(57)【要約】【目的】揮発性有害物質を含有するガス等の被処理ガスを常圧下でプラズマ処理して無害化するのに際して、放電により生成する放電副生成物（Ｎ２Ｏ、ＮＯｘ）の生成を抑制して前記被処理ガスを効率的に無害化処理することができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。【構成】常圧下で放電を発生させてプラズマを生起せしめて被処理ガスをプラズマ処理するプラズマ処理空間を備えたプラズマリアクターを有するプラズマ処理装置であって、前記プラズマ処理空間は接地側電極（３）と高圧側電極と（２）を備え、前記プラズマ処理空間内の前記接地側電極と前記高圧側電極との間には無機誘電体（４）が充填されていて、前記無機誘電体（４）と少なくともいずれかの一方の前記接地側電極又は前記高圧側電極との間に前記無機誘電体（４）とは異なる比誘電率を有する無機誘電体（５）が配設されていることを特徴とする。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体の通過が可能な構造を有するプラズマリアクターを有し、前記プラズマリアクターはプラズマ処理空間を有し、前記プラズマリアクターは被処理ガスを前記プラズマ処理空間に導入するためのガス導入部と前記プラズマ処理空間から排出するガスを系外に排出するためのガス排出部を有し、前記プラズマ処理空間は接地側電極と高圧側電極とを備え、前記プラズマ処理空間内の前記接地側電極と前記高圧側電極との間には無機誘電体（イ）が充填されていて、前記接地側電極と前記高圧側電極との間に電圧を印加することにより常圧下で前記プラズマ処理空間に放電を発生させてプラズマを生起せしめ、前記ガス導入部を介して前記プラズマ処理空間内に導入した被処理ガスをプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、前記無機誘電体（イ）と少なくともいずれかの一方の前記接地側電極又は前記高圧側電極との間に前記無機誘電体（イ）とは異なる比誘電率を有する無機誘電体（ロ）が配設されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記無機誘電体（イ）及び（ロ）は、強誘電体である請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記無機誘電体（イ）又は／及び（ロ）は、粒状の無機誘電体である請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記無機誘電体（イ）は、粒状の無機誘電体であり、前記無機誘電体（ロ）は、板状の無機誘電体である請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記放電は、グロー放電である請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記被処理ガスは、揮発性有機化合物を含有する気体である請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
請求項１に記載のプラズマ処理装置に被処理ガスを前記ガス導入部から導入し、該被処理ガスを前記プラズマ処理空間内に流入させ、前記被処理ガスを前記高圧側電極及び前記接地側電極と直接接触することなく少なくとも前記無機誘電体（イ）と接触させながら前記プラズマ処理空間内を流し、その際前記接地側電極と前記高圧側電極との間に電圧を印加することにより常圧下で前記プラズマ処理空間に放電を発生させてプラズマを生起せしめて前記被処理ガスをプラズマ処理し、前記プラズマ処理空間から排出するプラズマ処理されたガスを前記ガス排出部を介して系外に排出することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項８】
前記被処理ガスは、揮発性有機化合物を含有する気体である請求項７に記載のプラズマ処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被処理ガス、特に各種の工業的処理工程などから排出される揮発性有機化合物を（ＶＯＣ）  ［ｖｏｌａｔｉｌｅ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ］を含有する気体をプラズマ反応を利用して分解処理するプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
被処理ガス、特に各種処理工程などから排出される揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を含有する気体（排ガス）を分解して無害化するガス処理装置として、大気圧状態で発生させたプラズマにより前記排ガスをプラズマ処理して分解するプラズマ処理装置が幾つか提案されている。これらのプラズマ処理装置においては、大気圧状態でプラズマを発生するための放電方式として、無声放電、パルス放電、沿面放電、或いは強誘電体ペレット充填放電などが採用されている。これらの放電方式は、いずれも、大気圧或いはそれに近い圧力状態の所定の空間に対し、その空間の近傍に位置する電極に電圧を加えることで所定の空間をプラズマ状態にするもので、その際、前記プラズマ状態にされた空間に前記揮発性有機化合物を含有する気体を導入することで、該気体中の前記有機化合物はプラズマ処理されて分解される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように常圧（大気圧）下で放電を生起してプラズマを発生させて被処理ガス、特に前記排ガスをプラズマ処理する場合、前記放電により生成する副生成物の制御が重要な課題となる。副生成物の生成は、被処理ガスの成分種、濃度、放電条件等により異なるが、関係する条件を限定することで副生成物の生成を抑制することが可能である。しかしその場合、処理効率の低下、運転コストの増加等の問題を生ずる為、副生成物の生成を効率的に抑制することが可能な放電装置及び放電方法が求められている。そうした副生成物としては、Ｎ２Ｏ、ＮＯｘ等が挙げられる。尚、Ｎ２Ｏは、地球温暖化の原因とされる温室効果ガスの１種であり、ＣＯＰ３（第３回国連気候変動枠組条約締約国会議、１９９７年、京都）において、ＣＯ２、メタンなどと並んで排出削減対象ガスの一つに指定されている。またＮＯｘは、酸性雨、光化学スモッグ等の原因物質であるため、Ｎ２Ｏ、ＮＯｘの生成低減化が課題となっている。
上述したように放電により生成される副生成物であるＮＯｘを除去する方法として、特開２０００−５１６５号公報には、プラズマ処理の後段に生成した
ＮＯｘを還元剤溶液に接触させて除去する方法が提案されているが、使用する装置の容積を大型化することが必要であったり、処理プロセスが複雑になる等の問題点がある。この他、水またはアルカリ水溶液によりＮＯｘを吸着処理して除去する方法が提案されているが、排水処理が必要である等の問題点がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決し、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を含有する気体（排ガス）等の被処理ガスを、Ｎ２Ｏ、ＮＯｘ等の副生成物の生成を抑制して、効率的に分解処理できるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供することを目的とする。
【０００５】
本発明のプラズマ処理装置は、気体の通過が可能な構造を有するプラズマリアクターを有し、前記プラズマリアクターはプラズマ処理空間を有し、前記プラズマリアクターは被処理ガスを前記プラズマ処理空間に導入するためのガス導入部と前記プラズマ処理空間から排出するガスを系外に排出するためのガス排出部を有し、前記プラズマ処理空間は接地側電極と高圧側電極とを備え、前記プラズマ処理空間内の前記接地側電極と前記高圧側電極との間には無機誘電体（イ）が充填されていて、前記接地側電極と前記高圧側電極との間に電圧を印加することにより常圧下で前記プラズマ処理空間に放電を発生させてプラズマを生起せしめ、前記ガス導入部を介して前記プラズマ処理空間内に導入した被処理ガスをプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、前記無機誘電体（イ）と少なくともいずれかの一方の前記接地側電極又は前記高圧側電極との間に前記無機誘電体（イ）とは異なる比誘電率を有する無機誘電体（ロ）が配設されていることを特徴とする。前記無機誘電体（イ）及び（ロ）は、強誘電体であるのが好ましい。前記無機誘電体（イ）又は／及び（ロ）は、粒状の無機誘電体であることができる。また前記無機誘電体（イ）は、粒状の無機誘電体であり、前記無機誘電体（ロ）は、板状の無機誘電体であることができる。前記放電は、グロー放電であるのが好ましい。
上記構成の本発明のプラズマ処理装置によれば、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を含有する気体（排ガス）等の被処理ガスを、Ｎ２Ｏ、ＮＯｘ等の副生成物の生成を抑制して、効率的に分解処理することができる。
【０００６】
本発明は、前記プラズマ処理装置を使用して揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を含有する気体（排ガス）等の被処理ガスを分解処理するプラズマ処理方法を提供する。即ち本発明のプラズマ処理方法は、前記プラズマ処理装置に被処理ガスを前記ガス導入部から導入し、該被処理ガスを前記プラズマ処理空間内に流入させ、前記被処理ガスを前記接地側電極及び前記高圧側電極のいずれとも直接接触することなく前記無機誘電体（イ）及び（ロ）と接触させながら前記プラズマ処理空間内を流し、その際前記接地側電極と前記高圧側電極との間に電圧を印加することにより常圧下で前記プラズマ処理空間に放電を発生させてプラズマを生起せしめ、前記被処理ガスをプラズマ処理し、前記プラズマ処理空間から排出するプラズマ処理されたガスを前記ガス排出部を介して系外に排出することを特徴とする。
【０００７】
【実施態様例】
以下に、図を用いて、本発明の実施態様例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。図１及び図２は、それぞれ、本発明のプラズマ処理装置における平行平板型プラズマリアクターの一例を示す略断面図である。図３及び図４は、それぞれ、本発明のプラズマ処理装置における円筒型プラズマリアクターの一例を示す略断面図である。尚、本発明のプラズマ処理装置におけるプラズマリアクターの形状は、図１乃至図４に示すものに限定されるものではない。
【０００８】
図１に示す平行平板型プラズマリアクターは、被処理ガスを導入するためのガスを導入口１を備えたガス導入部Ｂ、ガス導入部Ｂから流入する被処理ガスをプラズマ処理するためのプラズマ処理室Ａ、及びプラズマ処理室Ａから排出するプラズマ処理されたガスを系外に排出するためのガス排出口６を有するガス排出部Ｃを有する。プラズマ処理室Ａ内には、接地側電極３と高圧側電極２との間に第１の誘電体（粒状）４が充填され且つ接地側電極３と第１の誘電体（粒状）４との間及び高圧側電極２と第１の誘電体（粒状）４との間の夫々に第１の誘電体４とは誘電率の異なる第２の誘電体（板状）５を挟み込んだ構成のプラズマ処理ユニットが複数個積層された形態で設けられている。尚、第１の誘電体（粒状）４は接地側電極３と高圧側電極２のいずれとも接触しないようにされている。各プラズマ処理ユニットの第１の誘電体（粒状）４は粒状（即ち、粒子）であることから粒子間に間隙を有し、それらの間隙がガス流路となる。粒状の第１の誘電体４の形状は、球形或いは円柱形等、充填された状態でガスが粒子の間を流れることが可能であればいずれの形状であってもよい。  プラズマ処理室Ａのガス導入部Ｂ側の側壁には各プラズマ処理ユニットの第１の誘電体（粒状）４内にガスが流入するガス流入孔が設けられ、またプラズマ処理室Ａのガス排出部Ｃ側の側壁には各プラズマ処理ユニットでプラズマ処理されたガスが流出するガス流出孔が設けられている。第１の誘電体４は、比誘電率が１０００以上である強誘電体であることが望ましい。そうした強誘電体の好ましい具体例として、チタン酸バリウム及びチタン酸ストロンチウムが挙げられる。第２の誘電体５は、比誘電率が５００以下であることが望ましい。そうした誘電体の好ましい具体例として、酸化ジルコニウム及び酸化チタンが挙げられる。
【０００９】
図２に示す平行平板型プラズマリアクターは、図１に示す平行平板型プラズマリアクターにおける第２の誘電体（板状）５を、粒状のものに変更した以外は、図１に示す平行平板型プラズマリアクターと同じ構成のものである。尚、粒状である第２の誘電体５の形状は、球形或いは円柱形等適宜の形状であることができる。
【００１０】
図１及び図２のそれぞれに示す平行平板型プラズマリアクターによる被処理ガスのプラズマ処理は、例えば、次のように実施される。揮発性有害物質を含有するガス等の被処理ガスをガス導入部Ｂからプラズマ処理室Ａ内の各プラズマ処理ユニット内に流入させ、前記被処理ガスを前接地側電極３及び高圧側電極２のいずれとも直接接触することなく粒状の第１の誘電体４と接触させながら各プラズマ処理ユニット内を流し、その際電源（図示せず）より接地側電極３と高圧側電極２との間に電圧を印加することにより常圧下で前記各プラズマ処理ユニット内に放電を発生させてプラズマを生起せしめ、該プラズマより前記被処理ガスを分解して無害化する。このように各プラズマ処理ユニット内でプラズマ処理されて無害化されたガスはガス排出部Ｃに流出し、ガス排出口６を介して系外に排出される。
図１及び図２のそれぞれに示す平行平板型プラズマリアクターによれば、放電副生成物（Ｎ２Ｏ、ＮＯｘ）の生成を抑制した、プラズマの発生を実現することができ、それにより揮発性有害物質を含有するガス等の被処理ガスを効率的に無害化処理することができる。
【００１１】
図３に示す円筒型プラズマリアクターは、被処理ガスを導入するためのガスを導入口１を備えたガス導入部Ｂ、ガス導入部Ｂから流入する被処理ガスをプラズマ処理するためのプラズマ処理室Ａ、及びプラズマ処理室Ａから排出するプラズマ処理されたガスを系外に排出するためのガス排出口６を有するガス排出部Ｃを有する。プラズマ処理室Ａ内には、一つの高圧側電極２を共有する二つのプラズマ処理ユニットが設けられている。それぞれのプラズマ処理ユニットは、高圧側電極２と接地側電極３との間に第１の誘電体（粒状）４が充填され且つ接地側電極３と第１の誘電体（粒状）４との間及び高圧側電極２と第１の誘電体（粒状）４との間の夫々に第１の誘電体４とは誘電率の異なる第２の誘電体（板状）５を挟み込んだ構成を有する。尚、第１の誘電体（粒状）４は接地側電極３と高圧側電極２のいずれとも接触しないようにされている。各プラズマ処理ユニットの第１の誘電体（粒状）４は粒状（即ち、粒子）であることから粒子間に間隙を有し、それらの間隙がガス流路となる。粒状の第１の誘電体４の形状は、球形或いは円柱形等、充填された状態でガスが粒子の間を流れることが可能であればいずれの形状であってもよい。  プラズマ処理室Ａのガス導入部Ｂ側の側壁には各プラズマ処理ユニットの第１の誘電体（粒状）４内にガスが流入するガス流入孔が設けられ、またプラズマ処理室Ａのガス排出部Ｃ側の側壁には各プラズマ処理ユニットでプラズマ処理されたガスが流出するガス流出孔が設けられている。第１の誘電体４は、比誘電率が１０００以上である強誘電体であることが望ましい。そうした強誘電体の好ましい具体例として、チタン酸バリウム及びチタン酸ストロンチウムが挙げられる。第２の誘電体５は、比誘電率が５００以下であることが望ましい。
そうした誘電体の好ましい具体例として、酸化ジルコニウム及び酸化チタンが挙げられる。
【００１２】
図４に示す円筒型プラズマリアクターは、図３に示す円筒型プラズマリアクターにおける第２の誘電体（板状）５を、粒状のものに変更した以外は、図３に示す円筒型プラズマリアクターと同じ構成のものである。尚、粒状である第２の誘電体５の形状は、球形或いは円柱形等適宜の形状であることができる。
【００１３】
図３及び図４のそれぞれに示す円筒型プラズマリアクターによる被処理ガスのプラズマ処理は、例えば、次のように実施される。揮発性有害物質を含有するガス等の被処理ガスをガス導入部Ｂからプラズマ処理室Ａ内の各プラズマ処理ユニット内に流入させ、前記被処理ガスを前接地側電極３及び高圧側電極２のいずれとも直接接触することなく粒状の第１の誘電体４と接触させながら各プラズマ処理ユニット内を流し、その際電源（図示せず）より高圧側電極２と接地側電極３との間に電圧を印加することにより常圧下で前記各プラズマ処理ユニット内に放電を発生させてプラズマを生起せしめ、該プラズマより前記被処理ガスを分解して無害化する。このように各プラズマ処理ユニット内でプラズマ処理されて無害化されたガスはガス排出部Ｃに流出し、ガス排出口６を介して系外に排出される。
図３及び図４のそれぞれに示す円筒型プラズマリアクターによれば、放電副生成物（Ｎ２Ｏ、ＮＯｘ）の生成を抑制した、プラズマの発生を実現することができ、それにより揮発性有害物質を含有するガス等の被処理ガスを効率的に無害化処理することができる。
【００１４】
図１乃至図４に示すプラズマリアクターにおいては、高圧側電極２及び接地側電極３の間のプラズマ処理空間に第１の誘電体４が充填される。第２の誘電体５は第１の誘電体４とは誘電率の異なるものであって、第１の誘電体４と高圧側電極２と接地側電極３の両電極若しくは少なくともいずれかの一方の電極との間に配設され、第１の誘電体４が前記電極が接触しないようにしている。
第２の誘電体５は、高電圧による絶縁破壊の恐れのない層の厚さを有するものであり、板状の場合、板厚０．５ｍｍ〜５．０ｍｍ程度が望ましい。また粒状の場合、第２の誘電体５からなる層が、層厚０．５ｍｍ〜５．０ｍｍ程度に充填されることが望ましく、その場合の誘電体粒子の粒径は、前記層厚を確保できる粒径であれば特に限定されるものではない。
【００１５】
【実施例】
本発明の特徴及び効果を以下に示す実施例１及び２及び比較例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
【００１６】
実施例１では図５に示す構成のプラズマ処理装置を使用した。図５に示すプラズマ処理装置においては、図３に示す円筒型プラズマリアクターを使用した。前記プラズマリアクターのガス導入口には、被処理ガスボンベ８から延びるガス流量調節器９を有するガス導入パイプが接続され、前記プラズマリアクターのガス排出口はパイプを介して分析器１０に接続されている。また、前記プラズマリアクターには、高圧電源７が接続されている。
実施例２では図６に示す構成のプラズマ処理装置を使用した。図６に示す構成のプラズマ処理装置は、該装置のプラズマリアクターが、図３に示す円筒型プラズマリアクターの接地側電極３側の第２の誘電体５を除いた構成の円筒型プラズマリアクターである点で図５に示すプラズマ処理装置と異なる。
比較例では図７に示す構成のプラズマ処理装置を使用した。図７に示すプラズマ処理装置は、該装置のプラズマリアクターが、図３に示す円筒型プラズマリアクターのから第２の誘電体５を全て除いた構成の円筒型プラズマリアクターである点で図５に示すプラズマ処理装置と異なる。
実施例１及び２及び比較例においては、前記プラズマ処理装置を使用して揮発性有害物質を含有するガスを無害化する処理を行った。
【００１７】
図５、図６及び図７の夫々に示すプラズマ処理装置のプラズマリアクターは、装置内容積が３２４ｍＬであり、高圧側電極２及び接地側電極３の大きさが４０ｍｍ  （外径）×１５ｍｍ（内径）×  ３００  ｍｍ（長さ）であり、電極間距離が１２．５  ｍｍのものである。第１の誘電体４としては、平均粒径３ｍｍのチタン酸バリウム（比誘電率ε＝１６００）ペレットを充填した。分析機器１０としては、ガスクロマトグラフ（島津製作所製ＧＣ−１４Ｂ）、ガスクロマトグラフ質量分析計（Ａｇｉｌｅｎｔ社製、６８９０／５９７３）、及び常圧化学発光式ＮＯｘ計（島津製作所社製ＮＯＡ−７０００）を使用した。
【００１８】
【実施例１】
図５に示すプラズマ処理装置におけるプラズマリアクターは、高圧側電極２及び接地側電極３の両電極と充填された第１の誘電体４との間に、第２の誘電体５としての０．５ｍｍ厚のジルコニア板を配設した構造のものである。
該プラズマ処理装置を用い、１０００ｐｐｍメタノールガスを毎分６．４Ｌ流量で流入させ、実効電力５Ｗから２５Ｗで放電処理を行った。放電処理後のガスを分析したところメタノール濃度は、７ｐｐｍから６５０ｐｐｍ程度であり、処理率としては、３５％から９９．３％となった。生成した窒素酸化物濃度は、ＮＯｘが３ｐｐｍから１２ｐｐｍ、Ｎ２Ｏが２ｐｐｍから１０ｐｐｍとなった。
【００１９】
【実施例２】
図６に示すプラズマ処理装置におけるプラズマリアクターは、高圧側電極２と充填された第１の誘電体４との間に第２の誘電体５としての１．０ｍｍ厚のジルコニア板を配設した構造のものである。
該プラズマ処理装置を用い、１０００ｐｐｍメタノールガスを毎分３．２Ｌ流量で流通させ、実効電力５Ｗから２５Ｗで放電処理を行った。放電処理後のガスを分析したところメタノール濃度は、７９ｐｐｍから６８３ｐｐｍ程度であり、処理率としては、３１．７％から９２．１％となった。生成した窒素酸化物濃度は、ＮＯｘが４ｐｐｍから１６ｐｐｍ、Ｎ２Ｏが２ｐｐｍから１１ｐｐｍとなった。
【００２０】
【比較例】
図７に示すプラズマ処理装置におけるプラズマリアクターは、高圧側電極２及び接地側電極３の両電極と充填された第１の誘電体４との間に第２の誘電体５を配さない構造のものである。
該プラズマ処理装を用い実施例１及び実施例２と同様の処理を行った。放電処理後のガスを分析したところメタノール濃度は、１５７ｐｐｍから７１０ｐｐｍ程度であり、処理率としては、２９％から８４．３％となった。生成した窒素酸化物濃度は、ＮＯｘが１２ｐｐｍから５１ｐｐｍ、Ｎ２Ｏが４ｐｐｍから１８ｐｐｍとなった。
【００２１】
図８乃至図１１は、実施例１、実施例２及び比較例において得られた結果をグラフ化して示すものである。
図８における比較例と実施例１のＮＯｘ及びＮ２Ｏ生成濃度の同実効電力比較では、比較例に対し実施例１では、ＮＯｘ生成濃度が７５％程度抑制され、Ｎ２Ｏ生成濃度は、４５％から４９％程度抑制された。また同メタノール分解率で比較した場合（図９）、比較例に対し実施例１では、ＮＯｘ生成濃度が８０％程度抑制され、Ｎ２Ｏ生成濃度は、６０％程度抑制された。
図１０における比較例と実施例２のＮＯｘ及びＮ２Ｏ生成濃度の同実効電力比較では、本比較例に対し実施例２では、ＮＯｘ生成濃度が７０％程度抑制され、Ｎ２Ｏ生成濃度は、３８％程度抑制された。また同メタノール分解率で比較した場合（図１１）、比較例に対し実施例２では、ＮＯｘ生成濃度が７０％程度抑制され、Ｎ２Ｏ生成濃度は、４４％程度抑制された。
【００２２】
【発明の効果】
本発明によれば、揮発性有害物質を含有するガス等の被処理ガスを常圧下でプラズマ処理して無害化するのに際して、放電により生成する放電副生成物（Ｎ２Ｏ、ＮＯｘ）の生成を抑制して前記被処理ガスを効率的に無害化処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のプラズマ処理装置における平行平板型リアクタの一例を示す縦断面図である。
【図２】本発明のプラズマ処理装置における平行平板型リアクタの他の一例を示す縦断面図である。
【図３】本発明のプラズマ処理装置における円筒型リアクタの一例を示す縦断面図である。
【図４】本発明のプラズマ処理装置における円筒型リアクタの他の一例を示す縦断面図である。
【図５】実施例１において使用したプラズマ処理装置の構成図である。
【図６】実施例２において使用したプラズマ処理装置の構成図である。
【図７】比較例において使用したプラズマ処理装置の構成図である。
【図８】実施例１と比較例で得られた実効電力当りのＮＯｘ及びＮ２Ｏ生成濃度に係る結果をグラフ化して示すものである。
【図９】実施例１と比較例で得られたメタノール分解率当りのＮＯｘ及びＮ２Ｏ生成濃度に係る結果をグラフ化して示すものである。
【図１０】実施例２と比較例で得られた実効電力当りのＮＯｘ及びＮ２Ｏ生成濃度に係る結果をグラフ化して示すものである。
【図１１】実施例２と比較例で得られたメタノール分解率当りのＮＯｘ及びＮ２Ｏ生成濃度に係る結果をグラフ化して示すものである。
【符号の説明】
Ａ    プラズマ処理室
Ｂ    ガス導入部
Ｃ    ガス排出部
１  ガス導入口
２  高圧側電極
３  接地側電極
４  第１の誘電体
５  第２の誘電体
６  ガス排出口
７  高圧電源
８  被処理ガスボンベ
９  流量調節器
１０  分析機器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2004181377.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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