(57)【要約】【課題】本発明の目的は、膜物性（膜均一性、接着性）が良好で、ぎらつき防止効果、鮮鋭性、視認性及び動画を表示したときの黒のしまりに優れた防眩性反射防止層の形成方法、防眩性反射防止フィルムとその製造方法、防眩性反射防止フィルムを用いた表示装置及び防眩性反射防止加工装置を提供することにある。【解決手段】透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、該基材表面に微細凹凸構造を有する防眩層を形成し、更に該防眩層上にＣＶＤ法により金属化合物層を形成することを特徴とする防眩性反射防止層の形成方法。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、該基材表面に微細凹凸構造を有する防眩層を形成し、更に該防眩層上にＣＶＤ法により金属化合物層を形成することを特徴とする防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項２】
前記ＣＶＤ法が、大気圧プラズマ法であることを特徴とする請求項１記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項３】
前記微細凹凸構造の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．０５〜５．０μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項４】
前記微細凹凸構造が、凹部底を基準とした高さａが０．５〜１０．０μｍである凸部を１００μｍ２あたり１〜５０個有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項５】
前記防眩性付与組成物が、活性光線硬化型樹脂であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項６】
前記インク液滴を透明基体上に着弾させ、活性光線を照射することを特徴とする請求項５に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項７】
前記防眩性付与組成物が、熱硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項８】
前記インク液滴を透明基体上に着弾させ、加熱硬化処理を行うことを特徴とする請求項７に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項９】
２種以上の組成の異なるインク液滴を出射して、異なる屈折率を有する凹凸を形成することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１０】
２種以上の粒径の異なるインク液滴を出射して形成することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１１】
粒径の大きなインク液滴で透明基材上に微細凹凸構造を形成した後、該インク液滴より粒径の小さなインク液滴で、より微細な凹凸構造を形成することを特徴とする請求項１０に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１２】
前記インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１３】
前記インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微小液滴を含有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１４】
前記微小液滴と、インク液滴媒体との屈折率差が０．０１以上であることを特徴とする請求項１３に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１５】
前記インクジェット方式が、インクジェットヘッド部に振動を与えてインク液滴を吐出することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１６】
前記透明基材が、透明支持体とその上に少なくとも１層のハードコート層を有し、該ハードコート層表面に、前記微細凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、該ハードコート層表面に微細凹凸構造を有する防眩層を形成することを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１７】
前記ハードコート層がハーフキュア状態で、該ハードコート層表面に前記インク液滴を出射して微細凹凸構造を形成することを特徴とする請求項１６に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１８】
前記ハードコート層表面をプラズマ処理した後、該ハードコート層表面に前記インク液滴を出射して微細凹凸構造を形成することを特徴とする請求項１６または１７に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項１９】
前記ハードコート層が、可塑剤を含有することを特徴とする請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項２０】
前記防眩層の上に、窒素を主成分とする雰囲気下で、大気圧プラズマ処理によって金属化合物層を形成することを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法により、透明基材上に防眩層を形成し、更に該防眩層上に大気圧プラズマ処理により金属化合物層を形成する工程を有することを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法により製造したことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
【請求項２３】
インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、微細凹凸構造を形成した防眩層と、該防眩層上に反射防止層を設けた防眩性反射防止フィルムを有することを特徴とする表示装置。
【請求項２４】
前面板を有することを特徴とする請求項２３に記載の表示装置。
【請求項２５】
基材上に、防眩層形成用のインクジェット吐出部と、防眩層上に金属化合物層を形成するための大気圧プラズマ処理部とを有することを特徴とする防眩性反射防止加工装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規の膜物性（膜均一性、接着性）が良好で、ぎらつき防止効果、鮮鋭性、視認性及び動画を表示したときの黒のしまりに優れた防眩性反射防止層の形成方法、防眩性反射防止フィルムとその製造方法、防眩性反射防止フィルムを用いた表示装置及び防眩性反射防止加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、薄型軽量ノートパソコンの開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置等の表示装置で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、高性能化への要求が強くなってきている。また、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また、写り込みを防いだり、ギラツキの少ない表示性能を得るために表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータやワープロ等の液晶画像表示装置（液晶ディスプレイともいう）が多く使用されるようになってきた。
【０００３】
反射防止層や防眩層は用途に応じてさまざまな種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々のフィルムを液晶ディスプレイの前面に配置することで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能または防眩機能等を付与する方法が用いられている。これら、前面板として用いられる光学用フィルムには、塗布または、スパッタリング等で形成した反射防止層または防眩層が設けられている。
【０００４】
防眩層は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の映り込みが気にならないようにするものである。
【０００５】
表面に適切な凹凸を設けることによって、このような性質を持たせることができる。従来、このような凹凸を形成する方法としては、微粒子を塗布液に添加する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。このほか、特開平６−２３４１７５号で開示されているエンボス加工する方法、特開昭６３−２９８２０１号で開示されているあらかじめ型を転写させる方法等が知られている。しかしながら、エンボス加工や転写により凹凸を形成する方法は、生産性に劣り、特に微細な凹凸構造を形成することは極めて困難である。
【０００６】
一方、微粒子を用いて凹凸を形成する方法として、微粒子、例えば無機微粒子あるいは有機微粒子を樹脂等のバインダー中に分散させた塗布液を調製、塗布して表面に凹凸構造を形成させる方法が用いられている。この方法では、バインダー層中に凹凸を形成する微粒子が存在するパターンであり、微粒子を適切に分散することが必要とされるため、所望の凹凸構造を効果的に形成することがむずかしく、防眩フィルムとしての十分なぎらつき防止効果を得ることに大きな障害を有していた。また、凹凸の形状を変更する場合には、微粒子の粒径、配合量、膜厚等を修正する必要があり、品種の切り替えが非常に煩雑になる。また、所望の凹凸構造を達成するためには、比較的粒径の大きな微粒子を用いることが必要となり、その結果、鮮鋭性等の低下を招く結果となっていた。また、上述の塗布により防眩層を形成する方法においては、しばしば塗布むらの発生や支持体あるいは下部層との接着性が低下することがあり、また生産性にも劣るという欠点を有しており、早急な改良手段の開発が要望されている。
【０００７】
上記課題に対し、機能性層を形成する方法の一つとして、活性光線硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂と各種微粒子を含む塗布液を、基材上に塗布した後、活性光線の照射あるいは加熱処理を施して、硬化させる方法が知られている（例えば、特許文献２〜４参照。）。しかしながら、活性光線硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂を用いて、塗布方式により防眩層を形成する場合には、上述の場合と同様に、所望の凹凸構造を効果的に形成するためには、塗布液や塗布条件を適切に制御する必要があり、品種の切り替えの際の作業量が増加し、多品種生産における生産性を低下させる要因となっている。
【０００８】
一方、反射を低減するため反射防止層を形成する様々な方法が提案されているが、反射を完全になくすことは困難であり、画面上への写りこみが多い環境では十分な視認性は得られなかった。この様な写りこみが多い環境では、上記のような防眩層を用いることが提案されているが、画質、特にコントラストの低下を招き、黒のしまりが悪く画質に不満が残っていた。そのため、防眩層上に反射防止層を形成する方法が提案されている。しかしながら、防眩層の多くは、上述のように、微粒子を用いて防眩性を付与させる方法がほとんどであり、この様な微粒子を用いて形成された防眩層の上に均一に反射防止層を形成することは困難であり、十分な品質を有する防眩性反射防止フィルムを得ることは困難であった。また、防眩層の上に反射防止層を形成したものは、防眩層のみのものと比較してコントラストがある程度改善されるものの、市場での要求レベルには及んでいないのが現状である。
【０００９】
また、視認性を改善するため、従来でも、表示装置の表面には防眩層あるいは反射防止層が設けられているが、表示装置のカラー化、高精細化に伴って、より視認性に優れた防眩性反射防止フィルムが求められている。
【００１０】
【特許文献１】
特開昭５９−５８０３６号公報（特許請求の範囲）
【００１１】
【特許文献２】
特開２００１−３１０９１２号公報（特許請求の範囲）
【００１２】
【特許文献３】
特開２００２−１１４９２８号公報（特許請求の範囲）
【００１３】
【特許文献４】
特開２００２−１２０３１１号公報（特許請求の範囲）
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、膜物性（膜均一性、接着性）が良好で、ぎらつき防止効果、鮮鋭性、視認性及び動画を表示したときの黒のしまりに優れた防眩性反射防止層の形成方法、防眩性反射防止フィルムとその製造方法、防眩性反射防止フィルムを用いた表示装置及び防眩性反射防止加工装置を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
【００１６】
１．透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、該基材表面に微細凹凸構造を有する防眩層を形成し、更に該防眩層上にＣＶＤ法により金属化合物層を形成することを特徴とする防眩性反射防止層の形成方法。
【００１７】
２．前記ＣＶＤ法が、大気圧プラズマ法であることを特徴とする前記１項記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００１８】
３．前記微細凹凸構造の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．０５〜５．０μｍであることを特徴とする前記１または２項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００１９】
４．前記微細凹凸構造が、凹部底を基準とした高さａが０．５〜１０．０μｍである凸部を１００μｍ２あたり１〜５０個有していることを特徴とする前記１〜３項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２０】
５．前記防眩性付与組成物が、活性光線硬化型樹脂であることを特徴とする前記１〜４項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２１】
６．前記インク液滴を透明基体上に着弾させ、活性光線を照射することを特徴とする前記５項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２２】
７．前記防眩性付与組成物が、熱硬化性樹脂であることを特徴とする前記１〜４項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２３】
８．前記インク液滴を透明基体上に着弾させ、加熱硬化処理を行うことを特徴とする前記７項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２４】
９．２種以上の組成の異なるインク液滴を出射して、異なる屈折率を有する凹凸を形成することを特徴とする前記１〜８項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２５】
１０．２種以上の粒径の異なるインク液滴を出射して形成することを特徴とする前記１〜９項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２６】
１１．粒径の大きなインク液滴で透明基材上に微細凹凸構造を形成した後、該インク液滴より粒径の小さなインク液滴で、より微細な凹凸構造を形成することを特徴とする前記１０項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２７】
１２．前記インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微粒子を含有することを特徴とする前記１〜１１項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２８】
１３．前記インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微小液滴を含有することを特徴とする前記１〜１１項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００２９】
１４．前記微小液滴と、インク液滴媒体との屈折率差が０．０１以上であることを特徴とする前記１３項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００３０】
１５．前記インクジェット方式が、インクジェットヘッド部に振動を与えてインク液滴を吐出することを特徴とする前記１〜１４項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００３１】
１６．前記透明基材が、透明支持体とその上に少なくとも１層のハードコート層を有し、該ハードコート層表面に、前記微細凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、該ハードコート層表面に微細凹凸構造を有する防眩層を形成することを特徴とする前記１〜１５項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００３２】
１７．前記ハードコート層がハーフキュア状態で、該ハードコート層表面に前記インク液滴を出射して微細凹凸構造を形成することを特徴とする前記１６項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００３３】
１８．前記ハードコート層表面をプラズマ処理した後、該ハードコート層表面に前記インク液滴を出射して微細凹凸構造を形成することを特徴とする前記１６または１７項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００３４】
１９．前記ハードコート層が、可塑剤を含有することを特徴とする前記１６〜１８項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００３５】
２０．前記防眩層の上に、窒素を主成分とする雰囲気下で、大気圧プラズマ処理によって金属化合物層を形成することを特徴とする前記１〜１９項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法。
【００３６】
２１．前記１〜２０項のいずれか１項に記載の防眩性反射防止層の形成方法により、透明基材上に防眩層を形成し、更に該防眩層上に大気圧プラズマ処理により金属化合物層を形成する工程を有することを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
【００３７】
２２．前記２１項に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法により製造したことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
【００３８】
２３．インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、微細凹凸構造を形成した防眩層と、該防眩層上に反射防止層を設けた防眩性反射防止フィルムを有することを特徴とする表示装置。
【００３９】
２４．前面板を有することを特徴とする前記２３項に記載の表示装置。
２５．基材上に、防眩層形成用のインクジェット吐出部と、防眩層上に金属化合物層を形成するための大気圧プラズマ処理部とを有することを特徴とする防眩性反射防止加工装置。
【００４０】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、該基材表面に微細凹凸構造を有する防眩層を形成し、更に該防眩層上にＣＶＤ法により金属化合物層を形成することより、膜物性（膜均一性、接着性）が良好で、ぎらつき防止効果、鮮鋭性、視認性及び動画を表示したときの黒のしまりに優れた防眩性反射防止層の形成を実現することができることを見出し、本発明に至った次第である。加えて、本発明の構成により、特に、反射光の色むらが少なく均一な反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムを実現できたものである。
【００４１】
詳しくは、ＣＶＤ法が大気圧プラズマ法であること、防眩層として、微細凹凸構造の中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．０５〜５．０μｍの範囲とすること、あるいは、凹部底を基準とした高さａが０．５〜１０．０μｍである凸部を１００μｍ２あたり１〜５０個の範囲とすることが好ましく、また、防眩性付与組成物として、活性光線硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂を用いることにより、上記で規定した極めて微細な凹凸構造を実現できたものである。更に、インクジェット方式による上記インク液滴として、２種以上の組成の異なるインク液滴を用いて、屈折率の異なる凹凸構造を形成すること、あるいは２種以上の粒径の異なるインク液滴を用いること、粒径の大きなインク液滴で透明基材上に微細凹凸構造を形成した後、該インク液滴より粒径の小さなインク液滴で、より微細な凹凸構造を形成すること、あるいは、インク液滴に、該インク液滴より小さい粒子径を有する微粒子または微小液滴を含有させることにより、本発明の目的効果をより一層発揮されることを見出したものである。
【００４２】
また、本発明の防眩性反射防止層の形成方法においては、透明基材上に上記で規定する防眩層を形成する構成であり、単に透明基材上に直接防眩層を設けてもよいが、１層以上のハードコート層を有する透明基材上に設けることがより好ましい。このときのハードコート層は、防眩層の凹凸構造を形成する際に、未硬化であってもよいが、ハードコート層がハーフキュア状態（半硬化状態）で防眩層を設けることが好ましく、また、ハードコート層表面をプラズマ処理した後、防眩層を設けること、あるいはハードコート層が可塑剤を含有していることがより好ましく、このような構成とすることにより、ハードコート層と防眩層の接着性を高めることができる。
【００４３】
以下、本発明の詳細について説明する。
はじめに、本発明に係る防眩層の詳細について説明する。
【００４４】
本発明の防眩性反射防止層の形成方法は、透明基材上に、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有するインク液滴を出射して、該基材表面に微細凹凸構造を有する防眩層を形成することが、１つの特徴である。
【００４５】
本発明に係る微細凹凸構造の一つの形状として、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される中心線平均粗さＲａが０．０５〜５μｍである凹凸形状をさし、好ましくはＲａが０．０７〜１μｍ、最も好ましくはＲａが０．１〜０．５μｍの凹凸形状である。
【００４６】
本発明で規定する中心線平均粗さＲａは、ＪＩＳ表面粗さのＪＩＳ−Ｂ−０６０１により定義され、下式によって求められる値をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。
【００４７】
【数１】
2004279491.tif 000002
【００４８】
中心線平均粗さ（Ｒａ）の測定方法としては、２５℃、６５％ＲＨ環境下で測定試料同士が重なり合わない条件で２４時間調湿したのち、上記環境下で測定して求めることができる。ここでいう重なり合わない条件とは、例えば、試料のエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法や試料と試料の間に紙をはさんで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることのできる測定装置としては、例えば、ＷＹＫＯ社製  ＲＳＴＰＬＵＳ非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることができる。
【００４９】
また、本発明に係る微細凹凸構造の他の形状として、凹部底を基準とした高さａが０．５〜１０．０μｍである凸部を１００μｍ２あたり１〜５０個有していることが好ましい。
【００５０】
図１は、透明基材上に、インクジェット方式で凹凸構造からなる防眩層を設けた一例を示す模式図である。
【００５１】
図１の（ａ）は、凹凸構造からなる防眩層の斜視図であり、図１の（ｂ）は断面図である。
【００５２】
図１の（ｂ）において、透明基材１の上に１層もしくは複数からなるハードコート層２を設けた後、インクジェット方式によりインク液滴３により形成された凹凸構造を有する防眩層の一例を示してあるが、本発明で規定する凹部底を基準とした高さａとは、底部であるハードコート層表面を底部として、凹凸構造の頂部までの高さ（μｍ）と定義する。
【００５３】
防眩層表面の微細な凹凸は、市販の触針式表面粗さ測定機あるいは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することができる。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、約４０００μｍ２の範囲（５５μｍ×７５μｍ）について凹凸を２次元的に測定し、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして表示する。
【００５４】
ここで隣接する底部を基準とした高さが０．５μｍ〜１０μｍである凸部の数をカウントし、１００μｍ２の面積あたりの数で示した。測定は、防眩性反射防止フィルム１ｍ２あたり任意の１０点を測定してその平均値として求める。
【００５５】
本発明において、防眩層を構成する凹凸構造の形状として、図１の（ｂ）ではコニーデ型の凸部を着弾させた一例を示しているが、本発明は上記の凹凸構造に限定されるものではない。
【００５６】
図２は、防眩層を構成する他の凹凸構造の一例を示す断面図である。
図２の（ａ）は、球体形状で着弾させた凹凸構造の一例であり、出射するインク液滴の粘度や、インク液滴とインク着弾面との接触角を適宜調整することにより、このような形状の凹凸構造を形成することができる。本発明のインクジェット方式による凹凸構造の形成方法は、従来の塗布方式等の防眩層形成方法に比較し、任意の形状の凹凸構造を形成できることが、大きな特徴である。
【００５７】
図２の（ｂ）は、半円状の凹凸構造からなる防眩層の一例を示す断面図である。
【００５８】
上記凹凸構造の配置として、上図の説明では凸部を間隔をあけて着弾させた一例を示しているが、図２の（ｃ）に示すように、間隙を設けずに、着弾面全体を凸部で被覆した構成でもよい。
【００５９】
本発明の防眩性反射防止フィルムの構成としては、透明基材上に防眩層が形成されていれば特に制限はないが、好ましくは、透明基材上に１層以上のハードコート層を設けた後、インクジェット方式により上記で規定する凹凸構造からなる防眩層を設けることが好ましい。
【００６０】
次いで、本発明に係るインクジェット方式について説明する。
図３は、本発明に係るインクジェット方法に用いることのできるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。
【００６１】
図３（ａ）はインクジェットヘッドの断面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ線矢視拡大図である。図中、１１は基板、１２は圧電素子、１３は流路板、１３ａはインク流路、１３ｂは壁部、１４は共通液室構成部材、１４ａは共通液室、１５はインク供給パイプ、１６はノズルプレート、１６ａはノズル、１７は駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）、１８はリード部、１９は駆動電極、２０は溝、２１は保護板、２２は流体抵抗、２３、２４は電極、２５は上部隔壁、２６はヒータ、２７はヒータ電源、２８は伝熱部材、１０はインクジェットヘッドである。
【００６２】
集積化されたインクジェットヘッド１０において、電極２３、２４を有する積層された圧電素子１２は、流路１３ａに対応して、該流路１３ａ方向に溝加工が施され、溝２０と駆動圧電素子１２ｂと非駆動圧電素子１２ａに区分される。溝２０には充填剤が封入されている。溝加工が施された圧電素子１２には、上部隔壁２５を介して流路板１３が接合される。すなわち、前記上部隔壁２５は、非駆動圧電素子１２ａと隣接する流路を隔てる壁部１３ｂとで支持される。駆動圧電素子１２ｂの幅は流路１３ａの幅よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）上の駆動回路により選択された駆動圧電素子１２ｂはパルス状信号電圧を印加すると、該駆動圧電素子１２ｂは厚み方向に変化し、上部隔壁２５を介して流路１３ａの容積が変化し、その結果ノズルプレート１６のノズル１６ａよりインク液滴を吐出する。
【００６３】
流路板１３上には、伝熱部材２８を介してヒータ２６がそれぞれ接着されている。伝熱部材２８はノズル面にまわり込んで設けられている。伝熱部材２８は、ヒータ２６からの熱を効率良く流路板１３に伝え、かつ、ヒータ２６からの熱をノズル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温めることを目的としており、したがって、熱伝導率の良い材料が用いられる。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属、あるいは、ＳｉＣ、ＢｅＯ、ＡｌＮ等のセラミックス等が好ましい材料として挙げられる。
【００６４】
圧電素子を駆動すると、流路の長手方向に垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し、その容積変化によりノズルからインク液滴となって噴射する。圧電素子には常時流路容積が縮小するように保持する信号を与え、選択された流路に対して流路容積を増大する向きに変位させた後、再び流路の容積が縮小する変位を与えるパルス信号を印加することにより、流路と対応するノズルよりインクがインク液滴となって噴射する。
【００６５】
図４は、本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。
【００６６】
図４において、図４の（ａ）はヘッド部の断面図、図４の（ｂ）はノズルプレートの平面図である。図中、１は透明基材、３１はインク液滴、３２はノズル、２９は活性光線照射部である。ノズル３２より噴射したインク液滴３１は透明基材１方向に飛翔して付着する。透明基材１上に着弾したインク液滴は、その上流部に配置されている活性光線照射部２９より、活性光線を直ちに照射され、硬化する。なお、３５は透明基材１を保持するバックロールである。
【００６７】
本発明においては、図４の（ｂ）に記載のように、インクジェットヘッド部のノズルは、千鳥状に配置することが好ましく、また、透明基材１の搬送方向に並列に多段に設けることが好ましい。また、インク吐出の際にインクジェットヘッド部に微細な振動を与え、インク滴がランダムに透明基材上に着弾するようにすることが好ましい。これによって、干渉縞の発生を抑制することができる。微細な振動は、高周波電圧、音波、超音波などによって与えることができるが、特にこれらに限定されない。
【００６８】
本発明に用いられる防眩層の形成方法は、多ノズルからインク小液滴を吐出して形成するインクジェット方式を用いることが好ましく、図５に、本発明で好ましく用いることのできるインクジェット方式の一例を示す。
【００６９】
図５において、図５のａ）は、インクジェットヘッド１０を透明基材１の幅手方向に配置し、透明基材１を搬送しながらその表面に防眩層を形成する方法（ラインヘッド方式）であり、図５のｂ）はインクジェットヘッド１０が副走査方向に移動しながらその表面に防眩層を形成する方法（フラットヘッド方式）であり、図５のｃ）はインクジェットヘッド１０が、透明基材１上の幅手方向を走査しながらその表面に防眩層を形成する方法（キャプスタン方式）であり、いずれの方式も用いることができるが、本発明においては、生産性の観点からラインヘッド方式が好ましい。なお、図５のａ）〜ｃ）に記載の２９は、インクとして後述の活性光線硬化型樹脂を用いる場合に使用する活性光線照射部である。
【００７０】
また、本発明においては、図５のａ）、ｂ）、ｃ）の透明基材の搬送方向の下流側に、別の活性光線照射部を設けてもよい。
【００７１】
本発明において、微細な凹凸を形成するため、インク液滴としては０．１〜１００ｐｌが好ましく、０．１〜５０ｐｌがより好ましく、０．１〜１０ｐｌが特に好ましい。上記条件でインク液滴を出射することにより、視認性にも優れる微細な凹凸を有する防眩性反射防止フィルムを得ることができる。
【００７２】
また、インク液滴の粘度は、２５℃において０．１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、更に好ましくは０．１〜５０ｍＰａ・ｓである。
【００７３】
次いで、本発明に係る防眩層を形成するインクジェット方式で用いるインクについて説明する。
【００７４】
本発明に係るインクは、インクジェット方式により微細な凹凸構造を形成する防眩性付与組成物を含有することが特徴であるが、該防眩性付与組成物としては、活性光線硬化型樹脂または熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００７５】
はじめに、本発明に係る活性光線硬化型樹脂について説明する。
活性光線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性光線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性光線硬化型樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性光線照射によって硬化する樹脂でもよい。
【００７６】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【００７７】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【００７８】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。
【００７９】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【００８０】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【００８１】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性光線反応性化合物を示す。
【００８２】
（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる）
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
（ｄ）ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。
【００８３】
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。
【００８４】
上記のエポキシ化合物を活性光線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）または（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。
【００８５】
エポキシ系活性光線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、活性光線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。
【００８６】
活性光線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性光線反応性樹脂である。
【００８７】
本発明に有用な活性光線反応性エポキシ樹脂は、活性光線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。
【００８８】
かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。
一般式（ａ）
〔（Ｒ１）ａ（Ｒ２）ｂ（Ｒ３）ｃ（Ｒ４）ｄＺ〕ｗ＋〔ＭｅＸｖ〕ｗ−
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えば、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
【００８９】
上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸｖ〕ｗ−の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ４−）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ４−）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ４−）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ４−）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ４−）等を挙げることができる。
【００９０】
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３−）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ３−）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。
【００９１】
このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。
【００９２】
また、エポキシアクリレート基を有する活性光線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性光線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。
【００９３】
本発明に有用な活性光線硬化型樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性光線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。
【００９４】
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性光線ラジカル重合開始剤と活性光線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。
【００９５】
また、本発明に係る防眩層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素または硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。
【００９６】
本発明で用いることのできる紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、旭電化工業（株）製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド  Ｈ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（以上、三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。
【００９７】
本発明に係るインクには、公知の熱可塑性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダを上記記載の活性光線硬化型樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ２、−ＮＲ３Ｘ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ２、−ＯＰＯ３Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げることができる。
【００９８】
本発明に使用する上記活性光線反応性化合物を光重合または光架橋反応を開始させるには、上記活性光線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。
【００９９】
本発明に係るインクが、活性光線硬化型樹脂を含有する場合、活性光線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。
【０１００】
具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。
【０１０１】
また、活性光線硬化型樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。
【０１０２】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
【０１０３】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１０４】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式（１）で示される化合物が好ましく用いられる。
【０１０５】
【化１】
2004279491.tif 000003
【０１０６】
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ４とＲ５は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。
【０１０７】
また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。
以下に本発明に係る紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１０８】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製）
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式（２）で表される化合物が好ましく用いられる。
【０１０９】
【化２】
2004279491.tif 000004
【０１１０】
式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−ＣＯ（ＮＨ）ｎ−１−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。
【０１１１】
上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基でアリル基、２−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）等が挙げられる。
【０１１２】
以下に一般式（２）で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１１３】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０１１４】
また、特開２００１−１８７８２５に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、支持体の面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
【０１１５】
また、特開平６−１４８４３０号に記載の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。
【０１１６】
また、インクジェット方式により形成した防眩層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。
【０１１７】
本発明に係るインクには、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＺｎＯ等の導電性微粒子や架橋カチオンポリマー粒子等の帯電防止剤を含有させることが好ましい。また、これらの化合物は、透明基材上に設ける後述のハードコート層に添加してもよい。
【０１１８】
この他に、インクにはフッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、あるいはノニオン系界面活性剤を、０．０１〜５．０％程度添加することができる。
【０１１９】
本発明において、インクジェット方式により形成した防眩層が活性光線硬化型樹脂を含む場合、活性光線の照射方法としては、インク液滴を透明基体上に着弾させた直後、すみやかに活性光線の照射を開始することが好ましい。
【０１２０】
本発明でいうインク液滴を透明基体上に着弾させた直後とは、具体的にはインク液滴が着弾後０．００１〜２．０秒までの間に照射を始めることが好ましく、より好ましくは０．００１〜１．０秒の間である。照射光源の照射間隔が０．００１秒より短いと、ノズル部と照射光源の距離が接近しすぎて、硬化反応により昇華物質によるヘッドの汚染や、照射光のインク出射部への回り込みにより、ノズル部での硬化によりノズル詰まりを起こすため好ましくない。また、照射光源の照射間隔が２．０秒を超えると、着弾したインク液滴の流動、変形等により、本発明で規定する所望の凹凸構造を得ることが困難となる場合があり、注意を要する。
【０１２１】
上記照射時のノズル部への光の回り込みを防止するため、本発明のインクジェット方式においては、活性光源照射部をインクジェットヘッドのノズル部に直接作用させない位置に配置することが好ましく、更に、照射される活性光線が、インクジェットヘッドのノズル部に作用しないように遮光板をその間に設けることが好ましい。
【０１２２】
また、インク液滴が着弾した直後の活性光線の照射は、着弾したインク液滴の流動性を低下させ、所望の凹凸構造が形成できる程度に照射すればよく、ハーフキュア状態でもよい。この場合には、別途下流側に設置した活性光源を照射して、完全に硬化させることができる。このようにすることにより、インクジェットヘッドのノズル部に、活性光線が作用し目詰まりを起こすことを防止することができる。
【０１２３】
本発明に使用することができる活性光線としては、紫外線、電子線、γ線等で、防眩性付与組成物である活性光線硬化型樹脂を活性化させる光源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、２０ｍＪ／ｃｍ２〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０１２４】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【０１２５】
本発明においては、活性線照射の時の雰囲気中の酸素濃度が１％以下であることがより好ましい。
【０１２６】
また、本発明においては、活性光線の硬化反応を効率的に進めるため、透明基材等を加熱することもできる。加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、あるいは着弾したインク表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、インクジェット出射部の透明支持体を挟んで反対側に用いられるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。
【０１２７】
加熱温度としては、使用する活性光線硬化型樹脂の種類により一概には規定できないが、透明基材への熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、３０〜２００℃が好ましく、更に５０〜１２０℃が好ましく、特に好ましくは７０〜１００℃である。
【０１２８】
次いで、本発明に係る熱硬化性樹脂について説明する。
本発明で用いることのできる熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることができる。
【０１２９】
不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂（ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど）を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Ｂｒ２でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはＩＰＮ化した強靭性（高強度、高弾性率、高伸び率）の強靭性樹脂等がある。
【０１３０】
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールＦ型、臭素化ビスフェノールＡ型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０１３１】
ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。
【０１３２】
フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。
【０１３３】
熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・Ｏ，Ｏ′−ジアリルビスフェノール−Ａ樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。
【０１３４】
また、上述した活性光線硬化型樹脂の一部も、熱硬化性樹脂として用いることができる。
【０１３５】
なお、本発明に係る熱硬化性樹脂からなるインクには、活性光線硬化型樹脂を含むインクに記載した酸化防止剤や紫外線吸収剤を適宜用いてもよい。
【０１３６】
本発明において、インクジェット方式により形成した防眩層が熱硬化性樹脂を含む場合、加熱方法としては、インク液滴を透明基体上に着弾させた直後に、加熱処理を行うことが好ましい。
【０１３７】
本発明でいうインク液滴を透明基体上に着弾させた直後とは、具体的にはインク液滴が着弾と同時または５秒以内に加熱が開始されることが好ましく、予め透明基材の温度を上げておくことができる。例えば、透明基材をヒートロール上に巻き付けて、これにインク液滴を着弾させることができ、より好ましくは着弾と同時または２．０秒の間である。また、ノズル部と加熱部の距離が接近しすぎて、熱がヘッド部に伝達すると、ノズル部での硬化によりノズル詰まりを起こすため注意が必要である。また、加熱間隔が５．０秒を超えると、着弾したインク液滴の流動、変形等により、本発明で規定する所望の凹凸構造を得ることが困難となる。
【０１３８】
上記加熱時のノズル部への熱の伝達を防止するため、本発明のインクジェット方式においては、加熱部をインクジェットヘッドのノズル部に直接作用させない位置に配置することが好ましい。
【０１３９】
加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、あるいは着弾したインク表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、インクジェット出射部の透明支持体を挟んで反対側に設けるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。加熱温度としては、使用する熱硬化性樹脂の種類により一概には規定できないが、透明基材への熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、３０〜２００℃が好ましく、更に５０〜１２０℃が好ましく、特に好ましくは７０〜１００℃である。
【０１４０】
本発明に係るインクにおいては、防眩性付与組成物として、上述した活性光線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも用いることができるが、好ましくは活性光線硬化型樹脂を用いることである。
【０１４１】
本発明に係る上記インクには、必要に応じて溶媒を含有させることができる。例えば、水系溶媒に前記活性光線硬化型樹脂モノマー成分、あるいは熱硬化性樹脂モノマー成分を溶解もしくは分散させてもよく、あるいは有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒は低沸点のものでも高沸点のものでも適宜選択して用いることができ、これらの溶媒の添加量や種類、組成はインクの粘度を調整するため適宜調整することが好ましい。
【０１４２】
本発明に係るインクで用いることができる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類；ジエチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられ、それらを単独または２種以上混合して使用することができる。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類も好ましく用いられる。
【０１４３】
グリコールエーテル類としては、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されない。プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルＡｃ、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルＡｃ、エチレングリコールジエチルエーテル等を挙げることができる、なおＡｃはアセテートを表す。本発明に係るインクにおいては、上記溶媒の中でも、沸点が１００℃未満の溶媒が好ましく用いられる。これらの溶媒は、インクジェットヘッドから吐出された直後から揮発され、着弾後も所望の凸形状が維持される程度に速やかに揮発、乾燥されることが望ましい。
【０１４４】
次いで、本発明におけるインクジェット方式による凹凸構造を形成する好ましい態様について説明する。
【０１４５】
本発明における凹凸構造を有する防眩層の好ましい形成方法の一つは、２種以上の屈折率の異なるインク液滴を出射して形成する方法である。詳しくは、硬化後の５５０ｎｍにおける屈折率が０．０１以上異なる２種以上のインク液滴を用いることにより、視認性に優れる防眩層が形成できるため好ましい。好ましくは屈折率差が０．０１〜２．０、特に屈折率差が０．０３〜１．０異なるインク滴を組み合わせることが好ましい。本発明に係るインクにおいて、上記条件を満たすための方法として、特に制限はなく、例えば、活性光線硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂の種類や添加量、あるいは不揮発性有機溶媒の種類や添加量、その他の添加剤の種類や添加量を適宜調整することにより、実現することができる。
【０１４６】
本発明における凹凸構造を有する防眩層の他の好ましい形成方法として、２種以上の粒径の異なるインク液滴を出射して形成することが好ましく、更に好ましくは、粒径の大きなインク液滴で透明基材上に微細凹凸構造を形成した後、該インク液滴より粒径の小さなインク液滴で、より微細な凹凸構造を形成することである。
【０１４７】
図６は、透明基材上にインクジェット方式により、粒径の大きなインク液滴で微細構造７１を形成した後、より粒径の小さなインク液滴で、更に微細な凹凸構造７２を形成した一例を表す模式図である。
【０１４８】
図６の（ａ）は、比較的低粘度のインクを用いて、コニーデ型の凸部７１を設けた後、その表面及び未着弾部により微小の凸部７２を設けた一例であり、図６の（ｂ）は、インク液滴と基材表面との接触角を制御し、球体状の凸部７１′を設けた後、その表面及び未着弾部により微小の凸部７２を設けた一例である。
【０１４９】
本発明において、凹凸構造を形成するインクとして粒径の異なるインク液滴を用いて形成することにより、干渉縞を生じにくくするとともに、表示装置の視認性にも優れる微細な凹凸を形成することができる。各々のインク液滴は、０．１〜１００ｐｌが好ましく、０．１〜５０ｐｌが更に好ましく、０．１〜１０ｐｌが特に好ましい。２種以上の大きさの異なるインク液滴を用いる場合、平均粒径が最も大きい粒径のインク液滴に対し、平均粒径が最も小さな粒径のインク液滴の容量としては、０．１〜８０体積％、更に好ましくは１〜６０体積％、特に好ましくは３〜５０体積％であることが好ましい。また、３種以上の容量が異なるインク液滴を組み合わせることがより好ましい態様である。
【０１５０】
また、２種以上のインク液滴を用いる場合、固形分濃度が異なる各インク液滴を用いることができる。例えば、主に後から出射する微小な液滴の固形分濃度を低く設定し、溶媒を揮発させることで、より微細な凸部を形成することができる。このように各インク液滴の固形分濃度を適宜調整することにより、微細な凹凸構造の形成や形状を容易に制御することができる。
【０１５１】
更に、本発明においては、異なる容量のインク滴を組み合わせて凹凸構造を形成する場合、大きなインク液滴を透明基材上に着弾させた後、より微細なインク液滴をその上に着弾させることが好ましい。大きなインク滴を着弾させて、未硬化の状態でその上により微細なインク液滴を着弾させてもよいが、本発明では、大きなインク液滴を着弾させた後、活性光線を照射すること、あるいは加熱処理を施してより完全に硬化させるか、あるいはハーフキュアの状態にした後、より微細なインク液滴をその上に着弾させることが好ましい。
【０１５２】
本発明における凹凸構造を有する防眩層の他の好ましい形成方法として、インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微粒子を含有することが好ましい。
【０１５３】
本発明において、インク液滴中に含有せしめることのできる微粒子としては、例えば、無機微粒子または有機微粒子を挙げることができる。
【０１５４】
無機微粒子としては、例えば、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。
【０１５５】
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
【０１５６】
酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
【０１５７】
また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。
【０１５８】
本発明で用いる微粒子の平均粒径は、０．００１〜１０μｍが好ましく、さらに好ましくは０．００５〜３μｍであり、特に好ましくは０．０１〜１μｍである。粒径や屈折率の異なる２種以上の微粒子を含有させてもよい。
【０１５９】
本発明における凹凸構造を有する防眩層の他の好ましい形成方法として、インク液滴が、該インク液滴より小さい粒子径を有する微小液滴を含有することが好ましい。
【０１６０】
本発明でいう微小液滴とは、インク液滴より小粒径で、相分離状態にあるか、あるいは乳化物の形態でインク中に液状で存在しているものが好ましく、インクの主成分とは完全に混じりあわないものであることが好ましく、また、インクが硬化した後、５５０ｎｍにおける屈折率が、インク液滴媒体と０．０１以上異なることが好ましい。好ましくは屈折率が０．０１〜２．０異なること、特に屈折率が０．０３〜１．０異なることが好ましい。
【０１６１】
上述したインク液滴に微粒子を用いた場合には、インクジェットヘッドの目詰まりを起こす可能性も残るが、液状物であれば目詰まりを起こしにくく特に好ましい。また、微小液滴自身も硬化性成分を含んでいることが好ましく、着弾後に硬化させることが好ましい。これらを用いることによって、より微細な凹凸や光散乱の効果が得られ、視認性の向上が期待できる。
【０１６２】
本発明に係る微小液滴として、金属アルコキシド又はその加水分解物あるいは部分重合物を用いることが特に好ましい。
【０１６３】
金属原子としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ等を挙げることができ、本発明で用いることのできる金属アルコキシドの具体例として、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のシランカップリング剤、テトライソプロピルチタン、テトラブチルチタン、テトラブチルジルコニウム、テトライソプロピルジルコニウム、テトラエトキシチタン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの金属アルコキシドは、インク液滴が透明基材に着弾した後、活性光線等による硬化処理により硬化し、その種類により屈折率の異なる凹凸構造を形成することができる。
【０１６４】
次いで、本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法について説明する。
図７は、透明基材上のインクジェット方式により防眩層を設けて工程のフローの一例を示す模式図である。詳しくは、透明基材上にハードコート層を塗布方式で塗設した後、インクジェット方式で凹凸構造を有する防眩層を形成し、次いで、例えば、後述の図９に記載の大気圧プラズマ放電処理装置を複数用いて、複数の反射防止層を設けて防眩性反射防止フィルムを製造するフローを示してある。
【０１６５】
図７において、ロール５０１より繰り出された透明基材５０２は、搬送されて、第１コータステーションＡで、押し出し方式の第１コータ５０３によりハードコート層を塗設する。このとき、ハードコート層は単層構成でも、複数から構成されている層でもよい。ハードコート層を塗設した透明基材５０２は、次いで乾燥ゾーン５０５Ａで乾燥が行われる。乾燥は、透明基材５０２の両面より、温湿度が制御された温風により乾燥が施される。乾燥後、ハードコート層にバインダーとして活性光線硬化型樹脂を用いている場合には、活性光線照射部５０６Ａで、活性光線、例えば紫外線等を照射して硬化させたり、あるいは照射量や照射条件を制御してハーフキュア状態とすることもできる。活性光線照射部５０６Ａで基材５０２は、２０〜１２０℃に温度制御されたバックロールに巻いた状態で照射することもできる。
【０１６６】
次いで、インクジェット方式を用いた防眩層を設ける第２コータステーションＢに搬送されるが、ハードコート層は、ハーフキュア状態であることが好ましい。あるいは、防眩層を形成する前にプラズマ処理部５０７で表面処理を施すことが好ましい。インクジェット出射部５０９には、インク供給タンク５０８が接続されており、そこからインク液が供給される。インクジェット出射部５０９は、図４の（ｂ）で示すような複数のインクジェットノズルを透明基材の幅全域に千鳥状に配置し、インク液滴をハードコート層上に出射して、その表面に凹凸構造を形成する。また、２種以上のインク液滴を出射する場合には、２列以上配置したインクジェットノズルより、各々のインク液滴を出射してもよいし、あるいはランダムに任意のインクジェットノズルよりインク液滴を出射してもよい。また、インクジェット出射部を複数配置し、各々のインク出射部より異なるインク液滴を出射してもよい。本発明においては、０．１〜１００ｐｌ、場合によっては０．１〜１０ｐｌという微細な液滴を出射するため、インク液滴の飛翔性に対し、外気の気流の影響を受けやすくなるため、第２コータステーションＢ全体を、隔壁等で覆って防風処理を施すことが好ましい。また、１ｐｌ以下の極めて微細な液滴を精度高く飛翔させるため、インクジェット出射部５０９と透明基材５０２あるいはバックロール５０４Ｂ間に電圧を印加し、インク液滴に電荷を与えて電気的にインク液滴の飛翔安定性を補助する方法も好ましい。また、着弾したインク液滴の変形を防止するため、透明基材を冷却して着弾後のインク液滴の流動を速やかに低下させる方法を用いることも好ましい。あるいは、インク液滴が出射後、着弾するまでの飛翔中に含有する溶媒を揮発させて、インク液滴中の含有溶媒量が減少した状態で着弾させることが、より微細な凹凸構造を形成する上で好ましい。そのため、インク飛翔空間の温度を高くしたり、あるいは気圧を、１気圧以下、例えば２０〜１００ｋＰａに制御する方法も好ましい。
【０１６７】
ハードコート層表面に着弾したインク液滴は、活性光線硬化型樹脂を用いている場合には、インクジェット出射部５０９の直後に配置されている活性光線照射部５０６Ｂで、活性光線、例えば紫外線等を照射して硬化させる。また、インク液滴が熱硬化性樹脂を用いている場合には、加熱部５１０、例えば、ヒートプレートにより加熱、硬化される。また、バックロール５０４Ｂをヒートロールとして加熱する方法も好ましい。
【０１６８】
第２コータステーションＢにおいて、活性光線照射部５０６Ｂの照射光が、インクジェット出射部５０９のインクジェットノズルに直接影響を与えないように、活性光線照射部５０６Ｂとインクジェット出射部５０９とを適度な間隔で配置する、あるいは活性光線照射部５０６Ｂとインクジェット出射部５０９とを間に、遮光壁等を設置することが好ましい。また、加熱部５１０の熱が、インクジェット出射部５０９のインクジェットノズルに直接影響を与えないように、インクジェット出射部５０９を保温カバーで被覆する、あるいは図７で示すように、加熱部５１０を透明基材５０２の裏面側に配置し、インクジェット出射部５０９に影響を及ぼさないようにすることが好ましい。
【０１６９】
着弾したインク液滴により形成された凹凸構造が維持できる程度に硬化処理を行った透明基材５０２は、乾燥ゾーン５０５Ｂで不要な有機溶媒等を蒸発させた後、更に活性光線照射部５０６Ｃで、活性光線を照射して、硬化を完了させる。
【０１７０】
発生光線照射部５０６Ｃの部分では、２０〜１２０℃に温度制御されたバックロール上の透明基材５０２に活性光線を照射することが好ましい。
【０１７１】
防眩層を設けた透明基材５０２は、次いで、後述の図８または図９で示す構成からなる大気圧プラズマ放電処理装置を用いて、反射防止層が積層される。防眩層を設けた後、一端ロール状に巻き取った後、このロールから再度、防眩層を設けた基材を繰り出して、上記方法で反射防止層を設けても良いが、生産性等を考慮すると、防眩層を設ける工程と、反射防止層を設ける工程とを連続して行うことが特に好ましい。
【０１７２】
次に、上述した防眩層上へ、ＣＶＤ法の中でも、特に好ましい大気圧プラズマ法による金属化合物層（反射防止層）の形成方法について説明する。
【０１７３】
本発明の防眩性反射防止フィルムにおいては、本発明に記載の効果を得るために、ＣＶＤ法により複数の金属化合物層を上記の防眩層上に設けることが好ましく、特に好ましくは大気圧プラズマ法により、形成することが好ましい。金属化合物層は、大気圧もしくは大気圧近傍の圧力下にある電極間隙に、好ましくは窒素を主体とする反応ガスを供給してプラズマ放電処理することにより形成される。
【０１７４】
このプラズマ放電処理方法は、常圧プラズマ法あるいは大気圧プラズマ放電処理方法とも呼ばれている方法（以下、この大気圧またはその近傍の圧力下のプラズマ放電処理を単にプラズマ放電処理と略すことがある）で、大気圧またはその近傍の圧力下にある対向電極間の間隙に反応ガスを供給して放電することにより発生させたプラズマによって、防眩層上に薄膜を形成させるものである。本発明でいう大気圧またはその近傍の圧力とは、２０〜２００ｋＰａの圧力であり、特に９０〜１１０ｋＰａを意味する。
【０１７５】
本発明の防眩性反射防止層の形成方法においては、長時間連続的に透明基材上に設けた防眩層上に金属化合物層を形成することができ、金属酸化物薄膜層のクラックの発生が少なく、更に、防眩機能、反射防止機能、鮮鋭性及び視認性に優れた防眩性反射防止層を得ることができた。
【０１７６】
本発明で金属化合物層を設ける場合、塗布、スパッタ、蒸着、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって形成された金属化合物層と組み合わせて用いることも可能である。好ましくは１層以上が窒素を主成分とする雰囲気下での大気圧プラズマ処理によって形成された金属化合物層を有することであり、更に好ましくは２層以上が窒素を主成分とする雰囲気下での大気圧プラズマ処理によって形成された金属化合物層を有することである。
【０１７７】
本発明においては、ハードコート層と防眩層を付与した透明基材上に、金属化合物層を設けることが特に好ましい。上記構成層を有する透明基材の最上層（防眩層）に低屈折率の金属化合物層を形成し、その間に高屈折率層の金属化合物層を形成したり、更には防眩層と高屈折率層との間に更に中屈折率層（金属酸化物の量あるいは、金属の種類を変更して）を設けることは、反射率の低減のために、好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．５５〜２．３０であることが好ましく、１．５７〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、透明基材の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０であることが好ましい。金属化合物層の厚さは、５ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。金属化合物層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。金属化合物層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。本発明においては、塗布によって形成された金属化合物層を併せて有しても良く、その場合は無機微粒子とバインダーポリマーとを含むことが好ましい。
【０１７８】
金属化合物層に用いる無機微粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好ましく、１．９０〜２．８０であることがさらに好ましい。無機微粒子の一次粒子の重量平均粒子径は、１ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１ｎｍ〜８０ｎｍであることが最も好ましい。層中での無機微粒子の重量平均粒子径は、１ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、５ｎｍ〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０ｎｍ〜８０ｎｍであることが最も好ましい。無機微粒子の平均粒径は、２０ｎｍ〜３０ｎｍ以上であれば光散乱法により、２０ｎｍ〜３０ｎｍ以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。無機微粒子の比表面積は、ＢＥＴ法で測定された値として、１０ｍ２／ｇ〜４００ｍ２／ｇであることが好ましく、２０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇであることがさらに好ましく、３０ｍ２／ｇ〜１５０ｍ２／ｇであることが最も好ましい。
【０１７９】
無機微粒子は、金属の酸化物から形成された粒子である。金属の酸化物または硫化物の例として、二酸化チタン（例えば、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が挙げられる。中でも、二酸化チタン、酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、ＰおよびＳが挙げられる。
【０１８０】
無機微粒子は表面処理されていてもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウムおよび酸化鉄が挙げられる。なかでもアルミナおよびシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップリング剤が挙げられる。なかでも、シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状であることが好ましい。二種類以上の無機微粒子を金属化合物層に併用してもよい。
【０１８１】
金属化合物層中の無機微粒子の割合は、５体積％〜６５体積％であることが好ましく、より好ましくは１０体積％〜６０体積％であり、さらに好ましくは２０体積％〜５５体積％である。
【０１８２】
無機微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、金属化合物層を形成するための塗布液に供される。無機微粒子の分散媒体としては、沸点が６０℃〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例えば、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノール等が特に好ましい。
【０１８３】
無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例えば、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが挙げられる。
【０１８４】
金属化合物層は、架橋構造を有するポリマー（以下、「架橋ポリマー」ともいう）をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー（以下「ポリオレフィン」と総称する）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。なかでも、ポリオレフィン、ポリエーテルおよびポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィンおよびポリエーテルの架橋物がさらに好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーが、アニオン性基を有することは、更に好ましい。アニオン性基は、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。
【０１８５】
本発明においては、プラズマ放電処理によって金属化合物層を形成する方法が１つの特徴であり、以下に、プラズマ放電処理により金属化合物層を形成する方法を図８、９を用いて説明する。
【０１８６】
図８は本発明に有用なジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示した概略図である。
【０１８７】
ジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置は、プラズマ放電処理装置、二つの電源を有する電圧印加手段の他に、図８には図示してないが、ガス供給手段、電極温度調節手段を有している装置である。
【０１８８】
プラズマ放電処理装置１１０は、第１電極１１１と第２電極１１２から構成されている対向電極を有しており、該対向電極間に、第１電極１１１には第１電源１２１からの第１の周波数ω１の高周波電圧Ｖ１が印加され、また第２電極１１２には第２電源１２２からの第２の周波数ω２の高周波電圧Ｖ２が印加されるようになっている。第１電源１２１は第２電源１２２より大きな高周波電圧（Ｖ１＞Ｖ２）を印加出来る能力を有していればよく、また第１電源１２１の第１の周波数ω１と第２電源１２２の第２の周波数ω２は、ω１＜ω２の関係にある。
【０１８９】
第１電極１１１と第１電源１２１との間には、第１電源１２１からの電流１２１Ａが第１電極１１１に向かって流れるように第１フィルター１２３が設置されており、第１電源１２１からの電流１２１Ａをアース側へと通過しにくくし、第２電源１２２からの電流１２２Ａがアース側へと通過し易くするように設計されている。
【０１９０】
また、第２電極１１２と第２電源１２２との間には、第２電源１２２からの電流１２２Ａが第２電極１１２に向かって流れるように第２フィルター１２４が設置されており、第２電源１２２からの電流１２２Ａをアース側へと通過しにくくし、第１電源１２１からの電流１２１Ａをアース側へと通過し易くするように設計されている。
【０１９１】
第１電極１１１と第２電極１１２との対向電極間（放電空間）１１３に、ここでは図示してない（後述の図９に図示してあるような）ガス供給手段からガスＧを導入し、第１電極１１１と第２電極１１２から高周波電圧を印加して放電を発生させ、ガスＧをプラズマ状態にしながら対向電極の下側（紙面下側）にジェット状に吹き出させて、対向電極下面と基材Ｆとで作る処理空間をプラズマ状態のガスＧ°で満たし、図示してない基材の元巻き（アンワインダー）から巻きほぐされて搬送して来るか、あるいは前工程から搬送して来る基材Ｆの上に、処理位置１１４付近で薄膜を形成させる。薄膜形成中、ここでは図示してない（後述の図９に図示してあるような）電極温度調節手段から配管を経て電極を加熱または冷却する。プラズマ放電処理の際の基材の温度によっては、得られる薄膜の物性や組成は変化することがあり、これに対して適宜制御することが望ましい。温度調節の媒体としては、蒸留水、油等の絶縁性材料が好ましく用いられる。プラズマ放電処理の際、幅手方向あるいは長手方向での基材の温度ムラが出来るだけ生じないように電極の表面の温度を均等に調節することが望まれる。
【０１９２】
また、図８に前述の高周波電圧（印加電圧）と放電開始電圧の測定に使用する測定器を示した。１２５及び１２６は高周波プローブであり、１２７及び１２８はオシロスコープである。
【０１９３】
ジェット方式の該大気圧プラズマ放電処理装置を複数基接して直列に並べて同時に同じプラズマ状態のガスを放電させることが出来るので、複数回処理することで高速処理することも出来る。また各装置が異なったプラズマ状態のガスをジェット噴射すれば、異なった層の積層薄膜を形成することも出来る。
【０１９４】
図９は本発明に有用な対向電極間で基材を処理する方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。
【０１９５】
本発明の大気圧プラズマ放電処理装置は、少なくとも、プラズマ放電処理装置１３０、二つの電源を有する電圧印加手段１４０、ガス供給手段１５０、電極温度調節手段１６０を有している装置である。
【０１９６】
図９は、ロール回転電極（第１電極）１３５と角筒型固定電極群（第２電極）１３６との対向電極間（放電空間）１３２で、基材Ｆをプラズマ放電処理して薄膜を形成するものである。
【０１９７】
ロール回転電極（第１電極）１３５と角筒型固定電極群（第２電極）１３６との間の放電空間（対向電極間）１３２に、ロール回転電極（第１電極）１３５には第１電源１４１から周波数ω１であって高周波電圧Ｖ１を、また角筒型固定電極群（第２電極）１３６には第２電源４２から周波数ω２であって高周波電圧Ｖ２をかけるようになっている。
【０１９８】
ロール回転電極（第１電極）１３５と第１電源１４１との間には、第１電源１４１からの電流がロール回転電極（第１電極）１３５に向かって流れるように第１フィルター１４３が設置されている。該第１フィルターは第１電源１４１からの電流をアース側へと通過しにくくし、第２電源１４２からの電流をアース側へと通過し易くするように設計されている。また、角筒型固定電極群（第２電極）１３６と第２電源１４２との間には、第２電源からの電流が第２電極に向かって流れるように第２フィルター１４４が設置されている。第２フィルター１４４は、第２電源１４２からの電流をアース側へと通過しにくくし、第１電源１４１からの電流をアース側へと通過し易くするように設計されている。
【０１９９】
なお、ロール回転電極１３５を第２電極、また角筒型固定電極群１３６を第１電極としてもよい。何れにしろ第１電極には第１電源が、また第２電極には第２電源が接続される。第１電源は第２電源より大きな高周波電圧（Ｖ１＞Ｖ２）を印加出来る能力を有しており、また、周波数はω１＜ω２となる能力を有している。
【０２００】
なお、放電ガスがヘリウムまたはアルゴンを主成分とする場合は、いずれか一方の電源のみを使用して放電することもできる。
【０２０１】
ガス供給手段１５０のガス供給装置１５１で発生させたガスＧは、流量を制御して給気口１５２よりプラズマ放電処理容器１３１内に導入する。放電空間１３２及びプラズマ放電処理容器１３１内をガスＧで満たす。
【０２０２】
基材Ｆは、前工程である防眩層形成工程から搬送されて来て、ガイドロール１６４を経てニップロール１６５で基材に同伴されて来る空気等を遮断し、ロール回転電極１３５に接触したまま巻き回しながら角筒型固定電極群１３６との間に移送し、ロール回転電極（第１電極）１３５と角筒型固定電極群（第２電極）１３６との両方から電圧をかけ、対向電極間（放電空間）１３２で放電プラズマを発生させる。基材Ｆはロール回転電極１３５に接触したまま巻き回されながらプラズマ状態のガスにより薄膜を形成する。基材Ｆは、ニップロール１６６、ガイドロール１６７を経て、図示してない巻き取り機で巻き取るか、次工程に移送する。
【０２０３】
放電処理済みの処理排ガスＧ′は排気口１５３より排出する。図９では省略しているが、角筒型固定電極群１３６の間にはガスＧの供給口または排ガスＧ′の排出口が交互に設けられている。
【０２０４】
薄膜形成中、ロール回転電極（第１電極）１３５及び角筒型固定電極群（第２電極）１３６を加熱または冷却するために、電極温度調節手段１６０で温度を調節した媒体を、送液ポンプＰで配管１６１を経て両電極に送り、電極内側から温度を調節する。なお、１６８及び１６９はプラズマ放電処理容器１３１と外界とを仕切る仕切板である。
【０２０５】
図１０は、図９に示したロール回転電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【０２０６】
図１０において、ロール電極１３５ａは導電性の金属質母材１３５Ａとその上に誘電体１３５Ｂが被覆されたものである。内部は中空のジャケットになっていて、電極表面の温度調節が行われるようになっている。即ち、放電中の電極表面の温度を制御するための媒体（水、シリコンオイル等）を循環できるようになっている。
【０２０７】
図１１は、角筒型電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【０２０８】
図１１において、角筒型電極１３６ａは、導電性の金属質母材１３６Ａに対し、図１０同様の誘電体１３６Ｂの被覆を有し、該電極の構造は金属質のパイプになっていて、それがジャケットとなり、内部に温度制御された媒体（水、シリコンオイル等）を循環出来るようになっている。放電中の電極表面の温度調節が行えるようになっている。
【０２０９】
なお、角筒型固定電極の数は、上記ロール電極の円周より大きな円周上に沿って複数本設置されていおり、該電極の放電面積はロール回転電極１３５に対向している全角筒型固定電極面の面積の和で表される。
【０２１０】
図９に示した角筒型電極１３６は、円筒型電極でもよいが、角筒型電極は円筒型電極に比べて、放電範囲（放電面積）を広げる効果があるので、本発明に好ましく用いられる。また、角筒型電極の角は、半径１〜２０ｍｍの丸みを有していても良く、またロール電極放電面に対して略平行もしくは±１０°程度以内で、傾けて配置してもよい。図８における電極１１１、１１２も同様である。
【０２１１】
図１０及び１１において、ロール電極１３５ａ及び角筒型電極１３６ａは、それぞれ導電性の金属質母材１３５Ａ及び１３６Ａの上に誘電体１３５Ｂ及び１３６Ｂとしてのセラミックスを溶射後、無機化合物の封孔材料を用いて封孔処理したものである。セラミックス誘電体は片肉で１ｍｍ程度被覆あればよい。溶射に用いるセラミックス材としては、アルミナ・窒化珪素等が好ましく用いられるが、この中でもアルミナが加工し易いので、特に好ましく用いられる。また、誘電体層が、ガラスライニングにより無機材料を設けたライニング処理誘電体であってもよい。
【０２１２】
導電性の金属質母材１３５Ａ及び１３６Ａとしては、チタン金属またはチタン合金、銀、白金、ステンレススティール、アルミニウム、鉄等の金属等や、鉄とセラミックスとの複合材料またはアルミニウムとセラミックスとの複合材料等を挙げることが出来るが、後述の理由から、チタン金属またはチタン合金が特に好ましい。
【０２１３】
２個の電極間の距離（電極間隙）は、導電性の金属質母材に設けた誘電体の厚さ、印加電圧の大きさ、プラズマを利用する目的等を考慮して決定されるが、電極の一方に誘電体を設けた場合の誘電体表面と導電性の金属質母材表面の最短距離、上記電極の双方に誘電体を設けた場合の誘電体表面同士の距離としては、いずれの場合も均一な放電を行う観点から０．１ｎｍ〜２０ｍｍが好ましく、特に好ましくは０．５ｎｍ〜２ｍｍである。
【０２１４】
本発明に有用な導電性の金属質母材及び誘電体についての詳細については後述する。
【０２１５】
プラズマ放電処理容器１３１はパイレックス（Ｒ）ガラス製の処理容器等が好ましく用いられるが、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能である。例えば、アルミニウムまたは、ステンレススティールのフレームの内面にポリイミド樹脂等を張り付けても良く、該金属フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとってもよい。図８において、平行した両電極の両側面（基材面近くまで）を上記のような材質の物で覆うことが好ましい。
【０２１６】
本発明の大気圧プラズマ放電処理装置に設置する第１電源（高周波電源）としては、
2004279491.tif 000005
等の市販のものを挙げることが出来、何れも使用することが出来る。なお、＊印はハイデン研究所インパルス高周波電源（連続モードで１００ｋＨｚ）である。
【０２１７】
また、第２電源（高周波電源）としては、
2004279491.tif 000006
等の市販のものを挙げることが出来、何れも好ましく使用出来る。
【０２１８】
本発明においては、このような電圧を印加して、均一なグロー放電状態を保つことが出来る電極をプラズマ放電処理装置に採用する必要がある。
【０２１９】
本発明において、対向する電極間に印加する電力は、第２電極に１Ｗ／ｃｍ２以上の電力（出力密度）を供給し、放電ガスを励起してプラズマを発生させ、エネルギーを薄膜形成性ガスに与え薄膜を形成させる。供給する電力は、好ましくは１Ｗ／ｃｍ２〜５０Ｗ／ｃｍ２であり、更に好ましくは、１．２Ｗ／ｃｍ２〜２０Ｗ／ｃｍ２である。なお、放電面積（ｃｍ２）は、電極において放電が起こる範囲の面積のことを指す。
【０２２０】
ここで電源の印加法に関しては、連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦＦを断続的に行う断続発振モードのどちらを採用してもよいが、少なくとも第２電極側は連続サイン波の方がより緻密で良質な膜が得られるので好ましい。
【０２２１】
このような大気圧プラズマによる薄膜形成法に使用する電極は、構造的にも、性能的にも過酷な条件に耐えられるものでなければならない。このような電極としては、金属質母材上に誘電体を被覆したものであることが好ましい。
【０２２２】
本発明に使用する誘電体被覆電極においては、様々な金属質母材と誘電体との間に特性が合うものが好ましく、その一つの特性として、金属質母材と誘電体との線熱膨張係数の差が１０×１０−６／℃以下となる組み合わせのものである。好ましくは８×１０−６／℃以下、更に好ましくは５×１０−６／℃以下、更に好ましくは２×１０−６／℃以下である。なお、線熱膨張係数とは、周知の材料特有の物性値である。
【０２２３】
線熱膨張係数の差が、この範囲にある導電性の金属質母材と誘電体との組み合わせとしては、
2004279491.tif 000007
等がある。線熱膨張係数の差という観点では、上記（ａ）または（ｂ）および（ｅ）〜（ｈ）が好ましく、特に、（ａ）が好ましい。
【０２２４】
本発明において、金属質母材は、上記の特性からはチタンまたはチタン合金が特に有用である。金属質母材をチタンまたはチタン合金とすることにより、誘電体を上記とすることにより、使用中の電極の劣化、特にひび割れ、剥がれ、脱落等がなく、過酷な条件での長時間の使用に耐えることが出来る。
【０２２５】
本発明に有用な電極の金属質母材は、チタンを７０質量％以上含有するチタン合金またはチタン金属である。本発明において、チタン合金またはチタン金属中のチタンの含有量は、７０質量％以上であれば、問題なく使用出来るが、好ましくは８０質量％以上のチタンを含有しているものが好ましい。本発明に有用なチタン合金またはチタン金属は、工業用純チタン、耐食性チタン、高力チタン等として一般に使用されているものを用いることが出来る。工業用純チタンとしては、ＴＩＡ、ＴＩＢ、ＴＩＣ、ＴＩＤ等を挙げることが出来、何れも鉄原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、水素原子等を極僅か含有しているもので、チタンの含有量としては、９９質量％以上を有している。耐食性チタン合金としては、Ｔ１５ＰＢを好ましく用いることが出来、上記含有原子の他に鉛を含有しており、チタン含有量としては、９８質量％以上である。また、チタン合金としては、鉛を除く上記の原子の他に、アルミニウムを含有し、その他バナジウムや錫を含有しているＴ６４、Ｔ３２５、Ｔ５２５、ＴＡ３等を好ましく用いることが出来、これらのチタン含有量としては、８５質量％以上を含有しているものである。これらのチタン合金またはチタン金属はステンレススティール、例えばＡＩＳＩ３１６に比べて、熱膨張係数が１／２程度小さく、金属質母材としてチタン合金またはチタン金属の上に施された後述の誘電体との組み合わせがよく、高温、長時間での使用に耐えることが出来る。
【０２２６】
一方、誘電体の求められる特性としては、具体的には、比誘電率が６〜４５の無機化合物であることが好ましく、また、このような誘電体としては、アルミナ、窒化珪素等のセラミックス、あるいは、ケイ酸塩系ガラス、ホウ酸塩系ガラス等のガラスライニング材等がある。この中では、後述のセラミックスを溶射したものやガラスライニングにより設けたものが好ましい。特にアルミナを溶射して設けた誘電体が好ましい。
【０２２７】
または、上述のような大電力に耐える仕様の一つとして、誘電体の空隙率が１０体積％以下、好ましくは８体積％以下であることで、好ましくは０体積％を越えて５体積％以下である。なお、誘電体の空隙率は、ＢＥＴ吸着法や水銀ポロシメーターにより測定することが出来る。後述の実施例においては、島津製作所製の水銀ポロシメーターにより金属質母材に被覆された誘電体の破片を用い、空隙率を測定する。誘電体が、低い空隙率を有することにより、高耐久性が達成される。このような空隙を有しつつも空隙率が低い誘電体としては、後述の大気プラズマ溶射法等による高密度、高密着のセラミックス溶射被膜等を挙げることが出来る。更に空隙率を下げるためには、封孔処理を行うことが好ましい。
【０２２８】
上記、大気プラズマ溶射法は、セラミックス等の微粉末、ワイヤ等をプラズマ熱源中に投入し、溶融または半溶融状態の微粒子として被覆対象の金属質母材に吹き付け、皮膜を形成させる技術である。プラズマ熱源とは、分子ガスを高温にし、原子に解離させ、更にエネルギーを与えて電子を放出させた高温のプラズマガスである。このプラズマガスの噴射速度は大きく、従来のアーク溶射やフレーム溶射に比べて、溶射材料が高速で金属質母材に衝突するため、密着強度が高く、高密度な被膜を得ることが出来る。詳しくは、特開２０００−３０１６５５に記載の高温被曝部材に熱遮蔽皮膜を形成する溶射方法を参照することが出来る。この方法により、上記のような被覆する誘電体（セラミック溶射膜）の空隙率にすることが出来る。
【０２２９】
また、大電力に耐える別の好ましい仕様としては、誘電体の厚みが０．５〜２ｍｍであることである。この膜厚変動は、５％以下であることが望ましく、好ましくは３％以下、更に好ましくは１％以下である。
【０２３０】
誘電体の空隙率をより低減させるためには、上記のようにセラミックス等の溶射膜に、更に、無機化合物で封孔処理を行うことが好ましい。前記無機化合物としては、金属酸化物が好ましく、この中では特に酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）を主成分として含有するものが好ましい。
【０２３１】
封孔処理の無機化合物は、ゾルゲル反応により硬化して形成したものであることが好ましい。封孔処理の無機化合物が金属酸化物を主成分とするものである場合には、金属アルコキシド等を封孔液として前記セラミック溶射膜上に塗布し、ゾルゲル反応により硬化する。無機化合物がシリカを主成分とするものの場合には、アルコキシシランを封孔液として用いることが好ましい。
【０２３２】
ここでゾルゲル反応の促進には、エネルギー処理を用いることが好ましい。エネルギー処理としては、熱硬化（好ましくは２００℃以下）や、紫外線照射などがある。更に封孔処理の仕方として、封孔液を希釈し、コーティングと硬化を逐次で数回繰り返すと、よりいっそう無機質化が向上し、劣化の無い緻密な電極が出来る。
【０２３３】
本発明に係る誘電体被覆電極の金属アルコキシド等を封孔液として、セラミックス溶射膜にコーティングした後、ゾルゲル反応で硬化する封孔処理を行う場合、硬化した後の金属酸化物の含有量は６０モル％以上であることが好ましい。封孔液の金属アルコキシドとしてアルコキシシランを用いた場合には、硬化後のＳｉＯｘ（ｘは２以下）含有量が６０モル％以上であることが好ましい。硬化後のＳｉＯｘ含有量は、ＸＰＳ（Ｘ線光電子スペクトル）により誘電体層の断層を分析することにより測定できる。
【０２３４】
本発明の防眩性反射防止フィルムの製造方法に係る電極においては、電極の少なくとも基材と接する側のＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定される表面粗さの最大高さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下になるように調整することが好ましいが、更に好ましくは、８μｍ以下であり、特に好ましくは、７μｍ以下に調整することである。このように誘電体被覆電極の誘電体表面を研磨仕上げする等の方法により、誘電体の厚み及び電極間のギャップを一定に保つことが出来、放電状態を安定化出来ること、更に熱収縮差や残留応力による歪やひび割れを無くし、且つ、高精度で、耐久性を大きく向上させることが出来る。誘電体表面の研磨仕上げは、少なくとも基材と接する側の誘電体において行われることが好ましい。
【０２３５】
本発明に使用する誘電体被覆電極において、大電力に耐える他の好ましい仕様としては、耐熱温度が１００℃以上であることである。更に好ましくは１２０℃以上、特に好ましくは１５０℃以上である。また上限は５００℃である。なお、耐熱温度とは、絶縁破壊が発生せず、正常に放電出来る状態において耐えられる最も高い温度のことを指す。このような耐熱温度は、上記のセラミックス溶射や、泡混入量の異なる層状のガラスライニングで設けた誘電体を適用したり、下記金属質母材と誘電体の線熱膨張係数の差の範囲内の材料を適宜選択する手段を適宜組み合わせることによって達成可能である。
【０２３６】
本発明に係る金属化合物層の形成方法に用いる反応ガスについて説明する。
薄膜層を形成するための反応ガスは、主に窒素を含むガスであることが好ましい。すなわち、窒素ガスが５０％以上で含有することが好ましく、さらに好ましくは７０％以上で含有することが好ましく、さらに好ましくは９０体積％〜９９．９９体積％であることが望ましい。反応ガスには窒素のほかに希ガスが含有していてもよい。
【０２３７】
ここで、希ガスとは、周期表の第１８属元素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等であり、本発明では、ヘリウム、アルゴン等が窒素に添加されて用いられてもよい。
【０２３８】
窒素ガスは安定したプラズマ放電を発生させるために用いられ、反応ガスには薄膜を形成するための原料として、反応性ガスが添加される。該プラズマ中で反応性ガスはイオン化あるいはラジカル化され、基材表面に堆積あるいは付着するなどして薄膜が形成される。
【０２３９】
更に、反応ガス中に酸素、水素、二酸化炭素、一酸化炭素、二酸化窒素、一酸化窒素、水、過酸化水素、オゾン等を０．１体積％〜１０体積％含有させることにより薄膜層の硬度、密度等の物性を制御することができる。
【０２４０】
本発明に有用な反応ガスは、様々な物質の原料ガスを添加したものを用いることによって、様々な機能を持った薄膜を透明基材上に形成することができる。ここでいう原料ガスとはプラズマ処理により薄膜を形成するためのガスであり、金属化合物層を形成する場合、金属化合物のガスを意味する。
本発明に有用な原料ガスとしての有機金属化合物としては、特に限定されないが、Ａｌ、Ａｓ、Ａｕ、Ｂ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｃａ、Ｃｄ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｇ、Ｉｎ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｓｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ，Ｔａ等の金属酸化物を形成するための金属化合物を挙げることができる。
【０２４１】
例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｔａあるいはその他の金属を含有する有機金属化合物、金属水素化合物、金属ハロゲン化物、金属錯体を用いて、これらの金属化合物層（金属酸化物層、金属酸化物窒化物層も含む）または金属窒化物層等を形成することができ、これらの層は反射防止層の中屈折率層または高屈折率層としたり、あるいは導電層または帯電防止層とすることもできる。
【０２４２】
また、フッ素含有有機化合物で防汚層や低屈折率層を形成することもでき、珪素化合物でガスバリア層や低屈折率層あるいは防汚層を形成することもできる。本発明は、高、中屈折率層と低屈折率層を交互に多層を積層して形成される反射防止層の形成に特に好ましく用いられる。
【０２４３】
本発明において、反応性ガスとして有機金属化合物を用いる場合、プラズマ放電処理により透明基材上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の原料ガスとしての金属化合物の含有率は、０．０１〜１０体積％であることが好ましいが、更に好ましくは、０．１〜５体積％である。
【０２４４】
原料ガスについてさらに詳細に説明する。
反射防止層の高屈折率層を形成するには、チタン化合物、ジルコニウム化合物、タンタル化合物が好ましく、具体的には、例えば、テトラジメチルアミノチタンなどの有機アミノ金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、ペンタイソプロポキシタンタル、ペンタエトキシタンタルなどの金属アルコキシドなどを挙げることができ、これらを用いて金属化合物層を形成することができる。
【０２４５】
亜鉛化合物としては、ジンクアセチルアセトナート、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛などがあげられ、錫化合物としては、テトラエチルスズ、テトラメチルスズ、二酢酸ジ−ｎ−ブチルすず、ビス（２−エチルヘキサン酸）ジブチルすず、二酢酸ジブチルすず、酸化ジブチルすず、二ラウリン酸ジブチルすず、テトラメチルすず、テトラエチルすず、テトラブチルすず、テトラプロピルすず、テトラオクチルすず等の有機錫化合物が好ましく用いられ、インジウム化合物としてはトリエチルインジウム、トリメチルインジウムなどが好ましく用いられる。
【０２４６】
大気圧プラズマ処理では原料ガスにフッ素含有有機化合物を用いることでフッ素化合物含有層を形成することもできる。
【０２４７】
フッ素含有有機化合物としては、フッ化炭素ガス、フッ化炭化水素ガス等が好ましい。
【０２４８】
具体的には、フッ素含有有機化合物としては、例えば、四フッ化炭素、六フッ化炭素、四フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭素化合物；
二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物；
更に、一塩化三フッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物、アルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体等を挙げることができる。
【０２４９】
これらは単独でも混合して用いてもよい。上記のフッ化炭化水素ガスとしては、二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピレン等の各ガスを挙げることができる。
【０２５０】
更に、一塩化三フッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物やアルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体を用いることができるが、本発明はこれらに限定されない。
【０２５１】
また、これらの化合物は分子内にエチレン性不飽和基を有していても良い。また、上記の化合物は混合して用いても良い。
【０２５２】
本発明に有用な反応性ガスにフッ素含有有機化合物を用いる場合、プラズマ放電処理により透明基材上に均一な薄膜を形成する観点から、反応ガス中の反応性ガスとしてのフッ素含有有機化合物の含有率は、０．０１〜１０体積％であることが好ましいく、更に好ましくは、０．１〜５体積％である。
【０２５３】
また、本発明に好ましく用いられるフッ素含有、有機化合物が常温常圧で気体である場合は、反応性ガスの成分としてそのまま使用できる。
【０２５４】
また、フッ素含有有機化合物が常温常圧で液体または固体である場合には、気化手段により、例えば加熱、減圧等により気化して使用すればよく、適切な有機溶媒に溶解して用いてもよい。
【０２５５】
本発明に有用な反応性ガスとしての珪素化合物としては、例えば、ジメチルシラン、テトラメチルシランなどの有機金属化合物、モノシラン、ジシランなどの金属水素化合物、二塩化シラン、三塩化シラン、四フッ化珪素などの金属ハロゲン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、などのアルコキシシラン、オルガノシラン等、３，３，３−トリフルオロメチルトリメトキシシラン等のフルオロアルキルシラン類を用いることが好ましいがこれらに限定されない。
【０２５６】
また、これらは適宜組み合わせて用いることができる。あるいは別の有機化合物を添加して膜の物性を変化あるいは制御することもできる。
【０２５７】
また、珪素化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物、タンタル化合物等の金属化合物を放電部へ導入するには、両者は常温常圧で気体、液体または固体いずれの状態であっても使用し得る。
【０２５８】
気体の場合は、そのまま放電部に導入できるが、液体や固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の気化手段により気化させて使用することができる。この目的のため、市販の気化器が好ましく用いられる。
【０２５９】
珪素化合物、チタン化合物等の金属化合物を加熱により気化して用いる場合、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシチタンなどのように常温で液体で、且つ、沸点が２００℃以下である金属アルコキシドが本発明の金属酸化物薄膜層の形成する方法に好適である。上記金属アルコキシドは、有機溶媒によって希釈して使用しても良く、有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−ヘキサン、アセトンなどの有機溶媒またはこれらの混合有機溶媒を使用することができる。
【０２６０】
表１、表２に好ましい反応ガス組成の一例を示すが、これらのみに限定されない。
【０２６１】
【表１】
2004279491.tif 000008
【０２６２】
【表２】
2004279491.tif 000009
【０２６３】
これらはあらかじめ調整されたガスとして放電部に供給してもよいし、放電部近傍で２種以上のガスを混合して下記ガス組成としてもよい。水素、酸素等の添加ガスはあらかじめ窒素もしくは希ガスなどによって希釈されたものを放電空間に導入することが、連続製膜の際に薄膜の物性が安定するため好ましい。
【０２６４】
また、反応ガスは室温〜２００℃に加温して放電部に供給されることが好ましく、更に好ましくは５０〜１５０℃であり、更に好ましくは７０〜１２０℃であり、特に９０〜１１０℃であることが好ましい。温度が高いほど得られる金属化合物層が緻密で、硬度に優れた膜が得られるが高すぎると基材が変形することがある。
【０２６５】
供給ガスの温度は一定であることが、連続製膜において、膜厚や膜質を安定するために好ましく、温度変動は±１０℃以内であることが好ましく、±５℃以内であることが更に好ましく、±１℃以内であることが更に好ましく±０．１℃以内であることが特に好ましい。また、幅手方向でのバラツキも同様に少ないことが好ましい。
【０２６６】
供給ガスの供給量も一定であることが好ましい。放電部へのガス供給量としては、反応ガス供給量（ｍｌ／秒）／放電空間の容積（ｍｌ）に対して、１０−２〜１０４（１／秒）とすることができ、適宜調整される。
【０２６７】
以上の方法により酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム等の非晶性の金属酸化物層を好ましく作製することができる。また、これらの非晶性の金属酸化物層は熱処理により、あるいはレーザーなどのエネルギーを与えることによって結晶化させることもできる。
【０２６８】
本発明に係る金属化合物層の膜厚としては、１ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲のものが好ましく得られる。
【０２６９】
本発明の防眩性反射防止フィルムは、例えば、防眩層上に低屈折率層と高屈折率層を積層した反射防止層を有する防眩性反射防止フィルム、または導電層、帯電防止層を有する防眩性反射防止フィルム等に好ましく用いることができる。
【０２７０】
本発明において、プラズマ放電装置を複数設けることによって、多層の薄膜を連続的に設けることができ、薄膜のムラもなく多層の積層体を形成することができる。複数の層を１パスで連続的に形成するためには、各層が所定の薄膜形成速度となるように調整されることが必要である。そのため、各層形成後膜厚を測定するか、反射スペクトルを測定し、その結果に基づいて薄膜形成速度をフィードバック制御することが好ましい。これによって、一定の速度で搬送される基材フィルム上に異なる組成あるいは異なる膜厚の薄膜を１パスで連続的に形成することができる。各層の薄膜形成速度を制御する方法としては、特に限定はないが、放電の印加電圧、電流、周波数、パルス条件等の放電条件、反応ガス中の各成分の比率（窒素濃度、酸素あるいは水素等の添加ガス濃度、種類、原料ガス濃度）、反応ガス供給量、電極間距離、放電部の気圧、基材温度、電極温度、反応ガス温度、放電部の温度、放電面積の変更等があげられるが、これらのみに限定されるものではない。これらの１つ以上の条件を適宜組み合わせることによって、製膜される薄膜の膜質を大きく変えることなく、薄膜形成速度を制御することができる。
【０２７１】
例えば、透明基材にインクジェット方式により設けた防眩層上に反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムを作製する場合、屈折率１．６〜２．３の高屈折率層及び屈折率１．３〜１．５の低屈折率層を防眩層表面に連続して積層し、効率的に作製することができる。
【０２７２】
低屈折率層としては、含フッ素有機化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形成された含フッ素化合物層、あるいはアルコキシシラン等の有機珪素化合物を用いてプラズマ放電処理により形成された主に酸化ケイ素を有する層が好ましく、高屈折率層としては、有機金属化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形成された金属化合物層、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタルを有する層が好ましい。
【０２７３】
大気圧プラズマ処理により、図１、図２（ａ）〜（ｃ）、図６（ａ）、（ｂ）で示されているような微細な凹凸形状を有する防眩層上に均一な膜厚の金属化合物層を形成することができる。
【０２７４】
本発明はこれらに限定されるものではなく、層構成もこれらに限定されるものではない。例えば、最表面にアルキル基を有するシラン化合物またはフッ素含有有機化合物ガス存在下で大気圧もしくはその近傍の圧力下でのプラズマ放電処理して防汚層を設けてもよい。あるいは公知の防汚層、例えば、フルオロアルキルシラン等含む組成物を塗設することもでき、好ましくは純水の接触角が９０°以上の防汚層（膜厚１〜１０ｎｍ）を表面に有する。
【０２７５】
上記の方法により、本発明においては、多層の薄膜を積層することができ、各層の膜厚むらもなく、均一な光学フィルムを得ることができる。
【０２７６】
金属化合物層等の薄膜の膜厚は、積層体の断面を作製し、透過電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｏｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：以下、ＴＥＭと称す）で観察を行うことによって求めることができる。
【０２７７】
断面の作製は、具体的には積層体を基材と共に電子顕微鏡観察前処理用のエポキシ包埋樹脂に包埋し、ダイヤモンドナイフを装着したウルトラミクロトームを用いて、厚さ約８０ｎｍの超薄切片を作製するか、集束イオンビーム（Ｆｏｃｕｓｅｄ  Ｉｏｎ  Ｂｅａｍ：ＦＩＢ）加工装置を用いて、積層体表面にＧａイオンビームを集束走査し、厚さ約１００ｎｍの薄片化した断面を切り出すことで作製することができる。
【０２７８】
ＴＥＭによる観察は倍率として５０，０００〜５００，０００倍にて明視野像を観察し、画像はフィルム、イメージングプレート、ＣＣＤカメラなどに記録する。
【０２７９】
ＴＥＭの加速電圧としては、８０〜４００ｋＶが好ましく、特に好ましくは８０〜２００ｋＶである。
【０２８０】
その他、電子顕微鏡観察技法、および試料作製技法の詳細については「日本電子顕微鏡学会関東支部編／医学・生物学電子顕微鏡観察法」（丸善）、「日本電子顕微鏡学会関東支部編／電子顕微鏡生物試料作製法」（丸善）、「電子顕微鏡Ｑ＆Ａ」（アグネ承風社）をそれぞれ参考にすることができる。
【０２８１】
適当な媒体に記録されたＴＥＭ画像は、画像１枚を少なくとも１０２４画素×１０２４画素、好ましくは２０４８画素×２０４８画素以上に分解し、コンピュータによる画像処理を行なうことが好ましい。
【０２８２】
画像処理技術の詳細は「田中弘編  画像処理応用技術（工業調査会）」を参考にでき、画像処理プログラムまたは装置としては上記操作が可能なものであれば特に限定はされないが、一例としてＭＥＤＩＡ  ＣＹＢＥＲＮＥＴＩＣＳ社（ＵＳＡ）製画像解析ソフトＩｍａｇｅ−Ｐｒｏ  ＰＬＵＳが挙げられる。
【０２８３】
画像処理を行なうためには、フィルムに記録されたアナログ画像はスキャナなどでデジタル画像に変換し、シェーディング補正、コントラスト・エッジ強調などを必要に応じ施すことが好ましい。その後、ヒストグラムを作製し、２値化処理によって、積層体界面に相当する箇所を抽出し、界面間の幅（Ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）を計測する。
【０２８４】
同様にして少なくとも２５箇所以上好ましくは５０箇所以上について求めた値から平均膜厚及びその変動を算出することができる。
【０２８５】
次いで、本発明で用いることのできる透明基材について説明する。
本発明に係る透明基材としては、製造が容易であること、防眩層、または反射防止層等との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。
【０２８６】
本発明でいう透明とは、可視光の透過率６０％以上であることをさし、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
【０２８７】
上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマー系フィルム（アートン（ＪＳＲ社製）、ゼオネックス、ゼオネア（以上、日本ゼオン社製））、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることができる。中でも、セルローストリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）が好ましく、本発明においては、特にセルロースエステルフィルム（例えば、コニカタック  製品名ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ５ＵＮ（コニカ（株）製））が、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の観点から好ましく用いられる。
【０２８８】
透明基材の光学特性としては膜厚方向のリターデーションＲｔが０ｎｍ〜３００ｎｍ、面内方向のリターデーションＲ０が０ｎｍ〜１０００ｎｍのものが好ましく用いられる。
【０２８９】
本発明においては、透明基材としてはセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。
【０２９０】
特にアセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとしたとき、ＸとＹが下記の範囲にあるセルロースの混合脂肪酸エステルを有する透明基材上に防眩層と反射防止層を設けた防眩性反射防止フィルムが好ましい。
【０２９１】
２．３≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０．１≦Ｙ≦１．２
特に、２．５≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
０．３≦Ｙ≦１．２であることが好ましい。
【０２９２】
本発明に係る透明基材として、セルロースエステルを用いる場合、セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることができる。
【０２９３】
アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ３ＣＯＣｌ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＣｌ、Ｃ３Ｈ７ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平１０−４５８０４号に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、本発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度（モル％）という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実際には２．６〜３．０）。
【０２９４】
本発明に用いられるセルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが特に好ましく用いられる。なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。
【０２９５】
プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶画像表示装置用のフィルムとして有用である。
【０２９６】
アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【０２９７】
セルロースエステルの数平均分子量は、７０，０００〜２５０，０００が、成型した場合の機械的強度が強く、且つ、適度なドープ粘度となり好ましく、更に好ましくは、８０，０００〜１５０，０００である。
【０２９８】
以下、流延製膜法による支持体の作製方法について説明する。
これらセルロースエステルは、後述するように一般的に溶液流延製膜法と呼ばれるセルロースエステル溶解液（ドープ）を、例えば、無限に移送する無端の金属ベルトまたは回転する金属ドラムの流延用支持体上に加圧ダイからドープを流延（キャスティング）し製膜する方法で製造されることが好ましい。
【０２９９】
これらドープの調製に用いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えばメチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）として挙げられる。
【０３００】
また、下記の製膜工程に示すように、溶媒蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ（ドープ膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（沸点５６．３℃）、酢酸エチル（沸点７６．８２℃）等である。
【０３０１】
上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れるメチレンクロライド、酢酸メチルが好ましく用いられ、特にメチレンクロライドが全有機溶媒に対して５０質量％以上含まれていることが好ましい。
【０３０２】
上記有機溶媒の他に、０．１質量％〜３０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。特に好ましくは５〜３０質量％で前記アルコールが含まれることが好ましい。これらは上記記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。
【０３０３】
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができる。
【０３０４】
これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよく、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。好ましくは、メチレンクロライド７０質量％〜９５質量％に対してエタノール５質量％〜３０質量％を含む溶媒を用いることが好ましい。メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用いることもできる。このとき、冷却溶解法によりドープを調製してもよい。
【０３０５】
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が３質量％〜４０質量％であるときに幅手方向に１．０１倍〜１．５倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に２軸延伸することであり、剥離残溶量が３質量％〜４０質量％であるときに幅手方向及び長手方向に、各々１．０１倍〜１．５倍に延伸されることが望ましい。こうすることによって、視認性に優れた防眩性低反射フィルムを得ることが出来る。更に、２軸延伸し、後述のナーリング加工をすることによって、長尺状防眩性反射防止フィルムのロール状での保管中の巻き形状の劣化を著しく改善することができる。
【０３０６】
このときの延伸倍率としては１．０１倍〜１．５倍が好ましく、特に好ましくは、１．０３倍〜１．４５倍である。
【０３０７】
更に好ましくは後述する裏面側の突起の数が所定範囲内に調整することにより、ロール状の防眩性反射防止フィルムの保管安定性の向上効果が得られる。
【０３０８】
本発明においては、二軸延伸されたセルロースエステルフィルムは、光透過率が９０％以上、より好ましくは９３％以上の透明支持体であることが好ましい。
【０３０９】
本発明に係るセルロースエステルフィルム支持体は、その厚さが１０μｍ〜１００μｍのものが好ましく、透湿性は、２００ｇ／ｍ２・２４時間以下であることが好ましく、更に好ましくは、１０〜１８０ｇ／ｍ２・２４時間以下であり、特に好ましくは、１６０ｇ／ｍ２・２４時間以下である。特には、膜厚１０μｍ〜６０μｍで透湿性が上記範囲内であることが好ましい。
【０３１０】
ここで、支持体の透湿性は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に従い、各試料の透湿性を測定することができる。
【０３１１】
本発明においては、長尺フィルムを用いることができ、具体的には、幅１〜２ｍ、長さ１００ｍ〜５０００ｍ程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。更に、上記の長尺フィルムは下記に記載のナーリング加工を施すことがこのましい。ここで、ナーリング加工について説明する。
【０３１２】
本発明では、上記の長尺フィルムの幅方向の両端に凹凸を付与して端部を嵩高くするいわゆるナーリング加工が施されていることが好ましい。ここで、ナーリング高さとは、下記のように定義される。
【０３１３】
ナーリング高さ（ａ：μｍ）のフィルム膜厚（ｄ：μｍ）に対する比率Ｘ（％）＝（ａ／ｄ）×１００
本発明においては、Ｘ＝１〜２５％の範囲であることが好ましく、５％〜２０％が更に好ましく、１０％〜１５％が特に好ましい。
【０３１４】
また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻き取りの前に設けることが好ましい。
【０３１５】
本発明の防眩性反射防止フィルムの支持体にセルロースエステルフィルムを用いる場合、後述のハードコート層で用いるのと同様の可塑剤を含有するのが好ましい。
【０３１６】
これらの可塑剤は単独または２種以上を併用するのが好ましい。
これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１質量％〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３質量％〜１３質量％である。
【０３１７】
本発明に係る支持体に用いられる紫外線吸収剤について説明する。防眩性低反射フィルム用の支持体には、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【０３１８】
本発明の防眩性反射防止フィルム用の支持体には、前述のインクにおいて詳述するのと同様の紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【０３１９】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
【０３２０】
また、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムには滑り性を付与するため、インクで記載したのと同様の微粒子を用いることができる。
【０３２１】
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムに添加される微粒子の１次平均粒子径としては、ヘイズを低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。これらの微粒子は０．１〜５μｍの粒径の２次粒子を形成してセルロースエステルフィルムに含まれることが好ましく、好ましい平均粒径は０．１〜２μｍであり、更に好ましくは０．２〜０．６μｍである。これにより、フィルム表面に高さ０．１〜１．０μｍ程度の凹凸を形成し、これによってフィルム表面に適切な滑り性を与えることが出来る。
【０３２２】
本発明に用いられる微粒子の１次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値をもって、１次平均粒子径とした。
【０３２３】
微粒子の見掛比重としては、７０ｇ／リットル以上が好ましく、更に好ましくは、９０〜２００ｇ／リットルであり、特に好ましくは、１００〜２００ｇ／リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましく、また、本発明のように固形分濃度の高いドープを調製する際には、特に好ましく用いられる。
【０３２４】
１次粒子の平均径が２０ｎｍ以下、見掛比重が７０ｇ／リットル以上の二酸化珪素微粒子は、例えば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを１０００〜１２００℃にて空気中で燃焼させることで得ることができる。また例えばアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、それらを使用することができる。
【０３２５】
上記記載の見掛比重は二酸化珪素微粒子を一定量メスシリンダーに採り、この時の重さを測定し、下記式で算出したものである。
【０３２６】
見掛比重（ｇ／リットル）＝二酸化珪素質量（ｇ）÷二酸化珪素の容積（リットル）
本発明に用いられる微粒子の分散液を調製する方法としては、例えば以下に示すような３種類が挙げられる。
【０３２７】
《調製方法Ａ》
溶媒と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
【０３２８】
《調製方法Ｂ》
溶媒と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別に溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。これに前記微粒子分散液を加えて撹拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
【０３２９】
《調製方法Ｃ》
溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
【０３３０】
調製方法Ａは二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Ｃは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。
【０３３１】
《分散方法》
二酸化珪素微粒子を溶媒などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５質量％〜３０質量％が好ましく、１０質量％〜２５質量％がさらに好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０３３２】
使用される溶媒は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶媒を用いることが好ましい。
【０３３３】
セルロースエステルに対する二酸化珪素微粒子の添加量はセルロースエステル１００質量部に対して、二酸化珪素微粒子は０．０１質量部〜０．５質量部が好ましく、０．０５質量部〜０．３質量部がさらに好ましく、０．０８質量部〜０．２質量部が最も好ましい。添加量は多い方が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点が優れている。
【０３３４】
分散機は通常の分散機が使用できる。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。
【０３３５】
メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどがあげられる。
【０３３６】
メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８０７ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６１３ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。
【０３３７】
上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等が挙げられる。
【０３３８】
また、微粒子を含むドープを流延支持体に直接接するように流延することが、滑り性が高く、ヘイズが低いフィルムが得られるので好ましい。
【０３３９】
又、ロール状に巻き取られた後、出荷されるまでの間、汚れや静電気によるゴミ付着等から製品を保護するために通常、包装加工がなされる。この包装材料については、上記目的が果たせれば特に限定されないが、フィルムからの残留溶媒の揮発を妨げないものが好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、紙、各種不織布等が挙げられる。繊維がメッシュクロス状になったものは、より好ましく用いられる。
【０３４０】
本発明に係るセルロースエステルフィルムは複数のドープを用いた共流延法等による多層構成を有するものであってもよい。
【０３４１】
共流延とは、異なったダイを通じて２層または３層構成にする逐次多層流延方法、２つまたは３つのスリットを有するダイ内で合流させ２層または３層構成にする同時多層流延方法、逐次多層流延と同時多層流延を組み合わせた多層流延方法のいずれであっても良い。
【０３４２】
本発明で用いられるセルロースエステルはフィルムにしたときの輝点異物が少ないものが、支持体として好ましく用いられる。本発明において、輝点異物とは、２枚の偏光板を直交に配置し（クロスニコル）、この間にセルロースエステルフィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面からセルロースエステルフィルムを観察したときに、光源の光がもれて見える点のことである。
【０３４３】
このとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであることが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異物の発生は、セルロースエステルに含まれる未酢化のセルロースがその原因の１つと考えられ、対策としては、未酢化のセルロース量の少ないセルロースエステルを用いることや、また、セルロースエステルを溶解したドープ液の濾過等により、除去、低減が可能である。又、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向がある。
【０３４４】
輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上のものが２００個／ｃｍ２以下であることが好ましく、更に好ましくは、１００個／ｃｍ２以下、５０個／ｃｍ２以下、３０個／ｃｍ２以下、１０個／ｃｍ２以下であることが好ましいが、特に好ましくは、０であることである。
【０３４５】
又、０．００５ｍｍ〜０．０１ｍｍの輝点についても２００個／ｃｍ２以下であることが好ましく、更に好ましくは、１００個／ｃｍ２以下、５０個／ｃｍ２以下、３０個／ｃｍ２以下、１０個／ｃｍ２以下であることが好ましいが、特に好ましいのは、輝点が０の場合である。０．００５ｍｍ以下の輝点についても少ないものが好ましい。
【０３４６】
輝点異物を濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶解させたものを濾過するよりも可塑剤を添加混合した組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、セラミックス、金属等も好ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく、更に好ましくは、３０μｍ以下、１０μｍ以下であるが、特に好ましくは、５μｍ以下のものである。
【０３４７】
これらは、適宜組み合わせて使用することもできる。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。
【０３４８】
次いで、本発明の防眩性反射防止フィルムの他の構成要素について説明する。
本発明の防眩性反射防止フィルムにおいては、透明基材上に直接インクジェット方式により防眩層を形成すること特徴であるが、より好ましくは１層以上のハードコート層を形成した後、そのハードコート層表面上に凹凸構造からなる防眩層を形成することが好ましい。
【０３４９】
ハードコート層には、インクで用いたのと同様の熱硬化性樹脂または活性線硬化型樹脂を好ましく用いることができるが、特に紫外線硬化樹脂が好ましい。また、ハードコート層の形成に際しては、上記各樹脂の他に、インクで記載したのと同様な光反応開始剤、光増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機微粒子、有機微粒子等を適宜添加することができる。
【０３５０】
また、本発明においては、ハードコート層は複数層で構成されてもよいが、インク液滴を着弾させるハードコート層の最表層が、可塑剤を含有していることが好ましい。
【０３５１】
ハードコート層で用いることのできる可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
【０３５２】
リン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
【０３５３】
ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。
【０３５４】
特に、特願２０００−３３８８８３記載のエポキシ系化合物、ロジン系化合物、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ケトン樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等の添加物を有するセルロースエステルも好ましく用いられる。
【０３５５】
上記化合物としては、ＫＥ−６０４とＫＥ−６１０は荒川化学工業（株）からそれぞれ酸価２３７と１７０で市販されている。同じく、荒川化学工業（株）からアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物のエステル化物として、ＫＥ−１００及びＫＥ−３５６が、それぞれの酸価は８と０で市販されている。また、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物は、播磨化成（株）からそれぞれの酸価１６７、１６８のＧ−７及びハートールＲ−Ｘで市販されている。
【０３５６】
また、エポキシ樹脂としては、アラルダイドＥＰＮ１１７９及びアラルダイドＡＥＲ２６０は旭チバ（株）から市販されている。
【０３５７】
ケトン樹脂としては、ハイラック１１０及びハイラック１１０Ｈは日立化成（株）から市販されている。
【０３５８】
パラトルエンスルホンアミド樹脂としては、トップラーとして、フジアミドケミカル（株）から市販されている。
【０３５９】
防眩層を形成するインク液滴を着弾させるハードコート層最表層には、可塑剤が０．１〜１０質量％を含有することが好ましい。たとえば前記ハードコート層の塗布組成物にあらかじめ可塑剤を添加することが好ましく、あるいはハードコート層を塗設前にあらかじめ基材表面に可塑剤を塗布もしくは付着させておくこともできる。これらによって、硬化後のインク滴の密着性が改善される。
【０３６０】
本発明に係るハードコート層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５質量％〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。
【０３６１】
上記説明した組成からなるハードコート層組成物塗布液を透明基材上に塗布する方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で５μｍ〜３０μｍが適当で、好ましくは１０μｍ〜２０μｍである。塗布速度は１０ｍ／分〜６０ｍ／分が好ましい。また、乾燥膜厚保としては、１〜１０μｍが好ましい。
【０３６２】
ハードコート層組成物は塗布乾燥された後、インクの硬化と同様の方法で、紫外線や電子線等の活性光線を照射したり、あるいは加熱処理により硬化されることが好ましいが、前記活性光線の照射時間は０．１秒〜５分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、０．１〜１０秒である。
【０３６３】
本発明においては、上記方法で透明基材上に塗布したハードコート層が未硬化の状態、あるいは完全に硬化が終了した後のいずれの時期で、インクジェット方式により、防眩層を形成するインク液滴を着弾させてもよいが、好ましくはハードコート層が硬化した後にインクジェット方式により、インク液滴を着弾させて凹凸構造を形成することが好ましく、特に好ましくはハードコート層がハーフキュア（半硬化状態）のときにインク液滴を着弾させて凹凸構造を形成させることが、微細な凹凸が形成しやすく、かつ生産性にも優れるため好ましく、更に、凹凸構造部とハードコート層表面との密着性を向上することができる。
【０３６４】
また、上記方法で透明基材上に塗布したハードコート層表面に、防眩層を形成するインク液滴を着弾する前に、プラズマ処理を施すことが、より微細な凹凸構造を形成することができるため好ましい。特に、大気圧プラズマ処理を施すことが好ましく、ヘリウム、アルゴン等の希ガスもしくは窒素、空気などの放電ガスと必要に応じて、酸素、水素、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、水蒸気、メタン、４フッ化メタンなどを１種以上含有する反応ガスによって表面改質することができ、例えば、特開２０００−３５６７１４号公報に記載の方法を参考にして、ハードコート層表面に、プラズマ処理を施すことができる。
【０３６５】
また、本発明の防眩性反射防止フィルムにおいては、必要に応じて、汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、さらに防汚層を設けることも好ましい。防汚層としては、有機シラン化合物、含フッ素有機シラン化合物が好ましく用いられる。
【０３６６】
以上のようにして作製した防眩性反射防止フィルムは、偏光板保護フィルムとして好ましく用いることができ、偏光子の少なくとも片側に積層し、貼合されて偏光板とすることができ、あるいは有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等の各種表示装置の前面板としても有用である。
【０３６７】
本発明の防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板、それを用いた表示装置について説明する。
【０３６８】
偏光板に用いる偏光子としては、従来公知のものを用いることができる。偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。
【０３６９】
偏光板は、こうして得られた偏光子と本発明の防眩性反射防止フィルムと貼合して得られる。あるいは、防眩性反射防止フィルムに塗布することにより偏光子を設けてもよい。
【０３７０】
本発明に係る偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明の防眩性反射防止フィルムをアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。上記記載のアルカリケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良くし、接着性を向上させるために、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理を示す。このとき、反射防止層の表面には再剥離性の保護フィルム（例えば、ポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、またはポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂製）を設けることにより、アルカリや汚れから保護することができる。
【０３７１】
本発明の防眩性反射防止フィルムを一方の偏光板保護フィルムとして用いた場合、もう一方の偏光板保護フィルムには、光学補償機能を持たせることができる。例えば、直接または配向層を介して、液晶（ディスコチック液晶、棒状液晶）を塗布して配向、固定化した光学異方層（例えば、ハイブリッド配向で固定化した層）を設け、これを偏光板保護フィルムとして用いて視野角拡大効果を有する偏光板を作製することもできる。
【０３７２】
又、必要に応じて、反射防止層の表面に防汚性を持たせるかあるいは防汚層を設けることができる。防汚層としてはシリコーン系あるいはフッ素系の公知の化合物を用いた膜厚が１〜３０ｎｍの層が好ましく用いられる。
【０３７３】
代表的な偏光板の構成を、以下に示す。
防汚層／反射防止層／防眩層／セルロースエステルフィルム／偏光子／セルロースエステルフィルム／配向層／光学異方層（液晶セル側）
この様にして得られた偏光板は、液晶セルの一方の面もしくは、両面に設けてもよい。本発明の防眩性反射防止フィルムは、反射防止層が外側を向くように液晶セルに貼りつけ、表示装置が得られる。本発明の防眩性反射防止フィルムを用いることによって、高精細でありながら視認性に優れた表示装置を提供することができる。
【０３７４】
また、本発明の表示装置においては、前面板を有することが好ましい。
本発明の防眩性反射防止フィルムにおいては、表面の凹凸と内部ヘイズとを個別に調整することが可能となり、高精細で視認性に優れた防眩性反射防止層を提供することができる。また、微粒子を用いることなく所望の防眩機能を付与することができるため、防眩層内部の不要な散乱によるコントラストの低下を抑制することができる。例えば、使用環境や目的によって防眩機能をなくしたりあるいは強めたりするという要望がある。そのため、着脱可能な前面板を設け、その前面の表面加工をクリアハードコート＋反射防止、防眩加工＋反射防止と切り替えることも可能である。特に、防眩層を表面に有する表示装置の前面に、クリアハードコート＋反射防止の前面板を設置することで、よりコントラストの高い映像を鑑賞することができ、写りこみが気になる場合は、前面板をはずすだけで防眩層が最表面となり、写りこみの影響を低減させることができる。このとき、表示装置表面側に設けた防眩層が、主に微粒子の添加によって形成された従来の防眩層である場合には、含まれている多量の微粒子による内部散乱によってコントラストが低下し、前面板を設ける効果を損ねていた。本発明の防眩性反射防止層は、防眩層中の微粒子添加量が少ないか、添加することなく防眩機能を付与することが可能であり、前面板を設ける表示装置に用いることによってコントラスト重視と写りこみ防止重視を切り替えて使用することができ、その際に優れた視認性を提供できるものである。本発明の表示装置は、特に着脱可能な前面板を設ける場合に適しており、写りこみ防止を優先する場合は本発明の防眩性反射防止層が表面にくるようにしてそのまま使用し、画質、特にコントラスト優先の場合は、クリアハードコート層の上に反射防止加工されている前面板をさらに設置することができる。インクジェット方式により形成した防眩層は、防眩層中の微粒子添加量が少ないか、含まないため、内部散乱によるコントラスト低下が著しく低減され、優れた表示性能が得られる。又、前面板を設ける際の生じる干渉縞の発生もない。
【０３７５】
また、本発明の防眩性反射防止フィルムは、前面板と組み合わせることによって、使用環境に応じて最適な視認性を選択できる。写りこみ防止を重視する場合は、前面板をはずし、写りこみが問題ないときはコントラスト重視のため前面板を使用するといった使い方ができる利点を有している。
【０３７６】
図１２は、表示装置上への前面板の装着状態を示す概念図であり、図１３は表示装置上へ前面板の装着したときの断面図である。
【０３７７】
図１２において、Ａは表示装置、Ｂは前面板であり、図１２のａ）は前面板Ｂを表示装置Ａに装着する前の状態を示し、図１２のｂ）は装着した状態を示す。
【０３７８】
また、図１３において、表示装置Ａは表面に本発明の防眩性反射防止フィルムＤを有し、前面板Ｂは、透明基材Ｅ、例えば、アクリル板の両面に、反射防止層Ｆを設けたものである。
【０３７９】
【実施例】
以下、実施例を示し本発明の構成と効果を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３８０】
実施例１
《透明基材の作製》
下記のように各種添加液、各種ドープを調製して、透明基材であるセルロースエステルフィルムを作製した。
【０３８１】
（セルロースエステルフィルムの作製）
〈酸化けい素分散液Ａの調製〉
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）              １ｋｇ
エタノール                                                  ９ｋｇ
以上をディゾルバで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリン型高圧分散装置を用いて分散を行い、酸化けい素分散液Ａを調製した。
【０３８２】
〈添加液Ｂの調製〉
セルローストリアセテート（アセチル基の置換度２．８８）      ６ｋｇ
メチレンクロライド                                      １４０ｋｇ
以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、濾過した。これに１０ｋｇの上記酸化けい素分散液Ａを撹拌しながら加えて、さらに３０分間撹拌した後、濾過し、添加液Ｂを調製した。
【０３８３】
〈ドープＣの調製〉
メチレンクロライド                                      ４４０ｋｇ
エタノール                                                ３５ｋｇ
セルローストリアセテート（アセチル基の置換度２．８８）  １００ｋｇ
トリフェニルホスフェート                                  １０ｋｇ
エチルフタリルエチルグリコレート                            ２ｋｇ
チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製）      ０．３ｋｇ
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製）      ０．５ｋｇ
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製）      ０．５ｋｇ
上記の溶媒を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合した。ドープを流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した。更に上記溶液に添加液Ｂを３ｋｇ添加し、インラインミキサー（東レ（株）製静止型管内混合機Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で１０分間混合し、濾過し、ドープＣを調製した。
【０３８４】
ドープＣを濾過した後、ベルト流延装置を用い、３５℃のドープを３５℃のステンレスバンド支持体上に均一に流延した。その後、支持体上で乾燥させた後、ステンレスバンド支持体上からフィルムを剥離した。このときのフィルムの残留溶媒量は８０％であった。ステンレスバンド支持体から剥離した後、８０℃に維持された乾燥ゾーンで１分間乾燥させた後、２軸延伸テンターを用いて、残留溶媒量３〜１０質量％であるときに１００℃の雰囲気下で長手方向に１．０３倍、幅方向に１．１倍に延伸し、幅把持を解放して、多数のロールで搬送させながら１２５℃の乾燥ゾーンで乾燥を終了させ、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施して、膜厚６０μｍのセルロースエステルフィルムを作製した。
【０３８５】
《防眩性反射防止フィルム１の作製》
〔ハードコート層の塗布〕
セルロースエステルフィルムの一方の面に、下記のハードコート層塗布組成物をダイコーターで塗布し、熱風の温度、風速を徐々に強め最終的に８５℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より１１５ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射し、乾燥膜厚で５μｍの中心線平均表面粗さ（Ｒａ）１２ｎｍのハードコート層を設けた。
【０３８６】
〈ハードコート層塗布組成物〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体          ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体          ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０質量部
ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤                      ４質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  ７５質量部
メチルエチルケトン                                      ７５質量部
〔反射防止層１の形成〕
上記の様にして形成したハードコート層上に、下記のようにして中屈折率層、高屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反射防止層１を塗設して、防眩性反射防止フィルム１を作製した。
【０３８７】
（中屈折率層の形成）
セルロースエステルフィルムのハードコート層上に、下記中屈折率層組成物をダイコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた後、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を１７５ｍＪ／ｃｍ２照射して硬化させ、厚さが７８ｎｍとなるように中屈折率層を設けた。なお、この中屈折率層の屈折率は１．７０であった。
【０３８８】
〈中屈折率層組成物〉
イソプロピルアルコール                                ５１０質量部
水                                                        ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                ２２７質量部
メチルエチルケトン                                      ８４質量部
テトラ（ｎ）ブトキシチタン                              ３９質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
（信越化学社製ＫＢＭ５０３）                                ６質量部
５％アクリル樹脂溶液（三菱レーヨン（株）製、ダイヤナールＢＲ−１０２、
溶媒プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解）        ３１質量部
１０％シリコーンオイル（信越化学工業（株）社製ＫＦ−９６−１，０００Ｃ
Ｓ、溶媒：メチルエチルケトン）                          １．５質量部
（高屈折率層の形成）
上記中屈折率層上に、下記の高屈折率層組成物をダイコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた後、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を１７５ｍＪ／ｃｍ２照射して硬化させ、厚さが６６ｎｍとなるように高屈折率層を設けた。尚、この高屈折率層の屈折率は１．８５であった。
【０３８９】
〈高屈折率層組成物〉
イソプロピルアルコール                                ４４５質量部
水                                                    １．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                ２２３質量部
メチルエチルケトン                                      ７３質量部
テトラ（ｎ）ブトキシチタン                            ５４５質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
（信越化学社製ＫＢＭ５０３）                            ０．８質量部
１０％シリコーンオイル（信越化学工業（株）社製ＫＦ−９６−１，０００Ｃ
Ｓ、溶媒：メチルエチルケトン）                          １．４質量部
（低屈折率層の形成）
上記高屈折率層上に、下記の低屈折率層組成物をダイコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた後、更に１２０℃で５分間熱硬化させ、さらに紫外線を１７５ｍＪ／ｃｍ２照射して硬化させ、厚さ９５ｎｍとなるように低屈折率層を設けた。尚、この低屈折率層の屈折率は１．４５であった。
【０３９０】
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン５８０ｇとエタノール１１４４ｇを混合し、これにクエン酸水溶液（クエン酸１水和物５．４ｇを水２７２ｇに溶解したもの）を添加した後に、室温（２５℃）にて１時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Ａを調製した。
【０３９１】
〈低屈折率層組成物〉
プロピレングリコールモノメチルエーテル                ３０３質量部
イソプロピルアルコール                                ３０５質量部
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                      １３９質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
（信越化学社製ＫＢＭ５０３）                            １．６質量部
１０％ＦＺ−２２０７、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液
（日本ユニカー社製）                                    １．３質量部
《防眩性反射防止フィルム２の作製》
上記作製した防眩性反射防止フィルム１において、ハードコート層を塗設した後、下記の防眩層１を塗布方式で用いて形成し、次いで上記反射防止層１を設けた以外は同様にして防眩性反射防止フィルム２を作製した。
【０３９２】
〔防眩層１の塗布〕
ハードコート層上に、下記の防眩層塗布組成物をダイコーターで塗布し、熱風の温度、風速を徐々に強め最終的に８５℃で乾燥し、続いて活性光線照射部より１１５ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射し、乾燥膜厚で５μｍの防眩層１を設けた。
【０３９３】
〈防眩層１塗布組成物〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体          ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体          ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０質量部
合成シリカ粒子（平均粒径１．８μｍ）                      ８質量部
ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤                      ４質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  ７５質量部
メチルエチルケトン                                      ７５質量部
《防眩性反射防止フィルム３の作製》
上記作製した防眩性反射防止フィルム１において、ハードコート層を塗設した後、下記の防眩層２をインクジェット方式で形成し、次いで上記反射防止層１を設けた以外は同様にして防眩性反射防止フィルム３を作製した。
【０３９４】
〔防眩層２の形成〕
ハードコート層上に、下記の防眩層インク液１をインクジェット方式によりインク液滴として１ｐｌで出射し、０．２秒後に活性光線照射部より１００ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射して硬化させた後、熱風の温度、風速を徐々に強め最終的に８５℃で乾燥し、更に１００ｍＪ／ｃｍ２の照射強度で紫外線照射して、中心線平均粗さＲａが１μｍ、凹部底を基準とした高さａが０．５〜１０．０μｍである凸部を１００μｍ２あたり１個有している防眩層２を形成した。
【０３９５】
〈インクジェット出射方法〉
インクジェット出射装置は、ラインヘッド方式（図４の（ａ））を使用し、ノズル径が３．５μｍのノズルを所定数有するインクジェットヘッドを１０基を準備した。インクジェットヘッドは図３に記載の構成のものを使用した。
【０３９６】
インク供給系は、インク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッド及び配管から構成されており、インク供給タンクからインクジェットヘッド部までは、断熱及び加温（４０℃）し、出射温度は４０℃、駆動周波数は２０ｋＨｚで行った。
【０３９７】
〈防眩層インク液１の組成〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート              １００質量部
（２量体及び３量体以上の成分を含む）
光反応開始剤（ジメトキシベンゾフェノン）                  ４質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  ３０質量部
メチルエチルケトン                                    １００質量部
《防眩性反射防止フィルム４の作製》
上記作製した防眩性反射防止フィルム３において、反射防止層１に代えて、反射防止層２を大気圧プラズマ処理装置を用いて設けた以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム４を作製した。
【０３９８】
〔反射防止層２の形成〕
下記の大気圧プラズマ放電処理装置により、上記防眩層２上に下記の特性からなる高屈折率層１、低屈折率層１、高屈折率層２、低屈折率層２に順に設けて反射防止層２を形成した。
【０３９９】
高屈折率層１：チタン酸化物層  膜厚２３ｎｍ  屈折率２．００
低屈折率層１：珪素酸化物層  膜厚２９ｎｍ  屈折率１．４６
高屈折率層２：チタン酸化物層  膜厚７７ｎｍ  屈折率２．００
低屈折率層２：珪素酸化物層  膜厚９５ｎｍ  屈折率１．４６
〔大気圧プラズマ放電処理装置〕
図９に示した大気圧プラズマ放電処理装置において、誘電体で被覆したロール電極及び同様に誘電体で被覆した複数の角筒型電極のセットを以下のように作製した。
【０４００】
各層毎に、各１台のプラズマ放電処理装置を使用し、これらを連結して１パスで各層を連続して形成させた。
【０４０１】
第１電極となるロール電極（図１０）は、冷媒を循環させることによる電極表面温度の制御手段を有するチタン合金Ｔ６４製ジャケットロール金属質母材に対して、アルミナ溶射膜を被覆し、テトラメトキシシランを酢酸エチルで希釈した溶液を塗布乾燥後、紫外線照射により硬化させ封孔処理を行った。このようにして被覆した誘電体表面を研磨し、平滑にして、Ｒｍａｘ１μｍとなるように加工した。最終的な誘電体の膜厚は１ｍｍ、誘電体の比誘電率は１０であった。更に導電性の金属質母材と誘電体の線熱膨張係数の差は１．７×１０−４で、耐熱温度は２６０℃であった。ロール電極には電極表面温度を制御するための温度制御された冷媒を循環できるようにし、８０℃の温水を供給し、電極温度を制御した。
【０４０２】
一方、第２電極の角筒型電極（図１１）は、中空の角筒型のチタン合金Ｔ６４に対し、上記同様の誘電体を同条件にて被覆し、対向する角筒型固定電極群とした。この角筒型電極の誘電体については上記ロール電極のものと同じである。角筒型電極内部にはそれぞれ電極表面温度を制御するための温度制御された冷媒を循環できるようにし９０℃の温水を供給し、電極温度を制御した。
【０４０３】
このロール電極のまわりに角筒型電極を配置した。角筒型固定電極群の放電総面積は、１３０ｃｍ（幅手方向の長さ）×４ｃｍ（搬送方向の長さ）×最大２０本（電極の数）であった。
【０４０４】
ロール電極のまわりに配置した複数の角筒型固定電極の間隙より、反応ガスの導入と使用済みガスの排気を交互に行った。１つの間隙に対して下記の流量で窒素を主成分とする反応ガスを導入した。
【０４０５】
大気圧プラズマ放電処理装置には、固定電極（角筒型電極）側に、連続周波数１３．５６ＭＨｚ、電界強度０．８ｋＶ／ｍｍ（１／２Ｖｐ−ｐ）の高周波電圧（パール工業社製高周波電源  ＣＦ−５０００−１３Ｍ）を供給し、ロール電極側には、連続周波数１００ｋＨｚ、電界強度１０ｋＶ／ｍｍ（１／２Ｖｐ−ｐ）の高周波電圧（ハイデン研究所製高周波電源  ＰＨＫ−６ｋ  連続モード）を供給した。また、ロール電極は、ドライブを用いて防眩層を有するフィルムの搬送に同期して回転させた。
【０４０６】
ここでいう高周波の電界強度（印加電界強度  １／２Ｖｐ−ｐ）とは、下記の方法に従って求めることができる。すなわち、高周波電界強度（単位：ｋＶ／ｍ））は、各電極部の高周波プローブ（Ｐ６０１５Ａ）を設置し、この高周波プローブをオシロスコープ（例えば、Ｔｅｋｔｒｏｎｉｘ社製  ＴＤＳ３０１２Ｂ）に接続して測定した。
【０４０７】
なお、固定電極とロール電極の間隙は０．５ｍｍ、反応ガスの圧力は大気圧下で行った。プラズマ放電処理に用いた反応ガスの組成を以下に記す。尚、反応ガス中の液体成分は気化器によって蒸気とし、ガス供給系の配管は原料ガスが凝結するのを防止するため保温しながらロール電極のまわりに配置された隣接する角筒型電極の間隙（１ｍｍ）より放電部に供給し、１箇所の間隙あたり下記に示したガスの割合で放電部に供給した。
【０４０８】
〈放電条件〉
ロール電極側：１００ｋＨｚ  １０Ｗ／ｃｍ２
固定電極（角筒型電極）側：１３．５６ＭＨｚ  ５Ｗ／ｃｍ２
〈低屈折層形成用の反応ガス組成〉
窒素：３００Ｌ／ｍｉｎ
酸素：１５Ｌ／ｍｉｎ
テトラエトキシシラン（蒸気）：０．３ｇ／ｍｉｎ（リンテック社製の気化器にて気化させた）
ガス温度：９０〜１００℃
〈高屈折率層形成用の反応ガス組成〉
窒素：３００Ｌ／ｍｉｎ
水素：２Ｌ／ｍｉｎ
テトライソプロポキシチタン（蒸気）：０．２ｇ／ｍｉｎ（リンテック社製の気化器にて気化させた）
ガス温度：９０〜１００℃
《防眩性反射防止フィルム５〜１０の作製》
上記防眩性反射防止フィルム４の作製において、防眩層インク液の種類（上記防眩層インク液１及び下記の防眩層インク液２、３）及びインク液滴量を、表３に記載の様に変更した以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム５〜１０を作製した。
【０４０９】
〈防眩層インク液２の組成〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート              １００質量部
（２量体及び３量体以上の成分を含む）
光反応開始剤（ジメトキシベンゾフェノン）                  ４質量部
アセトン                                              ９００質量部
イソプロピルアルコール                                  １０質量部
酢酸エチル                                              １０質量部
〈防眩層インク液３の組成〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート              １００質量部
（２量体及び３量体以上の成分を含む）
光反応開始剤（ジメトキシベンゾフェノン）                  ４質量部
アセトン                                          １００００質量部
イソプロピルアルコール                                    ５質量部
酢酸エチル                                                ５質量部
《防眩性反射防止フィルム１１の作製》
前記防眩性反射防止フィルム１０の作製において、形成した防眩層の上に、更に防眩層インク液３をインク液適量０．１ｐｌの条件で出射して、同様に紫外線を照射、硬化させ、さらに微細な凹凸を形成した以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム１１を作製した。
【０４１０】
《防眩性反射防止フィルム１２の作製》
上記防眩性反射防止フィルム９の作製において、ハードコート層がハーフキュアの状態で、インクジェット方式により防眩層を形成した以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム１２を作製した。
【０４１１】
《防眩性反射防止フィルム１３の作製》
上記防眩性反射防止フィルム９の作製において、ハードコート層塗布液に可塑剤としてトリフェニルフォスフェートを１質量部添加した以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム１３を作製した。
【０４１２】
《防眩性反射防止フィルム１４の作製》
上記防眩性反射防止フィルム９の作製において、インクジェット方式による防眩層を形成する前に、ハードコート層表面を、１％酸素を含有する窒素雰囲気の大気圧下で、１００ｋＨｚの高周波電圧でプラズマ放電により表面処理した後、インクジェット方式による防眩層を形成した以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム１４を作製した。
【０４１３】
《防眩性反射防止フィルム１５の作製》
上記防眩性反射防止フィルム１２の作製において、防眩層インク液１に、約１２ｎｍの気相法シリカ（トクヤマ製：レオロシールＱＳ−２０）を１質量部添加した以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム１５を作製した。
【０４１４】
《防眩性反射防止フィルム１６の作製》
上記防眩性反射防止フィルム１２の作製において、防眩層インク液１に、下記のテトラエトキシシラン加水分解物を２０質量部添加した以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム１６を作製した。
【０４１５】
（テトラエトキシシラン加水分解物：微小液滴としてインク中に含有）
テトラエトキシシランの５８０質量部と、エタノールの１１００質量部とを混合し、クエン酸・１水和物の５．４質量部を水３００質量部に溶解したものを添加し、室温で１時間攪拌して、テトラエトキシシラン加水分解物を調製した。
【０４１６】
《防眩性反射防止フィルム１７の作製》
上記防眩性反射防止フィルム１２の作製において、防眩層形成時に、同時に０．５ｐｌと０．３ｐｌのインク液滴を出射した以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム１７を作製した。
【０４１７】
《防眩性反射防止フィルム１８の作製》
上記防眩性反射防止フィルム１２の作製において、０．５ｐｌのインク液滴を出射して、活性線を照射した１秒後に、０．３ｐｌのインク液滴を出射し、同様に硬化させた以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム１８を作製した。
【０４１８】
《防眩性反射防止フィルム１９の作製》
上記防眩性反射防止フィルム１２の作製において、防眩層形成時の活性光線の照射時期を、インクが着弾した４秒後に変更した以外は同様にして、防眩性反射防止フィルム１９を作製した。
【０４１９】
【表３】
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【０４２０】
《防眩性反射防止フィルムの評価》
以上により作製した防眩性反射防止フィルム１〜１９について下記の各評価を行った。
【０４２１】
（表面特性の測定）
防眩性反射防止フィルム１〜１９の作製において、防眩層を形成した時点で、その表面を、ＷＹＫＯ社製のＲＳＴＰＬＵＳ非接触三次元微小表面形状測定システムを用いて測定し、表面粗さＲａ（μｍ）と凹部底を基準とした高さａが０．５〜１０．０μｍの範囲にある凸部の１００μｍ２当たりの個数（表４の＊１項）を計測した。
【０４２２】
（接着性の評価）
ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、得られた防眩性反射防止フィルムの試料を用いて、１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作り、この上にセロハン粘着テープを貼り付け、９０°で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数をカウントし、下記に示すようなランク評価を行った。
【０４２３】
Ａ：１００
Ｂ：９７〜９９
Ｃ：９３〜９６
Ｄ：９０〜９２
Ｅ：７０〜８９
Ｆ：６９以下
（反射性の評価）
作製した各防眩性反射防止フィルムの反射光の色むらを１ｍ２について目視により下記のようにランク評価した。
【０４２４】
Ａ：反射光の色調変化が全く認められない
Ｂ：反射光の色調変化が認められない
Ｃ：わずかに反射光の色調変化が認められる（面積の５％未満）
Ｄ：ごく一部に反射光の色調変化が認められる（面積の５％以上、１０％未満）
Ｅ：部分的に反射光の色調変化が認められる（面積の１０％以上、３０％未満）
Ｆ：全体的に反射光の色調変化が認められる
（視認性の評価）
各防眩性反射防止フィルムの視認性については、防眩性反射防止フィルム１〜１９を用いて下記のようにして偏光板１〜１９を作製し、それらの偏光板を液晶表示パネルに組み込み、視認性を評価した。
【０４２５】
下記の方法に従って、防眩性反射防止フィルムとセルロースエステルフィルム（ＫＣ８ＵＣＲ、コニカ（株）製）を各々１枚を偏光板保護フィルムとして用いて偏光板を作製した。
【０４２６】
ａ）偏光膜の作製
厚さ１２０μｍの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇの比率からなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇの比率からなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
【０４２７】
ｂ）偏光板の作製
次いで、下記工程１〜５に従って、偏光膜と偏光板保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
【０４２８】
工程１：長尺のセルロースエステルフィルムと防眩性反射防止フィルム１とを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に５０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。防眩性反射防止フィルムの反射防止層を設けた面にはあらかじめ剥離性の保護フィルム（ポリエチレン製）を張り付けて保護した。
【０４２９】
同様に長尺のセルロースエステルフィルムを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に５０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。
【０４３０】
工程２：前述の長尺の偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。
【０４３１】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理したセルロースエステルフィルムと防眩性反射防止フィルム１で挟み込んで、積層配置した。
【０４３２】
工程４：２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ２の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で張り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。
【０４３３】
工程５：８０℃の乾燥機中にて工程４で作製した試料を２分間乾燥処理し、本発明の偏光板１を作製した。
【０４３４】
防眩性反射防止フィルム１を防眩性反射防止フィルム２〜１９に代えて一方の偏光板保護フィルムとして用いた以外は同様にしてそれぞれ偏光板２〜１９を作製した。
【０４３５】
市販の液晶表示パネル（富士通製  ＶＡ型液晶表示装置：型名  ＶＬ−１５０ＳＤ）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた偏光板１〜１９を張り付けた。
【０４３６】
上記のようにして得られた液晶パネル１〜１９を床から８０ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さの天井部に昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−Ｘ  松下電器産業（株）製）４０Ｗ×２本を１セットとして１．５ｍ間隔で１０セット配置した。このとき評価者が液晶パネル表示面正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置した。液晶パネルは机に対する垂直方向から２５°傾けて蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ（視認性）を下記のようにランク評価した。
【０４３７】
Ａ：もっとも近い蛍光灯の写り込みが全く気にならず、またフォントの大きさ８以下の文字も極めて明瞭に読める
Ｂ：もっとも近い蛍光灯の写り込みが気にならず、またフォントの大きさ８以下の文字もはっきりと読める
Ｃ：もっとも近い蛍光灯の写り込みがほぼ気にならず、フォントの大きさ８以下の文字も読める
Ｄ：近くの蛍光灯の写りこみはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もなんとか読める
Ｅ：遠くの蛍光灯の写りこみも気になり、フォントの大きさ８以下の文字を読むのは困難である
Ｆ：蛍光灯の写りこみがかなり気になり、写り込みの部分はフォントの大きさ８以下の文字を読むことはできない
（動画及び鮮鋭性の評価）
上記視認性評価で作製した各液晶パネルに、動画及び鮮鋭性評価用のテストチャート画像を出力し、画像のしまり及び鮮鋭性を下記の基準に則り評価した。
【０４３８】
Ａ：動画の黒のしまりが極めて良好で、かつテストパターンが、極めて鮮鋭に映し出されている
Ｂ：動画の黒のしまりが良好で、かつテストパターンが、極めて鮮鋭に映し出されている
Ｃ：動画の黒のしまりが良好で、かつ高周波のテストパターンで、わずかに鮮鋭性の低下が認められる
Ｄ：動画の黒のしまりが稍弱く、また高周波及び中高周波のテストパターンで稍鮮鋭性の低下が認められるが実用上問題はない
Ｅ：動画の黒のしまりが弱く、かつ全周波域のテストパターンで鮮鋭性の低下が認められ、実用上問題がある
Ｆ：動画の黒のしまりが悪く、かつ全周波域のテストパターンで、明らかな鮮鋭性の低下が認められ、実用上問題がある
以上により得られた結果を表４に示す。
【０４３９】
【表４】
2004279491.tif 000011
【０４４０】
表４より明らかなように、本発明の防眩性反射防止フィルムは、比較例に対し、接着性、膜均一性が良好で、また液晶パネルに使用した際の写り込みが気にならないと同時に動画を表示した際の黒のしまりが良好で、かつ鮮鋭性に優れていることが分かる。その中でも、特に、防眩性反射防止フィルム７〜１８が、より良好な結果を示した。
【０４４１】
実施例２
実施例１に記載の視認性評価で作製した液晶パネル１（比較例：防眩性反射防止フィルム１）、液晶パネル２（比較例：防眩性反射防止フィルム２）、液晶パネル１２（本発明：防眩性反射防止フィルム１２）、液晶パネル１８（本発明：防眩性反射防止フィルム１８）の前面に、両面に実施例１に記載のハードコート層（厚み５μｍ）を塗布で、その上に実施例１に記載の反射防止層２を大気圧プラズマ放電処理方法で形成したアクリル板（厚み１ｍｍ）を設置して、表示装置に動画を表示させて、画質鑑賞を行った。
【０４４２】
その結果、本発明の防眩性反射防止フィルムを有する液晶パネル３、４を用いた表示装置に前面板を設けた組み合わせは、黒の締まりが良好で、コントラストに優れていた。更に、前面板をはずすことにより、十分な写りこみ防止効果があった。それに対して、比較例である液晶パネル２は、前面板を装着したとき、コントラストが低下し、黒の締まりが悪いことが確認された。又、比較例である液晶パネル１では、前面板を設けると干渉縞が認められ、また前面板をはずしても写りこみ防止効果はなく、状況により視認性を改善する柔軟性に乏しかった。
【０４４３】
【発明の効果】
本発明により、膜物性（膜均一性、接着性）が良好で、ぎらつき防止効果、鮮鋭性、視認性及び動画を表示したときの黒のしまりに優れた防眩性反射防止層の形成方法、防眩性反射防止フィルムとその製造方法、防眩性反射防止フィルムを用いた表示装置及び防眩性反射防止加工装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】透明基材上に、インクジェット方式で凹凸構造からなる防眩層を設けた一例を示す模式図である。
【図２】本発明に係る防眩層を構成する他の凹凸構造の一例を示す断面図である。
【図３】本発明に係るインクジェット方法に用いることのできるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。
【図４】本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。
【図５】本発明で好ましく用いることのできるインクジェット方式の一例を示す模式図である。
【図６】インクジェット方式により、粒径の大きなインク液滴で微細構造を形成した後、より粒径の小さなインク液滴で、更に微細な凹凸構造を形成した一例を表す模式図である。
【図７】透明基材上のインクジェット方式により防眩層を設けて防眩性反射防止フィルムを製造するフローの一例を示す模式図である。
【図８】本発明に係る反射防止層の形成に用いるのに有用なジェット方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示した概略図である。
【図９】本発明に係る反射防止層の形成に用いるのに有用な対向電極間で基材を処理する方式の大気圧プラズマ放電処理装置の一例を示す概略図である。
【図１０】図９に示したロール回転電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【図１１】角筒型電極の導電性の金属質母材とその上に被覆されている誘電体の構造の一例を示す斜視図である。
【図１２】表示装置上への前面板の装着状態を示す概念図である。
【図１３】表示装置上へ前面板の装着したときの断面図である。
【符号の説明】
１、５０２、Ｆ  透明基材
２  ハードコート層
３、３１  インク液滴
１０  インクジェットヘッド
１２  圧電素子
２９、１０６Ａ〜Ｅ  活性光線照射部
３５  バックロール
５１  エンドレスステンレスベルト
５２  ダイ
５３  乾燥ゾーン
５５  流延部
５６  剥離部
１１０  プラズマ放電処理装置
１１１  第１電極
１１２  第２電極
１２０  電圧印加手段
１２１  第１電源
１２２  第２電源
５０１  積層ロール
５０３  第１コータ
５０４Ａ、Ｂ  バックロール
５０５Ａ、Ｂ  乾燥ゾーン
５０７  プラズマ処理部
５０８  インク供給タンク
５０９  インクジェット出射部
５１０  加熱部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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