(57)【要約】【課題】基板露光装置において、装置コストの増大を抑えて基板露光の処理効率を高める。【解決手段】基板搬送部１０Ａにより被測定位置Ｐａに搬送された基板Ｋ１を、測定ヘッド移動部４０の駆動により基板測定位置Ｑａに移動した測定ヘッド２０で測定するとともに、基板搬送部１０Ｂにより被露光位置Ｒｂに搬送された基板Ｋ２を、露光ヘッド移動部５０の駆動により基板露光位置Ｓｂに移動した露光ヘッド３０で露光する。その後、基板搬送部１０Ａにより被露光位置Ｒａに搬送された基板Ｋ１を、露光ヘッド移動部５０の駆動により基板露光位置Ｓａに移動した露光ヘッド３０で露光するとともに、基板搬送部１０Ｂにより被測定位置Ｐｂに搬送された次の基板Ｋ３を、測定ヘッド移動部４０の駆動により基板測定位置Ｑｂに移動した測定ヘッド２０で測定する。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光対象となる１つの基板を被測定位置および被露光位置に順次搬送する基板搬送手段を複数備え、
前記被測定位置に搬送された前記基板を測定する１つの測定ヘッドと、
前記被露光位置に搬送された前記基板を露光する１つの露光ヘッドと、
前記複数の基板搬送手段それぞれの前記被測定位置に搬送された各基板に対する各基板測定位置に前記測定ヘッドを移動させる測定ヘッド移動手段と、
前記複数の基板搬送手段それぞれの前記被露光位置に搬送された各基板に対する各基板露光位置に前記露光ヘッドを移動させる露光ヘッド移動手段とを備えたことを特徴とする基板露光装置。
【請求項２】
前記複数の基板搬送手段の各被露光位置に搬送された各基板の表面が、前記露光ヘッドの露光方向へ重なるように構成されていることを特徴とする請求項１記載の基板露光装置。
【請求項３】
前記被測定位置に搬送された前記基板と前記基板測定位置に移動された前記測定ヘッドとの相対的な位置関係を測定する位置関係測定手段を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の基板露光装置。
【請求項４】
前記被露光位置に搬送された前記基板と前記基板露光位置に移動された前記露光ヘッドとの相対的な位置関係を測定する露光位置測定手段を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の基板露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板露光装置に関し、詳しくは、露光対象となる基板を被測定位置および被露光位置に順次搬送して露光を行なう基板露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、露光対象となる１つの基板を被測定位置および被露光位置に順次搬送してこの基板を測定し露光する基板露光装置が知られている（例えば、特許文献１）。上記基板露光装置を用いて２層基板を作成する際の２層目のフォトレジストへの露光を行なう際には、１層目の回路パターンと２層目の回路パターンとを導通させるための複数の導通孔の位置測定を行なった後、この位置測定で得られた導通孔位置を示す位置データに基づいて回路パターンの露光位置を修正し、上記フォトレジストへの露光を行なっている。
【０００３】
【特許文献１】
特開２０００−３３８４３２号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記基板の導通孔の数が多くなると導通孔位置の測定に要する時間が長くなり、例えば、基板への露光時間と導通孔位置の測定時間とが同程度となることもあり、基板への露光を行なう際の待ち時間が長くなって基板露光工程の生産性が低下するという問題がある。また、上記基板露光工程の生産性を向上させるような場合でも装置コストの増大を抑制したいという要請がある。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、装置コストの増大を抑えて、基板露光の処理効率を高めることができる基板露光装置の提供を目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板露光装置は、露光対象となる１つの基板を被測定位置および被露光位置に順次搬送する基板搬送手段を複数備えてなり、被測定位置に搬送された基板を測定する１つの測定ヘッドと、被露光位置に搬送された基板を露光する１つの露光ヘッドと、前記複数の基板搬送手段それぞれの被測定位置に搬送された各基板に対する各基板測定位置に測定ヘッドを移動させる測定ヘッド移動手段と、前記複数の基板搬送手段それぞれの被露光位置に搬送された各基板に対する各基板露光位置に露光ヘッドを移動させる露光ヘッド移動手段とを備えたことを特徴とするものである。
【０００７】
なお、前記測定ヘッドによる基板の測定は、例えば、基板の１層目と２層目との導通を取る導通孔の位置測定とすることができる。
【０００８】
前記基板露光装置は、複数の基板搬送手段の各被露光位置に搬送された各基板の表面が、露光ヘッドの露光方向へ重なるように構成されているものとすることができる。なお、露光方向とは、露光ヘッドから射出された露光用の光が伝播する方向である。
【０００９】
前記基板露光装置は、被測定位置に搬送された基板と基板測定位置に移動された測定ヘッドとの相対的な位置関係を測定する位置関係測定手段を備えることができる。なお、前記測定ヘッドは位置関係測定手段を兼用することができる。
【００１０】
前記基板露光装置は、被露光位置に搬送された基板と基板露光位置に移動された露光ヘッドとの位置関係を測定する露光位置測定手段を備えることができる。
【００１１】
【発明の効果】
本発明の基板露光装置は、複数の基板搬送手段それぞれの被測定位置に搬送された各基板に対する各基板測定位置に１つの測定ヘッドを移動させる測定ヘッド移動手段と、上記複数の基板搬送手段それぞれの被露光位置に搬送された各基板に対する各基板露光位置に１つの露光ヘッドを移動させる露光ヘッド移動手段とを備えているので、複数の基板搬送手段において測定ヘッドと露光ヘッドとを兼用することができ、装置コストの増大を抑えることができる。これとともに、互いに異なる基板搬送手段で搬送される各基板に対して測定ヘッドによる測定と露光ヘッドによる露光とを同時に行なうことができ、測定ヘッドによる基板測定の終了を待つことなく露光ヘッドによる他の基板への露光を実行することができる。これにより、基板への露光を行なう際の待ち時間を大幅に短縮することができ、基板露光の処理効率を高めることができる。
【００１２】
また、複数の基板搬送手段の各被露光位置に搬送された各基板の表面が、露光ヘッドの露光方向へ重なるように構成されているものとすれば、基板の厚さは薄いので、複数の基板搬送手段の各被測定位置に搬送された各基板を上記露光方向に接近させて配置することができ、各基板への露光を行なう際の露光ヘッドの移動量を少なくするとともに、各基板を露光する際の露光ヘッドの移動方向を１方向のみにすることができる。これにより、露光ヘッドが移動する際の位置再現性を高めることができ、また、露光ヘッドの移動機構を簡素化することもできる。さらに、例えば、基板の厚さを変更したときに、露光ヘッドを、基板厚さの変更分だけ上記移動方向へ移動させることで基板厚さの変更に対応することができ、基板の厚さ変更に伴って必要となる基板と露光ヘッドとの間隔変更機構を上記露光ヘッドを移動させる機構で兼用することができるので、装置コストの増大をさらに抑制することができる。
【００１３】
また、基板露光装置を、被測定位置に搬送された基板と基板測定位置に移動された測定ヘッドとの相対的な位置関係を測定する位置関係測定手段を備えたものとすれば、例えば、測定ヘッドで測定した基板上の導通孔位置を示す位置データを、位置関係測定手段の測定で得られた位置関係に基づいて、上記基板と測定ヘッドとの相対的な位置関係が所定の位置関係であった場合にこの測定ヘッドで測定されたであろう位置データに修正することができる。すなわち、上記基板搬送手段および測定ヘッドが所定の位置関係にある場合に設定される同一座標上に、上記測定毎に取得される位置データを示すことができる。
【００１４】
また、基板露光装置を、被露光位置に搬送された基板と基板露光位置に移動された露光ヘッドとの相対的な位置関係を測定する露光位置測定手段を備えたものとすれば、
例えば、位置関係測定手段で測定した上記位置関係に基づいて、露光ヘッドによる回路パターンの基板上への露光位置を、上記基板と露光ヘッドとの相対的な位置関係が所定の位置関係であった場合に回路パターンが露光されたであろう基板上の位置に修正することができ、回路パターンを基板上のより正確な位置に露光することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。図１（ａ）は本発明の基板露光装置および上記装置に並設される基板供給回収装置の概略構成を示す正面図、図１（ｂ）は上記装置を測定ヘッドの側から見た側面図、図１（ｃ）は上記装置を露光ヘッドの側から見た側面図である。図２は基板の断面を示す断面図、図３は基板が搬送テーブルに配置された様子を示す平面図、図４から図１２は基板露光装置による基板の露光工程を順に示す図、図１３は基板露光装置による基板の露光工程を順に示す工程表である。なお、図１（ａ）における搬送テーブルおよび基板搬送部は図１（ｃ）の１ａ―１ａ断面を表す。
【００１６】
本発明の実施の形態による基板露光装置は、図１に示すように、露光対象となる１つの基板を被測定位置および被露光位置に順次搬送する基板搬送部を複数備え、すなわち、露光対象となる１つの基板Ｋ（Ｋ１）を被測定位置Ｐａおよび被露光位置Ｒａに順次搬送する基板搬送部１０Ａと、露光対象となる１つの基板Ｋ（Ｋ２）を被測定位置Ｐｂおよび被露光位置Ｒｂに順次搬送する基板搬送部１０Ｂとを備え、上記被測定位置Ｐａ，Ｐｂに搬送された基板Ｋ１，Ｋ２を測定する１つの例えばＣＣＤカメラ等を備えた測定ヘッド２０と、上記被露光位置Ｒａ，Ｒｂに搬送された基板Ｋ１，Ｋ２を露光する１つの露光ヘッド３０と、上記複数の基板搬送部１０Ａ、１０Ｂそれぞれの被測定位置Ｐａ、Ｐｂに搬送された各基板Ｋ１、Ｋ２に対する各基板測定位置Ｑａ、Ｑｂに測定ヘッド２０を移動させる測定ヘッド移動部４０と、複数の基板搬送部１０Ａ、１０Ｂそれぞれの被露光位置Ｒａ、Ｒｂに搬送された各基板Ｋ１、Ｋ２に対する各基板露光位置Ｓａ、Ｓｂに露光ヘッド３０を移動させる露光ヘッド移動部５０とを備えている。
【００１７】
なお、この基板露光装置は、基板搬送部１０Ａ、１０Ｂの各被露光位置Ｒａ、Ｒｂに搬送された各基板Ｋ１、Ｋ２の表面が、露光ヘッド３０による露光方向Ｌ１へ重なるように構成されている。ここで、上記露光方向は鉛直方向であり、被露光位置Ｒａ、Ｒｂにおいて基板Ｋ１、基板Ｋ２および露光ヘッド３０は鉛直方向に重なる。そして、露光ヘッド移動部５０は露光ヘッド３０を鉛直方向に移動させてこの露光ヘッド３０を各基板露光位置Ｓａ、Ｓｂに位置させる。
【００１８】
また、基板搬送部１０Ａ、１０Ｂの各被測定位置Ｐａ、Ｐｂに搬送された各基板Ｋ１、Ｋ２の表面も、測定ヘッド２０による測定方向Ｌ２へ重なるように配置されている。すなわち、被測定位置Ｐａ、Ｐｂにおいて基板Ｋ１、基板Ｋ２および測定ヘッド２０は鉛直方向に重なる。そして、測定ヘッド移動部４０は測定ヘッド２０を鉛直方向に移動させて、この測定ヘッド２０を各基板測定位置Ｑａ、Ｑｂに位置させる。
【００１９】
上記基板Ｋ１、Ｋ２は、後述する供給ストッカ７２に積層されてストックされた多数の基板Ｋの中から供給されるものであり、これらの基板は全て同じ仕様からなるものである。上記全て同じ仕様からなる基板Ｋは２層以上の基板として作成されるものである。図２に示すように、基板Ｋのベース板２上には、既に１層目の回路パターン３が形成され、２層目の回路パターンを形成するための銅箔層４と透明なフォトレジスト層５が１層目の回路パターン３上に積層されている。また、一層目の回路パターン３と２層目にこれから形成される回路パターンとの導通を取る導通孔６も既に形成されている。なお、この導通孔６は透明なフォトレジスト層３を通して観察および測定することができる。
【００２０】
基板搬送部１０Ａと、基板搬送部１０Ｂとは、入れ子構造となるように構成されており（図１（ｃ）参照）、基板搬送部１０Ａは、２本の幅広のレール１１ａと、基板Ｋ１を載置してこの基板Ｋ１を被測定位置Ｐａおよび被露光位置Ｒａに搬送する搬送テーブル１２ａと、搬送テーブル１２ａをレール１１ａ上で移動させるテーブル駆動手段（図示は省略）とを備えている。また、基板搬送部１０Ｂは、上記基板搬送部１０Ａの２本レール１１ａの間に配置された２本のレール１１ｂ、搬送テーブル１２ｂ、およびテーブル駆動手段（図示は省略）を備えている。なお、基板搬送部１０Ａと基板搬送部１０Ｂとの位置関係は、２本レール１１ａ、および２本のレール１１ｂそれぞれがベース台１５に固定されることにより定められ、上記のように、基板搬送部１０Ａと基板搬送部１０Ｂとが入れ子構造となっている。
【００２１】
測定ヘッド２０は、図３に示すように、基板Ｋの４×５のマトリクス状に並ぶ導通孔６の位置を上記ＣＣＤカメラで測定するものであり、さらに、被測定位置Ｐａに搬送された基板Ｋと基板測定位置Ｑａに移動した測定ヘッド２０との位置関係、および被測定位置Ｐｂに搬送された基板Ｋと基板測定位置Ｑｂに移動した測定ヘッド２０との位置関係をも測定する。すなわち、上記図３に示すように、この測定ヘッド２０は、位置関係測定手段を兼用するものであり、搬送テーブル１２（１２ａ、１２ｂ）上の３つの基準ピン２３（２３ａ、２３ｂ）に基板Ｋが当てつけられて配置された状態において、上記基準ピン２３（２３ａ、２３ｂ）の位置を測定することにより、被測定位置に搬送された基板Ｋと基板測定位置に移送された測定ヘッド２０との位置関係を測定する。
【００２２】
また、露光ヘッド３０には、被露光位置Ｒａに搬送された基板Ｋと基板露光位置Ｓａに移動したこの露光ヘッド３０との位置関係、および被露光位置Ｒｂに搬送された基板Ｋと基板露光位置Ｓｂに移動したこの露光ヘッド３０との位置関係を測定する露光位置測定手段であるＣＣＤカメラ等からなる露光位置測定カメラ６０が一体的に配設されている。
【００２３】
なお、上記基板Ｋを基板搬送部１０Ａ、１０Ｂに供給するとともに、基板搬送部１０Ａ、１０Ｂから露光処理済みの基板Ｋを回収する基板供給回収装置７０が、上記基板露光装置に並設されている。この基板供給回収装置７０は、基板露光装置に供給する基板ｋをストックする供給ストッカ７２と、基板露光装置で露光処理が施された露光済みの基板Ｋをストックする回収ストッカ７３と、供給ストッカ７２から基板Ｋを取り出して基板露光装置に供給するとともに、基板露光装置から露光済みの基板Ｋをストッカ７３に回収するＸＹＺ３軸を有する搬送アーム部７１を備えている。なお、搬送アーム部７１はＸＹＺからなる搬送軸の先端に基板Ｋを吸着する吸着部７４を有するものである。
【００２４】
また、上記基板搬送部１０Ａ、基板搬送部１０Ｂ、測定ヘッド移動部４０、露光ヘッド移動部５０、および搬送アーム部７１等の駆動方式は、従来より知られている、剛性の高いボール・レールシステムや、ボールネジを用いた高精度の送りシステム等を採用することができる。
【００２５】
次に上記実施の形態における作用について時系列的に説明する。
【００２６】
▲１▼≪基板Ｋ１のセッティングおよび被測定位置Ｐａへの搬送≫
図４に示すように、まず始めに、搬送アーム部７１は、ストッカ７２に積み重ねられた基板の最上部に位置する基板Ｋ１を吸着部７４で吸着して供給ストッカ７２から取り出す。そして、この基板Ｋ１を基板着脱位置Ｄａに位置する搬送テーブル１２ａに移送して、基板Ｋ１を搬送テーブル１２ａ上の３つの基準ピン２３ａに当てつけて所定位置に配置する（図３参照）。搬送テーブル１２ａは所定位置に配置されたこの基板Ｋ１を真空吸着して、この基板Ｋ１を搬送テーブル１２ａ上に固定する。
【００２７】
基板Ｋ１を所定位置に吸着固定したこの搬送テーブル１２ａは、テーブル駆動手段の駆動によってレール１１ａに沿って搬送され、被測定位置Ｐａに配置される。
【００２８】
▲２▼≪測定ヘッド２０による基板Ｋ１の測定≫
次に、図５に示すように、測定ヘッド２０が測定ヘッド移動部４０によって基板測定位置Ｑａに移送され、この測定ヘッド２０が被測定位置Ｐａに配置された搬送テーブル１２ａ上の基板Ｋ１を測定する。ここで、測定ヘッド２０は、４×５のマトリクス状に並ぶ導通孔６、および３つの基準ピン２３ａの位置を測定する（図３参照）。なお、基準ピン２３ａの位置測定により基板Ｋ１の基準位置、すなわち、３つの基準ピン２３ａが当てつく基板ｋ１上の位置が取得されるので、この測定により基板Ｋ１と測定ヘッド２０との位置関係、および搬送テーブル１２ａと測定ヘッド２０との位置関係が求められる。
【００２９】
上記測定により導通孔６の位置座標データ、および被測定位置Ｐａに位置する基板Ｋ１と基板測定位置Ｑａに位置する測定ヘッド２０との位置関係を示す位置関係データが取得される。さらに、測定ヘッド２０は、この位置関係データに基づいて、上記位置座標データを、測定ヘッド２０と基板Ｋ１との位置関係が予め定められた位置関係であったときに得られたであろう位置座標データとなるように修正して、この修正済みの位置座標データを露光ヘッド３０に出力する。
【００３０】
すなわち、測定ヘッド２０および基板Ｋの移動により、両者の位置関係が予め定められた位置関係からずれるため、測定ヘッド２０で測定した基板Ｋの導通孔６の座標値を、上記位置関係がずれた分だけ修正することにより、この座標値を測定ヘッド２０と基板Ｋとが予め定められた位置関係であるときに取得されたであろうデータとして扱うことができる。
【００３１】
▲３▼≪基板Ｋ１の被露光位置Ｒａへの搬送と、基板Ｋ２のセッティングおよび被測定位置Ｐｂへの搬送との平行処理≫
＜基板Ｋ１の被露光位置Ｒａへの搬送＞
次に、図６に示すように、基板Ｋ１を所定位置に吸着固定した搬送テーブル１２ａは、テーブル駆動手段の駆動によりレール１１ａに沿って被露光位置Ｒａに搬送される。
【００３２】
＜基板Ｋ２の被測定位置Ｐｂへの搬送＞
これと平行して、上記図６に示すように、搬送アーム部７１は、供給ストッカ７２にストックされた基板Ｋ１の次の基板Ｋ２を吸着部７４で吸着して供給ストッカ７２から取り出す。そして、この基板Ｋ２を基板着脱位置Ｄｂに位置する搬送テーブル１２ｂに移送して、基板Ｋ２を搬送テーブル１２ｂ上の３つの基準ピン２３ｂに当てつけて所定位置に配置する。搬送テーブル１２ｂは所定位置に配置されたこの基板Ｋ２を真空吸着して、この基板Ｋ２を搬送テーブル１２ｂ上に固定する。
【００３３】
基板Ｋ２を所定位置に吸着固定したこの搬送テーブル１２ｂは、テーブル駆動手段の駆動によりレール１１ｂに沿って被測定位置Ｐｂに搬送される。
【００３４】
つづいて、露光ヘッド３０による基板Ｋ１への露光と、測定ヘッド２０による基板Ｋ２の測定が平行して実行される。
【００３５】
▲４▼≪露光ヘッド３０による基板Ｋ１への露光と、測定ヘッド２０による基板Ｋ２の測定との平行処理≫
＜露光ヘッド３０による基板Ｋ１への露光＞
図７に示すように、露光ヘッド３０は露光ヘッド移動部５０によって基板露光位置Ｓａに移動する。
【００３６】
ここで、露光位置測定カメラ６０により、３つの基準ピン２３ａの位置を測定する。この基準ピン２３ａの位置測定により基板Ｋ１の基準位置、すなわち、３つの基準ピン２３ａが当てつく基板上の３つの位置が測定されるので、この測定により基板Ｋ１と露光ヘッド３０との位置関係が求められる。上記のようにして取得された位置関係に基づいて、露光ヘッド３０と基板Ｋ１との位置関係が予め定められた所定の位置関係であったときに回路パターンが露光されたであろう基板Ｋ１上の位置に回路パターンが露光されるように、回路パターンの基板Ｋ１への露光位置を修正する。なお、露光ヘッド３０には予め上記回路パターンを示すデータが入力され記憶されており、この回路パターンのデータの補正により上記露光位置を修正する。
【００３７】
その後、露光ヘッド３０により、上記露光位置が修正された回路パターンを示すデータと、上記測定ヘッド２０から入力した導通孔６の位置を示す修正済みの位置座標データとに基づいて、最終的な露光位置および回路パターンが定められ、この回路パターンを被露光位置Ｒａに配置された基板Ｋ１上に露光する。
【００３８】
＜測定ヘッド２０による基板Ｋ２の測定＞
上記図７に示すように、測定ヘッド２０が測定ヘッド移動部４０によって基板測定位置Ｑｂに移動し、被測定位置Ｐｂに配置された搬送テーブル１２ｂ上の基板Ｋ２を測定する。ここで行なわれる測定ヘッド２０による基板Ｋ２の測定は、上記▲２▼項で説明した測定ヘッド２０による基板Ｋ１の測定と同様である。
【００３９】
次に、基板Ｋ１の回収、基板Ｋ３のセッティング、および被測定位置Ｐａへの搬送と、基板Ｋ２の被露光位置Ｒｂへの搬送とが平行して実行される。
【００４０】
▲５▼≪基板Ｋ１の回収、基板Ｋ３のセッティング、および被測定位置Ｐａへの搬送と、基板Ｋ２の被露光位置Ｒｂへの搬送との平行処理≫
＜基板Ｋ１の回収＞、
図８に示すように、露光ヘッド３０による露光が終了した露光済の搬送テーブル１２ａ上の基板Ｋ１は、基板着脱位置Ｄａに搬送され吸着固定が解除される。その後、この基板Ｋ１は搬送アーム部７１の吸着部７４で吸着されて搬送テーブル１２ａから取り外され移送されて回収ストッカ７３に回収される。
【００４１】
＜基板Ｋ３のセッティングおよび被測定位置Ｐａへの搬送＞
図９に示すように、基板Ｋ１を回収ストッカ７３に回収した搬送アーム部７１は、その後、ストッカ７２に積み重ねられた次の基板Ｋ３を吸着部７４で吸着して供給ストッカ７２から取り出す。そして、この基板Ｋ３を基板着脱位置Ｄａに位置する搬送テーブル１２ａに移送して、基板Ｋ３を搬送テーブル１２ａ上の３つの基準ピン２３ａに当てつけて所定位置に配置する。搬送テーブル１２ａは所定位置に配置されたこの基板Ｋ３を真空吸着して、この基板Ｋ１を搬送テーブル１２ａ上に固定する。
【００４２】
＜基板Ｋ３の被測定位置Ｐａへの搬送＞
その後、基板Ｋ３を所定位置に吸着固定したこの搬送テーブル１２ａは、テーブル駆動手段の駆動によってレール１１ａに沿って搬送され、被測定位置Ｐａに配置される。
【００４３】
＜基板Ｋ２の被露光位置Ｒｂへの搬送＞
上記図９に示すように、測定ヘッド２０による測定が終了した搬送テーブル１２ｂ上の基板Ｋ２は、搬送テーブル１２ｂ上に吸着固定されたまま被露光位置Ｒｂに配置される。
【００４４】
▲６▼≪測定ヘッド２０による基板Ｋ３の測定と、露光ヘッド３０による基板Ｋ２への露光との平行処理≫
＜測定ヘッド２０による基板Ｋ３の測定＞
図１０に示すように、測定ヘッド２０が測定ヘッド移動部４０によって基板測定位置Ｑｂから基板測定位置Ｑａに移動し、この基板測定位置Ｑａに位置する測定ヘッド２０が、被測定位置Ｐａに配置された搬送テーブル１２ａ上の基板Ｋ３を測定する。ここでの以後の動作は、上記▲２▼項および▲４▼項で説明した測定ヘッド２０による基板Ｋの測定と同様である。
【００４５】
＜露光ヘッド３０による基板Ｋ２への露光＞
露光ヘッド３０は露光ヘッド移動部５０によって基板露光位置Ｓａから基板露光位置Ｓｂに移送される。
【００４６】
その後、被露光位置Ｒａに配置された基板Ｋ２に対して、露光位置測定カメラ６０による３つの基準ピン２３ａの位置測定が行なわれた後、この位置測定等の情報に基づく露光ヘッド３０による基板Ｋ２上への回路パターンの露光が行なわれる。なお、ここでの動作は、上記▲４▼項の露光ヘッド３０による基板Ｋ１への露光の動作と同様である。
【００４７】
▲７▼≪基板Ｋ３の被露光位置Ｒａへの搬送と、基板Ｋ２の回収、基板Ｋ４のセッティングよび被測定位置Ｐｂへの搬送との平行処理≫
＜基板Ｋ２の回収＞、
図１１に示すように、露光ヘッド３０による露光が終了した露光済の基板Ｋ２は、搬送テーブル１２ｂに吸着固定されたまま基板着脱位置Ｄｂに搬送され吸着固定が解除される。その後、この基板Ｋ２は搬送アーム部７１の吸着部７４で吸着されて搬送テーブル１２ａから取り外され移送されて回収ストッカ７３に回収される。
【００４８】
＜基板Ｋ４のセッティングおよび被測定位置Ｐｂへの搬送＞
図１２に示すように、基板Ｋ２を回収ストッカ７３に回収した搬送アーム部７１は、その後、ストッカ７２に積み重ねられた次の基板Ｋ４を吸着部７４で吸着して供給ストッカ７２から取り出す。そして、この基板Ｋ４を基板着脱位置Ｄａに位置する搬送テーブル１２ｂに移送して、基板Ｋ３を搬送テーブル１２ｂ上の３つの基準ピン２３ｂに当てつけて所定位置に配置する。搬送テーブル１２ｂは所定位置に配置されたこの基板Ｋ４を真空吸着して、この基板Ｋ４を搬送テーブル１２ｂ上に固定する。
【００４９】
＜基板Ｋ４の被測定位置Ｐｂへの搬送＞
その後、基板Ｋ４を所定位置に吸着固定したこの搬送テーブル１２ｂは、テーブル駆動手段の駆動によってレール１１ｂに沿って搬送され、被測定位置Ｐｂに配置される。
【００５０】
＜基板Ｋ３の被露光位置Ｒａへの搬送＞
上記図１２に示すように、測定ヘッド２０による測定が終了した基板Ｋ３は、搬送テーブル１２ｂに吸着固定されたまま移送され被露光位置Ｒａに配置される。
【００５１】
以後の動作は、上記▲４▼▲５▼▲６▼▲７▼の各項で説明した内容の繰り返しとなる。
【００５２】
図１３に、上記露光処理のタイミングを表す工程表を示す。ここで、図中の▲１▼▲２▼▲３▼▲４▼▲５▼▲６▼▲７▼▲８▼▲９▼の記号は、上記▲１▼▲２▼▲３▼▲４▼▲５▼▲６▼▲７▼の各項の内容に対応するものである。
【００５３】
上記のように、上記基板露光装置によれば、２つの基板搬送手段において測定ヘッドと露光ヘッドとを兼用することで、装置コストの増大を抑えることができ、これとともに、互いに異なる基板に対して測定ヘッドによる測定と露光ヘッドによる露光とを同時に行なうことができるので、測定ヘッドで基板を測定しているときであっても、この測定の終了を待つことなく露光ヘッドにより他の基板への露光を実行することができる。
【００５４】
なお、上記基板露光装置は、複数の基板搬送手段の各被露光位置に搬送された各基板の表面が互いに平行となり、かつ各基板の表面に垂直な方向に各基板が互いに重なるように構成されているものとすることができる。ここで、各基板の表面に垂直な方向に各基板が互いに重なるとは、各基板の概略全面が各基板の表面に垂直な方向に重なることを意味するものである。この場合には、基板露光装置は、基板搬送部１０Ａ、１０Ｂの各被露光位置Ｒａ、Ｒｂに搬送された各基板Ｋ１、Ｋ２の表面が互いに平行となり、かつ各基板の表面に垂直な方向に、すなわち、露光ヘッド３０による露光方向Ｌ１に各基板が互いに重なるように構成される。
【００５５】
また、上記実施の形態においては、複数の基板搬送手段の各被測定位置に搬送された各基板が、露光ヘッドによる露光方向へ重なるように構成された例を示したが、複数の基板搬送手段の各被測定位置に搬送された各基板の互いの位置関係はどのような位置関係となってもよく、例えば、複数の基板搬送手段の各被測定位置に搬送された各基板の表面が、露光ヘッドによる露光方向と直交する水平方向に並ぶように構成してもよい。また、基板搬送手段は２つに限らず２以上（複数）であればよい。
【００５６】
また、上記被測定位置に搬送された基板と基板測定位置に移動された測定ヘッドとの相対的な位置関係を測定する位置関係測定手段は必ずしも備える必要はない。また、上記被露光位置に搬送された基板と基板露光位置に移動された露光ヘッドとの相対的な位置関係を測定する露光位置測定手段も必ずしも備える必要はない。
【００５７】
また、上記基板はプリント基板、あるいは、液晶表示器やプラズマ表示器等のディスプレイ用基板等とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態による基板露光装置の概略構成を示す図
【図２】基板の断面を示す断面図
【図３】基板が搬送テーブルに配置された様子を示す平面図
【図４】基板露光装置による基板の露光工程を示す図
【図５】基板露光装置による基板の露光工程を示す図
【図６】基板露光装置による基板の露光工程を示す図
【図７】基板露光装置による基板の露光工程を示す図
【図８】基板露光装置による基板の露光工程を示す図
【図９】基板露光装置による基板の露光工程を示す図
【図１０】基板露光装置による基板の露光工程を示す図
【図１１】基板露光装置による基板の露光工程を示す図
【図１２】基板露光装置による基板の露光工程を示す図
【図１３】基板露光装置による基板の露光工程を順に示す工程表
【符号の説明】
Ｋ    基板
１０Ａ    基板搬送部
１０Ｂ    基板搬送部
２０    測定ヘッド
３０    露光ヘッド
４０    測定ヘッド移動部
５０    露光ヘッド移動部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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