(57)【要約】【課題】各ブラインドビア内の金属導電層のめっき厚の均一性を高めることができ、しかもテープキャリアに反りが発生しにくい半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法の提供。【解決手段】内部に電解めっきにより金属導電層が形成されたブラインドビアを複数個有する半導体装置用テープキャリアにおいて、前記ブラインドビアの周囲には、内部に電解めっきにより金属導電層が形成された開口部を有する半導体装置用テープキャリア。【選択図】  図１
2004200520.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に電解めっきにより金属導電層が形成されたブラインドビアを複数個有する半導体装置用テープキャリアにおいて、前記ブラインドビアの周囲に、内部に電解めっきにより金属導電層が形成された開口部を有することを特徴とする半導体装置用テープキャリア。
【請求項２】
前記ブラインドビアは、格子状に配列されている請求項１記載の半導体装置用テープキャリア。
【請求項３】
前記ブラインドビア内に形成された金属導電層と前記開口部に形成された金属導電層とは、同時に電解めっきにより形成されたものである請求項１記載の半導体装置用テープキャリア。
【請求項４】
絶縁テープ基材にブラインドビアとなる孔を複数個と、このブラインドビアとなる複数の孔の周囲に開口部となる孔を形成し、ブラインドビア内部に電解めっきにより金属導電層を形成すると同時に開口部内部に電解めっきにより金属導電層を形成することを特徴とする半導体装置用テープキャリアの製造方法。
【請求項５】
前記ブラインドビアとなる孔は複数個が格子状に配列されている請求項４記載の半導体装置用テープキャリアの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法に関し、特に、ＢＧＡ（Ｂａｌｌ Ｇｒｉｄ Ａｒｒａｙ）型のパッケージに好適な半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
電子機器の小型化、高密度化に伴い、ＢＧＡ型パッケージのはんだボールの狭ピッチ化、小径化が進んでいる。はんだボールの脱落や破損等は、はんだボールの小径化に伴いより大きな問題となってきている。ＢＧＡ型パッケージのはんだボールの信頼性向上の一手段として、ＢＧＡ型パッケージのインターポーザとして用いられる配線板のはんだボール搭載用ブラインドビアに、所定の厚みの導電層を形成することが提案されている。導電層の形成には、導電性ペーストのような導電材料を充填する方法、また、電解めっきによりブランドビア内に金属導電層を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−０４１３５６号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
電解めっきにより作られた金属導電層は、導電性ペースト等の充填により形成する場合に比較して導電性が高く、微細なブラインドビアにも適用できる利点がある。また、電解時間の長短によって導電金属層の厚みを変更できるため、金属導電層の厚みの自由度も高い。
【０００５】
しかしながら、電解めっきによる場合、各ビア毎の電流分布が異なるとめっきの析出速度にばらつきが生じ、ビア毎のめっき厚を均一にすることが難しいという点が課題となっており、めっき厚の均一性を高めることが要求されている。また、絶縁層と導電層の熱膨張係数の違いや製造途中での応力発生等により、配線板に反りが発生する問題があり、後工程での不良や寸法精度低下の原因となる。
【０００６】
本発明は上記に基づいてなされたもので、その目的とするところは、各ブラインドビア内の金属導電層のめっき厚の均一性を高めることができ、しかもテープキャリアに反りが発生しにくい半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、内部に電解めっきにより金属導電層が形成されたブラインドビアを複数個有する半導体装置用テープキャリアにおいて、前記ブラインドビアの周囲に、内部に電解めっきにより金属導電層が形成された開口部を有する半導体装置用テープキャリアを提供する。
【０００８】
また、本発明は、絶縁テープ基材にブラインドビアとなる孔を複数個と、このブラインドビアとなる複数の孔の周囲に開口部となる孔を形成し、ブラインドビア内部に電解めっきにより金属導電層を形成すると同時に開口部内部に電解めっきにより金属導電層を形成する半導体装置用テープキャリアの製造方法を提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
添付図面を参照しながら本発明の半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法の実施の形態について説明する。
【００１０】
図１は、本発明の半導体装置用テープキャリアの一実施の形態の説明図であり、絶縁層側から見た図面である。１は絶縁層であり、絶縁層１には、ブラインドビア３と、ブラインドビア３の周囲に形成された開口部４が設けられている。なお、ブラインドビア３および開口部４の内部には図示はされていないが後述する金属導電層が電解めっきにより形成されている。
【００１１】
ブラインドビア３へ電解めっきを行う場合、開口部４が存在しないときは、外周部に位置するブランドビア３に電流が集中して析出速度が大きくなり、めっき厚が他の部分よりも大きくなってしまうという問題が発生していたが、本発明のように、ブラインドビア３の周囲に開口部４を形成し、しかも開口部４にも電解めっきを行うことで、ブラインドビア３に対しては均一なめっき厚を行うことが可能となる。
【００１２】
一般に、ブラインドビア３は、図１に示すように、格子状に配列されたものが複数個配置されるが、その周辺に開口部４を形成することで電流集中が軽減され、金属導電層の厚みの均一化を図ることができる。また、内部に金属導電層が形成された開口部４が配列されることで絶縁層の剛性が高められ、半導体キャリアテープの反りの発生を抑制できるという効果も同時に達成される。
【００１３】
図２は、本発明の半導体装置用キャリアテープの製造方法の一実施の形態の説明図である。
【００１４】
まず、（ａ）に示すように、絶縁層１にブラインドビアおよび開口部となる孔２をプレス加工により形成する。
【００１５】
（ｂ）に示すように、絶縁層１に銅箔５をラミネートし、ブラインドビア３および開口部４を形成する。
【００１６】
（ｃ）に示すように、銅箔５の表面にマスキングテープ６をラミネートする。
【００１７】
（ｄ）に示すように、テープ材をめっき液中に浸漬して銅箔５に通電し、ブラインドビア３および開口部４に金属導電層７を析出させる。
【００１８】
（ｅ）に示すように、マスキングテープ６を剥離して銅箔５を露出させる。
【００１９】
（ｆ）に示すように、銅箔５の表面にエッチング用レジスト８を塗布し、露光、現像を行うことにより、（ｇ）に示すような配線パターン９を形成する。
【００２０】
最後に、（ｈ）に示すように、エッチング用レジスト８を剥離して半導体装置用キャリアテープを得る。
【００２１】
（実施例）
厚さ５０μｍのポリイミドテープに厚さ１２μｍの接着剤を塗布した絶縁テープ基材（絶縁層）に、金型を用いてＢＧＡパッケージのはんだボール搭載位置に相当する場所に直径３００μｍの貫通孔を複数個形成すると同時に、この貫通孔の周囲に幅１００μｍ、長さ４００μｍの貫通孔を複数個形成した。続いて、厚さ１８μｍの銅箔を貼り合わせて貫通孔の一方を塞ぎ、直径３００μｍのブラインドビアおよび幅１００μｍ、長さ４００μｍの開口部を形成した。ブラインドビアは等間隔で格子状に配置し、その周囲を開口部が取り囲むように配置した。銅箔の全表面を覆うようにマスキングテープを貼り合わせ、この状態で硫酸銅めっき液中に浸漬し、陰極電流密度５Ａ／ｃｍ2で２７分間電解銅めっきを行い、ブラインドビア内と開口部内に３０μｍ厚の銅めっき層（金属導電層）を形成した。その後、マスキングテープを剥し、銅箔面にエッチング用の感光性液体レジストを厚さ３μｍで塗布し、配線パターンのマスクを用いて配線パターンを形成し、液体レジストをアルカリ性のレジスト剥離液で除去し、目的とする半導体装置用テープキャリアを得た。
【００２２】
図３および図４は、それぞれ、本発明の半導体キャリアテープの他の実施の形態を示したもので、図３は、ブラインドビア３の周囲を円形の開口部１０で取り囲んだもの、図４は、ブラインドビア３の周囲を長方形の開口部４４で連続的に取り囲んだものである。
【００２３】
【発明の効果】
以上説明してきた通り、本発明は、内部に電解めっきにより金属導電層が形成されたブラインドビアを複数個有する半導体装置用テープキャリアにおいて、前記ブラインドビアの周囲に、内部に電解めっきにより金属導電層が形成された開口部を有する半導体装置用テープキャリアを提供するものであり、これによって、各ブランドビア内の金属導電層のめっき厚の均一性を高めることができ、しかもテープキャリアに反りが発生しにくい半導体装置用テープキャリアを実現できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の半導体装置用テープキャリアの一実施の形態の説明図。
【図２】本発明の半導体装置用テープキャリアの製造方法の一実施の形態の説明図。
【図３】本発明の半導体装置用テープキャリアの他の実施の形態の説明図。
【図４】本発明の半導体装置用テープキャリアの他の実施の形態の説明図。
【符号の説明】
１：絶縁層
２：孔
３：ブラインドビア
４：開口部
５：銅箔
６：マスキングテープ
７：金属導電層
８：レジスト
９：配線パターン
【図１】
2004200520.tif 000003
【図２】
2004200520.tif 000004
【図３】
2004200520.tif 000005
【図４】
2004200520.tif 000006