(57)【要約】【課題】レチクルの光洗浄に要するトータルの所要時間を短縮する。【解決手段】洗浄用の光を射出する光源１７９を内部に収容し、該洗浄用の光が通過する開口１７７ａを有するハウジング１７７と、窓ガラス２０１ｂが設けられたレチクル保管箱２０との相対移動を行い、レチクル保管箱の窓ガラスの周囲とハウジングに設けられたシール部材１８７とを係合させる。そして、この状態で光源から光を射出することで、レチクル保管箱に収容された状態のレチクルを洗浄する。このように、レチクル保管箱の窓ガラスの周囲とハウジングに設けられたシール部材とを係合させる動作、及び光源から光を射出する動作を実行するだけで、レチクル保管箱内に収容されたレチクルの光洗浄を行うことができる。従って、準備動作を含め、レチクルの光洗浄に要するトータルの所要時間を短縮することが可能となる。【選択図】  図１０
2004354656.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過部が設けられたマスク保管装置内にマスクを収容し、前記マスク保管装置内に収容された前記マスクのパターン面及びその反対面の少なくとも一方を前記光透過部を介して光洗浄する光洗浄装置であって、
洗浄用の光を射出する第１の光源と；
前記第１の光源を内部に収容するとともに、前記洗浄用の光が通過する開口及び前記マスク保管装置の前記光透過部の周囲に係合する第１係合部を有する第１筐体と；
前記第１筐体と前記マスク保管装置とを相対移動させ、前記マスク保管装置の前記光透過部の周囲と前記第１係合部とを係合させる第１の移動機構と；を備える光洗浄装置。
【請求項２】
前記光透過部の周囲と前記第１係合部とが係合することによって、前記第１筐体の開口が前記マスク保管装置によって閉塞されることを特徴とする請求項１に記載の光洗浄装置。
【請求項３】
前記第１筐体の開口が前記マスク保管装置によって閉塞されることによって、前記第１筐体内に形成される第１空間内の内部ガスを外部に排気する第１排気機構、及び前記第１空間内に所定のガスを供給する第１給気機構の少なくとも一方を更に備えることを特徴とする請求項２に記載の光洗浄装置。
【請求項４】
前記マスク保管装置は、前記光透過部として、収容された前記マスクのパターン面に対向する第１光透過部と、前記マスクのパターン面の反対側の面に対向する第２光透過部とを有し、
前記第１光透過部の周囲と前記第１係合部とが係合することによって、前記第１筐体の開口が前記マスク保管装置によって閉塞されることを特徴とする請求項３に記載の光洗浄装置。
【請求項５】
洗浄用の光を射出する第２の光源と；
前記第２の光源を内部に収容するとともに、前記洗浄用の光が通過する開口及び前記マスク保管装置の前記第２光透過部の周囲に係合する第２係合部を有する第２筐体と；
前記第２筐体と前記マスク保管装置とを相対移動させ、前記マスク保管装置の前記第２光透過部の周囲と前記第２係合部とを係合させる第２の移動機構を更に備えることを特徴とする請求項４に記載の光洗浄装置。
【請求項６】
前記第２筐体の開口が前記マスク保管装置によって閉塞されることによって、前記第２筐体内に形成される第２空間内の内部ガスを外部に排気する第２排気機構、及び前記第２空間内に所定のガスを供給する第２給気機構の少なくとも一方を更に備えることを特徴とする請求項５に記載の光洗浄装置。
【請求項７】
前記マスク保管装置には、給気用開口及び排気用開口が少なくとも各１つ形成され、
前記第１空間が形成された状態で、前記給気用開口に接続可能な給気管及び前記排気用開口に接続可能な排気管と；
前記マスクの洗浄時には、前記給気管を介して前記マスク保管装置内部に特定ガスを供給し、前記マスクの洗浄後には、前記給気管を介して前記マスク保管装置内部に所定のガスを供給するガス供給機構と；
前記排気管を介して前記マスク保管装置内部のガスを外部に排気するガス排気機構と；を更に備えることを特徴とする請求項６に記載の光洗浄装置。
【請求項８】
前記マスク保管装置は、前記給気用開口及び排気用開口を閉状態とするとともに、前記給気管、排気管の接続の際に開成される開閉弁機構を有することを特徴とする請求項７に記載の光洗浄装置。
【請求項９】
前記洗浄用の光は、波長２００ｎｍ〜１２０ｎｍの真空紫外光であり、
前記特定ガスは、酸素又は水蒸気を数％程度以下含有する、空気に比べて前記真空紫外光を吸収する特性が低いガスであることを特徴とする請求項７又は８に記載の光洗浄装置。
【請求項１０】
前記所定のガスは、空気に比べて前記真空紫外光を吸収する特性が低いガスであることを特徴とする請求項３〜９のいずれか一項に記載の光洗浄装置。
【請求項１１】
露光光のもとで、マスクに形成されたパターンを物体上に転写する露光装置であって、
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光洗浄装置と；
前記光洗浄装置による光洗浄の対象であるマスクを収容したマスク保管装置を、前記光洗浄装置に対して搬送する第１の搬送機構と；
前記マスク保管装置を前記光洗浄装置から前記露光光の光路近傍の所定位置に搬送する第２の搬送機構と；
前記所定位置に搬送された前記マスク保管装置の内部空間から前記露光光の光路を含む空間まで、所定雰囲気の経路に沿って前記マスクを搬送するマスク搬送機構と；を備える露光装置。
【請求項１２】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１１に記載の露光装置を用いてマスクに形成されたデバイスパターンを物体上に転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１３】
光透過部が設けられたマスク保管装置内にマスクを収容し、前記マスク保管装置内に収容された前記マスクのパターン面及びその反対面の少なくとも一方を前記光透過部を介して光洗浄する光洗浄方法であって、
洗浄用の光が通過する開口及び前記マスク保管装置の前記光透過部の周囲に係合する第１係合部を有する第１筐体と、前記マスク保管装置とを相対移動させて、前記光透過部の周囲と前記第１係合部とを係合させることによって前記第１筐体の開口を前記マスク保管装置で閉塞し、前記第１筐体内に第１空間を形成する第１工程と；
前記第１空間内の内部ガスを外部に排気する排気工程、及び前記第１空間内に所定のガスを供給する供給工程の少なくとも一方を行う第２工程と；
前記第２工程と同時に又はそれより遅れて、前記第１筐体内部の第１光源から前記開口を介して洗浄用の光を前記マスク保管装置の前記光透過部に照射する第３工程と；を含む光洗浄方法。
【請求項１４】
前記マスク保管装置には、前記光透過部として、収容された前記マスクのパターン面に対向する第１光透過部と、前記マスクのパターン面の反対面に対向する第２光透過部とが設けられ、
前記第１工程では、前記第１光透過部の周囲と前記第１係合部とを係合させ、
洗浄用の光が透過する開口及び前記マスク保管装置の前記第２光透過部の周囲に係合する第２係合部を有する第２筐体と、前記マスク保管装置とを相対移動させて、前記第２光透過部の周囲と前記第１係合部とを係合させることによって前記第２筐体の開口を前記マスク保管装置で閉塞し、前記第２筐体内に第２空間を形成する第４工程と；
前記第２空間内の内部ガスを外部に排気する排気工程、及び前記第２空間内に所定のガスを供給する供給工程の少なくとも一方を行う第５工程と；
前記第５工程と同時に又はそれより遅れて、前記第２筐体内部の第２光源から前記開口を介して洗浄用の光を前記マスク保管装置の前記第２光透過部に照射する第６工程と；を更に含むことを特徴とする請求項１３に記載の光洗浄方法。
【請求項１５】
前記洗浄用の光は、波長２００ｎｍ〜１２０ｎｍの真空紫外光であることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の光洗浄方法。
【請求項１６】
前記マスク保管装置に前記洗浄用の光を照射するのに先立って、前記マスク保管装置内部のガスを特定ガスに置換する第７工程を更に含むことを特徴とする請求項１５に記載の光洗浄方法。
【請求項１７】
前記特定ガスは、酸素又は水蒸気を数％程度以下含有する、空気に比べて前記真空紫外光を吸収する特性が低いガスであることを特徴とする請求項１６に記載の光洗浄方法。
【請求項１８】
前記洗浄用の光の照射が停止された後、前記マスク保管装置内部のガスを所定のガスに置換する第８工程を更に含むことを特徴とする請求項１７に記載の光洗浄方法。
【請求項１９】
前記所定のガスは、空気に比べて前記真空紫外光を吸収する特性が低いガスであることを特徴とする請求項１３〜１８のいずれか一項に記載の光洗浄方法。
【請求項２０】
露光光のもとで、マスクに形成されたパターンを物体上に転写する露光方法であって、
請求項１３〜１９のいずれか一項に記載の光洗浄方法を用いて前記マスクを光洗浄する工程と；
前記光洗浄後に、前記光洗浄が施された前記マスクを収容するマスク保管装置を前記光洗浄装置から前記露光光の光路近傍の所定位置に搬送する工程と；
前記所定位置に搬送された前記マスク保管装置の内部空間から前記露光光の光路を含む空間まで、所定雰囲気の経路に沿って前記マスクを搬送する工程と；
前記マスクに前記露光光を照射して、前記パターンを物体上に転写する工程と；を含む露光方法。
【請求項２１】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項２０に記載の露光方法を用いてマスクに形成されたデバイスパターンを物体上に転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光洗浄装置及び光洗浄方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、マスク保管装置内に収容されたマスクを光洗浄する光洗浄装置及び光洗浄方法、前記光洗浄装置を備える露光装置及び前記光洗浄方法を用いる露光方法、並びに前記露光装置及び露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、半導体素子、液晶表示素子等の製造におけるリソグラフィ工程では、種々の露光装置が用いられている。近年では、形成すべきパターンを４〜５倍程度に比例拡大して形成したマスク（レチクルとも呼ばれる）のパターンを、投影光学系を介してウエハ等の被露光基板上に縮小転写するステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）や、このステッパに改良を加えたステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））等の投影露光装置が、主流となっている。
【０００３】
これらの投影露光装置では、集積回路の微細化に対応して高解像度を実現するため、その露光波長をより短波長側にシフトしてきた。現在、その波長はＫｒＦエキシマレーザの２４８ｎｍが主流となっているが、より短波長のＡｒＦエキシマレーザの１９３ｎｍも実用化されている。
【０００４】
かかる近紫外域の露光波長の露光装置では、空気中の物質（主として有機物）により露光光が吸収されることや、露光光により活性化された有機物がレンズ等に付着し透過率の悪化を招くなどの現象が起こる。このため光路中から有機物を取り除くべく、光路中の空間を有機物を除去した空気その他の気体で満たすことが有効であるとされている。
【０００５】
また、将来的に露光波長の更なる短波長化が進むことは間違いなく、ＡｒＦエキシマレーザより短波長の真空紫外域に属する光を発する光源、例えば出力波長１５７ｎｍのＦ２レーザや、出力波長１２６ｎｍのＡｒ２レーザを使用する投影露光装置の開発あるいは提案がなされている。
【０００６】
これらの真空紫外域に属する光は、例えば、酸素や水蒸気及び一般的な有機物（以下「吸収性ガス」と称する）による吸収も極めて大きい。従って、真空紫外域の光束を露光光とする露光装置では、露光光が通る光路上の空間中の吸収性ガスの濃度を数ｐｐｍ以下の濃度にまで下げるべく、その光路上の空間の気体を、露光光の吸収の少ない、窒素や、ヘリウム等の希ガス（以下「低吸収性ガス」と称する）で置換する必要がある。
【０００７】
また、光路中の吸収性ガスのみならず、露光装置内の光学系を構成するレンズ表面に付着した有機物や水蒸気も、真空紫外域の露光光の吸収が大きいが、光路中のガスに含まれる有機物，水蒸気の濃度を低減することにより、レンズ表面へのこれらの物質の付着を効果的に抑制することができる。
【０００８】
また、レチクルについても、その表面に水蒸気や有機物が付着すると、これらの物質による露光光の吸収は大きいため、露光に先立ちレチクル表面からこれらの吸収物質を除去する必要がある。これには、波長１７２ｎｍのＸｅエキシマランプ等の紫外光を照射することにより、光化学反応により有機物や水を分解するいわゆる「光洗浄」が有効であることが報告されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかるに、上記光洗浄に使用するエキシマランプ光源は大電力を必要とするため、それに伴う発熱も大きい。その一方で、投影露光装置は、その露光精度を維持するために極めて高精度な温度管理が必要とされているため、露光装置内の主光路（照明光学系−レチクルステージ部分−投影光学系−ウエハ部分）の近傍に、このような熱源を設置するのは、露光精度の観点からは好ましいものではない。
【００１０】
一方、温度による影響を低減するため、エキシマランプ光源をレチクルステージから遠く離してしまうと、光洗浄後に、そのレチクルをレチクルステージまで搬送するための搬送経路が長くなってしまう。この場合の搬送経路長の増大は、その搬送時間の増加のみならず、光洗浄を施したレチクルが搬送中に再度汚染するという事態をも招いてしまう。後者の光洗浄後のレチクルの再度の汚染に対しては、例えば搬送経路に対して高精度な化学的汚染防止対策を施したり、その搬送経路内部のガスを低吸収性ガスに置換したりするなどの対策が可能である。但し、このようにすると、搬送経路に関するコストが上昇するので、更なる対策として、光洗浄後のレチクルを密閉型のコンテナに収容して搬送するなどの方法も考えられる。
【００１１】
しかしながら、単純に、光洗浄後のレチクルを密閉型のコンテナに収容して搬送するのでは、レチクルの光洗浄の開始からそのレチクルを用いた露光開始までに要するトータルの所要時間を、少なくともコンテナに対するレチクルの収容時間分、更に増加させることになる。
【００１２】
本発明はかかる事情の下になされたものであり、その第１の目的は、準備動作を含め、マスクの光洗浄に要するトータルの所要時間を短縮することが可能な光洗浄装置及び光洗浄方法を提供することにある。
【００１３】
また、本発明の第２の目的は、高精度のマスクパターンの物体上への転写を実現することが可能な露光装置及び露光方法を提供することにある。
【００１４】
また、本発明の第３の目的は、高集積度のデバイスの生産性を向上させることができるデバイス製造方法を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、光透過部が設けられたマスク保管装置内にマスクを収容し、前記マスク保管装置内に収容された前記マスクのパターン面及びその反対面（反対側の面）の少なくとも一方を前記光透過部を介して光洗浄する光洗浄装置であって、洗浄用の光を射出する第１の光源と；前記第１の光源を内部に収容するとともに、前記洗浄用の光が通過する開口及び前記マスク保管装置の前記光透過部の周囲に係合する第１係合部を有する第１筐体と；前記第１筐体と前記マスク保管装置とを相対移動させ、前記マスク保管装置の前記光透過部の周囲と前記第１係合部とを係合させる第１の移動機構と；を備える光洗浄装置である。
【００１６】
これによれば、洗浄用の光を射出する第１の光源を内部に収容し、該洗浄用の光が通過する開口及び第１係合部を有する第１筐体と、光透過部が設けられたマスク保管装置とが、第１の移動機構により相対移動され、マスク保管装置の光透過部の周囲と第１係合部とが係合する。これにより、マスク保管装置の光透過部が開口を介して第１の光源に対向し、光洗浄開始の準備が完了する。そして、第１の光源から洗浄用の光を射出することにより、この光が第１筐体の開口及びマスク保管装置の光透過部を介してマスクに照射され、マスクの洗浄が行われる。
【００１７】
すなわち、本発明の光洗浄装置では、第１の移動機構により、第１筐体とマスク保管装置とを相対移動して、マスク保管装置の光透過部の周囲と第１係合部とを係合させる動作と、第１の光源から洗浄用の光を射出する動作とを実行するだけで、マスクがマスク保管装置に収容されたままの状態で、換言すれば、マスク保管装置からマスクを取り出すことなく、マスクを光洗浄することが可能となり、準備動作を含め、マスクの光洗浄に要するトータルの所要時間を短縮することが可能となる。また、光洗浄の後、マスク保管装置内にマスクを収容したままの状態で、マスク保管装置（マスク）の露光位置へ向けての搬送を直ちに開始することができるので、この点においても、搬送時間を含むマスクの洗浄時間の短縮が可能である。
【００１８】
この場合において、請求項２に記載の光洗浄装置の如く、前記光透過部の周囲と前記第１係合部とが係合することによって、前記第１筐体の開口が前記マスク保管装置によって閉塞されることとすることができる。すなわち、第１筐体の内部空間を閉じた空間にすることができる。
【００１９】
この場合において、請求項３に記載の光洗浄装置の如く、前記第１筐体の開口が前記マスク保管装置によって閉塞されることによって、前記第１筐体内に形成される第１空間内の内部ガスを外部に排気する第１排気機構、及び前記第１空間内に所定のガスを供給する第１給気機構の少なくとも一方を更に備えることとすることができる。
【００２０】
この場合において、請求項４に記載の光洗浄装置の如く、前記マスク保管装置が、前記光透過部として、収容された前記マスクのパターン面に対向する第１光透過部と、前記マスクのパターン面の反対側の面に対向する第２光透過部とを有する場合、前記第１光透過部の周囲と前記第１係合部とが係合することによって、前記第１筐体の開口が前記マスク保管装置によって閉塞されることとすることができる。
【００２１】
この場合において、請求項５に記載の光洗浄装置の如く、洗浄用の光を射出する第２の光源と；前記第２の光源を内部に収容するとともに、前記洗浄用の光が通過する開口及び前記マスク保管装置の前記第２光透過部の周囲に係合する第２係合部を有する第２筐体と；前記第２筐体と前記マスク保管装置とを相対移動させ、前記マスク保管装置の前記第２光透過部の周囲と前記第２係合部とを係合させる第２の移動機構を更に備えることとすることができる。
【００２２】
この場合において、請求項６に記載の光洗浄装置の如く、前記第２筐体の開口が前記マスク保管装置によって閉塞されることによって、前記第２筐体内に形成される第２空間内の内部ガスを外部に排気する第２排気機構、及び前記第２空間内に所定のガスを供給する第２給気機構の少なくとも一方を更に備えることとすることができる。
【００２３】
この場合において、請求項７に記載の光洗浄装置の如く、前記マスク保管装置には、給気用開口及び排気用開口が少なくとも各１つ形成され、前記第１空間が形成された状態で、前記給気用開口に接続可能な給気管及び前記排気用開口に接続可能な排気管と；前記マスクの洗浄時には、前記給気管を介して前記マスク保管装置内部に特定ガスを供給し、前記マスクの洗浄後には、前記給気管を介して前記マスク保管装置内部に所定のガスを供給するガス供給機構と；前記排気管を介して前記マスク保管装置内部のガスを外部に排気するガス排気機構と；を更に備えることとすることができる。
【００２４】
この場合において、請求項８に記載の光洗浄装置の如く、前記マスク保管装置は、前記給気用開口及び排気用開口を閉状態とするとともに、前記給気管、排気管の接続の際に開成される開閉弁機構を有することとすることができる。
【００２５】
上記請求項７及び８に記載の各光洗浄装置において、請求項９に記載の光洗浄装置の如く、前記洗浄用の光は、波長２００ｎｍ〜１２０ｎｍの真空紫外光であり、前記特定ガスは、酸素又は水蒸気を数％程度以下含有する、空気に比べて前記真空紫外光を吸収する特性が低いガスであることとすることができる。
【００２６】
上記請求項３〜９に記載の各光洗浄装置において、請求項１０に記載の光洗浄装置の如く、前記所定のガスは、空気に比べて前記真空紫外光を吸収する特性が低いガスであることとすることができる。
【００２７】
請求項１１に記載の発明は、露光光のもとで、マスクに形成されたパターンを物体上に転写する露光装置であって、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光洗浄装置と；前記光洗浄装置による光洗浄の対象であるマスクを収容したマスク保管装置を、前記光洗浄装置に対して搬送する第１の搬送機構と；前記マスク保管装置を前記光洗浄装置から前記露光光の光路近傍の所定位置に搬送する第２の搬送機構と；前記所定位置に搬送された前記マスク保管装置の内部空間から前記露光光の光路を含む空間まで、所定雰囲気の経路に沿って前記マスクを搬送するマスク搬送機構と；を備える露光装置である。
【００２８】
これによれば、上記請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光洗浄装置に対して、その光洗浄装置による光洗浄の対象であるマスクを収容したマスク保管装置が搬送される。次いで、光洗浄装置により、前述の手順で短時間でマスク保管装置内部のマスクの光洗浄が実行される。そして、その光洗浄終了後、第２の搬送機構により、露光光の光路近傍の所定位置にマスク保管装置が搬送され、その所定位置に搬送されたマスク保管装置の内部空間から露光光の光路を含む空間まで、所定雰囲気の経路に沿って、光洗浄されたマスクが、マスク搬送機構によって搬送される。そして、その搬送後に、露光光のもとで、そのマスクに形成されたパターンが物体上に転写される。すなわち、露光に先立って光洗浄により露光光を吸収する吸収物質がその表面（パターン面及びその反対面の少なくとも一方）から除去されたマスクを用いて、露光が行われるので、露光光の透過率を良好にかつ安定して維持し、露光量制御精度を長期間に渡って高精度に維持することが可能となり、ひいては高精度のマスクパターンの物体上への転写が可能となる。また、この場合、前述の如く、マスクの光洗浄を短時間で行うことができるので、露光装置全体として、高スループットな露光を実現することが可能である。
【００２９】
請求項１２に記載の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、前記リソグラフィ工程では、請求項１１に記載の露光装置を用いてマスクに形成されたデバイスパターンを物体上に転写することを特徴とするデバイス製造方法である。
【００３０】
請求項１３に記載の発明は、光透過部が設けられたマスク保管装置内にマスクを収容し、前記マスク保管装置内に収容された前記マスクのパターン面及びその反対面（反対側の面）の少なくとも一方を前記光透過部を介して光洗浄する光洗浄方法であって、洗浄用の光が通過する開口及び前記マスク保管装置の前記光透過部の周囲に係合する第１係合部を有する第１筐体と、前記マスク保管装置とを相対移動させ、前記光透過部の周囲と前記第１係合部とを係合させることによって前記第１筐体の開口を前記マスク保管装置で閉塞し、前記第１筐体内に第１空間を形成する第１工程と；前記第１空間内の内部ガスを外部に排気する排気工程、及び前記第１空間内に所定のガスを供給する供給工程の少なくとも一方を行う第２工程と；前記第２工程と同時に又はそれより遅れて、前記第１筐体内部の第１光源から前記開口を介して洗浄用の光を前記マスク保管装置の前記光透過部に照射する第３工程と；を含む光洗浄方法である。
【００３１】
これによれば、洗浄用の光が通過する開口及びマスク保管装置の光透過部の周囲に係合する第１係合部を有する第１筐体とマスク保管装置とが相対移動され、マスク保管装置の光透過部の周囲と第１係合部とが係合され、この係合によって第１筐体の開口がマスク保管装置で閉塞され、第１筐体内に第１空間が形成される（第１工程）。次いで、第１空間内の内部ガスを外部に排気する排気工程、及び第１空間内に所定のガスを供給する供給工程の少なくとも一方が行われる（第２工程）。これと同時に又はそれより遅れて、第１筐体内部の第１光源から開口を介して洗浄用の光がマスク保管装置の光透過部に照明される（第３工程）。これにより、光透過部を介してマスクに照射された光により、マスクが光洗浄される。
【００３２】
ここで、第２工程で、排気工程の処理のみが行われる場合には、第１空間（第１筐体内部の空間）内部のガスが外部に排気され、洗浄用の光を吸収する吸収物質が除去され、この状態でマスクの光洗浄が行われることとなる。また、第２工程で、供給工程の処理のみが行われる場合には、所定のガス、例えば洗浄用の光（及び露光光）を吸収する吸収物質を殆ど含まないガスで第１空間（第１筐体内部の空間）内部が満たされた状態で、マスクの光洗浄が行われることとなる。さらに、第２工程で排気工程と供給工程とが行われる場合には、第１空間（第１筐体内部の空間）内部のガスが所定のガスに置換された状態で、マスクの光洗浄が行われる。いずれにしても、マスクの光洗浄を効率的に行うことが可能となる。
【００３３】
すなわち、本発明の光洗浄方法では、第１筐体とマスク保管装置とを相対移動させて、マスク保管装置の光透過部の周囲と第１係合部とを係合させて第１筐体内部に第１空間を形成する動作と、第１の光源から洗浄用の光を射出する動作とにより、マスクがマスク保管装置に収容されたままの状態で、換言すれば、マスク保管装置からマスクを取り出すことなく、マスクの光洗浄を行うことが可能となり、準備動作を含め、マスクの光洗浄に要するトータルの所要時間を短縮することが可能となる。また、光洗浄の後、マスク保管装置内にマスクを収容したままの状態で、マスク保管装置（マスク）の露光位置へ向けての搬送を直ちに開始することができるので、この点においても、搬送時間を含むマスクの洗浄時間の短縮が可能である。
【００３４】
この場合において、請求項１４に記載の光洗浄方法の如く、前記マスク保管装置には、前記光透過部として、収容された前記マスクのパターン面に対向する第１光透過部と、前記マスクのパターン面の反対面に対向する第２光透過部とが設けられ、前記第１工程では、前記第１光透過部の周囲と前記第１係合部とを係合させる場合、洗浄用の光が透過する開口及び前記マスク保管装置の前記第２光透過部の周囲に係合する第２係合部を有する第２筐体と、前記マスク保管装置とを相対移動させて、前記第２光透過部の周囲と前記第１係合部とを係合させることによって前記第２筐体の開口を前記マスク保管装置で閉塞し、前記第２筐体内に第２空間を形成する第４工程と；前記第２空間内の内部ガスを外部に排気する排気工程、及び前記第２空間内に所定のガスを供給する供給工程の少なくとも一方を行う第５工程と；前記第５工程と同時に又はそれより遅れて、前記第２筐体内部の第２光源から前記開口を介して洗浄用の光を前記マスク保管装置の前記第２光透過部に照射する第６工程と；を更に含むこととすることができる。
【００３５】
上記請求項１３及び１４に記載の各光洗浄方法において、請求項１５に記載の光洗浄方法の如く、前記洗浄用の光は、波長２００ｎｍ〜１２０ｎｍの真空紫外光であることとすることができる。
【００３６】
この場合において、請求項１６に記載の光洗浄方法の如く、前記マスク保管装置に前記洗浄用の光を照射するのに先立って、前記マスク保管装置内部のガスを特定ガスに置換する第７工程を更に含むこととすることができる。
【００３７】
この場合において、請求項１７に記載の光洗浄方法の如く、前記特定ガスは、酸素又は水蒸気を数％程度以下含有する、空気に比べて前記真空紫外光を吸収する特性が低いガスであることとすることができる。
【００３８】
この場合において、請求項１８に記載の光洗浄方法の如く、前記洗浄用の光の照射が停止された後、前記マスク保管装置内部のガスを所定のガスに置換する第８工程を更に含むこととすることができる。
【００３９】
上記請求項１３〜１８に記載の各光洗浄方法において、請求項１９に記載の光洗浄方法の如く、前記所定のガスは、空気に比べて前記真空紫外光を吸収する特性が低いガスであることとすることができる。
【００４０】
請求項２０に記載の発明は、露光光のもとで、マスクに形成されたパターンを物体上に転写する露光方法であって、請求項１３〜１９のいずれか一項に記載の光洗浄方法を用いて前記マスクを光洗浄する工程と；前記光洗浄後に、前記光洗浄が施された前記マスクを収容するマスク保管装置を前記光洗浄装置から前記露光光の光路近傍の所定位置に搬送する工程と；前記所定位置に搬送された前記マスク保管装置の内部空間から前記露光光の光路を含む空間まで、所定雰囲気の経路に沿って前記マスクを搬送する工程と；前記マスクに前記露光光を照射して、前記パターンを物体上に転写する工程と；を含む露光方法である。
【００４１】
これによれば、請求項１３〜１９のいずれか一項に記載の光洗浄方法を用いてマスクを極めて短時間にかつ効率良く光洗浄する。次いで、この光洗浄後に、光洗浄が施されたマスクを収容するマスク保管装置を光洗浄装置から露光光の光路近傍の所定位置に搬送し、その所定位置に搬送されたマスク保管装置の内部空間から露光光の光路を含む空間まで、そのマスク保管装置内部に収容されたマスクを搬送する。そして、そのマスクに露光光を照射して、該マスクに形成されたパターンを物体上に転写する。すなわち、露光に先立って光洗浄により露光光を吸収する吸収物質がその表面（パターン面及びその反対面の少なくとも一方）から除去されたマスクを用いて、露光が行われるので、露光光の透過率を良好にかつ安定して維持し、露光量制御精度を長期間に渡って高精度に維持することが可能となり、ひいては高精度のマスクパターンの物体上への転写が可能となる。また、この場合、前述の如く、マスクの光洗浄を短時間で行うことができるので、全体として高スループットな露光を実現することが可能となる。
【００４２】
請求項２１に記載の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、前記リソグラフィ工程では、請求項２０に記載の露光方法を用いてマスクに形成されたデバイスパターンを物体上に転写することを特徴とするデバイス製造方法である。
【００４３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図１１に基づいて説明する。図１には、一実施形態に係る露光装置１１０の構成が概略的に示されている。
【００４４】
この露光装置１１０は、クリーン度がクラス１００〜１０００程度のクリーンルーム内に設置されている。この露光装置１１０は、内部空間が高度に防塵されるとともに、高精度な温度制御がなされたエンバイロンメンタル・チャンバ１（以下、「チャンバ１」と略述する）、該チャンバ１内に設置された露光装置本体１００、該露光装置本体１００に隣接して配置されたレチクル搬送系１２０、及び光洗浄装置２２等を備えている。チャンバ１の内部は、化学的清浄度もある一定レベルに保たれている。
【００４５】
チャンバ１の＋Ｘ側（図１における右側）の端部には、他の部分と比べて低い低段差部が形成されている。この低段差部に、マスクコンテナの搬出入ポート１ａが配置されている。この搬出入ポート１ａを介して不図示の天井搬送系によってマスクとしてのレチクルがレチクルキャリア４４内に収納された状態でチャンバ１に搬入され、チャンバ１から搬出される。前記天井搬送系としては、レチクルをレチクルキャリア４４内に収容した状態で搬送するＯＨＴ（Ｏｖｅｒ  Ｈｅａｄ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ）等が用いられる。
【００４６】
露光装置本体１００は、不図示の光源、該光源に不図示の送光光学系を介して接続され、露光光ＥＬによりレチクルＲを照明する照明ユニットＩＬＵ、レチクルＲを保持するレチクルホルダ１４、レチクルＲから射出される露光光ＥＬを物体としてのウエハＷ上に投射する投影光学系ＰＬ、ウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴ等を備えている。
【００４７】
前記光源としては、ここでは、出力波長１５７ｎｍのフッ素レーザ（Ｆ２レーザ）が用いられている。光源として、フッ素レーザに限らず、波長約１２０ｎｍ〜約２００ｎｍの真空紫外域に属する光を発する光源、例えば出力波長１４６ｎｍのクリプトンダイマーレーザ（Ｋｒ２レーザ）、出力波長１２６ｎｍのアルゴンダイマーレーザ（Ａｒ２レーザ）、あるいは出力波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ等を用いることも可能である。
【００４８】
前記照明ユニットＩＬＵは、照明系ハウジング２及び、その内部に所定の位置関係で配置された折り曲げミラー、オプティカルインテグレータ（ホモジナイザ）、リレーレンズ、及び視野絞り（レチクルブラインド又はマスキングブレード）等を含んで構成される照明光学系を備えている。オプティカルインテグレータとしてはフライアイレンズ、ロッド型インテグレータ（内面反射型インテグレータ）あるいは回折光学素子など単独で若しくは組み合わせて用いられる。また、レチクルブラインドは、レチクルＲのパターン面と共役な面に配置されている。
【００４９】
ところで、真空紫外域の波長の光を露光光とする場合には、その光路から酸素、水蒸気、炭化水素系のガス等の、かかる波長帯域の光に対し強い吸収特性を有するガス（以下、適宜「吸収性ガス」と呼ぶ）を排除する必要がある。このため、本実施形態では、照明系ハウジング２の内部の露光光ＥＬの光路上の空間の気体を、真空紫外域の光を吸収する特性が空気に比べて低いガス、例えば窒素、及びヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトンなどの希ガス、又はそれらの混合ガス（以下、適宜「低吸収性ガス」と呼ぶ）で置換している。本実施形態では、照明系ハウジング２に給気弁１０と排気弁１１とがそれぞれの一端部近傍に設けられた給気管と排気管とが接続され、給気管の他端が不図示の低吸収性ガスの供給装置に接続されている。そして、給気弁１０と排気弁１１とがともに常時所定の開度で開かれ、不図示の低吸収性ガスの供給装置から低吸収性ガスが照明系ハウジング２内部に常時フローされている。この結果、照明系ハウジング２内の吸収性ガスの濃度は、酸素濃度が０．１ｐｐｍ以下、水蒸気濃度が１ｐｐｍ以下、有機物濃度が１０ｐｐｂ以下に抑えられている。なお、光源、送光光学系の光路空間についても、照明系ハウジング２内と同様にガス置換が行われ、同様に酸素濃度が０．１ｐｐｍ以下、水蒸気濃度が０．１ｐｐｍ以下、有機物濃度が１０ｐｐｂ以下に抑えられている。
【００５０】
前記レチクルＲとしては、ここではいわゆるペリクル付レチクルが用いられている。すなわち、レチクルＲは、図１に示されるように、一方の面（図１における下面）に微細なパターンが形成されたレチクル基板５４と、該レチクル基板５４の下面（以下、「パターン面」と呼ぶ）に取り付けられたパターン保護装置７２と、を含んで構成されている。
【００５１】
レチクル基板５４は、石英を主成分とする材質、例えば、水酸基を１０ｐｐｍ以下程度に排除し、フッ素を１％程度含有させたフッ素ドープ石英によって形成されている。レチクル基板５４としてこのような材料を用いたのは、露光光として用いる波長１９０ｎｍ以下のいわゆる真空紫外域の光は、酸素や水蒸気等のガスだけでなく、ガラスや有機物中の透過率も低いため、真空紫外光に対する透過率の高い材料を使用する必要があるからである。
【００５２】
パターン保護装置７２は、レチクル基板５４のパターン面に接着された矩形（ほぼ正方形）枠状の金属（アルミニウムやその合金等）又は石英ガラスより成るペリクルフレーム（枠状部材）７６と、このペリクルフレーム７６のレチクル基板５４に対する対向面と反対側の面に接着され、レチクル基板５４のパターン面を保護するペリクル７５とを含んで構成されている。この場合、ペリクル７５は、レチクル基板５４のパターン面から６．３ｍｍ程度離れた位置に、ペリクルフレーム７６を介して取り付けられている。なお、不図示ではあるが、ペリクルフレーム７６には、航空機による輸送時や天候の変化等による気圧の変化に伴い、ペリクル７５が破損するのを防止するための不図示の通気孔が形成されている。
【００５３】
ペリクル７５としては、真空紫外域の露光光ＥＬをより良好に透過させるために、例えばフッ素含有の樹脂からなる薄膜、あるいはホタル石、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム等の結晶材料から成る１００〜３００μｍ程度の厚さの薄板、あるいはホタル石、フッ化リチウム等から成り３００〜８００μｍ程度の厚さを有する比較的厚いハードペリクルを用いることができる。なお、露光光として近紫外光を用いる場合には、ニトロセルロース等を主成分とする有機系の物質から成る透明な薄膜を用いることができる。
【００５４】
前記レチクルホルダ１４は、照明系ハウジング２及び投影光学系ＰＬの鏡筒と隙間無く接合された隔壁１８の内部空間によって形成されたレチクル室１５の内部に配置されている。レチクルホルダ１４は、その中央部に前述のパターン保護装置７２を収容可能な開口が形成された全体として矩形の部材から成るホルダ本体１４ａと、該ホルダ本体１４ａ上面の４隅の近傍に各１つ設けられた４つの真空吸着機構（バキュームチャック）６３（図１では２つの真空吸着機構のみが図示されている）とを備えている。これら４つの真空吸着機構６３によってレチクル基板５４の下面がその４隅の近傍をそれぞれ吸着され、これによってレチクルＲがレチクルホルダ１４に固定されている。真空吸着機構６３の吸着面は、例えばルーロンやテフロン（登録商標）、セラミックス等の材質によって形成されている。
【００５５】
レチクルホルダ１４は、不図示のレチクル駆動系によってＸＹ面内で微少駆動（Ｚ軸回りの回転を含む）可能とされている。レチクル駆動系は、例えば２組のボイスコイルモータを含んで構成することができる。
【００５６】
前記レチクル室１５の隔壁１８は、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等の脱ガスの少ない材料にて形成されている。このレチクル室１５の隔壁１８の天井部には、レチクル基板５４より一回り小さい矩形の開口が形成されており、この開口部分に照明系ハウジング２の内部空間と、レチクルＲが配置されるレチクル室１５の内部空間とを分離する状態で透過部材１２が配置されている。この透過部材１２は、照明ユニットＩＬＵからレチクル基板５４に照射される露光光ＥＬの光路上に配置されるため、露光光としての真空紫外光に対して透過性の高いホタル石等のフッ化物結晶などによって形成されている。
【００５７】
また、レチクル室１５の隔壁１８のＸ方向一側（＋Ｘ側）の側壁には、出入り口１８ａが形成されている。この出入り口１８ａは、開閉扉１２１によって開閉可能な構造となっている。開閉扉１２１は、不図示の駆動系を介して不図示の制御装置によって開閉制御される。
【００５８】
また、レチクル室１５内のレチクルホルダ１４と開閉扉１２１との間には、水平多関節ロボットからなるマスク搬送機構を構成するレチクル搬送ロボット６が配置されている。このレチクル搬送ロボット６のアームは、伸縮及びＸＹ面内での回転に加え、上下動も可能となっている。このレチクル搬送ロボット６は、上記出入り口１８ａを介してレチクル室１５外からレチクル室１５内にレチクルＲを搬入するとともに、レチクルホルダ１４上にレチクルＲをロードする。また、レチクル搬送ロボット６は、レチクルホルダ１４上からレチクルＲをアンロードした後、出入り口１８ａを介してレチクル室１５外にレチクルＲを搬出する。
【００５９】
更に、レチクル室１５の隔壁１８には、図１に示されるように、給気弁１６と排気弁１７とが設けられている。この給気弁１６、排気弁１７も常時所定の開度で開かれており、不図示の低吸収性ガスの供給装置からレチクル室１５に低吸収性ガスが常時フローされている。このようにして、レチクル室１５内部の気体が低吸収性ガスで置換され、レチクル室１５内の吸収性ガスの濃度は数ｐｐｍ以下の濃度となっている。
【００６０】
レチクル室１５の隔壁１８の外側の出入り口１８ａの周囲には、伸縮可能なベローズ機構１２７が設けられている。ここでベローズ機構１２７について、図２（Ａ）に基づいて説明する。
【００６１】
この図２（Ａ）に示されるように、ベローズ機構１２７は、隔壁１８の外面の出入り口１８ａの周囲部分に固定された肉厚の円筒状部材から成る取り付け部材９６と、該取り付け部材９６の隔壁１８とは反対側の端面にその一端が接続された伸縮自在のベローズ９１と、このベローズ９１をＸ軸方向に沿って伸縮駆動する駆動機構９２とを備えている。駆動機構９２は、ベローズ９１の他端に固定され、その外径がベローズ９１より一回り大きいリング部材９２ａと、このリング部材９２ａの取り付け部材９６に対する対向面にほぼ等間隔でそれぞれのロッド状の可動部９２ｂの一端が固定された３つのアクチュエータとを備えている。これら３つのアクチュエータは、取り付け部材９６の内部に、その固定部が埋め込まれ、モータなどの駆動源によって可動部９２ｂをＸ軸方向に沿って往復駆動する。以下においては、これら３つのアクチュエータを、便宜上、可動部９２ｂと同一の符号を用いてアクチュエータ９２ｂと呼ぶ。
【００６２】
リング部材９２ａのベローズ９１とは反対側の面には、Ｏリング等から成るシール部材９３が貼着されている。
【００６３】
前記取り付け部材９６には、Ｚ軸方向に貫通する２つの貫通孔が形成され、該貫通孔に給気管９４の一端及び排気管９５の一端が挿入されている。給気管９４の他端側は、低吸収性ガスを供給する不図示のガス供給装置に接続され、排気管９５の他端側は、不図示の真空ポンプに接続されている。
【００６４】
図１に戻り、前記投影光学系ＰＬは、ホタル石、フッ化リチウム等のフッ化物結晶から成るレンズや反射鏡からなる光学系を、鏡筒で密閉したものである。投影光学系ＰＬとしては、投影倍率βが例えば１／４あるいは１／５の縮小光学系が用いられている。このため、前述の如く、照明ユニットＩＬＵからの露光光ＥＬによりレチクルＲが照明されると、レチクル基板５４に形成されたパターンが投影光学系ＰＬによりウエハＷ上のショット領域に縮小投影され、パターンの縮小像が形成される。
【００６５】
なお、投影光学系ＰＬとしては、屈折系、反射屈折系、及び反射系のいずれをも用いることができる。
【００６６】
本実施形態のように、真空紫外域の露光光ＥＬを使用する露光装置では、酸素等の吸収性ガスによる露光光の吸収を避けるために、投影光学系ＰＬの鏡筒内部の気体も低吸収性ガスで置換する必要がある。このため、本実施形態では、図１に示されるように、投影光学系ＰＬの鏡筒に給気弁３０と排気弁３１とがそれぞれの一端部近傍に設けられた給気管と排気管とが接続され、給気管の他端が不図示の低吸収性ガスの供給装置に接続されている。そして、給気弁３０と排気弁３１とがともに所定の開度で常時開かれ、低吸収性ガスの供給装置から低吸収性ガスが鏡筒内部に常時フローされ、鏡筒内の気体が低吸収性ガスで置換されている。その結果、鏡筒内部の吸収性ガスの濃度は、酸素濃度が０．１ｐｐｍ以下、水蒸気濃度が１ｐｐｍ以下、有機物濃度が１０ｐｐｂ以下に抑えられている。
【００６７】
前記ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの鏡筒と隙間無く接合された隔壁４１で覆われたウエハ室４０内に配置されている。ウエハ室４０の隔壁４１は、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等の脱ガスの少ない材料にて形成されている。隔壁４１は、チャンバ１の底面（床面）上に複数（例えば４つ）の防振ユニット７を介して配置されている。これらの防振ユニット７によって、床面からの微振動がマイクロＧレベルで絶縁されている。
【００６８】
ウエハ室４０内には、ベースＢＳが、複数の防振ユニット３９を介して水平に支持されている。これらの防振ユニット３９は、ウエハステージＷＳＴの移動に伴う振動が隔壁４１を介して投影光学系ＰＬやレチクルＲに伝達するのを効果的に抑制する。なお、この防振ユニット３９として、ベースＢＳの一部に固定された半導体加速度計等の振動センサの出力に基づいてベースＢＳを積極的に制振するいわゆるアクティブ防振装置を用いることは可能である。
【００６９】
前記ウエハステージＷＳＴは、例えばリニアモータ等から成る不図示のウエハ駆動系によって前記ベースＢＳの上面（ガイド面）に沿ってかつ非接触で自在に駆動されるようになっている。
【００７０】
ウエハステージＷＳＴ上にはウエハテーブル３５が搭載され、該ウエハテーブル３５上に載置された不図示のウエハホルダによってウエハＷが吸着保持されている。ウエハテーブル３５の−Ｘ側の端部には、平面鏡から成るＸ移動鏡３６ＸがＹ軸方向に延設されている。このＸ移動鏡３６Ｘに、Ｘ軸レーザ干渉計３７Ｘからの測長ビームがほぼ垂直に投射され、その反射光がレーザ干渉計３７Ｘ内部のディテクタによって受光され、所定の位置に設けられた参照鏡の位置を基準としてＸ移動鏡３６Ｘの位置、すなわちウエハＷのＸ位置が検出される。
【００７１】
同様に、図示は省略されているが、ウエハテーブル３５の＋Ｙ側の端部には、平面鏡から成るＹ移動鏡がＸ軸方向に延設されている。そして、このＹ移動鏡を介して不図示のＹ軸レーザ干渉計によって上記と同様にしてＹ移動鏡の位置、すなわちウエハＷのＹ位置が検出される。上記２つのレーザ干渉計の検出値（計測値）は不図示の制御装置に供給されている。なお、移動鏡に代えて、ウエハテーブル３５の端面を鏡面加工し、該鏡面加工により形成された反射面を用いてウエハテーブル３５の位置を検出することとしても良い。
【００７２】
制御装置では、これらのレーザ干渉計の検出値をモニタしつつ不図示のウエハ駆動系を介してウエハステージＷＳＴをＸＹ面内で駆動して、ウエハＷ上の複数のショット領域をレチクルパターンの投影位置（露光位置）に順次位置決めするショット間ステッピング動作と、位置決めの度毎に光源の発光を制御して、露光光ＥＬによってレチクルＲのパターンの縮小像を投影光学系ＰＬを介して各ショット領域に転写する動作とを繰り返すステップ・アンド・リピート方式の露光動作を行う。
【００７３】
本実施形態のように、真空紫外域の露光光ＥＬを使用する露光装置では、酸素等の吸収性ガスによる露光光の吸収を避けるために、投影光学系ＰＬからウエハＷまでの光路についても前記低吸収性ガスで置換する必要がある。このため、本実施形態では、図１に示されるように、ウエハ室４０の隔壁４１に給気弁３２と排気弁３３とがそれぞれの一端部近傍に設けられた給気管と排気管とが接続され、給気管の他端が不図示の低吸収性ガスの供給装置に接続されている。そして、給気弁３２と排気弁３３とが共に常時所定の開度で開かれ、不図示の低吸収性ガスの供給装置からウエハ室４０内に低吸収性ガスが常時フローされ、ウエハ室４０内の気体が低吸収性ガスで置換されている。これにより、ウエハ室４０内の吸収性ガスの濃度は数ｐｐｍ以下の濃度に抑制されている。
【００７４】
前記レチクル搬送系１２０は、チャンバ１内部の＋Ｘ側の側壁の内面に一端面が接続されるとともに、不図示の支持部材によってほぼ水平に支持された載置台１０１上に載置され、前記レチクルキャリア４４の開閉を行う開閉装置（インデクサ）４５と、該開閉機構４５の−Ｘ側に所定距離隔てて配置されたレチクル搬送ロボット４７と、該レチクル搬送ロボット４７の−Ｘ側に所定間隔を隔てて配置されたエレベータユニット１３０と、エレベータユニット１３０の下端部近傍に設けられた搬送ロボット２１と、を備えている。
【００７５】
前記レチクルキャリア４４としては、本実施形態では、レチクルを複数枚上下方向に所定間隔を隔てて収納可能なボトムオープンタイプの密閉型のコンテナであるＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）ポッドが用いられている。このレチクルキャリア４４は、図１に示されるように、レチクルを上下方向に所定間隔で収納する複数段（例えば３段）の収納棚が一体的に設けられたキャリア本体４６と、このキャリア本体４６に上方から嵌合するカバー１０２と、キャリア本体４６の底板に設けられカバー１０２をロックする不図示のロック機構とを備えている。
【００７６】
レチクルキャリア４４の構造に対応して、レチクルキャリア４４が搬入される前述の搬出入ポート１ａには、レチクルキャリア４４のキャリア本体４６の底板より一回り大きな開口７８が形成されている。この開口７８は、通常は、図１に示される後述する開閉部材８２によって閉塞されている。
【００７７】
前記開閉装置４５は、開閉部材８２と、該開閉部材８２がその上端面に固定されたＺ軸方向を軸方向とする駆動軸８４と、該駆動軸８４を上下方向（Ｚ軸方向）に駆動する駆動機構１８６とを備えている。開閉部材８２は、搬出入ポート１ａに搬入されるレチクルキャリア４４のキャリア本体４６の底板の底面を真空吸引あるいはメカニカル連結して係合するとともに、そのキャリア本体４６の底板に設けられた不図示のロック機構を解除する不図示の係合・ロック解除機構を備えている。開閉装置４５では、開閉部材８２の係合・ロック解除機構により、ロック機構を解除するとともに、キャリア本体４６を係合した後、開閉部材８２を下方に所定量移動することにより、チャンバ１の内部と外部とを隔離した状態で、キャリア本体４６をカバー１０２から分離させることができる。開閉装置４５は、不図示の制御装置によって制御されるようになっている。
【００７８】
前記レチクル搬送ロボット４７は、水平多関節ロボットから構成されている。このレチクル搬送ロボット４７のアームは、伸縮及びＸＹ面内での回転に加え、上下動も可能となっている。
【００７９】
前記エレベータユニット１３０は、チャンバ１の床面に一端が固定され、鉛直方向に延びる４本のスライドガイド１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄ（但し、図１における紙面奥側の一対のスライドガイド１９ｃ，１９ｄは不図示）、これらのスライドガイド１９ａ〜１９ｄに沿って上下方向に移動可能なスライダ４８ａ，４８ｂ，４８ｃ，４８ｄ（但し、図１における紙面奥側の一対のスライダ４８ｃ，４８ｄは不図示）、及びスライダ４８ａ〜４８ｄを駆動する不図示の駆動機構等を含んで構成されている。スライダ４８ａ〜４８ｄは、Ｌ字状の形状を有し、後述するマスク保管装置としてのレチクル保管箱２０の４隅の近傍を下方から支持可能な構造となっている。スライダ４８ａ〜４８ｄを駆動する駆動機構としては、例えばスライダ４８ａ〜４８ｄのそれぞれと対応するスライドガイドとの間に設けられたリニアモータなどを用いることができる。この駆動機構が不図示の制御装置により制御され、スライダ４８ａ〜４８ｄが同一量だけ同時に上下方向に駆動され、これによってスライダ４８ａ〜４８ｄに保持されたレチクル保管箱２０が上下方向に搬送されるようになっている。
【００８０】
ここで、上記エレベータユニット１３０によって搬送されるレチクル保管箱２０の構成について、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に基づいて説明する。
【００８１】
レチクル保管箱２０は、全体として箱型の形状を有しその内部に空間が形成された保管箱本体２１０と、保管箱本体２１０の図３（Ａ）におけるＸ軸方向両側の側壁にそれぞれ形成された搬出入開口２１１ａ，２１１ｂ（図３（Ｂ）参照）をそれぞれ開閉する蓋部材２０５ａ，２０５ｂとを備えている。
【００８２】
前記保管箱本体２１０は、図３（Ｂ）に示されるようにその上面及び下面に２段の段を有する段付き開口（窓）２１１ｃ，２１１ｄがそれぞれ形成された全体として箱型の筐体２１１と、この筐体２１１の上面側の段付き開口２１１ｃの開口部分を閉塞する状態で取り付けられた第２光透過部としての窓ガラス２０１ａと、筐体２１１の下面側の段付き開口２１１ｄの開口部分を閉塞する状態で取り付けられた第１光透過部としての窓ガラス２０１ｂ（図３（Ｂ）参照）とを備えている。本実施形態のレチクル保管箱２０では、窓ガラス２０１ａ，２０１ｂによって透過部が構成されている。
【００８３】
前記筐体２１１は、ステンレス鋼等から成り、この筐体２１１のＸ軸方向両側の側壁に形成された搬出入開口２１１ａ，２１１ｂを介して保管箱本体２１０の内部にレチクルＲが搬入され、また、保管箱本体２１０の内部からレチクルＲが搬出されるようになっている。また、図３（Ａ）に示されるように、筐体２１１のＹ軸方向両側の壁には、レチクル保管箱２０内に所定のガスを供給し、レチクル保管箱２０内のガスを排気するための通気孔２０４ａ，２０４ｂ，２０４ｃ，２０４ｄが形成されている（通気孔２０４ｃ，２０４ｄについては、図３（Ａ）では不図示、図８参照）。なお、上記のように筐体をステンレス鋼等から構成する場合には、その表面を酸化等させることにより不動態膜を形成したり、あるいは電解研磨を施したりすることにより、放出ガスの低減を図ることができる。
【００８４】
前記窓ガラス２０１ａ，２０１ｂは、蛍石やフッ素添加石英等の紫外線透過性を有する材料から成る板状部材によって形成されている。なお、窓ガラス２０１ａ，２０１ｂとしては、フッ化カルシウム等の材料から成る板状部材を用いることもできる。一方の窓ガラス２０１ａは、図３（Ｂ）に示されるように、筐体２１１の上面に形成された段付き開口２１１ｃの上から２段目の段部に気密性確保のためのＯリング等から成るシール部材２６５ａを介して嵌め込まれ、上から１段目の段部に嵌めこまれた矩形枠状の窓押さえ部材２０２ａによって上方から押さえつけられた状態で固定されている。この場合、窓押さえ部材２０２ａと窓ガラス２０１ａとの間にも気密性確保のためのＯリング等から成るシール部材２６５ｃが設けられ、窓押さえ部材２０２ａは、筐体２１１に複数本のねじ２０３によって固定されている。
【００８５】
他方の窓ガラス２０１ｂは、図３（Ｂ）に示されるように、筐体２１１の下面に形成された段付き開口２１１ｄの下から２段目の段部に気密性確保のためのＯリング等から成るシール部材２６５ｂを介して嵌め込まれ、下から１段目の段部に嵌めこまれた矩形枠状の窓押さえ部材２０２ｂによって下方から押さえつけられた状態で固定されている。この場合、窓押さえ部材２０２ｂと窓ガラス２０１ｂとの間にも気密性確保のためのＯリング等から成るシール部材２６５ｄが設けられ、窓押さえ部材２０２ｂは、筐体２１１に複数本のねじ２０３によって固定されている。なお、シール部材２０５ａ〜２０５ｄとしては、例えば吸収性ガスの脱ガスの発生が少ないフッ素ゴムなどから成るものを用いることができる。
【００８６】
筐体２１１の内部底面には、図３（Ｂ）に示されるように、段付き開口２１１ｄの開口部の周辺部に複数（例えば４つ）のレチクル支持部材２１３（但し、図３（Ｂ）における紙面手前側のレチクル支持部材２１３は不図示）がそれぞれ設けられている。これらのレチクル支持部材２１３によって、ロボットによって保管箱本体２１０内にレチクルＲが搬入された際に、そのレチクル基板５４下面の例えば４隅の部分が下方から支持される。
【００８７】
一方の蓋部材２０５ａは、図３（Ａ）に示されるように、前述の搬出入開口２１１ａを開閉可能とするため、筐体２１１のＹ軸方向の一側と他側の側壁の外面の＋Ｘ側端部近傍にそれぞれ固定された一対の矩形板状の支持部材２１２（ただし、＋Ｙ側の側壁に固定された支持部材については不図示）に支軸２０６ａを中心として起伏回動可能（ＸＺ面内で回動可能）に取り付けられている。この蓋部材２０５ａにおける、搬出入開口２１１ａの周辺部に対応する部分には、図３（Ｂ）に示されるように、気密性を確保するためのＯリング等から成るシール部材２７０ａが設けられている。
【００８８】
また、蓋部材２０５ａの−Ｙ側の端面には、図３（Ａ）に示されるように、ピン２０８ａが設けられ、これに対応して筐体２１１の−Ｙ側の側壁の外面には、ピン２０８ａに係合可能なフック２０８ｂが起伏回動可能に設けられている。これらピン２０８ａ、フック２０８ｂによって、蓋部材２０５の開閉をロックするロック機構２０８が構成されている。なお、ロック機構２０８は、−Ｙ側のみでなく、＋Ｙ側にも設けても良い。
【００８９】
他方の蓋部材２０５ｂ及びその周辺部材の構成も蓋部材２０５ａと同様になっている。すなわち、蓋部材２０５ｂは、図３（Ａ）に示されるように、前述の搬出入開口２１１ｂを開閉可能とするため、筐体２１１のＹ軸方向の一側と他側の側壁の外面の−Ｘ側端部近傍にそれぞれ固定された一対の支持部材２１２（ただし、＋Ｙ側の側壁に固定された支持部材については不図示）に支軸２０６ｂを中心として起伏回動可能（ＸＺ面内で回動可能）に取り付けられている。この蓋部材２０５ｂにおける、搬出入開口２１１ｂの周辺部に対応する部分には、図３（Ｂ）に示されるように、気密性を確保するためのＯリング等から成るシール部材２７０ｂが設けられている。このシール部材２７０ｂ及び前記シール部材２７０ａとしては、例えば吸収性ガスの脱ガスの発生が少ないフッ素ゴムなどから成るものを用いることが望ましい。
【００９０】
また、蓋部材２０５ｂ側にも、図３（Ａ）に示されるように、前述のロック機構２０８と同様にピン２０７ａとフック２０７ｂとによって構成されるロック機構２０７が設けられている。このロック機構２０７によって、蓋部材２０５ｂの開閉がロックされるようになっている。なお、ロック機構２０７も−Ｙ側のみでなく、＋Ｙ側にも設けても良い。
【００９１】
前記通気孔２０４ａ〜２０４ｄに対応して、筐体２１１のＹ軸方向の一側と他側の側壁の内面には、開閉弁機構２１２Ａ〜２１２Ｄが設けられている（図８参照）。ここで、これらの開閉弁機構２１２Ａ〜２１２Ｄの構成を、開閉弁機構２１２Ａを代表的に採りあげて、図４に基づいて説明する。
【００９２】
図４には、該開閉弁機構２１２Ａの斜視図が示されている。この図４に示されるように、開閉弁機構２１２Ａは、通気孔２０４ａに対向して筐体２１１の−Ｙ側の側壁の内面側に配設された弁部材２１５と、この弁部材２１５を−Ｙ方向に所定の力で常時付勢する一対の付勢機構２１４Ａ、２１４Ｂとを備えている。
【００９３】
前記弁部材２１５は、矩形板状の部材から成る弁本体２１５ａと、弁本体２１５ａのＸ軸方向一側と他側の端面に突設された一対の支持部材２１５ｂ，２１５ｃとを含んで構成されている。弁本体２１５ａの前記側壁内面に対向する面（−Ｙ側の面）には、通気孔２０４ａに圧設された際に、気密性を確保するためのＯリング等から成るシール部材２１６が貼着されている。
【００９４】
前記一方の付勢機構２１４Ａは、図４に示されるように、断面Ｕ字状の形状を有し、その開放側の一対の端面が前記側壁の内面に固定されたガイド部材２１７と、該ガイド部材２１７と支持部材２１５ｂとの間に配置された圧縮コイルばねＳＲとを備えている。他方の付勢機構２１４Ｂもこれと同様に構成されている。
【００９５】
このようにして構成される開閉弁機構２１２Ａによると、通常の状態では、弁部材２１５は、付勢機構２１４Ａ、２１４Ｂの圧縮コイルばねＳＲによって−Ｙ方向に向けて所定の力で常時付勢されているので、弁本体２１５ａ（より正確にはシール部材２１６）が筐体２１１の−Ｙ側の側壁内面の通気孔２０４ａ部分に圧設されており、これによって通気孔２０４ａは閉塞状態（閉状態）に維持されている。一方、弁部材２１５が付勢機構２１４Ａ、２１４Ｂの圧縮コイルばねＳＲの付勢力に抗して外側から押圧された場合には、蓋部材２１５は＋Ｙ側に移動し、弁本体２１５ａ（より正確にはシール部材２１６）が前記側壁内面から離れ、通気孔２０４ａが開放状態（開状態）となる。
【００９６】
その他の開閉弁機構２１２Ｂ〜２１２Ｄも上記開閉弁機構２１２Ａと同様に構成されている。
【００９７】
図１に戻り、前記搬送ロボット２１は、前記レチクル搬送ロボット４７と同様、水平多関節ロボットから構成されている。この搬送ロボット２１のアームは、伸縮及びＸＹ面内での回転に加え、上下動も可能となっている。この搬送ロボット２１は、後述する光洗浄装置とエレベータユニット１３０との間でレチクル保管箱２０を搬送するものである。
【００９８】
前記エレベータユニット１３０を構成するスライドガイド１９ａ〜１９ｄの上端部の上方には、チャンバ１の天井部から吊り下げ支持された保管機構２４が設けられている。この保管機構２４は、エレベータユニット１３０のスライダ４８ａ〜４８ｄによって搬送された前述のレチクル保管箱２０をほぼ気密状態で収容可能な構成となっている。
【００９９】
更に、本実施形態の露光装置１１０では、搬送ロボット２１の＋Ｘ側であって、開閉装置４５等が載置された載置台１０１の下方の位置に光洗浄装置２２が設置されている。この光洗浄装置２２の構成等について、光洗浄装置２２の斜視図である図５及び縦断面図である図６等に基づいて説明する。
【０１００】
光洗浄装置２２は、図５及び図６に示されるように、床面上に設置された土台１５５上に固定された下側光照射機構１５３Ａと、この下側光照射機構１５３Ａに対向して配置され、複数のマジックハンドのような上下動機構１５１を介して載置台１０１の下面に吊り下げ支持された上側光照射機構１５３Ｂとを備えている。
【０１０１】
前記下側光照射機構１５３Ａは、上端に開口１７７ａが形成された箱状の第１筐体としてのハウジング１７７と、該ハウジング１７７の内部の底面近傍に設けられた第１の光源１７９とを備えている。
【０１０２】
前記ハウジング１７７の上端面には、Ｏリングなどから成る環状のシール部材１８７が設けられている。本実施形態では、後述するように、レチクル保管箱２０に収容されたレチクルＲの光洗浄を行う際には、ハウジング１７７上にレチクル保管箱２０がセットされるが、その際にそのレチクル保管箱２０の底面、より正確には窓ガラス２０１ｂの周囲部分に、シール部材１８７が圧接される。すなわち、レチクル保管箱２０底面の窓ガラス２０１ｂの周囲に係合する第１係合部が、シール部材１８７によって実質的に構成される。このシール部材１８７としては、例えば吸収性ガスの脱ガスの発生が少ないフッ素ゴムなどから成るものが用いられる。
【０１０３】
前記第１の光源１７９としては、例えば波長１７２ｎｍの紫外光を発するＸｅ（キセノン）エキシマランプ、波長１５７ｎｍの紫外光を発するフッ素ランプ、あるいは波長１９３ｎｍの紫外光を発するＡｒＦ（アルゴンフッ素）ランプ等が用いられる。なお、第１の光源１７９による周辺雰囲気の温度上昇が大きい場合には、必要に応じて冷却水等の冷却剤を、不図示の流体導入装置を利用して、光源１７９近傍に導入可能な構成とすることができる。また、これに代えて、あるいはこれと併せて、下側光照射機構１５３Ａの外周に冷却パイプを設置し、その内部に冷却水等の冷却剤を通すことで下側光照射機構１５３Ａ全体を冷却する構成を採用することもできる。
【０１０４】
第１の光源１７９は、石英ガラスや蛍石製のカバーガラス１８３によって覆われている。第１の光源１７９に対する電力供給配線１８１ａ，１８１ｂは、ハウジング１７７の底壁に設けられた気密性の電極導入機構を介して、ハウジング１７７の外部（下部）に導出され、更に土台１５５に形成された矩形開口１５５ａを介して土台１５５の下方空間に導出されている。これらの電力供給配線１８１ａ，１８１ｂは、不図示の電源に接続されている。
【０１０５】
前記ハウジング１７７のＹ軸方向一側（＋Ｙ側）の側壁には、ガス供給管１８５Ａの一端が接続されている。このガス供給管１８５Ａの他端は、純窒素又は純希ガスを供給する図７に示される高純度ガス供給装置２５５に接続されている。この高純度ガス供給装置２５５としては、例えば窒素ガス用のボンベ又は希ガス用のボンベを有し、該ボンベからのガスを、ＨＥＰＡフィルタ及びケミカルフィルタの少なくとも一方を有するラインフィルタを介して供給する装置を用いることができる。なお、図７においては、各種バルブ等の図示は省略されている。
【０１０６】
また、前記ハウジング１７７のＹ軸方向他側（−Ｙ側）の側壁には、図６に示されるように、ガス排気管１８５Ｂの一端が接続されている。このガス排気管１８５Ｂの他端は、図７に示される真空ポンプ２５７Ａを介して不図示のガス回収装置に接続されている。
【０１０７】
前記上側光照射機構１５３Ｂは、上述の下側光照射機構１５３Ａと上下対称ではあるが同様に構成されている。すなわち、この上側光照射機構１５３Ｂは、図６に示されるように、下端に開口１５７ａが形成された箱状の第２筐体としてのハウジング１５７と、該ハウジング１５７内部の底面（天井面）近傍に配設された前述の第１の光源１７９と同様の第２の光源１５９とを備えている。
【０１０８】
前記ハウジング１５７の下端面には、Ｏリングなどから成るシール部材１６７が設けられている。本実施形態では、後述するように、レチクル保管箱２０に収容されたレチクルＲの光洗浄を行う際には、ハウジング１５７は、レチクル保管箱２０の上面に係合するが、その際にそのレチクル保管箱２０の上面、より正確には窓ガラス２０１ａの周囲部分に、シール部材１６７が圧接される。すなわち、レチクル保管箱２０上面の窓ガラス２０１ａの周囲に係合する第２係合部が、シール部材１６７によって実質的に構成される。このシール部材１６７としては、例えば吸収性ガスの脱ガスの発生が少ないフッ素ゴムなどから成るものが用いられる。
【０１０９】
前記第２の光源１５９の周りは、石英ガラスや蛍石製のカバーガラス１６３で覆われている。なお、この第２の光源１５９による周辺雰囲気の温度上昇が大きい場合には、前述と同様の冷却手段を採用することができる。
【０１１０】
第２の光源１５９に対する電力供給配線１６１ａ，１６１ｂは、ハウジング１５７の天井部分に設けられた気密性の電極導入機構を介して、ハウジングの外部（上部）に導出され、不図示の電源に接続されている。
【０１１１】
前記ハウジング１５７のＹ軸方向一側（＋Ｙ側）の側壁には、ガス供給管１６５Ａの一端が接続されている。このガス供給管１６５Ａの他端は、前述の高純度ガス供給装置２５５に接続されている（図７参照）。
【０１１２】
また、ハウジング１７７のＹ軸方向他側（−Ｙ側）の側壁には、図６に示されるように、ガス排気管１６５Ｂの一端が接続されている。このガス排気管１６５Ｂの他端は、図７に示される真空ポンプ２５７Ｂを介して不図示のガス回収装置に接続されている。
【０１１３】
上述のようにして構成される上側光照射機構１５３Ｂは、前述した複数の上下動機構１５１の伸縮動作により、所定ストローク範囲で上下方向（Ｚ軸方向）に駆動されるようになっている。各上下動機構１５１の伸縮動作は、不図示の制御装置によって制御される。
【０１１４】
上側光照射機構１５３Ｂと下側光照射機構１５３Ａとの間（Ｚ軸方向に関するほぼ中央部）には、図５及び図６等に示されるように、給気管２２４ａ、２２４ｃそれぞれの一側の先端部、及び排気管２２４ｂ，２２４ｄそれぞれの一側の先端部が配置されている。ここで、図５、図６では図示の便宜上、不図示であるが、給気管２２４ａ，２２４ｃの一側の先端部には、実際には、図８に示される給気ユニット５１Ａ，５１Ｃがそれぞれ設けられ、排気管２２４ｂ，２２４ｄの一側の先端部には、図８に示される排気ユニット５１Ｂ，５１Ｄがそれぞれ設けられている。これらの給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄは、レチクル保管箱２０内のガスを置換するためのものであり、図８に示される板状部材１６０ａ、１６０ｂ上にそれぞれ設けられている。板状部材１６０ａ、１６０ｂは、ハウジング１７７上にレチクル保管箱２０が載置された際に、そのレチクル保管箱２０に形成された通気孔２０４ａ，２０４ｂ、及び通気孔２０４ｃ，２０４ｄに、給気ユニット５１Ａ、排気ユニット５１Ｂ、及び給気ユニット５１Ｃ、排気ユニット５１Ｄが、それぞれ対向し得る位置及び高さに設置されている。
【０１１５】
前記排気管２２４ｂ，２２４ｄそれぞれの他端側は、図７に示されるように、同一の排気幹路２５９及び真空ポンプ２５７Ｃを介して不図示のガス回収装置に接続されている。
【０１１６】
前記給気管２２４ａ，２２４ｃそれぞれの他端側は、図７に示されるように、ガス供給制御機構２６１を介して、前述の高純度ガス供給装置２５５及び高濃度ガス供給装置２６３に接続されている。
【０１１７】
これを更に詳述すると、ガス供給制御機構２６１は、ガス混合機２３０、接続管２３４、センサ２３１及びコントローラ２３６等を含んで構成されている。
【０１１８】
前記ガス混合機２３０の一側には、その一端が高純度ガス供給装置２５５に接続された供給配管２３２の他端と、その一端が１０〜１００ｐｐｍ程度の酸素を含む比較的酸素濃度が高い窒素又は希ガスあるいは１０〜１００ｐｐｍ程度の水蒸気を含む比較的水蒸気濃度が高い窒素又は希ガスを供給する高濃度ガス供給装置２６３に接続された供給配管２３３の他端とが、それぞれ接続されている。
【０１１９】
また、ガス混合機２３０の他側は、前記接続管２３４を介してセンサ２３６の一側に接続され、このセンサ２３６の他側に配管２３５の一端が接続されている。ここで、センサ２３６としては、酸素濃度計又は水蒸気濃度計が用いられている。
【０１２０】
上記配管２３５の他端側が２つに分岐され、各分岐管路が前述の給気管２２４ａ，２２４ｃとされている。
【０１２１】
このようにして構成されたガス供給制御機構２６１によると、高純度ガス供給装置２５５、高濃度ガス供給装置２６３から供給配管２３２，２３３をそれぞれ介してからガス混合機２３０に供給されるガスは、ガス混合機２３０にて混合され、該混合ガスは接続管２３４、センサ２３１、配管２３５を介して図６の給気管２２４ａ，２２４ｃに供給される。
【０１２２】
この場合、不図示の制御装置の指示に基づき、コントローラ２３６では、ガス混合機２３０で混合された混合ガス中の酸素濃度又は水蒸気濃度をセンサ２３１で計測し、該計測結果に基づいて、ガス混合機２３０による両ガスの混合比率をフィードバック制御することにより、所望の酸素濃度又は水蒸気濃度のガスを給気管２２４ａ，２２４ｃに送ることができるようになっている。なお、高純度ガス供給装置２５５、高濃度ガス供給装置２６３からのガスの供給、停止は、不図示の制御装置によって制御される。
【０１２３】
次に、給気ユニット５１Ａを代表的に採りあげて、給気ユニット５１Ａ、５１Ｃの構成について、図９に基づいて説明する。
【０１２４】
図９には、給気ユニット５１Ａその近傍の構成が斜視図にて示されている。この図９に示されるように、給気ユニット５１Ａは、給気管２２４ａの一端が接続されたアルミニウム等の金属製のベローズ等から成る伸縮可変部材６４、該伸縮可変部材６４の給気管２２４ａと反対側の端部に接続されたガイドバー取り付け部材を兼ねる接続管６２、該接続管６２の伸縮可変部材６４とは反対側に接続され、その内部が伸縮可変部材６４の内部空間を介して給気管２２４ａに連通された管部材から成る先端部材６１、及び先端部材６１の外周部に装着され固定された板部材６３等を備えている。
【０１２５】
これを更に詳述すると、前記接続管６２の外周面のＸ軸方向一側と他側には、一対のガイドバー６７Ａ，６７Ｂがそれぞれ突設されている。前記板状部材１６０ａ上面の接続管６２を挟んだＸ軸方向の一側と他側には、一対のスライドガイド６８Ａ、６８Ｂが固定され、該スライドガイド６８Ａ、６８Ｂには、前記ガイドバー６７Ａ、６７ＢをＹ軸方向（図８中の矢印Ｂ、Ｂ’方向）に案内するＹ軸方向のガイド溝８６ａ、８６ｂがそれぞれ形成されている。
【０１２６】
前記板部材６３の＋Ｙ側の面には、Ｏリングなどから成るシール部材７３が固定されている。このシール部材７３としては、例えば吸収性ガスの脱ガスの発生が少ないフッ素ゴムなどから成るものが用いられている。
【０１２７】
前記先端部材６１は、テフロン（登録商標）等のフッ素樹脂等から成り、接続管６２とは反対側（＋Ｙ側）の端面が閉塞されている。また、先端部材６１の＋Ｙ端部近傍の周壁には２つの貫通孔６１ａ（ただし、図９では奥側に形成された貫通孔については不図示）が形成されている。
【０１２８】
このようにして構成された給気ユニット５１Ａによると、給気ユニット５１Ａに対向した位置にレチクル保管箱２０の通気孔２０４ａが位置するようにレチクル保管箱２０が配置された場合に、不図示の駆動機構によってガイドバー６７Ａ，６７Ｂがスライドガイド６８Ａ、６８Ｂガイド溝８６ａ、８６ｂにそれぞれ沿って矢印Ｂ方向に駆動されると、ガイドバー６７Ａ，６７Ｂと一体的に、接続管６２、板部材６３及び先端部材６１が駆動される。これにより、伸縮可変部材６４が伸びて先端部材６１の先端部が、レチクル保管箱２０に形成された通気孔２０４ａ内に挿入される。
【０１２９】
そして、ガイドバー６７Ａ，６７Ｂが駆動機構によって更に所定量矢印Ｂ方向に駆動されると、先端部材６１の先端面が通気孔２０４ａを介して開閉弁機構２１２Ａの弁部材２１５に接触する。そして、更に先端部材６１が＋Ｙ方向に駆動されると、付勢機構２１４Ａ，２１４Ｂによる付勢力に抗して弁部材２１５が押圧され、弁部材２１５が＋Ｙ方向（矢印Ｂ方向）へ移動するが、この移動開始直後に、板部材６３がシール部材７３を介してレチクル保管箱２０の筐体２１１の外面に圧設される。このため、通気孔２０４ａと先端部材６１との間の隙間を介してレチクル保管箱２０の内部に外気が混入する可能性は殆どない。図８には、給気ユニット５１Ａを構成する板部材６３がシール部材７３を介してレチクル保管箱２０の筐体２１１の外面に圧設された状態が示されている。この図８の状態では、通気孔２０４ａは、シール部材７３及び板部材６３によって閉塞されている。このようにして、レチクル保管箱２０内部の気密性が確実に確保された状態で、先端部材６１の開口６１ａを介してレチクル保管箱２０内に低吸収性ガスを供給することができる。
【０１３０】
給気ユニット５１Ｃも上記給気ユニット５１Ａと同様に構成されている。
【０１３１】
一方、排気ユニット５１Ｂ，５１Ｄについては、その構成等は上記給気ユニット５１Ａと同様であるが、排気ユニット５１Ｂ，５１Ｄ及び排気管２２４ｂ，２２４ｄを介して、レチクル保管箱２０内のガスが排気される点（すなわちガスの流れる方向が）が異なっている。
【０１３２】
このようにして構成された給気ユニット５１Ａ，５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄによると、通気孔２０４ａ、２０４ｃに給気ユニット５１Ａ、５１Ｃの先端部材が挿入され、かつ通気孔２０４ｂ、２０４ｄに排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄの先端部材が挿入され、かつレチクル保管箱２０の内部が外気に対して気密にされた状態で、給気ユニット５１Ａ，５１Ｃを介してレチクル保管箱２０内に低吸収性ガスが供給され、排気ユニット５１Ｂ，５１Ｄを介してレチクル保管箱２０内のガスが排気されることで、レチクル保管箱２０内のガス置換が効率良く行われるようになっている。
【０１３３】
次に、上記のように構成される露光装置１１０において、露光装置の外部から露光装置のチャンバ１内にレチクルを搬入し、露光動作が行われ、使用済みのレチクルを回収するまでの一連の動作について、図１を中心として説明する。なお、以下の各部の動作は、不図示の制御装置の制御動作によって実現されるが、ここでは説明を簡略化するため制御装置に関する説明は特に必要な場合以外は省略するものとする。
【０１３４】
レチクルのレチクルホルダ上への搬入動作は以下のａ．〜ｈ．の手順で行われる。
【０１３５】
ａ．まず、不図示の天井搬送系により複数枚（ここでは３枚）のレチクルを収容したレチクルキャリア４４がチャンバ１の搬出入ポート１ａに搬入される。このとき、搬出入ポート１ａに設けられた開口７８は、開閉部材８２によって閉塞されている。
【０１３６】
制御装置は、上記のレチクルキャリア４４の搬入を確認すると、開閉装置４５の開閉部材８２の係合・ロック解除機構を介して、キャリア本体４６とカバー１０２との間のロック機構を解除し、開閉部材８２をキャリア本体４６と係合する。そして、駆動機構４５を介して開閉部材８２を下降駆動し、図１の状態で待機する。
【０１３７】
ｂ．次いで、レチクル搬送ロボット４７のアームの伸縮駆動、ＸＹ面内での回転駆動及び上下動等を行うことにより、キャリア本体４６に収容された複数枚のレチクルのうちのいずれか一つのレチクルの下側にレチクル搬送ロボット４７のアームを入り込ませ、さらに上方に駆動することにより、レチクル搬送ロボット４７にレチクルを受け取らせる。そして、ＸＹ面内でレチクル搬送ロボット４７のアームをほぼ９０°回転することにより、図１に実線で示される位置で待機中のレチクル保管箱２０（以下、このレチクル保管箱２０の位置を「レチクル搬出入位置」と呼ぶ）の近傍にレチクルＲを搬送する。
【０１３８】
ｃ．制御装置は、このレチクルＲのレチクル搬出入位置近傍への搬送を確認すると、レチクル搬送ロボット４７とエレベータユニット１３０との間に設けられた不図示のロック開閉機構により、レチクル保管箱２０の蓋部材２０５ａ側のロック機構２０８を解除するとともに、レチクル搬送ロボット４７とエレベータユニット１３０との間に設けられた不図示の開閉機構により蓋部材２０５ａを開く。このように蓋部材２０５ａが開かれた状態で、レチクルＲを保持したアームを伸縮駆動することにより、搬出入開口２１１ａを介して、レチクル保管箱２０内にレチクルＲを搬入する。
【０１３９】
そして、レチクルＲがレチクル保管箱２０内の所定位置に位置決めされた状態で、レチクル搬送ロボット４７のアームを下降駆動することにより、レチクル保管箱２０内の複数の支持部材２１３上にレチクルＲが載置される。その後、レチクル搬送ロボット４７のアームを伸縮駆動することにより、レチクル保管箱２０内からアームを退避させ、完全に退避したことを確認すると、前記開閉機構により、レチクル保管箱２０の蓋部材２０５ａを閉鎖する。また、前記ロック開閉機構によりロック機構２０８をロックする。
【０１４０】
ｄ．次いで、エレベータユニット１３０を構成するスライダ４８ａ〜４８ｄをスライドガイド１９ａ〜１９ｄにそれぞれ沿って下降駆動することにより、レチクルＲを内部に収容したレチクル保管箱２０を、図１に符号２０Ｂにて示される位置まで搬送する。
【０１４１】
ｅ．そして、この位置で搬送ロボット２１によってレチクル保管箱２０を受け取らせ、搬送ロボット２１のアームを旋回、伸縮等することにより、図１に符号２０Ｃで示される位置までレチクル保管箱２０を搬送する。
【０１４２】
図１０には、このときの状態を＋Ｘ方向から見た縦断面図が示されている。この図１０から分かるように、搬送直後の状態では、レチクル保管箱２０は、上側光照射機構１５３Ｂ及び下側光照射機構１５３Ａのいずれに対しても、所定間隔だけ隔てられており、また、レチクル保管箱２０の通気孔２０４ａ〜２０４ｄと給気管２２４ａ，２２４ｃ（より詳しくは給気ユニット５１Ａ，５１Ｃの先端部材）、排気管２２４ｂ，２２４ｄ（より詳しくは排気ユニット５１Ｂ，５１Ｄの先端部材）とはＺ軸方向に位置ずれが存在する状態となっている。
【０１４３】
次に、制御装置は、搬送ロボット２１のアームを下降駆動して、図１１に示されるように、下側光照射機構１５３Ａを構成するハウジング１７７上に載置する。これにより、レチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ｂの周囲にハウジング１７７上端面に設けられたシール部材１８７が圧接されて両者が係合し、レチクル保管箱２０によってハウジング１７７の開口１７７ａが閉塞され、ハウジング１７７の内部にほぼ気密状態の空間（第１空間）が形成される。
【０１４４】
上記の搬送ロボット２１のアームの下降駆動開始とほぼ同時又はそれより僅かに遅れて、上下動機構１５１を介して上側光照射機構１５３Ｂを下降駆動して、図１１に示されるように、上側光照射機構１５３Ｂを構成するハウジング１５７の下端面に設けられたシール部材１６７を、レチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ａに圧接させて、両者を係合させる。これにより、レチクル保管箱２０によってハウジング１５７の開口１５７ａが閉塞され、ハウジング１５７の内部にほぼ気密状態の空間（第２空間）が形成される。
【０１４５】
ここで、上述の第１空間がハウジング１７７内部に形成された段階では、レチクル保管箱２０の通気孔２０４ａ、２０４ｃ及び通気孔２０４ｂ、２０４ｄと給気ユニット５１Ａ，５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ，５１Ｄとが、それぞれ対向する状態となる（図１１参照）。
【０１４６】
そこで、制御装置は、この状態で、前記給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄそれぞれの先端部材をレチクル保管箱２０の通気孔２０４ａ、２０４ｃ及び２０４ｂ、２０４ｄに向けてスライド駆動し、給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄそれぞれの先端部材を通気孔２０４ａ、２０４ｃ及び２０４ｂ、２０４ｄにそれぞれ挿入することにより開閉弁機構２１２Ａ〜２１２Ｄを開き、レチクル保管箱２０内の後述するガス置換を開始する。また、制御装置は、これと前後して、ハウジング１７７内部の第１空間、ハウジング１５７内部の第２空間についても、後述するガス置換を開始する。
【０１４７】
ここで、上記のガス置換を行うに際し、制御装置は、前述の高純度ガス供給装置２５５からのガス供給管１６５Ａ、１８５Ａ及び供給配管２３２を介したガスの供給、及び高濃度ガス供給装置２６３からの供給配管２３３を介したガスの供給を開始するとともに、前述したガス供給制御機構２６１のコントローラ２３６に、その内部のガス中の酸素濃度又は水蒸気濃度が例えば１０〜１００ｐｐｍ程度となるような指令を与える。これと同時に、制御装置は、真空ポンプ２５７Ａ，２５７Ｂ，２５７Ｃの作動を開始する。これにより、レチクル保管箱２０の内部空間、ハウジング１７７内部の第１空間及びハウジング１５７内部の第２空間で、それぞれ内部ガスを低吸収性ガス（窒素または希ガス）に置換するガス置換が開始される。特に、レチクル保管箱２０の内部では、内部のガスが、ガス中の酸素濃度又は水蒸気濃度が例えば１０〜１００ｐｐｍ程度である低吸収性ガスに置換される。
【０１４８】
その後、光源１５９，１７９を発光させる。これにより、上記のようにガス置換されたレチクル保管箱２０に対して上下方向から光源１５９，１７９からの光がハウジング１５７、１７７の開口を介してそれぞれ照射され、これらの光が、レチクル保管箱２０の光透過窓２０１ａ，２０１ｂをそれぞれ介して、レチクルＲの上面及び下面（パターン面）にそれぞれ照射され、レチクルＲの光洗浄が開始される。このとき、レチクル保管箱２０自体も、照射される光またはレチクルＲによるその反射光、散乱光により光洗浄されることになる。
【０１４９】
ここで、上記光洗浄に際しては、レチクル保管箱２０の内部空間のみならず、ハウジング１５７、１７７の内部においても、その周囲のガスに、微量の酸素が混入している方が洗浄効果をより高めることができる場合もある。そのため、ハウジング１５７、１７７の内部においても、窒素または希ガスによるガス置換の進行過程で、ガス中の酸素濃度又は水蒸気濃度が例えば１００ｐｐｍ程度の所定の濃度になった状態で行なうことが好ましい。そのためには、排気管１６５Ｂ，１８５Ｂや排気管２２４ｂ，２２４ｄから排気されるガス中の酸素濃度を計測する酸素濃度計又は水蒸気濃度を計測する水蒸気濃度計などから成るセンサを設け、そのセンサで計測された濃度が所定の値に達した状態で光洗浄を開始することが望ましい。
【０１５０】
なお、これまでの説明では、ハウジング１５７、１７７内部の空間のガスをガス置換した状態で、レチクル保管箱２０内のレチクルを光洗浄するものとしたが、Ｘｅ（キセノン）ランプやＡｒＦランプの光束は、大気中をある程度透過するので、光洗浄に際して、ハウジング１５７、１７７内部の空間のガスまでガス置換をしなくても良い。この場合、ハウジング１５７、１７７の内部に形成される空間は、気密である必要はないので、構造が簡素化できるメリットがある。但し、ガス置換を行なわない場合には、酸素による光の吸収により光源１５９、１７９からレチクルに照射される紫外線の光量が低下してしまうことになる。これを避けるには、光源１５９、１７９とレチクル保管箱２０上下の紫外線透過用の窓ガラス２０１ａ，２０１ｂの間隔を、極力短く、例えば５ｍｍ以下になるように設定することが望ましい。
【０１５１】
なお、上記の光洗浄は所定時間行われるが、この光洗浄の間も、給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄはレチクル保管箱２０に接続されたままであり、レチクル保管箱２０内のガス置換は続行されている。勿論、上記のガス置換の終了の確認により、前述のガイドバー６７Ａ、６７Ｂの駆動機構を介して給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄを、レチクル保管箱２０から離れる方向（図８のＢ’方向）にスライド駆動して、給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄをレチクル保管箱から離脱させておいても良い。
【０１５２】
ｆ．そして、照射時間が所定時間経過した段階で、光洗浄を終了する。この光洗浄終了後は、光洗浄によって分解された有機物や水をレチクル保管箱２０内から排除するために、給気ユニット５１Ａ，５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ，５１Ｄを接続したままにし（給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄをレチクル保管箱から離脱させておいた場合には、再度接続し）、レチクル保管箱２０内のガス置換を続行する。このガス置換を行うにあたり、制御装置はコントローラ２３６に指示を与え、ガス供給制御機構２６１から給気管２２４ａ，２２４ｃを介してレチクル保管箱２０内に供給されるガスに含まれる酸素濃度が０．１ｐｐｍ以下あるいは水蒸気濃度が１ｐｐｍ以下になるように、ガス供給制御機構２６１のガス混合機２３０を制御する。すなわち、高濃度ガス供給装置２６３からのガス供給を停止し、高純度ガス供給装置２６１のみからガス供給を行う。
【０１５３】
なお、光洗浄の終了後、前述の第１空間、第２空間のガス置換を終了する。
【０１５４】
また、上記の高純度ガス供給装置２６１からのガス供給を所定時間行い、レチクル保管箱２０内のガスを窒素又は希ガスに置換することにより、レチクル保管箱２０の内部に収容されているレチクルＲを構成する、ペリクル７５とレチクル基板５４とペリクルフレーム７６との間に形成される空間（以下「保護空間」と呼ぶ）内のガスを、ペリクルフレーム７６に形成された前述の通気孔を介して、窒素又は希ガスに置換することもできる。
【０１５５】
なお、保護空間内のガス置換を行う構成として、レチクル保管箱２０に前述の蓋部材とは別に開閉蓋を更に設け、この開閉蓋を介して、ペリクルフレームに設けられた通気孔に直接、保護空間用ガス置換機構を接続することにより、保護空間内のガスを窒素又は希ガスに置換することとしても良い。このガス置換機構は、ガス供給管及びガス排気管を備える。
【０１５６】
そして、レチクル保管箱２０内の空間及び保護空間内のガスが窒素又は希ガスに置換された後、上側光照射機構１５３Ｂが上方に駆動され、搬送ロボット２１によりレチクル保管箱２０を光洗浄装置２２から搬出する。そして、搬送ロボット２１を介して、レチクル保管箱２０を図１に符号２０Ｂにて示される位置まで搬送することにより、エレベータユニット１３０のスライダ４８ａ〜４８ｄにレチクル保管箱２０が受け渡されることになる。
【０１５７】
その後、スライダ４８ａ〜４８ｄをスライドガイド１９ａ〜１９ｄにそれぞれ沿って上昇駆動することにより、図１に符号２０Ｄで示される位置にレチクル保管箱２０を搬送する。
【０１５８】
ｇ．上記のようにして、レチクル保管箱２０が符号２０Ｄで示される位置へ移動すると、制御装置は、ベローズ駆動機構９２を介して、ベローズ９１を＋Ｘ方向に向かって伸ばし、図２（Ｂ）に示されるように、レチクル保管箱２０とレチクル室１５の隔壁１８との間を気密に連結する。このようにすることで、ベローズ機構１２７と隔壁１８とレチクル保管箱２０とで区画された気密状態の空間９９が形成されることになる。
【０１５９】
そして、空間９９内に、低吸収性ガスを給気管９４を介して供給するとともに、空間９９内のガスを排気管９５を介して外部に排気することにより、空間９９内を低吸収性ガスにて置換する。そして、不図示の酸素濃度計（センサ）等により、上記置換が終了したことを確認すると、空間９９内に設けられた不図示のロック開閉機構により蓋部材２０５ｂのロック機構２０７を解除するとともに、空間９９内に設けられた不図示の開閉機構により、レチクル保管箱２０の蓋部材２０５ｂを開放する。また、これとほぼ同時にレチクル室１５内の開閉扉１２１の開放を不図示の駆動系を介して行う。このときの状態が図２（Ｃ）に示されている。
【０１６０】
ｈ．次いで、レチクル室１５内のレチクル搬送ロボット６のアームを、伸縮駆動し、隔壁１８の出入り口１８ａ、空間９９、及びレチクル保管箱２０の開口２１１ｂを介してレチクル保管箱２０内に侵入させる。そして、レチクル搬送ロボット６のアームがレチクル保管箱２０内のレチクルＲの下側に入り込んだ状態で、さらに上昇駆動することにより、レチクルＲがそのアームによって受け取られる。レチクルＲがレチクル搬送ロボット６のアームにより受け取られた後は、そのアームを伸縮駆動することにより、レチクルＲをレチクル保管箱２０の外部に搬出し、レチクル室１５内へ向けてレチクルＲを搬送する。このレチクルＲの搬出（アームのレチクル保管箱２０の外部への退避）後、制御装置は、レチクル保管箱２０の蓋部材２０５ｂ及び開閉扉１２１を順次閉鎖する。なお、蓋部材２０５ｂの閉鎖と併せて、ロック機構２０７をロックすることとしても良い。
【０１６１】
そして、レチクル搬送ロボット６のアームをレチクルホルダ１４に向けて伸縮、回転駆動することにより、レチクルホルダ１４上方までレチクルＲを搬送する。そして、この位置でアームを下降駆動することにより、レチクルＲをレチクルホルダ１４上にロードする。その後、レチクル搬送ロボット６のアームは、レチクルホルダ１４上から退避する。
【０１６２】
以上のようにしてレチクルホルダ１４上にレチクルＲがロードされると、いわゆるレチクルアライメント及び不図示のウエハアライメント系のベースライン計測、ＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）などの所定の準備作業が行われる。なお、上記のレチクルアライメント、ベースライン計測等については、例えば特開平４−３２４９２３号公報（対応米国特許第５２４３１９５号）等に詳細に開示され、これに続くＥＧＡについては、特開昭６１−４４４２９号公報（対応米国特許第４，７８０，６１７号）等に詳細に開示されている。
【０１６３】
そして、上記のＥＧＡの結果に基づいて、ステップ・アンド・リピート方式の露光動作が行われる。この露光動作により、ウエハＷ上の複数のショット領域にレチクルＲに形成された回路パターンが順次転写される。
【０１６４】
そして、所定枚数のウエハに対するレチクルＲを用いた露光が終了すると、以下のようにしてレチクルＲの搬送（搬出）が行われる。
【０１６５】
ｉ．まず、レチクル搬送ロボット６のアームがレチクルホルダ１４に向けて伸縮駆動等され、レチクルＲの下側に移動されると、アームを上昇駆動することによりアームにレチクルＲが受け渡される。そして、この状態でアームを伸縮、回転駆動することによりレチクル室１５内の開閉扉１２１に接近させる。
【０１６６】
制御装置は、この接近を不図示のセンサ等を介して確認すると、開閉扉１２１を駆動機構を介して開放し、更に、レチクル保管箱２０の蓋部材２０５ｂを開閉装置を介して開放する。そして、レチクルＲを保持したレチクル搬送ロボット６のアームを伸縮駆動することにより、レチクル保管箱２０内の所定位置にレチクルＲを位置させ、この状態からアームを所定量下降駆動することによりレチクル保管箱２０内の支持部材２１３上にレチクルＲを載置する。
【０１６７】
ｊ．その後、レチクル搬送ロボット６のアームを伸縮駆動することにより、アームはレチクル保管箱２０内及び空間９９内から退避する。その後、蓋部材２０５ｂ及び開閉扉１２１を閉鎖するとともに、ロック機構２０７により蓋部材２０５ｂをロックし、更に、ベローズ９１をベローズ駆動機構９２を介して収縮駆動することにより、レチクル保管箱２０とベローズ９１の＋Ｘ側端部（シール部材９３）とを離間する。これにより空間９９は開放状態となる。
【０１６８】
ｋ．次いで、スライダ４８ａ〜４８ｄをスライドガイド１９ａ〜１９ｄに沿って下降駆動することにより、レチクル保管箱２０を前記レチクル搬出入位置まで搬送する。そして、このレチクル搬出入位置では、ロック開閉機構により蓋部材２０５ａ側のロック機構２０８を解除するとともに、不図示の開閉機構により蓋部材２０５ａを開放する。これ以降は、前述したレチクル搬送ロボット４７がレチクルをレチクル保管箱２０内に搬入するのと逆の動作を行うことにより、レチクル保管箱２０内からレチクルＲを搬出し、キャリア本体４６の空いている段にレチクルＲを収納する。
【０１６９】
その後は、次のレチクルＲがレチクル保管箱２０に向けて搬送され、上記と同様の搬送経路に沿ってレチクル保管箱２０及びレチクルが搬送され、レチクルホルダ１４まで搬送されたレチクルを用いた露光動作が繰り返し行われることになる。
【０１７０】
この場合において、露光が終了したレチクルＲをキャリア本体４６に戻さずに、レチクル保管箱２０内で、次の使用機会まで保管しておくこともできる。この場合、エレベータユニット１３０の上端部近傍に設けられた保管機構２４にて保管しておくことができる。
【０１７１】
ここで、この保管機構２４について簡単に説明すると、この保管機構２４は、前述の如く、レチクル保管箱２０をほぼ気密状態で収容可能な構成となっている、また、この保管機構２４は、その一部に前述した光洗浄装置２２内に設けられた給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ、排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄと同様の給気ユニット、排気ユニットがレチクル保管箱２０の通気孔の位置に対応して設けられている。これらの給気ユニット、排気ユニットには、その一端が低吸収性ガスを供給する不図示のガス供給装置に接続された給気管や、その一端が不図示の真空ポンプに接続された排気管が接続されている。
【０１７２】
保管機構２４によると、エレベータユニット１３０によって図１に符号２０Ｅにて示される位置までレチクル保管箱２０が搬送されると、その位置でレチクル保管箱２０が、保管機構２４により下側から支持される。そして、この状態で給気ユニット、排気ユニットが通気孔に接続された後、レチクル保管箱２０内のガス置換が行われる。
【０１７３】
このガス置換により、レチクルを構成する部材（ペリクルフレームの反射防止メッキ材料や接着材料）から放出される有機物ガスが、レチクル保管箱２０内に堆積し、その濃度が上昇するのを回避することができる。この場合のガス置換は上記理由から行うものであるから、光洗浄装置２２でのガス置換ほど急激に行う必要はない。
【０１７４】
この場合において、レチクル保管箱２０とは別のレチクル保管箱を用意しておき、一方のレチクル保管箱２０が前記保管機構２４内に収容された後は、他方のレチクル保管箱を用いて次のレチクルの搬送を行うこととしても良い。あるいは、スライドガイド１９ａ〜１９ｄに沿って移動するスライダをもう一組用意し、このスライダにもレチクル保管箱を保持させ、レチクルごとに、レチクル保管箱を使い分けるようにしても良い。このようにすることで、２枚のレチクルを交互に用いるような場合、及び特定の１枚のレチクルを頻繁に用いるような場合に有効である。すなわち、このような場合には、光洗浄と露光とを連続的に処理しなくても良くなるため、露光装置の効率的な運用が可能となる。
【０１７５】
これまでの説明から明らかなように、本実施形態では、レチクル保管箱２０とハウジング１７７（第１筐体）とを相対移動させ、レチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ｂ（光透過部、第１光透過部）の周囲とシール部材１８７（第１係合部）とを係合させる第１の移動機構が、搬送ロボット２１によって構成され、ハウジング１５７（第２筐体）とレチクル保管箱２０とを相対移動させ、レチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ａ（第２光透過部）の周囲とシール部材１６７（第２係合部）とを係合させる第２の移動機構が、複数の上下動機構１５１によって構成されている。
【０１７６】
また、本実施形態では、排気管１８５Ｂと真空ポンプ２５７Ａとによって、前述の第１空間内の内部ガスを外部に排気する第１排気機構が構成され、高純度ガス供給装置２５５と給気管１８５Ａとによって、第１空間内に所定のガスを供給する第１給気機構が構成されている。また、排気管１６５Ｂと真空ポンプ２５７Ｂとによって前述の第２空間内の内部ガスを外部に排気する第２排気機構が構成され、高純度ガス供給装置２５５と給気管１６５Ａとによって、第２空間内に所定のガスを供給する第２給気機構が構成されている。さらに、レチクルの洗浄時には、給気管２２４ａ，２２４ｃを介してレチクル保管箱２０内部に特定ガスを供給し、レチクルの洗浄後には、給気管２２４ａ，２２４ｃを介してレチクル保管箱２０内部に所定のガスを供給するガス供給機構が、高純度ガス供給装置２５５、高濃度ガス供給装置２６３、及びガス混合機２３０、コントローラ２３６等を含むガス供給制御機構２６１によって構成されている。また、排気幹路２５９と真空ポンプ２５７Ｃとによって、排気管２２４ｂ，２２４ｄを介して前記マスク保管装置内部のガスを外部に排気するガス排気機構が構成されている。
【０１７７】
また、本実施形態では、搬送ロボット２１及びエレベータユニット１３０により、レチクル保管箱２０を光洗浄装置２２に対して搬送する第１の搬送機構、及びレチクル保管箱２０を光洗浄装置２２から露光光ＥＬの光路近傍の所定位置に搬送する第２の搬送機構が構成されている。
【０１７８】
以上詳細に説明したように、本実施形態に係る光洗浄装置２２及び該光洗浄装置２２で実行される光洗浄方法によると、洗浄用の光が通過する開口１７７ａが上端部に形成され、シール部材１８７がその上端面（開口端面）に設けられたハウジング１７７とレチクル保管箱２０とが、搬送ロボット２１によって、相対移動（実際には、レチクル保管箱２０が下方に移動）され、レチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ｂの周囲とシール部材１８７とが係合され、この係合によってハウジング１７７の開口１７７ａがレチクル保管箱２０で閉塞され、ハウジング１７７内に前述の第１空間が形成される。次いで、その第１空間内の内部ガスが、前述の第１排気機構（１８５Ｂ、２５７Ａ）によって外部に排気されるとともに、前述した第１給気機構（２５５、１８５Ａ）によって第１空間内に所定のガス（低吸収性ガス）が供給され、第１空間内の内部ガスが所定のガスで置換される。
【０１７９】
また、上記のレチクル保管箱２０が下方に移動と同時又はこれより遅れて、上下動機構１５１により、洗浄用の光が透過する開口１５７ａが下端部に形成され、シール部材１６７がその下端面（開口端面）に設けられたハウジング１５７とレチクル保管箱２０とが相対移動（実際には、ハウジング１５７が下方に移動）され、レチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ａの周囲とシール部材１６７とが係合され、この係合によってハウジング１５７の開口１５７ａがレチクル保管箱２０で閉塞され、ハウジング１５７内に前述の第２空間が形成される。次いで、その第２空間内の内部ガスが、前述の第２排気機構（１６５Ｂ、２５７Ｂ）によって外部に排気されるとともに、前述の第２給気機構（２５５、１６５Ａ）によって第２空間内に所定のガス（低吸収性ガス）が供給され、第２空間内の内部ガスが所定のガスで置換される。
【０１８０】
そして、上記のガス置換の開始と同時に又はそれより遅れて、ハウジング１７７内部の第１光源１７９から開口１７７ａを介して洗浄用の光がレチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ｂに照射され、その窓ガラス２０１ｂ介してマスクに照射された光により、レチクルＲ（のパターン面）が光洗浄される。これと並行して、ハウジング１５７内部の第２光源１５９から開口１５７ａを介して洗浄用の光がレチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ａに照射され、その窓ガラス２０１ａを介してマスクに照射された光により、レチクルＲ（のパターン面の反対面）が光洗浄される。
【０１８１】
また、上記のレチクル保管箱２０に対して洗浄用の光を照射するのに先立って、給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄそれぞれの先端部材をレチクル保管箱２０の通気孔２０４ａ、２０４ｃ及び２０４ｂ、２０４ｄにそれぞれ挿入することにより開閉弁機構２１２Ａ〜２１２Ｄを開き、レチクル保管箱２０内部のガスを酸素又は水蒸気を１０〜１００ｐｐｍ程度含む低吸収性ガス（窒素又は希ガス）に置換する。
【０１８２】
このように、本実施形態の光洗浄装置２２及びその光洗浄方法では、レチクルＲをレチクル保管箱２０に収容したままの状態で、換言すれば、レチクル保管箱２０からレチクルＲを取り出すことなく、レチクルＲを光洗浄することが可能となる。また、内部に光源を有する箱型の光洗浄装置の内部にレチクル保管箱２０を搬入し、その光洗浄装置内部空間及びレチクル保管箱内部を上記と同様にガス置換してレチクル保管箱２０内のレチクルを光洗浄する場合と比べて、準備動作（搬送ロボット２１によるレチクル保管箱２０の下方への移動動作、上下動機構１５１によるハウジング１５７の下方への移動動作、及び給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄそれぞれの先端部材のレチクル保管箱２０の通気孔２０４ａ、２０４ｃ及び２０４ｂ、２０４ｄへの挿入、並びにハウジング１７７，１５７の内部のガス置換及びレチクル保管箱２０の内部のガス置換など）を含め、レチクルＲの光洗浄に要するトータルの所要時間を短縮することが可能となる。これは、本実施形態の場合、光洗浄装置２２（より正確には、下側光照射機構１５３Ａ）に対するレチクル保管箱２０の搬入を搬送ロボット２１を用いて速やかに行うことができるためである。
【０１８３】
また、本実施形態では、前述のガス供給機構（高純度ガス供給装置２５５、高濃度ガス供給装置２６３、ガス供給制御機構２６１）により、光洗浄装置２２によるレチクルＲの光洗浄が開始されるのに先立ってレチクル保管箱２０内が酸素又は水蒸気を１０〜１００ｐｐｍ程度含む低吸収性ガス（窒素又は希ガス）で置換されるので、レチクルＲの光洗浄を効率良く行うことができる。
【０１８４】
また、本実施形態では、レチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ａ，２０１ｂの周囲とハウジング１５７，１７７とがシール部材１６７，１８７をそれぞれ介して密着することにより、ハウジング１５７，１７７の開口がレチクル保管箱２０で閉塞され、その内部にほぼ気密状態の小空間（前述の第１空間、第２空間）が形成されるので、それらの小空間のみを低吸収性ガスで置換する際に、そのガス置換効率の向上及びガス置換に要する時間の短縮が可能である。
【０１８５】
また、本実施形態では、レチクルＲの光洗浄の終了後、前述のガス供給機構により、レチクル保管箱２０の内部ガスが高純度の低吸収性ガス（窒素又は希ガス）で置換され、その置換の終了後に、レチクル保管箱２０の通気孔２０４ａ〜２０４ｄから給気ユニット５１Ａ、５１Ｃ及び排気ユニット５１Ｂ、５１Ｄを離脱するだけで、開閉弁機構２１２Ａ〜２１２Ｄにより通気孔２０４ａ〜２０４ｄが自動的に閉状態とされ、レチクル保管箱２０の内部をケミカルクリーンなガス環境に設定することができ、光洗浄の終了したレチクルの汚染を抑制することが可能となる。そして、その後、レチクル保管箱２０内にレチクルＲを収容したままの状態で、レチクル保管箱２０（レチクルＲ）の露光位置へ向けての搬送を直ちに開始することができるので、この点においても、搬送時間を含むレチクルの洗浄時間の短縮が可能である。
【０１８６】
また、本実施形態の露光装置１１０及びその露光方法によると、上述の如く、光洗浄装置２２に対するレチクル保管箱２０の搬送、光洗浄装置２２によるレチクル保管箱２０内部のレチクルＲの光洗浄が短時間で実行された後、その光洗浄が終了したレチクルＲを収容したレチクル保管箱２０が、搬送ロボット２１及びエレベータユニット１３０により、露光光ＥＬの光路近傍の所定位置（２０Ｄ）に搬送され、その所定位置に搬送されたレチクル保管箱２０の内部空間から露光光ＥＬの光路を含む空間内のレチクルホルダ１４上まで、低吸収性ガスに置換された搬送経路に沿って、光洗浄が施されたレチクルＲが、レチクル搬送ロボット６によって搬送される。そして、その搬送後に、露光光ＥＬのもとで、そのレチクルＲに形成されたパターンがウエハＷ上に転写される。
【０１８７】
すなわち、露光に先立って光洗浄により露光光を吸収する吸収物質がその表面（パターン面及びその反対面の少なくとも一方）から除去されたレチクルＲを用いて、露光が行われるので、露光光の透過率を良好にかつ安定して維持し、露光量制御精度を長期間に渡って高精度に維持することが可能となり、ひいてはレチクルＲのパターンの物体上への高精度な転写が可能となる。また、レチクルＲの光洗浄を短時間で行うことができるので、露光装置全体として、高スループットな露光を実現することができる。
【０１８８】
また、本実施形態では、上述のような経路、手順、方法でレチクル保管箱２０及びレチクルＲの搬送が行われるので、光照射装置２２を露光精度に影響を与えない程度、離して配置することが可能である。従って、紫外線照射に伴い発生する熱の露光装置本体に対する影響を極力抑えることができる。この場合、レチクル保管箱２０も光洗浄されることとなるので、光洗浄後のレチクルを、そのままレチクル保管箱に保存しておいても、洗浄後のレチクルが化学的に汚染されるおそれが殆どない。
【０１８９】
また、例えばレチクルＲのトータルの搬送経路が長くなったとしても、上記所定位置までの搬送経路については低吸収性ガスにて置換しなくても良いので、露光装置内のパージ空間を最小限に抑えることができ、搬送経路部分の小型化を図ることが可能となっている。
【０１９０】
なお、上記実施形態では、光照射装置２２が、レチクル保管箱２０に対して下方から光を照射する下側光照射機構１５３Ａと、レチクル保管箱２０に対して上方から光を照射する上側光照射機構１５３Ｂとを、備えている場合について説明したが、本発明がこれに限定されるものではなく、いずれか一方、例えばレチクル保管箱２０内部のレチクルＲのパターン面に対して光を照射する機構（上記実施形態では下側光照射機構１５３Ａ）のみを備えていても良い。このように、光照射装置２２が、上下いずれかの光照射機構のみを備える場合には、レチクル保管箱２０の窓ガラスも光照射機構に対応して、上下いずれか一方にのみ設けることとしても良い。
【０１９１】
また、上記実施形態では、下側光照射機構１５３Ａにレチクル保管箱２０を載置した状態で、光洗浄を行うこととしたが、これに限らず、搬送ロボット２１がレチクル保管箱２０を保持した状態で、上方、下方の少なくとも一方の方向からレチクル保管箱２０内部のレチクルＲの光洗浄を行うこととしても良い。この場合、上記実施形態と同様に、搬送ロボット２１のアームの下降駆動により、レチクル保管箱２０と下側光照射機構１５３Ａの相対移動を行うこととしても良いし、下側光照射機構１５３Ａを上下方向に駆動する駆動機構を設け、該駆動機構を介して下側光照射機構１５３Ａを上昇駆動することにより、レチクル保管箱２０と下側光照射機構１５３Ａの相対移動を行うこととしても良い。また、上記実施形態と同様に、上側光照射機構１５３Ｂを上下動機構１５１によって下降駆動することにより、レチクル保管箱２０と上側光照射機構１５３Ｂの相対移動を行うこととしても良いし、搬送ロボット２１のアームの上昇駆動によりレチクル保管箱２０と上側光照射機構１５３Ｂの相対移動を行うこととしても良い。
【０１９２】
また、上記実施形態では、光洗浄に先立って、洗浄対象のレチクルを収容したレチクル保管箱２０の内部ガスを特定ガス（酸素又は水蒸気を１０〜１００ｐｐｍ程度含む低吸収性ガス）で置換し、光洗浄後にレチクル保管箱２０の内部ガスを高純度の低吸収性ガスで置換するものとしたが、これは、露光光ＥＬとして真空紫外光（波長１５７ｎｍ）を用いる点、及び洗浄光として真空紫外光（波長１７２ｎｍ、波長１５７ｎｍ、あるいは波長１９３ｎｍ等）を用いる点を考慮してこのようにしたものである。但し、波長１９３ｎｍあるいはそれより波長の長い光を露光光ＥＬとして用いる場合などには、その露光光ＥＬは空気中を透過するので、上述のようなガス置換を必ずしも行う必要なく、この場合には、前述のガス供給機構は必ずしも設ける必要はない。
【０１９３】
また、上記実施形態では、ハウジング１７７、１５７とレチクル保管箱とによって形成される第１空間、第２空間内についても、内部ガスを外部に排気するのと並行して内部に低吸収性ガスを供給するものとしたが、第１空間、第２空間の内部ガスを外部に排気して内部を真空状態にする、あるいは第１空間、第２空間の内部に低吸収性ガスを供給するのみであっても良い。前者の場合、前述の第１給気機構、第２給気機構が不要となり、後者の場合、前述の第１排気機構、第２排気機構が不要となる。
【０１９４】
また、上記実施形態では、レチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ｂの周囲とシール部材１８７とが係合され、この係合によってハウジング１７７の開口１７７ａがレチクル保管箱２０で閉塞され、ハウジング１７７内にほぼ気密状態の第１空間が形成され、同様に、レチクル保管箱２０の窓ガラス２０１ａの周囲とシール部材１６７とが係合され、この係合によってハウジング１５７の開口１５７ａがレチクル保管箱２０で閉塞され、ハウジング１５７内にほぼ気密状態の第２空間が形成される場合について説明した。しかしながら、波長１９３ｎｍあるいはそれより波長の長い光を露光光ＥＬとして用いる場合などには、上記のほぼ気密状態の第１空間、第２空間を形成する必要はない。この場合には、洗浄用の光を射出する光源を内部に収容し、該洗浄用の光が通過する開口及び係合部を有する筐体と、光透過部が設けられたマスク保管装置（レチクル保管箱２０）とが、移動機構により相対移動され、マスク保管装置の光透過部（窓ガラス）の周囲と係合部とが係合した際に、マスク保管装置の光透過部が筐体の開口を介して光源に対向するようになっていれば足りる。かかる場合であっても、移動機構により、筐体とマスク保管装置とを相対移動して、マスク保管装置の光透過部の周囲と係合部とを係合させる動作と、光源から洗浄用の光を射出する動作とを実行するだけで、マスク保管装置からマスクを取り出すことなく、マスクを光洗浄することが可能となり、準備動作を含め、マスクの光洗浄に要するトータルの所要時間を短縮することが可能となる。また、光洗浄の後、マスク保管装置内にマスクを収容したままの状態で、マスク保管装置（マスク）の露光位置へ向けての搬送を直ちに開始することができるので、この点においても、搬送時間を含むマスクの洗浄時間の短縮が可能である。更に、ハウジング１５７，１７７の各開口に光透過窓を設け、マスク保管装置に係合することなく、第１空間、第２空間を形成し、常に第１空間、第２空間を低吸収性ガスで満たしておいても良い。
【０１９５】
また、上記実施形態で説明したレチクル保管箱２０は、マスク保管装置の一例に過ぎず、種々のタイプのマスク保管装置を採用することができる。例えば、レチクル保管箱２０では、透過部としての窓ガラス２０１ａ，２０１ｂが設けられているが、これに限らず、保管箱本体２１０の少なくとも一部を光を透過する部材にて構成することとしても良い。また、レチクル保管箱２０では、対向する２面に通気孔２０４ａ〜２０４ｄが形成されているが、これに限らず、隣り合う２面に通気孔２０４ａ〜２０４ｄを形成することとしても良く、また、レチクル保管箱２０内のガス置換の効率を向上するため、レチクル保管箱２０の角部（コーナー）に通気孔２０４ａ〜２０４ｄを形成することとしても良い。さらに、上記実施形態では、開閉弁をレチクル保管箱の内部に設けることとしたが、これに限らず、レチクル保管箱の外部に開閉バルブ機構を設けることとしても良い。すなわち、通気孔が形成された保管箱本体の外面側に設けられ、一端が前記通気孔に連通するとともに他端が外部に連通した筒状部材と、該筒状部材の内部を移動可能で通気孔とは反対側に付勢されて前記筒状部材の内部の外部に対する連通口を閉鎖する弁部材とを備え、弁部材が外部から押圧され、通気孔側に移動されたときに、開閉バルブが開放されるような構成を採用することとしても良い。
【０１９６】
なお、レチクル保管箱２０内は、極めて低湿度な環境となるため、その内部に収容されるレチクルＲは帯電しやすく、これが放電する際にレチクル上のパターンが破損してしまうおそれがある。そこで、レチクル保管箱２０内に、α線，β線，Ｘ線等の放射線源を設置し、レチクル保管箱２０内部のガスをイオン化することにより、帯電を防止することとしても良い。
【０１９７】
なお、上記実施形態では、露光装置のチャンバ１内において、レチクル保管箱２０内にレチクルを搬入し、チャンバ１内で光洗浄をすることとしたが、これに限らず、レチクル保管箱２０内へのレチクルの搬入をチャンバ１の外部で行い、光洗浄もチャンバ１の外部で行って、レチクル保管箱２０のままチャンバ１内に搬入することとしても良い。このようにしても、レチクル保管箱２０内は気密に維持されているので、レチクルＲを化学的に汚染するようなことはない。また、このレチクルキャリアからレチクル保管箱２０へのレチクルの搬入と、レチクル保管箱２０内のレチクルの光洗浄を、露光装置本体とは別のレチクル前処理装置内で行っても良い。この場合にも、上記レチクル前処理装置から露光装置本体へのレチクルの搬送に際し、レチクルは上記レチクル保管箱２０によって化学的汚染から保護されているので、レチクルが汚染される心配はない。
【０１９８】
なお、上記の説明では特に明示しなかったが、照明系ハウジング２、レチクル室１５、投影光学系ＰＬの鏡筒、ウエハ室４０等の内部は、チャンバ１と同程度の精度で温度調整が行われている。また、上では特に明示しなかったが、照明系ハウジング２、投影光学系ＰＬの鏡筒等の低吸収性ガスが直接接触する部分は、前述したレチクル室１５、ウエハ室４０の隔壁と同様にステンレス鋼（ＳＵＳ）等の脱ガスの少ない材料で構成することが望ましい。あるいは、照明系ハウジング２、レチクル室１５、投影光学系ＰＬの鏡筒、ウエハ室４０等の低吸収性ガスが直接接触する部分にはその表面に炭化水素など吸収性ガスの脱ガスの発生が少ないフッ素を含有する樹脂等のコーティングを施しても良い。なお、ウエハ室４０を設けずに、投影光学系ＰＬのウエハ側端部とウエハとの間の露光光の光路空間を局所的に低吸収性ガスで満たしても良い。
【０１９９】
なお、上記実施形態では、ステップ・アンド・リピート方式等の縮小投影露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されないことは勿論である。すなわち露光時にレチクルＲとウエハＷを相対走査するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置にも本発明は好適に適用できる。
【０２００】
《デバイス製造方法》
次に上述した露光装置をリソグラフィ工程で使用するデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
【０２０１】
図１２には、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートが示されている。図１２に示されるように、まず、ステップ３０１（設計ステップ）において、デバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップ３０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３０３（ウエハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
【０２０２】
次に、ステップ３０４（ウエハ処理ステップ）において、ステップ３０１〜ステップ３０３で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップ３０５（デバイス組立てステップ）において、ステップ３０４で処理されたウエハを用いてデバイス組立てを行う。このステップ３０５には、ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。
【０２０３】
最後に、ステップ３０６（検査ステップ）において、ステップ３０５で作成されたデバイスの動作確認テスト、耐久テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。
【０２０４】
図１３には、半導体デバイスにおける、上記ステップ３０４の詳細なフロー例が示されている。図１３において、ステップ３１１（酸化ステップ）においてはウエハの表面を酸化させる。ステップ３１２（ＣＶＤステップ）においてはウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ３１３（電極形成ステップ）においてはウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ３１４（イオン打ち込みステップ）においてはウエハにイオンを打ち込む。以上のステップ３１１〜ステップ３１４それぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【０２０５】
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップ３１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップ３１６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置）及び露光方法によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップ３１７（現像ステップ）においては露光されたウエハを現像し、ステップ３１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップ３１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
【０２０６】
これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【０２０７】
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法を用いれば、露光工程（ステップ３１６）において上記実施形態の露光装置が用いられるので、高いスループットで、かつ高精度な露光を行うことができる。従って、微細パターンが形成された高集積度のマイクロデバイスの生産性を歩留まり、及びスループットの両面において向上することができる。
【０２０８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光洗浄装置及び光洗浄方法によれば、準備動作を含め、マスクの光洗浄に要するトータルの所要時間を短縮することができるという効果がある。
【０２０９】
また、本発明の露光装置及び露光方法によれば、高精度のマスクパターンの物体上への転写を実現することができるという効果がある。
【０２１０】
また、本発明のデバイス製造方法によれば、高集積度のデバイスの生産性を向上させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２（Ａ）は、ベローズ機構の構成を説明するための図、図２（Ｂ）は、レチクル室の隔壁とレチクル保管箱との間に形成される空間を説明するための図、図２（Ｂ）は、レチクル保管箱からレチクル室までの間に形成された搬送経路を示す図である。
【図３】図３（Ａ）は、レチクル保管箱を示す斜視図であり、図３（Ｂ）は、レチクル保管箱の縦断面図である。
【図４】レチクル保管箱内の開閉弁の構成を示す斜視図である。
【図５】光洗浄装置を示す斜視図である。
【図６】光洗浄装置の縦断面図である。
【図７】光洗浄装置に関連するガスの給排気系（配管）を示す図である。
【図８】レチクル保管箱及び給排気ユニットの位置関係を示す図である。
【図９】給気ユニットを示す斜視図である。
【図１０】光洗浄装置によるレチクルの光洗浄方法を説明するための図（その１）である。
【図１１】光洗浄装置によるレチクルの光洗浄方法を説明するための図（その２）である。
【図１２】本発明に係るデバイス製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図１３】図１２のステップ３０４の具体例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
６…レチクル搬送ロボット（マスク搬送機構）、２０…レチクル保管箱（マスク保管装置）、２１…搬送ロボット（第１の移動機構、第１の搬送機構の一部、第２の搬送機構の一部）、２２…光洗浄装置、１１０…露光装置、１５９…第２の光源、１３０…エレベータユニット（第１の搬送機構の一部、第２の搬送機構の一部）、１５１…上下動機構（第２の移動機構）、１５７…ハウジング（第２筐体）、１５７ａ…開口、１６５Ａ…給気管（第２給気機構の一部）、１６５Ｂ…排気管（第２排気機構の一部）、１６７…シール部材（第２係合部）、１７７…ハウジング（第１筐体）、１７７ａ…開口、１７９…第１の光源、１８７…シール部材（第１係合部）、１８５Ａ…給気管（第１給気機構の一部）、１８５Ｂ…排気管（第１排気機構の一部）、２０１ａ…窓ガラス（光透過部、第２光透過部）、２０１ｂ…窓ガラス（光透過部、第２光透部）、２０４ａ，２０４ｃ…通気孔（給気用開口）、２０４ｂ，２０４ｄ…通気孔（排気用開口）、２１２Ａ〜２１２Ｄ…開閉弁機構、２２４ａ，２２４ｃ…給気管、２２４ｂ，２２４ｄ…排気管、２５５…高純度ガス供給装置（第１給気機構の一部、第２給気機構の一部、ガス供給機構の一部）、２６１…ガス供給制御機構（ガス供給機構の一部）、２６３…高濃度ガス供給装置（ガス供給機構の一部）、２５９…排気幹路（ガス排気機構の一部）、２５７Ａ…真空ポンプ（第１排気機構の一部）、２５７Ｂ…真空ポンプ（第２排気機構の一部）、２５７Ｃ…真空ポンプ（ガス排気機構の一部）、Ｒ…レチクル（マスク）、ＥＬ…露光光、Ｗ…ウエハ（物体）。
【図１】
2004354656.tif 000003
【図２】
2004354656.tif 000004
【図３】
2004354656.tif 000005
【図４】
2004354656.tif 000006
【図５】
2004354656.tif 000007
【図６】
2004354656.tif 000008
【図７】
2004354656.tif 000009
【図８】
2004354656.tif 000010
【図９】
2004354656.tif 000011
【図１０】
2004354656.tif 000012
【図１１】
2004354656.tif 000013
【図１２】
2004354656.tif 000014
【図１３】
2004354656.tif 000015