(57)【要約】【課題】活性線硬化樹脂層を塗設した樹脂フィルム等を鹸化する際、処理後のカールの発生がなく、鹸化処理後の蛇行や貼合せ時の位置ずれがなく、貼合せ時の泡の巻き込みもなく、また、活性線硬化樹脂層表面の微小な膜厚ムラの発生もなく、従って、生産性のよい光学フィルムの製造方法とそれにより作製された光学フィルムを提供する。【解決手段】活性線硬化型樹脂を基材上に塗布した後、活性線を照射して活性線硬化樹脂層を形成し、その上に光学薄膜層を形成する光学フィルムの製造方法において、活性線硬化樹脂層が未硬化の状態にあるとき、基材裏面に塗布したバックコート層も未乾燥状態にあるよう塗設することを特徴とする光学フィルムの製造方法。【選択図】　　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性線硬化型樹脂を基材上に塗布した後、活性線を照射して活性線硬化樹脂層を形成し、その上に光学薄膜層を形成する光学フィルムの製造方法において、活性線硬化樹脂層が未硬化の状態にあるとき、基材裏面に塗布したバックコート層も未乾燥状態にあるよう塗設することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
バックコート層を活性線硬化樹脂層を塗布する前に塗布することを特徴とする請求項１記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
活性線硬化樹脂層塗布後、ドライヤーに入る前にバックコート層を塗布することを特徴とする請求項１記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
活性線硬化樹脂層とバックコート層を同時に塗布することを特徴とする請求項１記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
活性線硬化樹脂層塗布後、乾燥の途中にバックコート層を塗布することを特徴とする請求項１記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
活性線硬化樹脂層を塗布し乾燥終了後、活性線を照射して硬化させるまでの間に、バックコート層を塗布することを特徴とする請求項１記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
活性線硬化型樹脂を基材上に塗布した後、活性線を照射して活性線硬化樹脂層を形成し、その上に光学薄膜層を形成した光学フィルムにおいて、活性線硬化樹脂層が未硬化の状態であるとき、基材裏面に塗布したバックコート層も未乾燥状態にあるよう塗設して作製したことを特徴とする光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、偏光板保護層等として用いられる光学フィルムの製造方法とそれにより作製した光学フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
セルロースエステルフィルムの用途の一つとして、液晶モニター、テレビの偏光板等の保護層として使用されることがある。この場合、偏光板にする際、接着剤との密着性確保のため鹸化処理が行われ、その後、接着剤により偏光子に貼合される。
【０００３】
従来、活性線硬化樹脂層（ハードコート層ともいう）や防眩層を塗布したフィルムは、活性線を照射して硬化させた時等に膜収縮によるカールが発生することが多い。その予防策として、活性線硬化樹脂層裏面に溶剤処理を行う（例えば、特開平９−２０９１２号公報、特開平９−２１８３０２号公報参照）、あるいは下記特許文献１、２及び３に記載されている如く、アンチカール層（兼ブロッキング防止層）としてのバックコート層を形成する等の技術が開発されている。
【０００４】
バックコート層を塗布する場合、活性線硬化樹脂層を塗布乾燥し硬化後にバックコート層を塗布する方法や、バックコート層を塗布乾燥後に活性線硬化型樹脂を塗布・硬化する方法等が行われている。
【０００５】
しかし、これらの方法で作製されたフィルムでは、偏光板化する際の鹸化処理にてカールが発生し、その後の搬送で蛇行したり、貼合時ずれて位置精度が出ない等不具合があった。また、貼合する時、貼合面での泡の巻き込みがあり製品の収率を下げる原因にもなっていた。また、表面に微小な膜厚ムラが発生することがあり、これも収率を下げる原因となっていた。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００１−１８３５２８号公報
【０００７】
【特許文献２】
特開２００１−６４４２２号公報
【０００８】
【特許文献３】
特開２００１−８３３２７号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題を解決するためになされた。
【００１０】
即ち、本発明の目的は、活性線硬化樹脂層を塗設した樹脂フィルム等を鹸化する際、処理後のカールの発生がなく、鹸化処理後の蛇行や貼合せ時の位置ずれがなく、貼合せ時の泡の巻き込みもなく、また、活性線硬化樹脂層表面の微小な膜厚ムラの発生もなく、従って、生産性のよい光学フィルムの製造方法とそれにより作製された光学フィルムを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
発明者等は、鋭意検討した結果、本発明の目的は、下記構成を採ることにより達成されることが判明した。
【００１２】
〔１〕　活性線硬化型樹脂を基材上に塗布した後、活性線を照射して活性線硬化樹脂層を形成し、その上に光学薄膜層を形成する光学フィルムの製造方法において、活性線硬化樹脂層が未硬化の状態にあるとき、基材裏面に塗布したバックコート層も未乾燥状態にあるよう塗設することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【００１３】
〔２〕　バックコート層を活性線硬化樹脂層を塗布する前に塗布することを特徴とする〔１〕記載の光学フィルムの製造方法。
【００１４】
〔３〕　活性線硬化樹脂層塗布後、ドライヤーに入る前にバックコート層を塗布することを特徴とする〔１〕記載の光学フィルムの製造方法。
【００１５】
〔４〕　活性線硬化樹脂層とバックコート層を同時に塗布することを特徴とする〔１〕記載の光学フィルムの製造方法。
【００１６】
〔５〕　活性線硬化樹脂層塗布後、乾燥の途中にバックコート層を塗布することを特徴とする〔１〕記載の光学フィルムの製造方法。
【００１７】
〔６〕　活性線硬化樹脂層を塗布し乾燥終了後、活性線を照射して硬化させるまでの間に、バックコート層を塗布することを特徴とする〔１〕記載の光学フィルムの製造方法。
【００１８】
〔７〕　活性線硬化型樹脂を基材上に塗布した後、活性線を照射して活性線硬化樹脂層を形成し、その上に光学薄膜層を形成した光学フィルムにおいて、活性線硬化樹脂層が未硬化の状態であるとき、基材裏面に塗布したバックコート層も未乾燥状態にあるよう塗設して作製したことを特徴とする光学フィルム。
【００１９】
本発明において、未乾燥状態のバックコート層とは、フィルム表面もしくはフィルム中に存在する溶剤量（残留溶剤量）が初期塗布膜に含まれる溶剤量の５％以上の状態をさす。
【００２０】
一般にバックコート層に用いられる溶剤は、セルロースエステルフィルムに浸透もしくは溶解する性質を有しており、表面が乾燥していてもフィルム中に浸透し、残留している。
【００２１】
塗布乾燥時におけるバックコート層の残留溶媒量はバックコート層のみを塗布した未乾燥のフィルムをサンプリングし、下記の方法で算出することができる。
【００２２】
尚、サンプリングの際は、溶媒の揮発を防止するため、バックコート層塗布面からさらなる溶媒の揮発を防止するためのフィルムを貼り付けて行うことが、より正確な残留溶媒量が求められるため好ましい。
【００２３】
残留溶剤量の測定：
１１０℃の恒温槽に１時間投入し、投入前の質量をａ［ｇ／ｍ２］、投入後の質量をｂ［ｇ／ｍ２］とする。塗布液濃度ｘ［質量％］、塗布量ｙ［ｇ／ｍ２］とすると、残留溶剤量Ｚ［質量％］は次の式で表される。
【００２４】
Ｚ［質量％］＝（ａ−ｂ）／（ｙ×（１−ｘ／１００））÷１００
活性線硬化樹脂層液は、塗布しやすいように溶剤にて希釈し塗布するのが一般的であり、塗布後、ドライヤーにて乾燥され、その後、活性線を必要量照射され硬化される。硬化の際、速やかに硬化させるため、照射雰囲気中に窒素等の不活性ガスを導入し、酸素濃度を１％未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満にし硬化することもある。
【００２５】
活性線硬化樹脂層が未硬化の状態とは、活性線が照射されて十分に硬化される前の状態を指し、希釈溶剤を含んでいてもよい。
【００２６】
また、未硬化の状態には活性線を硬化に必要な光量の数分の１の照射を行い、活性線硬化樹脂層の流動性を無くしているが本来の硬度に達していなく、更に活性線照射が必要なハーフキュアの状態も含む。
【００２７】
また、光学薄膜層としては、反射防止層が代表的なものである。光学薄膜層は、塗布、あるいは真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（化学蒸着）法及び大気圧もしくはその近傍の圧力での放電プラズマによる方法等で、形式が可能である。
【００２８】
【発明の実施の形態】
本発明の構成につきさらに詳細に説明する。
【００２９】
〔作製工程〕
従来、例えば図１に示す如き工程により、活性線硬化樹脂層とバックコート層の塗布・乾燥が行われていた。
【００３０】
図１において、ロール状に巻かれた基材１を巻きだし、まず基材表面に塗布機Ａにより活性線硬化樹脂層液を塗布する。これをドライヤー４により乾燥させた後活性線照射器５により、例えば紫外線を照射して完全に硬化させる。
【００３１】
次に、基材１の裏面に塗布機Ｂによりバックコート層液が塗布されドライヤー８にて乾燥された後、ロール状に巻き取られる。
【００３２】
これに対し本発明においては、例えば図２の如く、基材表面に塗布機Ａにより活性線硬化樹脂層液が塗布された後、ドライヤー４にて乾燥させるが硬化されることなく、基材１の裏面に塗布機Ｂによりバックコート層液が塗布されドライヤー８にて乾燥された後、なお未硬化の活性線硬化樹脂層を硬化させるため、活性線照射器５により活性線を照射される。
【００３３】
実際には、バックコート層液が塗布される順序は、上記の通りにする必要はなく、活性線硬化樹脂層液が硬化される前であればよい。
【００３４】
従って、図２において塗布機Ｂを
１）塗布機Ａの前に置く
２）塗布機Ａと向かい合わせて置く
３）塗布機Ａとドライヤー４の間に置く
４）ドライヤー８と活性線照射器５の間に置く
等も考えられる。
【００３５】
無論、置く位置によっては、例えば基材１の両面に塗られた塗布層が未乾燥状態のとき搬送しなければならない、あるいは両面同時塗布となるので基材支持・搬送に特別な工夫を要する場合もある。
【００３６】
いくつかの例を図３に示すと、図３（１）は、小径リバースキスグラビア（マイクログラビア）塗布器を使用した例である。
【００３７】
ロール状に巻かれた基材１の表面に塗布機Ａにより活性線硬化樹脂層液が塗布され、搬送ローラにより搬送された基材１の裏面に塗布機Ｂによりバックコート層液が塗布される。これをドライヤー４により両面共に乾燥させ、ドライヤー４を出たところで、図示していないが、なお未硬化の活性線硬化樹脂層へ活性線照射器により、例えば紫外線を照射して硬化させる。
【００３８】
あるいは、図３（２）に示す如く、基材１にダイを利用しての塗布機Ａ及び塗布機Ｂを用いて両面同時塗布を行い、これをドライヤー４により乾燥させ、やはり未硬化の活性線硬化樹脂層を、図示していないが活性線照射器により照射した活性線にて硬化させるというものである。
【００３９】
また塗布法については特に限定はない。ロール塗布、グラビアロール塗布、ワイヤーバー塗布、ブレード塗布、ダイ塗布、スライドホッパー塗布、スプレー塗布、カーテン塗布等いずれも用いることが出来る。
【００４０】
バックコート層塗布後は、乾燥終了までは、接触させないことが必要であり、表面の乾燥終了までは、エアーによるフローティング搬送が好ましい。その後ロールにより支持搬送が行われる。
【００４１】
フローティング搬送もバックコート層塗布直後は、エアー量を少なくし、乾燥の進行につれ、エアー量を強くしたり、ノズルとの距離を接近させるようにしたほうが好ましい。
【００４２】
表面が乾燥し、接触しても問題ない状態でロールに接触させる。しかし、それでも残留溶剤が多い状態では、テフロン（Ｒ）ライニングのような非粘着性を有するロール等を用いることが好ましい。
【００４３】
また、上記工程を経た後もなおバックコート層中の残留溶剤量が多く、後乾燥を行う必要がある場合もある。
【００４４】
〔基材〕
本発明で光学フィルムの基材として用いられる樹脂フィルムは特に限定はされないが、例えば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートフタレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム（ＣＡＰフィルム）、セルローストリアセテート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムあるいはポリアリレート系フィルム等を挙げることができるが、本発明には、セルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣフィルム）等のセルロースエステルフィルム、ポリカーボネート（以下ＰＣと略すことがある）フィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム及びポリスルホン系フィルムが透明性、機械的性質、光学的異方性がない点など好ましく、特にセルロースエステルフィルム（ＣＡＰフィルム、ＴＡＣフィルム）及びＰＣフィルムが、それらの中でも、製膜性が容易で加工性に優れているため好ましく用いられ、特にＴＡＣフィルムを使用するのが好ましい。
【００４５】
セルロースエステルフィルムを用いる場合、本発明の各塗布層塗設前にセルロースエステルフィルムがアルカリ鹸化処理されていてもよい。例えば、製膜後アルカリ鹸化処理した後、活性線硬化樹脂層を塗設し、さらにアルカリ鹸化処理をすることもできる。
【００４６】
次に、ＴＡＣフィルムの製膜法について述べるが、ＣＡＰも同様に製膜することができる。ＴＡＣフィルムは一般的に、ＴＡＣフレーク原料及び可塑剤をメチレンクロライドに溶解して粘稠液とし、これに可塑剤を溶解してドープとなし、エクストルーダーダイスから、エンドレスに回転するステンレス等の金属ベルト（バンドともいう）上に流延して、乾燥させ、生乾きの状態でベルトから剥離し、ロール等の搬送装置により、両面から乾燥させて巻き取り、製造される。ＰＣフィルムについてもＴＡＣフィルムと同様に製膜することが出来る。
【００４７】
上記可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが好ましく用いられる。リン酸エステルとしては、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチルエチルホスフェートが含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的なものである。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、エチルフタリルエチルグリコレート等が用いられる。クエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびクエン酸アセチルトリブチル（ＯＡＣＴＢ）が用いられる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。リン酸エステル系可塑剤（ＴＰＰ、ＴＣＰ、ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチルエチルホスフェート）、フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。このほか、ポリ酢酸ビニル共重合体、脂肪族直鎖状ポリエステル、メチルメタクリレート系共重合物などの重量平均分子量１０００〜１０００００の高分子化合物を高分子可塑剤として添加することができる。
【００４８】
この中でもトリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）、エチルフタリルエチルグリコレートが特に好ましく用いられる。可塑剤の添加量はフィルム中に通常２〜１５質量％添加され、より好ましくは４〜８質量％になるよう添加することが望ましい。
【００４９】
また、ＰＣフィルムにも上記可塑剤を添加することができる。
さらに本発明に有用な基材であるＴＡＣ又はＰＣフィルム中に、紫外線吸収剤を含有させることによって、耐光性に優れた偏光板用保護フィルムを得ることが出来る。本発明に有用な紫外線吸収剤としては、サリチル酸誘導体（ＵＶ−１）、ベンゾフェノン誘導体（ＵＶ−２）、ベンゾトリアゾール誘導体（ＵＶ−３）、アクリロニトリル誘導体（ＵＶ−４）、安息香酸誘導体（ＵＶ−５）又は有機金属錯塩（ＵＶ−６）等があり、それぞれ（ＵＶ−１）としては、サリチル酸フェニル、４−ｔ−ブチルフェニルサリチル酸等を、（ＵＶ−２）としては、２−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等を、（ＵＶ−３）としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−５′−ジ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等を、（ＵＶ−４）としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート、メチル−α−シアノ−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等を、（ＵＶ−５）としては、レゾルシノール−モノベンゾエート、２′，４′−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等を、（ＵＶ−６）としては、ニッケルビス−オクチルフェニルサルファミド、エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルリン酸のニッケル塩等を挙げることができる。
【００５０】
又、すべり性を改善するために、これら基材透明フィルムを製造する際のドープ中に、シリカ等の微粒子（平均粒径０．００５〜０．２μｍ）を０．０１〜０．５質量％添加することもできる。例えば日本アエロジル社製アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖなどを添加することができる。すべり性は鋼球での測定で、動摩擦係数０．４以下好ましくは０．２以下であることが望まれる。
【００５１】
〔活性線硬化型樹脂とそれを用いた樹脂層〕
本発明の光学フィルムは活性線硬化樹脂層を有するが、特にクリアハードコート加工のために活性線硬化型樹脂が用いられる例について説明する。
【００５２】
活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。
【００５３】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る（例えば特開昭５９−１５１１１０号公報参照）。
【００５４】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報参照）。
【００５５】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたものを挙げることが出来る（例えば、特開平１−１０５７３８号公報参照）。この光反応開始剤としては、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種もしくは２種以上を選択して使用することが出来る。
【００５６】
また、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化型樹脂組成物に含まれる光反応開始剤又光増感剤は該組成物の２．５〜６質量％であることが特に好ましい。２．５％未満では樹脂フィルムから溶出する可塑剤及び／又は紫外線吸収剤によって硬化阻害を受け、耐擦傷性が低下し、逆に６質量％を超えると相対的に紫外線硬化型樹脂成分が減るため逆に耐擦傷性が低下したり、塗布性が悪化するなどのため塗膜の面品質を悪くすることがある。
【００５７】
樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメチルジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。
【００５８】
紫外線硬化型樹脂としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ；ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ、（以上、旭電化工業社製）あるいはコーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業社製）、あるいはセイカビーム　ＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣ　Ｘ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業社製）、あるいはＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー社製）、あるいはＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本インキ化学工業社製）、あるいはオーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料社製）、あるいはサンラッド　Ｈ−６０１（三洋化成工業社製）、あるいはＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子社製）、あるいはＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン社製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成社製）あるいはこの他の市販のものから適宜選択して利用することもできる。
【００５９】
活性線硬化樹脂層の塗布組成物は固形分濃度は１０〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。
【００６０】
活性線硬化型樹脂を光硬化反応により硬化皮膜層を形成するための光源としては、特に限定なく使用出来る。例えば、紫外線を発生する光源であれば低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。近紫外線領域から可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることも出来る。
【００６１】
活性線硬化樹脂層を塗設する際の溶媒として前述の樹脂層を塗設する溶媒、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、あるいは混合されて利用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル又はプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。
【００６２】
紫外線硬化型樹脂組成物塗布液の塗布方法としては、前記した公知の方法を用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚で０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５μｍである。塗布速度は好ましくは１０〜６０ｍ／ｍｉｎで行われる。
【００６３】
紫外線硬化型樹脂組成物は塗布後、速やかに乾燥された後、紫外線を光源より照射するが、照射時間は０．５秒〜５分がよく、紫外線硬化型樹脂の硬化効率、作業効率とから３秒〜２分がより好ましい。こうして得た硬化皮膜層に、液晶表示装置パネルの表面に防眩性を与えるために、また他の物質との対密着性を防ぎ、対擦り傷性等を高めるために無機あるいは有機の微粒子を加えることもできる。例えば、無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができ、また有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコーン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙げることができ、紫外線硬化型樹脂組成物に加えることが出来る。これらの微粒子粉末の平均粒径としては、０．０１〜１０μｍであり、紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜２０質量部となるように配合することが望ましい。防眩効果を付与するには、平均粒径０．１〜１μｍ、樹脂組成物１００質量部に対して１〜１５質量部が好適である。
【００６４】
また硬化された層の耐熱性を高めるために、酸化防止剤を光硬化反応を抑制しないようなものを選んで用いることが出来る。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることが出来る。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることが出来る。
【００６５】
〔バックコート層〕
カールによる不都合を解消し、かつ偏光板用保護フィルム等としての機能を損なわないようにするため、活性線硬化樹脂層を塗設した反対側にアンチカール層（バックコート層）を設ける。すなわち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせるものである。なお、バックコート層は好ましくはブロッキング層を兼ねて塗設され、その場合、塗布組成物にはブロッキング防止機能を持たせるための無機微粒子及び／又は有機微粒子を含有させることができる。
【００６６】
アンチカール機能の付与は、具体的には偏光板用保護フィルムとして用いる樹脂フィルム基材を溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒の混合物の他、さらに溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。
【００６７】
カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは（溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０〜１：９で用いられる。
【００６８】
このような混合組成物に含まれる、樹脂フィルム基材を溶解又は膨潤させる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノールなどがある。
【００６９】
これらの塗布組成物を塗布機を用いて樹脂フィルム（基材）の表面にウェット膜厚１〜１００μｍに塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであると良い。
【００７０】
ここで用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル／アクリロニトリル共重合体、エチレン／ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体あるいは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート樹脂等のセルロースエステル系樹脂、マレイン酸および／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル／スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル／塩素化ポリエチレン／スチレン共重合体、メチルメタクリレート／ブタジエン／スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン／ブタジエン樹脂、ブタジエン／アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００７１】
アクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン社製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業社製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８等（三菱レーヨン社製）のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが好ましく用いられる。特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層が用いられる。
【００７２】
【実施例】
次に、実施例を示し本発明の構成と効果を具体的に説明するが、本発明の構成がこれらに限定されるわけではない。
【００７３】
実施例１
〔１〕試料の作製
（１）基材
下記の如くして作製した透明なセルローストリアセテートフィルム（膜厚８０μｍ、幅１３３０ｍｍ）を用いた。
【００７４】
〈樹脂フィルムの作製〉
（ドープ組成物）
セルローストリアセテート（平均酸化度６１．０％）　　　１００質量部
トリフェニルフォスフェート　　　　　　　　　　　　　　　　８質量部
２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−
６−（ｔ−ブチル）フェノール　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
２−〔（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４，６−ジ−ｔ−ペンチ
ルフェノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
メチレンクロライド　　　　　　　　　　　　　　　　　　４３０質量部
メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９０質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物を得た。
【００７５】
次にこのドープ組成物を濾過し、冷却して３３℃に保ちステンレスバンド上に均一に流延し、剥離が可能になるまで溶媒を蒸発させたところで、ステンレスバンド上から剥離し、多数のロールで搬送させながら乾燥させ膜厚８０μｍのフィルムを得た。
【００７６】
ステンレスバンドに接している面をｂ面とし、もう一方の面をａ面とする。
なお、活性線硬化樹脂層形成にはｂ面をもちいた。
【００７７】
（２）活性線硬化樹脂層液の組成
下記のものを混合溶解して用いた。
【００７８】
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体　　　　　　６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体　　　　　　２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上のもの　２０質量部
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤　　　　　　　　　　　　４質量部
シリコーン系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル　　　　　　　　　　７５質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７５質量部
（３）バックコート層液の組成
下記のものを混合溶解して用いた。
【００７９】
アセトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３２質量部
酢酸エチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　４質量部
ジアセチルセルロース　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５質量部
超微粒子シリカ　２％アセトン分散液　　　　　　　　　　０．１質量部
（アエロジル２００；日本アエロジル社製）
（４）光学フィルムの作製装置
図４に示す如く、活性線硬化樹脂層の塗布機Ａ、活性線照射器５、ドライヤー（乾燥機）４、８および９を配置し、バックコート層液の塗布機Ｂの位置を変更可能な装置を用いて、下記表１の如き条件にて光学フィルムを作製した。なお、塗布機はいずれもスライドホッパー型のものを用いた。
【００８０】
活性線硬化樹脂層（ハードコート層）はウエット膜厚１３μｍ、ドライ膜厚５μｍ、バックコート層はウエット膜厚１３μｍで塗布を行った。
【００８１】
紫外線照射条件
１６０ｍＪ／ｃｍ２を照射した。
【００８２】
ドライヤー乾燥条件
８０℃にて搬送速度３０ｍ／ｍｉｎにて行った。
【００８３】
反射防止層
活性線硬化樹脂層の上に下記の反射防止層（光学薄膜層）を塗布した。
【００８４】
《中屈折率層の作製》
前記ハードコート層の上に、下記中屈折率層組成物を押し出しコーターで塗布し、８０℃、０．１ｍ／秒の条件で１分間乾燥させた。乾燥後、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を、１３０ｍＪ／ｃｍ２照射して硬化させ、中屈折率層を作製した。
【００８５】
2004101883.tif 000002
なお、この中屈折率層の厚さは７７ｎｍで、屈折率は１．７０であった。
【００８６】
《高屈折率層の作製》
前記中屈折率層の上に、下記高屈折率層組成物を押し出しコーターで塗布し、８０℃、０．１ｍ／秒の条件で１分間乾燥させた。乾燥後、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を１３０ｍＪ／ｃｍ２照射して硬化させ、高屈折率層を作製した。
【００８７】
2004101883.tif 000003
なお、この高屈折率層の高屈折率層の厚さは６８ｎｍで、屈折率は１．９１であった。
【００８８】
前記高屈折率層の上に、下記低屈折率層組成物を押し出しコーターで塗布し、８０℃、０．１ｍ／秒の条件で１分間乾燥させた。乾燥後、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を１３０ｍＪ／ｃｍ２照射して硬化させ、更に１２０℃で５分間熱硬化させ、低屈折率層を有する反射防止層を作製した。
【００８９】
2004101883.tif 000004
（テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製）
テトラエトキシシラン２５ｇとエタノール２２２ｇを混合し、これにクエン酸一水和物の１．５質量％水溶液５４ｇを添加した後に、室温にて３時間撹拌して調製した。
【００９０】
なお、この反射防止層の低屈折率層の厚さは９３ｎｍで、屈折率は１．４４であった。
【００９１】
（５）偏光板の作製
先に作製した試料Ｎｏ．１〜７の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして下記の方法に従って偏光板を作製した。
【００９２】
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムをヨウ素１質量部、ヨウ化カリウム２質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し５０℃で４倍に延伸し偏光膜を得た。
【００９３】
下記１．〜５．の工程で、偏光膜と光学フィルム、保護樹脂フィルムとをはり合わせて偏光板を作製した。
【００９４】
〈偏光板の作製方法〉
１．長手方向３０ｃｍ、巾手方向１８ｃｍに切り取った本発明の光学フィルムを１枚と樹脂フィルム（トリアセチルセルロースフィルム）１枚を保護フィルムとし、これらを２ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム溶液に６０℃で２分間浸漬し、さらに水洗、乾燥した。なお、光学フィルムは、あらかじめ反射防止層表面に易接着フィルムを貼り付けておいた。
【００９５】
２．保護樹脂フィルム試料と同サイズの上記偏光膜を固形分濃度２％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬する。
【００９６】
３．上記２．の偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、上記１．で処理された本発明の光学フィルムのａ面上にのせ、更にその上に上記１．で処理された保護樹脂フィルムのａ面が偏光膜に接する様に積層し配置する。
【００９７】
４．ハンドローラで上記３．で積層された偏光膜と光学フィルム、保護樹脂フィルムとの積層物に圧力をかけ密着させた後、積層物の端部から過剰の接着剤及び気泡を取り除きはり合わせる。ハンドローラで２０〜３０Ｎ／ｃｍ２の応力をかけて、ローラスピードは約２ｍ／ｍｉｎとした。
【００９８】
５．８０℃の乾燥器中に４．で得た試料を２分間放置する。
〔２〕性能評価
評価は、いずれも目視にて行った。
【００９９】
鹸化後のカール回復
○　：鹸化前と同じか、わずかにカールが強くなる程度
○△：鹸化前に比べてカールが強くなったが、鹸化後の搬送性には問題ないレベル
△　：鹸化前に比して明らかにカールが強く、鹸化後の搬送で蛇行が発生した
×　：鹸化後はカールが強く、鹸化後の搬送で蛇行により搬送困難
××：鹸化後はカールが強く、特にエッジ部ではカールして折れ曲り、搬送不能
貼合せ時の空気の巻き込み
○　：巻き込み無し
○△：貼合せ開始時巻き込み少々あるが、すぐになくなる
△　：貼合せ開始後、時々泡の巻き込み有り
×　：大きな泡の巻き込み有り
貼合せ時の位置ずれ
○　：位置ずれ無し
△　：耳が１ｍｍ程度ずれギザギザとなる
×　：耳の折れ込みが発生
なお、上記評価で「○△」が使用可能下限である。
【０１００】
【表１】
2004101883.tif 000005
【０１０１】
表１から明らかな如く、試料Ｎｏ．２〜６の本発明内の条件で作製したものはいずれの特性も優れた性能を有するが、本発明外の比較例である試料Ｎｏ．１と７は、いずれの特性も問題があることがわかる。
【０１０２】
実施例２
〔１〕試料の作製
基材を下記ポリカーボネートフィルム（膜厚８０μｍ、幅１３３０ｍｍ）に変え、紫外線照射条件を１５０ｍＪ／ｃｍ２とした以外は実施例１と同様に試料を作製した。
【０１０３】
〈樹脂フィルムの作製〉
2004101883.tif 000006
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し撹拌しながら完全に溶解して、ドープ組成物を得た。
【０１０４】
次にこのドープ組成物を濾過し、冷却して３３℃に保ち、ステンレスバンド上に均一に流延し、３３℃で５分間乾燥した。次に６５℃でレタデーション５ｎｍになるように乾燥時間を調整し、ステンレスバンド上から剥離後、多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ膜厚８０μｍのポリカーボネートフィルムを得た。このとき、ステンレスバンドに接していた側をｂ面とし、その反対面をａ面とする。
【０１０５】
〔２〕性能評価
特性評価も実施例１と同様に行ったところ、実施例１とほぼ同様な結果が得られた。
【０１０６】
【発明の効果】
本発明により、活性線硬化樹脂層を塗設した樹脂フィルム等を鹸化する際、処理後のカールの発生がなく、鹸化処理後の蛇行や貼合せ時の位置ずれがなく、貼合せ時の泡の巻き込みもなく、また、活性線硬化樹脂層表面の微小な膜厚ムラの発生もなく、従って、生産性のよい光学フィルムの製造方法とそれにより作製された光学フィルムを提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の活性線硬化樹脂層とバックコート層の塗布・乾燥の工程を示す図。
【図２】本発明の活性線硬化樹脂層とバックコート層の塗布・乾燥の工程を示す図。
【図３】本発明の活性線硬化樹脂層とバックコート層の塗布・乾燥の工程を示す図。
【図４】塗布機の位置を変更可能な光学フィルムの作製装置の工程を示す図。
【符号の説明】
１　基材
４、８、９　ドライヤー
５　活性線照射器
Ａ、Ｂ　塗布機
【図１】
2004101883.tif 000007
【図２】
2004101883.tif 000008
【図３】
2004101883.tif 000009
【図４】
2004101883.tif 000010