(57)【要約】【課題】薄型で、光学特性に優れた、光学補償機能付き偏光板、およびそれを用いた液晶表示装置を提供する。【解決手段】少なくとも２つの光学補償層を含む光学補償機能付き偏光板であって、前記光学補償層が、下記の式（Ｉ）および（ＩＩ）に示す条件を満たす、ポリマーフィルム製の光学補償Ａ層及び下記の式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）に示す全ての条件を満たす、非液晶性ポリマーフィルム製の光学補償Ｂ層を含む光学補償機能付き偏光板。２０（ｎｍ）≦Ｒｅａ≦３００（ｎｍ）　　　　（Ｉ）１．０≦Ｒｚａ／Ｒｅａ≦８　　　　　　　　　（ＩＩ）１（ｎｍ）≦Ｒｅｂ≦１００（ｎｍ）　　　　　（ＩＩＩ）５≦Ｒｚｂ／Ｒｅｂ≦１００　　　　　　　　　　（ＩＶ）１（μｍ）≦ｄｂ≦２０（μｍ）　　　　　　　（Ｖ）【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの光学補償層を含む光学補償機能付き偏光板であって、
前記光学補償層が、
下記の式（Ｉ）および（ＩＩ）に示す条件を満たす、ポリマーフィルム製の光学補償Ａ層及び
下記の式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）に示す全ての条件を満たす、非液晶性ポリマーフィルム製の光学補償Ｂ層を含む
光学補償機能付き偏光板。
２０（ｎｍ）≦Ｒｅａ≦３００（ｎｍ）　　　　（Ｉ）
１．０≦Ｒｚａ／Ｒｅａ≦８　　　　　　　　　（ＩＩ）
１（ｎｍ）≦Ｒｅｂ≦１００（ｎｍ）　　　　　（ＩＩＩ）
５≦Ｒｚｂ／Ｒｅｂ≦１００　　　　　　　　　　（ＩＶ）
１（μｍ）≦ｄｂ≦２０（μｍ）　　　　　　　（Ｖ）
前記式（Ｉ）および（ＩＩ）において、
Ｒｅａ＝（ｎｘａ−ｎｙａ）・ｄａ
Ｒｚａ＝（ｎｘａ−ｎｚａ）・ｄａであり、
ｎｘａ、ｎｙａおよびｎｚａは、それぞれ前記光学補償Ａ層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記光学補償Ａ層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。ｄａは前記光学補償Ａ層の厚みを示す。
前記式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）において、
Ｒｅｂ＝（ｎｘｂ−ｎｙｂ）・ｄｂ
Ｒｚｂ＝（ｎｘｂ−ｎｚｂ）・ｄｂである。
前記式において、ｎｘｂ、ｎｙｂおよびｎｚｂは、それぞれ前記光学補償Ｂ層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示す。前記Ｘ軸とは、前記光学補償Ｂ層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。ｄｂは前記光学補償Ｂ層の厚みを示す。
【請求項２】
前記光学補償Ａ層を形成する前記ポリマーフィルムが、延伸フィルムまたは液晶フィルムである請求項１に記載の光学補償機能付き偏光板。
【請求項３】
前記光学補償Ｂ層を形成する前記非液晶性ポリマーフィルムが、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種のフィルムである請求項１また２に記載の光学補償機能付き偏光板。
【請求項４】
粘着剤層をさらに含み、
前記粘着剤層が前記光学補償機能付き偏光板の少なくとも一方の表面に配置された請求項１〜３のいずれかに記載の光学補償機能付き偏光板。
【請求項５】
液晶セルおよび偏光板を含む液晶表示装置であって、
前記偏光板が請求項１〜４のいずれかに記載の偏光板であり、前記液晶セルの少なくとも一方の表面に前記偏光板が配置された液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の偏光板を含むことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学補償機能付き偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶セルの複屈折性を補償し、全方位において優れた品質の表示を示す液晶表示装置を得るためには、面内の２方向と厚み方向の主屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）を制御した光学補償層が必要である。特に、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ　Ａｌｉｇｎｅｄ）型やＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　Ｂｅｎｄ）型液晶表示装置では、３方向の主屈折率がｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚとなる光学補償層が必要である。
【０００３】
従来、光学補償層としては、ポリマーフィルムをテンターにより横延伸または二軸延伸した単層の光学補償層が用いられている（例えば、特許文献１参照）。しかし、単層の光学補償層の面内の２方向と厚み方向の主屈折率の差が小さく、所望の位相差値を得ることができないという問題があった。
【０００４】
他方、光学補償層としては、所望の位相差値を得るために、延伸されたポリマーフィルムを２枚以上積層した光学補償層が用いられている。例えば、一軸延伸されたポリマーフィルムを２枚用意し、互いの面内における遅相軸の方向が直交するように積層した光学補償層が知られている（例えば、特許文献２参照）。
しかし、延伸されたポリマーフィルムの厚さが、約１ｍｍと厚く、延伸ポリマーフィルムを２枚以上積層した光学補償層はかなり厚くなり、その光学補償層を組み込んだ液晶表示装置全体の厚みが増すという問題があった。
【０００５】
【特許文献１】
特開平３−２４５０２号公報
【特許文献２】
特開平３−３３７１９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、優れた光学特性を有し、かつ薄い光学補償層が積層された、光学補償機能付き偏光板を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、少なくとも２つの光学補償層を含む光学補償機能付き偏光板であって、
前記光学補償層が、
下記の式（Ｉ）および（ＩＩ）に示す条件を満たす、ポリマーフィルム製の光学補償Ａ層及び
下記の式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）に示す全ての条件を満たす、非液晶性ポリマーフィルム製の光学補償Ｂ層を含む
光学補償機能付き偏光板である。
２０（ｎｍ）≦Ｒｅａ≦３００（ｎｍ）　　　　（Ｉ）
１．０≦Ｒｚａ／Ｒｅａ≦８　　　　　　　　　（ＩＩ）
１（ｎｍ）≦Ｒｅｂ≦１００（ｎｍ）　　　　　（ＩＩＩ）
５≦Ｒｚｂ／Ｒｅｂ≦１００　　　　　　　　　　（ＩＶ）
１（μｍ）≦ｄｂ≦２０（μｍ）　　　　　　　（Ｖ）
【０００８】
前記式（Ｉ）および（ＩＩ）において、
Ｒｅａ＝（ｎｘａ−ｎｙａ）・ｄａ
Ｒｚａ＝（ｎｘａ−ｎｚａ）・ｄａであり、
ｎｘａ、ｎｙａおよびｎｚａは、それぞれ前記光学補償Ａ層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは、前記光学補償Ａ層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。ｄａは前記光学補償Ａ層の厚みを示す。
【０００９】
前記式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）において、
Ｒｅｂ＝（ｎｘｂ−ｎｙｂ）・ｄｂ
Ｒｚｂ＝（ｎｘｂ−ｎｚｂ）・ｄｂである。
前記式において、ｎｘｂ、ｎｙｂおよびｎｚｂは、それぞれ前記光学補償Ｂ層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示す。前記Ｘ軸とは、前記光学補償Ｂ層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。ｄｂは前記光学補償Ｂ層の厚みを示す。
【００１０】
さらに本発明は、液晶セルおよび本発明の光学補償機能付き偏光板を含み、前記液晶セルの少なくとも一方の表面に前記偏光板が配置された液晶表示装置である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の光学補償機能付き偏光板は、特定な面内方向の位相差値と厚み方向の位相差値を有する、ポリマーフィルムを含む光学補償Ａ層と、特定な面内方向の位相差値と厚み方向の位相差値を有する、非液晶性ポリマーフィルムを含む光学補償Ｂ層とを含むので、全体として、所望の位相差値を得ることができる。
【００１２】
さらに、非液晶性ポリマーのフィルムの厚さは、通常３０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下、更に好ましくは１０μｍ以下である。従って、そのような光学補償Ｂ層と、前記光学補償Ａ層と積層しても、全体としての厚みが薄い、光学補償機能付き偏光板を得ることができる。
【００１３】
本発明の光学補償機能付き偏光板は、前述の光学補償Ａ層、光学補償Ｂ層および偏光層を含んでいれば、その積層の順序はどのような順序であってもよい。例えば、偏光層、光学補償Ａ層および光学補償Ｂ層の順に積層されていてもよいし、偏光層、光学補償Ｂ層および光学補償Ａ層の順に積層されていてもよい。さらに光学補償Ａ層および光学補償Ｂ層の両方またはいずれかが２層以上含まれてもよく、この場合も、積層順序は制限されず、例えば、偏光層、光学補償Ｂ層、光学補償Ａ層および光学補償Ｂ層の順に積層されていてもよい。
【００１４】
例えば、本発明の光学補償機能付き偏光板は、３０（ｎｍ）≦Ｒｅａ≦８０（ｎｍ）および１≦Ｒｚａ／Ｒｅａ≦３を満たす前記光学補償Ａ層と、
１（ｎｍ）≦Ｒｅｂ≦３０（ｎｍ）および８≦Ｒｚｂ／Ｒｅｂ≦５０を満たす前記光学補償Ｂ層とを含む光学補償機能付き偏光板であるのが、好ましい。このような条件を満たす前記光学補償Ａ層と、前記光学補償Ｂ層とを含むと、広視野角においてコントラストの低下が抑制され、色変化も少なくなるという効果が得られるからである。
【００１５】
また、本発明の光学補償機能付き偏光板は、
３０（ｎｍ）≦Ｒｅａ≦６０（ｎｍ）および１≦Ｒｚａ／Ｒｅａ≦３を満たす前記光学補償Ａ層と、
３（ｎｍ）≦Ｒｅｂ≦３０（ｎｍ）および８≦Ｒｚｂ／Ｒｅｂ≦４０を満たす前記光学補償Ｂ層とを含む光学補償機能付き偏光板であるのが、より好ましい。
【００１６】
本発明において、光学補償Ａ層に含まれるポリマーフィルムは、例えば、延伸ポリマーフィルム、液晶フィルム等により形成される。前記延伸ポリマーフィルムは、例えば、未延伸ポリマーフィルムを延伸することによって製造できる。
【００１７】
未延伸ポリマーフィルムとしては、特に限定されず、フィルム延伸により光学異方性を付与することができるポリマーで、複屈折の制御性、透明性、耐熱性、表面平滑性に優れるポリマーから形成されるのが好ましい。透明性に関してさらに具体的には、光透過率が７５％以上、特に８５％以上のフィルムを形成し得るポリマーがより好ましい。前記ポリマーは、単独で使用しても良いし二種類以上混合して使用しても良い。
【００１８】
未延伸ポリマーフィルムを形成するポリマーとしては限定されないが、正の配向複屈折性（形成したフィルムを延伸した場合に、延伸方向の屈折率が大きくなることを意味する）を示すポリマーが好ましい。そのようなポリマーとしては、例えば、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリノルボルネン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリスルホン、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、セルロース樹脂（セルロースエステル、セルロースエーテル等）、ノルボルネン樹脂、塩化ビニリデンおよびそれらの共重合体等が使用可能である。
【００１９】
また、未延伸ポリマーフィルムを形成するポリマーとしては、後記する負の配向複屈折性を示す非液晶性ポリマーと、上記の正の配向複屈折性を示すポリマーの混合物であってもよい。この場合、負の配向複屈折性を示すポリマーと正の配向複屈折性を示すポリマーの混合比は、配向複屈折と光弾性係数の観点から適宜決定できる。例えば、負の配向複屈折性を示すポリマー（Ｘ）と正の配向複屈折性を示すポリマー（Ｙ）の混合モル比（Ｘ：Ｙ）は、２０：８０〜８０：２０、好ましくは３０：７０〜７０：３０である。
【００２０】
さらに、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムもあげられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基およびシアノ基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。
【００２１】
前記未延伸ポリマーフィルムの製造方法は特に制限されず、通常の方法、例えば流延成膜法、ロールコート法、フローコート当のキャスティング法、押し出し法などを用いることができる。押し出し法、流延成膜法またはキャスティング法が、延伸後のポリマーフィルムの複屈折のムラを少なくできるので、好ましい。前記未延伸ポリマーフィルムの形成に際しては、安定剤、可塑剤、金属類のような、種々の添加剤を必要に応じて配合することができる。
前記未延伸ポリマーフィルムは、例えば、５００ｍｍ以下、好ましくは１０μｍ〜５００μｍ、特に好ましくは２０μｍ〜３００μｍの厚さのものが用いられる。
【００２２】
前記未延伸ポリマーフィルムの延伸方法としては特に制限されないが、通常の方法を用いることができる。例えば、テンター横延伸、二軸延伸、ロール法縦延伸等が挙げられる。二軸延伸は、長軸方向の延伸倍率が短軸方向の延伸倍率よりも小さいのが好ましい。また、二軸延伸は全テンター方式による同時二軸延伸、ロール・テンター法による逐次二軸延伸のいずれの方法でも用いることができる。ロール縦延伸における加熱は、加熱ロールを用いる方法、周りの雰囲気を加熱する方法、前者両方を行う方法のいずれの方法によっても行うことができる。
【００２３】
前記未延伸ポリマーフィルムの延伸倍率は、延伸方法によって異なるが、通常前記未延伸ポリマーフィルムの長さに対して、１．０５〜３倍、好ましくは１．０５〜２倍である。
【００２４】
前記未延伸ポリマーフィルムを延伸する温度は、使用する前記未延伸ポリマーフィルムのガラス転移点（Ｔｇ）や前記未延伸ポリマーフィルム中の添加物の種類などに応じて適宜選択される。前記未延伸ポリマーフィルムを延伸する温度は、例えば７０〜２５０℃、好ましくは１００〜２００℃、特に好ましくは１２０〜１８０℃である。特に、前記未延伸ポリマーフィルムを延伸する温度は、前記未延伸ポリマーフィルムのＴｇ付近またはＴｇ以上であるのが好ましい。
【００２５】
延伸ポリマーフィルムの厚さは、対象となる画像表示装置の画面の大きさに応じて適宜に決定することができる。延伸ポリマーフィルムは、例えば、３００ｍｍ以下、好ましくは１０μｍ〜１５０μｍ、特に好ましくは２０〜１２０μｍの厚さのものが用いられる。
【００２６】
なお、本発明は、偏光層に組み合わせる光学補償層として、式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たす光学補償Ａ層と、式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）を満たす光学補償Ｂ層とを組み合わせること自体が特徴である。
【００２７】
以上のような方法で、前記ポリマーフィルム製の光学補償Ａ層を、下記の式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たすように製造する。
２０（ｎｍ）≦Ｒｅａ≦３００（ｎｍ）　　（Ｉ）
１．０≦Ｒｚａ／Ｒｅａ≦８　　　　　　　（ＩＩ）
【００２８】
Ｒｅａが式（Ｉ）を満たすことによって、偏光板の視角補償を十分に行うことができ、Ｒｚａ／Ｒｅａが式（ＩＩ）を満たすことによって、液晶セルの複屈折の補償を十分に行うことができる。
【００２９】
式（Ｉ）に示すＲｅａは、視角による着色を抑制するという効果が得られるので、好ましくは２０（ｎｍ）≦Ｒｅａ≦２５０（ｎｍ）であり、より好ましくは２２（ｎｍ）≦Ｒｅａ≦２００（ｎｍ）であり、さらに好ましくは２５（ｎｍ）≦Ｒｅａ≦１５０（ｎｍ）である。
また、式（ＩＩ）に示すＲｚａ／Ｒｅａは、液晶がホメオトロピック配向の時、液晶セルの複屈折の補償ができるという効果が得られるので、好ましくは１．０≦Ｒｚａ／Ｒｅａ≦７であり、より好ましくは１．０≦Ｒｚａ／Ｒｅａ≦６であり、さらに好ましくは１．０≦Ｒｚａ／Ｒｅａ≦５である。
【００３０】
なお、液晶フィルムは、前記の式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たすフィルムであればよく、このようなフィルムは従来公知の方法で製造することができるが、ネマチック液晶から形成されることが好ましい。
【００３１】
上記の式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たす延伸ポリマーフィルムは、例えば、ポリマーの種類、延伸条件等、適宜設定することによって、当該技術分野における当業者であれば、過度の実験を行うことなく、調整することができる。
【００３２】
例えば、未延伸ポリマーフィルムとして４０〜１００μｍの厚さのゼオノア（商品名）（日本ゼオン製）を用い、テンター延伸法を用いて、未延伸ポリマーフィルムの長さに対して１．１〜１．５倍に１２０〜１５０℃で延伸して得られる２０〜９０μｍの厚さの延伸ポリマーフィルムは、上記の式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たす延伸ポリマーである。
また、例えば、未延伸ポリマーフィルムとして４０〜１００μｍの厚さのアートン（商品名）（ＪＳＲ製）を用い、縦一軸延伸法を用いて、未延伸ポリマーフィルムの長さに対して１．０５〜１．５倍に１７０〜１８０℃で延伸して得られる２０〜９０μｍの厚さの延伸ポリマーフィルムは、上記の式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たす延伸ポリマーである。
【００３３】
次に、本発明における光学補償Ｂ層は、例えば、非液晶性ポリマーを溶媒に溶解させて溶液を調製し、その溶液を光学補償Ａ層または基材上に塗工し、その塗工層を固化させることにより製造することができる。溶液を調製する代わりに、例えば、非液晶性ポリマーを加熱して溶融させ、その溶融液を光学補償Ａ層または基材上に塗工し、その塗工層を冷却して固化させることによっても製造することができる。
【００３４】
前記非液晶性ポリマーとしては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーを用いることができる。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが好ましい。
【００３５】
前記非液晶性ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲である。
【００３６】
前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
【００３７】
【化１】
2004004755.tif 000002
【００３８】
前記式（１）中、Ｒ３〜Ｒ６は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ３〜Ｒ６は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００３９】
前記式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ６〜２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（２）で表される基である。
【００４０】
【化２】
2004004755.tif 000003
【００４１】
前記式（２）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ７）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２基、または、ＮＲ８基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ７は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ９）３である。Ｒ８は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ６〜２０アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ９は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。
【００４２】
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基があげられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ１〜１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基があげられる。
【００４３】
この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）または（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等があげられる。なお、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００４４】
【化３】
2004004755.tif 000004
【００４５】
前記一般式（３）〜（５）中、ＧおよびＧ’は、例えば、共有結合、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＨ３）２基、Ｃ（ＣＦ３）２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）２基、および、Ｎ（ＣＨ３）基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００４６】
前記式（３）および式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素があげられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。
【００４７】
前記式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基があげられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基があげられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０から３および１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。
【００４８】
前記式（４）中、Ｒ１０およびＲ１１は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００４９】
前記式（５）中、Ｍ１およびＭ２は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。
【００５０】
前記式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（６）で表されるもの等があげられる。
【００５１】
【化４】
2004004755.tif 000005
【００５２】
さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーがあげられる。
【００５３】
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００５４】
前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリト酸二無水物等があげられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００５５】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−［４，４’−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等があげられる。
【００５６】
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス（トリハロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００５７】
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。
【００５８】
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等があげられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、および３，３’−ジアミノベンゾフェノン等があげられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等があげられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等があげられる。
【００５９】
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等があげられる。
【００６０】
前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンがあげられる。
【００６１】
【化５】
2004004755.tif 000006
【００６２】
前記式（７）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。
【００６３】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物があげられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物があげられる。
【００６４】
前記式（７）中、ｑは、０から４までの整数である。前記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
また、前記式（７）中、Ｒ１は、下記式（８）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。
【００６５】
【化６】
2004004755.tif 000007
【００６６】
前記式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記式（７）におけるＸと同様である。前記式（８）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ’は、前記Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。
【００６７】
前記式（８）中、Ｒ２は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等があげられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ２としては、下記式（９）〜（１５）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
【００６８】
【化７】
2004004755.tif 000008
【００６９】
前記式（７）中、前記Ｒ１としては、下記式（１６）で表される基が好ましく、下記式（１６）において、Ｒ２およびｐは前記式（８）と同義である。
【００７０】
【化８】
2004004755.tif 000009
【００７１】
さらに、前記式（７）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
【００７２】
さらに、前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（１７）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００７３】
【化９】
2004004755.tif 000010
【００７４】
前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（１８）〜（２１）で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００７５】
【化１０】
2004004755.tif 000011
【００７６】
また、これらの他に、前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（２２）で表すことができる。
【００７７】
【化１１】
2004004755.tif 000012
【００７８】
前記式（２２）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ２アルキレン基、ハロゲン化Ｃ２アルキレン基、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｒ）２基、および、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。
【００７９】
また、前記（２２）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。
【００８０】
前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ１−９アルコキシカルボニル基、Ｃ１−９アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１−１２アリールオキシカルボニル基、Ｃ１−１２アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ１−１２アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ１−１２アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせがあげられる。前記ｔは、０から４までの整数であり、前記ｚは、０から３までの整数である。
【００８１】
前記式（２２）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（２３）で表されるものが好ましい。
【化１２】
2004004755.tif 000013
【００８２】
前記式（２３）中、Ａ、Ａ’およびＹは、前記式（２２）で定義したものであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。
【００８３】
次に、光学補償Ｂ層の製造方法の一例を示す。
まず、前記光学補償Ａ層または基材の片面に、前記非液晶性ポリマーの溶液または溶融液を塗工することにより塗工層を作製する。
【００８４】
前記溶液の溶媒としては、前記非液晶性ポリマーを溶解または懸濁することができるものであれば特に制限されず、前記非液晶性ポリマーの種類に応じて適宜選択できる。例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル類；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等があげられる。なかでも、塩化メチレンやシクロヘキサノン、トリクロロエチレンやテトラクロロエタン、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフランおよびジメチルアセトアミドが好ましい。これらの溶媒は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００８５】
非液晶性ポリマー溶液は、塗工が容易になる粘度を考慮し、溶媒１００重量部に対して、非液晶性ポリマーを例えば２〜１００重量部、好ましくは５〜５０重量部、より好ましくは１０〜４０重量部を混合するのがよい。
【００８６】
非液晶性ポリマーの溶融液は、非液晶性ポリマーを加熱することにより調製することができる。
【００８７】
光学補償Ｂ層には、さらに有機珪素化合物を含有させてもよい。この化合物により、光学補償Ｂ層と光学補償Ａ層または基材との密着性が良好となり、密着性の向上した光学補償層を、容易に形成することができる。従って、本発明の方法において、前記非液晶性ポリマー溶液または溶融液に有機珪素化合物を添加してもよい。
【００８８】
前記有機珪素化合物は、特に限定はなく、例えば、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメトキシメチルシラン、ステアリルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシジシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等が用いられる。これらは、単独あるいは２種以上併用して使用してもよく、添加量は、重合体１００重量部に対し、例えば０．００１重量部〜５重量部の範囲とされる。０．００１重量部以上では接着性がより一層向上し、５重量部以下であれば耐熱性がより向上する。
【００８９】
前記非液晶性ポリマー溶液または溶融液には、例えば、必要に応じて、さらに安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤を配合してもよい。
また、前記非液晶性ポリマー溶液または溶融液は、例えば、前記非液晶性ポリマーの配向性等が著しく低下しない範囲で、異なる他の樹脂を含有してもよい。他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等があげられる。
【００９０】
前記汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等があげられる。前記エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等があげられる。前記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、および液晶ポリマー（ＬＣＰ）等があげられる。前記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等があげられる。
【００９１】
このように、前記他の樹脂等を前記非液晶性ポリマー溶液または溶融液に配合する場合、その配合量は、例えば、前記非液晶性ポリマーに対して、例えば、０〜５０重量％であり、好ましくは、０〜３０重量％である。
【００９２】
前記非液晶性ポリマー溶液または溶融液の塗工方法としては、スピンコート法、流延法、スプレー法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等などの高い厚み精度が得られる方法が挙げられる。
【００９３】
次いで、前記塗工層を乾燥または冷却させて光学補償Ｂ層を作製する。非液晶性ポリマーの溶液を用いて塗工した場合は、前記塗工層を乾燥すればよい。乾燥の方法としては、特に制限されず、例えば、自然乾燥や加熱乾燥が挙げられる。その条件も、例えば、前記非液晶性ポリマーの種類や、前記溶媒の種類等に応じて適宜決定できるが、例えば、温度は、通常、２５℃〜４００℃であり、好ましくは６０℃〜３００℃であり、さらに好ましくは１００℃〜２００℃である。なお、塗工膜の乾燥は、一定温度で行っても良いし、段階的に温度を上昇または下降させながら行っても良い。乾燥時間も特に制限されないが、通常、１分〜３０分、好ましくは３分〜２０分、さらに好ましくは５分〜１５分である。
非液晶性ポリマーの溶融液を用いて塗工された場合は、前記塗工層は冷却すればよい。冷却の方法としては、その溶融液が固化されるように冷却できれば特に制限されず、温度や雰囲気も特に制限されない。
【００９４】
前記非液晶性ポリマーの塗工層を乾燥または冷却させて作製した光学補償Ｂ層に、光学補償Ｂ層内の非液晶性ポリマーの分子を配向させる処理を任意に行ってもよい。この配向処理を行うと、光学補償Ｂ層にｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を付与することができ、その結果、光学補償Ｂ層のＲｚ／Ｒｅを減少させることができる。
【００９５】
前記配向処理は、光学補償Ｂ層を伸張および収縮させて行うことができる。伸張処理としては、通常の延伸処理が挙げられる。延伸処理には、二軸延伸方法（逐次方式、同時方式等）、一軸延伸方法（自由端方式、固定端方式等）などの適当な方法の１種類以上を用いることができる。一軸延伸方法が、ボーイング現象を抑制することができるので、好ましい。
【００９６】
収縮処理としては、光学補償Ｂ層を形成する際に基材を用い、非液晶性ポリマーを塗工した基材を加熱または冷却することにより、基材を収縮させて行うことができる。そのような基材としては、熱収縮性フィルムなどの収縮能を有する基材を用いることができる。収縮能を有する基材を用いる場合、具体的には、テンター延伸機で延伸倍率を１未満に設定するか、または縦一軸延伸機で延伸倍率を等倍に設定し、幅収縮を行うことにより、基材の収縮率を制御することが好ましい。
【００９７】
前記基材としては、特に限定されないが、例えばガラス、光学補償Ａ層の材料である未延伸ポリマー、液晶ポリマー、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、珪素樹脂、ポリエステル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンまたはポリノルボルネンのプラスチックから形成されているものを用いることができる。
【００９８】
この基材上で非液晶性ポリマーのフィルムを形成した後、光学補償Ｂ層として非液晶性ポリマーのフィルムを偏光層や光学補償Ａ層などに転写してもよい。また、転写を行わず、非液晶性ポリマーのフィルムと基材の積層物を光学補償Ｂ層として用いてもよい。
前記配向処理において、非液晶性ポリマーのフィルムと基材の積層物を一体として伸張および収縮させると、基材にも位相差が生じる場合がある。そのような位相差が生じた基材が、光学補償Ｂ層に含まれるのが好ましくない場合、非液晶性ポリマーのフィルムのみを偏光層などに転写し、その基材は除去するのが好ましい。非液晶性ポリマーのフィルムと基材の積層物を光学補償Ｂ層として用いる場合、基材としては、透明なポリマー基材が好ましい。
【００９９】
このようにして作製された光学補償Ｂ層の厚みは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜２０μｍの範囲、好ましくは１μｍ〜１５μｍの範囲、より好ましくは１〜１２μｍの範囲、さらに好ましくは２〜１０μｍの範囲である。
【０１００】
以上のような方法で、前記非液晶性ポリマー製の光学補償Ｂ層を、以下の式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）を満たすように製造する。
１（ｎｍ）≦Ｒｅｂ≦１００（ｎｍ）　　（ＩＩＩ）
５≦Ｒｚｂ／Ｒｅｂ≦１００　　　　　　　　（ＩＶ）
１（μｍ）≦ｄｂ≦２０（μｍ）　　　　　（Ｖ）
【０１０１】
Ｒｅｂが式（ＩＩＩ）を満たすことによって、偏光板の視角補償を十分にでき、Ｒｚｂ／Ｒｅｂが式（ＩＶ）を満たすことによって、液晶セルの複屈折の補償が十分にできる。
式（ＩＩＩ）に示すＲｅｂは、広視野角において着色が抑制されるという効果が得られるので、好ましくは１（ｎｍ）≦Ｒｅｂ≦８０（ｎｍ）であり、より好ましくは１（ｎｍ）≦Ｒｅｂ≦６０（ｎｍ）であり、
さらに好ましくは１（ｎｍ）≦Ｒｅｂ≦５０（ｎｍ）である。また、式（ＩＶ）に示すＲｚｂ／Ｒｅｂは、液晶がホメオトロピック配向の時、液晶セルの複屈折の補償ができるという効果が得られるので、好ましくは６≦Ｒｚｂ／Ｒｅｂ≦８０であり、より好ましくは７≦Ｒｚｂ／Ｒｅｂ≦６０であり、さらに好ましくは８≦Ｒｚｂ／Ｒｅｂ≦５０である。
【０１０２】
上記の式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）を満たす非液晶性ポリマーフィルムは、例えば、非液晶性ポリマーの種類等、適宜設定することによって、当該技術分野における当業者であれば、過度の実験を行うことなく、調整することができる。
例えば、非液晶性ポリマーとしてポリイミドを用い、塗工して得られる０．５〜１０μｍの厚さの非液晶性ポリマーフィルムは、上記の式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）を満たす非液晶性ポリマーフィルムである。
また、非液晶性ポリマーとしてポリエーテルケトンを用い、塗工して得られる１〜２０μｍの厚さの非液晶性ポリマーフィルムは、上記の式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）を満たす非液晶性ポリマーフィルムである。
【０１０３】
偏光層としては、特に制限されず、例えば、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、架橋、延伸、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。この中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性ポリマーフィルム等があげられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、ＰＶＡ系フィルムが好ましい。
【０１０４】
偏光層の厚さは、特に限定されるものではないが、例えば１〜８０μｍであり、２〜４０μｍが好ましい。
【０１０５】
前記偏光層（偏光フィルム）は、その片面又は両面に、適当な接着剤層を介して保護層となる透明保護フィルムを接着してもよい。
【０１０６】
前記保護層としては、特に制限されず、従来公知の透明フィルムを使用できるが、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。このような透明保護層の材質の具体例としては、トリアセチルセルロール等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等があげられる。また、前記アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等もあげられる。この中でも、偏光特性や耐久性の点から、表面をアルカリ等でケン化処理したＴＡＣフィルムが好ましい。
【０１０７】
また、保護フィルムとしては、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムがあげられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有す熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。なお、前記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であってもよい。
【０１０８】
また、前記保護層は、例えば、色付きが無いことが好ましい。具体的には、下記式で表されるフィルム厚み方向の位相差値（Ｒｚ）が、−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍであり、特に好ましくは−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍの範囲である。前記位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であれば、十分に保護層に起因する偏光板の着色（光学的な着色）を解消できる。なお、下記式において、ｎｘ，ｎｙ，ｎｚは、それぞれＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは前記保護層の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記前記保護層の面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。ｄは、前記保護層の膜厚を示す。
Ｒｚ＝｛［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ｝・ｄ
【０１０９】
また、前記透明保護層は、さらに光学補償機能を有するものでもよい。このように光学補償機能を有する透明保護層としては、例えば、液晶セルにおける位相差に基づく視認角の変化が原因である、着色等の防止や、良視認の視野角の拡大等を目的とした公知のものが使用できる。具体的には、例えば、前述した透明樹脂を一軸延伸または二軸延伸した各種延伸フィルムや、液晶ポリマー等の配向フィルム、透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を配置した積層体等があげられる。これらの中でも、良視認の広い視野角を達成できることから、前記液晶ポリマーの配向フィルムが好ましく、特に、ディスコティック系やネマチック系の液晶ポリマーの傾斜配向層から構成される光学補償層を、前述のトリアセチルセルロースフィルム等で支持した光学補償位相差板が好ましい。このような光学補償位相差板としては、例えば、富士写真フィルム株式会社製「ＷＶフィルム」等の市販品があげられる。なお、前記光学補償位相差板は、前記位相差フィルムやトリアセチルセルロースフィルム等のフィルム支持体を２層以上積層させることによって、位相差等の光学特性を制御したもの等でもよい。
【０１１０】
前記透明保護層の厚みは、特に制限されず、例えば、位相差や保護強度等に応じて適宜決定できるが、通常、２００μｍ以下であり、好ましくは５〜１５０μｍ、より好ましくは１０〜１００μｍの範囲である
前記透明保護層は、例えば、偏光フィルムに前記各種透明樹脂を塗布する方法、前記偏光フィルムに前記透明樹脂製フィルムや前記光学補償位相差板等を積層する方法等の従来公知の方法によって適宜形成でき、また市販品を使用することもできる。
【０１１１】
また、前記透明保護層は、さらに、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキングの防止や拡散、アンチグレア等を目的とした処理等が施されたものでもよい。前記ハードコート処理とは、偏光板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、前記透明保護層の表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前記硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行うことができる。スティッキングの防止は、隣接する層との密着防止を目的とする。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止層等の形成により行うことができる。
【０１１２】
前記アンチグレア処理とは、偏光板表面において外光が反射することによる、偏光板透過光の視認妨害を防止すること等を目的とし、例えば、従来公知の方法によって、前記透明保護層の表面に、微細な凹凸構造を形成することによって行うことができる。このような凹凸構造の形成方法としては、例えば、サンドブラスト法やエンボス加工等による粗面化方式や、前述のような透明樹脂に透明微粒子を配合して前記透明保護層を形成する方式等があげられる。
【０１１３】
前記透明微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等があげられ、この他にも導電性を有する無機系微粒子や、架橋または未架橋のポリマー粒状物等から構成される有機系微粒子等を使用することもできる。前記透明微粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、０．５〜２０μｍの範囲である。また、前記透明微粒子の配合割合は、特に制限されないが、一般に、前述のような透明樹脂１００重量部あたり２〜７０重量部の範囲が好ましく、より好ましくは５〜５０重量部の範囲である。
【０１１４】
前記透明微粒子を配合したアンチグレア層は、例えば、透明保護層そのものとして使用することもでき、また、透明保護層表面に塗工層等として形成されてもよい。さらに、前記アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視覚補償機能等）を兼ねるものであってもよい。
【０１１５】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層、アンチグレア層等は、前記透明保護層とは別個に、例えば、これらの層を設けたシート等から構成される光学層として、偏光板に積層してもよい。
なお、偏光層の両面に透明保護フィルムを設ける場合、片面ごとに異なるポリマー等を含む透明保護フィルムを用いることもできる。また、光学補償Ａ層または光学補償Ｂ層の基材を偏光板の片面の保護フィルムとして用いることもできる。このような構成にすると、層の厚みを減らすことができるので好ましい。
【０１１６】
偏光層と保護層である透明保護フィルムとの積層方法は、特に制限されず、従来公知の方法によって行うことができる。一般には、その種類は、前記各構成要素の材質等によって適宜決定できる。前記接着剤としては、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤や、ゴム系接着剤等があげられる。前述のような粘着剤、接着剤は、例えば、湿度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れる。
【０１１７】
具体的には、前記偏光層がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、そのまま偏光層や透明保護層の表面に塗布してもよいし、前記接着剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を前記表面に配置してもよい。また、例えば、水溶液として調製した場合、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。なお、前記接着剤を塗布する場合は、例えば、前記接着剤水溶液に、さらに、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。
【０１１８】
このような接着剤層の厚みは、特に制限されないが、例えば、１ｎｍ〜５００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍである。
【０１１９】
以上のような偏光層と、光学補償Ａ層と、光学補償Ｂ層とを積層することによって、本発明の光学補償機能付き偏光板が製造できる。
偏光層と、光学補償Ａ層と、光学補償Ｂ層との積層方法は、特に限定されず、従来公知の方法によって行うことができる。例えば、偏光層、光学補償Ａ層および光学補償Ｂ層を別個に調製し、それぞれを積層する方法が挙げられる。その積層方法には特に制限がなく、前述と同様の粘着剤や接着剤を使用することができる。また、光学補償Ｂ層が別途基材上に形成されている場合、前記基材も含んで積層されてもよいし、積層後に前記基材を除去してもよい（転写）。
【０１２０】
例えば、偏光層と、光学補償Ａ層と、光学補償Ｂ層との積層方法は、（１）光学補償Ａ層と偏光層との積層物（フィルム）を予め製造し、その上にさらに光学補償Ｂ層を積層する方法、（２）光学補償Ｂ層と偏光層（フィルム）との積層物を予め製造し、その上にさらに光学補償Ａ層を積層する方法、（３）光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層とを予め積層させ光学補償層を形成し、その光学補償層に、さらに偏光層（フィルム）を積層させる方法などが挙げられる。
【０１２１】
前記（１）に示す偏光層（フィルム）と光学補償Ａ層との積層物の製造方法は、特に限定されず、従来公知の方法によって行うことができる。一般には、前述と同様の粘着剤や接着剤が使用でき、その種類は、前記各構成要素の材質等によって適宜決定できる。例えば、偏光層と、光学補償Ａ層をそれぞれ用意し、偏光層と光学補償Ａ層を粘着剤または接着剤を用いて積層させることができる。
【０１２２】
偏光層と光学補償Ａ層とを有する積層物の上に、さらに光学補償Ｂ層を積層させるには、（ａ）光学補償Ａ層上に光学補償Ｂ層を直接形成する方法、（ｂ）別途用意した基材上に光学補償Ｂ層を形成し、その光学補償Ｂ層を接着剤や粘着剤を介して光学補償Ａ層上へ転写させる方法などを用いることができる。（ｂ）の方法を用いる場合、光学補償Ｂ層を転写した後、前記配向基材は除去しても、除去しなくともよい。
【０１２３】
次に、前記（２）に示す、光学補償Ｂ層と偏光層（フィルム）との積層物に、さらに光学補償Ａ層を積層する方法について説明する。光学補償Ｂ層と偏光層との積層物の製造方法は、特に限定されず、前述のような従来公知の方法によって行うことができる。例えば、（ａ）偏光層上に直接光学補償Ｂ層を形成する方法、（ｂ）別途用意した基材上に光学補償Ｂ層を直接形成し、その光学補償Ｂ層を接着剤や粘着剤を介して偏光層上へ転写させる方法などを用いることができる。（ｂ）の方法を用いる場合、光学補償Ｂ層を転写した後、基材は除去しても、除去しなくともよい。
【０１２４】
偏光層と光学補償Ｂ層とを有する積層物の上に、さらに光学補償Ａ層を積層させる方法は、特に限定されず、前述のような従来公知の方法によって行うことができる。
【０１２５】
次に、前記（３）に示す、光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層を予め積層させ光学補償層を形成し、その光学補償層に、さらに偏光層（フィルム）を積層させる方法について説明する。
【０１２６】
光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層を予め積層させる方法としては、（ａ）光学補償Ａ層上に光学補償Ｂ層を直接形成する方法、（ｂ）別途用意した基材上に光学補償Ｂ層を形成し、その光学補償Ｂ層を接着剤や粘着剤を介して光学補償Ａ層上へ転写させる方法などを用いることができる。（ｂ）の方法を用いる場合、光学補償Ｂ層を転写した後、基材は除去しても、除去しなくともよい。
【０１２７】
偏光層（フィルム）の上に、光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層とを有する積層物を積層させる方法は、特に限定されず、前述のような従来公知の方法によって行うことができる。偏光層の上に、光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層とを有する積層物を積層させる際、光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層のいずれが、偏光層と向かいあっていてもよい。
【０１２８】
次に、本発明の光学補償機能付き偏光板の具体的な形態を図１〜１１の断面図に例示する。
図１に示す本発明の光学補償機能付き偏光板は、以下のような構成である。偏光層３の両面に、保護層１が接着剤層２を介してそれぞれ積層されている。一方の保護層１の片面上に、光学補償Ａ層４が接着剤層２を介して積層されている。さらにその光学補償Ａ層４の上に、基材６の上に形成された光学補償Ｂ層５が接着剤層２を介して積層されている。図１に示す偏光板からさらに前記基材６を除去した本発明の光学補償機能付き偏光板の例を図２に示す。
【０１２９】
図３に示す本発明の光学補償機能付き偏光板は、以下のような構成である。偏光層３の片面に保護層１が接着剤層２を介して積層されており、別の片面に光学補償Ａ層４が接着剤層２を介して積層されている。さらに光学補償Ａ層４の他方の面に、基材６の上に形成された光学補償Ｂ層５が接着剤層２を介して積層されている。図３に示す偏光板からさらに前記基材６を除去した本発明の光学補償機能付き偏光板の例を図４に示す。
【０１３０】
図５に示す本発明の光学補償機能付き偏光板は、以下のような構成である。偏光層３の両面に、保護層１が接着剤層２を介してそれぞれ積層されている。一方の保護層１の片面上に、光学補償Ａ層４が接着剤層２を介して積層されている。さらにその光学補償Ａ層４上に光学補償Ｂ層５が直接形成されている。
【０１３１】
図６に示す本発明の光学補償機能付き偏光板は、以下のような構成である。偏光層３の片面に保護層１が接着剤層２を介して積層されており、他方の面に光学補償Ａ層４が接着剤層２を介して積層されている。さらにその光学補償Ａ層４の上に光学補償Ｂ層５が直接形成されている。
【０１３２】
図７に示す本発明の光学補償機能付き偏光板は、以下のような構成である。偏光層３の両面に、保護層１が接着剤層２を介して積層されている。一方の保護層１の片面上に、基材（図示せず）上に形成された光学補償Ｂ層５が接着剤層２を介して積層され、その基材は除去される。さらにその光学補償Ｂ層５上に光学補償Ａ層４が接着剤層２を介して積層されている。
【０１３３】
図８に示す本発明の光学補償機能付き偏光板は、以下のような構成である。偏光層３の両面に、保護層１が接着剤層２を介して積層されている。一方の保護層１の片面上に光学補償Ｂ層５を直接形成する。さらにその光学補償Ｂ層５の上に光学補償Ａ層４が接着剤層２を介して積層されている。
【０１３４】
図９に示す本発明の光学補償機能付き偏光板は、以下のような構成である。光学補償Ａ層４に、基材（図示せず）上に形成された光学補償Ｂ層５が接着剤層２を介して積層され、その基材は除去される。偏光層３の一方の面に、その積層物の光学補償Ｂ層が偏光層３と向かいあわせになるようにして、接着剤層２を介して積層物が積層されている。偏光層３の他方の面に保護層１が接着剤層２を介して、積層されている。
【０１３５】
図１０に示す本発明の光学補償機能付き偏光板は、以下のような構成である。光学補償Ａ層４上に光学補償Ｂ層５を直接形成し、積層物を製造する。別途、偏光層３の両面に保護層１が接着剤層２を介して積層されている。一方の保護層１の片面上に、光学補償Ｂ層５が保護層１と向かいあわせになるようにして、接着剤層２を介して前記積層物が積層されている。偏光層３の一方の面に、前記積層物が、他方の面に保護層１がそれぞれ接着剤層２を介して積層されている例を図１１に示す。前記積層物は、光学補償Ｂ層５が、偏光層３と向かいあわせになるようにして、積層されている。
【０１３６】
本発明の光学補償機能付き偏光板は、実用に際して、前記本発明の偏光板の他に、さらに他の光学層を含んでもよい。前記光学層としては、例えば、以下に示すような偏光板、反射板、半透過反射板、輝度向上フィルム等、液晶表示装置等の形成に使用される、従来公知の各種光学層があげられる。これらの光学層は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよく、また、一層でもよいし、二層以上を積層してもよい。このような光学層をさらに含む光学補償機能付き偏光板は、例えば、光学補償機能を有する一体型偏光板として使用することが好ましく、例えば、液晶セル表面に配置する等、各種画像表示装置への使用に適している。
【０１３７】
以下に、このような一体型偏光板について説明する。
まず、反射型偏光板または半透過反射型偏光板の一例について説明する。前記反射型偏光板は、本発明の光学補償機能付き偏光板にさらに反射板が、前記半透過反射型偏光板は、本発明の光学補償機能付き偏光板にさらに半透過反射板が、それぞれ積層されている。
【０１３８】
前記反射型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）等に使用できる。このような反射型偏光板は、例えば、バックライト等の光源の内蔵を省略できるため、液晶表示装置の薄型化を可能にする等の利点を有する。
【０１３９】
前記反射型偏光板は、例えば、前記弾性率を示す偏光板の片面に、金属等から構成される反射板を形成する方法等、従来公知の方法によって作製できる。具体的には、例えば、前記偏光板における透明保護層の片面（露出面）を、必要に応じてマット処理し、前記面に、アルミニウム等の反射性金属からなる金属箔や蒸着膜を反射板として形成した反射型偏光板等があげられる。
【０１４０】
また、前述のように各種透明樹脂に微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした透明保護層の上に、その微細凹凸構造を反映させた反射板を形成した、反射型偏光板等もあげられる。その表面が微細凹凸構造である反射板は、例えば、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制できるという利点を有する。このような反射板は、例えば、前記透明保護層の凹凸表面に、真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式等、従来公知の方法により、直接、前記金属箔や金属蒸着膜として形成することができる。
【０１４１】
また、前述のように偏光板の透明保護層に前記反射板を直接形成する方式に代えて、反射板として、前記透明保護フィルムのような適当なフィルムに反射層を設けた反射シート等を使用してもよい。前記反射板における前記反射層は、通常、金属から構成されるため、例えば、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続や、透明保護層の別途形成を回避する点等から、その使用形態は、前記反射層の反射面が前記フィルムや偏光板等で被覆された状態であることが好ましい。
【０１４２】
一方、前記半透過型偏光板は、前記反射型偏光板において、反射板に代えて、半透過型の反射板を有するものである。前記半透過型反射板としては、例えば、反射層で光を反射し、かつ、光を透過するハーフミラー等があげられる。
【０１４３】
前記半透過型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射して画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置等に使用できる。すなわち、前記半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、一方、比較的暗い雰囲気下においても、前記内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置等の形成に有用である。
【０１４４】
つぎに、本発明の光学補償機能付き偏光板に、さらに輝度向上フィルムが積層された偏光板の一例を説明する。
【０１４５】
前記輝度向上フィルムとしては、特に限定されず、例えば、誘電体の多層薄膜や、屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体のような、所定偏光軸の直線偏光を透過して、他の光は反射する特性を示すもの等が使用できる。このような輝度向上フィルムとしては、例えば、３Ｍ社製の商品名「Ｄ−ＢＥＦ」等があげられる。また、コレステリック液晶層、特にコレステリック液晶ポリマーの配向フィルムや、その配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの等が使用できる。これらは、左右一方の円偏光を反射して、他の光は透過する特性を示すものであり、例えば、日東電工社製の商品名「ＰＣＦ３５０」、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名「Ｔｒａｎｓｍａｘ」等があげられる。
【０１４６】
本発明の各種偏光板は、例えば、前述のような複屈折層を含む積層偏光板と、さらに光学層とを積層して、２層以上の光学層を含む光学部材であってもよい。
【０１４７】
このように２層以上の光学層を積層した光学部材は、例えば、液晶表示装置等の製造過程において、順次別個に積層する方式によっても形成できるが、予め積層した光学部材として使用すれば、例えば、品質の安定性や組立作業性等に優れ、液晶表示装置等の製造効率を向上できるという利点がある。なお、積層には、前述と同様に、粘着層等の各種接着手段を用いることができる。
【０１４８】
本発明の光学補償機能付き偏光板および前述のような各種偏光板は、例えば、液晶セル等の他の部材への積層が容易になることから、さらに粘着剤層や接着剤層を有していることが好ましく、これらは、前記偏光板の片面または両面に配置することができる。前記粘着層の材料としては、特に制限されず、アクリル系ポリマー等の従来公知の材料が使用でき、特に、吸湿による発泡や剥離の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性等の点より、例えば、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層となることが好ましい。また、微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層等でもよい。前記偏光板表面への前記粘着剤層の形成は、例えば、各種粘着材料の溶液または溶融液を、流延や塗工等の展開方式により、前記偏光板の所定の面に直接添加して層を形成する方式や、同様にして後述するセパレータ上に粘着剤層を形成させて、それを前記偏光板の所定面に移着する方式等によって行うことができる。なお、このような層は、偏光板のいずれの表面に形成してもよく、例えば、偏光板における前記光学補償層の露出面に形成してもよい。
【０１４９】
このように偏光板に設けた粘着剤層等の表面が露出する場合は、前記粘着層を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的として、セパレータによって前記表面をカバーすることが好ましい。このセパレータは、前記透明保護フィルム等のような適当なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設ける方法等によって形成できる。
【０１５０】
前記粘着剤層等は、例えば、単層体でもよいし、積層体でもよい。前記積層体としては、例えば、異なる組成や異なる種類の単層を組合せた積層体を使用することもできる。また、前記偏光板の両面に配置する場合は、例えば、それぞれ同じ粘着剤層でもよいし、異なる組成や異なる種類の粘着剤層であってもよい。
【０１５１】
前記粘着剤層の厚みは、例えば、偏光板の構成等に応じて適宜に決定でき、一般には、１〜５００μｍである。
前記粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性や接着性の粘着特性を示すものが好ましい。具体的な例としては、アクリル系ポリマーやシリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム等のポリマーを適宜ベースポリマーとして調製された粘着剤等があげられる。
【０１５２】
前記粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、前記粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。
【０１５３】
以上のような本発明の光学補償機能付き偏光板、各種光学部材（光学層をさらに積層した各種偏光板）を形成する偏光フィルム、透明保護層、光学層、粘着剤層等の各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で適宜処理することによって、紫外線吸収能を持たせたものでもよい。
【０１５４】
本発明の光学補償機能付き偏光板は、前述のように、液晶表示装置等の各種装置の形成に使用することが好ましく、例えば、偏光板を液晶セルの片側または両側に配置して液晶パネルとし、反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。
【０１５５】
液晶表示装置を形成する前記液晶セルの種類は、任意で選択でき、例えば、薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のもの等、種々のタイプの液晶セルが使用できる。これらの中でも、本発明の光学補償機能付き偏光板は、特にＶＡ（垂直配向；Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｅｄ）セルの光学補償に非常に優れているので、ＶＡモードの液晶表示装置用の視角補償フィルムとして非常に有用である。
【０１５６】
また、前記液晶セルは、通常、対向する液晶セル基板の間隙に液晶が注入された構造であって、前記液晶セル基板としては、特に制限されず、例えば、ガラス基板やプラスチック基板が使用できる。なお、前記プラスチック基板の材質としては、特に制限されず、従来公知の材料があげられる。
【０１５７】
また、液晶セルの両面に偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じ種類のものでもよいし、異なっていてもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板やバックライト等の適当な部品を、適当な位置に１層または２層以上配置することができる。
【０１５８】
さらに、本発明の液晶表示装置は、偏光板を含み、前記偏光板として、本発明の光学補償機能付き偏光板を使用する以外は、特に制限されない。また、さらに光源を有する場合には、特に制限されないが、例えば、光のエネルギーが有効に使用できることから、例えば、偏光を出射する平面光源であることが好ましい。
【０１５９】
本発明の液晶表示装置は、視認側の光学フィルム（偏光板）の上に、例えば、さらに拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護層や保護板を配置したり、または液晶パネルにおける液晶セルと偏光板との間に補償用位相差板等を適宜配置することもできる。
【０１６０】
なお、本発明の光学補償機能付き偏光板は、前述のような液晶表示装置には限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ：Ｆｉｅｌｄ　Ｅｍｉｓｓｉｏｎ　Ｄｉｓｐｌａｙ）等の自発光型画像表示装置にも使用できる。
【０１６１】
以下に、本発明の光学補償機能付き偏光板を備えるエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置について説明する。本発明のＥＬ表示装置は、本発明の光学補償機能付き偏光板を有する表示装置であり、このＥＬ装置は、有機ＥＬおよび無機ＥＬのいずれでもよい。
【０１６２】
近年、ＥＬ表示装置においても、黒状態における電極からの反射防止として、例えば、偏光層や偏光板等の光学フィルムをλ／４板とともに使用することが提案されている。本発明の光学補償機能付き偏光板は、特に、ＥＬ層から、直線偏光、円偏光もしくは楕円偏光のいずれかの偏光が発光されている場合、あるいは、正面方向に自然光を発光していても、斜め方向の出射光が部分偏光している場合等に、非常に有用である。
【０１６３】
まずここで、一般的な有機ＥＬ表示装置について説明する。前記有機ＥＬ表示装置は、一般に、透明基板上に、透明電極、有機発光層および金属電極がこの順序で積層された発光体（有機ＥＬ発光体）を有している。前記有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えば、トリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層とアントラセン等の蛍光性有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層との積層体や、また、前記正孔注入層と発光層と電子注入層との積層体等、種々の組み合わせがあげられる。
【０１６４】
そして、このような有機ＥＬ表示装置は、前記陽極と陰極とに電圧を印加することによって、前記有機発光層に正孔と電子とが注入され、前記正孔と電子とが再結合することによって生じるエネルギーが、蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。前記正孔と電子との再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、電流と発光強度とは、印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０１６５】
前記有機ＥＬ表示装置においては、前記有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明であることが必要なため、通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の透明導電体で形成された透明電極が陽極として使用される。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に、仕事関数の小さな物質を用いることが重要であり、通常、Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉ等の金属電極が使用される。
【０１６６】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、前記有機発光層は、例えば、厚み１０ｎｍ程度の極めて薄い膜で形成されることが好ましい。これは、前記有機発光層においても、透明電極と同様に、光をほぼ完全に透過させるためである。その結果、非発光時に、前記透明基板の表面から入射して、前記透明電極と有機発光層とを透過して前記金属電極で反射した光が、再び前記透明基板の表面側へ出る。このため、外部から視認した際に、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見えるのである。
【０１６７】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、例えば、前記有機発光層の表面側に透明電極を備え、前記有機発光層の裏面側に金属電極を備えた前記有機ＥＬ発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、前記透明電極の表面に、本発明の光学補償機能付き偏光板が配置されることが好ましく、さらにλ／４板を偏光板とＥＬ素子との間に配置することが好ましい。このように、本発明の光学補償機能付き偏光板を配置することによって、外界の反射を抑え、視認性向上が可能であるという効果を示す有機ＥＬ表示装置となる。また、前記透明電極と光学フィルムとの間に、さらに位相差板が配置されることが好ましい。
【０１６８】
前記位相差板および光学補償機能付き偏光板は、例えば、外部から入射して前記金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって前記金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板として１／４波長板を使用し、かつ、前記偏光板と前記位相差板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、前記金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、前記偏光板によって直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は、前記位相差板によって、一般に楕円偏光となるが、特に前記位相差板が１／４波長板であり、しかも前記角がπ／４の場合には、円偏光となる。
【０１６９】
この円偏光は、例えば、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び、有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、前記位相差板で再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、前記偏光板の偏光方向と直交しているため、前記偏光板を透過できず、その結果、前述のように、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができるのである。
【０１７０】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１７１】
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５重量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４重量％のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬しながら元の長さの５倍に延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて厚さ２０μｍの偏光層を得た。この偏光層の両側に、厚さ５μｍのＰＶＡ系接着剤を介して、保護層として厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着し、偏光板を得た。
【０１７２】
（実施例１）
厚さ１００μｍのノルボルネン樹脂フィルム（ＪＳＲ社製、ＡＲＴＯＮ）を１７５℃で１．２５倍にテンター横延伸し、厚さ８０μｍの延伸フィルム（光学補償Ａ層）を得た。前記偏光板の片面に、厚さ２５μｍのアクリル系粘着層を介し、この延伸フィルムを貼り合せた。
２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニルから合成されたポリイミドをシクロヘキサノン中に溶解させ、１５重量％の溶液を調製した。このポリイミド溶液を、二軸延伸ポリエステルフィルム（基材）上に塗布し、１２０℃で１０分間乾燥させて、厚さ５μｍの非液晶性ポリマー層（光学補償Ｂ層）を形成した。
光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層が向かいあうように、偏光板と光学補償Ａ層の積層体と、基材と光学補償Ｂ層の積層体とを、厚さ１５μｍのアクリル系粘着剤を介して貼り合せた。その後、基材を除去し、総厚３１５μｍの光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．１）を得た。
【０１７３】
（実施例２）
厚さ１００μｍのノルボルネン樹脂フィルムを１８０℃で１．２倍に縦延伸し、厚さ９０μｍの延伸フィルム（光学補償Ａ層）を得た。
実施例１のポリイミド溶液を、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルム（基材）上に塗布し、１２０℃で１０分間乾燥させて、厚さ５μｍの非液晶性ポリマー層（光学補償Ｂ層）を形成した。
前記偏光層の一方の面に、この光学補償Ｂ層を、基材と前記偏光層が向かいあうように、厚さ５μｍのＰＶＡ系接着剤を介して貼り合せた。なお、前記基材は偏光層の保護層の役割を兼ねている。前記偏光層の他方の面には、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルム（保護層）を、厚さ５μｍのＰＶＡ系接着剤を介して貼り合せて、光学補償Ｂ層と偏光層の積層体を得た。
光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層が向かいあうように、偏光層と光学補償Ｂ層の積層体と、光学補償Ａ層とを、厚さ２５μｍのアクリル系粘着剤を介して貼り合せて、総厚３１０μｍの光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．２）を得た。
【０１７４】
（実施例３）
実施例１のポリイミド溶液を、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルム上に塗布し、１２０℃で１０分間乾燥させて、厚さ５μｍの非液晶性ポリマー層と、ＴＡＣフィルムとの積層体を得た。この積層体を、１．０５倍にテンター横軸延伸して、厚さ７３μｍの積層体を得た。この積層体は、光学補償Ａ層である延伸ＴＡＣフィルムと、光学補償Ｂ層である延伸された非液晶性ポリマー層の積層体である。
前記偏光層の片面に、この積層体を、延伸ＴＡＣフィルム（光学補償Ａ層）と前記偏光層が向かいあうように、厚さ５μｍのＰＶＡ系接着剤を介して貼り合せた。前記偏光層の別の片面には、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルム（保護層）を、厚さ５μｍのＰＶＡ系接着剤を介して貼り合せて、総厚１８３μｍの光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．３）を得た。
【０１７５】
（実施例４）
光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層の積層体を、光学補償Ｂ層（延伸された非液晶性ポリマー層）と前記偏光層が向かいあうように貼り合せた以外は、実施例３と同様に行って、総厚１８３μｍの光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．４）を得た。
【０１７６】
（実施例５）
厚さ７０μｍのポリエステルフィルム（東レ社製、製品名：ルミラー）を１６０℃で１．２倍にテンター横延伸し、厚さ５９μｍの延伸フィルム（光学補償Ａ層）を得た。
実施例１のポリイミド溶液を、この延伸フィルム上に塗布し、１２０℃で１０分間乾燥させて、厚さ３μｍの非液晶性ポリマー層（光学補償Ｂ層）と、延伸フィルム（光学補償Ａ層）の積層体（厚さ６２μｍ）を得た。
前記偏光板の片面に、この積層体を、延伸フィルム（光学補償Ａ層）と前記偏光板が向かいあうように、厚さ１５μｍのアクリル系粘着剤を介して貼り合せて、総厚２６７μｍの光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．５）を得た。
【０１７７】
（実施例６）
光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層の積層体を、光学補償Ｂ層（非液晶性ポリマー層）と前記偏光層が向かいあうように貼り合せた以外は、実施例５と同様に行って、総厚２６７μｍの光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．６）を得た。
【０１７８】
（比較例１）
厚さ８０μｍのＴＡＣフィルム（富士写真フィルム社製、製品名：フジタック）を１７０℃で１．６倍にテンター横延伸し、厚さ５０μｍの延伸フィルム（光学補償Ａ層）を得た。その延伸フィルムを、前記偏光層の片面に、厚さ５μｍのＰＶＡ系接着剤を介して貼り合せた。前記偏光層の別の片面には、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルム（保護層）を、厚さ５μｍのＰＶＡ系接着剤を介して貼り合せて、総厚１６０μｍの光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．１１）を得た。
【０１７９】
（比較例２）
厚さ１００μｍのノルボルネン樹脂フィルム（ＪＳＲ社製、製品名：アートン）を１８０℃で１．２倍にテンター延伸し、厚さ９０μｍの延伸フィルム（光学補償Ａ層）を得た。その延伸フィルムを、前記偏光層の片面に、厚さ５μｍの不飽和ポリエステル系接着剤を介して貼り合せた。前記偏光層の別の片面には、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルム（保護層）を、厚さ５μｍのＰＶＡ系接着剤を介して貼り合せて、総厚１８０μｍの光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．１２）を得た。
【０１８０】
（比較例３）
実施例１のポリイミド溶液を、厚さ７０μｍのポリエステルフィルム（基材）上に塗布し、１２０℃で１０分間乾燥させて、厚さ５μｍの非液晶性ポリマー層（光学補償Ｂ層）を形成した。
前記偏光層の片面に、この光学補償Ｂ層を、光学補償Ｂ層と前記偏光層が向かいあうように、厚さ１５μｍのアクリル系粘着剤を介して貼り合せた。その後、ポリエステルフィルムを剥離して、光学補償Ｂ層を偏光層に転写した。前記偏光層の別の片面には、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルム（保護層）を、厚さ５μｍのＰＶＡ系接着剤を介して貼り合せて、総厚１２５μｍの光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．１３）を得た。
【０１８１】
実施例１〜６で得られた光学補償機能付き偏光板の光学補償Ａ層および光学補償Ｂ層ならびに比較例１〜３で得られた光学補償機能付き偏光板の光学補償Ａ層または光学補償Ｂ層に関して、平行ニコル回転法を原理とする王子計測機器製、商品名ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用い、法線方向の位相差値Ｒｅ及び厚み方向の位相差値Ｒｚを求めた。その結果を表１に示す。
【０１８２】
【表１】
2004004755.tif 000014
【０１８３】
表１より、得られた光学補償Ｂ層は、光学補償Ａ層よりも非常に薄いことが分かる。従って、従来のような光学補償Ａ層を２枚以上含む積層偏光板よりも薄い、光学補償Ａ層と光学補償Ｂ層を含む光学補償機能付き偏光板を得ることができた。
【０１８４】
（評価試験）
実施例１〜６で得た光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．１〜６）および比較例１〜３で得た光学補償機能付き偏光板（Ｎｏ．１１〜１３）を、各々５ｃｍ×５ｃｍの大きさに切り出し、これと、光学補償層が積層していない前述の偏光板とをそれぞれ、ＶＡ型液晶パネル（メル社製、商品名：ＤＵＡＦＦＡＬＯ　ＦＴＤ−ＸＴ１５ＦＡ）の両面に互いに遅相軸が直交となるように配置して液晶表示装置を得た。なお、光学補償層はセル側になるように配置した。
【０１８５】
次に得られた液晶表示装置の上下、左右、対角（４５°〜２２５°）、対角（１３５°〜３１５°）の各方向でのコントラスト比（Ｃｏ）≧１０の視野角を測定した。コントラスト比は、前記液晶表示装置に、白画像および黒画像を表示させ、装置（商品名Ｅｚ　ｃｏｎｔｒａｓｔ　１６０Ｄ：　ＥＬＤＩＭ社製）により、表示画面の正面、上下左右について、視野角０〜７０°におけるＸＹＺ表示系のＹ値、ｘ値、ｙ値をそれぞれ測定した。そして、白画像におけるＹ値（ＹＷ）と、黒画像におけるＹ値（ＹＢ）とから、各視野角におけるコントラスト比（ＹＷ／ＹＢ）を算出した。その結果を表２に示す。
【０１８６】
【表２】
2004004755.tif 000015
【０１８７】
表２の結果から明らかなように、実施例１〜６で得られた光学補償機能付き偏光板を含む液晶表示装置は、広視野角の液晶表示装置であった。従って、本発明の光学補償機能付き偏光板は、優れた光学特性を有することが示された。
【０１８８】
【発明の効果】
従って、本発明により、所望の位相差値を有する２種類の光学補償機能層が積層された、厚みが薄い、光学補償機能付き偏光板を提供できる。その偏光板を用いると、視認性に優れる高品位表示の液晶表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学補償機能付き偏光板の一例の断面模式図である。
【図２】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【図３】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【図４】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【図５】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【図６】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【図７】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【図８】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【図９】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【図１０】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【図１１】本発明の光学補償機能付き偏光板の他の一例の断面模式図である。
【符号の説明】
１　保護層
２　接着剤層
３　偏光層
４　光学補償Ａ層
５　光学補償Ｂ層
６　基材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2004004755.tif 000020
【図６】
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【図７】
2004004755.tif 000022
【図８】
2004004755.tif 000023
【図９】
2004004755.tif 000024
【図１０】
2004004755.tif 000025
【図１１】
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