(57)【要約】【課題】衝撃が与えられたときでも、液晶の配向を乱す等の悪影響を液晶に与えることなく、高品位な表示性能を有するＴＮ型液晶表示素子が得られるＴＮ型液晶表示素子用スペーサ、及びそれを用いたＴＮ型液晶表示素子を提供する。【解決手段】微粒子表面に重合体からなる被覆層が形成されてなるＴＮ型液晶表示素子用スペーサであって、前記重合体が炭素数１２〜１８のアルキル基を有する下記一般式（１）で表されるメタクリル系成分を構成単位として有するＴＮ型液晶表示素子用スペーサ。式中、Ｒ1 は炭素数１２〜１８のアルキル基を示す。2004280080.tif 000010【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
微粒子表面に重合体からなる被覆層が形成されてなるＴＮ型液晶表示素子用スペーサであって、前記重合体が炭素数１２〜１８のアルキル基を有する下記一般式（１）で表されるメタクリル系成分を構成単位として有することを特徴とするＴＮ型液晶表示素子用スペーサ。
【化１】
2004280080.tif 000008
式中、Ｒ1 は炭素数１２〜１８のアルキル基を示す。
【請求項２】
前記重合体が、更に、炭素数１〜５のアルキル基を有する下記一般式（２）で表されるメタクリル系成分を構成単位として有することを特徴とする請求項１記載のＴＮ型液晶表示素子用スペーサ。
【化２】
2004280080.tif 000009
式中、Ｒ2 は炭素数１〜５のアルキル基を示す。
【請求項３】
炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分と、炭素数１〜５のアルキル基を有するメタクリル系成分との組成重量比率が、１：９〜５：５であることを特徴とする請求項２記載のＴＮ型液晶表示素子用スペーサ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示素子用スペーサを用いてなることを特徴とするＴＮ型液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、衝撃が与えられたときでも、液晶の配向を乱す等の悪影響を液晶に与えることなく、高品位な表示性能を有するＴＮ型液晶表示素子が得られるＴＮ型液晶表示素子用スペーサ、及びそれを用いたＴＮ型液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子において、液晶とスペーサとの界面で液晶分子の配向が変則的になり、表示品質を低下させることがあることは以前より周知であった。特に近年需要の伸びているＴＦＴに代表されるツイステッドネマチック液晶（ＴＮ液晶）においても、上記の異常配向現象が起こりやすい。
【０００３】
この様な異常配向が起こると液晶表示素子を点灯作動させたときにスペーサの周囲に光り抜けというバックライトからの光が透過する現象が生じる。特に液晶画面に強い衝撃を与えたときに、異常配向が生じ、その後消えることはない。異常配向は、強い衝撃が与えられることにより、スペーサ表面と液晶とが激しく振動した結果、液晶とスペーサとの界面において、液晶分子がスペーサの表面の親水性部分に吸着し、液晶の配向が通常の状態と異なるようになることにより生じると考えられている。この様な異常配向を防止する方法として微球体上に有機シラン化合物による被覆に由来するアルキル基を形成することが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
しかしながら、この方法では、液晶分子に垂直配向を持たせることによりＳＴＮ（スーパーツイステッドネマチック）型液晶表示装置においては効果を示すが、ＴＦＴに代表されるＴＮ型液晶表示装置に衝撃が与えられたときは効果が不十分であった。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１１７１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記現状に鑑み、衝撃が与えられたときでも、液晶の配向を乱す等の悪影響を液晶に与えることなく、高品位な表示性能を有するＴＮ型液晶表示素子が得られるＴＮ型液晶表示素子用スペーサ、及びそれを用いたＴＮ型液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために請求項１記載の発明は、微粒子表面に重合体からなる被覆層が形成されてなるＴＮ型液晶表示素子用スペーサであって、前記重合体が炭素数１２〜１８のアルキル基を有する下記一般式（１）で表されるメタクリル系成分を構成単位として有するＴＮ型液晶表示素子用スペーサを提供する。
【０００７】
【化１】
2004280080.tif 000002
【０００８】
式中、Ｒ1 は炭素数１２〜１８のアルキル基を示す。
【０００９】
また、請求項２記載の発明は、前記重合体が、更に、炭素数１〜５のアルキル基を有する下記一般式（２）で表されるメタクリル系成分を構成単位として有する請求項１記載のＴＮ型液晶表示素子用スペーサを提供する。
【００１０】
【化２】
2004280080.tif 000003
【００１１】
式中、Ｒ2 は炭素数１〜５のアルキル基を示す。
【００１２】
また、請求項３記載の発明は、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分と、炭素数１〜５のアルキル基を有するメタクリル系成分との組成重量比率が、１：９〜５：５である請求項２記載のＴＮ型液晶表示素子用スペーサを提供する。
【００１３】
また、請求項４記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示素子用スペーサを用いてなるＴＮ型液晶表示素子を提供する。
【００１４】
以下、本発明の詳細を説明する。
本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサは、微粒子表面に重合体からなる被覆層が形成されてなり、前記重合体が炭素数１２〜１８のアルキル基を有する上記一般式（１）で表されるメタクリル系成分を構成単位として有するものである。
上記炭素数１２〜１８のアルキル基としては、具体的には、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。
【００１５】
本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサの製造方法としては特に限定されず、例えば、下記一般式（３）で表される化合物を基材微粒子表面に表面グラフト重合させる方法等が挙げられる。
【００１６】
【化３】
2004280080.tif 000004
【００１７】
式中、Ｒ1 は炭素数１２〜１８のアルキル基を示す。
【００１８】
上記一般式（３）で表される化合物（以下、化合物（３）ともいう）としては、例えば、ラウリルメタクリレート（Ｃ１２）、セチルメタクリレート（Ｃ１６）、ステアリルメタクリレート（Ｃ１８）等が挙げられる。なお、Ｃ１２とは、上記アルキル基の炭素数が１２であることを示す。
これらは単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。
【００１９】
本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサは、前記重合体が、更に、炭素数１〜５のアルキル基を有する上記一般式（２）で表されるメタクリル系成分を構成単位として有するものが好ましい。
上記炭素数１〜５のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
【００２０】
本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサは、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分と、炭素数１〜５のアルキル基を有するメタクリル系成分との組成重量比率が、１：９〜５：５であることが好ましい。
【００２１】
上記組成重量比率は、ＴＮ型液晶表示素子用スペーサの表面について、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析）装置により分析し、求めることができる。
上記ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析方法としては、例えば、ＴＮ型液晶表示素子用スペーサ粒子をシリコンウエハー上に付着させ、粒子表面のイオンスペクトル強度により質量比を測定する方法が用いられる。使用機器等は以下のものである。
ＴＯＦ−ＳＩＭＳ装置：ＰＨＩ  Ｅｖａｎｓ社製「ＴＦＳ−２０００」
一次イオン：69Ｇａ+
【００２２】
上記炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分と、上記炭素数１〜５のアルキル基を有するメタクリル系成分とを有するＴＮ型液晶表示素子用スペーサの製造方法としては、例えば、上記化合物（３）と下記一般式（４）で表される化合物とを混合後基材微粒子表面に表面グラフト重合させる方法等が挙げられる。
【００２３】
【化４】
2004280080.tif 000005
【００２４】
式中、Ｒ2 は炭素数１〜５のアルキル基を示す。
【００２５】
上記一般式（４）で表される化合物（以下、化合物（４）ともいう）としては、例えば、メチルメタクリレート（Ｃ１）、エチルメタクリレート（Ｃ２）、プロピルメタクリレート（Ｃ３）、ｎ−ブチルメタクリレート（Ｃ４）、イソブチルメタクリレート（Ｃ４）等が挙げられる。なお、Ｃ１とは、上記アルキル基の炭素数が１であることを示す。
これらは単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。
【００２６】
本発明における重合体は、本発明の液晶表示素子用スペーサの効果を損なわない程度に、上記化合物（３）及び好適に用いられる上記化合物（４）と共に、その他の重合性単量体を用いてなるものでもよい。
上記その他の重合性単量体としては特に限定されず、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリル酸エステル；トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート等のフッ素含有単量体；メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレン鎖を有する単量体；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル系単量体；エチルビニルエーテル等のビニルエーテル系単量体；マレイン酸エステル、イタコン酸エステル等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２７】
上記化合物（３）、好適に用いられる上記化合物（４）、及び必要に応じ用いられるその他の重合性単量体を用いて本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得る方法としては特に限定されず、例えば、還元性基を表面に有する基材微粒子に化合物（３）、化合物（４）及びその他の重合性単量体を含浸後、酸化剤を反応させて基材微粒子表面にラジカルを発生させ、そのラジカルを起点として基材微粒子表面に重合層を形成させる方法等が挙げられる。
上記還元性基としては、例えば、水酸基、チオール基、アルデヒド基、メルカプト基、アミノ基等が挙げられる。
上記酸化剤としては、例えば、セリウム塩、過硫酸塩等が挙げられる。
【００２８】
上記還元性基を有する基材微粒子としては、例えば、エチレン性不飽和基を有する単量体を重合させて得られるプラスチック微球体であって、上記還元性基を有する単量体を構成成分として含有するものが挙げられる。
【００２９】
上記エチレン性不飽和基を有する単量体としては、非架橋性単量体であってもよく、架橋性単量体であってもよい。
上記非架橋性単量体としては特に限定されず、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体；メチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。
上記架橋性単量体としては特に限定されず、例えば、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリアリル（イソ）シアヌレート、トリアリルトリメリテート；ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド等が挙げられる。
【００３０】
上記還元性基含有単量体としては特に限定されず、例えば、ビニルアルコール、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシフタル酸、モノ［２（メタ）アクリロイルオキシエチル］アシッドホスフェート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル誘導体；スチレン誘導体；ビニルエステル類；共役ジエン類等が挙げられる。
【００３１】
上記基材微粒子は、上述のエチレン性不飽和基を有する単量体を、公知の方法によりラジカル重合開始剤の存在下で水性懸濁重合することにより製造することができる。
【００３２】
本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサに用いられる基材微粒子の好ましい直径の下限は０．１μｍ、上限は１０００μｍであり、より好ましい下限は１μｍ、上限は３０μｍである。なお、本発明で用いられる基材微粒子は必要に応じて着色されていてもよい。上記着色剤としては、例えば、カーボンブラック、分散染料、酸性染料、塩基性染料、金属酸化物等が挙げられる。
【００３３】
本発明におけるメタクリル系成分の構成単位の数は、３０〜４０００が好ましい。３０未満では異常配向防止性能が不十分であり、４０００を越えると微粒子を単粒子分散することが困難になる。より好ましくは５０〜２０００である。
【００３４】
本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサにおける被覆層の厚さの好ましい下限は０．０１μｍ、上限は０．２μｍである。０．０１μｍ未満であると、異常配向を防止する性能が不十分なことがあり、０．２μｍを超えると、散布性能が不十分なことがある。より好ましい下限は０．０２μｍ、上限は０．１μｍである。
【００３５】
このような構成からなる本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサは、ＴＮ型液晶表示素子に好適に用いることができる。
本発明のＴＮ型液晶表示素子は、本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサを用いてなるものである。
【００３６】
上記ＴＮ型液晶表示素子について、その要部断面図である図１を参照しながら説明する。
上記ＴＮ型液晶表示素子は、図１に示すように、偏光シート１が一面に設けられ、偏光シート１が設けられた面と反対の面に絶縁膜３、透明電極４及び配向膜５が順次積層され、配向膜５が対向するように設置された一対の透明基板２と、対向する配向膜５の間に狭持されたＴＮ型液晶表示素子用スペーサ７と配向膜５との間に注入された液晶６と、周辺に形成されたシール材８とを構成要素としている。
【００３７】
上記ＴＮ型液晶表示素子は、例えば、以下の方法を用いて作製することができる。
まず、偏光シート１が一面に設けられた２枚の透明基板２の偏光シート１が設けられた面と反対側の面に、ＳｉＯ2 等からなる絶縁膜３を形成し、絶縁膜３の上にＩＴＯ等からなる透明電極４をフォトリソグラフィーによりパターンニングして形成する。その後、それぞれの透明電極４上に、ポリイミド等からなる配向膜５を形成し、１枚の透明基板２の配向膜５上にＴＮ型液晶表示素子用スペーサ７を散布する。
【００３８】
その後、ＴＮ型液晶表示素子用スペーサ７を散布した基板に、スペーサが散布されていない他の基板を、配向膜５が対向するように設置し、これらの基板の周囲に、シール材８を用いて周辺部に接着層を形成し、ＴＮ型液晶表示素子用スペーサを散布した基板とスペーサが散布されていない基板とを貼り合わせ、更に液晶６をこれら基板間に注入することにより液晶セルを作製し、得られた液晶セルに配線を設けることによりＴＮ型液晶表示素子１０を作製する。
【００３９】
上記ＴＮ型液晶表示素子用スペーサを基板上に散布する際の散布密度は、１０〜１０００個／ｍｍ2 が好ましい。１０個／ｍｍ2 未満であると、ＴＮ型液晶表示素子のギャップが均一にならない場合があり、１０００個／ｍｍ2 を超えると、ＴＮ型液晶表示素子用スペーサの存在によりＴＮ型液晶表示素子のコントラストが低下することがある。
【００４０】
（作用）
本発明の液晶表示素子用スペーサは、重合体が炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分を構成単位として有している。本発明により衝撃が与えられたときの異常配向現象が改善する要因は明らかではないが、炭素数が１２〜１８の長鎖アルキル基とメタクリル由来のメチル基の共存により、液晶分子との相互作用が、異常配向防止に対して最適化されるためと考えられる。
また、更に、炭素数１〜５のアルキル基を有するメタクリル系成分を構成単位として適度に有することで、液晶分子との相互作用における分子空間が最適化されることで更に、耐衝撃性が強化されると考えられる。
【発明の効果】
【００４１】
本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサは、上述の構成からなるので、衝撃が与えられたときでも、液晶の配向を乱す等の悪影響を液晶に与えることなく、高品位な表示性能を有するＴＮ型液晶表示素子を提供することができる。
また、本発明のＴＮ型液晶表示素子は、本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサを用いてなるので、衝撃が与えられたときでも、液晶の配向を乱す等の悪影響を液晶に与えることなく、高品位な表示性能を有する。
【実施例】
【００４２】
以下、実施例を挙げて本発明をより詳しく説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００４３】
（実施例１）
〔基材微粒子の作製〕
ポリビニルアルコールの３％水溶液８００重量部に、ジビニルベンゼン１００重量部、過酸化ベンゾイル２重量部の混合液を加え、ホモジナイザーにて攪拌して粒度調整を行った。その後、攪拌しながら窒素気流下にて、８０℃まで昇温して、１５時間反応を行った。得られた基材微粒子を熱イオン交換水及びメタノールにて洗浄後、分級操作を行った。得られた基材微粒子は、平均粒径５．０μｍ、ＣＶ値５％であった。
【００４４】
〔基材微粒子表面の被覆層形成〕
セパラブルフラスコに、上記操作で作製した基材微粒子１００ｇ、ジメチルスルホキシド２００ｇ、ラウリルメタクリレート１００ｇ、メチルメタクリレート５０ｇ、イソブチルメタクリレート１２０ｇを加え、撹拌した。次に、反応系に窒素ガスを導入し、３０℃にて３時間撹拌した。これに１Ｎの硝酸水溶液で調製した０．１モル／Ｌの硝酸第二セリウムアンモニウム溶液５０ｇを添加し１０時間反応させた。反応終了後、得られた微球体をテトラヒドロフランにて洗浄し、真空乾燥器にて、減圧乾燥を行い、表面に重合処理されて重合体からなる被覆層が形成された微球体を得た。なお、基材微粒子表面の被覆層形成前後で粒子径の測定を行い、粒子径の変化から被覆層の厚さを求めた。
【００４５】
得られた微球体をＴＮ型液晶表示素子用スペーサとして用いて、ＴＮ型液晶表示素子を作製し、振動前後の液晶の配向状態を下記の評価方法を用いて評価した。結果を表１に示した。
【００４６】
〔配向状態観察〕
一対の透明ガラス板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ）の一面に、ＣＶＤ法によりＳｉＯ2 膜を蒸着した後、ＳｉＯ2 膜の表面全体にスパッタリングによりＩＴＯ膜を形成して得たＩＴＯ膜付きガラス基板に、スピンコート法によりポリイミド配向膜（日産化学社製、ＳＥ−７２１０）を配置し、２８０℃で９０分間焼成することによりポリイミド配向膜を形成した。このガラス板にラビング処理を行った後、上記基板のうちの一枚の基板の配向膜側に、合成したＴＮ型液晶表示素子用スペーサを乾式散布機（日清エンジニアリング社製、ＤＩＳＰＡ−μＲ）を用いて１ｍｍ2 当たり１００〜２００個となるよう散布した。もう一方の基板の周辺に周辺シール剤（主剤：ＳＥ４５００、硬化剤：ＨＡＶＥＮ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）を形成した後、ラビング方向（ツイスト角）が９０°になるように対向配置させ、両者を張り合わせた後、１６０℃で９０分間処理してシール剤を硬化させ、空セルを作製した。得られた空セルに、ＴＮ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ−６２２２）を注入した後、注入口を接着剤で塞いでＴＮ型液晶表示素子を作製し、更に、１２０℃で３０分間熱処理した。
【００４７】
このようにして得られたＴＮ型液晶表示素子をノーマリホワイト表示モードになるようにクロスニコルに配置した偏光フィルムで挟み込み、７Ｖの電圧を印加しながら顕微鏡で２００倍に拡大した写真をとり光抜けの状態（配向状態）を観察した。
また、このＴＮ型液晶表示素子をプラスチックハンマーにて１００回叩いた後に上記と同様にして光抜けの状態を観察した。
【００４８】
（実施例２）
実施例１においてラウリルメタクリレート１００ｇの替わりに、ステアリルメタクリレート１００ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。結果を表１に示した。
【００４９】
（比較例１）
実施例１においてラウリルメタクリレート１００ｇの替わりに、ラウリルアクリレート１００ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。結果を表１に示した。
【００５０】
（比較例２）
実施例１においてラウリルメタクリレート１００ｇの替わりに、ステアリルアクリレート１００ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。結果を表１に示した。
【００５１】
【表１】
2004280080.tif 000006
【００５２】
実施例１及び２で得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサは、振動前及び振動後で、ごく一部に異常配向が生じたものの、実用上は全く問題なかった。比較例１及び２で得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサでは、振動前はごく一部に異常配向が生じ、振動後は全周に強い異常配向が生じた。
【００５３】
（実施例３）
実施例１においてメチルメタクリレート５０ｇ及びイソブチルメタクリレート１２０ｇの替わりに、メチルメタクリレート１２０ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。また、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析した結果、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分と、炭素数１〜５のアルキル基を有するメタクリル系成分との組成重量比率は、４．６：５．４であった。結果を表２に示した。
【００５４】
（実施例４）
実施例１においてラウリルメタクリレート１００ｇの替わりに、ステアリルメタクリレート１００ｇ、並びに、メチルメタクリレート５０ｇ及びイソブチルメタクリレート１２０ｇの替わりに、メチルメタクリレート１２０ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。また、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析した結果、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分と、炭素数１〜５のアルキル基を有するメタクリル系成分との組成重量比率は、４．７：５．３であった。結果を表２に示した。
【００５５】
（実施例５）
実施例１においてメチルメタクリレート５０ｇ及びイソブチルメタクリレート１２０ｇの替わりに、イソブチルメタクリレート１２０ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。また、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析した結果、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分と、炭素数１〜５のアルキル基を有するメタクリル系成分との組成重量比率は、４．６：５．４であった。結果を表２に示した。
【００５６】
（実施例６）
実施例１においてメチルメタクリレート５０ｇ及びイソブチルメタクリレート１２０ｇの替わりに、イソブチルメタクリレート２００ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。また、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析した結果、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分と、炭素数１〜５のアルキル基を有するメタクリル系成分との組成重量比率は、３．５：６．５であった。結果を表２に示した。
【００５７】
（実施例７）
実施例１においてラウリルメタクリレート１００ｇの替わりに、ステアリルメタクリレート１００ｇを用いたこと、並びに、メチルメタクリレート５０ｇ及びイソブチルメタクリレート１２０ｇを用いなかったこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。また、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析した結果、組成重量比率は炭素数１２〜１８のアルキル基を有するメタクリル系成分のみであった。結果を表２に示した。
【００５８】
（比較例３）
実施例１においてラウリルメタクリレート１００ｇの替わりに、ラウリルアクリレート１００ｇ、並びに、メチルメタクリレート５０ｇ及びイソブチルメタクリレート１２０ｇの替わりに、メチルメタクリレート１２０ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。結果を表２に示した。
【００５９】
（比較例４）
実施例１においてラウリルメタクリレート１００ｇの替わりに、ステアリルアクリレート１００ｇ、並びに、メチルメタクリレート５０ｇ及びイソブチルメタクリレート１２０ｇの替わりに、メチルメタクリレート１２０ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にしてＴＮ型液晶表示素子用スペーサを得た。得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサについて、実施例１と同様にして光抜けの状態を観察した。結果を表２に示した。
【００６０】
【表２】
2004280080.tif 000007
【００６１】
実施例３、４、５及び６で得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサは、振動前及び振動後で、ごく一部に異常配向が生じたものの、実用上は全く問題なかった。また、実施例７で得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサは、振動前はごく一部に異常配向が生じ、振動後は一部に異常配向が生じたものの、実用上は問題なかった。比較例３及び４で得られたＴＮ型液晶表示素子用スペーサでは、振動前はごく一部に異常配向が生じ、振動後は全周に強い異常配向が生じた。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明によれば、衝撃が与えられたときでも、液晶の配向を乱す等の悪影響を液晶に与えることなく、高品位な表示性能を有するＴＮ型液晶表示素子が得られるＴＮ型液晶表示素子用スペーサ、及びそれを用いたＴＮ型液晶表示素子を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明のＴＮ型液晶表示素子用スペーサを用いたＴＮ型液晶表示素子を模式的に示した図である。
【符号の説明】
【００６４】
１    偏光シート
２    透明基板
３    絶縁膜
４    透明電極
５    配向膜
６    液晶
７    ＴＮ型液晶表示素子用スペーサ
８    シール材
１０  ＴＮ型液晶表示素子
【図１】
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