(57)【要約】【課題】反応容器内で、粒子径の均一な粒子を製造する。【解決手段】本発明の実施形態に係る粒子製造装置は、反応容器１と、原料ガスと反応抑制剤発生ガスを導入するガス導入部２と、反応容器１にキャリアガスを導入する不活性ガス導入部と、反応容器１に設けられるヒータ５と、排出部６とを備え、粒子の生成反応とその逆反応を用いて、粒子の成長を制御する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応容器にキャリアガスを導入し、
前記反応容器内を加熱し、
前記反応容器に原料ガスと反応抑制剤発生ガスを導入する
ことを特徴とする粒子製造方法。
【請求項２】
前記原料ガスは、前記反応容器内で熱分解反応により粒子を生成し、
前記反応抑制剤発生ガスは、前記粒子を触媒として、前記熱分解反応を阻害する阻害成分を発生させることを特徴とする請求項１記載の粒子製造方法。
【請求項３】
前記反応抑制剤発生ガスは、水素と二酸化炭素であることを特徴とする請求項１記載の粒子製造方法。
【請求項４】
前記反応容器に導入する前記反応抑制剤発生ガスの量により、粒子径を制御することを特徴とする請求項１記載の粒子製造方法。
【請求項５】
反応容器と、
前記反応容器の一端側から、原料ガス及び反応抑制剤発生ガス及びキャリアガスを前記反応容器に導入する導入部と、
前記反応容器の外壁に設けられたヒータと、
前記反応容器の他端側から、前記キャリアガス及び生成粒子を排出する排出部と、
前記排出部から排出された前記生成粒子を冷却するクーラと、
前記クーラから前記生成粒子を貯蔵する保存部と
を備えることを特徴とする粒子製造装置。
【請求項６】
前記反応抑制剤発生ガスは、水素と二酸化炭素であることを特徴とする請求項５記載の粒子製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、粒子製造方法および粒子製造装置に係り、特に気相反応を用いて気相中で粒子を調製する粒子製造方法および粒子製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ナノメートルサイズの粒子は比表面積（単位体積あたりの表面積）が大きく、量子サイズ効果など従来にない機能を有し、新しい形態の物質として近年注目されつつある。このナノメートルサイズの粒子は、粒子の種類によって、触媒、電池電極、可視光ＬＥＤ素子やディスプレイの蛍光体などに応用されている。
【０００３】
粒子を製造する方法、粒子サイズを制御する方法として、例えば、特許文献１がある。
【０００４】
これは、反応容器に原料ガス導入部と、表面付着物導入部とを別個に備える構成である。反応容器内に原料ガスとキャリアガスを流しながら、粒子を成長させながら、原料ガス導入部の反対側から生成された粒子を収集する。
【０００５】
粒子は、キャリアガスに乗って、反応容器内を移動しながら成長する。
【０００６】
所望の大きさの粒子を得る方法としては、収集した粒子をフィルタなどで篩い分けしてもよいが、粒子表面に表面付着物を吹きつけて、成長を強制的に止めても良い。このため、反応容器の横に、表面付着物導入部を設けている。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００１−２６１３３５公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上述のような構成をした従来の粒子製造装置では、粒子の成長中のどこで表面付着物を導入するかによって粒子サイズを制御していたので、所定の大きさを有した粒子を得るためには、原料ガス導入口とは異なる表面付着物導入部を必要とした。
【０００９】
さらに、大きさの異なる粒子を製造するためには、表面付着物導入口を移動させなければならなかった。あるいは、複数の表面付着物導入口を設けておく必要があった。
【００１０】
また、表面付着物導入口を移動させても、反応容器内のガスの流速が異なっており、所望の大きさのみの微粒を得る事は困難であった。生成粒子の大きさを制御することは、所望の大きさ以外の粒子はフィルタなどで取り除くことになるので、製造効率に大きく影響する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の実施形態は、反応容器にキャリアガスを導入し、前記反応容器内を加熱し、前記反応容器に原料ガスと反応抑制剤発生ガスを導入することを特徴とする粒子製造方法である。
【００１２】
前記原料ガスは、前記反応容器内で熱分解反応により粒子を生成し、前記反応抑制剤発生ガスは、前記粒子を触媒として、前記熱分解反応を阻害する阻害成分を発生させるものであっても良い。
【００１３】
前記反応抑制剤発生ガスは、水素と二酸化炭素であってもよい。
【００１４】
前記反応容器に導入する前記反応抑制剤発生ガスの量により、粒子径を制御するものであってもよい。
【００１５】
また、本発明の実施形態は、反応容器と、前記反応容器の一端側から、原料ガス及び反応抑制剤発生ガス及びキャリアガスを前記反応容器に導入する導入部と、前記反応容器の外壁に設けられたヒータと、前記反応容器の他端側から、前記キャリアガス及び生成粒子を排出する排出部と、前記排出部から排出された前記生成粒子を冷却するクーラと、前記クーラから前記生成粒子を貯蔵する保存部とを備えることを特徴とする粒子製造装置である。
【００１６】
ここで、前記反応抑制剤発生ガスは、水素と二酸化炭素であってもよい。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。
（実施形態１）
図１は、第１の実施の形態を示す構成図である。
【００１８】
本粒子製造装置は、反応容器１の一端にガスを導入するガス導入部２が設けられている。
【００１９】
ここでは、反応容器１に導入されるガスは、原料ガス２１、反応抑制剤発生ガス２２、及びキャリアガス４である。なお、図１においては、これらのガスを混合して反応容器１に導入する例を示したが、反応容器の一端側に別々に導入口を設けることも可能である。
【００２０】
反応容器１の外壁には、励起手段となるヒータ５が設けられている。ヒータ５は、反応容器１内を化学反応がおこる温度に加熱し、保持する。この設置位置は、好ましくは反応容器１の中央部近傍の外壁にのみ設けることが好ましい。中央よりも上流側に設けないのは、反応容器１の入口付近で化学反応がおこると、ガス導入部２等の導入部の入口付近に反応生成物が付着し、入口を塞ぐ可能性があるためである。また、下流側に設けないのは、生成された粒子が必要以上の大きさになるような粒子成長をさせないためである。無論、中央部近傍は、中央のみを意味するものではなく、反応を促進するうえで好ましいように設定する。
【００２１】
反応容器１のガス導入部２とは反対側端には排出部６が設けられている。
【００２２】
さらに、排出部６から排出される生成粒子とキャリアガスとはクーラ７に導かれ、保存部８に貯蔵される。保存部８には、貯蔵された粒子が凝集しないように、内部に水もしくはエタノールもしくはメタノールなどの溶媒が溜められており、この溶媒中に粒子が吹き込まれる。
【００２３】
図示はしないが、保存部８に貯蔵された粒子を含む溶媒から液体成分や表面付着物を取り除くヒータとが付加されていることもある。
【００２４】
キャリアガス４は、窒素などの不活性ガスを用いる。
【００２５】
ここでは、原料ガス２１と反応抑制剤発生ガス２２は、反応容器１に導入する前に混合する。この混合ガスにキャリアガスをさらに混合して、反応容器１に導入される。また、キャリアガスは、原料ガス２１と反応抑制剤発生ガス２２との混合ガスとは別の導入口から反応容器１に導入することも可能である。
【００２６】
原料ガスは、Ｆｅ（ＣＯ）５である。
【００２７】
反応抑制剤発生ガスは、水素と二酸化炭素である。
【００２８】
次に、粒子の生成方法を説明する。
【００２９】
（１）キャリアガス４反応容器１に導入し、ガス導入部２から排出部６への安定した気流を作る。反応容器１内の気圧は約１０１．３ｋＰａ（７６０ｔｏｒｒ）とする。
【００３０】
（２）ヒータ５により、反応容器１内の温度を約６００〜７００℃になるよう加熱する。クーラ７内の温度は室温程度、気圧は約１０１．３ｋＰａ（７６０ｔｏｒｒ）と設定する。
【００３１】
（３）原料ガス２１と反応抑制剤発生ガス２２の混合ガスがガス導入部２から反応容器１に導入される。原料ガス２１と反応抑制剤発生ガス２２の導入口を別個に設け、原料ガス２１の導入とほぼ同時に反応抑制剤発生ガス２２を導入しても良い。また、キャリアガス４の導入口を混合ガスの導入口と別に設けても良い。
【００３２】
（４）反応容器１内では、以下に示す熱分解反応（式１）が起こる。なお、化学反応はヒータ５によって約６００〜７００℃に加熱された領域（以下、反応領域と呼ぶ）でおこる。
【００３３】
Ｆｅ（ＣＯ）５  →  Ｆｅ  ＋  ５ＣＯ  ・・・（式１）
化学反応（式１）により、原料ガス２１からＦｅ粒子が得られる。その平均径は数ｎｍ程度である。
【００３４】
また、反応抑制剤生成ガス２２として、水素、二酸化炭素が導入される。これらは、化学反応（式２）を起こす。
【００３５】
Ｈ２  ＋  ＣＯ２  →  Ｈ２Ｏ  ＋  ＣＯ  ・・・（式２）
この反応によりＣＯが生成される。これは、水性ガス反応と呼ばれ、鉄などを触媒として進行することが知られている。
【００３６】
ところで、化学反応（式１）には、逆反応（式３）がある。
【００３７】
Ｆｅ  ＋  ５ＣＯ  →  Ｆｅ（ＣＯ）５  ・・・（式３）
したがって、ＣＯが存在すると、化学反応（式３）も同時に起こり、この化学反応はＣＯ濃度が高いほど進行する。つまり、ＣＯ濃度が高いほど化学反応（式１）の進行が阻害されることを示す。
【００３８】
すなわち、反応（式１）により、原料ガス２１からＦｅが生成されると同時に、反応（式２）により、反応抑制剤生成ガス２２から水と熱分解反応阻害成分であるＣＯが発生する。反応（式１）が進み、Ｆｅが生成されると、そのＦｅが触媒となり、今度は反応（式３）を進行させ、反応（式１）の進行が抑えられるのである。
【００３９】
このようにして、反応容器１内で、キャリアガスの流れとともに、原料ガス、Ｆｅ粒子、ＣＯ、水などの生成物が排出部６へと導かれる。
【００４０】
（５）反応容器１から排出されたＦｅ粒子を含むキャリアガスは数百度であるため、クーラ７に導入されて、室温程度にまで冷却される。
【００４１】
（６）冷却された粒子を含んだキャリアガスは、保存部８内部に溜められている溶媒中に導入される。溶媒を通過する際に、溶媒中にＦｅ粒子は溶け込み、キャリアガスだけが保存部８外部の大気中に放出される。
【００４２】
（７）Ｆｅ粒子は、溶媒中に溶け込んだ状態で保存される。ここで、Ｆｅ粒子が必要な場合には、保存部８から溶媒を所望量汲み出して、溶媒をヒータにより加熱し、溶媒成分を蒸発させて溶質となるＦｅ粒子のみを析出させる。
【００４３】
図２に、本実施形態により粒子を作成した例を示す。ここで、横軸は得られたＦｅ粒子の粒子径を表し、縦軸は収集された粒子の粒子数を表す。
【００４４】
合成した粒子の分布３１は、原料であるＦｅ（ＣＯ）５の流量を１ｓｃｃｍとし、水素、二酸化炭素をそれぞれ５０ｓｃｃｍ供給した場合である。また、粒子の分布３２は、原料であるＦｅ（ＣＯ）５の流量を１ｓｃｃｍとし水素、二酸化炭素をそれぞれ１０ｓｃｃｍ供給した場合を表す。
【００４５】
図に示したように、反応容器１に導入する原料ガス２１と反応抑制剤発生ガス２２との比を変えて、２つの条件で合成した結果、粒子分布にピーク３１とピーク３２が得られた。ピーク３１は粒子径の小さいものであり、ピーク３２は、それよりも大きなものである。両方とも、所定の粒子径を中心にして、極めて狭い粒子径の分布を示している。即ち、得られたＦｅ粒子は、その粒子径が良くそろっていることがわかる。
【００４６】
また、原料ガス２１と反応抑制剤発生ガス２２との比を変えることにより、得られる粒子径を制御することが可能である。つまり、供給する反応抑制剤発生ガスの濃度を高くすることで粒子径を小さく、低くすることで粒子径を大きくすることが可能である。
【００４７】
一方、従来方法では、粒子径が幅広く分布している。
【００４８】
以上述べたように、反応抑制剤発生ガスを原料ガスとともに導入することにより、粒子径が小さく、分布の少ない粒子を合成できる。また、廃棄する粒子がないので、原料ガスの利用効率を向上させることができる。
（実施形態２）
本実施形態は、Ｃｏ粒子を合成するものである。
【００４９】
ここでも、第１の実施形態と同様の粒子製造装置を用いることができる。
【００５０】
原料ガスは、Ｃｏ２（ＣＯ）８である。
【００５１】
反応抑制剤発生ガスは、水素と二酸化炭素である。
【００５２】
キャリアガスは、不活性ガスを用いることができるが、ここでは窒素である。
【００５３】
原料ガスは反応炉内１で加熱され、
Ｃｏ２（ＣＯ）８  →  ２Ｃｏ  ＋  ８ＣＯ  ・・・（式４）
の反応が起こる。その結果、Ｃｏ粒子が得られる。その平均径は数ｎｍ程度である。
【００５４】
反応（式４）には、逆反応があり、
２Ｃｏ  ＋  ８ＣＯ  →  Ｃｏ２（ＣＯ）８  ・・・  （式５）
であらわされる。この反応は、ＣＯ濃度が高いほど進行する。つまりＣＯ濃度が高いほど反応（式４）の進行が阻害され、結果的にＣｏ粒子の生成を抑制する。
【００５５】
ここでも、反応（式２）により、反応抑制剤発生ガスから、Ｃｏを触媒として、ＣＯが生成される。したがって、Ｃｏが反応（式４）により生成されると、それに伴って、反応（式２）によるＣＯ生成反応も進み、反応（式５）による成長抑制反応が働くことになる。
【００５６】
このようにして、Ｃｏ粒子をより狭い粒径分布で合成することができ、また、粒径の制御が容易にできる。
（実施形態３）
本実施形態は、Ｎｉ粒子を合成するものである。
【００５７】
ここでも、第１の実施形態と同様の粒子製造装置を用いることができる。
【００５８】
原料ガスは、Ｎｉ（ＣＯ）４である。
【００５９】
反応用製剤発生ガスは、水素と二酸化炭素である。
【００６０】
キャリアガスは、ここでは窒素を用いる。
【００６１】
原料ガスは、反応炉内１で加熱され、
Ｎｉ（ＣＯ）４  →  Ｎｉ  ＋  ４ＣＯ  ・・・（式６）
の反応が起こる。その結果、Ｎｉ粒子が得られる。その平均径は数ｎｍ程度である。
【００６２】
反応（式６）には、逆反応があり、
Ｎｉ  ＋  ４ＣＯ  →  Ｎｉ（ＣＯ）４  ・・・  （式７）
であらわされる。この反応はＣＯ濃度が高いほど進行する。つまりＣＯ濃度が高いほど反応（式６）の進行が阻害され、結果的にＮｉ粒子の生成を抑制する。
【００６３】
ここでも、反応（式２）により、Ｎｉを触媒として、ＣＯが生成される。したがって、Ｎｉが反応（式６）により生成されると、それに伴って、反応（式２）によるＣＯ生成反応も進み、反応（式７）による成長抑制反応が働くことになる。
【００６４】
このようにして、Ｎｉ粒子をより狭い粒径分布で合成することができ、また、粒径の制御が容易にできる。
【００６５】
【発明の効果】
以上述べたような本発明によれば、粒子の粒子径を制御して、粒子の製造を容易にできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】粒子製造装置の実施の形態を示す概略構成図。
【図２】実施形態により生成した粒子の粒径分布を示す図。
【符号の説明】
１  反応容器
２  ガス導入部
５  ヒータ
６  排出部
７  クーラ
８  保存部
【図１】
2004243253.tif 000003
【図２】
2004243253.tif 000004