(57)【要約】【課題】比較的狭い可動範囲と高い位置制御精度を持つステージを使用して、光入出力用の光ファイバが接続されていない単体の平面回路型光学素子の特性を測定可能な装置を提供すること。【解決手段】光ファイバ３と直交する方向の長さが短縮されているベース部材２２及びアーム２３により形成された切り欠き部２１を有する出射系の光ファイバ保持機構５Ａを用いることにより、入射系の光ファイバと測定対象の光学素子の相対位置を調整する際に、該光ファイバ保持機構５Ａを固定的に保持する移動ステージを大きく動かすことなく、光学素子の出射端から放射される光が、光ファイバ保持機構５Ａの切り欠き部２１から撮像装置に達するようにする。【選択図】　　　　　　図３
2004101231.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象の平面回路型光学素子を保持する第１の移動ステージと、一端が光源に接続された第１の光ファイバと、一端が光強度測定器に接続された第２の光ファイバと、第１及び第２の光ファイバの他端をそれぞれ保持する第１及び第２の光ファイバ保持機構と、第１及び第２の光ファイバ保持機構をそれぞれ固定的に搭載する第２及び第３の移動ステージと、撮像装置とを具備し、光源からの光を第１の光ファイバを介して平面回路型光学素子に導き、当該平面回路型光学素子から出射する光を第２の光ファイバを介して光強度受光器に導いて当該平面回路型光学素子の特性を測定するのに先だって、第１の光ファイバの他端と平面回路型光学素子の入射端とを対向させ、第２の光ファイバの他端を平面回路型光学素子の出射端からずらした状態で当該平面回路型光学素子の出射端から出射する光を、当該出射端を含めて撮像装置により撮影し、その輝度が最大となるように第１又は第２もしくは両方の移動ステージの位置を調整する平面回路型光学素子の特性測定装置において、
第３の移動ステージを当該第３の移動ステージに対応する単一の移動機構の可動範囲内で変位させるだけで、第２の光ファイバの一端側に配置された撮像装置により、平面回路型光学素子の出射端から出射する光を当該出射端を含めて撮影可能とする切り欠き部を第２の光ファイバ保持機構に設けた
ことを特徴とする平面回路型光学素子の特性測定装置。
【請求項２】
測定対象の平面回路型光学素子を保持する第１の移動ステージと、一端が光源に接続された第１の光ファイバと、一端が光強度測定器に接続された第２の光ファイバと、第１及び第２の光ファイバの他端をそれぞれ保持する第１及び第２の光ファイバ保持機構と、第１及び第２の光ファイバ保持機構をそれぞれ固定的に搭載する第２及び第３の移動ステージと、撮像装置とを具備し、光源からの光を第１の光ファイバを介して平面回路型光学素子に導き、当該平面回路型光学素子から出射する光を第２の光ファイバを介して光強度受光器に導いて当該平面回路型光学素子の特性を測定するのに先だって、第１の光ファイバの他端と平面回路型光学素子の入射端とを対向させ、第２の光ファイバの他端を平面回路型光学素子の出射端からずらした状態で当該平面回路型光学素子の出射端から出射する光を、当該出射端を含めて撮像装置により撮影し、その輝度が最大となるように第１又は第２もしくは両方の移動ステージの位置を調整する平面回路型光学素子の特性測定装置において、
第３の移動ステージを当該第３の移動ステージに対応する単一の移動機構の可動範囲内で変位させるだけで、第２の光ファイバの一端側に配置された撮像装置により、平面回路型光学素子の出射端から出射する光を当該出射端を含めて撮影可能とする開口部を第２の光ファイバ保持機構に設けた
ことを特徴とする平面回路型光学素子の特性測定装置。
【請求項３】
測定対象の平面回路型光学素子を保持する第１の移動ステージと、一端が光源に接続された第１の光ファイバと、一端が光強度測定器に接続された第２の光ファイバと、第１及び第２の光ファイバの他端をそれぞれ保持する第１及び第２の光ファイバ保持機構と、第１及び第２の光ファイバ保持機構をそれぞれ固定的に搭載する第２及び第３の移動ステージと、撮像装置とを具備し、光源からの光を第１の光ファイバを介して平面回路型光学素子に導き、当該平面回路型光学素子から出射する光を第２の光ファイバを介して光強度受光器に導いて当該平面回路型光学素子の特性を測定するのに先だって、第１の光ファイバの他端と平面回路型光学素子の入射端とを対向させ、第２の光ファイバの他端を平面回路型光学素子の出射端からずらした状態で当該平面回路型光学素子の出射端から出射する光を、当該出射端を含めて撮像装置により撮影し、その輝度が最大となるように第１又は第２もしくは両方の移動ステージの位置を調整する平面回路型光学素子の特性測定装置において、
第３の移動ステージを当該第３の移動ステージに対応する水平方向の単一の移動機構の可動範囲内で変位させるだけで、第２の光ファイバの上方あるいは下方に配置された撮像装置により、平面回路型光学素子の出射端から出射する光を当該出射端を含めて撮影可能とする反射面を第２の光ファイバ保持機構に設けた
ことを特徴とする平面回路型光学素子の特性測定装置。
【請求項４】
測定対象の平面回路型光学素子を保持する第１の移動ステージと、一端が光源に接続された第１の光ファイバと、一端が光強度測定器に接続された第２の光ファイバと、第１及び第２の光ファイバの他端をそれぞれ保持する第１及び第２の光ファイバ保持機構と、第１及び第２の光ファイバ保持機構をそれぞれ固定的に搭載する第２及び第３の移動ステージと、撮像装置とを具備し、光源からの光を第１の光ファイバを介して平面回路型光学素子に導き、当該平面回路型光学素子から出射する光を第２の光ファイバを介して光強度受光器に導いて当該平面回路型光学素子の特性を測定するのに先だって、第１の光ファイバの他端と平面回路型光学素子の入射端とを対向させ、第２の光ファイバの他端を平面回路型光学素子の出射端からずらした状態で当該平面回路型光学素子の出射端から出射する光を、当該出射端を含めて撮像装置により撮影し、その輝度が最大となるように第１又は第２もしくは両方の移動ステージの位置を調整する平面回路型光学素子の特性測定装置において、
光ファイバを保持する部位が第３の移動ステージの可動範囲に比較してより狭いあるいは光ファイバの径に比較してより細い第２の光ファイバ保持機構を用いた
ことを特徴とする平面回路型光学素子の特性測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光入出力用の光ファイバが接続されていない単体の平面回路型光学素子の特性を測定するための装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の特性測定装置は、図１に示すように、測定対象の平面回路型光学素子（以下、単に光学素子と称す。）Ｓを保持する移動ステージ１と、一端が図示しない測定用光源に接続された光ファイバ２と、一端が図示しない光強度測定器に接続された光ファイバ３と、光ファイバ２，３の他端２ａ，３ａをそれぞれ保持する光ファイバ保持機構４，５と、各光ファイバ保持機構４，５をそれぞれ固定的に搭載する移動ステージ６，７とを具備している。
【０００３】
ここで、各移動ステージ１，６，７は、光ファイバの軸方向（光の進行方向）と該軸方向に直交する面内の２方向とに概ね対応する、互いに直交する３軸方向（それぞれｚ、ｘ、ｙ）に移動自在であり、その位置を各軸方向に移動させるための移動機構（図示せず）をそれぞれ備えているものとする。
【０００４】
また、図示しないが、光ファイバ保持機構５の後方（光ファイバ３の延長線方向）には、光ファイバ２からの光が光学素子Ｓに効率良く入射されるように、光学素子Ｓの入射端と光ファイバ２の他端２ａとの相対位置を粗調整するために、光ファイバ２あるいは光学素子Ｓの出射端から出射される光を、当該出射端付近を含めて直接観測するためのＣＣＤなどの撮像装置を具備しているものとする。
【０００５】
なお、図１は従来技術及び本発明に共通する装置全体のレイアウトを示すためのもので、光ファイバ保持機構は、図２以降の詳細なものに比べて簡略化して示してある。
【０００６】
このような特性測定装置を使用して平面回路型光学素子の光学特性を測定する一般的な測定手順について説明する。
【０００７】
測定対象の光学素子Ｓを移動ステージ１上に載せ、該移動ステージ１に設けられた真空吸着等による固定手段により固定する。また、光ファイバ２，３の他端２ａ，３ａをそれぞれ光ファイバ保持機構４，５に載せ、該光ファイバ保持機構４，５に設けられた真空吸着等による固定手段により固定する。
【０００８】
図２は従来の光ファイバ保持機構の一例を示すもので、ベース部材１１と、該ベース部材１１の一端に固定された支持部材１２と、支持部材１２に対してピン１３を中心として回転自在に取り付けられたアーム１４とからなる。
【０００９】
ベース部材１１は光ファイバを収納・固定するためのＶ溝１５と、該Ｖ溝１５内に収納された光ファイバを固定するための真空吸着用の孔１６とを備え、また、ベース部材１１及びアーム１４にはアーム１４をベース部材１１に固定するための磁石１７，１８が対向する部位に設けられている。
【００１０】
次に、光学素子Ｓが搭載されている移動ステージ１をｘ又はｙ方向に移動させて光学素子Ｓを光ファイバ２，３間から取り除くとともに、移動ステージ６，７の一方もしくは両方をｚ軸方向に移動させて互いに接近させ、入射系及び出射系の光ファイバ２及び３を直接対向させる。この際、光ファイバ２から光ファイバ３に入る光の強度を光強度測定器で測定しながら、移動ステージ６，７の一方もしくは両方をｘ，ｙ方向に移動させて光ファイバ２及び３の相対位置関係を調整する。
【００１１】
その後、再び移動ステージ６，７の一方もしくは両方をｚ軸方向に移動させ、光ファイバ２，３間の間隔を光の進行方向に平行な方向に離すとともに、移動ステージ７を光ファイバに垂直な方向（ｘ又はｙ方向）に移動させ、出射側の光ファイバ３を光ファイバ保持機構５及び移動ステージ７ごと一旦、退避させる。
【００１２】
次に、光学素子Ｓが搭載されている移動ステージ１をｘ又はｙ方向に移動させてその入射端が光ファイバ２に対向するように配置する。この時、光学素子Ｓの出射端からの出射光の強度が最大になるように、光学素子Ｓが搭載されている移動ステージ１の位置を微調整して、入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓとの相対位置を調整する。具体的には、前述した撮像装置を用いて光学素子Ｓの出射端からの出射光の輝度が最大となるように調整する。
【００１３】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓとの相対位置関係を調整した後、撮像装置が搭載されている移動ステージ（図示せず）を移動ステージ７と干渉しないように退避させる。その後、光ファイバ３が搭載されている移動ステージ７を光ファイバに垂直な方向（ｘ又はｙ方向）に移動させて、光学素子Ｓの出射端と光ファイバ３の他端３ａとを対向させ、光強度測定器の受光強度が最大になるように移動ステージ７の位置を微調整する。その後、光学素子Ｓの特性を、光源からの光の波長、強度などを変更したりして測定する。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前述した特性測定装置では、各移動ステージを長い距離に亘って移動させることが多く、広い可動範囲と高い位置制御精度の両立が重要となる。しかし、一般に長い距離を高精度に移動させる移動ステージ及びその移動機構は高価となる。そこで、測定に必要な可動範囲と測定精度を両立させるには、可動範囲は広いが精度の低い粗動（移動）機構を備えた移動ステージ（粗動ステージ）と、可動範囲は狭いが精度の高い微動（移動）機構を備えた移動ステージ（微動ステージ）を併せたステージを設計するのが一般的である。
【００１５】
高精度な微動ステージと精度の高くない粗動ステージとを組み合わせた構成の装置は、ステージ数が多くなるために高価になる。また、多くのステージを重ねるため、測定対象試料の位置が高くなり、振動等の影響を受け易くなる。また、移動距離を稼ぐような精度の低い粗動ステージを使用して、前述した測定手順に従って光学素子や光ファイバを長い距離に亘って移動させると、再度、入射系と出射系の光ファイバを対向させた際の相対位置が、最初に合わせた状態からずれてしまうという問題がある。その結果、一旦、退避した後の出射系の光ファイバの入射系の光ファイバに対する相対的な位置と向きを精度良く再現することができないという問題があった。
【００１６】
本発明の目的は、比較的狭い可動範囲と高い位置制御精度を持つステージを使用して、光入出力用の光ファイバが接続されていない単体の平面回路型光学素子の特性を測定可能な装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
既に光入出力用の光ファイバが接続されていない平面回路型光学素子の特性を測定する方法を述べた。課題を解決するためのポイントは、出射系の光ファイバの位置を大きく移動させずに、撮像装置を用いて平面回路型光学素子の出射端を観測できるようにすることである。
【００１８】
光ファイバ保持機構は、主として、Ｖ溝を有するベース（下部固定機構）と回転可動式のアーム（上部固定機構）とからなる。光ファイバはこの２つの固定機構に挟まれる。通常。これらの固定機構の中央部分で光ファイバを挟み込むように設計されているが、本発明ではこれらの固定機構の一部を切り欠いてその長さを短くすることで、出射系の光ファイバ保持機構を大きく移動させなくても撮像装置を使用して平面回路型光学素子の出射端を観測可能にする。
【００１９】
また、別の手段としては、上部及び下部固定機構の光ファイバの固定位置から水平な方向に大きな開口部を設けても実現できる。さらにまた、平面回路型光学素子の出射端から出射した光を反射する面を設け、反射された光を出射系の光ファイバあるいはその光ファイバ保持機構に遮られることなく撮像装置に導く構造とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明に係る平面回路型光学素子の特性測定装置は、図３あるいは図４に示すように、出射側の光ファイバを保持する光ファイバ保持機構、例えば５Ａあるいは５Ｂにおいて、光学素子の出射端を遮らないような構造、即ち切り欠き部２１あるいは開口部３１を設けたことを特徴とする。
【００２１】
測定対象の光学素子Ｓを保持する移動ステージ１、一端が光源に接続された光ファイバ２、一端が光強度測定器に接続された光ファイバ３、光ファイバ２の他端を保持する光ファイバ保持機構４、光ファイバ保持機構４，５Ａあるいは５Ｂをそれぞれ固定的に搭載する第２及び第３の移動ステージ６，７、撮像装置などは、従来の特性測定装置と同一のものを使用する。
【００２２】
出射側の光ファイバを保持する光ファイバ保持機構５Ａあるいは５Ｂのみを従来のものと構造を変えることにより、本発明を実現している。
【００２３】
本発明に係る特性測定装置を使用して平面回路型光学素子の光学特性を測定する手順について図３、図４とともに図１を用いて説明する。
【００２４】
まず、光学素子Ｓが搭載されている移動ステージ１を移動させ、入射系及び出射系の光ファイバ２及び３を直接対向させる。この際、光ファイバ２から光ファイバ３に入る光の強度を光強度測定器で測定しながら、光ファイバ２及び３の相対位置関係を調整する。
【００２５】
その後、光ファイバ２，３間の間隔を光の進行方向に平行な方向に離すとともに、光学素子Ｓが搭載されている移動ステージ１をその入射端が光ファイバ２に対向するように配置する。
【００２６】
次に、出射側の光ファイバ３を光ファイバ保持機構５Ａあるいは５Ｂ及び移動ステージ７ごと光ファイバに垂直な方向に移動させ、図３に示した切り欠き部２１あるいは図４に示した開口部３１のような、光ファイバ保持機構５Ａあるいは５Ｂの光学素子Ｓの出射端を遮らない部分を撮像装置で撮像可能にする。
【００２７】
光学素子Ｓの出射端からの出射光が光ファイバ保持機構５Ａあるいは５Ｂで遮られずに撮像装置に到達すると、撮像された像はモニタなどの表示装置で確認することができる。調整の際には、光学素子Ｓの出射端からの出射光の強度が最大となるように、即ちモニタ上での出射光の輝度が高くなるように、光学素子Ｓが搭載されている移動ステージ１の位置を微調整して、入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓとの相対位置を調整する。
【００２８】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓとの相対位置関係を調整し終えた後、出射系の光ファイバ３の他端３ａと光学素子Ｓの出射端とを対向させ、光強度測定器の受光強度が最大になるように移動ステージ７の位置を微調整する。
【００２９】
この時、入射系の光ファイバ２からの入射光は光学素子Ｓに対して精度良く位置調整されているので、出射系の光ファイバ３と光学素子Ｓとの相対位置合わせは、出射系の光ファイバ３を位置合わせするだけで、全ての調整が概ね完了する。ここで、概ね位置合わせできた状態というのは、光源からの光が光学素子Ｓを通過して光強度測定器に受光できた状態をいう。
【００３０】
撮像装置を使用して入射系を調整した後に、出射系の光ファイバを精度良く位置復帰させることができ、出射系の光ファイバと光学素子との相対位置を調整する際の調整軸数が少ないため、比較的容易に調整可能である。概ねの位置調整が済んだ後には、光強度測定器で測定される光強度が最大になるように、各軸を微調整する。
【００３１】
図３に示した切り欠き部２１あるいは図４に示した開口部３１の縦横の大きさは、透過してきた光が撮像装置に届いて測定できるのに足る大きさである必要がある。これは、撮像装置に取り付けられたレンズ系の光学設計に大きく依存している。不適切な場合には、光が撮像装置に達しても、光ファイバ保持機構のぼけた像が重なって調整できない場合がある。
【００３２】
【実施の形態１】
図３は本発明の出射系光ファイバ用の光ファイバ保持機構の第１の実施の形態を示すもので、図中、２２はベース部材、２３はアームであり、それぞれ切り欠き部２１を形成するよう、光ファイバと直交する方向の長さが短縮されている。なお、その他の構成は図２に示した従来例の場合と同様である。
【００３３】
このような光ファイバ保持機構、即ち５Ａを用いた特性測定装置による測定について、図３とともに図１を用いて説明する。
【００３４】
光ファイバ保持機構５Ａを、光ファイバ保持機構５の代わりに移動ステージ７に搭載・固定する。測定対象の光学素子Ｓを移動ステージ１に真空吸着などにより固定する。その後、先に述べた調整方法に従って、入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓとの相対位置を調整する段階まで各移動ステージの位置調整を行う。
【００３５】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整する際は、出射系の光ファイバ３を光ファイバ保持機構５Ａ及び移動ステージ７ごと光の進行方向に対して垂直方向に移動させ、光学素子Ｓの出射端から放射される光が、光ファイバ保持機構５Ａの切り欠き部２１から撮像装置に達するようにする。そこで、撮像装置で得た像をモニタで観測し、光学素子Ｓから出射する光の輝度が最大になるように入射系のファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整する。
【００３６】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整した後、出射系の光ファイバ３の位置を光の進行方向に対して垂直方向に移動させ、出射系の光ファイバ３が光学素子Ｓから出射する光を捉えるように、出射系の光ファイバ３の位置を粗調整する。出射光を捉えたら、その強度が最大になるように出射系の光ファイバ３の位置を微調整する。
【００３７】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整した後、粗調整までの間に移動させる移動ステージは、出射系の光ファイバ３に対応する移動ステージ７のみであり、しかも高精度に移動できるステージの可動範囲内である。そのため、出射系の光ファイバ３の位置を調整する際に、それ以前に入射系の光ファイバ２と微調整した状態から大きくずれることなく、出射系の光ファイバ３を対向させることができる。
【００３８】
【実施の形態２】
図４は本発明の出射系光ファイバ用の光ファイバ保持機構の第２の実施の形態を示すもので、図中、３２はベース部材、３３はアームであり、それぞれ開口部３１を形成するよう、光ファイバと平行な方向に溝が形成されている。なお、その他の構成は図２に示した従来例の場合と同様である。
【００３９】
このような光ファイバ保持機構、即ち５Ｂを用いた特性測定装置による測定について、図４とともに図１を用いて説明する。
【００４０】
光ファイバ保持機構５Ｂを、光ファイバ保持機構５の代わりに移動ステージ７に搭載・固定する。測定対象の光学素子Ｓを移動ステージ１に真空吸着などにより固定する。その後、先に述べた調整方法に従って、入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓとの相対位置を調整する段階まで各移動ステージの位置調整を行う。
【００４１】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整する際は、出射系の光ファイバ３を光ファイバ保持機構５Ｂ及び移動ステージ７ごと光の進行方向に対して垂直方向に移動させ、光学素子Ｓの出射端から放射される光が、光ファイバ保持機構５Ｂの開口部３１から撮像装置に達するようにする。そこで、撮像装置で得た像をモニタで観測し、光学素子Ｓから出射する光の輝度が最大になるように入射系のファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整する。
【００４２】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整した後、出射系の光ファイバ３の位置を光の進行方向に対して垂直方向に移動させ、出射系の光ファイバ３が光学素子Ｓから出射する光を捉えるように、出射系の光ファイバ３の位置を粗調整する。出射光を捉えたら、その強度が最大になるように出射系の光ファイバ３の位置を微調整する。
【００４３】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整した後、粗調整までの間に移動させる移動ステージは、出射系の光ファイバ３に対応する移動ステージ７のみであり、しかも高精度に移動できるステージの可動範囲内である。そのため、出射系の光ファイバ３の位置を調整する際に、それ以前に入射系の光ファイバ２と微調整した状態から大きくずれることなく、出射系の光ファイバ３を対向させることができる。
【００４４】
【実施の形態３】
図５乃至図７は本発明の出射系光ファイバ用の光ファイバ保持機構の第３の実施の形態を示すもので、ここでは平面回路型光学素子の出射端から出射した光を反射する面を設けた例を示す。
【００４５】
即ち、図中、４１は平面回路型光学素子の出射端と対向する側に反射面４２が設けられたアーム、４３はアーム４１に対応するベース部材である。ここで、ベース部材４３は光ファイバ３を保持する部位以外が低く形成され、前述した反射面４２はこの低くなった部位まで、正確にはアーム４１を閉じた状態で反射面４２の下端がベース部材４３に固定された光ファイバ３の中心を３ミリ程度越えた位置まで入り込むように形成されている。なお、その他の構成は図２に示した従来例の場合と同様である。
【００４６】
このような光ファイバ保持機構、即ち５Ｃを用いた特性測定装置による測定について、図５乃至図７とともに図１を用いて説明する。
【００４７】
光ファイバ保持機構５Ｃを、光ファイバ保持機構５の代わりに移動ステージ７に搭載・固定する。測定対象の光学素子Ｓを移動ステージ１に真空吸着などにより固定する。その後、先に述べた調整方法に従って、入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓとの相対位置を調整する段階まで各移動ステージの位置調整を行う。
【００４８】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整する際は、出射系の光ファイバ３を光ファイバ保持機構５Ｃ及び移動ステージ７ごと光の進行方向に対して垂直方向（特に図５中のｘ方向のみ）に移動させ、光学素子Ｓの出射端から放射される光が、図７に示すように光ファイバ保持機構５Ｃの反射面４２で反射されて撮像装置に達するようにする。そこで、撮像装置で得た像をモニタで観測し、光学素子Ｓから出射する光の輝度が最大になるように入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整する。
【００４９】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整した後、出射系の光ファイバ３の位置を光の進行方向に対して垂直方向に移動させ、出射系の光ファイバ３が光学素子Ｓから出射する光を捉えるように、出射系の光ファイバ３の位置を粗調整する。出射光を捉えたら、その強度が最大になるように出射系の光ファイバ３の位置を微調整する。
【００５０】
入射系の光ファイバ２と光学素子Ｓの相対位置を調整した後、粗調整までの間に移動させる移動ステージは、出射系の光ファイバ３に対応する移動ステージ７のみであり、しかも高精度に移動できるステージの可動範囲内である。そのため、出射系の光ファイバ３の位置を調整する際に、それ以前に入射系の光ファイバ２と微調整した状態から大きくずれることなく、出射系の光ファイバ３を対向させることができる。
【００５１】
なお、本実施の形態では、反射面４２の角度をほぼ４５°としたが、これは光学素子Ｓの出射端から放射される光の方向を、アーム４１のほぼ真上に配置された撮像装置に導くためであり、これに限定されるものではない。即ち、反射面４２の角度は、該反射面４２によって反射され、方向が変更された光（光学素子Ｓの出射端から放射される光）を撮影可能に撮像装置を配置可能であれば、任意の角度で良い。
【００５２】
前述した第１乃至第３の実施の形態における光ファイバ保持機構は、真空吸着による固定手段を有しながら、アームにより光ファイバを挟み込んで固定する機構となっているが、図８に示すように真空吸着により光ファイバを固定するだけの機構５Ｄ、あるいは図９に示すように機械的に光ファイバを挟み込んで固定するだけの機構５Ｅでも実現可能である。
【００５３】
これらの光ファイバ保持機構を採用するためには、その光ファイバを保持する部位が、該光ファイバ保持機構を固定的に搭載する移動ステージ７の可動範囲に比較してより狭くあるいは光ファイバの径に比較してより細く、光学素子から出射する光を遮ることなく、撮像装置で出射光を直接的に観測できるように光を通過させるために十分な空間を保持していることが必要である。
【００５４】
図８において、５１はベース部、５２はベース部５１と一体的に形成された移動ステージ７の可動範囲に比較してより狭い幅の支持部であり、Ｖ溝１５及び真空吸着用の孔１６を備えている。
【００５５】
また、図９において、６１はベース部、６２は光ファイバの挟持機構であり、光ファイバの径に比較してより細い基部６２ａを介してベース部６１に取り付けられている。
【００５６】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、測定対象の平面回路型光学素子の出射端から出射する光の強度が最大になるように入射系の光ファイバと平面回路型光学素子との相対位置を調整した後に、出射系の光ファイバの位置を高精度に調整できるが可動範囲の狭いステージを使用して出射系の光ファイバと平面回路型光学素子の位置を高精度に再調整可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】特性測定装置全体のレイアウトを示す概要図
【図２】従来の光ファイバ保持機構の一例を示す側面図
【図３】本発明の出射系光ファイバ用の光ファイバ保持機構の第１の実施の形態を示す側面図
【図４】本発明の出射系光ファイバ用の光ファイバ保持機構の第２の実施の形態を示す側面図
【図５】本発明の出射系光ファイバ用の光ファイバ保持機構の第３の実施の形態を示す平面図
【図６】本発明の出射系光ファイバ用の光ファイバ保持機構の第３の実施の形態を示す側面図
【図７】第３の実施の形態において入射系の光ファイバと光学素子との相対位置を調整する際のようすを示す説明図
【図８】本発明の出射系光ファイバ用の光ファイバ保持機構の他の実施の形態を示す側面図
【図９】本発明の出射系光ファイバ用の光ファイバ保持機構のさらに他の実施の形態を示す側面図
【符号の説明】
１，６，７：移動ステージ、２：入射系の光ファイバ、３：出射系の光ファイバ、４：入射系の光ファイバ保持機構、５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ，５Ｅ：出射系の光ファイバ保持機構、２１：切り欠き部、２２，３２，４３：ベース部材、２３，３３，４１：アーム、３１：開口部、４２：反射面、５１，６１：ベース部、５２：支持部、６２：挟持機構、Ｓ：平面回路型光学素子。
【図１】
2004101231.tif 000003
【図２】
2004101231.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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