(57)【要約】【課題】磁気記録媒体の潤滑層に用いられる潤滑剤として、潤滑特性、磁性層腐食性および生産性の点において優れた性能を有し、特に、潤滑効果の走行耐久性の高い潤滑剤およびそれを用いた磁気記録媒体を提供する。【解決手段】下記一般式（１−Ａ）、2004359893.tif 000014で表される第３級アミンの少なくとも１種、および／または、下記一般式（１−Ｂ）、2004359893.tif 000015で表される第３級アミンの少なくとも１種を含む潤滑剤である。式中、Ｒｆは炭素原子数１〜３０のフッ化アルキル基であり、Ｒ１およびＲ２はアルキル基であって、Ｒ１およびＲ２を夫々構成する炭素原子の数の差が５以上であり、かつ、Ｒ１およびＲ２のうち炭素原子数が多いアルキル基を構成する炭素原子の数が８以上である。非磁性基材の少なくとも一方の面上に、磁性層と、炭素を主成分とする硬質膜と、潤滑層とを順次有し、潤滑層が、上記潤滑剤を含む磁気記録媒体である。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１−Ａ）、
2004359893.tif 000012
（式中、Ｒｆは炭素原子数１〜３０のフッ化アルキル基であり、Ｒ１およびＲ２はアルキル基であって、Ｒ１およびＲ２を夫々構成する炭素原子の数の差が５以上であり、かつ、Ｒ１およびＲ２のうち炭素原子数が多いアルキル基を構成する炭素原子の数が８以上である）で表される第３級アミンの少なくとも１種、および／または、下記一般式（１−Ｂ）、
2004359893.tif 000013
（式中、Ｒｆ、Ｒ１およびＲ２は前記と同様のものを表す）で表される第３級アミンの少なくとも１種を含むことを特徴とする潤滑剤。
【請求項２】
前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において、Ｒ１およびＲ２のうち炭素原子数が多いアルキル基を構成する炭素原子の数が１２〜２４であり、かつ、炭素原子数が少ないアルキル基を構成する炭素原子の数が１〜５である請求項１記載の潤滑剤。
【請求項３】
前記第３級アミンが、エポキシ基を含有する化合物とアミンを含有する化合物とを原料として得られてなる請求項１または２記載の潤滑剤。
【請求項４】
前記アミンを含有する化合物が第２級アミンである請求項３記載の潤滑剤。
【請求項５】
非磁性基材の少なくとも一方の面上に、磁性層と、炭素を主成分とする硬質膜と、潤滑層とを順次有し、該潤滑層が、請求項１〜４のうちいずれか一項記載の潤滑剤を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は潤滑剤およびそれを用いた磁気記録媒体に関し、詳しくは、磁気記録媒体の保護膜として用いられる炭素を主成分とする硬質膜（ダイヤモンドライクカーボン膜（以下、「ＤＬＣ膜」とも称する））上に形成する潤滑層に用いられる潤滑剤およびそれを用いた磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、データストレージ用途としてハードディスクや光メディアなどの媒体が注目されているが、データの長期保存という観点に立つと、依然、過去の実績に基づくテープ媒体の信頼性には確固たるものがある。ハードディスクや光メディアはデータ読み出し速度（アクセス速度）がテープ媒体よりも高いことから、頻繁に使用するデータを記録しておく点において非常に優れている。しかし、その信頼性については、様々な加速試験などによりデータの蓄積が進んでいるものの、実際上、どの程度まで信頼性があるのかが不明瞭であることは否めない。これに対し、テープ媒体はオーディオ・ビデオテープに始まる過去の実用上の信頼性・実績を獲得している。そのため、データの長期保存用途においては、今後もさらなる大容量テープ型記録媒体の登場が必要となると考えられる。
【０００３】
テープ媒体の大容量化に伴い、テープ全厚も薄くなってきており、走行摩擦やヘッド当たり（ヘッドとテープの接触状態）について、さらに厳しい走行特性が要求されると考えられる。また、一般的なドライブでは、ヘッドが載置されているシリンダの下流側においてテープをキャプスタンガイド（金属製、固定）とピンチローラー（ゴム製、回転）とに圧接させて、その回転によってテンションを制御しながらテープを走行させるというキャプスタン方式を採用している。この方式ではテープ走行時には記録面側（磁性層）がキャプスタンガイドに接触し、バックコート層側からピンチローラーによって圧接されるため、キャプスタンガイド部分においてテープのせり上がりや走行異常などの摩擦異常が起こりやすい。これに対し、摩擦係数を低下させるために潤滑剤を過剰にすると、テープ走行時間とともに、キャプスタンガイドのテープが入る側に潤滑剤の堆積物が発生してしまう。この堆積物がテープ走行方向の逆転（巻き戻し）などの動作時にテープ表面に転着して、その個所の記録・再生時にヘッド目詰りやエラーの上昇などの障害を引き起こすことになる。
【０００４】
また、テープ表面に大型突起を設けることによって、キャプスタンガイドとの接触面積を低減し、摩擦特性の改善を目指す手法も考えられるが、この場合、記録層の保護膜として用いられているＤＬＣ膜が突起部分において損傷しやすいという欠点がある。この損傷した個所を記録・再生時にヘッドトレースすると、磁性層自体の損傷をも引き起こす場合があり、記録媒体として致命的な障害となってしまう可能性が高い。さらに、記録再生に使用されるヘッドに対しても、大型突起によるスクラッチ損傷を与える可能性がある。この問題はヘッド摩耗に対して極度に耐久性の低いＭＲ素子を採用したヘッドにおいては特に顕著となると考えられる。
【０００５】
一方、ストレージデータを長期間保存しておくためには、データを担持している記録層を長時間安定的に維持することが最も重要である。磁性層が金属薄膜である場合、化学的に活性であるために酸化や腐食性ガスによる磁性層の劣化が起こり易い。この対策として、磁性層表面を化学的に不活性なＤＬＣ膜で被覆することが一般に行われており、さらなるテープ走行時の摩擦係数低下を目的として、通常、ＤＬＣ膜上に潤滑層を形成する手法が用いられている。
【０００６】
元来ＤＬＣ膜は前記のとおり化学的に不活性であるので、潤滑剤がＤＬＣに吸着しにくい。そのため、潤滑層の形成に際し、酸化性ガスプラスマなどによりＤＬＣ膜表面を親水性に改質する手法も一般に採用されている。また、潤滑剤は、テープ使用に伴うヘッドトレース（ヘッドとテープの摺動）や案内ガイドとの摺動によりＤＬＣ膜から取れ易いので、潤滑剤量の減少を抑制するために、潤滑剤の分子構造中に極性基を組み込むことも一般的である。その理由としては、潤滑剤の化学構造中に極性基を組み込むことにより、潤滑剤の極性基部分がアンカーの役割をしてＤＬＣ膜表面にしっかりと吸着するようになるためと考えられるが、詳細な機構は不明である。
【０００７】
ここで、ＤＬＣ膜はプラズマＣＶＤやスパッタ法などにより形成されるものであるが、これらの方法はいずれも真空工程において行われるため、形成されるＤＬＣ膜において光学顕微鏡視野規模での微小欠陥の存在を解消することは困難である。そのため、磁性層に対して化学的に活性な潤滑剤を使用した場合、このようなＤＬＣ膜の欠陥部より潤滑剤が浸透して、徐々に磁性層を腐食することとなる。磁性層に対して化学的に活性な潤滑剤とは、極性基としてカルボキシル基やアミノ基などを含むものである。これらの潤滑剤は、それ自体の酸性、錯形成反応により金属元素を溶解してしまう。従って、データの長期保存を目的としたテープに対して、これらの化学構造をもつ潤滑剤をそのままの形で使用することは困難であった。
【０００８】
この問題に対して、従来、カルボキシル基とアミノ基とに塩を形成させて他の金属元素を溶解しないようにするために、カルボキシル基を持つ潤滑剤成分とアミノ基を持つ潤滑剤成分とを混合して使用する手法や、潤滑剤の分子構造内にあらかじめカルボキシル基とアミノ基とを保持させる手法、アミン塩として使用する手法などが提案されてきた。これらはすべて前記した潤滑剤の極性基によるＤＬＣ膜表面へのアンカー効果を維持しつつ、磁性層に対する浸食作用を抑制する効果を有するものであると考えられる。しかし、極性基を塩の状態で使用した場合、空気中の水分とバックコート側からの無機イオンの流入により潤滑層内のイオンバランスが崩れると、塩が解離して、磁性層の浸食作用を発現してしまうことになる。
【０００９】
さらに、潤滑剤自体の化学的安定性もデータの長期保存において重要な因子である。現在汎用されている潤滑剤の多くは、エステル結合やアミド結合といった脱水縮合型の結合様式を持っている。そのため、空気中の水分や温度状況によっては加水分解を起こし、これによって生じたカルボン酸が磁性層を浸食することになる。そこで、脱水縮合型の結合様式ではなく、より耐候性に優れた潤滑剤が要望されていた。この点に関して、例えば、特許文献１には、脱水縮合型の化学構造を持たず、かつ、極性基としての水酸基を持つ潤滑性物質が開示されている。
【００１０】
【特許文献１】
特開平９−０７１５４７号公報（特許請求の範囲等）
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、ＤＬＣ膜上に形成する潤滑層の潤滑剤としては、未だ十分なものが得られておらず、上記した各種要請を満足できるより優れた潤滑剤の実現が望まれていた。特に、初期のみならず使用後においても良好な潤滑効果を維持することのできる信頼性の高い潤滑剤への要請は急務である。また、上記特許文献１に記載の技術は、環境性や耐久性、走行性に優れた潤滑性物質を提案するものであるが、このような優れた潤滑効果に関しては開示されていない。
【００１２】
そこで本発明の目的は、磁気記録媒体の潤滑層に用いられる潤滑剤として、潤滑特性、磁性層腐食性および生産性の点において優れた性能を有し、特に、潤滑効果の走行耐久性の高い潤滑剤およびそれを用いた磁気記録媒体を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、各種の潤滑性を有する化合物について上記各特性の観点から検討を重ねた結果、化合物の有する分子鎖構造、特に分子内に含まれるアルキル鎖の構造が走行耐久性に大きな影響を与えることを見出し、この分子鎖構造を特定することにより、特に優れた潤滑効果が使用後においても得られることを見出して、本発明を完成するに至った。
【００１４】
即ち、上記課題を解決するために、本発明の潤滑剤は、下記一般式（１−Ａ）、
2004359893.tif 000002
（式中、Ｒｆは炭素原子数１〜３０のフッ化アルキル基であり、Ｒ１およびＲ２はアルキル基であって、Ｒ１およびＲ２を夫々構成する炭素原子の数の差が５以上であり、かつ、Ｒ１およびＲ２のうち炭素原子数が多いアルキル基を構成する炭素原子の数が８以上である）で表される第３級アミンの少なくとも１種、および／または、下記一般式（１−Ｂ）、
2004359893.tif 000003
（式中、Ｒｆ、Ｒ１およびＲ２は前記と同様のものを表す）で表される第３級アミンの少なくとも１種を含むことを特徴とするものである。
【００１５】
本発明の潤滑剤においては、好適には、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において、Ｒ１およびＲ２のうち炭素原子数が多いアルキル基を構成する炭素原子の数が１２〜２４であり、かつ、炭素原子数が少ないアルキル基を構成する炭素原子の数が１〜５である。また、前記第３級アミンは、エポキシ基を含有する化合物とアミンを含有する化合物とを原料として得られたものであることが好ましい。
【００１６】
また、本発明の磁気記録媒体は、非磁性基材の少なくとも一方の面上に、磁性層と、炭素を主成分とする硬質膜と、潤滑層とを順次有し、該潤滑層が、上記本発明の潤滑剤を含むことを特徴とするものである。
【００１７】
なお、本発明において「炭素を主成分とする」とは、膜における炭素含有量が６０〜８０原子％であることを意味し、炭素の他に、通常、水素が含まれる。水素と炭素との原子比（Ｈ／Ｃ）は０．２５〜０．６６の範囲内であることが好ましい。また、「硬質膜」とは、具体的にはビッカース硬度が６３７０Ｎ／ｍｍ２（６５０ｋｇ／ｍｍ２）以上の膜を意味し、この硬度を屈折率の値で表すと１．９以上である。このような屈折率を有する膜は、その屈折率から硬度を近似できることがわかっている。例えば、屈折率が１．９のときのビッカース硬度は６３７０Ｎ／ｍｍ２（６５０ｋｇ／ｍｍ２）である。屈折率の上限には特に制限はないが、２．２５程度であり、ビッカース硬度２９４００Ｎ／ｍｍ２（３０００ｋｇ／ｍｍ２）に対応する。屈折率から硬度を近似する方法としては、硬質膜についてエリプソメーターにて屈折率を測定し、一方で微小硬度計（ＮＥＣ（株）製）によりビッカース硬度を測定して、あらかじめ検量線を作製しておく方法を用いることができ、これにより屈折率から硬度を知ることができる。また、このような硬質膜は、非晶質またはそれに近い連続相を形成し、ラマン分光分析において、１５６０ｃｍ−１と１３３０ｃｍ−１にブロードなピークを有する。本発明においては、このような「炭素を主成分とする硬質膜」の意味で、「ＤＬＣ膜」の語を用いる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明の潤滑剤は、下記一般式（１−Ａ）、
2004359893.tif 000004
（式中、Ｒｆは炭素原子数１〜３０のフッ化アルキル基であり、Ｒ１およびＲ２はアルキル基であって、Ｒ１およびＲ２を夫々構成する炭素原子の数の差が５以上であり、かつ、Ｒ１およびＲ２のうち炭素原子数が多いアルキル基を構成する炭素原子の数が８以上である）で表される第３級アミンの少なくとも１種、および／または、下記一般式（１−Ｂ）、
2004359893.tif 000005
（式中、Ｒｆ、Ｒ１およびＲ２は前記と同様のものを表す）で表される第３級アミンの少なくとも１種を含むことが必要である。これら一般式（１−Ａ）、一般式（１−Ｂ）で表される第３級アミンは、合成時に生成し得る構造異性体である。
【００１９】
一般に、潤滑剤としては、ある程度の長さの鎖を有していることが必要であり、あまり短すぎると十分な潤滑効果が得られない。また、分子内の鎖同士の長さが近しいと、互いに立体排除効果を及ぼしあって全体として潤滑性を低下させるものと考えられる。本発明の潤滑剤に係る上記一般式（１−Ａ）、一般式（１−Ｂ）で表される第３級アミンにおいては、窒素原子に結合している２本のアルキル鎖Ｒ１およびＲ２を夫々構成する炭素原子の数の差を５以上、好適には１１〜１７とし、かつ、２本のアルキル鎖Ｒ１およびＲ２のうち炭素原子数が多いものを構成する炭素原子の数を８以上、好適には１２〜２４、より好適には１２〜１８としたことにより、従来になく良好な潤滑効果を使用初期および使用後のいずれにおいても得ることができる。２本のアルキル鎖の構成炭素原子数の差が５未満であると、使用後の潤滑効果が低下して、走行耐久性を損なうことになる。一方、長鎖側のアルキル鎖の構成炭素原子数が８未満であると、所期の潤滑効果が得られない。
【００２０】
また、かかる２本のアルキル基Ｒ１およびＲ２の大きさとしては、例えば、炭素原子数が多いアルキル基を構成する炭素原子の数を上記好適範囲程度とした場合に、炭素原子数が少ないアルキル基を構成する炭素原子の数については１〜５程度とすることができるが、特に制限されるものではない。但し、あまり長鎖のものは市場での入手が困難であり、コスト性の面でも劣る。
【００２１】
また、一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）中、Ｒｆは炭素原子数が１〜３０の直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキル基であり、好ましくは炭素原子数が４〜１８である。本発明の潤滑剤において、Ｒｆの長さは潤滑効果に大きな影響を有しないと考えられるが、パーフルオロアルキル基を含まないと、十分な撥水撥油性が得られないため、特に潤滑効果の耐候性を維持することが困難となる。一方、炭素原子数が３０を超えると、融点が高すぎるため好ましくなく、また、トルエンやアセトン等の炭化水素系溶媒への溶解性が低下するためフッ素系溶媒を用いる必要があり、コスト面や環境面で不利となる。
【００２２】
本発明の潤滑剤に係る上記第３級アミンは、磁性層の腐食を引き起こすと考えられるカルボキシル基やアミノ基を含まないので、磁性層腐食性が低い点でも好適であり、高湿環境下での保存による磁性層浸食の加速試験においても良好な結果が得られるものである。
【００２３】
上記第３級アミンは、エポキシ基を含有する化合物とアミンを含有する化合物とを原料として、好適に製造することができる。アミンを含有する化合物として、例えば、第１級アミンまたは第２級アミンを用いて上記第３級アミンを製造する際の反応式としては、下記反応式（２−Ａ−１）および反応式（２−Ａ−２）または反応式（２−Ｂ）となる。なお、下記反応式（２−Ａ−１）〜（２−Ｂ）中、Ｒはアルキル基を表し、Ｒｆ、Ｒ１およびＲ２は夫々前記と同じものを表す。また、下記反応式中では一般式（１−Ｂ）の第３級アミンのみを示すが、前述したように、通常、異性体である一般式（１−Ａ）の第３級アミンについても同時に生成する。
【００２４】
2004359893.tif 000006
【００２５】
上記反応式（２−Ａ−１）および反応式（２−Ａ−２）に示すように、第１級アミンを使用したときには副反応が起こる。この副反応の起こりやすさは触媒や反応温度などの反応条件に依存するので、合成の効率化を図るための反応条件の変更の際には副反応に及ぼす影響を常に考慮する必要が生じ、結果として反応条件は制約を受けることになる。従って、潤滑剤の製造コストや品質を考慮すると、アミンを含有する化合物としては、第２級アミンを用いることが最良であると考えられる。原料として、上記のような第２級アミンを使用することにより、上記反応式（２−Ｂ）に示すように、副反応を抑制して、高い収率で目的潤滑剤を合成することが可能である。
【００２６】
具体的には、上記第３級アミンは、前記反応式（２−Ｂ）に従い、エポキシ基を含有する化合物としての下記一般式（３）、
2004359893.tif 000007
（式中、Ｒｆは前記と同様のものを表す）で表される含フッ素エポキシ化合物と、アミンを含有する化合物としての一般式（４）、
2004359893.tif 000008
（式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同様のものを表す）で表される第２級アルキルアミンとを反応させることにより、好適に製造することができる。
【００２７】
含フッ素エポキシ化合物としては、例えば、炭素原子数が１〜３０の直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキル基を有するエポキシプロパンを挙げることができ、これらの具体例としては、例えば、３−パーフルオロブチル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロヘキシル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロデシル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロドデシル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロオクタデシル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロテトラコサン−１，２エポキシプロパン、３−パーフルオロオクタコサン−１，２−エポキシプロパン等の直鎖状パーフルオロアルキルエポキシプロパン類や、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−１，２−エポキシプロパン等の分岐状パーフルオロアルキルエポキシプロパン類が挙げられる。これらの含フッ素エポキシ化合物の中でも、３−パーフルオロブチル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロヘキシル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロオクタデシル−１，２−エポキシプロパン等の炭素原子数４〜１８のパーフルオロアルキル基を含有するものが好ましい。
【００２８】
また、第２級アルキルアミン化合物としては、Ｎ−メチル−１−ヘキサンアミン、Ｎ−メチル−１−オクタンアミン、Ｎ−メチル−１−デカンアミン、Ｎ−メチル−１−ドデカンアミン、Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン、Ｎ−ブチル−１−デカンアミン、Ｎ−ブチル−１−オクタデカンアミン、Ｎ−ヘプチル−１−ドデカンアミン、Ｎ−オクチル−１−オクタデカンアミン、Ｎ−オクチル−１−テトラコサンアミン、Ｎ−オクチル−１−オクタコサンアミン、Ｎ−トリデシル−１−オクタデカンアミン、Ｎ−エイコシル−１ペンタコサンアミン等の直鎖状第２級アルキルアミン類や、Ｎ−メチル−２−テトラデカンアミン、Ｎ−（１−メチルエチル）−１−オクタデカンアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−１−オクタデカンアミン、Ｎ−（３，５，５−トリメチルヘキシル）−１−ドデカンアミン、Ｎ−（３，５，５−トリメチルヘキシル）−ｔ−ドデカンアミン等の分岐状第２級アルキルアミン類が挙げられる。これらの第２級アルキルアミン化合物の中でも、Ｎ−メチル−１−オクタンアミン、Ｎ−メチル−１−デカンアミン、Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン、Ｎ−ブチル−１−オクタデカンアミン、Ｎ−ヘプチル−１−ドデカンアミン、Ｎ−トリデシル−１−オクタデカンアミン、Ｎ−（１−メチルエチル）−１−オクタデカンアミン等が好ましい。
【００２９】
上記含フッ素エポキシ化合物と第２級アルキルアミン化合物との反応は、前記反応式（２−Ｂ）に従い公知の方法で達成できる。これら含フッ素エポキシ化合物および第２級アルキルアミン化合物を用いて、前記反応式（２−Ｂ）に従い、所定の条件のもとに合成反応を行うと、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）にて夫々示す２種の構造異性体が生成することになるが、前述したように、この反応ではこれら以外の副生成物は生成しにくく、簡潔かつ高効率、高収率にて反応が行えるため、生産性や製造コストの面で有利である。
【００３０】
前記反応式（２−Ｂ）に従い上記２種類の構造異性体が生成する理由は反応自体に由来するものであり、反応条件によりその混合割合が変化するため、生成割合を明確に特定することはできないが、通常、一般式（１−Ａ）のものが５〜１００重量％、一般式（１−Ｂ）のものが０〜８０重量％の割合であり、一般的には一般式（１−Ａ）の構造異性体が一般式（１−Ｂ）よりも多く含まれると考えられる。
【００３１】
以下、反応式（２−Ｂ）に従う一般式（１−Ａ）、一般式（１−Ｂ）の第３級アミンの製造方法について詳細に説明する。
原料である、一般式（３）の含フッ素エポキシ化合物および一般式（４）の第２級アルキルアミン化合物の仕込割合については、両方の原料が比較的低分子量であって反応が速く進む場合には、両化合物のモル数を等しくして反応を完結させた方が効率がよい。しかし、ある程度分子量が大きい場合には反応を完結させることができないので、このような場合には、一般式（３）の含フッ素エポキシ化合物のモル数／一般式（４）の第２級アルキルアミン化合物のモル数（モル比）を１０／１〜１／１０の範囲、好ましくは５／１〜１／５の範囲とし、一方の原料をもう一方の原料より過剰量で加えて、どちらか一方をすべて反応させてしまうようにする。このとき、両化合物のうち、反応後に除去しやすい方を過剰に加える側とする。原料のモル比が上記範囲以外であっても構わないが、経済的ではない。
【００３２】
上記反応を行う際に用いる溶剤については、２種の原料がいずれも反応温度において溶融状態になるのであれば特に使用する必要はないが、反応に影響しない適当な溶剤を使用しても構わない。２種の原料のうち１種、あるいは２種の原料がともに、反応温度において溶融状態にならない場合には、反応に影響せず、２種の原料を溶解しうる適当な溶剤を使用する必要がある。このような溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素系の溶剤や、パーフルオロオクタン、パーフルオロドデカン等のパーフルオロアルキル系の溶剤が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。これら溶剤を使用する場合の溶剤の使用量は、特に限定されないが、原料の全量に対して０．５〜５倍量が好ましい。
【００３３】
また、反応温度に関しては、特に限定されるものではないが、５０〜２００℃の範囲が好ましく、６０〜１８０℃の範囲がより好ましい。５０℃未満だと反応が進まないか、反応に長時間を要してしまう一方、２００℃を超えると副成物の生成や分解反応が顕著になり、収率の低下や後処理の煩雑さが増すことにつながる。
【００３４】
反応時間は、原料の種類やモル比、反応時間等により反応速度が変わるため、一概には決められないが、反応物をガスクロマトグラフィー分析装置や赤外分光分析装置、化学滴定等の分析手段を用いて分析することにより、２種の原料を等モル仕込んだ場合には２種の原料がともに検出されなくなった時点、また、２種の原料のうち一方の原料を過剰量仕込んだ場合には、少なく仕込んだ方の原料が検出されなくなった時点を、夫々反応の終点として、反応を停止すればよい。
【００３５】
反応終了後の後処理に関しては、２種の原料を等モル仕込んだ場合にはほとんど行う必要はないが、必要に応じて、炭化水素系やアルコール系等の適当な溶剤に溶解後、再結晶化するなどの手法を用いて、さらに純度を上げることもできる。また、反応時に溶剤を用いていた場合には、溶剤と反応物との沸点の差を利用するなどして、使用した溶剤を除去する必要がある。一方、２種の原料のうち一方の原料を過剰量仕込んで反応を行った場合には、残留している過剰量仕込んだ方の原料を、適当な手段を用いて除去する必要がある。除去する手段としては、例えば、残留原料と反応物とに沸点の差がある場合には蒸留法により分離し、また、ある溶剤への溶解度の差がある場合には溶剤抽出法により分離するなどにより、目的の反応物から残留原料を除去する方法が挙げられる。残留原料の除去後、前記と同様に、必要に応じて、炭化水素系やアルコール系等の適当な溶剤に溶解後、再結晶化するなどの手法を用いて、さらに純度を上げることもできる。また、反応時に溶剤を用いていた場合は、前記と同様に、使用した溶剤を除去する必要がある。
【００３６】
本発明の潤滑剤は、上記一般式（１−Ａ）、一般式（１−Ｂ）に係る第３級アミンを主成分とするものであるが、これらの特性をさらに引き出す目的で、または、別の有用な特性を持たせる目的で、種々の添加剤や他の潤滑剤を添加することができる。例えば、潤滑特性のさらなる向上を目的として、一般に知られた、脂肪族アルコール、パラフィン類、シリコーン化合物、パーフルオロポリエーテル化合物、パーフルオロアルキル化合物等の潤滑剤を添加することができ、また、耐金属腐食性をさらに向上させるために一般的な種々の防食剤を添加したり、被着体への濡れ性を持たせるために一般的な種々の濡れ剤を添加したりすることも可能である。
【００３７】
また、本発明の磁気記録媒体は、非磁性基材の少なくとも一方の面上に、磁性層と、炭素を主成分とする硬質膜（ＤＬＣ膜）と、潤滑層とを順次有するものであり、かかる潤滑層が、上記本発明の潤滑剤を含む点に特徴を有する。本発明においては、ＤＬＣ膜上の潤滑層に上記本発明の潤滑剤を用いたことにより、優れた潤滑特性、特には走行耐久性を有し、磁性層腐食性や生産性等の要求性能をも満足する磁気記録媒体を実現することができる。本発明においては、潤滑剤に係る以外の磁気記録媒体の各構成材料やその製法等については、特に制限されるものではなく、通常用いられる材料等から、常法に従い適宜選択することができるが、例えば、以下のような構成とする。
【００３８】
非磁性基材としては、金属薄膜の蒸着工程に耐えられるものであればいかなるものであってもよく、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルフォン等のフィルムが挙げられる。その厚さは、磁気記録媒体が使用される用途により適宜選択されるが、例えば、磁気記録媒体がデータテープとして使用される場合には、記録容量やシステム要求値に合わせて選択され、通常は３〜１０μｍである。
【００３９】
磁性層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｆｅ等の純金属、または、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｂ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ等の合金類を使用することができ、特には、ＣｏまたはＣｏ合金を用いることが、電磁変換特性の観点から好適である。通常は、非磁性基材上にこのような磁性材料を直接、または、非磁性基材上にＮｉを蒸着した後、蒸着して磁性層を形成する。磁性層の蒸着は、蒸着用チャンバー内を１．３３×１０−４Ｐａ（１０−６Ｔｏｒｒ）程度にまで排気した後、磁性材料を電子銃にて溶融し、磁性材料全体が溶融した時点で非磁性基材を冷却したメインローラに添って走行させて、メインローラ部にて蒸着を始める。この際、磁気特性を制御するために、酸素、オゾン、亜酸化窒素から選ばれる酸化性ガスを磁性層に導入する。
【００４０】
磁性層上に形成するＤＬＣ膜の成膜手法としては、特に限定されるものではないが、好ましくは、プラズマＣＶＤ法、イオン化蒸着法およびスパッタ法のうちのいずれかを用いる。
【００４１】
このうちプラズマＣＶＤ法の詳細については、例えば、特開平４−４１６７２号公報等に記載されている。プラズマＣＶＤ法におけるプラズマは、直流、交流のいずれであってもよいが、交流を用いることが好ましい。交流を用いる場合、数ヘルツのものからマイクロ波帯域のものまで適宜利用可能である。また、「ダイヤモンド薄膜技術」（総合技術センター発行）などに記載されているＥＣＲプラズマを利用することもできる。
【００４２】
また、プラズマＣＶＤ法のうちでは、バイアス印加プラズマＣＶＤ法を用いることが好ましい。バイアス印加プラズマＣＶＤ法では、負のバイアス電圧を印加する。この方法については、例えば、Ｍ．Ｎａｋａｙａｍａ  ｅｔ  ａｌ，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｃｅｒａｍｉｃ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ｏｆ  Ｊａｐａｎ  Ｉｎｔ．Ｅｄｉｔｉｏｎ  Ｖｏｌ．９８，６０７−６０９（１９９０）等に詳細に記載されている。また、バイアス電圧を印加せずにセルフバイアスを利用してもよい。以下、セルフバイアスについて説明する。交流電源であるプラズマ電源を装置の電極に接続すると、プラズマが発生する。このプラズマは電子、イオン、ラジカルを含み、全体としては中性である。しかし、プラズマ電源の周波数がオーディオ波（ＡＦ）、高周波（ＲＦ）、マイクロ波（ＭＷ）になると、イオンと電子とで移動度に差が生ずるため、電圧を印加した電極側（通常、アースしない側）に負電圧が生ずる。これをセルフバイアス電圧という。バイアス電圧は、好ましくは−１０〜−２０００Ｖ、より好ましくは−５０〜−１０００Ｖとする。
【００４３】
ＤＬＣ薄膜をプラズマＣＶＤ法により形成する場合、原料ガスには、ＣおよびＨを含む化合物を用いることが好ましいが、Ｃを含む化合物とＨを含む化合物とを用いることもできる。ＣおよびＨを含む化合物としては、例えば、ＣＨ４、Ｃ２Ｈ４、Ｃ２Ｈ６、Ｃ３Ｈ８、Ｃ６Ｈ６等の炭化水素が、Ｃを含む化合物としては、例えば、ＣＯ、ＣＯ２等が、Ｈを含む化合物としては、例えば、Ｈ２、Ｈ２Ｏ、ＮＨ３等が挙げられる。また、ＣおよびＨのいずれも含まない化合物、例えば、ＮＯ、ＮＯ２、Ｎ２ＯなどのＮＯｘで表される化合物やＮ２等を、必要に応じて併用してもよい。
【００４４】
プラズマＣＶＤを行う際の原料ガスの流量は、原料ガスの種類に応じて適宜決定すればよい。動作圧力は、通常、１．３３〜６６．５Ｐａ（０．０１〜０．５Ｔｏｒｒ）、投入電力は、通常、１０Ｗ〜５ｋＷとすることが好ましい。
【００４５】
イオン化蒸着法は、例えば、特開昭５８−１７４５０７号公報、特開昭５９−１７４５０８号公報等に記載されているが、これらに記載されたイオン化蒸着技術に限らず、イオン化ガスの加速が可能なものであれば他の技術を利用してもよい。イオン化蒸着法に用いる装置の好ましい例としては、例えば、実開昭５９−１７４５０７号公報に記載されたイオン直進型またはイオン偏向型のものが挙げられる。
【００４６】
イオン化蒸着法では、真空容器内を１．３３×１０−４Ｐａ（１０−６Ｔｏｒｒ）程度の高真空とする。この真空容器内には、交流電源によって加熱されて熱電子を発生するフィラメントと、このフィラメントを取り囲む対電極とを配置し、これらの間に電圧Ｖｄを印加する。また、フィラメントおよび対電極を取り囲んで、イオン化ガス閉じ込め用の磁界を発生する電磁コイルを配置する。原料ガスはフィラメントからの熱電子と衝突して、プラスの熱分解イオンと電子とを生じ、この熱分解イオンはグリッドに印加された負電位Ｖａにより加速されて基材に衝突し、膜化する。このようなイオン化蒸着法では、前記電圧Ｖｄ、Ｖａおよびコイルから発生する磁界を変更することにより、ＤＬＣ膜の組成や膜質を制御することができる。本発明においては、Ｖｄは１０〜５００Ｖとすることが好ましく、Ｖａは−１０〜−５００Ｖとすることが好ましい。なお、イオン化蒸着法では、基板に負のバイアス電圧を加えることが好ましい。また、バイアス電圧を印加せずにセルフバイアスを利用してもよい。バイアス電圧は、好ましくは−１０〜−２０００Ｖ、より好ましくは−５０〜−１０００Ｖである。
【００４７】
イオン化蒸着法における原料ガスには、上記プラズマＣＶＤ法の場合と同様の原料ガスを用いることができる。また、原料ガスの流量はその種類に応じて適宜決定すればよい。動作圧力は、通常、１．３３〜６６．５Ｐａ（０．０１〜０．５Ｔｏｒｒ）程度とすることが好ましい。
【００４８】
ＤＬＣ膜をスパッタ法により形成する場合には、高周波スパッタ法を利用することが好ましい。この場合、Ｃをターゲットとし、反応性ガスとしてＨ２、ＮＨ３等を用いる反応性スパッタ法を利用することが好ましいが、ＣおよびＨを含むポリマーをターゲットとして用いることも可能である。なお、高周波スパッタ法においては、基材に負のバイアス電圧を加えることが好ましい。但し、バイアス電圧を印加せずにセルフバイアスを利用してもよい。バイアス電圧は、好ましくは−１０〜−２０００Ｖ、より好ましくは−５０〜−１０００Ｖである。高周波スパッタ電力は、通常、５０Ｗ〜２ｋＷ程度とする。動作圧力は、通常、１．３３×１０−３〜１．３３×１０−１Ｐａ（１０−５〜１０−３Ｔｏｒｒ）とすることが好ましい。
【００４９】
ＤＬＣ膜の成膜後には、膜表面と潤滑剤との親和性を高めるために、後処理電極により表面活性化処理を行うことが好ましい。後処理は、酸素かまたは酸素を含むガスを用いて行うことが好ましく、例えば、酸素、空気、炭酸ガスなどを用いることができる。後処理の方法としては、上述したような、ＤＬＣ膜成膜時におけるのと同様の手法を用いることが実用的であり、好ましい。後処理における周波数としては、ＤＬＣ膜成膜時と同様の１ｋＨｚ〜４０ＭＨｚ程度が好適であり、特に、５０ｋＨｚ〜１３．５６ＭＨｚの範囲内であると、効果が発現しやすい。
【００５０】
潤滑層の形成に際しては、前述した本発明の潤滑剤をケトン類、炭化水素類、アルコール類などの溶剤に溶解させて、潤滑層塗布液を調製する。ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルケトン等が挙げられる。炭化水素類としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等のノルマル系、ｉｓｏ系等が挙げられる。アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。調製された潤滑層塗布液を、ＤＬＣ膜上に塗布し、乾燥することにより、潤滑層を形成することができる。潤滑層の厚みは、数ｎｍ程度である。また、潤滑剤成分の量は、塗布液の濃度により調整することができる。
【００５１】
さらに、本発明においては、所望に応じ、磁性層の下層側に下地層を設けてＳ／Ｎ特性の改善を図ることができる。下地層は、非磁性または非磁性に近い層であり、磁性層と同様の手法で、膜厚に対する酸素の導入量を増加させることにより形成することができる。下地層の具体的な成膜条件、例えば、成膜時の非磁性基材の搬送速度、導入酸素量等については、慣用に従い適宜定めることができ、特に制限されるものではない。特には、成膜時の供給ガスとして、酸素のみでなく、酸素中にＡｒ等の不活性ガスおよび窒素のうちの少なくとも１種を含有するガスを用いることが好ましく、これにより、Ｓ／Ｎ特性のさらなる向上を図ることができる。これは、不活性ガスの存在により下地層が粒子状に成長してミクロな凹凸が大きくなるため、この下地層上で成長する磁性層が膜面内により強く配向して、保磁力が高くなることに起因するものと考えられる。
【００５２】
また、非磁性基材の上記磁性層およびＤＬＣ膜形成面の反対側の面には、バックコート層を設けることができる。バックコート層は、結合剤樹脂と無機化合物および／またはカーボンブラックとを有機溶媒に混合分散させたバックコート層用塗料を、磁性層とは反対側の基材表面に塗布することにより形成され、塗料組成としては、この種の磁気記録媒体に用いられるものであればいずれのものも使用できる。例えば、結合剤樹脂としては塩化ビニル系共重合体、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂等であり、これらを単独または混合して、媒体の特性、工程条件により適宜選択して用いることができる。カーボンブラックとしてはファーネスカーボンブラック、サーマルカーボンブラック等を挙げることができ、無機化合物としては、例えば、炭酸カルシウム、アルミナ、α−酸化鉄等を挙げることができる。これら粒子は媒体に要求される電気抵抗、摩擦特性等から粒子サイズを適宜選択すればよい。有機溶剤は、ケトン系や芳香族炭化水素系等、例えば、メチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノン等を用いることができ、使用する結合剤樹脂の溶解性を考慮して適宜選択すればよい。バックコート層の厚みは、０．１〜０．７μｍ、特には、０．３〜０．５μｍが好ましい。
【００５３】
【実施例】
実施例１
容量３００ｍｌの撹拌機付丸型フラスコに３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン１００ｇとＮ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇを仕込んで、１００℃に加熱した。全体が溶解した状態になったところでゆっくりと撹拌を始め、１０時間反応を続けた。反応後、一旦室温まで冷却して、ガスクロマトグラフィー分析によりＮ−メチル−１−オクタデカンアミンが存在しないことを確認した。更に、反応物を減圧下１００〜１２０℃に加熱して、残留している３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパンを溜去し、再び室温まで冷却して約５２ｇの反応物を得た。この物質を、赤外分光分析（ＩＲ）、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー質量分析等にて分析したところ、下記式（５−Ａ）および式（５−Ｂ）、
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で示される２種の構造異性体を、合わせて約９６重量％含有していることが確認された。
【００５４】
ここで、ＩＲチャートの解析に際しては、以下の明確な特性ピークが検出された。
３４００ｃｍ−１          ：Ｏ−Ｈ伸縮
２９１０、２８５０ｃｍ−１：Ｃ−Ｈ伸縮
１３００〜１１００ｃｍ−１：−ＣＦ２−、−ＣＦ３（Ｃ−Ｆ伸縮）
また、Ｎの存在を示す帰属については下記の特性ピークが考えられるが、上記Ｃ−Ｈ伸縮および−ＣＦ２−、−ＣＦ３の特性ピークに隠れて厳密な判定はできなかった。
２８００、１４７０ｃｍ−１：ＣＨ３−ＮのＣＨ３基または−ＣＨ２−ＮのＣＨ２基
従ってＩＲスペクトルからの完全な同定はできなかったが、反応機構を考慮すると、副反応は起こり得ないため、ガスクロマトグラフィーにより原料の消滅を確認したことで、目的化合物が合成されたことと判断した。
【００５５】
なお、上記式（５−Ａ）および式（５−Ｂ）で示される構造異性体は、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）で示される構造異性体において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有するものに相当する。
【００５６】
実施例２
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてＮ−メチル−１−ドデカンアミン１４ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約４５ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００５７】
実施例３
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてＮ−ブチル−１−オクタデカンアミン２４ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約５３ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００５８】
実施例４
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてＮ−ヘプチル−１−ドデカンアミン２０ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約５０ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００５９】
実施例５
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてＮ−メチル−１−デカンアミン１３ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約４５ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００６０】
実施例６
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてＮ−メチル−１−オクタンアミン１１ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約４３ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００６１】
実施例７
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてＮ−トリデシル−１−オクタデカンアミン２９ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約５８ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００６２】
実施例８
３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン１００ｇに代えて３−パーフルオロブチル−１，２−エポキシプロパン５８ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約３８ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００６３】
実施例９
３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン１００ｇに代えて３−パーフルオロオクタデシル−１，２−エポキシプロパン２０５ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約８７ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００６４】
比較例１
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてジ−１−ドデカンアミン２５ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約５６ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９３重量％含有していることが確認された。
【００６５】
比較例２
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてジ−１−オクタデカンアミン３６ｇを用い、反応温度を１２０℃にした以外は実施例１と同様に反応を行い、約６６ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９４重量％含有していることが確認された。
【００６６】
比較例３
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてジ−１−オクタンアミン１７ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約４８ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９４重量％含有していることが確認された。
【００６７】
比較例４
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてＮ−ヘキサデシル−１−オクタデカンアミン３５ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約６７ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００６８】
比較例５
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてＮ−ペンタデシル−１−オクタデカンアミン３４ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約６８ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００６９】
比較例６
Ｎ−メチル−１−オクタデカンアミン２０ｇに代えてＮ−メチル−１−ヘキサンアミン９ｇを用いた以外は実施例１と同様に反応を行い、約４２ｇの反応物を得た。この物質を実施例１と同様に分析したところ、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）において夫々下記表１に示すようなＲｆ、Ｒ１、Ｒ２を有する２種の構造異性体を、合わせて約９８重量％含有していることが確認された。
【００７０】
上記のようにして得られた反応物を潤滑層の潤滑剤として用いて、以下に示すようにして実施例および比較例の磁気記録媒体を製造した。なお、比較例７で用いた潤滑剤は、下記式（６）で示される化合物であり、構造中に下記表１に示すようなフッ化アルキル鎖Ｒｆとともにカルボキシル基を有するものであった。
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【００７１】
〈磁気記録媒体の製造〉
厚み４．７μｍのＰＥＮの非磁性基材の一方の面上に、膜厚２００ｎｍにて、蒸着法により、酸素を導入しながら１００％Ｃｏを同方向で２層成膜して、磁性層を形成した。得られた磁性層は、φｍ＝７５ｍＡ（７．５ｍｅｍｕ／ｃｍ２）、Ｈｃ＝１１９．４ｋＡ／ｍ（１５００  Ｏｅ）であった。次いで、この磁性層上に、下記に示す条件で、ＤＬＣ膜を厚み０．０１μｍで成膜した。
（ＤＬＣ膜の成膜手法）：プラズマＣＶＤ法（ＲＦ）
（イオン源）：エチレンガス
（ガス流量）：１０ｓｃｃｍ
（放電周波数）：５０ｋＨｚ
【００７２】
次いで、膜表面の潤滑剤に対する親和性を高めるために、ＤＬＣ膜に対し、プラズマ法により、酸素ガスを用いた後処理を行った。その後、後処理後のＤＬＣ膜上に、潤滑剤塗布液をダイノズル法により塗布し、乾燥して、潤滑層を形成した。潤滑剤塗布液は、上記で得られた各潤滑剤成分を、重量比でＭＥＫ／ヘキサン／エタノール＝１／２／７の混合溶媒中に溶解させて、潤滑剤合計濃度が０．５重量％となるようにして作製した。
【００７３】
次に、非磁性基材の他方の面上に、以下の組成のバックコート層分散液を、ダイノズル法により、乾燥後の厚みが０．４μｍとなるように塗布し、乾燥して、バックコート層を形成し、磁気記録媒体としての磁気テープを製造した。
（バックコート層の組成）
カーボンブラック（粒径８０ｎｍ）                              １０重量部
カーボンブラック（粒径２０ｎｍ）                              ４０重量部
炭酸カルシウム（粒径７０ｎｍ）                                ５０重量部
ニトロセルロース（Ｎｃ）（旭化成工業（株）製  ＢＴＨ１／２Ｓ）４０重量部
ポリウレタン樹脂（東洋紡績（株）製  ＵＲ−８３００）          ６０重量部
ＭＥＫ                                                      ８００重量部
トルエン                                                    ６４０重量部
シクロヘキサノン                                            １６０重量部
ポリイソシアネート（固形分５０％）（日本ポリウレタン工業（株）製  コロネ
ートＬ）                                                    ４０重量部
【００７４】
〈走行耐久性の評価〉
得られた各磁気テープサンプルの潤滑層面側の動摩擦係数を、図１に概略が示される摺動摩擦係数測定装置にて測定した。図示するように、磁気テープサンプル１の一端を歪みゲージ２に取り付けて、摺動ピン３に接するようにして荷重Ｗをかけた。磁気テープの走行耐久性を評価するために、磁気テープサンプル１を摺動ピン３に対し、繰り返し３０００パス摺動させ、１パス後の動摩擦係数（初期摩擦係数）と３０００パス後の動摩擦係数（終端摩擦係数）を夫々測定した。測定条件は以下の通りである。
摺動ピン材質：ＳＵＳ３０３  φ２
摺動ピン表面性：０．２Ｓ
巻き付け角度：９０°
摺動速度：３５ｍｍ／ｓ
荷重：２０ｇｆ
【００７５】
〈磁性層腐食性の評価〉
潤滑層の潤滑剤が高湿環境保存により磁性層を腐食しないかどうかについて、評価を行った。各磁気テープサンプルを５０℃８０％ＲＨ環境にて５日間保存した後、光学顕微鏡の１００倍視野内において腐食領域の存在の有無を判定し、潤滑剤による磁性層腐食の有無を判断した。結果の○は、顕微鏡視野にて腐食領域が存在しない、すなわち、磁性層腐食が起こらなかったことを表す。また、×は顕微鏡視野にて腐食領域が存在していたことを表す。なお、腐食領域の有無の判断においては、保存前に表面観察を行い、磁気テープ表面（磁性層側）に凹凸がないことを確認して、保存後に同表面に円状の凹凸の発生が見られた場合を腐食ありとした。
これらの評価結果を下記の表１中に併せて示す。
【００７６】
【表１】
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【００７７】
各実施例にて合成した化合物は、特別な精製手法を適用することなくしても、十分高純度なものであった。これは、原料として第２級アミンを使用したことにより、第１級アミンを使用したときに問題となる副反応を防止することができたためと考えられる。
【００７８】
上記表１より、実施例１〜７の結果から、前記一般式（１−Ａ）および一般式（１−Ｂ）においてＲ１、Ｒ２を構成する炭素原子数の差が５〜１７の潤滑剤については、潤滑特性および磁性層腐食性の双方が良好であることがわかる。但し、実施例４、６、７では３０００パス後の摩擦係数がやや高くなっている。これは、実施例４、７については、上記Ｒ１、Ｒ２を構成する炭素原子数の差が５と小さいため、２本のアルキル鎖が互いに立体排除効果を及ぼしあうことにより、潤滑効果がやや低下するためと考えられる。また、実施例６については、摩擦係数の低減に寄与すると考えられるアルキル鎖の長さが短いためであると推測される。
【００７９】
実施例８、９では夫々パーフルオロアルキル鎖Ｒｆの長さを変えたが、いずれも良好な潤滑特性を示している。従って、パーフルオロアルキル鎖の長さの潤滑特性に対する寄与は大きくないものと考えられる。
【００８０】
比較例１〜５では上記Ｒ１、Ｒ２を構成する炭素原子数の差が０〜３の潤滑剤を検討したが、どの比較例についても３０００パス後の摩擦係数がいずれも高く、高信頼性の磁気記録媒体として使用するには不適切であることがわかる。また、比較例６は上記Ｒ１、Ｒ２を構成する炭素原子数の差が５であるが、潤滑性に寄与するアルキル鎖の長さが短いため、十分な潤滑効果を発揮できずに摩擦係数が高くなったものと推測される。
【００８１】
比較例７の潤滑剤は、前記式（６）に示したように、化学構造中にカルボキシル基を含有するものであり、高湿環境保存における磁性層腐食傾向が現れている。従って、やはり、高信頼性を求められる磁気記録媒体に対して適用するには不十分であると考えられる。
【００８２】
以上の検討より、上記Ｒ１、Ｒ２を構成する炭素原子数の差が５以上であり、Ｒ１、Ｒ２のうち長い方のアルキル鎖を構成する炭素原子数が８以上であることが、良好な走行耐久性を達成する上で重要であるということが確認された。
【００８３】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、走行耐久性に優れ、低金属腐食性であり、かつ製造コストの低い潤滑剤を提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】動摩擦係数の測定装置を示す概略図である。
【符号の説明】
１  磁気テープサンプル
２  歪みゲージ
３  摺動ピン
【図１】
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