(57)【要約】【課題】既存の熱硬化型塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂を電子線感応変性することにより、磁気記録媒体用途に好適に使用可能な高い架橋性を有する磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を提供すること、既存の熱硬化型樹脂から容易に架橋性の高い電子線硬化型樹脂を得ることができるかかる電子線硬化型樹脂の製造方法を提供すること、かかる電子線硬化型樹脂を用いることで高性能の磁気記録媒体を提供することである。【解決手段】分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の活性水素基に、１分子内にイソシアネート基とラジカル重合性不飽和二重結合を持つ化合物を反応させてなり、反応の際に、反応系の水分量が樹脂に対して０．０５〜０．５質量％に調整されている。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の該活性水素基に、１分子内にイソシアネート基とラジカル重合性不飽和二重結合を持つ化合物を反応させてなり、該反応の際に、反応系の水分量が前記樹脂に対して０．０５〜０．５質量％に調整されていることを特徴とする磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂。
【請求項２】
前記ラジカル重合性不飽和二重結合が（メタ）アクリル基に含まれるものである請求項１記載の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂。
【請求項３】
請求項１または２記載の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を製造するにあたり、分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の該活性水素基に、１分子内にイソシアネート基とラジカル重合性不飽和二重結合を持つ化合物を反応させ、該反応の際に、反応系の水分量を前記樹脂に対して０．０５〜０．５質量％に調整することを特徴とする磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂の製造方法。
【請求項４】
前記ラジカル重合性不飽和二重結合が（メタ）アクリル基に含まれるものである請求項３記載の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂の製造方法。
【請求項５】
非磁性支持体上に、請求項１または２記載の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を含有する層を備えることを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂、その製造方法およびそれを用いた磁気記録媒体に関し、詳しくは、磁気記録媒体用途に好適に使用可能な高い架橋性を有する電子線硬化型樹脂、一般的な熱硬化型塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂を電子線感応変性することにより架橋性の高い電子線硬化型樹脂を得るその製造方法、および、それを用いた磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より用いられている磁気記録媒体用の樹脂としては、主に熱硬化型樹脂および電子線硬化型樹脂が挙げられる。このうち熱硬化型樹脂は、樹脂中に存在する水酸基を代表とする活性水素基と、イソシアネート化合物とを反応させ、樹脂を架橋させる硬化方式を取るものであり、一方、電子線硬化型樹脂は、樹脂の分子内にアクリル二重結合に代表されるような電子線感応タイプの官能基を導入し、電子線照射により樹脂を架橋させる方法をとる。
【０００３】
一般に、磁気記録媒体に用いられる電子線硬化型樹脂としては、塩化ビニル系樹脂およびポリウレタン系樹脂が挙げられる。塩化ビニル系樹脂の場合、その電子線感応変性方法としては、水酸基を含有する熱硬化型塩化ビニル系樹脂中の当該水酸基に対し、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）と２−ヒドロキシエチルメタクリレート（２−ＨＥＭＡ）とを反応させてなるＴＤＩアダクト体を反応させる方法（特許文献１参照）や、塩化ビニル系樹脂中の水酸基に環状酸無水物を反応させ、さらにアクリル２重結合を有するエポキシモノマーを反応させる方法（特許文献２参照）、塩化ビニル系樹脂中の水酸基に２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレート（ＭＯＩ）を反応させる方法（特許文献３参照）等がある。
【０００４】
一方、ポリウレタン系樹脂の場合には、ポリウレタンを合成する際の原料の一部として分子内に水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することにより、放射線硬化型ポリウレタン系樹脂とする方法（特許文献４参照）や、ポリマーの末端がイソシアネート基であるポリウレタンを作製し、続いてアクリル２重結合を有するアルコールを反応させる方法（特許文献５参照）等が代表的である。
【０００５】
【特許文献１】
特公平１−２５１４１号公報（特許請求の範囲等）
【特許文献２】
特許第２５１４６８２号公報（特許請求の範囲等）
【特許文献３】
特開平４−６７３１４号公報（特許請求の範囲等）
【特許文献４】
特許第２６１０４６８号公報（特許請求の範囲等）
【特許文献５】
特公平３−１７２７号公報（特許請求の範囲等）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これまでの塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の電子感応変性物では、塗膜の架橋性が必ずしも十分とはいえず、また、架橋性を高めるために、かかる樹脂中の水酸基濃度を高めると、塗料の粘度が高くなるという問題があった。
【０００７】
そこで本発明の目的は、既存の熱硬化型塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂を電子線感応変性することにより、磁気記録媒体用途に好適に使用可能な高い架橋性を有する磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を提供することにある。また、本発明の他の目的は、既存の熱硬化型樹脂から容易に架橋性の高い電子線硬化型樹脂を得ることができるかかる電子線硬化型樹脂の製造方法を提供することにある。さらに、本発明の他の目的は、かかる電子線硬化型樹脂を用いることで高性能の磁気記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の該活性水素基に、１分子内にイソシアネート基とラジカル重合性不飽和二重結合を持つ化合物を所定の水分量の存在下で反応させることで、高い架橋性及び安定性を持つ電子線硬化型樹脂が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂は、分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の該活性水素基に、１分子内にイソシアネート基とラジカル重合性不飽和二重結合を持つ化合物を反応させてなり、該反応の際に、反応系の水分量が前記樹脂に対して０．０５〜０．５質量％に調整されていることを特徴とするものである。
【００１０】
また、本発明の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂の製造方法は、前記磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を製造するにあたり、分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の該活性水素基に、１分子内にイソシアネート基とラジカル重合性不飽和二重結合を持つ化合物を反応させ、該反応の際に、反応系の水分量を前記樹脂に対して０．０５〜０．５質量％に調整することを特徴とするものである。好適には、上記ラジカル重合性不飽和二重結合は、（メタ）アクリル基に含まれるものとして存在する。
【００１１】
さらに、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、前記磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を含有する層を備えることを特徴とするものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施の形態について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂は、塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂を原料とし、これを、１分子内にイソシアネート基とラジカル重合性不飽和二重結合を持つ化合物（以下、「変性用化合物」と称する）を用いて特定の水分含量の下で電子線感応変性することにより得られるものである。
【００１３】
本発明で用いられる原料の塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂は既存（汎用）のものでも新規なものでもよいが、分子内に水酸基や、１級及び２級アミンのような活性水素基を持つことが、反応を行う上で必要である。
【００１４】
このような樹脂としては特に制限されないが、具体的に塩化ビニル系樹脂としてはＭＲ１１０、ＭＲ１０４、ＭＲ１１２、ＭＲ１１３（日本ゼオン（株）製）、ソルバインＡ、ソルバインＴＡＯ、ソルバインＭＫ６（日信化学工業（株）製）等が挙げられ、また、ポリウレタン系樹脂としてはエステン５７７８Ｐ、エステン５７９９Ｐ（ＢＦ  ＧＯＯＤＲＩＣＨ社製）、ＵＲ８７００、ＵＲ８３００（東洋紡（株）製）、Ｎ−３１６７、Ｎ−３３０１、ＴＫ５０１Ｋ（日本ポリウレタン（株）製）等が挙げられる。
【００１５】
これらの樹脂の活性水素基と反応させることにより電子線感応変性を行う変性用化合物としては、前記ラジカル重合性不飽和二重結合が（メタ）アクリル基、ビニル基、メルカプト基等中に含まれるもの、特には、（メタ）アクリル基中に含まれるものが好ましく、例えば、ジイソシアネート（ＤＩ）とヒドロキシアクリレート系化合物（ＨＡ）との反応生成物（ＤＩ−ＨＡアダクト体）、ジイソシアネートのトリマーであるイソシアヌレート体（ＩＮ）とヒドロキシアクリレート系化合物（ＨＡ）との反応生成物（ＩＮ−ＨＡアダクト体）等のアダクト体が挙げられる。なお、本発明において（メタ）アクリル基とは、アクリル基とメタクリル基を総称する用語である。
【００１６】
ここで、かかるアダクト体の原料として使用されるジイソシアネート（ＤＩ）としては、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＩＤ）、２，４−トルエンジイソシアネート（２，４−ＴＤＩ）、２，６−トルエンジイソシアネート（２，６−ＴＤＩ）、１，４−キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート等が挙げられる。
【００１７】
また、アダクト体のもう一つの原料であるヒドロキシアクリレート系化合物（ＨＡ）としては、特に限定されるものではないが、具体的には２−ヒドロキシエチルアクリレート（２−ＨＥＡ）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（２−ＨＥＭＡ）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシジエチレングリコールメタクリレート、ブトキシヒドロキシプロピルアクリレート、フェノキシヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルジメタクリレート、グリシドールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。
【００１８】
これらのアダクト体と塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の活性水素とを反応させることで、かかる樹脂の電子線感応変性が行われる。反応はメチルエチルケトン（ＭＥＫ）、トルエン等の有機溶媒中で行われ、この反応の際には通常ジブチルスズジラウレート、オクチル酸スズ等のウレタン化触媒を反応物の総量１００質量部に対して０．００５〜０．１質量部用いて合成を行うことが好ましい。
【００１９】
本発明においては、かかる反応の際に、反応系の水分量を全樹脂量に対して０．０５〜０．５質量％、好ましくは０．０６〜０．３質量％に調整することが重要であり、これにより架橋性の高い電子線硬化型樹脂を得ることができる。反応系の水分量を上記範囲内に調整することにより架橋性が向上する理由としては、アダクト体が水と反応することにより、反応系に多官能のアクリルモノマーが混在することになり、架橋促進剤としての役目を果たすことが挙げられる。反応系の水分量が０．０５質量％より少ないと、架橋促進剤としての効果が不十分であり、一方、０．５質量％を超えると、さらなる架橋性の向上効果は望めず、逆にモノマー成分が多くなり過ぎることによって分散性の低下を招くことになる。この反応温度は３０〜８０℃が好ましく、より好ましくは５０〜７０℃である。
【００２０】
このようにして作製された電子線硬化型樹脂は、磁気記録媒体において、樹脂アンダーコート層、無機顔料を含むアンダーコート層、バックコート層および磁性層の結合剤として用いることができる。これらの層を総称して、以下「機能層」とも記載する。使用形態としては、かかる電子線硬化型樹脂単独でもよく、また、ポリウレタン系樹脂に代表されるような他の樹脂との混合形態で用いても構わない。
【００２１】
本発明の電子線硬化型樹脂を電子線を用いて架橋する際の照射量は、好ましくは１〜１０Ｍｒａｄであり、より好ましくは３〜７Ｍｒａｄである。また、その照射エネルギー（加速電圧）は１００ｋＶ以上とすることが好ましい。
【００２２】
本発明においては、機能層の結合剤として上記電子線硬化型樹脂を用いることにより、高い架橋性を有し、耐溶剤性に優れた機能層を備えた高性能の磁気記録媒体を得ることができる。本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、上記本発明の電子線硬化型樹脂を含有する層を備えるものであればよく、それ以外の構成材料、添加剤等には特に制限はないが、例えば、以下の材料を用いることができる。
【００２３】
非磁性支持体としては、ポリエステル、ポリアミドまたは芳香族ポリアミドなどの既知の樹脂フィルムもしくはこれらの積層樹脂フィルムから適宜選定することができ、その厚さ等についても既知の範囲内であり、特に制限されるべきものではない。
【００２４】
磁性層に用いる強磁性粉末は、好ましくは平均長軸長が０．１５μｍ以下、より好ましくは０．０３〜０．１０μｍの針状強磁性金属粉末である。平均長軸長が０．１５μｍを超えると、磁気記録媒体に要求される電磁変換特性（特に、Ｓ／ＮおよびＣ／Ｎ特性）を十分に満足することができなくなる傾向にある。また、バリウムフェライト等の六方晶形酸化鉄粉末を用いることもできる。六方晶形酸化鉄粉末の板状比は２〜７が好ましい。また、ＴＥＭ観察による平均一次板径が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。これよりも大きいと、磁性層表面が悪化する傾向にある。
【００２５】
このような強磁性粉末は、磁性層組成中に７０〜９０質量％程度含まれていればよい。強磁性粉末の含有量が多すぎると結合剤の含有量が減少するためカレンダ加工による表面平滑性が悪化しやすくなり、一方、少なすぎると高い再生出力が得られにくくなる。
【００２６】
磁性層用の結合剤樹脂としては、本発明の上記電子線硬化型樹脂の他、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、他の放射線硬化型樹脂やこれらの混合物を好適に使用することができ、特に制限されるべきものではない。
【００２７】
磁性層に用いられるこれらの結合剤樹脂の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対して５〜４０質量部、特には１０〜３０質量部が好ましい。結合剤樹脂の含有量が少なすぎると磁性層の強度が低下するため、走行耐久性が悪化しやすくなる。一方、多すぎると強磁性金属粉末の含有量が低下するため、電磁変換特性が低下してくる。
【００２８】
これらの結合剤樹脂を硬化させる架橋剤としては、例えば、熱硬化型樹脂の場合は、既知の各種ポリイソシアネートを挙げることができ、この架橋剤の含有量は結合剤樹脂１００質量部に対し、１０〜３０質量部とすることが好ましい。また、磁性層中には、必要に応じ、研磨材、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００２９】
磁性層形成用の塗料は、上記成分に有機溶剤を加えることにより調製される。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤やトルエン等の芳香族系溶剤などの各種溶剤の１種または２種以上を適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、固形分（強磁性金属粉末や各種無機粒子等）と結合剤樹脂との合計量１００質量部に対して１００〜１１００質量部程度とすればよい。
【００３０】
本発明における磁性層の厚さは３．０μｍ以下とし、好ましくは０．０１〜０．５０μｍ、さらに好ましくは０．０２〜０．３０μｍとする。磁性層が厚すぎると、自己減磁損失や厚み損失が大きくなる。
【００３１】
上記アンダーコート層としての非磁性層は、磁性層と非磁性支持体との間に設けることができ、これにより、薄層化された磁性層の電磁変換特性についての改良がなされ、より一層の信頼性の向上に役立つものである。
【００３２】
非磁性層に用いる非磁性粉末としては、各種無機質粉末を用いることができ、好ましくは、針状非磁性粉末、例えば、針状の非磁性酸化鉄（α−Ｆｅ２Ｏ３）などを挙げることができる。その他、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、α−アルミナ（α−Ａｌ２Ｏ３）等の各種非磁性粉末を適宜配合してもよい。また、非磁性層にはカーボンブラックを用いることが好ましい。かかるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネスブラック、ゴム用サーマルブラック、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。
【００３３】
カーボンブラックと無機質粉末の配合比率は、重量比で１００／０〜１０／９０が好ましい。無機質粉末の配合比率が９０を上回ると、表面電気抵抗で問題が生じやすくなる。
【００３４】
非磁性層用の結合剤樹脂としては、磁性層と同様、本発明の上記電子線硬化型樹脂の他に、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、他の放射線硬化型樹脂やこれらの混合物等が使用されるが、これらの中でも放射線硬化型樹脂が好ましい。
【００３５】
本発明における非磁性層中には、さらに、必要に応じ、磁性層に用いた界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコーンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。また、非磁性層用の塗料は、上記磁性層と同様の有機溶剤を同程度の添加量にて用いて作製することができる。
【００３６】
非磁性層の厚さは、好ましくは２．５μｍ以下、より好ましくは０．１〜２．３μｍである。この厚さを２．５μｍより厚くしても性能の向上は望めず、却って、塗膜を設ける際、厚みが不均一になり易く、塗布条件が厳しくなり、表面平滑性も悪くなりがちになる。
【００３７】
バックコート層は、走行安定性の改善や磁性層の帯電防止等のために、必要に応じて設けられる。バックコート層には、３０〜８０質量％のカーボンブラックを含有させることが好ましく、かかるカーボンブラックとしては通常使用されるものであればどのようなものであってもよく、上述の非磁性層に用いるものと同様のものを用いることができる。また、カーボンブラック以外に、必要に応じ、磁性層に用いた各種研磨材等の非磁性無機粉末や、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコーンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００３８】
バックコート層の厚さ（カレンダー加工後）は、０．１〜１．５μｍ、好ましくは０．２〜０．８μｍである。この厚さが１．５μｍを超えると、媒体摺接経路との間の摩擦が大きくなりすぎて、走行安定性が低下する傾向にある。一方、０．１μｍ未満では、媒体の走行時にバックコート層の塗膜削れが発生しやすい。
【００３９】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明する。なお、以下において「部」とは「質量部」を、また「％」とは「質量％」を夫々意味する。
【００４０】
合成例１：樹脂１
１リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）４２４部と、ジブチルスズジラウレート０．４部と、２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）０．２４部とを仕込み、６０℃に制御しながら２−ヒドロキシプロピルアクリレート（２ＨＰＡ）３７２部を滴下した。滴下終了後６０℃で２時間撹拌後取り出し、ＩＰＤＩ−２ＨＰＡアダクト体を得た。
【００４１】
次に、日本ゼオン（株）製ＭＲ１１０  ６３０部を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）２２９１部に溶解し、水分量を測定したところ、０．０３％であった。そこで、水分量が０．２％になるように水を加え、ジブチルスズジラウレート２．４５部と、２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）０．０９部とを仕込み、７０℃で３時間撹拌後、先に得られたＩＰＤＩ−２ＨＰＡアダクト体３５２部を投入した。７０℃で１５時間撹拌後、ＩＲスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収（２２７０ｃｍ−１）の消滅を確認した後取り出し、樹脂１を得た。
【００４２】
合成例２：樹脂２
合成例１で、水分量を０．０６％に調整した他は合成例１と同様に行い、樹脂２を得た。
【００４３】
合成例３：樹脂３
合成例１で、水分量を０．３％に調整した他は合成例１と同様に行い、樹脂３を得た。
【００４４】
合成例４：樹脂４
１リットルの三口フラスコに、ＨＤＩのヌレート体５０４部と、ジブチルスズジラウレート０．１８部と、２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）０．２２部とを仕込み、６０℃に制御しながら２−ヒドロキシエチルアクリレート（２ＨＥＡ）２３２部を滴下した。滴下終了後６０℃で２時間撹拌後取り出し、ＨＤＩヌレート−２ＨＥＡアダクト体を得た。
【００４５】
次に、１リットルの三口フラスコに東洋紡（株）製バイロンＵＲ８３００を８３３部仕込み、水分量を測定すると、０．０３％であった。そこで、水分量が０．２％になるように水を加え、ジブチルスズジラウレート０．５部と、２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）０．０５部とを仕込み、７０℃で１時間撹拌後、先に得られたＨＤＩヌレート−２ＨＥＡアダクト体１３部を投入した。７０℃で１５時間撹拌後、ＩＲスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収（２２７０ｃｍ−１）の消滅を確認した後、取り出し、樹脂４を得た。
【００４６】
合成例５：樹脂５
合成例４で、水分量を０．０６％に調整した他は合成例４と同様に行い、樹脂５を得た。
【００４７】
合成例６：樹脂６
合成例４で、水分量を０．３％に調整した他は合成例４と同様に行い、樹脂６を得た。
【００４８】
合成例７：樹脂７
合成例１で、水分量を調整しなかった他は合成例１と同様に行い、樹脂７を得た。
【００４９】
合成例８：樹脂８
合成例４で、水分量を調整しなかった他は合成例４と同様に行い、樹脂８を得た。
【００５０】
合成例９：樹脂９
合成例１で、水分量を０．７％に調整した他は合成例１と同様に行い、樹脂９を得た。
【００５１】
合成例１０：樹脂１０
合成例４で、水分量を０．７％に調整した他は合成例４と同様に行い、樹脂１０を得た。
【００５２】
実施例１
（評価１）架橋性評価
樹脂１の皮膜を隔離フィルム上に３０μｍの厚みで形成した後、加速電圧２００ｋＶの条件で６Ｍｒａｄの電子線を照射して皮膜を硬化させた。次に、剥離フィルムから電子線硬化後の樹脂皮膜を剥がし、下記の条件でゲル分率を測定した。
【００５３】
＜ゲル分率測定条件＞
溶剤：メチルエチルケトン（ＭＥＫ）
抽出条件：ＭＥＫ  煮沸
抽出時間：５時間
上記条件にて抽出を行い、抽出前後の樹脂皮膜の重量を測定して、その差からゲル分率を算出した。
【００５４】
（評価２）顔料、磁性粉含有皮膜の架橋性及び分散性の評価
金属磁性粉、α−酸化鉄／カーボンブラック混合系、カーボンブラックの３種類の系にて、各々を樹脂中に分散し、架橋させたサンプルの架橋性評価として、耐溶剤性の評価を行なった。また、分散性の評価として表面粗さ（Ｒａ）の測定を行った。
【００５５】
（１）金属磁性粉の評価
磁性塗料サンプルの作製
金属磁性粉（Ｆｅ／Ｃｏ／Ａｌ／Ｙ＝１００／１０／５．２／２．０（重量比
））                                                      １００部
（Ｈｃ＝１４４．６ｋＡ／ｍ（１８３０  Ｏｅ），σｓ＝１３０Ａｍ２／ｋｇ，ＢＥＴ比表面積＝５７ｍ２／ｇ，平均長軸長＝０．１０μｍ）
樹脂１                                                    ７０部
ＭＥＫ                                                  １２０部
トルエン                                                １２０部
シクロヘキサノン                                          ７０部
上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミルにて分散を行い、磁性塗料を作製した。
【００５６】
次に、得られた磁性層塗料を６．１μｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に乾燥膜厚１．５μｍの厚みとなるように塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後、線圧２．９×１０５Ｎ／ｍ、温度９０℃にてカレンダー処理を行い、続いて電子線（ＥＢ）照射（６Ｍｒａｄ）を行い、硬化済みの磁性塗料の皮膜を作製した。
【００５７】
（２）α−酸化鉄／カーボンブラック混合系顔料の評価
非磁性塗料サンプルの作製
非磁性粉末：針状α−Ｆｅ２Ｏ３                            ８０部
（平均短軸径＝１８ｎｍ，アスペクト比＝６．１，ｐＨ＝８．９）
カーボンブラック（三菱化学（株）製：＃８５０Ｂ）          ２０部
（平均粒径＝１６ｎｍ，ＢＥＴ比表面積＝２００ｍ２／ｇ，ＤＢＰ吸油量＝７０ｍｌ／１００ｇ）
樹脂１                                                    ７０部
ＭＥＫ                                                  １２０部
トルエン                                                １２０部
シクロヘキサノン                                          ７０部
上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミルにて分散を行い、非磁性塗料を作製した。
【００５８】
次に、得られた非磁性塗料を６．１μｍ厚のＰＥＴフィルム上に乾燥膜厚１．５μｍの厚みとなるように塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後、線圧２．９×１０５Ｎ／ｍ、温度９０℃にてカレンダー処理を行い、続いてＥＢ照射（６Ｍｒａｄ）を行い、硬化済みの非磁性塗料の皮膜を作製した。
【００５９】
（３）カーボンブラック系の評価
カーボンブラック塗料サンプルの作製
カーボンブラック                                        １００部
（コロンビアンカーボン社製：Ｃｏｎｄｕｃｔｅｘ  ＳＣ  平均粒径＝２０ｎｍ，ＢＥＴ比表面積＝２２０ｍ２／ｇ）
カーボンブラック                                            １部
（コロンビアンカーボン社製：Ｓｅｖａｃａｒｂ  ＭＴ  平均粒径＝３５０ｎｍ，ＢＥＴ比表面積＝８ｍ２／ｇ）
樹脂１                                                  ３３０部
ＭＥＫ                                                  ３５０部
トルエン                                                ３５０部
シクロヘキサノン                                        １７０部
上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミルにて分散を行った。
【００６０】
次に、カーボンブラック塗料を６．１μｍ厚のＰＥＴフィルム上に乾燥膜厚１．５μｍの厚みとなるように塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後、線圧２．９×１０５Ｎ／ｍ、温度７０℃にてカレンダー処理を行い、続いてＥＢ照射（６Ｍｒａｄ）を行い、硬化済みのカーボンブラック塗料の皮膜を作製した。
【００６１】
以上の方法で作製した各皮膜サンプルについて、以下の方法・基準にて耐溶剤性を評価した。
▲１▼ＭＥＫを浸した綿棒を使用した。
▲２▼皮膜上を綿棒でこすった。
▲３▼何回こすったところで皮膜がなくなるかカウントした。
▲４▼１０回以上：○
５〜１０回：△
１〜５回：×
とした。
【００６２】
また、表面粗さの評価として下記の条件で測定を行った。
2004352804.tif 000002
【００６３】
実施例２
実施例１で用いた樹脂１の代わりに、樹脂２を用いた他は実施例１と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
【００６４】
実施例３
実施例１で用いた樹脂１の代わりに、樹脂３を用いた他は実施例１と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
【００６５】
実施例４
実施例１で用いた樹脂１の代わりに、樹脂４を用いた他は実施例１と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
【００６６】
実施例５
実施例１で用いた樹脂１の代わりに、樹脂５を用いた他は実施例１と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
【００６７】
実施例６
実施例１で用いた樹脂１の代わりに、樹脂６を用いた他は実施例１と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
【００６８】
比較例１
実施例１で用いた樹脂１の代わりに、樹脂７を用いた他は実施例１と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
【００６９】
比較例２
実施例１で用いた樹脂１の代わりに、樹脂８を用いた他は実施例１と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
【００７０】
比較例３
実施例１で用いた樹脂１の代わりに、樹脂９を用いた他は実施例１と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
【００７１】
比較例４
実施例１で用いた樹脂１の代わりに、樹脂１０を用いた他は実施例１と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
【００７２】
実施例１〜６および比較例１〜４で用いた樹脂および反応系の水分量を下記の表１にまとめて示す。また、評価結果を下記の表２および表３に示す。
【００７３】
【表１】
2004352804.tif 000003
【００７４】
【表２】
2004352804.tif 000004
【００７５】
【表３】
2004352804.tif 000005
【００７６】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、活性水素基を有する既存の塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂を原料として、架橋性に非常に優れた磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を得ることができ、これにより高性能の磁気記録媒体を得ることができる。