(57)【要約】【課題】フォトリソグラフィにおいて酸素によって吸収される波長を含む放射が酸素によって吸収されないようにするために、レチクルとペリクルとの間のエアギャップ内の酸素をパージするための装置及び方法を提供することである。【解決手段】第１及び第２の向かい合った面を規定するフレーム２０６が設けられており、ペリクル１０８とレチクル１０４との間の光学ギャップ１１２を包囲するように、第１の向かい合った面３２０が、第１の開口を規定しておりかつペリクルと係合するように形成されており、第２の向かい合った面３２２が、第２の開口を規定しておりかつレチクルと係合するように形成されており、フレームの少なくとも１つの縁部が、該縁部を貫通した開口を有しており、フレームの少なくとも１つの縁部における開口を充填した多孔質焼結材料が設けられており、光学ギャップがパージされることができる。【選択図】図３
2004191986.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトリソグラフィシステムにおいてペリクルとレチクルとの間の光学ギャップを維持するための装置において、
第１及び第２の向かい合った面を規定するフレームが設けられており、ペリクルとレチクルとの間の光学ギャップを包囲するように、前記第１の向かい合った面が、第１の開口を規定しておりかつペリクルと係合するように形成されており、前記第２の向かい合った面が、第２の開口を規定しておりかつレチクルと係合するように形成されており、前記フレームの少なくとも１つの縁部が、該縁部を貫通した開口を有しており、
前記フレームの前記少なくとも１つの縁部における前記開口を充填した多孔質焼結材料が設けられており、光学ギャップがパージされることができることを特徴とする、フォトリソグラフィシステムにおいてペリクルとレチクルとの間の光学ギャップを維持するための装置。
【請求項２】
前記多孔質焼結材料が、前記フレームの前記少なくとも１つの縁部を通って前記光学ギャップに進入するガスをろ過する、請求項１記載の装置。
【請求項３】
パージガスを前記多孔質焼結材料を通って前記光学ギャップ内へ送入するためのガス供給インタフェースが設けられている、請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記パージガスを前記光学ギャップから排出させるための真空源インタフェースが設けられている、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記真空源インタフェースが、前記パージガスを前記光学ギャップから前記多孔質焼結材料を通って排出させる、請求項４記載の装置。
【請求項６】
パージガスを前記フレームを通って送入するガス供給インタフェースが設けられており、前記ガス供給インタフェースが、前記フレームの縁部に設けられた孔を有しており、該孔を通ってパージガスが前記光学ギャップへ進入する、請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記多孔質焼結材料が、鉄、銅、ニッケル及びチタンのうちの少なくとも１つを含む、請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記多孔質焼結材料がInvarである、請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記多孔質焼結材料が、前記フレームの前記少なくとも１つの縁部に設けられた前記開口内に位置決めされる少なくとも１つの挿入体の形式である、請求項１記載の装置。
【請求項１０】
前記フレームの前記少なくとも１つの縁部に設けられた前記開口が、矩形である、請求項１記載の装置。
【請求項１１】
フォトリソグラフィシステムにおいて、
ペリクルと、
該ペリクルと光学的に整合したレチクルと、
前記ペリクルと前記レチクルとの間のギャップを包囲するように前記ペリクルと前記レチクルとの間に配置されたフレームが設けられており、該フレームの少なくとも１つの縁部が、該縁部を貫通した開口を有しており、
前記フレームの前記少なくとも１つの縁部に設けられた前記開口を充填する多孔質焼結材料が設けられていることを特徴とする、フォトリソグラフィシステム。
【請求項１２】
パージガスを前記フレームを通って前記ギャップ内へ送入するために前記フレームに接続されたガス供給インタフェースが設けられている、請求項１１記載のシステム。
【請求項１３】
前記パージガスを前記ギャップから前記フレームを通って排出させるために前記フレームに接続された真空源インタフェースが設けられている、請求項１１記載のシステム。
【請求項１４】
前記多孔質材料が、鉄、銅、ニッケル及びチタンのうちの少なくとも１つを含む、請求項１１記載のシステム。
【請求項１５】
前記多孔質材料が、Invarである、請求項１４記載のシステム。
【請求項１６】
前記多孔質焼結材料が、前記フレームの前記少なくとも１つの縁部に設けられた前記開口内に位置決めされる少なくとも１つの矩形の挿入体の形式である、請求項１１記載のシステム。
【請求項１７】
前記フレームの前記少なくとも１つの縁部における前記開口が、矩形である、請求項１１記載のシステム。
【請求項１８】
フォトリソグラフィシステムにおけるペリクルとレチクルとの間のパージされるギャップを維持するための方法において、
（ａ）レチクルとペリクルとの間においてフレーム内にエアギャップを形成し、
（ｂ）フレームの少なくとも１つの縁部に設けられた開口内に多孔質焼結材料挿入体を位置決めし、
（ｃ）パージガスをエアギャップ内へフレームを通って送入する
ことを特徴とする、フォトリソグラフィシステムにおけるペリクルとレチクルとの間のパージされるギャップを維持するための方法。
【請求項１９】
前記ステップ（ａ）が、
（１）フレームの第１の開放面にペリクルを取付け、
（２）フレームの第２の開放面にレチクルを取付け、これにより、レチクルとペリクルとの間においてフレーム内にエアギャップを形成するステップを含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
（ｃ）フレームの少なくとも１つの縁部に設けられた開口内に位置決めされた多孔質焼結材料挿入体を用いて、フレームを通過させられるパージガスをろ過するステップを含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２１】
フォトリソグラフィシステムにおいて光学構造物の間の光学ギャップを維持するための装置において、
第１及び第２の向かい合った面を規定するフレームが設けられており、前記第１の向かい合った面が第１の開口を規定しており、前記第２の向かい合った面が第２の開口を規定しており、
前記第１の開口の周囲において前記第１の向かい合った面上に間隔を置いて配置されておりかつ、第１の光学構造物の面と係合するように構成された実質的に同一平面の面を有する複数の離間部材が設けられており、
前記第１の向かい合った面と第１の光学構造物の間の、前記第１の開口の周囲の空間をシールする接着剤が設けられており、
前記フレームが第１の光学構造物と第２の光学構造物との間の光学ギャップを包囲していることを特徴とする、フォトリソグラフィシステムにおいて光学構造物の間の光学ギャップを維持するための装置。
【請求項２２】
前記複数の離間部材が、前記フレームと一体的に形成されている、請求項２１記載の装置。
【請求項２３】
前記複数の離間部材が、前記フレームとは別個に形成されている、請求項２１記載の装置。
【請求項２４】
前記第１の光学構造物がレチクルであり、前記第２の光学構造物が、前記レチクルと光学的に整合したペリクルである、請求項２１記載の装置。
【請求項２５】
前記第１の光学構造物がペリクルであり、前記第２の光学構造物が、前記ペリクルと光学的に整合したレチクルである、請求項２１記載の装置。
【請求項２６】
前記第２の開口の周囲において前記第２の向かい合った面上に間隔を置いて配置されておりかつ、第２の光学構造物の面と係合するように形成された実質的に同一平面の面を有する第２の複数の離間部材が設けられており、
前記接着剤が、前記第２の向かい合った面と第２の光学構造物との間における、前記第２の開口の周囲の空間をシールするようになっている、請求項２１記載の装置。
【請求項２７】
前記フレームが、多孔質焼結材料を含む、請求項２１記載の装置。
【請求項２８】
前記多孔質焼結材料がInvarである、請求項２１記載の装置。
【請求項２９】
前記フレームが、少なくとも１つの金属から成っている、請求項２１記載の装置。
【請求項３０】
前記フレームが、ガラスから成っている、請求項２１記載の装置。
【請求項３１】
フォトリソグラフィシステムにおいて光学構造物の間の光学ギャップを維持するための装置において、
第１及び第２の向かい合った面を規定するフレームが設けられており、前記第１の向かい合った面が第１の開口を規定しており、前記第２の向かい合った面が第２の開口を規定しており、
前記第１の向かい合った面と第１の光学構造物との間の、前記第１の開口の周囲の空間をシールする接着剤が設けられており、該接着剤が、第１の光学構造物を前記第１の向かい合った面から実質的に均一の距離に維持するスペーサ材料を含んでおり、
前記フレームが、第１の光学構造物と第２の光学構造物との間において光学ギャップを包囲していることを特徴とする、フォトリソグラフィシステムにおいて光学構造物の間の光学ギャップを維持するための装置。
【請求項３２】
前記第１の光学構造物がレチクルであり、前記第２の光学構造物が、前記レチクルと光学的に整合したペリクルである、請求項３１記載の装置。
【請求項３３】
前記第１の光学構造物がペリクルであり、前記第２の光学構造物が、前記ペリクルと光学的に整合したレチクルである、請求項３１記載の装置。
【請求項３４】
前記接着剤が、前記第２の向かい合った面と第２の光学構造物との間の、前記第２の開口の周囲の空間をシールしており、前記接着剤の前記スペーサ材料が、第２の光学構造物を前記第２の向かい合った面から実質的に均一な距離に維持している、請求項３１記載の装置。
【請求項３５】
前記フレームが、多孔質焼結材料から成っている、請求項３１記載の装置。
【請求項３６】
前記多孔質焼結材料がInvarである、請求項３１記載の装置。
【請求項３７】
前記フレームが、少なくとも１つの金属から成っている、請求項３１記載の装置。
【請求項３８】
前記フレームが、ガラスから成っている、請求項３１記載の装置。
【請求項３９】
前記スペーサ材料が、複数の球状のスペーサを含む、請求項３１記載の装置。
【請求項４０】
前記スペーサ材料が、複数の立方体形状のスペーサを含む、請求項３１記載の装置。
【請求項４１】
フォトリソグラフィシステムにおいて、
放射を発射する照明源が設けられており、前記放射が少なくとも１つの光波長を有しており、
レチクルが設けられており、
前記放射を前記照明源からレチクルへ案内する源部光学系が設けられており、
第１及び第２の向かい合った面を規定したフレームが設けられており、前記第１の向かい合った面が第１の開口を規定しており、前記第２の向かい合った面が第２の開口を規定しており、
前記第１の開口の周囲において前記第１の向かい合った面上に間隔を置いて配置されておりかつ、前記レチクルの面と係合するように形成された実質的に同一平面の面を有する複数の離間部材が設けられており、
前記第１の向かい合った面と前記レチクルとの間の、前記第１の開口の周囲の空間をシールする接着剤が設けられており、
前記フレームの前記第２の向かい合った面に結合されたペリクルが設けられており、
投影光学系が設けられており、
前記フレームが、前記レチクルと前記ペリクルとの間において光学ギャップを包囲しており、
前記放射の少なくとも一部が、前記レチクルと、前記光学ギャップと、前記ペリクルとを通過するようになっており、
前記投影光学系が、前記放射の前記少なくとも一部を前記ペリクルからウェハの面へ案内するようになっていることを特徴とする、フォトリソグラフィシステム。
【請求項４２】
前記複数の離間部材が、前記フレームと一体的に形成されている、請求項４１記載の装置。
【請求項４３】
前記複数の離間部材が、前記フレームとは別個に形成されている、請求項４１記載の装置。
【請求項４４】
前記第２の開口の周囲において前記第２の向かい合った面上に間隔を置いて配置されておりかつ、前記ペリクルの面と係合するように形成された実質的に同一平面の面を有する第２の複数の離間部材が設けられており、
前記接着剤が、前記第２の向かい合った面と前記ペリクルとの間の、前記第２の開口の周囲の空間をシールしている、請求項４１記載の装置。
【請求項４５】
前記第２の複数の離間部材が、前記フレームと一体的に形成されている、請求項４４記載の装置。
【請求項４６】
前記第２の複数の離間部材が、前記フレームとは別個に形成されている、請求項４４記載の装置。
【請求項４７】
フォトリソグラフィシステムにおいて、
放射を発射する照明源が設けられており、前記放射が少なくとも１つの光波長を含んでおり、
レチクルが設けられており、
前記放射を前記照明源から前記レチクルへ案内する源部光学系が設けられており、
第１及び第２の向かい合った面を規定するフレームが設けられており、前記第１の向かい合った面が第１の開口を規定しており、前記第２の向かい合った面が第２の開口を規定しており、
前記第１の向かい合った面と前記レチクルとの間における、前記第１の開口の周囲の空間をシールする接着剤が設けられており、該接着剤が、レチクルを前記第１の向かい合った面から実質的に均一な距離に維持するスペーサ材料を含んでおり、
前記フレームの前記第２の向かい合った面に結合されたペリクルが設けられており、
投影光学系が設けられており、
前記フレームが、前記レチクルと前記ペリクルとの間において光学ギャップを包囲しており、
前記放射の少なくとも一部が、前記レチクルと、前記光学ギャップと、前記ペリクルとを通過するようになっており、
前記投影光学系が、前記放射の前記少なくとも一部を前記ペリクルからウェハの表面へ案内するようになっていることを特徴とする、フォトリソグラフィシステム。
【請求項４８】
前記接着剤が、前記第２の向かい合った面と前記ペリクルとの間の、前記第２の開口の周囲の空間をシールしており、前記接着剤の前記スペーサ材料が、ペリクルを前記第２の向かい合った面から実質的に均一の距離に維持している、請求項４７記載の装置。
【請求項４９】
前記スペーサ材料が、複数の球状のスペーサを含む、請求項４７記載の装置。
【請求項５０】
前記スペーサ材料が、複数の立方体形状のスペーサを含む、請求項４７記載の装置。
【請求項５１】
フォトリソグラフィシステムにおいて光学構造物の間に光学ギャップを形成するための方法において、
（ａ）第１及び第２の向かい合った面を規定するフレームを提供し、第１の向かい合った面が第１の開口を規定しており、第２の向かい合った面が第２の開口を規定しており、
（ｂ）第１の光学構造物をフレームの第１の向かい合った面におけるスペーサ構造物に接着し、
フレームが、第１の光学構造物と第２の光学構造物との間において光学ギャップを包囲していることを特徴とする、フォトリソグラフィシステムにおいて光学構造物の間に光学ギャップを形成するための方法。
【請求項５２】
前記ステップ（ｂ）が、第１の向かい合った面と第１の光学構造物との間の、第１の開口の周囲の空間をシールするために接着剤を塗布することを含む、請求項５１記載の方法。
【請求項５３】
前記スペーサ構造物が複数の離間部材を含んでおり、
（ｃ）第１の開口の周囲に間隔を置いて配置されるように、複数の離間部材を第１の向かい合った面に取り付けることを含み、取り付けられた複数の離間部材が、第１の光学構造物の面と係合するように形成された実質的に同一平面の面を有している、請求項５１記載の方法。
【請求項５４】
前記ステップ（ｂ）が、第１の光学構造物の面を、複数の離間部材の実質的に同一平面の面と係合させることを含む、請求項５３記載の方法。
【請求項５５】
前記スペーサ構造物が、接着剤に含まれたスペーサ材料であり、前記ステップ（ｂ）が、
第１の開口の周囲において第１の向かい合った面上に接着剤を塗布することを含む、請求項５１記載の方法。
【請求項５６】
前記ステップ（ｂ）が、
接着剤が第１の光学構造物を第１の向かい合った面に接着させるように、第１の光学構造物を第１の向かい合った面に取り付けることを含み、スペーサ材料が、第１の光学構造物を第１の向かい合った面から実質的に均一の距離に維持する、請求項５５記載の方法。
【請求項５７】
（ｃ）フレームの第２の向かい合った面上における第２のスペーサ構造物に第２の光学構造物を接着することを含む、請求項５１記載の方法。
【請求項５８】
前記ステップ（ｃ）が、第２の向かい合った面と第２の光学構造物との間における第２の開口の周囲の空間をシールするために接着剤を塗布することを含む、請求項５７記載の方法。
【請求項５９】
第２のスペーサ構造物が、第２の複数の離間部材を含んでおり、
（ｄ）第２の複数の離間部材を、第２の開口の周囲に間隔を置いて配置されるように第２の向かい合った面に取り付けることを含み、取り付けられた第２の複数の離間部材が、第２の光学構造物の面と係合するように構成された実質的に同一平面の面を有している、請求項５７記載の方法。
【請求項６０】
前記ステップ（ｃ）が、第２の光学構造物の面を、第２の複数の離間部材の実質的に同一平面の面と係合させることを含む、請求項５９記載の方法。
【請求項６１】
前記第２のスペーサ構造物が、接着剤に含まれたスペーサ材料であり、前記ステップ（ｃ）が、第２の開口の周囲において第２の向かい合った面に接着剤を塗布することを含む、請求項５７記載の方法。
【請求項６２】
前記ステップ（ｃ）が、接着剤が第２の光学構造物を第２の向かい合った面に接着させるように、第２の光学構造物を第２の向かい合った面に取り付けることを含み、スペーサが、第２の光学構造物を第２の向かい合った面から実質的に均一の距離に維持する、請求項５１記載の方法。
【請求項６３】
第１の光学構造物がペリクルであり、第２の光学構造物がレチクルであり、前記ステップ（ｂ）が、ペリクルを第１の向かい合った面に接着することを含む、請求項５１記載の方法。
【請求項６４】
第１の光学構造物がレチクルであり、第２の光学構造物がペリクルであり、前記ステップ（ｂ）が、レチクルを第１の向かい合った面に接着することを含む、請求項５１記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概してフォトリソグラフィシステム、特にフォトリソグラフィシステムにおけるペリクル及びレチクルフレームに関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路の製造においてフォトリソグラフィ及び投影印刷技術が使用される。フォトリソグラフィにおいて、レチクルに含まれた画像が、感光性レジストを有するウェハ上に投射される。所望の画像をシリコンウェハ上に転移させるために、レチクル又はマスクが使用される。半導体ウェハの表面は、その上に画像がエッチングされるように、感光性レジストでコーティングされている。ペリクルは、レチクル表面を損傷から保護するためにレチクルと共に使用されてよい。ペリクルは、従来、中実のフレームにおいてレチクルに取り付けられる。
【０００３】
フォトリソグラフィにおいて使用される光の幾つかの波長は、大気中の酸素による吸収に対して敏感である。したがって、フォトリソグラフィにおいてこのような酸素に敏感な光の波長が使用される場合、これらの波長は、酸素パージされた雰囲気中を伝達されなければならない。
【０００４】
フォトリソグラフィシステムは通常クリーンルーム環境に配置されている。幾つかの状況において、クリーンルームの周囲雰囲気は酸素がパージされることができない。なぜならば、このことはフォトリソグラフィに関するその他の問題を生じるからである。例えば、リソグラフィシステムにおいて使用されるレーザ干渉計は、空気の屈折のインデックスの変化に対して敏感であり、これは酸素のない雰囲気への変化と共に生じる。これにより、酸素のない環境は、リソグラフィシステム全体よりも少なく制限される。必要なものは、酸素含有環境における高い吸収率を有する光波長のための伝達媒体である。
【０００５】
ペリクルは、概して、対応するレチクルに向き合ってフレームに取り付けられている。したがって、レチクルとペリクルとの間にはエアギャップが存在する。必要なものは、酸素含有環境における高い吸収率を有する光波長のための、レチクル対ペリクルエアギャップを通る伝達媒体である。
【０００６】
さらに、ペリクル及び／又はレチクルは、フレームに取り付けられた場合歪められる可能性があり、これはフォトリソグラフィプロセスに不都合な影響を与える。つまり、必要なものは、フレームに取り付けられた場合にペリクル及び／又はレチクルにおける歪みを低減又は排除する方法である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、本発明の課題は、フォトリソグラフィにおいて酸素によって吸収される波長を含む放射が酸素によって吸収されないようにするために、レチクルとペリクルとの間のエアギャップ内の酸素をパージするための装置及び方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、パージされたペリクル対レチクルギャップを備えたレチクルのための方法及び装置に関する。本発明は、実質的に酸素のない、パージガス環境をペリクル対レチクルギャップ内に維持する。パージガス環境は、パージされない環境において高い吸収率を有する光波長のための伝達媒体を提供する。
【０００９】
有利な実施形態において、本発明はフォトリソグラフィシステムに適用される。レチクルとペリクルとの間の多孔質フレームは、レチクルとペリクルとの間にギャップ又は空間を形成する。多孔質フレームは、多孔質フレームを通ってギャップに進入する周囲空気を受動的にろ過し、実質的に粒子のないギャップを形成する。重要なレチクル面上に粒子が堆積し、半導体ウェハ面に投影されるレチクル画像の質を低下させないことを保証するために、特定の保護が必要とされる。これは、リソグラフィプロセスにおけるレチクルの貯蔵及びレチクルの使用中の保護を含む。
【００１０】
受動的又は静的な多孔質フレームは、外部周囲空気雰囲気と、レチクル対ペリクルギャップ内の圧力を標準化するために働く。この標準化作用は、大気圧によるレチクル及び／又はペリクルの歪みを有効に低減又は排除する。
【００１１】
多孔質フレームは、第１の開口を備えた第１の向かい合った面を有している。第１の向かい合った面は、ペリクルと係合するように構成されている。多孔質フレームは、第２の開口を備えた第２の向かい合った面を有している。第２の向かい合った面は、ペリクルとレチクルとの間の光学ギャップを取り囲むために、レチクルと係合するように構成されている。
【００１２】
パージされたレチクル対ペリクルギャップは、ギャップに、酸素を含まないパージガスを充填することによって形成されている。ギャップにおけるパージガスは、パージガスを連続的に注入することによって動的に維持される。
【００１３】
動的な多孔質フレームは、パージガス供給源に接続されていてよい。パージガス供給源は、パージガスを、多孔質フレームを介してレチクルとペリクルとの間のギャップに送入し、多孔質フレーム内のギャップにパージガス流を形成する。
【００１４】
ガスを多孔質フレームを介してレチクル対ペリクルギャップ環境から除去し、さらにレチクルに連続的なガス流を提供するために、真空源が動的多孔質フレームに接続されていてよい。
【００１５】
動的多孔質フレームのギャップにおけるパージガス流は、レチクル又はペリクルの歪みを低減又は排除するために、外部の周囲圧力と平衡させられてよい。
【００１６】
本発明の多孔質フレームは、その他の光学環境を含むその他の環境に適用可能である。典型的な択一的な光学環境において、多孔質フレームは、あらゆる光学源部面とあらゆる光学目標面との間のパージされた光学経路を提供することができる。光学源部面と光学目標面とは、当業者に知られるあらゆる適切な光学面であってよい。
【００１７】
本発明の別の態様において、フレームは第１及び第２の向かい合った面を形成している。第１の向かい合った面は第１の開口を規定しており、ペリクルと係合するように構成されている。第２の向かい合った面は第２の開口を規定しており、ペリクルとレチクルとの間の光学ギャップを取り囲むためにレチクルと係合するように構成されている。フレームの少なくとも１つの縁部は、貫通した開口を有している。多孔質の焼結された材料等の多孔質ろ過材料が、フレーム縁部を貫通した各開口を充填している。
【００１８】
本発明のさらに別の態様において、フォトリソグラフィシステムにおける光学構造の間の光学ギャップが維持される。フレームは第１及び第２の向かい合った面を規定する。第１の向かい合った面は第１の開口を規定し、第２の向かい合った面は第２の開口を規定する。複数の離間部材は、第１の開口の周囲に第１の向かい合った面上に間隔を置いて配置されている。離間部材は、第１の光学構造の面と係合するように構成された実質的に同一平面の面を有している。接着剤は、第１の向かい合った面と第１の光学構造との間における第１の開口の周囲の空間をシールする。これによりフレームは、第１の光学構造と第２の光学構造との間の光学ギャップを包囲する。
【００１９】
本発明の１つの態様において、複数の離間部材はフレームと一体的に形成されている。本発明の別の態様において、複数の離間部材はフレームとは別個に形成されている。
【００２０】
本発明の別の態様において、第２の複数の離間部材が、第２の開口の周囲に第２の向かい合った面上に間隔を置いて配置されている。第２の複数の離間部材は、第２の光学構造の面と係合するように構成された、実質的に同一平面の面を有している。接着剤は、第２の向かい合った面と第２の光学的構造との間における第２の開口の周囲の空間をシールする。
【００２１】
本発明の別の態様において、第１及び第２の光学構造のうちの一方はレチクルであり、他方はペリクルである。レチクルとペリクルとは光学的整合状態にある。
【００２２】
本発明のさらに別の態様では、フォトリソグラフィシステムにおける光学構造の間に光学ギャップが維持されている。フレームは、第１及び第２の向かい合った面を規定する。第１の向かい合った面は第１の開口を規定し、第２の向かい合った面は第２の開口を規定する。ボンディング剤は、第１の向かい合った面と第１の光学構造との間における第１の開口の周囲の空間をシールする。接着剤は、第１の光学構造を第１の向かい合った面から実質的に均一な距離に維持するスペーサ材料を含む。したがって、フレームは、第１の光学構造と第２の光学構造との間において光学ギャップを取り囲む。
【００２３】
本発明の別の実施形態、特徴及び利点と、本発明の様々な実施形態の構造及び動作とは、添付の図面を参照に以下に詳細に説明される。
【００２４】
図面中、同一の参照符号は概して同一の、機能的に類似の及び／又は構造的に類似のエレメントを表す。エレメントが最初に示された図面は、対応する参照符号の左の数字によって表されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下に本発明を添付の図面を参照に説明する。図面中、同一の参照符号は同一の又は機能的に類似のエレメントを表している。付加的に、参照符号の左側の数字は、その参照符号が最小に示されている図面を表している。
【００２６】
本発明をより明らかに示すために、明細書中、以下の用語の定義にできるだけ一貫して固執するための努力がなされる。
【００２７】
“周囲空気”は、通常の大気等の酸素含有雰囲気を意味する。例えば“周囲空気”は、酸素含有クリーンルーム雰囲気若しくは環境における空気を意味してよい。
【００２８】
“パージガス”は、酸素又はその他の望ましくないガスを含有しないガスを意味し、パージエアギャップ若しくは空間を充填するために使用される。
【００２９】
図１は、慣用のフォトリソグラフィシステム１００の関連する部分を示している。慣用のフォトリソグラフィシステム１００は、周囲空気若しくはガス環境に配置されている。慣用のフォトリソグラフィシステムの幾つかの部分、例えば源部光学系、投影光学系等は、簡略化のために図１には示されていない。
【００３０】
慣用のフォトリソグラフィシステム１００は、照明源１０２と、レチクル１０４と、フレーム１０６と、ペリクル１０８と、半導体ウェハ１１０とを含んでいる。
【００３１】
照明源１０２は、半導体ウェハ１１０の表面にレチクル１０４上のパターンを露光するための放射源を含んでいる。
【００３２】
レチクル１０４は、照明源１０２からの放射によって半導体ウェハ１１０の表面に転移されるパターンを備えたマスクを有している。
【００３３】
フレーム１０６は慣用的な中実フレームであり、この中実フレームにはレチクル及びペリクルが取り付けられている。フレーム１０６はエアギャップ１１２を有している。エアギャップ１１２はフレーム１０６内においてレチクル１０４とペリクル１０８との間に形成されている。
【００３４】
ペリクル１０８は、レチクル１０４を粒子による損傷から保護するためのクリアなカバーである。
【００３５】
半導体ウェハ１１０は、照明源１０２からの放射によってレチクルから１０４のパターンが露光及びエッチングされる表面を備えた半導体ウェハである。
【００３６】
照明源１０２は放射１１４を生ぜしめる。放射１１４は、レチクル１０４と、フレーム１０６と、エアギャップ１１２と、ペリクル１０８とを通って半導体ウェハ１１０の表面へ伝達される。放射１１４が、酸素によって吸収される光波長を有している場合、エアギャップ１１２内の酸素は、少なくともこれらの波長の一部を吸収し、十分な量の放射１１４が半導体ウェハ１１０の表面に到達することを潜在的に妨げる。この吸収により、レチクル１０４のパターンを半導体ウェハ１１０の表面に転移させる放射量が不十分となり、半導体ウェハ生産量が減じられる。
【００３７】
図２は、本発明の実施形態による典型的なフォトリソグラフィシステム２００を示している。フォトリソグラフィシステム２００は、周囲空気環境に配置されている。フォトリソグラフィシステム２００は、酸素に対して敏感な光波長の伝達のために、レチクルとペリクルとの間にパージガス環境を保持している。
【００３８】
フォトリソグラフィシステム２００は、照明源２０２と、レチクル１０４と、多孔質フレーム２０６と、ペリクル１０８と、半導体ウェハ１１０とを含む。
【００３９】
照明源２０２は、半導体ウェハ１１０の表面を露光するための放射源を有している。照明源２０２は、レーザを含む、半導体ウェハの表面を露光するのに適したあらゆる適用可能な放射源を含んでいてよい。照明源２０２は放射２１４を発射する。放射２１４は、レーザ光を含む、あらゆるタイプの適切な放射を含んでいてよい。放射２１４は、半導体ウェハを露光及びエッチングするのに適した、酸素に敏感な光波長を含んでいてよい。このような光波長は、例えば１５７ｎｍの光波長を含んでいてよい。
【００４０】
レチクル１０８は放射２１４を受け取る。レチクル１０４は、照明源２０２からの放射２１４によって半導体ウェハ１１０の表面に転移されるパターンを備えたマスクを含む。
【００４１】
多孔質フレーム２０６は、レチクル１０８を通過させられた放射２１４を受け取る。レチクル１０８は多孔質フレーム２０６に取り付けられている。多孔質フレーム２０６は、ガスを流過させるが、汚染粒子の通過を妨害する多孔質材料を含む。
【００４２】
ペリクル１０８は、多孔質フレーム２０６を通過させられた放射２１４を受け取る。ペリクル１０８は多孔質フレーム２０６に取り付けられている。レチクル１０４は、ペリクル１０８と光学的に整合させられている。
【００４３】
放射２１４は、レチクル１０４と、多孔質フレーム２０６と、パージエアギャップ１１２と、ペリクル１０８とを通って半導体ウェハ１１０へ伝達される。半導体ウェハ１１０は放射２１４を受け取る。半導体ウェハ１１０は、照明源２０２によって発射される放射２１４によってレチクル１０４のパターンが露光及びエッチングされる表面を有する。
【００４４】
多孔質フレーム２０６はエアギャップ１１２を包囲している。エアギャップ１１２は、多孔質フレーム２０６内においてレチクル１０４とペリクル１０８との間に形成されている。エアギャップ１１２は、酸素を含有しない、ひいては放射２１４の酸素に敏感な波長を妨害しない、窒素等のパージガスで充填されている。多孔質フレーム２０６はさらに、汚染粒子がエアギャップ１１２に進入してレチクル１０４を損傷するのを防止する。多孔質フレーム２０６は、多孔質フレーム２０６によって包囲されたエアギャップ１１２からガスが多孔質フレーム２０６の外部へ通過することができるように、十分な間隙率を有している。
【００４５】
多孔質フレーム２０６は、静的モードにおいてガスを流入及び流出させるので、多孔質フレーム２０６はエアギャップ１１２内の圧力を大気圧と標準化させ、レチクル１０４及び／又はペリクル１０８に対する歪みを排除する。
【００４６】
リソグラフィシステム２００は、照明源２０２からの放射２１４のためのパージガス光学経路を提供する。したがって、照明源２０２は、酸素吸収により生じる著しい減衰を生じることなく、酸素に敏感な光波長を発射する。
【００４７】
本発明のパージされたペリクル対レチクルギャップを備えたレチクルは、例としてフォトリソグラフィ環境において上に説明されている。本発明は、このような環境に限定されず、付加的なフォトリソグラフィ環境及び非フォトリソグラフィ環境に適用可能である。実施例は、本明細書において例示の目的で示されており、限定のためではない。択一例（本明細書に記載された実施例の均等物、延長、変更、逸脱等を含む）は、本明細書に含まれた開示に基づき当業者に明らかとなるであろう。このような択一例は、本発明の範囲及び思想に含まれる。
【００４８】
以下に本発明によるパージされたペリクル対レチクルギャップを備えたレチクルのための典型的な実施形態を説明する。これらの実施形態は限定のためではなく例示のために本明細書に記載されている。本発明は、パージされたペリクル対レチクルギャップを備えたレチクルを必要とするあらゆる用途に適応可能である。
【００４９】
図３は、本発明の実施形態による、典型的なパージされるペリクル対レチクルギャップシステム３００の分解図を示している。パージされるペリクル対レチクルギャップシステム３００は、レチクル１０４と、多孔質フレーム２０６と、ペリクル１０８と、エアギャップ１１２と、パージガス供給インタフェース３１６と、真空源インタフェース３１８とを含む。
【００５０】
多孔質フレーム２０６は、第１の開放面３２０と、（多孔質フレーム２０６の、第１の開放面３２０とは反対側に配置されており、図３には示されていない）第２の開放面３２２とを有している。第１の開放面３２０及び第２の開放面３２２は実質的に互いに平行である。多孔質フレーム２０６は多孔質ろ過材料から成っている。多孔質フレーム２０６の多孔質ろ過材料は、ガスの通過を許容するが、粒子の通過を防止する。これらの粒子は、空気内の粒子、塵芥、フォトリソグラフィプロセスから生じる粒子、及びその他の源部から生じる粒子を含んでよい。有利な実施形態において、多孔質フレーム２０６は実質的に矩形である。択一的な実施形態において、多孔質フレーム２０６は、円形、楕円形及び不規則形状等のその他の形状を含んでいてよい。
【００５１】
有利な実施形態において、多孔質フレーム２０６は１つ又は２つ以上の金属から製造されている。例えば、多孔質フレーム２０６は、鉄、銅、青銅、ニッケル、チタン、又はその他の金属、又はそれらの金属のあらゆる組み合わせ又は合金を含んでいてよい。多孔質フレーム２０６は、孔形成プロセスによって金属に形成された孔を含んでいる。例えば、多孔質フレーム２０６は、金属粉末粒子、又は焼結によって接点箇所において接合されたフィラメントから形成されていてよく、このことは、粒子又はフィラメントの間に孔の連続的な明確なネットワークを形成する。焼結技術は概して、融点よりも低い温度において、最初は別個の２つ以上の粒子を融合させ、これらの粒子の間に接触領域を成長させる。孔を形成するための他のプロセスも本発明の範囲に含まれる。間隙率若しくは孔寸法は、製造プロセスによって制御され、用途に応じて決定される。例えば、間隙率は、数ミクロン又は数分の一ミクロンで規定される。しかしながら、本発明はこれらの間隙率の値に制限されない。多数の販売者は、潜在的に、焼結及びその他の技術に従って製造された適切な多孔質金属を供給することができる。このような販売者は、ミシガン州オーバーンヒルズ所在のＧＫＮシンター・メタルズ（GKN Sinter Metals）及びカリフォルニア州ガーデナ所在のキャプスタン・パーマフロー（Capstan Permaflow）を含んでいる。
【００５２】
ペリクル１０８は多孔質フレーム２０６の第１の開放面３２０に結合されている。ペリクル１０８は、ガラス、膜、又は当業者に知られているようなその他の材料を含む。ペリクル１０８は、エアギャップ１１２が第１の開放面３２０において完全に閉鎖されるように第１の開放面３２０に取り付けられている又は固定されている。さらに、ペリクル１０８は、ペリクル１０８と第１の開放面３２０との境界面において実質的に気密のシールが形成されるように第１の開放面３２０に取り付けられている。ペリクル１０８及び第１の開放面３２０は、当業者によく知られている形式で取り付けられている。例えば、ペリクル１０８は第１の開放面３２０に接着されている。
【００５３】
レチクル１０４は、多孔質フレーム２０６の第２の開放面３２２に結合されている。レチクル１０４は、エアギャップ１１２が第２の開放面３２２において完全に閉鎖されるように第２の開放面３２２に取り付けられている又は固定されている。さらに、レチクル１０４は、レチクル１０４と第２の開放面３２２との境界面において実質的に気密のシールが形成されるように第２の開放面３２２に取り付けられている。レチクル１０４及び第２の開放面３２２は、当業者によく知られた形式で取り付けられている。
【００５４】
ペリクル１０８と、レチクル１０４と、多孔質フレーム２０６とは、実質的に気密のエアギャップ１１２を形成するために組み合わされ、ガスは多孔質フレーム２０６のみを通って流れる。有利な実施形態において、多孔質フレーム２０６の多孔質ろ過材料は、同時に汚染粒子の進入を妨害しながら、ガスの通過を許容することができる。
【００５５】
レチクル１０４及びペリクル１０８を備えた“呼吸可能”な多孔質フレーム２０６アセンブリは、静的なままであることが許容される（すなわち包囲する環境へ開放している）か、又は前記のような外部加圧パージガス源に接続されている。パージガス供給インタフェース３１６は、多孔質フレーム２０６をパージガス供給部に接続させている。パージガス供給インタフェース３１６は、多孔質フレーム２０６の第１のフレーム端面３２４に接続されている。パージガス供給インタフェース３１６は、有利にはパージガスをパージガス供給部から第１のフレーム端面３２４へ提供する。パージガスは、パージガス供給インタフェース３１６から間隙１１２内へ第１のフレーム端面３２４の孔を通って進入する。択一的な実施形態において、パージガス供給インタフェース３１６は、パージガスを多孔質フレーム２０６を通してエアギャップ１１２内へ提供するための、多孔質フレーム２０６に設けられた第１のポート、孔又は弁であってよい。
【００５６】
真空源インタフェース３１８は多孔質フレーム２０５を真空源に接続させている。真空源インタフェース３１８は多孔質フレーム２０６の第２のフレーム端面３２６に結合されている。図３に示したように、第２のフレーム端面３２６は、多孔質フレーム２０６の、第１のフレーム端面３２４とは反対側に配置されている（図３では見えなくなっている）。択一的な実施形態では、第２のフレーム端面３２６は、第１のフレーム端面３２４の反対側ではない多孔質フレーム２０６の側に配置されていてよい。真空源インタフェース３１８は有利には、パージガスをエアギャップ１１２から第２のフレーム端面３２６の孔を通って排出又は除去する。択一的な実施形態において、真空源インタフェース３１８は、パージガスをより直接にエアギャップ１１２から排出又は除去するための、多孔質フレームに設けられた第２のポート、孔又は弁である。
【００５７】
通常動作において、多孔質フレーム２０６は露出した外面、すなわち第１のフレーム端面３２４と、第２のフレーム端面３２６と、第３のフレーム端面３２８と、第４のフレーム端面３３０（第３のフレーム端面３２８とは反対側にあり、図３では見えなくなっている）。有利な実施形態において、多孔質フレーム２０６の全ての露出した外面は多孔質であり、ガスをエアギャップ１１２に進入させかつガスをエアギャップから退出させる。択一的な実施形態においては、第１のフレーム端面３２４及び第２のフレーム端面３２６のみが、多孔質の多孔質フレーム２０６の露出した外面である。このことは、本発明の動的な使用において特に有効であり、残りの露出した面がガスを漏洩させることなく、多孔質フレーム２０６が、第１のフレーム端面３２４及び第２のフレーム端面３２６においてパージガス源及び真空源に接続されることを許容する。
【００５８】
パージガスは、パージガス供給インタフェース３１６を介してアセンブリに進入し、真空源インタフェース３１８を介してアセンブリから排出され、エアギャップ１１２を通るパージガスの連続的な流れを形成する。エアギャップ１１２を通るパージガス流は、大気圧と等しくなるように平衡させられ、レチクル１０４及び／又はペリクル１０８に対する歪みを排除する。
【００５９】
本発明のパージされるペリクル対レチクルギャップを備えたレチクルの典型的な実施形態は上に示されている。本発明はこれらの実施例に限定されない。これらの実施例は、限定のためではなく例示のために本明細書に示されている。択一例（本明細書に記載された実施例の均等物、延長、変更、逸脱等を含む）が、本明細書に含まれた開示に基づき当業者に明らかとなるであろう。このような択一例は本発明の範囲及び思想に含まれる。
【００６０】
前記の構造及び／又は実施形態に関連した典型的な動作的及び／又は構造的実施がこのセクションにおいて示される。これらの構成部材及び方法は、限定のためではなく例示のためにここに示されている。本発明は、本明細書に記載された構成部材及び方法の特定の実施例に限定されない。択一例（本明細書に記載された実施例の均等物、延長、変更、逸脱等を含む）は、本明細書に含まれた開示に基づき当業者に明らかとなるであろう。このような択一例は本発明の範囲及び思想に含まれる。
【００６１】
図４は、本発明の典型的な実施形態の動作を示している。図４は、多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４０４と、パージガス供給部４１６と、真空源４１８とを示している。
【００６２】
有利な実施形態において、多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４００は、図３に示されたようなレチクル１０４，多孔質フレーム２０６及びペリクル１０８等の、レチクル、多孔質フレーム及びペリクルを有している。多孔質レチクル／ペリクルアセンブリ４００はさらにエアギャップ１１２を有している。
【００６３】
有利な実施形態において、多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４０４は、エアギャップ１１２において連続的なパージガス又は空気環境流れを許容しながら、レチクルのきわどい表面における機械的粒子制御を維持する。さらに、多孔質レチクル／ペリクルアセンブリ４００は、エアギャップ１１２内の圧力を標準化し、大気圧変化によるレチクル又はペリクルの歪みを効果的に排除する。
【００６４】
実施形態において、多孔質フレーム２０６の多孔質ろ過材料は、同時に粒子状汚染物の進入を阻止しながらガスの通過を許容することができる。この“呼吸可能な”多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４００は、静的なままである（すなわち包囲する環境に対して開放している）ことができる。静的な実施形態において、多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４００は、パージガス供給部４１６又は真空源４１８に接続されていない。実施例における周囲空気流路４２０のように、周囲空気が多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４００を通ってエアギャップ１１２に進入させられる。しかしながら、以下に説明する有利な実施形態においては、周囲空気がエアギャップ１１２に進入するのを防止するためにパージガスの連続的な流れがエアギャップ１１２内に噴射される。
【００６５】
多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４００は動的環境において動作してもよい。動的な実施形態においては、多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４００はパージガス供給部４１６に接続されている。パージガス供給部４１６は、パージガスを多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４００の多孔質フレームを通ってエアギャップ１１２に供給する。エアギャップ１１２に進入するパージガスは、送入されるパージガス流４２２として示されている。パージガス供給部４１６のための適切なガス供給システムはこの分野においてよく知られている。
【００６６】
さらに動的な実施形態において、多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４００は真空源４１８に接続されている。真空源４１８は、パージガス及び／又は周囲環境ガス（存在するならば）を、エアギャップ１１２から多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ４００の多孔質フレームを通って除去する。エアギャップ１１２から除去されるパージガスは、除去されるガス流４２４として示されている。真空源４１８として使用するための適切な真空システムはこの分野においてよく知られている。
【００６７】
本発明の例としての実施形態の詳細な作動ステップを示すフローチャートが提供されている。提供されたステップは、本明細書の記載に基づき当業者に明らかとなるように、必ずしも示された順序で行われる必要はない。その他の構造的及び動作的実施形態が、本明細書に含まれた記載に基づき当業者に明らかとなるであろう。
【００６８】
図５は、本発明の実施形態のための作動ステップを示すフローチャートを示している。図５に示されたプロセス５００は、ステップ５０２において開始する。ステップ５０２において、レチクルとペリクルとの間において多孔質フレーム内にエアギャップが形成される。ステップ５０４において、多孔質フレームを通ってエアギャップにパージガスが送入される。
【００６９】
図６は、図５のステップ５０２のための典型的な詳細な作動ステップを提供するフローチャートを示している。ステップ６０２において、ペリクルは多孔質フレームの第１の開放面に取り付けられる。ステップ６０４において、多孔質フレーム内においてレチクルとペリクルとの間にエアギャップを形成するために、レチクルが多孔質フレームの第２の開放面に取り付けられる。
【００７０】
図５のプロセス５００はさらに、送入されるパージガスが多孔質フレームによってろ過されるステップを含んでいる。
【００７１】
ステップ５０４は、パージガスが多孔質フレームの端面を通ってエアギャップに送入されるステップを含んでいる。
【００７２】
プロセス５００はさらに、パージガスがエアギャップから除去されるステップを含んでいる。このステップは、パージガスが多孔質フレームのフレーム端面を通ってエアギャップから除去されるステップを含んでいる。
【００７３】
プロセス５００はさらに、エアギャップ内のパージガス圧力が周囲環境空気圧と平衡させられるステップを含んでいる。
【００７４】
択一的な実施形態において、エアギャップ１１２内のパージガス圧力は、周囲環境空気圧を超えるように維持される。エアギャップ１１２内のパージガス圧力が周囲環境空気圧を超えるようにすることによって、実質的に酸素がパージされたエアギャップ１１２が維持される。パージガス供給部４１６はパージガスをエアギャップ１１２に送入する。パージガスは、エアギャップ１１２内のパージガス圧力が周囲環境空気圧を超え、これによりパージガスが多孔質フレーム２０６を通ってエアギャップ１１２から漏出するような速度で送入される。パージガスは、レチクル１０４及び／又はペリクル２０８への実質的な歪みを生じないように十分に低速で送入される。多孔質フレーム２０６を通ってエアギャップ１１２から漏出するパージガスは、周囲空気が多孔質フレーム２０６を通ってエアギャップ１１２に漏れ入る可能性を実質的に妨げる。この択一的な実施形態において、パージガスは多孔質フレーム２０６を通ってエアギャップ１１２から漏出するので、パージガスを除去するための真空源４１８は不要である。
【００７５】
本明細書の開示より当業者に知られるようになる上記プロセス及びステップに対する付加的なステップ又は改良も、本発明によって含まれている。
【００７６】
多孔質材料挿入体の実施形態
本発明の択一的な実施形態において、多孔質フレームは全体が多孔質ろ過材料から形成されているわけではない。例えば実施形態において、フレームの１つ又は２つ以上の区分が多孔質ろ過材料から形成されており、フレームの他の部分が中実な非多孔質の材料から形成されている。さらに、別の実施形態において、フレームは、１つ又は２つ以上の開口を有する中実材料から形成されており、これらの開口内に多孔質材料が配置されている。このような実施形態をさらにこのセクションにおいて説明する。
【００７７】
例えば、図７は、開口７０４を有する例としてのフレーム７００の縁部を示しており、開口内には多孔質材料が配置される。図７Ｂは、フレーム７００の開口７０４内に配置されるための、例としての多孔質材料挿入体７０２を示している。図７Ｃは、多孔質材料挿入体７０２が配置されたフレーム７００を示している。
【００７８】
１つ又は２つ以上の多孔質材料挿入体７０２を備えたフレーム７００は多数の利点を有する。例えば、フレーム７００は、鉄、銅、ニッケル、青銅、チタン等の金属、その他の金属、又はこれらの組み合わせ／合金を含む、多数の剛性材料から形成されることができる。例えば、フレーム７００は、Invar等の鉄−ニッケル合金又はその他の低膨張係数（ＣＴＥ）材料から形成されることができる。したがって、多孔質材料挿入体７０２を備えたフレーム７００は、完全に多孔質のフレームよりも構造的に剛性又は中実である。さらに、フレーム７００は、前記の完全に多孔質のフレームの機能を有する。
【００７９】
鉄、銅、青銅、ニッケル、チタン又はその他の金属、又はこれらの組み合わせ又は合金を含む、あらゆるタイプの多孔質ろ過材料を、多孔質材料挿入体７０２のために使用することができる。多孔質材料挿入体７０２は、例えば、前記のように、多孔質フレーム２０６と同様の形式で形成されることができる。多孔質フレーム２０６に関して前述したように、多孔質材料挿入体７０２は、孔形成プロセスによって卑金属に形成された孔を有している。例えば、多孔質材料挿入体７０２は、内部に孔を形成するために焼結によって形成されることができる。このような形式で形成された多孔質材料挿入体は、例えば“多孔質焼結材料挿入体”と呼ばれてよい。限定ではなく例として、多孔質材料挿入体７０２は、焼結されたInvarから形成されることができる。多孔質材料挿入体７０２を形成するためのその他の材料及びプロセスも、本発明の範囲に含まれる。
【００８０】
開口７０４は、フレーム７００と、レチクル１０４と、ペリクル１０８との内側のギャップと、外部雰囲気との間にガスを通過又は流過させる。多孔質フレーム２０６に関して前述したように、多孔質材料挿入体７０２はガスをろ過する。開口７０４は、あらゆる形状で、フレーム７００の縁部を貫通して形成されることができる。例えば、図７に示したように、開口７０２は実質的に矩形である。択一的に、開口７０２は、円形又は楕円形、又はその他のあらゆる形状に形成されることができる。多孔質材料挿入体７０２は、対応して同じ形状に形成されているので、開口内に配置されることができる。
【００８１】
多孔質材料挿入体７０２は、接着、押圧、締付け等を含む様々な方法で開口７０４に挿入され配置されることができる。多孔質材料挿入体７０２は、接着剤又はエポキシ樹脂等の接着材料を含む多数の固定又は取付け手段によって、又は１つ以上のボルト、釘及び／又はねじ、及び／又は同様のものによって、又は単にフレーム７００の締付け圧力によって、開口７０４内に固定されることができる。
【００８２】
あらゆる数の１つ以上の多孔質材料挿入体７０２が、あらゆる数のフレーム７００の縁部に配置されることができる。図８Ａ〜図８Ｄはそれぞれ、本発明の典型的な実施形態による、１つ又は２つ以上の多孔質材料挿入体７０２が配置された典型的なフレーム７００を示している。図８Ａは、第１の縁部８０２ａに配置されている１つの多孔質材料挿入体７０２を有するフレーム７００示している。前述のように、多孔質材料挿入体７０２は、エアギャップ１１２とフレーム７００の外部との間にガスを通過させる。
【００８３】
図８Ｂは、第１の縁部８０２ａにおける開口７０４ａに配置された第１の多孔質材料挿入体７０２ａと、第２の縁部８０２ｂにおける開口７０４ｂに配置された第２の多孔質材料挿入体７０２ｂとを有するフレーム７００を示している。このような実施形態は、図４に示されたパージガス供給部４１６及び真空源４１８等の、ガス供給部及び真空源と共に使用するために特に適用可能である。例えば、パージガス供給部４１６は開口７０４ａと接続するように構成されることができ、真空源４１８は開口７０４ｂと接続するように構成されることができる。インタフェースを形成するために、弁、チューブ、クランプ、シール及び公知のその他のインタフェース構成部材、又は本明細書の他のところに記載されたインタフェース部材を含むあらゆる適用可能なインタフェース手段を使用することができる。第１及び第２の多孔質材料挿入体７０２ａ及び７０２ｂはそれぞれ、エアギャップ１１２に進入するガス及びエアギャップから退出するガスをろ過する。
【００８４】
図８Ｃは、フレーム７００の第１の縁部８０２ａにおける個々の開口７０４ａ〜ｃに配置された第１、第２及び第３の多孔質材料挿入体７０２ａ〜ｃと、フレーム７００の第２の縁部８０２ｂにおける個々の開口７０４ｄ〜ｆに配置された第４、第５及び第６の多孔質材料挿入体７０２ｄ〜ｆとを有するフレーム７００を示している。実施形態において、ガス供給部は開口７０４ａ〜ｃと接続されることができるのに対し、真空源は開口７０４ｄ〜ｆと接続されることができる。
【００８５】
フレーム７００は、あらゆる数の縁部８０２に配置された多孔質材料挿入体７０２を有することができる。例えば、図８Ｄは、フレーム７００の第１の縁部８０２ａにおける個々の開口７０４ａ〜ｃに配置された第１、第２及び第３の多孔質材料挿入体７０２ａ〜ｃと、フレーム７００の第３の縁部８０２ｃにおける個々の開口７０４ｄ〜ｆに配置された第４、第５及び第６の多孔質材料挿入体７０２ｄ〜ｆと、フレーム７００の第２の縁部８０２ｂにおける開口７０４ｇに配置された第７の多孔質材料挿入体７０２ｇと、フレームの第４の縁部８０２ｄにおける開口７０４ｈに配置された第８の多孔質材料挿入体７０２ｈとを有するフレーム７００を示している。
【００８６】
択一的に、１つの開口７０４及び個々の多孔質材料挿入体７０２が、実質的にフレーム７００の縁部８０２の全長に亘って延びていることができる。さらに、実施形態において、複数の多孔質材料挿入体７０２が１つの開口７０４に配置されることができる。
【００８７】
図９Ａ〜９Ｄは、本発明の実施形態による、多孔質材料挿入体７０２を備えた別の例としてのフレーム７００の様々な図を示している。図９Ａは、フレーム７００の縁部を示しており、図９Ｂは、フレーム７００の側面図を示しており、図９Ｃはフレーム７００の断面図を示しており、図９Ｄはフレーム７００の縁部８０２ａの拡大断面図を示している。
【００８８】
図９Ｂに示したように、第１の縁部８０２ａは、この第１の縁部を貫通した個々の開口に配置された多孔質材料挿入体７０２ａ〜ｆを有している。第３の縁部８０２ｃは、この第３の縁部を貫通した個々の開口に配置された多孔質材料挿入体７０２ｇ〜ｌを有している。第２及び第４の縁部８０２ｂ及び８０２ｄには開口７０４が形成されていない。
【００８９】
図９Ｄに示したように、多孔質材料挿入体７０２ｄは実質的に開口７０４を充填している。多孔質材料挿入体７０２ｄは、深さ９０６を有する開口７０４を完全には充填していないが、開口７０４をシールするように実質的に開口７０４を充填しており、これにより、開口７０４を通過するガスは多孔質材料挿入体７０２ｄによってろ過される。実施形態において、多孔質材料挿入体７０２は、開口７０４を、深さ９０６までか、深さ９０６よりも浅くまでか、又は多孔質材料挿入体７０２ｄが開口７０４から突出するように深さ９０６よりも大きい範囲までを充填することができる。
【００９０】
光学構造物を取り付けるために突出したスペーサを使用するフレーム実施形態
本発明の別の択一的な実施形態において、レチクル及び／又はペリクルをフレームに取り付けるために、突出した“スペーサ”、“タブ”、“離間部材”及びその他の離間構造物タイプが使用される。このような離間構造物は、レチクル及び／又はペリクル（又はその他の光学構造物）のための別個の運動学的平面を形成する。このことは、レチクル又はペリクルがフレームに直接に接着されている構成と比較して、レチクル又はペリクルの歪みを低減する傾向がある。フレームとレチクル及び／又はペリクルとの間に離間構造物によって形成されたスペースを接着及びシールするために接着剤を使用することができる。しかしながら、フレームとレチクル及び／又はペリクルとの間の実際の機械的接触は、離間構造物のみによって行われる。本発明のこれらの実施形態をこのセクションにおいてさらに説明する。
【００９１】
例えば、図１０は、本発明の典型的な実施形態による、２つの光学構造物の間のフレーム１００２の側面図を示している。図１０の実施例において、光学構造物はそれぞれ複数の離間部材１０１０を介してフレーム１００２に取り付けられている。図１０に示された光学構造物はレチクル１０４とペリクル１０８とである。図２に関連したリソグラフィシステム２００に関して上述したものと同様に、光が通過することができる、レチクル１０４とペリクル１０８との間の実質的に粒子の存在しないエアギャップ（すなわち“光学ギャップ”）を維持するためにフレーム１００２が使用される。（択一的な実施形態では、フレーム１００２は、レチクル１０４及び／又はペリクル１０８以外の光学構造物の間に配置されることができる）。
【００９２】
図１０に示したように、フレーム１００２は対向した第１及び第２の面１０３２及び１０３４を有している。第１の面１０３２は第１の開口を有しており、第２の面１０３４は第２の開口を有している（何れの開口も図１０には示されていない）。フレーム１００２は、上述の多孔質フレーム２０６と同様の多孔質フレームであるか、上述のフレーム７００と同様の多孔質挿入体を備えたフレームであるか、本明細書のその他のところに記載された非多孔質又はその他のタイプ、又はその他の公知のタイプであることができる。実施形態において、フレーム１００２は、１つ又は２つ以上の金属、ガラス、ポリマ、Invar等の多孔質焼結材料、又は本明細書の他のところに記載された又は公知のその他の材料、又はそれらのあらゆる組み合わせであることができる。
【００９３】
本発明によれば、光学構造物をフレームに取り付けるために複数の離間部材１０１０が使用されている。例えば図１０に示したように、第１の複数の離間部材１０１０がフレーム１００２の第２の面１０３２上に間隔を置いて配置されており、離間部材１０１０ａ及び１０１０ｂとして示されている。第２の複数の離間部材１０１０は第２の面１０３４上に間隔を置いて配置されており、離間部材１０１０ｃ及び１０１０ｄとして示されている。図１０に示したように、離間部材１０１０ａ及び１０１０ｂは集合的にペリクル１０８のための別個の運動学的平面を形成しているのに対し、離間部材１０１０ｃ及び１０１０ｄは集合的にレチクル１０４のための別個の運動学的平面を形成している。離間部材１０１０ａ及び１０１０ｂは、ペリクル１０８の面と係合するように形成された、実質的に平坦で同一平面の面を有しており、離間部材１０１０ｃ及び１０１０ｄは、レチクル１０４の面と係合するように形成された実質的に平坦で同一平面の面を有している。実施形態において、離間部材１０１０ａ〜ｄの面は、レチクル１０４及びペリクル１０８の歪みを最小限に抑制するために、光学的仕様にフラットかつ同一平面に重ねられている。
【００９４】
離間部材１０１０は、フレーム１００２とレチクル１０４及び／又はペリクル１０８との間の分離を提供するために、必要に応じてあらゆる高さを有していることができる。図１０に示された離間部材１０１０と、フレーム１００２と、レチクル１０８と、ペリクル１０４との相対的な寸法は、例として提供されている。これらの構成部材の適切な寸法は、特定の用途に応じて当業者に知られるであろう。
【００９５】
実施形態において、離間部材１０１０はフレーム１００２と一体的に形成されることができる。択一的に、離間部材１０１０は、フレーム１００２とは別個に形成され、次いで接着剤によってフレーム１００２に取り付けられることができる。さらに、離間部材１０１０は様々な材料から形成されることができる。例えば、離間部材１０１０は、１つ又は２つ以上の金属、ポリマ、ガラス、その他の材料、又はこれらのあらゆる組み合わせから形成されることができる。離間部材１０１０は、フレーム１００２と同じ材料又は異なる材料から形成されることができる。
【００９６】
レチクル１０４及びペリクル１０８をフレーム１００２に接着するために接着剤が使用される。さらに、接着剤は、フレーム１００２とレチクル１０４との間の空間をシールし、フレーム１００２とペリクル１０８との間の空間をシールすることによって、フレーム１００２内のエアギャップを維持する。図１０に示したように、接着剤１０２０は、第１の面１０３２とペリクル１０８との間の空間をシールし、第２の面１０３４とレチクル１０４との間の空間をシールする。接着剤１０２０は、あらゆる種類の接着剤又は物質であることができ、レチクル／ペリクルをフレームに接着するために慣用的に使用されるものを含み、エポキシ樹脂又は本明細書の他の所に記載された又はその他の公知の接着剤を含む。図１２は、フレーム１００２の角隅部分１２００の上面図を示しており、接着剤１０２０の付加的な詳細を示しており、この接着剤１０２０は、第１の面１０３２とペリクル１０８との間において、フレーム１００２における第１の開口１２０２の周囲の空間をシールしている。
【００９７】
実施形態において、レチクル１０４及びペリクル１０８のうちの一方又は両方が、離間部材１０１０を介してフレーム１００２に取り付けられることができる。例えば、図１１は、本発明の例としての実施形態による、レチクル１０４とペリクル１０８との間に配置されたフレーム１００２の側面図を示している。図１１において、ペリクル１０８のみが離間部材１０１０ａ及び１０１０ｂを介してフレーム１００２に取り付けられているのに対し、レチクル１０４は慣用の形式でフレーム１００２に直接に取り付けられている。
【００９８】
光学構造物を取り付けるために、あらゆる数の離間部材１０１０を使用することができる。例えば、図１３〜図１６は、本発明の実施形態による、フレーム１００２上の離間部材１０１０の例としての分配を示している。離間部材１０１０は、取り付けられる光学構造物が１つであるか又は２つであるかに応じて、図１３〜図１６に示したように、フレーム１００２の片側又は両側において分配されていることができる。
【００９９】
第１実施例において、図１３は、フレーム１００２における第１の開口１２０２の両側に間隔を置いて配置された第１及び第２の離間部材１０１０ａ及び１０１０ｂを有するフレーム１００２の平面図を示している。
【０１００】
別の実施例において、図１４は、フレーム１００２における第１の開口１２０２の周囲に間隔を置いて配置された第１、第２及び第３の離間部材１０１０ａ〜１０１０ｃを有するフレーム１００２の平面図を示している。第１及び第２の離間部材１０１０ａ及び１０１０ｃはフレームの隣り合う角隅に配置されているのに対し、第３の離間部材１０１０ｃは、フレームの反対側の中央に配置されている。
【０１０１】
図１５は、第１の開口１２０２の周囲に間隔を置いて、フレーム１００２の角隅に配置された第１、第２、第３及び第４の離間部材１０１０ａ〜１０１０ｄを有するフレーム１００２の平面図を示している。
【０１０２】
図１６は、フレーム１００２における第１の開口１２０２の周囲に間隔を置いて配置された離間部材１０１０ａ〜ｌを備えたフレーム１００２の平面図を示している。図１３〜図１６の実施形態は例として示されている。本明細書の記載より、あらゆる数の離間部材１０１０を使用することができ、あらゆる形式でフレーム１００２の開口の周囲に分配することができることが当業者に理解されるであろう。
【０１０３】
さらに、例として、離間部材１０１０は、図１３〜図１６には実質的に正方形で示されている。離間部材１０１０は、円形、矩形、その他のあらゆる多角形及び不規則形状を含むその他の形状を有することができる。
【０１０４】
本発明の別の実施形態において、離間部材は接着剤１０２０を介してフレーム１００２に取り付けられることができる。例えば、図１７は、フレーム１００２の部分１７００を示しており、この部分には接着剤１０２０が塗布されている。図１７の実施形態において、本発明の実施形態によれば、接着剤１０２０は、複数のスペーサ１７０２の形式のスペーサ材料を含んでいる。スペーサ材料は、接着剤１０２０をフレーム１００２に塗布する前又はその後に接着剤１０２０に付加されることができる。
【０１０５】
図１８は、図１７のフレーム１００２を示しており、ペリクル１０８が接着剤１０２０によってこのフレームに接着されている。接着剤１０２０が硬化すると、接着剤１０２０内におけるスペーサ１７０２がペリクルをフレーム１００２から、図１８に距離１８０２として示された実質的に均一の距離に保持する。スペーサ１７０２はペリクル１０８のための別個の運動学的平面を集合的に形成するために働き、これによりペリクル１０８の歪みを減じる。スペーサ１７０２は、離間部材１０１０と同様の材料又は別の材料から形成されることができる。スペーサ１７０２は、ペリクル１０８（及び／又はレチクル１０４）の歪みを減じるように均一な平面を形成するために、必要に応じて厳しい公差に製造されることができる。
【０１０６】
スペーサ１７０２は図１７及び図１８には実質的に球状又は“ビード”状であるように示されているが、スペーサ１７０２は択一的に、立方体、矩形又はその他の適切な形状であることができる。
【０１０７】
図１９は、本発明の実施形態による、フォトリソグラフィシステムにおいて光学構造物の間に光学ギャップを形成するためのステップを提供するフローチャート１９００を示している。その他の構造的及び動作的実施形態は、以下の説明に基づき当業者に明らかとなるであろう。これらのステップを以下に詳細に説明する。
【０１０８】
フローチャート１９００はステップ１９０２において開始する。ステップ１９０２においてフレームが提供される。例えば、実施形態において、フレームは図１０に示されかつ上述されたようなフレーム１００２である。図１０に示したように、フレーム１００２は第１及び第２の向かい合った面１０３２及び１０３４を規定している。第１の向かい合った面１０３２は（図１２〜図１６に示したような）第１の開口１２０２を規定し、第２の向かい合った面１０３４は（図１２〜図１６には明瞭に示されていない、フレーム１００２の遠い方の側における）第２の開口を規定している。
【０１０９】
ステップ１９０４において、第１の光学構造物が、フレームの第１の向かい合った面においてスペーサ構造物に接着される。第１の光学構造物は、レチクル又はペリクルを含むあらゆる光学構造物であることができる。例えば、図１０は、ペリクル１０８としての第１の光学構造物を示している。ペリクル１０８は、図１０の実施例に離間部材１０１０ａ及び１０１０ｂとして示された、フレーム１００２の面１０３２におけるスペーサ構造物に接着される。択一的な実施形態において、スペーサ構造物は、図１７に示されたスペーサ１７０２等の、接着剤１０２０と共に塗布される離間材料であることができる。
【０１１０】
ステップ１９０６において、第２の光学構造物が、フレームの第２の向かい合った面において第２の離間構造物に接着される。第２の光学構造物は、レチクル又はペリクルを含むあらゆる光学構造物であることができる。例えば、図１０は、レチクル１０４としての第２の光学構造物を示している。レチクル１０４は、図１０の実施例において離間部材１０１０ｃ及び１０１０ｄとして示された、フレーム１００２の面１０３４における第２のスペーサ構造物に接着される。択一的な実施形態において、第２のスペーサ構造部部は、図１７に示されたスペーサ１７０２等の、接着剤１０２０と共に塗布される離間材料であることができる。
【０１１１】
ステップ１９０６は選択的であり、実施形態において、第２の光学構造物は、スペーサ構造物が設けられることなく、フレームに直接に接着される。これの実施例は図１１に示されており、この場合、レチクル１０４はフレーム１００２の面１０３４に直接に接着されている。
【０１１２】
この形式において、本発明のフレーム及び光学構造物は光学ギャップを包囲している。実施形態において、光学ギャップは、酸素がパージされた窒素ベースのガスを含む、あらゆるガスで充填されることができる。フレームは、光学ギャップに進入する及び／又は光学ギャップから退出するガスを能動的又は受動的にろ過することを助けることができる多孔質ろ過材料を含むことができる。択一的に、フレームは非多孔質であることができる。実施形態において、フレームは、ガスを光学ギャップに送入しかつ光学ギャップから除去するための１つ又は２つ以上のガス弁を含むことができる。本明細書に記載された実施形態はあらゆる形式で組み合わされてよい。
【０１１３】
結論
本発明の様々な実施形態が上に説明されているが、これらの実施形態は、限定ではなく例としてのみ示されている。発明の思想及び範囲から逸脱することなく、形式及び詳細における様々な変更が行われることができることは当業者に明らかであろう。つまり、本発明の広さ及び範囲は、上記実施形態のいずれによっても制限されるべきではなく、請求項及び請求項の均等物に基づいてのみ規定されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】従来のリソグラフィシステムの光学経路の関連する部分のブロック図である。
【０１１５】
【図２】本発明のリソグラフィシステムの光学部分の関連する部分のブロック図である。
【０１１６】
【図３】本発明の実施形態による、多孔質フレームを備えたレチクル及びペリクルアセンブリの分解図である。
【０１１７】
【図４】本発明の典型的な実施形態の作用を示す図である。
【０１１８】
【図５】本発明の実施形態のための光学ステップを提供するフローチャートを示す図である。
【０１１９】
【図６】本発明の実施形態のための光学ステップを提供するフローチャートを示す図である。
【０１２０】
【図７Ａ】本発明の実施形態による、開口を有する典型的なフレームの縁部の部分を示す図である。
【０１２１】
【図７Ｂ】本発明の実施形態による、図７Ａに示されたフレームの縁部開口内に位置決めされる典型的な多孔質材料挿入体を示す図である。
【０１２２】
【図７Ｃ】本発明の実施形態による、図７Ｂの多孔質材料挿入体が縁部開口内に位置決めされている、図７Ａのフレームを示す図である。
【０１２３】
【図８Ａ】本発明の典型的な実施形態による、１つの多孔質材料挿入体が配置された典型的なフレームを示す図である。
【０１２４】
【図８Ｂ】本発明の典型的な実施形態による、２つの多孔質材料挿入体が配置された典型的なフレームを示す図である。
【０１２５】
【図８Ｃ】本発明の典型的な実施形態による、６つの多孔質材料挿入体が配置された典型的なフレームを示す図である。
【０１２６】
【図８Ｄ】本発明の典型的な実施形態による、８つの多孔質材料挿入体が配置された典型的なフレームを示す図である。
【０１２７】
【図９Ａ】本発明の実施形態による、多孔質材料挿入体を備えた別の典型的なフレームを示す図である。
【０１２８】
【図９Ｂ】本発明の実施形態による、多孔質材料挿入体を備えた別の典型的なフレームを示す図である。
【０１２９】
【図９Ｃ】本発明の実施形態による、多孔質材料挿入体を備えた別の典型的なフレームを示す図である。
【０１３０】
【図９Ｄ】本発明の実施形態による、多孔質材料挿入体を備えた別の典型的なフレームを示す図である。
【０１３１】
【図１０】本発明の典型的な実施形態による、スペーサ構造体を介して取り付けられた光学構造体を有するフレームの側面図である。
【０１３２】
【図１１】本発明の典型的な実施形態による、スペーサ構造体を介して取り付けられた光学構造体を有するフレームの側面図である。
【０１３３】
【図１２】本発明の典型的な実施形態による、スペーサを介して取り付けられた光学構造体を有するフレームの部分の上面図である。
【０１３４】
【図１３】本発明の実施形態による、典型的なスペーサ部材配列を備えたフレームを示す図である。
【０１３５】
【図１４】本発明の実施形態による、典型的なスペーサ部材配列を備えたフレームを示す図である。
【０１３６】
【図１５】本発明の実施形態による、典型的なスペーサ部材配列を備えたフレームを示す図である。
【０１３７】
【図１６】本発明の実施形態による、典型的なスペーサ部材配列を備えたフレームを示す図である。
【０１３８】
【図１７】本発明の典型的な実施形態による、スペーサ材料が提供された、ボンディング材料を備えたフレームを示す図である。
【０１３９】
【図１８】本発明の典型的な実施形態による、フレームから実質的に均一な距離においてボンディング材料によって保持された光学構造体を備えた、図１７のフレームを示す図である。
【０１４０】
【図１９】本発明の典型的な実施形態による、フレームに光学ギャップを形成するためのステップを提供するフローチャートである。
【符号の説明】
【０１４１】
１００，２００  フォトリソグラフィシステム、  １０２，２０２  照明源、  １０４  レチクル、  １０６  フレーム、  １０８  ペリクル、  １１０  半導体ウェハ、  １１２  エアギャップ、  １１４，２１４  放射、  ２０６  多孔質フレーム、  ３００  パージされるペリクル対レチクルギャップシステム、  ３１６  パージガス供給インタフェース、  ３１８  真空源インタフェース、  ３２０  第１の開放面、  ３２２  第２の開放面、  ３２４  第１のフレーム端面、  ３２６  第２のフレーム端面、  ３２８  第３のフレーム端面、  ３３０  第４のフレーム端面、  ４０４  多孔質フレームレチクル／ペリクルアセンブリ、  ４１６  パージガス供給部、  ４１８  真空源、  ４２０  周囲空気流路、  ４２４  ガス流、  ７００  フレーム、  ７０２  多孔質材料挿入体、  ７０４  開口、  ８０２ａ  第１の縁部、  ８０２ｂ  第２の縁部、  １００２  フレーム、  １０１０  離間部材、  １０２０  接着剤、  １０３２  第１の面、  １０３４  第２の面、  １２００  角隅部分、  １７０２  スペーサ
【図１】
2004191986.tif 000003
【図２】
2004191986.tif 000004
【図３】
2004191986.tif 000005
【図４】
2004191986.tif 000006
【図５】
2004191986.tif 000007
【図６】
2004191986.tif 000008
【図７Ａ】
2004191986.tif 000009
【図７Ｂ】
2004191986.tif 000010
【図７Ｃ】
2004191986.tif 000011
【図８Ａ】
2004191986.tif 000012
【図８Ｂ】
2004191986.tif 000013
【図８Ｃ】
2004191986.tif 000014
【図８Ｄ】
2004191986.tif 000015
【図９Ａ】
2004191986.tif 000016
【図９Ｂ】
2004191986.tif 000017
【図９Ｃ】
2004191986.tif 000018
【図９Ｄ】
2004191986.tif 000019
【図１０】
2004191986.tif 000020
【図１１】
2004191986.tif 000021
【図１２】
2004191986.tif 000022
【図１３】
2004191986.tif 000023
【図１４】
2004191986.tif 000024
【図１５】
2004191986.tif 000025
【図１６】
2004191986.tif 000026
【図１７】
2004191986.tif 000027
【図１８】
2004191986.tif 000028
【図１９】
2004191986.tif 000029
【手続補正書】
【提出日】平成16年1月27日(2004.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2004191986.tif 000030
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７Ａ】
2004191986.tif 000031
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７Ｂ】
2004191986.tif 000032
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７Ｃ】
2004191986.tif 000033
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８Ａ】
2004191986.tif 000034
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８Ｂ】
2004191986.tif 000035
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８Ｃ】
2004191986.tif 000036
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８Ｄ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８Ｄ】
2004191986.tif 000037
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９Ａ】
2004191986.tif 000038
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９Ｂ】
2004191986.tif 000039
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９Ｃ】
2004191986.tif 000040
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９Ｄ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９Ｄ】
2004191986.tif 000041
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2004191986.tif 000042
【手続補正１４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2004191986.tif 000043
【手続補正１５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2004191986.tif 000044
【手続補正１６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2004191986.tif 000045
【手続補正１７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2004191986.tif 000046
【手続補正１８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５】
2004191986.tif 000047
【手続補正１９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
2004191986.tif 000048
【手続補正２０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１７】
2004191986.tif 000049
【手続補正２１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１８】
2004191986.tif 000050