(57)【要約】【課題】有機重合体に親水性を付与し得る重合性組成物及び該重合性組成物を重合して得られる有機重合体を提案すること。【解決手段】分子内にアセトアミド基及びアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物と重合し得る炭素−炭素二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物を含有する重合性組成物及び該重合性組成物を重合して有機重合体を得る。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2004002600.tif 000006
（式中Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表す。但し、Ｒ２及びＲ３は水素原子またはメチル基の一部または全部がヒドロキシ基で置換されていてもよい。Ｘは、Ｏ、Ｓ、ＮＨ、またはＮＣＨ３を表す。
ａは１〜６の整数を表す。
ｂは０から３の整数を表す。
で表される化合物を含む重合性組成物。
【請求項２】
請求項１記載の重合性組成物を重合して得られる有機重合体。
【請求項３】
水接触角が４０°以下である請求項２記載の有機重合体。
【請求項４】
請求項２または請求項３記載の有機重合体からなる成形体。
【請求項５】
請求項２または請求項３記載の有機重合体からなる膜。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アセトアミド基並びにアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物を含む重合性組成物を重合して得られる有機重合体及びその有機重合体からなる成形体並びに成形体の用途に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、様々な環境問題が顕在化し、全ての分野に於いて環境を汚さないクリーンな製品・プロセスが要求されてきている。
例えば、樹脂及び塗装材料の硬化システムも例外ではなく、従来の熱硬化システムから新しい放射線硬化システム等に移行することによって、より省エネルギー化、短時間化、簡素化、脱ＶＯＣ（低揮発性有機化合物）化、低触媒・低添加剤化を図り、環境への負荷を低減する動きが活発化している。
【０００３】
脱ＶＯＣ化の動きを例に挙げると、１９６０年代、米国に於ける大気汚染問題に端を発したＶＯＣ問題は、カナダから始まったＲＣ（レスポンシブル・ケア）活動によって活性化され、現在、有機溶剤の排出規制という形で、世界的規模で推し進められている。
現在の全世界のＶＯＣ総排出量は凡そ２０００万トン／年と推算され、その内自動車から１０００万トン／年（主にディーゼル車）、塗装から３５０万トン／年にも達していると言う｛工業材料，４８（５），２８−３５（　２０００年　）｝。塗装からのＶＯＣを減らす方法としては、溶剤の代わりに水を用いる水性塗装材料、溶剤も水も使わない紛体塗装材料への変換が極めて効果的で、現在、材料の高親水化による水性塗装材料への移行、並びに高融点化による紛体塗装材料への移行が急ピッチで進んでいる｛工業材料，４８（５），２８−３５（　２０００年　）｝。
【０００４】
材料の親水性の指標となる代表的な物性値として、水接触角が広く知られ（ぬれ技術ハンドブック，テクノシステム出版，２００１年）、水接触角が０°に近づくほど親水性が高い、即ち水がよく濡れる材料（親水性材料）であるといわれている。
【０００５】
上記の脱ＶＯＣ化塗装材料、建築物外壁に親水性材料を用いることにより、これらの塗装面あるいは外壁に付着した汚れ（外気疎水性物質等）が降雨及び散水等によって除去される防汚染性（セルフクリーニング性）を向上させることができ｛高分子，４４（５），３０７、化工日報，２００１年８月２４日記事｝、親水性の向上に伴って防汚染性も向上し、水接触角で凡そ５０°以下になると汚れなくなると報告されている｛未来材料，２（１），３６−４１｝。
【０００６】
特に、水接触角が２０°以下になると、窓ガラス、鏡、建築内装材料、農業用ビニールシート、眼鏡レンズ、カメラレンズ等で見られる曇り・結露もほぼ防止できることが報告されている（ぬれ技術ハンドブック，テクノシステム出版，２００１年）。
【０００７】
さらに、高い親水性は、冷却フィン等で起こる液滴形成及び汚染物質付着による熱交換効率低下を抑制し（特開平０７−１８４５８号公報）、コンタクトレンズの装着感も向上させる｛ＳＥＥＤ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ　商品名シードＳ−１（医療用具承認番号２１１００ＢＺＺ００５５７０００）パンフレット｝ことも報告されている。
【０００８】
ところで、これらの用途に於いては、大型であったり、構造が複雑であったり、精度が要求されたり、生産性、操作性、製品の柔軟性及び安全性が必要だったり、透明性、光沢が必要だったり、さらに着色または染色が好まれたりする等、無機材料ではこれらの要求を満足させることは困難な場合が多く、有機材料への要求が高まっている。
【０００９】
親水性を有する有機重合体としては、ポリビニルアルコール（水接触角３６°、超親水超撥水化技術，技術情報協会出版，２００１年）、ポリイソプロピルアクリルアミド（水接触角約４４°、Ｌａｎｇｍｕｉｒ，１１，２３０１，１９９５年）、ポリアクリロニトリル（水接触角５３°、Ｄｅｓａｌｉｎａｔｉｏｎ，７２，２６３，１９８９年）等のポリマー、一風変わったものとしては、寒天ゲル（水接触角約２０°、Ｌａｎｇｍｕｉｒ，１０，２４３５，１９９４年）が知られている。
【００１０】
しかしながら、これら公知の有機重合体は、親水性が不充分で、リニアー構造であるために、機機械的強度、耐熱性、耐水・耐薬品性等の物理的・化学的な性質も充分であるとは言えず、更なる改良の余地があった。
【００１１】
一方、有機材料の表面に親水性を付与する方法として、材料の表面に酸化チタンの光触媒反応層を設ける方法（特開平１１−５８６２９号公報、特開平１１−１６５９号公報）、シラノール基を利用した塗剤を塗布する方法（特開平９−４０９０７号公報、特開平９−４０９０８号公報、特開平１１−２１８２６号公報）、コロナ放電処理後、シリル基及びイオン性親水基（カルボキシル基）とポリビニルアルコールの層を設ける方法（特開平９−７６４２８号公報）、モルホリル基含有フルオロシリコンリニアーオリゴマーを塗付する方法（特開平０９−２４１３３１号公報）、４級アンモニウム塩基を利用した層を設ける方法（特開平１０−２９６８９５号公報）、エッチング処理によって表面に微細な窪みを多数形成する方法（特開平７−１９８２９０号公報）、グラフト共重合によってアミド基、カルボキシル基、水酸基等の活性水素基、またはスルホン酸ナトリウム等のイオン性官能基等を表面に導入する方法（Ｊ．ｐｏｌｙｍ．　ｓｃｉ．，ｐａｒｔ　Ａ：ｐｏｌｙｍ．ｃｈｅｍ．，３２，１５６９，１９９４年、Ｍａｃｒｏｍｌｅｃｕｌｅｓ，２５，６８４２，１９９２年）、表面を塩素酸−塩素酸カリウム混合液で処理する方法（Ｐｏｌｙｍｅｒ（Ｋｏｒｅａ），　２４，８７７，２０００年）等が知られている。
【００１２】
しかしながら、有機材料の表面に親水性を付与する方法においては、確かに高い水濡れ性を実現できる場合があるが、活性酸素放出による材料界面の分解、光強度不足（室内、暗所等）による水濡れ性の喪失、干渉縞の発生、コート層及び処理表面の強度及び耐久性の不足、アルコキシシリル基の加水分解によるアルコールの生成、活性水素基及びイオン性基等が引き起こす反応による性能・品質低下等の様々な問題を起こし易い。
【００１３】
また、これらの表面改質法は、通常、特別な工夫と特別な装置を必要とする場合が多く、さらに一旦成形物を製造し、前処理等を行う必要があり、生産が効率的とは言えず、コスト的に高くなる傾向にあり、場合によっては安全性にも疑問が残る提案であった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前述の公知の親水性化方法が有する問題点の解決に有用な有機重合体を与える重合体組成物及び該重合性組成物を重合して得られる有機重合体を提案することを目的とする。
【００１５】
本発明者らは、親水性を有する有機重合体を得るべく種々検討する過程で、双極子モーメントが大きい（凡そ３Ｄｅｂｙｅ以上）非プロトン性極性構造と重合性官能基を併せもつ反応性化合物を重合して得られる重合体が、水酸基等のプロトン性極性構造を持つ重合体よりも高い親水性を有することを見出した（特願２００１−３３２６１１号）。
本発明者らは、この知見に基づき、従来にない新たな高い親水性を有する有機重合体を見出すべく種々検討する過程で、アセトアミド基及びアクリロイル基を分子内に有する化合物を用いて得られる有機重合体が高い親水性を有することを見出した。この知見をもとに本発明者らは鋭意検討した結果、該有機重合体が前述の親水性材料の用途に適した性質を有することをも見出し、本発明を完成するに至った。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、
〔１〕一般式（１）
【００１７】
【化２】
2004002600.tif 000002
（式中Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表す。但し、Ｒ２及びＲ３は水素原子またはメチル基の一部または全部がヒドロキシ基で置換されていてもよい。Ｘは、Ｏ、Ｓ、ＮＨ、またはＮＣＨ３を表す。
ａは１〜６の整数を表す。
ｂは０から３の整数を表す。
で表される化合物を含む重合性組成物。
〔２〕請求項１記載の重合性組成物を重合して得られる有機重合体。
〔３〕水接触角が４０°以下である請求項２記載の有機重合体。
〔４〕請求項２または請求項３記載の有機重合体からなる成形体。
〔５〕請求項２または請求項３記載の有機重合体からなる膜。
である。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の一般式（１）で表される化合物は、１分子内に、アセトアミド基並びにアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有することを特徴とする。
【００１９】
一般式（１）で表される化合物は、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表す。但し、Ｒ２及びＲ３は、水素原子またはメチル基の一部または全部が、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。この場合、ヒドロキシ基はメチレンに任意に結合されるが、メチレンに対して１個以下であることが好ましい。
【００２０】
Ｘは、Ｏ、Ｓ、ＮＨ、またはＮＣＨ３を表す。コスト的には、Ｏが好ましい場合がある。
【００２１】
ａは、１〜６の整数を表し、ｂは０〜３の整数を表す。
【００２２】
一般式（１）で表される化合物としては、例えば、Ｎ−メタクリロイルオキシエチル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルオキシプロピル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルオキシイソプロピル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルオキシブチル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルオキシペンチル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルオキシヘキシル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシエチル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシプロピル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシイソプロピル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシブチル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシペンチル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシヘキシル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシエチル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシプロピル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシイソプロピル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシブチル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシペンチル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシヘキシル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルチオエチル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルチオプロピル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルチオソプロピル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルチオブチル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルチオペンチル−アセトアミド、Ｎ−メタクリロイルチオヘキシル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオエチル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオプロピル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオイソプロピル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオブチル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオペンチル−アセトアミド、Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオヘキシル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオエチル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオプロピル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオイソプロピル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオブチル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオペンチル−アセトアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオヘキシル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルオキシエチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルオキシプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルオキシイソプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルオキシブチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルオキシペンチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルオキシヘキシル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシエチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシイソプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシブチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシペンチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシヘキシル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシエチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシイソプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシブチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシペンチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルオキシヘキシル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルチオエチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルチオプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルチオソプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルチオブチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルチオペンチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルチオヘキシル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオエチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオソプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオブチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオペンチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１−ヒドロキシ）メタクリロイルチオヘキシル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオエチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオソプロピル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオブチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオペンチル−アセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ）メタクリロイルチオヘキシル−アセトアミド等が挙げられるが、本発明がこれらの化合物のみに限定されるものではない。
【００２３】
本発明の一般式（１）で表される化合物は、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ　（１９７１，Ｖｉｅｒｔｅ　Ａｕｆｌａｇｅ　Ｈｅｒａｕｓｇｅｇｅｂｅｎ　ｖｏｎ　Ｅｕｇｅｎ　Ｍｕｌｌｅｒ）、及び新実験化学講座（１９７５，日本化学会）等の有機合成の総書に記載されているような一般的な反応を数多く利用して合成される。
【００２４】
以下に、本発明の一般式（１）で表される化合物の代表的な合成方法を、例を挙げて説明する。
【００２５】
【化３】
2004002600.tif 000003
（式中Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２はアルキル基を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。）
【００２６】
一段目の反応はＮ−メチル−アミノエタノールのアミノ基を無水酢酸によりアセトアミド化する反応である。他に酢酸エステル類を用いてエステル交換によりアセトアミド化する方法もある。
【００２７】
２段目の反応では、通常、ヒドロキシ基に（メタ）アクリル酸ハライドを直接反応させる。
【００２８】
ヒドロキシ基が、メルカプト基、アミノ基、またはメチルアミノ基に置き換わった化合物の場合、（メタ）アクリロイル−チオ基、（メタ）アクリロイル−アミノ基、（メタ）アクリロイル−メチルアミノ基に変換される。これらの基への変換には、ヒドロキシ基の場合と同様に、直接（メタ）アクリル酸ハライドを反応させてもよいが、通常、マイケル付加による収率低下を抑制するために、一旦、クロロプロピオン酸クロライド等のハロゲノカルボン酸ハライド等を反応させてハロゲノカルボン酸エステルとし、次いで三級アミン等の塩基類を加えて脱ハロゲン化水素を行うといった方法を用いることができる。またアミノ基またはメチルアミノ基の場合、場合によっては、反応性を低下させる目的で、塩酸塩等の鉱酸塩にして反応させたり、（メタ）アクリル酸アルキルエステル類とのエステル交換反応を用いたりすることもできる。
【００２９】
例えば、（メタ）アクリロイル−チオ基の合成を目的として、メルカプト基を合成する場合、通常、ヒドロキシ基からの変換反応がよく用いられる。
例えば、ヒドロキシ基を、塩化チオニル、塩化スルフリル、五塩化リン、三臭化リン、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、メタンスルホニルクロライド、トリフルオロメタンスルホニルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライド、トシルクロライド等の試剤と反応させて、ハロゲンまたはスルホネート等の電子吸引基に変換する。
【００３０】
次いで、例えば、水硫化ナトリウム、水硫化カリウム、硫化ナトリウム等のアルカリ金属硫化物を反応させたり、チオ尿素を反応させてイソチウロニウム塩とし加水分解したり、チオ硫酸ナトリウム等を反応させてブンテ（Ｂｕｎｔｅ）塩とし加水分解したり、Ｎ，Ｎ−ジアルキルジチオカルバミン酸アルカリ金属塩を反応させて加水分解したり、ジチオ炭酸Ｏ−アルキルアルカリ金属塩を反応させて加水分解したり、グリニャール（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）試薬を反応させた後、硫黄を反応させ、最後に加水分解または還元したり、一旦チオール類を反応させてスルフィド類を合成し、次いでアルカリ金属等によって開裂するといった方法等が用いられる。
【００３１】
これらの中では、イソチウロニウム塩を経由する方法が比較的に好ましく用いられる。
【００３２】
アルキルアセトアミドの窒素原子にヒドロキシアルキル基を導入する反応としては、クロロエタノール、ブロモエタノール等のハロゲノエタノール類、アルキレンカーボネート類、アルキレンオキサイド類を反応させる方法が代表的である。
【００３３】
鎖延長化反応としては、例えば、相当するヒドロキシ基、メルカプト基またはアミノ基に、ハロゲノアルコール類、アルキレンカーボネート類、アルキレンオキサイド類を反応させるといった反応が挙げられる。
【００３４】
また、アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基に、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等のエピハロヒドリン類を反応させてエポキシ基を導入し、次いでメルカプトアルコール類、アミノアルコール類、（メタ）アクリル酸を反応させて開環鎖延長化する方法も用いられる。
【００３５】
２段目の反応には、反応促進剤として塩基が好ましく用いられる。
例えば、苛性ソーダ、苛性カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトルム、水素化マグネシウム、水素化カリウム、ナトリウム、マグネシウム、カルシウム、カリウム、ナトリウムメチラート、ｔ‐ブトキシカリウム、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、トリエチレンジアミン、ヘキサメチレンテトラミン等が挙げられ、中でもトリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン等の３級アミンが、比較的に好ましい。
【００３６】
以上に述べた様々な反応に於いて、反応速度を向上させる目的で、上記の塩基の他に、例えば、硫酸，塩酸、燐酸、酢酸、三フッ化ホウ素、塩化アルミ、アルミナ、ジブチル錫ジオキサイド、ジブチル錫ジラウレート、テトラブチル錫等の酸触媒、テトラエチルアンミニウムハロゲライド、テトラエチルアンミニウムヒドロキシド、テトラブチルアンミニウムハロゲライド、トリメチルベンジルアンモニウムハロゲライド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等の層間移動触媒等を、問題のない範囲で必要な量だけ使用してもよい。
【００３７】
同様に反応溶媒は、基本的に反応基質や反応試剤、生成物、または触媒等と反応しない溶媒であれば、何れの溶媒を使用してもよいが、比較的によく用いられる溶媒としては、例えば、水、メタノール、アセトニトリル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、ＴＨＦ、ジオキサン、グライム、ジグライム、ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−エチレン尿素、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ヘキサン、シクロヘキサン等が挙げられる。
【００３８】
具体的化合物として、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルチオエチル−アセトアミドの合成例を示せば、Ｎ−メチルエタノールと無水酢酸を反応させてＮ−メチル−Ｎ−ヒドロキシエチル−アセトアミドを合成する。
【００３９】
次に、得られたＮ−メチル−Ｎ−ヒドロキシエチル−アセトアミドのヒドロキシ部分を三臭化リンで臭素化後、チオ尿素でイソチウロニウム塩化する。次いでアンモニア水等の塩基で加水分解してＮ−メチル−Ｎ−メルカプトエチルアセトアミドを合成する。
【００４０】
次いで、チオール部にクロロプロピオニルクロライドを反応させた後、トリエチルアミン等の塩基で脱塩酸反応を行いをＮ−メチル−Ｎ−メタクリロイルチオエチル−アセトアミドを合成するこができる。
【００４１】
一般式（１）で表される化合物の中には、極めて水に対する溶解性の大きな化合物が存在する。そのような化合物としては、Ｎ−メチル−Ｎ−メタクリロイルオキシエチル−アセトアミドが例示できるが、水に対して大きな溶解性を示す一般式（１）で表される化合物は、水性塗料材料等の水を溶媒として用いる材料に用いることができる。
【００４２】
一般式（１）で表される化合物は、反応して有機重合体を形成し得る該化合物以外の反応性化合物と混合することにより、一般式（１）で表される化合物を含む重合性組成物とすることができる。
一般式（１）で表される化合物を含む重合性組成物を構成する、一般式（１）で表される化合物以外の反応性化合物としては、例えば、炭素−炭素二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物、（チオ）エポキシ化合物、メルカプト化合物、アミノ化合物等があげられ、中でもポットライフの面から炭素−炭素二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物または（チオ）エポキシ化合物が、好ましく用いられる傾向にある。
【００４３】
反応性化合物について、代表的な化合物を例示するならば、スチレン、イソプロペニルベンゼン、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベンゼン、ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−ベンゼン、ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝−ベンゼン、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ−エチルオキシ−エチルオキシ−フェニル｝−プロパン、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ−エチルオキシ−フェニル｝−プロパン等の芳香族不飽和化合物類、
【００４４】
エチレングリコールジアリルカーボネート、ジエチレングリコールジアリルカーボネート、グリシジルメタクリレート、イソシアナトエチルメタクリレート、３−イソプロペニル−α，α−ジメチル−ベンジルイソシアナート、ビニルアセテート、ビニルアルコール、アリルアルコール、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝−シクロヘキサン、ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝−トリシクロ　［５．２．１．０．２６］デカン、トリメチロールプロパントリス｛（メタ）アクリレート｝、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’−トリス（アリル）−イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’−トリス｛（メタ）アクリロイルオキシ−エチル｝−イソシアヌレート等の脂肪族不飽和化合物類、
【００４５】
Ｎ−ビニル−オキサゾリドン、Ｎ−アリル−オキサゾリドン、Ｎ−アリルオキシカルボニル−オキサゾリドン、Ｎ−（メタ）アクリロイル−オキサゾリドン、Ｎ−アリルオキシカルボニルオキシエチル−オキサゾリドン、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチル−オキサゾリドン等のオキサゾリドン系不飽和化合物類。
【００４６】
Ｎ−ビニル−ピロリドン、Ｎ−アリル−ピロリドン、Ｎ−アリルオキシカルボニル−ピロリドン、Ｎ−（メタ）アクリロイル−ピロリドン、Ｎ−アリルオキシカルボニルオキシエチル−ピロリドン、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ピロリドン等のピロリドン系不飽和化合物類。
【００４７】
Ｎ−ビニル−Ｎ−メチル−アセトアミド、Ｎ−アリル−Ｎ−メチル−アセトアミド、Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−メチル−アセトアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−Ｎ−メチル−アセトアミド、Ｎ−アリルオキシカルボニルオキシエチル−Ｎ−メチル−アセトアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−メチル−アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−（メタ）ビニルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−（メタ）アリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−（メタ）アリルオキシカルボニルアミド等のアミド系不飽和化合物類、
【００４８】
ジビニルスルホン、ジアリルスルホン等のスルホン系不飽和化合物類、
【００４９】
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジビニル尿素、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジアリル尿素等の尿素系不飽和化合物類、
【００５０】
Ｎ−メチル−Ｎ’−ビニル−エチレン尿素、Ｎ−メトキシエチル−Ｎ’−ビニル−エチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ジビニル−エチレン尿素、Ｎ−メチル−Ｎ’−アリル−エチレン尿素、Ｎ−メトキシエチル−Ｎ’−アリル−エチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ジアリル−エチレン尿素、、　Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ’−メチル−エチレン尿素、　Ｎ，Ｎ’−ビス（アリルオキシカルボニル）−エチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシ−プロピル）−エチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ビス｛６−（Ｎ−メチル−イミダゾリジノニル−Ｎ’−）−２−（メタクリロイルオキシ）−４−チアヘキシル｝−エチレン尿素、Ｎ−メタクリロイルオキシ−Ｎ’−メチル−エチレン尿素、Ｎ−（アクリロイルオキシ−エチル）−Ｎ’−メチル−エチレン尿素、Ｎ−（メタクリロイルオキシ−エチル）−Ｎ’−メチル−エチレン尿素、Ｎ−（グリシジル）−Ｎ’−メチル−エチレン尿素、Ｎ−（アクリロイルオキシ−エチル）−Ｎ’−メトキシエチル−エチレン尿素、Ｎ−（メタクリロイルオキシ−エチル）−Ｎ’−メトキシエチル−エチレン尿素、Ｎ−（グリシジル−オキシ−エチル）−Ｎ’−メトキシエチル−エチレン尿素、Ｎ−（アクリロイルチオ−エチル）−Ｎ’−メトキシエチル−エチレン尿素、Ｎ−（アリルオキシカルボニルチオ−エチル）−Ｎ’−メトキシエチル−エチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ビス（アクリロイルオキシ−エチル）−エチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ビス（メタクリロイルオキシ−エチル）−エチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ビス（アリルオキシカルボニルオキシ−エチル）−エチレン尿素等のエチレン尿素系不飽和化合物類、
【００５１】
ビス（４−グリシジルオキシ−フェニル）−メタン、２，２−ビス（４−グリシジルオキシ−フェニル）−プロパン、２，２−ビス（４−グリシジルオキシ−シクロヘキシル）−プロパン、ビス（４−グリシジルオキシ−フェニル）−エーテル、４，４’−ビス（グリシジルオキシ）−２，２’，６，６’−テトラメチル−ビフェニル、１，５−ビス（グリシジルオキシ）−ナフタレン、ジグリシジル−１，２−シクロヘキサンジカルボキシレート、トリメチロールプロパン−トリス（グリシジルエーテル）、ネオペンチルグリコール−ビス（グリシジルエーテル）、ブタンジオール−ビス（グリシジルエーテル）、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−Ｎ−フェニル−アミン、Ｎ−（グリシジル）−Ｎ’−メチル−エチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ビス（グリシジル−オキシ−エチル）−エチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ビス（グリシジル−チオ−エチル）−エチレン尿素等のエポキシ化合物類、
【００５２】
ビス（チオグリシジル）−スルフィド、ビス（チオグリシジル）−ジスルフィド、１，２−ビス（チオグリシジルチオ）−エタン、トリメチロールプロパン−トリス（チオグリシジルエーテル）、ネオペンチルグリコール−ビス（チオグリシジルエーテル）、ブタンジオール−ビス（チオグリシジルエーテル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（チオグリシジル−チオ−エチル）−エチレン尿素等のチオエポキシ化合物類、
【００５３】
エタンジチオール、ブタンジチオール、１，２−ジメルカプト−３−プロパノール、１，２−キシリレンジチオール、１，３−キシリレンジチオール、１，４−キシリレンジチオール、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、１，２，３−トリメルカプトプロパン、４−（メルカプトメチル）−３，６−ジチアオクタン−１，８−ジチオール、４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン−１，１１−ジチオール、エチレングリコール−ビス（チオグリコレート）、ブタンジオール−ビス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパン−トリス（チオグリコレート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（チオグリコレート）、エチレングリコール−ビス（３−メルカプトプロピオネート）、ブタンジオール−ビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパン−トリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−メルカプトプロピオネート）等のメルカプト化合物類、
【００５４】
シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、１，２−エチレンジアミン、１，２−プロピレンジアミン、１，３−プロピレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミン、１，３−キジリレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）−シクロヘキサン、イソホロンジアミン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）−メタン、ビス（アミノメチル）−ノルボルナン等のアミン化合物類等が挙げられるが、本発明がこれらの例示化合物のみに限定されるものではない。
【００５５】
一般式（１）で表される化合物を含む重合性組成物において、該重合性組成物中の一般式（１）で表される化合物とそれ以外の反応性化合物の組成比は、特に制限を設けるものではなく、得られる有機重合体に要求する性質に応じて決定することができる。例えば、一般式（１）で表される化合物とそれ以外の反応性化合物の組成比を、重量比で９：１〜１：１の範囲とすることで水接触角３０°以下の有機重合体を得ることができる。
【００５６】
前述の一般式（１）で表される化合物を含む重合性組成物を重合させることによりアセトアミド基を有する有機重合体および該有機重合体からなる成形体を得ることができる。
【００５７】
一般式（１）で表される化合物または該化合物を含む重合性組成物の重合方法としては、一般的な重合方法を用いることができ、例えば、溶液重合、溶融重合等を用いることができる。
【００５８】
重合方式は、熱重合、放射線重合が代表的で、目的に応じて、適時選択される。重合方式は、それぞれの方式を単独で行うことができるが、熱重合と放射線重合を組み合わせて行うことも可能である。
【００５９】
重合方式として、例えば、大型の成形物の場合は熱重合が選択され易く、成形物が小型で短時間に製造したい場合は放射線重合が選択される傾向にある。外壁塗装等に代表されるような超大型塗装の場合は、太陽光を用いた放射線重合が選択され易く、比較的小型の塗装等には熱重合と放射線重合が適時選択される傾向にある。
【００６０】
熱重合は、通常、本発明の一般式（１）で表される化合物または該化合物を含む重合性組成物を加熱することによって行われる。
加熱温度は、通常、室温または重合性組成物の溶融温度以上から、目的とする有機重合体のＴｇ以上点または凡そ３００℃以下の範囲で行われるが、重合の進行にあわせて室温付近から徐々に昇温していってもよい。
【００６１】
通常、熱重合を行う場合は、熱重合触媒として、ラジカル触媒、アニオン触媒、カチオン触媒等が、必要に応じて加えられる。
また、それらの熱重合触媒の選択及び組み合わせは、一般式（１）で表される化合物またはそれを含む組成物の種類に応じて適宜行われる。
【００６２】
例えば、一般式（１）で表される化合物または該化合物と炭素−炭素二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物を主成分としてなる重合性組成物の場合、ラジカル触媒が比較的に好ましく用いられる。
【００６３】
例えば、一般式（１）で表される化合物と（チオ）エポキシ化合物を主成分としてなる重合性組成物の場合、ラジカル触媒とアニオン触媒の併用またはラジカル触媒とカチオン触媒の併用が比較的に好ましく用いられる。
【００６４】
例えば、一般式（１）で表される化合物とメルカプト化合物を主成分としてなる重合性組成物の場合、ラジカル触媒とアニオン触媒の併用が比較的に好ましく用いられる。
【００６５】
例えば、一般式（１）で表される化合物とアミノ化合物を主成分としてなる重合性組成物の場合、ラジカル触媒の単独使用またはラジカル触媒とアニオン触媒の併用が比較的に好ましく用いられる。
【００６６】
例えば、一般式（１）で表される化合物、炭素−炭素二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物、（チオ）エポキシ化合物、メルカプト化合物、アミノ化合物を全て含む重合性組成物の場合、適宜選択されるが、ラジカル触媒とアニオン触媒の併用が行われる場合がある。
【００６７】
ラジカル触媒としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル、ジ−３−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、α−クミルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジクミルパーオキサイド、１，１−ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド等が挙げられる。
【００６８】
アニオン触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピロリドン、ピペラジン、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、２−ジメチルアミノエチル安息香酸イソアミル、２−ジメチルアミノエチル安息香酸−２−エチルヘキシル、酢酸ナトリウム、燐酸カリウム、ナトリウムメトキシド等が挙げられる。
【００６９】
カチオン重合触媒としては、例えば、硫酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、燐酸、酢酸、プロピオン酸、ジブチル錫ジオキサイド、ジメチル錫ジクロライド、ジブチル錫ジクロライド、ジブチル錫ジラウレート、テトラブチル錫、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、テトラエトキシチタン、チタンオキサイド、酸化アルミ、フッ化アルミ等が挙げられる。
【００７０】
これらの熱重合触媒の添加量は、一般式（１）であらわされる化合物及び該化合物を含む重合性組成物の種類によって大きく異なるため特に限定できないが、それぞれ独立して、本発明の一般式（１）で表される化合物または該化合物を含む重合性重合性組成物に対して凡そ０．０００１〜１０ｗｔ％の範囲が好ましく、０．００１〜５ｗｔ％の範囲であればさらに好ましい。
【００７１】
放射線重合の場合、熱重合と比較して、化合物の種類・数等が限定されるが、重合そのものは極めて早く、場合によっては僅か数秒で終了する。また、太陽光等による簡便で広範囲な重合も可能で、工業的にも極めて価値の高い重合方法と言える。
【００７２】
放射線としては、４００〜８００ｎｍの可視光、４００ｎｍ以下の紫外線、及び電子線が挙げられ、通常、装置が高価な電子線よりも、比較的に安価な紫外線または可視光線が好ましく用いられる。
【００７３】
但し、紫外線または可視光線が透過しない場合等には、電子線が極めて効果的である。
【００７４】
電子線重合の場合は、重合触媒を必要としない場合もあるが、問題のない範囲で光重合触媒を加えてもよい。
【００７５】
例えば、紫外線を用いて重合する場合、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、パルスキセノンランプ、紫外線レーザー、無電極放電ランプ等の光源が好ましく用いられる。
【００７６】
また重合触媒は、光重合触媒以外に、上記の熱重合で用いられるラジカル触媒、アニオン触媒、カチオン触媒等を併用してもよい。
【００７７】
光重合触媒としては、光ラジカル発生剤、光アニオン発生剤、光カチオン発生剤等が挙げられるが、光ラジカル発生剤、光カチオン発生剤が好ましく用いられる。
【００７８】
光ラジカル発生剤としては、例えば、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルホリルプロパン−１、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アリルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド−３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、チオキサンソン、２−クロロチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジクロロチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン、１−フェニル１，２−プロパンジオン−２（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ジベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、ジベンズスベロン、２−エチルアンスラキノン、４’，４’’−ジエチルイソフタロキノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００７９】
光カチオン発生剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、ブレンステッド酸のオニウム塩又は鉄芳香族化合物塩等が挙げられるが、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、ブレンステッド酸の鉄芳香族化合物塩が好ましく用いられる場合が多い。
【００８０】
芳香族スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウム四フッ化ホウ素塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロフォスホニウム塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアレセニウム塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモニウム塩、ジフェニルヨードニウム四フッ化ホウ素塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスホニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアレセニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモニウム塩等が挙げられる。また、フリーラジカルも発生する芳香族スルホニウム塩の改良型として市販されている商品名「Ｃｙｒａｃｕｒｅ　ＵＶＩ−６９７４」（ＵＣＣ）、「Ｃｙｒａｃｕｒｅ　ＵＶＩ−６９９０」（ＵＣＣ）、「オプトマー　ＳＰ１５０」（旭電化工業）、「オプトマー　ＳＰ１７０」（旭電化工業）等も挙げられる。
【００８１】
ブレンステッド酸の鉄芳香族化合物塩としては、商品名「ＣＧ２４−０６１」（Ｃｉｂａ　Ｇｅｉｇｙ）が挙げられる。
【００８２】
これらの光重合触媒の添加量は、一般式（１）で表される化合物または該化合物を含む重合性重合性組成物を構成する化合物の種類によって異なるため特に限定できないが、それぞれ独立して、一般式（１）で表される化合物または該化合物を含む重合性重合性組成物に対して凡そ０．０００１〜１０ｗｔ％の範囲が好ましく、０．００１〜５ｗｔ％の範囲であればさらに好ましい。
【００８３】
一方、例えば、光開始剤と熱重合触媒を併用した可視光重合に於いて、所望の重合速度が得られない場合、カンファーキノン等の光増感剤を加えると効果的な場合がある。
【００８４】
一般式（１）で表される化合物または該化合物を含む重合性重合性組成物は前述の重合方法により、種々の形状の有機重合体とすることができる。例えば、種々の形状の鋳型内で重合させることにより種々の形状の成形体を得ることができる。また、一般式（１）で表される化合物または該化合物を含む重合性重合性組成物を含有する塗料を塗装対象物の表面に塗布して重合させた塗装膜等にすることが可能である。
【００８５】
一般式（１）で表される化合物または該化合物を含む重合性組成物を重合して得られる有機重合体のなかには、公知の有機重合体よりも親水性が高い、即ち、水接触角が小さい有機重合体が得られるものがあることが明らかとなった。例えば、一般式（１）で表される化合物を用いることにより、水接触角が３０°以下の極めて高い親水性を有する有機重合体を得ることができる。
【００８６】
本発明により得られる有機重合体のなかでも、水接触角が小さい有機重合体は、公知の親水性を有する有機重合体が使用されている親水性材料への適用が期待できる。
【００８７】
本発明により得られる有機重合体が有する親水性が高く水に濡れ易いという性質を利用することで、表面に付着して汚れの原因となる水不溶成分、外気疎水性物質、自動車及び工場排気ガス等によるコークス成分、皮脂、蛋白質等の親油性汚染物質等を降雨、散水等によって汚染物質を浮き上がらせて脱離させる（セルフクリーニング）機能、または高湿度条件下での表面における水滴の形成、曇りの発生、結露を抑制する機能を、建物の外壁、部屋の内壁・内装、自動車の外装・内装に付与したり、藤壺付着性を抑制する機能を船底に付与したり、液滴形成及び汚染物質付着による熱交換効率低下を抑制する機能を冷却フィンの表面に付与することが期待できる。
【００８８】
このような機能が求められる材料としては、防汚染材料、防曇り材料、結露防止材料、船底塗装材料の他に、例えば、眼鏡レンズ、コンタクトレンズ、カメラレンズ、ピップアップレンズ、透明フィルム、有機ガラス等の光学材料、脱ＶＯＣ化を目指した水性塗装材料または粉体塗装材料、さらに具体的に例示すれば、砂漠緑地化または一般的な植物の成長促進等に用いられる保水材料、廃水（液）吸収材料、船底塗装材料、ガーゼ、救急絆創膏、オムツ等の体液吸収材、シップ等の外用貼付剤、芳香剤等の薬剤含有粘着材料、保冷剤用ゲル材料、道路凍結防止材料、コンクリート添加材料、（光）接着剤用材料、テープ用材料、光硬化歯科材料、ディスプレイ隔壁用材料、整髪剤添加剤、シャンプー・リンス・コンディショナー・ボディー洗浄剤等の界面活性剤用添加材料、界面活性剤、（光硬化）インク、印刷凸版用材料、インクジェット用添加材料、インクジェット用シート・コピー用紙用添加剤、（カラー）トナー用材料、磁気ディスク・磁気テープ用バインンダー、フォトレジスト用材料、フィルムレジスト用材料、超伝導材料マトリックス用材料、血液保存容器、プラスチック成形品用材料等が挙げられる。
【００８９】
なお、一般式（１）で表される化合物を含む重合性組成物には、所望する物性、特性、目的及び用途等に応じて、鎖延長剤、架橋密度向上剤、硬化剤、触媒、助触媒、重合触媒、光増感剤、遅延剤、重合防止剤、紫外線吸収剤、安定剤、色素、塗料、顔料、染料、インク、感光剤、発光剤、香料、殺菌剤、バインダー、フィラー、ポリマー、充填剤、ガラス、金属、金属酸化物、有機金属、塩、増量剤、離型剤、界面活性剤、発泡剤、炭酸ガス、空気、不活性ガス、水、溶剤等の有機・無機化合物を添加することもできる。
【００９０】
前述の添加剤として、例えば、硫黄原子を有する反応性化合物を共重合成分として加えることによって、高い屈折率を付与したり、（メタ）アクリル酸等の重合性活性水素成分を配合することによってさらに高い密着性等を付与したり、銀、リチウム等の金属、または（メタ）アクリル酸アルカリ金属塩等の有機金属塩、またはヨウ素及びヨードニウム塩等を加えることによって、透明性は損なわれる場合があるものの、殺菌・抗菌性を付与したりする等、本発明の有機重合体の性質を大幅に変化させたり、新たな機能を付与したりすることも可能である。
【００９１】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明がこれら実施例のみに限定されるものではない。ポリマー合成時の一連の操作等は、特に断りがない限り、室温で行った。水接触角の測定は、協和界面科学社製ＣＡ−Ｖ型を用いて、室温（２５℃）で測定し、測定対象材料上の水滴について、任意の５点の測定結果平均値を測定結果とした。
【００９２】
参考例１
（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−アセトアミドの合成
反応フラスコにＮ−メチル−２−アミノエタノール７５ｇ（１．０モル）と酢酸メチル１１１ｇ（１．５モル）を仕込み、昇温し６０〜６３℃で６時間熟成した。室温まで冷却後、ロータリーエバポレータで減圧濃縮した。残液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−アセトアミド４５．１ｇを得た。（収率：３８％）
【００９３】
参考例２
メタクリル酸２−（アセチル−メチル−アミノ）エチルエステル（以下、「ＭＭＥＡＣ」と略記する。）の合成
反応フラスコに実施例１で得られた（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−アセトアミド４５ｇ（０．３８４モル）とトリエチルアミン４０．８ｇ（０．４０３モル）及びクロロホルム５０ｍｌを仕込み氷冷下，メタクリル酸クロリド４２．１ｇ（０．４０３モル）を５〜１８℃で４０分かけて滴下した。８〜１４℃で１時間熟成した後、反応マスにクロロホルム３００ｍｌと純水２００ｍｌを添加し混合した。分液ロートで分液し上層の水層を廃棄した後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、さらに無水硫酸マグネシウムで脱水した。クロロホルムを減圧留去し、残液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、淡黄色のＭＭＥＡＣの液体２９．３ｇを得た。（純度９８％　純換収率＝４０％）
【００９４】
参考例３
参考例１，２と同様にして２−（２−アミノエトキシ）エタノールからメタクリル酸２−（２−アセチルアミノ−エトキシ）−エチルエステル（以下、「ＭＡＡＣＥ」と略記する。）を合成した。
【００９５】
参考例４
反応フラスコに２−アミノエタノール６１．１ｇ（１．０モル）を仕込み、水冷下、無水酢酸１１５ｇ（１．１モル）を３０〜４０℃で滴下した。同温で１時間熟成した後、水２０ｍｌを加え過剰の無水酢酸を加水分解した。次いで減圧下、酢酸及び水を留去してＮ−（２−ヒドロキシエチル）アセトアミドを得た。ここにトリエチルアミン１０１．２ｇ（１．０モル）及びクロロホルム１５０ｇを加えて氷冷下、アクリル酸クロライド９０．５ｇ（１．０モル）を５〜１５℃で１時間かけて滴下した。１０〜１５℃で１時間熟成後、酢酸エチル２００ｍｌを添加して反応液を濾過してトリエチルアミン塩酸塩を濾別した。濾液を減圧濃縮し残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してアクリル酸２−アセチルアミノ−エチルエステル（以下、「ＡＥＡ」と略記する。）８８．９ｇを得た。
【００９６】
実施例１
ポリマーの製造−１
参考例２のＭＭＥＡＣ　１０．０ｇ、とＮ，Ｎ’−ビス（アクリロイルオキシ−エチル）−エチレン尿素１０．０ｇの混合液に、光開始剤としてベンジルジメチルケタール４０ｍｇ（０．２ｗｔ％）、ラジカル触媒としてｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート１２０ｍｇ（０．３ｗｔ％）、内部離型剤としてビス（５−ｎ−ブトキシ−１，４−ジメチル−３−オキサペンチル）りん酸を加えて、混合減圧脱泡をい、強度１００〜１３０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、８０〜１２０℃でアニールを行った。
得られた樹脂は透明で、水接触角は３４°であった。結果を表１に掲載する。
【００９７】
実施例２
ポリマーの製造−２
参考例２のＭＭＥＡＣ　１０．０ｇ、とエチレングリコールジメタクリレート１０．０ｇの混合液に、光開始剤としてしてベンジルジメチルケタール６０ｍｇ（０．３ｗｔ％）、ラジカル触媒としてｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート１００ｍｇ（０．５ｗｔ％）、内部離型剤としてビス（５−ｎ−ブトキシ−１，４−ジメチル−３−オキサペンチル）りん酸を加えて、混合減圧脱泡を行い、強度１００〜１３０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、８０〜１２０℃でアニールを行った。得られた樹脂は透明で、水接触角は３８°であった。結果を表１に掲載する。
【００９８】
実施例３
ポリマーの製造−３
参考例２のＭＭＥＡＣ　１８．０ｇ、とエチレングリコールジメタクリレート２．０ｇの混合液に、光開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン１００ｍｇ（０．５ｗｔ％）、ラジカル触媒としてｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート１００ｍｇ（０．５ｗｔ％）、内部離型剤としてビス（５−ｎ−ブトキシ−１，４−ジメチル−３−オキサペンチル）りん酸４０ｍｇ（０．２ｗｔ％）を加えて、６０℃に加熱して溶解させ、強度１００〜１３０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、８０〜１２０℃でアニールを行った。得られた樹脂は透明で、水接触角は１７°であった。結果を表１に掲載する。
【００９９】
実施例４
ポリマーの製造−４
参考例３のＭＡＡＣＥ　１０．０ｇ、とエチレングリコールジメタクリレート１０．０ｇの混合液に、光開始剤としてしてベンジルジメチルケタール６０ｍｇ（０．３ｗｔ％）、ラジカル触媒としてｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート１００ｍｇ（０．５ｗｔ％）、内部離型剤としてビス（５−ｎ−ブトキシ−１，４−ジメチル−３−オキサペンチル）りん酸を加えて、混合減圧脱泡を行い、強度１００〜１３０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、８０〜１２０℃でアニールを行った。得られた樹脂は透明で、水接触角は３５°であった。結果を表１に掲載する。
【０１００】
実施例５
ポリマーの製造−５
参考例３のＭＡＡＣＥ　１８．０ｇ、とエチレングリコールジメタクリレート２．０ｇの混合液に、光開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン１００ｍｇ（０．５ｗｔ％）、ラジカル触媒としてｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート１００ｍｇ（０．５ｗｔ％）、内部離型剤としてビス（５−ｎ−ブトキシ−１，４−ジメチル−３−オキサペンチル）りん酸４０ｍｇ（０．２ｗｔ％）を加えて、６０℃に加熱して溶解させ、強度１００〜１３０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、８０〜１２０℃でアニールを行った。得られた樹脂は透明で、水接触角は１６°であった。結果を表１に掲載する。
【０１０１】
実施例６
ポリマーの製造−６
参考例４のＡＥＡ　１０．０ｇ、とエチレングリコールジメタクリレート１０．０ｇの混合液に、光開始剤としてして２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン６０ｍｇ（０．３ｗｔ％）、ラジカル触媒としてｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート１００ｍｇ（０．５ｗｔ％）、内部離型剤としてビス（５−ｎ−ブトキシ−１，４−ジメチル−３−オキサペンチル）りん酸を加えて、混合減圧脱泡を行い、強度１００〜１３０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、８０〜１２０℃でアニールを行った。得られた樹脂は透明で、水接触角は２９°であった。結果を表１に掲載する。
【０１０２】
実施例７
ポリマーの製造−７
参考例４のＡＥＡ　１６．０ｇ、とエチレングリコールジメタクリレート４．０ｇの混合液に、光開始剤としてして２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン１００ｍｇ（０．５ｗｔ％）、ラジカル触媒としてｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート１００ｍｇ（０．５ｗｔ％）、内部離型剤としてビス（５−ｎ−ブトキシ−１，４−ジメチル−３−オキサペンチル）りん酸を加えて、混合減圧脱泡を行い、強度１００〜１３０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、８０〜１２０℃でアニールを行った。得られた樹脂は透明で、水接触角は１２°であった。結果を表１に掲載する。
【０１０３】
実施例８
塗膜の形成
水接触角１０５°のポリプロピレンフィルム表面に、不揮発分３０ｗｔ％のウレタン系プライマーを塗布して乾燥後、ＡＥＡ　１００部、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン３部とモルホリン３部の混合液を塗布し、５０−１００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗膜を形成させた。塗膜表面の水接触角は２０°であった。
【０１０４】
比較例１〜４
市販のスライドガラスと汎用樹脂の接触角を測定した。結果を表２に掲載する。
【０１０５】
比較例５〜７
実施例３と同様にして重合を行った。得られた樹脂の物性を表２に掲載する。
【０１０６】
【表１】
2004002600.tif 000004
【０１０７】
【表２】
2004002600.tif 000005
【０１０８】
比較例８
アクリル酸を、参考例１の条件で樹脂化を試みたところ、重合はしたが、得られた樹脂は無数のヒビ・割れがあり、発泡していた。接触角は測定できなかった。
【０１０９】
【発明の効果】
本発明により、分子内にアセトアミド基とアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物を含む重合性組成物とし、該重合性組成物を重合することにより親水性を有する新規な有機重合体、該有機重合体からなる成形体及び膜を提供することができる。