(57)【要約】【課題】機能性材料として有用なナノサイズの微細構造を有する新規な炭素粒子およびその製造方法を提供する。【解決手段】粒子表面にグラファイト薄膜を有する炭素粒子、および、フラーレン類を水素雰囲気で加熱する上記の炭素粒子の製造方法。上記の炭素粒子の好ましい態様において、グラファイト薄膜はグラフェンシート構造が５〜５０層積層して形成された薄膜であり、グラファイト薄膜の占有する空間の厚さは１０〜１０００ｎｍであり、炭素粒子のＢＥＴ表面積は５０〜３０００ｍ２／ｇである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子表面にグラファイト薄膜を有することを特徴とする炭素粒子。
【請求項２】
グラファイト薄膜が、グラフェンシート構造が５〜５０層積層して形成された薄膜である請求項１に記載の炭素粒子。
【請求項３】
炭素粒子上のグラファイト薄膜が占有する空間の厚さが１０〜１０００ｎｍである請求項１又は２に記載の炭素粒子。
【請求項４】
ＢＥＴ表面積が５０〜３０００ｍ２／ｇである請求項１〜３の何れかに記載の炭素粒子。
【請求項５】
フラーレン類を水素雰囲気で加熱することを特徴とする請求項１に記載の炭素粒子の製造方法。
【請求項６】
水素分圧が１ＭＰａ以上である請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
反応温度が５２０〜１０００℃の範囲である請求項５又は６に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、炭素粒子およびその製造方法に関し、詳しくは、ナノサイズの微細構造を有する新規な炭素粒子およびその製造方法に関する。本発明の炭素粒子は、電界放出ディスプレー、リチウム２次電池のキャパシター等に使用する新規機能性材料として有用である。
【背景技術】
【０００２】
近年、ナノサイズの新規炭素材料として、フラーレン、単層または多層のカーボンナノチューブ、カーボンナノホーンが報告され、更には、カーボンナノウォール（Ｃａｒｂｏｎ  Ｎａｎｏｗａｌｌｓ）も作製され（例えば、非特許文献１及び２参照）、注目を集めている。これらの新規炭素材料は、ナノ構造物質として、新規の電子材料、触媒、光材料などとしての応用が期待されている。
【０００３】
しかしながら、実際には、上記の新規炭素材料で未だ必要な性能が満たされていない分野もあり、更に、新規なナノ構造を有する炭素材料が提供されれば、その適用分野は大きく広がると考えられる。
【０００４】
【非特許文献１】Nano  Letters  2002，2，355-359
【非特許文献２】Advanced  Materials  2002，14，64
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、その目的は、機能性材料として有用なナノサイズの微細構造を有する新規な炭素粒子およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定の条件でフラーレン類を処理することにより、これまで知られていないナノ構造を有する炭素材料が得られるとの知見を得、本発明を完成させた。
【０００７】
すなわち、本発明の第１の要旨は、粒子表面にグラファイト薄膜を有することを特徴とする炭素粒子に存し、本発明の第２の要旨は、フラーレン類を水素雰囲気で加熱することを特徴とする上記の炭素粒子の製造方法に存する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、粒子表面を薄片状のグラファイトが被覆した、特異なナノ構造を有する炭素粒子が提供される。また、フラーレン類から、特別な装置を使用せずに簡便な方法により、当該炭素粒子を選択的に製造する方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は、以下の実施態様に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変更して実施することが出来る。
【００１０】
本発明の炭素粒子は、粒子表面にグラファイト薄膜を有する炭素粒子である。前述のカーボンナノウォールは、マイクロ波プラズマＣＶＤ（ＭＰＥＣＶＤ）法でＣＨ４とＨ２を処理することにより、基板の片面上にグラファイト薄膜を成長させたものである。これに対し、本発明の場合は炭素粒子の表面にグラファイト薄膜を成長させたものである。また、本発明の炭素粒子は、通常、ラマンスペクトルで２７００ｃｍ-1付近にＧ'のピークが観察されること、２２０ｃｍ-1付近にピークが観察されないことから、本発明の炭素粒子におけるグラファイト薄膜は、前記の「Advanced  Materials  2002，14，64」に記載のカーボンナノウォールと比較し、グラファイト構造に違いがある。本発明の炭素粒子は、基板上に生成している前記のカーボンナノウォールと比し、粒子状のまま種々の用途に使用できるため、工業的により有用である。また、特殊な装置を使用せずに大量製造が可能である。
【００１１】
本発明の炭素粒子は、炭素を主成分とする。炭素を主成分とする限り、水酸基、カルボキシル基などの官能基を粒子表面に有していても、水などの低分子化合物を表面や細孔内に吸着していてもよい。具体的には、元素分析において、炭素の割合は、通常９０重量％以上、好ましくは９８重量％である。また、本発明の炭素粒子内部は、どの様な構造でもよく、内部までグラファイト薄膜で構成されていもよい。
【００１２】
本発明の炭素粒子の大きさは、その原料や製法によって異なるため一概に規定できないが、走査型電子顕微鏡（以下ＳＥＭと表記する）観察での球状粒子の粒子径（球状でない粒子の場合は長径）で、通常１０ｎｍから５ｃｍ、好ましくは１００ｎｍから０．５ｃｍの範囲である。
【００１３】
本発明の炭素粒子の表面のグラファイト薄膜は、ＳＥＭによって観察することが出来る。グラファイト薄膜は、好ましくは、炭素粒子の略全面を被覆している。このグラファイト薄膜は、粒子内部の炭素構造と化学的に結合していてもよく、また、単に炭素粒子上に物理的に付加していてもよい。但し、外力による剥離が起こり難いという観点からは、化学的に結合している方が好ましい。
【００１４】
グラファイト薄膜の層構造は、本発明の炭素粒子を破砕したサンプルを透過型電子顕微鏡（以下ＴＥＭと表記する）で観察することにより、そのグラファイト薄膜の端面の形状から確認できる。それによると、グラファイト薄膜の層構造は、単一層（以下グラフェンシートと呼ぶ）のグラファイト構造が２層以上積層して形成された構造であり、その積層枚数は、通常５〜５０層程度である。また、このグラファイト薄膜には、グラフェンシートが奇麗に直線になっている部分の他に、屈曲した部分やグラフェンシート層数が途中で変化して、表面に欠陥が出来ている部分も多く観察される。なお、本発明の炭素粒子において通常Ｒａｍａｎスペクトルで観察される２７００ｃｍ-1付近のピークは、欠陥を有するグラファイト構造特有のピークであるとされており（例えば、Physical  Review  B，vol．61，p．4542（2000）参照）、上述のＴＥＭ観察の結果とよく整合する。
【００１５】
上記のグラファイト薄膜の厚さは、主にグラフェンシートの積層枚数により決定される。通常、この厚さは、無蒸着でのＳＥＭ又はＴＥＭ観察により確認され、通常１〜１５ｎｍである。また、グラファイト薄膜の大きさも、破砕サンプルのＴＥＭ観察により確認でき、グラファイト薄膜１枚の平面部分として、主として０．０００５〜５μｍ２の薄膜が観察される。この様なグラファイト薄膜は、空間を有した状態で粒子表面に密集して存在している。炭素粒子表面をＳＥＭ観察すると、１μｍ四方の視野にグラファイト薄膜が通常５０〜５００枚観察される。炭素粒子上のグラファイト薄膜が占有する空間の厚さは、通常１０〜１０００ｎｍである。
【００１６】
本発明の炭素粒子は、その構造から容易に類推される様に、通常、高い比表面積を有する。具体的には、ＢＥＴ比表面積で、通常５０〜３０００ｍ２／ｇ、好ましくは１００〜２０００ｍ２／ｇである。本発明の炭素粒子は、その構造から容易に類推される様に、通常、高い電気伝導性を示す。具体的には、体積抵抗率の値として、通常０．００５〜１．０Ωｃｍ、好ましくは０．０１〜０．１Ωｃｍである。更に、本発明の炭素粒子は、１〜１０ｎｍに非常にシャープな分布の細孔を有する場合がある。
【００１７】
本発明の炭素粒子は、フラーレン類を水素雰囲気で加熱することにより製造できる。反応条件は、通常、以下の通りである。
【００１８】
水素分圧（室温：加熱前の初期圧）の下限は、通常１ＭＰａ、好ましくは３ＭＰａ、更に好ましくは５ＭＰａ、特に好ましくは１０ＭＰａであり、上限は、通常２００ＭＰａ、好ましくは１５０ＭＰａ、更に好ましくは１００ＭＰａ、特に好ましくは８０ＭＰａである。水素分圧が低すぎる場合は、反応が遅くなり、反応が進行しなくなることがある。一方、水素分圧が高すぎる場合は、十分な耐圧性を有する肉厚な反応容器が必要となる。なお、ここで使用する水素は、純粋な水素でなくても、本発明の炭素粒子の生成を妨げなければ、不活性ガス等で希釈された水素であってもよい。反応温度の下限は、通常５２０℃、好ましくは５５０℃であり、上限は、通常１０００℃、好ましくは９００℃、更に好ましくは８００℃である。反応温度が低すぎる場合は反応が遅くなり、反応が進行しなくなることがある。一方、反応温度が高すぎる場合は、反応容器の劣化が激しくなるため高価な容器が必要となる。反応時間は、通常、数分から１０時間、好ましくは１０分から５時間である。反応時間が短すぎる場合はフラーレン類の炭化が不十分となり、長すぎる場合は製造効率が低下する。反応器の材質には、通常Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金が使用される。一般に高温で反応が行われるため、高温強度に優れた耐熱綱、特にＳＣＨ２２及びＳＣＨ２４が好適である。
【００１９】
原料のフラーレン類は、炭素原子が球状またはラグビーボール状に配置して形成される閉殻状のフラーレン骨格を有するものをいう。具体的には、一般式Ｃｎ（ｎは通常６０〜１２０の整数を表す）で表される炭素クラスター、その誘導体などである。炭素クラスターとしては、例えば、Ｃ６０（所謂バックミンスター・フラーレン）、Ｃ７０、Ｃ７６、Ｃ７８、Ｃ８２、Ｃ８４、Ｃ９０、Ｃ９４、Ｃ９６及びより高次の炭素クラスターが挙げられる。これらは、単一であっても、２種類以上の混合物であってもよい。単一のものとしては、Ｃ６０及びＣ７０が生産の際に多く生成するので、入手の容易さから好適である。また、炭素クラスターの誘導体としては、上記の炭素クラスターの水素化体、水酸化体、エポキシ化体、アルキル化体、アリール化体などが挙げられる。それぞれ付加する基の数は特に限定されず、また、基の種類は１種類であっても複数種であってもよい。
【００２０】
反応の際の水素ガスの導入手順は、原料のフラーレン類と水素ガスが反応時に共存していれば、特に限定されず、反応前に予め反応器に水素ガスを導入して密閉しておいてもよいし、反応時に反応器に水素ガスを流通させてもよい。このうち前者が装置の簡便性から好ましい。
【００２１】
本発明の製造方法では、通常、フラーレン類は固体の状態で水素化処理される。原料のフラーレン類の粒子サイズは特に限定されないが、生成物である炭素粒子サイズは主としてフラーレン原料の粒子サイズによって制御される。従って、本発明のグラファイト薄膜を有する炭素粒子において、グラファイト薄膜の割合（単位重量あたりの表面積）が大きい炭素粒子を得るためには、より粒子サイズの小さいフラーレン類を使用するのが好ましい。フラーレン類の粒子サイズは、フラーレンを、メノウ乳鉢、ボールミル、ジェットミル等で微粉砕したり、晶析したりして制御してもよい。
【００２２】
フラーレン類は、純粋でなくても、本発明の炭素粒子の生成を妨げなければ、他に液体または固体の有機物を含んでいてもよい。ここでの有機物の例としては、炭素材の他、ベンゼン、トルエン、n−ヘキサン等の一般の有機化合物が挙げられる。炭素、水素、酸素から成る有機物は、反応後に他の元素が炭素材に残らないので好ましい。
【００２３】
薄膜の厚さ及びサイズ、粒子表面における薄膜の密度、粒子内の薄膜部分の厚さ、炭素粒子の比表面積、粒子サイズ等は、原料の性状や添加物の有無によって調節できる。本発明の製造方法で生成する炭素粒子の収率は、通常８０％以上であり、好ましい反応条件では９０％以上である。生成物中に原料のフラーレン類が残存していないことは、例えば、（１）トルエン中に生成物を分散させて超音波照射した際に、色やＵＶ吸収の変化や液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）分析から、液相にフラーレン類が溶出しないこと、（２）生成物をＩＲで測定し、フラーレン類由来の吸収が観測されないこと等により、確認できる。
【００２４】
本発明の炭素材料は、通常、高い比表面積を有し、しかも、ナノレベルの厚さのグラファイト薄膜が粒子表面上に空間を占めて配置している特異な構造を有する。従って、本発明の炭素材料は、取り扱いが容易でグラファイト表面を必要とする各種の用途に広く適用できる有用な材料である。一方、前述の「Advanced  Materials  2002，14，64」に記載のカーボンナノウォールは、基板上の一方の面にしかグラファイト薄膜が形成されていないため、たとえ、この表面を削り落として粒子にしたとしても、一方の面にしかグラファイト薄膜が形成された粒子にしかなり得ない。
【００２５】
本発明の炭素材料の具体的な用途としては、例えば、高い比表面積を有することを活かしたガス吸収剤、グラファイト薄膜が有する欠陥や屈曲部位を活かした燃料電池、一般の化学工業で使用される担持触媒の担体、リチウムイオン電池のキャパシター等が挙げられる。また、本発明の炭素粒子を粉砕後に塗布することにより、基板上へのパターニングも可能である。更に、高密度なグラファイト端面を有する構造であることから、例えば、電界放出ディスプレイの材料としても有用である。更に、本発明の炭素材料は、特殊な製造装置が不要のため、大量サイズ（ｋｇオーダー）で製造することも可能である。
【実施例】
【００２６】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００２７】
実施例１：
Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金製の内容積６０ｍＬの耐圧容器に、フロンティアカーボン社製Ｃ６０フラーレン（粒子径２０〜２００μｍ）１０．０ｇを入れ、水素ガスで３回置換した後、密閉して室温にて水素ガスで２１ＭＰａに加圧した。この反応器を６００℃まで加熱し、そのまま２時間保持した。その後、反応器を冷却してから水素ガスをパージし、内容物を取り出した。黒色固体９．２ｇが得られた。この値は、純度１００％のＣ６０フラーレンから純度１００％の炭素材料が得られたとした場合の収率で９２％に相当する。
【００２８】
上記の生成物はトルエンに不溶であったことから、原料のＣ６０フラーレンでないことが確認された。元素分析の結果、酸素は０．２８重量％、水素は０．３重量％未満、炭素は９８．１重量％であった。ＩＲ測定の結果、Ｃ６０フラーレンに対応するピークも含め、一切、ピークが観測されなかったことから、上記の条件下で炭化が起こったと推察した。
【００２９】
日本分光社製「ＮＲ１８００（Ｆシングル／Ｇ４）」を使用し、励起波長Ａｒ＋５１４．５ｎｍ、ラマン照射直径１００μｍにて、Ｒａｍａｎスペクトルを測定した。この結果、それぞれのピークの大きさは測定位置により変化するが、何れにしても、１３５０ｃｍ-1（Ｄ）、１５８３ｃｍ-1（Ｇ）、２７０４ｃｍ-1（Ｇ'）に大きな３本のピークが観測され、１６１７ｃｍ-1、２４５２ｃｍ-1（Ｄ”＋Ｄ）、２９３５ｃｍ-1（Ｄ＋Ｇ）、３２４３ｃｍ-1（２Ｄ’）に小さいピークが観測された。一方、公知の炭素ナノ構造には、２２０ｃｍ-1、１３５０ｃｍ-1、１５８３ｃｍ-1、１６１７ｃｍ-1にピークが観測されると記載されている（Advanced Materials 2002,14, 64）。両者を比較すると、本発明の炭素粒子は、２２０ｃｍ-1にピークがなく、２７０４ｃｍ-1にＧ'のピークがある。本発明の炭素粒子のＢＥＴ比表面積の測定結果は、１７５ｍ２／ｇであった。
【００３０】
図１〜３に、本発明の炭素粒子の一例の図面代用ＳＥＭ写真を示す。図１（倍率１００倍）によると、粒子の直径は略５０〜２００μｍ程度である。図２は図１の拡大写真（倍率１万倍）である。図２によると、粒子表面の略全面が薄片で覆われていることが判る。図３は図１を更に拡大した写真（倍率３万倍）である。図３によると、密集している薄片の厚さは数ｎｍ〜数十ｎｍ程度であることが判る。
【００３１】
図４〜６に、本発明の炭素粒子の一例の切断面における図面代用ＳＥＭ写真を示す。図４（倍率５００倍）に示す様に、粒子内部は基本的に凹凸が少なく、粒子表面とは異なる構造である。図５は切断面を拡大した写真（倍率５万倍）である。図５によれば、グラファイト薄膜が存在している部分の厚さは５０〜２００ｎｍ程度と思われる。図６は、図４の切断面の表面に見られる凹凸部分の凹部分を拡大した写真（倍率３０００倍）であり、ここでもグラファイト薄膜により覆われた状態が観察されている。
【００３２】
図７は、本発明の炭素粒子の表面を無蒸着状態で測定したＳＥＭ写真（倍率１０万倍）である。図７から、グラファイト薄膜の最も薄い厚さは５nm程度であることが判る。
【００３３】
図８〜１２に本発明の炭素粒子粉砕品の一例の図面代用ＴＥＭ写真を示す。これらは、本発明の炭素粒子について更に微細な構造を確認するため、炭素粒子を粉砕してＴＥＭにより観察した写真である。図８〜１０では、粒子表面に多数の薄片が観察される。薄片の長さが５０〜３００ｎｍ程度のものが多い。図１１は薄片が密集した部分を更に拡大した写真（倍率１２０万倍）である。図１１により、薄片の端面と思われる、薄膜の積層した構造が確認され、このことから薄片がグラファイト構造であることが判る。グラフェンシートが５〜３０層程度積層したグラファイト薄膜（厚さは３〜１５nm）が多く観察される。図１２に示す写真（倍率１２０万倍）は、炭素粒子内部の構造と思われるが、若干グラファイト構造が生長しつつあるものの、基本的にはアモルファス状である。
【００３４】
本発明の炭素粒子の体積抵抗率を測定したところ、０．０３９Ωｃｍという非常に小さい値を示し、この炭素粒子は高い導電性を示すことが判った。本発明の炭素粒子の粉末Ｘ線測定の結果を図１３に示す。グラファイト薄片のサイズが小さいためと考えられるが、グラファイトに対応するピークは観測されない。また、本発明の炭素粒子の細孔分布を測定したところ、４．０ｎｍ付近にシャープな分布を有していた。
【００３５】
実施例２：
実施例１において、Ｃ６０の代わりに、Ｃ６０、Ｃ７０及びその他高次フラーレンの混合物（重量比で、Ｃ６０：Ｃ７０：その他高次フラーレン＝６２：２３：１５）であるフロンティアカーボン株式会社製のフラーレン混合物１０．０ｇを使用した以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、黒色生成物９．０ｇを得た。この値は、純度１００％のフラーレン混合物から純度１００％の炭素材料が得られたとした場合の収率で９０％に相当する。この生成物は、トルエンに不溶であったことから、原料のフラーレン混合物でないことが確認された。図１４及び図１５に、この生成物の図面代用ＳＥＭ写真を示す。実施例２で得られた炭素粒子は、実施例１の生成物に比して小さく、その表面は、実施例１の生成物と同様の構造ではあるが、実施例１で観測された薄片よりは小さい薄片が覆っていた。
【００３６】
実施例１と同様にＲａｍａｎスペクトルを測定した結果、１３５２ｃｍ-1（Ｄ）、１５８３ｃｍ-1（Ｇ）、２６９８ｃｍ-1（Ｇ'）に大きな３本のピークが観測され、１６１５ｃｍ-1、２９００ｃｍ-1（Ｄ＋Ｇ）、３２４０ｃｍ-1（２Ｄ’）に小さいピークが観測された。ＢＥＴ比表面積は１８４ｃｍ-1、体積抵抗率は０．０３８Ωｃｍであり、何れも実施例１の炭素粒子と同程度の値を示した。
【００３７】
実施例３：
実施例１において使用したＣ６０フラーレンをメノウ乳鉢で１０分間粉砕したもの１０．０ｇを原料とした以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、黒色の生成物９．３ｇを得た。この値は、純度１００％のＣ６０フラーレンから純度１００％の炭素材料が得られたとした場合の収率で９３％に相当する。この生成物は、トルエンに不溶であったことから、原料のフラーレンではないことが確認された。実施例３で得られた炭素粒子は、実施例１の生成物に比して小さく、その表面は、実施例１の生成物と同様の構造およびサイズの薄片が覆っていた。
【００３８】
実施例１と同様にＲａｍａｎスペクトルを測定した結果、１３５１ｃｍ-1（Ｄ）、１５８３ｃｍ-1（Ｇ）、２７０４ｃｍ-1（Ｇ'）に大きな３本のピークが観測され、１６１５ｃｍ-1、２４６０ｃｍ-1（Ｄ”＋Ｄ）、２９４０ｃｍ-1（Ｄ＋Ｇ）、３２４３ｃｍ-1（２Ｄ’）に小さいピークが観測された。ＢＥＴ比表面積は３１６ｍ２／ｇであり、実施例１の炭素粒子と比べて大きかった。このことは、炭素粒子の表面構造がＢＥＴ比表面積に影響していると考えられる。
【００３９】
実施例４：
実施例２において使用したフロンティアカーボン株式会社製のフラーレン混合物をメノウ乳鉢で１０分間粉砕したもの１０．０ｇを原料とした以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、黒色の生成物９．７ｇを得た。この値は、純度１００％のフラーレン混合物から純度１００％の炭素材料が得られたとした場合の収率で９７％に相当する。この生成物は、トルエンに不溶であったことから、原料のフラーレン混合物ではないことが確認された。実施例４で得られた炭素粒子は、実施例２の生成物に比して小さく、その表面は、実施例２の生成物と同様の構造及びサイズの薄片が覆っていた。ＢＥＴ比表面積は２２９ｍ２／ｇであり、実施例２の炭素粒子と比べて大きかった。このことは、炭素粒子の表面構造がＢＥＴ比表面積に影響していると考えられる。
【００４０】
実施例５：
実施例２において、導入する水素分圧を１０．５ＭＰａとした以外は、実施例２と同様に反応を行った。その結果、黒色の生成物９．４ｇを得た。この値は、純度１００％のフラーレン混合物から純度１００％の炭素材料が得られたとした場合の収率で９４％に相当する。この生成物は、トルエンに不溶であったことから、原料フラーレン混合物でないことが確認された。実施例５で得られた炭素粒子は、実施例２の生成物と同様の構造およびサイズの薄片が粒子表面を覆っていた。
【００４１】
実施例６：
実施例２において、導入する水素分圧を３．５ＭＰａとした以外は、実施例２と同様に反応を行った。その結果、黒色の生成物９．０ｇを得た。この値は、純度１００％のフラーレン混合物から純度１００％の炭素材料が得られたとした場合の収率で９０％に相当する。この生成物は、トルエンに不溶であったことから、原料のフラーレン混合物でないことが確認された。実施例６で得られた炭素粒子は１辺が２０〜４０ｎｍ程度の微細な薄片が粒子表面を覆っていた。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の炭素粒子の一例の図面代用ＳＥＭ写真（倍率１００倍）
【図２】本発明の炭素粒子の一例の図面代用ＳＥＭ写真（図１中のＡ粒子の拡大写真：倍率１万倍）
【図３】本発明の炭素粒子の一例の図面代用ＳＥＭ写真（図１中のＣ粒子の拡大写真：倍率３万倍）
【図４】本発明の炭素粒子の一例の切断面における図面代用ＳＥＭ写真（倍率５００倍）
【図５】本発明の炭素粒子の一例の切断面における図面代用ＳＥＭ写真（倍率５万倍）
【図６】本発明の炭素粒子の一例の切断面内に存在する空間の図面代用ＳＥＭ写真（倍率３０００倍）
【図７】本発明の炭素粒子の一例の図面代用ＳＥＭ写真（無蒸着状態でのＳＥＭ：倍率１０万倍）
【図８】本発明の炭素粒子粉砕品の一例の図面代用ＴＥＭ写真（倍率６万倍）
【図９】本発明の炭素粒子粉砕品の他の一例の図面代用ＴＥＭ写真（倍率６万倍）
【図１０】本発明の炭素粒子粉砕品の図面代用ＴＥＭ写真（倍率３０万倍）
【図１１】本発明の炭素粒子粉砕品の図面代用ＴＥＭ写真（倍率１２０万倍）
【図１２】本発明の炭素粒子粉砕品の他の一例の図面代用ＴＥＭ写真（倍率１２０万倍）
【図１３】本発明の炭素粒子の粉末Ｘ線測定チャート
【図１４】本発明の炭素粒子の一例の図面代用ＳＥＭ写真（倍率５００倍）
【図１５】本発明の炭素粒子の一例の図面代用ＳＥＭ写真（倍率５万倍）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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