(57)【要約】【課題】超臨界流体によって洗浄された時に、封止材に気泡が生じにくい電気光学パネルの製造方法を提供する。【解決手段】一対の基板によって挟まれ、且つ、開口部を残して周囲を囲まれた空間内に、該開口部から電気光学物質を注入する工程と、前記電気光学物質が流出しないように封止材により前記開口部を覆う工程と、前記封止材全体を被膜により覆う工程と、前記注入工程において前記基板間からはみ出した電気光学物質を除去するために前記一対の基板を超臨界流体によって洗浄する工程とを有し、前記被膜を、前記封止材よりも前記超臨界流体が溶け込みにくい材料により構成することを特徴とする電気光学パネルの製造方法を提供する。【選択図】        図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板によって挟まれ、且つ、開口部を残して周囲を囲まれた空間内に、該開口部から電気光学物質を注入する工程と、
前記電気光学物質が流出しないように封止材により前記開口部を覆う工程と、
前記封止材全体を被膜により覆う工程と、
前記注入工程において前記基板間からはみ出した電気光学物質を除去するために、前記一対の基板を超臨界流体によって洗浄する工程とを有し、
前記被膜を、前記封止材よりも前記超臨界流体が溶け込みにくい材料により構成する
ことを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学パネルの製造方法によって製造されることを特徴とする電気光学パネル。
【請求項３】
請求項２に記載の電気光学パネルを備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子機器の表示部や光変調器として好適な電気光学パネルの製造方法、電気光学パネル及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気光学パネルは、相互に対面した一対のガラス基板間に電気光学物質を封入したものであり、例えば、液晶パネルは、液晶表示装置の表示部や光変調器など広い用途に使用されている。この液晶パネルの製造工程の概略を説明すると次の通りである。
先ず、基板の表面にシール材の枠を形成する。続いて、このシール材を挟み込むようにもう１枚の基板を貼り合わせる。次に、基板間に形成された枠内に液晶を注入する。ここで、基板間の枠には開口部が設けられており、液晶は、この開口部から注入される。次に、枠内から液晶が流出しないように、封止材と呼ばれる樹脂で当該開口部全体を覆う。その後、注入の際に基板間からはみ出た液晶を除去するための洗浄が行われる。
【０００３】
従来の液晶パネルの製造工程において、この液晶を除去するための洗浄として、湿式洗浄が行われていた。ここで、湿式洗浄とは、例えば、純水、有機溶剤、酸、アルカリ水溶液等の溶媒を利用して洗浄を行うことを指す。しかし、このような湿式洗浄においては、液体自身の洗浄力不足や、洗浄の不均一性、更には洗浄後の乾燥工程におけるシミ、腐食の発生など、諸問題が発生していた。
【０００４】
このような問題点を克服するために、昨今、超臨界流体を使用した洗浄工程が行われている。ここで、超臨界流体とは、物質固有の臨界温度及び臨界圧力を超えた領域にある流体を指す。この超臨界流体は、気体と液体の中間の粘度、拡散係数、密度、溶解力を有している。この超臨界流体は、気体を圧縮したものであるため、圧力を常圧に戻すと気体として振舞う。
このような性質を有する超臨界流体を洗浄媒体として利用することは、湿式洗浄に較べて、微細化に対応し易い、被洗浄物質の形状に拘束されない、乾燥工程が不要、等多くの利点を有する（例えば特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−３４３０５３号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、電気光学パネルにおいて、封止材には樹脂系材料が用いられるが、超臨界流体を使用して電気光学パネルの洗浄を行うと、当該流体が封止材中に溶け込んでしまうことがある。そして、洗浄工程が終わり、電気光学パネルが常圧下に置かれると、封止材中に溶け込んだ流体は気化し、封止材中に多数の気泡を生じさせる。このようにして生じた気泡は、外観を損ねるだけでなく、封止材の強度劣化や封止効果の減少の原因となり、最終的に、封止部分の損壊による電気光学物質の漏洩を招く恐れがある。
本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、超臨界流体で洗浄を行う際に、封止材に気泡を生じさせにくい電気光学パネルの製造方法、電気光学パネル及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を克服するために、本発明に係る電気光学パネルの製造方法は、一対の基板によって挟まれ、且つ、開口部を残して周囲を囲まれた空間内に、該開口部から電気光学物質を注入する工程と、前記電気光学物質が流出しないように封止材により前記開口部を覆う工程と、前記封止材全体を被膜により覆う工程と、前記注入工程において前記基板間からはみ出した電気光学物質を除去するために、前記一対の基板を超臨界流体によって洗浄する工程とを有し、前記被膜を、前記封止材よりも前記超臨界流体が溶け込みにくい材料により構成することを特徴としている。
このような電気光学パネルの製造方法によれば、封止材全体を覆う被膜が、封止材よりも超臨界流体が溶けにくい材料で構成されているため、封止材内に気泡が生じにくい。従って、封止材の強度劣化や、電気光学物質封止効果の減少を招かない。
また、本発明に係る電気光学パネルは、本発明に記載の電気光学パネルの製造方法によって製造されることを特徴とする。
また、本発明に係る電子機器は、本発明に記載の電気光学パネルを備えることを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】
＜第１実施形態＞
以下、図１〜図５を参照して、本発明の第１実施形態に係る電気光学パネルの製造方法における要部工程を説明する。なお、図１〜図４は製造過程にある電気光学パネルの斜視図、図５は平面図である。本実施形態においては、電気光学パネルとして液晶パネルを用いて説明するが、本発明の適用範囲はこれに限られるものではない。
本実施形態に係る製造方法では、まず、図１に示すように、枠形状のシール材２０が、基板１０上にパターン印刷される。ここで、基板１０は、液晶パネルを構成するガラス製の基板である。シール材２０は、紫外線硬化型エポキシ樹脂である。このシール材２０の枠は、図示するように、基板１０の一辺に開口部１０ａを有している。
【０００９】
次に、図２に示すように、基板１０と一対をなすガラス製の基板１１が、シール材２０を挟むようにして、基板１０と対面した状態で貼り合わされる。実際には、基板１１の貼り合わせ面には、基板１０と基板１１とを接触させないためのスペーサーなどが設けられるが図示を省略する。
基板１０と基板１１が貼り合わされると、基板１１側から基板１０に向かう方向に加圧された状態で、シール材２０に紫外線が照射される。この結果、シール材２０が、当該紫外線によって硬化する。これにより貼り合わせ工程は終了する。この貼り合わせ工程によって貼り合わされた基板間の隙間は、約１０μｍ程度である。
【００１０】
次に、基板１０及び基板１１によって挟まれ、且つ、シール材２０の枠によって形成された空間内に、開口部１０ａから液晶が注入される。図３には、この液晶の注入及び後述する封止が行われた後の状態が示されている。
液晶の注入の手順は、概ね次の様になる。まず初めに、基板間の空気を排出して真空状態にする。次に、当該真空状態において、液晶３０が貯留されたタンクと、開口部１０ａとを接触させる。次に、基板間の圧力を真空状態から大気圧まで戻す。この結果、基板間に設けられた枠内外の圧力差によって、液晶３０はシール材２０の枠内に吸引される。
【００１１】
液晶３０の注入が終了すると、液晶３０が基板間から流出しないように封止する工程が行われる。図３において、封止材４０は、紫外線硬化型ジアリルフタレート樹脂（アリル樹脂）である。封止材４０は、開口部１０ａとその周辺部分を覆うように、液晶パネルの側面に塗布される。封止材４０の一部は、基板間に設けられた枠内に入り込み、封止材４０全体によって、液晶３０の流出を防止する。
【００１２】
ここで、このままの状態では前述の問題点が発生する可能性がある。従って、本実施形態に係る液晶パネルの製造方法においては、液晶封止工程の後に、封止材を被膜で覆う工程が行われる。図４は、この被膜が設けられた状態を示している。
被膜５０は、例えば、金属膜、ガラス膜、無機膜、ポリテトラフルオロエチレン（テフロン）膜、ポリイミド膜等である。例えば、ガラス膜の場合なら、スパッタリング装置を用いて均質な薄膜として成膜される。また、被膜５０は、化学気層堆積法（ＣＶＤ）等で設けても、更には筆状のもので塗布することによって設けてもよい。被膜５０は、液晶パネルの側面をコーティングすることにより、封止材４０全体を覆うように形成される。
【００１３】
図５は、図４において、Ａ−Ａ’線から破線矢印方向に切断した液晶パネルを、実線矢印方向から見た平面図である。この液晶パネルは、液晶３０を注入する際に基板間からはみ出した液晶を除去するために、超臨界二酸化炭素によって洗浄される。二酸化炭素は、臨界圧力が他の物質、例えば、窒素や水と比較して低いため取り扱いが容易で、更に、臨界温度が常温付近であり、熱によって液晶パネルを傷めることがないため、超臨界流体を使用した洗浄工程に好適である。
ここで、封止材４０に使用されるアリル樹脂は、超臨界状態の二酸化炭素が溶け込みやすいが、この封止材４０は、アリル樹脂よりも二酸化炭素が溶け込みにくい材料で構成された被膜５０により覆われている。従って、超臨界二酸化炭素による洗浄が行われたとしても、封止材４０への超臨界二酸化炭素の溶け込みが被膜５０によって妨げられ、気泡の発生が防止される。
【００１４】
尚、被膜５０は、エポキシ系樹脂で形成されていても良い。エポキシ系樹脂も、アリル樹脂と比較して超臨界状態の二酸化炭素が溶け込みにくいから、封止材４０内の発泡を抑制する効果を有している。また、エポキシ系樹脂は、シール材２０の構成材料であるから、新規に被膜５０を構成するための材料を用意する必要がなく、コストの増加を抑えることができる。
尚、本発明に係る被膜の材料は、本実施形態に記載した材料に限らない。パネルの洗浄に使用される超臨界流体が溶け込みにくい材料なら、本発明に係る効果を得ることができる。
また、液晶パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、電気泳動表示装置等のような各種の電気光学パネルに対しても本発明を同様に適用することができる。
【００１５】
＜第２実施形態＞
図６は、本発明の第２実施形態として、上記第１実施形態に係る製造方法によって製造された液晶パネルを用いた携帯電話機の構成を例示する斜視図である。同図において、携帯電話機９２は複数の操作ボタン９２１のほか、受話口９２２、送話口９２３とともに、上述の製造方法によって製造された液晶パネル４００を備えるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係り、基板に枠を設ける工程を説明する図。
【図２】同実施形態に係り、基板貼り合わせ工程を説明する図。
【図３】同実施形態に係り、液晶が封止された状態を説明する図。
【図４】同実施形態に係り、被膜が設けられた状態を説明する図。
【図５】図４において実線矢印方向から見た断面図。
【図６】本発明の第２実施形態に係る携帯電話機の構成を説明する図。
【符号の説明】１０・・・基板、１１・・・基板、１０ａ・・・開口部、２０・・・シール材、３０・・・液晶、４０・・・封止材、５０・・・被膜、９２・・・携帯電話機、４００・・・液晶パネル、９２１・・・操作ボタン、９２２・・・受話口、９２３・・・送話口。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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