(57)【要約】【課題】共押出し加工層と基礎層を含んで成る多層製品を開示する。【解決手段】前記共押出し加工層に式（Ｉ）【化１】2004042640.tif 000022［式中、Ｒ１からＲ４は、本文の中で定義する通りである］で表される繰り返し単位と式（ＩＩ）【化２】2004042640.tif 000023［式中、Ｒ５からＲ８およびＸは、本文の中で定義する通りである］で表される繰り返し単位を有するコポリカーボネートを含有させる。前記基礎層に、前記コポリカーボネートが示す耐薬品性より低い耐薬品性を示すことを特徴とするポリカーボネートを含有させる。本製品は化学品による攻撃に対する耐性が向上していることを特徴とする。また、本製品の使用および製造方法も開示する。【選択図】　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
共押出し加工層と基礎層を含んで成る多層製品であって、前記共押出し加工層が、式（Ｉ）
【化１】
2004042640.tif 000020
［式中、
Ｒ１からＲ４は、独立して、Ｈ、Ｃ１からＣ４アルキル、フェニル、置換フェニルまたはハロゲンを表す］
で表される１以上の繰り返し単位を０．１から４６モル％有しかつ式（ＩＩ）
【化２】
2004042640.tif 000021
［式中、
Ｒ５からＲ８は、独立して、Ｈ、ＣＨ３、ＣｌまたはＢｒを表し、そしてＸは、Ｃ１からＣ５アルキレン、Ｃ２からＣ５アルキリデン、Ｃ５からＣ６シクロアルキレンまたはＣ５からＣ１０シクロアルキリデンである］
で表される１以上の繰り返し単位を９９．９から５４モル％有していて式（Ｉ）および式（ＩＩ）に従う繰り返し単位の総量が１００モル％であるコポリカーボネートを含有し、そして
前記基礎層が、前記コポリカーボネートが示す耐化学品性より低い耐薬品性を示すことを特徴とするポリカーボネートを含有する、
多層製品。
【請求項２】
前記基礎層がビスフェノールＡが基になったホモポリカーボネートを含有する請求項１記載の製品。
【請求項３】
前記共押出し加工層が追加的に紫外線吸収剤も０．１から２０重量％含有する請求項１記載の製品。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の製品を製造する方法であって、前記共押出し加工層と基礎層を共押出し加工することを含んで成る方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は多層製品（ｍｕｌｔｉ−ｌａｙｅｒ　ｐｒｏｄｕｃｔ）、より詳細にはポリカーボネート含有多層製品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ビスフェノールＡが基になったホモポリカーボネートは耐薬品性（ｃｈｅｍｉｃａｌｌｙ　ｒｅｓｉｔａｎｃｔ）が充分でなく、従ってある種の用途には適切でないと言った欠点を有する。同じことがビスフェノールＡ以外のジヒドロキシ化合物が基になった他の数多くのポリカーボネートにも当てはまる。
【０００３】
４，４’−ジヒドロキシジフェニレン（ＤＯＤ）に由来する構造単位を含有するコポリカーボネート（またＤＯＤ−ＣｏＰＣとしても知られるいわゆるＤＯＤコポリカーボネート）が示す耐薬品性はビスフェノールＡのホモポリカーボネートが示すそれよりも高い。しかしながら、ＤＯＤ−ＣｏＰＣはビスフェノールＡのホモポリカーボネートよりも高価でありかつそれらは他の特性に関してビスフェノールＡのホモポリカーボネートより劣っていることから、それらはある用途では使用不能である。
【０００４】
良好な耐薬品性を示すシートは公知である。それらは例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはコポリエステル、例えばＰＥＴＧまたはポリメタアクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）などから製造される。そのような重合体が示すノッチ耐衝撃性（ｎｏｔｃｈｅｄ　ｉｍｐａｃｔ　ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）値はビスフェノールＡが基になったホモポリカーボネートよりも有意に低く、従ってそれらはあらゆる用途で用いるに適切でない。
【０００５】
ビスフェノールＡが基になったホモポリカーボネートを耐薬品性であることを意図したシートで用いることは公知である。このような場合にはポリカーボネートに耐薬品性被膜を付着させるか或はそれを耐薬品性材料で作られたフィルムと積層させることのいずれかが行われる。
【０００６】
耐薬品性を向上させる目的でビスフェノールＡのホモポリカーボネートと他の重合体のブレンド物を用いることも公知である。多くの場合、そのようなブレンド物は透明でないか或は少なくとも顕著な曇りを示すと言った欠点を有する。透明なポリカーボネートブレンド物が示すノッチ耐衝撃性値はビスフェノールＡのホモポリカーボネートが示すそれよりもかなり低い。
【０００７】
多層製品に関係した他の従来技術を以下に要約する。
【０００８】
一方の層が紫外線吸収剤を少なくとも３重量％含有する２層のポリカーボネートで構成されているシートが特許文献１に開示されている。これらのシートの製造は共押出し加工で実施可能である。
【０００９】
一方の層が特殊な置換ベンゾトリアゾールを紫外線吸収剤として含有する２層の熱可塑性プラスチック、好適にはポリカーボネートで構成されている成形品が特許文献２に開示されている。また、そのような成形品を共押出し加工で製造することも開示されている。
【００１０】
特殊に置換されているベンゾトリアゾールを紫外線吸収剤として含有する分枝ポリカーボネート層を含む多層シートが特許文献３に開示されている。また、それらのシートを共押出し加工で製造することも開示されている。
【００１１】
特殊なトリアジンを用いて紫外光に対して安定化された重合体組成物そしてそれらを多層系の外側層として用いることが特許文献４に開示されている。ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキサイドおよびポリフェニレンスルフィドが重合体として示されている。
【００１２】
ポリカーボネートと置換アリールホスファイトと置換トリアジンで構成されている組成物が特許文献５に開示されている。また、１つの層が前記組成物で構成されている多層シートも開示されている。
【００１３】
ポリフッ化ビニリデンとポリメタアクリレートで構成されているフィルムが特許文献６に開示されている。そのようなフィルムの欠点はポリフッ化ビニリデンがポリカーボネートより高価な点にある。
【００１４】
パーフルオロアルキル添加剤が添加されているシロキサン被膜が特許文献７に開示されており、それはポリカーボネートが示す耐薬品性を向上させる目的で塗布可能である。
【００１５】
ポリエステルとポリカーボネートで構成されている重合体混合物（ブレンド物）が特許文献８に開示されている。その混合物が示す耐薬品性はポリカーボネートが示すそれよりも高いが、それが示すノッチ耐衝撃性はポリカーボネートが示すそれよりも低い。
【００１６】
ビスフェノールである４，４’−ジヒドロキシジフェニルと２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが基になったコポリカーボネートが特許文献９、特許文献１０、特許文献１１および特許文献１２に開示されている。また、そのようなコポリカーボネートが耐燃料性、耐熱性および耐炎性を示しかつそのようなコポリカーボネートが示す機械的特性および透明性が公知のポリカーボネートが示すそれに匹敵することが特許文献１３、特許文献１４、特許文献１５および特許文献１６に開示されている。
【００１７】
本発明の目的は、ビスフェノールＡのホモポリカーボネートから作られた製品が示す耐薬品性より良好な耐薬品性を示す製品を提供することにある。
【００１８】
【特許文献１】
ヨーロッパ特許出願公開第０　１１０　２２１号
【００１９】
【特許文献２】
ヨーロッパ特許出願公開第０　３２０　６３２号
【００２０】
【特許文献３】
ヨーロッパ特許出願公開第０　２４７　４８０号
【００２１】
【特許文献４】
ヨーロッパ特許出願公開第０　５００　４９６号
【００２２】
【特許文献５】
ヨーロッパ特許出願公開第０　８２５　２２６号
【００２３】
【特許文献６】
特開平０２　０２８　２３９号
【００２４】
【特許文献７】
特開平１１　３２３　２５５号
【００２５】
【特許文献８】
米国特許第６　０１１　１２４号
【００２６】
【特許文献９】
ヨーロッパ特許出願公開第０　５４４　４０７号
【００２７】
【特許文献１０】
米国特許第５　５３２　３２４号
【００２８】
【特許文献１１】
米国特許第５　４７０　９３８号
【００２９】
【特許文献１２】
米国特許第５　４０１　８２６号
【００３０】
【特許文献１３】
ヨーロッパ特許出願公開第０　５４４　４０７号
【００３１】
【特許文献１４】
米国特許第５　５３２　３２４号
【００３２】
【特許文献１５】
米国特許第５　４７０　９３８号
【００３３】
【特許文献１６】
米国特許第５　４０１　８２６号
【００３４】
【発明の要約】
共押出し加工層（ｃｏｅｘ　ｌａｙｅｒ）と基礎層（ｂａｓｅ　ｌａｙｅｒ）を含んで成る多層製品を開示する。前記共押出し加工層は式（Ｉ）
【００３５】
【化３】
2004042640.tif 000002
【００３６】
［式中、Ｒ１からＲ４は、本文の中で定義する通りである］
で表される繰り返し単位と式（ＩＩ）
【００３７】
【化４】
2004042640.tif 000003
【００３８】
［式中、Ｒ５からＲ８およびＸは、本文の中で定義する通りである］
で表される繰り返し単位から誘導されるコポリカーボネートを含有する。前記基礎層は、前記コポリカーボネートが示す耐薬品性より低い耐薬品性を示すことを特徴とするポリカーボネートを含有する。本製品は化学薬品による攻撃に対する抵抗が向上していることを特徴とする。また、本製品の使用および製造方法も開示する。
【００３９】
【発明の詳細な記述】
本目的は、１番目の層と２番目の層を含んで成っていて前記１番目の層が式
【００４０】
【化５】
2004042640.tif 000004
【００４１】
［式中、
Ｒ１からＲ４は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１からＣ４アルキル、フェニル、置換フェニルまたはハロゲンを表す］
で表される１以上の繰り返し単位を０．１から４６モル％、好適には１１から３４モル％、特に２６から３４モル％有しかつ式（ＩＩ）
【００４２】
【化６】
2004042640.tif 000005
【００４３】
［式中、
Ｒ５からＲ８は、互いに独立して、Ｈ、ＣＨ３、ＣｌまたはＢｒであり、そしてＸは、Ｃ１からＣ５アルキレン、Ｃ２からＣ５アルキリデン、Ｃ５からＣ６シクロアルキレンまたはＣ５からＣ１０シクロアルキリデンである］
で表される１以上の繰り返し単位を９９．９から５４モル％、好適には８９から６６モル％、特に７４から６６モル％有していて式（Ｉ）および式（ＩＩ）に従う繰り返し単位の総量が１００モル％であるコポリカーボネートを含有しそして前記２番目の層が前記１番目の層のコポリカーボネートが示す耐薬品性より低い耐薬品性を示すポリカーボネートを含有する多層製品により達成される。
【００４４】
好適には、Ｒ１からＲ４は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１−Ｃ４アルキルまたはハロゲンを表し、特に好適には、全部が同じであり、最も特別には全部がＨまたはｔ−ブチルを表す。
【００４５】
特に好適なコポリカーボネートは、式（Ｉ）で表される単量体由来構造単位を３４−２６モル％、特に３３−２７モル％、特別には３２−２８モル％、最も特別には３１−２９モル％、最も顕著には３０モル％含有し、各場合とも、これに加えて式（ＩＩ）で表される単量体由来単位を補足的含有量で含有する。
【００４６】
式（Ｉ）で表される好適な繰り返し単位は、４，４’−ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）および４，４’−ジヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラ−（ｔ−ブチル）ジフェニルに由来する単位である。
【００４７】
式（ＩＩ）で表される好適な繰り返し単位は２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンおよび１，３−ビス−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、特に２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）に由来する単位である。
【００４８】
２成分のコポリカーボネートを生成させる時に式（Ｉ）で表される１種類の繰り返し単位および式（Ｉ）で表される数種類の繰り返し単位の両方を用いることができる。
【００４９】
同様に、２成分のコポリカーボネートを生成させる時に式（ＩＩ）で表される１種類の繰り返し単位および式（ＩＩ）で表される数種類の繰り返し単位の両方を用いることができる。
【００５０】
式（Ｉ）で表される繰り返し単位が４，４’−ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）に由来する単位でありかつ式（ＩＩ）で表される繰り返し単位がビスフェノールＡに由来する単位であるコポリカーボネートが特に好適である。
【００５１】
前記１番目の層の厚みは好適には１から１０００μｍ、特に１０から５００μｍ、特に１０から２００μｍ、特に１５から６０μｍである。
【００５２】
前記２番目の層に、他のポリカーボネートに加えて、また、前記１番目の層に含めた共重合体を少量、好適には１０重量％未満の量で含有させることも可能である。
【００５３】
本発明はそのような多層製品を提供するものである。
【００５４】
本発明は、また、そのような多層製品を共押出し加工で製造する方法も提供する。
【００５５】
本発明は、また、本多層製品を含有する製品も提供する。本多層製品を含有するそのような製品は、好適には、グレージングパネル（ｇｌａｚｉｎｇ　ｐａｎｅｌ）、保護用パネル、コンサーバトリー、ベランダ、カーポート、バスストップ、広告、ショップウインド、窓、仕切り、ペイメントブース、ビューイングパネル（ｖｉｅｗｉｎｇ　ｐａｎｅｌｓ）、ディスプレー、ルーフおよびフィルムから成る群から選択される。
【００５６】
前記グレージングパネルは、例えば、自動車、温室、ガソリンスタンド、実験室または化学プラントなど用のグレージングパネルであってもよい。
【００５７】
前記保護用パネルは例えば実験室の保護用パネルなどであってもよい。
【００５８】
このような保護用パネルは、例えばある機械をフライングパート（ｆｌｙｉｎｇ　ｐａｒｔｓ）（これは緩んで来る可能性がある）から保護するためのハウジング（ｈｏｕｓｉｎｇｓ）などとして使用可能である。そのような保護用パネルは例えば鋼製ケージなどの代替品として用いられる。
【００５９】
ビューイングパネルは例えばカウンターまたはディスプレーケースなどにおけるビューイングパネルであってもよい。このビューイングパネルは例えば食品分野などで用いられ得る。
【００６０】
本発明に従うコポリカーボネートにおける繰り返し単位の量に関して本発明で用いる定義は下記の通りである。ｎモル％量はコポリカーボネートに存在するあらゆる繰り返し単位の総量を基準にしたｎモル％量を意味する。この量が１００モル％であるならば、他の繰り返し単位は存在しない。
【００６１】
本発明に従う多層製品はいろいろな利点を示し、そのような利点には、耐薬品性があること、（ノッチ）耐衝撃性が高いことおよび耐熱性が高いことが含まれる。加うるに、これの製造は簡単で安価である、即ち出発材料は軽量で入手可能でありかつ比較的安価である。その上、本発明に従う多層製品は、ポリカーボネートが通常有する肯定的な特性がほとんどか或は全く不利に変化しておらず、そのような特性には、光学特性が良好なことが含まれる。
【００６２】
本発明に従う多層製品は共押出し加工で製造可能である。それによって、コーティングで製造される製品に比べて利点がもたらされる。例えば、共押出し加工では溶媒の蒸発（例えばコーティング方法で起こる如き）が起こらない。
【００６３】
その上、コーティングでは外来の重合体を被覆製品に導入することが行われる。このことは、例えば、そのような製品は再利用の目的でもはや孤立したプラスチックではないことを意味する。共押出し加工はそのような欠点を示さない。
【００６４】
また、コーティングを長期間に亘って貯蔵するのは不可能である。共押出し加工はそのような欠点を示さない。
【００６５】
加うるに、コーティングは複雑な技術を要する。例えば、ある場合には、防爆装置、溶媒の再利用を必要とし、従って装置に多大な投資を要する。共押出し加工はそのような欠点を示さない。
【００６６】
本発明に従う多層製品は共押出し加工で製造可能なことから、これは積層で製造された製品に比べて数多くの利点を与える。
【００６７】
積層の場合には最初にフィルムを別途の工程で製造する必要がある。共押出し加工はそのような欠点を示さない。
【００６８】
その上、共押出し加工は簡潔でありかつ必要な専門的技術は容易に入手可能である。積層はフィルムが膨れまたは歪みを起こし易いことから、より困難である。
【００６９】
その上、共押出し加工を用いると幅が２．２メートルに及ぶシートを容易に製造することができる。それとは対照的に、積層用のフィルムは大部分が幅が最大でほぼ１．６メートルのフィルムのみが入手可能である。
【００７０】
本発明の好適な態様は、式（Ｉ）で表される繰り返し単位が４，４’−ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）に由来する単位でありかつ式（ＩＩ）で表される繰り返し単位が２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパンに由来する単位でありそしてコポリカーボネート中の前記式（Ｉ）で表される繰り返し単位の量が２６から３４モル％でありかつコポリカーボネート中の前記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の量が７４から６６モル％［ここで、前記式（Ｉ）および式（ＩＩ）に従う繰り返し単位の総量は１００モル％である］である多層製品である。
【００７１】
本発明に従う好適な多層製品は、一方の層が追加的に紫外線吸収剤を１から２０重量％含有する製品である。このような紫外線吸収剤は好適にはＴｉｎｕｖｉｎ（商標）３６０、Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）１５７７およびＵｖｉｎｕｌ（商標）３０３０から成る群から選択される。これらは下記の構造を有する：
【００７２】
【化７】
2004042640.tif 000006
【００７３】
もう一方の層の紫外線吸収剤含有量は好適には０から１重量％である。これは同一または異なる紫外線吸収剤であってもよい。
【００７４】
本発明に従う好適な多層製品をシート、パイプ、プロファイルおよびフィルムから成る群から選択される。
【００７５】
シートは特に中まで同じ物質のシートであってもよく、このようなシートは特に平らなシートまたは波形のシートであってもよい。それらはまた多壁シートであってもよく、このような多壁シートは特に平らなシートまたは波形シートであってもよい。
【００７６】
多壁シートは、シートの内側に空洞部が生じるように２つの外側層が互いに腕木で連結しているシートである。二壁シートは２層の外側層とこれらの間に位置する腕木を有する。三壁シートは追加的に３番目の内側シートを有し、これは、前記２つの外側シートに平行である。そのような多壁シートは例えばヨーロッパ特許出願公開第０　１１０　２３８号などに記述されている。そこでは、それらを多層中空チャンバプラスチックシートと呼んでいる。また、ヨーロッパ特許出願公開第０　７７４　５５１号にも多壁シートが開示されている。ヨーロッパ特許出願公開第０　７７４　５５１号の図１に三壁シートが示されている。また、ヨーロッパ特許出願公開第０　０５４　８５６号およびヨーロッパ特許出願公開第０　７４１　２１５号にも多壁シートが開示されている。ヨーロッパ特許出願公開第０　１１０　２２３８号、ヨーロッパ特許出願公開第０　０５４　８５６号、ヨーロッパ特許出願公開第０　７４１　２１５号およびヨーロッパ特許出願公開第０　７７４　５５１号は引用することによって本特許出願に組み入れられる。
【００７７】
このような多壁シートは二壁シート、三壁シート、四壁シートなどであってもよい。また、このような多壁シートにいろいろな輪郭を持たせてもよい。その上、また、このような多壁シートは波形の多壁シートであってもよい。
【００７８】
本発明の好適な態様は、この上に定義した如き１番目の層と２番目の層を含有する二層シートまたはフィルムである。
【００７９】
本発明の好適なさらなる態様は、この上で定義した２番目の層と同様な構造の層を中間層として１層含有しかつこの上で定義した１番目の層と同様な構造を両方が有する２つの層を外側層として含有する三層シートまたはフィルムである。
【００８０】
本発明に従う多層製品は例えば下記の構造を有することができる：
ａ）
ＤＯＤ−Ｃｏ−ＰＣ（紫外線吸収剤有り無し）
他のＰＣ（紫外線吸収剤有り無し）
ｂ）
ＤＯＤ−Ｃｏ−ＰＣ（紫外線吸収剤有り無し）
他のＰＣ（紫外線吸収剤有り無し）
ＤＯＤ−Ｃｏ−ＰＣ（紫外線吸収剤有り無し）
ｃ）
ＤＯＤ−Ｃｏ−ＰＣ（紫外線吸収剤有り無し）
他のＰＣ（紫外線吸収剤を０−１％含有）
他のＰＣ（紫外線吸収剤を０．１−２０％含有）
特殊な態様における本多層製品は透明である。
【００８１】
本発明に従うコポリカーボネートの製造は公知方法で実施可能である。必要な単量体は公知である。このような単量体およびまたある場合には前記コポリカーボネートは商業的に入手可能である。
【００８２】
４，４’−ジヒドロキシジフェニルの製造はいろいろな公知方法で実施可能である。
【００８３】
これの製造は、ジフェニルジスルホン酸にＯＨ−イオンによりエステル交換を行なうか、或はジブロモジフェニルに加水分解を行なうか、或はヨーロッパ特許出願公開第０　４３２　７８２号、特開平０５　０９７　７４０号、特開平０　４１５　２３５号および特開平０３　０３８　５３８号（これらにはまた４，４’−ジヒドロキシジフェニルの製造方法も開示されている）に開示されている方法で実施可能である。
【００８４】
式（Ｉ）で表される繰り返し単位を３４−２６モル％、特に３３−２７モル％、特別には３２−２８モル％、最も特別には３１−２９モル％、最も顕著には３０モル％含有することに加えて各場合とも式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を補足的含有量で含有するコポリカーボネートが最も特に好適である。
【００８５】
式（Ｉ）で表される好適な繰り返し単位は、４，４’−ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）および４，４’−ジヒドロキシ−３，３’，５，５’−テトラ−（ｔ−ブチル）ジフェニルに由来する単位である。
【００８６】
式（ＩＩ）で表される好適な繰り返し単位は２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンおよび１，３−ビス−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、特に２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）に由来する単位である。
【００８７】
２成分のコポリカーボネートを生成させる時に式（Ｉ）で表される１種類の化合物および式（Ｉ）で表される数種類の化合物の両方を用いることができる。
【００８８】
同様に、２成分のコポリカーボネートを生成させる時に式（ＩＩ）で表される１種類の化合物および式（ＩＩ）で表される数種類の化合物の両方を用いることができる。
【００８９】
勿論、式（Ｉ）および（ＩＩ）で表される遊離体は合成に由来する不純物を含有している可能性がある。しかしながら、高純度が望ましいことから、高純度を求めるべきであり、従って、そのような遊離体は可能な最も高い純度の状態で用いられる。
【００９０】
本明細書では以降、本発明に従う多層製品の１番目の層をまた共押出し加工層［ｃｏｅｘｔｒｕｓｉｏｎ　ｌａｙｅｒ　ｏｒ　ｃｏｅｘ　ｌａｙｅｒ］とも呼ぶ。また、２番目の層を基礎層とも呼ぶ。
【００９１】
そのような共押出し加工層と基礎層の両方は添加剤、特に紫外線吸収剤および熱安定剤を含有することができる。
【００９２】
そのような共押出し加工層に紫外線吸収剤またはこれらの混合物が好適には０から２０重量％の濃度で存在する。０．１から２０重量％が好適であり、２から１０重量％が特に好適であり、３から８重量％が最も特に好適である。そのような層が２層以上存在する場合、そのような層の紫外線吸収剤の含有量は異なっていてもよい。
【００９３】
本発明に従って使用可能な紫外線吸収剤の例を以下に記述する。
ａ）式（ＩＩＩ）：
【００９４】
【化８】
2004042640.tif 000007
【００９５】
［式（ＩＩＩ）中のＲおよびＸは、同一もしくは異なり、Ｈ、アルキルまたはアルキルアリールを表す］
に従うベンゾトリアゾール誘導体。
【００９６】
下記が好適である：
Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）３２９［この場合、Ｘ＝１，１，３，３−テトラメチルブチルおよびＲ＝Ｈ］
Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）３５０［この場合、Ｘ＝ｔ−ブチルおよびＲ＝２−ブチル］
Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）２３４［この場合、Ｘ＝Ｒ＝１，１−ジメチル−１−フェニル］
ｂ）式（ＩＶ）：
【００９７】
【化９】
2004042640.tif 000008
【００９８】
［式中、
Ｒ１およびＲ２は、独立して、Ｈ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ１０アルキル、Ｃ５−Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ７−Ｃ１３アラルキル、Ｃ６−Ｃ１４アリール、−ＯＲ５または−（ＣＯ）−Ｏ−Ｒ５（ここで、Ｒ５＝ＨまたはＣ１−Ｃ４アルキル）を表し、
Ｒ３およびＲ４は、独立して、Ｈ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ５−Ｃ６シクロアルキル、ベンジルまたはＣ６−Ｃ１４アリールを表し、
ｍは、１、２または３を表し、そして
ｎは、１、２、３または４を表す］
に従うベンゾトリアゾール二量体。
【００９９】
下記が好適である：
Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）３６０［この場合、Ｒ１＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ、ｎ＝４、Ｒ２＝１，１，３，３−テトラメチルブチルおよびｍ＝１］
ｂ１）式（Ｖ）：
【０１００】
【化１０】
2004042640.tif 000009
【０１０１】
［式中、橋渡しは、
【０１０２】
【化１１】
2004042640.tif 000010
【０１０３】
を表し、
Ｒ１、Ｒ２、ｍおよびｎは、式（ＩＶ）で示した意味を有し、ｐは、０から３の整数であり、ｑは、１から１０の整数であり、
Ｙは、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）３、−（ＣＨ２）４−、−（ＣＨ２）５−、−（ＣＨ２）６−またはＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−に等しく、そして
Ｒ３およびＲ４は、式（ＩＩ）で示した意味を有する］
に従うベンゾトリアゾール誘導体二量体。
【０１０４】
下記が好適である：
Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）８４０［この場合、Ｒ１＝Ｈ、ｎ＝４、Ｒ２＝ｔ−ブチル、ｍ＝１、Ｒ２はＯＨ基に対してオルソ位に結合しており、Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ、ｐ＝２、Ｙ＝−（ＣＨ２）５−、ｑ＝１］
ｃ）式（ＶＩ）：
【０１０５】
【化１２】
2004042640.tif 000011
【０１０６】
［式（ＶＩ）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、独立して、Ｈ、アルキル、アリール、ＣＮまたはハロゲンであり、そしてＸはアルキルである］
に従うトリアジン誘導体。
【０１０７】
下記が好適である：
Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）１５７７［この場合、Ｒ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ、Ｘ＝ヘキシル］
Ｃｙａｓｏｒｂ（商標）ＵＶ−１１６４［この場合、Ｒ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝メチル、Ｘ＝オクチル］
ｄ）式（ＶＩａ）：
【０１０８】
【化１３】
2004042640.tif 000012
【０１０９】
［式中、
Ｒ１は、Ｃ１からＣ１７アルキルを表し、
Ｒ２は、Ｈ、Ｃ１からＣ４アルキルまたはアリールを表し、そして
ｎは、０から２０に等しい］
で表されるトリアジン誘導体。
ｅ）式（ＶＩＩ）：
【０１１０】
【化１４】
2004042640.tif 000013
【０１１１】
［式中、
Ｒ１からＲ４０は、独立して、Ｈ、アルキル、ＣＮまたはハロゲンを表す］
で表されるジアリールシアノアクリレート。
Ｕｖｉｎｕｌ（商標）３０３０［この場合、Ｒ１からＲ４０＝Ｈ］が好適である。
ｆ）式（ＶＩＩＩ）：
【０１１２】
【化１５】
2004042640.tif 000014
【０１１３】
［式中、Ｒは、Ｃ２からＣ１０アルキルまたはアリールである］
で表されるジアリールシアノアクリレート。
Ｕｖｉｎｕｌ（商標）３０３５［この場合、Ｒ＝Ｃ２Ｈ５］およびＵｖｉｎｕｌ（商標）３０３９［この場合、Ｒ＝ＣＨ２ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ４Ｈ９］が好適である。
【０１１４】
このような紫外線吸収剤の数種は商業的に入手可能である。
【０１１５】
前記共押出し加工層および基礎層に前記紫外線安定剤に加えてまた他の通常の加工助剤、特に離型剤および流動調節剤と一緒にポリカーボネートに通常の安定剤、特に熱安定剤、ならびに染料および増白剤（ｏｐｔｉｃａｌ　ｂｒｉｇｈｔｅｎｅｒｓ）および無機顔料などを含有させることもできる。
【０１１６】
特にＰ含有熱安定剤、例えばホスフィン類、ホスファイト類およびホスホナイト類が適切である。特に、例えばトリフェニルホスフィン、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，４，６−トリス−（ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−１２−メチルジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス−（３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］、２−エチルヘキシル−（３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィランが適切である。個々の化合物またはこれらの混合物を用いることもできる。
【０１１７】
特にトリス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト［Ｉｒｇａｆｏｓ（商標）１６８、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ］、トリフェニルホスフィンまたは（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−（２−ブチル−２−エチルプロパン−１，３−ジイル）ホスファイト［Ｕｌｔｒａｎｏｘ　６４１（商標）、ＧＥＳｐｅｃｉａｌｔｙ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ］が好適である。
【０１１８】
適切なホスファイトおよびホスホナイトの他の例は下記である：
【０１１９】
【化１６】
2004042640.tif 000015
【０１２０】
本発明に従う多層製品の２番目の層用のポリカーボネートは、前記共押出し加工層のコポリカーボネートが示す耐薬品性より低い耐薬品性を示すあらゆるポリカーボネートである。
【０１２１】
それらには、相対溶液粘度をジクロロメタンまたは同じ重量のフェノール／ｏ−ジクロロベンゼンの混合物中で測定して光散乱による較正を行なうことで測定した平均分子量Ｍｗが好適には１８，０００から４０，０００、より好適には２６，０００から３６，０００、特に２８，０００から３５，０００のホモポリカーボネート、コポリカーボネートおよび熱可塑性ポリエステルカーボネートが含まれる。
【０１２２】
ポリカーボネートの製造に関して、例として、「Ｓｃｈｎｅｌｌ、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ、Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｒｅｖｉｅｗｓ、９巻、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、ニューヨーク、ロンドン、シドニー１９６４」および「Ｄ．Ｃ．ＰＲＥＶＯＲＳＥＫ、Ｂ．Ｔ．ＤＥＢＯＮＡおよびＹ．ＫＥＳＴＥＮ、Ｃｏｒｐｏｒａｔｅ　Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｃｅｎｔｅｒ、Ａｌｌｉｅｄ　ＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、モリスタウン、ニュージャージー０７９６０、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙ（ｅｓｔｅｒ）ｃａｒｂｏｎａｔｅ　Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ」、Ｊｏｕｒａｎｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｅｄｉｔｉｏｎ、１９巻、７５−９０（１９８０）」および「Ｄ．Ｆｒｅｉｔａｇ、Ｕ．Ｇｒｉｇｏ、Ｐ．Ｒ．Ｍｕｌｌｅｒ、Ｎ．Ｎｏｕｖｅｒｔｎｅ、ＢＡＹＥＲ　ＡＧ、「Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ］、Ｅｎｃｙｌｏｐｅｄｉａ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、１１巻、第２版、１９８８、６４８−７１８頁」および最後に「Ｄｒｓ　Ｕ．Ｇｒｉｇｏ、Ｋ．ＫｉｒｃｈｅｒおよびＰ．Ｒ．Ｍｕｌｌｅｒ「Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ］、Ｂｅｃｋｅｒ／Ｂｒａｕｎ、Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ、３／１巻、Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、Ｐｏｌｙａｃｅｔａｌｅ，Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ、Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｅｓｔｅｒ、Ｃａｒｌ　Ｈａｎｓｅｒ　Ｖｅｒｌａｇ　Ｍｕｎｉｃｈ、Ｖｉｅｎｎａ１９９２、１１７−２９９頁」が参照される。
【０１２３】
ポリカーボネートの製造は好適には界面重縮合方法または溶融エステル交換方法で実施され、これの製造を以下に例として界面重縮合方法を用いて記述する。
【０１２４】
好適な出発化合物は、一般式
ＨＯ−Ｚ−ＯＨ
［式中、Ｚは、芳香基を１個以上含有する炭素原子数が６から３０の二価有機基である］
で表されるビスフェノールである。
【０１２５】
そのような化合物の例は、ジヒドロキシジフェニル、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、インダンビスフェノール、ビス（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ヒドロキシフェニル）ケトンおよびα，α’−ビス（ヒドロキシフェニル）ジイソプロピルベンゼンの群に属するビスフェノールである。
【０１２６】
この上に示した群の化合物に属する特に好適なビスフェノールはビスフェノールＡ、テトラアルキルビスフェノールＡ、４，４−（メタ−フェニレンジイソプロピル）ジフェノール（ビスフェノールＭ）、４，４−（パラ−フェニレンジイソプロピル）ジフェノール、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（ＢＰ−ＴＭＣ）および場合によりこれらの混合物である。
【０１２７】
本発明に従って用いるに適したビスフェノール化合物は好適には炭酸化合物、特にホスゲンと反応させるか或は溶融エステル交換方法の場合にはジフェニルカーボネートまたはジメチルカーボネートと反応させる。
【０１２８】
ポリエステルカーボネートは、好適には、この上に示したビスフェノールと少なくとも１種の芳香族ジカルボン酸と場合により炭酸相当物を反応させることにより得られる。適切な芳香族ジカルボン酸の例はフタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、３，３’−もしくは４，４’−ジフェニルジカルボン酸およびベンゾフェノンジカルボン酸である。このようなポリカーボネートでは、カーボネート基の一部、即ち８０モル％以下、好適には２０から５０モル％を芳香族ジカルボン酸エステル基により置き換えることも可能である。
【０１２９】
界面重縮合方法で用いる不活性な有機溶媒の例はジクロロメタン、いろいろなジクロロエタンおよびクロロプロパン化合物、テトラクロロメタン、トリクロロメタン、クロロベンゼンおよびクロロトルエンであり、好適にはクロロベンゼンもしくはジクロロメタンまたはジクロロメタンとクロロベンゼンの混合物を用いる。
【０１３０】
触媒、例えば第三級アミン、特にＮ−アルキルピペリジンまたはオニウム塩などを用いて界面重縮合反応を加速させることも可能である。好適にはトリブチルアミン、トリエチルアミンおよびＮ−エチルピペリジンを用いる。溶融エステル交換方法では好適にはドイツ特許出願公開第４　２３８　１２３号に示されている触媒を用いる。
【０１３１】
分岐剤（ｂｒａｎｃｈｉｎｇ　ａｇｅｎｔｓ）を少量用いることでポリカーボネートを故意に制御様式で分岐させることも可能である。適切な分岐剤のいくつかは、フロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−２、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシ−フェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ヘキサ−（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェニル）オルソテレテレフタル酸エステル、テトラ（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラ（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ）メタン、α，α’，α”−トリス−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌール酸クロライド、３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール、１，４−ビス（４’，４”−ジヒドロキシトリフェニル）メチル）ベンゼン、特に１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）エタンおよびビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールである。
【０１３２】
その組み込む得る分岐剤または分岐剤混合物は使用するジフェノールを基準にして０．０５から２モル％の量で前記ジフェノールと共に添加することができるが、また合成の後の段階で添加することも可能である。
【０１３３】
連鎖停止剤として、好適には、フェノール類、例えばフェノール、アルキルフェノール、例えばクレゾールおよび４−ｔ−ブチルフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、クミルフェノールまたはこれらの混合物をビスフェノール１モル当り１−２０モル％、好適には２−１０モル％の量で用いる。フェノール、４−ｔ−ブチルフェノールまたはクミルフェノールが好適である。
【０１３４】
この合成に添加する連鎖停止剤および分岐剤は個別にか或は前記ビスフェノールと共に添加することができる。
【０１３５】
例として、溶融エステル交換方法によるポリカーボネートの製造がドイツ特許出願公開第４　２３８　１２３号に記述されている。
【０１３６】
本発明に従う多層製品の２番目の層として本発明に従い好適なポリカーボネートは、ビスフェノールＡが基になったホモポリカーボネート、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンが基になったホモポリカーボネートおよび２種類の単量体であるビスフェノールＡと１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンが基になったコポリカーボネートである。
【０１３７】
特に、ビスフェノールＡが基になったホモポリカーボネートが好適である。
【０１３８】
このようなポリカーボネートに安定剤を含有することができる。適切な安定剤は、例えばホスフィン、ホスファイトまたはケイ素を含有する安定剤、そしてヨーロッパ特許出願公開第０　５００　４９６号に記述されている他の化合物である。例としてトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、テトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトおよびトリアリールホスファイトを挙げることができる。特にトリフェニルホスフィンおよびトリス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが好適である。
【０１３９】
このような安定剤は本発明に従う多層製品のあらゆる層に存在させることができる。言い換えれば、いわゆる基礎層およびいわゆる共押出し加工層１層または２層以上の両方に存在させることができる。各層に異なった添加剤を存在させてもよく、或は添加剤を異なる濃度で存在させてもよい。
【０１４０】
本発明に従う多層製品にまた一価から六価のアルコール、特にグリセリン、ペンタエリスリトールまたはガーベット（ｇｕｅｒｂｅｔ）アルコールのエステルもしくは部分エステルを０．０１から０．５重量％含有させることができる。
【０１４１】
一価アルコールは例えばステアリルアルコール、パルミチルアルコールおよびガーベットアルコールである。
【０１４２】
二価アルコールの例はグリコールである。
【０１４３】
三価アルコールの例はグリセリンである。
【０１４４】
四価アルコールの例はペンタエリスリトールおよびメソエリスリトールである。
【０１４５】
五価アルコールの例はアラビトール、リビトールおよびキシリトールである。
【０１４６】
六価アルコールの例はマンニトール、グルシトール（ソルビトール）およびダルシトールである。
【０１４７】
前記エステルは好適には飽和脂肪族Ｃ１０からＣ３６モノカルボン酸と場合によりヒドロキシモノカルボン酸、好適には飽和脂肪族Ｃ１４からＣ３２モノカルボン酸と場合によりヒドロキシモノカルボン酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル、テトラエステル、ペンタエステルおよびヘキサエステルまたはこれらの混合物、特にランダムな混合物である。
【０１４８】
特にペンタエリスリトールおよびグリセリンの市販の脂肪酸エステルはこれらの製造工程の結果として種々の部分エステルを＜６０％の量で含有している可能性がある。
【０１４９】
Ｃ原子数が１０から３６の飽和脂肪族モノカルボン酸は、例えばデカン酸、ドデカン酸、テトラデカン酸、ヘキサデカン酸、ステアリン酸、ヒドロキシステアリン酸、エイコサン酸、ドコサン酸、テトラコサン酸、ヘキサコサン酸およびオクタコサン酸である。
【０１５０】
Ｃ原子数が１４から２２の好適な飽和脂肪族モノカルボン酸は、例えばテトラデカン酸、ヘキサデカン酸、ステアリン酸、ヒドロキシステアリン酸、エイコサン酸およびドコサン酸である。
【０１５１】
特に、ヘキサデカン酸、ステアリン酸およびヒドロキシステアリン酸の如き飽和脂肪族モノカルボン酸が好適である。
【０１５２】
飽和脂肪族Ｃ１０からＣ３６カルボン酸および脂肪酸エステルは文献からそれ自体公知であるか或は文献から公知の方法を用いて製造可能である。ペンタエリスリトールの脂肪酸エステルの例はこの上に示した特に好適なモノカルボン酸のエステルである。
【０１５３】
特に、ペンタエリスリトールおよびグリセリンとステアリン酸およびヘキサデカン酸のエステルが好適である。
【０１５４】
また、ガーベットアルコールおよびグリセリンとステアリン酸およびヘキサデカン酸および場合によりヒドロキシステアリン酸のエステルも特に好適である。
【０１５５】
このようなエステルを前記基礎層および共押出し加工層１層または２層以上の両方に存在させてもよい。各層に異なる添加剤を存在させてもよく、或は添加剤を異なる濃度で存在させてもよい。
【０１５６】
本発明に従う多層製品に帯電防止剤を含有させることも可能である。
【０１５７】
帯電防止剤の例はカチオン性化合物、例えば第四級アンモニウム、ホスホニウムもしくはスルホニウム塩など、アニオン性化合物、例えばアルカリ金属塩もしくはアルカリ土類金属塩の形態のアルキルスルホネート、アルキルサルフェート、アルキルホスフェート、カルボキシレートなど、非イオン性化合物、例えばポリエチレングリコールのエステル、ポリエチレングリコールのエーテル、脂肪酸エステル、エトキシル化脂肪族アミンなどである。好適な帯電防止剤は非イオノゲン化合物である。
【０１５８】
このような帯電防止剤を前記基礎層および共押出し加工層１層または２層以上の両方に存在させてもよい。各層に異なる添加剤を存在させてもよく、或は添加剤を異なる濃度で存在させてもよい。それらを好適には共押出し加工１層または２層以上で用いる。
【０１５９】
本発明に従う多層製品に有機染料、無機着色顔料、蛍光染料、特に好適には増白剤を含有させることができる。
【０１６０】
このような着色剤を前記基礎層および共押出し加工層１層または２層以上の両方に存在させてもよい。各層に異なる添加剤を存在させてもよく、或は添加剤を異なる濃度で存在させてもよい。
【０１６１】
本発明に従う多層製品の製造で用いる成形用組成物、これらの原料および溶媒には、これらの全部に、製造および貯蔵条件の結果として対応する不純物が混入している可能性があり、目標は、可能な最も清浄な出発材料を用いて作業を行うことにある。
【０１６２】
個々の成分は公知手段を用いて逐次的および同時の両方そして室温および高温の両方で混合することができる。
【０１６３】
添加剤、特に紫外線吸収剤および上述した他の添加剤を本発明に従う成形用組成物に混合する時、好適には、通常の装置、例えば内部ミキサー、単軸押出し加工機および二軸押出し加工機などを用いて重合体粒子と添加剤を約２００から３３０℃の温度で混合、例えば溶融コンパウンド化（ｍｅｌｔ　ｃｏｍｐｏｕｎｄｉｎｇ）または溶融押出し加工するか或は重合体の溶液を添加剤の溶液と混合した後に溶媒を公知手段で蒸発させることによる公知手段を用いて混合を行う。本成形用組成物に添加する添加剤の含有量は幅広い範囲に亘って変えることができ、これは本成形用組成物の所望の特性に左右される。本成形用組成物に添加する添加剤の総含有量は好適には本成形用組成物の重量を基準にして約２０重量％以下、好適には０．２から１２重量％である。
【０１６４】
紫外線吸収剤を本成形用組成物に混合する時もまた例えば紫外線吸収剤と場合により上述した他の添加剤が入っている溶液をプラスチックの溶液（適切な有機溶媒、例えばＣＨ２Ｃｌ２、ハロアルカン、ハロ芳香族、クロロベンゼンおよびキシレンなどに入っている）と混合することにより実施可能である。次に、そのような物質の混合物を好適には押出し加工による公知手段で均一にし、好適には溶媒を蒸発させることによる公知手段で溶体混合物を取り出した後、押出し加工することで、例えばコンパウンド化する。
【０１６５】
実施例で示すように、本発明に従う共押出し加工成形用組成物を用いると、耐薬品性があまり充分でない基礎材料としての成形用ポリカーボネート組成物に有意な利点が与えられる。
【０１６６】
本発明に従う多層製品の加工は、例えば熱成形または表面処理などで実施可能であり、例えば耐引っ掻き性（ｓｃｒａｔｃｈ−ｒｅｓｉｓｔａｎｔ）被膜、水展着性層（ｗａｔｅｒ−ｓｐｒｅａｄｉｎｇ　ｌａｙｅｒｓ）および同様な層を付着させることなどにより加工可能であり、本発明では、そのような方法で製造された製品も同様に提供する。
【０１６７】
共押出し加工はそれ自体文献から公知である（例えばヨーロッパ特許出願公開第０　１１０　２２１号およびヨーロッパ特許出願公開第０　１１０　２３８号を参照）。本ケースでは、その手順を好適には下記の如く実施する。押出し加工機を中心層と外側層１層または２層以上を製造する共押出し加工アダプタに連結する。このアダプタは、外側層１層または２層以上を形成する溶融物を薄層として中心層の溶融物に接着させるような設計になっている。次に、このようにして製造した多層溶融ストランド（ｍｕｌｔｉ−ｌａｙｅｒ　ｍｅｌｔ　ｓｔｒａｎｄ）を隣接する所望形態（多壁シートまたは固体状シート）のダイスの所に移送する。次に、その溶融物を制御された条件下でカレンダー加工（固体状シート）または真空校正（ｖａｃｕｕｍ　ｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎ）（多壁シート）することによる公知手段で冷却した後、ある長さに切断する。場合により、応力を除去する目的で条件付け用オーブンを校正段階の後につなげてもよい。前記アダプタを前記ダイスの前方に連結する代わりに、また、前記溶融物がダイスの所で一緒になるようにダイス自身を設計することも可能である。
【０１６８】
以下に示す実施例で本発明のさらなる説明を行うが、それに限定するものでない。本発明に従う実施例は単に本発明の好適な態様を記述するものである。
【０１６９】
【実施例】
以下にＤＯＤ−ＣｏＰＣと呼ぶ材料は、ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）を３０モル％とビスフェノールＡを７０モル％用いて界面重縮合方法で製造されたポリカーボネート（ＭＶＲ７．１）である。連鎖停止剤は４−ｔ−ブチルフェノールであった。
【０１７０】
本発明に従う製品を調製して、これらが示す特性を評価した。全ての実施例で用いた基礎層は、１．２ｋｇの荷重を用いて３００℃で測定（ＩＳＯ　１１３３に従って測定）した時に６．５ｇ／１０分のメルトフロー率（ＭＦＲ）を示すＭａｋｒｏｌｏｎ（商標）３１０３｛ビスフェノールＡが基になった線状のホモポリカーボネート［バイエル（Ｂａｙｅｒ　ＡＧ、Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ、ドイツ）の製品］であり、これは紫外線から保護されている（ＵＶ　ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ）｝からなる厚みが４ｍｍの層であった。
【０１７１】
共押出し加工層の組成構成は下記の通りである：
実施例Ａ−　Ｍａｋｒｏｌｏｎ　３１００｛ビスフェノールＡが基になった線状のホモポリカーボネート［バイエルの製品］（ＭＦＲ＝６．５ｇ／１０）。
実施例Ｂ−　Ｍａｋｒｏｌｏｎ　３１００と０．２５重量％のＴｉｎｕｖｉｎ　３２９＊。
実施例Ｃ−　ＤＯＤ−ＣｏＰＣ
実施例Ｄ−　ＤＯＤ−ＣｏＰＣと０．２５重量％のＴｉｎｕｖｉｎ　３２９。
【０１７２】
共押出し加工層各々の厚みを約５０μｍであった。
＊）　Ｔｉｎｕｖｉｎ（商標）３２９はＣｉｂａ　Ｓｐｅｚｉａｌｉｔａｔｅｎｃｈｅｍｉｅ（Ｌａｍｐｅｒｔｈｅｉｍ、ドイツ）の製品である２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールである。
【０１７３】
多層固体状シートを製造する目的で用いた機械装置を以下に記述する。
【０１７４】
この装置は下記で構成されていた：
−　長さが３３Ｄで直径が６０ｍｍのスクリューが備わっている排気付き主押出し加工機
−　共押出し加工アダプタ［フィードブロックシステム（ｆｅｅｄｂｌｏｃｋ　ｓｙｓｔｅｍ）］
−　長さが２５Ｄで直径が３０ｍｍのスクリューが備わっている外側層付着用共押出し加工機
−　幅が３５０ｍｍの特殊なシート押出し加工用ダイス
−　ポリッシングスタック（ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ　ｓｔａｃｋ）
−　ローラーコンベア
−　テークオフ装置（ｔａｋｅ−ｏｆｆ　ｕｎｉｔ）
−　フライングナイフ（ｆｌｙｉｎｇ　ｋｎｉｆｅ）（鋸）
−　スタッキングテーブル（ｓｔａｃｋｉｎｇ　ｔａｂｌｅ）。
【０１７５】
基礎材料を形成するポリカーボネート粒子を前記主押出し加工機のフィードホッパーに送り込み、共押出し加工用材料を共押出し加工機のフィードホッパーに送り込んだ。各場合とも、これらの材料は対応する可塑化用装置（シリンダー／スクリュー）において溶融しかつ移送された。両方の材料の溶融物が共押出し加工アダプタの中で一緒になり、ダイスから出た後、カレンダーで冷やされることによって、複合体が生じた。その他の装置を用いて、その共押出し加工されたシートを移送し、ある長さに切断した後、積み重ねた。
【０１７６】
以下に示す試験を用いて、テキスト試験片（ｔｅｘｔ　ｓｐｅｃｉｍｅｎｓ）が家庭で見られる種々の化学品に対して示す耐性を試験した。
【０１７７】
両面接着テープ（幅が５ｍｍ）を用いて寸法が１１０ｘ３５ｍｍｘ４ｍｍのシートを固着させることで寸法が４．５ｃｍｘ２．５ｃｍの区分室（ｃｏｍｐａｒｔｍｅｎｔ）を生成させた。試験用媒体に浸けておいた寸法が３ｃｍｘ１ｃｍの綿片を外側の繊維歪み用鋳型（ｏｕｔｅｒ　ｆｉｂｒｅ　ｓｔｒａｉｎ　ｔｅｍｐｌａｔｅ）の上に引き伸ばし（番号”９９”；ＤＩＮ　５３４４９、パート３に従う４ｍｍのシートを用いて外側繊維の歪みを２％）た後、前記区分室の中心に置いて、アルミ箔で密封した。前記シートの幅の方が前記鋳型よりも広いことから、亀裂の開始および進行を後ろ側から容易に観察することができた。
【０１７８】
以下に示す表は、本発明に従うシート（ＣおよびＤ）の方が比較シートＡおよびＢよりも家庭で見られる化学品に対して良好な耐性を有することを示している。
【０１７９】
プレミアム燃料（ｐｒｅｍｉｕｍ　ｆｕｅｌ）を用いた試験と比較することにより、驚くべきことに、本発明に従うシートが家庭用化学品に対して示す耐性の方がこれが燃料に対して示す耐性よりも高いことが分かる。
【０１８０】
【表１】
2004042640.tif 000016
【０１８１】
本発明を説明の目的でこの上に詳細に記述してきたが、そのような詳細は単にその目的の為であり、それに関して本分野の技術者が本発明の精神および範囲から逸脱することなく変更を行うことができるのは、本請求の範囲で限定可能なことを除いた点に関してであると理解されるべきである。
【０１８２】
本発明の特徴および態様は以下の通りである。
１．　共押出し加工層と基礎層を含んで成る多層製品であって、前記共押出し加工層が、式（Ｉ）
【０１８３】
【化１７】
2004042640.tif 000017
【０１８４】
［式中、
Ｒ１からＲ４は、独立して、Ｈ、Ｃ１からＣ４アルキル、フェニル、置換フェニルまたはハロゲンを表す］
で表される１以上の繰り返し単位を０．１から４６モル％有しかつ式（ＩＩ）
【０１８５】
【化１８】
2004042640.tif 000018
【０１８６】
［式中、
Ｒ５からＲ８は、独立して、Ｈ、ＣＨ３、ＣｌまたはＢｒを表し、そしてＸは、Ｃ１からＣ５アルキレン、Ｃ２からＣ５アルキリデン、Ｃ５からＣ６シクロアルキレンまたはＣ５からＣ１０シクロアルキリデンである］
で表される１以上の繰り返し単位を９９．９から５４モル％有していて式（Ｉ）および式（ＩＩ）に従う繰り返し単位の総量が１００モル％であるコポリカーボネートを含有し、そして
前記基礎層が、前記コポリカーボネートが示す耐化学品性より低い耐薬品性を示すことを特徴とするポリカーボネートを含有する、
多層製品。
２．　式（Ｉ）が４，４’−ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）を表しかつ式（ＩＩ）が２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを表しそして前記式（Ｉ）で表される繰り返し単位の量が２６から３４モル％でありかつ前記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の量が７４から６６モル％である第１項記載の製品。
３．　前記基礎層がビスフェノールＡが基になったホモポリカーボネート、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンが基になったホモポリカーボネートおよびビスフェノールＡと１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンが基になったコポリカーボネートから成る群から選択されるポリカーボネートを含有する第１項記載の製品。
４．　前記基礎層がビスフェノールＡが基になったホモポリカーボネートを含有する第１項記載の製品。
５．　シート、パイプ、プロファイルおよびフィルムから成る群から選択される一員の形態である第１項記載の製品。
６．　前記共押出し加工層が追加的に紫外線吸収剤も０．１から２０重量％含有する第１項記載の製品。
７．　前記紫外線吸収剤が
【０１８７】
【化１９】
2004042640.tif 000019
【０１８８】
から成る群から選択される式に従う第６項記載の製品。
８．　第１から７項のいずれか記載の製品を製造する方法であって、前記共押出し加工層と基礎層を共押出し加工することを含んで成る方法。