(57)【要約】【課題】      良好なＣＳＳ耐久性を有するハードディスク用潤滑剤を提供する。【解決手段】−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、から選ばれたパーフルオロオキシアルキレン単位がランダムに分布した配列よりなり、さらに官能末端基Ａを有する、下記の式（５）で表されるホスファゼン化合物を含有する潤滑剤。Ａ−〔ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨ〕      （５）［式中、Ａは下記式（ａ）で表される基である。ここで、ｐおよびｑは１〜３０の実数である。］【化１】2004352999.tif 000006
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、から選ばれたパーフルオロオキシアルキレン単位がランダムに分布した配列よりなり、さらに官能末端基Ａを有する、下記の式（５）で表されるホスファゼン化合物を含有する潤滑剤。
Ａ−〔ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨ〕      （５）
［式中、Ａは下記式（ａ）で表される基である。ここで、ｐおよびｑは１〜３０の実数である。］
【化１】
2004352999.tif 000005
【請求項２】
更に式（ｂ）の平均分子量が、４００から６０００のパーフルオロアルキルポリエーテルオリゴマーを含有する請求項１に記載の潤滑剤。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｒ(ＣＦ２Ｏ)ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＨ    （ｂ）
［ｒ＝１〜３０、ｓ＝１〜３０］
【請求項３】
更に式（ｃ）のパーフルオロアルキルポリエーテルオリゴマーを含有する請求項１に記載の潤滑剤。
Ｘ−ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｍ(ＣＦ２Ｏ)ｎＣＦ２−Ｙ    (ｃ)
[Ｘ、Ｙは  ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ２−、
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２−、ＨＯＯＣ−又はピペロニル基から選ばれる少なくとも１種の基を示す。ｍ＝１〜８０、ｎ＝１〜８０、ｔ＝１〜３０]
【請求項４】
更に式（ｄ）のパーフルオロアルキルポリエーテルオリゴマーを含有する請求項１に記載の潤滑剤。
Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｕＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＨ      （ｄ）
[ｕ＝１〜６０]
【請求項５】
潤滑剤が記録媒体用潤滑剤である請求の範囲第１〜４項に記載の潤滑剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホスファゼン化合物を含有する潤滑剤に関する。さらに詳しくは、本発明は、例えば大容量記録媒体であるハードディスク、或いは８ミリビデオテープレコーダー用、デジタルビデオカセット用に使用されるメタル蒸着テープなどの記録媒体用の潤滑剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
インターネット、イントラネット、ローカルエリアネットワーク等が普及し、ネットワークにアクセスするだけで簡単に情報が取り出せるようになってきた。このようなマルチメディア時代を支えているものの一つに外部記憶装置がある。既存の大容量外部記憶装置としては、強度の高い円形基板（ハードディスク）上に記録媒体層を設け、このハードディスクを高速回転させて記録・再生用素子（ヘッド）が作動する方式、いわゆるＣＳＳ方式のものが一般的であり、ハードディスクとしては、固定式磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク等がある。これらの中で最も普及しているものが固定式磁気ディスクを用いた装置である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
これら外部記憶装置のサイズを変えずに大容量化を行うには、例えば記録媒体層の面記録密度を増加する必要がある。このためには、ビットサイズを小さくし、ヘッドをできる限り記録媒体に近づけることが必要である。ヘッドとディスクとの間隔を小さくするためには、ディスク表面の凹凸を小さくせねばならず、例えば間隔を１００ｎｍ以下にするには凹凸を１０ｎｍ以下にせねばならない。そして、ディスク表面の平滑性を上げると、一方で、ヘッドがディスク面に吸着し易くなる。また、高速応答性を得るためには、ビット転送速度ひいてはディスクの回転速度を上げる必要がある。例えば、３.５インチハードディスクの最高回転数は５４００〜７２００ｒｐｍが必要で、ディスク周辺部のヘッド通過速度は１２５ｋｍ／ｈｒに達している。しかし、上記の様な変更は、何れもディスクとヘッドの接触確率と摩耗等を大幅に増加させ、信頼性を低下させることになる。
【０００４】
これらに対処し、ディスク表面とヘッドを保護するには、ディスク保護膜表面への潤滑剤の塗布量を多くする方法が一番簡便である。しかしながら、潤滑剤の塗布量を多くすると潤滑膜の摺動抵抗が大きくなるのみならず、潤滑剤の吸着作用を増大し、スピンドルモーターの停止・焼損を引き起こす。摺動抵抗を低減するため、低粘度の潤滑剤を使用すると、ディスクの高速回転時に潤滑剤が保護膜上から移動・消失し、ディスクとヘッドの接触、破損を引き起こす。
【０００５】
潤滑剤はごく簡単には、ハードディスク上に設けられている保護膜上に分子の厚みの均一な潤滑剤の膜を作って、ハードディスク回転時及び装置の起動・停止時に生じる摩擦及び摩耗を低減させている。ディスクとヘッドを保護するためには、摺動抵抗が小さく、保護膜との結合力が大きく、低摩擦係数で、化学的安定性、熱安定性、耐食性が大きく、−１０℃以下での低温潤滑能力を有し、低蒸気圧で超薄膜化が可能な潤滑剤が必要である。ハードディスク用潤滑剤には、ＣＳＳ耐久性５万回以上で、摩擦係数の変化がないことである。即ち、ＣＳＳ繰り返しテストにおいて、少なくとも５万回まで、ヘッドの焼付きやディスクに傷等の異常がないことが要求されている。
【０００６】
現行ハードディスクの表面保護には、化学的安定性、強度、超薄膜化、平滑性等の観点から、ダイヤモンド状炭素（ＤＬＣ、Diamond Like Carbon）保護膜が用いられている。当該保護膜はその構造からも明らかな如く、大部分が炭素であることから、化学的結合性が小さく、付着力はわずかに混在する水素並びに窒素原子との水素結合やファンデルワールス力等の相互作用に因る他はない。
【０００７】
そこで潤滑剤としては、パーフルオロアルキルポリエーテルオリゴマー（以下「ＰＦＰＥ」と略す）が一般的である（月刊トライボロジ、Ｎｏ.９９，１１月号、３７〜３８頁、１９９５）。ＰＦＰＥはフルオロカーボンに由来する低表面エネルギー、化学的不活性、低蒸気圧、熱安定性を備えているが、低表面エネルギー故に保護膜表面との結合力が弱く、ディスク回転の遠心力で潤滑剤が保護膜上から移動・消失してしまう欠点がある。これを抑えるため、第二成分の添加剤を使用しているが（例えば、特許文献１参照）、ＰＦＰＥのフルオロカーボンに由来する低相溶性のため、相分離を引き起こし、十分な効果が得られていないのが現状である。そこで、ＰＦＰＥに結合性を付与するため、ＰＦＰＥ主鎖の端部又は中央部に水酸基、アシルアミド基等の官能基を導入したもの（アウシモント社、ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｚ誘導体）もあるが、これら活性水素を有する官能基はヘッドとの摩擦で化学的安定性を低下させる恐れがある。
【０００８】
また、磁気記録媒体用処理剤として、パーフルオロアルコキシホスファゼン化合物が開示されているが（例えば、特許文献２参照）、これらの化合物をハードディスク用潤滑剤として使用した場合、十分なＣＳＳ耐久性が得られず、新たな潤滑剤が望まれている。
【特許文献１】ＵＳＰ４８７１６２５
【特許文献２】特開昭６３−１０３４２８号公報
【０００９】
本発明の課題は例えば良好なＣＳＳ耐久性を有するハードディスク用潤滑剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、から選ばれたパーフルオロオキシアルキレン単位がランダムに分布した配列よりなり、さらに官能末端基Ａを有する、下記の式（５）で表されるホスファゼン化合物を含有する潤滑剤に係る。
Ａ−〔ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨ〕      （５）
［式中、Ａは下記式（ａ）で表される基である。ここで、ｐおよびｑは１〜３０の実数である。］
【００１１】
【化１】
2004352999.tif 000002
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば例えば良好なＣＳＳ耐久性を有するハードディスク用潤滑剤を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明において、下記の式（１）のホスファゼン化合物の製造過程で式（５）のホスファゼン化合物を得ることができる。
Ａ−ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣＦ２ＣＨ２Ｏ−Ａ      （１）
［式中、Ａ、ｐおよびｑは上記に同じ。］
上記式（１）のホスファゼン化合物は、文献未記載の新規化合物であり、例えば、ホスホニトリルハライドのオリゴマーとフェノール類およびＰＦＰＥ主鎖の両末端に水酸基を導入したアルコールより製造される物質である。ここで、ホスホニトリルハライドのオリゴマーとしては、例えばホスホニトリルクロリドの環状トリマー、ホスホニトリルクロリドの環状テトラマーやこれらの混合物を例示できる。また、フェノール類としては、フェノール、メタ−トリフルオロメチルフェノール等のハロアルコキシフェノール、メタ−メトキシフェノール等のアルコキシフェノール等が例示できる。また、ＰＦＰＥ主鎖の両末端に水酸基を導入したアルコールとしては、下記式（ｂ）の平均分子量が、４００から６０００のパーフルオロアルキルポリエーテルオリゴマー（アウシモント社 Ｚ誘導体）を例示できる。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｒ(ＣＦ２Ｏ)ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＨ    (ｂ)
[ｒ＝１〜３０、ｓ＝１〜３０]
【００１４】
本発明の化合物（１）は例えば下記のように製造される。即ち特開昭６２−５３９９６号公報に記載されているようにアルコール類、フェノール類を予めナトリウム等と反応させてアルコラート、フェノラートとしておき、次いでホスホニトリルハライドの環状オリゴマーと反応させることによって製造される。さらに詳しくは、フェノール類を、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、トルエン等の溶媒に溶解し、フェノール類をすべてフェノラート化するのに要する当量よりは少ない、好ましくは、８５〜９５％当量の金属ナトリウム、水素化ナトリウムなどの塩基を、これらの塩基がすべて反応するまで、溶媒の還流温度で反応させて予め、フェノラートを得る。得られたフェノラートの１５〜２５％当量、好ましくは１８〜２１％当量のホスホニトリルハライドのシクロトリマーと反応させてアリーロキシ置換トリシクロホスホニトリルハライドを得る。別に、ＰＦＰＥの両末端に水酸基を導入したアルコール（以下「ＰＦＰＥ−ＤＯＨ」と略す）と上記に記載の塩基から選ばれた塩基を同当量加え、室温から１２０℃、好ましくは４０〜１００℃で、固体の塩基が目視できなくなるまで、反応させる。
【００１５】
先に得られたアリーロキシ置換トリシクロホスホニトリルハライドとアルコラート化されたＰＦＰＥ−ＤＯＨを、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル等のエーテル系溶媒中で、１日間から１０日間、好ましくは２日から５日間の間、室温から溶媒の還流温度で反応させる。この反応で得られた反応混合物を、上記の方法で別途製造したフェノラートを含むエーテル系溶媒溶液中に加え、室温から溶媒の還流温度、好ましくは還流温度で、部分的にハロゲンが置換したトリシクロホスホニトリルが検出されなくなるまで、５日間から１５日間反応させて、反応を完了させる。反応混合物を数回水洗した後、脱水・乾燥させて、使用した溶媒を減圧蒸留により除去する。得られた反応混合物から、未反応のフェノール類、ＰＦＰＥ−ＤＯＨおよびヘキサアリーロキシ置換トリシクロホスホニトリルが存在している場合には、これらを分子蒸留により、留出除去することによって、上記化合物（１）が製造される。
【００１６】
本発明では反応系中に式（１）の化合物以外に、下記の式（２），（３）等のような高分子量化した化合物が存在し得る。本発明の潤滑剤には、このような化合物が少量併存してもかまわない。ここでＢは式（４）で示される基である。
【００１７】
【化２】
2004352999.tif 000003
【００１８】
−ＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｒ(ＣＦ２Ｏ)ｓＣＦ２ＣＨ２−     （４）
［ｒ＝１〜３０、ｓ＝１〜３０］
【００１９】
式（１）の化合物の合成は上記のように時間がかかるため、経済性を考えた場合、反応を完結せず、適当なところで停止させてもよい。この場合、下記式（５）のような化合物が、場合によっては例えば５％以上生起する。化合物（１）と化合物（５）の割合は広い範囲から選択でき、例えば前者／後者（重量比）＝５〜９５／９５〜５、好ましくは２０〜８０／８０〜２０の範囲を例示できる。化合物（５）は後記実施例１にも示すように例えば超臨界炭酸を使用した抽出により化合物（１）と分離される。その他カラムクロマト法、分子蒸留法、溶媒抽出法により分離することもできる。
Ａ−〔ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｐ(ＣＦ２Ｏ)ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨ〕      （５）
［式中、Ａ、ｐ、ｑは前記に同じ］
【００２０】
本発明の化合物（５）は、不燃性潤滑油、作動油等の用途、特に記録媒体用潤滑剤の用途に好適である。
本発明のホスファゼン化合物（５）を潤滑剤に使用する場合は、ホスファゼン化合物をそのまま潤滑剤として用いることもできるが、適当な有機溶媒に溶解して用いても良い。有機溶媒としては例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メチレンクロライド、クロロホルム、１,１,１−トリクロロエタン、１,１,２−トリクロロエタン、トリクロロトリフルオロエタン（フロン１１３）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（ＨＦＥ−７１００）等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル、酢酸エチル、酪酸ブチル、酢酸アミル等のエステル、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、これらの２種以上の混合溶媒等を挙げることができる。
【００２１】
本発明の潤滑剤を記録媒体用潤滑剤として使用する場合、式（５）の化合物の濃度は０.１重量％以上で良く、通常０.１〜１００重量％、好ましくは１０〜１００重量％、より好ましくは約２０〜１００重量％程度である。
また本発明では式（５）の化合物と前記式（ｂ）の平均分子量が、４００から６０００のパーフルオロアルキルポリエーテルオリゴマーを併用することもできる。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｒ(ＣＦ２Ｏ)ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＨ    (ｂ)
[ｒ＝１〜３０、ｓ＝１〜３０]
【００２２】
また本発明では式（５）の化合物と下記パーフルオロアルキルポリエーテルオリゴマー（ｃ）を併用することもできる。
Ｘ−ＣＦ２Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)ｍ(ＣＦ２Ｏ)ｎＣＦ２−Ｙ    (ｃ)
[Ｘ、Ｙは  ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ２−、ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２−、ＨＯＯＣ−又はピペロニル基から選ばれた少なくとも１種の基を示す。ｍ＝１〜８０、ｎ＝１〜８０、ｔ＝１〜３０]
このオリゴマー（ｃ）の例としては、ＦＯＭＢＬＩＮ  ＺＤｏｌ−ＴＸ、Ｚ−ＴＥＴＲＡＯＬ、Ｚ−ＤＩＡＣ、ＡＭ３００１（いずれもアウシモント社 ）等を例示できる。
【００２３】
また本発明では式（５）の化合物と下記パーフルオロアルキルポリエーテルオリゴマー（ｄ）を併用することもできる。
Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｕＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＨ      （ｄ）
[ｕ＝１〜６０]
このオリゴマー（ｄ）の例としては、ＫＲＹＴＯＸ  １５７ＦＳ（デュポン社）等を例示できる。
【００２４】
化合物（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）を併用する場合、その各化合物の濃度は０.１重量％以上、通常１０〜９０重量％程度とするのが好ましい。また化合物（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）の少なくとも２種以上を併用することもできる。
【実施例】
【００２５】
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、何らこれに限定されるものではない。なお以下に記載する反応はすべて、アルゴンガス雰囲気で実施した。
【００２６】
実施例１
還流冷却管、アルゴンガス導入管、温度計および攪拌機を備えた２リットル四つ口フラスコに、メタ−トリフルオロメチルフェノール２８２.１ｇ（１.７４モル）と乾燥脱水と蒸留精製したジイソプロピルエーテル１.２Ｌを入れ、攪拌しながら、金属ナトリウムの小片を３６.５ｇ（１.５９モル）添加し、ジイソプロピルエーテルが還流する温度で２日間反応させ、全ての金属ナトリウウムが消費されたことを確認したのち、反応混合物を攪拌しながら、ホスホニトリルクロライドのシクロトリマーを１０７.７ｇ（０.３１モル）を添加し、還流温度で３日間反応させて約１３００ｇの反応混合物を得た。この反応混合物を約５００ｍｌの精製水で５回洗浄したのち、ジイソプロピルエーテル層を分離し、モレキュラーシーブスで脱水後、ジイソプロピルエーテルを減圧下、ロータリーエバポレーターで留出除去し、褐色透明液体を得た。これを（イ）とする。
【００２７】
上記と同様のフラスコに、ＰＦＰＥ−ＤＯＨ｛前記（ｂ）式中に記載のｒとｓの値の平均値がそれぞれ、１０.８と９.７である平均分子量２０００のジオール｝３０２ｇ（０.１５１モル）と金属ナトリウムの小片３.５g（０.１５１モル）を入れ、５０℃から１００℃で１２日間反応させて、全ての金属ナトリウムが反応に消費されたことを確認し、パーフルオロヘキシルメチルエーテル４５０ｇを添加し、反応物の粘度を低下させた。これに、１５０.５ｇの（イ）をジイソプロピルエーテル１４０ｇに溶解させた溶液を徐々に滴下し、還流温度で、３日間攪拌した後、室温まで放冷した。得られた反応混合物を（ロ）とする。
【００２８】
上記（イ）の製造と同様の方法で、メタ−トリフルオロメチルフェノール１９２.７ｇ（１.１９モル）と金属ナトリウムの小片２４.８ｇ（１.０８モル）から別途製造したメタ−トリフルオロメチルフェノラート１.１９モルとジイソプロピルエーテル７００ｇを含む溶液中に、上記（ロ）の反応混合物の全量をパーフルオロヘキシルメチルエーテル２３０ｇを用いて定量的に添加し、溶媒の還流温度で９日間攪拌して反応させた。この反応混合物中には、メタ−トリフルオロメチルフェノキシ基と塩素原子のみが両方とも混合状態で置換したホスホニトリルのシクロトリマー、即ち反応中間体は存在していないことをキャピラリーガスクロマトグラフィーで確認したのち、反応混合物より、含有している溶媒を減圧下、ロータリエバポレータで留出除去し、得られた残渣をジエチルエーテル２００ｇに溶解させた。このジエチルエーテル溶液を、１％の硝酸水溶液２００ｇで３回洗浄し、さらに精製水２００ｇで４回洗浄した。これらの操作のあと、ジエチルエーテル層をモレキュラーシーブスで脱水乾燥し、さらにジエチルエーテルを減圧下ロータリーエバポレーターで蒸発留去し、やや濁りのある油状液３５０ｇを得た。
【００２９】
この反応混合物からメタ−トリフルオロメチルフェノキシ基が６個置換したホスホニトリルのシクロトリマー（副生物）をトルエン洗浄で除去した後、黄色透明液体２７０gを得た。この液体を超臨界炭酸を使用した抽出により、化合物（１−ａ）６０g（０.０１５モル）と化合物（５−ａ）８０g（０.０２７モル）に分離した。
【００３０】
(ＣＦ３Ｃ６Ｈ４Ｏ)５Ｐ３Ｎ３ＯＣＨ２ＣＦ２(ＯＣＦ２ＣＦ２)１１.６(ＯＣＦ２)１０.６ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＮ３Ｐ３(ＯＣ６Ｈ４ＣＦ３)５    〔化合物（１−ａ）〕
(ＣＦ３Ｃ６Ｈ４Ｏ)５Ｐ３Ｎ３ＯＣＨ２ＣＦ２(ＯＣＦ２ＣＦ２)１１.６(ＯＣＦ２)１０.６ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＨ    〔化合物（５−ａ）〕
【００３１】
４００ＭＨｚのプロトンＮＭＲとＦ−ＮＭＲにより、得られた物質は、化合物（１−ａ）が、ＰＦＰＥ−ＤＯＨの両末端に、メタ−トリフルオロメチルフェノキシ基が５個置換したホスホニトリルのシクロトリマーを有する化合物であり、化合物（５−ａ）は、ＰＦＰＥ−ＤＯＨの片方のみの末端に、メタ−トリフルオロメチルフェノキシ基が５個置換したホスホニトリルのシクロトリマーを有する化合物であった。化合物（５−ａ）の粘度は１１０センチポイズ（４０℃）、密度は１.７５ｇ／ｃｍ３（１５℃）、表面張力は２３ｄｙｎｅ／ｃｍ（２０℃）であった。
【００３２】
比較例１  （特開平６−２２００７７公報記載の化合物）
還流冷却管、アルゴンガス導入管、温度計および攪拌機を備えた１リットル四つ口フラスコに、Ｃ３Ｆ７Ｏ(ＣＦ２ＣＦ２Ｏ)２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ ４１.３g（０.０８３モル）と乾燥脱水と蒸留精製したジイソプロピルエーテル０.５リットルを入れ、攪拌しながら、金属ナトリウムの小片を１.７３ｇ（０.０７５モル）添加し、５０℃で３日間反応させ、全ての金属ナトリウムを反応させたのち、ホスホニトリルクロライドのシクロトリマーを６.９５ｇ（０.０２モル）とジイソプロピルエーテル ４０ｍｌを添加し、６０〜７０℃で２日間反応させた。得られた反応混合物を（ニ）とする。
【００３３】
上記（ニ）と同様の方法で、フェノール１８.８ｇ（０.１９８モル）と金属ナトリウム ４.１４ｇ（０.１８モル）をジイソプロピルエーテル２５０ｍｌ中で５日間反応させて、ナトリウムフェノラートのジイソプロピルエーテル溶液を得た。この溶液を（ホ）とする。
【００３４】
溶液（ホ）の全量を（ニ）が入ったフラスコ中に、室温下、約５分で投入し、７０℃で１０日間反応させたのち、反応混合物のジイソプロピルエーテル溶液を水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで硝酸水溶液で４回洗浄し、さらに精製水で６回洗浄した。これらの洗浄で得られたジイソプロピルエーテル溶液をモレキュラーシーブスで脱水乾燥し、ジイソプロピルエーテルを減圧下ロータリーエバポレータで蒸発留去し、２３.３ｇの淡黄色液体〔化合物（Ｄ）〕を得た。
化合物（Ｄ）の粘度は７４０センチポイズ（４０℃）、密度は１.５１ｇ／ｃｍ３（１５℃）、表面張力は２６ｄｙｎｅ／ｃｍ（２０℃）であった。
【００３５】
試験例１
実施例１、比較例１で得られた化合物（５−ａ）及び化合物（Ｄ）を用いて、潤滑剤の性能試験を行った。供試化合物１ｇをパーフルオロヘキシルメチルエーテル（ＨＦＥ−７１００）１０００ｍｌに溶解した溶液に、ハードディスクを浸漬した後、取り出して１２０℃で３０分間乾燥し、ハードディスク上に、膜厚１０Åの被膜を形成した。このものを下記の試験に供した。
潤滑剤の性能試験は、ヘッドにかかる力から摩擦係数を測定できるように改造した実機ドライブを用い、ＣＳＳ繰返しテストによる摩擦係数の変化を測定することにより実施した。ＣＳＳサイクルはヘッドがディスク表面に接触した状態で始動し、ヘッドが浮上した状態で所定回数７２００ｒｐｍに達した後、再びヘッドがディスク表面に接触した状態で停止するまでの行程を３３秒で行い、これを一サイクルとした。ハードディスクは３.５インチのスパッタリングで作製した記録媒体上にプラズマＣＶＤで１００〜２００ÅのＤＬＣ保護膜を作製したもので、表面平滑性を高めるため、テクスチャーはなしにした。ヘッドはモノリシックＭＩＧ（ｍｅｔａｌ  ｉｎ  ｇａｐ）で荷重は、７.５ｇとした。ＣＳＳテストの良否は、ヘッドとディスクが凝着（クラッシュ）するまでのサイクル数（ＣＳＳ寿命）とディスクの状態（摩耗有無）および試験後のヘッドの汚れの程度で判定した。試験結果を表１に示す。
表のヘッド汚れにおいて、−；汚れなし  ±；かすかにあり  ＋；ややあり  ＋＋；固形物付着  を示す。
【００３６】
【表１】
2004352999.tif 000004