(57)【要約】【課題】近接した状態で、対向配置するとともに、基板間に過度の圧力がかかった場合であっても、基板における素子に圧力が集中することが少なく、電気絶縁性に優れた電気光学装置用基板、およびそれを利用した電気光学装置等を提供する。【解決手段】電気光学装置に対向使用されるとともに、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板からなる一対の電気光学装置用基板等において、第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、着色層と、遮光層としてのブラックマトリクスと、その上に設けられた表面保護層と、電気配線と、を備え、第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、複数の素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、複数の画素電極と、を備え、かつ、第２の電気光学装置用基板上の画素電極間に、圧力調整部材を設けることを特徴とする。【選択図】  図１
2004354504.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置に対向使用されるとともに、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板からなる一対の電気光学装置用基板において、
前記第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、着色層と、遮光層としてのブラックマトリクスと、その上に設けられた表面保護層と、電気配線と、を備え、
前記第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、複数の素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、複数の画素電極と、を備え、
かつ、前記第２の電気光学装置用基板上の画素電極間に、圧力調整部材を設けることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項２】
前記素子の高さを１としたときに、前記圧力調整部材の高さを０．８〜５の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項３】
前記圧力調整部材の面積を１×１０１〜１×１０４μｍ２の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置用基板。
【請求項４】
前記圧力調整部材の平面形状を、円形、楕円形、または四角形とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項５】
前記圧力調整部材が、ダミー電極であって、当該ダミー電極の端部と、前記素子第１電極、前記素子第２電極および前記画素電極の端部と、のそれぞれの距離を３〜１００μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項６】
前記圧力調整部材が、電気絶縁材料または導電性材料からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項７】
前記圧力調整部材を、前記第１の電気光学装置用基板におけるブラックマトリクスに対応する位置に設けることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
【請求項８】
対向する第１の電気光学装置用基板と第２の電気光学装置用基板とを含む一対の電気光学装置用基板の製造方法において、
基板としての第１のガラス基板上に、着色層と、遮光層としてのブラックマトリクスと、表面保護層と、電気配線と、を形成することにより第１の電気光学装置用基板を準備する工程と、
対向基板としての第２のガラス基板上に、複数の素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、複数の画素電極と、を形成することにより第２の電気光学装置用基板を準備する工程と、を備えるとともに、
前記第２の電気光学装置用基板上の画素電極間に、圧力調整部材を形成する工程をさらに含むこと、
を特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記圧力調整部材がダミー電極であって、前記素子を形成するのと同時に形成することを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１０】
第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板からなる一対の電気光学装置用基板を含む電気光学装置において、
前記第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、着色層と、遮光層としてのブラックマトリクスと、その上に設けられた表面保護層と、電気配線と、を備え、
前記第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、複数の素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、複数の画素電極と、を備え、
かつ、前記第２の電気光学装置用基板上の画素電極間に、圧力調整部材を設けることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項８または９に記載の電気光学装置用基板の製造方法を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置用基板を含む電気光学装置、電気光学装置の製造方法、並びに電子機器に関する。特に、近接して対向配置するとともに、基板間に過度の圧力がかかった場合であっても、素子破壊を有効に防止することができる電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、および、このような電気光学装置用基板を含む電気光学装置、電気光学装置の製造方法、並びに電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶表示装置等の電気光学装置は、対向する第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを含む一対の電気光学装置用基板との間に、液晶材料を注入して構成されている。また、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置の場合には、図１８（ａ）〜（ｂ）に示すように、第２の電気光学装置用基板４１４上に、複数の画素電極４２０がマトリクス状に配列されるとともに、これらの画素電極４２０のそれぞれに非線形素子（スイッチング素子）、例えば、薄膜ダイオード（ＴＦＤ素子）が設けられており、第１の電気光学装置用基板上に、対向電極が設けられている（例えば、特許文献１参照）。
そして、非線形素子としての薄膜ダイオードに対して、しきい値以上の電圧を印加し、当該非線形素子を導通状態にするとともに、当該非線形素子と、対向電極との間に電圧をさらに印加することにより、液晶材料の配向性を制御して、所定の画像表示を行っている。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−３１４１７２号  （第６〜７頁、第５図）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来、液晶表示装置等の電気光学装置は、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接した状態で、対向配置するとともに、基板間に過度の圧力がかかった場合に、素子が破壊されやすいという問題が見られた。
すなわち、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを、例えば、５μｍ以下に近接配置するとともに、外部押圧等によって基板間に過度の圧力がかかった場合に、第２の電気光学装置用基板における素子部分に圧力が集中し、第１の電気光学装置用基板における電気配線と、第２の電気光学装置用基板における素子電極との間の電気絶縁性が低下したり、素子電極が機械的に破壊されたりするという問題が見られた。
よって、第１の電気光学装置用基板の電気配線から、素子における第１電極の端部に対して、リーク電流が生じ、それが素子（例えば、薄膜ダイオード）中を流れて、データ電極に到達して、絶縁膜が破壊されたり、誤動作を生じ易くなったりするという問題が見られた。
そこで、本発明は、所定箇所に、圧力調整部材を形成することにより、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接した状態で、対向配置するとともに、基板間に過度の圧力がかかった場合であっても、第２の電気光学装置用基板における素子に圧力が集中することが少なく、電気絶縁性に優れた電気光学装置用基板、およびそれを利用した電気光学装置、電気光学装置の製造方法、並びに電子機器等を容易に提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、電気光学装置に対向使用されるとともに、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板からなる一対の電気光学装置用基板において、第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、着色層と、遮光層としてのブラックマトリクスと、その上に設けられた表面保護層と、電気配線とを備え、第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、複数の素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、複数の画素電極とを備え、かつ、第２の電気光学装置用基板上の画素電極間に、圧力調整部材を設けた電気光学装置用基板により、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、第２の電気光学装置用基板上の所定箇所に、圧力調整部材が設けてあることから、第１および第２の電気光学装置用基板を近接した状態で、対向配置するとともに、これらの基板間に過度の圧力がかかった場合であっても、第２の電気光学装置用基板の素子にかかる圧力を低下することができる。
したがって、第１の電気光学装置用基板における電気配線（走査電極）と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極との間で、優れた電気絶縁性を確保するとともに、機械的破壊を有効に防止することができる。
また、圧力調整部材は、画素電極間に設けてあることより、圧力調整部材の面積を比較的大きくした場合であっても、画素電極の開口率を狭めるおそれを少なくすることができる。
なお、本発明において、圧力調整部材とは、ダミー電極を含む広い概念であって、基板間の応力を一部吸収して、素子にかかる圧力を低下できる構成部材を意味する。
【０００６】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、素子の高さを１としたときに、圧力調整部材の高さを０．８〜５の範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、素子にかかる圧力を有効に低下させることができるとともに、第２の電気光学装置用基板の表面を、比較的容易に平坦化することができる。
【０００７】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、圧力調整部材の面積を１×１０１〜１×１０４μｍ２の範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、第２の電気光学装置用基板における画素電極の開口率を過度に狭めることなく、素子にかかる圧力を有効に低下させることができる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、圧力調整部材の平面形状を、円形、楕円形、または四角形とすることが好ましい。
このように構成することにより、第２の電気光学装置用基板における画素電極間に、精度よく形成することができるとともに、素子にかかる圧力を有効に低下させることができる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、圧力調整部材が、ダミー電極であって、当該ダミー電極の端部と、素子第１電極、素子第２電極および画素電極の端部と、のそれぞれの距離を３〜１００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、圧力調整部材として、導電材料からなるダミー電極を設けたとしても、当該ダミー電極に対して、素子第１電極、素子第２電極および画素電極から電流が流れることを有効に防止することができる。
また、このような距離であれば、圧力調整部材としてのダミー電極の形成場所や面積に対する制約を少なくすることができる。
なお、本発明において、ダミー電極とは、圧力調整部材の下位概念であって、素子と実質的に同一材料から構成されているものの、周囲の部材とは電気絶縁されており、素子の機能ははたしえない構成部材を意味する。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、圧力調整部材が、電気絶縁材料または導電性材料からなることが好ましい。
圧力調整部材が電気絶縁材料からなる場合には、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極、素子第２電極、および画素電極と、第１の電気光学装置用基板における走査電極等とが、電気的に接続されるのを有効に防止することができる。
一方、圧力調整部材が導電性材料からなる場合には、ダミー電極として素子と同時に形成することができ、製造工程を簡略化することができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置用基板を構成するにあたり、圧力調整部材を、第１の電気光学装置用基板におけるブラックマトリクスに対応する位置に設けることが好ましい。
このように構成することにより、第２の電気光学装置用基板における画素電極の開口率を大きく採ることができる一方、素子にかかる圧力を有効に低下させることができる。
【００１２】
また、本発明の別の態様は、対向する第１の電気光学装置用基板と第２の電気光学装置用基板とを含む一対の電気光学装置用基板の製造方法であって、
基板としての第１のガラス基板上に、着色層と、遮光層としてのブラックマトリクスと、表面保護層と、電気配線と、を形成することにより第１の電気光学装置用基板を準備する工程と、
対向基板としての第２のガラス基板上に、複数の素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、複数の画素電極と、を形成することにより第２の電気光学装置用基板を準備する工程と、を備えるとともに、
第２の電気光学装置用基板上の画素電極間に、圧力調整部材を形成する工程をさらに含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法である。
このように実施することにより、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接した状態で、対向配置するとともに、これらの基板間に過度の圧力がかかった場合であっても、第２の電気光学装置用基板の素子にかかる圧力を低下することができる電気光学装置用基板を効率的に提供することができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、圧力調整部材がダミー電極であって、素子を形成するのと同時に形成することが好ましい。
このように実施することにより、工程数を増大させることなく、所定のダミー電極を設けることができる。
【００１４】
また、本発明の別の態様は、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板からなる一対の電気光学装置用基板を含む電気光学装置であって、
第１の電気光学装置用基板は、基板としての第１のガラス基板と、着色層と、遮光層としてのブラックマトリクスと、その上に設けられた表面保護層と、電気配線と、を備え、
第２の電気光学装置用基板は、対向基板としての第２のガラス基板と、複数の素子を構成する素子第１電極、絶縁膜および素子第２電極と、複数の画素電極と、を備え、
かつ、第２の電気光学装置用基板上の画素電極間に、圧力調整部材を設けた電気光学装置用基板を含む電気光学装置である。
すなわち、第２の電気光学装置用基板上の所定箇所に、圧力調整部材を設けてあるため、電気光学装置を構成する際に、近接した状態で、対向配置するとともに、これらの基板間に過度の圧力がかかった場合であっても、優れた電気絶縁性を示すことができる。したがって、電気光学装置を薄型化して構成した場合であっても、画素欠陥の発生を有効に防止し、耐久性を向上させることができる。
【００１５】
また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置用基板の製造方法を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
このように実施することにより、第１の電気光学装置用基板と、第２の電気光学装置用基板とを近接配置するとともに、基板間に過度の圧力がかかった場合であっても、第２の電気光学装置用基板における素子に圧力が集中することが少なくなる。したがって、電気絶縁性に優れた電気光学装置を効率的に提供することができる。
【００１６】
また、本発明の別の態様は、上述した電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器である。
このように構成することにより、電気絶縁性に優れ、素子破壊の発生が少ない電気光学装置を含む電子機器を効果的に提供することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板を含む電気光学装置等に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００１８】
［第１実施形態］
第１実施形態は、図１（ａ）〜（ｃ）に例示されるように、電気光学装置において対向使用されるとともに、第１の電気光学装置用基板２２０および第２の電気光学装置用基板２１０からなる一対の電気光学装置用基板１０であって、第１の電気光学装置用基板２２０は、基板としての第１のガラス基板２２１と、カラーフィルタとしての着色層（図示せず。）と、遮光層としての三層構造のブラックマトリクス１８（１５、１６、１７）と、その上に設けられた表面保護層１１と、電気配線（走査電極）１９と、を備えている。
そして、第２の電気光学装置用基板２１０は、対向基板としての第２のガラス基板２１１と、複数の素子３１、３２を構成する素子第１電極２４、絶縁膜２３および素子第２電極２２、２５と、複数の画素電極２０とを備えるとともに、第２の電気光学装置用基板上２１０の画素電極２０間に、圧力調整部材（ダミー電極）８０を設けることを特徴とする電気光学装置用基板１０である。
以下、カラーフィルタ基板（第１の電気光学装置用基板）、二つの二端子型非線形素子を備えた対向基板（第２の電気光学装置用基板）、およびそれらを用いた液晶パネルを例に採って説明する。
【００１９】
１．液晶パネルの基本構造
まず、図２〜図４を参照して、本発明の第１実施形態の電気光学装置用基板を用いた電気光学装置の基本構造、すなわち、セル構造や配線、あるいは位相差板および偏光板について具体的に説明する。なお、図２は、本発明に係る第１実施形態の電気光学装置用基板を用いた電気光学装置を構成する液晶パネル２００の外観を示す概略斜視図であり、図３は、液晶パネル２００の模式的な概略断面図であり、図４は、アクティブマトリクス配線の電気的構成を示す図である。
また、図２に示される電気光学装置を構成する液晶パネル２００は、二端子型非線形素子としてのＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）２７１を用いたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることが好ましい。
【００２０】
（１）セル構造
図２に示すように、液晶パネル２００は、ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第１のガラス基板２２１を基体とするカラーフィルタ基板２２０（第１の電気光学装置用基板と称する場合がある。）と、これに対向配置される第２のガラス基板２１１を基体とする対向基板２１０（第２の電気光学装置用基板と称する場合がある。）とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられていることが好ましい。そして、カラーフィルタ基板２２０と、対向基板２１０とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶材料２３２を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
すなわち、図３に示すように、カラーフィルタ基板２２０と対向基板２１０との間に液晶材料２３２が充填されていることが好ましい。
【００２１】
（２）配線
▲１▼マトリクス
図２に示すように、第２のガラス基板２１１の内面（第１のガラス基板２２１に対向する表面）上に、マトリクス状の透明電極２１６と配線２１８Ａを形成し、第１のガラス基板２２１の内面上には、当該透明電極２１６に直交する方向に並列した、複数のストライプ状の透明電極２２２を形成することが好ましい。また、透明電極２１６を、非線形素子２７１を介して配線２１８Ａに対して導電接続するとともに、もう一方の透明電極２２２を、配線２２８に対して導電接続することが好ましい。
そして、透明電極２２２と直交する配線２１８ＡにＴＦＤ素子２７１を介して接続された透明電極２１６がマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域Ａを構成することになる。
また、図４に、ドライバＩＣおよびＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス配線の具体的な電気的構成例を示す。すなわち、Ｙ方向に延在する複数のデータ電極２６と、Ｘ方向に延在する複数の走査電極１９とから構成されており、各交差部分において画素５０が構成されている。また、各画素５０において、液晶表示要素５１と、ＴＦＤ素子３１とが直列接続されている。
【００２２】
▲２▼入力端子部
また、図２に示すように、第２のガラス基板２１１は、第１のガラス基板２２１の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部２１０Ｔを有し、この基板張出部２１０Ｔ上には、配線２２８に対して、シール材２３０の一部で構成される上下導通部を介して導電接続された配線２１８Ｂ、および、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部２１９が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部２１０Ｔ上には、これら配線２１８Ａ、２１８Ｂおよび入力端子部２１９に対して導電接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体ＩＣ２６１が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部２１０Ｔの端部には、入力端子部２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板２６３が実装されていることが好ましい。
【００２３】
（３）位相差板および偏光板
図２に示される液晶パネル２００において、図３に示すように、第１のガラス基板２２１の所定位置に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１が配置されていることが好ましい。
そして、第２のガラス基板２１１の外面においても、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１が配置されていることが好ましい。
【００２４】
２．カラーフィルタ基板（第１の電気光学装置用基板）
次いで、図１〜図３等を適宜参照しながら、本発明の第１の電気光学装置用基板としての構造的特徴や動作を、カラーフィルタ基板２２０を例に採って詳細に説明する。
【００２５】
（１）基本的構成
カラーフィルタ基板２２０は、図３に示すように、基本的に、ガラス基板２２１と、着色層２１４と、透明電極２２２と、配向膜２１７と、から構成してあることが好ましい。
また、カラーフィルタ基板２２０において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等に使用される反射半透過型の液晶表示装置においては、ガラス基板２２１と、着色層２１４との間に、図３に示すように、反射層２１２を設けることが好ましい。
さらに、カラーフィルタ基板２２０において、図３に示すように、その表面を平坦化するための平坦化層３１５や、電気絶縁性を向上させるための絶縁層を設けることも好ましい。
【００２６】
（２）着色層
▲１▼構成
また、図３に示す着色層２１４は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
【００２７】
▲２▼遮光膜
また、図３に示すように、画素毎に形成された着色層２１４の間の画素間領域に、ブラックマトリクス（黒色遮光膜、あるいはブラックマスクと称する場合もある。）２１４ＢＭが形成してあることが好ましい。
このようなブラックマトリクス２１４ＢＭとしては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものや、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。
なお、図１に示すブラックマトリクス２１４ＢＭにおいては、加色法を利用して、Ｒ（赤）層１７、Ｇ（緑）層１６、Ｂ（青）層１５の三層構造としてある。このように構成することにより、カーボン等の黒色材料を使用しなくとも、優れた遮蔽効果を得ることができる。
【００２８】
また、図５に示すように、ブラックマトリクスを赤色層、青色層、および緑色層の三層から形成する場合においては、第２の電気光学装置用基板２１０の素子部分３１、３２に対応する部分の赤色層、青色層、および緑色層のうち、少なくとも一層を形成していない（除去する）ことが好ましい。
この理由は、ブラックマトリクス全体としての厚さが薄くなり、三層構造の場合と比較してセルギャップが広くなることから、押圧等によりパネルに圧力がかかった場合であっても、第２の電気光学装置用基板における素子部分にかかる圧力を低下させることができるためである。したがって、第１および第２の電気光学装置用基板を、近接して対向配置した際に、パネルに圧力がかかった場合であっても、第１の電気光学装置用基板および第２の電気光学装置用基板に形成された対向する電極間でのリーク電流の発生を防ぎ、優れた電気絶縁性を示すことができる。
【００２９】
▲３▼配列パターン
また、着色層の配列パターンとして、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００３０】
（３）透明電極
図３に示すように、平坦化層３１５の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２２２を形成することが好ましい。かかる透明電極２２２は、図２および３に示すように、複数の透明電極２２２が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、アクティブマトリクス配線においては、かかる透明電極２２２が、走査電極を構成することになる。
【００３１】
（４）配向膜
また、図３に示すように、透明電極２２２の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜２１７が形成されていることが好ましい。
この理由は、このように配向膜２１７を設けることにより、カラーフィルタ基板２２０を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料の配向駆動を電圧印加によって容易に実施することができるためである。
【００３２】
（５）表面保護層
また、反射層２１２等の上には、画素毎に着色層２１４が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる表面保護層（平坦化層、オーバーコート層）３１５により、被覆してあることが好ましい。そして、この着色層２１４と表面保護層（平坦化層）３１５とによってカラーフィルタが形成されることになる。
また、図６に示すように、表面保護層１１のうち、第２の電気光学装置用基板２１０における素子３１、３２に対応する位置に、非形成部９０を設けることが好ましい。この理由は、表面保護層を形成しない素子部分についてはセルギャップが広がることにより、押圧等によりパネルに圧力がかかった場合であっても、素子に対して圧力がかかりにくくすることができるためである。
【００３３】
３．対向基板（第２の電気光学装置用基板）
（１）基本構造
また、図１および図３に示すように、カラーフィルタ基板２２０と対向するもう一方の対向基板（第２の電気光学装置用基板）２１０は、ガラス等からなる第２のガラス基板２１１上に、第１のガラス基板と同様の透明電極２１６や配向膜２２４を順次積層させたものであることが好ましい。
なお、本実施形態の例では、着色層が、上述した第１のガラス基板２２１に設けてあるが、当該着色層を、かかる対向基板２１０の第２のガラス基板２１１上に設けることも可能である。
【００３４】
（２）素子
第２の電気光学装置用基板に設ける素子としては、図１（ａ）〜（ｃ）にその構成の概略を、図４にその回路構成を示すように、二端子型非線形素子であるＴＦＤ素子３１、３２が典型的であるが、図７に回路構成を示すように、ＴＦＴ素子であっても良い。
ここで、ＴＦＤ素子３１、３２を例にとって説明するが、図１（ａ）〜（ｃ）に例示されるように、素子第１電極としての第１金属膜２４、絶縁膜２３、および素子第２電極としての第２金属膜２２、２５からなるサンドイッチ構成を有することが好ましい。また、第１金属膜２４や第２金属膜２２、２５としては、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）や、クロム（Ｃｒ）等が挙げられる。また、絶縁膜２３としては、このような金属材料を陽極酸化させて構成してあることが好ましい。例えば、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等が具体的に挙げられる。
そして、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、第１金属膜２４および第２金属膜２２、２５の両端子間に印加されると導通状態となるアクティブ素子である。
【００３５】
なお、二端子型非線形素子の配置方法に関して、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、二個のＴＦＤ素子３１、３２は、走査電極１９またはデータ電極２６と、画素電極２０との間に介在するように、ガラス基板２１１上に形成され、反対のダイオード特性を有する第１のＴＦＤ素子３２および第２のＴＦＤ素子３１から構成してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、印加する電圧波形として、交流を使用することができ、液晶表示装置等における液晶材料の劣化を防止することができるためである。すなわち、液晶材料の劣化を防止するために、ダイオードスイッチング特性が、正負方向において対称的であることが望まれ、図１（ａ）〜（ｃ）に例示するように、二個のＴＦＤ素子３１、３２を逆向きに直列接続することにより、交流を使用することができるためである。
【００３６】
（３）圧力調整部材（ダミー電極）
▲１▼構成
圧力調整部材を構成する好適材料としては、電気絶縁材料または導電性材料が挙げられるが、電気絶縁材料から構成してある場合には、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極、素子第２電極、および画素電極と、第１の電気光学装置用基板における走査電極等とが、電気的に接続されるのを有効に防止することができる。また、圧力調整部材が導電性材料から構成してある場合には、ダミー電極として、素子と同時に形成することができ、圧力調整部材の製造工程を簡略化することができる。
ここで、好ましい電気絶縁材料としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ガラス等の一種単独または二種以上の組合せが挙げられる。
また、好ましい導電性材料としては、素子電極を構成する材料、例えば、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）や、クロム（Ｃｒ）等、および、絶縁膜として、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等の一種単独または二種以上の組合せが挙げられる。
ただし、後に説明するように、素子の高さと実質的に同じ高さとすることができることから、素子の構成と同様に、図８に示すように、第１金属膜８１、絶縁膜８２、および第２金属膜８３からなる構成とすることが好ましい。
【００３７】
▲２▼配置１
また、圧力調整部材（ダミー電極）８０の配置に関して、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、第２の電気光学装置用基板２１０上の複数の画素電極２０の間であって、第１の電気光学装置用基板２２０のブラックマトリクス１８に対応する位置に設けることが好ましい。
この理由は、かかる位置であれば、画素電極の開口率を過度に狭めることなく、容易に形成できるためである。また、通常、画素電極の開口率を狭めることのないように、素子はブラックマトリクスに対応する位置に形成されることが多く、圧力調整部材も同様の位置に設けることにより、素子にかかる圧力を有効に低下させることができるためである。
【００３８】
▲３▼配置２
また、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、圧力調整部材（ダミー電極）８０の端部と、素子第１電極２４、素子第２電極２２、２５および画素電極２０の端部との距離を、それぞれ３〜１００μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる距離が３μｍ未満の値となると、圧力調整部材を導電性材料から構成した場合に、素子第１電極、素子第２電極あるいは画素電極から、圧力調整部材に対して電流が流れてしまう場合があるためである。一方、かかる距離が１００μｍを超えると、形成する圧力調整部材の面積や配置が過度に制限されたり、素子にかかる圧力の低下が不十分となったりする場合があるためである。
したがって、圧力調整部材の端部と、素子第１電極、素子第２電極および画素電極の端部との距離を５〜８０μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、６〜５０μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３９】
▲４▼高さ
また、圧力調整部材（ダミー電極）の高さ（高さ比率）を、素子の高さを１としたときに、０．８〜５の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる圧力調整部材の高さ比率が０．８未満の値となると、素子電極にかかる圧力を低下させることが困難となる場合があるためである。一方、かかる圧力調整部材の高さ比率が５を超えると、第２の電気光学装置用基板における表面平坦性が低下する場合があるためである。
したがって、かかる圧力調整部材の高さ比率を、素子の高さを１としたときに、０．９〜３．０の範囲内の値とすることがより好ましく、０．９５〜１．５の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４０】
一方、圧力調整部材がダミー電極である場合には、図８に示すように、ダミー電極８０の高さと、素子３１、３２の高さとを実質的に等しくすることがより好ましい。
この理由は、このような形態の圧力調整部材であれば、ダミー電極として素子と同時に形成することができ、圧力調整部材の製造工程を簡略化することができるためである。
【００４１】
▲５▼面積
また、圧力調整部材（ダミー電極）の面積を１×１０１〜１×１０４μｍ２の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる圧力調整部材の面積が１×１０１μｍ２未満の値となると、素子電極にかかる圧力を低下する効果が発現しない場合があるためである。一方、圧力調整部材の面積が１×１０４μｍ２を超えると、圧力調整部材の端部と、近接する素子電極あるいは画素電極の端部との距離が近付き、圧力調整部材を導電性材料から構成した場合に、素子電極あるいは画素電極から圧力調整部材に対して電流が流れてしまう場合があるためである。さらに、圧力調整部材の面積が１×１０４μｍ２を超えると、画素電極の開口率を過度に低下させてしまう場合があるためである。
したがって、圧力調整部材の面積を１．２×１０１〜５×１０３μｍ２の範囲内の値とすることがより好ましく、１．５×１０１〜１×１０２μｍ２の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４２】
▲６▼形状
また、圧力調整部材（ダミー電極）を設けるにあたり、当該圧力調整部材の平面形状は特に制限されるものではないが、例えば、図９（ａ）〜（ｈ）に示すように、円、楕円、長方形、正方形、星形、ひし形、多角形、および異形とすることが好ましい。また、図１０（ａ）に示すような連続した形状であってもよく、あるいは図１０（ｂ）に示すような不連続な形状であってもよい。
ただし、容易に形成することが可能なことから、圧力調整部材の平面形状を図９（ｃ）に示すような長方形や、圧力を吸収しやすいことから、図９（ａ）〜（ｂ）に示すような、円または楕円とすることがより好ましい。
【００４３】
▲７▼耐電圧特性
また、圧力調整部材（ダミー電極）を設けるにあたり、所定の耐電圧特性を発揮できる構成であることが好ましい。
ここで、図１１を参照して、パネルに対して電圧がかけられた場合の素子の好ましい耐電圧特性について説明する。
図１１の横軸には、パネルにかけられる電圧（Ｖ）を採って示してあり、図１１の縦軸には、第１の電気光学装置用基板における電気配線（走査電極）と、第２の電気光学装置用基板における素子第１電極との間に流れる電流（Ａ）を採って示してある。そして、所定の圧力調整部材を有するパネルにおけるＩＶ曲線をを実線Ａで示してあり、圧力調整部材を形成していないパネルにおけるＩＶ曲線を点線Ｂで示してある。
この図１１に示すように、圧力調整部材を形成していない場合には、パネルにかけられる電圧が１０Ｖを超える領域ではＩＶ曲線が立ち上がり、素子破壊現象が見られる。一方、所定の圧力調整部材を形成した場合には、パネルにかけられる電圧が２５Ｖを超える領域においてもＩＶ曲線が立ち上がらず、素子破壊現象は見られない。
したがって、所定の圧力調整部材を設けることにより、リーク電流の発生や、素子破壊を効果的に防止することができることが理解できる。
【００４４】
［第２実施形態］
第２実施形態は、図１２〜図１５に例示されるように、対向する第１の電気光学装置用基板２２０と第２の電気光学装置用基板２１０とを含む一対の電気光学装置の製造方法であって、第１の電気光学装置用基板２２０は、基板としての第１のガラス基板２２１と、カラーフィルタとしての着色層２１４と、遮光層としてのブラックマトリクス２１４ＢＭと、その上に設けられた表面保護層３１５と、透明電極２２２と、を備えた電気光学装置用基板の製造方法である。
そして、第２の電気光学装置用基板２１０は、対向基板としての第２のガラス基板２１１と、複数の素子を構成する素子第１電極１５８、絶縁膜１５６および素子第２電極１５２と、複数の画素電極１５４と、を備えるとともに、画素電極１５４間に、圧力調整部材（ダミー電極）８０を形成する工程をさらに含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法である。
以下、圧力調整部材として、ダミー電極８０を形成する場合を想定して、電気光学装置用基板の製造方法を説明する。
【００４５】
１．第１の電気光学装置用基板の製造
（１）着色層の形成
図１２（ａ）に示すように、第１基板２２１上には、画像表示領域に相当する箇所に、反射層２１２、および黒色遮光層２１４ＢＭを順次形成することが好ましい。
ここで、開口部２１２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングすることにより形成される。また、黒色遮光層２１４ＢＭは、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成する。
また、着色層２１４についても、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を、反射層２１２等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによっても形成することができる。
なお、複数の色の着色層２１４を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
【００４６】
（２）透光保護層（表面保護層）の形成
次いで、図１２（ｂ）に示すように、第１基板２２１上に全面的に透光保護層（表面保護層）３１５Ｘを形成する。この透光保護層３１５Ｘは、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
次いで、上記透光保護層３１５Ｘに、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、図１２（ｃ）に示すように、画像表示領域に限定された平坦化層３１５を形成する。この工程によって、透光保護層３１５Ｘから画像表示領域以外の領域、すなわち、図３に示すシール材２３０の外側に配置される領域とほぼ同じ領域上から透光性素材が欠落される。
なお、第２の電気光学装置用基板における素子に対応する位置に表面保護層の非形成部を設ける場合には、本工程において、同様にフォトリソグラフィ技術およびエッチング法により形成することができる。
【００４７】
（３）透明導電層の形成
次いで、図１２（ｄ）に示すように、平坦化層３１５上に、電気配線として、全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体材料からなる透明導電層２２２Ｘを形成することが好ましい。この透明導電層２２２Ｘは、一例として、スパッタリング法により成膜することができる。そして、透明導電層２２２Ｘに対して、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、図１２（ｅ）に示すように透明電極２２２、を形成することが好ましい。
【００４８】
２．第２の電気光学装置用基板の製造
（１）素子第１電極の形成
図１３（ａ）に示すように、第２の電気光学装置用基板２１０のガラス基板２１１上に、金属膜１５８を形成する工程である。この金属膜１５８は、例えば、タンタルから構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。また、この金属膜１５８の厚さはＴＦＤ素子の用途等に対応して、適宜変更することができるが、通常、２０〜５００ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００４９】
また、図示しないが、金属膜１５８の形成前に、第２の電気光学装置用基板２１０のガラス基板２１１上に、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。この理由は、第２の電気光学装置用基板２１０のガラス基板２１１と、金属膜１５８との間に、このように絶縁膜を形成することにより、ガラス基板２１１に対する金属膜１５８の密着力を著しく向上させることができるとともに、ガラス基板２１１から金属膜１５８への不純物の拡散を効率的に抑制することができるためである。
次いで、図１３（ｂ）〜図１４（ｂ）に示すように、金属膜１５８をフォトリソグラフィ法やエッチング技術を用いて、パターニングして、素子第１電極とすることが好ましい。
【００５０】
（２）酸化膜の形成
次いで、図１４（ｃ）に示すように、金属膜１５８の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜１５６を形成することが好ましい。より具体的には、金属膜１５８が形成されたガラス基板２１１を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、金属膜１５８との間に所定電圧を印加して、金属膜１５８の表面を酸化させることが好ましい。
なお、酸化膜１５６の厚さはＴＦＤ素子の用途等に対応して、適宜変更することができるが、通常、１０〜５０ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００５１】
（３）素子第２電極の形成
次いで、図示しないが、再び、スパッタリング法等により、金属膜１５８上に、全面的に金属膜を形成し、それをフォトリソグラフィ法やエッチング技術を用いて、パターニングすることにより、図１５（ｂ）に示すように、素子第２電極１５２を形成することが好ましい。
【００５２】
（４）ダミー電極の形成
第２の実施形態にかかる電気光学装置用基板の製造方法では、ダミー電極を形成するにあたり、製造工程の簡便上、素子を形成する工程において同時に形成することが好ましい。すなわち、素子第１電極、酸化膜、および素子第２電極を形成する際に、ダミー電極を形成する所望の箇所にもそれらを形成することにより、ダミー電極を形成することが好ましい。
このように、素子を形成する工程と同時に形成することにより、工程数を増大させることなく、所望のダミー電極を有する電気光学装置用基板を得ることができる。
また、このように形成することにより、得られるダミー電極の高さと、素子の高さとが実質的に等しくなり、第１および第２の電気光学装置用基板を、近接状態で対向配置させた際に、パネルに過度に圧力がかかった場合であっても、素子にかかる圧力を低下させることができ、その結果、リーク電流の発生や素子の機械的破壊を防ぎ、電気絶縁性および耐久性に優れた電気光学装置用基板を効率的に得ることができる。
【００５３】
［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態としての電気光学装置を、電子機器における表示装置として用いた場合について具体的に説明する。
【００５４】
（１）電子機器の概要
図１６は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル２００と、これを制御するための制御手段１２００とを有している。また、図１６中では、液晶パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路２００Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されていることが好ましい。
【００５５】
また、表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
【００５６】
（２）電子機器
本発明に係る電気光学装置としての液晶表示装置を適用可能な電子機器としては、パーソナルコンピュータや携帯電話機が代表的であるが、そのほかにも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器などが挙げられる。
【００５７】
また、本発明の電気光学装置およびそれを用いた電子機器は、上述例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
例えば、第３実施形態に示す液晶パネルは、ＴＦＤ（薄膜ダイオード）を用いたアクティブマトリクス方式を採用しているが、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）のアクティブマトリクス方式の電気光学装置にも適用することができ、あるいは、図１７に示すように、単純マトリックス方式の電気光学装置にも適用することができる。
また、第３実施形態に示す液晶パネルは、いわゆるＣＯＧタイプの構造を有しているが、ＩＣチップを直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
さらに、第３実施形態では、液晶装置に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）表示装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウン管、液晶シャッター、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を用いた装置などの各種の電気光学装置に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は、第１実施形態に係る対向基板の斜視図であり、（ｂ）は、第１実施形態に係る電気光学装置用基板の断面図であり、（ｃ）は、第１実施形態に係る対向基板の平面図である。
【図２】第１実施形態に係る液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図３】第１実施形態のパネル構造を模式的に示す概略断面図である。
【図４】アクティブマトリクス配線の電気的構成を示す図である。
【図５】二層構造のブラックマトリクスを説明するために供する図である。
【図６】表面保護層の非形成部を説明するために供する図である。
【図７】ＴＦＴの電気配線を説明するために供する図である。
【図８】ダミー電極の構成を説明するために供する図である。
【図９】（ａ）〜（ｈ）は、それぞれ圧力調整部材の平面形状を説明するために供する図である（その１）。
【図１０】（ａ）〜（ｂ）は、それぞれ圧力調整部材の平面形状を説明するために供する図である（その２）。
【図１１】電圧（Ｖ）と電流（Ａ）との関係を説明するために供する図である。
【図１２】第１の電気光学装置用基板の製造方法を説明するために供する図である。
【図１３】ＴＦＤの製造方法を説明するために供する図である（その１）。
【図１４】ＴＦＤの製造方法を説明するために供する図である（その２）。
【図１５】ＴＦＤの製造方法を説明するために供する図である（その３）。
【図１６】本発明に係る電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図１７】単純マトリックスタイプの液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図１８】従来の液晶パネルの構造を説明するために供する図である。
【符号の説明】
１０：電気光学装置用基板、１１：表面保護層、１８：ブラックマトリクス、１９：電気配線（走査電極）、２０：画素電極、２２：第１の素子第２電極、２３：絶縁膜、２４：素子第１電極、２５：第２の素子第２電極、２６：データ電極、２７：第２のガラス基板、３１：第１のＴＦＤ素子、３２：第２のＴＦＤ素子、８０：圧力調整部材（ダミー電極）、１５２：素子第２電極、１５４：画素電極、１５６：酸化膜、１５８：素子第１電極、２００：液晶パネル、２１０：第２の電気光学装置用基板（対向基板）、２１１：第２基板、２１２：反射層、２１２ａ：開口部、２１２ｒ：反射部、２１４：着色層、２１５ａ：開口部、２１６：透明電極、２２０：第１の電気光学装置用基板（カラーフィルタ基板）、２２１：第１基板、２２２：透明電極、３１５：平坦化層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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