(57)【要約】【課題】ＤＦＢレーザは温度制御機構が必要で高価であり、また波長を容易に変えることができず生産及び在庫管理上のコスト増加を招いていた。【解決手段】励起光源１からの光はＷＤＭ光ファイバカプラ２によって利得媒質であるエルビウムドープ光ファイバ３に与えられる。励起されたエルビウムドープ光ファイバ３は帯域幅３０ｎｍ程度の範囲において光増幅の利得を発生させる。エルビウムドープ光ファイバ３、着脱自在の誘電体薄膜フィルタ４、出力カプラである光ファイバカプラ５、光ファイバ６、及びＷＤＭ光ファイバカプラ２は閉じたループを形成するために、誘電体薄膜フィルタ４が透過する波長のみの光信号がレーザ発振される。薄膜フィルタ４は波長の温度依存性が低く温度制御機構や波長モニター機構を省略できる。誘電体薄膜フィルタ４を交換するだけで別の波長のレーザとすることができるので生産及び在庫コストを低減できる。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光増幅要素、誘電体薄膜フィルタ、出力結合要素とをリング状に接続したことを特徴とする光源。
【請求項２】
請求項１の光源において、前記誘電体薄膜フィルタが着脱自在に設けられていることを特徴とする光源。
【請求項３】
請求項１の光源において、前記誘電体薄膜フィルタが波長可変型の誘電体薄膜フィルタであることを特徴とする光源。
【請求項４】
請求項１の光源において、リング内にさらに光アイソレータを設けたことを特徴とする光源。
【請求項５】
少なくとも一つの励起光源と、複数の利得媒質と、複数の励起光結合手段とからなり、
前記励起光源からの励起光を第一の励起光結合手段を用いて第一の利得媒質に導いた後、第一の利得媒質で未利用の励起光を第二の励起光結合手段を用いて第二の利得媒質に導くことによって上記第一と第二の利得媒質を独立した光増幅要素として形成することを特徴とする光増幅器。
【請求項６】
請求項５の光増幅器において、複数の励起光源を備え、これら複数の励起光源を光信号合波分波手段を経て複数の励起光源に分けてから前記利得媒質群へ励起光を供給することを特徴とした光増幅器。
【請求項７】
請求項５の光増幅器と、少なくともひとつの波長選択要素、少なくともひとつの出力光結合手段とを備え、少なくともひとつのファイバーリングレーザーを形成したことを特徴とする光源。
【請求項８】
請求７の光源において、波長選択手段が誘電体薄膜フィルタであることを特徴とする光源。
【請求項９】
請求７の光源において、波長選択手段がファイバーブラッググレーティングであることを特徴とする光源。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は波長多重化装置（ＷＤＭ）の技術分野に属し、特に、波長多重化装置の光源として用いられる複数の波長の光を発生する光源に関する。また、本発明は光信号を増幅する光増幅器に関する。本発明は高密度波長多重化装置（ＤＷＤＭ）や光ファイバー通信に適用して最適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、波長多重化（ＷＤＭ）装置には分布帰還型（ＤＦＢ）半導体レーザが用いられていた。このＤＦＢレーザの波長は、半導体レーザの活性層中に設けられた回折格子により決められていた。また、ＤＦＢレーザは０．１ｎｍ／℃という比較的大きな波長温度依存性を有していたために、波長間隔０．８ｎｍ程度の高密度波長多重化（ＤＷＤＭ）装置に用いる場合は電子冷凍機（ＴＥＣ）と集積化して±１℃程度の温度管理を行う必要があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、ＴＥＣ付ＤＦＢレーザはデバイスそのものが高価となり、さらに温度制御回路や波長モニター装置をＷＤＭ装置に設けなくてはならず装置の製造コストを押し上げていた。また、波長数に応じてＤＦＢレーザの品種を用意しなくては成らず生産上のコストや在庫管理上のコストも高価となっていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の一側面に従う光源においては誘電体薄膜フィルタを波長選択要素として用いたファイバーリングレーザを採用した。誘電体薄膜フィルタは波長の温度依存性が低く、温度制御の必要が無い。また、誘電体薄膜フィルタを着脱自在に設けたのでファイバーリングレーザの波長を変更することができる。誘電体薄膜フィルタ以外のファイバーリングレーザモジュールは波長に依らずに共通なので生産上も在庫管理上もコストを削減することができる。
【０００５】
また、上記課題を解決するために、本発明の光増幅器においては複数の利得媒質を設け、その内のひとつの利得媒質を励起した際に生じる未利用の励起光を用いて他の利得媒質を励起するようにしたので、励起光源の数を減少せしめてコスト削減を行うことができる。
【０００６】
本発明の上述の側面および本発明の他の側面は特許請求の範囲に記載され、以下実施例を用いて詳細に説明される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
【０００８】
［第一実施例］
図１に本発明の第一実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源を示す。波長１４８０ｎｍのファブリーペローレーザーからなる励起光源１からの光はＷＤＭ光ファイバカプラ２によって利得媒質であるエルビウムドープ光ファイバ３に与えられる。励起されたエルビウムドープ光ファイバ３は１５５０ｎｍを中心とする帯域幅３０ｎｍ程度の範囲において光増幅の利得を発生させる。エルビウムドープ光ファイバ３、誘電体薄膜フィルタ４、出力カプラである光ファイバカプラ５、光ファイバ６、及びＷＤＭ光ファイバカプラ２は閉じたループを形成するために、誘電体薄膜フィルタ４が透過する波長のみの光信号をレーザ発振する。発振したレーザ光は出力カプラである光ファイバカプラによって一部が出力端子７へと導かれる。出力端子７からの光が光変調器によって変調されて光ファイバ通信の光信号が形成される。また、励起光源１からの波長１４８０ｎｍの励起光は誘電体薄膜フィルタ４によって遮断されるため、励起光が上記閉ループ内を循環することは無い。
【０００９】
誘電体薄膜フィルタ４は光コネクタ８ないし９によって着脱自在に設けられている。このため、レーザ発振波長は誘電体薄膜フィルタ４を交換することによって任意の波長を選択することができる。これは従来のＷＤＭ装置に用いられていたＤＦＢ（分布帰還型）半導体レーザでは製造時に波長が決められてしまい、簡単に波長を変えることができなかったことと比べ大きな利点である。また、従来用いられていたＤＦＢ（分布帰還型）半導体レーザは、０．１ｎｍ／℃程度の大きな波長温度依存性を有しており、このためペルチェ素子などによって温度を±１℃程度に制御する必要があった。しかし、誘電体薄膜フィルタは波長の温度依存性が極めて小さく、ペルチェ素子などによる温度制御を必要としないと言う利点も併せて有するものである。
【００１０】
また、本実施例の光通信用光源はファイバーリングレーザの構造をしている上にリング内の損失要素が小さいために、エルビウムドープ光ファイバ３に必要とされる利得が小さくて済むという利点がある。この利点は後述の実施例中に示される励起光リサイクル型励起方式を可能とする。また、エルビウムドープ光ファイバの長さが短くて良いことからコスト低減にも貢献する。
【００１１】
本実施例の光通信用光源は波長多重化装置に特に適するが、波長多重化を行わない通常の光ファイバ通信の光源としても適用可能である。この場合も、上述のように波長が安定であることや、通常のＤＦＢレーザより大出力の光源が得られることなどの利点を有するものである。
【００１２】
本実施例では、励起光源として波長１４８０ｎｍのファブリーペローレーザーを用いたが、これは波長９８０ｎｍのレーザーであっても良い。また、本実施例では利得要素としてエルビウムドープ光ファイバを用いたが、他の希土類ドープ光ファイバ、あるいはラマン光増幅器、半導体レーザ増幅器などを用いても良い。
【００１３】
［第二実施例］
図２に本発明の第二実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源を示す。本実施例においては、波長可変型誘電体薄膜フィルタ１０を採用したことと光アイソレータ１１を設けたことが第一実施例との主要な相違点である。波長可変型誘電体薄膜フィルタ１０の採用によりレーザ発振波長を可変することができ、いわゆるチューナブルレーザとして機能させることができる。また、光アイソレータ１１の挿入によりレーザ発振を安定化させることができる。
【００１４】
［第三実施例］
図３に本発明の第三実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源を示す。本実施例では複数のファイバーリングレーザを設けると共に、ファイバーリングレーザ内の利得要素の励起方法を工夫したところに主要な特徴がある。
【００１５】
波長１４８０ｎｍのファブリーペローレーザからなる励起光源１からの励起光はＷＤＭ光ファイバカプラ２−１を経て利得要素であるエルビウムドープ光ファイバ３−１に加えられる。前述のようにこの利得要素はさしたる利得を必要としないために、エルビウムドープ光ファイバ３−１は通常の中継増幅器用のエルビウムドープファイバ光増幅器などより短くて良い。このため、励起光の大半は利用されない。本実施例では、この未利用の励起光をＷＤＭ光ファイバカプラ１２−１によって回収し、再び、ＷＤＭ光ファイバカプラ２−２を経て別のエルビウムドープ光ファイバ３−２に加える構成となっている。さらに、未利用の励起光はＷＤＭ光ファイバカプラ１２−２によって回収されて、ＷＤＭ光ファイバカプラ２−３を経て別のエルビウムドープ光ファイバ３−３を励起する。そして、さらに未利用の励起光はＷＤＭ光ファイバカプラ１２−３によって回収されて、ＷＤＭ光ファイバカプラ２−４を経て別のエルビウムドープ光ファイバ３−４を励起する。励起光源は高価であり、図４の実施例の光源のコストのかなりの部分を占めている。従って、上記のように励起光をリサイクル（再利用）して励起光源の数を低減すればコスト低減に大きな効果がある。
【００１６】
エルビウムドープ光ファイバ３−１ないし３−４の長さは励起光源１に近いものほど短く、遠いものほど長く構成してある。これは、励起光をリサイクルする際に励起光源から遠いエルビウムドープ光ファイバほど弱い励起光しか得られないことを補償するためである。あるいは、エルビウムドープ光ファイバ３−１ないし３−４のエルビウムドープ濃度を変えても良いし、ドープ濃度と長さの両方を調節しても良い。
【００１７】
なお、誘電体薄膜フィルタ４−１ないし４−４は着脱自在に設けても良い。誘電体薄膜フィルタを交換することによって発振波長を変えることができる。
【００１８】
［第四実施例］
図４に本発明の第四実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源を示す。本実施例は、第三実施例の構成において、誘電体薄膜フィルタ４−１ないし４−４をスリーポート型誘電体薄膜フィルタ１４−１ないし１４−４に換えることによって励起光回収用の光ファイバカプラを省略したところに主要な特徴がある。
【００１９】
図５にスリーポート型誘電体薄膜フィルタ１４（１４−１ないし１４−４）の内部構造を示す。入射ポート１０１からの光はコリメータ１０４、誘電体薄膜フィルタ１０５を経て、選択された波長（λ）はコリメータ１０６を経て透過ポート１０２へと送られる。選択された波長（λ）以外の波長の光は反射されて反射ポート１０３へと送られる。
【００２０】
本実施例では、図４に示すように波長１４８０ｎｍのファブリーペローレーザからなる励起光源１からの励起光がＷＤＭ光ファイバカプラ２−１を経て利得要素であるエルビウムドープ光ファイバ３−１に加えられる。未利用の励起光はスリーポート型誘電体薄膜フィルタ１４−１の反射ポート側に出力されるので、この未利用励起光をＷＤＭ光ファイバカプラ２−２を経て別のエルビウムドープ光ファイバ３−２に加える構成としている。さらに、次段において未利用励起光はスリーポート型誘電体薄膜フィルタ１４−２の反射ポートを経て回収されて、ＷＤＭ光ファイバカプラ２−３を経て別のエルビウムドープ光ファイバ３−３を励起する。そして、同様に未利用励起光は誘電体薄膜フィルタ１４−３の反射ポートを経て回収されて、ＷＤＭ光ファイバカプラ２−４を経て別のエルビウムドープ光ファイバ３−４を励起する。本実施例では第三実施例と比べて回収用ＷＤＭ光ファイバカプラを省略することができ、コストを低減することができる。
【００２１】
［第五実施例］
図６に本発明の第五実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源を示す。第四実施例にあっては、励起光回収用のＷＤＭ光ファイバカプラを省略できるという利点をもたらしたが、その反面、スリーポート型誘電体薄膜フィルタ１４―１ないし１４−４を着脱自在に設けると、レーザ発振中にスリーポート型誘電体薄膜フィルタ１４―１ないし１４−３を交換することができないという欠点も生じていた。すわなち、レーザ発振中にスリーポート型誘電体薄膜フィルタ１４―１を取り外すと後段のファイバーリングレーザへの励起光供給が絶たれてしまい、他の波長の発進まで停止してしまうのである。
【００２２】
第五実施例では、ＷＤＭ光ファイバカプラ１２の以下の性質を利用して、ＷＤＭ光ファイバカプラの使用数量を削減しつつ、誘電体薄膜フィルタを着脱自在に設けて、かつ、レーザ発振中に交換することが可能なようにする。
【００２３】
即ち、図７にＷＤＭ光ファイバカプラ１２の挙動を示す。ＷＤＭ光ファイバカプラ１２は２本の光ファイバコアを近接させて設けた構造を有している。そして、ある光ファイバコアからもう一方の光ファイバコアへは特定波長の光だけが乗り移るという特性を持っている。例えば、波長λ２（波長１４８０ｎｍ）の光のみが隣の光ファイバコアへ乗り移るように設計されている。そして、波長λ１（波長１５５０ｎｍ）の光は隣のファイバに乗り移ることはない。したがって、図７（ａ）に示すようにＷＤＭ光ファイバカプラ１２にポート１１１から波長λ１（波長１５５０ｎｍ）、ポート１１３から波長λ２（波長１４８０ｎｍ）の光が入射するとポート１１３側へ波長λ１（波長１５５０ｎｍ）＋波長λ２（波長１４８０ｎｍ）の光が送られることになる。この時、ポート１１３はポート１１１と同じ光ファイバであることに注意されたい。
【００２４】
また、ＷＤＭ光ファイバカプラ１２のポート１１１に波長λ１（波長１５５０ｎｍ）＋波長λ２（波長１４８０ｎｍ）の光が入射した場合は、波長λ２（波長１４８０ｎｍ）の光だけが隣接する光ファイバコアへ送られてポート１１４から出力される。波長λ１（波長１５５０ｎｍ）の光は入射ポート１１１と同じ光ファイ側に残るのでポート１１３から出力されることになる。
【００２５】
図６に示した本発明の第五実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源においては、ＷＤＭ光ファイバカプラの上記のような挙動を利用することによって、励起光回収用ＷＤＭ光ファイカプラと励起光源結合用の光ファイバカプラを共用させている。励起光源１からの励起光は、ＷＤＭ光ファイバカプラ２−１によって利得要素であるエルビウムドープ光ファイバ３−１へと送られる。未利用の励起光はＷＤＭ光ファイバカプラ１２−１によって回収されると共に後段のエルビウムドープ光ファイバ３−２へと送られる。エルビウムドープ光ファイバ３−２で未利用の励起光はＷＤＭ光ファイバカプラ１２−２によって回収されると共に後段のエルビウムドープ光ファイバ３−３へと送られる。さらに、エルビウムドープ光ファイバ３−３でも未利用の励起光はＷＤＭ光ファイバカプラ１２−３によって回収されると共に後段のエルビウムドープ光ファイバ３−４へと送られる。
【００２６】
ＷＤＭ光ファイバカプラ２−１、ＷＤＭ光ファイバカプラ１２−１、エルビウムドープ光ファイバ３−１、誘電体薄膜フィルタ４−１、出力カプラ５−１によって第一のファイバーリングレーザが形成されその発振出力は端子７−１から出力される。ＷＤＭ光ファイバカプラ１２−１、エルビウムドープ光ファイバ３−２、ＷＤＭ光ファイバカプラ１２−２、誘電体薄膜フィルタ４−２、出力カプラ５−２によって第二のファイバーリングレーザが形成されその発振出力は端子７−２から出力される。ＷＤＭ光ファイバカプラ１２−２、エルビウムドープ光ファイバ３−３、ＷＤＭ光ファイバカプラ１２−３、誘電体薄膜フィルタ４−３、出力カプラ５−３によって第三のファイバーリングレーザが形成されその発振出力は端子７−３から出力される。ＷＤＭ光ファイバカプラ１２−３、エルビウムドープ光ファイバ３−４、誘電体薄膜フィルタ４−４、出力カプラ５−４によって第四のファイバーリングレーザが形成されその発振出力は端子７−４から出力される。
【００２７】
本実施例では、ＷＤＭ光ファイバカプラの使用量が削減されていながら、誘電体薄膜フィルタを着脱自在に設けてかつ、レーザ発振中に交換することが可能である。
【００２８】
［第六実施例］
図８に本発明の第六実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源を示す。本実施例は第５実施例において誘電体薄膜フィルタに換えてファイバーブラッググレーティングフィルタ（ＦＢＧ）を用いた点が異なる。励起光の再利用は第５実施例と同様である。ファイバーブラッググレーティングフィルタ１５−１、エルビウムドープ光ファイバ３−１、光ファイバループ回路を備えた出力カプラ５−１から第一の発振回路が形成されている。この実施例では発振回路はリングとはならず、ファイバーブラッググレーティングフィルタ１５−１と光ファイバループ回路からなる往復回路で閉じたループを形成している。
【００２９】
同様に、ファイバーブラッググレーティングフィルタ１５−２、エルビウムドープ光ファイバ３−２、光ファイバループ回路を備えた出力カプラ５−２から第二の発振回路が形成されている。ファイバーブラッググレーティングフィルタ１５−３、エルビウムドープ光ファイバ３−３、光ファイバループ回路を備えた出力カプラ５−３から第三の発振回路が形成されている。ファイバーブラッググレーティングフィルタ１５−４、エルビウムドープ光ファイバ３−４、光ファイバループ回路を備えた出力カプラ５−４から第四の発振回路が形成されている。なお、ファイバーブラッググレーティングフィルタ１５−１ないし１５−４は着脱自在に設けられており、波長を変えることができる。
【００３０】
ファイバーブラッググレーティングフィルタも波長の温度安定性が高く、温度調整の必要はない。
【００３１】
［第七実施例］
図９に本発明の第七実施例を示す。この実施例では、ファイバーリングレーザと光増幅器の励起光源を共用化したところに主要な特徴がある。励起光源１からの励起光はＷＤＭ光ファイバカプラ２によって利得要素であるエルビウムドープ光ファイバ３に送られる。未利用の励起光はＷＤＭ光ファイバカプラ１２によって回収されて、光ファイバ増幅器の利得要素であるエルビウムドープ光ファイバ２２を励起する。エルビウムドープ光ファイバ２２を通過した後の励起光はＷＤＭ光ファイバ２３によって取り除かれる。
【００３２】
ＷＤＭ光ファイバカプラ２、エルビウムドープ光ファイバ３、誘電体薄膜フィルタ４、出力結合光ファイバカプラ５は閉じたリングをなしておりレーザ発振が生じる。レーザ光は出力結合光ファイバカプラ５によって、その一部が取り出されて出力端子７から外部へ導かれる。
【００３３】
一方、光増幅器は光アイソレータ２１、ＷＤＭ光ファイバカプラ１２、エルビウムドープ光ファイバ２２、ＷＤＭ光ファイバ２３、利得平坦化フィルタ２４からなる。上述のようにして、ファイバーリングレーザの利得要素である、エルビウムドープ光ファイバ３を励起した残りの励起光が光増幅器の利得要素であるエルビウムドープ光ファイバ２２を励起する。入力端子２５から入射した光信号は発振防止の光アイソレータ２１、ＷＤＭ光ファイバカプラ１２を経てエルビウムドープ光ファイバ２２に入射して増幅される。その後、ＷＤＭ光ファイバカプラ２３によって余剰の励起光が取り除かれた後、利得平坦化フィルタ２４によって増幅可能帯域内の利得が平坦化された後、出力端子２６から出力される。
【００３４】
ファイバーリングレーザの利得要素は大きな利得を必要としないため、エルビウムドープ光ファイバ３は短くて良く、励起光もそれほど消費しない。一方、光増幅用のエルビウムドープ光ファイバ２２は十分な利得を発生させるために長く設けられている。
【００３５】
本実施例のようなファイバーリングレーザと光増幅器の集積化デバイスは、光アッドドロップ装置に好適である。光アッドドロップ装置とは、波長多重化された光信号の中から特定の波長の光信号だけを取り出して通信を行う装置である。当然の事ながら、光アッドドロップ装置には光通信を行うために光源が必要である。また、取り出されなかった他の波長の光信号群は通常は光増幅器で増幅されて別の場所へ光ファイバを介して送られる。このため、アッドドロップ装置には、光通信用の光源（波長多重化装置波の精度の光源）と光増幅器が備えられている場合が多い。したがって、本実施例のように光通信用の光源と光増幅器とを集積化したデバイスは、光アッドドロップ装置に適しているのである。
【００３６】
［第八実施例］
図１０に本発明の第八実施例を示す。この実施例では、ファイバーリングレーザと光増幅器の励起光源を共用化したデバイスを２系統設けると共に励起光源を２系統設け、さらにこの励起光源にフォールトトレラント性を付与したところに特徴がある。
【００３７】
ＷＤＭ光ファイバカプラ２−１、エルビウムドープ光ファイバ３−１、ＷＤＭ光ファイバカプラ１２−１、誘電体薄膜フィルタ４−１、出力結合光ファイバカプラ５−１、エルビウムドープ光ファイバ２２−１、ＷＤＭ光ファイバカプラ２３−１、光アイソレータ２１−１、利得平坦化フィルタ２４−１は第一のファイバーリングレーザ光増幅器集積デバイスを形成しており、その挙動は第七実施例に説明したとおりである。
【００３８】
また、ＷＤＭ光ファイバカプラ２−２、エルビウムドープ光ファイバ３−２、ＷＤＭ光ファイバカプラ１２−２、誘電体薄膜フィルタ４−２、出力結合光ファイバカプラ５−２、エルビウムドープ光ファイバ２２−２、ＷＤＭ光ファイバカプラ２３−２、光アイソレータ２１−２、利得平坦化フィルタ２４−２は第二のファイバーリングレーザ光増幅器集積デバイスを形成しており、その挙動は第七実施例に説明したとおりである。
【００３９】
本実施例では励起光源１−１ないし１−２の２系統を用意し、光ファイバカプラ３１によって、ふたつの励起光を合成した後、ふたつに分けて上記、第一のファイバーリングレーザ、光増幅器集積デバイス、及び、第二のファイバーリングレーザ、光増幅器集積デバイスに供給している。このように構成すると、ふたつの励起光源１−１ないし１−２の片方が故障した場合でも、完全に故障することを防ぐことができる。
【００４０】
本実施例では、励起光源とファイバーリングレーザ光増幅器集積デバイスを２系統ずつ用意したが、両者をさらに多数系統用意して、光ファイバカプラ３１に代えてスターカプラを用いて合成した励起光をファイバーリングレーザ光増幅器集積デバイスに供給しても良い。また、励起光が供給されるのはファイバーリングレーザ光増幅器集積デバイスに限らず、単なるファイバーリングレーザ群であっても良い。
本実施例によれば、励起光源の一部が故障してもファイバーリングレーザや光増幅器の動作を完全に止めないで済む。すなわち、いわゆるフォールトトレラント性をファイバーリングレーザや光増幅器に付与することができる。
【００４１】
【発明の効果】
本発明によれば、温度制御の必要無しに高密度波長多重に適用可能な光源を得ることができる。また、波長をプログラマブルな光源を得ることができるので、生産管理や在庫管理が容易となる。さらに複数のファイバーリングレーザや光増幅器の励起光源を共用化できるのでコストを低減することができる。そして、ファイバーリングレーザや光増幅器にフォールトトレランスを付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の第二実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源の概略構成を示す図である。
【図３】本発明の第三実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源の概略構成を示す図である。
【図４】本発明の第四実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源の概略構成を示す図である。
【図５】スリーポート型誘電体薄膜フィルタの内部構造を示す図である。
【図６】本発明の第五実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源の概略構成を示す図である。
【図７】ＷＤＭ光ファイバカプラの挙動を説明する図である。
【図８】本発明の第六実施例の波長多重化装置（ＷＤＭ）に特に適した光通信用光源の概略構成を示す図である。
【図９】本発明の第七実施例のファイバーリングレーザ光増幅器集積化デバイスの概略構成を示す図である。
【図１０】本発明の第八実施例のファイバーリングレーザ光増幅器集積化デバイスの概略構成を示す図である。
【符号の説明】
１、１−１、１−２…励起光源、２、２−１、２−２…ＷＤＭ光ファイバカプラ、３、３−１、３−２、３−３、３−４…エルビウムドープ光ファイバ、４、４−１、４−２、４−３、４−４…誘電体薄膜フィルタ、５、５−１、５−２、５−３、５−３…出力結合光ファイバカプラ、６…光ファイバ、７、７−１、７−２、７−３、７−４…ファイバーリングレーザの出力端子、８、９…光コネクタ、１０…波長可変型誘電体薄膜フィルタ、１１、１１−１、１１−２…光アイソレータ、１２−１、１２−２、１２−３、１２−４…ＷＤＭ光ファイバカプラ、１４−１、１４−２、１４―３。１４−４…スリーポート型誘電体薄膜フィルタ、１５−１、１５−２、１５−３、１５−４…ファイバーブラッググレーティングフィルタ、２１、２１−１、２１−２…光アイソレータ、２２、２２−１、２２−２…エルビウムドープ光ファイバ、２３、２３−１、２３−２…ＷＤＭ光ファイバカプラ、２４、２４−１、２４−２…利得平坦化フィルタ、２５、２５−１、２５−２…光増幅器の入力端子、２６、２６−１、２６−２…光増幅器の出力端子、３１…励起光源冗長化用の光ファイバカプラ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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