(57)【要約】【課題】製造工程を簡単にして費用を節減できるフラットディスプレイパネル装置の電磁波遮蔽膜及びこれを含む前面フィルターを提供する。【解決手段】フラットディスプレイパネルの前面フィルター１０２は、装置の前面に取り付けられ、近赤外線が外部に放射されることを遮断する近赤外線遮蔽膜８６と、電磁波を吸収して外部に放出されることを遮断する電磁波遮蔽膜８４と、電磁波遮蔽膜３４の前面に形成されるガラス基板８２と外部から入射する光が反射されることを防止する反射防止膜８０、８８を含む。電磁波遮蔽膜８４は、導電性物質（金、銀、銅、アルミニュウム）の交差構造で形成される網目と、前記網目の外側に形成され、この網目を支持して画面の有効表示領域を決める網フレームとで構成される。【選択図】 図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラットパネルディスプレイ装置の前面に取り付けられ、近赤外線が外部に反射されることを遮断する近赤外線遮断膜と、電磁波を吸収して外部に放出されることを遮断する電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜の前面に形成されるガラスと、外部からの入射光が反射されることを防止する反射防止膜を含むフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタにおいて、
前記電磁波遮蔽膜は、導電性物質の交差構造で形成された網目と、前記網目の外側領域に形成され、前記網目を支持して画面の有効表示領域を決める網フレームからなることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項２】
前記フラットパネルディスプレイ装置の前面と前記近赤外線遮蔽膜の間には、外部からの入射光を反射することを防止する反射防止膜が、さらに含まれることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項３】
前記網目は、ポリエチレンテレフタレートと、金属フォイルの２層構造からなるベースフィルムを、エッチングによって形成した導電性網であることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項４】
前記網フレームは、銀、銅、金、アルミニウムの中から選択されたものであることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項５】
前記網フレームは、金属フォイルを酸化することによって形成されることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項６】
前記網フレームは、金属フォイル上に化合物薄膜をコーティングして形成されることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項７】
前記網フレームは、無電解メッキにより金属フォイルの表面を黒色化させて形成されることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項８】
前記網フレームは、金属フォイルの表面に、インク又は染料で印刷して形成されることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項９】
フラットパネルディスプレイ装置の前面に取り付けられ、近赤外線が外部に放射されることを遮断する近赤外線遮蔽膜と、電磁波を吸収して外部に放出されることを遮断する電磁波遮蔽膜と、外部からの入射光が反射されることを防止する反射防止膜が含まれるフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタにおいて、
前記電磁波遮蔽膜はポリエチレンテレフタレートと金属フォイルの２層構造からなるベースフィルムをパターニングして形成される網目と、前記網目の外側領域を取り囲み、ポリエチレンテレフタレートと金属フォイルの２層構造で形成された網フレームを含むことを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項１０】
前記フラットパネルディスプレイ装置の前面と前記近赤外線遮蔽膜の間には、外部からの入射光が反射されることを防止する反射防止膜が、さらに含まれることを特徴とする請求項９に記載のフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項１１】
導電性物質の交差構造で形成される網目と、前記網目の外側領域を取り囲み、前記網目を支持して画面の有効表示領域を決める網フレームから構成されることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜。
【請求項１２】
前記網目は、ポリエチレンテレフタレートと金属フォイルの２層構造からなるベースフィルムをパターニングして形成されることを特徴とする請求項１１に記載のフラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜。
【請求項１３】
前記網目フレームは、ポリエチレンテレフタレートと金属フォイルの２層構造で形成されることを特徴とする請求項１１に記載のフラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜及びこれを含む前面フィルタに関するものであり、特に製造工程を簡単にして費用を節減できるフラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜及びこれを含む前面フィルタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、フラットパネルディスプレイ装置が開発され、広く普及している。その代表的例として液晶ディスプレイ（ＬＣＤディスプレイ）とプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が挙げられる。
【０００３】
特に、プラズマディスプレイパネルは、Ｈｅ+Ｘｅ、Ｎｅ+Ｘｅ、Ｈｅ+Ｎｅ+Ｘｅなどの不活性混合ガスの放電時に発生する１４７ｎｍの紫外線により、赤色、緑色、青色を発光する蛍光体を発光させることによって文字またはグラフィックを含んだ画像を表示する。
【０００４】
このようなＰＤＰは、現在では大量生産段階にあり、最近の技術の進歩により薄型化と大型化が容易になっただけでなく、より向上した画質を提供する。特に、交流型３電極面放電方式のＰＤＰの場合、放電によって形成される荷電粒子（壁電荷）が表面に蓄積され、放電により発生するスパッタリングから電極を保護する。そのため、３電極交流面放電型ＰＤＰは、低電圧駆動と長寿命の長所を有する。
【０００５】
図１は、従来のプラズマディスプレイパネルの放電セル構造を示す斜視図である。
【０００６】
図１を参照すると、交流型３電極面放電方式のＰＤＰの放電セルは、上部基板１０上に形成されたスキャン電極Ｙ及びサステイン電極Ｚと、下部基板１８上に形成されたアドレス電極Ｘを備える。スキャン電極Ｙとサステイン電極Ｚのそれぞれは、透明電極１２Ｙ、１２Ｚと、透明電極１２Ｙ、１２Ｚの線幅より小さい線幅を有して透明電極の一側縁に形成される金属バス電極１３Ｙ、１３Ｚを含む。
【０００７】
透明電極１２Ｙ、１２Ｚは、通常、インジウム−スズ−オキサイド（Indium−Tin−Oxide：ＩＴＯ）であって上部基板１０上に形成される。金属バス電極１３Ｙ、１３Ｚは、典型的にはクロム（Ｃｒ）などの金属により透明電極(１２Ｙ、１２Ｚ)上に形成され、抵抗が高い透明電極１２Ｙ、１２Ｚによる電圧降下を減らす役割を有する。スキャン電極Ｙとサステイン電極Ｚが並んで形成された上部基板１０には、上部誘電体層１４と保護膜１６が積層される。上部誘電体層１４にはプラズマ放電時、発生した壁電荷が蓄積される。保護膜１６は、プラズマ放電時、発生したスパッタリングによる上部誘電体層１４の損傷を防止すると共に、２次電子の放出効率を高める。保護膜１６としては、通常酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が使用される。
【０００８】
アドレス電極Ｘが形成された下部基板１８上には、下部誘電体層２２、隔壁２４が形成され、下部誘電体層２２と隔壁２４の表面には、蛍光体層２６が塗布される。アドレス電極Ｘは、スキャン電極Ｙ及びサステイン電極Ｚと交差する方向に形成される。隔壁２４は、ストライプ（Stripe）または格子状に形成され、放電により生成された紫外線及び可視光が隣接した放電セルに漏れることを防止する。
蛍光体層２６は、プラズマ放電時発生した紫外線により励起されて、赤色、緑色または青色のうちいずれか一つの可視光線を発生する。上／下部基板１０、１８と隔壁２４間により決められる放電空間に、不活性混合ガスが注入される。
ＰＤＰは、画像の階調を具現するために、１フレームを発光回数が異なった多くのサブフィールドに分けて時分割駆動するようになる。各サブフィールドは、全画面を初期化させるための初期化期間と、スキャンラインを選択して選択されたスキャンラインからセルを選択するためのアドレス期間と、放電回数によって階調を具現するサステイン期間とに分けられる。
例えば、２５６階調で画像を表示しようとする場合に、図２のように１／６０秒に該当するフレーム期間（１６．６７ｍｓ）は、８個のサブフィールド（ＳＦ１ないしＳＦ８）に分けられる。８個のサブフィールド（ＳＦ１ないしＳＦ８）のそれぞれは、前述したように、初期化期間、アドレス期間、及びサステイン期間に分けられる。各サブフィールドの初期化期間とアドレス期間は、各サブフィールドごとに同一な反面、サステイン期間は各サブフィールドで２ｎ（ｎ=０、１、２、３、４、５、６、７）の比率で増加する。
【０００９】
このようなＰＤＰでは、図２に図示されたように上部基板１０上に電磁波を遮蔽すると同時に、外部光の反射を防止するための前面フィルタ３０が設置される。
【００１０】
前面フィルタ３０は、ガラスタイプ前面フィルタとフィルムタイプ前面フィルタに分けられる。ガラスタイプ前面フィルタとフィルムタイプ前面フィルタは、図３に図示されるようにＰＤＰから発生した電磁波を遮蔽するための電磁波遮蔽膜を有する。
【００１１】
電磁波遮蔽膜３４は、導電性網３６が形成された網目（メッシュユニット）３８と、 網目３８の外側領域を囲むように形成された網フレーム３２と、網目３８及び網フレーム３２と重畳されるブラックフレーム４０を有する。
【００１２】
網目３８は、交差構造を有する導電性網３６から形成される。この導電性網３６は、銀（Ａｇ），銅（Ｃu）等からなるメッシュメタル金属層を、フォトリソグラフィ工程でパターニングして形成する。この場合、交差構造を持つ導電性網３６には、可視光透過によりバイアス角度（bias angle ：θ）に傾いた四角形状のホール等ができる。
【００１３】
網フレーム３２は、網目３８の外側領域を囲み、網目３８を支持する。また、網フレーム３２及び網フレーム３２と電気的に接続されるケース（図示せず）は、接地電圧にされ、ＰＤＰから放出される電磁波を吸収し、それらを放電する。このように、電磁波は、外部に放出されない。このような網フレーム３２は 、通常、銀（Ａｇ）あるいは銅（Ｃｕ）で形成される。
【００１４】
ブラックフレーム４０は、画面の輪郭をはっきりと見えるように、有効表示領域を決める。このようなブラックフレーム４０は、網ブレーン３２より相対的に広い幅であり、黒色セラミック物質で形成される。
【００１５】
従来のブラックフレーム４０は、ガラスタイプ前面フィルタである場合、ガラス基板（図示せず）上に黒色セラミック物質を蒸着した後、パターニングして形成された。このようにブラックフレームを形成する付加的工程を必要とするので、全工程はより複雑になった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、製造工程を簡単にして費用を節減できるフラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜及び、これを含む前面フィルタを提供することをその目的とする。
特に、本発明は、従来の有効表示領域を決定するブラックフレームを除去し、その構造をより単純にしたフラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜及び、これを含む前面フィルタを提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明によるフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタは、フラットパネルディスプレイ装置の前面に取り付けられ、近赤外線が外部に放射されることを遮蔽する近赤外線遮蔽膜と、電磁波を吸収して外部に放出されないようにする電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜の前面に形成されるガラスと、外部からの入射光を反射することを防止する反射防止膜を含み、前記電磁波遮蔽膜は、導電性物質の交差構造で形成された網目（メッシュユニット）と、前記網目の外側領域を囲み、前記網目を支持して画面の有効表示領域を決める網フレームで構成されることを特徴とする。
【００１８】
本発明によるフラットパネルディスプレイ装置の前面フィルタは、フラットパネルディスプレイ装置の前面に取り付けられ、近赤外線が外部に放射されることを遮蔽する近赤外線遮蔽膜と、電磁波を吸収して外部に放出されることを遮蔽する電磁波遮蔽膜と、外部からの入射光を反射することを防止する反射防止膜を含み、前記電磁波遮蔽膜は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレートPoly Ethylene Terephthalate）と金属フォイル（Metal Foil）の2層構造で形成されたベ−スフィルムをパターニングして形成された網目と、前記網目の外側領域を囲み、ＰＥＴ(Poly Ethylene Terephthalate )と金属フォイル（Metal Foil）の２層構造で形成された網フレームからなることを特徴とする。
【００１９】
本発明によるフラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜は、導電性物質の交差構造で形成された網目と、前記網目の外側領域を囲み、前記網目を支持して画面の有効表示領域を決定するようにする網フレームで構成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、製造工程を簡単にして費用を節減できるフラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜及びこれを含む前面フィルタを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図５〜図７を参照して、本発明の望ましい実施形態について説明する。
図５は本発明の第１実施形態による前面フィルタを現す断面図である。
図５に示されるように、ガラスタイプ前面フィルタ１０２は、ガラス基板８２の前面に設けられた第１反射防止膜８０と、ガラス基板８２の背面に順次、電磁波遮蔽膜８４と、近赤外線遮蔽膜８６と、そして第２反射防止膜８８を設ける。ガラスタイプ前面フィルタ１０２は、ＰＤＰ１００の前面側で発生する電磁波を遮蔽し、外部光の反射を防止し、近赤外線を遮蔽し、そして色補正をする。
【００２２】
ガラス基板８２は、強化ガラスであって、ガラスタイプ前面フィルタ１０２を支持して、前面フィルタ１０２及びＰＤＰ１００が、外部衝撃に対して破損しないように保護する。
第１及び第２反射防止膜８０、８８は、外部からの入射光が外部に反射されることを防止して、コントラストを向上させるようにする。電磁波遮蔽膜８４は、ＰＤＰ１００から発生する電磁波を吸収し、その電磁波が外部に放出することを遮蔽する。
【００２３】
近赤外線遮蔽膜８６は、ＰＤＰ１００で発生される約８００〜１０００ｎｍ波長帯の近赤外線を吸収して、外部に放射されることを遮蔽しながら、リモコン等で発生する制御用赤外線（約９４７ｎｍ程度）が、近赤外線の妨害なくＰＤＰセットに備えられた赤外線受信部に正常に、入力できるようにする。又、近赤外線遮蔽膜８７は、色調を調節することによって色純度を高める色調節染料（Color Dye）を含む色補正膜からなる。このような多数の薄膜８０、８４、８６、８８は、粘着剤又は接着剤によってガラス基板に接着される。
【００２４】
このようなガラスタイプ前面フィルタ１０２は、プラズマ ディスプレイ パネル１００の前面に設置される。一方プラズマ ディスプレイ パネル１００は、サステイン電極対が形成された上部基板６０と、アドレス電極が形成された下部基板６６を有する。
プラズマ ディスプレイ パネル１００に関する限り、隔壁７４は、上部基板６０と下部基板６６の間に形成される。
【００２５】
本発明の第１実施形態による電磁波遮蔽膜８４は、図６に図示されるように、導電性網７６が形成された網目７８と、前記網目７８の外側領域を囲むように形成される網フレーム７２を有する。
【００２６】
網目７８は、ＰＥＴと、金属フォイルの２層構造で形成されたベースフィルムを、エッチングすることによって得られ、交差構造で形成された導電性網７６になる。この導電性網７６は、銀（Ａｇ），銅（Ｃｕ）．金（Ａｕ），アルミニウム（Ａｌ）等を利用した網金属層をフォトリソグラフィ工程でパターニングして形成する。 この場合、交差構造を有する導電性網７６には、可視光透過によりバイアス角度に傾いた四角形状のホールができる。
【００２７】
網フレーム７２は、網目７８の外側領域を囲むように形成され、網目７８を支持するのと同時に、画面の輪郭を視覚的に明確にする有効表示領域を決定する役割をする。網フレーム７２は、エッチングされない金属層であり、該金属層はエッチング工程下、網目７８の外側領域をマスクすることによって形成される。
【００２８】
したがって、網フレーム７２はＰＥＴと金属フォイルの２層構造で形成される。 同時に、金属薄膜の材質は、導電性網７６と同一の、銀（Ａｇ），銅（Ｃｕ），金（Ａｕ），アルムニウム（Ａｕ）等の金属が選択される。
【００２９】
さらにいえば、網フレーム７２の金属フォイルの表面は、黒色化される。好ましくは、金属フォイルの表面は、黒色、茶色、白色の中のどれか一色で表面処理をするのが望ましい。
【００３０】
金属フォイルの表面を黒色化させる方法としては、電気化学的な処理、選択的印刷、化合物薄膜コーティング等の方法がある。電気化学的な処理方法としては、例えば酸化方法や無電解メッキ法等がある。 つまり、金属フォイルの表面を酸化させることや、化合物薄膜をコーティングできるし、金属フォイルの表面にインク又は染料で印刷する方法により表面処理をできる。
【００３１】
上記のように金属フォイルの表面を加工することは、網目７８と網フレーム７２を形成した後に可能で、又は、ＰＥＴと金属薄膜の２層構造で形成されたベースフィルムの表面を上記のような方法で加工した後、 網目７８と網フレーム７２を形成することも可能である。
また、網フレーム７２は、電気的に接続されたケース（図示せず）と共に接地され、ＰＤＰ１００から放出された電磁波を吸収して放電することにより、電磁波が外部に放出されることを遮蔽する。
【００３２】
このような網フレーム７２は、従来のブラックフレームと同一な幅で形成される。
図７は、本発明の第２実施形態による前面フィルタを具備したＰＤＰを現す断面図である。図７に図示されるように、フィルムタイプ前面フィルタはＰＤＰ１００の上部基板６０に、順次設けられた近赤外線遮蔽膜８６、電磁波遮蔽膜８４、そして反射防止膜８０を具備する。一方、近赤外線遮蔽膜８６及び反射防止膜８０は、図５に詳細に説明されているので、これに対する詳細な説明は省略する。
【００３３】
本発明の第２実施形態による電磁波遮蔽膜８４の網フレーム７２は 図６に図示されるように、網目７８の外側領域を囲むように形成され、網目７８を支持すると同時に、画面の輪郭を視覚的に明確にする有効表示領域を決定する役割をする。
また、網フレーム７２は網フレーム７２と電気的に接続されたケース（図示せず）と共に接地され、ＰＤＰから放出された電磁波を吸収して放電し、電磁波が外部に放出することを遮蔽する。
【００３４】
このような網フレーム７２は、従来ブラックフレームと同一な幅で形成される。有効表示領域を決定するために、例えば、銀（Ａｇ），銅（Ｃｕ）金（Ａｕ），アルミニウム（Ａｌ）等からなる金属層が、パターニング工程を経て、金属フォイルの表面が黒色化される。
金属薄膜の表面を黒色化させる方法としては、電気化学的な処理、選択的印刷、化合物薄膜コーティング等の方法がある。電気化学的な処理方法としては、例えば酸化方法や無電解メッキ法等がある。
【００３５】
本発明の第２実施形態によるフィルムタイプ前面フィルタ１０４は、ＰＤＰ１００の上部基板６０上に設けられるために、図５に図示されたガラスタイプ前面フィルタに使用されているガラス基板８２を必要としない。それゆえ、図５に図示されたガラスタイプ前面フィルタに比べ、相対的にＰＤＰセットの厚さ及び重さを減少させることができる。
上記のように、本発明は、製造工程を簡単にして費用を節減できるフラットパネルディスプレイ装置の電磁波遮蔽膜及びこれを含む前面フィルタを提供する。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】従来のプラズマディスプレイパネルの放電セル構造を現す斜視図である。
【図２】上部基板上に電磁波を遮蔽すると同時に、外部光の反射を防止するための前面フィルタが設けられていることを説明する図面である。
【図３】従来の電磁波遮蔽膜を説明する図面である。
【図４】従来の電磁波遮蔽膜の断面図を図示した図面である。
【図５】本発明の第１実施形態による前面フィルタを示す断面図である。
【図６】本発明による電磁波遮蔽膜を説明する図面である。
【図７】本発明の第２実施形態による前面フィルタを有するＰＤＰを示す断面図である。
【符号の説明】
【００３７】
１０：上部基板            １４：誘電対層         １６：保護膜
１８：下部基板            ２２:下部誘電体層      ２４：隔壁
２６：蛍光体層            ３０；前面フィルタ   ３２；網フレーム
３４；電磁波遮蔽膜        ３６；導電性網         ３８；網目
４０；ブラックフレーム     ６０；上部基板         ６６；下部基板
７２；網フレーム          ７４；隔壁             ７６；導電性網
７８；網目                ８０；第一反射防止膜    ８２；ガラス基板
８４；電磁波遮蔽膜        ８６；近赤外線遮蔽膜   ８８；第２反射防止膜
１００；ＰＤＰ          １０２；ガラスタイプ前面フィルタ
１０４；フィルムタイプ前面フィルタ   Ｘ；アドレス電極    Ｙ；走査電極
Ｚ；サステイン電極   １２Ｙ、１２Ｚ；透明電極   １３Ｙ、１３Ｚ；バス電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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