(57)【要約】【課題】多層光配線基板に関し、通常では光結合しない上下の光導波路を簡単な構造及び製造工程によって、高い光結合効率で結合する。【解決手段】複数の光導波路を有する多層光配線基板の上下の光導波路間を接続する光ビア構造となり、光導波路を構成するコア層２，３によって挟まれている領域の平均屈折率をコア層２，３とクラッド層４との中間とし、且つ、光導波路を結ぶ方向において均一な構造とする。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光導波路を有する多層光配線基板の上下の光導波路間を接続する光ビア構造を有する多層光配線基板において、前記光導波路を構成するコア層によって挟まれている領域は平均屈折率がコア層とクラッド層との中間であり、且つ、前記領域は前記光導波路を結ぶ方向において均一な構造であることを特徴とする多層光配線基板。
【請求項２】
上記光導波路を構成するコア層によって挟まれている領域における主光移行層が、前記光導波路を構成するコア層とクラッド層の中間の屈折率の材料で構成されていることを特徴とする請求項１記載の多層光配線基板。
【請求項３】
上記光導波路を構成するコア層によって挟まれている領域における主光移行層の幅が、前記光導波路を構成するコア層の幅と同じであることを特徴とする請求項２記載の多層光配線基板。
【請求項４】
上記光導波路を構成するコア層によって挟まれている領域における主光移行層が、前記光導波路を構成するコア層の幅よりも細い幅で、且つ、前記光導波路を構成するクラッド層よりも高い屈折率の材料で構成されていることを特徴とする請求項１記載の多層光配線基板。
【請求項５】
上記光導波路を構成するコア層とクラッド層、及び、上記主光移行層が、光を照射することで屈折率を制御できる材料で構成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の多層光配線基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は多層光配線基板に関するものであり、特に、高速、大容量の信号伝送を必要とする情報通信系の装置内において用いられる多層光配線基板の膜厚方向の高さの異なる位置に設けた光導波路間をエバネッセント波の重なりによって移行させるための光ビア構造に特徴のある多層光配線基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光信号は高速、大容量の信号伝送に適しているため、光導波路を基板上に形成した光配線基板の開発が進められているが、光配線基板に多数本の光導波路を形成する場合は、光導波路、即ち、光配線を多層化することが必要になってくる。
特に、光導波路を平面交差させると損失が発生するため、多層化して立体交差にすることが有効となる。
【０００３】
このような多層光配線構造とする場合、層間の光接続、即ち、光におけるビア構造が必要になってくる。
これらについてはいくつかの構造が提案されており、４５°の傾斜を持つ反射面を利用した４５°ミラー、グレーティングカップラを利用した構造、或いは、方向性結合器を利用した構造などである。
【０００４】
この内、４５°ミラーを用いる構造（例えば、特許文献１，特許文献２参照）は、いずれも基板の表面と裏面に形成した光導波路間を結合するもので、基板のエッジを４５°に面取りした構造を利用している。
【０００５】
しかし、同一面側に積層された光導波路に適用する場合、本来平面で構成されている光配線に対し、異なった角度を持つ立体構造を導入するため、製造上困難を伴い、また、角度ずれは損失に直結するため、高い精度が必要となる。
【０００６】
また、グレーティングカップラは平面的な構造であり、光配線基板との適合性は高いという特徴がある（例えば、非特許文献１参照）。
しかし、グレーティングに高い精度が要求されることと、非常に鋭い波長選択性を有するために波長が少しずれると機能しなくなる問題が生じていた。
【０００７】
一方、方向性結合器（例えば、非特許文献２参照）は、光導波路を平行に配置するだけの構造、すなわち光配線基板そのもので良いが、高効率で光が光導波路間を移行するのには、それぞれの光導波路のエバネッセント波に重なりが必要であるため、近接した光導波路間で有効となる。
【０００８】
このような条件で上下の光配線基板を作製した場合、上下の光導波路が略平行で同一平面位置に敷設されただけで光結合が生じてしまうため、上下層の光導波路は交差のみが許容されるなどの、光導波路のレイアウトに制限が設けられてしまう。
逆に、光結合が生じないように上下層を離すと、方向性結合器による光ビア構造が成立しなくなる。
【０００９】
そこで、通常では光結合しない上下の光導波路（ｎ２  ，ｎ６  ）の間に、クラッド層を介して中間の屈折率を有する小さな光導波路（ｎ４  ）を設け、光をｎ２  →ｎ４  →ｎ６  へと順番に移行させることも提案されている（例えば、特許文献３或いは特許文献４参照）
【００１０】
【特許文献１】
特開昭６１−１４７２０４号公報
【特許文献２】
特開平０５−２７３４１９号公報
【特許文献３】
特開２０００−３３９７４４号公報
【特許文献４】
特開平０６−２０８０３６号公報
【非特許文献１】
電子情報通信学会論文誌，Ｃ−Ｉ，Ｖｏｌ．Ｊ８０−Ｃ−Ｉ，Ｎｏ．１０，ｐｐ．４６−４６８，１９９７
【非特許文献２】
レーザ研究，１９９９年９月，ｐｐ．６２８−６３２
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、中間の屈折率を有する小さな光導波路を利用する構造の場合には、上下の光導波路間に少なくとも３層の構造を形成しなければならず、構造及び製造工程が複雑化する問題がある。
【００１２】
また、上下の光導波路の間が一つの中間光導波路で結合できない間隔の場合には、さらに、別の中間光導波路を設ける必要が生じ、構造及び製造工程がさらに複雑化するとともに、光結合効率が大幅に低下するという問題がある。
【００１３】
したがって、本発明は、通常では光結合しない上下の光導波路を簡単な構造及び製造工程によって、高い光結合効率で結合することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
図１は本発明の原理的構成図であり、この図１を参照して本発明における課題を解決するための手段を説明する。
なお、図における符号１は、ガラス基板等の支持基板である。
図１参照
上記目的を達成するため、本発明は、複数の光導波路を有する多層光配線基板の上下の光導波路間を接続する光ビア構造を有する多層光配線基板において、光導波路を構成するコア層２，３によって挟まれている領域は平均屈折率がコア層２，３とクラッド層４との中間であり、且つ、この領域は光導波路を結ぶ方向において均一な構造であることを特徴とする。
【００１５】
通常の状態では、上下の光導波路を構成するコア層２，３は十分離れていて光の結合は起こらないが、上下のコア層２，３の間に平均屈折率がコア層２，３とクラッド層４との中間であり光ビア構造を設けることによって、その方向のエバネッセント波を、もう一方の光導波路の方へ導く働きをする。
即ち、光ビア構造によって、両方の光導波路のエバネッセント波に重なりが生じ、方向性結合器として機能し、光が層間を移行することが可能になる。
【００１６】
この場合、光導波路を構成するコア層２，３によって挟まれている領域における主光移行層５は、光導波路を構成するコア層２，３とクラッド層４の中間の屈折率の材料で構成することが望ましい。
また、その場合、主光移行層５の幅は、光導波路を構成するコア層２，３の幅と同じにすれば良い。
【００１７】
或いは、光導波路を構成するコア層２，３によって挟まれている領域における主光移行層５を光導波路を構成するクラッド層４よりも高い屈折率の材料、特に、コア層２，３と同じ屈折率の材料で構成しても良く、その場合には、光を移行を高効率で行うためには、光導波路を構成するコア層２，３の幅よりも細い幅にする必要がある。
【００１８】
この場合、光導波路を構成するコア層２，３とクラッド層４、及び、上記主光移行層５は、光を照射することで屈折率を制御できる材料で構成することが望ましく、それによって、エッチング工程を要することなく光導波路構造を形成することができるので、平坦化が可能になる。
【００１９】
上述の構造の多層光配線基板を形成する際には、光の照射により屈折率が低下するフォトブリーチング現象を示す感光性ポリシランを用いることによって、製造工程を大幅に簡素化することができるとともに、エッチング工程を伴わないので平坦化が容易で、パターン精度を高めることができる。
なお、この様な感光性ポリシランは組成を調整することによって屈折率を任意に調整することができ（例えば、特開２００２−３０９０９４号公報参照）、この感光性ポリシランを用いて光導波路を形成することも提案されている（例えば、ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｎｉｐｐｏｎｐａｉｎｔ．ｃｏ．ｊｐ／ｎｅｗｓ／２００２／ｗｎ０４１６．ｈｔｍｌ参照）。
【００２０】
この場合、コア層２，３を形成する際と、主光移行層５とを形成する際に、互いに異なった屈折率を有する感光性ポリシランを用いることによって、光照射工程を簡素化することができる。
【００２１】
或いは、コア層２，３を形成する際と、主光移行層５とを形成する際に、同じ感光性ポリシランを用いても良いものであり、その場合には、主光移行層５を形成する際に二重光照射を行えば良い。
【００２２】
【発明の実施の形態】
ここで、図２及び図４を参照して、本発明の第１の実施の形態の多層光配線基板の製造工程を説明するが、説明を簡単にするために、図１に示した上下のコア層が主光移行層で接続された部分、即ち、光ビア構造部のみを説明する。
なお、下記の工程では、感光性ポリシランとして光導波路材料グラシア（日本ペイント製商品名）を用いるものであり、組成を調整することによって所定の範囲において任意を屈折率を得ることができ、また、この材料は、フォトブリーチング現象によって紫外線照射領域の屈折率を低下させることができるため、平面の積層で光導波路を形成できるメリットがあり、多層光導波路に有利である。
【００２３】
図２（ａ）参照
まず、ガラス基板１１上に、屈折率ｎ１  が例えば、ｎ１  ＝１．５５の第１の感光性ポリシランを塗布し、３００〜３７０℃で加熱硬化させることによって厚さが、例えば、１０μｍの下層クラッド層１２を形成する。
【００２４】
図２（ｂ）参照
次いで、下層クラッド層１２上に厚さが、例えば、５μｍで屈折率ｎ２  （＞ｎ１  ）が例えばｎ２  ＝１．５５６の第２の感光性ポリシラン１３を塗布する。
【００２５】
図２（ｃ）参照
次いで、中央部に例えば、幅が５μｍの遮光部１５を有するガラスマスク１４を通して紫外線１６を照射し、照射領域の屈折率をｎ３  に低下させたのち、３００〜３７０℃で加熱硬化させ、照射領域をクラッド層１７とし、非照射領域をコア層１８とする。
なお、この場合、ｎ３  ＝ｎ１  になるように、第２の感光性ポリシランの組成を調整することが望ましい。
【００２６】
図３（ｄ）参照
次いで、全面に、厚さが、例えば、２５μｍで屈折率ｎ４  （ｎ１  ＜ｎ４  ＜ｎ２  ）が、例えば、ｎ４  ＝１．５５４の第３の感光性ポリシラン１９を塗布する。
【００２７】
図３（ｅ）参照
次いで、中央部に例えば、幅が５μｍで、長さが４．４ｍｍの遮光部２１を有するガラスマスク２０を通して紫外線２２を照射し、照射領域の屈折率をｎ５  に低下させたのち、３００〜３７０℃で加熱硬化させ、照射領域をクラッド層２３とし、非照射領域を主光移行層２４とする。
【００２８】
図３（ｆ）参照
次いで、再び、全面に厚さが、例えば、５μｍで屈折率ｎ２  （＞ｎ１  ）の第２の感光性ポリシラン２５を塗布する。
【００２９】
図４（ｇ）参照
次いで、中央部に例えば、幅が５μｍの遮光部２７を有するガラスマスク２６を通して紫外線２８を照射し、照射領域の屈折率をｎ３  に低下させたのち、３００〜３７０℃で加熱硬化させ、照射領域をクラッド層２９とし、非照射領域をコア層３０とする。
【００３０】
図４（ｈ）参照
最後に、屈折率ｎ１  の第１の感光性ポリシランを塗布し、３００〜３７０℃で加熱硬化させることによって厚さが、例えば、１０μｍの上層クラッド層３１を形成することによって、多層光配線基板の基本部分が完成する。
【００３１】
図５参照
図５は、多層光配線基板の光ビア構造の概略的斜視図であり、２５μｍの間隔で離れている上下のコア層１８，３０が、コア層１８，３０と同じ幅で長さが４．４ｍｍの主光移行層２４によって接続された構造となる。
【００３２】
図６参照
図６は、図５に示した構造についてビーム伝搬法によるシミュレーション結果を光強度を等高線的に示したものであり、光導波路ピッチが２５μｍも離れていても、中間屈折率の主光移行層２４を経由して光が移行していることが分かる。
【００３３】
このように、本発明の第１の実施の形態においては、中間屈折率からなる均一構造の主光移行層２４で上下のコア層１８，３０を接続しているので、簡単な構造によって、光ビア構造を形成することができる。
【００３４】
また、本発明の第１の実施の形態においては、紫外線照射量で屈折率を制御できる感光性ポリシランを用いているので、エッチング工程を要することなく平面の積層で光導波路を形成することができるため、製造工程が簡素化されるとともに、パターンの位置合わせが容易になり、多層構造を精度良く形成することができる。
【００３５】
次に、図７乃至図９を参照して、本発明の第２の実施の形態の多層光配線基板の製造工程を説明する。
図７（ａ）参照
まず、ガラス基板４１上に屈折率ｎ２  の第２の感光性ポリシラン４２を、厚さが、例えば、１０μｍに塗布する。
【００３６】
図７（ｂ）参照
次いで、全面に紫外線４３を照射させて屈折率をｎ１  に低下させたのち、３００〜３７０℃で加熱硬化させることによって下層クラッド層４４を形成する。
【００３７】
図７（ｃ）参照
次いで、下層クラッド層４４上に再び厚さが、例えば、５μｍで屈折率ｎ２  の第２の感光性ポリシラン４５を塗布する。
【００３８】
図８（ｄ）参照
次いで、中央部に例えば、幅が５μｍの遮光部４７を有するガラスマスク４６を通して紫外線４８を照射し、照射領域の屈折率をｎ１  に低下させたのち、３００〜３７０℃で加熱硬化させ、照射領域をクラッド層４９とし、非照射領域をコア層５０とする。
【００３９】
図８（ｅ）参照
次いで、全面に、厚さが、例えば、２５μｍで屈折率ｎ２  の第２の感光性ポリシラン５１を塗布したのち、全面に紫外線５２を低照射量で照射して屈折率をｎ４  （＞ｎ１  ）に低下させる。
【００４０】
図８（ｆ）参照
次いで、中央部に例えば、幅が５μｍで、長さが４．４ｍｍの遮光部５４を有するガラスマスク５３を通して紫外線５５を照射し、照射領域の屈折率をｎ１  に低下させたのち、３００〜３７０℃で加熱硬化させ、照射領域をクラッド層５６とし、屈折率がｎ４  の非照射領域を主光移行層５７とする。
【００４１】
図９（ｇ）参照
次いで、再び、全面に厚さが、例えば、５μｍで屈折率ｎ２  の第２の感光性ポリシラン５８を塗布する。
【００４２】
図９（ｈ）参照
次いで、中央部に例えば、幅が５μｍの遮光部６０を有するガラスマスク５９を通して紫外線６１を照射し、照射領域の屈折率をｎ１  に低下させたのち、３００〜３７０℃で加熱硬化させ、照射領域をクラッド層６２とし、非照射領域をコア層６３とする。
【００４３】
図９（ｉ）参照
最後に、屈折率ｎ２  の第２の感光性ポリシランを塗布し、次いで、全面に紫外線６４を照射させて屈折率をｎ１  に低下させたのち、３００〜３７０℃で加熱硬化させることによって厚さが、例えば、１０μｍの上層クラッド層６５を形成することによって、多層光配線基板の基本部分が完成する。
【００４４】
このように、本発明の第２の実施の形態においては、光導波路構造を全て同一の感光性ポリシランを用いて形成しているので、複数種の感光性ポリシランを用意する必要がなくなる。
【００４５】
次に、図１０を参照して、本発明の第３の実施の形態の多層光配線基板を説明するが、製造工程は、上記の第１の実施の形態或いは第２の実施の形態のいずれの工程を用いても良いものである。
例えば、上記の第１の実施の形態と同様の工程で形成する場合には、屈折率がｎ１  の第１の感光性ポリシランと屈折率がｎ２  の第２の感光性ポリシランを用意すれば良く、また、第２の実施の形態と同様の工程で形成する場合には、屈折率がｎ２  の第２の感光性ポリシランのみを用意すれば良い。
【００４６】
図１０参照
図１０は、多層光配線基板の基本部分の概略的斜視図であり、２５μｍの間隔で離れている屈折率がｎ２  の上下のコア層７３，７５が、コア層７３，７５より細い幅、例えば、３μｍで長さが４．６ｍｍで、コア層７３，７５と同じ屈折率ｎ２  の主光移行層７４によって接続された構造となる。
なお、図において、７１がガラス基板であり、７２は屈折率がｎ１  （＜ｎ２  ）のクラッド層である。
【００４７】
図１１参照
図１１は、図１０に示した構造についてビーム伝搬法によるシミュレーション結果を光強度を等高線的に示したものであり、光導波路ピッチが２５μｍも離れていても、幅細の主光移行層７４を経由して光が移行していることが分かる。
【００４８】
このように、本発明の第３の実施の形態においては、コア層７３，７５と同じ屈折率の材料からなる均一構造の主光移行層７４で上下のコア層７３，７５を接続しているが、主光移行層７４の幅をコア層７３，７５より細くしているので、平均屈折率がコアとクラッドの中間になり光の移行が良好に行われることになる。
【００４９】
なお、主光移行層７４の幅をコア層７３，７５と同じ幅にした場合には、主光移行層７４において上下の光導波路の区別がなくなり、導波光が主光移行層７４で拡散するため、光の移行が困難になる。
【００５０】
以上、本発明の各実施の形態を説明したが、本発明は各実施の形態に記載した構成及び条件に限られるものではなく、各種の変更が可能である。
例えば、上記の第１の実施の形態においては、上層クラッド層及び下層クラッド層を屈折率がｎ１  の第１の感光性ポリシランを用いて形成しているが、上記の第２の実施の形態と同様に、屈折率がｎ２  の第２の感光性ポリシランを用い紫外線照射によって屈折率をｎ１  に低下させても良いものである。
【００５１】
また、上記の各実施の形態においては、説明を簡単にするために基本要素部である光ビア要素のみを説明しているが、多層プリント配線基板と同様に、上下の光導波路の接続が必要な全ての箇所に設けるものである。
【００５２】
また、上記の各実施の形態においては、説明を簡単にするために２層の光導波路構造として説明しているが、３層以上の多層光導波路構造にも適用されることは言うまでもない。
【００５３】
また、上記の各実施の形態においては、製造工程を簡素化するために、エッチング工程が不要な感光性ポリシランを用いているが、本発明は、この様な材料に限られるものではなく、フッ素化ポリイミド等の有機材料或いは石英系ガラス等の無機材料を用いても良いものである。
なお、これらの材料の場合には、フォトリソグラフィー工程及びドライ・エッチング工程が必要になる。
【００５４】
また、上記の各実施の形態においては、上下の光導波路構造を同じ構造で形成しているが、上下において互いに屈折率の異なるコア層及びクラッド層によって光導波路構造を形成しても良いものである。
【００５５】
ここで、再び図１を参照して、改めて本発明の詳細な特徴を説明する。
再び、図１参照
（付記１）  複数の光導波路を有する多層光配線基板の上下の光導波路間を接続する光ビア構造を有する多層光配線基板において、前記光導波路を構成するコア層２，３によって挟まれている領域は平均屈折率がコア層２，３とクラッド層４との中間であり、且つ、前記領域は前記光導波路を結ぶ方向において均一な構造であることを特徴とする多層光配線基板。
（付記２）  上記光導波路を構成するコア層２，３によって挟まれている領域における主光移行層５が、前記光導波路を構成するコア層２，３とクラッド層４の中間の屈折率の材料で構成されていることを特徴とする付記１記載の多層光配線基板。
（付記３）  上記光導波路を構成するコア層２，３によって挟まれている領域における主光移行層５の幅が、前記光導波路を構成するコア層２，３の幅と同じであることを特徴とする付記２記載の多層光配線基板。
（付記４）  上記光導波路を構成するコア層２，３によって挟まれている領域における主光移行層５が、前記光導波路を構成するコア層２，３の幅よりも細い幅で、且つ、前記光導波路を構成するクラッド層４よりも高い屈折率の材料で構成されていることを特徴とする付記１記載の多層光配線基板。
（付記５）  上記光導波路を構成するコア層２，３とクラッド層４、及び、上記主光移行層５が、光を照射することで屈折率を制御できる材料で構成されていることを特徴とする付記１乃至４のいずれか１に記載の多層光配線基板。
（付記６）  複数の光導波路を有する多層光配線基板の上下の光導波路間を接続する光ビア構造を有する多層光配線基板の製造方法において、第１の感光性ポリシラン層を塗布したのち、コア領域を除く領域に光を照射して屈折率を低下させて非照射領域をコア層２とする第１の工程、コア層２を含む領域に第１の感光性ポリシシランより低屈折率の第２の感光性ポリシラン層を塗布したのち、前記コア層２と投影的に重なる領域の少なくとも一部を除く領域に光を照射して屈折率を低下させて非照射領域を主光移行層５とする第２の工程、前記主光移行層５を含む領域に第２の感光性ポリシシランより高屈折率の第３の感光性ポリシラン層を塗布したのち、前記主光移行層５と投影的に重なる領域を少なくとも含む領域を除くように光を照射して屈折率を低下させて非照射領域をコア層３とする第３の工程とを有することを特徴とする多層光配線基板の製造方法。
（付記７）  複数の光導波路を有する多層光配線基板の上下の光導波路間を接続する主光移行層５を有する多層光配線基板の製造方法において、第１の感光性ポリシラン層を塗布したのち、コア領域を除く領域に光を照射して屈折率を低下させて非照射領域をコア層２とする第１の工程、コア層２を含む領域に第１の感光性ポリシシランを塗布したのち、全面を第１の光照射領域より低照射量で照射し、次いで、前記コア層２と投影的に重なる領域の少なくとも一部を除く領域に光を照射して屈折率を低下させ非照射領域を主光移行層５とする第２の工程、前記主光移行層５を含む領域に第１の感光性ポリシラン層を塗布したのち、前記主光移行層５と投影的に重なる領域を少なくとも含む領域を除くように光を照射して屈折率を低下させて非照射領域をコア層３とする第３の工程とを有することを特徴とする多層光配線基板の製造方法。
【００５６】
【発明の効果】
本発明によれば、通常では光結合が起こらない光導波路間において、均一な構造の主光移行層により上下のコア層を接続しているので、簡単な構成により光導波路間のエバネッセント波の重なりを生じさせ、光導波路間で光を移行させることができ、それによって、希望する部分のみを光ビアとして多層光配線基板における各層の光導波路を自由にレイアウトすることができ、高速・大容量光通信の実現・普及に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の多層光配線基板の途中までの製造工程の説明図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態の多層光配線基板の図２以降の途中までの製造工程の説明図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態の多層光配線基板の図３以降の製造工程の説明図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態の多層光配線基板の光ビア構造の概略的斜視図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態の多層光配線基板の光ビア構造の光伝播特性の説明図である。
【図７】本発明の第２の実施の形態の多層光配線基板の途中までの製造工程の説明図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態の多層光配線基板の図７以降の途中までの製造工程の説明図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態の多層光配線基板の図８以降の製造工程の説明図である。
【図１０】本発明の第３の実施の形態の多層光配線基板の光ビア構造の概略的斜視図である。
【図１１】本発明の第３の実施の形態の多層光配線基板の光ビア構造の光伝播特性の説明図である。
【符号の説明】
１  基板
２  コア層
３  コア層
４  クラッド層
５  主光移行層
１１  ガラス基板
１２  下層クラッド層
１３  感光性ポリシラン
１４  ガラスマスク
１５  遮光部
１６  紫外線
１７  クラッド層
１８  コア層
１９  感光性ポリシラン
２０  ガラスマスク
２１  遮光部
２２  紫外線
２３  クラッド層
２４  主光移行層
２５  感光性ポリシラン
２６  ガラスマスク
２７  遮光部
２８  紫外線
２９  クラッド層
３０  コア層
３１  上層クラッド層
４１  ガラス基板
４２  感光性ポリシラン
４３  紫外線
４４  下層クラッド層
４５  感光性ポリシラン
４６  ガラスマスク
４７  遮光部
４８  紫外線
４９  クラッド層
５０  コア層
５１  感光性ポリシラン
５２  紫外線
５３  ガラスマスク
５４  遮光部
５５  紫外線
５６  クラッド層
５７  主光移行層
５８  感光性ポリシラン
５９  ガラスマスク
６０  遮光部
６１  紫外線
６２  クラッド層
６３  コア層
６４  紫外線
６５  上層クラッド層
７１  ガラス基板
７２  クラッド層
７３  コア層
７４  主光移行層
７５  コア層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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