(57)【要約】【課題】同一のパターンを同一の層に複数個形成できる安価な投影露光装置を提供する。【解決手段】本発明による投影露光装置は、被投影基板上において形成される一の形成パターンと一の形成パターンの１つの隣りに形成される他の形成パターンとの境を挟んで互いに向かい合いかつ境の近傍に設けられた２つの第１被投影基板基準マークと第２被投影基板基準マークとを含む被投影基板と、投影すべきパターンを挟んで互いに向かい合って設けられた２つの第１パターン基板基準マークと第２パターン基板基準マークと、を含むパターン基板と、を含む。【選択図】      図２
2004301880.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影すべきパターンが形成されたパターン基板と、前記パターン基板を介して露光光が照射される被投影基板と、を含み、かつ、前記投影すべきパターンに応じた形成パターンを前記被投影基板上に互いに隣り合うように複数個形成する投影露光装置であって、
前記被投影基板は、前記被投影基板上において形成される一の形成パターンと前記一の形成パターンの１つの隣りに形成される他の形成パターンとの境を挟んで互いに向かい合いかつ前記境の近傍に設けられた２つの第１被投影基板基準マークと第２被投影基板基準マークとを含み、
前記パターン基板は、前記投影すべきパターンを挟んで互いに向かい合って設けられた２つの第１パターン基板基準マークと第２パターン基板基準マークとを含み、かつ、
前記第１被投影基板基準マークと前記第１パターン基板基準マークとが重なる第１位置と、前記第２被投影基板基準マークと前記第２パターン基板基準マークとが重なる第２位置と、の各々に位置合わせする位置合わせ手段を含むことを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】
投影すべきパターンが形成されたパターン基板と、前記パターン基板を介して露光光が照射される被投影基板と、を含み、かつ、前記投影すべきパターンに応じた形成パターンを前記被投影基板上に互いに隣り合うように複数個形成する投影露光装置であって、
前記被投影基板は、前記被投影基板上において形成される一の形成パターンと前記一の形成パターンの１つの隣りに形成される他の形成パターンとの境に設けられた被投影基板基準マークを含み、
前記パターン基板は、前記投影すべきパターンを挟んで互いに向かい合って設けられた２つの第１パターン基板基準マークと第２パターン基板基準マークとを含み、かつ、
前記被投影基板基準マークと前記第１パターン基板基準マークとが重なる第１位置と、前記被投影基板基準マークと前記第２パターン基板基準マークとが重なる第２位置と、の各々に位置合わせする位置合わせ手段を含むことを特徴とする投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、同一のパターンを同一の層に複数個形成する投影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、プリント回路板においては、処理の高度化や高速化の要請に伴って実装部品の実装密度が高まってきている。実装密度を高めるには、部品を小型化するのみならず、プリント配線板における各層におけるパターンの密度をも高める必要がある。例えば、配線層の場合には、配線パターンの幅を細くするとともに隣合う配線パターンが近接するように配線パターンを形成するほか、配線層を多層化することにより実質的に密度を高めている。
【０００３】
また、基板の大型化や部品の小型化が進むに従って、１つのウエハから複数のプリント回路板を作ることが可能となってきている。
【０００４】
配線パターン等のパターンの形成の工程においては、パターンが予め形成されたレチクル板を用い、露光光をレチクル板を介してプリント配線板に照射する。このとき、レチクル板に対してプリント配線板を的確に位置決めする必要がある。この位置決めには、レチクル板とプリント配線板との双方の基準位置とするアライメントマークをレチクル板とプリント配線板との各々に予め形成しておき、これらのアライメントマークの位置を検出することにより、レチクル板とプリント配線板との相対的な位置を定めていた。
【０００５】
また、上述したように、多層化する場合には、層を順次積層していく必要がある。このため、層を形成する度に上述したレチクル板の位置決めをする必要が生ずる。この位置決めをするために、前の層を形成したときに用いたアライメントマークの位置を検出して、その層を形成する工程でレチクル板やプリント配線板の位置合せをしていた。
【０００６】
更に、上述したように、１つの基板から複数のプリント回路板を作る場合には、パターンを形成すべきプリント配線板の複数の位置にレチクル板を順次位置付けてパターンを形成する。このため、パターンを形成すべき複数の位置の各々の基準位置を示すアライメントマークをプリント配線板に予め形成しておく必要があった。パターンを形成するときには、パターンを形成すべき複数の位置毎に、プリント配線板に予め形成されたアライメントマークの位置を検出して位置付けていた。
【０００７】
さらに、別の手法として、いわゆるグローバルアライメントと呼ばれる手法もあった。これは、プリント配線板に予め形成された複数のアライメントマークの位置を予め検出して、アライメントマークの位置の概略の位置情報を定めておき、この概略の位置情報に基づいて、アライメントマークの個々の位置を予測して位置付けるものであった。
【０００８】
【特許文献１】
特開平８−８３７５８号公報
【０００９】
しかしながら、従来の装置は、上述したどちらの手法においても、アライメントマークの位置検出に干渉計を用いていたために、装置全体が高価なものにならざるを得なかった。
【００１０】
また、プリント配線板に層を積層していくに従って実際の配線層になる。この配線層ではパターン配線の幅が太くなるので、位置検出に高い精度を要求されなくなる。このような場合にでも、従来の装置では、高価な干渉計を用いて位置検出を行わざるを得なかった。
【００１１】
本発明は、上述した如き課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、同一のパターンを同一の層に複数個形成できる安価な投影露光装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
以上のような目的を達成するために、本発明における投影露光装置は、被投影基板上において形成される一の形成パターンと一の形成パターンの１つの隣りに形成される他の形成パターンとの境を挟んで互いに向かい合いかつ境の近傍に設けられた２つの第１被投影基板基準マークと第２被投影基板基準マークとを含む被投影基板と、投影すべきパターンを挟んで互いに向かい合って設けられた２つの第１パターン基板基準マークと第２パターン基板基準マークと、を含むパターン基板と、を含む。
【００１３】
より具体的には、本発明は以下のような投影露光装置を提供する。
（１）  投影すべきパターンが形成されたパターン基板と、前記パターン基板を介して露光光が照射される被投影基板と、を含み、かつ、前記投影すべきパターンに応じた形成パターンを前記被投影基板上に互いに隣り合うように複数個形成する投影露光装置であって、
前記被投影基板は、前記被投影基板上において形成される一の形成パターンと前記一の形成パターンの１つの隣りに形成される他の形成パターンとの境を挟んで互いに向かい合いかつ前記境の近傍に設けられた２つの第１被投影基板基準マークと第２被投影基板基準マークとを含み、
前記パターン基板は、前記投影すべきパターンを挟んで互いに向かい合って設けられた２つの第１パターン基板基準マークと第２パターン基板基準マークとを含み、かつ、
前記第１被投影基板基準マークと前記第１パターン基板基準マークとが重なる第１位置と、前記第２被投影基板基準マークと前記第２パターン基板基準マークとが重なる第２位置と、の各々に位置合わせする位置合わせ手段を含むことを特徴とする投影露光装置。
【００１４】
（２）  投影すべきパターンが形成されたパターン基板と、前記パターン基板を介して露光光が照射される被投影基板と、を含み、かつ、前記投影すべきパターンに応じた形成パターンを前記被投影基板上に互いに隣り合うように複数個形成する投影露光装置であって、
前記被投影基板は、前記被投影基板上において形成される一の形成パターンと前記一の形成パターンの１つの隣りに形成される他の形成パターンとの境に設けられた被投影基板基準マークを含み、
前記パターン基板は、前記投影すべきパターンを挟んで互いに向かい合って設けられた２つの第１パターン基板基準マークと第２パターン基板基準マークとを含み、かつ、
前記被投影基板基準マークと前記第１パターン基板基準マークとが重なる第１位置と、前記被投影基板基準マークと前記第２パターン基板基準マークとが重なる第２位置と、の各々に位置合わせする位置合わせ手段を含むことを特徴とする投影露光装置。
【００１５】
上述した（１）及び（２）の発明によれば、第１被投影基板基準マークと第１パターン基板基準マークとが重なる第１位置と、第２被投影基板基準マークと第２パターン基板基準マークとが重なる第２位置と、の各々で位置合わせすることで、被投影基板上の隣り合った位置で、同一のパターンを形成するので、位置検出用の装置を用いることなく、また、煩雑な操作をすることなく、複数のパターンを被投影基板に形成することができる安価な投影露光装置を提供することができる。
【００１６】
また、（２）の発明によれば、基準マークの位置合せがより容易になるとともに被投影基板上の構成を簡素にできる。また、位置合わせ手段の構成をも簡素にできるので、投影露光装置をより安価にできる。
【００１７】
尚、本明細書において、「境」とは、隣合う２つのパターンの間の領域を示し、隣合う２つのパターンの間に存在し得る領域であればよく、境界線のような狭い区域のほか、隣合う２つのパターンの間に位置するある程度広がった領域をも含む。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施例について図面に基づいて説明する。
本発明の実施形態における投影露光装置を図１に示す。
投影露光装置１の上部には、光源３０が、設けられている。光源３０は、下方向に向かって所定の波長の露光光、例えば紫外線を発するように、向きと位置とが調整されて支持部材（図示せず）に取り付けられている。
【００１９】
光源３０から発せられる露光光の進行方向、即ち光源３０の下方には、レチクル支持台２０が設けられている。レチクル支持台２０は、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向及びθ方向に移動できる可動テーブルからなる。Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向及びθ方向の各々の方向に可動テーブルを移動させるためのモータ（図示せず）が可動テーブルに設けられている。これらの３つのモータには、制御装置（図示せず）が接続されており、制御装置は、レチクル支持台２０を所望する位置に移動させるための駆動信号をモータに発する。
【００２０】
レチクル支持台２０には、パターン基板１０、いわゆるレチクル板が着脱自在に載置されている。パターン基板１０は、後述する被投影基板６０に投影すべきパターン１２と、４つの基準マーク１４ａ、１４ｂ、１４ｃ及び１４ｄとを含む。パターン１２が形成されている領域は、ガラス基板からなり、パターンが形成されていない個所では光源３０から発せられた露光光が透過し得る。
【００２１】
尚、図１に示したパターン基板１０においては、パターン１２と４つの基準マーク１４ａ〜１４ｄとを図中に明示するために、これらがパターン基板１０の上面に形成されているような図を示した。しかし、実際には、レチクル支持台２０の直上に位置付けるために、パターン１２と基準マーク１４ａ〜１４ｄとは、パターン基板１０の下面に形成されている。
【００２２】
レチクル支持台２０の下方には、投影レンズ４０が設けられている。投影レンズ４０は、その上面で入射した光を下面から発するように向きと位置とが調整されて支持部材（図示せず）に取り付けられている。投影レンズ４０は、パターン１２の大きさを、投影レンズ４０の倍率に応じて変えてパターンの像を下方に投影する。また、投影レンズ４０は、倍率を変更できるようにしてもよい。
【００２３】
投影レンズ４０の下方には、ワーク支持台２５が設けられている。このワーク支持台２５には、ウエハやガラスエポキシ基板等の被投影基板６０が載置されている。ワーク支持台２５は、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向及びθ方向に移動できる可動テーブルからなる。Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向及びθ方向の各々の方向に可動テーブルを移動させるためのモータ（図示せず）が可動テーブルに設けられている。これらのモータには、制御装置（図示せず）が接続されており、制御装置は、ワーク支持台２５を所定の位置に移動せしめる駆動信号をモータに発する。
【００２４】
ワーク支持台２５をＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向及びθ方向に移動させるためのこれらのモータは、ワーク支持台２５に載置された被投影基板６０を所望する位置に移動するときに用いられる。具体的には、被投影基板６０において形成すべきパターンの位置を定めるときに、これらのモータを駆動制御することによりワーク支持台２５の位置決めをする。
【００２５】
被投影基板６０には、８つの基準マーク５０ａ〜５０ｈが形成されている。尚、この図１に示した被投影基板６０は、後述する第１の実施形態のものである。この８つの基準マーク５０ａ〜５０ｈは、被投影基板６０にパターンを形成するときに、パターン形成する位置を定める基準として用いる。
【００２６】
さらに、パターン基板１０に形成された基準マーク１４ａ〜１４ｄと、被投影基板６０に形成された基準マーク５０ａ〜５０ｈと、を観察するための顕微鏡（図示せず）が設けられている。投影露光装置１の操作者は、この顕微鏡によって視認できる基準マーク１４ａ〜１４ｄの像と、基準マーク５０ａ〜５０ｈの像とが、重なるようにレチクル支持台２０やワーク支持台２５を移動させて、露光光を照射すべき位置を定める。
【００２７】
上述した被投影基板６０に形成された被投影基板基準マークの第１の実施形態を図２に示す。
この被投影基板６０は、円板型の形状を有する。被投影基板６０は、４つのパターン形成領域６２ａ，６２ｂ，６２ｃ及び６２ｄからなる。後述するように、この４つのパターン形成領域６２ａ〜６２ｄの各々に、パターン基板１０のパターン１２が投影されてパターンが形成される。
【００２８】
４つのパターン形成領域６２ａ〜６２ｄは、直交する２つの直径Ｄ１及びＤ２によって画定される。２つのパターン形成領域６２ａと６２ｃとは、直径Ｄ１を境として隣合っている。また、２つのパターン形成領域６２ｂと６２ｄも、直径Ｄ１を境として隣合っている。
【００２９】
隣合っている２つのパターン形成領域６２ａと６２ｃとの各々には、直径Ｄ１の近傍に基準マークが形成されている。パターン形成領域６２ａにおいては、境である直径Ｄ１の近傍に、基準マーク５０ａと５０ｂとが形成されている。また、パターン形成領域６２ｃにおいては、境である直径Ｄ１の近傍に、基準マーク５０ｃと５０ｄとが形成されている。
【００３０】
即ち、被投影基板６０において、隣合っているパターン形成領域６２ａとパターン形成領域６２ｃとの境である直径Ｄ１を挟んで、基準マーク５０ａ及び５０ｂと、基準マーク５０ｃ及び５０ｄとが向かい合うように形成されている。
【００３１】
この基準マーク５０ａと５０ｂとの対から、「第１被投影基板基準マーク」が構成される。また、基準マーク５０ｃと５０ｄとの対から、「第２被投影基板基準マーク」が構成される。
【００３２】
また、隣合っている２つのパターン形成領域６２ｂと６２ｄとの各々には、直径Ｄ１の近傍に基準マークが形成されている。パターン形成領域６２ｂにおいては、境である直径Ｄ１の近傍に、基準マーク５０ｅと５０ｆとが形成されている。また、パターン形成領域６２ｄにおいては、境である直径Ｄ１の近傍に、基準マーク５０ｇと５０ｈとが形成されている。
【００３３】
即ち、被投影基板６０において、隣合っているパターン形成領域６２ｂとパターン形成領域６２ｄとの境である直径Ｄ１を挟んで、基準マーク５０ｅ及び５０ｆと、基準マーク５０ｇ及び５０ｈとが向かい合うように形成されている。
【００３４】
隣合っているパターン形成領域６２ｂとパターン形成領域６２ｄとの場合においても、基準マーク５０ｅと５０ｆとの対から、「第１被投影基板基準マーク」が構成され、基準マーク５０ｇと５０ｈとの対から、「第２被投影基板基準マーク」が構成される。
【００３５】
また、基準マーク５０ａ〜５０ｈは、像として検出し得るように露光光や可視光を反射する材料からなる。このように、光を反射する材料で基準マーク５０ａ〜５０ｈを形成したことにより、上述した顕微鏡で基準マーク５０ａ〜５０ｈを像として観察することができる。
【００３６】
パターン基板１０に形成された基準マークの第１の実施形態を図３に示す。
パターン基板１０は、扁平かつ略正方形の形状を有する。パターン基板１０には、被投影基板６０に投影すべきパターン１２が形成されている。パターン基板１０に形成されているパターン１２は、この投影露光装置１によって被投影基板６０に形成されるパターンと同じ形状又は相似型の形状を有する。例えば、被投影基板６０が、プリント回路板として用いられるものである場合には、パターン１２は、プリント回路板における導電層の形状を画定して導体パターンを形成するためのものである。
【００３７】
尚、図３に示したパターン１２は、形成されているパターンを一般化して示すために、「Ａ」という文字で示したものである。パターン基板１０に形成されたパターンは、単一のパターンから構成されても、複数のパターンから構成されてもよい。さらに、複数のパターンからなる場合に、その全てが同一のパターンから構成されても、全てが又は一部のみが異なるパターンから構成されてもよい。
【００３８】
パターン基板１０には、パターン１２を挟んで、４つの基準マーク１４ａ〜１４ｄが形成されている。このうちの２つの基準マーク１４ａと１４ｂとの対から「第１パターン基板基準マーク」が構成される。また、２つの基準マーク１４ｃと１４ｄとの対から「第２パターン基板基準マーク」が構成される。
【００３９】
パターン基板１０において、パターン１２が形成されている領域は、上述したようにガラス基板からなる。パターン１２は、光源３０から発せられる露光光を遮断し得る材料、例えばクロムからなる。光源３０から発せられた露光光は、パターン１２が形成されている領域では透過されず、パターン１２によって影が形成される。また、光源３０から発せられた露光光は、パターン１２が形成されていない領域では透過され、被投影基板６０に照射される。これにより、被投影基板６０には、パターン１２が投影される。
【００４０】
また、基準マーク１４ａ〜１４ｄは、像として検出し得るように露光光や可視光を反射する材料、例えば、クロムからなる。このように、光を反射する材料で基準マーク１４ａ〜１４ｄを形成したことにより、上述した顕微鏡で基準マーク５０ａ〜５０ｄを像として観察することができる。
【００４１】
図３に示した２つの基準マーク１４ａと１４ｂとは、パターン基板１０の上辺の近傍に形成され、２つの基準マーク１４ｃと１４ｄとは、パターン基板１０の下辺の近傍に形成されている場合を示したが、パターン基板１０の辺の近傍に基準マークを形成せず、他の位置、例えばパターン基板１０の中央部に形成してもよい。
【００４２】
上述した図３に示したパターン基板１０を用いて図２に示した被投影基板６０にパターンを形成する過程を図４（ａ）〜（ｄ）に示す。この図４（ａ）〜（ｄ）に示した図は、上述した顕微鏡によって観察される基準マーク１４ａ〜１４ｄの像と、基準マーク５０ａ〜５０ｈの像と、を概略的に示すものであり、被投影基板６０の全体が観察できるのではなく、実際には、操作者は基準マークの近傍を拡大して観察する。
【００４３】
まず、被投影基板６０のパターン形成領域６２ａにパターンを形成するときの状態を図４（ａ）に示す。このときには、パターン形成領域６２ａの基準位置マーク５０ａの像５０ａ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ｃの像１４ｃ’が重なり、パターン形成領域６２ａの基準位置マーク５０ｂの像５０ｂ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ｄの像１４ｄ’が重なるように、ワーク支持台２５を移動させて位置決めする。上述したように、ワーク支持台２５の移動は、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動することにより行う。
【００４４】
像５０ａ’に像１４ｃ’が重なり、像５０ｂ’に像１４ｄ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板１０のパターン１２が、被投影基板６０のパターン形成領域６２ａに投影され、パターン形成領域６２ａにパターンが形成される。
【００４５】
次に、図４（ｂ）に示すように、被投影基板６０のパターン形成領域６２ｂにパターンを形成するときも同様に、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動しワーク支持台２５を移動させて行う。この移動は、パターン形成領域６２ｂの基準位置マーク５０ｅの像５０ｅ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ｃの像１４ｃ’が重なり、パターン形成領域６２ｂの基準位置マーク５０ｆの像５０ｆ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ｄの像１４ｄ’が重なるようにする。
【００４６】
像５０ｅ’に像１４ｃ’が重なり、像５０ｆ’に像１４ｄ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板１０のパターン１２が、被投影基板６０のパターン形成領域６２ｂに投影され、パターン形成領域６２ｂにパターンが形成される。
【００４７】
更に、被投影基板６０のパターン形成領域６２ｄにパターンを形成するときの状態を図４（ｃ）に示す。このときには、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動しワーク支持台２５を移動させるのみならず、ワーク支持台２５のθ方向のモータと、レチクル支持台２０のθ方向のモータとを駆動することにより行う。即ち、パターン基板１０を１８０度回転させるとともに、被投影基板６０も１８０度回転させる。このように移動させることで、パターン形成領域６２ｄの基準位置マーク５０ｈの像５０ｈ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ｂの像１４ｂ’が重なり、パターン形成領域６２ｄの基準位置マーク５０ｇの像５０ｇ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ａの像１４ａ’が重なるように位置付けることができる。
【００４８】
像５０ｈ’に像１４ｂ’が重なり、像５０ｇ’に像１４ａ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板１０のパターン１２が、被投影基板６０のパターン形成領域６２ａに投影され、パターン形成領域６２ａにパターンが形成される。
【００４９】
最後に、図４（ｄ）に示すように、被投影基板６０のパターン形成領域６２ｃにパターンを形成するときも同様に、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動しワーク支持台２５を移動させて行う。この移動は、パターン形成領域６２ｃの基準位置マーク５０ｄの像５０ｄ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ｂの像１４ｂ’が重なり、パターン形成領域６２ｃの基準位置マーク５０ｃの像５０ｃ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ａの像１４ａ’が重なるようにする。
【００５０】
像５０ｄ’に像１４ｂ’が重なり、像５０ｃ’に像１４ａ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板１０のパターン１２が、被投影基板６０のパターン形成領域６２ｃに投影され、パターン形成領域６２ｃにパターンが形成される。
【００５１】
上述したようにして、被投影基板６０の４つのパターン形成領域６２ａ〜６２ｄの全てにパターンを形成することができる。
【００５２】
上述した被投影基板１６０に形成された被投影基板基準マークの第２の実施形態を図５に示す。尚、図２に示した構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付した。
【００５３】
この被投影基板１６０は、円板型の形状を有する。被投影基板１６０は、４つのパターン形成領域１６２ａ，１６２ｂ，１６２ｃ及び１６２ｄからなる。後述するように、この４つのパターン形成領域１６２ａ〜１６２ｄの各々に、パターン基板１０のパターンが形成される。
【００５４】
４つのパターン形成領域１６２ａ〜１６２ｄは、直交する２つの直径Ｄ１及びＤ２によって画定される。２つのパターン形成領域１６２ａと１６２ｃとは、直径Ｄ１を境として隣合っている。また、２つのパターン形成領域１６２ｂと１６２ｄも、直径Ｄ１を境として隣合っている。
【００５５】
隣合っている２つのパターン形成領域１６２ａと１６２ｃとの境である直径Ｄ１上に基準マーク１５０ａと１５０ｂとが形成されている。また、２つのパターン形成領域１６２ｂと１６２ｄとの境である直径Ｄ１上に、基準マーク１５０ｃと１５０ｄとが形成されている。
【００５６】
この基準マーク１５０ａと１５０ｂとの対、又は基準マーク１５０ｃと１５０ｄとの対から、「被投影基板基準マーク」が構成される。
【００５７】
また、第１の実施形態と同様に、基準マーク１５０ａ〜１５０ｄは、像として検出し得るように露光光や可視光を反射する材料からなる。このように、光を反射する材料で基準マーク１５０ａ〜１５０ｄを形成したことにより、上述した顕微鏡で基準マーク１５０ａ〜１５０ｄを像として観察することができる。
【００５８】
上述した図３に示したパターン基板１０を用いて図５に示した被投影基板１６０にパターンを形成する過程を図６（ａ）〜（ｂ）に示す。尚、この第２の実施形態においては、パターン基板については、第１の実施形態の同様のパターン基板１０を用いる。図６（ａ）〜（ｂ）に示した図は、上述した顕微鏡によって観察される基準マーク１４ａ〜１４ｄの像と、基準マーク１５０ａ〜１５０ｄの像と、を概略的に示すものであり、被投影基板１６０の全体が観察できるのではなく、実際には、操作者は基準マークの近傍を拡大して観察する。
【００５９】
図６（ａ）は、パターン形成領域１６２ａにパターンを既に形成しており、パターン形成領域１６２ｂにパターンを形成するときの状態を示す図である。
【００６０】
基準位置マーク１５０ｃの像１５０ｃ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ｃの像１４ｃ’が重なり、基準位置マーク１５０ｄの像１５０ｄ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ｄの像１４ｄ’が重なるように、ワーク支持台２５を移動させて位置決めする。上述したように、ワーク支持台２５の移動は、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動することにより行う。
【００６１】
像１５０ｃ’に像１４ｃ’が重なり、像１５０ｄ’に像１４ｄ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板１０のパターン１２が、被投影基板１６０のパターン形成領域１６２ｂに投影され、パターン形成領域１６２ｂにパターンが形成される。
【００６２】
次に、図６（ｂ）に示すように、被投影基板１６０のパターン形成領域１６２ｄにパターンを形成するときも同様に、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動しワーク支持台２５を移動させて行う。このとき、上述した第１の実施形態においては、図４（ｂ）に示す手順から図４（ｃ）に示す手順へ移行するときに、ワーク支持台２５とレチクル支持台２０との双方をθ方向に移動する必要があったが、第２の実施形態においては、このθ方向の移動を要しない。即ち、この第２の実施形態では、ワーク支持台２５のθ方向の移動と、レチクル支持台２０のθ方向の移動とを要せず、ワーク支持台２５及びレチクル支持台２０のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動するだけでよく、投影露光装置１の構成を簡素化することができる。
【００６３】
図６（ｂ）の場合における位置決めは、基準位置マーク１５０ｃの像１５０ｃ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ａの像１４ａ’が重なり、基準位置マーク１５０ｄの像１５０ｄ’に、パターン基板１０の基準マーク１４ｂの像１４ｂ’が重なるようにする。
【００６４】
像１５０ｃ’に像１４ａ’が重なり、像１５０ｄ’に像１４ｂ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板１０のパターン１２が、被投影基板１６０のパターン形成領域１６２ｄに投影され、パターン形成領域１６２ｄにパターンが形成される。
【００６５】
更に、同様にして、パターン形成領域１６２ｃにパターンを形成することにより、被投影基板１６０の４つのパターン形成領域１６２ａ〜１６２ｄの各々にパターンを形成することができる。
【００６６】
第３の実施形態の被投影基板２６０とパターン基板７０とを図７に示す。
この被投影基板２６０は、円板型の形状を有する。被投影基板２６０は、８つのパターン形成領域２６２ａ〜２６２ｈからなる。後述するように、この８つのパターン形成領域２６２ａ〜２６２ｈの各々に、パターン基板７０のパターン７２が投影されてパターンが形成される。
【００６７】
８つのパターン形成領域２６２ａ〜２６２ｈは、直交する２つの直径Ｄ１及びＤ２と、直径Ｄ１に平行な２つの直線Ｌ１及びＬ２とによって画定される。２つのパターン形成領域２６２ａと２６２ｃとは、直径Ｌ１を境として隣合っている。２つのパターン形成領域２６２ｃと２６２ｅとは、直径Ｄ１を境として隣合っている。２つのパターン形成領域２６２ｅと２６２ｇとは、直径Ｌ２を境として隣合っている。
【００６８】
また、２つのパターン形成領域２６２ｂと２６２ｄとは、直径Ｌ１を境として隣合っている。２つのパターン形成領域２６２ｄと２６２ｆとは、直径Ｄ１を境として隣合っている。２つのパターン形成領域２６２ｆと２６２ｈとは、直径Ｌ２を境として隣合っている。
【００６９】
隣合っている２つのパターン形成領域２６２ａと２６２ｃとの境である直径Ｌ１上に基準マーク２５０ａと２５０ｂとが形成されている。２つのパターン形成領域２６２ｂと２６２ｄとの境である直径Ｌ１上に、基準マーク２５０ｃと２５０ｄとが形成されている。
【００７０】
また、２つのパターン形成領域２６２ｃと２６２ｅとの境である直径Ｄ１上に、基準マーク２５０ｅと２５０ｆとが形成されている。２つのパターン形成領域２６２ｄと２６２ｆとの境である直径Ｄ１上に、基準マーク２５０ｇと２５０ｈとが形成されている。
【００７１】
また、２つのパターン形成領域２６２ｅと２６２ｇとの境である直径Ｌ２上に、基準マーク２５０ｉと２５０ｊとが形成されている。２つのパターン形成領域２６２ｆと２６２ｈとの境である直径Ｌ２上に、基準マーク２５０ｋと２５０ｌとが形成されている。
【００７２】
これらの基準マーク２５０ａと２５０ｂとの対、基準マーク２５０ｃと２５０ｄとの対，基準マーク２５０ｅと２５０ｆとの対、基準マーク２５０ｇと２５０ｈとの対、基準マーク２５０ｉと２５０ｊとの対、又は基準マーク２５０ｋと２５０ｌとの対から、「被投影基板基準マーク」が構成される。
【００７３】
上述した実施形態と同様に、基準マーク２５０ａ〜２５０ｌは、像として検出し得るように露光光や可視光を反射する材料からなる。このように、光を反射する材料で基準マーク２５０ａ〜２５０ｌを形成したことにより、上述した顕微鏡で基準マーク２５０ａ〜２５０ｌを像として観察することができる。
【００７４】
図７（ｂ）に示すように、パターン基板７０は、扁平かつ矩形の形状を有する。パターン基板７０には、被投影基板２６０に投影すべきパターン７２が形成されている。上述した第１の実施形態のパターン基板と同様に、パターン基板７０に形成されているパターン７２は、この投影露光装置１によって被投影基板２６０に形成されるパターンと同じ形状又は相似型の形状を有する。
【００７５】
また、パターン７２は、第１の実施形態のパターン基板１０のパターン１２と同様に、パターンを一般化して示すために、「Ａ」という文字で示したものである。更に、パターン基板７０に形成されたパターンは、単一のパターンから構成されても、複数のパターンから構成されてもよい。さらに、複数のパターンからなる場合に、その全てが同一のパターンから構成されても、全てが又は一部のみが異なるパターンから構成されてもよい。
【００７６】
パターン基板７０には、パターン７２を挟んで、４つの基準マーク７４ａ〜７４ｄが形成されている。このうちの２つの基準マーク７４ａと７４ｂとの対から「第１パターン基板基準マーク」が構成される。また、２つの基準マーク７４ｃと７４ｄとの対から「第２パターン基板基準マーク」が構成される。
【００７７】
パターン基板７０において、パターン７２が形成されている領域は、上述したようにガラス基板からなる。パターン７２は、光源３０から発せられる露光光を遮断し得る材料、例えばクロムからなる。光源３０から発せられた露光光は、パターン７２が形成されている領域では透過されず、パターン７２によって影が形成される。また、光源３０から発せられた露光光は、パターン７２が形成されていない領域では透過され、被投影基板２６０に照射される。これにより、被投影基板２６０には、パターン７２が投影される。
【００７８】
また、基準マーク７４ａ〜７４ｄは、像として検出し得るように露光光や可視光を反射する材料、例えば、クロムからなる。このように、光を反射する材料で基準マーク７４ａ〜７４ｄを形成したことにより、上述した顕微鏡で基準マーク７４ａ〜７４ｄを像として観察することができる。
【００７９】
図７に示した２つの基準マーク７４ａと７４ｂとは、パターン基板７０の上辺の近傍に形成され、２つの基準マーク７４ｃと７４ｄとは、パターン基板７０の下辺の近傍に形成されている場合を示したが、パターン基板７０の辺の近傍に基準マークを形成せず、他の位置、例えばパターン基板７０の中央部に形成してもよい。
【００８０】
上述した図７（ｂ）に示したパターン基板７０を用いて図７（ａ）に示した被投影基板２６０にパターンを形成する過程を図８（ａ）〜（ｂ）に示す。この図８（ａ）〜（ｂ）に示した図は、上述した顕微鏡によって観察される基準マーク７４ａ〜７４ｄの像と、基準マーク２５０ａ〜２５０ｌの像と、を概略的に示すものであり、被投影基板２６０の全体が観察できるのではなく、基準マークの近傍を拡大して観察する。
【００８１】
図８（ａ）は、パターン形成領域２６２ａ，２６２ｃにパターンを既に形成しており、パターン形成領域２６２ｅにパターンを形成するときの状態を示す図である。
【００８２】
基準位置マーク２５０ｉの像２５０ｉ’に、パターン基板７０の基準マーク７４ｃの像７４ｃ’が重なり、基準位置マーク２５０ｊの像２５０ｊ’に、パターン基板７０の基準マーク７４ｄの像７４ｄ’が重なるように、ワーク支持台２５を移動させて位置決めする。上述したように、ワーク支持台２５の移動は、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動することにより行う。
【００８３】
像２５０ｉ’に像７４ｃ’が重なり、像２５０ｊ’に像７４ｄ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板７０のパターン７２が、被投影基板２６０のパターン形成領域２６２ｅに投影され、パターン形成領域２６２ｅにパターンが形成される。
【００８４】
次に、図８（ｂ）に示すように、被投影基板２６０のパターン形成領域２６２ｈにパターンを形成するときも同様に、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動しワーク支持台２５を移動させて行う。このとき、上述した第１の実施形態においては、図４（ｂ）に示す手順から図４（ｃ）に示す手順へ移行するときに、ワーク支持台２５とレチクル支持台２０との双方をθ方向に移動する必要があったが、この第３の実施形態においては、第２の実施形態と同様に、このθ方向の移動を要しない。即ち、この第３の実施形態では、ワーク支持台２５のθ方向の移動と、レチクル支持台２０のθ方向の移動とを要せず、ワーク支持台２５及びレチクル支持台２０のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動するだけでよく、投影露光装置１の構成を簡素化することができる。
【００８５】
図８（ｂ）に示した場合における位置決めは、基準位置マーク２５０ｋの像２５０ｋ’に、パターン基板７０の基準マーク７４ａの像７４ａ’が重なり、基準位置マーク２５０ｌの像２５０ｌ’に、パターン基板７０の基準マーク７４ｂの像７４ｂ’が重なるようにする。
【００８６】
像２５０ｋ’に像７４ａ’が重なり、像２５０ｌ’に像７４ｂ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板７０のパターン７２が、被投影基板２６０のパターン形成領域２６２ｈに投影され、パターン形成領域２６２ｈにパターンが形成される。
【００８７】
更に、同様にして、パターン形成領域２６２ｆ、２６２ｄ及び２６２ｂにもパターンを形成することにより、被投影基板２６０の８つのパターン形成領域２６２ａ〜２６２ｈの各々にパターンを形成することができる。
【００８８】
第４の実施形態の被投影基板３６０とパターン基板８０とを図９に示す。
図９（ａ）に示すように、この被投影基板３６０は、円板型の形状を有する。図３に示した第１の実施形態に示したものと同様に、被投影基板３６０は、４つのパターン形成領域３６２ａ〜３６２ｄからなる。後述するように、この４つのパターン形成領域３６２ａ〜３６２ｄの各々に、パターン基板８０のパターン８２が投影されてパターンが形成される。
【００８９】
４つのパターン形成領域３６２ａ〜３６２ｄは、直交する２つの直径Ｄ１及びＤ２によって画定される。２つのパターン形成領域３６２ａと３６２ｂとは、直径Ｄ２を境として隣合っている。また、２つのパターン形成領域３６２ｃと３６２ｄも、直径Ｄ２を境として隣合っている。
【００９０】
隣合っている２つのパターン形成領域３６２ａと３６２ｂとの各々には、直径Ｄ２の近傍に基準マークが形成されている。パターン形成領域３６２ａにおいては、境である直径Ｄ２の近傍に、基準マーク３５０ａと３５０ｂとが形成されている。また、パターン形成領域３６２ｂにおいては、境である直径Ｄ２の近傍に、基準マーク３５０ｃと３５０ｄとが形成されている。
【００９１】
即ち、被投影基板３６０において、隣合っているパターン形成領域３６２ａとパターン形成領域３６２ｂとの境である直径Ｄ２を挟んで、基準マーク３５０ａ及び３５０ｂと、基準マーク３５０ｃ及び３５０ｄとが向かい合うように形成されている。
【００９２】
この基準マーク３５０ａと３５０ｂとの対から、「第１被投影基板基準マーク」が構成される。また、基準マーク３５０ｃと３５０ｄとの対から、「第２被投影基板基準マーク」が構成される。
【００９３】
また、隣合っている２つのパターン形成領域３６２ｃと３６２ｄとの各々には、直径Ｄ２の近傍に基準マークが形成されている。パターン形成領域３６２ｃにおいては、境である直径Ｄ２の近傍に、基準マーク５０ｅと５０ｆとが形成されている。また、パターン形成領域３６２ｄにおいては、境である直径Ｄ２の近傍に、基準マーク５０ｇと５０ｈとが形成されている。
【００９４】
即ち、被投影基板３６０において、隣合っているパターン形成領域３６２ｃとパターン形成領域６２ｄとの境である直径Ｄ２を挟んで、基準マーク３５０ｅ及び３５０ｆと、基準マーク３５０ｇ及び３５０ｈとが向かい合うように形成されている。
【００９５】
隣合っているパターン形成領域３６２ｃとパターン形成領域３６２ｄとの場合においても、基準マーク３５０ｅと３５０ｆとの対から、「第１被投影基板基準マーク」が構成され、基準マーク３５０ｇと３５０ｈとの対から、「第２被投影基板基準マーク」が構成される。
【００９６】
また、基準マーク３５０ａ〜３５０ｈは、像として検出し得るように露光光や可視光を反射する材料からなる。このように、光を反射する材料で基準マーク３５０ａ〜３５０ｈを形成したことにより、上述した顕微鏡で基準マーク３５０ａ〜３５０ｈを像として観察することができる。
【００９７】
パターン基板８０に形成された基準マークの第１の実施形態を図９（ｂ）に示す。
パターン基板８０は、扁平かつ略正方形の形状を有する。パターン基板８０には、被投影基板３６０に投影すべきパターン８２が形成されている。パターン基板８０に形成されているパターン８２は、この投影露光装置１によって被投影基板３６０に形成されるパターンと同じ形状又は相似型の形状を有する。例えば、被投影基板３６０が、プリント回路板として用いられるものである場合には、パターン８２は、プリント回路板における導電層の形状を画定して導体パターンを形成するためのものである。
【００９８】
尚、図９（ｂ）に示したパターン８２は、形成されているパターンを一般化して示すために、「Ａ」という文字で示したものである。パターン基板８０に形成されたパターンは、単一のパターンから構成されても、複数のパターンから構成されてもよい。さらに、複数のパターンからなる場合に、その全てが同一のパターンから構成されても、全てが又は一部のみが異なるパターンから構成されてもよい。
【００９９】
パターン基板８０には、パターン８２を挟んで、４つの基準マーク８４ａ〜８４ｄが形成されている。このうちの２つの基準マーク８４ａと８４ｂとの対から「第１パターン基板基準マーク」が構成される。また、２つの基準マーク８４ｃと８４ｄとの対から「第２パターン基板基準マーク」が構成される。
【０１００】
パターン基板８０において、パターン８２が形成されている領域は、上述したようにガラス基板からなる。パターン８２は、光源３０から発せられる露光光を遮断し得る材料、例えばクロムからなる。光源３０から発せられた露光光は、パターン８２が形成されている領域では透過されず、パターン８２によって影が形成される。また、光源３０から発せられた露光光は、パターン８２が形成されていない領域では透過され、被投影基板３６０に照射される。これにより、被投影基板３６０には、パターン８２が投影される。
【０１０１】
また、基準マーク８４ａ〜８４ｄは、像として検出し得るように露光光や可視光を反射する材料、例えば、クロムからなる。このように、光を反射する材料で基準マーク８４ａ〜８４ｄを形成したことにより、上述した顕微鏡で基準マーク３５０ａ〜３５０ｄを像として観察することができる。
【０１０２】
図９（ｂ）に示した２つの基準マーク８４ａと８４ｂとは、パターン基板８０の左辺の近傍に形成され、２つの基準マーク８４ｃと８４ｄとは、パターン基板８０の右辺の近傍に形成されている場合を示したが、パターン基板８０の辺の近傍に基準マークを形成せず、他の位置、例えばパターン基板８０の中央部に形成してもよい。
【０１０３】
上述した図９（ｂ）に示したパターン基板８０を用いて図９（ａ）に示した被投影基板３６０にパターンを形成する過程を図１０（ａ）〜（ｂ）に示す。この図１０（ａ）〜（ｂ）に示した図は、上述した顕微鏡によって観察される基準マーク８４ａ〜８４ｄの像と、基準マーク３５０ａ〜３５０ｈの像と、を概略的に示すものであり、被投影基板３６０の全体が観察できるのではなく、実際には、操作者は基準マークの近傍を拡大して観察する。
【０１０４】
図１０（ａ）は、パターン形成領域３６２ａにパターンを形成するときの状態を示す図である。
基準位置マーク３５０ａの像３５０ａ’に、パターン基板８０の基準マーク８４ｃの像８４ｃ’が重なり、基準位置マーク３５０ｂの像３５０ｂ’に、パターン基板８０の基準マーク８４ｄの像８４ｄ’が重なるように、ワーク支持台２５を移動させて位置決めする。上述したように、ワーク支持台２５の移動は、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動することにより行う。
【０１０５】
像３５０ａ’に像８４ｃ’が重なり、像３５０ｂ’に像８４ｄ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板８０のパターン８２が、被投影基板３６０のパターン形成領域３６２ａに投影され、パターン形成領域３６２ａにパターンが形成される。
【０１０６】
次に、図１０（ｂ）に示すように、被投影基板３６０のパターン形成領域３６２ｂにパターンを形成するときも同様に、ワーク支持台２５のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動しワーク支持台２５を移動させて行う。このとき、上述した第１の実施形態においては、図４（ｂ）に示す手順から図４（ｃ）に示す手順へ移行するときに、ワーク支持台２５とレチクル支持台２０との双方をθ方向に移動する必要があったが、この第４の実施形態においては、第２の実施形態及び第３の実施形態と同様に、このθ方向の移動を要しない。即ち、この第４の実施形態では、ワーク支持台２５のθ方向の移動と、レチクル支持台２０のθ方向の移動とを要せず、ワーク支持台２５及びレチクル支持台２０のＸ方向及びＹ方向のモータを駆動するだけでよく、投影露光装置１の構成を簡素化することができる。
【０１０７】
図１０（ｂ）に示した場合における位置決めは、基準位置マーク３５０ｃの像３５０ｃ’に、パターン基板８０の基準マーク８４ａの像８４ａ’が重なり、基準位置マーク３５０ｄの像３５０ｄ’に、パターン基板８０の基準マーク８４ｂの像８４ｂ’が重なるようにする。
【０１０８】
像３５０ｃ’に像８４ａ’が重なり、像３５０ｄ’に像８４ｂ’が重なったときに、光源３０から露光光を発することで、パターン基板８０のパターン８２が、被投影基板３６０のパターン形成領域３６２ｂに投影され、パターン形成領域３６２ｂにパターンが形成される。
【０１０９】
更に、同様にして、パターン形成領域３６２ｄ及び３６２ｃにもパターンを形成することにより、被投影基板３６０の４つのパターン形成領域３６２ａ〜３６２ｄの各々にパターンを形成することができる。
【０１１０】
上述した実施例では、被投影基板６０、７０又は８０が、円型の形状を有する場合を示したが、その他の形状、例えば、矩形型の形状や、楕円型の形状を有してもよい。
【０１１１】
また、上述した実施例においては、単一のパターンのみが、パターン基板に形成されている場合を示した。しかし、これに限られず、パターン基板に複数のパターンを形成してもよい。
【０１１２】
更に、上述した図４の実施例においては、パターン形成領域６２ａとパターン形成領域６２ｂとにパターンを形成した後、図４（ｃ）において説明したように、ワーク支持台２５とレチクル支持台２０とを１８０度回転させて、引き続きパターン形成領域６２ｄとパターン形成領域６２ｃとにパターンを形成する場合をしめした。即ち、パターンを形成する被投影基板毎に、ワーク支持台２５とレチクル支持台２０とを１８０度回転させてパターンを形成する場合を示した。しかし、複数の被投影基板にパターンを形成するような場合には、最初に、全ての被投影基板についてパターン形成領域６２ａとパターン形成領域６２ｂとにパターンを形成した後、ワーク支持台２５とレチクル支持台２０とを１８０度回転させ、改めて全ての被投影基板についてパターン形成領域６２ｃとパターン形成領域６２ｄとにパターンを形成してもよい。このようにすることで、ワーク支持台２５とレチクル支持台２０とを回転させる回数を減らすことができ、効率を高めることができる。ワーク支持台２５においては、いわゆるプリアライメントをする際に被投影基板６０に予め形成されているノッチを検出するため、上述したθ方向移動用のモータが設けられている。一方、レチクル支持台２０については、上述したようにθ方向のモータを設けてパターン基板１０を１８０度回転させてもよいが、パターン基板１０をローダ等で１８０度回転させても手動で１８０度回転させてもよい。レチクル支持台２０にθ方向移動用のモータを設けない構成とした場合には、構成をより簡素にすることができる。
【０１１３】
【発明の効果】
同一のパターンを同一の層に複数個形成できる安価な投影露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態における投影露光装置の概略を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態による被投影基板に形成された被投影基板基準マークを示す平面図である。
【図３】レチクル板１０の概略を示す平面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態による被投影基板を用いて、被投影基板にパターンを形成する過程を示す概略図である。
【図５】本発明の第２の実施形態による被投影基板に形成された被投影基板基準マークを示す平面図である。
【図６】本発明の第２の実施形態による被投影基板を用いて、被投影基板にパターンを形成する過程を示す概略図である。
【図７】本発明の第３の実施形態による被投影基板に形成された被投影基板基準マークを示す平面図である。
【図８】本発明の第３の実施形態による被投影基板を用いて、被投影基板にパターンを形成する過程を示す概略図である。
【図９】本発明の第４の実施形態による被投影基板に形成された被投影基板基準マークを示す平面図である。
【図１０】本発明の第４の実施形態による被投影基板を用いて、被投影基板にパターンを形成する過程を示す概略図である。
【符号の説明】
１０、７０、８０  パターン基板
２０  レチクル支持台（位置合わせ手段）
２５  ワーク支持台（位置合わせ手段）
６０、１６０、２６０、３６０  被投影基板
５０ａ〜５０ｈ  第１被投影基板基準マーク、第２被投影基板基準マーク
１５０ａ〜１５０ｄ  第１被投影基板基準マーク、第２被投影基板基準マーク
２５０ａ〜２５０ｌ  第１被投影基板基準マーク、第２被投影基板基準マーク
３５０ａ〜３５０ｄ  第１被投影基板基準マーク、第２被投影基板基準マーク
１４ａ〜１４ｄ  第１パターン基板基準マーク、第２パターン基板基準マーク
７４ａ〜７４ｄ  第１パターン基板基準マーク、第２パターン基板基準マーク
８４ａ〜８４ｄ  第１パターン基板基準マーク、第２パターン基板基準マーク
【図１】
2004301880.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2004301880.tif 000010
【図９】
2004301880.tif 000011
【図１０】
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