(57)【要約】【課題】ギラツキと防眩性が両立され、耐擦傷性、防汚性に優れ、高精細ディスプレイ適性を付与する。【解決手段】透明支持体上に、ハ−ドコ−ト層および反射防止層がこの順に積層された反射防止フィルムにおいて、該反射防止層が該透明支持体の屈折率よりも屈折率が低い低屈折率層を少なくとも一層有し、該低屈折率層の厚さが実質的に均一であり、反射防止層面側のフィルム最表面が０．０５乃至２μｍの算術平均粗さを有し、常温において該透明支持体より高い表面弾性率を有するプライマ−層を透明支持体とハ−ドコ−ト層の間に有することを特徴とする反射防止フィルム。【選択図】　　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、ハードコート層および反射防止層がこの順に積層された反射防止フィルムにおいて、該反射防止層が該透明支持体の屈折率よりも屈折率が低い低屈折率層を少なくとも一層有し、該低屈折率層の厚さが実質的に均一であり、反射防止層面側のフィルム最表面が０．０５乃至２μｍの算術平均粗さを有し、常温（約２５℃）において該透明支持体より高い表面弾性率を有するプライマー層を透明支持体とハードコート層の間に有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
２枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏面に貼り合わせた偏光板であり、請求項１に記載の反射防止フィルムを少なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項３】
透明支持体上に、常温（約２５℃）において該透明支持体より高い表面弾性率を有するプライマー層、ハードコート層、および該透明支持体の屈折率より低い屈折率を有する低屈折率層を少なくとも一層含む反射防止層を塗布により順次または同時に形成する工程、その後に低屈折率層側の表面をエンボス加工して低屈折率層側の表面に０．０５乃至２μｍの算術平均粗さの凹凸を形成する工程からなる反射防止フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記プライマー層のエンボス加工温度での表面弾性率が、前記ハードコート層のエンボス加工温度での表面弾性率より低いことを特徴とする請求項３に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載の反射防止フィルムまたは請求項２に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像表示装置等に用いられる反射防止フィルムおよび偏光板ならびにそれらの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けられている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止フィルムが設けられている。反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。複数の透明薄膜を用いるのは、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により形成されている。
金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィルムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着法やスパッタ法による製膜方法は、生産性が低く大量生産に適していない。ＰＶＤ法による反射防止フィルムは、用途に応じて表面凹凸による防眩性を有する支持体上に形成される場合がある。平滑な支持体上に形成されたものより平行光線透過率は減少するが、背景の映り込みが表面凹凸によって散乱されて低下するため防眩性を発現し、反射防止効果とあいまって、画像形成装置に適用するとその表示品位は著しく改善される。
【０００３】
蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により反射防止フィルムを形成する方法が提案されている。
特公昭６０−５９２５０号公報は、微細空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層を開示している。反射防止層は、塗布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に活性化ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することによって形成される。
特開昭５９−５０４０１号公報は、支持体、高屈折率層および低屈折率層の順に積層した反射防止フィルムを開示している。同公報は、支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設けた反射防止フィルムも開示している。低屈折率層は、ポリマーまたは無機微粒子の塗布により形成されている。
【０００４】
特開平２−２４５７０２号公報は、二種類以上の超微粒子（例えば、ＭｇＦ２とＳｉＯ２　）を混在させて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止フィルムを開示している。混合比を変化させることにより屈折率を変化させ、上記特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止フィルムと同様の光学的性質を得ている。超微粒子は、エチルシリケートの熱分解で生じたＳｉＯ２により接着している。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。特開平２−２４５７０２号公報の第１図に示されているように、二酸化炭素と水蒸気が層から離脱することにより、超微粒子の間に間隙が生じている。
特開平５−１３０２１号公報は、上記特開平２−２４５７０２号公報記載の反射防止フィルムに存在する超微粒子間隙をバインダーで充填することを開示している。特開平７−４８５２７号公報は、多孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有する反射防止フィルムを開示している。特開平１１−６９０２号公報は、低屈折率層に無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねてミクロボイドを含有させた層を用いた、ウエット塗布による３層構成の反射防止フィルムを有するフィルムを開示している。オールウエット塗布による安価な製造コストにて、膜強度と反射率の低さを両立した反射防止フィルムを与える技術が公開されている。
【０００５】
上述したような塗布による反射防止フィルムに防眩性を付与する手段としては、表面凹凸を有する支持体上に反射防止層を塗布する方法や、表面凹凸を形成するためのマット粒子を反射防止層を形成する塗布液に添加する方法の他に、特開２０００−２７５４０１号公報、特開２０００−２７５４０４号公報に開示されているような、平滑な反射防止フィルムの作成後に、エンボス法等によって表面凹凸構造を形成する方法がある。
【０００６】
近年、液晶ディスプレイの高視野角化、高速応答化と並び、高精細化、即ち高画質に対する要求が非常に高い。この高精細化は、液晶セルサイズの微小化により実現されるが、セルサイズが小さくなるにつれて、例えば１３３ｐｐｉ（１３３ｐｉｘｅｌｓ／ｉｎｃｈ）以上の超高精細の領域になると、防眩性を有する反射防止フィルムを透過し、ユ−ザ−の目に届く光には輝度バラツキが生じ、即ち「ギラツキ」という問題が発生し、表示品位が劣化するという問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は、まず無機微粒子の塗布により形成する低屈折率層について、研究を進めた。本発明者の研究により、無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることにより微粒子間にミクロボイドを形成すると、層の屈折率が低下することが判明した。微粒子間にミクロボイドを形成することで、屈折率が非常に低い低屈折率層が得られる。特開平２−２４５７０２号公報に記載の反射防止フィルムでは、積み重なった超微粒子の間に間隙が生じている。ただし、同公報は、間隙を第１図に示唆しているだけであって、間隙の光学的機能については全く記載していない。また、空隙を有する低屈折率層は、強度が弱いとの問題がある。
【０００８】
低屈折率層は、画像表示装置の表示面やレンズの外側表面に配置される。そのため、低屈折率層には一定の強度が要求されている。特開平２−２４５７０２号公報に記載の反射防止フィルムは、実質的に無機化合物のみで構成されており、硬いが非常に脆い膜になっている。特開平５−１３０２１号公報に記載されているように、微粒子間の空隙をバインダーで充填すれば、強度の問題は解消できる。しかし、本発明者の研究によれば、微粒子間の空隙をバインダーで充填すると、層の屈折率を低下させる間隙の光学的機能が失われる。
【０００９】
続いて、背景の映り込みをさらに有効に低減するための防眩性の付与法およびギラツキについて検討した。前述のような従来法を含め鋭意検討した結果、塗布型で防眩性、ギラツキ、低反射率と膜強度を同時に満足するには反射防止フィルムを形成した後に防眩性を付与する方法が最も適当であることが分かった。中でも最も好ましい方法として、塗布により反射防止フィルムを形成した後に、外部からの圧力により該透明支持体の少なくとも片面に表面凹凸を形成する工程をこの順序に実施することにより、防眩性を有する反射防止フィルムを製造する方法を見出すに至った。
【００１０】
本発明の目的は、塗布層である低屈折率層を有していても、蒸着層からなる反射防止フィルムに匹敵する反射防止機能と防眩機能とを有する反射防止フィルムを提供することである。また、本発明の目的は、反射防止フィルムの塗布層表面に、反射防止機能を低下させることなく、蒸着層と同様の表面凹凸を形成し、高精細ディスプレイ適性のある防眩性反射防止フィルムおよびその製造方法を提供することでもある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、以下の手段によって達成された。
（１）透明支持体上に、ハードコート層および反射防止層がこの順に積層された反射防止フィルムにおいて、該反射防止層が該透明支持体の屈折率よりも屈折率が低い低屈折率層を少なくとも一層有し、該低屈折率層の厚さが実質的に均一であり、反射防止層面側のフィルム最表面が０．０５乃至２μｍの算術平均粗さを有し、常温（約２５℃）において該透明支持体より高い表面弾性率を有するプライマー層を透明支持体とハードコート層の間に有することを特徴とする反射防止フィルム。
（２）　前記プライマー層の常温での表面弾性率が、前記ハードコート層の常温での表面弾性率より低いことを特徴とする（１）に記載の反射防止フィルム。
（３）　前記プライマー層の常温での表面弾性率が３乃至７ＧＰａの範囲である（１）、（２）に記載の反射防止フィルム。
（４）　前記プライマー層が（メタ）アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、ポリエステルから選ばれる少なくとも一種のポリマーを含む（１）〜（３）に記載の反射防止フィルム。
（５）　前記プライマー層が厚さ０．１及至５０μｍ、且つ、ハードコート層が厚さ０．５及至５μｍであることを特徴とする（１）〜（４）に記載の反射防止フィルム。
（６）　前記反射防止フィルムが１３３ｐｐｉ（ｐｉｘｅｌｓ／ｉｎｃｈ）以上の高精細液晶ディスプレイ用であることを特徴とする（１）〜（５）に記載の反射防止フィルム。
（７）　ハードコート層と低屈折率層の間に、低屈折率層側から順にハードコート層よりも高い屈折率を有する高屈折率層、ハードコート層と高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層、の実質上３層の屈折率の異なる層から形成され、高屈折率層と中屈折率層と低屈折率層の厚さが実質的に均一である（１）〜（６）に記載の反射防止フィルム。
（８）　前記反射防止フィルムのそれぞれの層が、膜形成性の溶質と少なくとも１種類の溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化により形成されたものであることを特徴とする、（１）〜（７）に記載の反射防止フィルム。
（９）　前記反射防止フィルムにおいて、設計波長λ（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足することを特徴とする（７）に記載の反射防止フィルム。
１００．００＜ｎ１ｄ１＜１２５．００　　　　　（Ｉ）
１８７．５０＜ｎ２ｄ２＜２３７．５０　　　　　（ＩＩ）
１１８．７５＜ｎ３ｄ３＜１３１．２５　　　　　（ＩＩＩ）
（但し、式中、ｌは１であり、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｍは２であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎは１であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である）
（１０）屈折率が１．４５〜１．５５である透明支持体に対してｎ１が１．６０〜１．６５、ｎ２が１．８５〜１．９５、ｎ３が１．３５〜１．４５の屈折率であることを特徴とする（９）に記載の反射防止フィルム。
（１１）屈折率が１．５５〜１．６５である透明支持体に対してｎ１が１．６５〜１．７５、ｎ２が１．８５〜２．０５、ｎ３が１．３５〜１．４５の屈折率であることを特徴とする（９）に記載の反射防止フィルム。
（１２）　前記反射防止フィルムの低屈折率層が、熱または電離放射線硬化性の含フッ素硬化性樹脂からなることを特徴とする、（１）〜（１１）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。
（１３）含フッ素硬化性樹脂がパーフルオロオレフィン共重合体であることを特徴とする（１）〜（１２）に記載の反射防止フィルム。
（１４）含フッ素硬化性樹脂が側鎖にラジカル重合性基またはカチオン開環重合性基を有する繰り返し単位を有するポリマーであることを特徴とする（１）〜（１３）に記載の反射防止フィルム。
（１５）　前記反射防止フィルムの高屈折率層および中屈折率層が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物を含有する超微粒子、アニオン性分散剤、３官能以上の重合性基を有する硬化性樹脂および重合開始剤を含む塗布組成物を塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化により形成されたものであることを特徴とする、（７）〜（１４）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。
（１６）　前記反射防止フィルムの低屈折率層が、動摩擦係数が０．１５以下、純水の接触角が１００度以上であることを特徴とする、（１）〜（１５）いずれか１項に記載の反射防止フィルム。
（１７）　２枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏面に貼り合わせた偏光板であり、（１）〜（１６）いずれか１項に記載の反射防止フィルムの反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該反射防止フィルムの裏面を鹸化処理した反射防止フィルムを少なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。
（１８）　２枚の表面保護フィルムを偏光子の表面と裏面に貼り合わせた偏光板であり、（１）〜（１６）いずれか１項に記載の反射防止フィルムの反射防止層の形成前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止層を形成する面の反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該反射防止フィルムの裏面だけを鹸化処理した反射防止フィルムを少なくとも片面の表面保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。
（１９）　透明支持体上に、常温（約２５℃）において該透明支持体より高い表面弾性率を有するプライマー層、ハードコート層、および該透明支持体の屈折率より低い屈折率を有する低屈折率層を少なくとも一層含む反射防止層を塗布により順次または同時に形成する工程、その後に低屈折率層側の表面をエンボス加工して低屈折率層側の表面に０．０５乃至２μｍの算術平均粗さの凹凸を形成する工程からなる反射防止フィルムの製造方法。
（２０）　前記プライマー層のエンボス加工温度での表面弾性率が、前記ハードコート層のエンボス加工温度での表面弾性率より低いことを特徴とする（１９）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（２１）　プライマー層とハードコート層とのエンボス加工温度における表面弾性率の差が０．１ＧＰａ〜８ＧＰａである（２０）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（２２）　前期プライマー層がポリマーおよび／またはモノマーを熱および／または電離放射線による硬化により形成されたものであることを特徴とする（１９）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（２３）　最表面が０．０５乃至２μｍの算術平均粗さを有することを特徴とする（１９）〜（２２）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（２４）　前記プライマー層に含まれるポリマーのガラス転移温度が、エンボス加工温度より低い（１９）〜（２３）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の防眩性を有する反射防止フィルムの基本的な構成を図面を引用しながら説明する。
［防眩性の付与］
図１に、塗布型反射防止フィルムへの防眩性の付与法の一例を示す。図中、反射防止フィルム（１）の反射防止層（３）側の表面をエンボスロール（４）とバックアップロール（５）によりプレスして少なくとも一方の表面に凹凸を形成することによって、反射防止性を損なうことなく防眩性を発現する。このようにエンボス加工により、表面に凹凸を有し、かつ膜の厚みが実質的に均一である低屈折率層を構成することができる。ここで厚さが実質的に均一であるとは、膜厚の均一性が±３％以下であることが好ましい。反射防止性を損なわないために必要な実質的な膜の均一性は、光干渉層の層数や設計によって異なる。例えば、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層が空気界面側より、この順序に各層ともλ／４ｎの厚みで積層された３層型設計の場合、各層の膜厚の均一性は±３％が上限であって、それ以上になると著しく反射防止性能が低下してしまう。防眩性の程度は、エンボス加工における膜面温度、プレス圧力、処理速度等の工程条件および反射防止フィルムを有する透明支持体の力学物性によって制御することができるが、より温和な条件での実施が、フィルムの平面性、工程の安定性、コスト等の観点から好ましい。
【００１３】
［算術平均粗さ］
反射防止フィルムの反射防止層面側最表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、防眩性を付与したサンプルの凹凸表面を（株）ＲＹＯＫＡ　ＳＹＳＴＥＭ社製の「マイクロマップ」機を用いて測定することができる。本発明では、反射防止フィルム最表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、０．０５乃至２μｍの範囲とする。Ｒａは、０．０７乃至１．５μｍの範囲であることが好ましく、０．０９乃至１．２μｍの範囲であることがさらに好ましく、０．１乃至１μｍの範囲であることが最も好ましい。Ｒａが０．０５μｍ未満であると、充分な防眩機能を得ることができない。Ｒａが２μｍを越えると、解像度が低下したり、外光が当たった際に像が白く光ったりする。
【００１４】
［表面弾性率］
本発明における表面弾性率は微小表面硬度計（（株）フィッシャー・インスツルメンツ社製：フィッシャースコープＨ１００ＶＰーＨＣＵ）を用いて求めることができる。具体的には、ガラス基板上に１０μｍ以上の膜厚を設けたサンプルを作成し、ダイヤモンド製の四角錐圧子（先端対面角度；１３６°）を使用し、押し込み深さが膜厚の１／１０以上を超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から求めることができる。
【００１５】
［反射防止フィルムの形成］
図２の（ａ）〜（ｂ）は、本発明に用いられる反射防止フィルムの基本的な層構成を示す断面模式図である。透明支持体（１３）、プライマー層（１６）、ハードコート層（１２）、中屈折率層（１５）、高屈折率層（１４）、そして低屈折率層（１１）の順序の層構成を有する。このような３層構成の反射防止フィルムは、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの層の光学膜厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してｎλ／４前後、またはその倍数であることが好ましいことが特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている。
しかしながら、本発明の低反射率且つ反射光の色味が低減された反射率特性を実現するためには、特に設計波長λ（＝５００ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折率層が下式（ＩＩ）を、低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足する必要がある。
１００．００＜ｎ１ｄ１＜１２５．００　　　　　（Ｉ）
１８７．５０＜ｎ２ｄ２＜２３７．５０　　　　　（ＩＩ）
１１８．７５＜ｎ３ｄ３＜１３１．２５　　　　　（ＩＩＩ）
【００１６】
式中、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である。さらに、例えばトリアセチルセルロース（屈折率：１．４９）からなるような屈折率が１．４５〜１．５５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６０〜１．６５、ｎ２は１．８５〜１．９５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要があり、ポリエチレンテレフタレート（屈折率：１．６６）からなるような屈折率が１．５５〜１．６５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６５〜１．７５、ｎ２は１．８５〜２．０５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率である必要がある。上記のような屈折率を有する中屈折率層や高屈折率層の素材が選択できない場合には、設定屈折率よりも高い屈折率を有する層と低い屈折率を有する層を複数層組み合わせた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層あるいは高屈折率層と光学的に等価な層を形成できることは公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも用いることができる。本発明の「実質的に３層」とは、このような等価膜を用いた４層、５層の反射防止層も含むものである。
【００１７】
透明支持体としては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリー１，４ーシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。
特に液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いるために本発明の反射防止フィルムを偏光板の表面保護フィルムの片側として用いる場合にはトリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリアセチルセルロースフィルムの作成法は、公開技報番号２００１−１７４５にて公開されたものが好ましく用いられる。また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合にはポリエチレンテレフタレート、あるいはポリエチレンナフタレートが好ましい。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．７であることが好ましい。
【００１８】
中屈折率層および高屈折率層は、屈折率の高い無機微粒子、熱または電離放射線硬化性のモノマ−、開始剤および溶媒を含有する塗布組成物の塗布、溶媒の乾燥、熱および／または電離放射線による硬化によって形成される。無機微粒子としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂの酸化物から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物からなるものが好ましい。このようにして形成された中屈折率層および高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性や密着性に優れる。分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平１１−１５３７０３号公報や特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１等に記載されているような、多官能（メタ）アクリレートモノマーとアニオン性基含有（メタ）アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。
【００１９】
無機微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で１から１００ｎｍであることが好ましい。１ｎｍ以下では、比表面積が大きすぎるために、分散液中での安定性に乏しく、好ましくない。１００ｎｍ以上では、バインダとの屈折率差に起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましい。
【００２０】
本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層としては、例えば、ＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ２（ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３（ｎ＝１．４）、ＡｌＦ３（ｎ＝１．４）、Ｎａ３ＡｌＦ６（ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ２（ｎ＝１．４５）等の低屈折率無機材料あるいはこれらを微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた材料、フッ素系、シリコーン系の有機材料等を用いることができる。これらの中でも本発明では特に熱または電離放射線により硬化する含フッ素化合物を用いることが好ましい。該硬化物の動摩擦係数は好ましくは０．０２〜０．１８、より好ましくは０．０３〜０．１５、純水に対する接触角は好ましくは９０〜１３０度、より好ましくは１００〜１２０度である。動摩擦係数が高いと、表面を擦った時に傷つきやすくなり、好ましくない。また、純水に対する接触角が小さいと指紋や油汚れ等が付着しやすくなるため、防汚性の観点で好ましくない。また本発明の低屈折率層には膜強度向上を目的として適宜シリカ粒子等のフィラーを添加しても良い。
【００２１】
低屈折率層に用いられる硬化性の含フッ素化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロー１，１，２，２ーテトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【００２２】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロー２，２ージメチルー１，３ージオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【００２３】
硬化反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己硬化性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の硬化反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【００２４】
また上記含フッ素モノマー単位、硬化反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【００２５】
上記のポリマーに対しては特開平８−９２３２３号、１０−２５３８８号、同１０−１４７７３９号、同１２−１７０２８号公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
特にポリマーの硬化反応性基が水酸基、カルボキシル基のような単独で硬化反応性を持たない基の場合には硬化剤を併用することが必須であり、硬化剤としては例えばポリイソシアネート系、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物などを挙げることができる。
一方、硬化反応性基が自己硬化反応性の基である場合には、特に硬化剤を添加しなくても良いが、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物等種々の硬化剤を適宜併用することもできる。
【００２６】
本発明で特に有用な含フッ素共重合体は、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。
【００２７】
また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号に記載のごとくシリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらの場合ポリシロキサン成分はポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【００２８】
防汚性付与に対しては上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン（例えばＫＦ−１００Ｔ，Ｘ−２２−１６９ＡＳ，ＫＦ−１０２，Ｘ−２２−３７０１ＩＥ，Ｘ−２２−１６４Ｂ，Ｘ−２２−５００２，Ｘ−２２−１７３Ｂ，Ｘ−２２−１７４Ｄ，Ｘ−２２−１６７Ｂ，Ｘ−２２−１６１ＡＳ（以上商品名、信越化学工業社製）、ＡＫ−５，ＡＫ−３０，ＡＫ−３２（以上商品名、東亜合成社製）、サイラプレーンＦＭ０２７５，サイラプレーンＦＭ０７２１（以上チッソ社製）等）を添加する手段も好ましい。この際これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０．５〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【００２９】
本発明の低屈折率層では、市販の含フッ素化合物としてＴＥＦＲＯＮ　ＡＦ１６００（デュポン社製　屈折率ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社製ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社製　ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２（ＪＳＲ（株）社製　ｎ＝１．４０）、オプスターＪＮ−７２２８（ＪＳＲ（株）社製　ｎ＝１．４２）、ＬＲ２０１（日産化学工業（株）社製　ｎ＝１．３８）（いずれも商品名）等を利用することもできる。
【００３０】
プライマー層には、（メタ）アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、ポリエステルが好ましく用いられる。使用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えば（メタ）アクリル系ポリマーでは、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、（メタ）アリルアクリレート、（メタ）ウレタンアクリレート、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル。スチレン系ポリマ−では、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、ポリエステルでは、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールと無水フタル酸、フタル酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、マレイン酸との縮合物等が挙げられる。
【００３１】
ポリマーの分子量（または重合度）は、ポリマーのガラス転移温度を考慮して決定する。プライマー層に含まれるポリマーのガラス転移温度は、支持体のガラス転移点はエンボス加工温度より低いことが好ましく、６０乃至１３０℃であることがさらに好ましい。また、プライマー層の厚さとしては０．１〜５０μｍであり、好ましくは０．１〜２０μｍの範囲である。
【００３２】
常温における表面弾性率（単に弾性率ということあり）としては、プライマー層は該透明支持体より高い表面弾性率を有する。プライマー層の表面弾性率としては好ましくは３〜８ＧＰａの範囲であり、さらに好ましくは４〜７ＧＰａの範囲である。透明支持体の表面弾性率との差は０．１ＧＰａ〜５ＧＰａが好ましく、０．２〜４ＧＰａがより好ましい。
エンボス加工温度における表面弾性率としては、プライマー層は該ハードコート層より低い表面弾性率を有することが好ましい。プライマー層とハードコート層との表面弾性率の差は０．１ＧＰａ〜８ＧＰａが好ましく、０．５〜７．５ＧＰａがより好ましい。
本発明のプライマー層は、それを設けることで高精細モードの液晶表示装置においても輝度バラツキ、即ちギラツキを押さえることができるほか、表面硬度を向上させることができる。
【００３３】
以上のポリマーと他のポリマーや粒子と併用してもよい。また、架橋構造を有していても良い。ほかのポリマーと粒子の例には、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアルギン酸およびその塩、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース）、ポリエーテルケトン、多価アルコール、シリカ粒子およびアルミナ粒子が含まれる。
架橋構造を得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３ーシクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造を導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジンアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。プライマー層は、溶剤中にポリマーおよびまたはモノマー、重合開始剤を溶解し、塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により形成することが好ましい。重合開始剤については、ベンゾフェノン系等の水素引き抜き型、アセトフェノン系、トリアジン系等のラジカル開列型を単独あるいは併用してモノマーと共に塗布液に添加するのが好ましい。
プライマー層は、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能を有する。接着強化については、モノマーを用いることがより好ましい。ポリマーとモノマーの含有量比は質量比でポリマー：モノマー＝（７５〜２５）：（２５〜７５）であることが好ましく、より好ましくはポリマー：モノマー＝（６５〜３５）：（３５〜６５）である。
【００３４】
本発明の反射防止フィルムにおいてハードコート層は、透明支持体に耐傷性を付与するために設けられている。ハードコート層は、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してもよい。ハードコートに用いる素材としては、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましく、架橋構造を有していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００３５】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。
【００３６】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造を導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジンアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。ハードコート層は、溶剤中にモノマーおよび重合開始剤を溶解し、塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により形成することが好ましい。重合開始剤については、ベンゾフェノン系等の水素引き抜き型、アセトフェノン系、トリアジン系等のラジカル開列型を単独あるいは併用してモノマーと共に塗布液に添加するのが好ましい。ハードコート層の塗布液に、少量のポリマー（例：ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。
【００３７】
ハードコート層の厚さとしては０．５〜５μｍ以下であり、好ましくは０．５〜３μｍの範囲である。このようなハードコート層の厚さは、エンボス処理の適性に大きく影響する。即ち、ハードコート層が厚すぎるとエンボス適性を低下し、同じエンボス処理を行っても必要とする粗さを得ることができない。本発明では薄くしたハードコート層の硬さを高い表面弾性率のプライマー層でカバーしている。
本発明の反射防止フィルムには、さらに、防湿層、帯電防止層や保護層を設けてもよい。
【００３８】
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。ウエット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法およびグラビア法が好ましく、幅方向の膜厚均一性の観点で特にグラビア法が好ましい。２層以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【００３９】
図２は、エンボス加工後の反射防止フィルムの状態を示す断面模式図である。図３の（ａ）に示す態様は、透明支持体（１３）、プライマー層（１６）、ハードコート層（１２）、そして低屈折率層（１１）の順序の層構成を有する。図３の（ｂ）に示す態様は、透明支持体（１３）、プライマー層（１６）、ハードコート層（１２）、高屈折率層（１４）、そして低屈折率層（１１）の順序の層構成を有する。図３の（ｃ）に示す態様は、透明支持体（１３）、プライマー層（１６）、ハードコート層（１２）、中屈折率層（１５）、高屈折率層（１４）、そして低屈折率層（１１）の順序の層構成を有する。図３に示すように、エンボス加工による変形がプライマー層に集中して、ハードコート層や反射防止層は、厚みがほぼ並行である。支持体は若干変形する。
【００４０】
本発明のエンボス加工は、以上のように作製した反射防止フィルムに、片面エンボシングカレンダー機を用いてエンボス処理することで行われる。（図１参照）その際の線圧は好ましくは１０乃至１，２００ｋｇｆ／ｃｍ、より好ましくは５０乃至９００ｋｇｆ／ｃｍであり、プレス時のプレヒートロール温度は好ましくは６０乃至１８０℃、より好ましくは７０乃至１６０℃、エンボスロールの温度は好ましくは１００℃乃至２００℃、より好ましくは１０５乃至１８０℃、更に好ましくは１１０乃至１６０℃、処理速度は好ましくは０．３乃至１０ｍ／分、より好ましくは０．５乃至５ｍ／分の条件下で処理される。エンボス凹凸形状はランダムに並んでいることが好ましく、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチは好ましくは５乃至３０μｍ、より好ましくは１０乃至２０μｍである。
【００４１】
本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、透明支持体の反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリによって鹸化処理することが必要である。アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の２つから選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反射防止フィルム面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、（２）が優れる。（１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する（２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
【００４２】
本発明の反射防止フィルムは、偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。また、液晶表示装置の視野角を改良する視野角拡大フィルムなどの光学補償フィルム、位相差板等を組み合わせて使用することもできる。また、透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。さらに、ＰＥＴ、ＰＥＮ等の透明支持体上に本発明の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用できる。
【００４３】
【実施例】
以下に、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（プライマー層用塗布液Ａの調整）
重量平均分子量２５，０００のメタクリル酸メチル樹脂２００質量部を４８０質量部のメチルエチルケトンと３２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液を、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してプライマー層用塗布液Ａを調製した。
【００４４】
（プライマー層用塗布液Ｂの調整）
重量平均分子量４４，０００のアリルメタクリレート−メタクリル酸共重合体樹脂１００質量部を９００質量部のメチルイソブチルケトンに溶解した。得られた溶液を、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してプライマー層用塗布液Ｂを調製した。
【００４５】
（プライマー層用塗布液Ｃの調製）
重量平均分子量２５，０００のメタクリル酸メチル樹脂１００質量部とウレタンアクリレート（紫光ＵＶ−６３００Ｂ、日本合成化学工業（株）製）１００質量部を４８０質量部のメチルエチルケトンと３２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）３質量部を加え、溶解するまで攪拌した。得られた溶液を、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してプライマー層用塗布液Ｃを調製した。
【００４６】
（ハードコート層用塗布液の調整）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、４５０質量部のＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハードコート層用塗布液を調製した。
【００４７】
（二酸化チタン分散物Ａの調製）
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原テクノ（株）製）３００質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）１０質量部、リン酸基含有アニオン性分散剤（ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＭ−２１、日本化薬（株）製）６０質量部およびシクロヘキサノン６３０質量部を、サンドグラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径が４２ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物Ａを調製した。
【００４８】
（二酸化チタン分散物Ｂの調製）
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原産業（株）製）２５０ｇ、架橋反応性基含有アニオン性ポリマー（化１）３７．５ｇ、カチオン性モノマー（ＤＭＡＥＡ、（株）興人）２．５ｇ、およびシクロヘキサノン７１０ｇを、ダイノミルにより分散し、重量平均径６５ｎｍの二酸化チタン分散液Ｂを調整した。
【００４９】
【化１】
2004004404.tif 000002
【００５０】
（含フッ素共重合体（化２）の合成）
【００５１】
【化２】
2004004404.tif 000003
【００５２】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇおよび過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ２であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ２に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより含フッ素共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの数平均分子量は３．１万であり、屈折率は１．４２１であった。
【００５３】
含フッ素共重合体（化３）の合成
【００５４】
【化３】
2004004404.tif 000004
【００５５】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル３０ｍｌ、グリシジルビニルエーテル１１．５ｇおよび過酸化ジラウロイル０．４２ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２１ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は６．２ｋｇ／ｃｍ２であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．６ｋｇ／ｃｍ２に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後含フッ素共重合体（２）を２１ｇ得た。得られたポリマーの数平均分子量は２．８万であり、屈折率は１．４２４であった。
【００５６】
（中屈折率層用塗布液の調製）
シクロヘキサノン７５０質量部およびメチルエチルケトン１９０質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．１質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４質量部を溶解した。さらに、二酸化チタン分散物３１質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２１質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、中屈折率層用塗布液を調製した。
【００５７】
（高屈折率層用塗布液Ａの調製）
シクロヘキサノン５４０質量部およびメチルエチルケトン１８０質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４質量部を溶解した。さらに、二酸化チタン分散物Ａ２６４質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１６質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、高屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【００５８】
（高屈折率層用塗布液Ｂの調製）
シクロヘキサノン５４０質量部およびメチルエチルケトン１８０質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４質量部を溶解した。さらに、二酸化チタン分散物Ｂ２６４質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１６質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、高屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【００５９】
（低屈折率層用塗布液Ａの調製）
シクロヘキサノン１９３質量部およびメチルエチルケトン６２３質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．７質量部および反応性シリコーン（Ｘ−２２−１６４Ｂ、信越化学工業（株）製）１．７質量部を溶解した。さらに、含フッ素共重合体（化２）の１８．４質量パーセントのメチルイソブチルケトン溶液１８２質量部を添加、撹拌の後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【００６０】
（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）
シクロヘキサノン１９３質量部およびメチルエチルケトン６２３質量部に、光重合開始剤（ＵＶＩ１６９９０、ユニオンカーバイト社製）３．４質量部および反応性シリコーン（Ｘ−２２−１６９ＡＳ、信越化学工業（株）製）３．４質量部を溶解した。さらに、含フッ素共重合体（化３）の１８．４質量パーセントのメチルイソブチルケトン溶液１８２質量部を添加、撹拌の後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、低屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【００６１】
（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）
屈折率１．４２であり、熱架橋性含フッ素ポリマーの６質量パーセントのメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）を溶媒置換して、メチルイソブチルケトン８５質量％、２−ブタノール１５質量％からなる混合溶媒中に固形分１０質量％を含有するポリマー溶液を得た。このポリマー溶液７０質量部にＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）１０質量部、およびメチルイソブチルケトン４２質量部およびシクロヘキサノン２８質量部を添加、攪拌の後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）でろ過して、低屈折率層用塗布液Ｃを調製した。
【００６２】
［実施例１］
［Ｓａｍｐｌｅ　１］
（反射防止フィルムの作製）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製、常温（２５℃）での表面弾性率：Ｅ＝３．９ＧＰａ、１２０℃での表面弾性率：Ｅ＝２．３ＧＰａ）に、上記のプライマー層用塗布液Ａを、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥し、プライマー層（屈折率：１．４９、膜厚：８μｍ、常温（２５℃）での表面弾性率：Ｅ＝４．２ＧＰａ、１２０℃での表面弾性率：Ｅ＝０．９ＧＰａ）を形成した。
プライマー層の上に、上記のハードコート層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：２μｍ、常温（２５℃）での表面弾性率：Ｅ＝８．９ＧＰａ、１２０℃での表面弾性率：Ｅ＝７．７ＧＰａ）を設けた。
続いて、上記の中屈折率層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率：１．６３、膜厚：６７ｎｍ）を設けた。
中屈折率層の上に、上記の高屈折率層用塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：１０７ｎｍ）を設けた。
さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗布液Ｃをグラビアコーターを用いて塗布し、１２０℃で８分間、塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率：１．４３、膜厚：８６ｎｍ）を設けた。このようにして反射防止フィルムを作製した。
【００６３】
（エンボス加工）
以上のように作製した反射防止フィルムに、片面エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用いて、線圧が２００ｋｇｆ／ｃｍ、プレヒートロール温度が９０℃、エンボスロール温度が１６０℃、処理速度が０．５ｍ／分の条件下で、エンボスロールとポリアミド素材で表面を覆ったバックアップロールをセットし、凹凸形状がランダムに並び、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２０μｍ、凸部から隣接する凸部までの平均ピッチが１６μｍのエンボスロールを用いてエンボス処理を行い、反射防止フィルムを作製した。反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００６４】
（反射防止フィルムの評価）
得られるフィルムについて、以下の項目の評価を行った。その結果を表１にまとめる。
（１）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
【００６５】
（２）算術平均粗さ
凹凸表面を（株）ＲＹＯＫＡ　ＳＹＳＴＥＭ社製の「マイクロマップ」機を用いて測定した。
【００６６】
（３）表面弾性率
微小表面硬度計（（株）フィッシャー・インスツルメンツ社製：フィッシャースコープＨ１００ＶＰ−ＨＣＵ）を用いて求めた。具体的には、ガラス基板上に１０μｍ以上の膜厚を設けたサンプルを作成し、ダイヤモンド製の四角錐圧子（先端対面角度；１３６°）を使用し、押し込み深さが膜厚の１／１０以上を超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から求めた。
【００６７】
（４）鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてＪＩＳ　Ｋ　５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ　Ｓ６００６に規定するＨ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にて、以下のとおりの判定で評価し、ＯＫとなる最も高い硬度を評価値とした。
ｎ＝５の評価において傷なし〜傷１つ　　　　：ＯＫ
ｎ＝５の評価において傷が３つ以上　　　　　：ＮＧ
【００６８】
（５）スチールウール擦り耐性の評価
♯００００のスチールウールに１．９６Ｎ／ｃｍ２の荷重をかけ、１０往復したときの傷の状態を観察して、以下の４段階で評価した。
◎：傷が全く付かなかったもの
○：殆ど見えない傷が少しついたもの
△：明確に見える傷が付いたもの
×：明確に見える傷が顕著に付いたもの
【００６９】
（６）接触角測定
表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、純水の接触角を測定し、指紋付着性の指標とした。
【００７０】
（７）動摩擦係数測定
表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎにて測定した値を用いた。
【００７１】
（８）ギラツキ評価
作製した反射防止フィルムを、２００ｐｐｉ（２００ｐｉｘｅｌｓ／ｉｎｃｈ）に模したセルに距離１ｍｍのところにフィルムを乗せ、ギラツキ（反射防止フィルムの表面突起が原因の輝度バラツキ）の程度を、以下の基準で目視評価した。
全くギラツキが見られない　　　　　　　：◎
ほとんどギラツキが見られない　　　　　：○
わずかにギラツキがある　　　　　　　　：△
不快なギラツキがある　　　　　　　　　：×
【００７２】
（８）防眩性評価
作製した反射防止フィルムを、ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を映し、蛍光灯の反射像のボケの程度を、以下の基準で目視評価した。
蛍光灯がぼけている（防眩性あり）　　　　　　：○
蛍光灯がほとんどぼけない（防眩性不足）　　　　　　　：×
【００７３】
［Ｓａｍｐｌｅ　２］
プライマー層用塗布液Ｂを用いて、プライマー層（屈折率：１．４９、膜厚：８μｍ、常温での表面弾性率：Ｅ＝４．３ＧＰａ、１２０℃での表面弾性率：Ｅ＝１．０ＧＰａ）を設けた以外は、実施例１と同様にして、エンボス処理を行った反射防止フィルムを作製した。
反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７４】
［Ｓａｍｐｌｅ　３］
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、直接ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：２μｍ）を設けた以外は、実施例１と同様にエンボス加工して反射防止フィルムを作製した。
【００７５】
［Ｓａｍｐｌｅ　４］
ハードコート層用塗布液を用いて、ハードコート層（屈折率：１．５１、膜厚：６μｍ）とした以外は、実施例１と同様にエンボス加工して反射防止フィルムを作製した。
【００７６】
［Ｓａｍｐｌｅ　５］
プライマー層用塗布液Ｃを用いて、プライマー層（屈折率：１．４９、膜厚：２μｍ、常温での表面弾性率：Ｅ＝４．５ＧＰａ、１２０℃での表面弾性率：Ｅ＝１．１ＧＰａ）、高屈折率層用塗布液Ｂを用いて、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：１０７ｎｍ）、さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率：１．４３、膜厚：８６ｎｍ）を設けた以外は、実施例１と同様にして、エンボス処理を行った反射防止フィルムを作製した。
反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７７】
［Ｓａｍｐｌｅ　６］
プライマー層用塗布液Ｃを用いて、プライマー層（屈折率：１．４９、膜厚：２μｍ、常温での表面弾性率：Ｅ＝４．５ＧＰａ、１２０℃での表面弾性率：Ｅ＝１．１ＧＰａ）、高屈折率層用塗布液Ｂを用いて、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：１０７ｎｍ）、さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗布液Ｂをグラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率：１．４３、膜厚：８６ｎｍ）を設けた以外は、実施例１と同様にして、エンボス処理を行った反射防止フィルムを作製した。
反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７８】
［Ｓａｍｐｌｅ　７］
プライマー層用塗布液Ｃを用いて、プライマー層（屈折率：１．４９、膜厚：２μｍ、常温での表面弾性率：Ｅ＝４．５ＧＰａ、１２０℃での表面弾性率：Ｅ＝１．１ＧＰａ）、高屈折率層用塗布液Ｂを用いて、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：１０７ｎｍ）を設けた以外は、実施例１と同様にして、エンボス処理を行った反射防止フィルムを作製した。
反射防止フィルム表面は、目視でざらつき感のなく、質感の高いものであった。また、各層の厚さを調べたところ、いずれの層の厚さも実質的に均一（層の厚さの平均値±１％未満）であった。
【００７９】
【表１】
2004004404.tif 000005
【００８０】
Ｓａｍｐｌｅ　１、２、５、６、７の反射防止フィルムは、ギラツキと防眩性が両立され、低反射であり非常に好ましい反射特性を有するだけでなく、動摩擦が低いため、耐傷性に優れ、純水の接触角が高いことから、撥水、撥油性に優れるため、防汚性に優れ、さらに、鉛筆硬度が高く、傷がつき難い。
Ｓａｍｐｌｅ３の反射防止フィルムは、表面硬度が低く、Ｓａｍｐｌｅ　４の反射防止フィルムは算術平均粗さが小さく防眩性が悪いため表示品位に劣っていた。
【００８１】
［実施例２］
実施例１で作成したＳａｍｐｌｅ　１の反射防止フィルムを、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【００８２】
［実施例３］
実施例２の鹸化処理を、１．０規定のＫＯＨ水溶液を＃３バーにて反射防止フィルムの裏面に塗布し、膜面温度６０℃にて１０秒間処理した後に水洗、乾燥して行った以外は実施例２と同様にして、液晶表示装置に貼り付けたところ、実施例２と同様の表示品位の高い表示装置が得られた。
【００８３】
［実施例４］
実施例３の反射防止フィルムを貼り付けた透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムおよびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビュ−フィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【００８４】
［実施例５］
実施例１で作成したＳａｍｐｌｅ　１の反射防止フィルムを有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
【００８５】
［実施例６］
実施例２で作成した片面反射防止フィルム付き偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示が得られた。
【００８６】
［実施例７］
実施例１で作成したＳａｍｐｌｅ　５の反射防止フィルムを、２．０規定、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【００８７】
［実施例８］
実施例７の鹸化処理を、１．０規定のＫＯＨ水溶液を＃３バーにて反射防止フィルムの裏面に塗布し、膜面温度６０℃にて１０秒間処理した後に水洗、乾燥して行った以外は実施例７と同様にして、液晶表示装置に貼り付けたところ、実施例２と同様の表示品位の高い表示装置が得られた。
【００８８】
［実施例９］
実施例８の反射防止フィルムを貼り付けた透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムおよびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビュ−フィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【００８９】
［実施例１０］
実施例１で作成したＳａｍｐｌｅ　５の反射防止フィルムを有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
【００９０】
［実施例１１］
実施例７で作成した片面反射防止フィルム付き偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示が得られた。
【００９１】
【発明の効果】
本発明者は、微粒子をマット材として使用せずに塗布層表面を上記の表面粗さの状態とする手段を検討し、エンボス加工との簡単な手段によって、塗布層の厚さを均一に保った状態で、上記の表面粗さを達成することに成功した。よって、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層が塗布層であるにもかかわらず、蒸着層からなる反射防止フィルムに匹敵する反射防止機能、防眩機能と高精細適性を有している。本発明の反射防止フィルムは、塗布とエンボス加工との簡単な工程により製造することができる。従って、蒸着層からなる反射防止フィルムとは異なり、大量生産に適している。以上のような反射防止フィルムを用いることで、画像表示装置の画像表示面における外光の反射を有効に防止すると同時に、背景の映り込みを有効に減少することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】反射防止フィルムへの防眩性の付与法を示す模式図である。
【図２】エンボス加工後の反射防止フィルムの状態を示す断面模式図である。
【符号の説明】
１反射防止フィルム
２透明支持体
３反射防止層
４エンボスロール
５バックアップロール
１１低屈折率層
１２ハードコート層
１３透明支持体
１４高屈折率層
１５中屈折率層
１６プライマー層
【図１】
2004004404.tif 000006
【図２】
2004004404.tif 000007