(57)【要約】【課題】液状材料を用いて所望パターンを形成するときに、製造時間を短縮することができるとともに、製造コストを削減することができる微細構造物の製造方法、光学素子、集積回路及び電子機器を提供する。【解決手段】基板１０の表面に、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成するときに、基板もしくは親液膜１２を設けた基板上に撥液処理を施して撥液膜１１を設ける。その後、所望パターン領域内に複数の島状の撥液部もしくは複数の島状の親液部を形成することを特徴とする。【選択図】        図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物の製造方法において、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設けることを特徴とする微細構造物の製造方法。
【請求項２】
前記複数の撥液部が、単一形状もしくは複数形状の島状であることを特徴とする請求項１に記載の微細構造物の製造方法。
【請求項３】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物の製造方法において、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設けることを特徴とする微細構造物の製造方法。
【請求項４】
前記複数の親液部が、単一形状もしくは複数形状の島状であることを特徴とする請求項３に記載の微細構造物の製造方法。
【請求項５】
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、
前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程とを有することを特徴とする微細構造物の製造方法。
【請求項６】
前記親液処理と前記撥液処理を行った後に、前記パターンの領域に前記液状材料を充填し、前記液状材料について、少なくとも乾燥又は焼成を行うことで、前記液状材料が充填された領域に前記パターンを形成することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の微細構造物の製造方法。
【請求項７】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備えるデバイスであって、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とするデバイス。
【請求項８】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備えるデバイスであって、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とするデバイス。
【請求項９】
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、
前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とするデバイス。
【請求項１０】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える光学素子であって、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする光学素子。
【請求項１１】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える光学素子であって、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする光学素子。
【請求項１２】
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、
前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする光学素子。
【請求項１３】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える集積回路であって、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする集積回路。
【請求項１４】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える集積回路であって、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする集積回路。
【請求項１５】
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、
前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程と
を有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする集積回路。
【請求項１６】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える電子機器であって、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする電子機器。
【請求項１７】
基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える電子機器であって、
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする電子機器。
【請求項１８】
液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、
前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液状材料により所望のパターンを形成するときに好適である微細構造物の製造方法、デバイス、光学素子、集積回路及び電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、カラーフィルタなどの光学素子の画素又は半導体集積回路の配線パターンなど微細なパターンを形成する方法としては、次に述べる方法がある。例えば半導体ウェハの表面に配線を形成するためには、先ず、絶縁膜が形成された半導体ウェハの表面にプラズマＣＶＤを行い、配線層を絶縁膜の上層に形成する。尚、配線層はスパッタリングを用いて形成してもよい。
【０００３】
次いで、配線層の上層にフォトレジストを塗布してレジスト膜を形成する。次いで、感光工程及びフォトエッチング工程を行うことで、レジスト膜を所望形状にパターニングする。次いで、レジスト膜をマスクとして配線層のエッチングを行う。こうしてレジスト膜の下層のみに配線層を残し、その後、溶剤によってレジスト膜を除去することで、所望形状の配線パターンが形成される。
しかしながら、従来の微細パターンの形成方法では、上記のように処理工程が多数必要となって製造時間が長期化するとともに、製造に大きなエネルギーが必要になるという問題点があった。
【０００４】
ところで、従来における他の微細パターンの形成方法としては、基板上における所望パターン内に液状材料を閉塞（充填）し、その後、乾燥及び焼成を行うという方法がある。その方法では、先ず、所望パターンの内側領域については親液処理を施して親液領域を形成し、所望パターンの外側領域については撥液処理を施して撥液領域を形成する。その後に、撥液領域で囲まれた親液領域に液状材料を充填することで、所望パターン内に液状材料を充填する（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１０−１２３５００号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の微細パターンの形成方法では、例えば、シリコン基板などの被処理面全体にフッ素膜などを形成する撥液処理を施し、その後に、撥液処理された被処理面における所望パターン領域にのみ紫外線などを照射することで、そのパターン領域のフッ素膜を除去し接触角を低下させた後、液体材料をパターン内に充填すると、十分な充填量が得られないという問題点があった。
【０００７】
その理由は、所望パターン内に液体材料を行き渡らせるために、そのパターン内の接触角を低下させ液体材料に対する濡れ性を向上させると、充填した液体材料がそのパターン外に濡れ広がる力が大きくなるために、ある程度以上の液体材料を充填すると所望パターンから液体材料がはみ出してしまい、十分な充填量が得られないためである。
【０００８】
また、上記従来の微細パターンの形成方法では、液体材料の充填量を増加させるために所望パターン内の接触角を高くすると、そのパターン内の濡れ性が低下し液体材料が所望パターン内に行き渡らないため、乾燥焼成後の膜厚が不均一となる。所望パターン内に液体材料を行き渡らせようとしてそのパターン内に多量の液体材料を滴下すると、所望パターン内で液体材料が十分に行き渡らないうちにそのパターンの境界で液体材料がはみ出してしまい、例えば、液晶カラーフィルタの製造工程では、画素間の混色が起こるという問題が生じる。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解消して、所望のパターンを形成するときに、所望のパターン内への液体材料の充填量を増加させることができるとともに、製造コストを削減することができる微細構造物の製造方法、デバイス、光学素子、集積回路及び電子機器を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上述の目的は、第１の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物の製造方法において、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設けることを特徴とする微細構造物の製造方法により、達成される。
上記構成によれば、そのパターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設けている。このようにパターン内に親液性の部分と撥液部とを両方設けるので、所望のパターン内に一様な親液領域を設ける手法よりも液体材料の充填性が向上し、製造時間の短縮化及び製造コストの低減化を図ることができる。また、上記構成によれば、所望形状のパターンを形成するときに、フォトエッチング工程などを省略することが可能となるので、従来よりも製造時間を短縮することができるとともに、製造に必要となるエネルギーを削減することができ、製造コストを低減することができる。
【００１１】
第２の発明は、第１の発明の構成において、上記構成において、前記複数の撥液部が、単一形状もしくは複数形状の島状であることを特徴とする。
上記構成によれば、さまざまな所望パターンの形状に対して、そのパターン内の島状の撥液部の配列を、単一形状もしくは複数形状の島状の配列を用いて最適化することにより、パターン内の濡れ性と充填性の両方を高めることができ、従来よりも製造時間を短縮することができるとともに、製造に必要となるエネルギーを削減することができ、製造コストを低減することができる。
【００１２】
上述の目的は、第３の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物の製造方法において、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設けることを特徴とする微細構造物の製造方法により、達成される。
上記構成によれば、そのパターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設けている。このようにパターン内に撥液性の部分と親液部とを両方設けるので、所望のパターン内に一様な親液領域を設ける手法よりも液体材料の充填性が向上し、製造時間の短縮化及び製造コストの低減化を図ることができる。また、上記構成によれば、所望形状のパターンを形成するときに、フォトエッチング工程などを省略することが可能となるので、従来よりも製造時間を短縮することができるとともに、製造に必要となるエネルギーを削減することができ、製造コストを低減することができる。
【００１３】
第４の発明は、第３の発明の構成において、前記複数の親液部が、単一形状もしくは複数形状の島状であることを特徴とする。
上記構成によれば、さまざまな所望パターンの形状に対して、そのパターン内の島状の親液部の配列を、単一形状もしくは複数形状の島状の配列を用いて最適化することにより、パターン内の濡れ性と充填性の両方を高めることができ、従来よりも製造時間を短縮することができるとともに、製造に必要となるエネルギーを削減することができ、製造コストを低減することができる。
【００１４】
上述の目的は、第５の発明によれば、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程とを有することを特徴とする微細構造物の製造方法により、達成される。
上記構成によれば、所望形状のパターンを形成するときに、フォトエッチング工程などを省略することが可能となるので、従来よりも製造工程を簡素化して製造時間を短縮することができるとともに、製造に必要となるエネルギーを削減することができ、製造コストを低減することができる。
【００１５】
第６の発明は、第１の発明ないし第５の発明のいずれか構成において、前記親液処理と前記撥液処理を行った後に、前記パターンの領域に前記液状材料を充填し、前記液状材料について、少なくとも乾燥又は焼成を行うことで、前記液状材料が充填された領域に前記パターンを形成することを特徴とする。
上記構成によれば、撥液膜の領域に囲まれた親液膜の領域上に液状材料を充填し乾燥又は焼成をすることで、所望のパターンを簡易且つ迅速に設けることができる。
【００１６】
上述の目的は、第７の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備えるデバイスであって、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とするデバイスにより、達成される。
【００１７】
上述の目的は、第８の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備えるデバイスであって、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とするデバイスにより、達成される。
【００１８】
上述の目的は、第９の発明によれば、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とするデバイスにより、達成される。
【００１９】
上述の目的は、第１０の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える光学素子であって、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする光学素子により、達成される。
【００２０】
上述の目的は、第１１の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える光学素子であって、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする光学素子により、達成される。
【００２１】
上述の目的は、第１２の発明によれば、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする光学素子により、達成される。
【００２２】
上述の目的は、第１３の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える集積回路であって、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする集積回路により、達成される。
【００２３】
上述の目的は、第１４の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える集積回路であって、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする集積回路により、達成される。
【００２４】
上述の目的は、第１５の発明によれば、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする集積回路により、達成される。
【００２５】
上述の目的は、第１６の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える電子機器であって、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を親液性とし、そのパターン中に複数の撥液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする電子機器により、達成される。
【００２６】
上述の目的は、第１７の発明によれば、基板上に機能性膜を形成した微細構造物を備える電子機器であって、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記パターン外の領域に前記液状材料に対して撥液性を有する撥液部を設け、前記パターン内の領域を撥液性とし、そのパターン中に複数の親液部を設ける微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする電子機器により、達成される。
【００２７】
上述の目的は、第１８の発明によれば、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成しようとする部材の被処理面に、前記液状材料に対して親液性となるように親液処理を施して親液膜を設ける親液膜形成工程と、前記被処理面に、前記液状材料に対して撥液性となるように撥液処理を施して撥液膜を設ける撥液膜形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする電子機器により、達成される。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を図面に基づいて説明する。
本実施形態では、微細構造物の一例としてカラーフィルタの画素を挙げて説明する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る微細構造物の製造方法の手順の一例を示す模式断面図である。図１（ａ）〜図（ｃ）及び図１（ｄ）〜図１（ｄ）では、それぞれ被処理面である基板１０の上面に、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成するときの主要工程を示している。
【００２９】
基板１０としては、例えば、シリコン又はプラスチックからなる透明な基板を採用する。そして、先ず、図１（ａ）に示すように基板１０の上面全体に撥液膜１１を形成する。また、所望パターン内の濡れ性を向上させるために、図１（ｄ）に示すように基板１０の上面全体に親液膜１２を形成した後に、その親液膜１２の上面全体に撥液膜１１を形成するようにしても良い。
【００３０】
撥液膜１１は、例えば有機膜で形成してもよく、好適にはフッ素を含有した有機膜で形成する。これらの有機膜は、例えばプラズマもしくは光などの電磁波を用いた重合により形成することができる。また、撥液膜１１は、例えばフッ素含有のプラズマなどの活性ガス、もしくは液体に晒されることで、表面が改質されることで形成したものでもよい。ここでは、例えば活性化したフッ素などを含む雰囲気中に、基板１０を入れることで、フッ素樹脂重合膜からなる撥液膜１１を形成する。
【００３１】
親液膜１２の形成は、例えば、ポリエチレン層を基板１０上面に形成するものとする。また、親液膜１２の形成は、例えば基板１０に電磁波を照射することで行ってもよい。ここで、電磁波としては、例えば紫外線又はレーザー光線が好ましい。これにより、基板１０の表面に付着している有機物などが分解除去され、基板１０が洗浄化される。尚、基板１０を配置したチャンバ内に、例えば酸素ガスを導入し、紫外線により酸素ガスを活性化して有機物と反応させれば、有機物の除去を促進することができる。また、紫外線の照射により基板１０の表面の水分が蒸発するので、基板１０全面について洗浄と同時に親液処理が行われる。また、親液膜１２は、例えば有機膜で形成してもよい。この有機膜はプラズマもしくは光などの電磁波を用いた重合により形成することができる。
【００３２】
次いで、撥液膜１１のパターニングを行う。図１（ｂ）と図１（ｅ）に示すように、基板１０の上面（撥液膜１１の上）に別体のマスクである露光用マスク１５ａを配置し、さらに露光用マスク１５ａの上方から電磁波を照射することで、撥液膜１１の所望領域上の撥液膜の一部を分解除去し、所望パターンを形成することができる。
【００３３】
ここで、露光用マスク１５ａは、所望形状のパターンを形成する領域を覆うように配置される。露光用マスク１５ａは、例えば２ｍｍ程度のガラス基板１５ｂ上に、例えば１５０ｎｍ程度のＣｒ膜１５ｃがパターニングされた板状部材であり、アライメント機構によって正確に配置される。尚、投影露光としては、好適には露光用マスク１５ａと親液膜１２の間に隙間が有る方が望ましいが、露光用マスク１５ａは親液膜１２に密着していても良い。
【００３４】
次いで、図１（ｃ）と図１（ｆ）に示すように、基板１０の上面から露光用マスク１５ａを取り外す。これにより、露光用マスク１５ａ上にＣｒ膜１５ｃが配置されていない領域の撥液膜１１が、基板１０の親液膜１２上から分解除去され親液化される。
【００３５】
図２は、図１で形成した所望パターン領域内を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察したときの写真を模式化して図示した構成例を示す斜視図である。図１（ｃ）に対応する図２（ａ）では、表面が平坦になっているのに対して、図１（ｆ）に対応する図２（ｂ）では、表面に島状の凹凸が観察された。この残留物質は、上記撥液膜１１の一部であり、撥液膜１１が形成された際の表面凹凸により、電磁波照射後に凸形状の部分が残留したものと考えられる。
【００３６】
このようにパターン内において複数の撥液部１１が、単一形状若しくは複数形状の島状となるように設けられていると、さまざまな所望パターンの形状に対して、そのパターン内の島状の撥液部１１の配列を、単一形状もしくは複数形状の島状の配列を用いて最適化することにより、パターン内の濡れ性と充填性の両方を高めることができ、従来よりも製造時間を短縮することができるとともに、製造に必要となるエネルギーを削減することができ、製造コストを低減することができる。
【００３７】
その後、撥液膜１１の領域に囲まれた領域に液状材料（図示せず）が充填される。液体材料２０の充填（塗布）は、例えば液滴吐出方式、ＬＳＭＣＤ（液体ミスト化学堆積法：Ｌｉｑｕｉｄ  Ｓｏｕｒｃｅ  Ｍｉｓｔｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）のようにミスト状液体材料を供給する方式又は、例えばダイレクト塗布方式（ＣａｐＣｏａｔ）用いて行うことが好ましい。このようにすれば、液体材料の必要量を低減することができるとともに、製造工程を簡略化することができる。
【００３８】
液状材料は、例えば、有機系の液材であって、カラーフィルタの画素を形成するための顔料を含んだ溶剤とする。尚、顔料は、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、又は例えばＣ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）、Ｙ（イエロ）のいずれかの色素を含むものとする。液状材料の充填は、例えば、インクジェットノズルなどから液状材料を吐出させて、撥液膜１１に囲まれた領域にその液状材料を滴下することで行う。
【００３９】
ここで、液状材料を滴下する位置は、撥液膜１１に囲まれた領域（所望パターン）の中心とすることが好ましい。その理由は、かかる所望パターンの全体にくまなく液状材料を行き渡らすためである。
その後、基板１０について乾燥及び焼成することで、液状材料の溶剤を蒸発させて、Ｒ、Ｇ、Ｂ又はＣ、Ｍ、Ｙのいずれかの色の光のみを透過させるカラーフィルタの１画素（パターン）が形成される。
【００４０】
一方、逆にパターン内において複数の撥液部１１の代わりに複数の親液部１２が、単一形状若しくは複数形状の島状となるように設けられていると、さまざまな所望パターンの形状に対して、そのパターン内の島状の親液部１２の配列を、単一形状もしくは複数形状の島状の配列を用いて最適化することにより、パターン内の濡れ性と充填性の両方を高めることができ、従来よりも製造時間を短縮することができるとともに、製造に必要となるエネルギーを削減することができ、製造コストを低減することができる。
【００４１】
以下に、上記微細構造物の製造方法によりで作製し、パターニングされた基板上の、上記パターン領域に液体材料を滴下した際の実験結果を示す。
図３は、上記パターン領域に液体材料を滴下した時の顕微鏡写真を模式化した図の一例を示す断面図である。図３（ａ）と図３（ｂ）は、それぞれ図１（ｃ）と図１（ｆ）で形成された基板に対応している。
【００４２】
この時の液体材料９９の接触角は、図３（ａ）と図３（ｂ）ともに、上記パターン領域内の接触角は例えば２０ｄｅｇであり、上記パターン領域外の接触角は例えば６０ｄｅｇであった。ここで「接触角」とは、液体材料の端部における接線方向、液体材料が接触している被接触面と液体材料の端部の接線方向とがなす液体材料側の角度をいう。
【００４３】
図３（ａ）に示すように、撥液膜１１の１層のみをパターニングした構造では、液体材料９９が所望パターン領域全体に行き渡らないうちに、４辺から液体材料９９がそのパターン領域からはみ出して回りの撥液領域に濡れ広がっていることが分かる。これに対して、図３（ｂ）に示すように、親液膜１２上の撥液膜１１をパターニングした構造では、液体材料９９が所望パターン内全体に濡れ広がっていることが分かる。また、このときの滴下量は、例えば図３（ａ）の約２倍である。
【００４４】
これにより、撥液膜１１の１層（図１（ｃ））と比較して親液膜１２と撥液膜１１を積層した２層膜（図１（ｆ））の方が、所望パターン内の濡れ性が増加し充填量が多くなるのは、図２において確認されているように、撥液膜１１の下層に親液膜１２が存在することにより所望パターン内の濡れ性が増加し、且つ表面に撥液膜１１が残留することによって、液体材料９９を上向きに支える力が増加するためである。
【００４５】
これらにより、本発明の第１実施形態によれば、所望形状のパターンを形成するときに、カラーフィルタの画素を形成するための顔料を含んだ感光性樹脂をパターニングする従来のフォトエッチング工程などを省略することが可能となるので、従来よりも製造時間を短縮することができるとともに、製造に必要となるエネルギーを削減することができ、製造コストを低減することができる。
また、本発明の第１実施形態によれば、図１（ｄ）に示すように被処理面である基板１０の表面全体に親液膜１２を設けることで、例えば、被処理面が洗浄されその汚染を防止することも可能となるので、良好に所望のパターンを形成することができる。
【００４６】
また、本発明の第１実施形態によれば、親液膜１２の上に撥液膜１１を設けるので、撥液膜１２のパターニング後の所望パターン内の濡れ性が向上し、そのパターン内に液体材料を充填して膜を形成したときの膜厚の均一性が向上する。
また、本発明の第１実施形態によれば、所望パターン内に微細な島状の撥液膜１１が残留するため、そのパターン内に複数の撥液部１１と親液部１２とを形成することができる。尚、この撥液膜１１の島の面積と数は、撥液膜１１の表面モホロジーを制御することによって変えることができる。
【００４７】
＜第２実施形態＞
図４は、本発明の第２実施形態に係る微細構造物の製造方法の手順の一例を示す模式断面図である。
本発明の第２実施形態としての微細構造物の製造方法では、図１において第１実施形態としての微細構造物の製造方法と同一の符号を付した箇所はほぼ同じ構成であるから、同一の構成は図１と共通の符号を用いてその説明を省略し、異なる点を中心として説明する。
【００４８】
図４（ａ）〜図４（ｃ）における手順は、それぞれ図１（ｄ）〜図１（ｆ）における手順とほぼ同様であるので、同じ手順の部分は同一の符号を用いて、その説明を省略し、以下異なる点を中心として説明する。
図４では、被処理面である基板１０の上面に、液状材料を用いて所望形状のパターンを形成するときの主要工程を示している。
【００４９】
第２実施形態では、第１実施形態と同様に、先ず、図４（ａ）に示すように基板１０の上面全体に親液膜１２を形成した後、その親液膜１２の上面全体に撥液膜１１を形成する。
次いで、撥液膜のパターニングを行う。図４（ｂ）に示すように、基板１０の上面（撥液膜１１の上）に別体のマスクである露光用マスク１５ａを配置し、さらに露光用マスク１５ｂの上方から電磁波を照射することで、撥液膜１１の所望領域上の撥液膜１１の一部を分解除去し、所望パターン内に図５のような島状の撥液部１１ａを規則的に配列したパターンを形成する。
【００５０】
ここでは、一例として、図５に示すように、所望パターン内に四角形の撥液部を規則正しく配列したが、撥液部１１ａの形状は四角形に限らず、例えば円形でも多角形にしても良い。尚、この所望パターン内の撥液部１１ａは不規則な配列としても良いし、この所望パターン内の撥液部１１ａと親液部を格子状に配列しても良い。また、この所望パターン内の撥液部１１ａと親液部を入れ替えたパターンとしても良い。
【００５１】
次いで、図４（ｃ）に示すように、基板１０の上面から露光用マスク１５ｂを取り外す。これにより、露光用マスク１５ｂのＣｒ膜１５ｃが配置されていない領域の下部にある撥液膜１１が分解除去され親液膜１２が露出する。次いで、第１実施形態と同様に、撥液膜１１の領域に囲まれた領域に液状材料（図示せず）を充填する。その後、第１実施形態と同様に基板１０について乾燥及び焼成することで、液状材料の溶剤を蒸発させて、Ｒ、Ｇ、Ｂ又はＣ、Ｍ、Ｙのいずれかの色の光のみを透過させるカラーフィルタの１画素（パターン）が形成される。
【００５２】
本発明の第２実施形態によれば、第１実施形態とほぼ同様の効果を発揮することができるとともに、これに加えて、図４における撥液膜１１のパターニング工程によって、所望パターン内に複数の撥液部１１ａもしくは親液部を設けることによって、第１実施形態での撥液膜１１の表面凹凸を利用する方法と比較して、より制御性良く所望パターン内の撥液部１１ａと親液部を形成することができる。
【００５３】
第１実施形態における図１（ｄ）、図１（ｅ）、図１（ｆ）による方法では、撥液膜１１の表面凹凸と電磁波の照射時間によって撥液部１１ａと親液部の形状と配列を制御する必要があるため、所望パターンを再現性良く形成することが難しい。これに対して、本発明の第２実施形態によれば、撥液膜１１の表面状態や膜厚が多少変動してもマスクパターンによって撥液部１１ａと親液部の形状と配列が決まるため、再現性良く所望パターンを形成することができ、大量生産に適用しやすい形成方法といえる。
【００５４】
＜具体的処理例＞
次に、上記実施形態における図１（ａ）、図１（ｄ）及び図４（ａ）に示す撥液膜１１の形成方法の一例について、図６を参照して具体的に説明する。
図６は、撥液膜１１である重合膜を形成する撥液処理装置１３０の一例を示す概念図である。
撥液処理装置１３０は、処理室１３１を有し、処理室１３１内に設けた処理ステージ１３２の上に、シリコンウエハなどの被処置物である基板１０を配置するようにしている。そして、処理室１３１の上下には高周波電極１３４が配置されており、高周波電極１３４の一方は高周波電源１３５に接続されており、もう一方は接地されている。
【００５５】
また、処理室１３１には、流量制御弁１１２を備えた供給配管１０２を介して、処理ガス供給部１０４が接続されている。この処理ガス供給部１０４は、Ｃ４Ｆ１０やＣ８Ｆ１８などの直鎖状ＰＦＣを含有する液体有機物１０６を貯留する容器１０８を有している。そして、容器１０８には、加熱部となるヒータ１１０が設けてあり、液体有機物１０６を加熱して気化できるようになっている。また、供給配管１０２の流量制御弁１１２の下流側には、流量制御弁１１４を備えたキャリア配管１１６を介して、キャリアガス供給部１１８が接続している。このキャリアガスには窒素やアルゴンなどの不活性なガスを使用する。
【００５６】
尚、図６の破線に示すように、供給配管１０２には、流量制御弁１２０を有する配管１２２を介して、第２処理ガス供給部１２４を接続することもできる。この場合には、第２ガス処理供給部１２４から例えばＣＦ４を第２処理ガスとして液体有機物１０６の蒸気に添加する。処理室１３１では、この有機物蒸気とＣＦ４との混合ガスをプラズマ化する。すると、例えば活性化したフッ素が液体有機物１０６の蒸気と反応し、基板１０の表面で重合させた膜中のフッ素脱離部分に取り込まれて、重合膜の撥液性を向上させることができる。
【００５７】
上記実施形態における撥液膜１１としては、例えばフッ素含有の有機物を形成部材として用いることができる。具体的には、重合膜を形成するフロリナート等としてＣ８Ｆ１８、Ｃ７Ｆ１６、Ｃ６Ｄ１４、Ｃ５Ｆ１２などを撥液膜１１の形成部材として用いることができる。また、ＰＦＣガスであるＣ４Ｆ８などを撥液膜１１の形成部材として用いることができる。また、界面活性剤（例えばＤｙｎａＳｙｌａｎ−Ｆ−８２６３又はＤｙｎａＳｙｌａｎ−Ｆ−８２６１など）を撥液膜１１の形成部材として用いてもよい。
【００５８】
次に、上記実施形態における図１（ｄ）及び図４（ａ）に示す親液膜１２の形成方法の一例について、図７を参照して具体的に説明する。
図７は、親液膜形成装置の一例を示す概念図である。本親液膜形成装置は、例えばｎ−デカンを含むヘリウム（Ｈｅ）ガスを大気圧でプラズマ化し、そのプラズマを図１（ｄ）及び図４（ａ）に示す基板１０に照射することで、基板１０上に親液膜１２を形成するものである。
【００５９】
本親液膜形成装置において、例えば流量１００ｃｃ／ｍｉｎのヘリウムガス３１が、容器３２の中に存在するｎ−デカン溶液の中に入れられる。このバブリングによってｎ−デカンを含んだヘリウムガスは、容器３２から第１電極３４に送られる。また、第１電極３４には、例えば流量１０［ｌ／ｍｉｎ］のヘリウムガス３３が送られる。
【００６０】
さらに、第１電極３４には、高周波電源３６から例えば周波数１３．５６［ＭＨｚ］の高周波電圧が印加される。ここで、高周波電源３６から第１電極３４に供給される電力は、例えば４００Ｗとする。第１電極３４に対向する位置には、第２電極として機能するステージ３８が配置されている。
【００６１】
ステージ３８は、第１電極３４の下端と所定の間隔を保ちながら水平方向に移動可能である。第１電極３４とステージ（第２電極）３８との間隔（ギャップ）ｄは、例えば１ｍｍとする。ステージ３８の移動速度すなわち基板１０の搬送速度は、例えば、０．４６ｍｍ／ｓｅｃとする。そして、ステージ３８の上には被処理物である基板１０が置かれる。また、基板１０の上面全体には例えば撥液膜１２が設けられており、その撥液膜１１の上にメタルマスク（図示せず）が配置されている。
【００６２】
第１電極３４に入れられたｎ−デカンを含んだヘリウムガス３５は、高周波電圧が印加されたその電極３４からプラズマ化されて放出され、メタルマスクを介して基板１０上面の撥液膜１１に照射する。これにより、基板１０上面の撥液膜における所望パターン領域に親液膜が形成される。そして、基板１０はステージ３８とともに水平方向に移動するので、基板１０の上面全体に親液膜を形成することができる。
【００６３】
次に、上記実施形態における図１（ｂ）、図１（ｅ）及び図４（ｂ）に示すパターニング方法の一例について、図８を参照して説明する。図８は、紫外線を照射して撥液膜１１のパターニングを行うＵＶ露光装置（紫外線照射装置）の一例を示す図である。図８中符号１５０は紫外線照射装置である。
【００６４】
この紫外線照射装置１５０は、局所排気フード１５１、この局所排気フード１５１内の上方に配設されたランプハウス１５２と、ランプハウス１５２内に配置されたＵＶ光源１５３と、ランプハウス１５２の底面に設けられた合成石英（石英ガラス）１５４とを備えて構成されたものである。ここで、ＵＶ光源１５３としては、例えば照射する紫外線（ＵＶ光線）の波長を１７２ｎｍとするキセノン（Ｘｅ）ランプが好適に用いられる。尚、ランプハウス１５２内には、窒素源１５５から流量計１５６を介して窒素が供給されるようになっており、またこのランプハウス内１５２からは排気がなされるようになっている。
【００６５】
また、局所排気フード１５１内において、合成石英１５４の下方にはホルダ１５７が設けられている。ホルダ１５７は箱状に形成されたもので、その上部開口部に合成石英（石英ガラス）１５８が着脱可能に取り付けられるようになっている。このような構成のもとに、このホルダ１５７の内部には基板１０が出し入れ可能に納められるようになっており、また基板１０を納めた状態で上部開口部が封止されるようになっている。
【００６６】
このようなＵＶ露光装置によって図１（ｂ）、図１（ｅ）及び図４（ｂ）に示すように基板１０の上面に設けられた撥液膜１１を分解除去しパターニングを行うためには、まず、図８に示すように撥液膜１１を設けた基板１０の上部にマスク１５ａを配置する。その後、撥液膜１１を設けた基板１０を、ホルダ１５７に入れた状態のままで、ホルダ１５７内の雰囲気を窒素雰囲気に変える。
【００６７】
その後、図１（ｂ）に示すようにマスク１５ａをそのままにした状態のもとで、図８のＵＶ光源１５３より紫外線を照射する。すると、撥液膜１２が分解し揮発除去される。このようなＵＶ露光を所定時間行った後、ホルダ１５７内への窒素の導入を停止するとともに、紫外線の照射も停止する。
そして、基板１０上からマスク１５ａを外し、図８のホルダ１５７から取り出すことにより、図１（ｃ）、図１（ｆ）及び図４（ｃ）に示すように撥液膜１１上の所望パターン領域に、液体材料に対する接触角が低下した親液部が形成された基板１０を得る。
【００６８】
上記のようにして図６乃至図８に示す装置によってパターニング形成されたパターン内に上記液体材料を滴下し、充填量を測定した一例について述べる。ここで、充填量は、上記液体材料を上記パターン内に滴下した際に、そのパターンの境界からはみ出すまでに滴下した液体材料の質量とする。また、親液性は、測定面に上記液状材料を滴下し、その液状材料と測定面との接触角［ｄｅｇ］を測定することで求める。
【００６９】
この接触角が大きければその測定面の親液性は低く（撥液性が高く）、接触角が小さければその測定面の親液性は高い（撥液性が低い）ことがわかる。基板１０上に撥液膜１１を設けたままの初期状態では、接触角が例えば６０ｄｅｇである。また、第１実施形態と第２実施形態において、パターニングを行った後（図１（ｃ）、図１（ｆ）、図４（ｃ））の所望パターン内の接触角を、紫外線照射時間を制御することによって例えば２０ｄｅｇにそろえた。
【００７０】
上記のように形成した所望パターン内に、液体材料を滴下して測定した充填量は以下の通りである。
１）第１実施形態（図１（ｃ））での、所望パターン内の充填量は例えば６０［ｎｇ］であった。
２）第１実施形態（図１（ｆ））での、所望パターン内の充填量は例えば１２０［ｎｇ］であった。
３）第２実施形態（図４（ｃ））での、所望パターン内の充填量は例えば１４０［ｎｇ］であった。
これらの測定結果により、図６乃至図８に示す装置によって所望パターン内に島状の撥液部もしくは島状の親液部を設けることによって、従来のバンクを用いた液晶工程と同等の充填量が得られることが示された。
【００７１】
＜カラーフィルタの製造プロセス＞
次に、上記実施形態の微細構造物の製造方法を用いてカラーフィルタを製造する例について、図９を参照しつつ説明する。
図９の基板２００は、例えば透明基板であり、適度の機械的強度と共に光透過性の高いものを用いる。基板２００としては、例えば、透明ガラス基板、アクリルガラス、プラスチック基板、プラスチックフィルム及びこれらの表面処理品等が適用できる。
【００７２】
例えば、長方形形状の基板２００上に、生産性をあげる観点から複数個のカラーフィルタ領域２０５をマトリックス状に形成する。これらのカラーフィルタ領域２０５は、後でガラス２００を切断することで、液晶表示デバイスに適合するカラーフィルタとして用いることができる。
カラーフィルタ領域２０５には、例えば図９に示すように、Ｒの液体とＧの液体及びＢの液体を所定のパターンで形成して配置している。この形成パターンとしては、例えば従来のストライプ型のほかに、例えばモザイク型やデルタ型あるいはスクウェアー型等がある。
【００７３】
＜ＥＬ表示デバイスの製造プロセス＞
次に、上記実施形態の微細構造物の製造方法を用いてＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示デバイスを製造する例について図１０を参照して説明する。
ＥＬ表示デバイスは、蛍光性の無機及び有機化合物を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有し、上記薄膜に電子及び正孔（ホール）を注入して再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用して発光させる素子である。
【００７４】
こうしたＥＬ表示素子に用いられる蛍光性材料のうち、赤、緑及び青色の発光色を呈する材料を本発明のデバイス製造装置を用いて、ＴＦＴ等の素子基板上に液滴吐出パターニングすることで、自発光フルカラーＥＬ表示デバイスを製造することができる。本発明におけるデバイスの範囲には、このようなＥＬ表示デバイスの基板をも含むものである。
【００７５】
図１０は、上記のような本実施形態の製造方法が適用されるデバイスの一例としての、有機ＥＬ装置３０１の断面図を示した図である。
図１０に示すようにこの有機ＥＬ装置３０１は、基板３１１、回路素子部３２１、画素電極３３１、バンク部３４１、発光素子３５１、陰極３６１（対向電極）、及び封止基板３７１から構成された有機ＥＬ素子３０２に、フレキシブル基板（図示略）の配線及び駆動ＩＣ（図示略）を接続したものである。
【００７６】
回路素子部３２１は基板３１１上に形成され、複数の画素電極３３１が回路素子部３２１上に整列している。そして、各画素電極３３１間にはバンク部３４１が格子状に形成されており、バンク部３４１により生じた凹部開口３４４には、発光素子３５１が形成されている。陰極３６１は、バンク部３４１及び発光素子３５１の上部全面に形成され、陰極３６１の上には封止用基板３７１が積層されている。
【００７７】
有機ＥＬ素子３０２を含む有機ＥＬ装置３０１の製造プロセスは、バンク部３４１を形成するバンク部形成工程と、発光素子３５１を適切に形成するためのプラズマ処理工程と、発光素子３５１を形成する発光素子形成工程と、陰極３６１を形成する対向電極形成工程と、封止用基板３７１を陰極３６１上に積層して封止する封止工程とを備えている。
【００７８】
発光素子形成工程は、凹部開口３４４、すなわち画素電極３３１上に正孔注入／輸送層３５２及び発光層３５３を形成することにより発光素子３５１を形成するもので、正孔注入／輸送層形成工程と発光素子形成工程とを具備している。
正孔注入／輸送層形成工程は、正孔注入／輸送層３５２を形成するための第１組成物（機能液）を各画素電極３３１上に吐出する第１液滴吐出工程と、吐出された第１組成物を乾燥させて正孔注入／輸送層３５２を形成する第１乾燥工程とを有する。
【００７９】
発光素子形成工程は、発光層３５３を形成するための第２組成物（機能液）を正孔注入／輸送層３５２の上に吐出する第２液滴吐出工程と、吐出された第２組成物を乾燥させて発光層３５３を形成する第２乾燥工程とを有している。この発光素子形成工程では、例えば液滴吐出装置を用いて上記発光素子３５１を形成する。
【００８０】
この場合、本実施形態の微細構造物の製造方法では、ＥＬ材料が所望パターンに付着しやすいように、樹脂レジスト、画素電極３３１及び下層となる層の表面（被処理面）に対し、親液膜及び撥液膜を設ける工程を有するものであってもよい。すなわち、例えば被処理面全体に親液膜を設け、次いで、所望パターンの外側に撥液膜を設ける。この撥液膜は、上記実施形態で説明した別体であるマスクを用いて形成することが好ましい。次いで、所望パターンにＥＬ材料を塗布（充填）する。
【００８１】
＜応用例＞
そして、本発明の実施形態の微細構造物の製造方法を用いてそれぞれ製造したＥＬ表示デバイスは、セグメント表示や全面同時発光の静止画表示、例えば絵、文字、ラベル等といったローインフォメーション分野への応用、または点・線・面形状をもった光源としても利用することができる。
【００８２】
さらに、パッシブ駆動の表示素子をはじめ、ＴＦＴ等のアクティブ素子を駆動に用いることで、高輝度で応答性の優れたフルカラー表示デバイスを得ることが可能である。さらに、本発明の実施形態としての微細構造物の製造方法に金属材料や絶縁材料を供すれば、金属配線や絶縁膜等のダイレクトな微細パターニングが可能となり、またこの金属配線形成技術を利用したＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の製造、あるいは無線タグのアンテナ等の新規な高機能デバイスの作製にも応用できる。
【００８３】
＜電子機器＞
上記実施形態の光学素子（カラーフィルタ）３５１を備えた電子機器の例について説明する。
このような光学素子３５１は、図１１に示すような表示部に設けられたカラーフィルタ１００１として、携帯型電話装置１０００に搭載されている形態であっても良い。また、図１０の光学素子３５１は、図１２に示すような表示部に設けられたカラーフィルタ１１０１として、例えば腕時計型の計時装置のような電子機器の一例としての時計本体１１００に搭載されている形態であっても良い。
【００８４】
また、図１０の光学素子３５１は、図１３に示すような表示部に設けられたカラーフィルタ１２０６として、情報処理装置１２００に搭載されている形態であっても良い。この情報処理装置１２００は、例えば携帯型のワードプロセッサ、パーソナルコンピュータである。この情報処理装置１２００は、情報処理装置本体１２０４に、キーボードなどの入力部１２０２や、上記カラーフィルタ１２０６を用いた表示部を備えている。
図１１から図１３に示す電子機器は、それぞれ上記実施形態が適用されたカラーフィルタ１００１，１１０１，１２０６を備えているので、良好に画像表示することができ、製造コストを低減することができるとともに、製造期間を短縮することができる。
【００８５】
本発明は、上記実施の形態に限定されず、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことができる。例えば上記実施形態の各構成は、その一部を省略したり、上記とは異なるように任意に組み合わせることができる。また、例えば実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【００８６】
また、例えば、上記実施形態では、光学素子の一つであるカラーフィルタと光学装置の一つである有機ＥＬ装置の製造方法について説明したが、本発明に係る微細構造物の製造方法は、特に例えば１ｍｍ以下の微細構造物の形成に有効であり、液晶装置などの他の光学装置、あるいは集積回路などの配線を形成するときに本発明を適用することもできる。また、集積回路における抵抗、コンデンサ、トランジスタ、ダイオード、半導体レーザなどの電子素子（デバイス）を、本発明の実施形態を適用して製造してもよい。
【００８７】
また、撥液膜又は親液膜の形成方法あるいは液状材料の充填方法としては、上記実施形態の方法に限定されず、例えば、毛細管現象を利用した塗布方法であるキャップコート（ＣａｐＣｏａｔ）方式を用いてもよい。また、撥液膜又は親液膜の形成方法あるいは液状材料の充填方法としては、例えばレジストマスクを用いてもよい。また、本発明の実施形態は、金属微粒子を含有する液状体を部材表面に塗布して金属配線を形成する際の金属配線パターン形成に適用することもできる。
【００８８】
以上の説明で明らかなように、本発明の実施形態によれば、被処理面に親液膜を設け、その親液膜の上面における所望形状のパターン領域以外の領域に撥液膜を設けるので、所望形状のパターンを形成するときに、感光工程及びフォトエッチング工程などを省略することが可能となり、従来よりも製造時間を短縮することができるとともに、製造に必要となるエネルギーを削減することができ、製造コストを低減することができる。
【００８９】
また、本発明の実施形態によれば、所望パターン領域内に複数の島状の撥液部もしくは複数の島状の親液部を設けるので、所望パターン内の濡れ性と充填性が向上する。これにより、所望パターン内への液体材料の充填量が増加し、また乾燥焼成後の膜厚の均一性が向上するため、形成されたデバイス、古学素子、集積回路及び電子機器の信頼性がそれぞれ向上し、歩留まりの高い生産工程を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る微細構造物の製造方法の手順の一例を示す模式断面図。
【図２】本発明の第１実施形態に係る微細構造物上のパターン領域の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）写真を模式化した図。
【図３】本発明の第１実施形態に係る微細構造物上のパターン領域に液体材料を滴下した際の光学顕微鏡写真を模式化した図。
【図４】本発明の第２実施形態に係る微細構造物の製造方法を示す模式断面図。
【図５】本発明の第２実施形態に係る微細構造物の断面形状と真上から見たパターン形状。
【図６】撥液膜である重合膜を形成する撥液処理装置の一例を示す概念図。
【図７】親液膜である重合膜を形成する親液処理装置の一例を示す概念図。
【図８】ＵＶ露光装置（紫外線照射装置）の一例を示す概念断面図。
【図９】本発明の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法を示す図。
【図１０】本発明の製造方法が適用される有機ＥＬ装置の断面図。
【図１１】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例（携帯電話）を示す図。
【図１２】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例（腕時計型電子機器）を示す図。
【図１３】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例（携帯型情報処理装置）を示す図。
【符号の説明】
１０・・・基板、１１・・・撥液膜、１２・・・親液膜、１５ａ・・・マスク、３１，３３・・・ヘリウムガス、３２・・・容器、３４・・・第１電極、３５・・・ｎ−デカンを含んだヘリウムガス、３６・・・高周波電源、３７・・・プラズマ、３８・・・ステージ、１０２・・・供給配管、１０４・・・処理ガス供給部、１０６・・・液体有体物、１０８・・・容器、１１０・・・ヒータ、１１２・・・流量制御弁、１１４・・・流量制御弁、１１６・・・キャリア配管、１１８・・・キャリアガス供給部、１２０・・・流量制御弁、１２２・・・配管、１２４・・・第２処理ガス供給部、１３０・・・重合膜形成装置、１３１・・・処理室、１３２・・・処理ステージ、１３４・・・高周波電極、１３５・・・高周波電源、１５０・・・紫外線照射装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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