(57)【要約】【課題】シリンドリカルミラーの位置ずれを防止し、被走査面上におけるレーザ光の走査パターンのずれを防止可能な光走査装置を提供する。【解決手段】光学ベース１の下面側に、この光学ベース１と一体をなす支持リブ１Ｐを設け、この支持リブ１Ｐによりシリンドリカルミラー９０Ｃを下方から支持する。変形しにくい支持リブ１Ｐによりシリンドリカルミラー９０Ｃの重量が支えられるため、変形しやすい部材によりシリンドリカルミラー９０Ｃが支持されている場合とは異なり、実装後において、シリンドリカルミラー９０Ｃの重量により支持リブ１Ｐが変形しにくくなる。シリンドリカルミラー９０Ｃの位置ずれが防止されるため、シリンドリカルカルミラー９０Ｃにより反射されたレーザ光が被走査面上の正しい位置に到達することとなり、被走査面上におけるレーザ光の走査パターンのずれが防止される。【選択図】　　図６
2004012776.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被走査面を走査する光ビームを出射する光源と、前記光源から出射された光ビームを偏向させる光偏向器と、前記光偏向器により偏向された光ビームを前記被走査面に向けて反射させる反射面を有する反射ミラーと、少なくとも前記反射ミラーを支持する基体とを備え、前記反射ミラーが前記基体の下面側に配設された光走査装置であって、
前記基体の下面側に、前記反射ミラーを下方から支持する支持部が前記基体と一体に設けられている
ことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記支持部が、前記反射ミラーのうちの少なくとも前記反射面を支持する
ことを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項３】
前記支持部は、前記基体の一部を下方に突出させて形成したものである
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記反射ミラーが長尺なものであり、
前記支持部が前記反射ミラーの両端部分を支持する
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記支持部に、前記反射ミラーを上方から押えるための押え部材が設けられている
ことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記光源および前記光偏向器が、前記基体の上面側に配設されている
ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ビームの走査機構を有し、例えばフルカラー型レーザプリンタなどの光学機器に搭載される光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、デジタル技術の発展に伴い、画像データの出力装置として多種の画像形成装置が利用されている。その中でも、フルカラー型レーザプリンタは、例えば、画質性能が高く、かつ出力時間が短い点において優れている。
【０００３】
レーザプリンタは、主に、プリンタ本体の内部に、画像形成用の光学系ユニット、すなわち光走査装置を搭載している。この光走査装置は、実装用の基体（光学ベース）に各種光学部品が実装された構成をなしており、例えば、光学ベースの上面側に光源や回転多面鏡（ポリゴンミラー）等が配設され、下面側にシリンドリカルミラー等が配設されている。
【０００４】
この光走査装置では、ポリゴンミラーが等速回転している状態において光源からレーザ光が出射されると、レーザ光がポリゴンミラーで反射されることにより順次偏向され、その偏向されたレーザ光により感光ドラムが反復的に走査される。そして、レーザ光の走査により形成された静電潜像がトナーを利用して現像され、この現像画像が記録紙に転写される。これにより、画像データに応じた画像が記録紙上に形成される。フルカラー型レーザプリンタでは、フルカラー画像を再現するために、例えばＹｅｌｌｏｗ（Ｙ；イエロー），Ｍａｇｅｎｔａ（Ｍ；マゼンタ），Ｃｙａｎ（Ｃ；シアン），Ｂｌａｃｋ（Ｂ；ブラック）の４色に対応した４つの光源が光走査装置に搭載されており、これらの４つの光源に対応した４つのシリンドリカルミラーおよび４つの感光ドラムを利用して静電潜像が形成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、フルカラー型のレーザプリンタにおいて高画質な画像を形成するためには、ポリゴンミラーにより４つのレーザ光を偏向させたのち、例えば、４つのシリンドリカルミラーにおいて各レーザ光をそれぞれに対応する各感光ドラムに向けて正確に反射させる必要がある。
【０００６】
しかしながら、シリンドリカルミラーの支持機構に係る構造的要因如何によっては、実装後にシリンドリカルミラーの位置ずれが生じ、シリンドリカルミラーによるレーザ光の反射方向にずれが生じるおそれがある。レーザ光の反射方向にずれが生じると、感光ドラム上においてレーザ光の走査パターンにずれが生じるため、画像形成時に色ずれを生じ、画質劣化を誘発してしまう。
【０００７】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、シリンドリカルミラーの位置ずれを防止し、被走査面上におけるレーザ光の走査パターンのずれを防止可能な光走査装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る光走査装置は、被走査面を走査する光ビームを出射する光源と、光源から出射された光ビームを偏向させる光偏向器と、光偏向器により偏向された光ビームを被走査面に向けて反射させる反射面を有する反射ミラーと、少なくとも反射ミラーを支持する基体とを備え、反射ミラーが基体の下面側に配設されたものであり、基体の下面側に、反射ミラーを下方から支持する支持部が基体と一体に設けられたものである。
【０００９】
本発明に係る光走査装置では、基体の下面側に、その基体と一体をなす支持部が設けられており、この支持部により、反射ミラーが下方から支持される。なお、「下面側」および「下方」とは、一対の面を有する基体を静止させた場合に、その重力方向側の面および方向をいう。
【００１０】
本発明に係る光走査装置では、支持部が、反射ミラーのうちの少なくとも反射面を支持するのが好ましい。
【００１１】
また、本発明に係る光走査装置では、支持部が、基体の一部を下方に突出させて形成したものであってもよい。
【００１２】
また、本発明に係る光走査装置では、反射ミラーが長尺なものであり、支持部が反射ミラーの両端部分を支持するようにしてもよい。
【００１３】
また、本発明に係る光走査装置では、支持部に、反射ミラーを上方から押えるための抑え部材が設けられていてもよい。
【００１４】
また、本発明に係る光走査装置では、光源および光偏向器が基体の上面側に配設されていてもよい。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
まず、図１〜図４を参照して、本発明の一実施の形態に係る光走査装置の構成について説明する。図１は光走査装置の外観斜視構成を表し、図２〜図４は光走査装置の各部の平面構成を表している。ここで、図２は下カバー３の下面側，図３は光学ベース１の上面側，図４は光学ベース１の下面側をそれぞれ示している。なお、「上面」とは図１中のＺ軸方向における上側の面をいい、「下面」とは下側の面をいう。
【００１７】
本実施の形態に係る光走査装置は、光ビームの走査機構を有するものであり、例えばフルカラー型レーザプリンタなどの光学機器（画像形成装置）に搭載されるものである。この光走査装置は、図１に示したように、例えば、光学ベース１とこの光学ベース１の両面を覆う２つのカバー（上カバー２，下カバー３）とを含む筐体の内部に、後述する一連の構成要素（光学部品）が収容された構成をなしている。
【００１８】
光学ベース１は、光走査装置の基礎をなす両面実装型の基盤である。この光学ベース１は、例えば、図３および図４に示したように、多角形、例えば略三角形状の開口を構成する複数のリブ１Ｒからなるハニカム状の補強用リブ構造１ＲＧを備えている。この補強用リブ構造１ＲＧは、主に、光学ベース１の機械的強度を確保するためのものであり、光学ベース１の両面（上面側，下面側）において多数の未貫通のセル１Ｃを構成している。
【００１９】
光学ベース１の上面側には、例えば、図３に示したように、所定の範囲に渡って補強用リブ構造１ＲＧが除去されることにより構成された複数の実装スペース１Ｓが設けられている。この実装スペース１Ｓには、主に、光源装置１０と、この光源装置１０に対応して設けられた反射ミラー２０と、ポリゴンミラー３０と、ｆθレンズ４０と、このｆθレンズ４０に対応して設けられた反射ミラー５０Ｘ，５０Ｙと、制御回路基板６０とが配設されている。
【００２０】
光学ベース１の下面側には、図４に示したように、主に、反射ミラー５０Ｘ，５０Ｙに対応して設けられた反射ミラー７０Ｘ，７０Ｙと、この反射ミラー７０Ｘ，７０Ｙに対応して設けられた反射ミラー８０Ｘ，８０Ｙと、シリンドリカルミラー９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃ，９０Ｄとが配設されている。
【００２１】
光学ベース１には、例えば、図３および図４に示したように、シリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄを実装させる際に利用する実装用開口１ＵＡ，１ＵＢ，１ＵＣ，１ＵＤが設けられている。これらの実装用開口１ＵＡ〜１ＵＤは、例えば、光学ベース１のうち、各シリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄの両端部分に対応する箇所に、各シリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄごとに２組ずつ、すなわち計８つ設けられている。
【００２２】
光学ベース１の下面には、例えば、図４に示したように、シリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄを支持するための支持リブ１Ｐが設けられている。この支持リブ１Ｐは、例えば、各実装用開口１ＵＡ〜１ＵＤごとに２組ずつ、すなわち計８つ設けられている。なお、支持リブ１Ｐおよびその周辺部分の詳細な構成については後述する（図５，図６参照）。ここで、光学ベース１が本発明における「基体」の一具体例に対応し、支持リブ１Ｐが本発明における「支持部」の一具体例に対応する。
【００２３】
上カバー２は光学ベース１を上方から覆うものであり、一方、下カバー３は光学ベース１を下方から覆うものである。下カバー３には、図２に示したように、シリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄに対応して、光走査装置の外部にレーザ光を導出するための４つの光導出口３ＫＡ，３ＫＢ，３ＫＣ，３ＫＤが設けられており、各光導出口３ＫＡ〜３ＫＤに、防塵用の４枚のカバーガラス１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄがそれぞれ配設されている。
【００２４】
光源装置１０は、走査用のレーザ光（光ビーム）を出射するものであり、出射方向が反射ミラー２０の配設位置と対応するように配設されている。この光源装置１０は、例えば、レーザダイオード（ＬＤ；ｌａｓｅｒ　ｄｉｏｄｅ）などよりなるものであり、Ｙｅｌｌｏｗ（Ｙ；イエロー），Ｍａｇｅｎｔａ（Ｍ；マゼンタ），Ｃｙａｎ（Ｃ；シアン），Ｂｌａｃｋ（Ｂ；ブラック）の４色に対応した４つの光源を一体構成化したものである。なお、光源装置１０は、例えば、４つの光源に対応して、図示しないコリメーターレンズ、絞りおよびシリンドリカルレンズよりなる組み合わせを４組含んで構成されている。ここで、光源装置１０が本発明における「光源」の一具体例に対応する。
【００２５】
反射ミラー２０は、光源装置１０から出射されたレーザ光をポリゴンミラー３０に向けて反射させるためのものである。
【００２６】
ポリゴンミラー３０は、例えば６つの反射面３０Ｍを有する略六角形状の構造体であり、回転軸３１を中心として図中の矢印の方向（右回り）に回転可能なものである。このポリゴンミラー３０は、回転動作に伴い、各反射面３０Ｍにおいてレーザ光を反射ミラー５０に向けて反射偏向させるようになっている。ここで、ポリゴンミラー３０が本発明における「光偏向器」の一具体例に対応する。
【００２７】
ｆθレンズ４０は、主査方向に対応する方向にレーザ光を集光させると共に、後述する感光ドラム１１０（図９参照）における主査方向の走査速度を等速化するための複数のレンズ群であり、レーザ光の光路に沿って配設された例えば２つのレンズ４１，４２を含んで構成されている。
【００２８】
反射ミラー５０Ｘ，５０Ｙは、レーザ光を下方に向けて反射させることにより、光学ベース１に設けられた開口１Ｋを通じて光学ベース１の下面側にレーザ光を導くためのものである。これらの反射ミラー５０Ｘ，５０Ｙは、例えば、高さ方向（図中のＺ軸方向）において、互いに異なる高さ位置に配設されている（後述する図９参照）。
【００２９】
制御回路基板６０は、主に、光源装置１０やポリゴンミラー３０を制御するためのものであり、例えば、コネクタケーブル６１を介して光源装置１０に接続されていると共に、コネクタケーブル６２を介してポリゴンミラー３０用の回路基板（図示せず）に接続されている。
【００３０】
反射ミラー７０Ｘ，７０Ｙ，８０Ｘ，８０Ｙは、反射ミラー５０Ｘ，５０Ｙにより光学ベース１の下面側に導かれたレーザ光をシリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄに向けて反射させるためのものである。
【００３１】
シリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄは、副走査方向に対応する方向に集光させながらレーザ光を感光ドラム１１０Ａ〜１１０Ｄ（図９参照）に向けて反射させるためのものであり、例えば、いずれも長尺な直方体構造をなしている。これらのシリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄは、光学ベース１の下面に設けられた支持リブ１Ｐによりそれぞれ両端部分を支持されている。支持リブ１Ｐによるシリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄの支持機構に関する詳細については後述する（図５，図６参照）。ここで、シリンドリカルミラー９０Ａ〜９０Ｄが本発明における「反射ミラー」の一具体例に対応する。
【００３２】
次に、図３，図４，図５および図６を参照して、支持リブ１Ｐおよびその周辺部分の詳細な構成について説明する。図５および図６はシリンドリカルミラー９０Ｃを支持する支持リブ１Ｐおよびその周辺部分の詳細な構成を拡大して表すものであり、図５は図４中のＡ−Ａ線に沿った断面構成，図６は斜視構成をそれぞれ示している。
【００３３】
支持リブ１Ｐは、図５および図６に示したように、シリンドリカルミラー９０Ｃを下方から支持するためのものであり、特に、シリンドリカルミラー９０Ｃのうち、後述するレーザ光ＬＣ（図８，図９参照）が反射されることとなる面（反射面）９０ＣＭを含む面を支持するようになっている。この支持リブ１Ｐは、例えば、光学ベース１のうちの実装用開口１ＵＣに対応する部分が下方（重力方向）に突出するように構成されたものであり、すなわち光学ベース１と一体成形されたものである。支持リブ１Ｐは、例えば、略Ｕ字型の断面構成を有するものであり、シリンドリカルミラー９０Ｃの形状に対応した形状を有する支持部分１ＰＸと、この支持部分１ＰＸと光学ベース１本体とを連結させる連結部分１ＰＹとを含んで構成されている。
【００３４】
支持リブ１Ｐには、支持部分１ＰＸにより支持されたシリンドリカルミラー９０Ｃを上方から押えるための押えバネ２００が取り付け可能になっている。この押えバネ２００は、例えば、シリンドリカルミラー９０Ｃの形状に対応した形状を有するものであり、固定ネジ２０１を用いて支持部分１ＰＸに固定可能になっている。ここで、押えバネ２００が本発明における「押え部材」の一具体例に対応する。
【００３５】
次に、図４〜図７を参照して、シリンドリカルミラー９０の取り付け手順について説明する。図７は、シリンドリカルミラー９０Ｃの取り付け手順を説明するためのものである。
【００３６】
光学ベース１にシリンドリカルミラー９０Ｃを取り付ける際には、双方の支持リブ１Ｐから押えバネ２００を取り外した状態において、図７に示したように、シリンドリカルミラー９０Ｃの一端側を一方の支持リブ１Ｐに支持させたのち、他端側を他方の支持リブ１Ｐに支持させる。続いて、２つの支持リブ１Ｐにより両端部分が支持されることとなるように、シリンドリカルミラー９０Ｃの位置を調整したのち、図４〜図６に示したように、光学ベース１の上面側から実装用開口１ＵＣを通じて支持リブ１Ｐ（支持部分１ＰＸ）に固定ネジ２０１を取り付けることにより、固定ネジ２０１を利用してシリンドリカルミラー９０Ｃを支持リブ１Ｐに固定する。これにより、シリンドリカルミラー９０Ｃの取り付けが完了する。
【００３７】
次に、図１〜図９を参照して、光走査装置の動作について説明する。図８および図９は光走査装置の動作時におけるレーザ光の光路を表すものであり、図８は光路を上方から見た状態，図９は側方から見た状態をそれぞれ示している。なお、図８および図９では、図３および図４に示した一連の構成要素のうち、レーザ光の走査機構に関わる主要な構成要素のみを示している。
【００３８】
この光走査装置では、ポリゴンミラー３０が等速回転されている状態において、まず、光学ベース１の上面側に配設された光源装置１０から、Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｂの４色に対応した４つのレーザ光ＬＡ〜ＬＤが出射される。続いて、光源装置１０から出射されたレーザ光ＬＡ〜ＬＤが反射ミラー２０で反射されてポリゴンミラー３０に導かれたのち、ポリゴンミラー３０の各反射面３０Ｍにおいて順次反射偏向される。続いて、ポリゴンミラー３０により反射偏向されたレーザ光ＬＡ〜ＬＤが、ｆθレンズ４０（４１，４２）を透過する。
【００３９】
ｆθレンズ４０を透過したレーザ光ＬＡ〜ＬＤのうち、レーザ光ＬＢ，ＬＤは、反射ミラー５０Ｘで反射されることにより開口１Ｋを通じて光学ベース１の下面側に導かれたのち、さらに、反射ミラー７０Ｘで反射される。反射ミラー７０Ｘで反射されたレーザ光ＬＢ，ＬＤのうち、レーザ光ＬＢは、シリンドリカルミラー９０Ｂで反射されたのち、カバーガラス１００Ｂを透過することにより感光ドラム１１０Ｂ上を走査し、一方、レーザ光ＬＤは、反射ミラー８０Ｘおよびシリンドリカルミラー９０Ｄで順次反射されたのち、カバーガラス１００Ｄを透過することにより感光ドラム１１０Ｄ上を走査する。
【００４０】
また、ｆθレンズ４０を透過したレーザ光ＬＡ，ＬＣは、反射ミラー５０Ｙで反射されることにより開口１Ｋを通じて光学ベース１の下面側に導かれたのち、さらに、反射ミラー７０Ｙで反射される。反射ミラー７０Ｙで反射されたレーザ光ＬＡ，ＬＣのうち、レーザ光ＬＡは、反射ミラー８０Ｙおよびシリンドリカルミラー９０Ａで順次反射されたのち、カバーガラス１００Ａを透過することにより感光ドラム１１０Ａ上を走査し、一方、レーザ光ＬＣは、シリンドリカルミラー９０Ｃで反射されたのち、カバーガラス１００Ｃを透過することにより感光ドラム１１０Ｃ上を走査する。
【００４１】
以上説明した一連の走査機構に基づき、光源装置１０から出射された４つのレーザ光ＬＡ〜ＬＤにより、走査対象としての４つの感光ドラム１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃ，１１０Ｄ上の被走査面がそれぞれ走査される。
【００４２】
本実施の形態に係る光走査装置では、光学ベース１の下面側に、この光学ベース１と一体をなす支持リブ１Ｐを設け、この支持リブ１Ｐによりシリンドリカルミラー９０Ｃを下方から支持するようにしたので、実装後におけるシリンドリカルミラー９０Ｃの位置ずれを防止し、レーザ光ＬＣの走査パターンのずれを防止することができる。その理由を比較例と対比して説明する。
【００４３】
図１０は、両面実装型の光学ベースを用いた比較例としての光走査装置の断面構成を拡大して表すものであり、図５に対応した部分を示している。この光走査装置では、例えば、光学ベース３０１の下面に、シリンドリカルミラー９０Ｃの形状に対応する窪み３０１Ｈが設けられており、この窪み３０１Ｈにシリンドリカルミラー９０Ｃが当接された状態において、押えバネ３０２を用いて下方からシリンドリカルミラー９０Ｃが固定されている。しかしながら、この場合には、押えバネ３０２によりシリンドリカルミラー９０Ｃが支持されており、すなわち変形しやすい押えバネ３０２によりシリンドリカルミラー９０Ｃの重量が支えられているため、実装後においてシリンドリカルミラー９０Ｃの重量により押えバネ３０２が変形してしまい、シリンドリカルミラー９０Ｃの位置ずれが生じやすい。シリンドリカルミラー９０Ｃの位置がずれると、シリンドリカルミラー９０Ｃによるレーザ光ＬＣの反射方向にずれが生じるため、レーザ光ＬＣの走査パターンにずれが生じてしまう。この場合には、光走査装置を搭載したフルカラー型レーザプリンタでは、色ずれ等の画質劣化が誘発される。
【００４４】
これに対して、本実施の形態では、図５に示したように、光学ベース１と一体をなす支持リブ１Ｐによりシリンドリカルミラー９０Ｃが下方から支持されており、すなわち変形しにくい支持リブ１Ｐによりシリンドリカルミラー９０Ｃの重量が支えられている。この場合には、比較例（図１０参照）の場合とは異なり、実装後においてシリンドリカルミラー９０Ｃの重量により支持リブ１Ｐが変形しにくいため、シリンドリカルミラー９０Ｃの位置ずれが防止され、レーザ光ＬＣの走査パターンのずれが防止される。したがって、本実施の形態では、光走査装置を搭載したフルカラー型レーザプリンタについて、色ずれ等の画質劣化を防止可能となる。
【００４５】
特に、本実施の形態では、支持リブ１Ｐを光学ベース１と一体形成するようにしたので、支持リブ１Ｐを光学ベース１と別体形成する場合と比較して、構成部品数が減少するため、光走査装置を容易に組み立てることができると共に、光学ベース１および支持リブ１Ｐの組立精度が向上するため、シリンドリカルミラー９０Ｃの実装精度を高めることもできる。また、この場合には、シリンドリカルミラー１Ｐの位置ずれを防止するために新たな部品や位置調整機構等を導入して装置構成を大幅に変更する必要がないため、画質劣化の防止を簡単に実現することができる。
【００４６】
また、本実施の形態では、シリンドリカルミラー９０Ｃを上方から押えるための押えバネ２００を設けるようにしたので、シリンドリカルミラー９０Ｃについて、上方向および横方向（シリンドリカルミラー９０Ｃの延在方向）への位置ずれも防止される。したがって、シリンドリカルミラー９０Ｃの位置ずれをより効果的に防止することができる。
【００４７】
また、本実施の形態では、支持リブ１Ｐにより、シリンドリカルミラー９０Ｃのうちの反射面９０ＣＭを含む面を支持するようにしたので、以下の理由により、この観点においてもレーザ光ＬＣの走査パターンのずれを防止することができる。
【００４８】
図１１および図１２はレーザ光の走査パターンのずれ防止に係る効果を説明するためのものであり、図１１は図５，図１２は図１０にそれぞれ対応している。比較例としての光走査装置では、図１０に示したように、反射面９０ＣＭ以外の面が窪み３０１Ｈに当接された状態でシリンドリカルミラー９０Ｃが支持されるため、シリンドリカルミラー９０Ｃの支持位置が、窪み３０１Ｈに対する当接位置を基準として決定される。この場合には、図１２に示したように、シリンドリカルミラー９０Ｃの形成寸法に誤差が生じ、その厚みＴが設定値よりも小さくなったとすると、シリンドリカルミラー９０Ｃを実装した際に反射面９０ＣＭの位置がシフトするため、シリンドリカルミラー９０Ｃにより反射されたレーザ光ＬＣの光路が本来の位置からずれてしまう。
【００４９】
これに対して、本実施の形態では、図５に示したように、支持リブ１Ｐの支持部分１ＰＸに反射面９０ＣＭを含む面が当接された状態でシリンドリカルミラー９０Ｃが支持されるため、シリンドリカルミラー９０Ｃの支持位置が、支持部分１ＰＸに対する当接位置を基準として決定される。この場合には、図１１に示したように、シリンドリカルミラー９０Ｃの厚みＴが小さくなったとしても反射面９０ＣＭの位置がシフトしないため、レーザ光ＬＣの光路にずれが生じることなく、レーザ光ＬＣが被走査面（感光ドラム１１０Ｃ）上の正しい位置に到達する。したがって、本実施の形態では、比較例の場合と異なり、レーザ光ＬＣの走査パターンのずれを防止することができる。また、特に、本実施の形態では、シリンドリカルミラー９０Ｃの厚みＴが小さくなった場合においても、反射面９０ＣＭの位置シフトを矯正する必要がないため、シリンドリカルミラー９０Ｃの反射特性を容易に制御することができる。
【００５０】
なお、上記「支持リブ１Ｐおよびその周辺部分の詳細な構成」、「シリンドリカルミラー９０Ｃの取り付け手順」および「実施の形態に係る作用および効果」に関する説明では、主にシリンドリカルミラー９０Ｃに関する内容（構成，機能，作用，効果，変形）について言及したが、これらの内容は、他のシリンドリカルミラー９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｄについても同様である。
【００５１】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々の変形が可能である。具体的には、例えば、上記実施の形態では、支持リブ１Ｐを利用した本発明の支持機構をシリンドリカルミラー９０Ｃに適用する場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、シリンドリカルミラー９０Ｃと同様に光学ベース１の下面側に配設された構成要素、例えば反射ミラー７０Ｘ，７０Ｙ，８０Ｘ，８０Ｙやこれ以外の構成部品にも適用可能である。この場合においても、上記実施の形態の場合と同様の作用により、反射ミラー７０Ｘ，７０Ｙ，８０Ｘ，８０Ｙによるレーザ光の反射方向のずれが防止されるため、レーザ光の走査パターンのずれ防止に寄与することができる。
【００５２】
また、例えば、上記実施の形態では、本発明の光走査装置を「フルカラー型レーザプリンタ」に適用する場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、単一のレーザ光を利用したシングルビーム方式や複数のレーザ光を利用したマルチビーム方式のモノクロ型レーザプリンタにも適用可能である。また、本発明を、光ビームの走査機構を利用して画像を形成可能なレーザプリンタ以外の他のプリンタに適用してもよいし、あるいはプリンタ以外の他の光学機器に適用してもよい。「他の光学機器」の具体例としては、例えば、ファクシミリ、複写機またはこれらの複合機などが挙げられる。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の光走査装置によれば、基体の下面側に、反射ミラーを下方から支持する支持部を基体と一体に設けるようにしたので、変形しにくい支持部により反射ミラーの重量が支えられる。この場合には、変形しやすい部材により反射ミラーが支持されている場合と異なり、反射ミラーの重量により支持部が変形しにくくなる。したがって、反射ミラーの位置ずれが防止され、被走査面上の正しい位置に光ビームが到達するため、光ビームの走査パターンのずれを防止することができる。特に、例えば、本発明の本光走査装置を搭載したフルカラー型レーザプリンタでは、色ずれ等の画質劣化を防止することができる。
【００５４】
特に、請求項２記載の光走査装置によれば、支持部により、反射ミラーのうちの少なくとも反射面を支持するようにしたので、支持部における反射面の当接部分を基準として反射ミラーの支持位置が決定される。この場合には、反射面以外の面の当接部分を基準として反射ミラーの支持位置が決定される場合とは異なり、反射ミラーの形成寸法（例えば厚み）に誤差が生じたとしても反射面の位置がシフトしないため、反射ミラーにより反射された光ビームの光路にずれが生じない。したがって、この観点においても、光ビームの走査パターンのずれを防止することができる。
【００５５】
また、請求項５記載の光走査装置によれば、支持部に、反射ミラーを上方から押えるための押え部材を設けるようにしたので、この押え部材により、上方向および横方向への反射ミラーの位置ずれも防止される。したがって、反射ミラーの位置ずれをより効果的に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る光走査装置の外観斜視構成を表す斜視図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る光走査装置における下カバーの平面構成を表す平面図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係る光走査装置における光学ベースの上面側構成を表す上面図である。
【図４】本発明の一実施の形態に係る光走査装置における光学ベースの下面側構成を表す下面図である。
【図５】支持リブおよびその周辺部分の断面構成を拡大して表す断面図である。
【図６】支持リブおよびその周辺部分の斜視構成を拡大して表す斜視図である。
【図７】シリンドリカルミラーの取り付け手順を説明するための斜視図である。
【図８】本発明の一実施の形態に係る光走査装置の動作時におけるレーザ光の光路を上方から見た状態を表す図である。
【図９】本発明の一実施の形態に係る光走査装置の動作時におけるレーザ光の光路を側方から見た状態を表す図である。
【図１０】比較例としての光走査装置の断面構成を拡大して表す断面図である。
【図１１】本発明の一実施の形態に係る光走査装置におけるレーザ光の走査パターンのずれ防止に係る効果を説明するための断面図である。
【図１２】比較例としての光走査装置における問題点を説明するための断面図である。
【符号の説明】
１…光学ベース、１Ｃ…セル、１Ｐ…支持リブ、１ＰＸ…支持部分、１ＰＹ…連結部分、１Ｒ…リブ、１ＲＧ…補強用リブ構造、１Ｓ…実装スペース、１ＵＡ，１ＵＢ，１ＵＣ，１ＵＤ２…実装用開口、上カバー、３…下カバー、３Ｋ（３ＫＡ〜３ＫＤ）…光導出口、１０…光源装置、２０，５０（５０Ｘ，５０Ｙ），７０（７０Ｘ，７０Ｙ），８０（８０Ｘ，８０Ｙ）…反射ミラー、３０…ポリゴンミラー、３１…回転軸、３０Ｍ…反射面、４０（４１，４２）…ｆθレンズ、６０…制御回路基板、６１，６２…コネクタケーブル、９０（９０Ａ〜９Ｄ）…シリンドリカルミラー、９０Ｃ…反射面、１００（１００Ａ〜１００Ｄ）…カバーガラス、１１０（１１０Ａ〜１１０Ｄ）…感光ドラム、２００…押えバネ、２０１…固定ネジ、ＬＡ〜ＬＤ…レーザ光。
【図１】
2004012776.tif 000003
【図２】
2004012776.tif 000004
【図３】
2004012776.tif 000005
【図４】
2004012776.tif 000006
【図５】
2004012776.tif 000007
【図６】
2004012776.tif 000008
【図７】
2004012776.tif 000009
【図８】
2004012776.tif 000010
【図９】
2004012776.tif 000011
【図１０】
2004012776.tif 000012
【図１１】
2004012776.tif 000013
【図１２】
2004012776.tif 000014