(57)【要約】【課題】円筒状金属基体の表面性を変化なく再生し、基体表面性に影響のない感光層を再形成することを実現する。【解決手段】一部に熱硬化性樹脂を含有する下引き層を有する感光層を円筒状金属基体上に形成してなる有機系感光体Ａを第１洗浄槽４に搬送し、感光体Ａの外周面にＮメチルピロリドン耐性の接触部材７を圧接させ、液体供給部２から、感光体Ａの上部より加熱されたＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる洗浄液を前記感光体面を流下するように供給するとともに供給後の洗浄液を濾過することによって洗浄液を循環させ、感光体Ａまたは接触部材７の少なくとも一方を回転させ、かつ感光体Ａに対して接触部材７を感光体Ａの軸方向に相対移動させて感光層を除去洗浄する。【選択図】　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一部に熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層を円筒状金属基体上に形成してなる有機系感光体を洗浄槽に搬送し、前記感光体の外周面にＮメチルピロリドン耐性の接触部材を圧接させ、前記感光体の上部より、加熱されたＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる洗浄液を前記感光体面を流下するように前記洗浄槽に供給するとともに供給後の洗浄液を濾過することによって洗浄液を循環させ、前記感光体または前記接触部材の少なくとも一方を回転させ、かつ前記感光体または前記接触部材の少なくとも一方を軸方向に相対移動させて感光層を除去洗浄することを特徴とする円筒状金属基体再生方法。
【請求項２】
前記接触部材を、前記感光体の軸方向に対して直角方向を軸として回動自在とし、さらに前記感光体面に対して接離する方向または前記感光体の円周方向と前記感光体面に対して接離する方向に回動自在とし、ばね性を有する付勢部材によって前記接触部材を前記感光体に圧接させることを特徴とする請求項１記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項３】
前記接触部材を、前記感光体に当接する直線ブラシと、この直線ブラシを支持するブラシホルダと、このブラシホルダに設けられ、前記直線ブラシの両側を挟み込んで動きを規制するサポート部材とから構成したことを特徴とする請求項２記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項４】
前記直線ブラシを前記ブラシホルダにセットした時の前記直線ブラシの毛先の高さと前記サポート部材の高さの差が２〜５ｍｍであることを特徴とする請求項３記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項５】
前記直線ブラシの刷毛部の長さＬとサポートの長さＬ１の関係が、Ｌ１−Ｌ≧０であることを特徴とする請求項３または４記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項６】
前記サポート部材を、厚さ０．３〜１ｍｍの金属板材をＬ形状に曲げた部材としたことを特徴とする請求項３，４または５記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項７】
前記直線ブラシを、前記感光体の中心軸を基準として放射状でかつ等間隔に少なくとも３箇所以上配置したことを特徴とする請求項３〜６のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項８】
前記サポート部材を前記感光体との接触方向に向かって５〜３０度傾斜させて、前記直線ブラシを傾斜させることを特徴とする請求項３〜７のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項９】
前記直線ブラシの線径を０．２〜０．７ｍｍとし、この直線ブラシを２００〜５００ｇで圧接させることを特徴とする請求項３〜８のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１０】
前記接触部材を、Ｎメチルピロリドン耐性の円形内巻きブラシとしたことを特徴とする請求項１記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１１】
前記円形内巻きブラシのブラシ線径を０．２〜０．７ｍｍとし、前記円形内巻きブラシの内径が前記感光体の外径より０．５〜２ｍｍ小さいことを特徴とする請求項１０記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１２】
洗浄液を循環させて感光層を除去洗浄した後、洗浄液の供給循環を停止させ、清浄な洗浄液に切り替えて供給して、円筒状金属基体を洗浄することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１３】
感光層を除去洗浄するとともに、円筒状金属基体の下端部内周面をＮメチルピロリドン耐性の回転接触する円形外巻きブラシによって洗浄することを特徴とする請求項１〜１２のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１４】
前記円形外巻きブラシのブラシ線径が０．２〜０．７ｍｍであることを特徴とする請求項１３記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１５】
前記洗浄槽における洗浄が終了したのち、次の洗浄槽に円筒状金属基体を搬送し、前記円筒状金属基体外周面にＮメチルピロリドン耐性の円形内巻きブラシを接触させ、前記円筒状金属基体の上部よりＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤置換用の低沸点洗浄液を前記円形内巻きブラシと前記円筒状金属基体外周面に流下するよう供給するとともに供給後の低沸点洗浄液を濾過することによって低沸点洗浄液を循環させ、前記円筒状金属基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を回転させ、かつ前記円筒状金属基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を軸方向に相対移動させて洗浄することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１６】
前記次の洗浄槽内の円形内巻きブラシは、Ｎメチルピロリドン耐性を有し、かつブラシ線径を０．１〜０．３ｍｍとし、前記円形内巻きブラシの内径が前記感光体の外径より０．５〜２ｍｍ小さいことを特徴とする請求項１５記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１７】
低沸点洗浄液を循環させて円筒状金属基体を洗浄したのち、低沸点洗浄液の供給を停止させ、清浄な低沸点洗浄液に切替えて供給して円筒状金属基体を洗浄することを特徴とする請求項１〜１６のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１８】
低沸点洗浄液で円筒状金属基体の外周部を洗浄すると共に円筒状金属基体の下端部内周面をＮメチルピロリドン耐性の回転接触する円形外巻きブラシによって洗浄することを特徴とする請求項１５，１６または１７いずれか記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項１９】
前記円形外巻きブラシのブラシ線径が０．２〜０．７ｍｍであることを特徴とする請求項１８記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項２０】
感光体の上下方向姿勢は、浸漬塗布での下端となる方向を下にして洗浄することを特徴とする請求項１〜１９のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法。
【請求項２１】
一部に熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層を円筒状金属基体上に形成してなる有機系感光体を洗浄槽に搬送する手段を有し、有機系感光体の感光層を円筒状金属基体から除去洗浄する円筒状金属基体再生装置において、前記洗浄槽内に設けられ、前記感光体の外周面に圧接させるＮメチルピロリドン耐性の接触部材と、前記感光体の上部より、加熱されたＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる洗浄液を前記感光体面を流下するように前記洗浄槽に供給するとともに供給後の洗浄液を濾過することによって洗浄液を循環させる洗浄液供給手段と、前記感光体または前記接触部材の少なくとも一方を回転させ、かつ前記感光体または前記接触部材の少なくとも一方を軸方向に相対移動させる駆動手段とを備えたことを特徴とする円筒状金属基体再生装置。
【請求項２２】
前記接触部材を、前記感光体の軸方向に対して直角方向を軸として回動自在とし、さらに前記感光体面に対して接離する方向または前記感光体の円周方向と前記感光体面に対して接離する方向に回動自在とし、ばね性を有する付勢部材によって前記接触部材を前記感光体に圧接させることを特徴とする請求項２１記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項２３】
前記接触部材を、前記感光体に当接する直線ブラシと、この直線ブラシを支持するブラシホルダと、このブラシホルダに設けられ、前記直線ブラシの両側を挟み込んで動きを規制するサポート部材とから構成したことを特徴とする請求項２２記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項２４】
前記直線ブラシを前記ブラシホルダにセットした時の前記直線ブラシの毛先の高さと前記サポート部材の高さの差が２〜５ｍｍであることを特徴とする請求項２３記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項２５】
前記直線ブラシの刷毛部の長さＬとサポートの長さＬ１の関係が、Ｌ１−Ｌ≧０であることを特徴とする請求項２３または２４記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項２６】
前記サポート部材を、厚さ０．３〜１ｍｍの金属板材をＬ形状に曲げた部材としたことを特徴とする請求項２３，２４または２５記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項２７】
前記直線ブラシを、前記感光体の中心軸を基準として放射状でかつ等間隔に少なくとも３箇所以上配置したことを特徴とする請求項２３〜２６のいずれか記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項２８】
前記サポート部材を前記感光体との接触方向に向かって５〜３０度傾斜させて、前記直線ブラシを傾斜させることを特徴とする請求項２３〜２７のいずれか記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項２９】
前記直線ブラシの線径を０．２〜０．７ｍｍとし、この直線ブラシを２００〜５００ｇで圧接させることを特徴とする請求項２３〜２８記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３０】
前記接触部材を、Ｎメチルピロリドン耐性の円形内巻きブラシとしたことを特徴とする請求項２１記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３１】
前記円形内巻きブラシのブラシ線径を０．２〜０．７ｍｍとし、前記円形内巻きブラシの内径が前記感光体の外径より０．５〜２ｍｍ小さいことを特徴とする請求項３０記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３２】
洗浄液を循環させて感光層を除去洗浄した後、洗浄液の供給循環を停止させ、前記洗浄槽内に清浄な洗浄液に切り替えて供給する切り替え手段を備えたことを特徴とする請求項２１〜３１のいずれか記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３３】
円筒状金属基体の下端部内周面に回転接触するＮメチルピロリドン耐性の円形外巻きブラシを備えたことを特徴とする請求項２１〜３２のいずれか記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３４】
前記円形外巻きブラシのブラシ径を０．２〜０．７ｍｍとしたことを特徴とする請求項３３記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３５】
前記洗浄槽における洗浄が終了したのちに前記搬送手段によって搬送された円筒状金属基体を洗浄する第２洗浄槽を有し、この第２洗浄槽内に設けられ、前記円筒状金属基体外周面に接触するＮメチルピロリドン耐性の円形内巻きブラシと、前記円筒状金属基体の上部より、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤置換用の低沸点洗浄液を前記円形内巻きブラシと前記円筒状金属基体外周面に流下するように供給するとともに供給後の低沸点洗浄液を濾過することによって低沸点洗浄液を循環させる低沸点洗浄液供給手段と、前記円筒状金属基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を回転させ、かつ前記円筒状金属基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を軸方向に相対移動させる駆動手段とを備えたことを特徴とする請求項２１〜３４のいずれか記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３６】
前記第２洗浄槽内の円形内巻きブラシは、Ｎメチルピロリドン耐性を有し、かつブラシ線径を０．１〜０．３ｍｍとし、前記円形内巻きブラシの内径が前記感光体の外径より０．５〜２ｍｍ小さいことを特徴とする請求項３５記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３７】
低沸点洗浄液を循環させて円筒状金属基体を洗浄したのち、低沸点洗浄液の供給を停止させ、清浄な低沸点洗浄液に切替えて供給する切り替え手段を備えたことを特徴とする請求項３５または３６記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３８】
低沸点洗浄液で円筒状金属基体の外周部を洗浄する円形内巻きブラシと円筒状金属基体の下端部内周面をＮメチルピロリドン耐性の回転接触する円形外巻きブラシを備えたことを特徴とする請求項３５，３６または３７記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項３９】
前記円形外巻きブラシのブラシ線径を０．２〜０．７ｍｍとしたことを特徴とする請求項３８記載の円筒状金属基体再生装置。
【請求項４０】
請求項１〜２０のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法または請求項２１〜３９のいずれか記載の円筒状金属基体再生装置によって再生されたアルミニウムまたはアルミニウム合金製円筒状金属基体に、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を順じ形成したことを特徴とする機能分離型有機感光体。
【請求項４１】
円筒状金属基体の外径表面粗さが平均粗さ０．４〜１．５μｍ、平均山間隔が１０〜４０μｍであることを特徴とする請求項４０記載の機能分離型有機感光体。
【請求項４２】
前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有し、その表面粗さは０．１μｍ以下であって、前記電荷発生層の感光剤が無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有することを特徴とする請求項４０または４１記載の機能分離型有機感光体。
【請求項４３】
前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有し、かつ表面粗さは、旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲であって、前記電荷発生層の感光剤がオキシチタニウムフタロシアニンを含有することを特徴とする請求項４０または４１記載の機能分離型有機感光体。
【請求項４４】
前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有し、かつ表面粗さは旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲であって、前記電荷発生層の感光剤が無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有することを特徴とする請求項４０または４１記載の機能分離型有機感光体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真方式の画像形成装置に適用される機能分離型有機感光体と、機能分離型有機感光体の円筒状金属基体再生方法および、円筒状金属基体再生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１３は円筒状の機能分離型有機感光体の構成を示し、図１３（ａ）は感光体の外観図、図１３（ｂ）は感光層の断面図であり、Ａは感光体、１００はアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる円筒状金属基体、１０１は感光層、１０２は下引き層、１０３は電荷発生層、１０４は電荷輸送層を示し、感光体Ａは円筒状基体１００の表面に感光層１０１を形成することによって構成される。感光層１０１は、円筒状金属基体１００の表面に、下引き層１０２、電荷発生層１０３、電荷輸送層１０４を積層して形成したものである。
【０００３】
従来におけるこの種の技術としては、特開２００１−１５４３７７号公報、特開２０００−２７５８６７号公報、特開平１０−３９５２０号公報、特開平０９−２１１８７５号公報、特開２０００−３４３４３１号公報に記載されたものがある。
【０００４】
特開２００１−１５４３７７号公報には、導電性基体上に感光層が形成されている電子写真感光体を、溶存酸素量を規定したＮメチルピロリドン洗浄液に浸漬させ、超音波洗浄して感光層を剥離させる方法について記載されている。
【０００５】
特開２０００−２７５８６７号公報には、導電性基体上に有機系機能材料膜を形成して製造される電子写真感光体の製造、検査工程で発生する成膜の不良品、仕損品または使用済みのものを水分含有率Ｘ重量％及び浴温ｙ℃の式ｙ＞３Ｘ＋２５の関係を満たすＮメチルピロリドン浴中に浸漬および超音波処理、バブリングすることにより有機系機能材料膜を剥離、溶解除去した後、界面活性剤０．１％を含んだ水によりリンスを行い導電性基体を再生するものについて記載されている。
【０００６】
特開平１０−３９５２０号公報は、導電性基体上にバインダー樹脂を主成分とする感光層を有する有機感光体をバインダー樹脂を溶解させる有機溶剤と水とを混合した剥離液に所定時間浸漬して感光層を膨潤させ、感光体表面をパイル長さ５〜５０ｍｍ、太さ２．５〜３０デニール、密度１０００〜２万本のブラシで摺擦する工程を含む有機感光体の基板再生方法について記載されている。
【０００７】
特開平０９−２１１８７５号公報には、織布の表面に有機溶剤を供給し、電子感光体の周面の全部または一部に接触または圧接して導電性基体上に形成されている下引き層、感光層などの塗膜を除去すると伴に、織布に付いたこの塗膜残さを有機溶剤を含有させ、ブラシをあてがい、塗膜残さを掻きとって織布を清浄にする操作を繰り返し行って電子写真感光体の塗膜除去をするものについて記載されている。
【０００８】
特開２０００−３４３４３１号公報には、平均粒径５μｍ〜２ｍｍの砥粒を回転する感光体に噴射させて感光層を剥離洗浄するもので、事前に感光体を所定温度以下に冷却しておくことが併用されたものについて記載されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開２００１−１５４３７７号公報記載の技術によれば、導電性基体上に形成された感光体をＮメチルピロリドン液に浸漬して超音波洗浄する場合に溶存酸素量が過飽和状態か５〜８ｐｐｍ以上でないと超音波キャビテーション作用が強くでて基体表面を侵食する。このため、溶存酸素量を一定にするため空気を吹き込む操作を行い基体表面の侵食を抑えているが、空気吹き込みではＮメチルピロリドンの気化を引き起こし多くのガスが発生し易く作業環境の汚染を招く、また、導電性基体の表面粗さが粗かったり、下引き層に熱硬化性樹脂を使用すると除去し難い。
【００１０】
特開２０００−２７５８６７号公報記載の技術によれば、導電性基体上に形成された有機系機能材料膜を水分含有率Ｘ重量％及び浴温ｙ℃の式ｙ＞３Ｘ＋２５、ｙ＞３Ｘ＋４０、ｙ＞６Ｘ−５を満たすＮメチルピロリドン液に浸漬して導電性基体上に形成された有機系機能材料膜を剥離溶解除去するもの、ｙ＞６Ｘ＋２０を満たすＮメチルピロリドン液に浸漬して超音波処理を行い導電性基体上に形成された有機系機能材料膜を剥離溶解除去するもの、ｙ＞３Ｘ＋１０を満たすＮメチルピロリドン浴中にバブリングを行いつつ浸漬することにより導電性基体上に形成された有機系機能材料膜を剥離溶解除去するもので、水分含有率が上昇すると剥離溶解効果が落ち除去が困難となって処理時間が長くなることや、浴温を上昇させなければならず、また、Ｎメチルピロリドン浴中にバブリングを行いつつ浸漬するのではＮメチルピロリドンの気化を引き起こすことや、多くのガスが発生し易く作業環境の汚染を起こし易い問題点や、超音波洗浄する場合には水分含有率が上昇すると使用する超音波周波数によってキャビテーション作用が強く作用し基体表面の侵食が発生し易いことが上げられる。また、使用したＮメチルピロリドン液のリサイクルをする場合は加熱蒸留するが、水分が含有されると分留してしまい再度水分含水率を調整しなければならず作業性が悪いものとなることや、導電性基体の表面粗さが粗かったり、下引き層に熱硬化性樹脂を使用すると除去し難い。
【００１１】
特開平１０−３９５２０号公報記載の技術によれば、導電性基板上にバインダー樹脂を主成分とする感光層を有する有機感光体の基板再生方法で、バインダー樹脂を溶解させる有機溶剤と水とを混合した剥離液に感光体を浸漬して膨潤させる工程および感光体表面を擦る所定サイズのブラシにより摺擦する工程を含む有機感光体の基板再生方法で、感光層が除去されて剥離液中に溶け込むのを防ぐための有機溶剤と水との混合比を作り、膜が膨潤して脱落するようしたもので、洗浄液の汚染は少ないものの、感光体が膨潤脱落するまでの時間が多くかかり、感光体形成材料によって塗布形成時の加熱乾燥条件が変わると膨潤時間が大きく左右されるため生産性が悪いものとなり膨潤のための浸漬槽を大きくしなければならず、洗浄液を多量に使う問題点がある。
【００１２】
特開平０９−２１１８７５号公報記載の技術によれば、有機溶剤を含侵させた織布を接触又は圧接させて電子写真感光体の塗膜を除去し、その除去した塗膜残さを掻きとって織布を清浄にして繰り返し使用するもので、有機溶剤の使用量が塗膜残さの掻きとりにより少なくできるものの処理数が多くなると織布が汚れて感光体基体に微細な残さが再付着してしまい再度洗浄しなければならない問題点があり、導電性基体の表面粗さが粗かったり、下引き層に熱硬化性樹脂を使用すると除去し難い。
【００１３】
特開２０００−３４３４３１号公報記載の技術によれば、感光層の除去は可能であるが感光体基体表面の粗さが噴射砥粒により変化してしまうため基体粗さの規定された感光体基体には使用し難い方法であり、砥粒が基体表面に残留してしまい感光体を形成したとき黒ポチなどの画像欠陥が発生し易く、基体の表面粗さが粗かったり、下引き層に熱硬化性樹脂を使用すると除去し難い。
【００１４】
画像形成用円筒状感光体の感光層は機能分離型が主流となり、図１３に示すように、上層から電荷輸送層１０４、電荷発生層１０３、下引き層１０２が形成され、下引き層１０２は耐湿性の良い熱硬化性樹脂と帯電性や残留電位とのバランスを保つために膜厚３〜５μｍで形成し、光書き込みのレーザー光の散乱のために酸化チタン等の分散剤が添加多用される。感光層１０１の感光剤にオキシチタニウムフタロシアニンを含有するものは、光書き込みレーザー光の反射による干渉縞発生防止のため、円筒状金属基体１００表面に下引き層１０２を形成し、旋削加工された円筒状金属基体１００の表面粗さがレベリングされるように調整してから感光体Ａが形成される。しかし、円筒状金属基体１００の再生方法によってはこの円筒状金属基体１００の表面性が変化してしまい、再生前と同じ感光層を形成することができなくなるおそれがある。
【００１５】
本発明は、このような問題点を解決し、円筒状金属基体の表面性を変化なく再生し、基体表面性に影響ない感光層を再形成することを実現した、円筒状金属基体再生方法、円筒状金属基体再生装置および機能分離型有機感光体を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、請求項１に係る発明は、一部に熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層を円筒状金属基体上に形成してなる有機系感光体を洗浄槽に搬送し、前記感光体の外周面にＮメチルピロリドン耐性の接触部材を圧接させ、前記感光体の上部より、加熱されたＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる洗浄液を前記感光体面を流下するように前記洗浄槽に供給するとともに供給後の洗浄液を濾過することによって洗浄液を循環させ、前記感光体または前記接触部材の少なくとも一方を回転させ、かつ前記感光体または前記接触部材の少なくとも一方を軸方向に相対移動させて感光層を除去洗浄することを特徴とする。このように構成したことにより、熱硬化性樹脂を含有する層が感光層に含まれている有機系感光体では、感光層が溶解しても熱硬化性樹脂を含有する層は容易に溶解しないため、感光層および熱硬化性樹脂を含有する層ともに膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤を洗浄液として使用し、感光体上部より加熱された洗浄液を感光体周面に流下させながら供給して濾過循環させ、感光体外周面と軸方向に分割された接触部材を圧接して回転移動および軸方向に相対移動させて洗浄すれば、接触部材の個々に洗浄力が働くため、効率良く感光層と熱硬化性樹脂を含有する層を除去洗浄することができる。
【００１７】
請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記接触部材を、前記感光体の軸方向と前記感光体面に対して接離する方向、または前記感光体の軸方向および円周方向と前記感光体面に対して接離する方向に回動自在とし、ばね性を有する付勢部材によって前記接触部材を前記感光体に圧接させることを特徴とする。このように構成したことにより、接触部材を感光体に自在に接触するように回動させ、付勢手段によって個々の接触部材を回動圧接させて擦り洗浄することにより、接触部材の個々に洗浄力が働くため効率良く感光層と熱硬化性樹脂を含有する層を除去洗浄することができる。
【００１８】
請求項３に係る発明は、請求項２に係る発明において、前記接触部材を、前記感光体に当接する直線ブラシと、この直線ブラシを支持するブラシホルダと、このブラシホルダに設けられ、前記直線ブラシの両側を挟み込んで動きを規制するサポート部材とから構成したことを特徴とする。このように構成したことにより、直線ブラシの動きをサポート部材が規制するようになり、直線ブラシが熱によって軟化しても感光体から逃げないため、洗浄能力の低下を防止可能になり、安定した洗浄能力を維持できるようになる。しかも、感光層除去を長期間にわたって良好にできる行えるようになり、直線ブラシの長寿命化が可能になる。
【００１９】
請求項４に係る発明は、請求項３に係る発明において、前記直線ブラシを前記ブラシホルダにセットした時の前記直線ブラシの毛先の高さと前記サポート部材の高さの差が２〜５ｍｍであることを特徴とする。このように構成したことにより、サポート部材が感光体に接触することが防止できるとともに、熱による直線ブラシの軟化による洗浄能力低下の影響を防止することができる。
【００２０】
請求項５に係る発明は、請求項３または４に係る発明において、前記直線ブラシの刷毛部の長さＬとサポートの長さＬ１の関係が、Ｌ１−Ｌ≧０であることを特徴とする。このように構成したことにより、直線ブラシをサポート部材によって完全に挟みつけるため、直線ブラシ全体において熱による軟化の影響を防止する。
【００２１】
請求項６に係る発明は、請求項３，４または５に係る発明において、前記サポート部材を、厚さ０．３〜１ｍｍの金属板材をＬ形状に曲げた部材としたことを特徴とする。このように構成したことにより、安価に製作できしかも板厚が薄いのでＮメチルピロリドンの流下を妨げることなく効果的に除去洗浄できる。また、感光体の半径方向に対する直線ブラシの角度を容易に設定することができる。
【００２２】
請求項７に係る発明は、請求項３〜６のいずれかに係る発明において、前記直線ブラシを、前記感光体の中心軸を基準として放射状でかつ等間隔に少なくとも３箇所以上配置したことを特徴とする。このように構成したことにより、感光体が均等に直線ブラシの圧力を受けることが可能になり、感光体層を均等に洗浄することができる。しかも、感光体における直線ブラシとの接触面積が大きくなるため効率よく洗浄できるようになる。
【００２３】
請求項８に係る発明は、請求項３〜７のいずれかに係る発明において、前記サポート部材を前記感光体との接触方向に向かって５〜３０度傾斜させて、前記直線ブラシを傾斜させることを特徴とする。このように構成したことにより、感光体層の除去洗浄効果を向上させることが可能になる。
【００２４】
請求項９に係る発明は、請求項３〜８に係る発明において、前記直線ブラシの線径を０．２〜０．７ｍｍとし、この直線ブラシを２００〜５００ｇで圧接させることを特徴とする。このように構成したことにより、円筒状金属基体の表面粗さをほとんど変化させずに円筒状金属基体を再生することができる。
【００２５】
請求項１０に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記接触部材を、Ｎメチルピロリドン耐性の円形内巻きブラシとしたことを特徴とする。このように構成したことにより、円形内巻きブラシが感光体の外径と自在に合芯するようにすれば感光層の円周の全面をむら無く除去洗浄することができる。
【００２６】
請求項１１に係る発明は、請求項１０に係る発明において、前記円形内巻きブラシのブラシ線径を０．２〜０．７ｍｍとし、前記円形内巻きブラシの内径が前記感光体の外径より０．５〜２ｍｍ小さいことを特徴とする。このように構成したことにより、円筒状金属基体の表面粗さをほとんど変化させずに円筒状金属基体を再生することができる。
【００２７】
請求項１２に係る発明は、請求項１〜１１のいずれかに係る発明において、洗浄液を循環させて感光層を除去洗浄した後、洗浄液の供給循環を停止させ、清浄な洗浄液に切り替えて供給して、円筒状金属基体を洗浄することを特徴とする。このように構成したことにより、感光体上部より加熱された洗浄液を感光体周面に流下させながら供給し濾過循環させて除去洗浄を繰り返すと洗浄液中に感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去された溶解物が増加し、処理数の増加と伴に円筒状金属基体の表面を汚染し、次工程の洗浄液をも汚染してしまうため、除去が終了した時点で清浄な洗浄液に切り替えて洗浄することで円筒状金属基体の表面の汚染と次工程の洗浄液の汚染を防止でき、品質の安定した洗浄ができる。
【００２８】
請求項１３に係る発明は、請求項１〜１２のいずれかに係る発明において、感光層を除去洗浄するとともに、円筒状金属基体の下端部内周面をＮメチルピロリドン耐性の回転接触する円形外巻きブラシによって洗浄することを特徴とする。このように構成したことにより、円筒状金属基体を用いた有機系感光体の形成は立方向での浸漬塗工が主流であり、その基体の下端部内周面には僅かに塗布液が付着するため、除去洗浄せずに再生された円筒状金属基体を塗布ラインに投入すれば塗液の汚染となり感光体塗膜品質の不良が増加する。そこで、塗膜除去洗浄時に下端内周面も同時に除去洗浄してしまえば、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき感光体塗膜品質不良の増加を招かない。
【００２９】
請求項１４に係る発明は、請求項１３に係る発明において、前記円形外巻きブラシのブラシ径が０．２〜０．７ｍｍであることを特徴とする。このように構成したことにより、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止できる。
【００３０】
請求項１５に係る発明は、請求項１〜１４に係る発明において、前記洗浄槽における洗浄が終了したのち、次の洗浄槽に円筒状金属基体を搬送し、前記円筒状金属基体外周面にＮメチルピロリドン耐性の円形内巻きブラシを接触させ、前記円筒状金属基体の上部よりＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤置換用の低沸点洗浄液を前記円形内巻きブラシと前記円筒状金属基体外周面に流下するよう供給するとともに供給後の低沸点洗浄液を濾過することによって低沸点洗浄液を循環させ、前記円筒状金属基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を回転させ、かつ前記円筒状金属基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を軸方向に相対移動させて洗浄することを特徴とする。このように構成したことにより、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤は高沸点で蒸発しにくいため、低沸点の置換用洗浄液を用いてＮメチルピロリドン耐性の回転接触する円形内巻きブラシ内に円筒状金属基体を通過させれば基体全周面を容易に洗浄置換でき、低沸点の置換用洗浄液はすばやく乾燥するため円筒状金属基体表面への塵の付着が防止でき、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき感光体塗膜品質不良の増加を招かない。
【００３１】
請求項１６に係る発明は、請求項１５に係る発明において、前記次の洗浄槽内の円形内巻きブラシは、Ｎメチルピロリドン耐性を有し、かつブラシ線径を０．１〜０．３ｍｍとし、前記円形内巻きブラシの内径が前記感光体の外径より０．５〜２ｍｍ小さいことを特徴とする。このように構成したことにより、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき感光体塗膜品質不良の増加を招かず、また、円筒状金属基体の表面粗さをほとんど変化させずに基体を再生することができる。
【００３２】
請求項１７に係る発明は、請求項１〜１６のいずれかに係る発明において、低沸点洗浄液を循環させて円筒状金属基体を洗浄したのち、低沸点洗浄液の供給を停止させ、清浄な低沸点洗浄液に切り替えて供給して円筒状金属基体を洗浄することを特徴とする。このように構成したことにより、置換洗浄処理数の増加とともに濾過循環中に、溶解した汚染物によって僅かずつ洗浄液の汚れが増加してくるため、濾過循環を繰り返した洗浄液をそのまま使用していると次工程の洗浄液をも汚染してしまう。このため置換が終了した時点で清浄な低沸点洗浄液に切り替えて洗浄することで円筒状金属基体の表面の汚染と次工程の洗浄液の汚染をより防止でき、ラインでの塗液汚染をより防止でき感光体塗膜品質が長期に安定する。
【００３３】
請求項１８に係る発明は、請求項１５〜１７のいずれかに係る発明において、低沸点洗浄液で円筒状金属基体の外周部を洗浄すると共に円筒状金属基体の下端部内周面をＮメチルピロリドン耐性の回転接触する円形外巻きブラシによって洗浄することを特徴とする。このように構成したことにより、円筒状金属基体の下端部内周面の洗浄置換が容易にでき、低沸点の置換用洗浄液はすばやく乾燥するため円筒状金属基体表面への塵の付着が防止でき、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき感光体塗膜品質不良の増加を招かない。
【００３４】
請求項１９は、請求項１８のいずれかに係る発明において、前記円形外巻きブラシのブラシ線径が０．２〜０．７ｍｍであることを特徴とする。このように構成したことにより、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止できる。
【００３５】
請求項２０に係る発明は、請求項１〜１７のいずれかに係る発明において、感光体の上下方向姿勢は、浸漬塗布での下端となる方向を下にして洗浄することを特徴とする。このように構成したことにより、感光体を浸漬塗布する場合は上部を密閉してチャックし円筒状金属基体内径部に塗布液が入らないようにして塗布するが、塗布液の溶媒が基体内径部でガス化し内圧の高まりとともに外部の塗布液中へガスが放散し塗膜品質を悪くするため、予め１０ｍｍ程度内径部へ塗布液を浸入させてガスの放散を防ぐようにしている。このため、基体の再生は外径の塗膜除去と内径も洗浄する必要があり浸漬塗布下端を下にして投入すれば同時に洗浄処理が可能となる。
【００３６】
請求項２１に係る発明は、一部に熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層を円筒状金属基体上に形成してなる有機系感光体を洗浄槽に搬送する手段を有し、有機系感光体の感光層を円筒状金属基体から除去洗浄する円筒状金属基体再生装置において、前記洗浄槽内に設けられ、前記感光体の外周面に圧接させるＮメチルピロリドン耐性の接触部材と、前記感光体の上部より、加熱されたＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる洗浄液を前記感光体面を流下するように前記洗浄槽に供給するとともに供給後の洗浄液を濾過することによって洗浄液を循環させる洗浄液供給手段と、前記感光体または前記接触部材の少なくとも一方を回転させ、かつ前記感光体または前記接触部材の少なくとも一方を軸方向に相対移動させる駆動手段とを備えたことを特徴とする。このように構成したことにより、熱硬化性樹脂を含有する層が感光層に含まれている有機系感光体では、感光層が溶解しても熱硬化性樹脂を含有する層は容易に溶解しないため、感光層および熱硬化性樹脂を含有する層ともに膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドンを洗浄液として使用し、感光体上部より加熱されたＮメチルピロリドン液を感光体周面に流下させながら供給して濾過循環させ、感光体外周面と軸方向に分割された接触部材を圧接して回転移動および軸方向に相対移動させて洗浄すれば、接触部材の個々に洗浄力が働くため、効率良く感光層と熱硬化性樹脂を含有する層を除去洗浄することができる。
【００３７】
請求項２２に係る発明は、請求項２１に係る発明において、前記接触部材を、前記感光体の軸方向と前記感光体面に対して接離する方向、または感光体の軸方向と円周方向と前記感光体面に対して接離する方向に回動自在とし、ばね性を有し、前記接触部材を前記感光体に圧接させる付勢部材を有することを特徴とする。このように構成したことにより、接触部材を感光体に自在に接触するように回動させ、付勢手段によって個々の接触部材を回動圧接させて擦り洗浄することにより、接触部材の個々に洗浄力が働くため効率良く感光層と熱硬化性樹脂を含有する層を除去洗浄することができる。
【００３８】
請求項２３に係る発明は、請求項２２に係る発明において、前記接触部材を、前記感光体に当接する直線ブラシと、この直線ブラシを支持するブラシホルダと、このブラシホルダに設けられ、前記直線ブラシの両側を挟み込んで動きを規制するサポート部材とから構成したことを特徴とする。このように構成したことにより、直線ブラシの動きをサポート部材が規制するようになり、直線ブラシが熱によって軟化しても感光体から逃げないため、洗浄能力の低下を防止可能になり、安定した洗浄能力を維持できるようになる。しかも、感光層除去を長期間にわたって良好に行えるようになり、直線ブラシの長寿命化が可能になる。
【００３９】
請求項２４に係る発明は、請求項２３に係る発明において、前記直線ブラシを前記ブラシホルダにセットした時の前記直線ブラシの毛先の高さと前記サポート部材の高さの差が２〜５ｍｍであることを特徴とする。このように構成したことにより、サポート部材が感光体に接触することが防止できるとともに、熱による直線ブラシの軟化による洗浄能力低下の影響を防止することができる。
【００４０】
請求項２５に係る発明は、請求項２３または２４に係る発明において、前記直線ブラシの刷毛部の長さＬとサポートの長さＬ１の関係が、Ｌ１−Ｌ≧０であることを特徴とする。このように構成したことにより、直線ブラシをサポート部材によって完全に挟みつけるため、直線ブラシ全体において熱による軟化の影響を防止する。
【００４１】
請求項２６に係る発明は、請求項２１，２２または２３に係る発明において、前記サポート部材を、厚さ０．３〜１ｍｍの金属板材をＬ形状に曲げた部材としたことを特徴とする。このように構成したことにより、安価に製作できしかも板厚が薄いのでＮメチルピロリドンの流下を妨げることなく効果的に除去洗浄できる。また、感光体の半径方向に対する直線ブラシの角度を容易に設定することができる。
【００４２】
請求項２７に係る発明は、請求項２１〜２４のいずれかに係る発明において、前記直線ブラシを、前記感光体の中心軸を基準として放射状でかつ等間隔に少なくとも３箇所以上配置したことを特徴とする。このように構成したことにより、感光体が均等に直線ブラシの圧力を受けることが可能になり、感光体層を均等に洗浄することができる。しかも、感光体における直線ブラシとの接触面積が大きくなるため効率よく洗浄できるようになる。
【００４３】
請求項２８に係る発明は、請求項２１〜２５のいずれかに係る発明において、前記サポート部材を前記感光体との接触方向に向かって５〜３０度傾斜させて、前記直線ブラシを傾斜させることを特徴とする。このように構成したことにより、感光体層の除去洗浄効果を向上させることが可能になる。
【００４４】
請求項２９に係る発明は、請求項２１〜２６のいずれかに係る発明において、前記直線ブラシの線径を０．２〜０．７ｍｍとし、この直線ブラシを２００〜５００ｇで圧接させることを特徴とする。このように構成したことにより、円筒状金属基体の表面粗さをほとんど変化させずに円筒状金属基体を再生することができる。
【００４５】
請求項３０に係る発明は、請求項２１に係る発明において、前記接触部材を、Ｎメチルピロリドン耐性の円形内巻きブラシとしたことを特徴とする。このように構成したことにより、円形内巻きブラシが感光体の外径と自在に合芯させることによって感光層の円周の全面をむら無く除去洗浄することができる。
【００４６】
請求項３１に係る発明は、請求項３０に係る発明において、前記円形内巻きブラシのブラシ線径を０．２〜０．７ｍｍとし、前記円形内巻きブラシの内径が前記感光体の外径より０．５〜２ｍｍ小さいことを特徴とする。このように構成したことにより、円筒状金属基体の表面粗さをほとんど変化させずに円筒状金属基体を再生することができる。
【００４７】
請求項３２に係る発明は、請求項２１〜３１のいずれかに係る発明において、洗浄液を循環させて感光層を除去洗浄した後、洗浄液の供給循環を停止させ、前記洗浄槽内に清浄な洗浄液に切り替えて供給する切り替え手段を備えたことを特徴とする。このように構成したことにより、感光体上部より加熱された洗浄液を感光体周面に流下させながら供給し濾過循環させて除去洗浄を繰り返すと洗浄液中に感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去された溶解物が増加し、処理数の増加とともに円筒状金属基体の表面を汚染し、次工程の洗浄液をも汚染してしまうため、除去が終了した時点で清浄なＮメチルピロリドン液に切り替えて洗浄することで円筒状金属基体の表面の汚染と次工程の洗浄液の汚染を防止でき、品質の安定した洗浄ができる。
【００４８】
請求項３３に係る発明は、請求項２１〜３２のいずれかに係る発明において、円筒状金属基体の下端部内周面に回転接触するＮメチルピロリドン耐性の円形外巻きブラシを備えたことを特徴とする。このように構成したことにより、円筒状金属基体を用いた有機系感光体の形成は立方向での浸漬塗工が主流であり、その基体の下端部内周面には僅かに塗布液が付着するため、除去洗浄せずに再生された円筒状金属基体を塗布ラインに投入すれば塗液の汚染となり感光体塗膜品質の不良が増加する。そこで、塗膜除去洗浄時に下端部内周面も同時に除去洗浄してしまえば、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき感光体塗膜品質不良の増加を招かない。
【００４９】
請求項３４に係る発明は、請求項３３に係る発明において、前記円形外巻きブラシのブラシ径を０．２〜０．７ｍｍとしたことを特徴とする。このように構成したことにより、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止できる。
【００５０】
請求項３５に係る発明は、請求項２１〜３４のいずれかに係る発明において、前記洗浄槽における洗浄が終了したのちに前記搬送手段によって搬送された円筒状金属基体を洗浄する第２洗浄槽を有し、この第２洗浄槽内に設けられ、前記円筒状金属基体外周面に接触するＮメチルピロリドン耐性の円形内巻きブラシと、前記円筒状金属基体の上部より、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤置換用の低沸点洗浄液を前記円形内巻きブラシと前記円筒状金属基体外周面に流下するように供給するとともに供給後の低沸点洗浄液を濾過することによって低沸点洗浄液を循環させる低沸点洗浄液供給手段と、前記円筒状金属基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を回転させ、かつ前記円筒状金属基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を軸方向に相対移動させる駆動手段とを備えたことを特徴とする。このように構成したことにより、Ｎメチルピロリドン液は高沸点で蒸発しにくいため、低沸点の置換用洗浄剤を用いてＮメチルピロリドン耐性の回転接触する円形内巻きブラシ内に円筒状金属基体を通過させれば基体全周面を容易に洗浄置換でき、低沸点の置換用洗浄剤はすばやく乾燥するため円筒状金属基体表面への塵の付着が防止でき、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき感光体塗膜品質不良の増加を招かない。
【００５１】
請求項３６に係る発明は、請求項３５に係る発明において、前記第２洗浄槽内の円形内巻きブラシは、Ｎメチルピロリドン耐性を有し、かつブラシ線径を０．１〜０．３ｍｍとし、前記円形内巻きブラシの内径が前記感光体の外径より０．５〜２ｍｍ小さいことを特徴とする。このように構成したことにより、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき感光体塗膜品質不良の増加を招かず、また、円筒状金属基体の表面粗さをほとんど変化させずに基体を再生することができる。
【００５２】
請求項３７に係る発明は、請求項３５または３６に係る発明において、低沸点洗浄液を循環させて円筒状金属基体を洗浄したのち、低沸点洗浄液の供給を停止させ、清浄な低沸点洗浄液に切り替えて供給する切り替え手段を備えたことを特徴とする。このように構成したことにより、置換洗浄処理数の増加と伴に濾過循環液中にＮメチルピロリドン液とその中に溶解した汚染物で僅かずつ汚れが増加してくるため、濾過循環液をそのまま使用していると次工程の洗浄液をも汚染してしまう、このため置換が終了した時点で清浄な低沸点洗浄液に切り替えて洗浄することで円筒状金属基体の表面の汚染と次工程の洗浄液の汚染をより防止でき、ラインでの塗液汚染をより防止でき感光体塗膜品質が長期に安定する。
【００５３】
請求項３８に係る発明は、請求項２１〜３７に係る発明において、低沸点洗浄液で円筒状金属基体の外周部を洗浄する円形内巻きブラシと円筒状金属基体の下端部内周面をＮメチルピロリドン耐性の回転接触する円形外巻きブラシを備えたことを特徴とする。このように構成したことにより、円筒状金属基体の下端部内周面の洗浄置換が容易にでき、低沸点の置換用洗浄液はすばやく乾燥するため円筒状金属基体表面への塵の付着が防止でき、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき感光体塗膜品質不良の増加を招かない。
【００５４】
請求項３９に係る発明は、請求項３８に係る発明において、前記円形外巻きブラシのブラシ線径を０．２〜０．７ｍｍとしたことを特徴とする。このように構成したことにより、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止できる。
【００５５】
請求項４０に係る発明は、請求項１〜２０のいずれか記載の円筒状金属基体再生方法または請求項２１〜３９のいずれか記載の円筒状金属基体再生装置によって再生されたアルミニウムまたはアルミニウム合金製円筒状金属基体に、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を順じ形成したことを特徴とする。このように構成したことにより、再生されたアルミニウムまたはアルミニウム合金製円筒状金属基体は外径表面粗さが当初の基体表面粗さとほとんど変わらないため、同じ構成の感光体を再形成することができる。
【００５６】
請求項４１に係る発明は、請求項４０に係る発明において、円筒状金属基体の外径表面粗さが平均粗さ０．４〜１．５μｍ、平均山間隔が１０〜４０μｍであることを特徴とする。このように構成したことにより、再生されたアルミニウムまたはアルミニウム合金製円筒状金属基体の外径表面粗さは当初の基体表面粗さとほとんど変わらないため、平均粗さ０．７〜１．５μｍ、平均山間隔が１０〜４０μｍを必要とする同じ構成の感光体を再形成することができる。
【００５７】
請求項４２に係る発明は、請求項４０または４１に係る発明において、前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有し、その表面粗さは０．１μｍ以下であって、前記電荷発生層の感光剤が無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有することを特徴とする。このように構成したことにより、再生された円筒状金属基体に熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有した下引き層を形成し、その表面粗さが０．１μｍ以下である場合は、電荷発生層感光剤を無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有するもので層構成して機能分離型感光体を再形成すれば干渉縞等の画像欠陥の発生を防止できる。
【００５８】
請求項４３に係る発明は、請求項４０または４１に係る発明において、前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有し、かつ表面粗さは、旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲であって、前記電荷発生層の感光剤がオキシチタニウムフタロシアニンを含有することを特徴とする。このように構成したことにより、再生された円筒状金属基体に熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有した下引き層を形成し、その表面粗さが旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲である場合は、電荷発生層感光剤をオキシチタニウムフタロシアニンを含有するもので層構成して機能分離型感光体を再形成しても干渉縞等の画像欠陥の発生を防止できる。
【００５９】
請求項４４に係る発明は、請求項４０または４１に係る発明において、前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有し、かつ表面粗さは旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲であって、前記電荷発生層の感光剤が無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有することを特徴とする。このように構成したことにより、表面粗さが旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲であっても電荷発生層感光剤を無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有するもので層構成して機能分離型感光体を形成しても画像欠陥の問題は発生しない。
【００６０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００６１】
図１は本発明の第１実施形態における金属基体洗浄装置の構成を示す説明図であり、１は、アルミニウム，アルミニウム合金等の金属からなる円筒状金属基体に、一部に熱硬化性樹脂を含有する層を有する積層型の感光層を形成することにより構成された有機系感光体Ａから、感光層の全層を除去洗浄する洗浄部、２は、洗浄部１にＮメチルピロリドン液およびＮメチルピロリドン液置換用低沸点洗浄液を供給するとともに、洗浄部１から回収した使用後のＮメチルピロリドン液置換用低沸点洗浄液およびＮメチルピロリドン液を濾過する液体供給部を示す。
【００６２】
洗浄部１は、感光体Ａを保持する投入口３と、感光体Ａから感光層を除去する第１洗浄槽４と、感光層が除去されてなる円筒状金属基体を洗浄する第２洗浄槽５と、投入口３の感光体Ａを、第１洗浄槽４、第２洗浄槽５へと搬送する搬送機構６とから構成されている。投入口３、第１洗浄槽４および第２洗浄槽５には感光体Ａが縦型にセットされ、感光体は、搬送機構６によって上端部がクランプされて下端部側から第１洗浄槽４および第２洗浄槽５に挿入される。ここで、感光体Ａは、円筒状金属基体に感光層を浸漬塗布したものであり、感光体Ａは、浸漬塗布において下端となった側から第１洗浄槽４および第２洗浄槽５に挿入される。
【００６３】
感光体の製造における感光層の浸漬塗布においては、クランプのために円筒状金属基体の上端を閉塞させており、ガス抜きバルブにて下端内径部には塗布液を下端から１０ｍｍ程度入れるようにし、内部から塗布液と空気の混ざったガスの圧力が上がっても下端から泡となって出ないようにすることによって、塗膜に欠陥が発生するのを防いでいる。このため、下端内径は洗浄するものの、感光体の製造工程では問題とならない程度に僅かに塗布液で汚れている。この、汚れを検出することにより、浸漬塗布時における感光体Ａの上端、下端が判別可能である。さらに、新規の円筒状金属基体と、再生した円筒状金属基体とを比較すると、円筒状金属基体が必要とする表面粗さ０．８〜１．５μｍのひとつひとつの山から谷の微細な面に０．１μｍ程度の擦れ傷があり、この点を検出することにより、円筒状金属基体をみて新規か再生品かを判断することができる。
【００６４】
第１洗浄槽４には、感光体Ａがセットされた際に感光体表面の感光層に当接する接触部材７、感光体Ａの下端部の内面に当接する円形外巻きブラシ８、感光体Ａの上端部から感光体Ａの表面にＮメチルピロリドン液を流下させる上部循環液供給駒９、感光体Ａの上端部から感光体Ａの表面にＮメチルピロリドン新液を流下させる新液供給駒１０、および接触部材７を感光体Ａの円周方向に回転させるとともに円形外巻きブラシ８を回転させる第１駆動機構１１が備えられている。感光体Ａは搬送機構６により第１洗浄槽４内を軸方向に上下移動する。接触部材７の感光体Ａとの当接部には直線ブラシが形成されており、直線ブラシ先端によって形成される当接面は、感光体Ａの外周面を円周方向および軸方向に分割してなる円筒状の凹面として形成されている。そのため、接触部材７の感光体Ａとの当接部における各部位が、感光体Ａに対して均一な圧力で当接するようになる。
【００６５】
第２洗浄槽５には、感光体Ａから感光層が除去されてなる円筒状金属基体がセットされた際に表面の感光層に当接するＮメチルピロリドン耐性の円形内巻きブラシ１２、円筒状金属基体の下端部の内面に当接するＮメチルピロリドン耐性の円形外巻きブラシ１３、円筒状金属基体の上端部から円筒状金属基体表面にＮメチルピロリドン液置換用の低沸点洗浄液（以下、単に置換用洗浄液と称する）を流下させる供給駒１４、円筒状金属基体の上端部から感光体表面に置換用洗浄液の新液を流下させる新液供給駒１５、および円形内巻きブラシ１２を感光体の円周方向に回転させるとともに円形外巻きブラシ１３を回転させる第２駆動機構１６とが備えられている。円筒状金属基体は搬送機構６により第２洗浄槽５内を軸方向に上下移動する。
【００６６】
液体供給部２には、上部循環液供給駒９に供給するＮメチルピロリドン液を貯蔵する外部タンク１７、外部タンク１７からＮメチルピロリドン液を上部循環液供給駒９に送り出す送液ポンプ１９および送液ポンプ１９から送り出されるＮメチルピロリドン液を濾過するフィルタ１８が備えられている。また、新液供給駒１０に供給するＮメチルピロリドン新液を貯蔵する新液タンク２０、新液タンク２０からＮメチルピロリドン新液を新液供給駒１０に送り出す送液ポンプ２２および送液ポンプ２２から送り出されるＮメチルピロリドン液を濾過するフィルタ２１が備えられている。また、供給駒１４に供給する置換用洗浄液を貯蔵する外部タンク２３、外部タンク２３から置換用洗浄液を供給駒１４に送り出す送液ポンプ２５および送液ポンプ２５から送り出される置換用洗浄液を濾過するフィルタ２４が備えられている。また、新液供給駒１５に供給する置換用洗浄液の新液を貯蔵する新液タンク２６、新液タンク２６から置換用洗浄液の新液を新液供給駒１５に送り出す送液ポンプ２８および送液ポンプ２８から送り出される置換用洗浄液を濾過するフィルタ２７が備えられている。
【００６７】
さらに、第１洗浄槽４で使用されたＮメチルピロリドン液が外部タンク１７に戻る経路と、第２洗浄槽５で使用された置換用洗浄液が外部タンク２３に戻る経路とが備えられており、第１洗浄槽４と外部タンク１７との間でＮメチルピロリドン液を循環させ、第２洗浄槽５と外部タンク２３との間で置換用洗浄液を循環させるように構成されている。
【００６８】
次に、円筒状金属基体の再生工程について説明する。
【００６９】
図１において、投入口３よりクランプされて搬送された感光体は、Ｎメチルピロリドン液が上部循環液供給駒９より流下する第１洗浄槽４上に搬送され、内部で接触部材７が回転している第１洗浄槽４の中へ下降される。
【００７０】
接触部材７の軸方向分割数が感光体Ａの全長全面に至らない場合は感光体Ａと接触部材７とを相対的に上昇下降させて全長範囲を接触部材７によって繰り返し擦らせることにより、膨潤除去洗浄が行われる。
【００７１】
感光層の一部が熱硬化性樹脂を含有する層で構成された有機系感光体では、感光層は容易に溶解除去できるものの熱硬化性樹脂を含有する層は膨潤時間がかかり除去洗浄が困難であるため、Ｎメチルピロリドン液を接触部材７の耐久性が良い範囲の温度内で加熱して供給することにより膨潤時間を短縮する。この加熱温度が６０℃を超えるとＮメチルピロリドン液の気化が多くなり作業環境の汚染と接触部材７の耐久性および洗浄機能を低下させてしまうため、６０〜７０℃の範囲が適正である。Ｎメチルピロリドン液の加熱は外部タンク１７において行われ、加熱されてから第１洗浄槽４に供給される。
【００７２】
第１洗浄槽４においては、接触部材７を２０〜８０ｒｐｍで回転させ、３〜５Ｌ／毎分で加熱されたＮメチルピロリドン液を供給して感光体Ａを下降させ、外部タンク１７に回収されたＮメチルピロリドン液を５０〜１００μｍのフィルター１８で濾過して再度送液ポンプ１９によって第１洗浄槽４に供給することにより、Ｎメチルピロリドン液を循環しながら、感光層の除去作業が行われる。
【００７３】
感光層を除去して洗浄した後、循環するＮメチルピロリドン液の供給を停止させ、新液タンク２０からＮメチルピロリドン新液を１０〜５０μｍのフィルター２１で濾過しながら送液ポンプ２２によって第１洗浄槽４に送液され、上部循環液供給駒９の上部の新液供給駒１０から感光体Ａに供給して仕上洗浄する。
【００７４】
このように、清浄なＮメチルピロリドン液に切り替えて仕上洗浄することで円筒状金属基体の表面の汚染と次工程の洗浄液の汚染を防止できる。また、感光体Ａの軸方向に複数の接触部材７を並べて配置することにより、接触部材７の個々に洗浄力が働くため効率良く感光層の全層を短時間に除去洗浄することができる。
【００７５】
さらに、感光層の除去洗浄とともに、感光体の円筒状金属基体下端部の内周部分５〜１５ｍｍを洗浄しておけば、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染を防止でき、感光体塗膜品質不良の増加を招かないものとなる。なお、本実施形態においては、円形外巻きブラシ８がブラシ線径０．２〜０．７ｍｍでかつＮメチルピロリドン耐性を有するブラシによって構成されている。
【００７６】
感光層が除去されてなる円筒状金属基体は第２洗浄槽５上に搬送され、Ｎメチルピロリドン液置換用低沸点洗浄液が供給駒１４から円筒状金属基体外周面と円形内巻きブラシ１２とに流下され、円形内巻きブラシ１２内を下降させることにより、Ｎメチルピロリドン液の付着した円筒状金属基体が置換洗浄される。
【００７７】
第２洗浄槽５においては、円形内巻きブラシ１２を４０〜１００ｒｐｍで回転させ、３〜５Ｌ／毎分で加熱された置換用洗浄液を供給駒１４より供給して円筒状金属基体を下降させ、第２洗浄槽５から外部タンク２３に回収された液を１０〜５０μｍのフィルター２４で濾過し、再度送液ポンプ２５によって第２洗浄槽５に供給することにより、置換用洗浄液を循環させながら、円筒状金属基体を洗浄する。
【００７８】
円筒状金属基体に付着したＮメチルピロリドン液を置換洗浄した後、循環する置換用低沸点洗浄液の供給を停止させ、新液タンク２６より５〜１０μｍのフィルター２７で濾過しながら送液ポンプ２８によって第２洗浄槽５に供給し、供給駒１４の上部の新液供給駒１５より置換用洗浄液の新液を供給して仕上洗浄する。
【００７９】
このように、清浄な置換用低沸点洗浄液に切り替えて洗浄することにより、円筒状金属基体の表面の汚染と次工程の洗浄液の汚染をより防止できる。また、円筒状金属基体の下端部の内周部分５〜１５ｍｍを内径を円形外巻きブラシ１３により置換洗浄することにより、次工程の洗浄液の汚染防止と感光層の塗工ラインにおける塗液汚染を防止でき、感光体塗膜品質の安定化がより確実に図れる。
【００８０】
図２は第１洗浄槽の内部構成を示す斜視図であり、３０は接続部材７を支持するリング板、３１は、互いに対向させて配置したリング板３０，３０を連結するシャフトを示す。リング板３０中央の開口部の径は感光体の外径より大きく設定されており、リング板３０，３０の開口部に感光体が遊嵌する。リング板３０上に接触部材７が設置される。そして、リング板３０は、感光体Ａの中心軸を軸として回転する。さらに、上部循環液供給駒９に供給されたＮメチルピロリドン液はリング板３０，３０の内側縁部と感光体Ａとの隙間を通って流下する。
【００８１】
図３は図２におけるＢ付近を示す拡大図であり、４０は接触部材７を支持する支持部材、４１は支持部材４０を支持する連結部材、４２は支持部材４０を連結部材４１に回動可能に取り付ける回動軸を示し、この回動軸４２は感光体の中心軸に対して直角方向を向いている。４３はリング板３０上に感光体の中心軸に対して平行に立設し、かつ連結部材４１を回動可能に支持する支持軸、４４は支持軸４３に嵌合するねじりコイルばね、４５は支持軸４３に隣接してリング板３０上に立設する規制軸を示す。ねじりコイルばね４４の一端部は連結部材４１に当接し、他端部は規制軸４５に当接している。
【００８２】
接触部材７における感光体Ａとの当接部分は、Ｎメチルピロリドン耐性を有し、線径０．２〜０．７ｍｍの直線ブラシによって構成されており、２００〜５００ｇで圧接される。
【００８３】
図４は図２におけるＣ付近を示す拡大図であり、４６は接触部材７を支持する第１支持部材、４７は第１支持部材４６を支持する第２支持部材、４８は第１支持部材４６を第２支持部材４７に回動可能に取り付ける回動軸を示し、この回動軸４８は感光体Ａの中心軸に対して平行である。第２支持部材４７は連結部材４１の回動軸４２によって回動可能に取り付けられている。なお、図３に示す部材と同一の部材には同一の符号を付して説明は省略した。
【００８４】
接触部材７を、図３に示すように、感光体の中心軸に対して直角方向および平行方向に自在に回動、または図４に示すように、中心軸に対して直角方向、平行方向および円周方向に自在に回動するように構成し、ねじりコイルばね４４により個々の接触部材７を回動圧接させ、感光体と接触部材７とを感光体の中心軸方向に相対移動させることで、接触部材７が感光体に自在に接触して擦り洗浄され、接触部材７の個々に洗浄力が働くため、効率良く後述する感光層と下引き層を除去洗浄することができる。その結果、感光層面や感光層が除去されて円筒状金属基体面が露出しても、ねじりコイルばね４４により個々の接触部材７が常に離れずに摺動しているため、軸芯が合った状態におくことが可能になる。
【００８５】
図５は接触部材の側面図、図６は図５の断面図であり、７ａは直線ブラシ、７ｂは直線ブラシ７ａを保持するブラシホルダ、７ｃは、ブラシホルダ７ｂにおける直線ブラシ７ａの根元に設けられ、直線ブラシ７ａの両側部を挟むように支持するサポートを示す。
【００８６】
直線ブラシ７ａの刷毛の材質にはＮメチルピロリドン耐性のポリプロピレンまたはポリエチレン等が適用される。
【００８７】
ここで、連続稼働を行うと加熱されたＮメチルピロリドンから受ける熱によって直線ブラシ７ａが軟化して除去洗浄能力が低下するおそれがある。しかし、Ｎメチルピロリドンの加熱は感光層の溶解度を大きくするため必要である。それを解決するために本実施形態においては直線ブラシ７ａを挟み込むサポート５が取り付けられている。直線ブラシ７ａの毛先はサポート７ｃの先端より３．５ｍｍ高くしてある。また、サポート７ｃの長さＬ１と直線ブラシ７ａの刷毛部の長さＬとの差（Ｌ１−Ｌ）は１ｍｍに設定されており、直線ブラシ７ａで完全に固定して熱による刷毛の軟化の影響を防止する。なお、ブラシホルダ７ｂにセットした時の直線ブラシ７ａの毛先の高さとサポートの高さの差Δｈは２〜４ｍｍであることが望ましく、高さの差が２ｍｍ未満ではサポート７ｃが感光体表面に接触して傷が付き、５ｍｍを超えると直線ブラシ７ａの熱による軟化の影響を防止する効果が低下する（この点については後述する）。また、直線ブラシ７ａの刷毛部の長さＬとサポート７ｃの長さＬ１との関係は、Ｌ１−Ｌ≧０であることが望ましく、Ｌ１−Ｌ＜０であると直線ブラシ７ａの刷毛部がサポート７ｃからはみ出るのでその部分については、熱による軟化の影響を防止することができない。
【００８８】
サポート７ｃは厚さ０．５ｍｍのステンレス板をＬ形状に曲げただけの構成であり、安価に製作できしかも板厚が薄いのでＮメチルピロリドンの流下を妨げることなく効果的に除去洗浄できる。なお、サポート７ｃの厚さは０．３ｍｍ未満では弱くて直線ブラシにかかる感光体との接触圧力を支えられらず、１ｍｍを超えると曲げ加工が困難になり高価になる。
【００８９】
ところで、サポート７ｃなしで、Ｎメチルピロリドンを６５℃に加熱し、刷毛に線径０．５ｍｍのポリプロピレン製直線ブラシを使用して感光層除去を行ったところ、開始から５回目までは良好に感光層が除去できたが、それ以降、徐々に感光層を除去出来ない部位が増加して１０回目では、全体の半分が除去できなくなった。そこで、直線ブラシを交換したが同様の状態が繰り返されたた。それに対し、サポート７ｃを取り付けた本実施形態では、開始から５回目を過ぎても感光層除去状態は良好で、一日の連続稼働でも感光層除去状態に変化がなかった。
【００９０】
また、サポート７ｃなしの状態における直線ブラシ７ａの軟化による感光層除去能力低下を防止するために、Ｎメチルピロリドンの温度を６０℃、５０℃、４０℃と下げて実施したところ、実験開始から感光層除去状態が低下したので、Ｎメチルピロリドン温度での対応は効果がなかった。
【００９１】
そこで、直線ブラシ７ａの毛先とサポート７ｃの高さの差は当初直線ブラシ７ａの寿命を長くするため８ｍｍに設定して実施したところ、サポート７ｃなしの状態よりは改善されたが、徐々に感光層の除去残りが増加する傾向が見られた。さらに、実験を繰り返したところ、５ｍｍ以下で安定することが判った。本実施形態では装置を小型化するため３．５ｍｍに設定した。
【００９２】
図７は接触部材の配置を示す平面図であり、図７に示すように、リング板３０上には、感光体の中心軸を基準として放射状にかつ等間隔に６つのサポート７ｃ付き直線ブラシ７ａが配置されている。すなわち、位置のリング板３０の中心と隣り合う直線ブラシ７ａの位置とからなす角度を６０°とすることにより、各直線ブラシ７ａは等間隔に配置されるように設定されている。図７においては直線ブラシ７ａが感光体１に対して直角に接触しているが、図８に示すように、感光体１と直線ブラシ７ａとの接触部の角度ａを１５°になるように、直線ブラシ７ａを設置している。
【００９３】
このように、サポート７ｃ付きの直線ブラシ７ａの取り付け方向を感光体との接触方向に向かって傾斜させると、感光層を直線ブラシ７ａがすくい取るようになるため除去洗浄能力がアップする。なお、角度ａについては、５〜３０°の範囲であることが望ましく、角度が５°未満では浅すぎて効果が少なく、３０°を超えると効果が大きく感光層だけでなく金属基体面にまで傷つけるおそれがある。
【００９４】
６箇所の直線ブラシ７ａは、図３に示すねじりコイルばね６によって４００ｇｆの力で感光体１に圧接され、６箇所の圧接部における圧力は、感光体Ａの円周を等分割した位置において等圧である。しかも直線ブラシ７ａが前後上下回転方向にフリーであることによって感光体１を均等に擦りつけることが可能になる。その結果、感光体１の円筒状金属基体表面を傷つけることなく効果的に感光層を除去できるようになる。
【００９５】
なお、サポート７ｃ付き直線ブラシ７ａの配置数は３箇所以上であることが望ましい。２箇所以下では、円筒状感光体が均等に直線ブラシの圧力を受けるのが難しく均等に洗浄することができない。また、感光体はできるだけ直線ブラシ７ａと接触した方が除去洗浄能力がアップするが、多くなればその分コストアップになる。無理なく、等間隔に配置して、感光体が直線ブラシから均等な圧力を受けるには、５または６箇所がよい。
【００９６】
図９は、第１洗浄槽において接触部材を円形内巻きブラシとし、感光体に円形内巻きブラシを自在に合芯させるための機構を示す説明図であり、円形内巻きブラシ５３を支持するフレーム５０に回転駆動ピン５１を取りつけ、フレーム５０が２〜３ｍｍ自在に動けるように間隙を設けたブラシガイド５２により回転を伝達させて感光体Ａの感光層を除去洗浄するものであり、円形内巻きブラシ５３は感光体の外径より小径にし、円形内巻きブラシ５３の線径は通常０．３ｍｍ程度で、しごき量（円形内巻きブラシ５３の内径と感光体の外径との差）０．５〜２ｍｍ程度の小径が剥離性と耐久性において良く、効率良く感光層と下引き層を除去洗浄することができる。なお、第２洗浄槽５の円形内巻きブラシ１２についても、ブラシ線径０．２ｍｍ程度で、しごき量（円形内巻きブラシ１２の内径と感光体の外径との差）０．５〜２ｍｍ程度の小径とすることにより、剥離性と耐久性において良く、効率良く感光層と下引き層を除去洗浄することができる。その結果、感光体Ａに円形内巻きブラシ１２の外径を自在に合芯させること、すなわち、感光層面や感光層が除去されて円筒状金属基体面が露出しても、常に離れずに摺動しているため、軸芯が合った状態におくことが可能になる。また、前述した例では第２洗浄槽５の円形内巻きブラシ１２のブラシ線径０．３ｍｍ程度に設定したが、０．１〜０．３ｍｍ程度の範囲であれば、適用可能である。さらに、第２洗浄槽５の円形外巻きブラシ１３のブラシ線径についても０．２〜０．７ｍｍ程度の範囲であれば、適用可能である。
【００９７】
このように本実施形態における円筒状金属基体再生方法または円筒状金属基体再生装置によれば、熱硬化性樹脂を含有する下引き層が感光層に含まれている有機系感光体では、感光層が溶解しても下引き層が容易に溶解しないため、感光層および下引き層に対して膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドンを洗浄液として使用し、感光体上部より加熱されたＮメチルピロリドン液を感光体周面に流下させながら供給して濾過循環させながら、感光体外周面に接触部材を圧接して回転移動させて洗浄することにより、感光層と下引き層を除去洗浄することができる。しかも、新規の円筒状金属基体とほとんど変わらない円筒状金属基体表面を実現することができるために、新規の円筒状金属基体に対する感光層形成と同じ条件で、再生した円筒状金属基体に対する感光層形成を行うことができる。
【００９８】
なお、上述した実施形態においては、４０℃〜７０℃に加熱したＮメチルピロリドン液を洗浄液として使用したが、４０℃〜７０℃に加熱したＮメチルピロリドン液またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合液を洗浄液として適用しても良い。
【００９９】
次に、再生した円筒状金属基体を使用した感光体について説明する。
【０１００】
図１０は、図１３に示す機能分離型有機感光体を使用してレーザービーム光書き込みを行い、画像形成をする装置における画像欠陥である干渉縞状模様が発現するプロセスを説明するための説明図である。なお、図１３に示す部材と同一の部材については同一の符号を付して詳細な説明は省略した。
【０１０１】
図１０（ａ）は円筒状の機能分離型有機感光体の外観図あり、複写紙幅１１０に対し感光体塗布幅１１１を１０〜２０ｍｍ広く取り、感光層１０１の膜厚不均一部１１２を排除している。特に、上下を有する浸漬塗布では上端の塗膜が下方に垂れるため、感光体塗布幅１１１を広く取らないと等傾角干渉状の段差模様１１３を有する画像むらを生じることになる。
【０１０２】
複写画像有効範囲部分は、電荷輸送層１０４の膜厚が２０〜３０μｍと厚いことや塗布乾燥時の乾燥むらにより、縞状の膜厚差が発生しやすく、レーザービームＬの干渉にあずかる範囲の膜厚ムラが生じた場合にはリング状の等厚干渉縞模様１１４が画像に発生し易くなる。
【０１０３】
図１０（ｂ）は感光層の断面図であり、電荷発生層１０３の表面上にＲｚ０．１〜０．３μｍ程度の粗さを形成するため、円筒状金属基体１００上に機械加工で凹凸を付け、レーザービーム散乱のため酸化チタン微粒子の入った下引き層１０２と電荷発生層１０３と電荷輸送層１０４を順次形成していくが、円筒状金属基体１００の粗さ以外のうねりや、膜厚２０〜３０μｍの塗膜として比較的厚い電荷輸送層１０４ではレーザー波長の１／２λ程度のむらを生じ易く、レーザービームＬが電荷発生層１０３の表面の反射光により電荷輸送層１０４の裏面で再度反射し干渉しやすくなる。
【０１０４】
特に、電荷発生層１０３の膜厚が１／４λｎ程度でレーザービームＬの入射角が垂直に近い場合に、電荷輸送層１０４の軸方向膜厚のムラと円周方向膜厚のムラの重なり合いによって合成された膜厚のλ／２ｎ・（ｍ）とλ／４・（２ｍ＋１）の山谷形状ができると、書き込みビーム１ドットＰごとに電荷発生層表面での反射と電荷輸送層１０４の裏面での再反射により定在波が干渉して明暗ができ、そのドットが連なって帯電電位の等高曲線が描かれ、リング状の等厚干渉縞模様１１４ができるものと考えられる。
【０１０５】
図１１は円筒状金属基体外径表面の粗さと電荷発生層の表面粗さとの関係を示す説明図である。旋削加工された円筒状金属基体外径表面の粗さ１１５が十点平均粗さＲｚ０．４〜１．５μｍ、平均山間隔Ｓｍ１０〜４０μｍであるその表面に、下引き層１０２、電荷発生層１０３、電荷輸送層１０４を順じ形成した機能分離型有機感光体Ａにおいて、下引き層１０２に熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有させ、下引き層１０２の表面に、感光剤がオキシチタニウムフタロシアニン０．１μｍ程度の薄膜の電荷発生層１０３を形成したものであり、旋削加工された円筒状金属基体外径表面粗さ１１５が下引き層１０２によってレベリングされて再現され、その上に形成された電荷発生層１０３の表面粗さ１１６がＲｚ０．１〜０．３μｍとなっていることがわかる。
【０１０６】
ここで、電荷発生層１０３の感光剤にオキシチタニウムフタロシアニンを使用すると、その分子構造が板状で金属光沢を持っているため、画像形成時の印加電圧下でのレーザー光書き込み光吸収時にもその表面の光反射が強く、光書き込みレーザー光量との関係でこの反射光が電荷輸送層膜内で干渉し縞状の複写画像発現につながり易くなる。しかし、レベリングされて再現された電荷発生層の表面粗さ１４をＲｚ０．１〜０．３μｍ、Ｓｍ１０〜４０μｍとしておけばその上に形成される電荷輸送層１０４の膜厚２０〜３０μｍにλ／２ｎ・（ｍ）とλ／４・（２ｍ＋１）の差ができても、レーザービーム１ドットＰの径が４０〜１００μｍの中では反射率が緩和されるため光書き込みされた画像上には明確な干渉縞状の複写画像が可視化され難くなる。
【０１０７】
図１２は、円筒状金属基体外径表面の粗さが０．４μｍ以下であるその表面に下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を順じ形成した機能分離型有機感光体において、熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有する下引き層と、その表面に形成された感光剤が無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有する０．１μｍ程度の薄膜の電荷発生層表面粗さ１１８と、電荷輸送層表面粗さ１１９の関係を示したものである。
【０１０８】
円筒状金属基体外径表面粗さ１１７が０．４μｍ以下では下引き層１０２の表面上に円筒状金属基体１００表面の粗さは発現しないため、光書き込みレーザービームの反射の少ない感光剤を用いて電荷発生層１０３を形成する必要があり、無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有する機能分離型有機感光体であれば、光書き込みされた画像上に明確な干渉縞状の複写画像が形成されなくなる。
【０１０９】
また、外径表面粗さが十点平均粗さＲｚ０．４〜１．５μｍ、平均山間隔Ｓｍ１０〜４０μｍである円筒状金属基体であっても、電荷発生層１０３の感光剤に無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有する機能分離型有機感光体であれば、光書き込みされた画像上に干渉縞状の画像が形成され難くなる。
【０１１０】
次に、機能分離型有機感光体の感光層について詳述する。図１０（ｂ）に示した機能分離型有機感光体は、再生された円筒状金属基体上に形成した感光層であるが、新規の円筒状金属基体上に感光層を形成する場合も図１０（ｂ）に示す順番で各層が形成されることは言うまでもない。
【０１１１】
新規の円筒状金属基体の場合も、図１０（ｂ）に示すように、アルミニウムまたはアルミニウム合金製の円筒状金属基体１００の表面に０．４μｍ以下の酸化チタン微粒子を含む熱硬化性樹脂を結着剤とした下引き層１０２が形成され、前述したように、光書き込み用レーザービームＬの余剰光を散乱させて画像形成時の不具合となる干渉縞の形成を抑制させている。この干渉縞の形成を抑制させるためには電荷発生層１０３の感光剤が持つ反射率も重要であり、チタニルフタロシアニンを感光剤とするときは、円筒状金属基体１００の表面粗さを０．８〜１．５μｍ程度に形成し、電荷輸送層１０４の膜厚がλ／２ｎとλ／４ｎの山谷形状がレーザービームの照射幅内で明確にできないようにしなければならない。さらに、円筒状金属基体１００の表面粗さによる山のピッチがレーザービームの照射幅内に３〜５個入るようにして、その表面の平均反射率を減少させるよう形成しなければならない。そのため下引き層１０２の膜厚は円筒状金属基体１００の表面粗さがレベリングされて再現されるように３〜５μｍで形成し、また、円筒状金属基体１００の再利用に際しても熱硬化性樹脂の膨潤除去洗浄を容易にするためには５μｍ以下であるのが膨潤除去洗浄に効果的である。また、オイルフリーアルキドとブチル化メラミン樹脂溶液との重量比が１．５／１〜４／１というように、架橋剤となるメラミン樹脂溶液の量を減少させ、架橋硬化反応を抑制するかまたはオイルフリーアルキド単体にして、洗浄用溶剤のＮメチルピロリドンまたは、Ｎメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤によって膨潤し易いようにし、感光体塗膜の焼成温度を１２０〜１４０℃、焼成時間１０〜２０分で形成すれば円筒状金属基体を再生処理する場合に採算性のある範囲で除去洗浄できるものとなる。
【０１１２】
また機能分離型有機系感光体の電荷輸送層１０４表面はトナー除去ブレード等の接触によって摩耗し易いため、電荷輸送層１０４の保護用として電荷輸送層形成樹脂に酸化ケイ素微粉末を分散した耐傷性被覆層を形成しても、ＮメチルピロリドンまたはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合洗浄液によって膨潤し易いような感光体塗膜焼成温度１２０〜１４０℃と焼成時間１０〜２０分で形成すれば円筒状金属基体１００の再生処理は採算性のある範囲で除去洗浄できるものとなる。
【０１１３】
【発明の効果】
以上説明したように構成された本発明の円筒状金属基体再生方法または円筒状金属基体再生装置によれば、熱硬化性樹脂を含有する層が感光層に含まれている有機系感光体では、感光層が溶解しても熱硬化性樹脂を含有する層は容易に溶解しないため、感光層および熱硬化性樹脂を含有する層ともに膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤を洗浄液として使用し、感光体上部より加熱された洗浄液を感光体周面に流下させながら供給して濾過循環させながら、感光体外周面に接触部材を圧接して回転移動させて洗浄することにより、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層を除去洗浄することができる。
【０１１４】
また本発明の機能分離型有機感光体によれば、再生されたアルミニウムまたはアルミニウム合金製円筒状金属基体は外径表面粗さが当初の基体表面粗さとほとんど変わらないため、同じ構成の感光体を再形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態における金属気体洗浄装置の構成を示す説明図
【図２】第１洗浄槽の内部構成を示す斜視図
【図３】図２におけるＢ付近を示す拡大図
【図４】図２におけるＣ付近を示す拡大図
【図５】接触部材の側面図
【図６】図５の断面図
【図７】接触部材の配置を示す平面図
【図８】感光体と直線ブラシとの接触部を示す平面図
【図９】第１洗浄槽において接触部材を円形内巻きブラシとし、感光体に円形内巻きブラシを自在に合芯させるための機構を示す説明図
【図１０】機能分離型有機感光体を使用してレーザービーム光書き込みを行い、画像形成をする装置における画像欠陥である干渉縞状模様が発現するプロセスを説明するための説明図
【図１１】円筒状金属基体外径表面の粗さと電荷発生層の表面粗さとの関係を示す説明図
【図１２】円筒状金属基体外径表面の粗さが０．４μｍ以下であるその表面に下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を順じ形成した機能分離型有機感光体において、熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有する下引き層と、その表面に形成された感光剤が無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有する０．１μｍ程度の薄膜の電荷発生層表面粗さと、電荷輸送層表面粗さの関係を示す説明図
【図１３】円筒状の機能分離型有機感光体の構成を示す説明図
【符号の説明】
１　洗浄部
２　液体供給部
３　投入口
４　第１洗浄槽
５　第２洗浄槽
６　搬送機構
７　接触部材
７ａ　直線ブラシ
７ｂ　ブラシホルダ
７ｃ　サポート
８，１３　円形外巻きブラシ
９　上部循環液供給駒
１０，１５　新液供給駒
１１　第１駆動機構
１２，５３　円形内巻きブラシ
１４　供給駒
１６　第２駆動機構
１７，２３，　外部タンク
１８，２１，２４，２７　フィルタ
１９，２２，２５，２８　送液ポンプ
２０，２６　新液タンク
３０　リング板
３１　シャフト
４０　支持部材
４１　連結部材
４２，４８　回動軸
４３　支持軸
４４　ねじりコイルばね
４５　規制軸
４６　第１支持部材
４７　第２支持部材
５０　フレーム
５１　回転駆動ピン
５２　ブラシガイド
１０１　感光層
１０２　下引き層
１０３　電荷発生層
１０４　電荷輸送層
１１０　複写紙幅
１１１　感光体塗布幅
１１２　膜厚不均一部
１１３　段差模様
１１４　等厚干渉縞模様
１１５　円筒状金属基体外径表面粗さ
１１６　電荷発生層表面粗さ
１１７　円筒状金属基体外径表面粗さ
【図１】
2004004408.tif 000003
【図２】
2004004408.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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