(57)【要約】【課題】従来行われているガスセルを用いた校正は、絶対波長を精度よく決定することができるが取扱が難しい。【解決手段】プラズマ光源を用いたＥＵＶ分光器において２段階で波長校正を行なう。波長スキャンしながらガスセルの吸収スペクトルを計測し、光源の輝線スペクトルの波長をガスセルの吸収波長（精度よく波長が求まっている）を基準として決定する。それ以降は、光源の輝線あるいはフィルタの吸収端を基準として分光器の出射光の波長を決定する。光源のスペクトル中の輝線あるいはフィルタの吸収端は光源やフィルタを変えなければ、常に一定なので、分光器を使用する場合，いつでも利用可能。試料に入射する光の強度をモニタする検出器で、光源の輝線あるいはフィルタの吸収端を見る。事前に確定した分光器の光学素子の位置または角度と出射光の波長との関係にずれがないことを確認し、もしずれがあった場合には校正をやり直す。【選択図】　　　　図１
2004108808.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスの吸収スペクトルと、光源あるいは光学素子固有のスペクトルとを併用することで、の波長を確定し、その後は光源あるいは光学素子固有のスペクトル構造の波長によって出射光の波長を確定することを特徴とする、分光器の波長校正方法。
【請求項２】
分光器から出射する光の強度をモニタする検出器で、光源あるいは光学素子固有のスペクトル構造に相当する波長の光が出射する分光器の設定値を確認し、事前に確定した分光器の設定値と出射光の波長との関係にずれずれがあった場合には、そのずれに基づいて分光器の設定と出射光の波長との関係を設定し直す分光器の波長校正方法。
【請求項３】
分光器の設定値とは、回折格子あるいは回折格子とその前後のミラーやスリットを含む光学素子の、位置または角度である。
【請求項４】
光源はレーザー励起や放電励起によるプラズマ光源で、光源固有のスペクトル構造としてその輝線を利用する。
【請求項５】
光学素子固有のスペクトル構造として、フィルタ材料の吸収端を利用する。
【請求項６】
光学素子固有のスペクトル構造として、検出器の量子効率特性を利用する。
【請求項７】
光学素子固有のスペクトル構造として、ミラーまたは回折格子反射面材料の反射率特性を利用する。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は分光器の波長校正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
試料の分析などの目的のため、単色の光を取り出す装置である分光器は光源からの光を分光して特定の波長の光のみを取り出して試料に照射し反射光や透過光、発生する２次電子などを計測する測定が広く行われてきた。例えば、蛍光Ｘ線分析や、オージェ電子分析、真空中の試料表面にＸ線を照射し、放出される光電子のスペクトルを計測する光電子分光解析、Ｘ線吸収分光法（ＸＡＳ）により得られるＸＡＦＳ（スペクトル微細構造）解析などが行われている。また、反射鏡の反射率など光学素子の特性を評価することも行われてきた。
【０００３】
光源としては、シンクロトロン放射光光源、レーザー励起プラズマ光源、放電プラズマ光源などが用いられる。
【０００４】
図１１に従来の分光器の例を示す。分光器としては回折格子分光器あるいは結晶分光器が用いられる。分光器は回折格子または分光結晶の角度を変化させて、出射光の波長を変化させる。分光器から出射する光の波長は、回折格子角度設定や回折格子の溝間隔、入射スリット位置、出射スリット位置などによって変化する。従って、これらのパラメータの誤差によって、出射する光の波長に誤差が生じる可能性がある。
【０００５】
このため、定期的に、ガスセルを用いて分光器出射光の波長校正を行う必要があった。この目的のため、従来はガスセルによる波長校正が行われてきた。ガスセルはガス固有の吸収スペクトル構造をもとに分光器から出射する光の波長を決定するものである。ガスセルは図１３に示すように、光を透過する薄膜の窓をもった密閉容器にガスを所定の圧力に充填したものである。充填するガスの種類は校正を行う光の波長に応じて選ぶ必要があり、波長１３〜１４ｎｍ領域では、この波長域に吸収スペクトルをもつクリプトンガスが用いられる。
【０００６】
ガスセルの吸収による入射光の減衰を測定する場合には、ビームの入射窓と出射窓があるガスセルを用い、出射したビームの強度を検出器で測定する。またガスセルなしでビーム強度を測定し、ガスセルあり／なしの強度の比がガスセルの透過率を与える。１からガスセルの透過率を引けば、ガスセルの吸収率が例えばス１５のように求まる。
【０００７】
ガスセルの吸収による電離電流を測定する場合には、図１４に示すように、ガスセルの中に１対の電極を設け、この間に電圧を印加する。ガスセルの中にＥＵＶ光が入射した場合にはガスの電離がおこり、電離電流が電極の間に流れる。これを電流計で測定する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ガスセルは薄膜の窓を持っている。クリプトンを１００Ｐａ程度の圧力に封入してある。薄膜の窓材は例えば窒化珪素膜の場合、厚さ２００ｎｍで波長１３ｎｍのＥＵＶ光の透過率は２０％程度である。分光器の光学系は気体による吸収を避ける目的のために、全系が真空中に入れられている。このため、光透過窓は内部のガスの圧力がかかる。窓はこの圧力に耐える必要がある。
【０００９】
また、分光器ガスセルを真空中に入れる場合には、内部と外部の圧力差が生じやすく、窓に大きな差圧がかかり破損する危険性がある。
【００１０】
このようにガスセルの窓は非常に割れやすく、ガス漏れ事故の起きる可能性がある。ガス漏れが生じた場合には、分光器の真空度が悪化し、最悪の場合、光源、たとえばシンクロトロン光源の損傷を生じさせる危険がある。
【００１１】
このため、分光器光学系に常時設置しておき随時波長校正を行うような使い方は現実的でなく、装置立上時などに臨時にガスセルを設置して波長校正を行うことが行われてきた。図１２に従来の波長校正と試料測定のフローチャートの例を示す。
【００１２】
分光器から出射する光の波長は、回折格子や分光結晶などの分光素子の位置と角度、およびピンホールやスリット等の光束制限手段の位置によって決まる。分光器は非常に精密な機構をもちこれらの位置や角度を精密に制御している。しかし環境温度変化や、光照射による素子の温度変化や、分光器を設置する架台や床の形状変化、大気圧の変動による真空チャンバの伸縮などにより、光学素子や光束制限手段の位置や角度が変化し、出射する光の波長が変動することは避けられない。
【００１３】
すなわち、ガスセルは絶対波長を精度よく決定することができるが、取扱が難しく、特に超高真空中で常時使用することが困難であり、波長校正を常時行うことはできなかった。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
プラズマ光源を用いたＥＵＶ分光器において２段階で波長校正を行なう。波長スキャンしながらガスセルの吸収スペクトルを計測し、光源の輝線スペクトルの波長をガスセルの吸収波長（精度よく波長が求まっている）を基準として決定する。それ以降は、光源の輝線あるいはフィルタの吸収端を基準として分光器の光学素子の位置または角度と出射光の波長との関係をもとめ、分光器の出射光の波長を決定する。ガスセルは絶対波長を精度よく決定することができるが、取扱が難しく、特に超高真空中では使用することが困難であるが、光源のスペクトル中の輝線あるいはフィルタの吸収端は光源やフィルタを変えなければ、常に一定なので、分光器を使用する場合，いつでも利用可能である。
【００１５】
試料に入射する光の強度をモニタする検出器（Ｉｏモニタ）で、光源の輝線あるいはフィルタの吸収端を見る。事前に確定した分光器の光学素子の位置または角度と出射光の波長との関係にずれがないことを確認する。もしあらかじめ決めておいた許容量を越えるずれがあった場合には波長校正関数を補正する。
【００１６】
【発明の実施の形態】
（実施例１）
本実施例は図２に示すように
レーザープラズマ光源
回折格子分光器
ガスセル
測定試料
からなる。
【００１７】
レーザープラズマ光源はターゲット材料に集光したレーザー光をパルス状に照射し、高温のプラズマを発生させ、軟Ｘ線やＥＵＶ光を発生させる。このとき放射される光は、ターゲット材料に含まれる原子が高度にイオン化した状態の電子準位間の遷移に伴う輝線スペクトルと、高温の物質から放射される黒体輻射の連続スペクトルとが重畳したものになる。ターゲットとしては、固体金属、高圧ガス、液体、などが用いられる。
【００１８】
回折格子分光器は
前置集光鏡
入射スリット
回折格子
後置集光鏡
からなる。
【００１９】
回折格子は角度を設定するステージに載っており、そのステージには、駆動用モーターとロータリーエンコーダが設けられており、回折格子の角度を設定し、同時にその角度を計測することができる。回折格子の上流には入射スリットが、下流には出射スリットが設置されており、回折格子に入射する光線と出射する光線のなす角度すなわち偏角は一定に保たれている。偏角が一定で回折格子を回転して回折格子への入射角を変化させることで、異なる波長の光を取り出すことができる。
【００２０】
光源から放射された光は、前置鏡で分光器入射スリット上に集光される。入射スリットを通過した光は回折格子に導かれ、波長毎に異なる角度に回折されて、特定の波長の光のみが出射スリットを通過する。出射スリットを通過した光は、後置鏡で集光され、サンプルに照射される。
【００２１】
本発明の光学装置では、測定は以下の手順で行われる。
【００２２】
まず、試料位置にガスセルを設置し、波長絶対値の測定を行う。
【００２３】
ガスセルは、従来の波長校正方法で用いられるものと同じく
ガスを充填する気密容器
内部に充填されたガス
ガスの圧力を所定の値に制御する機構
内部のガスに光を入射する窓
光電離電流を検出する１対の電極
電極に電圧を印加する直流電源
電極に流れる電流を測定する微小電流計
からなる。
【００２４】
回折格子を最初の基準角度に設定する。この基準は、ロータリーエンコーダの原点あるいはロータリーエンコーダの原点に一定量のオフセットを加えた角度でも良い。あるいは回転ステージに別途設けられた、基準位置を検出する光学式や電磁式のセンサでもよい。
【００２５】
この状態でレーザープラズマ光源を発光させ、ガスセルの電極に流れる光電離電流を測定する。光源の発光はパルス状なので、電流も短時間のパルス状にながれる。これを時間軸で積分し、電荷量として記録する。あるいは、電極からの流れる電荷を電荷−電圧変換回路を用いて電圧に変換して記録しても良い。このようにして、ガスセル中のガスに吸収される光のエネルギーに比例した量を得る。
【００２６】
次に、回折格子の角度を一定値だけ変化させながら、順次光源を発光させ、光電離電流の測定を行う。このようにして、回折格子の角度のある角度範囲にわたって、図３のように角度と電離電流の値の関係を得る。
【００２７】
ガスセル中のガスの吸収線の波長では、吸収率が高くなり、光電離電流が大きくなる。すなわち、光電離電流が極大となるときに、分光器からガスの吸収線の波長の光が出射されている。このときの回折格子角度をみれば、回折格子角度と出射光の波長との関係が１点求まる。このようにして、いくつかの角度で、回折格子角度と出射光の波長との関係を求める。
【００２８】
吸収スペクトルの波長は非常に精度良く求められており、波長基準として用いることができる。たとえば「Ｇ．Ｃ．Ｋｉｎｇ　ｅｔ　ａｌ　Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｂ　１０，２４７９（１９７９）」などの文献に詳細なデータが掲載されている。
【００２９】
また、回折格子への入射角と出射角が等しく、０次光が出射する条件を求めて、このときの回折格子角度と出射光の波長を０として、回折格子角度と出射光の波長との関係の測定点に加えてもよい。
【００３０】
次に回折格子の角度と出射光の波長との関係式すなわち波長校正関数を求める。
たとえば
理論式のパラメータを測定値から計算で求める。
【００３１】
少なくとも３点の波長で測定し、その間は２次式で近似して補間する。
【００３２】
少なくとも２点の波長で測定し、その間は１次式で近似して補間する。
などの方法がある。近似式は多項式以外にも、スプライン関数など適当な関数形を用いることができる。また理論式との微小なずれを近似式で補正しても構わない。また、使用する波長範囲を複数の区間に分割し、その区間ごと異なる関数で近似を行う方法も可能である。
【００３３】
以上の手順により、分光器の最初の波長校正は完了する。次に、光源の出射光のスペクトルを測定し、先に求めた校正式を元に、輝線の波長を求める。
【００３４】
ガスセルを撤去し、分光器の回折格子の角度を変化させながら、分光器出射光の強度を検出器で検出する。分光器の出射光の波長は、先に求めた校正式によって、回折格子角度から算出することができるので、図４に示すような波長と光強度の関係すなわち光源スペクトルが求まる。
【００３５】
光源スペクトルは、ターゲット材料に含まれる原子が高度にイオン化した状態の電子準位間の遷移に伴う輝線スペクトルと、高温の物質から放射される黒体輻射の連続スペクトルとが重畳したものになる。この中の特徴的な輝線について、波長を求める。この輝線の波長がこれ以降の波長基準となる。
【００３６】
次に、分光器を使用して反射率、透過率等の、照射する光の波長に依存した材料特性評価を行う。また、随時、分光器の回折格子の角度を変化させながら、分光器出射光の強度を検出器で検出する。分光器の出射光の波長は、先に求めた校正式によって、回折格子角度から算出し、波長と光強度の関係すなわち光源スペクトルを求める。このスペクトルデータにおいて、先に求めた輝線の波長と、今回のスペクトルで輝線が観測された際の分光器の設定波長を比較する。分光器に変化がなければ、両者は一致する。しかし分光器に何らかの変化があった場合には、両者に差が生じることがある。
【００３７】
輝線は、ターゲット材料に含まれる原子が高度にイオン化した状態の電子準位間の遷移に伴うエネルギー差によって波長が決まり、経時変化は起こらないので、波長差は、分光器の変化に伴うものといえる。
【００３８】
この波長差が小さい場合には、分光器の変化は小さく、先に決定した波長校正関数によって求めた波長の誤差は小さいので、継続してこの波長校正関数を使用することができる。また、この波長差があらかじめ決めておいた許容量を越えていた場合には、この波長差を補正するように波長校正関数を補正する。
【００３９】
この手続きを図１にフローチャートで示す。
【００４０】
本発明の分光器の校正方法によれば、高い精度で波長を決定できるガスセルを用いて波長校正を最初に行い、更に光源の輝線の波長をそれをもとに決定し、以後は観測される輝線の波長をもとに分光器の波長ずれを判断し、必要があれば波長校正関数を補正する。このため、分光器の出射波長を常に高い精度に維持することができる。また、取り扱いが難しいガスセルによる校正は１度行うだけでよいので、分光器の維持管理の負担が低減される。
【００４１】
（実施例２）
本実施例は図５に示すように
シンクロトロン光源
回折格子分光器
フィルタ
ガスセル
測定試料
入射光検出器
反射光検出器
からなる。
【００４２】
シンクロトロン光源は、高速に加速した電子などの荷電粒子が磁場によって曲げられた時に放射されるシンクロトロン放射を利用した光源である。その発光スペクトルは滑らかに連続しており、レーザープラズマ光源のような輝線の構造はもたない。
【００４３】
入射光検出器は、ビームの一部の光を検出し、その他の部分は透過させる方式の検出器で、穴明きのフォトダイオードや金属メッシュなどが用いられる。
【００４４】
回折格子分光器は
前置集光鏡
入射スリット
回折格子
後置集光鏡
からなる。
【００４５】
回折格子は角度を設定するステージに載っており、そのステージには、駆動用モーターとロータリーエンコーダが設けられており、回折格子の角度を設定し、同時にその角度を計測することができる。回折格子の上流には入射スリットが、下流には出射スリットが設置されており、回折格子に入射する光線と出射する光線のなす角度すなわち偏角は一定に保たれている。偏角が一定で回折格子を回転して回折格子への入射角を変化させることで、異なる波長の光を取り出すことができる。
【００４６】
光源から放射された光は、前置鏡で分光器入射スリット上に集光される。入射スリットを通過した光は回折格子に導かれ、波長毎に異なる角度に回折されて、特定の波長の光のみが出射スリットを通過する。出射スリットを通過した光は、後置鏡で集光され、サンプルに照射される。
【００４７】
本発明の光学装置では、測定は以下の手順で行われる。
まず、実施例１と同様の方法で、ガスセルによる波長絶対値の測定を行い、次に回折格子の角度と出射光の波長との関係式すなわち波長校正関数を求め、分光器の最初の波長校正は完了する。
【００４８】
次に、フィルタの透過光のスペクトルを測定し、先に求めた校正式を元に、吸収端の波長を求める。図６にフィルタ透過率の例を示す。
【００４９】
ガスセルを撤去し、分光器の回折格子の角度を変化させながら、分光器を出射しフィルタを透過した光の強度を検出器で検出する。分光器の出射光の波長は、先に求めた校正式によって、回折格子角度から算出することができるので、波長と光強度の関係すなわちフィルタ透過光のスペクトルが求まる。
【００５０】
フィルタの透過率は、フィルタ材料に含まれる原子の電子準位で決まり、吸収端の波長がこれ以降の波長基準となる。
【００５１】
つぎに分光器を使用して反射率、透過率等の、照射する光の波長に依存した材料特性評価を行う。この測定は分光器出射光の強度を入射光検出器で検出しながら行う。分光器の出射光の波長は、先に求めた校正式によって、回折格子角度から算出し、波長と光強度の関係すなわち光源スペクトルを求める。このスペクトルデータにおいて、先に求めた吸収端の波長と、今回のスペクトルで吸収端が観測された際の分光器の設定波長を比較する。分光器に変化がなければ、両者は一致する。しかし分光器に何らかの変化があった場合には、両者に差が生じることがある。このときの波長差は、分光器の変化に伴うものといえる。
【００５２】
この波長差が小さい場合には、分光器の変化は小さく、先に決定した波長校正関数によって求めた波長の誤差は小さいので、継続してこの波長校正関数を使用することができる。また、この波長差があらかじめ決めておいた許容量を越えていた場合には、この波長差を補正するように波長校正関数を補正する。
【００５３】
この手続きを図７にフローチャートで示す。
【００５４】
本発明の分光器の校正方法によれば、高い精度で波長を決定できるガスセルを用いて波長校正を最初に行い、更にフィルタの吸収端の波長をそれをもとに決定し、以後は観測されるフィルタの吸収端の波長をもとに分光器の波長ずれを判断し、必要があれば波長校正関数を補正する。このため、分光器の出射波長を常に高い精度に維持することができる。また、取り扱いが難しいガスセルによる校正は１度行うだけでよいので、分光器の維持管理の負担が低減される。
【００５５】
また本実施例の分光器波長校正方法によれば、波長校正のための測定を行わなくても、試料の測定と同時に常時波長ずれを監視できるので、分光器の波長ずれが起きた場合直ちに波長ずれを検知して波長ずれの補正を行うことができ、測定の精度や信頼性が向上する。
【００５６】
本実施例の波長校正方法における光源はシンクロトロン放射光光源に限定されるものでなく、レーザープラズマ光源等の輝線スペクトルをもつ光源でも同様な効果を得ることができる。
【００５７】
（実施例３）
本実施例は
シンクロトロン光源
回折格子分光器
ガスセル
測定試料
入射光検出器
反射光検出器
からなる。
【００５８】
シンクロトロン光源は、高速に加速した電子などの荷電粒子が磁場によって曲げられた時に放射されるシンクロトロン放射を利用した光源である。その発光スペクトルは滑らかに連続しており、レーザープラズマ光源のような輝線の構造はもたない。
【００５９】
入射光検出器は、ビームの一部の光を検出し、その他の部分は透過させる方式の検出器で、穴明きのシリコンフォトダイオードなどが用いられる。
【００６０】
回折格子分光器は
前置集光鏡
入射スリット
回折格子
後置集光鏡
からなる。
【００６１】
回折格子は角度を設定するステージに載っており、そのステージには、駆動用モーターとロータリーエンコーダが設けられており、回折格子の角度を設定し、同時にその角度を計測することができる。回折格子の上流には入射スリットが、下流には出射スリットが設置されており、回折格子に入射する光線と出射する光線のなす角度すなわち偏角は一定に保たれている。偏角が一定で回折格子を回転して回折格子への入射角を変化させることで、異なる波長の光を取り出すことができる。
【００６２】
光源から放射された光は、前置鏡で分光器入射スリット上に集光される。入射スリットを通過した光は回折格子に導かれ、波長毎に異なる角度に回折されて、特定の波長の光のみが出射スリットを通過する。出射スリットを通過した光は、後置鏡で集光され、サンプルに照射される。この実施例の前置鏡や後置鏡の反射面はシリコンカーバイド（ＳｉＣ）でできている。
【００６３】
本発明の光学装置では、測定は以下の手順で行われる。
【００６４】
まず、実施例１と同様の方法で、ガスセルによる波長絶対値の測定を行い、次に回折格子の角度と出射光の波長との関係式すなわち波長校正関数を求め、分光器の最初の波長校正は完了する。
【００６５】
次に、分光器出射光のスペクトルを測定する。このとき、図８、図９に示すように、ＳｉＣの反射率や、シリコンフォトダイオードの量子効率は波長によって急激な変化を示すため、出射光のスペクトルは鈴１０に示すように特定の波長において急峻な構造をもつ。本実施例の場合には、波長１２．４１ｎｍ前後にシリコンの吸収端を反映した構造が現れる。このスペクトル構造は、ミラーや検出器の材料に含まれる原子の電子準位で決まり、この構造の波長がこれ以降の波長基準となる。
【００６６】
そこで先に求めた校正式を元に、このスペクトル構造の波長を求める。ガスセルを撤去し、分光器の回折格子の角度を変化させながら、分光器を出射した光の強度を検出器で検出する。分光器の出射光の波長は、先に求めた校正式によって、回折格子角度から算出することができるので、出射光のスペクトルが求まる。
【００６７】
つぎに分光器を使用して反射率、透過率等の、照射する光の波長に依存した材料特性評価を行う。この測定は分光器出射光の強度を入射光検出器で検出しながら行う。分光器の出射光の波長は、先に求めた校正式によって、回折格子角度から算出し、波長と光強度の関係すなわち光源スペクトルを求める。このスペクトルデータにおいて、先に求めたスペクトル構造の波長と、今回のスペクトルで観測された構造の波長を比較する。分光器に変化がなければ、両者は一致する。しかし分光器に何らかの変化があった場合には、両者に差が生じることがある。このときの波長差は、分光器の変化に伴うものといえる。
【００６８】
この波長差が小さい場合には、分光器の変化は小さく、先に決定した波長校正関数によって求めた波長の誤差は小さいので、継続してこの波長校正関数を使用することができる。また、この波長差があらかじめ決めておいた許容量を越えていた場合には、この波長差を補正するように波長校正関数を補正する。
【００６９】
本発明の分光器の校正方法によれば、高い精度で波長を決定できるガスセルを用いて波長校正を最初に行い、更にミラーや検出器固有のスペクトル構造の波長をそれをもとに決定し、以後は観測されるミラーや検出器固有のスペクトル構造の波長をもとに分光器の波長ずれを判断し、必要があれば波長校正関数を補正する。このため、分光器の出射波長を常に高い精度に維持することができる。また、取り扱いが難しいガスセルによる校正は１度行うだけでよいので、分光器の維持管理の負担が低減される。
【００７０】
また本実施例の分光器波長校正方法によれば、波長校正のための測定を行わなくても、試料の測定と同時に常時波長ずれを監視できるので、分光器の波長ずれが起きた場合直ちに波長ずれを検知して波長ずれの補正を行うことができ、測定の精度や信頼性が向上する。
【００７１】
本実施例の波長校正方法における光源はシンクロトロン放射光光源に限定されるものでなく、レーザープラズマ光源等の輝線スペクトルをもつ光源でも同様な効果を得ることができる。
【００７２】
【発明の効果】
本発明の分光器の校正方法によれば、高い精度で波長を決定できるガスセルを用いて波長校正を最初に行い、更にミラーや検出器固有のスペクトル構造の波長をそれをもとに決定し、以後は観測される光源の輝線スペクトルやフィルタの吸収端や、ミラーや検出器固有のスペクトル構造の波長をもとに分光器の波長ずれを判断し、必要があれば波長校正関数を補正する。このため、分光器の出射波長を常に高い精度に維持することができる。また、取り扱いが難しいガスセルによる校正は１度行うだけでよいので、分光器の維持管理の負担が低減される。
【００７３】
また実施例２または３の分光器波長校正方法によれば、波長校正のための測定を行わなくても、試料の測定と同時に常時波長ずれを監視できるので、分光器の波長ずれが起きた場合直ちに波長ずれを検知して波長ずれの補正を行うことができ、測定の精度や信頼性がさらに向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１のフローチャート
【図２】実施例１の分光器
【図３】実施例１のガスセル吸収スペクトル
【図４】実施例１の輝線スペクトル
【図５】実施例２の分光器
【図６】実施例２のフィルタ透過率
【図７】実施例２のフローチャート
【図８】実施例３のミラー反射率
【図９】実施例３の検出器量子効率
【図１０】実施例３の分光器出射スペクトル
【図１１】従来例の分光器
【図１２】従来例のフローチャート
【図１３】従来例のガスセル
【図１４】従来例のガスセル
【図１５】従来例のガスセルの信号
【図１】
2004108808.tif 000003
【図２】
2004108808.tif 000004
【図３】
2004108808.tif 000005
【図４】
2004108808.tif 000006
【図５】
2004108808.tif 000007
【図６】
2004108808.tif 000008
【図７】
2004108808.tif 000009
【図８】
2004108808.tif 000010
【図９】
2004108808.tif 000011
【図１０】
2004108808.tif 000012
【図１１】
2004108808.tif 000013
【図１２】
2004108808.tif 000014
【図１３】
2004108808.tif 000015
【図１４】
2004108808.tif 000016
【図１５】
2004108808.tif 000017