(57)【要約】【課題】本発明は、情報機器の表示部に用いられる液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置並びにその製造方法及び製造装置に関し、製造工程の簡略化及び挟額縁化が可能な液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置並びにその製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】対向配置されたＴＦＴ基板２及びＣＦ基板４と、２枚の基板２，４間に封止された液晶１４と、ＣＦ基板４の外周部に形成された遮光膜８と、遮光膜８で画定された表示領域と、ＴＦＴ基板２の外周部の液晶１４側に０．１ｍｍ以下の幅で形成された金属層１０，１１，１２と、基板面に垂直方向に見て、遮光膜８に重なるように外周部に塗布され、金属層１０，１１，１２に重なる被光照射領域４０を備えた光硬化性のシール剤１６とを有するように構成する。【選択図】　　図３
2004004563.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された２枚の基板と、
前記２枚の基板間に封止された液晶と、
一方の前記基板の外周部に形成された遮光膜と、
前記遮光膜で画定された表示領域と、
他方の前記基板の前記外周部の前記液晶側に０．１ｍｍ以下の幅で形成された金属層と、
基板面に垂直方向に見て、前記遮光膜に重なるように前記外周部に塗布され、前記金属層に重なる被光照射領域を備えた光硬化性のシール剤と
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記他方の基板は、前記表示領域端部から前記シール剤の前記表示領域側の端部までの領域への光を遮蔽する遮光層を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２記載の液晶表示装置において、
前記遮光層は、基板面に垂直方向に見て、０．１ｍｍ以下の重なり幅で前記シール剤に重なる重なり領域を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記一方の基板又は前記他方の基板の少なくともいずれか一方は、前記遮光膜より外側の表面に、入射する光の光路を前記シール剤側に変更させる光路変更部を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項４記載の液晶表示装置において、
前記光路変更部は、前記シール剤に光を照射する前に形成された凹凸を含むこと
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項４記載の液晶表示装置において、
前記光路変更部は、前記シール剤に光を照射する前に貼付された光学フィルムを含むこと
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記一方の基板は、前記遮光膜より外側の表面に、入射する光を増加させる入射光増加部を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
透明な基板上に形成された遮光膜と、
前記遮光膜上に配置され、対向配置される対向基板と貼り合わされる際にシール剤が塗布されるシール剤塗布領域と、
対向配置される基板に貼り合わされる際に仮止め用シール剤が塗布される仮止め用シール剤塗布領域と、
前記仮止め用シール剤塗布領域の周囲に配置され、前記仮止め用シール剤に照射される光が前記シール剤に照射されないように遮光する遮光層と
を有することを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項９】
２枚の基板が光硬化性のシール剤を介して貼り合わされた貼り合わせ基板が載置される照射ステージと、
前記貼り合わせ基板に光を照射して前記シール剤を硬化させる光源と、
前記貼り合わせ基板の表面に対して斜め方向に前記光が入射するように、前記光を反射させる反射鏡と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造装置。
【請求項１０】
一対の基板の一方の外周部に光硬化性のシール剤を塗布する第１の工程と、前記シール剤を介して前記一対の基板を貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する第２の工程と、光を照射して前記シール剤を硬化させる第３の工程とを有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記第３の工程の前に、前記貼り合わせ基板の表面又は裏面の少なくともいずれか一方の前記シール剤塗布領域より外側に、前記基板に入射する光の光路を前記シール剤側に変更させる光路変更処理、又は前記基板に入射する光を増加させる入射光増加処理を施す工程をさらに有すること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報機器の表示部に用いられる液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置並びにその製造方法及び製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）をスイッチング素子として画素毎に備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置は、フラットパネルディスプレイの主流として注目され、製造歩留まりの向上や製品不良の低減による低コスト化が求められている。アクティブマトリクス型のカラー液晶表示装置は、ＴＦＴ等が形成されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタ（ＣＦ；Ｃｏｌｏｒ　Ｆｉｌｔｅｒ）等が形成されたＣＦ基板と、両基板間に封止された液晶とで構成されている。
【０００３】
液晶表示装置の製造工程のうち基板貼り合わせ工程では、ＴＦＴ基板とＣＦ基板のいずれか一方の外周部にシール剤を塗布形成する。次に、両基板を重ね合わせ、加圧−加熱装置や真空加熱装置等の基板貼り合わせ装置を用いて加圧して貼り合わせ、所定のセルギャップを有する貼り合わせ基板を１枚毎に作製する。その後、液晶注入工程では、真空注入法等を用いて貼り合わせ基板のセルギャップ間に液晶を注入し、液晶注入口を封止する。
【０００４】
しかし、近年の基板サイズの大型化に伴い、真空注入法では高精度のセルギャップの形成が困難であり、また液晶の注入に長時間を要するという問題が生じている。上記の問題を解決する方法として、滴下注入法（滴下貼り合わせ）がある。滴下注入法では、一方の基板の外周部にシール剤を枠状に塗布し、枠内の基板面上に規定量の液晶を滴下して、真空中で両基板を貼り合せて液晶封入を行う。滴下注入法によると、基板の貼り合わせと液晶の注入とをほぼ同時に完了させることができ、製造工程が大幅に簡略化される。
【０００５】
滴下注入法による液晶表示パネルの製造工程について簡単に説明する。まず、一方の基板面上の複数箇所に、液晶滴下注入装置を用いて液晶を滴下する。次いで、一方の基板とシール剤が外周部に塗布された他方の基板とを位置合わせして両基板を貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する。この工程は真空中で行われる。次いで、貼り合わせ基板を大気中に戻すと、貼り合わせ基板間の液晶が大気圧により拡散する。次に、シール剤を硬化させることにより、液晶表示パネルが完成する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
滴下注入法を用いた液晶注入工程では、基板の貼り合わせと液晶の注入が同時に行われるため、未硬化のシール剤と液晶とが接触する。シール剤の未硬化成分が液晶と長時間接触していたり、その状態で高温に曝されていたりすると液晶が汚染されてしまう。そのため、滴下注入法を用いる場合のシール剤には、一般に熱硬化性樹脂は用いられず、紫外光（ＵＶ光）照射により速やかに硬化する光硬化性樹脂が用いられている。
【０００７】
ところで、近年の液晶表示パネルの大型化等により、表示領域の外側の額縁部の幅を狭くする挟額縁化が求められている。図１１は、従来の液晶表示装置の額縁部近傍の構成例を示す概略断面図である。図１１に示すように、液晶表示装置は、ＴＦＴ基板１０２とＣＦ基板１０４と両基板１０２、１０４間に封止された液晶１１４とで構成されている。液晶表示装置の表示領域Ａの外側の額縁部ＢのＣＦ基板１０４には、光を遮蔽する遮光膜（ＢＭ）１０８がガラス基板１０７上に形成されている。また額縁部ＢのＴＦＴ基板１０２側には、複数の蓄積容量バスラインを束ねる共通蓄積容量線等の金属配線１１０、１１１がガラス基板１０６上に形成されている。
【０００８】
図１１では、基板面に垂直方向に見て、ＢＭ１０８及び金属配線１１０、１１１に重なる位置にシール剤（メインシール）１１２が塗布されている。ところが、このような位置にシール剤１１２を塗布してしまうと、基板面に対して垂直方向からの光はＢＭで遮光されてシール剤１１２に照射されない。また、セルギャップｄに比較して金属配線１１１の幅Ｗは極めて広いため、基板面に対して斜め方向からの光もＢＭ１０８と金属配線１１１との間の多重反射により強度が減衰してしまい、硬化に必要な強度の光がシール剤１１２に照射されない。このため、シール剤１１２に硬化不良領域が発生してしまう。したがって、滴下注入法を用いて製造される液晶表示装置では、シール剤１１２をＢＭ１０８の外側（図中右方）に塗布する必要がある。なお、シール剤１１２の塗布方向にほぼ直交して形成されているバスライン等は、配線幅に対して配線間隔が広いため、問題になることは少ない。
【０００９】
しかしながら、シール剤１１２をＢＭ１０８の外側に塗布すると、額縁領域Ｂの幅が広くなってしまうという問題が生じる。例えばシール剤１１２をＢＭ１０８に重なるように塗布できれば額縁領域Ｂの幅をほぼＢＭ１０８の幅に一致させることができるのに対して、上記方法では、シール剤１１２の塗布幅の分だけ額縁領域Ｂの幅が広くなってしまう。
【００１０】
また、照射時間を短縮するために極めて高い強度のＵＶ光をシール剤１１２に照射すると、その漏れ光が液晶１１４に入射し、液晶１１４が汚染されてしまうという問題が生じる。
【００１１】
本発明の目的は、製造工程の簡略化及び挟額縁化が可能な液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置並びにその製造方法及び製造装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、対向配置された２枚の基板と、前記２枚の基板間に封止された液晶と、一方の前記基板の外周部に形成され、光を遮蔽する遮光膜と、前記遮光膜で画定された表示領域と、他方の前記基板の前記外周部の前記液晶側に０．１ｍｍ以下の幅で形成された金属層と、基板面に垂直方向に見て、前記遮光膜に重なるように前記外周部に塗布され、前記金属層に重なる被光照射領域を備えた光硬化性のシール剤とを有することを特徴とする液晶表示装置によって達成される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
〔第１の実施の形態〕
本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置及びその製造装置について図１乃至図４を用いて説明する。図１は、本実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示している。液晶表示装置は、ＴＦＴ等が形成されたＴＦＴ基板２とＣＦ等が形成されたＣＦ基板４とを対向させて貼り合わせ、両基板２、４間に液晶を封止した構造を有している。ＴＦＴ基板２には、ゲートバスライン及び蓄積容量バスラインとドレインバスラインとが絶縁膜を介して交差して形成されている。
【００１４】
ＴＦＴ基板２には、複数のゲートバスラインを駆動するドライバＩＣが実装されたゲートバスライン駆動回路８０と、複数のドレインバスラインを駆動するドライバＩＣが実装されたドレインバスライン駆動回路８１とが設けられている。これらの駆動回路８０、８１は、制御回路８２から出力された所定の信号に基づいて、走査信号やデータ信号を所定のゲートバスラインあるいはドレインバスラインに出力するようになっている。ＴＦＴ基板２の素子形成面と反対側の基板面には偏光板８３が配置され、偏光板８３のＴＦＴ基板２と反対側の面にはバックライトユニット８５が取り付けられている。一方、ＣＦ基板４のＣＦ形成面と反対側の面には、偏光板８３とクロスニコルに配置された偏光板８４が貼り付けられている。
【００１５】
図２は、本実施の形態による液晶表示装置の額縁部近傍をＴＦＴ基板２側から見た構成を示している。また、図３は、図２のＡ−Ａ線で切断した液晶表示装置の額縁部近傍の概略断面図である。図２及び図３に示すように、液晶表示装置のＴＦＴ基板２とＣＦ基板４とは、基板２、４の一方の外周部に塗布された光硬化性のシール剤１６を介して貼り合わされている。
【００１６】
ＣＦ基板４側には、光を遮蔽するＢＭ８が透明なガラス基板７上に形成されている。またＴＦＴ基板２側には、例えば複数の蓄積容量バスライン（図示せず）を束ねる共通蓄積容量線等の金属配線１０、１１、１２が透明なガラス基板６上に形成されている。金属配線１０、１１、１２は、シール剤１６の塗布方向に平行に形成されている。金属配線１０の幅Ｗ１、金属配線１１の幅Ｗ２、及び金属配線１２の幅Ｗ３は、全て０．１ｍｍ以下になっている。
【００１７】
金属配線１０、１１、１２の幅を０．１ｍｍ以下にすると、シール剤１６の当該金属配線１０、１１、１２と重なる領域に、ＢＭ８と金属配線１０、１１、１２との間の多重反射の光を照射できることが実験から分かっている。
【００１８】
後程詳述するが本構成によれば、基板面に斜めから入射する光線ａ、ｂのガラス基板６裏面や金属配線１０、１１、１２での反射により、シール剤１６全領域に光硬化に必要な強度の光が照射される。これ以後、光硬化に必要な強度の光が照射されるシール剤領域を被光照射領域という。本実施の形態では、上述及び図３に示すように被光照射領域４０はシール剤１６の全領域となる。
【００１９】
次に、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法について説明する。まず、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板４とをそれぞれの工程で製造する。次に、例えばＴＦＴ基板２の表面の複数箇所に規定量の液晶を滴下し、ＣＦ基板４の外周部にシール剤１６を塗布する。次に、基板貼り合わせ装置を用いて真空中で両基板２、４を位置合わせして貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する。次に、貼り合わせ基板を大気中に戻すと、貼り合わせ基板間の液晶が大気圧により拡散する。
【００２０】
次に、ＵＶ光照射装置を用いてシール剤１６にＵＶ光を照射する。図３に示すように、基板面に対して斜め方向からガラス基板７に入射する光線ａ、ｂは、ガラス基板７を透過してガラス基板６に入射する。光線ａ、ｂは、ガラス基板６裏面（図中下方）又はガラス基板６裏面に接触している照射ステージ（図３では図示せず）表面で反射されて、シール剤１６に入射する。その後、光線ａ、ｂは、金属配線１０、１１、１２表面でさらに反射され、シール剤１６のうち金属配線１０、１１、１２が重なって形成されている領域にも入射する。これにより、シール剤１６の全ての領域にＵＶ光が照射され、シール剤１６は速やかに硬化する。以上の工程を経て、液晶表示装置が完成する。
【００２１】
次に、本実施の形態による液晶表示装置の製造装置について図４を用いて説明する。図４は、本実施の形態による液晶表示装置の製造に用いられるＵＶ光照射装置２０の概略構成を示している。図４に示すように、ＵＶ光照射装置２０は、滴下注入法を用いて液晶１４が注入され、光硬化性のシール剤１６が外周部に塗布された貼り合わせ基板３０を載置する照射ステージ２２を有している。照射ステージ２２の上方には、ＵＶ光を照射するＵＶ光源２４が配置されている。また、照射ステージ２２の側方には、貼り合わせ基板３０の表面に対して斜め方向に光が入射するように、ＵＶ光源２４からのＵＶ光を反射する反射鏡２６が配置されている。反射鏡２６は、例えば照射ステージ２２の四方にそれぞれ設けられている。
【００２２】
ＵＶ光照射装置２０では、貼り合わせ基板３０に照射されないＵＶ光を反射鏡２６により貼り合わせ基板３０方向に反射させることができる。このため、ＵＶ光の利用効率が向上する。また、貼り合わせ基板３０に入射するＵＶ光の入射角が大きくなることにより、ＵＶ光の基板面方向成分が増加するため、ＵＶ光の反射回数が減少する。
【００２３】
照射ステージ２２は、例えば光反射率の高い金属層や白色板を表面（照射面）に有している。これにより、ＵＶ光源２４からの光を効率良くシール剤１６に照射できる。照射ステージ２２は、光を散乱させて反射させる散乱シートを表面に有していてもよい。
【００２４】
このように、本実施の形態によれば、光硬化性のシール剤１６をＢＭ８に重なるように塗布しても、シール剤１６を硬化させることができる。このため、滴下注入法を用いて製造しても挟額縁化が可能な液晶表示装置を実現できる。
【００２５】
〔第２の実施の形態〕
次に、本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置について図５を用いて説明する。図５は、本実施の形態による液晶表示装置の額縁部近傍の概略の断面構成を示している。図５に示すように、ＴＦＴ基板２のガラス基板６上には、金属配線４１、４２がシール剤１６の塗布方向にほぼ平行に形成されている。外側に形成された金属配線４１の幅は０．１ｍｍより広く、内側に形成された金属配線４２の幅は０．１ｍｍ以下である。
【００２６】
第１の実施の形態で説明したとおり、金属配線の幅が０．１ｍｍ以下であれば、当該金属配線と重なるシール剤領域にＢＭと金属配線との間の多重反射の光を照射できる。一方、金属配線の幅が０．１ｍｍを超えていると当該金属配線上のシール剤領域に硬化に必要な光を照射できない可能性がある。したがって、本実施の形態によるシール剤１６では、液晶１４側の端部に被光照射領域４０が位置することになる。
【００２７】
次に、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法について説明する。第１の実施の形態と同様に、ＵＶ光照射装置２０の照射ステージ２２上に貼り合わせ基板３０を載置し、ＵＶ光を照射する。図５に示すように、基板面に対して斜め方向からガラス基板７に入射する光線ｃ、ｄは、ガラス基板７を透過してガラス基板６に入射する。光線ｃは、ガラス基板６裏面又は照射ステージ２２表面で反射されてシール剤１６の被光照射領域４０に入射する。また光線ｄは、ガラス基板６裏面又は照射ステージ２２表面で反射され、金属配線４１の裏面でさらに反射される。光線ｄはガラス基板６裏面又は照射ステージ２２表面で再度反射され、シール剤１６の被光照射領域４０に入射する。光線ｄは、ＢＭ８と金属配線４２でさらに反射され、シール剤１６の被光照射領域４０うち金属配線４２が重なって形成されている領域にも入射する。
【００２８】
ガラス基板６の厚さはセルギャップに比較して極めて厚い。このため、ＵＶ光がシール剤１６の被光照射領域４０に到達するまでの反射回数は比較的少なく、ＵＶ光の強度の減衰が小さい。これにより、シール剤１６の被光照射領域４０全てに硬化に必要な強度のＵＶ光が照射され、シール剤１６の被光照射領域４０は速やかに硬化する。このため、液晶の汚染は生じない。
【００２９】
なお、金属配線４１と重なって形成された領域のシール剤１６はほとんど硬化していないため、両基板２、４間の接着強度は十分ではない場合がある。この場合は、熱硬化性のシール剤を予め混入しておいて、例えば貼り合わせ基板３０を加熱して未硬化のシール剤１６を硬化させる２次硬化を行うようにしてもよい。
【００３０】
また、被光照射領域４０の幅が極端に狭いと液晶側に光が漏れて液晶汚染が発生してしまう。このため、被光照射領域４０の幅は、材料物性値や製造プロセスの諸条件等の相関関係により決定する必要がある。
【００３１】
〔第３の実施の形態〕
次に、本発明の第３の実施の形態による液晶表示装置について図６を用いて説明する。図６は、本実施の形態による液晶表示装置の額縁部近傍の概略の断面構成を示している。図６に示すように、ＴＦＴ基板２のガラス基板６上には、シール剤１６の液晶１４側の端部から、表示領域の外側までの範囲に、例えばゲートバスライン形成層やドレインバスライン形成層等の金属層からなる遮光層５０が形成されている。遮光層５０は、シール剤１６を透過したＵＶ光が液晶１４に入射することによる液晶１４の汚染を防止するために設けられている。遮光層５０は、基板面に垂直方向に見て、０．１ｍｍ以下の重なり幅でシール剤１６に重なる重なり領域４４を有している。
【００３２】
図６に示すように、基板面に対して斜め方向からガラス基板７に入射する光線ｅ、ｆは、ガラス基板７を透過してガラス基板６に入射する。光線ｅは、ガラス基板６裏面又は照射ステージ２２表面で反射され、ＢＭ８の表面でさらに反射される。光線ｅは、ガラス基板６裏面又は照射ステージ２２表面で再度反射され、額縁部の液晶１４に向かって進むが、遮光層５０で反射される。このように、遮光層５０はＵＶ光の反射回数を増加させ、可能な限りＵＶ光の強度を減衰させている。
【００３３】
ガラス基板６に入射した光線ｆは、ガラス基板６裏面又は照射ステージ２２表面で反射され、金属配線４１の裏面でさらに反射される。光線ｆは、ガラス基板６裏面又は照射ステージ２２表面で再度反射され、ＢＭ８表面で反射される。その後、遮光層５０表面とＢＭ８表面との間で多重反射して強度が減衰する。このため、ＵＶ光が液晶１４に入射するときには、十分に強度が低下している。
【００３４】
本実施の形態によれば、高強度のＵＶ光が液晶１４に入射しないため、液晶１４が汚染されることがない。このため、良好な表示品質の液晶表示装置が得られる。
【００３５】
〔第４の実施の形態〕
次に、第４の実施の形態による液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置について図７及び図８を用いて説明する。まず、本実施の形態の前提となる液晶表示装置の製造工程について説明する。図７は、本実施の形態による液晶表示装置の製造工程を説明する図であり、多面取り（例えば４面取り）の貼り合わせ基板６８を示している。貼り合わせ基板６８は、例えば液晶１４が滴下されたＴＦＴ基板２と、各液晶表示パネル７０の外周部にシール剤１６が塗布されたＣＦ基板４とが貼り合わされて構成されている。また、貼り合わせ基板６８の例えば四隅には、仮止め用シール剤６０が例えば直径１〜２ｍｍの円形状に塗布されている。
【００３６】
基板貼り合わせ装置を用いて所定の貼り合わせ精度でＴＦＴ基板２とＣＦ基板４の位置合わせを行い、直後に仮止め用シール剤６０に局所的にＵＶ光を照射して硬化させる。仮止め用シール剤６０は、例えば基板貼り合わせ装置からＵＶ光照射装置まで搬送されるときに、両基板２、４間に位置ずれが生じない程度の強度で硬化されている。ただし、この時点ではセルギャップの精度や液晶１４の拡散が不十分であるため、シール剤（メインシール）１６まで硬化してしまうと製品不良となってしまう。
【００３７】
図８は、本実施の形態による液晶表示装置用基板の概略構成を示す断面図である。図８に示すように、ＣＦ基板４は、仮止め用シール剤６０が塗布される仮止め用シール剤塗布領域の近傍に、例えば金属層からなる遮光層６２を有している。遮光層６２は、ＵＶ光源２４から仮止め用シール剤６０に照射されたＵＶ光の漏れ光がシール剤１６に照射されないように遮光するようになっている。
なお、仮止め用シール剤６０及び遮光層６２は、液晶表示装置が完成するまでの工程で切り離されて破棄されてもよい。
【００３８】
本実施の形態によれば、仮止め用シール剤６０を硬化させるときにシール剤１６が硬化してしまうことがないため、液晶表示装置の製品不良が減少する。
【００３９】
〔第５の実施の形態〕
次に、本発明の第５の実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法について図９及び図１０を用いて説明する。図９は、本実施の形態による液晶表示装置の額縁部近傍の構成を模式的に示す断面図である。図９に示すように、ＣＦ基板４のガラス基板７のパネル外側（図中上方）の表面には、光の光路を変更する光路変更部として、例えばエンボス状の微細な凹凸７２が形成されている。凹凸７２は、少なくともＢＭ８より外側の領域に形成されている。また、凹凸７２は、ＵＶ光を照射してシール剤１６を硬化させ、貼り合わせ基板を作製する工程より前に形成されている。
【００４０】
次に、本実施の形態による液晶表示装置の製造方法について説明する。まず、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板４とを所定の工程で製造する。次に、ＣＦ基板４のＢＭ８形成面の裏面側の少なくともＢＭ８より外側に、例えばエンボス状の微細な凹凸７２を形成する光路変更処理を施す。次に、例えばＴＦＴ基板２の表面の複数箇所に規定量の液晶１４を滴下し、ＣＦ基板４の外周部にシール剤１６を塗布する。次に、基板貼り合わせ装置を用いて真空中で両基板２、４を位置合わせして貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する。次に、貼り合わせ基板を大気中に戻すと、貼り合わせ基板間の液晶１４が大気圧により拡散する。なお、凹凸７２は、以下に述べるＵＶ光を照射してシール剤１６を硬化させる工程より前であれば、例えばガラス基板７上にＣＦを形成する前や、貼り合わせ基板作製後に形成してもよい。
【００４１】
次に、ＵＶ光照射装置を用いてシール剤１６にＵＶ光を照射する。図９に示すように、凹凸７２形成前の基板面（以下、単に「基板面」という）に対して比較的垂直に近い方向からガラス基板７に入射する光線ｇ、ｈは、凹凸７２の一斜面に入射する。ガラス基板７外側（図中右側）が低くなるように傾斜した斜面に入射した光線ｇは、屈折して光線ｇ’になる。同様に、ガラス基板７外側が低くなるように傾斜した斜面に入射した光線ｈは、屈折して光線ｈ’になる。光線ｇ’は光線ｇに対してシール剤１６側に光路が変更されていることになり、光線ｈ’は、光線ｈに対してシール剤１６側に光路が変更されていることになる。光線ｇ’、ｈ’は、より基板面に平行に近い方向に変更された光路を有している。
【００４２】
光線ｇ’、ｈ’は、ガラス基板７を透過してガラス基板６に入射する。光線ｇ’、ｈ’は、ガラス基板６の裏面（パネル外側表面）又はガラス基板６裏面に接触している照射ステージ（図９では図示せず）表面で反射されて、シール剤１６に入射する。その後、光線ｇ’、ｈ’は、金属配線１０、１１、１２表面でさらに反射され、シール剤１６のうち金属配線１０、１１、１２が重なって形成されている領域にも入射する。これにより、シール剤１６の全ての領域にＵＶ光が照射され、シール剤１６は速やかに硬化する。その後、基板２、４のシール剤１６より外側を分断して破棄してもよい。以上の工程を経て、本実施の形態による液晶表示装置が完成する。
【００４３】
本例では凹凸７２をエンボス状に形成しているが、ガラス基板７に入射する光の光路をシール剤１６側に変更させるプリズム状に凹凸７２を形成してもよい。また、それ以外にも入射した光を散乱又は屈折させることにより、少なくとも一部の光の光路をシール剤１６側に変更できれば、他の形状で凹凸７２を形成してもよい。さらに、本例ではＣＦ基板４のパネル外側表面に凹凸７２を形成しているが、ＴＦＴ基板２のパネル外側表面（図中下方）に凹凸７２を形成してもよい。
【００４４】
また、凹凸７２は、表示品質を低下させない程度に微細であれば、表示領域に形成してもよい。微細な凹凸７２がＣＦ基板４のパネル外側表面の表示領域全体に形成されていれば、表面反射防止用の拡散シートの代用になるため、ガラス基板７表面への拡散シートの貼付が不要になるという効果もある。
【００４５】
本実施の形態によれば、基板面に対して比較的垂直に近い方向からガラス基板７に入射する光の光路をシール剤１６側に変更できる。一般にＵＶ光照射装置を用いて光を照射する際には、基板面に対して比較的垂直に近い方向からガラス基板７に入射する光の光量が多いため、より多い光量の光をシール剤１６に照射できるようになる。したがって、光硬化性のシール剤１６をＢＭ８に重なるように塗布しても、シール剤１６をより速やかに硬化させることができる。このため、滴下注入法を用いて製造しても挟額縁化が可能な液晶表示装置を実現できる。
【００４６】
次に、本実施の形態による液晶表示装置及びその製造方法の変形例について説明する。図１０は、本変形例の液晶表示装置の構成を示している。図１０に示すように、ＣＦ基板４のガラス基板７のパネル外側（図中上方）の表面には、光の光路を変更する光路変更部として、光学フィルムである拡散シート７４が貼り付けられている。拡散シート７４は、少なくともＢＭ８より外側の領域に貼り付けられている。また、拡散シート７４は、ＵＶ光を照射してシール剤１６を硬化させ、貼り合わせ基板を作製する工程より前に貼り付けられている。
【００４７】
次に、本変形例による液晶表示装置の製造方法について説明する。まず、ＴＦＴ基板２とＣＦ基板４とを所定の工程で製造する。次に、ＣＦ基板４のＢＭ８形成面の裏面側のほぼ全面（少なくともＢＭ８より外側）に、一般に貼り合わせ基板作製後に貼り付けられる拡散シート７４を貼り付ける光路変更処理を施す。次に、例えばＴＦＴ基板２の表面の複数箇所に規定量の液晶１４を滴下し、ＣＦ基板４の外周部にシール剤１６を塗布する。次に、基板貼り合わせ装置を用いて真空中で両基板２、４を位置合わせして貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する。次に、貼り合わせ基板を大気中に戻すと、貼り合わせ基板間の液晶１４が大気圧により拡散する。なお、拡散シート７４は、ＵＶ光を照射してシール剤１６を硬化させる工程より前であれば、例えばガラス基板７上にＣＦを形成する前や、貼り合わせ基板作製後に貼り付けてもよい。
【００４８】
次に、ＵＶ光照射装置を用いてシール剤１６にＵＶ光を照射する。図１０に示すように、基板面に対して比較的垂直に近い方向からガラス基板７に入射する光線ｉ、ｊは、拡散シート７４に入射する。光線ｉは、拡散シート７４で拡散されて、一部が光線ｋとして透過する。光線ｊは、拡散シート７４で拡散されて、一部が光線ｌとして透過する。光線ｋは光線ｉに対してシール剤１６側に光路が変更されていることになり、光線ｌは光線ｊに対してシール剤１６側に光路が変更されていることになる。光線ｋ、ｌは、より基板面に平行に近い方向に変更された光路を有している。
【００４９】
光線ｋ、ｌは、ガラス基板７を透過してガラス基板６に入射する。光線ｋ、ｌは、ガラス基板６の裏面（パネル外側表面）又はガラス基板６裏面に接触している照射ステージ（図１０では図示せず）表面で反射されて、シール剤１６に入射する。その後、光線ｋ、ｌは、金属配線１０、１１、１２表面でさらに反射され、シール剤１６のうち金属配線１０、１１、１２が重なって形成されている領域にも入射する。これにより、シール剤１６の全ての領域にＵＶ光が照射され、シール剤１６は速やかに硬化する。その後、基板２、４のシール剤１６より外側を分断して破棄してもよい。以上の工程を経て、本変形例による液晶表示装置が完成する。
【００５０】
本例では、ＣＦ基板４のパネル外側表面に光路変更部である拡散シート７４を貼り付けているが、ＴＦＴ基板２のパネル外側表面に拡散シート７４を貼り付けてもよい。また、本例では、光学フィルムとして拡散シート７４を貼り付けているが、プリズムシート等のように少なくとも一部の光の光路をシール剤１６側に変更できるような他の光学フィルムを貼り付けてもよい。あるいは光路変更部を形成する光路変更処理に代えて、入射する光の透過率を増加させてガラス基板７内に入射する光の光量を増加させる入射光増加部として、反射防止（ＡＲ）フィルム等の光学フィルムをＣＦ基板４のパネル外側表面に貼り付ける入射光増加処理を施してもよい。さらに、これらの光学フィルムを複数枚重ねて貼り付けてもよい。また、光学フィルムが偏光板としての機能を有していてもよい。
【００５１】
本例では、拡散シート７４等の光学フィルムを表示領域を含めたほぼ全面に貼り付けているが、ＢＭ８の外側の領域のみに貼り付けてもよい。この場合、貼り合わせ基板作製後に他の光学フィルムを表示領域及びその周囲に貼り付ける工程が必要になる。
【００５２】
本変形例によれば、ＴＦＴ基板２又はＣＦ基板４のパネル外側表面に凹凸７２を形成する工程が不要になるため、液晶表示装置の製造工程を簡略化できる。
【００５３】
本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記第１、第２乃至第５の実施の形態では、滴下注入法を用いて液晶を注入する液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、真空注入法を用いて液晶を注入する液晶表示装置にも適用できる。
【００５４】
また、上記実施の形態では、ＣＦ基板４側からＵＶ光を照射しているが、本発明はこれに限られない。例えば、ＴＦＴ基板２側にカラーフィルタが形成されたＣＦ−ｏｎ−ＴＦＴ構造の場合にはＴＦＴ基板２側からＵＶ光を照射することも可能である。また、表示領域を遮光するマスクを用いれば、ＣＦが形成されていないＴＦＴ基板２側からＵＶ光を照射するようにしてもよい。
【００５５】
また、上記実施の形態では、透過型の液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、反射型や半透過型等の他の液晶表示装置にも適用できる。
【００５６】
以上説明した実施の形態による液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置並びにその製造方法及び製造装置は、以下のようにまとめられる。
（付記１）
対向配置された２枚の基板と、
前記２枚の基板間に封止された液晶と、
一方の前記基板の外周部に形成され、光を遮蔽する遮光膜と、
前記遮光膜で画定された表示領域と、
他方の前記基板の前記外周部の前記液晶側に０．１ｍｍ以下の幅で形成された金属層と、
基板面に垂直方向に見て、前記遮光膜に重なるように前記外周部に塗布され、前記金属層に重なる被光照射領域を備えた光硬化性のシール剤と
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【００５７】
（付記２）
付記１記載の液晶表示装置において、
前記他方の基板は、前記表示領域端部から前記シール剤の前記表示領域側の端部までの領域に光を遮蔽する遮光層を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【００５８】
（付記３）
付記２記載の液晶表示装置において、
前記遮光層は、基板面に垂直方向に見て、０．１ｍｍ以下の重なり幅で前記シール剤に重なる重なり領域を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【００５９】
（付記４）
付記１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記一方の基板又は前記他方の基板の少なくともいずれか一方は、前記遮光膜より外側の表面に、入射する光の光路を前記シール剤側に変更させる光路変更部を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【００６０】
（付記５）
付記４記載の液晶表示装置において、
前記光路変更部は、前記シール剤に光を照射する前に形成された凹凸を含むこと
を特徴とする液晶表示装置。
【００６１】
（付記６）
付記４記載の液晶表示装置において、
前記光路変更部は、前記シール剤に光を照射する前に貼付された光学フィルムを含むこと
を特徴とする液晶表示装置。
【００６２】
（付記７）
付記６記載の液晶表示装置において、
前記光学フィルムは拡散シートを含むこと
を特徴とする液晶表示装置。
【００６３】
（付記８）
付記６又は７に記載の液晶表示装置において、
前記光学フィルムはプリズムシートを含むこと
を特徴とする液晶表示装置。
【００６４】
（付記９）
付記１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記一方の基板は、前記遮光膜より外側の表面に、入射する光を増加させる入射光増加部を有していること
を特徴とする液晶表示装置。
【００６５】
（付記１０）
付記９記載の液晶表示装置において、
前記入射光増加部は、前記シール剤に光を照射する前に貼付された光学フィルムを含むこと
を特徴とする液晶表示装置。
【００６６】
（付記１１）
付記１０記載の液晶表示装置において、
前記光学フィルムは反射防止フィルムを含むこと
を特徴とする液晶表示装置。
【００６７】
（付記１２）
透明な基板上に形成された遮光膜と、
前記遮光膜上に配置され、対向配置される対向基板と貼り合わされる際にシール剤が塗布されるシール剤塗布領域と、
対向配置される基板に貼り合わされる際に仮止め用シール剤が塗布される仮止め用シール剤塗布領域と、
前記仮止め用シール剤塗布領域の周囲に配置され、前記仮止め用シール剤に照射される光が前記シール剤に照射されないように遮光する遮光層と
を有することを特徴とする液晶表示装置用基板。
【００６８】
（付記１３）
対向配置された２枚の基板と、前記２枚の基板間に封止された液晶とを有する液晶表示装置において、
前記２枚の基板の一方に、付記１２記載の液晶表示装置用基板が用いられていること
を特徴とする液晶表示装置。
【００６９】
（付記１４）
２枚の基板が光硬化性のシール剤を介して貼り合わされた貼り合わせ基板が載置される照射ステージと、
前記貼り合わせ基板に光を照射して前記シール剤を硬化させる光源と、
前記貼り合わせ基板の表面に対して斜め方向に前記光が入射するように、前記光を反射させる反射鏡と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造装置。
【００７０】
（付記１５）
２枚の基板が光硬化性のシール剤を介して貼り合わされた貼り合わせ基板が照射面に載置され、光反射率の高い金属層、白色板又は散乱シートのいずれかを前記照射面に備えた照射ステージと、
前記貼り合わせ基板に光を照射して前記シール剤を硬化させる光源と
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造装置。
【００７１】
（付記１６）
一対の基板の一方の外周部に光硬化性のシール剤を塗布する第１の工程と、前記シール剤を介して前記一対の基板を貼り合わせ、貼り合わせ基板を作製する第２の工程と、光を照射して前記シール剤を硬化させる第３の工程とを有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記第３の工程の前に、前記貼り合わせ基板の表面又は裏面の少なくともいずれか一方の前記シール剤塗布領域より外側に、前記基板に入射する光の光路を前記シール剤側に変更させる光路変更処理、又は前記基板に入射する光を増加させる入射光増加処理を施す工程をさらに有すること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【００７２】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によれば、製造工程の簡略化及び挟額縁化が可能な液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置並びにその製造方法及び製造装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置の製造装置の構成を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図６】本発明の第３の実施の形態による液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図７】本発明の第４の実施の形態による液晶表示装置の製造工程を説明する図である。
【図８】本発明の第４の実施の形態による液晶表示装置用基板の構成を示す断面図である。
【図９】本発明の第５の実施の形態による液晶表示装置用基板の構成を示す断面図である。
【図１０】本発明の第５の実施の形態による液晶表示装置用基板の構成の変形例を示す断面図である。
【図１１】従来の液晶表示装置の構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
１　液晶表示パネル
２　ＴＦＴ基板
４　ＣＦ基板
６、７　ガラス基板
８　ＢＭ
１０、１１、１２、４１、４２　金属配線
１４　液晶
１６　シール剤
２０　ＵＶ光照射装置
２２　照射ステージ
２４　ＵＶ光源
２６　反射鏡
３０　貼り合わせ基板
４０　被光照射領域
５０、６２　遮光層
６０　仮止め用シール剤
６８　貼り合わせ基板
７０　液晶表示パネル
７２　凹凸
７４　拡散シート
８０　ゲートバスライン駆動回路
８１　ドレインバスライン駆動回路
８２　制御回路
８３、８４　偏光板
８５　バックライトユニット
【図１】
2004004563.tif 000003
【図２】
2004004563.tif 000004
【図３】
2004004563.tif 000005
【図４】
2004004563.tif 000006
【図５】
2004004563.tif 000007
【図６】
2004004563.tif 000008
【図７】
2004004563.tif 000009
【図８】
2004004563.tif 000010
【図９】
2004004563.tif 000011
【図１０】
2004004563.tif 000012
【図１１】
2004004563.tif 000013