(57)【要約】【課題】  ４００ｎｍ程度の短波長の光透過率が高く、低複屈折であり、かつ、長期に亘って使用した際の反り発生を防止した光学部品用フィルム、これを用いた光学部品及び光ディスクを得る。【解決手段】  周波数１０Ｈｚ、昇温速度３℃／min、測定モードを引張りとして測定した動的粘弾性測定における損失弾性率と貯蔵弾性率の比率の３０℃から８０℃までの積算値が２以上であり、熱可塑性樹脂から主として成る光透過層を有することを特徴とする光学部品用フィルムである。【選択図】  図２
2004213866.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周波数１０Ｈｚ、昇温速度３℃／min、測定モードを引張りとして測定した動的粘弾性測定における損失弾性率と貯蔵弾性率の比率の３０℃から８０℃までの積算値が２以上であり、熱可塑性樹脂から主として成る光透過層を有することを特徴とする光学部品用フィルム。
【請求項２】
前記光透過層上に鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光学部品用フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層の膜厚が０．５〜８μｍであり、膜厚精度が±１．０μｍ以内であることを特徴とする請求項２に記載の光学部品用フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層が、架橋構造体であることを特徴とする請求項２または３に記載の光学部品用フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層が、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の光学部品用フィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層が、シリコーン系熱可塑性樹脂を０．２〜１０．０重量％含むことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の光学部品用フィルム。
【請求項７】
前記熱可塑性樹脂が、アクリル樹脂であることを特徴とする請求項１乃至６いずれか１項に記載の光学部品用フィルム。
【請求項８】
前記熱可塑性樹脂中に、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤及び光安定剤の中から選択される少なくとも１種以上の化合物が含有されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学部品用フィルム。
【請求項９】
波長４０５ｎｍにおける光透過率が、８７％以上であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学部品用フィルム。
【請求項１０】
前記光透過層の膜厚が１５〜２５０μｍであり、膜厚精度が±２．０μｍ以内であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学部品用フィルム。
【請求項１１】
前記光透過層の複屈折が２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光学部品用フィルム。
【請求項１２】
ヘイズが１％未満であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の光学部品用フィルム。
【請求項１３】
光ディスクの光透過層用としたことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光学部品用フィルム。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の光学部品用フィルムを光透過層として適用したことを特徴とする光学部品。
【請求項１５】
光透過層は、接着層を介して貼り付けられ、光透過層と接着層との屈折率差が０．１以下であることを特徴とする請求項１４に記載の光学部品。
【請求項１６】
支持基盤上に記録層、接着層及び光透過層が順次形成された光ディスクであって、前記光透過層は、周波数１０Ｈｚ、昇温速度３℃／min、測定モードを引張りとして測定した動的粘弾性測定における損失弾性率と貯蔵弾性率の比率の３０℃から８０℃までの積算値が２以上であり、熱可塑性樹脂から主として成るフィルムであることを特徴とする光ディスク。
【請求項１７】
前記光透過層上にさらに鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層が形成されていることを特徴とする請求項１６に記載の光ディスク。
【請求項１８】
記録容量が２０ＧＢ以上の高密度ＤＶＤであることを特徴とする請求項１６または１７に記載の光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、大容量化した高密度ＤＶＤ等の光ディスクの光透過層に適用される光学部品用フィルム、これを用いた光学部品及び光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクは、透明なプラスチック基盤より成る支持基盤の一方の面側に、微細な凹凸を有するビット列や溝から成る信号情報を記録した記録層を形成しており、記録層と対向する面側からレーザー光などの光を照射して、支持基盤上の信号情報に応じて反射光量が変化することを利用して情報の記録及び再生を行うシステムである。
【０００３】
光ディスクの種類として、例えば、コンパクトディスク（ＣＤ：Compact Disk）、ＤＶＤ( Digital Versatile Disk)及び光磁気記録ディスク等が挙げられる。
【０００４】
代表的な光ディスクであるＣＤでは、厚さが０．６ｍｍである支持基盤上に情報を読み出す透明な光透過層が形成されており、光透過層は記録層を有する支持基盤を兼ねた構造である。ＣＤでは、記録再生用として波長７８０ｎｍのレーザー光を使用し、光透過層側から記録再生用のレーザー光を照射し、支持基盤上の記録層に刻印されたビット列や溝から成る信号情報に応じて変化する反射光量に基づき記録層に記録された情報を再生する。
【０００５】
ＣＤよりも記録容量の大きいＤＶＤでは、記録再生用として波長６３５ｎｍのレーザー光を使用しているが、基本的には、前述したＣＤと同様に、記録層にレーザー光を照射して信号情報の記録及び再生を行う。
【０００６】
図３は、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図であり、図４はその断面図である。図３及び図４に示すように、ＤＶＤ１０は、支持基盤１１と、支持基盤１１上に形成された記録層１２と、記録層１２上に形成された光透過層１３と、を備える。さらに、具体的に説明すると、単層板においては情報を読み出す透明な支持基盤１１の厚さは０．６ｍｍであり、この支持基盤１１上にビット１４列や記録用溝等の情報が記録された記録層１２が形成され、記録層１２上に支持基盤１１と同厚さ（０．６ｍｍ）の透明支持基盤を張り合わせて光透過層１３が形成される。なお、記録層１２上に張り合わせて形成された光透過層１３は、通常「ダミー」と呼ばれ、光ディスク自体の強度を向上させる役割を果たしている。上記図３及び図４に示すように、光透過層１３側からレーザー光１５を照射して、記録層の情報を記録及び再生する。
【０００７】
さらに、ここ数年、映像情報や動画情報等の発展に伴い、記録容量を大容量化したＤＶＤが求められ、次世代ディスクと呼ばれる記録容量が２０ＧＢを超える大容量の高密度ＤＶＤの開発が進められている。高密度ＤＶＤは、直径１２センチのサイズであり従来と同様のサイズである。従来と同様のサイズであることから、記録層におけるトラックピッチを狭小化しあるいはビット長を縮小化する等により微細化し、高密度化を図ることが要求されている。
【０００８】
具体的には、厚さが１．１ｍｍ程度の支持基盤上にビット列や溝等により信号情報が記録された記録層が形成され、記録層の表面には透明な厚さ０．１ｍｍ程度のフィルムを接着して光透過層が形成される。そして、光透過層の面側から４００ｎｍ程度の短波長の青色レーザーを照射して、信号情報の記録及び再生を行う。
【０００９】
上述したＣＤ、ＤＶＤ及び次世代ディスク等の支持基盤及び光透過層（ダミー層）の材料として、例えば、強度特性及び光学特性が良好なポリカーボネートが使用されていることが報告されており（特許文献１及び特許文献２参照）、次世代ＤＶＤの記録層としてもポリカーボネートが使用されている。さらに、次世代ＤＶＤの光透過層としては、ポリカーボネート以外のその他の各種材料を適用することも検討されている。
【特許文献１】特開２０００―６７４６８号公報
【特許文献２】特開２００１―２４３６５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上述した光透過層は、４００ｎｍ程度の短波長であるレーザー光を透過させて記録層に刻印された信号情報の記録及び再生をするため、光透過層の光透過率が低いと記録層からの反射光が光透過層を通過する際に吸収されてしまい、信号強度が低下してしまうという問題があった。このため、高い信号精度を得るために、光透過層における４００ｎｍ程度の短波長であるレーザー光の高い光透過率が必要となり、光透過率が良好な材料が望まれている。
【００１１】
また、実使用時においては、光ディスクの光透過層は直接種々の物体と接触するため表面に傷が付いてしまうことがある。この場合、傷が付いた部分は光の透過率が著しく低下するため、信号を読みとることが困難となり、記録容量が低下するという問題がある。
【００１２】
例えば、アクリル樹脂は、高度な透明性を有していることから、特に、４００ｎｍ程度の短波長のレーザーを用いた光ディスクへの適用が各種試みられている。しかし、高い透明性が得られるものの、アクリル樹脂を張り合わせて光ディスクとした場合には、使用時にディスク自体に反りが生じ、これに伴い反射光の方向に大きなずれが生じ、記録層の信号情報を正確に読み出すことが困難であるという問題を有していた。
【００１３】
また、前記の反りを低減するためには、アクリル樹脂の貯蔵弾性率を増加させると改善されるが、貯蔵弾性率を増加させるとアクリル樹脂表面の硬度が低下するため、実用時に傷がつき易いという問題を有している。
【００１４】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、４００ｎｍ程度の短波長の光透過率が高く、低複屈折であり、かつ、長期に亘って使用した際の反り発生を防止した光学部品用フィルム、これを用いた光学部品及び光ディスクを得ることを目的とする。
【００１５】
さらに、本発明は、上記に加え、実用時の表面耐擦傷性が優れた光学部品用フィルム、これを用いた光学部品及び光ディスクを得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
反りが発生する原因は、支持基盤と光透過層との材料が相異するためであり、使用環境における水分の吸収量の違いや、熱膨張率の差により体積変動量が異なる等の影響があるからである。このように相異する材料を使用した場合に生じる問題は、材料固有の本質的な特性に起因するものであるが、本発明者らは種々研究した結果、光透過層として、動的粘弾性測定における損失弾性率と貯蔵弾性率との比率の３０℃から８０℃までの積算値を所定の値に規定し、主として熱可塑性樹脂から形成することにより、低複屈折かつ高光透過率の光透過層を得ることができ、かつ、光透過層を他の異種材料に張り合わせた際の反り発生を低減できることを見出し、本発明を完成させたものである。
【００１７】
すなわち、本発明の光学部品用フィルムは、周波数１０Ｈｚ、昇温速度３℃／min、測定モードを引張りとして測定した動的粘弾性測定における損失弾性率と貯蔵弾性率の比率の３０℃から８０℃までの積算値が２以上であり、熱可塑性樹脂から主として成る光透過層を有することを特徴とする。
【００１８】
更に、上記光透過層上に鉛筆硬度が３Ｈ以上のハードコート層を設けることにより実用時の耐擦傷性を向上させ、反りの発生と傷付き易さを同時に低減することに成功した。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の光学部品用フィルムによれば、記録情報の高密度化に伴い４００ｎｍ程度の短波長のレーザー光を使用した場合にも、光透過率が高く、低複屈折であり、長期に亘って使用した場合にも反りの発生を低減することが可能であり、さらに、ハードコート層が表面上に形成されたフィルムであれば、実使用時の耐擦傷性にも優れるため、高品質の光ディスク等の光学部品を得ることができる。その結果、映像情報や動画情報等の発展に伴い光ディスク等に要求される記録容量の大容量化を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の光学部品用フィルムの損失弾性率と貯蔵弾性率の比率の３０℃〜８０℃までの積算値（以下、これをΣtanδと略す。）は、２以上と規定したが、より好ましいΣtanδは２．５以上、さらに好ましくは３以上、特に好ましくは４以上、極めて好ましくは６以上である。Σtanδが２未満になると、フィルムを使用した光ディスクを長期に亘って使用すると光ディスクに反りが発生して読み取りエラーが生じてしまい、光ディスクの信頼性が低下するからであり、また、過酷促進試験を行った際にも反りが増大するからである。Σtanδを測定するフィルムの膜厚は、通常、５０〜１５０μｍとすることが好ましく、またチャック間距離は、通常、５〜１５ｍｍとすることが好ましい。なお、フィルムのΣtanδは、主として、主成分である熱可塑性樹脂の種類を選択することにより調整することができる。
【００２１】
また、本発明の光学部品用フィルムにおける光透過層の厚さは、１５〜２５０μｍの範囲とすることが好ましく、特に、２５〜１５０μｍの範囲が好ましい。フィルム厚さが１５μｍ未満になると強靱性が低下し、加工時の作業性が悪化する傾向があり、逆に、２５０μｍを超えると溶剤、モノマ等の揮発性物質が残存しやすく特性の良好なフィルムが得られないからである。なお、フィルムの厚さの測定は、レーザーフォーカス変位計（キーエンス製、ＬＴ−８０１０）を用いて、任意の大きさ（例えば１ｃｍ２〜１００００ｃｍ２の面内）について、全体から適切に（例えば２５〜１０００点）測定点を選択して測定し、その平均値を厚さとすることができる。
【００２２】
また、本発明の光学部品用フィルムにおける光透過層の複屈折は２０ｎｍ以下とすることが好ましい。複屈折が２０ｎｍを超えると、ディスクに書き込む際及び読み出す際の信号精度が低下する傾向があるからである。光透過層の複屈折は、信号精度の点から、１０ｎｍ以下がより好ましく、５ｎｍ以下がさらに好ましく、特に２０ＧＢを超えるような高密度ＤＶＤの場合は、２ｎｍ以下が特に好ましい。
【００２３】
さらに、本発明における光学部品用フィルムは、波長４０５ｎｍにおける光透過率が８７％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。光透過率が８７％未満になると、記録層からの反射光が光透過層を通過する際に吸収されてしまい、信号強度が低下してしまうからである。光透過率を８７％以上とするために、例えば、紫外線を吸収する添加剤を用いないこと又は樹脂を構成する単量体に紫外線吸収帯を持たないもののみを用いることにより調整することができる。
【００２４】
また、本発明における光学部品用フィルムは、膜厚精度が±２．０μｍ以内、幅１５μｍにおける凹凸が５ｎｍ以下、かつ、ヘイズが１％未満であることが好ましい。膜厚精度は±１．５μｍ以内であることがより好ましく、ヘイズは０．５％未満であることがより好ましい。膜厚精度は、例えば、フィルムに加工する際に、塗工により製造する場合は、塗工機のコータ精度及び駆動の安定性を向上させること、溶融押し出しにより製造する場合は、押し出し金型のクリアランスの精度を上げること及び駆動系の安定性を向上させることにより調整することができ、表面平滑性はフィルムを塗工により製造する場合は、用いる溶媒の種類の選定、乾燥条件の選定、又はコータの平滑性を向上させることにより調整することができる。溶融押し出しにより製造する場合には、押し出し金型のクリアランス部分の平滑性を向上させることにより調整することができる。また、ヘイズはフィルムの製造に用いられる樹脂組成物の透明性を向上させることにより調整することができ、また、フィルム表面の平滑性を向上させることにより調整することができる。
【００２５】
なお、これらの詳細な測定法の例は、後述する実施例で詳述する。
【００２６】
また、本発明の光学部品用フィルムの光透過層を構成する熱可塑性樹脂としては、フィルムに加工したときに上述した条件で測定した動的粘弾性測定における損失弾性率と貯蔵弾性率の比率の３０℃から８０℃までの積算値が２以上となる特性を付与できる樹脂であれば如何なる樹脂であっても使用することができる。通常は、熱可塑性樹脂自体のΣtanδが上記の値となる熱可塑性樹脂を用いることにより調整できる。熱可塑性樹脂として、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース樹脂等の中から適宜選択することが可能であり、例示した樹脂中、変性のし易さ、透明性及び複屈折等の諸特性の観点からアクリル樹脂を用いることが好ましい。
【００２７】
アクリル樹脂は、反応性の２重結合を有する単量体を重合することにより得ることができ、特に制限されるものではなく、具体的には以下のものを使用することができる。アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクタデシル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ナフチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、アクリル酸ノルボルニル、アクリル酸ノルボルニルメチル、アクリル酸シアノノルボルニル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸メンチル、アクリル酸フェンチル、アクリル酸アダマンチル、アクリル酸ジメチルアダマンチル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−４−メチル、アクリル酸シクロデシル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸オクタデシル、メタクリル酸ブトキシエチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ナフチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリメチルシクロヘキシル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸シアノノルボルニル、メタクリル酸フェニルノルボルニル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸アダマンチル、メタクリル酸ジメチルアダマンチル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−４−メチル、メタクリル酸シクロデシル等のメタクリル酸エステル類、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン、α−クロルスチレン、α−ブロモスチレン、フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチルスチレン、メトキシスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリル酸カルシウム、アクリル酸バリウム、アクリル酸鉛、アクリル酸すず、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸カルシウム、メタクリル酸バリウム、メタクリル酸鉛、メタクリル酸すず、メタクリル酸亜鉛等の（メタ）アクリル酸金属塩、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和脂肪酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−ｉ−プロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｉ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、���−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ブロモフェニル）フェニルマレイミド、Ｎ−（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−エチルフェニルマレイミド、Ｎ−（２−メトキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ベンジルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２，４，６−トリブロモフェニル）マレイミド、２，２，６，６，−テトラメチルピペリジルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−メチルピペリジルメタクリレート等が挙げられる。また、これらは単独で又は２種以上組み合わせて使用することができ、例示したものに制限されることはない。
【００２８】
さらに、熱可塑性樹脂中に、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤及び光安定剤の中から選択される少なくとも１種以上の化合物を含有することが好ましい。例えば、酸化防止剤として、フェノール系、ホスファイト系及びチオエーテル系の各酸化防止剤を使用することができ、光安定剤としては、熱可塑性樹脂の透明性、低複屈折性を低下させない限り特に制限されず、具体的には以下に示す化合物を適用することができる。
【００２９】
フェノール系酸化防止剤としては、熱可塑性樹脂の透明性、低複屈折性を低下させない限り特に制限はない。例えば、以下の構造式（１）〜構造式（８）に示す酸化防止剤を用いることができる。
【化１】
2004213866.tif 000003
【化２】
2004213866.tif 000004
【化３】
2004213866.tif 000005
【化４】
2004213866.tif 000006
【化５】
2004213866.tif 000007
【化６】
2004213866.tif 000008
【化７】
2004213866.tif 000009
【化８】
2004213866.tif 000010
【００３０】
ホスファイト系酸化防止剤としては、熱可塑性樹脂の透明性及び複屈折性を低下させない限り特に制限はなく、例えば、以下の構造式（９）〜構造式（２１）に示す酸化防止剤を用いることができる。
【化９】
2004213866.tif 000011
【化１０】
2004213866.tif 000012
【化１１】
2004213866.tif 000013
【化１２】
2004213866.tif 000014
【化１３】
2004213866.tif 000015
【化１４】
2004213866.tif 000016
【化１５】
2004213866.tif 000017
【化１６】
2004213866.tif 000018
【化１７】
2004213866.tif 000019
【化１８】
2004213866.tif 000020
【化１９】
2004213866.tif 000021
【化２０】
2004213866.tif 000022
【化２１】
2004213866.tif 000023
【００３１】
チオエーテル系酸化防止剤としては、熱可塑性樹脂の透明性及び複屈折性を低下させない限り特に制限はなく、例えば、以下の構造式（２２）〜構造式（２４）に示す酸化防止剤を用いることができる。
【化２２】
2004213866.tif 000024
【化２３】
2004213866.tif 000025
【化２４】
2004213866.tif 000026
【００３２】
また、本発明に用いる光安定剤としては、例えば、以下の構造式（２５）〜構造式（３４）に示す光安定剤を使用することができる。
【化２５】
2004213866.tif 000027
【化２６】
2004213866.tif 000028
【化２７】
2004213866.tif 000029
【化２８】
2004213866.tif 000030
【化２９】
2004213866.tif 000031
【化３０】
2004213866.tif 000032
【化３１】
2004213866.tif 000033
【化３２】
2004213866.tif 000034
【化３３】
2004213866.tif 000035
【化３４】
2004213866.tif 000036
【００３３】
上記酸化防止剤及び光安定剤の添加剤は、単独又は２種以上を併用することができる。添加剤の量は必要に応じて決定することができ、一般に、フィルムの製造に用いられる樹脂組成物の固形分に対して、１．０重量％以下添加することが好ましく、特に０．０１重量％以上添加することが好ましい。添加剤の量が１．０重量％を超えると、熱可塑性樹脂の透明性が低下する傾向があるからである。特に、加熱溶融してフィルムを作製する際には、上記に例示した酸化防止剤を添加することが望ましい。酸化防止剤を添加しないと、加工時に酸化劣化による着色が生じてしまい、樹脂組成物の透明性を低下させる恐れがあるからである。しかし、加工時に比較的低温（２００℃程度以下）で加工できる場合は、酸化防止剤を添加しなくても良い。光安定剤は、熱可塑性樹脂の光安定性に応じて添加することができる。脂肪族アルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、重金属不活性化剤などを添加するものであっても良い。
【００３４】
本発明におけるアクリル樹脂（ビニル系重合体）の製造には、上記材料を用いて、塊状重合、懸濁重合、乳化重合及び溶液重合等の既存の方法を適用することができる。
【００３５】
重合を行う際に重合開始剤を用いるが、重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、１，１−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシロクヘキサノン−１−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒及び過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組み合わせによるレドックス触媒等、通常のラジカル重合の際に使用できる重合開始剤であればいずれも使用することができ、ここに例示したものに限定されない。また、重合開始剤は、樹脂の製造に用いる単量体の総量に対して０．０１重量％〜１０重量％の範囲で使用することが好ましい。
【００３６】
さらに、分子量調整剤として、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素及びα−メチルスチレンダイマー等を必要に応じて添加することができ、ここに例示した分子量調整剤に限定されるものではない。
【００３７】
熱重合により重合する場合には、重合温度を０℃〜２００℃の範囲で適宜選択することができ、特に、５０℃〜１２０℃の範囲とすることが好ましい。
【００３８】
本発明の熱可塑性樹脂としてアクリル樹脂を用いた場合には、アクリル樹脂の分子量について特に制限はないが、強靱性及び耐熱性の点から重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定し標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値）が１０，０００〜１，０００，０００の範囲のものとすることが好ましい。
【００３９】
アクリル樹脂の欠点である可とう性不足を改善する目的で、屈折率が同一のゴム粒子を添加することや柔軟性の高いアクリル樹脂をブレンドすることもできる。例えば、柔軟性の高いアクリル樹脂をブレンドする方法としては、特開２０００−２７３３１９号公報あるいは特開２００２−３８０３６号公報に記載の方法が知られており、電子受容性の原子団を有するアクリル樹脂と電子供与性の原子団を有するアクリル樹脂をブレンドした際に分子間水素結合を形成することにより、透明性の高いアクリル樹脂組成物を得ることができる。
【００４０】
上述した熱可塑性樹脂から光透過層となるフィルムを作製する方法は、フィルムの透明性、低複屈折性を低下させない限り特に制限されるものではなく、例えば、熱可塑性樹脂を溶媒に溶解し、基材となる例えばPETフィルム上に塗布、乾燥して作製しても良く、また、熱可塑性樹脂を加熱溶融し、射出成形して作製することができる。他の方法として、熱可塑性樹脂を加熱溶融し、押出し成形して作製しても良く、また、熱可塑性樹脂を加熱溶融して圧縮成形により製造しても良い。
【００４１】
また、用いる溶媒としては、熱可塑性樹脂が溶解するものであれば特に制限はなく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、NMP、ジメチルアセトアミド等を用いることができる。ここに示したものは一例でありこれらに制限されるものではない。
【００４２】
本発明の光学部品用フィルムは、光透過層上にさらにハードコート層が形成された２層構造とすることもできる。このハードコート層は、硬化後の表面硬度が鉛筆硬度で３Ｈ以上であることが好ましく、鉛筆硬度が３Ｈ未満であると耐擦傷性が不十分である。また、ハードコート層は、特に限定されないが、架橋体構造であることが好ましく、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることがより好ましい。また、ハードコート層の膜厚は０．５〜８．０μｍであることが好ましく、その膜厚精度は±１．０μｍ以内であることが好ましい。ハードコート層の膜厚が０．５μｍ未満であると耐擦傷性の向上効果が低く、８．０μｍを越えると環境性試験時にクラックが生じる。
【００４３】
このようなハードコート層を光学部品用フィルム上に形成する方法としては、特に制限されないが、例えば、予め作製したフィルム上に硬化触媒を添加したハードコート前駆体を均一な厚みに塗布し、その後、これを加熱もしくは紫外線照射することにより硬化させ、形成することができる。
【００４４】
上記シリコーン系架橋構造体となるハードコート前駆体としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、Ｃ１〜Ｃ１２のアルキルトリメトキシシラン、Ｃ１〜Ｃ１２のアルキルトリエトキシシラン、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリメトキシシラン、ジ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）トリエトキシシラン、トリ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）メトキシシラン、トリ（Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル）エトキシシラン等の加水分解縮合物を用いることができる。尚、これらのシラン化合物は単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
【００４５】
上記ハードコート前駆体に添加されうる硬化触媒としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属水酸化物、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、メチルアミン、エチルアミン、（Ｃ３〜Ｃ８アルキル）アミン、シクロヘキシアミン、モルホリン、トリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、トリエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジメチルハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジエチルハイドロオキサイド等のアミン化合物を用いることができ、中でも水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド等が好適である。中でも水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド等がより好適である。但し、これらは一例でありここに示したものに限定されるものではない。また、これらは単独で用いても良いし、２種類以上を併用することもできる。添加する硬化触媒量は、特に制限されないが、ハードコート前駆体の固形分に対して０．０５重量％〜１０重量％の範囲で適宜選択することができる。
【００４６】
加熱による硬化温度は、ハードコート前駆体が硬化できる温度であれば特に制限はないが、一般に６０℃〜１８０℃程度が好適である。最も好ましい温度は１２０℃〜１６０℃程度である。
【００４７】
また、上記ハードコート前駆体を製造する際には触媒を用いるが、その触媒としては、例えば、上記の硬化触媒と同様のアルカリ水酸化物、アミン化合物、さらには、塩酸、硫酸、硝酸、パラトルエンスルフォン酸、燐酸、フェノールスルフォン酸、ポリリン酸等の酸を用いることができる。これらは単独で用いることもできるし、２種類以上を併用することもできる。尚、ここに示したものは一例であり、これらに制限されるものではない。
【００４８】
本発明におけるハードコート前駆体を製造する際の反応温度には特に制限はないが、２０℃〜１００℃程度の温度が好適である。２０℃を下回ると、反応速度が低下し生産性が低下する。１００℃を越えると、加水分解又は縮合により生成するアルコール又は水が沸騰するため危険を伴う。また、反応は、溶液中でおかなうことが好適である。用いることのできる溶媒は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等のアルコールを挙げることができる。ここに示したものは１例であり、これらに制限されるものではない。
【００４９】
本発明におけるハードコート層となる、アクリル系架橋構造体としては、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する重合性化合物を含む重合性材料（ハードコート材料）を用いて形成することができる。
【００５０】
このハードコート材料で用いることができる、重合性化合物としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、オリゴエステル（メタ）アクリレートなどの２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマー；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡにアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）が付加した付加体のジ（メタ）アクリレート［例えば、２，２−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル］プロパンなど］などの２官能性（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ホスファゾ基−Ｐ＝Ｎ−と（メタ）アクリロイル基とを有する（メタ）アクリレートなどの多官能性（メタ）アクリレートが含まれる。
【００５１】
また、硬化塗膜の特性を調整するため、単官能性（メタ）アクリレート、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートなどのＣ１−２０アルキル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの塩基性窒素原子含有（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレートなどのハロゲン含有（メタ）アクリレートなどを併用してもよい。
【００５２】
このような重合性ハードコート材料は、熱重合開始剤（ベンゾイルパーオサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなどの有機過酸化物など）を含む熱硬化性のものでもよいが、生産性を向上させるため、光重合開始剤を含む光硬化型のものが好ましく、特に紫外線硬化型のものが好ましい。
【００５３】
光重合を開始するために使用する化合物としては、例えば、ベンゾイン又はその誘導体（ベンゾイン，ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなど）、ケトン類（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノンやその誘導体（アルコキシアセトフェノンなど）、プロピオフェノン又はその誘導体（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなど）、ベンゾフェノン又はその誘導体（４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４，４′−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ケトンなど）、ベンジル又はその誘導体（ベンジルおよびベンジルメチルケタールなど）、チオキサントン又はその誘導体（２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントンなど）などの慣用の光重合開始剤や増感剤を使用することができ、これらは単独で使用してもよく、二種以上組み合わせて使用してもよい。
【００５４】
熱重合開始剤や光重合開始剤の量は、前記重合性化合物１００重量部に対して、０．１〜１０重量部程度用いることが好ましい。
【００５５】
またハードコート材料は、必要に応じて、炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテル類などの有機溶媒を含む有機溶媒含有塗布剤であってもよい。
【００５６】
また、本発明におけるハードコート層は、シリコーン系熱可塑性樹脂を０．２〜１０．０重量％含有することが好ましい。シリコーン系熱可塑性樹脂を含有することにより、ハードコート層表面の滑り性が向上し、耐擦傷性をより向上させることができる。
【００５７】
また、光透過層上にハードコート層を形成して本発明の光学部品用フィルムとする場合、光透過層とハードコート層をあわせた２層の複屈折は、光透過層単独での好ましい値の範囲と同様、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、特に２０ＧＢを超えるような高密度ＤＶＤの場合、２ｎｍ以下であることが特に好ましい。
【００５８】
また、本発明の光学部品用フィルム上に、これを支持し、使用時には剥離除去される基材層を設けてもよい。また、後の貼り付け工程を減少させるために、フィルム上に接着層を設けてもよく、上記基材層と共に設けてもよい。なお、ハードコート層が形成されているフィルムの場合には、接着層はハードコート層と反対側の面に形成する。さらに、接着層が最外層に積層される場合には、これを保護し、使用時には剥離除去される保護層を形成してもよい。このように、基材層、接着層、ハードコート層、および保護層が積層されうる光透過層フィルムは、用途に応じて各種層を自由に組み合わせて得ることができ、２〜５層構造の積層フィルムとなりうるものである。なお、上記「接着層」とは、接着剤や粘着剤等を塗布、またはそれらのフィルムをラミネートして形成される層を指すものであり、積層フィルムと記録層を貼り合わせることができるものであれば公知のものを使用することができ、種類や形成方法は特に限定されない。
【００５９】
また、本発明の光学用部品用フィルムは、光ディスクの光透過層用に特に好適なものである。
【００６０】
さらに、本発明の光学部品は、上記本発明の光学部品用フィルムを光透過層として適用したものである。また、光透過層は接着層を介して光学部品の記録層などに貼り付けられるが、光透過層と接着層との屈折率差を０．１以下とすることが好ましい。光透過層と接着層との屈折率差が０．１を超えると、光透過層と接着層の界面での光の乱反射が生じ、この結果、信号精度を低下させる傾向があるためである。
【００６１】
また、本発明の光ディスクは、支持基盤上に記録層、接着層及び光透過層が順次形成さたものであり、光透過層として、周波数１０Ｈｚ、昇温速度３℃／min、測定モードを引張りとして測定した動的粘弾性測定における損失弾性率と貯蔵弾性率の比率の３０℃から８０℃までの積算値が２以上であり、熱可塑性樹脂から主として成るフィルムを用いることを特徴とするものである。さらに、光透過層上に鉛筆硬度が３Ｈ以上であるハードコート層が形成されていてもよい。特に、光ディスクは、記録容量が２０ＧＢ以上の高密度ＤＶＤであることを特徴とする。
【００６２】
以下、本発明の光学部品用フィルムを適用した光学部品として、２０ＧＢを超える大容量の高密度ＤＶＤを例に挙げて説明する。
【００６３】
図１は、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図であり、図２はその断面図である。図１及び図２に示すように、高密度ＤＶＤ１は、支持基盤２上に記録層３を備え、記録層３上に接着層４を介して光透過層５が形成される。
【００６４】
ＤＶＤは、４０５nmの短波長レーザー光６を光透過層５側から照射し、光透過層５を介して記録層３の信号情報を再生及び記録するものであるが、高密度ＤＶＤ１は、光透過層５を薄肉化して、本発明の光学部品用フィルムを適用したものである。
【００６５】
ＤＶＤの構成材料としては、光透過層５に光学部品用フィルムを使用すること以外は特に制限はなく、支持基盤２及び記録層３は、従来と同様の材料から成るものを適用することができる。例えば、支持基盤２は、ポリカーボネート等のプラスチック基板から構成され、接着層４は、透明性を損なわない限り特に材料は制限されず、例えば、紫外線硬化型樹脂、感圧型粘着フィルム等を適用することができる。
【００６６】
支持基盤２の厚さは、０．４mm〜１．２mmの範囲とし、記録層３及び接着層４の厚さは、３０μｍ〜２５０μｍの範囲とすることができ、より好ましい記録層３及び接着層４の厚さは３０μｍ〜１５０μｍである。
【００６７】
なお、上述した支持基盤２、記録層３、接着層４、光透過層５の各層の積層方法としては、いかなる方法を使用しても良い。
【００６８】
また、本発明の光学部品用フィルムは、上記ＤＶＤ用の他、液晶タッチパネル用基材フィルム、フレキシブルディスプレイ用基材フィルム、液晶パネル用位相差フィルムなどとして使用することもできる。
【００６９】
次に、本発明の光学部品用フィルムの特性及び本光学部品用フィルムを光ディスクの光透過層フィルムとした場合の特性を以下の実施例で検討した。
【実施例】
【００７０】
具体的には、実施例１から実施例８、比較例１から比較例４により、樹脂材料を種々変えた光学部品用フィルム、さらにはそのそれぞれの表面上にハードコート層を形成した積層フィルムの特性評価を行うと共に、各光学部品用フィルムおよび各積層フィルムを光透過層として用いた光ディスクを作製し、その特性評価を行った。なお、各実施例及び比較例で使用した材料をまとめたものを表１に示す。なお、表１中の構造式３５、構造式３６及び構造式３７は、化３５、化３６及び化３７に各々対応する。
【表１】
2004213866.tif 000037
【化３５】
2004213866.tif 000038
【化３６】
2004213866.tif 000039
【化３７】
2004213866.tif 000040
【００７１】
（実施例１）
本実施例では、まずビニル系重合体（アクリル樹脂）を製造し、ビニル系重合体からフィルムに成形し、さらに、このフィルムを使用した光ディスクを作製した。
【００７２】
＜ビニル系重合体の製造＞
５００ｍＬのオートクレーブに重合溶媒としてアセトン２００ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）６６．５ｇ（５８．４モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）３９．９ｇ（２７．４モル％）、シクロヘキシルマレイミド２６．６ｇ（１４．２モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド０．４ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下で６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持して、ビニル系重合体のアセトン溶液を得た。このときの重合率は９９％以上であった。
【００７３】
＜フィルムの製造＞
得られたビニル系重合体のアセトン溶液に、略称ＡＯ−５０及び略称ＨＰ−１０で示される酸化防止剤及び略称ＬＡ−５７で示される光安定剤をビニル重合体に対して各々０．０５％加え、完全に溶解させた後、その溶液をガラス板上に塗布した。その後、１００℃で１０分間、更に１５０℃で１５分間加熱乾燥して、溶媒を除去し、膜厚が８０μｍのフィルムを得た。得られたフィルムを評価用試料とし、以下の測定法により、損失弾性率／貯蔵弾性率の積算値（Σtanδ）、光透過率、複屈折、可撓性、膜厚精度及び表面平滑性、およびヘイズを評価した。評価結果は、後述する表２にまとめて示した。
【００７４】
[損失弾性率／貯蔵弾性率の積算値（Σtanδ）]
３０℃〜８０℃までのΣtanδは、動的粘弾性測定装置を用いて厚さ約８０μｍの評価試料について測定した。測定条件は、昇温速度、３℃／min、測定モードを引張りモードとし、周波数10Ｈｚ、チャック間距離１０ｍｍとした。動的粘弾性測定装置は、レオメータ社製のＤＶＥ−４Ｖを使用した。
【００７５】
[光透過率（％）]
光透過率は、分光光度計を用いて、室温（２５℃）で波長４０５ｎｍの光透過率を測定した。測定器は、ＪＡＳＣＯ社製のＶ−５７０を用いた。
【００７６】
[複屈折（nm）]
複屈折は、島津製作所（株）製のエリプソメータＡＥＰ−１００を使用して測定した。
【００７７】
[可撓性]
可撓性は、フィルムを折り曲げた際の亀裂の有無、白化現象の程度を目視で観察した。評価は、破損、亀裂及び白化現象が生じなかったフィルムを○とし、破損が生じたフィルムを×とした。
【００７８】
［膜厚（μｍ）、膜厚精度（μｍ）］
フィルムの膜厚及び膜厚精度は、レーザーフォーカス変位計（キーエンス製、ＬＴ−８１００）を使用し、サイズ１２ｃｍ×１２ｃｍの正方形フィルムについて測定した。
【００７９】
正方形フィルムの４つの辺を、それぞれ直線Ａ、直線Ｂ、直線Ｃ、直線Ｄとし、直線Ａに対向する辺を直線Ｃとし、直線Ｂに対向する辺を直線Ｄとした。直線Ａから直線Ｃに向かって３ｃｍの間隔を空けた３本の平行直線を各々直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３とし、これら３本の平行直線（Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３）と、直線Ａと、直線Ｃとの合計５本について、以下の手順により直線上の各点におけるフィルムの膜厚を測定した。まず、直線Ａの一端部から正方形内側の１ｃｍの点を基準点とし、基準点から直線Ａの他端部に向かい１ｍｍの間隔を空けた各点について、他端部から正方形内側１ｃｍの点までの長さ１０ｃｍに亘る合計１０１個の各点についてフィルムの膜厚を測定した。次に、直線Ａと同様の方法を用いて、直線Ａ１、直線Ａ２、直線Ａ３及び直線Ｃについての各点の膜厚を測定し、５本の直線について合計５０５個の各点の膜厚を測定した。さらに、前述した直線Ａから直線Ｃまでの各直線と同様に、直線Ｂから直線Ｄに向かう５本の直線（直線Ｂ、直線Ｂ１、直線Ｂ２、直線Ｂ３、直線Ｄ）の合計５０５個の各点について膜厚を測定した。最後に、前述した方法により測定された正方形フィルム内の総計１０１０個についての膜厚の平均値をフィルムの膜厚とした。
【００８０】
また、膜厚の最大値から平均膜厚を差し引いた値、及び平均膜厚から膜厚の最小値を差し引いた値を各々算出し、算出した値のうち大きい値を膜厚精度とした。
【００８１】
[表面平滑性（ｎｍ）]
表面平滑性は、幅１５μｍにおける凹凸を測定した。なお、測定には、（ＳＥＩＫＯ  ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴ社製、ＡＦＭ）を使用した。幅１５μｍにおける凹凸を求めた点は１２ｃｍ×１２ｃｍの正方形フィルムの中央部における点と、四辺の各中央部から１ｃｍ内側の点の、合計５点について測定し、凹凸が最も大きい点の凹凸の大きさをもって、表面平滑性とした。
【００８２】
[ヘイズ（％）]
ヘイズは、ヘーズメーター（スガ試験器（株）製、ＨＧＭ−２）を用い、室温で測定した。
【００８３】
＜光ディスクの作製＞
直径１２ｃｍ、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート製の支持基盤上に、記録層を介して粘着フィルム（積水化学製  品名：5511）を厚さ２０μｍでラミネートし、さらに粘着フィルム上に、上記で作製したフィルムをラミネートし、光ディスクを作製した。
【００８４】
作製した光ディスクについて、以下の測定法により光ディスクの反りを評価し、その結果を後述する表２に示した。
【００８５】
[光ディスクの反り]
作製した光ディスクを、温度８０℃、湿度８５％の恒温恒湿槽中で１００ｈ放置した後の反り量を測定した。そり量は、直径１２ｃｍのディスクの端部が水平面より変動した距離を実態顕微鏡により測定し、測定された変動距離から三角関数を用いて角度を算出し、算出した角度をディスクの反りとした。
【００８６】
（実施例２）
本実施例では、酸化防止剤及び光安定剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様にフィルムを作製し、さらにこれを用いて光ディスクを実施例１と同様に作製した。これらについて実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２にまとめた。
【００８７】
（実施例３）
本実施例では、下記の通り、２種類のビニル系重合体を個別に製造した後、両ビニル系重合体を所定比率で混合した樹脂を用いてフィルムを作製し、その後、フィルムを適用した光ディスクを作製した。なお、フィルムとして使用する樹脂を変えた以外は、実施例１と同様の手順及び評価方法を用いた。結果を表２にまとめた。
【００８８】
＜ビニル系重合体の製造＞
まず、以下に示す手順によりビニル重合体（Ａ）を製造した。５００ｍＬのオートクレーブに重合溶媒としてアセトン２００ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）３８ｇ（３３モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）９０ｇ（６１モル％）、アクリル酸（ＡＡ）５ｇ（６モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド０．４ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温で窒素ガスを約１時間通し溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し高分子溶液、即ちビニル系重合体Ａのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９８％以上であった。重量平均分子量は２５５，０００であった。
【００８９】
次に、以下に示す手順によりビニル重合体（Ｂ）を製造した。５００ｍＬのオートクレーブに重合溶媒としてアセトン２００ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）８８．８ｇ（８１．６モル％）、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ）３７．１ｇ（１５．５モル％）、２，２，６，６，−テトラメチルピペリジルメタクリレート７．１ｇ（２．９モル％）を秤取し、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．４ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下で６０℃まで昇温した。同温度を１８時間保持し、ビニル系重合体Ｂのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９８％以上であった。重量平均分子量は７５，０００であった。
【００９０】
＜フィルムの製造＞
得られたビニル系重合体（Ａ）のアセトン溶液とビニル系重合体（Ｂ）のアセトン溶液とを、５：５の重量比（カルボキシル基／アミノ基のモル比率＝２．２／１）で混合してビニル重合体混合物とした後、構造式（３５）で示される酸化防止剤をビニル重合体混合物に対して０．１％を加えて完全に溶解した。その後、得られた溶液をガラス板上に塗布後、１００℃で１０分間加熱乾燥後、さらに１５０℃で１５分間加熱乾燥して溶媒を除去し、厚さが約１００μｍのフィルムを作製した。
【００９１】
（実施例４）
本実施例では、実施例３で示したビニル系重合体（Ａ）及びビニル系重合体（Ｂ）を使用し、両者のビニル系重合体の混合比率を変えた樹脂を用いてフィルムを作製した以外は、実施例３と同様の方法を用いてフィルム及び光ディスクを製造した。具体的には、ビニル系重合体（Ａ）のアセトン溶液とビニル系重合体（Ｂ）のアセトン溶液とを、３：７の重量比で混合した樹脂を使用した。フィルム及び光ディスクについて実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２にまとめた。
【００９２】
（比較例１）
本比較例では、ビニル系重合体（Ｂ）のアセトン溶液のみからフィルムを製造したこと以外は実施例３と同様の方法によりフィルム及び光ディスクを製造した。フィルム及び光ディスクについて実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２にまとめた。
【００９３】
（比較例２）
本比較例では、フィルムの材料として、以下に示す方法により作製されたビニル系重合体を使用した以外は、実施例１と同様の方法を用いてフィルム及び光ディスクを製造した。フィルム及び光ディスクについて実施例１と同様の各種特性評価を行い、結果を表２にまとめた。
【００９４】
＜ビニル系重合体の製造＞
５００ｍＬのオートクレーブに重合溶媒としてアセトン２００ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）ｇ９２．０（７７．１モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）１４．４ｇ（９．４モル％）、シクロヘキシルマレイミドｇ２６．６（１３．５モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド０．４ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し、ビニル系重合体のアセトン溶液を得た。このときの重合率は９９％以上であった。
【表２】
2004213866.tif 000041
【００９５】
表２に示すように、比較例１及び比較例２のΣtanδは２未満の値であり、光透過率高く、低複屈折であったが、ディスクに反りが発生していた。一方、実施例１から実施例４までのΣtanδは２以上の値であり、光透過率が高く低複屈折であり、かつ、ディスクの反りを低減することができた。
【００９６】
（実施例５）
本実施例では、まずビニル系重合体（アクリル樹脂）を製造し、ビニル系重合体からフィルムを成形し、該フィルム上にハードコート前駆体を塗工積層し、加熱硬化した後、この積層フィルムを使用した光ディスクを作製した。
【００９７】
＜ビニル系重合体の製造＞
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入しメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）５３２ｇ（５８．４モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）３１９ｇ（２７．４モル％）、シクロヘキシルマレイミド２１３ｇ（１４．２モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド３．２ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温（２５℃）で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下で６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持して、ビニル系重合体のアセトン溶液を得た。このときの重合率は９９％以上であった。
【００９８】
＜フィルムの製造＞
得られたビニル系重合体のアセトン溶液に、略称ＡＯ−５０及び略称ＨＰ−１０で示される酸化防止剤及び略称ＬＡ−５７で示される光安定剤をビニル重合体に対して各々０．０５％加え、完全に溶解させた後、この溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、基材層としてコスモシャインＡ−４１００（東洋紡績（株）製）のＰＥＴを使用し、３ｍ／ｍｉｎ速度で塗工し、連続して５０℃の乾燥路を３分、１４０℃の乾燥路を３分通してフィルムを形成した。このときのフィルムの膜厚は８０μｍであった。
【００９９】
得られたフィルムを評価用試料とし、上記した測定法により、膜厚、膜厚精度、表面平滑性、損失弾性率／貯蔵弾性率の積算値（Σtanδ）、光透過率、複屈折、可撓性およびヘイズを評価した。評価結果は、後述する表３にまとめて示した。
【０１００】
＜ハードコート（HC）層の形成＞
ハードコート前駆体（ｘ−１２−２２０６、信越化学(株）製）の固形分に対してテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１５％水溶液（和光純薬（株）製）を３．３重量％添加してハードコート前駆体溶液を調整した。この溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、上記で作製したフィルム上に塗工し、連続して５０℃の乾燥路を３分、１５０℃の乾燥路を３分通して積層フィルムを形成した。このときの積層フィルムの膜厚は８５μｍであった。上記で作製したフィルムの膜厚は８０μｍなので、ハードコート層の膜厚は５μｍである。ハードコート層の鉛筆硬度および密着性、ならびに積層フィルムの膜厚、膜厚精度、表面平滑性、光透過率、複屈折、可撓性、ヘイズおよび耐擦傷性を測定した。なお、ハードコート層の鉛筆硬度、密着性、および積層フィルムの耐擦傷性は下記の測定法により測定し、それ以外は、上記と同様にして測定した。評価結果は、後述する表３にまとめて示した。
【０１０１】
［ハードコート層の鉛筆硬度］
ハードコート前駆体の固形分に対してテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１５％水溶液（和光純薬（株）製）を３．３重量％添加したものをガラス板状に塗布した後、５０℃／３分の後直ちに１５０℃／３分加熱し、ハードコート層を作製し、その鉛筆硬度をＪＩＳ  K５４００に準拠して測定した。
【０１０２】
［ハードコート層の密着性］
積層フィルムのハードコート面から１ｍｍ間隔に１ｃｍ以上の切り込みを碁盤の目状に１０本ずつ入れ、その上にセロテープを貼り付けた後瞬時に引き剥がしたときの剥離個数を升目の数で割ったものを密着性の尺度とした。
【０１０３】
［積層フィルムの耐擦傷性］
積層フィルムの耐擦傷性は、摩耗試験器を用いて、荷重２５０ｇ、摩耗輪ＣＳＦ−１、回転数１００回転で行い、試験後のヘイズを耐擦傷性の尺度とした。
【０１０４】
＜光ディスクの作製＞
直径１２ｃｍ、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート製の支持基盤上に、記録層を介して粘着フィルム（積水化学製  品名：5511）を厚さ２０μｍでラミネートし、さらに粘着フィルム上に、上記で作製した積層フィルムをハードコート層が外側となるようにラミネートし、光ディスクを作製した。作製した光ディスクについて、上記の方法により反りを測定した。結果を後述する表３に示した。
【０１０５】
（実施例６）
酸化防止剤及び光安定剤を添加しなかった以外は、実施例５と同様にフィルムを作製し、さらにこれを用いて積層フィルムおよび光ディスクを実施例５と同様に作製した。これらについて実施例５と同様の各種特性評価を行い、結果を表３にまとめた。
【０１０６】
（実施例７）
本実施例では、下記の通り、２種類のビニル系重合体を個別に製造した後、両ビニル系重合体を所定比率で混合した樹脂を用いてフィルムを作製し、その上にハードコート前駆体を塗工積層し、加熱硬化した後、この積層フィルムを使用した光ディスクを作製した。なお、フィルムとして使用する樹脂を変えた以外は、実施例５と同様の手順及び評価を行い、その結果を表３にまとめた。ハードコート層の膜厚は２μｍとした。
【０１０７】
＜ビニル系重合体の製造＞
まず、以下に示す手順によりビニル重合体（Ａ）を製造した。耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）３０４ｇ（３３モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）７２０ｇ（６１モル％）、アクリル酸（ＡＡ）４０ｇ（６モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド０．４ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温で窒素ガスを約１時間通し溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し高分子溶液、即ちビニル系重合体Ａのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９８％以上であった。重量平均分子量は２５５，０００であった。
【０１０８】
次に、以下に示す手順によりビニル重合体（Ｂ）を製造した。耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）７１０ｇ（８１．６モル％）、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカ−８−イル（ＴＣＤＭＡ）２９７ｇ（１５．５モル％）、２，２，６，６，−テトラメチルピペリジルメタクリレート５７ｇ（２．９モル％）を秤取し、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル３．２ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下で６０℃まで昇温した。同温度を１８時間保持し、ビニル系重合体Ｂのアセトン溶液を得た。このときの重合率は９８％以上であった。重量平均分子量は７５，０００であった。
【０１０９】
＜フィルムの製造＞
得られたビニル系重合体（Ａ）のアセトン溶液とビニル系重合体（Ｂ）のアセトン溶液とを、５：５の重量比（カルボキシル基／アミノ基のモル比率＝２．２／１）で混合してビニル重合体混合物とした後、構造式（３５）で示される酸化防止剤をビニル重合体混合物に対して０．１％を加えて完全に溶解した。その後、得られた溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、基材層としてコスモシャインＡ−４１００（東洋紡績（株）製）のＰＥＴを使用し、３ｍ／ｍｉｎ速度で塗工し、連続して５０℃の乾燥路を３分、１４０℃の乾燥路を３分通してフィルムを形成した。このときのフィルムの膜厚は１００μｍであった。
【０１１０】
（実施例８）
本実施例では、実施例７で作製したビニル系重合体（Ａ）及びビニル系重合体（Ｂ）の混合比率を変えた樹脂を用いてフィルムを作製したこと、光透過層となるフィルムの膜厚およびハードコート層の厚みをそれぞれ８０μｍおよび５μｍとしたこと以外は、実施例７と同様の方法によりフィルム、積層フィルム及び光ディスクを製造した。具体的には、ビニル系重合体（Ａ）のアセトン溶液とビニル系重合体（Ｂ）のアセトン溶液とを、３：７の重量比で混合した樹脂を使用した。これらについて実施例５と同様の各種特性評価を行い、結果を表３にまとめた。
【０１１１】
（比較例３）
ビニル系重合体（Ｂ）のアセトン溶液のみからフィルムを製造したこと、およびその膜厚を８０μｍとしたこと以外は実施例７と同様の方法によりフィルム、積層フィルム及び光ディスクを製造した。これらについて実施例５と同様の各種特性評価を行い、結果を表３にまとめた。
【０１１２】
（比較例４）
フィルムの材料として、以下に示す方法により作製されたビニル系重合体を使用し、ハードコート層の膜厚を０．５μｍとしたこと以外は、実施例５と同様の方法によりフィルム、積層フィルム及び光ディスクを製造した。これらについて実施例５と同様の各種特性評価を行い、結果を表３にまとめた。
【０１１３】
＜ビニル系重合体の製造＞
耐圧２．３ｋｇ／ｃｍ２Ｇの４リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン１２７９ｇを投入し、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）７３６ｇ（７７．１モル％）、アクリル酸ブチル（ＢＡ）１１５ｇ（９．４モル％）、シクロヘキシルマレイミドｇ２１３（１３．５モル％）を秤取し、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド３．２ｇをモノマ混合物に添加し溶解した後、その混合物をフラスコ内に添加した。その後、室温で窒素ガスを約１時間通し、溶存酸素を置換した後、窒素気流下に６０℃まで昇温した。同温度を約１８時間保持し、ビニル系重合体のアセトン溶液を得た。このときの重合率は９９％以上であった。
【表３】
2004213866.tif 000042
【０１１４】
表３に示すように、比較例３及び比較例４のΣtanδは２未満の値であり、光透過率は高く、低複屈折であったが、ディスクに反りが発生していた。また、比較例４では耐擦傷性が大きい値となっている。一方、実施例５から実施例８までのΣtanδは２以上の値であり、光透過率が高く低複屈折であり、かつ、ディスクの反りを低減すると同時に耐擦傷性も良好であることが分かる。
【０１１５】
従って、本発明の光学部品用フィルムを使用して高密度ＤＶＤを製造することにより、短波長のレーザー光を照射した場合においても、光透過率が高く、低複屈折性であることから信号情報を高精度に記録及び再生することができる。また、長期に亘って高密度ＤＶＤを使用した場合にも反りの発生を低減することができるため、信号情報の記録及び再生のエラーを低減することができる。
【０１１６】
更に、適切な硬度と膜厚を有するハードコート層が表面に形成されたフィルムを使用して高密度ＤＶＤを製造した場合には、実使用時の表面耐擦傷性に優れるため、傷が付きにくく信号精度の悪化による記録容量の低下を抑制することができる。
【０１１７】
なお、本実施形態では、光学部品用フィルムを次世代の光ディスクである高密度ＤＶＤに適用した例を示したが、もちろんこれに限定されるものではなく、その他の各種光学部品に適用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１８】
【図１】本発明の実施形態における、高密度ＤＶＤの一部の構造を示す斜視図。
【図２】図１に示した高密度ＤＶＤの一部の構造を示す断面図。
【図３】従来例における、ＤＶＤの構造を概略的に説明するためにＤＶＤの一部を拡大した斜視図。
【図４】図３に示したＤＶＤの断面図。
【符号の説明】
【０１１９】
１  高密度ＤＶＤ
２  支持基盤
３  記録層
４  接着層
５  光透過層
６  レーザー光
【図１】
2004213866.tif 000043
【図２】
2004213866.tif 000044
【図３】
2004213866.tif 000045
【図４】
2004213866.tif 000046