(57)【要約】【課題】任意の位置に容易に形成でき、かつ、形成工程における作業性がよい微小ミラーを提供すること。【解決手段】微小ミラーは、基板表面に形成され光照射により親水性と可溶性を発現する樹脂層からなる基体と、該基体に形成され前記基板に対して所定の角をなす面と、該面に形成した金属膜とからなる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面に形成され光照射により親水性と可溶性を発現する樹脂層からなる基体と、
該基体に形成され前記基板に対して所定の角をなす面と、
該面に形成した金属膜とからなることを特徴とする微小ミラー。
【請求項２】
基板表面に形成され光照射により屈折率変化と親水性と可溶性を発現する樹脂層と、
該樹脂層に形成され前記基板に対して所定の角をなす面に金属膜を形成してなる微小ミラーと、
前記樹脂層中に形成された光導波路からなることを特徴とする微小ミラー付き光導波路素子。
【請求項３】
光照射により親水性と可溶性を発現する樹脂を基板に塗布する工程と、
光透過率が連続的に変化する領域を有するマスクを介して前記樹脂に光を照射する工程と、
エッチングにより前記樹脂の光を照射した部分を除去する工程と、
無電解めっきにより前記工程で除去した部分の表面に金属膜を形成する工程を含むことを特徴とする微小ミラーの形成方法。
【請求項４】
光照射により親水性と可溶性と屈折率変化を発現する樹脂を基板に塗布する工程と、
光透過率が連続的に変化する領域を有するマスクを介して前記樹脂に光を照射する工程と、
エッチングにより前記樹脂の光を照射した部分を除去する工程と、
無電解めっきにより前記工程で除去した部分の表面に金属膜を形成する工程と、
金属膜形成後に前記樹脂に光照射することによりチャネル導波路を形成する工程を含むことを特徴とする微小ミラー付き光導波路素子の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、微小ミラーおよび微小ミラーを備える光導波路素子、並びに、それらの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
より速い演算処理を行うコンピュータを実現するために、ＣＰＵのクロック数は年々増加する傾向にあって、現在ではＧＨｚ程度のものが出現するに至っている。この結果、コンピュータ中のプリント基板上の銅による電気配線に高周波信号が流れる部分が存在することになり、ノイズの発生により誤動作が生じる。また、電磁波を放射して周囲に影響を与えることになる。
【０００３】
このような問題を解決するため、プリント基板上の銅による電気配線の一部を光導波路による光配線に置き換え、電気信号の代わりに光信号を利用する手法が、現在、盛んに試みられている。光信号はいわゆる電磁誘導を生じることがないので上記のようなノイズによる誤動作が少ない。
【０００４】
光導波路による光配線では発光素子と光導波路の相対位置をμｍの精度で合わせ、効率よく光を光導波路に結合させることが重要であり、例えば、図１６に示すような光導波路素子の構造が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
図１６において面発光レーザ１０１はそのリード線１０２がはんだ１０３によって光導波路素子上の電気配線１０９に接続されている。光導波路素子は上部クラッド層１０５、コア層１０６、下部クラッド層１０７、レンズ１０４、ミラー１１０を備えており、面発光レーザ１０１から放射された光はレンズ１０４によって集光されてミラー１１０に入射、反射されてコア層１０６中を伝播する。１０８はミラー１１０を形成した際に生じる空間を埋め、電気配線１０９を形成するための充填剤である。光源には実装とアレイ化の容易さから面発光レーザが通常使用されるので、その放射光の進行方向を９０度曲げるミラー１１０は光配線用光導波路素子において必須の要素である。
【０００６】
図１６の光導波路素子の形成方法を図１７に示す。あらかじめレンズ型に加工を施した支持体１１２上に剥離膜を製膜した後、上部クラッド層１０５を製膜する。次にコア層１０６を製膜した後、スパッタや、フォトリソグラフィーなどを用いてコアパターンに加工した後、下部クラッド１０７を製膜する。続いて、これをその断面が三角形をしたダイシングソー１１３を用いて切り込みを入れ、ミラー１１０を形成する。そして支持体上から剥離させることによって光導波路素子を得る。ミラーは切断した状態そのままでも良いが、光が直進して損失となるのを防ぐため、蒸着などを用いて金属薄膜を付ける。
【０００７】
また、図１８および図１９に示されるような他の４５度ミラーの形成方法も知られている（例えば、特許文献２参照）。図１８において２１１は基板、２１２は光硬化性樹脂層、２２５はフォトマスクである。フォトマスク２２５は透明基体２２３と遮光膜２２４からなり、遮光膜２２４は厚さ約０．１μｍのクロム膜で図１８（ｂ）のような形状を有している。遮光膜２２４の開口２２４ａの端部２２４ｂは除々に膜が薄くなっておりいわゆるグレーマスクとして機能する。従って、フォトマスク２２５を介して基板２１１上の光硬化性樹脂２１２に光Ｌを照射すると光強度の強いところは前記樹脂層の全てが硬化し、光強度の弱いところではマスクに近い表面のみ硬化するので、露光後、有機溶剤で未硬化部を溶解除去すれば図１９に示すような両端に４５度の面２１２ａ、２１２ｂを有する光導波路コア層２１２ｃを形成できる。
【０００８】
４５度ミラーを形成する方法としては、上記以外にフォトレジストを強度変調した光で感光させる、あるいは高温で軟化させてテーパー形状を形成し、これをイオンエッチングで導波路層に転写する方法や、高エネルギーのエキシマレーザを照射して爆蝕により導波路表面を立体的に削って形成する方法がある。
【０００９】
また、この発明に関連するさらに他の従来技術としては、電気回路基板の製造方法であって、基板の表面にポリシラン膜を形成し、このポリシラン膜に対して回路パターンに対応した開口部を有するマスクを介して紫外光を照射して露光部を親水化し、親水化された露光部にパラジウム塩溶液を付着させて露光部上にパラジウム層からなるパターンを形成し、このパターンに金属めっきを施して導電パターンとする電気回路基板の製造方法が知られている（例えば、特許文献３参照）。
【００１０】
また、この発明に関連するさらに他の従来技術としては、ポリシラン化合物に紫外光を照射することにより照射部の屈折率を照射量に応じて低下させる手法が知られている（例えば、非特許文献１参照）。
【００１１】
【特許文献１】
特開２００１−１６６１６７号公報
【特許文献２】
特開２０００−２９８２２１号公報
【特許文献３】
特開平１０−３２６９５７号公報
【非特許文献１】
堀  彰弘、外１名、「フォトブリーチングポリマ材料を用いた光導波路技術の検討」、第１２回マイクロエレクトロニクスシンポジウム予稿集、２００２年１０月、第２２３〜２２６頁
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
特許文献１に示されるような光配線では光源に面発光レーザが使用されるので光の進行方向を９０度曲げる４５度ミラーが必須である。しかし、上記の従来例に示すようなダイシングソーを用いる方法ではダイシングソーが直径３センチ程度あるため、一列にミラーを形成することはできるが任意の位置に個別のミラーを形成することは実際上困難である。また、ダイシングソーの切り込みにより隣接する導波路を損傷する可能性もある。
【００１３】
一方、特許文献２に示されるような４５度面形成方法では該４５度面が基板と対向する方向に形成されるのでその面に反射膜を形成するなどの加工が難しい、光硬化性樹脂が未硬化、つまり半液状の状態で露光作業を行うので作業性が悪いなどの問題がある。
【００１４】
また、テーパー形状を形成したフォトレジストをイオンエッチングで転写する方法はそのエッチング工程が真空プロセスであるため、装置が高価で一度に処理可能な基板面積に制限があり且つ真空引きの時間が必要となり、光配線に必要なｃｍオーダーの大きな光導波路素子を製造する場合にはコスト高となってしまう。エキシマレーザによる爆蝕は真空を必要としないが、装置と原料ガスである希ガスが高価であり、且つ、ミラーを一個ずつ加工するのでやはりコスト面で不利である。
【００１５】
加えて上記の何れの方法も４５度の面に金属膜を形成する方法として真空装置による蒸着やスパッタが用いられるので、この工程では上記のイオンエッチングと同様な問題が生じる。無電解めっきによる金属膜形成も可能であるが、４５度面形成後にその面だけを部分的に化学活性とする処理工程が必要である。
【００１６】
この発明は以上のような事情を考慮してなされたものであり、任意の位置に容易に形成でき、かつ、形成工程における作業性がよい微小ミラーおよび微小ミラーを備える光導波路素子、並びに、それらの製造方法を提供するものである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明による微小ミラーは基板表面に形成され光照射により親水性と可溶性を発現する樹脂層からなる基体と、該基体に形成され前記基板に対して所定の角をなす面と、該面に形成した金属膜とからなることを特徴とする。
【００１８】
本発明による微小ミラー付き光導波路素子は、基板表面に形成され光照射により屈折率変化と親水性と可溶性を発現する樹脂層と、該樹脂層に形成され前記基板に対して所定の角をなす面に金属膜を形成してなる微小ミラーと、前記樹脂層中に形成された光導波路からなることを特徴とする。
【００１９】
本発明による微小ミラーの形成方法は、光照射により親水性と可溶性を発現する樹脂を基板に塗布する工程と、光透過率が連続的に変化する領域を有するマスクを介して前記樹脂に光を照射する工程と、エッチングにより前記樹脂の光を照射した部分を除去する工程と、無電解めっきにより前記工程で除去した部分の表面に金属膜を形成する工程を含むことを特徴とする。
【００２０】
本発明による微小ミラー付き光導波路素子の形成方法は、光照射により親水性と可溶性と屈折率変化を発現する樹脂を基板に塗布する工程と、光透過率が連続的に変化する領域を有するマスクを介して前記樹脂に光を照射する工程と、エッチングにより前記樹脂の光を照射した部分を除去する工程と、無電解めっきにより前記工程で除去した部分の表面に金属膜を形成する工程と、金属膜形成後に前記樹脂に光照射することによりチャネル導波路を形成する工程を含むことを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下にこの発明の実施の形態を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明する。
【００２２】
図１はこの発明の実施例による光導波路素子の構成を概略的に示す説明図である。
図１に示されるように、この発明の実施例による光導波路素子１は、基板２と、基板２上に形成され、光照射により親水性と可溶性と屈折率変化とを発現する樹脂からなるコア層（樹脂層）４を備え、コア層４は下部クラッド層３と、コア層４の上に設けられた上部クラッド層９とで挟まれている。
コア層４には、基板２に対する内角が約４５度となるように傾斜面７ａ，７ｂが形成され、また、傾斜面７ａ，７ｂ上には基板垂直方向に立ち上がり光導波路素子１の表面まで延びる光導波路１０ａ，１０ｂがそれぞれ設けられている。またコア層（樹脂層）４には光照射によって生じる屈折率変化を利用して光導波路６が形成されている。
【００２３】
ここで微小ミラー１２ａ（または１２ｂ）は光照射により親水性と可溶性と屈折率変化とを発現する樹脂からなるコア層（樹脂層）４を基体とし、その表面に形成された傾斜面７ａ（または７ｂ）と、その表面に形成された反射膜８ａ（または８ｂ）で構成される。
【００２４】
光導波路素子１の表面には電極パッド１１が設けられ、電極パッド１１を介して面発光レーザ（発光素子）２０と光検出器（受光素子）２１がそれぞれ搭載されている。
【００２５】
面発光レーザ２０は、光導波路１０ａの端部へレーザ光を出射し、光導波路１０ａへ入射したレーザ光は光導波路１０ａ内を伝搬して傾斜面７ａの表面に形成された反射膜８ａに到達する。
反射膜８ａに到達したレーザ光は進行方向を９０度曲げられて光導波路６に入射し、光波導路６内を伝搬して傾斜面７ｂの表面に形成された反射膜８ｂに到達する。
反射膜８ｂに到達したレーザ光は進行方向を再び９０度曲げられて光導波路１０ｂに入射し、光導波路１０ｂ内を伝搬して光導波路１０ｂの端部から出射されて光検出器２１に入射し電気信号に変換される。
【００２６】
本発明による微小ミラー１２ａ、１２ｂはミラーの基体が光照射により親水性と可溶性を示す樹脂層４からなるので基本的にグレーマスク（光透過率が連続的に変化する領域を有するマスク）による露光、現像工程、めっき工程のわずか３工程でミラーを形成でき、安価に量産できる。また、同樹脂に光照射により親水性と可溶性に加えて屈折率変化を生じる樹脂を使用することにより、同樹脂層を用いて光導波路６を形成できるので、微小ミラー１２ａ、１２ｂの傾斜面７ａ、７ｂと光導波路６の高さ方向のずれがなく、光損失を低減することができる。また、光導波路６を形成する工程が短縮されコスト削減に寄与する。
【００２７】
また、上部クラッド９内に光導波路１０ａが形成されているので、面発光レーザ２０と光導波路１０ａの端面との距離が従来よりも短くなり、面発光レーザ２０から放射された光はその広がりが小さい状態で光導波路１０ａ内に取り込まれる。この結果、面発光レーザ２０から放射された全光パワーの内、光導波路１０ａ内に結合される光の割合、即ち結合効率が向上するので伝達される信号品質を高品位に保つことができる。
また、上部クラッド９内に光導波路１０ｂが形成されているので、光検出器２１と光導波路１０ｂの端面との距離が従来よりも短くなり、光導波路１０ｂから出射された光はその広がりが小さい状態で光検出器２１に入射するようになる。
【００２８】
なお、樹脂としては、光照射により親水性と所定の溶液に対する可溶性を発現する樹脂を用いることができ、一般にフォトブリーチングポリマ材料（ｐｈｏｔｏｂｌｅａｃｈｉｎｇ  ｐｏｌｙｍｅｒ  ｍａｔｅｒｉａｌ）と呼ばれるものを用いることができる。
フォトブリーチングポリマ材料の具体例としては、例えば、フォトブリーチ性ポリシラン（以下、単にポリシランと称する）を挙げることができる。
ポリシランは、ケイ素原子が連続して５個以上連なった構造を有する有機ケイ素ポリマーであり、具体的には下記の化１に示すような構造を有するポリマーである。
【００２９】
【化１】
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【００３０】
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ１価の炭化水素基、アルコキシ基、水素原子を、ｎ、ｍはそれぞれ０以上で、かつ、ｎ＋ｍは５以上の整数を表わす。
このようなポリシランは、一般に２５０ｎｍ以上の紫外領域に吸収を有し、酸素存在下で紫外光を照射するとそのケイ素−ケイ素（Ｓｉ−Ｓｉ）結合が一部切断され、シロキサン（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）結合やシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）基に変換される。
これにより、ポリシランの紫外吸収が減少するとともに、親水性とアルカリ溶液に対する可溶性が発現される。
また、上記ポリシランは、紫外光を照射することにより、屈折率が低下するという特性もあり、光導波路を形成する上でも有用である。
【００３１】
次に、上述の実施例による光導波路素子の製造方法について図２〜図１５に基づいて説明する。図２〜図１５は、図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図である。
【００３２】
まず、図２に示されるように、基板２上に下部クラッド層３を形成する。基板２には平滑性に優れるガラス基板、あるいは可撓性と耐熱性に優れるポリイミドフィルムを用いる。
下部クラッド層３は後で形成するコア層４（図３参照）より屈折率の低いものであればよいが、耐熱性（ガラス転移点約３５０℃）に優れる点とスピンコートが可能な点でポリシラン（日本ペイント株式会社製、品名：グラシアＷＧ、品番：ＷＧ−００４）を用いる。
耐熱性が約３００℃以上であれば、後のはんだ付け工程で変性可能性が小さくなり、実装する際に有利となる。
下部クラッド層３は、上記ポリシランを基板２上にスピンコートで塗布し、約３５０℃で焼成して化学的に安定な膜とすることにより形成される。
【００３３】
次に、図３に示されるように、下部クラッド層３の上にコア層４を形成する。コア層４には光照射により親水性と可溶性と屈折率変化を示すポリシラン（日本ペイント株式会社製、品名：グラシアＷＧ、品番：ＷＧ−００５）を用いる。
ポリシランは、光照射により分子の一部が切断されて親水性を示すようになると同時に、アルカリ溶液に可溶となり、さらに屈折率が低下する。また、耐熱性の点からも好ましい。
但し、下部クラッド層３との屈折率差を確保するため、下部クラッド層３を構成するポリシランとは組成の異なるものを用いている。
コア層４は、上記ポリシランを下部クラッド層３上にスピンコートで塗布し、約２５０℃に加熱して膜中の溶剤を揮発させることにより形成される。
【００３４】
次に、図４に示されるように、グレーマスク３０を介してコア層４に紫外光を照射する。グレーマスク３０は、図５に示されるように透明基体３１と遮光膜３２とからなり、遮光膜３２は傾斜面７ａ，７ｂと対応する箇所において光透過率を漸減させるために、膜厚が徐々に変化する光透過部３３が形成されている。また、遮光膜３２のうち、ミラー用凹部５ａ，５ｂと対応する箇所には光透過部３３と隣接して開口部３４がそれぞれ形成されている。
ここで、紫外光照射による親水性と可溶性は、照射強度に応じてコア層４の表層から順に発現する。
このため、図５に示すようなグレーマスク３０を介してコア層４に紫外光を照射すると、光透過部３３のうち膜厚の薄い部分を介して照射された部分ではコア層４の深くまで親水性および可溶性が発現する。
一方、光透過部３３のうち膜厚の厚い部分を介して照射された部分では、コア層４の表層部分あるいはその近傍にのみ親水性と可溶性が発現する。
この結果、ポリシランからなるコア層４に傾斜面７ａ，７ｂを備えるミラー用凹部５ａ，５ｂの立体的な潜像が形成される。
【００３５】
次に、図６に示されるように、得られた基板２をアルカリ溶液に浸漬して親水性と可溶性が発現した部分を溶解除去し、ミラー用凹部５ａ，５ｂを形成すると共に基板２となす内角が約４５度の傾斜面７ａ，７ｂを形成する。
ここで、下部クラッド層３の表面が部分的に露出するようにミラー用凹部５ａ，５ｂを形成するのは、後の光導波路６を形成するための露光工程において、マスク５０の位置合わせ精度を緩和するためである（図１１（ａ）参照））。
【００３６】
次に、図７（ａ）および図７（ｂ）に示されるように、得られた基板２を無電解めっき法でめっき浴する。この際、ミラー用凹部５ａ，５ｂの表面には先の工程での紫外光照射により生じた親水基が残存するので、ミラー用凹部５ａ，５ｂの内面にのみ金属めっきが施され、反射膜８が形成される。
この工程では微小ミラーとすべき傾斜面７ａ，７ｂと対向する面にも反射膜８が形成されるが、これは光の伝搬の妨げとなるのでこの部分の反射膜８を次以降の工程で除去する。
【００３７】
すなわち、図８（ａ）および図８（ｂ）に示されるように、コア層４上にレジスト４０を塗布し、傾斜面７ａ，７ｂを覆いつつ傾斜面７ａ，７ｂと対向する面を露出させるようにフォトリソグラフィーにより開口４１を形成する。
次に、図９（ａ）および図９（ｂ）に示されるように、得られた基板２をエッチング液に浸漬し、不要な反射膜８（図８（ａ）および図８（ｂ）参照）を除去する。
次に、図１０（ａ）および図１０（ｂ）に示されるように、コア層４上に残るレジスト４０（図９（ａ）および図９（ｂ）参照）を有機溶剤で溶解除去する。
【００３８】
次に、図１１（ａ）および図１１（ｂ）に示されるように、コア層４内に光導波路６を形成するため、光導波路６に対応するパターンの遮光膜５２を備えたマスク５０を介して紫外光を照射する。
すなわち、コア層４を構成するポリシランは、紫外光を照射することにより屈折率が低下するので、コア層４のうち、光導波路６としない部分に紫外光を照射して屈折率を低下させ、光導波路６とすべき部分の屈折率を相対的に高め、光導波路６を形成するのである。
この際、上述の通り、ミラー用凹部５ａ，５ｂは、下部クラッド層３の表面が部分的に露出するように形成されているため、下部クラッド層３がミラー用凹部５ａ，５ｂ内に露出する幅Ｗ１分だけマスク５０の位置合わせ精度が緩和される。
【００３９】
次に、図１２に示されるように、コア層４を約３５０℃で焼成して化学的に安定させる。
この際、コア層４の屈折率は全体的に低下するが、先の工程で光導波路６を形成するためにつくりだした屈折率差はほぼそのまま維持され、また、コア層４全体の屈折率は、いずれの部分についても下部クラッド層３より高く維持される。
【００４０】
次に、図１３に示されるように、コア層４上に上部クラッド層９を形成する。上部クラッド層９は、コア層４を構成するポリシランと同じポリシランをスピンコートで塗布し、約２５０℃に加熱して膜中の溶剤を揮発させることにより形成される。
【００４１】
次に、図１４（ａ）および図１４（ｂ）に示されるように、傾斜面７ａ，７ｂの上方と対応する箇所にのみ遮光膜６２を備えたマスク６０を介して紫外光を上部クラッド層９に照射し、照射部分の屈折率を低下させて光導波路１０ａ，１０ｂとすべき部分の屈折率を相対的に高めることにより上部クラッド層９内に光導波路１０ａ，１０ｂを形成する。
次に、図１５（ａ）および図１５（ｂ）に示されるように、上部クラッド層９を約３５０℃で焼成して化学的に安定させる。
その後、面発光レーザ２０や光検出器２１を搭載するための電極パッド１１を上部クラッド層９上に形成し、面発光レーザ２０や光検出器２１をそれぞれ電極パッド１１にはんだ付けすることにより図１に示される光導波路素子１が完成する。
【００４２】
この化学変化は照射される紫外光強度が強いほど早く進む傾向がある。したがって、上記マスクを介して紫外光を照射すると、紫外光がよく通る部分では樹脂層の深くまで化学変化が生じ、紫外光が弱くしか通らない部分では化学変化が表層部分あるいはその近傍に限定される。
このような原理によってポリシランからなる樹脂層に３次元的な立体形状の潜像を形成することができる。
【００４３】
【発明の効果】
本発明による微小ミラー及びその形成方法ではミラーの基体が光照射により親水性と可溶性を示す樹脂からなるので、工程は基本的にグレーマスクによる露光、現像工程、めっき工程のわずか３工程で済む。しかも、全て大気中で処理可能、且つ、化学反応処理であるので処理能力を容易に拡大でき、コスト的に有利である。ミラーの位置や形状はグレーマスクの設計により任意に設定できるので、隣接する導波路を損傷することもない。さらに、形成された４５度面は基板の表面から加工できるので反射膜が形成し易く、塗布した光硬化性樹脂を未硬化半液状の状態で取り扱う必要もないので作業性が良い。
【００４４】
また、本発明による微小ミラー付き導波路素子及びその形成方法ではミラーの基体が光照射により親水性と可溶性と屈折率変化を示す樹脂からなるので、上記の効果に加えてミラー基体とチャネル導波路を同一の樹脂層を利用して形成でき、チャネル導波路を形成するための工程の一部が省略できる。また、ミラーとチャネル導波路が同一の樹脂層から形成されるので両者に厚み方向のずれが生じることがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施例による光導波路素子の構成を概略的に示す説明図である。
【図２】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図である。
【図３】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図である。
【図４】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図である。
【図５】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図である。
【図６】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図である。
【図７】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図であり、同図において（ａ）と（ｂ）は同工程における断面と平面をそれぞれ示している。
【図８】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図であり、同図において（ａ）と（ｂ）は同工程における断面と平面をそれぞれ示している。
【図９】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図であり、同図において（ａ）と（ｂ）は同工程における断面と平面をそれぞれ示している。
【図１０】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図であり、同図において（ａ）と（ｂ）は同工程における断面と平面をそれぞれ示している。
【図１１】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図であり、同図において（ａ）と（ｂ）は同工程における断面と平面をそれぞれ示している。
【図１２】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図である。
【図１３】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図である。
【図１４】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図であり、同図において（ａ）と（ｂ）は同工程における断面と平面をそれぞれ示している。
【図１５】図１に示される光導波路素子の製造工程を示す工程図であり、同図において（ａ）と（ｂ）は同工程における断面と平面をそれぞれ示している。
【図１６】従来の微小ミラー付き導波路素子の構造を示す説明図である。
【図１７】従来の微小ミラー付き導波路素子の形成工程を示す説明図である。
【図１８】従来の４５度ミラーの形成方法を示す説明図である。
【図１９】従来の４５度ミラーの形成方法を示す説明図である。
【符号の説明】
１・・・光導波路素子
２・・・基板
３・・・下部クラッド層
４・・・コア層
５ａ，５ｂ・・・ミラー用凹部
６・・・光導波路
７ａ，７ｂ・・・傾斜面
８ａ，８ｂ・・・反射膜
９・・・上部クラッド層
１０ａ，１０ｂ・・・光導波路
１１・・・電極パッド
１２ａ，１２ａ・・・微小ミラー
２０・・・面発光レーザ
２１・・・光検出器
３０・・・グレーマスク
３１・・・透明基体
３２，５２，６２・・・遮光膜
３３・・・光透過部
３４・・・開口部
４０・・・レジスト
４１・・・開口
５０，６０・・・マスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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