(57)【要約】【課題】  いち早く被加熱物を所定の加熱温度まで昇温させることを可能にし、蒸気を有効に利用して高効率で加熱調理を行なうことのできる高周波加熱調理器を提供する。【解決手段】  高周波発生部１３と、被加熱物を収容する加熱室１１内で蒸気を発生する蒸気発生部１５とを有し、加熱室１１に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する高周波加熱調理器１００であって、被加熱物を載置すると共に加熱室１１の底面より所定間隔を隔てて、上方に脱着自在に配設することで該加熱室１１内の空間を分割する受け皿２１と、蒸気発生部１５で発生させた蒸気を受け皿２１より上方に位置する上方空間内に供給する蒸気搬送手段２９と、加熱室内の雰囲気温度を上昇させる予熱手段１７とを備えた。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波発生部と、被加熱物を収容する加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給部とを有し、前記加熱室に高周波と蒸気の少なくとも一方を供給して被加熱物を加熱処理する高周波加熱調理器であって、
被加熱物を載置すると共に前記加熱室の底面より所定間隔を隔てて、上方に、脱着自在に配設することで該加熱室内の空間を分割する仕切り板とを具備し、
前記蒸気は前記仕切り板より上方に位置する上方空間内に供給されるようにした高周波加熱調理器。
【請求項２】
前記蒸気供給部は、前記加熱室内の前記仕切り板よりも下側の空間に蒸気発生部を備え、前記蒸気発生部で生成された蒸気を、前記加熱室内を通って、前記加熱室の上方空間に導くように構成された請求項１記載の高周波加熱調理器。
【請求項３】
前記仕切り板の周縁と前記加熱室の側壁との間に間隙を有し、前記蒸気発生部で生成された蒸気は、前記加熱室の側壁をとおり、前記間隙を介して、前記加熱室の上方空間に導かれる請求項２記載の高周波加熱調理器。
【請求項４】
前記仕切り板は、周縁に貫通孔を有し、前記蒸気発生部で生成された蒸気は、前記貫通孔を介して加熱室の上方空間に導かれる請求項３記載の高周波加熱調理器。
【請求項５】
前記仕切り板は、高周波発熱体を含む請求項１乃至４のいずれかに記載の高周波加熱調理器。
【請求項６】
前記仕切り板は、高周波遮蔽体を含む請求項１乃至５のいずれかに記載の高周波加熱調理器。
【請求項７】
前記高周波遮蔽体は、金属板を含む請求項６に記載の高周波加熱調理器。
【請求項８】
前記加熱室内の雰囲気温度を上昇させる予熱手段を備えた請求項１乃至７のいずれかに記載の高周波加熱調理器。
【請求項９】
前記予熱手段は、前記加熱室の上方に設けた上部加熱ヒータを含む請求項８に記載の高周波加熱調理器。
【請求項１０】
前記予熱手段は、前記仕切り板に設けられた高周波発熱体を含む請求項８に記載の高周波加熱調理器。
【請求項１１】
前記蒸気搬送手段が、発生した蒸気を前記加熱室内から加熱室外に導出して再度加熱室内に導入する蒸気搬送路を有する請求項１、５乃至１０のいずれかに記載の高周波加熱調理器。
【請求項１２】
前記仕切り板は、前記加熱室の内壁面の複数の高さ位置に設けられた係止部で係止される請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載の高周波加熱調理器。
【請求項１３】
前記蒸気発生部は、前記加熱室底面の背面側の壁面に沿って配設される請求項２に記載の高周波加熱装置。
【請求項１４】
前記蒸気供給部は、蒸気が被加熱物に直接当たるように構成される請求項１乃至１３のいずれかに記載の高周波加熱装置。
【請求項１５】
高周波を分散させて加熱室内に供給する高周波分散手段を備えた請求項１乃至１４のいずれかに記載の高周波加熱装置。
【請求項１６】
前記高周波発生部と前記蒸気供給部と前記予熱手段とを制御する制御部を備え、
前記制御部は、前記予熱手段の発熱により前記加熱室を加熱する予熱ステップと、被加熱物を前記高周波発生部からの高周波、前記蒸気供給部からの蒸気の少なくともいずれかを供給して加熱処理を行なう本加熱ステップとをこの順で実行するように構成された請求項８乃至請求項１５のいずれかに記載の高周波加熱調理器。
【請求項１７】
前記高周波発生部と前記蒸気供給部と前記予熱手段とを制御する制御部を備え、
前記制御部が、被加熱物の加熱中に、前記蒸気供給部から蒸気を所定時間加熱室内に供給する割り込み処理機能を有する請求項８乃至請求項１５のいずれかに記載の高周波加熱調理器。
【請求項１８】
前記割り込み処理を任意のタイミングで実行させる蒸気供給スイッチを備えた請求項１７記載の高周波加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸気発生機能を有する高周波加熱調理器に係り、特に調理の機能性および加熱効率を向上させるための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、被加熱物の収容された加熱室に蒸気を供給し、被加熱物を加熱する高周波加熱調理器が種々提案されている（例えば特許文献１参照）。この種の高周波加熱調理器は、高周波加熱と、蒸気の供給による蒸気加熱と、さらに機種によっては電熱による加熱等を適宜組み合わせて加熱調理することが可能となっている。
【０００３】
【特許文献１】特開平８−１７８２９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のような高周波加熱調理器では、加熱開始時に蒸気が加熱室内に供給されてから所定の加熱温度に達するまでの時間が長く、このために加熱調理時間が長くなり、必ずしも使い勝手の良いものではなかった。いち早く所定の加熱温度まで昇温させるためには、蒸気発生量を増加させることが有効であるが、その反面、加熱室内の壁面等に生じる結露が多くなる。このため、加熱調理後には加熱室底面に多量の水が溜まり、その清掃に手間が掛かる等の問題を生じることとなる。また、高温で供給した蒸気が加熱室の壁面等で結露するので、加熱室壁面へ蒸気の熱量が奪われて、被加熱物への加熱量が相対的に減少することとなり、被加熱物の加熱効率が悪くなる問題もあった。
【０００５】
さらに、最近の高周波加熱調理器においては、加熱室の容積を大きく稼ぐことで大型の被加熱物を加熱調理可能にしているが、加熱室容積の大型化に伴い加熱室全体を均一に速く昇温させることが困難となっている。加熱能力の不足は、加熱手段の数や出力を増加させれば改善はできるが、一般家庭用の高周波加熱調理器に対してはコストダウンや省エネルギの観点から好ましい方策とはいえない。
【０００６】
また、従来の蒸気発生機能付きの高周波加熱調理器においては、単に蒸気を加熱室内に供給して被加熱物を加熱調理するのみで、例えば焼き料理中に蒸気を所望のタイミングで供給し、焼き具合を調整するというような機能はなく、加熱調理に際して蒸気が有する性質を最大限に利用しておらず、限られた範囲内で利用するだけのものであった。
【０００７】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、いち早く被加熱物を所定の加熱温度まで昇温させることを可能にし、蒸気を有効に利用し、高効率の加熱調理を実現することのできる高周波加熱調理器を提供することを目的する。
また本発明は、加熱室に供給する蒸気の結露を低減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的は下記構成により達成できる。
すなわち、本発明の高周波加熱調理器は、高周波発生部と、被加熱物を収容する加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給部とを有し、前記加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する高周波加熱調理器であって、被加熱物を載置すると共に前記加熱室の底面より所定間隔を隔てて、上方に脱着自在に配設することで該加熱室内の空間を分割する仕切り板とを有し、前記蒸気は前記仕切り板より上方に位置する上方空間内に供給されるようにしている。
【０００９】
この高周波加熱調理器によれば、加熱室内の空間を仕切り板の設置によって仕切り板上方の空間とそれ以外の空間とに分割し、上方空間に蒸気を供給することで、加熱調理に用いる加熱室内の空間を狭められ、加熱能力を高めることなく加熱による温度変化に対する応答性が高められる。
【００１０】
また本発明の高周波加熱調理器は、前記蒸気供給部が、前記加熱室内の前記仕切り板よりも下側の空間に蒸気発生部を備え、前記蒸気発生部で生成された蒸気を、前記加熱室内を通って、加熱室の上方空間に導くように構成される。
この構成によれば、蒸気発生部が加熱室内に設けられていることから、加熱室内の加熱と同時に、水を加熱し蒸気の発生を実現することができるため、熱効率が良好である。また、加熱室内を通って上方に導くように構成されていることから、熱損失を低減することができる。
【００１１】
また本発明の高周波加熱調理器は、前記仕切り板の周縁と前記加熱室の側壁との間に間隙を有し、前記蒸気発生部で生成された蒸気は、前記加熱室の側壁をとおり、前記間隙を介して、加熱室の上方空間に導かれるように構成される。
この構成により、極めて簡単な構成で、蒸気を効率よく加熱室の上方空間に導くことができる。また、供給を制御するためのシャッタ手段の形成も容易である。なお、高周波の供給口が側壁にある構造の場合には、高周波供給口に近いほど高周波が強く当たり、高周波発熱体に加熱むらが生じ、被加熱物に加熱むらを生じるという問題があったが、このように、前記蒸気発生部で生成された蒸気が、前記加熱室の側壁をとおり、前記間隙を介して、加熱室の上方空間に導かれるように構成することにより、下方より均一に供給される高周波により高周波発熱体を設けた仕切り板を均一加熱することができる。また仕切り板の間隙を上昇した蒸気によって均一な包み焼き加熱を実現することが可能となる。
【００１２】
また本発明の高周波加熱調理器は、前記仕切り板は、周縁に貫通孔を有し、前記蒸気搬送手段は、前記蒸気発生部で生成された蒸気は、前記貫通孔を介して加熱室の上方空間に導かれる。
この構成により、仕切り板に貫通孔を形成するのみで容易に、蒸気を加熱室の上方空間に導くことができる。この場合も、供給を制御するためのシャッタ手段の形成が容易である。
例えば、被加熱物を収納する加熱室と、加熱室上部に設けられたヒータ加熱を行なう加熱手段と、加熱室底面に設けられた高周波を発生させ高周波加熱を行なう高周波発生手段と、蒸気を発生させる装置と、裏面に高周波発熱体を設けた被加熱物を載置する受け皿とを備え、受け皿は加熱室との間に間隙が出来るように構成とすることで、加熱室底面に設置した蒸気発生装置から発生した蒸気は上昇し、受け皿と加熱室の間隙を通って被加熱物が配置されている上部に蒸気が溜まる構成を得ることができる。
【００１３】
そして、仕切り板が加熱室を２分割するように構成されたことにより、被加熱物に多量の蒸気を供給し蒸気の散乱を防ぐと同時に、下方から供給された高周波が受け皿の上方に回り込むことが少なくなり、高周波発熱体への高周波の供給量が多くなり、被加熱物の下面の焦げ目がより付きやすくなり、ヒータ加熱時においても高効率な加熱が可能となるという効果がある。
【００１４】
本発明の高周波加熱調理器は、前記仕切り板が、高周波発熱体を含む。
【００１５】
この高周波加熱調理器によれば、高周波発熱体が高周波によって発熱することで、予熱段階では、加熱室内の雰囲気温度を上昇させることができ、また、本加熱段階では、仕切り板に載置された被加熱物を下側から加熱することができる。
【００１６】
本発明の高周波加熱調理器は、前記仕切り板が、高周波遮蔽体を含む。
この構成によれば、仕切り板が、高周波を通しにくい、金属などの高周波遮蔽材料を含むように構成することにより、下方から供給された高周波が上方に回り込むことがより少なくなり、被加熱物への減水率を最大限に抑えることができる。またこの構成により、高周波が被加熱物に直接当たるのを防ぐことが出来、局所的な過加熱を防ぐことが可能となる。これにより、蒸気による加熱によって被加熱物が保水され、しっとりとおいしく出来上げるという効果がある。
【００１７】
本発明の高周波加熱調理器は、前記仕切り板が、セラミック材又は耐熱樹脂材を含む。
【００１８】
この高周波加熱調理器によれば、セラミック材又は耐熱樹脂材は高周波発熱体として作用することで、この高周波発熱体の発熱が高周波発熱体に蓄熱され、被加熱物を均一に加熱できる。また、高周波加熱を停止した後も高周波発熱体からの熱および蒸気の潜熱によって被加熱物の加熱を続けることができる。高周波発熱体としては、基体に高周波発熱体膜を形成した構成も有効である。
【００１９】
本発明の高周波加熱調理器は、前記仕切り板が、金属板を含む。
【００２０】
この高周波加熱調理器によれば、仕切り板が金属板で構成されるあるいは金属板を基体としてなることで、被加熱物を高周波発熱体により加熱する際に、高周波による被加熱物の加熱を積極的に抑制することができる。
【００２１】
本発明の高周波加熱調理器は、前記加熱室内の雰囲気温度を上昇させる予熱手段を備えている。
この構成によれば、予熱手段により加熱室内の雰囲気温度を上昇させてから蒸気を加熱室へ供給することで、加熱室壁面等での結露が抑制され、高効率で被加熱物を加熱することができる。また蒸気量を増大させることなく効率よく蒸気加熱調理を実現することができる。
【００２２】
本発明の高周波加熱調理器は、前記予熱手段が、前記加熱室の上方に設けた上部加熱ヒータを含む。
【００２３】
この高周波加熱調理器によれば、予熱用として用いるヒータを、調理用としても用いることができ、上部加熱ヒータの有効利用を図ることができる。
【００２４】
本発明の高周波加熱調理器は、前記予熱手段が、前記仕切り板に設けられた高周波発熱体を含む。
【００２５】
この高周波加熱調理器によれば、仕切り板に設けられた高周波発熱体が高周波によって発熱することで、予熱段階では、加熱室内の雰囲気温度を効率よく上昇させることができる。
【００２６】
本発明の高周波加熱調理器は、前記蒸気搬送手段が、発生した蒸気を前記加熱室内から加熱室外に導出して再度加熱室内に導入する蒸気搬送路を有する。
【００２７】
この高周波加熱調理器によれば、加熱室外に蒸気搬送路を設けることで、蒸気搬送路へのスケールや被加熱物からの汚れの付着がなくなり、清潔に維持することができる。
【００２８】
本発明の高周波加熱調理器は、前記仕切り板が、前記加熱室の内壁面の複数の高さ位置に設けられた係止部で係止される。
【００２９】
この高周波加熱調理器によれば、加熱室内における仕切り板の高さを調理内容に応じて任意に設定できることにより、蒸気による加熱力の強弱を温度制御することなく簡易に変更することができる。
【００３０】
本発明の高周波加熱調理器は、前記蒸気発生部が前記加熱室底面の背面側の壁面に沿って配設されるものを含む。
【００３１】
特に、加熱室底面に蒸気発生部を配置することで、調理のための空間を犠牲にすることなく加熱室全体を有効利用することができる。また、下側で発生させた蒸気を一旦加熱室外に導いて加熱室上部から再度導入したり、蒸気を加熱室内の壁面に沿って上昇させることを選択的に行なうことも可能になる。さらに、加熱室底面に水を供給するため、安定して水を貯留できると共に、食品取り出し等の作業中に不用意に水がこぼれたりすることもなくなり、操作性も向上する。また、水は加熱室底面に供給されるため、加熱室底面よりも上位にある他の電気部品や電子部品などに水がかかることもない。また、蒸気は下から上に上昇するという特徴を生かし、加熱室底面に被加熱物を配置した場合でも蒸気を利用した調理が出来るという効果がある。さらにまたこの構成により、下方より均一に供給された高周波（マイクロ波）により高周波発熱体を設けた仕切り板の均一加熱と加熱室と仕切り板の間隙を上昇した蒸気とヒータ加熱による均一な包み焼き加熱調理を行なうことが出来る。
【００３２】
本発明の高周波加熱調理器は、蒸気供給部で供給される蒸気が、被加熱物に直接当たるように構成される。
この構成により、高温の蒸気が被加熱物にあたり、潜熱によって均一に効率よく加熱することができる。高温の蒸気が被加熱物に直接当たるようにすることにより、被加熱物の温度を効率よく上昇させることができる。
【００３３】
本発明の高周波加熱調理器は、高周波を分散させて加熱室に供給する高周波分散手段を備えたものを含む。
この構成により、高周波を分散させて加熱室内に供給する高周波分散手段を備えたことにより、局所的な過加熱を防ぎ、より均一に下方から加熱することができるので、仕切り板が均一に加熱され、仕切り板上における温度むらが抑制され、加熱むらがより小さくなる。
【００３４】
本発明の高周波加熱調理器は、前記高周波発生部と前記蒸気発生部と前記予熱手段とを制御する制御部を備え、前記制御部が、前記予熱手段の発熱により前記加熱室を加熱する予熱ステップと、被加熱物を前記高周波発生部からの高周波、前記蒸気発生部からの蒸気の少なくともいずれかを供給して加熱処理を行なう本加熱ステップとをこの順で実行するように構成される。
【００３５】
この高周波加熱調理器によれば、予熱ステップを実行してから蒸気供給を行なう本加熱ステップを実行することにより、加熱室が高温雰囲気になってから蒸気が供給されることになり、供給された蒸気が加熱室壁面等で結露することが大幅に低減する。これにより、清掃に手間のかからない使い勝手の良い構成にできる。
【００３６】
本発明の高周波加熱調理器は、前記高周波発生部と前記蒸気発生部と前記予熱手段とを制御する制御部を備え、前記制御部が、被加熱物の加熱中に、前記蒸気発生部から蒸気を所定時間加熱室内に供給する割り込み処理機能を有する。
【００３７】
この高周波加熱調理器によれば、被加熱物の加熱中に蒸気を供給することで、蒸気が有する潜熱によって、被加熱物の内部までを均一に加熱することができ、また、被加熱物の焼き色を均一にすることができ、さらに、加熱室が蒸気温度以上に加熱されている場合に、加熱室内の雰囲気温度を下げ、被加熱物を冷ますことができる。
【００３８】
本発明の高周波加熱調理器は、前記割り込み処理を任意のタイミングで実行させる蒸気供給スイッチを備えている。
【００３９】
この高周波加熱調理器によれば、加熱調理中の任意のタイミングで蒸気を加熱室内に供給することができ、加熱調理に必要な量の蒸気が必要とするタイミングで簡単な操作により供給することができる。従って、加熱むらを防ぎ、均一な包み焼き処理を行なうことができる。
【発明の効果】
【００４０】
本発明の高周波加熱調理器によれば、加熱室内の空間を仕切り板によって仕切り板上方の空間とそれ以外の空間とに分割して、加熱調理に用いる加熱室内の空間を狭めることができる。この狭められた空間に蒸気を供給することで、加熱能力を高めることなく加熱による温度変化に対する応答性が高められる。また、予熱手段により加熱室内の雰囲気温度を上昇させてから蒸気を加熱室へ供給することで、加熱室壁面等での結露が抑制され、均一かつ高効率で被加熱物を加熱することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下、本発明に係る高周波加熱装置の好適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
（第１の実施の形態）
図１は本発明の第１の実施の形態に係る高周波加熱調理器の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２は図１のＡ−Ａ断面における概念的な矢視図、図３は高周波加熱調理器の制御ブロック図である。
この高周波加熱調理器１００は、被加熱物を収容する加熱室１１に高周波（マイクロ波）と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、図１に示すように、仕切り板としての受け皿２１によって加熱室１１内空間が上方空間と下方空間とに二分割されていることを特徴とするものである。この調理器１００は、さらに高周波を発生するマグネトロンからなる高周波発生部１３と、加熱室１１内で蒸気を発生する蒸気発生部１５と、加熱室１１の上方に配置された予熱手段としての上部加熱ヒータ１７と、加熱室１１の底面から所定間隔を隔てて、上方に配設され、被加熱物を載置する受け皿２１とを有する。
【００４２】
高周波発生部１３からの高周波は、回転駆動される高周波撹拌用のスタラー羽根２３によって加熱室１１の全体に分散される。また、受け皿２１は、加熱室１１の側壁面１１ａ，１１ｂに形成した係止部２５に支持され、仕切り板としても作用する。この係止部２５は、加熱室１１の複数の高さ位置で受け皿２１を支持可能に複数段設けてある。係止部２５に受け皿２１を係止させることで、加熱室１１の空間は上下２分割される。そして、蒸気発生部１５には、加熱室１１の側方に設けた給水タンク２７から水が供給される構成となっている。
【００４３】
蒸気発生部１５は、加熱室１１の底面奥側で、少なくとも一方の隅部に設けてある。本実施形態においては、一例として奥側両隅に２基配置した構成を示しているが、片側に１基配置した構成であってもよい。また、図２に示すように、蒸気発生部１５から発生した蒸気を、受け皿２１より加熱室の上方空間内に供給する蒸気搬送手段としての蒸気パイプ２９を、蒸気発生部１５と加熱室１１の上方、即ち、加熱室１１の空間を受け皿２１により２分割した上方の空間とを連通させることで、蒸気搬送路として設けている。加熱室１１の奥側側面には、サーミスタや赤外線センサ等の温度センサ３１が取り付けられ、加熱室１１の温度を測定する。
【００４４】
なお、本発明の高周波加熱調理器１００には、図３に示すように、加熱室１１内の空気を撹拌・循環させる循環ファン３３や、加熱室１１内を循環する空気を加熱するコンベクションヒータ３５からなる室内気加熱部３７を取り付けてもよい。これら各部の動作は、マイクロプロセッサを備えてなる制御部３９からの制御指令により行われる。
【００４５】
また、開閉扉４１に設けられる操作パネル９１には、加熱の開始を指示するスタートスイッチ９３、予め用意されている調理プログラムを選定する自動調理スイッチ９７等の種々の操作スイッチが設けられている。
そして、制御部３９は、商用電源に接続される電源部４０から電力供給されており、高周波発生部１３、上部加熱ヒータ１７、蒸気発生部１５等の加熱電力が許容電力値を超えないように、各部への電力配分を制御している。
【００４６】
加熱室１１は、前面開放の箱形の本体ケース１０内部に形成されており、本体ケース１０の前面には、加熱室１１の被加熱物取出口を開閉する透光窓４１ａ付きの開閉扉４１が開閉自在に取り付けられている。
【００４７】
高周波発生部１３は、加熱室１１の下方空間に配置されており、加熱室１１底面の略中央の、マグネトロンより発生した高周波を受ける位置に高周波分散手段として例えば、スタラー羽根（２３）や回転アンテナなどを設けている。これら高周波発生部１３やスタラー羽根２３は、加熱室１１の底部に限らず、加熱室１１の他の面側に設けることもできる。なお高周波分散手段は回転駆動されるものでもよいし高周波反射体の組み合わせ等を用いるようにしてもよい。
【００４８】
蒸気発生部１５は、図２に示すように、加熱により蒸気を発生する水溜凹所４５ａを有した加熱ブロック４５と、該加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａを覆い蒸気パイプ２９へ発生した蒸気を導入する蒸気ダクト４７とを有する。
【００４９】
ここで、本高周波加熱調理器１００における蒸気発生の基本原理を簡単に説明する。
図４に高周波加熱調理器の蒸気発生の基本原理を表す説明図を示した。
これによれば、給水タンク２７に貯留された水は、逆止弁４９を通して給水管５１に供給される。給水管５１の中間部配管５１ａでは、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３からの発生熱が伝熱されることで、中間部配管５１ａ内の水が加熱される。そして、加熱された水の一部は、湯になる際に沸騰して気泡を発生し、急激に体積膨張する。このとき、給水管５１の給水タンク２７側の逆止弁４９は閉止され、給水タンク２７側への逆流が阻止される。従って、体積膨張した水は吐出側配管５５へ間欠的に供給される。これにより、吐出側配管５５内では水位が上昇し、上部に形成されたエア抜き孔から余分な蒸気が排出されると共に、加熱された水が吐出口５９から加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａに間欠的に供給される。
【００５０】
一方、水溜凹所４５ａもシーズヒータ５３により加熱されており、滴下された加熱水はここで蒸発して蒸気ダクト４７内に充満する。そして、充満した蒸気は蒸気パイプ２９を通じて加熱室１１の上方から供給される。つまり、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３の発熱により、水溜凹所４５ａへ加熱した水を供給すると共に、水溜凹所４５ａを加熱する構成となっている。
【００５１】
上記の蒸気発生を実現するための具体的な構成例を、以下に詳細に説明する。
図５に加熱ブロックの外観斜視図を示した。（ａ）は上面側で（ｂ）は裏面側である。
加熱ブロック４５は、軽量で熱伝導性の高いアルミのダイカスト成形品としている。加熱ブロック４５には、本体６１の内部Ｕ字形のシーズヒータ（蒸発皿加熱ヒータ）５３が埋設されており、このシーズヒータ５３に沿った上面側に水溜凹所４５ａが形成され、下面側に給水管５１の中間部配管５１ａを被覆する加熱部４５ｂが形成されている。これら水溜凹所４５ａ及び加熱部４５ｂはダイカストにより一体に形成されており、接続面等が存在しないため、高効率でシーズヒータ５３の発熱を伝導可能にしている。
【００５２】
また、水溜凹所４５ａの下側に位置する収容穴６３には、温度を検知するサーミスタ（蒸発皿温度センサ）６５が挿入されて、本体６１のシーズヒータ５３付近の温度を測定する。水溜凹所４５ａの一端側には開口孔６７が形成されて、前記吐出口５９からの水が水溜凹所４５ａ内に供給される。なお、シーズヒータ５３や加熱部４５ｂ等の形状や取り付け位置等は、必要とする加熱量や高周波加熱調理器１００の筐体内への設置スペース等に応じて適宜変更され得るものである。なお、上記シーズヒータ５３に代えて、線ヒータ、セラミックヒータ等の他種類のヒータを用いることも可能である。
【００５３】
図６に加熱室内における蒸気発生部１５の概略的な（ａ）分解図、（ｂ）組立図を示した。
加熱室１１の底面から突出させて形成した段付き部６９の下側に、前述した加熱ブロック４５が水溜凹所４５ａを上方に向けて配設し、さらに水溜凹所４５ａの上方には、水溜凹所４５ａを覆う蓋体７１と、蓋体７１の開口孔７１ａに接続され加熱室１１の奥面に形成した蒸気取り出し口７３に向けて開口している中空構造の蒸気ダクト４７を着脱可能に取り付けている。蒸気取り出し口７３に導入された蒸気は、図２に示すように蒸気パイプ２９を通じて加熱室１１の上方の空間に供給される。なお、この蒸気ダクト４７を取り外せば、加熱室１１の底面側から蒸気を供給する構成にできる。
【００５４】
加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａの表面は、珪酸（ＳｉＯ2）等を含む親水材料で処理していることで、水が球状になることなく、大きな接触面積が確保でき、より多くの蒸気を発生させやすくしている。一方、蓋体７１や蒸気ダクト４７の表面をフッ素等の疎水材料で処理することで、蒸発時の蒸発残渣等、汚れの付着を抑制することができ、また、仮に汚れが付着しても簡単に除去できるようにしている。例えば、蒸気発生の過程では、水分中のカルシウムやマグネシウム、塩素化合物等が濃縮されて水溜凹所４５ａ底部に沈殿固着することがあるが、水溜凹所４５ａを布等で拭き取るだけで、きれいにこのような汚れを払拭することができる。また、前述の蒸気ダクト４７は着脱自在であるので、清掃作業を容易にすることができる。
【００５５】
ここで、図１に示す給水タンク２７から加熱ブロック４５までの給水経路を説明するため、図７に図１のＢ方向矢視図を示した。前述の蒸気発生原理を説明した図４と同様であるが、給水タンク２７の水は、逆止弁４９を通して給水管５１に供給され、加熱ブロック４５の加熱部４５ｂで加熱されて吐出側配管５５に供給される。そして、加熱された水が吐出口５９から加熱ブロック４５の水溜凹所へ間欠的に供給される。なお、給水管５１としては、特に伝熱を受ける加熱部４５周辺では、銅パイプ等、熱伝導度の高い材質が好適に用いられる。
【００５６】
次に、図１に示す受け皿２１を説明する。図８に受け皿の外観斜視図、図９に図８のＣ−Ｃ断面図を示した。
受け皿２１は、加熱室１１に対して複数の高さ位置に容易に脱着自在とされており、被加熱物の載置面となる金属板７５と、金属板７５に対峙してあるいは接触して配置される高周波発熱体７７と、高周波発熱体７７を金属板７５に固定すると共に加熱室１１側の係止部２５（図１参照）と係合する固定部材７９とを有する。
【００５７】
金属板７５は、アルミメッキ鋼板からなり、表面に波状の凹凸を設けた水溜可能な深さを有している。アルミメッキ鋼板の表側面には防汚効果の高いフッ素塗装を施し、裏側面には吸熱効果の高い黒色耐熱塗装を施している。
高周波発熱体７７は、金属板７５側とは反対側の面に、高周波を吸収して発熱する窒化物及び硼化物等の誘電体材料からなる高周波吸収膜８１を基体８３に密着させて形成している。基体８３は、セラミック材又は耐熱樹脂材からなり、蓄熱効果の高い材料が好適に用いられる。
固定部材７９は、受け皿２１の加熱室挿入方向に沿って両脇側に設けられた絶縁体からなり、加熱室１１との間に間隙を形成することで、高周波加熱時におけるスパークの発生を防止している。この間隙を大きくし、加熱室の下方空間の蒸気を上方空間に導くようにすれば、加熱室内壁をとおって、より効率よく蒸気を上方空間に導くことができる。
【００５８】
また、図９（ａ）、（ｂ）に示すように、金属板７５に凸部７５ａを形成したり、金属板７５自体を波形として凹凸を形成することで、高周波吸収膜８１と金属板７５との距離が遠くなり、これにより、高周波吸収膜８１上における電界強度が高くなり、高周波吸収膜８１上での発熱量が増加する効果が得られる。なお、高周波発熱体７７としては、裏面に高周波吸収体膜８１を設けた構成以外にも、高周波吸収体自身が高周波で発熱するように、セラミックなどの誘電体で形成してもよい。またフェライトゴムなど、セラミック粉末をゴムに混ぜ込んだセラミックゴムなどで構成してもよい。
【００５９】
金属板７５として、金属製のアルミメッキ鋼板を用いたが、表面で高周波を反射するものであればよく、金属板７５に代えてセラミック質の基材に金属メッキや金属蒸着等で高周波の反射層を設けたもの等も利用でき、さらには、ステンレス、アルミニウム及びア
ルミニウム合金、亜鉛メッキ鋼板、アルミ亜鉛合金メッキ鋼板や銅メッキ鋼板などの各種メッキ鋼板、冷間圧延鋼板、クラッド材等も用いることができる。また、高周波吸収膜８１として窒化物や硼化物を用いたが、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物、及び複合酸化物等、他の誘電体材料も用いることができる。なお、受け皿２１としては、上記構成のものに限らず、基本的に被加熱物Ｍの結露による水受けが可能な平板であればよい。
【００６０】
次に、本発明に係る高周波加熱調理器１００の作用を説明する。
例えば、蒸気加熱を行いながらグリル加熱を行なうには、まず、加熱室１１内に受け皿２１を取り付けて、被加熱物Ｍを受け皿２１上に載置する。そして、高周波加熱調理器１００の開閉扉４１を閉じ、操作パネル９１（図３参照）に備わる各種のスイッチを操作して、所望の加熱モードを設定した後、スタートスイッチ９３を押下する。また、自動調理モードで加熱する場合には、記憶部９５に予め用意されている調理プログラムを、自動調理スイッチ９７の押下等により選択した後、スタートスイッチ９３を押下する。
【００６１】
ここで、図１０に受け皿上に載置した被加熱物を、加熱室内に高周波及び蒸気を供給して加熱処理する様子の一例を概念的に示した。
この例を説明すると、まず、加熱室１１の上方位置に受け皿２１を取り付けて、受け皿２１の上に被加熱物Ｍを載せる。そして、上部加熱ヒータ１７を発熱させることで、受け皿２１上の被加熱物Ｍが輻射熱Ｑ１によって加熱処理される。
一方、高周波発生部１３から高周波を発生させ、スタラー羽根２３の回転により加熱室１１内に拡散供給する。これにより、受け皿２１の高周波吸収膜８１が発熱して高周波発熱体７７が加熱され、その熱Ｑ２が金属板７５を介して被加熱物に伝播する。また、発生した高周波の一部Ｑ３は、加熱室１１の内壁面と受け皿２１との間の間隙を抜けて受け皿２１の上方空間に入り、被加熱物Ｍを高周波加熱する。ただし、加熱対象によっては、被加熱物Ｍに対する高周波加熱を積極的に行なわないこともあり、Ｑ３の熱量は小さく設定される。つまり、高周波発熱体７７の発熱により被加熱物Ｍの温度を上げる一方、高周波発熱体７７の加熱用に用いる高周波は、受け皿２１の金属板７５により遮蔽して、被加熱物Ｍには供給されないようにする。なお、高周波が加熱室底面から供給される以外にも、給電口が受け皿２１よりも下側の加熱室側面に配設された場合でも、同様に高周波を遮蔽することができる。
【００６２】
さらに、蒸気発生部１５からの蒸気が蒸気パイプ２９を通じて蒸気吹き出し口８５から加熱室の上方空間８７に供給される。この蒸気Ｑ４が被加熱物Ｍに当たり、熱交換が行われることで被加熱物Ｍが加熱される。
以上の、輻射熱Ｑ１、高周波発熱体７７からの熱Ｑ２、高周波の一部Ｑ３、蒸気Ｑ４により被加熱物Ｍが効率良く加熱処理される。また、各熱源Ｑ１〜Ｑ４を適宜選択的に組み合わせて、シーケンシャルに加熱することで、被加熱物Ｍの加熱目的に応じた最適な加熱処理が可能となる。また、前述の受け皿２１の金属板７５による高周波の遮蔽効果により、被加熱物Ｍの蒸し調理時に、高周波による過剰な加熱が抑止され、本格的な蒸し調理が可能となる。
なお、図示しない室内気加熱部のコンベクションヒータを発熱させることにより、さらに被加熱物Ｍを均一に高温加熱することもできる。
【００６３】
このように、加熱調理に寄与する加熱室１１の容積を受け皿２１により分割して小さくすることにより、蒸気をいち早く充満させることができ、また、加熱室１１の上方空間における庫内温度も蒸気の供給によって蒸気温度に近い温度（例えば１００℃）まで急峻に立ち上がる。従って、高周波加熱調理器１００の加熱開始後の早い時期から加熱室１１内を蒸し調理可能な状態にでき、加熱調理時間を大幅に短縮することができる。また、蒸気発生時に上部加熱ヒータ１７を用いて加熱室１１の温度を上げることで、加熱室１１の結露が防止される。また、加熱室１１内の受け皿２１の高さを変更することにより、実質的な蒸気温度を調整することができ、蒸気による加熱力の強弱を温度制御することなく簡易に変更することができる。
【００６４】
また、加熱ブロック４５のサーミスタ６５や加熱室内の温度を検出する温度センサ３１からの検出温度に応じて、制御部３９が蒸気発生量やヒータ加熱量をフィードバック制御して、加熱室１１内の温度や蒸気量を適切に設定することにより、温度管理の難しい卵料理等を容易に行なうことができる。
そして、蒸気発生部１５からの蒸気を加熱室１１外に配置した蒸気パイプ２９を通じて加熱室１１の上方空間へ供給しているので、蒸気パイプ２９等の配管部材に対して調理物の付着汚れがなく、清掃が容易な構成となっている。
さらに、本実施形態の高周波加熱調理器１００では、蒸気発生部１５を加熱室１１の底面隅部に２基備えているので、被加熱物の加熱内容に応じて発生させる蒸気量を可変にでき、蒸気を多量に必要とするもの、少量でよいもの等の切り分けができ、蒸気供給のパターンを所望の蒸気供給量になるように任意に設定することができる。
【００６５】
ここで、上記の高周波加熱調理器１００を用いる加熱処理例を例示して、それぞれの加熱処理により発揮される本発明の顕著な効果を順次詳細に説明する。
図１１に蒸し調理の加熱パターン例を示した。この加熱パターンでは、加熱初期に、受け皿を加熱室１１に入れ、上部加熱ヒータ１７へ所定時間給電して予熱を行なう。予熱完了後、上部加熱ヒータ１７への給電を停止し蒸発皿加熱ヒータであるシーズヒータ５３へ給電する。これにより、蒸気が加熱室内に供給される。
このような加熱パターンにおける庫内温度の変化は、予熱後に開閉扉を開けて被加熱物を受け皿に載置する際、庫内温度は一旦下がるが、開閉扉を閉めると庫内温度は急峻に立ち上がり、蒸気の供給温度である１００℃付近でいち早く定常状態となる。発生した蒸気による結露は、殆どが被加熱物の表面に生じるもので、加熱室１１の壁面等へ熱が奪われることが少なくなっている。さらに、受け皿２１に溜まった結露水は、受け皿２１を取り外すことで簡単に除去することができる。
【００６６】
一方、予熱を行なわずに蒸発皿加熱ヒータに給電した場合には、庫内温度の立ち上がりが遅く、調理時間が長くなる要因となる。また、庫内温度が低いために、発生した蒸気は加熱室１１の各面で多く結露して、結露水が加熱室底面等に溜まることとなる。この場合の加熱室底面や側面の結露水の除去には、多くの手間が掛かることになる。
【００６７】
さらには、被加熱物として、例えば葉菜を加熱した場合には、予熱を行なわないときには葉菜の緑色が鮮やかに現れず、予熱を行ったときには、加熱室内の雰囲気温度が１００℃以上となり、濃度の高い蒸気環境下においても短時間で効率よく蒸気加熱を行なうことができるため、葉菜を色鮮やかに仕上げることができる。
【００６８】
図１２に予熱の有無による被加熱物の温度の時間変化を示すグラフを示した。上記のように予熱を行った場合には、被加熱物の温度上昇速度が大きく、目標温度にまでいち早く到達して定常状態となる。一方、予熱を行なわない場合には、被加熱物の温度上昇は緩慢なものとなり、目標温度に到達するまでの時間が予熱を行った場合と比較して長く要する。
【００６９】
また、さらに加熱室内の雰囲気温度を上げたい場合には、図１３に示すように、上部加熱ヒータと蒸発皿加熱ヒータへの給電を交互に行なうとよく、好ましくは、上部加熱ヒータの要する電力と蒸発皿加熱ヒータの要する電力の合計が、高周波加熱調理器１００の許容電力値を超えない範囲で最大に設定すると、加熱効果を最大限に高められる。このような加熱パターンは、例えば根菜の加熱に好適に適用できる。また、この場合には、予熱を行なわなくとも加熱室内温度の立ち上がりが比較的早いが、調理時間短縮の上では予熱を行った方がよい。
【００７０】
次に、グリル調理例を説明する。
図１４にグリル調理の加熱パターン例を示した。グリル調理では、受け皿２１に被加熱物Ｍを載置して、上部加熱ヒータ１７の発熱により被加熱物Ｍに焦げ目を付けるように加熱するものである。この場合には、図１４（ａ）に示すように、予熱後に本加熱を開始してからの被加熱物Ｍの温度は、上部表面では加熱により早く昇温するが、被加熱物Ｍの内部では加熱による昇温速度が遅く、表面と内部と温度差が加熱初期時には拡大する傾向にある。つまり、上部加熱ヒータ１７に近い被加熱物Ｍの上部表面は加熱により急激に昇温するが、被加熱物Ｍの熱容量によって、表面からの熱が内部にまで伝わるまでに時間がかかり、被加熱物Ｍの内部の温度上昇率が低くなる。
【００７１】
そこで、図１４（ｂ）に示すように、本加熱の途中で加熱室内に蒸気を供給することにより、供給される蒸気温度より低い被加熱物Ｍの表面で蒸気が結露して、この結露した水が蒸発することで気化熱が奪われ、被加熱物Ｍの表面の温度を一時的に下げる（ΔＴ1）ことができる。一方、被加熱物Ｍの内部では、熱容量が加熱室の空気よりも約２倍大きく被加熱物Ｍより高温の蒸気が被加熱物Ｍに当てられることで、被加熱物Ｍの内部に蒸気の熱量が効率良く伝熱されて、被加熱物Ｍの昇温を加速させる（ΔＴ2）ことができる。これにより、被加熱物Ｍの表面と内部との温度差を小さく抑えることができる。また、加熱室より温度の低い蒸気を加熱室内に供給することで、被加熱物Ｍの空気と接する表面層の温度を下げ、表面の過剰な焦げ付きを抑制して、内部の加熱不足を解消することができる。
【００７２】
上記のグリル調理の加熱パターンに加えて、高周波加熱を併用して加熱することもできる。図１５に高周波加熱を併用してグリル加熱を行なう加熱パターン例を示した。
この場合のグリル調理では、受け皿として高周波発熱体７７を（図９参照）備え、高周波により受け皿２１を加熱してこれを予熱としている。予熱後の本加熱では、高周波発生部のみ給電して加熱皿を加熱することで、被加熱物Ｍの底面側を加熱する。次に、高周波発生部への給電を停止して、上部加熱ヒータ１７への給電を開始し、被加熱物Ｍの上面を加熱する。そして、上部加熱ヒータ１７による加熱途中で蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータへ所定時間給電して、蒸気を加熱室へ供給する。なお、ここでも蒸発皿加熱ヒータへ給電するときは、上部加熱ヒータ１７への給電を停止して、電力の合計が高周波加熱調理器１００の許容電力値を超えないようにする。また、蒸気の供給は複数回繰り返し行っても良く、本加熱開始後の所定時間経過後に連続的に行っても良い。
【００７３】
ここで、加熱中に蒸気を供給することは、加熱調理の前半で供給することで、被加熱物Ｍに水分を与えてしっとり柔らかくする効果があり、加熱調理の後半で供給することで、被加熱物Ｍの内部の火通りを良くし、焼き色を均一化する効果がある。蒸気は、被加熱物Ｍの表面に凸凹があっても、この凹凸に蒸気が入り込むことで被加熱物Ｍに局所的な焼きムラを生じさせることを防ぎ、焼き具合を均一にできる。上部加熱ヒータ１７で加熱する場合では、凹凸の影となった部位に対して加熱量が小さくなるが、蒸気加熱を併用することでこのようなムラが生じにくくなる。さらには、上部加熱ヒータ１７の加熱室に対する加熱ムラ、即ち、加熱室中央では加熱量が多くなり、加熱室の隅部では加熱量が少なくなるというように、た加熱ムラにより、加熱室中央に位置する被加熱物が過剰に加熱されて焦げ、加熱室隅部に位置する被加熱物が加熱不十分な状態で仕上がることを未然に防止できる。
【００７４】
また、このような加熱パターンは、例えば骨付き肉の加熱調理に用いることで、骨回りの火通りが良くなり、表面の焦げ付きを抑えて内部まで十分に加熱が行なえ、ふっくらとした柔らかい食感を持たせることができる。
【００７５】
以上説明した各加熱パターンは、図３に示す制御部３９に接続された記憶部９５に予め調理プログラムとして記憶しておき、操作パネル９１の自動調理スイッチ９７等の操作により任意に選定して実行する構成としてもよい。その場合にも、加熱室内の被加熱物の温度を加熱温度センサ３１により検出して、被加熱物の温度に合わせて、また、タイマ９９により加熱時間等の経過時間を計測して前述した各部の制御タイミングを設定する。蒸気発生のタイミングは、予め設定した調理プログラムに基づいて自動的に設定すること以外にも、操作パネル９１に蒸気供給スイッチ１０１を設け、この蒸気供給スイッチ１０１を押下した任意のタイミングで蒸気の供給を開始する構成としてもよい。これによれば、被加熱物Ｍの加熱調理の経過を開閉扉４１の透光窓４１ａを通して確認し、所望のタイミングで蒸気供給スイッチ１０１を押下することで、適切なタイミングでの蒸気供給が可能となり、加熱調理の失敗を確実になくすことができ、使い勝手が向上する。
【００７６】
上記説明した上部加熱ヒータ、蒸発皿加熱ヒータ、高周波発生部による加熱タイミングや加熱量は、被加熱物Ｍの種類、形状、重量、調理法等によって異なるものであり、各条件に応じて適宜設定されるものである。
【００７７】
次に、上述した高周波加熱調理器１００に対する他の構成例について説明する。
図１６に蒸気発生部の加熱方式に対する他の構成例を示した。（ａ）は加熱ブロックと蒸発皿とを別体に形成した例、（ｂ）は蒸発皿を輻射熱で加熱する例を示している。図１６（ａ）の構成では、蒸発皿１０５の下側に加熱ブロック１０７を接触させて配置して、加熱ブロックをシーズヒータ１０９等の加熱手段により加熱して蒸発皿を加熱している。この構成によれば、蒸発皿１０５が加熱室底面と接続されるため、皿面の清掃が容易となる。
図１６（ｂ）に示す構成では、蒸発皿１０５の下側に輻射熱により加熱する管ヒータ１１１と、管ヒータ１１１の回りに反射板１１３とを設け、管ヒータ１１１の発熱を直接に又は反射板１１３により反射させて蒸発皿１０５を加熱している。この構成によれば、一層低コストで蒸発皿を加熱することができる。
【００７８】
図１７は蒸気発生部からの蒸気を加熱室内に供給する際の蒸気の供給方向を変更した一例としての概略構成図であり、（ａ）は側面図、（ｂ）は平面図である。
図１７（ａ）に示すように、蒸気発生部１５で発生した蒸気は、蒸気パイプ２９を通り、加熱室１１内の被加熱物Ｍに向けて供給される。つまり、蒸気パイプ２９の終端側２９ａの加熱室１１側への取り付け角度を、加熱室１１底面と平行な受け皿２１の載置面に対して斜め上方から蒸気を供給するように設定する。さらに、図１７（ｂ）に示すように、蒸気パイプ２９が２本ある場合に、それぞれが加熱室１１内の被加熱物Ｍに向けて蒸気を供給するように、蒸気パイプ２９の終端側２９ａを加熱室１１の中心に向けて配置する。なお、いずれの場合も被加熱物Ｍは受け皿２１の略中央部に載置されるものとする。
【００７９】
この構成によれば、蒸気が被加熱物Ｍに向けて供給されるため、被加熱物Ｍに蒸気の熱量が集中的に加えられ、被加熱物Ｍを一層早く加熱することができ、蒸気による被加熱物Ｍへの水分補給が確実となる。また、蒸気の加熱室１１壁面等への熱授受が減少するために、加熱効率が向上する。従って、高周波加熱調理器の調理性能が向上し、調理時間も短縮できる。さらに、蒸気が直接加熱室壁面に当たらないので、壁面の結露を低減できる。
【００８０】
図１８は加熱室内に蒸気パイプを設けた構成例を示す概略側面図である。この場合の蒸気パイプには、スケール、調理物の付着汚れを簡単に除去できるフッ素塗装等の表面処理、雑菌の繁殖を防止する抗菌処理等が施されている。この構成によれば、簡単な構造で蒸気を加熱室の上方空間に導くことができ、しかも清掃により簡単に汚れが除去できるので、使い勝手が向上する。
【００８１】
（第２の実施の形態）
図１９および２０は、本発明の第２の実施の形態の高周波加熱装置の概略構成断面図である。
【００８２】
図１９および図２０に示すように、高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室１１１、加熱室上部に設けられたヒータ加熱を行なう加熱手段としての上部ヒータ１１７と、加熱室底面に設けられた高周波を発生させ高周波加熱を行なう高周波発生部１１３と、加熱室底面奥即ち、背面の壁面に沿って設けられた蒸気発生部１１５と、裏面に高周波発熱体１７７を設け、被加熱物を載置する受け皿としての仕切り板１７７とを備えている。高周波発生部１１３から発信したマイクロ波は、下方より加熱室１１１内に供給される。そして、受け皿１２１は加熱室側面に設けたレール（図示せず）に載せて使用する。
【００８３】
図２０に示すように、蒸気発生部１１５は、加熱室底面に背面の壁面に沿って設けられている。加熱室内壁１１１には背面中央に突出部１１２が形成され、仕切り板との間に間隙Ｓを形成している。ここで、蒸気発生部１１５から発生した蒸気は図１９に示すように加熱室内壁１１１と仕切り板１２１の間隙Ｓを通って上昇して、仕切り板１２１と上部ヒータ１１７との間に高濃度の蒸気が溜まり構成になっている。高濃度の蒸気は仕切り板１２１に置いた被加熱物を包み込み、高周波加熱時には仕切り板１２１の裏面に高周波発熱体１７７を設け、下方より均一に供給されたマイクロ波により高周波発熱体１７７が均一に加熱されることで均一に焦げ目が付くことになる。また、高濃度に溜まった蒸気は１００℃の熱による包み焼き加熱をすることで被加熱物に均一加熱すると同時に均一に保水し、減水を最小限に抑えることが出来る。また、ヒータ加熱時はヒータの熱によって蒸気が過加熱状態になり、更に均一な包み焼き加熱を実現すると同時に蒸気を被加熱物周囲に十分に充満させ、無酸素状態に構成することで油の酸化を抑え、かつ塩分の塩角を取り除くことによってまろやかな味に仕上げることが可能になる。
【００８４】
仕切り板１２１として、窒化物あるいは硼化物などからなる高周波発熱体（高周波吸収体）１７７を裏面に設けたセラミック製の仕切り板１２１を用いて被加熱物として塩サバを用いた場合、マイクロ波と蒸気による加熱を行い、次に加熱室上部の上部ヒータ１１７と蒸気の加熱を行なうことによって塩サバの内部がマイクロ波により加熱され、表面裏面共に焦げ目が付き、かつ蒸気の包み焼き加熱によって減水率を最小限に抑える。蒸気を過加熱状態にすることでとげとげしい塩辛さを取り除くことでまろやかな塩辛さの出来上がりを実現したものである。
【００８５】
仕切り板１２１の配置および構成として、加熱室を上方部分と下方部分に分割するように、仕切り板１２１の外形を加熱室側壁面および加熱室を塞ぐ扉との間隙が小さくなるように構成したことにより、高濃度の蒸気を被加熱物に供給することが出来る。また、下方から供給されたマイクロ波が仕切り板１２１の上方に回り込むことが少なくなり、高周波発熱体へのマイクロ波の供給量が多くなり、被加熱物の下面の焦げ目がより付きやすくなるという効果がある。
【００８６】
なお、加熱手段としては、上部ヒータ１１７としての管ヒータ、シーズヒータ等の他に、熱風を用いても良い。なお、仕切り板１２１として、裏面に高周波発熱体１７７を設けた被加熱物を載置する仕切り板１２１以外にも、受け皿自身を高周波で発熱するセラミックで形成しても良い。
【００８７】
なお、上記加熱装置において、底面に高周波分散手段としてスタラ羽根を設けてもよい。このような加熱装置は、加熱室底面に設けられた高周波を発生させ高周波加熱を行なう。このスタラ羽根は高周波発生部１１３から発信したマイクロ波を被加熱物に均一に照射するために、高周波を分散させて加熱室内に供給するための高周波分散手段として有効である。この構成によって、マイクロ波はより均一に下方より加熱室内に供給され、被加熱物をより均一に加熱することができた。
【００８８】
また、仕切り板１２１として、セラミック製材料の変わりに、高周波を遮蔽することのできる金属で構成することにより、下方から供給されたマイクロ波が上方に回り込むことがより少なくなり、被加熱物の減水率を最大限に抑えると同時に蒸気によって更に包み焼き効果を向上させることで被加熱物の旨味を保ったまま調理をすることが出来るという効果がある。
【００８９】
このようにして下方より均一に供給されるたマイクロ波により高周波発熱体を設けた仕切り板が均一に加熱されると同時に蒸気とヒータによる均一な包み焼き加熱調理を行なうことが出来る。
【００９０】
なお、前記第２の実施の形態では、加熱室内壁１１１の背面側に一つの突出部１１２を形成することにより、間隙Ｓを形成したが、変形例として、図２１に示すように、加熱室内壁１１１の背面の両サイドに凹部１１３を形成することにより、仕切り板１２１と加熱室内壁との間に間隙Ｓ０を２つ形成し、２ヶ所から蒸気を上方空間に導くようにしてもよい。
【００９１】
また、加熱室内壁２１１側ではなく、図２２に示すように、仕切り板自体の４隅に貫通孔Ｓ１を形成してもよい。この構成によっても、蒸気発生部で発生した蒸気はこの貫通孔Ｓ１を通過して上方空間に導かれる。なお、下方空間に給気口を設け、外気の供給を行なうようにしてもよい。これにより、外気は下方空間で、蒸気と良好に接触し蒸気温度を低下させ、貫通孔Ｓ１を通って、上方空間に供給される。このとき、外気の流入量によって蒸気温度を調整することができるこれにより蒸気温度を調整することができ、卵料理などに有効な８５℃以下での低温蒸気での加熱を実現することもで可能である。
さらにまた、図２３および図２４に示すように、仕切り板３２１の周縁に沿って多数の貫通孔Ｓ２を配列してもよい。この場合は加熱室内壁３１１から若干離間した位置で蒸気が上方空間に供給されるため、加熱室内壁への結露を防止することができる。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明の高周波加熱調理器によれば、被加熱物を載置すると共に加熱室の底面より所定間隔を隔てて、上方に脱着自在に配設することで該加熱室内の空間を分割する仕切り板を有し、蒸気発生部で発生させた蒸気を仕切り板より上方に位置する上方空間内に効率よく供給できることから、蒸し調理に有効で、取り扱いの容易な高周波加熱装置を提供することができ、種々の蒸し調理に適用可能である。また、結露を防止することができることから取り扱いが容易で、メンテナンスフリーで仕上がりの良好な高周波加熱装置として有効である。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る高周波加熱調理器の開閉扉を開けた状態を示す正面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面における概念的な矢視図である。
【図３】高周波加熱調理器の制御ブロック図である。
【図４】高周波加熱調理器の蒸気発生の基本原理を表す説明図である。
【図５】加熱ブロックの外観図で（ａ）は上面側、（ｂ）は裏面側の斜視図である。
【図６】加熱室内における蒸気発生部の概略的な（ａ）分解図、（ｂ）組立図である。
【図７】図１のＢ方向矢視図である。
【図８】受け皿の外観斜視図である。
【図９】図８のＣ−Ｃ断面図で（ａ）は凸部を形成した例、（ｂ）は金属板が波形である例を示す図である。
【図１０】受け皿上に載置した被加熱物を、加熱室内に高周波及び蒸気を供給して加熱処理する様子の一例を概念的に示す説明図である。
【図１１】蒸し調理の加熱パターン例を示す説明図である。
【図１２】予熱の有無による被加熱物の温度の時間変化を示すグラフである。
【図１３】加熱室内の雰囲気温度を上げたい場合の加熱パターンを示す説明図である。
【図１４】グリル調理の加熱パターン例を示す説明図で、（ａ）は蒸気供給なし、（ｂ）は蒸気供給ありの例を示す温度変化のグラフである。
【図１５】高周波加熱を併用してグリル加熱を行なう加熱パターン例を示す説明図である。
【図１６】蒸気発生部の加熱方式に対する他の構成例を示す図で、（ａ）は加熱ブロックと蒸発皿とを別体に形成した例、（ｂ）は蒸発皿を輻射熱で加熱する例を示す断面図である。
【図１７】蒸気発生部からの蒸気を加熱室内に供給する際の蒸気の供給方向を変更した一例としての概略構成図であり、（ａ）は側面図、（ｂ）は平面図である。
【図１８】加熱室内に蒸気パイプを設けた構成例を示す概略側面図である。
【図１９】本発明の第２の実施の形態の高周波加熱装置の概略構成断面図
【図２０】同高周波加熱装置の概略構成断面図
【図２１】本発明の第２の実施の形態の高周波加熱装置の変形例を示す要部拡大断面図
【図２２】本発明の第２の実施の形態の高周波加熱装置の変形例を示す要部拡大断面図
【図２３】本発明の第２の実施の形態の高周波加熱装置の変形例を示す要部拡大断面図
【図２４】本発明の第２の実施の形態の高周波加熱装置の変形例を示す要部拡大断面図
【符号の説明】
【００９４】
１１  加熱室
１３  高周波発生部
１５  蒸気発生部
１７  上部加熱ヒータ（予熱手段）
２１  受け皿
２５  係止部
２９  蒸気パイプ（蒸気搬送路）
３９  制御部
４５  加熱ブロック
４５ａ  水溜凹所
４５ｂ  加熱部
４７  蒸気ダクト
４９  逆止弁
５１  給水管
５１ａ  中間部配管
５３  シーズヒータ
５５  吐出側配管
５９  吐出口
６１  本体
６３  収容穴
６５  サーミスタ
６７  開口孔
６９  段付き部
７１  蓋体
７１ａ  開口孔
７３  蒸気取り出し口
７５  金属板
７７  高周波発熱体
７９  固定部材
８１  高周波吸収膜
８５  蒸気噴き出し口
８７  加熱室空間
９１  操作パネル
９３  スタートスイッチ
９５  記憶部
９７  自動調理スイッチ
１００  高周波加熱調理器
１０１  蒸気供給スイッチ
１０５  蒸発皿
１０７  加熱ブロック
１０９  シーズヒータ
Ｍ     被加熱物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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