(57)【要約】　　　（修正有）【課題】簡素化された層構成とすることにより優れた光透過性および視認性が得られるのは勿論、反射防止性等の光学特性と共に電磁波遮断性を併せ持つ、優れたプラズマディスプレイ用複合光学フィルムを提供する。【解決手段】透明高分子フィルム１の片面に、第１接着剤層２が形成され、さらに、他方の面に、パターニングされた金属箔４、第２接着剤層３、および反射防止フィルム７が形成されたプラズマディスプレイ用複合光学フィルムであって、プラズマディスプレイの特定波長をカットする材料を第２接着剤層３に含有し、該材料による着色を色補正するための色材を第１接着剤層２および／または第２接着剤層３に含有する。【選択図】　　図１
2004069931.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明高分子フィルムの片面に、第１接着剤層が形成され、さらに、他方の面に、パターニングされた金属箔、第２接着剤層、および反射防止フィルムが形成されたプラズマディスプレイ用複合光学フィルムであって、
プラズマディスプレイの特定波長をカットする材料を第２接着剤層に含有し、
該材料による着色を色補正するための色材を第１接着剤層および／または第２接着剤層に含有したことを特徴とするプラズマディスプレイ用複合光学フィルム。
【請求項２】
前記パターニングされた金属箔が、支持フィルムを有していない金属箔メッシュ単体であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ用複合光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の目視面に装備されて、反射防止性等の光学特性とともに電磁波遮蔽性を付与する複合光学フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年では、電子機器から発する電磁波を遮断するための手段の一つとして、電磁波シールド材が注目されている。電磁波シールド材としては、微粒子分級用の篩に代表されるような金属ワイヤを格子状に編んだ金属メッシュ、いわゆる金網が知られている。また、例えば、ポリエステル等の樹脂製繊維を基材とし、この基材に銅やニッケル等の金属を無電解メッキ等の手段によりコーティングした金属メッシュを用いた電磁波シールド材も知られている。
【０００３】
これらの電磁波シールド材の中には、プラズマディスプレイ等のディスプレイに適用されるものがある。その場合、なるべく薄いことが要求されるとともに、光透過性と、これに相反する電磁波シールド性とをバランスよく両立させる必要があり、このような要件を満たした電磁波シールド材としては、本出願人により特開平１１−３５０１６８号に開示された、フォトレジスト法を用いた金属箔メッシュがある。また、本出願人は、粘着剤を介して基材に貼着された構成に制限されない単体の金属箔メッシュを好適に製造する方法も特願平２００１−７６１８３号で報告している。これらの金属箔メッシュは、電磁波シールド材としてディスプレイに用いる場合、目視面を黒色化することによりディスプレイの視認性を向上させている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような金属メッシュは表面に凹凸を有するため、コーター等による一般的な方法では金属メッシュ上に他の層を塗工することができず、例えば、近赤外線遮断、発色光補正、反射防止等の機能を備えた複合光学フィルムでは、図３に示すように、反射防止層６をポリエステルフィルム５上に形成した反射防止フィルム７と、近赤外線遮断剤を含有させた樹脂１２をポリエステルフィルム１１上に塗工した近赤外線遮断層１３と、ポリエステルフィルム１上に接着剤層９を介して貼り付けられた金属箔をエッチングにより金属メッシュ４としたフィルム付き電磁波シールド材１０とをそれぞれ個別に製造し、フィルム付き電磁波シールド材１０と、近赤外線遮断層１３と、反射防止フィルム７とを、染料または顔料を含有させた色粘着剤層（本発明においては第２接着剤層）３および接着剤層１４を介して一体的に貼着して複合光学フィルムを製造していた。そのため、このような複数の機能を有する複合光学フィルムは、非常に多くの層構成となり、光透過率が低下してしまう等の問題があった。
【０００５】
したがって、本発明は、簡素化された層構成とすることにより優れた光透過性および視認性が得られるのは勿論、反射防止性等の光学特性と共に電磁波遮断性を併せ持つ、優れたプラズマディスプレイ用複合光学フィルムを提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
よって、本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは、透明高分子フィルムの片面に、第１接着剤層が形成され、さらに、他方の面に、パターニングされた金属箔、第２接着剤層、および反射防止フィルムが形成されたプラズマディスプレイ用複合光学フィルムであって、プラズマディスプレイの特定波長をカットする材料を第２接着剤層に含有し、該材料による着色を色補正するための色材を第１接着剤層および／または第２接着剤層に含有したことを特徴としている。また、本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは、パターニングされた金属箔が、支持フィルムを有していない金属箔メッシュ単体であることを好ましい形態としている。
【０００７】
本発明によれば、特定波長をカットする材料を含有させることにより第２接着剤層に特定波長をカットする機能を持たせることができるため、光学フィルムを多層に貼り合せる必要が無くなる。このように光学フィルムを必要最小限の層構成にすることにより、高透過率、低ヘイズ化を実現でき、さらに、製造工程の簡略化によるコストダウンも図れる。
【０００８】
さらに、本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは、ガラスやプラスティックで形成された支持体に貼りつけることによって、プラズマディスプレイ用複合光学フィルムとして好適に使用できるが、プラズマディスプレイパネルに直接貼り合わせることによって、直貼りタイプの複合光学フィルタとしても使用できる。
【０００９】
また、従来の金属箔メッシュは、透明高分子フィルムに接着剤層を介して金属箔を貼り合せ、所定のパターンにエッチングすることによって作製されている。ところが、この方法では、エッチングによって金属が取り除かれた部分において、接着剤層が露出する。この接着剤層は金属箔の粗化された表面形状に追従しているため、透過光が散乱し、ヘイズが上昇してしまうといった問題を有している。また、このような従来の金属箔メッシュは、積層、露光、現像、エッチング等の製造の各工程において、支持フィルムにスリキズがつきやすく、これも外観不良の一因となっている。
【００１０】
そのため、本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは、パターニングされた金属箔が、支持フィルムを有していない金属箔メッシュ単体であることを好ましい形態としている。この形態によれば、パターニングされた金属箔が支持フィルムを有していない金属箔メッシュ単体を用いることにより、支持フィルム／接着剤層／金属箔のような構成からなる一般的な電磁波シールド材料に比べ、接着剤層の粗化に起因するヘイズの上昇を排除することができる。
【００１１】
また、支持フィルムを有していない金属箔メッシュ単体の電磁波シールド材を用いると、この金属箔メッシュを貼り合わせる接着剤が、金属箔メッシュの孔内に十分に入り込むため、空洞の形成による透過光の乱反射を防止するという効果も奏する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムを構成する部材および製造方法について詳細に説明する。
１．構成部材
Ａ．透明高分子フィルム
本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムに使用する透明高分子フィルムとしては、屈折率（ＪＩＳ　Ｋ−７１４２）が１．４５〜１．５５の範囲にある透明高分子フィルムがより望ましい。具体例には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリアリレート、ポリエーテル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、セロファン、芳香族ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリビニルクロライド（ＰＶＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリアミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンテレフタレート（ＰＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルアミド（ＰＥＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリテトラフルオロエチレン等の各種樹脂フィルム等を好適に使用することができる。これらの中でも、特にＰＥＴが好ましい。
【００１３】
これら透明高分子フィルムの透明性は高いもの程良好であるが、光線透過率（ＪＩＳ　Ｃ−６７１４）としては８０％以上、より好ましくは９０％以上が良い。また、本発明における透明高分子フィルムは、ＰＤＰの表面ガラスを保護してＰＤＰ表面に衝撃を受けた場合にガラスの飛散を防ぐこともできる。さらに、透明高分子フィルムの厚さは、軽量化の観点から薄いほうが望ましいが、その生産性を考慮すると、１〜７００μｍの範囲のもの、好ましくは１０〜２００μｍの範囲のものを使用することが好適である。
【００１４】
また、透明高分子フィルムに、アルカリ処理、コロナ処理、プラズマ処理、フッ素処理、スパッタ処理等の表面処理や、界面活性剤、シランカップリング剤等の塗布、あるいはＳｉ蒸着などの表面改質処理を行うことにより、透明高分子フィルムと接着剤層との密着性を向上させることができる。
【００１５】
Ｂ．第１および第２接着剤層
本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムにおいては、第２接着剤層に、特定波長をカットする材料を含有することと、第１および第２接着剤層の少なくともいずれかに、該材料による複合光学フィルム全体の着色を色補正するための色材を添加することが必須である。プラズマディスプレイは、表示する画像の他に近赤外線やネオン光を発生する。これらをカットするために、本発明においては、第２接着剤層に特定波長をカットする材料を含有させている。ところが、この材料に起因して接着剤層が着色されてしまうため、プラズマディスプレイに表示される画像の発色に悪影響を与えないように、第１および第２接着剤層の少なくともいずれかに、複合光学フィルム全体の着色を色補正するための色材を添加させて、可視フィルターや遮蔽フィルターの機能を付与させている。
【００１６】
（１）接着剤
第１および第２接着剤層を構成する接着剤としては、例えば、アクリル系、アクリル共重合系、ゴム系、シリコーン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリビニルエーテル系等の粘着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、ポリエステル系、ポリアミド系等のホットメルト型の接着剤、ウレタン系、エポキシ系、アミノ樹脂系、フェノール樹脂系、アクリレート系等の熱硬化型または紫外線硬化型接着剤等を挙げることができる。これらの中でも特に、耐久性および接着性に優れるアクリル系粘着剤が好ましい。アクリル系粘着剤は、アルキル（メタ）アクリル酸エステルと、重合性不飽和カルボン酸または水酸基含有エチレン性不飽和モノマーあるいは共重合性ビニル系モノマーとを有機溶剤中または水媒体中で共重合させて得られる。
【００１７】
（２）特定波長をカットする材料
本発明における第２接着剤層に、含有する特定波長をカットする材料としては、８００ｎｍ以上の近赤外線や５８０〜５９５ｎｍのネオン光を吸収する材料が挙げられる。具体的には、近赤外線を吸収する材料としては、金属の硫化物とチオウレア化合物、フタロシアニン系近赤外線吸収剤、金属錯体系近赤外線吸収剤、イモニウム系近赤外線吸収剤、アミニウム系近赤外線吸収剤、銅化合物ビスチオウレア化合物、リン化合物と銅化合物、酸化インジウム、酸化錫、二酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化ニオブ、硫化亜鉛などの金属酸化物膜等が挙げられる。また、ネオン光を吸収する材料としては、メチン鎖を有する色素やポルフィリン金属錯体等が挙げられる。
【００１８】
（３）着色を色補正するための色材
本発明における第１および第２接着剤層の少なくともいずれかに添加する着色を色補正するための色材としては、染料や顔料が使用される。ここで用いられる染料および顔料としては、アゾメチン系、スクアリリウム系、シアニン系、オキソノール系、アントラキノン系、アゾ系、ベンジリデン系の化合物を挙げることができる。
【００１９】
Ｃ．パターニングされた金属箔
金属箔の材料としては、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム、金、銀、プラチナ、タングステン、クロム、チタン等の金属およびその酸化物や、これら金属の２種以上の合金（例えば銅−ニッケル合金、ステンレス等）、さらには金属化合物等の、箔化が可能な金属系材料が用いられる。また、酸化防止等、必要に応じて表面をメッキ処理したものも適宜に用いることができる。これら金属の中で、特に好ましくは、箔化が容易でありかつエッチングが容易なことから、銅、アルミニウム、鉄、ニッケルの合金もしくは金属化合物がよい。また、その厚さはできるだけ薄い方が好ましく、５〜５０μｍ、好ましくは８〜４０μｍ、より好ましくは１０〜２５μｍである。また、本発明における金属箔は、電解材または圧延材でもよい。
【００２０】
本発明におけるパターニングされた金属箔のパターンは、フォトレジスト法により、金属箔に形成される孔の形状および開口率（孔に孔の周囲の金属箔の幅（ライン幅）の１／２を加えた外形面積に対する孔の面積比率）を自由に制御することができる。本発明においては、メッシュパターンの孔の形状が、正多角形、平行四辺形、菱形、円形、楕円形等の形状を少なくとも１種有し、かつこれら孔を囲む現像部すなわち金属箔の縦方向および／または横方向のライン幅が略一定であることが好ましい。このようなメッシュパターンは、言い換えると一定の形状および寸法の多数の孔が規則的に配列されることを可能とし、したがって、どの部分においても一定の機能（光透過性および／または電磁波シールド性等）が発揮される点で重要となってくる。また、本パターニングされた金属箔の光透過性は開口率に概ね比例し、逆に光の遮断性は孔の周囲のライン幅に概ね比例する。
【００２１】
また、本発明におけるパターニングされた金属箔をディスプレイに適用する際には、上記メッシュパターンをディスプレイの画素に対応する形状およびピッチとすることにより、モアレ等の画像障害を防ぐことができる。その好ましい開口率は７０〜９７％、さらに好ましくは８０〜９５％、好ましいライン幅は１０〜５０μｍ、好ましい孔の幅（ライン幅のピッチ）は２００〜３５０μｍである。
【００２２】
本発明におけるパターニングされた金属箔のパターン形成方法としては、例えば、金属箔にパンチング加工により多数の孔を穿設したり、同様の金属箔にフォトレジスト法を用いてエッチング処理を施して多数の孔を穿設したりする方法が挙げられるが、精細度の高い幾何学模様のメッシュパターンを容易に形成することができるため特に後者が好適である。
【００２３】
本発明に用いるパターニングされた金属箔の最適な製造方法を詳述すると、まず、金属箔の両面にフォトレジスト層をラミネートし、一方の面はフォトマスクを用いて所望のメッシュパターンを露光し、他方の面は全面露光により層全体を硬化させる。フォトレジスト層の厚さは１０〜２５μｍ程度が好適であり、また、紫外線の照射量は８０〜１６０ｍＪ程度が好適である。なお、このメッシュパターンの露光は、上記のマスクを用いた紫外線等の照射に代えて、レジスト上にレーザ光を直接照射する印刷手段を用いてもよい。
【００２４】
次いで、マスクを除去し、炭酸ソーダ水溶液等のレジスト除去用の処理液に浸漬して、未露光部のレジストを除去する。これにより、一方の面では露光部のレジストからなるメッシュパターンが金属箔の表面に現像され、他方の面ではエッチング工程の際の保護層が形成される。次に、例えば塩酸中に塩化第二鉄を溶解させたエッチング処理液中に全体を浸漬する化学エッチング等のエッチング手段で未現像部に対応する部分の金属箔をエッチングし、その後、苛性ソーダ希釈液等のレジスト除去用処理液に全体を浸漬して、残っている現像部および保護層としたレジストを一度に除去することにより、金属箔メッシュ単体を得る。
【００２５】
上記フォトレジスト層としては、従来公知の種々のフォトレジストを使用することができるが、光重合タイプの感光性樹脂が好ましく、具体的には、光重合性モノマー、バインダー樹脂、光重合開始剤およびその他の助剤を含んでなる、通常用いられる光硬化性の組成物が好適に用いられる。本発明のパターニングされた金属箔の製造方法においては、特にアルカリ水現像タイプ等のドライフィルムレジストが好適である。
【００２６】
なお、前記フォトレジストには、必要に応じて、増感剤、染料、着色顔料、密着改良剤、重合禁止剤、塗面改良剤、可塑剤等を含有させることができる。また、前記フォトレジストの市販品としては、日本合成化学工業社製のアルフォＮＩＴシリーズ、三京化成社製のＰＭＥＲシリーズ、デュポンジャパン社製のリストンシリーズ等が挙げられる。
【００２７】
また、本発明の複合光学フィルムにおけるパターニングされた金属箔は、ディスプレイの視認性を向上させるために、そのシールド材の前面側（ディスプレイの目視面側）を黒色にすることが好ましい。黒色化処理としては、酸化処理、硫化処理、黒色メッキ処理等の方法が知られているが、具体的には、金属箔メッシュ単体に硫酸によるソフトエッチ処理を行い、金属箔表面の防錆処理膜を除去し、水洗後、水酸化ナトリウムおよび亜塩素酸ナトリウムの水溶液による酸化処理を６５〜７５℃で１０分程度行うことにより、金属箔メッシュを黒色化する。また、本発明における金属箔メッシュは、金属箔表面に粒子径をコントロールした金属メッキを予め行うことにより、金属箔表面を黒色化し、さらに、現像レジスト部を除去する工程の後に、エッチングされた金属箔メッシュを加熱酸化することにより、金属メッキされていない部分の黒色化を行うこともできる。なお、上記のような方法により得られる金属箔メッシュは、粘着剤等を介して基体に貼着された構成ではなく、金属箔メッシュ単体であるので、黒色化処理は両面に施すこともできる。
【００２８】
Ｄ．反射防止フィルム
本発明における反射防止フィルムは、反射防止層をポリエステル等からなる樹脂フィルム上に形成させたものである。反射防止層を形成する方法としては、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチコート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反射防止効果を得ることができる。通常、この反射防止層は、ＳｉＯ２に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２等の高屈折率材料とを交互に蒸着等により成膜する気相法や、ゾルゲル法等によって形成される。
【００２９】
反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ２（ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３（ｎ＝１．４）、ＡｌＦ３（ｎ＝１．４）、Ｎａ３ＡｌＦ６（ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ２（ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系、シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。
【００３０】
さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系および有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ２として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。
また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。
【００３１】
低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーター、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法で高屈折率層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。
【００３２】
高屈折率層においては、屈折率を高くするために高屈折率のバインダー樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダー樹脂に添加することによって行うか、あるいはこれらを併用することによって行う。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
【００３３】
高屈折率層に用いる樹脂は、透明なものであれば任意であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
【００３４】
高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ２（ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ２（ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ２（ｎ＝１．９５）またはＩＴＯ（ｎ＝１．９５）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ２Ｏ３（ｎ＝１．６３）、Ｌａ２Ｏ３（ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ２（ｎ＝２．０５）、Ｙ２Ｏ３（ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの超微粒子は単独または混合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。
【００３５】
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーター、ロールコーター、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させれば良い。
【００３６】
２．製造方法
本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは、まず、上記のようなパターニングされた金属箔および反射防止フィルムを作製する。次に、透明高分子フィルム上に、特定波長をカットする材料を含有した接着剤を塗工し、その表面上に、金属箔および反射防止フィルムを重ね合わせ、真空ラミネータ等により一体化する。ここで、反射防止フィルムの基体側に他の接着剤層を設け、一体化の際に、金属箔を両側から接着剤で挟み込んでもよい。
【００３７】
次いで、一体化された積層体の透明高分子フィルム側に、複合光学フィルム全体の着色を色補正する色材を含有した接着剤層を形成して、本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムが作製される。
【００３８】
【実施例】
次に、本発明に基づく実施例と、本発明に対する比較例とを示し、本発明の効果をより明らかにする。
＜実施例１＞
図１に実施例１のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムの断面を模式的に示した。この実施例１のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは以下のように作製した。まず、厚さ１００μｍのポリエステルフィルム５の片面に静電気防止処理を施し、さらにその表面上に含フッ素樹脂からなる反射防止層６を形成して反射防止フィルム７を作製した。一方、両面を粗化処理した厚さ１５μｍの電解銅箔を格子状にエッチング処理して、ライン幅２０μｍ、ラインピッチ３００μｍの銅メッシュを作製し、電磁波シールド材４とした。次に、透明高分子フィルムである厚さ１００μｍのポリエステルフィルム１上に、ジイモニウム系染料（商品名：ＩＲＧ−０２２、日本化薬社製）を近赤外線カット剤として添加した溶剤型アクリル系粘着剤を塗工し、厚さ３０μｍの第２接着剤層３を形成した。
【００３９】
次いで、この第２接着剤層３上に、電磁波シールド材４および反射防止フィルム７を重ね合わせ、真空ラミネータにて一体化した。さらに、この一体化フィルムのポリエステルフィルム１側に、複合フィルム全体としてニュートラルグレイの色調となるよう、青紫色の着色顔料を添加したアクリル系粘着剤を貼り合わせて、厚さ２５μｍの第１接着剤層２を形成した。その後、第１接着剤層２を介して、上記複合フィルムを厚さ３ｍｍの強化ガラスからなる支持体８に貼り合わせ、実施例１のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムを作製した。
【００４０】
＜実施例２＞
図２に実施例２のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムの断面を模式的に示した。この実施例２のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは以下のように作製した。実施例１と同様に作製した反射防止フィルム７のポリエステルフィルム５の表面上に、ジイモニウム系染料（商品名：ＩＲＧ−０２２、日本化薬社製）を近赤外線カット剤として添加した溶剤型アクリル系粘着剤を塗工して、厚さ２５μｍの第２接着剤層３を形成した。一方、透明高分子フィルムである厚さ１００μｍのポリエステルフィルム１上においても、ジイモニウム系染料（商品名：ＩＲＧ−０２２、日本化薬社製）を近赤外線カット剤として添加した溶剤型アクリル系粘着剤を塗工し、厚さ２５μｍの第２接着剤層３を形成した。
【００４１】
次いで、実施例１と同様に作製した電磁波シールド材４を、上記の反射防止フィルム７と透明高分子フィルム１との間に、第２接着剤層３を介して、透明高分子フィルム１／第２接着剤層３／電磁波シールド材４／第２接着剤層３／反射防止フィルム７の順に重ね合わせ、真空ラミネータにて一体化した。その後、実施例１と同様にして、第１接着剤層２を介して、上記複合フィルムを厚さ３ｍｍの強化ガラスからなる支持体８に貼り合わせ、実施例２のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムを作製した。
【００４２】
＜比較例１＞
図３に比較例１のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムの断面を模式的に示した。この比較例１のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは以下のように作製した。まず、厚さ１００μｍのポリエステルフィルム５の片面に静電気防止処理を施し、さらにその表面上に含フッ素樹脂からなる反射防止層６を形成して反射防止フィルム７を作製した。一方、厚さ１００μｍのポリエステルフィルム１上にポリエステル系接着剤を厚さ１０μｍで塗布して接着剤層９を形成し、その上に厚さ１５μｍの電解銅箔を貼り合せた後、銅箔を格子状にエッチング処理して、ライン幅２０μｍ、ラインピッチ３００μｍの銅メッシュ４を作製し、フィルム付電磁波シールド材１０とした。また、厚さ１００μｍのポリエステルフィルム１１上に近赤外線遮断剤を含有した樹脂層１２を形成して、近赤外線遮断フィルム１３を作製した。
【００４３】
次に、フィルム付電磁波シールド材１０と、近赤外線遮断フィルム１３と、反射防止フィルム７とを、第２接着剤層３および接着剤層１４を介して重ね合わせ、真空ラミネータにて一体化した。さらに、フィルム付電磁波シールド材１０のポリエステルフィルム１側に、複合フィルム全体としてニュートラルグレイの色調となるよう、青紫色の着色顔料を添加したアクリル系粘着剤を貼り合わせて、厚さ２５μｍの第１接着剤層２を形成した。その後、第１接着剤層２を介して、上記複合フィルムを厚さ３ｍｍの強化ガラスからなる支持体８に貼り合わせ、比較例１のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムを作製した。
【００４４】
＜比較例２＞
図４に比較例２のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムの断面を模式的に示した。この比較例２のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは以下のように作製した。まず、厚さ１００μｍのポリエステルフィルム５の片面に静電気防止処理を施し、さらにその表面上に含フッ素樹脂からなる反射防止層６を形成して反射防止フィルム７を作製した。一方、厚さ１００μｍのポリエステルフィルム１にポリエステル系接着剤を厚さ１０μｍで塗布して接着剤層９を形成し、その上に厚さ１５μｍの電解銅箔を貼り合せた。その後、銅箔を格子状にエッチング処理してライン幅２０μｍ、ラインピッチ３００μｍの銅メッシュ４を作製した。次いで、液状のＵＶ硬化型樹脂１５を、この銅メッシュ４の表面から塗布して銅メッシュ４の孔内に満たした後、ＵＶ硬化させ、透明性を改善したフィルム付電磁波シールド材１０を作製した。また、厚さ１００μｍのポリエステルフィルム１１上に近赤外線遮断剤を含有した樹脂層１２を形成して近赤外線遮断フィルム１３を作製した。
【００４５】
次に、フィルム付電磁波シールド材１０と、近赤外線遮断フィルム１３と、反射防止フィルム７とを、第２接着剤層３および接着剤層１４を介して重ね合わせ、真空ラミネータにて一体化した。さらに、フィルム付電磁波シールド材１０のポリエステルフィルム１側に、複合フィルム全体としてニュートラルグレイの色調となるよう、青紫色の着色顔料を添加したアクリル系粘着剤を貼り合わせて、厚さ２５μｍの第１接着剤層２を形成した。その後、第１接着剤層２を介して、上記複合フィルムを厚さ３ｍｍの強化ガラスからなる支持体８に貼り合わせ、比較例２のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムを作製した。
【００４６】
＜評価＞
上記のようにして作製された実施例１および２のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは、簡単な層構成で形成でき、これにより、ヘイズが小さく良好な透明性が得られた。
【００４７】
これに対し、比較例１のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは、銅箔を貼り合せる際に、接着剤層９の表面が、銅箔の粗面に対応して粗化状態となるため、接着剤層９と第２接着剤層３との界面でややヘイズが上昇した。また、上記実施例の層構成よりも多いことに起因したヘイズの上昇も見られた。その結果、実施例１および２の複合光学フィルムよりも透明性が劣る結果であった。
【００４８】
また、比較例２のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムは、液状のＵＶ硬化樹脂１５を設けることにより、接着剤層９表面の粗化状態を解消することができるため、界面におけるヘイズの上昇は防止できたが、上記実施例の層構成よりも多いことに起因したヘイズの上昇のため、やや透明性が劣る結果であった。さらに、比較例２の複合光学フィルムでは、工程の複雑化による製造コストの上昇や、電磁波シールド材の支持フィルム（ポリエステルフィルム）にスリキズがつきやすいことによる良品歩留低下が確認された。
【００４９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムによれば、簡素化された層構成とすることにより優れた光透過性および視認性が得られるのは勿論のこと、反射防止性等の光学特性と共に電磁波遮断性を併せ持つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムの一実施形態である。
【図２】本発明のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムの他の実施形態である。
【図３】従来のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムの一例である。
【図４】従来のプラズマディスプレイ用複合光学フィルムの他の例である。
【符号の説明】
１…ポリエステルフィルム、２…第１接着剤層、３…第２接着剤層、
４…電磁波シールド材、５…ポリエステルフィルム、６…反射防止層、
７…反射防止フィルム、８…支持体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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