(57)【要約】【課題】ミラーの製造を煩雑にすることなく、垂直度誤差を有する複数のミラーが存在する光路の損失を小さくする。【解決手段】ミラー７，９，１２が形成されている下部基板１と、ミラー８，１０，１１が形成されている上部基板２が、各ミラーの先端同士が対向するように接合されている。そして、光ファイバ３，５と光ファイバ４，６とを結ぶ光路中において、下部基板１に形成されているミラー７，９，１２と、上部基板２に形成されているミラー８，１０，１１が交互に配置されている。これによって、ミラー７，９，１２とミラー８，１０，１１の垂直度誤差が相殺されて、光ファイバ３，５から出射されるビームは、ほとんど光軸が平行に保たれたまま、光ファイバ４，６に入射する。出射側の光ファイバ３，５に対して、入射側の光ファイバ４，６は僅かに高い位置に保持されている。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層されている１対の基板と、
一方の前記基板に形成されており、先端が他方の前記基板に向いている第１のミラー手段と、
前記他方の基板に形成されており、先端が前記一方の基板に向いている第２のミラー手段と、
前記一方の基板と前記他方の基板の間に配置され、前記第１のミラー手段および前記第２のミラー手段を介して光学的に接続可能な複数の光ファイバとを有する光学デバイス。
【請求項２】
前記第１のミラー手段を構成するミラーと、前記第２のミラー手段を構成するミラーとが、前記複数の光ファイバが光学的に接続されて形成される光路中で交互に位置している、請求項１に記載の光学デバイス。
【請求項３】
前記第１のミラー手段と前記第２のミラー手段は、エッチングによって形成された傾斜した反射面を有している、請求項１または２に記載の光学デバイス。
【請求項４】
前記第１および第２のミラー手段を構成するミラーのうちの少なくとも１つは、可動ミラーであり、
前記可動ミラーを移動させることによって、前記複数の光ファイバの光学的接続を変更して光路を切り替えることができる駆動手段を有し、光スイッチとして使用される請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学デバイス。
【請求項５】
前記第１および第２のミラー手段を構成するミラーのうちの少なくとも１つは、可動ミラーであり、
前記可動ミラーを移動させることによって、前記複数の光ファイバの光学的接続を部分的に遮断させることができる駆動手段を有し、光減衰器として使用される請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学デバイス。
【請求項６】
出射側の前記光ファイバと、入射側の前記光ファイバは、高さ方向の位置が異なるように配置されている請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学デバイス。
【請求項７】
一方の基板上に第１のミラー手段を形成する工程と、
他方の基板上に第２のミラー手段を形成する工程と、
前記両基板を、前記第１および第２のミラー手段の先端同士が向かい合うようにして互いに重ね合わせる工程と、
複数の光ファイバを、前記両基板間の、前記第１のミラー手段および前記第２のミラー手段を介して光学的に接続可能な位置に配置する工程とを含む光学デバイスの製造方法。
【請求項８】
前記第１および第２のミラー手段の形成工程は、前記両基板のエッチングを含む工程である、請求項７に記載の光学デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光スイッチや光減衰器などの光学デバイスと、その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光通信分野などにおいて様々な光学デバイスが使用されており、例えば、光ファイバ伝送路の光路の切り換えや遮断を行う光スイッチや光減衰器として、複数の光ファイバとミラーを有する構成のものがある（特開２００１−５６４４０号公報、特開２０００−１３７１７７号公報、特開２００２−２７７７６５号公報、特開平５−１１３５４３号公報などに開示）。その構成について簡単に説明すると、基板上に複数の光ファイバが配置され、少なくとも１本の光ファイバの前方に可動ミラーが配置されている。そして、可動ミラーが光ファイバの前方に存在する時と、電磁石等の駆動手段に駆動されて可動ミラーが光ファイバの前方から退避した時とで、他の光ファイバとの光学的接続状態が変わり、光路の切り換えや遮断などが行われるものである。通常、可動ミラーが退避した時の光ファイバの光学的接続等に利用される固定ミラーも基板上に配置されている。
【０００３】
このような、基板上に複数の光ファイバと複数のミラーが配置されている光学デバイスを製造する上で、従来の半導体製造などに多用されている、いわゆるＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）技術、すなわち、シリコン基板に対して露光およびエッチングなどを施すフォトリソグラフィ法で加工を行う技術を利用する方法がある。具体的には、厚いシリコン基板をパターンエッチングすることによって、ミラーの基部となる凸状部分を残して薄くし、薄くなった基板にさらに光ファイバ用の溝を刻む。その後、凸状部分に金属膜を蒸着してミラーを形成し、溝内に光ファイバを固定することによって、光学デバイスの基本部分を完成させる。ＭＥＭＳ技術は、比較的高精度かつ微細な加工を行える技術として確立されているので、小型の光学デバイスを低コストで大量生産することが可能になる。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−５６４４０号公報（段落［００１４］〜［００２４］、図１，２，６）
【特許文献２】
特開２０００−１３７１７７号公報（段落［００２３］〜［００２７］，［００３９］、図４，８）
【特許文献３】
特開２００２−２７７７６５号公報（段落［００１８］，［００２５］、図３）
【特許文献４】
特開平５−１１３５４３号公報（段落［００１２］〜［００１５］、図１，３）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記した通り、従来の光学デバイスでは、光ファイバの端面間に複数のミラーが介在して光路が構成され、それらのミラーは基板上にエッチングによって形成されている場合が多い。これらのミラーの精度が光学デバイスの性能に大きな影響を及ぼす。すなわち、図９（ａ）に示すように入射されるビーム３１に対してミラー３２が垂直であると、光軸のずれを生じることがほとんどなく、光の損失は少ない。しかし、通常のエッチング工程では完全な垂直度を得ることが難しく、シリコン基板をエッチングして凸状部分を形成する場合、その凸状部分は０．３度程度の傾きで先細（または先太）の形状になってしまう。どんなに精度を向上させても、現状の技術では、少なくとも０．１度程度の傾きを生じる可能性がある。そして、同一表面にエッチングにより複数の凸状部分を同時に形成すると、全ての凸状部分はほぼ同様な先細形状（または先太形状）になる。このような凸状部分に金属膜を蒸着してミラーを形成すると、個々のミラーの垂直度の誤差は微小なものであるが、図９（ｂ）に示すように、光路中に存在する複数のミラー３３が同様な垂直度誤差を含むので、各ミラー３３の誤差が重なって、ビーム３１の光軸の角度や位置のずれが累積されて大きくなり、光の損失の増大を招く。１対の光ファイバを結ぶ光路中に存在するミラー３３の数が多くなり反射回数が多くなるほど、損失は大きくなる。例えば、図１０に模式的に示すように、ミラー３３の垂直度誤差がｔであると、ビーム３１は、１回目の反射で２ｔ、２回目の反射で４ｔというふうに累積的に誤差が大きくなっていく。そして、図１１に示すように、ミラー３３の傾きが大きくなるほど、光路中の損失が大きくなる。なお、このミラー３３の傾きと光路中の損失の関係は、光路の全長やビーム径や波長などによって大きく変わるため、具体的な数値で示すことは困難なので、図１１にはその全体的な傾向を示している。なお、一般的な光学デバイスの設計においては、ミラー３３の傾きが０．５度程度であっても、３ｄＢ程度の損失が生じることがある。
【０００６】
特開２００１−５６４４０号公報には、平坦で垂直な反射面を有するミラーを形成する方法が提案されているが、これは、バイアスをかけながらエッチングする工程と重合工程を交互に繰り返す必要があるなど、製造工程が非常に煩雑になるものである。
【０００７】
そこで本発明の目的は、エッチングを用いて容易にミラーを構成することができるとともに、光路中に複数のミラーが存在していても損失を小さくすることができる、光スイッチなどの光学デバイスとその製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の光学デバイスは、積層されている１対の基板と、一方の基板に形成されており、先端が他方の基板に向いている第１のミラー手段と、他方の基板に形成されており、先端が一方の基板に向いている第２のミラー手段と、一方の基板と他方の基板の間に配置され、第１のミラー手段および第２のミラー手段を介して光学的に接続可能な複数の光ファイバとを有する。そして、第１のミラー手段を構成するミラーと、第２のミラー手段を構成するミラーとが、複数の光ファイバが光学的に接続されて形成される光路中で交互に位置していることが好ましい。この構成によると、一対の基板間に位置する光ファイバ間に構成される光路中において、両方の基板に設けられているミラーが交互に位置しているため、各ミラーの表面に垂直度誤差があっても、その誤差が互いに打ち消されて、光軸の角度のずれが補整される。そして、個々のミラーの精度向上を必ずしも必要としないので、製造方法が煩雑になることは防げる。従って、第１のミラー手段と第２のミラー手段は、エッチングによって形成された傾斜した反射面を有している場合に特に効果的である。
【０００９】
この光学デバイスは、第１および第２のミラー手段を構成するミラーのうちの少なくとも１つは、可動ミラーであり、可動ミラーを移動させることによって、複数の光ファイバの光学的接続を変更して光路を切り替えることができる駆動手段を有し、光スイッチとして使用されるものであってもよい。あるいは、第１および第２のミラー手段を構成するミラーのうちの少なくとも１つは、可動ミラーであり、可動ミラーを移動させることによって、複数の光ファイバの光学的接続を部分的に遮断させることができる駆動手段を有し、光減衰器として使用されるものであってもよい。
【００１０】
出射側の光ファイバと、入射側の光ファイバは、高さ方向の位置が異なるように配置されていることが好ましい。それによって、ミラーに反射されながら、平行に保たれつつ若干移動する光軸に対応して、より効率よく確実に光の伝達が行える。
【００１１】
また、本発明の光学デバイスの製造方法は、一方の基板上に第１のミラー手段を形成する工程と、他方の基板上に第２のミラー手段を形成する工程と、両基板を、第１および第２のミラー手段の先端同士が向かい合うようにして互いに重ね合わせる工程と、複数の光ファイバを、両基板間の、第１のミラー手段および第２のミラー手段を介して光学的に接続可能な位置に配置する工程とを含む。
【００１２】
第１および第２のミラー手段の形成工程は、両基板のエッチングを含む工程であってもよい。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００１４】
本発明の第１実施形態の光学デバイスである光スイッチについて、図１〜６を参照して説明する。図１〜４に示すように、本実施形態の光スイッチの基本構成は、下部基板１と上部基板２が積層されて構成されている光スイッチ本体部と、両基板１，２間に配置されている光ファイバ３〜６と、固定ミラー７〜１０と、可動ミラー１１，１２と、図示しない駆動手段からなる。
【００１５】
図２，３（ａ）に示すように、下部基板１のガイド溝１ａ内には、光ファイバ３，５が保持されている。ガイド溝１ａの前方には凹部１ｂが設けられており、その凹部１ｂ内に可動部１３が設けられている。可動部１３は、凹部１ｂ内に位置する平面部１３ａと、この平面部１３ａを凹部１ｂの内周面に接続するバネ性を有する梁部１３ｂとからなる。凹部１ｂ内には、光ファイバ３と対向する固定ミラー７と、光ファイバ５と対向する固定ミラー９が設けられている。また、可動部１３の平面部１３ａの上面には、固定ミラー９の前方に位置する可動ミラー１２が設けられている。
【００１６】
図２，３（ｂ）に示す上部基板２は、前記した下部基板１と全く同じ構成で上下逆にしたものである。すなわち、上部基板２のガイド溝２ａ内には、光ファイバ４，６が保持されている。ガイド溝２ａの前方には凹部２ｂが設けられており、その凹部２ｂ内に可動部１４が設けられている。可動部１４は、凹部２ｂ内に位置する平面部１４ａと、この平面部１４ａを凹部２ｂの内周面に接続するバネ性を有する梁部１４ｂとからなる。凹部２ｂ内には、光ファイバ４と対向する固定ミラー８と、光ファイバ６と対向する固定ミラー１０が設けられている。また、可動部１４の平面部１４ａの下面には、固定ミラー８の前方に位置する可動ミラー１１が設けられている。各ミラー７〜１２の断面形状などの詳細な構造については後述する。なお、ガイド溝１ａ，２ａは、一般的には、シリコンからなる基板１，２をエッチングすることによって形成されるＶ溝である。
【００１７】
この下部基板１と上部基板２が接合されて構成された本体部に、図示しないが、１対の駆動手段が設けられている。一方の駆動手段は可動部１３を駆動するものであり、他方の駆動手段は可動部１４を駆動するものである。例えば、駆動手段が電磁石であって、可動部１３，１４に図示しない磁性体が取り付けられている場合、電磁石が磁性体に対して吸引力または反発力を及ぼすことによって、可動部１３，１４の梁部１３ｂ，１４ｂが撓み変形して平面部１３ａ，１４ａは凹部１ｂ，２ｂ内で上下に移動可能である。本実施形態では、図１，２に示す初期状態において、可動ミラー１１，１２は、固定ミラー８，９と光ファイバ４，５との間の空間内に進入している。そして、駆動手段が作動すると、可動部１３の平面部１３ａは下方へ、可動部１４の平面部１４ａは上方へそれぞれ引っ張られて、可動ミラー１１，１２は、固定ミラー８，９と光ファイバ４，５との間の空間から退避する。なお、駆動手段が静電アクチュエータなどの他の手段である場合にも、可動部１３，１４は同様に移動可能である
本実施形態では、光ファイバ３および５の組と、光ファイバ４および６の組に分けられ、いずれか一方の組（例えば光ファイバ３および５）が出射側光ファイバで、他方の組（例えば光ファイバ４および６）が入射側光ファイバとなる。
【００１８】
このような構成の光スイッチにおいて、図１に示されている状態では、可動部１３，１４の梁部１３ｂ，１４ｂは変形せず、平面部１３ａ，１４ａに設けられた可動ミラー１１，１２は、光ファイバ４，５と対向するように位置する。従って、図４に実線で示すように、光ファイバ３から出射されたビームは、固定ミラー７に反射され、さらに可動ミラー１１に反射されて光ファイバ４に入射する。光ファイバ５から出射されたビームは、可動ミラー１２に反射され、さらに固定ミラー１０に反射されて光ファイバ６に入射する。このようにして、光ファイバ３から４に至る光路と、光ファイバ５から６に至る光路が形成されている。
【００１９】
これに対し、１対の駆動手段が駆動されて可動部１３，１４に吸引力を及ぼすと、バネ性を有する梁部１３ｂ，１４ｂが撓み変形して、平面部１３ａが下方に、平面部１４ａが上方にそれぞれ移動する。これによって、平面部１３ａ，１４ａに設けられた可動ミラー１１，１２は、光ファイバ３〜６の先端部に対向しない位置に移動する。すなわち、可動ミラー１１，１２は光ファイバ３〜６の光路から退出するため、例えば、図４に１点鎖線で示すように、光ファイバ３から出射されたビームは、固定ミラー７に反射され、さらに固定ミラー１０に反射されて光ファイバ６に入射する。光ファイバ５から出射されたビームは、固定ミラー９に反射され、さらに固定ミラー８に反射されて、光ファイバ４に入射する。このようにして、光ファイバ３から６に至る光路と、光ファイバ５から４に至る光路が形成されている。
【００２０】
本実施形態では、図５（ａ）に模式的に示すように、下部基板１に、先端が上向きの固定ミラー７，９および可動ミラー１２が設けられ、図５（ｂ）に模式的に示すように、上部基板２に、先端が下向きの固定ミラー８，１０および可動ミラー１１が設けられている。従って、図４，５（ｃ）に示すように、構成可能な４つの光路のうち、光ファイバ３から４に至る光路は、その途中に、下部基板１に設けられた固定ミラー７と上部基板１に設けられた可動ミラー１１が介在している。同様に、光ファイバ５から６に至る光路は、その途中に、下部基板１に設けられた可動ミラー１２と上部基板２に設けられた固定ミラー１０が介在しており、光ファイバ３から６に至る光路は、その途中に、下部基板１に設けられた固定ミラー７と上部基板２に設けられた固定ミラー１０が介在しており、光ファイバ５から４に至る光路は、その途中に、下部基板１に設けられた固定ミラー９と上部基板２に設けられた固定ミラー８が介在している。このように、本実施形態で構成される光路は、下部基板１に設けられた先端が上向きのミラーと、上部基板２に設けられ先端が下向きのミラーを交互に含んでいる。
【００２１】
ここで、各ミラー７〜１２の断面形状について詳細に説明する。各ミラー７〜１２はシリコン基板のエッチングによって形成されたものである。エッチング工程では、エッチングが開始される基板の表面付近に比べて、エッチング工程の後半で食刻される基板の深部では削られる面積が小さくなるという傾向がある。すなわち、エッチングにより形成される凹部は奥に向かうほど先細になり、その内周面は垂直にならない。本実施形態の場合、前記した凹部の内周面に相当する、パターンエッチングにより切削されずに残った部分（凸状部分）の表面に金属膜が蒸着されてミラー７〜１２となるので、ミラー７〜１２は垂直ではなく、±０．３度程度の垂直度誤差がある。場合によっては、エッチング時のガス量や圧力やプラズマのパワーなどの条件を変更することによって、ミラーが先太の形状に形成されることもあり得るが、その場合にも、やはり全てのミラーが一様な角度の傾斜面になることは免れ得ない。
【００２２】
前記した従来の構成では、光路中に含まれるミラーの数だけ垂直度誤差が累積されるので、出射側光ファイバと入射側光ファイバの間には光軸の角度の大きなずれを生じ、その結果、損失が大きくなる（図９（ｂ），１０参照）。これに対し本実施形態では、個々のミラー７〜１２は従来同様に±０．３度程度の垂直度誤差を含んでいるものの、反対側に傾くミラーが、光路中に互い違いに配置されているため、ミラーの垂直度誤差同士が相殺し合って、出射側光ファイバと入射側光ファイバの間では光軸の角度のずれが小さく、損失が小さい。すなわち、図６に示すように、同様なエッチング工程により形成したミラーを、上下逆に配置することにより、ミラー表面の傾きは反対になる。これらを組み合わせることにより、上流側のミラーの垂直度誤差によって傾いた光軸は、下流側のミラーの垂直度誤差によって打ち消される。両ミラーの傾きの絶対値が等しければ、理論上、両ミラー入射前と両ミラーを通過した後で、光軸は平行に保たれる。本実施形態では、個々のミラー自体の精度向上を前提とするものではなく、従来同様のエッチング工程で形成しても構わないため、製造方法が煩雑になることはない。これは、前記したようにミラーが先太形状である場合にも同様に有効である。
【００２３】
なお、本実施形態では、下部基板１に設けられている固定ミラー７，９および可動ミラー１２が一方のミラー手段を構成し、上部基板２に設けられている固定ミラー８，１０および可動ミラー１１が他方のミラー手段を構成している。
【００２４】
本実施形態においては、図１，５に示すように、出射側の光ファイバ３，５に対して、入射側の光ファイバ４，６は僅かに（数μｍ〜数十μｍ程度）高い位置に保持されている。これは、本実施形態の構成では、図５，６に示すように光軸は平行に保たれながら若干移動するのに対応するためである。これによって、光の伝達がより効率よく確実に行われるという効果がある。ただし、出射側の光ファイバ３，５と入射側の光ファイバ４，６が同じ高さ位置に保持される構成であっても、前記した通り、光路中に上向きのミラーと下向きのミラーが交互に位置することによって、光の伝達の効率および精度を向上できる効果は大きい。
【００２５】
次に、本発明の第２の実施形態について、図７，８を参照して説明する。本実施形態は光減衰器に関するものである。なお、第１の実施形態と同様な部分には同一の符号を付与し説明を省略する。
【００２６】
図７に示すように、本実施形態の下部基板１５にはガイド溝１５ａと凹部１５ｂが設けられており、ガイド溝１５ａ内には光ファイバ１７が位置決めされて固定され、凹部１５ｂ内には、光ファイバ１７と対向する固定ミラー１８が設けられている。一方、上部基板１６にはガイド溝１６ａと凹部１６ｂが設けられ、ガイド溝１６ａ内には光ファイバ２０が位置決めされて固定され、凹部１６ｂ内には上下方向に移動可能な可動部１９が設けられている。可動部１９は、凹部１６ｂ内に位置する平面部１９ａと、平面部１９ａを凹部１６ｂの内周面に接続する弾性を有する梁部１９ｂとからなり、平面部１９ａの下面には、光ファイバ２０と対向可能な可動ミラー２１が設けられている。また、図示しないが、可動部１９を移動させる駆動手段が設けられている。ガイド溝１５ａ，１６ａは、一般的には、シリコンからなる基板１５，１６をエッチングすることによって形成されるＶ溝である。
【００２７】
このような構成の光減衰器において、初期状態では、可動部１９は移動せず可動ミラー２１は、光ファイバ２０と対向する位置にある。従って、図８に示すように、光ファイバ１７から出射されたビームは、固定ミラー１８に反射され、さらに可動ミラー２１に反射されて光ファイバ２０に入射する。これに対し、図示しない駆動手段が駆動されて可動部１９に吸引力または反発力を及ぼすと、平面部１９ａが上方または下方に移動する。これによって、可動ミラー２１は、光ファイバ２０の先端部に部分的にしか対向しない位置に移動する。従って、光ファイバ１７から出射されたビームは、固定ミラー１８に反射され、そのビームの一部が部分的に可動ミラー２１に入射する。それによって、ビームの一部のみが可動ミラー２１に反射されて光ファイバ２０に入射する。すなわち、光ファイバ１７から出射した光量に比べて、光ファイバ２０に入射する光量は減少する。こうして、光の減衰が行われる。なお、可動部１９の移動量を適宜に設定することによって、所望の減衰率を得ることができ、光路を完全に遮断してしまうこともできる。
【００２８】
本実施形態でも、第１の実施形態と同様に、下部基板１に、先端が上向きの固定ミラー１８が設けられ、上部基板２に、先端が下向きの可動ミラー２１が設けられているため、光ファイバ１７から光ファイバ２０に至る光路の途中に、反対側に傾斜した反射面が交互に位置し、ミラーの垂直度誤差同士が相殺し合って、光ファイバ１４と光ファイバ２０の間では光軸の角度のずれが小さく、損失が小さい。この構成によると、光軸の角度のずれによる誤差を抑えて所望の減衰率を精度よく得ることができる。
【００２９】
本発明は、以上説明した２つの実施形態に限られず、複数の光ファイバにより構成される光路中に複数のミラーが存在する構成の光学デバイスに広く適用することができる。また、光ファイバおよびミラーは様々な位置関係に配置することができるが、上部基板に設けられたミラーと下部基板に設けられたミラーとが、各光路中で交互に存在するように配置される。考えられる全ての組み合わせの出射側光ファイバから入射側光ファイバに至る光路において、上部基板に設けられたミラーと下部基板に設けられたミラーとが交互に存在することが好ましいが、さほど重要ではない光路については除外することもできる。また、製造上の理由等により、上部基板に設けられたミラーと下部基板に設けられたミラーとが全て完全に交互に配置されていなくても構わない場合もある。光路中に存在するミラーの数は偶数であることが好ましいが、奇数であっても構わない。前記した各実施形態では、全てのミラーが平面的に見て光軸に対し４５度に傾けて配置されているが、このような配置に限定されるものではない。光路の構成の仕方に応じて、ミラーの数や位置や角度を任意に設定することができる。もちろん、光ファイバの数やそれぞれの用途（入射側または出射側など）や、可動ミラーを移動させるための構成等については、自由に変更することができる。
【００３０】
【発明の効果】
本発明によると、一対の基板間に位置する光ファイバ間に構成される光路中において、両基板に設けられている先端が上向きのミラーと先端が下向きのミラーとが交互に介在している。従って、エッチング工程等の影響でミラーの表面に垂直度誤差が生じていても、その誤差が互いに打ち消されて、光軸の角度のずれが補整される。そして、個々のミラーの精度向上を必ずしも必要としないので、製造方法が煩雑になることは防げる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態の光学デバイスの斜視図である。
【図２】図１に示す光学デバイスの分解斜視図である。
【図３】（ａ）は図１に示す光学デバイスの下部基板の平面図、（ｂ）はその光学デバイスの上部基板の平面図である。
【図４】図１に示す光学デバイスの光路を説明する概略平面図である。
【図５】（ａ）は図１に示す光学デバイスの下部基板の概略断面図、（ｂ）はその光学デバイスの上部基板の概略断面図、（ｃ）はその光学デバイスの接合状態の概略断面図である。
【図６】図１に示す光学デバイスの光路の角度を説明する説明図である。
【図７】（ａ）は本発明の第２の実施形態の光学デバイスの下部基板の平面図、（ｂ）はその光学デバイスの上部基板の平面図である。
【図８】図７に示す光学デバイスの光路を説明する概略平面図である。
【図９】（ａ）は垂直度誤差のない複数のミラーを含む光路を示す説明図、（ｂ）は垂直度誤差のある複数のミラーを含む従来の光学デバイスの光路を示す説明図である。
【図１０】従来の光学デバイスの光路の角度を説明する説明図である。
【図１１】従来の光学デバイスのミラーの傾きと光学的損失の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１，１５          下部基板
２，１６          上部基板
３〜６，１７，２０      光ファイバ
７〜１０，１８    固定ミラー
１１，１２，２１  可動ミラー
１３，１４，１９        可動部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004191848.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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