(57)【要約】【課題】蛍光体の熱劣化を防ぐことができ、発光特性が優れた発光素子を得ることができる発光素子の製造方法を提供する。【解決手段】蛍光体層を形成する工程が、蛍光体と有機化合物を含む蛍光体ペーストを塗布する工程と、塗布した蛍光体ペーストに上記有機化合物が分解する温度よりも低温の条件下でオゾン処理を施し少なくとも上記有機化合物の一部を除去する工程と、を備える。【選択図】          図１
2004253206.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に蛍光体層を形成する工程を備えた発光素子の製造方法であって、
上記蛍光体層を形成する工程が、蛍光体と有機化合物を含む蛍光体ペーストを塗布する工程と、塗布した蛍光体ペーストに上記有機化合物が分解する温度よりも低温の条件下でオゾン処理を施し少なくとも上記蛍光体ペースト表面の上記有機化合物を除去する工程と、を備えることを特徴とする発光素子の製造方法。
【請求項２】
オゾン処理が、４００℃以下の条件下で行われることを特徴とする請求項１記載の発光素子の製造方法。
【請求項３】
オゾン処理が、オゾン濃度が１００ｇ／ｍ３以上の条件下で行われることを特徴とする請求項１記載の発光素子の製造方法。
【請求項４】
基板上に蛍光体層を形成する工程を備えた発光素子の製造方法であって、
上記蛍光体層を形成する工程が、蛍光体粉末に酸化処理を施す工程と、酸化処理が施された蛍光体粉末に有機化合物を混合して蛍光体ペーストを作製する工程と、この蛍光体ペーストを塗布する工程と、塗布した蛍光体ペーストを焼成して上記有機化合物を除去する工程と、を備えることを特徴とする発光素子の製造方法。
【請求項５】
酸化処理が、オゾン処理であることを特徴とする請求項４記載の発光素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板上に蛍光体層を形成する工程を備える発光素子の製造方法に関するものであり、特に、蛍光体の熱劣化を防ぐことにより、優れた発光特性を得ることができる発光素子の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
基板上に蛍光体層を形成する工程を備える発光素子として、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと略記する）がある。
ＰＤＰの蛍光体層の形成は、サンドブラスト等で形成したリブ隔壁の間隙にエチルセルロース樹脂と溶剤を主成分とするビヒクルに蛍光体を練り込んだ蛍光体ペーストをスクリーン印刷法で赤、緑、青の蛍光体をそれぞれ塗布、乾燥することにより行われる。蛍光体ペースト中のエチルセルロース樹脂は印刷法で塗布するためには必要不可欠であるが、塗布後には蛍光体発光の妨げになる上、ガス放出源になりパネル化後点灯時には放電の制御が効かなくなるので必ず除去しなければならない。従来のＰＤＰの製造方法においては、印刷後の蛍光体ペースト中に存在しているエチルセルロース樹脂を、大気中または酸素雰囲気中にてその分解温度以上の熱（約４００℃〜５００℃）を加えて燃焼させる焼成により分解除去していた（例えば、特許文献１参照）。
また、特許文献２には、蛍光体ペーストの塗布後に酸化剤ガスを含む雰囲気中で焼成することにより、有機物やカーボンが残留するのを抑える方法が開示されている。
また、特許文献３には、蛍光体層を形成した後に酸素を含む雰囲気下で蛍光体層に紫外線を照射することにより、焼成において除去できなかった残存炭素成分を除去する方法が開示されている。
また、特許文献４には、蛍光体ペーストの塗布・乾燥後に、紫外線を照射することにより、焼成工程における焼成温度を低く抑える方法が開示されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００１−２２９８２１号公報
【特許文献２】
特開２００２−９３３１４号公報
【特許文献３】
特開２００２−７５２１７号公報
【特許文献４】
特開平１１−７１５８０号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１〜３はいずれも、有機物の分解温度以上の高温条件下で焼成するものであり、焼成工程を経ることで蛍光体、特に青色蛍光体は熱劣化を起こし発光輝度が著しく低下してしまうという問題があった。
また、特許文献４のように紫外線を照射する方法は、蛍光体ペースト中の蛍光体粒子と有機樹脂成分との結合を弱めるためのものであって、有機樹脂を除去するものではない。仮に紫外線の照射出力を高めて有機樹脂を除去しようとしても紫外線の照射出力が高くなると蛍光体が劣化して発光特性が劣化するという問題があった。
【０００５】
この発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、焼成工程による蛍光体の発光特性の劣化を改善することにより、優れた発光特性を有する発光素子を製造する方法を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る発光素子の製造方法は、基板上に蛍光体層を形成する工程を備えた発光素子の製造方法であって、蛍光体層を形成する工程が、蛍光体と有機化合物を含む蛍光体ペーストを塗布する工程と、塗布した蛍光体ペーストに有機化合物が分解する温度よりも低温の条件下でオゾン処理を施し少なくとも蛍光体ペースト表面の有機化合物を除去する工程と、を備えるものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態として、基板上に蛍光体層を形成する工程を備える発光素子として、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと略記する）の製造方法について説明する。本発明は、ＰＤＰの製造方法に限定されるものではなく、ＣＲＴのカラーフィルター、有機ＥＬなど基板上に蛍光体層を形成する工程を備える発光素子の製造に適用することができる。
【０００８】
実施の形態１．
実施の形態１では、スクリーン印刷法を用いて蛍光体層を形成する場合における本発明の適用例について説明する。
実施の形態１は、対向配置された２枚の基板のうち少なくとも一方に赤、緑、青の蛍光体を塗布した基板をもつＰＤＰの製造プロセスにおいて、蛍光体ペースト塗布後に蛍光体ペーストに含まれる有機化合物の少なくとも一部の除去をオゾン処理により行うものである。
蛍光体ペースト印刷、乾燥後に必要な焼成工程の代わりにオゾン処理する。このオゾン処理により蛍光体ペースト中のエチルセルロースを除去することで蛍光体の熱劣化を解決する。
【０００９】
図１は、本発明の実施の形態１の製造方法について説明する図である。
図１において、ステップＳ１は、蛍光体ペーストを塗布する工程、ステップＳ２は、塗布した蛍光体ペーストにオゾン処理を施す工程、ステップＳ３は、前面板と背面板をフリット封着する工程、ステップＳ４は、背面板と前面板に挟まれた間隙を排気し放電ガスを封入する工程である。ステップＳ１からステップＳ４の順に処理を行う。
以下、詳細に説明する。
【００１０】
まず、蛍光体ペーストの作製方法について説明する。
蛍光体として、赤色用に（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ、緑色用にＺｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、青色用にＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ（ＢＡＭとも呼ばれる）を用いる。
３色とも他の蛍光体材料を用いたとしても本発明は適用可能であるが、とりわけ青色蛍光体については上記材料の熱劣化がはげしいので他の青色蛍光体よりも効果が顕著である。
他の蛍光体材料としては、例えば、赤色では、Ｙ２Ｏ３：Ｅｕ、ＹＶＯ４：Ｅｕ、（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ、Ｙ２Ｏ３Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ３（ＰＯ４）２：Ｍｎがある。緑色では、Ｚｎ２ＧｅＯ２：Ｍｎ、ＢａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、ＬａＰＯ４：Ｔｂ、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ａｌ、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、Ａｓ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ｃｕ、Ａｌ、ＺｎＯ：Ｚｎ、ＹＢＯ３：Ｔｂなどがある。青色では、Ｓｒ５（ＰＯ４）３Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ１４Ｏ２３：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ、ＢａＭｇ２Ａｌ１４Ｏ２４：Ｅｕ、ＺｎＳ：Ａｇ＋赤色顔料、Ｙ２ＳｉＯ３：Ｃｅなどが挙げられる。
【００１１】
蛍光体をスクリーン印刷用のペーストにするための前準備として、エチルセルロース樹脂、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテートを１０％、６７％、２３％の重量割合で混合したビヒクルを作製する。エチルセルロース樹脂はバインダ、ブチルカルビトール及びブチルカルビトールアセテートは溶媒である。
【００１２】
このビヒクルと上記赤緑青のそれぞれの蛍光体粉末とを混合してペースト化する。赤蛍光体ならばペースト中における蛍光体の割合が４０重量％、緑蛍光体は３５重量％、青蛍光体も３５重量％となるように混合し混練機で混ぜ合わす。さらに３本ロールを通して凝集をほぐし蛍光体ペーストが完成する。
【００１３】
次に、一般的なＡＣ型面放電ＰＤＰの背面板の作製手順について述べる。図２は、この発明を適用するＰＤＰの構造を示す図である。図２（ａ）のＦＰはＰＤＰの前面板、図２（ｂ）のＢＰはＰＤＰの背面板である。
【００１４】
まず、図２（ｂ）に示す背面板ＢＰの作製方法について説明する。
図２（ｂ）において、背面板の２１〜２３はアドレス電極であり感光性銀を使ってフォトプロセスによりパターニング後焼成して形成する。
【００１５】
次に、このアドレス電極２１〜２３を覆うように、背面板の全面に、蛍光体発光の反射機能を有する白色の誘電体をスクリーン印刷法などで形成し焼成する。
【００１６】
次に、誘電体上にリブ３１を形成する。誘電体上にスクリーン印刷法またはコーターなどで所定の高さにリブ用ペーストを全面塗布した上に、リブパターンに露光、現像、サンドブラストを行って、図２（ｂ）のように、ストライプ状のリブ３１の形状に仕上げる。これを焼成してリブ３１の形成が完了である。
【００１７】
次に、リブ３１で仕切られたストライプ状の谷間部分に蛍光体層を形成する。図２（ｂ）において、Ｒ、Ｇ、Ｂは、それぞれ、赤色、緑色、青色の蛍光体層である。上述した各色蛍光体ペーストをリブ３１で仕切られたストライプ状の谷間部分にスクリーン印刷法で塗布する。蛍光体ペーストを塗布後、蛍光体ペースト中の溶媒を除去するために蛍光体ペーストを乾燥させる。この乾燥は、通常１００℃〜１５０℃程度の温度で行う。
【００１８】
次に、乾燥させた蛍光体ペーストに対してオゾン処理を施す。このオゾン処理方法について説明する。
蛍光体ペーストを塗布して乾燥させた背面板にオゾン発生器で発生させたオゾン含有ガスを供給してオゾン処理を行う。
オゾンは、強い酸化力を有しており、蛍光体ペースト中の有機化合物を酸化分解し、二酸化炭素などにガス化して脱離される。このようにして、蛍光体ペースト中から有機化合物であるエチルセルロース樹脂が除去される。
【００１９】
なお、オゾン処理する際の蛍光体を形成した背面板の温度は、酸化反応による有機化合物の分解を速やかにするために室温以上とし、１００℃以上が好ましい。但し、高温になると蛍光体の熱劣化が生じる惧れがあるので、蛍光体の熱劣化が生じる温度以下、蛍光体ペースト中の有機化合物が熱分解して燃焼する温度よりも低温の温度条件下で処理を行う。具体的には、例えば４００℃以下の温度条件下で処理を行う。
【００２０】
なお、オゾン発生器としては、好ましくは３００ｇ／ｍ３程度の高濃度オゾンが得られる無声放電方式のオゾン発生器がよいが，特に限定されない。同程度のオゾン濃度が得られる水電解方式のオゾン発生器を使用してもよい。また、数ｇ／ｍ３程度のオゾン濃度が得られる紫外線方式のオゾン発生器でもよい。
【００２１】
オゾン処理においては、蛍光体ペースト中の有機成分の除去が、蛍光体ペーストの表面側から進行する。蛍光体ペースト中の有機成分をすべて除去してもよいが、必ずしもすべて除去する必要はない。蛍光体層のうち、発光に寄与するのは蛍光体層の表面のみであり、少なくとも表面の有機成分を除去すればよい。
【００２２】
オゾン含有ガス濃度は、酸化反応による有機化合物の分解を速やかにするため１００ｇ／ｍ３以上とし、好ましくは２００ｇ／ｍ３以上がよい。上限は特になく、オゾン発生器から発生するオゾンを濃縮した４００ｇ／ｍ３以上の超高濃度オゾンを用いてもよい。オゾン含有ガス濃度が高いほど処理時間を短縮することができる。
【００２３】
また、オゾン処理方法は、好ましくは上記のドライオゾン方法が良いが特に限定されない。水蒸気で湿潤させた湿潤オゾン含有ガスを蛍光体を形成した基板に供給する方法、処理液で湿潤させた湿潤オゾン含有ガスを蛍光体を形成した基板に供給する方法、蛍光体を形成した基板をオゾン水に浸漬する方法、オゾン雰囲気下に設置した蛍光体層に１８５ｎｍと２５４ｎｍ付近に強い光を持つ紫外線、好ましくは２５４ｎｍ付近の方が強い光を持つ紫外線を照射するＵＶオゾン方法などの方法を用いても同様の効果が得られる。
なお、紫外線の出力が高すぎると蛍光体の劣化が進むので、紫外線の出力は、１０Ｊ／ｃｍ２以下で行うのが望ましい。
【００２４】
湿潤オゾン含有ガスによる処理方法では、湿潤オゾン含有ガスの温度と処理基板との温度差で結露した水分がオゾンによって低分子化した有機物成分を加水分解するため、処理速度の向上が期待できる。
【００２５】
処理液で湿潤させた湿潤オゾン含有ガスによる処理方法は、処理液が有機物成分またはオゾンで低分子化された有機物成分を溶解するため、処理速度の向上が期待できる。処理液は、乾燥させた蛍光体ペースト中の有機物成分を溶解するもの、またはオゾンで低分子化した有機物成分を溶解するものであれば特に限定されないが、酢酸、アセトン、エタノール等がよい。
【００２６】
オゾン水による処理方法は、オゾン水中に生成したＯＨラジカル、ＵＶオゾンによる処理方法ではオゾンが分解して生成したＯラジカルといった酸化力の強い酸化剤での酸化分解が期待できる。オゾン水としては、少なくとも１０ｐｐｍ以上好ましくは４０ｐｐｍ以上のオゾンが溶解しているものを用いるのが望ましい。
【００２７】
オゾン雰囲気下で紫外線を照射するＵＶオゾン方法は、オゾンを紫外線により分解して強い酸化力を有するラジカルを生成させて、このラジカルにより有機物成分を分解するものである。オゾンは２５４ｎｍの紫外線により効率よく分解される。紫外線照射する場合には室温のような低温で処理しても良い。
オゾンやオゾンが分解して生成したラジカルは高温域では自己分解が促進すると言われており、高温より室温の方が強い酸化力を維持できる。しかし、有機物との酸化分解反応は高温の方が促進する。処理温度が高くなるにつれて酸化力は低下する反面、分解反応は促進されるというトレードオフの関係にある。
十分なオゾン量が供給される場合には、多少オゾンが分解しても酸化力は十分保持できるため，酸化分解反応速度が促進する高温域で処理する、十分なオゾン量が供給されない場合には、高温処理では酸化力が不十分であるので室温で処理する、など処理温度は適宜決定される。
【００２８】
ＰＤＰの背面板に塗布した蛍光体ペースト中のエチルセルロースはもともと長い鎖状の分子形状をしている。この長い分子が酸化力の強いオゾンによって酸化分解する。大部分はその場で揮発し、一部は蛍光体表面に付着して残るが、それもその後のフリット仮焼き、封着、排気等の熱工程で容易に分解して除去される。オゾン処理は焼成工程のような高温処理ではないため熱に弱い青色蛍光体でも熱劣化することがなく本来の発光輝度が発揮できる。
【００２９】
さらに特性面の改善以外に、製造工程のうち３〜４時間かかる蛍光体焼成が、オゾン処理では、オゾン処理時間のみ（例えば約１０分程度）で良いので大幅な処理時間短縮ができる。しかも高温処理が不要で、省エネルギーの観点からもメリットがある。
このように、本発明の製造方法は、生産性が向上でき、製造コストが低減できるという点においても優れている。
【００３０】
次に、オゾン処理をした背面板には前面板との封着のためのフリットガラスペーストを塗布する。フリットガラスはＰＤＰの外周部分にのみ形成する。フリットガラスは鉛ガラスを主成分にした材料で前面板と背面板を接合する機能に加えて、前面板、背面板で挟まれたＰＤＰの放電空間に充填するネオン、キセノンガスを密封して気密を維持する機能も有している。
塗布したフリットガラスペーストは封着前にペースト中の樹脂分を分解するために３８０℃の温度で仮焼成を行う。このときオゾン処理時に分解はしたが揮発しきれずに蛍光体層中に残存していた低分子量の有機分が分解して揮発する。
【００３１】
次に、図２（ａ）に示す前面板ＦＰの作製方法について説明する。
まず、ガラス基板上に透明電極Ｘ，Ｙをフォトエッチング法にて形成し、また透明電極に電力供給するバス電極１１，１２は感光性銀材料を使ってフォトプロセスでパターニングし、焼成を行う。
【００３２】
次に、上記透明電極及びバス電極を被うように前面板の発光領域全体に透明の誘電体をスクリーン印刷法で３０μｍの膜厚に形成し焼成する。さらにこの誘電体の上層に酸化マグネシウムを電子ビーム蒸着で形成して前面板ＦＰが完成する。
【００３３】
次に、上記のような方法で作製した背面板ＢＰと前面板ＦＰをフリットガラスにより封着する。この封着は、蛍光体層が形成された面と酸化マグネシウムが形成された面が内側になるように配置するとともに、背面板ＢＰのアドレス電極２１〜２３と前面板ＦＰの透明電極Ｘ，Ｙ及びバス電極１１，１２とが直交するように配置して行う。通常、このフリット封着は、背面板ＢＰ及び前面板ＦＰに外力を加えた状態で４００℃〜４５０℃の温度条件下で加熱することにより行う。
フリット封着後、背面板ＢＰと前面板ＦＰに挟まれた間隙を排気した後に放電ガスであるネオンとキセノンの混合ガスを封入する。その後、エージングを経てＰＤＰができあがる。
【００３４】
従来の方法で作製したＰＤＰにおいては、焼成工程において蛍光体が熱劣化を起こし本来の性能を十分に発揮できなかった。これに対し、本発明によれば、オゾン処理にすることで熱劣化の要因となる高温で行う焼成工程を不要とすることができ、蛍光体が本来有している性能を十分に発揮させることができる。
ＰＤＰで一般的に用いられているＢＡＭと呼ばれる青色蛍光体は熱劣化が激しいので、特に青色の輝度、色純度の発光特性改善が顕著である。
【００３５】
従来の方法で作製したＰＤＰにおいては、赤緑青３色のバランスを考えると青色の輝度が他の２色に比較して低かった。このため３色で白色表示をするには赤、緑を青色レベルにまで発光強度を落とす必要があった。しかし青色蛍光体の特性が改善されると３色とも高輝度でホワイトバランスがとれるためＰＤＰとしてはより高輝度の白色表現が可能になる。さらに青色の輝度アップにより白色の発光色度は青色方向、即ち色温度が高い方向へシフトするので、高い色温度の鮮やかな白色表現が可能になる。
【００３６】
なお、本発明は、従来の焼成工程の代替方法としてオゾン処理工程を行っているが、有機物成分や再付着した有機物成分がもし残存していた場合のため、完全に除去しＰＤＰの信頼性を上げるために、オゾン処理前後に従来より低温化した焼成工程を行ってもよい。従来より低温化した焼成温度は、蛍光体の熱劣化を低減するため４００℃以下とし、好ましくは３００℃以下がよい。但し、オゾン処理をして有機物成分を完全に除去した場合は、５００℃以上に焼成温度をあげても、従来法よりも蛍光体の熱劣化が起こらないことを確認している。
【００３７】
なお、上記説明は、印刷法により形成した蛍光体ペースト中に含まれるエチルセルロース樹脂を除去するものであるが、本発明の適応範囲はこれに限定されるものではない。
例えばアクリル系樹脂や各種分散剤を含むインク（蛍光体ペースト）をディスペンサーで塗布したものに対して、蛍光体ペースト中のバインダであるアクリル系樹脂や各種分散剤の除去にも適用することができる。
また、感光性を有する蛍光体ペーストを塗布、露光、現像により、所定のパターンの蛍光体ペーストを形成したものに対して、蛍光体ペースト中の有機化合物の除去にも適用することができる。その他、蛍光体ペースト中の有機化合物の除去を必要とするプロセス全般に適用することができる。
【００３８】
実施の形態２．
図３は、本発明の実施の形態２の製造方法について説明する図である。
図３において、ステップＳ１１は、蛍光体粉末にオゾン処理を施す工程、ステップＳ１２は、蛍光体ペーストを作製する工程、ステップＳ１３は、蛍光体ペーストを塗布して乾燥する工程、ステップＳ１４は、焼成工程、ステップＳ１５は、前面板と背面板をフリット封着する工程、ステップＳ１６は、背面板と前面板に挟まれた間隙を排気し放電ガスを封入する工程である。ステップＳ１１からステップＳ１６の順に処理を行う。
【００３９】
実施の形態１は、蛍光体ペーストを塗布した後にオゾン処理を施すものであるのに対し、実施の形態２は、蛍光体ペーストを作製する前の蛍光体粉末に酸化処理を施すものである。
実施の形態２が実施の形態１と相違する点は、蛍光体粉末に酸化処理を施した後にバインダ樹脂及び溶媒を混合させて蛍光体ペーストを作製する点、及び、塗布した蛍光体ペースト中の有機化合物の除去を焼成により行う点である。これらの点以外のＰＤＰの製造方法は、実施の形態１と同様の方法により行う。
酸化処理をする方法としては、オゾン含有ガスによる処理が好ましいが、これに限定されるものではなく、大気中または酸素雰囲気中での熱処理等の酸化方法でもよい。
【００４０】
蛍光体粉末を酸化処理を行うことにより、蛍光体粉末の表面に酸化被膜が形成される。表面に酸化被膜が形成された蛍光体は、耐熱性が向上するので、高温での焼成処理を行っても蛍光体の熱劣化を防ぐことができる。
このような実施の形態２の方法を用いても、実施の形態１と同様の効果が得られる。
【００４１】
【実施例】
以下、本発明の実施例として、本発明の方法により製造した場合と従来の方法により製造した場合の発光特性の比較を行った結果を説明する。図４は、本発明の実施例３及び４の処理フロー、図５は、実施例５の処理フロー、図６は、実施例１〜９における従来の処理フローを説明する図である。図７は、実施例１０及び１１の処理フローを説明する図である。
【００４２】
実施例１〜９は、実施の形態１の方法によるものであり、蛍光体ペーストを塗布後にオゾン処理したもの、実施例１０及び１１は、実施の形態２の方法によるものであり、蛍光体粉末にオゾン処理したものである。
【００４３】
実施例１、２、６−９は、図１に示すように、蛍光体ペーストの塗布・乾燥後に焼成を行わずにオゾン処理するものである。
実施例３及び４は、図４に示すように、蛍光体ペーストの塗布・乾燥後にオゾン処理を行い、その後焼成を行うものである。
実施例５は、図５に示すように、蛍光体ペーストの塗布・乾燥後に焼成を行い、その後オゾン処理を行うものである。
実施例１−９における従来の製造方法は、図６に示すように、蛍光体ペーストの塗布・乾燥後に焼成を行うものである。
【００４４】
実施例１．
ガラス基板に青色蛍光体ペーストを形成し、１２０℃、１０分で乾燥した。その後、形成された蛍光体層にオゾン発生器で発生させたオゾン含有ガスを供給しオゾン処理を行なった。オゾン処理条件は、オゾン濃度を２４０ｇ／ｍ３、ガス流量を３Ｌ／分、基板温度を１４０℃、処理時間１０分とした。その後、封着フリット塗布、仮焼成等の従来通りの手法でＰＤＰを作製した。作製したＰＤＰの発光特性は、維持周波数９ｋＨｚにて点灯し評価した。また、蛍光体ペーストの塗布・乾燥後に焼成を行う従来の方法（図６）により作製したＰＤＰについても同様に評価した。その結果、青色発光輝度が従来比で１４１％に改善した。また、約４時間前後かかる焼成工程時間が１０分という短い時間に短縮できた。
【００４５】
実施例２．
オゾン濃度を１５０ｇ／ｍ３、処理時間３０分で処理した以外は、実施例１と同様にＰＤＰを作製した。その結果、青色発光輝度が従来比で１１０％に改善した。
【００４６】
実施例３．
オゾン濃度を１１０ｇ／ｍ３、基板温度を１１０℃、図４に示すようにオゾン処理工程の後段に焼成温度３８０℃の焼成工程を入れた以外は、実施例１と同様にＰＤＰを作製した。作製したＰＤＰを維持周波数５０ｋＨｚで５００時間連続点灯という加速試験後、発光特性を評価した。その結果、青色発光輝度が従来比で１０８％、焼成温度を従来の焼成温度４８０℃から３８０℃に低温化できた。
【００４７】
実施例４．
オゾン処理工程の後段に焼成温度５００℃の焼成工程を入れた以外は、実施例１と同様にＰＤＰを作製した。その結果、その結果、青色発光輝度が従来比で１０３％に改善した。
【００４８】
実施例５．
オゾン濃度を１１０ｇ／ｍ３、基板温度を１１０℃、図５に示すようにオゾン処理の前段に焼成工程３８０℃を入れた以外は、実施例１と同様にＰＤＰを作製した。作製したＰＤＰを維持周波数５０ｋＨｚで５００時間連続点灯という加速試験後、発光特性を評価した。その結果、青色発光輝度が従来比で１０８％に改善した。焼成温度を従来の４８０℃から３８０℃に低温化できた。
【００４９】
実施例６．
蛍光体を形成した基板温度を８０℃にし、水蒸気で湿潤させた湿潤オゾン含有ガスを８５℃の温度で基板に供給し処理時間を５分に短縮した以外は、実施例１と同様にＰＤＰを作製した。作製したＰＤＰの発光特性は、維持周波数９ｋＨｚにて点灯し評価した。その結果、青色発光輝度が従来比で１１２％に改善した。
【００５０】
実施例７．
基板温度を８０℃、オゾン発生器で発生させたオゾン含有ガスに９９．７％の酢酸蒸気を同伴させた混合ガス温度を８５℃で基板に供給し処理時間を５分に短縮した以外は、実施例１と同様にＰＤＰを作製した。作製したＰＤＰの発光特性は、維持周波数９ｋＨｚにて点灯し評価した。その結果、青色発光輝度が従来比で１２０％に改善した。
【００５１】
実施例８．
蛍光体を形成した基板に２４０ｇ／ｍ３のオゾン濃度雰囲気下で、２５４ｎｍ付近に強い光を持ち、出力１Ｊ／ｃｍ２の紫外線を室温において照射する以外は、実施例１と同様にＰＤＰを作製した。紫外線の光源には低圧水銀ランプを用いた。作製したＰＤＰの発光特性は、維持周波数９ｋＨｚにて点灯し評価した。その結果、青色発光輝度が従来比で１１４％に改善した。
【００５２】
実施例９．
５０ｐｐｍのオゾンが溶解しているオゾン水に蛍光体を形成した基板を室温で３０分浸漬して処理した後、オーブンで１００℃／６０分乾燥させた以外は、実施例１と同様にＰＤＰを作製した。作製したＰＤＰの発光特性は、維持周波数９ｋＨｚにて点灯し評価した。その結果、青色発光輝度が従来比で１０３％に改善した。
【００５３】
実施例１０．
図７に示すように、蛍光体形成前に蛍光体粉体にオゾン発生器で発生させたオゾン含有ガスを供給しオゾン処理を行なった。その後蛍光体ペーストの作製、蛍光体ペーストの塗布・乾燥、焼成を行った。
蛍光体紛体は１４０℃に加熱し、オゾン処理条件はオゾン濃度を２４０ｇ／ｍ３、ガス流量を３Ｌ／分、処理時間１０分とした。その結果、蛍光体粉体にオゾン処理をしない場合に比べて、青色発光色座標ｙ値が０．００８改善した。
【００５４】
実施例１１．
オゾン濃度を１５０ｇ／ｍ３、処理時間３０分とした点以外は、実施例１０と同様の処理を行った。その結果、蛍光体粉体にオゾン処理をしない場合に比べて、青色発光色座標ｙ値が０．００５改善した。
【００５５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る発光素子の製造方法は、焼成工程による蛍光体の熱劣化を防ぐことができ、発光特性が優れた発光素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１の製造方法を説明する図である。
【図２】本発明を適用するＰＤＰの構造を説明する図である。
【図３】本発明の実施の形態２の製造方法を説明する図である。
【図４】実施例３及び４の処理フローを説明する図である。
【図５】実施例５の処理フローを説明する図である。
【図６】実施例１〜９における従来の処理フローを説明する図である。
【図７】実施例１０及び１１の処理フローを説明する図である。
【図１】
2004253206.tif 000003
【図２】
2004253206.tif 000004
【図３】
2004253206.tif 000005
【図４】
2004253206.tif 000006
【図５】
2004253206.tif 000007
【図６】
2004253206.tif 000008
【図７】
2004253206.tif 000009