(57)【要約】【課題】遮光層を越えて隣接するカラーフィルタ層同士が接するのを防止し、また、各カラーフィルタ層を形成するために各ペーストを印刷する際のスクリーンの位置合わせ調整時間を短縮する。【解決手段】開示されるカラープラズマディスプレイ装置は、前面基板１の内面に形成される各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂの間隙には、第１の遮光層９とこの第１の遮光層９上に積層されてそれよりも幅の小さい第２の遮光層１０とから成る積層構造の遮光層が形成されている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に、複数色のカラーフィルタ層が繰り返しの配列で形成されているカラープラズマディスプレイ装置であって、
隣接する前記複数色のカラーフィルタ層の間隙に、最下部の幅と最上部のそれとが異なる遮光層が形成されることを特徴とするカラープラズマディスプレイ装置。
【請求項２】
前記遮光層は、前記最上部の幅が前記最下部のそれよりも小さくなっていることを特徴とする請求項１記載のカラープラズマディスプレイ装置。
【請求項３】
放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に、複数色のカラーフィルタ層が繰り返しの配列で形成されているカラープラズマディスプレイ装置であって、
隣接する前記複数色のカラーフィルタ層の間隙に、幅の異なる複数層が積層されて成る遮光層が形成されることを特徴とするカラープラズマディスプレイ装置。
【請求項４】
前記遮光層は、前記複数層の内上部に積層される層ほど幅が小さくなっていることを特徴とする請求項３記載のカラープラズマディスプレイ装置。
【請求項５】
前記一対の基板の他方の基板の内面に、複数色の蛍光体層が配置されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載のカラープラズマディスプレイ装置。
【請求項６】
前記複数色の蛍光体層は、前記他方の基板の内面の前記複数色のカラーフィルタ層にそれぞれ対向する位置に形成されることを特徴とする請求項５記載のカラープラズマディスプレイ装置。
【請求項７】
前記一対の基板は前面基板と背面基板とから成り、前記複数色のカラーフィルタ層が前記前面基板の内面に配置されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１に記載のカラープラズマディスプレイ装置。
【請求項８】
前記前面基板の内面の前記複数色のカラーフィルタ層の内側となる位置に、透明電極及び該透明電極の一部に形成されたバス電極から成る走査電極及び維持電極が形成されることを特徴とする請求項７記載のカラープラズマディスプレイ装置。
【請求項９】
前記複数色のカラーフィルタ層が透明誘電体層により被覆されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１に記載のカラープラズマディスプレイ装置。
【請求項１０】
放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に、複数色のカラーフィルタ層が繰り返しの配列で形成されているカラープラズマディスプレイ装置の製造方法であって、
前記一方の基板の内面に、幅の異なる複数層を積層して遮光層を形成する遮光層形成工程と、
前記遮光層の間隙に前記複数色のカラーフィルタ層を形成するカラーフィルタ層形成工程と、
を含むことを特徴とするをカラープラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１１】
前記遮光層形成工程が、前記一方の基板の内面に所望の幅の第１の遮光層を形成する第１の工程と、前記第１の遮光層上に該第１の遮光層よりも幅の小さい第２の遮光層を形成する第２の工程とから成ることを特徴とする請求項１０記載のカラープラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項１２】
前記カラーフィルタ層形成工程が、前記第２の遮光層を支点として前記複数色のカラーフィルタ層となる各ペーストをスクリーン印刷する印刷工程から成ることを特徴とする請求項１１記載のカラープラズマディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、カラープラズマディスプレイ装置及びその製造方法に係り、詳しくは、放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に、複数色のカラーフィルタ層が形成されるカラープラズマディスプレイ装置及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、プラズマディスプレイ装置は、従来から広く用いられているＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）、あるいは液晶表示装置等のディスプレイ装置と比較して、ちらつきがなく表示コントラスト比が大きいこと、薄型で大画面が可能であること、応答速度が速いこと等の多くの利点を有しているために、近年コンピュータのような情報処理機器のディスプレイ装置として利用されてる。
【０００３】
このプラズマディスプレイ装置は、動作方式により、電極が誘電体で被覆されて間接的に交流放電の状態で動作させるＡＣ型のものと、電極が放電空間に露出されて直流放電の状態で動作させるＤＣ型のものとに略大別されるが、特に前者は比較的簡単な構造で上述したような大画面化が容易に実現できるので広く用いられている。
【０００４】
また、ＡＣ型プラズマディスプレイ装置の中でも、放電セルを形成する一対の基板の内の一方の基板である前面基板の内面に、水平方向に沿って平行に走査電極と維持電極（共通電極）とから成る一対の行電極を配置すると共に、他方の基板である背面基板の内面に、上記行電極と直交するように垂直方向に沿ってデータ電極（アドレス電極）から成る列電極を配置した３電極面放電型の構成のものは、前面基板において行われる面放電時に発生する高エネルギのイオンによる影響を抑えることができるので、長寿命化が図れるため最も広く採用されている。この３電極面放電型のＡＣ型プラズマディスプレイ装置は、背面基板のデータ電極と前面基板の走査電極との間で表示（発光）すべき放電セル（以下、単にセルとも称する）を選択する書き込み放電を行い、続いて前面基板の走査電極と維持電極との間で選択したセルの面放電による維持放電（表示放電）を行うように構成されている。
【０００５】
また、そのような３電極面放電型のＡＣ型プラズマディスプレイ装置において、背面基板の内面に赤色、緑色及び青色の各蛍光体層を形成するとともに、前面基板の内面の上記各蛍光体層にそれぞれ対向する位置に赤色、緑色及び青色の各カラーフィルタ層を形成するように構成して多色発光を可能にしたカラープラズマディスプレイ装置が提供されている。このようなカラープラズマディスプレイ装置では、前面基板に形成する各カラーフィルタ層は、表示コントラストの低下を防止するために、隣接する各カラーフィルタ層間に光洩れが生じないように設けなければならない。
【０００６】
上述したように各カラーフィルタ層を光洩れが生じないような構成で前面基板の内面に形成するようにしたカラープラズマディスプレイ装置が開示されている。（例えば、特許文献１参照。）。図５は、同カラープラズマディスプレイ装置の構成を示す平面図、図６は図５のＡーＡ矢視断面図である。同カラープラズマディスプレイ装置は、図５及び図６に示すように、前面基板１０１と、背面基板１０２とが対向するように配置されて、両基板１０１、１０２間に放電ガス空間１０３が形成される基本的な構成を有している。
【０００７】
ここで、前面基板１０１は、図６に示すように、ガラス等から成る第１の絶縁基板１０４と、第１の絶縁基板１０４の内面に水平方向Ｈに沿って平行に形成されたＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明電極１０５Ａ、１０６Ａ及びこれら透明電極１０５Ａ、１０６Ａの一部にそれぞれ抵抗を小さくするために形成されたＡｌ（アルミニウム）、Ｃｕ（銅）、Ａｇ（銀）等から成るバス電極（トレース電極）１０５Ｂ、１０６Ｂから成る走査電極１０５及び維持電極１０６と、走査電極１０５及び維持電極１０６を被覆するＰｂＯ（酸化鉛）のような低融点ガラス等から成る第１の透明誘電体層１０７と、第１の透明誘電体層１０７上に形成された赤色カラーフィルタ層１０８Ｒ、緑色カラーフィルタ層１０８Ｇ及び青色カラーフィルタ層１０８Ｂと、各カラーフィルタ層１０８Ｒ、１０８Ｇ及び１０８Ｂの間隙に走査電極１０５及び維持電極１０６と直交するように形成された黒色顔料を添加した低融点ガラス等から成る遮光層（ブラックマスク）１０９と、各カラーフィルタ層１０８Ｒ、１０８Ｇ及び１０８Ｂ、遮光層１０９を保護する低融点ガラス等から成る第２の透明誘電体層１１０と、第２の透明誘電体層１１０を放電から保護するＭｇＯ（酸化マグネシウム）等から成る保護層１１１とを備えている。
【０００８】
一方、背面基板１０２は、図６に示すように、ガラス等から成る第２の絶縁基板１１２と、第２の絶縁基板１１２の内面に水平方向Ｈと直交する垂直方向Ｖに沿って形成されたＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ等から成るデータ電極１１３と、Ｈｅ（ヘリウム）、Ｎｅ（ネオン）、Ｘｅ（キセノン）等の放電用ガスが単独であるいは混合して充填される上述放電ガス空間１０３を確保するとともに、個々の放電セルを区切るために垂直方向Ｖに沿って形成された低融点ガラス等から成る隔壁１１４と、隔壁１１４の底面及び壁面を覆いかつ上記各カラーフィルタ層１０８Ｒ、１０８Ｇ及び１０８Ｂとそれぞれ対向する位置に形成された赤色蛍光体層１１５Ｒ、緑色蛍光体層１１５Ｇ及び青色蛍光体層１１５Ｂとを備えている。
【０００９】
上述した構成のカラープラズマディスプレイ装置によれば、放電により発生した紫外線により照射されて背面基板１０２の各蛍光体層１０５Ｒ、１０５Ｇ及び１０５Ｂから発光した各赤色、緑色及び青色がそれぞれ、前面基板１０１の各カラーフィルタ層１０８Ｒ、１０８Ｇ及び１０８Ｂを通過する際、各カラーフィルタ層１０８Ｒ、１０８Ｇ及び１０８Ｂの間隙には遮光層１０９が形成されているので、光洩れが生じないため、表示コントラストの低下が防止される。
【００１０】
次に、図７（ａ）、（ｂ）を参照して、上述したように前面基板１０１の内面に各カラーフィルタ層１０８Ｒ、１０８Ｇ及び１０８Ｂを形成する、従来のカラープラズマディスプレイ装置の製造方法を工程順に説明する。
まず、図７（ａ）に示すように、ガラス等から成る第１の絶縁基板１０４を用いて、前面基板１０１の内面となる面を上方向に向けた状態で、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により全面にＩＴＯから成る膜厚が１００〜２００μｍの透明性導電膜を成膜した後、周知のフォトリソグラフィ法及びエッチング法により透明性導電膜を所望の形状にパターニングして、透明電極１０５Ａ、１０６Ａを同時に形成する。次に、スクリーン印刷法によりＡｇ粉末を含んだ導電性ペーストを所望の形状に印刷した後、焼成処理して、膜厚が略６μｍのバス電極１０５Ｂ、１０６Ｂを同時に形成することにより、走査電極１０５及び維持電極１０６を形成する。
【００１１】
次に、スクリーン印刷法により低融点ガラスのペーストを所望の形状に印刷した後、焼成処理して、膜厚が略１０μｍの第１の誘電体層１０７を形成する。次に、スクリーン印刷法により、低融点ガラスに黒色顔料を添加したペーストを走査電極１０５及び維持電極１０６と直交する形状に印刷した後、焼成処理して、幅が４５〜５５μｍ、膜厚が１０〜１５μｍの複数の遮光層１０９を形成する。各遮光層１０９間には、後述するように複数のカラーフィルタ層を形成するための間隙１０９Ｒ、１０９Ｇ及び１０９Ｂが形成される。
【００１２】
次に、スクリーン印刷法により、図６に示したような、赤色カラーフィルタ層１０８Ｒ、緑色カラーフィルタ層１０８Ｇ及び青色カラーフィルタ層１０８Ｂを形成する。この各カラーフィルタ層１０８Ｒ、１０８Ｇ及び１０８Ｂは、図７（ｂ）に示すように、各遮光層１０９間の間隙１０９Ｒ、１０９Ｇ及び１０９Ｂにスクリーン１１６を順次に位置合わせした状態で、スクリーン１１６上にそれぞれのカラーフィルタ層となる各ペースト１１７Ｒ、１１７Ｇ及び１１７Ｂを順次に満たして上部からスキージ１１８により押圧して、各ペースト１１７Ｒ、１１７Ｇ及び１１７Ｂをそれぞれ各間隙１０９Ｒ、１０９Ｇ及び１０９Ｂ内に塗布した後、焼成処理を行って形成する。以下、スクリーン印刷法により、膜厚が略２０μｍの第２の透明誘電体層１１０、膜厚が０．５〜１．０μｍの保護層１１１を順次に形成して、図６に示したような前面基板１０１を完成させる。
【００１３】
【特許文献１参照】
特開平１０−２４１５７４号公報（第４、５頁、図１）
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来のカラープラズマディスプレイ装置及びその製造方法では、遮光層を越えて隣接するカラーフィルタ層同士が接するおそれがあり、また複数色のカラーフィルタ層を形成するために各ペーストを印刷する際のスクリーンの位置合わせ調整時間が長くなる、という問題がある。
すなわち、従来のカラープラズマディスプレイ装置及びその製造方法では、図７（ｂ）に示すように、予め形成される遮光層１０９の高さが比較的低いので、例えば青色ペースト１１７Ｂを間隙１０９Ｂに塗布する際にスクリーン１１６の位置合わせが例えば図示右方向にずれた場合には、青色ペースト１１７Ｂが遮光層１０９上を越えて既に間隙１０９Ｇに塗布されている緑色ペースト１１７Ｇ上にはみ出すようになる。この結果、製造された前面基板１０２の内面には緑色カラーフィルタ層１０８Ｇと青色カラーフィルタ層１０８Ｂとが接するように形成されることになる。したがって、完成後のカラープラズマディスプレイ装置において、上記の例の場合で緑色表示を行うと、緑色と青色とが混合された色が表示されるようになるので、色むらが発生するため、不自然な表示が行われるようになる。従来においては、スクリーン１１６の位置合わせのずれの許容範囲は、遮光層１０９のピッチＰの略１／３となっている。なお、遮光層１０９の高さを大きくして塗布時に各ペーストが遮光層１０９を越えるのを防止しようとすると、高い遮光層１０９の存在により各ペースト１１７Ｒ、１１７Ｇ及び１１７Ｂを各間隙１０９Ｒ、１０９Ｇ及び１０９Ｂに塗布するのが困難になる。
【００１５】
また、従来のカラープラズマディスプレイ装置及びその製造方法では、製品の高画質が要求されるにつれて画面の画素数がＸＧＡ（Ｅｘｔｅｎｄ  Ｖｉｄｅｏ  Ｇｒａｐｈｉｃｓ  Ａｒｒａｙ：１０２４×７６８画素）のように増加する傾向にあり、これに伴って遮光層１０９のピッチＰが微小化されるので、各間隙１０９Ｒ、１０９Ｇ及び１０９Ｂの面積も狭くなってくる。したがって、各ペースト１１７Ｒ、１１７Ｇ及び１１７Ｂを印刷する際に、スクリーン１１６の位置合わせに高度の技術が必要になるので、位置合わせ調整に時間がかかるようになって、コストアップが避けられなくなる。
【００１６】
この発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、遮光層を越えて隣接するカラーフィルタ層同士が接するのを防止することができ、また、各カラーフィルタ層を形成するために各ペーストを印刷する際のスクリーンの位置合わせ調整時間を短縮することができるようにしたカラープラズマディスプレイ装置及びその製造方法を提供することを目的としている。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に、複数色のカラーフィルタ層が繰り返しの配列で形成されているカラープラズマディスプレイ装置に係り、隣接する上記複数色のカラーフィルタ層の間隙に、最下部の幅と最上部のそれとが異なる遮光層が形成されることを特徴としている。
【００１８】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載のカラープラズマディスプレイ装置に係り、上記遮光層は、上記最上部の幅が上記最下部のそれよりも小さくなっていることを特徴としている。
【００１９】
また、請求項３記載の発明は、放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に、複数色のカラーフィルタ層が繰り返しの配列で形成されているカラープラズマディスプレイ装置に係り、隣接する上記複数色のカラーフィルタ層の間隙に、幅の異なる複数層が積層されて成る遮光層が形成されることを特徴としている。
【００２０】
また、請求項４記載の発明は、請求項３記載のカラープラズマディスプレイ装置に係り、上記遮光層は、上記複数層の内上部に積層される層ほど幅が小さくなっていることを特徴としている。
【００２１】
また、請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１に記載のカラープラズマディスプレイ装置に係り、上記一対の基板の他方の基板の内面に、複数色の蛍光体層が配置されることを特徴としている。
【００２２】
また、請求項６記載の発明は、請求項５記載のカラープラズマディスプレイ装置に係り、上記複数色の蛍光体層は、上記他方の基板の内面の上記複数色のカラーフィルタ層にそれぞれ対向する位置に形成されることを特徴としている。
【００２３】
また、請求項７記載の発明は、請求項１乃至６のいずれか１に記載のカラープラズマディスプレイ装置に係り、上記一対の基板は前面基板と背面基板とから成り、上記複数色のカラーフィルタ層が上記前面基板の内面に配置されることを特徴としている。
【００２４】
また、請求項８記載の発明は、請求項７記載のカラープラズマディスプレイ装置に係り、上記前面基板の内面の上記複数色のカラーフィルタ層の内側となる位置に、透明電極及び該透明電極の一部に形成されたバス電極から成る走査電極及び維持電極が形成されることを特徴としている。
【００２５】
また、請求項９記載の発明は、請求項１乃至８のいずれか１に記載のカラープラズマディスプレイ装置に係り、上記複数色のカラーフィルタ層が透明誘電体層により被覆されていることを特徴としている。
【００２６】
また、請求項１０記載の発明は、放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に、複数色のカラーフィルタ層が繰り返しの配列で形成されているカラープラズマディスプレイ装置の製造方法に係り、上記一方の基板の内面に、幅の異なる複数層を積層して遮光層を形成する遮光層形成工程と、上記遮光層の間隙に上記複数色のカラーフィルタ層を形成するカラーフィルタ層形成工程とを含むことを特徴としている。
【００２７】
また、請求項１１記載の発明は、請求項１０記載のカラープラズマディスプレイ装置の製造方法に係り、上記遮光層形成工程が、上記一方の基板の内面に所望の幅の第１の遮光層を形成する第１の工程と、上記第１の遮光層上に該第１の遮光層よりも幅の小さい第２の遮光層を形成する第２の工程とから成ることを特徴としている。
【００２８】
また、請求項１２記載の発明は、請求項１１記載のカラープラズマディスプレイ装置の製造方法に係り、上記カラーフィルタ層形成工程が、上記第２の遮光層を支点として上記複数色のカラーフィルタ層となる各ペーストをスクリーン印刷する印刷工程から成ることを特徴としている。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。説明は実施例を用いて具体的に行う。
◇第１実施例
図１は、この発明の第１実施例であるカラープラズマディスプレイ装置の構成を示す断面図、図２及び図３は同カラープラズマディスプレイ装置の製造方法を工程順に示す工程図である。
この例のカラープラズマディスプレイ装置は、図１に示すように、前面基板１と、背面基板２とが対向するように配置されて、両基板１、２間に放電ガス空間３が形成される基本的な構成を有している。
前面基板１は、図１に示すように、ソーダライムガラス等から成る第１の絶縁基板４と、第１の絶縁基板４の内面に水平方向に沿って平行に形成されたＩＴＯから成る膜厚が１００〜２００μｍの透明電極５Ａ（６Ａ）及びこれら透明電極５Ａ（６Ａ）の一部にそれぞれ抵抗を小さくするために形成されたＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ等から成る膜厚が４〜７μｍのバス電極５Ｂ（６Ｂ）から成る走査電極５及び維持電極６と、走査電極５及び維持電極６を被覆するＰｂＯのような低融点ガラス等から成る膜厚が２０〜３０μｍの透明誘電体層７と、透明誘電体層７上に形成された赤色カラーフィルタ層８Ｒ、緑色カラーフィルタ層８Ｇ及び青色カラーフィルタ層８Ｂと、各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂの間隙に走査電極５及び維持電極６と直交するように形成された黒色顔料を添加した低融点ガラス等から成る幅が４５〜５５μｍ、膜厚が１０〜１５μｍの第１の遮光層９と、第１の遮光層９上に積層されて第１の遮光層９と同様な絶縁材料から成る幅が２２〜２７μｍ、膜厚が１０〜１５μｍの第２の遮光層１０と、各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂ、第１及び第２の遮光層９、１０を放電から保護するＭｇＯ等から成る膜厚が１〜３μｍの保護層１１とを備えている。
【００３０】
上述したように、各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂの間隙には、第１の遮光層９とこの第１の遮光層９上に積層されてそれよりも幅の小さい第２の遮光層１０とから成る遮光層が形成されているので、後述するようにスクリーン印刷法により各カラーフィルタ層を形成するためのペーストを印刷する際にスクリーンの位置合わせがずれても、第２の遮光層１０が第１の遮光層９上に積層されているので、この高い位置の第２の遮光層１０を越えてペーストが隣接したペースト上にはみ出すことは阻止される。したがって、隣接するカラーフィルタ層同士が接するのを防止することができる。
【００３１】
背面基板２は、図１に示すように、ガラス等から成る第２の絶縁基板１２と、第２の絶縁基板１２の内面に水平方向と直交する垂直方向に沿って形成されたＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ等から成る膜厚が５０〜１００μｍのデータ電極１３と、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｘｅ等の放電用ガスが単独であるいは混合して充填される上述放電ガス空間３を確保するとともに、個々の放電セルを区切るために垂直方向に沿って形成された低融点ガラス等から成る隔壁１４と、隔壁１４の底面及び壁面を覆いかつ上記各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂとそれぞれ対向する位置に形成された赤色蛍光体層１５Ｒ、緑色蛍光体層１５Ｇ及び青色蛍光体層１５Ｂとを備えている。
【００３２】
ここで、赤色カラーフィルタ層８Ｒ、緑色カラーフィルタ層８Ｇ及び青色カラーフィルタ層８Ｂは一画素分のカラーフィルタ層を構成して、各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂは繰り返し配列されている。同様にして、赤色蛍光体層１５Ｒ、緑色蛍光体層１５Ｇ及び青色蛍光体層１５Ｂは一画素分の蛍光体層を構成して、各蛍光体層１５Ｒ、１５Ｇ及び１５Ｂは繰り返し配列されている。
【００３３】
次に、図２及び図３を参照して、この例のカラープラズマディスプレイ装置の製造方法を工程順に説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、ソーダライムガラス等から成る第１の絶縁基板４を用いて、前面基板１の内面となる面を上方向に向けた状態で、ＣＶＤ法により全面にＩＴＯから成る膜厚が１００〜２００μｍの透明性導電膜を成膜した後、周知のフォトリソグラフィ法及びエッチング法により透明性導電膜を所望の形状にパターニングして、透明電極５Ａ（６Ａ）を同時に形成する。次に、スクリーン印刷法によりＡｇ粉末を含んだ導電性ペーストを所望の形状に印刷した後、焼成処理して、膜厚が４〜７μｍのバス電極５Ｂ（６Ｂ）を同時に形成することにより、走査電極５及び維持電極６を形成する。次に、スクリーン印刷法により低融点ガラスのペーストを所望の形状に印刷した後、焼成処理して、膜厚が２０〜３０μｍの透明誘電体層７を形成する。
【００３４】
次に、スクリーン印刷法により、低融点ガラスに黒色顔料を添加したペーストを走査電極５及び維持電極６と直交する形状に印刷した後、焼成処理して、幅が４５〜５５μｍ、膜厚が１０〜１５μｍの第１の遮光層９を形成する。次に、同様な低融点ガラスに黒色顔料を添加したペーストを第１の遮光層９上に印刷した後、焼成処理して、幅が２２〜２７μｍ、膜厚が１０〜１５μｍの第２の遮光層１０を第１の遮光層９上に積層する。
【００３５】
次に、スクリーン印刷法により、図１に示したような、赤色カラーフィルタ層８Ｒ、緑色カラーフィルタ層８Ｇ及び青色カラーフィルタ層８Ｂを形成する。この各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂは、図２（ｂ）に示すように、各第１の遮光層９間の間隙９Ｒ、９Ｇ、９Ｂにスクリーン１６を第２の遮光層１０を支点として順次に位置合わせした状態で、スクリーン１６上にそれぞれのカラーフィルタ層となる各ペースト１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂを順次に満たして、上部からスキージ１８により押圧して、各ペースト１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂを各間隙９Ｒ、９Ｇ、９Ｂ内に塗布した後、焼成処理を行って形成する。
【００３６】
まず、赤色顔料にバインダーと溶剤を調合したペースト１７Ｒを用いて、スクリーン１６上に満たした後、スキージ１８により押圧して第１の遮光層９の間隙９Ｒに印刷する。この場合、第１の遮光層９上には第２の遮光層１０が積層されているので、ペースト１７Ｒは第２の遮光層１０により阻止されるため、隣接する間隙９Ｇにはみ出すことはない。次に、同様にして、緑色顔料にバインダーと溶剤を調合したペースト１７Ｇを用いて、スクリーン１６上に満たした後、スキージ１８により押圧して第１の遮光層９の間隙９Ｇに印刷する。この場合も、第１の遮光層９上には第２の遮光層１０が積層されているので、ペースト１７Ｇは第２の遮光層１０により阻止されるため、隣接する間隙９Ｒ又は９Ｂにはみ出すことはない。次に、青色顔料にバインダーと溶剤を調合したペースト１７Ｂを用いて、スクリーン１６上に満たした後、スキージ１８により押圧して第１の遮光層９の間隙９Ｂに印刷する。この場合も、第１の遮光層９上には第２の遮光層１０が積層されているので、ペースト１７Ｂは第２の遮光層１０により阻止されるため、隣接する間隙９Ｇにはみ出すことはない。次に、５００〜６００℃で焼成処理を行って、それぞれ幅が１８０〜１５０μｍの各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂを形成する。
【００３７】
次に、図３（ｃ）に示すように、各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂを含む全面にＭｇＯ等を含むペーストを塗布した後、乾燥処理を行って、膜厚が１〜３μｍの保護膜１１を形成して前面基板１を完成させる。
【００３８】
上述したように、カラーフィルタ層となる各ペースト１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂを各第１の遮光層９間の間隙９Ｒ、９Ｇ及び９Ｂに印刷する際、スクリーン１６を第１の遮光層９上に積層されている第２の遮光層１０を支点として順次に位置合わせした状態で行うので、位置合わせが容易になる。この場合、前述したように第２の遮光層１０の幅を第１の遮光層９のそれよりも小さく形成することにより、スクリーン１６の位置合わせのずれの許容範囲を、従来例に比べて、第１の遮光層９のピッチＰの略２／３に拡大することができるため、その分位置合わせが容易になることに伴って、スクリーンの位置合わせ調整時間を短縮することができる。それゆえ、コストダウンを図ることができる。また、第２の遮光層１０の存在により、ペーストを印刷する際このペーストが隣接した位置のペーストにはみ出すのを阻止することができる。
【００３９】
次に、図３（ｄ）に示すように、ガラス等から成る第２の絶縁基板１２を用いて、前面基板２の内面となる面を上方向に向けた状態で、ＣＶＤ法により全面にＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ等から成る導電膜を成膜した後、周知のフォトリソグラフィ法及びエッチング法により導電膜を所望の形状にパターニングして、垂直方向に沿って膜厚が５０〜１００μｍのデータ電極１３を形成する。次に、スクリーン印刷法により垂直方向に沿って低融点ガラス等から成る隔壁１４を形成した後、スクリーン印刷法により隔壁１４の底面及び壁面に前面基板１の各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂとそれぞれ対向する位置に赤色蛍光体層１５Ｒ、緑色蛍光体層１５Ｇ及び青色蛍光体層１５Ｂを形成して、背面基板２を完成させる。
【００４０】
次に、図３（ｅ）に示すように、前面基板１と背面基板２とをそれぞれの走査電極５及び維持電極６とデータ電極１３とが直交するように隔壁１４を介して対向させた後、シール材（図示せず）により両基板１、２を気密封止する。次に、両基板１、２間に形成されている放電ガス空間３内に、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｘｅ等の放電用ガスを単独であるいは混合して充填することにより、カラープラズマディスプレイ装置を完成させる。
【００４１】
このように、この例のカラープラズマディスプレイ装置の構成によれば、前面基板１の内面に形成される各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂの間隙には、第１の遮光層９とこの第１の遮光層９上に積層されてそれよりも幅の小さい第２の遮光層１０とから成る遮光層が形成されているので、スクリーン印刷法により各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂを形成するための各ペースト１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂを印刷する際にスクリーンの位置合わせがずれても、第２の遮光層１０の存在によりペーストが隣接した位置のペーストにはみ出すことは阻止される。
また、この例のカラープラズマディスプレイ装置の製造方法の構成によれば、前面基板１の内面にカラーフィルタ層となる各ペースト１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂを第１の遮光層９の間隙９Ｒ、９Ｇ、９Ｂに印刷する際、スクリーン１６を第１の遮光層９上に積層されている第２の遮光層１０を支点として順次に位置合わせした状態で行うので、第２の遮光層１０の幅を第１の遮光層９のそれよりも小さく形成することにより、スクリーン１６の位置合わせのずれの許容範囲を、従来例に比べて拡大することができるため、その分位置合わせが容易になる。
したがって、遮光層を越えて隣接するカラーフィルタ層同士が接するのを防止することができ、また、各カラーフィルタ層を形成するために各ペーストを印刷する際のスクリーンの位置合わせ調整時間を短縮することができる。
【００４２】
◇第２実施例
図４は、この発明の第２実施例であるカラープラズマディスプレイ装置の構成を示す断面図である。この例のカラープラズマディスプレイ装置の構成が、上述した第１実施例の構成と大きく異なるところは、第２の遮光層上に第３の遮光層を積層するようにした点である。
すなわち、この例のカラープラズマディスプレイ装置は、図４に示すように、前面基板１は、各カラーフィルタ層８Ｒ、８Ｇ及び８Ｂの間隙に走査電極５及び維持電極６と直交するように形成された黒色顔料を添加した低融点ガラス等から成る幅が４５〜５５μｍ、膜厚が１０〜１５μｍの第１の遮光層９と、第１の遮光層９上に積層されて第１の遮光層９と同様な絶縁材料から成る幅が２２〜２７μｍ、膜厚が１０〜１５μｍの第２の遮光層１０と、第２の遮光層１０上に積層されて第２の遮光層１０と同様な絶縁材料から成る幅が１０〜１５μｍ、膜厚が１０〜１５μｍの第３の遮光層１９とを備えている。このような前面基板１を製造するには、第２の遮光層１０を形成した後に、スクリーン印刷法により第２の遮光層１０と異なるパターンを印刷を繰り返せばよいので、特別にコストアップを伴うことなく製造することができる。
これ以外は、上述した第１実施例と略同様である。それゆえ、図４において、図１の構成部分と対応する各部には、同一の番号を付してその説明を省略する。
【００４３】
この例によれば、第２の遮光層１０上にこれよりもさらに幅の小さな第３の遮光層１９を積層したことにより、カラーフィルタ層となる各ペースト１７Ｒ、１７Ｇ及び１７Ｂを各第１の遮光層９間の間隙９Ｒ、９Ｇ及び９Ｂに印刷する際、スクリーン１６を第１の遮光層９上に積層されている第２の遮光層１０を支点として順次に位置合わせした状態で行うことにより、スクリーン１６の位置合わせのずれの許容範囲を、第２実施例に比べて、さらに拡大することが可能になるので、さらにスクリーンの位置合わせ調整時間を短縮することができる。また、第３の遮光層１９の存在により、ペーストを印刷する際このペーストが隣接した位置のペーストにはみ出すのを阻止する働きをさらに向上させることができる。
【００４４】
このように、この例の構成によっても、第１実施例において述べたのと略同様な効果を得ることができる。
【００４５】
以上、この発明の実施例を図面により詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。例えば、実施例では各蛍光体層を背面基板に形成するとともに、各カラーフィルタ層を前面基板に形成する例について述べたが、これとは逆に各蛍光体層を前面基板に形成するとともに、各カラーフィルタ層を背面基板に形成するようにすることもできる。すなわち、各カラーフィルタ層は、放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に形成するようになっていればよい。また、遮光層は結果的に完成した構造において、最上部の幅が前記最下部のそれよりも小さくなっていれば、必ずしも実施例で示したように側面が階段構造になっている必要はなく、斜面構造になっていてもよい。
【００４６】
また、前面基板に形成する走査電極及び維持電極を構成する透明電極となるＩＴＯの成膜方法としてはＣＶＤ法により成膜する例で示したがこれに限らず、スパッタ法や印刷法等の他の成膜方法を用いてもよい。また、透明電極としてはＩＴＯに限らず、酸化錫のような他の透明導電体を用いることができる。また、カラープラズマディスプレイ装置を構成している各導電層あるいは絶縁層の寸法、成膜手段等の条件は一例と示したものであり、目的、用途等に応じて適宜変更することができる。
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明のカラープラズマディスプレイ装置の構成によれば、放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に形成される各カラーフィルタ層の間隙には、最下部の幅と最上部のそれとが異なる遮光層が形成されているので、各カラーフィルタ層を形成するための各ペーストを印刷する際にスクリーンの位置合わせがずれても、上部の遮光層の存在によりペーストが隣接した位置のペーストにはみ出すことは阻止される。
また、この発明のカラープラズマディスプレイ装置の製造方法の構成によれば、放電セルを形成する一対の基板のいずれか一方の基板の内面に幅の異なる複数の遮光層を積層した後、カラーフィルタ層となる各ペーストを遮光層の間隙にスクリーン印刷する際、スクリーンを最上部の遮光層を支点として位置合わせした状態で行うので、スクリーンの位置合わせのずれの許容範囲を、一層の遮光層を形成した構成に比べて拡大することができる。
したがって、遮光層を越えて隣接するカラーフィルタ層同士が接するのを防止することができ、また、各カラーフィルタ層を形成するために各ペーストを印刷する際のスクリーンの位置合わせ調整時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１実施例であるカラープラズマディスプレイ装置の構成を示す断面図である。
【図２】同カラープラズマディスプレイ装置の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図３】同カラープラズマディスプレイ装置の製造方法を工程順に示す工程図である。
【図４】この発明の第２実施例であるカラープラズマディスプレイ装置の構成を示す断面図である。
【図５】従来のカラープラズマディスプレイ装置の構成を示す平面図である。
【図６】図５のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図７】従来のカラープラズマディスプレイ装置の製造方法を工程順に示す工程図である。
【符号の説明】
１      前面基板
２      背面基板
３      放電ガス空間
４      第１の絶縁基板
５Ａ、５Ｂ      透明電極
５      走査電極
６Ａ、６Ｂ      バス電極
６      維持電極
７      透明誘電体層
８Ｒ      赤色カラーフィルタ層
８Ｇ      緑色カラーフィルタ層
８Ｂ      青色カラーフィルタ層
９      第１の遮光層
１０      第２の遮光層
１１      保護層
１２      第２の絶縁基板
１３      データ電極
１４      隔壁
１５Ｒ      赤色蛍光体層
１５Ｇ      緑色蛍光体層
１５Ｂ      青色蛍光体層
１６      スクリーン
１７Ｒ      赤色ペースト
１７Ｇ      緑色ペースト
１７Ｂ      青色ペースト
１８      スキージ
１９    第３の遮光層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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