(57)【要約】【課題】ポリゴンミラーおよびその周辺部分の温度上昇を抑制し、画質劣化の抑制に寄与可能な光走査装置を提供する。【解決手段】光学ベース１に設けられた補強用リブ構造１ＲＧの複数のセル１Ｃのうち、２つのセル１Ｃ（導入口１Ｄ，排気口１Ｈ）間を連通路１Ｔを介して連通させることにより外気（エアー）Ｒの流路１Ｆを形成し、収容室１３０の外壁の一部をなすと共にポリゴンミラー３０を支持する駆動基板１３１の下面１３１Ｍを、流路１Ｆ（連通路１Ｔ）に露出させる。ポリゴンミラー３０の回転時において、駆動基板１３１に設けられたモータやモータ用回路が発熱しても、流路１Ｆを流れるエアーＲにより駆動基板１３１が直接冷却されるため、ポリゴンミラー３０およびその周辺部分の温度上昇が抑制される。これにより、発熱時の温度差に起因した筐体の歪みによるレーザ光の走査特性の劣化が抑制される。【選択図】　　　図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被走査面を走査させるための光ビームを偏向する光偏向器と、機械的強度を高めるための補強構造と前記光偏向器を収容する収容部とを内部に有する筐体と、を備えた光走査装置であって、
前記収容部は、その外側に露出した露出面を有すると共に前記光偏向器を支持する支持体を備え、
前記補強構造の一部を利用して、前記支持体の前記露出面に外気を導くための外気導入路が形成されている
ことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記補強構造は、複数の隔壁によって構成されたハニカム状の構造であり、
前記外気導入路は、前記隔壁により囲まれた空間を利用して構成されている
ことを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項３】
前記隔壁により囲まれた空間は多角形の断面形状を有する
ことを特徴とする請求項２記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ビームによる走査機構を有し、例えばフルカラー型レーザプリンタなどの光学機器に搭載される光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、デジタル技術の発展に伴い、画像データの出力装置として多種の画像形成装置（プリンタ）が利用されている。その中でも、フルカラー型レーザプリンタは、例えば、画質性能や出力時間の観点において優れている。
【０００３】
レーザプリンタは、主に、筐体の内部に、画像形成用の光学系ユニット、すなわち光走査装置が搭載された構成をなしている。この光走査装置では、主に、スキャンモータが回転駆動することにより回転多面鏡（ポリゴンミラー）が等速回転している状態において、光源からレーザ光が出射されると、レーザ光がポリゴンミラーで反射されることにより順次偏向され、その偏向されたレーザ光により感光ドラムが反復的に走査される。そして、レーザ光の走査により形成された静電潜像がトナーを利用して現像され、この現像画像が記録紙に転写される。これにより、記録紙上に、画像データに応じた所望の画像が形成される。フルカラー型レーザプリンタでは、フルカラー画像を再現するために、例えばＹｅｌｌｏｗ（Ｙ；イエロー），Ｍａｇｅｎｔａ（Ｍ；マゼンタ），Ｃｙａｎ（Ｃ；シアン），Ｂｌａｃｋ（Ｂ；ブラック）の４色に対応した４つの光源が光走査装置に搭載されており、これらの４つの光源に対応した４つの感光ドラムを利用して静電潜像が形成される。光偏向用のポリゴンミラーは、例えば、大気中の塵やゴミなどが反射ミラー面に付着することを防止するために、密閉箱状の収容室に収容されている場合がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近では、フルカラー型レーザプリンタの出力時間をより短縮するために、その画像形成能力に関してより高速化が望まれている。これに伴い、スキャンモータの回転速度が益々上昇する傾向にある。
【０００５】
しかしながら、スキャンモータの回転速度が上昇すると、その回転駆動時に発生する熱量が増大するため、収容室に収容されたポリゴンミラー、ポリゴンミラー駆動用のモータおよびモータ用の駆動回路、ならびにそれらの周辺部分の温度が上昇する。ポリゴンミラー等の温度が上昇すると、主に、筐体内に温度差が生じ、この温度差に起因して筐体が歪んでしまう。この筐体の歪みに起因してレーザ光の走査特性に狂いが生じるため、画像データに基づいて画像を正確に形成することが困難となり、画質劣化を招いてしまう。
【０００６】
この問題は、高品質なフルカラー型レーザプリンタを設計する上で解決しなければならない重要な事項であり、今後益々出力時間の短縮化が予想されることを考慮すれば、画質劣化を誘発するポリゴンミラーおよびその周辺部分の温度の上昇を可能な限り抑制する必要がある。
【０００７】
なお、上記した問題を解決するための具体的な手法としては、既にいくつかの提案がなされている。例えば、特開２００１−３３７２９０号公報では、小野等により、ポリゴンミラーおよびその周辺部分の温度の上昇を抑制するために、光学ハウジングの底面に放熱用の切欠き穴と放熱誘導用の案内通路とを設ける手法が開示されている。しかしながら、この手法は、ポリゴンミラーを収容する収容室が光学ハウジングの外面近傍に配置されている場合には適用可能であるが、光学ハウジング内の奥深い箇所に配置されている場合には適用が困難である。
【０００８】
また、例えば、特開２００１−３３７２９１号公報では、同じく小野等により、光学ハウジングの外側に放熱ダクトを設ける手法が開示されている。しかしながら、この手法を用いる場合には、放熱ダクトを別途設けなければならないため、装置構成が煩雑化すると共に、製造コストが高くなってしまう。
【０００９】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、ポリゴンミラーおよびその周辺部分の温度上昇を抑制し、画質劣化の抑制に寄与可能な光走査装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る光走査装置は、被走査面を走査させるための光ビームを偏向する光偏向器と、機械的強度を高めるための補強構造と光偏向器を収容する収容部とを内部に有する筐体と、を備えたものであり、収容部が、その外側に露出した露出面を有すると共に光偏向器を支持する支持体を備え、補強構造の一部を利用して、支持体の露出面に外気を導くための外気導入路が形成されているようにしたものである。
【００１１】
本発明に係る光走査装置では、筐体内部の収容部に、支持体により支持された光偏向器が収容されており、筐体に設けられた補強構造を利用して、支持体の露出面に外気を導くための外気導入路が形成されている。ここで、「外気」とは、筐体中の大気のうち、収容部の外側のものをいう。
【００１２】
本発明に係る光走査装置では、補強構造が、複数の隔壁によって構成されたハニカム状の構造であり、外気導入路が、隔壁により囲まれた空間を利用して構成されているようにしてもよい。この場合には、隔壁により囲まれた空間が多角形の断面形状を有するようにしてもよい。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】
まず、図１〜図５を参照して、本発明の一実施の形態に係る光走査装置の構成について説明する。図１は光走査装置の外観斜視構成を表し、図２〜図５は光走査装置の各部の平面構成を表している。ここで、図２は上カバー２，図３は下カバー３，図４は光学ベース１の上面側，図５は光学ベース１の下面側をそれぞれ表している。
【００１５】
本実施の形態に係る光走査装置は、光ビームの走査機構を有するものであり、例えばフルカラー型レーザプリンタなどの画像形成装置に搭載されるものである。この光走査装置は、図１に示したように、例えば、光学ベース１と、この光学ベース１を覆う２つのカバー（上カバー２，下カバー３）とを含む筐体の内部に、後述する一連の構成要素（光学部品）が収容された構成をなしている。
【００１６】
光学ベース１は、光走査装置の基礎をなす両面実装型の基盤である。この光学ベース１は、図４および図５に示したように、多角形、例えば略三角形状の開口を構成する複数のリブ１Ｒからなるハニカム状の補強用リブ構造１ＲＧを備えている。この補強用リブ構造１ＲＧは、主に、光学ベース１の機械的強度を高めるためのものであり、光学ベース１の両面（上面側および下面側）において多数のセル１Ｃを構成している。これらのセル１Ｃは、後述する導入口１Ｄおよび排気口１Ｈとして利用されるものを除き、例えば未貫通である。ここで、リブ１Ｒが本発明における「隔壁」の一具体例に対応し、セル１Ｃが本発明における「隔壁により囲まれた空間」の一具体例に対応し、補強用リブ構造１ＲＧが本発明における「補強構造」の一具体例に対応する。
【００１７】
光学ベース１には、例えば、所定の範囲に渡って補強用リブ構造１ＲＧが除去されることにより構成された複数の実装スペース１Ｓが設けられており、そのうちの１つの実装スペース１Ｓに、後述するポリゴンミラー３０を収容するための収容室１３０が設けられている。また、光学ベース１には、例えば、複数のセル１Ｃのうちの１つのセル１Ｃを導入口１Ｄとして利用すると共に、他の１つのセル１Ｃを排出口１Ｈとして利用することにより、これらの導入口１Ｄと排出口１Ｈとの間を連通させる後述する連通路１Ｔ（図４では図示せず，図６参照）が設けられている。なお、収容室１３０およびその周辺部分（連通路１Ｔを含む）の詳細な構成については後述する（図６参照）。ここで、収容室１３０が本発明における「収容部」の一具体例に対応する。
【００１８】
上カバー２は、光学ベース１を上方から覆うものである。この上カバー２には、図１および図２に示したように、光学ベース１に設けられた導入口１Ｄおよび排出口１Ｈに対応する箇所に、導入用開口２Ｄおよび排出用開口２Ｈがそれぞれ設けられている。
【００１９】
下カバー３は、光学ベース１を下方から覆うものである。この下カバー３には、図３に示したように、後述するシリンドリカルミラー９０（９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃ，９０Ｄ；図５参照）に対応する箇所に、筐体の外部にレーザ光を導出するための４つの光導出口３Ｋ（３ＫＡ，３ＫＢ，３ＫＣ，３ＫＤ）がそれぞれ設けられており、各光導出口３ＫＡ〜３ＫＤに、防塵用の４枚のカバーガラス１００（１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄ）がそれぞれ配設されている。
【００２０】
光学ベース１の上面側に設けられた実装スペース１Ｓには、図４に示したように、主に、光源装置１０と、この光源装置１０に対応して設けられた反射ミラー２０と、ポリゴンミラー３０と、ｆθレンズ４０と、このｆθレンズ４０に対応して設けられた反射ミラー５０と、回路基板６０とが配設されている。
【００２１】
光源装置１０は、走査用のレーザ光（光ビーム）を出射するものであり、出射方向が反射ミラー２０の配設位置と対応するように配設されている。この光源装置１０は、例えば、レーザダイオード（ＬＤ；ｌａｓｅｒ　ｄｉｏｄｅ）などよりなるものであり、Ｙｅｌｌｏｗ（Ｙ；イエロー），Ｍａｇｅｎｔａ（Ｍ；マゼンタ），Ｃｙａｎ（Ｃ；シアン），Ｂｌａｃｋ（Ｂ；ブラック）の４色に対応した４つの光源を一体構成化したものである。なお、光源装置１０は、例えば、４つの光源に対応して、図示しないコリメーターレンズ、絞りおよびシリンドリカルレンズよりなる組み合わせを４組含んで構成されている。
【００２２】
反射ミラー２０は、光源装置１０から出射されたレーザ光をポリゴンミラー３０に向けて反射させるためのものである。
【００２３】
ポリゴンミラー３０は、例えば６つの反射面３０Ｍを有する略六角形状の構造体であり、回転軸３１を中心として回転可能なものである。このポリゴンミラー３０は、回転動作に伴い、各反射面３０Ｍにおいてレーザ光を反射ミラー５０に向けて偏向するようになっている。ここで、ポリゴンミラー３０が本発明における「光偏向器」の一具体例に対応する。
【００２４】
ｆθレンズ４０は、主走査方向に対応する方向にレーザ光を集光させると共に、後述する感光ドラム１１０（図８参照）における主走査方向の走査速度を等速化するための複数のレンズ群であり、レーザ光の光路に沿って配設された例えば２つのレンズ４１，４２を含んで構成されている。
【００２５】
反射ミラー５０は、レーザ光を下方に向けて反射させることにより、光学ベース１に設けられた開口１Ｋを通じて光学ベース１の下面側にレーザ光を導くためのものであり、例えば２つの反射ミラー５０Ｘ，５０Ｙを含んで構成されている。これらの反射ミラー５０Ｘ，５０Ｙは、例えば、高さ方向（図中のＺ軸方向）において互いに異なる高さ位置に配設されている（後述する図８参照）。
【００２６】
回路基板６０は、光源装置１０やポリゴンミラー３０を駆動させるためのものであり、コネクタケーブル６０Ｅを介して光源装置１０やポリゴンミラー３０と接続されている。
【００２７】
光学ベース１の下面には、図５に示したように、主に、反射ミラー５０に対応して設けられた反射ミラー７０と、この反射ミラー７０に対応して設けられた反射ミラー８０と、シリンドリカルミラー９０とが配設されている。
【００２８】
反射ミラー７０，８０は、反射ミラー５０により光学ベース１の下面側に導かれたレーザ光をシリンドリカルミラー９０に向けて反射させるためのものである。反射ミラー７０は、例えば、反射ミラー５０Ｘ，５０Ｙの配設位置に対応して配設された２つの反射ミラー７０Ｘ，７０Ｙを含んで構成されており、反射ミラー８０は、例えば、反射ミラー７０Ｘ，７０Ｙに対応して配設された２つの反射ミラー８０Ｘ，８０Ｙを含んで構成されている。
【００２９】
シリンドリカルミラー９０は、副走査方向に対応する方向に集光させながらレーザ光を感光ドラム１１０（図８参照）に向けて反射させるためのものである。このシリンドリカルミラー９０は、例えば、各感光ドラム１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃ，１１０Ｄに対応して互いに離間配置された４つのシリンドリカルミラー９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃ，９０Ｄを含んで構成されている。
【００３０】
次に、図４および図６を参照して、光学ベース１に設けられた収容室１３０およびその周辺部分の詳細な構成について説明する。図６は、収容室１３０およびその周辺部分の詳細な構成を表すものであり、図４に示したＡ−Ａ線に沿った断面構成を示している。なお、図６では、コネクタケーブル６０Ｅの図示を省略している。
【００３１】
収容室１３０は、光学ベース１に設けられた複数の実装スペース１Ｓのうち、導入口１Ｄと排気口１Ｈとの間に位置し、かつ連通路１Ｔの附設位置に対応する特定の実装スペース１Ｓ内に設けられている。この収容室１３０は、例えば、ポリゴンミラー３０を収容可能な箱状構造をなすものであり、ポリゴンミラー３０と連結された回転軸３１を回転可能に支持する駆動基板１３１と、この駆動基板１３１と共にポリゴンミラー３０を周囲から隔離し、レーザ光を透過させるための透過部分１３２Ｌを有する収容ケース１３２とを含んで構成されている。収容室１３０にポリゴンミラー３０を収容して周囲から隔離することにより、大気中の塵やゴミなどがポリゴンミラー３０に付着することを防止可能になっている。駆動基板１３１は、ポリゴンミラー３０を回転させるためのモータやモータ用駆動回路等（図示せず）を含んで構成され、収容室１３０の外壁の一部をなすものであり、その下面（露出面）１３１Ｍは連通路１Ｔに露出している。導入口１Ｄ、連通路１Ｔおよび排気口１Ｈにより、外気（エアー）Ｒの流路１Ｆが構成されており、上カバー１に設けられた導入用開口２Ｄを通じて外部から光学ベース１の導入口１Ｄに流入したエアーＲは、駆動基板１３１の下面１３１Ｍに沿って連通路１Ｔを通過したのち、排気口１Ｈから排気用開口２Ｈを通じて外部に流出するようになっている。なお、上記「外部」とは、光学ベース１、上カバー２および下カバー３よりなる筐体の外側であり、かつ本実施の形態に係る光走査装置を搭載するプリンタ本体の内側を意味する。したがって、流路１Ｆを流れるエアーＲとしては、例えば、フルカラー型レーザプリンタに搭載された冷却用ファン等の駆動時に生じる循環エアーなどが挙げられる。ここで、駆動基板１３１が本発明における「支持体」の一具体例に対応し、流路１Ｆ（導入口１Ｄ，連通路１Ｔ，排気口１Ｈ）が本発明における「外気導入路」の一具体例に対応する。
【００３２】
次に、図１〜図８を参照して、光走査装置の動作について説明する。図７および図８は光走査装置の動作時におけるレーザ光の光路を表すものであり、図７は上方から見た状態，図８は側方から見た状態をそれぞれ示している。なお、図７および図８では、図４および図５に示した一連の構成要素のうち、レーザ光の走査機構に関わる主要な構成要素のみを示している。
【００３３】
この光走査装置では、駆動基板１３１に設けられたモータ用駆動回路によりポリゴンミラー３０が等速回転されている状態において、まず、光学ベース１の上面側に配設された光源装置１０から、Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｂの４色に対応した４つのレーザ光ＬＡ〜ＬＤが出射される。続いて、光源装置１０から出射されたレーザ光ＬＡ〜ＬＤが反射ミラー２０で反射されてポリゴンミラー３０に導かれたのち、ポリゴンミラー３０の各反射面３０Ｍにおいて反復的に反射偏向される。続いて、ポリゴンミラー３０により反射偏向されたレーザ光ＬＡ〜ＬＤが、ｆθレンズ４０（４１，４２）を透過する。
【００３４】
ｆθレンズ４０を透過したレーザ光ＬＡ〜ＬＤのうち、レーザ光ＬＢ，ＬＤは、反射ミラー５０Ｘで反射されることにより開口１Ｋを通じて光学ベース１の下面側に導かれたのち、さらに反射ミラー７０Ｘで反射される。反射ミラー７０Ｘで反射されたレーザ光ＬＢ，ＬＤのうち、レーザ光ＬＢは、シリンドリカルミラー９０Ｂで反射されたのち、カバーガラス１００Ｂを透過することにより感光ドラム１１０Ｂ上を走査し、一方、レーザ光ＬＤは、反射ミラー８０Ｘおよびシリンドリカルミラー９０Ｄで順次反射されたのち、カバーガラス１００Ｄを透過することにより感光ドラム１１０Ｄ上を走査する。
【００３５】
また、ｆθレンズ４０を透過したレーザ光ＬＡ，ＬＣは、反射ミラー５０Ｙで反射されることにより開口１Ｋを通じて光学ベース１の下面側に導かれたのち、さらに反射ミラー７０Ｙで反射される。反射ミラー７０Ｙで反射されたレーザ光ＬＡ，ＬＣのうち、レーザ光ＬＡは、反射ミラー８０Ｙおよびシリンドリカルミラー９０Ａで順次反射されたのち、カバーガラス１００Ａを透過することにより感光ドラム１１０Ａ上を走査し、一方、レーザ光ＬＣは、シリンドリカルミラー９０Ｃで反射されたのち、カバーガラス１００Ｃを透過することにより感光ドラム１１０Ｃ上を走査する。
【００３６】
以上説明した一連の走査機構に基づき、光源装置１０から出射された４つのレーザ光ＬＡ〜ＬＤにより、走査対象としての４つの感光ドラム１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃ，１１０Ｄ上の被走査面がそれぞれ走査される。
【００３７】
本実施の形態に係る光走査装置では、収容室１３０が、その外側に露出した下面１３１Ｍを有すると共にポリゴンミラー３０を支持する駆動基板１３１を備え、補強用リブ構造１ＲＧの一部を利用して、駆動基板１３１の下面１３１Ｍに外気を導くための流路１Ｆが形成されている。より具体的には、光学ベース１に、２つのセル１Ｃ（導入口１Ｄ，排気口１Ｈ）間を連通させる連通路１Ｔを設けることにより、導入口１Ｄから連通路１Ｔを経由して排気口１Ｈに流れるエアーＲの流路１Ｆを形成すると共に、収容室１３０の外壁の一部をなすと共にポリゴンミラー３０を支持する駆動基板１３１の下面１３１Ｍを流路１Ｆ（連通路１Ｔ）に露出させている。この場合には、ポリゴンミラー３０を回転させるために駆動基板１３１に設けられたモータやモータ用の駆動回路が発熱しても、流路１Ｆを流れるエアーＲにより駆動基板１３１が直接冷却されるため、ポリゴンミラー３０およびその周辺部分の温度上昇が抑制される。しかも、本実施の形態では、光学ベース１に設けられた補強用リブ構造１ＲＧのセル１Ｃを利用して流路１Ｆを形成するようにしたので、導入口１Ｄや排気口１Ｈを別途新たに形成する必要がない。この流路１Ｆを利用した冷却機構は、特に、両面実装型の光学ベース１について有効である。したがって、本実施の形態では、ポリゴンミラー３０およびその周辺部分の温度上昇の抑制に基づき、上記「発明が解決しようとする課題」の項において説明した発熱時の温度差に起因した筐体の歪みによるレーザ光の走査特性の劣化が抑制されるため、本光走査装置を搭載したフルカラー型レーザプリンタの画質劣化を抑制することができる。
【００３８】
特に、本実施の形態では、図６に示したように、両面実装型の光学ベース１を用いたことにより、収容室１３０が下カバー３の近傍に配置されず、光学ベース１内の奥深い箇所に配置された場合においても、流路１Ｆを流れるエアーＲにより、収容室１３０に収容されたポリゴンミラー３０およびその周辺部分を効率的に冷却することができる。
【００３９】
なお、本実施の形態では、補強用リブ構造１ＲＧのうちの１つのセル１Ｃを利用して導入口１Ｄを構成すると共に、他の１つのセル１Ｃを利用して排気口１Ｈを構成するようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、２つ以上のセル１Ｃを利用して導入口１Ｄおよび排気口１Ｈをそれぞれ構成するようにしてもよい。この場合には、セル１Ｃの利用個数の増加に伴い、導入口１Ｄや排気口１Ｈの開口面積が大きくなるため、エアーＲの導入量および排気量が増大する。したがって、エアーＲによる冷却能力を向上させることが可能となり、これによりポリゴンミラー３０およびその周辺部分の温度上昇抑制効果をさらに高めることができる。
【００４０】
また、本実施の形態では、補強用リブ構造１ＲＧのセル１Ｃが略三角形状の開口を有するようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、円形状、略四角形状または略六角形状の開口を有するようにしてもよい。この場合においても、略三角形状の開口を有する上記実施の形態の場合と同様に、補強用リブ構造１ＲＧを利用して光学ベース１の機械的強度を確保することができる。
【００４１】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々の変形が可能である。
【００４２】
具体的には、例えば、上記実施の形態では、本発明の光走査装置を「フルカラー型レーザプリンタ」に適用する場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、単一のレーザ光を利用したシングルビーム方式や複数のレーザ光を利用したマルチビーム方式のモノクロ型レーザプリンタにも適用可能である。また、本発明を、光ビームの走査機構を利用して画像を形成可能なレーザプリンタ以外の他のプリンタに適用してもよいし、あるいはプリンタ以外の他の光学機器に適用してもよい。「他の光学機器」の具体例としては、例えば、ファクシミリ、複写機またはこれらの複合機などが挙げられる。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の光走査装置によれば、補強構造の一部を利用して形成された外気導入路に、収容部の一部をなすと共に光偏向器を支持する支持体を露出させるようにしたので、外気導入路を通じて支持体の露出面まで外気が導かれる。この場合には、収容部が筐体の外面近傍に配置されず、筐体内の奥深い箇所に配置された場合においても、外気導入路を流れる外気により、収容部に収容された光偏向器およびその周辺部分が効率的に冷却されるため、光偏向器およびその周辺部分の温度上昇が抑制されることにより、光ビームの走査特性が維持される。しかも、外気導入路は、筐体に設けられた補強構造の一部を利用して形成されるため、外気導入路全体を別途新たに形成する必要がなく、外気導入路を容易に形成可能となる。したがって、本光走査装置を搭載した例えばフルカラー型レーザプリンタに関して、画質劣化の抑制に寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る光走査装置の外観斜視構成を表す斜視図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る光走査装置における上カバーの平面構成を表す平面図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係る光走査装置における下カバーの平面構成を表す平面図である。
【図４】本発明の一実施の形態に係る光走査装置における光学ベースの上面構成を表す上面図である。
【図５】本発明の一実施の形態に係る光走査装置における光学ベースの下面構成を表す下面図である。
【図６】図４に示した光走査装置における収容室およびその周辺部分の断面構成を表す断面図である。
【図７】本発明の一実施の形態に係る光走査装置の動作時におけるレーザ光の光路を上方から見た状態を表す図である。
【図８】本発明の一実施の形態に係る光走査装置の動作時におけるレーザ光の光路を側方から見た状態を表す図である。
【符号の説明】
１…光学ベース、１Ｃ…セル、１Ｄ…導入口、１Ｈ…排気口、１Ｋ…開口、１Ｒ…リブ、１ＲＧ…補強用リブ構造、１Ｓ…実装スペース、１Ｔ…連通路、２…上カバー、２Ｄ…導入用開口、２Ｈ…排気用開口、３…下カバー、３Ｋ（３ＫＡ〜３ＫＤ）…光導出口、１０…光源装置、２０，５０（５０Ｘ，５０Ｙ），７０（７０Ｘ，７０Ｙ），８０（８０Ｘ，８０Ｙ）…反射ミラー、３０…ポリゴンミラー、３１…回転軸、３０Ｍ…反射面、４０（４１，４２）…ｆθレンズ、６０…回路基板、６０Ｅ…コネクタケーブル、９０（９０Ａ〜９Ｄ）…シリンドリカルミラー、１００（１００Ａ〜１００Ｄ）…カバーガラス、１１０（１１０Ａ〜１１０Ｄ）…感光ドラム、１３０…収容室、１３１…駆動基板、１３１Ｍ…下面、１３２…収納ケース、ＬＡ〜ＬＤ…レーザ光、Ｒ…エアー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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