(57)【要約】【課題】ＶＣＭ用永久磁石部材のヨークへの接着強度を改善する。【解決手段】短周縁１１と、短周縁１１と所定間隔を隔てて位置する長周縁１２と、短周縁１１及び長周縁１２を結ぶ一対の側周縁１３，１４とを有する扇型の平面形状を有する磁石素体と、磁石素体の表面に被覆された耐食皮膜とを備えたＶＣＭ用永久磁石部材１０であって、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の厚さの最大値と最小値の差を１０〜１５０μｍとする。【選択図】      図１
2004304968.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
短周縁と、前記短周縁と所定間隔を隔てて位置する長周縁と、前記短周縁及び前記長周縁を結ぶ一対の側周縁とを有する扇型の平面形状を有する磁石素体と、
前記磁石素体の表面に被覆された耐食皮膜とを備えたボイスコイルモータ用永久磁石部材であって、
前記ボイスコイルモータ用永久磁石部材の厚さの最大値と最小値の差が１０〜１５０μｍであることを特徴とするボイスコイルモータ用永久磁石部材。
【請求項２】
前記耐食皮膜は、前記短周縁、前記長周縁及び前記側周縁からなる周縁部に沿って厚さの最大値が存在し、前記周縁部に囲まれた領域に厚さの最小値が存在することを特徴とする請求項１に記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。
【請求項３】
前記周縁部における耐食皮膜の厚さが他の領域に比べて厚いことを特徴とする請求項２に記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。
【請求項４】
前記磁石素体は、その厚さが略均一または、前記周縁部における厚さが他の領域に比べて薄いことを特徴とする請求項３に記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。
【請求項５】
前記磁石素体は前記周縁部の厚さが他の領域に比べて厚く、かつ前記耐食皮膜はその厚さが略均一であることを特徴とする請求項２に記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。
【請求項６】
前記ボイスコイルモータ用永久磁石部材はその厚さが５ｍｍ以下であり、
前記耐食皮膜がＮｉ又はＮｉ合金からなる電気めっき膜から構成され、その膜厚が５〜６０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のボイスコイルモータ用永久磁石部材。
【請求項７】
所定の間隔を隔てて対向配置される一対のヨークと、
一対の前記ヨーク間において、接着剤層を介して前記ヨークの各々に接着される永久磁石部材と、
所定の軸を中心に回動自在の回動部材に搭載され、前記永久磁石部材と前記ヨークとから形成される磁気空隙内に配設されるコイルとを備え、
前記永久磁石部材の前記ヨークとの接着面は、その周縁部が当該周縁部に囲まれる領域よりも５〜７５μｍの範囲で突出していることを特徴とするボイスコイルモータ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ボイスコイルモータ、特にボイスコイルモータに用いられる永久磁石部材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
コンピュータのデータ記憶手段として普及しているハード・ディスク・ドライブ（以下、ＨＤＤ）は、単数又は複数の磁気ディスクを同軸上に配置し、それをスピンドル・モータで駆動する構造を有している。データの読み出し、書き込みは、前記磁気ディスクに対向して設けた磁気ヘッドにより行われ、この磁気ヘッドはアクチュエータ、一般的にはスイング動作型のボイスコイルモータ（以下、ＶＣＭ）により駆動される。
【０００３】
図５に示すように、ＶＣＭは、対向して配置された一対のヨーク１５と、一対のヨーク１５間において図示しない接着剤層を介してヨーク１５に接着、固定されたＶＣＭ用永久磁石部材１０と、これらのヨーク１５とＶＣＭ用永久磁石部材１０とで形成される磁気空隙内に配設され、軸受け１８を中心にして回動する扇形のコイル１６と、コイル１６に連結されたヘッドキャリッジ１７とから構成されている。
扇形のコイル１６に所定の駆動電流が通電されると、フレミングの左手の法則によりコイル１６に駆動力が発生して、コイル１６が軸受け１８回りに矢印Ａ方向に回動し、この結果、ヘッドキャリッジ１７が軸受け１８を中心に矢印Ｂ方向に回動する。この動作を利用して、ヘッドキャリッジ１７の先端に搭載された磁気ヘッド１９を、コイル１６の回動方向と逆方向の矢印Ｃ方向に移動させて磁気ディスク２０に対して位置決めを行う。
【０００４】
ＶＣＭ用永久磁石部材１０としては、その磁気特性の高さから、Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類永久磁石（ＲはＹを含む希土類元素の１種又は２種以上、ＴはＦｅ又はＦｅ及びＣｏを必須とする１種又は２種以上の遷移金属元素）が用いられている。Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類永久磁石は、主構成元素であるＲ及びＦｅが酸化されやすい元素であるために耐食性が劣る。そのために、その表面に耐食皮膜が被覆されている。この耐食皮膜としては、皮膜の耐食性、信頼性、清浄度の要請から電気Ｎｉ又はＮｉ合金めっきが主に採用されている。
ヨーク１５は、無電解Ｎｉめっきが施された珪素鋼板が主に用いられており、ＶＣＭ用永久磁石部材１０は、このヨーク１５に接着剤を介して固定されている。ヨーク１５とＶＣＭ用永久磁石部材１０とは、ＨＤＤの信頼性、特にＨＤＤにおける磁気ディスク２０の高速回転化に対応するために、強固に接着されている必要がある。
【０００５】
特開２００２−１５８１０５号公報には、Ｎｉめっき膜に対して反応不活性な接着剤の硬化不良を効果的に解消し、接着剤による接着強度のバラツキが小さく、しかも大きな接着強度を得ることができ、接着作業の効率化を実現できる磁石が開示されている。より具体的には、Ｎｉめっき膜の表面を、特定組成の処理液を用いてリン酸塩処理を行うことにより、Ｎｉめっき膜表面に形成されるリン酸塩被膜の厚み制御が容易となり、その結果、Ｎｉめっき膜表面の接着性改善を生産レベルで安定して行うことができ、接着作業の効率化を実現できるとしている。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００２−１５８１０５号公報（第１頁）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
特開２００２−１５８１０５号公報に開示された上記手法は接着強度改善のために有効な手法であるが、本発明は特開２００２−１５８１０５号公報とは異なるアプローチによりＶＣＭ用永久磁石部材のヨークへの接着強度を改善することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、ＶＣＭ用永久磁石部材のヨークとの接着面の性状と接着強度との関連を検討した結果、ＶＣＭ用永久磁石部材の厚さに最大値と最小値を有すること、さらにこの最大値と最小値との差が所定の範囲にある場合に、ヨークとの接着強度が改善できることを知見した。ＶＣＭ用永久磁石部材の厚さに最大値と最小値が存在することにより、当該ＶＣＭ用永久磁石部材の接着面に接着剤を保持するために有益な空間が形成されたために、接着強度が改善されるものと解される。
【０００９】
本発明は以上の知見に基づくものであり、短周縁と、短周縁と所定間隔を隔てて位置する長周縁と、短周縁及び長周縁を結ぶ一対の側周縁とを有する扇型の平面形状を有する磁石素体と、磁石素体の表面に被覆された耐食皮膜とを備えたＶＣＭ用永久磁石部材であって、ＶＣＭ用永久磁石部材の厚さの最大値と最小値の差が１０〜１５０μｍであることを特徴とするＶＣＭ用永久磁石部材である。
【００１０】
本発明のＶＣＭ用永久磁石部材において、耐食皮膜は、短周縁、長周縁及び側周縁からなる周縁部に沿って厚さの最大値が存在し、さらに、周縁部に囲まれた領域に厚さの最小値が存在することが望ましい。このＶＣＭ用永久磁石部材は、周縁部に囲まれた領域を基準として、周縁部が突出した形態となる。
この形態は、さらに２つの形態を包含している。その１つは、周縁部における耐食皮膜の厚さを他の領域に比べて厚くするものである。このとき、磁石素体は、その厚さを略均一とするか、または、周縁部における厚さを他の領域に比べて薄くすることができる。他の１つは、磁石素体における周縁部の厚さを他の領域に比べて厚くするものである。このとき、耐食皮膜の厚さを略均一とするか、または周縁部における厚さを他の領域に比べて厚くすることができる。
本発明におけるＶＣＭ用永久磁石部材は、その厚さが５ｍｍ以下であり、耐食皮膜がＮｉ又はＮｉ合金からなる電気めっき膜から構成され、その膜厚が５〜６０μｍの範囲にあることが望ましい。
【００１１】
本発明はＶＣＭとして把握することができる。このＶＣＭは、所定の間隔を隔てて対向配置される一対のヨークと、一対のヨーク間において、接着剤層を介してヨークの各々に接着された永久磁石部材と、所定の軸を中心に回動自在の回動部材に搭載され、永久磁石部材とヨークとから形成される磁気空隙内に配設されるコイルとを備えており、加えて、永久磁石部材のヨークとの接着面は、その周縁部が当該周縁部に囲まれる領域よりも５〜７５μｍの範囲で突出していることを特徴としている。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の望ましい実施の形態について説明する。
本実施の形態によるＶＣＭ用永久磁石部材は、磁石素体と磁石素体表面に被覆された耐食皮膜としてのＮｉ又はＮｉ合金めっき（以下、Ｎｉめっきと総称する）とを備えている。
図１は、本実施の形態によるＶＣＭ用永久磁石部材１０の平面図である。ＶＣＭ用永久磁石部材１０は、短周縁１１、短周縁１１と所定間隔隔てて対向する長周縁１２、短周縁１１及び長周縁１２とを結ぶ側周縁１３及び側周縁１４とを有する扇型の平面形状をなしている。
【００１３】
本実施の形態によるＶＣＭ用永久磁石部材１０は、その厚さｔが５ｍｍ以下である。なお、この厚さｔは、磁石素体の厚さｔ１とＮｉめっき膜の厚さｔ２との合計の厚さを示している。ＶＣＭ用永久磁石部材１０は、３ｍｍ以下、あるいは２ｍｍ以下の厚さとされることがある。また、ＶＣＭ用永久磁石部材１０は、扁平率が１００以上という薄型の永久磁石部材である。なお、本発明で言うところの扁平率とは、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の平面部の面積をＶＣＭ用永久磁石部材１０の厚さｔで割った値で定義される。
【００１４】
本実施の形態によるＶＣＭ用永久磁石部材１０は、その厚さｔが均一ではなく、最大値と最小値を有している。ＶＣＭ用永久磁石部材１０は、図５を用いて説明したように、接着剤層を介してヨーク１５に接着、固定される。本発明者等の検討によると、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の厚さｔの最大値と最小値の差（以下、ｔｍａｘ−ｔｍｉｎ）が１０〜１５０μｍの範囲にある場合に、高い接着強度を確保することができることを確認した。これは、以上のような最大値と最小値を有していると、ＶＣＭ用永久磁石部材１０とヨーク１５との接着面に所定の空間が形成され、この空間に接着剤が保持されることが接着強度に有効に寄与しているためと解される。
ｔｍａｘ−ｔｍｉｎが１０μｍ未満では接着強度向上のための効果が不十分である。一方、ｔｍａｘ−ｔｍｉｎが１５０μｍを超えると接着剤の量が多くなり過ぎて、接着剤の乾燥、固化までの時間がかかりすぎるという問題が逆に生じる。したがって、本発明ではｔｍａｘ−ｔｍｉｎを１０〜１５０μｍとする。望ましいｔｍａｘ−ｔｍｉｎは３０〜１００μｍ、さらに望ましいｔｍａｘ−ｔｍｉｎは４０〜７０μｍである。
【００１５】
ＶＣＭ用永久磁石部材１０に厚さｔの最大値と最小値を設けるためには、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の周縁部（短周縁１１、長周縁１２、側周縁１３及び側周縁１４）を他の部分よりも厚くすることが有効である。このように周縁部の厚さｔが厚くなったＶＣＭ用永久磁石部材１０の平面部はクレーター状をなし、このクレーターの凹部に接着剤が有効に保持される。なお、厚さｔの差異を問題としているために上記では１０〜１５０μｍの値を特定しているが、ｔｍａｘの部分がｔｍｉｎの部分に対する突出量とすれば、ｔｍａｘ−ｔｍｉｎの１／２の値となる。つまり、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の、ヨーク１５との接着面の周縁部は、その他の領域に対して５〜７５μｍの範囲で突出していればよい。
【００１６】
ｔｍａｘ−ｔｍｉｎを１０〜１００μｍの範囲にするためには、３つの手法がある。第１の手法は、磁石素体の厚さｔ１を均一にし、かつＮｉめっき膜の厚さｔ２を変動させる。第２の手法は、磁石素体の厚さｔ１及びＮｉめっき膜の厚さｔ２の両者を変動させる。第３の手法は、磁石素体の厚さｔ１を変動させ、かつＮｉめっき膜の厚さｔ２を均一にする。
【００１７】
ＶＣＭ用永久磁石部材１０の平面をクレーター状にすることを前提として第１〜第３の手法を図面に基づいて説明する。
図２は、第１の手法によるＶＣＭ用永久磁石部材１０であって、図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
図２に示すように、第１の手法によるＶＣＭ用永久磁石部材１０は、磁石素体１の厚さｔ１が均一である。しかし、磁石素体１の表面に形成されているＮｉめっき膜２の厚さｔ２は、短周縁１１及び長周縁１２に沿った領域が厚く設定されているためＶＣＭ用永久磁石部材１０の厚さｔが最大値となっている。この形態では、短周縁１１及び長周縁１２の間に存在するＶＣＭ用永久磁石部材１０の中心部ｃにおける厚さｔが最小値を示している。
【００１８】
ここで、電気めっきによりＮｉめっき膜２を形成する場合、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の周縁部は電界が多方向から集中するために電流密度が大きくなるのに対して、周縁部に囲まれる平面部は印加される電界が垂直方向のみであるために電流密度が小さくなる傾向にある。したがって、この電流密度の関係を利用することによって、短周縁１１及び長周縁１２に沿った領域の膜厚ｔ２を、中心部ｃにおける膜厚ｔ２よりも厚くすることができる。なお、周縁部の中でも、図１において一点鎖線で囲っている、短周縁１１と側周縁１３の交点部分、短周縁１１と側周縁１４との交点部分、長周縁１２と側周縁１３との交点部分及び長周縁１２と側周縁１４との交点部分における電流密度が高く、この中でも交点の角度が鋭角をなす長周縁１２と側周縁１３との交点部分及び長周縁１２と側周縁１４との交点部分における電流密度が高くなり、この部分の厚さｔ２が最大値となりやすい。
【００１９】
図３は、第２の手法によるＶＣＭ用永久磁石部材１０であって、図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
図３に示すように、第２の手法によるＶＣＭ用永久磁石部材１０は、磁石素体１の厚さｔ１及びＮｉめっき膜２の厚さｔ２がともに変動している。つまり、磁石素体１の厚さｔ１は周縁部（図３では短周縁１１及び長周縁１２）を減肉して薄くし、かつＮｉめっき膜２の厚さｔ２は、短周縁１１及び長周縁１２に沿った領域を厚くしている。ただし、短周縁１１及び長周縁１２に沿った領域のＮｉめっき膜２の厚さｔ２は、磁石素体１の周縁部の減肉厚さよりも大きいため、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の表面はクレーター状をなすことになる。
【００２０】
このように、第２の手法においても、周縁部の厚さｔが最大値を示し、短周縁１１及び長周縁１２の間に存在するＶＣＭ用永久磁石部材１０の中心部ｃの厚さｔが最小値を示している。なお、磁石素体１の周縁部を薄くするためには、磁石素体１にバレル研磨処理を施す、あるいはめっき前に酸によるエッチング処理の時間等の条件を調整することにより実現することができる。
なお、第２の手法のように、磁石素体１の周縁部を薄くする場合、周縁部に囲まれる部分よりも２０〜１００μｍの範囲で薄くすることが望ましい。
【００２１】
図４は、第３の手法によるＶＣＭ用永久磁石部材１０であって、図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
図４に示すように、第３の手法によるＶＣＭ用永久磁石部材１０は、Ｎｉめっき膜２の厚さｔ２が均一である。しかし、磁石素体１の短周縁１１及び長周縁１２に沿った領域が厚く設定されている。そのために、この形態によるＶＣＭ用永久磁石部材１０は、周縁部の厚さｔが最大値を示し、短周縁１１及び長周縁１２の間に存在するＶＣＭ用永久磁石部材１０の中心部ｃの厚さｔが最小値を示している。なお、Ｎｉめっき膜２の厚さｔ２を均一にするためには、電気めっき時の電流密度を低く制御すればよい。
【００２２】
本実施の形態によるＮｉめっき膜２は、その厚さｔ２が５〜６０μｍとする。５μｍ未満では磁石素体１の表面を鏡面研磨したとしてもＮｉめっき膜２中にピンホールが形成されてしまい、そのピンホールを基点として腐食が進行するおそれがあるからである。また、厚さｔ２が厚くなると、ＶＣＭ用永久磁石部材１０に占める磁石素体１の体積が相対的に減少するために、ＶＣＭ用永久磁石部材１０全体としての磁気特性が低下するため、本発明では厚さｔ２を６０μｍ以下とする。耐食性及び磁気特性の両者を兼備する望ましい厚さｔ２は１０〜３０μｍである。なお、Ｎｉめっき膜２の厚さは一定に限るものではないことは上述のとおりである。Ｎｉめっき膜２としては、ラックめっき又はバレルめっきが適宜選択される。
【００２３】
なお、Ｎｉめっき膜２を構成するＮｉめっき膜の種類により、接着性が大幅に変化することはない。しかしながら、磁石素体１とＮｉめっき膜２との界面にかかる応力の集中を低減させて、接着強度をより高めるためには、磁石素体１とＮｉめっき膜２との間に下地層（図示省略）をさらに設けることができる。下地層は、Ｃｕを主成分として含有することが好ましい。このような下地層を設けた場合に、接着後の磁石体に荷重がかかったときに、Ｃｕが柔らかいために磁石素体１との界面の一カ所に応力が集中することを抑制する働きがあり、接着強度が向上する。下地層の厚みは、特に限定されないが、好ましくは５〜１０μｍ程度である。なお、本発明による耐食皮膜は、このような下地層を含む概念を有している。
【００２４】
次に、本発明の磁石素体１は、Ｒ（ただし、ＲはＹを含む希土類元素の１種又は２種以上）、ＴＭ（ただし、ＴＭはＦｅ又はＦｅ及びＣｏを必須とする１種又は２種以上の遷移金属元素及びＢを含むＲ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁石を用いる。
希土類元素Ｒとしては、Ｎｄ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｔｂのうち少なくとも１種、あるいはさらに、Ｌａ，Ｓｍ，Ｃｅ，Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｐｍ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｙのうち１種以上を含むものが好ましい。なお、Ｒとして２種以上の元素を用いる場合、原料としてミッシュメタル等の混合物を用いることもできる。
Ｒの含有量は、５．５〜３０原子％であることが好ましい。Ｒの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構造がα−Ｆｅと同一構造の立方晶組織となるため、高い保磁力（以下、ｉＨｃ）が得られず、逆に多すぎると、Ｒリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度（以下、Ｂｒ）が低下する。
【００２５】
ＴＭの含有量は４２〜９０原子％であることが好ましい。ＴＭの含有量が少なすぎると、Ｂｒが低下し、逆に多すぎると、ｉＨｃが低下する。なお、Ｆｅの他にＣｏを含有せしめることにより、磁気特性を損うことなく温度特性を改善することができる。この場合、Ｃｏ置換量がＦｅの５０％を超えると磁気特性が劣化するため、Ｃｏ置換量は５０％以下とすることが好ましい。
Ｂの含有量は、２〜２８原子％であることが好ましい。Ｂの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構造が菱面体組織となるためｉＨｃが不十分であり、多すぎると、Ｂリッチな非磁性相が多くなるため、Ｂｒが低下する。
【００２６】
また、Ｒ、ＴＭ及びＢの他、不可避的不純物として、Ｎｉ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｃａ等が全体の３原子％以下含有されていてもよい。
さらに、Ｂの一部を、Ｃ，Ｐ，Ｓ，Ｃｕのうちの１種以上で置換することにより、生産性の向上及び低コスト化が実現できる。この場合、置換量は全体の４原子％以下であることが好ましい。また、保磁力の向上、生産性の向上、低コスト化のために、Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｂｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ，Ｓｂ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｚｒ，Ｎｉ，Ｓｉ，Ｈｆ等の１種以上を添加してもよい。この場合、添加量は総計で１０原子％以下とすることが好ましい。
本実施の形態における磁石素体１は、実質的に正方晶系の結晶構造の主相を有する。この主相の粒径は、１〜１００μｍ程度であることが好ましい。そして、通常、体積比で１〜５０％の非磁性相を含むものである。
【００２７】
次に、本実施の形態によるＶＣＭ用永久磁石部材１０の好適な製造方法の一例を説明する。
まず、磁石素体１を製造する。磁石素体１の製造には、粉末冶金法を用いることが好ましい。粉末冶金法による磁石素体１の製造は、以下のようにして行われる。
まず、所望の組成の合金を、鋳造法やストリップキャスト法などの各種合金製造プロセスを用いて作製する。次いで、得られた合金を、ジョークラッシャ、ブラウンミル、スタンプミルなどの粗粉砕機を用いて１０〜１００μｍ程度の粒径に粗粉砕した後、ジェットミル、アトライタなどの微粉砕機により０．５〜５μｍ程度の粒径に微粉砕する。次いで、得られた粉末を、好ましくは磁場中にて成型する。成型時の磁場強度は、好ましくは９５５〜１３５３ｋＡ／ｍ（１２．０〜１７．０ｋＯｅ）である。成型圧力は、好ましくは０．５〜５ｔｏｎ／ｃｍ２程度である。次いで、得られた成型体を、１０００〜１２００℃で０．５〜１０時間、焼結し、急冷する。焼結時の雰囲気は、Ａｒガス等の不活性ガスであることが好ましい。この後、好ましくは不活性ガス雰囲気中で５００〜９００℃にて１〜５時間、熱処理（時効処理）を行う。時効処理を２段に分けて行う場合には、８００℃近傍、６００℃近傍での所定時間の保持が有効である。８００℃近傍での熱処理を焼結後に行うと、保磁力が増大するため、混合法においては特に有効である。また、６００℃近傍の熱処理で保磁力が大きく増加するため、時効処理を１段で行う場合には、６００℃近傍の時効処理を施すとよい。
製造された磁石素体１は、例えばＲがＮｄである場合に、特に磁気特性に優れるが、Ｃ軸と垂直な方向に負の膨張係数を有することが知られている。
【００２８】
次に、得られた磁石素体１の表面を脱脂処理した後、酸による化学エッチングを施し、磁石素体１の表面を清浄化する前処理を行う。この前処理は、任意の処理であるが、磁石素体１の表面の汚れを除去でき、確実にＮｉめっき膜２を形成できるメリットがある。なお、脱脂処理前に、磁石素体１の表面のバリなどを取り除くため、バレル研磨を行ってもよい。
脱脂処理で用いる脱脂液は、通常の鉄鋼用に使用されているものであれば特に限定されない。一般にＮａＯＨを主成分として、その他添加剤は特定するものでない。
化学エッチングで使用する酸としては、硝酸を用いることが好ましい。一般の鋼材にめっき処理を施す場合、塩酸、硫酸等の非酸化性の酸が用いられることが多い。しかし、本実施の形態の磁石素体１のように希土類元素を含む場合には、これらの酸を用いて処理を行うと、酸により発生する水素が磁石素体１の表面に吸蔵され、吸蔵部位が脆化して多量の粉状未溶解物が発生する。この粉状未溶解物は、表面処理後の面粗れ、欠陥及び密着不良を引き起こすため、上述した非酸化性の酸を化学エッチング処理液に含有させないことが好ましい。したがって、水素の発生が少ない酸化性の酸である硝酸を用いることが好ましく、さらにアルドン酸又はその塩が同時に含有されているのが表面に目視で確認不可なレベルの凹凸が形成され、接着剤の密着性が向上するのでより一層好ましい。なお、このような密着性の向上は、アルドン酸又はその塩によって選択的に実現し、他の有機酸、例えばクエン酸、酒石酸等では実現しない。
【００２９】
このような前処理による磁石素体１の表面の溶解量は、表面から平均厚みで５μｍ以上、好ましくは１０〜１５μｍとするのが好適である。溶解量が少なすぎると、磁石素体１の表面の加工による変質層や酸化層を完全に除去できないために、後述するＮｉめっき膜２が正常に磁石素体１の表面に形成されず、耐食性を悪化させてしまう。
前処理に用いられる処理液の硝酸濃度は、好ましくは１規定以下、特に好ましくは０．５規定以下である。硝酸濃度が高すぎると、磁石素体１の溶解速度が極めて速く、溶解量の制御が困難となり、特にバレル処理のような大量処理ではバラツキが大きくなり、製品の寸法精度が維持できない。また、硝酸濃度が低すぎると、溶解量の不足となる。このため、硝酸濃度は１規定以下、特に０．５〜０．０５規定以下とするのが望ましい。また、処理終了時のＦｅの溶解量は、１〜１０ｇ／ｌ程度とする。
【００３０】
前処理を行った磁石素体１の表面から少量の未溶解物、残留酸成分を完全に除去するため、超音波を使用した洗浄を実施することが好ましい。この超音波洗浄は、磁石素体１の表面に錆を発生させる塩素イオンが極めて少ないイオン交換水の中で行うのが好ましい。また、前記超音波洗浄の前後、及び前記前処理の各過程で必要に応じて同様な水洗を行ってもよい。
【００３１】
次に、前処理が施された磁石素体１の表面に、電気めっき法によりＮｉめっき膜２を形成する。電気めっき法を用いてＮｉめっき膜２を形成することで、高性能耐食膜であるＮｉめっき膜２を低コストで形成できる。Ｎｉの電気めっきに用いるめっき浴としては、塩化Ｎｉを含有しないワット浴スルファミン酸浴、ほうフッ化浴、臭化Ｎｉ浴などが挙げられる。
【００３２】
図５は、本発明によるＶＣＭ用永久磁石部材１０が用いられるＶＣＭを示している。ＶＣＭの構成については先に説明しているので、ここでの説明は省略する。ただし、図５に示したＶＣＭは、一対のヨーク１５の一方のヨーク１５にのみＶＣＭ用永久磁石部材１０を接着、固定しているが、両方のヨーク１５に各々ＶＣＭ用永久磁石部材１０を接着することができる。ＶＣＭから発生する振動を低減するためには、このように一対のヨーク１５の両方にＶＣＭ用永久磁石部材１０を接着することが望ましい。
【００３３】
（実施例）
以下本発明をより具体的な実施例に基づいて説明する。
１３．８ａｔ％Ｎｄ−１．２ａｔ％Ｄｙ−７７．１ａｔ％Ｆｅ−１．１ａｔ％Ｃｏ−６．８ａｔ％Ｂの組成を有する合金鋳塊を得た。この鋳塊に対して室温にて水素を吸蔵させた後、Ａｒ雰囲気中で６００℃×１時間の脱水素を行う、水素粉砕処理を行った。ジョークラッシャを用いて水素粉砕された合金を粗粉砕した後に、ジェットミルにより微粉砕を行い平均粒径３．５μｍの微粉末を得た。この微粉末を１１９４ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）の磁場中、１．２ｔｏｎ／ｃｍ２の圧力で成型して成型体を得た。この成型体を、Ａｒ雰囲気中、１１００℃で２時間焼結して焼結磁石を得た。この焼結磁石に、８００℃×１時間と５５０℃×２．５時間（ともにＡｒ雰囲気中）の２段時効処理を施した。
【００３４】
得られた焼結磁石から図１に形状の示す磁石素体１を切り出した。
磁石素体１の平面部面積は２８０ｍｍ２と一定にして、４種類の磁石素体を切り出した。４種類の磁石素体は厚さが相違している。具体的には、表１に示すように、１．３７０ｍｍ（Ｎｏ．１）、１．４６０ｍｍ（Ｎｏ．２）、１．４１０ｍｍ（Ｎｏ．３）及び１．３００ｍｍ（Ｎｏ．５）の４種類の厚さに切り出した。いずれも、扁平率が１００以上である。
また、切り出された磁石素体１に対してバレル研磨を施した後にエッチング処理を施すことにより、磁石中央部の厚さ１．４７０ｍｍ、鋭角端部の厚さ１．３００ｍｍの磁石素体（Ｎｏ．４）を得た。なお、バレル研磨により、磁石素体１の周縁部をＲ＝０．５ｍｍに面取りし、その後アルカリ性脱脂液に浸漬した後に、３０℃の３％硝酸水溶液で１０分間エッチング処理を施した。
【００３５】
【表１】
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【００３６】
以上のようにして得られた各磁石素体に対してバレル研磨、脱脂、エッチングの工程を経た後に、ワット浴中にてバレル法によるＮｉ電気めっきを施した。各磁石素体に対して施されたＮｉめっき膜の厚さは、表１に示す通りである。なお、Ｎｉめっき膜厚は、電気めっきの電流密度、めっき時間を表２に示すように設定することによって得ている。
【００３７】
【表２】
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【００３８】
めっき後のＶＣＭ用永久磁石部材１０は、周縁部が、周縁部に囲まれた領域に対して突出している。また、長周縁１２と側周縁１３との交点近傍、長周縁１２と側周縁１４との交点近傍（以下、鋭角端部）の厚さ（磁石素体厚さｔ１＋めっき膜厚さｔ２）が１．５００ｍｍと最大値となり、中央部ｃ（図２〜４参照）の厚さが最小値となる。各ＶＣＭ用永久磁石部材１０の鋭角端部の厚さ及び中央部の厚さを表１に示している。なお、ＶＣＭ用永久磁石部材１０は、ＶＣＭに組み込まれる関係上、その厚さの最大値が規制される、したがって、その最大値が採れる範囲で磁石素体の厚さを最大限にすることが、ＶＣＭ用永久磁石部材１０として要求される磁気特性を確保する上で重要である。
【００３９】
表１に示すように、磁石素体１の薄いＮｏ．５に対して、Ｎｏ．１〜４は、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の厚さｔが同一であっても、磁石素体１の厚さｔ１が厚いために磁束が大きくなることがわかる。ただし、前述したように、めっき膜厚が薄くなると十分な耐食性を得ることができなくなるので、めっき膜厚の最小値は５μｍ以上、望ましくは本実施例のように１５μｍ以上の厚さとすることが望ましい。
【００４０】
次に、以上で得られたＶＣＭ用永久磁石部材１０の接着試験を行った。用いた接着剤は嫌気性アクリル接着剤（日本ロックタイト（株）製ロックタイト６３８ＵＶ）である。ＶＣＭ用永久磁石部材１０とともにＶＣＭの可動子を構成するヨーク１５に対して、上記接着剤を用いてＮｏ．１〜５のＶＣＭ用永久磁石部材１０を接着した。なお、ヨーク１５は、その素体が珪素鋼板から構成され、その表面に無電解Ｎｉめっきが施されたものである。また、接着の条件は、各ＶＣＭ用永久磁石部材１０の平面部に上記接着剤を０．００８〜０．０１０ｇ塗布した後にヨーク１５に対し圧着し、この圧着体を予め１００℃に昇温された乾燥機で３０分間保持するというものである。
【００４１】
各圧着体について、室温で５ｍｍ／分の速度で圧縮せん断試験を行った。その結果を表１に示す。表１に示すように、せん断強度は、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の厚さの最大値と最小値の差異（表１中、ｍａｘ−ｍｉｎ）により変動することがわかる。具体的には、ＶＣＭ用永久磁石部材１０の厚さの最大値と最小値の差異が０の場合に比べて、当該差異が６０μｍ、１００μｍになるとせん断強度が向上することがわかる。これは、接着剤による接着強度を確保するためには、接着面が完全な平面であるよりは接着剤を保持できるような空間が形成されることが望ましいことを示している。しかし、当該差異が１７０μｍと大きくなると、逆にせん断強度は低下する。接着剤を保持する空間が大きすぎると、接着剤が過剰に塗布されるために接着剤に含まれる有機溶剤の揮発が遅く、そのために接着強度（ここでは、せん断強度）不足を招いたものと解される。
【００４２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ヨークに対する接着強度が向上されるＶＣＭ用永久磁石部材が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態によるＶＣＭ用永久磁石部材を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ矢視図である。
【図３】図１のＡ−Ａ矢視図である。
【図４】図１のＡ−Ａ矢視図である。
【図５】ＶＣＭを示す斜視図である。
【符号の説明】
１…磁石素体、２…Ｎｉめっき膜、１０…ＶＣＭ用永久磁石部材、１１…短周縁、１２…長周縁、１３，１４…側周縁、１５…ヨーク、１６…コイル、１７…ヘッドキャリッジ、１８…軸受け、１９…磁気ヘッド、２０…磁気ディスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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