(57)【要約】【課題】ＰＤＰ基板を厚膜プロセスによって製造する際、乾燥炉から蒸散される溶剤成分の漏洩、それによる環境汚染の問題、及びダクト内での爆発の危険性を回避する。【解決手段】炉内に設けられた加熱装置と、炉内空間と連通して炉外から炉内に給気する給気ダクトと、炉内空間と連通し炉内ガスを炉外に排気する排気ダクト１８、１９と、排気ダクト１９の一部に設けられた冷却器３１と、冷却器３１よりも下流側の排気ダクト１９の他の一部に設けられたミストコレクタ３２とから乾燥炉を構成した。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉内に設けられた加熱装置と、炉内空間と連通して炉外から炉内に給気する給気ダクトと、炉内空間と連通し炉内ガスを炉外に排気する排気ダクトと、前記排気ダクトの一部に設けられた冷却器と、前記冷却器よりも下流側の前記排気ダクトの他の一部に設けられたミストコレクタとを有する乾燥炉。
【請求項２】
凝集した液体を捕集するドレンポットが、前記ミストコレクタ又はミストコレクタよりも更に下流側の排気ダクトの一部に更に設けられている、請求項１に記載の乾燥炉。
【請求項３】
有機溶剤を含むペースト厚膜の乾燥に用いる、請求項１又は２に記載の乾燥炉。
【請求項４】
プラズマディスプレイパネルの厚膜製造に用いられる、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の乾燥炉。
【請求項５】
前記ミストコレクタが遠心分離式のミストコレクタである、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の乾燥炉。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ペースト厚膜等の乾燥に用いる乾燥炉に関する。より詳細には、本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと称する）を厚膜プロセスによって製造する際、その乾燥工程において用いる乾燥炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年開発、商品化が盛んなプラズマディスプレイは大面積画像表示を得意とする画像表示機器であり、３５インチから５０インチ、業務用のもので６０インチなど、大面積パネルを効率よく量産する生産体制への期待は昨今非常に大きい。
【０００３】
ＰＤＰは、その動作原理から液晶ディスプレイ等と異なり基本的に各種厚膜から構成される。その製造方法も、調製したペースト状組成物を塗布、パターン形成、乾燥、焼成といったプロセスを複数回繰り返して製作するペーストを用いた厚膜プロセスによっている。
【０００４】
例えば、現在主流の一つとなっているＡＣ面放電型のプラズマディスプレイを例にとる。そのパネルは、例えば、Ａｇを含むアドレス電極、各放電空間を仕切る高さ１００μｍ程度の隔壁（バリアリブ）、及び隔壁側面とアドレス電極上に塗布した蛍光体を有する背面基板と、酸化スズ又はＩＴＯ透明電極によって構成される維持電極及び走査電極、Ａｇを含むバス電極、これら電極領域を含む表面全体を覆う厚さ３０μｍ程度の誘電体層、及び誘電体層上に蒸着されたＭｇＯ薄膜を有する前面ガラス基板とを張り合わせ、張り合わせたパネル間の隔壁によって仕切られた空間内にＸｅとＮｅの混合ガスが封入された構造となっている。隔壁によって仕切られた各セル内部においては、パネル全面にマトリックス状に配された走査電極及び維持電極、アドレス電極からの電気信号によって、放電の発生制御並びに維持が行われ、１つの画素として機能し、パネル全体として表示装置として動作する。
【０００５】
このようにＰＤＰは、放電の制御、及び放電維持の電力供給のため電極配線をパネル全面に有しているが、構造の基本は、放電、発光に必要な隔壁、誘電体層、蛍光体層を有した各放電空間（セル）及びこれらが縦横に配列された箱型の三次元構造体である。この点、液晶ディスプレイパネルが、基板自体は液晶の封入基材であり、そのガラス基板上に形成する半導体制御素子の集積、そのための薄膜積層構造が主要な構造上の特徴であるのと異なる。寸法についても、隔壁、放電空間などＰＤＰの場合、液晶ディスプレイパネルの数ミクロンに比較して、数十ミクロンから１００ミクロン程度までと、一桁又はそれ以上大きい構造単位を基本とする。逆に寸法精度については、その分、許容誤差が大きく考えられる。
【０００６】
このようなＰＤＰの構造上の特徴から、その製造方法としては、形成しようとする蛍光体、誘電体、電極など各種材料物質をビヒクル樹脂及び溶剤とともに混練してペースト状にした組成物を塗布、パターニングし、乾燥、焼成する、といった手順による数十ミクロン程度の厚膜製造プロセスを基本とする製造方法が良いとされている。通常１００μｍ程度の高さを有する隔壁も、従来のスクリーン印刷法によってペースト塗布する場合、複数回の厚膜プロセスを繰り返すことによって要求される寸法を有する構造体を形成することができる。実際、このようなペーストを利用した厚膜プロセスによってＰＤＰは製造されており、ペーストを用いた厚膜プロセスが製造工程全体の大きな部分を占めている。
【０００７】
ＰＤＰの厚膜プロセスにおいては、ペースト塗布後、焼成前、主としてペーストに含ませた溶剤を除去するため、乾燥工程が必要となる。しかしながら、大面積を有するＰＤＰ基板の乾燥のためには、その面積分に比例して、１回の基板乾燥だけでも大量の溶剤の蒸散が炉内において行われる。乾燥処理を施しつつ、蒸散した溶剤を効率よく炉外、廃処理施設に導くため、従来は、冷却水温度、交換熱量などを調節した熱交換器等の冷却器を排気ダクトの一部に設置した乾燥炉を用いて、ＰＤＰ製造時の厚膜乾燥工程を行ってきた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＰＤＰの場合、例えば積層回路基板のペーストを用いた厚膜製造の場合と異なり、蛍光体、誘電体、電極等、構造材以外のディスプレイ機能を担う各種機能性膜の厚膜プロセスによる製造が多数含まれる。したがってその品質は、単に構造体としての品質以外の、膜の均一性、残留不純物や微細空隙の存在などに非常に敏感であり、こういった観点からより高品質なものが求められる。このため、ペースト調製時均一分散体が得られやすく、ペーストに流動性をもたせて塗工し易く、かつ塗工後は肉厚のペースト膜内部から容易に溶剤が蒸散して設計どおりの焼成前成形体が得られる必要がある。結果として、ＰＤＰの製造においては、ペーストには、揮発性が高い、乾燥プロセスに乗せれば容易に気化しやすい比較的沸点の低い、比熱が小さく容易に昇温し易い、気化熱が小さいなどの種類の有機溶剤を多量に使用し、結果的に、乾燥工程において大量の溶剤の蒸散を生じる。
【０００９】
このような特徴を有するＰＤＰの製造において、その生産性、量産性を高めるためには、乾燥炉は、典型的には搬送用ローラーを用いたローラーコンベア型の連続炉とし、複数のパネルの乾燥処理を連続的に行うことが考えられる。しかしこの場合、大量に炉内に蒸散された溶剤成分を効率よく排気できないと、初期の目的は達せられない。
【００１０】
また、厚膜プロセスに使用する溶剤は通常、各種有機溶剤であって、その管理を怠ると容易に蒸散して大気中に拡散し易く、周囲環境を害する恐れがある。従って、環境への問題も配慮した適切な乾燥炉の設計が求められる。
【００１１】
従来の積層回路基板、太陽電池モジュールの製造、液晶ディスプレイの厚膜製造工程では、乾燥炉内で高温となった炉内ガスは、炉内空間と連通された排気ダクトを通じ、かつ排気ダクトに設置した熱交換器を介して冷却され、放出されるようにされていた。しかし、この従来型の乾燥炉をそのまま踏襲して使用し、昨今のＰＤＰの製造に用いたのでは、乾燥時ＰＤＰ基板から蒸散された多量の溶剤成分は熱交換器を通過してもなお、大半は液化せず、排気ダクトをさらに下流側へと下っていく。熱交換器通過後直ぐに捕集できる溶剤成分は、通常一割に満たない。このため、この溶剤成分が排気ダクトを下降中に偏在し爆発下限界を越えて爆発する、液化した成分がダクト接続部から意図せず外部に漏洩する、またこのため周囲環境を汚染するなどの懸念、これら問題点を解消するための代替新規設備のための投資コストの問題など、様々な課題を生じていた。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明らは、ＰＤＰの生産現場が抱える先のような問題点に関連して乾燥炉について鋭意検討、研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った。
【００１３】
本発明は、炉内に設けられた加熱装置と、炉内空間と連通して炉外から炉内に給気する給気ダクトと、炉内空間と連通し炉内ガスを炉外に排気する排気ダクトと、排気ダクトの一部に設けられた冷却器と、冷却器よりも下流側の排気ダクトの他の一部に設けられたミストコレクタとを有する乾燥炉である。
【００１４】
本発明による乾燥炉は、好適には、前記ミストコレクタ又はミストコレクタよりも更に下流側の排気ダクトの一部に、凝集した液体を捕集するドレンポットを更に有する。また、本発明による乾燥炉は、典型的には、炉内搬送経路に沿って設けられた複数の加熱装置と複数の搬送用ローラーとを更に有するローラーコンベア型の連続炉である。
【００１５】
本発明による乾燥炉は、有機溶剤を含むペースト厚膜の乾燥やプラズマディスプレイパネルの厚膜製造に好適に用いられる。
【００１６】
冷却器は、さらに、冷却器通過後排気ガス中に含まれる溶剤成分をその沸点以下に冷却することができる交換熱量を有する熱交換器であることが好ましい。またミストコレクタは、典型的には、遠心分離式のミストコレクタである。
【００１７】
冷却器は排気ダクトに導かれた炉内ガスから熱を奪う。しかし、必ずしもガスを液体として凝集させる能力を有しているとは限らない。有機溶剤など液化しうる成分を沸点以下に冷却できたとしても、蒸気圧が高いなどガス中に含まれる成分によっては依然として気化ないし液滴状態のまま存在し、凝集体とならない。本発明者らは、ＰＤＰ製造など大量の有機溶剤を使用し、高い乾燥工程サイクルで稼動させる乾燥炉においては、このような状況が少なからず発生し、問題を生じていたのではないかと考えた。
【００１８】
ミストコレクタは、衝突や吸着作用によって気体乃至浮遊液滴の運動を停滞させ、相互に凝集し合う機会を与えることのできる装置である。
【００１９】
熱量を奪った後、ミストコレクタによって冷却後の凝集をさらに促進させることができれば、従来機がＰＤＰ製造において有していた問題点は、或いは解消するのではないかと考え、種々検討を行った結果、完成したのが本発明である。
【００２０】
一旦液化が達成できれば、液化凝集した廃液体の捕集は、その自重を利用し、ドイン手段を更に設けることによって、容易に行うことができる。
【００２１】
本発明による乾燥炉を使用して乾燥処理を行えば、被乾燥基材から炉内に蒸散したガスは排気ダクトを通して効率良く炉缶体の外へ排出される。排気ダクトに入った炉内ガスのうちの液化可能成分は、長い排気ダクトの行路を経ずして、炉本体近傍において迅速に冷却、かつ液化、凝集され、このため効率よく捕集、処分される。従って、周囲環境に対しても排出ガスによる公害の心配など有効に回避される。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００２３】
図１は、本発明の実施の形態に係るＰＤＰ基板用乾燥炉を示した概略断面図である。
【００２４】
乾燥炉１０は、炉内に複数の搬送用ローラーを配したローラーコンベア型の連続炉であって、ローラー上でＰＤＰ基板を搬送させながら加熱、乾燥処理を施す。乾燥炉１０は、外壁たる炉缶体１１と、炉缶体１１を保護するパネルカバー１２と、炉内搬送経路に沿って設置された複数の搬送用ローラー１６と、搬送用ローラー１６の上下に搬送経路に沿って設置された複数の加熱用ヒーター１４、１５と、炉外から外部空気を炉内に送り込む給気ダクト１７と、ＰＤＰ基板２０から蒸散された溶剤蒸気を含む炉内ガスを炉外に排気する炉内排気ダクト１８を備える。加熱用ヒーター１４，１５、搬送用ローラー１６など乾燥炉１０が有する各設備は、全て制御盤２１から供給される電力によって駆動される。
【００２５】
乾燥炉１０は、パネルカバー１２の寸法で、幅１．１メートル、高さ１．７メートル、長さは短いもので５メートル、長いもので２２メートル程の大きさを有する。この長さ方向に、搬送用ローラー１６、加熱用上部ヒーター１４及び下部ヒーター１５が一定間隔をおいて複数配置され、被処理基材の搬送路を形成する。搬送用ローラー１６に載置したＰＤＰ基板２０は、ローラーの回転とともに搬送路を搬送されながら上部及び下部ヒーター１４，１５の加熱作用によって、典型的には１００℃から１２０℃、高温の場合で２００℃程度にまで上下から加熱され、乾燥処理を施される。
【００２６】
乾燥処理の間、給気ダクト１７によって炉缶体１１の外部から大気が炉内部へ供給され、他方でＰＤＰ基板２０から蒸散された溶剤成分を含む炉内ガスは拡散によって炉内排気ダクト１８を通して炉外へ排出される。乾燥炉１０においては、上方から給気ダクト１７によって外部空気が送り込まれ、下方に噴き出し、ＰＤＰ基板２０を加熱、下降した１００℃から２００℃程度の比較的高温のガスは下部加熱ヒーター１５を迂回しながら拡散して炉内排気ダクト１８に入り、炉外に排出される。但し、給気、排気方式は種々あり、図示した方式は一例である。本発明による乾燥炉には、種々方式が適用可能であって、これに限られない。
【００２７】
図２は、本発明の実施の形態に係るＰＤＰ基板用乾燥炉を、設置するミストコレクタ及び冷却器の観点から示した概略斜視図である。炉内排気ダクト１８は、炉缶体１１に接続されて炉内と連通し、炉内のガスを炉外に排出する。炉内排気ダクト１８は、炉外においてさらに炉外排気ダクト１９に結合され、炉内からのガスを導く。炉外排気ダクト１９の炉缶体１１近傍には、冷却器３１が接続され、さらにその下流側にミストコレクタ３２が接続されている。
【００２８】
冷却器３１は、典型的には、冷水が連続的に供給され、伝熱作用によって接触した物体から熱を奪い、温度上昇した水が排水される方式の熱交換器である。冷却器３１は、炉外排気ダクト１９の炉缶体１１近傍に配置され、炉内ガスは炉内を出た後直ぐに冷却器３１を通過し、速やかに冷却される。
【００２９】
冷却器３１の役割は、冷却器が有する冷却フィン等との接触によって、炉内排気ダクト１８及び炉外排気ダクト１９を通して炉内から排出された炉内ガスに含まれる溶剤成分から熱エネルギーを奪うことである。他方でミストコレクタ３２は、理想的にはその物理的な衝突、吸着作用のみによって、冷却器３１を通過した溶剤成分をさらに凝集、液化させる。従って冷却器３１は、溶剤成分がさらにミストコレクタ３２の作用を受けるときなお残存している熱エネルギーが液化の妨げにならないよう、溶剤成分から十分な量の熱エネルギーを奪うことのできる交換熱量を有することが望ましい。
【００３０】
これは、例えば理論的には、１つの目安として、溶剤成分がミストコレクタ３２によって断熱的に凝集された後には少なくともその沸点以下の温度を示す、といった程度にまで、溶剤成分は予め冷却されていることが望ましい、と考えることができる。しかし、必要とされる冷却の程度は、例えば溶剤成分が揮発性の高いものであればより厳しくなる。乾燥炉１０において冷却器３１に要求される性能は、単に到達冷却温度だけの問題ではないことは容易に理解可能であろう。いずれにしろ、個別の乾燥処理に応じて、冷却器３１が発揮することのできる連続稼動時の交換可能熱量が、冷却器３１が本発明の実施の形態にかかる乾燥炉１０において充分な能力を有するものかどうかを判断する際の重要な指標となる。
【００３１】
すなわち、望ましい冷却器３１の性能は、乾燥炉１０の使用目的、すなわちどのような乾燥処理を行っていて、どのような種類（特にその沸点、蒸発熱など熱力学的性質）の溶剤が、どのような温度、圧力、密度、粒子形態で炉内に蒸散され、冷却器３１の処理にかかるか、またその流量、など、乾燥炉１０の実際の稼動条件に大きく左右される。これは、処理するＰＤＰ基板２０のペースト成分や行程速度等の稼動データに基づく蒸散成分の試算から、あるいは実際の乾燥炉１０の試行稼動状況をみて、当業者にとり容易に決定可能である。いずれにしろ、冷却器３１によって溶剤成分の充分な冷却が確保できれば、冷却器３１に対する制限は他に特にない。どのような形態の冷却器であっても、基本的には問題なく、本発明の実施の形態に係る乾燥炉１０において使用可能である。
【００３２】
次にミストコレクタ３２は、デミスタ、ミストレーサ、ミスト除去装置などとも呼ばれ、気流中に含まれる噴霧乃至微細な液滴成分を分離、捕集する装置である。現在、種々タイプのものが市販されている。本発明の実施の形態に係る乾燥炉１０においても、基本的に公知のタイプものが使用可能である。
【００３３】
例えば、ミストコレクタ３２の主要なミスト除去方式として、羽根車の回転等によって内部に引き込まれた気流が、内部で回転するインペラーと呼ばれる概ね円錐乃至円筒形状部材によって回転力を与えられ、該円筒内周部に衝突、一定の制限空間内において凝縮せしめられるもの、気流の進路途中に配置された樹脂製、金属メリヤス製などの微細フィルタに吸着せしめられるタイプのもの、或いは気流中に配置された電極間の静電力によって電極に付着させられる電気集塵式のもの、など種々挙げられる。
【００３４】
実際に市販され、用いられているものは、これら方式を組み合わせたものが一般的である。特に、遠心力を与える回転体そのものがその一部に微細目を有するフィルタを有し、遠心力によって凝集力を与えられた液滴粒子が当該フィルタに吸着される方式を有するものが、典型的に使用される。
【００３５】
ミストコレクタ３２は、単に物理的な衝突、吸着作用によって溶剤成分を液化する。冷却器３１のように熱交換能力を有することは基本的には要求されない。溶剤成分は冷却器３１によって既に液化が可能な程度に冷却されていると考え、さらに吸着や衝突作用によって溶剤成分の物理的な凝集を実現する能力を有するか否かが、乾燥炉１０においてミストコレクタ３２が望ましいものであるか否かを考える際の基本的な考え方である。
【００３６】
なお、本発明者らがＰＤＰの乾燥工程に関連して検討、研究を行った範囲で、ミストコレクタ３２を通過させても、処理基板からの溶剤成分は、実際には通過直後完全には液化捕集されない。従って、冷却器３１に入りミストコレクタ３２を出たとき、すなわちミストコレクタ３２の直後で、炉内で蒸散された溶剤成分の全量のどれだけの量が液化できたかを意味する液化率が、本発明の実施の形態におけるミストコレクタ３２の液化性能の、ひいては乾燥炉１０の性能評価のための重要な指標となる。
【００３７】
液化率もまた乾燥炉の実際の使用目的に左右され、ミストコレクタ３２や乾燥炉１０自体のパラメータではない。どのような種類（特に沸点、蒸気圧、粘度、表面エネルギー等熱力学的性質）の溶剤が、どのような温度、圧力、密度、粒子形態でミストコレクタに注入されるか、またその流量、など種々実際の稼動条件に依存する。さらには、ミスト微粒子の静電状態、凝集の核と成りうる不純物の存在なども、この液化率を決定づける重要な因子の１つである。
【００３８】
いずれにしても、以下の実施例でも示したように、本発明の実施の形態に係る乾燥炉１０を用いれば、ＰＤＰ基板２０の乾燥処理において従来一割にも満たなかった液化率が３０〜４０％と高められ、従来からの問題点防止に顕著に貢献する。
【００３９】
なお、乾燥炉稼動中は、ミストコレクタ３２の衝突、吸着部材は、液滴乃至噴霧状態にある有機溶剤の進入気流に恒常的に晒される。従って、ミストコレクタ３２には、有機溶剤に対して軟化、変形など生じることなく耐性を有するような素材から構成されたものを用いることは好ましい。例えば、フィルタが樹脂製のものなどは長期の使用においてその劣化を注意しなければならない。
【００４０】
既に述べたように既存のミストコレクタには種々構造、方式のものがあるが、肝心なことは冷却後の凝集作用にある。以上のような各点に注意してミストコレクタ３２は選択されれば、本発明の実施の形態に係る乾燥炉において用いるミストコレクタ３２として、基本的に問題はない。
【００４１】
従って、本発明の実施の形態に係る乾燥炉に用いることのできるミストコレクタ３２は、遠心力付与による衝突、凝縮作用によるか、微細目や静電力による吸着作用によるかなど、その性能実現手段に基本的には限定されるものではない。液滴に対して凝集作用を与えることができる手段であり、かつ十分な凝集作用を発揮できるものであれば、本発明の実施形態に係る乾燥炉１０が目指す実質的機能は実現可能である。
【００４２】
また、有機溶剤は異臭が問題となることもあるので、臭気成分の捕捉が完全でない場合、悪臭成分を吸着する適当な脱臭手段を設けること等は有用であろう。
【００４３】
ミストコレクタ３２は、排気ガスが冷却器３１を通過した後、長いダクト行路を経ずして含有される溶剤の液化、凝集が速やかに進行するよう、冷却器３１に隣接して配設される。一旦凝集し、液体として沈降すれば、溶剤の捕捉は非常に容易に行える。ミストコレクタ内或いはダクト内底部において、自重によってより低い位置に流動していき、そこに集積する。漏斗など、例えば円錐タイプのドレンポットが設けてあれば、効率よく自動的に、溶剤成分を一ヶ所に捕集することができる。
【００４４】
冷却器３１及びミストコレクタ３２のところで処理し切れなかった溶剤成分は、その後炉外排気ダクト１９を更に下ることになるが、炉外排気ダクト１９中を流れていった後、最終的には排ガス処理装置（図示せず）によって処理される。概ねＰＤＰ工場の場合、燃焼式の処理装置であり、８００℃以上に加熱、燃焼されることによってＣＯ２やＨ２Ｏに分解される。
【００４５】
なお、このような長尺型の乾燥炉１０は、工場での実際の稼動にあたっては、工場スペース内にその幅方向に複数並べて配置され、熱交換器の冷水路は当然のこと、給気ダクト及び排気ダクトを共通のものとし、共通給気ダクト及び排気ダクトとしている。各々の乾燥炉から出た排ガス中の溶剤成分の多くは、炉缶体１１を出た後は、各々の乾燥炉セクション内で速やかに凝集、沈降、液体として極力個別に捕集されるようなされる。このため冷却器３１及びミストコレクタ３２は乾燥炉ごとに設置される。
【００４６】
また、熱交換器は、冷却されるガスの進入部が幅５０ｃｍ程度と、通常ダクト幅の倍又はそれ以上あるのが典型的であり、そのまま真っ直ぐ排気ダクトの途中に接続するとすると、ダクト断面積を拡大するなどしなければ接続することができない。このような場合、熱交換器はダクトに対して真っ直ぐでなく傾斜させて接続させると、ダクトを拡大する必要はなく、本発明の実施の形態に係る乾燥炉を容易に実現することが可能である。更にこのような熱交換器の組みつけ方であれば、ダクトが水平方向に這わせて設置されているとして、生じた液滴が伝っていく熱交換器の各部は水平方向から傾斜して配置されていることになり、熱交換器通過後の液滴の一ヶ所への集中捕集が行い易く、この点でも有利であろう。
【００４７】
【実施例】
以下のように乾燥炉を構成し、乾燥処理を実行した。
【００４８】
図１に示したように、加熱用の上下ヒーター、搬送用ローラー、排気ダクト等を有する、炉長が８メートルのローラーコンベア型連続炉を準備した。約２０ｃｍ四方の断面を有する炉外排気ダクトは炉缶体を這うように設置し、その一部に熱交換器とミストコレクタとを設置し、炉缶体外壁に安置、取り付けした。熱交換器とミストコレクタとの距離は５０ｃｍほどとった。熱交換器は、連続稼動状態で１０，００００ｋｃａｌ／時の交換熱量を発揮できるタイプのものであり、伝熱面積は８．８８ｍ２ の冷却水循環式のものであった。また、ミストコレクタは基本的には遠心式送風機と同等であり、ファンケースにフィルタを配置する方式で動作するものを用いた。
【００４９】
乾燥炉の中で、６０インチのＰＤＰ基板を炉長方向に一列に並べる搬送形態をとり、基板温度１８０℃でＰＤＰの隔壁形成のためのペーストの乾燥処理を実行した。隔壁形成のためＰＤＰ基板に塗布したペーストはおよそ膜厚２５０μｍである。２分間にＰＤＰ基板１枚のペースで炉内搬送を行い、乾燥処理を連続的に実行することができた。ペーストには、ＰＤＰの隔壁製造に典型的に使用されるα―テルビネオール及びブチルカルビトールアセテートを、ペースト全量のそれぞれ６重量％、合計１２重量％添加して使用した。
【００５０】
なお、本実施例では、上で述べたような共通の仕様をもつ同一タイプの乾燥炉Ａ，Ｂを用い、それぞれで上記のような同様の乾燥処理を行わせ、実行結果を得た。
【００５１】
乾燥炉の稼動終了後、ミストコレクタを出た排気ダクトの一部に設けたドレンポットに捕集された溶剤成分の重量を確認した。この確認結果から、本実施例の稼動では、乾燥炉Ａ、乾燥炉Ｂいずれの場合も、毎分約１５〜２０ｇの範囲の溶剤成分がドレンポットによって捕集されたことになる。他方、稼動中乾燥処理されたＰＤＰの枚数、一枚当たりの溶剤成分使用量から、乾燥処理が完全に行われたとして、炉内には毎分５０ｇの溶剤が炉内に蒸散されていた計算になる。
【００５２】
従って、本実施例においては、炉内においてＰＤＰ基板から蒸散された溶剤成分のおよそ３０〜４０％が、ミストコレクタ通過直後、液体として回収できたことになる。
【００５３】
【表１】
2004301373.tif 000003
【表２】
2004301373.tif 000004
【表３】
2004301373.tif 000005
以上のように、厚膜プロセスによるＰＤＰ基板の製造において、本発明の実施の形態に係る乾燥炉を使用すれば、蒸散した溶剤を各々の炉缶体１１の近傍で高い捕集率で捕捉することができる。従って溶剤成分の外部への漏洩、爆発の問題、それによって生じうる環境問題など効果的に防止することが可能となり、近年望まれているＰＤＰの高い量産体制に寄与することができる。
【００５４】
以上、本発明について実施の形態に沿って説明したが、本発明はこれらの記載に限定されるものではなく、種々の改良や置換が可能であることは当業者には明らかである。
【００５５】
また本発明は、ＰＤＰの厚膜プロセスにおける乾燥工程における問題点に関連してなされた乾燥炉の発明である。しかし、ＰＤＰはあくまで本発明に係る装置の好適な適用対象を示した一例であって、本発明はこれに限定されない。本発明の乾燥炉が、乾燥対象次第で顕著な効果をあげる可能性を有する新規かつ有用な具体的構成を有していることは、容易に理解できるであろう。
【００５６】
【発明の効果】
本発明による乾燥炉によれば、乾燥処理によって炉内に生じた蒸散成分を効率よくダクト内、炉体付近で捕集、回収できるので、外部への洩れ、それによる環境汚染の問題、ダクト内での爆発の危険性など、従来からの問題点を効率よく回避でき、処理基材の量産性に寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るＰＤＰ用乾燥炉を示した概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る冷却器とミストコレクタとを示した概略斜視図である。
【符号の説明】
１０  乾燥炉
１１  炉缶体
１２  パネルカバー
１４  加熱用上部ヒーター
１５  加熱用下部ヒーター
１６  搬送用ローラー
１７  給気ダクト
１８  炉内排気ダクト
１９  炉外排気ダクト
２０  ＰＤＰ基板
２１  制御盤
３１  冷却器
３２  ミストコレクタ
【図１】
2004301373.tif 000006
【図２】
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