(57)【要約】【課題】本発明は幅広帯状ワークであっても生産のタクトタイムが長くならない露光機を提供する。【解決手段】幅広帯状ワークの搬送路に少なくとも２台の露光部を配設せしめ、これら露光部でもって前記幅広帯状ワークの搬送方向の少なくとも２列の露光領域のそれぞれを露光せしめるように構成する。少なくとも２台の前記露光部は前記幅広帯状ワークの搬送方向に一定の間隔を開けて配設するのが望ましい。また、前記幅広帯状ワークの搬送方向下流側に配設した露光部を固定式とし、他の露光部は前記幅広帯状ワークの搬送方向に可動式とするのが望ましい。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
幅広帯状ワークの搬送路に少なくとも２台の露光部を配設せしめ、これら露光部でもって前記幅広帯状ワークの搬送方向の少なくとも２列の露光領域のそれぞれを露光せしめるように構成したことを特徴とする幅広露光機。
【請求項２】
少なくとも２台の前記露光部を前記幅広帯状ワークの搬送方向に一定の間隔を開けて配設せしめたことを特徴とする請求項１に記載の幅広露光機。
【請求項３】
前記幅広帯状ワークの搬送方向下流側に配設した露光部は固定式とし、他の露光部は前記幅広帯状ワークの搬送方向に可動式としたことを特徴とする請求項１又は２に記載の幅広露光機。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、合成樹脂フィルム等の幅広帯状ワークの表面にマスクパターンを露光する幅広露光機に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ＬＳＩ等からなる半導体チップ（電子部品）の実装技術には、薄いポリイミド系フィルムをベース材に用いたＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ　Ｐｒｉｎｔｅｄ　Ｃｉｒｃｕｉｔ）基板に半導体チップをフェースダウンボンディングする、所謂ＣＯＦ（Ｃｈｉｐ　Ｏｎ　Ｆｉｌｍ）と呼ばれる技術がある。ここに用いられるＦＰＣ基板は、例えば、ベースフィルムであるポリイミド系フィルム上に銅メッキ法や銅箔に液状ポリイミドを直接キャスティング付着させたテープ状の２層基材である帯状ワークであり、銅層には、フォトリソグラフィ方式によって一定ピッチの配線回路パターンが形成される。
【０００３】
このフォトリソグラフィ方式における露光装置としては、等倍像を形成する密着露光方式やプロキシミティ露光方式もあるが、結像レンズを用いて縮小像又は拡大像を形成する投影露光方式が好適である。
【０００４】
このような装置において、露光前の帯状ワークは供給リールに保持され、このリールより送り出された帯状ワークが露光位置まで搬送され、次いで、巻き取りリールに巻き上げられる、所謂リール・ツウ・リール方式が採用されている。
【０００５】
従来、帯状ワークの幅は細幅で、例えば、１２５ｍｍ以下であり、ワーク上には１列に並んだ製品が作られていた。従って、露光処理もマスクパターンを一列に露光するだけで良かったが、近時、一巻の帯状ワークからより多くの製品が製作できるように、帯状ワークの幅を２５０ｍｍとし、ワーク上に２列に並んだ製品を作る場合がある。従って、マスクパターンを２列に露光することが求められるようになった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、特開２０００−２１４５９５号公報には、帯状ワークに、マスクに形成されたパターンを順次に露光していく露光装置において、ワークステージ上の帯状ワークを帯状ワークの長手方向に搬送するワーク搬送装置に加え、ワークステージ上の帯状ワークの幅方向に移動するワーク移動機構を設け、制御部により上記ワーク搬送機構とワーク移動機構を制御して、帯状ワークの搬送と、搬送方向に直交する方向の移動を繰り返し、帯状ワークに複数列のマスクパターンを露光する帯状ワークの露光装置が開示されている。
【０００７】
従来の一般に用いられている露光装置で帯状ワークに２列のマスクパターンを露光しようとすると、送り出しリール部に取り付けられたリールから帯状ワークを搬送し、先ず第１列のパターンを露光し、第１列の露光が終わると帯状ワークは巻き取りリール部に取り付けられたリールに巻き取られ、第２列目を露光するには、第１列の露光を終えた帯状ワークが巻き取られたリールを巻き取りリール部から取り外し、送り出しリール部に掛け替えて、再びリールから帯状ワークを搬送し第２列目を露光するという煩雑な操作が必要であるが、上記公報に記載の露光装置によれば、リールの掛け替えを行うことがなく、また、装置を格別大型化したり高価な大型の投影レンズを使用することなく、１巻の帯状ワークに複数列のマスクパターンを露光することができるという利点があるが、帯状ワークを、その搬送方向に直交する方向へ移動することも必要になるので、帯状ワークの位置決め精度が悪くなったり、又、マスクと帯状ワークとの位置合わせに時間がかかり、生産のタクトタイムが長くなる等の問題がある。
【０００８】
そこで、本発明の目的は、幅広帯状ワークであっても生産のタクトタイムが長くならない露光機を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の幅広露光機は、幅広帯状ワークの搬送路に少なくとも２台の露光部を配設せしめ、これら露光部でもって前記幅広帯状ワークの搬送方向の少なくとも２列の露光領域のそれぞれを露光せしめるように構成したことを特徴とする。
【００１０】
かかる構成により、幅広帯状ワークの複数列の露光領域のそれぞれを複数台の露光部で露光することができ、帯状ワークをその搬送方向と直交する方向へ移動する必要がないので、マスクと帯状ワークの露光位置との位置合わせにそれ程時間がかからず、生産のタクトタイムの縮小に寄与する。
【００１１】
また、帯状ワークの幅方向に露光部を並設、即ち、帯状ワークの搬送方向に直交する方向に列状に露光部を設置すれば、投影露光の場合レンズは円形であり、矩形である露光マスクの有効な露光パターンはレンズ直径より減少するためワーク露光への無駄が多くなるが、少なくとも２台の前記露光部を前記幅広帯状ワークの搬送方向に一定の間隔を開けて配設せしめると、幅広帯状ワークの露光領域を無駄なく確保できる。
【００１２】
また、露光パターンや製品品種に対応して帯状ワークにおける露光パターンのピッチを変更することが必要になるが、帯状ワークの搬送はその搬送方向下流側に配設した露光部の下流に設けたグリップフィード装置で行われるので、下流側に配設した露光部とグリップフィード装置の固定グリップとの間隔を固定化し、他の露光部を帯状ワークの搬送方向に可動式とすれば露光パターンのピッチの変更に対処することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【００１４】
本発明の幅広露光機は、図１に示す如く、ワーク巻出機１０と、第１緊張装置２０と、第１露光部３０と、第２露光部４０と、グリップフィード装置５０と、第２緊張装置６０と、ワーク巻取機７０とから構成される。
【００１５】
ワーク巻出機１０は、露光すべき幅広帯状ワーク１を巻き出す巻きだしリール１１を取り付け得るように構成されている。
【００１６】
第１緊張装置２０は、下部に排気ダクト２１を接続した吸引箱２２と該吸引箱２２の入口部に配設したガイドローラ２３、２４とから成り、前記排気ダクト２１にはブロア２５が設けられている。なお、図示していないが、吸引箱２２の側部には幅広帯状ワーク１の垂下部分の下端位置を一定の範囲にコントロールするための少なくとも２個の位置検出センサが設けられている。
【００１７】
第１露光部３０は、第１光照射部３１と、アライメント機構付きの第１マスク３２と、第１マスク３２と幅広帯状ワーク１の露光位置とのアライメント時に幅広帯状ワーク１への露光を避けるための遮光板３３と、第１露光投影レンズ３４とから構成され、その下方には、上部にワーク吸引テーブル３５を有し、下部に第１露光部移動機構３６を有するワークステージ３７と、ワーク吸引テーブル３５の前後に配設した昇降ローラ３８、３９が設けられている。従って、ワークステージ３７は第１露光部３０と一体となって、帯状ワーク１の搬送方向に移動自在に構成されている。なお、遮光板３３は、図１では、第１マスク３２と第１露光投影レンズ３４との間に配設されているが、第１光照射部３１と第１マスク３２との間、又は、第１露光投影レンズ３４とワーク吸引テーブル３５との間に設置することも可能である。
【００１８】
第２露光部４０は、第１露光部３０と同一構成であり、第１光照射部４１と、アライメント機構付きの第２マスク４２と、第２マスク４２と幅広帯状ワーク１の露光位置とのアライメント時に幅広帯状ワーク１への露光を避けるための遮光板４３と、第２露光投影レンズ４４とから構成され、その下方には、上部にワーク吸引テーブル４５を有するワークステージ４６が装置架台２上に固定されている。なお、ワーク吸引テーブル４５の前後には昇降ローラ４７、４８が配設されている。
【００１９】
第１露光部３０と第２露光部４０の平面図は図２に示す通りであり、第１露光部３０は幅広帯状ワーク１の上半部の露光を行い、第２露光部は幅広帯状ワーク１の下半部の露光を行うことになる。
【００２０】
グリップフィード装置５０は、固定グリップ５１と移動グリップ５２とから構成され、移動グリップ５２は駆動モータ５３に接続した送り螺子５４で左右動する。
【００２１】
第２緊張装置６０は、第１緊張装置２０と同一構成であり、下部に排気ダクト６１を接続した吸引箱６２と該吸引箱６２の入口部に配設したガイドローラ６３、６４とから成り、前記排気ダクト６１にはブロア６５が設けられている。なお、第１緊張装置２０と同様に、図示していないが、吸引箱６２の側部には幅広帯状ワーク１の垂下部分の下端位置を一定の範囲にコントロールするための少なくとも２個の位置検出センサが設けられている。
【００２２】
ワーク巻取機７０には、巻き取りリール７１が取り付けられるように構成されている。
【００２３】
以上、露光部が２台の場合について説明したが、３台以上の露光部を設けることも可能であり、その場合も幅広帯状ワークの搬送方向下流側の露光部のワークステージは固定であるが、他の露光部のワークステージは幅広帯状ワークの搬送方向に移動自在とする。
【００２４】
上記幅広露光機において、幅広帯状ワークの搬送・露光処理は次のように行われる。
【００２５】
ワーク巻出機１０から巻き出された幅広帯状ワーク１は第１緊張装置２０で一定の弛みを持たせて、グリップフィード装置５０の移動グリップ５２により、図３に示す幅広帯状ワーク１の上半部（一列目）の露光パターン部（Ｎｏ．１）を第１露光部３０の下方部に至らしめ、昇降ローラ３８、３９を下降させてワーク吸引テーブル３５上に吸着固定させると共に、グリップフィード装置５０の固定グリップ５１で幅広帯状ワーク１を固定し、第１マスク３２の位置を前記露光パターン部（Ｎｏ．１）にアライメントし、第１光照射部３１で所定の露光を行う。
【００２６】
その露光が終わると、昇降ローラ３８、３９を上昇させてグリップフィード装置５０の固定グリップ５１を解放し、移動グリップ５２で幅広帯状ワーク１を１ピッチ搬送して露光パターン部（Ｎｏ．２）を第１露光部３０の下方部に至らしめ、昇降ローラ３８、３９を下降させてワーク吸引テーブル３５上に吸着固定させると共に、グリップフィード装置５０の固定グリップ５１で幅広帯状ワーク１を固定する。その際、ワーク巻取機７０は第２緊張装置６０で適当な弛みを持たせて幅広帯状ワーク１の必要量を巻き上げる。
【００２７】
次いで、第１マスク３２の位置を前記露光パターン部（Ｎｏ．２）にアライメントし、第１光照射部３１で所定の露光を行う。
このようにして、順次搬送と露光を行い、幅広帯状ワーク１の上半部（一列目）の露光パターン部（Ｎｏ．４）が第１露光部３０の下方部に至り、同時に、該ワーク１の下半部（二列目）の露光パターン部（Ｎｏ．４）が第２露光部４０の下方部に至ると、昇降ローラ３８、３９、及び昇降ローラ４７、４８を下降させてワーク吸引テーブル３５上、及びワーク吸引テーブル４５にそれぞれ吸着固定させると共に、グリップフィード装置５０の固定グリップ５１で幅広帯状ワーク１を固定し、第１マスク３２の位置を幅広帯状ワーク１の上半部（一列目）の露光パターン部（Ｎｏ．４）にアライメントし、又、第２マスク４２の位置を幅広帯状ワーク１の下半部（二列目）の露光パターン部（Ｎｏ．４）にアライメントし、第１光照射部３１、及び第２光照射部４１で所定の露光を行う。
【００２８】
【発明の効果】
本発明の幅広露光機は、幅広帯状ワークの搬送路に少なくとも２台の露光部を配設せしめ、これら露光部でもって前記幅広帯状ワークの搬送方向の少なくとも２列の露光領域のそれぞれを露光せしめるように構成しているので、幅広帯状ワークの複数列の露光領域のそれぞれを複数台の露光部で露光することができ、帯状ワークをその搬送方向と直交する方向へ移動する必要がないので、マスクと帯状ワークの露光位置との位置合わせにそれ程時間がかからず、生産のタクトタイムの縮小に寄与する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の幅広露光機の概要を示す正面図である。
【図２】本発明の幅広露光機の第１露光部及び第２露光部の概要を示す平面図である。
【図３】本発明の幅広露光機による幅広帯状ワークの露光パターンを示す平面図である。
【符号の説明】
１　幅広帯状ワーク
２　装置架台
２０　第１緊張装置
３０　第１露光部
４０　第２露光部
５０　グリップフィード機構
６０　第２緊張装置
７０　ワーク巻取機
【図１】
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【図２】
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【図３】
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