(57)【要約】【課題】電磁変換特性が優れ、ＭＲヘッド摩耗を低減させ、かつ耐スリキズ性を高めた高密度記録用磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性支持体上に強磁性金属粉末及び結合剤を含有する少なくとも１層の磁性層を設けた磁性層表面粗さが３ｎｍ以下の磁気記録媒体において、前記磁性層に含まれる強磁性金属粉末は平均長軸長が３０〜１００ｎｍであり、かつ飽和磁化σｓ  が７０〜１００Ａ・ｍ２／ｋｇであり、前記磁性層に平均粒子サイズが５〜３０ｎｍであるＳｉＯ２粒子を含有していることを特徴とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に強磁性金属粉末及び結合剤を含有する少なくとも１層の磁性層を設けた磁性層表面粗さが３ｎｍ以下の磁気記録媒体において、前記磁性層に含まれる強磁性金属粉末は平均長軸長が３０〜１００ｎｍであり、かつ飽和磁化σｓ  が７０〜１００Ａ・ｍ２／ｋｇであり、前記磁性層に平均粒子サイズが５〜３０ｎｍであるＳｉＯ２粒子を含有していることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記磁気記録媒体が、ＭＲ再生ヘッド搭載のデジタル信号記録用であることを特徴とする請求項１の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体に関する。より詳しくは、高感度の磁気抵抗型ヘッドを用いて再生できる高密度記録用磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ビデオテープ、オーディオテープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体としては強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ２、強磁性合金粉末等を結合在中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。
近年、高密度化と共にトラック幅が狭く、記録波長が短くなる傾向にある。このため、高感度の磁気抵抗型ヘッド（以下ＭＲヘッド）を用いて再生することが提案され、実用化されている。
ＭＲヘッドを用いる場合は、従来のインダクティブヘッド用媒体と異なった特性が要求される。第１に磁性層が厚く残留磁化が大きすぎるとＭＲヘッドの飽和を引き起こすため、残留磁化を少なくする。第２にＭＲヘッドは高感度なので、媒体ノイズを減らすために微粒子の磁性粉末を使い磁性面を平滑にする。
これらに対応するために、磁性層厚みを０．０１〜０．３μｍ、残留磁化を５〜５０Ａ・ｍ２／ｋｇにして飽和を防ぎ、かつ特定の空間周波数の粗さを規定し変調ノイズの低減を図っている（例えば特許文献１参照。）。
また磁性層厚みを最短ビット長より薄くし、磁性層中に非磁性粉末を添加して磁性層に対して体積充填度１５〜３５％として飽和と低ノイズ化の両立を図っている（例えば特許文献２参照。）。
【０００３】
このようなノイズ低減を進めてきたが、ヘッド摩耗や耐久性に問題があることが分かってきた。ＭＲヘッドは、硬度の高い材料よりなる基板と基板の間に設けられた硬度が低いシールド層中にＭＲ素子を埋め込んだ形状をしている。そのためＭＲ素子を含むシールド層が選択的に摩耗し、基板とシールド層（ＭＲ素子）とに段差が生じてスペーシングロスが増大するため出力が低下してしまう問題がある。
またその影響を極力抑制するために、磁性層表面を平滑化してスペーシングロスを低減し電磁変換特性向上を図っているが、その弊害として磁性層表面にスリキズが発生し易くなった。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−２５６６３３号公報
【特許文献２】
特開２００２−９２８４６号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、電磁変換特性が優れ、ＭＲヘッド摩耗を低減させ、かつ耐スリキズ性を高めた高密度記録用磁気記録媒体を提供することである。
【０００６】
【発明が解決するための手段】
本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、以下の構成を採用することにより、上記目的が達成され、本発明を成すに至った。
即ち、本発明は以下の通りである。
（１）  非磁性支持体上に強磁性金属粉末及び結合剤を含有する少なくとも１層の磁性層を設けた磁性層表面粗さが３ｎｍ以下の磁気記録媒体において、前記磁性層に含まれる強磁性金属粉末は平均長軸長が３０〜１００ｎｍであり、かつ飽和磁化σｓ  が７０〜１００Ａ・ｍ２／ｋｇであり、前記磁性層に平均粒子サイズが５〜３０ｎｍであるＳｉＯ２粒子を含有していることを特徴とする磁気記録媒体。
【０００７】
以下に、本発明の好ましい態様を挙げる。
（２）前記磁気記録媒体がＭＲヘッド搭載のデジタル信号記録用テープであることを特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。
【０００８】
本発明の磁気記録媒体は、特にＭＲヘッドを搭載した記録システムにおいて優れた電磁変換特性と、ＭＲヘッド摩耗を低減させ、かつ耐スリキズ性を高めた高密度記録用の耐久性磁気記録媒体を提供することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の磁気記録媒体について詳細に説明する。
先ず、本発明の磁気記録媒体の特徴的構成要素である磁性層について説明する。
【００１０】
［磁性層］
本発明の磁気記録媒体の磁性層は強磁性金属粉末及び結合剤を含有するものである。
本発明の磁気記録媒体の磁性層の平均厚さは、４０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましい、更に好ましくは５０〜１２０ｎｍである。磁性層厚さが４０ｎｍ以下になると出力が低下してしまい十分なＣ／Ｎが得られない。一方１５０ｎｍより厚いと、ノイズ成分が高くなることに加えて、ＭＲヘッドに対して磁性層からの磁束密度が大きすぎて飽和現象を起こし、特に高周波数領域では出力が低下してしまいＣ／Ｎが劣化してしまう。
本発明の磁気記録媒体の表面（上層）の中心面平均表面粗さ（Ｒａ）は、３．０ｎｍ以下で、より好ましくは０．５〜３．０ｎｍ、更に好ましくは２．７ｎｍ以下、特に好ましくは２．５ｎｍ以下である。３．０ｎｍを越えると磁気記録媒体とヘッドのスペーシングロスが大きくなり、出力が低く、ノイズが高くなる場合があり、本発明の磁気記録媒体が有する媒体性能を発揮出来ない場合がある。０．５ｎｍに満たないと上層が磁気ヘッドにより損傷を受けやすくなる場合があり、好ましくない場合がある。Ｒａは、ＷＩＫＯ社製ＨＤ−２０００を用いて測定波長７７０ｎｍにてＭＩＲＡＵ法で約２５０μｍ×１８０μｍの面積から、傾き補正、円筒補正を加えて測定される値をいう。
【００１１】
［強磁性金属粉末］
本発明の磁性層に使用する強磁性金属粉末（以下、単に強磁性粉末とも称する）としては、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことがさらに好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対して０〜４０原子％が好ましく、さらに好ましくは１５〜３５原子％以下、より好ましくは２０〜３５原子％である。Ｙの含有量は１．５〜１５原子％が好ましく、さらに好ましくは３〜１２原子％である。Ａｌは１．５〜１５原子％が好ましく、さらに好ましくは３〜１２原子％以下である。これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などの各公報に記載されている。
【００１２】
強磁性金属粉末には少量の水酸化物、または酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００１３】
本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば４０〜８０ｍ２／ｇであり、好ましくは４５〜７０ｍ２／ｇである。４０ｍ２／ｇ以下ではノイズが高くなり、８０ｍ２／ｇ以上では表面性が得難く好ましくない。本発明の  磁性層の強磁性粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åであり、好ましくは９０〜１７０Å、更に好ましくは１００〜１６０Åである。
強磁性粉末の平均長軸長は３０ｎｍ〜１００ｎｍであり、好ましくは４０ｎｍ〜９０ｎｍである。強磁性粉末の針状比（（長軸長／短軸長）の平均）は５〜１５が好ましく、さらには６〜１２以下が好ましい。
強磁性粉末の平均長軸長が３０ｎｍ未満では熱的安定性が低下し、安定した磁気特性が得られにくくなることがあり、１００ｎｍを超えて長くなるとノイズが増えてＣ／Ｎが低下してしまうことがある。
針状比は透過型電子顕微鏡によって測定される平均長軸長とＸ線回折によって得られる結晶子サイズとの比によって表される。
強磁性金属粉末の飽和磁化σｓ  は７０〜１００Ａ・ｍ２／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）  、好ましくは７５〜１００Ａ・ｍ２／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）である。
強磁性粉末の飽和磁化σｓが７０Ａ・ｍ２／ｋｇ未満では出力が低下することがあり、１００Ａ・ｍ２／ｋｇを超えて大きくなるとノイズが高くなることがある。
強磁性粉末の抗磁力は１５１〜２７９ｋＡ／ｍ（１９００〜３５００Ｏｅ）が好ましく、より好ましくは１５９〜２６３ｋＡ／ｍ（２０００〜３３００Ｏｅ）、更に好ましくは１５９〜２３９ｋＡ／ｍ（２０００〜３０００Ｏｅ）である。
【００１４】
強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、表面処理を行いＡｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などの形になっていてもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ２以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えるこ  とは少ない。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性粉末自体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．６以下が好ましい。強磁性粉末の抗磁力Ｈｃの分布を小さくする必要がある。尚、ＳＦＤが０．６以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布を良くする、焼結を防止するなどの方法がある。
【００１５】
また、本発明の磁気記録媒体の磁性層には平均粒子サイズが５〜３０ｎｍのＳｉＯ２粒子を含有している。
このＳｉＯ２粒子は、磁性層表面に分布して、ヘッドと磁性層表面に存在する研磨性のある粒子（研磨剤粒子や磁性体）との接触頻度を低減させることにより、ＭＲヘッドの摩耗を低減させることができるものである。また該ＳｉＯ２粒子が磁性層中に分布することによる磁性層を補強する効果により、耐スリキズ性が向上する。該ＳｉＯ２粒子の好ましい粒径は５〜２５ｎｍである。
ＳｉＯ２の平均粒子サイズが５ｎｍ未満では安全な分散性を確保することが難しくなることがあり、３０ｎｍを超えて大きくなると、磁性層表面性が劣化することがある。
該ＳｉＯ２粒子の具体的な例としては、シーアイ化成（株）製ナノテックＳｉＯ２、日産化学（株）製スノーテックスコロイダルシリカＭＥＫ−ＳＴ、日本アエロジル（株）製アエロジル３８０（７ｎｍ）、アエロジル２００ＣＦ（１２ｎｍ）、アエロジル９７４（１２ｎｍ）、アエロジル５０（３０ｎｍ）などである。
【００１６】
本発明の磁気記録媒体の磁性層にはカーボンブラックを含有してもよい。
本発明の磁性層に使用されるカーボンブラックの例はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌ、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ    ２０００、１３００、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ    ＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ    ＳＣ、ＲＡＶＥＮ    １５０、５０、４０、１５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性層形成用塗布液に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。
【００１７】
カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する量の０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。
カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは磁性層、下層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にすることができる。
【００１８】
本発明の磁気記録媒体の磁性層には研磨剤を含有することが好ましい。
本発明の磁性層に用いられる研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０重量％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０５〜０．３μｍが好ましく、更に好ましくは０．０５〜０．２５μｍである。特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜１．５ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５重量％、ｐＨは２〜１１、ＳＢＥＴ  は１〜４０ｍ２  ／ｇが好ましい。
【００１９】
本発明の磁性層に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−８２、ＨＩＴ−１００、レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製ＵＢ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。これら上層に添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。
【００２０】
［非磁性層（下層）］
本発明の磁気記録媒体は必要に応じて、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層（下層）を有することが好ましい。この下層を有することにより、磁性層を単に上層と称することもできる。
以下に下層に関する詳細な内容について説明する。
この下層は非磁性の無機粉末（以下、単に非磁性粉末とも称する）と結合剤を含有する。
該下層に用いられる非磁性粉末としては、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質化合物から選択することができる。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。
【００２１】
これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜０．５μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長は０．２μｍ以下、好ましくは０．１５μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以下のものが適当である。非磁性粉末の針状比は２〜２０、好ましくは３〜１０である。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。
【００２２】
非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。これらは官能基に対する吸着性が高いので、分散がよく、また塗膜の機械的な強度も高い。
非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ２  ／ｇ、好ましくは５〜８０ｍ２  ／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ２  ／ｇである。
非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが  好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。
ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。
【００２３】
形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍｏｌ／ｍ２  、好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ２  、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ２  である。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。これらの非磁性粉末の表面は表面処理されてＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２であるが、更に好ましいのは  Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００２４】
本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２  Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
下層にカーボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。
【００２５】
下層のカーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ２  ／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ２  ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発明の下層に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製  ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化成工業社製  ＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コンロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを下層形成用塗液に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。本発明の下層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００２６】
また下層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。
本発明の下層には、前述の磁性層で用いた研磨剤を含有することが好ましい。下層に該研磨剤を添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。下層に添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【００２７】
［バックコート層］
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。このような高い走行耐久性を維持させるために、非磁性支持体の磁性層の反対面に、結合剤とカーボンブラックと無機粉末が含有されているバックコート層を有することが好ましい。バックコート層に用いられるカーボンブラックは、平均粒子サイズの異なる二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。この場合、平均粒子サイズが１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子サイズが２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バックコート層の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。一方、粒子サイズが２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、またバック層の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。しかし粗粒子状カーボンブラックは、過酷な走行系では、テープ摺動により、バックコート層からの脱落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を有している。
【００２８】
微粒子状カーボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙げることができる。
ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化成工業（株）製）。
また粗粒子カーボンブラックの具体的な商品の例としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ  ＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。
【００２９】
バックコート層において、平均粒子サイズの異なる二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックの含有比率（重量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。
バックコート層中のカーボンブラック（二種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合剤１００重量部に対して、通常３０〜８０重量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５重量部の範囲である。
【００３０】
無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを併用することが好ましい。
具体的には、モース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉末とを使用することが好ましい。
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行による摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもない。またこの軟質無機粉末の平均粒子サイズは、３０〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中では、特に、炭酸カルシウムが好ましい。
バックコート層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００重量部に対して１０〜１４０重量部の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、３５〜１００重量部である。
【００３１】
モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加することにより、バックコート層の強度が強化され、走行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対しても劣化が少なく、強いバックコート層となる。またこの無機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質無機粉末（中でも、炭酸カルシウム）と併用すると、表面の粗いガイドポールに対しての摺動特性が向上し、バックコート層の摩擦係数の安定化も図ることができる。
硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８０〜２５０ｎｍ（更に好ましくは、１００〜２１０ｎｍ）の範囲にあることが好ましい。
モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）を挙げることができる。これらの粉末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用しても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００重量部に対して通常３〜３０重量部であり、好ましくは、３〜２０重量部である。
【００３２】
バックコート層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末とを選択して使用することが好ましい。
バックコート層には、前記それぞれ特定の平均粒子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラックとが含有されていることが好ましい。特に、この組み合わせにおいて、軟質無機粉末として炭酸カルシウムが含有されていることが好ましい。
バックコート層には、潤滑剤を含有させることができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選択して使用できる。バックコート層において、潤滑剤は、結合剤１００重量部に対して通常１〜５重量部の範囲で添加される。
【００３３】
［結合剤］
本発明の磁気記録媒体の磁性層と非磁性層、バックコート層に使用される結合剤としては、従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２ー２５６２１９に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものがあげられる。
【００３４】
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ２、−Ｎ＋Ｒ３（Ｒは炭化  水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０−１〜１０−８モル／ｇであり、好ましくは１０−２〜１０−６モル／ｇである。
【００３５】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などが挙げられる。
【００３６】
本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結合剤は非磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０％の範囲、好ましくは１０〜３０％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０％、ポリイソシアネートは２〜２０％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．４９〜９８ＭＰａ（０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ２）、降伏点は０．４９〜９８ＭＰａ（０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ２）が好ましい。
【００３７】
本発明の磁気記録媒体が下層、上層の二層以上からなる場合には、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性層、各磁性層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００３８】
本発明に用いるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり、これらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも用いることができる。
【００３９】
本発明の磁気記録媒体の磁性層、非磁性層、バックコート層には、その他の添加剤を含有することが好ましい。
本発明における添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつものが使用できる。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。
【００４０】
これらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート  、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、があげられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。
【００４１】
これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００４２】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は下層、磁性層、バックコート層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、下層、磁性層、バックコート層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダー処理した後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【００４３】
本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２、ＮＡＡ−４１５、ＮＡＡ−３１２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１８０、ＮＡＡ−１７４、ＮＡＡ−１７５、ＮＡＡ−２２２、ＮＡＡ−３４、ＮＡＡ−３５、ＮＡＡ−１７１、ＮＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１７３Ｋ、ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、ＮＡＡ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡＢ、カチオンＢＢ、ナイミーンＬ−２０１、ナイミーンＬ−２０２、ナイミーンＳ−２０２、ノニオンＥ−２０８、ノニオンＰ−２０８、ノニオンＳ−２０７、ノニオンＫ−２０４、ノニオンＮＳ−２０２、ノニオンＮＳ−２１０、ノニオンＨＳ−２０６、ノニオンＬ−２、ノニオンＳ−２、ノニオンＳ−４、ノニオンＯ−２、ノニオンＬＰ−２０Ｒ、ノニオンＰＰ−４０Ｒ、ノニオンＳＰ−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５Ｒ、ノニオンＬＴ−２２１、ノニオンＳＴ−２２１、ノニオンＯＴ−２２１、モノグリＭＢ、ノニオンＤＳ−６０、アノンＢＦ、アノンＬＧ、ブチルステアレート、ブチルラウレート、エルカ酸、関東化学社製、オレイン酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰＭ、サンソサイザーＥ４０３０、信越化学社製、ＴＡ−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４１０、ＫＦ４２０、ＫＦ９６５、ＫＦ５４、ＫＦ５０、ＫＦ５６、ＫＦ９０７、ＫＦ８５１、Ｘ−２２−８１９、Ｘ−２２−８２２、ＫＦ９０５、ＫＦ７００、ＫＦ３９３、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６５、Ｘ−２２−９８０、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２−３７１０、Ｘ−２２−３７１５、ＫＦ−９１０、ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製、アーマイドＰ、アーマイドＣ、アーモスリップＣＰ、ライオン油脂社製、デュオミンＴＤＯ、日清製油社製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００、イオネットＭＯ−２００、イオネットＤＬ−２００、イオネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００、イオネットＤＯ−２００などがあげられる。
【００４４】
本発明の磁性層と非磁性層、バックコート層の結合剤、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００４５】
〔非磁性支持体〕
本発明の磁気記録媒体に用いられる非磁性支持体は、厚みが３．０〜１０μｍ、好ましくは３．０〜８．０μｍ、更に好ましくは３．０〜７．０μｍの範囲の可撓性のものが使用される。
本発明に用いられる非磁性可撓性支持体はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、芳香族ポリアミドなどの公知のフィルムが使用できる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っても良い。
【００４６】
本発明の目的を達成するには、非磁性支持体として表面の粗さ形状が必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーとしては一例としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があげられる。支持体の最大高さＳＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．５μｍ以下、中心面山高さはＳＲｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒ  は１０％以上９０％以下、平均波長Ｓλａは５μｍ以上３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体表面に微小な突起を形成させる必要があり、通常平均粒径０．０１〜０．２μｍのフィラーを０〜２００００個／ｍｍ２の範囲で支持体を形成する樹脂に添加し分散させることでコントロールすることができる。この場合、粒径分布中の粗大粒子や、凝集した粒子が通常存在するために、それによって形成される粗大突起が存在する。本発明では高さが０．２７３μｍ以上の突起が１００個／１００ｃｍ２以下、さらには８０個／１００ｃｍ２以下が好ましく、５０個／１００ｃｍ２以下が一層好ましい。
【００４７】
本発明に用いられる非磁性支持体のＦ−５値は好ましくは４９〜４９０ＭＰａ（５〜５０Ｋｇ／ｍｍ２）、また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は４９〜９８０ＭＰａ（５〜１００Ｋｇ／ｍｍ２）、弾性率は９８０〜１９６００ＭＰａ（１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ２）が好ましい。温度膨張係数は１０−４〜１０−８／℃であり、好ましくは１０−５〜１０−６／℃である。湿度膨張係数は１０−４／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０−５／ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼで等しいことが好ましい。
【００４８】
［層構成］
非磁性可撓性支持体と非磁性層または磁性層の間に密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０．  ０２〜０．５μｍである。本発明は通常支持体両面に非磁性層と磁性層を設けてなる両面磁性層ディスク状媒体であっても、片面のみに設けてもかまわない。この場合、帯電防止やカール補正などの効果を出すために非磁性層、磁性層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０．２〜１．５μｍ、好ましくは０．３〜０．８μｍである。これらの下塗層、バックコート層は公知のものが使用できる。
本発明の磁気記録媒体では、平均磁性層厚みが４０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましい、更に好ましくは５０〜１２０ｎｍである。磁性層は単一層でも、複数でも本発明の目的を達成できる。
本発明の磁気記録媒体の下層である非磁性層の厚みは０．２μｍ以上５．０μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以上３．０μｍ以下、さらに好ましくは１．０μｍ以上２．５μｍ以下である。
【００４９】
〔磁気記録媒体の製造方法〕
本発明の磁気記録媒体は、各層を形成するための塗布液（以下、単に塗料とも称する）を塗布・乾燥等することで製造することができる。塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後に粘度調整をするための混合工程で分割して投入してもよい。
【００５０】
本発明の磁気記録媒体の製造方法で用いられる有機溶媒は、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等が使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。
【００５１】
本発明の磁気記録媒体を製造するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程としてを用いることができることはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することにより、高い残留磁束密度（Ｂｒ）を有する磁気記録媒体を得ることもできる。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）を用いて、強磁性粉末１００重量部に対し結合剤が１５〜５００重量部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開昭６４−７９２７４号公報に記載されている。また、下層非磁性層液を調整する場合には高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。
【００５２】
非磁性可撓性支持体上に非磁性粉末と結合剤を含有する非磁性層形成用塗布液及び強磁性粉末と結合剤とを含む磁性層形成用塗布液を、非磁性層の上に磁性層が形成されるように非磁性可撓性支持体上に同時または逐次に塗布し、塗布層が湿潤状態にあるうちにスムージング処理と磁場配向とを行う方法を用いることができる。
【００５３】
上記のような重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法としては、例えば、以下のような方法及び装置を挙げることができる。
１．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状態のうちに特公平１−４６１８６号公報や特開昭６０−２３８１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布する。
２．特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。
３．特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布する。
【００５４】
なお、強磁性粉末の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−９５１７４号公報や特開平１−２３６９６８号公報に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１号公報に開示されている数値範囲を満足することが適当である。
さらに、スムージング処理は、例えば、ステンレス板をウェブ上の塗布層表面に当てて行うことができるが、これ以外に、特公昭６０−５７３８７号公報に記載されているような固体スムーザーによる方法、静止しているか、又はウェブ走行方向と逆方向に回転しているロッドで塗布液を掻き落とし計量する方法、塗布液膜の表面にフレキシブルなシートを面接触させて平滑化する方法等を採用することもできる。
また、磁場配向には、０．１テスラ（１０００ガウス）以上のソレノイド磁石と０．２テスラ（２０００ガウス）以上のコバルト磁石を同極対向で併用することが好ましい。また、ディスク媒体として本発明を適用する場合はむしろ配向をランダマイズするような配向法が必要である。
【００５５】
さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用することができる。また、金属ロール同志で処理することも出来る。処理温度は、好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であることが適当である。線圧力は、好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ以上であることが適当である。本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましくは０．５以下、さらに好ましくは０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは１０４〜１０１２オーム／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ２、破断強度は好ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ２、磁気記録媒体の弾性率は走行方向、長い方向とも好ましくは１００〜１５００ｋｇ／ｍｍ２、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下であることがそれぞれ適当である。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０８〜８×１０９ｄｙｎｅ／ｃｍ２の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が出やすい。
【００５６】
磁性層中に含まれる残留溶媒は、好ましくは１００ｍｇ／ｍ２以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ２以下であることが適当である。磁性層が有する空隙率は下層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下であることが適当である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場３９８ｋＡ／ｍ（５ＫＯｅ）で測定した場合、テープ走行方向の角形比は０．７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好ましくは０．９０以上であることが適当である。テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となることが好ましい。磁性層のＳＦＤ（Ｓｗｉｃｈｉｎｇ    Ｆｉｅｌｄ    Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は０．６以下であることが好ましい。
【００５７】
本発明の磁気記録媒体は上層（磁性層）と必要に応じて下層とを有するが、目的に応じ下層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。２層以上の磁性層にそれぞれどのような物理特性をもたらすかは、公知の磁性層重層に関する技術を参考にすることができる。例えば上層磁性層のＨｃを下層のＨｃより高くすることは特公昭３７−２２１８号公報、特開昭５８−５６２２８号公報等を初め多くの発明があるが、本発明のように磁性層を薄層にすることにより、より高いＨｃの磁性層でも記録が可能になる。
【００５８】
【実施例】
以下に本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、勿論本発明の範囲は、これらによって限定されるものではない。
実施例、比較例で用いた強磁性金属粉末の種類を表１に示す。
【００５９】
【表１】
2004213828.tif 000002
【００６０】
〔実施例１〜３、比較例１〜３〕
【００６１】
（磁性層用塗料組成）
・強磁性金属粉末（表１参照）                            １００部
・塩化ビニル樹脂（日本セ゛オン製ＭＲ−１００）                ５部
・ポリエステルポリウレタン樹脂（分子量３．５万、          ３部
ネオヘ゜ンチルク゛リコール／カフ゜ロラクトンホ゜リオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１
−ＳＯ３Ｎａ基  １×１０−４ｅｑ／ｇ含有）
・カーボンブラック（平均粒径：８０ｎｍ）              ０．５部
・α−Ａｌ２Ｏ３（平均粒径  ０．１μｍ）                    ５部
・ＳｉＯ２  （表２参照）
・フェニルホスホン酸                                      ３部
・ステアリン酸（工業用）                              ０．５部
・ステアリン酸ｓｅｃブチル（工業用）                    １．５部
・シクロヘキサノン                                      ３０部
・メチルエチルケトン                                                                    ９０部
・トルエン                                              ６０部
【００６２】
上記ＳｉＯ２の各実施例及び比較例における添加量及び粒径は、下記表２に示す。
【００６３】
（非磁性層用塗料組成）下層用塗料
・α−Ｆｅ２Ｏ３                                                                                    ８０部
（平均長軸長：０．１μｍ、  Ｓｂｅｔ：４８ｍ２／ｇ、ＰＨ：８
表面にＡｌ２Ｏ３が粒子全体に対し１重量％存在）
・カーボンブラック（平均一次粒径  １６ｎｍ）            ２０部
・塩化ビニル樹脂（日本セ゛オン製ＭＲ−１１０）              １０部
・ポリエステルポリウレタン樹脂（分子量３．５万  ）          ５部
（ネオヘ゜ンチルク゛リコール／カフ゜ロラクトンホ゜リオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１
−ＳＯ３Ｎａ基  １×１０−４ｅｑ／ｇ含有  ）
・ステアリン酸                                            １部
・ステアリン酸ｓｅｃブチル（工業用）                        １部
・シクロヘキサノン                                      ５０部
・メチルエチルケトン                                  １００部
・トルエン                                              ５０部
【００６４】
上記磁性層用（上層用）塗料組成、非磁性層用（下層用）塗料組成それぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フェニルホスホン酸と処方量の５０％の各溶剤をニーダーで混練した後、ポリウレタン樹脂と残りの成分を加えてサンドミルで分散した。得られた分散液にポリイソシアネート（日本ホ゜リウレタン製コロネートＬ）を磁性層用用塗布液には１部、下層用塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒適当量を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、上層形成用塗料Ａおよび下層形成用塗料Ｂの塗布液をそれぞれ調製した。
【００６５】
得られた下層用塗布液を用い、厚さ６μｍのポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム上に乾燥後の下層厚さが１．５μｍになるように塗布乾燥し、さらにその上に、得られた上層液を、乾燥後の厚さが９０ｎｍとなるように塗布し、上層が湿潤した状態で配向処理を行った。
上下層塗布層を乾燥させた後、上下層塗布層と反対側の支持体面に、乾燥後のバックコート層厚が０．５μｍになるよう、以下に示すバックコート層用塗料を塗布した。乾燥後、７段のカレンダーで温度９０℃、スピード２００ｍ／ｍｉｎで処理を行い、平滑化処理を施した。
【００６６】
（バックコート層用塗料組成）
・微粒子状カーボンブラック                            １００部
（平均粒径：１７ｎｍ、キャボット社製ＢＰ−８００）
・粗粒子状カーボンブラック                              １０部
（平均粒径：２７０ｎｍ、カンカルブ社製サーマルブラック）
・α−Ｆｅ２Ｏ３                                                                                  １５部
（平均粒径０．１１μｍ、戸田工業製ＴＦ１００）
・ニトロセルロース樹脂                                １４０部
・ポリウレタン樹脂                                      １５部
・ポリエステル樹脂                                          ５部
・ポリイソシアネート樹脂                                ４０部
・オレイン酸銅                                            ５部
・銅フタロシアニン                                        ５部
【００６７】
このようにしてできた磁気テープ原反を、７０℃で４８時間加熱することにより、ポリイソシアネート化合物を硬化させた。
次いでの原反ロールから、原反両サイドの耳部を除去しながら６ｍｍ幅にスリットした。
【００６８】
＜評価＞
上記のようにして得られたサンプルを以下方法で評価し効果を確認した。
（１）表面粗さ
ＷＩＫＯ社製ＨＤ−２０００を用いて測定波長７７０ｎｍにてＭＩＲＡＵ法で約２５０μｍ×１８０μｍの面積から、傾き補正、円筒補正を加えて表面粗さ（Ｒａ）を求めた。
（２）Ｃ／Ｎ測定
Ｃ／Ｎはドラムテスターを用いて測定した。記録はＢｓ１．８Ｔ、キ゛ャッフ゜長０．１５μｍのＭＩＧヘッドを用い、ＭＲヘッドにて再生した。記録再生時のヘット゛／媒体相対速度は１０．５ｍ／ｓｅｃで２１ＭＨｚの単一周波信号を記録して、再生スペクトルをシバソク製スペクトルアナライザーで測定し、Ｃ／Ｎ（２１ＭＨｚでのキャリア出力と１９ＭＨｚでのノイス゛との比）を求め、実施例１を０ｄＢとして、相対表示した。
【００６９】
（３）ＭＲヘッド磨耗の測定
ＤＶＣｐｒｏデッキにＭＲヘッドを取り付け、１００時間走行後の基板とシールド部の段差をＡＦＭを用いて測定した。
（４）耐スリキズ性の測定
直径４ｍｍφのＳＵＳ棒に１／２インチ幅の研磨テープを１８０℃の角度でラップさせ、その一端を固定、一端に１００ｇの荷重をかけ、磁性層面が研磨テープの研磨面と接触するように測定サンプルを１６０℃の角度でラップさせ、一端に荷重１０ｇを掛け、スピード３０ｍｍ／ｓｅｃで走行させたとき、磁性面に発生するスリキズの本数を５０倍の顕微鏡で観察し数えた。同一水準ｎ＝３の平均値を求めた。測定した結果を表２に示す
【００７０】
【表２】
2004213828.tif 000003
【００７１】
表２に示すように、実施例１〜３はＣ／Ｎが高く、段差摩耗が小さく、スリキズ本数も少ない。一方、比較例１の通り磁性層にＳｉＯ２粒子を添加しないと、ＭＲヘッドの段差摩耗が大きく、スリキズ性も劣る。
比較例２はＳｉＯ２の粒子サイズが大きく、段差摩耗、スリキズ性は良好だが、Ｃ／Ｎが低い。
磁性体Ｃを使用した比較例３はＣ／Ｎが低い。
【００７２】
【発明の効果】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に強磁性金属粉末及び結合剤を含有する少なくとも１層の磁性層を設けた磁性層表面粗さが３ｎｍ以下の磁気記録媒体において、前記磁性層に平均長軸長が３０〜１００ｎｍで、かつ飽和磁化σｓが７０〜１００Ａ・ｍ２／ｋｇであり、前記磁性層に平均粒子サイズが５〜３０ｎｍであるＳｉＯ２粒子を含有させることにより、特にＭＲヘッドを搭載した記録システムにおいて優れた電磁変換特性と、ＭＲヘッド摩耗を低減させ、かつ耐スリキズ性を高めた高密度記録用の耐久性磁気記録媒体を提供することができる。