(57)【要約】【課題】同じ基板サイズでも識別が容易なカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学パネル、電気光学パネルの製造方法、この電気光学パネルを用いた電気光学装置及び電子機器を提供する。【解決手段】カラーフィルタ基板２０Ａは、基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の赤色着色層１６０Ｒ、青色着色層１６０Ｂ、緑色着色層１６０Ｇと、赤色着色層１６０Ｒと同じ部材からなる識別用赤色着色層６０Ｒが額縁状遮光膜の外周を囲うように配置されている。【選択図】　　図１
2004094166.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置された額縁状の遮光膜と、
前記基板上の前記遮光膜により囲まれた領域に配置された複数の第１の着色層と、
前記基板上の前記遮光膜の外側に配置された前記複数の第１の着色層のうち少なくとも一色と同じ部材からなる第２の着色層と
を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】
前記第２の着色層は、前記遮光膜の外周部に沿って配置されていることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
【請求項３】
基板と、
前記基板上に配置された切り欠け部を有する額縁状の遮光膜と、
前記基板上の前記遮光膜により囲まれた領域に配置された複数の第１の着色層と、
前記基板上の前記切り欠け部に配置された前記複数の第１の着色層のうち少なくとも一色と同じ部材からなる第２の着色層と
を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項４】
前記遮光膜はほぼ矩形状を有し、
前記切り欠け部は、前記遮光膜の外周部の角部に設けられていることを特徴とする請求項３記載のカラーフィルタ基板。
【請求項５】
基板上に額縁状の遮光膜を形成する工程と、
前記遮光膜により囲まれた領域に第１の着色層を形成するとともに、前記遮光膜の外側に前記第１の着色層と同じ部材により第２の着色層を形成する工程と、
を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項６】
基板上に一部に切り欠け部を有する額縁状の遮光膜を形成する工程と、
前記遮光膜により囲まれた領域に第１の着色層を形成するとともに、前記切り欠け部に前記第１の着色層と同じ部材により第２の着色層を形成する工程と、
を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項４いずれか一項に記載のカラーフィルタ基板と、
前記カラーフィルタ基板により支持された電気光学物質と
を具備することを特徴とする電気光学パネル。
【請求項８】
前記カラーフィルタ基板と対向する対向基板と、
前記カラーフィタ基板と対向基板との間に各基板の外周に沿って配置されたシール材とを更に有し、
前記対向基板、前記カラーフィルタ基板及び前記シール材により形成された空間内に前記電気光学物質は支持され、
前記シール材により囲まれた領域内に、前記第２の着色層が配置されていることを特徴とする請求項７記載の電気光学パネル。
【請求項９】
第１基板上に額縁状の遮光膜を形成する工程と、
前記遮光膜により囲まれた領域に第１の着色層を形成するとともに、前記遮光膜の外側に前記第１の着色層と同じ部材により第２の着色層を形成する工程と、
前記第１の着色層および前記第２の着色層が形成された前記第１基板と、第２基板とを貼りあわせる工程と、
前記第１基板と前記第２基板との間に電気光学物質を挟持させる工程と
を具備することを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
【請求項１０】
第１基板上に一部に切り欠け部を有する額縁状の遮光膜を形成する工程と、
前記遮光膜により囲まれた領域に第１の着色層を形成するとともに、前記切り欠け部に前記第１の着色層と同じ部材により第２の着色層を形成する工程と、
前記第１の着色層および前記第２の着色層が形成された前記第１基板と、第２基板とを貼りあわせる工程と、
前記第１基板と前記第２基板との間に電気光学物質を挟持させる工程と
を具備することを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
【請求項１１】
請求項７または請求項８記載の電気光学パネルを具備する電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電気光学装置を具備する電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板及びカラーフィルタ基板を備えた電気光学パネルの識別方法に関し、カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学パネル、電気光学パネルの製造方法及び電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
電気光学装置の一例としての液晶装置は、電気光学パネルとしての一例としての液晶パネルとこれを駆動する駆動回路とを備える。液晶パネルは一対の基板間に液晶が挟時されてなり、一対の基板のうち一方の基板をカラーフィルタ基板とすることにより液晶装置のカラー表示を実現している。
【０００３】
通常、カラーフィルタ基板では、額縁状の遮光膜と、額縁状の遮光膜により囲まれた領域にストライプ状あるいはモザイク状などに配置された赤色着色層、緑色着色層、青色着色層の３色からなる着色層が配置されている。着色層としては、ユーザーの要求に応じて、例えば液晶装置の表示時の色見を調整するために、ユーザー毎に異なる顔料配合の着色層が用いられ、ユーザー毎に異なるカラーフィルタ基板及びこれを用いた液晶パネルを製造している。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−２０７２１０（第４頁―第５頁、図１）
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、異なるユーザーが要求する基板サイズがほぼ同じであると、カラーフィルタ基板及びこれを用いた液晶パネルの識別が困難であり、製造上、作業性が劣ってしまうという問題があった。
【０００５】
本発明は上記問題点を解決するものであり、同じ基板サイズでも識別が容易なカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学パネル、電気光学パネルの製造方法、この電気光学パネルを用いた電気光学装置及び電子機器を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明のカラーフィルタ基板は、基板と、前記基板上に配置された額縁状の遮光膜と、前記基板上の前記遮光膜により囲まれた領域に配置された複数の第１の着色層と、前記基板上の前記遮光膜の外側に配置された前記複数の第１の着色層のうち少なくとも一色と同じ部材からなる第２の着色層とを具備することを特徴とする。
【０００７】
本発明のこのような構成によれば、第２の着色層は識別用マークとして機能し、ほぼ同じ基板サイズの異なるカラーフィルタ基板を識別することが可能となり、作業性が向上する。例えば、３種類の異なる、例えば同色の第１の着色層の顔料配合量がそれぞれ異なるカラーフィルタ基板を識別する場合、異なる色の第２の着色層を有するカラーフィルタ基板を３種類形成することにより、色によってカラーフィルタ基板を識別することができる。
【０００８】
また、前記第２の着色層は、前記遮光膜の外周部に沿って配置されていることを特徴とする。
【０００９】
このように、識別用マークとして機能する第２の着色層は、遮光膜の外周部に沿って配置することができ、遮光膜の外周部全て、言い換えれば遮光膜を囲うように配置しても良いし、遮光膜の外周の一部に沿って配置してもよい。
【００１０】
本発明の他のカラーフィルタ基板は、基板と、前記基板上に配置された切り欠け部を有する額縁状の遮光膜と、前記基板上の前記遮光膜により囲まれた領域に配置された複数の第１の着色層と、前記基板上の前記切り欠け部に配置された前記複数の第１の着色層のうち少なくとも一色と同じ部材からなる第２の着色層とを具備することを特徴とする。
【００１１】
本発明のこのような構成によれば、第２の着色層は識別用マークとして機能し、ほぼ同じ基板サイズの異なるカラーフィルタ基板を識別用着色層の色を認識することにより識別することが可能となり、作業性が向上する。更に、額縁状遮光膜の一部を切り欠き、その部分に識別用マークとして機能する第２の着色層を配置しているので、基板のスペース利用効率が良い。なぜなら、カラーフィルタ基板が組み込まれる電気光学パネルの表示面積を基板面積に対し大きくとる場合、額縁状遮光膜と基板端面との間の隙間を小さくする必要があるが、このような場合、額縁状遮光膜の外側に第２の着色層を配置する構造であると配置するスペースに限界が生じてしまう。これに対し、本発明では、上述のような配置スペースの限界がないのでスペース利用効率が良く、基板の外周部と額縁状遮光膜との間の距離が狭い狭額縁タイプの電気光学パネルにも適用でき、電気光学パネルの設計範囲が限定されることがない。
【００１２】
また、前記遮光膜はほぼ矩形状を有し、前記切り欠け部は、前記遮光膜の外周部の角部に設けられていることを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、角部が最も切り欠け面積を大きくとれるため、第２の着色層を角部に設けることが望ましい。尚、矩形状の額縁状の遮光膜の辺に沿った部分に切り欠け部を設けることも可能であり、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組み込んだ際に表示に影響が生じなければ良い。また、切り欠け部の形状は矩形状、三角形状など種々の形状とすることができる。
【００１４】
また、前記第２の着色層は、１００μｍ以上の幅を有することを特徴とする。
【００１５】
このように、第２の着色層の幅を１００μｍ以上とすることにより、確実に目視により識別マークとして機能する第２の着色層の色を確認することができる。また、幅の上限は、各々のカラーフィルタ基板により異なり、額縁状の遮光膜の外周端部と基板端部との距離より小さい値であればよい。
【００１６】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、基板上に額縁状の遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜により囲まれた領域に第１の着色層を形成するとともに、前記遮光膜の外側に前記第１の着色層と同じ部材により第２の着色層を形成する工程と、を具備することを特徴とする。
【００１７】
本発明のこのような構成によれば、識別用着色層を第１の着色層と同一工程で形成しているので、工程数を増加させることなく識別用着色層を形成することができる。
【００１８】
本発明の他のカラーフィルタ基板の製造方法は、基板上に一部に切り欠け部を有する額縁状の遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜により囲まれた領域に第１の着色層を形成するとともに、前記切り欠け部に前記第１の着色層と同じ部材により第２の着色層を形成する工程と、を具備することを特徴とする。
【００１９】
本発明のこのような構成によれば、第２の着色層は識別用マークとして機能し、第２の着色層を第１の着色層と同一工程で形成しているので、工程数を増加させることなく第２の着色層を形成することができる。
【００２０】
本発明の電気光学パネルは、上述に記載のカラーフィルタ基板と、対向する対向基板と、前記カラーフィタ基板と対向基板との間に各基板の外周に沿って配置されたシール材とを更に有し、前記対向基板、前記カラーフィルタ基板及び前記シール材により形成された空間内に前記電気光学物質は支持され、前記シール材により囲まれた領域内に、前記第２の着色層が配置されていることを特徴とする。
【００２１】
このように識別用マークとして機能する第２の着色層を有するカラーフィルタ基板を電気光学パネルに組み込むことにより、電気光学パネルの状態で識別用マークとして機能する第２の着色層を目視で認識でき、電気光学パネルの識別も可能となり、正確な電気光学パネルの供給ができる。
【００２２】
本発明の電気光学パネルの製造方法は、第１基板上に額縁状の遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜により囲まれた領域に第１の着色層を形成するとともに、前記遮光膜の外側に前記第１の着色層と同じ部材により第２の着色層を形成する工程と、前記第１の着色層および前記第２の着色層が形成された前記第１基板と、第２基板とを貼りあわせる工程と、前記第１基板と前記第２基板との間に電気光学物質を挟持させる工程とを具備することを特徴とする。
【００２３】
本発明のこのような構成によれば、第２の着色層は識別マークとして機能し、第２の着色層を第１の着色層と同一工程で形成しているので、工程数を増加させることなく第２の着色層を形成することができる。更に、第２の着色層により異なるカラーフィルタ基板の識別が容易となるため、電気光学パネルの製造時における作業性が向上する。
【００２４】
本発明の他の電気光学パネルの製造方法は、第１基板上に一部に切り欠け部を有する額縁状の遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜により囲まれた領域に第１の着色層を形成するとともに、前記切り欠け部に前記第１の着色層と同じ部材により第２の着色層を形成する工程と、前記第１の着色層および前記識別用着色層が形成された前記第１基板と、第２基板とを貼りあわせる工程と、前記第１基板と前記第２基板との間に電気光学物質を挟持させる工程とを具備することを特徴とする。
【００２５】
本発明のこのような構成によれば、第２の着色層は識別マークとして機能し、第２の着色層を第１の着色層と同一工程で形成しているので、工程数を増加させることなく第２着色層を形成することができる。更に、第２の着色層により異なるカラーフィルタ基板の識別が容易となるため、電気光学パネルの製造時における作業性が向上する。
【００２６】
本発明の電気光学装置は、上述に記載の電気光学パネルを具備する。
【００２７】
このように電気光学パネルを電気光学装置に組み込むことができる。
【００２８】
本発明の電子機器は、上述に記載の電気光学装置を具備する。
【００２９】
このように、電気光学装置に電子機器に組み込むことができる。
【発明の実施の形態】
＜カラーフィルタ基板及びその製造方法＞
まず、本発明のカラーフィルタ基板及びその製造方法について以下に説明する。
【００３０】
（第１実施形態）
第１実施形態に係るカラーフィルタ基板及びその製造方法について図１及び図２を用いて説明する。図１はカラーフィルタ基板を着色層が配置される面側からみたカラーフィルタ基板の平面図であり、例えば３種類のカラーフィルタ基板を識別する場合を説明するものである。図２は、図１に示すカラーフィルタ基板の製造方法を示す工程図であり、各工程における基板の平面図及び図１（ａ）に示す平面図の線Ａ−Ａ´に沿って切断した部分に対応する断面図である。図２における製造方法の説明では、例えば図１（ｂ）に示すカラーフィルタ基板を一例として挙げている。
【００３１】
本実施形態においては、３種類の異なる、例えば同色の着色層の顔料配合量がそれぞれ異なるカラーフィルタ基板を識別する場合を例に挙げて説明する。
【００３２】
図１（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ａでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０Ｒ、青色着色層１６０Ｂ、緑色着色層１６０Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図１（ａ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０によって見えない状態であるため、図示を省略している。更に、図１（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ａでは、赤色着色層１６０Ｒと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用赤色着色層６０Ｒが額縁状遮光膜の外周を囲うように配置されている。この識別用赤色着色層６０Ｒの幅は、１００μｍ以上あることが望ましく、１００μｍ以上の幅を有するように識別用赤色着色層を形成することにより、カラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が赤色であると認識することができる。
【００３３】
図１（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｂでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０´Ｒ、青色着色層１６０´Ｂ、緑色着色層１６０´Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０´はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図１（ｂ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０´によって見えない状態であるため、図示を省略している。更に、図１（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｂでは、青色着色層１６０´Ｂと同じ部材からなる識別マークとしての機能する第２の着色層としての識別用青色着色層６０´Ｂが額縁状遮光膜の外周を囲うように配置されている。この識別用青色着色層６０´Ｂの幅は、１００μｍ以上あることが望ましく、１００μｍ以上の幅を有するように識別用青色着色層を形成することにより、カラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が青色であると認識することができる。
【００３４】
図１（ｃ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｃでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０´´Ｒ、青色着色層１６０´´Ｂ、緑色着色層１６０´´Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０´´はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図１（ｃ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０´´によって見えない状態であるため、図示を省略している。更に、図１（ｃ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｃでは、緑色着色層１６０´´Ｇと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用緑色着色層６０´´Ｇが額縁状遮光膜の外周を囲うように配置されている。この識別用緑色着色層６０´´Ｇの幅は、１００μｍ以上あることが望ましく、１００μｍ以上の幅を有するように識別用緑色着色層を形成することにより、カラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が緑色であると認識することができる。
【００３５】
従って、額縁状遮光膜５０を囲うように配置された識別用着色層の色が赤色であればカラーフィルタ基板２０Ａ、青色であればカラーフィルタ基板２０Ｂ、緑色であればカラーフィルタ基板２０Ｃというように識別することができる。
【００３６】
次に、上述のカラーフィルタ基板２０Ｂを例にあげ、額縁状遮光膜５０を囲うように識別用着色層が形成されたカラーフィルタ基板の製造方法について図２を用いて説明する。図２（ｂ）〜（ｄ）においては、格子状の遮光膜５２の図示を省略している。
【００３７】
図２（ａ）に示すように、第１基板９ｂ上に、例えばスパッタによりクロムを堆積した後、パターニングして額縁状の遮光膜５０及び格子状の遮光膜５２を形成する。
【００３８】
次に、額縁状遮光膜５０及び格子状遮光膜５２を含む第１基板９ｂ上全面に、青色着色材料を塗布する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、図２（ｂ）に示すように、ストライプ状の第１の着色層としての青色着色層１６０´Ｂ及び額縁状の遮光膜５０の外周部に沿って額縁状遮光膜５０を囲うように識別用青赤色着色層６０´Ｂを形成する。この際、識別用青色着色層６０´Ｂと遮光膜５０とが重なる部分は、遮光膜が黒色のため目視では青色として認識できないため、目視で認識できる部分である識別用青色着色層６０´Ｂの遮光膜５０と重ならない部分の幅ｄ１を、本実施形態においては１００μｍとした。
【００３９】
次に、額縁状遮光膜５０、格子状遮光膜５２、青色着色層１６０´Ｂ及び識別用青色着色層６０´Ｂを含む第１基板９ｂ上全面に、赤色着色材料を塗布する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、図２（ｃ）に示すように、ストライプ状の赤色着色層１６０´Ｒを形成する。
【００４０】
次に、額縁状遮光膜５０、格子状遮光膜５２、青色着色層１６０´Ｂ、識別用青色着色層６０´Ｂ及び赤色着色層１６０´Ｒを含む第１基板９ｂ上全面に、緑色着色材料を塗布する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、図２（ｄ）に示すように、ストライプ状の緑色着色層１６０´Ｇを形成する。これによりカラーフィルタ基板２０Ｂを形成する。
【００４１】
尚、図１（ａ）に示すように識別用着色層が赤色のカラーフィルタ基板を製造する場合には、赤色着色層形成時に識別用赤色着色層を形成すればよく、また、図１（ｃ）に示すように識別用着色層が緑色のカラーフィルタ基板を製造する場合には、緑色着色層形成時に識別用緑色着色層を形成すればよいことは言うまでもない。
【００４２】
以上のように、３種類のカラーフィルタ基板２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃは、額縁状の遮光膜の外側に配置されている識別用着色層の色を認識することにより容易に識別をすることができる。また、カラーフィルタ基板２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃにおいて、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域は、液晶装置としたときの表示領域にほぼ相当し、額縁状の遮光膜５０の外側は非表示領域となるので、この非表示領域に識別用着色層を配置することにより液晶装置の表示に影響することがない。また、識別用着色層を、電気光学パネルとしたときの表示領域に対応する領域に配置される着色層と同じ工程で形成するので、製造工程を増やすことなく、識別用着色層を形成することができる。
【００４３】
尚、遮光膜として、上述ではＣｒ（クロム）の金属膜を例にあげたが、黒色顔料が分散された樹脂などを用いることもできる。また、着色層としては顔料が分散された樹脂などを用いることができる。
【００４４】
（第２実施形態）
第２実施形態に係るカラーフィルタ基板及びその製造方法について図３及び図４を用いて説明する。第１実施形態においては識別用着色層をほぼ矩形状の額縁状遮光膜を囲うように形成しているが、第２実施形態においては識別用着色層をほぼ矩形状の額縁状遮光膜の１辺に沿って形成している。
【００４５】
図３はカラーフィルタ基板を着色層が配置される面側からみたカラーフィルタ基板の平面図であり、例えば３種類のカラーフィルタ基板を識別する場合を説明するものである。図４は、図３に示すカラーフィルタ基板の製造方法を示す工程図であり、各工程における基板の平面図及び図４（ａ）に示す平面図の線Ｂ−Ｂ´に沿って切断した部分に対応する断面図である。図４における製造方法の説明では、例えば図３（ｂ）に示すカラーフィルタ基板を一例として挙げている。
【００４６】
本実施形態においては、第１実施形態と同様に、３種類の異なる、例えば同色の着色層の顔料配合量がそれぞれ異なるカラーフィルタ基板を識別する場合を例に挙げて説明する。
【００４７】
図３（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｄでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０Ｒ、青色着色層１６０Ｂ、緑色着色層１６０Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図３（ａ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０によって見えない状態であるため、図示を省略している。更に、図３（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｄでは、赤色着色層１６０Ｒと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用赤色着色層６１Ｒが額縁状遮光膜の外周の一部に沿って配置されている。この識別用赤色着色層６１Ｒの幅は、１００μｍ以上あることが望ましく、１００μｍ以上の幅を有するように識別用赤色着色層を形成することにより、カラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が赤色であると認識することができる。
【００４８】
図３（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｅでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０´Ｒ、青色着色層１６０´Ｂ、緑色着色層１６０´Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０´はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図３（ｂ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０´によって見えない状態であるため、図示を省略している。更に、図３（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｅでは、青色着色層１６０´Ｂと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用青色着色層６１´Ｂが額縁状遮光膜の外周の一部に沿って配置されている。この識別用青色着色層６１´Ｂの幅は、１００μｍ以上あることが望ましく、１００μｍ以上の幅を有するように識別用青色着色層を形成することにより、カラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が青色であると認識することができる。
【００４９】
図３（ｃ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｆでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０´´Ｒ、青色着色層１６０´´Ｂ、緑色着色層１６０´´Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０´´はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図３（ｃ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０´´によって見えない状態であるため、図示を省略している。更に、図３（ｃ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｆでは、緑色着色層１６０´´Ｇと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用緑色着色層６１´´Ｇが額縁状遮光膜の外周の一部に沿って配置されている。この識別用緑色着色層６１´´Ｇの幅は、１００μｍ以上あることが望ましく、１００μｍ以上の幅を有するように識別用緑色着色層を形成することにより、カラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が緑色であると認識することができる。
【００５０】
従って、ほぼ矩形状の額縁状遮光膜５０の外周部の一短辺に沿って配置された識別用着色層の色が赤色であればカラーフィルタ基板２０Ｄ、青色であればカラーフィルタ基板２０Ｅ、緑色であればカラーフィルタ基板２０Ｆというように識別することができる。
【００５１】
次に、上述のカラーフィルタ基板２０Ｅを例にあげ、額縁状遮光膜５０の一辺に沿って識別用着色層が形成されたカラーフィルタ基板の製造方法について図４を用いて説明する。図４（ｂ）〜（ｄ）においては、格子状の遮光膜５２の図示を省略している。
【００５２】
図４（ａ）に示すように、第１基板９ｂ上に、例えばスパッタによりクロムを堆積した後、パターニングして額縁状の遮光膜５０及び格子状の遮光膜５２を形成する。
【００５３】
次に、額縁状遮光膜５０及び格子状遮光膜５２を含む第１基板９ｂ上全面に、青色着色材料を塗布する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、図４（ｂ）に示すように、ストライプ状の第１の着色層としての青色着色層１６０´Ｂ及び額縁状の遮光膜５０の外周部の一辺に沿って識別用青赤色着色層６１´Ｂを形成する。この際、識別用青色着色層６１´Ｂと遮光膜５０とが重なる部分は、遮光膜が黒色のため目視では青色として認識できないため、目視で認識できる部分である識別用青色着色層６１´Ｂの遮光膜５０と重ならない部分の幅ｄ２を、本実施形態においては１００μｍとした。
【００５４】
次に、額縁状遮光膜５０、格子状遮光膜５２、青色着色層１６０´Ｂ及び識別用青色着色層６１´Ｂを含む第１基板９ｂ上全面に、赤色着色材料を塗布する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、図４（ｃ）に示すように、ストライプ状の赤色着色層１６０´Ｒを形成する。
【００５５】
次に、額縁状遮光膜５０、格子状遮光膜５２、青色着色層１６０´Ｂ、識別用青色着色層６１´Ｂ及び赤色着色層１６０´Ｒを含む第１基板９ｂ上全面に、緑色着色材料を塗布する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、図４（ｄ）に示すように、ストライプ状の緑色着色層１６０´Ｇを形成する。これによりカラーフィルタ基板２０Ｅを形成する。
【００５６】
尚、図３（ａ）に示すように識別用着色層が赤色のカラーフィルタ基板を製造する場合には、赤色着色層形成時に識別用赤色着色層を形成すればよく、また、図３（ｃ）に示すように識別用着色層が緑色のカラーフィルタ基板を製造する場合には、緑色着色層形成時に識別用緑色着色層を形成すればよいことは言うまでもない。
【００５７】
以上のように、３種類のカラーフィルタ基板２０Ｄ、２０Ｅ、２０Ｆは、額縁状の遮光膜の外側に配置されている識別用着色層の色を認識することにより容易に識別をすることができる。また、カラーフィルタ基板２０Ｄ、２０Ｅ、２０Ｆにおいて、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域は、液晶装置としたときの表示領域にほぼ相当し、額縁状の遮光膜５０の外側は非表示領域となるので、この非表示領域に識別用着色層を配置することにより液晶装置の表示に影響することがない。また、識別用着色層を、電気光学パネルとしたときの表示領域に対応する領域に配置される着色層と同じ工程で形成するので、製造工程を増やすことなく、識別用着色層を形成することができる。
【００５８】
尚、遮光膜として、上述ではＣｒ（クロム）の金属膜を例にあげたが、黒色顔料が分散された樹脂などを用いることもできる。また、着色層としては顔料が分散された樹脂などを用いることができる。
【００５９】
また、本実施形態においては、ほぼ矩形状の遮光膜５０の短辺に沿うように識別用着色層を配置しているが、図５に示すように遮光膜５０の長辺に沿うように識別用着色層を配置することもできる。
【００６０】
図５（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｇでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０Ｒ、青色着色層１６０Ｂ、緑色着色層１６０Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図５（ａ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０によって見えない状態であるため、図示を省略している。更に、図５（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｇでは、赤色着色層１６０Ｒと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用赤色着色層６２Ｒが、ほぼ矩形状の額縁状遮光膜の外周の一長辺に沿って配置されている。この識別用赤色着色層６２Ｒの幅は、１００μｍ以上あることが望ましく、１００μｍ以上の幅を有するように識別用赤色着色層を形成することにより、カラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が赤色であると認識することができる。
【００６１】
図５（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｈでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０´Ｒ、青色着色層１６０´Ｂ、緑色着色層１６０´Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０´はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図５（ｂ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０´によって見えない状態であるため、図示を省略している。更に、図５（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｈでは、青色着色層１６０´Ｂと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用青色着色層６２´Ｂがほぼ矩形状の額縁状遮光膜５０の外周の一長辺に沿って配置されている。この識別用青色着色層６１´Ｂの幅は、１００μｍ以上あることが望ましく、１００μｍ以上の幅を有するように識別用青色着色層を形成することにより、カラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が青色であると認識することができる。
【００６２】
図５（ｃ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｉでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０´´Ｒ、青色着色層１６０´´Ｂ、緑色着色層１６０´´Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０´´はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図５（ｃ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０´´によって見えない状態であるため、図示を省略している。更に、図５（ｃ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｉでは、緑色着色層１６０´´Ｇと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用緑色着色層６２´´Ｇがほぼ矩形状の額縁状遮光膜の外周の一長辺に沿って配置されている。この識別用緑色着色層６２´´Ｇの幅は、１００μｍ以上あることが望ましく、１００μｍ以上の幅を有するように識別用緑色着色層を形成することにより、カラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が緑色であると認識することができる。
【００６３】
従って、ほぼ矩形状の額縁状遮光膜５０の外周部の一長辺に沿って配置された識別用着色層の色が赤色であればカラーフィルタ基板２０Ｇ、青色であればカラーフィルタ基板２０Ｈ、緑色であればカラーフィルタ基板２０Ｉというように識別することができる。
【００６４】
また、識別用着色層の色、形状から、図３及び図５に示す６種類のカラーフィルタ基板の識別も可能であることは言うまでもなく、更に第１実施形態に示すカラーフィルタ基板をあわせれば、９種類のカラーフィルタ基板の識別も可能である。
【００６５】
また、本実施形態においては、ほぼ矩形状の額縁状遮光膜の一辺に沿って識別用着色層を設けているが、隣り合う２辺、対向する２辺、あるいは３辺に沿って識別用着色層を設けることもでき、更に、識別用着色層の色、形状により多種類のカラーフィルタ基板の識別が可能となる。
【００６６】
（第３実施形態）
第３実施形態に係るカラーフィルタ基板及びその製造方法について図６及び図７を用いて説明する。上述の実施形態においては、識別用着色層を額縁状遮光膜の外周部に沿って設けているが、本実施形態においては、額縁状遮光膜の一部に遮光膜が形成されない切り欠け部を設け、この切り欠け部に識別用着色層を配置している。
【００６７】
図６はカラーフィルタ基板を着色層が配置される面側からみたカラーフィルタ基板の部分平面図であり、例えば３種類のカラーフィルタ基板を識別する場合を説明するものである。図７は、図６に示すカラーフィルタ基板の製造方法を示す工程図であり、各工程における基板の平面図及び図７（ａ）に示す平面図の線Ｃ−Ｃ´に沿って切断した部分に対応する断面図である。図７における製造方法の説明では、例えば図６（ｂ）に示すカラーフィルタ基板を一例として挙げている。
【００６８】
本実施形態においては、第１実施形態と同様に、３種類の異なる、例えば同色の着色層の顔料配合量がそれぞれ異なるカラーフィルタ基板を識別する場合を例に挙げて説明する。
【００６９】
図６（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｊでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０Ｒ、青色着色層１６０Ｂ、緑色着色層１６０Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図６（ａ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０によって見えない状態であるため、図示を省略している。また、上述の額縁状の遮光膜５０は、その一角部に、例えばほぼ矩形状の切り欠け部５０ａを有している。更に、図６（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｊでは、赤色着色層１６０Ｒと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用赤色着色層６３Ｒが額縁状遮光膜５０の切り欠け部５０ａに配置されている。この識別用赤色着色層６３Ｒの大きさは、例えば１２０μｍ×１００μｍの大きさであり、識別用赤色着色層６３Ｒが矩形状であるならば少なくとも一辺が１００μｍ以上となるように形成することが望ましく、これによりカラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が赤色であると認識することができる。
【００７０】
図６（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｋでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０´Ｒ、青色着色層１６０´Ｂ、緑色着色層１６０´Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０´はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図６（ｂ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０´によって見えない状態であるため、図示を省略している。また、上述の額縁状の遮光膜５０は、その一角部に、例えばほぼ矩形状の切り欠け部５０ａを有している。更に、図６（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｋでは、青色着色層１６０´Ｂと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用青色着色層６３´Ｂが額縁状遮光膜５０の切り欠け部５０ａに配置されている。この識別用青色着色層６３´Ｂの大きさは、例えば１００μｍ×１００μｍの大きさであり、識別用青色着色層６３´Ｂが矩形状であるならば少なくとも一辺が１００μｍ以上となるように形成することが望ましく、これによりカラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が青色であると認識することができる。
【００７１】
図６（ｃ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｌでは、例えばガラスなどからなる第１基板９ｂ上に、額縁状の遮光膜５０と、額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内に配置された３色のストライプ状の第１の着色層としての赤色着色層１６０´´Ｒ、青色着色層１６０´´Ｂ、緑色着色層１６０´´Ｇとが配置されている。尚、額縁状の遮光膜５０と同層で額縁状の遮光膜５０で囲まれた領域内には、電気光学パネルにカラーフィルタ基板を組みこんだ時に各画素を区画する格子状の遮光膜（図示せず）が配置されており、各着色層１６０´´はこの格子状の遮光膜の間を埋めるように配置される。図６（ｃ）においては格子状の遮光膜は各着色層１６０´´によって見えない状態であるため、図示を省略している。また、上述の額縁状の遮光膜５０は、その外周部の一角部に、例えばほぼ矩形状の切り欠け部５０ａを有している。更に、図６（ｃ）に示すように、カラーフィルタ基板２０Ｌでは、緑色着色層１６０´´Ｇと同じ部材からなる識別マークとして機能する第２の着色層としての識別用緑色着色層６３´´Ｇが額縁状遮光膜５０の切り欠け部５０ａに配置されている。この識別用緑色着色層６３´´Ｇの大きさは、例えば１１０μｍ×９０μｍの大きさであり、識別用緑色着色層６３´´Ｇが矩形状であるならば少なくとも一辺が１００μｍ以上となるように形成することが望ましく、これによりカラーフィルタ基板を目視で見たときに識別用着色層が緑色であると認識することができる。
【００７２】
従って、ほぼ矩形状の額縁状遮光膜５０の角部に配置された識別用着色層の色が赤色であればカラーフィルタ基板２０Ｊ、青色であればカラーフィルタ基板２０Ｋ、緑色であればカラーフィルタ基板２０Ｌというように識別することができる。このように本実施形態では、額縁状遮光膜５０の一部を切り欠き、その部分に識別用着色層を配置しているので、スペース利用効率が良い。なぜなら、カラーフィルタ基板が組み込まれる電気光学パネルの表示面積を基板面積に対し大きくとる場合、額縁状遮光膜と基板端面との間の隙間を小さくする必要があるが、このような場合、上述の第１実施形態及び第２実施形態では、額縁状遮光膜の外側に識別用着色層を配置するので、配置するスペースに限界が生じてしまう。これに対し、本実施形態においては、額縁状遮光膜の一部を切り欠き、そこに識別用着色層が配置されるので、上述のような配置スペースの限界がなく、スペース利用効率が良い。尚、本実施形態においては、矩形状の額縁状の遮光膜の角部に切り欠け部を設けたが、辺に沿った部分に切り欠け部を設けても良く、電気光学パネルとしたときに表示に影響が生じなければ良い。しかしながら、角部が最も切り欠け面積を大きくとれるため、本実施形態のように角部に切り欠け部を設けることが望ましい。また、切り欠け部の形状は矩形状に限定されることなく、三角形状などにすることも可能である。
【００７３】
次に、上述のカラーフィルタ基板２０Ｋを例にあげ、額縁状遮光膜５０の切り欠け部５０ａに識別用着色層が形成されたカラーフィルタ基板の製造方法について図７を用いて説明する。図７（ｂ）〜（ｄ）においては、格子状の遮光膜５２の図示を省略している。
【００７４】
図７（ａ）に示すように、第１基板９ｂ上に、例えばスパッタによりクロムを堆積した後、パターニングして、切り欠け部５０ａを有する額縁状の遮光膜５０及び格子状の遮光膜５２を形成する。
【００７５】
次に、額縁状遮光膜５０及び格子状遮光膜５２を含む第１基板９ｂ上全面に、青色着色材料を塗布する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、図７（ｂ）に示すように、ストライプ状の第１の着色層としての青色着色層１６０´Ｂ及び切り欠け部５０ａに識別用青赤色着色層６３´Ｂを形成する。この際、識別用青色着色層６３´Ｂと遮光膜５０とが重なる部分は、遮光膜が黒色のため目視では青色として認識できないため、目視で認識できる部分である識別用青色着色層６３´Ｂの遮光膜５０と重ならない部分の幅ｄ２を、本実施形態においては１００μｍとした。
【００７６】
次に、額縁状遮光膜５０、格子状遮光膜５２、青色着色層１６０´Ｂ及び識別用青色着色層６３´Ｂを含む第１基板９ｂ上全面に、赤色着色材料を塗布する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、図７（ｃ）に示すように、ストライプ状の赤色着色層１６０´Ｒを形成する。
【００７７】
次に、額縁状遮光膜５０、格子状遮光膜５２、青色着色層１６０´Ｂ、識別用青色着色層６３´Ｂ及び赤色着色層１６０´Ｒを含む第１基板９ｂ上全面に、緑色着色材料を塗布する。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、図７（ｄ）に示すように、ストライプ状の緑色着色層１６０´Ｇを形成する。これによりカラーフィルタ基板２０Ｅを形成する。
【００７８】
尚、図６（ａ）に示すように識別用着色層が赤色のカラーフィルタ基板を製造する場合には、赤色着色層形成時に識別用赤色着色層を形成すればよく、また、図６（ｃ）に示すように識別用着色層が緑色のカラーフィルタ基板を製造する場合には、緑色着色層形成時に識別用緑色着色層を形成すればよいことは言うまでもない。
【００７９】
以上のように、３種類のカラーフィルタ基板２０Ｊ、２０Ｋ、２０Ｌは、額縁状の遮光膜の切り欠け部に配置されている識別用着色層の色を認識することにより容易に識別をすることができる。また、識別用着色層を、電気光学パネルとしたときの表示領域に対応する領域に配置される着色層と同じ工程で形成するので、製造工程を増やすことなく、識別用着色層を形成することができる。
【００８０】
尚、遮光膜として、上述ではＣｒ（クロム）の金属膜を例にあげたが、黒色顔料が分散された樹脂などを用いることもできる。また、着色層としては顔料が分散された樹脂などを用いることができる。
【００８１】
また、本実施形態においては、ほぼ矩形状の額縁状遮光膜の一角部に識別用着色層を設けているが、額縁状遮光膜の隣り合う二角部、対向する二角部、三角部あるいは四角部に切り欠け部を設け、この切り欠け部に識別用着色層を設けることもでき、更に、識別用着色層の色、形状により多種類のカラーフィルタ基板の識別が可能となる。
【００８２】
＜電気光学パネル及びその製造方法、電気光学装置＞
次に、上述のカラーフィルタ基板、例えば第１実施形態で記載したカラーフィルタ基板２０Ａが組み込まれた電気光学パネルの一例である液晶パネル、この液晶パネルが組み込まれた電気光学装置の一例である液晶装置について図８〜図１０を用いて説明する。
【００８３】
本実施形態においては、液晶装置として、ＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス型の透過型液晶装置に適用した場合を例にあげて説明する。尚、図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構成における縮尺や数などが異なっている。
【００８４】
図８は液晶装置の分解斜視図であり、図９は図８に示す液晶装置の部分断面図であり、液晶装置及びバックライトが図示されている。図１０は液晶装置の等価回路図である。
【００８５】
図８に示すように、液晶装置１は、液晶パネル２と、液晶パネル２に隣接して配置されたバックライト１０と、バックライト１０を固定するケース３５と、液晶パネル２に接続された配線基板６とからなる。
【００８６】
図８及び図９に示すように、液晶パネル２は、カラーフィルタ基板２０と、これに対向する対向基板２６と、これら一対の基板２０及び２６を貼り合わせる基板周縁部に設けられたシール材３と、一対の基板２０及び２６とシール材３とにより形成された空間内に挟持された電気光学物質としての９０度捩れのＴＮ液晶１１０とを有している。一対の基板２０及び２６の間隙はスペーサ１１１によって保持されている。液晶装置は、液晶パネル２と、液晶パネル２を挟むように設けられた第１の偏光板１８ａ及び第２の偏光板１８ｂと、カラーフィルタ基板２０の対向基板２６より張り出した張り出し部２０ａに実装された駆動用ＩＣ４ａ及び４ｂと、この駆動用ＩＣ４ａ及び４ｂとＡＣＦ（異方性導電フィルム）９を介して電気的に接続する配線基板６とを有している。
【００８７】
図１０に示すように、液晶装置１は、複数の配線からなるデータ線２１が行方向（Ｘ方向）に形成され、複数の走査線２４が列方向（Ｙ方向）に形成されている。
【００８８】
図９及び図１０に示すように、走査線２４は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　ＴｉｎＯｘｉｄｅ）膜からなり、カラーフィルタ基板２０の対向基板２６と対向する面上にストライプ状に形成されている。走査線２４には走査線駆動回路としての駆動用ＩＣ４ｂから走査信号が供給される。一方、データ線２１は、ＩＴＯ膜からなり、対向基板２６のカラーフィルタ基板２０と対向する面上に、走査線２４と直交してストライプ状に形成されている。更に、対向基板２６上には、データ線２１に電気的に接続する複数のスイッチング素子としてのＴＦＤ素子２８と、各ＴＦＤ素子２８に電気的に接続した画素電極（後述する）とが形成されている。データ線２１にはデータ線駆動回路としての駆動用ＩＣ４ａから画像信号が供給される。
【００８９】
図９及び図１（ａ）に示すように、液晶パネル２を構成するカラーフィルタ基板２０は、第１基板９ｂと、第１基板９ｂ上に額縁状に配置された額縁状遮光膜５０及びこの額縁状遮光膜５０と同層からなる格子状遮光膜５２と、格子状遮光膜５２の隙間を埋めるようにストライプ状に配置された３色の着色層、赤色着色層１６０Ｒ、青色着色層１６０Ｂ及び緑色着色層１６０Ｇと、額縁状遮光膜５０の外周部に沿って額縁状遮光膜５０を囲うように配置された識別用着色層６０Ｒとを有し、更にこれら着色層及び遮光膜を覆うように配置されたオーバーコート層１３と、オーバーコート層１３上に配置された走査線２４と、走査線２４及びオーバーコート層１３を覆うように配置されたポリイミドなどからなる配向膜１６ｂとを有している。走査線２４は各着色層１６０と対応するように、着色層とほぼ平行に配置されている。
【００９０】
一方、図９に示すように、液晶パネル２を構成する対向基板２６は、第２基板９ａと、第２基板９ａの外周部に沿って配置される第１遮光膜と、走査線２４とほぼ直交するように配置されたデータ線２１と、データ線２１に電気的に接続する複数のスイッチング素子としてのＴＦＤ素子（図示せず）と、各ＴＦＤ素子に電気的に接続した画素電極と、これらデータ線２１、ＴＦＤ素子２８、画素電極を覆うように配置されたポリイミドなどからなる配向膜１６ａとを有している。更に、対向基板２６の貼り出し部２６ａには、データ線２１が延在した配線とＡＣＦを介して電気的に接続する駆動用ＩＣ４ａ及び走査線２４と電気的に接続する駆動用ＩＣ４ｂ（図示せず）とが実装され、駆動用ＩＣ４と配線基板６とを電気的に接続するための接続端子部２２が配置されている。
【００９１】
ここで、ＴＦＤ、データ線及び画素電極の構造について図１１を用いて説明する。
【００９２】
図１１は、基板９ａ上に配置されるＴＦＤ、データ線及び画素電極の構造を説明する図であり、図１１（ａ）は平面図、図１１（ｂ）は図１１（ａ）の線Ｄ−Ｄ’における断面図、図１１（ｃ）は概略斜視図である。
【００９３】
ＴＦＤ素子２８は、図１１（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、基板９ａの表面に成膜された下地層上に形成された第１のＴＦＤ素子２８ａ及び第２のＴＦＤ素子２８ｂからなる２つのＴＦＤ素子２８によって、いわゆるＢａｃｋ−ｔｏ−Ｂａｃｋ構造として構成されている。このため、ＴＦＤ素子２８は、電流−電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化されている。下地層は、例えば厚さ５０〜２００ｎｍ程度の酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）によって構成されている。
【００９４】
第１のＴＦＤ素子２８ａ及び第２のＴＦＤ素子２８ｂは、第１金属層３２と、この第１金属層３２の表面に形成された絶縁膜３３と、絶縁膜３３の表面に互いに離間して形成された第２金属層３４ａ、３４ｂとによって構成されている。第１金属層３２は、例えば、厚さ１００〜５００ｎｍ、ここでは２００ｎｍ程度のＴａ単体膜、Ｔａ合金膜、ここではタンタルタングステン（ＴａＷ）などによって形成される。絶縁膜３３は、例えば、陽極酸化法によって第１金属層３２の表面を酸化することによって形成された厚さが１０〜３５ｎｍの酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）である。第２金属層３４ａ、３４ｂは、例えばクロム（Ｃｒ）などといった金属膜によって５０〜３００ｎｍ程度の厚さに形成されている。第２金属層３４ａは、そのままデータ線２４の第３層４１ｃとなり、他方の第２金属層３４ｂは、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）などといった透明導電材からなる画素電極２５に接続されている。データ線２４は、第１金属層３２と同時に形成された第１層４１ａと、絶縁膜３３と同一工程で形成された第２層４１ｂと、第３層４１ｃとが積層した構造となっている。
【００９５】
液晶装置１では、対向する走査線２４及び画素電極２５、これらに挟持される液晶１１０とにより画素が形成される。そして、各画素に印加する電圧を選択的に変化させることによって液晶１１０の光学特性を変化させ、バックライト１０から照射される光は各画素のこの液晶１１０を透過することによって変調される。
【００９６】
次に、バックライト１０について説明する。
【００９７】
図８及び図９に示すように、バックライト１０は、カラーフィルタ基板２０に隣接して配置され、光源１０１と、光源１０１から光が入射される導光板８と、拡散シート３０、プリズムシート３１及び３２、反射シート５とを有している。拡散シート３０は、液晶パネル２の表示画面内の光の輝度をより均一化させるためのものである。２枚のプリズムシート３１及び３２は、出射光の配向角を調整し、正面の輝度を向上させるためのものである。導光板８は、導光板８に対応して配置された液晶パネル２に対し、光源部１０１から出射された光を液晶パネル２の面内に均一に照射するためのものであり、アクリル樹脂やポリカーボネートなどから形成される。
【００９８】
図９に示すように、上述の液晶パネル２において、対向基板２６に配置される第１遮光膜５５は、その一部がカラーフィルタ基板２０上に配置される額縁状遮光膜５０と平面的に重なり合う。更に、額縁状遮光膜５０の外側に配置される識別用着色層６０Ｒは、少なくとも一部が第１遮光膜５５と平面的に重ならないように設けられており、このような構成とすることにより、カラーフィルタ基板の状態でだけでなく液晶パネル２の状態においても、識別用着色層６０Ｒを認識することができる。従って、識別用着色層６０Ｒの色、形状を認識することにより、他の異なるカラーフィルタ基板が組み込まれた液晶パネルと識別することが可能となる。尚、この場合、識別用着色層６０Ｒの第１遮光膜５５と平面的に重ならない部分の幅ｄ３が１００μｍ以上であることが望ましく、これにより目視で識別用着色層の色及び形状を認識することができる。また、第１遮光膜５５が形成されていないタイプの液晶パネルにおいても、識別用着色層に対向して対向基板上に遮光性を有する何らかの膜が形成される場合には、液晶パネルとしたときに、識別用着色層が平面的にこの膜と重なり合わないように、識別用着色層を形成すれば、液晶パネルの状態でも識別が可能となる。
【００９９】
また、本実施形態では、カラーフィルタ基板として上述の第１実施形態に示すカラーフィルタ基板を適用したが、同様に第２の実施形態及び第３の実施形態に示すカラーフィルタ基板を適用することができる。特に、第３の実施形態におけるカラーフィルタ基板は、額縁状遮光膜５０の一部に切り欠け部を設け、その切り欠け部に識別用着色層を配置しているので、基板の外周部と額縁状遮光膜との間の距離が狭い狭額縁タイプの液晶パネルにも適用でき、液晶パネルの設計範囲が限定されることがない。
【０１００】
次に、上述の液晶パネル２の製造方法について説明する。
【０１０１】
まず、第１実施形態における図１（ａ）に示す着色層、遮光膜及び識別用着色層が形成された基板２０Ａを用意する。次に、基板２０Ａ上に、オーバーコート層１３、走査線２４、配向膜１６ｂを順に形成してカラーフィルタ基板２０を製造する。
【０１０２】
次に、予め準備した対向基板２６またはカラーフィルタ基板２０のうち一方の基板上に液晶注入口を除く矩形状のシール材３を基板外周に沿って塗布したのち、対向基板２６及びカラーフィルタ基板２０とをシール材３を介して貼りあわせる。この際、額縁状遮光膜及び識別用着色層はシール材３により区画される領域内におさまるように、シール材３は塗布される。
【０１０３】
その後、対向基板２６、カラーフィルタ基板２０及びシール材３により形成された空間内に液晶を充填し、液晶注入口を封止材により封止して液晶パネル２が完成する。
【０１０４】
以上、本実施形態における液晶パネルは、識別用着色層が形成されたカラーフィルタ基板を用いて製造されるので、異なるカラーフィルタ基板が用いられる同じ基板サイズの液晶パネルを複数種類製造する場合においても、正確にカラーフィルタ基板を選択して液晶パネルを製造できるので、作業性が向上する。また、本実施形態における液晶パネルは、カラーフィルタ基板の状態だけでなく、液晶パネルの状態でも基板サイズの同じ異なる種類の液晶パネルの識別が可能であり、正確な液晶パネルの供給が可能となる。
【０１０５】
また、上述の液晶装置においては、バックライト１０側にカラーフィルタ基板２０が配置される構造について説明したが、図１２に示すようにバックライト側１０に対向基板２６が配置され、カラーフィルタ基板２０側が観察側となるように配置した構造に適用できることは言うまでもない。尚、図１２においては、基板の配置が上述の液晶装置と異なるだけであり、同じ構造について同じ符号を付している。
【０１０６】
また、上述した実施形態では、透過型のＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置を例にあげたが、これに限られものではなく、反射型液晶装置や半透過半反射型液晶装置、ＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置や単純マトリクス型の液晶装置に適用できることは言うまでもない。また、上述した実施形態では、電気光学装置として、液晶装置に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）表示装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウン管、液晶シャッター等を用いた小型テレビ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を用いた装置などの各種の電気光学装置に適用できる。
【０１０７】
＜電子機器＞
さらに、本発明の液晶装置１を電子機器に搭載した例を以下に記す。
【０１０８】
最後に、上記電気光学パネルを含む電気光学装置を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。図１３は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記と同様の液晶パネル２と、これを制御する制御手段１２００とを有する。ここでは、液晶パネル２を、パネル構造体２Ａと、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路２Ｂとに概念的に分けて描いてある。
【０１０９】
また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有する。
【０１１０】
表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されている。
【０１１１】
表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【０１１２】
また、本発明に係る電子機器としては、モバイル型パーソナルコンピュータ、携帯電話機、ディジタルウォッチ、ディジタルスチルカメラ、タッチパネル、電卓、液晶テレビ、プロジェクタ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機などがあげられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として本発明に係る電気光学装置を用いることができる。
【０１１３】
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態におけるカラーフィルタ基板の平面図であり、例えば３種類のカラーフィルタ基板を識別する場合を説明するものである。
【図２】図１に示すカラーフィルタ基板の製造方法を示す工程図であり、各工程における基板の平面図及び図１（ａ）に示す平面図の線Ａ−Ａ´に沿って切断した部分に対応する断面図である。
【図３】第２実施形態におけるカラーフィルタ基板の平面図であり、例えば３種類のカラーフィルタ基板を識別する場合を説明するものである。
【図４】図３に示すカラーフィルタ基板の製造方法を示す工程図であり、各工程における基板の平面図及び図３（ａ）に示す平面図の線Ｂ−Ｂ´に沿って切断した部分に対応する断面図である。
【図５】第２実施形態にかかわる他のカラーフィルタ基板の平面図であり、例えば３種類のカラーフィルタ基板を識別する場合を説明するものである。
【図６】第３実施形態におけるカラーフィルタ基板の平面図であり、例えば３種類のカラーフィルタ基板を識別する場合を説明するものである。
【図７】図６に示すカラーフィルタ基板の製造方法を示す工程図であり、各工程における基板の平面図及び図６（ａ）に示す平面図の線Ｃ−Ｃ´に沿って切断した部分に対応する断面図である。
【図８】本発明に係る液晶装置の分解斜視図である。
【図９】図８に示す液晶装置の断面図である。
【図１０】図８に示す液晶装置の等価回路図である。
【図１１】基板９ａ上に配置されるＴＦＤ、データ線及び画素電極の構造を説明する図であり、図１１（ａ）は平面図、図１１（ｂ）は図１１（ａ）の線Ｄ−Ｄ´における断面図、図１１（ｃ）は概略斜視図である。
【図１２】本発明に係る他の液晶装置の断面図である。
【図１３】本発明に係る電子機器のブロック図である。
【符号の説明】
１…液晶装置
２…液晶パネル
３…シール材
９ａ…第２基板
９ｂ…第１基板
２０、２０Ａ〜２０Ｌ…カラーフィルタ基板
２６…対向基板
５０…額縁状の遮光膜
５０ａ…切り欠け部
６０Ｒ，６１Ｒ、６２Ｒ、６３Ｒ…識別用赤色着色層
６０´Ｂ，６１´Ｂ、６２´Ｂ、６３´Ｂ…識別用青色着色層
６０´´Ｇ，６１´´Ｇ、６２´´Ｇ、６３´´Ｇ…識別用緑色着色層
１１０…液晶
１６０Ｒ，１６０´Ｒ、１６０´´Ｒ…赤色着色層
１６０Ｂ、１６０´Ｂ，１６０´´Ｂ…青色着色層
１６０Ｇ，１６０´Ｇ、１６０´´Ｇ…緑色着色層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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