(57)【要約】【課題】基板における余分な反射光の発生を抑えて、コントラストの高い表示を実現する。【解決手段】電界の変化に応じて光学的特性が変化する液晶１３と、観察側Ａに配置されていてドット状電極１９ａ及び２端子型アクティブ素子２６が形成された観察側基板１１ａと、観察側基板１１ａと協働して液晶１３を挟むと共に対向電極１９ｂが形成された対向基板１１ｂと、観察側基板１１ａに設けられていて表示ドット２７以外の領域を遮光するブラックマスク１７とを有する液晶装置、すなわち電気光学装置である。外部から観察側基板１１ａへ入射した外部光であってブラックマスク１７に達した光は、そのブラックマスク１７に吸収されてその部分で反射することがない。このように反射を抑制することにより、観察側Ａに表示される像のコントラストを高めることができる。【選択図】　　　　図２
2004101745.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電界の変化に応じて光学的特性が変化する電気光学物質と、
観察側に配置されていてドット状電極及び２端子型アクティブ素子が形成された観察側基板と、
該観察側基板と協働して前記電気光学物質を挟むと共に対向電極が形成された対向基板と、
前記観察側基板に設けられていて表示ドットを規定する遮光部材と
を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１において、前記対向基板に設けられたカラーフィルタを有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、前記遮光部材は、少なくとも前記アクティブ素子と平面的に重なるように形成されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３の少なくともいずれか１つにおいて、前記電気光学物質は液晶であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４の少なくともいずれか１つに記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御回路とを有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶等といった電気光学物質を用いて光を変調して所期の機能を得る電気光学装置及びその電気光学装置を用いて構成される電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話機、携帯情報端末機等といった電子機器において、液晶装置等といった電気光学装置が用いられている。例えば、各種の情報を表示するための表示装置として用いられている。ここで、電気光学装置として液晶装置を考えれば、この液晶装置は、従来、例えば図１１に示すような構造を有する。
【０００３】
図１１において、素子基板２０１と対向基板２０２とによって液晶２０３が挟持されている。図では、素子基板２０１と対向基板２０２との間隔を大きく開けて描いてあるが、実際には、５μｍ程度の非常に狭い間隔に設定される。この間隔は、通常、セルギャップと呼ばれている。素子基板２０２の液晶側表面には、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｄｉｏｄｅ）素子等といったアクティブ素子及び画素電極の対が複数個、ドットマトリクス状に設けられる。
【０００４】
また、対向基板２０２の液晶側表面には、反射膜２０４が形成され、その上にカラーフィルタ２０６が形成される。カラーフィルタ２０６は、例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色の各色色絵素を所定のパターンで配列することによって形成される。そして、それらの色絵素の間にはブラックマスク２０７が形成される。
【０００５】
太陽光、室内光等といった外部光Ｒが観察側の基板である素子基板２０１の外側から内側へ入ると、その光は液晶２０３の層を通過して反射膜２０４で反射して、再び液晶２０３の層を通過して素子基板２０１へ達する。液晶分子は、その配向が表示ドットごとに制御され、光Ｒは液晶分子の配向に従って変調され、変調された光が偏光板２０８を通過するか、あるいは通過しないかによって観察側基板２０１の外側に文字、数字、図形等といった像が観察される（例えば特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００１−２１５４９２号公報（第４頁、第２図）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の液晶装置においては、図１２に示すように、外部光Ｒが液晶２０３に入射するとき、観察側基板２０１の外側表面Ｓ１及び内側表面Ｓ２の２ヶ所から反射光が発生し、観察側に表示される像のコントラストがこれらの反射光のために低下するおそれがあった。
【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、基板における余分な反射光の発生を抑えて、コントラストの高い表示を実現できる電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
（１）上記の目的を達成するため、本発明に係る電気光学装置は、電界の変化に応じて光学的特性が変化する電気光学物質と、観察側に配置されていてドット状電極及び２端子型アクティブ素子が形成された観察側基板と、該観察側基板と協働して前記電気光学物質を挟むと共に対向電極が形成された対向基板と、前記観察側基板に設けられていて表示ドットを規定する遮光部材とを有することを特徴とする。
【００１０】
この電気光学装置によれば、図１３に示すように、観察側基板９１に遮光部材、例えばブラックマスク９７を設けたので、当該ブラックマスク９７の所に入射した光は外側表面Ｓ１で反射するものの、内側表面Ｓ２ではブラックマスク９７に吸収されて反射することがない。このように余分な反射光を抑えることにより、コントラストの高い表示を実現できる。
【００１１】
（２）　上記構成の電気光学装置においては、前記対向基板上にカラーフィルタを設けることができる。こうすれば、高いコントラストのカラー表示を得ることができる。
【００１２】
（３）　また、上記構成の電気光学装置において、前記遮光部材は少なくとも前記アクティブ素子と平面的に重なるように形成することができる。こうすれば、アクティブ素子が形成された領域から光が漏れ出ることを防止できるので、より一層コントラストの高い表示を実現できる。
【００１３】
（４）　また、上記構成の電気光学装置において、前記電気光学物質としては液晶を選択することができる。こうして形成された電気光学装置は、液晶装置である。この液晶装置では、液晶層に光を供給すると共に、液晶層内の液晶分子の配向を制御することによって文字等といった像を表示できる。
【００１４】
なお、本発明を適用できる電気光学装置としては、液晶装置以外に、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ　Ｄｉｓｐｌａｙ／プラズマディスプレイ）装置、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ　Ｅｍｉｓｓｉｏｎ　Ｄｉｓｐｌａｙ／電気泳動ディスプレイ）装置等といった各種の装置が考えられる。
【００１５】
（５）　次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御回路とを有することを特徴とする。この電子機器によれば、それに用いる電気光学装置において高いコントラストの表示を実現できるので、電子機器の動作状態等を鮮明に表示できる。このような電子機器としては、携帯電話機、携帯情報端末機、コンピュータ、その他種々の機器が考えられる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
（電気光学装置の実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置を液晶装置を例に挙げて説明する。なお、これから説明する液晶装置は、ＴＦＤ素子をスイッチング素子、すなわちアクティブ素子として使用する半透過反射型の液晶装置である。また、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
【００１７】
図１は、本発明に係る液晶装置の一実施形態を示している。ここに示す液晶装置１は、支持枠２によって支持された照明装置３と、同じく支持枠２によって支持された液晶パネル４とを有する。なお、本明細書で液晶装置というのは、液晶層を有するパネル構造体のことであり、従って、液晶パネル４それ自身も１つの液晶装置である。支持枠２は、例えば、プラスチックを材料として射出成形、その他の成形加工によって形成できる。
【００１８】
照明装置３は、光源６と、導光体７と、導光体７の観察側Ａと反対側の表面に設けられた光反射膜８と、導光体７の観察側Ａの表面に設けられた光拡散膜９とを有する。光源６は、例えば、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）を発光要素とする点状光源であっても良く、あるいは、冷陰極管を発光要素とする線状光源であっても良い。光源６を点状光源によって構成する場合には、その光源６は図１の紙面垂直方向に複数個、適当な間隔をおいて設けられる。
【００１９】
導光体７は、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ガラス等によって矢印Ａ方向から見て長方形状又は正方形状に形成され、光源６に対向する側面７ａが受光面であり、そして観察側Ａの平面７ｂが光出射面である。この光出射面７ｂに拡散膜９を設けるのは既述の通りであるが、この光出射面７ｂには、必要に応じて、拡散膜９以外の光学シートを設けることもできる。
【００２０】
光源６から出た光は、受光面７ａを通して導光体７の内部へ取り込まれた後、その導光体７の内部を伝播する間に反射膜８で反射して、あるいは反射膜８で反射することなく直接に、光出射面７ｂを通して面状の光として外部へ出射する。この出射光は、拡散膜９によって平面内で均等に拡散された後、液晶パネル４へ供給される。
【００２１】
液晶パネル４は、観察側に位置する観察側基板１１ａと、それに対向する対向基板１１ｂとを有する。観察側基板１１ａは、矢印Ａ方向から見て正方形又は長方形の基材１６ａを有する。また、対向基板１１ｂは、矢印Ａ方向から見て正方形又は長方形の基材１６ｂを有する。これらの基材１６ａ，１６ｂは、例えば、透明ガラス、透明プラスチック等によって形成される。
【００２２】
観察側基板１１ａ及び対向基板１１ｂは、それらの基板の周辺に設けられた矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形の枠状のシール材１２によって、所定の間隙、いわゆるセルギャップを形成するように互いに貼り合わされる。そして、そのセルギャップ内に液晶１３、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶、が封入される。封入された液晶１３は、矢印Ａ方向から見て正方形又は長方形であって厚さが均一な液晶層を形成する。
【００２３】
観察側基板１１ａの基材１６ａの外側表面には偏光板１４ａが、例えば貼着によって装着される。一方、対向基板１１ｂの基材１６ｂの外側表面には偏光板１４ｂが、例えば貼着によって装着されている。これらの偏光板１４ａ，１４ｂは、それらの偏光透過軸が互いに所定の角度だけずれるように設けられる。
【００２４】
液晶パネル４において矢印Ｂで示す部分を拡大して示すと図２の通りである。図２において、観察側基板１１ａの基材１６ａの液晶側表面には、遮光部材としてのブラックマスク１７が設けられ、その上にオーバーコート層１８が設けられ、その上にドット状電極１９ａ及びスイッチング素子としてのＴＦＤ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｄｉｏｄｅ）素子２６が設けられ、さらにその上に配向膜２１ａが設けられる。
【００２５】
一方、対向基板１１ｂの基材１６ｂの液晶側表面には、反射膜２２が設けられ、その上にカラーフィルタ２３が設けられ、その上にオーバーコート層２４が設けられ、その上に対向電極１９ｂが設けられ、さらにその上に配向膜２１ｂが設けられる。符号２９は、観察側基板１１ａと対向基板１１ｂとの間のセルギャップを維持するために、それらの基板を貼り合せる前に、それらの基板のいずれか一方の表面に分散されるスペーサを示している。
【００２６】
図３は、図２の構造を矢印Ｄ方向から見た場合の平面構造を示している。図２は、図３における矢印Ｅ−Ｅ線に従った断面構造に相当する。なお、図３では、主に、ドット状電極１９ａ及びＴＦＤ素子２６に関する構造を示しており、その他の要素は図示を省略している。ドット状電極１９ａに対向する対向電極１９ｂは、図３に鎖線で示すように、直線状に延びる電極であって、この直線状電極が複数本、互いに間隔を開けて平行に並べられることにより、全体としてストライプ状に形成されている。対向電極１９ｂが延びる方向Ｙは、図１及び図２における紙面垂直方向である。
【００２７】
図３において、ドット状電極１９ａと対向電極１９ｂとが重なるドット領域２７は、縦複数列及び横複数列のマトリクス状に配列し、個々のドット領域２７が表示を行うための最小の単位である表示ドットを構成する。遮光部材としてのブラックマスク１７は、これらの表示ドットを規定する。
【００２８】
図２において、観察側基板１１ａに設けられたブラックマスク１７は、表示ドット２７以外の領域を埋めるように形成される。このブラックマスク１７は、遮光性を有する材料、例えばクロム（Ｃｒ）を材料として、例えばフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって形成される。また、オーバーコート層１８は、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等といった材料を塗布及び焼成することによって形成され、ブラックマスク１７が形成された基材の表面を平坦化する。
【００２９】
ドット状電極１９ａは、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）等といった金属酸化物を材料として、例えばフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって形成される。また、配向膜２１ａは、例えばポリイミドを塗布及び焼成することによって形成される。この配向膜２１ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、観察側基板１１ａの近傍における液晶１３内の液晶分子の配向が決められる。
【００３０】
対向基板１１ｂに設けられた反射膜２２は、光反射性の材料、例えばアルミニウム（Ａｌ）を材料として、例えばフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって形成される。このとき、反射膜２２における表示ドット２７に対応する領域内には、光を通過させるための開口２８が形成される。この開口２８の形状及び面積は、透過型の表示時における表示が良好に行われるような形状及び面積に設定される。反射膜２２に開口２８を設けることにより、半透過反射機能、すなわち一部の光を反射し、他の一部の光を透過するという機能が実現される。なお、半透過反射機能は、反射膜２２に開口２８を設けることなく、反射膜２２の厚さを光を透過できる程度に薄くすることによっても実現できる。
【００３１】
反射膜２２の上に形成されるカラーフィルタ２３は、３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色色絵素を表示ドット２７に合わせて所定のパターンで配列することによって形成される。このカラーフィルタ２３は種々の方法によって形成できるが、例えば顔料分散法を用いる場合には、微小粒径の顔料をフォトレジスト内に分散させたものを基材上に塗布し、所定パターンで露光し、さらに現像するという一連の処理を、各色ごとに繰り返すことによって形成できる。なお、顔料分散法に代えてインクジェット法を用いることもできる。
【００３２】
カラーフィルタ２３を用いてカラー表示を行う場合、３色の色絵素に対応する３つの表示ドット２７によって１つの画素が形成される。なお、カラーフィルタ２３を用いることなく白黒表示を行う場合は、１つの表示ドットによって１つの画素が形成される。
【００３３】
オーバーコート層２４は、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等といった材料を塗布及び焼成することによって形成され、カラーフィルタ２３が形成された後の基材１６ｂの表面を平坦化する。また、対向電極１９ｂは、例えばＩＴＯ等といった金属酸化物を材料として、例えばフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって形成される。また、配向膜２１ｂは、例えばポリイミドを塗布及び焼成することによって形成される。この配向膜２１ｂには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、対向基板１１ｂの近傍における液晶１３内の液晶分子の配向が決められる。
【００３４】
図３において、ＴＦＤ素子２６は、ライン配線３１とドット状電極１９ａとの間に形成される。ライン配線３１は、直線状の配線を複数本、互いに間隔を開けて平行に並べることによって全体としてストライプ状に形成されている。各ライン配線３１が延びる方向Ｘは対向電極１９ｂと直交する方向に設定される。ライン配線３１が延びる方向Ｘは、図１及び図２における紙面左右方向に相当する。個々のＴＦＤ素子２６は、図４に示すように、第１ＴＦＤ要素３２ａと第２ＴＦＤ要素３２ｂとを直列に接続することによって形成されている。このＴＦＤ素子２６は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、ＴａＷ（タンタルタングステン）によってライン配線３１の第１層３３ａ及びＴＦＤ素子２６の第１金属３４を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線３１の第２層３３ｂ及びＴＦＤ素子２６の絶縁膜３６を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線３１の第３層３３ｃ及びＴＦＤ素子２６の第２金属３７を形成する。
【００３５】
第１ＴＦＤ要素３２ａの第２金属３７はライン配線３１の第３層３３ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素３２ｂの第２金属３７の先端に重なるように、ドット状電極１９ａが形成される。ライン配線３１からドット状電極１９ａへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に従って、第１ＴＦＤ要素３２ａでは第２電極３７→絶縁膜３６→第１金属３４の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素３２ｂでは第１金属３４→絶縁膜３６→第２金属３７の順に電気信号が流れる。
【００３６】
つまり、第１ＴＦＤ要素３２ａと第２ＴＦＤ要素３２ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Ｂａｃｋ−ｔｏ−Ｂａｃｋ）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。
【００３７】
図１において、観察側基板１１ａの基材１６ａの１辺部は対向基板１１ｂの基材１６ｂの対応する１辺部よりも長く形成されている。このため、観察側基板１１ａは対向基板１１ｂの外側へ張り出す張出し部３８を有する。図５は、図１における矢印Ｃで示す周辺部分の断面構造を拡大して示している。図５において、観察側基板１１ａの張出し部３８の表面には配線３９が形成され、この配線３９は液晶パネル４の内部のライン配線３１から延びている。
【００３８】
また、シール材１２の内部には球形又は円柱形の導通材４１が多数個、分散されている。図５ではシール材１２の断面内に１つの導通材４１が描かれているが、実際には、シール材１２の幅は導通材４１の直径よりも、かなり大きくなっており、従って、シール材１２の断面内には複数の導通材４１が含まれる。対向基板１１ｂの基材１６ｂ上には対向電極１９ｂから延びる配線４２が形成されており、この配線４２が導通材４１を介して観察側基板１１ａ内の配線３９に導通している。これにより、対向基板１１ｂ側の対向電極１９ｂが導通材４１を介して、観察側基板１１ａの張出し部３８に形成した配線３９につながっている。
【００３９】
つまり、張出し部３８には、観察側基板１１ａ側のライン配線３１につながる配線３９と、対向基板１１ｂ側の対向電極１９ｂにつながる配線３９とが形成されている。これらの配線３９は、図示しない駆動回路に接続され、この駆動回路から出力されるデータ信号が配線３９を介してライン配線３１又は対向電極１９ｂの一方へ供給される。また、上記の駆動回路から出力される走査信号が配線３９を介してライン配線３１又は対向電極１９ｂの他方へ供給される。
【００４０】
上記の駆動回路は、ＩＣチップの形で基板１１ａの張出し部３８上に実装することができる。この実装方法は、ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ　Ｏｎ　Ｇｌａｓｓ）方式の実装方法である。また、上記の駆動回路は、ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ　Ｐｒｉｎｔｅｄ　Ｃｉｒｃｕｉｔ：可撓性基板）を介して張出し部３８に接続することもできる。
【００４１】
図１において、液晶装置１が明るい室外や明るい室内に置かれる場合は、太陽光や室内光等といった外部光を用いて、反射型の表示が行われる。一方、液晶装置１が暗い室外や暗い室内に置かれる場合は、照明装置３をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。このように、反射型表示及び透過型表示のいずれかを希望に応じて実行できる方式の液晶装置が、半透過反射型の液晶装置である。
【００４２】
反射型の表示を行う場合、図２において、観察側Ａの方向から観察側基板１１ａを通して液晶パネル４内へ入射した外部光Ｒは、液晶１３の層を通過して対向基板１１ｂ内へ入った後、反射膜２２で反射して再び液晶１３の層へ供給される。他方、透過型の表示を行う場合、図１の照明装置３の導光体７の出射面７ｂから出た面状の光Ｓは、反射膜２２に形成した開口２８を通して液晶１３の層へ供給される。
【００４３】
以上のようにして液晶１３の層へ光が供給される間、観察側のドット状電極１９ａと対向電極１９ｂとの間には、走査信号及びデータ信号によって特定される表示ドット２７に所定の電圧が印加され、これにより、液晶１３内の液晶分子の配向が表示ドット２７ごとに制御され、この結果、液晶１３の層に供給された光が表示ドット２７ごとに変調される。この変調された光が、図１の観察側の偏光板１４ａを通過するか、通過しないかによって、観察側Ａに文字、数字、図形等といった像が表示される。
【００４４】
本実施形態では、図２に示したように、外部光Ｒが入射する側にある観察側基板１１ａにブラックマスク１７を設けたので、このブラックマスク１７に対応する部分に入射した外部光Ｒは液晶パネル４の内部へ進入することがなくなり、それ故、図１３に示すように観察側基板９１で発生する反射光は観察側基板９１の表面部分Ｓ１だけであって、図１２に示したように観察側基板２０１の表裏両面Ｓ１及びＳ２で反射光が発生するという事態は回避される。このため、図１の観察側Ａにコントラストの高い鮮明な像を表示することができる。
【００４５】
（変形例）
上記実施形態では、図２に示すように、対向基板１１ｂにカラーフィルタ２３を設けたが、カラーフィルタ２３は必ずしも設けなくても良い。カラーフィルタ２３を設けない場合は、液晶装置１は白黒の表示を行う。
【００４６】
また、上記実施形態では、反射膜２２を用いた半透過反射型の表示を行ったが、反射膜２２に開口２８を形成しなければ、反射膜２２は透過機能を持たない単なる反射膜となり、この場合には、液晶装置１は反射型の表示のみを行う液晶装置となる。
【００４７】
また、上記実施形態では、ＴＦＤ素子２６をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス型の液晶装置に本発明を適用したが、これに代えて、ＴＦＤ素子２６以外の２端子型素子を用いる液晶装置にも本発明を適用できる。また、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子等といった３端子型素子をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス型の液晶装置にも本発明を適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス型の液晶装置にも本発明を適用できる。
【００４８】
また、本発明は、液晶装置に限られず、液晶等といった電気光学物質を一対の基板によって挟持する構造の他の任意の電気光学装置、例えばＰＤＰ、ＦＥＤ等に対しても適用できる。
【００４９】
（電子機器の実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
【００５０】
図６は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１０１、表示情報処理回路１０２、電源回路１０３、タイミングジェネレータ１０４及び液晶装置１０５によって構成される。そして、液晶装置１０５は液晶パネル１０７及び駆動回路１０６を有する。
【００５１】
表示情報出力源１０１は、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１０４により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０２に供給する。
【００５２】
次に、表示情報処理回路１０２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０６へ供給する。ここで、駆動回路１０６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０３は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。
【００５３】
液晶装置１０５は、例えば、図１に示した液晶装置１と同様に構成できる。液晶装置１は、コントラストの高い鮮明な表示を行うことができるので、これを用いた本電子機器においても、その表示部においてコントラストの高い鮮明な表示を行うことができる。
【００５４】
図７は、本発明に係る電子機器の他の実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示している。ここに示すパーソナルコンピュータ１１０は、キーボード１１２を備えた本体部１１４と、液晶表示ユニット１１６を備えたカバー部１１８とから構成されている。この液晶表示ユニット１１６を、図１に示した液晶装置１によって構成すれば、その表示ユニット１１６においてコントラストの高い鮮明な表示を行うことができる。
【００５５】
図８は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機１２０は、ヒンジ１２２を中心として折り畳み可能な第１ボディ１２１ａと第２ボディ１２１ｂとを有する。そして、第１ボディ１２１ａには、液晶表示装置１２３と、受話口１２４と、アンテナ１２６とが設けられる。また、第２ボディ１２１ｂには、複数の操作ボタン１２７と、送話口１２８とが設けられる。液晶表示装置１２３を、図１に示した液晶装置１によって構成すれば、その液晶表示装置１２３においてコントラストの高い鮮明な表示を行うことができる。
【００５６】
図９は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態である腕時計型電子機器を示している。ここに示す腕時計型電子機器１４０は、時計本体１４１に支持された表示部としての液晶表示装置１４２を有する。液晶表示装置１４２は、時計本体１４１の内部に設けた制御回路１４３によって制御されて、時刻、日付等を表示部１４２に情報として表示する。液晶表示装置１４２を、図１に示した液晶装置１によって構成すれば、その液晶表示装置１４２においてコントラストの高い鮮明な表示を行うことができる。
【００５７】
図１０は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔ：パーソナル・デジタル・アシスタント：携帯型情報端末装置）を示している。ここに示すＰＤＡ１５０は、接触方式、いわゆるタッチパネル方式の入力装置１５１をその正面パネル上に有する。この入力装置１５１は透明であり、その下には表示部としての液晶表示装置１５２が配置されている。使用者は、付属のペン型入力具１５３を入力装置１５１の入力面に接触させることにより、液晶表示装置１５２に表示されたボタン、その他の表示を選択したり、文字、図形等を描いたりして、必要な情報を入力する。この入力情報に対してＰＤＡ１５０内のコンピュータによって所定の演算が行われ、その演算の結果が液晶表示装置１５２に表示される。液晶表示装置１５２として、図１に示した液晶装置１を用いれば、その液晶表示装置１５２においてコントラストの高い鮮明な表示を行うことができる。
【００５８】
（変形例）
なお、電子機器としては、以上に説明したパーソナルコンピュータや、携帯電話機や、腕時計型電子機器や、ＰＤＡの他にも、液晶テレビや、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダや、カーナビゲーション装置や、ページャや、電子手帳や、電卓や、ワードプロセッサや、ワークステーションや、テレビ電話機や、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。
【００５９】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【００６０】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、観察側基板にブラックマスクを設けたので、当該ブラックマスクの所に入射した光は観察側基板の外側表面で反射するものの、当該観察側基板の内側表面ではブラックマスクに吸収されて反射することがない。このように余分な反射光を抑えることにより、コントラストの高い表示を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶装置の断面図である。
【図２】図１における矢印Ｂで示す部分の拡大図である。
【図３】図２におけるドット状電極の近傍の平面構造を示す平面図である。
【図４】図３におけるＴＦＤ素子の近傍を示す斜視図である。
【図５】図１における矢印Ｃで示す部分の拡大図である。
【図６】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図７】本発明に係る電子機器の他の実施形態であるパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図８】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。
【図９】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態である腕時計型電子機器を示す斜視図である。
【図１０】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるＰＤＡを示す斜視図である。
【図１１】従来の電気光学装置の一例を示す斜視図である。
【図１２】図１１の従来装置における光の反射状態を模式的に示す図である。
【図１３】本発明に係る電気光学装置における光の反射状態を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１：液晶装置（電気光学装置）
２：支持枠
３：照明装置
４：液晶パネル（電気光学装置）
１１ａ：観察側基板
１１ｂ：対向基板
１３：液晶（電気光学物質）
１６ａ，１６ｂ：基材
１７：ブラックマスク
１９ａ：ドット状電極
１９ｂ：対向電極
２３：カラーフィルタ
２６：ＴＦＤ素子（アクティブ素子）
２７：表示ドット
３９：配線
１１０：パーソナルコンピュータ（電子機器）
１２０：携帯電話機（電子機器）
１４０：腕時計型電子機器（電子機器）
１５０：ＰＤＡ（電子機器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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