(57)【要約】【課題】ニオブ錯体を触媒として用い、スルフィド化合物を不斉酸化して光学活性なスルホキシド化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】Ｎｂを中心金属とし、下記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物を配位子とするＮｂ（サレン）錯体を触媒として使用し、スルフィド化合物を尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）で不斉酸化することを特徴とする光学活性なスルホキシド化合物の製造方法である。【化１】2004323445.tif 000039【化２】2004323445.tif 000040（式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒ１はそれぞれ独立して水素、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜４のアルキル基、又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。）【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎｂを中心金属とし、下記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物を配位子とするＮｂ（サレン）錯体を触媒として使用し、スルフィド化合物を尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）で不斉酸化することを特徴とする光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化１】
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【化２】
2004323445.tif 000032
（式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒ１はそれぞれ独立して水素、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜４のアルキル基、又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。）
【請求項２】
前記式（Ｉ）で表される化合物が下記式（ＩＩＩ）及び式（ＩＶ）の何れかで表されることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化３】
2004323445.tif 000033
【化４】
2004323445.tif 000034
（式（ＩＩＩ）及び式（ＩＶ）において、Ｒ１は上記と同義である。）
【請求項３】
前記式（ＩＩ）で表される化合物が下記式（Ｖ）及び式（ＶＩ）の何れかで表されることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化５】
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【化６】
2004323445.tif 000036
（式（Ｖ）及び式（ＶＩ）において、Ｒ１は上記と同義である。）
【請求項４】
前記Ｒ１がフェニル基及び３，５−ジメチルフェニル基からなる群から選択されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【請求項５】
前記スルフィド化合物が下記式（ＶＩＩ）で表されることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化７】
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（式中、Ｒ２は炭素数６〜１４のアリール基又は炭素数７〜１７のアラルキル基で；Ｒ３は炭素数１〜１５のアルキル基を示す。）
【請求項６】
前記スルホキシド化合物が下記式（ＶＩＩＩ）で表されることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【化８】
2004323445.tif 000038
（式中、Ｒ２及びＲ３は上記と同義である。）
【請求項７】
前記Ｒ２が、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、フェニル基及びベンジル基からなる群から選択され、前記Ｒ３が、メチル基及びエチル基からなる群から選択されることを特徴とする請求項５又は６に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【請求項８】
溶媒に、Ｎｂ化合物と上記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物とを加え混合した後、スルフィド化合物と尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）とを加えることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【請求項９】
前記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物の使用量が、前記Ｎｂ化合物中のＮｂ元素１ｍｏｌに対し１〜２ｍｏｌであることを特徴とする請求項８に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【請求項１０】
−２０℃〜４０℃で不斉酸化することを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学活性なスルホキシド化合物の製造方法に関し、特にＮｂ（サレン）錯体を触媒として使用する光学活性なスルホキシド化合物の製造方法に関するものである。なお、本発明の方法は、特に医農薬品の合成において有用である。
【０００２】
【従来の技術】
現在、不斉触媒反応は、有機合成化学の分野における主要なトピックの一つであり、様々な金属のキラル錯体の触媒作用が広く研究されている。その結果、種々の高エナンチオ選択的な反応プロセスが開発されてきた。しかしながら、金属の中にはその錯体を用いた不斉触媒反応が充分に開発されていなものが存在し、かかる金属の中の一つにニオブがある。
【０００３】
ニオブは、窒素、サレン、ポリフィリンと錯体を形成することが報告されており（非特許文献１及び２参照）、ニオブ錯体の中には、ルイス酸や酸化触媒等としての触媒作用を示すものが存在することが知られている。しかしながら、ニオブ触媒を用いた不斉反応は、ディールス・アルダー反応やエポキシ化反応等に限られており、しかも、これらの反応におけるエナンチオ選択性はあまり高くない。
【０００４】
一方、スルフィド化合物の不斉酸化反応（スルホキシド化反応）により、光学活性なスルホキシド化合物が得られることが知られており、該反応は医農薬品の合成において重要であるが、該反応に上述のニオブ錯体を触媒として使用した例は、これまで知られていない。
【０００５】
【非特許文献１】
ホワース（Ｈｏｗａｒｔｈ）及びギレスピー（Ｇｉｌｌｅｓｐｉｅ），モレキュルズ（Ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）［オンライン・コンピュータ・ファイル］，２０００年，第５号，ｐ．９９３〜９９７
【非特許文献２】
松田，坂本，コシマ及び村上，ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ（Ｊ．  Ａｍ，  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．），１９８５年，１０７巻，ｐ．６４１５〜６４１６
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、ニオブ錯体を触媒として用い、スルフィド化合物を不斉酸化して光学活性なスルホキシド化合物を製造する方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定の構造を有するサレンを配位子としたニオブ錯体を触媒として用いることにより、スルフィドの不斉酸化反応が高いエナンチオ選択性で進行し、その結果、光学活性なスルホキシド化合物が得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００８】
即ち、本発明の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法は、Ｎｂを中心金属とし、下記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物を配位子とするＮｂ（サレン）錯体を触媒として使用し、スルフィド化合物を尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）で不斉酸化することを特徴とする。
【化９】
2004323445.tif 000003
【化１０】
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（式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒ１はそれぞれ独立して水素、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜４のアルキル基、又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。）
【０００９】
本発明の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法の好適例においては、前記式（Ｉ）で表される化合物が下記式（ＩＩＩ）及び式（ＩＶ）の何れかで表される。
【化１１】
2004323445.tif 000005
【化１２】
2004323445.tif 000006
（式（ＩＩＩ）及び式（ＩＶ）において、Ｒ１は上記と同義である。）
【００１０】
本発明の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法の他の好適例においては、前記式（ＩＩ）で表される化合物が下記式（Ｖ）及び式（ＶＩ）の何れかで表される。
【化１３】
2004323445.tif 000007
【化１４】
2004323445.tif 000008
（式（Ｖ）及び式（ＶＩ）において、Ｒ１は上記と同義である。）
【００１１】
ここで、前記式（Ｉ）〜式（ＶＩ）中のＲ１がフェニル基及び３，５−ジメチルフェニル基からなる群から選択されるのが好ましい。
【００１２】
本発明の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法の他の好適例においては、前記スルフィド化合物が下記式（ＶＩＩ）で表される。
【化１５】
2004323445.tif 000009
（式中、Ｒ２は炭素数６〜１４のアリール基又は炭素数７〜１７のアラルキル基で；Ｒ３は炭素数１〜１５のアルキル基を示す。）
【００１３】
本発明の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法の他の好適例においては、前記スルホキシド化合物が下記式（ＶＩＩＩ）で表される。
【化１６】
2004323445.tif 000010
（式中、Ｒ２及びＲ３は上記と同義である。）
【００１４】
ここで、前記式（ＶＩＩ）及び式（ＶＩＩＩ）中のＲ２が、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、フェニル基及びベンジル基からなる群から選択され、Ｒ３が、メチル基及びエチル基からなる群から選択されるのが更に好ましい。
【００１５】
本発明の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法の他の好適例においては、溶媒に、Ｎｂ化合物と上記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物とを加え混合した後、スルフィド化合物と尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）とを加えることにより、光学活性なスルホキシド化合物を製造する。
【００１６】
ここで、前記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物の使用量が、前記Ｎｂ化合物中のＮｂ元素１ｍｏｌに対し１〜２ｍｏｌであるのが好ましい。
【００１７】
本発明の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法の他の好適例においては、−２０℃〜４０℃で不斉酸化する。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明を詳細に説明する。本発明の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法は、Ｎｂを中心金属とし且つ上記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物を配位子とするＮｂ（サレン）錯体を触媒として使用して、スルフィド化合物を尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）で不斉酸化することを特徴とする。なお、本発明の好適実施態様の一例においては、溶媒に、Ｎｂ化合物と上記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物とを加え混合した後、Ｎｂ（サレン）錯体を単離することなく、混合液中にスルフィド化合物と尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）とを加えることにより、光学活性なスルホキシド化合物を製造する。ここで、Ｎｂ化合物としては、ＮｂＣｌ３（ｄｍｅ）、ＮｂＣｌ４（ＴＨＦ）２等が挙げられる。
【００１９】
本発明の製造方法においては、Ｎｂ化合物と上記式（Ｉ）又は式（ＩＩ）の化合物とから生成したＮｂ（サレン）錯体のジアミンユニットのキラリティーとビナルチルユニットにおけるキラリティーとが不斉誘起に大きな影響を及ぼす。ここで、式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、ジアミンユニットの立体配置が（Ｒ）の場合、ビナルチルユニットの立体配置は（ａＲ）よりも（ａＳ）であるのが好ましく、ジアミンユニットの立体配置が（Ｓ）の場合、ビナルチルユニットの立体配置は（ａＳ）よりも（ａＲ）であるのが好ましい。従って、上記式（Ｉ）の化合物としては、上記式（ＩＩＩ）及び上記式（ＩＶ）の化合物が好ましく、一方、上記式（ＩＩ）の化合物としては、上記式（Ｖ）及び上記式（ＶＩ）の化合物が好ましい。Ｔｉ（サレン）錯体やＭｎ（サレン）錯体においては、（ａＲ，Ｒ）型や（ａＳ，Ｓ）型の錯体の方が（ａＲ，Ｓ）型や（ａＳ，Ｒ）型の錯体よりも反応のエナンチオ選択性を向上させる効果が大きいのに対し［Ｋａｔｓｕｋｉ，  Ｔ．，  Ｓｙｎｌｅｔｔ，  ２００３，  ２８１−２９７．］、Ｎｂ（サレン）錯体は、Ｔｉ（サレン）錯体やＭｎ（サレン）錯体と逆の傾向を有する。
【００２０】
式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒ１はそれぞれ独立して水素、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜４のアルキル基、又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。ここで、上記アリール基としては、フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−（ｔ−ブチルジフェニルシリル）フェニル、４−ビフェニリル基等が挙げられる。また、上記アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基等が、上記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ１としては、フェニル基、及び３，５−ジメチルフェニル基が好ましい。
【００２１】
上記Ｎｂ（サレン）錯体の使用量は、後述するスルフィド化合物のモル量に対し、２〜１０ｍｏｌ％であり、好ましくは４〜１０ｍｏｌ％の範囲である。Ｎｂ（サレン）錯体の使用量が、スルフィド化合物に対して２ｍｏｌ％未満では、Ｎｂ（サレン）錯体が解離して、光学活性な配位子を有さないニオブ錯体が生成するものと考えられ、生成物の鏡像体過剰率が低下する。一方、Ｎｂ（サレン）錯体の使用量が１０ｍｏｌ％を超えると、生成物の鏡像体過剰率を向上させる効果が飽和するため、経済的でない。
【００２２】
本発明の製造方法で使用するスルフィド化合物としては、前記式（ＶＩＩ）で表される化合物が好ましい。式（ＶＩＩ）中のＲ２は炭素数６〜１４のアリール基又は炭素数７〜１７のアラルキル基を示し、該アリール基としては、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられ、前記アラルキル基としては、ベンジル基等が挙げられる。一方、式（ＶＩＩ）中のＲ３は炭素数１〜１５のアルキル基を示し、該アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。
【００２３】
本発明の製造方法で得られるスルホキシド化合物は、光学活性なスルホキシド化合物であり、具体的には前記式（ＶＩＩ）に対応する前記式（ＶＩＩＩ）で表される化合物が挙げられる。ここで、式（ＶＩＩＩ）中のＲ２及びＲ３は、式（ＶＩＩ）中のＲ２及びＲ３と同義である。
【００２４】
本発明の光学活性なスルホキシド化合物の製造方法では、上述のＮｂ（サレン）錯体の存在下、上記スルフィド化合物を酸化剤で不斉酸化する。ここで、酸化剤としては、尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）が挙げられる。なお、酸化剤の使用量は、基質のスルフィド化合物に対し１〜２当量（ｅｑ）、好ましくは１．１〜１．２当量（ｅｑ）の範囲である。
【００２５】
上述のように、溶媒に、Ｎｂ化合物と上記式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物とを加え混合した後、Ｎｂ（サレン）錯体を単離することなく、スルフィド化合物と尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）とを加えて、光学活性なスルホキシド化合物を製造する場合、式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の何れかで表される化合物を、Ｎｂ化合物中のＮｂ元素１ｍｏｌに対し、１〜２ｍｏｌ、より好ましくは１．２〜１．６ｍｏｌ使用する。Ｎｂ元素に対して、過剰の式（Ｉ）又は式（ＩＩ）のサレン配位子を反応系に存在させることにより、光学活性な配位子を有さないニオブ錯体の割合を減ずることができ、その結果、反応のエナンチオ選択性を向上させて、より高い光学純度を有するスルホキシド化合物を得ることができる。
【００２６】
本発明の製造方法は、一般に溶媒中、好ましくは有機溶媒中で行う。該有機溶媒としては、ジクロロメタン（ＣＨ２Ｃｌ２）等のハロゲン化炭化水素；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類；トルエン等の炭化水素；アセトン等のケトン類が例示できる。これらの中でも、生成物の鏡像体過剰率を向上させる観点からは、ジクロロメタンが好ましい。上記溶媒の使用量は、基質のスルフィド化合物１ｍｍｏｌに対し５〜５０ｍＬ、好ましくは１０〜３０ｍＬの範囲である。
【００２７】
本発明の製造方法は、−２０℃〜４０℃で実施するのが好ましく、−１５〜−５℃で実施するのが更に好ましく、−１０℃で実施するのが特に好ましい。反応温度が高過ぎても低過ぎても、生成物の鏡像体過剰率が低下してしまう。
【００２８】
本発明の方法では、ゼオライトの存在下で不斉酸化するのが好ましい。ゼオライトの存在下で不斉酸化を行うことにより、収率を向上させることができる。本発明で使用するゼオライトとしては、ＭＳ−３Ａ、ＭＳ−４Ａ、ＭＳ−５Ａ等が例示でき、この中でも、ＭＳ−４Ａが好ましい。ゼオライトの使用量としては、基質のスルフィド化合物１ｍｍｏｌに対し、５０〜５００ｍｇ、好ましくは１００〜３００ｍｇの範囲である。
【００２９】
本発明では、溶媒にＮｂ化合物及び上述のサレン配位子を加え混合し、更にスルフィド化合物及び酸化剤、並びに任意にゼオライトを加え撹拌することにより、光学活性なスルホキシド化合物を製造することができる。撹拌方法は、混合溶液の均一性を確保できさえすれば特に限定されず、公知の方法が適用できる。また、反応時間は特に限定されず、上記反応温度に合わせて適宜選択される。
【００３０】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。
【００３１】
（配位子合成例１）
（１Ｒ，２Ｒ）−１，２−シクロヘキサンジアミン［環境科学センター］（６６．０ｍｇ，  ０．５８ｍｍｏｌ）をエタノール（１０ｍＬ）に溶解させ、この溶液に（ａＳ）−３−フォルミル−２−ヒドロキシ−２’−フェニル−１，１’−ビナフチル［Ｈ．  Ｓａｓａｋｉ，  Ｒ．  Ｉｒｉｅ，  Ｔ．  Ｈａｍａｄａ，  Ｋ．  Ｓｕｚｕｋｉ，  Ｔ．  Ｋａｔｓｕｋｉ，  Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  １９９７，  ５０（４１），  １１８２７に記載の方法にて合成］（４３５ｍｇ，  １．１６ｍｍｏｌ）を加えて６０℃で１０時間加熱する。反応溶液を室温まで冷却した後、生じた黄色沈澱をグラスフィルターでろ取し、エタノール（１０ｍＬ）で洗浄する。ろ取した沈澱を６０℃で５時間真空乾燥することにより、下記式（ＩＸ）で表される化合物（４４５ｍｇ，  収率９３％）を得る。得られた化合物のＩＲ測定（ＫＢｒ法）の結果は、３０５３，  ２９２８，  ２８５６，  １６３０，  １５０６，  １４６６，  １４４３，  １３８３，  １３４６，  １２９０，  １２５９，  ９４３，  ８６０，  ８２０，  ７４８，  ７０２ｃｍ−１である。
【化１７】
2004323445.tif 000011
【００３２】
（錯体合成例１）
ブローブボックス中で、上記式（ＩＸ）の化合物（８．３ｍｇ，  ０．０１ｍｍｏｌ）とＮｂＣｌ３（ｄｍｅ）（２．９ｍｇ，  ０．０１ｍｍｏｌ）とをジクロロメタン（１ｍＬ）に溶解させ、該溶液を室温で２時間撹拌して、Ｎｂ（サレン）錯体を生成させた。この溶液中に、マトリックスとしてｍ−ニトロベンジルアルコールを加え、ＦＡＢＭＳ分析を行った。その結果、下記式（Ｘ）の化合物に対応するピーク（実測値：ｍ／ｚ＝９３３．４２、［Ｃ６０Ｈ４４Ｎ２Ｏ３Ｎｂ］＋の計算値：ｍ／ｚ＝９３３．２４）と、下記式（ＸＩ）の化合物に対応するピーク（実測値：ｍ／ｚ＝１２２１．４９、［Ｃ７４Ｈ５６Ｎ４Ｏ８Ｎｂ］＋の計算値：ｍ／ｚ＝１２２１．３２）とを観測した。この結果は、ニオブイオンと式（ＩＸ）の配位子とが１：１で錯体を形成し、Ｎｂ（ＩＩＩ）イオンがＮｂ（Ｖ）イオンに酸化されたことを示している。
【化１８】
2004323445.tif 000012
【化１９】
2004323445.tif 000013
【００３３】
（配位子合成例２）
（１Ｓ，２Ｓ）−１，２−シクロヘキサンジアミン［環境科学センター］（１０．８ｍｇ，  ０．０９５ｍｍｏｌ）をエタノール（４ｍＬ）に溶解させ、（ａＲ）−３−フォルミル−２−ヒドロキシ−２’−（３，５−ジメチルフェニル）−１，１’−ビナフチル［Ｈ．  Ｓａｓａｋｉ，  Ｒ．  Ｉｒｉｅ，  Ｔ．  Ｈａｍａｄａ，  Ｋ．  Ｓｕｚｕｋｉ，  Ｔ．  Ｋａｔｓｕｋｉ，  Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  １９９７，  ５０（４１），  １１８２７に記載の方法を基に合成］（７６．０ｍｇ，  ０．１９ｍｍｏｌ）を加えて６０℃で１０時間加熱する。反応溶液を室温まで冷却した後、生じた黄色沈澱をグラスフィルターでろ取し、エタノール（４ｍＬ）で洗浄する。ろ取した沈澱を６０℃で５時間真空乾燥することにより、下記式（ＸＩＩ）で表される化合物（７９．７ｍｇ，  収率９５％）を得る。得られた化合物のＩＲ測定（ＫＢｒ法）の結果は、３０５１，  ２９２８，  ２８５８，  １６２８，  １５０６，  １４４３，  １３８１，  １３４４，  １３１９，  １２８８，  １２５８，  ８５３，  ８２０，  ７８７，  ７４６，  ７０６ｃｍ−１である。
【化２０】
2004323445.tif 000014
【００３４】
（配位子合成例３）
（１Ｒ，２Ｒ）−１，２−シクロヘキサンジアミン［環境科学センター］（１７１ｍｇ，  １．５ｍｍｏｌ）をエタノール（１５ｍＬ）に溶解させ、この溶液に（ａＲ）−３−フォルミル−２−ヒドロキシ−２’−フェニル−１，１’−ビナフチル［Ｈ．  Ｓａｓａｋｉ，  Ｒ．  Ｉｒｉｅ，  Ｔ．  Ｈａｍａｄａ，  Ｋ．  Ｓｕｚｕｋｉ，  Ｔ．  Ｋａｔｓｕｋｉ，  Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  １９９７，  ５０（４１），  １１８２７に記載の方法にて合成］（１．１０ｇ，  ３．０ｍｍｏｌ）を加えて６０℃で１０時間加熱する。反応溶液を室温まで冷却した後、生じた黄色沈澱をグラスフィルターでろ取し、エタノール（１０ｍＬ）で洗浄する。ろ取した沈澱を６０℃で５時間真空乾燥することにより、下記式（ＸＩＩＩ）で表される化合物（１．１８ｇ，  収率９５％）を得る。得られた化合物のＩＲ測定（ＫＢｒ法）の結果は、３０５３，  ２９３０，  ２８５８，  １６３０，  １５０６，  １４４３，  １３８３，  １３４４，  １２９０，  １２５９，  １１１９，  ９４３，  ８２２，  ７５０，  ７００，  ６１９ｃｍ−１である。
【化２１】
2004323445.tif 000015
【００３５】
（配位子合成例４）
（１Ｓ，２Ｓ）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン［環境科学センター］（３１８ｍｇ，  １．５ｍｍｏｌ）をエタノール（１５ｍＬ）に溶解させ、この溶液に（ａＲ）−３−フォルミル−２−ヒドロキシ−２’−フェニル−１，１’−ビナフチル［Ｈ．  Ｓａｓａｋｉ，  Ｒ．  Ｉｒｉｅ，  Ｔ．  Ｈａｍａｄａ，  Ｋ．  Ｓｕｚｕｋｉ，  Ｔ．  Ｋａｔｓｕｋｉ，  Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  １９９７，  ５０（４１），  １１８２７に記載の方法にて合成］（１．１０ｇ，  ３．０ｍｍｏｌ）を加えて６０℃で１０時間加熱する。反応溶液を室温まで冷却した後、生じた黄色沈澱をグラスフィルターでろ取し、エタノール（１０ｍＬ）で洗浄する。ろ取した沈澱を６０℃で５時間真空乾燥することにより、下記式（ＸＩＶ）で表される化合物（１．３１ｇ，  収率９４％）を得る。得られた化合物のＩＲ測定（ＫＢｒ法）の結果は、３０５５，  ３０３２，  １６２８，  １４９５，  １４４５，  １３８５，  １３４４，  １３１９，  １２９０，  １２５９，  １１８４，  １１５０，  １１１９，  １０２８，  ９４３，  ８１９，  ７５６，  ７００，  ５４４ｃｍ−１である。
【化２２】
2004323445.tif 000016
【００３６】
（配位子合成例５）
（１Ｒ，２Ｒ）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン［環境科学センター］（３１８ｍｇ，  １．５ｍｍｏｌ）をエタノール（１５ｍＬ）に溶解させ、この溶液に（ａＲ）−３−フォルミル−２−ヒドロキシ−２’−フェニル−１，１’−ビナフチル［Ｈ．  Ｓａｓａｋｉ，  Ｒ．  Ｉｒｉｅ，  Ｔ．  Ｈａｍａｄａ，  Ｋ．  Ｓｕｚｕｋｉ，  Ｔ．  Ｋａｔｓｕｋｉ，  Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  １９９７，  ５０（４１），  １１８２７に記載の方法にて合成］（１．１０ｇ，  ３．０ｍｍｏｌ）を加えて６０℃で１０時間加熱する。反応溶液を室温まで冷却した後、生じた黄色沈澱をグラスフィルターでろ取し、エタノール（１０ｍＬ）で洗浄する。ろ取した沈澱を６０℃で５時間真空乾燥することにより、下記式（ＸＶ）で表される化合物（１．２２ｇ，  収率８８％）を得る。得られた化合物のＩＲ測定（ＫＢｒ法）の結果は、３０５５，  ３０３０，  １６３０，  １４９７，  １４４５，  １３８５，  １３４２，  １２８８，  １１８２，  １１５０，  １１１９，  １０５１，  １０２８，  ９４３，  ８２２，  ７５６，  ７００ｃｍ−１である。
【化２３】
2004323445.tif 000017
【００３７】
（配位子合成例６）
Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  １９９３，  １１５，  ５３２６のＳｕｐｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  Ｍａｔｅｒｉａｌに記載の方法で下記式（ＸＶＩ）で表される化合物を合成した。
【化２４】
2004323445.tif 000018
【００３８】
（配位子合成例７）
Ｊａｙ  Ｆ．  Ｌａｒｒｏｗ  ａｎｄ  Ｅｒｉｃ  Ｎ．  Ｊａｃｏｂｓｅｎ，  Ｊ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．  １９９７，  ５９，  １９３９に記載の方法で下記式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を合成した。
【化２５】
2004323445.tif 000019
【００３９】
（配位子合成例８）
Ｊａｙ  Ｆ．  Ｌａｒｒｏｗ  ａｎｄ  Ｅｒｉｃ  Ｎ．  Ｊａｃｏｂｓｅｎ，  Ｊ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．  １９９７，  ５９，  １９３９に記載の方法で下記式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を合成した。
【化２６】
2004323445.tif 000020
【００４０】
（実施例１）
ブローブボックス中で、上記式（ＩＸ）の化合物（４．１ｍｇ，  ５．０μｍｏｌ）とＮｂＣｌ３（ｄｍｅ）（１．４ｍｇ，  ５．０μｍｏｌ）とをジクロロメタン（２ｍＬ）に溶解させ、該溶液を室温で２時間撹拌した。次に、該溶液にＭＳ４Ａ（約２０ｍｇ）を加え、更に３０分撹拌した。次に、得られた混合液をグローブボックスから取り出し、窒素雰囲気下で、メチルフェニルスルフィド（１２．０μＬ，  ０．１０ｍｍｏｌ）と尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）（１０．５ｍｇ，  ０．１１ｍｍｏｌ）とを連続的に加え、室温（２５℃）で２４時間撹拌して反応させた。
【００４１】
その後、該混合液をヘキサン：酢酸エチル（＝１：１−１：１９）混合液を用い直接シリカゲルでクロマトグラフ分離して、メチルフェニルスルホキシド（８．３ｍｇ，  収率５９％）を得た。得られたスルホキシド化合物の鏡像体過剰率を、キラル固定相カラム（ダイセル・キラルセルＯＤ−Ｈ）及びヘキサン：イソプロパノール（９：１）混合液を用いて高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析したところ、６８％ｅｅであった。なお、生成物の立体配置は、標準物質の溶出オーダーとの比較により決定した。これらの結果を表１に示す。
【００４２】
（実施例２〜５及び比較例１〜３）
式（ＩＸ）の化合物に代えて、上記式（ＸＩＩ）、式（ＸＩＩＩ）、式（ＸＩＶ）、式（ＸＶ）、式（ＸＶＩ）、式（ＸＶＩＩ）、又は式（ＸＶＩＩＩ）の化合物を配位子として用い、実施例１と同様にスルフィドを酸化した。但し、実施例５では、反応温度を０℃とした。結果を表１に示す。
【００４３】
【表１】
2004323445.tif 000021
【００４４】
表１の実施例１〜５及び比較例１〜３に対応する反応式を下記に示す。
【化２７】
2004323445.tif 000022
【００４５】
表１から、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表される化合物を配位子とするＮｂ錯体は、スルフィド化合物の不斉酸化反応の触媒として機能することが分かる。なお、反応のエナンチオ選択性を向上させる観点からは、式（ＩＸ）のような（ａＳ，Ｒ）型、並びに式（ＸＩＩ）及び式（ＸＩＶ）のような（ａＲ，Ｓ）型の錯体が更に好ましいことが分かる。
【００４６】
（実施例６〜８）
反応温度及び反応時間を表２に示す温度及び時間にする以外は、実施例１と同様に行った。結果を表２に示す。
【００４７】
【表２】
2004323445.tif 000023
【００４８】
表２の実施例６〜８に対応する反応式を下記に示す。
【化２８】
2004323445.tif 000024
【００４９】
表２から、生成物の鏡像体過剰率を向上させる観点から、反応温度は−１０℃程度が好ましいことがわかる。
【００５０】
（実施例９〜１１）
式（ＩＸ）の化合物とＮｂＣｌ３（ｄｍｅ）との使用量を表３に示す量にする以外は、実施例６と同様に行った。結果を表３に示す。
【００５１】
【表３】
2004323445.tif 000025
【００５２】
表３の実施例９〜１１に対応する反応式を下記に示す。
【化２９】
2004323445.tif 000026
【００５３】
表３の結果から、Ｎｂ（サレン）錯体の使用量は、スルフィド化合物の８ｍｏｌ％程度が好ましく、触媒量が少ないと生成物の鏡像体過剰率が低下し、触媒量が多いと、生成物の鏡像体過剰率を向上させる効果が飽和するため、経済的でないことが分かる。
【００５４】
（実施例１２〜１５）
ＮｂＣｌ３（ｄｍｅ）の使用量をスルフィドのモル量に対して８ｍｏｌ％とし、該ＮｂＣｌ３（ｄｍｅ）と式（ＩＸ）の化合物とのモル比を表４に示す比にし、−１０℃で２日間反応させる以外は、実施例１と同様に行った。結果を表４に示す。
【００５５】
【表４】
2004323445.tif 000027
【００５６】
表４の実施例１２〜１５に対応する反応式を下記に示す。
【化３０】
2004323445.tif 000028
【００５７】
表４の結果から、Ｎｂ化合物中のＮｂ元素に対して、サレン配位子のモル数を過剰にすることにより、生成物の鏡像体過剰率を向上させることができるのが分かる。
【００５８】
（実施例１６）
鏡像体過剰率の異なる式（ＩＸ）の化合物を用いて、反応を行った。なお、反応条件は、ＮｂＣｌ３（ｄｍｅ）及び式（ＩＸ）の化合物：それぞれ８ｍｏｌ％（スルフィドのモル量基準）、反応温度：室温、反応時間：２４時間である。結果を図１に示す。
【００５９】
図１から、配位子の鏡像体過剰率と生成物の鏡像体過剰率とが、非線形関係にあることが分かる。このことから、ＮｂＣｌ３−式（ＩＸ）錯体は、モノマーとオリゴマーとが平衡化して存在することが分かる。
【００６０】
（実施例１７〜２３）
メチルフェニルスルフィドに代えて、Ｒ２及びＲ３が表５に示す置換基であるスルフィド化合物を用いる以外は実施例１４と同様に行った。なお、実施例１７では、ダイセル・キラルセルＯＢ−Ｈ及びヘキサン：イソプロパノール（２：１）混合液を用い、実施例１８では、ダイセル・キラルセルＯＪ−Ｈ及びヘキサン：イソプロパノール（７：３）混合液を用い、実施例１９、２０、２１及び２３では、ダイセル・キラルセルＯＢ−Ｈ及びヘキサン：イソプロパノール（４：１）混合液を用い、実施例２２では、ダイセル・キラルセルＯＤ−Ｈ及びヘキサン：イソプロパノール（９：１）混合液を用いた。これらの結果を表５に示す。
【００６１】
【表５】
2004323445.tif 000029
【００６２】
表５の実施例１７〜２３に対応する反応式を下記に示す。
【化３１】
2004323445.tif 000030
【００６３】
表５の結果から、本発明の方法が、種々のスルフィド化合物に適応でき、該スルフィド化合物に対応する、光学活性な種々のスルホキシド化合物を製造できることが分かる。
【００６４】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、特定構造のサレン配位子を有するＮｂ錯体を触媒として、スルフィド化合物を酸化剤で不斉酸化することにより、光学活性なスルホキシド化合物を製造することができる。そのため、本発明の方法は、特に医農薬品の合成において有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】配位子の鏡像体過剰率と生成物の鏡像体過剰率の関係を示すグラフである。
【図１】
2004323445.tif 000041