(57)【要約】【課題】冷却媒体の流路を形成する部材の精度に関わらず、表面温度の分布を均一にする。【解決手段】コイル体６３と、コイル体６３を内部に収容する収容部材６５とを備える。収容部材６５とコイル体６３との間に配置され、収容部材６５内部におけるコイル体６３の巻回軸と平行な方向のコイル体６３の位置を調整する調整部材７３を有する。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コイル体と、前記コイル体を内部に収容する収容部材とを備えたリニアモータにおいて、
前記収容部材と前記コイル体との間に配置され、前記収容部材内部における前記コイル体の巻回軸と平行な方向の前記コイル体の位置を調整する調整部材を有することを特徴とするリニアモータ。
【請求項２】
前記収容部材は、互いに対向する２つの平面を有し、
前記コイル体は前記巻回軸と垂直な面を有する平板状であって前記２平面の間に前記２平面と対向するように収容され、
前記調整部材は、前記収容部材の２つの平面と対向する前記コイル体のそれぞれの面に設けられることを特徴とする請求項１に記載のリニアモータ。
【請求項３】
前記コイル体はコイルと該コイルを固めて成型するモールド体とからなり、
前記調整部材の前記巻回軸と平行な方向の厚さは、前記モールド体内部における前記巻回軸と平行な方向の前記コイルの位置に基づいて決定されることを特徴とする請求項２に記載のリニアモータ。
【請求項４】
前記コイル体は、前記モールド体の一部において前記コイル表面を露出させる前記モールド体に形成された凹部を有することを特徴とする請求項３に記載のリニアモータ。
【請求項５】
前記調整部材の前記巻回軸と平行な方向の厚さは、前記収容部材の温度分布に基づいて決定されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のリニアモータ。
【請求項６】
前記調整部材の前記巻回軸と平行な方向の厚さは、前記リニアモータの発生する推力分布に基づいて決定されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のリニアモータ。
【請求項７】
前記調整部材は前記コイル体と一体に成型されていることを特徴とする請求項１から請求項６のうちいずれかに記載のリニアモータ。
【請求項８】
前記収容部材と前記コイル体との間の空間にコイル冷却用媒体を供給する供給口を有することを特徴とする請求項１から請求項７のうちいずれかに記載のリニアモータ。
【請求項９】
コイル体と、前記コイル体を内部に収容する収容部材とを備えたリニアモータ製造方法において、
前記収容部材の内部空間における前記コイル体の巻回軸と平行な方向の前記コイル体の位置を調整することを特徴とするリニアモータ製造方法。
【請求項１０】
前記位置の調整は、前記収容部材の温度分布に基づいて行なわれることを特徴とする請求項９に記載のリニアモータ製造方法。
【請求項１１】
前記位置の調整は、前記リニアモータの発生する推力分布に基づいて行われることを特徴とする請求項９に記載のリニアモータ製造方法。
【請求項１２】
平板状の前記コイル体を、互いに対向する２つの平面を有する前記収容部材の前記２つの平面の間に、前記２平面と対向するように収容するリニアモータの製造方法において、
前記コイル体の位置の調整は、前記収容部材の前記２つの平面間の間隔と、前記コイル体の前記巻回軸と平行な方向の厚さとに基づいて行なわれることを特徴とする請求項９に記載のリニアモータ製造方法。
【請求項１３】
前記コイル体は、コイルと該コイルを固めて成型するモールド体とからなり、
前記位置の調整は、前記収容部材の前記２平面間の間隔と、前記巻回軸と平行な方向における前記コイル体の厚さと、前記巻回軸と平行な方向における前記モールド体内部での前記コイルの位置とに基づいて行なわれることを特徴とする請求項１２に記載のリニアモータ製造方法。
【請求項１４】
平面内を移動可能なステージと、前記ステージを駆動する駆動手段とからなるステージ装置において、
前記駆動手段は、請求項１から請求項８のうちいずれか一つに記載されたリニアモータであることを特徴とするステージ装置。
【請求項１５】
マスクステージに保持されたマスクのパターンを基板ステージに保持された基板に露光する露光装置において、
前記マスクステージと前記基板ステージとのうち少なくともいずれか一方のステージとして、請求項１４に記載されたステージ装置が用いられることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、リニアモータ及びリニアモータ製造方法及びステージ装置並びに露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、半導体デバイスの製造工程の１つであるリソグラフィ工程においては、マスク又はレチクル（以下、レチクルと称する）に形成された回路パターンをレジスト（感光剤）が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板上に転写する種々の露光装置が用いられている。例えば、半導体デバイス用の露光装置としては、近年における集積回路の高集積化に伴うパターンの最小線幅（デバイスルール）の微細化に応じて、レチクルのパターンを投影光学系を用いてウエハ上に縮小転写する縮小投影露光装置が主として用いられている。
【０００３】
この縮小投影露光装置としては、レチクルのパターンをウエハ上の複数のショット領域（露光領域）に順次転写するステップ・アンド・リピート方式の静止露光型の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）や、このステッパを改良したもので、レチクルとウエハとを一次元方向に同期移動してレチクルパターンをウエハ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
上記のレチクルやウエハは、レチクルステージやウエハステージ等のステージに保持され、レーザ干渉計によって計測されたステージの位置情報に従って所定方向に駆動されるが、これらステージに対する駆動用アクチュエータとしては、非接触で駆動されるため、摩擦が生じず、位置制御性に優れている等の利点からリニアモータが多く用いられている。
【０００５】
図９は、従来技術によるリニアモータの構成例を示すものであり、図９（ａ）はリニアモータの断面図、図９（ｂ）は図９（ａ）のＡ部の拡大図である。
この図に示すリニアモータは、発磁体として一対の磁石６１、６１が間隔をあけて対向配置された固定子６２と、コイルを合成樹脂で固めて平板状のコイル体に整形したモールドコイル６３を有する可動子６４とを主体として構成されたムービングコイル型のリニアモータ（トリムモータ）である。可動子６４においては、モールドコイル６３の周囲はキャン６５で囲まれ、モールドコイル６３とキャン６５との間には温度調整用の冷却媒体を図９の紙面と直交する方向に流動させるための流路６６が形成されている。モールドコイル６３及びキャン６５は基端部において互いに当接した状態で基盤６７に締結固定されている。モールドコイル６３においては、両面から互いに所定間隔で突設される複数の突起部Ｍが設けられており、突起部Ｍがキャン６５に当接・支持することで、流路６６の流路幅が少なくとも突起部Ｍの高さＨｍと等しくなるように確保されている。
【０００６】
このリニアモータは、モールドコイル６３（のコイル）に通電することにより、磁石６１から生じる磁束密度との間で電磁力が発生することで駆動状態となり、固定子６２に対して可動子６４を相対移動させたり、可動子６４を介して伝達された力を相殺するように可動子６４に推力を付与することが可能になる。
【０００７】
ところで、リニアモータを駆動させる際には、モールドコイル６３に通電させることによりモールドコイル６３は発熱するが、発生した熱は流路６６に冷却媒体を流動させることで吸収される構成になっている（例えば、特許文献２参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開平８−１６６０４３号公報
【特許文献２】
特開平１１−２７８８５０号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
モールドコイル６３の発熱は一様であり、熱は流路６６を流れる冷却媒体に伝達され、冷却媒体は熱を吸収する。ところが、モールドコイル６３及びキャン６５は、製造上の都合により平面度、垂直度等の公差を高精度に得られないことから、流路６６を等間隔に維持できず、流路６６を流れる冷却媒体の流速を均一にできない。例えば、図９（ｂ）に示すように、キャン６５内において、モールドコイル６３がキャン６５の下面６５ｂに偏って配置された場合には、モールドコイル６３の上方及び下方の流路６６ａ、６６ｂの流路幅Ｓａ、Ｓｂは、Ｓａ＞Ｓｂとなり、流路６６ａよりも流路６６ｂを流れる冷却媒体の流速が小さくなる。従って、モールドコイル６３の発熱は、流路６６ｂを流れる冷却媒体によって吸収されにくくなり、キャン６５の上面６５ａ及び下面６５ｂにおいて温度差が生じるという問題があった。
【００１０】
また、上面６５ａと下面６５ｂとの温度差だけでなく、キャン６５表面において流路幅が狭い部分においては、局所的に温度上昇し、温度分布が不均一になるという問題があった。このような不均一な温度分布は、キャン６５の平均温度上昇を招くことになり、半導体露光装置等の装置内に上記リニアモータが使用された場合、レーザ干渉計に対して揺らぎ等を起こすため、正確な計測が実施できないという問題が生じる。
【００１１】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、冷却媒体の流路を形成する部材の精度に関わらず、表面温度の分布を均一にできるリニアモータ及びリニアモータ製造方法及びステージ装置並びに露光装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１から図７に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明のリニアモータは、コイル体（６３）と、コイル体（６３）を内部に収容する収容部材（６５）とを備えたリニアモータにおいて、収容部材（６５）とコイル体（６３）との間に配置され、収容部材（６５）内部におけるコイル体（６３）の巻回軸と平行な方向のコイル体（６３）の位置を調整する調整部材（７３）を有することを特徴とする。従って、本発明のリニアモータでは、コイル体（６３）と、収容部材（６５）との形成状態に応じて、コイル体（６３）の位置を調整する調整部材（７３）を有しているので、コイル体（６３）と収容部材（６５）との間に流れる冷却媒体の流速が調整され、所定の流速で流動できる。そのため、コイル体（６３）から発生した熱は、収容部材（６５）に均一に伝達し、収容部材（６５）の表面温度の分布を均一にできる。
【００１３】
また、本発明のリニアモータにおいて、収容部材（６５）は、互いに対向する２つの平面を有し、コイル体（６３）はその巻回軸と垂直な面を有する平板状であってその２平面の間にその２平面と対向するように収容され、調整部材（７３）は、前記収容部材の２つの平面と対向する前記コイル体のそれぞれの面に設けられるものとすることができる。従って、コイル体の両面に冷媒の流路を設けることができ、コイル体両面における収容部材との間隔を調整部材によって調整することができる。
【００１４】
また、コイル体（６３）はコイル（７０）と該コイルを固めて成型するモールド体（７１）とからなるものとし、調整部材（７３）の前記巻回軸と平行な方向の厚さ（Ｃａ、Ｃｂ）は、モールド体（７１）内部における前記巻回軸と平行な方向のコイル（７０）の位置に基づいて決定することができる。従って、モールド体内部でコイル体が一方向に偏っている場合でも適切にコイル体の位置を調整することができる。
【００１５】
また、コイル体（６３）は、モールド体（７１）の一部においてコイル（７０）表面を露出させるモールド体に形成された凹部（ｈｆ、ｈｇ）を有するものとすることができる。従って、凹部の深さを計測することによりモールド体内部におけるコイル体の位置を正確に計測することができる。
【００１６】
また、調整部材（７３）の前記巻回軸と平行な方向の厚さ（Ｃａ、Ｃｂ）は、収容部材（６５）の温度分布に基づいて決定することができ、あるいはリニアモータの発生する推力分布に基づいて決定することもできる。従って、収容部材の現実の温度分布を均一にすることができ、あるいはリニアモータの推力を均一にすることができる。
【００１７】
また、調整部材（７３）はコイル体（６３）と一体に成型されたものとすることができる。従って、調整部材を別部材とする場合に比べて簡単な構成とすることができる。
【００１８】
また、本発明のリニアモータは、収容部材（７３）とコイル体（６３）との間の空間にコイル冷却用媒体を供給する供給口（７６）を有するものとすることができる。従って、供給口から供給されたコイル冷却用媒体によってコイル体を冷却することができる。
【００１９】
また、本発明のリニアモータ製造方法は、コイル体（６３）と、コイル体（６３）を内部に収容する収容部材（６５）とを備えたリニアモータ製造方法において、収容部材（６５）の内部空間におけるコイル体（６３）の巻回軸と平行な方向のコイル体（６３）の位置を調整することを特徴とする。従って、本発明のリニアモータ製造方法では、コイル体（６３）と、収容部材（６５）との形成状態に応じて、調整部材（７３）の高さを調整し、コイル体（６３）の位置が決まるので、コイル体（６３）と収容部材（６５）との間に流れる冷却媒体が所定の流速で流動できる。そのため、コイル体（６３）から発生した熱は、収容部材（６５）に均一に伝達し、収容部材（６５）の表面温度の分布を均一にできる。
【００２０】
また、本発明のリニアモータ製造方法において、コイル体（６３）の位置の調整は、収容部材（６５）の温度分布に基づいて行うことができ、あるいはリニアモータの発生する推力分布に基づいて行うこともできる。これにより収容部材の温度分布を均一にし、あるいはリニアモータの発生する推力を均一にすることができる。
【００２１】
また、平板状のコイル体（６３）を、互いに対向する２つの平面を有する収容部材（６５）の２つの平面の間に、その２平面と対向するように収容するリニアモータの製造方法において、そのコイル体の位置の調整は、その収容部材の２つの平面間の間隔と、そのコイル体の巻回軸と平行な方向の厚さとに基づいて行うものとすることができる。これによりコイル体が収容部材の内部で偏って配置されることなく、収容部材とコイル体との間隔を所定の距離に保ったリニアモータを製造することができる。
【００２２】
また、コイル体（６３）は、コイル（７０）と該コイルを固めて成型するモールド体（７１）とからなり、コイル体の位置の調整は、収容部材の２平面間の間隔と、前記巻回軸と平行な方向におけるコイル体の厚さと、前記巻回軸と平行な方向におけるモールド体内部でのコイルの位置とに基づいて行うものとすることができる。これによりモールド体内部でコイル体が一方向に偏っている場合でも適切にコイル体の位置を調整することができる。
【００２３】
また、本発明のステージ装置は、平面内を移動可能なステージ（５）と、ステージ（５）を駆動する駆動手段（３４）とからなるステージ装置（７）において、駆動手段（３４）は、請求項１から請求項７のうちいずれか一つに記載されたリニアモータであることを特徴とする。従って、本発明のステージ装置では、ステージ（５）の駆動に伴って駆動手段（３４）が発熱しても、駆動手段（３４）の表面温度を均一にできる。
【００２４】
また、本発明の露光装置は、マスクステージ（２）に保持されたマスク（Ｒ）のパターンを基板ステージ（５）に保持された基板（Ｗ）に露光する露光装置（１）において、マスクステージ（２）と基板ステージ（５）とのうち少なくともいずれか一方のステージとして、請求項１２に記載されたステージ装置（７）が用いられることを特徴とするものである。従って、本発明の露光装置では、マスクステージ（２）や基板ステージ（５）の駆動に伴って駆動手段（３４）が発熱しても、駆動手段（３４）の表面温度を均一にできる。そのため、不均一な温度分布に起因する過度の温度上昇を抑制することができ、干渉計に対する揺らぎ等を防止して正確な計測を実施できる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のリニアモータおよびステージ装置並びに露光装置の第１の実施形態を、図１ないし図６を参照して説明する。ここでは、例えば露光装置として、レチクルとウエハとを同期移動しつつ、レチクルに形成された半導体デバイスの回路パターンをウエハ上に転写する、スキャニング・ステッパを使用する場合の例を用いて説明する。また、この露光装置においては、本発明のステージ装置をウエハステージに適用し、また本発明のリニアモータをウエハステージのステップ移動時の反力を床に伝達する際に用いられるボイスコイルモータに適用するものとする。なお、これらの図において、従来例として示した図９と同一の構成要素には同一符号を付し、その説明を簡略化する。
【００２６】
図１に示す露光装置１は、光源（不図示）からの露光用照明光によりレチクル（マスク）Ｒ上の矩形状（あるいは円弧状）の照明領域を均一な照度で照明する照明光学系ＩＵと、レチクルＲを保持して移動するレチクルステージ（マスクステージ）２および該レチクルステージ２を支持するレチクル定盤３を含むステージ装置４と、レチクルＲから射出される照明光をウエハ（基板、感光基板）Ｗ上に投影する投影光学系ＰＬと、ウエハＷを保持して移動するウエハステージ（基板ステージ）５および該ウエハステージ５を保持するウエハ定盤６を含むステージ装置７と、上記ステージ装置４および投影光学系ＰＬを支持するリアクションフレーム８とから概略構成されている。なお、ここで投影光学系ＰＬの光軸方向をＺ方向とし、このＺ方向と直交する方向でレチクルＲとウエハＷの同期移動方向をＹ方向とし、非同期移動方向をＸ方向とする。また、それぞれの軸周りの回転方向をθＺ、θＹ、θＸとする。
【００２７】
照明光学系ＩＵは、リアクションフレーム８の上面に固定された支持コラム９によって支持される。なお、露光用照明光としては、例えば超高圧水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｉ線）およびＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）およびＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ）などが用いられる。
【００２８】
リアクションフレーム８は、床面に水平に載置されたベースプレート１０上に設置されており、その上部側および下部側には、内側に向けて突出する段部８ａおよび８ｂがそれぞれ形成されている。
【００２９】
ステージ装置４の中、レチクル定盤３は、各コーナーにおいてリアクションフレーム８の段部８ａに防振ユニット１１を介してほぼ水平に支持されており（なお、紙面奥側の防振ユニットについては図示せず）、その中央部にはレチクルＲに形成されたパターン像が通過する開口３ａが形成されている。なお、レチクル定盤３の材料として金属やセラミックスを用いることができる。防振ユニット１１は、内圧が調整可能なエアマウント１２とボイスコイルモータ１３とが段部８ａ上に直列に配置された構成になっている。これら防振ユニット１１によって、ベースプレート１０およびリアクションフレーム８を介してレチクル定盤３に伝わる微振動がマイクロＧレベルで絶縁されるようになっている（Ｇは重力加速度）。
【００３０】
レチクル定盤３上には、レチクルステージ２が該レチクル定盤３に沿って２次元的に移動可能に支持されている。レチクルステージ２の底面には、複数のエアベアリング（エアパッド）１４が固定されており、これらのエアベアリング１４によってレチクルステージ２がレチクル定盤３上に数ミクロン程度のクリアランスを介して浮上支持されている。また、レチクルステージ２の中央部には、レチクル定盤３の開口３ａと連通し、レチクルＲのパターン像が通過する開口２ａが形成されている。
【００３１】
レチクルステージ２について詳述すると、図２に示すように、レチクルステージ２は、レチクル定盤３上を一対のＹリニアモータ１５、１５によってＹ軸方向に所定ストロークで駆動されるレチクル粗動ステージ１６と、このレチクル粗動ステージ１６上を一対のＸボイスコイルモータ１７Ｘと一対のＹボイスコイルモータ１７ＹとによってＸ、Ｙ、θＺ方向に微小駆動されるレチクル微動ステージ１８とを備えた構成になっている（なお、図１では、これらを１つのステージとして図示している）。
【００３２】
各Ｙリニアモータ１５は、レチクル定盤３上に非接触ベアリングである複数のエアベアリング（エアパッド）１９によって浮上支持されＹ軸方向に延びる固定子２０と、この固定子２０に対応して設けられ、連結部材２２を介してレチクル粗動ステージ１６に固定された可動子２１とから構成されている。このため、運動量保存の法則により、レチクル粗動ステージ１６の＋Ｙ方向の移動に応じて、固定子２０は−Ｙ方向に移動する。この固定子２０の移動によりレチクル粗動ステージ１６の移動に伴う反力を相殺するとともに、重心位置の変化を防ぐことができる。
【００３３】
なお、固定子２０は、レチクル定盤３上に代えて、リアクションフレーム８に設けてもよい。固定子２０をリアクションフレーム８に設ける場合には、エアベアリング１９を省略し、固定子２０をリアクションフレーム８に固定して、レチクル粗動ステージ１６の移動により固定子２０に作用する反力をリアクションフレーム８を介して床に逃がしてもよい。
【００３４】
レチクル粗動ステージ１６は、レチクル定盤３の中央部に形成された上部突出部３ｂの上面に固定されＹ軸方向に延びる一対のＹガイド５１、５１によってＹ軸方向に案内されるようになっている。また、レチクル粗動ステージ１６は、これらＹガイド５１、５１に対して不図示のエアベアリングによって非接触で支持されている。
【００３５】
レチクル微動ステージ１８には、不図示のバキュームチャックを介してレチクルＲが吸着保持されるようになっている。レチクル微動ステージ１８の−Ｙ方向の端部には、コーナキューブからなる一対のＹ移動鏡５２ａ、５２ｂが固定され、また、レチクル微動ステージ１８の＋Ｘ方向の端部には、Ｙ軸方向に延びる平面ミラーからなるＸ移動鏡５３が固定されている。そして、これら移動鏡５２ａ、５２ｂ、５３に対して測長ビームを照射する３つのレーザ干渉計（いずれも不図示）が各移動鏡との距離を計測することにより、レチクルステージ２のＸ、Ｙ、θＺ（Ｚ軸回りの回転）方向の位置が高精度に計測される。なお、レチクル微動ステージ１８の材質として金属やコージェライトまたはＳｉＣからなるセラミックスを用いることができる。
【００３６】
図１に戻り、投影光学系ＰＬとして、ここでは物体面（レチクルＲ）側と像面（ウエハＷ）側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や蛍石を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）からなる１／４（または１／５）縮小倍率の屈折光学系が使用されている。このため、レチクルＲに照明光が照射されると、レチクルＲ上の回路パターンのうち、照明光で照明された部分からの結像光束が投影光学系ＰＬに入射し、その回路パターンの部分倒立像が投影光学系ＰＬの像面側の円形視野の中央にスリット状に制限されて結像される。これにより、投影された回路パターンの部分倒立像は、投影光学系ＰＬの結像面に配置されたウエハＷ上の複数のショット領域のうち、１つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写される。
【００３７】
投影光学系ＰＬの鏡筒部の外周には、該鏡筒部に一体化されたフランジ２３が設けられている。そして、投影光学系ＰＬは、リアクションフレーム８の段部８ｂに防振ユニット２４を介してほぼ水平に支持された鋳物等で構成された鏡筒定盤２５に、光軸方向をＺ方向として上方から挿入されるとともに、フランジ２３が係合している。なお、鏡筒定盤２５として、高剛性・低熱膨張のセラミックス材を用いてもよい。
【００３８】
フランジ２３の素材としては、低熱膨張の材質、例えばインバー（Ｉｎｖｅｒ；ニッケル３６％、マンガン０．２５％、および微量の炭素と他の元素を含む鉄からなる低膨張の合金）が用いられている。このフランジ２３は、投影光学系ＰＬを鏡筒定盤２５に対して点と面とＶ溝とを介して３点で支持する、いわゆるキネマティック支持マウントを構成している。このようなキネマティック支持構造を採用すると、投影光学系ＰＬの鏡筒定盤２５に対する組み付けが容易で、しかも組み付け後の鏡筒定盤２５および投影光学系ＰＬの振動、温度変化等に起因する応力を最も効果的に軽減できるという利点がある。
【００３９】
防振ユニット２４は、鏡筒定盤２５の各コーナーに配置され（なお、紙面奥側の防振ユニットについては図示せず）、内圧が調整可能なエアマウント２６とボイスコイルモータ２７とが段部８ｂ上に直列に配置された構成になっている。これら防振ユニット２４によって、ベースプレート１０およびリアクションフレーム８を介して鏡筒定盤２５（ひいては投影光学系ＰＬ）に伝わる微振動がマイクロＧレベルで絶縁されるようになっている。
【００４０】
ステージ装置７は、図１から明らかなように、ステージ装置４と投影光学系ＰＬとから分離してベースプレート１０上に設けられている。ステージ装置７は、ウエハステージ５、このウエハステージ５をＸＹ平面に沿った２次元方向に移動可能に支持するウエハ定盤６、ウエハステージ５と一体的に設けられウエハＷを吸着保持する試料台ＳＴ、これらウエハステージ５および試料台ＳＴを相対移動自在に支持するＸガイドバーＸＧを主体に構成されている。ウエハステージ５の底面には、非接触ベアリングである複数のエアベアリング（エアパッド）２８が固定されており、これらのエアベアリング２８によってウエハステージ５がウエハ定盤６上に、例えば数ミクロン程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００４１】
ウエハ定盤６は、ベースプレート１０の上方に、防振ユニット２９を介してほぼ水平に支持されている。防振ユニット２９は、ウエハ定盤６の各コーナーに配置され（なお、紙面奥側の防振ユニットについては図示せず）、内圧が調整可能なエアマウント３０とウエハ定盤６に対して推力を付与するボイスコイルモータ３１とがベースプレート１０上に並列に配置された構成になっている。これら防振ユニット２９によって、ベースプレート１０を介してウエハ定盤６に伝わる微振動がマイクロＧレベルで絶縁されるようになっている。
【００４２】
図３に示すように、ＸガイドバーＸＧは、Ｘ方向に沿った長尺形状を呈しており、その長さ方向両端には電機子ユニットからなる可動子３６，３６がそれぞれ設けられている。これらの可動子３６，３６に対応する磁石ユニットを有する固定子３７，３７は、ベースプレート１０に突設された支持部３２、３２に設けられている（図１参照、なお図１では可動子３６および固定子３７を簡略して図示している）。そして、これら可動子３６および固定子３７によってムービングコイル型のリニアモータ３３、３３が構成されており、可動子３６が固定子３７との間の電磁気的相互作用により駆動されることで、ＸガイドバーＸＧはＹ方向に移動するとともに、リニアモータ３３、３３の駆動を調整することでθＺ方向に回転移動する。すなわち、このリニアモータ３３によってＸガイドバーＸＧとほぼ一体的にウエハステージ５（および試料台ＳＴ、以下単にウエハステージ５と称する）がＹ方向およびθＺ方向に駆動されるようになっている。なお、ウエハステージ５は、Ｙ方向の移動にはガイド部材を有さないガイドレスステージとなっているが、ウエハステージ５のＸ方向の移動に関しても適宜ガイドレスステージとすることができる。
【００４３】
ウエハステージ５は、ＸガイドバーＸＧとの間にＺ方向に所定量のギャップを維持する磁石およびアクチュエータからなる磁気ガイドを介して、ＸガイドバーＸＧにＸ方向に相対移動自在に非接触で支持・保持されている。また、ウエハステージ５は、ＸガイドバーＸＧに埋設された固定子３５ａを有するＸリニアモータ３５による電磁気的相互作用によりＸ方向に駆動される。なお、Ｘリニアモータの可動子は図示していないが、ウエハステージ５に取り付けられている。
【００４４】
ウエハステージ５の上面には、ウエハホルダ４１を介してウエハＷが真空吸着等によって固定される（図１参照、図３では図示略）。また、ウエハステージ５のＸ方向の位置は、投影光学系ＰＬの鏡筒下端に固定された参照鏡４２を基準として、ウエハステージ５の一部に固定された移動鏡４３の位置変化を計測するレーザ干渉計４４によって所定の分解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能でリアルタイムに計測される。なお、上記参照鏡４２、移動鏡４３、レーザ干渉計４４とほぼ直交するように配置された不図示の参照鏡、レーザ干渉計および移動鏡によってウエハステージ５のＹ方向の位置が計測される。なお、これらレーザ干渉計の中、少なくとも一方は、測長軸を２軸以上有する多軸干渉計であり、これらレーザ干渉計の計測値に基づいてウエハステージ５（ひいてはウエハＷ）のＸＹ位置のみならず、θ回転量あるいはこれらに加え、レベリング量をも求めることができるようになっている。
【００４５】
また、図４に示すように、ＸガイドバーＸＧの−Ｘ方向側には、ボイスコイルモータで構成されたＸトリムモータ（リニアモータ）３４の可動子（一方の部材）３４ａが取り付けられている。Ｘトリムモータ３４は、Ｘリニアモータ３５の固定子としてのＸガイドバーＸＧとリアクションフレーム８との間に介装されており、間隔をあけて配置された一対の磁石６１、６１を有する固定子３４ｂはリアクションフレーム８に設けられている。このため、ウエハステージ５をＸ方向に駆動する際の反力は、Ｘトリムモータ３４によりリアクションフレーム８に伝達され、さらにリアクションフレーム８を介してベースプレート１０に伝達される。なお、実際にはＸトリムモータ３４は、リニアモータ３３を挟んだＺ方向両側に配置されているが、図１、図３では便宜上＋Ｚ側のＸトリムモータ３４のみ図示している。
【００４６】
可動子３４ａは、ＸガイドバーＸＧにＺ方向に沿って取り付けられる基盤６７と、図５（ａ）に示すように、基端部６３ａを基盤６７に締結固定され当該基盤６７からＸＹ平面に沿って−Ｘ方向に突設されたモールドコイル（コイル体）６３と、モールドコイル６３の周囲を囲みモールドコイル６３との間に冷却媒体を流動させるための流路６６を形成するキャン（収容部材）６５と、モールドコイル６３の位置を調整すると共に、モールドコイル６３を所定の位置に配置するスペーサ（調整部材）７３から概略構成されている。
【００４７】
キャン６５は、両端部においてパッキン等のシール部材６８を介して取付ネジ等の締結部材６９（図４参照）により基盤６７に締結固定されている。モールドコイル６３は、図６に示す平面視０字状のコイル７０と、コイル７０を固めて成型するエポキシ樹脂等の合成樹脂で構成されるモールド体７１とから構成されており、基端部６３ａにおいて冷却媒体の漏洩を防ぐシール部材７２、７２を介在させてキャン６５と当接状態で締結されている。
なお、図６に示す通り本実施の形態においては、モールドコイル６３（コイル７０）の巻回軸は、Ｚ軸と平行になっている。
【００４８】
モールドコイル６３表面には、コイル７０の中心部及び外周部に対して、片面当り８個、両面合計１６個のスペーサ７３が設けられている（ただし、図６においては片面に８個設けられたスペーサ７３が代表的に示されている）。当該スペーサ７３は、直径約１ｍｍの円錐状で形成され、図５（ａ）のＢ部を拡大した図５（ｂ）に示すように、モールドコイル６３のＺ方向（モールドコイル６３の巻回軸と平行な方向）の位置がキャン６５の中心位置となるように調整する。
【００４９】
モールドコイル６３の位置の調整方法は、次の手順によって行われる。
スペーサ７３が配置される部分において、キャン６５の外寸法Ｈｏｕｔを実測し、外寸法Ｈｏｕｔからキャン６５の板厚ｔｃを差し引いた値、即ち、Ｈｏｕｔ−２ｔｃによってキャン６５の内寸法Ｈｉｎを算出する。内寸法Ｈｉｎからモールドコイル６３の外寸法ｔｍを差し引いて２で割った値、即ち、（Ｈｉｎ−ｔｍ）／２によってスペーサ７３の高さＣａ、Ｃｂ（Ｃａ＝Ｃｂ）が算出される。高さＣａ、Ｃｂに基づいて、スペーサ７３を作成し、モールドコイル６３の表面に設け、モールドコイル６３をキャン６５内部に配置し、モールドコイル６３のＺ方向の位置が上述のように設定される。
【００５０】
スペーサ７３の作成においては、板厚が異なるブロックを用意し、例えば、０．５ｍｍ厚、０．１ｍｍ厚、０．０５ｍｍ厚、等の種種の板厚のブロックを用意し、これらを積み重ねてスペーサの７３の高さが設定される。例えば、０．７５ｍｍのスペーサが必要な場合には、０．５ｍｍのブロックを１個と、０．１ｍｍのブロックを２個と、０．０５ｍｍのブロックを１個と、を積み重ねて形成する。従って、所望の高さのスペーサが容易に形成される。
【００５１】
また、可動子３４ａには、冷却媒体を供給・排出するための配管７５（図４参照；この図では供給側のみ図示）がＹ方向両端側に接続されている。そして、配管７５を介して供給・排出される冷却媒体の流入口７６及び流出口７７は、いずれも流路６６に臨ませて形成されている。また、流入口７６及び流出口７７を通じて供給、排出される冷却媒体は、不図示の温調機により温度及び流量を調整されて、可動子３４ａに供給される。なお、冷却媒体としては、ＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）やフロリナートを用いることが可能だが、本実施の形態では地球温暖化係数が低く、オゾン破壊係数がゼロであるため、地球環境保護の観点からＨＦＥを用いている。
【００５２】
図１に戻り、投影光学系ＰＬのフランジ２３には、異なる３カ所に３つのレーザ干渉計４５が、ウエハ定盤６とのＺ方向の相対位置を検出するための検出装置として固定されている（ただし、図１においてはこれらのレーザ干渉計のうち１つが代表的に示されている）。各レーザ干渉計４５に対向する鏡筒定盤２５の部分には、開口２５ａがそれぞれ形成されており、これらの開口２５ａを介して各レーザ干渉計４５からＺ方向のレーザビーム（測長ビーム）がウエハ定盤６に向けて照射される。ウエハ定盤６の上面の各測長ビームの対向位置には、反射面がそれぞれ形成されている。このため、上記３つのレーザ干渉計４５によってウエハ定盤６の異なる３点のＺ位置がフランジ２３を基準としてそれぞれ計測される（図１においては、測長ビームがウエハステージ５の手前を通過する状態を示している）。なお、ウエハステージ５の上面に反射面を形成して、この反射面上の異なる３点のＺ方向位置を投影光学系ＰＬまたはフランジ２３を基準として計測する干渉計を設けてもよい。
【００５３】
次に、上記のように構成された露光装置の中、まずステージ装置７の動作について説明する。
リニアモータ３３、３５の駆動によりウエハステージ５が移動した際には、レーザ干渉計４４等の計測値に基づいて、ウエハステージ５の移動に伴う重心の変化による影響をキャンセルするカウンターフォースを防振ユニット２９に対してフィードフォワードで与え、この力を発生するようにエアマウント３０およびボイスコイルモータ３１を駆動する。また、ウエハステージ５とウエハ定盤６との摩擦が零でない等の理由で、ウエハ定盤６の６自由度方向の微少な振動が残留した場合にも、上記残留振動を除去すべく、エアマウント３０およびボイスコイルモータ３１をフィードバック制御する。
【００５４】
そして、ウエハステージ５のＸ方向の移動に伴う反力は、Ｘトリムモータ３４を介してリアクションフレーム８に伝達される。このとき、Ｘトリムモータ３４では、上記反力に相当する推力を出力するために可動子３４ａのコイル７０に通電されることでコイル７０を介してモールドコイル６３が発熱する。モールドコイル６３で生じた熱は、流入口７６から流入して流路６６（６６ａ、６６ｂ）を流動する冷却媒体によって吸収（吸熱）され、冷却媒体が流出口７７から流出することで排熱されるが、その一部は冷却媒体を介してキャン６５に伝熱される。
【００５５】
ここで、スペーサ７３によってモールドコイル６３のＺ方向の位置がキャン６５の中心位置に設定されており、流路６６ａ、６６ｂの流路幅は等しく、冷却媒体はキャン６５内を均一な流速で流動する。従って、冷却媒体は、モールドコイル６３で発生した熱を一様に吸熱し、キャン６５の表面温度分布を均一にできる。
【００５６】
続いて、露光装置１における露光動作について説明する。
ここでは、予め、ウエハＷ上のショット領域を適正露光量（目標露光量）で走査露光するための各種の露光条件が設定されているものとする。そして、いずれも不図示のレチクル顕微鏡およびオフアクシス・アライメントセンサ等を用いたレチクルアライメント、ベースライン計測等の準備作業が行われ、その後アライメントセンサを用いたウエハＷのファインアライメント（ＥＧＡ；エンハンスト・グローバル・アライメント等）が終了し、ウエハＷ上の複数のショット領域の配列座標が求められる。
【００５７】
このようにして、ウエハＷの露光のための準備動作が完了すると、アライメント結果に基づいてレーザ干渉計４４の計測値をモニタしつつ、リニアモータ３３、３５を制御してウエハＷの第１ショットの露光のための走査開始位置にウエハステージ５を移動する。そして、リニアモータ１５、３３を介してレチクルステージ２とウエハステージ５とのＹ方向の走査を開始し、両ステージ２、５がそれぞれの目標走査速度に達すると、照明光学系ＩＵからの露光用照明光により、レチクルＲ上の所定の矩形状の照明領域が均一な照度で照明される。この照明領域に対してレチクルＲがＹ方向に走査されるのに同期して、この照明領域と投影光学系ＰＬに関して共役な露光領域に対してウエハＷを走査する。
【００５８】
そして、レチクルＲのパターン領域を透過した照明光が投影光学系ＰＬにより１／５倍あるいは１／４倍に縮小され、レジストが塗布されたウエハＷ上に照射される。そして、ウエハＷ上の露光領域には、レチクルＲのパターンが逐次転写され、１回の走査でレチクルＲ上のパターン領域の全面がウエハＷ上のショット領域に転写される。この走査露光時には、レチクルステージ２のＹ方向の移動速度と、ウエハステージ５のＹ方向の移動速度とが投影光学系ＰＬの投影倍率（１／５倍あるいは１／４倍）に応じた速度比に維持されるように、リニアモータ１５、３３を介してレチクルステージ２およびウエハステージ５が同期制御される。
【００５９】
レチクルステージ２の走査方向の加減速時の反力は、固定子２０の移動により吸収され、ステージ装置４における重心の位置がＹ方向において実質的に固定される。また、レチクルステージ２と固定子２０とレチクル定盤３との３者間の摩擦が零でなかったり、レチクルステージ２と固定子２０との移動方向が僅かに異なる等の理由で、レチクル定盤３の６自由度方向の微少な振動が残留した場合には、上記残留振動を除去すべく、エアマウント１２およびボイスコイルモータ１３をフィードバック制御する。また、鏡筒定盤２５においては、レチクルステージ２、ウエハステージ５の移動による微振動が発生しても、６自由度方向の振動を求め、エアマウント２６およびボイスコイルモータ２７をフィードバック制御することによりこの微振動をキャンセルして、鏡筒定盤２５を定常的に安定した位置に維持することができる。
【００６０】
以上のように、本実施の形態では、スペーサ７３によってモールドコイル６３のＺ方向の位置がキャン６５の中心位置となるように調整され、流路６６ａ、６６ｂの流路幅は等しく設定され、冷却媒体がキャン６５内を均一な流速で流動し、キャン６５の表面温度分布を容易に均一化できる。その結果、温度分布の不均一に起因するキャン６５の平均温度上昇を抑制することができ、温度上昇により空気揺らぎが生じて干渉計の計測精度が低下することを防止できる。
【００６１】
なお、本実施の形態では、モールドコイル６３のＺ方向の位置がキャン６５の中心位置となるようにスペーサ７３の高さが設定されているが、スペーサ７３に代わってモールドコイル６３に予め突起部を形成し、当該突起部が好適な高さとなるように適宜削り、モールドコイル６３の位置を調整してもよい。また、スペーサ７３は片面当り８個設けているが、数に限定することなく、好適な数で設けてよい。
【００６２】
図７は、本発明の第２の実施形態を示す図である。
この図において、図１から図６に示す第１の実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第１の実施形態では、スペーサ７３によってモールドコイル６３のＺ方向の位置がキャン６５の中心位置となるように調整されているが、第２の実施形態では、モールドコイル６３内部においてコイル７０が偏っている場合に、流路６６ａ、６６ｂの流路幅のバランスを調整している。
【００６３】
即ち、図７に示すように、モールドコイル６３においては、その内部でコイル７０が流路６６ｂ側に偏って配置され、予め凹部ｈｆ、ｈｇが設けられており、凹部ｈｆ、ｈｇを用いて、モールドコイル６３の表面６３ｆ及び裏面６３ｇからコイル７０までのそれぞれの深さｄｆ、ｄｇが測定される。
【００６４】
モールドコイル６３の表面６３ｆ及び裏面６３ｇには、高さ調整が可能なスペーサ７４ａ、７４ｂが設けられており、凹部ｈｆ、ｈｇの深さｄｆ、ｄｇの実測値に基づいて、モールドコイル６３のＺ方向の位置が所定に位置に調整される。また、スペーサ７４ａ、７４ｂは、凹部ｈｆ、ｈｇに嵌入固定され、冷却媒体のコイル７０内への侵入が防止され、電気的絶縁性が確保されている。
ここで、例えばコイル７０がモールドコイル６３の内部で下方に偏っている場合には、深さｄｆ、ｄｇはｄｆ＞ｄｇであることから、スペーサ７４ａ、７４ｂは、高さＣａ＜Ｃｂとなるように調整されている。
【００６５】
上記の構成において、コイル７０から一様に発生した熱は、モールド体７１を伝達し、モールドコイル６３の表面６３ｆ及び裏面６３ｇの表面温度が上昇する。深さｄｆ、ｄｇは、ｄｆ＞ｄｇであることから、表面６３ｆよりも表面６３ｇの表面温度が高くなる。ここで、高さＣａ、Ｃｂのスペーサ７４ａ、７４ｂによって、モールドコイル６３のＺ方向の位置が調整されていることから、流路６６ａより流路６６ｂの冷却媒体の流速が大きくなる。表面６３ｆは流路６６ａを流れる冷却媒体によって冷却され、表面６３ｇは流路６６ｂを流れる冷却媒体によって冷却される。従って、流路６６ａ、６６ｂの流路幅のバランスを調整することが可能になり、キャン６５の表面温度分布を均一にできる。
【００６６】
なお、上記第２の実施形態では、スペーサ７４ａ、７４ｂが凹部ｈｆ、ｈｇに嵌入固定されているが、スペーサ７４ａ、７４ｂと凹部ｈｆ、ｈｇとの間に絶縁テープを設けてもよい。この場合、冷却媒体とコイル７０との間の電気的絶縁性を向上させることができる。
また、上記実施の形態ではモールドコイル６３及びキャン６５の外形寸法、あるいはモールドコイル６３内のコイル７０の位置からスペーサ７３の厚さを決定し、流路６６ａ、６６ｂの流路幅を所定の値に設定することによりキャン６５の表面温度分布の均一化を図ったが、これとは逆に、キャン６５の表面温度分布を測定し、該温度分布に基づいてスペーサ７３の厚さを決定してもよい。具体的には、モールドコイル６３に通電した時のキャン６５の表面温度を複数の温度センサで２次元的に計測して温度分布を求め、高温部分の近傍にあるスペーサ７３の厚さを増し、低温部分の近傍にあるスペーサ７３の厚さを減ずることによりキャン６５の表面温度分布を均一に調整することができる。
また、スペーサ７３の厚さは、リニアモータの発生する推力分布を計測し、これに基づいて決定してもよい。具体的には、リニアモータが発生する推力を該リニアモータのストローク内で逐次計測し、推力が変化する部分近傍のスペーサ７３の厚さを増加または減少させればよい。
【００６７】
また、上記実施の形態では、ウエハステージ５の移動に伴う反力を伝達するためのＸトリムモータ３４に本発明のリニアモータを適用する構成としたが、これに限定されるものではなく、例えばウエハステージ５を走査方向に駆動するためのリニアモータ３３にも適用可能である。さらに、本発明のリニアモータ及びステージ装置をウエハステージ側に適用したが、レチクルステージ２に対しても適用可能である。また、本発明のリニアモータは、上記実施の形態で採用したムービングコイル型に限られず、ムービングマグネット型にも適用可能である。そして、上記実施の形態では、本発明のステージ装置を露光装置におけるウエハステージに適用した構成としたが、露光装置以外にも転写マスクの描画装置、マスクパターンの位置座標測定装置等の精密測定機器にも適用可能である。
【００６８】
なお、本実施の形態の基板としては、半導体デバイス用の半導体ウエハＷのみならず、液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００６９】
露光装置１としては、レチクルＲとウエハＷとを同期移動してレチクルＲのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニング・ステッパー；ＵＳＰ５，４７３，４１０）の他に、レチクルＲとウエハＷとを静止した状態でレチクルＲのパターンを露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパー）にも適用することができる。
【００７０】
露光装置１の種類としては、ウエハＷに半導体デバイスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクルなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００７１】
また、露光用照明光の光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ６）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合は、レチクルＲを用いる構成としてもよいし、レチクルＲを用いずに直接ウエハ上にパターンを形成する構成としてもよい。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。
【００７２】
投影光学系ＰＬの倍率は、縮小系のみならず等倍系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系ＰＬを用いることなく、レチクルＲとウエハＷとを密接させてレチクルＲのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。
【００７３】
ウエハステージ５やレチクルステージ２にリニアモータ（ＵＳＰ５，６２３，８５３またはＵＳＰ５，５２８，１１８参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ２、５は、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００７４】
各ステージ２、５の駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット（永久磁石）と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージ２、５を駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージ２、５に接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージ２、５の移動面側（ベース）に設ければよい。
【００７５】
以上のように、本願実施形態の露光装置１は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００７６】
半導体デバイスは、図８に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、シリコン材料からウエハを製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置１によりレチクルのパターンをウエハに露光するウエハ処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００７７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明ではコイル体と収容部材の精度に関わらず、収容部材の表面温度分布を容易に均一化できるとともに、揺らぎによる計測精度の低下を防止できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の露光装置の概略構成図である。
【図２】同露光装置を構成するレチクルステージの外観斜視図である。
【図３】同露光装置を構成するウエハ側ステージ装置の外観斜視図である。
【図４】ウエハステージを構成するＸトリムモータの概略構成図である。
【図５】Ｘトリムモータを構成する可動子の断面斜視図である。
【図６】同可動子の平面図である。
【図７】第２の実施形態の可動子の部分断面図である。
【図８】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図９】従来技術によるリニアモータの一例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
Ｒ  レチクル（マスク）
Ｗ  ウエハ（基板）
１  露光装置
２  レチクルステージ（マスクステージ）
５  ウエハステージ（基板ステージ、ステージ）
７  ステージ装置
３４  Ｘトリムモータ（リニアモータ、駆動手段）
３４ａ  可動子（一方の部材）
６３  モールドコイル（コイル体）
６５  キャン（収容部材）
６６  流路
７０  コイル
７１  モールド体
７３  スペーサ
７４ａ、７４ｂ  スペーサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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