(57)【要約】【課題】部品や部材の表面に特定の凹凸形状を形成する形成方法及び形成装置に関し、凹凸形状の形成を簡便な工程で短時間に製造することを課題としている。【解決手段】基材の表面に硬化エネルギーにより硬化する塗布液を塗工し塗膜を形成した後、塗膜が湿潤状態を維持している段階において、単位面積あたりのエネルギー密度が所定の分布となる硬化エネルギーを該塗膜に与えることにより、もしくは塗膜の特定の領域のみに一定量の硬化エネルギーを与えることにより、塗膜表面に分布に対応した凹凸形状を形成する。【選択図】      図１
2004337713.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面に硬化エネルギーにより硬化する塗布液を塗工し塗膜を形成した後、該塗膜が湿潤状態を維持している段階において、単位面積あたりのエネルギー密度が所定の分布となる硬化エネルギーを該塗膜に与えることにより、該塗膜表面に該分布に対応した凹凸形状を形成することを特徴とする表面形状の形成方法。
【請求項２】
基材の表面に硬化エネルギーにより硬化する塗布液を塗工し塗膜を形成した後、該塗膜が湿潤状態を維持している段階において、該塗膜の特定の領域のみに一定量の硬化エネルギーを与えることにより、該塗膜表面に凹凸形状を形成することを特徴とする表面形状の形成方法。
【請求項３】
前記単位面積あたりのエネルギー密度に所定の分布を有する硬化エネルギーを塗膜に与えた後、未硬化部を硬化させることを特徴とする請求項１または２に記載の表面形状の形成方法。
【請求項４】
前記表面形状の形成方法により、表面に微細な凹凸形状を形成した事を特徴とする請求項１乃至３に記載の無端ベルト。
【請求項５】
前記凹凸形状は、前記無端ベルトの幅方向に対して一定の大きさの凹凸が周期的に形成されていることを特徴とする請求項４の無端ベルト。
【請求項６】
基材の表面に塗工された湿潤状態にある硬化エネルギーにより硬化する塗膜に、単位面積あたりのエネルギー密度が所定の分布となる硬化エネルギーを与える硬化エネルギー付与手段を備え、該硬化エネルギー付与手段により、該基板の表面に該分布に対応した凹凸形状を形成することを特徴とする表面形状の形成装置。
【請求項７】
基材の表面に塗工された湿潤状態にある硬化エネルギーにより硬化する塗膜に、該塗膜の特定の領域のみに一定量の硬化エネルギーを与える硬化エネルギー付与手段を備え、該硬化エネルギー付与手段により、該基板の表面に凹凸形状を形成することを特徴とする表面形状の形成装置。
【請求項８】
前記表面形状の形成装置は更に、塗膜全体に均一な硬化エネルギーを与える手段を備えたことを特徴とする請求項６または７に記載の表面凹凸形状の形成装置。
【請求項９】
前記硬化エネルギーを与える手段は、紫外光光源あるいは赤外光光源と光学マスクを含み、該光学マスクは該紫外光光源あるいは赤外光光源からの光線に対する透過率が該分布と対応していることを特徴とする請求項６に記載の表面形状の形成装置。
【請求項１０】
前記硬化エネルギーを与える手段は、紫外光光源あるいは赤外光光源と光学マスクを含むことを特徴とする請求項６または７に記載の表面形状形成装置。
【請求項１１】
前記光学マスクは、紫外光光源あるいは赤外光光源からの光線の光路に対し出入り可能である事を特徴とする請求項６に記載の表面形状形成装置。
【請求項１２】
前記硬化エネルギーを与える手段は、レーザ光源と、該レーザ光源から照射されたレーザ光を該塗膜に対してスキャンさせるスキャニング手段を含むことを特徴とする請求項６または７に記載の表面形状形成装置。
【請求項１３】
前記基材は回転可能なステージに載置されており、前記スキャニング手段と、該ステージの回転は同期して駆動することを特徴とする請求項１２に記載の表面形状形成装置。
【請求項１４】
前記硬化エネルギーを与える手段は、紫外光光源あるいは赤外光光源と、該光源からの光線を導光するファイバー束と、該ファイバー束のうち該特定の領域に対応するファイバー以外のファイバーの導光を遮断する手段を含むことを特徴とする請求項６または７に記載の表面形状の形成装置。
【請求項１５】
前記硬化エネルギーを与える手段は、紫外光光源あるいは赤外光光源と、該光源からの光線を干渉させる光学系を含むことを特徴とする請求項６または７に記載の表面形状形成装置。
【請求項１６】
前記硬化エネルギーを与える手段は、該基材に対して接触部と被接触部をもつホットプレートであることを特徴ととする請求項６または７に記載の表面形状の形成装置。
【請求項１７】
前記硬化エネルギーを与える手段は、前記塗膜全体を均一に加熱できる熱源と、該基材に対して局所的に冷却する冷却手段を含むことを特徴ととする請求項６または７に記載の表面形状の形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、部品や部材の表面に特定の凹凸形状を形成する形成方法及び形成装置に関するものであり、特に複写機やプリンターなどの電子写真プロセスの画像形成装置に使用される、現像ベルトや転写ベルト等の無端ベルトに使用されるものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、複写機やプリンターなどの画像形成装置の高精細化、フルカラー化がますます進んできている。また、パーソナルコンピュータの普及により、デジタルカメラやカラースキャナ等の普及も進んできており、これらの高精細化、フルカラー化のニーズはますます高まっている。
【０００３】
そのため、レンズやミラー等の光学部品の反射防止膜や偏光膜、磁気ディスク表面のテクスチャ加工面や、各種機能部品の摩擦抑止パターンなどのように、基材の表面に凹凸形状の表面を有する膜を形成する事により、より高度で複合的な機能を発現する工業製品や工業部品が増えてきている。それらの形成には一般に、フォトリソグラフィー、ＬＩＧＡ、レーザ加工、研削や研磨等の機械加工、モールド成形などが用いられてきている。特に、電子写真プロセスを用いたフルカラー画像形成装置においても、現像ローラや転写ローラの基材の表面に、凹凸形状を有する膜を形成する事により所望の機能を持たせるようになってきている。
【０００４】
たとえば、感光性ドラムへトナーを供給し、静電潜像の現像を行う機能を担う現像ローラにおいては、摩擦抵抗をある一定の値以下に抑制する必要がある。これを解決するため特開平０８−０４４１４９（特許文献１）には、現像ローラの表面をある大きさ以上の表面粗さとする事が記載されている。またその表面粗さを有する表面形状の形成方法としては、乾式研磨及び湿式研磨する事が記載されている。この他には、サンドブラストやケミカルエッチングを行う方法などもよく用いられる手法である。
【０００５】
また、特開平１０−０３９６４７（特許文献２）には、画像形成装置に使用される転写ローラに関する記載がある。転写ローラは感光性ドラムから形成されたトナー像をもれなく転写し、それをもれなく記録媒体へ転写させる必要がある。そのため転写ローラの転写面の表面粗さは、この転写性を大きく左右する要素である。転写ローラの表面粗さが３μｍを越えると、転写ローラの表面にトナーが埋没し、ハーフトーン画像のガサツキや転写性及びクリーニング性の低下を招く。また、表面粗さＲａが０．１μｍ未満である場合には、転写ローラの表面にトナーの融着が発生しやすくなってしまう。そのため特開平１０−０３９６４７においては、転写ローラの表面粗さＲａは０．１μｍ〜３μｍの範囲にすることが好ましいと記載されている。
【０００６】
また、前述の特開平０８−０４４１４９（特許文献１）及び、特開平１０−０３９６４７（特許文献２）に記載されている電子写真プロセスによる画像形成装置には、現像ローラ、現像ドラム、転写ローラ、転写ドラムなどの円筒体が多く用いられている。そのため、円筒体の内部はデッドスペースとなってしまい、他の部材のレイアウトの自由度を大きく妨げてしまう。そこで、これら円筒体を無端ベルトに置き換えることにより、占有体積を減少させ、レイアウトの自由度をあげる事が考えられている。また一方、トナーの小粒径化も進んでおり、より微小な凹凸を有した表面形状が望まれている。
【０００７】
特開２０００−１５５４７６（特許文献３）には、イエロー、マゼンダ、シアン、ブラックの各色トナー像を転写するために、転写ローラに代わりに無端ベルトである転写ベルトを使用することが記載されている。これにより転写用部材の占有体積が減少するため、装置の小型化を図る事が可能となる。特開２０００−１５５４７６では転写ベルトの表面粗さＲａを０．３５μｍ以下とするのが良い事が記載されている。また転写面の形成方法としては、遠心成形により転写ベルトを成形すると同時に、所定の表面粗さを有した円筒状の成形型に転写ベルトを接触させ、成形型の表面にその表面形状を転写させる方法が開示されている。
【０００８】
【特許文献１】
特開平０８−０４４１４９
【特許文献２】
特開平１０−０３９６４７
【特許文献３】
特開２０００−１５５４７６
【０００９】
【発明が解決しようとしている課題】
しかし、凹凸形状の表面を形成するために前述したフォトリソグラフィーやＬＩＧＡを使用すると、非常に精密で、かつ正確な凹凸形状を形成する事ができる。しかしながら形成する工程が非常に長く、複雑であり、また非常に高価な設備が必要となるため、産業上利用することは非常に困難であった。一方、レーザ加工や乾式研磨、湿式研磨等の機械加工は、複雑な形成工程はなく高価な設備も必要ない。また金属材料などの硬質で加工性の低い材料にも適応可能である。しかしながら単位面積あたりの加工時間が非常に長くなるという課題があった。また、サンドブラストやケミカルエッチングは、確立された表面加工技術であり、確実に狙った表面粗さを得ることができるが、表面形状を形成するための独立した工程が必要で、さらにその後に洗浄工程が必要であるという課題があった。また塗膜を半硬化あるいは硬化させた後に形状を形成するため、製造工程が多く、また製造時間が長くなるという課題もあった。
【００１０】
また、現像ベルトや転写ベルトなどの無端ベルトに関して、前述の特開２０００−１５５４７６（特許文献３）に記載されている所定の表面粗さを有した円筒状の成形型を使用する遠心成形では、ベルトの成形と同時に表面形状を形成するしかなく、単層のベルトにしか適用する事ができない。従って、無端ベルトに保護膜や導電膜のような、より高度かつ複合的な機能が要求される場合には、使用することができないと言う大きな課題があった。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
硬化エネルギーにより硬化する塗膜は、与える硬化エネルギーに分布を持たせると、与える硬化エネルギーの大きい領域の方が、与える硬化エネルギーの小さい領域よりも硬化が速く進む。これにより、硬化過程にある塗膜内部に密度差が生じ塗膜の移動が起こるため、塗膜の膜厚に分布が発生し、表面が凹凸形状になる。本発明者はこの点に注目し、硬化エネルギーにより硬化する塗布液を基材に塗布し塗膜とした後、その塗布液が湿潤状態である間に、塗膜の面内に分布を持つ硬化エネルギーを与えるか、あるいは塗膜の一部のみに硬化エネルギーを与えることで、塗布の段階では均一な表面形状であった塗膜を、膜厚に分布をもった凹凸形状とすることを提案するものである。
【００１２】
前記課題を解決するために本発明においては、基材の表面に硬化エネルギーにより硬化する塗布液を塗工し塗膜を形成した後、該塗膜が湿潤状態を維持している段階において、単位面積あたりのエネルギー密度が所定の分布となる硬化エネルギーを該塗膜に与えることにより、該塗膜表面に該分布に対応した凹凸形状を形成する表面形状の形成方法を提案している。
【００１３】
また本発明は、基材の表面に硬化エネルギーにより硬化する塗布液を塗工し塗膜を形成した後、該塗膜が湿潤状態を維持している段階において、該塗膜の特定の領域のみに一定量の硬化エネルギーを与えることにより、該塗膜表面に凹凸形状を形成する表面形状の形成方法を提案している。
【００１４】
また本発明は、前記単位面積あたりのエネルギー密度に所定の分布を有する硬化エネルギーを塗膜に与えた後、未硬化部を硬化させる表面形状の形成方法を提案している。
【００１５】
また本発明は、前記表面形状の形成方法により、表面に微細な凹凸形状を形成した無端ベルトを提案している。
【００１６】
また本発明は、前記凹凸形状は、前記無端ベルトの幅方向に対して一定の大きさの凹凸が周期的に形成されている無端ベルトを提案している。
【００１７】
また本発明は、基材の表面に塗工された湿潤状態にある硬化エネルギーにより硬化する塗膜に、単位面積あたりのエネルギー密度が所定の分布となる硬化エネルギーを与える硬化エネルギー付与手段を備え、該硬化エネルギー付与手段により、該基板の表面に該分布に対応した凹凸形状を形成する表面形状の形成装置を提案している。
【００１８】
また本発明は、基材の表面に塗工された湿潤状態にある硬化エネルギーにより硬化する塗膜に、該塗膜の特定の領域のみに一定量の硬化エネルギーを与える硬化エネルギー付与手段を備え、該硬化エネルギー付与手段により、該基板の表面に凹凸形状を形成する表面形状の形成装置を提案している。
【００１９】
また本発明は、前記表面形状の形成装置は更に、塗膜全体に均一な硬化エネルギーを与える手段を備えた表面形状の形成装置を提案している。
【００２０】
また本発明は、前記硬化エネルギーを与える手段は、紫外光光源あるいは赤外光光源と光学マスクを含み、該光学マスクは該紫外光光源あるいは赤外光光源からの光線に対する透過率が該分布と対応している表面形状の形成装置を提案している。
【００２１】
また本発明は、前記硬化エネルギーを与える手段は、紫外光光源あるいは赤外光光源と光学マスクを含む表面形状の形成装置を提案している。
【００２２】
また本発明は、前記光学マスクは、紫外光光源あるいは赤外光光源からの光線の光路に対し出入り可能である表面形状の形成装置を提案している。
【００２３】
また本発明は、前記硬化エネルギーを与える手段は、レーザ光源と、該レーザ光源から照射されたレーザ光を該塗膜に対してスキャンさせるスキャニング手段を含む表面形状の形成装置を提案している。
【００２４】
また本発明は、前記基材は回転可能なステージに載置されており、前記スキャニング手段と、該ステージの回転は同期して駆動する表面形状の形成装置を提案している。
【００２５】
また本発明は、前記硬化エネルギーを与える手段は、紫外光光源あるいは赤外光光源と、該光源からの光線を導光するファイバー束と、該ファイバー束のうち該特定の領域に対応するファイバー以外のファイバーの導光を遮断する手段を含む表面形状の形成装置を提案している。
【００２６】
また本発明は、前記硬化エネルギーを与える手段は、紫外光光源あるいは赤外光光源と、該光源からの光線を干渉させる光学系を含む表面形状の形成装置を提案している。
【００２７】
また本発明は、前記硬化エネルギーを与える手段は、該基材に対して接触部と被接触部をもつホットプレートである表面形状の形成装置を提案している。
【００２８】
また本発明は、前記硬化エネルギーを与える手段は、前記塗膜全体を均一に加熱できる熱源と、該基材に対して局所的に冷却する冷却手段を含む表面形状の形成装置を提案している。
【００２９】
【発明の実施の形態】
（第１の実施の形態）
図１は本発明の第１の実施の形態を表した断面図である。１は基材であり、２は基材１の上に塗布された感光性もしくは熱硬化性を有する塗膜である。基材１の表面に対して平行に光学マスク３が設置されている。光学マスク３の背面には、光源（図示せず）が配置され、光源からの光線は光学マスク３を通して塗膜２に照射される。ここでいう光源とは紫外光あるいは赤外光を発する光源を指す。塗膜２が紫外線に対し感光性を有する場合は紫外光源を使用し、塗膜２が熱硬化性を有する場合は赤外光源を使用する。光源からの光線は平行光に近く、照度のムラが小さいことが望ましい。
【００３０】
光学マスク３は使用する光線に対して必要な部分の透過率が制御されている。たとえば合成石英基板上にクロム膜を形成し、所定の部分の透過率になるようにパターニングしたものなどがあげられる。パターニングの仕方によっては、透過率が連続して変化させることも可能である。また液晶モジュールを利用することにより、露光毎に異なる平面パターンを得ることも可能である。
【００３１】
図１では透過率が連続的に変化している例を示している。光学マスク３は図の左右方向に周期的に光の透過率が変化するようにパターンされている。従って光源からの平行光４は光学マスク３を通すことにより、周期的な強度分布を有する光線５となる。強度分布を有する光線５を塗膜２に照射することにより、塗膜２の硬化速度に差が生じる。相対的に高い強度の光線５を照射された領域の硬化速度が速く、相対的に低い強度の光線５を照射された領域の硬化速度は遅くなる。硬化速度の速い領域の密度は、硬化速度の遅い領域の密度よりも小さくなるため、塗膜２を形成している塗布液は、硬化速度の遅い領域から硬化速度の速い領域へ移動する。従って、硬化が終了した時点の塗膜２の表面には、周期的な凹凸が形成される。また、塗膜２が完全に硬化していない場合は、光学マスク３を除去し光源からの平行光４を直接塗膜２に照射することで、それまでに形成された凹凸形状をほとんど変化させることなく塗膜２を完全に硬化させることができる。
【００３２】
本実施の形態において塗膜２の表面に形成される凹凸形状の平面パターンは、光学マスク３に形成された透過率のパターンに対応している。この凹凸形状の深さを決定する要因としては、塗膜２の膜厚、光源からの単位面積あたりの硬化エネルギーの量、硬化エネルギーを付与する時間を挙げることができる。特に塗膜２の膜厚による影響は大きく、凹凸形状の深さは最大でも塗膜膜厚の１／５程度にしかならない。従って形成する凹凸形状の深さに応じて、まず塗膜の膜厚を決定し、その後、光源からの単位面積あたりの硬化エネルギーの量、硬化エネルギーを付与する時間を調節することが望ましい。
【００３３】
本実施の形態によれば、塗膜を半硬化あるいは硬化させた後に形状を形成するのではなく、塗膜の硬化と同時に表面凹凸形状を形成することが可能である。そのため、高価な設備を使用する事なく、また加工時間も非常に短くすくことが可能である。また、凹凸形状の溝の深さや、複雑なパターンを形成することができ、高度かつ複合的な機能膜を形成する事ができる。特に材料が樹脂材料で、凹凸形状の溝の形状が１０μｍ以下で、アスペクト比１０以下の場合に有効である。
【００３４】
（実施例１）
図１に示した方法を使って基板１の表面に形成された塗膜２の表面に凹凸形状を形成した。基材１として無アルカリガラス平板、塗布液として紫外線硬化樹脂液（三菱レーヨン、ＭＲＡ５００）を使用した。基材１上に塗布液をディップコートする事により塗布し湿潤状態にて膜厚１０μｍの塗膜２を得た。光学マスク３として、ピッチ２００μｍにて紫外線の透過率９５％から０％に周期的に変化するストライプ状のパターンを有するものを使用した。光学マスク３は、その下面と基材１の表面とのギャップが２００μｍになるように配置した。光源は高圧水銀ランプと高圧水銀ランプからの光線が平行に出射可能となる光学系とを備えたものを使用した。また高圧水銀ランプの発光強度は、基材１の表面上での照度が１００ｍＷ／ｃｍ２となるように調整した。
【００３５】
塗膜２に対して、光源からの平行光を光学マスク３を介して５秒間照射した。その後、光路上から光学マスク３を除去し、同じ出力でさらに３０秒間の照射を行い、塗膜２を完全硬化させた。得られた塗膜２の表面形状を計測したところ深さ０．５μｍ、ピッチ２００μｍのストライプ状の凹凸形状が得られていることが確認できた。
【００３６】
（第２の実施の形態）
図２は本発明の第２の実施の形態における装置概略図を示した断面図である。本実施の形態においては無端ベルト６の表面に塗布された塗膜７に、所定の凹凸形状を形成する。
【００３７】
図中１１は硬化エネルギーとなる紫外光あるいは赤外光を発する光源である。光源１１から照射された光線は、集光ミラー１２によって第一平面鏡１３側に向けて集光される。さらにその光線は反射ミラー１３で反射され、オプティカルインテグレータ１４によって照度の均一性を得た後、反射ミラー１６に到達する。オプティカルインテグレータ１４と反射ミラー１６の間には必要に応じてシャッター１５が配置している。反射ミラー１６で反射された光線は、コリメータレンズ１７により平行光となるよう補正され、アパーチャー１８に到達する。アパーチャー１８には照射領域を規制する開口が設けられている。さらにアパーチャー１８の下には光学マスク１９が配置されている。光学マスク１９は無単ベルトの送り方向に対して垂直な方向に透過率を変化させており、使用する光線に対して必要な部分の透過率が制御されている。
【００３８】
一方、光学マスク１９の下面に対向して無端ベルト６が配置されている。無単ベルト６は複数のローラ２０で保持されており、ローラ２０の駆動により無端ベルト６はその周方向に駆動可能となっている。無端ベルト６の表面には塗膜７が形成されている。また、光学マスク１９に対向しているベルトの領域は、シワやたるみ等を矯正し、光学マスク１９との無端ベルト６との平行度を高めるために、無端ベルト６の裏面側にガイド部材を設けるとなお良い。
【００３９】
尚、本実施の形態では、平面状の光学マスク１９を使用し、無端ベルト６に送り機構を設ける事で逐次露光を行っている。しかし、たとえば円筒状の保持具にてベルトを保持し、円筒状のマスクを用いて一括して露光することも可能である。
【００４０】
無端ベルト６を製造手順は、まず、無端ベルト６の上に光硬化型の塗布液を塗布し塗膜７を得る。塗布直後の湿潤状態で複数のローラ２０に掛け渡す。シャッター１５を開き一定時間露光した後シャッター１５を閉じる。この動作を繰り返しながら、ローラ２０を駆動し無端ベルト６は送る。光源１１からの光線はマスク１９を通過することにより、無端ベルト６の送り方向に対して垂直な方向に硬化エネルギーの強度分布を得る事ができる。これが塗膜７に露光され、時間とともに塗膜７の表面に凹凸形状が形成されていく。硬化エネルギーの強度分布は、光強度が最小のところでも０ではないため、十分な時間の照射を行えば、マスク１９を通した露光のみでも塗膜７を完全に硬化させることが可能である。しかしながら、形成タクトを考慮すると、露光の後に光路上からマスク１９を取り除き、均一な硬化エネルギーで光線を照射し塗膜７を完全硬化させる事が好ましい。なお、均一な硬化エネルギーで光線を照射する手段は、光源１１とは別に設けることも可能である。このような手順により表面に任意の凹凸形状をもつ無端ベルト６を製造が可能である。
【００４１】
この様にして無端ベルトの最外層を形成する事により、硬化エネルギー強度分布を与えるパターンを変化させることで、任意の幅と間隔で溝を形成することも可能である。また、ドットを散在させることも可能となり、表面形状を精密且つ自由に制御する事が可能でなる。
【００４２】
（実施例２）
図２に示した装置を使って、無端ベルト６の表面に塗布した塗膜７の表面に凹凸形状を形成した。無端ベルト６にはポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）にイオン導電剤を加えた樹脂を原料としたものを用いる。これを無端ベルト６の内径とほぼ同径の円柱型支持体にて保持し、無端ベルト６の外径よりわずかに大きい円筒体ノズルを円柱型支持体と同芯に配置をする。円筒体ノズルの内壁には開口部を設けており、塗布液を吐出できる。塗布液には導電制御剤を加えた紫外光硬化型アクリル系樹脂を使用した。円筒体ノズルより塗布液を出しながら円筒体ノズルと円柱型支持体とを軸方向に相対的に移動させることにより、無端ベルト６の表面に膜厚４μｍの塗膜７を得た。光源１１には高圧水銀ランプを用い紫外光源とし、光学マスク１９がない状態で無端ベルト６の表面における照度が２００ｍＪ／ｃｍ２となるように発光強度を調整した。光学マスク１９はφ１０μｍの円を約２０μｍ間隔で並べたパターンとしており、光源１１からの光線はこの円の部分が完全透過、円以外の部分を非透過としている。アパーチャー１８の開口は無端ベルト６の幅方向に対して幅と等しい長さの開口を持ち、無端ベルト６の周方向に対しては５０ｍｍの開口をもつようにした。
【００４３】
シャッター１５を開き、１０秒間照射を行った後シャッター１５を閉じた。その後ローラ２０を駆動させて無端ベルト６を周方向に５０ｍｍ送り、同様の手順で照射を繰り返す。これをベルト表面全域が露光されるまで繰り返した。その後マスク１９を光路上から取り除き、この状態でシャッター１５を開く。これと同時にローラ２０の駆動を開始し、５ｍｍ／ｓで連続的に送り、無端ベルト６の全域に渡り均一な照射を行った後、シャッター１５を閉じ、ローラ２０を停止させた。
【００４４】
こうして得られた無端ベルト６の表面形状を計測したところ、平均粗さＲａが０．１μｍの凹凸形状が得られた。この無端ベルト６を電子写真式画像形成装置の中間転写ベルトとして使用したところ、高精彩な画像が得ることが出来、信頼性試験に於いても１００００時間の耐久に堪えうる耐久性を持つことが確認された。
【００４５】
（第３の実施の形態）
図３は本発明の第３の実施の形態を表した装置概略図である。１は基材であり、２は基材１の上に塗布され塗膜である。８は基材１が載置されているステージである。硬化エネルギー源としては、紫外光あるいは赤外光を発するレーザ光源２１を使用している。２２はレーザ光源２１からの光線を遮断するためのシャッターであり、光線の光路に対して出入り可能となっている。２３は光線の光路を曲げるための反射ミラーである。２４はビームスキャナであり反射ミラー２３で反射された光線を、平面２軸に出射方向を制御する構成となっている。Ｘ−Ｙスキャナ２４から出射された光線はＦθレンズ２５により基材面に垂直に光線が入射するように倒れが補正される。Ｆθレンズ２５により補正された光線は、ステージ６上に配置された基材１上の塗膜２に対しほぼ垂直に照射されできる。ビームスキャナ２４はスキャンすると同時に、塗膜２の表面における単位面積当たりの照射時間や回数を変化させることができ、積算照射エネルギー量を部分的に変化させることができる。これにより硬化エネルギーの分布を変化させることが可能となり、周期的な凹凸等の所定の表面形状が形成される。
【００４６】
また、Ｘ−Ｙスキャナ２４で走査可能な照射エリアより、塗膜２の形成された領域が大きい場合は、ステージ８をＸ−Ｙ方向に移動させることで対応可能である。また、塗布膜２が完全に硬化していない場合は、シャッター２２を除去した後、光線を塗膜全面に走査させることで、それまでに形成された凹凸形状をほとんど変化させることなく、塗膜２を完全に硬化させることができる。また、別の広範囲に硬化エネルギーを与えることのできる手段を設けることで、塗膜２を完全硬化させることも可能である。
【００４７】
また、本実施の形態においては、Ｘ−Ｙスキャナ２４をＸ−Ｙ方向に移動させるのではなく、光源自体を１方向に移動させ、基材１を回転可能なステージに載置することで、基材１の全面を照射することもできる。図４はその場合の装置概略図である。１は基材であり、２は基材１の上に塗布され塗膜である。９は基材１が載置されている回転ステージである。３１はレーザ光源であり、３２はレーザ光源３１から出た光線を集光して出射する集光光学系である。レーザ光源３１及び集光光学系３２は、スライダ３３により水平方向に移動可能となっている。回転ステージ９を回転させた状態で、レーザ光源３１及び集光光学系３２を、照射時間や回数を変化させながらスライダ３３に沿って移動させる。これにより、塗膜２の表面の積算照射エネルギー量を部分的に変化させることができる。尚、光学系３２から光線が出射する位置が、回転ステージ７の回転中心を通るようにスライダ３３を配置すれば、同心の周期的な凹凸を形成することができる。
【００４８】
（実施例３）
図４に示した装置を使って基板１となる磁気ディスクの表面に形成された塗膜２の表面に凹凸形状を形成した。回転ステージ９としては、アルミの円盤上に底層、磁性層、保護層を形成したものを使用した。回転ステージ９の上に潤滑層となる、ペルフルノロ・ポリエターを主成分とする紫外線硬化樹脂を、スピンコーティングにより膜厚０．５μｍになるように塗布した。
【００４９】
レーザ光源３１として発振波長３５１．１〜３６３．８ｎｍのアルゴンイオンレーザを使用した。レーザ光源３１から出た紫外光を、集光光学系３２により塗膜２の表面において３μｍの集光径となるように集光する。レーザ光源３１および集光光学系３２はスライダ３３により水平移動可能となっている。塗膜２の表面に対して、１箇所あたり５０ｍｓで紫外光を照射し、１μｍ２あたり０．０７箇所の照射スポットが得られるよう紫外線照射を行った。その後、塗膜２に対して均一に紫外線を照射する事により、潤滑層を硬化させた。得られた磁気ディスクの表面には、５０ｎｍの高さをもつ凹凸形状を形成することができ、ヘッドの粘着や摩擦の少ない磁気ディスクを得ることが出来た。
【００５０】
（第４の実施の形態）
図５は本発明の第４の実施の形態における装置概略図である。４１は円筒状のドラムであり、４２はドラム４１の上に巻き付けられた無端ベルト、４３は無端ベルト４２に表面に形成された塗膜である。
【００５１】
光源としては硬化エネルギー源として紫外光あるいは赤外光を発するレーザ光源４４を備えている。４５はレーザ光源４４からの光線を遮断するためのシャッターであり、光線の光路に対して出入り可能となっている。４６は光線の光路を曲げるための反射ミラーである。４７はビームスキャナであり反射ミラー４６で反射された光線を、平面２軸に出射方向を制御する構成となっている。ビームスキャナ４７から出射された光線はＦθレンズ４８により基材面に垂直に光線が入射するように倒れが補正される。Ｆθレンズ４８により補正された光線は、無端ベルト４２上の塗膜４３に対してほぼ垂直に照射されできる。
【００５２】
無端ベルト４２は円筒状の基材４１に保持され、ドラム４６の中心軸周りに回転駆動可能である。ビームスキャナ４７は少なくともベルト４２の幅方向にスキャン可能である。ビームスキャナ４７のスキャン動作とドラム４１の回転動作により、無端ベルト４２の表面全域のなかから任意の点にレーザ光を照射可能な構成としている。ビームスキャナ４７はスキャンすると同時に、塗膜４３の表面における単位面積当たりの照射時間や回数を変化させることができ、積算照射エネルギー量を部分的に変化させることができる。これにより硬化エネルギーの分布を変化させることが可能となり、周期的な凹凸等の所定の表面形状が形成される。
【００５３】
無端ベルト４２を製造手順は、無端ベルト４２の上に塗膜４３を形成し、塗膜４３が湿潤状態のままドラム４１に装着する。そしてビームスキャナ４７のスキャン動作、ドラム４１の回転動作により光源４４からの光線を任意のパターンに照射する。途中光線の明滅が必要な場合は、シャッター４５の開閉動作あるいはレーザ発振器４４自体を明滅させればよい。以上の手順で無端ベルト４２表面の一部の領域にのみ硬化エネルギーを与えることで凹凸形状が形成される。この無端ベルト４２を別の硬化手段にて、全面に均一な光を照射し完全硬化させることで、表面に任意の凹凸形状をもつ無端ベルト４２が形成できる。
【００５４】
（実施例４）
図５に示した装置を使って、円筒状の基板であるドラム４１に装着した無端ベルト４２の表面に形成した塗膜４３の表面に凹凸形状を形成した。塗布液はポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）にイオン導電剤を加えた樹脂を原料として導電制御剤を加えた熱硬化型アクリル系樹脂を使用し、無端ベルト４２に対して膜厚５μｍになるようにスピンコーティングにより塗布し塗膜４３を得た。
【００５５】
レーザ光源４４は発振波長１０６４ｎｍ、出力１００ｍＷの連続発振ＹＡＧレーザを使用し、無端ベルト４２の表面においてのビーム径がφ５０μｍとなるよう調整した。照射点１箇所あたり１０ｍｓの照射時間、１ｍｍ２あたりの照射点数が４０個となるように照射を行った。ビームスキャナ４７のスキャンとドラム４１の回転を同期させることなくランダムに照射を行った。この後、無端ベルト４２を８０℃のオーブン（図示せず）に１０分間加熱を行い、塗膜４３を完全硬化させた。こうして得られた無端ベルト４２の表面形状を計測したところ、平均粗さＲａが０．０５μｍの凹凸形状が得られた。
【００５６】
（第５の実施の形態）
図６は本発明の第５の実施の形態を表した装置外略図である。１は基材であり、２は基材１の上に塗布され塗膜である。８は基材１が載置されているステージである。硬化エネルギー源として紫外光あるいは赤外光を発する光源５１を使用し、光源５１からの光線をファイバー束５２に導く。ファイバー束５２の光源５１との接続部であるファイバー入射端は、ファイバーが２つに分岐しており、ファイバー入射端５３ａおよび５３ｂとなっている。ファイバー入射端５３ａ、５３ｂの入射口にはそれぞれシャッター５４ａおよび５４ｂが設けられており、必要に応じて光源５１からの光を遮光する事ができる。またファイバー束５２のファイバー出射端５５はワークに対向して設置され、ステージ８上の基材１の表面に光源５１からの光線を照射させる。
【００５７】
図７はファイバー出射端５５を基材１側から見た正面図である。各ファイバーは直線状に配列されており、各ファイバーをファイバー入射端５３ａ、５３ｂのどちらに接続するかにより、所望のパターンを形成することができる。すなわち図６に示すシャッター５４ａ及び５４ｂを開閉することで、光線を出射するファイバーと光線を出射しないファイバーのパターンが形成され、光線を照射するエリアと照射しないエリアからなるパターンを形成することが可能となる。
【００５８】
ステージ８とファイバー出射端５５は、ファイバー出射端５５の各ファーバーの配列された方向と垂直な方向に相対的移動可能である。シャッター５４ａ及び５４ｂの一方を開き他方を閉じた状態で、ステージ８とファイバー出射端５５を相対的移動させる事により、基材１の表面にストライプ状の光線の照射エリアを得ることができる。これにより、塗膜２の表面にストライプ状の凹凸形状が形成される。なお、光線の非照射エリアの塗膜は硬化していないが、シャッター５４ａ、５４ｂをともに開き、ファイバー出射端５５のファイバー全てから光線を照射しながらステージ８を走査させることで、塗膜２を完全硬化させることができる。
【００５９】
また、ファイバー入射端５３ａ、５３ｂの分岐をなくし、図７における非出射ファイバーの位置にファイバーを設置しないことによってもストライプ状の光線の照射エリアはできる。ただしこの場合は、塗膜２を完全硬化させるために、別途均一に広範囲に硬化エネルギーを与えることのできる手段が必要である。
【００６０】
以上のような手順でストライプ状の表面凹凸形状を得ることができるが、要求される表面凹凸形状の平面パターンによっては、図６のように必ずしも直線状である必要はない。
【００６１】
また、ファイバー束５２の分岐数を増やし、同数のシャッターを用意することで、より複雑なパターンを形成可能であり、ステージ８とファイバー出射端５５を相対的移動させている間にシャッターを開閉することでさらに多くのパターンが形成可能である。また、光スイッチをファイバーの途中に設けることにより、ファイバー１本単位で光線の出射・非出射の選択が可能となり、照射パターンの自由度はさらに高くなる。
【００６２】
また、ファイバー入射端側に液晶モジュールを挿入し、液晶モジュールの画素１つ１つに対応するようにファイバー１本１本を配置すれば、非常に自由度の高いパターン照射が可能となる。また、液晶モジュール画素毎に透過率を制御できるので、照射強度が滑らかに変化するような照射パターンを得ることも可能となる。以上のような光スイッチや液晶モジュールを利用した出射・非出射選択手段を使用した場合、パターンをリアルタイムに変化させることが可能であり、１個づつことなる平面パターンの表面凹凸形状を得ることも可能である。
【００６３】
（実施例５）
図６に示した装置を使って基板１の表面に形成された塗膜２の表面に凹凸形状を形成した。実施例１と同様に基材１として無アルカリガラス平板、塗布液として紫外線硬化樹脂液（三菱レーヨン、ＭＲＡ５００）を使用した。基材１上に塗布液をスピンコーティングにより塗布し、湿潤状態にて膜厚１０μｍの塗膜２を得た。尚、本実施例のファイバー出射端５５を基材１側から見たときの平面図は図７と同様である。
【００６４】
光源５１として高圧水銀ランプを使用していおり紫外光を発光することが出来る。ファイバー束５２は直径５０μｍの石英ファイバーを束ねたものである。各ファイバーは、ファイバー入射端５３ａ、５３ｂで光源５１と接続され、他端であるファイバー出射端５５で１００μｍおきに直列に並べられている。シャッター５２ａを開きシャッター５２ｂを閉じた時に、図７に示すように紫外光の出るファイバーと出ないファイバーとが並ぶように、予め各ファイバーの順番は設計されている。また、ステージ８上に置かれた基板１に対して２００μｍのギャップを有するようにファイバー出射端４５を対向して配置した。ステージ８はファイバー出射端５５のファイバーの並び方向に垂直な方向に移動可能となっている。また高圧水銀ランプの発光強度は、基材１の表面上での照度が１００ｍＪ／ｃｍ２となるように調整した。
【００６５】
まずシャッター５４ａを開き、シャッター５４ｂを閉じた状態でステージ８を移動させ基板１を５ｍｍ／ｓでスキャンした。基板１の全体をスキャンした後、シャッター５２ｂも開きファイバー出射端のファイバーすべてから紫外光を出射させた。得られた塗膜の表面形状を計測したところ深さ０．５μｍ、ピッチ２００μｍのストライプ状凹凸形状を得られていることが確認できた。
【００６６】
（第６の実施の形態）
図８は本発明の第６の実施の形態における装置概略図である。本実施の形態は図６に示した第５の実施の形態の装置とほぼ同等の装置を使って、ローラ２０により回転する無端ベルト６の表面に、所定の凹凸形状を有する塗膜７を形成している。図８において図６と同じ部材には同じ符号を付しその説明は省略する。
【００６７】
図８においてファイバー出射端５５は、無端ベルト６の幅方向に複数のファイバーが図７に示すように一列に配置されている。ただし、ファイバーの配列は、必ずしも無端ベルト６の全幅と等しい長さとすることも必須ではなく、無端ベルト６の幅よりも短くすることも可能である。この場合はファイバー出射端５５を無端ベルト６の幅方向に対して移動させる機構を設けると良い。
【００６８】
塗膜７を無端ベルト６に塗布した後、湿潤状態のままローラ２０にて保持させる。そしてシャッター５４ａを開き一定時間露光した後、再びシャッター５４ａを閉じる。無端ベルト６の幅方向の露光領域長さとほぼ等しい長さだけローラ２０を駆動させ、無端ベルト６を送る。そして順次露光を繰り返してゆき、無端ベルト６の全領域を露光するまで続ける。さらに必要に応じて、シャッター５４ａ、５４ｂの両方を開き、ファイバー出射端５５の全てのファイバーから光を出射させて、ローラ２０を送り、無端ベルト６の全面に渡り均一な光を照射する。
【００６９】
なお、ファイバー出射端５５からの光線は、ＮＤフィルタ等の減光手段をシャッター５４ａ、５４ｂの前に設けて光強度を制御したり、時間的に連続的に光強度を変化させることにより、出射と非出射の２値の選択のみでなく、連続的にまたは周期的に変化させることもできる。また、無端ベルト６の送り速度を変化させることで、無端ベルトの送り方向の光強度分布を変化させることで、更にさまざまな表面形状の形成が可能となる。またパターン露光の時間を変化させることでも、表面凹凸形状の深さを変化させることができる。また、光源５１およびファイバー束５２は１組のみであるが、複数組用意し、無端ベルト６の複数の領域を同時に露光処理することで処理時間を短縮させることもできる。
【００７０】
（実施例６）
図８に示した装置を使って無端ベルト６の表面に形成された塗膜７の表面に凹凸形状を形成した。塗布液としてポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）にイオン導電剤を加えた樹脂を原料とした導電制御剤を加えた紫外光硬化型アクリル系樹脂を、無端ベルト６に対して、膜厚１０μｍになるように塗布し塗膜７を得た。
【００７１】
光源５１には３００Ｗの高圧水銀ランプを用い紫外光源とした。ファイバー束５２はφ０．１ｍｍのファイバーを束ねたものを使用した。ファイバー出射端５５ではファイバーが直線状に配置されており、図７に示すように紫外光の出るファイバーと出ないファイバーとが並ぶように、予め各ファイバーの順番は設計されている。先に得た湿潤状態にある塗膜７が形成された無端ベルト６をローラ２０にて保持する。無端ベルト６の表面から１ｍｍの高さの位置にファイバー出射端５５の表面が来るように設置した。
【００７２】
シャッター５４ａのみを開き、これと同時にローラ２０を駆動させ０．０５ｍｍ／ｓで無端ベルト６を送り、無端ベルト６の全周の露光が完了したところでシャッター５４ａを閉じた。こうして得られた無端ベルト６の表面形状を計測したところ、平均段差０．２μｍでピッチ０．２ｍｍの周方向に平行なストライプ形状が得られていることが確認できた。この無端ベルト６を画像形成装置の中間転写ベルトととして使用したところ、高精彩な画像が得ることが出来、信頼性試験に於いても１００００時間の耐久に堪えうる耐久性を持つことが確認された。
【００７３】
（第７の実施の形態）
図９は本発明の第７の実施の形態における装置概略図である。１は基材であり、２は基材１の上に塗布され塗膜である。８は基材１が載置されているステージである。硬化エネルギー源としては、紫外光あるいは赤外光を発するレーザ光源６１を使用している。光源６１から出た光線をシャッター６２、反射ミラー６３を介してビームエキスパンダ６４に入射させる。ビームエキスパンダ６４で拡げられた光線を平行光とするため、コリメータレンズ６５を通す。コリメータレンズ６５からの光線をハーフミラー６６に入射させ２つの光束に分岐しそれぞれの光線が塗膜２で同一エリアを照射するように反射ミラー６７、６８で反射させる。この２つの光束の光路長が異なるため、ワーク上の照射面で干渉し干渉縞が発生する。これにより強度分布を持つ照射パターンが得られる。尚、本実施の形態では、図８に示した構成の光学系を説明したが、同様に光の干渉等を利用する光学系であれば同様に使用する事ができる。図８に示した装置によれば基板１の表面に形成されている塗膜２はこの干渉縞の照射を受けてストライプ状の平面パターン形状を持った表面に凹凸形状を形成する事が出来る。
【００７４】
また、干渉光のみでは塗膜２が完全硬化していない場合は、反射ミラー６７、６８のいずれかを傾けてそのミラーからの反射光が塗膜２の上に照射されないようにすることにより、干渉縞のない均一な強度の光を照射することで完全硬化させることができる。尚完全硬化の手段としては、ミラーを傾ける以外に、反射ミラー６７、６８のいずれかを取り除いたり、いずれかのミラーからの反射光を遮光したりすることでも、塗膜２の上の干渉縞を照射した領域に均一に硬化エネルギーを与える手段であれば何でもよい。また、干渉縞を照射した領域が塗膜２の上の一部である場合は、ステージ８を水平に移動させ、同様の手順を繰り返す事で塗膜全体に表面凹凸形状を得る事が出来る。
【００７５】
（実施例７）
図９に示した装置を使って基板１の表面に形成された塗膜２の表面に凹凸形状を形成した。基板１として光学ガラスＢＫ−７の平板を使用し、塗布液として紫外線硬化樹脂Ｒ６６０２（ＪＳＲ社製）を塗布し１５μｍの塗膜２を得た。
【００７６】
レーザ光源５１として発振波長３５１．１〜３６３．８  ｎｍのアルゴンイオンレーザを使用した。図９に示すような２光束干渉光学系を通して、塗膜２の表面上の一定面積のエリアに干渉パターンを照射できるようにしている。基板１はステージ８上に設置され、ステージ８はＸ−Ｙ方向に移動可能である。
【００７７】
基板１の表面の塗膜２に対して、干渉パターンを１８０秒照射し、ステージ８を移動させ、未照射部に再び干渉パターンを照射するということを繰り返し基板１の表面全体にパターン照射を行った。以上のような手順により、基板１表面に最大段差０．８μｍのホログラムパターンを得ることができ、表面レリーフ型ホログラムが製作された。
【００７８】
（第８の実施の形態）
図１０は本発明の第８の実施の形態を表した断面図である。１は基材、２は基材１の表面に形成された塗膜である。硬化エネルギー源としてホットプレート７１を使用している。ホットプレート７１の表面に凹凸を設け、塗膜２の表面に凸形状を持たせたい領域の中心のみが基材１の裏面に接するようにしている。
【００７９】
加熱したホットプレート７１の凸部より熱伝導により基材１に伝えられる。基材１の表面に熱が伝わると、基材１の表面では、ホットプレート７１の凸部の真上を最高温度、ホットプレート７１の凹部の中心を最低温度とし温度分布が得られる。これにより基材１の表面に形成された塗膜２表面に凹凸形状が得られる。
【００８０】
（実施例８）
図１０に示したホットプレートを使用して、基材１の表面に凹凸形状を有する塗膜を形成した。基材１として無アルカリガラス平板、塗布液として熱硬化型メラミン樹脂（主剤サイメル３０３に硬化触媒４０５０を加えたもの、いずれも三井サイテック社製）を使用した。基材１の表面に塗布液を塗布し湿潤状態にて膜厚１５μｍの塗膜２を得た。
【００８１】
ここで図１０に示すような断面構造をもつホットプレート７１上に基材１を配置した。ホットプレート７１の断面は周期的に凸部をもっており、凸部のピッチは０．５ｍｍ、凸部の断面の幅は０．１ｍｍ、段差は０．５ｍｍとなっている。上部からみるとこの凸部が縞状に並んでいる。基材１の底面とホットプレート７１の凸部が接触している。
【００８２】
ホットプレート７１の表面温度は一様に１２０℃に保たれている。しかし、凸部のみが接触しているため、基材１の熱伝達は均一にならず、凸部に接している基材１の領域が最も温度が高く、凹部の中心が最も温度が低い。この温度分布により塗膜２表面に凹凸形状が形成される。基材１をホットプレート７１上で１２分加熱したところ、ピッチ０．５ｍｍ、段差０．２μｍのストライプ形状を塗膜２表面に得ることができた。
【００８３】
（第９の実施の形態）
図１１は本発明の第９の実施の形態を表した斜視図である。図において、円筒状のドラム８１の表面に無端ベルト８２を装着し、その表面に凹凸形状の塗膜８３を形成した状態を示している。塗膜８３を形成した無端ベルト８２をドラムヒータ８４が埋め込まれたドラム８１に装着し加熱する。ドラム８１はその外周が無端ベルト８２の周長とほぼ等しい長さである円柱体である。またドラム８１の材質としては、熱伝導率の高い金属で形成するのがよくアルミ合金や銅合金などが望ましい。またドラム８１の外周面には所定の凹凸形状が形成されている。複数のドラムヒータ８４によりドラム８１の表面はほぼ一定の温度に加熱される。
【００８４】
ドラムヒータ８４の加熱を開始すると、無端ベルト８２はドラム８１の凸部との接触面からの熱伝導により加熱される。そのため、無端ベルト８２表面には、ドラム８２の凹凸形状に対応した温度分布ができる。この温度分布の作用により塗膜８３が硬化に至る過程において表面に凹凸形状が形成できる。
【００８５】
（実施例９）
図１１に示したドラムヒータ８４を使用して、円筒状のドラム８１の表面に無端ベルト８２を装着し、その表面に凹凸形状の塗膜８３を形成した。ドラム８１はアルミ合金で製作し、塗布液としてポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）にイオン導電剤を加えた樹脂を原料として導電制御剤を加えた熱硬化型アクリル系樹脂を、無端ベルト基材８２に対して膜厚１０μｍになるように塗布し塗膜８３を得た。またドラム８１の外周面には幅０．１ｍｍ、高さ１ｍｍの直線状の凸部が、等間隔に円柱の中心軸と平行方向に形成されている。また、凸部の中心同士の間隔は０．４ｍｍである。
【００８６】
塗膜８３が湿潤状態のままドラムヒータ８４に装着し、加熱を開始する。ドラムヒータ８４の表面温度が８０℃になるまで加熱し、その後その温度を保持するように制御した。加熱を開始してから２分後、加熱を停止し、無端ベルト８２をドラムヒータ８４から取り除いた。こうして得られたベルト１の表面形状を計測したところ、平均段差０．４μｍでピッチ０．５ｍｍの幅方向に平行なストライプ形状が得られていることが確認できた。
【００８７】
（第１０の実施の形態）
図１２は本発明の第１０の実施の形態を表した断面図である。１は基材、２は基材１の表面に形成された塗膜である。基材１の上方に赤外線ヒータ９２を配し、これから出る赤外光あるいは輻射熱を硬化エネルギー源としている。基材１の下面にはてコールドプレート９１が配置されている。コールドプレート９１の表面に凹凸を設け、塗膜２の表面に凹形状を持たせたい領域の中心のみが基材１の裏面に接するようにしている。
【００８８】
塗膜２および基材１は、赤外ヒータ９２から出る赤外光あるいは輻射熱によりが加熱される。一方、コールドプレート９１により、基材１から熱が奪われる。赤外ヒータ９２とコールドプレート９１の作用により、コールドプレー９１の凸部の真上を最高温度、ホットプレート９１の凹部の中心を最低温度とした温度分布が塗膜面に得られる。これにより基材１の表面に形成された塗膜２の表面に凹凸形状が得られる。
【００８９】
（実施例１０）
図１２に示したコールドプレートを使用して、基材１の表面に凹凸形状を有する塗膜を形成した。基材１として無アルカリガラス平板、塗布液として熱硬化型メラミン樹脂（主剤サイメル３０３に硬化触媒４０５０を加えたもの、いずれも三井サイテック社製）を使用した。基材１上に塗布液を塗布し湿潤状態にて膜厚１５μｍの塗膜２を得た。
【００９０】
ここで図１２に示すような断面構造をもつコールドプレート９１上基材１を配置した。さらに、基板上部に赤外線ヒータ９２を配置した。コールドプレート９１の断面は周期的に凸部をもっており、凸部のピッチは０．５ｍｍ、凸部の断面の幅は０．１ｍｍ、段差は０．５ｍｍとなっている。上部からみるとこの凸部が縞状に並んでいる。基材１の底面とコールドプレート９１の凸部が接触している。
【００９１】
赤外線ヒータ９２からの赤外線および輻射熱により塗膜２が加熱される。一方、コールドプレート９２の表面温度は一様に１５℃に保たれており、この作用により基材１の裏面は冷却される。しかし、凸部のみが接触しているため、局部的な冷却となり、凸部に接している基材１の領域が最も温度が低く、凹部の中心が最も温度が高い。この温度分布により塗膜２表面に凹凸形状が形成される。以上のような状態を１５分保ったところ、ピッチ０．５ｍｍ、段差０．２μｍのストライプ形状を塗膜２の表面に得ることができた。
【００９２】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、表面に凹凸形状の必要な工業製品や部品の製造において、その表面の凹凸形状の形成を簡便な工程で短時間に製造できる。また、装置の簡素化により初期設備投資を削減可能となり、少量生産に対応が可能かつ製造コストを低く抑えることが可能となる。また、高度で複雑な表面形状を形成することができるため、保護膜や導電膜の機能を有する塗膜を形成する事も可能であり、膜構成の削減および工程の簡素化が実現可能となる。
【００９３】
また、画像形成装置の転写ベルトや現像ベルトなどの無端ベルトに使用することにより、より高画質で、コンパクトな画像形成装置を提供する事もできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態における構成を示す断面図である。
【図２】第２の実施の形態における装置概略図である。
【図３】第２の実施の形態における装置概略図である。
【図４】第３の実施の形態における装置概略図である。
【図５】第４の実施の形態における装置概略図である。
【図６】第４の実施の形態におけるファイバー出射端を下部から見た正面図である。
【図７】第５の実施の形態における装置概略図である。
【図８】第６の実施の形態における装置概略図である。
【図９】第７の実施の形態における装置概略図である。
【図１０】第８の実施の形態における装置概略図である。
【図１１】第９の実施の形態における装置概略図である。
【図１２】第１０の実施の形態における装置概略図である。
【符号の説明】
１  基材
２、７、４３、８３  塗膜
３、１９  光学マスク
４、１１、５１、６１  光源
５  光線
６、４２、８２  無端ベルト
８  ステージ
９  回転ステージ
１２  集光ミラー
１３、１６、２３、４６、６３、６７、６８  反射ミラー
１４  オプティカルインテグレータ
１５、２２、４５、５４ａ、５４ｂ、６２  シャッター
１７、６５  コリメータレンズ
１８  アパーチャー
２０  ローラ
２１、３１、４４  レーザ光源
２４、４７  ビームスキャナ
２５、４８  Ｆθレンズ
３２  集光光学系
３３  スライダ
４１、８１  ドラム
５２  ファイバー束
５３ａ、５３ｂ  ファイバー入射端
５５  ファイバー出射端
６４  ビームエキスパンダ
６６  ハーフミラー
７１  ホットプレート
８４  ドラムヒータ
９１  コールドヒータ
９２  赤外線ヒータ
【図１】
2004337713.tif 000003
【図２】
2004337713.tif 000004
【図３】
2004337713.tif 000005
【図４】
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【図５】
2004337713.tif 000007
【図６】
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【図７】
2004337713.tif 000009
【図８】
2004337713.tif 000010
【図９】
2004337713.tif 000011
【図１０】
2004337713.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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