(57)【要約】【課題】設備コストを低く抑え、セメントキルンより抽気した燃焼ガスに含まれる硫黄分を除去し、有効利用することのできるセメントキルン塩素・硫黄バイパスを提供する。【解決手段】セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、抽気ガス中のダストの粗粉を分離し、微粉を含む抽気ガスを湿式集塵装置３で溶媒を用いて集塵する。湿式集塵装置３で集塵された集塵ダストスラリーの少なくとも一部をセメントミル系へ添加することができ、湿式集塵装置３で集塵された集塵ダストスラリーを固液分離し、得られた脱塩ダストケークをセメントミル系へ、また、分離した塩水の少なくとも一部をセメントミル系へ添加してもよい。湿式集塵装置３には、ミキシングスクラバー２６等を使用することができる。【選択図】　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、抽気ガス中のダストの粗粉を分離し、微粉を含む抽気ガスを湿式集塵装置で溶媒を用いて集塵することを特徴とするセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【請求項２】
前記湿式集塵装置で集塵された集塵ダストスラリーの少なくとも一部をセメントミル系へ添加することを特徴とする請求項１に記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【請求項３】
前記湿式集塵装置で集塵された集塵ダストスラリーを固液分離し、得られた脱塩ダストケークをセメントミル系へ添加することを特徴とする請求項１または２に記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【請求項４】
前記湿式集塵装置で集塵された集塵ダストスラリーを固液分離し、分離した塩水の少なくとも一部をセメントミル系へ添加することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【請求項５】
前記湿式集塵装置で集塵された集塵ダストスラリーを固液分離し、分離した塩水を塩回収工程で脱塩して工業塩を回収し、脱塩後の処理水を前記固液分離後の洗浄のための洗浄水または／及び前記湿式集塵装置の集塵用水として再利用することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【請求項６】
前記湿式集塵装置は、ミキシングスクラバーであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【請求項７】
前記ミキシングスクラバーは、該ミキシングスクラバーによって集塵された集塵ダストスラリーが供給される循環液槽と、該循環液槽内の集塵ダストスラリーの一部を該ミキシングスクラバーに戻す循環装置とを備えることを特徴とする請求項６に記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【請求項８】
前記循環液槽に硫酸を添加する硫酸添加装置を備えることを特徴とする請求項６または７に記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【請求項９】
前記セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路から抽気された燃焼ガス中のダストの粗粉を分離し、微粉を含む抽気ガスを得るにあたって分級機を用い、該分級機の分級点を可変としたことを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【請求項１０】
前記セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路から抽気された燃焼ガス中のダストの粗粉を分離し、微粉を含む抽気ガスを得るにあたってサイクロンを用い、該サイクロンの入口風速を可変としたことを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパス。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セメントキルン塩素・硫黄バイパスに関し、特に、セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、塩素及び硫黄分を除去するためのセメントキルン塩素・硫黄バイパスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、セメント製造設備におけるプレヒーターの閉塞等の問題を引き起こす原因となる塩素、硫黄、アルカリ等の中で、塩素が特に問題となることに着目し、セメントキルンの入口フード付近より燃焼ガスの一部を抽気して塩素を除去する塩素バイパス設備が用いられている。
【０００３】
この塩素バイパス設備では、抽気した排ガスを冷却して生成したダストの微粉側に塩素が偏在しているため、ダストを分級機によって粗粉と微粉とに分離し、粗粉をセメントキルン系に戻すとともに、分離された塩化カリウム（ＫＣｌ）等を含む微粉（塩素バイパスダスト）を回収してセメント粉砕ミル系に添加していた（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ところが、近年、廃棄物のセメント原料化または燃料化によるリサイクルが推進され、廃棄物の処理量が増加するに従い、セメントキルンに持ち込まれる塩素、硫黄、アルカリ等の揮発成分の量も増加し、塩素バイパスダストの発生量も増加している。そのため、塩素バイパスダストを全てセメント粉砕工程で利用することができず、水洗処理されていたが、今後、塩素バイパスダストの発生量もさらに増加することが予測されるため、その有効利用方法の開発が求められていた。
【０００５】
かかる見地から、従来水洗処理されている塩素バイパスダスト等を脱塩処理し、セメント原料として有効利用するため、塩素を含む廃棄物に水を添加して廃棄物中の塩素を溶出させてろ過し、得られた脱塩ケークをセメント原料として利用するとともに、排水を浄化処理し、環境汚染を引き起こすことなく、塩素バイパスダストの有効利用を図っている（例えば、特許文献２参照）。
【０００６】
【特許文献１】
国際公開第ＷＯ９７／２１号パンフレット
【特許文献２】
特開平１１−１００２４３号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記特許文献２に記載のセメント原料化処理方法等では、塩素バイパスダスト等を脱塩処理するにあたって、冷却器（熱交換器）と高温バッグフィルターとを用いて塩素バイパスダストを回収していたが、塩素バイパスダストが塩分を含むため、冷却器等が腐蝕しやすく、設備の寿命が短くなるとともに、嵩比重が非常に低くハンドリングの難しいダストを大量に貯蔵する大容量のタンク、定量フィーダー等が必要となり、設備コストが増加するという問題があった。
【０００８】
また、上記塩素バイパスを行うに際し、セメントキルンの入口フード付近より抽気した燃焼ガスの一部には硫黄分が含まれるため、抽気ガスをそのまま系外に排出することができず、セメントキルンに付設された原料乾燥あるいは粉砕工程等に戻すこと等が必要であった。
【０００９】
そこで、本発明は、上記従来のセメントキルン抽気ガスの処理方法における問題点に鑑みてなされたものであって、設備コストを低く抑えることができ、セメントキルンの入口フード付近より抽気した燃焼ガスに含まれる硫黄分を除去し、有効利用すること等が可能なセメントキルン塩素・硫黄バイパスを提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、セメントキルン塩素・硫黄バイパスであって、セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、抽気ガス中のダストの粗粉を分離し、微粉を含む抽気ガスを湿式集塵装置で溶媒を用いて集塵することを特徴とする。
【００１１】
そして、請求項１に記載の発明によれば、湿式集塵装置を用いて微粉を含む抽気ガスを溶媒を用いて集塵するため、集塵スラリーをそのまま排水処理・脱塩装置等に供給することができ、従来塩素バイパスダストを脱塩処理する際に用いられてきた水洗設備が不要となり、設備コストを低減することができる。溶媒としては、水または水を含有するスラリー等、抽気ガス中のダスト等を捕集可能な液状物を用いる。また、抽気ガスの冷却と塩素バイパスダストの捕集を湿式集塵装置で一度に行うことができるため、従来必要であった冷却器と高温バッグフィルターが不要となるとともに、容重の小さい塩素バイパスダストのために従来必要であった大型の貯蔵設備も不要となり、設備コストを大幅に低減することができる。さらに、燃焼ガス中の二酸化硫黄（ＳＯ２）を、抽気ガス中のダストの微粉中の生石灰（ＣａＯ）が水と反応して生じた消石灰（Ｃａ（ＯＨ）２）と反応させて石膏として脱硫し、セメントキルン系外に排出し、セメントミルで有効利用することができる。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパスにおいて、前記湿式集塵装置で集塵された集塵ダストスラリーの少なくとも一部をセメントミル系へ添加することを特徴とする。
【００１３】
請求項２に記載の発明によれば、セメントミル系で、排ガス処理時に生成される石膏を有効利用しながら集塵ダストスラリーを処理することができる。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパスにおいて、前記湿式集塵装置で集塵された集塵ダストスラリーを固液分離し、得られた脱塩ダストケークをセメントミル系へ添加することを特徴とする。
【００１５】
請求項３に記載の発明によれば、湿式集塵装置で集塵された集塵ダストスラリーを固液分離して塩素分を除去した脱塩ダストケークをセメントミル系へ添加することにより、石膏を含む脱塩ダストケークをも有効利用することができる。
【００１６】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパスにおいて、前記湿式集塵装置で集塵された集塵ダストスラリーを固液分離し、分離した塩水の少なくとも一部をセメントミル系へ添加することを特徴とする。
【００１７】
請求項４に記載の発明によれば、集塵ダストスラリーから分離した塩水の少なくとも一部をセメントミル系において処理することができる。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパスにおいて、前記湿式集塵装置で集塵された集塵ダストスラリーを固液分離し、分離した塩水を塩回収工程で脱塩して工業塩を回収し、脱塩後の処理水を前記固液分離後の洗浄のための洗浄水または／及び前記湿式集塵装置の集塵用水として再利用することを特徴とする。
【００１９】
請求項５に記載の発明によれば、集塵ダストスラリーから分離した塩水から工業塩を回収することができるとともに、排水脱塩装置と固液分離装置または／及び湿式集塵装置との間で水を循環利用することができるため、系外に排出する水を極力少なくして水の有効利用を図ることができる。
【００２０】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５のいずれかに記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパスの好ましい一形態として、前記湿式集塵装置がミキシングスクラバーであることを特徴とする。ここで、ミキシングスクラバーとは、筒体内に、該筒体内を気体と液体が向流または並流で移動していく過程で、該流れに旋回を与える案内羽根を複数配置したことを特徴とする、気体と液体とを接触させ、反応及びダストの捕集等を行わせる装置をいう。好ましくは、気体と液体とを並流とし、該流れに右旋回を与える案内羽根と、左旋回を与える案内羽根とを交互に配置する。
【００２１】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパスにおいて、前記ミキシングスクラバーは、該ミキシングスクラバーによって集塵された集塵ダストスラリーが供給される循環液槽と、該循環液槽内の集塵ダストスラリーの一部を該ミキシングスクラバーに戻す循環装置とを備えることを特徴とする。
【００２２】
請求項７に記載の発明によれば、集塵ダストスラリーをミキシングスクラバーに循環させることができるため、集塵ダストスラリーの循環率を制御することにより、ミキシングスクラバーの集塵効率を容易に調整することができるとともに、後段の排水処理・脱塩装置における塩水濃縮装置や晶析装置の安定運転を確保することができる。
【００２３】
請求項８に記載の発明は、請求項６または７に記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパスにおいて、前記循環液槽に硫酸を添加する硫酸添加装置を備えることを特徴とする。
【００２４】
請求項８に記載の発明によれば、循環液槽内の循環液のｐＨが上昇し過ぎた場合に、硫酸添加装置から硫酸を循環液槽に添加することにより、循環液槽内の循環液のｐＨを７以下、好ましくは４以上６以下に制御し、生成する炭酸カルシウムを石膏に転換することにより、ミキシングスクラバーに供給される循環スラリーの流路におけるスケールトラブルを防止することができる。
【００２５】
請求項９に記載の発明は、請求項６乃至８のいずれかに記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパスにおいて、前記セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路から抽気された燃焼ガス中のダストの粗粉を分離し、微粉を含む抽気ガスを得るにあたって分級機を用い、該分級機の分級点を可変としたことを特徴とする。
【００２６】
請求項９に記載の発明によれば、分級機の分級点を調整することにより、微粉に含まれるＣａＯ濃度を制御し、循環液槽内の循環液のｐＨを制御したり、硫黄分の吸収剤としてのＣａ（ＯＨ）２の量を増加させて脱硫効率を制御することができる。分級機には、乾式分級機、すなわち、沈降室等の重力分級機、Ｖ型、ジグザグ型等の慣性分級機、気流旋回型、回転翼型等の遠心式分級機、振動篩、音波篩、気流分散型等の機械式篩等を使用することができる。
【００２７】
請求項１０に記載の発明は、請求項６乃至８に記載のセメントキルン塩素・硫黄バイパスにおいて、前記セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路から抽気された燃焼ガス中のダストの粗粉を分離し、微粉を含む抽気ガスを得るにあたってサイクロンを用い、該サイクロンの入口風速を可変としたことを特徴とする。
【００２８】
請求項１０に記載の発明によれば、サイクロンの入口風速を変更して分級点を調整することにより、微粉に含まれるＣａＯ濃度を制御し、循環液槽内の循環液のｐＨを制御したり、硫黄分の吸収剤としてのＣａ（ＯＨ）２の量を増加させて脱硫効率を制御することができる。入口風速の変更は、ガイドベーンの位置を変更したり、サイクロンの台数を変更すること等によって行う。
【００２９】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００３０】
図１は、本発明にかかるセメントキルン塩素・硫黄バイパスの一実施の形態を示し、この処理装置１は、サイクロン等の粗粉・微粉分離装置２と、好ましくはミキシングスクラバー、またはベンチュリースクラバー等の湿式集塵装置３と、ろ過・水洗装置、遠心分離装置等の分離・水洗装置４と、排水処理・脱塩装置５等で構成される。
【００３１】
セメントキルン入口フード６付近からの抽気ガスは、図示しないプローブにおいて冷却ファンからの冷風によって冷却された後、粗粉・微粉分離装置２に導入され、粗粉と微粉及びガスとに分離される。微粉は、湿式集塵装置３で溶媒を用いて集塵される。湿式集塵装置３で集塵されたＫＣｌ等の塩素分を含む集塵ダストスラリーは、ＪＩＳに規定されているセメント中の塩素濃度の上限値２００ｐｐｍを超えない範囲でセメントミル系に直接添加することができる。残りのスラリーは、分離・水洗装置４において洗浄して塩素分を除去し、脱塩ダストケークをセメントミル系へ添加する。これによって、石膏を含む脱塩ダストケークをも有効利用することができる。尚、湿式集塵装置３で集塵された集塵ダストスラリーの全量を分離・水洗装置４において洗浄して塩素分を除去し、脱塩ダストケークをセメントミル系へ添加してもよい。
【００３２】
また、分離・水洗装置４からの塩水は、排水処理・脱塩装置５に供給されて工業塩が回収され、排水は、湿式集塵装置３及び分離・水洗装置４において循環利用することができる。尚、分離・水洗装置４からの塩水は、周知のように、排水処理によって重金属を含む有害物を除去した後、放水してもよい。
【００３３】
一方、湿式集塵装置３で集塵された集塵ダストスラリーには、微粉中の生石灰（ＣａＯ）が水と反応して生じた消石灰（Ｃａ（ＯＨ）２）が存在する。そのため、セメントキルン入口フード６からの抽気ガスに存在する硫黄分（ＳＯ２）は、この消石灰と反応し、
ＣａＯ＋Ｈ２Ｏ→Ｃａ（ＯＨ）２
ＳＯ２＋Ｃａ（ＯＨ）２→ＣａＳＯ３・１／２Ｈ２Ｏ＋１／２Ｈ２Ｏ
ＣａＳＯ３・１／２Ｈ２Ｏ＋１／２Ｏ２＋３／２Ｈ２Ｏ→ＣａＳＯ４・２Ｈ２Ｏ
によって、脱硫され、石膏を回収することができる。
【００３４】
尚、ＫＣｌを含む塩素分は、上述のように、工業塩として回収してもよく、分離された塩水を、セメント中の塩素濃度の上限値２００ｐｐｍを越えない範囲で、そのままセメントキルンに付設されたセメントミル系に投入して処理することも可能である。
【００３５】
また、上記実施例では、湿式集塵装置３で集塵された集塵ダストスラリーにおいて微粉中の生石灰が水と反応して生じた消石灰を利用したが、消石灰源として、セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より抽気した抽気ガスから分離した粗粉の一部または全部を水と反応させたものや、セメントキルンの仮焼原料を水と反応させたもの、別途系外からの消石灰を利用することもできる。
【００３６】
次に、本発明にかかるセメントキルン塩素・硫黄バイパスの一実施例として、上記湿式集塵装置３にミキシングスクラバー２６（株式会社ミューカンパニーリミテッド製ミュースクラバー等）を用いた場合について、図２を参照しながら説明する。
【００３７】
本実施例における処理装置２１は、大別して、粗粉・微粉分離装置としてのサイクロン２５と、ミキシングスクラバー２６と、循環液槽２７と、洗浄塔２８と、分離・水洗装置３４と、排水処理・脱塩装置３５等で構成される。ミキシングスクラバー２６と循環液槽２７との間には、スラリーを循環させるためのポンプ２９が設けられる。また、循環スラリーのｐＨを調整するための硫酸を循環液槽２７に供給するため、硫酸貯槽３２及びポンプ３３が配置される。
【００３８】
セメントキルン２２のキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路からの抽気ガスは、プローブ２３において冷却ファン２４からの冷風によって冷却された後、サイクロン２５に導入され、粗粉と微粉及びガスとに分離される。微粉及びガスは、ミキシングスクラバー２６において、循環液槽２７から供給されるスラリーの有する水分等によって冷却され、微粉がミキシングスクラバー２６によって集塵される。ミキシングスクラバー２６の空塔速度Ｖ（ｍ／ｓ）は、２≦Ｖ≦８とすることが好ましい。
【００３９】
ミキシングスクラバー２６から排出された排ガスは、循環液槽２７、洗浄塔２８及びファン３０を経て大気に放出されるため、ミキシングスクラバー２６の集塵効率を高める必要がある。そこで、大気に放出される排ガスのダスト濃度が所定の許容値以下となるように、ミキシングスクラバー２６の循環液量を増加する。排ガスのダスト濃度が許容値以下の場合には、除々に循環液量を低減し、ミキシングスクラバー２６の圧損及び消費動力を下げるように制御する。循環液量と排ガス量の比γ（ｌ／ｍ３）は、１５≦γ≦４５とすることが好ましい。
【００４０】
また、ミキシングスクラバー２６の循環スラリーの塩濃度は、後段の排水処理・脱塩装置３５における塩水濃縮装置や晶析装置の運転上、ある範囲内に制御することが好ましい。そのため、循環液槽２７の塩水濃度を監視しながら、ある濃度範囲になるようにスラリーの排出量を調整し、補給水の添加量を制御する。
【００４１】
ミキシングスクラバー２６で集塵されたＫＣｌ等の塩素分を含む集塵ダストスラリーは、循環液槽２７を経て、分離・水洗装置３４においてケークと塩水に分離され、脱塩ダストケークをセメントミル系へ添加する。これによって、石膏を含む脱塩ダストケークを有効利用することができる。また、分離・水洗装置３４からの塩水は、排水処理・脱塩装置３５に供給され、工業塩が回収される。尚、特に濃度の高い塩を得る時等には、分離・水洗装置３４から排出される塩水を循環液槽２８に戻して、循環利用してもよい。
【００４２】
一方、上述のように、ミキシングスクラバー２６で集塵された集塵ダストスラリーには、微粉中のＣａＯが水と反応して生じたＣａ（ＯＨ）２が存在するため、セメントキルン入口フードからの抽気ガスに存在するＳＯ２は、このＣａ（ＯＨ）２と反応し、
ＣａＯ＋Ｈ２Ｏ→Ｃａ（ＯＨ）２
ＳＯ２＋Ｃａ（ＯＨ）２→ＣａＳＯ３・１／２Ｈ２Ｏ＋１／２Ｈ２Ｏ
ＣａＳＯ３・１／２Ｈ２Ｏ＋１／２Ｏ２＋３／２Ｈ２Ｏ→ＣａＳＯ４・２Ｈ２Ｏ
によって、脱硫され、石膏を回収することができる。
【００４３】
ここで、抽気ガスに存在する硫黄分の除去効果は、排ガスの硫黄分の濃度を監視することによって確認されるが、除去性能が低下する傾向にある場合には吸収剤を添加する必要がある。吸収剤としてのＣａ（ＯＨ）２を増加させるには、以下のように操作する。
【００４４】
サイクロン２５において回収されなかった微粉中のＣａＯを含むセメント原料と、ＫＣｌ等を含む微粉の粒度分布は、図３に示すとおりである。そこで、吸収剤として機能するＣａＯの量を多くするには、サイクロン２５の分級点を、例えば、Ａ点からＢ点に移動させる。これによって、サイクロン２５から排出される微粉中のＣａＯ濃度が上昇し、吸収剤の量を増加させることができる。
【００４５】
サイクロン２５の分離粒子径は、以下の式で決定される。ここで、Ｄ０：分離粒径［ｃｍ］、μ：流体粘度［ｐｏｉｓｅ］、ρＳ：ダスト比重［ｇ／ｃｍ３］、ρｆ：流体比重［ｇ／ｃｍ３］、Ｖｉ：入口流速［ｃｍ／ｓｅｃ］、ｄ０：出口ダクト径［ｃｍ］、Ｈ：サイクロンホッパー部高さ［ｃｍ］である。従って、サイクロン２５の分級点を変更するにあたって、入口流速Ｖｉを小さくしたり、サイクロンホッパー部高さＨを小さくしたり、出口ダクト径ｄ０を小さくすることによって分離粒径Ｄ０が大きくなるが、サイクロンホッパー部高さＨ、出口ダクト径ｄ０を変更することは現実には困難であるため、ガイドベーンの位置の変更、及びサイクロンの台数の変更等によって入口流速Ｖｉを調整するのが現実的な方策である。
【００４６】
【数１】
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【００４７】
一方、ミキシングスクラバー２６に供給される循環スラリーの流路におけるスケールトラブルを防止するためには、循環液槽２７内の循環液のｐＨを４〜６前後に制御する必要がある。そのため、循環液槽２７内の循環液のｐＨが上昇し過ぎた場合には、上述のように、サイクロン２５の分級点を変化させて微粉中のＣａＯ濃度を減少させて対処することができる。また、必要に応じて硫酸貯槽３２に貯蔵される硫酸をポンプ３３を介して循環液槽２７に添加してもよい。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明にかかるセメントキルン塩素・硫黄バイパスによれば、塩素バイパスダストを脱塩処理する際の設備コストを低く抑えることができるとともに、セメントキルンの入口フード付近より抽気した燃焼ガスに含まれる硫黄分を除去して有効利用すること等が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかるセメントキルン塩素・硫黄バイパスの一実施の形態を示すフロー図である。
【図２】本発明にかかるセメントキルン塩素・硫黄バイパスの一実施例として、湿式集塵装置にミキシングスクラバーを用いた場合を示すフロー図である。
【図３】サイクロンで回収されなかった微粉中のＣａＯを含むセメント原料と、ＫＣｌ等を含む微粉の粒度分布を示すグラフである。
【符号の説明】
１　　　処理装置
２　　　粗粉・微粉分離装置
３　　　湿式集塵装置
４　　　分離・水洗装置
５　　　排水処理・脱塩装置
６　　　セメントキルン入口フード
２１　処理装置
２２　セメントキルン
２３　プローブ
２４　冷却ファン
２５　サイクロン
２６　ミキシングスクラバー
２７　循環液槽
２８　洗浄塔
２９　ポンプ
３０　ファン
３２　硫酸貯槽
３３　ポンプ
３４　分離・水洗装置
３５　排水処理・脱塩装置
【図１】
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【図２】
2004002143.tif 000005
【図３】
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