(57)【要約】 【課題】  突発的な強度低下を防ぎ、品質を安定させて歩留まりを向上させることのできるフェライト磁石の製造装置および製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】  フェライト磁石の磁場成形工程の前段側に、スラリーの凝集物を捕捉・除去する除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄを設けるようにした。除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄには、スクリーンメッシュを用いることができる。【選択図】図２
2004320001.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フェライト磁石の製造装置であって、
フェライト粒子を分散媒に分散させたスラリー中から当該スラリーに含まれる成分の凝集物を除去する除去装置と、
前記除去装置を経た前記スラリーを、所定方向の磁場中で圧縮成形する成形装置と、
を備えることを特徴とするフェライト磁石の製造装置。
【請求項２】
フェライト仮焼体を粉砕する粉砕装置と、
前記粉砕装置で粉砕された前記フェライト仮焼体を前記分散媒に分散させて得た前記スラリーを脱水する脱水装置と、
前記脱水装置で脱水された前記スラリーを前記成形装置に送り込むポンプと、
をさらに備え、
前記除去装置を、前記粉砕装置と前記脱水装置の間、前記脱水装置と前記ポンプの間、前記ポンプと前記成形装置の間にそれぞれ備えることを特徴とする請求項１に記載のフェライト磁石の製造装置。
【請求項３】
前記スラリーを前記成形装置に注入するまでの過程で当該スラリーを貯留するストックタンクをさらに備え、
前記除去装置を前記ストックタンクの後段側に設けることを特徴とする請求項１または２に記載のフェライト磁石の製造装置。
【請求項４】
前記除去装置は前記成形装置の直前に設けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のフェライト磁石の製造装置。
【請求項５】
前記除去装置は、前記スラリーが通過する位置にスクリーンメッシュを備えることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のフェライト磁石の製造装置。
【請求項６】
前記スクリーンメッシュの目開き寸法は、当該スクリーンメッシュを通過する前記スラリーの濃度と、当該スラリーの移送圧力に基づいて設定されることを特徴とする請求項５に記載のフェライト磁石の製造装置。
【請求項７】
フェライト磁石の仮焼体を粉砕し、分散媒に分散させることでスラリーを得るスラリー生成工程と、
前記スラリーを所定の濃度に調製するスラリー調製工程と、
前記スラリー中から当該スラリー成分の凝集物を除去する凝集物除去工程と、
前記スラリーを型に注入し、所定方向の磁場中にて前記型で圧力を加えることで成形体を得る成形工程と、
前記成形体を焼成することでフェライト磁石を得る焼成工程と、
を有することを特徴とするフェライト磁石の製造方法。
【請求項８】
前記凝集物除去工程は、前記焼成工程で得られる前記フェライト磁石中に、フェライト粒子の配向不良部分が生じるのを防ぐために行われることを特徴とする請求項７に記載のフェライト磁石の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フェライト磁石の製造装置および製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁石として主流となっているフェライト(焼結)磁石を製造するには、酸化鉄や炭酸ストロンチウム等の原料を所定の配合比で混合したものを仮焼してフェライト化させ、得られた仮焼体をサブミクロンサイズまで粉砕する。次いで、粉砕後の粉末を磁場中で圧縮成形(以下、これを磁場成形と称する)した後、焼結することで、フェライト磁石を得る。
磁場成形の工程には、大きく分けて、材料を乾燥させた後に成形を行う乾式と、材料をスラリー状として成形を行う湿式とがある(例えば、特許文献１参照。)。
【０００３】
【特許文献１】特公昭４６−１７１１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、磁場成形を湿式で行った場合、得られたフェライト磁石には、突発的に強度が低下し、割れ等が生じて、その結果、歩留まりが低下してしまうという問題があった。
本発明は、このような技術的課題に基づいてなされたもので、突発的な強度低下を防ぎ、品質を安定させて歩留まりを向上させることのできるフェライト磁石の製造装置および製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記のような問題を解決するため、本発明者が鋭意検討を行った結果、突発的に強度が低下し、割れが生じるようなフェライト磁石には、配向不良部分が存在していることを見出した。
本発明者は、割れが生じたフェライト磁石について、その断面付近を詳細に観察した。すると、図７に示すように、二つに割れたフェライト磁石の破片Ｍ１、Ｍ２の破面Ｓには、割れが生じる起点ではないかと思われる部分Ａが観察された。
そこで、破面Ｓの部分Ａについて実体顕微鏡で組織を観察したところ、図８、図９に示すように、他の部分Ｃ１に比較し、焼結密度の低く、しかも配向不良が生じている(特定の方向への配向が認められない)部分Ｃ２の存在が認められた。念の為にこの部分Ｃ２についてＳＥＭ−ＥＤＳによる成分分析も行ったが、他の部分Ｃ１との差は認められなかった。
さらに、図１０に示すように、二つに割れた破片Ｍ１、Ｍ２の部分Ａについて、破面Ｓに略直交する方向の断面Ｐ０で切断し、さらにその断面Ｐ０から５００μｍずつ研磨を行い、その研磨面(Ｐ１)〜(Ｐ８)を観察した。
すると、図１１に示すように、一方の破片Ｍ１に、研磨面(Ｐ１)〜(Ｐ８)において、符号(Ｂ１)〜(Ｂ８)に示す部分に、視覚的にも他の部分とは異なる性状を示す部分が観察された。
これらの観察に基づき、本発明者は、フェライト磁石の割れは、フェライト粒子の配向不良が生じている部分が起点となって生じているものであると推定した。
【０００６】
さらに、本発明者は、このような配向不良の原因を検討した。その結果、製造工程中から混入する凝集物が原因となっている、と考えるに至った。ここで言う凝集物とは、微粉砕後の工程中で、スラリーが脱水や乾燥によって固化してしまうことで生成したものである。この凝集物は、例えば、工程間でスラリーを一時的に溜めるストックタンク等において、タンク内のスラリー液面より上方のタンク内壁にスラリーが付着→乾燥、さらにスラリーが付着→乾燥といった過程を長期間にわたって繰り返すことで、タンク内壁にスラリーの乾燥物が堆積することで生成すると考えられる。また、スラリーの移送配管内において、配管の内壁面近傍ではスラリーの流速が遅く、これによって配管の内壁面にスラリーが長期間のうちに堆積付着することでも凝集物が生成すると考えられる。
これらの凝集物を製造工程中から採集して分析すると、スラリーに溶解している成分(SrやCa等)が通常よりも高濃度となる場合があることから、スラリーが乾燥する時、スラリー中に溶解している成分(SrやCa等)が析出して凝集物を形成する場合もあると考えられる。
これらの凝集物は、時間が経過してタンク内壁や配管の内壁から剥がれることがある。すると、剥がれた凝集物は、正常なスラリーに混入して後工程に流れていく。しかし、これらの凝集物は文字通り凝集して強固になっているため、正常なスラリーに混入しても元には戻らずに、そのまま残存しやすいと考えられる。
【０００７】
このような凝集物は、フェライト粒子が無配向でありかつ焼成後の密度も正常部分よりも低くなるため、凝集物の部分、または凝集物とその周囲の正常な部分との境界面が欠陥の起点となり得る。そして、製品に外部応力が加わった場合に、その欠陥部分に応力が集中し、破壊が開始すると考えられる。
破壊強度は欠陥の大きさによって決定するため、大きな凝集物が混入すると強度は低下する(グリフィス理論によると、長さ２ｃの楕円状の亀裂が存在すると強度はｃ−１／２に比例する。)。凝集物はこの欠陥部分に相当するから、その存在確率と大きさが製品強度を決定すると言える。
凝集物の大きさは、フェライト一次粒子径が約０．００１ｍｍであることと対比して、０．０１〜数ｍｍであるが、製品強度や歩留まりを低下させるものは０．１ｍｍ以上、特に低下させるものは０．３ｍｍ以上、さらに特に著しく低下させるものは１ｍｍ以上である。
存在確率については、例えば３０ｇの製品に０．５ｍｍ角の凝集物が一個存在する場合を想定する。仮にこの凝集物の比重がフェライト磁石の比重程度(５ｇ／ｃｍ３)とすると、重量割合は０．０５×０．０５×０．０５×５／３０＝２×１０−５＝２０ｐｐｍとなる。すなわちこれくらい微量の凝集物が混入しても強度を低下させる可能性がある。
【０００８】
また、これらの凝集物は、製品強度を低下させると同時に、製品の表面に存在すると変色してシミ状になったり、微細なクラックを伴うなどして外観不良となることも分かった。また、加工工程や搬送工程での割れの原因となり、歩留まり低下の原因ともなる。近年、フェライト磁石製品に対しては非常に高い品質が求められており、ｐｐｍオーダーでもこのような不良品が混入すると問題になる場合がある。
このような凝集物は、フェライト磁石の製造プロセスのうち、湿式で磁場成形を行う場合に特に有害となる。乾式で磁場成形を行う場合は、乾燥工程のあと、分散工程によって凝集物を解砕する工程があるが、湿式の場合は、通常はこのような解砕工程がないからである。
【０００９】
そこで、本発明者は、フェライト磁石の磁場成形工程の前段側に、スラリーの凝集物を捕捉・除去する除去装置を設けることが問題の解決に有効であると知見した。
このような知見に基づいて為された本発明に係るフェライト磁石の製造方法は、フェライト磁石の仮焼体を粉砕し、分散媒に分散させることでスラリーを得るスラリー生成工程と、スラリーを所定の濃度に調製するスラリー調製工程と、スラリー中からスラリーに含まれる成分の凝集物を除去する凝集物除去工程と、スラリーを型に注入し、所定方向の磁場中にて型で圧力を加えることで成形体を得る成形工程と、得られた成形体を焼成することでフェライト磁石を得る焼成工程と、を有することを特徴とする。
これにより、磁場成形を行う前段で、スラリー中から凝集物を除去することになる。つまり、凝集物除去工程を、焼成工程で得られるフェライト磁石中に、フェライト粒子の配向不良部分が生じるのを防ぐために行うことができるのである。
なお、分散媒としては、通常は水が用いられるが、非水系溶媒としても良い。また、必要に応じて分散剤を添加しても良い。
【００１０】
また、本発明を、フェライト磁石の製造装置として捉えると、この装置は、フェライト粒子を分散媒に分散させたスラリー中からスラリーに含まれる成分の凝集物を除去する除去装置と、除去装置を経たスラリーを、所定方向の磁場中で圧縮成形する成形装置と、を備えることを特徴とすることができる。
もちろん、成形装置だけでなく、フェライト仮焼体を粉砕する粉砕装置、粉砕されたフェライト仮焼体を分散媒に分散させて得たスラリーを脱水する脱水装置、脱水されたスラリーを成形装置に送り込むポンプ、等をさらに備えることもできる。この場合、除去装置は、粉砕装置と脱水装置の間、脱水装置とポンプの間、ポンプと成形装置の間にそれぞれ備えることができる。しかし、このような除去装置は成形装置の直前に設けるのが最も有効である。
また、スラリーを成形装置に注入するまでの過程でスラリーを貯留するストックタンクをさらに備える場合、除去装置をストックタンクの後段側に設ける、という捉え方をすることもできる。これにより、ストックタンクの内壁に堆積し、スラリー中に落下した凝集物を有効に除去することが可能となる。
除去装置としては、凝集物を有効に除去できるのであればいかなるものを用いてもよいが、スラリーが通過する位置にスクリーンメッシュを備えた構成とすることができる。この場合、スクリーンメッシュの目開き寸法は、スクリーンメッシュを通過するスラリーの濃度と、スラリーの移送圧力に基づいて設定するのが良い。具体的には、スクリーンメッシュの目開き寸法は、０．０１〜１０ｍｍとするのが好ましく、さらには好ましいのは０．１〜１ｍｍ、さらには０．２〜０．５ｍｍとするのが好ましい。
【００１１】
ところで、一般に、上記したように、フェライト磁石に突発的に強度が低い部分が存在し、割れ等が生じている場合、外部からの異物が原因ではないかと推定し、この異物の混入を防止するための対策を立てるのが通常である。このような対策として究極的なものとしては、例えばフェライト磁石の製造をクリーンルーム内で行うというものがあり、これにより異物の発生自体は解消できるものの、それには膨大な費用がかかる。
しかも、膨大な費用をかけてクリーンルームを設けたとしても、今回の問題は解決できないのである。
今回の、フェライト磁石に突発的に強度が低い部分が存在し、割れ等が生じているという問題の原因が、フェライト磁石中の配向不良部分にあることを知見し、さらに配向不良の原因が製造工程中で生じる凝集物であることを推定し、これを突きとめたことに、本発明者の為した努力、発想の独自性があることは明らかである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、フェライト磁石の磁場成形工程の前段側に、スラリーの凝集物を捕捉・除去する除去装置を設けることで、突発的な強度低下を防ぎ、品質を安定させて歩留まりを向上させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、添付図面に示す実施の形態に基づいてこの発明を詳細に説明する。
図１は、本実施の形態におけるフェライト磁石の製造工程の流れの一例を示す図である。なお、本実施の形態で示すフェライト磁石の製造工程はあくまでも一例に過ぎず、適宜変更を加えることが可能なのは言うまでも無い。
この図１に示すように、フェライト磁石を製造するには、まず酸化鉄や炭酸ストロンチウム等の原料を所定の配合比で混合したものを仮焼してフェライト化させる(ステップＳ１０１、Ｓ１０２)。原料としては、酸化物粉末、または焼成により酸化物となる化合物、例えば炭酸塩、水酸化物、硝酸塩等の粉末を用いる。仮焼は、通常、空気中等の酸化性雰囲気中で行えば良い。
次いで、得られた仮焼体（フェライト仮焼体）を粗粉砕工程、微粉砕工程を経ることでサブミクロンサイズまで粉砕し(ステップＳ１０３、Ｓ１０４)、フェライト粒子からなる仮焼粉末を得る。粗粉砕工程、微粉砕工程は、湿式で行っても乾式で行ってもよい。ただし、仮焼体は一般に顆粒から構成されるので、粗粉砕工程を乾式で行い、次いで微粉砕工程を湿式で行うのが好ましい。その場合、粗粉砕工程で仮焼体を所定以下の粒径となるまで粗粉砕した後、微粉砕工程で粗粉砕粉と水とを含む粉砕用スラリーを調製し、これを用いて所定以下の粒径となるまでの微粉砕を行う。
この後、所定濃度のスラリーを調製し、これを磁場成形するわけであるが、微粉砕工程で湿式粉砕を行った場合、脱水工程(ステップＳ１０５)にてスラリーを濃縮することで、所定濃度のスラリーを調製するようにしても良い。そして、このスラリーを混練した後(ステップＳ１０６)、スラリーを型に注入し、所定方向の磁場をかけながら圧縮成形することで磁場成形を行う(ステップＳ１０７)。この後、得られた成形体を焼成して焼結させることで、フェライト磁石を得る(ステップＳ１０８)。この後、所定形状への加工を経て、製品としてのフェライト磁石が完成する(ステップＳ１０９〜Ｓ１１０)。
【００１４】
図２は、上記したような製造工程で用いられるフェライト磁石の製造設備(製造装置)の概略構成を示すものである。
この製造設備は、粗粉砕装置(粉砕装置)１０、微粉砕装置(粉砕装置)２０、脱水装置５０、混練装置６０、ポンプ７０、成形装置８０を順に備えた概略構成を有しており、これら粗粉砕装置１０、微粉砕装置２０、脱水装置５０、混練装置６０、ポンプ７０、成形装置８０の各装置間は、配管等により連結され、原料が順次移送されるようになっている。
【００１５】
粗粉砕工程、微粉砕工程で用いられる粗粉砕装置１０、微粉砕装置２０には、例えばアトライタ、ボールミル、スタンプミル、アトマイザ等を用いることができる。
脱水工程で用いられる脱水装置５０は、フィルタープレスや遠心分離機を用いることができる。
混練装置６０は、磁場成形工程で用いられる成形装置８０にスラリーを供給する前段で、スラリーをさらに混練するミキサーである。
【００１６】
図３に示すように、ポンプ７０は、混練装置６０で混練されたスラリーを成形装置８０に送り込むためのものである。混練装置６０で混練されたスラリーは、材料容器７１に溜められる。ポンプ７０は、この材料容器７１からスラリーを吸い上げ、成形装置８０に向けて送り込む。
【００１７】
成形装置８０は、所定濃度に調製されたスラリーに対し、磁場中で圧縮成形を施すことで、フェライト粒子を配向させ、所定形状のフェライト磁石を形成するものである。この成形装置８０には、上下一対の金型８１、８２が取り付けられている。下方の金型８１は、成形装置８０のベース８３上に固定されている。上方の金型８２は、ベース８３から上方に延びるガイドシャフト８４に沿って上下動可能に設けられた可動ブロック８５の下面に取り付けられている。この可動ブロック８５は、駆動シリンダ８６により、ガイドシャフト８４に沿って上下動するようになっており、これによって金型８１、８２の開閉が行われるようになっている。また、この成形装置８０には、図示しない磁界発生コイル等が設けられており、金型８１、８２の部分に対し、所定の方向の磁界を発生できるようになっている。
ポンプ７０から送り出されたスラリーは、閉じた状態で金型８１、８２の間に形成される空間内に充填される。そして、図示しない磁界発生コイル等によって発生された磁界中で、駆動シリンダ８６により所定の圧力が加えられて成形される。成形の完了後、金型８１、８２を開き、脱型することで、所定形状に成形されたフェライト磁石Ｍが得られる。
【００１８】
さて、図２に示したように、上記したようなフェライト磁石の製造設備において、例えば微粉砕装置２０と脱水装置５０の間には、双方の作動サイクルタイムの相違等を吸収するため、スラリーを一時的に貯留するストックタンク３０、４０が備えられている。
そして、ストックタンク３０、４０それぞれの直後には、スラリー中に混在する原料の凝集物を捕捉するための除去装置１００Ａ、１００Ｂが備えられている。
また、ポンプ７０の直前、成形装置８０の直前にも、除去装置１００Ｃ、１００Ｄが備えられている。
これらの除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄは、ストックタンク３０と４０の間、ストックタンク４０と脱水装置５０の間、混練装置６０とポンプ７０の間、ポンプ７０と成形装置８０の間の配管に、例えばスクリーンメッシュを取り付けることで構成されている。
【００１９】
このとき、除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄのスクリーンメッシュのサイズ(メッシュの目開き寸法)は、０．０１〜１０ｍｍ、好ましくは０．１〜１ｍｍ、さらに好ましくは０．２〜０．５ｍｍである。当然のことながら、スクリーンメッシュの目開きが小さいほど、細かい凝集物を捕捉できるため、品質的には好ましいが、スラリーが通過する時の抵抗が大きくなり、スラリーの送給が困難になる。さらに、スクリーンメッシュの線径も小さくしなければならないため、摩耗や変形による破れが発生しやすくなる。このため、除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄのスクリーンメッシュのサイズは、通過するスラリーの濃度、移送圧力等に応じて設定するのが良い。例えば、スラリー濃度が低い場合や、配管内を流れるスラリーの移送圧力が低い場合には、メッシュサイズを小さくして凝集物の捕捉効率を高め、スラリー濃度が高い場合や、配管内を流れるスラリーの移送圧力が高い場合には、メッシュサイズを大きくし、スラリーの透過が阻害されないようにするのである。
このように、スクリーンメッシュにおける凝集物の捕捉効率を高めつつ、スラリーの透過性をも確保するには、成形装置８０に供給するスラリー濃度を、５０〜８５％、好ましくは６０〜８０％、さらに好ましくは７０〜８０％とするのが好ましい。
【００２０】
より具体例を挙げれば、除去装置１００Ａおよび１００Ｂの部分でのスラリー濃度が３０〜６０％である場合、除去装置１００Ａおよび１００Ｂのスクリーンメッシュの目開きは０．０１〜０．２ｍｍとするのが好ましい。
また、脱水装置５０を経てスラリー濃度が上昇している除去装置１００Ｃおよび１００Ｄの部分では、スラリー濃度が６０〜７０％である場合、除去装置１００Ｃおよび１００Ｄのスクリーンメッシュの目開きは０．１〜１．０ｍｍとするのが好ましい。また、この除去装置１００Ｃおよび１００Ｄの部分でのスラリー濃度が７０〜８０％である場合、除去装置１００Ｃおよび１００Ｄのスクリーンメッシュの目開きは０．２〜０．５ｍｍとするのが好ましい。
【００２１】
なお、上記これら除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄの設置箇所や設置数等は、上記したものに限定するものではないが、特に成形装置８０にスラリーが送り込まれる直前に除去装置１００Ｄを設けるのが有効である。
【００２２】
また、これら除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄは、定期的に洗浄等のメンテナンスを行うのが好ましい。
このため、図３に示したように、除去装置１００Ｄは、ポンプ７０と成形装置８０の配管を途中に２系統に分岐させ、双方の配管に除去装置１００Ｄ−１、１００Ｄ−２を設けた構成とされている。そして、除去装置１００Ｄ−１、１００Ｄ−２の前後には、それぞれバルブ１０２、１０３が設けられ、これらを開閉することで、スラリーを通過させる除去装置１００Ｄ−１と１００Ｄ−２を適宜切り換えることができるようになっている。
このような構成においては、除去装置１００Ｄ−１、１００Ｄ−２の後段側でのスラリーの流れを流速計等でモニタリングし、流れが滞ってきたときに、バルブ１０２、１０３を開閉し、除去装置１００Ｄ−１、１００Ｄ−２を自動的に切り換えるようにしても良い。さらには、流れが滞った側の除去装置１００Ｄ−１、１００Ｄ−２の洗浄等を促すアラーム等を出力するようにしても良い。
【実施例１】
【００２３】
ここで、上記のようなスクリーンメッシュによる凝集物の除去効果を確認するための比較を行った。
図１に示したような工程で、図４に示すような断面略Ｃ型のフェライト磁石Ｍを製造した。ここで、フェライト磁石Ｍの寸法は、外径ｄ１＝５３ｍｍ、内径ｄ２＝４３ｍｍ、高さＨ＝２０ｍｍ、長さＬ＝４３ｍｍとした。
このようなフェライト磁石Ｍを製造するに際し、成形装置８０の金型８１、８２内にスラリーが供給される配管の途中にスクリーンメッシュを設置し(条件１、２、３)、スクリーンメッシュを設置しない場合と比較した(比較条件)。設置したスクリーンメッシュは、目開き０．２７ｍｍ、０．３５ｍｍ、０．４５ｍｍの３通りとした。そして、成形装置８０にて磁場成形を行うことで得られた成形体を焼成、加工してフェライト磁石Ｍを形成した。
得られたフェライト磁石Ｍを、強度試験器で３点曲げ試験を行い、図５に示すように、加圧部材９０により、３ｍｍ／ｍｉｎのスピードで加圧した場合の破壊強度を測定した。
その結果を表１と図６に示す。なお、図６は、フェライト磁石Ｍが破壊したときの加圧力(ｋＮ)を０．２(ｋＮ)毎の級に分類して集計したもので、横軸は０．２(ｋＮ)毎の級、縦軸はその級に分類されるフェライト磁石Ｍのサンプル数である。
【００２４】
【表１】
2004320001.tif 000003
【００２５】
表１および図６に示すように、スクリーンメッシュを設置しない比較条件では、０．８〜１．６(ｋＮ)の広範囲の級にわたってフェライト磁石Ｍのサンプルが分散している。これに対し、スクリーンメッシュを設置した条件１〜３では、１．０〜２．０(ｋＮ)の範囲にサンプルが分散しており、これにより、スクリーンメッシュを設けることで、フェライト磁石Ｍの強度が全般的に向上していることが分かる。
さらに、目開きの小さい条件１、２では、分散の範囲も狭まっており、フェライト磁石Ｍの強度が、より安定していることが分かる。
このようにして、スクリーンメッシュによりスラリー中の凝集物が捕捉・除去され、その結果、製造されるフェライト磁石Ｍの強度を向上させるとともに、その品質を安定させることができる、と言える。
【実施例２】
【００２６】
次いで、実施例１と同様にして、断面略Ｃ字型のフェライト磁石Ｍを製造した。このとき、フェライト磁石Ｍは、外径ｄ１＝９２ｍｍ、内径ｄ２＝８３ｍｍ、高さＨ＝１０ｍｍ、長さＬ＝２０ｍｍとした。そして、このようなフェライト磁石Ｍを製造するに際し、成形装置８０の金型８１内にスラリーが供給される配管の途中にスクリーンメッシュを設置し(条件４、５)、スクリーンメッシュを設置しない場合と比較した(比較条件)。設置したスクリーンメッシュは、目開き０．２７ｍｍ、０．５８ｍｍの２通りとした。そして、成形装置８０にて磁場成形を行うことで得られた成形体を焼成、加工して得たフェライト磁石Ｍをサンプルとして形成した。
そして、形成した合計２５６個のサンプルについて外観選別を行い、不良率を算出した。
その結果を表２に示す。ここで、「外観不良」とは、目視により性状が他の部分と異なっていると認められる不良があるもの、「剥がれ不良」とは、サンプルの表面に剥がれたような跡(凹部)が形成されているもの、「割れ不良」とは、サンプルの表面に割れ(微細なクラックを含む)が生じているもの、をそれぞれ示す。
【００２７】
【表２】
2004320001.tif 000004
【００２８】
表２に示すように、スクリーンメッシュを設置しない比較条件に対し、スクリーンメッシュを設置した条件４、５では、外観不良、剥がれ、割れのいずれの不良についても明らかに減少していることが分かる。
【００２９】
上述したように、フェライト磁石Ｍの磁場成形工程の前段側に、スラリーの凝集物を捕捉・除去する除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄを設けるようにした。これにより、成形装置８０における磁場成形で、フェライト粒子の配向が困難な凝集物を事前に除去することができる。その結果、得られるフェライト磁石Ｍに割れ等の不良発生の起点となり得る配向不良部分が生じるのを防止することができ、フェライト磁石Ｍの強度向上を図ることが可能となる。さらには、外観不良や剥がれ等の不良についても抑制できる。このようにして、フェライト磁石Ｍの品質向上、品質安定化、歩留まりの向上が図れる。
加えて、除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄにより、配向不良部分が生じる原因となるスラリーの凝集物だけでなく、外部から混入した異物等を除去することもできる。これも、フェライト磁石Ｍの品質向上、品質安定化に寄与する。
また、除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄにスクリーンメッシュを用いる構成とすれば、このようなスクリーンメッシュは、スラリーの移送配管の途中に比較的容易に設置することができるので、低コストで上記のような顕著な効果を得ることができる。
【００３０】
なお、上記実施の形態では、除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄの設置場所を例示したが、これ以外の箇所に設置する構成としてもよい。理想的には、凝集物が混入する可能性のある工程毎に設けるのが好ましいが、少なくとも、湿式成形工程において金型８１内にスラリーが供給される直前に設置するのが有効である。また、スクリーンメッシュは、スラリーに大きな剪断力を加えて凝集物を解砕するような装置の一部に設置しても良い。
また、除去装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄには、凝集物を効率良く捕捉できるのであれば、スクリーンメッシュ以外のフィルタ等を用いることが可能である。
これ以外にも、本発明の主旨を逸脱しない限り、上記実施の形態で挙げた構成を取捨選択したり、他の構成に適宜変更することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本実施の形態におけるフェライト磁石の製造工程を示す図である。
【図２】フェライト磁石の製造設備の概略構成を示す図である。
【図３】成形装置およびその直前に設けられた除去装置を示す図である。
【図４】本発明の実施例で用いたフェライト磁石の例を示す斜視図である。
【図５】３点曲げ試験の方法を示す図である。
【図６】３点曲げ試験の結果を示す図である。
【図７】割れたフェライト磁石の断面を示す図である。
【図８】断面の組織を示す図である。
【図９】図８の断面において、組織の性状が異なる部分を示す図であり、（Ｃ１）は正常な組織、（Ｃ２）は配向不良が生じている組織である。
【図１０】断面をさらに観察するための観察面を説明するための図である。
【図１１】図１０の各観察面を示す図である。
【符号の説明】
【００３２】
１０…粗粉砕装置(粉砕装置)、２０…微粉砕装置(粉砕装置)、３０、４０…ストックタンク、５０…脱水装置、６０…混練装置、７０…ポンプ、８０…成形装置、８１、８２…金型、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ…除去装置、Ｍ…フェライト磁石
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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