(57)【要約】【課題】調光装置を構成する液晶素子の液晶注入工程における注入不良の発生を防止することができ、かつ調光装置の周辺からの漏れ光や斜め入射光線の悪影響を軽減できる調光装置、及びこの調光装置を光路中に配して性能、画質、信頼性の向上を実現できる撮像装置を提供すること。【解決手段】それぞれ電極３２及び液晶配向膜３３を有する一対の基体３１間に液晶材料４０が封入されてなる液晶素子１２を具備し、一対の基体３１の少なくとも一方において、基体角部２７と有効光路エリア２０との間の領域のうち少なくとも基体角部２７に液晶配向膜３３が成膜されないように、液晶配向膜３３が形成されている調光装置２３。また、この調光装置２３が撮像系の光路中に配される撮像装置。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれ電極及び液晶配向膜を有する一対の基体間に液晶材料が封入されてなる液晶素子を具備し、前記一対の基体の少なくとも一方において、基体角部と有効光路エリアとの間の領域のうち少なくとも前記基体角部に前記液晶配向膜が成膜されないように、前記液晶配向膜が形成されている調光装置。
【請求項２】
前記液晶配向膜が、前記有効光路エリアの面積と同等若しくはそれより大きくパターン形成されている、請求項１に記載した調光装置。
【請求項３】
前記有効光路エリアの中心点と前記基体角部の頂点を結ぶ直線上において、前記有効光路の周辺と前記基体角部の頂点を結ぶ距離と、前記有効光路の周辺と前記液晶配向膜の周辺を結ぶ距離との比（後者／前者）が、０．５／１以下である、請求項２に記載した調光装置。
【請求項４】
前記液晶配向膜がほぼ多角形又は円形である、請求項２又は３に記載した調光装置。
【請求項５】
前記一対の基体のうち少なくとも一方の基体の、前記液晶材料が存在しない外面のうち前記有効光路エリア以外に、遮光フィルムが配されている、請求項１に記載した調光装置。
【請求項６】
前記液晶素子が、ネガ型液晶分子をホスト材料とし、二色性染料分子をゲスト材料とするゲスト−ホスト型液晶素子である、請求項１に記載した調光装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載した調光装置が撮像系の光路中に配されている、撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、入射光の光量を調節して出射するための調光装置、及びこの調光装置を用いた撮像装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
通常、液晶素子（液晶セル）を用いる調光装置には、偏光板が使用される。この液晶セルには、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶セルやゲスト−ホスト（ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ））型液晶セルが用いられる（例えば、後記の特許文献１参照。）。
【０００３】
図１３は、従来の調光装置の動作原理を示す概略図である。この調光装置は、主に偏光板１とＧＨセル２とで構成され、ＧＨセル２は、図示省略したが、２枚のガラス基板の間に封入され、また動作電極や液晶配向膜を有している（以下、同様）。ＧＨセル２内には、液晶分子３と二色性染料分子４とが封入されている。
【０００４】
二色性染料分子４は、光の吸収に異方性を有し、例えば分子長軸方向の光を吸収するポジ型（ｐ型）色素分子である。また、液晶分子３は、誘電率異方性が正のポジ型（正型）である。
【０００５】
図１３（ａ）は、電圧を印加していない（電圧無印加）時のＧＨセル２の状態を示す。入射光５は、偏光板１を通過することによって直線偏光にされる。図１３（ａ）では、この偏光方向と、二色性染料分子４の分子長軸方向とが一致するので、入射光５は二色性染料分子４に吸収され、ＧＨセル２の光透過率が低下する。
【０００６】
そして、図１３（ｂ）で示すように、ＧＨセル２に電圧印加を行うと、液晶分子３が電界方向に向くに伴って、二色性染料分子４の分子長軸方向は、直線偏光の偏光方向と直角になる。このため、入射光５はＧＨセル２によりほとんど吸収されずに透過する。
【０００７】
なお、分子短軸方向の光を吸収するネガ型（ｎ型）の二色性染料分子を用いる場合は、上記ポジ型の二色性染料分子４の場合と逆になり、電圧無印加時には光が吸収されず、電圧印加時に光が吸収される。
【０００８】
図１３に示された調光装置では、電圧印加時と電圧無印加時との吸光度の比、即ち、光学濃度の比が約１０である。これは、偏光板１を使用せずにＧＨセル２のみで構成される調光装置に比べて約２倍の光学濃度比を有する。
【０００９】
このようなＧＨセル２の製造工程における液晶材料（液晶分子＋二色性染料分子）の注入プロセスとしては、通常、図１５又は図１６に示すような真空注入方式が用いられている。
【００１０】
図１５は、真空注入方式のうちのディップ方式と称される方法の原理図である。まず、それぞれ動作電極（図示省略）や液晶配向膜（図示省略）を有する互いに対向したガラス基板からなる空セル３８を、液晶注入孔３９を下方に向けた状態でディップ装置１４内に配置する。ディップ装置１４には、液晶分子と二色性染料分子の混合物である液晶材料４０が充填された容器４３が設置されている。そして、空セル３８と共にディップ装置１４内を真空脱気した後、バルブ４４を閉め、装置１４内を真空状態で保持し、空セル３８の液晶注入孔３９を容器４３の液晶材料４０中に漬ける。次いで、バルブ４４を開放し、ディップ装置１４内を空気リーク（好ましくは窒素リーク）すると、真空引きした空セル３８内と大気圧に開放されたディップ装置１４内との間に圧力差が生じ、液晶材料４０が液晶注入孔３９を介して空セル３８内へと注入される。しかる後に、真空部８が完全になくなり、空セル３８内全体に液晶材料４０が充填されたＧＨセル２を得ることができる。
【００１１】
図１６は、真空注入方式のうちのタッチ方式と称される方法の原理図である。まず、それぞれ動作電極（図示省略）や液晶配向膜（図示省略）を有する互いに対向したガラス基板からなる空セル３８を、液晶注入孔３９を下方に向けた状態でタッチ装置４５内に配置する。タッチ装置４５には、液晶分子と二色性染料分子の混合物である液晶材料４０が充填された容器４３が設置されており、さらに容器４３内には小型の容器４３’が配されている。そして、空セル３８と共にタッチ装置４５内を真空脱気した後、バルブ４４を閉め、装置４５内を真空状態で保持し、液晶材料４０を有する小型容器４３’を空セル３８の液晶注入孔３９の位置まで上昇させる。次いで、バルブ４４を開放し、タッチ装置４５内を空気リーク（好ましくは窒素リーク）すると、真空引きした空セル３８内と大気圧に開放されたタッチ装置４５内との間に圧力差が生じ、液晶材料４０が液晶注入孔３９を介して空セル３８内へと注入される。しかる後に、真空部８が完全になくなり、空セル３８内全体に液晶材料４０が充填されたＧＨセル２を得ることができる。
【００１２】
【特許文献１】
特開平１１−３２６８９４号公報（３頁第４欄８〜１８行目、図１）
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
上述した真空注入方式を用いてＧＨセル２を製造する場合、複数の空セル３８を装置１４又は４５にセッティングして同時に処理する、いわゆるバッチ処理が行なわれている。そして、各セル３８内の真空度や表面状態の僅かな違いにより、それぞれの液晶材料４０の注入速度にバラツキが生じることを考慮して、通常は、ある程度注入時間を長めに設定して処理が行われる。
【００１４】
しかしながら、図１７に示すように、空セル３８に液晶材料４０が注入され、液晶注入孔３９がエンドシール４６で封止されてなるＧＨセル２は、上記したように液晶材料４０の注入時間を長めに設定しても、場合によってはその内部に注入不良４７が発生してしまい、例えばこの注入不良４７による信頼性の低下等が懸念される。
【００１５】
また、上記したように液晶材料４０の注入時間を長めに設定することは、大量生産には不向きであり、より短い作業時間で液晶材料４０の注入を行うことが望まれている。
【００１６】
一方、従来の撮像装置の一般的な問題として、撮像装置に組み込む調光ユニットの筐体周囲からの極微少な漏れ光や光学系内での反射光、及び晴天の屋外等で使用する場合は有効光路を直進する光線以外の斜めに入射する光線成分等の影響で、撮像面上の正規の位置以外の所に望ましくない像（ゴースト）が結像することがある。
【００１７】
例えば、図１８（ａ）に太陽のゴーストの例を示すように、レンズ５１の表面で２回反射した光束４９が、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）撮像素子５５又は撮像面の近くに結像し、そのボケた像（ゴースト）５６が写り込む。ゴースト５６の光束４９も絞り６０を通過するので、ゴースト像５６は絞り開口２２の形状になる。また、レンズ接合面の反射率は弱くて無視できるので、空気に触れるレンズ面の数をｎとするとｎ（ｎ−１）／２通りの組み合わせがあり、その中にはＣＣＤ５５の近傍に太陽の像を結ぶ反射率の組み合わせも多数存在し、ゴースト５６には反射面の色がつく。
【００１８】
また、図１８（ｂ）に全反射ゴーストの例を示すように、ゴースト５６の反射系に全反射５９が絡むとゴースト５６の強度が非常に強くなる。特定の光源の入射角度とズーム位置で、第１群レンズ５１内で全反射５９が生じて、最後に接合面で反射してＣＣＤ５５へ向かうケースが多い。通常は、コーティングをしない接合面にフードを設ける等の反射防止を施して対策するが、白く強いゴースト５６が残ることが多い。
【００１９】
上記のようにして、強い直射光等によってレンズの鏡胴や筐体内で反射した光が、受光部のＣＣＤに当たって、露光やムラや露出カブリが起き、画像の鮮明さを低下させる。画像全体にムラやカブリが生じるのをフレア、部分的にぼんやり写るのをゴーストと称するが、一般的に上記の二つを区別せずに、フレア・ゴーストとして一緒に扱う。
【００２０】
また、光線の強さや角度によっては、数枚組み合わされたレンズの間で光が内面反射し、はっきりとしが画像が映り込むこともある。絞りよりも後方の反射の場合は、受光部全体にカブリが生じるが、絞りよりも前方で起きた反射は、受光部に絞りの形を映し出してしまう。
【００２１】
太陽を画像に入れると、フレア・ゴーストが発生し易くなる。太陽を画像に入れなくても、横からレンズに当たる光がフレア・ゴーストを発生させることがあるが、レンズフードの使用により低減させることができる。
【００２２】
さらに、図１９に示すように、射出瞳が近いと、光線がＣＣＤに対して斜めに入射するため、晴天屋外などではシェーディングと呼ばれる現象が顕著に現れる場合がある。シェーディングとは、光路軸上と軸外での撮像素子に当たる光線数の差から、画面周辺部において明るさにムラが生じてしまう現象である。
【００２３】
従って、上記したようなゴーストやシェーディングを可能な限り軽減することが光学設計上、望まれている。
【００２４】
そこで本発明は、上述したような問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、調光装置を構成する液晶素子の液晶注入工程における注入不良の発生を防止することができ、かつ調光装置の周辺からの漏れ光や斜め入射光線の悪影響を軽減できる調光装置、及びこの調光装置を光路中に配して性能、画質、信頼性の向上を実現できる撮像装置を提供することにある。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、それぞれ電極及び液晶配向膜を有する一対の基体間に液晶材料が封入されてなる液晶素子を具備し、前記一対の基体の少なくとも一方において、基体角部と有効光路エリアとの間の領域のうち少なくとも前記基体角部に前記液晶配向膜が成膜されないように、前記液晶配向膜が形成されている調光装置に係り、また、この調光装置が撮像系の光路中に配される撮像装置に係るものである。
【００２６】
本発明者が、上述したような液晶材料の注入工程における注入不良の発生について鋭意検討したところ、注入不良の発生箇所としては、調光装置を構成する前記液晶素子の前記基体角部と前記有効光路エリアとの間の領域のうち前記基体角部での発生頻度が非常に高かった。
【００２７】
そこで、前記液晶素子を構成する材料の形成パターンの見直しを行ない、前記一対の基体の少なくとも一方において、前記基体角部と前記有効光路エリアとの間の領域のうち少なくとも前記基体角部に前記液晶配向膜が成膜されないように、前記液晶配向膜を形成することにより、少なくとも前記基体角部のセルギャップ（前記液晶素子の前記一対の基体間の隙間）を前記液晶素子の中央部よりも前記液晶配向膜の厚み分、広くすることができ、これにより前記液晶材料が前記液晶素子の前記基体角部までスムーズに侵入するようになり、結果として、従来例のような注入不良の発生を効果的に防止することができることを初めて見出した。
【００２８】
また、上述したようなゴースト及びシェーディングの発生の軽減に関しても、本発明を適用することにより効果が得られることを初めて見出した。即ち、本発明によれば、少なくとも前記基体角部のセルギャップを前記液晶素子の中央部よりも前記液晶配向膜の厚み分、広くできるので、少なくとも前記基体角部においては、前記液晶素子の中央部に比べて広いセルギャップに充填された前記液晶材料によって光透過率が低下し、前記液晶素子を有する調光装置での筐体周囲からの漏れ光や斜め入射光線等の悪影響を軽減できるようになり、その結果として、上記したゴーストやシェーディング等の発生を効果的に軽減することができる。
【００２９】
従って、本発明は、調光装置及び撮像装置の光学的機能の向上を図ることができ、その性能、画質、信頼性の向上を図るために極めて有効である。
【００３０】
【発明の実施の形態】
本発明に基づく調光装置は、図７に示すように、偏光板１１とＧＨセル１２とをこの順に具備し、ズームレンズのように複数のレンズで構成されるレンズ前群１５とレンズ後群１６との間に配置されている。レンズ前群１５を透過した光は、偏光板１１を介して直線偏光され、ＧＨセル１２に入射する。ＧＨセル１２を透過した光は、レンズ後群１６で集光され、撮像面１７に映像として映し出される。
【００３１】
第１の実施の形態
図７に示すような本発明に基づく調光装置２３を構成するＧＨセル１２は、図１に示すように、それぞれ透明電極３２及び液晶配向膜３３を有する一対の基体３１からなる空セル３８に液晶材料４０が注入され、液晶注入孔７がエンドシール４６で封止されている。そして、一対の基体３１の少なくとも一方において、基体角部２７と、透明電極３２の存在する領域に相当する有効光路エリア２０との間の領域のうち少なくとも基体角部２７に液晶配向膜３３が成膜されないように、液晶配向膜３３が形成されている。
【００３２】
また、液晶配向膜３３は、有効光路エリア２０の面積と同等若しくはそれより大きくパターン形成されている。具体的には、有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線上において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３の周辺を結ぶ距離Ｌ２との比（後者／前者）が、０．５／１以下であることが望ましく、更には液晶配向膜３３がほぼ多角形であることが好ましい。
【００３３】
図１７に示すような従来のＧＨセル２では、有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線上において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３の周辺を結ぶ距離Ｌ２との比が、ほぼ１：１であった。これに対し、図１に示すようなＧＨセル１２は、基体角部２７と有効光路エリア２０との間の領域のうち少なくとも基体角部２７に液晶配向膜３３が成膜されないように、液晶配向膜３３が形成されており、特に、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３の周辺を結ぶ距離Ｌ２との比（後者／前者）が、０．５／１以下とされている。
【００３４】
従って、少なくとも基体角部２７のセルギャップ（前記液晶素子の前記一対の基体間の隙間）をＧＨセル１２の中央部よりも液晶配向膜３３の厚み分、広くすることができ、これにより、液晶材料４０がＧＨセル１２の基体角部２７までスムーズに侵入するようになり、結果として、従来例のような注入不良の発生を効果的に防止することができる。
【００３５】
また、少なくとも基体角部２７においては、ＧＨセル１２の中央部に比べて広いセルギャップに充填された液晶材料４０によって光透過率が低下し、ＧＨセル１２を有する調光装置での筐体周囲からの漏れ光や斜め入射光線等の悪影響を軽減できるようになる。その結果として、上記したゴーストやシェーディング等の発生を効果的に軽減することができる。
【００３６】
ここで、有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線上において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３の周辺を結ぶ距離Ｌ２との比が、０．５／１を超える場合、液晶配向膜３３の面積が大きすぎ、基体角部２７に好適なセルギャップを得ることができず、上記したような注入不良の発生、及びゴーストやシェーディングの発生を効果的に防止できないことがある。
【００３７】
図２（Ａ）は、本発明に基づく調光装置（前記液晶素子：ＧＨセル１２）を構成する前記一対の基体のうち一方の基体の概略平面図である（以下、第１の基体と称する。）。また、図２（Ｂ）は本発明に基づく調光装置（前記液晶素子：ＧＨセル１２）を構成する前記一対の基体のうち他方の基体の概略平面図である（以下、第２の基体と称する。）。なお、両基体において、基体角部２７に液晶配向膜３３が成膜されないように、液晶配向膜３３が形成されている場合を例に挙げて説明する。
【００３８】
図２（Ａ）に示すように、厚さ２００〜５００μｍのガラス等からなる第１の基体３１ａは、厚さ１５〜１２０ｎｍのＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）電極（透明電極）３２ａ及び厚さ３０〜１００ｎｍの液晶配向膜３３ａを有しており、この液晶配向膜３３ａにはラビング法等の液晶配向処理が施されている。また、第１の基体３１ａには、各透明電極の引き出し部１０がそれぞれ設けられている。
【００３９】
そして、基体角部２７と有効光路エリア２０との間の領域のうち少なくとも基体角部２７に液晶配向膜３３ａが成膜されないように、液晶配向膜３３ａがほぼ多角形の形状に形成されている。具体的には、有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線上において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３ａの周辺を結ぶ距離Ｌ２との比（後者／前者）が、０．５／１以下に形成されている。
【００４０】
また、図２（Ｂ）に示すように、厚さ２００〜５００μｍのガラス等からなる第２の基体３１ｂは、厚さ１５〜１２０ｎｍのＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）電極（透明電極）３２ｂ及び厚さ３０〜１００ｎｍの液晶配向膜３３ｂを有しており、この液晶配向膜３３ｂにはラビング法等の液晶配向処理が施されている。また、ＩＴＯ電極３２ｂは有効光路２０外に延設されている。
【００４１】
そして、基体角部２７と有効光路エリア２０との間の領域のうち少なくとも基体角部２７に液晶配向膜３３ｂが成膜されないように、液晶配向膜３３ｂがほぼ多角形の形状に形成されている。具体的には、有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線上において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３ｂの周辺を結ぶ距離Ｌ２との比（後者／前者）が、０．５／１以下に形成されている。
【００４２】
これらの基体３１ａ及び３１ｂを位置合わせして重ね、周辺部をシール材で封止し、空セルを形成する。そして、この空セルに液晶材料を注入する。注入する方法としては、従来公知の方法、例えば図１５又は図１６に示すようなディップ装置又はタッチ装置を用いた差圧を利用した真空注入法等を適用すればよい。
【００４３】
なお、前記液晶材料の注入後は、液晶注入孔７をエンドシール４６を用いて封止し、配向を整えるために、加熱処理を行うことが好ましい。
【００４４】
図３（Ａ）は、本発明に基づく調光装置を構成するＧＨセル１２の概略平面図である。図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のＸ−Ｘ’線一部概略断面図である。
【００４５】
図３（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、ＧＨセル１２は、第２の基体３１ｂの有効光路２０外に延設されたＩＴＯ電極３２ｂが、第１の基体３１ａに設けられた電極引き出し部１０に電気的に接続されており、また、第１の基体３１ａ及び第２の基体３１ｂ間がＧＨセル１２の周辺部において、シール材３５で封止されている。具体的には、このシール材３５の外側で第２の基体３１ｂのＩＴＯ電極３２ｂと、第１の基体３１ａの電極引き出し部１０とが、例えばカーボンペースト２６のような導電材料によって接続されており、ＧＨセル１２の有効光路２０外で基体間の導通を取れるように形成されている。ここで、カーボンペースト２６からなる導通部を一般的にコモン電極と称する。
【００４６】
本発明に基づく調光装置を構成するＧＨセル１２は、一対の基体３１ａ及び３１ｂにおいて、基体角部２７と有効光路エリア２０との間の領域のうち少なくとも基体角部２７に液晶配向膜３３が成膜されないように、液晶配向膜３３が形成されており、特に有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線上において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３の周辺を結ぶ距離Ｌ２との比（後者／前者）を、０．５／１以下としているので、少なくとも基体角部２７のセルギャップをＧＨセル１２の中央部よりも、両基体３１ａ、３１ｂの液晶配向膜３３ａ、３３ｂの厚み分、即ち６０〜２００ｎｍ大きくすることができる。これにより、液晶材料４０がＧＨセル１２の基体角部２７までよりスムーズに侵入するようになり、結果として、従来例のような注入不良の発生をより効果的に防止することができる。
【００４７】
また、少なくとも基体角部２７のセルギャップをＧＨセル１２の中央部よりも、両基体３１ａ及び３１ｂの液晶配向膜３３ａ及び３３ｂの厚み分、即ち６０〜２００ｎｍ大きくできるので、基体角部２７においては、ＧＨセル１２の中央部に比べて広いセルギャップに充填された液晶材料４０によって光透過率が低下する。従って、ＧＨセル１２を有する調光装置での筐体周囲からの漏れ光や斜め入射光線等の悪影響を軽減できるようになり、その結果として、ゴーストやシェーディングの発生を効果的に軽減することができる。
【００４８】
第２の実施の形態
本発明に基づく調光装置において、前記液晶素子は図１〜図３で示すように、基体角部２７と有効光路エリア２０との間の領域のうち少なくとも基体角部２７に液晶配向膜３３が成膜されないように、液晶配向膜３３を形成することが重要である。また、有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３の周辺を結ぶ距離Ｌ２との比（後者／前者）を、０．５／１以下とすることが望ましいが、更には図４に示すように、ＧＨセル１２を構成する一対の基体３１のうち少なくとも一方の基体（例えば３１ａ）の、液晶材料４０が存在しない外面のうち有効光路エリア２０以外に、遮光フィルム２５が配されていることがより好ましい。これにより、ゴーストやシェーディング等がより効果的に防止され、撮像画質を一層高めることができる。
【００４９】
なお、遮光フィルム２５としては、光を吸収する材質を用いることが好ましいが、例えば有機レジスト膜（一例として日産化学社製Ｖ２５９−ＢＫＩＳ等）やＣｒ（クロム）等の金属スパッタ膜等が好適に使用できる。その厚みは特に限定されないが、例えば有機レジスト膜を用いる場合は１μｍ程度が好ましく、またＣｒの金属スパッタ膜を用いる場合は０．２μｍ程度が好ましい。
【００５０】
第３の実施の形態
上記の第１の実施の形態で説明したように、前記液晶配向膜がほぼ多角形であるのが好ましいが、例えばこれに代わり図５に示すような形状であってもよい。即ち、液晶配向膜３３が有効光路エリア２０の面積と同等若しくはそれより大きくパターン形成されており、若しくは有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３の周辺を結ぶ距離Ｌ２との比が、０．５／１以下であり、かつ液晶配向膜３３ほぼ円形であってもよい。
【００５１】
この場合、有効光路エリア２０を除く面積の大部分に液晶配向膜３３が成膜されないように、液晶配向膜３３が形成されているので、ＧＨセル１２の液晶注入工程における注入不良の発生をより効果的に防止することができ、かつ調光装置の周辺からの漏れ光や斜め入射光線の悪影響をより軽減することができる。
【００５２】
ここで、図６に示すように、図５に示すようなＧＨセル１２を構成する一対の基体３１のうち少なくとも一方の基体（例えば３１ａ）の、液晶材料４０が存在しない外面のうち有効光路エリア２０以外に、遮光フィルム２５が配されていてもよい。これにより、ゴーストやシェーディング等がより効果的に防止されて、撮像画質を一層高めることができる。
【００５３】
第４の実施の形態
本発明に基づく調光装置において、前記液晶素子が、ネガ型液晶分子をホスト材料とし、二色性染料分子をゲスト材料とするゲスト−ホスト型液晶素子であるのがよい。
【００５４】
このような液晶素子は、本出願人が既に提出した特願平１１−３２２１８６号に係る先願発明に依拠したものである。この先願発明によれば、液晶素子と、この液晶素子に入射する光の光路中に配される偏光板とで調光装置を構成し、更に、ネガ型液晶分子をホスト材料とするゲスト−ホスト型液晶を用いることにより、電圧無印加時と電圧印加時の吸光度の比（即ち光学濃度の比）が向上し、調光装置のコントラスト比が大きくなり、明るい場所から暗い場所までにおいて、調光動作を正常に行うことを可能とする。
【００５５】
図１３に示したゲスト−ホスト型液晶セル（ＧＨセル）２において、ホスト材料３として誘電率異方性（Δε）が正のポジ型の液晶分子を用い、ゲスト材料４には二色性を有する光吸収異方性（ΔＡ）が正のポジ型染料分子４を用い、偏光板１をＧＨセル２の入射側に配し、矩形波を駆動波形として動作電圧印加時の光透過率の変化を計測すると、図１４に示すように、動作電圧の印加に伴って、可視光の平均光透過率（空気中。液晶セルに加えて偏光板を足したときの透過率を参照（＝１００％）とした：以下、同様）が増加するが、電圧を１０Ｖにまで上昇させたときの最大光透過率は６０％程度であり、しかも光透過率の変化が緩やかである。
【００５６】
これは、ポジ型のホスト材料を用いる場合、電圧無印加時に液晶セルの液晶配向膜との界面での液晶分子の相互作用（ｉｎｔｅｒａｃｔｉｏｎ）が強いため、電圧を印加してもダイレクタの向きが変化しない（或いは、変化し難い）液晶分子が残ってしまうからであると考えられる。
【００５７】
これに対し、先願発明では、図８に示すように、ゲスト−ホスト型液晶セル（ＧＨセル）１２において、ホスト材料１３として、誘電率異方性（Δε）が負のネガ型の液晶分子であるＭｅｒｃｋ社製のＭＬＣ−６６０８を一例として用い、ゲスト材料４には二色性を有するポジ型染料分子であるＢＤＨ社製のＤ５を一例として用いることにより、偏光板１１をＧＨセル１２の入射側に配し、矩形波を駆動波形として動作電圧印加時の光透過率の変化を測定したところ、図９に示すように、動作電圧の印加に伴って、可視光の平均光透過率（空気中）が最大光透過率約７５％から数％にまで減少し、しかも光透過率の変化が比較的急峻となる。
【００５８】
これは、ネガ型のホスト材料を用いる場合、電圧無印加時に液晶セルの液晶配向膜との界面での液晶分子の相互作用（ｉｎｔｅｒａｃｔｉｏｎ）が非常に弱いため、電圧無印加時に光が透過し易く、また電圧印加と共に液晶分子のダイレクタの向きが変化し易くなるからであると考えられる。
【００５９】
このようにして、本発明において、ネガ型のホスト材料を用いてＧＨセル１２を構成すれば、光透過率（特に透明時）が向上し、ＧＨセル１２を撮像光学系中にそのまま位置固定して使用できる、よりコンパクトな調光装置を実現可能となる。この場合、液晶素子への入射光の光路中に偏光板を配することにより、電圧無印加時と電圧印加時の吸光度の比（即ち光学濃度の比）が一層向上し、調光装置のコントラスト比が更に大きくなり、明るい場所から暗い場所までにおいて、調光動作を正常に行うことができる。
【００６０】
なお、本発明においては、前記液晶素子のネガ型液晶分子の誘電率異方性は負であるのがよいが、ゲスト材料は、ポジ型又はネガ型の二色性染料分子からなっていてよい。また、ホスト材料はネガ型であるのがよいが、ポジ型でも差支えはない。
【００６１】
本発明において、ネガ型（又はポジ型）のホスト材料、ポジ型（又はネガ型）のゲスト材料は公知の材料から選択して用いることができる。但し、実際の使用の場合は、実使用温度範囲でネマチック性を示すように選択し、ブレンドした組成物を用いてよい。
【００６２】
また、図７に示すような、本発明に基づく調光装置において、偏光板１１は、本出願人による上述した先願発明と同様に、ＧＨセル１２に入射する光の有効光路２０に対して出し入れ可能である。具体的には、偏光板１１を仮想線で示す位置に移動させることにより、光の有効光路２０の外へ出すことができる。この偏光板１１を出し入れする手段として、図１０に示すような機械式アイリスが用いられてもよい。
【００６３】
この機械式アイリスは、一般にデジタルスチルカメラやビデオカメラ等に用いられる機械式絞り装置であり、主として２枚のアイリス羽根１８、１９と、アイリス羽根１８に貼付された偏光板１１とからなる。アイリス羽根１８、１９は、上下方向に移動させることができる。矢印２１で示される方向に、図示せぬ駆動モーターを用いてアイリス羽根１８、１９を相対的に移動させる。
【００６４】
これにより、図１０で示すように、アイリス羽根１８、１９は部分的に重ねられ、この重なりが大きくなると、アイリス羽根１８、１９の中央付近に位置する有効光路２０上の開口部２２が、偏光板１１により覆われる。
【００６５】
図１１は、有効光路２０付近の機械式アイリスの部分拡大図である。アイリス羽根１８が下方に移動すると同時に、アイリス羽根１９が上方に移動する。これに伴って、図１１（ａ）に示すように、アイリス羽根１８に貼付された偏光板１１も有効光路２０の外へと移動する。逆に、アイリス羽根１８を上方に、またアイリス羽根１９を下方に移動させることにより、互いのアイリス羽根１８、１９が重なる。これに従って、図１１（ｂ）に示すように、偏光板１１は有効光路２０上に移動し、開口部２２を次第に覆う。アイリス羽根１８、１９の互いの重なりが大きくなると、図１１（ｃ）に示すように、偏光板１１は開口部２０を全て覆う。
【００６６】
次に、この機械式アイリスを用いた調光装置の調光動作について説明する。
【００６７】
図示せぬ被写体が明るくなるにつれて、図１１（ａ）で示したように、上下方向に開いていたアイリス羽根１８、１９は、図示せぬモーターにより駆動され、重なり始める。これによって、アイリス羽根１８に貼付されている偏光板１１は、有効光路２０上に入り始め、開口部２２の一部を覆う（図１１（ｂ））。
【００６８】
この時、ＧＨセル１２は光を吸収しない状態にある（なお、熱的揺らぎ、又は表面反射等のため、ＧＨセル１２による若干の吸収はある。）。このため、偏光板１１を通過した光と開口部２２を通過した光は、ほぼ強度分布が同等となる。
【００６９】
その後、偏光板１１は、完全に開口部２２を覆った状態になる（図１１（ｃ））。さらに、被写体の明るさが増す場合は、ＧＨセル１２への電圧を上昇し、ＧＨセル１２で光を吸収することにより調光を行う。
【００７０】
これとは逆に、被写体が暗くなる場合は、まず、ＧＨセル１２への電圧を減少又は無印加とすることにより、ＧＨセル１２による光の吸収効果をなくする。さらに被写体が暗くなった場合は、図示せぬモーターを駆動することにより、アイリス羽根１８を下方へ、またアイリス羽根１９を上方へ移動させる。こうして、偏光板１１を有効光路２０の外へ移動させる（図１１（ａ））。
【００７１】
また、図７に示したように、偏光板１１（例えば、透過率４０％〜５０％）を光の有効光路２０から外に出すことができるので、偏光板１１に光が吸収されない。従って、調光装置の最大透過率を例えば２倍以上に高めることができる。具体的には、この調光装置を、従来の固定されて設置される偏光板及びＧＨセルからなる調光装置と比較すると、最大光透過率は約２倍になる。なお、最低光透過率は両者で等しい。
【００７２】
また、デジタルスチルカメラ等に実用化されている機械式アイリスを用いて、偏光板１１の出し入れが行われるので、調光装置は容易に実現可能となる。また、ＧＨセル１２を用いるので、偏光板１１による調光に加えて、ＧＨセル１２自体が光を吸収することにより、調光を行うことができる。
【００７３】
このようにして、この調光装置は、明、暗のコントラスト比を高めると共に、光量分布をほぼ均一に保つことができるものとなる。
【００７４】
【実施例】
以下、本発明を実施例について具体的に説明するが、これらに限られるものではない。
【００７５】
実施例１
本実施例の調光装置は、図７に示すように、偏光板１１とＧＨセル１２とをこの順に具備させた。そして、ＧＨセル１２は、透明電極と液晶配向膜をそれぞれ形成した２枚のガラス基板（いずれも図示せず）の間に、ネガ型の液晶分子（ホスト材料）とポジ型又はネガ型の二色性染料分子（ゲスト材料）との混合物を封入した。
【００７６】
液晶分子には、例えば誘電率異方性が負のネガ型液晶分子であるＭｅｒｃｋ社製のＭＬＣ−６６０８を一例として用い、また二色性染料分子４には、光の吸収に異方性を有し、例えば分子長軸方向の光を吸収するポジ型染料分子であるＢＤＨ社製のＤ５を一例として用いた。偏光板１１の光吸収軸は、ＧＨセル１２に電圧を印加した時の光吸収軸と直交させた。
【００７７】
この偏光板１１及びＧＨセル１２からなる調光装置は、例えば図７に示したように、ズームレンズのように複数のレンズで構成されるレンズ前群１５とレンズ後群１６との間に配置された。レンズ前群１５を透過した光は、偏光板１１を介して直線偏光され、ＧＨセル１２に入射する。ＧＨセル１２を透過した光は、レンズ後群１６で集光され、撮像面１７に映像として映し出される。
【００７８】
この調光装置を構成する偏光板１１は、本出願人による上述した先願発明と同様に、ＧＨセル１２に入射する光の有効光路２０に対して出し入れ可能とした。
【００７９】
具体的には、偏光板１１を仮想線で示す位置に移動させることにより、光の有効光路２０の外へ出すことができる。この偏光板１１を出し入れする手段として、図１０及び図１１に示した機械式アイリスを用いた。
【００８０】
ＧＨセル１２の製造方法としては、まず透明電極パターン（例えば厚さ１００ｎｍ）と液晶配向膜パターン（例えば厚さ７５ｎｍ）を予め形成した一方のガラス基板（例えば厚さ４００μｍ）のセル周辺部に、一例として直径３μｍのガラスファイバーを含有した、熱硬化性エポキシ樹脂からなる封止（メインシール）材を所定の幅で塗布した後、他方の基板（例えば厚さ４００μｍ）上に、一例として３μｍ径のプラスチックボールを、ウェット散布又はドライ散布を用いて均一に散布し、２枚のガラス基板を位置合わせして重ねてから、熱プレス板によって適度な条件で（一例として１５０〜１７０℃、１〜２ｋｇ／ｃｍ２）、圧力を加えながら加熱処理することで、周辺部のシール材が硬化し、基板の貼り合わせが完了した。
【００８１】
なお、図１〜図３に示すように、基体角部２７と有効光路エリア２０との間の領域のうち少なくとも基体角部２７に液晶配向膜３３が成膜されないように、液晶配向膜３３を形成した。また、有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線上において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３の周辺を結ぶ距離Ｌ２との比を、前者：後者＝１：０．２とした。これにより、少なくとも基体角部２７のセルギャップをＧＨセル１２の中央部よりも、両基板の液晶配向膜の厚み分、即ち０．１５μｍ大きくすることができた。
【００８２】
このような空セルに、前記液晶材料を封入（注入＋封孔）してできあがったＧＨセル１２は、図１に示すように、前記液晶材料がＧＨセル１２の基体角部２７までスムーズに侵入し、液晶注入不良を効果的に防止することができた。また、ゴーストやシェーディングの発生を低減することができた。
【００８３】
そして、得られたＧＨセル１２に、矩形波を駆動波形として入力し、動作電圧印加時の光透過率の変化を計測したところ（図８）、図９に示すように、動作電圧の印加に伴って、可視光の平均光透過率（空気中）が最大透過率約８０％から数％にまで減少した。
【００８４】
用いる液晶セルの構造や構成材料によっても異なるが、今回のＧＨセル１２は、±５Ｖ（１ｋＨｚ）以上のパルス電圧印加で、ほぼ最小透過率に達した。
【００８５】
また、駆動パルスを変化させた時の光透過率の過渡応答時間は、パルス電圧変調、パルス幅変調共に３０ｍｓ以下の高速動作が可能であった。
【００８６】
従って、液晶注入工程における注入不良の発生が防止され、かつ調光装置の周辺からの漏れ光や斜め入射光線の悪影響を軽減でき、更に光学濃度比を確保し、高速に過渡応答動作する調光装置を、高い良品歩留まりで製造することが可能となった。
【００８７】
実施例２
本実施例の先の実施例１と相違する点は、図５に示すように、液晶配向膜３３が有効光路エリア２０の面積より僅かに大きくパターン形成されている点である。具体的には、有効光路エリアの中心点９と基体角部の頂点６を結ぶ直線上において、有効光路２０の周辺と基体角部の頂点６を結ぶ距離Ｌ１と、有効光路２０の周辺と液晶配向膜３３の周辺を結ぶ距離Ｌ２との比が、前者：後者＝１：０．１であり、かつ液晶配向膜３３がほぼ円形に形成されている点である。
【００８８】
これによれば、有効光路エリア２０を除く面積の大部分に液晶配向膜３３が成膜されないように、液晶配向膜３３が形成されているので、ＧＨセル１２の液晶注入工程における注入不良の発生をより効果的に防止することができ、かつ調光装置の周辺からの漏れ光や斜め入射光線の悪影響を低減することができた。
【００８９】
実施例３
上記の実施例２で得られたＧＨセル１２に対し、更に図６に示すように、ＧＨセル１２を構成する一対の基体３１の、液晶材料４０が存在しない外面のうち有効光路エリア２０以外に、遮光フィルム２５を配した。これにより、ゴーストやシェーディング等がより効果的に防止されて、撮像画質を一層高めることができた。
【００９０】
実施例４
図１２は、上記の実施例１による調光装置をＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）カメラに組み込んだ例を示すものである。
【００９１】
即ち、ＣＣＤカメラ５０において、一点鎖線で示す光軸に沿って、前記のレンズ前群１５に相当する１群レンズ５１及び２群レンズ（ズーム用）５２、前記のレンズ後群１６に相当する３群レンズ５３及び４群レンズ（フォーカス用）５４、ＣＣＤパッケージ５５が適宜の間隔をおいてこの順に配設されており、ＣＣＤパッケージ５５には赤外線カットフィルタ５５ａ、光学ローパスフィルタ系５５ｂ、ＣＣＤ撮像素子５５ｃが収納されている。
【００９２】
２群レンズ５２と３群レンズ５３との間には、３群レンズ５３寄りに、偏光板１１及びＧＨセル１２とからなる本発明に基づく調光装置が光量調節（光量絞り）のために光路上に配置されている。なお、フォーカス用の４群レンズ５４は、リニアモーター５７により光路に沿って３群レンズ５３とＣＣＤパッケージ５５との間を移動可能に配設され、またズーム用の２群レンズ５２は、光路に沿って１群レンズ５１と調光装置２３との間を移動可能に配設されている。
【００９３】
以上、本発明を実施の形態及び実施例について説明したが、上述の例は、本発明の技術的思想に基づき種々に変形が可能である。
【００９４】
例えば、サンプル構造や使用材料、液晶セルの駆動方法、調光装置の形態等は、発明の主旨を逸脱しない範囲で、適宜選択可能であることは言うまでもない。
【００９５】
また、液晶素子や調光装置及び偏光板の構造や材質、その駆動機構、駆動回路、制御回路の構成等は、種々に変更が可能である。また、駆動波形は矩形波、台形は、三角波、正弦波のいずれでも駆動可能であり、液晶セルを構成する２枚の電極間の電位差に応じて液晶分子の傾きが変化し、光透過率が制御される。
【００９６】
また、前記液晶配向膜の形状として、ほぼ多角形又は円形の例を説明したが、これらに限定されるものではない。また、両基体３１ａ及び３１ｂの液晶配向膜に対して本発明を適用する例を説明したが、本発明によれば、少なくとも一方の基体であればよい。
【００９７】
また、前記遮光フィルムは、前記一対の基体のうち少なくとも一方に設ければよいが、特に両基体に配することにより、一層の効果が得られる。
【００９８】
また、ＧＨセル１２の液晶配向方位の形成方法として、最も一般的なラビングを用いた例を示したが、これ以外にも、斜方蒸着膜、偏光照射による光配向膜、構造物等を用いた液晶配向方法を用いた場合にも適用できる。
【００９９】
また、前記透明導電膜としてＩＴＯ膜を用いる例を挙げたが、前記透明導電膜は、ＩＴＯ、ＦＴＯ及びＡＴＯのうちの少なくとも１種からなる材料で構成されてよい。
【０１００】
また、液晶セル１２の駆動法にパルス電圧変調（ＰＨＭ）を用いた例を示したが、パルス幅変調（ＰＷＭ）で駆動する場合にも適用できる。
【０１０１】
また、ＧＨセル１２として、上述したもの以外に、２層構造等のＧＨセルも使用可能である。偏光板１１のＧＨセル１２に対する位置は、撮像レンズの設定条件から最適となる位置に配置されればよい。
【０１０２】
そして、被写体が明るくなるにつれて、先に偏光板１１の出し入れによる調光を行った後、ＧＨセル１２による光の吸収を行う例を示したが、逆に、先にＧＨセル１２の光吸収による調光を行うことにしてもよい。この場合、ＧＨセル１２の透過率が所定の値まで低下した後に、偏光板１１の出し入れによる調光を行うことが好ましい。
【０１０３】
また、偏光板１１を有効光路２０から出し入れする手段として、機械式アイリスを用いたが、これに限らない。例えば、偏光板１１が貼付されたフィルムを駆動モーターに直接設置することにより、偏光板１１を出し入れしてもよい。
【０１０４】
アイリス羽根１８、１９は２枚に限られず、より多くの枚数を用いることにしてもよいし、逆に１枚でもよい。また、アイリス羽根１８、１９は、上下方向に移動することにより重ねられるが、他の方向に移動してもよく、周囲から中央に向けて絞り込むことにしてもよい。
【０１０５】
また、偏光板１１は、アイリス羽根１８に貼付されているが、アイリス羽根１９の方に貼付されていてもよい。
【０１０６】
また、上記の例では偏光板１１を有効光路２０に対して出し入れしたが、有効光路中に位置固定することも勿論可能である。
【０１０７】
本発明に基づく調光装置を構成する前記液晶素子として透過型液晶素子を例示したが、この他にも反射型の液晶素子として構成してもよい。
【０１０８】
また、本発明に基づく調光装置は、公知の他のフィルター材（例えば、有機系のエレクトロクロミック材、液晶、エレクトロルミネッセンス材等）と組み合わせて用いることも可能である。
【０１０９】
また、本発明に基づく調光装置は、既述したＣＣＤカメラ等の撮像装置の光学絞り以外にも、各種光学系、例えば、電子写真複写機や光通信機器等の光量調節用としても広く適用が可能である。更に、光学絞りやフィルター以外に、キャラクターやイメージを表示する各種の画像表示装置などにも適用することができる。
【０１１０】
さらに、撮像デバイスとしては、本実施の形態で使用したＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）以外にも、ＣＭＯＳイメージセンサー等への適用も勿論可能である。
【０１１１】
【発明の作用効果】
本発明によれば、前記一対の基体の少なくとも一方において、前記基体角部と前記有効光路エリアとの間の領域のうち少なくとも前記基体角部に前記液晶配向膜が成膜されないように、前記液晶配向膜を形成するので、少なくとも前記基体角部のセルギャップを前記液晶素子の中央部よりも前記液晶配向膜の厚み分、広くすることができる。これにより、前記液晶材料が前記液晶素子の前記基体角部までスムーズに侵入するようになり、結果として、注入不良の発生を効果的に防止することができる。
【０１１２】
また、少なくとも前記基体角部のセルギャップを前記液晶素子の中央部よりも前記液晶配向膜の厚み分、広くできるので、少なくとも前記基体角部においては、前記液晶素子の中央部に比べて広いセルギャップに充填された前記液晶材料によって光透過率が低下する。これにより、前記液晶素子を有する調光装置での筐体周囲からの漏れ光や斜め入射光線等の悪影響を軽減できるようになり、その結果として、ゴーストやシェーディング等の発生を効果的に軽減することができる。
【０１１３】
従って、本発明は、調光装置及び撮像装置の光学的機能の向上を図ることができ、その性能、画質、信頼性の向上を図るために極めて有効である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態による液晶素子の概略平面図である。
【図２】同、液晶素子を構成する各基板の概略平面図である。
【図３】同、液晶素子の概略図である。
【図４】同、その他の例の液晶素子の概略図である。
【図５】同、更に他の例の液晶素子の概略平面図である。
【図６】同、その他の例の液晶素子の概略平面図である。
【図７】同、液晶素子を用いた調光装置の概略側面図である。
【図８】先願発明（特願平１１−３２２１８６号）の調光装置の動作原理を示す概略図である。
【図９】同、調光装置の光透過率と駆動印加電圧との関係を示すグラフである。
【図１０】同、調光装置の機械式アイリスの正面図である。
【図１１】同、調光装置の有効光路付近の機械式アイリスの動作を示す概略部分拡大図である。
【図１２】同、調光装置を組み込んだカメラシステムの概略断面図である。
【図１３】従来の調光装置の動作原理を示す概略図である。
【図１４】同、調光装置の光透過率と駆動印加電圧との関係を示すグラフである。
【図１５】従来例による、液晶素子の製造方法を説明する概略図である。
【図１６】同、液晶素子の製造方法を説明する概略図である。
【図１７】同、液晶素子の概略図である。
【図１８】同、ゴーストの発生原理を示す概略図である。
【図１９】同、シェーディングの発生原理を示す概略図である。
【符号の説明】
１、１１…偏光板、２、１２…ＧＨセル、３…ポジ型液晶分子、
４…ポジ型二色性染料分子、５…入射光、６…基体角部の頂点、
７…液晶注入孔、８…真空部、９…液晶封入エリアの中心点、
１０…電極引き出し部、１３…ネガ型液晶分子、１５…レンズ前群、
１６…レンズ後群、１７…撮像面、１８、１９…アイリス羽根、
２０…有効光路、２２…開口部、２３…調光装置、２５…遮光フィルム、
２６…カーボンペースト、２７…基体角部、３１…基板、３２…透明電極、
３３…液晶配向膜、４０…液晶材料、３５…メインシール、
４６…エンドシール、５０…ＣＣＤカメラ、５１…１群レンズ、
５２…２群レンズ（ズーム用）、５３…３群レンズ、
５４…４群レンズ（フォーカス用）、５５…ＣＣＤパッケージ、
５５ａ…赤外カットフィルタ、５５ｂ…光学ローパスフィルタ系、
５５ｃ…ＣＣＤ撮像素子、５７…リニアモーター
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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