(57)【要約】【課題】本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関し、製造工程を簡略化でき、外圧に対する十分な強度と良好な表示特性とを両立可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】少なくとも一方が透明な基板２、４と、基板２、４間に封止された液晶６と、基板４に接着した第１の接着面を有する柱状スペーサ２０と、基板４に接着した第１の接着面と基板２に接着した第２の接着面とを有する第２の柱状スペーサ２２とを含み、露光工程と現像工程との間に加熱工程を挟まずにポジ型感光性材料で形成され、基板２、４間のセルギャップを維持する柱状スペーサ群とを有するように構成する。【選択図】    図２
2004252243.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記一対の基板間に封止された液晶と、
一方の前記基板に接着した第１の接着面を有する第１の柱状スペーサと、前記第１の接着面と他方の前記基板に接着した第２の接着面とを有する第２の柱状スペーサとを含み、露光工程と現像工程との間に加熱工程を挟まずにポジ型感光性材料で形成され、前記一対の基板間のセルギャップを維持する柱状スペーサ群とを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記第２の柱状スペーサの個数は、前記柱状スペーサ群の個数の１０％以上９０％以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
一方の基板上にポジ型感光性材料を塗布して感光性材料層を形成する第１の工程と、
前記感光性材料層を露光する第２の工程と、
加熱工程を経ずに、露光された前記感光性材料層を現像して、硬化した第１の柱状スペーサと少なくとも一部が未硬化の未硬化柱状スペーサとを含む柱状スペーサ群を前記一方の基板上に形成する第３の工程と、
前記一方の基板と他方の基板とを重ね合わせ、前記第１の柱状スペーサによりセルギャップが決定される重ね合わせ基板を作製する第４の工程と、
前記未硬化柱状スペーサを硬化させて第２の柱状スペーサを形成するとともに、前記第２の柱状スペーサを前記他方の基板に接着させて前記一方の基板と前記他方の基板とを貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する第５の工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
請求項３記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第２の工程は、前記第１の柱状スペーサを形成するネガ型パターニング像と、前記未硬化柱状スペーサを形成するポジ型パターニング像とを形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項４記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記ポジ型パターニング像は、前記ポジ型感光性材料を所定露光量で露光して形成され、
前記ネガ型パターニング像は、前記ポジ型感光性材料を前記所定露光量より多い過剰露光量で露光して形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。より詳しく言えば、本発明は、少なくとも一方が透明である一対の基板の間に、一般に液晶として知られる光スイッチ機能を有する媒体を挟持した液晶表示装置であって、有効表示領域における基板間のセルギャップが均一かつ一定に保たれることにより、コントラストや応答速度等の均一性が向上し良好な表示品質の得られる液晶表示装置、及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
少なくとも一方が透明である一対の基板間に、光スイッチ機能を有する媒体である液晶を充填した液晶表示装置は、一般に薄くて軽量で低消費電力であるという特徴を有する。このため、電卓、家庭電化製品あるいはＯＡ機器等の表示装置や、空間光変調装置（Ｓｐａｃｉａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）等として広く用いられている。
【０００３】
液晶表示装置では、基板間のセルギャップが表示領域内で均一かつ一定であることが、良好な表示を行うのに不可欠である。セルギャップを維持するために、基板間にはスペーサが配置されている。スペーサには、粒子（ビーズ）状の球状スペーサと、柱（ピラー）状の柱状スペーサに大別される。従来、これらのスペーサの配置及び固定化技術が種々開発されてきた。
【０００４】
一般的な方法として、球状スペーサを基板上に散布し、セルギャップを均一に制御する方法がある。ところがこの方法では、球状スペーサの配置を制御することが困難であるという問題が生じていた。また、球状スペーサは表示に不可欠な画素領域にも散布されるため、球状スペーサの光散乱によるコントラスト低下や、画素領域内で液晶分子の配向欠陥が生じ、表示品質が低下するという問題が生じていた。
【０００５】
上記の問題を解消するため、球状スペーサの散布に代えて、フォトリソグラフィ法により画素領域以外の領域に柱状スペーサを選択的に形成する技術が提案されている。この場合、画素領域にスペーサが存在しないため、配向欠陥や表示品質低下を防止できる。ところが、柱状スペーサは、通常一方の基板には接着しているものの他方の基板には接着していない。このため、例えば指先で押される等の外からの圧力（外圧）が加えられると基板間隔が変動し、それに伴い両基板上にそれぞれ形成された電極間の間隔が変動する。したがって、干渉縞の発生や色調のばらつき、駆動電圧特性のばらつき等の問題が生じていた。さらに極端な場合には、外圧によって基板同士が接触して配向膜が損傷を受け、これにより液晶の配向が乱れて表示品質が低下する等の問題が生じていた。
【０００６】
そこで、柱状スペーサに両基板の双方との接着性を持たせる検討が行われている。例えば、樹脂からなる柱状スペーサの熱硬化が進行していない状態で両基板を重ね合わせ、その後加熱して柱状スペーサを硬化させる。こうすることにより、硬化した柱状スペーサは両基板と接着する。しかしながら、両基板を重ね合わせた時の圧力により熱硬化前の柱状スペーサが変形し、精密なセルギャップの制御ができないという問題がある。
【０００７】
そこで、圧力や熱で変形しない球状スペーサを柱状スペーサに含有させ、柱状スペーサの強度と接着性を両立させる手法がある（例えば、特許文献１）。ところが、この手法では、球状スペーサを柱状スペーサ形成用の樹脂に分散させているため、以下に示す問題が発生する。
（１）確率的に球状スペーサを含有しない柱状スペーサが存在するため、セルギャップの均一性が劣る。
（２）（１）の問題を避けるために球状スペーサの含有量を増やすと、球状スペーサがフィラーとして作用して悪影響を及ぼし、基板上への柱状スペーサ形成材料の均一なスピンコートが困難になる。このため、柱状スペーサ形成材料の塗布厚さにムラができ、その結果柱状スペーサの高さが不均一になる。
（３）均一な粒径を有する球状スペーサは高価である。しかも柱状スペーサ以外の部分はパターニングにより除去されるため、ほとんどの球状スペーサは捨てられることになる。このため、液晶表示装置の製造コストが上昇する。
【０００８】
また、本願出願人による日本国特許出願（特願２００２−１６７２９５号；以下、「第１の特許出願」という）では、未硬化で基板に接着可能な柱状スペーサと、硬化して基板に接着しないセルギャップ支持用の柱状スペーサとを混在させることにより、基板との接着性と精密なセルギャップ制御とを両立させる技術が提案されている。第１の特許出願で提案された技術においてネガ型レジストを用いる場合、露光量の制御により硬化柱状スペーサと半硬化柱状スペーサの両方を作製している。硬化柱状スペーサはセルギャップ支持用として用いられ、半硬化柱状スペーサは接着用として用いられる。しかしながら、現像で除去されてしまわず、しかも接着性を有する半硬化状態の柱状スペーサを形成するのは極めて困難であり、液晶表示装置の安定な製造が困難になるおそれがある。一方、第１の特許出願で提案された技術においてポジ型レジストを用いる場合、プリベーク温度の制御により硬化柱状スペーサと半硬化柱状スペーサの両方を作製している。しかし、この方法も極めて困難であり、液晶表示装置の安定な製造が困難になるおそれがある。
【０００９】
また、本願出願人による他の日本国特許出願（特願２００２−１６７４７３号；以下、「第２の特許出願」という）では、ポジ型のパターニングとネガ型のパターニングとの双方が可能な特殊な構成のレジスト材料を用いることにより、簡単な制御で硬化柱状スペーサと半硬化柱状スペーサとの両方を形成できることが提案されている。この特殊なレジストを用いた場合、硬化柱状スペーサとなるネガ型パターニング像を形成するために、第１の露光工程の後に一旦加熱工程を行う。その後、半硬化柱状スペーサとなるポジ型パターニング像を形成するために、第２の露光工程を行う。その後、現像工程により、硬化柱状スペーサと半硬化柱状スペーサとが得られる。
【００１０】
【特許文献１】
特開２０００−１５５３２１号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の技術では、第１の露光工程と第２の露光工程との間に加熱工程が行われることにより、製造工程が複雑になっている。すなわち加熱工程では、第１の露光工程終了後の基板を露光装置内で加熱するか、または第１の露光工程終了後の基板を露光装置から取り出して加熱する必要がある。したがって、第２の露光工程の際に基板に位置ずれが発生する等の問題が生じ、液晶表示装置の安定な製造が困難になるおそれがある。
【００１２】
このように、これまでのスペーサの配置及び固定化技術は、外圧に対して強く耐衝撃性の高い、表示特性の良好な液晶表示装置を実現するのに十分ではなかった。
また、これまでのスペーサを用いた場合、基板上にスペーサを均一かつ高密度に配置した状態で配向膜材料溶液を塗布することが困難である。また、配向膜のラビング処理の際にスペーサが剥がれ落ちてしまうおそれもある。このため、液晶表示装置の表示品質を維持したままスペーサを基板上に固定するのが困難であった。
【００１３】
本発明の目的は、製造工程を簡略化でき、外圧に対する十分な強度と良好な表示特性とを両立可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、少なくとも一方が透明な一対の基板と、前記一対の基板間に封止された液晶と、一方の前記基板に接着した第１の接着面を有する第１の柱状スペーサと、前記第１の接着面と他方の前記基板に接着した第２の接着面とを有する第２の柱状スペーサとを含み、露光工程と現像工程との間に加熱工程を挟まずにポジ型感光性材料で形成され、前記一対の基板間のセルギャップを維持する柱状スペーサ群とを有することを特徴とする液晶表示装置によって達成される。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法について図１乃至図４を用いて説明する。図１は、本実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示している。図１に示すように、液晶表示装置は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）や画素電極、ゲートバスライン、ドレインバスライン等が形成されたＴＦＴ基板２と、カラーフィルタや共通電極等が形成された対向基板４とが対向して貼り合わされ、その間に液晶（図示せず）が封止された液晶表示パネルを有している。
【００１６】
ＴＦＴ基板２には、複数のゲートバスラインを駆動するドライバＩＣが実装されたゲートバスライン駆動回路８０と、複数のドレインバスラインを駆動するドライバＩＣが実装されたドレインバスライン駆動回路８２とが設けられている。両駆動回路８０、８２は、制御回路８４から出力された所定の信号に基づいて、走査信号やデータ信号を所定のゲートバスラインあるいはドレインバスラインに出力するようになっている。ＴＦＴ基板２の素子形成面と反対側の面には偏光板８７が貼り付けられ、偏光板８７のＴＦＴ基板２と反対側の面にはバックライトユニット８８が配置されている。一方、対向基板４の共通電極形成面と反対側の面には、偏光板８６が貼り付けられている。
【００１７】
図２は、本実施の形態による液晶表示装置の概略の断面構成を示している。図２に示すように、ＴＦＴ基板２と対向基板４とは、外周部に塗布されたシール材１２を介して貼り合わされている。両基板２、４の少なくとも一方は、ガラス等の透明基板を用いて形成されている。図示していないが、ＴＦＴ基板２上には画素毎に画素電極が形成され、対向基板４上にはほぼ全面に共通電極が形成されている。画素電極及び共通電極のうち、少なくとも透明基板上に形成される電極は透明導電膜により形成される。ＴＦＴ基板２及び対向基板４の対向面には、液晶６の配向を規制する配向膜がそれぞれ形成されている。
【００１８】
両基板２、４間のセルギャップは、一方の基板上にフォトリソグラフィ法を用いて形成された柱状スペーサ群により維持されている。柱状スペーサ群は、それぞれ複数の柱状スペーサ２０及び柱状スペーサ２２を有している。柱状スペーサ２０、２２は、ポジ型のパターニングとネガ型のパターニングの両方が可能な感光性材料を用いて形成されている。ポジ型のパターニングとネガ型のパターニングが共に可能な感光性材料として、ポジ型の各種感光性樹脂（レジスト）が用いられる。例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、環化ゴム、ノボラック樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、アクリレート樹脂、ビスフェノール樹脂等、あるいはゼラチンを感光性樹脂化したものから選択される少なくとも１種の樹脂である。これらの樹脂は一般的なレジスト材料として商業的に入手可能である。
【００１９】
柱状スペーサ２０、２２は、例えば円柱形状又は角柱（多角柱）形状である。柱状スペーサ２０、２２の両底面は、両基板２、４表面にそれぞれ接触する接触面になっている。柱状スペーサ２２の両接触面は、両基板２、４にそれぞれ接着した接着面になっている。柱状スペーサ２０の一方の接触面は、両基板２、４のいずれかに接着した接着面になっている。したがって、柱状スペーサ群には、両基板２、４に接着した柱状スペーサ２２と、基板２、４のいずれか一方のみに接着した柱状スペーサ２０とが混在している。
【００２０】
柱状スペーサ２０、２２は、例えば対向基板４上に形成されている。対向基板４にＴＦＴ基板２を重ね合わせる段階では、柱状スペーサ２０は既に硬化して対向基板４に接着した状態であり、柱状スペーサ２２は未硬化の状態である。両基板２、４を貼り合わせる際、対向基板４上の未硬化の柱状スペーサ２２は、その先端の接触面をＴＦＴ基板２に接触させた状態で硬化する。柱状スペーサ２２は、硬化する際に接着性が生じて、対向基板４及びＴＦＴ基板２に接着する。
【００２１】
本実施の形態では、後に説明する露光工程により、ポジ型パターニング像とネガ型パターニング像とをポジ型レジスト膜に形成する。ポジ型パターニング像からは未硬化の柱状スペーサ２２が形成され、ネガ型パターニング像からは硬化した柱状スペーサ２０が形成される。これにより、他方の基板に対する接着性が生じる未硬化の柱状スペーサ２２と、接着性が生じない硬化した柱状スペーサ２０との双方を一方の基板上に設けることができる。その結果、両基板２、４を重ね合わせ、加圧加熱により柱状スペーサ２０、２２を介して基板を貼り合わせる際、既に硬化している柱状スペーサ２０は圧力により変形しない強度を有しているため、セルギャップを一定に維持することができる。一方、未硬化の柱状スペ―サ２２を硬化させることにより、基板２、４間を強固に貼り合わせることができる。これにより、柱状スペーサ２０を介して貼り合わされた基板２、４間のセルギャップが外圧により部分的に狭まるのを防止できる。したがって、液晶表示装置の表示領域に干渉縞が発生するのを防止でき、あるいは表示の色調のばらつきや駆動電圧特性のばらつき等の障害が発生するのを防止できる。
【００２２】
次に、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法について図３を用いて説明する。一般に、適当な照射エネルギーでポジ型レジストに光を照射すると、光の照射された領域のみが現像液に可溶になる。しかし、過剰な照射エネルギーでポジ型レジストに光を照射すると、光の照射された領域は硬化して現像液に不溶になる。
【００２３】
ポジ型レジストは、適当な照射エネルギーの光で露光する通常露光により現像液に可溶になる。またポジ型レジストは、過剰な照射エネルギーの光で露光する過剰露光により硬化し、現像液に不溶になる。さらにポジ型レジストは、未露光であれば硬化せず、現像液に不溶である。このようにポジ型レジストからは、過剰露光、通常露光及び未露光の３つの露光条件によって３通りの状態が得られる。
【００２４】
上記を応用することによって、硬化した柱状スペーサ２０を過剰露光により形成し、未硬化の柱状スペーサ２２を未露光により形成し、通常露光及び現像処理により柱状スペーサ２０、２２以外の領域を除去する。本実施の形態は、第２の特許出願に提案されている技術と比較して、露光工程と現像工程との間に加熱工程を挟まずに実現できる点に有利な特徴を有している。
【００２５】
図３は、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法の露光、現像工程を示す工程断面図である。まず、所定の工程を経てそれぞれ作製されたＴＦＴ基板２及び対向基板４の各表面に、ポリイミド等を塗布して配向膜を形成する。次に、図３（ａ）に示すように、ポジ型のパターニングとネガ型のパターニングとの両方が可能なポジ型レジストを例えば対向基板４上の全面にスピンコート法を用いて塗布し、感光性材料層であるポジ型レジスト膜３０を形成する。次に、ポジ型レジスト膜３０を例えば１００℃で１分間プリベークする。次に、柱状スペーサ２０の形成される領域が開口されたネガ型のフォトマスクを用いて、紫外線露光装置により露光する。この第１の露光工程（ネガ露光）では、ポジ型レジスト膜３０を可溶化させるのに必要な露光量より多い過剰な露光量で、柱状スペーサ２０形成領域のポジ型レジスト膜３１を露光する。図３（ａ）では、第１の露光工程でネガ型のフォトマスクを介して照射される光を実線の矢印で示している。これにより、図３（ｂ）に示すように、柱状スペーサ２０形成領域のポジ型レジスト膜３１が硬化してネガ型パターニング像３２が形成される。ネガ型パターニング像３２は、例えば直径１０μｍの円柱形状であり、２００μｍ間隔でマトリクス状に配置される。
【００２６】
次に、図３（ｃ）に示すように、柱状スペーサ２２の形成される領域が遮光されるポジ型のフォトマスクを用いて、紫外線露光装置により露光する。この第２の露光工程（ポジ露光）では、ポジ型レジスト膜３０を可溶化させるのに必要な露光量で、柱状スペーサ２２形成領域以外のポジ型レジスト膜３０を露光する。図３（ｃ）では、第２の露光工程でポジ型のフォトマスクを介して照射される光を破線の矢印で示している。一般的なポジ型レジストの特性により、柱状スペーサ２２形成領域以外のポジ型レジスト膜３０の露光部分がアルカリ可溶性になり、未露光の柱状スペーサ２２形成領域にポジ型パターニング像３３が形成される。このとき、既に硬化しているネガ型パターニング像３２は、露光してもアルカリ可溶性にはならない。ポジ型パターニング像３３は、例えば直径１０μｍの円柱形状であり、２００μｍ間隔でマトリクス状に配置される。ポジ型パターニング像３３は、互いに隣り合うネガ型パターニング像３２のほぼ中間に配置される。したがって、ネガ型パターニング像３２とポジ型パターニング像３３とは、１００μｍ間隔のマトリクス状に交互に配列する。このように、同一のポジ型レジスト膜３０を用いて、ポジ型パターニング像３３とネガ型パターニング像３２とが形成される。
【００２７】
次に、ポジ型レジスト膜３０を一般のポジ現像と同様にアルカリ現像液で現像する。その後純水で洗浄して乾燥させることにより、図３（ｄ）に示すように、ネガ型パターニング像３２から硬化した柱状スペーサ２０が形成され、ポジ型パターニング像３３から未硬化柱状スペーサ２１が形成される。柱状スペーサ２０と未硬化柱状スペーサ２１とは、１００μｍ間隔のマトリクス状に交互に配列する。次に、配向膜に所定のラビング処理を施す。
【００２８】
次に、例えば対向基板４上の外周部に、液晶注入口となる部分を残して熱硬化性のシール材を塗布する。次に、両基板２、４を重ね合わせ、重ね合わせ基板を作製する。次に、重ね合わせ基板を熱処理装置内に装填し、未硬化柱状スペーサ２１及びシール材の硬化温度（例えば１１０℃〜１５０℃）で加圧加熱する。未硬化柱状スペーサ２１は、両基板２、４側からの圧力が加えられた状態で硬化し、両基板２、４に接着した柱状スペーサ２２となる。それとともに、シール材が硬化し、両基板２、４の外周部がシールされる。柱状スペーサ２２及びシール材により、両基板２、４は強固に結合される。その後、液晶注入口から両基板２、４間に液晶６を注入し、封止材により液晶注入口を封止する。以上の工程を経て、液晶表示装置が完成する。
【００２９】
例えば既に述べたポジ型レジストのいずれかを用いることにより、所定のフォトマスクを用いてフォトリソグラフィ法により柱状スペーサ２０、２２（２１）を容易に形成することができるのはもちろん、液晶表示装置の画素領域以外の領域であって、基板２、４間の一定のセルギャップの維持に有効な位置にのみ柱状スペーサ２０、２２（２１）を配置することができる。また、パターニングに先立って基板全面に塗布形成されるポジ型レジスト膜３０の膜厚を調整することにより、セルギャップを容易に制御できる。
【００３０】
液晶表示装置全体において、両基板２、４に接着した柱状スペーサ２２の個数は、柱状スペーサ群の個数の１０％以上９０％以下であることが好ましい。柱状スペーサ２２の個数が柱状スペーサ群の個数の１０％を下回ると、両基板２、４の双方に接着した柱状スペーサ２２が相対的に少なくなる。このため、外圧によりセルギャップが変動し易くなって、干渉縞の発生等の問題が生じる原因となる。一方、柱状スペーサ２２の個数が柱状スペーサ群の個数の９０％を超えると、強度の高い柱状スペーサ２０が相対的に少なくなる。このため、両基板２、４を重ね合わせて加圧加熱した際、多数を占める相対的に強度が低い未硬化柱状スペーサ２１が潰れ、適正なセルギャップが得られなくなって、液晶表示装置の表示品質が低下する。
【００３１】
また、上記のように液晶表示装置全体だけでなく、単位面積毎の柱状スペーサ群に対する柱状スペーサ２２の比率も、良好な表示品質の得られる液晶表示装置を実現するのに重要である。これは、表示領域全体で柱状スペーサ群に対する柱状スペーサ２２の比率が適正であっても、当該比率の分布に偏りがあると表示画面全体で良好な表示品質が得られないからである。基板２、４の表面で１ｃｍ２の面積を有する任意の領域において、両基板２、４の双方に接着した柱状スペーサ２２の個数は、柱状スペーサ群の個数の１０％以上９０％以下であることが好ましい。
【００３２】
柱状スペーサ２２の柱状スペーサ群に対する比率が１ｃｍ２の面積を有するある局所領域において１０％を下回っていると、当該局所領域において両基板２、４の双方に接着した柱状スペーサ２２が相対的に少なくなる。このため、外圧によりセルギャップが変動し易くなって、当該局所領域において干渉縞の発生等の問題が生じかねない。一方、柱状スペーサ２２の柱状スペーサ群に対する比率が１ｃｍ２の面積を有するある局所領域において９０％を上回っていると、当該局所領域において強度の高い柱状スペーサ２０が少なくなる。このため、両基板２、４を重ね合わせ加圧加熱した際、当該局所領域で強度が不足し、適正なセルギャップが得られなくなって液晶表示装置の表示品質が低下しかねない。
【００３３】
本実施の形態による液晶表示装置では、柱状スペーサ２０、２２が、基板２、４との接触面を両底面とする円柱形状又は角柱形状であるときに、良好な表示特性が得られる。円柱形状又は角柱形状の構造体は基板面に平行な断面形状が高さ方向に均一であるため、基板２、４に加えられる上下からの圧力に対し偏った歪みが生じることがない。このため、セルギャップの制御が容易になり、かつセルギャップのばらつきが少なくなる。
【００３４】
また、本実施の形態による液晶表示装置では、未硬化柱状スペーサ２１を対向基板４上に形成した段階で、未硬化柱状スペーサ２１のＴＦＴ基板２側の接触面のうち外周部が硬化状態であり内側が未硬化状態であるときに、より良好な表示特性を得ることができる。これは、未硬化柱状スペーサ２１の外壁となる外周部を硬化させておくことにより、内側の未硬化領域での「だれ」を防止できてＴＦＴ基板４との所定の接触面積を保つことができ、それにより所定の接着性を確保できるからである。
【００３５】
さらに、本実施の形態による液晶表示装置では、図３（ｄ）に示す未硬化柱状スペーサ２１を対向基板４上に形成した段階で、未硬化柱状スペーサ２１のＴＦＴ基板２側の接触面において硬化領域と未硬化領域とが同心状に交互に配置されている場合に、特に良好な表示特性を得ることができる。完成した液晶表示装置の柱状スペーサ２０、２２が両基板２、４に接触した領域を微視的に見ると、基板２、４を重ね合わせる前に硬化した部分のセルギャップが広く、基板２、４を重ね合わせた後に硬化した部分のセルギャップが狭くなっている。未硬化柱状スペーサ２１の硬化領域と未硬化領域を同心状に配置することにより、それらを互いにより近接して交互に配置することができ、セルギャップの均一性を向上させることができる。好ましくは、未硬化柱状スペーサ２１の各硬化領域と未硬化領域はそれぞれ環状（最も内側の部分は円形状）に形成され、同心円状に配置される。このような同心円状の硬化領域と未硬化領域を有する未硬化柱状スペーサ２１については、実施例４を用いて後程説明する。この場合、外側の環状部と中央部が硬化領域となり、中間の環状部が未硬化領域となる。未硬化柱状スペーサ２１の未硬化領域は、完成した液晶表示装置の柱状スペーサ２２では両基板２、４の双方に接着した領域になる。
【００３６】
また、硬化領域と未硬化領域とを有する未硬化柱状スペ―サ２１を対向基板４上に形成する場合、ＴＦＴ基板２との接触面において、未硬化領域の面積が硬化領域と未硬化領域を合わせた未硬化柱状スペ―サ２１全体の面積の１０％以上になるようにすると、良好な表示特性の液晶表示装置が得られる。未硬化領域の面積が全体の面積の１０％未満であると、加熱により未硬化領域を硬化させた際に生じるＴＦＴ基板２との接着性が低くなる。このため、外圧によりセルギャップが変動し、干渉縞の発生等の問題が生じる。
【００３７】
硬化領域と未硬化領域とを有する未硬化柱状スペーサ２１は、第１の露光工程でネガ型パターニング像３１を形成する際に、未硬化柱状スペーサ２１の硬化領域も同時に露光できるフォトマスクを使用することにより、容易に形成することができる。
【００３８】
未硬化柱状スペーサ２１を構成するポジ型レジストの硬化温度は、配向膜のラビング効果が損なわれる温度より低いのが好ましい。当該ポジ型レジストの硬化温度が、配向膜のラビング効果が損なわれる温度以上であると、両基板２、４を重ね合わせて加熱して未硬化柱状スペーサ２１を硬化させる際に、配向膜のラビング効果が消失してしまい良好な表示特性が得られなくなるためである。一般に、配向膜のラビング効果は１５０℃を超えると失われるので、未硬化柱状スペーサ２１を構成するポジ型レジストの硬化温度は１５０℃以下であるのが好ましい。
【００３９】
本実施の形態による液晶表示装置に用いられる液晶は特に限定されない。例えば、ツイステッドネマティック（ＴＮ）型液晶、スーパーツイステッドネマティック（ＳＴＮ）型液晶、ヴァーティカリアラインド（ＶＡ）型液晶、ネマティックコレステリック相転移型液晶、ポリマ分散型液晶、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、ツイストグレインバウンダリ液晶、電傾効果を示すスメクティックＡ相液晶等の公知の液晶を用いることができる。
【００４０】
基板２、４間への液晶の注入方法としては、予め対向させて貼り合わせた基板２、４間に真空を利用して液晶を充填封入する真空注入法や、例えば対向基板４上に液晶を滴下してからＴＦＴ基板２を重ねて貼り合わせる滴下注入法が代表的である。本実施の形態の液晶表示装置は、いずれの注入法によっても製造可能である。滴下注入法による場合、例えば対向基板４上に柱状スペーサ２０及び未硬化柱状スペーサ２１を形成し、対向基板４又はＴＦＴ基板２の周囲にシール材を塗布して、液晶を滴下した後に両基板２、４を重ね合わせて重ね合わせ基板を作製する。その後、重ね合わせ基板を加圧加熱する。これにより、シール材が硬化するとともに未硬化柱状スペーサ２１が硬化して、基板２、４の双方に接着した柱状スペーサ２２が形成される。
【００４１】
以下、本実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法について、具体的実施例及び比較例を用いて説明する。
（実施例１）
本実施の形態による液晶表示装置の製造方法に基づいて、本実施例による液晶表示装置を次のように製造した。ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜からなる透明電極が形成された２００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍの一対のガラス基板上に、濃度３ｗｔ％のポリイミド溶液をスピンコータにより２０００ｒｐｍの回転数で塗布する。次に、ガラス基板を２００℃で３０分間焼成して配向膜を形成する。
【００４２】
一方のガラス基板（対向基板４）の配向膜上に、スピンコート法を用いてポジ型レジスト材料（例えばＴＰＡＲ−ＰＯ１２ＭＰ、東京応化工業社製）を塗布し、膜厚２μｍのポジ型レジスト膜３０を形成する。次に、ホットプレートを用いてポジ型レジスト膜３０を１００℃で１分間プリベークする。次いで、柱状スペーサ２０の形成される領域が開口されたネガ型のフォトマスクを用いて、紫外線露光装置により２０分間露光してネガ型パターニング像３２を形成する。ネガ型パターニング像３２は、直径１０μｍの円柱形状であり、２００μｍ間隔でマトリクス状に配置される。
【００４３】
次に、柱状スペーサ２２の形成される領域が遮光されるポジ型のフォトマスクを用いて、紫外線露光装置により３０秒間露光してポジ型パターニング像３３を形成する。ポジ型パターニング像３３は、直径１０μｍの円柱形状であり、２００μｍ間隔でマトリクス状に配置される。ネガ型パターニング像３２及びポジ型パターニング像３３は、互いにほぼ同じ個数だけ形成され、１００μｍ間隔のマトリクス状に交互に配列する。
【００４４】
次に、ポジ型レジスト膜３０を現像し、純水で洗浄後乾燥させて、１００μｍ間隔でマトリクス状に交互に配列する柱状スペーサ２０と未硬化柱状スペーサ２１とを形成する。続いて、両基板２、４上の配向膜のラビング処理を行う。次に、１５０℃、１時間で硬化するエポキシ樹脂（シール材）を液晶注入口となる部分以外の対向基板４の外周部に印刷法によって付着させる。次に、両基板２、４を透明電極が向かい合うように重ね合わせ、重ね合わせ基板を作製する。次に、重ね合わせ基板を真空袋に入れて１５０℃で１時間加熱し、エポキシ樹脂を硬化させるとともに、未硬化柱状スペーサ２１を硬化させて、ＴＦＴ基板２に接着した柱状スペーサ２２を形成する。これにより、貼り合わせ基板が作製される。次に、真空注入法を用いて液晶注入口から強誘電性液晶を注入して液晶注入口を封止する。以上の工程を経て、強誘電性液晶を用いたセルギャップ２μｍの液晶表示装置が得られた。
【００４５】
この液晶表示装置をクロスニコル下に置き、先端径が０．８ｍｍのペン先を用いて荷重１００ｇで表示部の中央を押したところ、ペン先の周囲に表示色の変化は見られなかった。これにより、この液晶表示装置は液晶層厚を小さくする外力に対して、耐ストレス性を備えることが示された。また、液晶表示装置の中央部を支持し、両端に３００ｇの荷重を加えたところ、表示画面全体にわたって表示色の変化は観察されず、液晶層厚は全面にわたって変化しなかった。
【００４６】
（実施例２）
未硬化柱状スペーサ２１の個数を柱状スペーサ群の個数の１０％にしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００４７】
（実施例３）
未硬化柱状スペーサ２１の個数を柱状スペーサ群の個数の９０％にしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００４８】
（実施例４）
第１の露光工程で用いるフォトマスクを改造して、未硬化柱状スペーサ２１が以下のような接触面をＴＦＴ基板２側に有するように露光する。図４は、本実施例の未硬化柱状スペーサ２１の構成を示す斜視図である。図４に示すように、未硬化柱状スペーサ２１は、硬化領域である内側の円形部分４０（直径２μｍ）、未硬化領域である中間の環状部分４２（外径６μｍ、幅２μｍ）、硬化領域である外側の環状部分４４（外径１０μｍ、幅２μｍ）から構成される３重円状の接触面を有している。未硬化柱状スペーサ２１は、接触面に平行に切断したいずれの断面も同様の構成を有している。上記以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００４９】
（実施例５）
第１の露光工程で用いるフォトマスクを改造して、未硬化柱状スペーサ２１が外周部の硬化領域と内側の未硬化領域とを有し、硬化領域の断面積が未硬化柱状スペーサ２１の断面積の１０％になるようにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５０】
（実施例６）
第１の露光工程で用いるフォトマスクを改造して、未硬化柱状スペーサ２１が外周部の硬化領域と内側の未硬化領域とを有し、硬化領域の断面積が未硬化柱状スペーサ２１の断面積の９０％になるようにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５１】
（実施例７）
第１及び第２の露光工程で用いるフォトマスクを改造して、未硬化柱状スペーサ２１を四角柱形状にし、かつ未硬化柱状スペーサ２１が外周部の硬化領域と内側の未硬化領域とを有し、硬化領域の断面積が未硬化柱状スペーサ２１の断面積の１０％になるようにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５２】
（実施例８）
第１及び第２の露光工程で用いるフォトマスクを改造して、未硬化柱状スペーサ２１を四角柱形状にし、かつ未硬化柱状スペーサ２１が外周部の硬化領域と内側の未硬化領域とを有し、硬化領域の断面積が未硬化柱状スペーサ２１の断面積の９０％になるようにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５３】
（実施例９）
強誘電性液晶をツイステッドネマティック型液晶に換え、セルギャップを６μｍにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５４】
（実施例１０）
強誘電性液晶をスーパーツイステッドネマティック型液晶に換え、セルギャップを６μｍにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５５】
（実施例１１）
強誘電性液晶をネマティックコレステリック相転移型液晶に換え、セルギャップを６μｍにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５６】
（実施例１２）
強誘電性液晶を反強誘電性液晶に換えたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５７】
（実施例１３）
強誘電性液晶をツイストグレインバウンダリ液晶に換え、セルギャップを６μｍにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５８】
（実施例１４）
強誘電性液晶をスメクティックＡ相液晶に換え、セルギャップを６μｍにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００５９】
（実施例１５）
液晶注入方法として、真空注入法に代えて滴下注入法を採用し、柱状スペーサ群を形成した対向基板４上に強誘電性液晶を滴下した後、両基板２、４を重ね合わせて加熱することにより、シール材と柱状スペーサ２２とを介して両基板２、４を貼り合わせたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。減圧下での液晶注入時間が不要になるため、実施例１に比べ、製造時間を短縮できた。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価したところ、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００６０】
（実施例１６）
柱状スペーサ２０形成領域では光透過率９０％以上、柱状スペーサ２２形成領域では光透過率０％、柱状スペーサ２０、２２形成領域以外であって現像によりポジ型レジスト膜３０が除去される領域では光透過率５％となるフォトマスクを作製した。このフォトマスクを用いてＵＶ光を２０分間照射し、一回の露光でネガ型パターニング像３１とポジ型パターニング像３３とを形成したこと以外は実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した結果、実施例１と同様に良好な表示特性を示すことが分かった。
【００６１】
（比較例１）
対向基板４上にネガ型レジスト材料を塗布し、ネガ型レジスト膜を形成する。その後、直径１０μｍの柱状スペーサ群の形成される領域が全て開口されたネガ型のフォトマスクを用いて、紫外線露光装置により１分間露光してネガ型パターニング像を形成する。ベーク後に現像し、一度の露光工程で全ての柱状スペーサ群を形成する。基板２、４を重ね合わせる段階で、全ての柱状スペーサ群は既に硬化している。上記以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した。本例では、両基板２、４を貼り合わせる際に、柱状スペーサ群が全て硬化しているため、柱状スペーサ群とＴＦＴ基板２とが接着されなかった。先端径０．８ｍｍのペン先により荷重１００ｇで表示部の中央を押したところ、ペン先の周囲に表示色の変化が見られ、表示不良が認められた。
【００６２】
（比較例２）
対向基板４上にネガ型レジスト材料を塗布し、ネガ型レジスト膜を形成する。その後、直径１０μｍの柱状スペーサ群の形成される領域が全て開口されたネガ型のフォトマスクを用いて、紫外線露光装置により１０秒間露光してネガ型パターニング像を形成する。ベーク後に現像し、一度の露光工程で全ての柱状スペーサ群を形成する。基板２、４を重ね合わせる段階で、全ての柱状スペーサ群は露光不足のため未硬化である。上記以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した。本例では、柱状スペーサ群が全て未硬化であるため、両基板２、４を重ね合わせて加圧加熱する際に柱状スペーサ群が潰れ、２μｍのセルギャップが形成できなかった。本例の液晶表示装置では、良好な表示が得られなかった。
【００６３】
（比較例３）
第１及び第２の露光工程で用いるフォトマスクを改造して、未硬化柱状スペーサ２１の個数を柱状スペーサ群の個数の８％になるようにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した。本例では柱状スペーサ群とＴＦＴ基板２との十分な接着性が得られないため、先端径０．８ｍｍのペン先により荷重１００ｇで表示部の中央を押したところ、ペン先の周囲に表示色の変化が見られ、表示不良が認められた。
【００６４】
（比較例４）
第１及び第２の露光工程で用いるフォトマスクを改造して、未硬化柱状スペーサ２１の個数を柱状スペーサ群の個数の９５％になるようにしたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価したところ、セルギャップの維持に必要な強固な柱状スペーサ２０が不足するため、両基板２、４を重ね合わせて加圧加熱する際に未硬化柱状スペーサ２１が潰れ、２μｍのセルギャップが形成できなかった。このため、この液晶表示装置では良好な表示特性が得られなかった。
【００６５】
（比較例５）
第１の露光工程で用いるフォトマスクを改造して、未硬化柱状スペーサ２１の外周部の硬化領域の断面積を未硬化柱状スペーサ２１の断面積の９５％にしたこと以外は、実施例５と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した。本例では未硬化柱状スペーサ２１とＴＦＴ基板２との十分な接着性が得られないため、先端径０．８ｍｍのペン先により荷重１００ｇで表示部の中央を押したところ、ペン先の周囲に表示色の変化が見られ、表示不良が認められた。
【００６６】
（比較例６）
第１の露光工程で用いるフォトマスクを改造して、未硬化柱状スペーサ２１の外周部の硬化領域の断面積を未硬化柱状スペーサ２１の断面積の９５％にしたこと以外は、実施例７と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した。本例では未硬化柱状スペーサ２１とＴＦＴ基板２との十分な接着性が得られないため、先端径０．８ｍｍのペン先により荷重１００ｇで表示部の中央を押したところ、ペン先の周囲に表示色の変化が見られ、表示不良が認められた。
【００６７】
（比較例７）
柱状スペーサ群の形成材料として、１９０℃、１時間で硬化するレジスト材料を用い、未硬化柱状スペーサ２１を１９０℃で１時間加熱して硬化させ、ＴＦＴ基板２に接着させたこと以外は、実施例１と同一条件で液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置を実施例１と同様に評価した。本例で用いたレジスト材料の硬化温度は、配向膜のラビング効果が損なわれる温度（本例では１８０℃）より高かったため、配向膜の液晶に対する配向規制力が熱により低下し、液晶表示装置の表示品質が低下した。
【００６８】
以上説明したように、本実施の形態では、球状スペーサ等を混合せずに十分な強度を持つ柱状スペーサ２０と、両基板２、４を貼り合わせる際にＴＦＴ基板２に対する接着性が生じる柱状スペーサ２２とが混合して用いられている。これにより、液晶表示装置の有効表示領域でのセルギャップを均一かつ一定に維持でき、また基板２、４間を強固に結合できる。このため、液晶表示装置の表示領域内でのコントラストや応答速度の均一性が改善される。本実施の形態によれば、外圧に対する十分な強度と良好な表示特性とを両立可能な液晶表示装置を実現できる。
【００６９】
また本実施の形態によれば、両柱状スペーサ２０、２２を容易に形成でき、しかも露光工程から現像工程までに加熱工程を挟まないため、製造工程を簡略化でき、液晶表示装置の安定な製造を実現できる。
【００７０】
さらに本実施の形態では、柱状スペーサ２０、２２を配向膜上に形成しているため、基板上にスペーサを配置した状態での配向膜材料溶液の塗布に関する問題が生じない。また本実施の形態では、基板上に散布される球状スペーサを用いず、柱状スペーサ２０、２２を用いているため、配向膜のラビング処理の際にスペーサが剥がれ落ちてしまう問題も生じない。
【００７１】
本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態では、対向基板４上に柱状スペーサ群を形成しているが、本発明はこれに限らず、ＴＦＴ基板２上に柱状スペーサ群を形成してもよい。
【００７２】
また、上記実施の形態では透過型の液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、反射型や半透過型等の他の液晶表示装置にも適用できる。
【００７３】
以上説明した実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法は、以下のようにまとめられる。
（付記１）
少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記一対の基板間に封止された液晶と、
一方の前記基板に接着した第１の接着面を有する第１の柱状スペーサと、前記第１の接着面と他方の前記基板に接着した第２の接着面とを有する第２の柱状スペーサとを含み、露光工程と現像工程との間に加熱工程を挟まずにポジ型感光性材料で形成され、前記一対の基板間のセルギャップを維持する柱状スペーサ群とを有することを特徴とする液晶表示装置。
【００７４】
（付記２）
付記１記載の液晶表示装置において、
前記第２の柱状スペーサの個数は、前記柱状スペーサ群の個数の１０％以上９０％以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【００７５】
（付記３）
付記２記載の液晶表示装置において、
前記第２の柱状スペーサの個数は、前記基板表面で１ｃｍ２の面積を有する任意の領域において、前記柱状スペーサ群の個数の１０％以上９０％以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【００７６】
（付記４）
付記１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記第１及び第２の柱状スペーサは、前記一対の基板との接触面を両底面とする円柱形状又は角柱形状であることを特徴とする液晶表示装置。
【００７７】
（付記５）
付記１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記第２の接着面は、前記第２の柱状スペーサの前記他方の基板との接触面の一部であることを特徴とする液晶表示装置。
【００７８】
（付記６）
付記５記載の液晶表示装置において、
前記第２の接着面は、前記他方の基板との接触面のうち内側部分であることを特徴とする液晶表示装置。
【００７９】
（付記７）
付記６記載の液晶表示装置において、
前記第２の接着面及び前記他方の基板との接触面は、互いに同心状に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【００８０】
（付記８）
付記５乃至７のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記第２の接着面は、前記接触面の面積の少なくとも１０％の面積を有していることを特徴とする液晶表示装置。
【００８１】
（付記９）
付記１乃至８のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記ポジ型感光性材料は、前記一対の基板の対向面に形成される配向膜のラビング効果が損なわれる温度より低い硬化温度を有することを特徴とする液晶表示装置。
【００８２】
（付記１０）
一方の基板上にポジ型感光性材料を塗布して感光性材料層を形成する第１の工程と、
前記感光性材料層を露光する第２の工程と、
加熱工程を経ずに、露光された前記感光性材料層を現像して、硬化した第１の柱状スペーサと少なくとも一部が未硬化の未硬化柱状スペーサとを含む柱状スペーサ群を前記一方の基板上に形成する第３の工程と、
前記一方の基板と他方の基板とを重ね合わせ、前記第１の柱状スペーサによりセルギャップが決定される重ね合わせ基板を作製する第４の工程と、
前記未硬化柱状スペーサを硬化させて第２の柱状スペーサを形成するとともに、前記第２の柱状スペーサを前記他方の基板に接着させて前記一方の基板と前記他方の基板とを貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する第５の工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００８３】
（付記１１）
付記１０記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第２の工程は、前記第１の柱状スペーサを形成するネガ型パターニング像と、前記未硬化柱状スペーサを形成するポジ型パターニング像とを形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００８４】
（付記１２）
付記１０又は１１に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第３の工程は、硬化した硬化領域と未硬化の未硬化領域とを有する前記未硬化柱状スペーサを形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００８５】
（付記１３）
付記１２記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第２の工程は、前記硬化領域を形成するネガ型パターニング像と、前記未硬化領域を形成するポジ型パターニング像とを形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００８６】
（付記１４）
付記１２又は１３に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記未硬化領域は、前記硬化領域の内側部分に形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００８７】
（付記１５）
付記１４記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記未硬化領域及び前記硬化領域は、互いに同心状に形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００８８】
（付記１６）
付記１２乃至１５のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記未硬化領域は、前記硬化領域の面積の少なくとも１０％の面積に形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００８９】
（付記１７）
付記１２乃至１６記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第５の工程は、前記第２の柱状スペーサの前記未硬化領域を前記他方の基板に接着させることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００９０】
（付記１８）
付記１１乃至１７のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記ポジ型パターニング像は、前記ポジ型感光性材料を所定露光量で露光して形成され、
前記ネガ型パターニング像は、前記ポジ型感光性材料を前記所定露光量より多い過剰露光量で露光して形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００９１】
（付記１９）
付記１１乃至１８のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記ネガ型パターニング像及び前記ポジ型パターニング像は、ほぼ同時に形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００９２】
（付記２０）
付記１９記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記ネガ型パターニング像及び前記ポジ型パターニング像は、透過率が互いに異なる３つ以上の領域を有するフォトマスクを用いて形成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００９３】
（付記２１）
付記１０乃至２０のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記第３の工程は、前記未硬化柱状スペーサを前記柱状スペーサ群の個数の１０％以上９０％以下の個数形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００９４】
（付記２２）
付記２１記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第３の工程は、前記基板表面で１ｃｍ２の面積を有する任意の領域において、前記未硬化柱状スペーサを前記柱状スペーサ群の個数の１０％以上９０％以下の個数形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００９５】
（付記２３）
付記１０乃至２２のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記第５の工程は、前記重ね合わせ基板を所定の加熱温度で加熱し、
前記加熱温度は、前記重ね合わせ基板の対向面に形成された配向膜のラビング効果が損なわれる温度より低いことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００９６】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によれば、製造工程を簡略化でき、外圧に対する十分な強度と良好な表示特性とを両立可能な液晶表示装置及びその製造方法を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。
【図３】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図４】本発明の一実施の形態の実施例４による液晶表示装置の一製造工程における未硬化柱状スペーサの構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
２  ＴＦＴ基板
４  対向基板
１２  シール材
２０、２２  柱状スペーサ
２１  未硬化柱状スペーサ
３０、３１  ポジ型レジスト膜
３２  ネガ型パターニング像
４０  円形部分
４２、４４  環状部分
８０  ゲートバスライン駆動回路
８２  ドレインバスライン駆動回路
８４  制御回路
８６、８７  偏光板
８８  バックライトユニット
【図１】
2004252243.tif 000003
【図２】
2004252243.tif 000004
【図３】
2004252243.tif 000005
【図４】
2004252243.tif 000006