(57)【要約】【課題】研磨シートによる回転抗力や洗浄ムラの発生がなく、洗浄に寄与しない部分の発生を無くすことで、研磨シートのランニングコストの削減ができ、しかも、研磨シートの使用量に関係なく、安定した回転をさせることができ、しかも、高速回転を実現することができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】研磨シート４０の供給ロール４１と巻取りロール４２及び、両ロール４１、４２間に位置し、研磨シート４０を基板Ａに接触させるシートバックアップ４３とで形成された洗浄機３７を二組用いて回転ユニット３５を形成し、この回転ユニット３５が二組の洗浄機３７をスプライン軸２４の軸心を挟んでその両側に、両洗浄機３７の供給ロール４１相互と巻取りロール４２相互が互いにスプライン軸２４の軸心に対して点対称の位置関係になるよう配置してある。【選択図】　　　図１
2004069724.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨シートの供給ロールと巻取りロール及び、両ロール間に位置し、研磨シートを基板に接触させるシートバックアップとで形成された洗浄機を二組用い、この二組の洗浄機を回転軸の軸心を挟んでその両側に、両洗浄機の供給ロール相互と巻取りロール相互が互いに回転軸の軸心に対して点対称の位置関係になるよう配置した基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板洗浄装置に係り、具体的には、液晶パネルの表面に付着したカレットや封止樹脂などの異物を自動的に効率よく安定して取除くことができるようにした基板洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶パネルの製造工程において、貼り合わせたガラス板を所定の大きさに切断する工程時に、切断によって発生したカレットが、ガラス板の表面にこびりつくように固着した状態、また、二枚のガラス板間に液晶を注入した後の、注入口を封止する際に封止剤が注入口付近のガラス板表面に付着した状態が発生する。
【０００３】
このように液晶パネルの製造工程で、カレットや封止樹脂などの異物がガラス板の表面に付着すると、次工程の偏光板貼付けの工程において、不良が発生するため、これらの異物を除去する必要がある。
【０００４】
従来、これら液晶パネルの表面上に発生した異物を除去する研磨装置には、カッター回転方式と、シート回転研磨方式があり、前者のカッター回転方式は、液晶パネルの表面にキズが発生しやすく、液晶パネルの表面うねりなどの精度に依存し、洗浄能力にバラツキが多く、安定した除去効果が得られないという欠点がある。
【０００５】
これに対して、後者のシート回転研磨方式は、液晶パネルの表面にキズを発生することは少なく、液晶パネルの表面全面に対して安定した除去効果が得られるため、近年、シート回転研磨方式が多く採用されている。
【０００６】
従来のシート回転研磨方式の研磨装置は、研磨シートの供給ロールと巻取りロール及び、両ロール間に位置し、研磨シートを基板に接触させるシートバックアップからなり、スピンドル軸の軸心上にシートバックアップを位置させ、このシートバックアップを挟んで供給ロールと巻取りロールを配置し、シートバックアップで研磨シートを液晶パネルの表面に圧接させ、この状態で、スピンドル軸の軸心を中心に回転させながら、研磨装置を液晶パネルの面方向に移動させることで、研磨シートで異物を研磨除去するようになっている。
【０００７】
ところで、研磨の初期には未使用の研磨シートのほとんどが供給ロールに巻かれ、巻取りロールにはほとんど巻かれていないが、研磨が進むにつれて、供給ロールの研磨シートの量は減ると共に、巻取りロールの研磨シートの量は増えてくる。そのため、研磨装置の重心は供給ロール側から巻取りロール側に移っていくことになる。
【０００８】
円滑な回転が行われるためには、研磨装置の重心がスピンドル軸の回転軸心にある必要があるが、上記のような構造では、研磨の初期では装置の重心は供給ロール側に、そして研磨が進むにつれて巻取りロール側に移り、このため、回転の安定性が悪く、特に、研磨装置を高速回転をするときは、回転中心が大きく振れるだけでなく、装置の破損につながるという問題がある。
【０００９】
このような従来の研磨装置にあった問題を解決するための研磨装置が、特許第３０２４９４７号で提案されている。
【００１０】
この研磨装置は、回転するスピンドル軸の下部に、研磨シートの供給ロールと巻取りロール及び、研磨シートを基板に接触させるための押し付けローラを、スピンドル軸の軸心線に沿って上下に並べて配置し、供給ロールから引き出した研磨シートを多数のガイドローラで誘導し、押し付けローラに導いたのち巻取りロールに巻き取る構造を有している。
【００１１】
上記研磨装置で液晶パネルの表面上に発生した異物を除去するには、液晶パネルの表面に研磨シートを押し付けローラで線状に圧接させ、スピンドル軸を回転させることにより、研磨シートの液晶パネルへの圧接部分を、スピンドル軸の軸心を中心に回転させ、この状態で、研磨装置を液晶パネルの面方向に移動させ、研磨シートで異物を研磨除去するものである。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような供給ロールと巻取りロール及び押し付けローラを上下に並べて配置した構造では、研磨シートの液晶パネルへの圧接部分において、回転中心に位置する部分は、低速で回動していることになり、スピンドル軸に不要な付加を与える上、その部分では十分な洗浄が行えないという問題がある。
【００１３】
また、研磨シートの上記回転中心に位置する部分は、洗浄に寄与しない部分となり、このような洗浄に寄与しない部分まで必要となるので、研磨シートのランニングコストが高くなるという問題がある。
【００１４】
更に、スピンドル軸と研磨シートの液晶パネルへの圧接部分までの距離が、非常に長くなってしまうため、高速での回転の安定性が悪くなる。
【００１５】
そこで、この発明の課題は、研磨シートによる回転抗力や洗浄ムラの発生がなく、洗浄に寄与しない部分の発生を無くすことで、研磨シートのランニングコストの削減ができ、しかも、研磨シートの使用量に関係なく、安定して回転させることができ、しかも、高速回転を実現することができる基板洗浄装置を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記のような課題を解決するため、この発明は、研磨シートの供給ロールと巻取りロール及び、両ロール間に位置し、研磨シートを基板に接触させるシートバックアップとで形成された洗浄機を二組用い、この二組の洗浄機を回転軸の軸心を挟んでその両側に、両洗浄機の供給ロール相互と巻取りロール相互が互いに回転軸の軸心に対して点対称の位置関係になるよう配置した構成を採用したものである。
【００１７】
上記供給ロールは、ブレーキにより自由回転が生じないようになっていると共に、巻取りロールには、ワンウエイクラッチを介して研磨シートの巻き取りレバーが装着され、基板洗浄装置の待機位置となる原点位置には、この原点位置に停止する両洗浄機の供給ロールとシートバックアップ間の研磨シートを押し上げて研磨シートを供給ロールから所定長さ引き出して弛ませる研磨シート弛ませシリンダと、巻き取りレバーを押し上げ、ワンウエイクラッチを介して巻取りロールを回転させ、弛ませた研磨シートを巻取りロールに巻き取ることで、シートバックアップ部分に研磨シートの新しい部分を引き出す、研磨シート巻取り用シリンダが、両洗浄機に対応するように配置してある。
【００１８】
上記基板洗浄装置は、Ｘ軸方向とＹ軸方向及びＺ軸方向に移動自在となる昇降ブラケットで回転と上下動が可能となるよう保持されたスプライン軸の下端に取り付けられ、両洗浄機はスプライン軸の軸心を挟む両側に位置し、昇降ブラケットに取り付けたシリンダの押圧で研磨シートを基板に接触させると共に、シリンダとスプライン軸の間に設けたロードセルで、シリンダの押圧力を適正に制御し、昇降ブラケットに固定したモータとスプライン軸を連動し、基板洗浄装置にスプライン軸の軸心を中心とする回転を与えるようになっている。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図示例と共に説明する。
【００２０】
図９は、この発明の基板洗浄装置を組み込んだ基板洗浄設備の概略平面図であり、水平の機台１上に液晶パネルである基板Ａの基板供給部２と、基板洗浄部３と、基板取出し部４を直線的に並べて設け、基板供給部２にある洗浄前の基板Ａを、吸着やハンドリングによる移送手段で基板洗浄部３の洗浄テーブル５上に供給し、洗浄テーブル５はこの基板Ａを水平に吸着保持すると共に、洗浄後の基板Ａは上記と同様の移送手段で洗浄テーブル５上から取り出して基板取出し部４に移送するようになっている。
【００２１】
上記機台１上の両側には、基板供給部２と基板洗浄部３及び基板取出し部４の直列方向に平行する一対のＸ軸レール６、６が固定され、両Ｘ軸レール６、６間の上部に、Ｘ軸レール６、６に沿ってＸ軸方向にモータ等の駆動源で移動するＹ軸ビーム７が架設され、このＹ軸ビーム７の長さ方向には、図１０のように、上下にＹ軸レール８と、その中間にボールねじ９が設けられ、上記の上下Ｙ軸レール８にこの発明の基板洗浄装置１０がＹ軸方向に移動可能となるよう取り付けられている。
【００２２】
従って、基板洗浄装置１０は、平面的にＸ軸方向とＹ軸方向へ水平の移動が自在となり、図９において、機台１上で基板洗浄装置１０が基板洗浄部３から離れた位置が、基板洗浄装置１０が停止して待機位置となる原点位置ａに設定され、基板洗浄装置１０は基板Ａの洗浄後にこの原点位置ａに戻ることになる。
【００２３】
図１乃至図４のように、Ｙ軸ビーム７の前面に配置した移動ブラケット１１は、上下のスライダ１２が上下Ｙ軸レール８に嵌合し、移動ブラケット１１の背面に設けたナット部材１３がボールねじ９に螺合し、ボールねじ９をモータ等の駆動源で回転させることにより、移動ブラケット１１がＹ軸方向に移動することになる。
【００２４】
上記移動ブラケット１１の前面で上部に設けたモータブラケットにその出力軸１４を下向きにしてモータ１５を固定し、移動ブラケット１１の前面で上下に配置したブラケット１６でボールねじ１７を垂直に支持し、モータ１５の出力軸１４とボールねじ１７をカップリングで結合することで、ボールねじ１７を正逆回転させるようになっていると共に、その両側に垂直のＺ軸レール１８が設けられている。
【００２５】
この移動ブラケット１１の前面に配置した昇降ブラケット１９は、コ字状に形成され、両側のスライダ２０がＺ軸レール１８に嵌合し、上下に移動自在になっていると共に、背面に設けたナット部材２１がボールねじ１７に螺合し、ボールねじ１７をモータ１５で回転させることにより、昇降ブラケット１９はＺ軸方向に移動することになる。
【００２６】
上記昇降ブラケット１９には、上部にシリンダ２２がそのピストン２３を下向きにして固定され、下部には、垂直のスプライン軸２４が上下動と回転が可能となるよう設けられ、このシリンダ２２とスプライン軸２４は同軸心状の配置となり、シリンダ２２のピストン２３とスプライン軸２４は、スラスト荷重とラジアル荷重を支持するアンギュラ玉軸受２５と、その上部に位置するロードセル２６を介して連結され、シリンダ２２のピストン２３とスプライン軸２４は上下に一体に移動するようになっている。
【００２７】
図２のように、アンギュラ玉軸受２５は、昇降ブラケット１９に設けた一対のガイド２７に沿って上下動可能となる昇降ベース２８で保持され、この昇降ベース２８は、両側の位置において、昇降ブラケット１９の上部との間に引っ張りばね２９が設けられ、スプライン軸２４を常時上昇位置に付勢していると共に、ロードセル２６はシリンダの押圧力を制御するものである。
【００２８】
上記昇降ブラケット１９の下部にモータ３０が固定され、このモータ３０の出力軸３１とスプライン軸２４がプーリ３２、３３とベルト３４で連動し、スプライン軸２４に回転を付与するようになっている。なお、スプライン軸２４のプーリ３３は、スプライン軸２４と一体に回転すると共に、スプライン軸２４の上下方向に移動を許容するように昇降ブラケット１９に取り付けられ、上記スプライン軸２４の下端に基板洗浄装置１０が取り付けられている。
【００２９】
この基板洗浄装置１０は、スプライン軸２４の下端に固定した回転ユニット３５が、回転体３６と、この回転体３６の下部で両側に設けた二組の洗浄機３７で形成され、この回転ユニット３５の下部を除く周囲を覆う水飛散防止カバー３８と、カバー３８の内部で複数箇所に配置した洗浄用の水散布ノズル３９を設けた構造になっている。
【００３０】
上記回転体３６は円板状で内側に複数の窓孔が設けられ、スプライン軸２４の下端に水平状態で同軸心状に固定され、その下面側に二組の洗浄機３７が、スプライン軸２４の軸心を挟んでその左右両側の等距離の位置に平行状態の配置で設けられている。
【００３１】
二組の洗浄機３７は共に等しい構造を有し、研磨シート４０の供給ロール４１と巻取りロール４２及び、両ロール４１、４２間に位置し、研磨シート４０を基板Ａに接触させるシートバックアップ４３とで形成されている。
【００３２】
上記回転体３６の下面には、軸心を挟んで外周寄りの位置に側壁４４と、軸心の直下となる中央位置に平面Ｈ字状の中央壁４５が平行するように設けられ、側壁４４と中央壁４５の対向面間において、一方の端部側に供給ロール４１と、他方の端部側に巻取りロール４２がそれぞれ回転可能に架設され、供給ロール４１と巻取りロール４２間に位置するシートバックアップ４３が中央壁４２への取り付けによって配置されている。
【００３３】
図５のように、供給ロール４１から引き出された研磨シート４０は、側壁４１と中央壁４２の対向面間の下部に設けたシートガイド４６を介してシートバックアップ４３の下端部を通過し、シートガイド４６を介して巻取りロール４２に巻き取られるようになっている。
【００３４】
上記シートバックアップ４３は、図６のように、中央壁４５の中央部分に設けた切り欠き部分のブラケット４７に中央部分が軸４８で揺動可能に枢止され、その両側が供給ロール４１と巻取りロール４２間に突出し、回転体３６の下面両側には、シートバックアップ４３の揺動角度を規制するストッパー４９が固定され、両側下部の研磨シート４０を押圧する下端部には、シリコンゴム等のゴム材５０が取り付けてある。
【００３５】
シートバックアップ４３は両洗浄機３７に対して別々に設けてもよいが、図示のように、両洗浄機３７に対して一体のものを揺動可能とすると、研磨シート４０の基板Ａに対する押圧部分の基板Ａ表面への追従性がよくなる。
【００３６】
ここで、研磨シート４０としては、例えば、テトロン・タフタポリエステルのベース材にポリウレタン系合成樹脂の接着剤を使用して研磨材ホワイトアルミナ粒子系７μｍを塗布したシートが用いられる。
【００３７】
上記供給ロール４１は、一方フランジの厚みを厚くし、回転体３６にはこのフランジに摺接して供給ロール４１を制動し、自由回転が生じないようにするブレーキ５１が設けてある。
【００３８】
このブレーキ５１は、図８のように、回転体３６上に固定したブラケットの縦孔内に、ロッド５２とこれを押圧する圧縮ばね５３及び調整用の押さえ部材５４を設け、ロッド５２の先端にフランジに摺接するブレーキシュー５５を固定して形成され、供給ロール４１の自由回転による研磨シート４０の繰り出し発生がないようにしている。
【００３９】
また、巻取りロール４２には、図５のように、ワンウエイクラッチ５６を介して研磨シート４０の巻き取りレバー５７が装着され、巻き取りレバー５７はブロック５８との間に張設した引っ張りばね５９で、ブロック５８のストッパー６０に常時当接する方向の復帰弾性が付勢され、巻き取りレバー５７を上方へ所定ストローク回動させると、ワンウエイクラッチ５６を介して巻取りロール４２が回転し、研磨シート４０を一定量だけ巻き取ると共に、巻き取りレバー５７の復帰時は、ワンウエイクラッチ５６の空転で巻取りロール４１に回転が伝わらないようになっている。
【００４０】
上記した二組の洗浄機３７は、図４の平面図で示すように、両洗浄機３７の供給ロール４１相互と巻取りロール４２相互が互いにスプライン軸２４の軸心に対して点対称の位置関係になるよう配置され、他の構成部材であるシートガイド４６やブレーキ５１、ワンウエイクラッチ５６や巻き取りレバー５７の配置も同様の点対称とすることにより、回転時の重心の変動発生がないようになっている。
【００４１】
即ち、上記二組の洗浄機３７をスプライン軸２４の軸心に対して点対称の位置関係になるよう配置すると、研磨の初期には未使用の研磨シート４０のほとんどが供給ロール４１に巻かれ、巻取りロール４２にはほとんど巻かれていないときでも、また、研磨が進むにつれて、供給ロール４１の研磨シート４０の量は減ると共に、巻取りロール４２の研磨シート４０の量は増えても、常に点対称で二組の洗浄機３７の重心が軸心になり、重心が釣り合うことにより回転による研磨装置１０の振れがなく、高速回転が可能になる。
【００４２】
また、図５と図１０のように、基板洗浄装置１０の待機位置となる原点位置ａの機台１上には、この原点位置ａに停止する両洗浄機３７の供給ロール４１とシートバックアップ４３間の研磨シート４０を押し上げて研磨シート４０を供給ロール４１から所定長さ引き出して弛ませる研磨シート弛ませシリンダ６１と、巻き取りレバー５７を押し上げ、ワンウエイクラッチ５６を介して巻取りロール４２を回転させ、弛ませた研磨シート４０を巻取りローラ４２に巻き取ることで、シートバックアップ４３部分に研磨シート４０の新しい部分を引き出す、研磨シート巻取り用シリンダ６２が、両洗浄機３７に対応するように配置してある。
【００４３】
上記研磨シート弛ませシリンダ６１は、上下動するロッドの上端に押上部材６３を設けて形成され、このシリンダ６１の研磨シート押上力よりも、上記したブレーキ５１の圧縮ばね５３による制動力の方が弱く設定されている。
【００４４】
また、研磨シート巻取り用シリンダ６２は、上下動するロッドの上端に、巻き取りレバー５７の下端に突設した当たり６４に当接して押し上げる押上部材６５を設けて形成され、このシリンダ６２の押上力よりも、上記したブレーキ５１の圧縮ばね５３による制動力の方が強く設定されている。
【００４５】
この発明の基板洗浄装置は、上記のような構成であり、次に、液晶パネルの洗浄方法を詳細に説明する。
【００４６】
図９のように、基板洗浄装置１０が原点位置に停止する状態で、基板供給部２から基板洗浄部３に基板Ａが供給され、洗浄テーブル５上に基板Ａが吸着保持されると、基板洗浄装置１０は、ボールねじ９の回転でＸ軸方向とＹ軸方向に移動して基板Ａの直上に臨み、図１のように、モータ１５の回転による昇降ブラケット１９と共に回転ユニット３５が下降し、回転ユニット３５における両側洗浄機３７は、シートバックアップ４３の下面にある研磨シート４０が基板Ａ上に当接する。
【００４７】
上記研磨シート４０の基板Ａへの圧接力をロードセル２６が検出し、シリンダ２２のスプライン軸２４の押圧力を制御し、基板Ａへの圧接力を適正な圧力に設定すると共に、モータ３０の起動によりスプライン軸２４で回転ユニット３５を回転させ、水散布ノズル３９から基板Ａ上に洗浄水を給水した状態で、基板上の洗浄を開始する。
【００４８】
上記研磨シート４０の基板Ａへの接触面圧は、例えば、０．１〜０．２ＭＰａに制御すると共に、回転ユニット３５の回転速度は、二組の洗浄機３７の構成部材のスプライン軸２４の軸心に対する点対称の配置と、スプライン軸２４の下端から回転ユニット３５の基板Ａへの接触部分までの距離を短くしたことにより、重心の移動がないので振れの発生がなくなり、しかも、スプライン軸２４の軸心の直下には研磨シート４０が存在しないので、スプライン軸２４の回転に対する抗力の発生が少なく、これにより、１０００ｒｐｍの高速回転に設定することができる。
【００４９】
このように、回転ユニット３５の回転状態で、基板洗浄装置１０をＸ軸方向とＹ軸方向に移動させることにより、両側洗浄機３７の研磨シート４０で基板Ａの全面の洗浄を行って、基板Ａに付着している異物を除去することになる。
【００５０】
基板Ａの全面を洗浄すると、モータ３０による回転ユニット３５の回転を止め、昇降ブラケット１９と共に回転ユニット３５を上昇位置に移動させ、Ｘ軸方向とＹ軸方向の移動を制御して基板洗浄装置１０を原点位置に戻し、この原点位置で、研磨シート弛ませシリンダ６１と研磨シート巻取り用シリンダ６２が作用し、使用した量に見合う新たな研磨シート４０がシートバックアップ４３の下面に引き出され、次の洗浄に備えることになる。
【００５１】
また、洗浄後の基板Ａは、洗浄テーブル５上から基板取出し部４に移送され、新たな基板Ａが基板供給部２から基板洗浄部３に供給されることになる。
【００５２】
【発明の効果】
以上のように、この発明によると、研磨シートの供給ロールと巻取りロール及び、両ロール間に位置し、研磨シートを基板に接触させるシートバックアップとで形成された二組の洗浄機を、スプライン軸の軸心を挟んでその両側に、両洗浄機の供給ロール相互と巻取りロール相互が互いに回転軸の軸心に対して点対称の位置関係になるよう配置したので、二組の洗浄機の構成部材のスプライン軸の軸心に対する点対称の配置と、スプライン軸の下端から回転ユニットの基板への接触部分までの距離を短くしたことにより、重心の移動がないので振れの発生がなくなり、しかも、研磨シートの使用量に関係なく回転ユニットを安定して回転させることができ、しかも、高速回転を実現することができる。
【００５３】
また、スプライン軸の下部には、研磨シートがないので、研磨シートによる回転抗力や洗浄ムラの発生がなく、洗浄に寄与しない部分の発生を無くすことで、研磨シートのランニングコストの削減が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の基板洗浄装置の全体構成を示す一部縦断側面図
【図２】同上の一部縦断正面図
【図３】同上における平面図
【図４】（Ａ）は回転ユニットの詳細を示す平面図、（Ｂ）は（Ａ）の一方洗浄機を示す説明図、（Ｃ）は（Ａ）の他方洗浄機を示す説明図
【図５】図４のＢ−Ｂ矢視における回転ユニットの縦断側面図
【図６】図４のＣ−Ｃ矢視における回転ユニットの縦断側面図
【図７】図４のＤ−Ｄ矢視における回転ユニットの側面図
【図８】図５のＥ−Ｅ矢視におけるブレーキの詳細を断面側面図
【図９】この発明の基板洗浄装置を組み込んだ洗浄設備の一例を示す平面図
【図１０】図９のＦ−Ｆ矢視における洗浄設備の概略正面図
【符号の説明】
Ａ　　　基板
１　　　機台
２　　　基板供給部
３　　　基板洗浄部
４　　　基板取出し部
５　　　洗浄テーブル
６　　　Ｘ軸レール
７　　　Ｙ軸ビーム
８　　　Ｙ軸レール
９　　　ボールねじ
１０　　基板洗浄装置
１１　　移動ブラケット
１２　　スライダ
１３　　ナット部材
１４　　出力軸
１５　　モータ
１６　　ブラケット
１７　　ボールねじ
１８　　Ｚ軸レール
１９　　昇降ブラケット
２０　　スライダ
２１　　ナット部材
２２　　シリンダ
２３　　ピストン
２４　　スプライン軸
２５　　アンギュラ玉軸受
２６　　ロードセル
２７　　ガイド
２８　　昇降ベース
２９　　引っ張りばね
３０　　モータ
３１　　出力軸
３２　　プーリ
３３　　プーリ
３４　　ベルト
３５　　回転ユニット
３６　　回転体
３７　　洗浄機
３８　　水飛散防止カバー
３９　　水散布ノズル
４０　　研磨シート
４１　　供給ロール
４２　　巻取ロール
４３　　シートバックアップ
４４　　側壁
４５　　中央壁
４６　　シートガイド
４７　　ブラケット
４８　　軸
４９　　ストッパー
５０　　ゴム材
５１　　ブレーキ
５２　　ロット
５３　　圧縮ばね
５４　　押さえ部材
５５　　ブレーキシュー
５６　　ワンウエイクラッチ
５７　　巻き取りレバー
５８　　ブロック
５９　　引っ張りばね
６０　　ストッパー
６１　　研磨シート弛ませシリンダ
６２　　研磨シート巻き取り用シリンダ
６３　　押上部材
６４　　当たり
６５　　押上部材
【図１】
2004069724.tif 000003
【図２】
2004069724.tif 000004
【図３】
2004069724.tif 000005
【図４】
2004069724.tif 000006
【図５】
2004069724.tif 000007
【図６】
2004069724.tif 000008
【図７】
2004069724.tif 000009
【図８】
2004069724.tif 000010
【図９】
2004069724.tif 000011
【図１０】
2004069724.tif 000012