(57)【要約】      （修正有）【課題】支持体上に真空蒸着された燐光体層を含む結合剤のない貯蔵燐光体スクリーンにおいて、燐光体層の蒸着に適し、かつ高い機械的強度と透過放射線の低い吸収とを有する支持体を提供する。【解決手段】支持体２は非晶質炭素層２３を含む。所望により、非晶質炭素層より燐光体層１から遠いポリマー補助層２４、非晶質炭素層と燐光体層の間の反射性補助層２５、反射性補助層と燐光体層の間の保護補助層２６の内の一以上の補助層を更に含む。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体（２）上に真空蒸着された燐光体層（１）を含む結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーンにおいて、前記支持体が非晶質炭素の層（２３）を含むことを特徴とする結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーン。
【請求項２】
前記支持体が前記非晶質炭素の層より前記燐光体層から遠いポリマー補助層（２４）をさらに含む請求項１に記載の結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーン。
【請求項３】
前記支持体が反射性補助層（２２）をさらに含む請求項１又は２に記載の結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーン。
【請求項４】
前記支持体が前記反射性補助層と前記燐光体層の間に保護補助層（２１）をさらに含む請求項３に記載の結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーン。
【請求項５】
前記保護補助層がパリレンの層であり、前記パリレンがパリレンＣ、パリレンＤ及びパリレンＨＴからなる群から選択される請求項４に記載の結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーン。
【請求項６】
前記燐光体層が針状ＣｓＸ：Ｅｕ燐光体を含み、ＸがＢｒ及びＣｌからなる群から選択されたハロゲン化物を表す請求項１〜５のいずれか一つに記載の結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーン。
【請求項７】
下記工程を含む、対象物をＸ線に露光するための方法：
−  ７０ｋｅＶ以下のエネルギーを有するＸ線を放出するために備えられたＸ線管、及び光度計に到達するＸ線量に従って前記Ｘ線管をオン及びオフに切り換えるために前記Ｘ線管に結合された光度計を含むＸ線装置を与える；
−  前記Ｘ線管と前記光度計の間に対象物を置く；
−  前記対象物と前記光度計の間に請求項１〜６のいずれか一つに記載の結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーンを置く；
−  前記光度計が前記Ｘ線管をオフに切り換えるまで前記対象物、前記カセット及び前記光度計を露光するために前記Ｘ線管を活性化する。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一つに記載のスクリーン又はパネルのマンモグラフィにおける使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の分野
本発明は非晶質炭素（ａ−Ｃ）層を含む支持体を有する結合剤のない燐光体スクリーンに関する。
【０００２】
発明の背景
燐光体の良く知られた用途はＸ線像の生成にある。従来の放射線写真システムではＸ線写真は対象物を像に従って透過しかついわゆる増感スクリーン（Ｘ線変換スクリーン）において対応する強度の光に変換されたＸ線によって得られ、そこでは燐光体粒子は透過されたＸ線を吸収し、写真フィルムがＸ線の直接衝撃に対してより敏感である可視光及び／又は紫外線にそれらを変換する。
【０００３】
例えばＵＳ−Ａ  ３８５９５２７に記載されたＸ線パターンを記録及び再生する別の方法によれば、光刺激性燐光体として知られる特別なタイプの燐光体が使用され、それはパネル又はスクリーンに混入され、パターンに従って変調されたＸ線ビームに露光され、その結果としてＸ線放射線パターンに含まれるエネルギーを一時的に貯蔵する。露光後ある間隔で、可視又は赤外光のビームがパネル又はスクリーンを走査して貯蔵されたエネルギーの光としての放出を刺激する。その光は検出されて逐次電気信号に変換され、その信号は処理されて可視像を生成することができる。この目的のため、燐光体は入射Ｘ線エネルギーをできるだけ多い量で貯蔵すべきであり、走査ビームによって刺激されるまで貯蔵されたエネルギーをできるだけ少なく放出すべきである。これは“デジタル放射線写真”又は“コンピュータ放射線写真（ＣＲ）”と称される。
【０００４】
両方の種類の放射線写真において検査のために与えられる露光量は“光度計”によって調整されることが多い。“光度計”は対象物（患者）を通過する放射線量を測定するための放射計及び放射線写真像形成システム及び予め設定した線量に到達するとすぐに透過放射線源をオフに切り換えるための透過放射線の源に対する接続を含む。かかる光度計を使用するシステムでは十分に測定可能な線量が光度計中の放射計に到達することが重要である。なぜならば光度計に到達する線量が低すぎるとき、透過放射線の源をオフに切り換える再現可能性は像品質の見地からされるべきものではないからである。従って、像形成システムは良好なスピード及び像品質のために必要であるような程度まで透過放射線を吸収するにすぎず、従って−すぐに検査によって指示されかつできるだけ低い患者線量を用いて−放射計は透過放射線の源の再現可能なオフへの切り換えのために十分に高い露光線量によって達成される。
【０００５】
実際のセッティングでは“光度計”に到達する放射線の量は対象物、貯蔵燐光体パネル又はスクリーンを含有するカセットの管側及びカセットの裏側による透過放射線の吸収によって決定される。貯蔵燐光体パネル又はスクリーンの吸収は使用される燐光体、燐光体の量及び支持体によって決定される。燐光体層中の吸収が高いほど、放射線写真像形成システムの像品質及びスピードに対して有利であり、従って燐光体層の厚さ（吸収）を増大することが必要であり、これは燐光体層及び支持体の全吸収がほとんど一定のままであるときになされることができるにすぎない。従って、燐光体層の厚さの増加は支持体中の透過放射線の吸収を低下することによって補償されなければならない。特に低いエネルギーの透過放射線が使用される放射線写真技術（例えばマンモグラフィ、一定の非破壊試験用途など）では、燐光体スクリーン又はパネル又はスクリーンの吸収に対する支持体の貢献を無視することができない。
【０００６】
支持体による透過放射線の吸収の低下は支持体の厚さを低下すること、低吸収性の支持体を使用することなどによってなされることができる。他方、貯蔵燐光体パネル又はスクリーンの支持体は高い機械的強度、低い脆性を持つべきであり、その上に燐光体を真空蒸着する場合には蒸着中に遭遇される温度に耐えることができるべきである。従って、上で引用したようなしばしば両立しえない特性の間の良好な妥協を与える支持体に対する必要性がなお存在する。
【０００７】
発明の目的及び概要
本発明の目的は燐光体の蒸着を適用するときに使用されることができ、かつ高い機械的強度を有する透過放射線の低い吸収を有する支持体を含む貯蔵燐光体パネル又はスクリーンを提供することである。
【０００８】
本発明のさらなる目的は燐光体の蒸着を適用するときに使用されることができ、かつ高い機械的強度を有する７０ｋｅＶ未満のエネルギーのＸ線吸収の低い吸収を有する支持体を含む貯蔵燐光体パネル又はスクリーンを提供することであり、そのパネル又はスクリーンはマンモグラフィに使用するために好適なものである。
【０００９】
本発明の目的は請求項１に記載された貯蔵燐光体パネル又はスクリーンを提供することによって実現される。本発明の好ましい例についての特別な特徴は従属請求項に開示されている。
【００１０】
本発明のさらなる利点及び具体例は以下の記載から明らかになるだろう。
【００１１】
図面の簡単な記述
図１は本発明の貯蔵燐光体パネル又はスクリーンの一例を概略的に示す。
図２は本発明の貯蔵燐光体パネル又はスクリーンのさらなる例を概略的に示す。
図３は本発明の貯蔵燐光体パネル又はスクリーンの他例を概略的に示す。
【００１２】
発明の詳細な記述
真空での化学蒸着による結合剤のない燐光体スクリーンの製造では、燐光体が蒸着される支持体を約４００℃の温度まで加熱することができる。従って、熱安定性支持体の使用が必要である。それゆえ、低い原子番号を有する元素だけを含有する支持体であっても、ポリマー支持体はあまり好適でない。支持体中に非晶質炭素フィルムを含むことは、たとえ貯蔵燐光体層がかなり高い温度で真空蒸着によって適用されたとしても、低いＸ線吸収を有する支持体上に結合剤のない貯蔵燐光体スクリーンを生成するための見通しを開くことを見出した。本発明に使用するために好適な非晶質炭素フィルムは日本、東京の例えばＴｏｋａｙ  Ｃａｒｂｏｎ  Ｃｏ，ＬＴＤ，日本、東京のＮｉｓｓｈｉｎｂｏ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓを通して商業的に入手可能であり、それらは“ガラス状炭素フィルム”、又は“ガラス状炭素”と称されている。
【００１３】
本発明による結合剤のない燐光体パネル又はスクリーンでは、非晶質炭素の層の厚さは１００μｍ〜３０００μｍの範囲であり、５００μｍ〜２０００μｍの厚さが可撓性、強度及びＸ線吸収の間の妥協として好ましい。
【００１４】
本発明の第一例
本発明の結合剤のない貯蔵燐光体スクリーンでは、貯蔵燐光体層は例えば非晶質炭素フィルム上に貯蔵燐光体を真空蒸着することによって非晶質炭素層に隣接して直接位置されることができ、スクリーンはスクリーンへのさらなる層の追加なしに使用されることができ、これは本発明の貯蔵燐光体スクリーンの極めて簡単な例である。この例は図１に示されており、そこでは支持体（２）上の貯蔵燐光体層（１）は非晶質炭素層（２３）に隣接している。
【００１５】
本発明の第二例
本発明による貯蔵燐光体スクリーン又はパネルのさらなる例では、燐光体層から離れて面する非晶質炭素層の側でスクリーンに補助層を加えることができる。かかるスクリーンは図２に示されており、そこでは支持体（２）上の燐光体層（１）が概略的に示され、支持体は非晶質炭素層（２３）及び補助層（２４）を含む。この補助層は非晶質炭素層に積層されるポリマー層であることが好ましい。そうすることによって本発明のパネル又はスクリーンの機械的強度、特に脆性及び可撓性に関するものが増強される。極めて高い機械的強度に対する必要性が特に貯蔵燐光体パネルを利用する放射線写真システムに存在し、そこではパネルに貯蔵されるエネルギーの読み出し中、パネルはカセットから自動的に取り出され、しばしば波状の路を介してリーダを通して動かされ、次いでカセット中に戻される。かかるリーダでは非晶質炭素層上に積層された補助層を有する本発明のスクリーン又はパネルを使用することが極めて有利である。この補助層はいかなる公知のポリマーフィルム、例えばポリエステルフィルム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、シンタクチックポリスチレンなどであることができる。好ましいポリマーフィルムはポリエステルフィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムなどである。補助層（２４）の厚さは１μｍ〜５００μｍであることができる。かなり薄い非晶質炭素フィルム（例えば４００μｍ）を使用して、それに５００μｍ厚の補助フィルムを積層すること、並びに厚い非晶質炭素フィルム（例えば２０００μｍ厚）を使用して、それに６μｍ厚の薄いポリマーフィルムを積層することができる。非晶質炭素及びポリマーフィルムの相対的厚さは幅広く変化されることができ、燐光体層の蒸着中の非晶質炭素の必要な物理的強度及びパネルの使用中の必要な可撓性によって支配されるにすぎない。
【００１６】
本発明の第三例
例えば２００２年６月２８日にこれと同時に出願されたヨーロッパ特許出願Ｎｏ．０２１００７６３．８では、燐光体層と非晶質炭素層の間に正反射層を加えることはスクリーン又はパネルの像品質とスピードの両方を増強することができることが示されている。また本発明によるパネルでは、かかる正反射補助層の追加は有益であろう。かかる層が追加されるとき、それはそれに衝突する光の少なくとも８０％を正反射で反射することが好ましい。より好ましくは前記層は衝突する光の９０％を正反射で反射する。かかる層は極めて薄い（厚さ２０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下）金属層であることが好ましい。本発明によるスクリーンまたはパネルでは正反射層が存在するとき、層が薄いアルミニウム層（好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下の厚さ）であることが好ましい。かかる薄い金属層は極めて腐蝕感受性でありうるので、正反射金属層が本発明のパネル又はスクリーンに存在するとき、この層は反射補助層に到達する水及び／又は湿分を妨げるバリヤー層（さらなる補助層）でカバーされることが好ましい。かかるバリヤー層は公知のいかなる湿分バリヤー層であってもよいが、パリレンの層であることが好ましい。本発明のバリヤー層に使用するために最も好ましいポリマーは真空蒸着された、好ましくは化学的に真空蒸着されたポリ−ｐ−キシリレンフィルムである。ポリ−ｐ−キシリレンは１０〜１００００の範囲の繰り返し単位を有し、各繰り返し単位は置換されている又はされていない芳香族核基を有する。塩基剤として商標“ＰＡＲＹＬＥＮＥ”の下でＵｎｉｏｎ  Ｃａｒｂｉｄｅ  Ｃｏ．によって販売される商業的に入手可能なジ−ｐ−キシリレン組成物が好ましい。バリヤー層のために好ましい組成物は置換されていない“ＰＡＲＹＬＥＮＥ  Ｎ”、一塩素置換された“ＰＡＲＹＬＥＮＥ  Ｃ”、二塩素置換された“ＰＡＲＹＬＥＮＥ  Ｄ”及び“ＰＡＲＹＬＥＮＥ  ＨＴ”（“ＰＡＲＹＬＥＮＥ  Ｎ”の完全にフッ素置換されたタイプ；他の“パリレン”とは反対に、４００℃の温度までの耐熱性、耐紫外線性をもつ；耐湿性は“ＰＡＲＹＬＥＮＥ  Ｃ”の耐湿性とほぼ同じである）である。本発明のパネルにおけるバリヤー層の製造に使用するために最も好ましいポリマーはポリ（ｐ−２−クロロキシリレン）、即ちＰＡＲＹＬＥＮＥ  Ｃフィルム、ポリ（ｐ−２，６−ジクロロキシリレン）、即ちＰＡＲＹＬＥＮＥ  Ｄフィルム及び“ＰＡＲＹＬＥＮＥ  ＨＴ”（ＰＡＲＹＬＥＮＥ  Ｎの完全にフッ素置換されたタイプ）である。本発明のパネル又はスクリーンにおける湿分バリヤー層としてのパリレン層の利点は層の耐熱性であり、パリレン層の耐熱性はそれらが貯蔵燐光体を真空蒸着するために必要な温度に耐えうるようなものである。貯蔵燐光体スクリーンにおけるパリレン層の使用は例えばＥＰ−Ａ  １２８６３６２，１２８６３６３，１２８６３６４及び１２８６３６５に開示されている。
【００１７】
前述のような本発明の第三例によるスクリーン又はパネル（図３）は燐光体層（１）及び支持体（２）を有し、そこでは支持体は非晶質炭素層（２３）及び燐光体と非晶質炭素層の間で非晶質炭素層に隣接する正反射層（２２）及び反射層の上のパリレン層（２１）を含む。ポリマー層（２４）は非晶質炭素層に積層される。本発明による好ましい例では前記反射補助層（２２）は０．２μｍ〜２００μｍの厚さを有するアルミニウム層である。
【００１８】
本発明は下記工程を含む貯蔵燐光体パネルの製造方法をさらに含む：
−  非晶質炭素フィルムを与える；
−  前記非晶質炭素フィルム上に貯蔵燐光体層を真空蒸着する；
−  所望により、前記燐光体によってカバーされない前記非晶質炭素フィルムの側上にポリマーフィルムを積層する。
【００１９】
本発明は下記工程を含む貯蔵燐光体パネルの製造方法をさらに含む：
−  非晶質炭素フィルムを与える；
−  前記非晶質炭素フィルム上に正反射層を適用する；
−  前記非晶質炭素フィルム上に貯蔵燐光体層を真空蒸着する；
−  所望により、前記燐光体によってカバーされない前記非晶質炭素フィルムの側上にポリマーフィルムを積層する。
【００２０】
本発明は下記工程を含む貯蔵燐光体パネルの製造方法をさらに含む：
−  非晶質炭素フィルムを与える；
−  前記非晶質炭素フィルム上に正反射層を適用する；
−  前記正反射層の上部にパリレン層を化学的に真空蒸着する；
−  前記非晶質炭素フィルム上に貯蔵燐光体層を真空蒸着する；
−  所望により、前記燐光体によってカバーされない前記非晶質炭素フィルムの側上にポリマーフィルムを積層する。
【００２１】
本発明のスクリーン又はパネルは燐光体層の上部にいずれかの公知の保護層を含むことができる。使用のために特に好ましいものはＥＰ−Ａ  １２８６３６３；１３１６９６９及び１３１６９７０に開示された保護層である。湿分反発層が前記支持体と前記燐光体層の間に存在する、本発明によるスクリーン又はパネルが有利に使用され、さらに前記燐光体層に隣接して湿分反発層が最外層として被覆される、本発明によるスクリーン又はパネルがより好ましい。特に湿分反発パリレン層を有する前記スクリーン又はパネルが推奨される。前記燐光体層が二つの湿分反発パリレン層の間にサンドイッチされるスクリーン又はパネルは優れた保護を与える。
【００２２】
本発明のスクリーン又はパネルは例えばＵＳ−Ａ  ５３３４８４２及びＵＳ−Ａ  ５３４０６６１に記載されているように補強縁を有することもできる。
【００２３】
本発明のパネル又はスクリーンにおける燐光体層（１）の表面は燐光体層が支持体の縁に到達しないように支持体（２）の表面より小さく作られることができる。かかるスクリーンは例えばＥＰ−Ａ  １２８６３６３に開示されている。
【００２４】
本発明のパネル又はスクリーンに使用される貯蔵燐光体はアルカリ金属貯蔵燐光体であることが好ましい。かかる燐光体はＵＳ−Ａ  ５７３６０６９に開示され、下記式に相当する：
Ｍ１＋Ｘ．ａＭ２＋Ｘ′２ｂＭ３＋Ｘ″３：ｃＺ
式中、Ｍ１＋はＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｓ及びＲｂからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、Ｍ２＋はＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｃｕ，Ｐｂ及びＮｉからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、Ｍ３＋はＳｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｂｉ，Ｉｎ及びＧａからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、ＺはＧａ１＋，Ｇｅ２＋，Ｓｎ２＋，Ｓｂ３＋及びＡｓ３＋からなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、Ｘ，Ｘ′及びＸ″は同じであっても異なってもよく、各々はＦ，Ｂｒ，Ｃｌ，Ｉからなる群から選択されたハロゲン原子を表し、０≦ａ≦１、０≦ｂ≦１及び０＜ｃ≦０．２である。
【００２５】
本発明のパネル又はスクリーンに使用するために特に好ましい燐光体はＣｓＸ：Ｅｕ刺激性燐光体であり、ＸはＢｒ及びＣｌからなる群から選択されたハロゲン化物を表し、その燐光体は下記工程を含む方法によって製造される：
−  ＥｕＯＸ′，ＥｕＸ′２及びＥｕＸ′３（但し、Ｘ′はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択された一つの要素である）からなる群から選択されたユーロピウム化合物の１０−３〜５ｍｏｌ％と前記ＣｓＸを混合する；
−  前記混合物を４５０℃以上の温度で燃焼する；
−  前記混合物を冷却する；そして
−  ＣｓＸ：Ｅｕ燐光体を回収する。
【００２６】
かかる燐光体はＥＰ−Ａ  １２０３３９４に開示されている。
【００２７】
燐光体はＥＰ−Ａ  １１１３４５８及びＥＰ−Ａ  １１１８５４０に開示された条件下で支持体上に真空蒸着されることが好ましい。
【００２８】
好ましい例では本発明によるパネル又はスクリーンは結合剤のない燐光体パネル又はスクリーンであり、そこでは前記燐光体層は針状ＣｓＸ：Ｅｕ燐光体（但し、ＸはＢｒ及びＣｌからなる群から選択されたハロゲン化物を表す）を含む。
【００２９】
本発明は下記工程を含むＸ線に対象物を露光するための方法をさらに含む：
−  ７０ｋｅＶ以下のエネルギーを有するＸ線を放出するために装備されたＸ線管、及び光度計に到達するＸ線量に従って前記管をオン及びオフに切り換えるための前記Ｘ線管に結合された光度計を含むＸ線装置を与える；
−  前記Ｘ線管と前記光度計の間に対象物を置く；
−  前記対象物と前記光度計の間に本発明による結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーンを置く；及び
−  前記光度計が前記Ｘ線管をオフに切り換えるまで前記対象物、前記カセット及び前記光度計を露光するために前記Ｘ線管を活性化する。
【００３０】
本発明は上述のような方法をさらに含み、そこでは前記Ｘ線管は４０ｋｅＶ以下のエネルギーを有するＸ線を放出するために備えられている。
【００３１】
本発明のスクリーン又はパネルは低いｋｅＶを有するＸ線装置が使用されるマンモグラフィ及び特定の非破壊試験用途に使用するために極めて良く適している。
【００３２】
部品リスト
１    燐光体層
２    支持体
２１  補助層、湿分バリヤー層
２２  補助層、正反射層
２３  非晶質炭素層
２４  補助層、ポリマー層
【００３３】
実施例
本発明をその好ましい例と関連して以下に記載するが、本発明をそれらの例に限定することを意図しないことは理解されるだろう。
【００３４】
燐光体スクリーン又はパネルを有するＸ線カセットを、Ｍｏ陽極（３０μｍＭｏ、インターン（ｉｎｔｅｒｎ）フィルタリング及びフィルタリングなしの各々）から２８ｋｅＶのエネルギーを有するＸ線で露光した。
【００３５】
Ａｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ，Ｍｏｒｓｔｅｌ，ベルギーからの商品Ｍａｍｍｏｒｙ  Ｄｅｔａｉｌ  Ｒ（登録商標）スクリーンを比較用スクリーンとして使用した：そのシステムは（前述の詳細な記述で説明したようにＸ線露光エネルギーの吸収に対して）“光度計”の使用を認める。スクリーン又はパネルを有する全ての調査されたカセットに対する吸収は前述の比較用スクリーンに対して測定された吸収を超えるべきではない。
【００３６】
カセットに到達する１０ｍＲのＸ線量（Ｘ線は４ｃｍのポリメチルメタクリレートポリマー層を通過し、さらにカセット底（３ｍｍのポリエチレン）、パネル又はスクリーン（以下で説明するように実験において組成を変化する）及びカセットカバー（４．１ｍｍのポリエチレン）を連続的に通過する）から出発して、“光度計”の許容可能で正確な作用を得るために、患者に対するＸ線の極めて多い露光を避けるために０．７５〜０．８５ｍＲの範囲の線量が要求されることが測定された。
【００３７】
パネル又はスクリーンでは、ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体層（表１に示すように厚さ（μｍで表示）を変化する）を、様々な厚さ（表１にμｍで表示）を有する様々な支持体（アルミニウム、ａ−Ｃ“非晶質炭素”、ガラス及び鉄）上に被覆し、“光度計”に到達するＸ線エネルギー（線量ｍＲ）は調査されたパネル又はスクリーンの各々に対して表１にまとめられた。支持体の厚さとして、ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体層の様々な厚さについて、Ｘ線がカセットを通過した後に光度計の位置に十分な線量をなお与える厚さを以下の表１に与えた。
【００３８】
【表１】
2004251882.tif 000003
【００３９】
表１で得られた結果から、非晶質炭素（ａ−Ｃ）支持体は例えばＦｅ（たった１００μｍの層厚さに対してでなくても使用のために適さない）及びアルミニウム（１００μｍの薄い燐光体層に対して８００μｍまで使用に適する）と比較すると、ほとんど吸収を生じないので優れている：非晶質炭素は最も厚い燐光体層（１５０μｍ）であっても光度計の位置に十分な線量を与え、２０００μｍの厚さは使用のために完全に適している。非晶質炭素は図１に示されたようなガラスと匹敵しうるが、ガラスに対してより優れている。なぜならば非晶質炭素は本発明の燐光体パネル又はスクリーンの製造に適用されるのにずっと適しているからである。
【００４０】
本発明の好ましい例を詳細に記載したが、添付の特許請求の範囲に規定された発明の範囲から逸脱せずに多数の変更をその中でなしうることは当業者に明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の貯蔵燐光体パネル又はスクリーンの一例を概略的に示す。
【図２】本発明の貯蔵燐光体パネル又はスクリーンのさらなる例を概略的に示す。
【図３】本発明の貯蔵燐光体パネル又はスクリーンの他例を概略的に示す。
【図１】
2004251882.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【外国語明細書】
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