(57)【要約】【課題】蒸着用マスクにおいて、輻射熱によるパターン位置精度に対する悪影響を極力排除することができ、高精度なパターニングに対応することを可能にする。【解決手段】蒸着パターンに対応した形状の開孔４が形成された薄板状のマスク本体２と、被蒸着物と同等の熱線膨張係数を有するように形成され前記マスク本体２に張力を与えた状態で当該マスク本体２が固着される枠体と３を具備する蒸着用マスク１において、蒸着時の輻射熱による熱応力によって前記マスク本体２に生じる歪み量が、前記張力によって前記マスク本体２に生じる歪み量により相殺されるように、前記マスク本体２に与える張力を設定する。【選択図】        図１
2004238685.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着パターンに対応した形状の開孔がパターン領域内に形成された薄板状のマスク本体と、
被蒸着物と同等の熱線膨張係数を有するように形成され、前記マスク本体に張力を与えた状態で当該マスク本体におけるパターン領域以外の外周縁近傍領域が固着される枠体とを具備する蒸着用マスクにおいて、
前記張力は、蒸着時の輻射熱による熱応力によって前記マスク本体に生じる歪み量が、当該張力によって前記マスク本体に生じる歪み量により相殺される大きさおよび方向に設定されている
ことを特徴とする蒸着用マスク。
【請求項２】
前記張力は、当該張力によって前記パターン領域に生じる応力分布が均一化するように、その大きさおよび方向が設定されている
ことを特徴とする請求項１記載の蒸着用マスク。
【請求項３】
前記枠体は、前記被蒸着物の上昇下降の温度変化に伴う当該被蒸着物の膨張収縮と寸法変化量が同期一致して膨張収縮するように、その線熱膨張係数、熱容量、輻射射出率若しくは熱伝導による伝熱量または断熱板による流入熱量が設定されている
ことを特徴とする請求項１記載の蒸着用マスク。
【請求項４】
蒸着パターンに対応した形状の開孔がパターン領域内に形成された薄板状のマスク本体と、被蒸着物と同等の熱線膨張係数を有するように形成され前記マスク本体に張力を与えた状態で当該マスク本体におけるパターン領域以外の外周縁近傍領域が固着される枠体と、を具備する蒸着用マスクの製造方法であって、
蒸着時の輻射熱による温度変化量を把握してその温度変化が生じた際の熱応力によって前記マスク本体に生じる歪み量を認識し、
前記マスク本体に張力を与えた場合に当該張力によって前記マスク本体に生じる歪み量を認識し、
前記熱応力による歪み量が前記張力による歪み量によって相殺される張力の大きさおよび方向を特定し、
特定した大きさおよび方向の張力を前記マスク本体に与えた状態で当該マスク本体の外周縁近傍領域を前記枠体に固着する
ことを特徴とする蒸着用マスクの製造方法。
【請求項５】
前記マスク本体に与える張力を特定するのにあたり、前記パターン領域に生じる応力分布が均一化するように、当該張力の大きさおよび方向を設定する
ことを特徴とする請求項４記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項６】
前記被蒸着物の上昇下降の温度変化に伴う当該被蒸着物の膨張収縮と寸法変化量が同期一致して前記枠体が膨張収縮するように、当該枠体における線熱膨張係数、熱容量、輻射射出率若しくは熱伝導による伝熱量または断熱板による流入熱量を設定する
ことを特徴とする請求項４記載の蒸着用マスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被蒸着物上に所定パターンの成膜を行うために用いられる蒸着用マスクおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、有機電界発光素子（有機エレクトロルミネッセンス素子；以下「有機ＥＬ素子」という）の製造工程では、有機層を形成する有機材料の耐水性が低くウエットプロセスを利用できないことから、真空蒸着によって基板上に有機層（薄膜）を成膜している。また、有機ＥＬ素子の製造工程では、基板上へのパターニング成膜（例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色成分に対応したパターンの成膜）を行うために、通常、蒸着パターンに対応した形状の開孔（有機材料の通過孔）を有した蒸着用マスクが用いられる。
【０００３】
従来、蒸着用マスクとしては、蒸着パターンに対応した形状の開孔がパターン領域内に形成されたマスク本体と、そのマスク本体のパターン領域以外の外周縁近傍領域が固着される枠体と、を具備したものが知られている。マスク本体は、銅板、ニッケル板、圧延ステンレス板等といった薄板状部材からなり、そのパターン領域内に開孔がエッチングやレーザ加工等によって設けられている。一方、枠体は、被蒸着物である基板と同等の熱線膨張係数の素材によって十分な厚みを有して高剛性に形成されている。そして、これらマスク本体および枠体からなる蒸着用マスクは、マスク本体に弛みが生じないように、マスク本体に張力を与えた状態で、そのマスク本体が枠体に固着されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
登録実用新案第３０８２８０５号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、蒸着用マスクを用いて真空蒸着を行う際には、蒸着源を加熱することでその蒸着源から有機材料が蒸発して飛散するため、蒸着用マスクが蒸着源からの輻射熱を受ける。そのために、従来の蒸着用マスクでは、常温下と高温下とで蒸着用マスク−基板間の整合位置にズレが生じてしまうのを回避すべく、上述したように枠体が基板と同等の熱線膨張係数の素材（例えば、セラミックス）によって形成されている。しかしながら、マスク本体については、薄板状部材に高精度で開孔を形成する必要があるため、基板と同等の熱線膨張係数の素材によって形成することは現実的ではなく、必然的に枠体とは異なる熱線膨張係数の素材（銅板、ニッケル板、圧延ステンレス板等）によって形成されている。したがって、上述した従来の蒸着用マスクでは、マスク本体と枠体とで、それぞれにおける熱線膨張係数が異なっていることから、以下に述べるような問題点が生じてしまうおそれがある。
【０００６】
例えば、枠体のほうがマスク本体よりも熱線膨張係数が低いと、マスク本体が輻射熱を受けて膨張する場合に、常温下では生じていなくても、高温下ではマスク本体に撓み、弛み、皺等を生じる可能性がある。これらが生じると、マスク本体のパターン領域内における開孔の位置精度を維持することができなくなってしまう。また、撓み、弛み、皺等が生じない場合であっても、熱膨張しようとする際に生じる内部応力によって、マスク本体に不均一な歪みが生じてしまい、これによってパターンの位置精度を維持できなくなることも考えられる。さらには、熱膨張とは逆に、マスク本体が熱を放出して収縮しようとする際にも、収縮する大きさ、方向、分布等を一定にできない可能性があり、この場合においてもパターンの位置精度を維持できなくなる。また、収縮しようとするときに、素材の弾性限度を超えてしまうと、マスク本体に塑性変形が生じて、それ以降本来の蒸着パターンを再現できなくなる、といった可能性もある。
【０００７】
このような輻射熱による熱膨張または収縮に起因して生じるパターン位置精度に関する問題点は、結果として蒸着用マスクによる蒸着パターンの形成精度低下をも招いてしまい、有機ＥＬ素子の製造工程であれば表示画質向上を妨げることに繋がってしまうおそれがある。
【０００８】
そこで、本発明は、被蒸着物である基板と熱線膨張係数が異なる素材からなるマスク本体を備えた蒸着用マスクであっても、輻射熱によるパターン位置精度に対する悪影響を極力排除することができ、高精度なパターニングにも対応することが可能である蒸着用マスクを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するために案出された蒸着用マスクである。すなわち、蒸着パターンに対応した形状の開孔がパターン領域内に形成された薄板状のマスク本体と、被蒸着物と同等の熱線膨張係数を有するように形成され、前記マスク本体に張力を与えた状態で当該マスク本体におけるパターン領域以外の外周縁近傍領域が固着される枠体とを具備する蒸着用マスクにおいて、前記張力は、蒸着時の輻射熱による熱応力によって前記マスク本体に生じる歪み量が、当該張力によって前記マスク本体に生じる歪み量により相殺される大きさおよび方向に設定されていることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明は、上記目的を達成するために案出された蒸着用マスクの製造方法である。すなわち、蒸着パターンに対応した形状の開孔がパターン領域内に形成された薄板状のマスク本体と、被蒸着物と同等の熱線膨張係数を有するように形成され前記マスク本体に張力を与えた状態で当該マスク本体におけるパターン領域以外の外周縁近傍領域が固着される枠体と、を具備する蒸着用マスクの製造方法であって、蒸着時の輻射熱による温度変化量を把握してその温度変化が生じた際の熱応力によって前記マスク本体に生じる歪み量を認識し、前記マスク本体に張力を与えた場合に当該張力によって前記マスク本体に生じる歪み量を認識し、前記熱応力による歪み量が前記張力による歪み量によって相殺される張力の大きさおよび方向を特定し、特定した大きさおよび方向の張力を前記マスク本体に与えた状態で当該マスク本体の外周縁近傍領域を前記枠体に固着することを特徴とする。
【００１１】
上記構成の蒸着用マスクおよび上記手順の蒸着用マスクの製造方法によれば、枠体に固着する際にマスク本体に与える張力は、蒸着時の輻射熱による熱応力によってマスク本体に生じる歪み量が、その張力によってマスク本体に生じる歪み量により相殺される大きさおよび方向に設定されている。すなわち、蒸着時の輻射熱による熱応力による歪みは、マスク本体の張力による歪みを解消する方向に作用する。そのため、マスク本体と枠体との熱線膨張係数が互いに相違している場合に、そのマスク本体が蒸着時に輻射熱を受けても、枠体に固着する際に予め与えられた張力により生じる歪み量の中で内部応力が増減するだけで、温度変化によるマスク本体の伸縮に伴ってマスク本体の各部、特にパターン領域内に形成された開孔の位置に変化が生ずることはない。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づき本発明に係る蒸着用マスクおよびその製造方法について説明する。
【００１３】
先ず、蒸着用マスクの概略構成について説明する。図１は本発明に係る蒸着用マスクの概略構成の一例を示す斜視図であり、図２はその要部構成例を示す斜視図である。
【００１４】
図１に示すように、ここで説明する蒸着用マスク１は、マスク本体２と枠体３とを具備して構成されている。
【００１５】
マスク本体２は、図２に示すように、銅板、ニッケル板、圧延ステンレス板等といった薄板状部材からなるもので、その平面上領域がパターン領域２ａとそれ以外の外周縁近傍領域２ｂとに大別される。そして、パターン領域２ａ内には、蒸着パターンに対応した形状の開孔４が、エッチングやレーザ加工等によって形成されている。なお、パターン領域２ａは矩形のものに限らず、種々の任意形状としても構わない。また、マスク本体２は、「電鋳（メッキ）製造法」によってパターン領域２ａ内に多数の微細な開孔４が設けられたニッケル等の薄い金属膜で形成されたものであってもよい。
【００１６】
一方、枠体３は、図１に示すように、マスク本体２の外周縁近傍領域２ｂに応じた形状に形成されたものである。ここで、枠体３は、その線熱膨張係数、熱容量、表面の輻射射出率、周囲支持体と熱伝導によって流入流出する伝熱量、そして蒸着源からの輻射熱を遮る断熱板によって制限できる流入する熱量、以上を最適に調節して設計することによって、被蒸着物である基板（例えば、ガラス基板）と蒸着時の温度変化による膨張収縮の寸法変化を同期一致して膨張収縮させることができる。
【００１７】
そして、枠体３には、マスク本体２に張力を与えた状態で、そのマスク本体２における外周縁近傍領域２ｂが固着されて、これにより蒸着用マスク１が構成されているのである。このとき、張力をかけて固着してあるマスク本体２は、結果として固着してある枠体３に従って膨張収縮することになるので、マスク本体２は被蒸着物である基板と膨張収縮の寸法変化を同期一致して膨張収縮させることができる。また、マスク本体２に与えられる張力は、詳細を後述するように、蒸着時の輻射熱による熱応力によってマスク本体２に生じる歪み量が、張力によってマスク本体２に生じる歪み量により相殺される大きさおよび方向に設定されているものとする。さらには、その張力によってマスク本体２のパターン領域２ａに生じる応力分布が均一化するように、その張力の大きさおよび方向が設定されていることが望ましい。
【００１８】
次に、以上のような構成の蒸着用マスク１の製造方法について説明する。図３および図４は、本発明に係る蒸着用マスクの製造方法の一手順の概要を示す模式図である。
【００１９】
蒸着用マスク１の製造にあたっては、先ず、その蒸着用マスク１の使用条件等に基づいて、蒸着用マスク１が受ける蒸着中の温度変化量、すなわち蒸着時の輻射熱による温度変化量を把握して、その温度変化が生じた際の熱応力によってマスク本体２に生じる歪み量を認識する。さらに詳しくは、温度変化が生じた際にマスク本体２の各箇所に生じる膨張・収縮の大きさおよび方向を、そのマスク本体２の熱線膨張係数に基づいて演算解析を行って算出する。
【００２０】
このとき、マスク本体２のパターン領域２ａにおいて、例えば開孔４が密集している部分とそうでない部分、あるいは他の多数の開孔４に比べて特別に寸法の大きい開孔４が設けられている部分があると、膨張・収縮の大きさおよび方向は一定均一とはならず、それらの配置に応じた分布を生じる。したがって、このような場合には、例えば有限要素法による演算処理を用いてその分布を解析し、その分布の状態を含めて膨張・収縮の大きさおよび方向を算出するものとする。
【００２１】
なお、本来のパターン形成には必要でない開孔４をパターン領域２ａ上に配置すれば、それにより分布の不一定や不均一を是正できることもあり得る。そのような場合には、演算解析の結果に基づいて、パターン領域２ａ上に本来のパターン形成には必要でない開孔４を設けておくことが考えられる。
【００２２】
輻射熱の影響によるマスク本体２に生じる歪み量を認識した後は、続いて、マスク本体２に与える張力と、その張力によってマスク本体に生じる歪み量との関係を認識する。すなわち、マスク本体２に張力を与えた場合に、その張力によってマスク本体２にどの程度の大きさおよび方向の歪みが生じるかを、そのマスク本体２の縦弾性係数（ヤング率）に基づいて演算解析を行って算出する。
【００２３】
このときも、マスク本体２のパターン領域２ａにおける開孔４の分布状況によっては、張力と歪み量との関係が均一にはならないことがある。したがって、このような場合には、例えば有限要素法による演算処理を用いてその分布を解析し、その分布の状態を含めて張力−歪み量の関係を認識するものとする。
【００２４】
なお、張力−歪み量の関係が不均一の場合には、図３に示すように、パターン領域２ａに生じる応力Ｎの分布が均一化するような張力Ｆの分布状況、すなわちマスク本体２の各箇所に与える張力Ｆの大きさおよび向きを算出しておくことが望ましい。また、この場合に、上述したような本来のパターン形成には必要でない開孔４が、パターン領域２ａの応力分布を均一化させる上で有効であれば、演算解析の結果に基づいてパターン領域２ａ上に当該開孔４を設けておくことも考えられる。
【００２５】
また、マスク本体２は後に枠体３に固着されるので、その枠体３に固着された状態での歪み量を認識するようにしてもよい。すなわち、枠体３は、マスク本体２が固着された後に、そのマスク本体２の張力Ｆにより変形することも考えられるので、その枠体３の変形量、方向、分布等についても予め考慮して、有限要素法等の演算解析を行うようにしてもよい。さらには、その演算解析の結果に基づき、マスク本体２を固着した後に枠体３が変形することによるパターン領域２ａ上での開孔４の位置ズレを補正し、その位置ズレ補正後のマスク本体２を形成して用いるようにすることも考えられる。
【００２６】
以上のような熱応力および張力によるそれぞれの歪み量の認識は、上述したように熱応力による歪み量を認識した後、張力による歪み量を認識する他に、それぞれを同時並行的に行ってもよいし、また上述した場合とは逆に張力による歪み量を認識した後、熱応力による歪み量を認識するようにしても構わない。
【００２７】
熱応力および張力によるそれぞれの歪み量を認識した後は、次いで、熱応力による歪み量が張力による歪み量によって相殺されるような、張力の大きさおよび方向を特定する。この特定も、上述したそれぞれの認識結果を基にして、例えば有限要素法による演算処理を用いて行うようにすればよい。なお、有限要素法による演算処理およびその演算処理を用いて解析技術については、公知技術を利用して実現することが可能であるため、ここではその説明を省略する。
【００２８】
張力の大きさおよび方向を特定した後は、その特定した張力をマスク本体２に与えて、その外周縁近傍領域２ｂを外方に向けて引っ張った状態にする。これにより、マスク本体２は、その張力による歪み量の分だけ伸びを持った状態となる。そして、マスク本体２が伸びを持った状態のまま、図４に示すように、そのマスク本体２の外周縁近傍領域２ｂを枠体３に密着させて固着する。このときの固着は、耐熱セラミックス系接着剤や耐熱エポキシ樹脂接着剤等といった温度変化に対して安定した性質を有する接着剤を用いた接着によって行うことが考えられる。また、ビス止め等といったような締結具（ネジ）を用いて行っても構わない。あるいは、マスク本体２と枠体３の材質によっては、マスク本体２は、枠体３へ、点溶接やレーザー溶接等の溶接の方法で固着しても構わない。
【００２９】
以上の手順により、張力を与えた状態でマスク本体２が枠体３に固着され、しかもその張力は熱応力による歪み量が張力による歪み量に相殺される大きさおよび方向に設定されている、図１に示すような蒸着用マスク１が構成されるのである。
【００３０】
この蒸着用マスク１によれば、蒸着時の輻射熱による影響を熱を受けても、マスク本体２に温度変化による伸縮が生じてしまうことがないため、パターン領域２ａ内に形成された開孔４の位置が変化しない。すなわち、輻射熱による温度変化があっても、開孔４の位置を精度よく維持することができる。これは、予めマスク本体２に張力を与え、その張力による応力と当該応力による歪み（伸び）とを持たせた状態にしておき、温度変化に伴う内部応力の変化があった場合に、その内部応力の変化による歪みが予め持たせている歪みの中で打ち消されるようにしているからである。
【００３１】
ここで、マスク本体２のパターン領域２ａ内に形成された開孔４の位置が変化しない理由、すなわち温度変化で生じようとする歪みが予め持っている伸びの中で吸収される原理について説明する。図５〜図７は、両端支持梁を例にした場合における歪みの具体例を示す模式図である。
【００３２】
例えば、図５に示すように、両端が拘束固定されずに自由な状態で支持されている両端支持梁１０を考える。このような両端支持梁１０では、その両端支持梁１０が外部からの熱を受けて温度上昇すると、その両端支持梁１０の形成材料の熱線膨張係数に応じて膨張する。そして、これに伴って、両端支持梁１０上の任意の部分Ｘ１の位置も移動する。例えば、１０℃温度が上昇したときに、中心から１０ｃｍ離れた部分Ｘ１は、図中右方向に向かって１０μｍ移動する、といった具合である。
【００３３】
これとは別に、両端支持梁１０の両端縁に、図６に示すような引っ張り荷重（張力）Ｆ１を与えた場合を考える。このとき、外部からの熱の影響はないものとする。両端支持梁１０の両端縁を荷重Ｆ１で引っ張った場合に、その両端支持梁１０は、その両端支持梁１０の形成材料の縦弾性係数（ヤング率）に応じて荷重方向に伸びる。そして、これに伴って、両端支持梁１０上の任意の部分Ｘ１の位置も移動する。例えば、Ｆ１＝１０ｋｇｆ／ｍｍ２で引っ張ったときに、中心から１０ｃｍ離れた部分Ｘ１は、図中右方向に向かって２０μｍ移動する、といった具合である。
【００３４】
これに対して、図７に示すように、両端支持梁１０の両端縁を荷重Ｆ１で引っ張って、その両端支持梁１０に伸びが生じている状態で、その両端支持梁１０の両端縁を拘束固定した場合を考える。このとき、両端支持梁１０上の任意の部分Ｘ１は、その両端支持梁１０に伸びが生じている状態であることから、荷重Ｆ１が与えられていない場合に比べて、例えば図中右方向に向かって２０μｍ移動した位置に存在する。したがって、両端縁を拘束固定した後においては、２０μｍ移動した位置が、任意の部分Ｘ１が存在すべきディフォルト位置となる。
【００３５】
この状態で、両端縁が拘束固定された両端支持梁１０が外部からの熱を受けて温度上昇すると、その熱応力によって両端支持梁１０は膨張しようとする。ところが、両端支持梁１０は、既に荷重Ｆ１による伸びが生じた状態である。そのため、両端支持梁１０では、外部からの熱を受けても、その熱応力によって内部応力（荷重Ｆ１による応力）が緩和されるに過ぎず、その両端支持梁１０上における任意の部分Ｘ１が移動することはない。具体的には、任意の部分Ｘ１は、例えば図中右方向に向かって予め２０μｍ移動した状態にあるので、１０℃の温度上昇があっても、任意の部分Ｘ１の位置が１０μｍ移動するのに相当する分だけ、荷重Ｆ１による応力は緩和されるが、その任意の部分Ｘ１の位置は全く移動しない。
【００３６】
このように、事前に与えてそのまま保持される張力の設定によっては、その後外部からの熱を受けて温度上昇する場合であっても、その熱応力によって両端支持梁１０に生じる歪み量を、事前に与えた張力によって両端支持梁１０に生じる歪み量で相殺できるのである。なお、ここでは、説明を簡単にするために、一次元の簡易モデルとして両端支持梁１０を例に挙げたが、蒸着用マスク１におけるマスク本体２についても、全く同様の原理が適用される。その場合には、一次元ではなく、二次元または三次元上での考慮が必要となるが、この点については例えば有限要素法による演算処理を用いることで対応が可能となる。
【００３７】
以上のように、本実施形態で説明した蒸着用マスク１およびその製造方法によれば、蒸着時の輻射熱による熱応力によってマスク本体２に生じる歪み量が、そのマスク本体２に与える張力によって生じる歪み量で相殺されるように、その張力の大きさおよび方向が設定されている。すなわち、蒸着時の輻射熱による熱応力による歪みは、マスク本体２の張力による歪みを解消する方向に作用する。そのため、マスク本体２と枠体３との熱線膨張係数が互いに相違している場合に、そのマスク本体２が蒸着時に輻射熱を受けても、枠体３に固着する際に予め与えられた張力により生じる歪み量の中で内部応力が増減するだけであり、温度変化によるマスク本体２の伸縮に伴ってマスク本体２の各部、特にパターン領域２ａ内に形成された開孔４の位置に変化が生ずることはない。
【００３８】
つまり、本実施形態で説明した蒸着用マスク１（本実施形態で説明した製造方法によって得られる蒸着用マスク１を含む。以下同様）では、輻射熱による温度変化があっても、マスク本体２に撓み、弛み、皺等を生じたり、不均一な歪みが生じたり、塑性変形が生じたりすることがなく、パターン領域２ａ内の開孔４の位置を精度よく維持することができる。
【００３９】
したがって、本実施形態で説明した蒸着用マスク１を用いれば、開孔４の位置精度を高く維持できることから、被蒸着物である基板上に極めて精細な蒸着パターンを精度よく形成することが可能となる。また、開孔４の位置精度を高く維持できることから、パターン領域２ａの範囲の大型化にも対応可能となり（大型化しても位置精度が極端に悪化することがない）、基板上に一度の蒸着で大きな寸法の蒸着パターンの成膜を精度よく行うこともできる。これと同様に、パターン領域２ａの範囲の多面化（一つのマスク本体２に複数のパターン領域２ａを設けること）にも精度よく対応することが可能となる。
【００４０】
その上、本実施形態で説明した蒸着用マスク１では、開孔４の位置精度を高く維持できることから、蒸着パターンの形成精度も高く維持することができ、特に有機ＥＬ素子の製造工程で用いた場合に、表示画質向上を実現する上で非常に好適なものとなる。
【００４１】
また、本実施形態で説明したように、マスク本体２に張力を与えて枠体３に固着する際に、マスク本体２のパターン領域２ａに生じる応力分布が均一化するように、その張力の大きさおよび方向を設定すれば、その張力による歪み量によって、熱応力による歪み量を確実かつ適切に相殺し得るようになる。特に、マスク本体２のパターン領域２ａにおける開孔４が複雑な蒸着パターンに対応している場合には非常に有効であり、そのような場合であってもマスク本体２に部分的な撓み、弛み、皺等が生じるのを回避し得るようになる。
【００４２】
さらに、本実施形態で説明したように、枠体３の線熱膨張係数、熱容量、表面の輻射射出率、周囲支持体と熱伝導によって流入流出する伝熱量、そして蒸着源からの輻射熱を遮る断熱板によって制限できる流入する熱量、これらの少なくとも一つ、望ましくは全てを最適に調節して設計することによって、被蒸着物である基板（例えば、ガラス基板）と蒸着時の温度変化による膨張収縮の寸法変化を同期一致して枠体３を膨張収縮させることができる。この場合、枠体３に張力をかけて固着してあるマスク本体２は、結果として固着してある枠体３に従って膨張収縮することになるので、マスク本体２は被蒸着物である基板と膨張収縮の寸法変化を同期一致して膨張収縮させることができ、マスク本体２と被蒸着物である基板が、蒸着源から輻射熱を受けてそれぞれに異なる温度に変化しても、相互の位置関係を同一に保持することができ、高精細、高精度なパターンニングを実現することができる。
【００４３】
なお、本実施形態では、本発明の実施の好適な具体例を挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、種々変形することが可能である。すなわち、本実施形態で説明した蒸着用マスク１を構成する一連の構成要素の材質、形状等は、必ずしも本実施形態で挙げたものに限られることはなく、各構成要素の機能を同様に確保することが可能な限り、自由に変更可能である。
【００４４】
また、本実施形態では、蒸着用マスク１の例として、有機ＥＬ素子の製造工程で用いられるものを挙げたが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の成膜プロセスにて用いられる蒸着用マスクであっても、全く同様に適用可能であることはいうまでもない。
【００４５】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明の蒸着用マスクおよびその製造方法によれば、被蒸着物である基板と熱線膨張係数が異なる素材からなるマスク本体を備えた場合であっても、輻射熱によるパターン位置精度に対する悪影響を極力排除することができ、その結果として高精度なパターニングにも対応することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る蒸着用マスクの概略構成の一例を示す斜視図である。
【図２】本発明に係る蒸着用マスクの要部構成例を示す斜視図である。
【図３】本発明に係る蒸着用マスクの製造方法の一手順の概要を示す模式図（その１）であり、マスク本体に張力を与えた状態を模式的に示す図である。
【図４】本発明に係る蒸着用マスクの製造方法の一手順の概要を示す模式図（その２）であり、マスク本体を枠体に固着する様子を模式的に示す図である。
【図５】両端支持梁を例にした場合における歪みの具体例を示す模式図（その１）であり、両端が拘束固定されずに自由な状態で支持されている場合を模式的に示す図である。
【図６】両端支持梁を例にした場合における歪みの具体例を示す模式図（その２）であり、両端に引っ張り荷重が与えられた場合を模式的に示す図である。
【図７】両端支持梁を例にした場合における歪みの具体例を示す模式図（その３）であり、引っ張り荷重が与えられた状態で両端が拘束固定された場合を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１…蒸着用マスク、２…マスク本体、２ａ…パターン領域、２ｂ…外周縁近傍領域、３…枠体、４…開孔
【図１】
2004238685.tif 000003
【図２】
2004238685.tif 000004
【図３】
2004238685.tif 000005
【図４】
2004238685.tif 000006
【図５】
2004238685.tif 000007
【図６】
2004238685.tif 000008
【図７】
2004238685.tif 000009