(57)【要約】【課題】赤、青、緑の３原色発光に悪影響を及ぼさず、耐熱性及び耐光性といった耐久性に優れた新規色素として有用な化合物を提供する。【解決手段】下記一般式（Ｉ）及び（ＩＶ）2004238606.tif 000014〔式（Ｉ）中、Ｒ１  及びＲ２は、水酸基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基等を示し、Ｗは、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示し、Ｘは、カルボニル基、又はスルホニル基を示し、Ｒ３は、水素原子又は１価基を示し、ｌ及びｍはそれぞれ独立して０〜５の整数、ｍ’は７以下の整数、ｎは０〜３の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎ≦５である。Ｒ９は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、Ｒ１０は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基等を示し、Ｚ′は酸素原子又はＮＨ基を示す。〕で表されるスクアリリウム系化合物。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）及び（ＩＶ）
【化１】
2004238606.tif 000012
〔式（Ｉ）中、Ｒ１  及びＲ２は、水酸基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を示し、Ｗは、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示し、Ｘは、カルボニル基、又はスルホニル基を示し、Ｒ３は、水素原子又は１価基を示し、ｌ及びｍはそれぞれ独立して０〜５の整数、ｍ’は７以下の整数、ｎは０〜３の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎ≦５である。
Ｒ９は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、Ｒ１０は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基又は置換基を有していても良いアリールオキシカルボニル基を示し、Ｚ′は酸素原子又はＮＨ基を示す。
ここで、ｍ、ｍ’及びｎが２以上の場合には、複数存在するＲ１同士、Ｒ２同士及び−Ｗ−Ｘ−Ｒ３基同士はそれぞれ別種の基であっても良い。〕で表されるスクアリリウム系化合物。
【請求項２】
下記一般式（Ｉ）又は（ＩＶ）
【化２】
2004238606.tif 000013
〔式（Ｉ）中、Ｒ１  及びＲ２は、水酸基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を示し、Ｗは、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示し、Ｘは、カルボニル基、又はスルホニル基を示し、Ｒ３は、水素原子又は１価基を示し、ｌ及びｍはそれぞれ独立して０〜５の整数、ｍ’は７以下の整数、ｎは０〜３の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎ≦５である。
Ｒ９は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、Ｒ１０は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基又は置換基を有していても良いアリールオキシカルボニル基を示し、Ｚ′は酸素原子又はＮＨ基を示す。
ここで、ｍ、ｍ’及びｎが２以上の場合には、複数存在するＲ１同士、Ｒ２同士及び−Ｗ−Ｘ−Ｒ３基同士はそれぞれ別種の基であっても良い。〕で表されるスクアリリウム系化合物からなる色素。
【請求項３】
請求項１に記載のスクアリリウム系化合物を含有する層を有することを特徴とする光学フィルター。
【請求項４】
ディスプレイ用であることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なスクアリリウム系化合物、該化合物からなる色素及びそれらを使用した光学フィルター、特にはディスプレイ用フィルターに関する。詳しくは、プラズマディスプレイや液晶ディスプレイ等のディスプレイの発光強度を弱めることなく、色調を調節でき、あるいは、発光の色純度、及び色温度を高めることの出来るディスプレイ用フィルターを製造するのに有用なスクアリリウム系化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとしてプラズマディスプレイ、ＣＲＴ、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の蛍光体発光型ディスプレイが使用され、その需要が増大し、今後もその数は益々増加するものと考えられる。
【０００３】
蛍光体発光型ディスプレイでは、蛍光体に電子線や紫外線を照射し、赤、青、緑のそれぞれの蛍光体の発光を利用して３原色発光を得て表示を行うが、これらの三色の発光に悪影響を及ぼさずに三色の色バランスの補正する色調整フィルターが求められている。
特に、蛍光体発光型ディスプレイにおいては、赤の色純度を向上させたり、色温度を上げたりするために６００ｎｍ近辺に吸収をもつ色素を配合する必要があり、例えば、ジアリールスクアリリウム系色素がプラズマディスプレイ用フィルターに用いることができることが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、上記文献には具体的にはジフェニルスクアリリウム系色素に関する記載のみであり、ナフチルスクアリリウム系色素に関する記載はされていない。
また、ナフチルスクアリリウム系化合物としては水酸基が２つ結合したジナフチルスクアリリウム系化合物が知られているが（非特許文献１参照）、そのλｍａｘは６６３ｎｍであり、上述の用途に用いるには吸収ピークが長波長に位置しすぎるため使用することはできない。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−４３１７５号公報
【非特許文献１】Ｄｙｅｓ  ａｎｄ  Ｐｉｇｍｅｎｔｓ  ４４（２０００）ｐ．９−１７
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は６００ｎｍ近辺の発光を有効にカットすることができ、かつ、赤、青、緑の３原色発光に悪影響を及ぼさず、耐熱性、耐光性等の耐久性の良好な色調整フィルターを与えるスクアリリウム系化合物、該化合物からなる色素及びそれらを使用した色調整フィルター、色純度改善フィルター、色再現範囲拡大フィルター等の光学フィルターを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明等は、種々検討を重ね、ナフタレン環及びベンゼン環を有する特定のスクアリリウム系化合物を含有する層を有するフィルターが上記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）
【０００８】
【化３】
2004238606.tif 000002
【０００９】
〔式（Ｉ）中、Ｒ１  及びＲ２は、水酸基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を示し、Ｗは、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示し、Ｘは、カルボニル基、又はスルホニル基を示し、Ｒ３は、水素原子又は１価基を示し、ｌ及びｍはそれぞれ独立して０〜５の整数、ｍ’は７以下の整数、ｎは０〜３の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎ≦５である。
Ｒ９は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、Ｒ１０は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基又は置換基を有していても良いアリールオキシカルボニル基を示し、Ｚ′は酸素原子又はＮＨ基を示す。
ここで、ｍ、ｍ’及びｎが２以上の場合には、複数存在するＲ１同士、Ｒ２同士及び−Ｗ−Ｘ−Ｒ３基同士はそれぞれ別種の基であっても良い。〕で表されるスクアリリウム系化合物、該化合物からなる色素及びそれを用いた光学フィルターに存する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
１，スクアリリウム系化合物
本発明は、上記一般式（Ｉ）及び（ＩＶ）で表されるスクアリリウム系化合物に関するものであり、通常、分子量が１０００以下、好ましくは７５０以下、より好ましくは５００以下のものである。
【００１１】
上記一般式中の置換基Ｒ１及びＲ２は、水酸基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアルコキシ基である。
ここで、上記アルキル基として好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ペンタデシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐鎖若しくは環状のものが挙げられ、また、上記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルコキシ基が挙げられ、このうち上記アルキル基及びアルコキシ基としては炭素数１〜１０のものが好ましい。
【００１２】
ここで、上記アルキル基及びアルコキシ基の置換基としては、化合物の溶解度や安定性に影響を与えない基であれば特に限定されないが、好ましい置換基の具体例としては、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基又はアリール基が挙げられ、より好ましくは水酸基、ハロゲン原子又はアルコキシ基である。また、上記アリール基はさらに、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等の炭素数１〜１０のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；及び、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良い。
【００１３】
これらのうち、Ｒ１としては、水酸基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基が特に好ましく、Ｒ２としては、炭素数１〜８の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基が特に好ましい。
Ｒ３は、水素原子又は１価基であり、該１価基としては、分子量が３００以下、好ましくは２５０以下、より好ましくは２００以下ものもが挙げられる。上記一価基の具体例としては、置換されていても良いアルキル基、置換されていても良いアルコキシ基、置換されていても良いアルケニル基、置換されていても良いアミノ基、置換されていても良いアリール基、置換されていても良いアリールオキシ基又は置換されていても良い複素環基が挙げられる。
【００１４】
上記アルキル基及びアルコキシ基としては、Ｒ１及びＲ２の説明の項で例示したのと同様の基が挙げられる。
上記アルケニル基としては、ビニル基、シンナモイル基等の炭素数２〜２０の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基が挙げられ、
上記アリール基としてはフェニル基又はナフチル基が、上記アリールオキシ基としてはフェノキシ基又はナフチルオキシ基が挙げられる。
【００１５】
上記複素環基としては、ピロール基、ピリジル基、フリル基、チエニル基、インドリル基等が挙げられる。
前記アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アミノ基、アリール基、アリールオキシ基及び複素環基の置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又はアリールオキシ基が挙げられる。
【００１６】
上記Ｒ３としての好ましくは、水酸基、ハロゲン原子、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良い直鎖若しくは分岐の炭素数１〜２０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていても良い炭素数３〜７のシクロアルキル基；水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシ基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良い直鎖若しくは分岐の炭素数１〜２０のアルコキシ基；アルケニル基；前述のアルキル基で１又は２置換されていても良いアミノ基；ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基及び炭素数１〜１０のアルコキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いフェニル基；ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基及び炭素数１〜１０のアルコキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いフェノキシ基；３−ピリジル基、２−フリル基、２−テトラヒドロフルフリル基又は２−チエニル基等の５〜６員の複素環基が挙げられ、より好ましくは水酸基、ハロゲン原子、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良い直鎖若しくは分岐の炭素数１〜２０のアルキル基であり、特には炭素数１〜１０のアルキル基が好ましい。
【００１７】
Ｒ９は、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基をであり、好ましくは置換基を有していても良いアルキル基である。Ｒ９のアルキル基及びアリール基としては、前述のＲ３の説明の項で記載したのと同様のものが挙げられる。
又、これらのアルキル基及びアリール基の置換基としては、化合物の安定性に悪影響を与えない限りにおいて特に限定されないが、例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等の炭素数１〜１０のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；フェノキシ基、ナフチルオキシ基等のアリールオキシ基；スルホニルアミド基、アルキルスルホニルアミド基、ジアルキルスルホニルアミド基、アリールスルホニルアミド基、ジアリールスルホニルアミド基、アルキルアリールスルホニルアミド基等のアルキル基又はアリール基で置換されていても良いスルホニルアミド基等が挙げられる。
上記Ｒ９の置換されていても良いアルキル基として好ましくは、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良い炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基が挙げられ、さらに好ましくは、アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていても良いアルキル基であり、特に好ましくは無置換の炭素数１〜８のアルキル基である。
上記Ｒ９の置換されていても良いアリール基として好ましくは、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基及びスルホニルアミド基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアリール基であり、さらに好ましくは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていても良いアリール基であり、特に好ましくはフェニル基又はアルキルフェニル基である。
【００１８】
Ｒ１０は、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基、又は置換基を有していても良いアリールオキシカルボニル基であり、このうち置換基を有していても良いアルキル基が好ましい。
上記アルキル基、アルコキシ基及びアリール基としては、前述のＲ３の説明の項で記載したのと同様のものが挙げられる。
上記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基等の炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
上記アリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル基が挙げられる。
上記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基の置換基としては、化合物の安定性に悪影響を与えない限りにおいて特に限定されないが、弗素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等の炭素数１〜１０のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；フェノキシ基、ナフチルオキシ基等のアリールオキシ基；スルホニルアミド基、アルキルスルホニルアミド基、ジアルキルスルホニルアミド基、アリールスルホニルアミド基、ジアリールスルホニルアミド基、アルキルアリールスルホニルアミド基等のアルキル基又はアリール基で置換されていても良いスルホニルアミド基；アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等のアシル基等が挙げられる。
このうち置換されていても良いアルキル基及び置換されていても良いアリール基として好ましくは、上記Ｒ９で記載したのと同様のものが挙げられる。
置換されていても良いアルコキシ基として好ましくは、ハロゲン原子；水酸基；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルコキシ基；アリール基及びアリールオキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアルコキシ基が挙げられる。
置換されていても良いアミノ基として好ましくは、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基又はアシル基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
置換されていても良いアルコキシカルボニル基として好ましくは、ハロゲン原子；水酸基；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルコキシ基；アリール基及びアリールオキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアルコキシカルボニル基が挙げられる。
置換されていても良いアリールオキシカルボニル基基として好ましくは、アルキル基又はアルコキシ基で置換されていても良いアリールオキシ基等が挙げられる。
【００１９】
Ｗは、イミノ基又はアルキルイミノ基であり、アルキルイミノ基として好ましくは炭素数１〜６、より好ましくは炭素数１〜４、更に好ましくは炭素数１又は２のものである。
Ｘはカルボニル基又はスルホニル基である。
また、ｌ及びｍはそれぞれ独立して０〜５の整数、ｎは０〜３の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎ≦５であるが、このうちｌは１〜３が好ましく、ｍは０〜２が好ましく、ｎは０又は１が好ましい。また、水酸基の少なくとも１つがフェニル基のシクロブテンジイリウム基の結合位置のオルト位又はパラ位に結合しているのが好ましく、また、両オルト位及びパラ位が全て置換基で埋まっているのが好ましい。
Ｚ′は酸素原子又はＮＨ基を示し、このうち酸素原子が好ましい。
【００２０】
ｍ’は７以下の整数であり、好ましくは５以下、より好ましくは３以下、特に好ましくは１又は２である。
上述の一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物の代表例を次に示す    。
【００２１】
【化４】
2004238606.tif 000003
【００２２】
上記一般式（ＩＶ）で表されるスクアリリウム系化合物の代表例を以下に示す。
【００２３】
【化５】
2004238606.tif 000004
上記一般式（Ｉ）及び（ＩＶ）で表されるスクアリリウム系化合物は、例えば、Ｄｙｅｓ  ａｎｄ  Ｐｉｇｍｅｎｔｓ  ４９（２００１）  １６１−１７９    に記載の方法あるいはそれらに準じて製造することが出来る。
即ち、下記一般式（ＩＡ）又は（ＩＶＡ）
【００２４】
【化６】
2004238606.tif 000005
【００２５】
〔式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ９、Ｒ１０、Ｗ、Ｘ、Ｚ′、ｌ、ｍ及びｎは、前記一般式（Ｉ）及び（ＩＶ）と同じ意義を示す。〕で表される化合物１モルに、下記一般式（ＩＢ）
【００２６】
【化７】
2004238606.tif 000006
【００２７】
〔式中、Ｒ１及びｍ’は、前記一般式（Ｉ）と同じ意義を示す。〕で表される化合物１モルをエタノール、酢酸、ｎ−ブチルアルコール−トルエン混合溶媒、及び、ｎ−ブチルアルコール−ベンゼン混合溶媒等といった溶媒の存在下で、７０〜１５０℃程度に加熱しながら脱水縮合させることにより合成することが出来る。
また、ｎが０であり、Ｒ１が水酸基の場合には下記一般式（ＩＣ）で表される化合物と下記一般式（ＩＤ）で表される化合物とを上述と同様の方法脱水縮合させることによっても合成することができる。
【００２８】
【化８】
2004238606.tif 000007
【００２９】
〔式中、Ｒ２、ｌ及びｍは、前記一般式（Ｉ）と同じ意義を示す。〕
【００３０】
【化９】
2004238606.tif 000008
【００３１】
〔式中、ｍ”は、１〜７の整数を示す。〕
さらに、上記一般式（ＩＶ）で表される化合物は、下記一般式（ＩＶＣ）
【化１０】
2004238606.tif 000009
〔式中、Ｒ９、Ｒ１０及びＺ′は、前記一般式（ＩＶ）と同じ意義を示す。〕で表される化合物を上述の（ＩＤ）と反応させることによっても合成することができる。
上記一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物は、その透過率曲線の最小値における波長が５７０ｎｍ〜６１５ｎｍの範囲であり、より好ましくは５８０〜６０５ｎｍのものである。また、その透過率曲線の形状としては、半値幅が１００ｎｍ以下、より好ましくは６０ｎｍ以下といったようなシャープなバレー型（谷型）を示すものである。加えて、６００ｎｍ付近の透過率曲線の最小値以外には、大きな吸収ピークを有さないので、ディスプレイ用の光学フィルターに用いてもディスプレイの明るさ等に影響を与えないという優れた性能を有するものである。
【００３２】
さらに、本発明の化合物は、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン等のエーテル系溶媒に対する溶解度が良好であり、これらの溶媒を使用した塗布方法により色素薄膜を製造することが出来るため、工業的にも好ましい。
本発明の化合物は、具体的には、ジメトキシエタンを溶媒として用いた場合の溶解度が、０．１ｇ／ｇ以上、好ましくは０．２５ｇ／ｇ以上、より好ましくは０．３５ｇ／ｇ以上のものである。
２，光学フィルター
本発明の光学フィルターは、一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物を含有する層を有するものである。
【００３３】
上記一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物を含有する層は、各種樹脂に直接溶解あるいは分散させて得られたスクアリリウム系化合物を含有する樹脂を、射出成形、Ｔ  ダイ成形、カレンダー成形あるいは圧縮成形などの成形技術を用いて成形、フィルム化し、必要に応じて他の透明基板と張り合わせて製造することや、透明基板を構成する樹脂シート又はフィルムに染着させる、もしくは、樹脂シート又はフィルムに染着させて他の透明基板と張り合わせて製造すること、さらには、フィルムあるいはシート等に成形された透明基板に、一般式（Ｉ）のスクアリリウム系化合物を含む塗工液を塗布する等により製造することができるが、このうち、透明基板上に塗工液を塗布する方法が好ましい。
【００３４】
上記透明基板の材質としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない材料であれば特に制限はない。具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（  メタ）  アクリル酸エステル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等を挙げることができる。これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（  メタ）  アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が好ましい。上記の樹脂には、一般的に公知である添加剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができる。また、上記樹脂は、公知の射出成形、Ｔ  ダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶融させてキャスティングする方法などを用い、フィルムまたはシート（  板）  に成形される。その厚みとしては、目的に応じて１０μｍ  〜５ｍｍ  の範囲が望ましい。かかる透明基板を構成する基材は、未延伸でも延伸されていても良い。また、他の基材と積層されていても良い。更に、該透明基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施しても良い。
【００３５】
塗工液は、一般式（Ｉ）のスクアリリウム系化合物をバインダーと共に有機溶剤に溶解させる方法、又は粒径０．１  〜３μｍ  に微粒化したスクアリリウム系化合物を、必要に応じ分散剤を用い、バインダーと共に溶剤に分散させる方法により調製される。このとき溶剤に溶解又は分散されるスクアリリウム系化合物、バインダー及び分散剤の塗工液に対する含有量は０．５  〜５  ０  重量％で、スクアリリウム系化合物、バインダー及び分散剤の中でスクアリリウム系化合物が占める割合は０．０５〜５０重量％、好ましくは０．１  〜２０重量％である。
【００３６】
必要に応じて使用される分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、スクアリリウム系化合物に対して０．５  〜１５０  重量倍、好ましくは  ０．５〜２０  重量倍である。
【００３７】
使用されるバインダーとしては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂等のアクリレート系樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合樹脂、エチレンー酢酸ビニル共重合樹脂、ＡＳ樹脂、ポリエステル樹脂、塩酢ビ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ＰＶＰＡ、ポリスチレン系樹脂、フェノール系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリスルフォン、ナイロン、セルロース系樹脂、酢酸セルロース系樹脂等が挙げられる。その使用量はスクアリリウム系化合物に対して、１０〜５００  重量倍、好ましくは５０〜３５０  重量倍である。
【００３８】
一般式（Ｉ）のスクアリリウム系化合物を含む塗工液のコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、プレードコート法及びエアーナイフコート法等の公知の塗工方法でコーティングされる。このとき膜厚は、０．１  〜３０μｍ  、好ましくは０．５  〜１０μｍ  となるようコーティングされる。
【００３９】
また、本発明の光学フィルターをプラズマディスプレイのネオン発光カットといったような用途に用いる場合には、５７０ｎｍ〜６１５ｎｍの範囲における透過率曲線の最小値が４０％以下、好ましくは３０％以下となるように本発明のスクアリリム系化合物の含有量を調節するのが好ましい。さらに、前述の範囲以外に透過率曲線の極小値以外を有さないことが好ましいが、有したとしてもその透過率が７０％以上、より好ましくは８０％以上であり、可視光透過率が３５％以上であり、より好ましくは４０％以上となるように他の部材との組み合わせを調整するのがよい。
【００４０】
（紫外線吸収層）
本発明の光学フィルターには、上記一般式（Ｉ）で表される化合物含有層に紫外線吸収剤を共存させるか、上記一般式（Ｉ）で表される化合物含有層の他に紫外線吸収剤含有層を積層させるのが好ましい。
上記紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤及び無機系紫外線吸収剤のいずれもが使用出来る。有機系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、フェニルサルシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサルシレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾーエート等のヒドロキシベンゾエート系化合物等を挙げることが出来る。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等を挙げることが出来る。
【００４１】
紫外線吸収剤としては、５０％透過率での波長が３５０〜４２０ｎｍが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ〜４００ｎｍであり、３５０ｎｍより低波長では、紫外線遮断能が弱く、４２０ｎｍより高波長では着色が強くなり好ましくない。
紫外線吸収剤含有樹脂層に用いられる樹脂としては、前記の一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系色素のバインダーとして挙げた樹脂等のバインダー樹脂として一般的なものを使用することが出来る。この場合、一般式（Ｉ）で表される化合物含有層に紫外線吸収剤を共存させる方法より、紫外線吸収層を積層する方が耐光性向上効果が遥かに大である。積層方法としては、一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物を含有する層に接して積層しても良いし、一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物を含有する層を塗布した透明基板の一般式（Ｉ）表されるスクアリリウム系化合物を含有する層と反対側に積層しても良い。このとき紫外線吸収剤を含有層の膜厚は、０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍとなるように積層する。又、紫外線吸収剤含有層を塗布して形成する代わりに、市販の紫外線カットフィルターを積層して使用しても良い。この様なフィルターとしては、シャープカットフィルターＳＣ−３８、ＳＣ−３９、ＳＣ−４０（富士写真フィルム（株）製）やアクリプレンＨＢＳ、ＨＢＥ、ＨＢＣ（三菱レーヨン（株））等を挙げることが出来る。
【００４２】
さらに、上記光学フィルターには、必要に応じて、酸化防止剤等を含有する層を設けることが出来る。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤等を挙げることが出来る。酸化防止剤を紫外線吸収剤と併用することによりより効果が大となる。紫外線吸収剤によって遮断しきれなかった紫外光によるか、又は可視光線による色素の活性化により生じる系色素のラジカルを酸化防止剤が不活性化することにより、色素の耐光性が向上するものと考えられる。
３，ディスプレイ用フィルター
本発明のディスプレイ用フィルター、特にプラズマディスプレイ用フィルターにおいては、一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物の他に、色調調節用、色純度改善用、又は色再現範囲拡大用色素として下記の一般式（ＩＩ）で表されるピラゾール系メチン化合物及び／又は一般式（ＩＩＩ）で表されるピラゾール系スクアリリウム化合物を含有させることが出来る。
【００４３】
【化１１】
2004238606.tif 000010
【００４４】
〔式（ＩＩ）  中、Ｒ４は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、Ｒ５は、水素原子、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基又は置換基を有していても良いアリールオキシカルボニル基を示し、Ｒ６は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、Ｙは−Ｏ−又は−ＮＨ−基を表す。〕
【００４５】
【化１２】
2004238606.tif 000011
【００４６】
〔式（ＩＩＩ）  中、Ｒ７は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を示し、Ｒ８は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基又は置換基を有していても良いアリールオキシカルボニル基を示し、Ｚは−Ｏ−又は−ＮＨ−基を示す。〕
上記一般式（ＩＩ）で表されるピラゾールメチン系化合物を用いることにより、３８０〜４２０ｎｍ近辺の青〜青紫を選択的に効率的に吸収することができ、一方他の波長領域での吸収はほとんどないので、本発明の一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物に併用することにより、色純度の高いプラズマディスプレイ用フィルターを得ることが出来る。
【００４７】
一方、上記一般式（ＩＩＩ）で表されるピラゾール系スクアリリウム化合物は、青と緑との谷間である４８０ｎｍ〜５２０ｎｍ近辺の光を有効に吸収しながら、原色の青や緑の蛍光体発光を阻害することがないので、本発明の一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物に併用して用いることにより、色純度の高いディスプレイパネル用フィルターが得られる。
【００４８】
特に本発明の一般式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物に上記一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で表される化合物を併用した場合、フィルター色がナチュラルな色調となるので好ましい。
上記一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の好ましい具体例としては、特開２００２−１３１５３０号公報の表−１のＮＯ．１〜ＮＯ．２３、及び、Ｖ−１〜Ｖ−８として記載された化合物を挙げることが出来る。
【００４９】
また、上記化合物は、一般式（Ｉ）で表される化合物含有層に共存させても良いが、別層として積層させても良い。積層体の形成方法としては、上述で記載したような塗工液を塗布し積層する方法、又はそれぞれ透明基板上に層を形成させた上でそれらを貼り合わせる方法等が挙げられる。
又、上記機能性フィルターの機能を更に高めるため、上記一般式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）で表される化合物の他に黄色光、赤色光、青色光等の可視光を吸収する公知のアントラキノン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、シアニン系、スクアリリウム系、メチン系、テトラアザポルフィリン系等の色素を添加することができる。
【００５０】
さらに、本発明のディスプレイ用フィルターは、近赤外線吸収層や電磁波カット層、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止（  ノングレア）  層を等を任意に組み合わせて有するものである。これらの各層の膜厚は、それぞれ、０．１  〜３０μｍ  、好ましくは０．５  〜１０μｍ  となるように積層する。
【００５１】
（近赤外線吸収層）
近赤外線吸収層は、ディスプレイから放射される近赤外線によるリモコンや伝送系光通信における誤動作を防止する目的でディスプレイの前面に設置する。近赤外線光のカット領域は特に問題になる波長としてリモコンや伝送系光通信に、８００  〜１０００ｎｍであり、その領域に吸収を有する近赤外線吸収物質を使用する。この近赤外線吸収物質しては、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、ジチオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物の近赤外線吸収色素、あるいは、カーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズなどの近赤外線吸収化合物を、単独又は組み合わせて使うことができる。
【００５２】
（電磁波カット層）
電磁波カット層は、金属酸化物等の蒸着あるいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）  が一般的であるが、誘電体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−  パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層よりはじまり３  層、５  層、７  層あるいは１１層程度積層する。基材は、該フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリング後に、該フィルターと貼り合わせても良い。
【００５３】
（反射防止層）
反射防止層は、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
【００５４】
（ノングレア層）
ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の徴粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノングレア処理をしたフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であればハードコート層を設けることもできる。
【００５５】
（粘着剤層）
本発明のディスプレイ用フィルターの最外層に粘着剤層を設けることによりフィルターがディスプレイと一体形成され、プラズマディスプレイ等のディスプレイの薄肉化が可能となる。この際の粘着剤層の厚みは、通常、５  〜１００  μｍ  、好ましくは１０〜５０μｍ  である。但し、ディスプレイ自体の表面が高温になるので、加熱によりガスが発生するような粘着剤は好ましくない。
【００５６】
具体的には、ポリアクリル酸アルキルエステル系等のポリマー系粘着剤、又はスチレンブタジエンラバー、天然ゴム等のゴム系粘着剤を、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、エ−  テル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系等の有機溶剤を単独又は複数混合した溶剤系に分散又は溶解して粘度を調整したものをディッピング法、フロ−  コート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、プレードコート法及びエアーナイフコ−  ト法等の塗工方法で塗工し、その後溶剤を乾燥させ、粘着剤層とする。
【００５７】
また、プラズマディスプレイにフィルターを貼着時、プラズマディスプレイの表面とフィルターとの間に気泡が入ると画像が歪んだり、見にくくなったりする等、実用上の大きな問題となるので気泡の巻き込みには十分に注意する必要がある。
さらにフィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時の作業がやりやすい。
【００５８】
上記ディスプレイパネル用フィルターは単独はもちろん、さらに透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いることにより、ディスプレイから取り外し可能なフィルターとすることもできる。
【００５９】
【実施例】
以下に、実施例により本発明の実施態様を説明するが、本発明は以下の実施例に限定される物ではない。
製造例１  ２−エチルヘキサン酸（３，５−ジヒドロキシ−フェニル）−アミドの合成
２−エチルヘキサン酸（３，５−ジメトキシ−フェニル）−アミド１．２ｇを塩化メチレン１００ＣＣに溶解し、冷媒（ドライアイス−エタノール）により、―５０℃まで冷却後、三臭化ホウ素３．３ＣＣを加え、−４０〜−５０℃で一時間攪拌し、次いで、ゆっくり室温（２０℃）まで約５時間かけて、攪拌しながら昇温したのち、反応液を水１００ＣＣの中に、３０℃以上に昇温しないように冷却しながら加え、酢酸エチル１００ＣＣを加えて、分離する有機層を分取し、分取した有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、有機溶媒を留去して、目的の２−エチルヘキサン酸（３，５−ジヒドロキシ−フェニル）−アミド１．１ｇを得た。
マススペクトル  ＥＩ法：ｍ／ｚ＝２５１（Ｍ＋）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）  ｃｍ−１：  ３３２３，２９６３，１７０３，１６５２，１６２０，１５５８，１４３６，１１４７，１０１８
【００６０】
製造例２  ２−エチルヘキサン酸（３，５−ジヒドロキシ−フェニル）−アミドの合成
Ｍｅｔｈｏｄｅｎ  ｄｅｒ  ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍｉｅ    １１／１    ｐ．１６０    （１９５７）  に記載の方法により合成した５−アミノレゾルシン６ｇ、トリエチルアミン８．６ｃｃをＴＨＦ１５０ｃｃに溶解し、５℃に冷却し、攪拌下を２−エチルヘキサノイルクロライド８．４６ＣＣを５℃を保ちながら添加し、５℃で２時間、次いで２５℃で４時間反応後、水６０ＣＣを添加し、濃塩酸を加えてＰＨ３．０にした後、酢酸エチル１５０ＣＣを添加し、分離する有機層を分取し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、有機溶媒を留去して、目的の２−エチルヘキサン酸（３，５−ジヒドロキシ−フェニル）−アミド１１．１ｇを得た。マススペクトル（ＥＩ法）及びＦＴ−ＩＲで上記製造例１で得られた２−エチルヘキサン酸（３，５−ジヒドロキシ−フェニル）−アミドと一致した。
【００６１】
実施例１  一般式（Ｉ）の  ＮＯ．Ｉ−５のスクアリリウム系化合物の合成
２−ヒドロキシ−１−（４−ヒドロキシナフチル）−シクロブテンジオン０．１５０ｇ、フロログルシノール二水和物  ０．０９６ｇ、トルエン２０ｍｌ及びｎ−ブタノール２０ｍｌをジーンスターク装置を備えた反応容器に加え、３０分間加熱還流させた。反応終了後、反応混合物をエバポレーターで７ｍｌまで濃縮した後、放冷し、沈殿物を濾過、トルエンで洗浄、乾燥し、目的の化合物０．１３ｇを得た。
可視部吸収λｍａｘ：５８８ｎｍ（テトラヒドロフラン）、マススペクトル  ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ  ＭＳ（ｎｅｇ，ｎｏ  ｍａｒｉｘ）法：ｍ／ｚ＝３４７（Ｍ−Ｈ）
【００６２】
実施例２  一般式（Ｉ）の  ＮＯ．Ｉ−１０のスクアリリウム系化合物の合成２−ヒドロキシ−１−（４−ヒドロキシナフチル）−シクロブテンジオン０．１２３ｇ、上記製造例１又は２に記載の方法に準じて製造した２−エチルヘキサン酸（３，５−ジヒドロキシ−フェニル）−アミド０．１２２ｇ、トルエン２０ｍｌ及びｎ−ブタノール２０ｍｌをジーンスターク装置を備えた反応容器に加え、３０分間加熱還流させた。反応終了後、反応混合物をエバポレーターで７ｍｌまで濃縮した後、放冷し、沈殿物を濾過、トルエンで洗浄、乾燥し、目的の化合物０．１４ｇを得た。
可視部吸収λｍａｘ：６１１ｎｍ（テトラヒドロフラン）  マススペクトル  ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ  ＭＳ（ｎｅｇ，ｎｏ  ｍａｒｉｘ）法：ｍ／ｚ＝４７２（Ｍ−Ｈ）
【００６３】
実施例３  一般式（Ｉ）の  ＮＯ．Ｉ−１３のスクアリリウム系化合物の合成２−ヒドロキシ−１−（４−ｎ−ヘキシルオキシナフチル）−シクロブテンジオン０．２５０ｇ、５−メトキシレゾルシン０．１２８ｇ、トルエン２０ｍｌ及びｎ−ブタノール２０ｍｌをジーンスターク装置を備えた反応容器に加え、３０分間加熱還流させた。反応終了後、反応混合物をエバポレーターで７ｍｌまで濃縮した後、放冷し、沈殿物を濾過、トルエンで洗浄、乾燥し、目的の化合物０．１３ｇを得た。
可視部吸収λｍａｘ：６００ｎｍ（テトラヒドロフラン）、マススペクトル  ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ  ＭＳ（ｎｅｇ，ｎｏ  ｍａｒｉｘ）法：ｍ／ｚ＝４７３（Ｍ−Ｈ）
【００６４】
実施例４
ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製ＰＥＴ  フィルム「Ｔ  １００Ｅ  」、厚み１００μｍ  ）に、実施例１で合成した一般式（Ｉ）のＮＯ．Ｉ−５のスクアリリウム系化合物  の０．６３％テトラヒドロフラン溶液０．１８ｇ、アクリル系樹脂（ダイヤナールＢＲ−８０；三菱レーヨン（株）製）の２０％ジメトキシエタン溶液１．０ｇを混合し、濾過後、１．０μｍ  ＰＴＦＥ  Ｍｅｍｂｒａｎｅ（Ｗｈａｔｍａｎ  Ｉｎｃ．社製）で濾過後、バーコーター（ＮＯ．２４；江藤器械（株）製）で塗工し、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
【００６５】
このコーティングフィルムの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における波長は５９０ｎｍ、スペクトルの半値幅は７３．７ｎｍであった。
上記のネオン発光カットフィルターを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、１００％であり、非常に良好な耐熱性を示した。
上記のコーティングフィルムのスクアリリウム系化合物含有層面と反対側に紫外線カットフィルターＳＣ−３９（富士写真フィルム（株）製）を積層し、キセノンフェードメーター（スガ試験機（株）製  ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣ．Ｂ．ＥＣ）で耐光性の評価を紫外線カット層側より露光して行った（８０Ｈｒ露光）。日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、８４．６％であり、良好な耐光性を示した。
【００６６】
実施例５
ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製ＰＥＴ  フィルム「Ｔ  １００Ｅ  」、厚み１００μｍ  ）に、実施例２で合成した一般式（Ｉ）のＮＯ．Ｉ−１０  のスクアリリウム系化合物  の０．６３％テトラヒドロフラン溶液０．１８ｇ、アクリル系樹脂（ダイヤナールＢＲ−８０；三菱レーヨン（株）製）の２０％ジメトキシエタン溶液１．０ｇを混合し、濾過後、１．０μｍ  ＰＴＦＥ  Ｍｅｍｂｒａｎｅ（Ｗｈａｔｍａｎ  Ｉｎｃ．社製）で濾過後、バーコーター（ＮＯ．２４；江藤器械（株）製）で塗工し、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
【００６７】
このコーティングフィルムの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における波長は６１０ｎｍ、スペクトルの半値幅は５７．３ｎｍであった。
上記のネオン発光カットフィルターを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、９８．３％であり、非常に良好な耐熱性を示した。
【００６８】
上記のコーティングフィルムのスクアリリウム系化合物含有層面と反対側に紫外線カットフィルターＳＣ−３９（富士写真フィルム（株）製）を積層し、キセノンフェードメーター（スガ試験機（株）製  ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣ．Ｂ．ＥＣ）で耐光性の評価を紫外線カット層側より露光して行った（８０Ｈｒ露光）。日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、８５．３％であり、良好な耐光性を示した。
【００６９】
実施例６
ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製ＰＥＴ  フィルム「Ｔ  １００Ｅ  」、厚み１００μｍ  ）に、実施例３で合成した一般式（Ｉ）のＮＯ．Ｉ−１３  のスクアリリウム系化合物  の０．６３％テトラヒドロフラン溶液０．１８ｇ、アクリル系樹脂（ダイヤナールＢＲ−８０；三菱レーヨン（株）製）の２０％ジメトキシエタン溶液１．０ｇを混合し、濾過後、１．０μｍ  ＰＴＦＥ  Ｍｅｍｂｒａｎｅ（Ｗｈａｔｍａｎ  Ｉｎｃ．社製）で濾過後、バーコーター（ＮＯ．２４；江藤器械（株）製）で塗工し、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
【００７０】
このコーティングフィルムの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における波長は６０３ｎｍ、スペクトルの半値幅は５２．２ｎｍであった。
上記のネオン発光カットフィルターを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、９８．０％であり、非常に良好な耐熱性を示した。
上記の上記のコーティングフィルムのスクアリリウム系化合物含有層面と反対側に紫外線カットフィルターＳＣ−３９（富士写真フィルム（株）製）を積層し、キセノンフェードメーター（スガ試験機（株）製  ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣ．Ｂ．ＥＣ）で耐光性の評価を紫外線カット層側より露光して行った（８０Ｈｒ露光）。日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、８６．１％であり、良好な耐光性を示した。
【００７１】
実施例７  一般式（ＩＶ）の  ＮＯ．ＩＶ−１のスクアリリウム系化合物の合成
２−ヒドロキシ−１−（５−ヒドロキシ−３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−シクロブテンジオン（一般式（ＩＶＣ）において、Ｒ７＝フェニル基
、Ｒ８＝メチル基、Ｚ＝Ｏ）０．１３０ｇ、１，３−ジヒドロキシナフタレン０．０７７ｇ、トルエン２０ｍｌ及びｎ−ブタノール２０ｍｌをジーンスターク装置を備えた反応容器に加え、３０分間加熱還流させた。反応終了後、反応混合物をエバポレーターで７ｍｌまで濃縮した後、放冷し、沈殿物を濾過、トルエンで洗浄、乾燥し、目的の化合物０．１３ｇを得た。
可視部吸収λｍａｘ：５９３ｎｍ（テトラヒドロフラン）  マススペクトル  ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ  ＭＳ（ｎｅｇ，ｎｏ  ｍａｒｉｘ）法：ｍ／ｚ＝４１１（Ｍ−Ｈ）
【００７２】
実施例８  一般式（ＩＶ）の  ＮＯ．ＩＶ−３のスクアリリウム系化合物の合成
２−ヒドロキシ−１−（５−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−シクロブテンジオン（一般式（ＩＶＣ）において、Ｒ７＝メチル
基、Ｒ８＝ｔｅｒｔ−ブチル基、Ｚ＝Ｏ）０．１５０ｇ、１，３−ジヒドロキシナフタレン０．０９６、トルエン２０ｍｌ及びｎ−ブタノール２０ｍｌをジーンスターク装置を備えた反応容器に加え、３０分間加熱還流させた。反応終了後、反応混合物をエバポレーターで７ｍｌまで濃縮した後、放冷し、沈殿物を濾過、トルエンで洗浄、乾燥し、目的の化合物０．２２ｇを得た。
可視部吸収λｍａｘ：５９０ｎｍ（テトラヒドロフラン）、マススペクトル  ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ  ＭＳ（ｎｅｇ，ｎｏ  ｍａｒｉｘ）法：ｍ／ｚ＝３９１（Ｍ−Ｈ）
【００７３】
実施例９
実施例４のＮＯ．Ｉ−５のスクアリリウム系化合物の代わりに、実施例７で合成したＮＯ．ＩＶ−１のスクアリリウム系化合物の０．６３％テトラヒドロフラン溶液０．１８
ｇを使用した以外は実施例４と同様に処理して、膜厚６μｍのコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
このコーティングフィルムの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における波長は５９４ｎｍ、スペクトルの半値幅は４１．２ｎｍであった。
上記のネオン発光カットフィルターを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、９８．２％であり、非常に良好な耐熱性を示した。
【００７４】
実施例１０
実施例４のＮＯ．Ｉ−５のスクアリリウム系化合物の代わりに、実施例８で合成したＮＯ．ＩＶ−３のスクアリリウム系化合物の０．６３％テトラヒドロフラン溶液０．１８
ｇを使用した以外は実施例４と同様に処理して、膜厚６μｍのコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
このコーティングフィルムの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における波長は５９０ｎｍ、スペクトルの半値幅は５８．８ｎｍであった。
上記のネオン発光カットフィルターを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、１００％であり、非常に良好な耐熱性を示した。
【００７５】
【発明の効果】
本発明の一般式（Ｉ）のスクアリリウム系色素を含有するプラズマディスプレイパネル用フィルターは、赤、青、緑の３原色発光に悪影響を及ぼさず、耐熱性、耐光性等の耐久性のに優れている。