(57)【要約】【課題】微小段差を有するレイアウト設計パターンについて精度を劣化させることなく光近接効果補正を行える光近接効果補正方法及び装置を提供する。【解決手段】（イ）ソースデータを取得するステップ、（ロ）ソースデータからパターン転写後の目標となる目標データを生成し格納するステップ、（ハ）ソースデータから光近接効果補正を行う際に考慮しなければならない事項に関する参照データを生成し格納するステップ、（ニ）ソースデータにおいて、エッジ長の短い微小エッジを検出するステップ、（ホ）微小エッジを整形するステップと、（ヘ）整形したデータを合成し、光近接効果補正前の補正元データを生成し格納するステップと、（ト）補正元データに対して、光近接効果補正を行うステップとからなる光近接効果補正方法。【選択図】      図２
2004294551.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ソースデータであるパターン中の微小段差部の微小エッジ辺を検出するステップと、
検出した微小エッジ辺情報に基づき、該微小エッジ辺で構成される微小段差形状を分類するステップと、
前記微小段差形状の分類に基づき、前記微小段差形状を整形するステップと、
整形後の各微小段差データを合成するステップと
を有することを特徴とする光近接効果補正方法。
【請求項２】
ソースデータ記憶装置からソースデータを取得するステップと、
前記ソースデータからパターン転写後の目標となる目標データを生成し、目標データ記憶装置に格納するステップと、
前記ソースデータから光近接効果補正を行う際に考慮しなければならない事項に関する参照データを生成して参照データ記憶装置に格納するステップと、
前記ソースデータにおいて、エッジ辺長の短い微小エッジ辺を検出するステップと、
検出された前記微小エッジ辺で構成される微小段差形状を分類するステップと、
前記微小段差形状中に窪みがある場合は、窪みを埋めるステップと、
前記微小段差形状中に出っ張りがある場合は、出っ張りを削除するステップと、
前記微小段差形状中に段差がある場合は、窪みを埋めるか出っ張りを削除して、一辺のエッジ辺からなる微小段差形状に整形するステップと、
整形したデータを合成し、前記光近接効果補正前の補正元データを生成し、補正元データ記憶装置に格納するステップと、
前記補正元データに対して、光近接効果補正を行うステップ
とを有することを特徴とする光近接効果補正方法。
【請求項３】
検出された前記微小エッジ辺で、２以上の微小エッジ辺の連続で形成される微小段差を１つの微小でないエッジ辺として設定し、補正元データを生成するステップと、
前記補正元データについてリソグラフィ・シミュレーションを行い、不具合が生じなくなるまで補正をし直すステップ
とを更に有することを特徴とする請求項２記載の光近接効果補正方法。
【請求項４】
検出された前記微小エッジ辺で、２以上の微小エッジ辺の連続で構成される微小段差で、前記微小段差の両隣に角度をもって接続される微小ではないエッジ辺を有する微小段差を１つの微小でないエッジ辺として設定し、補正元データを生成するステップを更に有することを特徴とする請求項３記載の光近接効果補正方法。
【請求項５】
前記補正元データ記憶装置から前記補正元データを参照するステップと、
前記目標データ記憶装置から前記目標データを参照するステップと、
前記参照データ記憶装置から前記参照データを参照するステップと、
前記補正元データ、前記目標データ、前記参照データを参照し、前記補正元データに対して光近接効果補正を行うステップ
とを更に有することを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項記載の光近接効果補正方法。
【請求項６】
ソースデータ記憶装置からソースデータを取得するデータ取得部と、
前記ソースデータを目標データとして格納する目標データ記憶装置と、
光近接効果補正を行う際に考慮しなければならない事項に関する参照データを格納する参照データ記憶装置と、
前記ソースデータにおいて、微小段差を構成するエッジ辺長の短い微小エッジ辺を検出する微小エッジ辺検出部と、
検出された前記微小エッジ辺で構成される微小段差の形状を分類する形状分析部と、
前記微小段差中に窪みがある場合は、窪みを埋める窪み整形部と、
前記微小段差中に出っ張りがある場合は、出っ張りを削除する出っ張り整形部と、
前記微小段差中に段差がある場合は、窪みを埋めるか出っ張りを削除して、１辺以下エッジ辺からなる微小段差に整形する段差整形部と、
整形したデータを合成した合成データを補正元データとして格納する補正元データ記憶装置と、
前記補正元データに対して、光近接効果補正を行うＯＰＣ処理部と
を有することを特徴とする光近接効果補正装置。
【請求項７】
検出された前記微小エッジ辺で、２以上の微小エッジ辺の連続で形成される微小段差を１つのエッジ辺として設定し、補正元データを生成するマージ部と、
補正するエッジ辺を選択する選択部と、
選択した前記エッジ辺についてリソグラフィ・シミュレーションを行い、不具合が生じなくなるまで補正をし直すシミュレーション部と
を更に有することを特徴とする請求項６記載の光近接効果補正装置。
【請求項８】
前記マージ部は、検出された前記微小エッジ辺で、２以上の微小エッジ辺の連続で形成される微小段差で、前記微小段差の両隣に角度をもって接続される微小ではないエッジ辺を有する微小段差を１つの微小でないエッジ辺として更に設定することを特徴とする請求項７記載の光近接効果補正装置。
【請求項９】
前記ＯＰＣ処理部は、前記補正元データ記憶装置、前記目標データ記憶装置、前記参照データ記憶装置からそれぞれ前記補正元データ、前記目標データ、前記参照データを参照し、前記補正元データに対して光近接効果補正を行うことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項記載の光近接効果補正装置。
【請求項１０】
光近接効果補正を行うためにコンピュータに、
ソースデータであるパターン中の微小段差部の微小エッジ辺を検出するステップと、
検出した微小エッジ辺情報に基づき、該微小エッジ辺で構成される微小段差形状を分類するステップと、
前記微小段差形状の分類に基づき、前記微小段差形状を整形するステップと、
整形後の各微小段差データを合成するステップと
を実行させるためのプログラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路のレイアウト設計、マスクデータ作成検証処理に関する光近接効果補正方法及び光近接効果補正装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体技術の微細化に伴い、光学露光方式で微細なマスクのパターン形状をウエハ上に忠実に形成することが次第に困難になる。このため、微細化されたマスクパターンにおいては予めマスクパターンに図形を負荷したり、疎密に応じてサイズを補正する光近接効果補正（ＯＰＣ）が行われている。しかし、プロセス世代を増す毎に、ＯＰＣに要求される精度は高くなってきており、正しく補正することが出来ない微小エッジ等のパターンが増えてきている。
【０００３】
一般的に、ＯＰＣでは、レイアウトパターンの頂点を利用して、外形エッジを分割し、分割したエッジ単位毎に補正を行う。しかし、分割したエッジの長さが短くなると、正確な補正値を算出することが困難となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
通常、短いエッジ辺で構成される微小段差はウエハへの転写像に及ぼす影響が非常に小さい。しかし、光の波長よりも短いエッジ辺は、ウエハ上へ正しく転写されず、露光後のパターンは、目標パターンから大きくはずれたパターンとなってしまう。このため、短いエッジ辺の場合、ＯＰＣ処理で補正が行われるが、ＯＰＣされたパターンを露光すると、目標パターンからさらに大きくはずれたパターンとなってしまう。
【０００５】
たとえば、図１１に示すように、従来のＯＰＣ方法及びＯＰＣ装置を用いてソースデータをＯＰＣ処理した場合、ソースデータ１６１に対して、ＯＰＣ処理後データ１６２が得られる。段差１６３のように、設計データやＯＰＣ前処理後の段階で微小段差が存在した場合、補正結果として微小突起、微小凹み、鋭角突起、又は鋭角凹み図形となる場合があり、マスク描画時や検査時に悪影響を及ぼす原因となる。そして、段差１６３のように、露光後の光強度の変化が大きいところでは、局所的な補正として非常に大きな補正結果となり、補正をすることによって、却って精度を劣化させるような過剰な補正となるのが通例である。
【０００６】
また、段差数が増加することにより、補正処理時間が長くなり、ＴＡＴに影響が出てくる。従って、現状では、ある一定の長さ以上のエッジ辺で構成される段差を補正対象とし、それ未満の微小段差は補正対象から除外し、補正を行っている。
【０００７】
更に、ライン終端部やラインコーナー部分のＯＰＣは、単純な形状のライン終端形状や、ラインコーナー形状を前提としているため、マクロ的な形状がライン終端やラインコーナー形状であっても、図１２（ａ）及び（ｂ）に示すような、微小段差１１２ａ、１１７ａが存在すると、ライン終端部やラインコーナー部とパターン認識されず、適正な補正が困難となり、図１２（ｃ）及び（ｄ）に示すようなリソイメージ１１２ｂ、１１７ｂとなり、ソースデータと大きく異なり、補正精度の劣化を引き起こしてしまう。
【０００８】
ＯＰＣに問題となる微小段差が発生する原因としては、ＯＰＣ前の前処理（例えばターゲットＭＤＰ処理（設計ソースデータからウエハターゲットイメージデータを生成する処理）、自動レイアウト、マイグレーションツール等）によるものが大半を占めていると考えられており、パターン的に余り意味を持たないものでも補正精度を劣化させられたり、処理ＴＡＴを増加させられているというジレンマも存在する。
【０００９】
本発明は上述の如き従来の課題を解決するためになされたもので、その目的は、微小段差を有するレイアウト設計パターンについて精度を劣化させることなくＯＰＣを行うことができる光近接効果補正方法及び光近接効果補正装置を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の光近接効果補正方法の第１の特徴は、（ｉ）ソースデータであるパターン中の微小段差部の微小エッジ辺を検出するステップと、（ｉｉ）検出した微小エッジ辺情報に基づき、該微小エッジ辺で構成される微小段差形状を分類するステップと、（ｉｉｉ）微小段差形状の分類に基づき、微小段差形状を整形するステップと、（ｉｖ）整形後の各微小段差データを合成するステップとを有することである。
【００１１】
また、本発明のプログラムの特徴は、光近接効果補正を行うために、コンピュータに上記（ｉ）〜（ｉｖ）の各ステップを実行させることである。
【００１２】
また、本発明の光近接効果補正方法の第２の特徴は、（イ）ソースデータ記憶装置からソースデータを取得するステップ、（ロ）ソースデータからパターン転写後の目標となる目標データを生成し、目標データ記憶装置に格納するステップ、（ハ）ソースデータから光近接効果補正を行う際に考慮しなければならない事項に関する参照データを生成して参照データ記憶装置に格納するステップ、（ニ）ソースデータにおいて、エッジ辺長の短い微小エッジ辺を検出するステップ、（ホ）検出された微小エッジ辺で構成される微小段差形状を分類するステップ、（ヘ）  微小段差形状中に窪みがある場合は、窪みを埋めるステップ、（ト）微小段差形状中に出っ張りがある場合は、出っ張りを削除するステップ、（チ）微小段差形状中に段差がある場合は、窪みを埋めるか出っ張りを削除して、１辺のエッジ辺からなる微小段差形状に整形するステップ、（リ）整形したデータを合成し、光近接効果補正前の補正元データを生成し、補正元データ記憶装置に格納するステップ、（ヌ）補正元データに対して、光近接効果補正を行うステップを有することである。
【００１３】
ここで「微小エッジ辺」とは、０．１μｍ以下のエッジ辺長を持つエッジ辺をいう。
【００１４】
本発明の第１および第２の特徴に係る光近接効果補正方法では、ＯＰＣ処理前に微小エッジ辺を検出し、整形するため、ＯＰＣ処理において補正精度を劣化させたり、マスク描画や検査に悪影響を及ぼす微小段差が元データに存在していても精度を劣化させることなく、ＯＰＣ処理を行うことができる光近接効果補正方法を提供することができる。
【００１５】
本発明の光近接効果補正装置の第１の特徴は、ソースデータ記憶装置からソースデータを取得するデータ取得部、ソースデータを目標データとして格納する目標データ記憶装置、光近接効果補正を行う際に考慮しなければならない事項に関する参照データを格納する参照データ記憶装置、ソースデータにおいて、エッジ辺長の短い微小エッジ辺を検出する微小エッジ辺検出部、検出された微小エッジ辺で構成される微小段差の形状を分類する形状分析部、微小段差中に窪みがある場合は、窪みを埋める窪み整形部、微小段差中に出っ張りがある場合は、出っ張りを削除する出っ張り整形部、微小段差中に段差がある場合は、窪みを埋めるか出っ張りを削除して、１辺のエッジ辺からなる小段差形状に整形する段差整形部、整形したデータを合成した合成データを補正元データとして格納する補正元データ記憶装置、補正元データに対して、光近接効果補正を行うＯＰＣ処理部を有することである。
【００１６】
「目標データ」とは、ウエハ上へ回路の設計パターンを転写した際に、目標となるデータのことをいう。従って、目標データは、ソースデータそのもので良い。
【００１７】
本発明の光近接効果補正装置の第２の特徴によれば、ＯＰＣ処理前に微小エッジ辺を検出し、整形するため、ＯＰＣ処理において補正精度を劣化させたり、マスク描画や検査に悪影響を及ぼす微小段差が元データに存在していても精度を劣化させることなく、ＯＰＣ処理を行うことができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
次に、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。
【００１９】
（第１の実施形態）
（全体構成）
本発明の第１の実施の形態に係る光近接効果補正装置１は、図１に示すように、制御装置１０と、制御装置１０に接続された入出力制御装置３８、ソースデータ記憶装置１０１、ＯＰＣ処理後データ記憶装置１０２、補正元データ記憶装置１０３、参照データ記憶装置１０４、目標データ記憶装置１０５から構成されている。入出力制御装置３８には、入力装置３５、出力装置３６等が接続されている。なお、ソースデータ記憶装置１０１、ＯＰＣ処理後データ記憶装置１０２、補正元データ記憶装置１０３は、制御装置１０の内部に収納される内蔵型でも良く、外付け型の外部記憶装置として接続されていても良い。また、データベースサーバ等を介して接続されても良い。
【００２０】
ソースデータ記憶装置１０１は、レイアウト設計データ等のソースデータを格納するための記憶装置である。ＯＰＣ処理後データ記憶装置１０２は、ＯＰＣ処理した後の補正されたデータを格納するための記憶装置である。補正元データ記憶装置１０３は、ＯＰＣを施す元になるデータを格納するための記憶装置である。参照データ記憶装置１０４は、ソースデータに対して、補正はしないが補正の対象となる補正元データを補正する際に、考慮しなければならない事項に関するデータを格納する。目標データ記憶装置１０５は、ソースデータを補正の目標となる目標データとして格納する。この目標データは、補正時に、ターゲットパターンとして参照される。
【００２１】
本発明の第１の実施の形態に係る光近接効果補正装置１の制御装置（ＣＰＵ）１０には、データ取得部１１、微小エッジ辺検出部１２、形状分析部１３、データ合成部１４、ＯＰＣ処理部１５、データ格納部１６、出っ張り整形部１７、段差整形部１８、窪み整形部１９が少なくとも含まれる。更に、図示を省略しているが、制御装置１０には、データベース管理手段及び通信制御装置等、他の種々の手段が備えられている。たとえば、ソースデータ記憶装置１０１、ＯＰＣ処理後データ記憶装置１０２、補正元データ記憶装置１０３、参照データ記憶装置１０４、目標データ記憶装置１０５との入出力が必要な場合は、このデータベース管理手段を介して必要なファイルの格納場所を探し、ファイルの読み出し・書き込み処理がなされる。
【００２２】
データ取得部１１は、ソースデータ記憶装置１０１から、ソースデータを取得する。微小エッジ辺検出部１２は、取得したソースデータの中から、補正精度に影響を与えない短いエッジや、マスク検査可能なエッジ辺長未満の微小エッジ辺を検出する。ここで、「エッジ長未満の微小エッジ辺」とは、０．１μｍ以下のエッジ辺長であるエッジ辺をいう。例えば、図４（ａ）〜（ｃ）のパターン４０ａ、４５ａ、５０ａでは、微小エッジ辺４１、４２、４６、４７、５１、５２、５３が「短い」エッジ辺（微小エッジ辺）として検出される。
【００２３】
形状分析部１３は、検出した微小エッジ辺のエッジ辺数と、二つの微小エッジ辺で形成される角度から微小段差形状を分析し、「終端部」、「コーナー部」、「配線部」等に分類する。たとえば、図４（ａ）のパターン４０ａでは、微小エッジ辺４１と微小エッジ辺４２の２つが検出されたため、微小エッジ辺数が「２」である。そして、微小エッジ辺４１と微小エッジ辺４２とで形成している角度は９０度であるため、「終端部」に分類される。また、図４（ｂ）のパターン４５ａでは、微小エッジ辺４６と微小エッジ辺４７の２つが検出されたため、微小エッジ辺数が「２」である。そして、微小エッジ辺４６と微小エッジ辺４７とで形成している角度は２７０度であるため、「コーナー部」に分類される。更に、図４（ｃ）のパターン５０ａでは、微小エッジ辺５１、微小エッジ辺５２、微小エッジ辺５３の３つの微小エッジ辺が検出され、微小エッジ辺数は「３」である。そして、微小エッジ辺５１と微小エッジ辺５２とで形成している角度が９０度、微小エッジ辺５２と微小エッジ辺５３とで形成している角度２７０度であるため「配線部」に分類される。なお、上述するように、２つの微小エッジ辺がなす角度とは、パターン外周囲側の２つの微小エッジ辺間の角度をいう。
【００２４】
検出された微小エッジ辺数が３つ以上である場合、検出された微小エッジ辺のエッジ辺数が偶数の場合は、終端部若しくはコーナー部のどちらかである。たとえば、４つの微小エッジ辺が検出された場合、４つのエッジ辺が成す角度が、２７０度、９０度、２７０度である場合は、「コーナー部」であり、９０度、２７０度、９０度である場合は「終端部」である。同様に、６つの微小エッジ辺が検出された場合、６つの微小エッジ辺が成す角度が２７０度、９０度、２７０度、９０度、２７０度である場合は「コーナー部」であり、９０度、２７０度、９０度、２７０度、９０度である場合は「終端部」である。また、検出された微小エッジ辺のエッジ数が奇数の場合は、配線部に分類される。コーナー部と配線部との違いは、配線部の場合、微小エッジ辺数が奇数であって、微小段差に隣接する２つのエッジ辺は互いに平行である。コーナー部の場合は、微小エッジ辺数が偶数であって、微小段差に接する２つのエッジ辺は、互いに垂直である。
【００２５】
データ合成部１４は、窪み整形、出っ張り整形、段差整形等により微小段差の問題を無くしたデータを合成し、補正元データを生成する。ＯＰＣ処理部１５は、補正元データを元に、ＯＰＣ処理を施す。データ格納部１６は、補正元データを補正元データ記憶装置１０３に、ＯＰＣ処理後データをＯＰＣ処理後データ記憶装置１０２に、参照データを参照データ記憶装置に、目標データを目標データ記憶装置１０５にそれぞれ格納する。
【００２６】
出っ張り整形部１７は、形状分析部１３において、「コーナー部」であると分類された微小段差のうち、「出っ張り」部分があるパターンに対して、出っ張りを削除する補正を施す。たとえば、図４（ｂ）のパターン４５ａの場合、微小エッジ辺６と微小エッジ辺７とで形成される角度が２７０度であり、「出っ張り」であると判断される。そのため、図４（ｂ）に示すように、「出っ張り」部分４８を削除する出っ張り整形が行われる。
【００２７】
段差整形部１８は、「終端部」でも、「コーナー部」でもないと判断された場合、「配線部」であるため、ライン形状整形が行われる。ライン形状整形では、２辺以上の微小エッジ辺連続で形成された微小段差形状であるため、窪みを埋めるか、出っ張りを削除することによって、１辺以下の微小段差形状に補正する。たとえば、図４（ｃ）のパターン５０ａに示すような配線部である場合、微小エッジ辺５１、５２、５３の３辺から微小段差が形成されている。したがって、微小エッジ辺５１と微小エッジ辺５２とから構成される窪みを埋め、微小段差を構成する微小エッジ辺数を減らし、パターン５０ｂに示すように、１辺からなる微小段差となるよう補正することができる。
【００２８】
窪み整形部１９は、形状分析部１３において「終端部」であると分類された微小段差のうち、「窪み部分」があるパターンに対して、窪みを埋める補正（整形）を施す。たとえば、図４（ａ）に示すパターン４０ａの場合、微小エッジ辺と微小エッジ辺４２とに形成される角度が９０度であるため、「窪み」であると判断されると、パターン４０ｂに示すように、整形される。
【００２９】
入力装置３５は、キーボード、マウス、ＯＣＲ等の認識装置、イメージスキャナ等の図形入力装置、音声認識装置等の特殊入力装置などにより、出力装置３６は、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ等の表示装置、インクジェットプリンタ、レーザープリンタなどの印刷装置等によりそれぞれ構成される。入出力制御装置３８（入出力インタフェース）は、これらの入力装置３５、出力装置３６、あるいはＣＤ−ＲＯＭ、ＭＯ、ＺＩＰなどの記憶装置の読み取り装置等をＣＰＵ２につなぐインタフェースである。データの流れから見ると、入出力制御装置３８は、入力装置３５、出力装置３６、外部記憶装置の読み取り装置と主記憶装置とのインタフェースとなる。また、制御装置１０には一時記憶装置が接続されており、この一時記憶装置には、ＲＯＭ及びＲＡＭが組み込まれている。ＲＯＭは、ＣＰＵ２において実行されるプログラムを格納しているプログラム記憶装置等として機能する。ＲＡＭは、ＣＰＵ２におけるプログラム実行処理中に利用されるデータ等を一時的に格納したり、作業領域として利用される一時的なデータメモリ等として機能する。
【００３０】
（全体フロー）
図２を用いて、本発明の実施の形態に係る光近接効果補正方法の全体フローについて説明する。
【００３１】
（イ）まず、ステップＳ１１において、ソースデータ記憶装置１０１から図１のデータ取得部１１を用いてソースデータを取得する。そして、ステップＳ１２において、取得したソースデータからＯＰＣの対象となる目標データと、補正はしないが補正の対象となる補正元データを補正する際に、考慮しなければならない事項に関する参照データを生成し、目標データ記憶装置１０５と参照データ記憶装置１０４にそれぞれ格納する。
【００３２】
（ロ）次に、ステップＳ１３において、ソースデータについて微小段差を整形する処理を行い、補正元データを生成する。そして、データ格納部１６を用いて、補正元データを補正元データ記憶装置１０３に格納する。
【００３３】
（ハ）次に、ステップＳ１４において、ＯＰＣ処理部１５を用いて、補正元データに対しＯＰＣ処理を施す。そして、ＯＰＣを施したＯＰＣ処理後データをデータ格納部１６を用いてＯＰＣ処理後データ記憶装置１０２に格納する。
【００３４】
（微小段差整形処理フロー）
図３を用いて、本発明の第１の実施の形態に係る光近接効果補正方法について説明する。
【００３５】
（ニ）図２のステップＳ１１に対応し、まず、図３のステップＳ１０１において、図１のデータ取得部１１を用いて、ソースデータ記憶装置１０１からソースデータを取得し、微小エッジ辺検出部１２を用いて、エッジ辺長の短い微小エッジ辺を検出する。ここで、「エッジ辺長の短い微小エッジ辺」とは、０．１μｍ以下のエッジ辺をいう。
【００３６】
（ホ）次に、図２のステップＳ１３に対応し、ステップＳ１０２において、形状分析部１３を用いて、検出した微小エッジ辺で形成される微小段差の形状を、検出された微小エッジ辺情報、例えば微小エッジ辺数と隣接する二つの微小エッジ辺で構成される角度から、「終端部」、「コーナー部」、「配線部」等に分類（カテゴライズ）していく。
【００３７】
（へ）次に、ステップＳ１０６で、カテゴライズした各微小段差形状にカテゴリーごとに最適な整形を施す。具体的に、ステップ１０６では以下の（ｉ）〜（ｉｉｉ）の手順で整形を行う。
【００３８】
（ｉ）まず、ステップＳ１０３において、分類された微小段差形状が「終端部」であるか否かが判断される。微小段差形状が「終端部」である場合は、ステップＳ１１０の処理へ進み、更に、形状分析部１３を用いて、終端部である微小段差形状が分類される。そして、ステップＳ１１１において、微小段差形状が「窪み」であるのか否かが判断される。微小段差形状が「窪み」である場合は、ステップＳ１１２において、窪み整形部１９を用いて、窪みを埋める窪み整形処理が行われる。また、微小段差形状が「窪み」ではない場合は、ステップＳ１１３において、段差整形部１８を用いて、段差整形が行われる。そして、ステップＳ１０６の処理へ進む。
【００３９】
（ｉｉ）ステップＳ１０３において、分類された微小段差形状が「終端部」でないと判断された場合は、ステップＳ１０４において、微小段差形状が「コーナー部」であるか否かが判断される。「コーナー部」である場合は、ステップＳ１２０の処理へ進み、更に、コーナー部である微小段差形状が分類される。そして、ステップＳ１２１において、微小段差形状が「窪み」であるのか否かが判断される。微小段差形状が「窪み」である場合は、ステップＳ１２２において、窪み整形部１９を用いて、窪みを埋める窪み整形処理が行われる。また、微小段差形状が「窪み」ではない場合は、ステップＳ１２３において、更に、微小段差形状が「出っ張り」であるか否かが判断される。微小段差形状が「出っ張り」である場合は、ステップＳ１２４において、出っ張り整形部１７を用いて、出っ張り部分を削除する出っ張り整形処理が行われる。微小段差形状が「出っ張り」ではない場合は、ステップＳ１２５において、段差整形部１８を用いて、「段差整形」が行われる。そして、ステップＳ１０６の処理へ進む。
【００４０】
（ｉｉｉ）ステップＳ１０４において、微小段差の形状が「コーナー部」ではないと判断された場合、図４（ｃ）のパターン５０ａに示すような、配線部であると判断されるため、ステップＳ１０５の処理において、ライン形状整形が行われる。そして、ステップＳ１０７の処理へ進む。
【００４１】
（ト）ステップＳ１０７において、データ合成部１４を用いて、整形後のデータを合成し、補正元データを作成する。そして、補正元データをデータ格納部１６を用いて補正元データ記憶装置１０３に格納する。
【００４２】
（チ）そして、図２のステップＳ１４において、ＯＰＣ処理部１５を用いて、補正元データにＯＰＣ処理を行う。そして、図４（ａ）のパターン４０ｃ、図４（ｂ）のパターン４５ｃ、図４（ｃ）のパターン５０ｃ等のＯＰＣ処理後のパターンデータをデータ格納部１６を用いてＯＰＣ処理後データ記憶装置１０２に格納し、終了する。
【００４３】
このように、本発明の第１の実施の形態に係る光近接効果補正装置及び光近接効果補正方法を用いれば、ＯＰＣ処理前に微小エッジ辺を検出するため、ＯＰＣ処理やＯＰＣ前処理で付加する微小エッジ辺に対する処理方法を明確にすることができる。また、本発明の第１の実施の形態に係る光近接効果補正装置及び光近接効果補正方法を用いれば、ＯＰＣ処理前に微小段差形状を判別するため、ＯＰＣ処理やＯＰＣ前処理で付加する微小段差に対する処理方法を明確にすることができる。
【００４４】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態に係る光近接効果補正装置は、図５に示すように、図１に示した本発明の第１の実施の形態に係る光近接効果補正装置１の制御装置１０に、更に、エッジ辺分割部２１、マージ部２２、補正エッジ辺選択部２３、シミュレーション部２４、エラー判断部２６を含むものである。
【００４５】
エッジ辺分割部２１は、補正元データ内に存在するエッジ辺を分割する。マージ部２２は、複数の微小エッジ辺を１つのエッジ辺とみなして設定する。補正エッジ辺選択部２３は、補正するエッジ辺を選択する。シミュレーション部２４は、補正元データに対してリソグラフィ・シミュレーションを行う。エラー判断部２６は、補正したパターンにエラーが生じないか否かを判断する。
【００４６】
２辺以上の微小エッジ辺が連続して形成する微小段差形状では、図７（ａ）に示すように、微小エッジ辺６１、６２、６３の３辺連続のパターン６０ａをＯＰＣ処理すると、図７（ｂ）のパターン６０ｂのような形状となり、微小エッジ辺６１は、エッジ辺６４のようにプラス方向に過補正となり、微小エッジ辺６３は、エッジ辺６５のようにマイナス方向に過補正となってしまう。また、ＯＰＣ処理後のパターン６０ｂは、微小エッジ辺を動かした結果、生成されたパターンであるため、微小突起、微小歪みとなり、マスク描画検査に悪影響を及ぼす可能性があり、最終的には除去が必要となってしまう。そこで、本発明の第２の実施の形態に係る光近接効果補正方法は、図２のステップＳ１４の処理に対応して、図６のステップＳ１４１からステップＳ１５２までの処理において、２辺以上の微小エッジ辺が連続して形成する微小段差について、窪みを埋めたり、出っ張りを削除することにより、１辺以下のエッジ辺からなる微小段差に補正する。
【００４７】
図６乃至図８を用いて、本発明の第２の実施の形態に係る光近接効果補正方法について説明する。本発明の第２の実施の形態に係る光近接効果補正方法は、図２のステップＳ１４の処理に対応する。
【００４８】
（イ）まず、ステップＳ１４１において、データ取得部１１を用いて、補正元データ記憶装置１０３から、補正元データを取得する。次に、ステップＳ１４２において、エッジ辺分割部２１を用いて、補正元データ内に存在するエッジ辺を分割し、ステップＳ１４３において、微小エッジ辺検出部１２を用いて微小エッジ辺を検出する。
【００４９】
（ロ）ステップＳ１４４において、２辺以上の微小エッジ辺の連続で形成される微小段差の形状について、３辺以上の連続した微小エッジ辺を持つか、それとも２辺以上の連続した微小エッジ辺であって、両隣に角度をもって接続される微小ではないエッジ辺を有する微小段差であるのか、形状分析部１３を用いて分類する。
【００５０】
（ハ）次に、ステップＳ１４５において、図７（ａ）の微小エッジ辺６１、６２、６３のように、３辺以上の連続した微小エッジ辺であるものについて、図７（ｃ）のエッジ辺６７のように、連続した１つのエッジ辺としてマージ部２２を用いて設定する。
【００５１】
（ニ）次に、ステップＳ１４６において、図８（ａ）の微小エッジ辺７１、７２のように、２辺以上の連続した微小エッジ辺であり、図８（ａ）のエッジ辺７３、７４のように、両隣に角度をもって接続される微小ではないエッジ辺を有する微小エッジ辺であるものについて、図８（ｂ）のエッジ辺８１のように、１つのエッジ辺としてマージ部２２を用いて設定する。
【００５２】
（ホ）次に、ステップＳ１４７において、補正エッジ辺を選択し、ステップＳ１４８において、シミュレーション部２４を用いてリソグラフィ・シミュレーションを行う。ステップＳ１４９において、エラー判断部２６を用いて、補正にエラーがあるか否かを判断し、エラーがある場合は、ステップＳ１５０において、エッジ辺補正を行い、ステップＳ１４８からステップＳ１４９までの処理を繰り返す。
【００５３】
（ヘ）ステップＳ１４９において、補正にエラーがないと判断された場合は、ステップＳ１５１において、全てのエッジ辺について、補正エラーの有無が判断されたか否かを判断する。全てのエッジ辺について、補正エラーの有無が判断されていない場合は、
ステップＳ戻り、ステップＳ１４７からステップＳ１５１までの処理を繰り返す。
【００５４】
（ト）ステップＳ１５１において、全てのエッジ辺について補正エラーがないと判断されると、ステップＳ１５２において、データ格納部１６を用いて、補正データをＯＰＣ処理後データとしてＯＰＣ処理後データ記憶装置１０２に格納する。
【００５５】
このように、本発明の第２の実施の形態に係る光近接効果補正装置及び光近接効果補正方法を用いれば、連続する複数の微小エッジ辺を１つの微小エッジ辺とみなす補正を行うため、微小エッジ辺、微小段差が原因の局所的に過補正による補正精度の劣化や、マスク描画、マスク検査に悪影響を及ぼす微小突起、微小凹み、鋭角突起、又は鋭角凹み等のパターン（図形）の発生を防ぐことができる。また、本発明の第２の実施の形態に係る光近接効果補正装置及び光近接効果補正方法を用いれば、連続する複数の微小エッジ辺を、微小エッジ辺の両隣に角度を持って接続される微小でないエッジ辺に合成し、１つのエッジ辺とみなす補正を行うため、微小エッジ辺、微小段差が原因の局所的に過補正による補正精度の劣化や、マスク描画、マスク検査に悪影響を及ぼす微小突起、微小凹み、鋭角突起、又は鋭角凹み等のパターン（図形）の発生を防ぐことができる。
【００５６】
（第３の実施の形態）
本発明の第３の実施の形態に係る光近接効果補正装置及び光近接効果補正方法は、本発明の第１及び第２の実施の形態に係る光近接効果補正装置１と同じ構成であって、本発明の第１及び第２の実施の形態に係る光近接効果補正方法において、目標データ、補正元データ、参照データを用いて、ＯＰＣ処理を施す。
【００５７】
通常、ＯＰＣ処理のための入力データは、補正元データと参照データの２つしか入力できない。そのため、補正対象データが、デザインルール違反の補正元データとなってしまい、補正元データを補正目標として補正するため、転写パターン９３のような仕上がりイメージとなってしまう。転写パターン９３は、微小段差を削除したパターン９０ｂを元にしてしまっているため、ウエハ上で問題となる可能性がある。しかし、図１０（ａ）に示すような２以上の微小エッジ辺で形成される微小段差９１が存在し、その微小段差９１が意味のある段差である場合、パターン９０ｂのように微小段差９１を安易に削除してしまうと、図１０（ｂ）のパターン９０ｃのように補正されることになる。また、パターン９０ｃを用いて、ウエハにパターンを転写した場合、転写パターン９３のように転写されてしまう。この場合、微小段差９１は、意味のある段差であったため、削除してしまった結果、転写パターン９３では、ビアパターンに対する余裕違反が発生したり、パターン幅違反又はスペース違反（Ｗｉｄｔｈ／Ｓｐａｃｅ違反）が発生したりする場合がある。
【００５８】
図９及び図１０を用いて、本発明の第３の実施の形態に係る光近接効果補正方法について説明する。本発明の第３の実施の形態に係る光近接効果補正方法は、図２のステップＳ１４の処理に対応する。
【００５９】
（イ）図９のステップＳ１６１において、エッジ辺分割部２１を用いて、補正元データ内に存在するエッジ辺を分割する。そして、ステップＳ１６２において、補正エッジ辺選択部２３を用いて、補正するエッジ辺を選択する。次に、ステップＳ１６３において、データ取得部１１を用いて、参照データ記憶装置１０４から補正時に考慮すべき参照データを用いて取得し、目標データ記憶装置１０５から、補正の目標となる目標データを取得し、補正元データ中のステップＳ１６２において選択された補正対象のエッジ辺について、シミュレーション部２４を用いて、リソグラフィ・シミュレーションを行う。
【００６０】
次に、ステップＳ１６４において、エラー判断部２６を用いて、補正にエラーがあるか否かを判断し、エラーがある場合は、ステップＳ１６５において、エッジ辺補正を行い、ステップＳ１６３からステップＳ６４までの処理を繰り返す。
【００６１】
（ロ）ステップＳ１６４において、補正にエラーがないと判断された場合は、ステップＳ１６６において、全てのエッジ辺について、補正エラーの有無が判断されたか否かを判断する。全てのエッジ辺について、補正エラーの有無が判断されていない場合は、ステップＳ１６２の処理へ戻り、ステップＳ１６２からステップＳ１６６までの処理を繰り返す。
【００６２】
（ハ）ステップＳ１６６において、全てのエッジ辺について補正エラーがないと判断されると、データ格納部１６を用いて補正データをＯＰＣ処理後データとしてＯＰＣ処理後データ記憶装置１０２に格納し、終了する。
【００６３】
このように、本発明の第３の実施の形態に係る光近接効果補正装置及び光近接効果補正方法を用いれば、補正の目標となる目標データを補正元データとは別に格納し、参照することができるため、補正元データに対して補正を行う際に、参照データと目標データの両方を考慮しながら、補正を行うことができるため、意味のある微小段差を削除することなく、微小段差を有するパターンについて光近接効果補正（ＯＰＣ）を施すことができる。また、本発明の第３の実施の形態に係る光近接効果補正装置及び光近接効果補正方法を用いれば、ＯＰＣ処理前に、一度、微小エッジ辺を持たないパターンを生成し、微小エッジ辺を持たないパターンを補正元データとして用い、更に、目標となる目標データをターゲットパターンとして補正することにより、微小段差の影響を受けず、微小段差のあるパターンを的確にＯＰＣすることができる。
【００６４】
たとえば、本発明の第３の実施の形態に係る光近接効果補正装置及び光近接効果補正方法では、図１０（ａ）の微小段差９１を削除したパターン９０ｂを補正元データとする。そして、パターン９０ｂ（補正元データ）をそのままＯＰＣした場合、図１０（ｂ）のパターン９０ｃのようになり、転写パターン９３のように転写されてしまう。しかし、補正元データであるパターン９０ｂと、目標データであるパターン９０ａの両方を考慮してＯＰＣした場合、図１０（ｃ）のパターン９０ｄのような補正が行われることとなる。そして、パターン９０ｄに基づき、ウエハ上へ転写すると、転写パターン９４のように、微小段差を考慮したパターンを転写することができる。
【００６５】
（その他の実施の形態）
上記のように、本発明は実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面は、この発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から、当業者には様々な代替実施の形態及び実施例等が明らかとなろう。
【００６６】
本発明の第１〜第３の実施の形態に係る光近接効果補正方法及び光近接効果補正装置では、別々の方法及び装置として実施した場合について記載したが、各実施の形態に係る光近接効果補正方法及び光近接効果補正装置を同時に実施しても良いことは勿論である。
【００６７】
なお、本発明の光近接効果方法は、プログラミングされ、光近接効果補正装置の制御装置であるＣＰＵもしくは外部のＣＰＵを用いて実行することができる。また、そのコンピュータプログラムは、コンピュータにより読み取り可能な媒体、例えば半導体メモリ、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、磁気テープ等に保存できる。
【００６８】
本発明はここでは記載していない様々な実施の形態などを含むことは勿論である。従って、本発明の技術的な範囲は上記説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
【００６９】
【発明の効果】
本発明によれば、微小段差を有するレイアウト設計パターンについて精度を劣化させることなく光近接効果補正を行うことができる光近接効果補正方法及び光近接効果補正装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る光近接効果補正装置の構成図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る光近接効果補正方法の全体を示したフローチャートである。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る微小段差整形処理のフローチャートである。
【図４】本発明の第１の実施の形態に係る微小段差整形処理例である。
【図５】本発明の第２の実施の形態に係る光近接効果補正装置の構成図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係る光近接効果補正方法のフローチャートである。
【図７】本発明の第２の実施の形態に係る微小段差整形処理例（その２）である。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係る微小段差整形処理例（その２）である。
【図９】本発明の第３の実施の形態に係る光近接効果補正方法のフローチャートである。
【図１０】本発明の第３の実施の形態に係る微小段差整形処理例である。
【図１１】従来の微小段差を有するパターンに対する光近接効果補正例（その１）である。
【図１２】従来の微小段差を有するパターンに対する光近接効果補正例（その２）である。
【符号の説明】
１  光近接効果補正装置
２  ＣＰＵ
６  ネットワーク
１０  制御装置
１１  データ取得部
１２  微小エッジ辺検出部
１３  形状分析部
１４  データ合成部
１５  ＯＰＣ処理部
１６  データ格納部
１７  整形部
１８  段差整形部
１９  整形部
２１  エッジ辺分割部
２２  マージ部
２３  補正エッジ辺選択部
２４  シミュレーション部
２６  エラー判断部
３５  入力装置
３６  出力装置
３７  主記憶装置
３８  入出力制御装置
４０ａ〜４０ｃ、４５ａ〜４５ｃ、５０ａ〜５０ｃ、６０ａ、６０ｂ、６６ａ、６６ｂ７０ａ〜７０ｃ、８０ａ〜８０ｃ、０ａ〜９０ｄ  パターン
４１、４２、４６、４７、５１〜５３、６１〜６３、６８、６９、７１、７２
微小エッジ
４３、５４  修正部
４８  出張り部分
６４、６５、６７、７３、７４、８１  エッジ
７５ａ、７５ｂ、８３  補正部
９１  微小段差
９３、９４  転写パターン
１０１  ソースデータ記憶装置
１０２  補正後データ記憶装置
１０２  ＯＰＣ処理後データ記憶装置
１０３  補正元データ記憶装置
１０４  参照データ記憶装置
１０５  目標データ記憶装置
１１２ａ、１１７ａ  微小段差
１１２ｂ、１１７ｂ  リソパターン
１１８ａ、１１８ｂ
１６１  ソースデータパターン
１６２  補正後パターン
１６３  微小段差
【図１】
2004294551.tif 000003
【図２】
2004294551.tif 000004
【図３】
2004294551.tif 000005
【図４】
2004294551.tif 000006
【図５】
2004294551.tif 000007
【図６】
2004294551.tif 000008
【図７】
2004294551.tif 000009
【図８】
2004294551.tif 000010
【図９】
2004294551.tif 000011
【図１０】
2004294551.tif 000012
【図１１】
2004294551.tif 000013
【図１２】
2004294551.tif 000014