(57)【要約】【課題】ラボオンアチップ上の流路の形成を容易にし、ラボオンアチップの大量生産を可能とする。【解決手段】一定の厚さを有する第１の基板１１の一部にレーザー光を照射することにより、第１の基板１１の一部を除去し、スリット１４を形成する。第１の基板１１の下面には、電極２５が設けられた第２の基板１２を接合する。第２の基板１２の上面１２ｂとスリットの内壁面１４ｂ、１４ｃにより流路１３を形成する。電極２５の一方の端部は、流路１３に臨み、他方の端部は外部に露出する。第１の基板１１の上面には、注入口１５が設けられた第３の基板２９を接合する。注入口１５は、流路１３の端部に対応させ、サンプル等を流路１３内に注入するための注入口となる。【選択図】        図２
2004243455.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の厚さを有する合成樹脂から成る第１の基板の一部にレーザー光を照射することにより、前記第１の基板の一部を除去し、前記第１の基板の厚さ方向に所定の高さを有する溝を形成させるレーザー光照射工程を備え、前記溝の内壁面によって流路が形成されることを特徴とするラボオンアチップの製造方法。
【請求項２】
前記溝が前記第１の基板の厚さ方向に貫通するスリットであり、前記第１の基板の下面に一定の厚さを有する合成樹脂から成る第２の基板を接合させる第１の接合工程を備え、前記スリットの内壁面と前記第１の基板の上面により流路を形成することを特徴とする請求項１に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項３】
前記流路に面するようにして前記第１の基板の上方に第３の基板を接合する第２の接合工程を備え、前記第２または第３の基板の少なくともいずれか一方が所定の波長の光を透過させることを特徴とする請求項２に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項４】
前記第２の基板がポリイミド樹脂であることを特徴とする請求項２に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項５】
前記第２の基板の両端部が張り出すように第１の基板に接合され、前記第２の基板が前記両端部に厚さ方向に貫通する貫通穴を有することを特徴とする請求項２に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項６】
前記流路に面するようにして前記第１の基板の上方に第３の基板を接合する第２の接合工程を備え、前記第１の基板または第３の基板の少なくともいずれか一方が所定の波長の光を透過させることを特徴とする請求項１に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項７】
前記第１の基板がポリイミド樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項８】
前記第１の基板の両端部に厚さ方向に貫通する貫通穴を有することを特徴とする請求項１に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項９】
前記流路が前記第１の基板の長手方向に複数並列するように形成され、前記両端部のそれぞれの端部において、前記貫通穴が略等間隔に複数設けられ、それぞれの貫通穴が前記長手方向に延びる同一直線上に並べられていることを特徴とする請求項５または８に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項１０】
前記貫通穴が前記流路に対応する位置に設けられることを特徴とする請求項５または８に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項１１】
前記流路に臨むように電極が設けられることを特徴とする請求項１に記載のラボオンアチップの製造方法。
【請求項１２】
両端部に厚さ方向に貫通する貫通穴が設けられ一定の厚さを有する合成樹脂から成る第１の基板と、前記両端部の内側に前記第１の基板の厚さ方向に所定の高さを有する溝とを備え、前記溝の内壁面によって流路を形成することを特徴とするラボオンアチップ。
【請求項１３】
一定の厚さを有し合成樹脂から成る第１の基板と、両端部が前記第１の基板から張り出すように、前記第１の基板の下面に接合され一定の厚さを有する合成樹脂から成る第２の基板と、前記両端部の厚さ方向に貫通するように設けられた貫通穴と、前記両端部の内側に前記第１の基板の厚さ方向に貫通するスリットを備え、
前記スリットの内壁面と前記第２の基板の上面によって流路を形成することを特徴とするラボオンアチップ。
【請求項１４】
前記流路が前記第１の基板の長手方向に複数並列するように形成され、前記両端部のそれぞれの端部において、前記貫通穴が略等間隔に複数設けられ、それぞれの貫通穴が前記長手方向に延びる同一直線上に並べられていることを特徴とする請求項１２または１３に記載のラボオンアチップ。
【請求項１５】
前記貫通穴が前記流路に対応する位置に設けられることを特徴とする請求項１２または１３に記載のラボオンアチップ。
【請求項１６】
請求項１２ないし１５に記載のラボオンアチップを巻き取ることにより得られるラボオンアチップロール。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば電気泳動チップ等のラボオンアチップに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電気泳動、化学反応、細胞培養および分離検出などのラボプロセスが集積化されたラボオンアチップの開発がなされている。ラブオンアチップには、試料を移動させるための流路を形成する必要がある。この流路は従来、ガラスに溝を設けること（例えば特許文献１）や、ポリマーを型取りすること（例えば特許文献２）により形成されている。
しかし、このように流路を形成すれば、１つの流路を形成するのに時間を要し、ラボオンアチップを大量生産することは困難である。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−３１０６１３号公報
【特許文献２】
特開２００１−１５７８５５号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題点に鑑みて成されたものであり、ラボオンアチップの製造において、流路形成を容易にすることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るラボオンアチップの製造方法は、一定の厚さを有する合成樹脂から成る第１の基板の一部にレーザー光を照射することにより、第１の基板の一部を除去し、第１の基板の厚さ方向に所定の高さを有する溝を形成させるレーザー光照射工程を備え、溝の内壁面によって流路が形成されることを特徴とする。これにより、ラボオンアチップの流路形成が容易となり、ラボオンアチップを大量生産することが可能となる。
【０００６】
溝は第１の基板の厚さ方向に貫通するスリットである場合、第１の基板の下面に一定の厚さを有する合成樹脂から成る第２の基板を接合させる第１の接合工程を備え、スリットの内壁面と第１の基板の上面により流路を形成する。
【０００７】
流路に面するようにして第１の基板の上方に第３の基板を接合する第２の接合工程を備える場合、第２または第３の基板の少なくともいずれか一方は所定の波長の光を透過させる。
【０００８】
第２の基板は、ポリイミド樹脂であることが好ましい。第２の基板の両端部が張り出すように第１の基板に接合される場合、第２の基板は両端部に厚さ方向に貫通する貫通穴を有するが好ましい。
【０００９】
流路に面するようにして第１の基板の上方に第３の基板を接合する第２の接合工程を備える場合、第１の基板または第３の基板の少なくともいずれか一方が所定の波長の光を透過させることが好ましい。
【００１０】
第１の基板がポリイミド樹脂であることが好ましい。第１の基板の両端部に厚さ方向に貫通する貫通穴を有することが好ましい。
【００１１】
流路は第１の基板の長手方向に複数並列するように形成され、両端部のそれぞれの端部において、貫通穴は略等間隔に複数設けられ、それぞれの貫通穴は長手方向に延びる同一直線上に並べられていることが好ましい。貫通穴は流路に対応する位置に設けられることが好ましい。これにより、ラボオンアチップにマイクロポンプ等を実装する際に、正確な位置に実装することができる。
【００１２】
流路に臨むように電極が設けられることが好ましい。これにより、電気泳動チップを一度に大量生産可能である。
【００１３】
本発明に係るラボオンアチップは、両端部に厚さ方向に貫通する貫通穴が設けられ一定の厚さを有する合成樹脂から成る第１の基板と、両端部の内側に第１の基板の厚さ方向に所定の高さを有する溝とを備え、溝の内壁面によって流路を形成することを特徴とする。
【００１４】
本発明に係るラボオンアチップは、一定の厚さを有し合成樹脂から成る第１の基板と、両端部が第１の基板から張り出すように、第１の基板の下面に接合され一定の厚さを有する合成樹脂から成る第２の基板と、両端部の厚さ方向に貫通するように設けられた貫通穴と、両端部の内側に第１の基板の厚さ方向に貫通するスリットを備え、スリットの内壁面と第２の基板の上面によって流路を形成することを特徴とする。
【００１５】
流路は第１の基板の長手方向に複数並列するように形成され、両端部のそれぞれの端部において、貫通穴は略等間隔に複数設けられ、それぞれの貫通穴は長手方向に延びる同一直線上に並べられていることが好ましい。貫通穴は流路に対応する位置に設けられることが好ましい。
また、本発明に係るラボオンアチップロールは、上記ラボオンアチップを巻き取ることにより得られる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
ラボオンアチップとは、試料の前処理、反応、分離、検出など一連の化学分析操作を行うための例えば数ミリメートルから数センチメートル角のマイクロチップをいう。以下、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。
【００１７】
図１は電気泳動チップ１０を上方から見た平面図を示し、図２は図１のＩＩ−ＩＩ線上に沿う断面図を示す。電気泳動チップ１０には複数の流路１３が形成されている。電気泳動チップ１０は矩形を呈し、図１において長手方向は横方向である。複数の流路１３は、電気泳動チップ１０の長手方向に等間隔に並列し、流路１３はチップ１０の幅方向（図１の縦方向）に延びる。
【００１８】
電気泳動チップ１０は、第１および第３の基板１１、２９と２つの電極２５が設けられた第２の基板１２とで構成されている。電極２５は、第２の基板１２の上面１２ｂの一部に設けられている。電極２５が設けられた第２の基板１２の上面には第１の基板１１が接合されており、第１の基板１１の上面にはさらに、第３の基板２９が接合されている。第２の基板１２の両端部３０は第１および第３の基板１１、２９から張り出している。
【００１９】
第２の基板１２の一方の端部３０には厚さ方向に貫通する貫通穴３１が設けられている。貫通穴３１は、略等間隔に複数設けられ、横方向に延びる同一直線上に並べられる。また、第２の基板１２の他方の端部３０にも同様に貫通穴３２が設けられ、両端部に設けられた貫通穴３１は、第２の基板１２の横方向に延びる中心線Ｘに対して略対称に設けられている。
【００２０】
第１の基板１１は一定の厚さを有しており、その一部が除去されることにより、その厚さ方向に貫通するスリット１４が形成されている。スリット１４は上方から見ると矩形を呈しており、その長手方向は、電気泳動チップ１０の幅方向と同一である。
【００２１】
スリット１４は電気泳動チップ１０の長手方向に延びる２つの内壁面１４ｂと、電気泳動チップ１０の幅方向に延びる２つの内壁面１４ｃを有する。内壁面１４ｂ、１４ｃと第２の基板１２の上面１２ｂは流路１３を形成している。４つの内壁面１４ｂ、１４ｃは上面１２ｂに対して略垂直である。
【００２２】
流路１３の幅Ｗは例えば１０μｍ〜数１０μｍ程度であり、流路１３の長さＬは数ｍｍ〜数ｃｍ程度である。
【００２３】
流路１３は、両端部３０の内側に形成され、また、貫通穴３１、３２は流路１３に対応する位置に設けられる。すなわち、貫通穴３１、３２は、第２の基板１２の両端部３０であって、流路１３の長手方向の延長線上に設けられている。
【００２４】
２つの電極２５は、上方から見ると矩形を呈しており、中心線Ｘに対して対称に設けられており、貫通穴３１、３２に接する位置から流路１３の端部１３ａに対応する位置までわたっている。
【００２５】
電極２５および第２の基板１２の上面に接合された第１の基板１１は、その縦方向（すなわち電気泳動チップ１０の幅方向）の長さが両端部に設けられた一対の貫通穴３１、３２の間隔よりも短い。そして、電極２５の貫通穴３１、３２側の上面２５ａは外部に露出し、電極２５の他方の上面２５ｂは流路１３の端部１３ａに臨む。
【００２６】
第３の基板２９は、所定の厚さを有し、その厚さ方向に貫通する穴である注入口１５が流路１３の両端部に対応する位置に設けられている。注入口１５は化学分析のためのサンプルやバッファを流路１３に注入するための穴であり、流路１３の２つの端部１３ａに対応する位置に設けられている。注入口１５は、略円形で、その直径は流路１３の幅Ｗより大きく、例えば、数ｍｍ程度である。第３の基板２９は、流路１３の上面を覆っている。
【００２７】
第３の基板２９は、所定の波長の光を透過させる材質のものであり、例えば合成樹脂から成る。ただし、第２の基板１２が所定の波長の光を透過させる材質のものである場合、第３の基板２９の材質は所定の波長の光を透過させるものには限定されない。なお、所定の波長の光は、後述するサンプル同定において使用される赤外線から紫外線にかけたいずれかの波長域の電磁波であり、例えば可視光、赤外線または紫外線等である。
【００２８】
図３〜６を用いて第１の実施形態における電気泳動チップ１０の製造方法を示す。図３（ａ）に示すように第２の基板１２は本実施形態においては、ＴＡＢ（Ｔａｐｅ  Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｂｏｎｄｉｎｇ）テープである。すなわち、第２の基板１２は長尺の矩形であり、その幅方向の両端部３０にはそれぞれ貫通穴３１、３２が長手方向に延びる同一直線上に沿って形成される。ＴＡＢテープの材質はポリイミド樹脂テープが好ましいが、その他の合成樹脂を用いることも可能である。
【００２９】
図３（ｂ）に示すように第２の基板１２上に金属膜（例えば銅）が被膜され、さらにその上にレジスト４８（例えば、ＤＦＲ（ドライフィルムレジスト））が被膜される。次にレジスト４８は露光・現像され、図３（ｃ）に示すようにパターニングされる。ここで、上述の貫通穴３１、３２は、レジスト４８を露光・現像する際の位置合わせとしてとして用いられる。
【００３０】
レジスト４８がパターニングされた第２の基板１２は、エッチング液によりエッチングされ、図３（ｃ）に示すように第２の基板１２の長手方向に沿って延びる２つの電極２５が形成される。電極２５が形成された後、残ったレジスト４８はレジスト剥離液により剥離される。すなわち、２つの電極２５は、中心線Ｘに対して対称に、そして貫通穴３１、３２に沿うように設けられる。電極２５は耐久性、耐腐食性を向上させる必要があるときは、金メッキ処理を施す。
【００３１】
図４を用いて第１の基板１１にスリット１４を形成する方法を示す。図４（ａ）に示すように第１の基板１１は、横方向に長い矩形であり、一定の厚さを有している。第１の基板１１はその一部に上面からレーザー光が照射される。レーザー光が照射されたその一部は、溶融、蒸発することにより、厚さ方向に貫通させられ、これにより、図４（ｂ）に示すように第１の基板１１にスリット１４が形成される。スリット１４は、縦方向に延びる略矩形であり、横方向に複数並列している。なお、隣接するスリット１４の間隔は、第２の基板１２に設けられた隣接する貫通穴３１（または３２）の間隔と略同一である。
【００３２】
第１の基板１１は、特に材質に限定されないが、合成樹脂から成る。ここで、例えば、合成樹脂がポリイミド樹脂である場合、第１の基板に形成されるスリット１４の形状は非常に精緻に形成される。ポリイミド樹脂は他の合成樹脂に比べ耐熱性に優れ、レーザー加工による変形が少ないからである。
【００３３】
使用されるレーザーは２６６ｎｍ４次高調波レーザーや２４８ｎｍＫｒＦエキシマレーザー等である。ここで、例えば２４８ｎｍＫｒＦエキシマレーザーを用いれば、第１の基板１１の加熱による変形が少ないため、スリット１４の幅Ｗが１０μｍ程度のものでも精緻に形成可能である。
【００３４】
図５に示すように、第３の基板２９は、縦方向が第１の基板１１と略同一の長さであり、スリット１４のそれぞれの端部１４ａの位置に合わせて略円形の注入口１５が設けられる。
【００３５】
図６（ａ）に示すように、電極２５が設けられた第２の基板１２はその上面にスリット１４が形成された第１の基板１１が接合され、第２の基板１２の上面１２ｂとスリット１４の内壁面により流路１３が形成される。このとき、第１の基板１１は、第２の基板１２の両端部３０に設けられた貫通穴３１、３２を基準にして、スリット１４の位置が両端部３０に設けられた貫通穴３１、３２の縦方向の位置に合うように接合される。第１の基板１１の上面には、注入口１５がスリット１４の端部の位置に合うように、第３の基板２９が接合され図１に示すような電気泳動チップ１０を得ることができる。
【００３６】
電気泳動チップ１０は、流路１３と略平行方向に切断され使用される。これにより、一体的に形成された電極２５は、独立した電極として機能する。なお、ここで、電気泳動チップ１０は、貫通穴３１、３２の位置を基準に切断される。
【００３７】
切断された電気泳動チップ１０の一使用例を説明する。電気泳動チップ１０の流路１３には、分析対象であるサンプル（例えばＤＮＡおよびたんぱく質）と、サンプルを移動させるためのバッファが注入口１５より注入される。サンプルおよびバッファの注入後、流路１３の端部１３ａに設けられた電極２５を通じて、流路１３に一定の電圧が印加される。電圧が印加されることにより、サンプルは泳動し分離する。分離したサンプルには、第２または第３の基板１２，２９を通じて所定の波長の光が照射される。サンプルに照射された光は、第２または第３の基板１２，２９を透過し、電気泳動チップ１０外において、吸収強度等が測定され、サンプルが同定される。
【００３８】
また、電気泳動チップ１０は、使用用途によっては、マイクロポンプ等を実装する必要がある。そのような場合、それぞれの流路１３に対応する位置に設けられた貫通穴３１は、マイクロポンプを実装する際の位置決めとして用いられる。貫通穴３１が設けられることにより、マイクロポンプ等は、正確に流路１３に対応した位置に実装することができる。
【００３９】
以上のように本発明の第１の実施形態では、第１の基板にレーザー光によりスリット１４を形成することにより、ラボオンアチップを製造することができる。ここで、スリット１４は正確かつ容易に形成することができるので、例えば幅が１０μｍ程度である微細な流路が形成されたラボオンアチップの大量生産が可能である。また、電気泳動チップ１０の両端部に貫通穴３１、３２が設けられているので、電気泳動チップ１０にマイクロポンプ等を実装する際、正確に実装することができる。
【００４０】
なお、本実施形態においては、１つの流路１３に対応して、第２の基板１２の両端部３０に１対の貫通穴３１、３２が設けられているが、使用態様に応じて、例えば、１つの流路１３に対応して、その両端部に２対以上の貫通穴３１、３２が設けられるような構成にしてもよい。
【００４１】
なお、上述のように作成されたシート状の電気泳動チップ１０は、図７に示すようにその長手方向にロール状に巻き取られ、電気泳動チップロールとして形成される構成にしても良い。
【００４２】
また、図８に示すように第１の基板にＴＡＢテープの代わりにＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）テープが用いられる構成にしてもよい。ＦＰＣテープは、貫通穴が設けられていないので、まずＴＡＢテープと同様に縦方向の両端部に、略等間隔に貫通穴３１、３２を形成する。ＦＰＣテープは縦方向の長さがＴＡＢテープに比べ長いので、縦方向に複数の流路１３を形成することができ、より効率的に電気泳動チップ１０を得ることができる。流路１３が形成されたＦＰＣテープは、巻き取られることにより保管され切断することによって使用される。
【００４３】
図９、１０に本発明の第２の実施形態のラボオンアチップを示す。本実施形態で第１の実施形態と相違する点は、流路５３が第１の基板５１に形成された溝の内壁面５４ｂ、５４ｃ、５４ｄによって形成されている点である。以下相違点のみ説明する。
【００４４】
本実施形態においては、第１の基板５１の上面の一部には、電極６５が設けられている。電極６５が設けられた第１の基板５１の上面に第３の基板６９が接合されている。第１の基板５１はその縦方向の両端部７０が第３の基板から張り出している。
【００４５】
第１の基板５１は一定の厚さを有しており、その一部が除去されることにより、所定の高さＨを有する溝５４が形成される。溝５４は上方から見ると矩形を呈しており、その長手方向は、電気泳動チップ１０の幅方向と同一である。なお、溝５４は第１の実施形態の流路１３と略同一の形状、大きさである。
【００４６】
溝５４は、溝の下面を形成する内壁面５４ｄと溝の側壁面を形成する内壁面５４ｂ、５４ｃを有しており、内壁面５４ｂ、５４ｃ、５４ｄは流路５４を形成している。
【００４７】
内壁面５４ｄは、横方向に延びる２つの内壁面５４ｂと、縦方向に延びる２つの内壁面５４ｃに接続される。４つの内壁面５４ｂ、５４ｃは、内壁面５４ｄに対して略垂直である。
【００４８】
貫通穴７１、７２は、第１の実施形態と同様に、その両端部７０の横方向に延びる同一直線上に等間隔に並べられている。
また、第３の基板６９は、所定の厚さを有し、第１の実施形態と同様にその厚さ方向に貫通する穴である注入口５５が設けられている。
【００４９】
電極６５および第１の基板５１の上面に接合された第１の基板６９は、その幅方向の長さが２つの貫通穴７１、７２の間隔よりも短い。そして、電極６５は、貫通穴７１に接する位置から、溝５４に接する位置まで延ばされている。すなわち、電極６５の貫通穴７１、７２側の上面６５ａは外部に露出し、電極２５の他方の上面６５ｂは、注入口５５を介して外部に露出しており、流路５３の端部５３ａに臨む。
【００５０】
図１１に第２の実施形態における電気泳動チップの製造方法を示す。第１の基板５１は第１の実施形態で用いられた第２の基板と同様の形状を有するＴＡＢテープである。第１の基板５１には、図１１（ａ）に示すように第１の実施形態と同様に、矩形を呈する２つの電極６５が形成される。
【００５１】
次に図１１（ｂ）に示しように、所定のパルス数（Ｈｚ）のレーザー光が照射されることにより第１の基板５１を貫通しないように、所定の高さＨを有する溝５４が形成される。ここで、用いられるレーザー光の所定のパルス数は、第１の基板５１を貫通させるのに必要な貫通パルス数（Ｈｚ）から、溝５４の所定の高さに応じて決定される。貫通パルス数は、予め第１の基板５１を貫通させる試し加工により求められる。
【００５２】
ここで、溝５４は、その端部が電極６５の一方の端部に接するように形成される。これにより、電極６５は溝５４の内壁面によって形成された流路５３に臨む。
【００５３】
次に図１１（ｃ）に示すように、第１の基板５１の上面には、注入口５５が溝５４の端部の位置に合うように、第３の基板６９が接合され、図９に示すような電気泳動チップ５０が得られる。電気泳動チップ５０は、第１の実施形態と同様に切断されることにより使用される。
【００５４】
なお、第１の基板５１は、ポリイミド樹脂によって形成されているが、他の合成樹脂によって形成されても良い。第３の基板６９は、所定の波長の光を透過させるものであって、例えば合成樹脂から成る。ただし、第１の基板５１が所定の波長の光を透過させる場合には、第３の基板は所定の波長の光を透過さるものには限定されない。
【００５５】
以上のように本発明の第２の実施形態では、基板にレーザー光により溝５４を形成することによって、容易にラボオンアチップを製造することができる。
【００５６】
図１２に第３の実施形態を示す。本実施形態において、第２の実施形態と相違するのは、電極６５が設けられていない点である。なお、図１１においては、第２の実施形態と同じ部材には同符号を付す。すなわち、本実施形態において、電極６５が設けられておらず溝５４が形成された第１の基板５１の上面に、第３の基板６９が接合されてラボオンアチップ５０が形成されている。ここで、ラボオンアチップ５０を電気泳動チップとして使用する場合は、注入口５５に電極を挿入させる。
【００５７】
【発明の効果】
以上のように本発明によると、合成樹脂からなる基板にレーザー光を照射することにより、スリットおよび溝を形成し、流路を形成している。これにより、安価でかつ大量生産可能なラボオンアチップを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態のラボオンアチップの一部を上方から見たときの平面図を示す。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図を示す。
【図３】本発明の第１の実施形態の製造工程における第２の基板の平面図を示す。
【図４】本発明の第１の実施形態の製造工程における第１の基板の平面図を示す。
【図５】本発明の第１の実施形態の製造工程における第３の基板の平面図を示す。
【図６】本発明の第１の実施形態の製造工程における平面図を示す。
【図７】本発明の第１の実施形態のラボオンアチップロールを示す。
【図８】本発明の第１の実施形態のラボオンアチップロールの変形例を示す。
【図９】本発明の第２の実施形態のラボオンアチップの一部を上方から見たときの平面図を示す。
【図１０】図９のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図を示す。
【図１１】本発明の第２の実施形態の製造工程における平面図を示す。
【図１２】本発明の第３の実施形態のラボオンアチップの断面図を示す。
【符号の説明】
１０  電気泳動チップ
１１、５１  第１の基板
１２  第２の基板
１３、５３  流路
１４  スリット
２５、６５  電極
２９、６９  第３の基板
３１、７１  貫通穴
５４  溝
【図１】
2004243455.tif 000003
【図２】
2004243455.tif 000004
【図３】
2004243455.tif 000005
【図４】
2004243455.tif 000006
【図５】
2004243455.tif 000007
【図６】
2004243455.tif 000008
【図７】
2004243455.tif 000009
【図８】
2004243455.tif 000010
【図９】
2004243455.tif 000011
【図１０】
2004243455.tif 000012
【図１１】
2004243455.tif 000013
【図１２】
2004243455.tif 000014