(57)【要約】【課題】照明光領域の品質を測定する。【解決手段】この較正システムは、作像ヘッド、レーザー照明光のラインの一部が通過できる較正用の開口部、および較正ユニットを含んでいる。作像ヘッドは、遅い操作方向においてレーザー照明光のラインを作像するために作像面に対し遅い操作方向に動くことができる。較正用の開口部は、レーザー照明光のラインの最小のアドレス可能な画素の作像スポッとの半値全幅最大距離よりも大きい幅を遅い操作方向にもっている。較正ユニットは較正用の開口部を通してレーザー照明光ラインの一部を受け取り、受け取られたレーザー照明光ラインの部分を処理する。【選択図】　　　図１
2004042603.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー・ライン照明光源を含む作像システムと共に使用する較正システムにおいて、該較正システムは、
遅い走査方向においてレーザー照明光ラインを作像するための、作像面に関して該遅い走査方向に沿って動くことができる作像ヘッド；
該レーザー照明光ラインの一部が通過することができる較正用の開口部を内部に有するマスクであって、該較正用の開口部は遅い走査方向において該レーザー照明光ラインの最も小さいアドレス可能な画素の作像スポットの半値全幅最大距離よりも大きい幅を有するマスク；および
該較正用の開口部を通る該レーザー照明光ラインの一部を受け取り、該レーザー照明光ラインの該受け取った部分を処理するための検出器を含む較正ユニットを具備していることを特徴とする較正システム。
【請求項２】
レーザー・ライン照明光源を含む作像システムと共に使用する較正システムにおいて、該較正システムは
遅い走査方向においてレーザー照明光ラインを作像するための、作像面に関して該遅い走査方向に沿って動くことができる作像ヘッド；
該作像ヘッドの所で較正用の信号を生成する較正用の信号源であって、該較正用の信号では該照明光ラインの画素はそれぞれｎ番目毎に光らせられ、ここでｎは１よりも大きい較正用の信号源；
作像ヘッドが該遅い走査方向に動く際各画素に対する照明光が通過することができる較正用の開口部を内部に有するマスクであって、該較正用の開口部は遅い走査方向において各画素の該照明光の幅よりも大きい幅を有するマスク；および各画素に対する照明光を該較正用の開口部を通して受け取り、各画素に対する受け取られた照明光の信号の最大振幅を同定することにより該較正用の開口部を通って受け取られた各画素に対する照明光を少なくとも部分的に処理するための検出器を含む較正ユニットを具備していることを特徴とする較正システム。
【請求項３】
レーザー・ライン照明光源を含む作像システムと共に使用する較正システムにおいて、該較正システムは
該作像面の所で較正用の信号を生成する較正用の信号源であって、該較正用の信号では該照明光ラインの画素はそれぞれｎ番目毎に光らせられ、ここでｎは２よりも大きい較正用の信号源；
該レーザー照明光ラインが遅い走査方向に動く際各画素に対する照明光が該開口部を通過することができる較正用の開口部を内部に有するマスクであって、該較正用の開口部は遅い走査方向において各画素の該照明光の幅よりも大きい幅を有するマスク；および
各画素に対する照明光を該較正用の開口部を通して受け取り、各画素に対する受け取られた照明光の信号の最大振幅を同定することにより該較正用の開口部を通って受け取られた各画素に対する照明光を少なくとも部分的に処理するための検出器を含む較正ユニットを具備していることを特徴とする較正システム。
【請求項４】
作像システムにおいてレーザー・ライン照明光の信号を較正する方法において、該方法は、
作像面の所で較正用の信号をつくり、該較正用信号ではレーザー照明光ラインの画素がｎ番目毎に光るようにし、ここでｎは２より大きく、
レーザー照明光ラインが遅い走査方向に動く際各画素に対する照明光が通ることができる較正用の開口部を内部に有するマスクの上に、それぞれｎ番目毎に画素を光らせられたレーザー照明光ラインを通し、ここで該較正用の開口部は各画素に対する照明光の幅よりも大きな幅を遅い走査方向においてもっており；
、該較正用の開口部を通して各画素に対する照明光を受け取り；
各画素に対する受け取られた照明光の信号の最大振幅を同定することにより、該較正用の開口部を通して受け取った各画素に対する照明光を少なくとも部分的に処理する過程を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項５】
レーザー・ライン照明光源を含む作像システムと共に使用する較正システムにおいて、該較正システムは
遅い走査方向においてレーザー照明光ラインを作像するための、作像面に関して該遅い走査方向に沿って動くことができる作像ヘッド；
該作像ヘッドの所で較正用の信号を生成する較正用の信号源であって、該較正用の信号では該照明光ラインの画素はそれぞれｎ番目毎に光らせられ、ここでｎは１よりも大きい較正用の信号源；
該作像ヘッドが該遅い走査方向に動く際各画素に対する照明光が通過することができる較正用の開口部を内部に有するマスクであって、該較正用の開口部は遅い走査方向において各画素に対する該照明光の幅よりも大きい幅を有するマスク；および
各画素に対する照明光を該較正用の開口部を通して受け取り、各画素に対する受け取られた照明光の信号の最大振幅を同定することにより該較正用の開口部を通って受け取られた各画素に対する照明光を少なくとも部分的に処理するための検出器を含む較正ユニットを具備していることを特徴とする較正システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【本発明の背景】
本発明は一般にレーザー・ライン照明光システムの分野に関し、特にレーザー・ライン照明光システムから照明光領域の品質を測定するシステムおよび方法に関する。
【０００２】
レーザー・ライン照明光システムでは、一般に線の形をしたレーザー照明光領域を生じる光学系に連結されている例えば発光ダイオードのような光源の配列が使用される。この光学系は例えばレンズ、微小レンズおよび鏡、並びに光ファイバーのケーブルなどを含む種々の光学要素を含んでいる。
【０００３】
このようなシステムは多くの用途、例えばレーザー・ラインを使用して多数の画素を同時に作画する作画システムに使用することができる。このようなシステムにおいては、照明光領域は、照明光領域の規定された部分を選択的に反射するか透過することにより照明光領域を変調する光変調器の方へ向いていることができる。変調された照明光領域は次に該表面の描画可能な一部を選択的に作画することができる作画面の方へ向う。この時照明光領域または作画面（例えばドラム）のいずれかは相対的に動き、該作画面の他の部分を順次作画することができる。
【０００４】
レーザー・ライン照明光システムの照明光領域は不均一なために、検出または補正することが困難な著しい描画の不整合性が生じる。さらに、作画システムからの信号の雑音が変調された照明光領域の品質に影響を与え、これは作画媒体にまで達する。
【０００５】
このようなレーザー・ライン照明光システムは、作画システムのアドレス可能な各画素（即ちピクセル）に対して均一な形および強度の分布をもつ照明光領域をもっていることが望ましい。
【０００６】
レーザー・ライン照明光システムはこのような不均一性をもったレーザー・ラインを生じ、また作画システムはシステムの雑音のために不均一な変調された照明光領域を生じるから、或る種の作画システムではレーザーの照明光および／または変調器のラインを修正または調節するための較正システムが使用される。このような較正システムは典型的には、シャッターを作画ヘッドに対して固定した位置に置き、シャッターを通じてレーザー・ラインの一部を作画する。各ピクセルからの信号の強さは例えば各ピクセルに伴った信号の半値全幅最大距離（ｆｕｌｌ　ｗｉｄｔｈ　ｈａｌｆ　ｍａｘｉｍｕｍ（ＦＷＨＷ））の値から決定され、この幅は典型的には少なくともシャッターの開口部の大きさ程度の大きさをもっている。次いでこのシステムにより種々のピクセルの強度を調節し、例えば各光源に付属したディジタル−アナログ変換器（ＤＡＣ）に対し別々にアドレスを付けるか、或いは変調器の動作を変更することによってすべてのピクセルが同じ強度をもつようにする。
【０００７】
しかしこのようなシステムは、レーザー・ライン照明光領域を用いる作画システムのすべての不均一性を修正するには十分ではないことが見出だされた。個々のピクセルに対して記録されたエネルギーは時間と共に或る程度変動し、また該システムの温度の増加と共に著しく変動し、或いはまたレーザーの平均出力を媒体の露出に対する要求に合致させるように調節すると変動する。或る種のシステムは標本の較正信号の時間平均を使用しているが、単一のピクセルに対し多数の較正用の信号の読みを記録することは必ずしも実用的ではない。さらに、或る種の作画システムではシャッターが必要な時間だけ開いている間照明光のラインを静止した位置に置くことは実用的ではない。このことは作画ヘッドが正確におよび／または作画システムの出力の要求に応じて或る位置に保持される能力をもっているためである。
【０００８】
従って作画システムにおいてレーザー・ライン照明光領域における不均一性を検出し、不均一性を較正して補正する改善されたシステムおよび方法が必要とされている。
【０００９】
【本発明の概要】
本発明によれば、レザー照明光源を含む作像システムと共に使用するための較正システムが提供される。この較正システムは作像ヘッド、レーザー照明光ラインの一部が通過し得る較正用の開口部をもつマスク、および較正ユニットを含んでいる。該作像ヘッドは遅い操作方向においてレーザー照明光のラインを作像するために作像面に関して遅い操作方向に沿って動くことができる。較正用の開口部は、レーザー照明光のラインの最小のアドレス可能な画素の作像スポットの半値全幅最大距離よりも大きい幅を遅い操作方向にもっている。較正ユニットは較正用の開口部を通してレーザー照明光ラインの一部を受け取り、レーザー照明光のラインの受け取った部分を処理する。
【００１０】
添付図面を参照し下記の説明により本発明をさらに説明する。添付図面は単に例示の目的のためであり、正しい尺度の割合に合わせて描かれてはいない。
【００１１】
【本発明の詳細な記述】
図１に示されているように、本発明の一具体化例の較正システムを組み込んだ作画システムは照明光源１０、例えばレーザー発光体の配列およびそれに付属した光学系、１個またはそれ以上の視野レンズを含む視野レンズ・システム１２、光変調器１４、作像光学系を含む作像ヘッド１６、および記録媒体１８を支持する作像ドラムを含んでいる。一般に照明光領域は所望の画像を得るために記録媒体の上に選択的に焦点が合わせられている。またこのシステムは、図２および３にさらに示されているように、作像ドラムの片側に隣接して較正ユニット２０を含んでいる。照明光源１０は連続波のエネルギーをもつラインを発生し発光させる。図１に示される光変調器１４は反射的な装置であり、好適具体化例においては反射による回折光の光弁（ＧＬＶ）を具備している。例えばＧＬＶからの照明光領域の０次の回折像は作像光学系によって熱感性記録媒体の上に作像され、高次の回折像は適切な光学装置によって遮断することができる。即ち光学系１６は照明光領域２２を経て光変調器１４からの像を記録媒体１８へと送り出す。
【００１２】
図２および３に示されているように、本発明の較正システムを含む作像システムは、記録媒体１８を支持するドラムの近所に位置した較正ユニット２０を含んでいる。この較正ユニット２０は中にスリットを有するマスク２４を含んでおり、作像ヘッド１６が一般にＡで示される遅い走査方向に動く時に照明光領域２２の一部はこのマスクを通過することができる。種々の具体化例においては、スリットの開口部は照明光領域を較正ユニットの中に入れることができる不透明ガラスのエッチングされた部分であることができる。スリットの開口部の幅はシステムの最小のアドレス可能なピクセルに対するＦＷＨＭ距離（即ち１／ｅ２距離）より大きいことができる。例えばスリットの開口部はＦＷＨＭ距離（即ち１／ｅ２距離）の２または３倍であることができる。さらに他の具体化例においては、較正ユニットに到達する光の量を均一に減少させるために色合いが付けられていることができる。さらに他の具体化例においては、スリットの開口部は矩形でない形をしており、また較正ユニットにさらに他の情報を与えるために非対称形をもつことさえもできる。図３に示されているように、較正ユニットはスリットが記録媒体の作像面の中にあり、照明光領域がスリットの上をＡの所で示される方向に走査される際、作像領域の一部がスリットの開口部を通るように位置している。
【００１３】
スリットの上で照明光領域を走査しながら、ラインのピクセルをそれぞれｎ番目毎に光らせる（ｉｌｌｕｍｉｎａｔｅ）ことができる。例えば４個毎に（即ち１番目、５番目、９番目等）ピクセルを光らせることができる。従って光らせられた各ピクセルの間の幅はスリットの幅よりも大きく、ピクセルを識別するための信頼性をもった手段となる。この例では、配列中のすべてのピクセルの照明光を測定するためには別々に４回走査することが必要であろう。典型的にはこれらの走査は順次行なわれ、照明光領域のすべてのピクセルのピーク強度を表す複合信号をつくりだす。スリット開口部の上を光らせられた各ピクセルが通り過ぎると、図４に示されているように照明光ラインの長さに対して一連のパルス３０、３２および３４として較正信号がつくられる。ユニット２０の内部の検出器によって受け取られた信号は一般的に図５に示されるように現れることができる。受け取られた各パルス３６、３８、４０の最大値は次に図６で示されるような信号処理器４８により図５で示されるように４２、４４および４６の所で同定される。次にシステムは次の組のｎ番目のピクセル（例えば２、６、１０番目等）に対する最高値を各ピクセルが全部記録されてしまうまで記録する。次に全照明光ラインに対して目標値、例えばピークの平均値、或いは最低のピーク値よりも小さい任意の露出値を決定し、各ピクセルがこの目標値に一致するように調節する。
システムは、各パルスの最大値に対応して調節ユニット５０を介して照明光源１０を調節するか、或いは調節ユニット５２を介して変調器１４を調節して各パルスに付随した照明光領域の部分を修正する。次いで各ピクセルに対する信号が図７の５４、６５、５８に示されるように十分均一になるまで全過程を繰り返す（例えば４または５回）。
【００１４】
信号処理器は配列中のすべてのピクセルの測定されたピーク値を含む複合信号を生成する。次にこの中間的な信号をピクセル毎に目標の照明光パルスの振幅と比較する。均一性の誤差は、一般に露出の設定を表す予め選ばれた目標ピークの振幅からの偏差として定義される。得られた誤差信号を逆転させ、調節ユニット（５０または５２）に対する予め定められた利得因子を乗じる。次にこの信号を調節ユニットに印加し、与えられたピクセルに対する偏差による誤差を減少させる。この最初に予め定められた調節ユニットの利得の推定値は、例えばピクセル間の変動のために、それ自身若干の誤差をもっている可能性がある。これを調整するために、各パルスからの信号が十分に均一になり目標の照明光の値と等しくなるまで走査−測定−調節の過程を繰り返し行なう。一般に、この最低誤差の条件への収斂は４または５回以下の繰り返し操作で達成される。この方法の有利な効果は、個別的なピクセルの照明光の調節機構を正確に知る必要はなく、すべてのピクセルに対して単一の値で近似できることである。この較正法は各作像操作の前に、或いは作像を行なう際に、較正ユニットを自動的に走査し画像の振幅または強度を記録するのに必要な再調整を行なうことにより、システムの起動時に使用することができる。
【００１５】
図８〜１０に特定的に示されているように、一具体化例において較正を行ない得る方法では、例えば４個毎のピクセルの走査を、先ず最初に１番目のピクセルから始め、次は２番目から、その次は３番目から、最後に４番目のピクセルから始めて４回別々に走査する（段階８０２）ことにより、すべてのピクセルの走査を行なうことによって開始される（段階８００）。特に図１０に示されているように、Ｎ回の走査ループは、１×Ｎ個のピクセルの領域（段階８０４）をＮ回走査し（段階８０３）、各ピクセルに対し（段階８０５）Ｎ回すべてが記録されるまで（段階８０７）受け取った信号を記録する（段階８０５）段階を含んでいる。次に全ラインのピクセルに対してベクトルを記録し（段階８０８）、図８の段階８０２でこの過程を終結する。
【００１６】
次に均一性のずれのベクトルおよび露出設定入力パラメータに基いて均一性のずれのベクトルをつくる（段階８１０）。誤差が較正停止閾値（段階８１６）に基いた閾値を越えない場合（段階８１４）には、この手続きは終了する（段階８１８）。そうでない場合には、初期値の入力パラメータに基いて（段階８２２）変調器またはライン照明光源のいずれか（段階８２０）および利得ベクトル（段階８２４）を調節することによってシステムを継続する。誤差が閾値以下になるまで（段階８１４）この過程を数回、例えば４または５回繰り返す。
【００１７】
さらに他の具体化例においては。随時システムは調節値および受け取った信号に応答する変化が大きいかどうか、例えば３％または４％より大きいかどうかを決定する。これら二つの差の値は感知／調節機構の局所的な利得の測定を含んでいる。過渡的な雑音効果か或いは調節の限界に既に達している（例えば飽和）ためにこのアルゴリズムが誤った更新を行なうことが、閾値の制限によって防がれる。特に、図９に示されているように、一具体化例においては最も最近の信号の変化が大きかったかどうかを決定するために（段階８３４）、ピクセル・インデックス・カウンター（段階８３２）に応答して保存されたピクセルの誤差ベクトルを参照する（段階８３０）自動利得手続きを用いることができる。またこの手続きでは、調節値が比較的大きかったかどうかを決定する（段階８３８）ためのピクセルのインデックス・カウンター（段階８３２）に応答して格納された調節ベクトルが参照される（段階８３６）。この方法では、これらの二つの変化が大きいことに応答して利得を計算し（段階８４０）、またピクセルのインデックス・カウンターに応答して新しいピクセルの利得を用いて利得ベクトルを更新し（段階８４２）、図８の段階８２４に戻る。さらに他の具体化例においては、或る与えられたピクセルに対する各繰り返し段階（最初の回は除く）で測定された利得の実行平均値（ｒｕｎｎｉｎｇ　ａｖｅｒａｇｅ　ｖａｌｕｅ）を記録し、局所的な調節機構の利得として使用することができる。
【００１８】
さらにまた、照明光領域における或る種の不均一性は変調器の配列の動的性能、例えば変調のデューティー・サイクル（ｄｕｔｙ　ｃｙｃｌｅ）のピクセル毎の変動または速い走査軸（変調器の配列の軸に直交した軸）の各ピクセルのパルス幅に関連した特性に基いていること見出だされた。これらの不均一性は、高分解能のハーフトーンの色合いをもったパターン、例えば２×２のピクセルの格子縞または同様物の作像を行なう場合、露出した媒体上に目に見える人為的に生成された画像（ａｒｔｉｆａｃｔ）を生じるに過ぎない。高性能の作像システムでは、典型的にはこのようなパターンはをコピー画像の品質の最終的なチェックとして使用する。
【００１９】
本発明のさらに他の具体化例においては、すべての照明光ピクセルは、較正過程におけるコピーの品質の試験条件をさらに正確に再現する手段として、例えば２×２のピクセルの速い走査による変調パターンと同等な高い周波数で変調（例えばオン・オフによる変調）されている。例えばオン・オフの変調の割合は、図１１の７０、７２、７４の所に示されているような走査の際、１個のピクセルがスリットの開口部を横切るのに要する時間と同等な時間の間に１００回の変調が起こるような割合である。この場合検出器の所で低域通過フィルター（例えば抵抗器と蓄電器によるフィルター、またはディジタル方式の濾波）を用い各ピクセルに対する変調信号の平均振幅を測定する。濾波されて受け取られた信号は図１２の７６、７８、８０の所で８２、８４、８６で示されるような極大値をもつものとして示されている。次にこの濾波されて受け取られた信号は図４〜９を参照して上記に説明したように処理される。較正過程の後で、得られた較正信号８８、９０、９２は、図７の５４、５６、５８の得られた信号と同様に図１３に示された元の信号に比べて均一である。変調された較正信号を使用するこの方法では、各ピクセルの変調特性は分解されて較正過程の中に含められ、この方法は大部分の作像システムにおいて用いられる作像の条件に極めて似た条件になっている。
【００２０】
図１４に示されているように、或る特定の実施例において、検出器９６の所において受け取られた未変調の較正信号を、較正過程を行なう前に検出器９８の所で受け取られた変調された較正信号と比較すると、これらの信号は光変調器から生じる変動を含む種々の因子のために異なり得ることが示される。変調された較正信号のデューティー・サイクルが５０％であり、各ピクセルの変調が各ピクセルに対して検出器の所で受け取られるものと正確に位相が合っている場合には、図１４の信号は互いに同一でなければならない。
【００２１】
上記のように本発明の較正法の好適な具体化例には、作像面の所における多重ピクセルの照明光のプロフィールの最も小さいアドレス可能な要素（ピクセル）に対する画像スポットのプロフィールに比べ、大きな幅をもったスロットの開口部を使用する方法が含まれる。その結果、各ピクセルの全露出プロフィール、典型的にはガウス曲線に似たプロフィールは走査中どこか或る点でスリットの開口部を通過する。従って検出された信号のピークはピクセル内部の全エネルギーだけに依存し、もっと狭いスリット開口部に関連した他の因子に依存することはない。このような狭いスリット開口部はその正確な幅は分からないか、或いは二次的なパラメータ、例えば熱、走査線の傾き、スリットの縁の不規則性等のために変動することができる。従ってピークの信頼性はスリット幅の変動には無関係にピクセルのフラックス密度の積分を表す。このことは計算を正確に行なうのに著しい貢献をすることが見出だされた。何故ならば、これによって走査線の傾きおよびラインの直線性の誤った効果が較正強度の測定から分離されるからである。
例えば１個のピクセルの何分の１かの照明光領域の交叉軸の傾きは、それがスリットの上で走査される際、作像ラインをスリットの開口部の上で上方（または下方）へ動かし、スリットの縁が不規則な（ギザギザの）形をしているためにスリット幅の望ましくない変動を生じることができる。大きなスリットがもつさらに他の利点は、雑音因子をさらに減少させる得る空間的な濾波を行なうことができる点である。
【００２２】
本発明の照明光システムを含む光学的な作像システムは、外部ドラム画像セッターまたは版板セッターと共に使用し、ドラムの外部表面によって支持された媒体の上に画像を転写することが好ましい。また本発明の照明光システムを直接印刷作像法に使用して、照明光ラインを直接印刷機の版シリンダーの上に投影することもできよう。この場合には、作像システムは印刷機の各ステーションの所で複製されるであろう。さらに、上記の用途にはヘッドを使用できるが、これはまた内部ドラムまたはキャプスタン型の画像セッターまたは版板セッターに使用することもできる。
【００２３】
当業界の専門家は、本発明の精神および範囲を逸脱することなく上記の具体化例に対し種々の変形および変更を行ない得るものと了解されたい。
【００２４】
本発明の主な特徴および態様は次の通りである。
【００２５】
１．レーザー・ライン照明光源を含む作像システムと共に使用する較正システムにおいて、該較正システムは、
遅い走査方向においてレーザー照明光ラインを作像するための、作像面に関して該遅い走査方向に沿って動くことができる作像ヘッド；
該レーザー照明光ラインの一部が通過することができる較正用の開口部を内部に有するマスクであって、該較正用の開口部は遅い走査方向において該レーザー照明光ラインの最も小さいアドレス可能な画素の作像スポットの半値全幅最大距離よりも大きい幅を有するマスク；および
該較正用の開口部を通る該レーザー照明光ラインの一部を受け取り、該レーザー照明光ラインの該受け取った部分を処理するための検出器を含む較正ユニットを具備している較正システム。
【００２６】
２．該較正システムはさらに該作像ヘッドの所において較正用の信号を生成する較正用信号源を含み、該較正用の信号では該照明光ラインの画素はそれぞれｎ番目毎に光らせられ、ここでｎは１よりも大きい上記第２項記載の較正システム。
【００２７】
３．該較正用信号はそれぞれｎ番目毎に画素が変調される上記第１項記載の較正システム。
【００２８】
４．該較正ユニットはさらに処理用の出力信号を与え、また該較正システムはさらに該出力信号に応答して該レーザー照明光ラインの少なくとも一部の調節を行なうための調節ユニットを含んでいる上記第１項記載の較正システム。
【００２９】
５．該調節ユニットはレーザー・ライン照明光源に連結されている上記第４項記載の較正システム。
【００３０】
６．該調節ユニットはレーザー・ライン照明光変調器に連結されている上記第４項記載の較正システム。
【００３１】
７．レーザー・ライン照明光源を含む作像システムと共に使用する較正システムにおいて、該較正システムは
遅い走査方向においてレーザー照明光ラインを作像するための、作像面に関して該遅い走査方向に沿って動くことができる作像ヘッド；
該作像ヘッドの所で較正用の信号を生成する較正用の信号源であって、該較正用の信号では該照明光ラインの画素はそれぞれｎ番目毎に光らせられ、ここでｎは１よりも大きい較正用の信号源；
作像ヘッドが該遅い走査方向に動く際各画素に対する照明光が通過することができる較正用の開口部を内部に有するマスクであって、該較正用の開口部は遅い走査方向において各画素の該照明光の幅よりも大きい幅を有するマスク；および各画素に対する照明光を該較正用の開口部を通して受け取り、各画素に対する受け取られた照明光の信号の最大振幅を同定することにより該較正用の開口部を通って受け取られた各画素に対する照明光を少なくとも部分的に処理するための検出器を含む較正ユニットを具備している較正システム。
【００３２】
８．該較正用の信号では該照明光ラインの画素がそれぞれ４番目毎に光らせられる上記第７項記載の較正システム。
【００３３】
９．該較正用の信号はそれぞれｎ番目毎に画素が変調されている上記第７項記載の較正システム。
【００３４】
１０．該較正ユニットはさらに受け取った変調された信号をｎ番目の画素毎に濾波するための低域通過フィルターを含んでいる上記第９項記載の較正システム。
【００３５】
１１．該較正ユニットはさらに処理用の出力信号を与え、また該較正システムはさらに該出力信号に応答して該レーザー照明光ラインの一つの画素に対応した部分の調節を行なうための調節ユニットを含んでいる上記第７項記載の較正システム。
【００３６】
１２．該調節ユニットはレーザー・ライン照明光源に連結されている上記第１１項記載の較正システム。
【００３７】
１３．該調節ユニットはレーザー・ライン照明光変調器に連結されている上記第１１項記載の較正システム。
【００３８】
１４．レーザー・ライン照明光源を含む作像システムと共に使用する較正システムにおいて、該較正システムは
該作像面の所で較正用の信号を生成する較正用の信号源であって、該較正用の信号では該照明光ラインの画素はそれぞれｎ番目毎に光らせられ、ここでｎは２よりも大きい較正用の信号源；
該レーザー照明光ラインが遅い走査方向に動く際各画素に対する照明光が該開口部を通過することができる較正用の開口部を内部に有するマスクであって、該較正用の開口部は遅い走査方向において各画素の該照明光の幅よりも大きい幅を有するマスク；および
各画素に対する照明光を該較正用の開口部を通して受け取り、各画素に対する受け取られた照明光の信号の最大振幅を同定することにより該較正用の開口部を通って受け取られた各画素に対する照明光を少なくとも部分的に処理するための検出器を含む較正ユニットを具備している較正システム。
【００３９】
１５．該較正用の信号は画素がそれぞれｎ番目毎に変調される上記第１４項記載の較正システム。
【００４０】
１６．該較正ユニットはさらに受け取った変調された信号をそれぞれｎ番目の画素毎に濾波するための低域通過フィルターを含んでいる上記第１５項記載の較正システム。
【００４１】
１７．作像システムにおいてレーザー・ライン照明光の信号を較正する方法において、該方法は、
作像面の所で較正用の信号をつくり、該較正用信号ではレーザー照明光ラインの画素がｎ番目毎に光るようにし、ここでｎは２より大きく、
レーザー照明光ラインが遅い走査方向に動く際各画素に対する照明光が通ることができる較正用の開口部を内部に有するマスクの上に、それぞれｎ番目毎に画素を光らせられたレーザー照明光ラインを通し、ここで該較正用の開口部は各画素に対する照明光の幅よりも大きな幅を遅い走査方向においてもっており；
、該較正用の開口部を通して各画素に対する照明光を受け取り；
各画素に対する受け取られた照明光の信号の最大振幅を同定することにより、該較正用の開口部を通して受け取った各画素に対する照明光を少なくとも部分的に処理する過程を含んでいる方法。
【００４２】
１８．較正用の信号を与える該過程はそれぞれｎ番目毎の画素に対して該較正用の信号を変調する過程を含んでいる上記第１７項記載の方法。
【００４３】
１９．該較正用の開口部を通して受け取られた各画素に対する該照明光を処理する段階は、受け取った変調された信号を各ｎ番目の画素毎に濾波を行なう段階を含む上記第１８項記載の方法。
【００４４】
２０．該方法はさらに一つの画素に対応する該レーザー照明光ラインの一部を調節する段階を含んでいる上記第１７項記載の方法。
【００４５】
２１．該調節を行なう段階はレーザー・ライン照明光源を調節する段階を含む上記第２０項記載の方法。
【００４６】
２２．該調節を行なう段階は光変調器を調節する段階を含む上記第２０項記載の方法。
【００４７】
２３．レーザー・ライン照明光源を含む作像システムと共に使用する較正システムにおいて、該較正システムは
遅い走査方向においてレーザー照明光ラインを作像するための、作像面に関して該遅い走査方向に沿って動くことができる作像ヘッド；
該作像ヘッドの所で較正用の信号を生成する較正用の信号源であって、該較正用の信号では該照明光ラインの画素はそれぞれｎ番目毎に光らせられ、ここでｎは１よりも大きい較正用の信号源；
該作像ヘッドが該遅い走査方向に動く際各画素に対する照明光ラインが通過することができる較正用の開口部を内部に有するマスクであって、該較正用の開口部は遅い走査方向において各画素に対する該照明光の幅よりも大きい幅を有するマスク；および
各画素に対する照明光を該較正用の開口部を通して受け取り、各画素に対する受け取られた照明光の信号の最大振幅（強度）を同定することにより該較正用の開口部を通って受け取られた各画素に対する照明光を少なくとも部分的に処理するための検出器を含む較正ユニットを具備している較正システム。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一具体化例に従った較正システムを含む作像システムの機能成分の例示的な模式図。
【図２】本発明の一具体化例に従った較正システムの例示的な模式前面図。
【図３】線３−３に沿って採った図２の較正システムの例示的模式側面図。
【図４】本発明の一具体化例に従った較正用の信号の例示的な模式的グラフ。
【図５】図４の較正用の信号に応答して較正ユニットの所で受け取られた未較正の信号の例示的な模式的グラフ。
【図６】本発明の較正システムを含む作像システムのいくつかの構成成分の機能関係の例示的な模式的グラフ。
【図７】較正を行なった後の図５の信号の例示的な模式的グラフ。
【図８】本発明のシステムを操作する際の各段階の流れ図。
【図９】本発明のシステムを操作する際の各段階の流れ図。
【図１０】本発明のシステムを操作する際の各段階の流れ図。
【図１１】本発明のさらに他の具体化例に従った変調された較正用信号の例示的な模式的グラフ。
【図１２】図１１の較正用信号によってつくることができる較正しない応答信号の例示的な模式的グラフ。
【図１３】較正を行なった後の図１２の信号の例示的な模式的グラフ。
【図１４】変調しない較正用信号および変調した較正用信号を使用して較正を行なう前の受け取られた信号の例示的な模式的グラフ。
【符号の説明】
１０　照明光源
１２　視野レンズ・システム
１４　光変調器
１６　作像ヘッド
１８　記録媒体
２０　較正ユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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