(57)【要約】【課題】良好な反射特性を有する反射型ＬＣＤ用拡散反射板等の製造に使用される転写フィルムを提供する。【解決手段】ベースフィルム４にサンドブラスト処理したポリエチレンテレフタレートを用い、このフィルム上に薄膜層形成用溶液を塗布乾燥し薄膜層２を形成し、カバーフィルム５としてポリエチレンフィルムを被覆して転写フィルムを得た。この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜層がガラス基板に接するようにラミネートし、ガラス基板、薄膜層、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が積層された基板を得た。露光機で薄膜層が反応する光線を照射したのち、この基板からＰＥＴフィルムを剥がすと、薄膜層上にはサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、光の拡散性にすぐれた凹凸形状であった。【選択図】　　　図１
2004004750.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定機能を賦与する形状面が形成された仮支持体に、薄膜層が積層されており、前記薄膜層の前記仮支持体に積層されていない面が被転写基板への接着面を構成する転写フィルム。
【請求項２】
所定機能を賦与する形状面が、光を拡散反射し得る凹凸面である請求項１記載の転写フィルム。
【請求項３】
光を拡散反射し得る凹凸面と薄膜層の間に反射膜が積層された請求項２記載の転写フィルム。
【請求項４】
仮支持体が、所定機能を賦与する形状面が形成されたベースフィルムである請求項１〜３各項記載の転写フィルム。
【請求項５】
仮支持体が、ベースフィルムと所定機能を賦与する形状面が形成された下塗り層よりなる請求項１〜３各項記載の転写フィルム。
【請求項６】
基板の表面に請求項２記載の転写フィルムの薄膜層の被転写基板への接着面を貼り合わせる工程、
前記仮支持体を剥離して、前記基板に前記薄膜層を転写する工程、
前記薄膜層に反射膜を形成する工程
を備える拡散反射板の製造法。
【請求項７】
基板の表面に請求項３記載の転写フィルムの薄膜層の被転写基板への接着面を貼り合わせる工程、
前記仮支持体を剥離して、前記基板に前記薄膜層、前記反射膜を転写する工程を備える拡散反射板の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、バックライトを必要としない反射型液晶表示装置や高効率を必要とされる太陽電池の拡散反射板の製造等に使用される転写フィルム及びその転写フィルムを使用すた拡散反射板の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ティスプレイ（以下ＬＣＤと略す）は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファインダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予想されている。特に、外部から入射した光を反射させて表示を行う反射型ＬＣＤは、バックライトが不要であるために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点で携帯用端末機器用途として注目されている。
【０００３】
従来から反射型ＬＣＤにはツイステッドネマティック方式並びにスーパーツイステッドネマティック方式が採用されているが、これらの方式では直線偏光子により入射光の１／２が表示に利用されないことになり表示が暗くなってしまう。そこで、偏光子を１枚に減らし、位相差板と組み合わせた方式や相転移型ゲスト・ホスト方式の表示モードが提案されている。
【０００４】
反射型ＬＣＤにおいて外光を効率良く利用して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御することが必要である。基板に感光性樹脂を塗布しフォトマスクを用いてパターン化して凹凸を形成し、金属薄膜を形成して拡散反射板を形成する方法（特開平４−２４３２２６号公報）が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記の方法では凹凸を形成するために、各基板ごとにフォトマスクで露光し、現像する工程があるため、工程が複雑であり、低コスト、高生産性とは言えなかった。またフォトマスクでは現像、ポストベーク等の工程によって凹凸形状が変化しやすく一定の反射特性を持つ拡散反射板を安定に生産することが難しい。さらに反射特性を向上させる目的で、凹凸の高さを複数もつ拡散反射板を得たい場合、前記の方法では複数回の感光性樹脂の塗布、露光、現像が必要であるため工程がより煩雑となる。本発明は、良好な反射特性を有する反射型ＬＣＤ用拡散反射板等の製造に使用される転写フィルムを提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の転写フィルムは、所定機能を賦与する形状面が形成された仮支持体に、薄膜層が積層されており、前記薄膜層の前記仮支持体に積層されていない面が被転写基板への接着面を構成している。所定機能を賦与する形状面が光を拡散反射し得る凹凸面であるようにして、拡散反射板の製造用の転写フィルムとすることができる。この場合、光を拡散反射し得る凹凸面と薄膜層の間に反射膜が積層された構成とすることができる。仮支持体としては、所定機能を賦与する形状面が形成されたベースフィルム又はベースフィルムと所定機能を賦与する形状面が形成された下塗り層よりなるものが使用される。
【０００７】
所定機能を賦与する形状面が光を拡散反射し得る凹凸面となるようにした転写フィルムを使用し、転写フィルムの薄膜層の被転写基板への接着面を基板の表面に貼り合わせ、仮支持体を剥離して基板に薄膜層を転写し、更に薄膜層に反射膜を形成することにより拡散反射板を製造することができる。また、所定機能を賦与する形状面が光を拡散反射し得る凹凸面となるようにし、光を拡散反射し得る凹凸面と薄膜層の間に反射膜を積層した転写フィルムを使用し、転写フィルムの薄膜層の被転写基板への接着面を基板の表面に貼り合わせ、仮支持体を剥離して基板に薄膜層、反射膜を転写することにより拡散反射板を製造することができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】
図１、２は本発明の転写フィルムの一例を示す断面図、図３、４は本発明の転写フィルムを使用して製造された拡散反射板の一例を示す断面図、図５は反射型ＬＣＤの断面図であり、図中１はガラス基板、２は薄膜層、３は反射膜、４はベースフィルム、５はカバーフィルム、１１はカラーフィルタ、１２はブラックマトリクス、１３は透明電極、１４は平坦化膜、１５は配向膜、１６は液晶層、１７はスペーサ、１８は位相差フィルム、１９は偏光板を示す。
【０００９】
表面が多数の微細な凹凸を有する状態に加工処理されたベースフィルム、薄膜層、カバーフィルムが順次積層された転写フィルムを用いて、カバーフィルムを剥がしながら基板に薄膜層が接するようにラミネートして基板上に薄膜層とベースフィルムを積層し、前記ベースフィルムを剥離することで基板上に表面に多数の微細な凹凸を有する薄膜層を形成できる。これに更に金属薄膜等の反射膜を形成すれば所望の拡散反射板が得られる。また、あらかじめ薄膜層とベースフィルムの間に反射膜を積層した転写フィルムを用いて、カバーフィルムを剥がしながら基板に薄膜層が接するようにラミネートし、基板上に薄膜層、反射膜、ベースフィルムを積層し、前記ベースフィルムのみを剥離すると所望の拡散反射板が得られる。
【００１０】
転写フィルムの仮支持体としては、表面に多数の微細な凹凸を有するベースフィルム又はベースフィルムと表面に多数の微細な凹凸を有する下塗り層よりなることができる。ベースフィルムは、表面に多数の微細な凹凸を有する状態に加工処理された原型を押し当てることによって製造されたものを用いることもできる。また、ベースフィルムに、変形可能な下塗り層を設け、この層に多数の微細な凹凸を有する状態に加工処理された原型を押し当てる工程、下塗り層を硬化する工程により形成したものが使用できる。またベースフィルムの表面がサンドブラスト処理されたものを用いることもできる。
【００１１】
本発明の多数の微細な凹凸を有する状態に加工処理された仮支持体の作製方法の一例は、文献「続・わかりやすい光ディスク（オプトロニクス社、平成２年発行）」に示されている。すなわち、ガラス板上にフォトレジストを塗布後、所定のマスクパターンを有するフォトマスクを用いて露光し現像するか、またはレーザーカッティングした後、パターン形成面に真空蒸着法やスパッタリング法等により銀またはニッケル膜を形成（導電化処理）し、ニッケルを電鋳により積層して、ガラス板から剥離する工程によってファーザー原型を作製することができる。このファザー原型に剥離処理を行い再度ニッケル電鋳を行い、ファザー原型から剥離してマザー原型を作製し、このマザー原型を使用して多数の微細な凹凸を形成することができる。
【００１２】
多数の微細な凹凸を有する仮支持体は、シート状、平板またはロール状または曲面の一部等の基材の表面に全面または必要な部分に多数の微細な凹凸が形成されたものを用いることができ、加圧装置に貼り付けたり、凹凸を形成する面と加圧装置との間に挟み込んで用いてもよい。押し当てる工程で熱、光等を与えてもよい。
【００１３】
多数の微細な凹凸を有する仮支持体の凹凸の程度は、通常、薄膜層を硬化することで変形することを考慮し設計する必要がある。薄膜層の硬化による変形率をａとすると、薄膜層の硬化後の形状として、凹部と凸部の高さの差が０．１μｍ〜１５μｍ、さらには、０．１μｍ〜５μｍ、凸部のピッチが０．７μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下、さらには２μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下であることが好ましい。
【００１４】
図６に本発明の拡散反射板の反射特性の測定装置を示す。反射光線２１と入射光線２２のなす角度をθとすると、必要とされるθの範囲で拡散反射板の法線方向で観測される輝度すなわち反射強度を大きくすれば反射特性に優れる拡散反射板が得られる。必要とされるθの範囲が−６０°〜６０°である場合、図７に示すような凹曲面で凹凸が形成されている拡散反射板は、図８に示したように凹部と凸部の高さＨと、凸部のピッチＰの関係がＰ＝７×Ｈの関係式で示される直線付近であれば、反射特性に優れる拡散反射板が得られる。また、θが−１５°〜１５°の場合は、Ｐ＝３０×Ｈの関係式で示される直線付近であれば反射特性に優れる拡散反射板が得られる。このことは、法線に対し拡散反射を６０度の範囲の光源で得ようとし、さらに１５度の範囲でより強く得ようとする場合、Ｐ＝７×Ｈの関係式とＰ＝３０×Ｈの関係式で示される２つの直線付近の領域を複合した形状にできればよいことを示す。むろん、前述の２つの直線付近の範囲にすべての凹凸が含まれるとは限定しない。なぜなら凹凸形状作製プロセス上複数の形状が形成されることは当然であるからである。また、液晶層のギャップ均一性や光の干渉の影響を考慮しなければならない。
【００１５】
したがって、仮支持体の凹凸の程度は、凸曲面で凹部と凸部の高さの差が０．１×ａμｍ〜１５×ａμｍ、さらには、０．１×ａμｍ〜５×ａμｍ、凸部のピッチが０．７μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下、さらには２μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下であることが好ましい。ａの値は、薄膜層の材質により異なり、例えば、２であったり、１あるいは０．７であることもある。以上は図７に示すような凹曲面で拡散反射板の凹凸を形成した場合の例であるが、図９に示すような凹凸複合の曲面で拡散反射板の凹凸を形成した場合、法線に対し６０度以内の光源からの拡散反射は、図１０に示すような凹部と凸部の高さＨと、凸部のピッチＰの関係がＰ＝３．５×Ｈの関係式で示される直線付近であれば反射特性に優れる。凹凸形状は、面内に周期的に並んでいる必要はなく、不規則であってもよい。また反射型ＬＣＤの場合、画素ピッチと異なる周期性が凹凸形状にあるとモアレが発生するので、凹凸の周期性は、画素ピッチと同じかまたは整数で割れる周期、あるいは不規則な配列で凹凸が並んでいることが好ましい。
【００１６】
また、凹凸の面形状は特に限定されないが、複合平面だけでなく凹曲面あるいは凸曲面、凹凸複合の曲面、さらには球面や放物面に近似した凹曲面あるいは凸曲面、凹凸複合の曲面であることが好ましい。なぜなら、曲面とすることで、より広範囲の光源位置からの拡散反射光を期待できるからである。
【００１７】
本発明のベースフィルムとしては、化学的、熱的に安定であり、シートまたは板状に成形できるものを用いることができる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル、あるいはアルミ、銅等の金属類等である。これらの中で特に好ましいのは寸法安定性に優れた２軸延伸ポリエチレンテレフタレートである。
【００１８】
薄膜層としては変形可能な有機重合体を含む組成物または無機化合物、金属を用いることができるが、好ましくは支持体上に塗布しフィルム状に巻き取ることが可能な有機重合体組成物を用いる。またこの中に必要に応じて、染料、有機顔料、無機顔料、粉体及びその複合物を単独または混合して用いてもよい。薄膜層には感光性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物を用いることもできる。これら薄膜層の誘電率、硬度、屈折率、分光透過率は特に限定されない。
【００１９】
そのようなものの中で、被転写基板に対する密着性が良好で、ベースフィルムからの剥離性がよいものを用いるのが好ましい。たとえばアクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル等を用いることができる。また感光性を有するものを用いることができる。場合によっては基板の凹凸が必要な部分だけを残し、不要な部分を除けるように、アルカリ等で現像可能な感光性樹脂を用いることもできる。耐熱性、耐溶剤性、形状安定性を向上させるために、凹凸形成後に熱または光によって硬化可能な樹脂組成物を用いることもできる。さらに、カップリング剤、接着性付与剤を添加することで基板との密着を向上させることもできる。接着を向上させる目的で基板または薄膜層の接着面に接着性付与剤を塗布することも含まれる。
【００２０】
アルカリで現像可能な樹脂としては、酸価が２０〜３００、重量平均分子量が１，５００〜２００，０００の範囲に入っているものが好ましく、例えばスチレン系単量体とマレイン酸との共重合体又はその誘導体（以下、ＳＭ系重合体という）、アクリル酸又はメタクリル酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量体とスチレン系単量体、メチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート、同様のアルキル基を有するアルキルアクリレート等の単量体との共重合体が好ましい。
【００２１】
ＳＭ系共重合体は、スチレン、α−メチルスチレン、ｍ又はｐ−メトキシスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、３−ヒドロキシメチル−４ヒドロキシ−スチレン等のスチレン又はその誘導体（スチレン系単量体）と無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノ−ｎ−プロピル、マレイン酸モノ−ｉｓｏ−プロピル、マレイン酸−ｎ−ブチル、マレイン酸モノ−ｉｓｏ−ブチル、マレイン酸モノ−ｔｅｒｔ−ブチル等のマレイン酸誘導体を共重合させたもの（以下、共重合体（Ｉ）という）がある。共重合体（Ｉ）には、メチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート等のアルキルメタクリレート等、前記した共重合体（Ｉ）を反応性二重結合を有する化合物で、変性したものがある（共重合体（ＩＩ））。
【００２２】
上記共重合体（ＩＩ）は、共重合体（Ｉ）中の酸無水物基又はカルボキシル基に不飽和アルコール、例えばアリルアルコール、２−ブラン−１−２−オールフルフリルアルコール、オレイルアルコール、シンナミルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリアミド等の不飽和アルコール、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等のオキシラン環及び反応性二重結合をそれぞれ１個有するエポキシ化合物と反応させることにより製造することができる。この場合、アルカリ現像を行うために必要なカルボキシル基が共重合体中に残っていることが必要である。ＳＭ系重合体以外のカルボキシル基を有する重合体も、上記と同様に反応性二重結合の付与は、感光度の点から好ましい。これらの共重合体の合成は特公昭４７−２５４７０号公報、特公昭４８−８５６７９号公報、特公昭５１−２１５７２号公報等に記載されている方法に準じて行うことができる。薄膜層の膜厚は、凹凸を有する仮支持体の凹凸の高低差より厚く形成すると凹凸形状を再現しやすい。膜厚が等しいあるいは薄いと凹凸形状が変形する。また、凹凸を形成する場合後述する問題が発生する場合がある。
【００２３】
本発明の下塗り層としては、凹凸形成後は薄膜層よりも硬いものが好ましい。例えばポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル、エチレンとアクリル酸エステル、エチレンとビニルアルコールのようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルとビニルアルコールの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルのようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステルのようなビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニルのような（メタ）アクリル酸エステルの共重合体、合成ゴム、セルローズ誘導体等から選ばれた、少なくとも１種類以上の有機高分子を用いることができる。凹凸形成後硬化させるために必要に応じて光開始剤やエチレン性二重結合を有するモノマ等を予め添加することができる。また感光タイプをネガ型材を利用することで示したが、ポジ型であっても問題はない。
【００２４】
本発明の薄膜層や下塗り層の塗布方法としては、ロールコータ塗布、スピンコータ塗布、スプレー塗布、ホエラー塗布、ディップコータ塗布、カーテンフローコータ塗布、ワイヤバーコータ塗布、グラビアコータ塗布、エアナイフコータ塗布等がある。仮支持体上等に上記の方法で薄膜層または下塗り層組成物を塗布する。
【００２５】
反射膜としては、反射したい波長領域によって材料を適切に選択すれば良く、例えば反射型ＬＣＤ表示装置では、可視光波長領域である３００ｎｍから８００ｎｍにおいて反射率の高い金属、例えばアルミニウムや金、銀等、を真空蒸着法またはスパッタリング法等によって形成する。また反射増加膜（光学概論２（辻内順平、朝倉書店、１９７６年発行）に記載）を上記の方法で積層してもよい。反射膜の厚みは、０．０１μｍ〜５０μｍが好ましい。また反射膜は、必要な部分だけフォトリソグラフィー法、マスク蒸着法等によりパターン形成してもよい。
【００２６】
本発明の転写フィルムのカバーフィルムとしては、化学的および熱的に安定で、薄膜層との剥離が容易であるものが望ましい。具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルアルコール等の薄いシート状のもので表面の平滑性が高いものが好ましい。剥離性を付与するために表面に離型処理をしたものも含まれる。
【００２７】
また、それぞれの転写フィルムの基板への転写後の剥離面は、薄膜層とベースフィルムとの間、また反射膜がある場合には反射膜とベースフィルムあるいは反射膜と下塗り層の間となる。但し、目的によっては下塗り層と反射膜があるフィルム構造の場合で、下塗り層を基板に積層するため、下塗り層とベースフィルムの間を剥離面に設定することが出来る。下塗り層を基板に積層する目的として、反射膜を電極として用いる場合の電気絶縁層としての機能を下塗り層に持たせる場合、あるいは反射膜凹凸の平坦化層としての役割を下塗り層に持たせる場合、下塗り層に感光性樹脂を用いて、反射膜のエッチングレジストとしての役割を持たせる場合、更に下塗り層を着色し、反射膜の部分的な遮光層としての役割を持たせる場合等がある。
【００２８】
仮支持体上の薄膜層、反射膜を基板に転写する方法としては、カバーフィルムを剥がし、基板上に加熱圧着すること等がある。さらに密着性を必要とする場合には基板を必要な薬液等で洗浄したり、基板に接着付与剤を塗布したり、基板に紫外線等を照射する等の方法を用いてもよい。本発明の転写フィルムをラミネートする装置としては基板を加熱、加圧可能なゴムロールとベースフィルムとの間に挟み、ロールを回転させて、転写フィルムを基板に押し当てながら基板を送りだすロールラミネータを用いることが好ましい。このようにして基板表面に形成した薄膜層の膜厚は、０．１μｍ〜５０μｍの範囲が好ましい。このとき凹凸形状の最大高低差より薄膜層の膜厚が厚い方が凹凸形状を再現しやすい。膜厚が等しいあるいは薄いと原型凸部で薄膜層を突き破ってしまい、平面部が発生し拡散反射を効率よく得にくくなる。
【００２９】
この薄膜層にネガ型感光性樹脂を用いた場合には、その形状の安定性を付与するために露光機により露光を行い、感光部分を硬化させる。本発明に適用し得る露光機としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ等が挙げられる。この露光装置は画素及びＢＭ等のパターン形成用の平行露光機でも良いが、本発明では予め形成された凹凸を硬化させることで出来れば良く、このためには感光性樹脂が硬化する露光量以上の光量を与えておけばよい。従って、一般に基板洗浄装置として利用されているラインに組み込める散乱光を用いるＵＶ照射装置を用いることが出来る。これらの装置を用いることによって、フォトマスクを用いる手法に比べて安価に作製でき、フォトマスクを用いる場合に比べ、露光量に対する裕度が大きい。また感光タイプをネガ型材を利用することで示したが、ポジ型であっても問題はない。露光は支持体を剥がす前、または剥がした後に行う。基板への密着性、追従性を向上させる目的で、ベースフィルムにクッション層を設けてもよい。
【００３０】
以上反射型ＬＣＤ表示装置で説明したが、本発明の転写フィルムで製造された拡散反射板は外部光線を拡散反射させることが必要なデバイスに用いることが出来る。例えば太陽電池の効率向上を目的とした拡散反射板がある。また本発明の転写フィルムは遮光板、装飾板、スリガラス、投影スクリ−ンの白色板、光学フィルタ、集光板、減光板等の製造に使用することができる。このように、本発明の転写フィルムはガラス板、合成樹脂板、合成樹脂フィルム、金属板、金属箔いかなるものにも転写することができ、被転写基板面は、平面のみならず曲面、立体面でも良い。
【００３１】
【実施例】
実施例１
図１により説明する。ベースフィルム４に厚さ５０μｍのサンドブラスト処理したポリエチレンテレフタレートを用い、このフィルム上にコンマコータで６μｍの膜厚となるように下記の薄膜層形成用溶液を塗布乾燥し薄膜層２を形成し、カバーフィルム５としてポリエチレンフィルムを被覆して図１に示すような転写フィルムを得た。
薄膜層形成用溶液：ポリマーとしてスチレン、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸、グリシジルメタクリレート共重合樹脂を用いた（ポリマーＡ）。分子量は約３５０００、酸価は１１０である。部は重量部（以下同じ）。
2004004750.tif 000003
次に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜層がガラス基板に接するようにラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製）を用いて、基板温度１００℃、ロール温度１００℃、ロール圧力６ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板、薄膜層、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が積層された基板を得た。露光機（大型マニュアル露光機、ＭＡＰ１２００、大日本スクリーン社製）で薄膜層が反応する光線を５００ｍＪ／平方ｃｍ照射したのち、この基板からＰＥＴフィルムを剥がすと、薄膜層上にはサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、光の拡散性にすぐれた凹凸形状であった。耐熱性を得るために２４０℃、２０分間オーブン（クリーンオーブンＣＳＯ−４０２、楠本化成製）で熱硬化を行い、これにＡｌ薄膜をスパッタリング法により０．１μｍの厚みになるように反射膜を積層した。こうして作製した拡散反射板の反射強度（標準白色板に対する相対強度）の入射角度依存性を図１１に示す（方位角（φ）を一定とした場合）。入射角度−６０°〜６０°の範囲で十分な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることができた。図２に示すように、ベースフィルム４の凹凸面に予め反射膜３を形成しておき、反射膜３上に薄膜層２を形成し、カバーフィルム５としてポリエチレンフィルムを被覆して転写フィルムを得ることもできる。この場合はベースフィルム４を剥離することで拡散反射板を得ることができる。
【００３２】
実施例２
図１３に示すように、ベースフィルム４に厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベースフィルム４上に下記組成の感光性樹脂組成物を溶剤（プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート）で溶解し、コンマコーターで１．５μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し下塗り層６とした。
感光性樹脂溶液（％は重量％）：
アクリル酸ーブチルアクリレートービニルアセテート共重合樹脂　３３％
ブチルアクリレート（モノマー）　　　　　　　　　　　　　　　５３％
ビニルアセテート（モノマー）　　　　　　　　　　　　　　　　　８％
アクリル酸（モノマー）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２％
ヘキチンジオールアクレレート（モノマー）　　　　　　　　　　　１％
ベンゾインイソブチルエーテル（光開始剤）　　　　　　　　　　　３％
次に不規則なパターンを有するフォトマスクを介して、ベースフィルム上の感光性樹脂層（下塗り層６）を不規則なパターン（平均ピッチ１５μｍ）に感光させた。露光機は大型マニュアル露光機（ＭＡＰ１２００、大日本スクリーン社製）を用い、５００ｍＪ／平方ｃｍ照射した。現像液（炭酸ナトリウム水溶液０．５％）を用い、１分間バットで現像することで、不規則な凹凸形状を感光性樹脂層（下塗り層６）の表面に形成した。次に感光性樹脂層（下塗り層６）上に実施例１と同様の薄膜層形成用溶液をコンマコーターで６μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し薄膜層２を形成し、カバーフィルム５としてポリエチレンフィルムを被覆して図５に示すような転写フィルムを得た。次に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜層２がガラス基板に接する様にラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製）を用いて基板温度２０℃、ロール温度９０℃、ロール圧力６ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜層、感光性樹脂層（下塗り層６）、ベースフィルム４が積層された基板を得た。露光機（大型マニュアル露光機、ＭＡＰ１２００、大日本スクリーン社製）で薄膜層が反応する光線を５００ｍＪ／平方ｃｍ照射したのち、次にベースフィルム４、感光性樹脂層（下塗り層６）を剥離し、ガラス基板上に不規則な凹凸形状の表面の薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０ｍｉｎの熱硬化をし、真空蒸着法で、銀薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射膜を形成した。これによって得られた拡散反射板は、反射特性に優れ、反射型ＬＣＤ用拡散反射板として使用可能であった。これによって得られた拡散反射板の平均高低差は１．２μｍであった。
【００３３】
実施例３
ベースフィルムに厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベースフィルム上に実施例２と同様な光硬化性樹脂溶液をコンマコーターで２０μｍの膜厚になるよう塗布乾燥した。次に不規則なパターンを有するロール状の原盤を押しあて紫外線を照射し光硬化性樹脂を硬化しロール原盤を分離し、不規則な凹凸形状を光硬化性樹脂層（下塗り層）の表面に形成した。次に光硬化性樹脂層（下塗り層）上に実施例１と同様な薄膜層形成用溶液をコンマコーターで２μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し、カバーフィルムとしてポリエチレンフィルムを被覆して転写フィルムを得た。次に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜層がガラス基板に接する様にラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製）を用いて基板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロール圧力７ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムが積層された基板を得た。次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムを剥離し、ガラス基板上に不規則な凹凸形状の表面の薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０ｍｉｎの熱硬化をし、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成した。図１２には方位角（φ）を一定とした場合の反射強度（標準白色板に対する相対強度）の入射角度依存性を示す。入射角度−６０°〜６０°の範囲で十分な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることができることが分かった。
【００３４】
実施例４
図１４に示すように、ベースフィルム４に厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベースフィルム４上に光硬化性樹脂溶液をコンマコーターで３μｍの膜厚になるよう塗布乾燥した。次に不規則なパターンを有するロール状の原盤を押しあて紫外線を照射し光硬化性樹脂を硬化しロール原盤を分離し、不規則な凹凸形状を光硬化性樹脂層（下塗り層）６の表面に形成した。次にこの不規則な凹凸形状を光硬化性樹脂層（下塗り層）６の表面にスパッタ法でアルミニウム薄膜を０．１μｍの膜厚になるよう積層し反射膜３を形成し、さらにこのアルミニウム薄膜の反射膜３上に薄膜層形成用溶液をコンマコーターで２μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し薄膜層２とした。薄膜層２上にカバーフィルム５としてポリエチレンフィルムを被覆して図１４に示すような転写フィルムを得た。次に、図１５に示すようにこの転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜層がガラス基板に接する様にラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製）を用いて基板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロール圧力７ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜層２、アルミニウム薄膜の反射膜３、光硬化性樹脂層（下塗り層）６、ベースフィルム４が積層された基板を得た。次にベースフィルム４のみを剥離し、不規則な凹凸形状の表面の層２、アルミニウム薄膜の反射膜３、光硬化性樹脂層（下塗り層）６が積層されたガラス基板を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０ｍｉｎの熱処理を行った。これによって得られた拡散反射板は、反射特性に優れ、反射型ＬＣＤ用拡散反射板として使用可能であった。
【００３５】
【発明の効果】
本発明の転写フィルムにより反射型液晶表示装置等に使用される良好な反射特性を有する拡散反射板を効率良く製造することができ、凹凸面をあらかじめ適切に設定しておくことによって、拡散反射板の反射特性を自由に制御でき、かつ再現性のよい反射特性が得られる。このように、本発明の転写フィルムにより所定機能をもつ表面形状を適宜の基板に容易に賦与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。
【図２】本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。
【図３】本発明の転写フィルムを使用して製造された拡散反射板の一例を示す断面図。
【図４】本発明の転写フィルムを使用して製造された拡散反射板の一例を示す断面図。
【図５】反射型ＬＣＤの断面図。
【図６】拡散反射板の反射特性の測定装置を示す斜視図。
【図７】本発明の転写フィルムを使用して製造された拡散反射板の一例を示す断面図。
【図８】図７に示す拡散反射板の正面と光源がなす角度と凹凸部の高さの差と凸部のピッチとの関係を示すグラフ。
【図９】本発明の転写フィルムを使用して製造された拡散反射板の一例を示す断面図。
【図１０】図９に示す拡散反射板の正面と光源がなす角度と凹凸部の高さの差と凸部のピッチとの関係を示すグラフ。
【図１１】実施例１の拡散反射板の反射特性の入射角依存性を示すグラフ。
【図１２】
実施例３の拡散反射板の反射特性の入射角依存性を示すグラフ。
【図１３】本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。
【図１４】本発明の転写フィルムの一例の製造工程を示す断面図。
【図１５】本発明の転写フィルムを使用した拡散反射板の製造例を示す断面図。
【符号の説明】
１．ガラス基板
２．薄膜層
３．反射膜
４．ベースフィルム
５．カバーフィルム
６．下塗り層
１１．カラーフィルタ
１２．ブラックマトリクス
１３．透明電極
１４．平坦化膜
１５．配向膜
１６．液晶層
１７．スペーサ
１８．位相差フィルム
１９．偏光板
２０．試料
２１．反射光線
２２．入射光線
２３．輝度計
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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