(57)【要約】【課題】接続部における電極の細線化、狭ピッチ化を防ぎ、接続部の面積を拡大することなしに、電極の数を増す。【解決手段】基板１上に、互いに平行な第１組の電極２，３と、第１組の電極２，３と交差して配置された互いに平行な第２組の電極４と、第１組の電極２，３と第２組の電極４との交差位置に配置され、各々の電極に接続された発光素子５を含む表示部とを有する表示回路において、表示部から基板１の周囲に延長された電極と他の基板とを接続するために、基板１の周囲に設けられた第１の接続部１１と、第１の接続部１１と表示部との間に設けられた第２の接続部１２とを備え、第１組の電極２，３は、隣り合う電極がそれぞれ第１の接続部１１と第２の接続部１２とに交互に延長され、第２の接続部に延長された電極３は、第１の接続部に延長された電極２の上に絶縁膜６を介して積層されている。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、互いに平行なｍ本の第１組の電極と、該第１組の電極と交差して配置された互いに平行なｎ本の第２組の電極と（ｍ，ｎは整数）、前記第１組の電極と前記第２組の電極との交差位置の各々に配置され、各々の電極に接続された発光素子を含む表示部とを有する表示回路において、
前記表示部から前記基板の周囲に延長された電極と他の基板とを接続するために、前記基板の周囲に設けられた第１の接続部と、
該第１の接続部と前記表示部との間に設けられた第２の接続部とを備え、
前記第１組の電極および／または前記第２組の電極は、隣り合う電極がそれぞれ前記第１の接続部と前記第２の接続部とに交互に延長され、前記第２の接続部に延長された電極は、前記第１の接続部に延長された電極の上に絶縁膜を介して積層されていることを特徴とする表示回路。
【請求項２】
前記第１組の電極および／または前記第２組の電極は、ＩＴＯまたはＩｎ−Ｚｎ酸化膜のいずれかの透明導電膜材料からなることを特徴とする請求項１に記載の表示回路。
【請求項３】
前記第１の接続部と前記第２の接続部における前記第１組の電極および／または前記第２組の電極は、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｗのいずれかの金属からなることを特徴とする請求項１に記載の表示回路。
【請求項４】
前記絶縁膜は、無機酸化膜からなることを特徴とする請求項１、２または３に記載の表示回路。
【請求項５】
前記他の基板は、フレキシブルプリント基板であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の表示回路。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示回路に関し、より詳細には、パッシブマトリクス型ディスプレイにおける、駆動部と表示部とを接続するための接続部を有する表示回路に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶ディスプレイに替わるフラットパネルディスプレイとして、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子を画素部に用いた有機ＥＬディスプレイが注目を集めている。有機ＥＬディスプレイは、自己発光型素子であるため視認性が高く、低電圧で駆動できるという特徴を有し、実用化の研究が積極的になされている。有機ＥＬ素子は、電場を加えることにより発光する有機化合物を含む有機層と、有機層を挟持する陽極と陰極とを有する。有機化合物には、一重項励起による蛍光と、三重項励起による燐光とを利用するものがある。
【０００３】
有機ＥＬディスプレイの各画素部を駆動する駆動方法として、液晶ディスプレイと同様に、パッシブマトリクス型およびアクティブマトリクス型が知られている。パッシブマトリクス型は、構造が単純であることから、低コストであり、歩留まりが高いなどの利点がある。
【０００４】
パッシブマトリクス型ディスプレイは、透明基板上の複数の陽極と、陽極に交差する複数の陰極と、陽極と陰極とに挟持された有機層とから構成されている。陽極と陰極の交差領域の発光素子を１単位として１画素部を形成し、この画素部が複数個配列されて表示部が形成される。陽極および陰極を表示部から透明基板の周囲に延長し、接続部を形成する。この接続部を介して、駆動部と表示部とを接続することにより、表示回路が構成される。外部から入力された画像信号を変換し、駆動部を制御する制御回路と表示回路とを接続して表示装置が構成されている。
【０００５】
高精細、高画素数のディスプレイを作製するためには、陽極と陰極の電極数を増加させる必要がある。同一の表示面積を有する表示部であれば、電極間のピッチも狭くなり、接続部における電極間のピッチも狭くなる。また、高精細化に伴って、走査電極１本あたりに割り当てられる走査時間が短くなり、必要な輝度を得るために画素部に流す電流を大きくしなければならない。そこで、表示部を上下に分割し、同時に走査する電極の数を増やして、走査時間を長くすることが行われている（例えば、特許文献１，２参照）。この場合には、さらに分割数に応じて、接続部における電極の数が増加する。
【０００６】
【特許文献１】
特公平１−５７３５０号公報
【０００７】
【特許文献２】
特開２０００−５６７０７号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
接続部における電極の数が増大すると、駆動部を有する基板と接続部を有する透明基板との、高精度の位置合わせが必要となり、歩留まりが悪くなるという問題があった。
【０００９】
また、所定の電極幅とピッチを確保するために、透明基板の周囲に延長して形成する接続部の面積が増大するという問題もあった。
【００１０】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、接続部の面積を拡大することなしに、電極の数を増すことのできる表示回路を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、基板上に、互いに平行なｍ本の第１組の電極と、該第１組の電極と交差して配置された互いに平行なｎ本の第２組の電極と（ｍ，ｎは整数）、前記第１組の電極と前記第２組の電極との交差位置の各々に配置され、各々の電極に接続された発光素子を含む表示部とを有する表示回路において、前記表示部から前記基板の周囲に延長された電極と他の基板とを接続するために、前記基板の周囲に設けられた第１の接続部と、該第１の接続部と前記表示部との間に設けられた第２の接続部とを備え、前記第１組の電極および／または前記第２組の電極は、隣り合う電極がそれぞれ前記第１の接続部と前記第２の接続部とに交互に延長され、前記第２の接続部に延長された電極は、前記第１の接続部に延長された電極の上に絶縁膜を介して積層されていることを特徴とする。
【００１２】
この構成によれば、電極を１本おきに異なる基板と接続することにより、電極の細線化、狭ピッチ化を防ぎ、絶縁膜で覆うことにより、短絡を防止することができる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の前記第１組の電極および／または前記第２組の電極は、ＩＴＯまたはＩｎ−Ｚｎ酸化膜のいずれかの透明導電膜材料からなることを特徴とする。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の前記第１の接続部と前記第２の接続部における前記第１組の電極および／または前記第２組の電極は、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｗのいずれかの金属からなることを特徴とする。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、請求項１、２または３に記載の前記絶縁膜は、無機酸化膜からなることを特徴とする。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の前記他の基板は、フレキシブルプリント基板であることを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。本発明の一実施形態においては、接続部において、絶縁層を介して電極を多層構造にすることにより、電極の細線化、狭ピッチ化を防ぎ、位置合わせを簡素化するとともに、接続部の面積が拡大するのを防止する。
【００１８】
以下の説明では、有機ＥＬ素子を用いたパッシブマトリクス型ディスプレイについて説明するが、陽極または陰極のいずれかに相当する第１電極のみについて説明し、その他ディスプレイの詳細な構成は省略する。透明基板に形成したカラーフィルタ層、色変換層、高分子層、または無機層などを、一体的に第１電極基板という。
【００１９】
図１に、本発明の第１の実施形態にかかるパッシブマトリクス型ディスプレイの表示部と接続部とを示す。第１電極基板１上に複数の第１電極２，３と、第１電極２，３に交差する複数の第２電極４と、第１電極２，３と第２電極４とに挟持された有機発光層５とから構成されている。第１電極２，３と第２電極４とに挟持された有機発光層５の交差領域が１画素部を構成する。第１電極２，３は、陽極または陰極として機能させることができ、第２電極４も、対応するように陰極または陽極として機能させることができる。
【００２０】
第１電極２，３は、有機発光層５からの光を第１電極基板１側から取り出す場合には、透明導電膜を用いる。透明導電膜材料として、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎ−Ｚｎ酸化膜、ＡＴＯ等を用いることができる。特に、室温成膜により比較的低抵抗な膜を得ることができ、弱酸によりパターニングすることができるＩｎ−Ｚｎ酸化膜が望ましい。成膜方法としては、スパッタ法等を用い、フォトリソグラフによりパターニングを行う。
【００２１】
第１電極２，３は、表示部、接続部ともに透明導電膜で形成してもよい。光を透過する必要のない接続部には、より低抵抗な金属を補助電極として透明導電膜に接続してもよい。補助電極材料として、Ａｌ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｗ、Ａｌ合金およびこれらの合金を用いることができる。補助電極の成膜は、スパッタ法等を用い、フォトリソグラフによりパターニングを行う。また、リフトオフ、マスク成膜等により形成してもよい。
【００２２】
有機発光層５は、単一の層として図示したが、電子注入層、正孔注入層、正孔輸送層などを組み合わせて形成することができる。各層を形成する材料は、公知の材料を使用する。例えば、青色から青緑色を発光する有機発光層５は、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などを使用する。
【００２３】
第２電極４は、Ａｌ、Ｍｇおよびこれらの合金を用いることができる。第２電極４は、マスクを用いたスパッタ法で形成することができる。また、図示していないが、酸化シリコン、酸化窒化シリコン等の無機膜を、第２電極４を形成した後に成膜し、封止部材とすることができる。また、ガラス基板、ＳＵＳ缶、ポリカーボネート等のフィルム基板と、ＵＶ硬化樹脂とを用いて、表示部またはディスプレイを封止することもできる。
【００２４】
図２に、本発明の第１の実施形態にかかる接続部を示す。図１に示した破線Ａ−Ａ’の断面図である。第１電極基板１上に複数の下層第１電極２ａ〜２ｄと、絶縁膜６と、上層第１電極３ａ〜３ｄとが順に積層されている。下層第１電極２ａ〜２ｄは、表示部から第１電極基板１の周囲の第１接続部１１に延長され、電極端部でフレキシブルプリント基板を介して駆動部に接続される。第２接続部１２における下層第１電極２ａ〜２ｄは、絶縁膜６に覆われている。上層第１電極３ａ〜３ｄは、絶縁膜６上の第２接続部１２へ延長され、電極端部でフレキシブルプリント基板を介して駆動部に接続される。
【００２５】
絶縁膜６は、無機酸化物、アクリルレート等のネガ型フォトレジスト、またはポリミド材料を用いることができる。無機酸化物は、スパッタ法等により成膜した後、フォトリソグラフによりパターニングを行う。また、リフトオフ、マスク成膜等により形成してもよい。
【００２６】
このような構成により、接続部１１，１２を介して、駆動部と表示部とを接続することにより、表示回路が構成される。さらに、接続部１１，１２の詳細について説明する。
【００２７】
図３に、第１電極とフレキシブルプリント基板との接続を示す。フレキシブルプリント基板７ａには、下層第１電極２ａ〜２ｄに対応した導電部８ａが形成されており、導電部８ａと下層第１電極２ａ〜２ｄとを、異方性導電接着フィルムを用いて加熱圧着する。フレキシブルプリント基板７ｂには、上層第１電極３ａ〜３ｄに対応した導電部８ｂが形成されており、導電部８ｂと上層第１電極３ａ〜３ｄとを、異方性導電接着フィルムを用いて加熱圧着する。
【００２８】
接続部においては、隣り合う電極が絶縁層を介して多層構造に配置されており、１本おきに異なるフレキシブルプリント基板７ａ，７ｂと接続することになる。このようにして、第１接続部１１と第２接続部１２の各々から、フレキシブルプリント基板７ａ，７ｂを介して、駆動部と接続する。
【００２９】
図４に、本発明の第２の実施形態にかかるパッシブマトリクス型ディスプレイの表示部と接続部とを示す上面図である。第１電極基板１上に複数の下層第１電極２ａ〜２ｃと、絶縁膜６と、上層第１電極３ａ〜３ｃとが順に積層されている。第２の実施形態においては、有機発光層により形成されている表示部を、上下２分割し、上側表示部２１と下側表示部２２とした。第２電極は、図示を省略した。
【００３０】
下層第１電極２ａ〜２ｃは、下側表示部２２から第１電極基板１の周囲の第１接続部１１に延長され、電極端部でフレキシブルプリント基板を介して駆動部に接続される。第２接続部１２における下層第１電極２ａ〜２ｄは、絶縁膜６に覆われている。上層第１電極３ａ〜３ｄは、上側表示部２１から絶縁膜６上の第２接続部１２へ延長され、電極端部でフレキシブルプリント基板を介して駆動部に接続される。第１電極２，３と有機発光層５との接続は、透明導電膜９，１０により行う。
【００３１】
透明基板上に、染料または顔料からなる色変換フィルタを形成した後、高分子膜層と無機膜層とを形成し、第１電極基板１とした。高分子膜層として、ＵＶ硬化型樹脂をスピンコート法により塗布し、高圧水銀灯にて照射して、膜厚８μｍを形成した。高分子膜層上面は、平坦である。無機膜層として、ＲＦスパッタ法により、室温において、ＳｉＯｘ膜を３００ｎｍ成膜した。スパッタ・ターゲットにはＳｉを用い、スパッタ・ガスとしてＡｒ及び酸素の混合ガスを用いた。
【００３２】
下層第１電極２ａ〜２ｃとして、ＤＣスパッタ法により、室温において、Ｍｏを３００ｎｍ成膜した。スパッタ・ターゲットにはＭｏターゲットを用い、スパッタ・ガスとしてＡｒを用いた。その後、フォトリソグラフ法によりレジストをパターニングした後に、燐酸、硝酸、酢酸の混合液をエッチング液として用いて、パターニングすることにより、幅７μｍ、間隔５８μｍの電極パターンを形成した。
【００３３】
絶縁膜６は、ＲＦスパッタ法により室温において、ＳｉＯｘ膜を３００ｎｍ成膜し、リフトオフ法によりパターニングを行った。
【００３４】
上層第１電極３ａ〜３ｃとして、ＤＣスパッタ法により、室温において、Ｍｏを３００ｎｍ成膜した。スパッタ法条件、パターニングは、下層第１電極２ａ〜２ｃとの場合と同じである。上層第１電極３ａ〜３ｃは、幅７μｍ、間隔５８μｍであり、表示部から見て下層第１電極２ａ〜２ｃより３ｍｍ短いパターンとした。
【００３５】
透明導電膜９，１０は、Ｉｎ−Ｚｎ酸化膜を用い、ＤＣスパッタ法により室温において２２０ｎｍ成膜した。スパッタ・ターゲットにはＩｎ−Ｚｎ酸化物焼成ターゲットを用い、スパッタ・ガスとしてＡｒ及び酸素の混合ガスを用いた。フォトリソグラフによりレジストをパターニングした後、シュウ酸をエッチング液として用いて、パターニングを行った。
【００３６】
第１電極２，３を形成した第１電極基板１を、抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子注入層の４層からなる有機発光層５を成膜した。正孔注入層は、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を１００ｎｍ積層し、正孔輸送層は、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を２０ｎｍ積層した。有機発光層は、４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を３０ｎｍ積層し、電子注入層は、アルミキレート（Ａｌｑ）を２０ｎｍ積層した。
【００３７】
第２電極４は、幅１１０μｍ、間隙２０μｍのストライプ・パターンを有するマスクを用いて、Ｍｇ／Ａｇ（重量比率１０：１）を２００ｎｍ形成した。最後に、グローブボックス内乾燥窒素雰囲気（酸素及び水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）において、封止ガラスとＵＶ硬化接着剤とを用いて封止した。
【００３８】
このように作製した表示部に、フレキシブルプリント基板６を、異方性導電接着フィルムを用いて加熱圧着し、駆動部を接続して表示回路を構成した。駆動部を制御する制御回路と表示回路とを接続して表示装置を構成して、駆動したところ、短絡することなく、良好に駆動することができた。
【００３９】
なお、本実施形態は、有機ＥＬ素子を用いたパッシブマトリクス型ディスプレイについて説明したが、発光素子は、有機ＥＬ素子に限られない。また、第１電極２，３の接続部１１，１２について説明したが、本実施形態を第２電極４に適用することもできる。
【００４０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、隣り合う電極がそれぞれ第１の接続部と第２の接続部とに交互に延長され、第２の接続部に延長された電極は、第１の接続部に延長された電極の上に絶縁膜を介して積層されているので、電極を１本おきに異なる基板と接続することができ、接続部の面積を拡大することなしに、電極の数を増すことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかるパッシブマトリクス型ディスプレイの表示部と接続部とを示す上面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態にかかる接続部を示す断面図である。
【図３】第１電極とフレキシブルプリント基板との接続を示す図である。
【図４】本発明の第２の実施形態にかかるパッシブマトリクス型ディスプレイの表示部と接続部とを示す上面図である。
【符号の説明】
１    第１電極基板
２    下層第１電極
３    上層第１電極
４    第２電極
５    有機発光層
６    絶縁膜
７    フレキシブルプリント基板
８    導電部
９，１０    透明導電膜
１１    第１接続部
１２    第２接続部
２１    上側表示部
２２    下側表示部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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