(57)【要約】【課題】環境に優しく、工程数が少なく、コスト等の点で効率の良い製造方法の提供。【解決手段】４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩ）をジアゾ化後、熱分解して４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩＩ）を得た後、（ＩＩＩ）の水酸基をアルキル化することを特徴とする４−アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体（Ｉ）の製造方法。【化１】2004323368.tif 000006［式中、Ｒ１は置換又は無置換のアルキル基を表す。Ｒ２はベンゼン環に置換可能な原子又は基を表す。ｎは０〜４の整数を表す。］【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩ）をジアゾ化後、熱分解して４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩＩ）を得た後、（ＩＩＩ）の水酸基をアルキル化することを特徴とする４−アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体（Ｉ）の製造方法。
【化１】
2004323368.tif 000005
［式中、Ｒ１は置換又は無置換のアルキル基を表す。Ｒ２はベンゼン環に置換可能な原子又は基を表す。ｎは０〜４の整数を表す。］
【請求項２】
式中、Ｒ２が水素原子であることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩ）のジアゾ化を希硫酸中で行なうことを特徴とする請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩＩ）の水酸基のアルキル化を、アミド系溶媒中で行なうことを特徴とする請求項１、２又は３記載の製造方法。
【請求項５】
４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩＩ）の水酸基のアルキル化に際して、塩基としてアルカリ金属炭酸塩を使用することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項記載の製造方法。
【請求項６】
アルカリ金属炭酸塩が炭酸ナトリウムである請求項５記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感熱記録材料用増感剤及び医農薬合成中間体として有用な４−アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
４−アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体は例えば、感熱記録材料用増感剤、医農薬合成中間体として有用である（例えば、特許文献１，２参照）。
【０００３】
この化合物の製造方法としては、フェノールをアルキル化後、クロロ硫酸でスルホニルクロリドへ変換した後、アンモニア水を作用させてアミド化して得る方法が知られている（非特許文献１参照）。
しかしながら、この方法ではクロロ硫酸を作用させる際、選択的に収率良く目的物を得るためには、低温で反応を行なう必要があり、工業的に大量に製造する場合は特殊な冷却装置を有する反応設備が必要となる。また、反応性の高い酸クロリドと反応させないという理由のため、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンのような環境に有害なハロゲン系溶剤中で反応を行なう方法が一般的であり、環境上好ましくない。更に、アルキル基を最初の工程で導入しているため、アルキル基の異なる多品種の化合物を製造する場合は、工程数、コスト等の点で効率の悪い製造方法である。
【０００４】
また、フェノールスルホン酸誘導体又はその塩を塩化チオニル等でスルホニルクロリドへ変換した後、アンモニア水を作用させても４―アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体の製造原料である４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体は主生成物として得られない。
更に、４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミドの水酸基をブロモクロロアルカンを用いて、アセトン中でアルキル化する方法が知られているが（非特許文献２参照）、収率が満足すべきものではない。またＮ−アルキル化が進行するという問題点もあり、カラムクロマトグラフィーによる単離操作を必要とするため工業的に大量に製造するには適した方法ではない。
【０００５】
【非特許文献１】
Ａｕｓｔｒａｌｉａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ３１（１２），  ２６６９（１９７８）
【非特許文献２】
Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ３２（１），  １０５（１９８９）
【特許文献１】
特開平９−３９３８９号公報
【特許文献２】
特開平９−７７７３７号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明は、このような従来の４−アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体の製造方法の欠点を克服し、環境に有害なハロゲン系溶剤を使用せず、温和な反応条件下での製造を可能にする方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
斯かる実状に鑑み、本発明者は鋭意研究を行った結果、下記の製造方法が、上記目的を達成する有利な方法であることを見出し本発明を完成した。
すなわち、本発明は、次の方法を提供するものである。
【０００８】
＜１＞４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩ）をジアゾ化後、熱分解して４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩＩ）を得た後、（ＩＩＩ）の水酸基をアルキル化することを特徴とする４−アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体（Ｉ）の製造方法。
【０００９】
【化２】
2004323368.tif 000002
【００１０】
［式中、Ｒ１は置換又は無置換のアルキル基を表す。Ｒ２はベンゼン環に置換可能な原子又は基を表す。ｎは０〜４の整数を表す。］
【００１１】
＜２＞式中、Ｒ２が水素原子であることを特徴とする＜１＞記載の製造方法。
＜３＞４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩ）のジアゾ化を希硫酸中で行なうことを特徴とする＜１＞又は＜２＞記載の製造方法。
＜４＞４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩＩ）の水酸基のアルキル化を、アミド系溶媒中で行なうことを特徴とする＜１＞、＜２＞又は＜３＞記載の製造方法。
＜５＞４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩＩ）の水酸基のアルキル化に際して、塩基としてアルカリ金属炭酸塩を使用することを特徴とする＜１＞〜＜４＞の何れか１項記載の製造方法。
＜６＞アルカリ金属炭酸塩が炭酸ナトリウムである＜５＞記載の製造方法。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の４−アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体（Ｉ）の製造方法は、４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩ）をジアゾ化後、熱分解して４―ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体（ＩＩＩ）を得た後、（ＩＩＩ）の水酸基をアルキル化することを特徴とする。
【００１３】
まず、原料化合物（ＩＩ）、中間体（ＩＩＩ）、製造物（Ｉ）について説明する。
（置換基Ｒ１の説明）
（Ｉ）の一般式において、置換基Ｒ１は、アルキル基を示す。ここで、アルキル基は、特に限定されないが、通常、炭素数１〜３０のものが用いられる。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でも環状でもよい。また、不飽和結合を有していても良い。更にこれらのアルキル基は置換されていても良く、置換基としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリール基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基などを挙げることができる。
【００１４】
Ｒ１の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、デシル、ドデシル、オクタデシル、トリフルオロメチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−エチルペンチル、イソペンチル、ヘプチル、ノニル、ウンデシル、プロペニル、ヘプタデセニル、ｔ−オクチル、エトキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチル、２−エチルヘキシルオキシカルボニルメチル、１−（エトキシカルボニル）エチル、２’，４’−ジイソペンチルフェニルオキシメチル、２’，４’−ジ−ｔ−ブチルフェニルオキシメチル、エトキシカルボニルエチル、２−エチルヘキシルオキシカルボニルエチル、ジブチルアミノカルボニルメチル、ジベンジルアミノカルボニルエチル、エトキシカルボニルプロピル、２−エチルヘキシルオキシカルボニルプロピル、２’，４’−ジ−ｔ−アミルフェニルオキシプロピル、１−（２’，４’−ジ−ｔ−アミルフェニルオキシ）プロピル、２’，４’−ジ−ｔ−ブチルフェニルオキシプロピル、アセチルアミノエチル、メタンスルホニルアミノプロピル等が挙げられる。
【００１５】
（置換基Ｒ２の説明）
一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）において、Ｒ２は、ベンゼン環に置換可能な原子または基を表わす。即ち、Ｒ２は特に限定されず、Ｒ２同士が結合してベンゼン環あるいは５〜７員の複素環を形成してもよい。Ｒ２としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基のような環状アルキル基を含む）、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及び複素環アゾ基、イミド基が例として挙げられる。
【００１６】
好ましくは、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜３０のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル）、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、５〜７員の複素環基（例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜３０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、炭素数６〜３０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、炭素数２〜３０のアルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、炭素数１〜３０のアルキルスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ）、炭素数６〜３０のアリールスルホニルアミノ（例えば、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、
【００１７】
炭素数１〜３０のアルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、炭素数６〜３０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル）、炭素数６〜３０のアリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、炭素数２〜３０のアルキルカルボニル基（例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル）、炭素数７〜３０のアリールカルボニル基（例えば、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、炭素数２〜３０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）である。
【００１８】
Ｒ２は互いに結合してベンゼン環あるいは５〜７員の複素環を形成してもよい。複素環としては、飽和、不飽和のものを含み、好ましくは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる少なくとも一つの原子を有する環構造を表わす。この中で、５員複素環としては、好ましくは、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール並びにこれらのジヒドロ体、ジオキソランなどが挙げられ、６員複素環としては、好ましくは、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン並びにこれらのジヒドロ体、テトラヒドロ体、ジオキサン、ジチアン、モルホリンなどが挙げられ、７員複素環としては、アゼピン、オキセピン、チエピン並びにこれらのジヒドロ体、テトラヒドロ体が挙げられ、これら５〜７員の複素環は、ベンゼン環が縮環していてもよい。さらに、これらの複素環の炭素原子には、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、好ましくは、炭素数１〜３０のアルキル基（例えば、メチル、エチル）、好ましくは、炭素数６〜３０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル）などが、置換していてもよい。
【００１９】
（ｎの説明）
ｎは０〜４の整数を表すが、特に好ましくは０である。換言すれば、Ｒ２が水素原子であることが好ましい。
【００２０】
以下に、４−アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体（Ｉ）の具体例を挙げる。
【００２１】
【化３】
2004323368.tif 000003
【００２２】
【化４】
2004323368.tif 000004
【００２３】
＜製造方法の説明＞
（ＩＩ）→（ＩＩＩ）の工程（ジアゾ化工程）
【００２４】
ジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸塩、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｎ―ブチル、亜硝酸ｔ−ブチル等の亜硝酸エステル類、ニトロシル硫酸等を使用することができる。好ましくは亜硝酸ナトリウムである。
ジアゾ化剤の使用量は（ＩＩ）１モルに対して０．８〜２モルが好ましく、特に０．９〜１．２モルが好ましい。
ここで溶媒としては、希ハロゲン化水素酸、希硝酸、希硫酸を使用することができる。好ましくは希硫酸である。
ジアゾ化剤として、亜硝酸イソアミル、亜硝酸ｎ―ブチル、亜硝酸ｔ−ブチルを用いる場合は、非水系溶媒を使用することができる。非水系溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセトニトリル等の二トリル類、酢酸メチル、酢酸エチル等の酢酸エステル類、酢酸等が挙げられる。
【００２５】
反応温度は、０℃〜３０℃が好ましく、特に０℃〜１０℃が好ましい。また、反応時間は０．１〜５時間が好ましく、０．２〜１時間が特に好ましい。
【００２６】
（ＩＩ）→（ＩＩＩ）の工程（熱分解工程）
ジアゾ化後そのまま加熱して分解させることも可能だが、反応時の発泡、着色度低減の点で希硫酸中にジアゾ溶液を滴下し、その後加熱する方法が好ましい。またその際、着色度低減の点で希硫酸中に硫酸ナトリウムを添加してもよい。
反応温度は２０℃〜１２０℃が好ましく、特に５０℃〜１００℃が好ましい。
反応時間は０．５〜５時間が好ましく、特に０．５〜２時間が好ましい。
反応終了後、常法により抽出、濃縮し、（ＩＩＩ）を取り出すことができる。更に必要に応じて、活性炭で処理することで着色度の少ない（ＩＩＩ）を得ることができる。また、抽出後濃縮することなく貧溶媒を添加して目的物を析出させることも可能である。
【００２７】
（ＩＩＩ）→（Ｉ）の工程（アルキル化工程）
アルキル化に用いるアルキル化剤としては、塩化アルキル、臭化アルキル、よう化アルキル、アルキルスルホネート、硫酸ジアルキル等が挙げられるが、好ましくは臭化アルキルである。アルキル化剤の使用量は（ＩＩＩ）１モルに対して１〜５モルが好ましく、１〜２モルが特に好ましい。
アルキル化に用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ＤＢＵ等の有機塩基、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウムブチラート等の金属アルコラート、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、ギ酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等の低級カルボン酸のアルカリ金属塩等が挙げられる。好ましくはアルカリ金属炭酸塩、より好ましくは炭酸ナトリウムが挙げられる。
塩基の使用量は、（ＩＩＩ）１モルに対して１〜５モルが好ましく、特に好ましくは１〜２モルである。
【００２８】
溶媒としては、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等の二トリル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の各種溶媒またはこれらの混合溶媒が挙げられる。これらのうち好ましくは、アミド類である。
【００２９】
溶媒は、水に不溶な溶媒と水の２層系でも良い。水に不溶な溶媒としては酢酸エチル、トルエン等を挙げることができる。この場合には相関移動触媒を添加することが好ましい。相関移動触媒としては、よう化テトラエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウム等を挙げることができる。
【００３０】
反応温度は、２０℃〜１５０℃が好ましく、８０℃〜１２０℃がより好ましい。
反応時間は、反応温度にもよるが通常０．５〜２４時間が好ましい。
反応終了後、抽出等の通常の後処理操作により目的物を取り出すことができる。また、再結晶、蒸留等の通常の精製手段により精製することができる。更に必要に応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することもできる。
【００３１】
【実施例】
以下に実施例に基づき本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【００３２】
＜実施例１＞
４−（２−エチルヘキシルオキシ）ベンゼンスルホンアミド（化合物８）の製造
スルファニルアミド３４．４ｇ（０．２ｍｏｌ）に水１９０ｍｌを加え、氷浴で冷却した。そこへ濃硫酸３６ｍｌを加えた。亜硝酸ナトリウム１４ｇ（９８．５％として０．２ｍｏｌ）を水４０ｍｌに溶かした液を滴下した。内温が５℃を超えないように滴下速度をコントロールした。全量滴下するのに２０分を要した。反応液は白色懸濁状態から黄色均一溶液へと変化した。その後更に内温２℃で２０分攪拌した（ジアゾ溶液Ａ）。
【００３３】
硫酸ナトリウム７５ｇに硫酸１００ｇ、水５０ｍｌを加え昇温した。ジアゾ溶液Ａを内温８５℃でゆっくり滴下した。熱分解により発泡が観測された。全量滴下するのに４０分を要した。その後、内温９２℃で３０分攪拌した（発泡が止まるまで攪拌した）。室温まで冷却後、酢酸エチル（３００ｍｌ）を加えて抽出、分液し、有機層に硫酸マグネシウムと活性炭１．７３ｇを加え乾燥、脱色を行なった。その後セライト濾過、濃縮を行い、４−ヒドロキシベンゼンスルホンアミドを淡黄色固体として得た（３２．４ｇ，収率９４％）。
【００３４】
４−ヒドロキシベンゼンスルホンアミド１７．３２ｇ（０．１ｍｏｌ）にＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド４０ｍｌ、炭酸ナトリウム１５．９２ｇ（０．１５ｍｏｌ）を加えた。そこへ２−エチルヘキシルブロミド２３．２ｇ（０．１２ｍｏｌ）を内温８０℃で２０分かけて滴下した。更に内温９２〜９５℃で８時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル（１５０ｍｌ）と水を加え抽出、分液した。次いで、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（１００ｍｌ）を加え有機層を洗浄した後、分液、水洗した。次いで１Ｎ塩酸（１５０ｍｌ）を加え洗浄した後、分液、水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、淡褐色油状物２４ｇを得た。これにヘキサン（８０ｍｌ）を加え、溶解させた後、冷却した（内温３℃まで冷却した）。析出した固体を濾取、冷却したヘキサン（２０ｍｌ）で洗浄し、４−（２−エチルヘキシルオキシ）ベンゼンスルホンアミドを微黄色固体として得た（１６．８ｇ，収率５９％）。
２工程でのトータル収率は５５％であった。
融点：４８〜４９℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  δｐｐｍ    ７．８６（ｄ，２Ｈ），６．９６（ｄ，２Ｈ），４．７６（ｂｒｓ，２Ｈ），３．９０（ｄ，２Ｈ），１．６８〜１．８１（ｍ，１Ｈ），１．２３〜１．５５（ｍ，８Ｈ），０．８５〜０．９８（ｍ，６Ｈ）
【００３５】
＜参考例１＞
４−（２−エチルヘキシルオキシ）ベンゼンスルホンアミド（化合物８）の製造
（従来法）
フェノール６６ｇ（０．７ｍｏｌ）にＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３００ｍｌを加え、炭酸カリウム１１５．９ｇ（０．８４ｍｏｌ）を加えた。そこへ２−エチルヘキシルブロミド１６２．２ｇ  （０．８４ｍｏｌ）を内温８０℃で３０分かけて滴下した。更に内温１００℃で８時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチルと水を加え抽出、分液した。次いで水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、残渣を減圧蒸留し、２−エチルヘキシルオキシベンゼンを得た（１０８．５ｇ，収率７５％）。
【００３６】
２−エチルヘキシルオキシベンゼン２５ｇ（０．１２１ｍｏｌ）に塩化メチレン７５ｍｌを加え、−２５℃でクロロ硫酸３５．３ｇ（０．３０３ｍｏｌ）を滴下した。その後−２０℃で１時間攪拌した。この溶液を氷水２００ｍｌ中に添加し、内温１５℃以下で２５％アンモニア水１２４ｍｌ（１．８２ｍｏｌ）を滴下した。更に、内温２０℃〜３０℃で５時間攪拌した。分液し、塩化メチレン層を減圧下に濃縮した。残渣へヘキサン１００ｍｌを加え、４０℃に加熱して溶解させた。そこへ活性炭１．２５ｇを加え脱色を行なった。セライト濾過後、５℃以下に冷却し、析出した固体を濾取、冷却したヘキサン（２５ｍｌ）で洗浄し、４−（２−エチルヘキシルオキシ）ベンゼンスルホンアミドを微黄色固体として得た（２３．６ｇ，収率６８％）。２工程でのトータル収率は５１％であった。
【００３７】
【発明の効果】
本発明方法は特殊な冷却装置を必要とせず、環境上も好ましく、工業的に大量に製造するのに適した製造方法である。また、本発明方法はアルキル基を最初の工程で導入しないため、多品種製造を行なう場合は、工程数が少なく、コスト等の点で効率の良い製造方法である。