(57)【要約】【課題】低コストで、高屈折率化と安定化の両立を図ることができる酸化チタン膜付き製品の製法を提供する。【解決手段】有機溶媒中に有機チタン化合物を溶解する工程と、これにより得られる有機チタン化合物溶液を樹脂基材表面に塗工し、その後乾かす工程と、上記塗工面に２００〜１５００ｍＷ／ｃｍ2 の照度で、その光量が５００〜９０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内となるよう紫外線照射を行うとともに、上記基材の表面温度を１００℃以上で０．１〜６０秒間保持させるように冷却または加熱を行い、酸化チタン膜を生成する工程とを備えている。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機溶媒中に有機チタン化合物を溶解する工程と、これにより得られる有機チタン化合物溶液を樹脂基材表面に塗工し、その後乾かす工程と、上記塗工面に２００〜１５００ｍＷ／ｃｍ2 の照度で、その光量が５００〜９０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内となるよう紫外線照射を行うとともに、上記基材の表面温度を１００℃以上で０．１〜６０秒間保持させるように冷却または加熱を行い、酸化チタン膜を生成する工程とを備えていることを特徴とする酸化チタン膜付き製品の製法。
【請求項２】
上記有機チタン化合物溶液中に、紫外線吸収性の官能基を有する添加剤を溶解する請求項１記載の酸化チタン膜付き製品の製法。
【請求項３】
上記紫外線吸収性の官能基を有する添加剤が、β−ジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類およびグリコール類からなる群から選ばれた少なくとも一つである請求項２記載の酸化チタン膜付き製品の製法。
【請求項４】
上記有機チタン化合物が、チタンアルコキシド系化合物およびチタンキレート系化合物の少なくとも一方である請求項１〜３のいずれか一項に記載の酸化チタン膜付き製品の製法。
【請求項５】
上記有機溶媒が、アルコール類、有機酸エステル、ケトン類、シクロエーテル類、酸アミド類、炭化水素類および芳香族類からなる群から選ばれた少なくとも一つである請求項１〜４のいずれか一項に記載の酸化チタン膜付き製品の製法。
【請求項６】
上記紫外線照射が、１０秒以内の照射時間で行われる請求項１〜５のいずれか一項に記載の酸化チタン膜付き製品の製法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、酸化チタン膜付き製品の製法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等の樹脂フィルムからなる基材の表面に対し金属薄膜や金属酸化物薄膜を成膜してなるフィルム材が、電熱作用、帯電防止作用、電磁波シールド作用、光制御作用等に優れた製品として、様々な分野で用いられている。上記フィルム材における金属薄膜や金属酸化物薄膜を成膜する方法は、ケースバイケースで様々な方法が用いられているが、なかでも、気相法であるスパッタ法は、材料コスト、製造コストの点において割高であるといったデメリットを有するものの、安定した品質の薄膜を生成し得るため、広く用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−１７７２７７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
一方で、比較的低コストな成膜方法として、液相法であるウェットコーティング法も提案されており、上記スパッタ法に代わる成膜方法として注目されている。上記ウェットコーティング法の例としては、本出願人は、例えば、金属アルコキシド系や金属キレート系等の有機チタン化合物をウェットコーティングし、その後、ゾルゲル反応によって、酸化チタン膜を成膜する技術を提案している（特願２００１−３５５８６２）。
【０００５】
しかしながら、上記のように、ゾルゲル反応により有機チタン化合物を酸化チタン膜へと生成させるには、一般的に、２００℃以上の高温で熱処理を行うことにより、上記反応を充分に進行させる必要がある。ところが、ＰＥＴフィルムのような耐熱性に劣る樹脂フィルムを基材とした場合、上記のような高温での熱処理を行うことができないため、成膜される酸化チタン膜中に未反応の有機チタン化合物が残存しやすく、屈折率が不充分（屈折率：１．８程度かそれ未満）となり、光学フィルム等への応用に期待されるレベル（屈折率：２．０以上であり、好適には２．１以上）を実現することが、かなり困難であるとともに、屈折率や透過率等の湿熱変化が大きく、安定性の面でも劣るといった難点があった。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、低コストで、高屈折率化と安定化の両立を図ることができる酸化チタン膜付き製品の製法の提供をその目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明の酸化チタン膜付き製品の製法は、有機溶媒中に有機チタン化合物を溶解する工程と、これにより得られる有機チタン化合物溶液を樹脂基材表面に塗工し、その後乾かす工程と、上記塗工面に２００〜１５００ｍＷ／ｃｍ2 の照度で、その光量が５００〜９０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内となるよう紫外線照射を行うとともに、上記基材の表面温度を１００℃以上で０．１〜６０秒間保持させるように冷却または加熱を行い、酸化チタン膜を生成する工程とを備えているという構成をとる。
【０００８】
すなわち、本発明者らは、樹脂フィルム等の樹脂基材を熱劣化させずに、有機チタン化合物のゾルゲル反応を充分に進行させるべく、鋭意研究を重ねた。その過程で、樹脂基材の表面に有機チタン化合物溶液を塗工し、その塗工面に対し紫外線照射を行うと、有機チタン化合物の光分解反応が進行するとともに、チタン−酸素を含む化合物の縮合と緻密化が生じるため、高屈折率でしかも安定性の高い酸化チタン膜を成膜できるとの知見を得た。
【０００９】
しかしながら、上記のような紫外線照射により有機チタン化合物を完全に反応させ、屈折率２．０以上の酸化チタン膜を成膜する場合、樹脂基材を熱劣化させることなく上記成膜を行うのは、実際には困難であった。そこで、本発明者らは、このことを解決すべく、さらに研究を重ねた結果、必要に応じ基材冷却（２０℃水冷板や２０℃冷却ロール等による冷却）や加熱を行いつつ、紫外線照射時における基材表面温度を、基材劣化を生じさせないレベルで特定時間高温となるよう保持するとともに、照度や光量といった条件が特定の範囲内となるよう、高照度で紫外線照射を行い、酸化チタン膜を生成すると、紫外線照射条件と熱エネルギーとがうまく組合わされ、塗膜の内部にまでゾルゲル反応が充分に進行していくため、上記高屈折率化を容易に達成でき、低コストな成膜方法で、所望する酸化チタン膜付き製品が得られることを見いだし、本発明に到達した。なお、上記ゾルゲル反応の促進は、紫外線照射条件が高照度であることによる反応率の向上とともに、熱エネルギーで樹脂基材内部に含まれる水分や反応生成物等の低分子量成分の気化により緻密化されたことに起因するものと推測される。
【００１０】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態について説明する。
【００１１】
本発明の酸化チタン膜付き製品の製法の一例として、酸化チタン膜付き製品の一種であるプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムの製法について、図面に基づき順を追って説明する。すなわち、まず、有機チタン化合物を有機溶媒中に溶解し、必要に応じ添加剤も溶解することにより、有機チタン化合物溶液を調製する。つぎに、図１に示すように、樹脂フィルム１を準備し、この樹脂フィルム１の表面に、グラビアコーター等のコーティング機を用いて、上記有機チタン化合物溶液を塗工し、その後、所定時間乾燥を行い、乾かす。そして、上記塗工面に、高圧水銀ランプ等の紫外線照射機により、２００〜１５００ｍＷ／ｃｍ2 の照度で、その光量が５００〜９０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内となるよう紫外線照射を行うとともに、上記基材の表面温度を１００℃以上に０．１〜６０秒間保持させるよう冷却または加熱を行い、酸化チタン層２を形成する。続いて、この酸化チタン層２の表面に、低温スパッタリング法等により銀層３を形成する。その後も、上記紫外線照射による酸化チタン層２の形成と、低温スパッタリング法等による銀層３の形成を交互に行う。このようにして、樹脂フィルム１の表面に、酸化チタン層２と銀層３が交互に積層されてなる電磁波シールド層４が形成され、その結果、図１に示すようなプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムを得ることができる。
【００１２】
上記酸化チタン層２が成膜される基材である樹脂フィルム１としては、特に限定されるものではなく、例えば、ＰＥＴフィルム、ポリイミド（ＰＩ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリアリレートフィルム等があげられる。これらのなかでも、低コストで、透明性、湿熱安定性に優れる点で、ＰＥＴフィルムが好適に用いられる。
【００１３】
この樹脂フィルム１の厚みは、通常、１０〜５００μｍ、好ましくは２５〜２５０μｍである。
【００１４】
上記酸化チタン層２の形成に用いる有機チタン化合物溶液中の有機チタン化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、チタンアルコキシド系化合物やチタンキレート系化合物が好適に用いられる。
【００１５】
上記チタンアルコキシド系化合物としては、Ｍ−Ｏ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有する化合物であれば特に限定はないが、例えば、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラメトキシチタン等が好適に用いられる。また、上記チタンキレート系化合物としては、例えば、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトナート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタン等が好適に用いられる。これらは、単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００１６】
なお、上記酸化チタン層２の形成に用いる有機チタン化合物は、通常、２量体以上の多量体が用いられるが、より高屈折率で安定性に優れる酸化チタン層を形成し得るといった点から、７量体のものが好ましい。
【００１７】
上記有機チタン化合物溶液において、必要に応じ溶解される添加剤としては、紫外線吸収性の官能基を有するものが、有機チタン化合物のアルコキシド基との反応性と安定性の点で優れることから好ましい。上記添加剤としては、例えば、アセチルアセトン，ベンゾイルアセトン，アセト酢酸エチル，アセト酢酸メチル，マロン酸ジエチル等のβ−ジケトン類や、２−メトキシエタノール，２−エトキシエタノール，２−メトキシ−２−プロパノール等のアルコキシアルコール類や、モノエタノールアミン，ジエタノールアミン，トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類や、エチレングリコール，ジエチレングリコール，トリエチレングリコール，プロピレングリコール等のグリコール類があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００１８】
上記添加剤の配合割合は、上記有機チタン化合物１ｍｏｌに対し、０．１〜２０倍ｍｏｌの範囲で配合される。
【００１９】
上記有機チタン化合物および添加剤を溶解させる有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、例えば、メタノール，エタノール，プロパノール，ブタノール，ヘプタノール等のアルコール類や、酢酸エチル等の有機酸エステルや、アセトニトリル，アセトン，エチルメチルケトン等のケトン類や、テトラヒドロフラン，ジオキサン等のシクロエーテル類や、ホルムアミド，Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類や、ヘキサン等の炭化水素類や、トルエン等の芳香族類があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００２０】
上記各材料を溶解してなる有機チタン化合物溶液の塗工方法は、特に限定されるものではなく、例えば、スピンコート法、グラビアコート法、ディップコート法、バーコート法、ドクターブレード法、リバースロールコート法等があげられる。
【００２１】
上記塗工後には、通常、４０〜１２０℃で０．５〜６０分程度の乾燥が行われる。
【００２２】
上記乾燥後には、先にも述べたように、照度が２００〜１５００ｍＷ／ｃｍ2 以上（測定波長範囲：３００〜３９０ｎｍ）で、光量が５００〜９０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内となるよう、紫外線照射が行われる。その際に、必要に応じ樹脂フィルム１裏面（非塗工面）から冷却（２０℃水冷板や２０℃冷却ロール等による冷却）や加熱を行いつつ、上記樹脂フィルム１の表面温度が１００℃以上で０．１〜６０秒間保持させるよう調整する。これにより、所望する高屈折率の酸化チタン層２を成膜することができる。すなわち、上記樹脂フィルム１表面の温度条件や紫外線照射の照度および光量が、上記範囲未満であると、酸化チタン層２の高屈折率化を図ることができず、逆に、上記範囲を超えると、基材（樹脂フィルム１）や、基材表面に予め成膜される銀膜（銀層３）等を劣化させるおそれがあるからである。なお、上記照度は、例えば、アイグラフィックス社製のＵＶＰＦ−３６により測定される。
【００２３】
上記紫外線照射の照射時間は、１０秒以内であることが好ましく、より好ましくは０．１〜５秒の範囲内である。すなわち、照射時間が１０秒を超えると、基材（樹脂フィルム１）を劣化させるおそれがあるからである。
【００２４】
上記酸化チタン層２の屈折率は、２．０以上となるよう成膜される。好ましくは、２．１以上である。
【００２５】
また、酸化チタン層２の厚みは、透明性や色調の観点から、１０〜１５０ｎｍの範囲が好ましく、特に好ましくは２０〜１００ｎｍである。
【００２６】
上記酸化チタン層２の表面に形成される銀層３用材料としては、純銀の他、銀系合金であっても差し支えない。
【００２７】
また、銀層３の厚みは、電磁波シールド性と透明性の両立を考慮して、５〜１００ｎｍの範囲内が好ましく、特に好ましくは７〜３０ｎｍの範囲内である。
【００２８】
上記のようにして形成された酸化チタン層２上に対する銀層３の形成は、例えば、低温スパッタリング法により行われる。この工程は、例えば、酸化チタン層２の表面を酸素グロー放電により曝した後、ターゲットに純銀、スパッタガスにアルゴンガス等を用いて、直流マグネトロンスパッタ法により、低温にて銀層３を形成する工程である。上記低温スパッタリング法の条件としては、特に限定はないが、好ましくは、電力：１ｋＷ（１．５６Ｗ／ｃｍ2 ）、真空度：０．３Ｐａ、成膜温度：４０℃、ターゲット／基材間距離：６〜８ｃｍ、ライン線速１．３ｍ／分である。
【００２９】
上記樹脂フィルム１上に積層形成される電磁波シールド層４は、先に述べたように、酸化チタン層２と銀層３とを交互に積層することにより形成される。そして、本発明における上記酸化チタン層２は、アルコキシド反応が充分になされ膜安定性に優れていることから、上記積層により、隣接する銀層３の凝集劣化を防ぐことができ、導電性の低下（表面抵抗の上昇）が生じないといった効果が得られる。すなわち、通常では、銀の凝集が生起するところ、上下に緻密で強固な酸化チタン膜が存在するために、凝集への粒子の動きが抑えられるからであると推察される。なお、視認性の観点から、図１のように、樹脂フィルム１から最も遠い表面には、酸化チタン層２が位置決めされているものが好ましい。また、図１において、上記電磁波シールド層４は、酸化チタン層２と銀層３とが合計５層積層することにより形成されているが、これに限定されず、適宜の数の層形成がなされる。
【００３０】
また、上記電磁波シールド層４の反射率は、１０％未満であることが好ましく、特に好ましくは５％未満である。
【００３１】
上記プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムは、先にも述べたように、本発明の酸化チタン膜付き製品の製法により得られた物の一例である。そして、上記酸化チタン膜付き製品は、本発明における特定の手法により、その酸化チタン膜が形成されていれば、その層構成等は、特に限定されるものではない。したがって、本発明の製法により得られる酸化チタン膜付き製品の使用用途は、上記層構成等を適宜設定することにより、プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム以外にも、例えば、ＬＣＤ・ＥＣＷ・ＥＬ・ＦＥＤ等の表示用ガラス基板，タッチパネルガラス，太陽電池用透明導電ガラス（ＴＣＯ）基板（ａ−Ｓｉ系、ＣｄＴｅ系、ＣＩＳ系）といった他の透明導電性付与用途や、防眩フィルム，融雪ガラス，車両用ガラス，冷却ショーケース用ガラス，暖房用パネルヒーター，調理用パネルヒーター等といった電熱性付与用途や、計測機器用ガラス窓，ＣＲＴ用パネルガラス，インテリジェントビルガラス等といった帯電防止性付与用途や、反射防止フィルム，反射防止ガラス，熱線反射ガラス，熱線遮断ガラス，紫外線遮断ガラス等といった光制御性付与用途や、さらには、ガスバリアー性付与用途、耐蝕性付与用途、眼鏡等のハードコート用途にも用いることができる。
【００３２】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
【００３３】
【実施例１】
まず、テトラ−ｎ−ブトキシチタン７量体（日本曹達社製）６重量部（以下、「部」と略す）と、アセチルアセトン１．５部とを、ｎ−ブタノール６２．５部およびイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）３０部による混合溶媒に配合し、これを攪拌機を用いて１０分間混合し、コーティング溶液を調製した。そして、このコーティング溶液を用いて、以下のようにして、樹脂サンプルフィルム（サンプルａ）、および、屈折率測定用のサンプルｂを作製した。
【００３４】
〔サンプルａの作製〕
ＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）を準備し、このＰＥＴフィルム表面に、上記コーティング溶液をスピンコーターによりコーティング〔（５００ｒｐｍ×３秒）＋（２０００ｒｐｍ×３０秒）〕し、その後、１００℃で１分間の乾燥を行った。続いて、このコーティングされたＰＥＴフィルムを、図２に示すような装置にて紫外線照射を行うことにより、基材の表面に単層の酸化チタン層（厚み３０ｎｍ）が形成されてなるサンプルａを作製した。すなわち、図２に示すように、矢印方向に１ｍ／ｍｉｎの速度で流れるベルトコンベア１１上に、２０℃水冷板１２を載置し、その上に、図示のように、上記コーティングによるチタネート層１４が形成されたＰＥＴフィルム１３を載置し、上記チタネート層１４の表面に対し紫外線照射を行った。このとき、高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）（図２の符号１５に該当）により、照射距離５３ｍｍ（照度：１０００ｍＷ／ｃｍ2 ）で、紫外線照射を２秒間（光量：２０００ｍＪ／ｃｍ2 ）行うとともに、上記２０℃水冷板１２の作用により基材（ＰＥＴフィルム１３）表面温度を１００℃以上で１秒間保持した結果、酸化チタン層を形成した。なお、上記照度は、測定波長範囲：３００〜３９０ｎｍで、アイグラフィックス社製のＵＶＰＦ−３６により測定している（以下、同様）。また、上記基材表面温度は、熱電対式温度測定器（キーエンス社製のＷＡＶＥ  ＴＨＥＲＭＯ  １０００）（図２の符号１６に該当）により１００ｍｓ周期にて測定している（以下、同様）。なお、上記熱電対式温度測定器１６のセンサーは、予めＰＥＴフィルム１３表面に貼着されており、ベルトコンベア１１の流れによりＰＥＴフィルム１３と一緒に動いている。
【００３５】
〔サンプルｂの作製〕
シリコーンウェハ基材（厚み４００μｍ）を準備した。そして、上記ＰＥＴフィルムに代えて、このシリコーンウェハ基材を用いたこと以外は、上記サンプルａと同様にして、基材の表面に単層の酸化チタン層（厚み３０ｎｍ）が形成されてなるサンプルｂを作製した。
【００３６】
【実施例２】
酸化チタン層形成における紫外線照射の条件を、以下のように変更した。すなわち、コンベアベルトの速度を２ｍ／ｍｉｎに設定し、乾燥されたコーティング面に対し、高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）により、照射距離５３ｍｍ（照度：１０００ｍＷ／ｃｍ2 ）で、紫外線照射を１秒間（光量：２０００ｍＪ／ｃｍ2 ）行うとともに、基材表面温度を１００℃以上で０．５秒間保持するように調整した。それ以外は、実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルムの表面に単層の酸化チタン層（厚み３０ｎｍ）が形成されてなるサンプルａを作製した。また、これに準じて、シリコーンウェハ基材の表面に単層の酸化チタン層（厚み３０ｎｍ）が形成されてなるサンプルｂも作製した。
【００３７】
【比較例１】
酸化チタン層形成における紫外線照射の条件を、以下のように変更した。すなわち、コンベアベルトの速度を２ｍ／ｍｉｎに設定し、乾燥されたコーティング面に対し、高圧水銀ランプ（１６０Ｗ／ｃｍ）により、照射距離２００ｍｍ（照度：４００ｍＷ／ｃｍ2 ）で、紫外線照射を２秒間（光量：８００ｍＪ／ｃｍ2 ）行うとともに、基材表面温度を８０〜１００℃未満で１秒間保持するように調整した。それ以外は、実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルムの表面に単層の酸化チタン層（厚み３０ｎｍ）が形成されてなるサンプルａを作製した。また、これに準じて、シリコーンウェハ基材の表面に単層の酸化チタン層（厚み３０ｎｍ）が形成されてなるサンプルｂも作製した。
【００３８】
【比較例２】
酸化チタン層形成における紫外線照射の条件を、以下のように変更した。すなわち、コンベアベルトの速度を１ｍ／ｍｉｎに設定し、乾燥されたコーティング面に対し、高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）により、照射距離５３ｍｍ（照度：１０００ｍＷ／ｃｍ2 ）で、紫外線照射を２秒間（光量：１０００ｍＪ／ｃｍ2 ）行うとともに、水冷板を除き、基材表面温度を１００℃以上で７０秒間保持するように調整した。それ以外は、実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルムの表面に単層の酸化チタン層（厚み３０ｎｍ）が形成されてなるサンプルａを作製した。また、これに準じて、シリコーンウェハ基材の表面に単層の酸化チタン層（厚み３０ｎｍ）が形成されてなるサンプルｂも作製した。
【００３９】
このようにして得られた実施例品および比較例品のサンプルａおよびサンプルｂを用いて、下記の基準に従い、各特性の評価を行った。そして、これらの結果を、下記の表１に示した。
【００４０】
〔ＰＥＴ外観〕
各サンプルａ作製後、その基材であるＰＥＴフィルムの外観を目視にて観察し、変形がみられなかったものを○、変形がみられたものを×として評価した。
【００４１】
〔未反応分の有無〕
アルバック・ファイ社製のＥＳＣＡ５６００によるＸＰＳ分析により、各サンプルａの酸化チタン層内部のＴｉ結合状態を分析した。その結果、未反応成分を示唆するＴｉ結合ピーク（４５３．８ｅＶ）が確認されなかったものを「無し」、確認されたものを「有り」とした。
【００４２】
〔屈折率〕
自動エリプソメーター（溝尻光学研究所製、ＤＨＡ−ＸＡ）を用いて、各サンプルｂの屈折率の測定を行った。
【００４３】
【表１】
2004197189.tif 000002
【００４４】
表１の結果から、実施例のサンプルは、熱劣化や酸化チタン層内部での未反応分もなく、高屈折率を示していることがわかる。これに対し、紫外線照射条件等が所定範囲外となるよう設定し作製された比較例のサンプルは、外観や屈折率に悪影響がみられることがわかる。
【００４５】
【発明の効果】
以上のように、本発明は、樹脂フィルム等の基材の表面に、有機チタン化合物溶液を塗布し、乾かした後、さらに紫外線を照射し、その紫外線照射時における基材表面温度を、基材劣化を生じさせないレベルで特定時間高温となるよう保持するとともに、照度や光量といった条件が特定の範囲内となるよう、高照度で紫外線照射を行っているため、有機チタン化合物の光分解によるゾルゲル反応が充分に進行するとともに、チタン−酸素を含む化合物の縮合と緻密化が生じ、高屈折率でしかも安定性の高い酸化チタン膜を有する酸化チタン膜付き製品を形成することができる。また、本発明の製法は、ゾルゲルコーティング法の一種であるため低コスト化にも繋がる。
【００４６】
特に、上記有機チタン化合物溶液中に、紫外線吸収性の官能基を有する添加剤を溶解していると、有機チタン化合物のアルコキシド基との反応性と安定性の点で優れることから、高屈折率化等の製品性の向上がなされ、その添加剤が、β−ジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類、グリコール類等であると、その効果はより優れるようになる。
【００４７】
また、上記有機チタン化合物溶液中の有機チタン化合物が、チタンアルコキシド系化合物、チタンキレート系化合物等であると、より高屈折率で安定性に優れる酸化チタン膜付き製品を製造することができる。
【００４８】
さらに、上記特定の有機チタン化合物溶液における有機溶媒が、アルコール類、有機酸エステル、ケトン類、シクロエーテル類、酸アミド類、炭化水素類、芳香族類等であると、基材に対する濡れ性や塗工性等の点で優れるようになる。
【００４９】
そして、上記紫外線照射が、１０秒以内の照射時間で行われると、基材の劣化をさせることなく、酸化チタン膜付き製品を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製法により得られる酸化チタン膜付き製品の一例である電磁波シールドフィルムを示す模式図である。
【図２】紫外線照射装置および紫外線照射時の基材表面温度の測定方法を示す説明図である。
【図１】
2004197189.tif 000003
【図２】
2004197189.tif 000004