(57)【要約】【課題】ウェハまたは液晶基板面上、あるいは清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分のみを局所的にクリーン化する。【解決手段】空気供給装置２１と可撓管２３によって連結された清浄空気噴出装置２２を被加工物上、または清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分に設置し、前記清浄空気噴出装置２２より清浄空気を連続的に吹付けることにより、ウェハ面上または液晶基板面上、あるいは清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分を局所的に清浄にする。【選択図】図５
2004003723.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体または液晶製造装置、半導体または液晶製造ライン、あるいは清浄雰囲気を必要とする機器における局所クリーン化装置であって、空気供給装置と可撓管によって連結された清浄空気噴出装置を、被加工物上、または清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分に設置し、前記清浄空気噴出装置より清浄空気を連続的に噴出することにより、ウェハ面上または液晶基板面上、あるいは清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分を局所的に清浄にすることを特徴とする局所クリーン化装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体または液晶製造装置におけるウェハ面上または液晶基板面上、あるいは半導体または液晶製造ラインや、その他清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分に連続的に清浄空気を噴出して、局所的に清浄にする局所クリーン化装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の半導体または液晶製造ラインにおいては、作業エリアの天井に空気清浄用フィルターを敷き詰め、作業エリア全体をクリーンな環境に維持するクリーンルーム式が一般的である。
【０００３】また、クリーンルーム内に設置される半導体または液晶製造装置においては、該各製造装置の天井に取付けられたファンフィルターユニットから、前記各製造装置内に取入れられる清浄空気によってクリーン化が行われている。
【０００４】また、最近半導体製造および液晶製造においては、１枚の半導体ウェハおよび液晶基板から多くのチップを採るために、半導体ウェハおよび液晶基板の大型化が進み、結果として半導体製造装置および液晶製造装置が大型化している。
【０００５】図８は、従来の半導体または液晶製造装置において、半導体ウェハまたは液晶基板（以下「被加工物」という）をハンドリングするロボットの設置状態を示す概略縦断面図である。すなわち、クリーンルーム１内に装置された半導体または液晶製造装置２ａ内の天井面に、ファン３とフィルタ４をそれぞれ設置してファンフィルタユニット５が形成され、前記半導体または液晶製造装置２ａ内に清浄空気６を噴出すると共に、該半導体または液晶製造装置２ａの下方部には、被加工物７をハンドリングするアーム８を上部保持板９に備えたロボット１０が設置されていて、前記ファンフィルタユニット５から噴出される清浄空気６の中で、ロボット１０のアーム８により被加工物７がハンドリングされるよう構成されている。
【０００６】また、図９は、従来の半導体または液晶製造装置内に設置されたローダ部へ被加工物を載置した状態を示す概略縦断面図である。すなわち、前記図８に示すと同様に、クリーンルーム１内に装置された半導体または液晶製造装置２ｂ内の天井面に、ファン３とフィルタ４をそれぞれ設置してファンフィルタユニット５が形成され、前記半導体または液晶製造装置２ｂ内に清浄空気６を噴出すると共に、該半導体または液晶製造装置２ｂに設置されたローダ部１１の窪み１２に被加工物７が載置されている。
【０００７】更に、図１０は、従来の半導体または液晶製造装置において、被加工物が処理台に載置された状態を示す概略縦断面図である。すなわち、前記図８に示すと同様に、クリーンルーム１内に装置された半導体または液晶製造装置２ｃ内の天井面に、ファン３とフィルタ４をそれぞれ設置してファンフィルタユニット５が形成され、前記半導体または液晶製造装置２ｃ内に清浄空気６を噴出すると共に、該半導体または液晶製造装置２ｃの下方部には被加工物７をハンドリングするアーム８を上部保持板９に備えたロボット１０および被加工物７を処理する処理台１３がそれぞれ設置されていて、被加工物７をアーム８でハンドリングして処理台１３へ移載して加工し、然る後、加工済みの被加工物７を前記処理台１３から前記アーム８を介してハンドリングするよう構成されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記図８に示す従来の半導体または液晶製造装置２ａにおいては、被加工物７面上の清浄度が更に要求されると、前記清浄空気６のみでは、該被加工物７面上の清浄度の向上および維持が困難であるという課題があった。
【０００９】また、図９に示す従来の半導体または液晶製造装置２ｂにおいては、該半導体または液晶製造装置２ｂ内は、清浄空気６により清浄度は保たれているが、前記半導体または液晶製造装置２ｂのローダ部１１は窪み１２を備えているため、該窪み１２内において空気の澱み１４が生じ、前記窪み１２内のダスト１５は停滞し、被加工物７に付着するという課題があった。
【００１０】更に、図１０に示す従来の半導体または液晶製造装置２ｃにおいては、被加工物７の大型化に伴い、前記半導体または液晶製造装置２ｃが大型化すると、該半導体または液晶製造装置２ｃの設置面積が大きくなり、前記半導体または液晶製造装置２ｃの多段化が進むと考えられるが、多段化すると、各段ごとにファンフィルタユニット５と、該ファンフィルタユニット５の空気供給ダクトスペースが必要となり、装置全体の高さが高くなり、且つ大型化してしまうという課題があった。
【００１１】また、従来の半導体または液晶製造ラインにおいては、半導体または液晶の設計ルールが世代ごとに厳しくなってきており、従来の作業エリアの天井面に空気清浄用フィルタを敷き詰める方式では、要求されたクリーン度を維持することが困難になっているという課題があった。
【００１２】更に、前記従来の半導体または液晶製造装置においても、該各天井に取付けられたファンフィルタユニットから前記各装置内に取入れられる清浄空気によってクリーン化を図る方式では、大型化した該各装置内の気流制御が困難となり、前記各装置内で発生するダストがハンドリングされるウェハや液晶基板表面に付着するのを完全に防ぐことは困難であるという課題がある。
【００１３】本発明は、前記課題を解決すべくなしたもので、半導体または液晶製造装置におけるウェハ面上または液晶基板面上、あるいは半導体または液晶製造ラインや、その他清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分のみを局所的に清浄にすることにより、清浄空気噴出装置の設置場所および設置方法に自由度をもたせるようにした局所クリーン化装置を提供しようとするものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体または液晶製造装置、半導体または液晶製造ライン、あるいは清浄雰囲気を必要とする機器における局所クリーン化装置であって、空気供給装置と可撓管によって連結された清浄空気噴出装置を、被加工物上、または清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分に設置し、前記清浄空気噴出装置より清浄空気を連続的に噴出することにより、ウェハ面上または液晶基板面上、あるいは清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分を局所的に清浄にするという手段を採用することにより、上記課題を解決した。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明するが、本発明においては、前記従来公知の半導体または液晶製造装置において説明した符号と共通するものは、同一符号を用いて説明すると共に、同一符号を付したものの構成および作用については説明を省略する。
【００１６】図１は本発明局所クリーン化装置Ａの全体を示す概略斜視図である。前記局所クリーン化装置Ａは、空気供給装置２１と清浄空気噴出装置２２とがフレキシブルチューブまたはフレキシブルダクト等の可撓管２３とにより連結されて構成されている。前記空気供給装置２１と清浄空気噴出装置２２は、いずれも狭い限られた場所に設置することができるよう分離して形成されている。
【００１７】前記空気供給装置２１は、特に限定する必要はないが、好ましくは薄型のものを使用することが推奨されるため、図１に示すように、シロッコファン２４により吸気する吸気口２５を備えて形成することが好ましい。なお、図中、２６はシロッコファン２４を駆動するモータである。
【００１８】前記清浄空気噴出装置２２は、所要形状に形成された噴出筒２７と、その噴出開口部２８に配設されたフィルタ２９とにより形成されている。そして、前記空気供給装置２１に開口された送気口３０と清浄空気噴出装置２２に開口された吸入口３１とが可撓管２３で連結されて構成されている。なお、図１においては、清浄空気噴出装置２２の吸入口３１は、噴出筒２７の上方に開口されているが、前記清浄空気噴出装置２２の設置場所によっては、噴出筒２７の側面部等、任意の位置に吸入口３１を開口することができる。
【００１９】前記空気供給装置２１の吸気口２５から吸入された空気３２は、シロッコファン２４により加圧されて送気口３０から排気され、可撓管２３を経て吸入口３１から噴出筒２７内に導入されて、フィルタ２９でダストを除去された後、清浄空気３３となって噴出される。そして、該清浄空気３３は、ウェハや液晶基板等の被加工物７（図１においてはウェハが図示されている）の表面や、清浄雰囲気を必要とする機器の表面に噴出され、表面を清浄に保つことができる。
【００２０】従来のファンフィルタユニットでは、空気供給装置と清浄空気噴出装置とが一体に構成されており、設置場所に制約が多かったが、本発明においては、空気供給装置２１と清浄空気噴出装置２２とを分離し、可撓管２３で連結することにより、任意の場所に清浄空気噴出装置２２を設置することが可能である。
【００２１】図２・図３・図４は、前記清浄空気噴出装置２２の噴出筒２７の噴出開口部２８の形状を示す概略下面図である。図２に示す形状は、一般的な円形であって、ウェハや液晶基板表面への清浄空気供給用である。図３に示す形状は、半導体または液晶製造装置、半導体または液晶製造ライン、その他清浄雰囲気を必要とする機器のコーナー部への清浄空気供給用である。更に、図４は変則的形状の隙間への清浄空気供給用である。前記図２〜図４に示すように噴出開口部２８の形状を任意に設定できるので、あらゆる空間の局所クリーン化に、本発明装置を適用することができる。
【００２２】図５は、本発明局所クリーン化装置Ａを、半導体または液晶製造装置２ａ内に設置されたロボット１０に取付けた例を示す概略縦断面図である。すなわち、クリーンルーム１内に装置された半導体または液晶製造装置２ａに設置されたロボット１０の上部において、アーム８を保持する上部保持板９に空気供給装置２１、好ましくはシロッコファン２４が、吸気口２５を上方へ向けて配設固定されると共に、該シロッコファン２４は可撓管２３を介して清浄空気噴出装置２２と連結され、該清浄空気噴出装置２２の噴出筒２７に配設された被加工物７上面に臨ませている。
【００２３】前記ファンフィルタユニット５から噴出した清浄空気６のうち一部の空気３２は、シロッコファン２４の吸気口２５から吸入されて、可撓管２３を介して清浄空気噴出装置２２へ送気され、噴出筒２７の先端のフィルタ２９によって更に清浄化されて、高清浄空気３３となって被加工物７の表面に連続的に噴出され、該表面を清浄に保つよう形成されている。
【００２４】図６は、本発明局所クリーン化装置Ａを、半導体または液晶製造装置２ｂ内に設置されたローダ部１１に取付けた例を示す概略縦断面図である。すなわち、クリーンルーム１内に装置された半導体または液晶製造装置２ｂに設置されたローダ部１１の上面に、空気供給装置２１、好ましくはシロッコファン２４が吸気口２５を上方へ向けて配設固定されると共に、前記ローダ部１１の窪み１２の天井面に清浄空気噴出装置２２が設置され、該清浄空気噴出装置２２と前記シロッコファン２４は可撓管２３を介して連結されて、前記清浄空気噴出装置２２の噴出筒２７に配設されたフィルタ２９を、前記窪み１２に載置された被加工物７上面に臨ませている。
【００２５】前記ファンフィルタユニット５から噴出した清浄空気６のうち一部の空気３２は、シロッコファン２４の吸気口２５から吸入されて、可撓管２３を介して清浄空気噴出装置２２へ送気され、噴出筒２７の先端のフィルタ２９によって更に清浄化されて、高清浄空気３３となって被加工物７の表面に連続的に噴出され、該表面を清浄に保つよう形成されている。
【００２６】図７は、本発明局所クリーン化装置Ａを、半導体または液晶製造装置２ｃ内に設置された処理台１３上に取付けた例を示す概略縦断面図である。近年におけるウェハや液晶基板の被加工物の大型化に伴い、半導体または液晶製造装置の設置面積が大きくなり、該半導体または液晶製造装置の多段化が予想される。しかし、前記半導体または液晶製造装置を多段化すると、各段ごとにファンフィルタユニットと該ファンフィルタユニットへの空気供給ダクトスペースが必要になり、半導体または液晶製造装置の高さが高く大きくなってしまうことが予想されるが、図７はこれら多段化に対応したものである。
【００２７】すなわち、図７は、クリーンルーム１内に装置された半導体または液晶製造装置２ｃは２段に形成され、下段に局所クリーン化装置Ａが取付けられている。前記半導体または液晶製造装置２ｃは、床３０によって上・下部室３１・３２に区画され、上部室３１は従来同様天井面にファンフィルタユニット５が装置され、床３０上にロボット１０と処理台１３がそれぞれ設置されている。
【００２８】そして、下部室３２には、ロボット１０と処理台１３がそれぞれ設置されると共に、半導体または液晶製造装置２ｃ外のクリーンルーム１に、空気供給装置２１、好ましくはシロッコファン２４が設置されると共に、該シロッコファン２４は前記半導体または液晶製造装置２ｃの側壁３３を貫通した可撓管２３を介して、該半導体または液晶製造装置２ｃ内の清浄空気噴出装置２２と連結され、該清浄空気噴出装置２２の噴出筒２７に配設されたフィルタ２９を、前記処理台１３に載置された被加工物７上面に臨ませている。
【００２９】前記クリーンルーム１内に噴出した清浄空気のうち一部の空気３２は、シロッコファン２４の吸気口２５から吸入されて、可撓管２３を介して清浄空気噴出装置２２へ送気され、噴出筒２７の先端のフィルタ２９によって更に清浄化されて、高清浄空気３３となって被加工物７の表面に連続的に噴出され、該表面を清浄に保つよう形成されている。
【００３０】なお、前記図５〜図７においては、本発明局所クリーン化装置Ａを、半導体または液晶製造装置に適用した例が図示されている。そして、図示していないが、半導体または液晶製造装置以外の、半導体または液晶製造ライン、あるいはその他の清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分を局所的に清浄にする場合にも適用できる。
【００３１】
【発明の効果】本発明は上述のようであるから、空気供給装置と清浄空気噴出装置とを分離して、両者を可撓管で連結して、半導体または液晶製造装置におけるウェハ面上、または液晶基板上、あるいは半導体または液晶製造ラインや、その他清浄雰囲気を必要とする機器の特定部分に、前記清浄空気噴出装置を配設して清浄空気を連続的に噴出することにより、必要な部分のみを局所的にクリーン化することができる。
また、空気供給装置の吸気口に清浄空気を取入れることにより、更なる空気の清浄化が図れ、超高清浄度の空気で被加工物の表面を清浄に保つことができる。また更に、空気供給装置と清浄空気噴出装置とを分離することにより、装置の小型化を図ることができると共に、前記清浄空気噴出装置の設置場所および設置方法に自由度をもたせることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明局所クリーン化装置Ａの全体を示す概略斜視図である。
【図２】本発明局所クリーン化装置における清浄空気噴出装置の噴出開口部の概略底面図である。
【図３】本発明局所クリーン化装置における清浄空気噴出装置の噴出開口部の他の形態を示す概略底面図である。
【図４】本発明局所クリーン化装置における清浄空気噴出装置の噴出開口部の更に他の形態を示す概略底面図である。
【図５】本発明局所クリーン化装置を、半導体または液晶製造装置内に設置されたロボットに取付けた例を示す概略縦断面図である。
【図６】本発明局所クリーン化装置を、半導体または液晶製造装置内に設置されたローダ部に取付けた例を示す概略縦断面図である。
【図７】本発明局所クリーン化装置を、半導体または液晶製造装置内に設置された処理台上に取付けた例を示す概略縦断面図である。
【図８】ロボットを備えた従来の半導体または液晶製造装置を示す概略縦断面図である。
【図９】ローダ部を備えた従来の半導体または液晶製造装置を示す概略縦断面図である。
【図１０】処理台を備えた従来の半導体または液晶製造装置を示す概略縦断面図である。
【符号の説明】
Ａ　局所クリーン化装置、　２ａ〜２ｃ　半導体または液晶製造装置、　７　被加工物、　２１　空気供給装置、　２２　清浄空気噴出装置、　２３　可撓管。
【図１】
2004003723.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2004003723.tif 000011
【図１０】
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