(57)【要約】【課題】プラスチック基板と有機記録層とを使用していながらも、再生時のビットエラーレートを低くすることが可能なホログラム型光記録媒体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明のホログラム型光記録媒体１は、プラスチック基板２と、前記プラスチック基板２の一方の主面上に設けられた無機中間層３と、前記無機中間層３上に設けられ且つホログラフィを利用して情報が記録される有機記録層４とを具備したことを特徴とする。【選択図】    図１
2004279443.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック基板と、前記プラスチック基板の一方の主面上に設けられた無機中間層と、前記無機中間層上に設けられ且つホログラフィを利用して情報が記録される有機記録層とを具備したことを特徴とするホログラム型光記録媒体。
【請求項２】
プラスチック基板と、前記プラスチック基板の一方の主面上に設けられた接着剤層と、前記接着剤層上に設けられた第１透明樹脂層と、前記第１透明樹脂層上に設けられた第１無機中間層と、前記第１無機中間層上に設けられ且つホログラフィを利用して情報が記録される有機記録層と、前記有機記録層上に設けられた第２無機中間層と、前記第２無機中間層上に設けられた第２透明樹脂層とを具備したことを特徴とするホログラム型光記録媒体。
【請求項３】
前記プラスチック基板の他方の主面上に反射層をさらに具備したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記無機中間層は、弗化マグネシウム、弗化カルシウム、弗化ジルコニウム、弗化パラジウム、弗化バリウム、臭化セシウム、沃化セシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化クロム、酸化亜鉛、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化テルル、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、窒化硼素、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ジルコニウム、炭化珪素、硫化亜鉛、チタン酸バリウム、及びダイアモンドからなる群より選択される少なくとも１種の材料を含有したことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
ホログラフィを利用して情報が記録される有機記録層と、前記有機記録層を間に有する一対の透明樹脂層と、それら透明樹脂層と前記有機記録層との間にそれぞれ介在した一対の無機中間層とを備えた積層フィルムを形成する工程と、
前記積層フィルムとプラスチック基板とを接着剤層を介して貼り合せる工程とを含んだことを特徴とするホログラム型光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記プラスチック基板の前記積層フィルムを貼り付ける面の裏面に反射層を設ける工程をさらに含んだことを特徴とする請求項５に記載のホログラム型光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体及びその製造方法に係り、特にはホログラム型の光記録媒体及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ホログラフィックストレージは、光磁気記録媒体や相変化光記録媒体などへ記録を行う現状の記録技術に比べ、遥かに高密度な記録を実現可能な光記録技術の一つである。そのため、ホログラムの記録により大容量・高速転送を実現するホログラフィックストレージに関する開発が盛んに行われている。
【０００３】
ホログラフィックストレージでは、従来、透過型角度多重記録方式を採用していた。この透過型角度多重方式には、極めて高い記憶容量を容易に実現できるという利点が有るが、次に挙げる欠点がある。まず、光学系については、光の干渉を安定に記録するために除震の考慮が必要である、高精度なメカニカル部品と位置決め機構とが必要である、２光束干渉法であるが故に光学系の小型化や低価格化が困難であるなどの欠点がある。搭載する記録媒体に関しては、オプチカルフラットなディスク基板材料が要求される、記録媒体にアドレス等の概念がなく書き換え可能なシステムとしては未完成である、既存の光ディスクとの互換性がないなどの欠点が挙げられる。
【０００４】
近年、上記した透過型角度多重記録方式の課題を解決する目的で、反射型偏光コリニア記録再生方式が提案された（例えば、以下の特許文献１を参照のこと）。この方式では、透明基板の裏面側に反射面を形成し、基板の表面側にホログラム記録層を形成した媒体を使用する。また、この方式では、記録時には記録光と参照光とを表面側から同軸に照射し、再生時には表面側から参照光のみを照射してそれにより生じる回折光を表面側で検出する。
【０００５】
この反射型偏光コリニア記録再生方式には、入射光学系と検出光学系とで多くの部分を共有できるため、透過型のような光学系の位置合わせの課題が少ないという利点がある。また、反射型偏光コリニア記録再生方式によると、多重記録にシフト多重を利用することができる。例えば、一つの記録エリアが直径数１００μｍである場合、或る情報に対応した干渉縞を記録した記録位置（中心位置）から１０μｍ程度シフトさせた位置に、別の情報に対応した干渉縞を記録することができる。この場合、情報は焦点位置を中心とした同心円状の波面として記録されるため、シフト量の許容範囲が広く、ＤＶＤやＣＤとの互換性が得られる。
【０００６】
ところで、ホログラフィック記録システムを民生用向け商品とするためには、媒体の基板として安価で軽いプラスチック基板を用いる必要がある。また、ホログラム記録層としては、一般に、光照射でモノマーが高分子化して屈折率が変調するフォトポリマー、光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調するフォトリフラクティブポリマー、光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料などからなる有機記録層が使用される。
【０００７】
このように、ホログラム型光記録媒体では、主に、プラスチック基板と有機記録層とが組み合わせられると考えられる。しかしながら、本発明者らは、本発明を為すに際し、反射型偏光コリニア記録再生方式を採用した場合にそのような組み合わせを利用すると再生時のビットエラーレートが高くなるという事実を見出している。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００２−１２３９４９号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、プラスチック基板と有機記録層とを使用していながらも、再生時のビットエラーレートを低くすることが可能なホログラム型光記録媒体及びその製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、プラスチック基板と、前記プラスチック基板の一方の主面上に設けられた無機中間層と、前記無機中間層上に設けられ且つホログラフィを利用して情報が記録される有機記録層とを具備したことを特徴とするホログラム型光記録媒体が提供される。
【００１１】
また、本発明によると、プラスチック基板と、前記プラスチック基板の一方の主面上に設けられた接着剤層と、前記接着剤層上に設けられた第１透明樹脂層と、前記第１透明樹脂層上に設けられた第１無機中間層と、前記第１無機中間層上に設けられ且つホログラフィを利用して情報が記録される有機記録層と、前記有機記録層上に設けられた第２無機中間層と、前記第２無機中間層上に設けられた第２透明樹脂層とを具備したことを特徴とするホログラム型光記録媒体が提供される。
【００１２】
さらに、本発明によると、ホログラフィを利用して情報が記録される有機記録層と、前記有機記録層を間に有する一対の透明樹脂層と、それら透明樹脂層と前記有機記録層との間にそれぞれ介在した一対の無機中間層とを備えた積層フィルムを形成する工程と、前記積層フィルムとプラスチック基板とを接着剤層を介して貼り合せる工程とを含んだことを特徴とするホログラム型光記録媒体の製造方法が提供される。
【００１３】
なお、ここでは、用語「無機」は、炭素以外の元素からなる単体、炭素を含まない化合物、単体としての炭素、炭化珪素等の炭化物などのように簡単な炭素化合物を包含することとする。
【００１４】
この光記録媒体は、プラスチック基板の他方の主面上に反射層をさらに具備していてもよい。また、無機中間層は、弗化マグネシウム、弗化カルシウム、弗化ジルコニウム、弗化パラジウム、弗化バリウム、臭化セシウム、沃化セシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化クロム、酸化亜鉛、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化テルル、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、窒化硼素、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ジルコニウム、炭化珪素、硫化亜鉛、チタン酸バリウム、及びダイアモンドからなる群より選択される少なくとも１種の材料を含有していてもよい。
【００１５】
また、この製造方法は、プラスチック基板の積層フィルムを貼り付ける面の裏面に反射層を設ける工程をさらに含んでいてもよい。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、各図において、同様または類似する機能を有する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１７】
図１は、本発明の一実施形態に係るホログラム型の光記録媒体を概略的に示す断面図である。図１に示す光記録媒体１はプラスチック基板２を備えており、基板２の一方の主面上には、無機中間層３、有機記録層（ホログラム記録層）４及び保護層５が順次積層されている。また、基板２の他方の主面上には、反射層６が設けられている。すなわち、この光記録媒体１は、反射型光記録媒体である。
【００１８】
さて、本発明者らは、反射型偏光コリニア記録再生方式を採用した場合にプラスチック基板と有機記録層とを組み合わせると再生時の信号対雑音比（ＳＮ比）が低くなる理由を調べるべく様々な試験を行った。その結果、以下の事実を見出した。
【００１９】
ホログラム記録層の材料として代表的なフォトポリマーは、光照射により酸発生剤が酸を発生するか或いはラジカル発生剤がラジカルを発生することなどによって、低分子化合物であるモノマーが高分子化する材料である。すなわち、そのような材料を用いたホログラム記録層は、モノマーなどの低分子の有機物を含有している。また、通常、プラスチック基板も可塑剤や離型剤などの低分子化合物を含有している。
【００２０】
このため、プラスチック基板上にフォトポリマーなどからなる有機記録層を直接設けると、互いのバルクの中に低分子化合物が拡散してしまう。有機記録層からプラスチック基板に拡散したモノマーや酸は、プラスチック基板の平滑性や透明性を損なう。また、プラスチック基板から有機記録層に可塑剤や離型剤などが拡散すると、有機記録層の感度が低下したり、記録の寿命が短くなったりする。
【００２１】
ところで、プラスチック同士を強く接着させるためには、溶解性パラメータが近いほどよいことが知られている。したがって、フォトポリマーからなる有機記録層をプラスチック基板上に強固に貼り合わせるためには、有機記録層とプラスチック基板とに溶解性パラメータが近い材料を使用するか、或いは、有機記録層とプラスチック基板との間にそれらと溶解性パラメータが近い接着剤層を介在させることが考えられる。しかしながら、何れの場合でも、溶解性パラメータが近いため、上述した低分子化合物の拡散による特性の劣化が顕著に起こってしまう。
【００２２】
このような有機記録層とプラスチック基板またはそれらと接着剤層との間の低分子化合物の拡散は、透過角度多重型のホログラフィック記録及び反射型偏光コリニア方式のホログラフィック記録の双方で再生時のビットエラーレートを上げるなどの問題を生じる可能性がある。しかしながら、実際には、低分子化合物の拡散が再生時のビットエラーレートに与える影響は、反射型偏光コリニア方式のホログラフィック記録では大きな問題となるものの、透過角度多重型のホログラフィック記録では反射型偏光コリニア方式ほどの問題は生じない。これは、以下の理由による。
【００２３】
反射型偏光コリニア方式のホログラフィック記録では、透過角度多重型のホログラフィック記録とは異なり、記録光及び参照光の何れも有機記録層とプラスチック基板との界面を２回透過する。低分子化合物の拡散によって乱れた界面を光が２回透過するので、界面の乱れにより生ずる光の拡散は透過型を採用した場合よりも記録再生に顕著に影響することになる。具体的には、ホログラムの記録時にはゴーストが記録され、再生時には迷光が生じてＳＮ比が低下する。
【００２４】
なお、このような有機記録層とプラスチック基板またはそれらと接着剤層との間の低分子化合物の拡散は、有機記録層の材料として、フォトポリマー、フォトリフラクティブポリマー、フォトクロミック材料の何れを使用した場合にも生じるが、フォトポリマーを使用した場合に最も顕著である。
【００２５】
このような問題に対し、本実施形態では、上記のように、プラスチック基板２と有機記録層４との間に無機中間層３を介在させる。無機中間層３は、プラスチック基板２及び有機記録層４間における低分子化合物の移動を遮る役割を果たす。したがって、本実施形態によると、低分子化合物の拡散に起因した各界面の乱れが生じにくくなり、ホログラムの記録時にゴーストが記録されることや再生時に迷光が生じてＳＮ比が低下するのを抑制すること，すなわち再生時のビットエラーレートを低く抑えること，ができる。
【００２６】
本実施形態において、プラスチック基板２の材料としては、数１００μｍから１ｍｍ程度の厚みの透明材料を用いるのが一般的であり、典型的には、透明で機械的強度が高い所謂エンジニアリングプラスチックが用いられる。代表的なプラスチック基板２の材料としては、ポリカーボネート樹脂、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリアリレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ（エチレンジメチルアクリレート）、ポリジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。
【００２７】
無機中間層３の材料としては、例えば、弗化マグネシウム、弗化カルシウム、弗化ジルコニウム、弗化パラジウム、弗化バリウム、臭化セシウム、沃化セシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化クロム、酸化亜鉛、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化テルル、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、窒化硼素、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ジルコニウム、炭化珪素、硫化亜鉛、チタン酸バリウム、及びダイアモンドなどを挙げることができる。無機中間層３の材料としては、記録光やサーボ光に対する透過率が高く且つ有機記録層４やプラスチック基板２と近い屈折率であるものを使用することが望ましい。
【００２８】
無機中間層３は、通常、連続膜の形態に形成されていれば、低分子化合物の拡散を抑制する効果を発揮する。無機中間層３に使用する材料やその成膜法などにもよるが、通常、無機中間層３の厚さを約１ｎｍ以上とすれば、ピンホールなどの発生を十分に防止することができる。なお、無機中間層３の厚さの上限値に特に制限はないが、過剰に厚い無機中間層３は製造コストの上昇をもたらす。したがって、無機中間層３の厚さは約２０００ｎｍ以下とすることが望ましい。
【００２９】
有機記録層４は、干渉縞を記録可能な有機層であって、光照射に引き続いて起こる変化によって主に屈折率などの光学特性が変化する材料からなる。有機記録層４の材料としては、例えば、光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマーや、フォトリフラクティブ効果を示す，すなわち光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する，有機フォトリフラクティブ材料や、光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料などを挙げることができる。
【００３０】
有機記録層４に使用可能なフォトポリマーは、例えば、マトリクスであるポリマーと、モノマーと、光開始剤とを含有した組成物である。このフォトポリマーは、増感剤やオリゴマーなどをさらに含有することができる。
【００３１】
フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法を利用することができる。また、重合時の体積変化を緩和するために、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、低分子成分を含むフォトポリマーで有機記録層４を形成する場合、記録層４中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、酸開裂構造を有する化合物を添加する場合、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。
【００３２】
上記フォトポリマーに使用可能なモノマーとしては、例えば、アクリレート反応基を持つものを用いることができる。そのようなモノマーとしては、例えば、イソボニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ジエチレングリコール、モノエチルエーテルアクリレート、エチルアクリレートなどを挙げることができる。また、多官能アクリレートである、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどを用いることができる。さらに、屈折率変調を大きくさせるために、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾル−９−イルエチルアクリレートのようなアクリレートも用いることができる。また、低屈折率アクリレートである（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピリアクリレートや（ペルフルオロシクエオヘキシル）メチルアクリレートなども使用することができる。
【００３３】
上記フォトポリマーに使用可能な他のモノマーとしては、例えば、ビニルベンゾエート、ビニル３，５−ジクロロベンゾエート、ビニル１−ナフトエートなどを挙げることができる。また、Ｎ−ビニルカルバゾールを用いることもある。
【００３４】
上記フォトポリマーに使用可能な光開始剤としては、記録光に感度のあるもの，例えば、光照射によってラジカル重合を引き起こす材料やカチオン重合を引き起こす材料，を挙げることができる。例えば、ビス（２，６−ジフルオロ−３−ピロリルフェニル）チタノセン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４−シクロペンタジエン−１−イル−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドと１−ヒドロキシーシクロヘキシル−フェニルーケトンとの混合物、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジオメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１などのラジカル発生剤を用いることができる。
【００３５】
フォトポリマーはこれらの材料を攪拌混合することによって得られる。また、有機記録層４は、このフォトポリマーをキャスティングすることによって形成することができる。
【００３６】
有機記録層４に使用可能な有機フォトリフラクティブ材料は、例えば、電荷輸送材、電荷発生材、非線形光学材料を含有した組成物である。この有機フォトリフラクティブ材料は、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば、低分子材料のみで構成されていてもよく、或いは、高分子材料を含有していてもよい。
【００３７】
有機フォトリフラクティブ材料を使用する場合、有機記録層４は、例えば、有機フォトリフラクティブ材料に関して上述した各成分を溶媒中に溶解してなる溶液を用いて塗膜を形成し、この塗膜から溶媒を除去することにより形成することができる。或いは、加熱して流動化させた有機フォトリフラクティブ材料を用いて塗膜を形成し、この塗膜を急冷することにより形成することもできる。
【００３８】
電荷発生材は、記録光を吸収して電荷を発生する。したがって、電荷発生材は記録光を吸収する材料である。記録光に対する光学濃度が非常に高い電荷発生材を用いた場合、深部の電荷発生材まで記録光が到達しないことがある。それゆえ、有機記録層４の光学密度が例えば１０−６ｃｍ−１乃至１０ｃｍ−１の範囲内となるように電荷発生材の種類及び濃度を調整することが好ましい。
【００３９】
有機フォトリフラクティブ材料に使用可能な電荷発生材としては、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、それらの誘導体等のフタロシアニン色素／顔料、ナフタロシアニン色素／顔料、モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾなどのアゾ系色素／顔料、ペリレン系染料／顔料、インジゴ系染料／顔料、キナクリドン系染料／顔料、アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料／顔料、シアニン系染料／顔料、例えばＴＴＦ−ＴＣＮＱで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体、アズレニウム塩、Ｃ６０やＣ７０で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレンなどが挙げられる。これらのなかでも、電荷移動錯体には、本実施形態に係る記録媒体１の有機記録層４での使用に特に適したものがある。
【００４０】
電荷輸送材は、ホールまたはエレクトロンを輸送するものである。有機フォトリフラクティブ材料に使用可能な電荷輸送材は、低分子化合物であってもよく或いは高分子化合物であってもよい。また、電荷輸送材が高分子化合物である場合、共重合体であってもよい。
【００４１】
有機フォトリフラクティブ材料に使用可能な電荷輸送材としては、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾールなどの含窒素環式化合物またはその誘導体またはそれを主鎖または側鎖に有する化合物、ヒドラゾン化合物、トリフェニルアミン類、トリフェニルメタン類、ブタジエン類、スチルベン類、アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物またはその誘導体またはそれを主鎖または側鎖に有する化合物、Ｃ６０やＣ７０等のフラーレン並びにその誘導体などを挙げることができる。さらには、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子やオリゴマー、ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子やオリゴマー、アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなどの多環芳香族化合物等も挙げることができる。
【００４２】
有機記録層４に使用可能な有機フォトクロミック材料は、フォトクロミック反応を起こす材料であり、フォトクロミック反応とは光によって状態が変わる反応であって、異性化はもちろんのこと、開環−閉環、イオン化、水素移動等の多くの構造変化によって起こるものである。フォトクロミック化合物としては、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物などが挙げられる。これらの中でも、光照射により、シスートランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン誘導体及びスチルベン誘導体、光照射により、開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン誘導体及びスピロオキサジン誘導体などが好ましい。
【００４３】
保護層５は、必ずしも設ける必要はないが、有機記録層４の機械的保護などの観点では設けることが望ましい。保護層４に使用可能な材料としては、例えば、ガラス、透明樹脂、無機中間層３に関して上述した材料などの透明材料を挙げることができる。また、保護層５として、高感度のフォトブリーチ機能を有する膜やフォトクロミック機能を有する膜を用いれば、自然光による有機記録層４の劣化を防止できるので、シェルフライフの向上に繋がる。なお、記録前の記録層４はモノマーが分散した準安定状態にあるので自然光劣化が問題となることがあるが、記録後の記録層４は干渉パターンに対応してモノマーの重合が完了した安定状態にあるので保護層５が無くてもアーカイバルライフに問題を生じることはない。
【００４４】
反射層６の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが望ましい。例えば、使用する光の波長が４００ｎｍ乃至７８０ｎｍである場合にはＡｌ合金やＡｇ合金などを使用することが好ましく、６５０ｎｍ以上である場合には、それら合金や、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ等を使用することが好ましい。反射層６の厚さは、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上とすることが好ましく、１００ｎｍ以上とすることがより好ましい。
【００４５】
図１に示す光記録媒体１は、例えば、以下の方法により製造することができる。すなわち、まず、プラスチック基板２の一主面上にスパッタリング法などにより無機中間層３を形成する。次いで、無機中間層３上にキャスティング法などにより有機記録層４を設ける。その後、有機記録層４に保護層５として透明基板を密着させるか或いは有機記録層４上に保護層５として透明薄膜を形成する。その後、プラスチック基板２の有機記録層４などを設けた面とは反対側の面に、スパッタリング法などにより反射層６を形成する。なお、反射層６は、どの段階で形成してもよい。以上のようにして、図１に示す光記録媒体１を得る。
【００４６】
図１に示す光記録媒体１には様々な変形が可能である。
図２は、図１に示す光記録媒体１の一変形例を概略的に示す断面図である。図２に示す光記録媒体１は、有機記録層４と保護層５との間に無機中間層７が設けられていること以外は図１に示す光記録媒体１と同様の構造を有している。この無機中間層７は、無機中間層３と同様の材料で構成されており、先に説明した無機中間層３と同様の役割を果たす。そのため、保護層５が透明プラスチック基板などの透明樹脂層である場合に、有機記録層４及び保護層５間における低分子化合物の移動を遮ることができる。したがって、低分子化合物の拡散に起因した各界面の乱れがより生じにくくなり、ホログラムの記録時にゴーストが記録されることや再生時に迷光が生じてＳＮ比が低下するのをより効果的に抑制することができる。
【００４７】
なお、図２に示す光記録媒体１は、例えば、以下の方法により製造することができる。すなわち、まず、保護層５としてプラスチック基板などの透明基板を準備し、その一主面上にスパッタリング法などにより無機中間層７を形成する。その一方で、プラスチック基板２の一主面上にスパッタリング法などにより無機中間層３を形成する。
【００４８】
次いで、無機中間層３上にキャスティング法などにより有機記録層４を設ける。その後、透明基板上に形成した無機中間層７を有機記録層４に密着させる。さらに、プラスチック基板２の有機記録層４などを設けた面とは反対側の面に、スパッタリング法などにより反射層６を形成する。なお、反射層６は、どの段階で形成してもよい。以上のようにして、図２に示す光記録媒体１を得る。
【００４９】
図３は、図１に示す光記録媒体１の他の変形例を概略的に示す断面図である。図３に示す光記録媒体１は、プラスチック基板２と無機中間層３との間に接着剤層８及び透明樹脂層９が設けられていること以外は図２に示す光記録媒体１と同様の構造を有している。
【００５０】
この構造では、有機記録層４の両主面には無機中間層３，７が設けられているため、プラスチック基板２などから有機記録層４中への低分子化合物の拡散や有機記録層４からプラスチック基板２などへの低分子化合物の拡散を抑制することができる。また、この構造では、プラスチック基板２と無機中間層３との間に接着剤層８及び透明樹脂層９が介在しているが、有機記録層４とは異なり、接着剤層８や透明樹脂層９には低分子化合物の含量が低い材料を使用可能である。したがって、この構造でも、低分子化合物の拡散に起因した各界面の乱れが生じにくく、ホログラムの記録時にゴーストが記録されることや再生時に迷光が生じてＳＮ比が低下するのを効果的に抑制することができる。
【００５１】
また、このような構造を採用すると、光記録媒体１を例えば以下の方法により製造することができる。すなわち、まず、保護層５及び透明樹脂層９として、プラスチックシートのような透明樹脂層を準備する。次いで、各透明樹脂層５，９の一主面上に、スパッタリング法などにより無機中間層７，３をそれぞれ形成する。なお、無機中間層７は設けなくてもよいが、無機中間層７を設けると、保護層５の材料として透明プラスチックなどの透明樹脂を使用した場合に、有機記録層４及び保護層５間における低分子化合物の移動を遮ることができる。
【００５２】
その後、キャスティング法などにより無機中間層７，３の何れか一方の上に有機記録層４を形成し、続いて、有機記録層４を間に挟んで無機中間層７，３が向き合うように透明樹脂層５，９をロールなどを利用して貼り合せる。
【００５３】
次に、以上の方法により形成した積層体の透明樹脂層９とプラスチック基板２とをロールなどを利用して接着剤層８を介して貼り合せる。次いで、接着剤層８に光照射及び／または加熱処理を施して硬化させる。なお、この処理は必ずしも必要ではなく、ロールなどを利用した加圧だけでもよい。また、この処理を行う場合、有機記録層４の光学特性が大きく変化しない条件のもとで行うことが望ましい。
【００５４】
さらに、プラスチック基板２の有機記録層４などを設けた面とは反対側の面に、スパッタリング法などにより反射層６を形成する。なお、反射層６は、どの段階で形成してもよい。以上のようにして、図３に示す光記録媒体１を得る。
【００５５】
接着剤層８の材料としては、例えば、溶媒揮散形接着剤、熱可塑性樹脂を用いたホットメルト接着剤、化学反応形接着剤、光硬化型材料などを用いることができる。なお、図３の構造では、透明樹脂層９を省略することができる。この場合、プラスチック基板２と無機中間層３との接着には、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン接着剤、第二世代アクリル接着剤などを使用することが望ましい。
【００５６】
次に、本実施形態に係る光記録媒体１へ情報を記録する方法、光記録媒体１に記録された情報を再生する方法、そのような記録・再生を実施可能な記録再生装置、及び各種制御方法について説明する。なお、以下、図１に示す光記録媒体１を例に説明を行うが、図２及び図３に示す光記録媒体１についても同様の方法により記録・再生・各種制御が可能である。
【００５７】
図４は、図１の光記録媒体１への情報の記録方法の一例を概略的に示す図である。なお、図４において、実線２１は記録光（Ｓ偏光）を示し、破線２２は参照光（Ｐ偏光）を示している。
【００５８】
記録光２１の入射系には、シャッタ３１と空間変調器（ＳＬＭ）３２とが設けられている。ＳＬＭ３２を情報信号に対応して駆動することにより、記録光２１に情報信号を搬送させる。このＳ偏光の記録光２１は、次いで、偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）３３に入射し、媒体１の方向へと進行方向を９０°だけ変化させてＰＢＳ３３を出射する。その後、記録光２１は、ジャイレータ３４を通過する。
【００５９】
図４の例では、２分割ジャイレータ３４は、その右半分が偏光面を＋４５°回転させるように設定され、左半分が偏光面を−４５°回転させるように設定されている。したがって、Ｓ偏光の記録光２１のうち、ジャイレータ３４の右側部分を通過した光はＳ＋４５°に偏光面を回転させ、左側部分を通過した光はＳ−４５°に偏光面を回転させる。その後、記録光２１は、対物レンズ３５を通過して光記録媒体１の反射層６の上面に集光される。
【００６０】
他方、Ｐ偏光の参照光２２はＰＢＳ３３の上側から入射し、ＰＢＳ３３を直進する。参照光２２のうち、ジャイレータの右側部分を通過した光はＰ＋４５°の偏光面になり、左側部分を通過した光はＰ−４５°の偏光面になる。その後、記録光２１と同様、対物レンズ３５を介して光記録媒体１の反射層６の上面に集光される。
【００６１】
Ｓ＋４５°の偏光面を有する記録光２１とＰ−４５°の偏光面を有する参照光２２は、それらの偏光面が一致している。したがって、図４に模式的に示すように、有機記録層４中に干渉縞が形成される。
【００６２】
なお、図４では、煩雑を避ける為、Ｓ＋４５°の偏光面を有する記録光２１とＰ−４５°の偏光面を有する参照光２２による干渉縞のみを示しているが、Ｓ−４５°の偏光面を有する記録光２１とＰ＋４５°の偏光面を有する参照光２２も同一の偏光面を有する為、記録層４中に情報信号に応じた干渉縞を形成する。また、図４では、Ｓ＋４５°の記録光２１の入射光とＰ−４５°の参照光２２の反射光とが有機記録層４の右側部分で干渉している状態を描いているが、記録層４の左側部分ではＳ＋４５°の記録光２１の反射光とＰ−４５°の参照光２２の入射光とが干渉する。したがって、有機記録層４中には、ＳＬＭ３２の信号が二重に記録されることになる。
【００６３】
基板２と無機中間層３と記録層４との積層体の厚みは例えば数１００μｍ乃至１ｍｍ程度なので、記録光２１と参照光２２の光路差は殆どなく、記録層４のほぼ同一の場所に、図４の構成ではＳＬＭ３２の上部（ジャイレータ３４の右側に入射）と下部（同左側に入射）の情報信号が、記録層４の左右に二重に記録される。ＳＬＭ３２の上部と下部とでは情報パターンが異なる為、二重書きになることになるが、ＳＬＭ３２の上部、下部とも、記録層４の左右に二回ずつ同一の干渉パターンを形成するため、透過型角度多重再生に比較して信号品質が劣る事はない。
【００６４】
図５は、図１の光記録媒体１に記録された情報を再生する方法の一例を概略的に示す図である。
【００６５】
再生時には、記録光２１の入射系にあるシャッタ３１を閉じる。シャッタ３１は、再生時に記録媒体１側へ記録光２１が入射するのを防止する機能を持てば良く、液晶シャッタ、Ｓ偏光反射板、全反射板など自由に用いる事が出来る。再生時は、Ｐ偏光の参照光２２のみを入射させる。
【００６６】
図５では、簡略化のため、ＰＢＳ３３の左側から入射する再生用の参照光２２に着目して描いている。入射Ｐ偏光はジャイレータ３４の左側を通過することによりＰ−４５°に偏光面を回転させ、対物レンズ３５を介して干渉パターンが記録された記録媒体１に入射する。図５の例では、図４と整合するように、Ｐ−４５°の参照光２２の反射光が干渉縞により回折される様子を描いている。記録済みの干渉縞は、記録方法に関する説明で述べたように、Ｓ＋４５°の記録光２１とＰ−４５°の参照光２２によって形成されたものなので、ここにＰ−４５°の再生用参照光２２が入射すると、干渉縞に従って回折され、対物レンズ３５側に戻る。対物レンズ３５を通過し、ジャイレータ３４を通過した回折光２３は、入射時とは逆側の方向からジャイレータ３４を通過するので、偏光面が＋４５°回転する。その結果、回折光２３はＰ偏光（＝Ｐ−４５°＋４５°）となり、ＰＢＳ３３を直進して、再生光学系（図示せず）へと至る。
【００６７】
干渉パターンで回折されなかった一部の光は直進して対物レンズ３５の右側を通過する。この光はジャイレータ３４の右側を下側から通過する事になるので、Ｓ偏光（＝Ｐ−４５°−４５°）となり、ＰＢＳ３３を直進出来ずに、ＳＬＭ３２側へ９０°曲げられる。したがって、再生光学系には戻らず、全くノイズ源にはならない。
【００６８】
また、Ｐ−４５°の入射光の一部は、反射層６に到達する前に有機記録層の左側に書き込まれている干渉縞（図示せず）によって回折を受け信号に寄与する。すなわち、反射層６で反射された参照光２２が回折してなる回折光２３と反射層６で反射されない参照光２２が回折してなる回折光との双方が再生光となる。そのため、再生信号品質が向上する。なお、再生用参照光２２のうち、ＰＢＳ３３の右側から入射した光は、Ｐ＋４５°偏光として媒体１に入射すること以外は、前記したＰ−４５°偏光として媒体１に入射した再生用参照光２２と同様に振舞う。
【００６９】
図６は、図４の記録方法及び図５の再生方法を実施可能な記録再生装置の一例を概略的に示す図である。
【００７０】
図６に示す記録再生装置１００は、記録／再生用の光源３７として、例えば、ホログラム記録に適したコヒーレント長の長い光２０を出力するレーザ光源を備えている。現在、ホログラム記録に最も一般的な光源は波長５３２ｎｍの固体レーザであるが、Ｋｒ＋ガスレーザ、外部共振器付き半導体レーザ（波長は、青色から近赤外まで自由に選べ、典型的には、４０５ｎｍ，６５０ｎｍ，７８０ｎｍ等である）、後述するＤＦＢ，ＤＢＲ，ＶＣＳＥＬ等の外部共振器が無くてもコヒーレント長の長い半導体レーザ素子（ＬＤ）も使用可能である。光源３７として利用するレーザ光源の種類にもよるが、光源３７とレンズ３８との間にビーム成型プリズム等を設けてもよい。
【００７１】
光源３７が発した光２０は、レンズ３８で平行光になった後、１／２波長板３９を透過する。記録光２１と参照光２２との強度比は、１／２波長板３９を回転させることにより調整可能であり、記録時に記録媒体１に入射するＳ偏光の記録光２１とＰ偏光の参照光２２の強度とを一致させることが好ましい。１／２波長板３９を通過後、光２０はＰＢＳ４０に入射し、Ｓ偏光の記録光２１とＰ偏光の参照光２２とに分割される。
【００７２】
記録光２１は、次いで、シャッタ３１（図６では省略）及びＳＬＭ３２を透過し、その後、ハーフミラー（以下、ＨＭという）４１に入射する。ＨＭ４１の代わりにＰＢＳや全反射ミラーを用いることができ、記録光２１の利用効率を高める観点では、Ｓ偏光のほぼ全てを反射し得るＰＢＳや全反射ミラーを使用することが望ましい。但し、他の観点では、ＰＢＳや全反射ミラーではなくＨＭ４１を使用することが望ましい。これは、ＨＭ４１を用いると、情報光強度を検出する光検出器（以下、ＰＤという）４２に記録光２１の一部を入射させて、記録光２１の強度を検出可能となるからである。ＨＭ４１で９０°光路を曲げられた記録光２１はＰＢＳ３３に入射し、ここで再度９０°光路を曲げられて記録媒体１に入射する。
【００７３】
他方、Ｐ偏光の参照光２２はＰＢＳ４０を直線的に通過し、ＨＭ４３により、一部は媒体１側に９０°曲げられ、他の一部は参照光ＰＤ４４に入射して参照光２２の強度検出に利用される。先の情報光ＰＤ４２とこの参照光ＰＤ４４とにより記録光２１の強度と参照光２２の強度とを検出できると、媒体１に入射する記録光２１の強度と参照光２２の強度とが一致するように、１／２波長板３９の方位を制御することが可能となる。
【００７４】
ＨＭ４３で媒体１側に曲げられた参照光２２は、ＰＢＳ３３を通過し媒体１に入射する。後は、図４及び図５を参照しながら説明した方法に従って、記録・再生が行われる。
【００７５】
ここで、再生系について補足説明を加える。図５を参照して説明した通り、再生に寄与する回折光２３はＰ偏光に戻り、ＰＢＳ３３を直進する。その後、回折光２３の一部は、ＨＭ４３を直進し、ＨＭ４３の上方に必要に応じて設けられる結像レンズ４５によってＣＣＤ検出器４６上に集光される。ＣＣＤ検出器４６は、記録層４中に形成された干渉パターンに対応した光強度分布を電気信号へと変換し、これにより、情報の再生が行われる。また、ＰＢＳ３３を直進した回折光２３の他の一部はＨＭ４３により光源３７側へと反射される。光源３７のフロントエンドまたはバックエンドにモニタを設ければ、ＨＭ４３により反射された回折光２３をこのモニタで検出し、高周波重畳などを行って光源３７を駆動することにより、光源３７を出射する光２０の安定性を向上させることができる。
【００７６】
次に、サーボ光学系について説明する。
図６に示すように、記録再生装置１００では、サーボ用の光源５０と記録／再生用の光源３７とを独立して設け、それらの波長を異ならしめるのが一般的である。光源５０の波長は光源３７の波長よりも長く設定するのが一般的であり、例えば、光源３７の波長を４０５ｎｍとする場合、光源５０の波長は５３２ｎｍ，６５０ｎｍ，７８０ｎｍなどとする。また、光源３７の波長を５３２ｎｍとする場合、光源５０の波長は６５０ｎｍ，７８０ｎｍなどとする。
【００７７】
サーボ光２４の波長が録再光２０とは異なる場合、ＰＢＳ４０などの設計にも依存するが、サーボ光２４は、ＰＢＳ４０、ＨＭ４１、ＰＢＳ３３を順次経由して、媒体１の反射層６に至る。基板２と反射層６との界面（サーボ面）にはサーボ情報がピットなどとして記録されており、したがって、反射層６で反射されたサーボ光２４はサーボ情報を搬送している。
【００７８】
反射層６で反射されたサーボ光２４は、必要に応じて配置されるレンズ５１を通過し、フォーカシング及びトラッキング用の４分割ＰＤ５２により検出される。検出したサーボ光２４は電気信号に変換され、コントローラ（図示せず）に入力される。このコントローラからの出力信号に基づいてボイスコイルモータ（ＶＣＭ）５３の動作が制御され、対物レンズ３５が適正な位置へと移動する。このようにして、フォーカシング、トラッキング、アドレシング制御を行う。なお、サーボ面から反射してきたサーボ光２４はＨＭを多段に配置することにより分割し、分割した各サーボ光２４を利用してフォーカシング、トラッキング、アドレシング制御を各々独立に行ってもよい。また、サーボ光検出系の構成は基本的にはＤＶＤやＣＤなどと同様とすることができる。
【００７９】
なお、上述のフォーカシング、トラッキング、アドレシング制御を行う場合、光記録媒体１には、例えば、以下の構造を採用する。
【００８０】
例えば、光記録媒体１の形状が円盤状（ディスク状）である場合、一般に、サーボ面は、ディスクのラジアル方向にはトラック分割され、タンジェンシャル方向にはセクター分割される。セクターは、アドレス情報や制御情報などをプリピットパターンとして有するヘッダ部と、ユーザデータを記録可能なデータ部とで構成される。例えば、ヘッダ部には、媒体１のヘッドに対する相対移動方向に沿って、トラッキング情報に対応したピット列及びアドレス情報に対応したピットパターンが互いに離間して順次設けられる。また、データ部では、基板２の反射層６を形成した面（サーボ面）にはピットは設けずに鏡面とする。すなわち、この構造を採用した場合、トラッキングはサンプルサーボにより行われる。
【００８１】
なお、データ部にトラッキングガイド用の溝などの凹凸があると、この凹凸部で記録光や参照光が散乱され、所望の干渉パターンを記録再生するのが困難となる。これに対し、上記の構造では、データ部を鏡面としているため、そのような問題を生じない。但し、サンプルサーボはＣＤやＤＶＤとの互換性の取りにくい手法である。したがって、それらとの互換性を考慮すると、他の構造を採用したほうが有利な場合が多い。
【００８２】
以上、反射型偏光コリニア方式のホログラフィック記録を考慮して光記録媒体１の説明を行ったが、上記の光記録媒体１から反射層６を除けば、透過型のホログラフィック記録も可能である。
【００８３】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明する。
（実施例１）
本例では、以下の方法により、図２に示す光記録媒体１を作製した。なお、本例では、反射層６は設けなかった。
【００８４】
まず、ジ（ウレタン−アクリレート）オリゴマーを６３．８３重量％と、モノマーであるイソボルニルアクリレートを２５．０重量％と、モノマーであるビニル１−ナフトエートを１０．０重量％と、光開始剤であるビス（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムを１．０重量％と、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキシドを０．１７重量％とを混合してフォトポリマーを調製した。
【００８５】
次に、ポリカーボネートフィルム２，５のそれぞれの一主面上に、無機中間層３，７として、スパッタリング法により厚さ０．２μｍのＭｇＦ２層を形成した。その後、無機中間層３，７間に有機記録層４が形成されるように先のフォトポリマーをポリカーボネートフィルム２，５間に挟み込み、さらに、フォトポリマーを部分的に硬化させることにより、反射層６を設けなかったこと以外は図２に示したのと同様の構造を有する光記録媒体１を作製した。
【００８６】
この記録媒体１を、波長５３２ｎｍ、パワー５０ｍＷのレーザを光源として備えた透過型光記録装置に搭載した。そして、空間光変調器を透過させて情報を重畳させた記録光を集光して光記録媒体１に照射し、同時に参照光を照射して干渉縞を記録した。多重は参照光の角度を変える角度多重方式で行った。
【００８７】
この後、レーザパワーを１００分の１に落とし、記録した情報の再生を行った。その結果、ＲＡＷビットエラーレートは１０−４以下であり、記録した情報を高精度に再生することができた。
【００８８】
（比較例１）
無機中間層３，７を設けなかったこと以外は実施例１で説明したのと同様の方法により光記録媒体１を作製した。この光記録媒体１に対しても、実施例１で説明したのと同様の方法により、記録再生試験を行った。その結果、ＲＡＷビットエラーレートは１０−２程度にまで上昇し、実施例１に比べ、再生効率が非常に低くなってしまった。
【００８９】
また、この光記録媒体１について、干渉計でオプチカルフラットネスを測定した。その結果、有機記録層４とポリカーボネートフィルム２，５との間にはμｍオーダーのギャップが点在しており、光の透過効率が実施例１に比べて４０％減少していることが確認された。
【００９０】
（実施例２）
本例では、以下の方法により、図１に示す光記録媒体１を作製した。なお、本例では、保護層５は設けなかった。
【００９１】
まず、トルエン中に、電荷発生材であるジエチル１，２−メタノ［６０］−フラーレン−６１，６１−ジカルボキシレートを０．２重量％と、電荷輸送材であるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−（２−アフチル）−（１，１’−フェニル）−４，４’’−ジアミンを３０．０重量％と、トラップ材であるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−（２−アフチル）−（ｐ−テルフェニル）−４，４’’−ジアミンを１０．０重量％と、非線形光学材料である［［４−（ジメチルアミノ）フェニル］−メチレン］−２−メチル−４−ニトロベンゼンアミンを４０．０重量％と、ポリスチレンを１９．８重量％とを溶解させて、トルエン溶液を調製した。
【００９２】
次に、一主面にプリグルーブを形成したポリカーボネート基板（波長５３２ｎｍの光に対する屈折率＝１．５９、厚さ６００μｍ）２のプリグルーブを形成した面に反射層６を形成した。また、それとは反対側には、ＣａＦ２（波長５３２ｎｍの光に対する屈折率＝１．４４）を１００ｎｍの厚さにスパッタリングして無機中間層３を形成した。
【００９３】
その後、この無機中間層３上に上記トルエン溶液をキャスティングし、有機記録層４を形成した。有機記録層４の溶媒であるトルエンにはＣａＦ２は溶けないので、有機記録層４と無機中間層３との界面は凸凹が１００ｎｍ以下の非常にフラットな状態とすることができた。なお、ここでは、有機記録層４の膜厚は２００μｍとした。
【００９４】
以上の方法により得られた光記録媒体１を、図６に示す記録再生装置１００に搭載し、記録再生試験を行った。なお、ここでは、開口数を０．５とし、光源３７としては波長が５３２ｎｍでありパワーが５０ｍＷのレーザを使用した。また、記録光及び参照光のビーム径は、有機記録層４の上面の位置では１２００μｍであり、有機記録層４の下面の位置では９００μｍであった。さらに、ここでは、５μｍずつシフトさせて異なる情報を記録するシフト多重記録を行った。この後、レーザパワーを１００分の１に落とし、記録の再生を行った。その結果、ＲＡＷビットエラーレートは１０−６以下と記録した情報を高精度に再生することができた。
【００９５】
（比較例２）
無機中間層３を設けなかったこと以外は実施例２で説明したのと同様の方法により光記録媒体１を作製した。この光記録媒体１に対しても、実施例２で説明したのと同様の方法により、記録再生試験を行った。その結果、媒体１に入射した光は殆んど戻って来ることはなかったため、再生は不可能であった。
【００９６】
次に、基板２ごと媒体１をスライスして、断面をＳＥＭで観察した。その結果、有機記録層４とプラスチック基板２との間にそれらが混ざり合った融解層が生じていることが判明した。以上から、再生不可能であった理由は、低分子化合物の拡散により有機記録層４及び基板２の界面及び／またはその近傍の領域が劣化したためであると推定される。
【００９７】
（実施例３）
本例では、以下の方法により、図３に示す光記録媒体１を作製した。
【００９８】
まず、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートを６３．８３重量％と、モノマーであるイソボルニルアクリレートを２５．０重量％と、モノマーであるビニル１−ナフトエートを１０．０重量％と、光開始剤であるビス（２，４，６−トリメチルバンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドを１．０重量％と、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキシドを０．１７重量％とを混合して、フォトポリマーを調製した。
【００９９】
次に、保護層５及び透明樹脂層９として膜厚５μｍの日本ゼオン社製シクロオレフィン系ポリマーであるゼオネックスフィルムを使用し、それらの一主面に無機中間層３，７としてスパッタリング法により厚さ０．２μｍのＭｇＦ２層を形成した。その後、無機中間層３，７間に有機記録層４が形成されるように先のフォトポリマーをポリカーボネートフィルム２，５間に挟み込み、さらに、フォトポリマーを部分的に硬化させることにより、積層フィルムを作製した。なお、この積層フィルムはロール状にした。
【０１００】
次いで、一主面にプリグルーブを形成したゼオネックス基板（厚さ６００μｍ）２のプリグルーブを形成した面に反射層６を形成した。そして、その裏面に、先の積層フィルムを、ホットメルト型接着剤を用いて貼り付けた。この接着に際しては、透明樹脂層９と基板２との双方に接着剤を１μｍ程度の厚さにスプレー塗布した。その後、それらを加熱圧着することにより、基板２上に積層フィルムを密着させることができた。
【０１０１】
以上の方法により得られた光記録媒体１を図６に示す記録再生装置１００に搭載し、記録再生試験を行った。なお、ここでは、開口数を０．５とし、光源３７としては波長が５３２ｎｍでありパワーが５０ｍＷのレーザを使用した。また、記録光及び参照光のビーム径は、有機記録層４の上面の位置では１２００μｍであり、有機記録層４の下面の位置では９００μｍであった。さらに、ここでは、３μｍずつシフトさせて異なる情報を記録するシフト多重記録を行った。この後、レーザパワーを１００分の１に落とし、記録の再生を行った。その結果、ＲＡＷビットエラーレートは１０−６以下と記録した情報を高精度に再生することができた。
【０１０２】
（比較例３）
無機中間層３，７を設けなかったこと以外は実施例３で説明したのと同様の方法により光記録媒体１を作製した。この光記録媒体１に対しても、実施例３で説明したのと同様の方法により、記録再生試験を行った。その結果、ＲＡＷビットエラーレートは１０−２程度にまで上昇し、実施例３に比べ、再生効率が非常に低くなってしまった。
【０１０３】
また、この光記録媒体１について、干渉計でオプチカルフラットネスを測定した。その結果、有機記録層４と保護層５及び透明樹脂層９との間にはμｍオーダーのギャップが点在しており、光の透過効率が実施例３に比べて２０％減少していることが確認された。
【０１０４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によると、プラスチック基板と有機記録層とを使用していながらも、再生時のビットエラーレートを低くすることが可能なホログラム型光記録媒体及びその製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るホログラム型の光記録媒体を概略的に示す断面図。
【図２】図１に示す光記録媒体の一変形例を概略的に示す断面図。
【図３】図１に示す光記録媒体の他の変形例を概略的に示す断面図。
【図４】図１の光記録媒体への情報の記録方法の一例を概略的に示す図。
【図５】図１の光記録媒体に記録された情報を再生する方法の一例を概略的に示す図。
【図６】図４の記録方法及び図５の再生方法を実施可能な記録再生装置の一例を概略的に示す図。
【符号の説明】
１…光記録媒体、２…プラスチック基板、３…無機中間層、４…有機記録層、５…保護層、６…反射層、７…無機中間層、８…接着剤層、９…透明樹脂層、２０…光、２１…記録光、２２…参照光、２３…回折光、３１…シャッタ、３２…空間変調器、３３…偏光ビームスプリッタ、３４…２分割ジャイレータ、３５…対物レンズ、３７…光源、３８…レンズ、３９…１／２波長板、４０…偏光ビームスプリッタ、４１…ハーフミラー、４２…光検出器、４３…ハーフミラー、４４…光検出器、４５…結像レンズ、４６…ＣＣＤ検出器、５０…光源、５１…レンズ、５２…４分割光検出器、５３…ボイスコイルモータ、１００…記録再生装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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