(57)【要約】【課題】最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに短時間調理が可能な高周波加熱調理装置を提供することを目的とする。【解決手段】第１の蒸気発生手段１３と、第２の蒸気発生手段１４と、高周波加熱手段１２と、これらの制御手段３９を備えることで、高周波利用した加熱調理方法と、蒸気を利用した加熱調理方法の併用、蒸気供給量や蒸気供給場所を制御できる蒸気を利用した加熱調理方法が可能となり、被加熱物に応じ最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに短時間調理が可能となる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に供給する電波を発生する高周波発生手段と、前記加熱室に蒸気を供給する複数の蒸気発生手段と、前記高周波発生手段及び前記複数の蒸気発生手段の制御を行う制御手段とを備えた高周波加熱調理装置。
【請求項２】
蒸気発生手段は、水を加熱しながら搬送する湯水搬送部と、前記湯水搬送部で搬送した湯水を気化させる蒸発部と、蒸発部を加熱する加熱部とを有する請求項１に記載の高周波加熱調理装置。
【請求項３】
複数の蒸気発生手段は、一つの貯水手段から給水される構成とした請求項１または２に記載の高周波加熱調理装置。
【請求項４】
湯水搬送部の内部で局部沸騰を発生させて水を搬送する請求項２または３に記載の高周波加熱調理装置。
【請求項５】
蒸発部には、蒸気を吐出する開口部を有する着脱可能な蒸発部カバーを備えた請求項２〜４のいずれか１項に記載の高周波加熱調理装置。
【請求項６】
蒸気を吐出する開口部には、吐出する蒸気の噴出方向が可変可能な噴出ガイドを備えた請求項５に記載の高周波加熱調理装置。
【請求項７】
噴出ガイドには、蒸気の噴出状態を被加熱物の形状や調理方法に応じて変更できるように噴出部アタッチメントを着脱自在に取り付けた請求項６に記載の高周波加熱調理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波及び蒸気によって被加熱物を加熱調理する高周波加熱調理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の高周波加熱調理装置としては、種々のものが知られている（例えば、特許文献１、２参照）。
【０００３】
これらの一つは、図５に示すように、水を入れるための溝１を有する被加熱物の載置台２を備え、マグネトロン３を動作させることで、加熱室４内に水蒸気を発生させながら被加熱物を加熱するものである。また、他のものとしては、図６に示すように、ミストを発生させる超音波加湿装置５を備え、超音波加湿手段５を動作させることで、ミストを発生しながらマグネトロン６を動作させ、乾燥を防止しながら加熱室７内の被加熱物を加熱するものである。
【０００４】
【特許文献１】
特開平６−２４９４４５号公報
【特許文献２】
特開平５−５２３４２号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の高周波加熱調理装置において、蒸気生成にマグネトロンを用いたものでは、エネルギー効率が悪いうえ、高周波の出力条件や被加熱物の条件により、蒸気発生に至る前に被加熱物に熱が入ることもあり、被加熱物が最適な水分量を保持する調理はできなかった。また、この構成では冷凍食品の蒸気を用いた加熱調理を行うためには解凍動作後に水を補う動作が必要となるか、調理時間が大幅に長くなるという課題があった。
【０００６】
また、超音波加湿装置でミストを発生させながらマグネトロンを動作させるものでは、ミストに高周波が作用しにくいため、被加熱物に付着した水分を高周波で加熱する様になっており、スチームの有する熱エネルギーを被加熱物の外部から与えるようにはなっておらず、調理時間が長くなるうえ、「しっとり」、「ふっくら」というイメージの最適な調理方法とはいえなかった。
【０００７】
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに短時間調理が可能な高周波加熱調理装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の高周波加熱調理装置は、高周波発生手段と、複数の蒸気発生手段と、これらの制御を行う制御手段を備えたものである。
【０００９】
これにより、被加熱物への蒸気供給量や供給場所等を制御すること、つまり高周波発生手段と蒸気発生手段の併用使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段使用による加熱調理と、蒸気発生手段単独による加熱調理を実現し、最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに、被加熱物の内外からの加熱により短時間調理が可能となるものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
請求項１に記載の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に供給する電波を発生する高周波発生手段と、前記加熱室に蒸気を供給する複数の蒸気発生手段と、前記高周波発生手段及び前記複数の蒸気発生手段の制御を行う制御手段とを備えた高周波加熱調理装置とすることにより、被加熱物への蒸気供給量や供給場所等を制御すること、つまり高周波発生手段と蒸気発生手段の併用使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段使用による加熱調理と、蒸気発生手段単独による加熱調理を実現し、最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに、被加熱物の内外からの加熱により短時間調理が可能となるものである。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、蒸気発生手段は、水を加熱しながら搬送する湯水搬送部と、前記湯水搬送部で搬送した湯水を気化させる蒸発部と、蒸発部を加熱する加熱部とを有する請求項１に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、水を加熱しながら搬送するため、滞留させながら加熱する場合と比較して、加熱側と受熱側の温度差の関係から熱伝達効率が向上する。また、蒸発部では予め昇温させた熱エネルギー分だけ、伝達量が減少できるうえ、水の粘性が低減するため蒸発部と水の接触面積が増大し熱の伝達効率が向上する。また、蒸発部の表面積や蒸発部の熱容量を小さくすることが可能となり、放熱ロスも低減される。よって、蒸気発生の熱効率向上に加え、短時間での蒸気発生が可能となる。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、複数の蒸気発生手段は、一つの貯水手段から給水される構成とした請求項１または２に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、合理的な構成により、使用者は水を供給するわずらわしさを感じることなく、満足する調理性能が得られる。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、湯水搬送部の内部で局部沸騰を発生させて水を搬送する請求項２または３に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、湯水搬送部の水は局部沸騰により蒸発部側に移動する。蒸発部では、加熱手段で予め加熱されており、湯が蒸発部に少量滴下されることで直ちに蒸気となり、被加熱物の最適調理ができるようになる。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、蒸発部には、蒸気を吐出する開口部を有する着脱可能な蒸発部カバーを備えた請求項２〜４のいずれか１項に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、水を気化させる際に水滴が飛散することや、蒸発部にカルシウムやマグネシウム等のスケール成分が析出し、気化の際に加熱室内に拡散することが、蒸発部カバーにより阻止される。また、析出するスケールなどの蒸発残さが、直接見えないために、清潔感を保つことができるし、簡単に取外しできることで、清掃も可能となる。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、蒸気を吐出する開口部には、吐出する蒸気の噴出方向が可変可能な噴出ガイドを備えた請求項５に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、被加熱物の種類や形状に応じて噴出ガイドで蒸気の噴出方向を変更し、被加熱物の周囲に蒸気を充満させた状態とすることができ、加熱室全体に蒸気を充満させることなく、加熱調理が可能となる。つまり、加熱室の大きさ等の要因に影響されることなく、効率よく被加熱物の蒸気による美味しい加熱調理ができる。さらには、高周波調理との組み合わせで、調理時間の短縮化も実現できる。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、噴出ガイドには、蒸気の噴出状態を被加熱物の形状や調理方法に応じて変更できるように噴出部アタッチメントを着脱自在に取り付けた請求項６に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、被加熱物の表面に強く蒸気を噴射させたり、加熱室内に均一に拡散させたりすることができることとなり、調理メニューに応じた蒸気の使用が可能となる。よって、最適な調理のできばえとなる。また、簡単に噴出ガイドを取り外すことで清掃が簡単に行える。
【００１７】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、図面を参照して説明する。
【００１８】
図１において、１０は高周波加熱調理装置の本体であり、その内部には、被加熱物を収納する加熱室１１と、加熱室１１に供給する電波を発生する高周波発生手段１２と、加熱室１１に蒸気を供給する第１の蒸気発生手段１３及び第２の蒸気発生手段１４（図２参照）と、貯水手段である一つの貯水タンク１５などが組み込まれている。前記本体１０には、加熱室１１の前面の開口を開閉する扉体（図示せず）が開閉自在に枢支され、加熱室１１へ被加熱物１６を出し入れする際に開閉操作される。
【００１９】
また、高周波発生手段１２は、加熱室１１の外側に配設された、出力アンテナ１７を有するマグネトロン１８と、マグネトロン１８を動作させるためのインバーター電源１９と、加熱室１１の底面側に配設されたアンテナ２０と、マグネトロン１８で発生した電波をアンテナ２０に給電する導波管２１とで構成されており、マグネトロン１８は送風機２２で強制空冷されている。
【００２０】
また、貯水タンク１５は、本体１０から着脱可能な構成となっており、自由に取り出して給水ができるようになっている。なお、貯水タンク１５の底部には、スプリング１５ａと、これにより弁座１５ｂに付勢され閉止されている弁体１５ｃと、貯水タンク１５のセット時に弁体１５ｃをスプリング１５ａに抗して弁座１５ｂから押し上げて開成するピン１５ｄから構成された弁部を有している。
【００２１】
そして、図２に詳細を示しているように、第１の蒸気発生手段１３は、シーズヒーターよりなり後記の蒸発部を加熱する加熱部２３と、加熱部２３を被覆したアルミダイキャストで形成され湯水を気化させ加熱室１１に供給する凹状の蒸発部２４と、貯水タンク１５から逆止弁２５を介して蒸発部２４に湯水を搬送する配管からなる湯水搬送部２６とで形成されている。なお、湯水搬送部２６の中間には、貯水タンク１５の最高水位より上方側で大気開放される開放口２７が設けられている。
【００２２】
さらに、貯水タンク１５と開放口２７の間に位置する湯水搬送部２６の一部には、アルミダイキャストを貫通或いはアルミダイキャストに接続するように接続部２８が設けられるとともに、この接続部２８は加熱部２３で発生した発生熱を効率よく受熱できるように銅やアルミニウムなどの熱伝導率の大きい材料で構成されている。これにより、湯水搬送部２６は水を加熱しながら、かつ湯水搬送部２６内部で局部沸騰をさせて蒸発部２４に搬送している。
【００２３】
また、第２の蒸気発生手段１４も、第１の蒸気発生手段１３と同様な構成の、加熱部２９と、蒸発部３０と、逆止弁３１を介して蒸発部３０に湯水を搬送する湯水搬送部３２と、開放口３３と、接続部３４が設けられている。作用及び動作も第１の蒸気発生手段１３と同様である。
【００２４】
そしてまた、図３に示すように、第１の蒸気発生手段１３の蒸発部２４には、蒸気を吐出する開口部３５を有する着脱可能な蒸発部カバー３６を備えており、開口部３５には、吐出する蒸気の噴出方向が可変可能な、例えば蛇腹ホースなどよりなる噴出ガイド３７を備えている。蒸発部カバー３６は、蒸発部２４からの水滴飛散を防止する水滴飛散防止手段となるものであり、噴出ガイド３７は加熱室１１内に位置していて、被加熱物１６への蒸気の噴出方向が自由に変えられるものである。
【００２５】
また、噴出ガイド３７の先端には、蒸気の噴出状態を被加熱物１６の形状や調理方法に応じて変更できるように噴出部アタッチメント３８を着脱自在に取り付けている。この噴出部アタッチメント３８は、図４に示すように、複数種類（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）が用意されており、それぞれのアタッチメントにより蒸気の吐出状態が異なるものである。なお、図３、図４に示した構成は、第１の蒸気発生手段１３について代表して説明したものであり、第２の蒸気発生手段１４も同様な構成を採用しているものである。
【００２６】
３９はインバーター電源１９、第１、第２の蒸気発生手段１３、１４等の動作制御を行うための制御手段で、被加熱物１６への蒸気供給量や供給場所等を制御すること、つまり高周波発生手段１２と第１、第２の蒸気発生手段１３、１４の併用使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段１３、１４の使用による加熱調理と、蒸気発生手段１３、１４の単独による加熱調理（少なくともいずれかの手段による）を実現している。
【００２７】
次に、加熱室１１内に載置した被加熱物１６を第１の蒸気発生手段１３を用いて蒸気で加熱調理する動作、作用について説明する。
【００２８】
貯水タンク１５に水を入れ、本体１０に貯水タンク１５をセットすると、スプリング１５ａにより、弁座１５ｂに付勢され閉止されていた弁体１５ｃが、ピンピン１５ｄにより押されて開成される。このようになると、貯水タンク１５内の水位と同水位にまで湯水搬送部２６、３２内部に水が流れ込む。この状態で、加熱室１１内に蒸気を発生させるために操作ボタン（図示せず）を操作すると、制御手段３９で第１の蒸気発生手段１３が動作する。
【００２９】
つまり、加熱部２３に通電が開始され、その発生熱が蒸発部２４及び接続部２８を介して湯水搬送部２６内に伝熱される。特に、接続部２８近辺の湯水搬送部２６内部では水の一部分が局部沸騰を起こし、急激に体積膨張する。しかし、湯水搬送部２６の貯水タンク１５には逆止弁２５が設けられており、湯水搬送部２６の内圧により逆止弁２５が閉止することで逆流が阻止され、湯水搬送部２６内の湯水は開放口２７側にのみ移動する。ここで開放口２７が大気圧に開放されているため、蒸発部２４を下方側に位置させても連続して湯水が蒸発部２４に供給されないようになっている。
【００３０】
また、蒸発部２４はアルミダイキャストで構成しているため、加熱部２３の発生熱により予め１００℃を超える温度に昇温されている。よって、湯水搬送部２６から間欠的に蒸発部２４に滴下供給された湯水は、極短時間で水蒸気に変化する。また、接続部２８と蒸発部２４は熱伝導性の大きいアルミダイキャストで接続されていることで、蒸発部２４に湯水がある場合は気化に必要なエネルギーが多くなり、湯水搬送部２６への伝熱量が若干減少し、蒸発部２４への湯水の供給間隔が自動的に長くなる。
【００３１】
逆に、蒸発部２４の湯水が減少すれば、接続部２８への伝熱量が若干増加し、蒸発部２４への湯水の供給が自動的に促進される。つまり、設計的な要素を含むがアルミダイキャストのような熱伝導性の大きい材料を介して加熱部２３の発生熱を蒸気発生と熱搬送ポンプに使用することで、蒸発及び湯水の供給がバランスする状態となる。
【００３２】
また、常にアルミダイキャストを介して水或いは湯を接触させていることで、アルミダイキャストからの放熱ロスが非常に少なくなっている。また、アルミダイキャストで蒸発部２４を形成しているために、加熱部２３への通電を停止しても、若干の蓄熱が可能あり、繰り返し加熱部２３に通電しながら調理する際の立ち上がり性能を早くすることもできる。
【００３３】
このように、蒸発部２４で蒸気が発生すると、蒸発部２４の表面温度や湯水の量により、気化の際に高温の水滴が飛散する場合があるが、蒸発部カバー３６により蒸発部２４が覆われていることで、加熱室１１内部に高温の水滴が飛散することなく蒸気を発生させることができる。
【００３４】
また、噴出ガイド３７を取り付けた場合には、噴出ガイド３７からのみ、さらに噴出部アタッチメント３８を取り付けた場合には、噴出部アタッチメント３８から蒸気が吐出し、加熱室１１内に充満する。また噴出ガイド３７は蒸気の噴出方向が可変できるうえ、噴出部アタッチメント３８を交換或いは着脱することにより、蒸気の吐出形態を変えることができる。よって、加熱室１１内の被加熱物１６の大きさに応じてその表面に直接噴出したり、間接的に噴出することはもちろんのこと、噴出距離等を変えることができる。よって、加熱室１１内に蒸気を充満させる以前から蒸気の保有する熱エネルギーにより被加熱物１６の調理することも可能となる。
【００３５】
また、加熱室１１内に載置した被加熱物１６を蒸気で加熱調理する際、第２の蒸気発生手段１４のみを用いた場合、第１、第２の蒸気発生手段１３、１４の両方を用いた場合の動作、作用については、先の説明と同様であり、説明を省略する。
【００３６】
なお、本実施例においては、加熱部２３、２９としてシーズヒーターを用いているが、線ヒーター、セラミックヒーターなどでも可能である。また、本実施例においては、加熱部２３、２９から蒸発部２４、３０へ直接伝熱する構成となっているが、ミラクロンヒーターやハロゲンヒーターのような輻射熱を伝熱する構成とすることも可能である。さらに、本実施例においては、加熱部２３、２９の伝熱により湯水搬送部２６に局部沸騰をさせるようにしているが、湯水搬送部２６に専用の加熱手段を設けても良い。
【００３７】
次に、加熱室１１内に載置した被加熱物１６を高周波で加熱調理する動作、作用について説明する。
【００３８】
加熱室１１内に高周波を発生させるため、操作ボタン（図示せず）を操作すると、制御手段３９で高周波発生手段１２が動作する。つまり、マグネトロン１８が動作すると共に、送風機２２がマグネトロン１８を冷却するように動作する。マグネトロン１８が動作すると、マグネトロンの出力アンテナ１７から発生したマイクロ波が金属材料で作られた導波管２１内を通って誘電材料で作られた底面１１ａから加熱室１１内に入り込む。この際、アンテナ２０によりマイクロ波はその電波の進行方向が変化し、加熱室１１内に載置した被加熱物１６に対して、マイクロ波が様々な方向から照射され、被加熱物１６が最適に調理される。
【００３９】
また、高周波発生手段１２と第１の蒸気発生手段１３または第２の蒸気発生手段１４を同時に動作させる場合、高周波発生手段１２と第１、第２の蒸気発生手段１３のいずれか一方或いは両方を交互に動作させる場合は、上記した内容が同時に或いは交互に動作することであり、それぞれの被加熱物１６の料理に応じた調理シーケンスに応じて加熱が実行される。
【００４０】
さらに、蒸気の吐出において、噴出部アタッチメント３８を、図４（Ａ）のようにすれば、蒸気の噴出角度が広く大きな表面を有する被加熱物１６に、（Ｂ）は蒸気の噴出角度が狭く小さな被加熱物１６に、（Ｃ）はできる限り直接噴出をさけたい被加熱物１６を調理する場合にそれぞれ適しているものである。
【００４１】
なお、本実施例においては、図に示すように、第１、第２の蒸気発生手段１３、１４を加熱室１１の底面奥側に設けているが、設置高さ、設置場所を非対称にしたり、蒸気発生量や蒸気温度を異なる仕様にすることで、２つの蒸気発生手段の特徴を変えることも可能である。
【００４２】
以上のように、本実施例の高周波加熱調理装置によれば、高周波発生手段と蒸気発生手段の併用使用による「ふっくら」「しっとり感」のある短時間加熱、複数の蒸気発生手段使用による蒸し調理が可能となる。また、それぞれの蒸気発生手段の動作を制御することで蒸気供給量や蒸気の供給場所が可変できる。つまり、手間がかからず、被加熱物に最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出す最適な調理方法を実現できるものである。
【００４３】
【発明の効果】
以上のように、本発明の高周波加熱調理装置は、高周波発生手段と複数の蒸気発生手段を併せ持つことで、被加熱物への蒸気供給量や供給場所等を制御すること、つまり高周波発生手段と蒸気発生手段の併用使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段使用による加熱調理と、蒸気発生手段単独による加熱調理を実現し、最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに、被加熱物の内外からの加熱により短時間調理が可能となるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例における高周波加熱調理装置の構成を示す断面図
【図２】同高周波加熱調理装置における第１、第２の蒸気発生手段及び貯水手段の構成を示す斜視図
【図３】同高周波加熱調理装置の蒸気発生手段における蒸発部の分解斜視図
【図４】同高周波加熱調理装置の蒸気発生手段における噴出部アタッチメントと噴出状態を示す斜視図
【図５】従来例における蒸気発生手段を備えた高周波加熱調理装置の断面図
【図６】従来例におけるミスト発生手段を備えた高周波加熱調理装置の断面図
【符号の説明】
１１  加熱室
１２  高周波発生手段
１３  第１の蒸気発生手段
１４  第２の蒸気発生手段
１５  貯水タンク（貯水手段）
１６  被加熱物
２３、２９  加熱部
２４、３０  蒸発部
３５  開口部
３６  蒸発部カバー
３７  噴出ガイド
３８  噴出部アタッチメント
３９  制御手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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