(57)【要約】【課題】基板が大型化しても、エッチング工程後の水洗工程において基板上からエッチング液を完全に除去することができ、水洗工程でのエッチングむらの発生を防止することができる方法を提供する。【解決手段】水洗工程の初期において、水洗処理槽３４内に配列された複数のスプレイノズル４４を静止させた状態でスプレイノズルから基板Ｗの表面に対して垂直に純水を噴出し、その後に、複数のスプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向において揺動させながら、スプレイノズルから基板の表面に向かって純水を噴出する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面へエッチング液を供給して基板表面をエッチングするエッチング工程と、
複数のスプレイノズルから基板の表面に向かって純水を噴出して基板の表面上のエッチング液を基板上から除去する水洗工程と、
を有する基板処理方法において、
前記水洗工程の初期においては、前記複数のスプレイノズルを静止させた状態でスプレイノズルから基板の表面に対して垂直に純水を噴出し、その後に、前記複数のスプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向において揺動させながら、スプレイノズルから基板の表面に向かって純水を噴出することを特徴とする基板処理方法。
【請求項２】
前記スプレイノズルを、基板の長手方向に沿った軸を中心として揺動させる請求項１記載の基板処理方法。
【請求項３】
前記スプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向に沿って直線的に揺動させる請求項１記載の基板処理方法。
【請求項４】
基板の表面へエッチング液を供給するエッチング液供給手段を備え、基板のエッチング処理が行われるエッチング処理槽と、
このエッチング処理槽に連設された水洗槽と、
この水洗槽内に配列され、基板の表面に向かって純水を噴出して基板の表面上のエッチング液を基板上から除去する複数のスプレイノズルと、
これらのスプレイノズルへ純水を供給する純水供給手段と、
を備えた基板処理装置において、
前記複数のスプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向において揺動させるノズル揺動手段を備え、
前記水洗槽内へ基板が搬入されてきた当初においては、前記複数のスプレイノズルを静止させた状態でスプレイノズルから基板の表面に対して垂直に純水を噴出し、その後に、前記ノズル揺動手段によって前記複数のスプレイノズルを揺動させながらスプレイノズルから基板の表面に向かって純水を噴出するようにしたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
前記ノズル揺動手段は、前記スプレイノズルを、基板の長手方向に沿った軸を中心として揺動させる回動機構である請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記ノズル揺動手段は、前記スプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向に沿って直線的に揺動させる直動機構である請求項４記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、プリント基板、半導体ウエハ等の基板の表面へエッチング液を供給して基板をエッチング処理した後に、基板の表面に向かって純水を噴出して基板を水洗処理する基板処理方法および基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板の表面へエッチング液を供給して基板を１枚ずつエッチング処理するエッチング処理槽には、水洗槽が連接して設けられている。そして、エッチング処理槽でエッチング処理された基板は、水洗槽内へ搬入され、搬送ローラによって水平方向へ搬送されながら、水洗槽内に配列された複数のスプレイノズルから基板の表面に向かって純水が噴出されることにより、基板の表面上のエッチング液が基板上から洗い流される。水洗槽内に配設されたスプレイノズルは、従来、吐出口が基板の表面に対向するように下向きに固定され、スプレイノズルから吐出された純水が基板の表面に対して垂直に吹き付けられていた（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特公平３−７７２７８号公報（第２頁、第５図）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、近年は、基板が大型化する傾向にあり、例えば、液晶表示装置用ガラス基板についてみると、一辺の長さが２ｍもある大型基板が用いられるようになってきている。このように基板が大型化すると、従来の装置では、水洗槽内においてスプレイノズルからエッチング処理後の基板の表面に純水を吹き付けて基板上からエッチング液を洗い流そうとしても、基板の中央部に溜まっていたエッチング液の一部は、純水によって基板の周端縁まで押し流されずに、基板の表面上にエッチング液と純水とが不定に混ざり合った混合液が滞留する、といったことが起こる。この結果、エッチング工程で基板表面の金属被膜がエッチングされて形成された、例えば配線パターンが、水洗工程で混合液によって基板面内で不均一にエッチングされ、水洗処理後の基板においてエッチングむらが発生する、といった問題点がある。
【０００５】
この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、基板が大型化しても、エッチング工程後の水洗工程において基板上からエッチング液を完全に除去することができ、水洗工程でエッチングむらが発生することを防止することができる基板処理方法を提供すること、ならびに、その方法を好適に実施することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、基板の表面へエッチング液を供給して基板表面をエッチングするエッチング工程と、複数のスプレイノズルから基板の表面に向かって純水を噴出して基板の表面上のエッチング液を基板上から除去する水洗工程と、を有する基板処理方法において、前記水洗工程の初期においては、前記複数のスプレイノズルを静止させた状態でスプレイノズルから基板の表面に対して垂直に純水を噴出し、その後に、前記複数のスプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向（短手方向）において揺動させながら、スプレイノズルから基板の表面に向かって純水を噴出することを特徴とする。
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１記載の基板処理方法において、前記スプレイノズルを、基板の長手方向に沿った軸を中心として揺動させることを特徴とする。
【０００８】
請求項３に係る発明は、請求項１記載の基板処理方法において、前記スプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向（短手方向）に沿って直線的に揺動させることを特徴とする。
【０００９】
請求項４に係る発明は、基板の表面へエッチング液を供給するエッチング液供給手段を備え、基板のエッチング処理が行われるエッチング処理槽と、このエッチング処理槽に連設された水洗槽と、この水洗槽内に配列され、基板の表面に向かって純水を噴出して基板の表面上のエッチング液を基板上から除去する複数のスプレイノズルと、これらのスプレイノズルへ純水を供給する純水供給手段と、を備えた基板処理装置において、前記複数のスプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向（短手方向）において揺動させるノズル揺動手段を備え、前記水洗槽内へ基板が搬入されてきた当初においては、前記複数のスプレイノズルを静止させた状態でスプレイノズルから基板の表面に対して垂直に純水を噴出し、その後に、前記ノズル揺動手段によって前記複数のスプレイノズルを揺動させながらスプレイノズルから基板の表面に向かって純水を噴出するようにしたことを特徴とする。
【００１０】
請求項５に係る発明は、請求項４記載の基板処理装置において、前記ノズル揺動手段が、前記スプレイノズルを、基板の長手方向に沿った軸を中心として揺動させる回動機構であることを特徴とする。
【００１１】
請求項６に係る発明は、請求項４記載の基板処理装置において、前記ノズル揺動手段が、前記スプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向（短手方向）に沿って直線的に揺動させる直動機構であることを特徴とする。
【００１２】
請求項１に係る発明の基板処理方法によると、水洗工程の初期においては、スプレイノズルを静止させた状態でスプレイノズルから基板の表面に対して垂直に純水が噴出されるので、純水が強い力で基板表面に打ちつけられ、基板表面のパターン細部に入り込んだエッチング液も表面上に浮き上がらされる。その後に、複数のスプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向（短手方向）において揺動させながら、スプレイノズルから基板の表面に向かって純水が噴出されるので、基板の表面上のエッチング液は、純水によって基板の短手方向へ押し流され、基板の長手方向に沿った両側周端縁から流れ落ちて基板上から除去される。このように、エッチング液は純水によって基板の短手方向へ押し流されるので、基板が大型化しても、基板上からエッチング液を完全に除去することが可能になる。したがって、基板の表面上にエッチング液と純水とが混ざり合った混合液が滞留する、といったことは起こらない。
【００１３】
請求項２に係る発明の基板処理方法では、水洗工程の初期においては、図５の（ａ）に正面から見た模式図を示すように、スプレイノズル１を静止させた状態でスプレイノズル１から基板Ｗの表面に対して垂直に純水２が噴出されるので、上述したとおり、基板Ｗの表面上にエッチング液が浮き上がらされる。その後に、図５の（ｂ）、（ｃ）に模式図を示すように、複数のスプレイノズル１を、基板Ｗの長手方向に沿った軸を中心として揺動させながら、スプレイノズル１から基板Ｗの表面に向かって純水２が噴出されるので、基板Ｗの表面上のエッチング液が純水２によって基板Ｗの短手方向へ押し流され基板Ｗ上から除去される。すなわち、図５の（ｂ）に示すように、正面から見て左方向へ複数のスプレイノズル１が回動したときは、スプレイノズル１から、基板Ｗの表面に対して垂直な方向から左側に傾斜した方向へ純水２が噴出されることにより、基板Ｗ上のエッチング液は、純水により矢印で示すように基板Ｗの左側周端縁に向かって押し流され、左側の周端縁から流れ落ちて基板Ｗ上から除去される。一方、図５の（ｃ）に示すように、正面から見て右方向へ複数のスプレイノズル１が回動したときは、スプレイノズル１から、基板Ｗの表面に対して垂直な方向から右側に傾斜した方向へ純水２が噴出されることにより、基板Ｗ上のエッチング液は、純水により矢印で示すように基板Ｗの右側周端縁に向かって押し流され、右側の周端縁から流れ落ちて基板Ｗ上から除去される。このような図５の（ｂ）、（ｃ）に示した動作を繰り返すことにより、基板Ｗ上からエッチング液が効果的に除去される。
【００１４】
請求項３に係る発明の基板処理方法では、水洗工程の初期においては、図６の（ａ）に正面から見た模式図を示すように、スプレイノズル１を静止させた状態でスプレイノズル１から基板Ｗの表面に対して垂直に純水２が噴出されるので、上述したとおり、基板Ｗの表面上にエッチング液が浮き上がらされる。その後に、図６の（ｂ）、（ｃ）に模式図を示すように、複数のスプレイノズル１を、基板Ｗの長手方向と直交する方向（短手方向）に沿って直線的に揺動させながら、スプレイノズル１から基板Ｗの表面に向かって純水２が噴出されるので、基板Ｗの表面上のエッチング液が純水２によって基板Ｗの短手方向へ押し流され基板Ｗ上から除去される。すなわち、図６の（ｂ）に示すように、正面から見て左方向へ複数のスプレイノズル１が移動したときは、複数のスプレイノズル１から、基板Ｗの短手方向における中心より左側の領域へより多くの純水２が噴出されることにより、基板Ｗ上のエッチング液の多くは、純水により矢印で示すように基板Ｗの左側周端縁に向かって押し流され、左側の周端縁から流れ落ちて基板Ｗ上から除去される。一方、図６の（ｃ）に示すように、正面から見て右方向へ複数のスプレイノズル１が移動したときは、複数のスプレイノズル１から、基板Ｗの短手方向における中心より右側の領域へより多くの純水２が噴出されることにより、基板Ｗ上のエッチング液の多くは、純水により矢印で示すように基板Ｗの右側周端縁に向かって押し流され、右側の周端縁から流れ落ちて基板Ｗ上から除去される。このような図６の（ｂ）、（ｃ）に示した動作を繰り返すことにより、基板Ｗ上からエッチング液が効果的に除去される。
【００１５】
請求項４に係る発明の基板処理装置において、水洗槽内へ基板が搬入されてきた当初においては、スプレイノズルが静止した状態でスプレイノズルから基板の表面に対して垂直に純水が噴出されるので、純水が強い力で基板表面に打ちつけられ、基板表面のパターン細部に入り込んだエッチング液も表面上に浮き上がらされる。その後に、ノズル揺動手段によって複数のスプレイノズルが、基板の長手方向と直交する方向（短手方向）において揺動させられながら、スプレイノズルから基板の表面に向かって純水が噴出されるので、基板の表面上のエッチング液は、純水によって基板の短手方向へ押し流され、基板の長手方向に沿った両側周端縁から流れ落ちて基板上から除去される。このように、エッチング液は純水によって基板の短手方向へ押し流されるので、基板が大型化しても、基板上からエッチング液を完全に除去することが可能になる。したがって、基板の表面上にエッチング液と純水とが混ざり合った混合液が滞留する、といったことは起こらない。
【００１６】
請求項５に係る発明の基板処理装置では、水洗槽内へ基板が搬入されてきた当初において基板の表面上にエッチング液が浮き上がらされた後に、回動機構によって複数のスプレイノズルが、基板の長手方向に沿った軸を中心として揺動させられながら、スプレイノズルから基板の表面に向かって純水が噴出されるので、基板の表面上のエッチング液が純水によって基板の短手方向へ押し流され、図５の（ｂ）、（ｃ）に基づいて上述したように、基板上からエッチング液が効果的に除去される。
【００１７】
請求項６に係る発明の基板処理装置では、水洗槽内へ基板が搬入されてきた当初において基板の表面上にエッチング液が浮き上がらされた後に、直動機構によって複数のスプレイノズルが、基板の長手方向と直交する方向（短手方向）に沿って直線的に揺動させられながら、スプレイノズルから基板の表面に向かって純水が噴出されるので、基板の表面上のエッチング液が純水によって基板の短手方向へ押し流され、図６の（ｂ）、（ｃ）に基づいて上述したように、基板上からエッチング液が効果的に除去される。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の好適な実施形態について図１ないし図４を参照しながら説明する。
【００１９】
図１は、この発明の１実施形態を示し、基板処理装置の概略構成の１例を示す模式的側面図である。この基板処理装置は、エッチング処理部１０と水洗処理部１２とを連設して構成されている。
【００２０】
エッチング処理部１０は、搬入側開口１６および搬出側開口１８を有する密閉されたエッチング処理槽１４を備えている。エッチング処理槽１４の内部には、基板Ｗを支持して水平方向へ搬送する正・逆回転可能な搬送ローラ２０が複数本、互いに平行に基板搬送路に沿って配列されている。これらの搬送ローラ２０により、基板Ｗがエッチング処理槽１４内において往復移動させられる。また、基板搬送路の上方には、複数のスプレイノズル２２が基板搬送路に沿って配列されている。これらのスプレイノズル２２には、エッチング液供給管２４が連通接続されている。エッチング液供給管２４は、エッチング液２６が貯留されたエッチング液槽２８に流路接続されており、エッチング液供給管２４に、エッチング液槽２８内のエッチング液２６をスプレイノズル２２へ送給するためのポンプ３０が介挿されている。そして、スプレイノズル２２からは、搬送ローラ２０によって搬送される基板Ｗの表面に向かってエッチング液が噴出されるようになっている。また、エッチング処理槽１４の底部には、排液管３２が連通接続されており、エッチング処理槽１４の内底部に流下したエッチング液が排液管３２を通ってエッチング処理槽１４内から排出される。排液管３２の先端は、エッチング液槽２８の内部に挿入されており、エッチング液の一部が循環使用されるようになっている。
【００２１】
水洗処理部１２は、搬入側開口３６および搬出側開口３８を有する密閉された水洗処理槽３４を備えており、水洗処理槽３４は、エッチング処理槽１４に隣接して配設され、エッチング処理槽１４の搬出側開口１８と水洗処理槽３４の搬入側開口３６とが対向して配置されている。水洗処理槽３４の内部には、基板Ｗを支持して水平方向へ搬送する正・逆回転可能な搬送ローラ４０が複数本、互いに平行に基板搬送路に沿って配列されている。これらの搬送ローラ４０により、基板Ｗが水洗処理槽３４内において往復移動させられるようになっている。水洗処理槽３４の搬入側開口３６付近には、基板搬送路の直上位置に、下端面にスリット状吐出口が形設された吐出ノズル４２が配設されている。この吐出ノズル４２のスリット状吐出口からは、水洗処理槽３４内へ搬入されてきた基板Ｗの表面へ純水がカーテン状に吐出される。なお、この吐出ノズル４２は、設置しなくても差し支えない。
【００２２】
また、水洗処理槽３４内の基板搬送路の上方および下方には、複数のスプレイノズル４４、４６がそれぞれ基板搬送路に沿って配列されている。これらのスプレイノズル４４、４６および上記した吐出ノズル４２には、純水供給管４８がそれぞれ連通接続されている。純水供給管４８は、純水５０が貯留された純水槽５２に流路接続されており、純水供給管４８に、純水槽５２内の純水５０を吐出ノズル４２および各スプレイノズル４４、４６へ送給するためのポンプ５４が介挿されている。そして、スプレイノズル４４、４６からは、搬送ローラ４０によって搬送される基板Ｗの表面および裏面に向かって純水がそれぞれ噴出されるようになっている。また、水洗処理槽３４の底部には、排水管５６が連通接続されており、水洗処理槽３４の内底部に流下した純水が排水管５６を通って水洗処理槽３４内から排出される。排水管５６の先端は、純水槽５２の内部に挿入されており、純水の一部が循環使用されるようになっている。
【００２３】
水洗処理槽３４の内部に配設された上方側のスプレイノズル４４は、基板Ｗの長手方向に沿った軸を中心として揺動、すなわち回動させることができるように支持されており、スプレイノズル４４を回動させる回動機構が設けられている。すなわち、例えば図２に、水洗処理槽３４を水平方向に切断した断面で概略平面図を示すように、純水供給管４８が水洗処理槽３４の内部に挿入されて固設され、図３に正面図を示すように下向きの吐出口５８が複数個、長さ方向に等間隔で配列して形設された各スプレイノズル４４の一端部が、純水供給管４８にそれぞれロータリジョイント６０を介し回動自在に連接されて支持され、各スプレイノズル４４の他端部の、その端面に一体に固着された支軸６２が、水洗処理槽３４の壁部にそれぞれ軸受（図示せず）を介して回動自在に支持されている。そして、各スプレイノズル４４の支軸６２にそれぞれ従動プーリ６４が固着され、各従動プーリ６４にベルト６６がそれぞれ掛け回されて、そのベルト６６が、駆動モータ６８の回転軸に固着された駆動プーリ７０に掛け回されている。このような機構を備えた装置において、駆動モータ６８を正・逆方向へ交互に繰り返し回転駆動させると、駆動プーリ７０、ベルト６６および各従動プーリ６４を介して各スプレイノズル４４がそれぞれ回動させられる。
【００２４】
上記した構成を有する基板処理装置において、エッチング処理部１０でエッチング処理された基板Ｗがエッチング処理槽１４内から搬出され、水洗処理部１２の水洗処理槽３４内へ基板Ｗが搬入されてくると、その搬入当初、すなわち水洗工程の初期においては、図３の（ａ）に示すようにスプレイノズル４４は、その吐出口５８を真下に向けて静止した状態であり、スプレイノズル４４、４６の吐出口５８から基板Ｗの表面および裏面に対してそれぞれ垂直に純水が噴出される。このように基板Ｗの表面に対して垂直に純水が噴出されることにより、純水が強い力で基板Ｗの表面に打ちつけられ、基板Ｗの表面のパターン細部に入り込んだエッチング液も表面上に浮き上がらされる。
【００２５】
その後に、上記したように駆動モータ６８が駆動して、図３の（ｂ）に示すように各スプレイノズル４４がそれぞれ回動しながら、スプレイノズル４４の吐出口５８から基板Ｗの表面に向かって種々の角度で純水が噴出される。これにより、スプレイノズル４４の吐出口５８が、図３の（ｂ）に実線で示すように正面から見て左斜め下方向に向いたときは、スプレイノズル４４の吐出口５８から噴出する純水により基板Ｗ上のエッチング液が基板Ｗの左側周端縁に向かって押し流され、左側の周端縁から流れ落ちて基板Ｗ上から除去される（図５の（ｂ）参照）。一方、スプレイノズル４４の吐出口５８が、図３の（ｂ）に二点鎖線で示すように正面から見て右斜め下方向に向いたときは、スプレイノズル４４の吐出口５８から噴出する純水により基板Ｗ上のエッチング液が基板Ｗの右側周端縁に向かって押し流され、右側の周端縁から流れ落ちて基板Ｗ上から除去される（図５の（ｃ）参照）。このように、スプレイノズル４４が回動しながらその吐出口５８から純水が噴出することにより、基板Ｗ上からエッチング液が効果的に除去されることとなる。以上の動作は、水洗処理槽３４内への基板Ｗの搬入のタイミングに合わせ、図示しないコントローラによって駆動モータ６８を制御することにより実行される。
【００２６】
上記した実施形態では、スプレイノズル４４を、基板Ｗの長手方向に沿った軸を中心として回動させるようにしているが、スプレイノズルを回動させる動作に代えて、スプレイノズルを、基板の長手方向と直交する方向に沿って直線的に揺動、すなわち往復移動させるようにしてもよい。すなわち、図４にスプレイノズルを正面から見た図を示すように、下向きの吐出口７４が複数個、長さ方向（紙面に対して垂直な方向）に等間隔で配列して形設された複数本のスプレイノズル７２を横方向に並列させて保持板７６に取着し、その保持板７６を直動駆動機構（図示せず）によって基板の長手方向と直交する方向に往復移動させる構成としてもよい。
【００２７】
図４に示したスプレイノズル７２を備えた装置では、エッチング処理後の基板が水洗処理槽３４内へ搬入されてきた当初（水洗工程の初期）においては、スプレイノズル７２が静止した状態であり、スプレイノズル７２の吐出口７４から基板Ｗの表面に対して垂直に純水が噴出される。これにより、基板Ｗの表面上にエッチング液が浮き上がらされる。その後に、直動駆動機構によって保持板７６と共に複数のスプレイノズル７２が基板Ｗの長手方向と直交する方向（短手方向）に往復移動させられながら、スプレイノズル７２の吐出口７４から基板Ｗの表面に向かって純水が噴出される。これにより、複数のスプレイノズル７２が、正面から見て左方向へ移動したときは、複数のスプレイノズル７２の吐出口７４から、基板Ｗの短手方向における中心より左側の領域へより多くの純水が噴出され、基板Ｗ上のエッチング液の多くが純水により基板Ｗの左側周端縁に向かって押し流され、左側の周端縁から流れ落ちて基板Ｗ上から除去される（図６の（ｂ）参照）。一方、複数のスプレイノズル７２が、正面から見て右方向へ移動したときは、複数のスプレイノズル７２の吐出口７４から、基板Ｗの短手方向における中心より右側の領域へより多くの純水が噴出され、基板Ｗ上のエッチング液の多くが純水により基板Ｗの右側周端縁に向かって押し流され、右側の周端縁から流れ落ちて基板Ｗ上から除去される（図６の（ｃ）参照）。このように、スプレイノズル７２が直線的に往復移動しながらその吐出口７４から純水が噴出することにより、基板Ｗ上からエッチング液が効果的に除去される。
【００２８】
なお、上記した実施形態は、基板の長手方向を基板搬送路に沿った方向にして基板を搬送する場合のものであるが、基板の長手方向を基板搬送路と直交する方向にして基板Ｗを搬送する場合には、スプレイノズルを、基板搬送路に沿った方向において揺動させるようにする。すなわち、スプレイノズル４４を、基板搬送路に沿った軸を中心として回動させ、また、スプレイノズル７２を、基板搬送路に沿って直線的に往復移動させるようにする。また、図１に示した実施形態では、水洗処理槽３４内において基板Ｗを往復移動（揺動）させながら水洗処理するようにしているが、基板Ｗを連続的に一方向へ搬送しながら水洗処理する装置であってもよい。さらに、図１に示した実施形態では、エッチング処理部１０においてスプレイ式エッチング処理を行うようにしているが、他の方式によるエッチング処理、例えばパドル方式で基板のエッチング処理を行った後に水洗処理する基板処理装置についても、この発明は適用し得るものである。
【００２９】
【発明の効果】
請求項１ないし請求項３に係る各発明の基板処理方法によると、基板が大型化しても、エッチング工程後の水洗工程において基板上からエッチング液を完全に除去することができ、このため、水洗工程でエッチングむらが発生することを防止することができる。
【００３０】
請求項４ないし請求項６に係る各発明の基板処理装置を使用すると、請求項１ないし請求項３に係る各発明の方法を好適に実施することができ、上記した効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の１実施形態を示し、基板処理装置の概略構成の１例を示す模式的側面図である。
【図２】図１に示した装置の水洗処理槽に設置されるスプレイノズル回動機構の構成の１例を示す概略平面断面図である。
【図３】図１に示す装置の水洗処理槽に設置されたスプレイノズルを正面から見た図である。
【図４】この発明の別の実施形態を示し、スプレイノズルを正面から見た図である。
【図５】請求項２に係る発明の作用を説明するための正面図である。
【図６】請求項３に係る発明の作用を説明するための正面図である。
【符号の説明】
Ｗ  基板
１０  エッチング処理部
１２  水洗処理部
１４  エッチング処理槽
２０、４０  搬送ローラ
２２  エッチング液のスプレイノズル
２４  エッチング液供給管
２６  エッチング液槽
３０、５４  ポンプ
３４  水洗処理槽
４２  吐出ノズル
４４、４６、７２  純水のスプレイノズル
４８  純水供給管
５２  純水槽
５８、７４  スプレイノズルの吐出口
６０  ロータリジョイント
６２  支軸
６４、７０  プーリ
６６  ベルト
６８  駆動モータ
７６  保持板
【図１】
2004360000.tif 000003
【図２】
2004360000.tif 000004
【図３】
2004360000.tif 000005
【図４】
2004360000.tif 000006
【図５】
2004360000.tif 000007
【図６】
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