(57)【要約】【構成】  一般式（１）〜（４）（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれ，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）で示される光学活性シロキサン。【効果】  汎用性が高く様々な光学活性有機ケイ素化合物へと誘導可能であり，市販の化合物から２工程で合成できるので工業的な利用に展開することができる。【選択図】  図１
2004277417.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
【化１】
2004277417.tif 000019
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれ，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）で示される光学活性シロキサン。
【請求項２】
一般式
【化２】
2004277417.tif 000020
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）で示される光学活性シロキサン。
【請求項３】
一般式
【化３】
2004277417.tif 000021
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）で示される光学活性シラノール。
【請求項４】
一般式
【化４】
2004277417.tif 000022
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2であり，Ｒ5はＲ1，Ｒ2，Ｒ4の組合せがメチル基，エチル基，フェニル基，又はメチル基，ｔ−ブチル基，フェニル基，又はメチル基，イソプロピル基，フェニル基，又はフェニル基，ｔ−ブチル基，メチル基，又はｔ−ブチル基，フェニル基，メチル基である場合にはｎ−ブチル基であって，そうでない場合にはＲ5はメチル基，ｎ−ブチル基，水素から選ばれる）で示される光学活性シラン。
【請求項５】
一般式
【化５】
2004277417.tif 000023
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれる）で示されるアキラルシロキサン。
【請求項６】
一般式
【化６】
2004277417.tif 000024
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2である）で示されるアキラルシロキサン。
【請求項７】
一般式
【化７】
2004277417.tif 000025
（式中，Ｘはハロゲン，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2である）で示されるジハロシランを，Ｒ3ＯＨ（Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれる），ｏ−ジヒドロキシキシレン又は１，８−ジヒドロキシメチルナフタレン又は（Ｚ）−２−ブテン−１，４−ジオールにより求核置換してアキラルシロキサンを合成する方法。
【請求項８】
一般式
【化８】
2004277417.tif 000026
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれる）で示されるアキラルシロキサンをＲ4Ｌｉ（Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）及び不斉配位剤で反応させて光学活性シロキサンを合成する方法。
【請求項９】
一般式
【化９】
2004277417.tif 000027
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2である）で示されるアキラルシロキサンをＲ4Ｌｉ（Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）及び不斉配位剤で反応させて光学活性シロキサンを合成する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，光学活性有機ケイ素化合物，特に光学活性シロキサン，光学活性シラノール及び光学活性シランの製造における新しい不斉合成方法と，合成した新規光学活性有機ケイ素化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ケイ素化合物はシリコン等の機能性高分子素材への利用が主であったが，近年医薬品の炭素骨格の一部をケイ素原子に置換した有機ケイ素化合物やシラトラン類に高い生物活性を有するものが見出されている。そのため，ケイ素原子が不斉中心である光学活性有機ケイ素化合物は医薬，農薬の分野において新規な生物活性物質としての可能性が期待されている。加えて光学活性有機ケイ素化合物からは，機能材料などの開発において広く利用されているシリコンなどの含ケイ素高分子素材を合成することも可能である。
【０００３】
光学活性有機ケイ素化合物はこれまで有効な合成法が確立していなかったため化学的性質，利用に関して未知な点が多い化学物質である。光学活性有機ケイ素化合物の合成法はごく数例報告されている。例えば特許文献１ではシラノール類とその中間体の製造方法について記載されている。又，非特許文献１にはキラル炭素についてＣ2対称性を有するシロキサンに対してグリニアル試薬をジアステレオ選択的に付加する不斉合成法について記載されている。このように幾つかの方法はあるものの限られており，合成に多段階を要するもの，高価な不斉補助基を相当量用いるもの，また，合成できる化合物が限られているなどの問題があるので，工業的な利用に展開することは困難であるか，改良が望まれており，工業的に利用できるほど汎用性がある手法はこれまで開発されていなかった。
【特許文献１】特願２００２−６４４６２号
【非特許文献１】コバヤシキミコ（Kimiko Kobayashi）他，日本化学会誌（Bulletin of the Chemical Society of Japan），１９９７年，７０巻，ｐ．１３９３−１４０１
【非特許文献２】友岡克彦（Katsuhiko Tomooka）他，アンゲヴァンテ  ヒェミー  インターナツィオナール  発行（Angewandte ChemieInternational Ed.），１９９９年，３８巻，２４号，ｐ．３７４１−３７４３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来は光学活性有機ケイ素化合物の大量合成を短時間，低コストで行うことは困難であり，汎用性が高く多様な有機ケイ素化合物を合成する方法もなかった。又，非特許文献１の光学活性有機ケイ素化合物の合成法はシロキサンがＣ2対称な不斉炭素を有する必要があり，多くの反応ステップを要する方法でもある。
【０００５】
本願発明は上述のような事情によりなされたものであり，本願発明は不斉配位剤を用いることによって光学活性シロキサン，シラノール，シランといった多様な光学活性有機ケイ素化合物を大量合成することが可能である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
発明者らは市販のジクロロシランから２工程で光学活性有機ケイ素化合物を合成することに成功した。本発明の特徴は，アキラル環状シロキサンのエナンチオ選択的求核置換反応というこれまでに無い方法を用いている点にあり，また，高価な不斉配位剤の触媒化と再利用が可能であるために経済的である。本発明の手法の適用範囲は広く，多様な構造を有する種々の光学活性シロキサン，光学活性シラノール，光学活性シランを合成することができる。
【０００７】
本発明の光学活性シロキサンは，一般式
【０００８】
【化１０】
2004277417.tif 000003
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれ，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）で示される光学活性シロキサン又は，一般式
【０００９】
【化１１】
2004277417.tif 000004
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）で示される光学活性シロキサンである。
【００１０】
又，本発明の光学活性シラノールは，一般式
【００１１】
【化１２】
2004277417.tif 000005
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）で示される光学活性シラノールである。
【００１２】
さらに，本発明の光学活性シランは一般式
【００１３】
【化１３】
2004277417.tif 000006
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2であり，Ｒ5はＲ1，Ｒ2，Ｒ4の組合せがメチル基，エチル基，フェニル基，又はメチル基，ｔ−ブチル基，フェニル基，又はメチル基，イソプロピル基，フェニル基，又はフェニル基，ｔ−ブチル基，メチル基，又はｔ−ブチル基，フェニル基，メチル基である場合にはｎ−ブチル基であって，そうでない場合にはＲ5はメチル基，ｎ−ブチル基，水素から選ばれる）で示される光学活性シランである。
【００１４】
さらに又，本発明のアキラルシロキサンは一般式
【００１５】
【化１４】
2004277417.tif 000007
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれる）で示されるアキラルシロキサン，又は一般式
【００１６】
【化１５】
2004277417.tif 000008
（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2である）で示されるアキラルシロキサンである。
【００１７】
一方，本発明のアキラルシロキサンを合成する方法は，一般式
【００１８】
【化１６】
2004277417.tif 000009
（式中，Ｘはハロゲン，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2である）で示されるジハロシランをＲ3ＯＨ（Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれる），ｏ−ジヒドロキシキシレン又は１，８−ジヒドロキシメチルナフタレン又は（Ｚ）−２−ブテン−１，４−ジオールにより求核置換してアキラルシロキサンを合成する方法である。
【００１９】
又，本発明の光学活性シロキサンを合成する方法は，上記化１４の一般式（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれる）で示されるアキラルシロキサンをＲ4Ｌｉ（Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）及び不斉配位剤で反応させて光学活性シロキサンを合成する方法，又は上記化１５の一般式（式中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2である）で示されるアキラルシロキサンをＲ4Ｌｉ（Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である）及び不斉配位剤で反応させて光学活性シロキサンを合成する方法である。上記不斉配位剤は触媒量もしくは当量で反応させることができる。
【００２０】
尚，本願発明のアキラル環状シロキサンのエナンチオ選択的求核置換反応は，上述のＲ1〜Ｒ5として挙げられた官能基以外の官能基においては用いることができないことを意味しているのではない。大概どのような場合に本願発明のエナンチオ選択的求核置換反応を用いることができないかについては，当業者は後述の説明から判断可能である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明では市販の化合物から，２工程で光学活性シロキサンを合成できる。この際，出発原料と反応剤の選択によって，様々な光学活性有機ケイ素化合物へと誘導可能である。又，高価な不斉配位剤（Ｌ*）の再利用と触媒化に成功し，実質的な使用量を１０％以下に抑えた。
【００２２】
このように本願発明は光学活性有機ケイ素化合物の大量合成を短時間，低コストでおこなうことができるので，生成物の工業的な利用が期待できる。さらに本願発明の汎用性が高い光学活性有機ケイ素化合物は医療，農薬の分野においては，そのもの自体が新規な生物活性物質になることが期待される。又不斉配位剤，光学活性体分離カラムの充填剤としての活用も期待できる。更に又，これまでに開発されている生物活性物質の不斉炭素を不斉ケイ素に変えることにより，さらに効果のある化合物に変換することも可能と考えられる。加えて，機能性材料等の開発においては，これまで広く利用されているシリコン等の含ケイ素高分子材料の原料として光学活性シラノールを用いることにより，規則的な三次元構造を有する高分子材料を合成することも可能になると考えられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本願発明のシロキサン類，シラノール類，及びシラン類は（１）アキラルシロサンの合成，（２）アキラルシロサンのエナンチオ選択的求核置換反応による光学活性シロキサンの合成，（３）光学活性シロキサンの変換による光学活性シラノールもしくはシランの不斉合成といった３つの工程のなかで製造することができる。アキラルシロキサンは第一工程で製造され，光学活性シロキサンは第二工程で製造され，光学活性シラノール及び光学活性シランは第三工程で製造される。
【００２４】
本願発明のアキラルシロキサンの製造方法は第一工程に相当し，光学活性シロキサンの製造方法は第二工程に相当し，シラノール類及びシラン類の製造方法は第三工程に相当する。
【００２５】
第一工程の「アキラルシロキサンの合成」では市販のジクロロシラン等のジハロシランからアキラルシロキサンへの誘導を行う。この工程ではジハロシランのケイ素原子に対してＲ3ＯＨを求核置換させることによりシロキサンを生成する（化１７）。
【００２６】
【化１７】
2004277417.tif 000010
尚，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基とすることができ，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基とすることができる（以下同じ）。Ｒ3ＯＨの代わりにｏ−ジヒドロキシキシレン，１，８−ジヒドロキシメチルナフタレン，（Ｚ）−２−ブテン−１，４−ジオールのような２価のアルコールを用いてもよい（化１８）。
【００２７】
【化１８】
2004277417.tif 000011
第二工程の「アキラルシロキサンのエナンチオ選択的求核置換反応」は本発明の要であり，この段階で光学活性有機ケイ素化合物の立体化学を制御しつつ新たな置換基を導入する。光学活性ビスオキサゾリン等の触媒量もしくは当量の不斉配位剤６（ｃａｔ．Ｌ*）存在下で，アキラルシロキサンにアルキルリチウム（Ｒ4Ｌｉ）（Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基とすることができ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である（以下同じ））を作用させ，ケイ素原子上での置換反応を行う。この反応は高収率かつエナンチオ選択的に進行し，シリル原子上の不斉に関して光学活性な鎖状シロキサンが生成する（化１９）。尚，本願発明の条件下ではアルキルリチウムのみでは効果的に求核置換はおこなわれず，非特許文献２にあるようにビスオキサゾリン６ａとアルキルリチウムとが錯体を形成した場合に効果的におこなわれるため，上記の反応がビスオキザゾリン６ａを触媒としてエナンチオ選択的に行われることになる。
【００２８】
【化１９】
2004277417.tif 000012
第三工程の「光学活性シラノール，シランの合成」は光学活性シロキサンの変換による光学活性シラノール，シランの不斉合成をおこなう工程であって特に限定されないが，第二工程で得られた光学活性鎖状シロキサンをＢｉｒｃｈ還元条件に付すことでその光学純度を損なうことなく光学活性シラノールを合成することができる（化２０）。
【００２９】
【化２０】
2004277417.tif 000013
シラン合成についても限定されないが，室温下，ジエチルエーテルを溶媒として水素化リチウムアルミニウムを作用させる等の還元条件に付すことで合成することができる（化２１）。
【００３０】
【化２１】
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【実施例】
【００３１】
具体的な実施例について試験結果を含めてさらに詳細に説明する。
（１）アキラルシロキサンの合成
ジハロシランとして市販のｔｅｒｔ−ブチルフェニルジクロロシランを用い，アルコールとしてｏ−ジヒドロキシキシレンを用いた。ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジクロロシラン（１ａ）に対してＴＨＦ中でイミダゾールを作用させ，６０℃に加熱した後，その温度を保った状態でｏ−ジヒドロキシキシレンのＴＨＦ溶液をゆっくりと滴下することにより，１工程でアキラルなシロキサン２"ａを調製した（化２２）。
【００３２】
【化２２】
2004277417.tif 000015
この試験は以下のとおりにおこなった。アルゴン雰囲気下，ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジクロロシラン（１ａ）２．００ｍＬ（９．４９ｍｍｏｌ）とイミダゾール１．２９ｇ（１９．０ｍｍｏｌ）を２００ｍＬのＴＨＦに溶解させ，７０℃に加熱した。その溶液にｏ−ジヒドロキシキシレン１．３７ｇ（９．９６ｍｍｏｌ）を溶解させたＴＨＦ溶液３０ｍＬを３時間かけて滴下した。反応混合物を室温で放冷し，セライト濾過によって生じた有機塩を除去した。溶媒を留去した後，シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン−酢酸エチル  １００：１）で精製し，７−ｔｅｒｔ−ブチル−７−フェニル５，９−ジヒドロ−６，８−ジオキサ−７−シランベンゾヘプタン２"ａを２．０７ｇ（収率７８％）得た。物性データは以下のとおりであった。
７−ｔｅｒｔ−ブチル−７−フェニル５，９−ジヒドロ−６，８−ジオキサ−７−シランベンゾヘプタン（２"ａ）
1Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＣＯＣＤ3）δ７．６８−７．６５（ｍ，２Ｈ），７．４６−７．４０（ｍ，３Ｈ），７．３９−７．２３（ｍ，４Ｈ），５．１３（ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，２Ｈ），４．７９（ｄ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ，２Ｈ），０．８２（ｓ，９Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ３ＣＯＣＤ３）δ１４０．８２，１３５．８７，１３２．８９，１３０．９２，１３０．１４，１２９．０８，１２８．８０，６６．５７，２５．６６，１８．２０．
ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1）２９３１，２８５７，１４７０，１４３０，１０６７，１０４０，８２１，６９８．
上記アルコールとして，１，８−ジヒドロキシメチルナフタレンを用いて同様の実験を行った。物性データは以下の通りであった。
【００３３】
９−ｔｅｒｔ−ブチル−９−フェニル−７，１１−ジヒドロ−８，１０−ジオキサ−９−シラ−シクロオクタナフタレン（２'''ａ）
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）  δ７．８７−７．８３（ｍ，２Ｈ），７．７４−７．７０（ｍ，２Ｈ），７．５６−７．５３（ｍ，２Ｈ），７．４５−７．３９（ｍ，５Ｈ），５．６５（ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，２Ｈ），５．０７（ｄ,１２．９Ｈｚ，２Ｈ），０．８２（ｓ，９Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１３５．９４，１３５．８０，１３５．４５，１３２．５２，１３１．８９，１３０．９２，１３０．２６，１３０．０８，１２７．８８，１２５．２１，６８．４１，２５．４６，１７．４１
ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）  １１１２，１０５１，８３６，７８２，７３９，７０１
（２）アキラルシロキサンのエナンチオ選択的求核置換反応
アキラルシロキサンとして上記第一工程で得られた環状シロキサン２"ａを用い，不斉配位剤6として光学活性ビスオキサゾリン６ａを用い，アルキルリチウムとしてｎＢｕＬｉを用いた。原料となるベンゾヘプタンの骨格を有するシロキサン２"ａと触媒量もしくは当量の光学活性ビスオキサゾリン６ａ（１０ｍｏｌ％）のヘキサン溶液に対し，−４０℃下で過剰量のｎＢｕＬｉをゆっくり作用させると，ケイ素原子上での求核置換反応がエナンチオ選択的に進行し，対応するシロキサン３'''ａが収率８３％，光学純度５３％ｅｅで得られた（化２３）。
【００３４】
【化２３】
2004277417.tif 000016
この試験は以下のとおりにおこなった。アルゴン雰囲気下，シロキサン（２"ａ）１０４ｍｇ（０．３４７ｍｍｏｌ）と不斉配位剤（６ａ）１０．２ｍｇ（０．０３４７ｍｍｏｌ）をヘキサン１０ｍＬに溶解させ−４０℃に冷却した。反応溶液にｎＢｕＬｉ（１．４１Ｍ  ヘキサン溶液）１．２３ｍＬ（１．７４ｍｍｏｌ）をシリンジポンプを用いて１５時間かけて滴下した後，飽和塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した。反応溶液を酢酸エチルで抽出し，油層を飽和食塩水で洗浄，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後，シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン−酢酸エチル  ２０：１）で精製し［２−（ｎ−ブチル−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルシラニルオキシメチル）フェニル］メタノール３'''ａを１０４ｍｇ（収率８４％，光学純度５３％ｅｅ）を得た。物性データは以下のとおりであった。
［２−（ｎ−ブチル−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルシラニルオキシメチル）フェニル］メタノール（３'''ａ）
1Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５５−７．５１（ｍ，２Ｈ），７．４２−７．３１（ｍ，７Ｈ），４．８９（ｓ，２Ｈ），４．７４（ｄｄ，Ｊ＝６．３，３．０Ｈｚ，２Ｈ），３．１３（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），１．５０−１．４２（ｍ，４Ｈ），１，１５−０．９６（ｍ，２Ｈ），０．９４（ｓ，９Ｈ），０．８９（ｔ，７．２Ｈｚ，３Ｈ）
13Ｃ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１３９．７２，１３８．５６，１３４．８７，１３４．２０，１２９．６４，１２９．２４，１２８．７４，１２８．３２，１２８．０６，１２７．８０，６５．０３，６３．９６，２６．９８，２６．５５，２５．８８，１８．８８，１３．７４，１０．８７．
ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1）３３９２，３０６９，２９２８，２８５７，１４６２，１４２８，１１１２，１０８１，８２４，７０２．
５３％ｅｅ：［α］27D＋２．８６（ｃ２．０３，ＣＨＣｌ3）．
キラルＨＰＬＣ分析：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−Ｈ，ｈｅｘａｎｅ：iＰｒＯＨ＝２００：１，ｆｌｏｗ  ０．７ｍＬ／ｍｉｎ，ｐｒｅｓｓ．２３ｋｇ／ｃｍ-1，Ｒｔ＝３１．５８ｍｉｎ（ｍｉｎｏｒ  ｉｓｏｍｅｒ），３３．４８ｍｉｎ（ｍａｊｏｒ  ｉｓｏｍｅｒ）
上記アルキルリチウムとしてＭｅＬｉを用いて同様の試験を行った。物性データは以下のとおりであった。
［２−（ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニルシラニルオキシメチル）フェニル］メタノール（３"ａ）
1Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５６−７．５３（ｍ，２Ｈ），７．４１−７．２６（ｍ，７Ｈ），４．８０（ｓ，２Ｈ），４．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．１４（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），０．９３（ｓ，９Ｈ），０．４６（ｓ，３Ｈ）
13Ｃ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１３９．６９，１３８．３２，１３４．６７，１３４．５６，１２９．７０，１２９．２２，１２８．７９，１２８．２９，１２７．９９，１２７．７３，６４．７１，６４．０１，２６．０２，１８．３９，−６．９５．
ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1）３３９２，２９３０，２８５７，１４７２，１４２８，１２５５，１１１３，１０７７，８２６，７３６
（Ｒ）−ｅｎｒｉｃｈｅｄ（２１％ｅｅ）：［α］25D＋５．４３（ｃ１．０８，ＣＨＣｌ3）．
キラルＨＰＬＣ分析：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｈ，ｈｅｘａｎｅ：iＰｒＯＨ＝１００：１，ｆｌｏｗ  ０．６ｍＬ／ｍｉｎ，Ｐｒｅｓｓ．２０ｋｇ／ｃｍ-1，Ｒｔ＝３５．０３ｍｉｎ（Ｒ体），４５．３５ｍｉｎ（Ｓ体）
上記アキラルシロキサンとして環状シロキサン２’’’ａを，アルキルリチウムとしてノルマルブチルリチウムを用い同様の試験を行った結果，シロキサン３’’’ａを収率６２％，光学純度７６％ｅｅで得た。物性データは以下の通りであった。
[８−（ｎ−ブチル−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルシラニルオキシメチル）ナフタレン−１−イル]−メタノール（３’’’ａ）
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．８８−７．８２（ｍ，２Ｈ），７．５９−７．５２（ｍ，４Ｈ），７．４７−７．３４（ｍ，５Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ）５．２６（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ），２．８７（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），１．３４−１．２７（ｍ，４Ｈ），１．１４−１．０８（ｍ，２Ｈ），０．９３８（ｓ，９Ｈ），０．８３５（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）１３Ｃ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１３７．０５，１３６．３５，１３５．７５，１３４．８０，１３４．６０，１３０．３８，１３０．１２，１２９．９５，１２９．３６，１２９．００，１２７．５７，１２５．１６，１２５．０９，６７．１６，６６．８７，２７．１２，２６．７０，２５．９３，１９．２０２，１３．８６，１１．２７
ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）  ３３９２，２９２８，１６０１，１４７１，１４２７，１１７１，１１１０，８２５，８２４，７７１，７０２
４４％ｅｅ：[α]２６Ｄ＋１．００（ｃ，２．９０，ＣＨＣｌ３）
キラルＨＰＬＣ分析：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−Ｈ，ｈｅｘａｎｅ：ｉＰrＯＨ＝１００：１，ｆｌｏｗ  ０．６ｍＬ／ｍｉｎ，ｐｒｅｓｓ．  １７ｋｇ／ｃｍ−１，Ｒｔ＝２６．６ｍｉｎ（ｍｉｎｏｒ  ｉｓｏｍｅｒ），２９．３ｍｉｎ（ｍａｊｏｒ  ｉｓｏｍｅｒ）
（３）光学活性シラノールの合成
又，光学活性シロキサン３'''ａをＢｒｉｃｈ還元条件下に付すことで光学活性シラノール４ａへと誘導した。すなわち，−７８℃下，液体アンモニア−ＴＨＦ混合溶媒にシロキサン３'''ａを溶解させた金属リチウムを作用させることで還元的にジヒドロキシキシレン部位を除去し光学純度を損なうことなくシラノール４ａを得た（化２４）。
【００３５】
【化２４】
2004277417.tif 000017
この試験は以下のとおりにおこなった。−７８℃に冷却した二口反応管にアンモニアガスを導入し，反応管中で液化するアンモニアを１０ｍＬ溜めた。そこに，金属リチウムの小片を４０ｍｇ（５．７ｍｍｏｌ）を加え，溶液が深青色に発色するのを確認した後に，シロキサン３'''ａ（光学純度４３％ｅｅ）９５．０ｍｇ（０．２６６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（６ｍＬ）をゆっくりと加えた。３０分後，固体の塩化アンモニウムで反応を停止し室温まで昇温させた。反応系に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え，エーテルで抽出し，油層を飽和食塩水で洗浄，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後，シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン−酢酸エチル  ２０：１）で精製し，シラノール４ａを５９．２ｍｇ（収率９４％，光学純度４３％ｅｅ）得た。物性データは以下のとおりであった。
1Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．５９−７．５６（ｍ，２Ｈ），７．４０−７．３５（ｍ，３Ｈ），１．８２（ｓ，１Ｈ），１．３９−１．３０（ｍ，４Ｈ），０．９４（ｓ，９Ｈ），０．８７（ｔ，３Ｈ）
13Ｃ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１３６．００，１３４．２５，１２９．３８，１２７．６７，２６．６９，２６．２５，２５．５１，１８．５４，１３．８０，１１．４６
ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1）３４３５，２９２８，２８５７，１４６４，１４２８，１１１３，８２３，７０１
３３％ｅｅ：［α］27D−２．６６（ｃ１．３７，ＣＨＣｌ3）
キラルＨＰＬＣ分析：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｈ，ｈｅｘａｎｅ：ｉＰｒＯＨ＝１００：１，ｆｌｏｗ  ０．６ｍＬ／ｍｉｎ，ｐｒｅｓｓ．２０ｋｇ／ｃｍ-1，Ｒｔ＝１１．５８ｍｉｎ（ｍａｊｏｒ  ｉｓｏｍｅｒ），１３．０１ｍｉｎ（ｍｉｎｏｒ  ｉｓｏｍｅｒ）
（４）光学活性シランの合成
光学活性シロキサン３"ａに有機金属反応剤，もしくは金属ヒドリド反応剤を作用させることで光学活性シラン５ａへと誘導した。すなわち，室温下，Ｅｔ2Ｏに３"ａを溶解させ水素化リチウムアルミニウムを作用させることで５ａを得た（化２５）。尚，この実試験は本願発明の方法によって物性データが既知の化合物５ａを合成することにより光学活性シロキサン３"ａの立体化学を確認するためのものである。
【００３６】
【化２５】
2004277417.tif 000018
具体的な反応操作としては，アルゴン雰囲気下，シロキサン３"ａ１０６ｍｇ（０．３４７ｍｍｏｌ）をＥｔ2Ｏ６．０ｍＬに溶解させた。反応溶液に水素化リチウムアルミニウムのＴＨＦ溶液（１．０Ｍ  ＴＨＦ溶液）１．０３ｍＬ（１．０３ｍｍｏｌ）を作用させ１時間攪拌した後，固体の硫酸ナトリウム１０水和物で反応を停止させた。反応溶液に無水硫酸ナトリウムを加えさらに１時間攪拌した。固体をろ過で除き，溶媒を留去した後，シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン）で精製し（Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニルシラン５ａを３５．９ｍｇ（収率８７％，光学純度  １０％ｅｅ）得た。物性データは以下のとおりであった。
1Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ７．５５−７．５２（ｍ，２Ｈ），７．３９−７．３３（ｍ，３Ｈ），１．４０（ｑ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ），０．９５（ｓ，９Ｈ），０．３５（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，３Ｈ）
13Ｃ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１３５．４４，１３５．０３，１２９．１８，１２７．５９，２６．９９，１６．８２，−８．２１．
ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ-1）３６５０，２９２４，２８５４，２１１４，１７３２，１４６２，１３７７，１１１５．
（Ｓ）−３７（１０％  ｅｅ，Ｂａｓｅｄ  ｏｎ[α]20D  −４．１（ｃ６．１５，ｈｅｘａｎｅ））：[α]27D  ＋０．４２６（ｃ３．５１，ｈｅｘａｎｅ）
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の光学活性シロキサンであり，式（１）〜（４）中，Ｒ1及びＲ2はメチル基，エチル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基，フェニル基，イソプロピル基，オクタデシル基，メチルベンジル基から選ばれ，Ｒ1≠Ｒ2であり，Ｒ3はイソプロピル基，シクロヘキシル基から選ばれ，Ｒ4はメチル基，ｎ−ブチル基，ｔ−ブチル基，エチル基，へキシル基，エチニル基，フェニル基，トリメチルシリルエチニル基，ブチルエチニル基，ビニル基から選ばれ，Ｒ4≠Ｒ1，Ｒ2である。
【図１】
2004277417.tif 000028