(57)【要約】　　　（修正有）【課題】干渉測定装置の容器の歪に起因する干渉光学系の歪、干渉光学系のゆらぎ、および干渉光学系への酸素の侵入によって測定結果に誤差が生じるという問題点を解決し、誤差の発生しない干渉測定方法、干渉測定装置、光学素子、光学系、および投影露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】第一の容器１５と、第一の容器に収納され、内部に被測定光学系または被測定光学素子の干渉測定を行うための干渉光学系が配置された第二の容器１と、光源２と、検出器８とからなる干渉測定装置を用いて、被測定光学素子または被測定光学系の干渉測定を行う干渉測定方法であって、第一の容器内部に大気と異なる第一の気体を供給する第一の供給工程と、第二の容器内部に大気と異なる第二の気体を供給する第二の供給工程と、被測定光学素子または被測定光学系の干渉測定を行う干渉測定工程とを有し、干渉測定工程は、第二の供給工程の終了後に行う。【選択図】図１
2004101335.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の容器と、前記第一の容器に収納され、内部に被測定光学系または被測定光学素子の干渉測定を行うための干渉光学系が配置された第二の容器と、光源と、検出器と、からなる干渉測定装置を用いて、被測定光学素子または被測定光学系の干渉測定を行う干渉測定方法であって、
前記第一の容器内部に大気と異なる第一の気体を供給する第一の供給工程と、前記第二の容器内部に大気と異なる第二の気体を供給する第二の供給工程と、前記被測定光学素子または被測定光学系の干渉測定を行う干渉測定工程とを有し、前記干渉測定工程は、前記第二の供給工程の終了後に行うことを特徴とする干渉測定方法。
【請求項２】
請求項１に記載の干渉測定方法において、
前記干渉測定工程中は、前記第一の供給工程を行うことを特徴とする干渉測定方法。
【請求項３】
請求項１に記載の干渉測定方法において、
前記第一の気体および前記第二の気体は、それぞれ窒素、ヘリウム及びアルゴンのうちのいずれかの気体であることを特徴とする干渉測定方法。
【請求項４】
請求項３に記載の干渉測定方法において、
前記第一の気体は、前記第二の気体と同一の種類であることを特徴とする干渉測定方法。
【請求項５】
請求項１に記載の干渉測定方法において、
前記光源からの光の波長は、２００ｎｍ以下であることを特徴とする干渉測定方法。
【請求項６】
請求項１に記載の干渉測定方法において、
前記第二の供給工程は、前記第二の容器の内部に、前記第一の容器の内部の気体を供給する工程であることを特徴とする干渉測定方法。
【請求項７】
被測定光学系または被測定光学素子の干渉測定を行う干渉測定装置であって、
第一の容器と、前記第一の容器に収納され、内部に前記被測定光学系または前記被測定光学素子の干渉測定を行うための干渉光学系が配置された第二の容器と、光源と、検出器と、前記第一の容器内部に気体を供給する第一の気体供給手段とを有し、
前記第一の容器は、前記第一の容器の外部に通じる開口部を有し、
前記第二の容器は、前記第一の容器に通じる開口部を有することを特徴とする干渉測定装置。
【請求項８】
請求項７に記載の干渉測定装置において、
前記第二の容器内部に前記気体を供給する第二の気体供給手段を設けたことを特徴とする干渉測定装置。
【請求項９】
請求項７に記載の干渉測定装置において、
前記光源から照射する光の波長は、２００ｎｍ以下であることを特徴とする干渉測定装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項６のいずれかの方法により光学特性を測定されたことを特徴とする光学素子。
【請求項１１】
請求項１から請求項６のいずれかの方法により光学特性を測定されたことを特徴とする光学系。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光学系を使用したことを特徴とする投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、干渉測定方法、干渉測定装置、光学素子、光学系、および投影露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
投影露光装置は、マスクに描かれた微細な回路パターンをウェハ表面に精度良く投影露光させる装置である。特に最近では、真空紫外光と呼ばれる波長２００ｎｍ以下の光を光源とする装置が開発されており、投影露光装置によって製造される回路パターンの加工精度はますます高くなっている。
【０００３】
これらの投影露光装置に組み込まれる光学素子や光学系は、光学特性を高精度に測定したうえで使用する必要がある。この光学特性の測定精度が、加工される半導体の精度に大きく影響するからである。
【０００４】
投影露光装置に使用する光学素子や光学系の光学特性を高精度に測定する装置として、干渉測定装置が挙げられる。干渉測定装置は、光学素子や光学系の光学特性を光の干渉を利用して測定する装置である。具体的には、波面の形状の整った参照光と、光学素子や光学系を経由した測定光とを重ね合わせ、それらの位相のずれから生じる干渉縞により、光学素子や光学系の光学特性を測定する。
【０００５】
これらの光学素子や光学系の光学特性には、波長依存性があるため、使用波長と異なる波長で光学特性を測定しても、使用波長における光学特性とは誤差が生じてしまう。そのため、光学素子や光学系の光学特性は、使用する波長を用いて測定する。したがって、真空紫外光を光源とする投影露光装置に使用される光学素子や光学系の光学特性を測定する場合には、真空紫外光を使用する必要がある。
【０００６】
しかし、真空紫外光は、酸素によってそのエネルギーが吸収されて減衰してしまう。干渉測定装置においては、特に参照光と測定光が減衰してしまうと干渉作用が弱まってしまうことによって精度よく測定することが困難となるため、真空紫外光を光源として用いる干渉測定装置では、少なくとも参照光と測定光に関与する干渉光学系は大気中に配置することを避ける必要がある。
【０００７】
そこで、真空紫外光を光源として用いる干渉光学系の雰囲気用として真空紫外光を吸収しにくい気体を用いる必要がある。このような気体として、窒素ガスやヘリウムガスなどがある。具体的には、干渉光学系を密閉可能な容器に入れ、容器内部の大気を排気した後、窒素ガス等を容器内に導入することで干渉光学系の雰囲気を大気から窒素に置換した後、光学特性の測定を行う。
【０００８】
図４は、従来の干渉測定装置の概念図である。図４で、５１は容器、５２は透明光学窓、５０、５６はハーフミラー、５３、５４および５５は折り曲げミラーである。図４で容器５１に収納された部分が干渉光学系であり、この部分に含まれる光路の雰囲気を大気から窒素ガス等に置換する必要がある。
【０００９】
図４に示した装置による測定方法について以下に説明する。干渉光学系が内部にセットされた容器５１を、気密シール５９を介してボルト５８で蓋５７を締め付けて容器５１を密閉状態とする。容器５１の内部の大気を図示していない排気装置により排気する。次に、排気された容器５１内に、窒素ガスを導入する。このようにして、容器５１内部の雰囲気を窒素ガスとした状態で、被測定光学系の光学特性を測定する。具体的な測定は以下の様に行う。
【００１０】
光源２から発射された光は、透明光学窓５２を通過し、ハーフミラー５０によって、２つの光束に分割される。ハーフミラー５０を通過した方の光束が測定光であり、ハーフミラー５０で反射した方の光束が参照光である。測定光の光束は、透明光学窓５２を通過し、集光レンズ２０を経由して被測定光学系に到る。被測定光学系を透過した光束は、折り返し反射ミラー２１によって反射され、再び被測定光学系、集光レンズ２０を経由し、透明光学窓５２を通過して容器５１に戻る。容器５１内に戻った光束は、ハーフミラー５０によって、部分的に折り曲げミラー５５の方向へ反射され、折り曲げミラー５５により反射された後、ハーフミラー５６へ入射する。
【００１１】
一方、参照光の光束は、折り曲げミラー５３、５４を経由した後、ハーフミラー５６へ入射する。ハーフミラー５６においては、参照光はハーフミラー５６に部分的に反射されて検出部８の方向へ向い、測定光はハーフミラー５６を部分的に透過し検出部８の方向へ向う。参照光と測定光とが重ねあわされた光が、透明光学窓５２を通過して検出部８に到達するので、検出器８により両者の位相差に応じた干渉縞を観察できる。
【００１２】
この干渉縞の状態は、被測定光学系による波面の乱れに相当するため、被測定光学系の光学特性を測定することができる。
また、図５の概念図で示したような構成も提案された。図５で、容器６１には開口部が設けられており、また窒素ガスの供給を行なうためのガス供給部６３が設けられている。測定光学系については、図４に示したものと同様のものを用いている。
【００１３】
図５に示した装置の動作について以下に説明する。干渉光学系が内部にセットされた容器６１の開口部に蓋で塞ぐ。このとき、容器６１を密閉しないように、蓋と容器とは、ボルト等で締め付けない。このため、容器６１には、蓋と開口部の間に隙間が存在する。次に、容器６１内に、大気圧より高い圧力でガス供給部６３から窒素ガスを導入する。容器６１内部の大気は、導入された窒素ガスにより蓋と開口部との隙間から外部に排出され、容器６１内部は窒素ガスで置換される。容器６１内部が窒素ガスで置換された後も、開口部と蓋との隙間からの大気の侵入を防ぐため窒素ガスの供給は継続する。このようにして、容器６１内部の雰囲気を窒素ガスとした状態で、被測定光学系の光学特性を測定する。測定方法は、図４に示した装置と同様であるので省略する。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、図４に示した構成の場合、ボルト５８を締め付けて蓋５７を介して気密シール５９に圧力をかけるため、容器５１に歪が発生する。容器５１に歪が発生すると、容器５１の内部に収納されている干渉光学系にも歪が発生するため、被測定光学系の光学特性の測定結果に誤差が生じるという問題があった。
【００１５】
また、図５に示した装置では、測定中にも、窒素ガスの供給によって、容器６１内部の窒素ガスが流動しているため、干渉光学系の光路にゆらぎが発生する。干渉光学系に発生したゆらぎは、参照光や測定光の位相を乱すため、被測定光学系の測定結果に誤差が生じるという問題があった。測定中にガス供給を止めてゆらぎの発生を抑制しようとすると、この場合には酸素が容器５１に侵入し、それにより測定結果に誤差が生じるという問題点があった。
【００１６】
本発明は、このような問題点を解決し、干渉光学系の歪み、干渉光学系内のゆらぎおよび干渉光学系内への酸素の混入を防止することによって、誤差の発生しない干渉測定装置を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
第１の発明は、第一の容器と、前記第一の容器に収納され、内部に被測定光学系または被測定光学素子の干渉測定を行うための干渉光学系が配置された第二の容器と、光源と、検出器と、からなる干渉測定装置を用いて、被測定光学素子または被測定光学系の干渉測定を行う干渉測定方法であって、前記第一の容器内部に大気と異なる第一の気体を供給する第一の供給工程と、前記第二の容器内部に大気と異なる第二の気体を供給する第二の供給工程と、前記被測定光学素子または被測定光学系の干渉測定を行う干渉測定工程とを有し、前記干渉測定工程は、前記第二の供給工程の終了後に行うことを特徴としている。
【００１８】
このような構成により、誤差がほとんど生じない干渉測定方法を提供することができる。
第２の発明は、請求項１に記載の干渉測定方法において、前記干渉測定工程中は、前記第一の供給工程を行うことを特徴としている。
【００１９】
このような構成により、酸素の干渉光学系への侵入を確実に防止できるため、より誤差が生じない干渉測定方法を提供することができる。
第３の発明は、請求項１に記載の干渉測定方法において、前記第一の気体および前記第二の気体は、それぞれ窒素、ヘリウム及びアルゴンのうちのいずれかの気体であることを特徴としている。
【００２０】
このような構成により、干渉光学系における光の減衰が無くなるため、より誤差が生じない干渉測定方法を提供することができる。
第４の発明は、請求項３に記載の干渉測定方法において、前記第一の気体は、前記第二の気体と同一の種類であることを特徴としている。
【００２１】
このような構成により、気体の混合による気流の乱れが生じないため、より誤差が生じない干渉測定方法を提供することができる。
第５の発明は、請求項１に記載の干渉測定方法において、前記光源からの光の波長は、２００ｎｍ以下であることを特徴としている。
【００２２】
このような構成により、２００ｎｍ以下の波長の光に対応した光学素子および光学系の干渉測定において、より誤差が生じない干渉測定方法を提供することができる。
【００２３】
第６の発明は、請求項１に記載の干渉測定方法において、前記第二の供給工程は、前記第二の容器の内部に、前記第一の容器の内部の気体を供給する工程であることを特徴としている。
【００２４】
このような構成により、干渉光学系における光の減衰が無くなるため、より誤差が生じない干渉測定方法を提供することができる。
第７の発明は、被測定光学系または被測定光学素子の干渉測定を行う干渉測定装置であって、第一の容器と、前記第一の容器に収納され、内部に前記被測定光学系または前記被測定光学素子の干渉測定を行うための干渉光学系が配置された第二の容器と、光源と、検出器と、前記第一の容器内部に気体を供給する第一の気体供給手段とを有し、前記第一の容器は、前記第一の容器の外部に通じる開口部を有し、前記第二の容器は、前記第一の容器に通じる開口部を有することを特徴としている。
【００２５】
このような構成により、誤差がほとんど生じない干渉測定装置を提供することができる。
第８の発明は、請求項７に記載の干渉測定装置において、前記第二の容器内部に前記気体を供給する第二の気体供給手段を設けたことを特徴としている。
【００２６】
このような構成により、確実に第二の容器内の気体を置換できるため、より誤差の生じない干渉測定装置を提供することができる。
第９の発明は、請求項７に記載の干渉測定装置において、前記光源から照射する光の波長は、２００ｎｍ以下であることを特徴としている。
【００２７】
このような構成により、２００ｎｍ以下の波長の光に対応した光学素子および光学系の干渉測定において、より誤差の生じない干渉測定装置を提供することができる。
【００２８】
第１０の発明は、請求項１から請求項６のいずれかの方法により光学素子の光学特性を測定することを特徴としている。
このような構成により、光学特性の測定精度の良好な光学素子を提供することができる。
【００２９】
第１１の発明は、請求項１から請求項６のいずれかの方法により光学系の光学特性を測定することを特徴としている。
このような構成により、光学特性の測定精度の良好な光学系を提供することができる。
第１２の発明は、投影露光装置に請求項１１に記載の光学系を使用したことを特徴としている。
【００３０】
この発明により、光学特性の精度が良好な投影露光装置を提供することができる。
【００３１】
【発明の実施の形態】
【００３２】
【実施例１】
図１は本発明における第一の実施の形態を示す概念図である。以下、図１に沿って、発明の実施の形態について説明する。
【００３３】
図１で、２は２００ｎｍ以下の波長の光を発生させる真空紫外光源、３および７はハーフミラー、４、５および６は折り曲げミラー、２０は集光レンズ、２１は折り返し反射ミラー、１２は透明光学窓、８は真空紫外光の二次元画像を検出できる検出器である。１は測定光学系の一部を収納した容器、１５は容器１を収納した別の容器である。また、９７および９８は、それぞれ容器１および容器１５に窒素ガスを供給するガス供給部、８１、８２、８３および８４はバルブである。容器１および容器１５には開口部を設けてある。ここで、開口部とは、容器１および容器１５とそれぞれの蓋との間の部分を含んでいる。
【００３４】
次に、図１に示した干渉測定装置を用いて、光学系の光学特性を測定する方法を説明する。まず、測定光学系の各光学要素を調整した後、容器１および容器１５の開口部をそれぞれの蓋で覆う。このとき、容器１および容器１５に歪を発生させないように、蓋と容器本体とは、ボルト等で締め付けない。
【００３５】
次に、バルブ８３およびバルブ８４を開き、ガス供給部９７およびガス供給部９８から容器１および容器１５に窒素ガスを供給する。同時に、バルブ８１およびバルブ８２を開き、容器１および容器１５内の大気をそれぞれバルブ８１および８２を通じて容器外部に排出させる。次に、容器１および容器１５の内部の気体が、窒素ガスで充分置換された後、バルブ８１およびバルブ８２を閉じる。次に、バルブ８３を閉じ、容器１へのガス供給を停止する。
【００３６】
この状態で被測定光学系の干渉縞の測定を行う。測定中は、バルブ８４を開いておき、ガス供給部９８は容器１５へ大気圧より高い圧力でガスを供給する。これにより、容器１５に存在する隙間からは、窒素ガスが容器１５から大気へ放出される。容器１５内部の圧力は大気圧よりも高いので、容器１５には大気は侵入できず、容器１５内に酸素のない状態が保たれる。
【００３７】
ここで、干渉縞の測定について具体的に以下に説明する。光源２から発射させた光を、透明光学窓１２を通過させた後、ハーフミラー３によって、２つの光束に分割させる。ハーフミラー３で部分的に反射した方の光束は、参照光であり、ハーフミラー３を部分的に透過した方の光束は、測定光である。参照光の光束は、折り曲げミラー４、５を経由した後、ハーフミラー７へ入射する。
【００３８】
一方、測定光の光束は、透明光学窓１２を通過して容器１５を一旦通り抜けた後、集光レンズ２０を経由して被測定光学系に入射する。被測定光学系を通過した光束は、折り返し反射ミラー２１によって反射し、再び被測定光学系、集光レンズ２０を経由し、透明光学窓１２を通過して容器１５に戻る。容器１５内に戻った光束は、ハーフミラー３によって部分的に反射し、折り曲げミラー６により反射した後、ハーフミラー７へ入射する。
【００３９】
ハーフミラー７において、部分的に反射した参照光と部分的に透過した測定光とを重ね合わせた光は、透明光学窓１２を通過し、検出部８に到達する。検出器８により両者の位相差に応じた干渉縞を観察する。位相差は被測定光学系による波面の乱れに相当するので、干渉縞の状態により被測定光学系の光学特性を測定することができる。
【００４０】
このような構成においては、既に説明したように酸素の混入による光の減衰・干渉光学系内の光路のゆらぎが生じない。また、容器１の変形が無いため干渉光学系の歪みによる誤差も生じない。
【００４１】
したがって、本実施形態では、干渉光学系の歪み、干渉光学系内のゆらぎおよび干渉光学系内への酸素の混入を防止することによって、誤差の発生しない干渉測定装置を提供できる。
【００４２】
なお、以上説明した構成から窒素ガス供給部９７およびバルブ８４を省いた構成にしても良い。その場合には、容器１５の内部を窒素ガスに置換する際、容器１の隙間より容器１５と容器１との内部ガスの交換が行われるので、容器１５内部の窒素ガス置換を行うことにより、容器１内部も窒素ガスに置換される。
【００４３】
【実施例２】
図２は本発明における第二の実施の形態を示す概念図である。以下、図２に沿って、発明の実施の形態について説明する。
【００４４】
図２で、１３、１４および１７はハーフミラー、１９および１６は折り曲げミラーである。２５は集光レンズ、２６はピンホール、２７はコリメータレンズである。その他の構成については、実施例１と同様であるので説明は省略する。
【００４５】
本実施形態は、被測定光学系を経由した測定光の光量が低下することによって生じる干渉縞のコントラスト低下を防止するため、測定光から参照光を生成する構成になっている。
【００４６】
本実施例の干渉測定装置を用いて、光学系の光学特性を測定する方法を説明する。まず、容器１および容器１５の開口部を介して干渉光学系を調整し、開口部に蓋をする工程を実施例１と同様に行い、容器１および容器１５の内部を窒素に置換する。
【００４７】
ここで、干渉縞の測定について具体的に以下に説明する。光源２から発射した光を、透明光学窓１２を通過させ、ハーフミラー１３に入射させる。ハーフミラー１３を部分的に透過した光束は、透明光学窓１２、集光レンズ２０を経由して被測定光学系に到達する。被測定光学系を透過した光束は、折り返し反射ミラー２１によって反射し、再び被測定光学系、集光レンズ２０、透明光学窓１２を経由し、容器１５内に戻り、再びハーフミラー１３に達する。ハーフミラー１３によって部分的に反射された光束は、ハーフミラー１４により、２つの光束に分割される。
【００４８】
分割された光束のうち、ハーフミラー１４を部分的に透過した光束は、折り曲げミラー１６を経由してハーフミラー１７に入射し、ハーフミラー１７を部分的に透過する。この光束は測定光である。
【００４９】
一方、ハーフミラー１４を部分的に反射した光束は、折り曲げミラー１９を経由し、集光レンズ２５によって集光され、ピンホール２６に入射する。ピンホール２６から射出した光の波面は、ほぼ理想的な球面波となり、参照光となる。この参照光はコリメータレンズ２７を経由したのちハーフミラー１７に入射し、部分的に反射される。
【００５０】
ハーフミラー１７において、部分的に反射した参照光と部分的に透過した測定光とが重なり合った光は、透明光学窓１２を通過し、検出部８に到達する。検出器８により両者の位相差に応じた干渉縞を観察する。位相差は被測定光学系による波面の乱れに相当するので、干渉縞の状態により被測定光学系の光学特性を測定することができる。
【００５１】
このような構成においても、酸素の混入による光の減衰・干渉光学系内の光路のゆらぎが生じない。また、容器１の変形が無いため干渉光学系の歪みによる誤差も生じない。
【００５２】
したがって、本実施形態では、干渉光学系の歪み、干渉光学系内のゆらぎおよび干渉光学系内への酸素の混入を防止することによって、誤差の発生しない干渉測定装置を提供できる。
【００５３】
【実施例３】
図１に示した構成では、測定光の光路長は、被測定光学系を経由するため参照光の光路長より長い。このような構成の場合、光源としてエキシマレーザなどの短パルスレーザを用いると、測定光と参照光の光路差が光源光のパルス長よりも長くなることがある。こうなると、測定光と参照光が検出部で重ならなくなり、干渉縞が生成しなくなる。図３は、このような場合に対応して、測定光の光路と、参照光の光路とが実質的に同じ距離になるように、両者の光路長を調整した構成である。
【００５４】
即ち、図３は本発明における第三の実施の形態を示す概念図である。以下、図３に沿って、発明の実施の形態について説明する。図３で、３１および３４はハーフミラー、３２および３３は折り曲げミラー、４２は光源である。光源４２は真空紫外領域の短パルス光を発振するエキシマレーザである。その他の構成については、実施例１と同様である。
【００５５】
本構成では、光源４２からの光は、ハーフミラー３１で分岐される。分岐された光束のうち、ハーフミラー３１を部分的に透過した光束は、測定光として使用する。一方ハーフミラー３１で部分的に反射された光束は、折り曲げミラー３２，３３およびハーフミラー３４を経由させる。この光束は参照光として使用する。このような構成により、参照光の光路長を延長し、測定光の光路と参照光の光路とを実質的に同じ距離にできるので、干渉縞を生成させることができる。
【００５６】
本実施例の干渉測定装置を用いて、光学系の光学特性を測定する方法を説明する。まず、容器１および容器１５の開口部を介して干渉光学系を調整し、開口部に蓋をする工程を実施例１と同様に行い、容器１および容器１５の内部を窒素に置換する。
【００５７】
ここで、干渉縞の測定について具体的に以下に説明する。光源４２から発射された光束を、透明光学窓１２を通過させた後、ハーフミラー３１によって、２つの光束に分割する。
【００５８】
分割した光束のうち、ハーフミラー３１を部分的に透過した光束、即ち測定光は、ハーフミラー３４およびハーフミラー３を部分的に透過し、更に透明光学窓１２を通過して、集光レンズ２０を経由して被測定光学系に入射する。被測定光学系を通過した光束は、折り返し反射ミラー２１によって反射し、再び被測定光学系、集光レンズ２０を経由し、透明光学窓１２を通過する。更に、ハーフミラー３によって部分的に反射し、折り曲げミラー６により反射した後、ハーフミラー７へ入射する。
【００５９】
一方、ハーフミラー３１を部分的に反射した光束、即ち参照光は、折り曲げミラー３２および折り曲げミラー３３を経由し、ハーフミラー３４で部分的に反射し、ハーフミラー３で部分的に反射される。更に、折り曲げミラー４、５を経由した後、ハーフミラー７へ入射する。
【００６０】
ハーフミラー７を部分的に透過した測定光と、ハーフミラー７で部分的に反射した参照光とを重ね合わせて干渉縞を生成する。そして、その干渉縞を観測することによって、被測定光学系の光学特性を測定する。
【００６１】
本実施形態でも、干渉光学系の歪み、干渉光学系内のゆらぎおよび干渉光学系内への酸素の混入を防止することによって、誤差の発生しない干渉測定装置を提供できる。
【００６２】
以上、光学系の光学特性を測定する場合について説明したが、いずれの実施形態を用いて光学素子の光学特性を測定した場合においても、測定結果は良好である。
【００６３】
【実施例４】
図６は、本発明の光学系を用いた投影露光装置の概念図である。投影露光装置は、フォトレジストを表面に塗布したウェハ上にレチクルのマスクパターンを縮小投影露光する装置である。
【００６４】
図６で、１００はエキシマレーザ等の真空紫外光を射出する光源、Ｒはマスクパターンを備えたレチクル、１０１は光源１００からの光をレチクルＲに照射する照明光学系、Ｗはフォトレジスト７０１を表面に塗布したウェハ、５００はレチクルＲのマスクパターンをウェハＷ上に縮小投影露光する投影光学系、３０１はウェハＷを移動させるウェハステージ、２０１はレチクルＲを移動させるレチクルステージである。
【００６５】
光源１００から射出された真空紫外光は、照明光学系１０１で整形・均一化された後、レチクルＲに照射され、レチクルＲを透過する。投影光学系５００は、レチクルＲを透過した光をウェハＷに照射することによって、レチクルＲのマスクパターンをウェハＷの表面に縮小投影露光する。
【００６６】
投影光学系５００は、レチクルＲのパターンを非常に正確にウェハＷ上に縮小投影露光する光学系であり、高い解像度が必要である。高い解像度の投影光学系５００を製造するためには、投影光学系５００の光学特性を高精度に測定し、調整する必要がある。本発明の光学系は、その光学特性の測定誤差が無いので、調整は良好であり、その光学系を用いた投影露光装置は高い結像性能を確保できる。
【００６７】
また、投影光学系５００以外の光学系についても、本発明によるもので構成すれば、高い結像性能を有する投影露光装置となることは言うまでもない。
【００６８】
【発明の効果】
本発明によれば、外部に通じる開口部を有する第一の容器の内部に、第一の容器に通じる開口部を有する第二の容器を設け、第二の容器に収めた干渉光学系の歪み、干渉光学系内のゆらぎおよび干渉光学系内への酸素の混入を防止することによって、誤差の発生しない干渉測定装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施形態に係る干渉測定装置の概念図である。
【図２】本発明の第二の実施形態に係る干渉測定装置の概念図である。
【図３】本発明の第三の実施形態に係る干渉測定装置の概念図である。
【図４】従来の干渉測定装置を示す概念図である。
【図５】従来の別の干渉測定装置を示す概念図である。
【図６】投影露光装置の概念図である。
【符号の説明】
１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　第二の容器
１５　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　第一の容器
２、４２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　光源
３、７、１３、１４、１７、３１、３４　　　　　　ハーフミラー
４、５、６、１６、１９、３２、３３　　　　　　　　折り曲げミラー
８　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　検出器
１２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　透明光学窓
２０、２５　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　集光レンズ
２１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　折り返し反射ミラー
２６　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ピンホール
２７　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　コリメータレンズ
８１，８２，８３，８４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　バルブ
９７，９８　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ガス供給部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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