(57)【要約】【課題】基板上に形成されたパターンを精度よく整形するパターン整形装置を提供する。【解決手段】パターン整形装置１は、隔壁９１のパターンが形成された基板９を保持するステージ３、および、複数の凹部を有する整形部材４３を備え、ステージ移動機構２により整形部材４３が基板９に対して相対的に移動する。整形部材４３の凹部は基板９上の隔壁９１の位置に対応する位置に設けられるとともに、凹部の幅および深さが後面において前面より小さくされる。また、整形部材４３の前面が基板９の主面の法線方向から相対移動方向の後側へと傾斜している。これにより、整形部材４３を基板９上にて円滑に移動させつつ隔壁９１を精度よく整形することができる。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成されたパターンを整形するパターン整形装置であって、
基板を保持する保持部と、
パターン形成材料にて基板上に形成された線状の複数のパターンに対応する複数の凹部を有するパターン整形部材と、
前記パターン整形部材を基板上の複数のパターンに沿って相対的に移動して各パターンを前記パターン整形部材の凹部により整形する移動機構と、
を備え、
前記パターン整形部材の前面が、基板の主面の法線方向から相対移動方向の後側へと傾斜していることを特徴とするパターン整形装置。
【請求項２】
基板上に形成されたパターンを整形するパターン整形装置であって、
基板を保持する保持部と、
パターン形成材料にて基板上に形成された線状の複数のパターンに対応する複数の凹部を有するパターン整形部材と、
前記パターン整形部材を基板上の複数のパターンに沿って相対的に移動して各パターンを前記パターン整形部材の凹部により整形する移動機構と、
を備え、
前記パターン整形部材の各凹部の深さまたは幅のうち少なくともいずれか一方が、前記各凹部の後側において前側よりも小さいことを特徴とするパターン整形装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のパターン整形装置であって、
前記パターン整形部材により整形されたパターンを順次硬化させる硬化部をさらに備えることを特徴とするパターン整形装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載のパターン整形装置であって、
前記パターン整形部材の前方に前記パターン整形部材により除去された除去物を回収する回収部をさらに備えることを特徴とするパターン整形装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載のパターン整形装置であって、
前記パターン整形部材あるいは前記複数の凹部の表面が、フッ素樹脂またはシリコン樹脂により形成されることを特徴とするパターン整形装置。
【請求項６】
基板上に付与されたパターン形成材料を整形するパターン整形装置であって、
基板を保持する保持部と、
凹部を有するパターン整形部材と、
前記パターン整形部材を基板の主面に沿って相対的に移動して基板上のパターン形成材料を前記凹部により整形する移動機構と、
を備え、
前記パターン整形部材の前面が、基板の主面の法線方向から相対移動方向の後側へと傾斜していることを特徴とするパターン整形装置。
【請求項７】
基板上に付与されたパターン形成材料を整形するパターン整形装置であって、
基板を保持する保持部と、
凹部を有するパターン整形部材と、
前記パターン整形部材を基板の主面に沿って相対的に移動して基板上のパターン形成材料を前記凹部により整形する移動機構と、
を備え、
前記凹部の深さまたは幅のうち少なくともいずれか一方が、前記凹部の後側において前側よりも小さいことを特徴とするパターン整形装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上にパターンを形成する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、プラズマ表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いられるパネルに隔壁や電極のパターンを形成する方法として、サンドブラスト法（フォトリソグラフィ法とも呼ばれる。）、スクリーン印刷法、リフトオフ法等が知られている。しかしながら、これらの方法は煩雑であり、生産コストを増加させる要因となっている。そこで、特開平１１−２８３４９７号公報では、パターン形成材料が一様に塗布された基板に対してくし歯形状を有するブレードを相対的に移動することにより隔壁パターンを形成する（すなわち、パターン形成材料を整形する）手法が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記手法では、くし歯形状を有するブレードにより掻き分けられたパターン形成材料がブレードの相対移動方向の前方に蓄積するにつれてブレードの滑らかな移動が妨げられたり、整形前のパターン形成材料が有する平坦性が乱されてしまう等の問題があった。また、ブレードの移動を滑らかに行うためには粘度の低いパターン形成材料を使用することが好ましいが、この場合、硬化処理（例えば、乾燥処理や焼成処理等）が施されるまでに形成されたパターンの形状が重力などの影響により変形してしまうおそれがある。さらに、パターン形成材料がブレード（特にブレードの後側の面）に付着した場合には、パターンの形状に異常が生じたり、ブレードの移動が妨げられる等の問題があった。
【０００４】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、基板上に適切なパターンを形成することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板上に形成されたパターンを整形するパターン整形装置であって、基板を保持する保持部と、パターン形成材料にて基板上に形成された線状の複数のパターンに対応する複数の凹部を有するパターン整形部材と、前記パターン整形部材を基板上の複数のパターンに沿って相対的に移動して各パターンを前記パターン整形部材の凹部により整形する移動機構とを備え、前記パターン整形部材の前面が、基板の主面の法線方向から相対移動方向の後側へと傾斜している。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、基板上に形成されたパターンを整形するパターン整形装置であって、基板を保持する保持部と、パターン形成材料にて基板上に形成された線状の複数のパターンに対応する複数の凹部を有するパターン整形部材と、前記パターン整形部材を基板上の複数のパターンに沿って相対的に移動して各パターンを前記パターン整形部材の凹部により整形する移動機構とを備え、前記パターン整形部材の各凹部の深さまたは幅のうち少なくともいずれか一方が、前記各凹部の後側において前側よりも小さい。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載のパターン整形装置であって、前記パターン整形部材により整形されたパターンを順次硬化させる硬化部をさらに備える。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載のパターン整形装置であって、前記パターン整形部材の前方に前記パターン整形部材により除去された除去物を回収する回収部をさらに備える。
【０００９】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載のパターン整形装置であって、前記パターン整形部材あるいは前記複数の凹部の表面が、フッ素樹脂またはシリコン樹脂により形成される。
【００１０】
請求項６に記載の発明は、基板上に付与されたパターン形成材料を整形するパターン整形装置であって、基板を保持する保持部と、凹部を有するパターン整形部材と、前記パターン整形部材を基板の主面に沿って相対的に移動して基板上のパターン形成材料を前記凹部により整形する移動機構とを備え、前記パターン整形部材の前面が、基板の主面の法線方向から相対移動方向の後側へと傾斜している。
【００１１】
請求項７に記載の発明は、基板上に付与されたパターン形成材料を整形するパターン整形装置であって、基板を保持する保持部と、凹部を有するパターン整形部材と、前記パターン整形部材を基板の主面に沿って相対的に移動して基板上のパターン形成材料を前記凹部により整形する移動機構とを備え、前記凹部の深さまたは幅のうち少なくともいずれか一方が、前記凹部の後側において前側よりも小さい。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の一の実施の形態に係るパターン整形装置１の概略構成を示す図である。パターン整形装置１は、プラズマ表示装置のガラス基板（以下、「基板」という。）９上にパターン形成材料（例えば、光開始剤が１〜３０％、アクリル系モノマー等のバインダが５〜５０％、複数種類の低軟化点ガラスフリットが４０〜９０％、その他、溶剤や添加剤が混合されたもの）にて形成されたＸ方向に伸びる線状の隔壁９１のパターンを整形する装置であり、隔壁パターンが整形された基板９は他の工程を介してプラズマ表示装置の組立部品であるパネル（通常、リアパネル）となる。
【００１３】
パターン整形装置１では、基台１１上にステージ移動機構２が設けられ、ステージ移動機構２により基板９を保持するステージ３が図１中に示すＸ方向に移動可能とされる。基台１１にはステージ３を跨ぐようにしてフレーム１２が固定され、フレーム１２にはパターン整形ヘッド部４が取り付けられる。
【００１４】
ステージ移動機構２は、モータ２１にボールねじ２２が接続され、さらに、ステージ３に固定されたナット２３がボールねじ２２に取り付けられた構造となっている。ボールねじ２２の上方にはガイドレール２４が固定され、モータ２１が回転すると、ナット２３とともにステージ３がガイドレール２４に沿ってＸ方向に滑らかに移動する。
【００１５】
パターン整形ヘッド部４は、金属やセラミック等により形成される整形部材４３、および、整形部材４３を着脱可能に支持する支持部材４２を有し、フレーム１２に固定されたベース４１の下部に支持部材４２が取り付けられる。パターン整形ヘッド部４は、さらに、整形部材４３に近接する吸引ノズル４４、および、基板９に向けて紫外線を出射する光照射部４５を有し、吸引ノズル４４は整形部材４３の（＋Ｘ）側、光照射部４５は整形部材４３の（−Ｘ）側にそれぞれ位置するようにベース４１の下部に取り付けられる。吸引ノズル４４は吸引管４４１を介してポンプ４４２へと接続され、ポンプ４４２が吸引動作を行うことにより、吸引ノズル４４の吸引口近傍の不要なパターン形成材料が吸引される。また、光照射部４５は光ファイバ４５１を介して紫外線を発生する光源ユニット４５２に接続され、基板９に向かって光を出射する。
【００１６】
ステージ移動機構２のモータ２１、ポンプ４４２、および光源ユニット４５２は制御部６に接続され、これらの構成が制御部６により制御されることにより、パターン整形装置１による基板９上の隔壁９１の整形が行われる。
【００１７】
図２は整形部材４３を（＋Ｘ）側から（−Ｘ）方向を向いて見たときの様子を示す図であり、図３は整形部材４３を（−Ｘ）側から（＋Ｘ）方向を向いて見たときの様子を示す図である。なお、図２および図３では、基板９上の隔壁９１の図示を省略している。図２および図３に示すように、整形部材４３の下面にはＸ方向に伸びる複数の凹部４３１が形成されており、図２に示す整形部材４３の（＋Ｘ）側の面（すなわち、パターン整形ヘッド部４の基板９に対する相対移動方向に関して前側の面であり、以下、「前面」という。）４３２における凹部４３１の深さおよび幅が、図３に示す整形部材４３の（−Ｘ）側の面（すなわち、パターン整形ヘッド部４の基板９に対する相対移動方向に関して後側の面であり、以下、「後面」という。）４３３より大きくなっている。
【００１８】
具体的には、前面４３２における台形状の凹部４３１の上底の長さ（すなわち、凹部４３１の底面４３１ｂの幅）が６０μｍ、下底の長さ（すなわち、凹部４３１の開口側の幅）が９０μｍ、高さ（すなわち、凹部４３１の深さ）が１６０μｍとされるのに対して、後面４３３では、上底が５０μｍ、下底が８０μｍ、高さが１５０μｍとなるように、凹部４３１の側面４３１ａおよび底面４３１ｂがＸ方向に関して緩やかな傾斜をもって（すなわち、テーパ状に）形成される。なお、Ｙ方向に関する各凹部４３１の中心間の距離は、基板９上に予め形成された隔壁パターンの中心間距離（例えば、３００μｍ）と等しくされる。
【００１９】
図４は、図２および図３中の矢印Ａ−Ａの位置における整形部材４３の縦断面図である。図４においても、図２および図３と同様に、隔壁９１の図示を省略している。図４に示すように、整形部材４３の前面４３２は基板９の法線方向から（−Ｘ）側へと傾斜して（換言すれば、前面４３２が相対移動方向（（＋Ｘ）方向）に対して上側を向くように）形成され、例えば、前面４３２と基板９とのなす角が約７０度とされる。また、前面４３２の前方（すなわち、（＋Ｘ）側）には、吸引ノズル４４の吸引口４４３が位置する（図２にも図示）。図２では、整形部材４３の一部のみが示されているが、吸引口４４３はＹ方向の長さが前面４３２の長さとほぼ等しい矩形状となっており、前面４３２に付着する、あるいは、前面４３２近傍に位置する不要なパターン形成材料が吸引口４４３から吸引される。
【００２０】
後面４３３側には、図３および図４に示すように、各凹部４３１に対応する光のスポットを基板９上に形成する光照射部４５が設けられる。また、凹部４３１の側面４３１ａおよび底面４３１ｂはフッ素樹脂またはシリコン樹脂を含むコーティング材により覆われており、整形部材４３の厚み（すなわち、前面４３２から後面４３３までの距離）は、隔壁９１の幅や高さに対して十分な厚さ（例えば、５ｍｍ程度）とされる。なお、整形部材４３の材質自体が、フッ素樹脂またはシリコン樹脂とされてもよい。
【００２１】
次に、パターン整形装置１が基板９上の隔壁パターンを整形する動作について図１ないし図４を参照しながら説明を行う。まず、パターン形成材料にて隔壁パターンが形成された基板９がパターン整形装置１に搬入され、制御部６が光源ユニット４５２を制御することにより、光照射部４５から紫外線の出射が開始される。また、制御部６の制御によりポンプ４４２の吸引動作が開始され、吸引ノズル４４による吸引が開始される。続いて、ステージ移動機構２のモータ２１が駆動制御され、基板９の表面が整形部材４３の下面に接触しながら（−Ｘ）方向に移動するようにステージ３を連続的に移動させる。これにより、基板９上の隔壁９１が整形部材４３の前面４３２側から凹部４３１へと導かれ、隔壁パターンの整形が行われる。
【００２２】
図５（ａ）および（ｂ）は整形部材４３により基板９上の隔壁９１が整形される様子を説明するための図であり、図５（ａ）は隔壁９１が整形部材４３により整形される直前の様子を示している。なお、図５（ａ）では（＋Ｘ）側から（−Ｘ）方向を向いて見たときの様子を示している。整形部材４３は基板９上を隔壁パターンに沿う方向に摺動するため、整形部材４３が図５（ａ）に示す隔壁９１の位置を通過することにより、図５（ｂ）に示すように、凹部４３１に対応する形状に隔壁９１が整形される。
【００２３】
より詳細には、まず、整形部材４３の前面４３２により隔壁９１の周囲が削られるように、あるいは、変形して剥ぎ取られるようにして除去される。そして、図２ないし図４に示すように、凹部４３１は前面４３２から後面４３３にかけてテーパ状に設けられるため、凹部４３１へと導かれた隔壁９１は、整形部材４３に対する相対的移動に従って凹部４３１の側面４３１ａおよび底面４３１ｂにより徐々に押し固められ、図５（ｂ）に示すように、後面４３３における凹部４３１の形状へと整形される。なお、隔壁９１は凹部４３１に押し固められることにより精度の高い形状、かつ、緻密な状態とされる。
【００２４】
続いて、図６に示すように、整形部材４３による整形後すぐに隔壁９１に光照射部４５から紫外線が照射され、順次硬化が行われる。これにより、整形後の隔壁９１の形状が適切に保持される。その結果、隔壁９１の基板９に接する部分の長さ（Ｗ）に対する高さ（Ｈ）の比（いわゆる、アスペクト比（Ｈ／Ｗ））が高く、かつ、安定した形状の（すなわち、十分に固い）隔壁９１のパターンが形成される。なお、紫外線照射による硬化は、隔壁９１が、重力や表面張力等により変形しない状態とされるのであれば、完全に硬化していない状態（いわゆる、半硬化状態）であってもよい。
【００２５】
また、パターン整形装置１では、図４に示すように、整形部材４３の前面４３２が傾斜しているため、前面４３２により除去されたパターン形成材料（以下、「除去物」という。）が、整形部材４３の相対的移動に従って前面４３２に沿って滑らかに上方へと導かれ、整形部材４３の基板９に対する相対的移動を円滑に行うことができる。さらに、吸引ノズル４４の吸引口４４３近傍へと導かれた除去物は吸引ノズル４４により吸引されることから、除去物が隔壁パターンの整形や整形部材４３の移動に悪影響を与えることが抑制される。
【００２６】
なお、前述のように、凹部４３１の側面４３１ａおよび底面４３１ｂはフッ素樹脂またはシリコン樹脂を含むコーティング材により覆われているため、隔壁９１は滑らかに整形されるとともに、パターン形成材料が側面４３１ａまたは底面４３１ｂに付着することが抑制され、隔壁９１の形状に異常が生じることが防がれる。整形部材４３は、全体がフッ素樹脂またはシリコン樹脂により形成されてもよい。
【００２７】
隔壁パターンの整形が基板９の移動と共に連続的に行われ、基板９上のパターンの終点が整形部材４３を通過すると、ステージ３の移動制御、吸引動作および紫外線の出射が停止される。整形された隔壁パターンは他の工程において焼成され、パターン形成材料中の樹脂分が除去されるとともに、低軟化点ガラスフリットが融着して隔壁が形成される。なお、使用されるパターン形成材料に応じて、焼成の前に乾燥工程等が適宜行われる。
【００２８】
以上のように、パターン整形装置１では、基板９上に形成された隔壁パターンに対応する複数の凹部４３１を有する整形部材４３が、隔壁パターンに沿って相対的に移動することにより隔壁パターンの整形が行われる。そして、整形部材４３の前面４３２を基板９の法線方向から相対移動方向の後側へと傾斜させることにより、整形部材４３の基板９に対する相対的移動を円滑に行うことが実現される。また、各凹部４３１の深さおよび幅が、後面４３３において前面４３２よりも小さくされることにより、精度のよい整形（すなわち、精度の高い隔壁パターンの形成）も実現される。
【００２９】
なお、パターン整形ヘッド部４としてＸ方向の幅が基板９よりも小さいものを用い、パターン整形ヘッド部４を基板９に対してＹ方向へと移動させる毎にＸ方向へと間欠的に移動させることにより、基板９の全面の隔壁パターンが整形されてもよい。
【００３０】
以上、パターン整形装置１について説明を行ってきたが、パターン整形装置１によるパターンの整形は、必ずしも線状に形成された隔壁パターンに対して行われる必要はなく、基板９上に一様に付与されたパターン形成材料に対して行われてもよい。以下、パターン整形装置１が、基板９上に一様に塗布されたパターン形成材料を所定のパターン形状へと整形する（パターン形成と捉えることもできる。）態様について説明を行う。
【００３１】
図７（ａ）および（ｂ）は整形部材４３により基板９上に一様に付与されたパターン形成材料９２が整形される様子を説明するための図であり、図７（ａ）はパターン形成材料９２が整形部材４３により整形される直前の状態を示す図である。なお、図７（ａ）では（＋Ｘ）側から（−Ｘ）方向を向いて見たときの様子を示している。
【００３２】
図７（ａ）に示すように、スリットコータやロールコータ等により一様の膜厚（例えば、１２０〜２００μｍ）にてパターン形成材料９２が塗布された基板９に対して、整形部材４３が当接しつつ滑るように相対的に移動することにより、パターン形成材料９２の凹部４３１に対応する部分以外が整形部材４３の前面４３２により除去される。このとき、前面４３２が基板９の法線方向に対して相対移動方向の後側へと傾斜していることから、除去されたパターン形成材料は前面４３２に沿って滑らかに上方へと導かれ、整形部材４３の基板９に対する相対的移動が円滑に行われる。
【００３３】
また、予め基板９上に形成されている隔壁パターンを整形する場合に比べて比較的多量の除去物が発生するが、除去物は吸引ノズル４４により吸引されるため、除去物がパターン整形や整形部材４３の移動に与える影響を抑制することが実現される。
【００３４】
基板９上に残されたパターン形成材料９２はテーパ状に形成された凹部４３１により押し固められつつ、図７（ｂ）に示すように、後面４３３側の凹部４３１に対応する形状へと精度よく整形される。また、後面４３３から導出される整形済みの隔壁パターンは速やかに光照射部４５により紫外線が照射されることから、隔壁パターンの形状が重力等の影響により崩れてしまうことも防止される。
【００３５】
以上のように、パターン整形装置１では、凹部４３１を有する整形部材４３を基板９の主面に沿って相対的に移動することにより、基板９上に一様に付与されたパターン形成材料９２に対しても精度よく整形を行うことができる。
【００３６】
図８はパターン整形装置１がパターン形成システム８内に配置される様子を示す図である。パターン形成システム８では、まず、基板搬入部８１に載置されている基板９が搬送機構８０ａにより次の装置８２へと搬送される。基板９上に予め暫定的な隔壁パターンが形成される場合には、装置８２により仮の隔壁の形成が行われる。仮の隔壁形成はどのような手法が用いられてもよいが、例えば、パターン形成材料を多数のノズル孔から吐出しつつ基板９を相対的に移動させることにより形成される。パターン形成材料の粘度が低い場合には、吐出直後のパターン形成材料に紫外線を僅かに照射してパターン形成材料が半硬化状態とされる。
【００３７】
基板９上に予めパターン形成材料が一様に付与される場合には、装置８２としてスリットコータやロールコータ等が配置される。
【００３８】
次に、基板９は搬送機構８０ｂによりパターン整形装置１へと送られ、既述のパターン形成材料の整形が行われ、基板９上に精度の高い隔壁パターンが形成される。パターン形成が完了した基板９は搬送機構８０ｃにより基板搬出部８４へと搬送される。さらに、基板９は基板搬出部８４から別途設置された乾燥装置や焼成装置等へと搬送される。
【００３９】
なお、技術的に可能な範囲内で装置８２とパターン整形装置１とが一体化されてもよい。例えば、パターン形成材料を多数の微小開口から吐出するノズルと整形部材４３とを１つの装置に設けて、基板９を移動させながら仮の隔壁パターンの形成と整形とが並行して行われてもよく、パターン形成材料を一様に塗布するスリットと整形部材４３と１つの装置に設けて、基板９を移動させながらパターン形成材料の塗布と整形とが並行して行われてもよい。
【００４０】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００４１】
整形部材４３の凹部４３１は、後面４３３において必ずしも深さおよび幅の双方が前面４３２よりも小さい必要はなく、深さまたは幅のうち少なくともいずれか一方のみが小さい場合であっても精度よくパターンを整形することができる。また、例えば、各凹部４３１の側面４３１ａや底面４３１ｂは平面である必要はなく、曲面であってもよい。
【００４２】
除去物は吸引ノズル４４以外の機構により回収されてもよく、例えば、前面４３２の傾斜に沿ってかき集められた除去物を蓄積する回収部が整形部材４３に設けられてもよい。
【００４３】
上記実施の形態では、光照射部４５からの紫外線は上方から基板９に向けて照射されるが、基板９がガラス基板である場合には、紫外線は基板９の裏面側から照射されてもよい。また、光照射部４５は必ずしも紫外線により隔壁パターンを硬化させる必要はなく、紫外線以外の他の種類の光や熱あるいはガス等を付与することにより硬化が行われてもよい。
【００４４】
基板９上に予め形成された仮の隔壁パターンに対して整形が行われる場合において、基板９上の仮の隔壁パターンは他の様々な手法（例えば、サンドブラスト法やスクリーン印刷法等）により形成されたものであってもよい。また、仮の隔壁パターンが十分な硬さを有する場合には、パターン整形装置１において光照射部４５が省略されてもよい。
【００４５】
上記実施の形態では、ステージ３が移動することによりパターン整形ヘッド部４が基板９に対して相対的に移動するが、ステージ３が固定され、パターン整形ヘッド部４が移動してもよい。
【００４６】
また、上記実施の形態では、整形部材４３を基板９に接触しながら相対的に移動するため、基板９の表面を基準面とする絶対的な高さを制御したパターン整形が容易に実現されるが、整形されるパターンに応じて、基板９と整形部材４３の下面との間に間隙を設けて整形部材４３が基板９に対して相対的に移動してもよい。
【００４７】
パターン整形装置１は、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の他の種類の平面表示装置（フラットパネルディスプレイ）における隔壁や配線、電極等のパターンの形成に利用されてもよい。また、基板９もガラス基板には限定されず、樹脂基板、半導体基板等であってもよい。
【００４８】
【発明の効果】
請求項１および６の発明では、パターン整形部材の基板に対する相対的移動を円滑に行うことができる。
【００４９】
請求項２および７の発明では、パターン形成材料を精度よく整形することができる。
【００５０】
また、請求項３の発明では、整形されたパターンの形状を適切に保持することができる。
【００５１】
また、請求項４の発明では、除去物がパターンの整形に悪影響を与えることを抑制することができる。
【００５２】
また、請求項５の発明では、パターン形成材料が凹部の表面に付着することを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】パターン整形装置の概略構成を示す図である。
【図２】整形部材の前面を示す図である。
【図３】整形部材の後面を示す図である。
【図４】整形部材の縦断面図である。
【図５】（ａ）および（ｂ）は隔壁が整形される様子を説明するための図である。
【図６】隔壁が整形される様子を示す斜視図である。
【図７】（ａ）および（ｂ）はパターン形成材料が整形される様子を説明するための図である。
【図８】パターン形成システムを示す図である。
【符号の説明】
１　パターン整形装置
２　ステージ移動機構
３　ステージ
９　基板
４３　整形部材
４４　吸引ノズル
４５　光照射部
９１　隔壁
９２　パターン形成材料
４３１　凹部
４３２，４３３　面
【図１】
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【図２】
2004079477.tif 000004
【図３】
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【図４】
2004079477.tif 000006
【図５】
2004079477.tif 000007
【図６】
2004079477.tif 000008
【図７】
2004079477.tif 000009
【図８】
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