(57)【要約】【課題】電子表示面の表示セルを構成するセル層に、高精度で能率的にセル空間を形成できるようにする。【解決手段】電気的に表示変更できる多数の表示セルを有する電子表示面の、表示セルを構成するセル層を製造する方法であって、セル層となる膜材料１０に、レーザ光Ｌを０．１〜１０ｍＪ／ショットの照射強度、１〜１０μｓｅｃの照射時間で照射してセル空間１２を消失形成する工程（ａ）を含む。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気的に表示変更できる多数の表示セルを有する電子表示面の、表示セルを構成するセル層を製造する方法であって、
セル層となる膜材料に、レーザ光を０．１〜１０ｍＪ／ショットの照射強度、１〜１０μｓｅｃの照射時間で照射してセル空間を消失形成する工程（ａ）
を含む電子表示面用セル層の製造方法。
【請求項２】
前記セル層となる膜材料が、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂からなる群から選ばれ、厚み５〜２００μｍで、可撓性を有しており、
前記セル空間が、内径１０〜５００μｍでセル層を貫通している
請求項１に記載の電子表示面用セル層の製造方法。
【請求項３】
前記レーザ光が、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザからなる群から選ばれるレーザ光である
請求項１または２に記載の電子表示面用セル層の製造方法。
【請求項４】
前記工程（ａ）で得られたセル空間を有するセル層に対して、セル空間の端縁からバリを除去する工程（ｂ）をさらに含む
請求項１〜３の何れかに記載の電子表示面用セル層の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４の何れかに記載の方法でセル層を製造する工程（ｍ）と、
得られたセル層のセル空間に、電気的に表示変更できる可変表示材を収容する工程（ｎ）と、
前工程（ｎ）のあとで、前記セル層のセル空間を封止して表示セルを形成する工程（ｏ）と
を含む電子表示面の製造方法。
【請求項６】
前記セル層の両面に、電気的にアドレス指定して電圧を印加する電極層を配置する工程（ｐ）をさらに含む
請求項５に記載の電子表示面の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子表示面用セル層の製造方法に関し、詳しくは、文字、画像などの光学的な表示情報が電気的に書換え可能な薄いシート状をなす電子表示面において、多数の表示セルが設けられるセル層を製造する方法を対象にしている。
【０００２】
【従来の技術】
薄いシート状の電子表示面は、電子ペーパーを代表とする各種の表示装置に利用される。
電子ペーパーは、デジタルペーパー、ペーパーライクディスプレイなどとも呼ばれる技術である。
電子ペーパーの基本的な概念は、可撓性のある紙片状物に文字や画像などの情報が表示されるとともに、この表示情報が書換え可能になっている。通常の電子的な情報表示手段であるＣＲＴやＬＣＤに比べて、格段に軽量で可搬性や取扱い性に優れている。しかも、表示情報を書換え可能である。
【０００３】
電子ペーパーの構造には様々な形式が提案されている。基本的には、柔軟なシート材料からなるセル層に、多数の微細なセル空間が設けられており、各セル空間には電気的に表示変更できる可変表示材が封入されている。可変表示材として、電気泳動粒子や液晶材料、色分けされた帯電球などを含む液材料が使用される。可変表示材が封入された各セル空間が表示セルとして機能する。セル層の両面に、電気的にアドレス指定して電圧を印加できる電極層を配置し、所望の表示セルに電圧を印加すると、表示セルの可変表示材が移動したり姿勢を変えたりすることで、表示される色やその濃さなどが変わる。
【０００４】
このような電子ペーパーの技術においては、セル層やセル空間の品質性能が重要であり、それに関して種々の技術が提案されている。
例えば、特許文献１には、底のある穴状のセル空間（キャビティ）を、円錐形やテ−パ形に形成する技術が示されている。セル空間の形成方法として、ピンや打ち出し、切削などの機械加工、射出成形などの成形技術、フォトリソグラフィ、さらにはレーザ加工も挙げられている。
特許文献２には、セル空間に対応する突起を、光硬化性樹脂層に押し当てたままで光硬化させることで、光硬化性樹脂からなるセル層に突起に対応するセル空間を形成する技術が示されている。
【０００５】
【特許文献１】
特表２００３−５０２６９５号公報
【０００６】
【特許文献２】
米国特許公開２００２／０１２６２４９号明細書
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従来の技術では、電子表示面用のセル層に適切な構造のセル空間を能率的に作製することが難しかった。
電子表示面の表示精度を向上させるには、セル空間の径を小さくすること、セル空間の寸法形状を正確に形成すること、セル空間同士の配置間隔を正確に設定することなどが要求される。
例えば、特許文献２の技術では、突起の押し付けによる光硬化性樹脂液の成形および光硬化であるので、それほど高い精度で成形することはできない。樹脂液に突起を押しつけて光硬化するまでの時間がかかるので、それほど生産性が向上できない。特許文献１に開示された射出成形などの成形技術でも、成形精度には限界があり、製造能率もそれほど上がらない。切削などの機械加工では、微細なセル空間を高精度で加工するのが難しい。フォトリソグラフィでは、レジストの形成、パターン化、現像などの複数の作業工程が必要であり、生産性が劣る。
【０００８】
レーザ加工は、従来、電子回路板への孔あけ加工などに利用されていて、微細な孔を能率的に加工できる技術である。しかし、セル層となる膜材料にレーザ加工で微細なセル空間を、精度良く能率的に形成することが難しい。これは、電子ペーパーなどに利用される電子表示面のセル層は、比較的に柔軟で可撓性のある材料からなり、通常のレーザ加工条件では、レーザ光の照射領域よりも広い範囲までセル層が消失してしまってセル空間の形状が歪んでしまったり、形状のバラツキが大きくなってしまったりするのであると考えられる。
本発明の課題は、電子表示面の表示セルを構成するセル層に、高精度で能率的にセル空間を形成できるようにすることである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる電子表示面用セル層の製造方法は、電気的に表示変更できる多数の表示セルを有する電子表示面の、表示セルを構成するセル層を製造する方法であって、セル層となる膜材料に、レーザ光を０．１〜１０ｍＪ／ショットの照射強度、１〜１０μｓｅｃの照射時間で照射してセル空間を消失形成する工程（ａ）
を含む。
〔電子表示面〕
多数の表示セルの集まりによって目的の表示がなされ、表示セルの表示状態が電気的に変更できる機能を有する電子装置あるいは電子装置に組み込まれる部品あるいは媒体（メディア）である。
【００１０】
特に、電気的に変更された表示セルの表示状態が、次に電気的な変更が加わるまで安定に維持されるものを対象とする。
具体的には、電子ペーパー、電子ボード、電子ディスプレイ、電子ブック、電子黒板、電子新聞などが包含される。
電子表示面は、表示セルを構成するセル層にセル空間を有するものであれば、その表示形式や形態、構造は、通常の電子表示面と同様のものに適用される。
〔セル層〕
セル層はセル空間を構成するための膜材料である。単体で独立したフィルムであってもよいし、別の基材の表面に塗工などの手段で膜形成されたものであってもよい。基本的には、通常の電子表示面と同様の技術が採用できる。
【００１１】
セル層となる膜材料の具体例として、ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂が挙げられる。電子ペーパーのように可撓性が要求される用途では、可撓性に優れた材料が好ましい。
セル層の厚みは、電子表示面の用途によっても異なるが、通常、５〜２００μｍに設定できる。好ましくは１０〜１００μｍである。
〔セル空間〕
セル層に設けるセル空間は、電気的に表示変更が可能な可変表示材を収容する。セル空間が小さいほど、微細な表示が可能であり、表示精度を向上させることができる。セル空間が大き過ぎると、電子表示面すなわちセル空間の姿勢が変わったときに、セル空間内での可変表示材の偏りや移行が生じて、表示品質が低下する。小さ過ぎるセル空間は製造が困難で生産性が悪くなり実用性に劣る。セル空間の大きさは内径１０〜５００μｍに設定できる。好ましくは内径５０〜５００μｍである。
【００１２】
セル空間は、セル層を貫通していてもよいし、セル層の片面から深さ方向の途中までで底のある形状であってもよい。
セル空間の水平断面形状は、一般的には円形であるが、円形以外にも、楕円形や長円形、矩形などの多角形その他の形状も採用できる。
セル空間は、深さ方向で同じ内径および水平断面形状であってもよいし、内径あるいは水平断面形状が違っている場合もある。例えば、上端と下端で内径が異なるテ−パ構造や段差構造が採用される。セル空間に底面がある場合、底面に凹凸や傾斜を設けることができる。
【００１３】
セル空間の配置は、縦横に整列して配置されていてもよいし、隣接する列でセル空間の位置がずれる千鳥状に配置されていてもよい。セル空間の水平断面形状に合わせて、隣接するセル空間の間に隙間が生じ難い配置を選択することができる。
隣接するセル空間同士を仕切る壁厚は、セル空間の形状やセル層の厚みなどの条件によっても異なるが、２０〜５５０μｍに設定できる。好ましくは、３０〜５５０μｍである。壁厚が狭過ぎると、セル層の強度が低下する。壁厚が広過ぎると、表示精度が粗くなる。
【００１４】
〔レーザ光の照射〕
基本的には、通常のレーザ加工技術が適用できる。セル層およびセル空間の材用構造および要求性能に適した加工条件が採用される。
レーザ光としては、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザなどが使用される。レーザ光の照射強度を、０．１〜１０ｍＪ／ショットに設定できる。好ましくは、０．３〜８ｍＪ／ショットである。照射時間は、一つのセル空間あたり１〜１０μｓｅｃに設定できる。好ましくは１〜５μｓｅｃである。適切な照射時間および照射強度に設定することで、セル層の材料を損傷したり劣化を起こさせたりすることなく、正確な形状のセル空間を、効率的に形成することができる。また、セル空間の端縁に、返りやバリ、欠け落ちなどが発生することも低減できる。
【００１５】
レーザ光のビーム形状は、セル空間の形状に合わせて設定できる。ビーム形状は同じでも、レーザ光を揺動走査したりパターン形状を埋めるように走査したりすることで、ビーム形状とは異なる形状のセル空間を形成することも可能である。レーザ光のビーム径は、セル空間の内径に合わせて設定できる。レーザ光は、実質的に同じ断面形状で進行する場合のほか、ビーム径が狭くなったり拡がったりするものであってもよい。レーザ光をレンズなどで集束させる場合、焦点位置と加工位置との関係によって、加工位置でのレーザ光の形状が変えられる。
〔バリ取り加工〕
前記したレーザ加工の条件が適切であれば、セル層のセル空間にはバリなどの問題は生じ難いが、バリが発生した場合には、セル空間の端縁からバリを除去するバリ取り加工を行うことができる。
【００１６】
バリ取り加工としては、通常のレーザ加工におけるバリ取り技術が適用できる。例えば、各種の湿式あるいは乾式の研磨加工が挙げられる。
レーザ加工後のセル層にバリ取り加工を施すことで、セル空間を封止する封止フィルムや封止層の形成工程で、セル空間の封止が良好に行える。
〔電子表示面の製造〕
前記したレーザ加工でセル空間が形成されたセル層を用いる以外は、通常の電子表示面の製造技術を適用することができる。
具体的には、セル層のセル空間に、電気的に表示変更できる可変表示材を充填する。その後、セル層のセル空間を封止して表示セルを形成する。
【００１７】
必要に応じて、セル層の両面に、電気的にアドレス指定して電圧を印加する電極層を配置することができる。
〔可変表示材〕
セル空間に封入され、電気的に表示が変えられる機能を有する。通常の電子表示面に利用されている可変表示材の材料、構造および組み合わせが採用できる。
例えば、液体に分散された電気泳動粒子がある。分散液中の電気泳動粒子は、電圧を印加されることによって、印加電圧の強さと極性に対応して何れかの電極側に移動する。
【００１８】
電気泳動粒子で可変表示材を構成するには、分散液に着色を施しておき、セル空間に封入された分散液の色が、電気泳動粒子の移動位置によって変化する現象を利用できる。電気泳動粒子の色や光反射が分散液中の位置で違って観察される現象も利用できる。
帯電極性が異なり色も違う複数種の電気泳動粒子の混合分散液も採用できる。電圧印加によって、何れかの電気泳動粒子が表面側に移動し、その色が強く表示されることになる。
球の半面づつを、白黒などの別々の色に着色し、極性を変えて帯電させた反転球を液中に浮遊させておく構造が採用できる。印加電圧の極性を変えることで、反転球の何れかの半球が表面を向き、その半球の色が表示される。
【００１９】
液晶の分散液も採用できる。電圧印加によって液晶の配向が変わり、光の透過あるいは反射が切り換えられることで、表示色を変えることができる。セル空間の底面側に着色層や反射層を設けておけば、これらの着色層あるいは反射層による表示状態が、液晶の配向を変えることで自由に制御できる。
〔セル層の封止〕
可変表示材が収容されたセル層のセル空間は、端面の開口を閉塞することで、可変表示材が漏れないように封止される。
セル空間の閉塞は、セル層にフィルムや箔などの膜材料を貼り付けることで達成できる。電子表示面を観察する側の面では、セル空間を閉塞する膜材料に透明材料を用いる。具体的には、ポリエステル樹脂などの樹脂フィルムが使用できる。可変表示材の表示を電気的に変更する電極層で、セル空間を閉塞することもできる。前記した電子表示面の観察側の面では、ＩＴＯなどの透明導電材料で電極層を形成することができる。
【００２０】
セル層に膜材料を貼り付ける手段として、接着剤による接合が利用できる。
セル空間を閉塞する膜材料の表面に、セル層を塗工形成したり薄膜形成したりしたあと、セル層のみにセル空間を空ければ、セル空間の片面側が閉塞された状態にできる。
〔電極層〕
通常の電子表示面に利用されている電極層の材料、配置構造および製造技術が適用できる。電気的にアドレス指定して電圧を印加できる構造が採用される。
電極層は、セル層にセル空間を形成したあとで、セル層と接合一体化させることもできるし、予め電極層とセル層とが一体化された積層材料のセル層にセル空間を形成することもできる。
【００２１】
電極層の材料には、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇなどの導体金属材料が使用できる。透明導体材料として、ＩＴＯなどが使用される。
〔電子表示面の用途〕
基本的には、セル空間を有するセル層で表示セルを構成する通常の電子表示面を利用する装置機器の用途であれば、好適に利用できる。
例えば、電子ペーパーがある。電子ペーパーは、可変表示材が封入されたセル空間を有するセル層のみで構成することもできるし、セル層の両面に電極層が積層された構造であってもよいし、さらに、セル層や電極層を支持したり保護したりする層が積層されていてもよい。このような積層構造の全体が、湾曲可能な可撓性を備えているようにしておく。電極層に加えて、電圧を印加する位置を制御するアドレス機能を果たす電子素子や電子回路、外部回路からの入力端子などを備えておくこともできる。
【００２２】
電子表示面を基板に積層配置するなどして、剛性ボード状の電子表示装置を構成することもできる。コンピュータやＴＶの画像情報を表示するディスプレイ装置を構成することもできる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
〔セル空間のレーザ加工〕
図１に示す実施形態は、電子表示面用のセル層にセル空間を貫通形成する工程を示す。
セル層となる膜材料１０は、例えば、厚み２５μｍのポリイミドフィルムが使用される。
図１（ａ）に示すように、フィルム１０に、炭酸ガスレーザなどのレーザ光Ｌを照射する。レーザ光Ｌの照射領域でフィルム１０が消失し、セル空間になる貫通孔１２が形成される。フィルム１０に対して位置を変えながら間欠的にレーザ光Ｌを照射することで、所定間隔をあけた状態で多数のセル空間１２が貫通形成されることになる。
【００２４】
図１（ｂ）に示すように、レーザ光Ｌのビーム断面形状が円形であれば、円形のセル空間１２が形成される。セル空間１２の配置は、セル空間１２が等間隔で並ぶ列が、交互にずれた形で並んでいる千鳥状配置になっている。
セル空間１２の設定例として、孔径１００μｍで、隣接するセル空間１２同士を仕切る壁厚１５０μｍが採用できる。
フィルム１０として連続帯状のものを順次走行させ、レーザ光Ｌの照射位置をフィルム１０の走行方向と直交する方向に往復走査しながら間欠的にレーザ光Ｌを照射すれば、セル空間１２の形成加工を能率的に行うことができる。
【００２５】
図１（ａ）では、セル空間１２の端縁にバリは生じていないが、バリが生じている場合は、バリ取り加工を行う。バリ取り加工装置として、株式会社石井表記製の「新型研磨機ＩＣＮ−７００」など、極薄物の研磨バリ取り加工に適した装置が使用できる。
〔電子ペーパー〕
図２に示す実施形態は、上記のようにして得られたフィルムすなわちセル空間１２を有するセル層１０を用いた、電子表示面の１種である電子ペーパーを示す。
【００２６】
セル層１０の下面には、電極層３２およびその支持層３４が配置されている。
支持層３４は、比較的に耐久性に優れた樹脂フィルムからなり、例えば、厚み１２５μｍのポリエステル樹脂フィルムが使用される。セル層１０の上面には、透明導電材料からなる電極層２２および透明保護層２４が配置されている。透明保護層２４は、比較的に耐久性に優れた透明樹脂材料からなり、例えば、厚み１２５μｍのポリエステル樹脂フィルムが使用される。
セル空間１２は、上下面を電極層３２、２２で塞がれた密封状態である。セル空間１２の内部には、可変表示材である電気泳動粒子４２の分散液４０が充填密封されている。分散液４０は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色何れかに着色されており、３色の組み合わせによって任意の色情報を表示することができる。具体的には、粒径０．３μｍの酸化チタンからなる電気泳動粒子４２を、染料で着色された無極性溶媒液からなる分散液４０に分散させたものが使用できる。
【００２７】
電極層３２、２２は何れも、多数の線状をなす導体材料が間隔をあげて平行に配列されているとともに、上下の電極層３２、２２で配列方向が直交している。各電極層２２、３２の配置間隔は、セル空間１２の配置間隔に合わせることができる。具体的には、電極層３２として、厚み２００ｎｍのＩＴＯ膜が使用され、電極層２２にも厚み２００ｎｍのＩＴＯ膜が使用できる。
上下で特定の１本の電極層３２、２２に電圧を印加すると、その交差点のセル空間１２に電圧が印加され、印加された電圧値に対応して、電気泳動粒子４２が何れかの電極層３２、２２のほうに移動する。図２の白矢印方向から観察すると、上方の電極層２２側に電気泳動粒子４２が移動しているセル空間１２では、分散液４０の着色が電気泳動粒子４２で隠蔽され、色が薄く見える。電気泳動粒子４２が電極層３２側に移動していれば、分散液４０全体の着色が表れて濃い色が表示される。印加電圧の強さによって、電気泳動粒子４２はセル空間１２の上端から下端までの任意の位置に移動させることができる。また、印加電圧がなくなっても、一旦移動した電気泳動粒子４２の移動位置は維持される。
【００２８】
電圧を印加する電極層２２、３２の位置（アドレス）を変えて、全ての位置に電圧を印加すれば、セル層１０の全体で各セル空間１２の表示を設定あるいは変更できる。Ｒ、Ｇ、Ｂの３色のセル空間１２で、各色の強さを適宜に設定すれば、任意の色を表示することができる。セル層１０の全体で、任意のカラー画像を表示することができる。
〔加工材料の変更例〕
図３に示す実施形態は、セル層１０に電極層３２などが積層された積層材料にレーザ加工でセル空間１２を形成する。
【００２９】
セル層１０の片面には電極層３２および支持層３４が積層されている。セル層１０の反対面には接着剤層１６が塗工されている。
このような積層材料に、前記と同様にして、レーザ光Ｌを照射する。レーザ光Ｌは、接着剤層１６およびセル層１０を消失させるが、金属からなる電極層３２は消失しない。
その結果、形成されたセル空間１２は、底面側が電極層３２および支持層３４で塞がれた状態になる。この状態で直ぐに、可変表示材となる着色液４０および電気泳動粒子４２のセル空間１２への注入作業が行え、作業性が良い。
【００３０】
セル空間１２を除くセル層１０の表面には接着剤層１６が存在するので、その上に電極層２２および保護層２４を積層する作業も容易になる。セル空間１２を貫通形成したあとでセル層１０に接着剤を塗工すると、接着剤の一部がセル空間１２の内部にはみ出す心配があるが、この実施形態では、そのような心配が解消できる。
レーザ光Ｌの照射強度や焦点位置などを調整することで、セル層１０のみを消失させて、電極層３２には悪影響を与えないようにすることができる。また、必要であれば、電極層３２の表面の一部までをレーザ光Ｌで消失させることも可能である。
【００３１】
図４に示す実施形態は、セル層となるフィルム１０に対して底のあるセル空間１２を形成する。
フィルム１０に照射するレーザ光Ｌの強さや焦点位置を調整することで、レーザ光Ｌによる消失領域がフィルム１０の底まで到達せずに途中で止まる。
このようにして形成された有底状のセル空間１２では、電極層３２や支持層３４を積層する前に、セル空間１２に可変表示材４０を充填する作業が行える。
図４では、セル空間１２の底部形状が平坦面になっているが、レーザ光Ｌの強度分布を変えたり、レーザ光Ｌを水平方向に揺動させたりすることで、セル空間１２の底部形状を円錐形や段差状にすることもできる。
【００３２】
〔可変表示材の別例〕
図５に示す実施形態の電子ペーパーは、前記実施形態と可変表示材の形態が異なる。
セル空間１２には、色と帯電状態が異なる２種の電気泳動粒子４２ａ、４２ｂの分散液４０が封入されている。例えば、電気泳動粒子４２ａは、白色で正に帯電し、電気泳動粒子４２ｂは黒色で負に帯電している。分散液４０は、特に着色されていない。
前記同様に、電極層３２、２２に電圧を印加すると、印加電圧の正負によって、電極層３２、２２には何れか一方の電気泳動粒子４２ａ、４２ｂが集まる。
【００３３】
図５の白矢印方向から観察すると、あるセル空間１２では、黒色の電気泳動粒子４２ｂが見え、別のセル空間１２では、白色の電気泳動粒子４２ａが見える。セル層１０の全体では、黒点と白点とが所定のパターンで配置された白黒画像が表示される。
上記実施形態の電子ペーパーは、文字情報や線情報のような白黒２値の集まりで情報を表示させる用途に有効である。
図６に示す実施形態の電子ペーパーは、可変表示材に液晶を利用する。
セル空間１２には、液晶４４の分散液４０が封入されている。セル空間１２の下面側の電極層３２にも、上面側の電極層２２と同じような透明導電材料が使用されている。さらに、透明な支持層３４の下側に、上面が光反射性を有する反射層３６を有する。
【００３４】
電極層２２、３２に印加する電圧の極性によって、セル空間１２内の液晶４４は、配向が切り換えられる。例えば、液晶４４が全て直立状態になったり、水平に寝た状態になったりする。
図６の白矢印方向から観察する。太陽光や照明などの光ｒが電子ペーパーに当たる。光ｒがセル空間１２を通過するときに、液晶４４が直立しているところでは、光ｒはそのまま通過して、透明な電極層３２、支持層３４も通過し、反射層３６で反射し、電子ペーパーの表面に戻って、観察される。例えば、反射層３６が着色されていれば、その色が観察される。反射層３６が黒色であれば、黒色が観察されるか反射光が無くなる。液晶４４が寝ているセル空間１２では、光ｒはセル空間１２の液晶４４で反射されて、電子ペーパーの表面に戻る。液晶４４での反射は、着色のない白色として観察されることになる。
【００３５】
液晶４４の配向状態によって、電子ペーパーの表面側で捉えられる反射光ｒの通過経路が異なる。反射光ｒの色や強さが違ってくる。セル空間１２毎の反射光ｒの色や強さの違いによって、セル層１０の全体に文字や画像を表示することができる。
【００３６】
【発明の効果】
本発明にかかる電子表示面用セル層の製造方法は、セル層となる膜材料に、特定条件のレーザ光を照射してセル空間を消失形成することにより、電子表示面を構成するのに適した寸法形状で高精度のセル空間を効率的に作製することができる。
その結果、電子ペーパーなどの電子表示面を能率的に製造することが可能になり、表示品質の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態を表すセル空間の形成工程を示す断面図（ａ）および平面図（ｂ）
【図２】電子ペーパーの断面図
【図３】別の加工例を示す断面図
【図４】別の加工例を示す断面図
【図５】電子ペーパーの別例を示す断面図
【図６】電子ペーパーの別例を示す断面図
【符号の説明】
１０    セル層
１２    セル空間
２２、３２    電極層
２４    保護層
３４    支持層
４０    可変表示材液
４２    電気泳動粒子
Ｌ      レーザ光
【図１】
2004279833.tif 000003
【図２】
2004279833.tif 000004
【図３】
2004279833.tif 000005
【図４】
2004279833.tif 000006
【図５】
2004279833.tif 000007
【図６】
2004279833.tif 000008