(57)【要約】【課題】電磁波を遮蔽すると共に透過率を確保することができる前面フィルタおよびこれを備えたプラズマディスプレイ装置を提供する。【解決手段】本発明の前面フィルタ130は、無反射膜150、ガラス152、電磁波を遮蔽し、導電性粉末が分散された電磁波遮蔽膜154、近赤外線遮蔽膜156、及び色補正幕158を備える。また、電磁波遮蔽膜154は、導電性粉末を所定の合成樹脂と混合してベースフィルム上にコーティングして形成する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
パネルの前面に設けられた前面フィルタにおいて、電磁波を遮蔽し、
導電性粉末が分散された電磁波遮蔽膜を備えていることを特徴とする前面フィルタ。
【請求項２】
前記電磁波遮蔽膜は、ベースフィルムと、前記ベースフィルムの上面に形成され、かつ前記導電性粉末が所定の合成樹脂に混合されてコーティングされたコーティング膜と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の前面フィルタ。
【請求項３】
前記導電性粉末の濃度は、体積比で前記合成樹脂の１〜４０％の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の前面フィルタ。
【請求項４】
光学フィルタ膜と、
該光学フィルタ膜と前記電磁波遮蔽膜を粘着させるために、導電性粉末が分散された粘着層と、をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の前面フィルタ。
【請求項５】
前記光学フィルタ膜は、無反射膜、ガラス、近赤外線遮蔽膜、色補正膜のうちのいずれか１つであることを特徴とする請求項４に記載の前面フィルタ。
【請求項６】
前記ガラスは、前記前面フィルタがガラスタイプ前面フィルタである時に使用されることを特徴とする請求項５に記載の前面フィルタ。
【請求項７】
前記導電性粉末は、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）およびカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）のうちの少なくとも１つからなることを特徴とする請求項１に記載の前面フィルタ。
【請求項８】
前記導電性粉末は、低抵抗物質であることを特徴とする請求項７に記載の前面フィルタ。
【請求項９】
前記導電性粉末の大きさは、３８０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の前面フィルタ。
【請求項１０】
パネルの前面フィルタに設けられた前面フィルタにおいて、少なくとも１つの以上の光学フィルタ膜と、少なくとも１つ以上の前記光学フィルタ膜の間を粘着させるために導電性粉末が分散された粘着層と、を備えていることを特徴とする前面フィルタ。
【請求項１１】
前記導電性粉末の濃度は、体積比で前記粘着剤の１〜４０％の範囲であることを特徴とする請求項１０に記載の前面フィルタ。
【請求項１２】
電磁波を遮蔽するために、導電性粉末が分散された電磁波遮蔽膜をさらに備えていることを特徴とする請求項１０に記載の前面フィルタ。
【請求項１３】
前記光学フィルタ膜は、無反射膜、ガラス、近赤外線、遮蔽膜、色補正膜のうちのいずれか１つであることを特徴とする請求項１０に記載の前面フィルタ。
【請求項１４】
前記導電性粉末は、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）およびカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）のうちの少なくとも１つからなることを特徴とする請求項１０に記載の前面フィルタ。
【請求項１５】
前記導電性粉末の大きさは、３８０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１０に記載の前面フィルタ。
【請求項１６】
上部基板と下部基板とが貼り合わされてなるパネルと、
前記パネルの前面に設けられ、電磁波を遮蔽し、導電性粉末が分散された電磁波遮蔽膜を有する前面フィルタと、
前記パネルを固定するシャーシベースと、
前記パネルの後面に設けられたバックカバーと、
前記前面フィルタと前記バックカバーを電気的に接続させるフロントキャビネットと、
を備えることを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記前面フィルタは、ガラスタイプ前面フィルタまたはフィルムタイプ前面フィルタのいずれか一方であることを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１８】
前記前面フィルタは、光学フィルタ膜と、前記光学フィルタ膜と前記電磁波遮蔽膜を粘着させるために導電性粉末が分散された粘着層と、を備えていることを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記光学フィルタ膜は、無反射膜、ガラス、近赤外線、遮蔽膜、色補正膜のうちのいずれか１つであることを特徴とする請求項１８に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項２０】
前記導電性粉末は、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）およびカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）のうちの少なくとも１つからなることを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ装置に関し、特に、電磁波を遮蔽するだけでなく、透過率を確保することができる前面フィルタおよびこれを備えたプラズマディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」という。）は、Ｈｅ＋Ｘｅ、Ｎｅ＋ＸｅまたはＨｅ＋Ｎｅ＋Ｘｅなどの不活性混合ガスの放電時に発生する１４７ｎｍの紫外線によって蛍光体を発光させることで、文字またはグラフィックを含む画像を表示するようになる。かかるＰＤＰは、薄膜化と大型化が容易であるだけでなく、最近の技術開発によって大きく向上した高画質を提供する。特に、交流型３電極面放電方式のＰＤＰは、放電時、表面に壁電荷が蓄積され、放電により発生されるスパッタリングから電極を保護しているため、低電圧駆動と長寿命の長所を有する。
【０００３】
図１は、従来のプラズマディスプレイパネルの放電セルの構造を示す斜視図である。
同図に示されたように、従来の交流型３電極面放電方式のＰＤＰの放電セルは、上部基板１０上に形成された走査電極Ｙおよび維持電極Ｚ、下部基板１８上に形成されたアドレス電極Ｘを備える。走査電極Ｙと維持電極Ｚは、それぞれ、透明電極１２Ｙ、１２Ｚと、この透明電極１２Ｙ、１２Ｚの線幅より小さな線幅を有し、透明電極の一側縁部に形成される金属バス電極１３Ｙ、１３Ｚとを含む。
【０００４】
透明電極１２Ｙ、１２Ｚは、通常、ＩＴＯ（インジウム−スズ−オキサイド）の混合物質からなり、上部基板１０上に形成される。金属バス電極１３Ｙ、１３Ｚは、通常、クロム（Ｃｒ）などの金属物質からなり、透明電極１２Ｙ、１２Ｚ上に形成され、抵抗の高い透明電極１２Ｙ、１２Ｚによる電圧降下を減らす働きをする。走査電極Ｙと維持電極Ｚが並んで形成された上部基板１０には、上部誘電体層１４と保護膜１６が積層される。上部誘電体層１４には、プラズマ放電時に発生された壁電荷が蓄積される。保護膜１６は、プラズマ放電時に発生したスパッタリングによる上部誘電体層１４の損傷を防止すると共に二次電子の放出効率を向上させる役割を有する。保護層１６としては、通常、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が使用される。
【０００５】
アドレス電極Ｘが形成された下部基板１８上には、下部誘電体層２２および隔壁２４が形成される。下部誘電体層２２と隔壁２４の各表面には、蛍光体層２６が塗布される。アドレス電極Ｘは、走査電極Ｙおよび維持電極Ｚと交差する方向に形成される。隔壁２４は、ストライプ状または格子状に形成され、放電により生成された紫外線および可視光が隣接する放電セルへ漏れるのを防止する。蛍光体層２６は、プラズマ放電時に発生した紫外線により励起され、赤色、緑色および青色のうちのいずれか１つの可視光線を発生する。上部基板１０及び下部基板１８のそれぞれと隔壁２４との間に設けられた放電空間には、不活性混合ガスが注入される。
【０００６】
ＰＤＰは、画像の階調を実現するため、１フレームを発光回数の異なる複数のサブフィールドに分けて時分割駆動する。各サブフィールドは、全画面を初期化させるためのリセット期間と、走査ラインを選択し、選択された走査ラインにおいて特性のセルを選択するためのアドレス期間と、放電回数によって階調を表現するためのサステイン期間と、に分けられる。
【０００７】
例えば、２５６階調で画像を表示しようとする場合は、図２のように、１／６０秒に相当するフレーム期間（１６．６７ｍｓ）は、８つのサブフィールドＳＦ１〜ＳＦ８に分けられるようになる。８つのサブフィールドＳＦ１〜ＳＦ８のそれぞれは、前述のように、リセット期間、アドレス期間およびサステイン期間に分けられる。各サブフィールドのリセット期間およびアドレス期間は、各サブフィールド毎に同一であるが、サステイン期間は、各サブフィールドにおいて２ｎ（ｎ＝０、１、２、３、４、５、６、７）の比率で増加する。
上述のようなＰＤＰでは、上部基板１０の前面には、電磁波を遮蔽すると共に外部光の反射を防止するための前面フィルタが設けられている。
【０００８】
図３は、従来のプラズマディスプレイ装置の一側部を概略的に示す断面図である。
同図に示されたように、従来のプラズマディスプレイ装置は、上部基板１０と下部基板とが貼り合わされるパネル３２と、パネル３２の前面に設けられるガラスタイプ前面フィルタ３０と、パネル３２を支持すると共に印刷回路基板が取り付けられたシャーシベース３６と、シャーシベース３６の前面に設けられた放熱板３４と、放熱板３４の後面に設けられたバックカバー３８と、バックカバー３８とガラスタイプ前面フィルタ３０とを接続させるフロントキャビネット４５とを備える。
【０００９】
フロントキャビネット４５は、ガラスタイプ前面フィルタ３０とバックカバー３８とを電気的に接続させるためのフィルタ支持部４０と、ガラスタイプ前面フィルタ３０とバックカバー３８とを固定支持する支持部材４２とを有する。フィルタ支持部４０は、ガラスタイプ前面フィルタ３０の背面側がパネル３２と所定の距離で離間するように支持する。また、フィルタ支持部４０は、ガラスタイプ前面フィルタ３０に含まれるＥＭＩ遮蔽膜をグランド電圧源に接地されたバックカバー３８に電気的に接続させることでＥＭＩ遮蔽膜からＥＭＩ信号を放電させる。さらに、フィルタ支持部４０は、側面へＥＭＩが放出されるのを防止する。
【００１０】
シャーシベース３６に取り付けられた印刷回路基板は、パネル３２の電極（例えば、走査電極、維持電極およびアドレス電極）に駆動信号を供給する。このため、印刷回路基板は、図示しない種々の駆動部を備えている。パネル３２は、印刷回路基板から供給される駆動信号に応答して所定の画像を表示する。放熱板３４は、パネル３２および印刷回路基板から発生する熱を放熱させる。バックカバー３８は、外部衝撃からパネル３２を保護すると共に後面へ放出される電磁気障害（ElectroMagnetic Interference；以下「ＥＭＩ」という。）を防ぐ。
【００１１】
ガラスタイプ前面フィルタ３０は、ＥＭＩを遮蔽すると共に外部光の反射を防止する。このため、ガラスタイプ前面フィルタ３０は、図４のように無反射膜５０、ＥＭＩ遮蔽膜５４および近赤外線（near infrared rays；以下「ＮＩＲ」という。）遮蔽膜５６を備える。さらに、ガラスタイプ前面フィルタ３０内には、ガラス５２および色補正膜５８をさらに設けることもできる。ここで、実際にガラスタイプ前面フィルタ３０の各膜５０、５２、５４、５６、５８の間には、粘着層が形成され、各膜５０、５２、５４、５６、５８の間を接着させるようになる。また、一般に色補正膜５８は、粘着層に色補正染料を挿入して形成される。このとき、ガラスタイプ前面フィルタ１３０の構造は、メーカーによって種々に変更可能である。
【００１２】
無反射膜５０は、外部から入射される光の外部への再反射を防止することでＰＤＰのコントラストを向上させる働きをする。かかる無反射膜５０は、ガラスタイプ前面フィルタ３０の表面に形成される。なお、図４とは異なり、無反射膜５０は、ガラスタイプ前面フィルタ３０の背面に追加して形成されることもできる。
【００１３】
ガラス５２は、外部衝撃から前面フィルタ３０が破損されるのを防止するため、前面フィルタ３０を支持するようになる。
ＥＭＩ遮蔽膜５４は、メッシュ構造の導電性パターンを備え、ＥＭＩを遮蔽してパネル３２から入射されるＥＭＩが外部へ放出されるのを防止する。
ＮＩＲ遮蔽膜５６は、パネル３２から放射されるＮＩＲを遮蔽することで、リモコンなどのように赤外線（ＩＲ）を用いて信号を伝達する装置が信号を正しく伝達できるように基準以上のＮＩＲが外部へ放出されるのを防止する。
【００１４】
色補正膜５８は、パネル３２から入射される可視光のうち赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）の輝度を低くすると共に青色（Ｂ）の輝度を高くすることでＰＤＰの光特性を改善させる。また、色補正染料を用いて赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の色純度を高くする。かかる、ＮＩＲ遮蔽膜５６および色補正膜５８は、１つの層で構成することができる。
【００１５】
かかる従来のガラスタイプ前面フィルタ３０は、外部衝撃によるガラスタイプ前面フィルタ３０の破損を防止するためガラス５２を使用している。しかし、ガラス６２が前面フィルタ３０に挿入されると、ガラスタイプ前面フィルタ３０の厚さが厚くなるという短所がある。また、ガラスタイプ前面フィルタ３０にガラス５２が挿入されると、重量が重くなると共に製造コストがアップするという問題点がある。
【００１６】
従って、図５のようにガラス５２を除いたフィルムタイプ前面フィルタ６０が提案されている。フィルムタイプ前面フィルタ６０は、無反射膜６２、ＥＭＩ遮蔽膜６４、びＮＩＲ遮蔽膜６６をおよび色補正膜６８を備える。ここで、フィルムタイプ前面フィルタ６０の各膜６２、６４、６６、６８の間には、接着層が形成され、各膜６２、６４、６６、６８の間を接着させるようになる。
【００１７】
無反射膜６２は、フィルムタイプ前面フィルタ６０の表面に形成され、外部から入射される光の外部への再反射を防止する。なお、無反射膜６２は、フィルムタイプ前面フィルタ６０の背面に形成することもできる。
【００１８】
ＥＭＩ遮蔽膜６４は、メッシュ構造の導電性パターンを備え、ＥＭＩを放電させることでパネル３２から入射されるＥＭＩが外部へ放出されるのを防止する。
ＮＩＲ遮蔽膜６６は、パネル３２から入射されるＮＩＲを遮蔽する。かかるＮＩＲ遮蔽膜６６は、リモコンなどからパネル３２に伝達される信号が正常に伝達されるように基準以上のＮＩＲが外部へ放出されるのを防止する。
【００１９】
色補正膜６８は、パネル３２から入射される可視光のうち赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）の輝度を低くすると共に青色（Ｂ）の輝度を高くすることで、ＰＤＰの光特性を改善させる。また、色補正染料を用いて赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の色純度を高くする。なお、かかるＮＩＲ遮蔽膜６６および色補正膜６８は、１つの層で構成することができる。
【００２０】
前述のように、従来のガラスタイプ前面フィルタおよびフィルムタイプ前面フィルタは、電磁波遮蔽のため、図６のようなＥＭＩ遮蔽膜を備えることができる。図６に示されたＥＭＩ遮蔽膜は、フレーム７０で取り囲まれた多数の第１の電極ライン７１ａおよび多数の第２の電極ライン７１ｂが互いに交差するメッシュ構造を有する。なお、第１および第２の電極ライン７１ａ、７１ｂは、銅（Ｃｕ）または銀（Ａｇ）およびＩＴＯの多層膜で形成され、ＰＤＰからの可視光線透過率を十分確保可能な線幅を有する。このとき、可視光線透過率が十分確保されるように第１および第２の電極ライン７１ａ、７１ｂのライン線幅、ライン間隔およびバイアス角度（θ）を最適値として設定する必要がある。これは、ライン線幅およびライン間隔が大きくなると、ＰＤＰからの可視光透過率を低下し、輝度を低下し、バイアス角度（θ）が合わない場合は、モアレ現象が発生してしまい、画質が低下するためである。
【００２１】
かかるＥＭＩ遮蔽膜は、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、ＩＴＯのうちの少なくとも１つの導電層は、フォトリソグラフィ工程を含むパターニング工程で形成される。なお、バイアス角度が変化する場合、フォトリソグラフィ工程の設計値も変える必要があるため、生産性が落ちるという問題点がある。また、伸縮性の良い銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、ＩＴＯなどで形成されたＥＭＩ遮蔽膜をＰＤＰに取り付ける時、格子間隔のずれや格子パターンの変更などでバイアス角度がずれることがある。これによって、ＰＤＰからの可視光線透過率を低下し、透過率の確保ができないという問題点がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
従って、本発明の目的は、電磁波を遮蔽するだけでなく、透過率を確保することができる前面フィルタおよびこれを備えたプラズマディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記の目的を達成するための本発明の好適な一実施形態によれば、前面フィルタは、電磁波を遮蔽し、導電性粉末が分散された電磁波遮蔽膜を備えることを特徴とする。
前面フィルタによれば、電磁波遮蔽膜は、ベースフィルムと、ベースフィルムの上面に形成され、導電性粉末が所定の合成樹脂に混合されてコーティングされたコーティング膜とを含むことができる。
【００２４】
前面フィルタによれば、光学フィルタ膜と、光学フィルタ膜と電磁波遮蔽膜とを粘着させると共に導電性粉末が分散された粘着層とをさらに備えることができる。
ここで、光学フィルタ膜は、無反射膜、ガラス、近赤外線遮蔽膜、色補正膜のうちのいずれか１つであることが好ましい。
【００２５】
本発明の好適な他の実施形態によれば、前面フィルタは、少なくとも１つの以上の光学フィルタ膜と、少なくとも１つ以上の光学フィルタ膜の間を粘着させると同時に導電性粉末が分散された粘着層とを備えることを特徴とする。
前面フィルタによれば、電磁波を遮蔽し、導電性粉末が分散された電磁波遮蔽膜をさらに備えることができる。
【００２６】
本発明の好適なまた他の実施形態によれば、プラズマディスプレイ装置は、上部基板と下部基板とが貼り合わされてなるパネルと、パネルの前面に設けられ、電磁波を遮蔽し、導電性粉末が分散された電磁波遮蔽膜を有する前面フィルタと、パネルを固定するシャーシベースと、パネルの後面に設けられたバックカバーと、前面フィルタとバックカバーとを電気的に接続させるフロントキャビネットと、を備えることを特徴とする。
ここで、前面フィルタは、ガラスタイプ前面フィルタまたはフィルムタイプ前面フィルタのいずれか一方とすることができる。
また、前面フィルタは、光学フィルタ膜と、光学フィルタ膜と電磁波遮蔽膜とを粘着させると共に導電性粉末が分散された粘着層とをさらに備えることができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの前面フィルタは、数ｎｍ〜数百ｎｍの大きさを有する導電性粉末を前面フィルタ内の粘着層に分散させることで電磁波遮蔽膜を形成させ、または、導電性粉末を合成樹脂に混合してベースフィルムにコーティングすることで電磁波遮蔽膜を形成させ、これによって、電磁波を遮蔽すると共に、透過率を確保することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付の図面に基づいて本発明の好適な実施形態を説明する。
図７は、本発明の第１の実施形態に係るＰＤＰのガラスタイプ前面フィルタを示す図である。
同図に示されたように、本発明の第１の実施形態に係るＰＤＰのガラスタイプ前面フィルタ１３０は、無反射膜１５０、ガラス１５２、ＥＭＩ遮蔽膜１５４、ＮＩＲ遮蔽膜１５６および色補正膜１５８を備える。なお、ガラスタイプ前面フィルタ１３０の各膜１５０、１５２、１５４、１５６、１５８の間には、図示しない粘着層が形成され、各膜１５０、１５２、１５４、１５６、１５８の間を粘着させる。
【００２９】
無反射膜１５０は、外部から入射される光の外部への再反射を防止することでＰＤＰのコントラストを向上させる働きをする。かかる無反射膜１５０は、ガラスタイプ前面フィルタ１３０の表面に形成される。または、無反射膜１５０は、前面フィルタ１３０の背面に形成されることもできる。
ガラス１５２は、外部衝撃による前面フィルタ１３０の破損を防止するため、前面フィルタ１３０を支持するようになる。
【００３０】
ＥＭＩ遮蔽膜１５４は、ＥＭＩを放電させることでパネルから入射されるＥＭＩが外部へ放出されるのを防止する。かかるＥＭＩ遮蔽膜１５６は、図８に示されたようにベースフィルム１１５と、ベースフィルム１５５の上面に導電性粉末がコーティングされたコーティング膜１５３を備える。このとき、粉末は、数ｎｍ〜数百ｎｍの大きさを有し、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）などの低抵抗物質のうちの少なくともいずれか１つを使用することができる。
【００３１】
かかるＥＭＩ遮蔽膜１５６は、導電性粉末が合成樹脂に混合され、ベースフィルム１５５の上面にコーティングされるため、別の導電性電極ラインを設けることなく電磁波を遮蔽することができる。また、導電性粉末は、可視光線波長領域である３８０ｎｍ以下に製作されるが、かかる波長領域は、パネルから発生した可視光線波長領域より小さくなるため、パネルから発生した可視光線の透過率を低下することなく透過率を十分確保することが可能となる。なお、かかる導電性粉末を合成樹脂に混合してベースフィルム１５５の上面にコーティングする場合は、透過率を考慮し、その濃度は、体積比で合成樹脂の１〜４０％程度とする。
【００３２】
ＮＩＲ遮蔽膜１５６は、パネル３２から入射されるＮＩＲを遮蔽し、リモコンなどからパネルへ伝達される信号が正しく伝達されるように基準以上のＮＩＲが外部へ放出されるのを防止する。
色補正膜１５８は、パネルから入射される可視光のうち赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）の輝度を低くすると共に青色（Ｂ）の輝度を高くすることでＰＤＰの光特性を改善させる。また、色補正染料を使用することで赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の色純度を高くする。かかる、ＮＩＲ遮蔽膜１５６および色補正膜１５８は、１つの層で構成されることができる。
【００３３】
図９は、本発明の第２の実施形態に係るＰＤＰのガラスタイプ前面フィルタを示す図である。
同図に示されたように、本発明の第２の実施形態に係るＰＤＰのガラスタイプ前面フィルタ２３０は、無反射膜２５０、ガラス２５２、ＮＩＲ遮蔽膜２５６および色補正膜２５８を備える。なお、無反射膜２５０とガラス２５２とを粘着させるための第１の粘着層２５１、ガラス２５２とＮＩＲ遮蔽膜２５６とを粘着させるための第２の粘着層２５４、およびＮＩＲ遮蔽膜２５６と色補正膜２５６とを粘着させるための第３の粘着層２５７を追加して備える。このとき、第２の粘着層２５４に導電性粉末を分散させて電磁波を遮蔽することができる。
【００３４】
無反射膜２５０は、外部から入射される光の外部への再反射を防止することでＰＤＰのコントラストを向上させる働きをする。かかる無反射膜２５０は、ガラスタイプ前面フィルタ２３０の表面に形成される。または、無反射膜２５０は、前面フィルタ２３０の背面に形成されることもできる。
ガラス２５２は、外部衝撃による前面フィルタ２３０の破損を防止するため、前面フィルタ２３０を支持するようになる。
【００３５】
第２の粘着層２５４は、ガラス２５２とＮＩＲ遮蔽膜２５６との間を粘着させるだけでなく、導電性粉末を粘着剤に混合して分散させることで電磁波を遮蔽することが可能となる。このとき、導電性粉末は、数ｎｍ〜数百ｎｍの大きさを有し、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）などの低抵抗物質のうちの少なくともいずれか１つが使用される。
【００３６】
かかる第２の粘着層２５４には、導電性粉末が分散されるため、別の導電性電極ラインを設けることなく電磁波を遮蔽することが可能となる。また、導電性粉末は、可視光線波長領域である３８０ｎｍ以下に製作されるが、かかる波長領域は、パネルから発生した可視光線波長領域より小さくなるため、パネルから発生した可視光線の透過率を低下することなく透過率を十分確保することが可能となる。なお、かかる導電性粉末を第２の粘着層２５４に分散させる場合は、透過率を考慮し、その濃度を、体積比で合成樹脂の１〜４０％程度とする。
【００３７】
ＮＩＲ遮蔽膜２５６は、パネルから放射されるＮＩＲを遮蔽することで、リモコンなどのようにＩＲを用いて伝達される信号が正しく伝達されるように基準以上のＮＩＲが外部へ放出されるのを防止する。
【００３８】
色補正膜２５８は、パネルから入射される可視光のうち赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）の輝度を低くすると共に青色（Ｂ）の輝度を高くすることでＰＤＰの光特性を改善させる。また、色補正染料を使用することで赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の色純度を高くする。かかる、ＮＩＲ遮蔽膜２５６および色補正膜２５８は、１つの層で構成することができる。
なお、本発明に係るガラスタイプ前面フィルタは、ベースフィルムの上面に合成樹脂と混合された導電性粉末をコーティングさせた後、これと光学フィルタ膜との間を粘着させる粘着層に導電性粉末を分散させてＥＭＩ遮蔽膜を形成させることもできる。
【００３９】
図１０は、本発明の第３の実施形態に係るＰＤＰのフィルムタイプ前面フィルタを示す図である。
同図に示されたように、本発明の第３の実施形態に係るＰＤＰのフィルムタイプ前面フィルタ２６０は、無反射膜２６２、ＥＭＩ遮蔽膜２６４およびＮＩＲ遮蔽膜２６６を備える。なお、フィルムタイプ前面フィルタ２６０の各膜２６２、２６４、２６６の間には、図示しない粘着層が形成され、各膜２６２、２６４、２６６の間を粘着させる。
無反射膜２６２は、外部から入射される光の外部への再反射を防止することでＰＤＰのコントラストを向上させる働きをする。かかる無反射膜２６２は、フィルムタイプ前面フィルタ２６０の表面に形成される。または、無反射膜２６２は、前面フィルタ２６０の背面に追加して形成することもできる。
【００４０】
ＥＭＩ遮蔽膜２６４は、ＥＭＩを放電させることでパネルから入射されるＥＭＩが外部へ放出されるのを防止する。かかるＥＭＩ遮蔽膜２６４は、図１１に示されたようにベースフィルム２６５と、ベースフィルム２６５の上面に導電性粉末がコーティングされたコーティング膜２６３を備える。このとき、導電性粉末は、数ｎｍ〜数百ｎｍの大きさを有し、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）などの低抵抗物質のうちの少なくとも１つが使用される。
【００４１】
かかるＥＭＩ遮蔽膜２６４は、導電性粉末が合成樹脂に混合され、ベースフィルム２６５の上面にコーティングされるため、別の導電性電極ラインを設けることなく電磁波を遮蔽することが可能となる。また、導電性粉末は、可視光線波長領域である３８０ｎｍ以下に製作されるが、かかる波長領域は、パネルから発生した可視光線波長領域より小さくなるため、パネルから発生した可視光線の透過率を低下することなく透過率を十分確保することが可能となる。なお、かかる導電性粉末を合成樹脂に混合してベースフィルム２６５の上面にコーティングする場合は、透過率を考慮し、その濃度を、体積比で合成樹脂の１〜４０％程度とする。
【００４２】
ＮＩＲ遮蔽膜２６６は、パネルから放射されるＮＩＲを遮蔽し、リモコンなどのようにＩＲを用いて伝達される信号が正しく伝達されるように基準以上のＮＩＲが外部へ放出されるのを防止する。
【００４３】
図１２は、本発明の第４の実施形態に係るＰＤＰのフィルムタイプ前面フィルタを示す図である。
同図に示されたように、本発明の第４の実施形態に係るＰＤＰのフィルムタイプ前面フィルタ３６０は、無反射膜３６２、ガラス３６４およびＮＩＲ遮蔽膜３６６を備える。なお、無反射膜３６２とガラス３６６との間は、粘着層３６４によって粘着される。なお、粘着層３６４に導電性粉末を分散させることで電磁波を遮蔽することができる。
無反射膜３６２は、外部から入射される光の外部への再反射を防止することでＰＤＰのコントラストを向上させる働きをする。かかる無反射膜３６２は、フィルムタイプ前面フィルタ３６０の表面に形成される。または、無反射膜３６２は、前面フィルタ３６０の背面に追加的に形成することもできる。
【００４４】
粘着層３６４は、無反射膜３６２とＮＩＲ遮蔽膜３６６との間を粘着させるだけでなく、導電性粉末を粘着剤に混合して分散させることで電磁波を遮蔽させることができる。このとき、導電性粉末は、数ｎｍ〜数百ｎｍの大きさを有し、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）などの低抵抗物質のうちの少なくとも１つが使用される。
【００４５】
かかる粘着層３６４には、導電性粉末が分散されるため、別の導電性電極ラインを設けることなく電磁波を遮蔽することが可能となる。また、導電性粉末は、可視光線波長領域である３８０ｎｍ以下に製作されるが、かかる波長領域は、パネルから発生した可視光線波長領域より小さくなるため、パネルから発生した可視光線の透過率を低下することなく透過率を十分確保することが可能となる。なお、かかる導電性粉末を粘着層３６４に分散させる場合は、透過率を考慮し、その濃度を、体積比で合成樹脂の１〜４０％程度とする。
ＮＩＲ遮蔽膜３６６は、パネルから放射されるＮＩＲを遮蔽することでリモコンなどのようにＩＲを用いて伝達される信号が正しく伝達されるように基準以上のＮＩＲが外部へ放出されるのを防止する。
【００４６】
なお、本発明に係るフィルムタイプ前面フィルタは、ベースフィルムの上面に合成樹脂と混合された導電性粉末をコーティングさせた後、これと光学フィルタ膜との間を粘着させる粘着層に導電性粉末を分散させることで、ＥＭＩ遮蔽膜を形成することもできる。
【００４７】
以上、図面を参照して本発明の好適な実施形態を説明してきたが、本発明の保護範囲は、前述の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明とその均等物にまで及ぶものである。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】従来のプラズマディスプレイパネルの放電セルの構造を示す斜視図である。
【図２】一般のプラズマディスプレイパネルにおいて２５６階調を表現するためのフレームを示す図である。
【図３】従来のプラズマディスプレイパネルの一側分を概略的に示す断面図である。
【図４】従来のフィルムタイプ前面フィルタを概略的に示す図である。
【図５】従来のフィルムタイプ前面フィルタを概略的に示す図である。
【図６】従来のガラスタイプおよびフィルムタイプ前面フィルタの電磁波（ＥＭＩ）遮蔽膜を詳しく示す図である。
【図７】本発明の第１の実施形態に係るＰＤＰのガラスタイプ前面フィルタを示す図である。
【図８】図７に示された電磁波遮蔽膜の詳細を示す図である。
【図９】本発明の第２の実施形態に係るＰＤＰのガラスタイプ前面フィルタを示す図である。
【図１０】本発明の第３の実施形態に係るＰＤＰのフィルムタイプ前面フィルタを示す図である。
【図１１】図１０に示された電磁波遮蔽膜の詳細を示す図である。
【図１２】本発明の第４の実施形態に係るＰＤＰのフィルムタイプ前面フィルタを示す図である。
【符号の説明】
【００４９】
３２  パネル
３６  シャーシベース
３８  バックカバー
４５  フロントキャビネット
１３０、２３０  前面フィルタ
１５０、２５０  無反射膜
１５２、２５２  ガラス
１５４  ＥＭＩ遮蔽膜
１５６、２５６  ＮＩＲ遮蔽膜
１５８、２５８  色補正膜
２５１  第１の粘着層
２５４  第２の粘着層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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