(57)【要約】【課題】ベリリウム銅を主とする素材からなる射出成形用金型のメッキ方法において、肌荒れのない良好な成形面を有し、しかも、寿命が長い射出成形用金型が得られるメッキ方法を提供する。【解決手段】本メッキ方法は、ベリリウム銅を素材とする射出成形用金型等の表面をメッキする処理であって、脱脂処理１に続いて電解活性化処理２が行われ、続いて、ニッケルストライクメッキ処理３と、無光沢ニッケルメッキ処理４とが実行され、さらに、アモルファス無電解ニッケルメッキ処理５と、不動態化処理６とが行われ、最後に水洗処理，純湯洗，乾燥等の後処理７が行われる。このメッキ処理によると表面の肌荒れがなく、寸法の変化も少なく、しかも、金型寿命の長い射出成形用金型を得ることができる。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベリリウム銅を主とする素材からなる射出成形用金型において、
ニッケルストライクメッキと、
無光沢ニッケルメッキと、
アモルファス無電解ニッケルメッキと、
クロメート皮膜と、
が施されたことを特徴とする射出成形用金型。
【請求項２】
ベリリウム銅を主とする素材からなる射出成形用金型に対して施されるメッキ方法において、
ニッケルストライクメッキ処理と、
無光沢ニッケルメッキ処理と、
アモルファス無電解ニッケルメッキ処理と、
クロメート皮膜による不働態化処理と、
がベリリウム銅を主とする素材からなる射出成形用金型に対して施されることを特徴とするメッキ方法。
【請求項３】
上記ニッケルストライクメッキ処理の前に塩酸による電解活性化処理を行うことを特徴とする請求項２記載のメッキ方法。
【請求項４】
上記電解活性化処理の前に脱脂処理を行うことを特徴とする請求項３記載のメッキ方法。
【請求項５】
上記脱脂処理は、有機溶剤による脱脂処理、アルカリ浴による脱脂処理、および、水酸化ナトリウムによる電解脱脂処理の工程を含むことを特徴とする請求項４記載のメッキ方法。
【請求項６】
上記電解脱脂処理における水酸化ナトリウムの溶液は、２０ｇ／ｌから１００ｇ／ｌの範囲の溶液濃度であることを特徴とする請求項５記載のメッキ方法，
【請求項７】
上記ニッケルストライクメッキ処理は、塩酸が３０ｍｌ／ｌから２００ｍｌ／ｌの範囲の溶液濃度であり、塩化ニッケルが１００ｇ／ｌから４００ｇ／ｌの範囲の溶液濃度であることを特徴とする請求項２記載のメッキ方法。
【請求項８】
上記アモルファス無電解ニッケルメッキの溶液の酸性度は、ｐＨ２．５からｐＨ４．５の範囲であることを特徴とする請求項２記載のメッキ方法。
【請求項９】
メッキ対象部品を支持するためのメッキ用治具において、
上記部品の姿勢を第１の姿勢と、上記第１の姿勢とは異なる第２の姿勢とに変更可能に支持する姿勢変更手段を有することを特徴とするメッキ用治具。
【請求項１０】
上記部品を固定支持する梁部を有し、上記梁部の一端がヒンジ支持され、上記梁部の上記ヒンジに関する回転により上記部品の姿勢を変更可能としたことを特徴とする請求項９記載のメッキ用治具。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ベリリウム銅を含む材料を素材とするメッキ処理が施された射出成形用金型、上記射出成形用金型へのメッキ処理方法、および、メッキ用治具（メッキ処理用保持治具）に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、合成樹脂の射出成形用金型の素材としてベリリウム銅が適用されているが、その金型は、熱処理により硬化された状態で射出成形に供されていた。しかし、上記熱処理のみでは、金型の表面が腐食しやすく、金型の寿命が減じてしまう。
【０００３】
そこで、ベリリウム銅を金型として加工し、熱処理により硬化させた後、メッキ処理、例えば、ニッケルメッキを施すことにより金型表面の腐食を防止することが考えられる。
【０００４】
そのベリリウム銅金型に対する従来のニッケルメッキ処理は、
（１）脱脂処理工程
（２）表面酸活性化処理工程
（３）ニッケルメッキ処理工程
（４）水洗，純湯洗，乾燥工程
の工程順で処理される。
【０００５】
上記脱脂処理では、有機溶剤による脱脂とアルカリ溶液による脱脂が行われる。また、上記表面酸活性化処理では、希塩酸、または、希硫酸により軽く表面を活性化し、硝酸，リン酸，酢酸等の混合液を用いて化学研磨を行い、表面のスケールや不動態皮膜を除去する。また、上記ニッケルメッキ処理では、電気メッキ処理と無電解メッキ処理とが行われる。
【０００６】
また、上述した従来のメッキ処理における未処理金型のワークは、図７の従来の電気メッキ処理状態の図、または、図８の従来の無電解メッキ処理状態の図に示すような状態で支持される。図６は、上記従来のメッキ処理に供される未処理金型のワークの斜視図である。
【０００７】
図６に示す貫通穴１０１ａを有するワーク１０１をメッキ処理する場合、図７に示す電気メッキ処理においては、＋電極１０４，１０５が配置されるメッキ槽１０２にメッキ液１０３が満たされる。ワーク１０１は、ワーク支持具１０６に貫通穴１０１ａを水平に保った姿勢で保持された状態で＋電極１０４，１０５の間に浸漬される。このワーク保持状態では、貫通穴１０１ａが両電極に対向し、電流の方向に沿っていることから貫通穴１０１ａを含めて良好なメッキが行われる。
【０００８】
一方、図８に示す上記無電解メッキ処理においては、未処理金型であるワーク２１をワーク支持具１１６に付け替えて貫通穴１０１ａを垂直に保った姿勢とし、メッキ液１１３が満たされたメッキ槽１１２内に浸漬する。この浸漬状態でメッキが行われる。このワーク保持状態では、貫通穴１０１ａが垂直に保たれているので発生するガスが上方に抜けやすく貫通穴１０１ａを含めて良好なメッキが行われる。
【０００９】
なお、従来の金型等の表面のクロムメッキ処理方法に関する提案として特開２００１−７３１６４号公報がある。このメッキ処理では金属基材表面にクロムメッキを施した後、該金属基材を酸化雰囲気中で加熱してクロムメッキ表面に酸化クロム不動態被膜が形成される。このメッキ処理は、ゴム成形用金型や射出成形部品に利用可能である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ベリリウム銅製の射出成形用金型を上記従来のニッケルメッキ処理により処理した場合、酸活性化処理工程において表面を酸混合溶液による化学研磨処理するのでその金型の表面が溶解して寸法が変化する。また、酸混合溶液で上記金型表面が肌荒れする問題もあった。また、上記金型表面は、結晶粒界により腐食しやすく、射出成形において、その寿命も短くなり、必ずしも十分なショット数が得られないといった問題もあった。
【００１１】
さらに、上記従来のニッケルメッキ処理に適用される従来のワーク支持具では、図７に示した電気メッキ処理の場合と図８に示した無電解メッキ処理の場合とで未処理金型であるワークの保持姿勢が異なるため、各メッキ処理毎の専用のワーク支持具を必要とし、さらに、ワークの付け替え作業を必要とし、手間が掛かっていた。
【００１２】
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、ベリリウム銅を主とする素材からなる射出成形用金型において、適切なメッキ処理を行うことにより肌荒れのない良好な成形面が得られ、しかも、寿命が長い射出成形用金型を提供し、また、そのメッキ方法を提供し、さらに、上記メッキ処理において未処理金型の保持姿勢を容易に切り換えられるメッキ用治具を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１記載の射出成形用金型は、ベリリウム銅を主とする素材からなる射出成形用金型において、ニッケルストライクメッキと、無光沢ニッケルメッキと、アモルファス無電解ニッケルメッキと、クロメート皮膜とが施されている。
【００１４】
本発明の請求項２記載のメッキ方法は、ベリリウム銅を主とする素材からなる射出成形用金型に対して施されるメッキ方法において、ニッケルストライクメッキ処理と、無光沢ニッケルメッキ処理と、アモルファス無電解ニッケルメッキ処理と、クロメート皮膜による不働態化処理とがベリリウム銅を主とする素材からなる射出成形用金型に対して施されるメッキ方法である。
【００１５】
本発明の請求項３記載のメッキ方法は、請求項２記載のメッキ方法において、上記ニッケルストライクメッキ処理の前に塩酸による電解活性化処理を行う。
【００１６】
本発明の請求項４記載のメッキ方法は、請求項３記載のメッキ方法において、上記電解活性化処理の前に脱脂処理を行う。
【００１７】
本発明の請求項５記載のメッキ方法は、請求項４記載のメッキ方法において、上記脱脂処理は、有機溶剤による脱脂処理、アルカリ浴による脱脂処理、および、水酸化ナトリウムによる電解脱脂処理の工程を含む。
【００１８】
本発明の請求項６記載のメッキ方法は、請求項５記載のメッキ方法において、上記電解脱脂処理における水酸化ナトリウムの溶液は、２０ｇ／ｌから１００ｇ／ｌの範囲の溶液濃度である。
【００１９】
本発明の請求項７記載のメッキ方法は、請求項２記載のメッキ方法において、上記ニッケルストライクメッキ処理は、塩酸が３０ｍｌ／ｌから２００ｍｌ／ｌの範囲の溶液濃度であり、塩化ニッケルが１００ｇ／ｌから４００ｇ／ｌの範囲の溶液濃度である。
【００２０】
本発明の請求項８記載のメッキ方法は、請求項２記載のメッキ方法において、上記アモルファス無電解ニッケルメッキの溶液の酸性度は、ｐＨ２．５からｐＨ４．５の範囲である。
【００２１】
本発明の請求項９記載のメッキ用治具は、メッキ対象部品を支持するためのメッキ用治具において、上記部品の姿勢を第１の姿勢と、上記第１の姿勢とは異なる第２の姿勢とに変更可能に支持する姿勢変更手段を有する。
【００２２】
本発明の請求項１０記載のメッキ用治具は、請求項９記載のメッキ用治具において、上記部品を固定支持する梁部を有し、上記梁部の一端がヒンジ支持され、上記梁部の上記ヒンジに関する回転により上記部品の姿勢を変更可能である。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態である未処理状態の射出成形金型の斜視図である。
【００２４】
本実施形態の射出成形金型２１は、ベリリウム銅素材（以下、ベリリウム銅と記載する）を用いる金型であって、貫通穴２１ａを有し、メッキ処理時の保持用ネジ穴２１ｂが貫通穴２１ａに平行に設けられている。そして、この射出成形金型（メッキ未処理金型であるワーク）２１の表面は、後述する図２のメッキ処理工程によってメッキ処理が施される。
【００２５】
射出成形用金型１ののメッキを行う本発明の第２の実施形態であるメッキ処理の方法について、メッキ処理工程を示す図２を用いて説明する。
このメッキ処理は、ベリリウム銅を素材とする射出成形用金型２１等の表面をメッキする処理であって、図２に示すメッキ処理工程順に従った処理が行われる。すなわち、脱脂処理１に続いて電解活性化処理２が行われ、続いて、ニッケルストライクメッキ処理３と、無光沢ニッケルメッキ処理４とが実行され、さらに、アモルファス無電解ニッケルメッキ処理５と、不動態化処理６とが行われ、最後に水洗処理，純湯洗，乾燥等の後処理７が行われる。
【００２６】
脱脂処理１では、従来のメッキ処理における脱脂処理と場合と同様に有機溶剤による脱脂と、アルカリ溶液による脱脂を行った後、従来の場合と異なって、電解脱脂が行われる。この電解脱脂は、メッキ液として溶液濃度８０ｇ／ｌ（許容範囲２０〜１００ｇ／ｌ）の水酸化ナトリウム系溶液、例えば、市販浴のクリーナー１６０（メルテックス株式会社製）を使用し、液温５５°Ｃ（許容範囲４０〜７０°Ｃ）の状態に保ち、電流密度５Ａ／ｄｍ２  （許容範囲１〜２０Ａ／ｄｍ２  ）でのマイナス電解処理が時間１ｍｉｎの間（許容範囲１０ｓｅｃ〜５ｍｉｎ）行われる。この電解脱脂においては、水素ガスが発生するために表面が活性化される。また、メッキ液の濃度を上げて効果を増すようにしている（従来の通常の濃度は、３０〜５０ｇ／ｌである）。
【００２７】
電解活性化処理２では、メッキ液として体積比濃度１０％（許容範囲５〜５０％）の塩酸を使用し、液温は常温（許容範囲５〜３５°Ｃ）の状態に保ち、電流密度５Ａ／ｄｍ２  （許容範囲１〜２０Ａ／ｄｍ２  ）で時間１ｍｉｎ３０ｓｅｃの間（許容範囲１０ｓｅｃ〜５ｍｉｎ）のマイナス電解処理を行う。この電解活性化処理２においては、発生水素ガスと塩酸とによる表面の活性化の相乗効果を奏する。また、マイナス電解状態であることと、メッキ液が薄い酸であるために素地の溶出がなく、金型表面の肌荒れが生じにくい。
【００２８】
ニッケルストライクメッキ処理３では、メッキ液として溶液濃度５０ｍｌ／ｌ（許容範囲３０〜２００ｍｌ／ｌ）の塩酸および溶液濃度３００ｇ／ｌ（許容範囲１００〜４００ｍｌ／ｌ）の塩化ニッケル液との混合メッキ液を使用し、液温を常温（許容範囲５〜４０°Ｃ）の状態に保ち、電流密度３．５Ａ／ｄｍ２  （許容範囲１〜２０Ａ／ｄｍ２  ）で時間１ｍｉｎの間（許容範囲１５ｓｅｃ〜１０ｍｉｎ）の電気メッキを行う。このニッケルストライクメッキ処理３においては、素地面を塩酸で活性化させながらメッキするために密着性のよい下地メッキが行われる（通常のステンレス材へのメッキと同様の効果である）。さらに、塩酸の濃度を下げ（従来の通常の塩酸濃度は、１２５ｍｌ／ｌ）、塩化ニッケル液の濃度を上げ（従来の通常の塩化ニッケル液は、濃度２５０ｇ／ｌ）、素地の肌荒れを防止している。
【００２９】
無光沢ニッケルメッキ処理４では、メッキ液として濃度２５０ｇ／ｌ（許容範囲１５０〜４００ｇ／ｌ）の硫酸ニッケル液と、濃度４５ｇ／ｌ（許容範囲３０〜１００ｇ／ｌ）の塩化ニッケル液と、濃度３０ｇ／ｌ（許容範囲２０〜７０ｇ／ｌ）の硼酸液と、濃度５ｍｌ／ｌ（許容範囲１〜３０ｍｌ／ｌ）の添加剤（１次光沢剤）との混合メッキ液を使用し、液温５０°Ｃ（許容範囲４５〜６０°Ｃ）の状態に保ち、電流密度３Ａ／ｄｍ２  （許容範囲１〜２０Ａ／ｄｍ２  ）で時間１ｍｉｎの間（許容範囲１５ｓｅｃ〜５ｍｉｎ）の電気メッキを行う。この無光沢ニッケルメッキ処理４では、ニッケルストライクメッキ処理３でのピンホール穴埋め効果により良好なメッキ面が得られる。
【００３０】
アモルファス無電解ニッケルメッキ処理５では、アモルファス無電解ニッケルメッキ液として、例えば、市販のトップニコロンＮＡＣ（奥野製薬株式会社製）の濃度８０ｍｌ／ｌのＡ剤と濃度２００ｍｌ／ｌのＢ剤の混合液を使用し、ｐＨ３．５〜４．５（許容範囲ｐＨ２．５〜４．５）になるように調整する（上記ｐＨは、アンモニア液で調整する）。液温８３°Ｃ（許容範囲７５〜９５°Ｃ）の状態に保った上記メッキ液に無光沢ニッケルメッキ処理済みの金型であるワーク２１を時間１ｈ３０ｍｉｎ（許容範囲３０ｍｉｎ〜５ｈ）だけ浸漬して無電解メッキを行う。このアモルファス無電解メッキ処理５では、５〜６μｍの膜厚が形成される。そして、アモルファスは、非結晶であるために通常の金属と違って結晶粒界がない。金属の腐食は、結晶粒界から始まるが、このアモルファス無電解ニッケルメッキ処理された表面は、結晶粒界がないため、腐食が発生しにくく、耐食性が向上する。
【００３１】
不動態化処理６では、濃度１ｇ／ｌ（許容範囲０．５〜１００ｇ／ｌ）の無水クロム酸液を使用し、液温７０°Ｃ（許容範囲５０〜９０°Ｃ）の状態の上記無水クロム酸液にアモルファス無電解ニッケルメッキ処理済みの金型であるワーク２１を時間１０ｍｉｎの間（許容範囲１〜３０ｍｉｎ）だけ浸漬し、不動態化処理を行う。この処理により表面に極薄いクロメート皮膜が生成され、表面が不動態化して耐食性が向上する。
【００３２】
上述した脱脂処理１から不動態化処理６までの本実施形態のメッキ処理を施すことによって肌荒れのない良好な成形面であって、寸法変化も少なく、しかも、金型寿命が長いベリリウム銅素材の射出成形用金型が得られる。
なお、上述した液濃度，液温，ｐＨ値，電流密度，処理時間等の許容範囲は、メッキ処理を行ったときに許容できる結果が実際に得られた範囲を示している。
【００３３】
上述した電解脱脂と電解活性化処理２とニッケルストライクメッキ処理３および無光沢ニッケルメッキ処理４とは、電気メッキ処理（電解脱脂処理を含む）の工程であり、アモルファス無電解ニッケルメッキ処理５と不動態化処理６とは、無電解メッキ処理（溶液に浸漬して行う不動態化を含む）の工程である。したがって、本実施形態のメッキ処理においては、未処理金型であるワーク２１（図１）に貫通穴２１ａが設けられており、良好な表面処理を得るために、上記電気メッキ処理時と上記無電解メッキ処理時とで、ワーク２１を異なる姿勢で保持する必要がある。すなわち、ワーク２１に貫通穴等がある場合、電気メッキ処理時（電解脱脂処理を含む）には、上記貫通穴等を水平方向にして両電極部に対向させた姿勢にワーク２１を保持する。また、無電解メッキ処理時には、貫通穴を鉛直方向に保つようにワーク２１を保持する。なお、ワーク２１に貫通穴の代わりに溝等がある場合には、その溝等の方向を上述した貫通穴方向と同様に扱ってワークの保持姿勢を定める。
【００３４】
上記メッキ処理を行うに際して上述した状態に未処理金型（メッキ対象部品）であるワーク２１を保持するために図３〜５に示す本発明の第３の実施形態のメッキ用治具（メッキ処理用保持治具）であるワーク保持具を適用する。
図３は、上記ワーク保持具の正面図であって、電気メッキ時のワーク保持状態と無電解メッキ時のワーク保持状態とを合わせて２点鎖線で示す。図４は、電気メッキ処理時のワーク保持状態における図３のＡ方向矢視図である。図５は、上記ワーク保持具の下ワーク保持部を図４のＢ方向から見た分解斜視図であり、同時に電気メッキ処理時と無電解メッキ処理時でのワーク保持状態を合わせて２点鎖線で示す。
【００３５】
なお、図３〜５において、ＨｘまたはＨｙ方向（Ｈｘと直交）とＶ方向とは、それぞれ上記ワーク保持具をメッキ槽に浸漬したときの水平方向と鉛直方向を示している。
【００３６】
上記ワーク保持具３０は、導電材料からなり、−電極と電気的に結合される吊り金具３１と、吊り金具３１の下方の上側に配される上ワーク保持部３３と、下方の下側に配される下ワーク保持部３４とを有してなり、メッキ処理時に２つの未処理金型であるワーク２１を異なる姿勢で保持可能である。すなわち、このワーク保持具３０によれば、上述した電気メッキ処理と無電解メッキ処理との処理切り換え時に後述する姿勢保持板の付け換え作業のみで金型２１を取り外すことなく、単一のワーク保持具によりその保持姿勢を変更することができる。
【００３７】
ワーク保持具３０の吊り金具３１は、ステンレス鋼板製であって、その上部にワーク保持具支持用のフック部３１ａを有し、下方部に上，下ワーク保持部３３，３４が組み付けられている。なお、フック部３１ａと上ワーク保持部３３の間は、クランク状に折り曲げられ、その折り曲げ部分には、補強板３２が溶接されている。
【００３８】
上ワーク保持部３３と下ワーク保持部３４とは、同一の構成を有しているが、上記処理切り換え時のワーク姿勢の切り換えのとき、互いの干渉を避け、かつ、無電解メッキ時気泡等が滞らせないために上ワーク保持部３３と下ワーク保持部３４とは、Ｈｘ方向に少なくともワークの厚み分ずれて配置されている。
【００３９】
上ワーク保持部３３は、吊り金具３１に上方から下方に向けて順に固着される固定ブロック４１，固定ブロック４２，軸支ブロック４３を有し、さらに、その軸支ブロック４３に対してヒンジピン（ヒンジ）４８を介して回転可能に支持される姿勢変更手段（梁部）のワーク支持板４４と、ワーク支持板４４に回転可能に支持される姿勢変更手段の姿勢保持板４５と、さらに、蝶ネジ４６，４７やワーク固定ビス７１等を有してなる。図４においては、ワーク２１を電気メッキ処理時の姿勢状態を示している。
【００４０】
下ワーク保持部３４は、吊り金具３１に上方から下方に向けて順に固着される固定ブロック５１，固定ブロック５２，軸支ブロック５３を有し、さらに、その軸支ブロック５３に対してヒンジピン（ヒンジ）５８を介して回転可能に支持される姿勢変更手段（梁部）のワーク支持板５４と、ワーク支持板５４に回転可能に支持される姿勢変更手段の姿勢保持板５５と、さらに、蝶ネジ５６，５７やワーク固定ビス７２等を有してなる。
【００４１】
上ワーク保持部３３と下ワーク保持部３４とは、同様の構成を有しているので、以下、下ワーク保持部３４の詳細な構成について図５を用いて説明する。
【００４２】
ワーク支持板５４は、その一端部が軸支穴５４ａに挿通するヒンジピン５８を介して軸支ブロック５３に回動自在に支持され、他端部がネジ穴５４ｂに螺着される軸支ピン５９を介して姿勢保持板５５の一端に設けられた軸支穴５５ａにてスペーサ６０を挟んだ状態で姿勢保持板５５が回動自在に連結されている。軸支ピン５９の外側には、ピン抜け止め用止め輪６１が嵌入される。また、このワーク支持板５４には、軸支穴５４ｂの近傍にてＨｘ方向に直角に折り曲げて形成される凸部上にワーク取り付け穴５４ｃが設けられる。このワーク取り付け穴５４ｃにワーク固定ビス７２を挿通させ、ワーク２１に螺着することによりワーク２１がワーク支持板５４に固定される。
【００４３】
姿勢保持板５５は、その一端がワーク支持板５４に回動自在に支持され、他端に切り欠き５５ｂが設けられている。切り欠き５５ｂは、固定ブロック５１、または、５２に対してネジ部５１ａ，５２ａに螺着される蝶ネジ５６、または、５７により切り換えて係止可能である。姿勢保持板５５の係止位置の切り換えによってワーク支持板５４は、ヒンジピン５８中心に回転し、この支持板５４がＶ方向に沿った状態とＨｙ方向に沿った状態とに切り換え保持可能である。
【００４４】
上ワーク保持部３３においても下ワーク保持部３４と同様に吊り金具３１に回動可能に支持されるワーク支持板４４が姿勢保持板４５の係止位置の切り換えによってヒンジピン４８中心に回転し、Ｖ方向に沿った状態とＨｙ方向に沿った状態に切り換え保持可能である。
【００４５】
上述した構成を有する上記ワーク保持具３１を用いて図２に示した一連のメッキ処理を行う場合、まず、２つの未処理金型であるワーク２１をワーク支持具３０のワーク支持板４４，５４にビス７１，７２により取り付ける。
【００４６】
ワーク支持具３０に取り付けられたワーク２１は、メッキ処理に際してメッキ漕のメッキ液に浸漬されるが、そのときのメッキ処理が電気メッキ処理であるか無電解メッキ処理であるかによりワーク２１の姿勢が切り換えられる。
【００４７】
すなわち、電解活性化処理２からニッケルストライクメッキ処理３を経て無光沢ニッケルメッキ処理４まで（図２）の間の電解活性化処理を含む電気メッキ処理では、姿勢保持板４５の切り欠きおよび姿勢保持板５５の切り欠き部５５ｂをそれぞれ固定ブロック４２、５２にねじ嵌合している蝶ネジ４７，５７のネジ軸に係止して固定し、２つのワーク２１をその貫通穴２１ａが図３に示すＨｙ方向の沿った姿勢（第１の姿勢）に保持する。この保持姿勢であれば、貫通穴２１ａが＋電極１０４，１０５と対向し、電流方向と一致し、良好なメッキ層の生成、あるいは、良好な表面の電解活性化が行われる。
【００４８】
また、アモルファス無電解ニッケルメッキ処理５から不動態化処理６まで（図２）の間の無電解処理では、姿勢保持板４５の切り欠きおよび姿勢保持板５５の切り欠き部５５ｂをそれぞれ固定ブロック４１、５１にネジ嵌合している蝶ネジ４６，５６のネジ軸に切り換えて固定し、２つのワーク２１をその貫通穴２１ａが図３に示すＶ方向の沿った姿勢（第２の姿勢）に切り換える。この保持姿勢では、貫通穴２１ａが鉛直方向に沿っているので貫通穴内で発生するガスが逃げやすくなり、良好なメッキ層、または、不動態膜の生成がなされる。
【００４９】
上述した本実施形態のワーク支持具３０を利用して未処理金型であるワーク２１を取り付けて電気メッキ処理および無電解メッキ処理を行うようにすれば、ワーク２１を単一のワーク支持具３０を用いてそのワーク支持具から取り外すことなく、容易に電気メッキ処理、または、無電解メッキ処理に適した姿勢に切り換えることができ、メッキ処理の必要工数を減らすことができる。
【００５０】
また、本願発明のメッキ処理用保持治具（メッキ用治具）は、導電性材料からなる吊り金具部材３１と、導電性材料からなり、上記メッキ処理が成されるワークをネジなど、若しくは、バネ等をワーク穴内に挿入して保持可能とし、一端を上記吊り金具部材３１に対して回動するワーク保持腕４４、５４と、導電性材料からなり、一端で上記ワーク保持腕の他端と相対回勅する姿勢保持板４５，５５と、上記吊り金具部材３１に設けられ、上記ワークの姿勢を切り換えるため、上記姿勢保持板の他端を上記吊り金具部材３１に対して互いに異なる２箇所の位置で係止する複数の係止部（なお、係止部の例として、蝶ネジ５６、５７に代わり、バネ部材などで上記姿勢保持板を保持係止してもよい）とで構成させてもよい。
【００５１】
なお、第３の実施形態のワーク支持具３０において、ワーク２１の姿勢を貫通穴２１ａの方向を対象にして切り換えるようにしたが、貫通穴に限らずメッキ処理に影響する各種の形状を対象にしてワークの姿勢を切り換えてもよい。また、切り換えられる姿勢の角度も本実施形態では、９０°であったが、９０°以外の角度であってもよい。
【００５２】
【発明の効果】
上述のように本発明によれば、ベリリウム銅を主とする素材からなる射出成形用金型において、適切なメッキ処理を行うことにより肌荒れのない良好な成形面が得られ、しかも、寿命が長い射出成形用金型、および、そのメッキ方法を提供することができ、さらに、メッキ処理においてワークの保持姿勢を容易に切り換えられるメッキ用治具を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態の射出成形用金型の斜視図である。
【図２】本発明の第２の実施形態のメッキ処理方法におけるメッキ処理工程図である。
【図３】本発明の第３の実施形態のメッキ用治具であるワーク保持具の正面図である。
【図４】図３のワーク保持具のＡ方向の矢視図である。
【図５】図３のワーク保持具の下ワーク保持部をＢ方向から見た斜視図である。
【図６】従来のメッキ処理に供される未処理金型のワークの斜視図である。
【図７】従来の電気メッキ処理状態を示す図である。
【図８】従来の無電解メッキ処理状態を示す図である。
【符号の説明】
３  …ニッケルストライクメッキ処理
４  …無光沢ニッケルメッキ処理
５  …アモルファス無電解ニッケルメッキ処理
６  …不動態化処理
２１  …ワーク（射出成形用金型）
４４，５４…ワーク支持板（梁部，姿勢変更手段）
４５，５５…姿勢保持板（姿勢変更手段）
４８，５８…ヒンジピン（ヒンジ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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