(57)【要約】【課題】本発明は、偏光性能が良く、薄膜化が可能であり、製造効率のよい偏光板を提供することを主目的とするものである。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層と、前記濡れ性変化層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンに沿って形成され、かつ平板状色素を含有する偏光層とを有することを特徴とする偏光板を提供する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層と、前記濡れ性変化層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンに沿って形成され、かつ平板状色素を含有する偏光層とを有することを特徴とする偏光板。
【請求項２】
前記平板状色素がアントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素、ナフタロシアニン系色素、キナクリドン系色素、ジオキサジン系色素、インダンスレン系色素、アクリジン系色素、ペリレン系色素、ピラゾロン系色素、アクリドン系色素、ピランスロン系色素、およびイソビオラントロン系色素からなる群より選ばれる色素であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記濡れ性変化層が、光触媒およびバインダを含有する光触媒含有濡れ性変化層であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板を、前記濡れ性変化層と前記光触媒処理層とが２００μｍ以下となるように間隙をおいて配置された後、所定の方向からエネルギー照射されることにより、濡れ性が変化する濡れ性変化用層であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の偏光板。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の偏光板と、液晶セルとが積層されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
基材および、前記基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化し、かつ光触媒およびバインダを含有する光触媒含有濡れ性変化層を有する偏光板形成用基板上に、エネルギー照射を行うことにより前記光触媒含有濡れ性変化層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、
前記光触媒含有濡れ性変化層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程と
を有することを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項７】
基材および、前記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化用層を有する偏光板形成用基板と、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板とを、前記濡れ性変化用層および前記光触媒処理層とが２００μｍ以下となるように間隙をおいて配置した後、エネルギー照射を行うことにより前記濡れ性変化用層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、
前記濡れ性変化用層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程と
を有することを特徴とする偏光板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置等に用いることが可能な偏光板およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は、各種ディスプレー用の表示装置として目覚ましい発展を遂げており、この液晶表示装置の薄型化に伴い、液晶表示装置に用いられる偏光板に対しても、薄膜化や製造効率の向上等、様々な要求がある。
【０００３】
従来より一般的に用いられている偏光板としては、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸し、その表面にヨウ素や二色性直接染料等を吸着配向させたものが挙げられ、強度の付与や、水分からの保護等の目的から、上記偏光板の両面にトリアセチルセルロースフィルムのような透明保護フィルムと貼りあわせて用いられている。
【０００４】
しかしながら、上記の偏光板においては、通常延伸後のフィルムの厚みは３０μｍ程度有することから薄膜化が困難であるという問題があった。
【０００５】
このような問題を解決するため、例えば基材をラビング処理した後、コロナ処理を施し、その上に二色性直接染料を塗布し、ラビング方向に上記二色性直接染料を配向させて偏光層を形成する偏光板が提案されている（特許文献１）。しかしながら、上記方法等により得られる偏光板は偏光性能が不十分であることから、実用化には至っておらず、透過率やコントラストについて、より一層の向上が求められている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平３−５４５０６号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
以上のことから、偏光性能が良く、薄膜化が可能であり、製造効率のよい偏光板の提供が望まれている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基材と、上記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層と、上記濡れ性変化層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンに沿って形成され、かつ平板状色素を含有する偏光層とを有することを特徴とする偏光板を提供する。
【０００９】
本発明によれば、基材上に、上記濡れ性変化層を有し、その表面に濡れ性が変化した濡れ性変化パターンが形成されていることから、例えば上記平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液等を濡れ性変化層上に塗布することにより、濡れ性の差から生じる平板状色素との親和性の差を利用して、上記濡れ性変化パターンに沿って、平板状色素を付着させることができる。これを利用して、上記濡れ性変化パターンの形状を、所定の形状としておくことにより、上記平板状色素を一定方向に整列して配向させ、偏光層とすることが可能となるのである。従って、本発明の偏光板は、基材を延伸等する必要がないことから、膜厚を薄いものとすることができ、また特別な装置等も必要とせず、製造効率やコストの面からも好ましいものとすることができるのである。
【００１０】
本発明においては、上記平板状色素がアントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素、ナフタロシアニン系色素、キナクリドン系色素、ジオキサジン系色素、インダンスレン系色素、アクリジン系色素、ペリレン系色素、ピラゾロン系色素、アクリドン系色素、ピランスロン系色素、およびイソビオラントロン系色素からなる群より選ばれる色素であることが好ましい。上記平板状色素は、リオトロピック液晶として用いることができ、容易に上記偏光層を形成することが可能となるからである。
【００１１】
ここで、本発明においては、上記濡れ性変化層が、光触媒およびバインダを含有する光触媒含有濡れ性変化層であってもよい。上記濡れ性変化層が光触媒を含有することにより、この光触媒含有濡れ性変化層にエネルギーを照射することによって、光触媒含有濡れ性変化層自体に含有される光触媒が作用し、容易に表面の濡れ性を変化させることが可能となるからである。
【００１２】
また、本発明においては、上記濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板を、上記濡れ性変化層と上記光触媒処理層とが２００μｍ以下となるように間隙をおいて配置された後、所定の方向からエネルギー照射されることにより、濡れ性が変化する濡れ性変化用層であってもよい。上記光触媒処理層側基板を用いて上記濡れ性変化用層にエネルギー照射を行うことにより、上記光触媒処理層中の光触媒が作用し、容易に上記濡れ性変化用層表面の濡れ性を変化させることが可能となるからである。
【００１３】
本発明はまた、上述した偏光板と、液晶セルとが積層されたことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００１４】
本発明によれば、上記偏光板を用いることにより、液晶表示装置の膜厚を薄いものとすることができ、また製造効率やコストの面でも好ましい液晶表示装置とすることが可能となるのである。
【００１５】
本発明は、基材および、上記基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化し、かつ光触媒およびバインダを含有する光触媒含有濡れ性変化層を有する偏光板形成用基板上に、エネルギー照射を行うことにより上記光触媒含有濡れ性変化層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、
上記光触媒含有濡れ性変化層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程と
を有することを特徴とする偏光板の製造方法を提供する。
【００１６】
本発明によれば、上記濡れ性変化パターン形成工程によって、上記光触媒含有濡れ性変化層の表面の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成することができる。これにより、容易に偏光層形成工程により、上記平板状色素を一定方向に整列して表面に配向させ、偏光層とすることができることから、効率よく偏光板を製造することが可能となるのである。
【００１７】
またさらに、本発明は、基材および、上記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化用層を有する偏光板形成用基板と、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板とを、上記濡れ性変化用層および上記光触媒処理層とが２００μｍ以下となるように間隙をおいて配置した後、エネルギー照射を行うことにより上記濡れ性変化用層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、
上記濡れ性変化用層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程と
を有することを特徴とする偏光板の製造方法を提供する。
【００１８】
本発明によれば、上記濡れ性変化用層を有する偏光板形成用基板を用いることから、上記光触媒処理層側基板を用いてエネルギー照射することによって、容易に上記濡れ性変化用層の表面の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成することができるのである。これにより、容易に偏光層形成工程により、上記平板状色素を一定方向に整列して表面に配向させ、偏光層とすることができることから、効率よく偏光板を製造することが可能となるのである。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明は、液晶表示装置等に用いることが可能な偏光板、その偏光板を用いた液晶表示装置、および偏光板製造方法に関するものである。以下、それぞれについてわけて説明する。
【００２０】
Ａ．偏光板
まず、本発明の偏光板について説明する。
【００２１】
本発明の偏光板は、基材と、上記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層と、上記濡れ性変化層の濡れ性が変化したパターンに沿って形成され、かつ平板状色素を偏光層とを有するものである。
【００２２】
本発明によれば、上記濡れ性変化層を有することから、濡れ性変化層上にパターン状にエネルギーを照射することにより、表面の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを容易に形成することができる。ここで、表面の濡れ性が異なる場合、他の物質との親和性は異なるものとなることから、上記平板状色素との親和性を異なるものとすることができる。したがって、例えば上記平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を、上記濡れ性変化層上に塗布することにより、上記濡れ性変化パターンに沿って、上記平板状色素を付着させることができるのである。これにより、上記濡れ性変化パターンの形状を所定の形状とすることによって、上記平板状色素を目的とするパターン状に配置することが可能となることから、一定方向に整列して配向させ、偏光層とすることができるのである。
【００２３】
ここで、本発明の偏光板は、基材を延伸等する必要がないことから、基材の膜厚を自由に選択することができ、また種類も偏光板の用途等に合わせて、様々な種類のものを用いることが可能となるのである。またさらに、本発明によれば、上記平板状色素を含有する変化層形成用塗工液等を塗布することによって、容易に上記濡れ性変化層表面に上記平板状色素を配向させることができることから、複雑な装置や工程を必要とせず、製造効率やコストの面からも好ましい偏光板とすることができるのである。以下、本発明の偏光板の各構成について説明する。
【００２４】
１．濡れ性変化層
まず、本発明の偏光板に用いられる濡れ性変化層について説明する。本発明の偏光板に用いられる濡れ性変化層は、後述する基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する層である。ここで、表面の濡れ性が変化するとは、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により、濡れ性変化層表面に存在する官能基が分解されること等によって、表面に露出する官能基の種類が異なるものとなり、濡れ性が変化し、例えば後述する平板状色素が有する官能基との親和性が変化することをいう。具体的には、水の接触角が、エネルギー照射していない部分においては９０°以上、好ましくは１４０°以上であることが好ましい。また、エネルギー照射すると水の接触角が低下して３０°以下、より好ましくは２０°度以下となることが好ましい。
【００２５】
本発明においては、このような性質を有する層であれば、特に限定されるものではないが、濡れ性変化層が、光触媒およびバインダを含有する光触媒含有濡れ性変化層である場合（以下、第１の態様とする。）と、濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板を、濡れ性変化層と光触媒処理層とが所定の間隙となるように配置された後、所定の方向からエネルギーを照射されることにより表面の濡れ性が変化する濡れ性変化用層である場合（以下、第２の態様とする。）とのどちらかの態様であることが好ましい。以下、それぞれの態様について説明する。
【００２６】
（第１の態様）
まず、本発明に用いられる濡れ性変化層の第１の態様について説明する。本発明に用いられる光触媒含有濡れ性変化層の第１の態様は、光触媒およびバインダを含有する層である。本態様によれば、光触媒含有濡れ性変化層上にエネルギー照射をすることにより、光触媒含有濡れ性変化層自体に含有される光触媒の作用により、表面の濡れ性を変化させることができる。このような光触媒含有濡れ性変化層を構成する光触媒およびバインダについてそれぞれ説明する。
【００２７】
ａ．光触媒
まず、本態様に用いられる光触媒について説明する。本態様に用いられる光触媒としては、光半導体として知られる例えば二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）、および酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）を挙げることができ、これらから選択して１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００２８】
本態様においては、特に二酸化チタンが、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性もなく、入手も容易であることから好適に使用される。二酸化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本態様ではいずれも使用することができるが、アナターゼ型の二酸化チタンが好ましい。アナターゼ型二酸化チタンは励起波長が３８０ｎｍ以下にある。
【００２９】
このようなアナターゼ型二酸化チタンとしては、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（石原産業（株）製ＳＴＳ−０２（平均粒径７ｎｍ）、石原産業（株）製ＳＴ−Ｋ０１）、硝酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（日産化学（株）製ＴＡ−１５（平均粒径１２ｎｍ））等を挙げることができる。
【００３０】
光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効果的に起こるので好ましく、平均粒径が５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下の光触媒を使用するのが特に好ましい。
【００３１】
本態様に用いられる光触媒含有濡れ性変化層中の光触媒の含有量は、５〜６０重量％、好ましくは２０〜４０重量％の範囲で設定することができる。また、光触媒処理層の厚みは、０．０５〜１０μｍの範囲内が好ましい。
【００３２】
ｂ．バインダ
次に、本態様に用いられるバインダについて説明する。本態様においては、光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性の変化をバインダ自体に光触媒が作用することにより行う場合（第１の形態）と、エネルギー照射による光触媒の作用により分解され、これにより光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性を変化させることができる分解物質を光触媒含有濡れ性変化層に含有させることにより変化させる場合（第２の形態）と、これらを組み合わせることにより行う場合（第３の形態）の三つ形態に分けることができる。上記第１の形態および第３の形態において用いられるバインダは、光触媒の作用により光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性を変化させることができる機能を有する必要があり、上記第２の形態では、このような機能は特に必要ない。
【００３３】
以下、まず第２の形態に用いられるバインダ、すなわち光触媒の作用により光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性を変化させる機能を特に必要としないバインダについて説明し、次に第１の形態および第３の形態に用いられるバインダ、すなわち光触媒の作用により光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性を変化させる機能を有するバインダについて説明する。
【００３４】
上記第２の形態に用いられる、光触媒の作用により光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性を変化させる機能を特に必要としないバインダとしては、主骨格が上記光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであれば特に限定されるものではない。具体的には、有機置換基を有しない、もしくは多少有機置換基を有するポリシロキサンを挙げることができ、これらはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を加水分解、重縮合することにより得ることができる。
【００３５】
このようなバインダを用いた場合は、添加剤としてエネルギー照射による光触媒の作用により分解され、これにより光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性を変化させることができる分解物質を光触媒含有濡れ性変化層中に含有させることが必須となる。
【００３６】
次に、上記第１の形態および第３の形態に用いられる、光触媒の作用により光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性を変化させる機能を必要とするバインダについて説明する。このようなバインダとしては、主骨格が上記の光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであって、光触媒の作用により分解されるような有機置換基を有するものが好ましく、例えば、（１）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、（２）反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
【００３７】
上記の（１）の場合、一般式：
ＹｎＳｉＸ（４−ｎ）
（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）
で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。なお、ここでＹで示される基の炭素数は１〜２０の範囲内であることが好ましく、また、Ｘで示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。
【００３８】
また、バインダとして、特にフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンを好ましく用いることができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものを使用することができる。
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ  ＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ  ＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ２Ｈ４ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
【００３９】
上記のようなフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンをバインダとして用いることにより、光触媒含有濡れ性変化層のエネルギー未照射部においては、表面にフッ素を有する部分とすることができ、またエネルギー照射された部分においては、フッ素等が除去されて、表面にＯＨ基等を有する部分とすることができる。従って、エネルギー照射部とエネルギー未照射部とにおいて、表面の濡れ性が大きく異なるものとすることができ、後述する平板状色素との親和性を大きく異なるものとすることができるのである。
【００４０】
また、上記の（２）の反応性シリコーンとしては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げることができる。
【００４１】
【化１】
2004348043.tif 000003
【００４２】
ただし、ｎは２以上の整数であり、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であり、モル比で全体の４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルである。また、Ｒ１、Ｒ２がメチル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメチル基が６０％以上であることが好ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも１個以上の水酸基等の反応性基を有する。
【００４３】
また、上記のオルガノポリシロキサンとともに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしない安定なオルガノシリコン化合物をバインダに混合してもよい。
【００４４】
ｃ．分解物質
上記第２の形態および第３の形態においては、さらにエネルギー照射による光触媒の作用により分解され、これにより光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性を変化させることができる分解物質を光触媒含有濡れ性変化層に含有させる必要がある。すなわち、バインダ自体に光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性を変化させる機能が無い場合、およびそのような機能が不足している場合に、上述したような分解物質を添加して、上記光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性の変化を起こさせる、もしくはそのような変化を補助させるようにするのである。
【００４５】
このような分解物質としては、光触媒の作用により分解し、かつ分解されることにより光触媒含有濡れ性変化層表面の濡れ性を変化させる機能を有する界面活性剤を挙げることができる。具体的には、日光ケミカルズ（株）製ＮＩＫＫＯＬＢＬ、ＢＣ、ＢＯ、ＢＢの各シリーズ等の炭化水素系、デュポン社製ＺＯＮＹＬ  ＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝子（株）製サーフロンＳ−１４１、１４５、大日本インキ化学工業（株）製メガファックＦ−１４１、１４４、ネオス（株）製フタージェントＦ−２００、Ｆ２５１、ダイキン工業（株）製ユニダインＤＳ−４０１、４０２、スリーエム（株）製フロラードＦＣ−１７０、１７６等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げることができ、また、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもできる。
【００４６】
また、界面活性剤の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ナイロン、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマー、ポリマー等を挙げることができる。
【００４７】
ｄ．フッ素の含有
また、本態様においては、光触媒含有濡れ性変化層がフッ素を含有し、さらにこの光触媒含有濡れ性変化層表面のフッ素含有量が、光触媒含有濡れ性変化層に対しエネルギーを照射した際に、上記光触媒の作用によりエネルギー照射前に比較して低下するように上記光触媒含有濡れ性変化層が形成されていることが好ましい。
【００４８】
このような特徴を有する光触媒含有濡れ性変化層であれば、エネルギーをパターン照射することにより、後述するように容易にフッ素の含有量を少なく、例えばＯＨ基等に置換された部分からなるパターンを形成することができる。これにより、後述する平板状色素との親和性を大きく異なるものとすることができるのである。
【００４９】
上述したような、フッ素を含む光触媒含有濡れ性変化層中に含まれるフッ素の含有量としては、エネルギーが照射されて形成されたフッ素含有量が低い領域におけるフッ素含有量が、エネルギー照射されていない部分のフッ素含有量を１００とした場合に１０以下、好ましくは５以下、特に好ましくは１以下である。
【００５０】
このような範囲内とすることにより、エネルギー照射部分と未照射部分との濡れ性に大きな違いを生じさせることができる。したがって、例えばエネルギー照射後の光触媒含有濡れ性変化層と平板状色素との親和性が高い場合には、この濡れ性変化パターンに沿って平板状色素が付着し、濡れ性変化パターン上に平板状色素を配向させることが可能となるのである。なお、この低下率は重量を基準としたものである。
【００５１】
このような光触媒含有濡れ性変化層中のフッ素含有量の測定は、一般的に行われている種々の方法を用いることが可能であり、例えばＸ線光電子分光法（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ，  ＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）とも称される。）、蛍光Ｘ線分析法、質量分析法等の定量的に表面のフッ素の量を測定できる方法であれば特に限定されるものではない。
【００５２】
また、本態様においては、光触媒として上述したように二酸化チタンが好適に用いられるが、このように二酸化チタンを用いた場合の、光触媒含有濡れ性変化層中に含まれるフッ素の含有量としては、Ｘ線光電子分光法で分析して定量化すると、チタン（Ｔｉ）元素を１００とした場合に、フッ素（Ｆ）元素が５００以上、このましくは８００以上、特に好ましくは１２００以上となる比率でフッ素（Ｆ）元素が光触媒含有濡れ性変化層表面に含まれていることが好ましい。
【００５３】
一方、エネルギーをパターン照射して形成される濡れ性変化パターンにおけるフッ素含有量が、チタン（Ｔｉ）元素を１００とした場合にフッ素（Ｆ）元素が５０以下、好ましくは２０以下、特に好ましくは１０以下となる比率で含まれていることが好ましい。これにより、エネルギー照射前とエネルギー照射後との濡れ性の差を大きなものとすることができるからである。
【００５４】
ｅ．光触媒含有濡れ性変化層の形成方法
上述したようにオルガノポリシロキサンをバインダとして用いた場合は、上記光触媒含有濡れ性変化層は、光触媒とバインダであるオルガノポリシロキサンとを必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を基材上に塗布することにより形成することができる。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好ましい。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法により行うことができる。バインダとして紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理を行うことにより、光触媒含有濡れ性変化層を形成することができる。
【００５５】
（第２の態様）
次に、本発明に用いられる濡れ性変化層の第２の態様について説明する。本発明に用いられる濡れ性変化層の第２の態様は、濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板を、濡れ性変化層と光触媒処理層とが所定の間隙となるように配置された後、所定の方向からエネルギーを照射されることにより表面の濡れ性が変化する濡れ性変化用層である場合である。
【００５６】
本態様に用いられる濡れ性変化用層は、例えば図１に示すように、基材１上に形成された濡れ性変化用層２と、光触媒を含有する光触媒処理層３および基体４とを有する光触媒処理層側基板５とを所定の間隙をおいて配置し、例えばフォトマスク６等を介してエネルギー７を照射することにより、エネルギー照射された領域の表面の濡れ性が変化するものである。本態様によれば、上記光触媒処理層側基板を用いることから、濡れ性変化用層中に光触媒が含有される必要がなく、経時的に光触媒が後述する偏光層に作用する可能性を少なくすることが可能であるという利点がある。
【００５７】
以下、本態様に用いられる濡れ性変化用層について説明する。なお、本態様に用いられる光触媒処理層側基板、および光触媒処理層側基板の配置等については、後述する「Ｃ．偏光板の製造方法」の第２実施態様の項で説明するので、ここでの説明は省略する。
【００５８】
ここで、本態様に用いられる濡れ性変化用層は、エネルギー照射に伴い、上記光触媒処理層側基板における光触媒の作用により表面の濡れ性が変化し、後述する偏光層中に含有される平板状色素との親和性が変化する層であれば特に限定されるものではないが、特に上記第１の態様で説明した光触媒含有濡れ性変化層中のバインダと同様の材料で形成することが好ましい。これにより、効率的に表面の濡れ性を変化させることができるからである。なお、このように上記第１の態様における光触媒含有濡れ性変化層中のバインダと同様の材料で形成した濡れ性変化用層の材料および形成方法に関しては、上記第１の態様と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００５９】
また、本態様において、この濡れ性変化用層の厚みは、光触媒による濡れ性の変化速度等の関係より、０．００１μｍから１μｍであることが好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．１μｍの範囲内である。
【００６０】
なお、この濡れ性変化用層には、上記第１の態様における光触媒処理層の説明中「フッ素の含有」の項で記載したものと同様にして同様のフッ素を含有させることができる。
【００６１】
２．基材
次に、本発明に用いられる基材について説明する。本発明においては、上記濡れ性変化層を形成可能であれば、特に限定されるものではなく、用いられる基材の種類は、形成される偏光板の種類により、適宜選択される。また、可撓性を有するもの、例えば樹脂製フィルム等であってもよく、可撓性を有さないもの、例えばガラス基材等であってもよい。
【００６２】
また、本発明の偏光板が、透過型偏光板として用いられる場合には、通常基材に透明性が必要とされるが、例えば、基材の表面に金属等からなる反射層が形成されて反射型偏光板や半透過型偏光板とされる場合には、上記基材に透明性は必ずしも必要とされない。
【００６３】
ここで、本発明に用いられる基材の膜厚は、偏光板の種類や用途によって異なるものであるが、通常１００〜１０００μｍの範囲内とすることが可能である。
【００６４】
３．濡れ性変化パターン
次に、本発明における濡れ性変化パターンについて説明する。本発明における濡れ性変化パターンは、上述した濡れ性変化層の濡れ性が変化したパターンであって、例えば後述する平板状色素を一定方向に整列して配向させる形状、または上記平板状色素を配向させない形状に形成されるものであれば、特に限定されるものではない。本発明においては、このような濡れ性変化パターンが濡れ性変化層表面に形成されていることにより、後述する平板状色素を含有する偏光層用塗工液を塗布することにより、容易に上記平板状色素を一定方向に整列して付着させることができ、偏光層を形成することができるのである。
【００６５】
このような濡れ性変化パターンは、上記濡れ性変化層を、エネルギー照射に伴う光触媒の作用によって、表面の濡れ性を変化させることにより形成することができる。これらの二酸化チタンに代表される光触媒の作用機構は、必ずしも明確なものではないが、光の照射によって生成したキャリアが、近傍の化合物との直接反応、あるいは、酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えられている。本発明においては、このキャリアが濡れ性変化層中の化合物に作用を及ぼすものであると思われる。このようなエネルギー照射による濡れ性変化パターンの形成方法については、後述する「Ｃ．偏光板の製造方法」で説明するので、ここでの説明は省略する。
【００６６】
４．偏光層
次に、本発明に用いられる偏光層について説明する。本発明に用いられる偏光層は、平板状色素を含有するする層であり、その平板状色素が、上記濡れ性変化パターンに沿って、一定方向に整列して配向されているものであれば、特に限定されるものではない。
【００６７】
このような偏光層に用いられる平板状色素としては、例えばアントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素、ナフタロシアニン系色素、キナクリドン系色素、ジオキサジン系色素、インダンスレン系色素、アクリジン系色素、ペリレン系色素、ピラゾロン系色素、アクリドン系色素、ピランスロン系色素、およびイソビオラントロン系色素からなる群より選ばれる色素等が挙げられ、具体的には下記に示す化学式で表されるような物質が挙げられる。
【００６８】
【化２】
2004348043.tif 000004
【００６９】
【化３】
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【００７０】
【化４】
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【００７１】
【化５】
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【００７２】
【化６】
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【００７３】
【化７】
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【００７４】
【化８】
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【００７５】
【化９】
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【００７６】
【化１０】
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【００７７】
【化１１】
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【００７８】
【化１２】
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【００７９】
【化１３】
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【００８０】
【化１４】
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【００８１】
【化１５】
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【００８２】
上記各化学式中のアルキル基は、炭素原子１〜４個を有するものであることが好ましい。また、上記各化学式中のハロゲンとしては、Ｃｌ、Ｂｒであることが好ましい。さらに、上記各化学式中のカチオンとしては、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｃｓ＋又はＮＨ４＋が挙げられる。
【００８３】
上記の物質は、例えば水等の溶媒中に分散または溶解させることにより、その溶液の濃度によって、液晶状態と完全溶液状態の間を転移するリオトロピック液晶（両親媒性物質）となることから、偏光層として用いることが可能となるのである。
【００８４】
本発明に用いられる偏光層は、例えば上記平板状色素を水等の溶媒に分散または溶解させて偏光層形成用塗工液として、上述した濡れ性変化層上に塗布し、上記溶媒を乾燥することにより、形成することができる。
【００８５】
ここで、上記偏光層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、水等が挙げられる。また、上記偏光層形成用塗工液中には、必要に応じて例えば、ポリエチレングリコール等の界面活性剤等の各種添加剤を含有していてもよい。
【００８６】
ここで、本発明において形成される偏光層の膜厚は、上記平板状色素の種類や偏光板の目的とする透過率等により、異なるものであるが、通常２０ｎｍ〜１５００ｎｍとすることができ、中でも１００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内とすることが好ましい。
【００８７】
５．偏光板
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、上述した基材上に、濡れ性変化層が形成され、その濡れ性変化層上に形成されたパターンに沿って、上記平板状色素が含有される偏光層とを有するものであれば、特に限定されるものではない。
【００８８】
本発明の偏光板の膜厚は、その偏光板の用途や種類により適宜選択されるものであるが、通常１００μｍ〜１０００μｍの範囲内とすることができる。
【００８９】
ここで、本発明においては、上記基材上に金属等からなる反射層が形成された反射型偏光板とするものであってもよく、また、上記基材上にある程度可視光に対して透過性を有するように上記反射層が形成された半透過反射型偏光板とするものであってもよい。
【００９０】
このような反射層としては、例えばアルミニウムや銀等のような高反射率の金属を、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができ、例えば反射型偏光板を形成する場合には、膜厚を通常１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、また半透過反射型偏光板を形成する場合には、膜厚を通常１０ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内とすることができる。また、上記金属からなる反射層を形成した場合には、上記反射層の劣化を防止するために、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂等の保護層を形成することが好ましい。また、必要に応じて光拡散層等が形成されたものであってもよい。
【００９１】
Ｂ．液晶表示装置
次に、本発明の液晶表示装置について説明する。本発明の液晶表示装置は、上述した偏光板と液晶セルとが積層されたものであれば、特に限定されるものではなく、例えば液晶セルの両面に上記偏光板が積層されたものであってもよく、また液晶セルの前面偏光板もしくは背面偏光板として、液晶セルの片面に積層されたものであってもよい。またさらに、液晶セルが、２枚の高分子フィルムが対向して配置されたプラスチック液晶セル等である場合には、その液晶フィルムセルを構成する高分子フィルムとして、上記偏光板を用いるものであってもよい。
【００９２】
本発明の液晶表示装置は、上記偏光板を用いることから、薄型なものとすることが可能であり、また製造効率やコストの面からも好ましいものとすることが可能となるのである。
【００９３】
ここで、本発明に用いられる液晶セルは、通常液晶表示装置に用いられるものを用いることが可能である。
【００９４】
Ｃ．偏光板の製造方法
次に、本発明の偏光板の製造方法について説明する。本発明の偏光板の製造方法は、２つの実施態様がある。まず、第１実施態様としては、基材および、上記基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化し、かつ光触媒およびバインダを含有する光触媒含有濡れ性変化層を有する偏光板形成用基板上に、エネルギー照射を行うことにより上記光触媒含有濡れ性変化層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、上記光触媒含有濡れ性変化層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程とを有するものであり、第２実施態様としては、基材および、上記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化用層を有する偏光板形成用基板と、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板とを、上記濡れ性変化用層および上記光触媒処理層とが２００μｍ以下となるように間隙をおいて配置した後、エネルギー照射を行うことにより上記濡れ性変化用層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、上記濡れ性変化用層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程とを有するものである。
【００９５】
本発明においては、どちらの実施態様においても、濡れ性変化パターンを有しており、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化する層を用いて、濡れ性の変化した濡れ性変化パターンを形成する。これにより、表面の濡れ性を異なるものとする、すなわち偏光層を形成する偏光層形成用塗工液中に含有される平板状色素との親和性を異なるものとすることができ、この親和性の差を利用して、容易に上記平板状色素をパターン状に付着させることができる。またこの際、上記濡れ性変化パターンを所定の形状とすることにより、上記平板状色素を一定方向に整列して配向させることが可能となり、容易に偏光層とすることができるのである。
【００９６】
本発明によれば、上記偏光層が形成される基材を延伸等する必要がないことから、偏光板の膜厚が基材の膜厚に左右されず、薄型の偏光板とすることができる。また、上記濡れ性変化層上の濡れ性の差を利用して、偏光層を形成する偏光層形成用塗工液等を塗布することによって、容易に偏光層を形成可能となることから、製造効率のよいものとすることができるのである。
【００９７】
以下、本発明の偏光板の製造方法における２つの実施態様について、各実施態様ごとにそれぞれ説明する。
【００９８】
１．第１実施態様
まず、本発明の偏光板の製造方法における第１実施態様について説明する。本発明の偏光板の製造方法における第１実施態様は、基材および、上記基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化し、かつ光触媒およびバインダを含有する光触媒含有濡れ性変化層を有する偏光板形成用基板上に、エネルギー照射を行うことにより上記光触媒含有濡れ性変化層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、上記光触媒含有濡れ性変化層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程とを有するものである。
【００９９】
本実施態様の偏光板の製造方法は、例えば図２に示すように、基材１および光触媒含有濡れ性変化層２を有する偏光板形成用基板に、例えばフォトマスク６を用いてエネルギー７を照射し（図２（ａ））、光触媒含有濡れ性変化層２の濡れ性が変化した濡れ性変化パターン８を形成する（図２（ｂ））濡れ性変化パターン形成工程と、濡れ性変化パターン８が形成された光触媒含有濡れ性変化層２上に上記偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程とを有するものである。
【０１００】
本実施態様においては、偏光板を形成するための偏光板形成用基板が上記光触媒含有濡れ性変化層を有することから、上記濡れ性変化パターン形成工程において、エネルギーを照射することにより、光触媒含有濡れ性変化層自体に含有される光触媒の作用により、容易に表面の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを容易に形成できる。続いて、この光触媒含有濡れ性変化層上に上記偏光層形成用塗工液を塗布することにより、上記偏光層形成用塗工液中に含有される平板状色素と光触媒含有濡れ性変化層との親和性を利用して、上記濡れ性変化パターンに沿って、平板状色素を配向させることができる。従って、この濡れ性変化パターンの形状を利用して、上記平板状色素を一定方向に整列して配向させることが可能となるのである。
【０１０１】
以下、本実施態様に偏光板の製造方法の各工程ごとに説明する。
【０１０２】
（濡れ性変化パターン形成工程）
まず、本実施態様における濡れ性変化パターン形成工程について説明する。本実施態様における濡れ性変化パターン形成工程は、基材および、上記基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化し、かつ光触媒およびバインダを含有する光触媒含有濡れ性変化層を有する偏光板形成用基板上に、エネルギー照射を行うことにより上記光触媒含有濡れ性変化層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程である。
【０１０３】
本工程により、上記光触媒含有濡れ性変化層の濡れ性が変化したパターンを形成することによって、後述する偏光層形成工程において、偏光層形成用塗工液中に含有される平板状色素を、濡れ性変化パターンを利用して液晶として配向させることが可能となるのである。
【０１０４】
本工程においては、まず基材および、その基材上に形成された光触媒含有濡れ性変化層層を有する偏光板形成用基板を用意し、その偏光板形成用基板上にエネルギー照射を行う。ここで、上記基材および光触媒含有濡れ性変化層については、上述した「Ａ．偏光板」の項で説明したものと同様のものを用いることが可能であるので、ここでの説明は省略し、エネルギー照射について説明する。
【０１０５】
本工程においては、目的とするパターン状に、例えばフォトマスク等のマスクを用いてエネルギー照射が行われる。ここでいうエネルギー照射（露光）とは、上記光触媒含有濡れ性変化層の濡れ性を変化させることが可能ないかなるエネルギー線の照射をも含む概念であり、可視光の照射に限定されるものではない。
【０１０６】
通常このようなエネルギー照射に用いる光の波長は、４００ｎｍ以下の範囲、好ましくは３８０ｎｍ以下の範囲から設定される。これは、上述したように光触媒含有濡れ性変化層中の光触媒として、二酸化チタンが好ましく用いられることから、この二酸化チタンにより光触媒作用を活性化させるエネルギーとして、上述した波長の光が好ましいからである。
【０１０７】
このようなエネルギー照射に用いることができる光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマランプ、その他種々の光源を挙げることができる。
【０１０８】
また、上述したような光源を用い、フォトマスクを介したパターン照射により行う方法の他、エキシマ、ＹＡＧ等のレーザを用いてパターン状に描画照射する方法を用いることも可能である。
【０１０９】
また、エネルギー照射に際してのエネルギーの照射量は、上記光触媒含有濡れ性変化層表面の濡れ性が光触媒の作用により変化するのに必要な照射量とする。
【０１１０】
この際、上記光触媒含有濡れ性変化層を加熱しながらエネルギー照射することにより、感度を上昇させことが可能となり、効率的な濡れ性の変化を行うことができる点で好ましい。具体的には３０℃〜８０℃の範囲内で加熱することが好ましい。
【０１１１】
また、ここで形成される濡れ性変化パターンの形状としては、後述する偏光層形成工程において、偏光層形成用塗工液を塗布した際に、その偏光層形成用塗工液中に含有される平板状色素を一定方向に液晶として配向させるようなことが可能なパターンであれば特に限定されるものではなく、偏光板の用途や平板状色素の種類に応じて適宜選択されるものである。
【０１１２】
（偏光層形成工程）
次に、本実施態様における偏光層形成工程について説明する。本実施態様における偏光層形成工程は、上述した濡れ性変化パターン形成工程により形成された濡れ性変化パターンが形成された光触媒含有濡れ性変化層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する工程である。
【０１１３】
本実施態様においては、上記濡れ性変化パターン形成工程により、上記光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンが形成されており、その表面の濡れ性によって偏光層形成用塗工液中に含有される平板状色素と親和性の高い部分と低い部分とが形成されている。従って、この光触媒含有濡れ性変化層上に偏光層形成用塗工液を塗布することによって、上記平板状色素をパターンに沿って付着させることが可能となり、一定方向に整列して配向させることが可能となるのである。
【０１１４】
このような偏光層形成用塗工液の塗布方法としては、偏光層形成用塗工液が塗布可能であり、上記平板状色素を一定方向に配列可能であれば、特に限定されるものではなく、具体的には、マイヤーバーコート、グラビアコート、ダイコート、ディップコート、スプレーコート等の各種塗装方法や、スクリーン印刷法やインクジェット法等も用いることが可能であるが、中でも、マイヤーバーコート等のようにせん断応力がかかる塗布方法であることが、上記平板状色素を一定方向に配向させることが可能となることから好ましい。
【０１１５】
また、本工程においては上記偏光層形成用塗工液塗布後、その偏光層形成用塗工液中に含有される溶媒を乾燥することにより、偏光層とすることができる。この溶媒の乾燥方法としては、一般的に溶媒の乾燥に用いられている方法、例えば加熱乾燥、常温乾燥、凍結乾燥、遠赤外乾燥等を用いることができる。
【０１１６】
ここで、本実施態様に用いられる偏光層形成用塗工液については、上記「Ａ．偏光板」の偏光層の項で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１１７】
２．第２実施態様
次に、本発明の偏光板の製造方法の第２実施態様について説明する。本発明の偏光板の製造方法における第２実施態様は、基材および、上記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化用層を有する偏光板形成用基板と、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板とを、上記濡れ性変化用層および上記光触媒処理層とが２００μｍ以下となるように間隙をおいて配置した後、エネルギー照射を行うことにより上記濡れ性変化用層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と、上記濡れ性変化用層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程とを有するものである。
【０１１８】
本実施態様の偏光板の製造方法は、例えば図３に示すように、基材１および濡れ性変化用層２を有する偏光板形成用基板と、光触媒を含有する光触媒処理層３および基体４とを有する光触媒処理層側基板５を準備する。次に、上記濡れ性変化用層２と光触媒処理層３とが、所定の間隙となるように配置した後、フォトマスク６等を用いて、エネルギー７を照射し（図３（ａ））、濡れ性変化用層２上の濡れ性が変化した濡れ性変化パターン８を形成する（図３（ｂ））濡れ性変化パターン形成工程を行う。その後、その濡れ性変化パターン８上に上記偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する偏光層形成工程を行うものである。
【０１１９】
本実施態様においては、偏光板を形成するための偏光板形成用基板が上記濡れ性変化用層を有することから、上記濡れ性変化パターン形成工程において、上記光触媒処理層側基板を用いてエネルギーを照射することにより、光触媒処理層中の光触媒の作用により、容易に表面の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを容易に形成できる。続いて、この濡れ性変化用層上に上記偏光層形成用塗工液を塗布することにより、上記偏光層形成用塗工液中に含有される平板状色素と濡れ性変化用層との親和性を利用して、上記濡れ性変化パターンに沿って、平板状色素を付着させることができる。従って、この濡れ性変化パターンを所定の形状とすることにより、上記平板状色素を一定方向に整列して配向させることが可能となるのである。
【０１２０】
以下、本実施態様の偏光板の製造方法について各工程ごとに説明する。
【０１２１】
（濡れ性変化パターン形成工程）
まず、本実施態様における濡れ性変化パターン形成工程について説明する。本実施態様における濡れ性変化パターン形成工程は、基材および、上記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化用層を有する偏光板形成用基板と、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板とを、上記濡れ性変化用層および上記光触媒処理層とが２００μｍ以下となるように間隙をおいて配置した後、エネルギー照射を行うことにより上記濡れ性変化用層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンを形成する工程である。
【０１２２】
本工程は、まず、基材および、その基材上に形成された上記濡れ性変化用層を有する偏光板形成用基板と、光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層とを準備し、その後偏光板形成用基板と光触媒処理層側基板とを所定の間隙をおいて配置し、エネルギー照射を行うものである。ここで、本工程に用いられる偏光板形成用基板における基材および濡れ性変化用層については、上記「Ａ．偏光板」の項で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略し、以下、上記光触媒処理層側基板、光触媒処理層側基板と濡れ性変化用層との配置、およびエネルギーの照射について説明する。
【０１２３】
ａ．光触媒処理層側基板
まず、本工程に用いられる光触媒処理層側基板について説明する。
【０１２４】
本工程に用いられる光触媒処理層側基板は、少なくとも光触媒処理層と基体とを有するものであり、通常は基体上に所定の方法で形成された薄膜状の光触媒処理層が形成されてなるものである。また、この光触媒処理層側基板には、パターン状に形成された光触媒処理層側遮光部やプライマー層が形成されたものも用いることができる。
【０１２５】
本工程においては、エネルギーを照射する際に、上記濡れ性変化用層と、上記光触媒処理層側基板における光触媒処理層とを所定の間隙をおいて対向させ、光触媒処理層側基板の光触媒処理層の作用により、濡れ性変化用層の濡れ性を変化させ、エネルギー照射後、光触媒処理層側基板を取り外すことにより濡れ性変化パターンが形成されるのである。以下、この光触媒処理層側基板の各構成について説明する。
【０１２６】
（１）光触媒処理層
まず、光触媒処理層側基板に用いられる光触媒処理層について説明する。
【０１２７】
本工程に用いられる光触媒処理層は、後述する基体上に形成されるものであって、少なくとも光触媒を含有する層である。本工程においては、光触媒処理層中の光触媒が、上述した濡れ性変化用層の濡れ性を変化させるような構成であれば、特に限定されるものではなく、光触媒とバインダとから構成されているものであってもよく、光触媒単体で製膜されたものであってもよい。また、その表面の特性は特に親液性であっても撥液性であってもよい。ここで、本工程に用いられる光触媒処理層が、バインダを有する場合は、上記「Ａ．偏光板」で説明した光触媒含有濡れ性変化用層と同様のものを用いることが可能であるので、ここでの説明は省略する。
【０１２８】
一方、バインダを有さない場合の光触媒処理層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ法、真空蒸着法等の真空製膜法を用いる方法を挙げることができる。真空製膜法により光触媒処理層を形成することにより、均一な膜でかつ光触媒のみを含有する光触媒処理層とすることが可能であり、これにより濡れ性変化用層上の濡れ性を均一に変化させることが可能であり、かつ光触媒のみからなることから、バインダを用いる場合と比較して効率的に濡れ性変化用層上の濡れ性を変化させることが可能となる。
【０１２９】
また、光触媒のみからなる光触媒処理層の他の形成方法としては、例えば光触媒が二酸化チタンの場合は、後述する基体上に無定形チタニアを形成し、次いで焼成により結晶性チタニアに相変化させる方法等が挙げられる。ここで用いられる無定形チタニアとしては、例えば四塩化チタン、硫酸チタン等のチタンの無機塩の加水分解、脱水縮合、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラメトキシチタン等の有機チタン化合物を酸存在下において加水分解、脱水縮合によって得ることができる。次いで、４００℃〜５００℃における焼成によってアナターゼ型チタニアに変性し、６００℃〜７００℃の焼成によってルチル型チタニアに変性することができる。
【０１３０】
ここで、本工程において用いられる光触媒処理層は、例えば図３に示すように、基体４上の全面に形成されたものであってもよいが、例えば図４に示すように、基体４上に光触媒処理層３がパターン上に形成されたものであってもよい。
【０１３１】
このように光触媒処理層をパターン状に形成することにより、エネルギー照射の際に、光触媒処理層を濡れ性変化用層と所定の間隔をおいて配置させてエネルギーを照射する際に、フォトマスク等を用いるパターン照射をする必要がなく、全面に照射することにより、濡れ性変化用層上の濡れ性が変化したパターンを形成することができる。
【０１３２】
この光触媒処理層のパターニング方法は、特に限定されるものではないが、例えばフォトリソグラフィー法等により行うことが可能である。
【０１３３】
また、実際に光触媒処理層に面する濡れ性変化用層上の部分のみの、濡れ性が変化するものであるので、エネルギーの照射方向は上記光触媒処理層と濡れ性変化用層とが面する部分にエネルギーが照射されるものであれば、いかなる方向から照射されてもよく、さらには、照射されるエネルギーも特に平行光等の平行なものに限定されないという利点を有するものとなる。
【０１３４】
（２）基体
次に、本工程に用いられる光触媒処理層側基板は、例えば図３に示すように、光触媒処理層側基板５は、少なくとも基体４とこの基体４上に形成された光触媒処理層３とを有するものである。この際、用いられる基体を構成する材料は、後述するエネルギーの照射方向や、得られる機能性素子が透明性を必要とするか等により適宜選択される。
【０１３５】
また本工程に用いられる基体は、可撓性を有するもの、例えば樹脂製フィルム等であってもよいし、可撓性を有さないもの、例えばガラス基板等であってもよい。これは、エネルギー照射方法により適宜選択されるものである。
【０１３６】
なお、基体表面と光触媒処理層との密着性を向上させるために、基体上にアンカー層を形成するようにしてもよい。このようなアンカー層としては、例えば、シラン系、チタン系のカップリング剤等を挙げることができる。
【０１３７】
（３）光触媒処理層側遮光部
本工程に用いられる光触媒処理層側基板には、パターン状に形成された光触媒処理層側遮光部が形成されたものを用いても良い。このように光触媒処理層側遮光部を有する光触媒処理層側基板を用いることにより、エネルギー照射に際して、フォトマスクを用いたり、レーザ光による描画照射を行う必要がない。したがって、光触媒処理層側基板とフォトマスクとの位置合わせが不要であることから、簡便な工程とすることが可能であり、また描画照射に必要な高価な装置も不必要であることから、コスト的に有利となるという利点を有する。
【０１３８】
このような光触媒処理層側遮光部を有する光触媒処理層側基板は、光触媒処理層側遮光部の形成位置により、下記の二つの態様とすることができる。
【０１３９】
一つが、例えば図５に示すように、基体４上に光触媒処理層側遮光部８を形成し、この光触媒処理層側遮光部８上に光触媒処理層３を形成して、光触媒処理層側基板とする態様である。もう一つは、例えば図６に示すように、基体４上に光触媒処理層３を形成し、その上に光触媒処理層側遮光部８を形成して光触媒処理層側基板とする態様である。
【０１４０】
いずれの態様においても、フォトマスクを用いる場合と比較すると、光触媒処理層側遮光部が、上記光触媒処理層と濡れ性変化用層との配置部分の近傍に配置されることになるので、基体内等におけるエネルギーの散乱の影響を少なくすることができることから、エネルギーのパターン照射を極めて正確に行うことが可能となる。
【０１４１】
さらに、上記光触媒処理層上に光触媒処理層側遮光部を形成する態様においては、光触媒処理層と濡れ性変化用層とを所定の位置に配置する際に、この光触媒処理層側遮光部の膜厚をこの間隙の幅と一致させておくことにより、上記光触媒処理層側遮光部を上記間隙を一定のものとするためのスペーサとしても用いることができるという利点を有する。
【０１４２】
すなわち、所定の間隙をおいて上記光触媒処理層と濡れ性変化用層とを対向させた状態で配置する際に、上記光触媒処理層側遮光部と濡れ性変化用層とを密着させた状態で配置することにより、上記所定の間隙を正確とすることが可能となり、そしてこの状態で光触媒処理層側基板からエネルギーを照射することにより、濡れ性変化用層上に濡れ性変化パターンを精度良く形成することが可能となるのである。
【０１４３】
このような光触媒処理層側遮光部の形成方法は、特に限定されるものではなく、光触媒処理層側遮光部の形成面の特性や、必要とするエネルギーに対する遮蔽性等に応じて適宜選択されて用いられる。
【０１４４】
例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み１０００〜２０００Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングすることにより形成されてもよい。このパターニングの方法としては、スパッタ等の通常のパターニング方法を用いることができる。
【０１４５】
また、樹脂バインダ中にカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させた層をパターン状に形成する方法であってもよい。用いられる樹脂バインダとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を１種または２種以上混合したものや、感光性樹脂、さらにはＯ／Ｗエマルジョン型の樹脂組成物、例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの等を用いることができる。このような樹脂製遮光部の厚みとしては、０．５〜１０μｍの範囲内で設定することができる。このよう樹脂製遮光部のパターニングの方法は、フォトリソ法、印刷法等一般的に用いられている方法を用いることができる。
【０１４６】
なお、上記説明においては、光触媒処理層側遮光部の形成位置として、基体と光触媒処理層との間、および光触媒処理層表面の二つの場合について説明したが、その他、基体の光触媒処理層が形成されていない側の表面に光触媒処理層側遮光部を形成する態様も採ることが可能である。この態様においては、例えばフォトマスクをこの表面に着脱可能な程度に密着させる場合等が考えられ、濡れ性変化パターンを小ロットで変更するような場合に好適に用いることができる。
【０１４７】
（４）プライマー層
次に、本工程の光触媒処理層側基板に用いられるプライマー層について説明する。本工程において、上述したように基体上に光触媒処理層側遮光部をパターン状に形成して、その上に光触媒処理層を形成して光触媒処理層側基板とする場合においては、上記光触媒処理層側遮光部と光触媒処理層との間にプライマー層を形成してもよい。
【０１４８】
このプライマー層の作用・機能は必ずしも明確なものではないが、光触媒処理層側遮光部と光触媒処理層との間にプライマー層を形成することにより、プライマー層は光触媒の作用による濡れ性変化用層の濡れ性変化を阻害する要因となる光触媒処理層側遮光部および光触媒処理層側遮光部間に存在する開口部からの不純物、特に、光触媒処理層側遮光部をパターニングする際に生じる残渣や、金属、金属イオン等の不純物の拡散を防止する機能を示すものと考えられる。したがって、プライマー層を形成することにより、高感度で濡れ性変化の処理が進行し、その結果、高解像度のパターンを得ることが可能となるのである。
【０１４９】
なお、本工程においてプライマー層は、光触媒処理層側遮光部のみならず光触媒処理層側遮光部間に形成された開口部に存在する不純物が光触媒の作用に影響することを防止するものであるので、プライマー層は開口部を含めた光触媒処理層側遮光部全面にわたって形成されていることが好ましい。
【０１５０】
本工程におけるプライマー層は、光触媒処理層側基板の光触媒処理層側遮光部と光触媒処理層とが接触しないようにプライマー層が形成された構造であれば特に限定されるものではない。
【０１５１】
このプライマー層を構成する材料としては、特に限定されるものではないが、光触媒の作用により分解されにくい無機材料が好ましい。具体的には無定形シリカを挙げることができる。このような無定形シリカを用いる場合には、この無定形シリカの前駆体は、一般式ＳｉＸ４で示され、Ｘはハロゲン、メトキシ基、エトキシ基、またはアセチル基等であるケイ素化合物であり、それらの加水分解物であるシラノール、または平均分子量３０００以下のポリシロキサンが好ましい。
【０１５２】
また、プライマー層の膜厚は、０．００１μｍから１μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．００１μｍから０．１μｍの範囲内であることが好ましい。
【０１５３】
ｂ．光触媒処理層側基板と偏光板形成用基板との配置
本実施態様の濡れ性変化パターン形成工程においては、まずエネルギー照射時に光触媒処理層と濡れ性変化用層とを光触媒の作用が及ぶように所定の間隔をおいて配置する必要があり、本実施態様においては、上述した光触媒処理層および濡れ性変化用層を２００μｍ以下の間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射する。この際、光触媒処理層および濡れ性変化用層を密着させてもよい。
【０１５４】
本実施態様において上記間隙は、パターン精度が極めて良好であり、光触媒の感度も高く、したがって濡れ性変化用層の濡れ性の変化の効率が良好である点を考慮すると特に０．２μｍ〜１０μｍの範囲内、好ましくは１μｍ〜５μｍの範囲内とすることが好ましい。このような間隙の範囲は、特に間隙を高い精度で制御することが可能である小面積の濡れ性変化用層に対して特に有効である。
【０１５５】
一方、例えば３００ｍｍ×３００ｍｍといった大面積の濡れ性変化用層に対して処理を行う場合は、接触することなく、かつ上述したような微細な間隙を光触媒処理層側基板と濡れ性変化用層との間に形成することは極めて困難である。したがって、濡れ性変化用層が比較的大面積である場合は、上記間隙は、１０〜１００μｍの範囲内、特に５０〜７５μｍの範囲内とすることが好ましい。間隙をこのような範囲内とすることにより、パターンがぼやける等のパターン精度の低下の問題や、光触媒の感度が悪化して濡れ性変化の効率が悪化する等の問題が生じることなく、さらに濡れ性変化用層上の濡れ性変化にムラが発生しないといった効果を有するからである。
【０１５６】
このように光触媒処理層と濡れ性変化用層表面とを所定の間隔で離して配置することにより、酸素と水および光触媒作用により生じた活性酸素種が脱着しやすくなる。すなわち、上記範囲より光触媒処理層と濡れ性変化用層との間隔を狭くした場合は、上記活性酸素種の脱着がしにくくなり、結果的に濡れ性変化速度を遅くしてしまう可能性があることから好ましくない。また、上記範囲より間隔を離して配置した場合は、生じた活性酸素種が濡れ性変化用層に届き難くなり、この場合も濡れ性変化の速度を遅くしてしまう可能性があることから好ましくない。
【０１５７】
本実施態様においては、このような配置状態は、少なくともエネルギー照射の間だけ維持されればよい。
【０１５８】
このような極めて狭い間隙を均一に形成して光触媒処理層と濡れ性変化用層とを配置する方法としては、例えばスペーサを用いる方法を挙げることができる。そして、このようにスペーサを用いることにより、均一な間隙を形成することができると共に、このスペーサが接触する部分は、光触媒の作用が濡れ性変化用層表面に及ばないことから、このスペーサを上述した濡れ性変化パターンと同様のパターンを有するものとすることにより、濡れ性変化用層上に所定の濡れ性変化パターンを形成することが可能となる。
【０１５９】
本実施態様においては、このようなスペーサを一つの部材として形成してもよいが、工程の簡略化等のため、上記光触媒処理層側基板の欄で説明したように、光触媒処理層側基板の光触媒処理層表面に形成することが好ましい。なお、上記光触媒処理層側基板における説明においては、光触媒処理層側遮光部として説明したが、本実施態様においては、このようなスペーサは濡れ性変化用層表面に光触媒の作用が及ばないように表面を保護する作用を有すればよいものであることから、特に照射されるエネルギーを遮蔽する機能を有さない材料で形成されたものであってもよい。
【０１６０】
ｃ．エネルギー照射
次に、上述したような配置を維持した状態で、対向する部分へのエネルギー照射が行われる。なお、このエネルギー照射については、上記第１実施態様の濡れ性変化パターン形成工程の項で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１６１】
ここで、光触媒処理層側遮光部が形成されている場合は、光触媒処理層側基板側からエネルギー照射が行なわれる必要があり、かつこの場合は光触媒処理層側基板が照射されるエネルギーに対して透明である必要がある。なお、この場合、光触媒処理層上に光触媒処理層側遮光部が形成され、かつこの光触媒処理層側遮光部を上述したようなスペーサとしての機能を有するように用いた場合においては、偏光板形成用基板の種類によっては、エネルギー照射方向は光触媒処理層側基板側からでも偏光板形成用基板側からであってもよい。
【０１６２】
また、光触媒処理層がパターン状に形成されている場合におけるエネルギー照射方向は、上述したように、光触媒処理層と濡れ性変化用層とが対向する部分にエネルギーが照射されるのであれば、偏光板形成用基板の種類によっては、いかなる方向から照射されてもよい。
【０１６３】
同様に、上述したスペーサを用いる場合も、対向する部分にエネルギーが照射されるのであれば、偏光板形成用基板の種類によっては、いかなる方向から照射されてもよい。
【０１６４】
フォトマスクを用いる場合は、フォトマスクが配置された側からエネルギーが照射される。この場合は、フォトマスクが配置された側の基板、すなわち光触媒処理層側基板もしくは偏光板形成用基板のいずれかが透明である必要がある。
【０１６５】
（偏光層形成工程）
次に、本実施態様においては、上述した濡れ性変化パターン形成工程後、偏光層形成工程が行われる。本実施態様における偏光層形成用工程は、上述した濡れ性変化パターン形成工程により形成された濡れ性変化パターンが形成された濡れ性変化用層上に、少なくとも平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液を塗布し、偏光層を形成する工程である。
【０１６６】
ここで、本工程については、上述した第１実施態様の偏光層形成工程と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１６７】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【０１６８】
【実施例】
以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。
【０１６９】
（実施例１）
イソプロピルアルコール３ｇ、オルガノシランＴＳＬ８１１３（東芝シリコーン）０．４ｇ、フルオロアルキルシランＭＦ−１６０Ｅ（トーケムプロダクツ）０．０４ｇ、および光触媒無機コーティング剤ＳＴ−Ｋ０１（石原産業）１．５ｇを混合し、攪拌しながら２０分間、１００℃で加温した。
【０１７０】
この溶液をスピンコーティング法により予めアルカリ処理を施したソーダガラス基材に塗布し、その基材を１５０℃の温度で１０分間乾燥することにより、加水分解、重縮合反応を進行させ、光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固に固定された膜厚０．２μｍの光触媒含有濡れ性変化層を得た。
【０１７１】
次に、この光触媒含有濡れ性変化層に対し、ネガ型フォトマスクのパターン面を重ねて配置し、フォトマスク側から水銀ランプ（波長３６５ｎｍ）により３００ｍＷ／ｃｍ２の照度で９００秒間紫外線露光を行い、濡れ性変化パターンを得た。
【０１７２】
このように形成した濡れ性変化パターンに沿って、マイヤーバーを用いて、平板構造の色素を含有する水溶液（オプティバ社製；ＬＣＰＮ０１３）をコーティングし、乾燥後、偏光度を測定したところ、８８％であった。
【０１７３】
（実施例２）
イソプロピルアルコール３ｇ、オルガノシランＴＳＬ８１１３（東芝シリコーン）０．４ｇ、およびフルオロアルキルシランＭＦ−１６０Ｅ（トーケムプロダクツ）０．０４ｇを混合し、攪拌しながら２０分間、１００℃で加温した。
【０１７４】
次に、この溶液をスピンコーティング法により予めアルカリ処理を施したソーダガラス基材に塗布し、その基材を１５０℃の温度で１０分間乾燥することにより、加水分解、重縮合反応を進行させ、膜厚０．２μｍの濡れ性変化用層を得た。
【０１７５】
次にトリメトキシメチルシランＴＳＬ８１１３（ＧＥ東芝シリコーン）５ｇと０．５規定塩酸２．５ｇとを混合し、８時間攪拌した。これをイソプロピルアルコールにより１０倍に希釈し、アンカー層用組成物とした。
【０１７６】
上記アンカー層用組成物を直径５０μｍの網点が５０μｍ間隔で配置されたネガ型フォトマスクのパターン面上にスピンコーティング法により塗布し、その基材を１５０℃の温度で１０分間乾燥することにより、プライマー層を有するフォトマスクを得た。
【０１７７】
次に、イソプロピルアルコール３０ｇとトリメトキシメチルシランＴＳＬ８１１３（ＧＥ東芝シリコーン）３ｇと光触媒無機コーティング剤ＳＴ−Ｋ０３（石原産業）２０ｇとを混合し、１００℃で２０分間攪拌した。これをイソプロピルアルコールにより３倍希釈し、光触媒処理層用組成物とした。
【０１７８】
前記光触媒処理層用組成物を、プライマー層が形成されたフォトマスク基材上にスピンコーターにより塗布し、１５０℃で１０分間の乾燥処理を行うことにより、透明な光触媒処理層を有する光触媒処理層側基板を形成した。
【０１７９】
前記光触媒処理層側基板の光触媒含有層面と前記基材の濡れ性変化用層面とを１０μｍの間隙で配置し、フォトマスク側から水銀ランプ（波長３６５ｎｍ）により３００ｍＷ／ｃｍ２の照度で９００秒間紫外線露光を行い、濡れ性変化パターンを得た。
【０１８０】
このように形成した濡れ性変化パターンに沿って、マイヤーバーを用いて、平板構造の色素を含有する水溶液（オプティバ社製；ＬＣＰＮ０１３）をコーティングし、乾燥後、偏光度を測定したところ、８８％であった。
【０１８１】
（比較例）
洗浄したガラス基板にマイヤーバーを用いて、平板構造の色素を含有する水溶液（オプティバ社製；ＬＣＰＮ０１３）をコーティングし、乾燥後、偏光度を測定したところ、８３％であった。
【０１８２】
【発明の効果】
本発明によれば、基材上に、上記濡れ性変化層を有し、その表面に濡れ性が変化した濡れ性変化パターンが形成されていることから、例えば上記平板状色素を含有する偏光層形成用塗工液等を濡れ性変化層上に塗布することにより、濡れ性の差から生じる平板状色素との親和性の差を利用して、上記濡れ性変化パターンに沿って、平板状色素を付着させることができる。これを利用して、上記濡れ性変化パターンの形状を、所定の形状としておくことにより、上記平板状色素を一定方向に整列して配向させ、偏光層とすることが可能となるのである。従って、本発明の偏光板は、基材を延伸等する必要がないことから、膜厚を薄いものとすることができ、また特別な装置等も必要とせず、製造効率やコストの面からも好ましいものとすることができるのである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の偏光板に用いられる濡れ性変化層上に濡れ性変化パターンを形成する方法の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の偏光板の製造方法の一例を示す工程図である。
【図３】本発明の偏光板の製造方法の他の例を示す工程図である。
【図４】本発明に用いられる光触媒処理層側基板の一例を示す概略断面図である。
【図５】本発明に用いられる光触媒処理層側基板の他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明に用いられる光触媒処理層側基板の他の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１  …  基材
２  …  濡れ性変化層
３  …  光触媒処理層
４  …  基体
５  …  光触媒処理層側基板
６  …  フォトマスク
７  …  エネルギー
８  …  濡れ性変化パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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