(57)【要約】【課題】より多くのガスの貯蔵をより狭いスペースの中で可能にすること。【解決手段】ガスと水とを氷点よりも高温、かつ大気圧よりも高圧下で反応させてガスハイドレートを生成し、生成したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で脱水し、脱水したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で貯蔵する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスと水とを氷点よりも高温、かつ大気圧よりも高圧下で反応させてガスハイドレートを生成し、
生成したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で脱水し、
脱水したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で貯蔵することを特徴とするガスの貯蔵方法。
【請求項２】
前記ガスと前記水とを反応させる際、圧力がより低い状態でもガスの水和物化を促進する添加剤を加えて生成圧力を下げることを特徴とする請求項１記載のガスの貯蔵方法。
【請求項３】
前記ガスを昇圧してから前記水と反応させることを特徴とする請求項１または２記載のガスの貯蔵方法。
【請求項４】
前記生成したガスハイドレートを冷却してから貯蔵することを特徴とする請求項１から３のいずれか記載のガスの貯蔵方法。
【請求項５】
貯蔵したガスハイドレートを加熱し、ガス化してから払い出すことを特徴とする請求項１から４のいずれか記載のガスの貯蔵方法。
【請求項６】
ガスと水とを氷点よりも高温、かつ大気圧よりも高圧下で反応させてガスハイドレートを生成する生成手段と、
生成したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で脱水する脱水手段と、
脱水したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で貯蔵する貯蔵手段とを備えることを特徴とするガス貯蔵設備。
【請求項７】
前記ガスを昇圧する昇圧手段を備えることを特徴とする請求項６記載のガス貯蔵設備。
【請求項８】
前記生成したガスハイドレートを冷却する冷却手段を備えることを特徴とする請求項６または７記載のガス貯蔵設備。
【請求項９】
前記貯蔵手段に貯蔵したガスハイドレートを加熱する加熱手段を備えることを特徴とする請求項６から８のいずれか記載のガス貯蔵設備。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば天然ガス等、各種の燃料となり得るガスを貯蔵する方法および貯蔵のための設備に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、国内のガス一次貯蔵は消費地に隣接して設置されたガスホルダによって行われている。一般的なガスホルダは貯蔵圧力が２．０ＭＰａ、単位容積あたりのガス密度が１０Ｎｍ３／ｍ３程度に設計されている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−１９６８９５号公報
【０００４】
上記特許文献には、冷水を貯留した容器内の水面上に氷粒を供給し、氷粒を供給された冷水の水面下に天然ガスを供給してガスハイドレートを生成し、生成されたガスハイドレートを、脱水などは行わずに容器の中にそのまま貯蔵することが記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
都市化が進む市街地では、ガスの需要は増加しているものの、広大な敷地面積を必要とするガスホルダの新設は、都市化の流れからすると非常に困難である。そこで、既存のガスホルダの貯蔵量を大幅に拡大する技術、または既存のガスホルダより小型でも貯蔵量の格段に多い貯蔵設備の開発が望まれていた。
【０００６】
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、より多くのガスの貯蔵をより狭いスペースの中で可能にすることを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するための手段として、次のような構成のガスの貯蔵方法およびガス貯蔵設備を採用する。すなわち本発明に係る請求項１記載のガスの貯蔵方法は、ガスと水とを氷点よりも高温、かつ大気圧よりも高圧下で反応させてガスハイドレートを生成し、生成したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で脱水し、脱水したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で貯蔵することを特徴とする。
【０００８】
請求項２記載のガスの貯蔵方法は、請求項１記載のガスの貯蔵方法において、前記ガスと前記水とを反応させる際、圧力がより低い状態でもガスの水和物化を促進する添加剤を加えて生成圧力を下げることを特徴とする。
【０００９】
請求項３記載のガスの貯蔵方法は、請求項１または２記載のガスの貯蔵方法において、前記ガスを昇圧してから前記水と反応させることを特徴とする。
【００１０】
請求項４記載のガスの貯蔵方法は、請求項１から３のいずれか記載のガスの貯蔵方法において、前記生成したガスハイドレートを冷却してから貯蔵することを特徴とする。
【００１１】
請求項５記載のガスの貯蔵方法は、請求項１から４のいずれか記載のガスの貯蔵方法において、貯蔵したガスハイドレートを加熱し、ガス化してから払い出すことを特徴とする。
【００１２】
請求項６記載のガス貯蔵設備は、ガスと水とを氷点よりも高温、かつ大気圧よりも高圧下で反応させてガスハイドレートを生成する生成手段と、生成したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で脱水する脱水手段と、
脱水したガスハイドレートを大気圧よりも高圧下で貯蔵する貯蔵手段とを備えることを特徴とする。
【００１３】
請求項７記載のガス貯蔵設備は、請求項６記載のガス貯蔵設備において、前記ガスを昇圧する昇圧手段を備えることを特徴とする。
【００１４】
請求項８記載のガス貯蔵設備は、請求項６または７記載のガス貯蔵設備において、前記生成したガスハイドレートを冷却する冷却手段を備えることを特徴とする。
【００１５】
請求項９記載のガス貯蔵設備は、請求項６から８のいずれか記載のガス貯蔵設備において、前記貯蔵手段に貯蔵したガスハイドレートを加熱する加熱手段を備えることを特徴とする。
【００１６】
本発明においては、ガスを水和物化して加圧状態のまま貯蔵することで、ガスをガスのまま加圧して貯蔵する従来のガスホルダと比較して、同体積当たりに存在するガス量を大幅に増加させることが可能である。例えば、天然ガスの水和物すなわち天然ガスハイドレートは、包接化合物（クラスレート化合物）の一種であって、複数の水分子（Ｈ２Ｏ）により形成された立体かご型の包接格子（クラスレート）の中に天然ガスの各成分を構成する分子、すなわちメタン（ＣＨ４）、エタン（Ｃ２Ｈ６）、プロパン（Ｃ３Ｈ８）等が入り込み包接された結晶構造をなすものである。クラスレートに包接された天然ガス構成分子どうしの分子間距離は、天然ガスが高圧充填された場合のガスボンベ中における分子間距離よりも短くなる。これは、天然ガスが緊密充填された固体を生成し得ることを意味し、その体積は気体状態と比較して圧倒的に小さくなるのである。
【００１７】
本発明においては、圧力がより低い状態でもガスの水和物化を促進する添加剤を加えることでガスハイドレートの生成を促進する。ガスを水和物化するには、上記のようにガスと水とを氷点よりも高温、かつ大気圧よりも高圧下で反応させる必要があるが、例えばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等、圧力がより低い状態でも水和物化を促進する添加剤を加えることで生成圧力を低減させるようにすれば、生成を行う設備やガスハイドレートを貯蔵する設備を、耐圧強度を下げて設計することができ、これら設備の建造にかかるコストを安価に抑えることができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明に係る第１の実施形態を図１および図２に示して説明する。
本実施形態のガス貯蔵設備は、天然ガスを使用する都市ガスインフラの一次貯蔵を行う設備である。図１は、当該の設備における生成、貯蔵のプロセスを示すブロック図である。図１において、符号１は天然ガスを所定の圧力にまで昇圧する昇圧手段、２は昇圧された天然ガスと水とを反応させて天然ガスハイドレートを生成する生成手段、３は生成された天然ガスハイドレートを脱水する脱水手段、４は脱水された天然ガスハイドレートを冷却する冷却手段、５は冷却された天然ガスを貯蔵し必要に応じて分解する貯蔵手段である。
【００１９】
本実施形態のより具体的な装置構成は、図２に示すように、供給基地からガス管を通じて配送されてきた天然ガスを所定の圧力まで昇圧する昇圧手段としての圧縮機１１と、天然ガスと反応させるべき水を貯蔵する貯水ピット１２と、圧縮された天然ガスを水と反応させてガスハイドレートを生成する生成手段としての生成反応装置１３と、生成したガスハイドレートを加圧状態のまま脱水する脱水手段としてのスクリュープレス型脱水装置１４と、脱水したガスハイドレートを加圧状態のまま冷却する冷却手段としてのスクリューコンベア型冷却装置１５と、冷却したガスハイドレートを加圧状態のまま貯蔵する貯蔵手段としてのガスホルダ１６とを備えている。
【００２０】
生成反応装置１３は、圧力容器２０を有している。圧力容器２０には、貯水ピット１２の水を導入する水配管２１が接続されるとともに、圧縮機１１によって昇圧された天然ガスを導入するガス配管２２が接続されている。水配管２１には、水を吸い上げて圧力容器２０の内部に導入する水ポンプ２３と、バルブ２４とが設けられている。水圧力容器２０の内部には、貯水ピット１２の水が導入されて水相Ｌが形成されるとともに、昇圧された天然ガスが導入されて気相Ｇが形成されている。
【００２１】
圧力容器２０の内部には、水相Ｌの温度を氷点よりも高温であってかつガスハイドレートの生成温度よりも低温（この状態を「過冷却」と定義する）に保つ冷却装置２５が設けられている。冷却装置２５によって圧力容器２０の内部を過冷却の状態に保つのは、天然ガスハイドレートが生成する過程で発生する水和熱を回収し、圧力容器２０の内部を常に生成温度に保つためである。
【００２２】
圧力容器２０には、底部と頂部とを繋ぐ水配管２６が接続されている。水配管２６には、水相Ｌの水を吸い上げて循環させる水循環ポンプ２７と、水循環ポンプ２７によって吸い上げられた水を冷却する熱交換器２８と、水のみを透過するフィルタ２９と、バルブ３０とが設けられている。また、圧力容器２０の頂部から内側に突き出した水配管２６の先端には、気相Ｇ中に水を噴霧するスプレーノズル３１が設けられている。
【００２３】
圧力容器２０の側壁には、水相Ｌの液面に生成されたスラリー状の天然ガスハイドレートを抜き出すスラリー抜出口２０ａが設けられており、圧力容器２０は、スラリー抜出口２０ａに接続されたスラリー配管３２を介してスクリュープレス型脱水装置１４と接続されている。スラリー配管３２には、水相Ｌの液面に浮遊するスラリーを吸い出すスラリー抜出ポンプ３３と、バルブ３４とが設けられている。
【００２４】
スクリュープレス型脱水装置１４は、円筒形の内部空間４０ａを有する容器体４０と、側面に螺旋状の突条部４１ａを有し内部空間４０ａに配置された軸体４１とを備えている。容器体４０の先端には、生成反応装置１１においてスラリー状に生成された天然ガスハイドレートを内部空間４０ａに取り入れる取入口４０ｂが設けられている。取入口４０ｂには、上述したスラリー配管３２が接続されている。
【００２５】
容器体４０は、内部空間４０ａを形成する内壁４０ｃと外殻を構成する筐体４０ｄとの二重構造になっており、内壁４０ｃはメッシュ加工され、筐体４０ｄには内部に溜まった水を排出する排水口４０ｅが設けられている。筐体４０ｄは、排水口４０ｅに接続された水配管４４を介して圧力容器２０に接続されている。水配管４４には、排出された水を圧力容器２０の内部に導入する水ポンプ４５と、バルブ４６とが設けられている。
【００２６】
軸体４１は、突条部４１ａを内部空間４０ａの内面に近接させて配置されるとともに、自らの軸線を中心として所定方向に回転可能に支持されており、駆動部４２によって回転駆動される。容器体４０の終端には、軸体４１の回転によって搬送されてきた天然ガスハイドレートを取り出す取出口４０ｆが設けられている。容器体４０は、取出口４０ｆに接続されたハイドレート配管４３を介して後段のスクリューコンベア型冷却装置１５に接続されている。
【００２７】
スクリューコンベア型冷却装置１５は、円筒形の内部空間５０ａを有する容器体５０と、側面に螺旋状の突条部５１ａを有し内部空間５０ａに配置された軸体５１とを備えている。容器体５０の先端には、スクリュープレス型脱水装置１４によって脱水された天然ガスハイドレートを内部空間５０ａに取り入れる取入口５０ｂが設けられている。取入口５０ｂには、上述したハイドレート配管４３が接続されている。
【００２８】
軸体５１は、突条部５１ａを内部空間５０ａの内面に近接させて配置されるとともに、自らの軸線を中心として所定方向に回転可能に支持されており、駆動部５２によって回転駆動される。容器体５０の終端には、軸体５１の回転によって搬送されてきた天然ガスハイドレートを取り出す取出口５０ｃが設けられている。容器体５０は、取出口５０ｃに接続されたハイドレート配管５３を介して後段のガスホルダ１６の上部に接続されている。ハイドレート配管５３には、バルブ５４が設けられている。
【００２９】
容器体５０は、内部空間５０ａを形成する内壁５０ｄと外殻を構成する筐体５０ｅとの二重構造になっており、取出口５０ｃに近い筐体５０ｅの側面には内壁５０ｄとの隙間に冷媒を導入する冷媒入口５０ｆが設けられ、取入口５０ｂに近い筐体５０ｅの側面には冷媒を導出する冷媒出口５０ｇが設けられている。また、容器体５０には、冷媒入口５０ｆと冷媒出口５０ｇとを繋ぐ冷媒配管５５が接続されており、冷媒配管５５には、内壁５０ｄと筐体５０ｅとの隙間に冷媒を流通させる冷媒循環ポンプ５６と、冷媒を冷却する熱交換器５７とが設けられている。
【００３０】
ガスホルダ１６は、天然ガスを気体のまま貯蔵する既存のガスホルダを一部改修したもので、球形をなすタンク本体６０と、タンク本体６０を支持する脚部６１とを備えている。なお、貯蔵圧力を高めるための補強等は行っていない。タンク本体６０の上部は、ガス配管６２を介して圧縮機７０に接続されている。ガス配管６２には、ガス中の水分を除去する水分除去装置６４と、バルブ６５とが設けられている。また、タンク本体６０の下部は、水配管６６を介して貯水ピット１２に接続されている。水配管６６には、バルブ６７が設けられている。タンク本体６０の内部には、貯蔵された天然ガスハイドレートと常温の水とで熱交換させて天然ガスハイドレートを加熱、分解する加熱器６８が設けられている。
【００３１】
上記のように構成されたガス貯蔵設備による天然ガスの貯蔵について説明する。
まず、貯水ピット１２に溜めた水を水ポンプ２３によって吸い上げて圧力容器２０の内部に導入して水相Ｌを形成する。そして、冷却装置２５によって圧力容器２０の内部を過冷却の状態にまで冷却し、以降はこの状態が保たれるように温度管理を行う。ここで、貯水ピット１２の水には、圧力がより低い状態でもガスの水和物化を促進する添加剤として、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）をあらかじめ溶かしておく。同時に、遠方の供給基地から図示しないガスラインを経て供給される天然ガス（圧力；１．７ＭＰａ、温度；２０℃）を圧縮機１１によって昇圧したうえで圧力容器２０の内部に導入して気相Ｇを形成し、圧力容器２０内部の気相Ｇの圧力を２．０ＭＰａにまで高める。
【００３２】
圧力容器２０内部の温度および圧力の状態が安定したら、水相Ｌを形成する水の一部を水配管２６を通じて圧力容器２０の底部から抜き出し、熱交換器２８によって再度冷却した後、スプレーノズル３１から気相Ｇ中に噴霧する。スプレーノズル３１から噴霧された水粒子は気相Ｇ中を漂いながら水相Ｌに向けて落下する。このように気相Ｇ中に水の粒子を多量に形成することにより、気相Ｇ中に存在する水の粒子の表面積、すなわち気相Ｇを形成する天然ガスとの接触面積が極めて大きくなる。水粒子の表面では、水と天然ガスとの水和反応が起こり、天然ガスハイドレートが生成される。このとき発生する水和熱は、圧力容器２０内部を過冷却の状態とした冷却装置２５によって回収され、圧力容器２０内部の温度は５℃に保たれる。
【００３３】
水粒子の表面で生成された天然ガスハイドレートはそのまま落下し、水相Ｌの液面に降り積もり、天然ガスハイドレートの層を形成する。この天然ガスハイドレートはスラリー抜出口２０ａから抜き出され、スラリー配管３２を通じて圧力；２．０ＭＰａ、温度；５℃を保ったままスクリュープレス型脱水装置１４に送り込まれる。このとき、天然ガスハイドレートは水とともに回収されるため、含水率が非常に高いスラリー状となる。
【００３４】
スラリー配管３２を通じてスクリュープレス型脱水装置１４に送り込まれたスラリー状の天然ガスハイドレートは、取入口４０ｂを通じて内部空間４０ａに収容され、軸体４１の回転によって軸方向に搬送され、その過程で加圧されることによって脱水される。物理脱水を終えた天然ガスハイドレートは、取出口４０ｆを通じてスクリュープレス型脱水装置１４から取り出され、ハイドレート配管４３を通じて圧力；２．０ＭＰａ、温度；５℃を保ったままスクリューコンベア型冷却装置１５に送り込まれる。天然ガスハイドレートから分離された水分は、内壁４０ｃのメッシュを通じて筐体４０ｄの内部に集められ、排水口４０ｅから排出され、水配管４４を通じて圧力容器２０に再度導入される。
【００３５】
スクリューコンベア型冷却装置１５に送り込まれた天然ガスハイドレートは、取入口５０ｂを通じて内部空間５０ａに収容され、軸体５１の回転によって軸方向に搬送され、その過程で容器体５０内部を循環する冷媒によって０℃にまで冷却される。冷却された天然ガスハイドレートは、取出口５０ｆを通じてスクリューコンベア型冷却装置１５から取り出され、ハイドレート配管５３を通じて圧力；２．０ＭＰａ、温度；０℃を保ったままガスホルダ１６に送り込まれる。
【００３６】
バルブ５４は開かれ、バルブ６５，６７は閉じられており、ガスホルダ１６に送り込まれた天然ガスハイドレートは、タンク本体６０の底部に徐々に堆積していく。天然ガスハイドレートの量がガスホルダ１６の既定の貯蔵量に達したら、圧縮機１１、生成反応装置１３、スクリュープレス型脱水装置１４、スクリューコンベア型冷却装置１５をすべて停止させ、天然ガスハイドレートの生成を終了する。生成が終了したらバルブ５４も閉じてタンク本体６０を密閉し、天然ガスハイドレートを貯蔵する。
【００３７】
水和物化してガスホルダ１６に貯蔵した天然ガスを払い出す場合には、加熱器６８に常温の水（１０℃前後）を流し、天然ガスハイドレートと熱交換させて天然ガスハイドレートを加熱、分解する。ここで、加熱器６８の水源は、近隣の河川や海の水、工場からの温排水、または貯水ピット１２の水を利用する。天然ガスハイドレートの加熱を開始したら、バルブ６５を開き、気化した天然ガスを水分除去装置６４によって除湿したうえで、ガス配管６２を通じて各需要家に払い出す。天然ガスの払い出しには、分解によって急激に体積を拡大させる天然ガスのガス圧を利用する。
【００３８】
分解が進み、タンク本体６０内部のガス圧だけでは各需要家へのガス供給が覚束無くなってきたら、圧縮機７０を駆動して天然ガスを昇圧し、最大で２．０ＭＰａまで圧力を上昇させる。分解が起こらなくなったら、圧縮機７０を停止させるとともに加熱器６８への常温水の供給を断ち、続いてバルブ６５を閉じ、バルブ６７を開いて分解によって生じた水を排出する。添加剤も水に溶けた状態で排出される。貯水ピット１２に向けて水を排出し終わったら、バルブ６７を閉じて次の生成、貯蔵に備える。
【００３９】
上記のように、天然ガスを水和物化して加圧状態のまま貯蔵することで、天然ガスを気体のまま加圧して貯蔵する既存のガスホルダと比較して、貯蔵可能なガス量を大幅に増加させることが可能である。既存のガスホルダは、貯蔵圧力；２．０ＭＰａ、利用圧力；１．０ＭＰａでの利用可能な単位体積当たりのガス量が１０ｍ３／ｍ３であったのに対し、水和物化した天然ガスすなわち天然ガスハイドレートは、同じ貯蔵圧力、利用圧力下での利用可能な単位体積当たりのガス量が最大で９５ｍ３／ｍ３（すべてのガス分子がＩ型包接格子に収まり、さらに含水率２０％、タンク本体６０内部への充填密度０．７と仮定した場合）、小さくて見積もっても３５ｍ３／ｍ３（すべてのガス分子がＩＩ型包接格子に収まり、さらに含水率２０％、タンク本体６０内部への充填密度０．７と仮定した場合）となり、従来と同じ容量のガスホルダに優に３倍以上、理想的には１０倍近い量のガスを貯蔵できるようになる。したがって、上記のガス貯蔵設備によれば、従来の一時貯蔵設備を利用しながら、天然ガスの貯蔵量を大幅に増加させることができる。
【００４０】
また、天然ガスを水和物化するには、上記のように天然ガスと水とを氷点よりも高温、かつ大気圧よりも高圧下で反応させる必要があるが、天然ガスと水とを反応させる際、圧力がより低い状態でもガスの水和物化を促進する添加剤としてテトラヒドロフランを加えることで生成圧力を低減させるようにすれば、生成を行う設備やガスハイドレートを貯蔵する設備を、耐圧強度を下げて設計することができ、これら設備の建造にかかるコストを安価に抑えることができる。
【００４１】
なお、本実施形態では、既存のガスホルダを改修することで設備費の負担を抑えたが、新たにガスホルダを新設してもよい。この場合、ガスホルダの容量を小さくしても既存のガスホルダよりも多くの天然ガスを貯蔵することが可能なので、ガスホルダの建造に要する敷地面積も小さくて済む。
【００４２】
また、本実施形態では添加剤としてテトラヒドロフランを使用したが、その他にフランやイソブチルアミン等も添加剤として使用してもよい。
【００４３】
本実施形態においては原料となる天然ガスを供給圧力；１．７ＭＰａから圧縮機１１で生成圧力；２．０ＭＰａまで昇圧してから水と反応させたが、添加剤の効力により生成圧力が供給圧力と同レベルまで下げることができれば、圧縮機１１による昇圧は行わずに直接圧力容器２０に導入してもよい。
【００４４】
本実施形態では脱水された天然ガスハイドレートを冷却したうえでガスホルダ１６に貯蔵したが、ガスホルダ１６の断熱性が優れている場合は、スクリューコンベア型冷却装置１５による冷却は行わずに脱水された天然ガスハイドレートを直接ガスホルダ１６に導入してもよい。
【００４５】
本実施形態では添加剤としてテトラヒドロフランを使用して天然ガスハイドレートの生成圧力を低下させたが、添加剤を使用すれば水和物中のガス密度が下がることが知られている。そこで、添加剤を一切使用せずに高いガス密度を得るには、原料となる天然ガスを圧縮機１１で昇圧（生成圧力；５．０ＭＰａ、温度；４０℃程度）してから水と反応させ、その後の脱水、冷却、貯蔵も同程度の圧力下で実施する。この場合、ガスホルダの転用はまず不可能であり、新たに貯蔵圧力の高いガスホルダを新設するのが好ましい。
【００４６】
本実施形態においては、昇圧手段として圧縮機１１を、生成手段として生成反応装置１３を、脱水手段としてスクリュープレス型脱水装置１４を、冷却手段としてスクリューコンベア型冷却装置１５を、貯蔵手段としてガスホルダ１６を採用したが、これらはすべて一例であって、本発明のガス貯蔵設備および貯蔵方法は上記以外の構造の各種装置を使用しても実施可能であることはいうまでもない。
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ガスを水和物化して加圧状態のまま貯蔵することで、ガスをガスのまま加圧して貯蔵する従来のガスホルダと比較して、同体積当たりに存在するガス量を大幅に増加させることができ、これによってより多くのガスをより狭いスペースの中で貯蔵することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のガス貯蔵設備における生成、貯蔵のプロセスを示すブロック図である。
【図２】本発明のガス貯蔵設備の具体的な装置構成を示す図である。
【符号の説明】
１１      圧縮機（昇圧手段）
１２      貯水ピット
１３      生成反応装置（生成手段）
１４      スクリュープレス型脱水装置（脱水手段）
１５      スクリューコンベア型冷却装置（冷却手段）
１６      ガスホルダ（貯蔵手段）
【図１】
2004238421.tif 000003
【図２】
2004238421.tif 000004