(57)【要約】【目的】真空処理方法の作業性を改善することにより作業に要する時間を短縮し、生産性が高い真空処理方法及び真空処理装置を提供すること。【構成】反応容器設置台に複数の減圧可能な反応容器を設置し、該複数の反応容器内を排気した後に、該複数の反応容器内に収容された基体に真空処理を行う真空処理方法において、前記複数の反応容器を前記反応容器設置台に取り付ける際及び／又は前記反応容器設置台から取り外す際に、前記複数の反応容器の少なくとも一部を連結して一体化して取り付け及び／又は取り外しを行う。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応容器設置台に複数の減圧可能な反応容器を設置し、該複数の反応容器内を排気した後に、該複数の反応容器内に収容された基体に真空処理を行う真空処理方法において、
前記複数の反応容器を前記反応容器設置台に取り付ける際及び／又は前記反応容器設置台から取り外す際に、前記複数の反応容器の少なくとも一部を連結して一体化して取り付け及び／又は取り外しすることを特徴とする真空処理方法。
【請求項２】
前記一体化した複数の反応容器が移動手段を備え、前記反応容器設置台に取り付け及び／又は取り外す際に該移動手段により該一体化した複数の反応容器を移動することを特徴とする請求項１記載の真空処理方法。
【請求項３】
前記一体化した複数の反応容器を前記反応容器設置台に取り付けてから、該反応容器に付属品を取り付けることを特徴とする請求項１又は２記載の真空処理方法。
【請求項４】
前記反応容器に取付けられている付属品を取り外してから前記一体化した複数の反応容器を前記反応容器設置台から取り外すことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の真空処理方法。
【請求項５】
前記反応容器に取り付ける付属品を予め該反応容器を一体化するための連結機構に取り付けた状態で、該一体化した複数の反応容器を前記反応容器設置台に取り付け及び／又は取り外しすることを特徴とする請求項１又は２記載の真空処理方法。
【請求項６】
前記一体化した複数の反応容器を前記反応容器設置台に取り付けてから、該反応容器の連結を解除して真空処理を行い、真空処理が終了後に該反応容器を連結することを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の真空処理方法。
【請求項７】
反応容器設置台に複数の減圧可能な反応容器を設置し、該複数の反応容器内を排気した後に、該複数の反応容器内に収容された基体に真空処理を行う真空処理装置において、
前記複数の反応容器を前記反応容器設置台に取り付ける際及び／又は前記反応容器設置台から取り外す際に、前記複数の反応容器の少なくとも一部を連結して一体化して取り付け及び／又は取り外しを行うことが可能な真空処理装置。
【請求項８】
前記一体化した複数の反応容器が移動手段を備えることを特徴とする請求項７記載の真空処理装置。
【請求項９】
前記反応容器に取り付ける付属品を予め該反応容器を一体化するための連結機構に取り付けた構成であることを特徴とする請求項７又は８記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、生産性に優れた真空処理方法及び真空処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造等で使用されている真空処理にはそれぞれの用途に応じてＣＶＤ法、スパッタ法、蒸着法等の様々な方法があり、これらの真空処理方法を用いた量産に適した装置が各種提案されている。
【０００３】
例えば、従来のプラズマＣＶＤ法を用いてアモルファスシリコン系の半導体膜等を量産する装置としては、複数個の反応室を設けることにより量産性を高める真空処理装置が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
又、同様の複数個の反応室を設け各反応室内の基板を支える支柱を可動台を介して昇降する成膜装置が開示されている（例えば、特許文献２参照）。反応容器内で堆積膜を形成した後に、反応容器と排気部を切離して個別に副生成物を除去するクリーニング方法が開示されている（例えば、特許文献３参照）。反応容器と排気手段を切離した後に反応容器のメンテナンスを実施する堆積膜形成方法が開示されている（例えば、特許文献４参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開昭５９−２１５４７５号公報
【０００６】
【特許文献２】
特公平６−１１９１４号公報
【０００７】
【特許文献３】
特開平１０−１６８５７４号公報
【０００８】
【特許文献４】
特開平１０−１６８５７６号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
近年は真空処理により製造されるデバイスの種類及び数量が年々増加しており、多品種のデバイスを従来以上に生産性良く製造可能な真空処理方法が求められている。
【００１０】
そのためには、複数個の反応容器を用いる方法や、反応容器を排気装置等から切離して反応容器をメンテナンスする方法等により生産性を高める工夫がなされてきた。
【００１１】
本発明者は、従来の真空処理方法又は真空処理装置を用いることによる生産性向上の検討を行った結果、作業性を改善する工夫を施すことにより、作業時間を更に短縮することが可能となってタクトタイムが短縮され、省力化が図られ、更には良品率（又は直行率）の向上等が可能となる余地があることを見出した。
【００１２】
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、その目的とする処は、作業性を改善して生産性の向上を図ることができる真空処理方法及び真空処理装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するために真空処理方法及び真空処理装置を以下のように構成したものである。
【００１４】
即ち、本発明の真空処理方法は、反応容器設置台に複数の減圧可能な反応容器を設置し、該複数の反応容器内を排気した後に、該複数の反応容器内に収容された基体に真空処理を行う真空処理方法において、前記複数の反応容器を前記反応容器設置台に取り付ける際及び／又は前記反応容器設置台から取り外す際に、前記複数の反応容器の少なくとも一部を連結して一体化して取り付け及び／又は取り外しすることを特徴としている。
【００１５】
そして、本発明においては、前記一体化した複数の反応容器が移動手段を備え、前記反応容器設置台に取り付け及び／又は取り外す際に該移動手段により該一体化した複数の反応容器を移動することができる。
【００１６】
又、本発明においては、前記一体化した複数の反応容器を取り付けてから、該反応容器に付属品を取り付けることもでき、予め前記反応容器に取り付けられている付属品を取り外してから前記一体化した複数の反応容器を取り外すことができる。
【００１７】
又、前記反応容器に取り付ける付属品を予め該反応容器を一体化するための連結機構に取り付けた状態で、該一体化した複数の反応容器を前記反応容器設置台に取り付け及び／又は取り外しを行うこともできる。
【００１８】
又、前記一体化した複数の反応容器を取り付けてから、該反応容器の連結を解除して真空処理を行い、真空処理が終了後に該反応容器を連結することもできる。
【００１９】
更に、本発明の真空処理装置は、反応容器設置台に複数の減圧可能な反応容器を設置し、該複数の反応容器内を排気した後に、該複数の反応容器内に収容された基体に真空処理を行う真空処理装置において、前記複数の反応容器を前記反応容器設置台に取り付ける際及び／又は前記反応容器設置台から取り外す際に、前記複数の反応容器の少なくとも一部を連結して一体化して取り付け及び／又は取り外しを行うことが可能であることを特徴としている。
【００２０】
従って、本発明においては、前記一体化した複数の反応容器が移動手段を備えることができる。更に、前記反応容器に取り付ける付属品を予め該反応容器を一体化するための連結機構に取り付けた構成とすることもできる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明者は、生産性を向上させる真空処理方法として、複数の反応容器を用い、反応容器内で真空処理を行った後に、反応容器を排気装置等から成る反応容器設置台から取り外して、該反応容器をメンテナンスする方法の検討を進めた結果、反応容器を反応容器設置台に取り付け及び／又は取り外す作業の工程を改善することにより、生産性を大幅に改善することが可能になることを見出し本発明に至った。
【００２２】
即ち、反応容器は真空を確実に維持し、内部で高品質な真空処理を安定して行う必要があるために取り扱いに注意を要する。例えば、反応容器設置台に取り付け及び／又は取り外す際に、反応容器と反応容器設置台が接触する面、つまりは真空シール面に傷が発生して真空を維持することが困難になったり、反応容器内面に傷がついて微細なダスト等の発生原因とならないように、取り付け及び／又は取り外しの作業は慎重に行う必要があり、作業時間が増加したり、作業に必要な人員が増加する要因となる。
【００２３】
又、一般的には真空処理装置の周囲には各種の付帯設備が存在し、更には該付帯設備と真空処理装置とを接続する配管やケーブル等が存在するために、反応容器を扱う作業の妨げとなる場合がある。
【００２４】
更に、反応容器を複数備える場合は、単純に反応容器の数の分だけ作業時間が増加するだけでなく、反応容器が複数存在することにより作業空間が狭まるために作業がしにくくなり、作業時間が大幅に増加してしまう。
【００２５】
そこで、本発明においては、複数の反応容器を連結して反応容器設置台に取り付け及び／又は取り外すことにより、反応容器を反応容器設置台に取り付け及び／又は取り外す作業工数を大幅に削減したり、作業性を改善することにより、取付け及び／又は取り外し時間の短縮や良品率（又は直行率）の向上を図ることができる。
【００２６】
以下、本実施の形態を図面を用いて更に詳細に説明する。
【００２７】
図２は本発明の一実施形態の真空処理装置の模式図であって、図２（ａ）は平面断面、図２（ｂ）は側断面をそれぞれ示している。
【００２８】
図２において、２０２は高周波電極を兼ねる反応容器であり、反応容器設置台２１３上に設置され、排気配管２０３を介して排気装置２０４に、ガス供給配管２０６を介してガス供給装置２０５に接続されている。反応容器２０２内には基体２０１が設置されている。
【００２９】
真空処理に用いるガスは、ボンベ、圧力調整器、マスフローコントローラー、バルブ等により構成されるガス供給装置２０５からガス供給管２０６を介して反応容器２０２内に供給され、排気配管２０３を介して排気装置２０４により排気される。高周波電極を兼ねる反応容器２０２は、マッチングボックス２０７を介して不図示の電源ケーブルにより高周波電源２０８と接続されており、導電部材から成るシールド２０９により覆われている。又、不図示の真空処理制御装置によりガス供給装置２０５、排気装置２０４及び高周波電源２０８等を制御して真空処理がなされる。
【００３０】
一般的な堆積膜の形成方法を図２に基づいて詳細に説明する。
【００３１】
反応容器２０２内に基体２０１を設置後、排気装置２０４により反応容器２０２内を真空にし、その後基体２０１を不図示の加熱ヒーターにより所望の温度に加熱し、ガス供給装置２０５から原料ガスを供給し、高周波電源２０８より高周波電力を供給し、高周波電極を兼ねる反応容器２０２と基体２０１との間に高周波電力を印加することによって反応容器２０２内にグロー放電を発生させ、反応容器２０２内の原料ガスを分解して基体２０１上に堆積膜を形成する。
【００３２】
このような減圧ＣＶＤ法による堆積膜形成装置においては、堆積膜形成後の反応容器２０２内部等には例えばポリシラン等の副生成物が堆積しており、堆積膜形成後にこれらの副生成物を除去する必要がある。これら副生成物を除去する方法としては、ドライエッチング処理、ウェットエッチング処理、サンドブラスト処理等が一般的に好適な例として挙げられる。
【００３３】
次に、本実施の形態における反応容器の反応容器設置台への取り付け及び／又は取り外し方法を説明する。
【００３４】
図１は本発明の一実施形態の真空処理装置の模式図であって、図１（ａ）は平面断面、図１（ｂ）は側断面をそれぞれ示している。
【００３５】
図１において、１０２は高周波電極を兼ねる反応容器であり、１１０は不図示の基体を加熱する加熱ヒーターである。１１１は各々の高周波電極を兼ねる反応容器１０２を連結して一体化するための連結器であり、吊り上げ装置１１２により吊り上げて移動することができる。
【００３６】
図３は本発明の一実施形態の真空処理方法を説明する模式図である。先ず、反応容器を反応容器設置台に取り付ける操作について説明する。
【００３７】
図３（ａ）に示すように、反応容器置き台３１５に反応容器３０２を並べ、次に各々の反応容器３０２を連結器３１１に接続して一体化し、該連結器３１１を吊り上げ装置３１２に接続する。
【００３８】
次に、図３（ｂ）に示すように、一体化した反応容器３０２と連結器３１１を吊り上げ装置３１２により吊り上げてレール３１６に沿って反応容器設置台３１３上の定位置まで移動する。
【００３９】
次に、図３（ｃ）に示すように、一体化した反応容器３０２と連結器３１１を吊り上げ装置３１２により反応容器設置台３１３上に設置する。
【００４０】
次に、図３（ｄ）に示すように、各々の反応容器３０２から連結器３１１を取り外し、連結器３１１及び吊り上げ装置３１２を真空処理操作の邪魔にならない位置へ移動し、その後、図２に示すように、反応容器２０２内へ基体２０１を設置した後に反応容器２０２に蓋２１４を取り付け、排気装置２０４により反応装置２０２内を減圧し、又、反応容器２０２の周囲にシールド２０９を設置し、反応容器２０２とマッチングボックス２０７を接続する等の操作の後に真空処理を行う。
【００４１】
次に、反応容器を反応容器設置台から取り外す操作について説明する。
【００４２】
図２において、真空処理を終了後、必要に応じてガス供給装置２０５よりパージガス、例えばＡｒ、Ｈｅ、窒素ガス等を反応容器２０２内に導入し排気装置２０４により排気するパージ操作を行い、シールド２０９を取り外し、反応容器２０２内にガス供給装置２０５からベント用のガス、例えば窒素ガスを反応容器２０２内に供給し、反応容器２０２内が大気圧になったところで蓋２１４を外して、反応容器２０２内より基体２０１を取り出す。
【００４３】
次に、図３（ｃ）に示すように、連結器３１１及び吊り上げ装置３１２を反応容器設置台３１３上の定位置に移動し、各々の反応容器３０２を連結器３１１に接続して一体化し、吊り上げ装置３１２に接続する。
【００４４】
次に、図３（ｂ）に示すように、一体化した反応容器３０２と連結器３１１を吊り上げ装置３１２により吊り上げてレール３１６に沿って反応容器置き台３１５上の定位置まで移動し、図３（ａ）に示すように、連結器３１１により一体化された反応容器３０２を反応容器置き台３１５上に設置する。
【００４５】
この結果、反応容器３０２を反応容器設置台３１３に個々に取り付け及び／又は取り外すよりは、一体化して一括して取り付け及び／又は取り外す方が作業時間が短縮されることになり、真空処理全体に要するタクトタイムを短縮することが可能となる。特に、反応容器３０２を反応容器設置台３１３上に設置する作業や持ち上げる作業は、反応容器３０２が真空処理用の容器であることから真空シール面や内壁面に傷を付けないように慎重に取り扱う必要があるため、個々に設置及び／又は持ち上げる作業を行うよりは、一括して作業を行った方が慎重に実施する必要がある作業回数が減り、作業者への負担量が大幅に減少する。
【００４６】
又、作業者が取り付け及び／取り外し工程に拘束される時間が短くなるので、その他の工程を行う時間を余分に取ることが可能となり、真空処理工程全体の作業効率が高まる。特に、連結器１１１のような一体化する機構及び／又は吊り上げ装置１１２のような一体化した反応容器を移動する機構に、反応容器を正確な位置に設置する機構を付加することにより、より安全に確実に取り付けを実施することが可能となり、真空リーク等のトラブルの発生を抑止させることが可能になるので、良品率（又は直行率）や生産性を向上させることが可能となる。
【００４７】
各々の反応容器１０２に同様な機構を設けるにはコストが多く掛かり、又、スペース等の制限により十分な機能を有する機構を設け難い等のデメリットがあり、本発明の一体化した反応容器にこのような機構を設ける方がコストや精度の高い機構を設けることが可能な点で優れている。
【００４８】
又、一体化する機構自体に移動機構を組み込むことにより、取り付け及び／取り外し作業の前後に反応容器を移動させる際の作業性を上げることが可能となり、好ましい方法である。
【００４９】
尚、連結器のような一体化する機構を反応容器に取り付けて固定するには、ボルトやファスナ等を用いる方法を反応容器や連結機構の仕様に応じて適宜選択することができる。
【００５０】
又、一体化した反応容器を水平方向に移動させて反応容器設置台に取り付け及び／取り外しを行うような真空処理装置の構成にした場合は、一体化した反応容器の吊り上げ機構が不要となり、一体化した反応容器を水平方向にのみ移動可能な機構を設けるだけで済むので、作業性が向上し吊り上げ機構が不要となってコスト削減にもなり、好ましい形態の１つとして挙げることができる。
【００５１】
又、反応容器を一体化するための連結機構は反応容器を反応容器設置台から取り付け及び／又は取り外す時のみに使用する必要があるので、取り付け前及び／又は取り外し後は該連結機構を外して、各々の反応容器を分離して作業することができることは言うまでもない。
【００５２】
更に、真空処理装置の構成によっては、全部の反応容器を連結するのではなく、各々の反応容器を幾つかの集団に分けて連結して一体化して操作しても良い。
【００５３】
［実施例］
以下に、実施例によって本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらにより何ら制限されるものではない。
【００５４】
［実施例１−１］
図１に示した成膜装置において、反応容器１０２を連結器１１１により連結して一体化し吊り上げ装置１１２を用いて一体化した反応容器１０２を反応容器設置台１１３に取り付け、次に連結器１１１を外した。その後、図２に示すマッチングボックス２０７を各反応容器２０２に連結し、各反応容器２０２内にアルミニウム製の円筒状基体２０１を設置して蓋２１４を取り付けた後に、各反応容器２０２内を排気装置２０４により排気して、各円筒状基体２０１上にａ−Ｓｉ膜を表１に示す成膜条件に従って成膜して電子写真用光受容部材を作製した。
【００５５】
電子写真用光受容部材作成後、各円筒状基体２０１を冷却してから反応容器内２０２に窒素ガスを供給して大気圧に戻し、蓋２１４を開けて反応容器２０２から基体２０１を取り出した。その後、マッチングボックス２０７を取り外し、連結器１１１を反応容器１０２に取付けて一体化し、吊り上げ機構１１２により一体化した反応容器１０２を反応容器設置台１１３から取り外した。
【００５６】
［実施例１−２］
反応容器１０２を連結しないで個別に反応容器設置台１１３に取り付け、その後は実施例１−１と同様に電子写真用光受容部材を作製し、実施例１−１と同様に反応容器１０２を連結して一体化して反応容器設置台１１３から取り外した。
【００５７】
［実施例１−３］
実施例１−１と同様に連結器１１１により一体化した反応容器１０２を反応容器設置台１１３に取り付けた後、実施例１−１と同様に電子写真用光受容部材を作製し、マッチングボックス２０７を取り外した後に、反応容器１０２を連結しないで個別に各反応容器１０２を反応容器設置台１１３から取り外した。
【００５８】
＜比較例１＞
反応容器１０２を連結しないで個別に反応容器設置台１１３に取り付け、その後は実施例１−１と同様に電子写真用光受容部材を作製し、マッチングボックス２０７を取り外した後に、反応容器１０２を連結しないで個別に各反応容器１０２を反応容器設置台１１３から取り外した。
【００５９】
実施例１及び比較例１で行った真空処理方法について、全工程の中で、反応容器１０２を反応容器設置台１１３に取り付ける工程及び反応容器１０２を反応容器設置台１１３から取り外す工程に掛かる時間を評価したところ、比較例１に対して実施例１−１は０．３倍、実施例１−２は０．５倍、実施例１−３は０．８倍と短縮され、反応容器を連結することによる生産性向上の効果が確認された。
【００６０】
又、作製した電子写真用光受容部材を電子写真装置（キヤノン社製の製品名：ｉＲ５０００を実験用に改造したもの）にセットして、キヤノン製ＴＥＳＴ    ＳＨＥＥＴ    ＮＡ−７（Ａ）（部品番号：ＦＹ９−９０６０Ａ−０１０）、キヤノン製Ｇ−ＴＥＳＴ    ＳＨＥＥＴ−Ａ（部品番号：ＴＫＮ−０２９３）及びキヤノン製Ｇ−ＴＥＳＴ    ＳＨＥＥＴ−Ｃ（部品番号：ＦＹ９−９０４２−０２０）を用いて、コピーしたときに得られたコピー画像の画質を評価したところ、実施例１と比較例１の電子写真用光受容部材で同等の画質であり本発明の方法を用いても電子写真用光受容部材の特性を損なうことがないことが確認された。
【００６１】
以上の結果より、本発明によれば、反応容器の取り付け及び／又は取り外し作業の時間が大幅に短縮され、生産性に優れた真空処理方法であることが判明した。
【００６２】
【表１】
2004353050.tif 000003
［実施例２］
図４に示した成膜装置において、各反応容器４０２を３個、２個、３個にグループ分けし、各々のグループ毎に連結器４１１により連結して一体化し、不図示の吊り上げ装置を用いて該一体化した各々の反応容器４０２グループを反応容器設置台４１３に取り付け、その後は実施例１−１と同様に電子写真用光受容部材を作製し、その後、取り付け時と同様に該反応容器４０２をグループ分けして連結して反応容器設置台４１３から取り外した。
【００６３】
実施例２で行った真空処理方法について、実施例１と同様に反応容器を反応容器設置台に取り付ける工程及び取り外す工程に掛かる時間を評価したところ、比較例１に対して実施例２は０．５倍と短縮され、反応容器を連結することによる生産性向上の効果が確認された。
【００６４】
又、作製した電子写真用光受容部材を実施例１と同様にコピー画像の画質を評価したところ、比較例１と同等の画質であり、本発明の方法を用いても電子写真用光受容部材の特性を損なうことがないことが確認された。
【００６５】
以上の結果より、本発明によれば、反応容器の取り付け及び／又は取り外し作業の時間が大幅に短縮され、生産性に優れた真空処理方法であることが判明した。
【００６６】
［実施例３］
図５（ａ）の正面断面、図５（ｂ）の側断面に示した成膜装置において、各反応容器５０２は横置きで連結器５１１により連結して一体化して反応容器台５１７上に設置し、反応容器台５１７の車輪５１８により一体化した反応容器５０２を移動して反応容器設置台５１３に取り付けた後、各反応容器５０２を一体化した状態のままで実施例１−１と同様に電子写真用光受容部材を作製し、その後、反応容器台５１７の車輪５１８により一体化した反応容器５０２を反応容器設置台５１３から取り外した。
【００６７】
＜比較例２＞
反応容器５０２を連結しないで個別に反応容器設置台５１３に取り付け、その後は実施例３と同様に電子写真用光受容部材を作製し、その後、反応容器５０２を連結しないで個別に各反応容器５０２を反応容器設置台５１３から取り外した。
【００６８】
実施例３及び比較例２で行った真空処理方法について、実施例１と同様に反応容器を反応容器設置台へ取り付ける工程及び取り外す工程に掛かる時間を評価したところ、比較例２に対して実施例３は０．８倍と短縮され、反応容器を連結することによる生産性向上の効果が確認された。
【００６９】
又、作製した電子写真用光受容部材を実施例１と同様にコピー画像の画質を評価したところ、実施例３と比較例２の電子写真用光受容部材は同等の画質であり、本発明の方法を用いても電子写真用光受容部材の特性を損なうことがないことが確認された。
【００７０】
以上の結果より、本発明によれば、反応容器の取り付け及び／又は取り外し作業の時間が大幅に短縮され、生産性に優れた真空処理方法であることが判明した。
【００７１】
［実施例４］
図６に示した成膜装置において、予めマッチングボックス６０７が取り付けられた連結器６１１を用いて各反応容器６０２を一体化して反応容器設置台６１３に取り付けた後、各反応容器６０２を一体化した状態のままで実施例１−１と同様に電子写真用光受容部材を作製し、その後、連結器６１１により一体化した反応容器６０２を反応容器設置台６１３から取り外した。
【００７２】
実施例４で行った真空処理方法について、実施例１と同様に取り付ける工程及び取り外す工程に掛かる時間を評価したところ、比較例１に対して実施例４は０．３倍と短縮され、更にはマッチングボックス６０７の取り付け及び取り外し工程がないために、電子写真用光受容部材の作製に必要な全工程の時間が短縮され、本発明による生産性向上の効果が確認された。
【００７３】
又、作製した電子写真用光受容部材を実施例１と同様にコピー画像の画質を評価したところ、比較例１と同等の画質であり、本発明の方法を用いても電子写真用光受容部材の特性を損なうことがないことが確認された。
【００７４】
以上の結果より、本発明によれば、反応容器の取り付け及び／又は取り外し作業の時間が大幅に短縮され、生産性に優れた真空処理方法であることが判明した。
【００７５】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、真空処理装置の作業性を改善し、作業に要する時間を大幅に短縮することにより、生産性が高い真空処理方法及び真空処理装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の真空処理装置の一例を示す模式図である。
【図２】本発明の真空処理装置の一例を示す模式図である。
【図３】本発明の真空処理方法の一例を説明する模式図である。
【図４】本発明の真空処理装置の一例を示す模式図である。
【図５】本発明の真空処理装置の一例を示す模式図である。
【図６】本発明の真空処理装置の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
１０２，２０２，３０２，４０２，５０２，６０２    反応容器
１０３，２０３，４０３，５０３，６０３                    排気配管
１０４，２０４，４０４，５０４，６０４                    排気装置
１０５，２０５，４０５，６０５                                    ガス供給装置
１０６，２０６，４０６，６０６                                    ガス供給管
１０８，２０８，４０８，６０８                                    高周波電源
１１０，４１０，５１０                                                    加熱ヒーター
１１１，３１１，４１１，５１１，６１１                    連結器
１１２，３１２                                                                    吊り上げ装置
１１３，２１３，３１３，４１３，５１３，６１３    反応容器設置台
２０１，６０１                                                                    基体
２０７，６０７                                                                    マッチングボックス
２０９，６０９                                                                    シールド
２１４                                                                                    蓋
３１５                                                                                    反応容器置き台
３１６                                                                                    レール
５１７                                                                                    反応容器台
５１８                                                                                    車輪
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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