(57)【要約】【課題】波長板として機能する水晶等から成る異方性結晶板と、ＳｉＯ２から成る回折格子とを合体させた波長板グレーティング素子を製造する過程において、異方性結晶板上に積層したＳｉＯ２膜をエッチングによって格子状に加工する際に、ＳｉＯ２膜のエッチングに適したエッチャントがＳｉＯ２膜と同様の組成を有した異方性結晶板までエッチングしてオーバーエッチングとなる不具合を確実に防止する。【解決手段】水晶板から成る波長板３２と、該波長板の片面に積層した中間層３３と、該中間層上に形成されたＳｉＯ２から成る回折格子３４と、を備え、中間層は、ＳｉＯ２と近似した屈折率を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない材質である。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水晶板から成る波長板と、該波長板の片面に積層した中間層と、該中間層上に形成されたＳｉＯ２から成る回折格子と、を備え、
前記中間層は、前記ＳｉＯ２と近似した屈折率を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない材質であることを特徴とする波長板グレーティング素子。
【請求項２】
前記中間層は、Ａｌ２Ｏ３膜、又はＭｇＦ２膜から成ることを特徴とする請求項１に記載の波長板グレーティング素子。
【請求項３】
水晶板から成る波長板上に、中間層を積層する工程と、
前記中間層上にＳｉＯ２膜を形成する工程と、
前記中間層をエッチング不能なエッチャントを用いて、前記ＳｉＯ２膜だけを所要のマスクを用いて格子状にエッチングして回折格子を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする波長板グレーティング素子の製造方法。
【請求項４】
前記中間層は、前記ＳｉＯ２と近似した屈折率を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない材質であることを特徴とする請求項３に記載の波長板グレーティング素子の製造方法。
【請求項５】
前記中間層は、Ａｌ２Ｏ３膜、又はＭｇＦ２膜から成ることを特徴とする請求項３又は４に記載の波長板グレーティング素子の製造方法。
【請求項６】
所定の光学特性を備えた基板と、該基板の片面に積層した中間層と、該中間層上に形成されたＳｉＯ２から成る回折格子と、を備え、
前記中間層は、前記ＳｉＯ２と近似した屈折率を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない材質であることを特徴とする波長板グレーティング素子。
【請求項７】
レーザ光源から出射されたレーザ光のスポットを回転するディスク状記録媒体の記録面に投影して、情報の書込み、読み出しを行なう光学ヘッドであって、レーザ光源からの出射光の光路に沿って、請求項１又は２に記載の水晶波長板グレーティング素子、ビームスプリッタ、対物レンズ、を順次配置したことを特徴とする光学ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＣＤ等のディスク状記録媒体に光スポットを投影して記録媒体に対する情報の記録再生を行う光学ヘッド等の光学装置に用いられる波長板グレーティング素子の改良に関し、特に水晶等の異方性結晶材料から成る波長板とＳｉＯ２から成るグレーティングとを合体させた波長板グレーティング素子の品質、及び生産性を向上させる技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レーザ光を用いてＣＤ、ＤＶＤ等のディスク状記録媒体上に情報の記録、再生を行う光ディスク装置は、レーザ光源から出射されたレーザ光のスポットを記録媒体の記録面に投影して記録、再生を行うための光学ヘッドを備えている。
図４はこのような光ディスク装置に搭載される光学ヘッドの一例を示す概略構成図である。この光学ヘッド１は、レーザ光Ｌを発生するレーザダイオード（以下、ＬＤと記す）２と、このＬＤ２から出射されるレーザ光Ｌを透過回折させて１本のメインビームと２本のサイドビーム（トラッキングサーボ用のレーザ光）とを生成する回析格子板（グレーティング素子）３と、この回析格子板３からのメインビームとサイドビームとを各々並行ビームにするコリメートレンズ４と、このコリメートレンズ４から出射される３つの並行なビームを集光して、光ディスクＤ上の情報記録エリアにスポット照射するとともに、光ディスクＤから反射されて戻ってくる戻り光Ｌ’を集光してコリメートレンズ４へ戻す対物レンズ５と、対物レンズ５およびコリメートレンズ４を透過して戻ってくる戻り光Ｌ’を略直角方向に反射させるビームスプリッタ６と、このビームスプリッタ６で反射された戻り光Ｌ’を受光するフォトダイオード（以下、ＰＤと記す）７と、を備えている。なお、レイアウト上の必要に応じて立上げミラー９を光路上に配置し、更に後述するように戻り光がＬＤ２からの出射光と干渉することを防止する為に、１／４波長板８が配置される。
光ディスクＤからの戻り光Ｌ’がＰＤ７の受光面に入射する結果、戻り光Ｌ’に応じた出力信号（電気信号）がＰＤ７より出力される。ＰＤ７の出力信号は図示しない制御回路で信号処理され、光ディスクＤに記録されている情報が再生される。
【０００３】
ところで、ディスクＤに対する情報の書き込み時には、読み取り時よりも強いパワーのレーザ光を光ディスクの記録面に照射しなければならない。書き込み速度は当初１倍速（ＣＤ−Ｒの場合１枚７６分）あるいは２倍速程度であったが、近年３６倍速、４８倍速といった具合に高速化しつつあり、それに伴って、書き込み時の単位データ当たりのレーザ照射時間が短くなってきたため、レーザ光のパワーを増大させることで対応せざるを得ない。
しかし、レーザ光のパワーが増大すると、書き込み時に光ディスクで反射されて戻ってくる光の強度も増大するため、ビームスプリッタ６を透過してＬＤ２に入射する戻り光Ｌ’の量が増大することになる。戻り光Ｌ’がＬＤ２に入射すると、ＬＤ２内で出射光Ｌと戻り光Ｌ’とが干渉し、ＬＤ２からの出射光Ｌにノイズが重畳されることになる。このようなノイズを含む光で書き込みを実施すると、誤ったデータが書き込まれる率が高くなる。
そこで、このような不具合を解消する手法として、図４に示すように、対物レンズ５とコリメートレンズ４との間に１／４波長板８を挿入する手法が採用されている。
即ち、ＬＤ２から出射されコリメートレンズ４を通して１／４波長板８に到来するレーザ光Ｌはいわゆる直線偏光（第１の直線偏光）であり、これが１／４波長板８を通過することによって円偏光となる。この円偏光が光ディスクＤで反射されると回転方向が逆転した円偏光となる。この反射した円偏光は１／４波長板８を通過すると直線偏光（第２の直線偏光）となる。この第２の直線偏光の方向は第１の直線偏光のそれと直交関係にあるため、第２の直線偏光がビームスプリッタ６を通過してＬＤ２に戻ってきても、その戻り光Ｌ’とＬＤ２から出射されるレーザ光Ｌは偏光方向が互いに直交しているため干渉しない。したがって、高出力のＬＤ２を用いた場合でも、光ディスクＤで反射されて戻ってくる戻り光Ｌ’と出射光Ｌとの干渉を防止して、ＬＤ２を安定に発振動作させることができるので、出射光Ｌにノイズが重畳されることによって生じるデータの書き込み誤りを少なくできる。
なお、１／４波長板８は単なるガラスからなるものではなく、異方性結晶（例えば、水晶）を板状に構成したもの（異方性結晶板）である。
しかし、１／４波長板８を追加すると、部品点数の増大、材料費や組み付け工数の増大という不具合が発生するばかりでなく、ビームスプリッタ６とミラー９との間に１／４波長板８を配置する分だけＬＤ２とミラー９との間の距離が増大して光学ヘッドの大型化につながる。
【０００４】
このような問題を解決する手段として、特開２００２−９２９２５公報（特許文献１）には、１／４波長板と回折格子板とを合体させた波長板グレーティング素子が提案されている。即ち、図５はこの波長板グレーティング素子の構成説明図であり、この波長板グレーティング素子２１は、２枚の水晶板２２ａ、２２ｂを光学軸が直交するように貼り合わせて構成された１／４波長板２２の表面にグレーティング用の回折格子２３を形成したものである。この波長板グレーティング素子２１を光学ヘッドを構成する半導体レーザの直前位置に配置した場合、半導体レーザからの出射光が波長板グレーティング素子に入射したときに、入射側面に形成された回折格子２３により３本の光束に分岐され、更に１／４波長板２２により直線偏光が円偏光とされる。このため、光学ヘッドの小型化、部品点数の削減を図りながら、データの書込み誤りの発生率を減少させることができる。
このような波長板グレーティング素子２１を製造する場合には、例えば図６に示すように水晶板から成る１／４波長板２２上に蒸着等によって均一厚のＳｉＯ２膜２３Ａを形成し、その後ＳｉＯ２膜２３Ａを格子状に形成するためのマスクを用いたドライエッチング或いはウェットエッチングによって、ＳｉＯ２膜２３Ａをエッチングして回折格子２３を形成する。
しかし、ＳｉＯ２膜２３Ａをエッチングするためのエッチャント（例えば、ＣＨＦ３＋Ｏ２等のエッチングガス）は、ＳｉＯ２膜と組成が同じ水晶板である１／４波長板２２までもエッチングしてしまい、オーバーエッチング状態となり易い。つまり、エッチングによる深さ制御が困難である。このため、深さ分布が悪化し、歩留まり悪化、加工工数アップの原因となる。
【特許文献１】特開２００２−９２９２５公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明が解決しようとする課題は、波長板として機能する水晶等から成る異方性結晶板と、ＳｉＯ２から成る回折格子板とを合体させた波長板グレーティング素子を製造する過程において、異方性結晶板上に積層したＳｉＯ２膜をエッチングによって格子状に加工する際に、ＳｉＯ２膜のエッチングに適したエッチャントがＳｉＯ２膜と同様の組成を有した異方性結晶板までエッチングしてオーバーエッチングとなる不具合を確実に防止することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する為、請求項１の発明は、水晶板から成る波長板と、該波長板の片面に積層した中間層と、該中間層上に形成されたＳｉＯ２から成る回折格子と、を備え、前記中間層は、前記ＳｉＯ２と近似した屈折率を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない材質であることを特徴とする。
水晶板等の異方性結晶板上にＳｉＯ２から成る回折格子を一体化した波長板グレーティング素子は、水晶とＳｉＯ２の組成が近似しているために、ＳｉＯ２をエッチングによって格子状に加工する場合には水晶板までオーバーエッチングされ易い。このようなオーバーエッチングを防止するためには、エッチング深さを厳密にコントロールする必要があるが、実際にはそのようなコントロールは困難であり、水晶板までオーバーエッチングされるか、或いはＳｉＯ２に対するエッチングが不足するかの何れかの不具合が生じやすい。
そこで、本発明では、ＳｉＯ２をエッチングする際に使用するエッチャントに反応しない材料から成る中間層を水晶板とＳｉＯ２との間に介在させることにより、オーバーエッチング、或いはエッチング不足を防止するようにした。これにより、エッチング深さのコントロール等の煩雑な対策を講じることなく、生産性よく波長板グレーティング素子を製造することができる。しかも、中間層を構成する材質の屈折率、その他の光学特性がＳｉＯ２と近似するようにしたので、完成した波長板グレーティング素子の光学特性に影響はない。
請求項２の発明は、請求項１において、前記中間層は、Ａｌ２Ｏ３膜、又はＭｇＦ２膜から成ることを特徴とする。
上記の如き特性を有した中間層の材料としては、例えばＡｌ２Ｏ３、又はＭｇＦ２が適している。
請求項３の発明に係る製造方法は、水晶板から成る波長板上に、中間層を積層する工程と、前記中間層上にＳｉＯ２膜を形成する工程と、前記中間層をエッチング不能なエッチャントを用いて、前記ＳｉＯ２膜だけを所要のマスクを用いて格子状にエッチングして回折格子を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。
これによれば、水晶板から成る波長板に対するオーバーエッチングを発生させることなく、歩留まりよく波長板グレーティング素子を量産することができる。
【０００７】
請求項４の発明は、請求項３において、前記中間層は、前記ＳｉＯ２と近似した屈折率を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない材質であることを特徴とする。
これによれば、エッチング深さのコントロール等の煩雑な対策を講じることなく、生産性よく波長板グレーティング素子を製造することができる。しかも、中間層を構成する材質の屈折率、その他の光学特性がＳｉＯ２と近似するようにしたので、完成した波長板グレーティング素子の光学特性に影響はない。
請求項５の発明は、請求項３又は４において、前記中間層は、Ａｌ２Ｏ３膜、又はＭｇＦ２膜から成ることを特徴とする。
上記の如き特性を有した中間層の材料としては、例えばＡｌ２Ｏ３、又はＭｇＦ２を使用することができる。
請求項６の発明は、所定の光学特性を備えた基板と、該基板の片面に積層した中間層と、該中間層上に形成されたＳｉＯ２から成る回折格子と、を備え、前記中間層は、前記ＳｉＯ２と近似した屈折率を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない材質であることを特徴とする。
水晶以外の基板、例えば光学ガラス上にＳｉＯ２から成る回折格子を形成することによってグレーティング素子を形成する際にも、ＳｉＯ２と近似した屈折率を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない中間層を介在させることにより、上記各請求項記載の発明と同等の作用効果を得ることができる。
請求項７の発明は、レーザ光源から出射されたレーザ光のスポットを回転するディスク状記録媒体の記録面に投影して、情報の書込み、読み出しを行なう光学ヘッドであって、レーザ光源からの出射光の光路に沿って、請求項１又は２に記載の水晶波長板グレーティング素子、ビームスプリッタ、対物レンズ、を順次配置したことを特徴とする。
本発明の波長板グレーティングは、これを光学ヘッドに組み込むことにより、部品点数の削減によるコストダウン、光路長の短縮による小型化を実現できる。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面に示した実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る波長板グレーティング素子の構成を示す断面図である。この波長板グレーティング素子３１は、例えば１／４波長板グレーティング素子であり、波長板として機能する水晶から成る異方性結晶板３２と、異方性結晶板３２の片面に積層した中間層３３と、中間層３３上に形成されたＳｉＯ２から成る回折格子３４と、を有し、これらを一体化した構成を備えている。
中間層３３は、回折格子３４を構成する材料であるＳｉＯ２と近似した屈折率等の光学特性を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない材質である。
中間層３３は、例えば、Ａｌ２Ｏ３膜、又はＭｇＦ２膜から構成する。これらの材料は、ＳｉＯ２とは組成が異なるため、ＳｉＯ２のエッチングに適したエッチャントには反応しない一方で、ＳｉＯ２の屈折率と近似した屈折率を有しているため、中間層３３を介在させたとしても、波長板グレーティング素子の光学特性に悪影響を与えることがない。なお、水晶から成る異方性結晶板３２の屈折率は１．５４であり、突部３４ａを構成するＳｉＯ２の屈折率は１．４６、Ａｌ２Ｏ３の屈折率は１．６４、ＭｇＦ２の屈折率は１．３８である。
中間層３３表面上には、ＳｉＯ２から成るグレーティング用の回折格子３４が一体形成されている。回折格子３４は、断面矩形で直線状に延びる突部３４ａを、溝部３４ｂを介して交互に複数個配置した構成を備えている。この例では、突部３４ａは一方の水晶板３２ａの光学軸方向と平行な方向へ延びている。
この実施形態に係る波長板グレーティング素子３１を光学ヘッド等の光学装置に適用する場合、例えば光源としての半導体レーザから出射される波長６５０ｎｍのレーザ光に対応し得る構成を確保するとすれば、各部の寸法は次の如くとなる。即ち、まず異方性結晶板３２の厚さＴ１を０．２５ｍｍとした場合、中間層３３の厚さＴ２は、例えば１５ｎｍ以上であれば、後述するエッチング工程における耐久性を確保することができる。また、格子３４の厚さＴ３は２９０ｎｍであり、一組の突部３４ａと溝部３４ｂを合せた幅Ｗは２６マイクロメータである。なお、図中では、図示説明の都合上、異方性結晶板２に対する、中間層３３と回折格子３４の厚さを誇張して描いている。
【０００９】
次に、図２は波長板グレーティング素子３１を製造する手順を示す工程図である。
（ａ）に示す中間層形成工程では、波長板として機能する水晶から成る異方性結晶板３２の上面に、Ａｌ２Ｏ３膜、又はＭｇＦ２膜から成る均一厚の中間層３３を積層形成する。中間層３３を構成する材料の塗布は、例えば蒸着、スパッタリング等々任意の方法を使用して行うことができる。
（ｂ）に示すＳｉＯ２膜形成工程では、中間層３３上に蒸着、スパッタリング等によって、均一厚のＳｉＯ２を積層形成する。
（ｃ）に示すＳｉＯ２エッチング工程は、真空雰囲気中において、異方性結晶板３２の温度を２５℃に維持した状態で、ＣＨＦ３＋Ｏ２等のエッチングガスを用いて行われ、図示しないマスクによって隠蔽されていないＳｉＯ２の部分だけを除去して溝部３４ｂを形成することにより、突部３４ａと溝部３４ｂとから成る回折格子３４を形成する。この際、上記エッチングガスは、中間層３３を構成する材料と反応しないため、ＳｉＯ２のみがエッチングされ、エッチングの進行は中間層３３にて停止し、異方性結晶板３２の表面にまでオーバーエッチングが発生する虞は皆無となる。
上記の条件下で行われるエッチングは９分にて完了する。
【００１０】
次に、図３は本発明の波長板グレーティング素子３１を光学ヘッド１に適用した場合の例を示し、図４において別部品として離間配置されていたグレーティング３と波長板８とを合体させた波長板グレーティング素子３１を用いることにより、部品点数を削減し、小型化を図った構成が特徴的である。
この波長板グレーティング素子３１は、回折格子に対して、戻り光対策手段としての波長板の機能を付与したものである。このような構成を有した波長板グレーティング素子３１を、ＬＤ２とビームスプリッタ６との間に配置することにより、部品点数を低減してコストダウンを図ると共に、光路を短くして小型化を達成できる。
このような波長板グレーティング素子３１を図４に示した如き光学ヘッド１に適用することにより、図３に示した如き構成になる。即ち、図３に示した光学ヘッド１は、レーザ光源ＬＤ２から出射されたレーザ光のスポットを回転するディスク状記録媒体Ｄの記録面に投影して、情報の書込み、読み出しを行なう光学ヘッドであって、レーザ光源ＬＤ２からの出射光の光路に沿って、水晶波長板グレーティング素子３１、ビームスプリッタ６、対物レンズ９、コリメートレンズ４、対物レンズ５を順次配置したものである。
図３に示した光学ヘッドによる書き込み動作は以下のとおりである。
ＬＤ２より出射されたレーザ光Ｌは、波長板グレーティング素子３１を構成する回折格子３４を通過する際に３つのレーザ光、すなわち１つのメインビームと２つのサイドビームとに分けられる。続いて、波長板グレーティング素子３１を構成する波長板（異方性結晶板）３２内に進入した際に直線偏光から円偏光に変換される。波長板グレーティング素子３１から出射したレーザ光は、偏光ビームスプリッタ６、ミラー９を経てコリメートレンズ４に入射し、平行光となって対物レンズ５に入射する。対物レンズ５は、コリメートレンズ４からのビームを集光し、書き込み可能な光ディスク（ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷなど）Ｄの記録層上にそれぞれ合焦させてスポット照射する。
【００１１】
また、これと並行して、光ディスクＤで反射されて戻ってくる３つのビームを対物レンズ５で集光し、コリメートレンズ４よって各々平行なビームにし、ミラー９で反射した後、ビームスプリッタ６で略直角方向に反射させる。ビームスプリッタ６からの反射光は、受光素子であるＰＤ７の受光面に照射される。その結果、光ディスクＤからの戻り光（反射光）に応じた出力信号（電気信号）がＰＤ７より出力される。ＰＤ７の出力信号は制御回路で信号処理される。
上記書き込み動作を行っている間、光ディスクＤで反射された光の一部はビームスプリッタ６を透過してＬＤ２側にも戻ってくる。この戻り光Ｌ’は、光ディスクＤの記録層で反射しているため、出射時の円偏光とは逆転した円偏光となって１／４波長板グレーティング素子３１を通過することによって直線偏光となる。この戻り光Ｌ’である直線偏光の方向はＬＤ２の出射光である直線偏光のそれと直交関係にあるので、戻り光Ｌ’がＬＤ２に入射しても、ＬＤ２の出射光Ｌと戻り光Ｌ’とが干渉することはない。
したがって、この実施の形態によれば、グレーティング素子（回折格子）を波長板と合体させて小型化及び低コスト化を図りながらも、光学ヘッド１のＬＤ２の発振パワーを上げても、戻り光Ｌ’の影響を受けることなくＬＤ２を安定に発振動作させることができるので、正確かつ高速に書き込みを行うことができる。なお、上記実施形態では、異方性結晶板としての水晶板上に回折格子を一体形成した波長板グレーティング素子の構造、及びその製造方法について説明したが、水晶板以外の基板、例えば光学ガラス基板上にＳｉＯ２から成る格子を形成することによって一つの光学素子としてのグレーティング素子を形成する場合にも本発明を適用することができる。即ち、ガラス基板上にＳｉＯ２膜を形成してから、ＳｉＯ２膜をエッチングによって格子状に加工する場合に、エッチャントによる過剰エッチングによってガラス基板までもエッチングされる不具合を解消するために、ガラス基板とＳｉＯ２膜との間に、上記エッチャントによってエッチングされない中間層を介在させておくことにより、格子部の形状精度の安定したグレーティング素子（回折格子）を製造することが可能となる。
また、上記実施形態では、単板の水晶板から成る波長板を用いているが、図５に示した２枚の水晶板を貼り合わせたタイプの波長板にも本発明は適用可能である。
更に、ＳｉＯ２の代わりに、Ｔａ２Ｏ５を用いて格子高さの大きなグレーティングを形成したものにも適用可能である。この場合、Ｔａ２Ｏ５の屈折率が２．１７であるから、中間層としてはＡｌ２Ｏ３の方が適している。
【００１２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、波長板として機能する水晶等から成る異方性結晶板と、ＳｉＯ２から成る回折格子とを合体させた波長板グレーティング素子を製造する過程において、異方性結晶板上に積層したＳｉＯ２膜をエッチングによって格子状に加工する際に、ＳｉＯ２膜のエッチングに適したエッチャントがＳｉＯ２膜と同様の組成を有した異方性結晶板までエッチングしてオーバーエッチングとなる不具合を確実に防止することができる。
即ち、請求項１の発明によれば、ＳｉＯ２をエッチングする際に使用するエッチャントに反応しない材料から成る中間層を水晶板とＳｉＯ２との間に介在させることにより、オーバーエッチング、或いはエッチング不足を防止することができ、エッチング深さのコントロール等の煩雑な対策を講じることなく、生産性よく波長板グレーティング素子を製造することができる。しかも、中間層を構成する材質の屈折率、その他の光学特性がＳｉＯ２と近似するようにしたので、完成した波長板グレーティング素子の光学特性に影響はない。
請求項２の発明では、中間層は、Ａｌ２Ｏ３膜、又はＭｇＦ２膜から成る。
請求項３の発明に係る製造方法によれば、水晶板から成る波長板に対するオーバーエッチングを発生させることなく、歩留まりよく波長板グレーティング素子を量産することができる。
請求項４の発明によれば、エッチング深さのコントロール等の煩雑な対策を講じることなく、生産性よく波長板グレーティング素子を製造することができる。しかも、中間層を構成する材質の屈折率、その他の光学特性がＳｉＯ２と近似するようにしたので、完成した波長板グレーティング素子の光学特性に影響はない。
請求項５の発明は、前記中間層は、Ａｌ２Ｏ３膜、又はＭｇＦ２膜から成る。請求項６の発明によれば、水晶以外の基板、例えば光学ガラス上にＳｉＯ２から成る回折格子を形成することによってグレーティング素子を形成する際にも、ＳｉＯ２と近似した屈折率を有すると共に、ＳｉＯ２に適したエッチャントによってはエッチングされない中間層を介在させることにより、上記各請求項記載の発明と同等の作用効果を得ることができる。
請求項７の発明によれば、本発明の波長板グレーティングは、これを光学ヘッドに組み込むことにより、部品点数の削減によるコストダウン、光路長の短縮による小型化を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る波長板グレーティング素子の構成を示す断面図。
【図２】本発明の他の実施形態に係る波長板グレーティング素子の製造工程を示す図。
【図３】本発明の波長板グレーティング素子を使用した光学ヘッドの構成図。
【図４】従来の光学ヘッドの一例を示す図。
【図５】従来の波長板グレーティング素子の構成図。
【図６】従来の波長板グレーティング素子の製造手順を説明する図。
【符号の説明】
１　光学ヘッド、２　ＬＤ、３　グレーティング素子（回折格子）、４　コリメートレンズ、５　対物レンズ、６　ビームスプリッタ、７　受光素子、８　波長板、９　ミラー、３１　波長板グレーティング素子、３２　異方性結晶板（水晶板）、３３　中間層、３４　回折格子、３４ａ　突部、３４ｂ　溝部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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