(57)【要約】【課題】専用のマスクを用いることなく、液晶表示パネルと一体の微細位相差板を製造する生産方法を提供することを目的とする。【解決手段】光透過性部材の一方の表面に位相差フィルム層を形成し、該位相差フィルム上にフォトレジスト層を形成し、所定の画素を光が透過しない状態にした前記液晶表示パネルと前記光透過性部材とを重ね合わせ、該液晶表示パネルを透過する方向からフォトレジストに光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させ、前記フォトレジストの光が照射された部位、又は、前記フォトレジストの光が照射されなかった部位のいずれかを溶解して除去し、前記位相差フィルムのうち、前記フォトレジストが除去された部分を溶解して除去し、前記除去されなかったフォトレジストを除去することによって位相差フィルムを生産する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性部材の一方の表面に位相差フィルム層を形成し、
該位相差フィルム上にフォトレジスト層を形成し、
所定の画素を光が透過しない状態にした前記液晶表示パネルと前記光透過性部材とを重ね合わせ、該液晶表示パネルを透過する方向からフォトレジストに光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させ、
前記フォトレジストの光が照射された部位、又は、前記フォトレジストの光が照射されなかった部位のいずれかを溶解して除去し、
前記位相差フィルムのうち、前記フォトレジストが除去された部分を溶解して除去し、
前記除去されなかったフォトレジストを除去することを特徴とする微細位相差板の生産方法。
【請求項２】
前記液晶表示パネルの水平ライン方向に拡散し、前記水平ラインと直交する方向の拡散を抑制した光を前記フォトレジストに照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させることを特徴とする請求項１に記載の微細位相差板の生産方法。
【請求項３】
照射方向が前記液晶表示パネルの水平ライン方向に移動する光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させることを特徴とする請求項１に記載の微細位相差板の生産方法。
【請求項４】
液晶表示パネルの一方の表面に位相差フィルム層を形成し、
該位相差フィルム上にフォトレジスト層を形成し、
所定の画素を光が透過しない状態にした前記液晶表示パネルと前記光透過性部材とを接着し、該液晶表示パネルを透過する方向からフォトレジストに光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させ、
前記フォトレジストの光が照射された部位、又は、前記フォトレジストの光が照射されなかった部位のいずれかを溶解して除去し、
前記位相差フィルムのうち、前記フォトレジストが除去された部分を溶解して除去し、
前記除去されなかったフォトレジストを除去することを特徴とする位相差フィルムが設けられた液晶表示パネルの生産方法。
【請求項５】
前記液晶表示パネルの前記位相差フィルムを接着した面の、前記液晶表示パネルと前記位相差フィルムとの間には、前記液晶表示パネルを保護する保護層が形成されることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示パネルの生産方法。
【請求項６】
前記液晶表示パネルの水平ライン方向に拡散し、前記水平ラインと直交する方向の拡散を抑制した光を前記フォトレジストに照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させることを特徴とする請求項４又は５に記載の液晶表示パネルの生産方法。
【請求項７】
照射方向が前記液晶表示パネルの水平ライン方向に移動する光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させることを特徴とする請求項４又は５に記載の液晶表示パネルの生産方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は微細位相差板の生産方法に関し、特に液晶表示パネルと共に用いられる微細位相差板の生産方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、三次元画像表示装置は、微細位相差板（直線偏光フィルタ）を用い、直線偏光フィルタの透光ラインに合わせて液晶表示パネルの１水平ライン毎に右眼用と左眼用の映像情報を交互に表示し、左眼映像及び右眼映像を各々の目の方向に放射する構成のものが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
また、このような微細位相差板（分割波長板）の製造方法には、金属層をマスクとするエッチングプロセスによって加工する技術が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平１０−６３１９９号公報
【特許文献２】
特開平７−７２３３１号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前述した微細位相差板の製造方法では、レジスト層を形成するために専用のマスクが必要であり、このマスクは微細位相差板の形状（ピッチ）によって異なるものを作成する必要があった。
【０００６】
また、微細位相差板は液晶表示パネルと別に製造されるので、微細位相差板と液晶表示パネルとの位置を合わせて組み合わせる工程が必要となり、その際に微細位相差板と液晶表示パネルとの位置ズレが生じる可能性がある。
【０００７】
本発明は、専用のマスクを用いることなく、液晶表示パネルと一体の微細位相差板を製造する生産方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
第１の発明は、光透過性部材の一方の表面に位相差フィルム層を形成し、該位相差フィルム上にフォトレジスト層を形成し、所定の画素を光が透過しない状態にした前記液晶表示パネルと前記光透過性部材とを重ね合わせ、該液晶表示パネルを透過する方向からフォトレジストに光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させ、前記フォトレジストの光が照射された部位、又は、前記フォトレジストの光が照射されなかった部位のいずれかを溶解して除去し、前記位相差フィルムのうち、前記フォトレジストが除去された部分を溶解して除去し、前記除去されなかったフォトレジストを除去することを特徴とする微細位相差板の生産方法である。
【０００９】
第２の発明は、第１の発明において、前記液晶表示パネルの水平ライン方向に拡散し、前記水平ラインと直交する方向の拡散を抑制した光を前記フォトレジストに照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させることを特徴とする。
【００１０】
第３の発明は、第１の発明において、照射方向が前記液晶表示パネルの水平ライン方向に移動する光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させることを特徴とする。
【００１１】
第４の発明は、液晶表示パネルの一方の表面に位相差フィルム層を形成し、該位相差フィルム上にフォトレジスト層を形成し、所定の画素を光が透過しない状態にした前記液晶表示パネルと前記光透過性部材とを接着し、該液晶表示パネルを透過する方向からフォトレジストに光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させ、前記フォトレジストの光が照射された部位、又は、前記フォトレジストの光が照射されなかった部位のいずれかを溶解して除去し、前記位相差フィルムのうち、前記フォトレジストが除去された部分を溶解して除去し、前記除去されなかったフォトレジストを除去することを特徴とする位相差フィルムが設けられた液晶表示パネルの生産方法である。
【００１２】
第５の発明は、第４の発明において、前記液晶表示パネルの前記位相差フィルムを接着した面の、前記液晶表示パネルと前記位相差フィルムとの間には、前記液晶表示パネルを保護する保護層が形成されることを特徴とする。
【００１３】
第６の発明は、第４又は第５の発明において、前記液晶表示パネルの水平ライン方向に拡散し、前記水平ラインと直交する方向の拡散を抑制した光を前記フォトレジストに照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させることを特徴とする。
【００１４】
第７の発明は、第４又は第５の発明において、照射方向が前記液晶表示パネルの水平ライン方向に移動する光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させることを特徴とする。
【００１５】
【発明の作用および効果】
第１の発明では、光透過性部材の一方の表面に位相差フィルム層を形成し、該位相差フィルム上にフォトレジスト層を形成し、所定の画素を光が透過しない状態にした前記液晶表示パネルと前記光透過性部材とを重ね合わせ、該液晶表示パネルを透過する方向からフォトレジストに光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させ、前記フォトレジストの光が照射された部位、又は、前記フォトレジストの光が照射されなかった部位のいずれかを溶解して除去し、前記位相差フィルムのうち、前記フォトレジストが除去された部分を溶解して除去し、前記除去されなかったフォトレジストを除去することによって微細位相差板を生産するので、液晶表示パネルに対応した専用のマスクを用いることなく、様々な微細位相差板を生産することができる。
【００１６】
第２の発明では、前記液晶表示パネルの水平ライン方向に拡散し、前記水平ラインと直交する方向の拡散を抑制した光を前記フォトレジストに照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させるので、一度に広範囲に光を照射することができ、液晶表示パネルの画素ピッチに合わせた微細位相差板の露光時間を短縮することができ、生産効率を向上させることができる。
【００１７】
第３の発明では、照射方向が前記液晶表示パネルの水平ライン方向に移動する光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させるので、簡単な露光装置で、液晶表示パネルの画素ピッチに合わせた微細位相差板の露光をすることができる。
【００１８】
第４の発明では、液晶表示パネルの一方の表面に位相差フィルム層を形成し、該位相差フィルム上にフォトレジスト層を形成し、所定の画素を光が透過しない状態にした前記液晶表示パネルと前記光透過性部材とを接着し、該液晶表示パネルを透過する方向からフォトレジストに光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させ、前記フォトレジストの光が照射された部位、又は、前記フォトレジストの光が照射されなかった部位のいずれかを溶解して除去し、前記位相差フィルムのうち、前記フォトレジストが除去された部分を溶解して除去し、前記除去されなかったフォトレジストを除去することを特徴とする位相差フィルムが設けられた液晶表示パネルを生産するので、液晶表示パネルに対応した専用のマスクを用いることなく、位相差フィルムが設けられた液晶表示パネルを生産することができるうえに、液晶表示パネルに微細位相差板を後に接着する場合と比べ、微細位相差板と液晶表示パネルとの位置ズレを防止することができる。
【００１９】
第５の発明では、前記液晶表示パネルの前記位相差フィルムを接着した面の、前記液晶表示パネルと前記位相差フィルムとの間には、前記液晶表示パネルを保護する保護層が形成されるので、フォトレジストや位相差フィルムを溶解する薬液による侵食から、液晶表示パネルを保護することができる。
【００２０】
第６の発明では、前記液晶表示パネルの水平ライン方向に拡散し、前記水平ラインと直交する方向の拡散を抑制した光を前記フォトレジストに照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させるので、一度に広範囲に光を照射することができ、液晶表示パネルの画素ピッチに合わせた位相差フィルムの露光時間を短縮することができ、生産効率を向上させることができる。
【００２１】
第７の発明では、照射方向が前記液晶表示パネルの水平ライン方向に移動する光を照射して、前記フォトレジストの光が照射された部位に化学反応を発生させるので、簡単な露光装置で、液晶表示パネルの画素ピッチに合わせた位相差フィルムの露光をすることができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。
【００２３】
図１は、本発明の実施の形態の微細位相差板が設けられた液晶表示パネルを示す正面図及び側面図である。
【００２４】
微細位相差板は、液晶表示パネル１０の表面に構成されており、微細位相差板の加工時に液晶表示パネルを保護する対薬コート層１と、透過する光の偏光軸を９０度回転させる位相差板としての１／２波長板２とが設けられている。１／２波長板２は、液晶表示パネル１０の画素ピッチと略同一の間隔の微細な間隔で繰り返し連続して配置されている。
【００２５】
また、液晶表示パネル１０の表面には偏光フィルタ（図示省略）が設けられているので、１／２波長板が設けられているため透過光の偏光を変えて該偏光フィルタを透過する光と、１／２波長板が設けられていないため透過光の偏光を変ないで該偏光フィルタを透過する光とは、偏光軸が９０度異なっている。すなわち、液晶表示パネル１０の１ライン毎に入射時の透過光の偏光が異なるものとなる。
【００２６】
図２は、本発明の実施の形態の微細位相差板の生産方法を示す断面図である。
【００２７】
図２（ａ）は、微細位相差板の基材となるガラス板４を示し、未だ何も加工がされていない状態である。
【００２８】
まず、ガラス板４の一方の表面に位相差フィルム２を貼り付けて位相差フィルム層を形成する位相差フィルム貼付工程を行う。図２（ｂ）は、位相差フィルム２が貼り付けられた状態を示す。位相差フィルム２は、１／２波長板として機能し、入射光の偏光軸を９０度回転させて出射するもので、結晶軸を揃えたポリカーボネート（ＰＣ）又はポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いる。
【００２９】
次に、位相差フィルム２の上に重ねて、フォトレジスト剤３を塗布してフォトレジスト層を形成するフォトレジスト塗布工程を行う。図２（ｃ）は、フォトレジスト剤３が塗布された状態を示す。フォトレジスト剤３は、位相差フィルム２をエッチングする際のコーティングとして機能し、後述する露光工程によって光が照射された部分のフォトレジスト剤３の分子構造が分解する化学反応を発生するポジ型フォトレジストが選択される。このポジ型フォトレジストは、ノボラック樹脂に、感光剤として機能するナフトキノンジアジド化合物を混合して構成されており、光を照射することでアルカリ溶液に溶解可能な物質に化学変化するものである。
【００３０】
次に、位相差フィルム２及びフォトレジスト剤３が重ねられたガラス板４と、露光パターンを表示する液晶表示パネル１０を重ね合わせて固定する。
【００３１】
そして、液晶表示パネル１０に露光パターン信号に従った露光パターンを表示して、露光パターンによって光を透過する画素と光を透過させない画素とを定める。本実施の形態の微細位相差板の生産方法では、該微細位相差板が使用される液晶表示パネルの水平ライン毎に位相差フィルム２の有無が異なる微細位相差板が生産されるので、液晶表示パネル１０の水平ライン一本毎に白黒（透過／非透過）のパターンが繰り返される露光パターンを表示する。
【００３２】
そして、液晶表示パネル１０側から光を照射して、露光パターンを透過した光でフォトレジスト剤３の分子構造を分解する。露光用の光源１００と液晶表示パネル１０の間にはレンズ１０１が設けられており、光源から放射状に放射された光は略平行状態になって液晶表示パネル１０に照射される。この光源１００は白色光源でも単色光源でもよい。図２（ｄ）に露光工程を示す。
【００３３】
すなわち、この露光工程では、フォトレジスト剤３のうち光を透過する画素に対応する部分は光が照射されるのでフォトレジスト剤３の分子構造が分解する。一方、光を透過しない画素に対応する部分は光が照射されないのでフォトレジスト剤３の分子構造が分解しない。
【００３４】
次に、フォトレジスト剤３のうち分子構造が分解した部分（光が照射された部分）を洗い流して除去する洗浄工程を行う。この工程で用いる洗浄液は、フォトレジスト剤３に対応して選択されており、本実施の形態ではアルカリ液を用いる。図２（ｅ）にフォトレジスト剤３の洗浄後の状態を示す。
【００３５】
次に、位相差フィルム２を薬液でエッチングするエッチング工程を行う。この工程では有機溶剤（トルエン、アセトン）によって位相差フィルム２のポリカーボネート（又はポリビニルアルコール）のフォトレジスト剤３で覆われていない部分を溶解して除去する。すなわち、露光工程で光の当たっている部分に対応する位相差フィルム２がエッチング薬液によって除去され、液晶表示パネルに表示された露光パターンに従って、水平ライン一本毎に位相差フィルムが残った微細位相差板が形成される。図２（ｆ）に位相差フィルム２のエッチング後の状態を示す。
【００３６】
次に、残ったフォトレジスト剤３に液晶表示パネルを介さずに光を当て、残ったフォトレジスト剤３を全て分解し、レジスト除去液で溶解して除去して、本発明に係る生産方法によって製造された微細位相差板が完成する。図２（ｇ）にフォトレジスト剤３の除去後の状態を示す。
【００３７】
図３、図４は、本発明の実施の形態の微細位相差板が設けられた液晶表示パネルの生産方法を示す断面図である。
【００３８】
図３（ａ）は、液晶表示パネル１０を示し、未だ何も加工がされていない状態である。
【００３９】
まず、液晶表示パネル１０の一方の表面に対薬コート剤１を塗布して保護層を形成する対薬コート剤塗布工程を行う。図３（ｂ）は、液晶表示パネル１０の一方の表面に対薬コート剤１が塗布された状態を示す。この対薬コート剤１は、後の洗浄、エッチング等の処理において、液晶表示パネル１０の表面に設けられている偏光板や反射防止層が冒されないように保護するものである。なお、液状の対薬コート剤１を、液晶表示パネル１０の表面に塗布してもよいが、予めフィルム状の対薬コート剤を形成して、液晶表示パネル１０の表面に貼り付けてもよい。
【００４０】
次に、対薬コート剤１の上に重ねて、位相差フィルム２を貼り付けて位相差フィルム層を形成知る位相差フィルム貼付工程を行う。図３（ｃ）は、位相差フィルム２が貼り付けられた状態を示す。位相差フィルム２は１／２波長板として機能し、結晶軸を揃えたポリカーボネート（ＰＣ）又はポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いる。
【００４１】
次に、位相差フィルム２の上に重ねて、フォトレジスト剤３を塗布してフォトレジスト層を形成するフォトレジスト塗布工程を行う。図３（ｄ）は、フォトレジスト剤３が塗布された状態を示す。フォトレジスト剤３は、位相差フィルム２をエッチングする際のコーティングとして機能し、後述する露光工程によって光が照射された部分の分子構造が分解するポジ型フォトレジストが選択される。
【００４２】
次に、液晶表示パネル１０に露光パターン信号に従った露光パターンを表示して、露光パターンによって光を透過する画素と光を透過させない画素とを定める。本実施の形態の微細位相差板が設けられた液晶表示パネルの生産方法では、液晶表示パネル１０の水平ライン毎に位相差フィルム２の有無が異なる微細位相差板が設けられた液晶表示パネルが生産されるので、液晶表示パネル１０の水平ライン一本毎に白黒（透過／非透過）のパターンが繰り返される露光パターンを表示する。
【００４３】
そして、液晶表示パネル１０側から光を照射して、露光パターンを透過した光でフォトレジスト剤３の分子構造を分解する。露光用の光源１００と液晶表示パネル１０の間にはレンズ１０１が設けられており、光源から放射状に放射された光は略平行状態になって液晶表示パネル１０に照射される。この光源１００は白色光源でも単色光源でもよい。図３（ｅ）に露光工程を示す。
【００４４】
すなわち、この露光工程では、フォトレジスト剤３のうち光を透過する画素に対応する部分は光が照射されるのでフォトレジスト剤３の分子構造が分解する。一方、光を透過しない画素に対応する部分は光が照射されないのでフォトレジスト剤３の分子構造が分解しない。
【００４５】
次に、フォトレジスト剤３のうち分子構造が分解した部分（光が照射されていない部分）を洗い流して除去する洗浄工程を行う。この工程で用いる洗浄液は、フォトレジスト剤３に対応して定められており、本実施の形態ではアルカリ液を用いる。図４（ｆ）にフォトレジスト剤３の洗浄後の状態を示す。
【００４６】
次に、位相差フィルム２を薬液でエッチングするエッチング構成を行う。この工程では有機溶剤（トルエン、アセトン）によって位相差フィルム２のポリカーボネート（又はポリビニルアルコール）のフォトレジスト剤３で覆われていない部分を溶解して除去する。すなわち、露光工程で光の当たっている部分に対応する位相差フィルム２がエッチング薬液によって除去され、液晶表示パネルに表示された露光パターンに従って、水平ライン一本毎に位相差フィルムが残った微細位相差板が液晶表示パネル１０上に形成される。図４（ｇ）に位相差フィルム２のエッチング後の状態を示す。
【００４７】
次に、残ったフォトレジスト剤３に液晶表示パネルを介さずに光を当て、残ったフォトレジスト剤３を全て分解し、レジスト除去液で溶解して除去して、本発明に係る生産方法によって製造された微細位相差板が設けられた液晶表示パネルが完成する。図４（ｈ）にフォトレジスト剤３の除去後の状態を示す。
【００４８】
また、フォトレジスト剤３は光の作用によって分子構造が分解する化学反応を発生するものであってもよいし、分子構造が変化して硬化する化学反応を発生するものであってもよい。
【００４９】
図５は、本発明の実施の形態の微細位相差板の生産方法の別な露光工程を説明する図である。
【００５０】
図５（ａ）は、露光工程中の微細位相差板２０の、液晶表示パネル１０の垂直ラインに平行な断面で切断した様子を示す断面図である。本発明によって生産される微細位相差板は、液晶表示パネル１０の水平ライン方向に延伸した位相差フィルム２が、液晶表示パネル１０の水平ライン毎に繰り返して設けらるので、水平ラインをまたがった光の拡散（光が斜め方向に進む）を抑制する必要があり、図５（ａ）に示す方向から見ると略平行光（水平ラインと直行する方向の拡散を抑制した光）が照射される必要がある。
【００５１】
図５（ｂ）は、露光工程中の微細位相差板２０の、液晶表示パネル１０の水平ラインに平行な断面で切断した様子を示す断面図である。本発明の微細位相差板は、液晶表示パネル１０の水平ライン方向に延伸した位相差フィルム２が、液晶表示パネル１０の水平ライン毎に繰り返して設けらるので、水平ライン毎に光が照射されるか、照射されないかが異なってきて、光の進行方向は水平ラインに平行な方向であれば、水平ライン方向に拡散するものであってもよい。
【００５２】
図６、図７は、本発明の実施の形態の微細位相差板の生産方法の別な露光工程を説明する図である。
【００５３】
液晶表示パネル１０の下部には、レーザー発光装置１１０が設けられている。露光工程においては、レーザ発光装置からレーザ光が放射される。そして、このレーザ発光装置１１０は、レーザ光を放射しながら、液晶表示パネル１０の水平ラインの方向に移動して、液晶表示パネル１０の全面を露光する。
【００５４】
具体的には、図７に示すように、レーザ発光装置１１０の上部（液晶表示パネル１０側）には、レーザ光を放射する発光口１１１が設けられており、液晶表示パネルの表示領域（微細位相差板の露光領域２１に相当）の縦の長さ（垂直ライン方向）の幅を持ったレーザ光が放射できるようになっている。また、レーザ発光装置１１０は、レール１１２上を液晶表示パネル１１０の水平ライン方向に移動する。
【００５５】
なお、レーザ発光装置１１０自体を移動させることなく、レーザ発光装置１１０が発光する光の放射方向を水平ラインの方向に変えてフォトレジスト剤３を露光してもよい。
【００５６】
なお、光を当てて硬化するネガ型フォトレジストを用いてもよい。その場合は、光を当てないで硬化しなかった部分を洗浄して除去する。
【００５７】
今回開示した実施の形態は、全ての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した発明の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び内容の範囲での全ての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の微細位相差板が設けられた液晶表示パネルを示す正面図及び側面図である。
【図２】本発明の実施の形態の微細位相差板の生産方法を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態の微細位相差板が設けられた液晶表示パネルの生産方法を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態の微細位相差板が設けられた液晶表示パネルの生産方法を示す断面図である。
【図５】本発明の実施の形態の微細位相差板の生産方法の別な露光工程の説明図である。
【図６】本発明の実施の形態の微細位相差板の生産方法の別な露光工程の説明図である。
【図７】本発明の実施の形態の微細位相差板の生産方法の別な露光工程の説明図である。
【符号の説明】
１        対薬コート剤
２        位相差フィルム
３        フォトレジスト剤
４        ガラス板
１０      液晶表示パネル
２０      微細位相差板
１００    光源
１０１    レンズ
１１０    レーザ発光装置
【図１】
2004252157.tif 000003
【図２】
2004252157.tif 000004
【図３】
2004252157.tif 000005
【図４】
2004252157.tif 000006
【図５】
2004252157.tif 000007
【図６】
2004252157.tif 000008
【図７】
2004252157.tif 000009