層の材料は通常は弾力性を有する透明樹脂であるが、高い衝撃吸収性を有していれば、これに制限されるものではない。ここで弾力を有するとはヤング率が、１×１０３Ｐａ以上、１×１０８Ｐａ以下であることをいう。
【００１１】
本発明に用いることができる透明樹脂を具体的に挙げると、エチレン酢酸ビニル共重合体［ＥＶＡ］、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物［ＳＥＢＳ］、シリコーン系樹脂やゲル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ウレタン、及びそれぞれの混合物である。
【００１２】
該透明衝撃吸収層を構成する層の数は１層であっても、また複数であっても構わない。透明衝撃吸収層が硬い層及び柔らかい層の２層構成である場合、前述のいずれかの層を単層で用いる場合よりも、合計厚みを等しく設定した場合に、より高い衝撃吸収能を有するため、好適に用いられる。
【００１３】
ここで硬い層に用いられる材料は、その硬度（ショアＡ硬度）が、７０以上、１３０以下のものである。また柔らかい層に用いられる材料は、その硬度（ショアＡ硬度）が、１以上、１１０    以下のものある。これらの硬度範囲より、硬い層の硬度が、柔らかい層の硬度よりも高くなるように材料を選択すればよい。
【００１４】
なお、硬い層は、柔らかい層に比較して、外側に位置するように配置されることが一般的であるが、逆の構成とした場合でも本発明の有意性はかわらない。
【００１５】
該透明衝撃吸収層の厚みは、構成材料、構成、必要とする衝撃吸収能力を考慮した上で決定される。
【００１６】
本発明における透明衝撃吸収層（Ａ）の厚さは、好ましくは０．５ｍｍ以上３．５ｍｍ以下であり、好ましくは０．８ｍｍ以上、２．５ｍｍ以下である。０．５より薄いと衝撃吸収性が不足することがある。また、３．５ｍｍより厚いと、生産性、取り扱い性が低下することがある。
【００１７】
本発明における透明衝撃吸収層（Ａ）の表面粗さは、Ｒａ値が０．０１以上、１００以下、好ましくは０．０１以上、５０以下であり、さらに好ましくは０．０１以上、１０以下である。Ｒａ値が大きすぎると、該透明衝撃吸収層Ａを備える光学フィルターは、その透過像が歪みを有するため、ディスプレイフィルターとしての品位が低い。
【００１８】
なお、ここで表面粗さ示すために用いている指標Ｒａとは、日本工業規格で規定されている中心線平均粗さである［ＪＩＳ  Ｂ０６０１］。採用したカットオフ値は、２．５ｍｍである。測定長さは、１０ｍｍである。
【００１９】
本発明における透明衝撃吸収層（Ａ）の作製方法に特に制限はない。一般的には、Ｔダイ成型などの溶融押し出し成形法、カレンダー成形法、キャスト法等が用いられる。これらの中では、溶融押出成形法が生産性、コスト、塵等による光学欠陥防止等の面で好ましく用いられる。
【００２０】
上記の成形法で得られる透明衝撃吸収層（Ａ）は、表面粗さＲａ値が、上記の範囲外になることが多い。この場合は、後述する平滑化処理を行い、本発明の規定を満たすＲａ値を有する透明衝撃吸収層（Ａ）を得ることが出来る。
【００２１】
（透明導電層Ｂ）
本発明において積層体をＰＤＰ用光学フィルターとして用いる場合、高分子フィルムの一方の主面上に透明導電層が形成されている場合が多い。本発明における透明導電層とは、単層または多層薄膜からなる透明導電膜である。なお、本発明では、高分子フィルムの主面上に透明導電層を形成したものを透明導電フィルムという。
【００２２】
代表的な単層の透明導電層としては、導電性メッシュや、導電性格子状パターン膜、金属薄膜や酸化物半導体薄膜がある。
【００２３】
多層の透明導電層としては、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性及びその自由電子による近赤外線反射特性と、ある波長領域における金属による反射を高屈折率透明薄膜により防止することにより、導電性、近赤外線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特性を有している。
【００２４】
電磁波シールド能、近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルターを得るためには、電磁波吸収のための高い導電性と近赤外線反射のための反射界面を多く有する金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜が好適である。
【００２５】
ところで、ＶＣＣＩにおいては、業務用途の規制値を示すＣｌａｓｓＡでは放射電界強度５０ｄＢμＶ／ｍ未満であり、民生用途の規制値を示すＣｌａｓｓＢでは４０ｄＢμＶ／ｍ未満である。しかし、プラズマディスプレイの放射電界強度は２０〜９０ＭＨｚ帯域内で、対角２０インチ型程度で４０ｄＢμＶ／ｍ、対角４０インチ型程度で５０ｄＢμＶ／ｍを越えている。このため、そのままでは家庭用途には使用できない。
【００２６】
プラズマディスプレイの放射電界強度は、その画面の大きさ及び消費電力が大きいほど強く、シールド効果の高い電磁波シールド材が必要である。
【００２７】
高い可視光線透過率と低い可視光線反射率に加え、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド能を有するには、透明導電層が、面抵抗０．１〜３０Ω／□、より好ましくは０．１〜１５Ω／□、さらに好ましくは０．０１〜５Ω／□の低抵抗な導電性を有していることが必要である。本発明における可視光線透過率、可視光線反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性からＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って計算されるものである。
【００２８】
また、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を実用上問題とならないレベルまで遮断するには、ディスプレイ用フィルターの近赤外線波長領域８００〜１０００ｎｍにおける光線透過率を２０％以下にすることが必要であり、この要求を満たすためには、部材数低減の要求や色素を用いた近赤外線吸収の限界から、透明導電層自体が近赤外線カット性を持つことが必要である。透明導電層で近赤外線をカットするには、金属の自由電子による反射を利用することができる。
【００２９】
金属薄膜層は厚くすると可視光線透過率が低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。しかし、ある厚さの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことが可能である。また、層数及び／又はそれぞれの層の厚さを制御することにより可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、反射色をある範囲で変化させることも可能である。
【００３０】
一般に、可視光線反射率が高いと画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、表示部表面の反射を防止する効果が低下し、視認性とコントラストが低下するようになる。また、反射色としては、白色、青色、紫色系の目立たない色が好ましい。これらのことから、透明導電層は、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましくなる。
【００３１】
本発明において好ましい透明導電層は、上記の透明導電フィルムであり、より具体的には高分子フィルムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（ａ）、金属薄膜層（ｂ）の順に、（ａ）／（ｂ）を繰り返し単位として２〜４回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層（ａ）を積層して形成され、該透明導電層の面抵抗が０．１〜３０Ω／□であることを特徴とするものであり、電磁波シールド能のための低抵抗性、近赤外線カット能、透明性、可視光線反射率に優れた性能を有するものである。なお、本発明において、多層薄膜とは、特に記載がない限り、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねた多層積層の透明導電膜のことをいう。
【００３２】
本発明の透明導電層において、繰り返し積層数は２回〜４回が好適である。つまり、高分子フィルム（Ａ）の主面上に透明導電層を積層した本発明の透明導電フィルムは、（Ａ）／（ａ）／（ｂ）／（ａ）／（ｂ）／（ａ）、または、（Ａ）／（ａ）／（ｂ）／（ａ）／（ｂ）／（ａ）／（ｂ）／（ａ）、または、（Ａ）／（ａ）／（ｂ）／（ａ）／（ｂ）／（ａ）／（ｂ）／（ａ）／（ｂ）／（ａ）の層構成を有するものである。繰り返し積層数が５回以上では、生産装置の制限、生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過率の低下と可視光線反射率の増加が生じる傾向がある。また、繰り返し回数が１回であると、低抵抗性、近赤外線カット能と、可視光線反射率を同時に十分なものとすることができない。
【００３３】
上記の繰り返し積層数が２回〜４回の多層薄膜において、その面抵抗が１〜５Ω／□であることが特に好ましく、近赤外線カット能、可視光線透過率、可視光線反射率を同時に、プラズマディスプレイに好適な特性を実現することが出来る。
【００３４】
金属薄膜層（ｂ）の材料としては、銀が、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため、好適である。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上加えた合金や、これら環境に安定な金属も好適に使用できる。特に金やパラジウムは耐環境性、光学特性に優れ好適である。
【００３５】
銀を含む合金中の銀の含有率は、特に限定されるものではないが、銀薄膜の導電性、光学特性が大きく変わらないことが望ましく、５０質量％以上、１００質量％未満程度である。しかしながら、銀に他の金属を添加すると、その優れた導電性、光学特性が阻害されるので、複数の金属薄膜層を有する場合は、可能であれば少なくとも１つの層は銀を合金にしないで用いることや、基体から見て最初の層及び／又は最外層にある金属薄膜層のみを合金にすることが望ましい。
【００３６】
金属薄膜層の厚さは、導電性、光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、透明導電層が要求特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性等から薄膜が島状構造ではなく、連続状態であることが必要であり、４ｎｍ以上であることが望ましい。また、金属薄膜層が厚すぎると透明性が問題になるので３０ｎｍ以下が望ましい。金属薄膜層が複数ある場合は、各層が全て同じ厚さとは限らず、また、全て銀、あるいは、同じ銀を含む合金でなくともよい。
【００３７】
金属薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００３８】
高屈折率透明薄膜層（ａ）を形成する透明薄膜としては、可視領域において透明性を有し、金属薄膜層の可視領域における光線反射を防止する効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、可視光線に対する屈折率が１．６以上、好ましくは１．８以上、さらに好ましくは２．０以上の屈折率の高い材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などが挙げられる。
【００３９】
これら酸化物あるいは硫化物は、金属と、酸素原子あるいは硫黄原子との化学量論的な組成にズレがあっても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えない。なかでも、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウムや酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折率に加えて、成膜速度が速く、金属薄膜層との密着性等が良好であることから好適に使用できる。
【００４０】
高屈折率透明薄膜層の厚さは、高分子フィルム〔透明基体ともいう〕の光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。また複数の高屈折率透明薄膜層を有する場合に各層は同じ厚さとは限らず、同じ透明薄膜材料でなくともよい。
【００４１】
高屈折率透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００４２】
上記の透明導電層の耐環境性を向上させるために、透明導電層の表面に、導電性、光学特性を著しく損なわない程度に有機物又は無機物の任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層の耐環境性や金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の無機物層を形成してもよい。これらの具体的な材料としては銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられる。その厚さは、好ましくは、０．２ｎｍ〜２ｎｍ程度である。
【００４３】
所望の光学特性の透明導電層を得るには、得ようとする電磁波シールド能の為の導電性、つまり、金属薄膜材料・厚さを勘案して、高分子フィルムおよび薄膜材料の光学定数（屈折率、消光係数）を用いたベクトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜材料及び、層数、膜厚等を決定する。この際、透明導電層上に形成される隣接層を考慮すると良い。このことは高分子フィルム上に形成された透明導電層への光の入射媒質が、空気または真空等の屈折率１の入射媒質と違うために透過色（及び透過率、反射色、反射率）が変化するためである。すなわち、透明導電層上に機能性透明層を形成する際に透明粘着層を介する場合は、透明粘着層の光学定数を考慮する設計を行う。また、透明導電層上に機能性透明層を直接する場合は、透明導電層と接する材料の光学定数を考慮する設計を行う。
【００４４】
上記のように、透明導電層の設計を行なうことにより、高屈折率透明薄膜層（ａ）では高分子フィルムから見て最下層と最上層がその間の層より薄く、金属薄膜層（ｂ）では高分子フィルムから見て最下層がその他の層より薄く、屈折率１．４５〜１．６５、消光係数ほぼ０の厚み１０〜５０μｍの粘着材が隣接層であるとき、透明導電フィルムの反射が著しく増加しないこと、すなわち、隣接層形成による界面反射の増加が２％以下である。
【００４５】
特に、繰り返し回数が３回、すなわち、計７層からなる透明導電層においては、３層の金属薄膜層（ｂ）の真ん中の２番目の層が他の層より厚いと、前記の粘着材が隣接層であるときに、透明導電フィルムの反射が著しく増加しない。
【００４６】
なお、光学定数はエリプソメトリー（楕円偏光解析法）やアッベ屈折計により測定でき、また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこともできる。
【００４７】
（反射防止および／または防眩層Ｃ）
反射防止層は、基体上に形成し、基体表面の光線反射率を低減するものである。  反射防止層としては、具体的には、可視光域において屈折率が１．５以下、好適には、１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物窒化物、硫化物等の無機化合物又はシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が多層積層体に比べ劣る。多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体フィルムの光学特性による光学設計の制限が少ない。これら無機化合物薄膜の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンピームアシスト、真空蒸着、室式塗工法等、従来公知の方法を用いればよい。上記の反射防止層が形成されたフィルムが反射防止フィルムである。
【００４８】
防眩層は、基体上に形成し、基体中を通過する透過光や表面からの反射光を防眩するための層である。
【００４９】
防眩層は０．１〜１０μｍ程度の微少な凹凸を表面に有する。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって透明高分子フィルム上に塗布硬化させる。粒子の平均粒径は、１〜４０μｍである。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズ又は表面状態を有する型を押しつけ硬化する事によっても防眩層を得ることができる。さらには、ガラス板をフッ酸等でエッチングするように、基体フィルムを薬剤処理することによっても防眩層を得ることができる。この場合は、処理時間、薬剤のエッチング性により、ヘイズを制御することができる。上記、防眩層においては、適当な凹凸が表面に形成されていれば良く、作成方法は、上記に挙げた方法に限定されるものではない。防眩層は、０．５％以上２０％以下であり、好ましくは、１％以上１０％以下である。ヘイズが小さすぎると防眩能が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイ視認性が悪くなる。上記の防眩層が形成されたフィルムが防眩性フィルムである。
【００５０】
（調色）
また光学フィルターは、ディプレイからの発光色をより好ましいものに調整する機能を有する場合が多い。液晶パネル用フィルターにおいて透明導電層を有さず、調色機能を主な機能とする場合もある。
【００５１】
光学フィルターの透過色において、黄緑〜緑色味が強いと、ディスプレイのコントラストが低下し、さらには色純度が低くなり、白色表示も緑色がかったものになることがある。このことは、黄緑〜緑色である５５０ｎｍ前後の波長の光が最も視感度が高いことにもよる。
【００５２】
多層薄膜は、可視光線透過率・可視光線反射率を重視すると、一般に透過色調に劣る。電磁波シールド能即ち導電性と、近赤外線カット能をあげるほど、金属薄膜の総膜厚が厚いことが必要となる。しかし、金属薄膜の総膜厚が大きくなる程、緑色〜黄緑色になる傾向がある。従って、プラズマディスプレイに用いる光学フィルターはその透過色がニュートラルグレーまたはブルーグレーであることが要求される。これは、緑色透過が強いことによるコントラスト低下や、赤色及び緑色発光色に比べ青色発光が弱いこと、標準白色より若干高めの色温度の白色が好まれること、等による。加えて、光学フィルターの透過特性は、プラズマディスプレイの白色表示の色度座標が極力、黒体軌跡に近いことが望ましい。
【００５３】
多層薄膜を透明導電層（Ｂ）に用いた場合は、多層薄膜の色調を補正して光学フィルターの透過色をニュートラルグレーまたはブルーグレーにすることが肝要である。色調を補正するには可視波長領域に吸収のある色素を用いれば良い。例えば、透明導電層（Ｂ）の透過色に緑色味がある場合、赤色の色素を用いてグレーに補正し、透過色に黄色味がある場合は青〜紫の色素を用いて補正する。
【００５４】
カラープラズマディスプレイでは、希ガスの直流または交流放電により発生する真空紫外光で励起発光する（Ｙ，Ｇｄ，Ｅｕ）ＢＯ３等の赤色（Ｒ）発光蛍光体、（Ｚｎ，Ｍｎ）２ＳｉＯ４等の緑色（Ｇ）発光蛍光体、（Ｂａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ等の青色（Ｂ）発光蛍光体が、画素を構成する表示セルに形成されている。蛍光体は、色純度の他に放電セルへの塗布性、残光時間の短さ、発光効率、耐熱性等を指標に選定されており、実用化されている蛍光体はその色純度に改良を要するものが多い。特に赤色発光蛍光体の発光スペクトルは、波長５８０ｎｍから７００ｎｍ程度までにわたる数本の発光ピークを示しており、比較的強度な短波長側の発光ピークは黄〜オレンジ色の発光であるので赤色発光がオレンジに近い色純度の良くないものとなってしまう問題がある。希ガスにＸｅとＮｅの混合ガスを用いた場合、Ｎｅ励起状態の発光緩和によるオレンジ色発光も同様に色純度を落としてしまう。また、緑色発光、青色発光に関しても、そのピーク波長の位置、発光のブロードさが色純度を下げる要因となっている。
【００５５】
色純度の高さは、例えば、国際照明委員会（ＣＩＥ）が定めた横軸色度ｘ、縦軸色度ｙで色相と彩度を表す座標系において、ＲＧＢ三色を頂点とした三角形の広さで示す色再現範囲の広さで表すことができる。色純度の低さからプラズマディスプレイの発光の色再現範囲は、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）方式で定めているＲＧＢ三色の色度が示す色再現範囲より通常狭い。
【００５６】
また、表示セル間での発光の滲み出しに加えて、各色の発光が広い範囲にわたって不必要な光を含んでおり、必要な発光が際立たないことは、色純度だけではなくプラズマディスプレイのコントラストを下げる要因にもなっている。さらに、プラズマディスプレイは一般に室内照明等による外光が存在する明時においては暗時に比べコントラストが悪くなる。これは、基板ガラス、蛍光体等が外光を反射し、不必要な光が必要な光を際立たせなくするために起きる。プラズマディスプレイパネルのコントラスト比は、暗示は１００〜２００、周囲照度１００ｌｘ程度の明時は１０〜３０であり、その向上が課題となっている。また、コントラストが低いことも色再現範囲を狭くしている要因である。
【００５７】
コントラストを向上させるためにはディスプレイ前面にニュートラル・デンシティ（ＮＤ）フィルターの如く、可視波長領域全体の透過率を下げ、基板ガラス、蛍光体における外光反射等の透過を少なくする方法や、
色素を用いることにより、発光色の色純度及びコントラストを下げる原因となる不要発光及び外光反射を低減する方法などが挙げられる。
【００５８】
本発明の光学フィルターに色素を含有させる方法としては、（１）透明な樹脂に少なくとも１種類以上の色素を混錬させた高分子フィルム、（２）樹脂または樹脂モノマー／有機系溶媒の樹脂濃厚液に少なくとも１種類以上の色素を分散・溶解させ、キャスティング法により作製した高分子フィルム、（３）樹脂バインダーと有機系溶媒に少なくとも１種類以上の色素を加え、塗料として透明な基体上にコーティングしたもの、（４）少なくとも１種類以上の色素を含有する透明な粘着材、のいずれか一つ以上の形態として用いる方法である。
【００５９】
本発明でいう含有とは、基材または塗膜等の層または粘着材の内部に含有されることは勿論、基材または層の表面に塗布した状態をも意味する。
【００６０】
色素は可視領域に所望の吸収波長を有する一般の染料または顔料で良く、その種類は特に限定されるものではないが、例えば、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポルフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系等の一般に市販もされている有機色素があげられる。その種類・濃度は、色素の吸収波長・吸収係数、透明導電層の色調及び光学フィルターに要求される透過特性・透過率、そして分散させる媒体または塗膜の種類・厚さから決まり、特に限定されるものではない。
【００６１】
透明導電層（Ｂ）に多層薄膜を用いる場合、電磁波シールド能に加え、近赤外線カット能も有しているが、より高い近赤外線カット能が必要であったり、前述の導電メッシュ層等のように近赤外線カット能を有さない透明導電層を用いる場合には、前記色素に近赤外線吸収色素を１種類以上併用しても良い。
【００６２】
近赤外線吸収色素としては、透明導電層の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を充分実用的になる程度に吸収するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度も限定されるものではない。近赤外線吸収色素としては、例えば、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイミニウム系化合物が挙げられる。
【００６３】
プラズマディスプレイパネルはパネル表面の温度が高く、特に環境の温度が高いときは光学フィルターの温度も上がるため、本発明で用いる色素は、耐熱性、例えば、８０℃で分解等によって顕著に劣化しない耐熱性を有していることが好適である。
【００６４】
また、耐光性、特に耐紫外線性に乏しい色素を用いる場合は、紫外線吸収剤を含む部材や紫外線を透過しない部材を用いることが肝要である。
【００６５】
熱、光に加えて、湿度や、これらの複合した環境においても同様である。色素が劣化すると光学フィルターの透過特性が変わってしまう。
【００６６】
本発明の光学フィルターにおいては、前記の色素を含有させる方法（１）〜（４）は、色素を含有する高分子フィルム、色素を含有する後述の透明粘着層のいずれか１つ以上の層において実施することが出来る。
【００６７】
なお、本発明では、異なる吸収波長を有する色素２種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させてもよく、また色素層を２つ以上有していても良い。
【００６８】
（電極）
電磁波シールドを必要とする機器には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに導電性材料を使用して電波を遮断する。ディスプレイの如く透明性が必要である場合には、透明導電層を形成した窓状の電磁波シールド機能を有する光学フィルターを設置する。電磁波は導電層において吸収されたのち電荷を誘起するため、アースをとることによって電荷を逃がさないと、再び光学フィルターがアンテナとなって電磁波を発振し電磁波シールド能が低下する。従って、光学フィルターとディスプレイ本体のアース部が電気的に接続している必要がある。そのため、透明導電層（Ｂ）上に反射防止および／または防眩層フィルムや透明衝撃吸収層（Ａ）積層する場合は、該積層部分を導通部を残すように透明導電層（Ｂ）上に形成することが好ましい。この導通部分を用いて電極を形成する。導通部の形状は特に限定しないが、光学フィルターとディスプレイ本体の間に、電磁波の漏洩する隙間が存在しないことが肝要である。
【００６９】
電気的接触を良好とするために、導通部に導電材料を付与して電極を形成しても良い。付与する形状は特に限定しない。しかしながら、導通部をすべて覆うように形成されていることが好適である。
【００７０】
本発明における電極は、透明導電層を含む本発明のフィルムの断面部に導電性材料を接触させて得てもよい。
電極は透明導電層（Ｂ）の周縁部に、且つ連続的に設けられていることが好適である。すなわち、ディスプレイの表示部である中心部分を除いて、枠状に、導通部が設けられていることが好ましい。
【００７１】
但し、全周に電極が形成されていなくとも一定の電磁波遮断能力はあるので、装置からの電磁波発生量と許容電磁波漏洩量とを総合的に考慮することによって、使用可能な場合も多い。
ロールツーロール方式で電極を形成したり、ロール状態のまま電極を形成したりすることができるため、非常に生産効率良く光学フィルターを作製することができるので都合が良い。また、この手法は先に示した、電極として導電性テープを用いる場合においても利用することができる。
【００７２】
長方形の向い合う２辺以外の部分に加えてさらに別の部分に電極が形成されていたり、向い合う２辺における一部分に電極が形成されていない部分が存在しても特に問題はない。
【００７３】
電極形成過程において、導通部を覆うことは、耐環境性及び耐擦傷性に劣る透明導電層（Ｂ）の保護にもなる。導通部を覆うために用いる材料は、導電性材料や、合成樹脂と上記の導電性材料の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスと上記の導電性材料の混合物からなるペーストを使用できる。導電性材料に特に制限はないが、導電性、耐触性および透明導電膜との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは２種以上からなる合金は好ましく用いられる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ法など、ペーストといったものは印刷、塗工する方法など従来公知の方法を採用できる。通常は、銀ペーストなどの導電性の材料をペースト状にした物を印刷、塗工する方法が好ましく用いられる。導電層の曝露部が側面のみの場合は、ロール状態のフィルムの側面に導電性材料を塗布しても良いし、ロールツーロールで繰り出しながら側面に塗布しても構わない。また、テープ状の導電性材料を、側面を覆うように貼合することもできる。更にはこれらの方法を組み合わせて用いることもできる。塗布方法としては、効率および精度の観点から、スクリーン印刷法が用いられる場合が多い。
【００７４】
（平滑化処理）
本発明において、目的とする表面粗さの透明衝撃吸収層（Ａ）を得るためには、何らかの平滑化処理が必要である場合が多い。
【００７５】
特に溶融押し出し成形法を用いる場合は、特に衝撃吸収性に優れた層では、表面の平滑性が高い樹脂層を得ることが難しく、該平滑化処理が必要不可欠である。
【００７６】
平滑化処理法としては、加熱法を好適に用いることができる。具体的には、透明衝撃吸収層（Ａ）を該材料樹脂の融点程度のの温度に加温し、その後冷却すると、あらかじめ透明衝撃吸収層（Ａ）の表面に存在していた凹凸が緩和され、表面の平滑性が向上する。
【００７７】
例えば、融点が７０℃程度のＥＶＡからなる透明衝撃吸収層（Ａ）を、この手法を用いて平滑化処理する場合は、温度５０〜８０℃で加熱処理すればよい。該加熱処理に要する時間は、温度が高い場合は、短時間に設定することができ、温度が比較的低い場合は、比較的長時間に設定する必要がある。例えば加熱温度を８０℃に設定する場合は、加熱時間は、１５分〜３時間程度である。但し、３時間以上加熱しても特に支障はない。また加熱温度を５０℃に設定した場合の加熱時間は１時間から２４時間である。この場合も、２４時間以上加熱しても特に支障はない。
【００７８】
該加熱による平滑処理を実施する際に、透明衝撃吸収層（Ａ）は単独、あるいはその他の層と組み合わせてあってもよい。すなわち透明衝撃吸収層（Ａ）単体を加熱処理してもよいし、透明衝撃吸収層（Ａ）、透明導電性層（Ｂ）、反射防止および／または防眩層（Ｃ）とからなる光学フィルターを加熱処理しても構わない。
【００７９】
該加熱処理を施す雰囲気に特に制限はない。すなわち、真空中であっても構わないし、大気中又は一定の圧力の条件化であっても構わない。
【００８０】
加圧又は減圧条件のもとでは、常圧下よりも低い温度で平滑化の効果を得ることができる。例えば、圧力が７×１０５Ｐａのもとでは、温度４０℃以上、処理時間０．５時間以上の処理によって十分な表面平滑化効果を得ることができる。該一定の圧力をつくり出す気体の種類に特に制限はない。また、いずれかのラミネートの段階で加熱ラミネートを行うことにより、該平滑化処理を実施することも可能である。この場合は、上記の加熱時間には制限されず、より短時間で平滑化を行うことも可能である。
【００８１】
（分析方法）
本発明において透明衝撃吸収層（Ａ）のヤング率の測定には、通常用いられている一般的な手法を用いることができる。たとえば、該透明粘着層をむき出しにし、表面から単位面積に荷重をかけ、荷重の大きさと該透明粘着層の変形量からヤング率を求めることができる。
【００８２】
光学フィルターの層構成及び各層の状態は、断面の光学顕微鏡測定、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）測定、透過型電子顕微鏡測定（ＴＥＭ）を用いて調べることができる。
【００８３】
透明導電膜の表面原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、蛍光Ｘ線法（ＸＲＦ）、Ｘ線マイクロアナライシス法（ＸＭＡ）、荷電粒子励起Ｘ線分析法（ＲＢＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、真空紫外光電子分光法（ＵＰＳ）、赤外吸収分光法（ＩＲ）、ラマン分光法、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）、低エネルギーイオン散乱分光法（ＩＳＳ）等により測定できる。また、膜中の原子組成及び膜厚は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）や２次イオン質量分析（ＳＩＭＳ）を深さ方向に実施することによって調べることができる。
【００８４】
透明導電膜上に防眩性フィルムや反射防止フィルム等を貼り合わせてある場合は、それを剥がし、透明導電膜表面を剥き出しにした後に、上記の手法を用いて調べればよい。
【００８５】
本発明において用いられる、高分子、色素の組成及び構造に関しては、該色素を適当な溶媒に溶かした上で、一般的な組成または構造分析手法を用いて調べることができる。例えば、核磁気共鳴法（ＮＭＲ）、赤外線分光法（ＩＲ）、ラマン分光法、質量分析法（ＭＡＳ）等を用いることができる。
【００８６】
（光学フィルター）
本発明の光学フィルターは、特定の表面粗さＲａ値を有する透明衝撃吸収層（Ａ）と反射防止または防眩層（Ｃ）を有し、好ましくは透明衝撃吸収層（Ａ）と透明導電層（Ｂ）と反射防止または防眩層（Ｃ）とを有する。より具体的には、上記の層が積層され、それぞれの層は、透明な粘着材や接着剤で貼合されていることは好ましい。上記の粘着材や接着剤は、アクリル系粘着材や接着剤など、公知のものを使用することが出来る。
【００８７】
構成例としては、図１に示した様な、透明衝撃吸収層１０上に透明導電層２０が形成され、更にその上に反射防止および／または防眩層３０および電極４０が形成された構成が挙げられる。また、図２に示した様な、透明衝撃吸収層１０上に透明導電層２０が形成され、更にその上に反射防止および／または防眩層３０が形成され、透明導電層２０と反射防止および／または防眩層３０の側面を覆うように電極が形成されている構成も好適である。
【００８８】
更に図３のような透明衝撃吸収層１０上に反射防止および／または防眩層３０が形成されているものも用いることが出来る。
【００８９】
本発明の光学フィルターは、その透明衝撃吸収層（Ａ）が、特定の表面粗さＲａ値を有しているので、その反射像やディスプレイに装着したときの透過像に歪みが生じることがなく、美しいディスプレイ映像を提供することが出来、更に外的な衝撃から、ディスプレイを保護することが出来る。
【００９０】
本発明の光学フィルターは、ディスプレイ装置に直接設置して用いることが出来る。好ましくは、前述の粘着材や接着剤で貼合して用いられる。特に、プラズマディスプレイ装置に好適に用いる事が出来る。
【００９１】
【実施例】
（実施例１）
［透明衝撃吸収層（Ａ）の作製］
材料としてペレット状のＥＶＡ［メーカー名：三井デュポンポリケミカル、銘柄：ＥＶ２５０］を用い、９０〜１２０℃の温度で溶融させ、押し出し機を用いてＴダイ成型法にて、厚さ１．４ｍｍのシートを作製した。
［透明導電層（Ｂ）の作製］
ＰＥＴフィルム［メーカー名：帝人デュポン、銘柄：ＯＧＸ、厚さ：７５μｍ］を基材とし、その一方の主面に、ＰＥＴフィルムから順に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計７層の透明導電層（Ｂ）を形成し、面抵抗２．２Ω／□の透明導電層（Ｂ）を有する透明導電性フィルムを作製した。
【００９２】
［色素の分散］
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着材の希釈液とする。アクリル系粘着材／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、粘着材の原液とする。なお、粘着材の屈折率は１．５１、消光係数は０である。
【００９３】
有機色素としては、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株）製色素ＰＤ−３１９、及び白色発光の色度を補正するための三井化学（株）  製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを用い、それぞれ乾燥した粘着材１の中に１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍで含有されるようにアクリル系粘着材／色素入り希釈液を調整する。
【００９４】
［粘着材層の形成］
表面に易ハクリ処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム［厚さ１００μｍ］上に用意した粘着材を厚みが１００μｍとなるように粘着材の原液をグラビアコート法で塗布し、粘着層を形成する。塗布面は易ハクリ処理面である。さらに粘着層の上に表面が易ハクリ処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム［厚さ１００μｍ］を貼り合せ、ダブルタック状態にする。粘着層に易ハクリ面が接するように貼り合せる。なお、この時用いる易ハクリ層は最初に粘着材を塗布する面である易ハクリ層よりも易ハクリ性が高いものを用いることが好ましい。なお、透明粘着層の両面に位置するポリエチレンテレフタレートフィルムは離型フィルムとして機能し、易ハクリ性が高い方が、最初に剥がされることを想定されている。
【００９５】
［透明導電性フィルムへの粘着層形成］
透明導電層／ＰＥＴフィルムのＰＥＴフィルム面上に前述により得られる透明粘着層を形成する。まず透明粘着層の両面に貼りつけられている２枚の離型フィルムのうち１枚を剥がし、透明導電フィルム上に貼り合せる。構成は、透明導電層／ＰＥＴフィルム／粘着材／離型フィルムとなる。
【００９６】
［反射防止層（Ｃ）］
反射防止層（Ｃ）としては、市販の反射防止フィルム［メーカー：日本油脂社、品名：リアルック８２０１（透明粘着材層付き）］を用いた。
【００９７】
［光学フィルターの作製］
透明導電層／ＰＥＴフィルム／粘着材／離型フィルムを９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｂ）面を上にして固定した。さらに、ラミネーターを用いて、透明導電層（Ｂ）の周縁部２０ｍｍが剥きだしになるように導通部を残して、内側だけに反射防止フィルムをラミネートし、反射防止フィルム付透明導電性フィルムを得た。得られたフィルムの断面構成は、反射防止層（Ｃ）／透明導電層／ＰＥＴフィルム／粘着材／離型フィルムである。
続いて、透明衝撃吸収層（Ａ）として作製したシートを９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に上に固定した。その後、該シート上に、上記で作製した反射防止フィルム付透明導電性フィルムをラミネーターを用いて貼りつけた。なお、該ラミネートに際しては、粘着材に貼りつけてあった離型フィルムを剥がした上で、あらわになった粘着材を介して貼り合わせを行った。
さらに、透明導電層（Ｂ）の剥きだしの導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成する。最後に上記で作製した貼り合わせ体をガラス製支持板から剥がし、本実施例における光学フィルターとした。
【００９８】
［平滑化処理］
上記で得た光学フィルターを加熱処理した。処理条件は、温度８０℃、湿度５％、圧力：大気圧、処理時間：０．２５時間であった。
［表面粗さＲａの測定］
続いて光学フィルターの透明衝撃吸収層（Ａ）面の表面粗さをＲａを測定した。測定には、表面粗さ計［小阪研究所製、サーフコーダーＳＥ−３０Ｄ］を使用した。
【００９９】
［光学フィルターの装備］
該光学フィルターを透明衝撃吸収層（Ａ）側に透明粘着材シート（リンテック社製ＬＳ４１１Ｅ）を貼合した後、上記粘着材を介して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼り合せた後、４５℃、２×１０５  Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理した。電磁波シールド体の電極部と該プラズマディスプレイパネルのアース部を、（株）  寺岡製作所製・導電性銅箔粘着テープ（５１０ＦＲ）を用いて接続し、本発明の光学フィルターを具備する表示装置を得た。
【０１００】
［ＰＤＰパネル点灯試験］
上記で作製した表示装置（プラズマディスプレイパネル）を点灯させ、画質を評価した。
【０１０１】
評価は目視で行い、歪みのない画像が表れた場合は「良い」、画像に歪みが見られた場合は「悪い」とした。
（実施例２）
平滑化処理において、加熱時間を２時間に設定した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例３）
平滑化処理において、加熱時間を３時間に設定した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例４）
平滑化処理において、加熱温度を５０℃、加熱時間を１時間に設定した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例５）
平滑化処理において、加熱温度を５０℃、加熱時間を３時間に設定した以外は実施例１と同様に実施した。
（実施例６）
平滑化処理において、加熱温度を５０℃、加熱時間を２４時間に設定した以外は実施例１と同様に実施した。
（比較例１）
平滑化処理を実施しなかった以外は実施例１と同様に実施した。
（比較例２）
平滑化処理において、加熱時間を０．２時間に設定した以外は実施例１と同様に実施した。
（比較例３）
平滑化処理において、加熱温度を５０℃、加熱時間を０．９時間に設定した以外は実施例１と同様に実施した。
【０１０２】
以上の結果を表１に掲げた。
加熱処理温度が比較的高い８０℃の場合は、処理時間を０．２５時間以上に設定することにより、光学フィルターの透明衝撃吸収層（Ａ）の表面粗さＲａを１００以下にすることができ、さらに該光学フィルターを装着したプラズマディスプレイパネルの画質が良くなることわかる。
また加熱処理温度を比較的低い５０℃とした場合には、処理時間を１時間以上に設定することにより光学フィルターの透明衝撃吸収層（Ａ）の表面粗さＲａを１００以下にすることができ、さらに該光学フィルターを装着したプラズマディスプレイパネルの画質が良くなることわかる。
【０１０３】
【表１】
2004252382.tif 000002
【０１０４】
【発明の効果】
透明衝撃吸収層（Ａ）、反射防止および／または防眩層（Ｃ）からなる光学フィルターにおいて、例えば加熱処理のような平滑化処理を施すことによって、透明衝撃吸収層（Ａ）の表面粗さが小さく、ディスプレイに装着した際に良好な画質を得ることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】光学フィルターの一例を示す断面図
【図２】光学フィルターの一例を示す断面図
【図３】光学フィルターの一例を示す断面図
【符号の説明】
１０  透明衝撃吸収層
２０  透明導電性フィルム
３０  反射防止および／または防眩フィルム
４０  外部取り出し電極
【図１】
2004252382.tif 000003
【図２】
2004252382.tif 000004
【図３】
2004252382.tif 000005