(57)【要約】【課題】酸素の影響を受けることなく硬化性に優れ、さらにその塗膜が、耐擦傷性、耐溶剤性、耐水性および表面平滑性に優れるプラスチック基板を被覆するための硬化型組成物を提供する。【解決手段】分子内に少なくとも１つ以上の（メタ）アクリロイル基と少なくとも１つ以上のビニルエーテル基を有するビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を含んでなる組成物を被覆用硬化型組成物として用いる。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子内に少なくとも１つ以上の（メタ）アクリロイル基と少なくとも１つ以上のビニルエーテル基を有するビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を含んでなる被覆用硬化型組成物。
【請求項２】
さらに、光重合開始剤を含む請求項１記載の被覆用硬化型組成物。
【請求項３】
分子内に少なくとも１つ以上の（メタ）アクリロイル基と少なくとも１つ以上のビニルエーテル基を有するビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類が下記一般式（１）：
【化１】
2004277570.tif 000006
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ２は、炭素数２〜２０の有機残基を表す。Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜１１の有機残基を表す。）
で表される請求項１または２記載の被覆用硬化型組成物。
【請求項４】
請求項１〜３記載の被覆用硬化型組成物を硬化させてなることを特徴とする硬化物。
【請求項５】
プラスチック基板を、請求項１〜３記載の被覆用硬化型組成物で被覆した後、該組成物を硬化して得られることを特徴とする硬化物により被覆された基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、分子内に少なくとも１つ以上の（メタ）アクリロイル基と少なくとも１つ以上のビニルエーテル基を有するビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を含んでなる被覆用硬化型組成物に関するものであり、プラスチック基板のコーティング分野で用いられるものである。なかでも、ＬＣＤ基板、タッチパネル基板、有機ＥＬフィルム基板、太陽電池基板等のアンダーコーティングとして好適な被覆用硬化型組成物に関するものである。なお、本発明において、アクリロイル基とメタクリロイル基を（メタ）アクリロイル基と表し、アクリル酸とメタクリル酸を（メタ）アクリル酸と表す。
【０００２】
【従来の技術】
プラスチック材料は、その強靭性、加工性、軽量性等の特徴を生かして、従来の厚く、重く、割れやすいガラス基板の代替材料として種々の用途に使用されている。しかしながら、プラスチック材料は、その表面がやわらかく傷つきやすい場合が多く、この問題を解決するため、多官能アクリレートを用いてプラスチック材料表面を改良する方法が、開示されている。（特許文献１、特許文献２）
しかしながら、従来の多官能アクリレートでは、塗膜厚が数μｍ前後の薄い用途には、硬化時の酸素による重合阻害が大きく、組成物の硬化性、得られた塗膜の耐擦傷性、耐溶剤性、耐水性および表面平滑性等を損ねてしまうという問題点があった。
【特許文献１】
特公昭５３−４３５５３号公報
【特許文献２】
特開昭５０−８２１７３号公報
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記のごとき状況に鑑みてなされたものであり、酸素の影響を受けることなく硬化性に優れ、さらにその塗膜が、耐擦傷性、耐溶剤性、耐水性および表面平滑性に優れるプラスチック基板を被覆するための硬化型組成物、即ち被覆用硬化型組成物を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本願発明者らは、酸素の影響を受けることなく硬化性に優れ、さらにその塗膜が、耐擦傷性、耐溶剤性、耐水性および表面平滑性に優れるプラスチック基板を被覆するための硬化型組成物を提供するため、鋭意検討を重ねた結果、分子内に少なくとも１つ以上の（メタ）アクリロイル基と少なくとも１つ以上のビニルエーテル基を有するビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を含んでなる組成物が、被覆用硬化型組成物として、上記課題を見事に解決することができることに想到した。
【０００５】
すなわち本発明は、分子内に少なくとも１つ以上の（メタ）アクリロイル基と少なくとも１つ以上のビニルエーテル基を有するビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を含んでなる被覆用硬化型組成物である。
【０００６】
本発明はまた、さらに光重合開始剤を含んでなる被覆用硬化型組成物でもある。
【０００７】
本発明はさらに、上記被覆用硬化型組成物を硬化させてなる硬化物でもある。
【０００８】
本発明はさらにまた、プラスチック基板を、上記被覆用硬化型組成物で被覆した後、該組成物を硬化して得られる硬化物により被覆された基板でもある。
【０００９】
本発明の被覆用硬化型組成物は、分子内に少なくとも１つ以上の（メタ）アクリロイル基と少なくとも１つ以上のビニルエーテル基を有するビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を含んでなるものである。このようなビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１０】
ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の中でも、下記一般式（１）：
【００１１】
【化２】
2004277570.tif 000002
【００１２】
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ２は、炭素数２〜２０の有機残基を表す。Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜１１の有機残基を表す。）
で表されるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類が特に好ましい。
【００１３】
式中のＲ１で示される置換基が水素原子又はメチル基であり、Ｒ２で示される置換基が炭素数２〜２０の有機残基であり、Ｒ３で示される置換基が水素原子又は炭素数１〜１１の有機残基である。
上記一般式（１）中のＲ２で示される炭素数２〜２０の有機残基としては、炭素数２〜２０の直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、構造中にエーテル結合及び／又はエステル結合により酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基、炭素数６〜１１の置換されていてもよい芳香族基が好適である。これらの中でも、炭素数２〜６のアルキレン基、構造中にエーテル結合により酸素原子を有する炭素数２〜９のアルキレン基が好適に用いられる。
【００１４】
上記一般式（１）中のＲ３で示される炭素数１〜１１の有機残基としては、炭素数１〜１０の直鎖状、分枝状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１１の置換されていてもよい芳香族基が好適である。これらの中でも、炭素数１〜２のアルキル基、炭素数６〜８の芳香族基が好適に用いられる。
【００１５】
上記一般式（１）で表されるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類としては、下記の化合物が好適である。
【００１６】
（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−ビニロキシメチルプロピル、（メタ）アクリル酸２−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１，１−ジメチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸５−ビニロキシペンチル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル。
【００１７】
これらの中でも、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸５−ビニロキシペンチル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシエトキシエトキシ）エチルが好適である。
【００１８】
本発明におけるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の粘度としては、２５℃における粘度の下限が０．１ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、また、上限が１５００ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。０．１ｍＰａ・ｓ未満であると、塗膜厚みの調整が困難となるばかりでなく、一般的には揮発性が高くなり、作業環境が悪化するおそれがあり、１５００ｍＰａ・ｓを超えると、粘度が高く塗工しにくくなるおそれがある。下限は、０．２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、０．５ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましく、上限は、１０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、５００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましく、１００ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。
【００１９】
上記ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の分子量としては、下限が１４０以上が好ましく、上限が２０００以下が好ましい。２０００を超えると、粘度が高く塗工しにくくなるおそれがある。上限は、１０００以下がより好ましく、８００以下が更に好ましく、５００以下が特に好ましい。すなわち本発明におけるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類としては、このような粘度や分子量のものが好適である。
【００２０】
本発明においては、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類と共にそれ以外の重合性モノマーを併用してもよい。このような重合性モノマーとしては、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類と相溶性があるものであればよく、単官能若しくは多官能のラジカル重合性及び／又はイオン重合性の化合物の内、１種又は２種以上を適宜選択することができる。
【００２１】
上記ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類以外の重合性モノマーとしては、下記の化合物が好適である。
【００２２】
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ−ヒドロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−（ヒドロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ヒドロキシエトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ヒドロキシエトキシエトキシエトキシ）エチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸メチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチル等の単官能（メタ）アクリレート類；Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等の単官能（メタ）アクリルアミド類；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、１−メチル−２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ｐ−ヒドロキシメチルフェニルメチルビニルエーテル、２−（ヒドロキシエトキシ）エチルビニルエーテル、２−（ヒドロキシエトキシエトキシ）エチルビニルエーテル、２−（ヒドロキシエトキシエトキシエトキシ）エチルビニルエーテル等の単官能ビニルエーテル類；Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド等の単官能Ｎ−ビニル化合物類；スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル等の単官能ビニル化合物類；無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、無水イタコン酸、イタコン酸、イタコン酸ジメチル、メチレンマロン酸、メチレンマロン酸ジメチル、桂皮酸、桂皮酸メチル、クロトン酸、クロトン酸メチル等の単官能α，β−不飽和化合物類；メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、シクロヘキシルグリシジルエーテル、メトキシエチルグリシジルエーテル等の単官能エポキシ化合物類；��−メチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、グリシドール、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン等の単官能脂環式エーテル化合物類；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、２，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，２−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジオールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメタノールジ（メタ）アクリレート、ｐ−キシレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールプロピレングリコール共重合体ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類；トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル等の多官能ビニルエーテル類；ジビニルベンゼン等の多官能ビニル化合物類；エチレングリコールジビニルエーテル、１，３−プロパンジオールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、１，３−ブタンジオールジビニルエーテル、１，２−ブタンジオールジビニルエーテル、２，３−ブタンジオールジビニルエーテル、１−メチル−１，３−プロパンジオールジビニルエーテル、２−メチル−１，３−プロパンジオールジビニルエーテル、２−メチル−１，２−プロパンジオールジビニルエーテル、１，５−ペンタンジオールジビニルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサン−１，４−ジオールジビニルエーテル、シクロヘキサン−１，４−ジメタノールジビニルエーテル、ｐ−キシレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエー��ル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールプロピレングリコール共重合体ジビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル等の多官能ビニルエーテル類；エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ブチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタグリシジルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等の多官能エポキシ化合物類；ジ［１−メチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、ビス｛４−［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンジルエーテル等の多官能脂環式エーテル化合物類。
【００２３】
上記ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類以外の重合性モノマーの粘度としては、２５℃における粘度の下限が０．１ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、また、上限が１５００ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。０．１ｍＰａ・ｓ未満であると、塗膜厚みの調整が困難となるばかりでなく、一般的には揮発性が高くなり、作業環境が悪化するおそれがあり、１５００ｍＰａ・ｓを超えると、粘度が高く塗工しにくくなるおそれがある。下限は、０．２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、０．５ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましく、上限は、１０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、５００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましく、１００ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。
【００２４】
上記ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類以外の重合性モノマーの分子量としては、下限が７４以上が好ましく、上限が２０００以下が好ましい。２０００を超えると、粘度が高く塗工しにくくなるおそれがある。上限は、１０００以下がより好ましく、８００以下が更に好ましく、５００以下が特に好ましい。すなわち本発明におけるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類以外の重合性モノマーとしては、このような粘度や分子量のものが好適である。
【００２５】
本発明において、被覆用硬化型組成物中に占めるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の割合としては、ビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類の種類に応じて適宜設定すればよいが、被覆用硬化型組成物から後述する添加物類を除いた量に対して、その割合の下限が１質量％以上が好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上が更に好ましく、４質量％以上が特に好ましく、その割合の上限が１００質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下が更に好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
【００２６】
本発明におけるビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類を含む被覆用硬化型組成物に、重合禁止剤を添加することが、保存安定性の向上等の面から好ましい。重合禁止剤は、１種又は２種以上を用いることができる。
上記重合禁止剤としては、下記の化合物が好適である。
【００２７】
ヒドロキノン、メトキシヒドロキノン、ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール等のキノン系重合禁止剤；２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６―ジ―ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等のアルキルフェノール系重合禁止剤；アルキル化ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、フェノチアジン、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１，４−ジヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ヒドロキシ−４−ベンゾイリオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等のアミン系重合禁止剤；２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル等のＮ−オキシル系重合禁止剤。
【００２８】
これらの中でも、ヒドロキノン、メトキシヒドロキノン、ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシルが好適に用いられる。
【００２９】
上記重合禁止剤の添加量としては、本発明の被覆用硬化型組成物から後述する添加物類を除いた量に対して、下限が０．０００１質量％以上が好ましく、また、上限が５質量％以下が好ましい。０．０００１質量％未満であると、充分に保存安定性を向上できなくなるおそれがあり、５質量％を超えても更なる保存安定性の向上は期待できず、むしろ悪影響を及ぼすおそれがあるうえ、経済性を損なうこともある。下限は、０．００５質量％以上がより好ましく、０．０１質量％以上が更に好ましく、上限は、１質量％以下がより好ましく、０．１質量％以下が特に好ましい。
【００３０】
本発明における被覆用硬化型組成物に、保存安定性の向上等の面から塩基性化合物を添加してもよい。塩基性化合物は、１種又は２種以上を用いることができる。
上記塩基性化合物としては、下記の化合物が好適である。
【００３１】
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ（土類）金属水酸化物；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ（土類）金属炭酸塩；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム等のアルカリ（土類）金属カルボン酸塩；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド等のアルカリ（土類）金属アルコキシド；アンモニア、エチルアミン、ブチルアミン、エタノールアミン、ジメチルアミン、ジブチルアミン、ジエタノールアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トルブチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルエチレンジアミン、アニリン、ジメチルアニリン、ピリジン、ピペリジン等のアミン類。
【００３２】
これらの中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミンが好適に用いられる。
【００３３】
上記塩基性化合物の添加量は、本発明の被覆用硬化型組成物から後述する添加物類を除いた量に対して、下限が０質量％以上が好ましく、また、上限が２質量％以下が好ましい。０．０００１質量％未満であると、充分に保存安定性を向上できなくなるおそれがあり、２質量％を超えても更なる保存安定性の向上は期待できず、むしろ悪影響を及ぼすおそれがあるうえ、経済性を損なうこともある。下限は、０．０００５質量％以上がより好ましく、０．００１質量％以上が更に好ましく、上限は、１質量％以下がより好ましく、０．１質量％以下が特に好ましい。
【００３４】
上記重合禁止剤と塩基性化合物を組み合わせて共存させる場合における重合禁止剤と塩基性化合物の添加量は、それぞれが前述の範囲内にあればよい。
【００３５】
本発明の被覆用硬化型組成物は、必要に応じて熱重合開始剤、光重合開始剤の少なくとも１種を含有することが好ましい。また、熱重合促進剤、光増感剤、光重合促進剤等を添加することも好ましい。
【００３６】
上記熱重合開始剤としては、加熱により重合開始ラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤と、加熱により重合開始カチオンを発生する熱カチオン重合開始剤が好適である。重合開始剤は、１種又は２種以上を用いることができる。
【００３７】
上記熱ラジカル重合開始剤としては、下記の化合物が好適である。
【００３８】
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセテートパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ヘキシルハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、スクシン酸パーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、α，α′−ビス（ネオデカノイルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキシマレート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）イソフタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｍ−トルイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン等の有機過酸化物系開始剤；２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２、４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−（４，５、６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−１，３−ジアゼピン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２′−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオンアミド）、２，２′−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、２，２′−アゾビス（２−メチルプロパン）、ジメチル２，２−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４′−アゾビス（４−シアノペンタン酸）、２，２′−アゾビス［２−（ヒドロキシメチル）プロピオニトリル］等のアゾ系開始剤。
【００３９】
これらの中でも、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ベンゾイルパーオキサイド等の金属石鹸及び／又はアミン化合物等の触媒作用により効率的にラジカルを発生させることができる化合物や２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２、４−ジメチルバレロニトリル）が好適である。
【００４０】
上記熱カチオン重合開始剤としては、下記の化合物が好適である。
ルイス酸（例えば、三フッ化ホウ素、塩化第一チタン、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二スズ、二塩化ジブチル第二スズ、テトラブチルスズ、トリエチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム等）と電子供与性化合物（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチルスルホキシド、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル等）との錯体；プロトン酸（例えば、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノエステル類、リン酸ジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノエステル類、ホウ酸ジエステル類等）を塩基（例えば、アンモニア、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ブチルアミン等）により中和した化合物。
【００４１】
これらの中でも、各種プロトン酸のアミン錯体が、良好なポットライフが確保できるので好適である。
【００４２】
上記光重合開始剤としては、光線の照射により重合開始ラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤と、光線の照射により重合開始カチオンを発生する光カチオン重合開始剤が好適である。
【００４３】
上記光ラジカル重合開始剤としては、下記の化合物が好適である。
【００４４】
ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノンオリゴマー等のアセトフェノン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチル−ジフェニルサルファイド、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシルカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類；２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロリド等のチオキサントン類。
【００４５】
これらの中でも、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類が好適である。特に２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１オンが好適である。
【００４６】
上記光カチオン重合開始剤としては、下記の化合物が好適である。
【００４７】
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のアリールスルフォニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（トリルクミル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等のアリールヨウドニウム塩；フェニルジアゾニウムテトラフルオロボレート等のアリールジアゾニウム塩。
【００４８】
これらの中でも、アリールスルフォニウム塩、ジアゾニウム塩が好適である。特に、（トリルクミル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好適である。
【００４９】
上記重合開始剤の添加量総量としては、本発明の被覆用硬化型組成物から後述する添加物類を除いた量に対して、下限が、０．０５質量％以上が好ましく、また、上限が２０質量％以下が好ましい。０．０５質量％未満であると、充分な硬化が得られないことがあり、２０質量％を超えても硬化物物性の更なる改善は認められず、むしろ悪影響を及ぼすおそれがあるうえ、経済性を損なうこともある。下限は、０．１質量％以上がより好ましく、０．２質量％以上が更に好ましく、上限は、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。
【００５０】
上記熱ラジカル重合開始剤の分解温度を低下させるために、熱ラジカル重合開始剤の分解を促進して有効にラジカルを発生させることができる熱重合促進剤を用いることができる。熱重合促進剤は、１種又は２種以上を用いることができる。
【００５１】
上記熱重合促進剤としては、下記の化合物が好適である。
【００５２】
コバルト、銅、錫、亜鉛、マンガン、鉄、ジルコニウム、クロム、バナジウム、カルシウム、カリウム等の金属石鹸、１級、２級、３級のアミン化合物、４級アンモニウム塩、チオ尿素化合物、ケトン化合物。
【００５３】
これらの中でも特にオクチル酸コバルト、ナフテン酸コバルト、オクチル酸銅、ナフテン酸銅、オクチル酸マンガン、ナフテン酸マンガン、ジメチルアニリン、トリエタールアミン、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、ジ（２−ヒドロキシエチル）ｐ−トルイジン、エチレンチオ尿素、アセチルアセトン、アセト酢酸メチルが好適である。
【００５４】
上記熱重合促進剤の添加量総量としては、本発明の被覆用硬化型組成物から後述する添加物類を除いた量に対して、下限が０．００１質量％が好ましく、また、上限が２０質量％が好ましい。更に好ましくは、０．０１質量％以上であり、また、１０質量％以下である。最も好ましくは、０．０５質量％以上であり、また、５質量％以下である。
【００５５】
上記光重合開始剤の効率を向上させるために光増感剤を用いることができる。光増感剤は、１種又は２種以上を用いることができる。
上記光増感剤としては、下記の化合物が好適である。
【００５６】
２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン２，４−ジイソプロピルチオキサントン。
【００５７】
上記光増感剤の添加量総量としては、本発明の被覆用硬化型組成物から後述する添加物類を除いた量に対して、下限が、０．０５質量％以上が好ましく、また、上限が２０質量％以下が好ましい。０．０５質量％未満であると、充分な硬化が得られないことがあり、２０質量％を超えても硬化物物性の更なる改善は認められず、むしろ悪影響を及ぼすおそれがあるうえ、経済性を損なうこともある。下限は、０．１質量％以上がより好ましく、０．２質量％以上が更に好ましく、上限は、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。
【００５８】
上記光重合開始剤の効率を向上させるために光重合促進剤を用いることができる。光重合促進剤は、１種又は２種以上を用いることができる。
上記光重合促進剤としては、下記の化合物が好適である。
【００５９】
トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸−２−ｎ−ブトキシエチル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン。
【００６０】
これらの中でも、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンが好適である。
【００６１】
上記光重合促進剤の添加量総量としては、本発明の被覆用硬化型組成物から後述する添加物類を除いた量に対して、下限が、０．０５質量％以上が好ましく、また、上限が２０質量％以下が好ましい。０．０５質量％未満であると、充分な硬化が得られないことがあり、２０質量％を超えても硬化物物性の更なる改善は認められず、むしろ悪影響を及ぼすおそれがあるうえ、経済性を損なうこともある。下限は、０．１質量％以上がより好ましく、０．２質量％以上が更に好ましく、上限は、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。
【００６２】
上記熱重合開始剤、光重合開始剤、熱重合促進剤、光増感剤、光重合促進剤等を併用して添加する場合は、本発明の被覆用硬化型組成物から後述する添加物類を除いた量に対して、その総量の下限が、０．０５質量％以上が好ましく、０．１質量％以上がより好ましく、０．２質量％以上が更に好ましく、上限が、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。
【００６３】
本発明の被覆用硬化型組成物は、更に必要に応じて、添加物類として無機充填剤、非反応性樹脂（例えば、アクリルポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等）、有機溶剤、着色顔料、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、艶消し剤、染料、消泡剤、レベリング剤、帯電防止剤、分散剤、スリップ剤、表面改質剤、揺変化剤、揺変助剤等を添加することもできる。これら添加物の存在の有無が、特に本発明の効果に影響を及ぼすものではない。これら添加物は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６４】
上記添加物類の添加量としては、添加物の種類、添加物の使用目的、被覆用硬化型組成物の使用方法等により、本発明の被覆用硬化型組成物から添加物類を除いた量に対して、０．０００１質量％〜１０００質量％の範囲内で適宜設定することになる。
【００６５】
本発明の被覆用硬化型組成物は、例えば、刷毛塗り等の手塗りや、ロールコート、リバースロールコート、マイクログラビヤコーツ、ダイレクトグライヤコート、グラビアオフセットコート、キスコート、ダイコート、カーテンフローコート、ブレードコート、エアーナイフコート、スクリーン印刷、スプレー塗装及び浸漬法等の公知の方法でプラスチック基板の全体あるいは一部に塗布することができる。膜厚は、０．０５μｍ以上が好ましく、０．１μｍ以上がより好ましく、５０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましい。
【００６６】
本発明の被覆用硬化型組成物が塗工される上記プラスチック基板としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ナイロン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ＡＢＳ、酢酸セルロース等のプラスチック基板が挙げられる。
【００６７】
これらの中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネートのプラスチック基板が好適である。
【００６８】
また、これらプラスチック基板上に、ガスバリア性を持たせるために酸化ケイ素や窒素化酸化シリコン等の金属酸化物等の層があってもよい。
【００６９】
本発明の被覆用硬化型組成物の硬化は、加熱、活性エネルギー線照射等により行うことができるが、電磁波、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、ガンマー線等の活性エネルギー線を用いることが好ましい。特に紫外線や電子線が、硬化物の柔軟性、及び加工密着性を向上させることが可能であり好ましい。すなわち本発明の被覆用硬化型組成物の好ましい形態としては、活性エネルギー線照射により硬化する被覆用活性エネルギー線硬化型組成物である。このような、上記被覆用硬化型組成物を含んでなる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物もまた、本発明の１つである。
【００７０】
上記紫外線による硬化の場合、波長１５０〜４５０ｎｍの範囲内の光を含む光源を用いることが好ましい。このような光源としては、太陽光線、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライド灯、ガリウム灯、キセノン灯、カーボンアーク灯等が好適である。これらの光源と共に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
【００７１】
上記電子線による硬化は、加速電圧の下限が、好ましくは１０ｋＶ以上、より好ましくは２０ｋＶ以上、更に好ましくは３０ｋＶ以上、その上限が、好ましくは５００ｋＶ以下、より好ましくは３００ｋＶ以下、更に好ましくは２００ｋＶ以下である電子線を用いればよい。また、照射量は、その下限が、２ｋＧｙ以上が好ましく、３ｋＧｙ以上がより好ましく、５ｋＧｙ以上が更に好ましく、その上限が、５００ｋＧｙ以下が好ましく、３００ｋＧｙ以下がより好ましく、２００ｋＧｙ以下が更に好ましい。電子線と共に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
【００７２】
本発明の被覆用硬化型組成物を上記の方法により硬化させてなる硬化物もまた、本発明の１つである。また、上記プラスチック基板に塗工した本発明の被覆用硬化型組成物を硬化させて得られる硬化物により被覆された基板もまた、本発明の１つである。
【００７３】
本発明の被覆用硬化型組成物をプラスチック基板に塗工した後、必要に応じて、成形、印刷又は転写等の加工を行うこともできる。成形を行う場合には、例えば本発明の被覆用硬化型組成物塗膜を有するプラスチック基板を適当な温度に加熱した後、真空成形、真空圧空成形、圧空成形又はマット成形等の方法を用いて行う成形方法や、干渉縞等の凸凹形状をＣＤやレコードの複製のように、本発明の被覆用硬化型組成物塗膜上にエンボス成形する場合のような塗膜層のみの成形を行う方法等が挙げられる。印刷を行う場合は、塗膜上に通常の印刷機を使用し、通常の方法で印刷する。転写を行う場合には、例えばポリエチレンテレフタレートフィルムのような基材に本発明の被覆用硬化型組成物を塗布し、必要であれば上記印刷やエンボス成形等を行い、接着層を塗布後、他の基板に転写する。
【００７４】
本発明の被覆用硬化型組成物は、ＬＣＤ基板、タッチパネル基板、有機ＥＬフィルム基板、太陽電池基板等のアンダーコーティングに利用できる。
【００７５】
【実施例】
以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。なお、「部」とあるのは、特に断りのない限り、全て質量基準である。
【００７６】
実施例１〜４  被覆用硬化型組成物の製造
表１に示す配合でビニルエーテル基含有（メタ）アクリル酸エステル類、重合禁止剤、重合開始剤を混合攪拌し、被覆用硬化型組成物１〜４を製造した。
【００７７】
実施例５〜８  基板の製造
被覆用硬化型組成物１〜４を厚み１００μｍの透明ポリカーボネート基板上に膜厚５μｍで塗工した後、ＵＢ０３１−５ＢＭ型コンベアー式紫外線照射装置（アイグラフックス株式会社製；８０Ｗ高圧水銀灯；以下「コンベアー式紫外線照射装置」と呼ぶ）を用いて、１４ｍ／分、光源からの距離１０ｃｍの条件で、繰り返し通過させることにより硬化させ、基板１〜４を製造した。
上記硬化条件下で、表面から粘着性がなくなるまでの通過回数を表２に示した。
【００７８】
実施例９〜１２  基板の製造
被覆用硬化型組成物１〜４を表面に２５ｎｍの酸化ケイ素層が形成された厚み１００μｍのポリカーボネート基板上に膜厚５μｍで塗工した後、コンベアー式紫外線照射装置を用いて、１４ｍ／分、光源からの距離１０ｃｍの条件で、繰り返し通過させることにより硬化させ、基板５〜８を製造した。
上記硬化条件下で、表面から粘着性がなくなるまでの通過回数を表２に示した。
【００７９】
実施例１３〜２０  耐擦傷性評価
実施例５〜１２で得られた基板１〜８の硬化塗膜表面を、スチールウール＃００００により擦傷し、傷つき度合いを目視により観察した。その結果を表３に示した。なお、表３中の○、△及び×は、以下の意味を示す。
○：ほとんど傷が認められない
△：わずかに傷が認められる
×：多くの傷が認められる。
【００８０】
実施例２１〜２８  耐有機溶剤性評価
実施例５〜１２で得られた基板１〜８の硬化塗膜表面に、Ｎ−メチルピロリドンを数的滴下し、２５℃で１０分間放置後の白濁、膨潤、溶解等の外観の変化を目視により観察した。その結果を表３に示した。なお、表３中の○、△及び×は、以下の意味を示す。
○：白濁、膨潤、溶解が認められない
△：わずかに白濁、膨潤、溶解が認められる
×：明らかな白濁、膨潤、溶解が認められる。
【００８１】
実施例２９〜３６  耐アルカリ性水溶液性評価
実施例５〜１２で得られた基板１〜８を、５質量％水酸化ナトリウム水溶液中に２５℃で１０分間浸漬した後、流水にて十分洗浄を行った。その後、乾燥し、外観の変化を目視により観察した。その結果を表３に示した。なお、表３中の○、△及び×は、以下の意味を示す。
○：変化が認められない
△：わずかに変化が認められる
×：明らかな変化が認められる。
【００８２】
実施例３７〜４４  耐酸性水溶液性評価
実施例５〜１２で得られた基板１〜８を、酸性水溶液（３５質量％塩化第２鉄水溶液、３５質量％塩酸および純水を１：１：１の質量比で混合したもの）中に２５℃で１０分間浸漬した後、流水にて十分洗浄を行った。その後、乾燥し、外観の変化を目視により観察した。その結果を表３に示した。なお、表３中の○、△及び×は、以下の意味を示す。
○：変化が認められない
△：わずかに変化が認められる
×：明らかな変化が認められる。
【００８３】
実施例４５〜５２  表面平滑性評価
実施例５〜１２で得られた基板１〜８の硬化塗膜表面を、目視により観察した。その結果を表３に示した。なお、表３中の○、△及び×は、以下の意味を示す。
○：良好
△：わずかに乱れが認められる
×：多くの乱れが認められる
【００８４】
【表１】
2004277570.tif 000003
【００８５】
【表２】
2004277570.tif 000004
【００８６】
【表３】
2004277570.tif 000005
【００８７】
【発明の効果】
本発明によれば、ＬＣＤ基板、タッチパネル基板、有機ＥＬフィルム基板、太陽電池基板等のアンダーコーティングに好適な被覆用硬化型組成物を得ることができる。