(57)【要約】【課題】磁性層による凹凸パターンを有し、スレーブ媒体にサーボ信号のような情報信号の磁気転写を行う磁気転写方法に使用するマスター担体で、磁気転写に伴うノイズ成分が少なく転写特性を向上する。【解決手段】表面２ａに転写情報に応じた凹凸パターンを有する磁性層２の裏面２ｂが研磨により平坦に設けられ、この平坦裏面２ｂに平坦基板３が積層されてなる。平坦基板３はＮｉの電鋳で積層されてなる。磁性層２は、情報に応じた凹凸パターンが形成された原盤に、樹脂液を塗布して硬化した樹脂基盤を作製し、該樹脂基盤の凹凸パターン上に磁性層２を成膜してなる。この磁性層２の裏面２ｂの凹凸を研磨して平坦化し、この平坦裏面２ｂに電鋳により平坦基板３を積層し、樹脂基盤を磁性層２の凹凸パターンより剥離してなる。【選択図】　　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報を担持したマスター担体と、転写を受けるスレーブ媒体とを密着させ転写用磁界を印加して磁気転写する磁気転写方法に使用するマスター担体であって、
表面に転写情報に応じた凹凸パターンを有し、裏面が研磨により平坦となった磁性層と、該磁性層の平坦裏面に積層されてなる平坦基板とを備えたことを特徴とする磁気転写用マスター担体。
【請求項２】
前記平坦基板は、前記磁性層にＮｉが電鋳で積層されてなることを特徴とする請求項１に記載の磁気転写用マスター担体。
【請求項３】
情報に応じた凹凸パターンが形成された原盤に、樹脂液を塗布し硬化させて樹脂基盤を作製し、該樹脂基盤の凹凸パターン上に磁性層を成膜し、該磁性層の裏面の凹凸を研磨して平坦化した後、この平坦裏面に電鋳により平坦基板を積層し、前記樹脂基盤を磁性層の凹凸パターンより剥離し、前記磁性層と平坦基板とを備えたマスター担体を作製することを特徴とする磁気転写用マスター担体の製造方法。
【請求項４】
前記原盤は、フォトレジストへの描画露光により形成された凹凸パターンに電鋳を施し、金属の型を取った後剥離してなる金属原盤であることを特徴とする請求項３に記載の磁気転写用マスター担体の製造方法。
【請求項５】
前記樹脂基盤は、紫外線硬化樹脂等の光硬化樹脂を硬化させて作製してなることを特徴とする請求項３に記載の磁気転写用マスター担体の製造方法。
【請求項６】
前記磁性層を、スパッタリングで成膜してなることを特徴とする請求項３に記載の磁気転写用マスター担体の製造方法。
【請求項７】
前記磁性層を、電鋳で成膜してなることを特徴とする請求項３に記載の磁気転写用マスター担体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、転写情報が担持されたマスター担体から転写を受けるスレーブ媒体へ磁気転写する磁気転写方法に使用する磁気転写用マスター担体およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
本発明の対象とする磁気転写は、少なくとも表層に磁性層を有するサーボ信号等の転写パターンが凹凸形状で形成されたマスター担体（パターンドマスター）を、磁気記録部を有するスレーブ媒体と密着させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体に担持した情報に対応する磁化パターンをスレーブ媒体に転写記録するものである。
【０００３】
上記磁気転写に使用するマスター担体の一例としては、基板の表面に情報信号に対応する凹凸パターンを形成し、この凹凸パターンの表面に薄膜磁性層を被覆形成してなるものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このマスター担体の凹凸パターンは、フォトレジストが塗布された円板を回転させながら情報に応じて変調したレーザーまたは電子ビームを照射して描画し、このフォトレジストを現像した凹凸を有する原板にメッキを行い、金属の型をとった後剥離することで作製してなる金属盤を原盤として、前記基板表面に凹凸形状を複写している。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−２５６６４４号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記のような磁気転写用マスター担体では、磁気転写を行うために必要とされる磁性層による凹凸パターンを、まず表面に転写情報に対応した凹凸形状を有する基板を作製し、この基板の凹凸形状に磁性層を被覆することによって得ているため、この磁性層は凸部上面の皮膜厚さと同じものが凹部底面にも設けられてなり、このようなマスター担体を用いてスレーブ媒体へ磁気転写を行うと、転写された磁化パターンにはノイズを含みやすく、転写信号品位の点でさらに改善が望まれている。
【０００７】
上記点を解析した結果、スレーブ媒体に転写された磁化パターンでのノイズ成分は、マスター担体の凹凸パターンの凹部底面に形成された磁性層が起因となって発生しているものであり、この凹部底面の磁性層の厚さは小さい方がノイズを含みにくいことが判明した。
【０００８】
また、基板の凹凸パターン上に磁性層を被覆してなるものでは、磁性層表面の凹凸形状は磁性層下面における基板の凹凸形状を正確に現出させたものではなく、凸部幅が広くなったり、凸部角部に曲面が形成されるなどの現象が発生し、これは磁性層が厚くなるほど顕著となり、転写信号品位、位置精度などに影響を与える問題もある。
【０００９】
本発明はこのような点に鑑みなされたもので、磁気転写に伴うノイズ成分が少なく転写特性に優れた磁気転写用マスター担体およびその製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気転写用マスター担体は、情報を担持したマスター担体と、転写を受けるスレーブ媒体とを密着させ転写用磁界を印加して磁気転写する磁気転写方法に使用するマスター担体であって、
表面に転写情報に応じた凹凸パターンを有し、裏面が研磨により平坦となった磁性層と、該磁性層の平坦裏面に積層されてなる平坦基板とを備えたことを特徴とするものである。
【００１１】
前記平坦基板は、前記磁性層の裏面にＮｉが電鋳で積層されてなるものが好適である。
【００１２】
また、本発明の磁気転写用マスター担体の製造方法は、情報に応じた凹凸パターンが形成された原盤に、樹脂液を塗布し硬化させて樹脂基盤を作製し、該樹脂基盤の凹凸パターン上に磁性層を成膜し、該磁性層の裏面の凹凸を研磨して平坦化した後、この平坦裏面に電鋳により平坦基板を積層し、前記樹脂基盤を磁性層の凹凸パターンより剥離し、前記磁性層と平坦基板とを備えたマスター担体を作製することを特徴とするものである。
【００１３】
前記原盤は、フォトレジストへの描画露光により形成された凹凸パターンに電鋳を施し、金属の型を取った後剥離してなる金属原盤であるものが好ましい。
【００１４】
前記樹脂基盤は、紫外線硬化樹脂等の光硬化樹脂を硬化させて作製するのが好ましい。また、前記磁性層を、スパッタリングまたは電鋳で成膜するのが好適である。
【００１５】
前記磁性層の裏面研磨は、平研磨、ラッピング等の磁性層に歪みを与えない方法を使用するのが好ましい。
【００１６】
【発明の効果】
上記のような本発明マスター担体によれば、表面に転写情報に応じた凹凸パターンを形成した磁性層の裏面を研磨により平坦とし、該磁性層の平坦裏面に平坦基板を積層してなることにより、転写パターンの凹部底面の磁性層の厚さが凸部の磁性層の厚さより小さくなり、ノイズの少ない磁気転写を実施することができ、転写品質の向上による信頼性の確保ができる。
【００１７】
また、本発明製造方法によれば、磁性層表面の凹凸パターンの形成精度が高くなり、凹部底面の磁性層の厚さが小さくなることと相まって、転写信号品位の向上が図れる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は本発明の一つの実施形態に係る磁気転写用マスター担体の断面図、図２は一つの実施形態に係るマスター担体の作製工程を順に示す図である。なお、各図は模式図であり、実際の寸法とは異なる比率で示している。
【００１９】
図１に示す磁気転写用マスター担体１は、磁性層２と基板３とで構成されてなり、磁性層２は表面２ａに転写情報に応じた凹凸パターン（転写パターン）を有し、裏面２ｂが研磨により平坦となっている。前記基板３は、上記磁性層２の平坦裏面２ｂに、例えばＮｉが電鋳で積層されてなる。
【００２０】
磁性層２の凹凸パターンにおける突起の高さは、８０〜８００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは１００〜６００ｎｍの範囲である。
【００２１】
磁気転写時には、前記マスター担体１における磁性層２の表面２ａ（凹凸パターン）と、鎖線で示す転写を受けるスレーブ媒体４とを密着させて転写用磁界を印加して磁気転写する。その際、スレーブ媒体４は予め面内方向または垂直方向の一方に初期磁化が施され、転写用磁界はこの初期磁化とほぼ反対方向の面内方向または垂直方向に印加するものである。
【００２２】
そして、上記磁気転写時に印加された転写用磁界は、マスター担体１の凹凸パターンにおけるスレーブ媒体４と密着した磁性層２の凸部に吸い込まれ、面内記録の場合にはこの部分の初期磁化は反転せずその他の部分の初期磁化が反転し、垂直記録の場合にはこの部分の初期磁化が反転しその他の部分の初期磁化は反転しない結果、スレーブ媒体４の磁気記録層にはマスター担体１の凹凸パターンに応じた磁化パターンが転写記録される。
【００２３】
なお、上記マスター担体１は、磁性層２の凹凸パターンが、図１のポジ状パターンと逆の凹凸形状のネガ状パターンの場合であっても、スレーブ媒体４に対する初期磁界の方向および転写用磁界の印加方向を逆の方向にすることによって同様の磁化パターンが転写記録できる。
【００２４】
上記のようなマスター担体１を使用した磁気転写においては、磁性層２の凹凸パターンにおける凹部の厚さが薄いことにより、スレーブ媒体４への磁気転写時のノイズ成分が小さくなり信号品位の高い転写記録が行える。
【００２５】
上記マスター担体１は、詳細は後述するように、情報に応じた凹凸パターンが形成された原盤に、樹脂液を塗布し硬化させて樹脂基盤を作製し、この樹脂基盤の凹凸パターン上に磁性層２を成膜し、該磁性層２の裏面２ｂの凹凸を研磨して平坦化した後、この磁性層２の平坦裏面２ｂに電鋳により平坦基板３を積層し、樹脂基盤より剥離することによって作製してなる。
【００２６】
マスター担体１の一実施形態の作製方法を、図２（ａ）〜（ｈ）に基づいて説明する。
【００２７】
（ａ）〜（ｄ）の工程で磁性層２を成膜するときに表面２ａに微細凹凸パターンを形成するための樹脂基盤１４を作製する。まず、（ａ）のように表面が平滑で清浄なシリコンウエハーによる原板１０（ガラス板、石英板でもよい）の上に、フォトレジスト液をスピンコート等で塗布してフォトレジスト膜１１を形成する。そして、高精度な回転ステージを備えた不図示の電子ビーム露光装置にて、その回転ステージに搭載した上記原板１０を回転させながら、サーボ信号に対応して変調した電子ビームＥＢを照射し、そのフォトレジスト膜１１に所望のパターンを描画露光する。その後、（ｂ）のように、フォトレジスト膜１１を現像処理し、露光部分を除去して、残ったフォトレジスト膜１１による所望厚みで所望の凹凸パターン（ネガ状パターン）を形成する。この凹凸パターン上にＮｉ導電膜１２を付与し、電鋳可能としてなる。
【００２８】
次に、（ｃ）のように、上記原板１０の表面の凹凸パターンの上に、電鋳装置にて電鋳処理を施し、所望厚みのＮｉ金属による原盤１３を作製する。この凹凸パターン（ポジ状パターン）を有する金属原盤１３を、上記原板１０より剥離し、残留するフォトレジスト膜１１を除去・洗浄する。
【００２９】
次に、（ｄ）のように、上記金属原盤１３の上に、紫外線硬化樹脂等の光硬化樹脂を塗布し、紫外線等の特殊光を照射することで硬化させ、ネガ状に反転した凹凸パターンを有する樹脂基盤１４を作製し、金属原盤１３から剥離する。
【００３０】
次に、（ｅ）のように、上記樹脂基盤１４を使用して、その凹凸パターン上に、スパッタリング、電鋳等により所定厚さに磁性層２を成膜する。成膜後の状態においては、磁性層２の表面には樹脂基盤１４のネガ状凹凸パターンによってポジ状凹凸パターンが反転形成され、磁性層２の反対側裏面には凹凸パターンを反映した凹凸形状となっている。
【００３１】
そして、（ｆ）のように、樹脂基盤１４に成膜した状態のままの磁性層２の裏面側の凹凸面を研磨し、凸部を除去して平坦裏面２ｂとする。この磁性層２の研磨は、平研磨、ラッピング等の磁性層２に歪みを与えない研磨方法を使用して行う。
【００３２】
次に、（ｇ）のように、電鋳装置にて、磁性層２の研磨処理した平坦裏面２ｂに所望の厚みのＮｉによる電鋳処理を施し、Ｎｉ平坦基板３を積層する。その後、樹脂基盤１４の凹凸パターンより、磁性層２を平坦基板３とともに剥離し、（ｈ）のように、磁性層２の表面２ａに凹凸パターンを有し、磁性層２の平坦裏面２ｂに平坦基板３が積層されてなるマスター担体１を作製するものである。
【００３３】
なお、前記原板１０の作製において、フォトレジスト膜１１を露光・現像処理した後、エッチング処理を行って、ウエハー原板１０の表面にエッチングによる凹凸パターンを形成してからフォトレジスト膜１１を除去してもよい。この凹凸パターン上にＮｉ導電膜１２を施してから、図２（ｃ）と同様に、電鋳処理を施してポジ状凹凸パターンを有する金属原盤１３を作製することができる。また、前記金属原盤１３を繰り返し使用し、複数の樹脂基盤１４を作製することができる。
【００３４】
前記樹脂基盤１４の作製時に、金属原盤１３に紫外線硬化樹脂液を塗布した上から紫外線透過材料からなる板部材を押しつけて均一厚みとし、そして、板部材を通して紫外線を照射し、樹脂液を硬化（光重合）させて樹脂基盤１４を作製してもよい。上記板部材は成形後にはそのまま樹脂基盤の一部としてもよい。
【００３５】
なお、図２では、電鋳処理により形成した金属原盤１３の裏面は平坦に示しているが、この裏面に凹凸形状が形成されていても樹脂基盤１４の形成には問題がない。
【００３６】
前記磁性層２の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、電鋳等のメッキ法などにより成膜する。磁性層２の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）を用いることができる。特に好ましくはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。
【００３７】
なお、磁性層２の表面２ａ（凹凸パターン）にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護膜を設けることが好ましく、潤滑剤層を設けても良い。また保護膜として５〜３０ｎｍのＤＬＣ膜と潤滑剤層が存在することがさらに好ましい。潤滑剤は、スレーブ媒体４との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などの耐久性の劣化を改善する。
【００３８】
スレーブ媒体４としては、ハードディスク、高密度フレキシブルディスクなどが使用され、その磁気記録層は塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気記録層が形成されている。金属薄膜型磁気記録層については、磁性材料としてはＣｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。
【００３９】
上記のような作成方法で製造されたマスター担体１は、磁性層２の表面２ａの凹凸パターンが、樹脂基盤１４の凹凸パターンを直接型どって反転したパターンとなって、凸部幅、凸部断面形状等の精度のよいパターンの形成が行える。
【００４０】
また、樹脂基盤１４に磁性層２を成膜したまま、研磨、基板３の積層を行うことで、作業性に優れている。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一つの実施形態に係る磁気転写用マスター担体の断面図
【図２】一実施形態のマスター担体の作製工程を順に示す図
【符号の説明】
１　　マスター担体
２　　磁性層
２ａ　　表面（凹凸パターン）
２ｂ　　裏面
３　　平坦基板
１０　　原板
１１　　フォトレジスト膜
１２　　Ｎｉ導電膜
１３　　金属原盤
１４　　樹脂基盤
【図１】
2004139628.tif 000003
【図２】
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