(57)【要約】【課題】従来の技術の欠点を解消し、サイクルタイムの短縮を可能とした等方圧加圧装置及び等方圧加圧処理方法を提供すること。【解決手段】高圧容器２内に断熱層１０で囲われた処理室１８を有し、該処理室１８に加熱装置１７を有し、前記処理室１８で処理物１を熱間等方圧加圧処理する装置において、前記高圧容器２内には、前記処理室１８外において前記処理物１を収納する待機室１９が設けられ、前記断熱層１０には、前記処理物１を前記待機室１９から前記処理室１８へ挿脱自在とする断熱層開口部１１が設けられ、該開口部１１を開閉自在とする開閉装置１２が設けられている。【選択図】　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高圧容器内に断熱層で囲われた処理室を有し、該処理室に加熱装置を有し、前記処理室で処理物を熱間等方圧加圧処理する装置において、
前記高圧容器内には、前記処理室外において前記処理物を収納する待機室が設けられ、
前記断熱層には、前記処理物を前記待機室から前記処理室へ挿脱自在とする断熱層開口部が設けられ、該開口部を開閉自在とする開閉装置が設けられていることを特徴とする等方圧加圧装置。
【請求項２】
前記高圧容器は、筒状に形成されて軸方向に２分割構成とされた第１容器と第２容器とを有し、前記第１容器に前記処理室が設けられ、前記第２容器に前記待機室が設けられていることを特徴とする請求項１記載の等方圧加圧装置。
【請求項３】
前記処理室には、前記処理物を浸漬可能とする溶融物を収納する溶融物収納容器が設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の等方圧加圧装置。
【請求項４】
前記溶融物収納容器は、ルツボから構成され、該ルツボは多重層構造とされていることを特徴とする請求項３記載の等方圧加圧装置。
【請求項５】
前記高圧容器には、前記処理物を出し入れ可能とする容器開口部が設けられ、該開口部に蓋が開閉自在に設けられ、該蓋に、前記処理物を前記待機室から処理室へ移動自在とする処理物移動装置が設けられていることを特徴とする請求項１〜４の何れか一つに記載の等方圧加圧装置。
【請求項６】
前記処理物移動装置には、前記溶融物収納容器に収納される溶融物の材料を保持する保持部が設けられていることを特徴とする請求項５記載の等方圧加圧装置。
【請求項７】
前記待機室のガスを循環させる整流装置が設けられていることを特徴とする請求項１〜６の何れか一つに記載の等方圧加圧装置。
【請求項８】
前記整流装置は、前記処理物を包囲する両端開口の筒体で構成され、該筒体は、その両端部から該筒体内外を通ってガスが循環するよう前記高圧容器の内周面と所定の隙間を介して配置されていることを特徴とする請求項７記載の等方圧加圧装置。
【請求項９】
前記蓋を、前記容器開口部に装着する位置と非装着位置とに移動自在とする蓋移動装置が設けられていることを特徴とする請求項５又は６記載の等方圧加圧装置。
【請求項１０】
前記蓋移動装置は、前記蓋の複数個を有することを特徴とする請求項９記載の等方圧加圧装置。
【請求項１１】
請求項２記載の等方圧加圧装置において、
前記第１容器と第２容器は着脱自在な構成とされ、前記第２容器を、前記第１容器の装着位置と非装着位置とに移動自在とする第２容器移動装置が設けられていることを特徴とする等方圧加圧装置。
【請求項１２】
一連の工程からなる等方圧加圧処理の各工程に応じて、前記高圧容器内に所定のガス流を生じせしめるガス流形成装置が設けられていることを特徴とする請求項１〜１１の何れか一つに記載の等方圧加圧装置。
【請求項１３】
前記ガス流形成装置は、前記断熱層外周面と前記高圧容器内周面間の隙間と、前記高圧容器外とを連通する第１通路と、前記処理室と前記高圧容器外とを連通する第２通路とを有し、
前記高圧容器内を高圧に保持して前記断熱層開口部を開く工程において、前記第１通路から加圧媒体を供給し、前記第２通路から排気するよう構成され、
前記高圧容器内を昇圧する工程において、前記第２通路から加圧媒体を供給するよう構成され、
前記高圧容器内を降圧する工程において、前記第１通路から排気するように構成されていることを特徴とする請求項１２記載の等方圧加圧装置。
【請求項１４】
前記ガス流形成装置は、前記待機室と前記高圧容器外とを連通する第３通路を有し、前記高圧容器内を真空引きする工程において、前記第３通路から排気するよう構成されていることを特徴とする請求項１２又は１３記載の等方圧加圧装置。
【請求項１５】
高圧容器内に高温域と低温域とを形成し、処理物を前記高温域に保持して熱間等方圧加圧処理を行い、その後、前記処理物を前記低温域で冷却することを特徴とする等方圧加圧処理方法。
【請求項１６】
前記高温域は、断熱層で囲われて常時高温に維持され、前記高温域と低温域間に設けられた開閉装置の開閉により前記処理物を移動可能とすることを特徴とする請求項１５記載の等方圧加圧処理方法。
【請求項１７】
前記開閉装置を開いたとき、高温域の高温雰囲気が低温域へ流れないように高圧容器内にガス流を形成させることを特徴とする請求項１６記載の等方圧加圧処理方法。
【請求項１８】
前記開閉装置を閉じて、高圧容器内を昇圧または降圧する工程において、前記断熱層が座屈しないよう高圧容器内にガス流を形成させることを特徴とする請求項１６又は１７記載の等方圧加圧処理方法。
【請求項１９】
前記熱間等方圧加圧処理の工程の前に、前記処理物を前記低温域において真空乾燥する工程を有することを特徴とする請求項１５〜１８の何れか一つに記載の等方圧加圧処理方法。
【請求項２０】
前記高圧容器を開放したとき、該容器内へ大気が侵入しないようにガスパージすることを特徴とする請求項１５〜１９の何れか一つに記載の等方圧加圧処理方法。
【請求項２１】
前記高圧容器を冷却して前記低温域を形成することを特徴とする請求項１５〜２０の何れか一つに記載の等方圧加圧処理方法。
【請求項２２】
高温域に溶融物を収納し、該溶融物に前記処理物を浸漬して熱間等方圧加圧処理を行う際、前記処理物と共に固形の溶融物材料を浸漬させることを特徴とする請求項１５〜２１の何れか一つに記載の等方圧加圧処理方法。
【請求項２３】
請求項２記載の等方圧加圧装置において、
前記第１及び２容器は分離可能に構成され、前記第２容器に、前記処理物を前記待機室から処理室へ移動自在とする処理物移動装置が設けられていることを特徴とする等方圧加圧装置。
【請求項２４】
請求項１に記載の等方圧加圧装置において、
前記高圧容器は、両端開口の筒体で構成され、両端開口部に嵌着して密閉する蓋が設けられ、該蓋に作用する高圧容器内圧の軸力を蓋外面側から支承するフレームが、高圧容器の軸心を介してその両側に移動自在に設けられたことを特徴とする等方圧加圧装置。
【請求項２５】
前記待機室側の蓋に、前記フレームの間に位置して、前記処理物を前記待機室から処理室へ移動自在とする処理物移動装置が設けられていることを特徴とする請求項２４記載の等方圧加圧装置。
【請求項２６】
前記第１及び第２容器に作用する高圧容器内圧の軸力を前記第１及び第２容器の外面側から支承するフレームが、高圧容器の軸心を介してその両側に移動自在に設けられたことを特徴とする請求項２又は２３記載の等方圧加圧装置。
【請求項２７】
前記第２容器には、前記フレームに支承されるフランジが径外方向に張り出し状に設けられていることを特徴とする請求項２６記載の等方圧加圧装置。
【請求項２８】
前記両側のフレームは、高圧容器の径方向から互いに直線的に接近離反するか、又は観音開き状に接近離反するものであることを特徴とする請求項２４〜２７の何れか一つに記載の等方圧加圧装置。
【請求項２９】
前記両フレームが高圧容器の軸力を支承中において、前記両フレームの移動を不能とするクランプ装置が設けられていることを特徴とする請求項２４〜２８の何れか一つに記載の等方圧加圧装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、等方圧加圧装置および等方圧加圧処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
熱間等方圧加圧処理（ＨＩＰ処理）においては、高圧容器内を昇温・昇圧し、処理物を高温高圧状態で保持して圧縮成形し、その後、降温・降圧して処理物を高圧容器から取り出すという、１バッチ処理が行われている。
前記ＨＩＰ処理の本質は、処理物を高温高圧状態で保持する工程であるにもかかわらず、その前後の昇温・昇圧工程と降温・降圧工程が時間の大半を占め、極めて生産性が低かった。
【０００３】
そこで、特開昭５８−７１３０１号公報に示すような、モジュラーＨＩＰ装置が提案されている。
このモジュラーＨＩＰ装置は、複数の加熱装置及び補助ステーションを設け、前記各工程を分散処理してサイクルタイムの短縮を図ろうとするものであった。前記従来のモジュラーＨＩＰ装置は、１つの処理物について、高圧容器の占有時間短縮という効果をもたらし、生産性を向上させたが、炉体（高圧容器）そのものを複数必要とすること、或いは炉体そのものを高温で移動することなどで、安全上の観点から、例えば、特開平２−１８３５９号公報に記載のような高温溶融物を取り扱う含浸ＨＩＰ装置には使用困難であった。
【０００４】
また、サイクルタイムの短縮を図るためには、高圧容器の蓋の脱着の時間を短縮することが重要である。この蓋の脱着に関しては、実公昭６２−３６７６号公報に記載の技術が公知である。
【０００５】
【特許文献１】
特開昭５８−７１３０１号公報
【特許文献２】
特開平２−１８３５９号公報
【特許文献３】
実公昭６２−３６７６号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、前記従来の技術の欠点を解消し長所を取り入れて、サイクルタイムの短縮を可能とした等方圧加圧装置及び等方圧加圧処理方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明は、次の手段を講じた。即ち、本発明の特徴とするところは、高圧容器内に断熱層で囲われた処理室を有し、該処理室に加熱装置を有し、前記処理室で処理物を熱間等方圧加圧処理する装置において、前記高圧容器内には、前記処理室外において前記処理物を収納する待機室が設けられ、前記断熱層には、前記処理物を前記待機室から前記処理室へ挿脱自在とする断熱層開口部が設けられ、該開口部を開閉自在とする開閉装置が設けられている点にある。
【０００８】
前記構成の本発明によれば、高圧容器内において、断熱層開口部を閉じることにより、処理室を高温状態に維持して炉として機能させることができ、また、待機室内を低温状態に維持することができる。
従って、処理室内の雰囲気を常時高温状態に保ったまま、処理物の出し入れが可能になり、ＨＩＰ処理に本来有するＨＩＰ保持温度までの昇温時間の短縮が可能になる。また、ＨＩＰ後、処理物を処理室内の高温雰囲気から、低温の待機室に移動でき、高圧容器内において処理物を急速冷却することが可能になる。
【０００９】
前記高圧容器は、筒状に形成されて軸方向に２分割構成とされた第１容器と第２容器とを有し、前記第１容器に前記処理室が設けられ、前記第２容器に前記待機室が設けられた構成とすることができる。
この様な構成を採用することにより、第２容器は、待機室の大きさで足り、断熱層や加熱装置を有する第１容器よりも小さくできるので、装置全体を小型化できる。
前記処理室には、前記処理物を浸漬可能とする溶融物を収納する溶融物収納容器が設けられている構成とすることができる。
【００１０】
このような構成を採用することにより、含浸ＨＩＰ処理が可能になる。
前記溶融物収納容器は、ルツボから構成され、該ルツボは多重層構造とされているのが好ましい。
このような構成を採用することにより、ルツボの一層が破損しても、溶融物がこぼれ出ることがない。
前記高圧容器には、前記処理物を出し入れ可能とする容器開口部が設けられ、該開口部に蓋が開閉自在に設けられ、該蓋に、前記処理物を前記待機室から処理室へ移動自在とする処理物移動装置が設けられているのが好ましい。
【００１１】
前記構成を採用することにより、高圧容器の蓋を閉じたまま、すなわち該高圧容器内を高圧状態に保持したまま、処理物を、処理室と待機室間を移動させることができる。
前記処理物移動装置には、前記溶融物収納容器に収納される溶融物の材料を保持する保持部が設けられているのが好ましい。
この様な構成を採用することにより、処理物を処理室に収容する際に、同時に溶融物収納容器にその材料を補充することができる。このため、同材料補充のために別途、高圧容器、さらには高温状態にある処理室を大気開放する必要がなくなる。
【００１２】
前記待機室のガスを循環させる整流装置が設けられているのが好ましい。
この様な構成を採用することにより、待機室のガスが循環し、処理物の冷却が効率的に行われる。
前記整流装置は、前記処理物を包囲する両端開口の筒体で構成され、該筒体は、その両端部から該筒体内外を通ってガスが循環するよう前記高圧容器の内周面と所定の隙間を介して配置されているのが好ましい。
この様な筒体を設けることにより、高温の処理物からの高圧容器内面への直接輻射を防止し、高圧容器内面の局所的な過熱を防止できる。
【００１３】
前記蓋を、前記容器開口部に装着する位置と非装着位置とに移動自在とする蓋移動装置が設けられているのが好ましい。
このような蓋移動装置を設けることにより、蓋の装着の自動化が達成できる。
前記蓋移動装置は、前記蓋の複数個を有するのが好ましい。
この様な構成を採用することにより、圧力容器に対して２つの蓋を交互に装着可能で、一方の蓋で処理品の脱着を行う最中に、もう一方の蓋でＨＩＰ処理が可能となる。
【００１４】
なお、前記蓋移動装置と同様に、前記第１容器と第２容器を着脱自在な構成とし、前記第２容器を、前記第１容器の装着位置と非装着位置とに移動自在とする第２容器移動装置を設けることができる。
一連の工程からなる等方圧加圧処理の各工程に応じて、前記高圧容器内に所定のガス流を生じせしめるガス流形成装置が設けられているのが好ましい。
この様な構成を採用することにより、処理室の高温ガスが、断熱層の開口部を通って断熱層外部へ流れ出ようとするのを防止することができる。これにより、処理室内の高温ガスに含有される蒸発物質が、低温の待機室内においてデポジットされるのが防止される。
【００１５】
前記ガス流形成装置は、前記断熱層外周面と前記高圧容器内周面間の隙間と、前記高圧容器外とを連通する第１通路と、前記処理室と前記高圧容器外とを連通する第２通路とを有する構成とすることが出来る。
そして、前記高圧容器内を高圧に保持して前記断熱層開口部を開く工程において、前記第１通路から加圧媒体を供給し、前記第２通路から排気するよう構成することができる。前記高圧容器内を昇圧する工程において、前記第２通路から加圧媒体を供給するよう構成することができる。また、前記高圧容器内を降圧する工程において、前記第１通路から排気するように構成することができる。
【００１６】
前記ガス流形成装置は、前記待機室と前記高圧容器外とを連通する第３通路を有し、前記高圧容器内を真空引きする工程において、前記第３通路から排気するよう構成されているのが好ましい。
また、本発明の等方圧加圧処理方法の特徴とするところは、高圧容器内に高温域と低温域とを形成し、処理物を前記高温域に保持して熱間等方圧加圧処理を行い、その後、前記処理物を前記低温域で冷却する点にある。
前記高温域は、断熱層で囲われて常時高温に維持され、前記高温域と低温域間に設けられた開閉装置の開閉により前記処理物を移動可能とするのが好ましい。
【００１７】
前記開閉装置を開いたとき、高温域の高温雰囲気が低温域へ流れないように高圧容器内にガス流を形成させるのが好ましい。
前記開閉装置を閉じて、高圧容器内を昇圧または降圧する工程において、前記断熱層が座屈しないよう高圧容器内にガス流を形成させるのが好ましい。
前記熱間等方圧加圧処理の工程の前に、前記処理物を前記低温域において真空乾燥する工程を有するのが好ましい。
前記高圧容器を開放したとき、該容器内へ大気が侵入しないようにガスパージするのが好ましい。
【００１８】
前記高圧容器を冷却して前記低温域を形成するのが好ましい。
高温域に溶融物を収納し、該溶融物に前記処理物を浸漬して熱間等方圧加圧処理を行う際、前記処理物と共に固形の溶融物材料を浸漬させることができる。
さらに、本発明の等方圧加圧装置においては、前記第１及び２容器を分離可能に構成し、前記第２容器に、前記処理物を前記待機室から処理室へ移動自在とする処理物移動装置を設けることができる。
なお、この構成においては、各容器の一端を閉塞する蓋は、各容器に固定されたものや一体成形されたものであっても良い。
【００１９】
また、前記高圧容器を、両端開口の筒体で構成し、両端開口部に嵌着して密閉する蓋を設け、該蓋に作用する高圧容器内圧の軸力を蓋外面側から支承するフレームを、高圧容器の軸心を介してその両側に移動自在に設けることができる。
このような構成を採用することにより、蓋と高圧容器の結合をねじ止めするものに比べ、蓋の脱着が短時間に行え、処理時間の短縮が図られる。
この場合、前記待機室側の蓋に、前記フレームの間に位置して、前記処理物を前記待機室から処理室へ移動自在とする処理物移動装置が設けられるのが好ましい。
【００２０】
また、前記第１及び第２容器に作用する高圧容器内圧の軸力を前記第１及び第２容器の外面側から支承するフレームが、高圧容器の軸心を介してその両側に移動自在に設けられるのが好ましい。
前記第２容器には、前記フレームに支承されるフランジが径外方向に張り出し状に設けられているのが好ましい。
前記両側のフレームは、高圧容器の径方向から互いに直線的に接近離反するか、又は観音開き状に接近離反するものであるのが好ましい。
【００２１】
前記両フレームが高圧容器の軸力を支承中において、両フレームの移動を不能とするクランプ装置が設けられているのが好ましい。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図１において、等方圧加圧装置は、処理物１を内部に収納して熱間等方圧加圧処理するための高圧容器２を有する。この高圧容器２は、両端開口に形成された筒体３を有する。該筒体３は、円筒状に形成され、縦軸心配置され、下部開口部４に下蓋５が気密状に嵌合している。上部開口部６は、前記処理物１が通過可能とする大きさを有し、該開口部６に上蓋７が着脱自在に気密状に嵌合する。なおこの上部開口部６を容器開口部と呼ぶ。
【００２３】
前記筒体３の外周面は、冷却装置８により冷却され、該冷却装置８は、水冷構造とされている。
前記下蓋５には、ガス孔９が形成されている。このガス孔９に図示省略の加圧媒体供給装置や排気装置が接続され、高圧容器２内を所定の高圧にし、また真空引きする。加圧媒体としては、アルゴン（Ａｒ）などの不活性ガスが用いられる。
前記高圧容器２は、内圧１〜２００Ｍｐａ程度の圧力に耐える構造とされている。前記下蓋５、上蓋７に加わる軸力は、図示省略のヨークフレームにより支持される。なお、ヨークフレーム式に代えて、ネジ蓋式にして軸力を保持するものであっても良い。
【００２４】
前記高圧容器２内に断熱層１０が設けられている。この断熱層１０は、ガス不透過の薄肉円筒材で逆コップ型に形成されて、前記筒体３と同心状に前記下蓋５に載置されている。断熱層１０の天井部の中心部に、前記処理物１が通過可能な開口部１１が形成されている。この断熱層開口部１１を開閉自在とする開閉装置１２が設けられている。
前記開閉装置１２は、断熱層開口部１１の中心から左右に二分割されて、天井部上面上を左右方向に摺動自在とされたスライド扉１３を有する。このスライド扉１３は、駆動機構１４により、互いに左右逆方向に移動して、断熱層開口部１１を開閉自在とする。前記駆動機構１４は、前記筒体３の外面部に設けられたシリンダ１５と該シリンダ１５に摺動自在に設けられて前記筒体３を貫通するピストンロッド１６により構成され、該ロッド１６に前記スライド扉１３が取り付けられているが、これに限定されるものではない。
【００２５】
前記断熱層１０内に、加熱装置１７が配置されている。この加熱装置１７は、その内部に前記処理物１を収納できる大きさとされた円筒状に形成され、断熱層１０と同心状に配置され、例えば、電気抵抗式で発熱するものとされている。この加熱装置１７は、断熱層１０内を、１０００℃以上の高温に加熱する。
しかして、前記断熱層１０内は、前記処理物１を加熱する炉として構成され、該断熱層１０で囲われた空間が、前記処理物１を熱間等方圧加圧処理するための処理室１８とされている。
【００２６】
前記高圧容器２内において、前記断熱層１０の上方に、前記処理物１を収納できる大きさの待機室１９が形成されている。
前記高圧容器２の上蓋７に、前記処理物１を前記断熱層開口部１１を介して出し入れ自在とする処理物移動装置２０が設けられている。
この処理物移動装置２０は、上蓋７の上面中心部に取り付けられたシリンダ２１と、該シリンダ２１に上下方向摺動自在に嵌合されて前記上蓋７を貫通するピストンロッド２２を有する。このピストンロッド２２の下端に、前記処理物１が直接に着脱自在に取り付けられる。または、ピストンロッド２２の下端に専用のケース（図示省略）が設けられ、該ケースに処理物が収納可能とされている。
【００２７】
なお、この処理物移動装置２０は、前記シリンダ方式に限定されるものではない。
上記構成の本発明の実施の形態によれば、まず、断熱層開口部１１を開閉装置１２により閉じて、常圧にて予め加熱装置１７に通電して、断熱層１０内を昇温する。なお、このとき、常圧なので、上蓋７を筒体３に装着しておくには及ばず、グラファイト或いはモリブデンなど酸化され易い材料を加熱装置１７に用いている場合は、この間、不活性ガスを高圧容器２内にパージして酸化を予防する。
【００２８】
一方、取り外された上蓋７においては、別の場所で、処理物１を処理物移動装置２０に取り付ける。
次いで、処理物１を装着した上蓋７を、筒体３の上部開口部（容器開口部）６に挿入する。処理物１は、高圧容器２の待機室１９に位置する。
処理物１の付着水分除去を目的に真空引きがなされ、必要に応じて不活性ガス送気、真空引きと言う一連のガス置換作業を行って、コンタミネーションを除去する。
【００２９】
その後、開閉装置１２により断熱層開口部１１を開き、処理物移動装置２０により、処理物１を断熱層１０内の処理室１８に下降させる。この状態で、開閉装置１２のスライド扉１３を閉じる。
なお、処理物挿入のため、スライド扉１３を開いている時、高圧容器２内部は気密を保っているので、断熱層１０内・外の循環対流は発生せず、処理室１８内は熱的に安定に保たれている。
その後、高圧容器２内を昇圧、保持して、ＨＩＰ処理を行う。
【００３０】
ＨＩＰ処理完了後、断熱層１０の開口部１１を開いて、処理物１を処理室１８上部の待機室１９に引き上げ、再び断熱層開口部１１を閉じる。この状態で、処理物１は、低温高圧ガス雰囲気に曝されるので、処理物１表面のガス対流と輻射により、急速に放熱し、冷却される。特に、高圧容器２は水冷構造とされているので、待機室１９内は低温に維持されており、所定温度まで急速に冷却される。冷却後、処理物１は、上蓋７と共に高圧容器２の外に取り出される。
この後、すぐに次の処理物１を取り付けて、次のＨＩＰ処理が可能である。このとき、断熱層１０内の処理室１８は常に高温に保たれているので、昇温工程は不要である。
【００３１】
また前記取り外された処理物１は、高圧容器２外で更に冷却することができるので、冷却も短時間で完了する。即ち、従来ＨＩＰと比較して、生産性の面で大幅な向上が可能である。
なお、前記実施の形態において、断熱層開口部１１を開閉する開閉装置１２として、スライド扉１３を用いるものを例示したが、処理物移動装置２０のピストンロッド２２に、開閉蓋を固定し、処理物１を処理室１８へ下降させたときに、該開閉蓋により、断熱層開口部１１を閉じるものであっても良い。
【００３２】
図２に示すものは、本発明の他の実施の形態であり、含浸ＨＩＰ装置に本発明を適用したものである。
即ち、前記処理室１８に、溶融物２３を収納できる溶融物収納容器２４が設置されている。そして、この収納容器２４に収納された溶融物２３に、前記処理物１が浸漬可能とされている。その他の構成は、前記図１に示すものと同じである。
この実施の形態では、処理物１はポーラスなカーボン成形体等であり、溶融物２３は、タール・ピッチ、樹脂、または金属などである。
【００３３】
前記収納容器２４は、ルツボから構成され、該ルツボは多重層構造とされている。具体的には、ルツボを２つ重ねた構造とされている。
前記構成の実施の形態によれば、処理室１８を常時高温に保つことができるので、溶融物収納容器２４内に金属などを常時溶融状態で保つことが可能になる。従って、処理物１としてポーラスな材料を、溶融物２３に浸して、高圧状態を保つことにより、溶融金属をポーラスな材料に高圧含浸することが可能となり、従来法に比べ、昇温による金属溶解、及び処理後の冷却時間を大幅に短縮でき、生産性を大幅に向上できる。
【００３４】
また、収納容器２４を２つ重ねのルツボとすることにより、溶融材料を収納した内側のルツボが破損しても、外側ルツボがあるので、溶融物２３が炉下部にこぼれ出ることがない。本装置では、炉床部に加熱装置１７の電気ヒータの接続端子（図示省略）が配置されており、もし溶融金属２３がこぼれ出たときには、これらが炉床部で冷却固化し、装置機能を著しく損なうことになるが、この実施の形態では、そのおそれがない。
なお、ルツボの材料としては、高温に耐えるカーボン或いはセラミックス材料が使用されるが、一般にこれらは脆性材料で割れやすい。
【００３５】
図３に示すものは、本発明の他の実施の形態であり、前記処理物移動装置２０に、前記収納容器２４に収納される溶融物の材料２５を保持するための保持部２６が設けられており、その他の構成は、前記図２に示すものと同じである。
即ち、処理物移動装置２０のピストンロッド２２の下端に、処理物収納ケース２７が設けられ、該収納ケース２７の下部に前記保持部２６が設けられている。
なお、高圧容器２の筒体３上部にガス吸引部２８が設けられている。
この実施の形態によれば、図３に示すように、収納ケース２７に処理物１を収納し、前記保持部２６に低温固形の溶融材料２５を収納する。
【００３６】
なお、この図で矢印で示されているのは、パージしている不活性ガスの流を示している。この状態において、断熱層１０の開口部１１は閉じられている。またガスパージがされているので、加熱装置１７の構造材料などが酸化消耗することは防がれる。
次いで、上蓋７を容器開口部６に装着し、処理物１を待機室１９に収納後、断熱層開口部１１を開いて、処理物移動装置２０により処理物１を処理室１８へ下降させると、収納ケース２７内の処理物１が、溶融物収納容器２４内の高温溶融物２３中に浸され、その下部の固形溶融材料２５も、溶融物２３中に溶け込んでいく。
【００３７】
含浸ＨＩＰ処理後、処理物１を待機室１９へ引き上げると、保持部２６の材料２５は、全て溶融物収納容器２４内に溶け込んでおり、空の状態で引き上げられる。
処理物１を高圧容器２外へ取り出した後、次の処理のために、保持部２６に補充材料２５を補充する。
以上のような工程で、含浸ＨＩＰ処理が行われるので、溶融材料補充は、処理物１の装着時に同時に行われることになり、溶融材料補充工程を別途設ける必要がない。
【００３８】
従来は、溶融材料補充のため、容器開口部、断熱層開口部を共に開いて溶融材料をルツボ内へ投下していたので、不活性ガスを大量にパージすることが必要であり、酸欠などの問題が生じやすかったが、このような問題が解消される。
また、従来では、不活性ガスをパージするとは言え、材料投下のためシュートなど外部から炉内に構造物を挿入する必要があり、炉体構造物の酸化を完全に防止出来なかったが、前記実施の形態によれば、この問題が解消できる。
さらに、従来のものでは、前記酸欠の問題で作業者が装置に近づいて操作を行うことができず、このため自動材料補充装置が必要となり、装置構成が複雑及び高コストなものとなっていが、本発明によれば、そのような自動材料補充装置が不要となる。
【００３９】
図４に示すものは、本発明の他の実施の形態である。
前記高圧容器２は、筒状に形成されて軸方向に２分割構成とされた第１容器２９と第２容器３０とを有し、前記第１容器２９に前記処理室１８が設けられ、前記第２容器３０に前記待機室１９が設けられている。
第１容器２９の下端に前記下蓋５が気密状に嵌合し、第２容器３０の上端に前記上蓋７が気密状に嵌合している。そして、第１容器２９と第２容器３０が着脱自在な構造とされている。
【００４０】
前記第２容器３０の下部に、第１容器２９と略同じ外径のフランジ３１が形成され、該フランジ３１の上部は、前記第１容器２９よりも径小に形成され、処理物１を収納できるだけの最小限の内径とされている。
第２容器３０のフランジ３１の肩部と下蓋５とをヨークフレーム（図示省略）により支持することにより、この高圧容器２に作用する軸力を支える。従って、上蓋７と第２容器３０はネジ結合等により固定されている。
なお、本発明の容器開口部６は、この実施の形態では第１容器２９の上部開口部を言う。
【００４１】
前記上蓋７に前記処理物移動装置２０が設けられている。このピストンロッド２２に、断熱層開口部１１を施蓋する蓋部材３２が固定されている。この実施の形態では、前記開閉装置１２のスライド扉１３を開いた状態で、前記蓋部材３２が断熱層開口部１１を閉じるよう構成されている。
前記構成の実施の形態によれば、高圧容器２を２分割したことで、上部の第２容器３０は、処理物１を収納するに最小限の内径とすることができ、コスト低減可能となる。また、冷却面である第２容器３０内面と処理物１が近づくことで、冷却時間の短縮が可能となる。更に、第２容器３０内の待機室１９に処理物１を収納した状態で、処理物１を搬送できるので、搬送中の大気との接触などを最小限に止め、酸化、その他コンタミの付着を防止できる。
【００４２】
図５に示すものは、本発明の他の実施の形態であり、前記図１に示す待機室１９に、該待機室１９内のガスを循環させる整流装置３３が設けられたものであり、その他の構成は、図１に示すものと同じである。
前記整流装置３３は、両端開口の筒体３４で構成され、該筒体３４は、前記待機室１９内の処理物を包囲し、該筒体３４の両端部から内外を通ってガスが循環するよう前記高圧容器２内周面と所定の隙間を介して配置されている。
前記整流筒体３４は、ガス不透過性の部材、例えば、ステンレス或いはインコネル材など耐熱金属乃至カーボンコンポジット材、或いはグラファイト材により薄板円筒状に形成されている。
【００４３】
図５に示す状態は、ＨＩＰ処理後の待機室１９内での冷却工程を示しており、処理物１は、ＨＩＰ温度と略同等の１０００℃以上の温度で、また、高圧容器２内は、ＨＩＰ処理圧力と同じ圧力に保たれている。高圧容器２は外面を冷却水で冷却しており、内周面も低温に保たれていることから、処理物１周辺を上方に向かい、また整流筒体３４と高圧容器２内周面間は、下方に向かう激しい循環流が形成される。図では、これのガス循環流を矢印で示している。
このガス流は、処理物１周囲を上昇する際、処理物１から熱を奪い、また、整流筒体３４と高圧容器２内面間の隙間を下降する際、高圧容器２内面にこの熱を伝える。容器２内は高圧であるので、この熱伝達率は大きく、また、整流筒体３４により容器２内周面を伝熱面として広く使えるので、処理物１の冷却は効率よく行われる。
【００４４】
また、整流筒体３４自身、高温の処理物１から高圧容器２内面への直接輻射を防止するので、高圧容器２の過昇温を防ぐ。これにより、ガス対流の容器２内周面への熱伝達は、より効率よく行われる。また、過昇温を防ぐことにより、高圧容器２自身を設計温度以下に保つことができる。
図６に示すものは、本発明の他の実施の形態である。この実施の形態によれば、前記上蓋７は、蓋移動装置３５により移動自在とされ、該蓋移動装置３５は、前記容器開口部６に前記上蓋７を着脱自在に装着するよう構成されている。
【００４５】
前記蓋移動装置３５は、昇降自在で且つ旋回自在な昇降旋回軸３６を有し、該昇降旋回軸３６に径方向に突出する複数のアーム３７を有する。この実施の形態では、昇降旋回軸３６の直径線上に互いに反対方向に突出する２つのアーム３７を有する。この各アーム３７に前記処理物移動装置２０のシリンダ２１が夫々固定され、該シリンダ２１の下端に前記上蓋７が固定されている。
図６に示す状態において、一の蓋７の下方に取り付けられた処理物１は、ＨＩＰ処理が終わり、処理室１８から待機室１９へ引き上げられており、他の蓋７に未処理の処理物１が取り付けられている。この状態から、昇降旋回軸３６が上方へ移動し、ＨＩＰ処理済みの処理物１を高圧容器２の待機室１９から上方に完全に取り出す。そして、昇降旋回軸３６が旋回することにより、ＨＩＰ処理済みの処理物１を高圧容器２の設置位置と異なる位置へ移動し、未処理の処理物１を高圧容器２の設置位置上方に移動する。この状態から昇降旋回軸３６を下降させて、未処理の処理物１を高圧容器２内の待機室１９へ収納する。
【００４６】
前記実施の形態によれば、片方の処理物１のＨＩＰ処理中に、もう一方の処理物１を装着することができ、片側のＨＩＰ処理後、直ちに高圧容器２内へ収納することができるので、処理サイクルタイムの短縮が可能となる。また、この蓋移動装置３５によれば、上蓋７の位置決めが容易になり、操作の自動化が可能になる。
図７に示すものは、本発明の他の実施の形態である。このものは、前記図４に示した高圧容器２を２分割構成にしたものにおいて、前記蓋移動装置３５と同じものを設けたものである。
【００４７】
即ち、前記蓋移動装置３５と同様の、昇降旋回軸３６と複数のアーム３７を有する第２容器移動装置３８が設けられ、該アーム３７に前記第２容器３０が固定されている。
この実施の形態によれば、処理物１を第２容器３０内の待機室１９に収納した状態で、移動が可能であり、この処理物移動の際、第２容器３０内へ不活性ガスを流下パージさせることで、待機室１９内への空気の流入を最小限に止めることができる。また、昇降旋回軸３６の上下方向移動量は、第２容器３０を第１容器２９に着脱できるだけで足り、前記蓋移動装置３５よりもその上下ストロークを小さくできる。
【００４８】
図８に示すものは、含浸ＨＩＰの場合で、前記第２容器移動装置３８の複数のアーム３７の一に第２容器３０を取り付け、他のアーム３７に液面測定器３９を配した蓋４０を取り付けたものである。
含浸ＨＩＰの場合、次の処理のために、溶融物収納容器２４に、溶融材料を補充する必要があるが、その補充量を決定するため、溶融物収納容器２４内の残留溶融物２３の量を測定することが必要である。
通常、これは液面レベルを測定して行うが、この実施の形態では、その測定を処理物の脱着の間に行うことが可能になる。また、その測定作業を高圧容器の上部開口を閉じた気密状対で出来るので、この測定時に高温断熱層内への大気侵入による炉材の酸化などの悪影響をなくすることができる。
【００４９】
なお、前記蓋移動装置３５においても、同様の構成とすることが出来る。
図９乃至図１６に示すものは、本発明の他の実施の形態であり、前記図１に示す構成に加えて、ガス流形成装置４１が設けられている。
即ち、一連の工程からなる等方圧加圧処理の各工程に応じて、前記高圧容器２内に所定のガス流を生じせしめるガス流形成装置４１が設けられている。
前記ガス流形成装置４１は、前記断熱層１０外周面と前記高圧容器２内周面間の隙間と、前記高圧容器２外とを連通する第１通路４２を有する。この第１通路４２は、下蓋５に形成されたガス孔から構成されている。
【００５０】
また、ガス流形成装置４１は、前記処理室１８と前記高圧容器２外とを連通する第２通路４３を有する。この第２通路４３は、下蓋５に形成された独立した２つのガス孔からなる。
さらに、前記ガス流形成装置４１は、前記待機室１９と前記高圧容器２外とを連通する第３通路４４を有する。この第３通路４４は、待機室１９下部の高圧容器筒体３の側面に形成されたガス孔からなる。
前記第１通路４２及び第２通路４３には、加圧媒体供給装置４５が接続されている。
【００５１】
この加圧媒体供給装置４５は、高圧ガス容器４６を有し、該高圧ガス容器４６と前記第１通路４２とが、第１配管で接続されている。この第１配管４７に第１バルブ４８が設けられている。この第１バルブ４８を迂回する第２配管４９が、第１配管４７に設けられている。この第２配管４９には、高圧ガス容器４６側から第１通路４２側に向かって、絞り５０、第２バルブ５１、及び第３バルブ５２が設けられている。第２バルブ５１と第３バルブ５２の間の第２配管４９から大気開放のリリース配管５３が設けられ、該リリース配管５３にリリース弁５４が設けられている。前記第１バルブ４８と第１通路４２間の第１配管４７に大気開放管５５が接続され、該大気開放管５５に第４バルブ５６が設けられている。
【００５２】
前記第１配管４７の高圧ガス容器４６と第２配管４９の分岐部との間と、前記第２通路４３の１つのガス孔とが、第３配管５７で接続されている。この第３配管５７に第５バルブ５８が設けられている。
前記第２通路４３のもう一方の他のガス孔に、第４配管５９を介して真空ポンプ６０が接続されている。この第４配管５９に第６バルブ６１が設けられている。前記第４配管５９の第２通路４３と第６バルブ６１の間に、大気開放管６２が接続され、該大気開放管６２に第７バルブ６３と絞り６４が介在されている。
【００５３】
前記第６バルブ６１と真空ポンプ６０との間の第４配管５９と、前記第３通路４４とが第５配管６５で接続され、該第５配管６５に第８バルブ６が設けられている。
図９に示すものは、高圧容器２の上蓋７を開いて、高圧容器２を大気開放して、上蓋７に吊した処理物１を高圧容器２に挿入する工程である。
この工程において、第２バルブ５１と第３バルブ５２を開き、他のバルブは閉じる。高圧ガス容器４６内の不活性ガスは、絞り５０を介して減圧され、大気圧を若干上回る程度の正圧にて、下蓋５から断熱層１０外周面と高圧容器２内周面の隙間を通って上方へ送気し、所謂ガスパージを継続する。
【００５４】
この工程では、断熱層１０内の加熱装置１７は通電を継続しているが、断熱層開口部１１は閉じられているので、処理室１８内の高温酸化消耗などが防がれる。
図１０は、処理物１を待機室１９に収納後、高圧容器２内の大気を排出し、処理物１の乾燥を目的とする真空引きをする工程を示す。
この真空引き工程においては、第８バルブ６６が開かれ、他のバルブは閉じられる。しかして、高圧容器２内の大気は、第３通路４４を介して、真空ポンプ６０により排気され、所定の真空度まで減圧される。
【００５５】
このとき、待機室１９内を重点的に真空引きすることが出来るので、待機室１９内の処理物１の真空乾燥が効率的に行える。
図１１は、真空引きによる乾燥工程後、断熱層１０の開口部１１を開き、処理物１を待機室１９から処理室１８へ挿入する工程を示す。
この工程では、第２、第３及び第６バルブ５１，５２，６１が開かれ、他のバルブは閉じられる。
この工程は、高圧容器２内を真空状態で行うため、問題となるのは、高温に保たれた処理室１８から蒸発した各種物質が断熱層１０外に流出し、低温部にデポジットすることで、これが積み重なると装置機能を損なう可能性がある。特に含浸ＨＩＰにおいては、処理室１８に溶融物２３を装填した容器２４を収納しているので、大きな問題となる。
【００５６】
これを防止するため、本発明の前記実施の形態では、真空状態を破壊しない程度に高圧ガス容器４６からキャリアガスを第１通路４２に導入し、該キャリアガスは断熱層１０外周と容器２内周面の間の隙間を通って上昇し、、断熱層１０上部の開口部１１から、処理室１８内を下降し、下蓋５から流失するガス流れを生じせしめ、第４配管５９を通って大気に放出される。
従って、処理室１８において蒸発した各種物質は、前記ガス流れによって、処理室１８から上方の待機室１９に流出することがなくなるので、蒸発物質の機械部分へのデポジッションが防止できる。
【００５７】
図１２は、昇圧工程を示し、処理物１を処理室１８に装填後、ＨＩＰ処理のため、高圧容器２内へ加圧ガスを装填する工程であり、第５バルブ８が開かれ、他のバルブは閉じられる。
このとき、断熱層１０は、通常ガス不透過の薄肉円筒であるので、高圧ガス容器４６から高圧ガスを第２通路４３を介して処理室１８内に送気したとき、ガスは、断熱層１０上部の開口部１１におけるスライド扉１３の隙間の狭路を通って待機室１９内へ流れる。前記狭路における流れのオリフィス効果で、処理室１８内よりも待機室１９内の方が低圧になる。このような圧力差により断熱層１０が座屈することがなくなる。
【００５８】
これとは逆に断熱層１０の外側が内側よりも圧力が高くなると、薄板で出来た断熱層１０が座屈することがあり、これは、０．５ＭＰａ以下の圧力差で起こるため、１〜２００ＭＰａといった高圧ガスを扱うＨＩＰ装置では、注意を要するが、本発明の実施の形態では、処理室１８内から待機室１９側へのガス流を生じせしめているので、前記座屈は防止できる。
図１３は、高圧ガス送気、充填後、高圧で保持してＨＩＰ処理を行っている工程を示し、全てのバルブは閉じられて、ガスは高圧容器２内で保持される。
【００５９】
図１４は、ＨＩＰ処理後、高圧を維持して断熱層開口部１１を開いて処理物１を待機室１９へ上昇させる工程を示している。このとき、第１バルブ４８と第７バルブ６３が開かれ、他のバルブは閉じられる。
前記工程において、第１通路４２から高圧容器２内へ導入されたガスは、断熱層１０外周と高圧容器２内周面の隙間を通って上昇し、断熱層１０の開口部１１から処理室１８内を下降するガス流を生じせしめ、第２通路４３の絞り６４を通って、大気開放される。
【００６０】
すなわち、高圧力下での断熱層開口部１１の開口にあたって、上部開口部１１から下降するガス流を生じせしめることで、処理室１８内の高温ガスが、待機室１９へ上昇するのを抑え、待機室１９内の部材の過温、熱衝撃などによる破損を防止できる。
また、このとき、断熱層１０の開口部１１から処理室１８内へ導入されるガスは、比較的低温であるため、処理室１８から待機室１９へ流れ出ようとするガスがたとえ存在しても、上昇ガスと下流ガスとが合流するので、高温状態のまま待機室１９内へ流れ出ることはない。
【００６１】
図１５は、処理物１を待機室１９に保持し、待機室１９内を高圧に保って、処理物１を冷却する工程を示し、この段階では、全てのバルブは閉じられている。図１６は、処理物１の冷却完了後、高圧容器２内の圧力を下げる降圧工程を示し、このとき、第４バルブ５６が開かれ、他のバルブは閉じられる。
この工程で重要なことは、断熱層開口部１１のスライド扉１３を閉じたままで降圧を行うことにより、この部分でのオリフィス効果により、断熱層１０内外での圧力差で、これが大きいと断熱層の破損につながる。特に、断熱層１０外が内より高い場合には、比較的小さい圧力差で座屈が起こるため、圧力差がついたとしても、外側よりも内側が圧力が高くなるようにする必要がある。
【００６２】
そこで、本発明の実施の形態では、断熱層１０外周と高圧容器２内周面の隙間を通って第１通路４２から高圧容器２外へガス放出を行うので、断熱層１０内外の圧力差が生じても、処理室１８内の圧力が高くなり、断熱層１０の座屈が防止できる。
また、高圧容器２は水冷構造とされているので、処理室１８内の高温ガスは、断熱層１０外周と高圧容器２内周面の隙間を通る際、高圧容器２の内周面により冷却され、大気開放管５５に達する前に充分低温化される。
【００６３】
なお、上記実施の形態においては、高圧ガス容器４６のガスを直接供給するように構成しているが、ガス圧縮機により高圧容器２へ送気するものであっても良い。また、図１１に示すガス流形成工程を行わないものでは、第４配管５９は不要である。さらに、含浸操作を行う含浸ＨＩＰ装置にも適用でき、その場合は、処理室１８に溶融物収納容器２４が設置される。
本発明の等方圧加圧処理方法の実施の形態は、前記各実施の形態に示した等方圧加圧装置を用いて行われるものである。
【００６４】
即ち、前記高圧容器２内に高温域と低温域とを形成し、処理物１を前記高温域に保持して熱間等方圧加圧処理を行い、その後、前記処理物１を前記低温域で冷却するものである。前記高温域は、前記処理室１８により構成され、低温域は、前記待機室１９により構成されている。
前記高温域は、断熱層１０で囲われてその内部に設けられた加熱装置１７により常時高温に維持される。そして、前記高温域と低温域間に設けられた開閉装置１２の開閉により、前記処理物１は低温域と高温域間を移動可能とする。
【００６５】
前記熱間等方圧加圧処理の工程の前に、前記処理物１を前記低温域において真空乾燥する工程を有するものとする。
前記開閉装置１２を開いたとき、高温域の高温雰囲気が低温域へ流れないように高圧容器２内にガス流を形成させる。
前記開閉装置１２を閉じて、高圧容器２内を昇圧または降圧する工程において、前記断熱層１０が座屈しないよう高圧容器２内にガス流を形成させるのが好ましい。
【００６６】
前記熱間等方圧加圧処理の工程の前に、前記処理物１を前記低温域において真空乾燥する工程を有するのが好ましい。
前記高圧容器２を開放したとき、該容器２内へ大気が侵入しないようにガスパージする。
前記高圧容器２を冷却して前記低温域を形成する。
高温域に溶融物２３を収納し、該溶融物２３に前記処理物１を浸漬して熱間等方圧加圧処理を行う際、前記処理物１と共に固形の溶融材料２５を浸漬させる。
【００６７】
なお、以上の方法の詳細については、図１〜１６に示す装置の説明において詳述しているので、それを援用する。
図１７は、本発明の他の実施の形態である。これは、図７に示した高圧容器２を２分離構成としたものにおいて、筒状に形成された筒体３の軸方向に２分離構成とされた第１容器２９と第２容器３０とを有するもので、前記第２容器３０に、前記処理物１を前記待機室１９から処理室１８へ移動自在とする処理物移動装置２０が設けられている。
【００６８】
前記高圧容器２は、両端開口の筒体３で構成され、下部開口部４に下蓋５が、上部開口部６に上蓋７が着脱自在に、各々気密状に嵌着している。第２容器３０は冷却時間短縮等の目的のために処理物１と冷却面たる容器内周面を近接しており、従って、第２容器３０の軸方向に直角な第２容器３０の径は第１容器２９の径と比較すると小さく構成される。
図１７に示すように、第２容器のフランジ７１は、第２容器３０下部の径外方向に張り出し状に形成されており、そのフランジ７１の下面７２と、第１容器２９の上端部７３とは脱着自在に嵌入装着される。この第２容器３０のフランジ７１は張り出し状であり、その張り出し状フランジ７１の上面７４と、第１容器２９の下部開口部４の下蓋５との外面側から、高圧容器２内圧の軸力を支承するフレーム７０が、筒体３の軸方向に沿い、高圧容器２の軸心を挟むように介して、その軸心の両側に移動自在に設けられている。なお、高圧容器２内圧の軸力を上部開口部６に上蓋７と下部開口部４の下蓋５との蓋外面側から支承するフレーム７０（図示省略）を、高圧容器２の軸心を介してその両側に移動自在に設けることもできる。
【００６９】
図１７に示した両側のフレーム７０は、図１７（ｂ）に示すように高圧容器２に対して観音開き状に接近離反するものである。すなわち、前記フレーム７０は、それぞれ回転軸７８を備えており、処理物１の装填時等には第２容器３０を第１容器２９から外すのであるが、その際に前記フレーム７０を手動あるいは回転駆動機構により回転軸７８のまわりに回転（点線矢印で示す。）させる。それは、高圧容器２内圧の軸力を支承中の位置（図１７（ｂ）のフレーム７０の実線：なお点線は退避）から前記フレーム７０を退避させることになる。前記フレーム７０は、高圧容器２内圧の軸力を支承する位置と、前記退避の位置との間を回転運動により交互に移動することが出来る。
【００７０】
次に、前記両フレーム７０が高圧容器２内圧の軸力を支承中において、前記両フレーム７０の移動を不能とするクランプ装置７７が設けられている。フレーム７０の回転軸７８と反対方向に水平移動（図１７（ｂ）の矢印）は駆動部（図示省略。）により行うのが常である。クランプ装置７７が、フレームを嵌合・固定することは、高圧容器２に高圧ガスを用いる場合等でのフレーム７０の径方向外側への逃げ等の万一の移動を防止する。前記フレーム７０の径方向外側への逃げ等は、高圧容器２内圧の軸力が、軸心から径方向へずれた位置でのフレーム７０の軸力支承が原因となって、フランジ７１に発生する「たわみ」等によるものと考えられる。
【００７１】
図１８は、本発明の他の実施の形態で、クランプ装置７７を説明する上面図（模式図）を示している。両側のフレーム７０は、高圧容器２の径方向から互いに直線的に接近離反する。そして、前記両フレーム７０の移動を不能（図１８フレーム７０の実線状況）とする上下２組のクランプ装置７７が設けられ、その移動（矢印で示す。）は駆動部（図示省略）等で行う。すなわち、高圧容器２内圧の軸力を支承中のクランプ装置７７は、フレーム７０の両端と嵌合・固定されて、上記のようなフレーム７０の万一の移動を防止する。
【００７２】
また、図１７（図１８）に示すような第１容器２９の軸長に相当する長さ（高さ）のフレーム７０で高圧容器２内圧の軸力を支承できることは、フレーム７０の軽量化、小型化等による装置原価の低減の他に、処理物１出し入れ時のフレーム７０の着脱を容易・迅速にする。高圧容器２内圧の軸力を、蓋と高圧容器の結合等のねじ止めにて行う構造と比しても、処理物１出し入れ時のフレーム７０の着脱の容易・迅速化の他に、等方圧加圧装置の操業上の安全性も高いのである。なお、本発明は、前記各実施の形態に示すものに限定されるものではない。各実施の形態に示した構成を組み合わせた構成とすることが出来る。また、高圧容器は円筒状縦軸配置のものに限定されず、円筒以外の筒状のものや横軸配置を含むものである。
【００７３】
【発明の効果】
本発明によれば、前記従来の技術の欠点を解消し、サイクルタイムの短縮を可能とした等方圧加圧装置及び等方圧加圧処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図である。
【図２】図２は、本発明の他の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図である。
【図３】図３は、本発明の他の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図である。
【図４】図４は、本発明の他の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図である。
【図５】図５は、本発明の他の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図である。
【図６】図６は、本発明の他の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図である。
【図７】図７は、本発明の他の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図である。
【図８】図８は、本発明の他の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図である。
【図９】図９は、本発明の他の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図であり、処理物を高圧容器に挿入する工程を示している。
【図１０】図１０は、図９に示す装置における真空引き工程を示す断面図である。
【図１１】図１１は、図９に示す装置における処理室挿入工程を示す断面図である。
【図１２】図１２は、図９に示す装置における昇圧工程を示す断面図である。
【図１３】図１３は、図９に示す装置におけるＨＩＰ処理工程を示す断面図である。
【図１４】図１４は、図９に示す装置における待機室引き上げ工程を示す断面図である。
【図１５】図１５は、図９に示す装置における冷却工程を示す断面図である。
【図１６】図１６は、図９に示す装置における降圧工程を示す断面図である。
【図１７】図１７（ａ）は、本発明の他の実施の形態を示す等方圧加圧装置の断面図で（ｂ）は上面図（模式図）である。
【図１８】図１８は、本発明の他の実施の形態で、その上面図（模式図）である。
（断面図は、図１７（ａ）を援用する。）
【符号の説明】
１　処理物
２　高圧容器
６　容器開口部
７　蓋
１０　断熱層
１１　断熱層開口部
１２　開閉装置
１７　加熱装置
１８　処理室
１９　待機室
２０　処理物移動装置
２３　溶融物
２４　溶融物収納容器
２５　取付部
２９　第１容器
３０　第２容器
３３　整流装置
３４　筒体
３５　蓋移動装置
３８　第２容器移動装置
４１　ガス流形成装置
４２　第１通路
４３　第２通路
４４　第３通路
７０　フレーム
７１　フランジ
７７　クランプ装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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