(57)【要約】【課題】多面付け基板に露光する露光装置を小型化できる露光方法及び露光システムを提供する。【解決手段】ＣＦ基板１００の露光領域１０１…１０１に順次露光する露光方法において、フォトマスク３３と、ステージ３１とを備え、ＣＦ基板１００が載置されたステージ３１を駆動して露光領域１０１…１０１のうち少なくともいずれか一つにフォトマスク３３を位置合わせして露光する露光装置１２Ａ〜１２Ｃを配置し、露光領域１０１…１０１のそれぞれを露光装置１２Ａ〜１２Ｃのいずれかに割り当てて、露光領域１０１…１０１に対する露光を露光装置１２Ａ〜１２Ｃ間で分担して行なう。【選択図】      図１
2004294770.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多面付け基板の複数の露光領域に順次露光する露光方法において、
フォトマスクと、ステージとを備え、前記基板が載置された前記ステージを駆動して前記複数の露光領域のうち少なくともいずれか一つに前記フォトマスクを位置合わせして露光する露光装置を複数配置し、
前記複数の露光領域のそれぞれを前記複数の露光装置のいずれかに割り当てて、前記複数の露光領域に対する露光を前記複数の露光装置間で分担して行なうことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記基板は、前記複数の露光領域のそれぞれにデバイスの一部として機能する複数層のパターンが露光されるものであり、
前記複数の露光装置は、前記複数層のうち少なくとも一層分のパターンを露光するものであり、
前記複数層のうち最初の層の露光前に前記基板に複数のアライメントマークを形成し、
前記複数の露光装置のそれぞれは前記複数のアライメントマークと自己の前記フォトマスクに設けられたアライメントマークとの相対位置に基づいて自己の前記フォトマスクを自己に割り当てられた露光領域に位置合わせすることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記基板は、前記複数の露光領域のそれぞれと相互に貼り合わされる複数の対向領域を有する他の基板と貼り合わされるものであり、
前記複数のアライメントマークを形成する際には、前記対向領域のパターンを形成する装置の誤差の影響を含んだ前記複数の対向領域の配置と、前記複数の露光領域の配置とを一致させるように、前記複数のアライメントマークを形成することを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項４】
多面付け基板の複数の露光領域に順次露光する露光システムにおいて、
フォトマスクと、ステージとが設けられた露光装置を複数備え、
前記複数の露光装置のそれぞれは、前記基板が載置された前記ステージを駆動して、前記複数の露光領域のうち自己に割り当てられた露光領域に前記フォトマスクを位置合わせして露光することを特徴とする露光システム。
【請求項５】
前記基板に複数のアライメントマークを形成するマーキング装置を前記複数の露光装置とは別に備え、
前記複数の露光装置のそれぞれは前記複数のアライメントマークと自己の前記フォトマスクに設けられたアライメントマークとの相対位置に基づいて自己の前記フォトマスクを自己に割り当てられた露光領域に位置合わせすることを特徴とする請求項４に記載の露光システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多面付け基板の複数の露光領域にフォトマスクを順次位置合わせして露光する露光方法及び露光システムに関し、特に大型の基板に対する露光に好適な露光方法及び露光システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
カラーフィルター等の基板にパターンを形成する技術として、１枚の基板に複数個分のデバイスに相当する数のパターンを形成する多面付けが知られている。また、多面付け基板に対する露光装置として、基板が載置されたステージをフォトマスクに対して駆動し、複数の露光領域に対してフォトマスクを順次位置合わせして露光するものが知られている。
【０００３】
なお、多面付けに関するものではないが、一部がマスキングされたフォトマスクを有する露光機構により、基板に対して全面一括露光を行った後、マスキングにより露光されなかった領域に対して別の露光機構により露光する装置が知られている（特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−２６７２９４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述の技術では、基板の大型化に伴って露光装置が大型化し、種々の不都合を生じる。例えば、露光装置の幅が道路よりも大きくなると、露光装置を分解した状態で露光装置の製造工場から発注先の工場へ運搬し、発注先の工場で組み立てなければならない。発注先の工場での組み立て作業を必要とすると、精度の低下、納期の遅れ、コストの上昇を招くことになる。
【０００６】
そこで、本発明は、多面付け基板に露光する露光装置を小型化できる露光方法及び露光システムを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
以下、本発明について説明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものではない。
【０００８】
本発明の露光方法は、多面付け基板（１００）の複数の露光領域（１０１）に順次露光する露光方法において、フォトマスク（３３）と、ステージ（３１）とを備え、前記基板が載置された前記ステージを駆動して前記複数の露光領域のうち少なくともいずれか一つに前記フォトマスクを位置合わせして露光する露光装置（１２Ａ〜１２Ｃ、１３Ａ〜１３Ｃ、１４Ａ〜１４Ｃ又は１５Ａ〜１５Ｃ）を複数配置し、前記複数の露光領域のそれぞれを前記複数の露光装置のいずれかに割り当てて、前記複数の露光領域に対する露光を前記複数の露光装置間で分担して行なうことにより、上述した課題を解決する。
【０００９】
本発明の露光方法によれば、一枚の基板に対する露光は複数の露光装置間で分担して行なわれるから、各露光装置は自己に割り当てられた露光領域にフォトマスクを位置合わせ可能な範囲でステージを駆動することができればよい。このため、各露光装置においてステージの移動範囲として確保しなければならないスペースが縮小され、各露光装置が小型化される。従って、露光装置を稼動させる工場での露光装置の組み立て作業が不要となり、露光装置の精度向上、納期までに必要な期間の短縮、コスト削減が実現される。また、一枚の基板に対して複数の露光装置により露光を行なうから、一枚の基板に複数種のパターンを形成することも可能となり、基板の面付けロスを防止したり、種々の事情に応じた混流生産を行なうこともできる。
【００１０】
なお、各露光装置におけるフォトマスクと露光領域との位置合わせは種々の方法により行なってよく、露光領域間の相対位置に要求される精度に応じて適宜な方法を選択してよい。例えば、全ての露光装置の露光前に複数の露光領域のそれぞれの位置を特定するためのアライメントマークを設け、各露光装置がそのアライメントマークを検出することにより、フォトマスクを露光領域に位置合わせしてもよい。最初の露光装置ではレーザー測長によりステージ位置を検出してフォトマスクを位置決めし、以降の露光装置では最初の露光装置により露光された露光領域の位置を検出し、その位置を基準として所定量だけステージを移動させてフォトマスクを位置決めしてもよい。各露光装置において、ステージに設けたピンに基板を押し当てて載置し、ステージ位置をレーザー測長により検出することにより、フォトマスクを位置決めしてもよい。
【００１１】
本発明の露光方法において、前記基板は、前記複数の露光領域のそれぞれにデバイスの一部として機能する複数層のパターンが露光されるものであり、前記複数の露光装置は、前記複数層のうち少なくとも一層分のパターンを露光するものであり、前記複数層のうち最初の層の露光前に前記基板に複数のアライメントマーク（５３）を形成し、前記複数の露光装置のそれぞれは前記複数のアライメントマークと自己の前記フォトマスクに設けられたアライメントマークとの相対位置に基づいて自己の前記フォトマスクを自己に割り当てられた露光領域に位置合わせしてもよい。例えば、他の基板と貼り合わされる基板への露光では、複数の露光領域と他の基板の複数の対向領域とを一致させる必要から、複数の露光領域間の相対位置を予め設定された相対位置に精度よく一致させなければならない。このため、従来のようなレーザー測長系を用いて露光する方法では、複数の露光領域のうち一部の露光領域にのみ露光を行なったときに、他の露光装置に基板を移してしまうと、既に露光した露光領域の位置を正確に特定することができず、残りの露光領域に対して正確にフォトマスクを位置決めすることが困難であった。従って、全ての露光領域に対して一台の露光装置で露光を行なわなければならなかった。しかし、上述の態様では、最初の層の露光前にアライメントマークが形成され、そのアライメントマークに基づいて複数の露光領域間の相対位置が特定されるから、複数の露光領域のうち一部の露光領域に露光した後、他の露光装置に移して残りの露光領域に対して正確にフォトマスクを位置決めすることができる。
【００１２】
本発明の露光方法において、前記基板は、前記複数の露光領域のそれぞれと相互に貼り合わされる複数の対向領域（２０１）を有する他の基板（２００）と貼り合わされるものであり、前記複数のアライメントマークを形成する際には、前記対向領域のパターンを形成する装置の誤差の影響を含んだ前記複数の対向領域の配置と、前記複数の露光領域の配置とを一致させるように、前記複数のアライメントマークを形成してもよい。アライメントマークを予め設定された位置に形成したとしても、対向領域のパターンを形成する装置固有の癖に基づく対向領域の位置ずれにより、対向領域と露光領域とを精度よく一致させることができないおそれがある。しかし、上述の本発明の態様によれば、対向領域のパターンを形成する装置の誤差を見込んでアライメントマークを形成するから、露光領域と対向領域との位置合わせの精度が向上する。なお、誤差の影響を含んだ対向領域の配置は、パターンが形成された対向基板の対向領域の位置をマーキング装置で測定することにより取得してもよいし、パターンを形成する装置の動作特性の試験等のなんらかの方法により、装置の癖を把握することにより取得してもよい。
【００１３】
本発明の露光システムは、多面付け基板（１００）の複数の露光領域（１０１）に順次露光する露光システム（１）において、フォトマスク（３３）と、ステージ（３１）とが設けられた露光装置（１２Ａ〜１２Ｃ、１３Ａ〜１３Ｃ、１４Ａ〜１４Ｃ又は１５Ａ〜１５Ｃ）を複数備え、前記複数の露光装置のそれぞれは、前記基板が載置された前記ステージを駆動して、前記複数の露光領域のうち自己に割り当てられた露光領域に前記フォトマスクを位置合わせして露光することにより、上述した課題を解決する。
【００１４】
本発明の露光システムによれば、各露光装置が自己に割り当てられた露光領域に対して露光を行なうから、複数の露光領域に対する露光が露光装置間で分担して行なわれ、上述した本発明の露光方法を実現できる。
【００１５】
本発明の露光システムにおいて、前記基板に複数のアライメントマークを形成するマーキング装置（１１）を前記複数の露光装置とは別に備え、前記複数の露光装置のそれぞれは前記複数のアライメントマークと自己の前記フォトマスクに設けられたアライメントマークとの相対位置に基づいて自己の前記フォトマスクを自己に割り当てられた露光領域に位置合わせしてもよい。この場合、基板に対して露光が行なわれる前にマーキング装置により基板にアライメントマークを形成することができるとともに、各露光装置がそのアライメントマークの位置に基づいて自己のフォトマスクを位置決めするから、上述した本発明の露光方法の好ましい態様を実現できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の露光システム１の構成を示す図である。露光システム１は、ＣＦ基板１００（図９参照）に対して露光を行なうシステムとして構成されている。
【００１７】
ＣＦ基板１００は、例えばガラス基板で構成され、厚さ１ｍｍ、面積４ｍ２に形成されている。ＣＦ基板１００は、ブラックマトリクス層、Ｒ層、Ｇ層、Ｂ層等のパターン形成後、貼り合わせ装置２によりＴＦＴ基板２００（図８（ａ）参照）と貼り合わされる。１組のＣＦ基板１００及びＴＦＴ基板２００からは、６枚の液晶表示デバイスが製造される。このため、図９にも示すように、ＣＦ基板１００上の６つの露光領域１０１…１０１に対して露光システム１により露光が行われる。
【００１８】
図１の露光システム１は、ＣＦ基板１００にアライメントマーク５３…５３（図９参照）を形成するためのマーキング装置１１と、ＣＦ基板１００に対して露光を行なうための複数の露光装置１２Ａ〜１２Ｃ、１３Ａ〜１３Ｃ、１４Ａ〜１４Ｃ、１５Ａ〜１５Ｃとを備えている。各露光装置は、例えば露光装置１２Ａ〜１２Ｃはブラックマトリクス層に、露光装置１３Ａ〜１３ＣはＲ層に、露光装置１４Ａ〜１４ＣはＧ層に、露光装置１５Ａ〜１５ＣはＢ層にそれぞれ露光する装置として設けられている。また、各露光装置において、符号にＡが付されているもの（例えば露光装置１２Ａ）は、露光領域１０１…１０１のうち、グループ１０２Ａの露光領域１０１、１０１（図９の（１）及び（２））に、符号にＢが付されているものは、グループ１０２Ｂの露光領域１０１、１０１（図９の（３）及び（４））に、符号にＣが付されているものは、グループ１０２Ｃの露光領域１０１、１０１（図９の（５）及び（６））にそれぞれ露光する装置として設けられている。従って、例えばブラックマトリクス層に対する露光においては、露光領域１０１…１０１に対する露光を露光装置１２Ａ〜１２Ｃ間で分担して行なうように設定されている。
【００１９】
図２（ａ）は、マーキング装置１１の構成を示す側面図である。マーキング装置１１は、ＣＦ基板１００を載置するためのステージ２１と、ＣＦ基板１００にマーキングするための光学系２４と、ステージ２１上を撮像するカメラ２５と、光学系２４及びカメラ２５を水平方向において移動させるための駆動装置２２と、光学系２４とステージ２１との相対位置を測定するためのレーザー測長系２３と、制御装置２６とを備えている。
【００２０】
ステージ２１の上面には、静電気力によりＣＦ基板１００を吸着保持する静電チャック２１ａが設けられている。静電チャック２１ａは、貼り合せ装置２の静電チャック４２ａ（図３（ｂ）参照）と同じものである。静電チャック２１ａには種々の公知技術を利用可能である。静電チャック２１ａは、例えば絶縁体（不図示）と、その絶縁体に埋設された電極（不図示）とを備えて構成されている。絶縁体に面型の電極が埋設されたものでもよいし、双極の電極が埋設されたものでもよいし、多数の電極が埋設されたものでもよい。
【００２１】
光学系２４は、例えばレーザー２７と、対物レンズ２８とを含んで構成されている。図２（ｂ）に示すように、レーザー２７から出力されたレーザー光Ｌは、対物レンズ２８により集光されつつ照射位置Ｈに照射される。ＣＦ基板１００上に例えばクロム又は樹脂からなる層１５０が成膜されていれば、レーザー光Ｌにより照射位置Ｈに孔があけられる。従って、ブラックマトリクス層用の顔料を分散した感光性樹脂やクロム膜が成膜されたＣＦ基板１００に対してレーザー光Ｌを走査することにより、ＣＦ基板１００にアライメントマーク５３が形成される。なお、レーザー光Ｌの走査は、駆動装置２２により光学系２４全体をステージ２１上で駆動することによって行なってもよいし、光学系２４に含まれるレンズやミラー等を駆動することによって走査してもよい。レーザー２７には例えばパルスレーザーを用い、ドットを繋ぐことによりマーキングを行なってもよい。
【００２２】
カメラ２５は、例えばＣＣＤカメラとして構成され、撮像した画像に基づく映像信号を制御装置２６に出力する。カメラ２５は、ステージ２１上を光学系２４と一体的に移動可能に設けられるとともに、レーザー光Ｌが照射される範囲を撮像可能に設けられている。制御装置２６は、例えばＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、外部記憶装置を含んだコンピュータとして構成され、外部記憶装置に記録されているプログラム等に従って、静電チャック２１ａ、駆動装置２２、レーザー２７等の種々の装置の動作を制御する。駆動装置２２は、例えば電動モータを含んで構成され、その動作は制御装置２６によって制御される。レーザー測長系２３は、例えば光学系２４と一体的に移動する反射鏡（不図示）に向けてレーザー光を照射するとともに、反射されたレーザー光を受光してその反射鏡までの距離を測定するレーザー干渉計（不図示）を含んで構成されている。レーザー干渉計は測定した距離に応じた信号を制御装置２６に出力する。
【００２３】
図３（ａ）は、露光装置１２Ａの構成を示す側面図である。なお、露光装置１２Ｂ、１２Ｃ、１３Ａ〜１３Ｃ、１４Ａ〜１４Ｃ、１５Ａ〜１５Ｃも略同様の構成である。露光装置１２Ａは、ＣＦ基板１００を載置するステージ３１と、ステージ３１を水平方向において駆動する駆動装置３２と、ステージ３１の上方に配置されたフォトマスク３３と、フォトマスク３３の上方からステージ２上を撮像するカメラ３４、３４と、制御装置３５とを備えている。なお、露光装置１２Ａはこの他、フォトマスク３３に光束を照射するための照明装置等の種々の装置を備えるが、本発明の要旨ではないので説明は省略する。
【００２４】
ステージ３１は、図４（ａ）に示すように、グループ１０２Ａの露光領域１０１、１０１にのみフォトマスク３３を位置合わせ可能な範囲（Ｌ１×Ｌ２の範囲）で移動可能に構成されている。従って、図４（ｂ）に示す従来の露光装置のように、基板１００上の全ての露光領域１０１…１０１に対してフォトマスク３３を位置合わせ可能な範囲（Ｌ１×Ｌ３の範囲）でステージ３１を移動可能に構成した場合に比較して、露光装置１２Ａは小型化されている。なお、露光装置１２Ｂ、１２Ｃ、１３Ａ〜１３Ｃ、１４Ａ〜１４Ｃ、１５Ａ〜１５Ｃも同様に、自己に割り当てられたグループの露光領域１０１、１０１にのみフォトマスク３３を位置合わせ可能に構成されている。
【００２５】
ステージ３１の上面には、真空チャック３１ａが設けられている。駆動装置３２は、例えば電動モータを含んで構成され、制御装置３５によって制御される。フォトマスク３３は、図９に示すように、一つの露光領域１０１を覆う大きさを有している。また、フォトマスク３３は、露光領域１０１に相当する領域の外側の位置にアライメントマーク５１、５１を備えている。カメラ３４、３４はアライメントマーク５１、５１を撮像可能な位置に設けられ、撮像した画像に基づく映像信号を制御装置３５に出力する。制御装置３５は、例えば制御装置２６と同様にコンピュータとして構成され、外部記憶装置に記録されているプログラム等に従って、駆動装置３２等の種々の装置の動作を制御する。
【００２６】
図３（ｂ）は、貼り合わせ装置２の構成を示す側面図である。貼り合わせ装置２は、ＣＦ基板１００とＴＦＴ基板２００とを上下に対向させ、下側の基板に液晶を滴下してから、真空中でＣＦ基板１００とＴＦＴ基板２００とを貼り合わせる装置として構成されている。
【００２７】
貼り合わせ装置２は、内部を減圧状態に維持可能なチャンバ４１と、チャンバ４１の内部に設けられ、上下に対向する定盤４２、４３とを備えている。なお、貼り合わせ装置２はこの他、定盤４２、４３を上下に駆動して相互に近接又は離間させる駆動装置等を備えるが、本発明の要旨ではないので説明は省略する。定盤４２、４３はそれぞれＣＦ基板１００、ＴＦＴ基板２００を静電気力により保持するための静電チャック４２ａ、４３ａを備えており、ＣＦ基板１００及びＴＦＴ基板２００はそれぞれ静電チャック４２ａ、４３ａに保持された状態で貼り合わされる。
【００２８】
上述の構成を有する露光システム１の動作を説明する。
【００２９】
露光システム１は、ＣＦ基板１００に対する露光の前にマーキング装置１１によりＴＦＴ基板２００の対向領域２０１・・・２０１の位置を学習する。図５は、その学習の際にマーキング装置１１の制御装置２６が実行する位置計測処理の手順を示すフローチャートである。この処理は、例えば、ユーザが制御装置２６に対して所定の入力操作を実行したときに実行される。この処理は、図８（ａ）に示すように、ステージ２１にＴＦＴ基板２００が載置されることが前提となる。
【００３０】
図８（ａ）に示すように、ＴＦＴ基板２００は、ＣＦ基板１００の露光領域１０１…１０１とそれぞれ貼り合わされるべき対向領域２０１…２０１を有しており、各対向領域２０１…２０１には、露光システム１とは別の露光システムにより既に露光が行われている。ＴＦＴ基板２００は、対向領域２０１…２０１の周囲にそれぞれアライメントマーク５２、５２の組を複数有している。アライメントマーク５２、５２は、対向領域２０１…２０１の位置を示すものであり、例えば、対向領域２０１に対して露光を行う際に、アライメントマーク５２のパターンも同時に露光されて形成される。
【００３１】
ＴＦＴ基板２００は、ＣＦ基板１００と貼り合わされる面（膜面）を下に向けてステージ２１に載置される。なお、ＴＦＴ基板２００のステージ２１への載置は、ユーザが手作業で行ってもよいし、ＣＦ基板１００をステージ２１へ載置するためのマーキング装置１１の搬送装置（不図示）が行ってもよい。
【００３２】
図５のステップＳ１では、制御装置２６は、カメラ２５の下方にアライメントマーク５２…５２のうちいずれか一つを位置させるように、駆動装置２２の動作を制御して光学系２４及びカメラ２５を移動させる。この制御は、例えば制御装置２６に予め記録されている制御量に基づいて行われる。
【００３３】
次に制御装置２６は、カメラ２５により計測されるカメラ２５に対するアライメントマーク５２の位置と、レーザー測長系２３により計測される光学系２４（カメラ２５）の位置とに基づいて、アライメントマーク５２の位置を特定する（ステップＳ２）。ステップＳ３では全てのアライメントマーク５２…５２に対して計測が終了したか否を判定し、終了していないと判定した場合はステップＳ１及びＳ２を繰り返し実行して、残りのアライメントマーク５２…５２の位置を順次計測する。終了したと判定した場合は処理を終了する。なお、カメラ２５の位置と照射位置Ｈとのオフセットを、例えば、予め試験用の基板に対して光学系２４によりマーキングを行って特定しておけば、アライメントマーク５２…５２の位置に照射位置Ｈを合わせたときの光学系２４の位置が特定される。
【００３４】
ＴＦＴ基板２００の対向領域２０１・・・２０１の学習後、露光システム１は、ブラックマトリクス層となるクロム又は樹脂やレジストが表面に成膜されたＣＦ基板１００を受取ると、マーキング装置１１によりＣＦ基板１００にアライメントマーク５３を形成するための処理を実行する。
【００３５】
図６は、マーキング装置１１の制御装置２６が実行するマーキング処理の手順を示すフローチャートである。この処理は、例えば、ＣＦ基板１００がステージ２１に載置されたときに開始される。この処理が実行されている間、ＣＦ基板１００は静電チャック２１ａにより吸着保持されている。
【００３６】
ステップＳ１１では、制御装置２６は、位置計測処理（図５参照）で測定したアライメントマーク５２の位置のいずれかに照射位置Ｈを一致させるように、レーザー測長系２３の測定する光学系２４の位置を参照しつつ駆動装置２２の動作を制御して光学系２４を移動させる。次に、レーザー２７を駆動してＣＦ基板１００に対してアライメントマーク５３を形成する。ステップＳ１３では、ＴＦＴ基板２００のアライメントマーク５２…５２の全てに対応してアライメントマーク５３…５３が形成されたか否かを判定し、形成されていないと判定した場合には、ステップＳ１１及びＳ１２を繰り返し実行する。これにより、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基板２００のアライメントマーク５２…５２と同じ配置で、ＣＦ基板１００のアライメントマーク５３…５３が順次形成される。
【００３７】
アライメントマーク５３…５３の形成後、露光システム１は、不図示の搬送装置により露光装置１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃの順にＣＦ基板１００を搬送し、各露光装置１２Ａ〜１２Ｃによりブラックマトリクス層に対して露光を行なう。
【００３８】
図７は、露光装置１２Ａの制御装置３５が実行する露光処理の手順を示すフローチャートである。この処理は、例えば図９に示すように、ＣＦ基板１００がステージ３１に載置されたときに開始される。この処理が実行されている間、ＣＦ基板１００は真空チャック３１ａにより吸着保持されている。
【００３９】
まず、制御装置３５は、フォトマスク３３の下方にグループ１０２Ａの露光領域１０１、１０１のうちいずれか一つを位置させるように、駆動装置３２の動作を制御する（ステップＳ２１）。この制御は、例えば、制御装置３５に予め記録されている制御量に基づいて行われる。次に、カメラ７によりフォトマスク３３のアライメントマーク５１とＣＦ基板１００のアライメントマーク５３とを撮像し（ステップＳ２２）、アライメントマーク５１と、アライメントマーク５３との位置ずれを特定する（ステップＳ２３）。そして、図９に示すように、その位置ずれに基づいてフォトマスク３３と露光領域１０１との位置合わせを行う（ステップＳ２４）。その後、ステップＳ２５では不図示の照明装置を駆動して露光を行う。ステップＳ１５では、グループ１０２Ａの露光領域１０１、１０１全てに対して露光が終了したか否か判定し、終了していないと判定した場合は、ステップＳ２１からＳ２５までを繰り返し実行する。これにより、図９に示すように、グループ１０２Ａの露光領域１０１、１０１に対して順次露光が行なわれる。
【００４０】
露光装置１２Ｂ、１２Ｃにおいても、各露光装置の備える制御装置により同様の処理が実行され、グループ１０２Ｂ、１０２Ｃの露光領域１０１…１０１に対して順次露光が実行される。
【００４１】
ブラックマトリクス層の露光後、ＣＦ基板１００は不図示の現像処理装置等の種々の装置に搬送される。そして、Ｒ層、Ｇ層、Ｂ層についてもブラックマトリクス層と同様に、不図示のコーターによりレジスト等が成膜された後、露光装置１３Ａ〜１３Ｃ、１４Ａ〜１４Ｃ、１５Ａ〜１５Ｃにより各層に対する露光が実行される。なお、これらの露光装置においても、ブラックマトリクス層を露光する前にマーキング装置１１により形成されたアライメントマーク５３…５３が参照されてフォトマスク３３の位置合わせがなされる。
【００４２】
本発明は以上の実施形態に限定されず、本発明の技術的思想と実質的に同一である限り、種々の形態で実施してよい。
【００４３】
ＴＦＴ基板２００の対向領域２０１…２０１の位置計測には種々の方法を用いてよい。マーキング装置１１とは別の装置により計測し、その計測結果のデータをマーキング装置１１に入力してもよい。アライメントマーク５２…５２の位置を計測するものに限られず、例えば、対向領域２０１のパターンに基づいて、対向領域２０１の位置を直接計測してもよい。
【００４４】
マーキング装置１１において、ＣＦ基板１００を静電チャックにより保持するものを例示したが、真空チャックによりＣＦ基板１００を保持してもよい。
【００４５】
露光対象の基板のアライメントマーク５３は、種々の方法により形成してよい。例えば、基板に成膜される層の光の透過率が高ければ、レーザー光をガラス基板内部に集光させ、集光点においてガラス基板の光学的性質を変化させることによりマーキングする、いわゆるインナーガラスマーキング（ＩＧＭ）を用いてもよい。ＩＧＭによりマーキングする場合、例えば、レーザー光によりガラス内部に泡を生じさせ、集光点において光が散乱されるように光学的性質を変化させてもよい。レーザー光を走査してもよいし、アライメントマークのパターンを有するフォトマスクを介して基板にレーザー光を照射し、基板の光学的性質を変化させてもよい。クロム膜を蒸着する等して、他の材料を付着させることによりマーキングを行なってもよい。
【００４６】
図１０（ａ）に示すように、グループ１０２Ａ〜１０２Ｃの露光領域１０１が互いに異なるパターンであってもよい。図１０（ｂ）に示すように、グループ１０２Ａ〜１０２Ｃの露光領域１０１の大きさが互いに異なっていてもよい。グループの数や配置、各グループの露光領域１０１の数や配置は適宜に設定してよい。
【００４７】
露光装置は複数層に対して露光を行なうものであってもよい。例えば、露光装置１２Ａ〜１２Ｃにブラックマトリクス層、Ｒ層、Ｇ層、Ｂ層用のフォトマスクをそれぞれ装着して、露光装置１２Ａ〜１２Ｃにより各層に対して露光を行い、露光装置１３Ａ〜１３Ｃ、１４Ａ〜１４Ｃ、１５Ａ〜１５Ｃを省略してもよい。
【００４８】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明の露光方法によれば、一枚の基板に対する露光は複数の露光装置間で分担して行なわれるから、各露光装置は自己に割り当てられた露光領域にフォトマスクを位置合わせ可能な範囲でステージを駆動することができればよい。このため、各露光装置においてステージの移動範囲として確保しなければならないスペースが縮小され、各露光装置が小型化される。従って、露光装置を稼動させる工場での露光装置の組み立て作業が不要となり、露光装置の精度向上、納期までに必要な期間の短縮、コスト削減が実現される。また、一枚の基板に対して複数の露光装置により露光を行なうから、一枚の基板に複数種のパターンを形成することも可能となり、基板の面付けロスを防止したり、種々の事情に応じた混流生産を行なうこともできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の露光システムの構成を示す図。
【図２】図１の露光システムに含まれるマーキング装置の構成を示す図。
【図３】図１の露光システムに含まれる露光装置及び貼り合せ装置の構成を示す図。
【図４】図３の露光装置のステージの移動範囲を示す図。
【図５】図２のマーキング装置の制御装置が実行する位置計測処理の手順を示すフローチャート。
【図６】図２のマーキング装置の制御装置が実行するマーキング処理の手順を示すフローチャート。
【図７】図３の露光装置の制御装置が実行する露光処理の手順を示すフローチャート。
【図８】図５の位置計測処理及び図６のマーキング処理が実行されているときの図２のマーキング装置の状態を示す図。
【図９】図７の露光処理が実行されているときの図３の露光装置の状態を示す図。
【図１０】露光対象の基板の面付けの変形例を示す図。
【符号の説明】
１  露光システム
１１  マーキング装置
１２Ａ〜１２Ｃ、１３Ａ〜１３Ｃ  露光装置
１４Ａ〜１４Ｃ、１５Ａ〜１５Ｃ  露光装置
３１  ステージ
３３  フォトマスク
５５  アライメントマーク
１００  ＣＦ基板
１０１  露光領域
２００  ＴＦＴ基板
２０１  対向基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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