(57)【要約】【課題】光ディスクの初期化のための照射スポットを大きくしても、エネルギー密度を大きく保ち、光ディスクを短時間でムラ無く初期化する。【解決手段】第１光学装置１２は、第１レーザ光源２１から放射された長尺状の第１レーザ光束Ｌ１を光ディスクＤＫに照射する。第２光学装置２２は、第２レーザ光源２１から放射された長尺状の第２レーザ光束Ｌ２を光ディスクＤＫに照射する。第１レーザ光束Ｌ１の光軸に対して第２レーザ光束Ｌ２の光軸を傾けて、第１レーザ光束Ｌ１による照射領域と第２レーザ光束Ｌ２による照射領域を重ねる。偏光ビームスプリッタまたはダイクロイックミラーを用いて、第１レーザ光束Ｌ１による照射領域と第２レーザ光束Ｌ２による照射領域を重ねるようにしてもよい。【選択図】  図１
2004348780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１光源から放射された第１光束を光ディスクに照射する第１光学装置と、
第２光源から放射された第２光束を光ディスクに照射する第２光学装置とを備え、
前記第１光束による照射領域と前記第２光束による照射領域を重ねるようにしたことを特徴とする光ディスクの初期化装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光ディスクの初期化装置において、
前記第１光束の光軸に対して前記第２光束の光軸を傾けて、前記第１光束による照射領域と前記第２光束による照射領域を重ねるようにしたことを特徴とする光ディスクの初期化装置。
【請求項３】
請求項１に記載の光ディスクの初期化装置において、
前記第１光束の偏光方向と前記第２光束の偏光方向とが互いに直交するようにしておき、
前記第１および第２光束を入射させて、前記第１および第２光束のうちのいずれか一方の光束を透過させるとともに他方の光束を反射させる偏光ビームスプリッタを前記第１光学装置内に設けて、前記第１光束による照射領域と前記第２光束による照射領域を重ねるようにしたことを特徴とする光ディスクの初期化装置。
【請求項４】
請求項３に記載の光ディスクの初期化装置において、
第３光源から放射されるとともに前記第１および第２光束と異なる波長を有する第３光束を光ディスクに照射する第３光学装置をさらに設け、
前記偏光ビームスプリッタによって第１および第２光束を重ねた重畳光束と前記第３光束とを入射させ、かつ前記重畳光束および前記第３光束のうちのいずれか一方の光束を透過させるとともに他方の光束を反射させて、前記第３光束を前記重畳光束に重ねるダイクロイックミラーを前記第１光学装置または第３光学装置内に設けたことを特徴とする光ディスクの初期化装置。
【請求項５】
請求項１に記載の光ディスクの初期化装置において、
前記第１光束の波長と前記第２光束の波長とを互いに異ならせておき、
前記第１および第２光束を入射させて、前記第１および第２光束のうちのいずれか一方の光束を透過させるとともに他方の光束を反射させるダイクロイックミラーを前記第１光学装置内に設けて、前記第１光束による照射領域と前記第２光束による照射領域を重ねるようにしたことを特徴とする光ディスクの初期化装置。
【請求項６】
請求項５に記載の光ディスクの初期化装置において、
第３光源から放射されるとともに前記第１および第２光束と直交する偏光方向を有する第３光束を光ディスクに照射する第３光学装置をさらに設け、
前記ダイクロイックミラーによって第１および第２光束を重ねた重畳光束と前記第３光束とを入射させ、かつ前記重畳光束および前記第３光束のうちのいずれか一方の光束を透過させるとともに他方の光束を反射させて、前記第３光束を前記重畳光束に重ねる偏光ビームスプリッタを前記第１光学装置または第３光学装置内に設けたことを特徴とする光ディスクの初期化装置。
【請求項７】
第１光源から放射された第１光束を光ディスクに照射する第１光学装置と、
第２光源から放射された第２光束を光ディスクに照射するものであって、同第２光束の光軸を前記第１光束の光軸に対して傾けて前記第１光束による照射領域と重なるようにした第２光学装置と、
第３光源から放射されるとともに前記第１光束と直交する偏光方向を有する第３光束を光ディスクに照射する第３光学装置とを備えるとともに、
前記第１および第３光束を入射させ、かつ前記第１および第３光束のうちのいずれか一方の光束を透過させるとともに他方の光束を反射させて、前記第３光束を第１光束に重ねる偏光ビームスプリッタを前記第１光学装置内に設けたことを特徴とする光ディスクの初期化装置。
【請求項８】
第１光源から放射された第１光束を光ディスクに照射する第１光学装置と、
第２光源から放射された第２光束を光ディスクに照射するものであって、同第２光束の光軸を前記第１光束の光軸に対して傾けて前記第１光束による照射領域と重なるようにした第２光学装置と、
第３光源から放射されるとともに前記第１光束と異なる波長を有する第３光束を光ディスクに照射する第３光学装置とを備えるとともに、
前記第１および第３光束を入射させ、かつ前記第１および第３光束のうちのいずれか一方の光束を透過させるとともに他方の光束を反射させて、前記第３光束を第１光束に重ねるダイクロイックミラーを前記第１光学装置内に設けたことを特徴とする光ディスクの初期化装置。
【請求項９】
前記光ディスクにおける照射領域は長尺状である請求項１ないし８のうちのいずれか１つに記載の光ディスクの初期化装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＡＭなどの相変化型の記録層を備えた光ディスクの初期化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術およびその欠点】
従来から、光ディスクの初期化時間の短縮のために、複数トラックに跨る長尺状の照射スポットを光ディスク上に形成して、光ディスクを初期化することは知られている（特許文献１）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来装置のように、複数トラックに跨る長尺状の照射スポットを用いると、照射スポットにおけるエネルギー密度が低下するので、照射スポットの面積をあまり大きくできない。また、照射スポットの面積を大きくすると、光ディスクの記録面の初期化にムラが生じる。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−４０２４３号公報
【０００５】
【発明の概要】
本発明は、上記問題に対処するためになされたもので、その目的は、光ディスクの初期化のための照射スポットを大きくしても、照射スポットのエネルギー密度を大きく保ち、光ディスクを短時間でムラ無く初期化できる光ディスクの初期化装置を提供することにある。
【０００６】
本発明の特徴は、第１光源から放射された第１光束を光ディスクに照射する第１光学装置と、第２光源から放射された第２光束を光ディスクに照射する第２光学装置とを備え、第１光束による照射領域と第２光束による照射領域を重ねるようにしたことにある。この場合、光ディスクにおける照射領域は、例えば長尺状である。
【０００７】
また、第１光束による照射領域と第２光束による照射領域を重ねる具体例としては、例えば、第１光束の光軸に対して第２光束の光軸を傾けるようにするとよい。また、第１光束の偏光方向と第２光束の偏光方向とが互いに直交するようにしておき、第１および第２光束を入射させて、第１および第２光束のうちのいずれか一方の光束を透過させるとともに他方の光束を反射させる偏光ビームスプリッタを第１光学装置内に設けるようにしてもよい。また、第１光束の波長と第２光束の波長とを互いに異ならせておき、第１および第２光束を入射させて、第１および第２光束のうちのいずれか一方の光束を透過させるとともに他方の光束を反射させるダイクロイックミラーを第１光学装置内に設けてもよい。さらに、前記光軸を傾けること、偏光ビームスプリッタを設けること、およびダイクロイックミラーを設けることのうちのいずれか２つまたは３つを適宜組み合わせて、３つ以上の光源からの光束を重ねるようにしてもよい。
【０００８】
本発明によれば、光ディスクにおける照射領域には複数の光束が重ね合わされるので、照射領域におけるエネルギー密度を高くすることができる。したがって、光ディスクにおける照射領域の面積を大きくしても、光ディスクをムラ無くかつ短時間で初期化できるようになる。
【０００９】
【実施の形態】
ａ．第１実施形態
以下、本発明の第１実施形態に係る光ディスクの初期化装置について図面を用いて説明すると、図１は同実施形態に係る光ディスクの初期化装置の概略図である。
【００１０】
この初期化装置は、第１および第２レーザ光源１１，２１と、第１および第２光学装置１２，２２とを備えている。第１および第２レーザ光源１１，２１は、レーザ光の光軸に対して直交する方向に１列に配置された複数の半導体レーザ素子からなる半導体レーザアレイで構成されていて、第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２をそれぞれ放射する。
【００１１】
第１および第２光学装置１２，２２は、複数のシリンドリカルレンズの組み合わせ、またはシリンドリカルレンズに代えまたは加えた絞り、回折格子、球面レンズなどを含んでそれぞれ構成されている。これらの第１および第２光学装置１２，２２は、第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２を光ディスクＤＫに導くとともに前記複数の半導体レーザ素子の配列方向と平行な線状にそれぞれ集光させて、光ディスクＤＫ上に長尺状のレーザスポットＳＰを形成する。また、第１および第２光学装置１２，２２は、光ディスクＤＫに照射される第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２の光軸を左右に傾けるように配置されており、第１レーザ光束Ｌ１によるレーザスポットＳＰと第２レーザ光束Ｌ２によるレーザスポットＳＰとを光ディスクＤＫの同一位置に重ねて形成するように配置されている。
【００１２】
このレーザスポットＳＰは、図１１に示すように、複数のトラックを跨るように、長手方向を光ディスクＤＫの径方向にして長尺状の楕円形状に形成される。この長尺楕円形状のレーザスポットＳＰは、例えばその長軸Ｌ１を１ｍｍ〜２０ｍｍとし、その短軸Ｌ２を５μｍ〜１００μｍ程度に設定されている。この場合、光ディスクＤＫを回転させた状態で、光ディスクＤＫを第１レーザ光源１１、第２レーザ光源２１、第１光学装置１２および第２光学装置２２に対して径方向に移動し、または第１レーザ光源１１、第１光学装置１２、第２レーザ光源２１および第２光学装置２２を光ディスクＤＫの径方向に移動して、光ディスクＤＫを相変化させて初期化する。
【００１３】
また、第１および第２レーザ光源１１，２１と、第１および第２光学装置１２，２２とをそれぞれ幅方向に延ばし、図１２に示すように、レーザスポットＳＰの長尺方向の長さがさらに長く、例えば光ディスクの直径を越えるようにしてもよい。例えば、長軸Ｌ１を４０ｍｍ〜４００ｍｍとし、その短軸Ｌ２を０．２ｍｍ以下としてもよい。この場合、光ディスクＤＫを回転させない状態で、光ディスクＤＫを、第１レーザ光源１１、第１光学装置１２、第２レーザ光源２１および第２光学装置２２に対して図示左右方向に移動し、または第１レーザ光源１１、第１光学装置１２、第２レーザ光源２１および第２光学装置２２を光ディスクＤＫに対して図示左右方向に移動して、光ディスクＤＫを相変化させて初期化する。
【００１４】
この第１実施形態によれば、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰには第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２が重ね合わされるので、レーザスポットＳＰにおけるエネルギー密度を高くすることができる。したがって、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰの面積を大きくしても、光ディスクＤＫをムラ無くかつ短時間で初期化できるようになる。
【００１５】
なお、上記第１実施形態においては、第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２のみを光ディスクＤＫ上で重ねるようにしたが、さらに多くのレーザ光束を光ディスクＤＫ上で重ねるようにしてもよい。例えば、図２に示すように、第１および第２レーザ光源１１，２１と同様に構成した第３レーザ光源３１を用意するとともに、第１および第２光学装置１２，２２と同様に構成した第３光学装置３２を設けるとよい。そして、第３光学装置３２は、光ディスクＤＫに照射される第３レーザ光束Ｌ３の光軸を第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２の光軸に対して傾けるように配置されており、第３レーザ光束Ｌ３によるレーザスポットＳＰを、第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２によるレーザスポットＳＰと光ディスクＤＫの同一位置に重ねて形成するように配置されている。
【００１６】
この変形例によれば、レーザスポットＳＰにおけるエネルギー密度をさらに高くすることができ、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰの面積をさらに大きくしても、光ディスクＤＫをムラ無くかつ短時間で初期化できるようになる。
【００１７】
ｂ．第２実施形態
次に、本発明の第２実施形態に係る光ディスクの初期化装置について説明する。この初期化装置は、図３に示すように、第１光学装置１２内に１／２波長板１１３および偏光ビームスプリッタ１４を備えているとともに、第２光学装置２２内にミラー２３を備えている。偏光ビームスプリッタ１４には、１／２波長板１３を介した第１レーザ光束Ｌ１が入射するとともに、ミラー２３にて反射された第２レーザ光束Ｌ２が入射する。この場合、第１レーザ光源１１はＳ偏光されたレーザ光束を放射し、放射されたレーザ光束は１／２波長板１３を通過することによりＰ偏光された第１レーザ光束Ｌ１になる。第２レーザ光源２１は、Ｓ偏光された第２レーザ光束Ｌ２、すなわち第１レーザ光束Ｌ１とは直交する偏光方向を有する第２レーザ光束Ｌ２を放射する。したがって、偏光ビームスプリッタ１４は、第１レーザ光束Ｌ１を透過させるとともに第２レーザ光束Ｌ２を反射させて、第２レーザ光束Ｌ２を第１レーザ光束Ｌ１に重ねる。他の構成は上記第１実施形態と同じである。
【００１８】
このような第２実施形態によっても、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰには第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２が重ね合わされるので、上記第１実施形態と同様な効果を期待できる。
【００１９】
ｃ．第３実施形態
次に、本発明の第３実施形態に係る光ディスクの初期化装置について説明する。この初期化装置は、図４に示すように、第１光学装置１２内にダイクロイックミラー１５を備えている。ダイクロイックミラー１５には、第１レーザ光束Ｌ１が入射するとともに、ミラー２３にて反射された第２レーザ光束Ｌ２が入射する。この場合、第１レーザ光源１１は、ダイクロイックミラー１５を透過する程度に長い波長λ１を有する第１レーザ光束Ｌ１を放射する。第２レーザ光源２１は、ダイクロイックミラー１５で反射する程度に短い波長λ２（λ２＜λ１）を有する第２レーザ光束Ｌ２を放射する。したがって、ダイクロイックミラー１５は、第１レーザ光束Ｌ１を透過させるとともに第２レーザ光束Ｌ２を反射させて、第２レーザ光束Ｌ２を第１レーザ光束Ｌ１に重ねる。他の構成は第２実施形態と同じである。
【００２０】
このような第３実施形態によっても、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰには第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２が重ね合わされるので、上記第１実施形態と同様な効果を期待できる。
【００２１】
ｄ．第４実施形態
次に、本発明の第４実施形態に係る光ディスクの初期化装置について説明する。この初期化装置は、図５に示すように、第１光学装置１２内に上記第２および第３実施形態で説明した１／２波長板１３、偏光ビームスプリッタ１４およびダイクロイックミラー１５を備えている。第２光学装置２２は、上記第２および第３実施形態と同様に構成されている。この場合、第１レーザ光源１１は、Ｓ偏光されるとともにダイクロイックミラー１５を透過する程度に長い波長λ１を有するレーザ光束を放射し、放射されたレーザ光束は１／２波長板１３を通過することによりＰ偏光された第１レーザ光束Ｌ１になる。第２レーザ光源２１は、Ｓ偏光されるとともにダイクロイックミラー１５で透過する程度に長い波長λ１を有する第２レーザ光束Ｌ２を放射する。したがって、第１レーザ光源１１から放射され偏光方向を９０度変化させられた第１レーザ光束Ｌ１は、偏光ビームスプリッタ１４およびダイクロイックミラー１５を透過して、光ディスクＤＫ上にレーザスポットＳＰを形成する。第２レーザ光源２１から放射された第２レーザ光束Ｌ２は、ミラー２３および偏光ビームスプリッタ１４で反射され、ダイクロイックミラー１５を透過して、前記第１レーザ光束Ｌ１によるレーザスポットＳＰと重なるレーザスポットＳＰを光ディスクＤＫ上に形成する。
【００２２】
また、この第４実施形態においては、さらに、第３レーザ光源４１、第３光学装置４２、第４レーザ光源５１および第４光学装置５２も備えている。第３レーザ光源４１は、Ｓ偏光されるとともに、ダイクロイックミラー１５で反射する程度に短い波長λ２を有するレーザ光束を放射し、放射されたレーザ光束は後述する１／２波長板４３を通過することによりＰ偏光された第３レーザ光束Ｌ４になる。第４レーザ光源５１は、Ｓ偏光されるとともに、ダイクロイックミラー１５で反射する程度に短い波長λ２を有する第４レーザ光束Ｌ５を放射する。
【００２３】
第３光学装置４２は、前記第１光学装置１２とほぼ同様に構成されており、１／２波長板１５と同様な１／２波長板４３と、偏光ビームスプリッタ１４と同様な偏光ビームスプリッタ４４を備えている。また、第３光学装置４２は、ダイクロイックミラー１５に代えて単なるミラー４５を備えている。第４光学装置５２は、前記第２光学装置２２とほぼ同様に構成されており、ミラー２３と同様なミラー５３を備えている。
【００２４】
そして、第３レーザ光源４１から放射され偏光方向を９０度変化させられた第３レーザ光束Ｌ４は、偏光ビームスプリッタ４４を透過し、ミラー４５およびダイクロイックミラー１５で反射されて、前記第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２によるレーザスポットＳＰと重なるレーザスポットＳＰを光ディスクＤＫ上に形成する。第４レーザ光源５１から放射された第４レーザ光束Ｌ５は、ミラー５３、偏光ビームスプリッタ４４、ミラー４５およびダイクロイックミラー１５で反射されて、前記第１〜第３レーザ光束Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４によるレーザスポットＳＰと重なるレーザスポットＳＰを光ディスクＤＫ上に形成する。
【００２５】
このような第４実施形態によれば、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰには第１〜第４レーザ光束Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４，Ｌ５が重ね合わされるので、レーザスポットＳＰにおけるエネルギー密度をより高くすることができる。したがって、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰの面積をさらに大きくしても、光ディスクＤＫをムラ無くかつ短時間で初期化できるようになる。
【００２６】
ｅ．第５実施形態
次に、本発明の第５実施形態に係る光ディスクの初期化装置について説明する。この初期化装置は、図６に示すように、第１光学装置１２内に前記第４実施形態で説明した１／２波長板１３を備えているとともに、同第４実施形態で説明した偏光ビームスプリッタ１４およびダイクロイックミラー１５を、それらの位置関係を代えて備えている。この場合、ダイクロイックミラー１５は、第２光学装置２２のミラー２３からの第２レーザ光束Ｌ２を入射させる。第２光学装置２２は、前記第４実施形態に加えて１／２波長板２４を備えている。第３光学装置４２は、前記第４実施形態の偏光ビームスプリッタ４４に代えてダイクロイックミラー４６を備えており、１／２波長板４３が除かれている。ダイクロイックミラー４６は、第４光学装置５２内のミラー５３からの第４レーザ光束Ｌ５を入射させる。
【００２７】
この場合、第１レーザ光源１１は、Ｓ偏光されるとともにダイクロイックミラー１５を透過する程度に長い波長λ１を有するレーザ光束を放射し、放射されたレーザ光束は１／２波長板１３を通過することによりＰ偏光された第１レーザ光束Ｌ１になる。第２レーザ光源２１は、Ｓ偏光されるとともにダイクロイックミラー１５で反射する程度に短い波長λ２を有するレーザ光束を放射し、放射されたレーザ光束は１／２波長板２４を通過することによりＰ偏光された第２レーザ光束Ｌ２になる。第３レーザ光源４１は、Ｓ偏光されるとともにダイクロイックミラー４６を透過する程度に長い波長λ１を有する第３レーザ光束Ｌ４を放射する。第４レーザ光源５１は、Ｓ偏光されるとともにダイクロイックミラー４６で反射する程度に短い波長λ２を有する第４レーザ光束Ｌ５を放射する。
【００２８】
したがって、第１レーザ光源１１から放射され偏光方向を９０度変化させられた第１レーザ光束Ｌ１は、ダイクロイックミラー１５および偏光ビームスプリッタ１４を透過して、光ディスクＤＫ上にレーザスポットＳＰを形成する。第２レーザ光源２１から放射され偏光方向を９０度変化させられた第２レーザ光束Ｌ２は、ミラー２３およびダイクロイックミラー１５で反射され、偏光ビームスプリッタ１４を透過して、前記第１レーザ光束Ｌ１によるレーザスポットＳＰと重なるレーザスポットＳＰを光ディスクＤＫ上に形成する。第３レーザ光源４１から放射された第３レーザ光束Ｌ４は、ダイクロイックミラー４６を透過し、ミラー４５および偏光ビームスプリッタ１４で反射されて、前記第１および第２レーザ光束Ｌ１，Ｌ２によるレーザスポットＳＰと重なるレーザスポットＳＰを光ディスクＤＫ上に形成する。第４レーザ光源５１から放射された第４レーザ光束Ｌ５は、ミラー５３、ダイクロイックミラー４６、ミラー４５および偏光ビームスプリッタ１４で反射されて、前記第１〜第３レーザ光束Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４によるレーザスポットＳＰと重なるレーザスポットＳＰを光ディスクＤＫ上に形成する。
【００２９】
このような第５実施形態によっても、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰには第１〜第４レーザ光束Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４，Ｌ５が重ね合わされるので、上記第４実施形態と同様な効果を期待できる。
【００３０】
ｆ．第６実施形態
次に、本発明の第６実施形態に係る光ディスクの初期化装置について説明する。この初期化装置は、図７に示すように、図３の第２実施形態に係る光ディスクの初期化装置とそれぞれ同一に構成した第１レーザ光照射装置１００および第２レーザ光照射装置２００を備えている。そして、第１レーザ光照射装置１００から光ディスクＤＫに照射されるレーザ光束Ｌ１の光軸に対して、第２レーザ光照射装置２００から光ディスクＤＫに照射されるレーザ光束Ｌ１の光軸を傾けて、光ディスクＤＫ上に第１および第２レーザ光照射装置１００によるレーザ光束Ｌ１，Ｌ１が重ねて照射されるようにしている。
【００３１】
また、この第６実施形態においては、次のようにも変形できる。すなわち、図８に示すように、第１レーザ光照射装置１００および第２レーザ光照射装置２００を、図４の第３実施形態に係る光ディスクの初期化装置とそれぞれ同一に構成するようにしてもよい。また、図９に示すように、第１レーザ光照射装置１００および第２レーザ光照射装置２００を、図５の第４実施形態に係る光ディスクの初期化装置とそれぞれ同一に構成するようにしてもよい。さらに、図１０に示すように、第１レーザ光照射装置１００および第２レーザ光照射装置２００を、図６の第５実施形態に係る光ディスクの初期化装置とそれぞれ同一に構成するようにしてもよい。
【００３２】
これらの第６実施形態およびその変形例によれば、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰに重ね合わされるレーザ光束がより増加するので、レーザスポットＳＰにおけるエネルギー密度をより高くすることができる。したがって、光ディスクＤＫにおけるレーザスポットＳＰの面積をさらに大きくしても、光ディスクＤＫをムラ無くかつ短時間で初期化できるようになる。
【００３３】
また、前記第６実施形態およびその変形例に係る光ディスクの初期化装置においては、第１および第２レーザ光照射装置１００，２００に対して、さらに上記第２ないし第５実施形態に係る光ディスクの初期化装置を加えることもできる。この場合も、加えた初期化装置からのレーザ光束の光軸を、第１および第２レーザ光照射装置１００，２００からのレーザ光束Ｌ１，Ｌ１の光軸に対して傾け、加えた初期化装置からのレーザ光束を第１および第２レーザ光照射装置１００，２００からのレーザ光束Ｌ１，Ｌ１に重ねるようにする。
【００３４】
また、上記第２実施形態および第４ないし第６実施形態においては、レーザ光源１１，２１，４１，５１がＳ偏光されたレーザ光束を放射するようにした。しかし、これに代えて、前記各実施形態のレーザ光源１１，２１，４１，５１がＰ偏光されたレーザ光束を放射するように構成してもよい。この場合、前記各実施形態における光学装置１２，２２，４２内の１／２波長板１３，２４，４３をなくして、同各実施形態の１／２波長板を有さない光学装置１２，２２，４２，５２内に１／２波長板を設けるようにするとよい。
【００３５】
さらに、本発明の実施にあたっては、上記実施形態およびその変形例に限定されるものではなく、本発明の目的を逸脱しない限りにおいて種々の変形も可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図２】前記第１実施形態の変形例に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図３】本発明の第２実施形態に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図４】本発明の第３実施形態に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図５】本発明の第４実施形態に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図６】本発明の第５実施形態に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図７】本発明の第６実施形態に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図８】前記第６実施形態の変形例に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図９】前記第６実施形態の他の変形例に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図１０】前記第６実施形態のさらに他の変形例に係る光ディスクの初期化装置の全体概略図である。
【図１１】光ディスク上に形成されるレーザスポットの一例を示す平面図である。
【図１２】光ディスク上に形成されるレーザスポットの他の例を示す平面図である。
【符号の説明】
ＤＫ…光ディスク、ＳＰ…レーザスポット、Ｌ１〜Ｌ５…レーザ光束、１１，２１，３１，４１，５１…レーザ光源、１２，２２，３２，４２，５２…光学装置、１４，４４…偏光ビームスプリッタ、１３，２４，４３…１／２波長板、１５，４６…ダイクロイックミラー、２３，４５，５３…ミラー、１００…第１レーザ照射装置、２００…第２レーザ照射装置。
【図１】
2004348780.tif 000003
【図２】
2004348780.tif 000004
【図３】
2004348780.tif 000005
【図４】
2004348780.tif 000006
【図５】
2004348780.tif 000007
【図６】
2004348780.tif 000008
【図７】
2004348780.tif 000009
【図８】
2004348780.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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