(57)【要約】【課題】低価格で高感度なシリコンベースのゲルマニウム含有感光装置を用いた長波長入射光の検出器と検出方法。【解決手段】  光検出器（１００）は、入射光に応答して出力電流信号を生成する構成でゲルマニウムを含む第１のフォトトランジスタ（１０２）と、第１のフォトトランジスタに電気的に結合し基準電流信号を生成する第２のフォトトランジスタ（１０４）と、第２のフォトトランジスタを覆って入射光を遮蔽して前記基準電流信号を前記入射光から独立させる不透明層とを備える。第１、第２のフォトトランジスタはシリコンーゲルマニウム吸光領域を備え、入射光は出力電流と基準電流とから検出される。【選択図】図１
2004179651.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光検出器であって、
入射光に応答して出力電流信号を生成する構成としたゲルマニウムを含む第１のフォトトランジスタと、
前記第１のフォトトランジスタに電気的に結合し、基準電流信号を生成する構成とした第２のフォトトランジスタと、
前記第２のフォトトランジスタを覆って配置され、該第２のフォトトランジスタへの前記入射光を遮蔽して前記基準電流信号を前記入射光から独立させる不透明層と、
を備え、
前記出力電流信号と前記基準電流信号とから前記入射光を検出する光検出器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概ね半導体デバイスに係り、より詳しくは入射光を検出する光検出器と検出方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路（ＩＣ）の製造にシリコン（Ｓｉ）を用いる技術は、成熟した技術である。シリコンはＩＣ開発の初期から電子技術分野で多用され、様々な電子装置、特にバイポーラトランジスタや金属酸化膜半導体（ＭＯＳ）トランジスタといった固体トランジスタを組立て集積するための最も広範に用いられる材料となった。従って、シリコン技術は他の代替技術に比べ著しく発展してきた。その結果、シリコンをベースにしたＩＣは他の技術に対しいくつかの利点を有する。例えば、シリコンをベースにしたＩＣは確立された半導体プロセスを用いて比較的簡単に製造することができる。加えて、極めて高密度の電子装置をシリコンベースのＩＣ上に組立ることができる。
【０００３】
シリコンベースのＩＣが好まれることで、フォトダイオードやフォトトランジスタといった感光装置をシリコンで組立ることが望ましく、それによって感光装置と装置駆動用支援回路が集積できるようになる。しかしながら、シリコンのバンドギャップの制限によりシリコン上に形成されたシリコン感光装置は約８５０ｎｍよりも長い波長を有する光の検出については良好に動作せず、バンドギャップの副次的性質のため幾分効率がさがる。残念なことに、長距離伝送用光ファイバ装置では９８０ｎｍや１３００ｎｍといった８５０ｎｍよりも長い波長が好まれる。何故なら減衰効果と散乱効果がこれらの長波長ではより低いからである。加えて、長波長ではシングルモード動作が可能となる。
【０００４】
８５０ｎｍを超える波長を有する光に感応するシリコンベースのフォトダイオードが、様々な米国特許に記載されている。これらのシリコンベースのフォトダイオード装置は、より波長の長い光子、例えば１３００ｎｍ光子を吸光するのにゲルマニウム（Ｇｅ）を用いている。１．１ｅＶのバンドギャップを有するシリコンと異なり、ゲルマニウムは０．６７ｅＶのバンドギャップを有する。かくして、ゲルマニウムは１３００ｎｍ光子をより効率的に吸光するのに用いることができる。特許文献１には、シリコン基板上に形成した凹陥部内でｎ型ゲルマニウム層とｐ型ゲルマニウム層の間に挟持した光子吸光ゲルマニウム単結晶層を含む半導体光検出器が記載されている。該半導体光検出器はさらに、凹陥部内ｐ型ゲルマニウム層上にｐ型シリコン層を含んでいる。該半導体光検出器は、１０００ｎｍ以上の波長を有する光に感応すると説明されている。
【特許文献１】米国特許第６，０７５，２５３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のシリコンベースのゲルマニウム・フォトダイオードを光検出器に使用したときに懸念されることは、より波長の長い光に対する感度が幾つかのアプリケーションにとって十分でないことにある。加えて、従来のシリコンベースのゲルマニウム・フォトダイオードは他種のフォトダイオードより複雑な組立工程を必要とし、そのことが製造コストの増大に転化されていた。
【０００６】
これらの懸念からみて、標準的なシリコン−ゲルマニウム組立プロセスを用いて組立ることができ、９８０ｎｍや１３００ｎｍの光といったより波長の長い光の検出において高い感度を有するシリコンベースのゲルマニウム含有感光装置を用いた入射光検出用の光検出器及び光検出方法に対する要求が存在する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
入射光を検出する光検出器及び光検出方法は一対の感光装置を用いており、感光装置の一方は入射光へ選択的に露出させられ、入射光強度を計測するのに用いることのできる差動電流信号を生成する。これら感光装置は、９８０ｎｍや１３００ｎｍの光といったより波長の長い光を電流へ変換することのできるシリコン−ゲルマニウム（ＳｉＧｅ）吸光領域を有するフォトトランジスタとすることができる。該ＳｉＧｅフォトトランジスタは、これをシリコン基板上に組立ることができる。従って、このＳｉＧｅフォトトランジスタと光検出器の他の電気的な構成要素とを、単一の半導体構造に集積できる。感光装置が生成する差動電流を用いることで、光検出器は９８０ｎｍや１３００ｎｍといった８５０ｎｍよりも長い波長を有する入射光を高感度かつ低ノイズで検出することができる。
【０００８】
本発明によれば、光検出器はフォトトランジスタ差動対を備え、該差動対の一方への入射光を不透明層により遮蔽している。各フォトトランジスタには、フォトトランジスタを９８０ｎｍや１３００ｎｍの光といったより波長の長い光に感応させるシリコン−ゲルマニウム合金で出来た吸光領域を含ませることができる。加えて、このシリコン−ゲルマニウム吸光領域により標準的なシリコン−ゲルマニウム組立プロセスを用いてフォトトランジスタをシリコン基板上に組立ることができるようになる。光検出器はさらに、フォトトランジスタに対し高インピーダンス電圧と差動トランスインピーダンス利得をもたらすトランスインピーダンス増幅器を含む。
【０００９】
入射光の存在下、露出されたフォトトランジスタは入射光に応答して出力電流信号を生成し、その一方で遮蔽されたフォトトランジスタが基準電流信号を生成する。出力電流信号と基準電流信号とは、フォトトランジスタによって、さらには差動増幅器として動作するトランスインピーダンス増幅器によって増幅される。次いで、これらの増幅された信号は入射光の検出に用いられる。
【００１０】
本発明の他の態様及び効果は、本発明原理を例示によって図解する添付図面と併せ以下の詳細な説明から明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１には本発明の例示実施形態になる光検出器１００が図示してある。光検出器は、シリコン−ゲルマニウム（ＳｉＧｅ）フォトトランジスタ１０２，１０４の差動対を用い、そのうちの一方だけを入射光に露出させ、二段増幅して差動電圧信号へ変えられる差動電流を生成する。差動電圧信号は、入射光強度の計測に用いられる。ＳｉＧｅフォトトランジスタはシリコン基板上に形成され、これにより光検出器のフォトトランジスタと他のシリコンベース電気部品を単一の半導体構造に集積できる。ＳｉＧｅフォトトランジスタの差動対を用いたことで、光検出器は９８０ｎｍ或いは１３００ｎｍ光などの８５０ｎｍよりも長い波長を有する入射光を、増大した感度と低ノイズでもって検出することができる。
【００１２】
図１に示したように、光検出器１００はトランスインピーダンス増幅器１０６とバイアス用バイポーラトランジスタ１０８とＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４の差動対を含む。トランスインピーダンス増幅器は、ＳｉＧｅフォトトランジスタに対し高インピーダンス電圧を供給するよう動作する。トランスインピーダンス増幅器はＳｉＧｅフォトトランジスタに電気的に接続されて高電流利得及びバイアスをもたらす入力端１１０，１１２を有する。トランスインピーダンス増幅器はまた、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４が生成する差動電流から導出される差動電圧信号を出力する出力端１１４，１１６を有する。
【００１３】
トランスインピーダンス増幅器１０６は、一対のバイポーラトランジスタ１１８，１２０と抵抗器１２２，１２４，１２６，１２８と電流源１３０とを含む。抵抗器１２２，１２４は電源ＶDDとバイポーラトランジスタ１１８，１２０にそれぞれ接続される。トランジスタ１１８のコレクタは抵抗器１２２に、またエミッタはグラウンドに接続された電流源１３０に、それぞれ接続される。同様に、トランジスタ１２０のコレクタは抵抗器１２４に、またエミッタは電流源１３０に、それぞれ接続される。トランジスタ１１８，１２０のベースは、それぞれ入力端１１０，１１２に接続される。トランジスタ１１８のベースはまた、並列帰還構成でもってトランジスタ１１８のコレクタに接続した抵抗器１２６に接続してある。同様に、トランジスタ１２０のベースは、トランジスタ１２０のコレクタに接続した抵抗器１２８に接続してある。
【００１４】
トランスインピーダンス増幅器１０６の動作は電子工学分野では周知であり、ここでは詳細には説明しない。トランスインピーダンス増幅器は、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４により生成される差動電流を増幅するよう動作し、出力端１１４，１１６に差動電圧信号を生成する。かくして、トランスインピーダンス増幅器はＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４が生成する差動電流に対し差動トランスインピーダンス利得をもたらす。出力端１１４上の差動電圧信号はＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２が生成する差動電流に対応し、その一方で出力端１１６上の差動電圧信号はＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４が生成する差動電流に対応する。
【００１５】
上述の如く、光検出器１００のＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４は入射光に応答して差動電流を生成するよう動作する。光検出器１００は、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２だけが入射光に露出するよう構成してある。他のＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４は、以下に説明する如く入射光から遮蔽される。従って、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２が生成する差動電流だけが、入射光を吸光した結果生成される電流すなわち光発生電流を含む。ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４は入射光から遮蔽してあるので、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４が生成する差動電流はいかなる光発生電流も含まず、かくしてＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２が生成する差動電流の光生成部分を計測する基準として用いることができる。両者を区別するため、ＳｉＧｅフォトトランジスタが生成する差動電流をここでは光関連ベース電流と呼び、その一方でＳｉＧｅフォトトランジスタが生成する差動電流を基準ベース電流と呼ぶことにする。ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４が生成する二つの差動電流間の差分は、入射光強度の尺度となる。
【００１６】
ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４は、差動アンプとして構成してある。かくして、ＳｉＧｅフォトトランジスタが生成する差動電流はフォトトランジスタによって増幅される。ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４のエミッタは共にバイアストランジスタ１０８に接続され、このトランジスタ１０８は翻ってグラウンドに接続される。バイアストランジスタ１０８は、そのベースに印加されたＣＯＮＴＲＯＬ信号に応答してＳｉＧｅフォトトランジスタに対しバイアス電流を供給する。ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４のベースは、各フォトトランジスタが導通させる電流量を制御するＲＥＦ１信号とＲＥＦ２信号をそれぞれ受信するよう構成される。例示実施形態では、ＲＥＦ１信号とＲＥＦ２信号は同一であり、これによりＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２が生成する光関連電流とＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４が生成する基準電流との間の差分だけがフォトトランジスタ１０２上の入射光により生じた光生成電流となる。ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４のコレクタはそれぞれトランスインピーダンス増幅器１０６の入力端１１０，１１２に接続してあり、この増幅器１０６はＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４が生成した増幅差動電流をさらに増幅し、その出力端１１４，１１６に差動電圧信号を生成する。
【００１７】
ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４は、ここではバイポーラフォトトランジスタとして図示し説明するものとする。しかしながら、ＳｉＧｅフォトトランジスタは感光性電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）などの別種のフォトトランジスタとすることもできる。構造的に、二つのＳｉＧｅフォトトランジスタは同一である。かくして、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２だけをここに詳細に説明する。図２は、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２の平面レイアウトを示し、一方で図３はＳｉＧｅフォトトランジスタの断面図を示している。図示の如く、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２はｎ型コレクタ領域２０２とｐ型ベース領域２０４とｎ型エミッタ領域２０６を含んでいる。五つのｎ型エミッタ領域を例示したが、ＳｉＧｅフォトトランジスタはより少数か又はより多数のｎ型エミッタ領域を含めることもできる。図３に示す如く、コレクタ領域２０２はシリコン基板３０２上に形成してある。ベース領域２０４はコレクタ領域に形成してあり、同様にエミッタ領域２０６はベース領域に形成してある。エミッタ領域をベース領域内に形成し、これによりエミッタ領域が図２に示す如く細長い領域を画成するようにしてある。その結果、ベース領域はベース領域間及び最外部ベース領域とコレクタ領域の間に、ベース領域が画成する対応する細長い部分を含む。
【００１８】
ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２はさらに、１３００ｎｍ光などの８５０ｎｍよりも波長の長い光を吸光することのできる光子吸光層として役立つ図３に示すシリコン−ゲルマニウム合金層３０４を含む。遮断波長は、ＳｉＧｅ層の厳密な組成の関数となる。ＳｉＧｅ層は、低温エピタキシによりコレクタ領域２０２上方に選択的に蒸着させることができる。一例として、ＳｉＧｅ層はほぼ摂氏６３０度でほぼ０．１μｍの厚みへ成長させることができる。ＳｉＧｅフォトトランジスタの他の構成要素は、従来の半導体組立方法を用いて組立ることができる。
【００１９】
ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２はさらに、前記個々の領域に位置するコレクタ金属片２０８とベース金属片２１０とエミッタ金属片２１２を含む。これらの金属片は、ＳｉＧｅフォトトランジスタの様々な領域を電気的に接触させる導電領域をもたらす。しかしながら、ベース金属片とエミッタ金属片とは、光を吸光し電荷キャリア対を生成して電流を生成するフォトトランジスタのＳｉＧｅ層３０２に該光が達するのを妨げる。ＳｉＧｅ層に達することのできる入射光の量を増やすため、ベース金属片とエミッタ金属片がＳｉＧｅフォトトランジスタ内に占める全面積は低減させてある。従来のバイポーラトランジスタと異なり、図２に示したように、エミッタ金属片２１２は個々のエミッタ領域２０６の全長に沿って延びてはいない。エミッタ金属片が延びるのは、個々のエミッタ領域の長さの半分未満である。例示実施形態では、エミッタ金属片が延びるのは個々のエミッタ領域の長さの１／４未満である。加えて、ＳｉＧｅフォトトランジスタは最外部エミッタ領域とコレクタ領域の間にある二つのベース金属片２１０しか含んでいない。従来のバイポーラトランジスタはさらに、エミッタ領域間にベース金属片を含んでいる。従って、ベース金属片とエミッタ金属片が占めるＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２の面積は大幅に減っており、光子−電流変換用にＳｉＧｅ層３０４に達することのできる光の量は増えることになる。この構造は、ベース端子とエミッタ端子における寄生抵抗を増大させよう。しかしながら、速度は主要な関心事ではないので、これは良い兼ね合いである。
【００２０】
上述の如く、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４は構造的にはＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２と同一である。しかしながら、図４に示したように、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４はフォトトランジスタを入射光から遮蔽する不透明な金属層４０２により被覆してある。不透明金属層は、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２だけが露出するようパターン化してある。ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４の様々な金属片２０８，２１０，２１２は、二酸化ケイ素層が考えられる絶縁層４０４により不透明金属層から電気的に絶縁してある。不透明金属層により、光検出器１００へのどんな入射光もＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２へのみ到達することができる。従って、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４が生成するベース電流信号は、入射光から独立したものとなる。すなわち、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４のベース電流信号は入射光の吸光から生成される電流によるどんな寄与も含まない。
【００２１】
光検出器１００は初段の検出器としては適切ではないかもしれない。何故ならＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２の感度がこの種のアプリケーションにとって十分ではない恐れがあるからである。しかしながら、この光検出器は光ファイバ装置のレーザの連続動作を計測する監視装置として良好に機能させることができる。一例として、この種の光検出器の配列を単一のシリコンチップ上に組立ててレーザ配列に取り付け、該レーザの動作を個別に監視することもできる。光検出器を監視装置として用いることで、レーザの経時変化に対する補償が可能となり、光ファイバ装置の有効動作寿命を延ばすことができる。
【００２２】
光検出器１００の動作を、図５のフロー線図を参照して説明する。ブロック５０２では、高インピーダンス電圧をトランスインピーダンス増幅器１０６によりＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４の差動対に供給する。高インピーダンス電圧を、フォトトランジスタのコレクタに印加する。加えて、バイアスバイポーラトランジスタ１０８によってバイアス電流をＳｉＧｅフォトトランジスタへ供給する。次に、ブロック５０４において入射光を光検出器が受光する。ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０４は不透明な金属層４０２で被覆され、入射光はＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２によってのみ受光される。かくして、ブロック５０６において、差動ベース電流がＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４により生成される。次に、ブロック５０８において、差動ベース電流が差動増幅器として機能するＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４により増幅される。ブロック５１０において、増幅された差動ベース電流がトランスインピーダンス増幅器１０６によりさらに増幅されて出力端１１４，１１６上の差動電圧信号へ変えられる。
【００２３】
例示実施形態では、トランスインピーダンス増幅器１０６が供給する高インピーダンス電圧は、ＳｉＧｅフォトトランジスタ１０２，１０４のコレクタ−エミッタ間電圧Ｖceが十分高くなり、フォトトランジスタがアバランシェ領域近く或いはその中で動作するようにしてある。その結果、光関連ベース電流信号と基準ベース電流信号間の差分は最大化される。さらに、ノイズは低減される。何故ならアバランシェ領域やパンチスルー領域は低ノイズ挙動を示すからである。
【００２４】
本発明の例示実施形態になる入射光の検出方法を、図６を参照して説明する。ステップ６０２において、第１のフォトトランジスタにて入射光を受光する。入射光は、８５０ｎｍを超える波長を有する光とすることができる。例示実施形態では、第１のフォトトランジスタはシリコン−ゲルマニウム合金の光子吸光層を有するシリコンベースのフォトトランジスタである。次に、ステップ６０４において、入射光に応答して第１のフォトトランジスタにより出力電流信号が生成される。ステップ６０６では、入射光から遮蔽され、基準電流信号が入射光とは独立となる第２のフォトトランジスタにより基準電流信号が生成される。例示実施形態では、第２のフォトトランジスタは構造的に第１のフォトトランジスタと同一である。出力電流信号と基準電流信号は、入射光の差動電流検出をもたらす差動信号である。
【００２５】
本発明の特定の実施形態を説明した図解してきたが、本発明は説明し図解した特定の形態或いは部品配置に限定されるものではない。本発明の範囲は、本願明細書に添付した特許請求の範囲とその等価物により規定される。なお、本発明の広範な実施の可能性を考え、本発明の実施態様の一部を下記して本発明の実施者への参考とする。
（実施態様１）
光検出器であって、入射光に応答して出力電流信号を生成する構成としたゲルマニウムを含む第１のフォトトランジスタ（１０２）と、前記第１のフォトトランジスタに電気的に結合した第２のフォトトランジスタ（１０４）で、基準電流信号を生成する構成とした前記第２のフォトトランジスタと、前記第２のフォトトランジスタを覆って配置され、該第２のフォトトランジスタへの前記入射光を遮蔽して前記基準電流信号を前記入射光から独立させる不透明層（４０２）であって、前記出力電流信号と前記基準電流信号が前記入射光の検出をもたらす前記不透明層とを備える光検出器。
（実施態様２）
前記第１のフォトトランジスタ（１０２）は、前記ゲルマニウムを含む吸光領域（３０４）を含む実施態様１に記載の光検出器。
（実施態様３）
前記第１のフォトトランジスタ（１０２）の前記吸光領域（３０４）が、シリコン−ゲルマニウム合金を含む実施態様２に記載の光検出器。
（実施態様４）
シリコン基板をさらに備え、前記第１及び第２のフォトトランジスタは前記シリコン基板上に形成されている実施態様１乃至３のいずれか１項に記載の光検出器。
（実施態様５）
前記第１及び第２のフォトトランジスタ（１０２，１０４）に接続され、高インピーダンス電圧と差動トランスインピーダンス利得をもたらすトランスインピーダンス増幅器（１０６）をさらに備える実施態様１乃至４のいずれか１項に記載の光検出器。
（実施態様６）
入射光の検出方法であって、ゲルマニウムを含む第１のフォトトランジスタ（１０２）にて前記入射光を受光するステップ（６０２）と、前記第１のフォトトランジスタ（１０２）により前記入射光に応答して第１の信号を生成するステップ（６０４）と、第２のフォトトランジスタ（１０４）により第２の信号を生成するステップ（６０６）とを有し、
前記ステップ（６０６）において、前記第２のフォトトランジスタを前記入射光から遮蔽して前記第２の信号を前記入射光から独立させるようにし、前記第１及び第２の信号が前記入射光の検出をもたらすようにしたことを特徴とする入射光の検出方法。
（実施態様７）
前記第１の信号を生成するステップ（６０４）は、前記第１のフォトトランジスタ（１０２）の吸光領域（３０４）における前記入射光の一部の電流への変換を含み、前記吸光領域が前記ゲルマニウムを含む実施態様６に記載の入射光の検出方法。
（実施態様８）
前記第１及び第２のフォトトランジスタ（１０２，１０４）のうちの少なくとも一方は、シリコン基板（３０２）上に形成されている実施態様６又は７に記載の入射光の検出方法。
（実施態様９）
前記第１及び第２のフォトトランジスタ（１０２，１０４）を備える差動増幅器を用いて前記第１及び第２の信号を増幅（５０８）するステップをさらに有する実施態様６乃至８のいずれか１項に記載の入射光の検出方法。
（実施態様１０）
トランスインピーダンス増幅器（１０６）を用いて前記第１及び第２の信号を増幅（５１０）するステップをさらに有する実施態様６乃至９のいずれか１項に記載の入射光の検出方法。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の例示実施形態になる光検出器の概略図である。
【図２】図１の光検出器に含まれる入射光に露出するＳｉＧｅフォトトランジスタの平面図である。
【図３】図２のＳｉＧｅフォトトランジスタの断面図である。
【図４】図１の光検出器に含まれ、不透明金属層で被覆されてフォトトランジスタを入射光から遮蔽するＳｉＧｅフォトトランジスタの断面図である。
【図５】本発明の例示実施形態になる入射光の計測方法のフロー線図である。
【図６】本発明の例示実施形態になる入射光の検出方法のフロー線図である。
【符号の説明】
【００２７】
１００  光検出器
１０２，１０４  ＳｉＧｅフォトトランジスタ
１０６  トランスインピーダンス増幅器
１０８  バイポーラトランジスタ
１１０，１１２  入力端
１１４，１１６  出力端
１１８，１２０  バイポーラトランジスタ対
１２２，１２４，１２６，１２８  抵抗器
１３０  電流源
２０２  ｎ型コレクタ領域
２０４  ｐ型ベース領域
２０６  ｎ型エミッタ領域
２０８  コレクタ金属片
２１０  ベース金属片
２１２  エミッタ金属片
３０２  シリコン基板
３０４  ＳｉＧｅ層
４０２  不透明金属片
４０４  絶縁層
【図１】
2004179651.tif 000003
【図２】
2004179651.tif 000004
【図３】
2004179651.tif 000005
【図４】
2004179651.tif 000006
【図５】
2004179651.tif 000007
【図６】
2004179651.tif 000008