(57)【要約】【課題】半田として、共晶半田に加えて鉛フリー半田やファインピッチ用半田を用いた場合にも高いフラックス洗浄性を示し、金属部品、電子部品、半導体部品等の表面に存在する有機物を主体とする汚れや液晶パネル等の液晶汚れに対して高い洗浄性を示す、安全性に優れた含水系精密部品用洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】有機溶剤、炭素数４〜１２のアルキル基又はアルケニル基を有するグリセリルエーテル５〜３０重量％、及び水５重量％以上を含有してなる精密部品用洗浄剤組成物。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機溶剤、炭素数４〜１２のアルキル基又はアルケニル基を有するグリセリルエーテル５〜３０重量％、及び水５重量％以上を含有してなる精密部品用洗浄剤組成物。
【請求項２】
有機溶剤の含有量が１〜９０重量％である、請求項１記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】
有機溶剤の含有量が５０〜９０重量％、水の含有量が５〜３０重量％であり、フラックス汚れを有する精密部品の洗浄用である、請求項１記載の洗浄剤組成物。
【請求項４】
有機溶剤として、エチレンビスステアリン酸アミドの溶解性が７０℃にて０．３重量％以上である有機溶剤を含有してなる、請求項１〜３いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項５】
有機溶剤がベンジルアルコール、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選ばれる１種以上である、請求項１〜４いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
有機溶剤の含有量が５〜４０重量％、水の含有量が４０〜９０重量％又は有機溶剤の含有量が５０〜９０重量％、水の含有量が５〜４０重量％であり、液晶汚れを有する精密部品の洗浄用である、請求項１記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
更にグリコールエーテル化合物を含有する、請求項６記載の洗浄剤組成物。
【請求項８】
有機溶剤が炭素数１０〜１８の炭化水素である、請求項６又は７記載の洗浄剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、精密部品用洗浄剤組成物に関する。さらに詳しくは、金属部品、電子部品、半導体部品および液晶表示パネル等の精密部品用の含水系洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
これまで所謂プリント基板や半導体パッケージ等の配線接続には、クリーム半田を用いたスクリーン印刷を経た半田接続が行われている。このクリーム半田には、錫／鉛を含む共晶半田成分と、スクリーン印刷性や接続後の配線信頼性を高める目的で、樹脂、活性剤、酸化防止剤、チクソ剤、及び溶剤を含む所謂フラックス成分とが含まれる。ここでフラックス成分は、接続部分の金属酸化皮膜を除去するなど重要な機能を有するが、一旦接続が完了すれば、吸湿性を有するなどその後の部品の信頼性を低下させる可能性があり、完全に洗浄除去する必要がある。
【０００３】
このフラックス成分の除去には、１９９０年代までは、高洗浄性、難燃性という特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されてきた。しかしながら、塩素系及びフロン系の溶剤を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有しており、ほぼ全廃された。そこで、これに代わる方法として、有機溶剤等の非水溶性成分に水を可溶化させることで、引火性等の危険に配慮した、所謂含水系フラックス洗浄剤が数多く上市されている。
【０００４】
ところが最近になり、配線ピッチの微細化及び環境対応の観点から、クリーム半田成分にもこれに対応した組成変更が行われるようになってきた。具体的には微細化したスクリーン印刷の版抜け性を高める、さらに鉛を含まない組成への変更に伴い半田付け温度が２０〜３０℃高くなるなどの理由によりフラックス自体の粘度が高くなる、つまり印刷性の向上と加熱時のたれ防止の目的のためにチクソ剤が増量される傾向にある。
【０００５】
一方、この難溶解性を示すフラックス成分は、ベンジルアルコールに対して溶解性が高いことが知られている。このため、ベンジルアルコールを溶解剤に用いたフラックス洗浄剤が開示されている。例えば、特許文献１にはベンジルアルコール（又は２−フェネチルアルコール）を主成分として、非イオン性界面活性剤を添加した非水系洗浄剤組成物が、特許文献２にはベンジルアルコールを主成分とする非水系洗浄剤組成物が、特許文献３及び４には３−メトキシ−３−メチルブタノールを主成分にベンジルアルコールと水を添加した含水系洗浄剤組成物が、さらに特許文献５には、ベンジルアルコールを主成分に水溶性グリコールエーテル、非イオン性界面活性剤及び水を添加した含水系洗浄剤組成物が開示されている。またグリセリルエーテルを含有する洗浄剤として、特許文献６には、炭素数１〜１８の炭化水素基を有するグリセリルエーテルを含有する洗浄剤組成物が開示されている。これらの中で、水を可溶化させることで、引火性等の危険に配慮した、所謂含水系フラックス洗浄剤に関して、本発明者らが洗浄試験を行ったところ、これまで一般的に使用されてきた錫／鉛を含む共晶半田に関しては高いフラックス洗浄性を示すが、エチレンビスステアリン酸アミド等のチクソ剤が増量された鉛フリー半田やファインピッチ用半田に関し、洗浄性は不十分であった。そして、グリセリルエーテルを溶解剤として用いた洗浄剤も、上記と同じく鉛フリー半田等の洗浄性は不十分であった。
【０００６】
また、液晶汚れの除去については、液晶表示パネルの薄型化に伴い、液晶セルのギャップ間隔がより狭くなり、ギャップ間に存在する液晶の洗浄がより困難になってきている。かかる液晶汚れに対して、前記のような従来の洗浄剤組成物を用いた場合、表面に存在する液晶に対する洗浄性はたとえ良好であったとしてもギャップ間に存在する液晶の洗浄性は不十分であった。
【０００７】
【特許文献１】
特許第２０４１９８７号公報
【特許文献２】
特開平４−３４０００号公報
【特許文献３】
特開平６−３４６０９４号公報
【特許文献４】
特開平９−２５５９９５号公報
【特許文献５】
特開２０００−８０８０号公報
【特許文献６】
特開平６−３４６０９２号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、半田として、共晶半田に加えて鉛フリー半田やファインピッチ用半田を用いた場合にも高いフラックス洗浄性を示し、金属部品、電子部品、半導体部品等の表面に存在する有機物を主体とする汚れや液晶パネル等の液晶汚れに対して高い洗浄性を示す、安全性に優れた含水系精密部品用洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記のように、これまで公開された含水系洗浄剤は、例えばベンジルアルコール等の非水溶性成分に対して、引火性等の危険に配慮する目的で水を可溶化させたものである。この目的のために、通常は水溶性グリコールエーテルや非イオン性界面活性剤等の水溶性成分が適宜添加される。この場合、原因が明らかではないが、非水溶性成分単独では得られたフラックス溶解性が、水を可溶化させることにより著しく低下する傾向にある。さらにこのような洗浄性不良はチクソ剤が増量された鉛フリー半田やファインピッチ用半田に関して特に顕著に現れる。
【００１０】
本発明者らは、特定の構造のアルキル基又はアルケニル基を有するグリセリルエーテルを所定量含有する非水溶性成分に、所定量の水を可溶化させると、フラックス溶解性が低下しないことを、また、液晶汚れについても優れた洗浄性を発揮することを初めて見出した。
【００１１】
即ち、本発明の要旨は、有機溶剤、炭素数４〜１２のアルキル基又はアルケニル基を有するグリセリルエーテル５〜３０重量％、及び水５重量％以上を含有してなる精密部品用洗浄剤組成物に関する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の精密部品用洗浄剤組成物（以下、単に洗浄剤組成物ともいう）は、前記のように、有機溶剤、炭素数４〜１２のアルキル基又はアルケニル基を有するグリセリルエーテル５〜３０重量％、及び水５重量％以上を含有してなるものである。本発明においては、かかる３成分を特定の比率で併用する点に一つの大きな特徴があり、このような組成を有する洗浄剤組成物を用いることで、共晶半田に加えて、チクソ剤が増量された鉛フリー半田やファインピッチ用半田でもフラックスを、取扱性よく、安全に洗浄することができる。更には、液晶汚れと呼ばれる液晶セルのギャップ間に存在する液晶に対して洗浄することができ、特に従来の洗浄剤では、洗浄が困難であったギャップ間距離の狭い液晶セル内に存在する液晶汚れに対しても、洗浄できるといった優れた効果が発現される。
【００１３】
本発明に用いられる有機溶剤としては、フラックス洗浄に優れる観点から、エチレンビスステアリン酸アミドの溶解性が７０℃にて０．３重量％以上である有機溶剤が好ましい。ここで、「エチレンビスステアリン酸アミドの溶解性が７０℃にて０．３重量％以上である有機溶剤」とは、７０℃に保った有機溶剤１００重量部にエチレンビスステアリン酸アミドが０．３重量部以上溶解し得る有機溶剤をいい、この溶解性とは次のようにして求めることができる。
【００１４】
スクリュー管にエチレンビスステアリン酸アミドの濃度が有機溶剤１００重量部に対し、例えば、０．１重量部、０．２重量部、０．３重量部となるように、エチレンビスステアリン酸アミド及び有機溶剤を精秤する。次いで、これを７０℃に加熱し、透明溶解できたか否かで溶解状態を確認する。ここで、０．２重量部で透明溶解し、０．３重量部で白くにごっている状態であれば、少なくとも０．２重量％の溶解性を示すということとする。この操作をくりかえすことで精度を高めて求めることができる。
【００１５】
かかる有機溶剤としては、ブタノール（０．５重量％以上）、ヘキサノール（０．５重量％以上）、オクタノール（０．５重量％以上）、ラウリルアルコール（０．５重量％以上）、ステアリルアルコール（０．５重量％以上）等の炭素数４〜１６の直鎖アルコール、４−デカノール（０．５重量％以上）、２−ヘプチルノナール（０．５重量％以上）、７−メチル−２−（３−メチルブチル）−１−オクタノール（０．５重量％以上）等の炭素数１０〜１６の分岐アルコール、ベンジルアルコール（０．３重量％以上）、１−ヘキセン−３−オール（１重量％以上）、２−ヘキセン−３−オール（０．７５重量％以上）、１−オクテン−３−オール（１重量％以上）、リナノール（０．５重量％以上）、ω−ウンデシルアルコール（０．５重量％以上）等の不飽和アルコール、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル（０．３重量％以上）、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル（０．３重量％以上）等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル、さらには酢酸（０．５重量％以上）、プロピオン酸（２重量％以上）、ヘキサン酸（１．７５重量％以上）、２−エチルヘキサン酸（０．７５重量％以上）等の脂肪酸を挙げることができる（なお、前記括弧内に記載の数値は、有機溶剤の溶解性を示す）。これらの中では、ベンジルアルコール、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルが好ましい。
【００１６】
また、液晶汚れの洗浄性に優れる観点から、炭素数１０〜１８の炭化水素が好ましく、例えば、デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、デセン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタデセン等の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素系溶剤；ノニルベンゼン、ドデシルベンゼン等のアルキルベンゼン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン等のナフタレン化合物等の芳香族炭化水素系溶剤；シクロデカン、シクロドデセン等のシクロ化合物等の脂環式炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらのうち、炭素数１２〜１８の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素が好ましく、特に好ましいのはオレフィン系炭化水素が好ましい。
【００１７】
これらの有機溶剤は、単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
【００１８】
本発明に用いられる炭素数４〜１２のアルキル基又はアルケニル基を有するグリセリルエーテル（以下、単にグリセリルエーテルともいう）としては、洗浄性を落とさず、且つ、使用温度範囲で均一透明な製品性状を維持する観点から、炭素数４〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基、例えばｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等の炭素数４〜１２のアルキル基を有するものが好ましく、特に炭素数６〜１０、更に炭素数６〜８のアルキル基を１又は２個、特に１個有するものが好ましい。さらに本発明に用いる炭素数４〜１２のアルキル基又はアルケニル基を有するグリセリルエーテルとして、グリセリル基が２個以上、好ましくは２〜３個エーテル結合で繋がった、モノアルキルジグリセリルエーテル又はモノアルキルポリグリセリルエーテルでも良い。特に、液晶汚れ洗浄性に優れる観点から、モノアルキルグリセリルエーテル、モノアルキルジグリセリルエーテルが好ましい。これらのグリセリルエーテルは、単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。本発明においては、かかるグリセリルエーテルを用いることで、有機溶剤と水との分散性を安定させることができるため、より優れたフラックス及び／又は液晶汚れの洗浄性が得られるという利点がある。
【００１９】
本発明に用いられる水としては、特に限定はなく、イオン交換水、純水等が挙げられる。
【００２０】
本発明の洗浄剤組成物中において、優れたフラックス洗浄性を得る観点から、有機溶剤の含有量としては、１〜９０重量％が好ましく、５０〜９０重量％がより好ましく、６０〜９０重量％が更に好ましく、６５〜８５重量％が特に好ましい。また、グリセリルエーテルの含有量としては、５〜３０重量％であるが、優れたフラックス溶解性や有機汚れに対する優れた洗浄性を得る観点から、５〜３０重量％が好ましく、１０〜２５重量％がより好ましく、１０〜２０重量％が更に好ましい。また、水の含有量としては、５重量％以上であるが、洗浄剤組成物が引火しないようにする観点及びフラックス溶解性を維持する観点から、５〜３０重量％が好ましく、５〜２０重量％がより好ましく、５〜１５重量％が特に好ましい。中でも、本発明の洗浄剤組成物をチクソ剤としてエチレンビスステアリン酸アミドを多く含有する鉛フリー半田やファインピッチ半田等のフラックス汚れの洗浄に用いる場合には、有機溶剤の含有量が６５〜８５重量％、グリセリルエーテルの含有量が１０〜２０重量％、水の含有量が５〜１５重量％であることが好ましい。
【００２１】
また、本発明の洗浄剤組成物は、液晶汚れに対する優れた洗浄性を得る観点から、次の組成１又は組成２を有することが好ましい。
組成１において、有機溶剤の含有量としては、５〜４０重量％が好ましく、１０〜２０重量％がより好ましい。また、グリセリルエーテルの含有量としては、５〜３０重量％であるが、液晶汚れに対する優れた洗浄性を得る観点から、１０〜３０重量％が好ましく、１０〜２５重量％がより好ましく、１０〜２０重量％が特に好ましい。また、水の含有量としては、５重量％以上であるが、洗浄剤組成物が引火しないようにする観点及び液晶汚れに対する洗浄性を維持する観点から、４０〜９０重量％が好ましく、６０〜８０重量％がより好ましい。中でも、液晶汚れの洗浄性に優れた前記３成分の組み合わせとしては、有機溶剤の含有量が５〜４０重量％、グリセリルエーテルの含有量が５〜３０重量％、水の含有量が４０〜９０重量％であることが好ましく、有機溶剤の含有量が１０〜２０重量％、グリセリルエーテルの含有量が１０〜２０重量％、水の含有量が６０〜８０重量％であることがより好ましい。
【００２２】
組成２において、有機溶剤の含有量としては、５０〜９０重量％が好ましく、６０〜８０重量％がより好ましい。また、グリセリルエーテルの含有量としては、５〜３０重量％であるが、液晶汚れに対する優れた洗浄性を得る観点から、１０〜３０重量％が好ましく、１０〜２５重量％がより好ましい。また、水の含有量としては、５重量％以上であるが、液晶汚れに対する洗浄性を維持する観点から、５〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％が特に好ましい。中でも、液晶汚れの洗浄性に優れた前記３成分の組み合わせとしては、有機溶剤の含有量が５０〜９０重量％、グリセリルエーテルの含有量が５〜３０重量％、水の含有量が５〜４０重量％であることが好ましく、有機溶剤の含有量が６０〜８０重量％、グリセリルエーテルの含有量が１０〜２５重量％、水の含有量が５〜３０重量％であることがより好ましい。
【００２３】
また、本発明の洗浄剤組成物をフラックス洗浄に用いる場合、該洗浄剤組成物は、フラックス鹸化剤及び消泡剤を含んでいてもよい。フラックス鹸化剤としては、アルキルアミン、アルカノールアミンなどのアミンを用いることができる。さらに消泡剤としては、シリコーン系消泡剤、鉱油系消泡剤、グリコール系消泡剤等を用いることができる。
【００２４】
本発明の洗浄剤組成物中におけるフラックス鹸化剤及び消泡剤の含有量としては、０．１〜５重量％が好ましく、０．５〜３重量％がより好ましい。
【００２５】
本発明の洗浄剤組成物をフラックス洗浄に用いる場合、洗浄剤組成物としては、エチレンビスステアリン酸アミドの溶解性が７０℃にて０．１５重量％以上のものが好ましく、０．２重量％以上のものがより好ましい。なお、「エチレンビスステアリン酸アミドの溶解性が７０℃にて０．１５重量％以上」とは、７０℃に保った洗浄剤組成物１００重量部にエチレンビスステアリン酸アミドが０．１５重量部以上溶解し得ることをいう。また洗浄剤組成物のエチレンビスステアリン酸アミドの溶解性についても、前記有機溶剤の場合の溶解性の求め方において有機溶剤の代わりに該洗浄剤組成物を用いて求めることができる。
【００２６】
また、本発明の洗浄剤組成物を液晶汚れの洗浄に用いる場合、該洗浄剤組成物中に、洗浄液の粘度を下げ、液晶セルギャップ間に存在する液晶の洗浄性を向上させる観点から、グリコールエーテル化合物を加えることが好ましい。グリコールエーテル化合物としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル等のエチレングリコールモノアルキル（炭素数１〜１２）エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキル（炭素数１〜１２）エーテル、ベンジルグリコール、ベンジルジグリコール、フェニルグリコール、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコール又はジプロピレングリコールのモノアルキル（炭素数１〜１２）エーテル等が挙げられ、中でもジエチレングリコールモノヘキシルエーテル及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルが好ましく、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルが特に好ましい。
【００２７】
本発明の洗浄剤組成物中におけるグリコールエーテルの含有量は、洗浄液の粘度を下げ、液晶セルのギャップへの浸透性を上げ、液晶の洗浄性を高める観点から、有機溶剤、グリセリルエーテル及び水の総量１００重量部に対して、２５〜１００重量部が好ましく、４０〜９０重量部がより好ましく、５０〜８０重量部が特に好ましい。
【００２８】
以上の構成を有する本発明の洗浄剤組成物は、例えば、前記有機溶剤、前記グリセリルエーテルを攪拌しながら混合し、さらに必要に応じてその他の任意成分を混合して、最後に水を添加することで、製造することができる。
【００２９】
本発明の洗浄剤組成物を用いて精密部品、例えば、フラックス汚れを有する精密部品の洗浄を行う場合、例えば、浸漬洗浄法、攪拌洗浄法、超音波洗浄法、スプレー式洗浄法、ブラシ洗浄法等のあらゆる洗浄操作に用いることができる。また、液晶汚れを有する精密部品の洗浄を行う場合、例えば、浸漬洗浄法、攪拌洗浄法、超音波洗浄法、ブラシ洗浄法等のあらゆる洗浄操作に用いることができる。
【００３０】
なお、本発明の洗浄剤組成物が洗浄対象とするフラックスとしてはプリント基板、半導体パッケージ等の配線接続等において発生するものであれば特に限定はないが、中でも半田フラックスに対して高い洗浄性を有する。半田としては、錫や鉛からなる共晶半田、チクソ剤が増量された鉛フリー半田、ファインピッチ用半田等が挙げられる。
【００３１】
また、本発明の洗浄剤組成物は、例えば、金属部品、電子部品、半導体部品等の表面に存在する有機物を主体とする汚れや液晶パネル等の液晶汚れに対しても高い洗浄性を示す。特に、液晶パネルに関しては、従来から用いられているギャップ間距離が７〜１０μｍの液晶セルに加え、ギャップ間距離が３〜６μｍの狭ギャップ液晶セルの液晶汚れに対しても、本発明の洗浄剤組成物は高い洗浄性を示す。
【００３２】
以上のように本発明の洗浄剤組成物を精密部品の洗浄に用いることで、プリント基板や半導体パッケージ等の配線並びに液晶表示パネルを取扱性よく、安全に作製することができる。
【００３３】
【実施例】
＜試験基板の作製１＞
銅パターンの印刷されたガラスエポキシ基板にクリーム半田をスクリーン印刷する。これをホットプレートで２５０℃×３０秒加熱し、試験基板とした。
【００３４】
実施例１〜８及び比較例１〜３
表１に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例１〜８及び比較例１〜３の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。次いで、洗浄槽に各洗浄剤組成物を入れて、上記試験基板を６０℃にて５分間浸漬した。次にイオン交換水を用い、６０℃にて１分間浸漬しリンスを行った。その後８０℃にて２０分間乾燥を行い、試験基板の表面を目視観察し、下記評価基準に基づきフラックス洗浄性を評価した。その結果を表２に示す。
【００３５】
〔フラックス洗浄性の評価基準〕
Ａ：洗浄良好（フラックス残渣物の残存付着なし）
Ｂ：洗浄やや不良（かすかに残存付着あり）
Ｃ：洗浄不良（残存付着が多数認められる）
Ｄ：まったく洗浄できず
【００３６】
なお、洗浄試験に用いたクリーム半田を以下に示す。なお、カギ括弧内は商品名を表す。
鉛フリー半田『Ｍ３１２−２２１ＢＭ５−４２−１１』（千住金属製）
鉛フリー半田『エコソルダーＭ７０５』（千住金属製）
鉛フリー半田『ソルダーペーストＴＬＦ−２０４−１９Ａ』（田村技研製）
ファインピッチ用半田『ＯＺ６３−３３１Ｆ４−９．５』（千住金属製）
錫鉛共晶半田『ＲＸ３６３−２２７ＤＤＯ』（日本半田製）
高融点半田『ＲＸ３０５−９２ＭＹＯ』（日本半田製）
【００３７】
【表１】
2004002688.tif 000002
【００３８】
【表２】
2004002688.tif 000003
【００３９】
表２の結果より、実施例１〜８の洗浄剤組成物は、エチレンビスステアリン酸アミドに対して高い溶解性を示すため、いずれも比較例１〜３の洗浄剤組成物に比べ、鉛フリー半田、ファインピッチ用半田、錫鉛共晶半田及び高融点半田のいずれに対しても優れたフラックス洗浄性を有することがわかる。また、実施例１〜８の洗浄剤組成物は、いずれも水を含有したものであるので、６０℃程度の洗浄処理温度では引火の危険もなく、安全性に優れたものであることがわかる。
【００４０】
＜試験基板の作製２＞
液晶セル（ギャップ間距離５μｍ）のギャップ内にＴＦＴ液晶を封入し、室温で３０分間静置したものを試験基板とした。
【００４１】
実施例９〜１２、比較例４〜６
表３に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例９〜１２及び比較例４〜６の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。この調製した３０℃の洗浄剤組成物中で、試験基板を５分間超音波洗浄し、その後、４槽の各純水槽（４０℃）にて３分間リンスを行なった後、９０℃の熱風乾燥機で３０分間乾燥を行い、観察サンプルとした。
【００４２】
〔洗浄性評価方法〕
洗浄後の液晶セルのギャップ内に残留している液品、並びにリンス時に十分に排出されなかった液晶と洗浄剤組成物の混合物を偏光顕微鏡（倍率２５倍）で観察し、液晶パネルの洗浄性を評価した。
洗浄性評価は、観察したギャップの全面積から液晶並びに液晶と洗浄剤の混合物が残留した箇所の全面積を引いた面積を、観察したギャップの全面積で除した値で示した。また、評価基準は、以下のように定めた。
洗浄性評価基準
◎：９０〜１００％
○：８０〜９０％未満
△：４０〜８０％未満
×：４０％未満
【００４３】
〔液晶溶解速度〕
前記と同様に作製したＴＦＴ液晶を充填した液晶セル試験基板を３０℃の洗浄液組成物に５分間浸漬し、ギャップ内に洗浄液組成物が浸透した距離を光学顕微鏡観察でレンズのスケール（倍率２５倍）にて測定し、その浸透距離を時間で除した値を液晶溶解速度とした。
【００４４】
【表３】
2004002688.tif 000004
【００４５】
表３の結果より、実施例９〜１２では高い液晶溶解速度を維持しながら、洗浄剤組成物のリンス性が良好であることから、液晶セルの狭いギャップ間にも洗浄剤組成物が良く浸透し、ギャップ内の洗浄剤組成物の残留がなく、その結果洗浄性が優れていることがわかる。
一方、有機溶剤単独（比較例４）では、ギャップ内の液晶溶解速度は高くなるものの、洗浄試験では、リンス工程での水との置き換わりが悪いために洗浄剤組成物自体の洗浄性が悪くなることがわかる。
また、水を含まない（比較例５）又はグリセリルエーテルを含まない（比較例６）洗浄剤組成物は、いずれも洗浄剤組成物の液晶溶解速度が低いために、液晶パネルの洗浄性は悪いことがわかる。
【００４６】
【発明の効果】
本発明の精密部品用洗浄剤組成物は、取り扱いが安全で、共晶半田に加えて鉛フリー半田やファインピッチ用半田のフラックスの洗浄に用いた場合にも、高いフラックス洗浄性を示すので、プリント基板や半導体パッケージ等の配線を取扱性よく、安全に作製することができる。また、液晶洗浄に用いた場合には、液晶セルの狭いギャップ間にも良く浸透し、高い洗浄性を示す。従って、金属部品、電子部品、半導体部品及び液晶表示パネル等の精密部品を高品質でしかも安全に製造することができる。