(57)【要約】【課題】効率よく液晶表示パネルを製造する。【解決手段】ＣＦ基板が位置決めされた状態で固定的に保持される保持ステージ３１が、円環状の製造ライン３０に沿って周回移動され、製造ライン３０に設けられた各作業ステーション３０ａ〜３０ｍにて所定の作業が実施される。各作業ステーション３０ａ〜３０ｍでは、保持ステージ３１がリニアモータによって移動されて、リニアスケールに基づいて保持ステージ３１が位置決めされる。【選択図】  図１
2004191385.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対のガラス基板同士が相互に対向して貼り合わされて、両ガラス基板間に液晶が封入される液晶表示パネルの製造装置であって、
一方のガラス基板が位置決めされた状態で固定的に保持する保持ステージが、移動手段により、周回移動されるとともに、その周回移動の間に、保持ステージ上に保持されたガラス基板に対して所定の処理が実施される複数の作業ステーションが設けられており、該複数の作業ステーションにおいて、前記保持ステージが前記移動手段により、移動して位置決めされるようになっていることを特徴とする液晶表示パネルの製造システム。
【請求項２】
一対のガラス基板同士が相互に対向して貼り合わされて、両ガラス基板間に液晶が封入された液晶表示パネルの製造装置であって、
一方のガラス基板が位置決めされる状態で固定的に保持する保持ステージが、第１の移動手段により、周回移動されるとともに、その周回移動の間に、保持ステージ上に保持されたガラス基板に対して所定の処理が実施される複数の作業ステーションが設けられており、該複数の作業ステーションの少なくとも１つの作業ステーションにおいて、前記保持ステージが第２の移動手段により、移動して位置決めされるようになっていることを特徴とする液晶表示パネルの製造システム。
【請求項３】
前記第２の移動手段がリニアモータである請求項２に記載の液晶表示パネルの製造システム。
【請求項４】
前記作業ステーションには、前記保持ステージの位置を検出するためのリニアスケールが設けられており、該保持ステージの位置が、該保持ステージに設けられた走査ヘッドによって検出され、該走査ヘッドの検出結果に基づいて前記リニアモータが位置決め制御される請求項２に記載の液晶表示パネルの製造システム。
【請求項５】
一対のガラス基板同士が相互に対向して貼り合わされて、両ガラス基板間に液晶が封入される液晶表示パネルの製造装置であって、
一方のガラス基板が位置決めされた状態で固定的に保持する保持ステージを、移動手段を用いて周回移動させ、その周回移動の間に、複数の作業ステーションにおいて、保持ステージ上に保持されたガラス基板に対して所定の処理が実施されるようになっており、該複数の作業ステーションでは、前記保持ステージが前記移動手段を用いて移動して、位置決めされることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項６】
一対のガラス基板同士が相互に対向して貼り合わされて、両ガラス基板間に液晶が封入される液晶表示パネルの製造方法であって、
一方のガラス基板が位置決めされた状態で固定的に保持する保持ステージを第１の移動手段を用いて周回移動させ、その周回移動の間に、複数の作業ステーションにおいて、保持ステージ上に保持されたガラス基板に対して所定の処理を実施するようになっており、該複数の作業ステーションの少なくとも１つの作業ステーションでは、前記保持ステージを第２の移動手段を用いて移動させて位置決めすることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、相互に対向した一対のガラス基板間に液晶が封入された液晶表示パネルの製造システムおよび製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネルは、マトリクス状に複数の画素電極が設けられるとともに各画素電極毎にＴＦＴがそれぞれ設けられたＴＦＴ基板と、カラーフィルターが設けられたカラーフィルター基板（ＣＦ基板）とが、適当な間隙を空けた状態で貼り合わされて、その間隙内に液晶が封入されている。
【０００３】
このような液晶表示パネルは、通常、複数のＣＦ基板に分断されるＣＦ基板用マザーガラスと、複数のＴＦＴ基板に分断されるＴＦＴ基板用マザーガラスとを貼り合わせた後に、各液晶表示パネルの大きさに、ＣＦ基板用マザーガラスとＴＦＴ基板用マザーガラスとが、それぞれ分断された後、注入口より液晶が注入され、注入口を封止し、ＣＦ基板とＴＦＴ基板の表面に偏光板が貼り付けられることにより製造される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
液晶表示パネルを製造する際には、通常、まず、洗浄、配向処理等が行われたＣＦ基板用マザーガラスに対して、各液晶表示パネルとされる領域毎に、シール形成、スペーサ撒布等の処理を実施し、その後に、ＴＦＴ基板用マザーガラスを貼り合わせる。ＴＦＴ及びＣＦ基板用マザーガラスに対する各処理を実施するためには、各処理工程において、ＴＦＴ及びＣＦ基板用マザーガラスを正確に位置決めする必要がある。しかしながら、近年、ＴＦＴ及びＣＦ基板用マザーガラスの大型化に伴い、各工程において、大きなサイズのＴＦＴ及びＣＦ基板用マザーガラスを正確に位置決めすることは容易でない。
【０００５】
また、ＣＦ基板用マザーガラスにＴＦＴ基板用マザーガラスを貼り合わせた状態で、それぞれを所定の大きさに分断する際にも、貼り合わされたＣＦ基板用マザーガラスおよびＴＦＴ基板用マザーガラスを正確に位置決めする必要がある。このように、各処理工程において、ＣＦ基板用マザーガラスおよびＴＦＴ基板用マザーガラスを正確に位置決めする必要があるために、作業効率が低下するという問題がある。
【０００６】
本発明は、このような問題を解決するものであり、その目的は、効率よく液晶表示パネルを製造することができるシステムおよび方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示パネルの製造システムは、一対のガラス基板同士が相互に対向して貼り合わされて、両ガラス基板間に液晶が封入される液晶表示パネルの製造装置であって、一方のガラス基板が位置決めされた状態で固定的に保持する保持ステージが、移動手段により、周回移動されるとともに、その周回移動の間に、保持ステージ上に保持されたガラス基板に対して所定の処理が実施される複数の作業ステーションが設けられており、該複数の作業ステーションにおいて、前記保持ステージが前記移動手段により、移動して位置決めされるようになっていることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の液晶表示パネルの製造システムは、一対のガラス基板同士が相互に対向して貼り合わされて、両ガラス基板間に液晶が封入された液晶表示パネルの製造装置であって、一方のガラス基板が位置決めされる状態で固定的に保持する保持ステージが、第１の移動手段により、周回移動されるとともに、その周回移動の間に、保持ステージ上に保持されたガラス基板に対して所定の処理が実施される複数の作業ステーションが設けられており、該複数の作業ステーションの少なくとも１つの作業ステーションにおいて、前記保持ステージが第２の移動手段により、移動して位置決めされるようになっていることを特徴とする。
【０００９】
前記第２の移動手段はリニアモータである。
【００１０】
前記作業ステーションには、前記保持ステージの位置を検出するためのリニアスケールが設けられており、該保持ステージの位置が、該保持ステージに設けられた走査ヘッドによって検出され、該走査ヘッドの検出結果に基づいて前記リニアモータが位置決め制御される。
【００１１】
本発明の液晶表示パネルの製造方法は、一対のガラス基板同士が相互に対向して貼り合わされて、両ガラス基板間に液晶が封入される液晶表示パネルの製造装置であって、
一方のガラス基板が位置決めされた状態で固定的に保持する保持ステージを、移動手段を用いて周回移動させ、その周回移動の間に、複数の作業ステーションにおいて、保持ステージ上に保持されたガラス基板に対して所定の処理が実施されるようになっており、該複数の作業ステーションでは、前記保持ステージが前記移動手段を用いて移動して、位置決めされることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、一対のガラス基板同士が相互に対向して貼り合わされて、両ガラス基板間に液晶が封入される液晶表示パネルの製造方法であって、一方のガラス基板が位置決めされた状態で固定的に保持する保持ステージを第１の移動手段を用いて周回移動させ、その周回移動の間に、複数の作業ステーションにおいて、保持ステージ上に保持されたガラス基板に対して所定の処理を実施するようになっており、該複数の作業ステーションの少なくとも１つの作業ステーションでは、前記保持ステージを第２の移動手段を用いて移動させて位置決めすることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１４】
図１は、本発明の液晶表示パネルの製造方法の実施に使用される製造システムの一例を示す概略平面図である。この液晶表示パネルの製造システムには、円環状になった製造ライン３０が設けられており、また、この製造ライン３０の外部には、液晶表示パネルを構成する複数のカラーフィルター基板（以下、ＣＦ基板とする）１１ａに分断されるＣＦ基板用マザーガラス１１が供給されて、そのＣＦ基板用マザーガラス１１を分断する第１分断機構２１と、液晶表示パネルを構成する複数のＴＦＴ基板１２ａに分断されるＴＦＴ基板用マザーガラス１２が供給されて、そのＴＦＴ基板用マザーガラス１２を分断する第２分断機構２２とが設けられている。
【００１５】
第１分断機構２１に供給されるＣＦ基板用マザーガラス１１には、分断される複数のＣＦ基板１１ａの形状に対応したスクライブライン１１ｂが予め形成されており、また、各ＣＦ基板１１ａ毎にカラーフィルタおよび配向膜がそれぞれ設けられている。さらに、各ＣＦ基板１１ａには、位置決めのためのアライメントマークがそれぞれ設けられている。
【００１６】
第１分断機構２１に供給されたＣＦ基板用マザーガラス１１は、スクライブライン１１ｂに沿って分断されて、複数のＣＦ基板とされる。そして、分断された各ＣＦ基板１１ａは、それぞれ、傷等の欠陥の有無が点検されて、不良品が検出された場合には、その不良品は取り除かれて廃棄される。
【００１７】
同様に、第２分断機構２２に供給されるＴＦＴ基板用マザーガラス１２にも、分断される複数のＴＦＴ基板１２ａの形状に対応したスクライブライン１２ｂが予め形成されており、また、各ＴＦＴ基板１２ａ毎にマトリクス状に複数の画素電極が設けられるとともに、各画素電極毎にＴＦＴがそれぞれ設けられている。さらに、各ＴＦＴ基板１２ａには、位置決めのためのアライメントマークがそれぞれ設けられている。
【００１８】
第２分断機構２２に供給されたＴＦＴ基板用マザーガラスは、スクライブライン１２ｂに沿って分断されて、複数のＴＦＴ基板１２ａとされる。そして、分断された各ＴＦＴ基板１２ａは、それぞれ、傷等の欠陥の有無が点検されて、不良品が検出された場合には、その不良品は取り除かれて廃棄される。
【００１９】
ＣＦ基板用マザーガラス１１およびＴＦＴ基板用マザーガラス１２に形成されるスクライブラインは、日本特許第３０２７７６８号公報に開示されているように、レーザービームを照射しつつ冷却する方法（ガラスの熱歪みを利用する方法）によって形成することが好ましい。
【００２０】
第２分断機構２２にて分断されて良品として残されたＴＦＴ基板１２ａは、１枚ずつ、ＴＦＴ基板１２ａのアライメントが可能となるように透明なガラス窓を有するカバー台２３の上に、順次、保持される。ＴＦＴ基板１２ａが保持されたカバー台２３は、円環状の製造ライン３０における第５作業ステーション３０ｅに近接して配置されたシール材塗布ステーション３０ｎに搬送されて、位置決めされる。その後、このシール材塗布ステーション３０ｎにおいて、カバー台２３の上に保持されたＴＦＴ基板１２ａには、その周縁部における所定位置に、シール材が塗布される。
【００２１】
円環状に構成された製造ライン３０には、分断された各ＣＦ基板１１ａが保持されて周回移動する保持ステージ３１と、保持ステージ３１上のＣＦ基板１１ａに対して所定の処理が順次実施される第１〜第１３の各作業ステーション３０ａ〜３０ｍとが設けられており、保持ステージ３１は、順次、各作業ステーション３０ａ〜３０ｍに移動させられるようになっている。
【００２２】
なお、保持ステージ３１の個数は、１以上であって、特に限定されるものではなく、複数個の保持ステーション３１が設けられる場合には、各保持ステーション３１は、同期して周回移動され、停止時には、各保持ステージ３１は、それぞれ、所定の作業ステーションの位置に位置決めされる。
【００２３】
図２は、各作業ステーション３０ａ〜３０ｍにおいて保持ステージ３１を移動させる機構を示す斜視図である。円環状に形成された製造ライン３０には、全周にわたって、支持台３７が設けられている。この支持台３７は、上面３７ａが水平になっており、所定の半径の円状に形成されている。
【００２４】
支持台３７の水平な上面３７ａには、一対のガイドレール３３が設けられている。各ガイドレール３３は、それぞれ、無端化された所定の半径の円状になっている。
【００２５】
保持ステージ３１の下面には、各ガイドレール３３にスライド可能に係合するスライダー３１ｂが設けられており、各スライダー３１ｂが、各ガイドレール３３に沿ってスライドすることにより、保持ステージ３１が、各ガイドレール３３に沿って水平方向に移動する。
【００２６】
円状に形成された支持台３７の内周面には、ラックギア３８が全周にわたって設けられている。また、保持ステージ３１には、サーボモーター３６が取り付けられている。サーボモータ３６の出力軸は、保持ステージ３１の下方に延出しており、その下端部に、ラックギア３８に噛み合ったピニオンギア３９が取り付けられている。ピニオンギア３９は、サーボモータ３６によって回転されて、ラックギア３８上を転動する。
【００２７】
保持ステージ３１における外周側の側縁部には、リニアモーター４１を構成する可動子４１ａが、各ガイドレール３３の接線方向と平行に設けられている。また、各作業ステーション３０ａ〜３０ｍに配置された支持台３７の部分には、保持ステーション３１に設けられた可動子４１ａを上下に挟みこむように、固定子４１ｂが設けられている。固定子４１ｂは、支持台３７上に配置された各ガイドレール３３の接線方向に平行な状態になっている。
【００２８】
さらに、各作業ステーション３０ａ〜３０ｍに配置された支持台３７の内周面には、各リニアガイド３３の接線方向と平行にリニアスケール４２が設けられている。また、保持ステージ３１には、リニアスケール４２のスリットの数を読み取る走査ヘッド４３が、リニアスケール４２に対向するように設けられている。
【００２９】
円状に構成された支持台３７の中心部には、垂直軸回りに回転可能になった回転支持部３４が設けられており、この回転支持部３４から放射方向に沿って配線ダクト３５が水平に延出している。配線ダクト３５は、長手方向に沿って伸縮し得るように、その中間部にフレキシブルジョイント３５ａが設けられており、配線ダクト３５の先端部に、保持ステージ３１が連結されている。配線ダクト３５内には、保持ステージ３１に取り付けられたサーボモータ３６に対する給電線、走査ヘッド４３に対する信号線等が配線されている。
【００３０】
保持ステージ３１には、ＣＦ基板１１ａまたはＴＦＴ基板１２ａを固定状態で保持する静電チャック３１ａが設けられている。なお、このような静電チャックに代えて、真空チャックを設けるようにしてもよい。
【００３１】
保持ステージ３１は、サーボモータ３６が駆動されて、保持ステージ３１に取り付けられたピニオンギア３９がラックギア３８上を転動し、保持ステージ３１が、各ガイドレール３３に沿って移動する。これにより、隣接する作業ステーションの間を、保持ステージ３１が円周に沿って移動する。
【００３２】
また、保持ステージ３１は、各作業ステーション３０ａ〜３０ｍにおいては、リニアモーター４１によって、精密に移動される。そして、その移動による保持ステージ３１の位置は、走査ヘッド４３がリニアスケール４２の目盛りを読み取ることにより、正確に検出される。保持ステージ３１を移動させるリニアモーター４１は、走査ヘッド４３によって検出された各作業ステーションにおける保持ステージの位置に基づいて、高精度で制御される。その結果、各作業ステーション３０ａ〜３０ｍにおいて、保持ステージ３１は精密に位置決めされる。
【００３３】
各作業ステーション３０ａ〜３０ｍでは、次の各作業が実施される。まず、第１作業ステーション３０ａでは、第１分断機構２１から保持ステージ３１上に供給されるＣＦ基板１１ａを、ＣＦ基板上の２つ以上のアライメントマークと２つ以上のＣＣＤカメラ（図示せず）により、画像処理装置を用いて、図示しない位置決め手段により正確に位置決めして保持するようになっており、位置決めされたＣＦ基板１１ａが、第２作業ステーション３０ｂに搬送される。
【００３４】
第２作業ステーション３０ｂでは、保持テーブル３１をリニアモータ４１とリニアスケール４２を用いて位置決めし（以下保持テーブル３１を位置決めする）、保持ステージ３１上に載置されたＣＦ基板１１ａの周縁部にシール材を塗布するようになっている。シール材が塗布されたＣＦ基板１１ａは、第３作業ステーション３０ｃに搬送される。
【００３５】
第３作業ステーション３０ｃでは、保持ステージ３１を位置決めし、ＣＦ基板１１ａの周縁部に塗布されたシール材に対して紫外線を照射してシール材を半硬化状態とする。シール材が半硬化状態になったＣＦ基板１１ａは、第４作業ステーション３０ｄに搬送される。
【００３６】
第４作業ステーション３０ｄでは、保持ステージ３１を位置決めし、ＣＦ基板１１ａの周縁部にて半硬化状態になったシール材にて囲まれた領域に液晶を滴下する。液晶が滴下されたＣＦ基板は、第５作業ステーション３０ｅに搬送される。
【００３７】
第５作業ステーション３０ｅでは、保持ステージ３１を位置決めし、ＣＦ基板の２つ以上のアライメントマークにのＴＦＴ基板のアライメントマークを一致させるように、一対のＣＣＤカメラ（図示していない）と画像処理装置を用いて、ＣＦ基板１１ａに、ＴＦＴ基板１２ａを正確に貼り付ける。
【００３８】
ＴＦＴ基板１２ａは、前述したように、シール材塗布ステーション３０ｎにおいて、透明なカバー台２３の上に位置決めされた状態で保持されて、その周縁部にシール材が塗布されている。
【００３９】
カバー台２３の上に保持されたＴＦＴ基板１２ａの周縁部における所定位置にシール材が塗布されると、ＴＦＴ基板１２ａを保持するカバー台２３が、ＴＦＴ基板１２ａとともに反転させられて、第５作業ステーション３０ｅに配置された保持ステージ３１上のＣＦ基板とＴＦＴ基板が対向する。その後、カバー台２３が保持ステージ３１に対して下降し、保持ステージ３１上のＣＦ基板１１ａにＴＦＴ基板１２ａが貼り付けられる。このとき、ＣＦ基板１１ａに貼り付けられたＴＦＴ基板１２ａは、カバー台２３にて保持された状態を維持する。
【００４０】
第５作業ステーション３０ｅにて、ＴＦＴ基板１２ａが貼り付けられたＣＦ基板１１ａを保持する保持テーブル３１は、第６作業ステージ３０ｆに、ＴＦＴ基板１２ａを保持するカバー台２３とともに第６作業ステーション３０ｆに移動する。
【００４１】
第６作業ステーション３０ｆでは、保持ステージ３１を位置決めし、ＣＦ基板１１ａとＴＦＴ基板１２ａとを貼り合わせるシール材に紫外線を照射する。これにより、シール材が半硬化状態とされる。シール材が半硬化状態になると、保持ステージ３１は、第７作業ステーション３０ｇに移動する。
【００４２】
第７作業ステーション３０ｇでは、保持ステージ３１を位置決めし、ＣＦ基板１１ａに貼り合わされたＴＦＴ基板１２ａを加圧した状態で、シール材に紫外線を照射し、シール材を完全に硬化させる。シール材が硬化すると、保持ステージ３１は、第８作業ステーション３０ｈに移動する。
【００４３】
第８作業ステーション３０ｈでは、保持ステージ３１を位置決めし、位置決めされたＣＦ基板１１ａに貼り付けられたＴＦＴ基板１２ａから、カバー台２３を取り外す。取り外されたカバー台２３は、第２分断機構２２の近傍に搬送されて反転され、ＴＦＴ基板１２ａが載置されるように待機状態とされる。第８作業ステーション３０ｈにおいてカバー台２３が取り外されると、保持ステージ３１は、第９作業ステーション３０ｉに移動する。
【００４４】
第９作業ステーション３０ｉでは、保持ステージ３１を位置決めし、保持ステージ３１上のＣＦ基板１１ａに貼り付けられたＴＦＴ基板１２ａに、偏光板を貼り付ける。その後、保持ステージ３１は、第１０作業ステーション３０ｊに移動する。
【００４５】
第１０作業ステーション３０ｊでは、保持ステージ３１を位置決めし、貼り合わされたＣＦ基板１１ａおよびＴＦＴ基板１２ａ（以下セル基板とする）を反転して、ＣＦ基板１１ａが上側になるように保持ステージ３１へ載置される。その後、保持ステージ３１は、第１１作業ステーション３０ｋに移動する。
【００４６】
第１１作業ステーション３０ｋでは、保持ステージ３１上に載置されたセル基板を正確に位置決めし、位置決めされた保持ステージ３１上のセル基板のＣＦ基板１２ａを通して紫外線をシール材に照射して、シール材を完全に硬化させる。その後、保持ステージ３１は、第１２作業ステーション３０ｌに移動する。
【００４７】
第１２作業ステーション３０ｌでは、保持ステージ３１を位置決めし、上側に配置されたＣＦ基板１１ａに、偏光板を貼り付ける。その後、保持ステージ３１は、第１３作業ステーション３０ｍに移動する。
【００４８】
第１３作業ステーション３０ｍでは、保持ステージ３１を位置決めし、ＣＦ基板１１ａおよびＴＦＴ基板１２ａの周縁部の面取り加工が実施される。これにより、ＴＦＴ基板に設けられた配線のショートリンクが除去され、ＣＦ基板１１ａおよびＴＦＴ基板との間に液晶が封入された液晶表示パネルが形成される。
【００４９】
形成された液晶表示パネルは、保持ステージ３１の静電チャック又は真空吸着による固定状態が解除されて、保持ステージ３１から搬出される。液晶表示パネルが搬出された保持ステージ３１は、第１作業ステーション３０ａに移動する。
【００５０】
なお、本実施例では、上記製造ライン３０において製造される液晶表示パネルでは、ラビング処理が省略されており、また、ＣＦ基板１１ａとＴＦＴ基板との間隔を規定するスペーサの撒布も省略されている。
【００５１】
また、本実施例の中で示された作業工程及び作業工程数などは本発明の液晶製造システムの一例であって、これに限るものではない。
【００５２】
図３は、製造ライン３０における保持テーブル３１の移動機構の他の例を示す斜視図である。この移動機構では、無端化された円環状の製造ライン３０の中心部に、回転駆動部４４が設けられている。この回転駆動部は、図示しないモーター等の駆動源によって回転されるようになっており、この回転駆動部４４から放射方向に沿って連結アーム４５が水平状態で延出している。連結アーム４５は、伸縮可能になっており、その先端部には、保持ステージ３１が、フレキシブルジョイント４６を介して連結されている。その他の構成は、図２に示す移動機構と同様の構成になっている。
【００５３】
このような移動機構では、隣接する作業ステーション間を保持ステージ３１が移動する場合には、回転駆動部４４が回転駆動される。これにより、保持ステージ３１が隣接する作業ステーション間を移動する。なお、各作業ステーション３０ａ〜３０ｎにおいては、前述したように、リニアモーター４１によって、精密に移動される。そして、移動距離に対する保持ステージ３１の位置は、走査ヘッド４３がリニアスケール４２の目盛りを読み取ることにより、正確に検出され、各作業ステーション３０ａ〜３０ｍにおいて、保持ステージ３１は、それぞれ精密に位置決めされる。
【００５４】
また、高精度な位置決めを要する作業ステーションのみ、前述したようにリニアモータ４１とリニアスケール４２を用いて、保持ステージ３１をそれぞれ精密に位置決めし、位置決め精度をさほど必要としない作業ステーションでは回転駆動機構４４のみを用いて保持テーブル３１を位置決めしても良い。
【００５５】
連結アーム４５が伸縮自在となっているのは、例えば、ある一つの作業ステーションの保持ステージ３１が停止作業中に、他の保持ステージ３１が個別に移動できるようにするためである。これにより、保持テーブル３１の移動経路にノズルを設け、保持テーブル３１の移動中に基板を洗浄することが可能となる。
【００５６】
さらに、このように円環状にラインを構成する場合には、図４に示すように、複数の円弧状のガイドレール構成部３３ａが相互に接合される。保持ステージ３１に設けられたスライダー３１ｂは、各ガイドレール構成部３３ａにそれぞれ設けられたガイド溝部（図示せず）内にスライド可能に係合するボールベアリングが設けられている。
【００５７】
各ガイドレール構成部３３ａの端部３３ｂは、それぞれ、先端側になるにつれて幅方向寸法が順次小さくなるように形成されて、各ガイドレール構成部３３ａの端部３３ｂ同士が相互に接合される。
【００５８】
この場合、各ガイドレール構成部３３ａの端部３３ｂ同士が相互に接合された部分では、ガイドレール３３の幅方向寸法にバラツキが生じ、保持テーブル３１のスライダー３１ｂが通過する際に、衝撃等が発生し、ガイドレール３３が早期に摩耗する等の問題がある。
【００５９】
このために、ガイドレール構成部３３ａの端部３３ｂにおいて、ガイドレール構成部３３ａに形成されるガイド溝部を、保持テーブル３１のスライダー３１ｂに設けられたボールベアリングによって圧力が加えられないように、深く加工し、各ガイドレール構成部３３ａの作業ステーション部とされる部分３３ｃでは、保持テーブル３１のスライダー３１ｂに設けられたボールベアリングによって圧力が加えられるように、ガイドレール構成部３３ａに形成されるガイド溝部を浅く加工する。これにより、各ガイドレール構成部３３ａの作業ステーション部とされる部分３３ｃに、保持ステージ３１のスライダー３１ｂによって各ガイドレール構成部３３ａに圧力を加えることができ、保持ステージ３１のスライダー３１ｂを正確に位置決めすることができる。
【００６０】
各ガイドレール構成部３３ａの端部３３ｂの加工方法としては、機械加工による方法、または端部３３ｂにレール材料より柔らかい材料を設ける方法等が採用される。また、保持ステージ３１のスライダー３１ｂに圧力を加えるためには、各ガイドレール構成部３３ａをコーティングする方法等が採用される。
【００６１】
さらに、図５は、本発明の液晶パネルの製造装置の別の一例を示している。
この場合、円環状のライン３０を保持ステージ６２を備えた複数の自走式の搬送ロボット（搬送車）６１が基板を保持して個別に移動するようになっている。このような自走式の搬送ロボット（搬送車）６１を用いることにより、製造ラインを円環状のみに限らず、楕円形状、多角形状、異形状等の構成とすることができる。
【００６２】
【発明の効果】
本発明の液晶表示パネルの製造システムおよび製造方法では、このように、円環状の製造ラインの最初の作業ステーションにおいて、基板が位置決めされた状態で保持された保持ステージ３１が、各作業ステーションで正確に位置決めされて、所定の作業が順次実施されるために、複数の作業ステーションにおける基板のアライメントが省略できる。
【００６３】
そして、従来、各工程（各作業ステーション）にて必ず行っていた基板のアライメントが、本発明の製造システム及び製造方法では複数省略できるため、液晶パネル製造の作業効率が著しく向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造システムの概略構成の一例を示す平面図である。
【図２】その製造システムに使用される保持ステージの移動機構の一例を示す要部の斜視図である。
【図３】その製造システムに使用される保持ステージの移動機構の他の例を示す要部の斜視図である。
【図４】その製造システムに使用されるガイドレールの連結部の構成を示す概略構成図である。
【図５】本発明の製造システムの他の例における概略構成図である。
【符号の説明】
１１  ＣＦ基板用マザーガラス
１１ａ  ＣＦ基板
１２  ＴＦＴ基板用マザーガラス
１２ａ  ＴＦＴ基板
２１  第１分断機構
２２  第２分断機構
３０  製造ライン
３０ａ〜３０ｍ  作業ステーション
３１  保持ステージ
３３  ガイドレール
３４  回転支持部
３５  配線ダクト
３５ａ  フレキシブルジョイント
３６  サーボモーター
３７  支持台
３８  ラックギア
３９  ピニオンギア
４１  リニアモータ
４１ａ  可動子
４１ｂ  固定子
４２  リニアスケール
４３  走査ヘッド
４４  回転駆動部
４５  連結アーム
【図１】
2004191385.tif 000003
【図２】
2004191385.tif 000004
【図３】
2004191385.tif 000005
【図４】
2004191385.tif 000006
【図５】
2004191385.tif 000007