(57)【要約】【課題】省スペース化が可能であり、光学系の設計に関して厳密な調整が不要な表示素子の提供。【解決手段】表示素子は、光反射性および透光性を有するハーフミラー層２と、ハーフミラー層２の一方面側２ｂに絶縁層３を介して重ね合わされた表示層４とを有する。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光反射性および透光性を有するハーフミラー層と、
前記ハーフミラー層の一方面側に絶縁層を介して重ね合わされた表示層とを有する表示素子。
【請求項２】
透光性を有する基板上に、前記ハーフミラー層が形成された請求項１に記載の表示素子。
【請求項３】
透光性を有する基板上に、前記表示層が形成された請求項１に記載の表示素子。
【請求項４】
前記ハーフミラー層は、５０％以上９０％以下の反射率を有する、請求項２または３に記載の表示素子。
【請求項５】
前記ハーフミラー層は、８０％以上の反射率を有する、請求項３に記載の表示素子。
【請求項６】
前記絶縁層は、０．３μｍ以上３０μｍ以下の膜厚を有する、請求項１に記載の表示素子。
【請求項７】
前記絶縁層は、１０１０Ωｃｍ以上の比抵抗値を有する、請求項１に記載の表示素子。
【請求項８】
前記表示層は、自発光型の表示層である、請求項１に記載の表示素子。
【請求項９】
前記表示層は、エレクトロルミネッセンス層を含む、請求項１に記載の表示素子。
【請求項１０】
前記表示層は、前記基板側から第１絶縁層／発光層／第２絶縁層の順で積層された構造を有するエレクトロルミネッセンス層を含み、前記発光層と前記第２絶縁層との界面における前記発光層の表面は、０．１μｍ以下の平滑性を有する、請求項３に記載の表示素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は表示素子に関する。詳細には、視覚的に鏡として認識しうる反射機能を有しつつ、表示機能を維持することが可能な表示素子に関する。本発明の表示素子は、例えば、車両の進行方向後方を写し出し、かつ情報表示も行うことができるルームミラーなどに使用することができる。
【０００２】
【従来の技術】
観察者側の風景と、時刻などの情報とを重ねて表示するための技術が種々開発されている。例えば、特許文献１には、後方視認用のハーフミラーが前面に設けられ、その裏側に情報表示用の発光表示体が設けられたルームミラーが開示されている。ハーフミラーの裏側に発光表示体を配置することで、ルームミラーに表示機能を付加している。
【０００３】
一方、薄型フラットディスプレイの中で自発光ディスプレイの一種である無機薄膜ＥＬディスプレイは、素子の構成材料を全て透光性のものにすることで、透光性のディスプレイとして機能することが知られている。したがって、無機ＥＬディスプレイは、背面を透かして視認できるので、背面側に風景を表示させるとともに、無機ＥＬディスプレイに情報を重畳表示させる技術が開発されている。
【０００４】
例えば特許文献２には、透光性のＥＬ表示パネルを利用した車載用の表示装置が開示されており、これにより、ＥＬ表示パネルによる表示と前方風景とを重畳させることができる。具体的には、撮像された車両の前方風景を液晶表示装置に表示し、あるいは反射鏡を介して前方からの外光を取り入れて、ＥＬ表示パネルの背面側に前方風景を表示させる。また、透光性のＥＬ表示パネルに、車速などの車両に関する情報を表示させる。これにより、背後の表示機能を妨げずに、車両に関する情報を前面に表示させることができる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平９−１７９０５９号公報
【０００６】
【特許文献２】
特開平９−２２０７６号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１に開示のルームミラーでは、ハーフミラーを通して表示させるので、ハーフミラー背後の発光表示体は、かなりの輝度を要することが考えられる。また、ハーフミラーと発光表示体との隙間を設けるために、ルームミラーの筐体そのものをより大きくする必要がある。
【０００８】
特許文献２に開示の車載用表示装置では、ＥＬ表示パネルと液晶表示装置または反射鏡とが、それぞれ独立しており、互いに一定の距離を隔てて設けられている。したがって、表示上のズレが必然的に発生するので、像を重ね合わせるために、光学系の設計に関して厳密な調整を要する。
【０００９】
本発明は、省スペース化が可能であり、光学系の設計に関して厳密な調整が不要な表示素子の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の表示素子は、光反射性および透光性を有するハーフミラー層と、前記ハーフミラー層の一方面側に、絶縁層を介して重ね合わされた表示層とを有する。ここで、「表示層」とは、光源からの光や外光（周囲光）の光透過率を変調させる層、または自発光型の層である。表示層は、典型的には、表示媒体層とこれを挟む一対の電極層とを有している。「表示媒体層」は、例えば液晶層、無機または有機ＥＬ層、発光ガス層、電気泳動層、エレクトロクロミック層などである。
【００１１】
本発明の表示素子は、透光性を有する基板上に、前記ハーフミラー層が形成されていても良い。この場合、前記ハーフミラー層は、５０％以上９０％以下の反射率を有することが好ましい。
【００１２】
また、本発明の表示素子は、透光性を有する基板上に、前記表示層が形成されていても良い。この場合、前記ハーフミラー層は、８０％以上の反射率を有することが好ましい。あるいは、前記ハーフミラー層は、５０％以上９０％以下の反射率を有することが好ましい。前記表示層は、前記基板側から第１絶縁層／発光層／第２絶縁層の順で積層された構造を有するエレクトロルミネッセンス層を含み、前記発光層と前記第２絶縁層との界面における前記発光層の表面は、０．１μｍ以下の平滑性を有することが好ましい。
【００１３】
本発明の表示素子は、前記絶縁層が、０．３μｍ以上３０μｍ以下の膜厚を有することが好ましい。また、前記絶縁層は、１０１０Ωｃｍ以上の比抵抗値を有することが好ましい。
【００１４】
本発明の表示素子によれば、一般に使用されている鏡に対して表示機能を付加することができる。例えば、ショーウインドのディスプレイなどでは、空間を広く見せるために、鏡を用いることがある。このような鏡に表示機能を付加することにより、装飾的効果を高めることができる。あるいは公共の場所に設置された姿見や化粧鏡に表示機能を付加して、姿見等を広告宣伝に利用することもできる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。以下の実施形態では、無機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示素子を例にして説明するが、本発明の表示素子は、有機ＥＬ表示素子、プラズマディスプレイパネル、真空蛍光表示素子、液晶表示素子などの各種表示装置にも適用できる。また、以下の実施形態では、表示層の駆動方式として、パッシブ（マルチプレックス）駆動方式を用いた場合について説明するが、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）などの三端子素子やＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ  Ｍｅｔａｌ）  などの二端子素子によるアクティブ駆動方式を用いても良い。
【００１６】
（実施形態１）
図１は、実施形態１の無機ＥＬ表示素子を模式的に示す断面図である。本実施形態の無機ＥＬ表示素子は、ホウケイ酸ガラスをはじめとする無アルカリガラス基板１と、基板１上に形成された金属薄膜２と、金属薄膜２を覆う絶縁層３と、絶縁層３上に形成された表示層４との積層構造を有する。図２は、走査型電子顕微鏡による積層構造部分の断面観察像である。
【００１７】
表示層４は、無機ＥＬ層５と、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電性材料からなり、無機ＥＬ層５を挟む一対の透明電極層６，７とを有する。一対の透明電極層６，７は、ストライプ状に形成された複数本の電極からそれぞれ構成され、一方の透明電極層が延びる方向に対して交差する方向に（典型的には直交する方向に）、他方の透明電極層が延びている。一対の透明電極層６，７が交差するそれぞれの領域が画素領域を規定する。言い換えれば、Ｘ−Ｙマトリックス状に配列された複数の画素領域が形成される。無機ＥＬ層５は、絶縁層５１／発光層５２／絶縁層５３の三層構造からなる。絶縁層５１，５３は、例えばＳｉ３  Ｎ４  などの窒化物、ＳｉＯ２  などの酸化物から形成される。発光層５２は、例えばＺｎＳ：Ｍｎ、ＭｇＳ：Ｍｎ、ＳｒＳ：Ｃｅなどから形成される。
【００１８】
金属薄膜２は、例えばモリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）  、ニッケル（Ｎｉ）などの高耐熱性金属を用いて形成することができる。本実施形態では、モリブデン系合金を用いる。金属薄膜２は、ハーフミラー層として機能させるべく、基板１側の面２ａの表面反射率が５０％以上９０％以下、好ましくは５０以上７０％以下となるように、膜厚を調整する。これにより、金属薄膜２は、表示層４側の面２ｂからの光を１０％以上５０％以下透過させる透過特性を有する。
【００１９】
本明細書において反射率とは、波長が４００ｎｍ〜８００ｎｍの光の反射率を言う。反射率は、例えば次の方法により測定することができる。ハロゲンランプを光源として用いて、入射角および反射角が４５°のときの反射光の受光量を測定する。光が略全反射する膜厚のアルミニウム膜での受光量を基準（反射率１００％）にする。受光素子として、フォトダイオードアレイを備えた分光器を用いる。
【００２０】
図３Ａは、金属薄膜２の膜厚と反射率との関係を波長の変化に従ってシュミレーションしたグラフであり、図３Ｂは、金属薄膜２の膜厚と透過率との関係を波長の変化に従ってシュミレーションしたグラフである。図３Ａおよび図３Ｂは、金属薄膜２としてモリブデン系合金を用いた場合のグラフである。図３Ａおよび図３Ｂに示すように、反射率と透過率とは相反する性質であり、トレードオフの関係にあることがわかる。また、金属薄膜２の膜厚が厚い程、反射率は高くなるが、透過率は低くなることがわかる。
【００２１】
図４は、本実施形態の表示素子における印加電圧（交流）と輝度（任意量）との関係を示すグラフであり、金属薄膜（モリブデン系合金膜）２の膜厚が異なるときの表示特性を比較して示すグラフである。図４に示すように、金属薄膜２の膜厚が厚いとき、反射率は高いが、透過率を損なうので、表示輝度は低下する。したがって、反射特性を重視するのか、あるいは透過特性を重視するのか、表示素子の用途に応じて、金属薄膜２の膜厚を調整すれば良い。
【００２２】
絶縁層３は、絶縁性薄膜から形成される。例えば、Ｓｉ３  Ｎ４  、ＡｌＮなどの窒化物、ＳｉＯ２  、Ｔａ２  Ｏ５  、Ａｌ２  Ｏ３  、Ｙ２  Ｏ３  、ＴｉＯ２  、ＢａＴｉＯ３  、ＢａＴａ２  Ｏ６  、ＳｒＴｉＯ３  などの酸化物から形成される。絶縁層３は、導電性である金属薄膜２と、高電圧が印加される無機ＥＬ層５との絶縁を十分に確保するために設けられる。絶縁性が不十分であると、表示素子の信頼性を低下させることになるからである。
【００２３】
但し、絶縁性を確保するために絶縁層３をいたずらに厚くすると、ハーフミラー層である金属薄膜２と表示層４との物理的な距離が長くなるので、表示上のズレを生じることとなる。絶縁性を十分確保するとともに、表示上のズレを防止するには、絶縁層３の膜厚は、０．３μｍ以上３０μｍ以下、さらに０．５μｍ以上１０μｍ以下が望ましい。また、絶縁性を確保する観点から、絶縁層３は、１０１０Ωｃｍ以上、さらには１０１２Ωｃｍ以上の比抵抗値を有していることが望ましい。絶縁層３の比抵抗値を１０１０Ωｃｍ以上に設定することによって、安定した素子駆動を実現することができる。言い換えれば、従来の無機ＥＬ素子と遜色のない信頼性を確保することができる。
【００２４】
絶縁層３の絶縁性および膜厚を制御することで、高電圧で駆動する無機ＥＬ層５に対しても、長期の信頼性を確保することができる。また、ハーフミラー層（金属薄膜２）と表示層４とが近接するので、表示上のズレを解消し、視認性に優れた表示機能付加型の鏡、言い換えれば鏡機能付加型の表示素子が実現できる。
【００２５】
本実施形態の無機ＥＬ表示素子は、無機ＥＬ層５を湿気から保護するために、表示層４を覆う掘り込み型のシールガラス８を有する。また、シールガラス８と表示層４との間隙には、絶縁性オイル９が充填されている。
【００２６】
本実施形態の無機ＥＬ表示素子によれば、観察者側（基板１側）から表示素子に入射される周囲光がハーフミラー層（金属薄膜２）により反射されるので、観察者側の風景や物体が写し出される。また、表示層４に各種の情報を表示させた場合、表示層４からの光がハーフミラー層（金属薄膜２）を透過するので、表示層４に表示された映像を観察者側から視認することができる。ハーフミラー層（金属薄膜２）と表示層４とは、絶縁層を介して重ね合わされているので、省スペース化が可能であり、光学系の設計に関して厳密な調整が不要である。したがって、各種の機器設計への適用が平易なものとなり、光学的性能の向上を実現することができる。
【００２７】
本実施形態の無機ＥＬ表示素子を製造する工程について説明する。ガラス基板１の上に、薄膜形成技術を用いて、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）  、ニッケル（Ｎｉ）などの高耐熱性金属からなる金属薄膜２を成膜する。薄膜形成技術としては、電子ビーム蒸着や高周波スパッタなどが挙げられる。この際に、ハーフミラーとして機能させるべく、金属薄膜２の表面反射率が５０％以上９０％以下となるように、膜厚を調整する。金属薄膜２は、マスク成膜技術や薄膜形成後に行うフォトリソ技術を用いることで、所望のエリアまたは所望のパターンに選択的に形成することも可能である。
【００２８】
金属薄膜２の上に、絶縁層３としてＳｉ３  Ｎ４  やＳｉＯ２  などの絶縁性薄膜を０．３μｍ以上３０μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下の膜厚で成膜する。絶縁層３は、高周波スパッタ、化学気相成長法（ＣＶＤ  ）または各種の塗布技術や印刷技術などの薄膜形成技術により成膜することができる。
【００２９】
絶縁層３の上に、表示層４として無機ＥＬ素子を形成する。まず、絶縁層３の上にＩＴＯなどの透明な導電膜を成膜した後、ストライプ状にパターン化して、透明電極層７を形成する。次に、絶縁層５１／発光層５２／絶縁層５３の三層構造からなる無機ＥＬ層５を形成する。無機ＥＬ層５の上にＩＴＯなどの透明な導電膜を成膜する。ストライプ状の透明電極層７が延びる方向に対して直交する方向に延びるように、導電膜をパターン化して、透明電極層６を形成する。これにより、無機ＥＬ層５は、互いに直交する一対の透明電極層６，７により挟み込まれる。一対の透明電極層６，７が直交する領域は、Ｘ−Ｙマトリックス状に配列された複数の画素領域を形成する。したがって、一対の透明電極層６，７に印加される電圧を制御することで、Ｘ−Ｙマトリックス状に配列された画素毎に、発光層５２からの表示光を制御することができる。
【００３０】
掘り込み型のシールガラス８により表示層４を覆う。シールガラス８に形成された注入口８ａから絶縁性オイル９を注入して、シールガラス８と表示層４との間隙に、絶縁性オイル９を充填する。注入口８ａをシール材１０で覆い、本実施形態の無機ＥＬ表示素子を作成する。
【００３１】
（実施形態２）
実施形態１の無機ＥＬ表示素子は、一対の電極層６，７が透明である。したがって、発光層５２からの光は、観察者側（基板１側）に対して反対側の透明電極層６を透過して、外部に漏れるので、発光の利用効率が低い。
【００３２】
本実施形態では、観察者側（基板１側）に対して反対側の透明電極層６、言い換えれば金属薄膜２からより遠く配置された電極層６に反射特性を付与する。例えば、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）などの反射率の高い導電性材料を用いて電極層６を形成する。電極層６の膜厚は、反射率が８０％以上となるように調整する。
【００３３】
図５は、電極６が透光性を有する透明電極の場合と、反射特性を有する反射電極の場合との比較を示すグラフであり、それぞれの表示素子における印加電圧（交流）と輝度（任意量）との関係を示している。なお、金属薄膜（モリブデン系合金膜）２の膜厚は２５ｎｍとし、反射電極は膜厚５００ｎｍのアルミニウム膜を用いた。
【００３４】
図５に示すように、反射電極を用いた場合、透明電極の場合に比して、表示輝度がおよそ２．５倍〜３倍に高められる。このように、背面側（観察者側に対して反対側）の電極６を反射率の高い導電性材料で構成すると、無機ＥＬ素子からの発光をより効率的に、外部に漏らさずに利用できる。したがって、背面側の電極６を透明な材料で構成するよりも、反射率の高い導電性材料で構成する方が発光の利用効率の点で有効である。
【００３５】
（実施形態３）
実施形態１および２では、基板１と表示層４との間に、言い換えれば表示層４よりも観察者側に、ハーフミラー層（金属薄膜２）が設けられている。しかし、本発明の表示素子は、表示層４上に絶縁層３を介してハーフミラー層（金属薄膜２）が設けられていても良い。
【００３６】
図６は、実施形態３の無機ＥＬ表示素子を模式的に示す断面図である。なお、以下の図面においては、実施形態１で示した無機ＥＬ表示素子の構成要素と実質的に同じ機能を有する構成要素を同じ参照符号で示し、その説明を省略する。
【００３７】
本実施形態の無機ＥＬ表示素子は、ホウケイ酸ガラスをはじめとする無アルカリガラス基板１と、基板１上に形成された表示層４と、表示層４を覆う絶縁層３と、絶縁層３上に形成された金属薄膜２との積層構造を有する。絶縁層３の膜厚は、実施形態１の表示素子と同様に、０．３μｍ以上３０μｍ以下、さらに０．５μｍ以上１０μｍ以下が望ましい。さらに、絶縁性を確保する観点から、絶縁層３は、１０１０Ωｃｍ以上の比抵抗値を有していることが望ましい。金属薄膜２の膜厚は、表示層４からの発光が素子外へできる限り洩れないように、例えば反射率が８０％以上、好ましくは９０％以上になるように、調整する。
【００３８】
本実施形態の無機ＥＬ表示素子は、基板１上に表示層４をまず形成した後に、絶縁層３および金属薄膜２を順次形成して、作成される。ここで、発光層５２の形成には、電子ビーム蒸着等の成膜速度の速い手段をとることが多いので、発光層５２の表面は、他の層に比べて平滑性が悪い。このため、発光層５２の膜面にマイクロオーダーサイズの凹凸が生じる。発光層５２の表面に凹凸が生じると、基板１側から入射した周囲光が発光層５２の表面で散乱して、表面が白濁する。表面が凹凸の表示層４上に、絶縁層３を介してハーフミラー層（金属薄膜２）を設けても、金属薄膜２の反射率はかなり低下するので、金属薄膜２は、鏡としての機能をもはや発揮することができなくなるおそれがある。
【００３９】
したがって、発光層５２の表面凹凸による影響を回避するために、発光層５２の表面を平坦化することが望ましい。平坦化方法としては、成膜方法の変更や各種パラメータの変更などの成膜方法の最適化、レーザー照射によるアブレーション、ＣＭＰ（化学機械的研磨）、機械研磨などが挙げられる。
【００４０】
図７Ａは、レーザー照射による表面改質処理前における発光層５２の表面を走査型電子顕微鏡で斜め方向から観察した観察像である。図７Ａに示すように、表面処理を施さないと、表面の微小な凹凸によって周囲光が散乱して、表面が白濁する。したがって、ハーフミラー層による反射が阻害されるおそれがある。
【００４１】
図７Ｂは、レーザー照射による表面改質処理後における発光層５２の表面を走査型電子顕微鏡で斜め方向から観察した観察像である。図７Ｂに示すように、表面処理を施すことによって、発光層５２の最表面が滑らかに平坦化される。したがって、基板１側から入射した周囲光が発光層５２の表面で散乱せず、ハーフミラー層の反射率が改善される。
【００４２】
レーザー照射による表面改質処理は、発光層５２のごく表層、例えば発光層５２の膜厚の２０％以上３０％以下程度をアブレーションすることにより行う。好ましくは、発光層５２と絶縁層５１との界面における発光層５２の表面の平滑性をＲａ＝０．１μｍ以下に制御する。
【００４３】
（実施形態４）
実施形態１〜３では、観察者が基板１側から観察する表示素子について説明したが、本発明の表示素子は、観察者がシールガラス８側から観察する表示素子にも適用することができる。
【００４４】
図８は、実施形態４の無機ＥＬ表示素子を模式的に示す断面図である。本実施形態の表示素子は、ハーフミラー層（金属薄膜２）の反射率が実施形態３の表示素子と異なる。具体的には、金属薄膜２は、ハーフミラー層として機能させるべく、表面反射率を５０％以上９０％以下、好ましくは５０％以上７０％以下に設定する。これにより、観察者側（シールガラス８側）から表示素子に入射される周囲光がハーフミラー層（金属薄膜２）により反射されるので、観察者側の風景や物体が写し出される。また、表示層４に各種の情報を表示させた場合、表示層４からの光がハーフミラー層（金属薄膜２）を透過するので、表示層４に表示された映像を観察者側から視認することができる。
【００４５】
実施形態３および４に示すように、反射機能を有する金属薄膜２を素子の上に配置することでも、反射機能を有する無機ＥＬ表示素子を実現することができる。また、金属薄膜２の反射率を変更することで、言い換えれば金属薄膜２をミラーとして機能させるか、あるいはハーフミラーとして機能させるかによって、その利用の仕方、例えば表示素子のどちら側から観察するのかが異なる。
【００４６】
実施形態１〜４では、自発光型の表示層として無機ＥＬを用いた事例を中心に述べたが、無機ＥＬにとどまらず、有機ＥＬなど他の自発光型の表示層を本発明の表示素子に適用することが可能である。
【００４７】
（比較例）
図９は、比較例の鏡機能付加型の無機ＥＬ表示装置を模式的に示す断面図である。この無機ＥＬ表示装置は、無機ＥＬ表示素子２０と、表示素子２０に対向して配置された反射部材３０とを有する。無機ＥＬ表示素子２０は、無アルカリガラス基板１と、基板１上に形成され、透明電極層６／無機ＥＬ層５／透明電極層７の積層構造を有する表示層４と、表示層４を覆う掘り込み型のシールガラス８と、シールガラス８および表示層４の間隙に充填された絶縁性オイル９とを有する。また、反射部材３０は、基板３１の対向面側に形成された反射層（ミラー層）１２を有する。
【００４８】
本比較例の無機ＥＬ表示装置によれば、観察者側（基板１側）から表示素子２０を透過して入射される周囲光がミラー層１２により反射されるので、観察者側の風景や物体が写し出される。表示層４に各種の情報を表示させることによって、表示層４に表示された情報とミラー層１２により反射された風景等とを重畳して観察することができる。
【００４９】
しかし、本比較例の無機ＥＬ表示装置は、表示素子２０と反射部材３０とがそれぞれ独立しており、互いに一定の距離を隔てて設けられている。したがって、表示上のズレが必然的に発生するので、像を重ね合わせるために、光学系の設計に関して厳密な調整を要する。
【００５０】
【発明の効果】
本発明の表示素子によれば、省スペース化が可能であり、光学系の設計に関して厳密な調整が不要となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態１の無機ＥＬ表示素子を模式的に示す断面図である。
【図２】走査型電子顕微鏡による積層構造部分の断面観察像である。
【図３Ａ】金属薄膜２の膜厚と反射率との関係を波長の変化に従ってシュミレーションしたグラフである。
【図３Ｂ】金属薄膜２の膜厚と透過率との関係を波長の変化に従ってシュミレーションしたグラフである。
【図４】実施形態１の表示素子における印加電圧（交流）と輝度（任意量）との関係を示すグラフである。
【図５】透明電極と反射電極との比較を示すグラフである。
【図６】実施形態３の無機ＥＬ表示素子を模式的に示す断面図である。
【図７Ａ】レーザー照射による表面改質処理前における発光層５２の表面を走査型電子顕微鏡で斜め方向から観察した観察像である。
【図７Ｂ】レーザー照射による表面改質処理後における発光層５２の表面を走査型電子顕微鏡で斜め方向から観察した観察像である。
【図８】実施形態４の無機ＥＬ表示素子を模式的に示す断面図である。
【図９】比較例の鏡機能付加型の無機ＥＬ表示装置を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
１    ガラス基板
２  金属薄膜
３  絶縁層
４  表示層
５  無機ＥＬ層
６，７  透明電極層
８  シールガラス
９  絶縁性オイル
１０  シール材
５１，５３  絶縁層
５２  発光層
【図１】
2004294647.tif 000003
【図２】
2004294647.tif 000004
【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
2004294647.tif 000006
【図４】
2004294647.tif 000007
【図５】
2004294647.tif 000008
【図６】
2004294647.tif 000009
【図７Ａ】
2004294647.tif 000010
【図７Ｂ】
2004294647.tif 000011
【図８】
2004294647.tif 000012
【図９】
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