(57)【要約】【課題】塩化銅エッチング廃液を利用して銅メッキ材料である酸化銅粉を製造する方法では、塩化銅エッチング廃液中に多くの不純物金属が含まれていることから、この廃液を原料として生成された酸化銅粉には不純物金属が混入される。不純物の混入は電気メッキに悪影響を与える原因になっている。【解決手段】塩化銅エッチング廃液に塩化ナトリウムと金属銅材とを加えて、廃液中の塩化第二銅を塩化第一銅に変え、得られた塩化第一銅水溶液から不溶解残渣分を除去した後、母液に水を加えて塩化第一銅を析出させる。回収された塩化第一銅粉を水中に浸漬して塩素と反応させて塩化第二銅水溶液を得、この塩化第二銅水溶液を原料とすることで、生成後の酸化銅粉中の不純物を抑えることができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩化銅エッチング廃液中の銅分を塩化第一銅として回収する工程と、この工程で回収された塩化第一銅を塩素と反応させて塩化第二銅水溶液を得る工程と、この工程で得られた塩化第二銅水溶液を原料として塩基性炭酸銅を生成する工程と、次いで、前記塩基性炭酸銅を熱分解して酸化銅を得る工程と、を含むことを特徴とする高純度易溶解性酸化銅の製造方法。
【請求項２】
前記銅分を塩化第一銅として回収する工程は、塩化銅エッチング廃液にアルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩化物と金属銅材とを加えて塩化第一銅水溶液を生成させる工程と、この塩化第一銅水溶液から不溶解残渣分を除去した後、母液に水を加えて塩化第一銅を析出させる工程と、を含むことを特徴とする請求項１記載の高純度易溶解性酸化銅の製造方法。
【請求項３】
前記金属銅材としては、塩化第二鉄を主成分とするエッチング液により銅材をエッチングした後のエッチング廃液に鉄粉を供給して得られた銅粉を用いることを特徴とする請求項２記載の高純度易溶解性酸化銅の製造方法。
【請求項４】
前記塩化第二銅水溶液を得る工程は、塩化第一銅が浸漬された水中に塩素ガスを供給する工程であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の高純度易溶解性酸化銅の製造方法。
【請求項５】
前記塩基性炭酸銅を得る工程は、塩化第二銅水溶液とアルカリ金属、若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液、或いは炭酸アンモニウムの水溶液とを混合して加熱しながら反応させ、これにより析出した反応生成物を濾過分離する工程であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の高純度易溶解性酸化銅の製造方法。
【請求項６】
酸化銅を得る工程は、塩基性炭酸銅を還元雰囲気とはならない雰囲気下で２５０℃〜８００℃に加熱して熱分解する工程であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の高純度易溶解性酸化銅の製造方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかの製造方法により得られたことを特徴とする高純度易溶解性酸化銅。
【請求項８】
不溶性陽極と陰極をなす被メッキ体とが設けられた電解液に供給される銅メッキ材料において、請求項７記載の高純度易溶解性酸化銅からなることを特徴とする銅メッキ材料。
【請求項９】
請求項７記載の高純度易溶解性酸化銅を、不溶性陽極と陰極をなす被メッキ体とが設けられた電解液に銅メッキ材料として供給し、被メッキ体に銅メッキを施すことを特徴とする銅メッキ方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、塩化銅エッチング廃液を原料とした高純度易溶解性酸化銅の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
被メッキ体に銅メッキ処理を施す一つの方法として、電解液（主成分として硫酸、硫酸銅）に銅メッキ材料を供給し、不溶性陽極と陰極をなす被メッキ体との間で通電する電解メッキ法がある。この方法に用いられる銅メッキ材料としては、塩基性炭酸銅を熱分解して得られた酸化銅粉が知られている。銅メッキ材は、電解液中に適宜補給されるものであるため、硫酸に対して易溶解性であることが必要であるが、塩基性炭酸銅を熱分解して得られた酸化銅粉は易溶解性であることから好適な材料である。
【０００３】
そして銅メッキ材料として使われる前記酸化銅粉を製造する方法としては、塩化第二銅を主成分とする塩化銅エッチング液により、例えば銅プリント基板などのエッチング処理を行った工場から回収された塩化銅エッチング廃液を原料として、塩基性炭酸銅を生成した後、この塩基性炭酸銅を熱分解して酸化銅粉を得る方法が知られている（特許文献１）
【特許文献１】
特許第２７５３８５５号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように塩化銅エッチング廃液を利用して銅メッキ材料である酸化銅粉を製造する方法は、廃液の有効利用を図る事ができ、また市販の塩基性炭酸銅を原料とする場合と比較してコスト的にも有利である。しかしながら、塩化銅エッチング廃液中には、エッチング時に銅プリント基板が溶け出し、銅プリント基板中に含まれていた不純物、例えばＭｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｚｎなどがエッチング液中に取り込まれることから、エッチング廃液を原料とすると、得られた酸化銅粉に上記の不純物金属が混入してしまう。この酸化銅粉をメッキ材料として使用した場合、不純物がメッキ浴中に蓄積して、そのままにしておくと電気メッキに悪影響を与えるため、不純物の蓄積量が所定量に達する前に建浴する必要があるが、銅メッキ材料（補給材）に不純物が多く含まれていると建浴を頻繁に行わなければならずメッキ処理のコストが高騰するし、また手間がかかる。そこで、電解液に銅メッキ材料として酸化銅粉を供給する前に塩基性炭酸銅の段階で出来るだけ多く前記不純物を取り除いておくことが重要であるが、不純物を十分に除去することは難しい。なお、電解銅粉を酸化処理する事で不純物の少ない酸化銅を得る事は難しい。また、この場合できたとしても電解銅粉を使用するためにコストがかかり、また、メッキ液に対して易溶解性とはならない事が分かっており、採用することがができない。また、塩化銅エッチング廃液を直接中和して得られる水酸化銅や酸化銅は中和処理で混入する塩化物の分離が容易でない。
【０００５】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は塩化銅エッチング廃液を原料とした高純度易溶解性酸化銅を得るにあたって、高純度な易溶解性酸化銅を製造できる方法を提供することにある。また他の目的は易溶解性が高く、高純度な銅メッキ材料を提供することにある。更に他の目的は、高純度の易溶解性酸化銅を用いた銅メッキ方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、酸化銅中の不純物の多くは銅原料である塩化銅エッチング廃液に含まれている不純物であることから、不純物の少ない高純度酸化銅を得るために塩化銅エッチング廃液の精製について研究を行い、その手法を見出した。
【０００７】
本発明は、塩化銅エッチング廃液中の銅分を塩化第一銅として回収する工程と、この工程で回収された塩化第一銅を塩素と反応させて塩化第二銅水溶液を得る工程と、この工程で得られた塩化第二銅水溶液を原料として塩基性炭酸銅を生成する工程と、次いで、前記塩基性炭酸銅を熱分解して酸化銅を得る工程と、を含むことを特徴とする高純度易溶解性酸化銅の製造方法である。
【０００８】
前記銅分を塩化第一銅として回収する工程は、塩化銅エッチング廃液にアルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩化物と金属銅材とを加えて、塩化第一銅水溶液を生成させる工程と、この塩化第一銅水溶液から不溶解残渣分を除去した後、母液に水を加えて塩化第一銅を析出させる工程と、を含む。ここで塩化銅エッチング廃液に加えられる上記塩化物とは、例えば塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）などのコストの安い工業塩が用いられる。また前記金属銅材としては、塩化第二鉄を主成分とするエッチング液により銅材をエッチングした後のエッチング廃液に鉄粉を供給して得られた銅粉を用いることができる。
【０００９】
前記塩化第二銅水溶液を得る工程は、例えば塩化第一銅が浸漬された水中に塩素ガスを供給する工程である。前記塩基性炭酸銅を得る工程は、例えば塩化第二銅水溶液とアルカリ金属、若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液、或いは炭酸アンモニウムの水溶液とを混合して加熱しながら反応させ、これにより析出した反応生成物を濾過分離する工程である。また酸化銅を得る工程は、例えば塩基性炭酸銅を還元雰囲気とはならない雰囲気下で２５０℃〜８００℃に加熱して熱分解する工程である。還元雰囲気下で加熱するとは、例えばバーナにより直接加熱するのではなく、電気炉などを用いて加熱することである。
【００１０】
本発明の製法で得られた酸化銅は高い易溶解性を有しかつ高純度であるため、例えば不溶性陽極と陰極をなす被メッキ体とが設けられた電解液に供給される銅メッキ材料として好適に用いることができる。また本発明は、高純度易溶解性酸化銅の使用方法である銅メッキ方法としても成立するものであり、その方法は、上述の高純度易溶解性酸化銅を不溶性陽極と陰極をなす被メッキ体とが設けられた電解液に銅メッキ材料として供給し、被メッキ体に銅メッキを施すことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
図１及び図２は本発明に係る高純度易溶解性酸化銅の製造方法を実施する設備を模式的に示す説明図であり、同図を参照しながら高純度易溶解性酸化銅の製造の実施の形態について説明する。先ず塩化銅エッチング廃液、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）例えば工業塩及び銅粉（Ｃｕ）を第１の溶解槽１内に投入し、混合液の温度が例えば４５℃〜５５℃となるように加熱しながら攪拌手段１１により例えば１時間攪拌して反応させる。混合液の加熱は例えば溶解槽１内に図示しない散気管などからなるバブリング手段を設け、このバブリング手段から蒸気を混合液にバブリングすることにより行われる。ここで、塩化銅エッチング廃液とは、塩化第二銅を主成分とした塩酸を含むエッチング液を、銅からなる被エッチング材、例えば銅プリント基板表面をエッチングした時に塩化第二銅（ＣｕＣｌ２）が銅（Ｃｕ）と反応して塩化第一銅（ＣｕＣｌ）に変わり、その塩化第一銅の濃度が高くなったものである。その組成としては、例えば塩化第二銅が１９〜２１重量％、塩酸が７〜８重量％含まれている。
【００１２】
溶解槽１においては、廃液中の塩化第二銅と銅粉とが（１）式のように反応して塩化第二銅が塩化第一銅となり、塩化ナトリウムから生成される塩化物イオン（Ｃｌ−）の存在により塩化第一銅と塩化物イオンとが反応して、銅クロロ錯体として溶解する。
ＣｕＣｌ２＋Ｃｕ→２ＣｕＣｌ                      （１）
【００１３】
反応後、バルブ１２を開いて塩化第一銅が溶解した溶解液及び塩化第二銅液等が混合している混合液１３を吸引濾過手段１４に送り、ここで混合液１３から不溶解残渣（溶けきれなかった銅粉及び塩化ナトリウム）を除去して、溶解液と固形物とを分離する。塩化第一銅を塩化ナトリウムにより溶解させておく理由は、塩化第一銅が固体になっていると不溶解残渣と分別できなくなるからである。なお、ここでは第１の溶解槽１における処理をバッチ式で説明しているが連続処理として行ってもよい。固液分離されて得られた分離母液（溶解液）を、当該分離母液に対して１０倍の重量比の水と共に希釈槽２内に投入し、攪拌手段２１により例えば２０分間攪拌して塩化第一銅を析出させる。
【００１４】
その後、バルブ２２を開いて混合液２３を吸引濾過手段２４に送り、ここで固形分である塩化第一銅を母液から分離すると共に、当該吸引濾過手段２４にて洗浄液である例えば純水で塩化第一銅を水洗いをすることによって塩化第一銅表面に付着した微量な不純物を洗い流す。洗浄液としては蒸留水やイオン交換水などの純水を用いることができるが、その他それより不純物が少ない水、例えば超純水などを用いることもできる。
【００１５】
洗浄後、塩化第一銅粉を、例えば予め水が貯水されている反応槽３内に投入すると共に、例えば散気管などからなるバブリング手段３１から塩素ガスを反応槽３内に供給する。これにより塩化第一銅は（２）式に示すように塩素（Ｃｌ）と反応することで酸化されて塩化第二銅（ＣｕＣｌ２）に変わり、この塩化第二銅は水溶性であるため塩化第二銅水溶液が得られる。
２ＣｕＣｌ＋Ｃｌ２→２ＣｕＣｌ２                    （２）
その後、前記塩化第二銅水溶液に含まれる銅濃度が１０重量％となるように水の量が反応槽３内で調整され、バルブ３２を開いて、銅濃度が１０重量％である塩化第二銅（ＣｕＣｌ２）の水溶液を抜き出す。そして図２に示すように、この塩化第二銅水溶液と外部から供給されるアルカリ金属の炭酸塩、例えば炭酸ナトリウム濃度が１２重量％である炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）の水溶液とを例えば混合液のｐＨが８．０となるように第２の反応槽４内に投入し、混合液の温度が例えば７０℃〜８０℃となるように加熱しながら攪拌手段４１により例えば２時間攪拌して反応させる。混合液の加熱は例えば反応槽４内に図示しない散気管などからなるバブリング手段を設け、このバブリング手段から蒸気を混合液にバブリングすることにより行われる。
【００１６】
上述の反応は次のように進行する。先ず（３）式のように炭酸銅が生成され、
Ｎａ２ＣＯ３＋ＣｕＣｌ２→ＣｕＣＯ３＋２ＮａＣｌ        （３）
続いて（４）式のように炭酸銅が水和して塩基性炭酸銅の二水塩が生成され、
ＣｕＣＯ３＋３／２Ｈ２Ｏ→１／２｛ＣｕＣＯ３・Ｃｕ（ＯＨ）２・２Ｈ２Ｏ｝＋１／２ＣＯ２                                            （４）
更に（５）式のように上記の二水塩から水が抜け、無水の塩基性炭酸銅が生成される。
ＣｕＣＯ３・Ｃｕ（ＯＨ）２・２Ｈ２Ｏ→ＣｕＣＯ３・Ｃｕ（ＯＨ）２＋２Ｈ２Ｏ                                                        （５）
こうして塩基性炭酸銅が析出生成されて粉体となって沈殿する。そしてバルブ４２を開いて沈殿物であるスラリーを抜き出して遠心分離機４３に送り、ここで遠心分離により固形物を母液から分離し、その固形分を乾燥機４４に入れて乾燥し、塩基性炭酸銅の粉体を得る。
【００１７】
このようにして塩基性炭酸銅を得た後、洗浄槽４５でこの塩基性酸化銅を洗浄液である例えば純水で洗浄する。洗浄液である例えば純水で塩基性炭酸銅を水洗いをすることによって塩基性炭酸銅表面に付着した微量な不純物を洗い流す。
【００１８】
また、炭酸イオン源としては炭酸ナトリウムの他に炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、または炭酸カルシウム、炭酸バリウムなどのアルカリ土類金属の炭酸塩あるいは炭酸アンモニウム（（ＮＨ４）２ＣＯ３）などを用いる事ができる。
【００１９】
次に粉体である前記塩基性炭酸銅を加熱炉、例えばロータリキルン５に供給し、ここで例えば２５０℃以上で８００℃以下の温度に加熱して熱分解する。この例では加熱炉として、管軸を回転軸として回転する例えばステンレス製の回転管５１を僅かに傾斜して設け、この回転管５１の周囲をヒータ５２により囲み、回転管５１を回転させることにより塩基性炭酸銅の粉体を移送するロータリキルン５を用いている。このようにして塩基性炭酸銅を加熱すれば加熱雰囲気が還元雰囲気にならない。塩基性炭酸銅を直接バーナで加熱しない理由は、還元雰囲気にすると、炭酸銅そのものや炭酸銅が酸化銅に分解された後、一部が還元されて亜酸化銅（ＣｕＯ２）や金属銅（Ｃｕ）を生成してしまうので、これを避けるためである。
【００２０】
金属銅は、酸化銅を銅メッキ材料として使用する場合に電解液である硫酸に溶解しないか若しくは溶解し難く、不溶解残渣となり新たな濾過設備が必要となる。また金属銅や亜酸化銅ができると、メッキ浴中への補給銅量が一定とならず、メッキ品の品質がばらついてしまう。従って塩基性炭酸銅を加熱するときには還元雰囲気にしないことが必要である。
【００２１】
また加熱温度については、２５０℃であれば例えば２時間程度加熱することにより酸化銅が得られるが、２５０℃以上で加熱することが好ましく、熱分解の時間を短くして生産効率を高くするためには３５０℃以上であることがより好ましい。８００℃を越えると、得られる酸化銅の易溶解性が小さくなってしまうので８００℃以下であることが好ましい。更により易溶解性の大きな酸化銅を得ようとすると６００℃以下にすることが好ましい。
【００２２】
このようにして酸化銅を得た後、この酸化銅を洗浄液である純水の入った洗浄槽６内に投入し、攪拌手段６１により攪拌して洗浄する。そしてバルブ６２を開いて水と酸化銅との混合スラリーを洗浄槽６から抜き出し、遠心分離機６３又は濾過機により水分を飛ばしてから乾燥機６４で乾燥させ、粉体である酸化銅を得る。
【００２３】
上述の実施の形態では、塩化第二銅の還元剤として金属銅材を使用する場合、金属銅材中の銅分も塩化第一銅となり、最終的には酸化銅原料の増加につながる。このことは、原料として使用される塩化銅エッチング廃液が、今まで回収されていた予定量より少ない場合でも、還元剤として用いられる金属銅材中の銅分が塩化第一銅になることから、結果的に例えば常時回収される塩化銅エッチング廃液の予定量の場合と同等量の酸化銅を得ることができる。従って塩化銅エッチング廃液の入手量（戻り量）が不足しても予定量の酸化銅を製造することができる。また、従来比較的不純物の多い銅材は用途が限られていたが、本発明を実施することによって、銅材の不純物を多く取り除くことができることから、この銅分だけを高純度・高付加価値製品の原料として用いることもできる。
【００２４】
比較的不純物の多い銅材としては、塩化第二鉄を主成分とするエッチング液の戻り廃液から回収された銅粉を挙げることができる。このエッチング液により銅からなる被エッチング材例えば銅プリント基板をエッチングすると、（６）式の反応により塩化第二鉄が銅と反応して塩化第一鉄になる。
２ＦｅＣｌ３＋Ｃｕ→２ＦｅＣｌ２＋ＣｕＣｌ２                （６）
【００２５】
エッチング廃液中には、塩化第一鉄及び塩化第二鉄が含まれており、このエッチング廃液中に鉄材を加えると塩化第二鉄が塩化第一鉄になる。その後、このエッチング廃液中の銅分を回収するために鉄粉を加えると、（７）式のように置換反応が起こり、塩化第二銅が還元されて銅粉となる。
ＣｕＣｌ２＋Ｆｅ→Ｃｕ＋ＦｅＣｌ２                      （７）
【００２６】
こうして得られた銅粉中の９５％以上は銅分であるが、鉄分を数千ｐｐｍ含んでいる。そのため、この銅粉は通常銅化合物原料として直接使用することができず、例えば製鋼原料の一部として使用されている。このように塩化第二鉄エッチング液の廃液から回収された銅粉は不純物を多く含むため用途が制限されているが、塩化銅エッチング廃液中の銅分を塩化第一銅として回収するために使われる金属銅は、そのうちの銅分だけが塩化第二銅から塩化第一銅に変えるための役割を果たすことから、この金属銅として上記の銅粉を用いることができ、これにより用途が制限されている当該銅粉を有効に利用することができる。
【００２７】
ここで本発明によって生成された酸化銅を銅メッキ材料の補給材として用いた銅メッキ方法を実施する装置の一例を図３に示しておく。図３中８はメッキ浴槽であり、この中に電解液である硫酸に酸化銅を溶解したメッキ浴が満たされていると共に、直流電源Ｅの正極側に接続された不溶性陽極８１例えばチタン板に白金属の白金、イリジウムを７：３の割合でコーティングしたものと、直流電源Ｅの負極側に接続された陰極である被メッキ材８２例えば被メッキ用金属板とが浸漬されている。８３は溶解槽であり、メッキ浴槽８内の銅イオンが少なくなってきたときに、補給源であるホッパ８４から酸化銅の粉体を溶解槽８３内に所定量補給し、攪拌手段８５により攪拌して硫酸に溶解させた後、ポンプＰ１、Ｐ２を作動させてメッキ浴を循環させ、その後、次の銅メッキ処理を行う。Ｆはフィルターである。
【００２８】
上述の実施の形態によれば、塩化銅エッチング廃液中の塩化第二銅から直接塩基性炭酸銅を生成するのではなく、塩化第二銅を一旦塩化第一銅に変え、更にこの塩化第一銅を塩化第二銅に変えて、当該塩化第二銅を原料として塩基性炭酸銅を生成するようにしている。従って塩化銅エッチング廃液中の塩化第二銅中に不純物が含まれていても、塩化第二銅から塩化第一銅に変わる段階で不純物が取り除かれるので、塩基性炭酸銅に取り込まれる不純物の量が極力抑えられ、この結果、高純度の易溶解性酸化銅を得ることができる。
【００２９】
【実施例】
（実施例）
塩化銅エッチング廃液（銅濃度：約１０重量％）１０００ｇに塩化ナトリウム３５０ｇ、銅粉１２０ｇを加え、５０±５℃で１時間反応させた。反応後、吸引濾過を行うことで溶解残渣を除去した。得られた分離母液１００ｇに対して水１０００ｇを加え、２０分間攪拌させた。その液を再度吸引濾過し、析出した塩化第一銅を４倍量の水で水洗いした。その塩化第一銅を水を入れた溶液に加え、塩素ガスを散気管を使用してバブリングさせることで塩化第一銅を塩化第二銅に酸化し、塩化第二銅水溶液とした。その後、銅濃度が１０重量％となるように水を加え調節した。得られた塩化第二銅水溶液と約１２重量％の炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）水溶液を管理ｐＨ８．０、反応温度７５±５℃、滞留時間２時間で連続的に反応させた。反応液を吸引濾過し、得られた塩基性炭酸銅を４倍量の水で水洗いした。次いで、塩基性炭酸銅を５００℃で、２時間加熱し、熱分解させ酸化銅とした。このようにして得られた酸化銅について各金属不純物の量を調べたところ、図４の下段に示す結果が得られた。なお濃度の単位はｐｐｍである。
【００３０】
（比較例）
実施例で用いたのと同じ塩化銅エッチング廃液を用いて、この塩化銅エッチング廃液を原料として当該廃液に約１２重量％の炭酸ナトリウム水溶液をｐＨが８．０になるように加え、反応温度７５±５℃、滞留時間２時間で連続的に反応させた。反応液を吸引濾過し、得られた塩基性炭酸銅を実施例と同様の処理を行い酸化銅を得た。このようにして得られた酸化銅について各金属不純物の量を調べたところ、図４の上段に示す結果が得られた。なお濃度の単位はｐｐｍである。
【００３１】
（考察）
ここで塩化銅エッチング廃液と、この廃液中の塩化第二銅を塩化第一銅に変え、塩化第一銅を塩素化して得られた塩化第二銅水溶液とについて、不純物であるＭｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｚｎの含有量を夫々調べたところ、図５に示す結果が得られた。この結果から分かるように塩化銅エッチング廃液中の塩化第二銅を一旦塩化第一銅に変え、更に塩化第二銅とすることにより、いわば塩化第二銅が精製されることになり、従ってこの精製された塩化第二銅を原料とすることにより、不純物の少ない酸化銅が得られ、図４に示す結果になったと思われる。
【００３２】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、塩化銅エッチング廃液中の塩化第二銅を一旦塩化第一銅に変え、更にこの塩化第一銅を塩化第二銅に変えて原料としているため、廃液の再利用を図りながら高純度な易溶解性酸化銅を得ることができる。そしてこの酸化銅を銅メッキ材として利用することにより、良好な銅メッキを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の高純度易溶解性酸化銅の製造方法の実施の形態を示す工程図である。
【図２】本発明の高純度易溶解性酸化銅の製造方法の実施の形態を示す工程図である。
【図３】本発明のメッキ方法に用いられるメッキ処理装置の一例示す構成図である。
【図４】精製前の酸化銅中の不純物の量と精製後の酸化銅中の不純物の量を表として表した説明図である。
【図５】精製前の塩化銅エッチング廃液中の不純物の量と精製後の塩化第二銅水溶液中の不純物の量を表として表した説明図である。
【符号の説明】
１    溶解槽
２    希釈槽
３    反応槽
４    反応槽
４３  遠心分離機
４４  乾燥機
４５  洗浄槽
５    加熱炉
６    洗浄槽
６３  遠心分離機
６４  乾燥機
８    電解槽
８１  不溶性陽極
８２  陰極である被メッキ体
８３  溶解槽
８４  ホッパ
【図１】
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【図２】
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【図３】
2004299974.tif 000005
【図４】
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【図５】
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