(57)【要約】【課題】　抗日光組成物におけるジベンゾイルメタン誘導体の光安定性及び溶解性を改善する方法及び該方法を使用して得られた組成物を提供する。【解決手段】　ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量をジベンゾイルメタン誘導体と組合せて、これを化粧品的に許容可能な支持体に含有せしめて組成物とする。それによって、ジベンゾイルメタン誘導体の光安定性及び溶解性を改善することができる。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する方法において、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシラン化合物の有効量を上記ジベンゾイルメタン誘導体に組合せることを含み、
　前記ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシラン化合物が、次の式（１）又は（２）：
【化１】
2004107349.tif 000032
【化２】
2004107349.tif 000033
｛上式中、
−　Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ６基又は次の式（Ｉ）：
【化３】
2004107349.tif 000034
（ここで：
−　Ｒ１は、同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキシ基又は-ＯＳｉ(ＣＨ３)３基を表し、隣接する２つのＲ１基は、互いに共同して、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり；
−　ａは１〜３の範囲の整数であり；
−　Ａは水素又は式-Ｌ-Ｗの基であり、
−　Ｌは次の式(ＩＩａ)又は(ＩＩｂ)：
　　-CH２-CHR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　(ＩＩａ)
　　-CH=CR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　　(ＩＩｂ)
の２価の基であって、ここで
−　Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状もしくは分枝状のＣ１-Ｃ５アルキル基を表し、
−　Ｚは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ２-Ｃ８アルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ1-Ｃ６ジイル基であり、
−　Ｙは-Ｏ-、-ＮＲ４-、-ＳＯ２ＮＨ-、-(ＣＯ)Ｏ-、-(ＣＯ)ＮＨ-又は-Ｏ(ＣＯ)ＮＨ-を表し、ここでＲ４は水素又はＣ１-Ｃ５アルキル基であり；
−　ｍは０〜１０の範囲の整数であり；
−　ｎは０又は１であり；
−　ｏは０又は１であり；
−　ｐは０又は１であり；
−　ｑは０又は１であり；
−　Ａ１は水素又は式-Ｌ１-Ｗの基であり、ｑ＝１の場合にＹが-ＳＯ２ＮＨ-を表すという条件でＬ１はＬの定義を有するものであり、
　２つの基Ａ及びＡ１の一方のみが必ず水素であると理解されるものである）の基であり；
−　Ｒ６は、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル、フェニル基から選択され、数的にＲ６基の少なくとも８０％はメチルであり；
−　ｒは０〜２００の整数であり、ｓは０〜５０の整数であり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｂの少なくとも一方がＸ基を示し、
−　ｕは１〜１０の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり；そして
Ｂの少なくとも１つはＸ基である｝
に相当するものであることを特徴とする方法。
【請求項２】
式（１）又は（２）の化合物が、以下の特徴：
−　Ｒ１がＨ、ＯＣＨ３、ＣＨ３であるか、隣接する２つのＲ１基がメチレンジオキシを形成し、
−　Ｒ２がＨ又はＣＨ３であり、
−　ｎ＝０、
−　ｑ＝１
の少なくとも１つに相当するものであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式（１）又は（２）の化合物が、さらに以下の特徴：
−　Ｒ６がメチルであり、
−　Ｂがメチルであり、
−　ｒが５〜２０であり、
−　ｓが２〜１５であり、
−　ｔ＋ｕが３〜１０であり、
−　ｍ＝１であり、
−　Ｒ３が水素又はメチル基である、
の少なくとも１つに相当するものであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
式（１）の化合物がｓ＝０のものから選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
式（１）又は（２）の化合物が、次の式：
【化４】
2004107349.tif 000035
【化５】
2004107349.tif 000036
【化６】
2004107349.tif 000037
【化７】
2004107349.tif 000038
【化８】
2004107349.tif 000039
【化９】
2004107349.tif 000040
【化１０】
2004107349.tif 000041
の化合物から選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
式（１）又は（２）の化合物が、ｐが１であり、Ｚ基がヒドロキシルを有する直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ６ジイル基であるものから選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
式（１）又は（２）の化合物が次の構造：
【化１１】
2004107349.tif 000042
の化合物であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ジベンゾイルメタン誘導体が：
−　２-メチルジベンゾイルメタン、
−　４-メチルジベンゾイルメタン、
−　４-イソプロピルジベンゾイルメタン、
−　４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
−　２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、
−　２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、
−　４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
−　４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
−　４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
から選択されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
ジベンゾイルメタン誘導体が４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
ジベンゾイルメタン誘導体が４-イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
化粧品的に許容可能な支持体に少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体を含有するタイプの、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を局所的に光保護する光安定性遮蔽化粧品用組成物において、ベンジリデンショウノウ官能基を有する少なくとも１種のシラン又はオルガノシランを有効量さらに含有し、
　前記ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシラン化合物が、次の式（１）又は（２）：
【化１２】
2004107349.tif 000043
【化１３】
2004107349.tif 000044
｛上式中、
−　Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ６基及び次の式（Ｉ）：
【化１４】
2004107349.tif 000045
（ここで：
−　Ｒ１は、同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキシ基又は-ＯＳｉ(ＣＨ３)３基を表し、隣接する２つのＲ１基は、互いに共同して、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり；
−　ａは１〜３の範囲の整数であり；
−　Ａは水素又は式-Ｌ-Ｗの基であり、
−　Ｌは次の式(ＩＩａ)又は(ＩＩｂ)：
　　-CH２-CHR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　(ＩＩａ)
　　-CH=CR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　　(ＩＩｂ)
の２価の基であって、ここで
−　Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状もしくは分枝状のＣ１-Ｃ５アルキル基を表し、
−　Ｚは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ２-Ｃ８アルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ1-Ｃ６ジイル基であり、
−　Ｙは-Ｏ-、-ＮＲ４-、-ＳＯ２ＮＨ-、-(ＣＯ)Ｏ-、-(ＣＯ)ＮＨ-又は-Ｏ(ＣＯ)ＮＨ-を表し、ここでＲ４は水素又はＣ１-Ｃ５アルキル基であり；
−　ｍは０〜１０の範囲の整数であり；
−　ｎは０又は１であり；
−　ｏは０又は１であり；
−　ｐは０又は１であり；
−　ｑは０又は１であり；
−　Ａ１は水素又は式-Ｌ１-Ｗの基であり、ｑ＝１の場合にＹが-ＳＯ２ＮＨ-を表すという条件でＬ１はＬの定義を有するものであり、
　２つの基Ａ及びＡ１の一方のみが必ず水素であると理解されるものである）の基であり；
−　Ｒ６は、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル、フェニル基から選択され、数的にＲ６基の少なくとも８０％はメチルであり；
−　ｒは０〜２００の整数であり、ｓは０〜５０の整数であり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｂの少なくとも一方がＸ基を示し、
−　ｕは１〜１０の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり；そして
Ｂの少なくとも１つはＸ基である｝
に相当するものであることを特徴とする組成物。
【請求項１２】
ジベンゾイルメタン誘導体が：
−　２-メチルジベンゾイルメタン、
−　４-メチルジベンゾイルメタン、
−　４-イソプロピルジベンゾイルメタン、
−　４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
−　２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、
−　２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、
−　４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
−　４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
−　４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
から選択されることを特徴とする請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
ジベンゾイルメタン誘導体が４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
ジベンゾイルメタン誘導体が４-イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項１２に記載の組成物。
【請求項１５】
ジベンゾイルメタン誘導体の含有量が組成物の全重量に対して０．０１〜１０重量％であることを特徴とする請求項１１ないし１４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１６】
前記含有量が組成物の全重量に対して０．１〜６重量％であることを特徴とする請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
式（１）又は（２）の化合物が、以下の特徴：
−　Ｒ１がＨ、ＯＣＨ３、ＣＨ３であるか、隣接する２つのＲ１基がメチレンジオキシを形成し、
−　Ｒ２がＨ又はＣＨ３であり、
−　ｎ＝０、
−　ｑ＝１
の少なくとも１つに相当するものであることを特徴とする請求項１１に記載の組成物。
【請求項１８】
式（１）又は（２）の化合物が、さらに以下の特徴：
−　Ｒ６がメチルであり、
−　Ｂがメチルであり、
−　ｒが５〜２０であり、
−　ｓが２〜１５であり、
−　ｔ＋ｕが３〜１０であり、
−　ｍ＝１であり、
−　Ｒ３が水素又はメチル基である、
の少なくとも１つに相当するものであることを特徴とする請求項１１に記載の組成物。
【請求項１９】
式（１）の化合物がｓ＝０のものから選択されることを特徴とする請求項１１に記載の組成物。
【請求項２０】
式(１）又は（２）の化合物が、次の式：
【化１５】
2004107349.tif 000046
【化１６】
2004107349.tif 000047
【化１７】
2004107349.tif 000048
【化１８】
2004107349.tif 000049
【化１９】
2004107349.tif 000050
【化２０】
2004107349.tif 000051
【化２１】
2004107349.tif 000052
の化合物から選択されることを特徴とする請求項２０に記載の組成物。
【請求項２１】
式（１）又は（２）の化合物が、ｐが１であり、Ｚ基がヒドロキシルを有する直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ６ジイル基であるものから選択されることを特徴とする請求項１１に記載の組成物。
【請求項２２】
シラン又はオルガノシロキサン化合物の含有量が、組成物の全重量に対して０．５重量％以上であることを特徴とする請求項１１ないし２１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２３】
前記含有量が組成物の全重量に対して０．５〜２０重量％の範囲内にあることを特徴とする請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
次の式（１）又は（２）：
【化２２】
2004107349.tif 000053
【化２３】
2004107349.tif 000054
｛上式中、
−　Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ６基又は次の式（Ｉ）：
【化２４】
2004107349.tif 000055
（ここで：
−　Ｒ１は、同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキシ基又は-ＯＳｉ(ＣＨ３)３基を表し、隣接する２つのＲ１基は、互いに共同して、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり；
−　ａは１〜３の範囲の整数であり；
−　Ａは水素又は式-Ｌ-Ｗの基であり、
−　Ｌは次の式(ＩＩａ)又は(ＩＩｂ)：
　　-CH２-CHR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　(ＩＩａ)
　　-CH=CR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　　(ＩＩｂ)
の２価の基であって、ここで
−　Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状もしくは分枝状のＣ１-Ｃ５アルキル基を表し、
−　Ｚは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ２-Ｃ８アルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ1-Ｃ６ジイル基であり、
−　Ｙは-Ｏ-、-ＮＲ４-、-ＳＯ２ＮＨ-、-(ＣＯ)Ｏ-、-(ＣＯ)ＮＨ-又は-Ｏ(ＣＯ)ＮＨ-を表し、ここでＲ４は水素又はＣ１-Ｃ５アルキル基であり；
−　ｍは０〜１０の範囲の整数であり；
−　ｎは０又は１であり；
−　ｏは０又は１であり；
−　ｐは０又は１であり；
−　ｑは０又は１であり；
−　Ａ１は水素又は式-Ｌ１-Ｗの基であり、ｑ＝１の場合にＹが-ＳＯ２ＮＨ-を表すという条件でＬ１はＬの定義を有するものであり、
　２つの基Ａ及びＡ１の一方のみが必ず水素であると理解されるものである）の基であり；
−　Ｒ６は、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル、フェニル基から選択され、数的にＲ６基の少なくとも８０％はメチルであり；
−　ｒは０〜２００の整数であり、ｓは０〜５０の整数であり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｂの少なくとも一方がＸ基を示し、
−　ｕは１〜１０の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり；そして
Ｂの少なくとも１つはＸ基である｝
に相当する化合物。
【請求項２５】
次の構造：
【化２５】
2004107349.tif 000056
の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する方法であって、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量を上記ジベンゾイルメタン誘導体に組合せることからなる方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
　２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼し、特にＵＶ-Ｂとして知られている２８０ｎｍと３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりする。これらの理由並びに美的理由から、自然な日焼けを調節して皮膚の色をコントロールする手段が変わらず必要とされている。よって、ＵＶ-Ｂ線は遮蔽するべきである。
【０００３】
　また、皮膚をサンタン状態にする３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ-Ａ線が皮膚に好ましくない変化を誘発する傾向にあり、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりである。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因となるものである。ＵＶ-Ａ線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。従って、例えば皮膚の本来の弾力性を保持するという化粧的及び美的理由から、益々多くの人々が皮膚へのＵＶ−Ａ線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、ＵＶ-Ａ線も遮蔽することが望ましい。
【０００４】
　これに関し、特に有利なＵＶ-Ａ遮蔽剤の一つに、ジベンゾイルメタン誘導体、特に、高い固有の吸収力を持つ４-(tert-ブチル)-４-'メトキシジベンゾイルメタンからなるものがある。ＵＶ-Ａ領域に活性のある遮蔽剤としてそれ自体よく知られている生成物であるこれらジベンゾイルメタン誘導体は、特に、特許文献１、特許文献２及び特許文献３に記載されており；さらに、４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンは、現在、ジボーダン(Givaudan)社から「パーソル(PARSOL)1789」の商品名で販売されている。
【特許文献１】仏国特許公開第２３２６４０５号明細書
【特許文献２】仏国特許公開第２４４０９３３号明細書
【特許文献３】欧州特許公開第０１１４６０７号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
　残念なことに、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線(特に、ＵＶ-Ａ)の影響を比較的受けやすい生成物であり、より詳細には、紫外線の作用下で程度の差はあるが素早く劣化してしまうという好ましくない傾向を有する生成物である。ジベンゾイルメタン誘導体は、性質上それらが受ける紫外線に対して光化学的安定性が大幅に欠乏しているために、長い間太陽にさらされる場合、変わらない保護性を保証することは不可能であり、よって、使用者に制約を与えるものであり、使用者は、ＵＶに対し皮膚を有効に保護するためには、規則的に短い時間間隔で繰り返し塗布しなければならなかった。
【０００６】
　ジベンゾイルメタン誘導体の光の対する不安定さを低減させるために、ベンザルマロナート誘導体とジベンゾイルメタン誘導体を組合せることが、欧州特許公開第０７０９０８０号公報において提案されている。しかしながら、ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する光安定化の課題は、現時点においてもあまり満足のいく程には解決されていない。
【０００７】
　また、仏国特許第２６０７９９６号及び国際特許公開第９４／０４１３２号公報においては、前記ジベンゾイルメタン誘導体の光に対する不安定さを低減させるために、炭化水素ベースのベンジリデンショウノウ誘導体、例えば３-(４-メチルベンジリデン)ショウノウをジベンゾイルメタン誘導体と組合せることも提案されている。
【０００８】
　ジベンゾイルメタン誘導体には上述のものとは別の他の困難性もあり、それはジベンゾイルメタン誘導体が特に室温で固体状であるといった不利な特徴を有する親油性の遮蔽剤であることである。従って、それらの抗日光化粧品用組成物への使用にはその処方とその実施、特に単独であるいは他の遮蔽剤と組合せてそれを溶解させるための溶媒を見出すことについて、ある種の制約があった。この点について、今日では通常、例えばエステル類のような油、特にＣ１２-Ｃ１５安息香酸アルキル［ファインテックス社(Finetex)の「フィンソルブ(Finsolv)ＴＮ」］、又はトリグリセリド類、特にＣ８-Ｃ１２脂肪酸トリグリセリド［ヒュルス社(Huels)の「ミグリオール(Miglyol)812」］が使用されているが、これら種々の製品は、上述の遮蔽剤に対する溶解性がなお不充分なものである。
【０００９】
　仏国特許第２６０７９９６号及び国際特許公開第９４／０４１３１号公報で使用されているような３-(４-メチルベンジリデン)ショウノウとジベンゾイルメタン誘導体をベースとした抗日光処方物でも、前記ジベンゾイルメタン誘導体の溶解性の問題を満足には解決できなかった。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
　本出願人は、驚くべきことに、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量を、上述したジベンゾイルメタン誘導体と組合せることにより、これらのジベンゾイルメタン誘導体の光化学安定性(すなわち光安定性)を実質的かつ顕著に改善することができることを見出した。
【００１１】
　また、光安定化剤として本発明において使用可能なベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物が、ベンジリデンショウノウから誘導された炭化水素ベースの有機遮蔽剤と比較して非常に驚くべきことに、例えば４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンのようなジベンゾイルメタン誘導体型の遮蔽剤に対して特に顕著な溶媒を構成することが見出されており、これが本発明に関連した更なる利点の一つである；これにより、同量の溶媒に対して、より多くの量の遮蔽剤を使用することが可能になる。
【００１２】
　さらに、ベンジリデンショウノウ型の既知の炭化水素系有機遮蔽剤の存在下で得られたジベンゾイルメタン誘導体の光安定性が、本発明で使用可能なベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物によりさらに改善されることも見出されている。
【００１３】
　よって、本発明の第１の主題は、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量と、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体を組合せることからなる、ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する新規方法にある。
【００１４】
　本発明の方法で得られた化粧品用及び／又は皮膚病用組成物は、長時間ＵＶ-Ａ及びＵＶ-Ｂ線にさらされた後でも、特に光安定しているといった利点を有する。この光線は自然のもの(日光)でも人工のもの(ＵＶランプ)でもよい。
【００１５】
　また、本発明の主題は、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物からなり、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用及び／又は皮膚病用組成物の調製において前記ジベンゾイルメタンのＵＶ線に対する安定性を改善するために使用される薬剤にある。
【００１６】
　本発明の他の特徴、観点及び利点は、以下の詳細な記述を読むと明らかになるであろう。
【００１７】
　上述したように、本発明によって光安定化されるジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許公開第２３２６４０５号、仏国特許公開第２４４０９３３号及び欧州特許公開第０１１４６０７号公報に記載されている。
【００１８】
　本発明においては、もちろん一又は複数のジベンゾイルメタン誘導体を使用することができる。
　本発明で使用可能なジベンゾイルメタン誘導体としては、限定されないが、特に：
−　２-メチルジベンゾイルメタン、
−　４-メチルジベンゾイルメタン、
−　４-イソプロピルジベンゾイルメタン、
−　４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
−　２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、
−　２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、
−　４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
−　４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
−　４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、
−　４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
を挙げることができる。
【００１９】
　上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、本発明においては、特に、ジボーダン社から「パーソル1789」の商品名で販売されている４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンが最も好ましく使用され、この遮蔽剤は、次の構造式：
【化１】
2004107349.tif 000002
に相当するものである。
【００２０】
　本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は、４-イソプロピルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤はメルク(Merck)社から「ユーソレックス(Eusolex)8020」の商標名で販売されているものであり、次の構造式：
【化２】
2004107349.tif 000003
に相当するものである。
【００２１】
　ジベンゾイルメタン誘導体(類)は、本発明の方法によって安定化された組成物中に、一般的に、組成物の全重量に対して０．０１〜１０重量％、好ましくは０．３〜５重量％の範囲の含有量で存在する。
【００２２】
　本発明の組成物における第２の化合物は、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物である。これらの化合物はよく知られており、例えば欧州特許公開第０３２５８８１号、欧州特許公開第０３３５７７７号及び欧州特許公開第０７１２８５５号公報(これらの文献は本出願の内容の一部分を構成する)において記載され合成されている。
【００２３】
　本発明で使用可能なベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物は、好ましくは次の式(Ｉ)：
【化４】
2004107349.tif 000004
｛上式中：
−　Ｒ１は、同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキシ基又は-ＯＳｉ(ＣＨ３)３基を表し、隣接する２つのＲ１基は、互いに共同して、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり；
−　ａは１〜３の範囲の整数であり；
−　Ａは水素又は式-Ｌ-Ｗの基であり、
−　Ｌは次の式(ＩＩａ)又は(ＩＩｂ)：
　　-CH２-CHR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　(ＩＩａ)
　　-CH=CR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　　(ＩＩｂ)
の２価の基であり、ここで
−　Ｒ２及びＲ３は同一でも異なっていてもよく、水素あるいは直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ５アルキル基を表し、
−　Ｚは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ２-Ｃ８アルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ1-Ｃ６ジイル(diyl)基であり、
−　Ｙは、-Ｏ-、-ＮＲ４-、-ＳＯ２ＮＨ-、-(ＣＯ)Ｏ-、-(ＣＯ)ＮＨ-又は-Ｏ(ＣＯ)ＮＨ-を表し、ここでＲ４は水素又はＣ１-Ｃ５アルキル基であり；
−　ｍは０〜１０の範囲の整数であり；
−　ｎは０又は１であり；
−　ｏは０又は１であり；
−　ｐは０又は１であり；
−　ｑは０又は１であり；
−　Ａ１は水素又は式-Ｌ１-Ｗの基であり、ｑ＝１の場合にＹが-ＳＯ２ＮＨ-を表すという条件でＬ１はＬの定義を有するものであり、
　２つの基Ａ及びＡ１の一方のみが必ず水素であると理解されるものであり；
−　Ｗは次の式(１)、(２)又は(３)：
【化５】
2004107349.tif 000005
【化６】
2004107349.tif 000006
又は　　　-Ｓｉ(Ｒ６)３　　　　(３)
の基であり、ここで
−　Ｒ６は、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選択され、数的にＲ６基の少なくとも８０％はメチルであり；
−　Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ６基及び次の式：
【化７】
2004107349.tif 000007
(上式中、Ｒ１、Ｌ、Ｌ１及びａは上述したものと同様の意味を有する)
のＸ基から選択されるものであり；
−　ｒは０〜２００の整数であり、ｓは０〜５０の整数であり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｂの少なくとも一方はＸを示し；
−　ｕは１〜１０の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものである｝
に相当するものである。
　即ち、本発明で使用可能なベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物は、好ましくは次の式（１）、（２）又は（３）：
【化８】
2004107349.tif 000008
【化９】
2004107349.tif 000009
又は　　　Ｂ-Ｓｉ(Ｒ６)３　　　　(３)
｛上式中、
−　Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ６基又は次の式（Ｉ）：
【化１０】
2004107349.tif 000010
（ここで：
−　Ｒ１は、同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキシ基又は-ＯＳｉ(ＣＨ３)３基を表し、隣接する２つのＲ１基は、互いに共同して、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり；
−　ａは１〜３の範囲の整数であり；
−　Ａは水素又は式-Ｌ-Ｗの基であり、
−　Ｌは次の式(ＩＩａ)又は(ＩＩｂ)：
　　-CH２-CHR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　(ＩＩａ)
　　-CH=CR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ-　　　　(ＩＩｂ)
の２価の基であって、ここで
−　Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状もしくは分枝状のＣ１-Ｃ５アルキル基を表し、
−　Ｚは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ２-Ｃ８アルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ1-Ｃ６ジイル基であり、
−　Ｙは-Ｏ-、-ＮＲ４-、-ＳＯ２ＮＨ-、-(ＣＯ)Ｏ-、-(ＣＯ)ＮＨ-又は-Ｏ(ＣＯ)ＮＨ-を表し、ここでＲ４は水素又はＣ１-Ｃ５アルキル基であり；
−　ｍは０〜１０の範囲の整数であり；
−　ｎは０又は１であり；
−　ｏは０又は１であり；
−　ｐは０又は１であり；
−　ｑは０又は１であり；
−　Ａ１は水素又は式-Ｌ１-Ｗの基であり、ｑ＝１の場合にＹが-ＳＯ２ＮＨ-を表すという条件でＬ１はＬの定義を有するものであり、
　２つの基Ａ及びＡ１の一方のみが必ず水素であると理解されるものである）の基であり；
−　Ｒ６は、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル、フェニル基から選択され、数的にＲ６基の少なくとも８０％はメチルであり；
−　ｒは０〜２００の整数であり、ｓは０〜５０の整数であり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｂの少なくとも一方がＸ基を示し、
−　ｕは１〜１０の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものであり；そして
Ｂの少なくとも１つはＸ基である｝
に相当するものである。
【００２４】
　上述した化合物の中でも、以下の特徴：
−　Ｒ１がＨ、ＯＣＨ３、ＣＨ３であるか、隣接する２つのＲ１基がメチレンジオキシを形成し、
−　Ｒ２がＨ又はＣＨ３であり、
−　ｎ＝０、
−　ｑ＝１
の少なくとも１つ、好ましくは全てを有する種類のものを、特に挙げることができる。
【００２５】
　この種類の範囲内において、以下の特徴：
−　Ｒ６がメチルであり、
−　Ｂがメチルであり、
−　ｒが５〜２０であり、
−　ｓが２〜１５であり、
−　ｔ＋ｕが３〜１０であり、
−　ｍ＝１であり、
−　Ｒ３が水素又はメチル基である、
の少なくとも１つ、好ましくは全てを有する化合物が好ましく使用される。
【００２６】
　これらの化合物及びその調製方法は、例えば欧州特許公開第０３３５７７７号公報に記載されている。
【００２７】
　好ましい第２の化合物の種類は、ｓ＝０である式(Ｉ)の化合物を組合せたものである。
【００２８】
　特に好ましい式(Ｉ)の化合物の例として、以下の式：
【化１１】
2004107349.tif 000011
【化１２】
2004107349.tif 000012
【化１３】
2004107349.tif 000013
【化１４】
2004107349.tif 000014
【化１５】
2004107349.tif 000015
【化１６】
2004107349.tif 000016
【化１７】
2004107349.tif 000017
【化１８】
2004107349.tif 000018
【化１９】
2004107349.tif 000019
【化２０】
2004107349.tif 000020
の生成物を挙げることができる。
【００２９】
　上述した式(Ｉ)の化合物の中には新規なものもあり、これが本発明の他の主題を構成している。
【００３０】
　これは、上述した式(Ｉ)において、ｐが１であり、Ｚ基が、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ２-Ｃ８アルキル基を有する直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ６ジイル基である化合物の場合である。
【００３１】
　本発明において、「ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量」という表現は、組成物中に含まれるジベンゾイルメタン誘導体(類)の光安定性を有意かつ顕著に改善するのに十分な量を意味するものである。使用される安定剤の最小量は、組成物に対して選択される化粧品的に許容可能な支持体の性質に依存して変わるが、例えば仏国特許公開第２６０７７００号に記載されているような、光安定性を測定するための通常のテストにより、何ら困難なことなく決定することができる。
【００３２】
　ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物は、組成物の全重量に対して０．５重量％以上の含有量で、一般的に本発明の組成物中に存在する。さらに好ましくは、この含有量は組成物の全重量に対して０．５〜２０重量％の範囲にある。
【００３３】
　言うまでもなく、本発明が対象としている化粧品用及び／又は皮膚病用組成物は、上述した２つの遮蔽剤以外にも、ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ範囲に活性のある一又は複数の補足的な親水性又は親油性サンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。これらの補足的な遮蔽剤は、特に、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、トリアジン誘導体、ベンザルマロナート誘導体、β,β-ジフェニルアクリラート誘導体、ｐ-アミノ安息香酸誘導体、国際特許出願公開第９３／０４６６５号に記載されている遮蔽シリコーン類及び遮蔽ポリマー類から選択することができる。有機遮蔽剤の他の例は欧州特許公開第０４８７４０４号に示されている。
【００３４】
　また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)をさらに含有してもよい。
【００３５】
　さらに、本発明の化粧品用及び／又は皮膚病用組成物は、被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料(一次粒子の平均粒径：一般に５nm〜１００nm、好ましくは１０nm〜５０nm)、例えば、酸化チタン(非晶質又はルチル型及び／又はアナターゼ型結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料を含有することができ、これらは全てそれ自体よく知られているＵＶ光保護剤であり、ＵＶ線を物理的に遮蔽(反射及び／又は散乱)する。さらに、従来の被覆剤はアルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナノ顔料は、特に欧州特許公開第０５１８７７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に記載されている。
【００３６】
　またさらに、本発明の組成物は、特に、脂肪物質類、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、抗フリーラジカル剤、不透明化剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、染料、又は化粧品及び／又は皮膚科学の分野で通常使用されている任意の他の成分、特に、エマルションの剤型の抗日光組成物を製造するためのものから選択される従来からの化粧品用アジュバントを含有することができる。言うまでもなく、本発明の組成物に導入することができる任意の付加的な成分は、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物がジベンゾイルメタン誘導体に対して作用する光安定化効果に実質的に悪影響を及ぼさないかこれを阻害しないものでなければならない。
【００３７】
　脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよい。「油」とは、室温で液状の化合物を意味する。「ロウ」とは、室温で固体又は実質的に固体の化合物を意味するものであり、その融点は一般に３５℃を越える。
　油としては、鉱物性油(ペトロラタム)；植物性油［スイートアルモンド油、マカダミア油、クロフサスグリ種子油又はホホバ油］；合成油、例えばペルヒドロスクワレン、脂肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル［例えば、カプリン及び／又はカプリル酸トリグリセリドを含むトリグリセリド類、ラノリン酸イソプロピル、パルミチン酸オクチル、ファインテックス社から「フィンソルブＴＮ」の商品名で販売されているＣ１２-Ｃ１５安息香酸アルキル］、オキシエチレン化又はオキシプロピレン化された脂肪エステル類及びエーテル類、シリコーン油(シクロメチコーン、ポリジメチルシロキサン類又はＰＤＭＳ)又はフッ化油及びポリアルキレン類を挙げることができる。
　ロウ状化合物としては、パラフィン、カルナウバロウ、ミツロウ及び硬化ヒマシ油を挙げることができる。
【００３８】
　有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
　増粘剤は、特に、架橋したポリアクリル酸、変性又は未変性のグアガム及びセルロースガム、例えばヒドロキシプロピルグアガム、メチルヒドロキシエチルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースから選択することができる。
【００３９】
　本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製できる。
【００４０】
　この組成物は、特に、単一又は複合エマルション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例えばクリーム又はミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パウダー、チューブ状固体の形態であってもよく、また、任意にエアゾールとして包装されてもよく、ムース又はスプレーの形態であってもよい。
　好ましくは、本発明の組成物は、水中油型エマルションの形態である。
【００４１】
　エマルションである場合、その水相は、公知の方法［バングハム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)の、J.Mol.Biol.13, 238(1965)、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００４２】
　本発明の化粧品用及び／又は皮膚病用組成物は、抗日光組成物又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として使用することができる。
【００４３】
　本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒトの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として使用される場合、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散体の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、チューブ状固体、スティック、エアゾールムース又はスプレーの形態とすることができる。
【００４４】
　本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用に使用される場合、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態とすることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ処理又は毛髪のストレート化処理の前、処理中、後に適用されて洗い流される組成物、スタイリング又はトリートメント用のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、パーマネントウエーブ処理又は毛髪のストレート化処理、染色又は脱色用の組成物を構成し得る。
【００４５】
　組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、リップスティック、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とされ得る。
【００４６】
　指針として、水中油型エマルション型の支持体を有する本発明の抗日光組成物の場合、水性相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％、油性相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して、一般的に０．５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【実施例】
【００４７】
　次に本発明の実施例を例証するが、これは本発明を限定するものではない。
（実施例１）
式(４)の誘導体の調製：
【化２１】
2004107349.tif 000021
　３７．５３ｇ(０．１６９モル)のヘプタメチルトリシロキサンを、８０℃にした１４０ｍｌの乾燥トルエン中に触媒［ヒュルス・ペトラーチ(Huels・Petrarch)社のＰＣ０８５である、シクロビニルメチルシロキサン中に３〜３．５重量％のＰｔを含有する錯体：２００μｌ］と仏国特許公開第２４３０９３８号の実施例８に従い調製された３-(４-アリルオキシ-ベンジリデン)-１,７,７-トリメチルビシクロ［２.２.１］ヘプタン-２-オン(５０ｇ、０．１６９モル)を含む溶液に、３０分以上かけて滴下した。混合物をこの温度で６時間放置した。反応混合物を濃縮した。残査をジクロロメタンに溶解し、この溶液をセライト床に通過させた。得られた淡黄色の油をヘプタンで結晶化させた。このようにして白色パウダー状の実施例１の誘導体が３１ｇ(収率：４１％)得られた：
融点：４７−４８℃
−　ＵＶ(９５％エタノール)λｍａｘ＝３１８ｎｍ、εｍａｘ＝２７,０００
−　Ｃ２７Ｈ４６Ｏ４Ｓｉ３としての元素分析
　　　　　　　理論値：　　C62.50　　　H8.94　　　Si16.24
　　　　　　　実測値：　　C62.43　　　H9.00　　　Si16.26
【００４８】
（実施例２）
式(５)の誘導体の調製：
【化２２】
2004107349.tif 000022
　１２．２ｇ(０．０５５モル)のヘプタメチルトリシロキサンを、８０℃にした３５ｍｌの乾燥トルエン中に触媒［ヒュルス・ペトラーチ社のＰＣ０８５である、シクロビニルメチルシロキサン中に３〜３．５重量％のＰｔを含有する錯体：１００μｌ］と１,７,７-トリメチル-３-［４-(２-メチルアリルオキシ)ベンジリデン］ビシクロ［２.２.１］ヘプタン-２-オン(１５．５ｇ、０．０５モル)を含む溶液に３０分以上かけて滴下した。混合物をこの温度で３時間放置した。反応混合物を濃縮し、シリカによるクロマトグラフィー(溶離剤：ヘプタン／ジクロロメタンが５０／５０)にかけたところ、実施例２の無色油状の誘導体が２３ｇ(収率：８６％)得られた：
−　ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３２０ｎｍ、εｍａｘ＝２６,２００
−　Ｃ２８Ｈ４８Ｏ４Ｓｉ３としての元素分析
　　　　　　　理論値：　　C63.10　　　H9.08　　　Si15.81
　　　　　　　実測値：　　C63.02　　　H9.00　　　Si15.64
【００４９】
（実施例３）
式(６)の誘導体の調製：
【化２３】
2004107349.tif 000023
　５０ｇ(０．１１７モル)のα,ω-ドデカメチルヘキサシロキサンを、８０℃にした１１０ｍｌの乾燥トルエン中に触媒［ヒュルス・ペトラーチ社のＰＣ０８５である、シクロビニルメチルシロキサン中に３〜３．５重量％のＰｔを含有する錯体：１００μｌ］と１,７,７-トリメチル-３-［４-(２-メチルアリルオキシ)ベンジリデン］ビシクロ［２.２.１］ヘプタン-２-オン(６９．８ｇ、０．２３５モル)を含む溶液に１時間３０分以上かけて滴下した。混合物をこの温度で１時間３０分放置した。反応混合物を濃縮し、シリカによるクロマトグラフィー(溶離剤：ヘプタン／酢酸エチルが９８／２からヘプタン／酢酸エチルが５０／５０まで勾配をかけたもの)にかけたところ、粘性があり淡黄色で油状の実施例３の誘導体が４７．５ｇ(収率：４０％)得られた：
−　ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３２０ｎｍ、εｍａｘ＝２６,２００
−　Ｃ５２Ｈ８６Ｏ９Ｓｉ６としての元素分析
　　　　　　　理論値：　　C61.01　　　H8.47　　　Si16.46
　　　　　　　実測値：　　C61.04　　　H8.52　　　Si16.10
【００５０】
（実施例４）
式(７)の誘導体の調製：
【化２４】
2004107349.tif 000024
　テトラブチルアンモニウムブロミド(０．６ｇ)の存在下で、３-(４-ヒドロキシベンジリデン)１,７,７-トリメチル-Ｎ-ビシクロ［２.２.１］ヘプタン-２-オン(１０ｇ、０．０３９モル)と３-グリシジルオキシプロピル-ビス-(トリメチルシロキシ)メチルシラン(１４．８ｇ、０．０４４モル)の混合物を、窒素をバブリングしながら、１１０℃で６時間保持した。得られた粗油をシリカクロマトグラフィー(溶離剤：酢酸エチル／ヘプタンが２０／８０)にかけたところ、中間のフラクションに、無色油状の実施例４の誘導体が１０ｇ(収率：４３％)得られた：
−　ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３１８ｎｍ、εｍａｘ＝２６,９００
−　Ｃ３０Ｈ５２Ｏ６Ｓｉ３としての元素分析
　　　　　　　理論値：　　C60.76　　　H8.84　　　Si14.21
　　　　　　　実測値：　　C60.54　　　H8.87　　　Si13.96
【００５１】
（参考例５）
式(１０)の誘導体の調製：
【化２５】
2004107349.tif 000025
　５．３７ｇ(０．０５２５モル)のジエチルメチルシランを、７０℃にした１０ｍｌの乾燥トルエン中に触媒［ヒュルス・ペトラーチ社のＰＣ０８５である、シクロビニルメチルシロキサン中に３〜３．５重量％のＰｔを含有する錯体：２００μｌ］と１,７,７-トリメチル-３-［４-(２-メチルアリルオキシ)ベンジリデン］ビシクロ［２.２.１］ヘプタン-２-オン(１５．５ｇ、０．０５モル)を含む溶液に２０分以上かけて滴下した。混合物をこの温度で４８時間放置した。反応混合物を濃縮し、シリカクロマトグラフィー(溶離剤：ヘプタン／ジクロロメタン)にかけたところ、結晶化した粘性のある無色油状の参考例５の誘導体が１１．８ｇ(収率：５７％)得られた：
−　融点：３９−４０℃
−　ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３２０ｎｍ、εｍａｘ＝２８,２３０
−　Ｃ２６Ｈ４０Ｏ２Ｓｉとしての元素分析
　　　　　　　理論値：　　C75.67　　　H9.77　　　Si6.81
　　　　　　　実測値：　　C75.42　　　H9.77　　　Si7.10
【００５２】
（参考例６）
式(１１)の誘導体の調製：
【化２６】
2004107349.tif 000026
ａ)第１工程：３-メトキシ-４-(３-トリメチルシラニルプロピルオキシ)ベンズアルデヒドの調製：
　３-クロロプロピルトリメチルシラン(３３．１４ｇ、０．２２モル)を、窒素下で８０℃にした１５０ｍｌの乾燥ＤＭＦ、炭酸カリウム(３０．４ｇ、０．２２モル)とバニリン(３０．４ｇ、０．２モル)の混合物に２０分以上かけて滴下した。混合物を９５−１１０℃で４時間放置した。反応混合物を冷却し、氷冷水に注いだ。水性相をジクロロメタンで３回抽出した。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、真空下で濃縮した。真空(０．０４ｍｍＨｇ)下で蒸留した後、１１２−１１４℃で蒸留されるわずかにピンク色がかった油状の３-メトキシ-４-(３-トリメチルシラニルプロピルオキシ)ベンズアルデヒドが４７．５ｇ(収率：８９％)得られ、これをさらに精製することなく次の工程で使用した。
【００５３】
ｂ)第２工程：参考例６の誘導体の調製
　４０ｍｌの乾燥ジメトキシエタン中に油中５０％のＮａＨ(２．６４ｇ、０．０５５モル；乾燥ヘプタン、ついで乾燥ジメトキシエタンですすいだもの)とショウノウ(８．３６ｇ、０．０５５モル)を含む混合物を８０℃で３０分間加熱した。３０ｍｌのジメトキシエタンに上述した誘導体(１３．３２ｇ、０．０５モル)を溶解し、そこにこれを８０℃で２０分以上かけて滴下した。混合物を８０℃で３時間攪拌した。冷却後、混合物を氷冷水に注いだ。得られた沈殿物を水で洗浄し、ついでエタノールで再結晶させたところ、白色パウダー状の参考例６の誘導体が１２．４ｇ(収率：６２％)得られた：
−　融点：７９−８０℃
−　ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３３１ｎｍ、εｍａｘ＝２１,３００
−　Ｃ２４Ｈ３６Ｏ３Ｓｉとしての元素分析
　　　　　　　理論値：　　C71.95　　　H9.06　　　Si7.01
　　　　　　　実測値：　　C71.80　　　H9.05　　　Si6.80
【００５４】
（参考例７）
式(１２)の誘導体の調製：
【化２７】
2004107349.tif 000027
ａ)第１工程：４-(３-トリメチルシラニルプロピルオキシ)ベンズアルデヒドの調製：
　３-クロロプロピルトリメチルシラン(３３．１４ｇ、０．２２モル)を、窒素下で１２０℃に維持された１５０ｍｌの乾燥ＤＭＦ、炭酸カリウム(３０．４ｇ、０．２２モル)と４-ヒドロキシベンズアルデヒド(２４．４ｇ、０．２モル)の混合物に１０分以上かけて滴下した。混合物を１２０−１３０℃で２時間３０分放置した。反応混合物を冷却し、氷冷水に注いだ。水性相をジクロロメタンで３回抽出した。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、真空下で濃縮した。真空(０．２ｍｍＨｇ)下で蒸留した後、１１０−１１４℃で蒸留される無色油状の４-(３-トリメチルシラニルプロピルオキシ)ベンズアルデヒドが４０．５ｇ(収率：８６％)得られ、これをさらに精製することなく次の工程で使用した。
【００５５】
ｂ)第２工程：参考例７の誘導体の調製
　５０ｍｌの乾燥ジメトキシエタン中に油中５０％のＮａＨ(４．８ｇ、０．１モル；乾燥ヘプタン、ついで乾燥ジメトキシエタンですすいだもの)とショウノウ(１５．２ｇ、０．１モル)を含む混合物を８０℃で３０分間加熱した。３０ｍｌのジエトキシエタンに上述した誘導体(２１．３ｇ、０．０９モル)を溶解し、そこにこれを８０℃で２０分以上かけて滴下した。混合物を８０℃で２時間攪拌した。冷却後、混合物を氷冷水に注いだ。得られた沈殿物を水で洗浄し、ついでエタノールで再結晶させたところ、白色パウダー状の参考例７の誘導体が２０．６ｇ(収率：６０％)得られた：
−　融点：１００−１０１℃
−　ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３２０ｎｍ、εｍａｘ＝２６,５３０
−　Ｃ２３Ｈ３４Ｏ２Ｓｉとしての元素分析
　　　　　　　理論値：　　C74.54　　　H9.25　　　Si7.58
　　　　　　　実測値：　　C74.62　　　H9.17　　　Si7.80
【００５６】
（実施例８）
　以下の組成物を調製した(量は組成物の全重量に対する重量％として表している)：
組成物Ａ(比較例)：
【表１】
2004107349.tif 000028
【００５７】
組成物Ａ'(比較例)：
【表２】
2004107349.tif 000029
【００５８】
　また組成物ＢないしＥ(本発明例)は、本発明のシリコーン-ベンジリデンショウノウ化合物を５重量％さらに含有する。
【表３】
2004107349.tif 000030
【００５９】
　これら各々の組成物についてＵＶ線を照射した後の残留パーソル1789(４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン)のパーセンテージを以下の手順により決定した：各々の組成物について、３つの対照サンプルと３つの試験サンプルとを調製した。２μｌ／ｃｍ２の組成物をすりガラスプレート上に手で広げた。ついでプレートを、自然のＵＶ線を模倣するために、約３５−４０℃の温度に調節されたチャンバー内［ヘレウスサンテスト(Heraeus・Suntest)ＣＰＳ］で、ＵＶ-Ａフラックスに対して表して、３０Ｊ／ｃｍ２の曝露を得るために必要な時間の間照射し、対照パネルは他のプレートの照射の間、暗所に保管しておいた。
【００６０】
　ついで、サンプルを次の方法で分析した：遮蔽剤を溶解させるために、各プレートを５０ｇのエタノールに浸して遮蔽剤を抽出した。ついで、プレートと遮蔽剤を含有する溶媒を、効果的な抽出を行うために、１５分間超音波で処理した。得られた溶液を各々の遮蔽剤のλｍａｘでの分光光度計測により分析した。
　各々の試験組成物に対して、照射後の４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンの残留量を、照射されないサンプルの濃度に対する、照射されたサンプルの濃度の比で示す。
【００６１】
　残留した４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンのパーセンテージとして、結果を次の表(Ｉ)に示す。
【表４】
2004107349.tif 000031
【００６２】
　これらの結果には、ベンジリデンショウノウ基を有するシラン又はオルガノシロキサンにより、４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンの光安定性が改善されていることがはっきりと示されている。
　またこれらの結果には、炭化水素ベースのベンジリデンショウノウ化合物の存在下で得られた４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンの光安定性が、該化合物の代わりにベンジリデンショウノウ基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物を使用することで、さらに改善されることが示されている。