(57)【要約】【課題】ラビングローラ周面を形成するラビングクロスの起毛部を、ラビング処理中に、ダメージを与えることなく均一に整えることのできる基板のラビング装置、及びラビング方法を提供する。【解決手段】ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラ２を、基板３上に形成された配向膜に圧接させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置１において、上記ラビングローラ周面２ｂの近傍に、上記ラビングクロスの起毛部２ｆをラビング処理中に均一に整える起毛整備手段８を配設したことを特徴とする。【選択図】  図１
2004191755.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す基板のラビング装置において、
上記ラビングローラ周面に近接して、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みをラビング処理中に均一に整える起毛整備手段を配設したことを特徴とする基板のラビング装置。
【請求項２】
上記起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする請求項１に記載の基板のラビング装置。
【請求項３】
上記起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の上記ラビングクロスに付着した塵埃を除去することを特徴とする請求項１に記載の基板のラビング装置。
【請求項４】
上記起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置に着脱自在に配設したことを特徴とする請求項１に記載の基板のラビング装置。
【請求項５】
ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置において、
ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に接触し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える第１の起毛整備手段と、
ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に対向し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える第２の起毛整備手段と、
を配設したことを特徴とする基板のラビング装置。
【請求項６】
上記第１の起毛整備手段は、導電性部材で構成されており、上記ラビングクロス起毛部の静電気及び塵埃の除去、並びに前記起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。
【請求項７】
上記第１起毛整備手段は、線部材、または棒状部材、あるいはブラシで構成されていることを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。
【請求項８】
上記第１の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の位置に着脱自在に配設したことを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。
【請求項９】
上記第２の起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。
【請求項１０】
上記第２の起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面に付着した塵埃を除去することを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。
【請求項１１】
上記第２の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置に着脱自在に配設したことを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。
【請求項１２】
ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング方法において、
ラビング処理中に、第１の起毛整備手段が上記ラビングローラ周面に接触することにより、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える工程と、
ラビング処理中に、第２の起毛整備手段が上記ラビングローラ周面に対向する位置から真空吸引により、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える工程と、
を具備したことを特徴とする基板のラビング方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板のラビング装置及びラビング方法に関し、特に、周面がラビングクロスで構成されたラビングローラを有するラビング装置及びラビング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、液晶装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す)をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【０００４】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板の液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、ＴＦＴ基板と対向基板とを対向させ、一方の基板上の周縁に接着剤となるシール部を設け、このシール部を用いてＴＦＴ基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。
【０００５】
ここで、ラビング処理とは、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、例えば５００〜２０００ｒｐｍで回転させながら基板表面に形成された配向膜上に接触させ直線的に移動させて、基板配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものであり、このように配向膜に一定方向の溝を形成するラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【０００６】
ところで、このように上記ラビングローラが基板表面に形成された配向膜上を回転しながら接触するラビング処理においては、前記基板表面の凹凸が前記ラビングローラ周面を形成するラビングクロスの起毛部に転写してしまう、または、ラビング処理中に発生する静電気によって前記起毛部に乱れが発生する、あるいは、ラビング処理中に発生する配向膜等の塵埃が上記ラビングクロスへ付着する等の原因により、ラビング処理後の基板に、ラビングローラの接触圧の異なる部分が発生し、配向むらが発生してしまう、または基板表面の配向膜に塵埃によるラビングスジが転写されてしまうといった問題があった。
【０００７】
上記配向むらは、上記ラビングクロスの一部に、例えば毛割れ及び前記基板の凹凸形状の転写等の起毛部の乱れが存在すると、この乱れの部分の基板との接触圧が、他のラビングクロスの起毛部分の接触圧と異なってしまい、その結果、基板表面に局所的にラビング強度が異なる部位が生じるために発生する。
【０００８】
上記問題点に鑑みて、特許文献１に記載のラビング装置では、ラビング処理中にラビンクロスの起毛部に接触する、面または硬質の凹凸形状を有する導電性のラビング布調整部材をラビング装置に配設することにより、ラビング処理中に上記ラビングクロスの起毛部に発生する乱れ及び静電気、並びに付着した塵埃の除去を可能としている。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１１−７０１９号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特許文献１に開示されている基板のラビング装置では、ラビング処理中に、面または硬質の凹凸形状を有する導電性のラビング布調整部材がラビンクロスの起毛部に接触すると、上記ラビングクロスの起毛部に、前記面または硬質の凹凸形状が転写してしまう虞がある。
【００１１】
本発明は上記事情に着目してなされたものであり、その目的は、ラビング処理中、ラビングローラ周面を形成するラビングクロスの起毛部に、ダメージを与えることなく、その起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることのできる基板のラビング装置、及びラビング方法を提供するにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段及び作用】
本発明に係る基板のラビング装置の一つの態様としては、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す基板のラビング装置において、上記ラビングローラ周面に近接して、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みをラビング処理中に均一に整える起毛整備手段を配設したことを特徴とする。
【００１３】
本発明のラビング装置によれば、ラビングローラ周面に近接して、ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みをラビング処理中に均一に整える起毛整備手段を配設したことにより、上記ラビングローラは、基板を均一の接触圧でラビング処理することができるという効果を有する。
【００１４】
また、本発明の基板のラビング装置における上記起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする。
【００１５】
この構成によれば、起毛整備手段は、真空吸引によりラビングローラ周面の上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、及び起毛方向等の毛並みを均一に整えるので、ラビング処理時に、上記ラビングクロスの起毛部の乱れによる基板のラビングむらを防止することができるという効果を有する。
【００１６】
さらに、本発明の基板のラビング装置における上記起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の上記ラビングクロスに付着した塵埃を除去することを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、起毛整備手段は、真空吸引によりラビングローラ周面のラビングクロスに付着した塵埃を除去するので、ラビング処理時に、上記ラビングローラ周面に付着した塵埃による基板のラビングスジを防止することができるという効果を有する。
【００１８】
また、本発明の基板のラビング装置における上記起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置に着脱自在に配設したことを特徴とする。
【００１９】
この構成によれば、上記起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置であって、ローラに対向する位置に着脱自在に配設したので、必要に応じて、確実に、ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部を整えることができ、また、ラビングローラ周面の塵埃を除去することができるという効果を有する。
【００２０】
本発明の基板のラビング装置の１つの態様としては、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置において、ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に接触し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える第１の起毛整備手段と、ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に対向し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える第２の起毛整備手段とを配設したことを特徴とする本発明のラビング装置によれば、ラビング処理中に、ラビングローラ周面に接触し、ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みを均一に整える第１の起毛整備手段と、ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に対向し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みを均一に整える第２の起毛整備手段とを配設したことにより、上記ラビングローラは、２段階で起毛部が整備され、従って、起毛精度の高いローラで、基板を均一の接触圧でラビング処理することができるという効果を有する。
【００２１】
また、本発明の基板のラビング装置における上記第１の起毛整備手段は、導電性部材で構成されており、上記ラビングクロス起毛部の静電気及び塵埃の除去、並びに前記起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする。
【００２２】
この構成によれば、第１の起毛整備手段は、導電性部材で構成されていることにより、ラビングローラ周面に付着した塵埃及びクロス起毛部の静電気を、ラビング処理中に静電作用により上記導電性部材に付着及び除電させることができるとともに、上記ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向を均一に整えることができるという効果を有する。
【００２３】
さらに、本発明の基板のラビング装置における上記第１起毛整備手段は、線部材、または棒状部材、あるいはブラシで構成されていることを特徴とする。
【００２４】
この構成によれば、第１起毛整備手段は、線部材、または棒状部材、あるいはブラシで構成されているので、ラビングローラ周面に付着した塵埃をラビング処理中に接触除去することができるとともに、上記ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みを均一に整えることができるという効果を有する。
【００２５】
さらに、本発明の基板のラビング装置における上記第１の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の位置に着脱自在に配設したことを特徴とする。
【００２６】
この構成によれば、第１の起毛整備手段は、ラビングローラの基板接触面以外の位置であって、ローラに対向する位置に着脱自在に配設したので、必要に応じて、確実に、ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部を整えることができ、また、ラビングローラ周面の塵埃を除去することができるという効果を有する。
【００２７】
また、本発明の基板のラビング装置における上記第２の起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする。
【００２８】
この構成によれば、第２の起毛整備手段は、真空吸引によりラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みを均一に整えるので、ラビング処理時に、上記ラビングクロスの起毛部の乱れによる基板のラビングむらを防止することができるという効果を有する。
【００２９】
さらに、本発明の基板のラビング装置における上記第２の起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面に付着した塵埃を除去することを特徴とする。
【００３０】
この構成によれば、第２の起毛整備手段は、真空吸引によりラビングローラ周面のラビングクロスに付着した塵埃を除去するので、ラビング処理時に、上記ラビングローラ周面に付着した塵埃による基板のラビングスジを防止することができるという効果を有する。
【００３１】
また、本発明の基板のラビング装置における上記第２の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置に着脱自在に配設したことを特徴とする。
【００３２】
この構成によれば、第２の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置であって、ローラに対向する位置に着脱自在に配設されているので、必要に応じて、確実に、ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部を整えることができ、また、ラビングローラ周面の塵埃を除去することができるという効果を有する。
【００３３】
本発明の基板のラビング方法の１つの態様としては、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング方法において、ラビング処理中に、第１の起毛整備手段が上記ラビングローラ周面に接触することにより、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える工程と、ラビング処理中に、第２の起毛整備手段が上記ラビングローラ周面に対向する位置から真空吸引により、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える工程とを具備したことを特徴とする。
【００３４】
本発明の基板のラビング方法によれば、上記ラビングローラは、基板を均一の接触圧でラビング処理することができるという効果を有する。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の第１実施の形態である基板のラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、図２は、ラビングローラに起毛整備手段を配設した斜視図、図３は、図２の要部拡大断面図である。
【００３６】
図１に示すように、ラビング装置１は、基台４の上面（以下、基準平面と称す）に固定されたラビングローラ２と、ラビング処理時に基板３を載置して上記基準平面上を移動するステージ５と、このステージ５に載置した基板３がラビングローラ２に圧接するよう、ステージ５を基準平面４上で移動するガイド６と、起毛整備手段８とで、その主要部が構成されている。
【００３７】
上記ラビングローラ２は、ラビングクロスの起毛部２ｆで形成されたローラ周面２ｂを有するローラ部２ａと、ローラ軸２ｃとで構成されており、ローラ軸２ｃは、一対の軸受け２ｄにより上記基準平面４に平行な平面上に回転自在に軸支されている。この一対の軸受け２ｄは、上記基準平面に対し図示しない高さ調節機構を有していて、ローラ軸２ｃを基準平面に対して任意の高さに調節し得るようになっている。また、ローラ軸２ｃは、モータ等の駆動源７によって回転駆動されるようになっている。
【００３８】
このように構成されたラビングローラ２は、軸受け２ｄで支持されたローラ軸２ｃを中心に一方向に、例えば５００〜２０００ｒｐｍで回転しながら基板３の表面に形成された配向膜に接触し、基板３の配向膜表面に細かい溝を形成して前記配向膜を配向異方性の膜にする。
【００３９】
上記起毛整備手段８は、真空吸引装置で構成されていて、その真空吸引器８は、ラビングローラ２の基板接触面以外の位置、即ち、図２に示すように、ラビングローラ周面２ｂに近接する位置、例えば上方で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触しない位置に、このラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように配設されている。この真空吸引器８は、例えば、ラビングローラ２の一対の軸受け２ｄに対して着脱自在に取り付けられるようになっている。即ち、この吸引器８は、下面に吸引孔８ａを有する、断面形状がチャンネル状をなす細長い棒状に形成されていて、その一端部２ｅは、上記一対の軸受け２ｄの一方の軸受けに揺動自在にラビングローラ周面２ｂの上方に移動、離間するように取り付けられている。
【００４０】
そして、吸引器８の他端部を他方の軸受けに装着固定したときには、吸引器８は、ラビングローラ周面２ｂに対向する位置に、真空吸引孔８ａが起毛部２ｆに近接して配設されるようになっており、起動時には、真空吸引ポンプ９により、図３に示すように、真空吸引孔８ａを介してラビング処理中の回転するラビングローラ周面２ｂの起毛部２ｆを常時例えば−２０ｋＰａ以下で真空吸引する。
【００４１】
このように構成された本発明の第１実施の形態である基板のラビング装置１では、ラビング装置１に配設された真空吸引器８が真空吸引孔８ａを介してラビング処理中に常時真空吸引を行うので、上記起毛部２ｆの起毛は、真空吸引孔８ａの方向に一様に吸引されるため、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂが基板３をラビングすることにより発生するラビングクロスの起毛部２ｆの起毛高さや起毛方向等の毛並みの乱れ、または、ラビング処理中に発生する配向膜等の塵埃のラビングローラ周面２ｂへの付着を、防止することができる。
【００４２】
詳しくは、起毛整備手段である真空吸引器８は、ラビングローラ周面２ｂを形成するラビングクロスの起毛部２ｆに転写された基板３の表面の凹凸、または毛先の割れ、起毛高さ、起毛方向等の毛並みを、真空吸引により均一に整えることで、ラビングクロスの起毛部２ｆの乱れによるラビング処理後の基板のラビングむらを防止することができる。
【００４３】
また、真空吸引器８は、ラビングローラ周面２ｂに付着した塵埃を真空吸引により除去するので、ラビング処理後、基板表面の配向膜に転写される塵埃によるラビングスジを防ぐことができる。
【００４４】
さらに、真空吸引器８は、ラビングローラの起毛部２ｆに接触していないため、ラビングローラ周面２ｂを形成するラビングクロスの起毛部２ｆにダメージを与えることがない。
【００４５】
尚、本実施の形態においては、起毛整備手段である真空吸引器８を、ラビングローラ２の一対の軸受け２ｄの一方の軸受けに、その一端部２ｅを揺動自在に取り付け、他端部を他方の軸受けに着脱自在に装着するようにして、吸引器８をラビングローラ周面２ｂの上方に移動、離間するように配設したが、これに限らず、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂの近傍で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触しない位置に、このラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されるものであれば、どのような配設手段をとっても良いことは云うまでもない。
【００４６】
また、起毛整備手段である真空吸引器８は、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂの近傍で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触しない位置に、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されるものであれば、固定されていても良い。
【００４７】
さらに、起毛整備手段である真空吸引器８は、ラビングローラ周面２ｂに対向する位置に、真空吸引孔８ａがラビングローラの回転軸２ｃに沿う直線状に配置されるようにしたが、この真空吸引孔８ａは、ラビングローラ周面２ｂに対向する位置であれば、どの位置、またはどのような形状に穿設されていても良いことは勿論である。
【００４８】
また、ラビングクロスの起毛部２ｆの吸引は、例えば−２０ｋＰａ以下の条件で真空吸引するとしたが、これに限らず、−２０ｋＰａ以下の条件で起毛部２ｆを吸引できる手段であれば、公知の他の吸引手段を用いても構わない。
【００４９】
さらに、真空吸引器８は、ラビング処理中、常時真空吸引しているようにしたが、これに限らず、所定の間隔で吸引しても良いことは云うまでもない。
【００５０】
また、真空吸引器８は、本実施の形態では、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿う１本の直線状のものを配設するようにしたが、ラビングローラ２の基板接触面以外の位置であれば、何本配設しても良い。
【００５１】
図４は、本発明の第２実施形態である基板のラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、図５は、ラビングローラに起毛整備手段を配設したことを示す斜視図、図６は、図５の要部拡大断面図である。
【００５２】
この第２実施形態の基板のラビング装置の構成は、前記図１乃至図３に示した第１実施形態の基板のラビング装置の構成と殆ど同じであるが、この第２実施形態においては、真空吸引による起毛整備手段（第２の起毛整備手段）の他に、ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に常時接触し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛を均一に整える起毛整備手段をさらに配設した点のみが異なる。よって、この相違点のみを説明し、第１実施形態の基板のラビング装置と同様の構成部材には、同じ符号を付し、その説明は省略する。
【００５３】
図４に示すように、ラビング装置１００には、上述した起毛整備手段である真空吸引器８の他に、例えば導電性部材のブラシで構成された第１の起毛整備手段２０が配設されている。この第１の起毛整備手段２０は、図５に示すように、第２の起毛整備手段である吸引器８よりもラビングローラ２の回転方向に対して手前側に並設して配設されている。つまり、ラビングローラ２の基板接触面以外の位置、例えば、図４に示すように、ラビングローラ周面２ｂ近傍の上方で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触する位置に、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されている。
【００５４】
この第１の起毛整備手段２０は、第２の起毛整備手段８と同様に、例えば、ラビングローラ２の一対の軸受け２ｄの一方の軸受けに、その一端部２０ｅを揺動自在に取り付け、他端部を他方の軸受けに着脱自在に装着固定するようにしてラビングローラ周面２ｂの上方に移動、離間するようになっている。
【００５５】
この第１の起毛整備手段２０は、ラビングローラ周面２ｂに対向する位置に、複数のブラシ２０ａがラビングローラの回転軸２ｃに沿って直線状に配設されていて、図６に示すように、複数のブラシ２０ａがラビング処理中に回転するラビングローラ周面２ｂの起毛部２ｆに常時接触するようになっている。
【００５６】
このように構成された本発明の第２実施の形態である基板のラビング装置１００においては、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂが基板３をラビングすることにより発生するラビングクロスの起毛部２ｆの乱れ、及びラビング処理中に発生する静電気による前記起毛部２ｆの乱れ、または、ラビング処理中に発生する配向膜等の塵埃のラビングローラ周面２ｂへの付着を、ラビング装置１００に配設された第１の起毛調整手段２０が、ラビング処理中に常時接触することにより、防止することができる。
【００５７】
さらに、本実施形態における基板のラビング装置１００は、第１の起毛整備手段２０とともに、上述した真空吸引による第２の起毛整備手段８が配設されているため、第１の起毛整備手段２０が整備しきれなかった起毛部２ｆの乱れを第２の起毛整備手段で防止することができるので、より効果的にラビングクロスの起毛部２ｆの乱れを防止することができる。
【００５８】
また、第１の起毛整備手段２０によって、ラビングローラ周面２ｂを形成するラビングクロスの起毛部２ｆに乱れを発生させてしまったとしても、第２の起毛整備手段８が、この起毛部２ｆの乱れを均一に整えることができるので、起毛部２ｆに接触する第１の起毛整備手段２０を用いてもラビングローラ周面２ｂを形成するラビングクロスの起毛部２ｆにダメージを与えることがない。
【００５９】
尚、本実施の形態においては、第１の起毛整備手段２０は、ブラシ２０ａを用いたが、これに限らず、図７に示すように、棒状部材３０を用いても同様の効果が得られることは勿論である。
【００６０】
また、図８に示すように、第１の起毛整備手段２０は、線部材４０であっても同様の作用効果が得られる。
【００６１】
さらに、第１の起毛整備手段２０及び第２の起毛整備手段８は、本実施の形態では、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように各１本づつ配設するようにしたが、これはラビングローラ２の基板接触面以外の位置であれば、何本配設しても良い。
【００６２】
尚、本実施の形態でも、第１の起毛整備手段２０は、ラビングローラ２の一対の軸受け２ｄの一方の軸受けに対して揺動自在に配設し、ラビングローラ周面２ｂの上方に移動、離間するようにしたが、これに限らず、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂの近傍で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触する位置に、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されるものであれば、どのような配設手段をとっても良い。
【００６３】
また、第１の起毛整備手段２０は、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂの近傍で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触する位置に、このラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されるものであれば、固定されていても良い。
【００６４】
さらに、第１の起毛整備手段２０は、ラビングクロスの起毛部２ｆに常に接触するようにしたが、これは、所定の間隔を持って接触させるようにしても良い。
【００６５】
また、ラビングされる基板は、ＴＦＴアレイ基板やその対向基板だけでなく、ＴＦＤを用いた液晶パネルやパッシブの液晶パネル等に用いられる基板に適用できることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施の形態である基板のラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、
【図２】ラビングローラに起毛整備手段を配設した斜視図、
【図３】図２の要部拡大断面図、
【図４】本発明の第２実施形態である基板のラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、
【図５】ラビングローラに起毛整備手段を２つ配設した斜視図、
【図６】図５の要部拡大断面図、
【図７】起毛整備手段の他の構成を示した断面図、
【図８】起毛整備手段の更に他の構成を示した断面図。
【符号の説明】
１，１００…ラビング装置、２…ラビングローラ、２ｂ…ラビングローラ周面、２ｆ…ラビングクロスの起毛部、８…起毛整備手段、２０…ブラシ（第１の起毛整備手段）、３０…棒状部材（第１の起毛整備手段）、４０…線部材（第１の起毛整備手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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