(57)【要約】【課題】フルカラ−ディスプレイ、バックライト、照明光源等の面光源や、プリンタ−等の光源アレイなどに有効に利用でき、耐久性と発光輝度に優れた発光素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】陽極基板１、陽極２、発光層を含む少なくとも一層の有機層３、陰極４及び陰極基板６をこの順に有する発光素子であって、陰極基板６と陰極４との間に水分及び／又は酸素の吸収層５を有する発光素子、及び（ａ）陽極基板１及び陽極２を含む部分積層体と、陰極基板６、水分及び／又は酸素吸収層５、陰極４及び有機層３を含む部分積層体、（ｂ）陽極基板１、陽極２及び有機層３を含む部分積層体と、陰極基板６、水分及び／又は酸素吸収層５及び陰極４を含む部分積層体、又は（ｃ）陽極基板１、陽極２及び有機層３の一部を含む部分積層体と、陰極基板６、水分及び／又は酸素吸収層５、陰極４及び有機層３の他の部分を含む部分積層体、とを貼り合わせて積層体を作製する工程を含む発光素子の製造方法。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極基板、陽極、発光層を含む少なくとも一層の有機層、陰極及び陰極基板をこの順に有する積層体を含む発光素子であって、陰極基板と陰極との間に水分及び／又は酸素の吸収層を有することを特徴とする発光素子。
【請求項２】
前記積層体は、前記陽極と前記有機層との間、前記有機層と前記陰極との間、及び前記有機層の間から選ばれる少なくとも一つに貼り合わせ構造を有することを特徴とする請求項１に記載の発光素子。
【請求項３】
前記水分及び／又は酸素吸収層が還元性金属酸化物からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の発光素子。
【請求項４】
前記還元性金属酸化物がＳｉＯ、ＧｅＯ、ＳｎＯ、ＦｅＯからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項３に記載の発光素子。
【請求項５】
前記水分及び／又は酸素の吸収層が、仕事関数が４．０　ｅＶ以下の金属又は合金からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の発光素子。
【請求項６】
陽極基板、陽極、発光層を含む少なくとも一層の有機層、陰極及び陰極基板をこの順に有する積層体からなる発光素子の製造方法であって、陰極と陰極基板との間に水分及び／又は酸素の吸収層を有し、（ａ）前記陽極基板及び前記陽極を含む部分積層体と、前記陰極基板、前記水分及び／又は酸素の吸収層、前記陰極及び前記有機層を含む部分積層体、（ｂ）前記陽極基板、前記陽極及び前記有機層を含む部分積層体と、前記陰極基板、前記水分及び／又は酸素の吸収層及び前記陰極を含む部分積層体、又は（ｃ）前記陽極基板、前記陽極及び前記有機層の一部を含む部分積層体と、前記陰極基板、前記水分及び／又は酸素の吸収層、前記陰極及び前記有機層の他の部分を含む部分積層体、とを貼り合わせて積層体を作製する工程を含むことを特徴とする発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はフルカラーディスプレイ、バックライト、照明光源等の面光源やプリンター等の光源アレイ等に有効に利用できる発光素子、特に有機電界（ＥＬ）素子に関し、詳しくは、発光輝度および耐久性に優れた発光素子及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
有機物質を使用した有機発光素子には、塗布型素子、蒸着型素子があるが、いずれも十分な耐久性を有するものが得られていない。その大きな一つの要因として水分を挙げることができる。発光素子内に水分が存在すると、電気分解により水が酸素と水素に分解され、発生した酸素及び水素が耐久性悪化の原因となる。また水が陰極と反応することも耐久性悪化の原因となる。水分を取り除く方法として封止素子内に乾燥剤を入れる方法が提案されているが（特開平９−１４８０６６号）、この方法では雰囲気内の水分を取り除くことはできるが、基板や有機層内の水分は除去できない。また特開２００２−８８５２号は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を発光素子の封止空間に設置することを提案している。しかしこれらの金属は水分や酸素に対して非常に反応性が高いため不安定であり、安定した耐久性は得られない。それ故に本分野では封止空間をできるだけ無くし、かつ素子内の水分を徹底的に除去する方法が強く望まれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明は、フルカラ−ディスプレイ、バックライト、照明光源等の面光源や、プリンタ−等の光源アレイなどに有効に利用でき、耐久性と発光輝度に優れた発光素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、（ａ）　陰極と陰極基板との間に還元性を有する酸化物等を含有する水分及び／又は酸素の吸収層を設けることにより、耐久性及び発光輝度に優れた発光素子が得られること、及び（ｂ）　陰極と陰極基板との間に水分及び／又は酸素の吸収層を積層した部分積層体を作製した後、残余の層を貼り合わせることにより、上記構造の発光素子を効率よく製造できることを発見し、本発明に想到した。
【０００５】
本発明の上記課題は、以下の手段により達成された。
（１）陽極基板、陽極、発光層を含む少なくとも一層の有機層、陰極及び陰極基板をこの順に有する発光素子であって、陰極基板と陰極の間に水分及び／又は酸素の吸収層を有する発光素子である。
（２）前記積層体は、前記陽極と前記有機層との間、前記有機層と前記陰極との間、及び前記有機層の間から選ばれる少なくとも一つに貼り合わせ構造を有することを特徴とする請求項１に記載の発光素子である。
（３）前記水分及び／又は酸素の吸収層が還元性金属酸化物からなることを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の発光素子である。
（４）前記還元性金属酸化物がＳｉＯ、ＧｅＯ、ＳｎＯ及びＦｅＯからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする前記（３）に記載の発光素子である。
（５）前記水分及び／又は酸素の吸収層が、仕事関数が４．０　ｅＶ以下の金属又は合金からなることを特徴とする前記（１）〜（４）のいずれかに記載の発光素子である。
（６）　陽極基板、陽極、発光層を含む少なくとも一層の有機層、陰極及び陰極基板をこの順に有する積層体からなる発光素子の製造方法であって、陰極と陰極基板との間に水分及び／又は酸素の吸収層を有し、（ａ）陽極基板及び陽極を含む部分積層体と、陰極基板、水分及び／又は酸素の吸収層、陰極及び有機層を含む部分積層体、（ｂ）陽極基板、陽極及び有機層を含む部分積層体と、陰極基板、水分及び／又は酸素の吸収層及び陰極を含む部分積層体、又は（ｃ）陽極基板、陽極及び有機層の一部を含む部分積層体と、陰極基板、水分及び／又は酸素の吸収層、陰極及び有機層の他の部分を含む部分積層体、とを貼り合わせて積層体を作製する工程を含むことを特徴とする発光素子の製造方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明の発光素子は陽極基板上に陽極、発光層を含む少なくとも一層の有機層、陰極及び陰極基板からなる発光素子であって、陰極基板と陰極との間に水分及び／又は酸素吸収層を有する発光素子である。
【０００７】
図１は本発明における発光素子の一例を示す概略図である。図１において、１は陽極基板、２は陽極、３は有機層、４は陰極、５は水分及び／又は酸素の吸収層、６は陰極基板を示す。水分及び／又は酸素の吸収層５は、陰極基板と陰極の間に設置される。以下本発明の発光素子の構成を詳細に説明する。
【０００８】
［１］水分及び／又は酸素の吸収層
（ａ）材料
本発明の水分及び／又は酸素の吸収層に用いられる材料は、還元性金属酸化物、又は仕事関数が４．０　ｅＶ以下の金属若しくは合金であるのが好ましい。
【０００９】
「還元性金属酸化物」とは、酸素と結合する原子が、原子価よりも小さい酸化数をもつ酸化物を示す。水分及び／又は酸素の吸収層に利用する還元性を有する酸化物としては、例えばＳｉＯ、ＧｅＯ、ＳｎＯ、ＦｅＯ、ＭｎＯ、ＷＯを挙げることができ、ＳｉＯ、ＧｅＯ、ＳｎＯ、ＦｅＯが好ましい。
【００１０】
仕事関数が４．０　ｅＶよりも小さい金属又は合金としては、例えばＣａ、Ｃｅ、Ｃｓ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｈｆ、Ｋ、Ｌａ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｎｄ、Ｒｂ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｙ、Ｙｂ、Ｚｎ等の金属やこれらの金属を主成分とする合金を挙げることができる。中でも入手のし易さや取り扱いやすさの点から、Ｃａ、Ｌｉ、Ｍｇ又はこれらの合金が特に好ましい。
【００１１】
水分及び／又は酸素の吸収層の材料として、還元性を有する酸化物と仕事関数が４．０　ｅＶよりも小さい金属又は合金を併用してもよい。併用する場合、水分及び／又は酸素の吸収層を多層化してもよいし、一層吸収層の中に両者を分散させても良い。
【００１２】
（ｂ）設置方法
水分及び／又は酸素の吸収層５は、陰極基板６と陰極４の間に設置される。このような構造にすることにより、基板に含まれる水分及び／又は酸素、並びに素子に侵入してきた水分及び／又は酸素を効率よく吸収でき、発光素子の耐久性や輝度を向上させることができる。
【００１３】
水分及び／又は酸素の吸収層の設置方法は特に限定されないが、蒸着法又はスパッタ法が好ましく、陰極の設置法と同じ方法が好ましい。陰極の設置法と同じ方法で水分及び／又は酸素の吸収層を設置することにより、水分及び／又は酸素の吸収層を設置した後、連続して陰極を設置することができ、工程を簡略化することができる。水分及び／又は酸素の吸収層と、陰極又は陰極基板との間に、絶縁層等の中間層を設けてもよい。
【００１４】
水分及び／又は酸素吸収層の厚みは特に限定されず、発光素子の耐久性を向上させるのに十分な量の水分及び／又は酸素を吸収する、還元性を有する酸化物及び／又は仕事関数が４．０　ｅＶよりも小さい金属若しくは合金が含まれていればよい。一般的には、１０　ｎｍ以上１μｍ以下であるのが好ましく、５０　ｎｍ以上５００　ｎｍ以下であるのがより好ましい。吸収層の厚みがこれよりも薄いと水分吸収能力が十分でないので好ましくない。またこれよりも厚いと、製膜に時間がかかる他、陰極基板や陰極と吸収層との剥離等の問題が生じ易いので好ましくない。
【００１５】
［２］　発光素子の層構成
本発明の発光素子は、少なくとも陽極基板、陽極、有機層、陰極、水分及び／又は酸素の吸収層（以下「水分・酸素吸収層」という。）及び陰極基板を有する層構成を有する。有機層は、少なくとも一層の発光層を有する他、電子輸送層、正孔輸送層等を有するのが好ましい。貼り合わせ位置（／／）は陽極基板／陽極／／有機層／陰極／水分・酸素吸収層／陰極基板、陽極基板／陽極／有機層／／陰極／水分・酸素吸収層／陰極基板であってもよく、また有機層同士を貼り合わせても良い。有機層は貼り合わせを向上させるために、後述するポリマーバインダー（バインダー樹脂）を含有しても良い。以下は、有機層同士を貼り合わせる場合について具体的に説明する。
【００１６】
図２〜図５に本発明に用いられる有機層３の一例の概略図を示す。図２は有機層３が発光層７のみからなる例を示す概略図である。この場合の貼り合わせ位置は陽極基板／陽極／発光層／／発光層／陰極／水分・酸素吸収層／陰極基板であってもよい。図３は有機層３が発光層７、電子輸送層８の二層からなる例を示す概略図である。この場合の貼り合わせ位置は、陽極基板／陽極／発光層／／電子輸送層／陰極／水分・酸素吸収層／陰極基板であってもよい。図４は有機層３が正孔輸送層９、発光層７の二層からなる例を示す概略図である。この場合の貼り合わせ位置は、陽極基板／陽極／正孔輸送層／／発光層／陰極／水分・酸素吸収層／陰極基板であってもよい。
【００１７】
図５は有機層３が正孔輸送層９、発光層７及び電子輸送層８の三層からなる例を示す概略図である。この場合の貼り合わせ位置は、陽極基板／陽極／正孔輸送層／／発光層／電子輸送層／陰極／水分・酸素吸収層／陰極基板であってもよく、陽極基板／陽極／正孔輸送層／発光層／／電子輸送層／陰極／水分・酸素吸収層／陰極基板であってもよい。
【００１８】
［３］製造方法
本発明の発光素子の製造方法は、（ａ）　陽極上に残余の層（有機層、陰極、水分・酸素吸収層及び陰極基板）を貼り合わせるか、（ｂ）　陰極上に残余の層（有機層、陽極及び陽極基板）を貼り合わせるか、（ｃ）　陽極及び陰極上にそれぞれ有機層を製膜して、有機層同士を貼り合わせる。（ｃ）　の場合、有機層のどの層間を貼り合わせるかは適宜選択することができる。貼り合わせ法を用いることにより、貼り合わせ界面に余分な封止空間ができず、耐久性が向上するという利点が得られるだけでなく、大面積の発光素子を安価に効率よく作製することができる。貼り合わせ法としては、２つの層の界面を密着、圧着、融着等により接合する方法が挙げられる。貼り合わせる際に加熱及び／又は加圧を施すのが好ましい。加熱及び加圧を単独で行っても良いし、これらを組合せても良い。
【００１９】
加熱手段としては、一般的な方法を用いることができ、例えばラミネータ、赤外線ヒータ、ローラーヒータ、レーザ、熱ヘッド等を用いることができる。大面積の貼り合わせを行う場合、面状加熱手段が好ましく、ラミネータ、赤外線ヒータ、ローラーヒータ等がより好ましい。貼り合わせ温度は特に限定的されず、有機層の材質や加熱部材によって変更することができる。一般的には、４０〜２５０℃が好ましく、５０〜２００℃がより好ましく、６０〜１８０℃が特に好ましい。ただし好ましい貼り合わせ温度は、加熱部材、材料及び基板の耐熱性に関係しており、耐熱性が向上すればそれに伴って変化する。
【００２０】
加圧手段は特に限定されないが、ガラス等の歪により破壊されやすい基板を用いる場合は、均一に加圧できるものが好ましい。例えば片方又は両方をゴムにした対ローラを用いるのが好ましく、具体的にはラミネータ（ファーストラミネータＶＡ−４００ＩＩＩ（大成ラミネータ（株）製）等）、熱転写プリント用の熱ヘッド等を用いることができる。
【００２１】
［４］各層の材料
以下、本発明の発光素子に用いられる材料について詳細に説明する。
（ａ）陽極基板
本発明で使用する陽極基板の具体例としては、ジルコニア安定化イットリウム（ＹＳＺ）、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリブチレンフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステルやポリスチレン、ポリカ−ボネ−ト、ポリエ−テルスルホン、ポリアリレ−ト、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ（クロロトリフルオロエチレン）、ポリイミド、等の有機材料が挙げられる。有機材料の場合、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
【００２２】
陽極基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、前記形状としては、板状である。前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、２以上の部材で形成されていてもよい。
【００２３】
陽極基板は、無色透明であってもよいし、不透明であってもよい。陽極基板には、その表面又は裏面（前記透明陽極側）に透湿防止層（ガスバリア層）を設けることができる。前記透湿防止層（ガスバリア層）の材料としては、窒化珪素、酸化珪素などの無機物が好適に用いられる。該透湿防止層（ガスバリア層）は、例えば、高周波スパッタリング法などにより形成することができる。陽極基板には、さらに必要に応じて、ハ−ドコ−ト層、アンダ−コ−ト層などを設けてもよい。
【００２４】
陽極基板はその熱線膨張係数が２０　ｐｐｍ／℃以下であるのが好ましい。熱膨張係数は、一定速度で加熱し、試料の長さの変化を検知する方法で測定され、主にＴＭＡ法により測定される。熱線膨張係数が２０　ｐｐｍ／℃よりも大きいと、貼合せ工程や使用時の熱等で電極や有機層の剥がれの原因となり、耐久性悪化の原因となる。
【００２５】
陽極基板の水分透過率は０．１　ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるのが好ましく、０．０５　ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるのがより好ましく、０．０１　ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるのが特に好ましい。また、酸素透過率は０．１　ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であるのが好ましく、０．０５　ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であるのがより好ましく、０．０１　ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であるのが特に好ましい。水分透過率はＪＩＳ　Ｋ７１２９；１９９２法に準拠した方法（主としてＭＯＣＯＮ法）により測定できる。酸素透過率はＪＩＳ　Ｋ７１２６；１９８７法に準拠した方法（主としてＭＯＣＯＮ法）により測定できる。このようにすることにより、発光素子内に耐久性悪化の原因となる水分や酸素の侵入を防ぐことが可能となる。
【００２６】
（ｂ）陽極
前記陽極としては、通常、有機層に正孔を供給する陽極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極の中から適宜選択することができる。
【００２７】
前記陽極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、有機導電性化合物、またはこれらの混合物を好適に挙げられ、仕事関数が４．０　ｅＶ以上の材料が好ましい。具体例としては、アンチモンやフッ素等をド−プした酸化錫（ＡＴＯ、ＦＴＯ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の半導性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、前記半導性金属酸化物または金属化合物の分散物、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロ−ルなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられる。
【００２８】
前記陽極は例えば、本発明においては真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理的方式、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の化学的方式、などの中から前記材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って基板又は有機層上に形成することができる。例えば、前記陽極の材料として、ＩＴＯを選択する場合には、該陽極の形成は、直流あるいは高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレ−ティング法等に従って行うことができる。
【００２９】
なお、前記陽極のパタ−ニングは、フォトリソグラフィ−などによる化学的エッチングにより行ってもよいし、レ−ザ−などによる物理的エッチングにより行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法により行ってもよい。
【００３０】
前記陽極の厚みとしては、前記材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常１０　ｎｍ〜５０　μｍであり、５０　ｎｍ〜２０　μｍが好ましい。前記陽極の抵抗値としては、１０６Ω／□以下が好ましく、１０５Ω／□以下がより好ましい。１０５Ω／□以下の場合、本発明のバスライン電極を設置することにより性能の優れた大面積発光素子を得ることができる。前記陽極は、無色透明であっても、有色透明であってもよく、該陽極側から発光を取り出すためには、その透過率としては６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。この透過率は分光光度計を用いた公知の方法に従って測定することができる。
【００３１】
（ｃ）陰極基板
本発明で使用する陰極基板の具体例としては、ジルコニア安定化イットリウム（ＹＳＺ）、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリブチレンフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステルやポリスチレン、ポリカ−ボネ−ト、ポリエ−テルスルホン、ポリアリレ−ト、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ（クロロトリフルオロエチレン）、ポリイミド、等の有機材料が挙げられる。有機材料の場合、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
【００３２】
陰極基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、前記形状としては、板状である。前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また単一部材で形成されていてもよいし、２以上の部材で形成されていてもよい。
【００３３】
陰極基板は、無色透明であってもよいし、不透明であってもよい。陰極基板が不透明である場合には、金属箔の片面又は両面に絶縁層を設けた基板支持体が好ましい。金属箔は特に限定されず、アルミニウム箔、銅箔、ステンレス箔、金箔、銀箔等の金属箔を用いることができる。中でも加工の容易さ及びコストの観点からアルミ箔又は銅箔が好ましい。絶縁層は特に限定的でなく、例えば無機酸化物や無機窒化物等の無機物や、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリルジグリコールカーボネート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ（クロロトリフルオロエチレン）、ポリイミド等のプラスチックにより形成することができる。
【００３４】
陰極基板はその熱線膨張係数が２０　ｐｐｍ／℃以下であるのが好ましい。熱膨張係数は、一定速度で加熱し、試料の長さの変化を検知する方法で測定され、主にＴＭＡ法により測定される。熱線膨張係数が２０　ｐｐｍ／℃よりも大きいと、貼合せ工程や使用時の熱等で電極や有機層の剥がれの原因となり、耐久性悪化の原因となる。
【００３５】
陰極基板に設けた絶縁層の熱線膨張係数も２０　ｐｐｍ／℃以下であるのが好ましい。熱線膨張係数が２０　ｐｐｍ／℃以下の絶縁層を形成する材料としては、酸化珪素、酸化ゲルマニウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化銅等の金属酸化物や、窒化珪素、窒化ゲルマニウム、窒化アルミニウム等の金属窒化物が好ましく、これらを一種又は二種以上を組合せて用いることができる。金属酸化物及び／又は金属窒化物の無機絶縁層の厚さは１０〜１０００　ｎｍであるのが好ましい。無機絶縁層が１０　ｎｍより薄いと絶縁性が低すぎる。また。無機絶縁層が１０００　ｎｍより厚いとクラックが生じやすくなり、ピンホ−ルができて絶縁性が低下する。金属酸化物及び／又は金属窒化物の絶縁層を製膜する方法は限定的でなく、蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の乾式法や、ゾル−ゲル法等の湿式法、又は金属酸化物及び／又は金属窒化物の粒子を溶剤に分散し塗布する方法等を利用することができる。
【００３６】
熱線膨張係数が２０　ｐｐｍ以下のプラスチック材料としては、特にポリイミドや液晶ポリマーが好ましく用いることができる。これらのプラスチック材料の性質等の詳細については「プラスチック・データブック」（旭化成アミダス（株）「プラスチック」編集部編）等に記載されている。ポリイミド等を絶縁層として用いる場合にはポリイミド等のシートとアルミ箔を積層するのが好ましい。ポリイミド等のシートの厚さは１０〜２００μｍであるのが好ましい。ポリイミド等のシートの厚さが１０μｍより薄いと積層時のハンドリングが困難になる。またポリイミド等のシートの厚さが２００μｍよりも厚いと可撓性が損なわれ、ハンドリングが不便になる。絶縁層は金属箔の片面だけに設けても良いが、両面に設けても良い。両面に設ける場合、両面とも金属酸化物及び／又は金属窒化物であっても良く、また両面ともポリイミドのようなプラスチック絶縁層であっても良い。また一方の片面が金属酸化物及び／又は金属窒化物からなる絶縁層であり、他方の片面がポリイミドシート絶縁層であっても良い。さらに必要によりハードコート層やアンダーコート層を設けても良い。
【００３７】
陰極基板の水分透過率は０．１　ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるのが好ましく、０．０５　ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるのがより好ましく、０．０１　ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるのが特に好ましい。また、酸素透過率は０．１　ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であるのが好ましく、０．０５　ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であるのがより好ましく、０．０１　ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であるのが特に好ましい。水分透過率はＪＩＳ　Ｋ７１２９；１９９２法に準拠した方法（主としてＭＯＣＯＮ法）により測定できる。酸素透過率はＪＩＳ　Ｋ７１２６；１９８７法に準拠した方法（主としてＭＯＣＯＮ法）により測定できる。このようにすることにより、発光素子内に耐久性悪化の原因となる水分や酸素の侵入を防ぐことが可能となる。このような材料として、前記と同様の材料を用いることができる。
【００３８】
（ｄ）陰極
前記陰極としては、通常、前記有機層に電子を注入する陰極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて公知の電極の中から適宜選択することができる。
【００３９】
前記陰極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられ、仕事関数が４．５　ｅＶ以下のものが好ましい。具体例としてはアルカリ金属（たとえば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ等）、アルカリ土類金属（たとえばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属、などが挙げられる。これらは、単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、２種以上を好適に併用することができる。
【００４０】
これらの中でも、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。前記アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、又はアルミニウムと０．０１〜１０重量％のアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属との合金若しくは混合物（例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など）をいう。
【００４１】
なお、前記陰極の材料については、特開平２−１５５９５号公報、特開平５−１２１１７２号公報に詳述されている。
【００４２】
前記陰極の形成法は、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができるが、本発明においては真空機器内でおこなう。例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理的方式、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の化学的方式、などの中から前記材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って前記基板上に形成することができる。例えば、前記陰極の材料として、金属等を選択する場合には、その１種又は２種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って行うことができる。
【００４３】
なお陰極のパタ−ニングは、フォトリソグラフィ−などによる化学的エッチングにより行ってもよいし、レ−ザ−などによる物理的エッチングにより行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法により行ってもよい。
【００４４】
また前記陰極と前記有機層との間に前記アルカリ金属又は前記アルカリ土類金属のフッ化物等による誘電体層を０．１〜５ｎｍの厚みで挿入してもよい。なお、該誘電体層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等により形成することができる。
【００４５】
前記陰極の厚みとしては、前記材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常１０　ｎｍ〜５μｍであり、５０　ｎｍ〜１μｍが好ましい。
【００４６】
（ｅ）有機層
本発明において、前記有機層は、少なくとも発光層を含む一層以上の有機層からなる。なお本明細書において、「誘導体」という用語はその化合物自身及びその誘導体を意味する。
【００４７】
（Ａ）有機層の構成
具体的な層構成としては、発光層のみの単層構成、発光層／電子輸送層、正孔輸送層／発光層、正孔輸送層／発光層／電子輸送層、／発光層／電子輸送層／電子注入層、正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層、等の多層構成をとることができる。
【００４８】
（Ｂ）発光層
本発明に用いられる発光層は、少なくとも一種の発光材からなり、必要に応じて正孔輸送材、電子輸送材、ホスト材を含んでも良い。発光材としては特に限定されることはなく、蛍光発光性化合物または燐光発光性化合物であれば用いることができる。例えば蛍光発光性化合物としては、ベンゾオキサゾ−ル誘導体、ベンゾイミダゾ−ル誘導体、ベンゾチアゾ−ル誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリデン化合物、８−キノリノ−ル誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物等が挙げられる。これらは一種もしくは二種以上を混合して用いることができる。
【００４９】
燐光発光性化合物としては特に限定されることはないが、オルトメタル化金属錯体、又はポルフィリン金属錯体が好ましい。
【００５０】
前記オルトメタル化金属錯体とは、例えば山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」１５０頁、２３２頁、裳華房社（１９８２年発行）やＨ．　Ｙｅｒｓｉｎ著「Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎｄ　Ｐｈｏｔｏｐｈｉｓｉｃｓ　ｏｆ　Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」７１〜７７頁、１３５〜１４６頁、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ社（１９８７年発行）等に記載されている化合物群の総称である。該オルトメタル化金属錯体を含む前記有機層は、高輝度で発光効率に優れる点で有利である。
【００５１】
前記オルトメタル化金属錯体を形成する配位子としては、種々のものがあり、上記文献にも記載されているが、その中でも好ましい配位子としては、２−フェニルピリジン誘導体、７，８−ベンゾキノリン誘導体、２−（２−チエニル）ピリジン誘導体、２−（１−ナフチル）ピリジン誘導体、２−フェニルキノリン誘導体等が挙げられる。これらの誘導体は必要に応じて置換基を有しても良い。前記オルトメタル化金属錯体は、前記配位子のほかに、他の配位子を有していてもよい。
【００５２】
本発明で用いるオルトメタル化金属錯体は、Ｉｎｏｒｇ．　Ｃｈｅｍ．　１９９１年，　３０号，　１６８５頁．，同　１９８８年，　２７号，　３４６４頁．，同　１９９４年，　３３号，　５４５頁．，Ｉｎｏｒｇ．　Ｃｈｉｍ．　Ａｃｔａ　１９９１年，１８１号，　２４５頁．，Ｊ．　Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．　Ｃｈｅｍ．　１９８７年，３３５号，２９３頁．，Ｊ．　Ａｍ．　Ｃｈｅｍ．　Ｓｏｃ．　１９８５年，　１０７号，　１４３１頁．等、種々の公知の手法で合成することができる。前記オルトメタル化錯体の中でも、三重項励起子から発光する化合物が本発明においては発光効率向上の観点から好適に使用することができる。また、ポルフィリン金属錯体の中ではポルフィリン白金錯体が好ましい。前記燐光発光性の化合物は単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、前記蛍光発光性化合物と燐光発光性化合物を同時に用いても良い。本発明においては、発光輝度、発光効率の点から、前記燐光発光性化合物を用いることが好ましい。
【００５３】
前記正孔輸送材としては、低分子正孔輸送材、高分子正孔輸送材いずれも用いることができ、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているもので有れば限定されることはなく、例えば以下の材料を挙げることができる。カルバゾ−ル誘導体、トリアゾ−ル誘導体、オキサゾ−ル誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、イミダゾ−ル誘導体、ポリアリ−ルアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリ−ルアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリデン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾ−ル）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマ−、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマ−、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５４】
前記正孔輸送材の前記発光層における含有量としては０〜９９．９重量％が好ましく、さらに好ましくは０〜８０重量％である。前記電子輸送材としては電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれかを有しているもので有れば制限されることはなく例えば以下の材料を挙げることができる。トリアゾ−ル誘導体、オキサゾ−ル誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノ−ル誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾ−ルやベンゾチアゾ−ルを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマ−、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマ−、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物を挙げることができる。前記電子輸送材の前記発光層における含有量としては０〜９９．９重量％が好ましく、さらに好ましくは０〜８０重量％である。
【００５５】
前記ホスト化合物とは、その励起状態から前記蛍光発光性化合物または燐光発光性の化合物へエネルギ−移動が起こり、その結果、該蛍光発光性または燐光発光性の化合物を発光させる機能を有する化合物のことである。前記ホスト材としては励起子エネルギ−を発光材にエネルギ−移動できる化合物ならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、具体的にはカルバゾ−ル誘導体、トリアゾ−ル誘導体、オキサゾ−ル誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、イミダゾ−ル誘導体、ポリアリ−ルアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリ−ルアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリデン系化合物、ポルフィリン系化合物、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノ−ル誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾ−ルやベンゾチアゾ−ルを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾ−ル）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマ−、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマ−、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物等が挙げられる。
【００５６】
前記ホスト化合物は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。前記ホスト化合物の前記発光層における含有量としては０〜９９．９重量％が好ましく、さらに好ましくは０〜９９．０重量％である。
【００５７】
前記その他の成分としては、特に本発明においては発光層には必要に応じて、電気的に不活性なポリマ−バインダ−を用いることができる。必要に応じて用いられる電気的に不活性なポリマ−バインダ−としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカ−ボネ−ト、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリブチルメタクリレ−ト、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロ−ス、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルブチラ−ル、ポリビニルアセタ−ル等を挙げることができる。前記発光層が前記ポリマ−バインダ−を含有していると、該発光層を湿式製膜法により容易にかつ大面積に塗布形成することができる点で有利である。
【００５８】
（Ｃ）他の有機層
本発明においては、必要に応じて他の有機層を設けてもよい。例えば陽極と発光層の間に正孔注入層、正孔輸送層、発光層と陰極との間に電子輸送層や電子注入層を設けてもよい。正孔輸送層、正孔注入層には、前記正孔輸送材が、電子輸送層、電子注入層には前記電子輸送材が好適に用いられる。
【００５９】
（Ｄ）有機層の形成
前記有機層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、ディッピング、スピンコ−ト法、ディップコ−ト法、キャスト法、ダイコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、バ−コ−ト法、グラビアコ−ト法等の湿式製膜法、転写法、印刷法いずれも好適に製膜することができる。
【００６０】
なかでも、前記湿式製膜法による塗布形成の場合、前記有機層を容易に大面積化することができ、高輝度で発光効率に優れた発光素子が低コストで効率よく得られる点で有利である。なおこれらの製膜法の種類は、有機層の材料に応じて適宜選択することができる。前記湿式製膜法により製膜した場合は、製膜した後、適宜乾燥を行うことができ、該乾燥の条件としては特に制限はないが、塗布形成した層が損傷しない範囲の温度等を採用することができる。
【００６１】
前記有機層を前記湿式製膜法で塗布形成する場合、該有機層には、バインダ−樹脂を添加することができる。この場合、バインダ−樹脂としてはポリ塩化ビニル、ポリカ−ボネ−ト、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリブチルメタクリレ−ト、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロ−ス、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルブチラ−ル、ポリビニルアセタ−ルなどが挙げられる。これらは単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６２】
前記有機層を湿式製膜法により塗布形成する場合、該有機層の材料を溶解して塗布液を調整する際に用いられる溶剤としては、特に制限はなく、前記正孔輸送材、前記オルトメタル化錯体、前記ホスト材、前記ポリマ−バインダ−等の種類に応じて適宜選択することができ、例えば、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ｎ−プロピルメチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン形容剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ｎ　−プロピル、酢酸ｎ　−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−ブチロラクトン、炭酸ジエチル等のエステル系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ−テル系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。
【００６３】
なお、前記塗布液における固形分量溶剤に対する固形分量としては、特に制限はなく、その粘度も湿式製膜方法に応じて任意に選択することができる。
【００６４】
また転写法を用いることにより、他の層との混合や溶解を避けることができ、効率的に有機層を多層化することができる。転写法とは仮支持体に有機層を形成した複数の転写材料を用いて、剥離転写法により基板上に有機層を転写する工程を含む方法である。剥離転写法は、転写材料を加熱及び／又は加圧することにより有機薄膜層を軟化させて、基板の被成膜面に接着させた後、仮支持体を剥離することにより有機層だけを被成膜面に残留させる転写方法である。加熱法、加圧法については前記貼り合わせ法で用いた方法と同じ方法を用いることができる。
【００６５】
（ｆ）その他の層
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護層などが挙げられる。前記保護層としては、例えば特開平７−８５９７４号公報、同７−１９２８６６号公報、同７−２２８９１号公報、同１０−２７５６８２号公報、同１０−１０６７４６号公報等に記載のものが好適に挙げられる。前記保護層の形状、大きさ、厚み等については、適宜選択することができ、その材料としては、水分や酸素等の発光素子を劣化させ得るものを該発光素子内に侵入乃至透過させるのを抑制する機能を有していれば特に制限はなく、例えば酸化珪素、二酸化珪素、酸化ゲルマニウム、二酸化ゲルマニウム、等が挙げられる。
【００６６】
前記保護層の形成方法としては、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子センエピタキシ法、クラスタ−イオンビ−ム法、イオンプレ−ティング法、プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レ−ザ−ＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コ−ティング法、などが挙げられる。
【００６７】
本発明の発光素子は、前記陽極と前記陰極との間に直流（必要に応じて交流成分を含んでもよい）電圧（通常２ボルト〜４０ボルト）、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。本発明の発光素子の駆動については、特開平２−１４８６８７号、同６−３０１３５５号、同５−２９０８０号、同７−１３４５５８号、同８−２３４６８５号、同８−２４１０４７号、米国特許５８２８４２９号、同６０２３３０８号、日本特許第２７８４６１５号等に記載の方法を利用することができる。
【００６８】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【００６９】
実施例１
陰極基板／水分・酸素吸収層／陰極／電子輸送層／発光層／／正孔輸送層／陽極／陽極基板　素子の作製
（Ａ）　積層体Ａ（陰極基板／水分・酸素吸収層／陰極／電子輸送層）の作製
Ａｌ箔（３０μｍ）の両面に厚み５０μｍのポリイミドシ−ト（ユ−ピレックス５０Ｓ、宇部興産（株）製）を両面にラミネ−トし、これを２５　ｍｍ×２５　ｍｍに裁断したものを陰極基板として使用した。この陰極基板を洗浄容器に入れ、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）により洗浄した後、酸素プラズマ処理を行った。次にパターニングした蒸着用のマスク（発光面積が５ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、約０．１　ｍＰａの減圧雰囲気中でＳｉＯを蒸着し、膜厚０．１μｍの水分、酸素吸収層を製膜した。続いて約０．１　ｍＰａの減圧雰囲気中でＡｌを蒸着し、膜厚０．２μｍの陰極を形成した。更に電子注入材としてＬｉＦをＡｌ層と同パターンで蒸着し、膜厚３ｎｍの電子注入層を製膜した。次に、上記マスクを取り除き、約０．１　ｍＰａの減圧雰囲気中で下記構造を有する電子輸送材を蒸着し、厚さ３６　ｎｍの電子輸送層を製膜した。
【００７０】
【化１】
2004079301.tif 000003
【００７１】
（Ｂ）積層体Ｂ（陰極基板／水分・酸素吸収層／陰極／電子輸送層／発光層）の作製
厚さ１８８μｍのポリエーテルスルホン（住友ベークライト（株）製）からなる仮支持体の片面上に、下記組成：
ポリビニルカルバゾール（Ｍｗ＝　６３０００、アルドリッチ社製）：　４０質量部
トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム錯体（オルトメタル化錯体）：　１質量部
ジクロロエタン：　３２００質量部
を有する発光性有機薄膜層用塗布液を、スピンコータを用いて塗布し室温で乾燥することにより、厚さ４０　ｎｍの発光層を仮支持体上に形成した。この仮支持体上に設けた発光層を、上記で作製した積層体Ａの電子輸送層面に重ね、一対の熱ローラを用い１６０℃に加熱し、０．３　ｍＰａに加圧して、０．０５　ｍ／ｍｉｎでローラを移動させて、仮支持体を引き剥がすことにより、積層体Ａの電子輸送層側に発光層を転写して積層体Ｂを作製した。
【００７２】
（Ｃ）積層体Ｃ（陽極基板／陽極／正孔輸送層）の作製
０．７　ｍｍ×２５　ｍｍ×２５　ｍｍのガラス板を陽極基板とし、この陽極基板を真空チャンバー内に入れ、ＳｎＯ２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝　９５：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング（条件：基板支持体の温度２５０℃、酸素圧１×１０−３　Ｐａ）により、厚さ０．２μｍのＩＴＯ薄膜からなる陽極を形成した。該陽極の表面抵抗は１０Ω／□であった。この陽極を形成した陽極基板を洗浄容器に入れ、イソプロピルアルコールにより洗浄した後、酸素プラズマ処理を行った。処理した透明電極の表面に、下記組成：
下記構造で表されるホール輸送性化合物（ＰＴＰＤＥＳ）：　４０質量部
【００７３】
【化２】
2004079301.tif 000004
【００７４】
下記構造式で表される添加剤（ＴＢＰＡ）：　１０質量部
【００７５】
【化３】
2004079301.tif 000005
【００７６】
ジクロロエタン：　３２００質量部
をスピンコートした後、室温で乾燥し、厚さ１００　ｎｍのホール輸送層を製膜し、積層体Ｃを作製した。
【００７７】
（Ｄ）陰極基板／水分・酸素吸収層／陰極／電子輸送層／発光層／／正孔輸送層／陽極／陽極基板　発光素子の作製
上記で得られた積層体Ｂの発光層および積層体Ｃの正孔輸送層が対面するように重ね合せ、一対の熱ローラを用い１６０℃に加熱し、０．３　ｍＰＡに加圧し、０．０５　ｍ／ｍｉｎでローラを移動させて、貼り合わせることにより本発明の発光素子を作製した。
【００７８】
（Ｅ）発光素子の評価
（Ｄ）で作製した発光素子を以下の方法で評価した。東洋テクニカ（株）製ソ−スメジャ−ユニット２４００型を用いて、直流電圧を有機ＥＬ素子に印加し発光させた。その時の最高輝度をＬｍａｘ、Ｌｍａｘが得られた時の電圧をＶｍａｘとした。さらに２００　ＣＤ／ｍ２時の発光効率（η２００）を測定した。またこの発光素子を９５℃、９５％ＲＨの条件で、３０日保存後のＬｍａｘ、Ｖｍａｘ、η２００を測定した。
【００７９】
実施例２
水分・酸素吸収層に用いる材料としてＧｅＯを使用した以外は実施例１と同様にして発光素子を作製し、評価した。
【００８０】
実施例３
実施例１において、水分・酸素吸収層に用いる材料としてＳｎＯを使用した以外は実施例１と同様にして発光素子を作製し、評価した。
【００８１】
実施例４
水分・酸素吸収層に用いる材料としてＦｅＯを使用した以外は実施例１と同様にして、発光素子を作製し、評価した。
【００８２】
実施例５
水分・酸素吸収層に用いる材料としてＣａ（仕事関数３．０　ｅＶ）を使用した以外は実施例１と同様にして発光素子を作製し、評価した。
【００８３】
実施例６
水分・酸素吸収層に用いる材料としてＬｉ（仕事関数２．９　ｅＶ）を使用した以外は実施例１と同様にして発光素子を作製し、評価した。
【００８４】
比較例１
水分・酸素吸収層を設置しない以外は実施例１と同様にして発光素子を作製し、評価した。
【００８５】
実施例１〜６及び比較例で測定したＬｍａｘ、Ｖｍａｘ及びη２００を表１に示す。比較例１の発光素子は、実施例と比較して暗点部が多く、外部量子効率も低く、耐久性も悪いものであった。
【００８６】
【表１】
2004079301.tif 000006
【００８７】
【発明の効果】
本発明によると、従来における前記諸問題を解決することができ、また本発明の発光素子は貼り合わせ構造を有することにより層間の密着性が高く、ダークスポット等の欠陥が少ない上、耐久性に優れている。本発明の発光素子の製造方法は工程が簡便であるのに加え、大面積の発光素子を容易に作成できる等の利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の発光素子の一例を示す部分断面図である。
【図２】本発明の発光素子の有機層の一例を示す部分断面図である。
【図３】本発明の発光素子の有機層の別の例を示す部分断面図である。
【図４】本発明の発光素子の有機層のさらに別の例を示す部分断面図である。
【図５】本発明の発光素子の有機層のさらに別の例を示す部分断面図である。
【符号の説明】
１・・・陽極基板
２・・・陽極
３・・・有機層
４・・・陰極
５・・・水分・酸素吸収層
６・・・陰極基板
７・・・発光層
８・・・電子輸送層
９・・・正孔輸送層
【図１】
2004079301.tif 000007
【図２】
2004079301.tif 000008
【図３】
2004079301.tif 000009
【図４】
2004079301.tif 000010
【図５】
2004079301.tif 000011