(57)【要約】【課題】重力に対する測定姿勢に影響されない、被検面に固有の面精度誤差の絶対校正を可能とする。【解決手段】予め、Ｚｅｒｎｉｋｅで代表される基底形状に対して、回転対称成分抽出軸を基準にフィッティングを掛けて残渣形状をパターン形状として記憶しておき、被検面を干渉計測する際に被検面の重力に対する傾斜状態を変えながら、支持部材と独立に、若しくは同時に回転平均化して得られる演算データに、該パターン形状でフィッティングを掛けて、自重変形を分離し、被検面に固有の面精度誤差の絶対校正を可能とした。【選択図】　　　　　　　　図１
2004101454.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非回転対称誤差成分と、
予めその回転中心軸の位置が既知の少なくとも２個の偏心した回転対称誤差成分とが合算された形状誤差計測データから、該非回転対称誤差成分と該回転対称誤差成分とを分離抽出する絶対校正法において、
該非回転対称誤差成分を成分分解するための複数の基底形状ごとに、該回転中心軸を基準として回転対称フィッティングを掛け、それぞれ得られた残差形状を該基底形状と一対一に対応するパターン形状として演算記憶する第１工程と、
該形状誤差計測データに対して該回転中心軸を基準として回転対称フィッティングを掛け、得られた残差形状に対して更に該パターン形状を基準としてフィッティングを掛けて成分分解することにより、該パターン形状に対応する分解係数を算出する第２工程と、
該パターン形状と一対一に対応する該基底形状に該分解係数を乗算して総和をとることにより、該非回転対称誤差成分を抽出する第３工程と、
抽出された該非回転対称誤差成分を該形状誤差計測データから減算した減算データに対して、該回転中心軸を基準として回転対称フィッティングを掛けることにより、該回転対称誤差成分を抽出する第４工程とからなることを特徴とする絶対校正法。
【請求項２】
光源から出射された測定用光束を、波面変換素子を用いて被検物の被検面が本来形成されるべき設計形状と同じ幾何学形状を有する測定波面に変換し、垂直入射が満足されるようにアライメントされた該被検面に照射し反射された該測定波面と、該測定用光束を所定の面形状を有する参照面に照射し反射された参照波面とを互いに干渉させ、干渉により生じる干渉縞を光電変換素子を用いて光電検出する干渉装置と、
該干渉縞を解析処理することにより、該参照波面を基準とした、該被検面の面精度誤差（≡該設計形状からの乖離誤差成分の内、該幾何学形状の誤差成分を除去した後に残る、うねり誤差成分）を演算する演算装置とから成る計測装置を用いて、該被検面の幾何学形状の真球度（≡幾何学形状が球面の場合の面精度誤差）の絶対校正法において、
該被検面の有効領域（≡品証すべき領域）の基準軸が重力方向と一致するように該被検物を支持部材の上で保持し、該有効領域の全面をカバーする該測定波面に対して干渉計測を可能とし、該被検物の重力方向に対する姿勢を変えずに、該支持部材の上で該被検物を、該基準軸を回転軸として回転させて複数回、該干渉面（≡参照面と被検面）の干渉計測を行うことにより得られる第１の干渉計測データから、該有効領域の該被検面の固有面精度（≡第１の絶対校正データ）を得る第１の手順と、
重力方向に対して該基準軸が一定の傾斜角度を保つように該被検物を該支持部材の上で保持し、該有効領域の部分領域をカバーする該測定波面に対して干渉計測を可能とした配置において、該傾斜角度を保ったまま、該支持部材の上で該被検物を、該基準軸を回転軸として回転させて複数回、該干渉面の干渉計測を行うことにより得られる第２の干渉計測データと、該被検物の重力方向に対する姿勢を変えずに該支持部材の上で該被検物を、該第１の手順において該基準軸が位置していた軸を回転軸として回転させて複数回、該干渉面の干渉計測を行うことにより得られる第３の干渉計測データと該第１の絶対校正データとから、該支持部材からの重力に対する反力の形で発生するホールド変形の非回転対称誤差成分と、予めその回転中心軸の位置が既知の２個の偏心した回転対称誤差成分とが合算された形状誤差計測データを得る第２の手順と、
該形状誤差計測データに対して請求項１記載の絶対校正法を適用することにより、該被検面の固有面精度（≡第２の絶対校正データ）を得る第３の手順と、
該第１の絶対校正データと、該第２の絶対校正データとから、該被検面の固有面精度（≡第３の絶対校正データ）を得る第４の手順とから成ることを特徴とする絶対校正法。
【請求項３】
前記被検物と同じ形状のレフ原器を準備し、前記支持部材の上で、前記被検物と該レフ原器の干渉計測を交互に行うことにより得られる２個の干渉計測データを減算した、所謂レフ減算データに対して、請求項２記載の絶対校正法を用いて該レフ原器が有するレフ原器面の前記第３の絶対校正データを取得し、該レフ減算データに対して該レフ原器面の前記第３の絶対校正データを補正する事により、前記被検面の第３の絶対校正データを得ることを特徴とする絶対校正法。
【請求項４】
公知の手法により得られた、前記支持部材の上で保持された状態の前記被検面の絶対校正データと、前記被検面の前記第３の絶対校正データとから、該支持部材が重力に対する反力として前記被検面に与えるホールド変形の絶対校正データを得ることを特徴とする絶対校正法。
【請求項５】
請求項１〜請求項４の何れか１項記載の絶対校正法を用いて測定された光学素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学素子の研磨面が有する固有（無重力状態で、かつ、光学素子の支持部材から加わる外力が無い状態）の面精度誤差を絶対校正する手法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の絶対校正法では、レンズを保持するための支持部材から、重力に対する反力をレンズが受けることで発生する自重変形を考慮しないで、該レンズの被検面の面精度誤差を絶対校正していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、光学素子の研磨面を被検面として、該被検面が有する固有の面精度誤差を絶対校正するニーズが高まっている。被検面に固有の面精度誤差を絶対校正する手法としては、特開平５−２２３５３８号公報に開示された、真球を用いた手法が知られているが、これは被検物が球体の場合に限定されてしまう。即ち、球体から切り出した形状が一般的である光学素子（レンズ）に対して、無重力状態と等価な検査は地球上では実現できていなかった。また、宇宙空間での検査は未だ遠い先の話と考えられる。
【０００４】
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたもので、被検面に固有の面精度誤差を絶対校正することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決する為の手段】
本発明では、上記目的を達成するために、第１の手段として、「請求項１」を用いることとした。これにより、非回転対称誤差成分と、回転パターンが予めその回転中心軸の位置が既知の少なくとも２個の偏心した回転対称誤差成分とが合算された形状誤差計測データから、非回転対称誤差成分と回転対称誤差成分を分離抽出することを可能とした。
【０００６】
また、第２の手段として、「請求項２」を用いることとした。即ち、被検物に該支持部材からの反力が共通に加わる姿勢で、該被検面に対して二通りの異なる方法で干渉計測データの平均化を行い、それぞれの平均化されたデータを減算することにより自重変形の回転対称誤差成分を相殺し（該自重変形に関しては、評価領域内には非回転対称誤差成分のみとし）、被検面に固有の面精度誤差に関して、同様の過程で該評価領域内に重畳する２個の偏心した回転対称誤差成分と併せて、請求項１を適用することにより、該被検面に固有の面精度誤差を絶対校正することを可能とした。
【０００７】
また、第３の手段として、「請求項３」を用いることとした。即ち、別途該被検物と等価なマスターとして位置付けられるレフ原器を導入し、比較減算補正を適用する事により、該被検面の絶対校正を短時間で行う事が可能になる。
【０００８】
また、第４の手段として、「請求項４」を用いることとした。即ち、該支持部材からの反力を受けて自重変形を受けた状態の該被検面の面精度誤差を別途絶対校正しておき、請求項２記載の手法で求まった、該被検面に固有の面精度誤差を減算する事により、純粋に支持部材からの反力として発生する自重変形の絶対校正が可能になる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
−本発明による絶対校正法の第１の実施の形態（請求項１に対応）−
以下、図１、２を用いて本発明による絶対校正法の第１の実施の形態について説明する。第１の実施の形態は、被検面に固有の面精度誤差（後述）を絶対校正する為に必要な、成分分解と分離抽出の原理を説明するものである。
【００１０】
図１（ａ）には、該形状誤差計測データとして、測定波面の測定有効（太線で示される円）内に、その位置が既知の回転中心軸を基準とした形状の異なる２個の回転対称誤差成分と、該測定有効で規定される非回転対称誤差成分（図ではＡとして表示）とが重畳した様子を図示している。なお、図においては、２個のうちの１個の回転対称誤差成分（第２の回転対称誤差成分）は、その回転中心軸が該測定有効（円）のアパーチャ中心と一致した場合である。また、非回転対称誤差成分の０度方位は、該アパーチャ中心を原点にとった場合、他方（第１の回転対称誤差成分）の、該原点と一致しない回転中心軸が位置する方向となっている。該非回転対称誤差成分は、該原点を中心に回転平均化（後述）するとゼロになる。
【００１１】
さて、この場合の形状誤差計測データ（Ｔ）は、
［数１］Ｔ≡Ｈ＋ＲＳ１−ＲＳ２
で表すことができる。ここに、ＲＳは回転対称誤差成分を表し、その添え字は、第一、第二を示している（＋−の使い分けは、第２の実施の形態に対応させた）。また、記号に記した下線は、原点に対してその回転中心軸が偏心していることを表している。Ｈは非回転対称誤差成分である。
【００１２】
図１（ｂ）には、非回転対称誤差成分Ｈの一例として、Ｚｅｒｎｉｋｅ関数のＺ５、Ｚ６で表現される所謂アス成分（図では、Ａで表している）を挙げている。任意の非回転対称誤差成分（Ｈ）は、Ｚ項を無限大に採れば、Ｚｅｒｎｉｋｅ関数の各項で表される形状（Ｚｉ）を規定形状として、一義的に分解できる。これを数式で表すと、
［数２］Ｈ＝ΣＣｉ・Ｚｉ
となる。
【００１３】
図２（ａ）は、該アス成分に対して、図１（ａ）の２個の偏心した回転対称誤差成分としてフィッティングされた形状であり、図２（ｂ）は、フィッティングしきれない残渣（該アス成分からフィッティングされた形状を減算した）形状である。ともに、該アス形状と一対一に対応するパターン形状である。本発明では、Ｚｉに対して、図２（ｂ）のようなフィッティング残渣形状をパターン形状（Ｐｉ）として、予め演算して記憶しておく。また、ある非回転対称誤差成分Ｚｉに対して、該フィッティングにより求まる残渣形状をＰｉとした時、
［数３］ｆ［Ｚｉ］≡Ｐｉ
で、該フィッティングを数式化することとする。
【００１４】
さて、前記Ｔに対してｆを適用した場合、２個の回転対称誤差成分に対してはフィッティングが掛かって残渣がゼロとなるため、
［数４］ｆ［Ｔ］＝ｆ［Ｈ］
が成立する。この右辺を更に変形して、
［数５］ｆ［Ｈ］＝ｆ［ΣＣｉ・Ｚｉ］＝ΣＣｉ・ｆ［Ｚｉ］＝ΣＣｉ・Ｐｉ
の関係が成立する。これは、Ｔに対する該フィッティング残渣即ち、Ｈに対する該フィッティング残渣は、パターン形状Ｐｉを基底として一意に分解できることを表している。
【００１５】
この手法をＴに適用した結果として求まる係数Ｃｉに対して、数２を用いて非回転対称誤差成分Ｈを合成すれば、結果的にＨを分離抽出できたことになる。一旦、該非回転対称誤差成分Ｈが分離抽出されれば、該形状誤差計測データＴから減算することにより、数１を変形した
［数６］ＲＳ１−ＲＳ２＝Ｔ−Ｈ
で表されるような、２個の回転対称誤差成分が偏心して重畳した成分が残ることとなる。この成分に対しては、特開平５−２２３５３７号公報に開示された等高線なぞりの手法を用いて、それぞれ分離抽出することが可能となる。
【００１６】
−本発明による絶対校正法の第２の実施の形態（請求項２に対応）−
以下、図３、図４を用いて、本発明による絶対校正方法の第２の実施の形態について説明する。第２の実施の形態は、被検面に固有の面精度誤差（後述）を絶対校正するための、測定配置を示している。図３（ａ）は請求項２の第１の手順のうち、第１の干渉計測データを取得する配置説明図、図３（ｂ）は請求項２の第２の手順のうち、第２の干渉計測データを取得する配置説明図、図４（ａ）（ｂ）は請求項２の第２の手順のうち、第３の干渉計測データを取得する配置説明図である。
【００１７】
図３（ａ）において、不図示の干渉計から射出される平面波に形成された測定光を、波面変換素子であるフィゾーレンズ２により被検物３が有する球面の被検面３ａの幾何学形状を有する測定光に変換している。このフィゾーレンズ２は、該測定光を「正（垂直に）反射、及び透過」させる、高精度に仕上げられた球面の参照面（通称フィゾー面）２ａを有しており、被検物３が有する球面の被検面３ａが、参照面２ａに正対して配置されている。このフィゾー干渉計の配置により、参照面２ａで反射された測定光と被検面３ａにより反射された測定光が、不図示の干渉計の内部に設けられたＣＣＤで代表される検知器、若しくはその共役位置に設けられた光学面の上に干渉縞を形成する。
【００１８】
該被検面の有効領域（≡品証すべき領域）は通常、円形のアパーチャであり、該アパーチャの中心（軸）を該有効領域の基準軸として採用するのが普通である。この時、該基準軸４が重力方向（図中「↓ｇ」で表している）と平行になるように該被検物を第１の支持部材５の上で保持し、該有効領域の少なくとも全面をカバーする該測定波面に対して干渉計測を可能とした配置図である。
【００１９】
この場合、第１の支持部材５を固定したまま、被検物３に測定光軸４ａの周りに回転角度θの回転を与えても、第１の支持部材５により再現性の良い支持状態を実現することが必要となる。この再現性が成立している必要条件として、回転角度θに０度を採用した（参照体２を取り外してから再度同じ姿勢で取り付けた）時の、後述するアライメント誤差補正を施した後の干渉縞計測データの再現性が挙げられ、それは容易に確認することが可能である。このような支持部材の一例として、３点当たりによるキネマティックなマウントが知られている。図中の被検物３に記された両矢印は、被検面３ａの基準軸４を測定光軸４ａに合致させた状態で、被検物３に回転平均化を与えることを示している。
【００２０】
なお、回転平均化とは、被検物を基準軸を中心として円周等分に回転させては干渉計測し、得られた測定データを加算した後、加算したデータ個数で割る、ことを意味している。
【００２１】
この操作により、被検面の非回転対称誤差成分は平均化されてゼロとなり、図１の第２の回転対称誤差成分が形成されることとなる。
図３（ｂ）は、図３（ａ）から被検物３を傾斜させて第１の支持部材５、若しくは、第１の支持部材と異なる第２の支持部材５ａで保持し、被検面３ａの有効領域の一部である部分領域を、同じ開口角（ＮＡ）のフィゾーレンズを用いて、回転平均の結果として部分測定する配置である。図では、第２の支持部材５ａを採用した。その際の回転中心軸は、傾斜した被検物３の基準軸４である。図では、第１の支持部材５とは異なる第２の支持部材５ａを採用した例であり、支持部材の大きさを変えて図示している。図中の被検物３に記された両矢印は、傾斜した基準軸４を回転中心として、被検物３に回転平均化を与えることを示している。
【００２２】
この操作により、被検面の非回転対称誤差成分は平均化されてゼロとなり、図１の第１の回転対称誤差成分が形成されることとなる。
図４（ａ）、（ｂ）は、図３（ｂ）と同様の測定配置例であるが、回転平均化の回転中心軸が異なっている。すなわち、図３（ｂ）の状態の基準軸では無く、図３（ａ）の状態の基準軸の位置に採ったものであり、被検物３と第２の支持部材５ａを同時に、測定光軸４ａの周りに回転平均化させている。図４（ｂ）は、図４（ａ）の状態から、１８０度回転した状態である。
【００２３】
さて、被検面の面精度誤差（真球度）を、重力に対する「姿勢、及び保持手段」（≡重力関連条件）に依存して変化する面精度誤差（≡自重変形）と、重力関連条件に依存して変化することの無い被検面に固有の面精度誤差（固有面精度誤差）に分解して定義した時、前記３点当たりのマウントの再現性は、自重変形に関して実現される。固有面精度誤差は、無重力状態においても存在し得る成分である。更には、無重力状態において支持部材（例えば、クランプ時の外力）に起因して発生した一定の面精度誤差も、支持部材と一体化して考える場合には、固有面精度誤差に含めても良い。
【００２４】
また、重力条件に関係無く、被検物３を任意の軸の周りに回転角度θの回転を与えた場合に「回転に追従する回転追従誤差成分、回転に追従せずに固定のままの非回転追従誤差成分」を別途定義する。
【００２５】
この時、図３の配置では、固有面精度の非回転対称誤差成分が、回転追従誤差成分になり、固有面精度の回転対称誤差成分と自重変形が、非回転追従誤差成分になる。
【００２６】
また、図４の配置では、自重変形の非回転対称誤差成分と固有面精度の一部が、回転追従誤差成分になり、自重変形の回転対称誤差成分と固有面精度の残りが、非回転追従誤差成分になる。
【００２７】
なお、回転対称誤差成分や非回転対称誤差成分は、それぞれ、回転を与える軸を中心として定義されるものであり、同じ固有面精度であっても、回転軸が異なると、各成分も異なる事に注意する必要がある。
【００２８】
さて、被検面の回転対称誤差成分（Ｒｓ）は、「無重力状態の被検面の固有面精度を、情報処理器の内部で仮想的に、被検面の基準軸（通常は、その有効領域のアパーチャ中心）を回転中心軸とした回転平均化データ」と定義し、被検面の非回転対称誤差成分（Ａｓ）は、「回転平均化を行う際の基準となる固有面精度（θ＝０度）から、Ｒｓを減算したデータ」と定義する。
【００２９】
また、この考え方を一般化して、あるデータＸの回転対称誤差成分（Ｘｒｓ）は、データＸを情報処理器の内部で、データＸのある軸（通常データＸは円形アパーチャであるため、その図心）を回転中心軸とした回転平均化データと定義し、データＸの非回転対称誤差成分（Ｘａｓ）は、データＸから、回転対称誤差成分（Ｘｒｓ）を減算したデータと定義する。
【００３０】
次に、回転角度θを３６０度をｍ（ｍは２以上の整数）等分した角度とし、０度（ｊ＝０）を基準とした回転角度を添字ｊ（ｉ＝０〜ｍ−１）で表した場合、以下の記号を定義する。
【００３１】
・θ×ｊの時計周り方向の座標変換回転ベクトル：Ｋｊ
・θ回転された面精度誤差データ：Ｄｊ
・Ｄｊを構成する、被検面の固有面精度：Ｗｊ
・Ｄｊを構成する、フィゾー面の面精度：Ｆ
・Ｄｊを構成する、自重変形：Ｈｊ
・成分Ａの、軸Ｂに関する回転対称誤差成分：Ａ［Ｂ］ｒｓ
・成分Ａの、軸Ｂに関する非回転対称誤差成分：Ａ［Ｂ］ａｓ
更に、図３（ｂ）の状態の基準軸に関する成分は、下線を付けることとする。なお、被検面が球面の場合には、下線が付いた状態では、所謂幾何学的な横座標の歪みに起因する面精度誤差が発生するため、より厳密には幾何学歪み補正が必要となる。
【００３２】
以上のような定義から、
図３（ａ）の配置に関わる複数個の第１の干渉計測データは、図３（ａ）の状態における基準軸（測定光軸４ａ）を回転中心軸として測定されたものであり、
2004101454.tif 000003
で表される。これら回転データを平均化すると、定義から
［数８］ΣＷａｓｊ＝０
が成立するから、回転平均した結果は、
［数９］ΣＤｊ／ｍ＝Ｗｒｓ＋Ｆ＋Ｈ１
となる。これを、数７の基準データ（ｊ＝０の場合）から減算すると、
2004101454.tif 000004
となり、該有効領域の該被検面の固有面精度（≡第１の絶対校正データ）Ｗａｓを得ることが可能となる。
【００３３】
次に、図３（ｂ）の配置に関わる複数個の第２の干渉計測データは、図３（ｂ）の状態における基準軸を回転中心軸として測定されたものであり、
2004101454.tif 000005
で表される。これら回転データを平均化すると、定義から同様に
［数１２］ΣＷａｓｊ＝０
が成立するから、回転平均した結果は、
［数１３］ΣＤｊ／ｍ＝Ｗｒｓ＋Ｆ＋Ｈ２
となる。
【００３４】
更に、図４の配置に関わる複数個の第３の干渉計測データは、図３（ａ）の状態と同様、測定光軸４ａを回転中心軸として測定されたものであり、
2004101454.tif 000006
で表される。これら回転データを平均化した結果は、
2004101454.tif 000007
となる。
数１３と数１５の回転平均化データの差分をとると、
2004101454.tif 000008
と変形される。これに対して、数１０で求まった第１の絶対校正データＷａｓを利用することにより、未知のデータを左辺に集めると、
2004101454.tif 000009
のように整理できる。
【００３５】
該第１、若しくは、第２の支持部材からの重力に対する反力の形で発生するホールド変形の非回転対称誤差成分が、「Ｈ２［４ａ］ａｓ」である。また、予めその回転中心軸の位置が既知の２個の偏心した回転対称誤差成分が、「Ｗｒｓ−Ｗｒｓ［４ａ］ｒｓ」である。両者が合算された形状誤差計測データは、「ΣＤｊ／ｍ−ΣＤ［４ａ］ｊ／ｍ＋Ｗａｓ［４ａ］ｒｓ」が既知のデータとして得られるため、この形状誤差データに対して、第１の実施の形態を適用すれば、左辺の３個の成分が分離抽出できたこととなる。
【００３６】
抽出されたＷｒｓから座標変換により、第２の絶対校正データＷｒｓが求まり、数１０で求まった第１の絶対校正データＷａｓにこのＷｒｓを加算することにより、
［数１８］Ｗ＝Ｗａｓ＋Ｗｒｓ
のように、該被検面の固有面精度（≡第３の絶対校正データ）を得ることが可能となる。
【００３７】
第１の実施の形態、第２の実施の形態を問わず、第２の実施の形態を例に説明すると、「Ｗｒｓ」から「Ｗｒｓ［４ａ］ｒｓ」が導かれるため、フィッティングされたデータの検証を行うことが可能となる。即ち、フィッティングされたデータであることを添え字ｅで表すと、フィッティングされた「Ｗｒｓｅ」から導かれる「Ｗｒｓｅ［４ａ］ｒｓ」と、直接フィッティングされた「Ｗｒｓ［４ａ］ｒｓｅ」に、有意差が無いことの確認がその検証となる。
【００３８】
また、少なくとも第２の実施の形態のように、２個の偏心した回転対称誤差成分の内の片方の回転中心軸が原点である場合、非回転対称誤差成分も前述した通り、該原点を基準に規定されているため、パターン形状Ｐｉを演算する際には、原点から偏心した第１の回転対称誤差成分としてフィッティングしても良い。
【００３９】
−本発明による絶対校正法の第３の実施の形態（請求項３に対応）−
以下、図５を用いて、本発明による絶対校正方法の第３の実施の形態について説明する。
【００４０】
図５（ａ）は、第２の実施の形態を用いて、無重力状態での計測に相当する、固有面精度が別途校正済みのレフ（図ではＲで表示）を用いて、基準となるレフデータを計測する配置である。このレフは、実際に品質保証をする製品と、形状や材質、重量が同一のものである。矢印の重力方向は、反対であっても差し支え無く、次に説明する図５（ｂ）と同じ測定姿勢であれば、問題無い。また、支持部材に関しても、図５（ａ）（ｂ）で共通でありさえすれば（再現性は必要）、レフの固有面精度を校正する際に用いた支持部材と異なっても良い。この条件で測定されたデータＤ５ａは、
［数１９］Ｄ５ａ＝Ｒ＋Ｈ５ｂ
と表すことができる。この内、Ｒの値は、数１８から求まっている。
【００４１】
次に、図５（ｂ）のように、同じ支持部材５ｂの上で、レフとワーク（図ではＷで表示）を入れ換え、同様に干渉計測を行い、
［数２０］Ｄ５ｂ＝Ｗ＋Ｈ５ｂ
を得る。この二つの測定データと、事前に校正されたＲの固有面精度から、
［数２１］Ｗ＝Ｄ５ｂ−Ｄ５ａ＋Ｒ
の演算式を利用して、ワークの固有面精度が求まることとなる。
【００４２】
この形態では、レフの固有面精度さえ安定していれば、測定条件が異なった場合でも、安定して再現する支持部材５ｂを採用することにより、ワークの固有面精度も安定して再現性良く干渉計測することが可能となる。
【００４３】
−本発明による絶対校正法の第４の実施の形態（請求項４に対応）−
請求項４は、例えば製品使用時の支持部材で保持された状態で、その面精度誤差が絶対校正されていれば、本発明の第３までの実施の形態で校正された、該製品の固有面精度を減算することにより、該製品使用時の支持部材が該製品を保持する際に与える自重変形誤差のみを抽出するものである。
【００４４】
さて、全ての実施の形態で使用される干渉計システムは、図６のように構成される。波面変換素子（フィゾーレンズ）２は、情報処理器１０からの指令を受けて、図示しないピエゾ素子により、光軸方向に微小一定量だけ線形性良く走査され、干渉計１の受光素子（ＣＣＤ）上に形成された干渉縞の明暗（位相）を変化させる。この位相変化を受けた干渉縞計測データは、情報処理器１０に格納され、ＣＣＤの各画素において干渉縞の初期位相が演算される。この初期位相データは、「一周期＝λ／２」の換算係数を用いて、面精度誤差に変換される。
【００４５】
情報処理器１０は、干渉計の制御ボードが実装されたパソコンやＥＷＳで構成され、情報処理器が行う干渉計の制御画面や演算結果の表示は、ディスプレイ３０に成される。また、前記干渉縞は、干渉計から出力されるビデオ信号をモニタＴＶに入力することにより、操作者が視覚することが可能となる。
【００４６】
本発明にかかる絶対校正の情報処理は、情報処理器１０が行うが、情報処理だけに関しては専用器である必要が無い。即ち、第一のパソコンに干渉計１の制御ボードを挿入し干渉計１の制御を行わせると共に、第一のパソコンに格納されたデータファイルに対して、該制御ボードの記憶媒体に予め記憶された、定められた情報処理手順に従い情報処理を行っても良いし、該定められた情報処理手順をアプリケーションソフトとして（可搬）記憶媒体２０に記憶させておき、該データファイルを転送した第二のパソコンに、該アプリケーションソフトをインストールして立ち上げ、同様の情報処理を行っても良い。
【００４７】
【発明の効果】
以上のように、本発明に係る絶対校正法を採用すれば、重力方向に対する姿勢に影響されずに、光学面が固有に有する面精度誤差を絶対校正することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明に係る絶対校正法の第一の実施の形態の説明図である。
【図２】図２は、本発明に係る絶対校正法の第一の実施の形態の説明図である。
【図３】図３は、本発明に係る絶対校正法の第二の実施の形態の説明図である。
【図４】図４は、本発明に係る絶対校正法の第二の実施の形態の説明図である。
【図５】本発明に係る絶対校正法の第三の実施の形態の説明図である。
【図６】本発明に使用する干渉計のブロック図である。
【符号の説明】
１　　・・・・干渉計
２　　・・・・波面変換素子（フィゾーレンズ）
２ａ・・・・参照面（フィゾー面）
３　　・・・・被検物
３ａ・・・・被検面
４　　・・・・測定光軸
５　　・・・・第一の保持手段
１０　　・・・・情報処理器
２０　　・・・・記憶媒体
３０　　・・・・ディスプレイ
４０　　・・・・モニタＴＶ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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