(57)【要約】【課題】不燃性であり、溶解力に優れ、幅広い用途に使用できる新規な溶剤組成物を提供する。【解決手段】１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン８５．４％とノナフルオロブチルメチルエーテル１４．６％からなる共沸溶剤組成物、または、組成比が１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンとノナフルオロブチルメチルエーテルとの合計量に対して、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンが７０〜９９％（質量基準である。）、ノナフルオロブチルメチルエーテルが１〜３０％（質量基準である。）である該２成分を含む溶剤組成物。【特許請求の範囲】
【請求項１】
１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン８５．４％（質量基準である。）とノナフルオロブチルメチルエーテル１４．６％（質量基準である。）とからなる共沸溶剤組成物。
【請求項２】
１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンとノナフルオロブチルメチルエーテルとを含む溶剤組成物であって、組成比が１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンとノナフルオロブチルメチルエーテルとの合計量に対して、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンが７０〜９９％（質量基準である。）、ノナフルオロブチルメチルエーテルが１〜３０％（質量基準である。）である溶剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＩＣ等の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の物品に付着する油脂類、塵埃などの汚れを除去するために用いられる溶剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
各種油脂、塵埃等の除去には、不燃性、低毒性、安定性に優れる１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン（以下、Ｒ２２５ｃａという。）、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン（以下、Ｒ２２５ｃｂという。）や、これらの混合物（以下、Ｒ２２５という。）等が広く使われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、Ｒ２２５ｃａ、Ｒ２２５ｃｂ、Ｒ２２５（以下、これらを総称してＲ２２５類という。）では、一部のプラスチックやゴム材質に対しては影響を与えることもあるため、これらの高分子材料を含む部品の洗浄には使用できないことがあった。一方、ノナフルオロブチルメチルエーテル（以下、ＨＦＥ４４９ｓという。）は、プラスチックやゴム材質に対する影響はＲ２２５類より低いものの、油脂類の溶解力が低く洗浄用途では使用できなかった。
【０００４】
Ｒ２２５類とＨＦＥ４４９ｓとの混合組成物に関しては、ＷＯ９６／３６６８９号公報や特開平１１−３５９９１号公報等に示されている。なかでも、ＷＯ９６／３６６８９号公報には、ＨＦＥ４４９ｓと、Ｒ２２５類を含む有機溶剤群から選ばれる有機溶剤からなる共沸様溶剤組成物の記載がある。また、具体的には、ＨＦＥ４４９ｓとＲ２２５（Ｒ２２５ｃａ／Ｒ２２５ｃｂ＝４５／５５）とからなる共沸溶剤組成物や共沸様溶剤組成物の記載がある。しかし、ＨＦＥ４４９ｓとＲ２２５ｃｂのみからなる共沸溶剤組成物や共沸様溶剤組成物については言及されていない。
【０００５】
本発明は、溶剤組成物であり、Ｒ２２５類の洗浄力を維持したまま、これらの高分子材料への影響を抑えることにより、Ｒ２２５類より広い洗浄用途に使用できる溶剤組成物を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、Ｒ２２５ｃｂとＨＦＥ４４９ｓを特定比率で混合した溶剤組成物が、Ｒ２２５類と同等の洗浄力を維持し、さらにＲ２２５類より広い洗浄用途に使用できる溶剤組成物となることを見出した。
【０００７】
すなわち、本発明は、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン８５．４％（質量基準である。以下同じ。）とノナフルオロブチルメチルエーテル１４．６％とからなる溶剤組成物を提供する。
【０００８】
また、本発明は、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンとノナフルオロブチルメチルエーテルとを含む溶剤組成物であって、組成比が１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンとノナフルオロブチルメチルエーテルとの合計量に対して、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンが７０〜９９％（質量基準である。）、ノナフルオロブチルメチルエーテルが１〜３０％（質量基準である。）である溶剤組成物を提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
Ｒ２２５ｃｂとＨＦＥ４４９ｓとからなる溶剤組成物において、Ｒ２２５ｃｂ／ＨＦＥ４４９ｓ＝８５．４％／１４．６％の組成比で共沸溶剤組成物となり、該共沸溶剤組成物の沸点は、１０１０ｈＰａにおいて５５．５℃である。
【００１０】
また、Ｒ２２５ｃｂ／ＨＦＥ４４９ｓ＝７０〜９９％／１〜３０％の組成比である、実質的にＲ２２５ｃｂとＨＦＥ４４９ｓとからなる溶剤組成物は共沸様溶剤組成物となる。
【００１１】
ここで、共沸溶剤組成物には、該組成物を繰り返し蒸発、凝縮した場合、組成物の組成変化がなく、極めて安定して洗浄性能等を維持できる利点がある。また、共沸様溶剤組成物には、組成物を繰り返し蒸発、凝縮した場合、組成物の組成変化が小さく、共沸組成物と同等の安定した洗浄性能等が得られる利点がある。
【００１２】
本発明の溶剤組成物は、共沸組成または共沸様組成であるため、蒸気洗浄や蒸留等の操作をしても組成の変動がなく、リサイクル使用することができる。また、Ｒ２２５ｃｂと同様の使い方ができるため、本発明の溶剤組成物を洗浄等に用いる場合、従来技術の大幅な変更を要しない等の利点がある。
【００１３】
本発明におけるＨＦＥ４４９ｓとは、ノナフルオロ−ｎ−ブチルメチルエーテルおよび／またはノナフルオロイソブチルメチルエーテルが好ましいが、それらの混合物場合その混合割合は特に限定されない。
【００１４】
本発明の溶剤組成物におけるＨＦＥ４４９ｓの量は、１〜３０％の範囲内であればいかなる量でもよいが、１０〜３０％が好ましい。ＨＦＥ４４９ｓの量が１％以上であれば高分子材料への影響が低減できる。また、ＨＦＥ４４９ｓの量が１０％以上であれば、高分子材料への影響をさらに低減できるため好ましい。
【００１５】
本発明の溶剤組成物は、Ｒ２２５ｃｂとＨＦＥ４４９ｓのみからなることが好ましいが、さらに他の化合物を含んでもよい。
【００１６】
他の化合物としては、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、ハロゲン化炭化水素類（Ｒ２２５類を除く。）、エーテル類、エステル類およびグリコールエーテル類からなる群より選ばれる少なくとも１種が挙げられる。これらの他の化合物の溶剤組成物中における含有割合は、好ましくは溶剤組成物全量に対して４０％以下、より好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１０％以下である。
【００１７】
炭化水素類としては、炭素数５〜１５の鎖状または環状の炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−メチルヘプタン、３−メチルヘプタン、４−メチルヘプタン、２，２−ジメチルヘキサン、２，５−ジメチルヘキサン、３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２，３，３−トリメチルペンタン、２，３，４−トリメチルペンタン、２，２，３−トリメチルペンタン、２−メチルヘプタン、２，２，４−トリメチルペンタン、ｎ−ノナン、２，２，５−トリメチルヘキサン、ｎ−デカン、ｎ−ドデカン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、デカリン、テトラリン、アミルナフタレン等が挙げられる。より好ましいのは、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等の炭素数５〜７の炭化水素である。
【００１８】
アルコール類としては、炭素数２〜１６の鎖状または環状のアルコール類が好ましく、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、１−エチル−１−プロパノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデカノール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、α−テルピネオール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、ノニルアルコール、テトラデシルアルコール等が挙げられる。より好ましいのは、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の炭素数３以下のアルカノールである。
【００１９】
ケトン類としては、炭素数３〜９の鎖状または環状のケトン類が好ましく、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、メシチルオキシド、ホロン、２−オクタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２，４−ペンタンジオン、２，５−ヘキサンジオン、等が挙げられる。より好ましいのは、アセトン、メチルエチルケトン等の炭素数３〜４のケトンである。
【００２０】
ハロゲン化炭化水素類としては、炭素数１〜６の塩素化または塩素化フッ素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、１，１−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、１，２−ジクロロプロパン、ジクロロフルオロエタン、デカフルオロペンタン等が挙げられる。より好ましいのは、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の炭素数１〜２の塩素化炭化水素である。
【００２１】
エーテル類としては、炭素数２〜８の鎖状または環状のエーテル類が好ましく、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソール、ジオキサン、フラン、メチルフラン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。より好ましいのは、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の炭素数４〜６のエーテルである。
【００２２】
エステル類としては、炭素数２〜１９の鎖状または環状のエステル類が好ましく、具体的には、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ペンチル、酢酸メトキシブチル、酢酸ｓｅｃ−ヘキシル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸ベンジル、γ−ブチロラクトン、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシン酸ジブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル等が挙げられる。より好ましいのは、酢酸メチル、酢酸エチル等の炭素数３〜４のエステルである。
【００２３】
グリコールエーテル類としては、炭素数２〜４である２価アルコールの２〜４量体の一方または両方の水酸基の水素原子が炭素数１〜６のアルキル基で置換されている化合物であり、ジエチレングリコールのアルキルエーテル類やジプロピレングリコールのアルキルエーテル類が好ましい。具体的には、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコール系エーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテルなどのジプロピレングリコール系エーテル等が挙げられる。
【００２４】
さらに、主として安定性を高めるために、例えば以下に挙げる化合物の１種または２種以上を０．００１〜５％の範囲で本発明の溶剤組成物中へ配合できる。
【００２５】
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン等のアミン類。フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイゲノール、ｏ−メトキシフェノール、ビスフェノールＡ、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，６−ジ−ｔ−ブチルーｐ−クレゾール等のフェノール類。２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類。
【００２６】
本発明の溶剤組成物は、従来のＲ２２５類組成物と同様に各種用途に好適に使用できる。具体的な用途としては、汚れが付着した物品を除去するための洗浄剤、種々の化合物の塗布溶剤または抽出剤などの用途がある。
【００２７】
上記の物品の材質としては、ガラス、セラミックス、プラスチック、エラストマー、または金属などが挙げられる。また、物品の具体例としては、電子・電気機器、精密機械・器具、光学物品等、およびそれらの部品であるＩＣ、マイクロモーター、リレー、ベアリング、光学レンズ、ガラス基板などが挙げられる。
【００２８】
物品に付着する汚れとしては、物品または物品を構成する部品を製造する際に使用され、最終的に除去されなければならない化合物、または物品の使用時に付着する汚れが挙げられる。汚れを形成する物質としては、グリース類、鉱油類、ワックス類、油性インキ類等の油脂類、塵埃が挙げられる。
【００２９】
上記汚れを除去する具体的手段としては、例えば、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合わせた方法等が採用できる。
【００３０】
【実施例】
例１〜５、例７〜１０、例１２〜１４実施例であり、例６、例１１、例１５は比較例である。
【００３１】
［例１〜６］
Ｒ２２５ｃｂ（沸点５６．１℃）濃度が、表１の仕込み時欄に示した濃度であるＲ２２５ｃｂとＨＦＥ４４９ｓ（沸点６１℃）との混合物３００ｇを、オスマー気液平衡蒸留測定装置に入れ、１０１０ｈＰａで気相と液相の温度が平衡状態になった時点で、気相と液相から該混合物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフでＲ２２５ｃｂとＨＦＥ４４９ｓの組成を分析した。その結果を表１に示す。
【００３２】
測定の結果、Ｒ２２５ｃｂが８５．４％、ＨＦＥ４４９ｓが１４．６％の時が共沸組成であり、その時の共沸点は１０１０ｈＰａにおいて５５．５℃であった。
【００３３】
【表１】
2004002524.tif 000002
【００３４】
［例７］
Ｒ２２５５ｃｂが８５．４％、ＨＦＥ４４９ｓが１４．６％からなる溶剤組成物２０ｋｇを小型単槽式の開放型洗浄機に入れ、１日当り６時間で３日間運転した。運転条件は、洗浄槽へ溶剤組成物のみを仕込み、その組成物が加熱、蒸発、凝縮された後、水分離器に導かれ、洗浄槽へ戻るまでの１時間当りの循環量が仕込んだ組成物の量となるような運転条件とした。経時的に洗浄槽と水分離器各々から該組成物をサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表２に示す。
【００３５】
【表２】
2004002524.tif 000003
【００３６】
［例８〜１１］
表３に示した組成を有するＲ２２５ｃｂとＨＦＥ４４９ｓからなる溶剤組成物を用いて金属加工油の洗浄試験を行った。すなわち、ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を、金属加工油：テンパーオイル（日本グリース社製）中に浸漬して金属加工油を付着させた。該テストピースは、該金属加工油中から取り出した後、４０℃に保温した該溶剤組成物中に１分間浸漬して洗浄した。金属加工油の除去度を目視で評価した。結果を表３に示す。表中において、◎：良好に除去可、△：微量残存、×：かなり残存、を示す。
【００３７】
【表３】
2004002524.tif 000004
【００３８】
［例１２〜１５］
表４の溶剤組成物を用いてアクリル樹脂への影響を調べた。すなわち、アクリル樹脂のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×３ｍｍ）を、４０℃に保温した該溶剤組成物中に５分間浸漬した。該テストピースを溶剤組成物から取り出した後、浸漬後のテストピースを目視で観察評価した。結果を表４に示す。表中において、◎：変化なし、×：割れが発生、を示す。
【００３９】
【表４】
2004002524.tif 000005
【００４０】
【発明の効果】
本発明の共沸溶剤組成物または溶剤組成物（以下、本発明の組成物ともいう。）は、繰り返し蒸発、凝縮操作をしても組成の変動がないか、または少なく、さらに蒸気洗浄や蒸留等を行った後リサイクル使用しても組成の変動がないか、または少ないため、本発明の組成物の洗浄性や各種物性が変化しない。このため、１種の化合物を主成分とする溶剤を用いて洗浄する従来技術と比べて、本発明の組成物を用いることにより、装置、操作等の大幅な変更を要しない。また、本発明の組成物は、Ｒ２２５類のみを主成分とする溶剤よりプラスチックやゴム材質等への影響が抑えられるため、Ｒ２２５類より多種多様な洗浄用途に使用できる等の利点がある。