(57)【要約】【課題】  銀を主体とする金属層（Ａ）と透明金属酸化物層（Ｂ）との積層体において、従来以上に優れた金属色を有し、反射率を高めることが、本発明の課題である。【解決手段】  透明金属酸化物層中の銀を主体とする金属の含有率を特定の範囲に制御する。換言すると、銀を主体とする金属と透明金属酸化物とが混在する部分の厚さを特定の範囲に制御する。上記の様な構成は、例えば、銀を主体とする金属層上に透明金属酸化物層を、酸素を含まない雰囲気下で成膜することによって得られる。【選択図】  図１
2004272245.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀を主体とする金属層（Ａ）、透明金属酸化物層（Ｂ）、銀を主体とする金属と透明金属酸化物とが混在する層（Ｃ）を含み、
Ａ／Ｃ／Ｂの順の積層構造を有し、
混在層（Ｃ）が、銀を主体とする金属の元素含有率をα（atom％）、透明金属酸化物層由来の金属の元素含有率をβ（atom％）としたときに、
【数１】
2004272245.tif 000009
の関係を満たし、且つ、
厚さが１５ｎｍ以下
であることを特徴とする反射体。
【請求項２】
支持基体（Ｄ）、銀を主体とする金属層（Ａ）、透明金属酸化物層（Ｂ）、銀を主体とする金属と透明金属酸化物とが混在する層（Ｃ）を含み、
Ｄ／Ａ／Ｃ／Ｂの順の積層構造を有し、
混在層（Ｃ）が、銀を主体とする金属の元素含有率をα（atom％）、透明金属酸化物層由来の金属の元素含有率をβ（atom％）としたときに、
【数２】
2004272245.tif 000010
の関係を満たし、且つ、
厚さが１５ｎｍ以下
であることを特徴とする反射体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、銀を主体とする反射体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、反射体は、産業界において広く用いられている。例えば、液晶表示装置のバックライトユニットにおいて、ランプリフレクターとして、また照明器具の反射傘、さらには光学系内における反射鏡などに用いられている。アルミニウム、銀又は白色塗料を反射材とした反射体が広く用いられている。いずれの用途においても、より高い光線反射率を有する反射体が求められている。
【０００３】
より高い光線反射率を有する反射体を提供する為の手段のひとつとして、反射体表面に増反射層を設ける手法が古くから知られており、特開平１１−２７０７号公報（特許文献１）、特開２０００−１８０８４８号公報（特許文献２）等の報告がある。
【０００４】
増反射層は、低屈折率薄膜層と高屈折率薄膜層との繰り返し構成からなる。低屈折率薄膜層／高屈折率薄膜層なる構成を１組の繰り返し層として、反射層側に各組の低屈折率薄膜層が位置するように構成する。各層の厚みはλ／４ｎが最適とされている。ここでλは対象とする光の波長、ｎは各層の波長λの光線の屈折率である。増反射層が多くの繰り返し層からなればなるほど光線反射率は高くなる。例えば、ガラス上に低屈折率薄膜層として酸化シリコン層、高屈折率薄膜層としてフッ化マグネシウム層を以下のような構成で設けると表面における光線反射率が高くなる。構成例は、ガラス／酸化シリコン層／フッ化マグネシウム層／酸化シリコン層／フッ化マグネシウム層である。
【０００５】
しかし、繰り返し層の数が多ければ多いほど製造工程は複雑になる問題点がある。一方、基板となる反射体の反射率が高ければ高いほど、増反射層の繰り返し層数を少なくしつつ、高い反射率の反射体を得ることができると考えられる。最も反射率が高い反射体は、銀からなるものであることが知られている。
【０００６】
しかし、銀を基板とし、増反射層を有する反射体は、反射率の向上が充分とは言えず、より高い反射率を示す反射体の出現が望まれていた。
【特許文献１】特開平１１−２７０７号公報
【特許文献２】特開２０００−１８０８４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らの検討の結果、銀を主体とする金属層に金属酸化物からなる低屈折率層を形成したときに、銀を主体とする金属層がその金属光沢を失い、反射率が低下すると言う現象が見出された。従って、本発明の課題は上記の問題を解決し、銀を主体とする金属層上に低屈折率層を形成しても良好な金属光沢を示し、高い反射率を有する反射体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記の反射率が低下した反射体では、低屈折率層中の銀濃度が高いことを突き止めた。更に本発明者らは、低屈折率層中の銀濃度を制御し、すなわち、銀と金属酸化物とが混在する層の厚みを極めて薄くし、銀に特有の光沢及び高い反射率を有する銀を主体とする金属層と金属酸化物からなる低屈折率層の積層体が実現できることを見出し、本発明に至った。すなわち本発明は、
（１）  銀を主体とする金属層（Ａ）、透明金属酸化物層（Ｂ）、銀を主体とする金属と透明金属酸化物とが混在する層（Ｃ）を含み、
Ａ／Ｃ／Ｂの順の積層構造を有し、
混在層（Ｃ）が、銀を主体とする金属の元素含有率をα（atom％）、透明金属酸化物層由来の金属の元素含有率をβ（atom％）としたときに、
【数３】
2004272245.tif 000003
【０００９】
の関係を満たし、且つ、
厚さが１５ｎｍ以下
であることを特徴とする反射体であり、
（２）  支持基体（Ｄ）、銀を主体とする金属層（Ａ）、透明金属酸化物層（Ｂ）、銀を主体とする金属と透明金属酸化物とが混在する層（Ｃ）を含み、
Ｄ／Ａ／Ｃ／Ｂの順の積層構造を有し、
混在層（Ｃ）が、銀を主体とする金属の元素含有率をα（atom％）、透明金属酸化物層由来の金属の元素含有率をβ（atom％）としたときに、
【数４】
2004272245.tif 000004
【００１０】
の関係を満たし、且つ、
厚さが１５ｎｍ以下
であることを特徴とする反射体
である。
【発明の効果】
【００１１】
銀を主体とする金属層（Ａ）上に透明金属酸化物層（Ｂ）を形成する際に、酸素を含まない雰囲気下で成膜するという手法を採用することにより、金属層（Ａ）を形成する金属と、透明金属酸化物層（Ｂ）を形成する化合物とが混在する領域の厚みが非常に薄く、銀特有の反射色を有し、かつ高い反射率を有する反射体を形成することできる。このため、本発明の工業的意義は大きい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（反射体の構成）
本発明における反射体は、好ましくは銀を主体とする金属層（Ａ）、透明金属酸化物層（Ｂ）、銀を主体とする金属と透明金属酸化物とが混在する層（Ｃ）を含み、Ａ／Ｃ／Ｂの順の積層構造である。また支持基体（Ｄ）上に、Ｄ／Ａ／Ｃ／Ｂなる構成で積層した構成であってもよい。上記の混在層（Ｃ）は、例えば金属層（Ａ）上に透明金属酸化物層（Ｂ）を後述する真空成膜法などで形成する際に、同時に形成される層である。これらの構成の例を図１、図２に示した。すなわち、図１は、支持基体３０上に銀を主体とする金属層１０をスパッタリング法で形成し、さらにその上に酸素の不存在下にスパッタリング法で透明金属酸化物層２０を形成させて得られる反射体の断面図である。この透明金属酸化物層２０を形成させる際に、薄い混在層１５が形成されている。  本発明の反射体の一例を図２に示した。すなわち、図２に示した反射体は、例えば支持基体３０上に銀を主体とする金属層１０をスパッタリング法で形成し、次いで酸素の不存在下で低屈折率透明金属酸化物層２１をスパッタリング法で形成し、高屈折率薄膜層４０をスパッタリング法で形成したものである。この低屈折率透明金属酸化物層２１を形成させる際に、薄い混在層１５が形成されている。図２の構成は、いわゆる増反射膜の構成であり、従来の反射体に比してより高い反射率を発現するものである。
【００１３】
（銀を主体とする金属層（Ａ））
本発明における銀を主体とする金属層（Ａ）は、純銀、又は銀と銀以外の金属との合金（以下、銀合金と記載する）からなる。銀は、周知の通り、酸素、硫黄、塩素、ナトリウムなどにより変性されやすく、耐環境性が低い。銀合金を用いる主たる理由は、銀の耐環境性を上昇させることである。銀以外の成分は、金、パラジウム、銅、白金、インジウム、スズ、ネオジウムが一般的である。但し、本発明の効果は、これらの元素に限定されるものではない。
【００１４】
この場合、銀の含有割合は、通常７０〜９９．９９質量％である。銀の含有割合が多すぎると反射率が低くなり過ぎることがある。銀の含有割合は、より好ましくは９０〜９９．９９質量％、さらに好ましくは９５〜９９．９９質量％である。
【００１５】
銀を主体とする金属層（Ａ）の厚みは、金属シート、金属箔など層の形状を有する物であれば特に制限はないが、通常５０〜１００００ナノメートル（ｎｍ）である。金属層（Ａ）が薄い場合は、それ自身が自立しないので、支持基体（Ｄ）上に固定されていることが望ましい。支持基体に固定することが望ましい厚みは、５０〜１０００ｎｍであり、より好ましくは、１００〜５００ｎｍ、特に好ましくは１００〜２００ｎｍである。銀を主体とする金属層（Ａ）が自立する必要がある用途においては、この限りではなく、１０００ｎｍ以上であってもよい。なお、銀を主体とする金属層（Ａ）が薄すぎると反射体の反射率は、銀固有の反射率と比較して低くなることがある。また、厚すぎると一般的に原材料コスト、生産コストが高くなる一方、反射率に大きな違いはない。
【００１６】
本発明において、銀を主体とする金属層（Ａ）を形成する手法に特に制限はない。好ましい方法としては、真空成膜法を例示することが出来る。真空成膜法を具体的に例示すると、蒸着法、イオンビーム蒸着法、スパッタ法挙げられる。蒸着法では、材料として所望の金属を使用し、その材料を加熱蒸発させ、蒸着を行う。イオンビーム蒸着法では、所望の金属材料を、イオンビームを使用して加熱蒸発させることによって蒸着を行う。またスパッタリング法では、ターゲットに所望の金属を使用し、スパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の不活性ガスを用い、反応に必要なガスを加えて、スパッタリングを行う。
【００１７】
尚、本発明のおいて金属層（Ａ）とは、銀を主体とする金属の元素含有率をα（atom％）、透明金属酸化物層由来の金属の元素含有率をβ（atom％）とした時に、任意の位置において、
【数５】
2004272245.tif 000005
【００１８】
を満たす層のことを言う。上記の元素含有率は、ＸＰＳなどの公知の分析方法で決定することが出来る。尚、本発明において上記の任意の位置とは、点では無く、範囲のことである。上記の範囲とは、ＸＰＳ等の公知の方法で組成を測定する際に、分析を行う範囲を好ましい例とすることが出来る。より具体的には、２０ｎｍφ〜１００ｎｍφの広さを有することが好ましい。
【００１９】
（支持基体（Ｄ））
本発明における支持基体（Ｄ）の材質、厚みに特に制限はない。一般的に用いられる材質は、ガラス、樹脂、金属である。本発明に用いることができるガラスを具体的に例示するとソーダガラス、アルカリガラス、石英ガラスである。またこれらのガラスは強化されたものであっても構わない。また表面にコート層が存在していても構わない。
【００２０】
また本発明の支持基体（Ｄ）に用いることができる樹脂を具体的に例示すると、使用温度以上のガラス転移温度や融点を有する樹脂であれば特に制限はないが、好ましくはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）である。
【００２１】
支持基体（Ｄ）の厚みは、一般的には、１０μｍ〜１０ｃｍである。薄すぎると、剛性が低く、取り扱いが難しくなることがある。  また厚すぎると、反射体の重量増加、加工性の低下や、支持基体（Ｄ）の製造が困難になる等の問題が生じることがある。より好ましい支持基体の厚みは２５μｍ〜１ｃｍ、さらに好ましくは５０μｍ〜１ｍｍである。但し、使用目的によって、１０ｃｍ以上の厚みが必要な場合はこの限りではない。
【００２２】
上記の支持基体（Ｄ）には、本発明における目的から逸脱しない限り、イオンコート処理やコロナ処理を施したり、銀以外の金属や金属酸化物、金属化合物の薄膜層を形成させることもできる。その効果としては、支持基体（Ｄ）と銀を主体とする層（Ａ）との密着性を高める等が挙げられる。また、拡散反射率を調節する目的で、支持基体（Ｄ）自身や支持基体（Ｄ）上に凹凸構造を設けることもできる。
【００２３】
（透明金属酸化物層（Ｂ））
本発明における透明金属酸化物層（Ｂ）の材質、厚みに特に制限はない。一般的に用いられる材料を具体的に例示すると、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸化すず、インジウムとスズとの酸化物、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化ランタン、酸化ネオジウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化チタンである。より好ましくは、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムとスズとの酸化物、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタンであり、特に好ましくは酸化ケイ素である。
【００２４】
本発明における反射体を増反射体に適用する場合は、該透明金属酸化物（Ｂ）として、屈折率が低い材料を選定し、低屈折率透明金属酸化物層（Ｂ１）を形成すればよい。ここで屈折率が低いとは、好ましくは屈折率が１．０〜１．８であることを意味する。  上記の目的に好適に用いることができる材料を具体的に例示すると、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムである。特に好ましくは酸化ケイ素である。
【００２５】
本発明における透明金属酸化物層（Ｂ）の厚みは、１０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、本発明における反射体の用途に応じて適当に決定される。増反射体に適用する場合は、透明金属酸化物層の屈折率を考慮した上で、厚さを決定すればよい。
【００２６】
透明金属酸化物層（Ｂ）は、真空成膜法を用いて形成することが好ましい。真空成膜法の具体例としては銀を主体とする金属層（Ａ）の説明で記載した方法が同様に挙げられる。
【００２７】
本発明においては透明金属酸化物層（Ｂ）の形成方法は、酸素含有割合ができるだけ少ない雰囲気下において、真空成膜する方法が好ましい。
【００２８】
透明金属酸化物層（Ｂ）を真空成膜する際には酸素雰囲気下で成膜するのが通例である。例えば、薄膜の基本技術［東京大学出版社刊］Ｐ７６には、“酸化物のスパッタリングでは、放電ガスのＡｒの中にＯ2を適当に混合してＯ2を補い、ターゲット成分と同じ組成の薄膜を作るようにするのが普通である。”と記載されている。しかし、銀を主体とする金属層（Ａ）上への透明金属酸化物層（Ｂ）を真空成膜する作業を、これまでの通例にしたがって、酸素雰囲気下で実施すると、結果として得られる反射体は、銀特有の反射色を失い、反射率も著しく低いものとなる。
【００２９】
本発明者らは、この現象を注意深く考察し、さらに該反射体の断面構成を分析した結果、本来銀を主体とする金属層（Ａ）及び透明金属酸化物層（Ｂ）との界面に留まるべき銀元素が、透明金属酸化物層（Ｂ）内に深く拡散している事実を見出した。また、この事実を元に鋭意検討を重ねた結果、１つの手法として透明金属酸化物層を、酸素を含まない雰囲気下で真空成膜することによって、本発明の課題を解決することができるとの結論に至った。なお、本発明において酸素を含まない雰囲気とは、成膜に用いるガス中の酸素成分の含有率が好ましくは０．９％以下を満たす雰囲気である。
【００３０】
尚、本発明のおいて透明金属酸化物層（Ｂ）とは、任意の位置において、
【数６】
2004272245.tif 000006
【００３１】
を満たす層のことを言う。上記の元素含有率は、ＸＰＳなどの公知の分析方法で決定することが出来る。
【００３２】
（混在層（Ｃ））
本発明の混在層（Ｃ）とは、銀を主体とする金属と透明金属酸化物由来の金属が混在する層であり、任意の位置で
【数７】
2004272245.tif 000007
【００３３】
を満たす層である。
【００３４】
本発明の反射体の混在層（Ｃ）の厚さは１５ｎｍ以下である。好ましくは０．１〜１５ｎｍであり、より好ましくは０．１〜１０ｎｍである。混在層（Ｃ）の厚さが１５ｎｍを超えると、当該積層体は金属光沢を失い、反射率が低下することがある。
【００３５】
本発明においては、例えば酸素を含まない雰囲気下で透明金属酸化物層（Ｂ）を真空成膜すると、該混在層（Ｃ）の厚さを上記の範囲のように極めて薄くする事が出来る。
【００３６】
透明金属酸化物層を形成する際に用いる成膜ガスに酸素を添加すると透明金属酸化物層（Ｂ）を形成出来ない、すなわち、形成した層の任意の位置で銀を主体とする金属原子の含有割合が１０ａｔｏｍ％以上となる場合がある。例えば後述する比較例１がこの例であり、その組成は図４のようにほぼ全域に渡って銀が存在する積層体とは呼べない構成である。
【００３７】
（反射体）
本発明の反射体は、更に他の層を形成させても構わない。例えば、本発明における銀を主体とする金属層（Ａ）と低屈折率透明金属酸化物層（Ｂ１）混在層（Ｃ）とからなる反射体は、増反射体の基板として用いることができ、上記の基板の低屈折率金属酸化物層（Ｂ１）上に、さらに高屈折率薄膜層（Ｅ）を組み合わせ、構成が銀を主体とする金属層（Ａ）／低屈折率透明金属酸化物層（Ｂ１）／高屈折率薄膜層（Ｅ）なるようにすればよい。透明支持基体（Ｄ）を用いる場合の構成は、透明支持基体（Ｄ）／銀を主体とする金属層（Ａ）／低屈折率透明金属酸化物層（Ｂ１）／高屈折率薄膜層（Ｅ）である。
【００３８】
本発明における高屈折率薄膜層（Ｅ）の屈折率ｎHの屈折率は、１．６以上、４．０以下である。屈折率ｎHが、できるだけ大きい程、本発明における効果は高い。好ましくは、１．８以上、３．５以下であり、さらに好ましくは２．０以上、３．０以下である。また、好ましくは、低屈折率金属酸化物層の屈折率ｎLと屈折率ｎHとの差が、０．３以上、更には、０．６〜１．６であることが好ましい。
【００３９】
本発明における高屈折率薄膜層（Ｅ）の材質を例示すると、酸化インジウム、インジウムとスズとの酸化物、酸化ネオジウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セレン、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ビスマス、セレン化亜鉛、硫化カドミウム、硫化アンチモン、などである。中でも酸化チタン、酸化インジウムは、材料が安価である上に、成膜が容易であるため、好適に用いられる。
【００４０】
上記の高屈折率薄膜層（Ｅ）を形成する金属酸化物は、それ自体を蒸着する方法の他に、対応する金属を蒸着させた後、空気中の酸素によって酸化させ、金属酸化物層とすることも可能である。特に酸化チタン層の形成には、この方法が好適に使用される。
【００４１】
本発明における高屈折率薄膜層（Ｅ）の厚みは、屈折率を考慮して、最適な厚さを選択すればよい。最適な厚さは、λ／４ｎHの近傍である。すなわち、０．７λ／４ｎH以上、１．３λ／４ｎH以下である。好ましくは、０．８λ／４ｎH以上、１．２λ／４ｎH以下、より好ましくは０．９λ／４ｎH以上、１．１λ／４ｎH以下である。ここでλは、用途に応じて設定される可視光線における設定波長である。例えば、５５０ｎｍの光は、人間の目が最も敏感に反応する光線であり、ディスプレイ用途に本反射体を用いる場合は、好ましく用いられる設定波長である。
【００４２】
高屈折率薄膜層（Ｅ）の形成方法に特に制限はないが、真空成膜法が広く用いられている。真空成膜法の具体例としては銀を主体とする金属層（Ａ）の説明で記載した方法が同様に挙げられる。
【００４３】
本発明の反射体においては本来の目的を損なわない範囲で他の層を形成しても良い。具体的な例としては、銀を主体とする金属層（Ａ）と支持基体（Ｄ）との密着性を高めるたり、銀の凝集を防ぐ効果のある下地層であり、銀以外の金属や透明金属酸化物の薄膜層が具体例として挙げられる。また最表層には傷付きや汚染等を防ぐ目的で公知のハードコート層や防汚層を形成することを例示できる。勿論、隣接するこれらの層の間には、混在層が存在していても良い。
【００４４】
（分析方法）
本発明における積層体の分析手法は以下の通りである。
【００４５】
積層体表面の原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、蛍光Ｘ線法（ＸＲＦ）、Ｘ線マイクロアナライシス法（ＸＭＡ）、荷電粒子励起Ｘ線分析法（ＲＢＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、真空紫外光電子分光法（ＵＰＳ）、赤外吸収分光法（ＩＲ）、ラマン分光法、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）、低エネルギーイオン散乱分光法（ＩＳＳ）等により測定できる。また、積層体中の原子組成及び膜厚は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）やオージェ電子分光法（ＡＥＳ）や２次イオン質量分析（ＳＩＭＳ）を深さ方向に実施することによって調べることができる。積層体の構成及び各層の状態は及び断面の光学顕微鏡測定、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）測定、透過型電子顕微鏡測定（ＴＥＭ）を用いて調べることができる。
【００４６】
本発明の技術は、効果の大きさに違いはあるが、銀系の反射体だけでなく、他の金属層を用いた反射体にも適用することが出来る場合がある。具体的に例示出来る金属層としては、鉄、アルミニウム、銅、チタン、コバルト、ニッケルが挙げられる。
【００４７】
また、本発明の反射体には、本発明における目的から逸脱しない限り、他の金属や金属酸化物、金属化合物の薄膜層、公知のハードコート層を形成させることもできる。その効果としては、反射体の耐候性を高めたり、防汚性、耐傷付き性を高めること等が挙げられる。また、拡散反射率を調節する目的で、凹凸構造を設けることもできる。
【００４８】
本発明の反射体は反射率が高く、美しい映像を得ることが出来るので、ノート型コンピューターなどに用いられるサイドライト型面光源装置に好適に用いられる。具体的には、ランプリフレクターや導光板下反射体として用いることが出来る。導光板下反射体として用いる場合には、凹凸構造を設けて、拡散反射率を調節することが好ましい場合がある。その他には、ＬＥＤバックライト、プロジェクションテレビ、フロントライトの他、ＰＤＡまたは携帯電話等の直下型表示装置のランプリフレクターにも適用できる。また、反射率が高いことから、太陽電池の集光体材料として利用することもできる。特に本反射体の反射層が導電性を有する構成の場合、これを利用して微少球状シリコン単結晶太陽電池等の電極としての機能を併せて持たせることも可能である。他には、軽量、耐衝撃性を求められるストロボ、信号表示、自動車のライト、蛍光灯、懐中電灯や高品位を求められるシャンデリア照明用リフレクターの他、カーブミラーまたはバックミラーとして用いることもできる。
【実施例】
【００４９】
（実施例１）
[反射体の作製]
支持基体（Ｄ）として、ガラス板［旭硝子社製、ソーダライムガラス、大きさ５０×５０ｍｍ□、厚さ１．１ｍｍｔ］を用意した。
直流マグネトロンスパッタリング法を用いて、支持基体（Ｄ）上に、銀を主体とする金属層（Ａ）として銀層を形成した。ターゲットとして、銀［銀純度９９．９９９％］を用いた。スパッタリングガスとしてアルゴンガス［純度９９．９％］を用いた。成膜圧力は０．３Ｐａ、成膜電力は６２Ｗとした。膜厚が１５０ｎｍとなるように成膜した。
引き続き、高周波スパッタリング法を用いて、上記で形成した銀層上に透明金属酸化物層（Ｂ）として二酸化ケイ素層を形成した。
ターゲットとして、二酸化ケイ素［純度９９．９９％］を用いた。スパッタガスとしてアルゴンガス［純度９９．９％以上］を用いた。成膜圧力は０．２Ｐａ、成膜電力は１５０Ｗとした。
【００５０】
［反射率、反射色の測定］
分光光度計を用いて、上記で作成した反射体試料の反射率及び反射色を測定した。
【００５１】
［反射体の組成分析］
上記で作製した反射体の組成をＸＰＳ法による深さ方向分析により調べた。
【００５２】
（比較例１）
下記の事項を除いて、実施例１と同様にして反射体の作成と評価を実施した。透明金属酸化物層（Ｂ）としての酸化ケイ素層を積層する際に、用いるスパッタガスとして、アルゴン＋酸素混合ガス［アルゴン：酸素＝分圧比９９：１］を用いた。
【００５３】
（参考例１）
下記の事項を除いて、実施例１と同様にして反射体の作成と評価を実施した。
透明金属酸化物層（Ｂ）を形成しなかった。
以上の結果を表１及び図３、４に示した。
【００５４】
【表１】
2004272245.tif 000008
【００５５】
表１から分かるように、透明金属酸化物層（Ｂ）を酸素が存在しない雰囲気下で形成した実施例１においては、反射体は銀特有の反射色を有し、反射率は９０％以上の値を示すことがわかる。銀を主体とする金属層（Ａ）のみの場合の特性が参考例１に示されている。実施例１と参考例１を比較すると、本発明における反射体は、銀と同様の反射率と金属光沢を示すことが分かる。さらに図３の組成分布図から分かるように透明金属酸化物層（Ｂ）表面と銀を主体とする金属層（Ａ）との間の混在層（Ｃ）が薄い（１５ｎｍ以下）ことがわかる。
【００５６】
それに対して、比較例においては、表１から分かるように、反射体の反射色は黄色く、また反射率も４４．１％と極めて低い。さらに図４に示した通り、透明金属酸化物層（Ｂ）の表面から銀が存在していることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】反射体の一例を示す断面図である。
【図２】反射体の一例を示す断面図である。
【図３】実施例１における反射体の深さ方向の組成分析図である。
【図４】比較例１における反射体の深さ方向の組成分析図である。
【符号の説明】
【００５８】
１０    銀を主体とする金属層
１５    混在層
２０    透明金属酸化物層
２１    透明金属酸化物層（低屈折率薄膜層）
３０    支持基体
４０    高屈折率薄膜層
【図１】
2004272245.tif 000011
【図２】
2004272245.tif 000012
【図３】
2004272245.tif 000013
【図４】
2004272245.tif 000014