(57)【要約】【課題】温度変化によりワークのサイズに変化が生じた場合でも機能液の吐出精度を保持することを目的としている。【解決手段】機能液滴吐出ヘッドに配列されたノズル列から機能液を選択的に吐出することによりワークＷ上に描画を行う液滴吐出装置において、マトリクス状に配置された複数の描画領域Ｗ１と、これを区画する非描画領域Ｗ２とが配置されたワークと、ワーク上にマーキングされたマーク列５２ａから成るリニアスケール５２と、当該リニアスケールに臨むリニアセンサ５１とによって構成されると共に、機能液滴吐出ヘッドとワークとの相対的な移動位置を検出するリニアエンコーダと、リニアエンコーダの検出結果に基づき、ノズル列からの機能液の吐出を駆動制御する駆動制御手段と、を備え、マーク列は、リニアセンサの検出方向に対して垂直方向に配列された描画領域列Ｗ１−ｃ毎に離間して配置されているものである。【選択図】  図１７
2004337726.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能液滴吐出ヘッドに配列されたノズル列から機能液を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う液滴吐出装置において、
前記機能液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、
マトリクス状に配置された複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置されたワークと、
前記ヘッドユニットおよび／または前記ワークを、相対的に移動させる移動機構と、
前記ワーク上にマーキングされたマーク列から成るリニアスケールと、当該リニアスケールに臨むリニアセンサとによって構成されると共に、前記ヘッドユニットと前記ワークとの相対的な移動位置を検出するリニアエンコーダと、
前記リニアエンコーダの検出結果に基づき、前記ノズル列からの機能液の吐出を駆動制御する駆動制御手段と、を備え、
前記マーク列は、前記リニアセンサの検出方向に対して垂直方向に配列された描画領域列毎に離間して配置されていることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記リニアスケールは、前記非描画領域に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記マーク列の各描画領域列に対応するマーク数は、当該描画領域への機能液の吐出回数に等しいことを特徴とする請求項１または２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記描画領域は、前記機能液が吐出されると共に画素を構成する複数のキャビティ部と、これを区画するバンク部とを有しており、
前記リニアセンサは、前記マーク列に代えて前記バンク部を検出することを特徴とする請求項１、２または３に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記非描画領域は、前記描画領域のバンク部と同材質であって、且つ前記マーク列として利用可能な検出用バンク部を有しており、
前記リニアセンサは、前記検出用バンク部を検出することを特徴とする請求項４に記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記リニアスケールは、前記ヘッドユニットの前記ワークに対する相対的な走査回数分のスケール数から成ることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１に記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
前記描画領域は、複数種類の機能液が吐出されることによって描画が行われ、
前記リニアエンコーダは、前記機能液の種類数分のスケール数から成るリニアスケールを、各リニアスケールに対応した前記リニアセンサによって検出することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１に記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記ヘッドユニットには、前記機能液滴吐出ヘッドを介して複数のノズル列が配列され、当該ノズル列間の距離をｌとしたとき、前記リニアスケールのマーク列は、ｌ／ｎ（ｎは１以上の整数）のマーク間隔を有しており、
前記マーク列のマーク位置と、そのマーク位置を検出したときの各ノズル列の機能液の吐出／非吐出と、を対応づけた対応テーブルを更に備え、
前記駆動制御手段は、前記対応テーブルを参照して各ノズル列からの機能液の吐出を駆動制御することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１に記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
前記ヘッドユニットには、前記機能液滴吐出ヘッドを介して複数のノズル列が配列され、いずれか１つのノズル列を基準ノズル列としたとき、前記リニアエンコーダは、前記ノズル列数分のスケール数から成るリニアスケールを、各リニアスケールに対応した前記リニアセンサによって検出し、
各リニアスケールを構成するマーク列は、前記リニアセンサの検出方向において、対応するノズル列の前記基準ノズル列からの距離分だけオフセットした位置に配置されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１に記載の液滴吐出装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし９のいずれか１に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【請求項１３】
請求項１ないし９のいずれか１に記載の液滴吐出装置の前記ワークとして用いられることを特徴とする基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、機能液滴吐出ヘッドに配列されたノズル列から機能液を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器および基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、インクジェット方式の印刷ヘッドを用いたインクジェットプリンタ（液滴吐出装置）は、微小なインク滴（機能液）をドット状に精度良く吐出することができることから、各種部品の製造分野への応用が期待されている。近年では、例えば有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の、いわゆるフラットディスプレイの製造方法にも用いられ、ガラス基板（ワーク）上に発光材料やフィルタ材料等の機能液を吐出して、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置における各画素のＥＬ発光層および正孔注入層等の形成や、液晶表示装置におけるＲ．Ｇ．Ｂのフィルタエレメント等の形成が行われている（例えば、特許文献１参照）。この場合、バンクで仕切られた微小なキャビティ内に機能液を吐出するため、吐出位置や吐出タイミングを含む、より高い精度の吐出制御が要求されている。そこで、この種の表示装置の製造方法においては、一般的に、印刷ヘッドを担持したキャリッジまたはワークが低速で動作していることを前提に制御回路内のクロック数をカウントして吐出制御するのではなく、エンコーダ（ロータリエンコーダやリニアエンコーダ）を用いて、キャリッジまたはワークの位置検出を行い、その検出結果（エンコーダ信号の出力）に基づいて、吐出制御を行っている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−１２３７７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記のような有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置を製造する場合、上記のようにエンコーダ信号に基づいて、インクの吐出タイミングを制御することにより、印刷ヘッド側の吐出精度はある程度補償されるものの、基板としてガラス基板が用いられることが多いため、温度変化による熱膨張により基板サイズが変化してしまい、結果的に機能液が所望する吐出位置からずれた位置に着弾してしまうといった問題があった。
【０００５】
このため、例えばリニアエンコーダを用いる場合は、リニアスケールをガラス基板と同材料で構成し、熱膨張による位置ずれを補正するといった対策が講じられているが、ガラスの大きさや厚みの違いなどによって、互いの膨張率に差異が生じてしまう。また、リニアスケールは主にガラス基板を搭載した移動テーブルの側部等に配置されるため、ガラス基板とリニアスケールとの配置位置における温度分布によっても、膨張率が変化してしまう。したがって、ガラスなど温度変化により熱膨張や変形を生じる材質で構成された基板を用いる場合は、リニアエンコーダを用いても、温度変化に基づく吐出位置のずれを解消することが困難であった。
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑み、温度変化により基板サイズに変化が生じた場合でも機能液の吐出精度を保持し得る液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器および基板を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の液滴吐出装置は、機能液滴吐出ヘッドに配列されたノズル列から機能液を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う液滴吐出装置において、機能液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、マトリクス状に配置された複数の描画領域と、これを区画する非描画領域とが配置されたワークと、ヘッドユニットおよび／またはワークを、相対的に移動させる移動機構と、ワーク上にマーキングされたマーク列から成るリニアスケールと、当該リニアスケールに臨むリニアセンサとによって構成されると共に、ヘッドユニットとワークとの相対的な移動位置を検出するリニアエンコーダと、リニアエンコーダの検出結果に基づき、ノズル列からの機能液の吐出を駆動制御する駆動制御手段と、を備え、マーク列は、リニアセンサの検出方向に対して垂直方向に配列された描画領域列毎に離間して配置されていることを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、リニアスケールが、ワーク上にマーキングされたマーク列から成るため、温度変化によりワークの大きさに変化が生じた場合でも機能液の吐出精度を保持することができる。また、マーク列は、リニアセンサの検出方向に対して垂直方向に配列された描画領域列毎に離間して配置されており、この離間距離により各描画領域の検出開始を認識できるため、万一読み飛ばしやダブルカウントなどの検出誤差が生じた場合、続く描画領域の吐出開始位置から検出誤差を補償し、吐出精度を保持することができる。
【０００９】
この場合、リニアスケールは、非描画領域に形成されていることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、リニアスケールは、非描画領域に形成されているため、後に切り出して製品に利用される描画領域に影響を与えることがない。
【００１１】
これらの場合、マーク列の各描画領域列に対応するマーク数は、当該描画領域への機能液の吐出回数に等しいことが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、マーク列の各描画領域列に対応するマーク数は、当該描画領域への機能液の吐出回数に等しいため、マークを検出したら１回吐出するといった単純な構成で機能液の吐出タイミングを駆動制御することができる。したがって、制御装置（ＣＰＵ等）の負担を軽くすることができる。また、マーク列は描画領域列毎に離間して配置されているため、マーク検出＝（イコール）機能液吐出といった構成をとることができる。したがって、マーク位置と機能液の吐出／非吐出を対応付ける対応テーブルを用いなくとも、マーク検出のみで描画を行なうことができる。
【００１３】
これらの場合、描画領域は、機能液が吐出されると共に画素を構成する複数のキャビティ部と、これを区画するバンク部とを有しており、リニアセンサは、マーク列に代えてバンク部を検出することが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、画素を区画するバンク部をリニアスケールとして用いることができる。このため、温度変化に伴って熱膨張や変形が生じるワークを用いた場合でも、リニアスケールを形成する工程（ワーク上にマーキングを行う工程）を必要とすることなく、吐出精度を保持することができる。
【００１５】
この場合、非描画領域は、描画領域のバンク部と同材質であって、且つマーク列として利用可能な検出用バンク部を有しており、リニアセンサは、検出用バンク部を検出することが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、描画領域のバンク部と同工程で検出用バンク部を形成することができ、これをリニアスケールとして用いることができるため、リニアスケールを形成する工程（ワーク上にマーキングを行う工程）を必要とすることがない。また、検出用バンク部は非描画領域に形成されるため、機能液の吐出回数等に応じてバンク間隔を自由に設定することができる。
【００１７】
これらの場合、リニアスケールは、ヘッドユニットのワークに対する相対的な走査回数分のスケール数から成ることが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、走査回数分のスケール数を有しているため、ヘッドユニットとリニアセンサの位置が固定されており、複数回に分割して描画する場合であっても、吐出精度を保持することができる。
【００１９】
これらの場合、描画領域は、複数種類の機能液が吐出されることによって描画が行われ、リニアエンコーダは、機能液の種類数分のスケール数から成るリニアスケールを、各リニアスケールに対応したリニアセンサによって検出することが好ましい。
【００２０】
この構成によれば、例えば機能液の種類毎に、リニアスケールを検出することができる。したがって、複数種類の機能液を吐出する場合であっても、マーク位置と、そのマーク検出時に吐出する機能液の種類とを関連づけたテーブルや処理プログラム等を必要とすることなく、各ノズル列を単純に駆動制御することができる。
【００２１】
これらの場合、ヘッドユニットには、機能液滴吐出ヘッドを介して複数のノズル列が配列され、当該ノズル列間の距離をｌとしたとき、リニアスケールのマーク列は、ｌ／ｎ（ｎは１以上の整数）のマーク間隔を有しており、マーク列のマーク位置と、そのマーク位置を検出したときの各ノズル列の機能液の吐出／非吐出と、を対応づけた対応テーブルを更に備え、駆動制御手段は、対応テーブルを参照して各ノズル列からの機能液の吐出を駆動制御することが好ましい。
【００２２】
この構成によれば、ヘッドユニットに複数のノズル列が配列される場合、当然そのノズル列間の距離ｌが発生するが、このノズル間の距離ｌを整数倍とする間隔でマークを配置することにより、マーク位置と、そのマーク位置を検出したときの各ノズル列の機能液の吐出／非吐出と、を対応づけた対応テーブルを用いることができる。すなわち、この対応テーブルを参照することにより、単純に各ノズル列の吐出／非吐出を決定することができ、ノズル列間に生じる距離によって吐出位置がずれることが無い。したがって、複数のノズル列により描画を行う場合でも、処理プログラム等を用いることなく、各ノズル列を容易に駆動制御することができる。
【００２３】
これらの場合、ヘッドユニットには、機能液滴吐出ヘッドを介して複数のノズル列が配列され、当該複数のノズル列のうちいずれか１つを基準ノズル列とすると共に、リニアエンコーダが、ノズル列数分のスケール数から成るリニアスケールを、各ノズル列に対応したリニアセンサによって検出する場合、各リニアスケールを構成するマーク列は、リニアセンサの検出方向において、対応するノズル列の基準ノズル列からの距離分だけオフセットした位置に配置されていることが好ましい。
【００２４】
この構成によれば、ヘッドユニットに複数のノズル列が配列される場合、ノズル列間の距離が発生するが、ノズル列数に応じたスケール数を有するリニアスケールにおいて、各スケールのマーク位置を、基準となる基準ノズル列からの距離分だけオフセットした位置に配置することにより、ノズル列間に生じる距離によって吐出位置がずれることが無い。また、リニアスケールは、ノズル列数に応じたスケール数を有し、ノズル列毎にリニアスケールを検出するため、マーク位置と、そのマーク検出時に吐出するノズル列とを関連づけたテーブルや処理プログラム等を必要とすることなく、各ノズル列を単純に駆動制御することができる。
【００２５】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴吐出ヘッドから吐出させた機能液による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２６】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴吐出ヘッドから吐出させた機能液による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２７】
これらの構成によれば、温度変化により基板サイズに変化が生じた場合でも機能液の吐出精度を保持し得る液滴吐出装置を用いて製造されるため、高品質な電気光学装置を製造することができる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２８】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２９】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【００３０】
本発明の基板は、上気した液滴吐出装置のワークとして用いられることを特徴とする。
【００３１】
この場合、基板としては、ガラスや樹脂（フィルム）など、製造する電気光学装置に応じた種々の材質を用いることが可能である。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の一実施形態に係る液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器および基板について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、いわゆるフラットパネルディスプレイの一種である有機ＥＬ装置の製造ラインに組み込まれるものであり、有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子（成膜部）を形成するものである。
【００３３】
ここでは先ず、液滴吐出装置の説明に先立ち、有機ＥＬ装置の構造および製造工程について簡単に説明する。図１は、有機ＥＬ装置の断面図を示した図である。同図に示すように、有機ＥＬ装置７０１は、基板７１１、回路素子部７２１、画素電極７３１、バンク部７４１、発光素子７５１、陰極７６１（対向電極）、および封止用基板７７１から構成された有機ＥＬ素子７０２に、フレキシブル基板（図示省略）の配線および駆動ＩＣ（図示省略）を接続したものである。
【００３４】
同図に示すように、有機ＥＬ素子７０２の基板７１１上には、回路素子部７２１が形成され、回路素子部７２１上には、複数の画素電極７３１が整列している。そして、各画素電極７３１間には、バンク部７４１が格子状に形成されており、バンク部７４１により生じた凹部開口７４４（キャビティ部６２：図７等参照）に、発光素子７５１が形成されている。バンク部７４１および発光素子７５１の上部全面には、陰極７６１が形成され、陰極７６１の上には、封止用基板７７１が積層されている。
【００３５】
有機ＥＬ素子７０２の製造プロセスは、バンク部７４１を形成するバンク部形成工程と、発光素子７５１を適切に形成するためのプラズマ処理工程と、発光素子７５１を形成する発光素子形成工程と、陰極７６１を形成する対向電極形成工程と、封止用基板７７１を陰極７６１上に積層して封止する封止工程とを備えている。すなわち、有機ＥＬ素子７０２は、予め回路素子部７２１および画素電極７３１が形成された基板７１１（ワークＷ：図４等参照）の描画領域Ｗ１にバンク部７４１を形成した後、プラズマ処理、発光素子７５１および陰極７６１（対向電極）の形成を順に行い、さらに、封止用基板７７１を陰極７６１上に積層して封止することにより製造される。なお、有機ＥＬ素子７０２は、大気中の水分等の影響を受けて劣化しやすいため、有機ＥＬ素子７０２の製造は、ドライエアーまたは不活性ガス（窒素、アルゴン、ヘリウム等）雰囲気で行うことが好ましい。
【００３６】
また、各発光素子７５１は、正孔注入／輸送層７５２およびＲ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）のいずれかの色に着色された発光層７５３から成る成膜部で構成されており、発光素子形成工程には、正孔注入／輸送層７５２を形成する正孔注入／輸送層形成工程と、３色の発光層７５３を形成する発光層形成工程と、が含まれている。この場合、上記バンク部７４１により区画されたマトリクス状の多数の凹部開口７４４に対し、３色の発光層７５３の配列は、例えば図２に示すように、ストライプ配列（同図（ａ））、モザイク配列（同図（ｂ））およびデルタ配列（同図（ｃ））が知られている。
【００３７】
そして、有機ＥＬ装置７０１は、有機ＥＬ素子７０２を製造した後、有機ＥＬ素子７０２の陰極７６１にフレキシブル基板の配線を接続すると共に、駆動ＩＣに回路素子部７２１の配線を接続することにより製造される。
【００３８】
本実施形態の液滴吐出装置は、注入／輸送層形成工程に用いるものと、発光層形成工程に用いるものとがあるが、装置自体は同一構造のものが用いられるため、ここでは、Ｒ・Ｇ・Ｂ３色の発光層７５３を形成するための液滴吐出装置を例に挙げて、詳細に説明する。
【００３９】
図３の平面模式図に示すように、実施形態の液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置された描画装置３と、描画装置３に添設するように機台２上に載置したヘッド機能回復装置４とを有し、描画装置３によりワークＷ上の描画領域Ｗ１に対して機能液による描画を行うと共に、ヘッド機能回復装置４により適宜、描画装置３に備える機能液滴吐出ヘッド５の機能回復処理（メンテナンス）を行うようにしている。
【００４０】
描画装置３は、Ｘ軸テーブル（主走査手段）１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３からなるＸ・Ｙ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けたメインキャリッジ１４と、メインキャリッジ１４に垂設したヘッドユニット１５とを備えている。ヘッドユニット１５には、サブキャリッジ１６を介して、Ｒ色、Ｇ色およびＢ色の３つのノズル列６が配列された機能液滴吐出ヘッド５が搭載されると共に、ワークＷ上に形成されたリニアスケール５２の位置に対応して、リニアセンサ５１が搭載されている。
【００４１】
この場合、基板であるワークＷは、透光性（透明）のガラス基板で構成されており、Ｘ軸テーブル１２に搬入した段階で、これに臨む一対のワーク認識カメラ１８，１８で一対のワーク基準マーク５４，５４を認識することにより、Ｘ軸テーブル１２に位置決めされた状態でセットされる。また、ワークＷには、マトリクス状に配置されると共に機能液が吐出される（描画が行われる）描画領域Ｗ１と、当該描画領域Ｗ１を区画すると共にリニアスケール５２が形成される非描画領域Ｗ２とが配置されている。なお、図示のサブキャリッジ１６には、３つのノズル列６が配列された機能液滴吐出ヘッド５が１つ搭載されているが、これら３つのノズル列６を異なる機能液滴吐出ヘッド５に配列したものを搭載しても良い。また、各色に対応するノズル列６が複数列で構成されていても良い。
【００４２】
リニアセンサ５１は、ワークＷを隔てて上下に配置された発光部および受光部（いずれも図示省略）から成る光学式受光センサであり、ワークＷ上に形成されたリニアスケール５２の検出を行なう。そして、これらリニアセンサ５１とリニアスケール５２により、リニアエンコーダ５０が構成されている。
【００４３】
図４に示すように、リニアスケール５２は、複数のマークＭから成るマーク列５２ａにより構成され、リニアセンサ５１による検出方向（Ｘ軸方向）に延在している。また、マーク列５２ａは、ワークＷ上にマトリクス状に配列された描画領域Ｗ１の、図示最上段（リニアセンサ５１による検出開始側）に位置する描画領域列Ｗ１―ａの検出開始位置から、図示最下段（リニアセンサ５１による検出終了側）に位置する描画領域列Ｗ１−ｄの検出終了位置まで、連続してマーキングされており、各描画領域列Ｗ１―ａ〜Ｗ１―ｄの検出開始位置には、基準マークＭ１が形成されている。この基準マークＭ１は、リニアセンサ５１によるリニアスケール５２のカウントをリセットするためのものであり、万一読み飛ばしやダブルカウントなどの検出誤差が生じた場合、描画領域列Ｗ１―ａ〜Ｗ１―ｄ毎にこれを補償できるようになっている。なお、リニアスケール５２の検出とその検出結果に基づく、機能液の吐出駆動制御については後に詳述する。
【００４４】
このような構成により、リニアエンコーダ５０は、発光部から光を照射し、マークＭ間（透光部）を通過した光を受光部５で受光し、それを電気信号に変換することで、エンコーダ信号を生成する。そして、そのエンコーダ信号に基づいて、メインキャリッジ１４（ヘッドユニット１５）の移動位置情報が求められ、その移動位置情報に応じて機能液滴吐出ヘッド５による機能液の吐出信号を生成し（吐出タイミングを決定し）、ワークＷ上の所定位置に描画を行う。
【００４５】
なお、本実施形態では光学式リニアエンコーダを用いているが、磁化したマーキングから成るリニアスケールを、磁気センサで検出する磁気式リニアエンコーダを用いても良い。
【００４６】
一方、ヘッド機能回復装置４は、機台２上に載置した移動テーブル２１と、移動テーブル２１上に載置した保管ユニット２２、吸引ユニット２３およびワイピングユニット２４とを備えている。保管ユニット２２は、装置の稼動停止時に、機能液滴吐出ヘッド５のノズル５ａの乾燥を防止すべくこれを封止する。吸引ユニット２３は、機能液滴吐出ヘッド５から機能液を強制的に吸引すると共に、機能液滴吐出ヘッド５の全ノズル５ａからの機能液の捨て吐出を受けるフラッシングボックスの機能を有している。ワイピングユニット２４は、主に、機能液吸引を行った後の機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂをワイピング（拭き取り）する。
【００４７】
保管ユニット２２には、例えば機能液滴吐出ヘッド５に対応する封止キャップ２６が昇降自在に設けられており、装置の稼動停止にヘッドユニット（の機能液滴吐出ヘッド５）１５に臨んで上昇し、機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂに封止キャップ２６を密接させて、これを封止する。これにより、機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂにおける機能液の気化が抑制され、いわゆるノズル詰まりが防止される。
【００４８】
同様に、吸引ユニット２３には、例えば機能液滴吐出ヘッド５に対応する吸引キャップ２７が、昇降自在に設けられており、ヘッドユニット（の機能液滴吐出ヘッド５）１５に機能液の充填を行う場合や、機能液滴吐出ヘッド５内で増粘した機能液を除去する場合に、吸引キャップ２７を機能液滴吐出ヘッド５に密着させて、ポンプ吸引を行う。また、機能液の吐出（描画）を休止するときには、吸引キャップ２７を機能液滴吐出ヘッド５から僅かに離間させておいて、フラッシング（捨て吐出）を行う。これにより、ノズル詰まりが防止され或いはノズル詰まりの生じた機能液滴吐出ヘッド５の機能回復が図られる。
【００４９】
ワイピングユニット２４には、例えば、ワイピングシート２８が繰出し且つ巻取り自在に設けられており、繰り出したワイピングシート２８を送りながら、且つ移動テーブル２１によりワイピングユニット２４をＸ軸方向に移動させながら、機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂを拭き取るようになっている。これにより、機能液滴吐出ヘッド５のノズル面５ｂに付着した機能液が取り除かれ、機能液吐出時の飛行曲がり等が防止される。
【００５０】
なお、ヘッド機能回復装置４として、上記の各ユニットに加え、機能液滴吐出ヘッド５から吐出された機能液の飛行状態を検査する吐出検査ユニットや、機能液滴吐出ヘッド５から吐出された機能液の重量を測定する重量測定ユニット等を、搭載することが好ましい。さらに、同図示では省略したが、この液滴吐出装置１には、各機能液滴吐出ヘッド５に機能液が供給する機能液供給機構や、上記の描画装置３や機能液滴吐出ヘッド５等の構成装置を統括制御する制御装置（制御手段：後述する）などが組み込まれている。
【００５１】
Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ３１を有し、これに吸着テーブル３３およびθテーブル３４等から成るセットテーブル３２を移動自在に搭載して、構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル１３は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ３６を有し、これにθテーブル３７を介して上記のメインキャリッジ１４を移動自在に搭載して、構成されている。
【００５２】
この場合、Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に直接支持される一方、Ｙ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右の支柱３８，３８に支持されている。Ｘ軸テーブル１２とヘッド機能回復装置４とは、Ｘ軸方向に相互に平行に配設されており、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２とヘッド機能回復装置４の移動テーブル２１とを跨ぐように延在している。
【００５３】
そして、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット（機能液滴吐出ヘッド５）１５を、ヘッド機能回復装置４の直上部に位置する機能回復エリア４１と、Ｘ軸テーブル１２の直上部に位置する描画エリア４２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１３は、機能液滴吐出ヘッド５の機能回復を行う場合には、ヘッドユニット１５を機能回復エリア４１に臨ませ、またＸ軸テーブル１２に導入したワークＷに描画を行う場合には、ヘッドユニット１５を描画エリア４２に臨ませる。
【００５４】
一方、Ｘ軸テーブル１２の一方の端部は、ワークＷをＸ軸テーブル１２にセット（載せ代える）するための移載エリア４３となっており、移載エリア４３には、上記一対のワーク認識カメラ１８，１８が配設されている。そして、この一対のワーク認識カメラ１８，１８により、吸着テーブル３３上に供給されたワークＷの２箇所のワーク基準マーク５４，５４が同時に認識され、この認識結果に基づいて、ワークＷのアライメントが為される。
【００５５】
実施形態の液滴吐出装置（描画装置３）１では、Ｘ軸方向へのワークＷの移動を主走査とし、Ｙ軸方向への機能液滴吐出ヘッド（ヘッドユニット１５）５の移動を副走査として、上記の制御手段に記憶する吐出パターンデータと、上記のリニアエンコーダ５０の検出結果（エンコーダ信号）とに基づいて描画が行われる。
【００５６】
描画エリア４２に導入したワークＷに描画を行う場合には、機能液滴吐出ヘッド（ヘッドユニット１５）５を描画エリア４２に臨ませておいて、Ｘ軸テーブル１２による主走査（ワークＷの往復移動）に同期して、リニアエンコーダ５０の検出結果に基づき、機能液滴吐出ヘッド５を吐出駆動（機能液の選択的吐出）させる。また、Ｙ軸テーブル１３により適宜、副走査（ヘッドユニット１５の移動）が行われる。この一連の動作により、ワークＷの描画領域Ｗａに所望の機能液の選択的吐出、すなわち描画が行われる。
【００５７】
また、機能液滴吐出ヘッド５の機能回復を行う場合には、移動テーブル２１により吸引ユニット２３を機能回復エリア４１に移動させると共に、Ｙ軸テーブル１３によりヘッドユニット１５を機能回復エリア４１に移動させ、機能液滴吐出ヘッド５のフラッシング或いはポンプ吸引を行う。また、ポンプ吸引を行った場合には、続いて移動テーブル２１によりワイピングユニット２４を機能回復エリア４１に移動させ、機能液滴吐出ヘッド５のワイピングを行う。同様に、作業が終了して装置の稼動を停止する時には、保管ユニット２２により、機能液滴吐出ヘッド５にキャッピングが行われる。
【００５８】
ここで、液滴吐出装置１の制御構成について、図５の制御ブロック図を参照して説明する。液滴吐出装置１は、インタフェース１１１を有し、ホストコンピュータ３００から送信された吐出パターンデータ（各ノズル５ａの機能液の吐出／非吐出を決定するためのデータ）、駆動波形データ（各ノズル５ａの圧電素子（ピエゾ素子など）を駆動するために印加される波形データ）および各種制御データを取得すると共に、液滴吐出装置１内部における処理状況等に関するデータをホストコンピュータ３００に対して出力するデータ入出力部１１０と、電源スイッチ１２１を有し、電源の供給および切断を行なう電源部１２０と、リニアセンサ５１およびリニアスケール５２を有し、ワークＷの移動位置を検出するリニアエンコーダ５０と、機能液滴吐出ヘッド５を有し、ワークＷ上に描画を行なう描画部１４０と、キャリッジモータ１５１および送りモータ１５２を有し、機能液滴吐出ヘッド５が搭載されたメインキャリッジ１４（ヘッドユニット１５）およびワークＷを移動・搬送する搬送部１５０（移動機構）と、ヘッドドライバ１６１、キャリッジモータドライバ１６２および送りモータドライバ１６３を有し、各部を駆動する駆動部１６０と、各部と接続され、液滴吐出装置１０全体を制御する制御部２００と、によって構成されている。
【００５９】
制御部２００は、ＣＰＵ２１０、ＲＯＭ２２０、ＲＡＭ２３０および入出力制御装置（以下、「ＩＯＣ：Ｉｎｐｕｔ  Ｏｕｔｐｕｔ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ」という）２５０を備え、互いに内部バス２６０により接続されている。ＲＯＭ２２０は、各ノズル５ａ（ノズル列６）の吐出を駆動制御するためのプログラムの他、ＣＰＵ２１０で処理する各種プログラムを記憶する制御プログラムブロック２２１と、各種テーブルを含む制御データを記憶する制御データブロック２２２とを有している。
【００６０】
ＲＡＭ２３０は、フラグ等として使用されるワークエリアブロック２３１の他、ホストコンピュータ３００より送信された吐出パターンデータを記憶する吐出パターンデータブロック２３２を有し、制御処理のための作業領域として使用される。また、ＲＡＭ２３０は電源が切断されても記憶したデータを保持しておくように常にバックアップされている。
【００６１】
ＩＯＣ２５０には、ＣＰＵ２１０の機能を補うと共に各種周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が、ゲートアレイやカスタムＬＳＩなどにより構成されて組み込まれている。これにより、ＩＯＣ２５０は、ホストコンピュータ３００からの吐出パターンデータや制御データをそのまま或いは加工して内部バス２６０に取り込むと共に、ＣＰＵ２１０と連動して、ＣＰＵ２１０から内部バス２６０に出力されたデータや制御信号を、そのまま或いは加工して駆動部１６０に出力する。
【００６２】
そして、ＣＰＵ２１０は、上記の構成により、ＲＯＭ２２０内の制御プログラムにしたがって、ＩＯＣ２５０を介してホストコンピュータ３００および液滴吐出装置１０内の各部から各種信号・データを入力して、ＲＡＭ２３０内の各種データを処理し、ＩＯＣ２５０を介して液滴吐出装置１内の各部に、各種信号・データを出力することにより、各ノズル５ａからの機能液の吐出タイミングを駆動制御し、ワークＷ上に描画を行う。なお、本実施形態では、ノズル列６方向におけるノズル間隔を画素ピッチに合わせることで、ノズル列６毎に吐出タイミングの駆動制御を行うようにしているが、詳細については後述する。
【００６３】
一方、ホストコンピュータ３００は、吐出パターンデータ、駆動波形データおよび各種制御データを出力すると共に、液滴吐出装置１から送信された装置内部における処理状況等に関するデータを入力するインタフェース３１０と、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭ等のメモリを有し、パソコン全体を制御する中央制御部３２０と、ウィンドウズ（登録商標）等のＯＳ３３０と、液滴吐出装置１を制御するためのドライバ３４０とを備えている。また、中央制御部３２０内（ＲＡＭ等）には、リニアスケール５２のマーク位置と当該マーク位置に対応する吐出／非吐出を決定するための対応テーブル３５０（図８参照）を有しており、当該対応テーブル３５０を参照して、各ノズル列６からの機能液の吐出タイミングを決定するための吐出パターンデータを生成する。
【００６４】
なお、ホストコンピュータ３００から送信された吐出パターンデータに基づいて機能液の吐出を駆動制御するのではなく、液滴吐出装置１内に上記の対応テーブル３５０を記憶しておき、これに基づいて、各ノズル列６の機能液の吐出／非吐出を決定する構成としても良い。
【００６５】
次に、吐出パターンデータ（吐出信号）と、リニアスケール５２の検出結果とに基づく、機能液の吐出駆動制御について説明する。図６は、描画領域Ｗ１上における画素の配列を示す平面図であり、図７は、その斜視図である。ここでは、説明を容易にするため、１列のノズル列６が配列された機能液滴吐出ヘッド５で描画を行なう場合について説明する。なお、図６において、リニアスケール５２（マーキング）の下に付された数字はマーク位置並びにカウント値を示すものであり、実際にワークＷ上に記載されるものではない。
【００６６】
両図に示すように、描画領域Ｗ１は機能液が吐出されると共に画素を構成するキャビティ部６１と、これを区画するバンク部６２とを有し、バンク部６２は撥液処理（フッ素基の導入）が施されている。このため、吐出位置に多少の誤差が生じた場合でも、これを許容できるようになっている。また、キャビティ部６１は、Ｘ軸方向に３００〔μｍ〕、Ｙ軸方向に１００〔μｍ〕の大きさを有し、Ｘ軸方向およびＹ軸方向において、それぞれ１００〔μｍ〕間隔で配置されている。
【００６７】
また、非描画領域Ｗ２には、Ｘ軸方向に延在する１本のマーク列５２ａから成るリニアスケール５２が形成され、各描画領域Ｗ１の検出開始位置（図示では、各描画領域Ｗ１の左側側端部の延長線上にあたる位置）には、基準マークＭ１が設けられている。また、各画素（キャビティ部６１）には機能液が３回ずつ吐出されることにより描画が行われるが、その吐出回数に応じて、各画素にはそれぞれ３つのマーク（例えば、マーク１，マーク２，マーク３）が対応している。また、これら３つのマークは、リニアセンサ５１の検出タイミングと、当該検出に基づく各ノズル５ａからの機能液の吐出タイミングとのずれ（ワークＷの搬送によるずれ）を考慮して、機能液の着弾位置（図示丸印）よりも、幾分搬送方向（Ｘ軸方向）手前側にマーキングされている。
【００６８】
一方、非描画領域Ｗ２においては、描画領域Ｗ１に対応するマーキング（例えば、マーク１〜４）と同配列となるようにマーキングが為されている。すなわちこの場合は、描画領域Ｗ１と非描画領域Ｗ２とが同じ配列でマーキング可能となるように、ワークＷが形成されている。このように、非描画領域Ｗ２に対応するマーキングを、描画領域Ｗ１に対応するマーキングと同配列としたことにより、検出タイミングを測定することで、読み飛ばしやダブルカウント（同じマークを続けてカウントすること）などの検出誤差が生じた場合にそれを検出することができる。つまり、同配列のマーキングが連続するということは、マーク間距離を所定範囲に設定することができ（図示の場合、マーク１―２間距離（最小）〜マーク３−４間距離（最大）の範囲）、検出タイミングの間隔が、前記最小マーク間距離分の搬送時間よりも短い場合や、逆に前記最大マーク間距離分の搬送時間よりも長い場合、これを検出誤差とみなすことができる。
【００６９】
なお、これに限らず、非描画領域Ｗ２においては、描画領域Ｗ１に対応するマークの最大間隔（マーク３−４間距離）以下の一定間隔でマーキングしておき、その検出タイミングを測定することで検出誤差を検出可能に構成しても良い。
【００７０】
ところで、上記の基準マークＭ１は、図示の通り他のマークよりも幾分幅広のマークから成り、この基準マークＭ１検出によって、リニアセンサ５１によるリニアスケール５２のカウントをリセットする（図８の対応テーブル３５０参照）。したがって、図示した例の場合、マーク１〜５７まで検出した後、基準マークＭ１の検出によりカウントが０に戻り、再度描画領域Ｗ１からその隣に位置する非描画領域Ｗ２まで、対応するマーク１〜５７を検出する。このように、基準マークＭ１を描画領域Ｗ１列毎に備えたことにより、万一検出誤差が生じた場合、描画領域列毎に（マーク０〜１検出の間で）これを補償することができる。また、基準マークＭ１は、Ｘ軸方向に配列された各描画領域列Ｗ１−ａ〜Ｗ１−ｄ（図４参照）の検出開始位置を示しているため、検出誤差が生じた後、続く描画領域列の吐出開始位置から吐出精度を保持することができる。
【００７１】
なお、基準マークＭ１の形態は、幅広のマークに限らず、『＋』や『×』など他の形状であっても良いし、色や濃度を他のマークと異ならせることにより、光照射による反射率の違いを検出するようにしても良い。また、リニアセンサ５１と隣接して基準マーク用センサを配設し、基準マークＭ１のサイズを他のマークよりも大きくすることにより（線分を長くすることにより）、基準マーク用センサで基準マークＭ１を検出するようにしても良い。
【００７２】
ところで、機能液滴吐出ヘッド５には、複数のノズル５ａから成るノズル列６が配置されているが、このノズルピッチは画素ピッチに対応している。また、ノズル列６の長さは、全ての描画領域Ｗ１に対応する長さ（１回の主走査で、全描画領域を描画可能な長さ）となっている。このため、機能液の吐出／非吐出は、ノズル列６毎に駆動制御することができる。但し、この場合、Ｙ軸方向において非描画領域Ｗ２（描画領域Ｗ１間隔）に相当するノズルは、常時非駆動に設定されているか、例示したワークＷ専用の機能液滴吐出ヘッド５を使用し、非描画領域Ｗ２に相当するノズル５ａが存在しないことが好ましい。
【００７３】
ここで、上記のように構成されたリニアスケール５２を検出する場合に用いられる対応テーブル３５０について、図８を参照して説明する。同図に示すように、描画領域Ｗ１に対応するマーク群（マーク１〜３６）については、吐出信号が生成され、各ノズル５ａ（ノズル列６）から機能液が吐出される（ＯＮとなる）。また、非描画領域Ｗ２に対応するマーク群（マーク３７〜５７）については、各ノズル５ａから機能液は吐出されない（ＯＦＦとなる）。このように、対応テーブル３５０にしたがって、各ノズル列６の吐出パターンデータが生成され、当該吐出パターンデータと、リニアスケール５２の検出タイミングとに基づいて、各ノズル列６からの機能液の吐出が駆動制御される。
【００７４】
なお、対応テーブル３５０は、ワークＷ全体の描画に相当するものを用いても良いが、上記の通りマーク０〜５７の周期を繰り返すため、マーク０〜５７の部分のみのテーブルを用意しておき、対応テーブル３５０を記憶するためのメモリ量を減らすようにしても良い。
【００７５】
以上の通り、本実施形態の液滴吐出装置１によれば、リニアスケール５２が、ワークＷ上にマーキングされたマーク列５２ａから成るため、温度変化によりワークＷの大きさに変化が生じた場合でも機能液の吐出精度を保持することができる。また、他のマークとは異なる形態でマーキングされた基準マークＭ１を描画領域列Ｗ１−ａ〜Ｗ１−ｄ毎に有しており、基準マークＭ１の検出に基づいてリニアセンサ５１によるリニアスケール５２のカウントをリセットするため、万一読み飛ばしやダブルカウントなどの検出誤差が生じた場合、描画領域列Ｗ１−ａ〜Ｗ１−ｄ毎にこれを補償することができる。また、基準マークＭ１は、各描画領域列の検出開始位置を示すため、検出誤差が生じた後、続く描画領域列の吐出開始位置から吐出精度を保持することができる。
【００７６】
また、リニアスケール５２は、非描画領域Ｗ２に形成されているため、後に切り出して製品に利用される描画領域Ｗ１に影響を与えることがない。さらに、リニアスケール５２の各描画領域列Ｗ１−ａ〜Ｗ１−ｄに対応するマーク数は、各描画領域Ｗ１への機能液の吐出回数に等しいため、描画領域Ｗ１においては、マークを検出したら１回吐出するといった単純な構成で機能液の吐出タイミングを駆動制御することができる。したがって、ＣＰＵ２１０の負担を軽くすることができる。
【００７７】
なお、上記の実施形態では、各画素への機能液の吐出回数と、各画素に対応するマークの数は等しいものとしたが、マーク数を２倍に増やして、１回おきのマーク検出毎に機能液を吐出する（吐出信号を生成する）など、マーク数は適宜変更可能である。
【００７８】
また、リニアスケール５２は主走査方向（Ｘ軸方向）に延在するものとしたが、副走査方向（Ｙ軸方向）にも形成し、ヘッドユニット１５の副走査方向における移動量を正確に検出できるように構成しても良い。
【００７９】
また、上記の実施形態では、非描画領域Ｗ２に相当するマークＭ（マーク３７〜５７）検出によっては、機能液滴を吐出しないものとしたが、非描画領域Ｗ２でも、描画領域Ｗ１と同様に機能液滴を吐出し、これを着弾位置ずれの検出のためのテストパターンとして用いても良い。すなわち、非描画領域Ｗ２に吐出された機能液滴の着弾位置とマーク位置とを比較することにより、着弾位置のずれ量を測定し、これに基づいて吐出タイミングの調整を行なっても良い。この構成によれば、より吐出精度を向上させることができる。なお、テストパターンのために吐出するノズル５ａは、機能液の無駄な消費を無くすため、１つのノズル列６に対して１〜２つ程度にとどめることが好ましい。
【００８０】
また、上記の実施形態では、ノズル列６の長さは、全ての描画領域Ｗ１に対応する長さ（１回の主走査で、全描画領域を描画可能な長さ）を有し、１回の主走査で全描画領域の描画を行い得るものとしたが、ノズル列６の長さが全描画領域に対応する長さを有しない場合は、複数回の走査（ワークＷの主走査方向の移動）により描画を行う必要がある。したがってその場合は、その走査回数に応じてマーク列５２ａが形成されていることが好ましい。例えば、図９に示すように、Ｙ軸方向に離間して２つの描画領域列Ｗ１−ｅ，Ｗ１−ｆが形成され、各描画領域列Ｗ１−ｅ，Ｗ１−ｆをそれぞれ１回の走査により描画可能なノズル列６を用いる場合、合計２回の走査により描画を行う必要がある。ここで、例えばリニアスケール５２として図示右側の１本のマーク列５２ａしかマーキングされていない場合、機能液滴吐出ヘッド５とリニアセンサ５１の位置とは固定されているため（図３参照）、図示左側の描画領域列Ｗ１−ｅを描画する際にはマーク列５２ａの検出ができなくなってしまう。しかしながら、図９の例では、図示左側の描画領域列Ｗ１−ｅに対応した位置にもマーク列５２ａが形成されているため、図示右側の描画領域列と同様に、リニアセンサ５１（リニアエンコーダ５０）の検出結果に基づいて描画を行うことができる。すなわち、ワークＷの機能液滴吐出ヘッド５（ヘッドユニット１５）に対する相対的な走査回数分のスケール数（マーク列数）を有することにより、複数回の走査に分割して描画する場合であっても、吐出精度を保持することができる。
【００８１】
次に、本発明の第２実施形態について、図１０および図１１を参照して説明する。上記の実施形態では、リニアスケール５２を非描画領域Ｗ２にマーキングされたマーク列５２ａにより構成するものとしたが、本実施形態では、バンク部６２により、リニアスケール５２に相当するリニアセンサ５１の検出対象を構成するものである。そこで、以下第１実施形態と異なる点を中心に説明する。
【００８２】
図１０（ａ）は、描画領域Ｗ１上にマトリクス状に配置された画素（キャビティ部６１）と、それを区画するバンク部６２とを示した斜視図である。なお、キャビティ部６１は、上記の通り、Ｘ軸方向に３００〔μｍ〕、Ｙ軸方向に１００〔μｍ〕の大きさを有するが、これに対し、バンク部６２の高さは、１〜２〔μｍ〕程度である。ここでは、分かりやすくするため、バンク部６２を強調して図示している。
【００８３】
同図に示すように、リニアセンサ５１は、図示最前列の画素列におけるバンク部６２を検出することによりエンコーダ信号を出力している。ここで、例えば１つのキャビティ部６１に対して機能液滴が３回吐出される場合は、１つのバンク部６２の検出に対し、３回の吐出信号を生成する。また、非描画領域Ｗ２においては、検出対象となる画素列（図示の場合、最前列の画素列）の延長上にバンク部６２（検出対象となる１列分のみ）が連続して形成されている（図示省略）。
【００８４】
ところで、本実施形態の場合、検出対象となるバンク部６２は、描画領域Ｗ１内にも形成されるため、第１実施形態のように、各描画領域Ｗ１に対応する最初の検出位置（バンク部６２）に、基準マークＭ１（図６等参照）に相当する、例えば幅広のバンク部６２を形成することは好ましくない。何故なら、基準マークＭ１は吐出誤差を補償するものであり、ノズル駆動が「非吐出（ＯＦＦ）」となるためである。つまり、各描画領域Ｗ１に対応する最初のバンク部６２に基準マークＭ１を形成すると、最初の（Ｙ軸方向に配列された）画素列に機能液が吐出されなくなくなってしまうといった不具合が生じてしまう。このため、本実施形態では、各描画領域Ｗ１に対応する最後のバンク部６２ａを幅広に構成し、当該最後のバンク部６２ａの検出により、カウントをリセットするようにしている。これにより、万一検出誤差が生じた場合でも、これを補償することができる。
【００８５】
なお、基準マーク検出時（幅広バンク部の検出時）に吐出信号を生成するように構成すれば、各描画領域Ｗ１に対応する最初の検出位置に、基準マークＭ１を形成することも可能である。また、図１０（ｂ）に示すように、検出対象となる１列分の（Ｘ軸方向に配列された）画素列のみ、バンク部６２間に更にバンク高の低いバンク部６２を設け、１画素に対する吐出回数とそのバンク部数とを等しくするように構成しても良い。この構成によれば、バンク部６２の検出毎に吐出信号を生成するといった単純な駆動制御を行うことができる。また、検出対象となる１列分の画素列において、追加されたバンク部６２のバンク高を低くすることにより、他の画素列と同様の領域（キャビティ部６１）に機能液を吐出することが可能となり、画素の大きさが検出対象の画素列だけ小さくなってしまうことがない。
【００８６】
次に、本実施形態の変形例について、図１１を参照して説明する。同図に示す例では、非描画領域Ｗ２にバンク部６２と同材質および同工程で、リニアセンサ５１による位置検出用に、検出用バンク部６３を設けている。この場合、１つのバンク部６３に対して、１つの吐出信号が生成される。したがって、同図に示す例では、１画素に対して、機能液滴が３回吐出されることとなる。また、本例においても、各描画領域Ｗ１に対応する最後のバンク部６３ａを幅広に構成し、当該最後のバンク部６３ａの検出により、カウントをリセットする。
【００８７】
なお、検出用バンク部６３のバンク間隔は、必ずしも同一間隔に形成される必要はない。また、本例では非描画領域Ｗ２に検出用バンク部６３を形成しているため、第１実施形態と同様に、各描画領域Ｗ１に対応する最初のバンク部を幅広に構成し、これによりカウントをリセットすることも可能である。
【００８８】
以上の通り、本実施形態によれば、画素を区画するバンク部６２をリニアスケール５２として用いるため、温度変化に伴って熱膨張や変形が生じるワークＷを用いた場合でも、吐出精度を保持することができる。
【００８９】
また、非描画領域Ｗ２において、描画領域Ｗ１のバンク部６２と同工程且つ同材質の検出用バンク部６３を形成することにより、これをリニアスケール５２として用いることができる。また、検出用バンク部６３は非描画領域Ｗ２に形成されるため、機能液の吐出回数等に応じてバンク間隔を自由に設定することができる。
【００９０】
なお、描画領域Ｗ１に形成された検出対象となるバンク部６２、または非描画領域に形成された検出用バンク部６３のいずれにおいても、Ｙ軸方向に配列された描画領域列Ｗ１―ａ〜Ｗ１―ｄに対応する部分のみ形成するようにしても良い。この構成によれば、非描画領域Ｗ２のバンク部６２（または非描画領域Ｗ２に対応する検出用バンク部６３）を形成する必要が無い。また、この場合、幅広バンク部６２ａ，６３ａは必ずしも必要ではない。なお、このように描画領域Ｗ１に対応する部分のみに検出対象（マークＭ）を設ける構成については、後述の第４実施形態において説明する。
【００９１】
次に、本発明の第３実施形態について、図１２ないし図１６を参照して説明する。本実施形態では、複数種類の機能液（ここでは、Ｒ，Ｇ，Ｂの機能液）により描画を行う場合であって、各機能液が異なるノズル列６から吐出される場合について言及する。なお、ここでは、Ｒ，Ｇ，Ｂの機能液を、それぞれノズル列Ｒ、ノズル列Ｇ、ノズル列Ｂが吐出し、初期位置から当該順序で描画領域Ｗ１に到達するように配列されているものとする。
【００９２】
図１２は、Ｙ軸方向に同色が並んだストライプ配列の描画領域Ｗ１に描画を行う場合のリニアスケール５２を示したものである。同図に示すように、各マーク列５２ａは各色に対応し（図示下側からＲ，Ｇ，Ｂに対応している）、平行してＸ軸方向に延在している。本実施形態においても、各画素には機能液滴が３回吐出されることにより描画が行われるため、各画素には、それぞれ３つのマークが対応してマーキングされている。また、Ｘ軸方向において、画素がＲ，Ｇ，Ｂの順序で配列されているため、各マーク列５２ａは、それぞれの色に対応するように位置ずれしてマーキングされている。さらに、各マーク列５２ａは、描画領域Ｗ１の図示左側側端部の延長線上に、それぞれ基準マークＭ１を有しており、これにより検出誤差を補償できるようになっている。また、基準マークＭ１を同一延長線上に配置することにより、各リニアセンサ５１による検出位置の、Ｘ軸方向におけるずれが生じた場合にこれを検出することができる。そして、リニアセンサ５１は、各色に対応したマーク列５２ａをそれぞれ検出可能な位置に並設されている。
【００９３】
このように、本実施形態によれば、機能液の色毎に形成されたマーク列５２ａを検出するため、マーク位置と、そのマーク検出時に吐出する機能液の色とを関連づけたテーブルや処理プログラム等を必要とすることなく、各ノズル列６を単純に駆動制御することができる。
【００９４】
ところで、図１３に示すように、各ノズル列６から異なる色の機能液を吐出する場合であって、副走査方向（Ｙ軸方向）に異なる色の画素が配列されている場合、いずれのノズル列６も同じタイミングで吐出信号を生成すると、各ノズル列６間の距離ｌに応じて、吐出位置（着弾位置）のずれが生じてしまう。このため、各ノズル列６間の距離を考慮して、吐出タイミングを決定する必要がある。そこで、各ノズル列６間の距離ｌを考慮した対応テーブル３５０（図１４参照）を用いて、各ノズル列６の機能液滴の吐出／非吐出を駆動制御する方法について説明する。なお、副走査方向に異なる色の画素が配列されている場合、ノズル列に配列されたノズル５ａを同時に駆動することができないため、以下では、ノズル列Ｒについてはノズル番号１（以下、ノズル番号は括弧書きで示す），（４）・・・のノズル、ノズル列Ｇについてはノズル番号（２），（５）・・・のノズル、ノズル列Ｂについてはノズル番号（３），（７）・・・のノズルの駆動について言及する（ノズル番号（４）〜（７）については図示省略）。
【００９５】
例えば、図１３に示すように、各画素に対して各色３回の機能液が吐出され、ノズル列６間の距離ｌに等しい間隔で、１の画素に対応するマーキングが為されている場合、Ｒの機能液滴をマーク１、マーク４、マーク７の位置検出により吐出すると、Ｇの機能液滴をマーク２、マーク５、マーク８の位置検出により吐出することとなる。すなわち、図１４の対応テーブル３５０に示すように、ノズル列Ｇはノズル列Ｒに対し、ノズル列間の距離ｌずつオフセットした位置のマーク検出により吐出信号が生成されることとなる。また、同様に、ノズル列Ｂはノズル列Ｇに対し、ノズル列間の距離ｌずつオフセットした位置のマーク検出により吐出信号が生成されることとなる。
【００９６】
このように、本実施形態によれば、ノズル列６間の距離を考慮し、その距離分だけオフセットした位置のマーク検出により吐出信号が生成されるように、各ノズル列６に対応した対応テーブル３５０を用いることにより、複数のノズル列６により描画を行う場合でも、処理プログラム等を用いることなく、各ノズル列６を容易に駆動制御することができる。またこれにより、吐出信号（吐出パターンデータ）を生成するための制御プログラムに要するデータ量を少なくすることができ、一般に市販されている携帯可能な記憶媒体（ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤなど）に制御プログラムを格納することも可能となる。
【００９７】
なお、マーク間の距離は、必ずしも各ノズル列間の距離ｌと同一である必要はなく、ノズル列間の距離の整数分の１となる間隔であれば良い。例えば、図１３に示すマーク列５２ａのマーク数を２倍にした場合のマーク間距離はｌ／２となるが、その場合、マーク位置２、マーク位置８、マーク位置１４の検出により、ノズル列Ｒの吐出信号を生成すれば良い。すなわち、各マーク位置に対応して、機能液滴の吐出／非吐出を決定可能なテーブルを作成できれば良い。
【００９８】
また、ノズル列６毎に異なる種類の機能液を吐出するのではなく、同一の機能液を複数のノズル列６から吐出する場合においても、本実施形態は適用可能である。また、複数の機能液滴吐出ヘッド５を用いる場合は、ヘッド間の距離（すなわち、ノズル間の距離）分をオフセットしたマーク位置の検出により、吐出信号を生成すれば良い。
【００９９】
また、図１３に示す例では、１つのリニアセンサ５１によりマーク列５２ａを検出したが、図１５に示すように、色毎にリニアセンサ５１を設け、ノズル列間の距離ｌだけオフセットした位置にマーキングされたマーク検出によって吐出信号を生成するようにしても良い。この構成によれば、ノズル列６毎に対応テーブルを用いることなく、全ノズル列６を同一の対応テーブルを用いて駆動制御することができる。
【０１００】
また、図１６に示すように、副走査方向に同色の画素が並んだストライプ配列の描画を行う場合は、ノズル列６毎に吐出信号の生成が可能であり、Ｒの画素に対応するマーク群Ｍｒの配置に対し、Ｇの画素に対応するマーク群Ｍｇの配置は、ノズル列Ｒとノズル列Ｇとのノズル間の距離ｌだけオフセットしている。また同様に、Ｒの画素に対応するマーク群Ｍｒの配置に対し、Ｂの画素に対応するマーク群Ｍｂの配置は、ノズル列Ｒとノズル列Ｂとのノズル間の距離ｌの２倍の距離だけオフセットしている。この構成によれば、図１５の例と同様に、ノズル列６毎に対応テーブルを用いることなく、全ノズル列６を同一の対応テーブルを用いて駆動制御することができる。
【０１０１】
次に、本発明の第４実施形態について、図１７および図１８を参照して説明する。上記の実施形態では、リニアスケール５２が、Ｘ軸方向に連続したマーク列５２ａで構成されているものとしたが、本実施形態のリニアスケール５２は、描画領域列毎に離間して配置されたマーク列５２ａで構成されている。そこで、第１実施形態と異なる点を中心に説明する。なお、説明を容易にするため、１列のノズル列６で描画する場合を想定して説明する。
【０１０２】
図１７に示すように、本実施形態のリニアスケール５２を構成するマーク列５２ａは、Ｘ軸方向（リニアセンサ５１の検出方向）に対して垂直方向に配列された描画領域列毎に離間して配置されている。したがって、Ｘ軸方向に配列された４つの描画領域列Ｗ１−ａ〜Ｗ１−ｄから成るワークＷ上には、４つのマーク列５２ａでリニアスケール５２が構成されている。各マーク列５２ａは、全て同じ形態のマークＭでマーキングされており、第１実施形態のような基準マークＭ１は存在しない。
【０１０３】
また、マーク列５２ａは、図１８に示すように、検出開始位置（マーク１）から描画領域列毎にマーク位置１〜３６、３７〜７２、７３〜１０８（マーク位置４０以下は図示省略）がそれぞれ対応しており、各画素（キャビティ部６１）に対応するマーク数は、機能液滴の吐出回数に等しく、３つずつ配置されている。また、マーク列５２ａは、各描画領域列Ｗ１−ａ〜Ｗ１−ｄに対応する位置のみマーキングされているため、これら全てのマーク位置に対応するノズル列６は「吐出（ＯＮ）」となる。すなわち、本実施形態においては、マーク検出毎に機能液滴を１回吐出するといった単純な構成で吐出タイミングを駆動制御することができる。したがって、図８に示すような対応テーブル３５０を用いる必要がない。また、マーク検出毎に吐出信号を生成する（マーク位置をカウントしない）ため、万一、読み飛ばしやダブルカウントが生じた場合でも、その後の機能液吐出に影響を与えることがない。
【０１０４】
このように、本実施形態によれば、リニアスケール５２を構成するマーク列５２ａが、リニアセンサ５１の検出方向に対して垂直方向に配列された描画領域列毎に離間して配置されており、マーク列５２ａの各描画領域列に対応するマーク数は、各描画領域列への機能液の吐出回数に等しいため、マーク検出毎に機能液を１回吐出するといった単純な構成で各ノズル列６の吐出タイミングを駆動制御することができる。したがって、ＣＰＵ２１０の負担を軽くすることができると共に、マーク位置と機能液の吐出／非吐出とを対応付ける対応テーブルを用いなくとも、マーク検出のみで描画を行なうことができる。
【０１０５】
なお、各画素への機能液の吐出回数とマーク数とが単純に一致しない場合など、本実施形態においても、対応テーブル３５０を必要とする場合があるが、この場合においても、第１実施形態のように基準マークＭ１を設ける必要はない。何故なら、本実施形態では、マーク列５２ａ間の離間距離により、各描画領域Ｗ１の検出開始を認識できるためである。したがって、万一読み飛ばしやダブルカウントなどの検出誤差が生じた場合、続く描画領域Ｗ１の吐出開始位置から検出誤差を補償し、吐出精度を保持することができる。
【０１０６】
次に、本発明の第５実施形態について、図１９ないし図２１を参照して説明する。上記の実施形態では、１つのリニアセンサ５１（Ｒ，Ｇ，Ｂの描画を行う場合は各色に対応した３つのリニアセンサ５１）により、位置検出を行うものとしたが、本実施形態では、Ｙ軸方向において離間した２つのリニアセンサ５１，５１を用いて位置検出を行い、当該２つのリニアセンサ５１，５１の出力のずれに基づいて、各ノズル５ａの吐出タイミングを補正するものである。そして、この構成により、ワークＷの搬送ずれ（ヨーイングなど）による機能液の吐出位置のずれを補正することができるといった効果を奏する。そこで、上記の実施形態と異なる点を中心に説明する。
【０１０７】
図１９に示すように、本実施形態におけるリニアスケール５２は、Ｙ軸方向に離間して配置された２つのマーク列５２ａから成り、それぞれワークＷのＹ軸方向側端部近傍に平行して配置されている。また、各マーク列５２ａは、Ｘ軸方向におけるマーク間隔、マーク数および配置位置において、いずれも同一となるように形成されている。また、各マーク列５２ａは、描画領域Ｗ１毎に検出ずれを補償するための基準マークＭ１が設けられており、当該基準マークＭ１の配置位置もＸ軸方向において同一である。
【０１０８】
一方、リニアセンサ５１は、各マーク列５２ａに対応する位置に配置されており、本実施形態の場合、リニアスケール５２が２つのマーク列５２ａから成るため、２つのリニアセンサ５１ａ，５１ｂによりそれぞれのマーク列５２ａの検出を行う。また、リニアセンサ５１ａ，５１ｂは、機能液滴吐出ヘッド５上の左右端のノズル５ａ，５ａとＹ軸方向において同位置、若しくはノズル列６の中心位置６５から同一距離ずつ離間した位置に配置されている。
【０１０９】
ところで、本実施形態の場合、機能液滴吐出ヘッド５に対しワークＷが移動することにより主走査方向の描画が行われるが、このとき、図２０に示すように、ワークＷの移動が機能液滴吐出ヘッド５に対して垂直方向からずれてしまうことが想定される。例えば、リニアセンサ５１ａによる任意のマークＭ２の検出時をｔ１、リニアセンサ５１ｂによる上記任意のマークの延長上（Ｘ軸方向において同一位置）にあるマークＭ３検出時をｔ２とすると、ｔ２＞ｔ１の場合、（ｔ２−ｔ１）の検出タイミングのずれが生じたことになる。
【０１１０】
この場合、リニアセンサ５１ａとリニアセンサ５１ｂとの検出タイミングのずれからワークＷの搬送ずれ（ワークＷが傾いて搬送されていること）が検出でき、さらにどちらのリニアセンサ５１が先に検出したかにより、ずれ方向についても検出可能となる。つまり、ｔ２＞ｔ１の場合、リニアセンサ５１ａの配置側（図示左側）が先行して搬送されていることとなるため、その搬送ずれを考慮して、機能液滴吐出ヘッド５に配列された複数のノズルのうち、リニアセンサ５１ｂの配置側（図示右側）吐出タイミングを遅らせるように駆動制御する。すなわち、１つの機能液滴吐出ヘッド５に、ｎ個のノズルが配列されている場合、ノズル番号（ｎ）からノズル番号（１）に向かって、（ｔ２−ｔ１）／ｎずつ吐出タイミングを遅らせていくことで、ワークＷ上への機能液滴の吐出位置（着弾位置）を補正することができる。
【０１１１】
但し、この場合、基準マークＭ１を除いて、マーク形態は全て同じであるため、リニアセンサ５１ａによって検出したマークと、リニアセンサ５１ｂによって検出したマークがＸ軸方向において同一の位置に配置されたものであるのか否かを判別することができない。そこで、ワークＷの搬送速度をｖとしたとき、検出タイミングのずれ（ｔ２−ｔ１）が、マーク間距離ｌｍ（図６に示すように、マーク間距離が均等でない場合は、最小値のマーク間距離（例えばマーク１とマーク２間の距離）であることが好ましい）分の搬送時間ｌｍ／ｖの１／２以上となったとき、エラー報知を行う。つまり、検出タイミングのずれ（ｔ２−ｔ１）が、マーク間距離ｌｍ分の搬送時間ｌｍ／ｖの１／２以上となると、リニアセンサ５１ａのマークＭ２と隣り合うマークＭ４の検出時をｔ３としたとき、Ｘ軸方向においてマークＭ３と同一の位置に配置されたマークがＭ２であるのか、Ｍ４であるのかの判別ができなくなってしまうためである。したがって、（ｔ２−ｔ１）≧ｌｍ／ｖ×１／２すなわち、（ｔ２−ｔ１）×ｖ≧ｌｍ／２となった場合に、エラー報知を行い、オペレータに対して描画処理の中止、および搬送ずれの修正を行うように注意を促す。
【０１１２】
ここで、各ノズル５ａの吐出タイミングの補正処理について、図２１のフローチャートを参照して説明する。リニアセンサ５１ａをセンサＡ、リニアセンサ５１ｂをセンサＢとすると、センサＡまたはセンサＢで、時間ｔ１に任意のマークを検出した後（Ｓ１）、他方のセンサで、時間ｔ２にマークを検出し（Ｓ２）、これらの検出結果から、（ｔ２−ｔ１）×ｖ≧ｌｍ／２となった場合（Ｓ３：Ｙｅｓ）、すなわちリニアセンサ５１ａ，５１ｂの出力のずれが所定量を超えたとき、エラー報知を行う（Ｓ４）。エラー報知は、インジケータにて表示しても良いし、ホストコンピュータ３００に接続された表示画面（図示省略）上に表示しても良い。また、ビープ音等で報知するようにしても良い。
【０１１３】
一方、（ｔ２−ｔ１）×ｖ＜ｌｍ／２となった場合（Ｓ３：Ｎｏ）は、各ノズル５ａに対し、（ｔ２−ｔ１）／ｎ、すなわちセンサＡとセンサＢとの検出タイミングのずれを、ノズル数で分割した時間だけ、吐出タイミングを補正する（Ｓ５）。このとき、ｔ２＞ｔ１の場合はノズル番号（１）側を遅らせ、ｔ２＜ｔ１の場合はノズル番号（ｎ）側を遅らせるように駆動制御する。
【０１１４】
なお、（Ｓ３）における判別は、マーク間距離ｌｍ分の搬送時間ｌｍ／ｖの１／２以上ではなく、１／３以上など、許容可能な搬送ずれ量に応じて適宜変更可能である。また、リニアスケール５２は、２つのマーク列５２ａではなく複数のマーク列５２ａで構成しても良いが、その場合においてもいずれか２つのリニアセンサ５１はワークＷのＹ軸方向側端部近傍に設けられることが好ましい。
【０１１５】
以上の通り、本実施形態によれば、リニアエンコーダ５０は、複数のマーク列５２ａから成るリニアスケール５２と、当該複数のマーク列５２ａに臨む複数のリニアセンサ５１とによって構成され、これら複数のリニアセンサ５１の出力のずれに基づいて、各ノズル５ａの吐出タイミングを補正するため、機能液滴吐出ヘッド５（ヘッドユニット１５）および／またはワークＷの相対的な移動に伴う吐出位置のずれが生じた場合でも、これをノズル単位で解消することができる。すなわち、相対移動に伴う吐出位置のずれを、リニアセンサ５１を利用することによって、特別な機構を設けることなく簡易な構成で解消することができる。
【０１１６】
また、複数のマーク列５２ａのうち、少なくとも２つのマーク列５２ａが、ワークＷの両側端部の近傍にそれぞれ配置されているため、相対移動に伴う吐出位置のずれをより確実に検出することができる。さらに、複数のリニアセンサ５１の出力のずれが所定量を超えたとき、エラー報知を行うため、ユーザに対し処理を続行するか否かの判断を促すことができる。なお、この場合、エラー報知を行うと共に、描画処理を停止する構成としても良い。この構成によれば、吐出位置のずれによる歩留まりの低下を避けることができる。
【０１１７】
なお、上記の実施形態では、全描画領域を、１回の走査により描画可能なノズル列６を有した機能液滴吐出ヘッド５を用いた場合を例に挙げたが、複数回の走査によって描画を行なう場合は、リニアセンサ５１，５１の位置と、それぞれの走査時における各ノズル５ａの位置とに基づいて、吐出タイミングを補正することが好ましい。すなわち、この場合は、各ノズル５ａに対する吐出タイミングの補正が（ｔ２−ｔ１）／ｎずつとはならず、各リニアセンサ５１，５１からのＹ軸方向における相対位置がパラメータとして加わることとなる。
【０１１８】
また、複数のノズル列６を用いる場合やＲ，Ｇ，Ｂの機能液で描画を行う場合であって、各ノズル列６に対応するマーク列５２ａが形成されている場合（例えば、図１２に示す例の場合）は、少なくともノズル数の２倍以上のマーク列５２ａにより、リニアスケール５２が構成されることが好ましい。この構成によれば、例えばノズル列６毎にリニアスケール５２を検出しながら、相対移動に伴う吐出位置のずれを解消することができる。すなわち、複数のノズル列６を用いたり、複数種類の機能液を吐出したりする場合であっても、マーク位置と、当該マークの検出によって吐出するノズル列６とを関連づけたテーブルや処理プログラム等を必要とすることなく、各ノズル列６を単純に駆動制御することができる。
【０１１９】
また、非描画領域Ｗ２に検出用バンク部６３を設ける場合（図１１に示す例の場合）も、複数の検出用バンク部６３のうち少なくとも２つの検出用バンク部６３が、ワークＷの両側端部の近傍にそれぞれ配置されることが好ましい。この構成によれば、ヘッドユニット１５および／またはワークＷの相対移動に伴う吐出位置のずれをより確実に検出することができる
【０１２０】
なお、図１９では、Ｘ軸方向にマーク列５２ａが連続して配置されており、且つ描画領域列毎に基準マークＭ１を有した第１実施形態に相当する例を示しているが、これに限らず、マーク列５２ａが離間している形態（第４実施形態）においても、本実施形態は当然適用可能である。
【０１２１】
以上、第１実施形態ないし第５実施形態において説明したとおり、本発明の液滴吐出装置１によれば、リニアスケール５２が、ワークＷ上にマーキングされたマーク列５２ａから成るため、温度変化によりワークＷの大きさに変化が生じた場合でも機能液の吐出精度を保持することができる。
【０１２２】
特に、本発明の第１実施形態によれば、リニアスケール５２内に基準マークＭ１を有し、基準マークＭ１は他のマークとは異なる形態でマーキングされていると共に、描画領域列毎に設けられているため、基準マークＭ１の検出に基づいてリニアセンサ５１によるリニアスケール５２のカウントをリセットすることで、万一読み飛ばしやダブルカウントなどの検出誤差が生じた場合、描画領域列毎にこれを補償（修正）することができる。また、基準マークＭ１は、各描画領域列の検出開始位置を示すため、検出誤差が生じた後、続く描画領域Ｗ１の吐出開始位置から吐出精度を保持することができる。
【０１２３】
また、本発明の第２実施形態における液滴吐出装置１によれば、画素（キャビティ部６１）を区画するバンク部６２をリニアスケール５２として用いるため、温度変化に伴って熱膨張や変形が生じるワークＷを用いた場合でも、リニアスケール５２を形成する工程（ワークＷ上にマーキングを行う工程）を必要とすることなく、吐出精度を保持することができる。また、非描画領域Ｗ２において、描画領域Ｗ１のバンク部６２と同工程且つ同材質の検出用バンク部６３を形成し、これをリニアスケール５２として用いることができるため、上記と同様にリニアスケール５２を形成する工程を必要としない。また、検出用バンク部６３は非描画領域Ｗ２に形成されるため、機能液の吐出回数等に応じてバンク間隔を自由に設定することができる。
【０１２４】
また、本発明の第３実施形態における液滴吐出装置１によれば、複数のノズル列６により描画を行う場合、ノズル列６間の距離を考慮し、その距離分だけオフセットした位置のマーク検出により吐出信号が生成されるように、各ノズル列６に対応した対応テーブル３５０を用いるため、処理プログラム等を用いることなく、各ノズル列６を容易に駆動制御することができる。またこれにより、吐出信号（吐出パターンデータ）を生成するための制御プログラムに要するデータ量を少なくすることができる。
【０１２５】
また、本発明の第４実施形態における液滴吐出装置１によれば、リニアスケール５２を構成する複数のマーク列５２ａが描画領域列毎に離間して配置されており、マーク列５２ａの各描画領域列に対応するマーク数は、各描画領域Ｗ１への機能液の吐出回数に等しいため、マーク検出毎に機能液を吐出するといった単純な構成で各ノズル列６の吐出タイミングを駆動制御することができる。したがって、制御装置（ＣＰＵ等）の負担を軽くすることができると共に、マーク位置と機能液の吐出／非吐出を対応付ける対応テーブル３５０を用いなくとも、マーク検出のみで描画を行なうことができる。
【０１２６】
また、本発明の第５実施形態における液滴吐出装置１によれば、複数のマーク列５２ａを、それぞれに対応した複数のリニアセンサ５１により検出し、これら複数のリニアセンサ５１の出力のずれに基づいて、各ノズル５ａの吐出タイミングを補正するため、機能液滴吐出ヘッド５（ヘッドユニット１５）および／またはワークＷの相対的な搬送ずれに伴う吐出位置（着弾位置）のずれが生じた場合でも、これをノズル単位で解消することができる。すなわち、相対移動に伴う吐出位置のずれを、リニアセンサ５１を利用することによって、特別な機構を設けることなく簡易な構成で解消することができる。
【０１２７】
なお、上記の例では、ワークＷとしてガラス基板を用いた場合を例に挙げたが、これに限らず、樹脂をフィルム状に構成した基板など、温度変化により熱膨張や変形を生じる基板であれば、本発明を適用可能である。
【０１２８】
また、本発明は、電気光学装置（デバイス）として、上記の有機ＥＬ装置７０１に限らず、液晶表示装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）装置および電気泳動表示装置等にも適用可能である。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置も考えられる。
【０１２９】
また、上記した電気光学装置を搭載した電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品等が挙げられる。
【０１３０】
また、その他本発明を逸脱しない範囲で、液滴吐出装置１の装置構成や、リニアスケール５２を構成するマークの形態など、適宜変更も可能である。
【０１３１】
【発明の効果】
以上のように、本発明の液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器および基板によれば、リニアスケールが、ワーク上にマーキングされたマーク列から成るため、温度変化によりワークの大きさに変化が生じた場合でも機能液の吐出精度を保持することができる。また、マーク列は、リニアセンサの検出方向に対して垂直方向に配列された描画領域列毎に離間して配置されており、この離間距離により各描画領域の検出開始を認識できるため、万一読み飛ばしやダブルカウントなどの検出誤差が生じた場合、続く描画領域の吐出開始位置から検出誤差を補償し、吐出精度を保持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ装置の断面図である。
【図２】実施形態に係る、Ｒ，Ｇ，Ｂ画素の配列を示す説明図である。
【図３】実施形態に係る液滴吐出装置の平面視模式図である。
【図４】実施形態に係るワークと、当該ワーク上に形成されたリニアスケールの一例を示す平面図である。
【図５】実施形態に係る液滴吐出装置の制御構成を示す制御ブロック図である。
【図６】実施形態に係るリニアスケールと画素の配列の一例を示す平面図である。
【図７】実施形態に係るリニアスケールと画素の配列の一例を示す斜視図である。
【図８】実施形態に係るマーク位置と、そのマーク位置を検出したときのノズルの吐出／非吐出とを関連づけた対応テーブルの一例を示す図である。
【図９】第２実施形態に係る描画領域のキャビティ部と、これを区画するバンク部と、当該バンク部を検出するリニアセンサとを示す斜視図である。
【図１０】第２実施形態に係る非描画領域に形成された検出用バンク部と、当該検出用バンク部を検出するリニアセンサとを示す斜視図である。
【図１１】第３実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図である。
【図１２】第３実施形態に係るリニアスケールと画素の配列の一例を示す平面図である。
【図１３】第３実施形態に係るリニアスケールと画素の配列の一例を示す平面図である。
【図１４】第３実施形態に係るマーク位置と、そのマーク位置を検出したときの各ノズルの吐出／非吐出とを関連づけた対応テーブルの一例を示す図である。
【図１５】第３実施形態に係るリニアスケールと画素の配列の一例を示す平面図である。
【図１６】第３実施形態に係るリニアスケールと画素の配列の一例を示す平面図である。
【図１７】第４実施形態に係るワークと、当該ワーク上に形成されたリニアスケールの一例を示す平面図である。
【図１８】第４実施形態に係るリニアスケールと画素の配列の一例を示す平面図である。
【図１９】第５実施形態に係るワークと、当該ワーク上に形成されたリニアスケールの一例を示す平面図である。
【図２０】第５実施形態に係る、ワークの搬送ずれを示す平面図である。
【図２１】第５実施形態に係る各ノズルの吐出タイミングの補正処理を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１  液滴吐出装置
３  描画装置
４  ヘッド機能回復装置
５  機能液滴吐出ヘッド
５ａ  ノズル
６  ノズル列
１５  ヘッドユニット
５０  リニアエンコーダ
５１  リニアセンサ
５２  リニアスケール
５２ａ  マーク列
６１  キャビティ部（画素）
６２  バンク部
３５０  対応テーブル
７０１  有機ＥＬ装置
７０２  有機ＥＬ素子
Ｍ  マーク
Ｍ１  基準マーク
Ｗ  ワーク（基板）
Ｗ１  描画領域
Ｗ２  非描画領域
【図１】
2004337726.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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