(57)【要約】【課題】加工性、接着性、耐スクラッチ性に優れつつ、耐候性にも優れた光学用フィルムを得ることを目的とする。【解決手段】基材層および基材層の少なくとも片面に被膜層を設けた積層フィルムである。基材層は、連続製膜法により製膜されたポリエステルフィルムからなり、紫外線吸収剤を含有する。積層フィルムとしては、３７０ｎｍでの光線透過率が３％以下、ヘーズが３％以下、厚み方向の屈折率が１．４９０以上１．５０５以下、１５０℃における熱収縮率がフィルム連続製膜方向と連続製膜方向に垂直な方向のいずれの方向においても２％以下、被膜層を設けた側の表面の中心線表面粗さＲａが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。【選択図】　　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層および基材層の少なくとも片面に被膜層を設けた積層フィルムであって、基材層は連続製膜法により製膜されたポリエステルフィルムからなり、なおかつ基材層には紫外線吸収剤を含有し、積層フィルムとしては、３７０ｎｍでの光線透過率が３％以下、ヘーズが３％以下、厚み方向の屈折率が１．４９０以上１．５０５以下、１５０℃における熱収縮率がフィルム連続製膜方向と連続製膜方向に垂直な方向のいずれの方向においても２％以下、被膜層を設けた側の表面の中心線表面粗さＲａが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることを特徴とする光学用積層ポリエステルフィルム。
【請求項２】
被膜層が、粒径１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の不活性粒子を含むことを特徴とする請求項１記載の光学用積層ポリエステルフィルム。
【請求項３】
厚み方向の屈折率が１．４９３以上１．５０２以下であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の光学用積層ポリエステルフィルム。
【請求項４】
可視光線波長領域での全光線透過率が８０％以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学用積層ポリエステルフィルム。
【請求項５】
フィルム連続製膜方向の屈折率が１．６２０以上１．６８０以下、連続製膜方向に垂直な方向の屈折率が１．６４０以上１．７００以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学用積層ポリエステルフィルム。
【請求項６】
基材層が、ポリエチレンテレフタレートもしくはポリエチレン―２，６―ナフタレートを主体とするポリエステルフィルムであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学用積層ポリエステルフィルム。
【請求項７】
紫外線吸収剤が、下記式（Ｉ）で表わされる環状イミノエステル及び下記式（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学用積層ポリエステルフィルム。
【化１】
2004042528.tif 000020
（ここで、Ｘ１は、上記式に表わされたＸ１からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある、２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ１はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、又はＲ１はｎ＝２のとき直接結合であることができる。）
【化２】
2004042528.tif 000021
（ここで、Ａは下記式（ＩＩ）−ａで表わされる基であるか又は下記式（ＩＩ）−ｂで表わされる基であり；Ｒ２およびＲ３は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり；Ｘ２は４価の芳香族残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。）
【化３】
2004042528.tif 000022
【化４】
2004042528.tif 000023
【請求項８】
プラズマディスプレイ前面板フィルターに用いられることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光学用積層ポリエステルフィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置に用いられるプリズムレンズシート用のベースフィルムや、タッチパネル用ベースフィルム、バックライト用ベースフィルム、反射防止フィルム用のベースフィルムや、ＣＲＴ用の破砕防止フィルム等の光学用途に用いられるポリエステルフィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの二軸延伸フィルムは、優れた機械的性質、耐熱性、耐薬品性を有するため、磁気テープ、強磁性金属薄膜テープ、写真フィルム、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、金属板ラミネート用フィルム、ガラスディスプレイなどの表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として広く用いられている。
【０００３】
近年、特に各種光学用フィルムが多く用いられ、液晶表示装置の部材のプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや反射防止用フィルムのベースフィルムやディスプレイの防爆用ベースフィルム等の用途がある。その中でも、カラーテレビジョンに代表される映像表示機器においては、映し出される映像の高精細化と大画面化という市場要求により、従来のＣＲＴを用いた直視型テレビジョンに加えて、プラズマディスプレイ等を用いた発光型パネル方式、液晶ディスプレイ等を用いた非発光型パネル方式、映像プロジェクターが内蔵されたリアプロジェクション方式等のテレビジョンが進出しつつある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
映像表示機器中でも、発光型パネル方式のプラズマディスプレイは、光源あるいは放電部を構成する各々の画素部分の構造的要因により、可視光領域から赤外線波長領域にわたって、カラー映像の３原色（赤、緑、青色）の波長帯以外の光線が発せられ、例えば、波長が８２０ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍ近辺等に強い近赤外線の放射が測定される。そして、この近赤外線放射により周辺機器に誤作動等の課題が生じている。これは、例えば、テレビ、ビデオやクーラーのリモートコントローラー、携帯通信、パソコン等の近赤外線通信機器等に使用されている近赤外線の作動波長と合致しているためである。
【０００５】
特開平１０−１５６９９１号公報には、上述のような近赤外線による周辺機器への誤作動の防止機能と同時に外光反射防止機能を併せ持ち、映像機器表示装置の前面パネル用に好適に使用することのできる外光反射防止性フィルムが提案されている。この外光反射防止性フィルムの近赤外線による周辺機器への誤作動を防止するために近赤外線吸収剤含有層を付与する必要があるが、この近赤外線吸収剤は紫外線に対して弱い性質があるため、更に紫外線吸収剤を含有する層も別に付与する必要があり製造コスト面で課題があった。このため、紫外線吸収作用のある光学用フィルムが望まれていた。
【０００６】
本発明はかかる課題を解決して、加工性、接着性、耐スクラッチ性に優れつつ、耐候性にも優れた光学用フィルムを得ることを目的とする。特に、プラズマディスプレイ等の映像表示機器における表示パネル面に好適に使用できるフィルムを得ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の光学用積層ポリエステルフィルムは、基材層および基材層の少なくとも片面に被膜層を設けた積層フィルムであって、基材層は連続製膜法により製膜されたポリエステルフィルムからなり、なおかつ基材層には紫外線吸収剤を含有し、積層フィルムとしては、３７０ｎｍでの光線透過率が３％以下、ヘーズが３％以下、厚み方向の屈折率が１．４９０以上１．５０５以下、１５０℃における熱収縮率がフィルム連続製膜方向（ＭＤ方向とも呼ぶ）と連続製膜方向に垂直な方向（ＴＤ方向とも呼ぶ）のいずれの方向においても２％以下、被膜層を設けた側の表面の中心線表面粗さＲａが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることを特徴とする。
【０００８】
＜ポリエステルフィルム＞
本発明における基材層としてのポリエステルフィルムを構成するポリエステルとしては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２，６―ナフタリンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸成分と、例えばエチレングリコール、１，４―ブタンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、１，６―ヘキサンジオール等のグリコール成分とから構成される芳香族ポリエステルが好ましく、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタリンジカルボキシレートが好ましい。また、上記成分等の共重合ポリエステルであっても良い。
【０００９】
前記ポリエステルの分子量は、重合度が低すぎるとフィルムの機械的強度が低下するので、固有粘度（オルソクロロフェノール、３５℃）の値で０．４以上、さらには０．５〜１．２、特に０．５５〜０．８５であることが好ましい。
【００１０】
前記ポリエステルには、製膜時のフィルムの巻取り性や、ハードコート層や粘着剤等を塗設する際のフィルムの搬送性等を良くするため、必要に応じて滑剤としての有機又は無機の不活性粒子を含有させることができる。かかる不活性粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が例示される。不活性粒子は、前記例示した中から選ばれた単一成分でもよく、二成分あるいは三成分以上を含む多成分であってもよい。
【００１１】
こうした基材層に含有させる不活性微粒子の平均粒径は、０．０１〜２．０μｍの範囲であることが好ましく、０．１〜１．０μｍであることが更に好ましい。不活性粒子の含有量は、これを含むポリエステルの０．１重量％以下であることが好ましく、０．０１重量％であることが更に好ましい。添加量が０．１重量％より多いと、滑り性は十分であるが、ヘーズ値が増加するため好ましくない。すなわち、本発明で規定するヘーズ値を満足させるために、添加量は０．１重量％以下にすることが好ましい。不活性粒子の添加時期は、ポリエステルをフィルムに製膜するまでの段階であれば特に制限はなく、例えば重合段階で添加してもよく、また製膜の際に添加してもよい。
【００１２】
本発明のポリエステルフィルムは不活性粒子以外にも着色剤、帯電防止剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン―プロピレン―ポリマー、オレフィン系アイオノマーのような他の樹脂等も透明性を損なわない範囲で任意に含有させることができる。
【００１３】
本発明におけるポリエステルフィルムは、１５０℃における幅方向、長手方向の熱収縮率がともに２．０％以下であることが必要であり、好ましくは１．５％以下である。１５０℃における長手方向の熱収縮率が２．０％を超えると、ハードコート処理工程のハードコート剤の乾燥の際、フィルムとハードコート層との収縮特性が異なる結果として、ハードコート層との密着性が低下する。また、加工時の加熱を伴うプロセスを通過したときに、しわ、カールの発生、平面性の乱れ等が発生するため好ましくない。ポリエステルフィルムの熱収縮率を調整する方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができるが、例えば特開昭５７−５７６２８号公報に示されるような、熱処理工程で収縮せしめる方法や、特開平１−２７５０３１号公報に示されるような、フィルムを懸垂状態で弛緩処理する方法などが例示できる。
【００１４】
さらに本発明の積層ポリエステルフィルムの基材層は、厚さ方向の屈折率が１．４９０以上１．５０５以下である必要があり、好ましくは１．４９３以上１．５０２以下である。この屈折率が１．４９０未満であると、デラミ剥離を起こしやすくなり、光学用フィルムとして用いた際、ハードコート層との接着性が不足する。一方屈折率が１．５０５を越えると、透明性が損なわれやすくなる。また、平面性が悪くなり、フラットネスが悪くなるため好ましくない。また、長手方向の屈折率は１．６２０〜１．６８０であることが好ましく、更には１．６３０〜１．６７０であることが好ましい。また幅方向の屈折率は１．６４０〜１．７００であることが好ましく、更には１．６５０〜１．６９０であることが好ましい。この範囲以外であると厚み方向の屈折率を範囲内に制御することが難しくなる。
【００１５】
本発明の積層ポリエステルフィルムの基材層の厚みは、５０μｍ以上２００μｍ以下、好ましくは７５μｍ以上１７５μｍ以下である。この厚みが５０μｍ未満では腰が弱く、加工時に平面性が失われたり、傷が生じたりし易い。一方、厚みが２００μｍを超えると、腰が強すぎて加工作業性が悪く、透明性が低下し、好ましくない。
【００１６】
本発明のポリエステルフィルムの基材層自体は、単層構成であってもよく、また本発明の特徴を損なわなければ、共押出による２層以上の積層構成であっても構わない。
【００１７】
＜紫外線吸収剤＞
本発明における基材層のポリエステルには、フィルムの耐候性を向上させるために、紫外線吸収剤を含有させる必用がある。この紫外線吸収剤は、その種類を特に特定されないが、下記式（Ｉ）で表わされる環状イミノエステル及び下記式（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物を、未反応の形態で用いるのが好ましい。かかる環状イミノエステルは紫外線吸収剤として公知の化合物であり、例えば特開昭５９−１２９５２号公報に記載されている。
【００１８】
【化５】
2004042528.tif 000002
【００１９】
式（Ｉ）中、Ｘ１は上記式に表わされたＸ１からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある、２価の芳香族残基である。ｎは１、２又は３である。Ｒ１はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、又はＲ１はｎ＝２のとき直接結合であることができる。
【００２０】
【化６】
2004042528.tif 000003
【００２１】
式（ＩＩ）中、Ａは下記式（ＩＩ）−ａで表わされる基であるか又は下記式（ＩＩ）−ｂで表わされる基である。Ｒ２およびＲ３は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基である。Ｘ２は４価の芳香族残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。
【００２２】
【化７】
2004042528.tif 000004
【００２３】
【化８】
2004042528.tif 000005
【００２４】
Ｘ１としては、好ましくは例えば１，２−フェニレン、１，２−ナフチレン、２，３−ナフチレン、下記式（ａ）または（ｂ）で表わされる基を挙げることができる。これらのうち、特に１，２−フェニレンが好ましい。式中、Ｒは−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）−または−Ｃ（ＣＨ３）２−である。
【００２５】
【化９】
2004042528.tif 000006
【００２６】
Ｘ１について例示した上記芳香族残基は、例えば炭素数１〜１０のアルキル例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシル等；炭素数６〜１２のアリール例えばフェニル、ナフチル等；炭素数５〜１２のシクロアルキル例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等；炭素数８〜２０のアラルキル例えばフェニルエチル等；炭素数１〜１０のアルコキシ例えばメトキシ、エトキシ、デシルオキシ等；ニトロ；ハロゲン例えば塩素、臭素等；炭素数２〜１０のアシル例えばアセチル、プロポニル、ゼンゾイル、デカノイル等；などの置換基で置換されていてもよい。
【００２７】
Ｒ１はｎ価（ただし、ｎは１、２又は３である）の炭化水素残基であるか、又はｎが２であるときに限り直接結合であることができる。１価の炭化水素残基（ｎ＝１の場合）としては、第一に、例えば炭素数１〜１０の未置換脂肪族基、炭素数６〜１２の未置換芳香族基、炭素数５〜１２の未置換脂環族基が挙げられる。
【００２８】
炭素数１〜１０の未置換脂肪族基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシル等を、炭素数６〜１２の未置換芳香族基としては、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニル等を；炭素数５〜１２の未置換脂環族基としては、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。
【００２９】
また、上記１価の炭化水素残基としては、第二に、例えば下記式（ｃ）〜（ｆ）で表わすことのできる、置換された脂肪族残基又は芳香族残基を挙げることができる。
【００３０】
【化１０】
2004042528.tif 000007
【００３１】
【化１１】
2004042528.tif 000008
【００３２】
【化１２】
2004042528.tif 000009
【００３３】
【化１３】
2004042528.tif 000010
【００３４】
式中、Ｒ４は炭素数２〜１０のアルキレン、フェニレン又はナフチレンである。Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基又はナフチル基である。Ｒ６は水素原子又はＲ５に定義された基のいずれかである。Ｒ７は水素原子又はＲ５に定義された基のいずれかである。
【００３５】
また、上記１価の炭化水素残基としては、第三に、上記未置換の芳香族残基が例えば上記Ｘ１を表わす芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されているものを挙げることができる。それ故、かかる置換基で置換された場合の例としては、例えばトリル、メチルナフチル、ニトロフェニル、ニトロナフチル、クロロフェニル、ベンゾイルフェニイル、アセチルフェニル又はアセチルナフチル等を挙げることができる。
【００３６】
１価の炭化水素残基としては、上記式（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）又は（ｆ）で表わされる基、すなわち置換された脂肪族残基又は芳香族残基、特にそのうち置換された芳香族残基が好ましい。
【００３７】
２価の炭化水素残基（ｎ＝２の場合）としては、第一に、例えば２価の、炭素数２〜１０の未置換の脂肪族残基、炭素数６〜１２の未置換の芳香族残基、炭素数５〜１２の未置換の脂環族残基が挙げられる。
【００３８】
２価の炭素数２〜１０の未置換の脂肪族基としては、例えばエチレン、トリメチレン、テトラメチレン、デカメチレン等を、２価の炭素数６〜１２の未置換の芳香族残基としては、例えばフェニレン、ナフチレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレン等を；２価の炭素数５〜１２の未置換の脂環族残基としては、例えばシクロペンチレン、シクロヘキシレン等を挙げることができる。
【００３９】
また、上記２価の炭化水素残基としては、第二に、例えば下記式（ｇ）で表わされる基、又は下記式（ｈ）で表わされる置換された脂肪族残基又は芳香族残基を挙げることができる。
【００４０】
【化１４】
2004042528.tif 000011
【００４１】
【化１５】
2004042528.tif 000012
【００４２】
式中、Ｒ８はＲ４に定義された基のいずれかである。Ｒ９はＲ４に定義された基のいずれかであり、そしてＲ１０はＲ６に定義された基のいずれかである。
【００４３】
また、上記２価の炭化水素残基としては、第三に、上記未置換の２価の芳香族残基が、例えば上記Ｘ１を表わす芳香族基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されているものを挙げることができる。
【００４４】
ｎが２の場合には、Ｒ１としては、これらのうち直接結合又は上記第一〜第三の群の未置換又は置換された２価の芳香族炭化水素残基が好ましく、特に２本の結合手が最も離れた位置から出ている第一又は第三の群の未置換又は置換された芳香族炭化水素残基が好ましく、就中Ｐ−フェニレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレン又は２，６−ナフチレンが好ましい。
【００４５】
３価の炭化水素残基（ｎ＝３の場合）としては、例えば３価の炭素数６〜１２の芳香族残基を挙げることができる。
【００４６】
かかる芳香族残基としては、次に示す４種類の基を挙げることができる。
【００４７】
【化１６】
2004042528.tif 000013
【００４８】
かかる芳香族残基は、上記１価の芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されていてもよい。
【００４９】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ２およびＲ３は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり、Ｘ２は４価の芳香族炭化水素残基である。
【００５０】
Ｒ２およびＲ３としては、上記式（Ｉ）の説明において、ｎ＝１の場合のＲ１について例示したと同じ基を例として挙げることができる。
【００５１】
４価の芳香族炭化水素残基としては、次に示す８種類の基を挙げることができる。ここで、Ｒの定義は式（ａ）に同じ。
【００５２】
【化１７】
2004042528.tif 000014
【００５３】
上記４価の芳香族残基は、上記式（Ｉ）の説明において、Ｒ１を表わす１価の芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されていてもよい。
【００５４】
本発明において用いられる上記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルの具体例としては、例えば下記の化合物を挙げることができる。
【００５５】
上記式（Ｉ）の化合物　ｎ＝１の場合
２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（１−又は２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（４−ビフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｍ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ベンゾイルフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｏ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−シクロヘキシル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−（又はｍ−）フタルイミドフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、Ｎ−フェニル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、Ｎ−ベンゾイル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン、２−（ｐ−（Ｎ−メチルカルボニル）フェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン。
【００５６】
上記式（Ｉ）の化合物　ｎ＝２の場合
２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−エチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−テトラメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−デカメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−又は１，５−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，４−シクロヘキシレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、Ｎ−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フェニル、４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、Ｎ−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゾイル、４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン。
【００５７】
上記式（Ｉ）の化合物　ｎ＝３の場合
１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン、２，４，６−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン。
【００５８】
上記式（ＩＩ）の化合物
２，８−ジメチル−４Ｈ，６Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジメチル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，９−ジオン、２，８−ジフェニル−４Ｈ，８Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジフェニル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、６，６’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−エチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）。
【００５９】
上記例示化合物のうち、上記式（Ｉ）の化合物、より好ましくはｎ＝２の場合の上記式（Ｉ）の化合物、特に好ましくは下記式（Ｉ）−１で表わされる化合物が有利に用いられる。式中、Ｒ１１は２価の芳香族炭化水素残基である。
【００６０】
【化１８】
2004042528.tif 000015
【００６１】
式（Ｉ）−１の化合物としては、とりわけ２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好ましい。
【００６２】
これら環状イミノエステルの紫外線吸収特性は、例えばその代表的化合物について特開昭５９−１２９５２号公報に記載されているので、それを援用する。
【００６３】
前記環状イミノエステルは、ポリエステルに対して優れた相溶性を有するが、前記特開昭５９−１２９５２号公報や米国特許第４２９１１５２号明細書に記載されているように、ポリエステルの末端水酸基と反応する能力を有する。そこで、環状イミノエステルが実質的に未反応な状態で含有されるように、環状イミノエステルとポリエステルとを注意深く混合させることが求められる。ただし、ポリエステルとして、主たる割合の末端基がカルボキシル基であるポリエステルや、末端水酸基が該環状イミノエステルと反応性の無い末端封鎖剤で封鎖されているポリエステルを用いる場合、環状イミノエステルを未反応の状態で含有する組成物を製造するのに特別の注意を払う必要は無い。末端基の主たる割合が水酸基であるポリエステルを用いる場合には、溶融混合の時間は、次の２つの数式を満足するように、短時間で完了するようにするのが望ましい。式中、ｔは溶融混合時間（秒）、Ｔは溶融混合温度（℃）及びＴｍはポリエステルの溶融温度（℃）である。
Ｌｏｇｔ≦−０．００８Ｔ＋４．８　…（１）
Ｔｍ＜Ｔ＜３２０　…（２）
【００６４】
この場合、環状イミノエステルとポリエステルとが少しの割合で反応する可能性があるが、この反応によってポリエステルの分子量は大きくなるので、この割合によっては可視光吸収剤によるポリエステルの劣化による分子量低下を防ぐことが可能である。なお、環状イミノエステルがポリエステルと反応した場合、紫外線吸収波長領域が、一般に、未反応の状態の紫外線吸収波長領域より低波長側にずれる傾向を示し、それ故高波長側の紫外線を透過する傾向をもつ。
【００６５】
前記環状イミノエステルは、適量を添加する場合、昇華物が殆どないので、製膜でダイ周辺を汚すことが少なく、紫外線から３７０ｎｍ付近の光線を吸収するのでフィルムの着色が無く、可視光線吸収剤やフィルムの劣化を防止する特性に優れている。
【００６６】
前記紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステルに対し、０．１〜５重量％が好ましく、さらには０．２〜３重量％が好ましい。この量が０．１重量％未満では紫外線劣化防止効果が小さく、一方５重量％を超えるとポリエステルの製膜特性が低下し、好ましくない。
【００６７】
前記紫外線吸収剤のポリエステルへの添加方法は特に限定されないが、ポリエステル重合工程、フィルム製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込み、二軸延伸フィルムへの含浸、などを挙げることができ、特にポリエステル重合度低下を防止する意味でもフィルム製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込みが好ましい。その際、紫外線吸収剤の練込みは、化合物粉体の直接添加法、マスターバッチ法などにより行うことができる。
【００６８】
本発明におけるポリエステルフィルムの、波長３７０ｎｍでの光線透過率は３％以下、好ましくは２％以下である必要がある。３％を超える場合は紫外線に対する耐候性が不足し、例えばプラズマディスプレイ前面板フィルターとして用いた場合に赤外線吸収剤層の劣化が起こる。波長３７０ｎｍでの光線透過率を３％以下にするには、基材層に添加する紫外線吸収剤の量を０．１重量％以上にすればよい。
【００６９】
＜被膜層＞
本発明のフィルムは積層フィルムであって、少なくとも片面に被膜層を有する必要がある。この被膜層を形成させる樹脂としては特に限定されないが、共重合ポリエステル系樹脂を主成分とすることが好ましい。共重合ポリエステル樹脂としては、例えば多塩基酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２、６ーナフタレンジカルボン酸、１、４ーシクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられ、また、ポリオール成分としては、エチレングリコール、１、４ーブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１、６ーヘキサンジオール、１、４ーシクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコール等が挙げられる。特にガラス転移点が４０〜１００℃の範囲にあるポリエステル樹脂が好ましい。また、アクリル系樹脂との接着性を向上させ、且つ被膜層の耐スクラッチ性を向上させるために、アルキルアクリレート、アルキルアクリレート等のモノマーと主成分とするアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、架橋剤等を含有させてもよい。
【００７０】
被膜層には、耐スクラッチ性、ハンドリング性付与のために不活性粒子を含有することが好ましい。不活性粒子の粒子径は１０〜３００ｎｍの範囲であり、含有量は０．１〜２０重量％であることが好ましい。粒子径が１０ｎｍ未満であるか、被膜層中の不活性粒子の含有量が０．１重量％より少ないとフィルムが滑らなくなり、スクラッチ傷耐性やハンドリング性が不十分となる。不活性粒子の粒子径が３００ｎｍを超えるか、含有量が２０重量％を超えると不活性粒子の脱落が起こりやすくなり、また被膜層の透明性が損なわれ、ディスプレイ用途等に使用しにくくなる。かかるフィラーは有機又は無機の微粒子であり、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が例示される。
【００７１】
本発明で用いられる被膜層は、水溶性、水分散性、或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。被膜を形成するために、必要に応じて、上記組成物以外の他の樹脂や化合物、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、ワックス、架橋剤、紫外線吸収剤などを添加することができる。
【００７２】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、被膜層を設けた側の中心線表面粗さＲａが、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが必要であり、好ましくは２ｎｍ以上７ｎｍ以下である。Ｒａが２ｎｍ未満であるとスクラッチを発生しやすく、またハンドリング性が劣ったり、フィルムをロール状に巻いた際にブロッキングを起こし易く、一方１０ｎｍより大きいとフィルムの表面が粗れ、表面反射が大きくなり、全光線透過率が減少する。
【００７３】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、例えば従来から知られている逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法、インフレーション法等によって製造することができる。逐次二軸延伸法や同時二軸延伸法においては、先ず、所定の組成のポリエステルチップを充分に乾燥した後、ダイに通して溶融押出し、予め２０〜４０℃程度に設定されたキャスティングドラム上にて急冷固化させて未延伸フィルムを得る。得られる未延伸フィルムの厚みは０．５ｍｍ以上であることが好ましい。未延伸フィルムは、その後、一般によく知られた条件で二軸方向に延伸するが、熱収と屈折率を所望の範囲とするために、フィルム走行方向（縦方向）に３．０〜４．５倍、これと直角方向（横方向）に３．０〜４．５倍、面積倍率で９〜２０倍に延伸するのが好ましい。延伸温度は、９０℃〜１４０℃が好ましい。また二軸延伸後、必要に応じて熱固定を行うことができる。熱固定温度は１８０〜２５０℃が好ましく、２１０〜２３５℃がより好ましい。
【００７４】
本発明における被膜層を形成する方法は、通常の塗工工程、即ち二軸延伸熱固定した基材層ポリエステルフィルムに該フィルムの製造工程と切り離した工程で行うと、芥、塵埃等を巻込み易く、好ましくない。かかる観点より、クリーンな雰囲気での塗布、即ちフィルム製造工程での塗布が好ましい。そして、この塗布によれば、被膜（塗膜）の基材層ポリエステルフィルムへの密着性が向上する。
【００７５】
塗布方法としては、公知の任意の塗布法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテンコート法などを単独または組合せて用いることができる。塗布量は走行しているフィルム１ｍ２当り、０．５〜２０ｇ、さらには１〜１０ｇが好ましい。水性液は水分散液又は乳化液として用いるのが好ましい。乾燥、延伸後の被膜層の厚さは０．０２〜１μｍであることが好ましい。なお、被膜は、必要に応じ、フィルムの片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。
【００７６】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ヘーズが３％以下である必要があり、好ましくは２％以下である。このヘーズが３％以上を超えると、各種ディスプレイ用途において視認性を損なうなど光学用途として適さないことがある。また全光線透過率は８０％以上であることが好ましく、８０％未満であると画面の鮮明度が低下するので好ましくない。そして前述のように、基材層や被膜層の厚み、そして不活性粒子の添加状態を制御することで、こうした光学特性を達成することができる。
【００７７】
【実施例】
以下の実施例と比較例において、各特性値は以下の方法で測定した。
【００７８】
（１）粒子の粒径
試料フィルム小片を走査型電子顕微鏡用試料台に固定し、スパッターリング装置（日本電子（株）製の商品名「ＪＩＳ−１１００型イオンスパッターリング装置」）を用いてフィルム表面をイオンエッチング処理し、高分解能電界放出形走査型電子顕微鏡にて１〜３万倍で観測し、ニレコ（株）製ルーゼックスＦＳにて、５０個の粒子の面積相当粒径を求め、数平均値を平均粒径とした。
【００７９】
（２）屈折率
アッベ屈折計を用いナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）を光源としてフィルムの屈折率を求めた。
【００８０】
（３）熱収縮率
温度１５０℃に設定された恒温室の中にあらかじめ正確な長さを測定した長さ約３０ｃｍ、幅１ｃｍのフィルムを無荷重で入れ、３０分間保持処理した後取出し、室温に戻してからその寸法の変化を読み取る。熱処理前の長さ（Ｌ０）と熱処理による寸法変化量（ΔＬ）を基にして、
熱収縮率（％）＝（ΔＬ／Ｌ０）×１００
との計算式で熱収縮率を求める。
【００８１】
（４）表面粗さＲａ
三次元粗さ計（小坂研究所製ＳＥ−３ＣＫ）を用いて、針径２μｍＲ、針圧３０ｍｇ、測定長さ１ｍｍ、サンプリングピッチ２μｍ、カットオフ０．２５ｍｍ、縦方向拡大率２万倍、横方向拡大率２００倍、走査本数１００本の条件にて測定し、Ｒａを測定する。両面に被膜層を設けた場合は、両面を測定し平均値を求めた。
【００８２】
（５）全光線透過率、ヘーズ値
ヘーズ測定器（日本電色工業社製の商品名「ＮＤＨ―２０００」）を使用してフィルムの全光線透過率及びヘーズ値を測定した。尚、フィルムのヘーズ値は下記の基準で評価した。
◎：ヘーズ値≦１．５％　……フィルムのヘーズ極めて良好
○：１．５％＜ヘーズ値≦３．０％　……フィルムのヘーズ良好
×：３．０％＜ヘーズ値　……フィルムのヘーズ不良。
【００８３】
（６）３７０ｎｍ光線透過率
ダブルビーム型分光光度計（島津製作所（株）製の商品名「ＵＶ−３１０１ＰＣ」）により、スリット幅；２０ｎｍ、スキャン速度；中速、サンプリングピッチ；１ｎｍの条件で、波長３００〜５００ｎｍ領域の光線透過率を連続的に測定し、３７０ｎｍ波長での光線透過率を検出し、以下の基準で評価した。
○：３％未満
△：３％以上、５％未満
×：５％以上。
【００８４】
（７）耐スクラッチ性
光学易接着フィルムを幅１００ｍｍにスリットしたものをフィルム走行性試験機を使用して、直径１００ｍｍ、回転抵抗１ｋｇのハードクロムメッキ処理されたフリーロール（表面粗度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる。この時の走行条件は、走行速度：１０ｍ／分、巻き付け角：６０゜、走行張力：１０ｋｇとした。この処理によりフィルム表面に入った傷を、白金蒸着後、顕微鏡で観察し、幅２μｍ以上でかつ長さ３００μｍ以上の傷の０．４ｍ２あたり本数をカウントし、下記基準で評価した。
○：１０個未満
△：１０個以上２０個未満
×：２０個以上。
【００８５】
（８）摩擦係数（μｓ）
重ね合わせた２枚のフィルムの下側に固定したガラス板を置き、重ね合わせたフィルムの下側（ガラス板と接しているフィルム）のフィルムを低速ロールにて引取り（約１０ｃｍ／分）、上側のフィルムの一端（下側フィルムの引取り方向と逆端）に検出器を固定してフィルム／フィルム間のスタート時の引張力を検出する。尚、そのときに用いるスレッドは重さ１ｋｇ、下側面積１００ｃｍ２のものを使用する。そして摩擦係数（μｓ）は、次式より求める。
μｓ＝スタート時の引張力（ｋｇ）／荷重１ｋｇ
評価は下記の基準で行う。
○：０．４未満
△：０．４以上　０．６未満
×：０．６以上。
【００８６】
（９）接着性（Ａ法）
ポリエステルフィルムの被膜形成面にハードコート剤（大日精化社製の商品名「セイカビームＥＸＦ０１（Ｂ）」）を＃８ワイヤバーにより塗布し、７０℃で１分間乾燥し溶剤を除去した後、高圧水銀灯で２００ｍＪ／ｃｍ２、照射距離１５ｃｍ、走行速度５ｍ／分の条件下で、厚み５μｍのハードコート層を形成した。得られたフィルムをＪＩＳ規格　Ｋ５４００の８．５．１の記載に準じた試験方法で接着性を求めた。具体的には、被膜層を貫通して基材フィルムに達する１００個の升目状の切り傷を、隙間間隔１ｍｍのカッターガイドを用いて付けた。次いで、セロハン粘着テープ（ニチバン社製４０５番；２４ｍｍ幅）を升目状の切り傷面に張り付け、消しゴムでこすって完全に付着させた後、１８０°の剥離角度で急激に剥がした後、剥離面を観察し、下記の基準で評価した。
○：剥離面積が３０％未満
△：剥離面積が３０％以上５０％未満
×：剥離面積が５０％を超えるもの。
【００８７】
（１０）接着性（Ｂ法）
ハードコート層形成後、５０℃、９０％ＲＨの環境下に５日間保存した後にセロテープによる急速剥離テストを行った以外は、接着性（Ａ法）と同じ方法にて評価した。
【００８８】
（１１）耐候性
ジイモニウム系近赤外線吸収剤（日本化薬（株）製の商品名「ＩＲＧ−０２２」）０．１重量部を、ポリエステルバインダー（東洋紡（株）製の商品名「バイロン２０ＳＳ」）５０重量部に添加し、トルエン１５重量部、メチルエチルケトン３５重量部で希釈したものをポリエステルフィルムにコーティングし、乾燥して、厚み３μｍの近赤外線吸収層を設けた。続いてこのサンプルを、サンシャインウェザーメーター（スガ試験機（株）製の商品名「ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣＬ型」）を使用し、ＪＩＳ規格−Ｋ−６７８３の６．８項に準じ、ただし照射時間は２００時間に変更して照射した後、このサンプルを家庭用テレビのリモートコントロール受光部に設置し、２ｍ離れた位置からリモートコントローラでリモートコントロール信号（信号波長９５０ｎｍおよび８５０ｎｍ）を送って家庭用テレビが反応するかをテストした。ＰＤＰディスプレイから発する近赤外線は、リモートコントローラーより発する近赤外線より弱いので、このテストで反応しなければ、リモートコントロール障害の発生防止が可能である。リモートコントローラーにより反応しなかったものを「○」、反応したものを「×」とした。
【００８９】
［実施例１］
平均粒径１．５μｍの多孔質シリカ（一次粒子の径０．００４μｍ、細孔容積１．２ｍｌ／ｇ）を３０重量ｐｐｍと、下記式（Ａ）に示す紫外線吸収剤を１重量％含有したポリエチレンテレフタレート（固有粘度０．６３）チップを１６０℃で３時間乾燥したのち、２９０℃で溶融押出し、２０℃に保持した冷却ドラム上で急冷固化せしめて未延伸フィルムを得た。
【００９０】
【化１９】
2004042528.tif 000016
【００９１】
続いて、該未延伸フィルムを９５℃で縦方向に３．２倍に延伸し、次いで両面に下記の塗剤を乾燥後の厚みがそれぞれ０．０４μｍになるように塗布し、さらに１１０℃で横方向に３．６倍に延伸したのち、２３０℃で５秒間熱固定し、更に１９０℃の温度で幅方向に０．５％弛緩させ、厚みが１００μｍの二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの特性を表１に示す。
【００９２】
ここで用いた塗剤は、ポリエステルが８５重量部、フィラーとしての架橋アクリルフィラー（６０ｎｍ）が５重量部、そして濡れ剤としてのポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテルが１０重量部からなる。さらにここでのポリエステルは、酸成分が２，６―ナフタレンジカルボン酸６５モル％／イソフタル酸３０モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成（Ｔｇ＝８０℃）からなる。
【００９３】
［実施例２，３および比較例１］
ポリエステルに含有させる紫外線吸収剤を次の通り変更する他は、実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。実施例２では、下記式（Ｂ）の紫外線吸収剤を１重量％含有させた。実施例３では、下記式（Ｃ）の紫外線吸収剤を０．７重量％含有させた。比較例１では、紫外線吸収性剤を含まないポリエチレンテレフタレートを使用した。
【００９４】
【化２０】
2004042528.tif 000017
【００９５】
【化２１】
2004042528.tif 000018
【００９６】
［実施例４］
フィルム厚みを１８８μｍとした以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。
【００９７】
［実施例５］
幅方向の弛緩率を０％とすること以外は熱固定フィルム厚みを１８８μｍとした以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。
【００９８】
［比較例２］
熱固定後、更に２００℃の温度で幅方向に１．５％延伸する以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。
【００９９】
［比較例３］
ポリエステルに含まれる不活性粒子を平均粒径０．１２μｍの球状シリカに変更し、含有量を０．１重量％する以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。
【０１００】
［比較例４］
ポリエステルに含まれる不活性粒子を平均粒径０．３０μｍの球状シリカに変更し、含有量を０．２重量％する以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。
【０１０１】
［比較例５］
不活性粒子を含まないポリエステルを用い、塗剤に含まれるフィラーを粒径８ｎｍの球状シリカ粒子に変更し、乾燥後の被膜層の厚みが０．００４μｍとなるように変更する以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。
【０１０２】
［比較例６］
縦方向の延伸倍率を３．７倍、横方向の延伸倍率を３．９倍とし、熱固定温度を２０５℃とする以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。
【０１０３】
【表１】
2004042528.tif 000019
【０１０４】
【発明の効果】
表に示す結果から明らかなように、本発明の積層ポリエステルフィルムは、耐候性に優れ、かつ加工性、接着性、耐スクラッチ性にも優れ、光学用途のフィルムとして有用である。