(57)【要約】      （修正有）【課題】フィルタに起因するビーム強度の偏りに影響されない光軸調整が可能であり、かつフィルタに起因するビーム強度の偏りを補正できる光学走査装置を提供する。【解決手段】光学走査装置１０は、基板１１上に設けられ光ビームＬを発するＬＤ１２と、光ビームＬの光路上に順次配置されたコリメータレンズ１３、及び、スリット板１４が設けられている。スリット１４を通過した光ビームＬはシリンダレンズ１７、光学系１８、フィルタ２１を通過し、平面ミラー１５、１６で反射され、ｆθレンズ２２、２４を通過し、ポリゴンミラー２０に導かれる。フィルタ２１は光ビームＬの光路中に出し入れ可能であり、光軸調整中はフィルタ２１が光ビームＬの光路中から外れ、フィルタ２１の影響を除外した状態で光軸調整を行ない、その後フィルタ２１を光路中に挿入し、フィルタ２１の主走査方向における位置を調整し、光量バランスをとることができる。【選択図】        図１
2004279914.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを出射する光源と、
前記光ビームを主走査方向に偏向させる回転反射鏡と、
前記光源から出射された光ビームを主走査方向に所定幅とし前記回転反射鏡の反射面の幅よりも大きくする入射光学系と、
前記光ビームを前記回転多面鏡の中心へ向かわせ前記回転多面鏡の回転軸と直交する平面と角度を持って入射させる整形手段と、
前記回転多面鏡で偏向された光ビームを露光面上に結像する結像光学系と、
前記光ビームの光軸を中心として前記主走査方向に対称な透過率分布を持つコート部を備え、かつ光路中に出し入れ可能なフィルターを設けたことを特徴とする光学走査装置。
【請求項２】
前記フィルタは光路中にあって前記主走査方向に位置調整可能であることを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。
【請求項３】
光ビームを出射する光源と、
前記光ビームを主走査方向に偏向させる回転反射鏡と、
前記光源から出射された光ビームを主走査方向に所定幅とし前記回転反射鏡の反射面の幅よりも大きくする入射光学系と、
前記光ビームを前記回転多面鏡の中心へ向かわせ前記回転多面鏡の回転軸と直交する平面と角度を持って入射させる整形手段と、
前記回転多面鏡で偏向された光ビームを露光面上に結像する結像光学系と、
前記光源と前記回転多面鏡との間に前記光ビームの前記主走査方向の幅を変更する光学系を有し
前記光学系と前記回転多面鏡の間に前記光ビームの光軸を中心として前記主走査方向に対称な透過率分布を持つコート部を備え、かつ光路中に出し入れ可能なフィルターを設けたことを特徴とする光学走査装置。
【請求項４】
前記フィルタは光路中にあって前記主走査方向に位置調整可能であることを特徴とする請求項３に記載の光学走査装置。
【請求項５】
光ビームを出射する光源と、
前記光ビームを主走査方向に偏向させる回転反射鏡と、
前記光源から出射された光ビームを主走査方向に所定幅とし前記回転反射鏡の反射面の幅よりも大きくする入射光学系と、
前記光ビームを前記回転多面鏡の中心へ向かわせ前記回転多面鏡の回転軸と直交する平面と角度を持って入射させる整形手段と、
前記回転多面鏡で偏向された光ビームを露光面上に結像する結像光学系と、
前記光源と前記回転多面鏡との間に前記光ビームの前記主走査方向の幅を増幅する拡大光学系を有し、
前記拡大光学系と前記回転多面鏡の間に前記光ビームの光軸を中心として前記主走査方向に対称な透過率分布を持つコート部を備え、かつ光路中に出し入れ可能なフィルターを設け、
前記コート部の幅が前記拡大光学系による増幅前の光ビームの幅よりも大きく、増幅後の光ビームの幅よりも小さいことを特徴とする光学走査装置。
【請求項６】
前記フィルタは前記主走査方向に位置調整可能であることを特徴とする請求項５に記載の光学走査装置。
【請求項７】
光ビームを出射する光源と、
前記光ビームを主走査方向に偏向させる回転反射鏡と、
前記光源から出射された光ビームを主走査方向に所定幅とし前記回転反射鏡の反射面の幅よりも大きくする入射光学系と、
前記光ビームを前記回転多面鏡の中心へ向かわせ前記回転多面鏡の回転軸と直交する平面と角度を持って入射させる整形手段と、
前記回転多面鏡で偏向された光ビームを露光面上に結像する結像光学系と、
前記光源と前記回転多面鏡との間に前記光ビームの前記主走査方向の幅を変更する拡大光学系を有し、
前記拡大光学系と前記回転多面鏡の間に前記光ビームの光軸を中心として前記主走査方向に対称な反射率分布を持つコート部を備えたミラーを設けたことを特徴とする光学走査装置。
【請求項８】
前記ミラーは前記主走査方向に位置調整可能であることを特徴とする請求項７に記載の光学走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、レーザービームを走査して画像の記録を行なうレーザービームプリンタやデジタル複写機などの画像記録装置において要求される高速化、高解像度化を実現するため回転多面鏡の回転数増加、反射面数の増加が提案されているが、回転数増加は軸受の機械的性能限界、反射面数の増加は回転多面鏡の大型化といった問題により充分な高速化・高解像度化は困難であった。
【０００３】
そこで近年、主走査方向の幅が回転多面鏡の反射面幅よりも広い光ビームを回転多面鏡に照射する、いわゆるオーバーフィルドタイプ（ＯｖｅｒＦｉｌｌｅｄＴｙｐｅ）の光学系や、複数の光源を使用し複数の走査線を同時に形成する方式が提案されている。
【０００４】
しかし、オーバーフィルドタイプの光学系では回転多面鏡の反射面の幅よりも入射させるレーザービームの幅の方が大きいので、レーザービームの全光束のうち記録ビームとして使用される光束の位置は回転多面鏡の回転に伴って主走査方向に沿って移動してしまう。このため走査角によって光束内の使用されるレーザービームの位置が異なり、レーザービームの主走査方向の強度分布が走査線の光量分布に大きな影響を及ぼす。これが被走査面上の照度分布となり、画像の濃度ムラとなる。この対策として従来、光源と回転多面鏡の間に被走査面上の露光量を調節するフィルタを設け、被走査面上の照度分布を一様にすることで画像の濃度ムラをおさえる技術が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
だが上記の方法ではフィルタの製造誤差などによりコート部の幅のバラツキ、コート部と非コート部の境界位置のバラツキがあり、所定の光軸中心にフィルタを設置しても、使用される光源（例えばレーザダイオード）から射出される光ビームのエネルギー分布（以下「ビームプロファイル」という）はビーム強度のピークに対して左右対称なガウス分布（正規分布）とはならない。
【０００６】
あるいは光源の位置を調整することにより被走査面上の光量を一様にする技術が開示されている（例えば、特許文献２参照）。しかしフィルタの取りつけ基準面に対する光軸精度も製造上限界があるため、光軸合わせの際にはフィルタの位置およびコート部の位置の影響を排除できない。
【０００７】
このため、オーバーフィルドタイプの光学走査装置はフィルタによるビームプロファイルの偏りや光軸ズレの影響が大きく、主走査方向のビーム光量分布は不均一であり、結果として画像の濃度ムラを生じるなどの問題を抱えている。さらに、フィルタによりビームプロファイルの偏った状態で光軸を合わせる結果となるので正確な光軸合わせが困難となる。
【０００８】
【特許文献１】
特開平８−１６０３３８号公報（図１、第４頁〜第６頁）
【特許文献９】
特開平９−９６７６９号公報（図１、第４頁〜第８頁）
【０００９】
【発明が解決すべき課題】
本発明は上記事実を考慮し、フィルタに起因するビーム強度の偏りに影響されない光軸調整が可能であり、かつフィルタに起因するビーム強度の偏りを補正できる光学走査装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【発明を解決する手段】
請求項１に記載の光学走査装置は光ビームを出射する光源と、前記光ビームを主走査方向に偏向させる回転反射鏡と、前記光源から出射された光ビームを主走査方向に所定幅とし前記回転反射鏡の反射面の幅よりも大きくする入射光学系と、前記光ビームを前記回転多面鏡の中心へ向かわせ前記回転多面鏡の回転軸と直交する平面と角度を持って入射させる整形手段と、前記回転多面鏡で偏向された光ビームを露光面上に結像する結像光学系と、前記光ビームの光軸を中心として前記主走査方向に対称な透過率分布を持つコート部を備え、かつ光路中に出し入れ可能なフィルターを設けたことを特徴とする。
【００１１】
上記構成の発明では、オーバーフィルドタイプで正面入射の光走査装置において光源から光ビームが射出されると、回転多面鏡の走査方向の偏向面幅を越える幅の光ビームが前記回転多面鏡に入射される。光ビームのビームプロファイルは概ねガウス分布に従うので中央が強く周辺部が弱い、いわゆる周辺光量の低下が発生する。ここで、回転多面鏡の偏向面により切り取られる光ビームの部分は走査方向によって異なるため、被走査面上における光量分布は均一でなくなる。そこで、中央部分に濃度をもつフィルタを光路中に設け、ビームのパワーがバランスするように調整する。これによって、被走査面上の光量の一様性を良好にすることができる。加えて、光軸調整の際にはフィルタを光路から外すことでフィルタ自身のファクタによる影響を除外して光軸を合わせることができる。
【００１２】
請求項２に記載の光学走査装置は、フィルタは光路中にあって前記主走査方向に位置調整可能であることを特徴とする。
【００１３】
上記構成の発明では、フィルタの製造誤差などに起因するコート部分のズレによる影響を、フィルタ自身を主走査方向に位置調整可能とすることで解消できる。
【００１４】
請求項３に記載の光学走査装置は、光ビームを出射する光源と、前記光ビームを主走査方向に偏向させる回転反射鏡と、前記光源から出射された光ビームを主走査方向に所定幅とし前記回転反射鏡の反射面の幅よりも大きくする入射光学系と、前記光ビームを前記回転多面鏡の中心へ向かわせ前記回転多面鏡の回転軸と直交する平面と角度を持って入射させる整形手段と、前記回転多面鏡で偏向された光ビームを露光面上に結像する結像光学系と、前記光源と前記回転多面鏡との間に前記光ビームの前記主走査方向の幅を変更する光学系を有し、前記光学系と前記回転多面鏡の間に前記光ビームの光軸を中心として前記主走査方向に対称な透過率分布を持つコート部を備え、かつ光路中に出し入れ可能なフィルターを設けたことを特徴とする。
【００１５】
上記構成の発明では、光源と回転多面鏡の間に光ビームの主走査方向の幅を変更する光学系を有することで、光ビームの幅に占めるフィルタのコート部分の割合を変更することができる。これにより通常使用時と光軸調整時などのようにフィルタの影響を切替えたい場合にもフィルタの有無とビーム幅の変更で対応できる。
【００１６】
請求項４に記載の光学走査装置は、フィルタは光路中にあって前記主走査方向に位置調整可能であることを特徴とする。
【００１７】
上記構成の発明では、フィルタの製造誤差などに起因するコート部分のズレによる影響を、フィルタ自身を主走査方向に位置調整可能とすることで解消できる。
【００１８】
請求項５に記載の光学走査装置は、光ビームを出射する光源と、前記光ビームを主走査方向に偏向させる回転反射鏡と、前記光源から出射された光ビームを主走査方向に所定幅とし前記回転反射鏡の反射面の幅よりも大きくする入射光学系と、前記光ビームを前記回転多面鏡の中心へ向かわせ前記回転多面鏡の回転軸と直交する平面と角度を持って入射させる整形手段と、前記回転多面鏡で偏向された光ビームを露光面上に結像する結像光学系と、前記光源と前記回転多面鏡との間に前記光ビームの前記主走査方向の幅を増幅する拡大光学系を有し、前記拡大光学系と前記回転多面鏡の間に前記光ビームの光軸を中心として前記主走査方向に対称な透過率分布を持つコート部を備え、かつ光路中に出し入れ可能なフィルターを設け、前記コート部の幅が前記拡大光学系による増幅前の光ビームの幅よりも大きく、増幅後の光ビームの幅よりも小さいことを特徴とする。
【００１９】
上記構成の発明では、光源と回転多面鏡の間に拡大光学系を設け、増幅時の光ビームの幅はフィルタのコート部の幅よりも大きく、増幅前の光ビームの幅はフィルタのコート部の幅よりも小さい。これにより、通常使用時には拡大光学系で増幅した光ビームの中央部分をフィルタの濃度で補正することで原稿面の濃度差を補正し、光軸合わせ時には拡大光学系を使用せず光ビーム全部がフィルタのコート部を通過することで、フィルタのコート部の位置精度の影響を除外して光軸合わせが可能となる。
【００２０】
請求項６に記載の光学走査装置は、フィルタは前記主走査方向に位置調整可能であることを特徴とする。
【００２１】
上記構成の発明では、フィルタの製造誤差などに起因するコート部分のズレによる影響を、フィルタ自身を主走査方向に位置調整可能とすることで解消できる。
【００２２】
請求項７に記載の光学走査装置は、光ビームを出射する光源と、前記光ビームを主走査方向に偏向させる回転反射鏡と、前記光源から出射された光ビームを主走査方向に所定幅とし前記回転反射鏡の反射面の幅よりも大きくする入射光学系と、前記光ビームを前記回転多面鏡の中心へ向かわせ前記回転多面鏡の回転軸と直交する平面と角度を持って入射させる整形手段と、前記回転多面鏡で偏向された光ビームを露光面上に結像する結像光学系と、前記光源と前記回転多面鏡との間に前記光ビームの前記主走査方向の幅を変更する拡大光学系を有し、前記拡大光学系と前記回転多面鏡の間に前記光ビームの光軸を中心として前記主走査方向に対称な反射率分布を持つコート部を備えたミラーを設けたことを特徴とする。
【００２３】
上記構成の発明では、フィルタに替えて光軸を中心とした部分にコート部を設けたミラーを使用することで原稿面の濃度差を補正している。これにより、新たにフィルタを設けず既存のミラーをコート部つきのミラーに変更するだけで目的を達成できるので部品点数が削減でき、構造も単純になる。またミラーはコート部の濃度が入射時と反射時のダブルパスで有効なのでフィルタに比較してコート部の濃度を薄くすることができる。
【００２４】
請求項８に記載の光学走査装置は、ミラーは前記主走査方向に位置調整可能であることを特徴とする。
【００２５】
上記構成の発明では、ミラーの製造誤差などに起因するコート部分のズレによる影響を、ミラー自身を主走査方向に位置調整可能とすることで解消できる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
図１および図２には、本発明の第１実施形態に係る光学走査装置が示されている。
【００２７】
図１および図２に示すように光学走査装置１０は、半導体レーザ基板１１と、基板１１上に設けられ光ビームＬを発する半導体レーザ（以下ＬＤ）１２と、光ビームＬの光路上に順次配置されたコリメータレンズ１３、及び、スリット板１４が設けられている。
【００２８】
ＬＤ１２から出射された光ビームＬを緩やかな発散光にするためのコリメータレンズ１３によって、ＬＤ１２から発せられた略正規分布の光ビームは略平行な光ビームではなく、緩い発散光の光ビームＬとなり、スリット１４を通過することにより光軸付近の光のみからなる矩形の断面を持つ光ビームＬに整形される。
【００２９】
スリット１４を通過した光ビームＬの光路上にはシリンダレンズ１７と、拡大光学系である光学系１８、平面ミラー１５、１６、フィルタ２１、ｆθレンズ２２、２４、およびポリゴンミラー２０とを備えている。光ビームＬは、シリンダレンズ１７、光学系１８、フィルタ２１を通過し、平面ミラー１５、１６で反射され、ｆθレンズ２２、２４を通過し、ポリゴンミラー２０に導かれる。
【００３０】
シリンダレンズ１７はポリゴンミラー２０の偏向面で副走査方向に収束されるように焦点距離が決められている。シリンダレンズ１７によって収束された光ビームＬは光学系１８によって増幅され、平面ミラー１５で反射されフィルタ２１を透過する。後述のようにフィルタ２１によって中央部分のみ減光された光ビームＬは平面ミラー１６で反射され、ｆθレンズ２２、２４を透過してポリゴンミラー２０へと向かう。ここで、ｆθレンズ２２、２４は、平面ミラー１６によってポリゴンミラー２０に正面から入射された光ビームＬ及びポリゴンミラー２０によって反射偏向された光ビームＬが共に入射するように配置されている。すなわち、ポリゴンミラー２０による反射偏向の前後２回、光ビームがこのｆθレンズ２２、２４を通過するようになっており、本光学系は全体として、いわゆる正面入射／ダブルパス光学系を形成している。これにより本光学系では、主走査方向における光量をある程度まで一様に保ちながら広い走査幅を確保している。
【００３１】
ポリゴンミラー２０は正多角柱とされ、その側面部を形成する偏向面は平面のミラー面とされ、略鉛直方向に沿って延びる回転軸Ｏを中心として図示しないモータ等の駆動手段によって所定の角速度で回転駆動され、光源からの光ビームＬが等角速度で偏向されるように構成されている。
【００３２】
このポリゴンミラー２０によって反射偏向された光ビームはｆθレンズ２２、２４によって主走査方向に収束され、後述する感光体ドラム４０に光スポットとして集光させて結像し、該光スポットを感光体ドラム４０の表面で等速で移動する。
【００３３】
ポリゴンミラー２０により反射されてｆθレンズ２４、２２を通過した光ビームＬは、平面ミラー３０、３１、シリンダーミラー３２で反射され、走査線として透過窓３６から感光体ドラム４０に向けて出射され、感光体ドラム４０の表面を等速度で移動することにより走査露光を行なう。
【００３４】
このとき、光ビームＬの光束中心はポリゴンミラー２０の回転軸Ｏへ向かい、ポリゴンミラー２０の基準位置Ｐでポリゴンミラー２０の偏向面と交差するものとする。この光ビームＬの光軸位置はＬＤ１２が実装されている半導体レーザ基板１１あるいは半導体レーザ基板１１を含む図示しない光源部を、コリメータレンズ１３の光軸に垂直な平面内を主走査方向に対応する方向に移動させることで調整を行なう。
【００３５】
また、ポリゴンミラー２０による走査開始位置を検出するために平面ミラー３０の長手方向端部で反射された光ビームＬを反射するＳＯＳ（走査開始位置）ミラー５０と、ＳＯＳミラー５０からの光ビームを受光し、同期検出信号を発するＳＯＳセンサ５４Ａと、ＳＯＳミラー５０とＳＯＳセンサ５４Ａとの光路中に配置され、光ビームＬをＳＯＳセンサ５４Ａに収束するＳＯＳレンズ５６とが設けられている。平面ミラー３０の長手方向端部で反射された光ビームＬは、ＳＯＳミラー５０で反射され、ＳＯＳレンズ５６で副走査方向に収束される。ＳＯＳセンサ５４Ａは、ＬＤ１２の出力の変調を行う制御部５４Ｂに接続されて同期検出器としての役割を果たしており、ＳＯＳセンサ５４Ａに光ビームＬが入射すると、その旨を伝える信号が制御部５４Ｂに送信され、制御部がＬＤ１２の出力の変調を行う。変調された光ビームＬは、シリンダーミラー３２で反射され透過窓３６から出射して感光体ドラム４０の表面に到達し、画像の記録が開始される。
【００３６】
図３には、本発明の第１実施形態に係るフィルタの濃度分布と、これによる光量の変化が示されている。
【００３７】
図３（ａ）に示すように、フィルタ２１は矩形の光学ガラス板または透明な素材で形成されており、光軸を中心として主走査方向中央部に一定の光学濃度を持つコート部２１Ａ、その両脇に素通しで光学濃度のない非コート部２１Ｂが設けられている。
【００３８】
図３（ｂ）にはフィルタ２１を光路中に挿入する前後の、主走査方向における光量分布が示されている。縦軸はビーム強度Ｉ、横軸はポリゴン偏向角θ（像面上の位置）を示す。実線▲１▼で示したフィルタ２１挿入前の光量分布が、中央が高い分布を示しているのに対し、破線▲２▼で示したフィルタ２１挿入後の光量分布がフィルタ２１のコート部２１Ａの濃度分だけ減少している。この状態においては、ＬＤ１２から出射された光束の強度分布はレンズ光軸と中心が一致するため、入射光束の中心、すなわちスリット１４の中心とレーザー強度のピークが略一致する。この状態では、ＬＤ１２の出射直後における入射光束の強度分布と、ポリゴンミラー２０の入射直前における入射光束の強度分布は光軸に対称である。
【００３９】
図３（ｃ）には、図３（ｂ）で示した光量分布をもつ光束がポリゴンミラー２０で偏向された像面上での光量分布およびフィルタ２１をＳＯＳ（走査開始位置）方向に０．３ｍｍずらした場合の光量分布が示されている。
【００４０】
実線▲１▼で示したフィルタ２１挿入前の光量分布はＣＯＳ（走査中央位置）すなわち像面の中央で高くなるが、フィルタ２１を光路中に挿入することで、破線▲２▼で示すようにＳＯＳからＥＯＳ（走査終了位置）まで平坦に近い光量分布が得られる。
【００４１】
しかし、フィルタ２１の主走査方向の位置が０．３ｍｍずれると一点鎖線▲３▼で示すように光量分布は主走査方向において非対称となり、光量のピーク位置も中心を外れてしまう。このような状態のまま光源部を移動させレーザーの強度分布を補正したのでは、レーザーの強度分布中心はスリット１４の中心を通らないため、ポリゴンミラー２０の入射直前では図３（ｃ）▲３▼のように非対称な強度分布で入射し、感光体ドラム４０上における強度分布に主走査方向において非対称が生じ、その強度分布の差がより大きくなってしてしまう。そのため理想的な状態で光軸調整が行なわれず、光学特性に悪影響を及ぼす。
【００４２】
そこで本発明の第１実施形態では、まず図３（ｂ）に実線▲１▼で示すように、フィルタ２１を光路中に挿入前の状態、すなわちビーム強度分布の差の大きい状態で、入射光束の中心がポリゴンミラー２０の基準位置Ｐに入射されるようにＬＤ１２が実装される半導体レーザ基板１１を含む光源部を位置調整する。この状態ではフィルタ２１の影響は除外できるため、ＬＤ１２、コリメータレンズ１３、スリット１４といったエレメントのみで光軸調整が行なえる。加えて、ビーム強度分布の差が大きいため光軸調整が行ない易い。
【００４３】
次いでフィルタ２１を光路中に挿入し強度分布の補正を行なう。この状態では、図３（ｃ）に一点鎖線▲３▼で示すようにコート部２１Ａの幅のバラツキとコート部２１Ａ、非コート部２１Ｂの境界位置のバラツキの影響により主走査方向でのビーム強度が非対称であることが考えられるので、フィルタ２１を主走査方向に位置調整し最適な強度バランスとなる位置を設定する。
【００４４】
これによりフィルタ２１を挿入した状態、すなわち実使用状態でのビーム強度のバランスを正しくとることができる。
【００４５】
図４には、本発明の第１実施形態に係るフィルタ２１を含むフィルタユニット７０、ミラーユニット８０、半導体レーザ基板１１、平面ミラー１６、ｆθレンズ２２、２４、およびポリゴンミラー２０の筐体６０内部における位置関係が示されている。
【００４６】
図５には、本発明の第１実施形態に係るフィルタ２１を含むフィルタユニット７０が示されている。
【００４７】
フィルタ２１はホルダ７１に装着され、ホルダ７１は略Ｕ字型のサポート７２Ａおよび７２Ｂにより回転可能に支持されている。板バネ７５がホルダ７１を接点７７で調整ネジ７４側に押圧しており、調整ネジ７４を回動することによりホルダ７１は主走査方向に対応する方向（矢印Ｓ）に位置調整可能な構成となっている。これによりフィルタ２１もまた主走査方向に対応する方向に位置調整可能となり、光軸調整後に像面上の光量バランスを調整することができる。
【００４８】
図６には、本発明の第１実施形態に係るフィルタユニット７０の分解図が示されている。
【００４９】
ホルダ７１にはフィルタ２１が固定され、ホルダ７１の回転に従って９０°回転可能に支持されている。ホルダ７１の両端にはそれぞれ軸部７１Ａ、７１Ｂが設けられ、略Ｕ字型のサポート７２Ａおよび７２Ｂによって支持され、固定具７６Ａおよび７６Ｂによって固定される。固定具７６Ａおよび７６Ｂはネジ７８によってサポート７２Ａおよび７２Ｂに固定される。
【００５０】
軸部７１Ａは板バネ７５に設けられた凸部７７によって押圧され、サポート７２Ｂ方向に付勢されている。一方、軸部７１Ｂは調整ネジ７４により先端位置を固定されている。調整ネジ７４は支持具７９に設けられたネジ孔７９Ａに螺合し、回動することによってホルダ７１を主走査方向に移動させる押し引きネジとして動作する。これによりフィルタ２１は調整ネジ７４の回動によって主走査方向の位置調整が可能となる。
【００５１】
軸部７１Ｂには約９０°間隔で２箇所、Ｖ溝７１Ｃが設けられており、このＶ溝７１Ｃをボールプランジャ７３の先端で押圧することで容易にフィルタ２１の２種類の姿勢すなわち光路中におけるフィルタ２１の有無を保持することができる。
【００５２】
図７および図８には、本発明の第１実施形態に係るフィルタユニット７０の２種類の形態が示されている。
【００５３】
すなわち、図７に示すように実使用状態ではフィルタ２１が光ビームＬの光路中に挿入され、コート部２１Ａの光学濃度によって光ビームＬの中央部分の強度を減少させ、図３（ｂ）、（ｃ）のように主走査方向のビーム強度を均一化している。
【００５４】
また図８に示すように光軸調整中はフィルタ２１が光ビームＬの光路中から外れ、フィルタ２１の影響を除外した状態で光軸調整を行なうことができる。この後、図７のようにフィルタ２１を光路中に挿入し、調整ネジ７４によってフィルタ２１の主走査方向における位置を調整し、最終的な光量バランスをとることができる。
【００５５】
図９および図１０には、本発明の第２実施形態に係るフィルタユニット７０および光学系１８が示されている。
【００５６】
第２実施形態では拡大光学系である光学系１８を使用し、主走査方向のビーム幅を広げることにより光ビームＬの単位面積当たりのエネルギー密度を低くしてビームの強度分布差を小さくしている。ここで、光ビームＬの幅はガウシアンビーム半径Ｗ０すなわち強度が軸上強度の値の１／ｅ２（＝０．１３５倍）となる点までの半径の２倍とする。
【００５７】
図９に示すように拡大光学系である光学系１８が光路中に挿入されていない場合、光ビームＬはミラー８０で反射されフィルタ２１を透過する際には、ビーム幅ＷＢ１をもってフィルタ２１のコート部２１Ａを透過する。このとき、ビーム幅ＷＢ１はフィルタ２１のコート部２１Ａの幅ＷＣよりも狭いので、光ビームＬは全てコート部２１Ａの中を透過する。このため、コート部２１Ａの光学濃度が一様であれば光ビームＬのビーム強度も主走査方向に対して一様に低下し、結果としてフィルタ２１の影響を除外して光軸合わせを行なうことができる。
【００５８】
この後、図１０に示すように光学系１８を光路中に挿入することで光ビームＬの幅は増幅されてＷＢ２となり、フィルタ２１のコート部２１Ａの幅ＷＣよりも大きい幅となるので、光ビームＬは中央部のみコート部２１Ａの光学濃度によってビーム強度が減少した状態となり、図３（ｂ）、（ｃ）のように主走査方向のビーム強度を均一化させることができる。この状態で調整ネジ７４によってフィルタ２１の主走査方向における位置を調整し、最終的な光量バランスをとることができる。
【００５９】
図１１および図１２には、本発明の第３実施形態に係るミラーユニット８０および光学系１８が示されている。
【００６０】
図１１に示すようにミラーユニット８０はミラー８５を長手方向両脇から支持部８１Ａ、８１Ｂによって挟持した構成となっている。支持部８１Ａとミラー８５の間には押えバネ８３が設けられ、ミラー８５を支持部８１Ｂ側へ付勢している。支持部８１Ｂにはネジ穴８１Ｃが設けられ、調整ネジ８４が挿入される。調整ネジ８４の先端は押えバネ８３によって支持部８１Ｂ方向に付勢されたミラー８５の位置を規定する。これにより調整ネジ８４は押し引きネジとして作用し、調整ネジ８４を回動することによってミラー８５を主走査方向（矢印Ｓ）に位置調整することができる。
【００６１】
図１１においては光ビームＬは幅ＷＢ１をもってミラー８５に入射している。ここで、光ビームＬの幅はガウシアンビーム半径Ｗ０すなわち強度が軸上強度の値の１／ｅ２（＝０．１３５倍）となる点までの半径の２倍とする。
【００６２】
ミラー８５には主走査方向中央に光学濃度をもったコート部８５Ａが設けられており、入射した光ビームＬのビーム強度を減少させて反射する。このとき、光ビームＬの幅ＷＢ１はコート部８５Ａの幅ＷＣよりも狭いので、光ビームＬは全てコート部８５Ａによって反射される。このため光ビームＬは均一に強度が減少するので、結果としてコート部８５Ａの位置精度などの影響を除外して光軸調整を行なうことができる。
【００６３】
この後、図１２に示すように光学系１８を光路中に挿入することで光ビームＬの幅は増幅されてＷＢ２となり、ミラー８５のコート部８５Ａの幅ＷＣよりも大きい幅となるので、光ビームＬは中央部のみコート部８５Ａの光学濃度によってビーム強度が減少した状態となり、図３（ｂ）、（ｃ）のように主走査方向のビーム強度を均一化させることができる。この状態で調整ネジ８４によってミラー８５の主走査方向における位置を調整し、最終的な光量バランスをとることができる。
【００６４】
【発明の効果】
本発明に係る光学走査装置では、フィルタおよびミラーの塗布精度、位置精度を除外して光軸調整を行なうことができるので、フィルタに起因するビーム強度の偏りに影響されない光軸調整が可能であり、かつフィルタに起因するビーム強度の偏りを補正できる。また、フィルタの光量バランス補正により光軸調整が困難になることもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１形態に係る光学走査装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１形態に係る光学走査装置を示す平面図である。
【図３】本発明の第１形態に係るフィルタの図および走査角度とビーム強度の関連図である。
【図４】本発明の第１形態に係る光学走査装置を示す斜視図である。
【図５】本発明の第１形態に係るフィルタを示す斜視図である。
【図６】本発明の第１形態に係るフィルタを示す分解図である。
【図７】本発明の第１形態に係るフィルタを示す斜視図である。
【図８】本発明の第１形態に係るフィルタを示す斜視図である。
【図９】本発明の第２形態に係るフィルタおよびミラーを示す斜視図である。
【図１０】本発明の第２形態に係るフィルタ、ミラー、および光学系を示す斜視図である。
【図１１】本発明の第３形態に係るミラーを示す斜視図である。
【図１２】本発明の第３形態に係るミラーおよび光学系を示す斜視図である。
【符号の説明】
１０    光学走査装置
１２    ＬＤ
１３    コリメータレンズ
１４    スリット
１８    光学系
２０    ポリゴンミラー
２１    フィルタ
２２    ｆθレンズ
２４    ｆθレンズ
６０    筐体
７０    フィルタユニット
８０    ミラーユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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