(57)【要約】【課題】微細な画像が形成できるレジスト被膜の剥離液、アルミニウム板のエッチング方法及びアルミニウム系エッチング板を提供する。【解決手段】アルミニウム系板上にアルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜を形成した後、目的とする画像が形成されるように露光を行い、次いで画像が形成されるように該レジスト被膜を弱アルカリ液で現像処理し、次いで露出したアルミニウム系板を、エッチング液でエッチングして除去し、さらに残存するレジスト被膜を剥離するために使用する剥離液であって、珪酸塩水溶液、アルカリ金属化合物及び炭酸水素ナトリウムの混合水溶液から選ばれる少なくとも１種のアルカリ水溶液であることを特徴とするレジスト被膜の剥離液。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム系板上にアルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜を形成した後、目的とする画像が形成されるように露光を行い、次いで画像が形成されるように該レジスト被膜を弱アルカリ液で現像処理し、次いで露出したアルミニウム系板を、エッチング液でエッチングして除去し、さらに残存するレジスト被膜を剥離するために使用する剥離液であって、珪酸塩水溶液、アルカリ金属化合物及び炭酸水素ナトリウムの混合水溶液から選ばれる少なくとも１種のアルカリ水溶液であることを特徴とするレジスト被膜の剥離液。
【請求項２】
珪酸塩水溶液が、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム及び珪酸ナトリウム水和物から選ばれる珪酸塩水溶液である請求項１に記載の剥離液。
【請求項３】
アルミニウム系板上にアルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜を形成した後、目的とする画像が形成されるように露光を行い、次いで画像が形成されるように該レジスト被膜を弱アルカリ液で現像処理し、次いで露出したアルミニウム系板を、珪酸塩水溶液、アルカリ金属化合物及び炭酸水素ナトリウムの混合水溶液から選ばれる少なくとも１種のアルカリ水溶液で残存するレジスト被膜を剥離することを特徴とするアルミニウム板のエッチング方法。
【請求項４】
珪酸塩水溶液が、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム及び珪酸ナトリウム水和物から選ばれる珪酸塩水溶液である請求項３に記載のエッチング方法。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の剥離液より得られたことを特徴とするアルミニウム系エッチング板。
【請求項６】
請求項３又は４に記載のエッチング方法より得られたことを特徴とするアルミニウム系エッチング板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は剥離液、エッチング方法及びアルミニウム系エッチング板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術とその課題】
従来から、感光性塗料によって得られる塗膜を利用して、銅張積層板の表面に現像可能で且つ紫外線硬化性に優れた均一な膜を形成することができるプリント配線フォトレジストが得られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
該特許文献１は、（１）基材上に請求項１に記載のフォトレジスト用感光性樹脂被膜を形成する工程、（２）基材上に形成されたフォトレジスト用感光性樹脂被膜表面に所望のレジスト被膜（画像）が得られるようにレーザー光線で直接もしくは光線でネガマスクを通して感光して硬化させる工程、（３）上記（２）工程で形成されたレジスト被膜をアルカリ現像処理して板上にレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法に関する。該パターン形成方法において、レジスト被膜の除去として、カセイソーダ等の強アルカリや塩化メチレン等の溶剤により除去されることが記載されている。
【０００４】
しかしながら、アルミニウム系板による回路を製造する場合、強アルカリによる剥離の際にアルミニウム基材まで溶解してしまい回路板の製造は困難であった。
【０００５】
本発明は、アルミニウム系板に適した、レジスト被膜の剥離液、エッチング方法及びエッチング板を適用することを目的とする。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００１−３３９５９号公報
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記の問題点を解決するための技術的手段を見出すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の剥離液を使用することにより、従来からの問題点を全て解消できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
かくして、本発明に従えば、
１、  アルミニウム系板上にアルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜を形成した後、目的とする画像が形成されるように露光を行い、次いで画像が形成されるように該レジスト被膜を弱アルカリ液で現像処理し、次いで露出したアルミニウム系板を、エッチング液でエッチングして除去し、さらに残存するレジスト被膜を剥離するために使用する剥離液であって、珪酸塩水溶液、アルカリ金属化合物及び炭酸水素ナトリウムの混合水溶液から選ばれる少なくとも１種のアルカリ水溶液であることを特徴とするレジスト被膜の剥離液、
２、  珪酸塩水溶液が、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム及び珪酸ナトリウム水和物から選ばれる珪酸塩水溶液である上記の剥離液、
３、  アルミニウム系板上にアルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜を形成した後、目的とする画像が形成されるように露光を行い、次いで画像が形成されるように該レジスト被膜を弱アルカリ液で現像処理し、次いで露出したアルミニウム系板を、珪酸塩水溶液、アルカリ金属化合物及び炭酸水素ナトリウムの混合水溶液から選ばれる少なくとも１種のアルカリ水溶液で残存するレジスト被膜を剥離することを特徴とするアルミニウム板のエッチング方法、
４、  珪酸塩水溶液が、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム及び珪酸ナトリウム水和物から選ばれる珪酸塩水溶液である上記のエッチング方法、
５、  上記１又は２に記載の剥離液より得られたことを特徴とするアルミニウム系エッチング板、
６、  上記３又は４に記載のエッチング方法より得られたことを特徴とするアルミニウム系エッチング板に係る。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明剥離液は、アルミニウム系板上にアルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜を形成した後、目的とする画像が形成されるように露光を行い、次いで画像が形成されるように該レジスト被膜を弱アルカリ液で現像処理し、次いで露出したアルミニウム系板を、エッチング液でエッチングして除去し、さらに残存するレジスト被膜を剥離するために使用する剥離液である。
【００１０】
該アルミニウム系板としては、例えば、アルミニウム板、アルミニウム基板、ガラスーエポキシ板、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム等のプラスチックフィルムやプラスチック板、アルミニウム以外の金属板の表面にアルミニウム箔をラミネートさせたアルミニウムラミネート板、や上記したプラスチックフィルムやプラスチック板、アルミニウム以外の金属板の表面にアルミニウムを真空蒸着、化学蒸着、メッキを行ったものなどが挙げられる。
【００１１】
アルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜としては、活性エネルギー線や熱線が照射された箇所が硬化もしくは分解することにより現像液による溶解性が異なり、それによりレジストパターン被膜を形成することができるものであれば、従来から公知のものを特に制限なしに使用することができる。
【００１２】
上記したものとしては、例えば、有機溶剤系ポジ型感光性樹脂組成物、有機溶剤系ネガ型感光性樹脂組成物、水性ポジ型感光性樹脂組成物、水性ネガ型感光性樹脂組成物等の液状レジスト感光性樹脂組成物；ポジ型感光性ドライフィルム、ネガ型感光性ドライフィルム等の感光性ドライフィルム；有機溶剤系ネガ型感熱性樹脂組成物、水性ネガ型感熱性樹脂組成物等の液状感熱性樹脂組成物；ネガ型感熱性ドライフィルムの感熱性ドライフィルム等が挙げられる。
【００１３】
露光としては、光線としては、例えば紫外線、可視光線、レーザー光（近赤外線、可視光レーザー、紫外線レーザー等）が挙げられる。その照射量は、通常０．５〜２０００ｍｊ／ｃｍ２、好ましくは１〜１０００ｍｊ／ｃｍ２の範囲内が好ましい。また、光線の照射源としては、従来から使用されているもの、例えば、超高圧、高圧、中圧、低圧の水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等の各光源により得られる光源や紫外カットフィルターによりカットした可視領域の光線や、可視領域に発振線を持つ各種レーザー等が使用できる。高出力で安定なレーザー光源として、アルゴンイオンレーザー（４８８ｎｍ）、あるいはＹＡＧレーザーの第二高調波（５３２ｎｍ）が好ましい。
【００１４】
画像の形成は、アルミニウム系基板上に形成されたアルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜表面に所望のレジスト被膜（画像）が得られるようにレーザー光線で直接もしくは光線でネガマスクを通して露光することができる。
【００１５】
現像処理としては、通常、炭酸ソーダー、アンモニア、アミン等を水に希釈した弱アルカリ水溶液が使用される。
【００１６】
現像処理により露出したアルミニウム系板は、例えば、リン酸、硝酸、酢酸、塩酸、硫酸、弗化水素酸、塩化第二鉄、弗酸、クロム酸、これらの酸から選ばれる２種以上の混合物などの酸性のエッチング液より除去される。
【００１７】
本発明剥離液は、上記エッチングされたアルミニウム系板表面に残存するレジスト被膜を剥離するための剥離液である。
【００１８】
該剥離液は、珪酸塩水溶液、アルカリ金属化合物及び炭酸水素ナトリウムの混合水溶液から選ばれる少なくとも１種のアルカリ水溶液である。
【００１９】
また、珪酸塩水溶液として、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム及び珪酸ナトリウム水和物から選ばれる珪酸塩水溶液が好ましい。
【００２０】
上記アルカリ金属化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。
【００２１】
レジスト被膜を剥離する際に使用される剥離液の濃度は、０．５〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。濃度が０．５重量％未満になると剥離が遅くなり生産性が低下し、一方、２０重量％を超えるとアルミニウム系板が溶解するので繊細な画像が形成できない。
【００２２】
レジスト被膜を剥離する際に使用される剥離液の温度は、２０℃〜８０℃、好ましくは３０〜５０℃である。温度が２０℃未満になると剥離が遅くなり生産性が低下し、一方、８０℃を超えるとアルミニウム系板が溶解し易くなるので繊細な画像が形成できない。
【００２３】
また、アルカリ金属化合物と炭酸水素ナトリウムの混合物を剥離液として使用する場合には、液温２０℃〜８０℃でｐＨを１１〜７．５更に好ましくは液温３０℃〜５０℃でｐＨ１０〜９に調整したものを使用することが、アルミニウム系板の溶解を防止しつつレジスト被膜の剥離が容易に行えるので、この範囲内で使用することが好ましい。
【００２４】
本発明エッチング方法は、アルミニウム系板上にアルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜を形成した後、目的とする画像が形成されるように露光を行い、次いで画像が形成されるように該レジスト被膜を弱アルカリ液で現像処理し、次いで露出したアルミニウム系板を、珪酸塩水溶液、アルカリ金属化合物及び炭酸水素ナトリウムの混合水溶液から選ばれる少なくとも１種のアルカリ水溶液で残存するレジスト被膜を剥離するアルミニウム板のエッチング方法である。
【００２５】
本発明エッチング方法において、アルミニウム系板上にアルカリ可溶性感エネルギー線性レジスト被膜を形成した後、目的とする画像が形成されるように露光を行い、次いで画像が形成されるように該レジスト被膜を弱アルカリ液で現像処理し、次いで露出したアルミニウム系板上に残存するレジスト被膜をアルカリ水溶液により剥離する工程は、従来から公知の工程である。この様な工程は例えば、本発明剥離液に記載した工程が挙げられる。
【００２６】
本発明エッチング方法において、剥離液は、珪酸塩水溶液、アルカリ金属化合物及び炭酸水素ナトリウムの混合水溶液から選ばれる少なくとも１種のものであり、そして珪酸塩水溶液として、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム及び珪酸ナトリウム水和物から選ばれる珪酸塩水溶液である。
【００２７】
本発明エッチング方法において、レジスト被膜を剥離する際に使用される剥離液の濃度、温度、アルカリ金属化合物と炭酸水素ナトリウムの混合物を剥離液として使用する場合の液温、ｐＨなどについては、本発明剥離液に記載した条件が好ましい。
【００２８】
本発明アルミニウム系エッチング板は、本発明剥離液を使用して得られたアルミニウム系エッチング板である。
【００２９】
また、本発明アルミニウム系エッチング板は、本発明エッチング方法により得られたアルミニウム系エッチング板である。
【００３０】
本発明アルミニウム系エッチング板は、回路基板、刷板材、電極、レリーフ像作製材など幅広い用途への使用が可能である。
【００３１】
【発明の効果】
本発明で使用されるレジスト被膜の剥離液である、珪酸塩水溶液、アルカリ金属化合物及び炭酸水素ナトリウムの混合水溶液は、回路などの画像を形成したレジスト被膜を容易に剥離することができ、しかも、レジスト被膜を剥離する際に、該剥離液とアルミニウム系板とが必然的に接触するが、アルミニウム系板に対する剥離液の溶解性が小さいので、エッチングにより形成された画像に悪影響を及ぼさないので繊細な画像が形成できる。
【００３２】
アルミニウム系板用として使用される本発明の剥離液は、従来全く知られておらず、そしてそれを使用することにより繊細な画像が形成できるといった顕著な効果を発揮するものである。
【００３３】
【実施例】
実施例１
ゾンネＥＤＵＶ  Ｎｏ．３７６（関西ペイント株式会社、商品名、製アニオン電着液、以下同様の意味を表す。）をアルミニウム蒸着ガラス板（１００×１５０×１．５ｍｍ）を陽極とし、浴温２５℃でアルミニウム蒸着ガラス板に対し５０ｍＡ／ｄｍ２の直流電流を３分間通電して電着塗装した。この時の最大電圧は８０Ｖであった。この塗膜を水洗、風乾して２０μｍ厚の平滑な感光膜を得た。この塗膜を水洗し８０℃で１０分間乾燥した。次に室温２２℃でネガフィルムを真空装置でこの塗板と密着させ、３Ｋｗの超高圧水銀灯を用いてフォトマスク（長さ３０ｍｍ、太さ５０μｍの独立細線１０本が形成できるもの）を介して両面とも紫外線（以下、ＵＶと略す）照射した後２５℃、１％の炭酸ソーダ水溶液で現像したアルミニウム蒸着ガラス板を、エッチング水溶液（リン酸成分として７３重量％、酢酸成分として１０重量％、硝酸成分として２％、水１５％、５０℃、ｐＨ０．１、以下同様の組成物を示す。）に浸漬しアルミニウムをエッチング処理した。ついで水洗した後５０℃、２重量％の珪酸ナトリウム９水和物（  Ｎａ２ＳｉＯ２・９Ｈ２Ｏ）水溶液で硬化膜を除去し、回路板を得た。
【００３４】
実施例２
ゾンネＥＤＵＶ  Ｎｏ．３７６をアルミニウム蒸着ガラス板（１００×１５０×１．５ｍｍ）を陽極とし、浴温２５℃でアルミニウム蒸着ガラス板に対し５０ｍＡ／ｄｍ２の直流電流を３分間通電して電着塗装した。この時の最大電圧は８０Ｖであった。この塗膜を水洗、風乾して２０μｍ厚の平滑な感光膜を得た。この塗膜を水洗し８０℃で１０分間乾燥した。次に室温２２℃でネガフィルムを真空装置でこの塗板と密着させ、３Ｋｗの超高圧水銀灯を用いて、実施例１と同じフォトマスクを介して両面とも紫外線（以下、ＵＶと略す）照射した後２５℃、１％の炭酸ソーダ水溶液で現像したアルミニウム蒸着ガラス板を、エッチング水溶液に浸漬しアルミニウムをエッチング処理した。ついで水洗した後５０℃、２８重量％の珪酸カリウム水溶液を２％になるように水道水で希釈したもので、硬化膜を除去し、回路板を得た。
【００３５】
実施例３
ＥＤＵＶ  Ｎｏ．３７６をアルミニウム蒸着ガラス板（１００×１５０×１．５ｍｍ）を陽極とし、浴温２５℃でアルミニウム蒸着ガラス板に対し５０ｍＡ／ｄｍ２の直流電流を３分間通電して電着塗装した。この時の最大電圧は８０Ｖであった。この塗膜を水洗、風乾して２０μｍ厚の平滑な感光膜を得た。この塗膜を水洗し８０℃で１０分間乾燥した。次に室温２２℃でネガフィルムを真空装置でこの塗板と密着させ、３Ｋｗの超高圧水銀灯を用いて，上記と同様のフォトマスクを介して両面とも紫外線（以下、ＵＶと略す）照射した後２５℃、１重量％の炭酸ソーダ水溶液で現像したアルミニウム蒸着ガラス板を、エッチング水溶液に浸漬しアルミニウムをエッチング処理した。ついで水洗した後５０℃、１重量％の苛性ソーダ（ＮａＯＨ）水溶液に炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）を混入しｐＨを８．９にした水溶液で硬化膜を除去し、回路板を得た。
【００３６】
比較例１
実施例１において、２重量％の珪酸ナトリウム９水和物に代えて、１重量％カセイソーダ水溶液を使用した以外は実施例１と同様にして回路板を得た。
【００３７】
実施例及び比較例の試験結果を表１に示す。
【００３８】
【表１】
2004354475.tif 000002
【００３９】
試験結果の評価方法
実施例及び比較例で得られた回路板の、長さ３０ｍｍ、太さ５０μｍの独立細線１０本中の断線本数とピンホールの個数を測定した。
【００４０】
断線本数：独立細線を顕微鏡で観察して独立細線が溶解して断線している本数を数えた。１本でも断線しているものは劣る。
【００４１】
ピンホール：独立細線を顕微鏡で観察して回路の断線には至らないが、回路の一部に溶解によるピンホールを発生して独立細線が更に細くなっている本数を数えた。１本でもピンホールが生じているものは劣る。