(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイ等の１画素相当の点欠陥を検査するパネル画質検査装置における  ＣＣＤ  欠陥画素を自動特定する手段を有し、ＣＣＤ  欠陥を検査対象からマスクする方法を提供する。【解決手段】測定対象に対して撮像装置の位置を移動させながら、複数枚撮像をおこない、各画像を画素単位に積算した１枚の積算画像を作成する。次にこの積算画像を任意のしきい値にて２値化する。２値化して検出した位置を撮像装置の撮像素子の欠陥位置として特定し、この位置座標を登録し、登録された位置をマスクして検査対象から除外する。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像素子によって発光体を撮像し、該撮像された画像を画像処理し、上記発光体の欠陥検出する欠陥検査方法において、
上記撮像素子の欠陥画素を特定してその位置情報を登録し、
登録された位置情報の位置をマスク処理することを特徴とする撮像素子の画素欠陥マスク方法。
【請求項２】
請求項１記載の撮像素子の画素欠陥マスク方法において、
上記撮像素子は、上記発光体を、所定の画素数分ずらして撮像することによって複数の画像を取得し、
該取得された複数の画像の輝度レベルの積算を行って総和画像を作成し、
該総和画像について、所定のしきい値に基づいて、上記撮像素子の欠陥画素を特定することを特徴とする撮像素子の画素欠陥マスク方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明に属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ等に用いられる発光体の欠落、傷等の点欠陥を検査する検査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の検査装置を、図１と図２によって説明する。図１は、従来技術の検査装置の略構成を示すブロック図である。また図２は、従来の検査処理動作を説明するためのフローチャートである。
【０００３】
１１  は測定対象、１２  は  ＣＣＤ  等の撮像素子と光学顕微鏡等の拡大ユニットとを少なくとも備えた撮像装置、１３  は検査処理を行なう画像処理部、１４  は測定対象  １１  を固定する支持台である。
【０００４】
支持台  １４  には、検査を行なう測定対象  １１  が、測定対象面と支持台  １４  の  ｘ軸方向と  ｙ  軸方向に平行に固定される。
【０００５】
画像処理部  １３  は、撮像装置  １２  に測定対象  １１  の所望の領域の画像を取得させるために、撮像装置  １２  に付属する図示しない駆動ユニット（例えば、ｘ  軸駆動ユニット，ｙ  軸駆動ユニット，焦点軸駆動ユニット）を制御して、撮像装置  １２  を駆動する。撮像装置  １２  は、測定対象  １１  の測定対象面と垂直（  ｚ  軸方向、または光軸方向、または焦点軸方向と称する）に設定され、測定対象の所望の領域を撮像し、取得した画像の情報を画像処理部  １３  に出力する。
【０００６】
画像処理部  １３  は、図示しないが、少なくとも  ＣＰＵ  を備え所定のプログラムに従って検査装置を制御する。画像処理部  １３  は、ＣＰＵ  が予め定められた検査アルゴリズムによって、撮像装置  １２  が取得した画像の画像処理を行う。
【０００７】
また、画像処理部  １３  は、図示しないが、拡大ユニットの焦点を合せるように、撮像装置  １２  を制御する。また、画像処理部  １３  は、撮像装置  １２  が撮像した検査対象  １１の画像、画像処理部  １３  が解析した結果画像及び検査結果情報を表示する表示部（図示しない）を備える。また、画像処理部  １３  は、図１の検査装置を制御するための操作器（図示しない）を備える。
【０００８】
測定対象  １１  は、例えば、所望の蛍光体等の発光体がその表面上に塗布された、ガラス等の基板で、プラズマディスプレイ、ＬＣＤ  等である。
【０００９】
図１において、まず、測定対象  １１  を図示しない周知の手段によって発光させ、測定対象  １１  から入射する光学像を撮像装置  １２  で撮像する。例えば、測定対象  １  がプラズマディスプレイの場合には、紫外線を基板表面上に照射して、プラズマディスプレイ基板表面上の所望の蛍光体を発光させる。また例えば、測定対象  １  が  ＬＣＤ  の場合には、電源を投入してバックライトを点灯させる。
【００１０】
撮像装置  １２  は、この取得した画像を画像処理部  １３  に出力し、画像処理部  １３  は、入力された画像を、図２に示す処理フローによって処理し、点欠陥を検出する。以下、図２の従来技術に処理動作について説明する。
【００１１】
以下、図２の処理フローについて説明する。
図２（ａ）  は、処理動作のフローチャート、図２（ｂ）  は、処理動作を説明するための図である。
【００１２】
ステップ  ２０１  では、測定対象  １１  を撮像し、画像（原画）を取得する（図２（ｂ）  ▲１▼黒塗り部  ２１１  参照）。  ｘ  軸方向。
【００１３】
ステップ  ２０２  では、取得した画像の輝度レベル（図２（ｂ）  ▲２▼−１：輝度レベル波形  ２１３  参照）について、画素毎に、例えば、図２（ｂ）  ▲１▼黒塗り部  ２１１  を横切る直線部分  ２２０  について、ｘ  軸方向に微分し、各画素の輝度レベル変化量を求め、あらかじめ定めた任意のしきい値Ｉに基いて２値化し（図２（ｂ）  ▲２▼−１：微分、▲２▼−２：２値化）、２値化画像（図２（ｂ）  ▲２▼−２：２値化波形  ２１４  参照）を得る。即ち、設定したしきい値Ｉにより、欠陥の位置を検出する。
【００１４】
ステップ  ２０３  では、この得られた２値化画像について、周知のラベリング処理を行い、輝度レベル変化のある画素位置を検出し、検出された画素位置付近（図２（ｂ）  ▲１▼黒塗り部  ２１１  を含む破線  ２１２  内参照）の領域を抽出する。
【００１５】
次にステップ  ２０４  では、抽出された画素位置付近の領域  ｘ１（図２（ｂ）  ▲３▼に拡大した図の輝度レベル波形  ２１５  参照）の輝度レベルを比較し、周辺と異なる画素を欠陥として検出する。この▲３▼の図での横幅は、▲１▼の図の破線  ２１２  の  ｘ  軸方向の幅である。また比較は、しきい値ＩＩを基準として行い、しきい値ＩＩ以下の画素領域を画素欠陥として検出する（例えば、特許文献１参照。）。
【００１６】
【特許文献１】
特開平８−２０１２２８号公報（従来の技術、第４図）
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
前述の従来技術では、例えば  ＣＣＤ  等の撮像装置の撮像素子側に画素欠陥がある場合、検査された測定対象に欠陥がなくても欠陥があるとして誤検出してしまう欠点があった。即ち、図３に示すように、対象を撮像した画像では、実際の欠陥（以降、実欠陥と称する）  ３１  と撮像素子（  ＣＣＤ  ）の画素欠陥（以降、ＣＣＤ  欠陥と称する）３２  とが同じように見えるため、実欠陥  ３１  と  ＣＣＤ  欠陥  ３２  とを区別することができない。このため、ＣＣＤ  欠陥  ３２  を測定対象  １１  の実欠陥として誤検出していた。なお、図３では、撮像装置が撮像する一画面分の大きさに対して、画素欠陥（実欠陥、ＣＣＤ  欠陥）の大きさを強調して、大きく描いている。
【００１８】
本発明の目的は、上記のような欠点を除去し、撮像装置の撮像素子側に画素欠陥があっても、その欠陥を測定対象の欠陥としない欠陥検査方法を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の撮像素子の画素欠陥マスク方法は、事前に  ＣＣＤ  等の撮像素子の  ＣＣＤ  欠陥の画素位置を特定し、その特定した画素位置をマスクすることで誤検出をなくすようにするものである。
【００２０】
即ち、本発明の撮像素子の画素欠陥マスク方法は、撮像素子によって発光体を撮像し、撮像された画像を画像処理し、発光体の欠陥検出する欠陥検査方法において、撮像素子の欠陥画素を特定してその位置情報を登録し、登録された位置情報の位置をマスク処理することを特徴とする。
【００２１】
また、本発明の撮像素子の画素欠陥マスク方法では、撮像素子が発光体を所定の画素数分ずらして撮像することによって複数の画像を取得し、取得された複数の画像の輝度レベルの積算を行って総和画像を作成し、総和画像について、所定のしきい値に基づいて、上記撮像素子の欠陥画素を特定することを特徴とする。
【００２２】
【発明の実施の形態】
まず、本発明の、事前に撮像素子の  ＣＣＤ  欠陥の画素位置を特定する手段について図４と図５によって説明する。図４は、本発明の検査装置の一実施例の概略構成を示すブロック図、図５は、撮像素子の  ＣＣＤ  欠陥の画素位置を特定する方法の一実施例を説明する図である。
【００２３】
図４に示すように、撮像装置  １２  を、例えば水平（ｘ軸方向）に移動して測定対象  １１  を撮像し、所定の距離離れた複数枚の画像を作成する。水平移動する所定距離は、例えば、１画素〜数画素である。
【００２４】
次に、各画像を画素毎に積算（累算）して１枚の画像（総和画像）を作成する。
【００２５】
この総和画像では、図５に示すように、ＣＣＤ  欠陥  ３２  の位置は常に同じ位置に存在し（  ３２−１  ，３２−２  ，３２−３  ，‥‥‥  ）、実欠陥  ３１  は、撮像装置  １２  を移動する毎に位置が変わっていく（  ３１−１  ，３１−２  ，３１−３  ，‥‥‥  ）。ここで、３１０  は総和画像の実欠陥領域、３２０  は総和画像のＣＣＤ  欠陥領域である。
【００２６】
このため、総和画素の輝度レベル（図５の総和輝度レベル波形）は、総和画像での実欠陥  ３１  の画素による領域  ３１０  の輝度レベルは、あまり輝度値が増加せず、ＣＣＤ  欠陥  ３２  の画素位置による領域  ３２０  の輝度レベルのみが加算されて輝度値が積算される画像が増加するにつれて増加し、ＣＣＤ  欠陥３２  のみが強調される。
【００２７】
従って、任意のしきい値で、この積算画像を２値化することで  ＣＣＤ  欠陥  の画素の位置座標が特定することができる。
【００２８】
なお、図５では、１画素分ずつ水平に測定対象を右から左に撮像しており、撮像装置が撮像する一画面分の大きさに対して、画素欠陥（実欠陥、ＣＣＤ  欠陥）の大きさを強調して、大きく描いている。また、図５の総和画像は、図の１回目から３回目までの画像の輝度値を加算している。
【００２９】
また、説明上、図５の総和輝度レベル波形は、総和画像の右半分の直線部分  ５０２  と左半分の直線部分  ５０３  について、それぞれ相当する、垂線  ５０１  で分割された右半分の波形と左半分の波形とを一緒に描いている。
【００３０】
この特定された位置座標を登録しておき、検査時における  ＣＣＤ  欠陥をマスク処理することで、  ＣＣＤ  欠陥を検査時に測定対象の欠陥として誤検出することを防ぐことができる。従って、この方法によれば、撮像装置側の画素欠陥位置では、測定対象の画素について欠陥の有無を判定しないため、撮像装置の画素欠陥による誤検出を除去することができる。
【００３１】
マスク処理の方法は、一般的に周知で、例えば、特開２００１−１７５９５９公報に記載されている。
【００３２】
なお、画像処理部  １３  が取得した画像は、モニタ  １５  に出力することによって、モニタ等の表示装置から観察でき、画像処理結果や検査結果の情報を表示することもできる。
【００３３】
上記実施例では、撮像装置を所定距離動かして、積算画像を作成するための各画像を取得したが、測定対象  １１  側、例えば、支持台  １４  を動かしても良いし、それらの組合せでも良いことは自明である。
【００３４】
【発明の効果】
上述のように、従来、撮像素子の欠陥をも、測定対象の欠陥として誤検出してしまっていたが、本発明によれば、撮像素子の欠陥を除去して、測定対象を検査することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の検査装置の概略構成を示すブロック図。
【図２】従来の検査処理動作を説明するためのフローチャート。
【図３】撮像素子の画素欠陥を測定対象の画素欠陥とを説明する図。
【図４】本発明の検査装置の一実施例の概略構成を示すブロック図。
【図５】本発明の撮像素子の  ＣＣＤ  欠陥の画素位置を特定する方法の一実施例を説明する図。
【符号の説明】
１１：測定対象、  １２：撮像装置、  １３：画像処理部、  １４：支持台、  １５：モニタ、  ３１，３１−１，３１−２，３１−３，‥‥‥：実欠陥、  ３２，３２−１，３２−２，３２−３，‥‥‥：ＣＣＤ  欠陥、  ２１１：黒塗り部、  ２１２：破線部、  ２１３：輝度レベル、  ２１４：２値化波形、  ２１５：輝度レベル波形、  ２２０：直線部、  ３１０，３２０：領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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