(57)【要約】【課題】多数回転写における耐久性を確保できる磁気転写用マスタ担体を提供する。【解決手段】マスタ担体６の電鋳部材層５には、磁気記録媒体に転写するための情報に対応して形成された軟磁性体のパターン３ａが埋め込まれている。軟磁性体のパターン３ａと電鋳部材層５は互いに磁気特性の異なる材料からなる。マスタ担体６の転写面６ａは同一の平面を形成している。【選択図】      図１
2004199799.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体に情報を転写するための磁気転写用マスタ担体において、
前記情報に対応して形成された軟磁性体のパターンが、前記軟磁性体とは磁気特性の異なる電鋳材料により形成された電鋳部材層に埋め込まれていて、前記軟磁性体のパターンと前記電鋳部材層とが同一の平面を形成していることを特徴とする磁気転写用マスタ担体。
【請求項２】
磁気記録媒体に情報を転写する際に用いられる磁気転写用マスタ担体を製造するための磁気転写用マスタ担体の製造方法において、
基板上に塗布されたレジスト膜を、所望の信号で変調された光または電子ビームで全膜厚深さまで露光・現像して前記基板の表面を露出させて、プリフォーマット信号に応じたレジストパターンが形成された原盤を作製する露光・現像工程と、
前記レジストパターンが形成された原盤上に導電性軟磁性膜を形成する磁性膜被覆工程と、
前記レジストパターンの残存レジスト部及びその上に形成された前記軟磁性膜をリフトオフ法で除去して軟磁性体のパターンを形成する磁性体パターン形成工程と、
前記軟磁性体のパターン上に前記軟磁性体とは磁気特性の異なる導電性材料による導電性被膜を形成する導電性被膜被覆工程と、
前記導電性被膜を陰極として前記導電性材料と同じ材料で電鋳を行って、所望の厚みの電鋳部材層を形成する電鋳工程と、
前記軟磁性体のパターンと前記導電性被膜と前記電鋳部材層を共に前記基板から剥離する剥離工程とを、
含むことを特徴とする磁気転写用マスタ担体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体に対して記録情報を転写する際に使用する磁気転写用マスタ担体及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在の磁気ディスクには情報の高速読み書きに必要なサーボ信号、アドレス信号、クロック信号などが予め記録されている。
前記各信号の記録方法には大きく２通りあって、その一つはサーボライタ装置を用いて一枚ごと信号を書き込む方法、もう一つは磁化を転写させる事により信号を書き込む磁気転写方法である。
磁気転写方法の一つに、前述のサーボライタで書き込まれた転写ディスク（マスタ担体）の磁化を外部磁界を用いて被転写ディスク（スレイブ）に転写する方法がある。この転写方法は、マスタ担体に記録された磁化を交流バイアス磁界を印加してスレイブに転写するものであり、前述の書込み方法と異なり、マスタ担体とスレイブは相対的に移動しないため転写装置の構造が簡素であるとともに一枚の転写時間が極めて短いという利点を有している。
【０００３】
他の磁気転写方法にパターン転写方法がある。これは磁性体部と非磁性体部が物理的パターン（凹凸パターン）として形成されたマスタ担体をスレイブに接触させて外部磁界により転写させる方法である。この方法は転写磁界が基本的に直流でよく、マスタ担体の抗磁力に制限がないために軟磁性の材料を用いることができる。そのため、前述の転写方法に比べて簡単な設備で良いという利点を有している。さらに、マスタ担体のパターン作製に関しては一般的に使われている光ディスクのマスタリング技術が適用できるため、コストの低いマスタ担体が供給できる。しかし、マスタ担体の表面が凹凸を形成しているため、転写によるスレイブとの接触が繰返されると情報記録領域である凸部の角部が磨耗、変形したり、あるいはスレイブに傷がつくという問題点を有している。
【０００４】
特開2000-195046号公報（特許文献１）には基板上にフォトレジスト等を用いて情報に対応するパターンを形成し、そのパターンに応じた穴を基板にエッチングで形成後、その穴に磁性材料を基板表面と同じ高さまで成膜することにより、非磁性である基板と磁性を有する情報記録部分とが一の平面を形成しているマスタ担体が記載されている。又、宮田等による「磁気転写によるサーボ信号記録技術の開発」（非特許文献１）にも同様の方法で作製されたマスタ担体が記載されている。
【０００５】
【特許文献１】
特開2000-195046号公報
【非特許文献１】
宮田  敬三、外５名、「磁気転写によるサーボ信号記録技術の開発」、
信学技報、社団法人  電子情報通信学会、ＭＲ２００１‐９７、
２００２‐０１
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
前述した従来の技術（特許文献１、非特許文献１）による磁気転写用マスタ担体において、非磁性である基板と磁性を有する情報記録部分とを同一の平面に形成するためには磁性材料成膜時の膜厚制御に精密さが求められる。また、非特許文献１においては半導体プロセスを使うために、信号パターンの作製、露光に伴うプロセスの煩雑さは免れ得ないという問題点がある。
本発明はこのような問題点に鑑みなされたものであり、記録情報に対応した磁性体のパターンとその周縁部位とが同一の平面を形成していて、さらに磁性体のパターンが埋め込み構造であるために多数回転写における耐久性も確保できる磁気転写用マスタ担体及び、このような磁気転写用マスタ担体を容易にかつ安価に製造できる磁気転写用マスタ担体の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した従来の技術の課題を解決するため、以下の磁気転写用マスタ担体（ａ）及びその製造方法（ｂ）を提供するものである。
（ａ）磁気記録媒体に情報を転写するための磁気転写用マスタ担体において、前記情報に対応して形成された軟磁性体のパターン（３ａ）が、前記軟磁性体とは磁気特性の異なる電鋳材料により形成された電鋳部材層（５）に埋め込まれていて、前記軟磁性体のパターン（３ａ）と前記電鋳部材層（５）とが同一の平面を形成していることを特徴とする磁気転写用マスタ担体。
（ｂ）磁気記録媒体に情報を転写する際に用いられる磁気転写用マスタ担体を製造するための磁気転写用マスタ担体の製造方法において、基板（１）上に塗布されたレジスト膜（２）を、所望の信号で変調された光または電子ビームで全膜厚深さまで露光・現像して底部に前記基板（１）を露出させて、プリフォーマット信号に応じたレジストパターン（２ａ）が形成された原盤を作製する露光・現像工程と、前記レジストパターン（２ａ）が形成された原盤上に前記軟磁性体による導電性軟磁性膜（３）を形成する磁性膜被覆工程と、前記レジストパターンの残存レジスト部（２ａ１）及びその上に形成された前記軟磁性膜（３）をリフトオフ法で除去して軟磁性体のパターン（３ａ）を形成する磁性体パターン形成工程と、前記軟磁性体のパターン（３ａ）上に前記軟磁性体とは磁気特性の異なる導電性材料による導電性被膜（４）を形成する導電性被膜被覆工程と、前記導電性被膜（４）を陰極として前記導電性材料と同じ材料で電鋳を行って、所望の厚みの電鋳部材層（５）を形成する電鋳工程と、前記軟磁性体のパターン（３ａ）と前記導電性被膜（４）と前記電鋳部材層（５）を共に前記基板（１）から剥離する剥離工程とを、含むことを特徴とする磁気転写用マスタ担体の製造方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のマスタ担体及びその製造方法について、添付図面を参照して説明する。図１は、本発明のマスタ担体の製造方法の工程を示す図である。
図１において、（ａ）に示すように、レジスト膜２が塗布された例えばガラスよりなる基板１を用意する。（ｂ）に示すように、レジスト膜２を所望の信号で変調された光または電子ビームで全膜厚深さまで露光・現像する。レジスト膜２の底部である基板１の表面を露出させてプリフォーマット信号に応じたレジストパターン２ａが形成された原盤を作製する(露光・現像工程)。
次に（ｃ）に示すように、レジストパターン２ａが形成された原盤上に軟磁性膜３を形成する（磁性膜被覆工程）。
次に（ｄ）に示すように、リフトオフ法でレジストパターン２ａの残存レジスト部２ａ１及びその上に形成された軟磁性膜３を共に除去することにより基板１上に軟磁性体のパターン３ａを得る（磁性体パターン形成工程）。
【０００９】
続いて（ｅ）に示すように、軟磁性体のパターン３ａ上にパターン３ａを形成する軟磁性体とは磁気特性の異なる導電性材料による導電性被膜４を形成する（導電性被膜被覆工程）。
続いて（ｆ）に示すように、導電性被膜４を陰極として前記導電性材料と同じ材料で電鋳を行い、所望の厚みの電鋳部材層５を形成する（電鋳工程）。
最後に（ｇ）に示すように、軟磁性体のパターン３ａと導電性被膜４と電鋳部材層５を共に基板１から剥離する（剥離工程）。
以上の製造方法により、（ｇ）に示すように、軟磁性体のパターン３ａが磁気特性の異なる電鋳部材層５の中に埋め込まれていて、軟磁性体のパターン３ａと電鋳部材層５とが同一の平面６ａを形成している磁気転写用マスタ担体６を得る事ができるのである。
【００１０】
以下に本発明の具体的な一実施例を示す。
本実施例では直径略１２０ｍｍで厚みが５ｍｍのソーダライムガラス盤を基板１として用いた。基板１の表面を光学研磨し、洗浄後ターンテーブル（図示せず）上に載せて低速回転させながらフォトレジスト材料の希釈液を滴下した。前記希釈液が基板１の全面を覆ったのち、前記ターンテーブルの回転数を上げて前記希釈液を振り切ることで、所望の厚みのレジスト膜２を形成し、約９０℃で６０分ベイキングを行い、図１（ａ）に示すようなレジスト塗布盤を得た。
そのレジスト塗布盤を光ディスク用のカッティングマシン（図示せず）にセットし、所望の信号で変調されたレーザ光により全膜厚深さまで露光・現像して、図１（ｂ）に示すような、プリフォーマット信号に応じたレジストパターン２ａが形成された基板１を得た。
【００１１】
続いて、レジストパターン２ａが形成された基板１を真空槽（図示せず）の中にセットし、１×１０-4Ｐａの圧力まで排気したのちＡｒガスを導入して、コバルトをターゲットとしたスパッタリングを行った。本実施例ではコバルト（Ｃｏ）を磁性体として用いて、約１５０ｎｍの厚みの軟磁性膜３（Ｃｏ膜）をレジストパターン２ａ上（レジストが残存していない基板１の表面を含む）に形成することにより、図１（ｃ）に示す磁性膜被覆盤を得た。
次に、前記磁性膜被覆盤をアセトンを用いたリフトオフ法で、レジストパターン２ａの残存レジスト部２ａ１及びその上に形成された軟磁性膜３を共に除去することにより図１（ｄ）に示すような軟磁性体のパターン３ａを得た。これが基板１上に形成された軟磁性膜３のプリフォーマットパターン３ａである。
【００１２】
軟磁性体のパターン３ａが形成された基板１を十分に洗浄、乾燥したのち、再び真空槽に入れて１×１０-4Ｐａの圧力まで排気後Ａｒガスを導入して、銅をターゲットとしたスパッタリングを行った。本実施例では導電性材料として銅（Ｃｕ）を用いて、約１５０ｎｍの厚みの導電性被膜４（Ｃｕ膜）を形成することにより、図１（ｅ）に示す導電膜被膜被覆盤を得た。
【００１３】
続いて、図１（ｆ）に示すように、導電性被膜４を陰極として、前記導電性材料と同じ材料（Ｃｕ）を用いて電鋳部材層５が約０．２５ｍｍの厚みになるまで電鋳を行った。軟磁性体のパターン３ａと導電性被膜４を電鋳部材層５と共に基板１から剥離することにより、図１（ｇ）に示すように、Ｃｏからなる軟磁性体のパターン３ａが磁気特性の異なるＣｕからなる電鋳部材層５の中に埋め込まれた磁気転写用マスタ担体（マスタ担体）６を得る事ができた。なお、本実施例においては電鋳材料としてＣｕの例を示したが、パターンを形成する磁性体と磁気特性が異なるものであれば適用可能である。ちなみに磁性体としてCo-Fe合金など飽和磁化の大きいものを用いるならば電鋳材料として一般的に用いられるＮｉ等を適用してもかまわない。
【００１４】
また、軟磁性体のパターン３ａとその周縁部分、すなわち導電性被膜４及び電鋳部材層５はいずれも剥離されるまで基板１上にあるため、転写面６ａが同一の平面を形成していて段差が生ずることがない。つまり、情報記録部分である軟磁性体のパターン３ａが埋め込みパターンとなるため、接触転写時に生じていた凸部の角部の変形を大幅に抑制することができる。
更に本発明の製造方法ではリフトオフ工程を除いて一般的な光ディスクのスタンパ製造工程を用いることができ、パターンを埋め込んだマスタ担体を容易に作製できる。
【００１５】
以上のように得られたマスタ担体６を抗磁力（Ｈｃ）が２ｋＯｅで予め面内の一定方向に初期磁化させた磁気記録媒体に接触させ、初期磁化と反対の面内方向に２．２ｋＯｅの磁界を印加して、転写を行った。その結果、ビッター現像による観察で転写が確実に行われていることを確認した。
【００１６】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明の磁気転写用マスタ担体は、軟磁性体のパターンがパターン形成に用いた軟磁性体とは磁気特性の異なる電鋳材料により形成された電鋳部材層に埋め込まれていて、かつ前記軟磁性体のパターンとその周縁部位である前記電鋳部材層とが同一の平面を形成している磁気転写用マスタ担体であるので、多数回転写における耐久性を確保することができる。また、本発明の磁気転写用マスタ担体の製造方法は、本発明のマスタ担体を容易にかつ安価に製造できるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のマスタ担体の製造方法の工程を示す図である。
【符号の説明】
１  基板
２  レジスト膜
２ａ  レジストパタ−ン
２ａ１  残存レジスト部
３  軟磁性膜
３ａ  軟磁性体のパターン
４  導電性被膜
５  電鋳部材層
６  磁気転写用マスタ担体
６ａ  転写面
【図１】
2004199799.tif 000003