(57)【要約】【課題】コンパクト且つ軽量で配置変更の容易なガス供給ユニットを提供すること。【解決手段】流体制御機器１〜７と、配管ブロック１１〜１８とを有し、配管ブロック１〜１８の上面に流体制御機器１〜７を取り付けることによって流体制御機器１〜７同士を接続し、ガス供給ラインの一部を構成するガス供給ユニット１０において、流体制御機器１〜７と配管ブロック１１〜１５とを連通させる流路にフィルタエレメント２６を設けたフィルタブロック２０を流体制御機器１〜７と配管ブロック１１〜１５との間に取り付ける。【選択図】　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２以上の流体制御機器と、配管ブロックとを有し、前記配管ブロックの上面に前記流体制御機器を取り付けることによって前記流体制御機器同士を接続し、ガス供給ラインの一部を構成するガス供給ユニットにおいて、
前記流体制御機器と前記配管ブロックとの間に取り付けられ、前記流体制御機器と前記配管ブロックとを連通させる流路にフィルタエレメントを設けたフィルタブロックを有することを特徴とするガス供給ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載するガス供給ユニットにおいて、
前記２以上の流体制御機器が、供給ガスが入力する入力ポートと、供給ガスが出力する出力ポートと、前記フィルタブロックを取り付けられる取付孔とをそれぞれ同じ位置に設けられていることを特徴とするガス供給ユニット。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載するガス供給ユニットにおいて、
前記フィルタブロックが、天地を逆さにしたときにも前記流体制御機器に対して取り付けられることを特徴とするガス供給ユニット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造工程で使用される供給ガスの供給を行うためのガス供給ユニットに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、半導体等の製造工程においては数種類の腐食性を有する供給ガスが使用されており、このような数種類の供給ガスを供給するガス供給ラインの一部にガス供給ユニットが使用されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
図１５は、従来のガス供給ユニット１００の一例を示す図である。
ガス供給ユニット１００は、流体制御機器である手動弁１０１、レギュレータ１０２、圧力計１０３、フィルタ１０４、入力弁１０５、パージ弁１０６、マスフローコントローラ１０７、出力弁１０８が、ガス流路がそれぞれ形成された配管ブロック１０９，１１０，１１１，１１２，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７に接続されることによって数種類の供給ガスを供給するガス供給ラインの一部を構成している。こうしたガス供給ユニット１００は、流体制御機器１０１〜１０８の間に接続部品を必要としないので、設置面積をコンパクトにして流路長さを短縮することができる。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−１５３２８９号公報（第５頁、第９図）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図１５のガス供給ユニット１００は、次のような問題があった。
すなわち、ガス供給ユニット１００では、流体制御機器１０１〜１０８を配管ブロック１０９〜１１７の上面に取り付けて供給ガスの流路を形成しているため、例えば、流体制御機器１０１〜１０８の１つであるフィルタ１０４を２個の配管ブロック１１２，１１３に接続する必要がある。そのため、ガス供給ユニット１００は、ガス供給ラインに設置するときに、流体制御機器１０１〜１０８と配管ブロック１０９〜１１７の設置スペースを要し、占有スペースが大きくなる問題があった。また、流体制御機器１０１〜１０８や配管ブロック１０９〜１１７など部品点数が多いため、ガス供給ユニット１００自体の重量が重くなる問題があった。特に、ガス供給ユニット１００は、複数列隣り合わせて使用されることが一般的であり、占有スペースや重量の問題は、ガス供給ラインに使用されるガス供給ユニット１００の数が増加する毎に顕著になる。
【０００６】
また、ガス供給ユニット１００はフィルタ１０４の配置変更が煩わしかった。すなわち、例えば、フィルタ１０４の配置を入力弁１０５の上流側からレギュレータ１０２の上流側に配置変更する場合、従来のガス供給ユニット１００では、レギュレータ１０２と圧力計１０３とフィルタ１０４を配管ブロック１１０〜１１３からそれぞれ取り外し、レギュレータ１０２と圧力計１１０を下流側にずらして配管ブロック１１１〜１１３に接続した後に、フィルタ１０４を配管ブロック１１０，１１１に接続することにより、レギュレータ１０２と圧力計１０３とフィルタ１０４との順序を並べ替える必要があり、配置変更に手間がかかっていた。
【０００７】
そこで、本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、コンパクト且つ軽量で配置変更の容易なガス供給ユニットを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、２以上の流体制御機器と、配管ブロックとを有し、配管ブロックの上面に流体制御機器を取り付けることによって流体制御機器同士を接続し、ガス供給ラインの一部を構成するガス供給ユニットにおいて、流体制御機器と配管ブロックとの間に取り付けられ、流体制御機器と配管ブロックとを連通させる流路にフィルタエレメントを設けたフィルタブロックを有することを特徴としている。
【０００９】
上記のように構成されたガス供給ユニットでは、フィルタブロックを流体制御機器と配管ブロックとの間に設けることにより、従来流体制御機器として配管ブロックに接続していたフィルタを除去し、それに伴ってフィルタに接続していた２個の配管ブロックのうち１個を除去したため、全長を短くしてユニット全体をコンパクトにすることができると同時に、部品点数などを減らして重量を軽量化することができる。そして、フィルタブロックは、流体制御機器と配管ブロックとの間に配置されるので、流体制御機器の順序を並べ替えることなく簡単に配置変更することができる。
【００１０】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、２以上の流体制御機器が、供給ガスが入力する入力ポートと、供給ガスが出力する出力ポートと、フィルタブロックを取り付けられる取付孔とをそれぞれ同じ位置に設けられていることを特徴としている。
すなわち、フィルタブロックを２以上の流体制御機器の何れに対しても接続可能なので、使用目的に応じてフィルタブロックの配置を自由に選択することができる。
【００１１】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明において、フィルタブロックが、天地を逆さにしたときにも流体制御機器に対して取り付けられることを特徴としている。
すなわち、フィルタブロックの取り付けを流体制御機器に対して天地を逆さにして取り付ければ、各流体制御機器に対してフィルタエレメントを供給ガスの流れの上流側と下流側に選択的に取り付けることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
（第１実施の形態）
次に、本発明に係るガス供給ユニットの第１実施の形態について図面を参照して説明する。図１は、ガス供給ユニット１０の側面図であって、レギュレータ２に対してフィルタエレメント２６を供給ガスの流れの上流側に配置した図である。
ガス供給ユニット１０は、上流側から流体制御装置である手動弁１、レギュレータ２、圧力トランスデューサ３、遮断弁４、マスフローコントローラ５、パージ弁６及び逆止弁７の各モジュールの順に並べられ、それぞれベース部材１９上に組み付けられたものである。そして、各モジュール１〜７は、従来例のガス供給ユニット１００（図１５参照）と同様に配管ブロック１１〜１８を介して接続され、ガス供給ラインの一部を構成している。ここで、ベース部材１９としては、ベースプレートやレールなどを用いる。
【００１３】
第１実施の形態のガス供給ユニット１０と従来例のガス供給ユニット１００との相違は、ガス供給ユニットを構成するモジュールからフィルタ１０４を除去している点にある。フィルタ１０４は、供給された供給ガス内の混入不純物を除去するためガス供給ラインを構成する上で必須の構成ではあるが、第１実施の形態のガス供給ユニット１０では、それを手動弁１やレギュレータ２などのようにモジュール化するのではなく、新たにフィルタ機能を内蔵するフィルタブロック２０を用いることにより代替させている。
【００１４】
図１５に示す従来例のガス供給ユニット１００では、手動弁１０１を通った供給ガスは、レギュレータ１０２から配管ブロック１１１、圧力計１０３、配管ブロック１１２、フィルタ１０４へと供給され、フィルタ１０４で不純物が除去された後に、配管ブロック１１３、入力弁１０５、配管ブロック１１４、パージ弁１０６、配管ブロック１１５、マスフローコントローラ１０７、配管ブロック１１６、出力弁１０８へと順次流れていく。このとき、モジュール１０１〜１０６は配管ブロック１０９〜１１５の上面に直接接続されていた。それに対して、図１に示す第１実施の形態のガス供給ユニット１０は、フィルタ機能を内蔵するフィルタブロック２０をモジュール１〜４と配管ブロック１１〜１５との間に適宜配設することを提案するものである。
【００１５】
図２は、レギュレータ２の下面図である。
レギュレータ２の下面は、一辺の長さＡの正方形をなし、その四隅には、取付孔３１が形成されている。取付孔３１は、レギュレータ２の下面におけるガス供給ユニット１０の長手方向（図中左右方向）の辺に対して中点からＢだけ離れた位置に左右対称に形成され、且つ、ガス供給ユニット１０の幅方向（図中上下方向）の辺に対して中点からＣだけ離れた位置に上下対称に形成されている。また、レギュレータ２の入力ポート３２と出力ポート３３は、レギュレータ２の下面におけるガス供給ユニット１０の長手方向（図中左右方向）の辺に対して中点からＢだけ離れた位置に左右対称に設けられている。入力ポート３２と出力ポート３３の開口部には、図示しないガスケットを嵌め込むための段差が形成されている。
【００１６】
図３は、フィルタブロック２０の上面図である。図４は、図３のＮＮ断面図である。図５は、フィルタブロック２０の下面図である。
フィルタブロック２０は、上面と下面が一辺の長さＡの正方形をなす直方体に成形されたものであり、その四隅には、モジュール１〜４に対してフィルタブロック２０を図示しないボルトで固定するためのネジ穴３０がレギュレータ２の取付孔３１と対応するよう形成されている。すなわち、ネジ孔３０は、フィルタブロック２０におけるガス供給ユニット１０の長手方向（図中左右方向）の辺に対して中点からＢだけ離れた位置に左右対称に形成され、且つ、ガス供給ユニット１０の幅方向（図中上下方向）の辺に対して中点からＣだけ離れた位置に上下対称に形成されている。
【００１７】
フィルタブロック２０の上面には、レギュレータ２の入力ポート３２と出力ポート３３に接続可能なポート２１，２２が形成されている。ポート２１，２２は、フィルタブロック２０の上面におけるガス供給ユニット１０の長手方向（図中左右方向）の辺に対して中点からＢだけ離れた位置に左右対称に設けられている。ポート２１，２２の開口部には、図示しないガスケットを嵌め込むための段差が形成されている。
一方、フィルタブロック２０の下面には、ポート２１，２２の真下にポート２３，２４が設けられている。そのため、ポート２３，２４は、フィルタブロック２の下面におけるガス供給ユニット１０の長手方向（図中左右方向）に対して中点からＢだけ離れた位置に左右対称に設けられている。従って、フィルタブロック２０は、ポート２１，２２とポート２３，２４とが上面と下面の同じ位置に設けられているので、上下方向の取り付けを制限されない。尚、ポート２３，２４の開口部には、図示しないガスケットを嵌め込むための段差が形成されている。
【００１８】
ポート２１とポート２３とは、フィルタ室２５を介してつながっている。フィルタ室２５は、フィルタブロック２０の下面側から円形にあけられた穴であり、天井側に金属製のフィルタエレメント２６を嵌め込まれている。フィルタエレメント２６は、フィルタ室２５を塞ぐように下面側から入れられたフィルタ押え２７によって押さえ付けられて位置決めされている。フィルタ押え２７は、フィルタ室２５からのガス漏れを防止するためにも、フィルタ押え２７とフィルタブロック２０との隙間部分を溶接で塞いでフィルタ押え２７をフィルタブロック２０に一体に固定させている。また、ポート２３に接続する流路２８がフィルタ室２５の内壁面に開口部を有しているため、フィルタ室２５には、円筒形状の側壁に流路２８とつながる貫通穴２９が形成されている。
【００１９】
図６は、配管ブロック１２，１３の上面図である。
配管ブロック１２は、長手方向の長さＡの直方体に成形されたものであり、その四隅には、フィルタブロック２０を介して間接的に、或いは、直接的に配管ブロック１２をレギュレータ２などのモジュール１〜７にボルトで固定するためのネジ穴４２が形成されている。ネジ孔４２は、ガス供給ユニット１０の長手方向（図中左右方向）にＤだけ離れ、且つ、ガス供給ユニット１０の幅方向（図中上下方向）の辺に対して中点からＣだけ離れた位置に上下対称に設けられている。
【００２０】
配管ブロック１２には、配管ブロック１４をボルトによりベース部材１９に固定するための貫通穴４１，４１が形成されている。そして、配管ブロック１２の上面には、Ｖ字形流路（図１参照）と連通するポート４３，４４が、ガス供給ユニット１０の幅方向（図中上下方向）の中点位置においてＤだけ離れて形成されている。ポート４３，４４の開口部には、図示しないガスケットを嵌め込むための段差が形成されている。
【００２１】
尚、配管ブロック１３も配管ブロック１４と同様の構造を有し、配管ブロック１２，１３は、配管ブロック１２のポート４４と配管ブロック１３のポート４３とがＥ（＝Ｂ＋Ｂ）だけ離れるようにベース部材１９に取り付けられる。
【００２２】
図７は、配管ブロック１１（１８）の上面図である。
配管ブロック１１は、配管ブロック１２等と同様にして、貫通穴４１，４１、ネジ穴４２，４２が形成されている。ネジ孔４２は、配管ブロック１１の上面におけるガス供給ユニット１０の幅方向（図中上下方向）の辺に対して中点からＣだけ離れた位置に上下対称に形成されている。ネジ孔４２，４２の間には、手動弁１の入力ポートと接続可能なポート４９が形成され、入力口８と連通している。ポート４９の開口部には、図示しないガスケットを嵌め込むための段差が形成されている。こうした配管ブロック１１は、ポート４９が配管ブロック１２のポート４３とＥ（＝Ｂ＋Ｂ）だけ離れるようにベース部材１９に取り付けられる。
尚、配管ブロック１８も配管ブロック１１と同様の構造を有している。
【００２３】
こうした図１のガス供給ユニット１０では、配管ブロック１１〜１８のポートがＥ（＝Ｂ＋Ｂ）ずつ離れるように配管ブロック１１〜１８をベース部材１９に取り付け、各モジュール１〜７を図示しないガスケットを介して配管ブロック１１〜１８の上面に配置して上方からネジを締結することにより各モジュール１〜７を配管ブロック１１〜１８に組み付けて固定する。このとき、レギュレータ２においては、配管ブロック１２，１３との間にフィルタブロック２０を配設され、ガス供給ラインの一部を構成している。フィルタブロック２０は、ポート２１がレギュレータ２の入力ポート３３に接続しているため、フィルタエレメント２６がレギュレータ２に対して供給ガスの流れの上流側に配設されている。そして、ガス供給ユニット１０は、入力口８側がガス供給源に接続される一方、出力口９側がチャンバに配管される。こうしたガス供給ユニット１０は、供給ガスの種類に従って数個のユニットが並べられ、それぞれが配管されてガス供給回路が構成される。
【００２４】
そこで、ガス供給回路を構成する１つのガス供給ユニット１０における供給ガスの流れを見てみる。入力口８から入った供給ガスは、手動弁１からレギュレータ２へと送られる間に、フィルタブロック６で混入不純物を除去される。混入不純物を除去された供給ガスは、圧力トランスデューサ３から遮断弁４へと送られる。その際、供給ガスは、圧力トランスデューサ３を流れて圧力を監視される。そして、供給ガスは、マスフローコントローラ５を流れて所定流量に絞られる。こうして設定圧力及び設定流量に調節された供給ガスは、パージ弁６及び逆止弁７を通って出力口９からチャンバへと送られる。このとき、レギュレータ２やマスフローコントローラ５では、供給ガスの混入不純物がレギュレータ２の上流側で除去されているため、内部の細い流路がつまることを防止される。
【００２５】
ここで、より確実にマスフローコントローラ５のつまりを防止するためには、マスフローコントローラ５の上流側にフィルタエレメント２６を配置することが望ましい。この場合、図２に示すように、遮断弁４の下面にレギュレータ２と同じ位置に取付孔３１、入力ポート３２、出力ポート３３を設ければ、フィルタブロック２０をレギュレータ２と配管ブロック１２，１３との間から（図１参照）、マスフローコントローラ５と配管ブロック１４，１５との間に配置変更することができる（図８参照）。すなわち、レギュレータ２とフィルタブロック２０とを配管ブロック１２，１３から取り外してレギュレータ２のみを配管１２，１３にネジで組み付けて固定した後、遮断弁４を配管ブロック１４，１５から取り外し、フィルタブロック２０を遮断弁４と配管ブロック１４，１５との間に設置して遮断弁４とフィルタブロック２０とを配管ブロック１４，１５に対してネジで組み付けて固定する。
【００２６】
このとき、図８に示すように、フィルタブロック２０のポート２１を遮断弁４の入力ポート３２に接続し、フィルタブロック２０のポート２２を遮断弁４の出力ポート３３に接続するようにフィルタブロック２０を遮断弁４と配管ブロック１４，１５の間に配置すると、フィルタエレメント２６が遮断弁４に対して供給ガスの流れの上流側に配設される。この場合、ガス供給ユニット１０をパージした後にフィルタブロック２０のフィルタ室２５やフィルタエレメント２６に供給ガスが付着していても、遮断弁４を閉弁させておけば、マスフローコントローラ５を配管ブロック１５から取り外してメンテナンスを行うときなどにガス漏れしない。
【００２７】
また、フィルタブロック２０は、ネジ孔３１…同士、及び、ポート２１，２２とポート２３，２４とが上下面の同じ位置に設けられているので、フィルタブロック２６の配置を図８に示す状態から遮断弁４に対して天地を逆さにさせ、図９に示すように遮断弁４と配管ブロック１４，１５の間に組み付けて固定することができる。このとき、フィルタブロック２０は、ポート２３が遮断弁４の出力ポート３３と接続する一方、ポート２１が配管ブロック１５と接続するため、フィルタエレメント２６が遮断弁４に対して供給ガスの流れの下流側に配設される。この場合、マスフローコントローラ５に入力する直前に供給ガスの混入不純物を除去するため、マスフローコントローラ５のつまりが防止される。
【００２８】
尚、手動弁１、圧力トランスデューサ３の下面にも、レギュレータ２と同じ位置に取付孔３１、入力ポート３２、出力ポート３３を設ければ、手動弁１と配管ブロック１１，１２との間（図１０参照）や、圧力トランスデューサ３と配管ブロック１３，１４との間（図１１参照）にフィルタブロック２０を配置変更することが可能になり、更には、フィルタエレメント２６を手動弁１や圧力トランスデューサ３に対して供給ガスの流れの上流側と下流側とに選択的に取り付けることが可能になる。
【００２９】
従って、第１実施の形態のガス供給ユニット１０によれば、フィルタブロック２０を流体制御機器１〜７と配管ブロック１１〜１５との間に設けることにより（図１参照）、従来流体制御機器として配管ブロック１１２，１１３に接続していたフィルタ１０４（図１５参照）を除去し、それに伴ってフィルタ１０４に接続していた２個の配管ブロック１１２，１１３のうち１個を除去したため、全長を短くしてユニット全体をコンパクトにすることができると同時に、部品点数などを減らして重量を軽量化することができる。そして、フィルタブロック２０は、流体制御機器１〜４と配管ブロック１１〜１５との間に配置されるので、流体制御機器１〜４の順序を並べ替えることなく簡単に配置変更することができる。
【００３０】
このとき、流体制御機器１〜７の下面に入力ポート３２と出力ポート３３をそれぞれ同じ位置に設ければ（図２参照）、フィルタブロック２０を流体制御機器１〜７の何れに対しても接続可能になるので（図１、図８〜図１１参照）、使用目的に応じてフィルタブロック２０の配置を自由に選択することができる。
【００３１】
また、フィルタブロック２０の取り付けを流体制御機器１〜７に対して天地を逆さにして取り付ければ（図８、図９参照）、各流体制御機器１〜７に対してフィルタエレメント２６を供給ガスの流れの上流側と下流側に選択的に取り付けることができる。
【００３２】
（第２実施の形態）
次に、本発明のガス供給ユニットの第２実施の形態について図面を参照して説明する。第２実施の形態では、第１実施の形態とフィルタブロックの構成が相違しているので、この相違点について詳細に説明する。図１２は、フィルタブロック５０の上面図である。図１３は、フィルタブロック５０の側面図である。図１４は、図１２のＨＨ断面図である。
【００３３】
第２実施の形態のガス供給システムで使用されるフィルタブロック５０は、フィルタブロック５０の側面からあけられたフィルタ室５５に金属製のフィルタエレメント５６を横から挿入するようにしている。フィルタエレメント５６は、円筒の一端を囲んだ袋形状をしたものであり、反対の開放端に固定された環状板６０をフィルタ室５５に嵌め込んで位置決めされている。フィルタ室５５の開口部は蓋５７で閉じられ、ポート５１，５３の間にフィルタエレメント５６を配置したフィルタブロック５０を構成している。フィルタブロック５０のポート５１〜５４は、第１実施の形態のフィルタブロック２０に形成されたポート２１〜２４と同様に上面と下面の同じ位置に形成されている。そして、フィルタブロック５０は、ネジ穴５２に挿通したボルトで流体制御機器１〜７に固定され、流体制御機器１〜７と配管ブロック１１〜１５との間に配置される。
【００３４】
こうしたフィルタブロック５０を使用したガス供給ユニットによれば、第１実施の形態のガス供給ユニット１０と同様に、従来流体制御機器として配管ブロック１１２，１１３に接続していたフィルタ１０４（図１５参照）を除去し、それに伴ってフィルタ１０４に接続していた２個の配管ブロック１１２，１１３のうち１個を除去したため、ユニット全体のコンパクト化と軽量化を図ることができることに加え、小型の集積ユニットを構成した場合にでも、フィルタ部分の流路を小さくすることなく十分な流量を確保することができる。
【００３５】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されることなく、色々な応用が可能である。
【００３６】
（１）例えば、上記実施の形態では、流体制御機器１〜７の下面に形成した入力ポート３２と出力ポート３３を取付孔３１と同軸上に形成したり、フィルタブロック２０，５０のポート２１〜２４、５１〜５４をネジ孔３０，５９と同軸上に形成したり、配管ブロック１２，１３のポート４３，４４をネジ孔４２と同軸上に形成したりすることにより、流体制御機器１〜７とフィルタブロック２０又は配管ブロック１２，１３などの間に配設したガスケットを効率的に押し潰してシール性を向上させるようにした。それに対して、ガスケット自体に弾性などを有してシール性のよいものを使用することにより、各ポート、取付孔、ネジ孔を任意の位置に設けるようにしてもよい。
【００３７】
（２）例えば、上記第１実施の形態では、フィルタエレメント２６をフィルタ室２５内に水平に配置した。それに対して、フィルタ室２５に斜めに配置するフィルタエレメントを使用し、フィルタ部分の面積を広く確保するようにしてもよい。
【００３８】
（３）例えば、上記第２実施の形態では、円筒形状のフィルタエレメント５６を使用した。それに対して、表面に凹凸を設け、フィルタ部分の面積を広く確保するようにしてもよい。
【００３９】
【発明の効果】
従って、本発明のガス供給ユニットによれば、２以上の流体制御機器と、配管ブロックとを有し、配管ブロックの上面に流体制御機器を取り付けることによって流体制御機器同士を接続し、ガス供給ラインの一部を構成するガス供給ユニットにおいて、流体制御機器と配管ブロックとの間に取り付けられ、流体制御機器と配管ブロックとを連通させる流路にフィルタエレメントを設けたフィルタブロックを有しているので、全長を短くしてユニット全体をコンパクトにすることができると同時に、部品点数などを減らして重量を軽量化することができ、さらに、流体制御機器を並べ替えることなくフィルタブロックを簡単に配置変更できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施の形態に係り、ガス供給ユニットの側面図であって、レギュレータに対してフィルタエレメントを供給ガスの流れの上流側に配置した図である。
【図２】同じく、レギュレータの下面図である。
【図３】同じく、フィルタブロックの上面図である。
【図４】同じく、図３のＮＮ断面図である。
【図５】同じく、フィルタブロックの下面図である。
【図６】同じく、配管ブロックの上面図である。
【図７】同じく、配管ブロックの上面図である。
【図８】同じく、ガス供給ユニットの側面図であって、遮断弁に対してフィルタエレメントを供給ガスの流れの上流側に配置した図である。
【図９】同じく、ガス供給ユニットの側面図であって、遮断面に対してフィルタエレメントを供給ガスの流れの下流側に配置した図である。
【図１０】同じく、ガス供給ユニットの側面図であって、手動弁に対してフィルタエレメントを供給ガスの流れの上流側に配置した図である。
【図１１】同じく、ガス供給ユニットの側面図であって、圧力トランスデューサに対してフィルタエレメントを供給ガスの流れの上流側に配置した図である。
【図１２】本発明の第２実施の形態に係り、フィルタブロックの上面図である。
【図１３】同じく、フィルタブロックの側面図である。
【図１４】同じく、図１２のＨＨ断面図である。
【図１５】従来のガス供給ユニットの一例を示す図である。
【符号の説明】
１　手動弁
２　レギュレータ
３　圧力トランスデューサ
４　遮断弁
５　マスフローコントローラ
６　パージ弁
７　逆止弁
１０　ガス供給ユニット
１１〜１８　配管ブロック
２０　フィルタブロック
２１〜２４　ポート
２５　フィルタ室
２６　フィルタエレメント
２８　流路
３２　入力ポート
３３　出力ポート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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