(57)【要約】【課題】被測定物に歪みが生じた場合であっても、被測定物の温度を精度良く計測すること。【解決手段】本発明は、被測定物４０に対して敷設された複数のセンシング用の光ファイバ１８内で発生するブリルアン散乱現象の変化に基づいて、被測定物４０の温度を計測する温度計測装置における光ファイバ１８の敷設構造であって、光ファイバ１８を保護管４２の内部に収納し、更にこの保護管４２の内部に伝導性粘体４４を充填することによって、光ファイバ１８を保護管４２の内部に固定し、この保護管４２を被測定物４０に対して固定することによって光ファイバ１８を敷設する。【選択図】　図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定物に対して敷設された複数のセンシング用の光ファイバ内で発生するブリルアン散乱現象の変化に基づいて、前記被測定物の温度を計測する温度計測装置における前記光ファイバの敷設構造であって、
前記光ファイバを収納用チューブの内部に収納し、更にこの収納用チューブの内部に伝導性粘体を充填することによって、前記光ファイバを前記収納用チューブの内部に固定し、この収納用チューブを前記被測定物に対して固定することによって前記光ファイバを敷設するようにしたブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造。
【請求項２】
前記伝導性粘体として、シリコンオイル、またはグリースを用いた請求項１に記載のブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造。
【請求項３】
被測定物に対して敷設された複数のセンシング用の光ファイバ内で発生するブリルアン散乱現象の変化に基づいて、前記被測定物の温度を計測する温度計測装置における前記光ファイバの敷設構造であって、
前記被測定物に前記光ファイバを配置するための配置用溝を設け、この配置用溝の中に前記光ファイバを配置し、更にこの配置用溝の中に低摩擦性熱伝導体を注入することによって、この配置用溝の中に配置された光ファイバの周囲を前記低摩擦性熱伝導体で取り囲むとともに、この配置された光ファイバを前記配置用溝に固定することによって前記光ファイバを敷設するようにしたブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造。
【請求項４】
前記低摩擦性熱伝導体として、シリコンオイル、またはグリースを用いた請求項３に記載のブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造。
【請求項５】
被測定物に対して敷設された複数のセンシング用の光ファイバ内で発生するブリルアン散乱現象の変化に基づいて、前記被測定物の温度を計測する温度計測装置における前記光ファイバの敷設構造であって、
前記センシング用光ファイバを、撓ませた状態で前記被測定物に配置するようにしたブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ファイバを媒体とし、光ファイバ内で発生するブリルアン散乱現象の変化を捉えて被測定物の温度を計測するブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造に関するもので、特に温度以外の外乱によってブリルアン散乱が受ける影響を抑え、より高い精度で温度を計測することができるような光ファイバの敷設構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光ファイバを用いた温度計測装置として、ラマン散乱光によるＯＴＤＲ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｔｉｍｅ　Ｄｏｍａｉｎ　Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｏｒｙ）原理を適用したものが提案されている。この装置では、温度センサとして光ファイバが用いられ、光ファイバの温度の変化に対応して、ラマン散乱光の強度が変化することを利用したものである。このようなＯＴＤＲ原理を適用した温度計測装置で用いられている温度センシング用の光ファイバは、ＲＤＴＳ（Ｒａｍａｎ　Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ　Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ　Ｓｅｎｓｏｒｓ）と呼ばれている。
【０００３】
ラマン散乱光は、光ファイバ内の分子に固有な振動に起因した周波数の光が散乱される現象であり、光ファイバに入射した入射光の波長に対して長波長側にシフトしたストークス光と、短波長側にシフトした反ストークス光からなる。このストークス光と反ストークス光の強度比は、光ファイバの温度に対してほぼ直線的に変化するので、この強度比を測定することにより、温度測定がなされている。
【０００４】
しかしながら、上述したようなＯＴＤＲ原理を適用している従来の温度計測装置は、以下に示すように、ラマン散乱光の強度変化は、温度以外の外乱によっても影響を受けてしまう。
【０００５】
例えば、このような温度計測装置を、原子力施設のような放射線環境化において使用した場合、光ファイバの原材料であるガラスにカラーセンターが形成される。そして、このカラーセンターによって、光ファイバの組成や温度のみならず、放射線の線量当量率や照射線量、あるいは伝搬光の波長などにも依存する複雑な伝搬損失が生じる。また、光ファイバに対して外部から曲げ応力がかけられた場合にも、この応力に応じた複雑な伝搬損失が生じる。
【０００６】
これら伝搬損失が生じることによって、測定結果に誤差が含まれてしまい、精度の高い温度を計測することが困難になる。
【０００７】
そこで、上述したような、ラマン散乱以外に起因する光損失分布による温度測定誤差の影響を受けずに温度をより高精度に計測するために、ブリルアン散乱を利用した温度計測装置が用いられている。
【０００８】
ブリルアン散乱光は、入射光とその入射光によって発生する光ファイバの媒質の密度変化が引き起こす超音波との相互作用に発生する。そして、主に入射光とは逆向きに超音波の速度分の周波数量だけドップラーシフトした光周波数シフト変化が生じる。光ファイバへ温度変化もしくは歪みが生じると、光ファイバ内の音速が変化するためにブリルアン散乱光の周波数も変化する。
【０００９】
このようにブリルアン散乱法は、ラマン散乱法とは異なり、被測定物の物理量と周波数とが直線的に変化することを利用した方法である。
【００１０】
よって、ラマン散乱光によるＯＴＤＲ原理を適用した温度計測装置で問題となっているような光伝搬損失によるセンシング物理量への誤差影響は少ない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来のブリルアン散乱光を用いた温度計測装置では、以下のような問題がある。
【００１２】
すなわち、ブリルアン散乱光は、温度の他に歪みに対しても大きくブリルアン周波数シフトを起こす。このため、センシング用の光ファイバを被測定部に敷設し、被測定部の温度を計測している場合に、同時に被測定部に歪みが発生した場合には、光ファイバには温度変化のみならず、歪みによる外力も伝搬してしまう。すると、光ファイバ内では、温度変化のみならず、この歪みによってもブリルアン散乱が生じてしまうために、温度計測精度が低下するという問題がある。
【００１３】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、被測定物に歪みが生じた場合であっても、被測定物の歪みが光ファイバに伝搬しないようにすることによって、被測定物の温度を精度良く計測することが可能なブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明では、以下のような手段を講じる。
【００１５】
すなわち、請求項１の発明は、被測定物に対して敷設された複数のセンシング用の光ファイバ内で発生するブリルアン散乱現象の変化に基づいて、被測定物の温度を計測する温度計測装置における光ファイバの敷設構造であって、光ファイバを収納用チューブの内部に収納し、更にこの収納用チューブの内部に伝導性粘体を充填することによって、光ファイバを収納用チューブの内部に固定し、この収納用チューブを被測定物に対して固定することによって光ファイバを敷設する。
【００１６】
従って、請求項１の発明のブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造においては、以上のような手段を講じることにより、被測定物に歪みが生じた場合であっても、その外力を伝導性粘体によって吸収することができる。その結果、被測定物に歪みが生じた場合であっても、その外力を光ファイバに伝搬させることがないので、温度を精度良く計測することが可能となる。
【００１７】
請求項２の発明は、請求項１の発明のブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造において、伝導性粘体として、シリコンオイル、またはグリースを用いる。
【００１８】
従って、請求項２の発明のブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造においては、以上のような手段を講じることにより、シリコンオイルまたはグリースが外力を効率よく吸収することができるので、被測定物に歪みが生じた場合であっても、温度を精度良く計測することが可能となる。
【００１９】
請求項３の発明は、被測定物に対して敷設された複数のセンシング用の光ファイバ内で発生するブリルアン散乱現象の変化に基づいて、被測定物の温度を計測する温度計測装置における光ファイバの敷設構造であって、被測定物に光ファイバを配置するための配置用溝を設け、この配置用溝の中に光ファイバを配置し、更にこの配置用溝の中に低摩擦性熱伝導体を注入することによって、この配置用溝の中に配置された光ファイバの周囲を低摩擦性熱伝導体で取り囲むとともに、この配置された光ファイバを配置用溝に固定することによって光ファイバを敷設する。
【００２０】
従って、請求項３の発明のブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造においては、以上のような手段を講じることにより、被測定物に歪みが生じ外力が発生した場合でも、その外力を低摩擦性熱伝導体によって吸収することができる。低摩擦性熱伝導体は、その一方で被測定物の温度変化をセンシング用光ファイバに伝える。その結果、温度を精度良く計測することが可能となる。
【００２１】
請求項４の発明は、請求項３の発明のブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造において、低摩擦性熱伝導体として、シリコンオイル、またはグリースを用いる。
【００２２】
従って、請求項４の発明のブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造においては、以上のような手段を講じることにより、シリコンオイルまたはグリースが熱変化をセンシング用光ファイバに伝える一方、外力を効率よく吸収することによって、温度を精度良く計測することが可能となる。
【００２３】
請求項５の発明は、被測定物に対して敷設された複数のセンシング用の光ファイバ内で発生するブリルアン散乱現象の変化に基づいて、被測定物の温度を計測する温度計測装置における光ファイバの敷設構造であって、センシング用光ファイバを、撓ませた状態で被測定物に配置する。
【００２４】
従って、請求項５の発明のブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造においては、以上のような手段を講じることにより、被測定物に変位が生じた場合であっても、撓みによってその変位量を吸収することができ、光ファイバへ外力を与えないようにすることができる。その結果、被測定物の温度を精度良く計測することが可能となる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００２６】
（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態を図１から図６を用いて説明する。
【００２７】
図１は、第１の実施の形態に係る光ファイバの敷設構造を適用したブリルアン散乱型温度計測装置の一例を示す構成概念図である。
【００２８】
すなわち、図１にその構成構成を示すようなブリルアン散乱型温度計測装置は、ブリルアン散乱光計測部１０と、ブリルアン散乱光計測部１０に伝送用の光ファイバ１６を介して接続され、被測定物４０の対象面に敷設される単数又は複数の温度センシング用の光ファイバ１８とからなる。温度センシング用の光ファイバ１８を複数備えた場合には、各光ファイバ１８からの計測データに基づいて、被測定物４０の温度分布を測定することができる。
【００２９】
ブリルアン散乱光計測部１０の一般的な構成は、図２に示すとおりであり、単一波長光源１１と、光分配器１３と、光サーキュレータ１２と、光スイッチ１４と、ブリルアン光学系２０と、信号処理系２２とを備えている。
【００３０】
単一波長光源１１は、単一波長の出力光を出力する。光分配器１３は、単一波長光源１１からの出力光をポンプ光Ｅとプローブ光Ｆとに分配する。そして、ポンプ光Ｅを、光サーキュレータ１２を介して光スイッチ１４へ導くようにしている。また、プローブ光Ｆを、ブリルアン光学系２０へ導くようにしている。
【００３１】
光スイッチ１４は、光サーキュレータ１２を介して光スイッチ１４へ伝送されたポンプ光Ｅを、対応する伝送用の光ファイバ１６を介して複数の光ファイバ１８（＃１〜＃ｎ）のうちのいずれかに導く。
【００３２】
しかしながら、本実施の形態では、光ファイバ１８を図３の斜視図に示すように敷設している。すなわち、光ファイバ１８を、ＳＵＳ材、アルミニウム、銅等からなる保護管４２の内部に収納し、更にこの保護管４２の内部に、伝導性粘体４４を充填することによって、光ファイバ１８を保護管４２の内部に固定している。伝導性粘体４４としては、例えばシリコーンオイル、グリース等に代表される高分子系材料を用いる。
【００３３】
そして、このように内部に光ファイバ１８を収納固定した保護管４２を、取り付け具４６によって被測定物４０の表面に固定することによって、光ファイバ１８を、被測定物４０に敷設する。
【００３４】
このようにして保護管４２の内部に光ファイバ１８を収納することによって、被測定物４０に歪みが生じ光ファイバ１８に外力がかかった場合であっても、その外力を伝導性粘体４４によって吸収することができる。その結果、被測定物４０に歪みが生じた場合であっても、その外力を光ファイバ１８に伝搬させないようにしている。
【００３５】
図３に示すように敷設された光ファイバ１８へと導かれたポンプ光Ｅの一部は、光ファイバ１８内において反射し、反射光Ｇが発生する。反射光Ｇは、ポンプ光Ｅの進行方向とは逆方向に進行する。この反射光Ｇの波長は、被測定物４０に温度変化または歪みがなく、その温度変化または歪みが光ファイバ１８に伝搬していない場合には、ポンプ光Ｅの波長と同じであるが、被測定物４０に温度変化または歪みが発生し、その温度変化または歪みが光ファイバ１８に伝搬するとブリルアン散乱が発生し、図４に示すように、ポンプ光Ｅの波長に対してシフトする。このシフト量は、歪み量と温度変化量の合計に比例している。
【００３６】
しかしながら、本実施の形態において光ファイバ１８は、図３に示すように保護管４２の内部に、その外周が伝導性粘体４４が充填されることによって固定されているので、被測定物４０に歪みが生じた場合であっても、その外力が伝搬されないようにしている一方、被測定物４０に温度変化があった場合には、温度変化が伝搬されるようにしている。
【００３７】
したがって、本実施の形態では、ポンプ光Ｅの波長に対してシフトする反射光Ｇの波長のシフト量は、温度変化量に比例している。光ファイバ１８内で発生したこのような反射光Ｇは、光ファイバ１８から光スイッチ１４へと導かれるようにしている。そして、光スイッチ１４は、光ファイバ１８から反射光Ｇが導かれると、この反射光Ｇを光サーキュレータ１２へと導く。すなわち、光スイッチ１４は、光サーキュレータ１２から導かれたポンプ光Ｅを、複数の光ファイバ１８のうちの何れかに導くためにスイッチを切り換える。そして、光ファイバ１８から反射光Ｇが導かれ、この反射光Ｇの光サーキュレータ１２へ導光を完了するまでこのスイッチを切り換えないようにしている。
【００３８】
光スイッチ１４は、上述したようにして同一の光ファイバ１８へのポンプ光Ｅの導光と、この光ファイバ１８からの反射光Ｇの光サーキュレータ１２への導光とを完了すると、光サーキュレータ１２から導かれた次のポンプ光Ｅを、別の光ファイバ１８へと導くためにスイッチを切り換える。このような処理を繰り返すことによって、複数の光ファイバ１８のおのおのに対して、ポンプ光Ｅを導き、このポンプ光Ｅに対する反射光Ｇを光サーキュレータ１２へと導くようにしている。なお、光ファイバ１８を単数しか用いない場合には、光スイッチ１４を省略した構成としても良い。
【００３９】
光サーキュレータ１２は、光スイッチ１４から反射光Ｇが導かれると、この反射光Ｇをブリルアン光学系２０へと導く。
【００４０】
ブリルアン光学系２０は、光分配器１３から導かれたプローブ光Ｆと、光サーキュレータ１２から導かれたこのプローブ光Ｆに対応する反射光Ｇとに基づいて、後述するようにしてブリルアン干渉ビート信号周波数を演算し、得られたブリルアン干渉ビート信号周波数を、信号処理系２２へと出力する。なお、このプローブ光Ｆに対応する反射光Ｇとは、このプローブ光Ｆが光分配器１３において分配されたときに同時に分配されたポンプ光Ｅが、光ファイバ１８において反射することによって発生した反射光Ｇである。
【００４１】
次に、ブリルアン光学系２０が行うブリルアン干渉ビート信号周波数の演算について、図５を用いて説明する。すなわち、ブリルアン光学系２０は、図５に示すように、発振器２４と、光変調器２６と、光結合器３０と、受光器３２とを備えている。そして、光変調器２６は、光分配器１３から導かれたプローブ光Ｆを取得すると、発振器２４を動作させることによって、プローブ光Ｆの周波数ｆ０に、プローブ光変調周波数ｆｓを加える。そしてこの変調後の周波数（ｆ０＋ｆｓ）を有する変調後プローブ光Ｆ’が、光結合器３０へと入力されるようにしている。
【００４２】
一方、光サーキュレータ１２から導かれた反射光Ｇもまた、光結合器３０へと入力されるようにしている。図４に示すように、この反射光Ｇの波長は、ポンプ光Ｅの波長に対して、ブリルアン散乱に基づいてシフトしている。また、ポンプ光Ｅとプローブ光Ｆとは同質の光であり、同一波長を有することから、ブリルアン散乱に基づくブリルアン周波数をｆＢとすると、反射光Ｇの周波数は（ｆ０−ｆＢ）である。
【００４３】
光結合器３０は、変調後プローブ光Ｆ’の周波数（ｆ０＋ｆｓ）から、反射光Ｇの周波数（ｆ０−ｆＢ）を減じることによって、ブリルアン干渉ビート信号周波数（ｆｓ−ｆＢ）を求める。このブリルアン干渉ビート信号周波数（ｆｓ−ｆＢ）は、計測信号として、受光器３２から信号処理系２２へと出力されるようにしている。
【００４４】
信号処理系２２は、図６に示すように、周波数解析装置３４と、信号処理装置３６と、表示装置３８とを備えている。そして、周波数解析装置３４は、例えばＲＦスペアナや、ＦＦＴなどが用いられ、受光器３２から出力された計測信号を受信すると、計測信号のブリルアン干渉ビート信号周波数（ｆｓ−ｆＢ）を取得し、取得したブリルアン干渉ビート信号周波数（ｆｓ−ｆＢ）を信号処理装置３６へ入力する。
【００４５】
信号処理装置３６は、ブリルアン干渉ビート信号周波数（ｆｓ−ｆＢ）に基づいて温度変化量を算出し、算出した温度変化量を、対応する光ファイバ１８の識別情報、および時刻データとともに記憶する。記憶した情報は、表示装置３８からの要求に応じて、表示装置３８へと出力されるようにしている。
【００４６】
表示装置３８は、信号処理装置３６からデータを取得し、取得したデータに基づいて、温度分布を画面から表示する。
【００４７】
次に、以上のように構成した本実施の形態に係る光ファイバの敷設構造の作用について説明する。
【００４８】
すなわち、本実施の形態に係る光ファイバの敷設構造においては、被測定物４０に歪みが生じた場合であっても、歪みによってもたらされた外力が、伝導性粘体４４によって吸収される。その結果、被測定物４０に歪みが生じた場合であっても、その外力は光ファイバ１８には伝搬されない。
【００４９】
その結果、光ファイバ１８には、被測定物４０の歪みによる伝搬損失は生じず、温度変化による伝搬損失のみを検知することができるようになり、温度を精度良く計測することが可能となる。
【００５０】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態を図７を用いて説明する。
【００５１】
本発明の第２の実施の形態に係る光ファイバの敷設構造を適用したブリルアン散乱型温度計測装置の構成は、図１に示す通りであるので、ここでは重複説明を避け、光ファイバ１８の敷設構造のみについて説明する。
【００５２】
本実施の形態では、光ファイバ１８を図７の断面図に示すように敷設している。すなわち、まず、被測定物４０に、光ファイバ１８の敷設方向に沿って、光ファイバ１８を配置するための配置用溝４８を設ける。そして、この配置用溝４８の中に光ファイバ１８を配置し、更にこの配置用溝４８の中に低摩擦性熱伝導体５０を注入する。この低摩擦性熱伝導体５０としては、例えば、シリコーンオイル、グリース等に代表される高分子系材料を用いる。
【００５３】
これによって、配置用溝４８の中に配置された光ファイバ１８の周囲を低摩擦性熱伝導体５０で取り囲むとともに、光ファイバ１８を配置用溝４８に固定する。更に、光ファイバ１８が低摩擦性熱伝導体５０によって固定された配置用溝４８を固定板５２によって塞ぎ、この固定板５２をボルト５４によって被測定物４０に固定する。
【００５４】
上述したような光ファイバ１８の敷設構造によって、被測定物４０に歪みが生じ外力が発生した場合でも、その外力は低摩擦性熱伝導体５０によって吸収され、光ファイバ１８には伝搬されない。一方、被測定物４０に温度変化が生じた場合には、この温度変化は低摩擦性熱伝導体５０によって光ファイバ１８に伝えられる。
【００５５】
以上の結果、本実施の形態に係る光ファイバの敷設構造を適用することによって、ブリルアン散乱型温度計測装置は、温度計測を精度良く行うことが可能となる。
【００５６】
（第３の実施の形態）
本発明の第３の実施の形態を図８から図９を用いて説明する。
【００５７】
本発明の第３の実施の形態に係る光ファイバの敷設構造を適用したブリルアン散乱型温度計測装置の構成は、図１に示す通りであるので、ここでは重複説明を避け、光ファイバ１８の敷設構造のみについて説明する。
【００５８】
本実施の形態では、光ファイバ１８を図８の斜視図に示すように敷設している。すなわち、光ファイバ１８を撓ませた状態で箱形のセンサー筐体５６の内部に収納し、更にこのセンサー筐体５６の内部に充填物質５８を充填し、光ファイバ１８がセンサー筐体５６に導入される導入部６０において光ファイバ１８をセンサー筐体５６に固定する。
【００５９】
この充填物質５８としては、光ファイバ１８との摩擦係数が小さくて、熱伝導率が高い物質である、例えばシリコーンオイル、グリース等に代表される高分子系材料を用いる。
【００６０】
そして、図９の平面図に示すように、１本の光ファイバ１８が、複数のセンサー筐体５６に固定されるようにし、更に各センサー筐体５６を被測定物４０に配置することによって光ファイバ１８を敷設する敷設構造である。
【００６１】
上述したような光ファイバ１８の敷設構造によって、被測定物４０に歪みが生じ外力が発生した場合でも、その外力はセンサー筐体５６内の充填物質５８、および光ファイバ１８の撓みによって吸収されるので、光ファイバ１８には外力が伝搬されない。一方、被測定物４０に温度変化が生じた場合には、この温度変化は充填物質５８によって光ファイバ１８に伝えられる。
【００６２】
以上の結果、本実施の形態に係る光ファイバの敷設構造を適用することによって、ブリルアン散乱型温度計測装置は、温度計測を精度良く行うことが可能となる。
【００６３】
また、図９に示すように、１本の光ファイバ１８が複数のセンサー筐体５６に固定されるようにすることによって、１本の光ファイバ１８から複数の温度計測箇所を区分けすることができる。これによって、測定時間に伴う光ファイバ１８の長さ方向における熱温度拡散による温度計測箇所の曖昧さを解消することができる。つまり、実際の被測定物４０と光ファイバ１８の周囲構造との温度が熱拡散によって均一化され、計測箇所毎の温度差の違いが曖昧になることを解消することができる。したがって、計測時間の長さに依存することなく、温度差を精度良く計測することが可能となる。
【００６４】
以上、本発明の好適な実施の形態について、添付図面を参照しながら説明したが、本発明はかかる構成に限定されない。特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例、修正例、および組み合わせた構成についても本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００６５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、被測定物に歪みが生じた場合であっても、被測定物の歪みが光ファイバに伝搬しないようにすることができる。
【００６６】
その結果、被測定物に歪みが生じた場合であっても、被測定物の温度を精度良く計測することが可能なブリルアン散乱を適用した温度計測装置における光ファイバの敷設構造を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態に係る光ファイバの敷設構造を適用したブリルアン散乱型温度計測装置の一例を示す構成概念図
【図２】ブリルアン散乱光計測部の一般的な構成例を示す構成概念図
【図３】第１の実施の形態に係る光ファイバの敷設構造の一例を示す斜視図
【図４】ブリルアン反射光の波長シフトを説明するための概念図
【図５】ブリルアン光学系の一例を示す構成図
【図６】信号処理系の一例を示す構成図
【図７】第２の実施の形態に係る光ファイバの敷設構造の一例を示す断面図
【図８】第３の実施の形態に係る光ファイバの敷設構造の一例を示す斜視図
【図９】第３の実施の形態に係る光ファイバの敷設構造の一例を示す平面図
【符号の説明】
Ｅ…ポンプ光
Ｆ…プローブ光
Ｇ…反射光
１０…ブリルアン散乱光計測部
１１…単一波長光源
１２…光サーキュレータ
１３…光分配器
１４…光スイッチ
１６，１８…光ファイバ
２０…ブリルアン光学系
２２…信号処理系
２４…発振器
２６…光変調器
３０…光結合器
３２…受光器
３４…周波数解析装置
３６…信号処理装置
３８…表示装置
４０…被測定物
４２…保護管
４４…伝導性粘体
４６…取り付け具
４８…配置用溝
５０…低摩擦性熱伝導体
５２…固定板
５４…ボルト
５６…センサー筐体
５８…充填物質
６０…導入部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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