(57)【要約】【課題】長時間のコーティング時間を備えた経済的で有利なＣＶＤコーティングを可能にすることを提供する。【解決手段】本発明は、前記少なくとも１つのコーティング設備内で少なくとも２つの部品が受け取られる装置において、コンベア手段、部品をコーティングするための少なくとも１つのコーティング設備、少なくとも１つの排出手段および前記コーティング設備の少なくとも１つの小領域内でプラズマを生成する手段を含むことを特徴とするＣＶＤコーティング装置を提供する。【選択図】　　　図１
2004003027.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣＶＤコーティング装置（１）であって、コンベア手段（２）、部品をコーティングするのための少なくとも１つのコーティング設備（３、３１−４６）、少なくとも１つの排出手段（１９）およびコーティング設備（３、３１−４６）の少なくとも１つの小領域内にプラズマを生成するための手段を含み、少なくとも２つの部品は、前記少なくとも１つのコーティング設備（３、３１―４６）内で受容することを特徴とするＣＶＤコーティング装置（１）。
【請求項２】
前記少なくとも１つのコーティング設備（３１−４６）が前記コンベア手段（２）によって搬送されることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記コンベア手段（２）が、前記コーティング設備（３１−４６）を、少なくとも１つの供給位置（９）から、少なくとも１つの排出位置（１１）、少なくとも１つのコーティング位置（１３）、および少なくとも１つの荷下ろし位置（１５）へ連続的に搬送することを特徴とする請求項２記載の装置。
【請求項４】
複数のコーティング設備（３１−３４）の内の１つが前記少なくとも１つのコーティング位置（１３）内に存在する場合に、各ケースにおける複数の前記コーティング設備（３１−３４）の内の１つが、前記少なくとも１つの供給位置（９）、前記少なくとも１つの排出位置（１１）、および前記少なくとも１つの放出する位置（１５）内に位置されるように、前記コンベア手段（２）上に配置される少なくとも４つのコーティング設備（３１−３４）を包含することを特徴とする請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記コーティング設備（３１−４６）の少なくとも１つの小領域内においてプラズマを生成する前記手段が、パルス・プラズマを生成する手段を含むことを特徴とする請求項１乃至４の内の１つに記載の装置。
【請求項６】
前記部品は、少なくとも１つのコーティング設備（３、３１−４６）内で受け取られることができる少なくとも１つのホルダ（５１−５６）上に配置されることを特徴とする請求項１乃至５の内の１つに記載の装置。
【請求項７】
前記部品は、前記コーティング設備内の少なくとも２つのレベル上に配置されることを特徴とする請求項１乃至６の内の１つに記載の装置。
【請求項８】
前記コンベア手段（２）は、前記コーティング中に、搬送速度を減速し、時には停止することを特徴とする請求項１乃至７の内の１つに記載の装置。
【請求項９】
前記コンベア手段（２）は回転装置を含むことを特徴とする請求項１乃至８の内の１つに記載の装置。
【請求項１０】
前記コンベア手段（２）はレクティリニア装置を含むことを特徴とする請求項１乃至９の内の１つに記載の装置。
【請求項１１】
前記コーティング設備（３、３１−４６）の少なくとも１つの小領域内で、プラズマを生成する前記手段が、電磁波（２５）を生成する手段を含むことを特徴とする請求項１乃至１０の内の１つに記載の装置。
【請求項１２】
電磁波を生成する前記手段が、マイクロ波を生成する手段（２５）を含むことを特徴とする請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
電磁波を生成するための手段（２５）を前記少なくとも１つのコーティング設備（３、３１−４６）に接続するための手段（２３）を包含することを特徴とする請求項１１または１２記載の装置。
【請求項１４】
電磁波を生成する前記手段（２５）が停止する位置内に配置されることを特徴とする請求項１１、１２または１３記載の装置。
【請求項１５】
前記排出する手段（１９）は、少なくとも２つのポンプ・ステージ（１９１、１９２、１９３）を含むことを特徴とする請求項１乃至１４の内の１つに記載の装置。
【請求項１６】
前記少なくとも１つのコーティング設備（３，３１−４６）を前記少なくとも２つのポンプ・ステージ（１９１、１９２、１９３）へ、連続的に接続する手段を含むことを特徴とする請求項１５記載の装置。
【請求項１７】
処理ガスを収容する手段を含むことを特徴とする請求項１乃至１６の内の１つに記載の装置。
【請求項１８】
前記少なくとも２つの部品を固定する手段を含むことを特徴とする請求項１乃至１７の内の１つに記載の装置。
【請求項１９】
前記固定する手段が、ボトル（４）のような空洞の本体を形成している部品を受容する手段（７）を含むことを特徴とする請求項１８記載の装置。
【請求項２０】
前記排出する手段（１９）が、空洞の本体を形成している部品内のキャビティを排出する手段を含むことを特徴とする請求項１９記載の装置。
【請求項２１】
空洞の本体を形成している前記部品内の前記キャビティに対して処理ガスを収容する手段を含むことを特徴とする請求項１８または１９記載の装置。
【請求項２２】
ＣＶＤコーティング装置を使用した部品のＣＶＤコーティングの処理方法であって、具体的には、請求項１乃至２１の内の１つに記載の前記ＣＶＤコーティング装置を使用する処理方法は、
コーティング設備（３、３１−４６）内に少なくとも２つの部品を導入するステップ
排出するステップ、
コンベア手段（２）を用いて前記少なくとも１つのコーティング設備（３１−４６）を搬送するステップ、
前記コーティング設備（３１−４６）の少なくとも１つの小領域内にプラズマを生成するステップ、
通風するステップ、および
前記部品を取り除くステップを
含むＣＶＤコーティングの処理方法。
【請求項２３】
前記コンベア手段を用いて前記少なくとも１つのコーティング設備を搬送する前記ステップを含むことを特徴とする請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記コーティング設備（３１−４６）の少なくとも１つの小領域内にプラズマを生成する前記ステップが、パルス・プラズマを生成する前記ステップを含むことを特徴とする請求項２３記載の処理方法。
【請求項２５】
少なくとも１つの小領域内にプラズマを生成する前記ステップが、少なくとも２つの部品の結合ＣＶＤコーティングのステップを含むことを特徴とする請求項２３または２４記載の処理方法。
【請求項２６】
少なくとも２つの部品を前記少なくとも１つのコーティング設備（３１−４６）へ導入する前記ステップが、配置された前記部品上にホルダ（５１−６５）を導入する前記ステップを含むことを特徴とする請求項２２乃至２５の内の１つに記載された処理方法。
【請求項２７】
コンベア手段（２）を用いて前記コーティング設備（３１−４６）を搬送する前記ステップが、供給位置（９）から排出位置（１１）、コーティング位置（１３）および荷下ろし位置（１５）へ搬送する前記ステップを含むことを特徴とする請求項２２乃至２６の内の１つに記載された処理方法。
【請求項２８】
コンベア手段（２）を用いて前記コーティング設備（３１−４６）を搬送する前記ステップが、前記コーティング中に搬送速度を減速する前記ステップ、時にはコーティング中に停止する前記ステップを含むことを特徴とする請求項２２乃至２７の内の１つに記載された処理方法。
【請求項２９】
前記コーティング設備（３１−４６）の少なくとも１つの小領域内にプラズマを生成する前記ステップが、電磁波、特にマイクロ波を生成する前記ステップを含むことを特徴とする請求項２２乃至２８の内の１つに記載された処理方法。
【請求項３０】
電磁波を生成する手段（２５）を前記少なくとも１つのコーティング設備（３１−４６）へ接続する前記ステップをさらに含むことを特徴とする請求項２２乃至２９の内の１つに記載された処理方法。
【請求項３１】
前記排出するステップが、少なくとも２つポンプ・ステージ（１９１、１９２、１９３）を使用した連続的に排出する前記ステップを含むことを特徴とする請求項２２乃至３０の内の１つに記載された処理方法。
【請求項３２】
前記排出するステップが、ボトルのような空洞の本体を形成している部品のキャビティを真空にする前記ステップを含むことを特徴とする請求項２２乃至３１の内の１つに記載された処理方法。
【請求項３３】
プラズマを生成する前記ステップが、処理ガスを収容する前記ステップを含むことを特徴とする請求項２２乃至３１の内の１つに記載された処理方法。
【請求項３４】
処理ガスを収容する前記ステップが、空洞の本体を形成している部品内のキャビティへ、処理ガスを収容する前記ステップを含むことを特徴とする請求項３３記載の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、部品のＣＶＤコーティングのための装置に関し、具体的には、複数の部品を同時にコーティングするための装置に関する。
（発明の背景）
【０００２】
プラスチック・ボトルのような特定のプラスチック容器におけるバリア作用を改善するために、最近では、バリア層と共に提供されていることがある。このタイプのコーティングは、とりわけ多種のＣＶＤ処理（ＣＶＤ：ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｖａｐｏｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：化学気相蒸着）によって容器の壁上に堆積される。
【０００３】
プラズマ・インパルスＣＶＤ（ＰＩＣＶＤ：ｐｌａｓｍａ　ｉｍｐｕｌｓｅ　ＣＶＤ）処理（パルス・マイクロウェーブ・プラズマ）は、プラスチック容器に対して特に適した堆積処理方法である。プラズマが維持し続けるプラズマ拡張化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ：ｐｌａｓｍａ−ｅｎｈａｎｃｅｄ　ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｖａｐｏｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）と比較すると、ＰＩＣＶＤ処理には、特別な利点があり、それは、その処理によって、温度感受性プラスチックの温度の上昇を低減することを可能にすることである。さらに、プラズマが励磁されていないパルスが外にある時間帯にガス交換が可能になることである。
【０００４】
この目的のために、実験規模におけるコーティング装置において、プラスチック容器は、コーティング設備へ挿入される。この設備は、コーティングのために必要な技術手段のすべてが装備されるものである。これらは、特に、真空ポンプ、ガス供給機、センサーおよび電磁波の導入を包含する。真空密閉ベルジャが閉ざされた後、空洞の本体は、内部および外部上において真空にされ、容器内部側および／または外部側のコーティングが実行される。
【０００５】
産業規模におけるコーティングは、相応して高いキャパシティーを備えた機械を必要とする。一例として、放射状に配置され継続的に動作する回転式コンベアと同一のコーティング装置は、この目的に適している。
【考案の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
この記述において層を堆積するには、長いコーティング時間が必要となる問題が出てくる。一例として、最近のコーティングは、コーティング時間だけでも２０秒より多くの時間が必要とされる。コーティングが複数のステップにおいて存在すると、コーティングセクションにおける長い滞留時間が必要となる。ここで考えられることは、一例として、コーティングに先立って、プラスチック本体の表面が励起される場合、または、多くの層を連続して適用する必要がある場合である。これらのケースでは、非常に大きく、そして、それ相応の高価な設備が必要となり、それに相当する時間に合わせて低速で動作させるか、その処理時間に合わせるように装置を大きくする必要があるため、継続的に動作する回転式コンベア装置は、もはや経済上動作させることができなくなる。
【０００７】
従って、本発明は、長い処理時間であっても、より経済的なＣＶＤコーティングを確立する目的に基づいたものである。
（発明を解決するための手段）
【０００８】
この目的は、請求項１に記載された部品のＣＶＤコーティングのための装置および請求項２２に記載された部品のＣＶＤコーティングのための処理方法によって驚くほど簡単な方法で達成できる。有効な改良点は、それぞれの従属の請求項の主題を形成する。
【０００９】
従って、本発明のＣＶＤコーティング装置は、コンベア手段、部品をコーティングをするための少なくとも１つのコーティング設備、少なくとも１つの排気手段、およびコーティング設備の少なくとも１つの小領域においてプラズマを生成する手段を含み、この装置は、少なくとも２つの部品を少なくとも１つのコーティング設備内で受容することができる。
【００１０】
事実は、コーティング設備が複数の部品を同時に受容することができる手段は、コーティング設備内で受容される部品の数に対応する要素によって増加された処理時間と同じ時間を維持する処理能力を備える。このことは、装置の大きさを小さくしておくことができるが、それにもかかわらず、高い処理能力と結合して、長いコーティング時間を実行することができることを保証する。
【００１１】
さらに、多くの実施例において利益があることは、少なくとも１つのコーティング設備がコンベア手段を用いて搬送されることである。
【００１２】
コーティング設備の少なくとも１つの小領域におけるプラズマの生成手段は、パルス・プラズマを生成する手段を含む。このタイプの手段は、前記の利点を有する部品のＰＩＣＶＤコーティングを可能にする。
【００１３】
複数の部品は、少なくとも１つのコーティング設備において受容されることができる少なくとも１つのホルダ上に、前記複数の部品が配置されるような単純な方法で受容される。このケースでは、部品は、一面または３次元的に複数の面が積み重なったものである。
【００１４】
さらに、装置は有利に、少なくとも１つの供給位置から少なくとも１つのポンプ位置、少なくとも１つのコーティング位置、および少なくとも１つの荷下ろし位置までコンベア手段が連続的に、コーティング設備を搬送するように構成される。具体的には、この装置は、少なくとも４つのコーティング設備を持ち、このコーティング設備は、コンベア手段によって処理される。この処理は、複数の内の１つのコーティング設備がコーティング位置に存在する場合に、各ケースのコーティング設備の１つは、供給位置、排出位置および荷下ろし位置に存在するように処理される。このことは、各コーティング設備が処理シーケンスの１つのステップに加わることを可能にし、そのことにより、処理シーケンスは、時間に関して最適化されることとなる。
【００１５】
処理シーケンスは、コーティング中の搬送速度を遅くするコンベア手段によってもまた最適化される。これに関して、搬送する手段がコーティング中に停止することは、特に有益なことである。連続的な生産プロセスから生じる偏差は、概して異なった長さの生産プロセスの段階のよりよい時間活用に帰着する。
【００１６】
本発明の好ましい実施例によると、コンベア手段は、回転装置を含む。これらは、特にコンパクトな形式で、および比較的単純なメカニズムによって生産することができる。また一方、さらに、レクティリニア・システムを使用することを可能にする。レクティリニア・システムの一例として、２つの向かい合う側からコーティング設備へ自由にアクセスができるという長所を提供する。
【００１７】
プラズマは、電磁波を生成するための手段のような簡単な方法によって、コーティング設備の少なくとも１つの小領域内に生成される。これに関して、容易に空洞の導波管によって搬送され、高いエネルギ密度を転送するマイクロ波を生成することは特に有利である。
【００１８】
さらに、本発明による装置が、電磁波を生成する手段を少なくとも１つのコーティング設備に接続する接続手段を包含すれば、都合のよいことである。このことによって、コーティング設備と共に搬送される電磁波を生成するための手段が必要でないことが結果として得られる。どちらかと言えば、このタイプの手段は、定義されたコーティング領域が確立された場合のみのときに、電磁波を生成する手段を、少なくとも１つのコーティング設備に接続するために使用される。
【００１９】
装置を単純な構造にするために、電磁波を生成するための手段が停止している位置内で処理されることは、特に有利である。このことは、少なくとも１つのコーティング設備と共に搬送されなければならない手段を回避する。具体的には、このことは、各コーティング設備が、コンベア手段によって搬送される専用プラズマ生成手段を保有する必要がないことを保証し、そのことによってＣＶＤコーティング装置のための機械の支出が大きく増加することとなる。
【００２０】
プラズマ・コーティングをさらに速く達成するために必要な最終圧力を可能にするには、少なくとも２つのおよび好ましいそれ以上のポンプ装置またはポンプ・ステージを使用することが有利である。そのポンプ・ステージは、異なった圧力範囲のために最適化される。連続してポンプ・ステージのスイッチをオンおよびオフの切り替えをして、そのことによって、シングル・ポンプ・ステージと比較して極めて低減されたポンプ能力の最終圧力が速く達成される。
【００２１】
さらに、本発明による装置は、少なくとも１つのコーティング設備を少なくとも２つのポンプ・ステージに連続的に接続する手段をさらに包含する。このことは、例えば、回転コンベア手段のケースにおける専用回転位置において、例えば、コンベア手段の定義された位置において、コーティング設備に対しての接続を実現することとなる。
【００２２】
排出およびコーティング中において部品を確実に固定するために、本発明による装置は、少なくとも２つの部品のための固定手段をさらに有利に包含する。固定手段は特に、ボトルのような空洞の本体を形成する部品を受け取る手段をさらに含む。
【００２３】
さらに、処理ガス収容手段は、本発明の全ての実施例において有利である。プラスチック・ボトルまたはガラス製のボトルのような空洞の本体をコーティングすることは、処理ガスを空洞の本体へ収容されるように設計することをさらに意味する。空洞の本体が封かん受容手段に固定されることによって、空洞の本体の内部領域および外部領域において、異なったガス組成を生成することを可能にする。このようにして、空洞の本体の内部および外部の壁上に異なった層を生成することを可能にし、または、例えば、プラズマが内部領域および外部範領域内のみにおいて電磁放射の作用によって生成される方法でガス組成が、選択された場合に、内部または外部のコーティングのみ生成することを可能にする。
【００２４】
長い処理時間において達成される経済的なコーティングを可能にする部品のＣＶＤコーティングのための処理を提供することはさらに本発明の範囲の一部である。部品のＣＶＤコーティングのための処理は、特に、本発明による装置を使用して達成される。この処理は、
・コーティング設備内に少なくとも２つの部品を導入するステップ、
・排出するステップ、
・コンベア手段を用いて少なくとも２つの部品を搬送するステップ、
・コーティング設備の少なくとも１つの小領域内にプラズマを生成させるステップ、
・通気するステップ、および
・部品を取り除くステップ
を含む。
【００２５】
少なくとも１つの小領域内でプラズマが生成されることは、プラズマを形成する処理ガスの構成要素間における化学反応を導く。プラズマにおける反応の出発原料は、次に、プラズマに隣接する部品の表面上にコーティングされるように堆積される。
【００２６】
プラズマが生成される結合コーティング設備内で複数の部品を扱うことによって、処理能力を低減させることなく、一緒に扱われるかコーティングされる部品の数にしたがった処理時間を延長することを可能にする。共通のコーティング設備におけるコーティングの利点を活用するためには、少なくとも１つの小領域内でプラズマを生成するステップはさらに有利に、少なくとも２つの部品の結合ＣＶＤコーティングのステップを含むことである。
【００２７】
さらに、本発明による処理の異なる変形において、少なくとも１つのコーティング設備がコンベア手段によって搬送されることは有利である。このように、例えば、受容された部品が、コーティング設備と一緒に搬送され、そして、その結果、多種の処理ステップは、コンベア手段の動作中に実行される。
【００２８】
コーティング設備の少なくとも１つの小領域内でプラズマを生成するステップにおける処理の構成が、パルス・プラズマを生成するステップを含むことは、特に有利なことである。パルス・プラズマは特に、パルス中にハイ・パワーをプラズマ内で変換することを可能にし、と同時にその経過時間における平均パワーは低いレベルに維持される。
【００２９】
コーティング設備へ導入されるホルダ上の部品を配置することは、本発明による処理において、特に利益のあることである。なぜならば、このステップは、コーティング装置の外部で実行することができるからである。この結果、空間は、ロボット・グリップ・アームのような装置のために形成される。
【００３０】
部品が、コーティング設備内の少なくとも２つのレベルにおいて配置される場合、特に好ましい空間の利用が達成される。このことは例えば、ホルダーにおける的確な配置によって達成されることとなる。
【００３１】
さらに、コンベア手段を用いたコーティング設備を搬送するステップは、有利に、供給位置から排出位置、コーティング位置および荷下ろし位置へ搬送するステップを含む。
【００３２】
時間に関する処理のシーケンスをさらに最適化するには、コンベア手段を用いたコーティング設備を搬送するステップがさらに、コーティング中の搬送速度を減速するステップを含むことが好ましく、特に、コーティング中に停止するステップを含むことが好ましい。
【００３３】
さらに、コーティング設備の少なくとも１つの小領域内においてプラズマを生成するステップは有利に、電磁波、具体的にはマイクロ波を生成するステップを含む。さらに、プラズマを生成するステップは有利に、処理ガスを収容するステップを含む。
【００３４】
本発明の利益性のある改良によって、処理はさらに、電磁波を生成する手段を少なくとも１つのコーティング設備に接続するステップを含む。このように、電磁波は、コーティング設備を備えたコンベア手段がそれを過ぎて移動することができる一方、停止する手段を使用して生成することができる。
【００３５】
排出中に、要求された最終圧力に早く到達するために、排出ステップは、さらに、少なくとも２つのポンプ・ステージを使用する連続的な排出ステップを追加的に含む。
【００３６】
ボトルのような空洞の本体を形成している部品の内部コーティングを達成するために、真空状態にされる空洞の本体を形成している部品によって囲まれているキャビティは目的にかなったものある。従って、この利点のある改良は、ボトルがコーティングされている場合、一例として、ボトルの内部は真空状態にされることである。さらに、このようなタイプの部品をコーティングするには、処理ガスを収容するステップが、空洞の本体を形成する部品内のキャビティに処理ガスを収容するステップを含むことは目的にかなったことである。
【００３７】
本発明は、一例として好ましい実施例を基に、および添付された図を参照してより詳細に次に記載される。
【実施例】
【００３８】
図１は、図中の１によって全体が示される本発明に従ったＣＶＤコーティングの第１の実施例の概略平面図を示す図である。この実施例では、装置１は、回転式コンベアの形をしたコンベア手段２を含む。４つのコーティング設備３１、３２、３３、３４は、回転式コンベア２に固定されている。
【００３９】
コーティングされた部品は、パレットの形をしたホルダ５１、５２、５３、５４上に配置され、前記ホルダは、コーティング設備３１−３４に供給される。
【００４０】
部品は、適切な固定手段または受容手段７によってパレット上に固定される。パレット上の部品を配置する操作およびパレットからそれらを取り除く操作は、このケースにおいては例として、ロボット・グリップ・アームによって実行される。図１に示される装置１の実施例では、各ケースにおいて、１つのパレット上に１６の受容手段がある。従って、各ケースの１６この部品は、同時に１つのコーティング設備内でコーティングされる。
【００４１】
パレット５１−５４の内の１つのパレットに固定されている部品は、コンベア手段２上にあるコーティング設備が供給位置９にある場合に、コーティング設備３１−３４に供給される。供給位置は、回転式コンベアの定義された回転角または回転角範囲に対応する。
【００４２】
複数のコーティング設備の内の１つ、すなわち図１のコーティング設備３１が供給位置に存在する場合、各ケースにおけるその他のコーティング設備３２、３３、３４は、排出位置１１、コーティング位置１３、および荷下ろし位置１５に存在する。
【００４３】
パレットがコーティング設備３１に供給された場合、最終的には閉じられ、そしてコーティング設備は、コーティング設備３１がポンプ位置１１に到着するまでに、コンベア手段２上へ向かって搬送される。図１に示された装置の状態は、コーティング設備３２内に受容されたパレット５２を備えたコーティング設備３２が、ポンプ位置に存在する状態となる。この位置では、コーティング設備３２は、適応させる手段によって、排出手段１９に接続される。この実施例では、この接続する手段は、真空ライン１７を含む。排出手段は好ましくは、例として、異なった種類のポンプの組み合わせを含む。前記ポンプは、連続的に接続する手段により接続され、コーティング設備３２内に圧力を瞬間的に行き渡らすための最適化されたポンプ能力を供給することできる。排出手段１９はさらに、図１に示されたこととは反対に、回転式コンベアの内部領域２１内に配置され、装置１の最もコンパクトな構造を達成することを可能にする。
【００４４】
コーティング設備が排出され真空にされた後、コーティング設備の方向に移動されたコンベア手段は、コーティング位置１３に置かれる。コーティング位置１３において、マイクロ波を生成する手段２５は、コーティング設備に接続される。一例として、このことは、空洞の導波管２３を適合させる手段、すなわち図１中で示されている単一の空洞の導波管のみによって達成される。ここで例示した実施例の全てにおいて、さらに、コーティング設備が複数の空洞の導波管２３によって接続されることは目的にかなったことであり、例として各部品毎の１つの空洞の波動管の例は、コーティング設備内に放射の一様分布を提供するものである。
【００４５】
さらに、コーティング設備１３において、適合ポンプを含むポンプ装置１９４によって、コーティングに適した処理ガスは収容され、必要な処理圧力に調節される。さらに、供給ライン手段１７によってコーティング位置１３内の各ケース内に配置されたコーティング設備に接続されたポンプ装置１９４は、処理ガスを排出することができる。前記処理ガスは、図示されていない手段によってコーティングされている間に供給される。その結果、ガス交換は、コーティング操作の間に可能となる。次に、プラズマは、手段２５によってコーティング設備内に放射されるマイクロ波手段によってコーティング設備の内部に生成される。その結果、プラズマ内で発動する化学反応は、プラズマの領域内に配置されている部品の表面上にＣＶＤ層を形成する。
【００４６】
具体的には、このプラスチック・ボトルのような空洞の本体を形成する部品のケースでは、ガスはさらに、空洞の本体の内部に収容される。この目的において、パレットを受容する手段７は、パレット上に固定された部品と合わせて、それらは、空洞の本体を形成する部品の内部壁によって部分的に区切られた閉キャビティを生成するような形で設計される。マイクロ波が放射されると、プラズマが形成され、層は、部品の内部に堆積されるか、または受け取る手段７および部品によってキャビティ内に形成される。このようにして、空洞の本体を形成する部品の内面のコーティングが実行される。処理ガスがキャビティ内部のみに生成された場合、プラズマは、極めて低い排出によって生成された圧力であっても、キャビティの外部には形成されない。あるいは、手段１９はさらに、形成されたキャビティのみを排出するために使用され、この結果、コーティング設備の残されている一部分は、標準の圧力下にあることとなる。このケースでは、高いガス密度およびガス分子の短い自由行路長さによって、プラズマはコーティング設備のこれらの一部分に形成されない。
【００４７】
さらに、このケースにおける空洞の本体を形成する部品は、さらに、様々な処理ガスがキャビティ内、そして、コーティング設備内の残された領域に形成される。このように、部品の内部および外部の壁は、様々な種類の層を備えることとなる。一例として、プラスチック・ボトルは、便宜上、拡散障壁を備える内部コーティングおよびＵＶ抵抗層を備える外部コーティングを備える。
【００４８】
コーティング操作が終了した後、コーティング設備は、次に、コンベア手段を利用して荷下ろし位置１５の方へ搬送され、その位置では、コーティングされた部品を備えるパレットが、適応装置の手段により取り除かれる。
【００４９】
コンベア手段は、全ての処理シーケンスの全てにおいて継続的に移動を行う。しかしながら、コーティング操作中にコンベア手段が停止することは有利なことであり、このことによって、空洞の波動管２３のマイクロ波を生成するための固定手段２５は移動する必要がなくなる。さらに、排出手段１９に接続する操作および排出する操作は、コンベア手段が停止した状態ならば困難なことなく達成される。
【００５０】
本発明による装置１のさらなる実施例を図２を用いて説明する。
【００５１】
ＣＶＤコーティング装置１の実施例は、８個のコーティング設備３１−３８を含む。パレットの形をしたホルダ５１−５８は、各ケース内の８個の部品を受け取るために適切なものである。図１に示された実施例とは反対に、コーティング設備３１−３８は、コンベア手段と合わせて、複数の排出位置およびコーティング位置に供給される。ブロックの形をした矢印は、回転コンベアの回転方向を示す。
【００５２】
図２には、第１の排出位置におけるコーティング設備３２、第２の排出位置におけるコーティング設備３３、および第３の排出位置におけるコーティング設備３４が示されている。
【００５３】
本発明のこの実施例において、コーティング設備を排出する手段は、複数の各排出位置のポンプ装置１９１、１９２、および１９３を含み、それら複数の位置の内の１つに位置されたコーティング設備はそれぞれ各ポンプ装置１９１、１９２、１９３に接続される。
【００５４】
このように、コーティング設備は、定義された減圧に合わせて排出される。ポンプ装置は好ましくは、相対的に低いポンプ能力でも、コーティング設備の効果的な排出を達成するために、異なった圧力範囲において最適化される。
【００５５】
さらに、ＣＶＤコーティングに関して図１に示された改良と異なる図２に示された実施例は、複数の位置において実行される。図２に示された装置において、コーティング設備３５は第１のコーティング位置に存在し、コーティング設備３６は第２のコーティング位置に存在し、そして、コーティング設備３７は第３のコーティング位置に存在することを示している。これらの位置において、コーティング設備は、空洞の波動管２３を介してマイクロ波を生成する手段２５に接続される。その空洞の波動管２３を介してコーティング設備へ入るマイクロ波は、次に、処理ガスが配置されている領域内でプラズマを生成し、するとすぐに、プラズマとして形成される反応は、プラズマと接触している部品の表面に堆積される。図１に示されることと同じように、この変形は、プラスチック・ボトルのような空洞の本体の形をした部品の内部コーティングを達成することを示す。さらに、個々の位置において、異なる処理ガスが供給されることを可能にし、その結果、異なったコーティングは、次に、個々の各位置において適用される。コーティング操作中にガス交換を可能にするために、複数のコーティング位置のそれぞれに配置されているコーティング設備は、供給ライン１７を介して次のポンプ装置１９４に接続される。
【００５６】
パレットは、図１の実施例に示される方法と同じ方法で供給され、取り除かれる。図２に示される装置１の位置において、コーティング設備３１は、供給位置にあり、コーティング設備３８は、荷下ろし位置にある。
【００５７】
本発明のさらなる実施例を示す図３を参照すると、この実施例は、１６個のコーティング設備３１−４５を含み、図１および２に示されている実施例と同様の方法によって、パレットの形をしたホルダ５４−６４を受容する。図２に示された実施例と同様に、コーティング設備は、３つのポンプ・ステージ１９１、１９２、１９３によって排出される。このケースにおいて、コーティング設備３５および３６が配置され、図に示されている装置１の位置における２つの排出位置は、最終ポンプ・ステージ１９３に割り当てられる。このことにより、コーティング設備は、他の２つのポンプ・ステージがコーティング設備と接続されている長さの２倍の各ケースにおいて、最終ポンプ・ステージに接続される。ここにおける利点は、圧力が落ちることで、真空ポンプの吸気能力が落ちることである。
【００５８】
コーティングは、２つのステージにおいて実行される。第１のステージは、２つのコーティング位置に割り当てられ、第２のステージは、４つのコーティング位置に割り当てられる。この目的のために、コーティング設備は、もう一度マイクロ波２５１および２５２を生成する手段に接続されている空洞の波動管２３に接続される。コーティング位置を変更している間、空洞の波動管は、空洞の導波管はＣＶＤコーティングへの中断を回避するために再び接続されることができるか、または、付随される。
【００５９】
図４は、レクティリニア・コンベアとして設計された本発明に従った装置を図示化したものである。この実施例のコンベア手段２は、ロールにより誘導されているコンベア・チェーン２２を含む。ロール２４の周囲によって誘導されているコンベア・チェーン２２の搬送方向は、矢印により示される。ボトル４を受容し、固定する受容手段７は、コンベア・チェーンに固定される。ボトル４は、コンベア・チェーンの反対側において挿入され、および取り除かれる。このことは、装置１の至極コンパクトな構造を提供する。
【００６０】
ボトル４は、コンベア・スクリュー４７を備えるコンベア・レール２９上の装置１に向かって搬送され、そして、それらボトル４は、次に、下方からプッシャー２７により受容手段７へ押される。プッシャー２７は好ましくは、複数のボトル４が同時に受容手段７に押し込まれるように設計される。ボトル４は、コンベア・ワームを備えたコンベア上の受け取る手段７間の距離に対応して定義された間隔でプッシャー２７へ降ろされる。しかしながら、プッシャーの代わりとして、１つまたはそれ以上のロボット・グリップ・アーム、または同様の手段を使用することが可能である。さらに、受容手段７は、ボトルを固定する手段としてクランプを保有する。
【００６１】
受容手段７によって固定されているボトルは、次に、コンベア・チェーン２２によって反対側に搬送される。次のステップでは、コーティング設備３はより低い位置に下げられ、そのことにより、ボトルは、コンベア手段の表側上のコーティング設備内で受容される。前記の実施例と異なることは、この実施例では、コーティング設備がコンベア手段２と一緒に搬送されないことである。このケースでは、コーティング設備３は、好ましくは、本発明に基づいた共通コーティング設備内の複数の部品を同時にコーティングする利点を利用することを可能にするために、受容することができるボトル４の数が、プッシャー２７によって、受容手段７に同時に押し込まれるボトルの数に対応するように設計される。各ケースにおける４つのボトルのためのコーティング設備を備えた図４に示されたこの実施例は、単に一例である。
【００６２】
次に、コーティング設備の内部は、排出手段１９によって排出され、前記排出手段１９は、単に象徴的に示され、ひとつまたはそれ以上の真空ライン１７を介してコーティング設備３へ接続される。
【００６３】
次に、処理ガスは、ボトル４の内部に生成され、前記ボトル４の内部において、空洞の波動管２３を介してコーティング設備３に接続されているマイクロ波を生成するための手段２５の手段によってプラズマが発火される。マイクロ波を生成する手段２５および排出手段１９の両方は、例として、コーティング設備３に固定するように接続され、コーティング設備３と一緒に上下に移動される。これらの手段はさらに、固定または取り外し不可能な接続によってコーティング設備３に接続され、その結果、手段２５および１９は、固定する位置に配置される。
【００６４】
コーティングが完了した後、コーティング設備の内部は通風され、コーティング設備３は再度持ち上げられ、ボトルは、コンベア手段２の裏面へ移動されるまえまでに、コンベア・チェーンによって搬送される。この後は、ボトル４は次に、取り除く手段４８によって受容手段７から取り除かれ、コンベア・ベルト３０上に置かれ、搬送される。この処理のタイプは、特に直立位置によって装置１に対してボトルを搬送することおよび直立位置のボトルを搬送することを可能にする。その結果、搬送技術を使用している充填作業のある工場が、主立った修正を要求されることなく、搬送設備を使用することができることとなる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】回転式コンベア手段を備えた本発明の第１の実施例の概略平面図である。
【図２】回転式コンベア手段を備えた本発明の第２の実施例の概略平面図である。
【図３】回転式コンベア手段を備えた本発明の第３の実施例の概略平面図である。
【図４】レクティリニア・コンベアとして設計された本発明に従った装置の概略平面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１　ＣＶＤコーティング装置
２　コンベア手段
３　コーティング設備
４　ボトル
７　部品を受け取る手段
９　供給位置
１１　ポンプ位置
１３　コーティング位置
１５　荷下ろし位置
１７　真空ライン
１９　排出手段
２１　コンベア手段の内部領域
２２　コンベア・チェーン
２３　ロール
２３　空洞の波動管
２４　ロール
２５　マイクロ波を生成する手段
２７　プッシャー
２９　コンベア・レール
３０　コンベア・ベルト
３１−４６　コーティング設備
４７　コンベア・ワーム
４８　取り除く手段
１９１−１９４　ポンプ装置
２５１　マイクロ波を生成する手段
２５２　マイクロ波を生成する手段
【図１】
2004003027.tif 000003
【図２】
2004003027.tif 000004
【図３】
2004003027.tif 000005
【図４】
2004003027.tif 000006
【外国語明細書】
2004003027.tif 000007
2004003027.tif 000008
2004003027.tif 000009
2004003027.tif 000010
2004003027.tif 000011
2004003027.tif 000012
2004003027.tif 000013
2004003027.tif 000014
2004003027.tif 000015
2004003027.tif 000016
2004003027.tif 000017
2004003027.tif 000018
2004003027.tif 000019
2004003027.tif 000020
2004003027.tif 000021
2004003027.tif 000022
2004003027.tif 000023
2004003027.tif 000024
2004003027.tif 000025
2004003027.tif 000026
2004003027.tif 000027
2004003027.tif 000028
2004003027.tif 000029
2004003027.tif 000030
2004003027.tif 000031
2004003027.tif 000032
2004003027.tif 000033
2004003027.tif 000034
2004003027.tif 000035
2004003027.tif 000036
2004003027.tif 000037
2004003027.tif 000038
2004003027.tif 000039