(57)【要約】【課題】固体誘電体を電極に安定設置できるとともに、電極や固体誘電体に熱応力が生じるのを防止できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】常圧プラズマ処理装置の電極１２には、他方の電極２１との対向面に透明石英ガラス製の固体誘電体板７１が光硬化型接着剤７４によって接着固定されている。接着剤７４は、電極１２と誘電体板７１の熱膨縮の差を吸収可能な伸縮性とその伸縮によっても接着状態を維持可能な接着強度とを有し、しかも硬化前においては誘電体板７１の塗布面上において所定厚さを維持可能かつ脱泡可能な粘性を有している。【選択図】  図３
2004285396.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電界印加により被処理物のプラズマ処理を行なう装置であって、
上記電界印加のための導電金属からなる電極と、アーク放電防止のための固体誘電体とを備え、
これら電極と固体誘電体が、互いの熱膨縮の差を吸収可能な伸縮性とその伸縮によっても接着状態を維持可能な接着強度とを有する接着剤にて接着されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
硬化前の上記接着剤が、上記電極または固体誘電体の塗布面において所定厚さを維持可能かつ脱泡可能な粘性を有していることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
上記接着剤の塗布後の硬化時間が、該接着剤に対する脱泡工程を設定可能な長さを有していることを特徴とする請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
上記接着剤が、塗布後の硬化時期を制御可能であることを特徴とする請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
上記固体誘電体が、透光性を有し、上記接着剤が、光硬化型の接着剤であることを特徴とする請求項２〜４の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
上記光硬化型接着剤が、少なくとも一般式（１）で表される官能基を有する化合物（Ａ）、及び一般式（２）で表される官能基を有する化合物（Ｂ）を含有していることを特徴とする請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【化１】
2004285396.tif 000007
（式中、ｍは２又は３の整数を表す。Ｒは炭化水素を表す。Ｘは、加水分解性を有する官能基を表す。）
【化２】
2004285396.tif 000008
（式中、ｎは２〜５の整数を表す。Ｙ（ｎ）は共有結合性官能基をｎ個有する酸素、窒素、リン又は炭素を表す。Ｚは炭化水素基又はオキシド基を表す（但し、オキシド基はｎが４又は５のときに限る））
【請求項７】
上記化合物（Ｂ）が、カルボン酸無水物、カルボン酸イミド、又はジアシルホスフィンオキサイドから選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
請求項２〜７の何れかに記載のプラズマ処理装置における電極と固体誘電体を接着剤で接着する方法であって、電極と固体誘電体の一方に接着剤を塗布して両者を重ね合わせた後、接着剤の硬化前に、重ね合わせた状態を維持しながら固体誘電体を電極に対して揺するようにして接着剤の脱泡を行なうことを特徴とする接着方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、電界を印加して放電を起こさせ、被処理物の洗浄、成膜、エッチング、アッシングなどのプラズマ表面処理を行なうプラズマ処理装置およびその構成部材の接着方法に関し、特に、略常圧下においてプラズマ表面処理するのに適したプラズマ処理装置およびその構成部材の接着方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、特許文献１には、一対の電極を上下に対向配置し、略常圧下において、これら電極間に電界を印加することによりグロー放電を起こさせ、電極間に配した被処理物のプラズマ表面処理を行なう装置が記載されている。下側の電極上には、例えば石英ガラスからなる板状固体誘電体が設置されている。この固体誘電体は、アーク放電を防止するためのものである。常圧プラズマ処理装置においては、減圧プラズマ処理装置よりアーク放電が立ちやすく、それを防止する意味で固体誘電体の役割は重要である。
【０００３】
【特許文献１】
特開３０４０３５８号公報（第８図、第７頁）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上掲特許文献１に記載のものでは、石英ガラスからなる板状固体誘電体を下側電極の上に単に載せただけであるので、不安定である。一方、電極にアルミナなどの誘電体を溶射するなどして一体化する方法もある。しかし、一般に電極と固体誘電体はプラズマ処理時に熱膨張するところ、これら部材の熱膨張度は互いに異なっているのが通例である。これによって、電極や固体誘電体に熱応力が発生してしまう。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、電界印加により被処理物のプラズマ処理を行なう装置であって、上記電界印加のための導電金属からなる電極と、アーク放電防止のための固体誘電体とを備え、これら電極と固体誘電体が、互いの熱膨縮の差を吸収可能な伸縮性とその伸縮によっても接着状態を維持可能な接着強度とを有する接着剤にて接着されていることを特徴とする。これによって、電極に固体誘電体を安定設置できるだけでなく、電極や固体誘電体に熱応力が生じるのを防止することができる。
【０００６】
伸縮性を有する接着剤として、後記の光硬化型接着剤のほか、変成シリコーン系湿気硬化型接着剤、ウレタン系湿気硬化型接着剤、２液型変成シリコーン系接着剤、２液型ウレタン系接着剤、２液型エポキシ系接着剤、ホットメルト型接着剤、反応性ホットメルト型接着剤、嫌気性硬化型接着剤、熱硬化型エポキシ系接着剤、熱硬化型アクリル系接着剤、熱硬化型フェノール系接着剤、シアノアクリレート系瞬間接着剤、ＳＧＡ系接着剤などの種々の硬化型接着剤を用いてもよい。さらに、但し、瞬間接着剤のような湿気で反応させるタイプのものは、貼り合わせるときの雰囲気に留意する。２液混合型であって混合させたうえで塗布するタイプのものは、硬化までの短時間でうまく脱泡するようにする。第１液で一旦仮止めしたうえで第２液を混合させるタイプは、第２液を接着面の深部まで行き渡らせることのできる場合に限られる。熱硬化型は、一般に高粘度であるので、塗布時に気泡が入らないように、また厚さが均一になるように工夫する。
なお、接着剤の伸縮性は、ゴム微粒子や可塑剤等を添加することによって調節可能である。
【０００７】
上記接着剤は、硬化前において上記電極または固体誘電体の塗布面上で所定（十分な伸縮度ひいては熱応力吸収能を発現し得る程度）の厚さを維持可能かつ脱泡可能な程度の粘性を有していることが望ましい。これによって、接着剤の熱応力吸収能を確実に確保できるとともに、塗布後硬化前に接着剤内の気泡を十分に除去（脱泡）することができ、残留気泡内で放電が起きるのを防止することができる。
【０００８】
さらに、上記接着剤は、塗布後に脱泡工程を設定可能な硬化時間を有していること（塗布後硬化するのが遅くその間に十分脱泡作業を行なえる場合と、硬化時期が制御可能で塗布後の脱泡作業を行なったうえで硬化可能な場合とを含む）が望ましく、塗布後の硬化時期を制御可能であることがより望ましい。これによって、接着剤の脱泡を一層確実に行なうことができ、残留気泡によるアーク放電を一層確実に防止することができる。ここで、電極と固体誘電体の一方に接着剤を塗布して両者を重ね合わせた後、接着剤の硬化前に、重ね合わせた状態を維持しながら固体誘電体を電極に対して揺するようにして接着剤の脱泡を行なうことが望ましい。
【０００９】
上記塗布後硬化するのが遅い接着剤として、例えば、２液硬化型のエポキシ系接着剤の遅硬化タイプ（市販の物で硬化時間は約１２時間）、湿気硬化型の変成シリコーン系接着剤（２４時間）、湿気硬化型のウレタン系接着剤（２４時間）などがある。但し、これらに限らず、殆どの接着剤が、硬化剤を選択することによって硬化時間を調整できる。脱泡工程を設定するための硬化時間は、数時間程あれば十分である。
【００１０】
上記接着剤の硬化前の粘度は、塗布時の温度（通常は常温）環境下で１０〜１万ｃｐｓであることが好ましい。１万ｃｐｓを越えると、塗布面に広く延展させにくくなり、特に大面積の貼り合わせに使用困難な場合がある。１０ｃｐｓ未満であると、薄く延び広がって厚みを維持できない場合がある。
【００１１】
上記固体誘電体が、透光性を有し、上記接着剤が、光硬化型接着剤であることが好ましい。これによって、接着剤硬化用の光を、固体誘電体を通して接着剤に当てることができ、固体誘電体の周縁部分だけでなく中央部分をも電極に確実に接着することができる。また、塗布しても光を当てないかぎり硬化しないので、塗布後の硬化タイミングを確実に制御でき、ひいては塗布後、脱泡作業を十分に行なったうえで硬化させることができ、残留気泡によってアーク放電が起きるのを確実に防止することができる。透光性の固体誘電体として、例えば石英ガラスがある。接着剤を硬化させる光は、紫外線をはじめとして、可視光線や電子線などでもよく、種類は限定されない。
【００１２】
上記光硬化型接着剤としては、例えば、アクリル系紫外線硬化型接着剤、不飽和ポリエステル系紫外線硬化型接着剤、エン−チオール系紫外線硬化型接着剤、光カチオン硬化型接着剤や、下記一般式（１）で表される官能基を有する化合物（Ａ）と下記一般式（２）で表される官能基を有する化合物（Ｂ）を含む紫外線硬化型接着剤やそれらを他の硬化型接着剤を組み合わせた接着剤等を挙げることができる。上記化合物（Ａ）と上記化合物（Ｂ）を含有する紫外線硬化型接着剤は、伸縮性、ひいては熱応力吸収性（歪み吸収性）に優れており、本発明の接着剤として好適である。
【００１３】
【化３】
2004285396.tif 000003
（式中、ｍは２又は３の整数を表す。Ｒは炭化水素を表す。Ｘは加水分解性を有する官能基を表す。）
【化４】
2004285396.tif 000004
（式中、ｎは２〜５の整数を表す。Ｙ（ｎ）は共有結合性官能基をｎ個有する酸素、窒素、リン又は炭素を表す。Ｚは炭化水素基又はオキシド基を表す（但し、オキシド基はｎが４又は５のときに限る））
【００１４】
上記化合物（Ａ）としては、珪素原子に加水分解性の官能基（Ｘ）が２〜３個置換した官能基構造を有する化合物がある。ここで、加水分解性基Ｘとは、珪素と官能基Ｘの結合が加水分解性を示す官能基である。具体的には、例えば、アルコキシ基、オキシム基、アルケニルオキシ基、アセトキシ基、塩素や臭素・ヨウ素等のハロゲン基を置換させたもの等が挙げられる。貯蔵安定性の観点から、アルコキシ基が好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基等を挙げることができる。ジアルコキシシリル基あるいはトリアルコキシシリル基の場合、同じアルコキシ基を用いても良いし、異なるアルコキシ基を組み合わせて用いてもよい。また、種類の異なる官能基Ｘを組み合わせて用いても良いし、異なる化合物Ａを複数組み合わせて用いてもよい。
【００１５】
炭化水素基Ｒとしては、脂肪族系炭化水素基、不飽和脂肪族系炭化水素基、芳香族系炭化水素基等の炭化水素基が挙げられる。なお、これらの炭化水素基はアミノ基、水酸基、エーテル基、エポキシ基、重合性不飽和基、ウレタン基、ウレア基、イミド基、エステル基等の架橋反応を阻害しない官能基もしくは結合を有していてもよい。
【００１６】
上記化合物（Ａ）は、上記一般式（１）で表される官能基を一分子中に複数官能基を有する化合物であってもよい。また、異なる種類の官能基を有する化合物であってもよい。例えば、プロピレングリコールやエチレングリコール、ブチレングリコール等のアルキレングリコールをモノマーユニットとするポリマー、エステル結合を持つポリエステル、アミド結合を持つポリアミド、カーボネート結合を有するポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリオレフィン等のポリマーや、これら共重合体に上記一般式（１）で表される官能基を含有させた化合物を挙げることができる。官能基の上記ポリマーへの置換位置としては、ポリマーの末端、側鎖、末端と側鎖の両方に位置していても何等問題はない。
上記化合物（Ａ）として、鐘淵化学工業（株）の商品名ＭＳポリマーとしてＭＳポリマーＳ−２０３、Ｓ−３０３、Ｓ−９０３、エピオン等、サイリルポリマーとしてサイリルＳＡＴ−２００、ＭＡ−４０３、ＭＡ−４４７等、旭硝子（株）のエクセスターＥＳＳ−２４１０、ＥＳＳ−２４２０、ＥＳＳ−３６３０、チッソ（株）のアセトキシ末端ポリジメチルシロキサン（ＰＳ３６３．５）、ジメチルアミノ末端ポリジメチルシロキサン（ＰＳ３８３）、エトキシ末端ポリジメチルシロキサン（ＰＳ３９３）、ステアリロキシ末端ポリジメチルシロキサン（ＰＳ０５３．５）、トリエトキシシリル変性ポリ（１，２−ブタジエン）（ＰＳ０７８．５）、（Ｎ−トリメトキシシリルプロピル）ポリアザミド（ＰＳ０７５）、（Ｎ−トリメトキシシリルプロピル）ポリエチレンイミン（ＰＳ０７６）、（Ｎ−トリメトキシシリルプロピル）−Ｏ−ポリエチレンオキサイドウレタン（ＰＳ０７７）等の市販の化合物を用いてもよい。
【００１７】
上記化合物（Ｂ）としては、上記一般式（２）で表される官能基を有する化合物であればよく、一分子中に複数の官能基を有する化合物であってもよく、異なる種類の官能基を有する化合物であってもよい。また、本発明の光硬化型接着剤において異なる種類の化合物（Ｂ）を複数組み合わせて用いてもよい。
ここで、上記一般式（２）で表せる官能基としては、酸素・硫黄・窒素・リン・炭素より選ばれる原子Ｙに対し、カルボニル基が２個結合した化合物であって、原子Ｙの価数に応じて適宜炭化水素置換基あるいはオキシド基Ｚを有するものが挙げられる。
上記炭化水素基としては、例えば、脂肪族系炭化水素基、不飽和脂肪族系炭化水素基、芳香族系炭化水素基等の炭化水素基が挙げられる。なお、これらの炭化水素基は、アミノ基、水酸基、エーテル基、エポキシ基、重合性不飽和基、ウレタン基、ウレア基、イミド基、エステル基等の架橋反応を阻害しない官能基もしくは結合を有していてもよい。また、異なる種類の置換基Ｚを組み合わせて用いてもよい。
【００１８】
化合物（Ｂ）の他の例として、有機基による環状化合物や、同じ環状鎖の中に複数個の同種又は異種の上記一般式（２）で表される官能基を有する化合物が挙げられる。さらに、複数の同種あるいは異種のこれら環状化合物を、有機基で結合した化合物や、複数の同種又は異種のこれら環状化合物をユニットとして少なくとも１個含む双環化合物等を挙げることができる。
【００１９】
化合物（Ｂ）としては、カルボン酸無水物あるいはカルボン酸イミドが、光反応性、及び化合物（Ａ）に対する溶解性に優れている為、好適である。また、ジアシルホスフィンオキサイドを選択してもよい。
上記化合物（Ｂ）において、例えば、Ｙが酸素の場合としては、酢酸無水物、プロピオン酸無水物、ブチル酸無水物、イソブチル酸無水物、バレリック酸無水物、２−メチルブチル酸無水物、トリメチル酢酸無水物、ヘキサン酸無水物、ヘプタン酸無水物、デカン酸無水物、ラウリル酸無水物、ミリスチリル酸無水物、パルミチン酸無水物、ステアリル酸無水物、ドコサン酸無水物、クロトン酸無水物、アクリル酸無水物、メタクリル酸無水物、オレイン酸無水物、リノレイン酸無水物、クロロ酢酸無水物、ヨード酢酸無水物、ジクロロ酢酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物、クロロジフルオロ酢酸無水物、トリクロロ酢酸無水物、ペンタフルオロプロピオン酸無水物、ヘプタフルオロブチル酸無水物、コハク酸無水物、メチルコハク酸無水物、２，２−ジメチルコハク酸無水物、イソブチルコハク酸無水物、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、ヘキサヒドロ−４−メチルフタル酸無水物、イタコン酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、マレイン酸無水物、２−メチルマレイン酸無水物、２，３−ジメチルマレイン酸無水物、１−シクロペンテン−１，２−ジカルボン酸無水物、グルタル酸無水物、１−ナフチル酢酸無水物、安息香酸無水物、フェニルコハク酸無水物、フェニルマレイン酸無水物、２，３−ジフェニルマレイン酸無水物、フタル酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物、４，４’−（ヘキサフルオロプロピリデン）ジフタル酸無水物、１，２，４，５−ベンゼンテトラカルボン酸無水物、１，８−ナフタレンジカルボン酸無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸無水物が挙げられる。
【００２０】
化合物（Ｂ）の市販の化合物としては、旭電化社製のアデカハードナーＥＨ−７００、アデカハードナーＥＨ−７０３、アデカハードナーＥＨ−７０５Ａ；新日本理化社製のリカシッドＴＨ、リカシッドＨＴ−１、リカシッドＨＨ、リカシッドＭＨ−７００、リカシッドＭＨ−７００Ｈ、リカシッドＭＨ、リカシッドＳＨ、リカレジンＴＭＥＧ；日立化成社製のＨＮ−５０００、ＨＮ−２０００；油化シェルエポキシ社製のエピキュア１３４Ａ、エピキュアＹＨ３０６、エピキュアＹＨ３０７、エピキュアＹＨ３０８Ｈ、；住友化学社製のスミキュアーＭＳ；チバスペシャリティーケミカル社製のジアシルホスフィンオキサイド  イルガキュアー８１９等が挙げられる。
【００２１】
また、マレイン酸無水物とラジカル重合性二重結合を持つ化合物の共重合体が挙げられる。例えば、マレイン酸無水物と（メタ）アクリレートの共重合体、マレイン酸無水物とスチレンの共重合体、マレイン酸無水物とビニルエーテルの共重合体である。
上記化合物（Ｂ）のより具体的な例として、例えばＹが窒素の場合としては、コハク酸イミド、Ｎ−メチルコハク酸イミド、α，α−ジメチル−β−メチルコハク酸イミド、αメチル−α−プロピルコハク酸イミド、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−（１−ピレニル）マレイミド、３−メチル−Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ，Ｎ’−１，２−フェニレンジマレイミド、Ｎ，Ｎ’−１，３−フェニレンジマレイミド、Ｎ，Ｎ’−１，４−フェニレンジマレイミド、Ｎ，Ｎ’−（４−メチル−１，３−フェニレン）ビスマレイミド、１，１’−（メチレンジ−１，４−フェニレン）ビスマレイミド、フタルイミド、Ｎ−メチルフタルイミド、Ｎ−エチルフタルイミド、Ｎ−プロピルフタルイミド、Ｎ−フェニルフタルイミド、Ｎ−ベンジルフタルイミド、ピロメリット酸ジイミド等が挙げられる。
【００２２】
上記化合物（Ｂ）において、例えばＹがリンの場合としては、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
上記化合物（Ｂ）において、例えばＹが炭素の場合としては、２，４−ペンタンジオン、３−メチル−２，４−ペンタンジオン、３−エチル−２，４−ペンタンジオン、３−クロロ−２，４−ペンタンジオン、１，１，１−トリフルオロ−２，４−ペンタンジオン、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ−２，４−ペンタンジオン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン、１−ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタン等のジケトン類；ジメチルマロネート、ジエチルマロネート、ジメチル  メチルマロネート、  テトラエチル  １，１，２，２−エタンテトラカルボン酸等のポリカルボン酸エステル類；メチルアセチルアセトナート、エチルアセチルアセトナート、メチル  プロピオニルアセテート等のα−カルボニル−酢酸エステル類等が挙げられる。
【００２３】
上記化合物（Ｂ）の配合割合は、化合物（Ａ）１００重量部に対して、化合物（Ｂ）は０．０１〜３０重量部が好ましい。化合物（Ｂ）が０．０１重量部未満の場合には、光反応性を示すことは困難となる場合があり、３０重量部を越える場合には、光透過性が著しく低下する為、光照射面のみが重合あるいは架橋し、深部反応性が著しく低下することがある。より好ましくは、１〜２０重量部である。
【００２４】
光硬化型接着剤の硬化に利用できる光源は、特に限定されない。感光性を向上させる目的で添加した増感剤に吸収する波長成分を含む光を発する光源であればより好ましい。具体的には、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、エキシマーレーザー、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ、ナトリウムランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、蛍光灯、太陽光、電子線照射装置等を用いることができる。フィルター等を用いて不要な波長成分を低減あるいは除去してもよい。また、複数種の光源を組み合わせて用いてもよい。複数光源の照射方法は、これら光源の同時照射でもよく、時間差をおいて逐次照射でもよく、同時照射と逐次照射を組み合わせたやり方でもよい。
【００２５】
本発明で用いられる光硬化型接着剤には、本発明の効果・目的を阻害しない範囲において、必要に応じて、上記一般式（１）で表される官能基を有する架橋促進剤、感光性を向上させるための増感剤、粘性特性を調整するための増粘剤・チキソトロープ材、引っ張り特性等を改善する物性調整剤、増量剤、補強剤、難燃剤等の公知の機能を有する各種添加剤を加えてもよい。
【００２６】
また、光照射後の化合物（Ａ）の重合あるいは、架橋反応を促進させるための有機金属化合物を配合してもよく、偶発的あるいは必然的に光非照射部が発生する場合に好適である。上記有機金属化合物としては、ゲルマニウム、錫、鉛、硼素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属元素と有機基を置換してなる有機金属化合物を挙げることができる。有機金属化合物として、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫フタレート、ビス（ジブチル錫ラウリン酸）オキサイド、ジブチル錫ビスアセチルアセトナート、ジブチル錫ビス（モノエステルマレート）、オクチル酸錫、ジブチル錫オクトエート、ジオクチル錫オキサイド等の錫化合物、テトラ−ｎ−ブトキシチタネート、テトライソプロポキシチタネート等のチタネート系化合物、これらは単独または２種以上を併用して使用することができる。
有機金属化合物の配合割合は、光照射後、化合物（Ａ）の反応を促進する限りにおいて何等制限を受けないが、光硬化型接着剤１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部が好ましい。０．０１重量部より少ない場合には、光照射後の化合物（Ａ）の反応促進を期待できなくなる場合があり、１０重量部を超えると、光照射後の反応促進はするものの、反応物への影響が著しく現れることがある。より好ましくは、０．１〜８重量部である。
【００２７】
光反応性を向上させるため、つまり、光の照射時間を短くする、光の照射エネルギーを低くする、あるいは、深部反応性を向上させる目的で、増感剤を配合しても良い。上記増感剤としては、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、α−ヒドロキシ−α，α’−ジメチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体化合物；ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物；ベンジルジメチルケタール等のケタール誘導体化合物；ハロゲン化ケトン；アシルフォスフィンオキシド；アシルフォスフォナート；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ  プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキシドビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド；ビス（η５−シクロペンタジエニル）−ビス（ペンタフルオロフェニル）−チタニウム、ビス（η５−シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピリ−１−イル）フェニル］−チタニウム；アントラセン、ペリレン、コロネン、テトラセン、ベンズアントラセン、フェノチアジン、フラビン、アクリジン、ケトクマリン、チオキサントン誘導体、ベンゾフェノン、アセトフェノン、２−クロロチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン等を挙げることができる。
増粘剤としては、化合物（Ａ）との相溶性の高い高分子化合物から選ばれ、配合される化合物（Ａ）の種類により適宜選択される。例えば、アクリル系高分子、メタクリル系高分子、ポリビニルアルコール誘導体、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン誘導体、ポリエステル類、ポリエーテル類、ポリイソブテン、ポリオレフィン類、ポリアルキレンオキシド類、ポリウレタン類、ポリアミド類、天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ＮＢＲ、ＳＢＳ、ＳＩＳ、ＳＥＢＳ、水添ＮＢＲ、水添ＳＢＳ、水添ＳＩＳ、水添ＳＥＢＳ等を挙げることができる。また、これらを適宜組み合わせてもよい。
上記チキソトロープ材としては、硬化前の光硬化型接着剤がチキソトロピー性を発現するような物質から適宜選ばれる。例えば、コロイダルシリカ、ポリビニルピロリドン、疎水化炭酸カルシウム、ガラスバルーン、ガラスビーズ等を挙げられる。化合物（Ａ）との親和性の高い表面を有するものを選択することが好ましい。
上記物性調整剤としては、各種のシランカップリング剤が用いられる。例えば、ビニルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリエトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］ヘキサエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリエトキシシリル）プロピル］ヘキサエチレンジアミン等が挙げられる。これらは単独または２種以上併用して用いられる。
上記増量剤としては、硬化前の光硬化型接着剤に添加してチキソトロープ性を発現しないものが好適である。例えば、タルク、クレー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、無水珪素、含水珪素、ケイ酸カルシウム、二酸化チタン、カーボンブラック等が挙げられる。これらは単独または２種以上併用して用いられる。
上記可塑剤としては、例えば、リン酸トリブチル、リン酸トリクレジル等のリン酸エステル類、フタル酸ジオクチル等のフタル酸エステル類、グリセリンモノオレイル酸エステル等の脂肪酸−塩基酸エステル類、アジピン酸ジオクチル等の脂肪酸二塩基酸エステル類、ポリプロピレングリコール類等が挙げられる。これらは単独または２種以上併用して用いられる。
その他、必要に応じて、タレ防止剤、酸化防止剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、溶剤等を添加してもよい。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
図１および図２は、本発明の第１実施形態に係る常圧プラズマ処理装置Ｍ１を示したものである。プラズマ処理装置Ｍ１は、上下一対の電極ユニット１０，２０を備えている。これら電極ユニット１０，２０の間に形成されたプラズマ化空間１ａに薄板状のワークＷ（被処理物）が配置（具体的には下側電極ユニット２０の上面に載置）され、常圧下においてこのワークＷの上面が洗浄（表面処理）されるようになっている。
【００２９】
下側のアース電極ユニット２０は、平面視四角形の厚板状をなすアース電極２１と、このアース電極２１の四隅に装着された樹脂製の電極ホルダ２２とを有し、図示しない装置本体に支持されている。アース電極２１は、接地線４２を介して接地されている。アース電極２１の上面および側面には、例えばアルミナからなる固体誘電体の溶射膜２３が形成されている。アース電極２１の内部には、冷媒通路２１ａが形成されている。この冷媒通路２１ａに冷媒が通されることにより、アース電極２１が冷却または加温（温度調節）されるようになっている。
【００３０】
上側のホット電極ユニット１０は、平面視左右に長い四角形のホット電極１１と、このホット電極１１の四隅に装着された電極ホルダ３０Ｆ，３０Ｒ，３０Ｓとを有している。ホット電極１１は、アース電極２１と対向する下側に配された対向側電極部材１２と、アース電極２１とは逆の上側に配された背向側電極部材１３とに分割され、これらが分離可能に接合されている。
【００３１】
背向側電極部材１３は、導電金属、好ましくは軽量なアルミニウムによって厚肉の板状に形成されている。詳細な図示は省略するが、背向側電極部材１３は、懸架ブラケット１９を介して上記装置本体に前後スライド可能に懸架、支持されている。これによって、ホット電極ユニット１０が、アース電極ユニット２０の真上に対向するセット位置（図１の状態）と、後方（図１において左方）に退避してアース電極ユニット２０の上面を露出させる退避位置（図示省略）との間で水平移動可能になっている。セット位置において、上下の電極ユニット１０，２０間（後記樹脂シート７６（図３）と溶射膜２３との間）には、例えば１〜２ｍｍ程度の厚さの隙間すなわち上記プラズマ化空間１ａが形成されるようになっている。
【００３２】
また、図１に示すように、背向側電極部材１３は、給電線４１を介してパルス電源４０（電界印加手段）に接続されている。パルス電源４０は、所定高さのパルス状の電圧を所定周期でホット電極１１に供給するようになっている。
【００３３】
さらに、図１および図２に示すように、背向側電極部材１３の内部には、冷媒通路１３ａが形成されている。冷媒通路１３ａは、平面視Ｕ字状をなして左右に延びるとともに、両端が背向側電極部材１３の上面に開口されている。冷媒通路１３ａの上流端には、フレキシブルチューブからなる冷媒導入管６１が連ねられ、下流端には、フレキシブルチューブからなる冷媒導出管６２が連ねられている。導入管６１からの冷水や温水などの冷媒が、冷媒通路１３ａに通されることにより、ホット電極１１が冷却または加温（温度調節）されるようになっている。その後、冷媒は、導出管６２を経て排出されるようになっている。
【００３４】
ホット電極１１の対向側電極部材１２は、背向側電極部材１３と同様に、導電金属、好ましくは軽量なアルミニウムによって構成され、背向側電極部材１３と同一の平面形状で、かつ、背向側電極部材１３より薄い板状をなしている。対向側電極部材１２の下面の隅部は、全周にわたってＲ取りされている。
【００３５】
ホット電極１１の２つの分割部材１２，１３どうしの接合構造について説明する。
背向側電極部材１３には、上面から下面へ貫通する挿通孔１３ｂが適宜な間隔を置いて複数形成されている。対向側電極部材１２の上記挿通孔１３ｂに対応する位置には、内周面に雌ネジを有するボルト孔１２ａが形成されている。ボルト孔１２ａは、対向側電極部材１２の上面から厚さ方向の中程まで形成され、対向側電極部材１２の下面へは達していない。（したがって、対向側電極部材１２の下面は、ボルト孔１２ａの配置箇所においても滑らかな状態になっており、ひいては下面全体が滑らかになっている。）そして、ボルト１４が、挿通孔１３ｂを通してボルト孔１２ａにねじこまれている。このボルト１４によって、対向側電極部材１２が、背向側電極部材１３に引き付けられ、押し当てられている。
【００３６】
次に、ホット電極ユニット１０の電極ホルダについて説明する。
図１に示すように、前側の電極ホルダ３０Ｆは、逆Ｌ字状をなしてホット電極１１に直接宛がわれた内ホルダ部材３１と、その前方外側に設けられた外ホルダ部材３２と、これらホルダ部材３１，３２の上側に設けられた上板３３と、ホルダ部材３２の下側に設けられた下板３４とを有し、ホット電極１１の前端部に沿って左右（図１の紙面と直交する方向）に細長く延びている。
【００３７】
前側ホルダ３０Ｆには、処理ガス源５０と協働する処理ガス導入機構が組み込まれている。すなわち、前側ホルダ３０Ｆの外ホルダ部材３２には、処理ガスの導入路３２ａが形成されている。導入路３２ａは、受容れ路３２ｂと、チャンバー３２ｃと、スリット３２ｄとを上流側から順次連ねることによって構成されている。受容れ路３２ｂの上流端は、フレキシブルチューブからなる処理ガス供給管５１を介して処理ガス源５０に連ねられている。処理ガス源５０には、洗浄用処理ガスとして例えばＮ２やＯ２などが貯えられている。
【００３８】
チャンバー３２ｃは、大容積を有して外ホルダ部材３２の略全長にわたって延び、受容れ路３２ｂからの処理ガスを左右長手方向に均一化できるようになっている。スリット３２ｄは、チャンバー３２ｃの全長域からホット電極１１へ近づくように斜め下に延びている。このスリット３２ｄの全長域に吹出し路３０ａが連なっている。吹出し路３０ａは、内ホルダ部材３１のＲ取りされた下端部と、下板３４の曲面加工された端縁とによって形成され、図１の紙面と直交する左右に延びている。吹出し路３０ａは、後方すなわち電極ユニット１０の内側へ向けて斜め下に開口されている。
【００３９】
なお、下板３４をホルダ部材３２にボルト締めするボルト孔３４ａは、前後方向に長い長孔になっている。これにより、下板３４の前後位置を調節でき、ひいては吹出し路３０ａの幅を拡縮することができるようになっている。また、下板３４には、チャンバー３２ｃに連なる他の吹出し路３４ｂが形成されている。吹出し路３４ｂは、吹出し路３０ａより前側に位置し、前方へ向けて斜め下に開口している。
【００４０】
ホット電極１１の後側のホルダ３０Ｒは、前側ホルダ３０Ｆを前後に反転させた構造をなしている。すなわち、電極ホルダ３０Ｒは、内外のホルダ部材３５，３６と、上下の板３７，３８を有している。後側ホルダ３０Ｒには、真空ポンプ５３（排気手段）と協働する排気機構が組み込まれている。すなわち、内ホルダ部材３５と下板３８とによって、吸込み路３０ｂが形成されている。下板３８のボルト孔３８ａが長孔になることによって、下板３８の前後位置を調節でき、吸込み路３０ｂを拡縮できるようになっている。外ホルダ部材３６には、排気路３６ａが形成されている。排気路３６ａは、吸込み路３０ｂから延びるスリット３６ｄと、このスリット３６ｄに連なるチャンバー３６ｃと、このチャンバー３６ｃに連なる導出路３６ｂとを有している。導出路３６ｂの下流端は、フレキシブルチューブからなる排気管５２を介して真空ポンプ５３に連なっている。
【００４１】
図２に示すように、ホット電極１１の左右両側のホルダ３０Ｓは、逆Ｌ字状をなして前後方向に長く延び、ホット電極１１の左右側部に宛がわれている。これらホルダ３０Ｓには、カーテンガス源５４と協働するガスカーテン機構が組み込まれている。すなわち、各ホルダ３０Ｓには、カーテンガスの導入路３０ｃが形成されている。導入路３０ｃは、垂直路３０ｄと、水平路３０ｅと、吹出し路３０ｆ，３０ｇとを有している。垂直路３０ｄは、ホルダ３０Ｓの長手方向中央において上下に延びている。垂直路３０ｄの上端は、フレキシブルチューブからなるカーテンガス供給管５５を介してカーテンガス源５４に接続されている。カーテンガス源５４には、カーテンガスとして例えばＮ２などの不活性ガスが貯えられている。なお、上記処理ガスがカーテンガスと同一物質の場合には、処理ガス源５０をカーテンガス源として兼用させてもよい。
【００４２】
水平路３０ｅは、垂直路３０ｄの下端部に連なるとともにホルダ３０Ｓの略全長域にわたって前後に延びている。水平路３０ｅの底部から吹出し路３０ｆ，３０ｇが延びている。これら吹出し路３０ｆ，３０ｇは、互いに側面視「ハ」字状をなしている。すなわち、吹出し路３０ｆは、左右内側へ向けて斜め下へ延び、ホルダ３０Ｓの下端面に開口している。一方、吹出し路３０ｇは、左右外側へ向けて斜め下へ延び、ホルダ３０Ｓの下端面に開口している。なお、吹出し路３０ｆ，３０ｇは、細孔状をなし、ホルダ３０Ｓの略全長域にわたるように前後に間隔を置いて複数配置されているが、ホルダ３０Ｓの略全長域にわたるスリット状に形成してもよい。
【００４３】
本発明の最も特徴的な部分について説明する。
図１および図２に示すように、プラズマ処理装置Ｍ１のホット電極ユニット１０における対向側電極部材１２の下面（アース電極２１との対向面）には、誘電体板７１が設けられている。誘電体板７１は、薄く（例えば厚さ１ｍｍ程度）透明な石英ガラス（透光性材料）で構成され、ホット電極１１に対する固体誘電体としての役割を担っている。図３に示すように、誘電体板７１の下面には、薄い樹脂シート７６が接着されている。このシート７６は、フッ素を含有する樹脂、例えばテトラフルオロエチレンで構成されている。
【００４４】
誘電体板７１の周縁部は、対向側電極部材１２の周縁部より突出している。この誘電体板７１の周縁突出部分の上面と対向側電極部材１２の周側面とに、角材状をなす上記添え部材７３が宛がわれている。添え部材７３は、誘電体の樹脂で構成されている。添え部材７３は、対向側電極部材１２の４つの縁に合わせて４つに分割されているが、一体に連なって枠状をなしていてもよい。添え部材７３は、水平なボルト７５によって対向側電極部材１２の周側面に固定されている。このボルト７５は、誘電体の樹脂によって形成されている。
【００４５】
誘電体板７１と対向側電極部材１２とは、伸縮性（弾性）を有する紫外線（ＵＶ）硬化接着剤７４（光硬化接着剤）によって接着されている。この接着剤７４は、下記の一般式（１）で表される官能基を有する化合物（Ａ）、及び一般式（２）で表される官能基を有する化合物（Ｂ）を主要成分として含有している。
【００４６】
【化５】
2004285396.tif 000005
（式中、ｍは２又は３の整数を表す。Ｒは炭化水素を表す。Ｘは、加水分解性を有する官能基を表す。）
【化６】
2004285396.tif 000006
（式中、ｎは２〜５の整数を表す。Ｙ（ｎ）は共有結合性官能基をｎ個有する酸素、窒素、リン又は炭素を表す。Ｚは炭化水素基又はオキシド基を表す（但し、オキシド基はｎが４又は５のときに限る））
これらの配合割合は、化合物（Ａ）１００重量部に対して、化合物（Ｂ）が０．０１〜３０重量部であることが好ましい。化合物（Ｂ）は、カルボン酸無水物、カルボン酸イミド、又はジアシルホスフィンオキサイドから選ばれる少なくとも一つであることが望ましい。
【００４７】
具体的にこの実施形態では、化合物（Ａ）として、アルコキシシリル変性ポリプロピレングリコールが用いられ、化合物（Ｂ）として、無水マレイン酸およびジアシルホスフィンオキサイドが用いられている。配合割合は、アルコキシシリル変性ポリプロピレングリコール１００重量部に対して、無水マレイン酸が７．１重量部であり、ジアシルホスフィンオキサイドが１．４重量部である。さらに、アクリルモノマーとアクリルオリゴマーが添加されている。これら添加剤の配合割合は、アルコキシシリル変性ポリプロピレングリコール１００重量部に対して、アクリルモノマー（東亜合成社製、アロニックスＭ−１１０）が１４．３重量部、アクリルオリゴマー（東亜合成社製、アロニックスＭ−２７０）が２８．６重量部である。
【００４８】
上記組成の接着剤７４は、誘電体板７１と対向側電極部材１２が熱で相対的に膨張・収縮するとき、その熱膨縮の差を吸収可能な伸縮性と、伸縮によっても接着状態を維持可能な接着強度とを有している。また、硬化前においては、誘電体板７１の電極部材１２への塗布面上で所定厚さを維持可能、かつ後記脱泡作業が十分可能な程度の粘性を有している。
【００４９】
接着剤７４による電極部材１２と誘電体板７１の接着手順について説明する。遮光下で、上記の各成分を例えば６０℃程度に加熱したうえで攪拌混合することにより、上記所望粘度の接着剤７４を調製する。なお、混合後、減圧環境に置くか脱泡機を用いて内部の気泡をなるべく抜いておくのが望ましい。調整後、常温までさます。この接着剤７４を誘電体板７１の上面に塗布する。（勿論、電極部材１２に塗布してもよい。）このとき、接着剤７４を誘電体板７１から垂れ落とすことなく所定の厚さになるように塗布することができる。
【００５０】
次に、誘電体板７１の接着剤塗布面に電極部材１２を重ね合わせる。そして、重ね合わせた状態を維持しながら誘電体板７１を電極部材１２に対して小さく揺すり動かす。これによって、接着剤７４の内部に残留した気泡を十分に除去（脱泡）することができる。しかも、紫外線硬化型の接着剤７４は、この脱泡工程では硬化の途中はおろか硬化し始めてもおらず、調製時の粘性を維持している。これによって、脱泡を一層確実かつ十分に行なうことができる。
【００５１】
その後、誘電体板７１の側から紫外線を照射する。誘電体板７１は、透明石英ガラスで構成されているので、紫外線を確実に透すことができる。これによって、接着剤７４を、部材７１，１２どうしの貼り合わせ面の全体にわたって確実に硬化させることができ、両部材７１，１２を確実に接着することができる。
その後、誘電体板７１の下面にフッ素含有樹脂シート７６を貼り付ける。
【００５２】
プラズマ処理装置Ｍ１を用いてワークＷの洗浄処理を行なう手順を説明する。
ホット電極ユニット１０を退避位置に位置させ、アース電極ユニット２０の上面に処理対象のワークＷを載せる。そして、ホット電極ユニット１０を前進させてセット位置に位置させる。
【００５３】
次いで、処理ガスを、処理ガス源５０から供給管５１を経て受容れ路３２ｂに導入する。この処理ガスが、チャンバー３２ｃで均一化された後、スリット３２ｄを経て吹出し路３０ａから電極ユニット１０，２０間のプラズマ化空間１ａへ吹出される。
【００５４】
なお、処理ガスとして例えばＮ２を用いるときは、吹出し路３０ａの前方の吹出し路３４ｂを開けておき、そこからもＮ２が吹出されるようにするとよい。これにより、吹出し路３０ａからの吹出し流を外部から遮断でき、外の空気がプラズマ化空間１ａに取り込まれるのを防止することができる。
【００５５】
また、パルス電源４０をオンする。これにより、ホット電極１１の背向側電極部材１３にパルス電圧が印加される。ホット電極１１の２つの分割部材１２，１３どうしは互いに押し付けられ、良好な導通状態になっているので、対向側電極部材１２にも、上記のパルス電圧がロスなく確実に印加されることになる。これによって、上下の電極１１，２１間のプラズマ化空間１ａに電界が形成される。この電界は、ボルト１４やボルト孔１２ａからなる着脱機構の影響を受けることがない。よって、プラズマ化空間１ａ内にアークを発生させることなく均一なグロー放電を形成することができる。このグロー放電によって上記プラズマ化空間１ａを流れる処理ガスをプラズマ化できる。更に、シート７６の含有フッ素をプラズマ化して空間１ａ内に飛び出させ、上記プラズマ化した処理ガスに混ぜることができる。これによって、ワークＷの上面を良好にプラズマ洗浄することができる。シート７６からフッ素を出すことができるので、処理ガスにフッ素を含ませておく必要がなく、処理ガス供給構成を簡素化できる。
【００５６】
併行して、カーテンガスを、カーテンガス源５４から供給管５５を経て左右の導入路３０ｃに導入する。このカーテンガスは、路３０ｃの垂直路３０ｄを経て水平路３０ｅに沿って前後方向に均一に拡げられる。そして、水平路３０ｅの全長域から吹出し路３０ｆ，３０ｇを経て、ホルダ３０Ｓ，２２間の隙間にそれぞれ吹出される。そのうち内向きの吹出し路３０ｆからのカーテンガスによって、上記処理ガスがプラズマ化空間１ａから漏れるのを防止することができる。一方、外向きの吹出し路３０ｇからのカーテンガスによって、外の空気がプラズマ化空間１ａ内に取り込まれるのを防止することができる。
【００５７】
使用済みの処理ガスおよびカーテンガスは、後側ホルダ３０Ｒの吸込み路３０ｂに吸い込まれ、排気路３６ａおよび排気管５２を経て真空ポンプ５３に吸込まれ排気される。
処理終了後は、処理ガスおよびカーテンガスの投入を停止するとともに電源を停止する。そして、ホット電極ユニット１０を押して退避位置に位置させ、アース電極ユニット２０上の洗浄済みワークＷを取り出す。
【００５８】
プラズマ処理装置Ｍ１によれば、電圧印加によって対向側電極部材１２と誘電体板７１が互いに異なる度合いで熱膨張したときは、ＵＶ硬化型接着剤７４が両部材１２，７１の接着状態を維持しながら伸縮する。これによって、これら部材１２，７１の膨張差を吸収でき、これら部材１２，７１に熱応力が生じるのを防止することができる。
【００５９】
また、プラズマ処理装置Ｍ１によれば、接着剤７４が硬化前に十分に脱泡されており、対向側電極部材１２と誘電体板７１との間が、気泡の殆ど無い接着剤７４によって充填されているので、これら部材１２，７１の間でアークが発生するのを確実に防止できる。
【００６０】
更に、誘電体板７１を、電極１１の一部すなわち背向側電極部材１３に対して着脱可能に、しかも安定的に設置できる。この着脱機構からは、アークが発生したりプラズマの均一性が損なわれたりすることはない。そして、誘電体板７１が傷んだり汚れたりしたときは、ボルト１４を外すことにより、電極１１の一部すなわち背向側電極部材１３とは別途に容易に交換することができる。すなわち、電極１１全体を交換する必要がない。したがって、電極１１の背向側電極部材１３に繋がっている給電線４１や冷媒用の配管６１，６２を脱着したり、背向側電極部材１３を懸架ブラケット１９から外したりする必要がない。
【００６１】
また、誘電体の添え部材７３によって対向側電極部材１２の周側面からのアークを防止でき、ひいてはアークが誘電体板７１の周縁部を回り込むようにして伝わりアース電極２１に落ちるのを防止できる。しかも、ボルト７５が誘電体樹脂で形成されているので、対向側電極部材１２の周側面からのアークを一層確実に防止できる。なお、背向側電極部材１３の周側部とホルダ３５，３０Ｓを止めるボルト３９についてもアーク防止のために誘電体樹脂で構成するのが好ましい。
【００６２】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の実施形態と重複する構成に関しては、図面に同一符号を付して説明を省略する。
図４および図５は、本発明の第２実施形態に係る常圧プラズマ処理装置Ｍ２を示したものである。図６に示すように、このプラズマ処理装置Ｍ２では、ホット電極１１が背向側電極部材１３と対向側電極部材１５とに分割されている点で既述の装置Ｍ１と同様であるが、対向側電極部材１５が、アルミ箔で形成されている（極薄板状ないしは膜状をなしている）点で装置Ｍ１と異なっている。このアルミ箔からなる対向側電極部材１５が、ＵＶ硬化型接着剤７４によって誘電体板７１に接着されている。
【００６３】
図４および図５に示すように、ホット電極１１の背向側電極部材１３には、上面から下面に貫通する吸引孔１３ｃが適宜な間隔を置いて複数形成されている。これら吸引孔１３ｃの上面開口が、フレキシブルチューブからなる吸引管８１を介して真空ポンプ８０（吸引手段）に連ねられている。なお、真空ポンプ８０は、処理ガスおよびカーテンガスの排出用真空ポンプ５３と共通の真空ポンプを用いることにしてもよい。
【００６４】
真空ポンプ８０を駆動することによってアルミ箔からなる対向側電極部材１５が吸引孔１３ｃに吸い付けられるようになっている。これにより、対向側電極部材１２を背向側電極部材１３に押し付けることができ、良好な導通状態を得ることができる。ひいては、誘電体板７１をホット電極１１に安定的に設置できるとともに、容易に着脱することができる。対向側電極部材１５は、吸引孔１３ｃの箇所でも滑らかさを損なっていないので、該箇所でアークが発生したりプラズマの均一性が損なわれたりすることはない。
【００６５】
なお、誘電体板７１の周縁部は、対向側電極部材１５より突出され、この誘電体板７１の周縁突出部分の上面に添え部材７３が接着されている。また、誘電体板７１の周端縁はエッジになっており、このエッジが添え部材７３の下面に形成された切り込み７３ａに嵌め込まれている。電極部材１３，１５どうしの吸引接合状態において、添え部材７３は、背向側電極部材１３の周側面に宛がわれている。これによって、背向側電極部材１３の周側面からアークが出るのを防止できる。
【００６６】
添え部材７３は、ボルト７９（係着手段）によってホルダ３０Ｆ，３０Ｒ，３０Ｓに係着されている。これによって、真空ポンプ８０を停止しても、対向側電極１５および誘電体板７１が落下することはない。上記ボルト７９は、誘電体の樹脂で構成されている。これによって、背向側電極部材１３の周側面からのアーク発生を一層確実に防止することができる。
【００６７】
この第２実施形態のプラズマ処理装置Ｍ２においても、電圧印加によってアルミ箔からなる対向側電極部材１５と誘電体板７１が互いに異なる度合いで熱膨張したときは、ＵＶ硬化型接着剤７４が両部材１５，７１の接着状態を維持しながら伸縮する。これによって、これら部材１５，７１の膨張差を吸収でき、これら部材１５，７１に熱応力が生じるのを防止することができる。また、接着剤７４を硬化前に十分脱泡でき、対向側電極部材１５と誘電体板７１との間を気泡の殆ど無い接着剤７４で充填できるので、これら部材１５，７１の間でアークが発生するのを確実に防止できる。
【００６８】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の改変が可能である。
例えば、下側のアース電極ユニット２０についても本発明の誘電体板接着構造を適用してもよい。
塗布後に脱泡可能な接着剤として、光硬化型接着剤のような硬化時期を制御可能なものの他、塗布後硬化するのが遅く、この硬化期間中に脱泡工程を十分に設定可能なものを用いてもよい。
電極構造は、上記実施形態のような一対の平行平板電極に限定されず、ロール電極と平板電極の対や、ロール電極と円弧状に湾曲した電極の対などの種々の形状のものに適用可能である。
本発明は、グロー放電に限らず、コロナ放電や沿面放電などによるプラズマ処理にも適用でき、常圧下に限らず、減圧下でのプラズマ処理にも適用でき、洗浄に限らず、成膜、表面改質、エッチング、アッシングなどの種々のプラズマ処理にあまねく適用できる。
上記実施形態のプラズマ処理装置は、被処理物を一対の電極間に配置する所謂ダイレクト式であったが、電極間の外に配置してこれにプラズマ化した処理ガスを吹出す所謂リモート式のプラズマ処理装置にも適用できる。
【００６９】
【実施例】
本発明に係る紫外線硬化型接着剤（光硬化型接着剤）の調製方法の一実施例を説明する。なお、本発明がこの実施例に限定されるものでないことは当然である。
０．２Ｌのビーカーを用意した。遮光下で、このビーカーにアルコキシシリル変性ポリプロピレングリコール（鐘淵化学社製Ｓ−３０３）７０ｇ、無水マレイン酸５ｇ、ジアシルホスフィンオキサイド（チバスペシャリティーケミカル社製、イルガキュアー８１９）１ｇ、アクリルモノマー（東亜合成社製、アロニックスＭ−１１０）１０ｇ、アクリルオリゴマー（東亜合成社製、アロニックスＭ−２７０）２０ｇを入れ、６０℃に加熱して、撹拌棒を用いて均一になるまで混合した。その後、減圧脱泡して調製を完了した。
この接着剤の硬化前の粘度は、２０℃で３５００ｃｐｓであった。測定は、Ｂ型回転粘度計で行った。
次に、高圧水銀灯を用いて、上記接着剤に紫外線を３６５ｎｍで強度１０ｍＷ／ｃｍ２となるように６０秒照射し、接着剤を硬化させた。この硬化接着剤の破断伸びは、１２０％であり、破断応力は、８．１２ｋｇｆ／ｃｍ２であった。
【００７０】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明によれば、固体誘電体を電極に接着して安定的に固定できるだけでなく、接着剤の伸縮によって電極や固体誘電体に熱応力が生じるのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係るプラズマ処理装置を前後方向に沿って切断した断面図である。
【図２】上記プラズマ処理装置を左右方向に沿って切断した断面図である。
【図３】上記プラズマ処理装置の電極対向部を拡大して示す断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係るプラズマ処理装置を前後方向に沿って切断した断面図である。
【図５】上記第２実施形態に係るプラズマ処理装置を左右方向に沿って切断した断面図である。
【図６】上記第２実施形態に係るプラズマ処理装置の電極対向部を拡大して示す断面図である。
【符号の説明】
Ｍ１，Ｍ２  常圧プラズマ処理装置
Ｗ  ワーク（被処理物）
１１  ホット電極
４０  パルス電源（電界印加手段）
７１  誘電体板（固体誘電体）
７４  紫外線硬化型接着剤（光硬化型接着剤）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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