(57)【要約】【課題】複数ショットの露光により複数の光学素子が形成された基板であって、各光学素子相互間の位置関係を精度良く安定的に求めることができるような基板と、そのような基板を実現する露光方法とを提供することを課題とする。【解決手段】露光方法は、基板を第１の露光位置に配置する工程と、基板に第１の光学素子および第１の位置指示パターンを形成する第１の露光工程を有している。更に、露光方法は、基板を第２の露光位置に配置する工程と、基板に第２の光学素子および第２の位置指示パターンを形成する第２の露光工程と、を備えている。第１の位置指示パターンと第２の位置指示パターンとは相互に対応するようにして設けられており、両者間の距離は対応する第１の光学素子と第２の光学素子とのＸ方向、Ｙ方向およびθ方向に関する相対位置を示している。【選択図】  図４
2004302166.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の露光位置に配置された感光材付きの基板に対して複数回の露光を行うことにより、複数の光学素子と各光学素子に対応する位置指示パターンとを当該基板に形成する露光方法であって、
感光材付きの基板を第１の露光位置に配置する工程と、
第１の露光位置に配置された感光材付き基板を露光して、第１の光学素子と、Ｙ方向に延びる第１Ｘ方向位置指示部およびＸ方向に延びる第１Ｙ方向位置指示部を有する第１の位置指示パターンであって第１の光学素子に対し所定の位置に配置された第１の位置指示パターンと、を形成する第１の露光工程と、
第１の光学素子および第１の位置指示パターンが形成された感光材付きの基板を第２の露光位置に配置する工程と、
第２の露光位置に配置された感光材付きの基板を露光して、第２の光学素子と、Ｙ方向に延びる第２Ｘ方向位置指示部およびＸ方向に延びる第２Ｙ方向位置指示部を有する第２の位置指示パターンであって第２の光学素子に対し所定の位置に第１の位置指示パターンと対応させるように配置された第２の位置指示パターンと、を形成する第２の露光工程と、を備え、
第１Ｘ方向位置指示部と第２Ｘ方向位置指示部との距離は、第１の光学素子と第２の光学素子とのＸ方向に関する相対位置を示し、第１Ｙ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部との間の距離は、第１の光学素子と第２の光学素子とのＹ方向に関する相対位置を示すことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
第１の位置指示パターンは、第１Ｘ方向位置指示部と第１Ｙ方向位置指示部とが結合した状態で基板に形成され、
第２の位置指示パターンは、第２Ｘ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部とが結合した状態で基板に形成されることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
第１の位置指示パターンは、第１Ｘ方向位置指示部と第１Ｙ方向位置指示部とがＬ字状に結合した状態で基板に形成され、
第２の位置指示パターンは、第２Ｘ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部とがＬ字状に結合した状態で基板に形成されることを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項４】
第１の位置指示パターンと当該第１の位置指示パターンに対応する第２の位置指示パターンとは、相互に対称的に配置されるようにして基板に形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の露光方法。
【請求項５】
第１の露光工程では、複数の第１の位置指示パターンを基板に形成し、
第２の露光工程では、第２の位置指示パターンを各第１の位置指示パターンに対応させるようにして基板に複数形成することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の露光方法。
【請求項６】
複数の光学素子と各光学素子に対応する位置指示パターンとが露光形成されている光学素子形成基板であって、
第１の光学素子および第２の光学素子が形成されている光学素子形成領域と、
Ｙ方向に延びる第１Ｘ方向位置指示部およびＸ方向に延びる第１Ｙ方向位置指示部とを有する第１の位置指示パターンであって、第１の光学素子に対して所定の位置に配置された第１の位置指示パターンと、Ｙ方向に延びる第２Ｘ方向位置指示部およびＸ方向に延びる第２Ｙ方向位置指示部とを有する第２の位置指示パターンであって、第２の光学素子に対して所定の位置に第１の位置指示パターンと対応させるように配置された第２の位置指示パターンと、が形成されている位置指示パターン形成領域と、を備え、
第１Ｘ方向位置指示部と第２Ｘ方向位置指示部との距離は、第１の光学素子と第２の光学素子とのＸ方向に関する相対位置を示し、第１Ｙ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部との間の距離は、第１の光学素子と第２の光学素子とのＹ方向に関する相対位置を示すことを特徴とする光学素子形成基板。
【請求項７】
第１の位置指示パターンは、第１Ｘ方向位置指示部と第１Ｙ方向位置指示部とが結合した状態で指示パターン形成領域に形成され、
第２の位置指示パターンは、第２Ｘ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部とが結合した状態で位置指示パターン形成領域に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の光学素子形成基板。
【請求項８】
第１の位置指示パターンは、第１Ｘ方向位置指示部と第１Ｙ方向位置指示部とがＬ字状に結合した状態で位置指示パターン形成領域に形成され、
第２の位置指示パターンは、第２Ｘ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部とがＬ字状に結合した状態で位置指示パターン形成領域に形成されていることを特徴とする請求項７に記載の光学素子形成基板。
【請求項９】
第１の位置指示パターンと当該第１の位置指示パターンに対応する第２の位置指示パターンとは、相互に対称的な配置を有するようにして位置指示パターン形成領域に形成されていることを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載の光学素子形成基板。
【請求項１０】
複数の第１の位置指示パターンが位置指示パターン形成領域に形成されており、第２の位置指示パターンが各第１の位置指示パターンと対応するようにして複数形成されていることを特徴とする請求項６乃至９のいずれかに記載の光学素子形成基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＲＧＢカラーフィルターのブラックマトリクス層のような光学素子が露光形成されている光学素子形成基板に係り、特に、複数の光学素子を基板に露光形成するための露光方法と、複数の光学素子が露光形成されている光学素子形成基板とに関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶光学素子（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ等の流通の活性化に伴って、ＬＣＤ等に利用されているカラーフィルターのブラックマトリクス層のような光学素子を精度良く生産することが強く望まれている。このため、１枚の基板に複数の光学素子を露光形成した後に複数の光学素子を形成した基板のまま（又は、個々の光学素子に切断し）、例えばカラーフィルターの場合にはアレイ基板に当該カラーフィルターを貼り合わせることによって、生産性を向上させる手法が広く一般的に行われている。
【０００３】
このような手法によって光学素子を生産する場合、精度の良い光学素子を確実に得るためには、個々の光学素子を基板に対して正確に配置することが重要である。このためには、基板に露光形成されている各光学素子相互間の相対位置を正確に把握することが重要である。特に、複数ショット（複数回）の露光によって１枚の基板に複数の光学素子を形成する場合には、各露光により形成される光学素子の間で相対距離、相対位置が変動しやすい。このため、基板に露光形成されている各光学素子相互間の位置関係を正確に把握することは極めて重要である。そして、各光学素子相互間の相対位置を把握することによって、基板と露光装置との相対位置を調整して基板に対する光学素子の露光形成位置を調節したり、各光学素子の切断位置を調整したりすることが可能となり、個々の光学素子をより正確に基板に配置することができる。これにより、精度の良い光学素子を確実に提供することができる。
【０００４】
ところで、基板に形成された各光学素子間の相対位置の関係を検知するための手法として、例えば図１０に示されているような手法が広く一般的に用いられている。これは、複数の光学素子７５ａ、７５ｂが形成された基板６５であって所定目盛りを有するバーニアパターン８５ａ、８５ｂが各光学素子７５ａ、７５ｂと対応するようにして露光形成された図１０に示すような基板６５を使用する。そして、所謂「ノギスの原理」を利用して、測定員が目視により各バーニアパターン８５ａ、８５ｂ同士を比較することによって、対応する各光学素子７５ａ、７５ｂ相互間の位置関係（位置ズレ）を検知する手法である。図１０に示す基板６５では、第１の露光ショットによって第１の光学素子７５ａおよび第１のバーニアパターン８５ａが露光形成され、第２の露光ショットによって第２の光学素子７５ｂおよび第２のバーニアパターン８５ｂが露光形成されるようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
１枚の基板に形成された複数の光学素子相互間の位置関係を検知するために、上述のノギスの原理を利用した検知方法を用いることが可能である。しかしながら、このようなノギスの原理を利用した検知方法を用いた場合、バーニアパターンや測定員によって検知精度が左右されるので、精度の高い検知結果を安定的に提供することが難しい。
【０００６】
すなわち、ノギスの原理を利用するために基板に形成されるバーニアパターンの有する所定目盛りは、一般的には１μｍ単位程度の間隔で設けられ、それよりも小さな間隔で所定目盛りを設けることは難しい。これは感光材及び露光装置によるパターン解像力には一定の限界があるためであり、１μｍよりも小さい単位のズレを目視により測定することは非常に困難である。従って、このようなバーニアパターンに基づいて各光学素子相互間の位置関係を検知する場合、１μｍ単位程度の精度でしか各光学素子相互間の位置関係を検知することができず、それ以上の細かい精度で各光学素子相互間の位置関係を検知することができない。
【０００７】
また、ノギスの原理を利用した検知方法は非常に複雑な技術を伴うため、画像処理装置等を含む自動的な検知システムによって当該検知方法を実現させることが難しく、専ら測定員の目視を利用することによって当該検知方法が実現されている。従って、ノギスの原理を利用した検知方法では、各測定員によって検知精度にバラツキが出るとともに、測定員の疲労等によって検知精度が悪化するため、一定の精度で各光学素子相互間の位置関係を検知することが難しかった。
【０００８】
本発明は上述の事項を考慮してなされたものであり、複数ショットの露光により複数の光学素子が形成された基板であって、各光学素子相互間の位置関係を精度良く安定的に求めることができるような基板と、そのような基板を実現する露光方法とを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、所定の露光位置に配置された感光材付きの基板に対して複数回の露光を行うことにより、複数の光学素子と各光学素子に対応する位置指示パターンとを当該基板に形成する露光方法であって、感光材付きの基板を第１の露光位置に配置する工程と、第１の露光位置に配置された感光材付き基板を露光して、第１の光学素子と、Ｙ方向に延びる第１Ｘ方向位置指示部およびＸ方向に延びる第１Ｙ方向位置指示部を有する第１の位置指示パターンであって第１の光学素子に対し所定の位置に配置された第１の位置指示パターンと、を形成する第１の露光工程と、第１の光学素子および第１の位置指示パターンが形成された感光材付きの基板を第２の露光位置に配置する工程と、第２の露光位置に配置された感光材付きの基板を露光して、第２の光学素子と、Ｙ方向に延びる第２Ｘ方向位置指示部およびＸ方向に延びる第２Ｙ方向位置指示部を有する第２の位置指示パターンであって第２の光学素子に対し所定の位置に第１の位置指示パターンと対応させるように配置された第２の位置指示パターンと、を形成する第２の露光工程と、を備え、第１Ｘ方向位置指示部と第２Ｘ方向位置指示部との距離は、第１の光学素子と第２の光学素子とのＸ方向に関する相対位置を示し、第１Ｙ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部との間の距離は、第１の光学素子と第２の光学素子とのＹ方向に関する相対位置を示すことを特徴とする露光方法である。
【００１０】
本発明によれば、第１の位置指示パターンと第２の位置指示パターンとの間の距離に基づいて第１の光学素子および第２の光学素子の相対位置を検知することができるような位置指示パターンおよび光学素子を感光材付きの基板に対して露光することができる。
【００１１】
なお、本発明の光学素子とは露光によってはじめに形成される素子を指し、例えば、カラーフィルターを構成するブラックマトリクス素子やこれに類するものを含む概念である。
【００１２】
この場合、第１の位置指示パターンは、第１Ｘ方向位置指示部と第１Ｙ方向位置指示部とが結合した状態で基板に形成され、第２の位置指示パターンは、第２Ｘ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部とが結合した状態で基板に形成されることが好ましい。特に、第１の位置指示パターンは、第１Ｘ方向位置指示部と第１Ｙ方向位置指示部とがＬ字状に結合した状態で基板に形成され、第２の位置指示パターンは、第２Ｘ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部とがＬ字状に結合した状態で基板に形成されることが好ましい。なお、Ｌ字状には、通常のＬ字状の他に上下反転したＬ字状、左右反転したＬ字状、および所定の傾きを有するＬ字状が含まれる。また、第１の位置指示パターンおよび／又は第２の位置指示パターンを十字状やＴ字状に結合した状態で基板に形成することも可能である。
【００１３】
また、第１の位置指示パターンと当該第１の位置指示パターンに対応する第２の位置指示パターンとは、相互に対称的に配置されるようにして基板に形成されることが好ましい。このような場合には、第１の位置指示パターンと当該第１の位置指示パターンに対応する第２の位置指示パターンとを比較し易い。なお、ここでいう対称とは、点対称や線対称等、各種の対称を含むものである。
【００１４】
また、第１の露光工程では、複数の第１の位置指示パターンを基板に形成し、第２の露光工程では、第２の位置指示パターンを各第１の位置指示パターンに対応させるようにして基板に複数形成することが好ましい。この場合には、相互に対応する第１の位置指示パターンおよび第２の位置指示パターンの組み合わせが複数形成され、当該複数の組み合わせに基づいて、第１の位置指示パターンに対応する光学素子と第２の位置指示パターンに対応する光学素子との回転方向の相対位置関係をも検知しうるような基板を提供しうることとなる。
【００１５】
本発明は、複数の光学素子と各光学素子に対応する位置指示パターンとが露光形成されている光学素子形成基板であって、第１の光学素子および第２の光学素子が形成されている光学素子形成領域と、Ｙ方向に延びる第１Ｘ方向位置指示部およびＸ方向に延びる第１Ｙ方向位置指示部とを有する第１の位置指示パターンであって、第１の光学素子に対して所定の位置に配置された第１の位置指示パターンと、Ｙ方向に延びる第２Ｘ方向位置指示部およびＸ方向に延びる第２Ｙ方向位置指示部とを有する第２の位置指示パターンであって、第２の光学素子に対して所定の位置に第１の位置指示パターンと対応させるように配置された第２の位置指示パターンと、が形成されている位置指示パターン形成領域と、を備え、第１Ｘ方向位置指示部と第２Ｘ方向位置指示部との距離は、第１の光学素子と第２の光学素子とのＸ方向に関する相対位置を示し、第１Ｙ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部との間の距離は、第１の光学素子と第２の光学素子とのＹ方向に関する相対位置を示すことを特徴とする光学素子形成基板である。
【００１６】
この場合、第１の位置指示パターンは、第１Ｘ方向位置指示部と第１Ｙ方向位置指示部とが結合した状態で指示パターン形成領域に形成され、第２の位置指示パターンは、第２Ｘ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部とが結合した状態で位置指示パターン形成領域に形成されていることが好ましい。特に、第１の位置指示パターンは、第１Ｘ方向位置指示部と第１Ｙ方向位置指示部とがＬ字状に結合した状態で位置指示パターン形成領域に形成され、第２の位置指示パターンは、第２Ｘ方向位置指示部と第２Ｙ方向位置指示部とがＬ字状に結合した状態で位置指示パターン形成領域に形成されていることが好ましい。また、第１の位置指示パターンおよび／又は第２の位置指示パターンを十字状やＴ字状に結合した状態で基板に形成することも可能である。
【００１７】
また、第１の位置指示パターンと当該第１の位置指示パターンに対応する第２の位置指示パターンとは、相互に対称的な配置を有するようにして位置指示パターン形成領域に形成されていることが好ましい。なお、ここでいう対称とは、点対称や線対称等、各種の対称を含むものである。
【００１８】
また、複数の第１の位置指示パターンが位置指示パターン形成領域に形成されており、第２の位置指示パターンが各第１の位置指示パターンと対応するようにして複数形成されていることが好ましい。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図１乃至図９を参照して本発明の一実施の形態を説明する。なお本実施の形態では、ＲＧＢカラーフィルターを構成する各ブラックマトリクス素子（ＢＭ素子）７０を、本発明の光学素子として適用した場合について説明する。
【００２０】
カラーフィルターを製造するためのライン（カラーフィルター製造ライン１）（図示せず）は、一般に、水平な設置面上において直線的に延びるように設置され複数の基板出し入れ位置（基板搬入位置３および基板搬出位置５）を有するコア装置７と、各基板出し入れ位置に接続された処理ラインと、を備えている（図１参照）。各処理ラインでは、コア装置７によって搬送されてくるガラス基板６５に対して所望のカラーフィルターを製造するために必要とされる各種処理が施されるようになっており、例えば図１に示されているようなブラックマトリクス素子形成処理ライン（ＢＭ素子形成処理ライン）９が当該処理ラインの一つとして採用されうる。
【００２１】
図１に示されているＢＭ素子形成処理ライン９は、ガラス基板６５上にＢＭ素子を形成するための処理ラインであり、コア装置７の基板出し入れ位置に接続されている。ＢＭ素子形成処理ライン９を構成する各種機器類は逆Ｕ字状に配設されており、具体的には、洗浄機構１１、感光材塗布装置１３、感光材乾燥装置１５、露光装置１７、現像装置１９、検査機構２１およびオーブン機構２３が、コア装置７の基板搬入位置３から基板搬出位置５に向かって順次配設されている。
【００２２】
洗浄機構１１は、コア装置７の基板搬入位置３から搬入されたガラス基板６５を洗浄するための機構であって、本実施の形態では脱水ＩＲ１１ａを含んで構成されている。
【００２３】
感光材塗布装置１３は、コールドプレート（ＣＰ）１３ａを具備しており、所定の感光材（本実施の形態ではＢＭ素子用の感光材）を基板の所定箇所に塗布するようになっている。
【００２４】
感光材乾燥装置１５は、コールドプレート（ＣＰ）１５ａとホットプレート（ＨＰ）１５ｂとを具備しており、ガラス基板６５に塗布されている感光材を乾燥させて当該ガラス基板６５に定着させるようになっている。
【００２５】
露光装置１７は、ガラス基板６５に塗布されている感光材を露光して、複数のＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する複数の位置指示パターン８０とを当該ガラス基板６５に形成するようになっている。このような露光装置１７は、例えば図２に示されているような構成を有している。すなわち露光装置１７は、感光材乾燥装置１５から送られてきたガラス基板６５を載置するための露光ステージ２５と、露光ステージ２５の上方に設置された光源２７と、光源２７と露光ステージ２５との間に設置され、光源２７から発せられた光のうち所定箇所の光のみを透過させるマスク２９と、を具備している。露光ステージ２５は上下左右に移動可能な機構を有しているのに対し、光源２７及びマスク２９は固定された状態で設けられている。
【００２６】
光源２７は、図２に示されるようにして設けられており、超高圧水銀灯３１、パラボラミラー３３、コールドミラー３４、シャッター３５、インテグレータレンズ３７および球面鏡３９を有している。このような構成を有する光源２７は、超高圧水銀灯３１から発せられた光が、光源２７の各種機器により調整されてマスク２９や露光位置に配置されたガラス基板６５に対して垂直に入射、照射するような構成を有している。
【００２７】
一方、マスク２９は、マスクステージ３０を介して固定されており、図３に示すように、横方向（Ｘ方向）に設けられた２つ（複数）のブラックマトリクス素子形成光透過部（ＢＭ素子形成光透過部）４１と、各ＢＭ素子形成光透過部４１に対して所定の位置に配置された４つ（複数）のＬ字状の位置指示パターン形成光透過部４３と、を有している。本実施の形態では、１つのＢＭ素子形成光透過部４１に２つの位置指示パターン形成光透過部４３が対応するようにして当該マスク２９が設けられており、各位置指示パターン形成光透過部４３は、各ＢＭ素子形成光透過部４１の上側及び下側に形成されている（図３参照）。各ＢＭ素子形成光透過部４１の上側及び下側に形成されている位置指示パターン形成光透過部４３は、横方向（Ｘ方向）の位置が略同一となるように設けられると共に、上下方向（Ｙ方向）のＬ字状形状が相互に反対となるように（点対称となるように）設けられている。このようなマスク２９を用いた場合、１ショット当たりの露光で、２つのＢＭ素子形成光透過部４１および４つの位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光源２７からの光によって、２つのＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する４つの位置指示パターン８０とがガラス基板６５に露光形成されることとなる。なお、本実施の形態の露光装置１７では、後述する露光方法により、１枚のガラス基板６５に対して４つのＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する８つの位置指示パターン８０とが最終的に露光形成されるようになっている。
【００２８】
現像装置１９は、ガラス基板６５に露光形成されたＢＭ素子７０および位置指示パターン８０を所定の現像液により現像するようになっている。これにより、図４に示されているような縦横２×２に配置された４つのＢＭ素子７０が形成されている光学素子形成領域と、各位置指示パターン８０が形成されている位置指示パターン形成領域８１と、を有するガラス基板６５（光学素子形成基板）がもたらされることとなる。
【００２９】
検査機構２１は、図５に示すような構成を有しており、送られてきた基板を中央に載置する検査ステージ４５と、検査検査ステージ４５の位置を調整するステージコントローラ４７と、検査検査ステージ４５に載置されたガラス基板６５に形成されているＢＭ素子形成領域７１および位置指示パターン形成領域８１を画像情報として取得するための画像取得機構４９と、画像取得機構４９で取得した画像情報の画像処理を行う画像処理装置５１と、ステージコントローラ４７、画像取得機構４９及び画像処理装置５１を制御するための検査制御部５３と、を備えている。
【００３０】
画像取得機構４９は、レンズ５７と、レンズ５７を介して画像を取得するＣＣＤカメラ５５と、レンズ５７に接続されたＡＦユニット５９と、反射照明機６１と、透過照明機６３とを有しており、位置調整された検査検査ステージ４５に載置されているガラス基板６５のＢＭ素子形成領域７１及び位置指示パターン形成領域８１の画像情報をＣＣＤカメラ５５で取得し、当該画像情報をＣＣＤカメラ５５から画像処理装置５１へ送るようになっている。
【００３１】
画像処理装置５１は、画像取得機構４９（ＣＣＤカメラ５５）から送られてきた各ＢＭ素子形成領域７１及び位置指示パターン形成領域８１の画像情報に基づいて、後述する検知方法によりＢＭ素子形成領域７１の相互間の位置関係を検知するようになっている。
【００３２】
オーブン機構２３は、ガラス基板６５に熱を加えて乾燥させるようになっており、現像されたＢＭ素子７０および位置指示パターン８０をガラス基板６５上に定着させるようになっている。
【００３３】
次に、本実施の形態の作用について説明する。
【００３４】
上述のカラーフィルター製造ライン１において、コア装置７によって搬送されてきたガラス基板６５は、コア装置７の各基板搬入位置３から各処理ラインに搬入され、各処理ラインで各種の処理が施される。そして、ガラス基板６５は、各種の処理が施された後に当該処理ラインからコア装置７の基板搬出位置５に搬出され、コア装置７によって更に後段へと送られる。このようなガラス基板６５に対する一連の処理が、コア装置７の上流側から下流側に配設された各処理ラインで行われることにより、当該ガラス基板６５には所望のＲＧＢカラーフィルターが複数形成されることとなる。
【００３５】
ところで、このような各処理ラインのうち図１に示すＢＭ素子形成処理ライン９では、以下のようにしてガラス基板６５にＢＭ素子７０が形成される。
【００３６】
まず、ガラス基板６５は、コア装置７の基板搬入位置３からＢＭ素子形成処理ライン９の洗浄機構１１に送られて、脱水ＩＲ１１ａによる脱水処理を含む所定の洗浄が行われる。これによりガラス基板６５は洗浄され、ゴミ等の不純物が当該ガラス基板６５上に付着していないクリーンな状態が確保されることとなる。
【００３７】
そして、洗浄されたガラス基板６５は、洗浄機構１１から感光材塗布装置１３に送られ、当該感光材塗布装置１３において所定の感光材が塗布される。この時、所定の感光材は、後述する露光工程において露光形成されることとなるＢＭ素子７０および位置指示パターン８０の位置に対応したガラス基板６５上の所定箇所に塗布されるようになっている。本実施の形態では、少なくとも、４つのＢＭ素子７０を縦横２×２の所定位置に露光形成することができるようにすると共に、８つの位置指示パターン８０を各ＢＭ素子７０の上側および下側の所定位置に露光形成することができるように（図４参照）、ガラス基板６５上の所定箇所に感光材が塗布される。
【００３８】
そして、所定の感光材が塗布されたガラス基板６５は、感光材塗布装置１３から感光材乾燥装置１５に送られ、当該感光材乾燥装置１５において塗布された感光材が乾燥させられる。これにより、ガラス基板６５に塗布された感光材を当該ガラス基板６５に定着させることができる。
【００３９】
そして、塗布された感光材が乾燥させられたガラス基板６５は、感光材乾燥装置１５から露光装置１７に送られ、当該露光装置１７において複数ショット（２ショット）の露光（露光工程）が行われる。これにより、ガラス基板６５には、複数（４つ）のＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する複数（８つ）の位置指示パターン８０とが露光形成される。具体的には以下の露光方法に従って、ガラス基板６５に対する露光が行われる。
【００４０】
まず、感光材が塗布されているガラス基板６５（感光材付の基板）は、露光ステージ２５の中心に載置され、当該露光ステージ２５とともに所定の位置（第１の露光位置）に配置される（図６のＳＴＥＰ  Ａ１）。本実施の形態における第１の露光位置は、ガラス基板６５に形成される予定である縦横２×２のＢＭ素子７０のうちＹ方向上側に配置される２つのＢＭ素子７０（図４参照）が、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１を通過した光源２７からの光によって露光形成されるような位置を指す。
【００４１】
そして、第１の露光位置に配置されたガラス基板６５を、光源２７からの光によって露光する（第１の露光工程）（ＳＴＥＰ  Ａ２）。この時、光源２７から発せられた光は、マスク２９を介して当該ガラス基板６５に照射されるため、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１および位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光のみがガラス基板６５に照射されることとなり、他の光はマスク２９によって遮られることとなる。従って、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１を通過した光によって露光される２つのＢＭ素子７０（第１のＢＭ素子７０ａ）と、マスク２９の位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光によって露光される４つの位置指示パターン８０（第１の位置指示パターン８０ａ）とが、ガラス基板６５に形成される。この第１の露光工程で露光形成される第１のＢＭ素子７０ａは、ガラス基板６５に形成される予定である縦横２×２のＢＭ素子７０のうち縦方向上側に配置される２つのＢＭ素子７０に対応し、一方、第１の露光工程で形成される４つの第１の位置指示パターン８０ａは、これらの各ＢＭ素子７０の上側および下側に形成される（図４参照）。
【００４２】
なお、ガラス基板６５に露光形成される第１の位置指示パターン８０ａは、マスク２９の位置指示パターン形成光透過部４３の形状に対応した形状を持っている。すなわち、各第１の位置指示パターン８０ａは、Ｙ方向に延びる第１Ｘ方向位置指示部８３ａとＸ方向に延びる第１Ｙ方向位置指示部８３ｂとを有しており、第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第１Ｙ方向位置指示部８３ｂとがＬ字状に結合した状態でガラス基板６５に露光形成される。また、当該露光工程において形成されたこれらの第１の位置指示パターン８０ａの各々は、第１のＢＭ素子７０ａに対して所定の位置に配置されている。また、各ＢＭ素子７０の上側および下側に形成される位置指示パターン８０同士は、点対称的に上下が反転した配置を有している（図４参照）。
【００４３】
そして、第１のＢＭ素子７０ａおよび第１の位置指示パターン８０ａが形成されたＢＭ用の感光材付きのガラス基板６５は、露光ステージ２５とともに移動させられ、第１の露光位置から第２の露光位置に配置される（ＳＴＥＰ  Ａ３）。本実施の形態における第２の露光位置は、ガラス基板６５に形成される予定である縦横２×２のＢＭ素子７０のうちＹ方向下側に配置される２つのＢＭ素子７０（図４参照）が、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１を通過した光源２７からの光によって露光形成されるような位置を指す。
【００４４】
そして、第２の露光位置に配置されたガラス基板６５を、光源２７からの光によって露光する（第２の露光工程）（ＳＴＥＰ  Ａ４）。第２の露光工程においても、第１の露光工程と同様に、マスク２９およびガラス基板６５に対して略垂直に入射する光源２７からの光が、マスク２９を介してガラス基板６５に照射され、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１および位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光のみがガラス基板６５に照射される。従って、マスク２９のＢＭ素子形成光透過部４１を通過した光によって露光される２つのＢＭ素子７０（第２のＢＭ素子７０ｂ）と、マスク２９の位置指示パターン形成光透過部４３を通過した光によって露光される４つの位置指示パターン８０（第２の位置指示パターン８０ｂ）とが、ガラス基板６５に形成される。この第２の露光工程で露光形成される第２のＢＭ素子７０ｂは、ガラス基板６５に形成される予定である縦横２×２のＢＭ素子７０のうち縦方向下側に配置される２つのＢＭ素子７０に対応し、一方、第２の露光工程で形成される４つの第２の位置指示パターン８０ｂは、これらの各ＢＭ素子７０の上側および下側に形成される（図４参照）。
【００４５】
なお、ガラス基板６５に露光形成される第２の位置指示パターン８０ｂも、マスク２９の位置指示パターン形成光透過部４３の形状に対応する形状を持っている。すなわち、各第２の位置指示パターン８０ｂは、Ｙ方向に延びる第２Ｘ方向位置指示部８５ａとＸ方向に延びる第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとを有し、第２Ｘ方向位置指示部８５ａと第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとがＬ字状に結合した状態でガラス基板６５に露光形成される。また、当該露光工程において形成されたこれらの第２の位置指示パターン８０ｂの各々は、第２のＢＭ素子７０ｂに対して所定の位置に配置されている。また、各ＢＭ素子７０の上側および下側に形成される位置指示パターン８０同士は、点対称的に上下が反転した配置を有している（図４参照）。また、第２のＢＭ素子７０ｂの上側に形成された第２の位置指示パターン８０ｂと、第１のＢＭ素子７０ａの下側に形成された第１の位置指示パターン８０ａとが、相互に対応して対称的（点対称）に配置されるように、各位置指示パターン８０は形成されている（図４参照）。
【００４６】
そして、上述の第２の露光工程が終了した後、露光ステージ２５が移動させられて、当該露光ステージ２５に載置されているガラス基板６５は、露光装置１７から後段に設置されている現像装置１９に送られる（ＳＴＥＰ  Ａ５）。
【００４７】
現像装置１９に送られてきたガラス基板６５は、当該現像装置１９において所定の現像液が用いられ、露光装置１７において露光形成されたＢＭ素子７０および位置指示パターン８０が現像される。本実施の形態では、ガラス基板６５上に縦横２×２の配置で形成されたＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する位置指示パターン８０とが現像され、図４に示すようなガラス基板６５（光学素子形成基板）が得られるようになっている。
【００４８】
上述のような露光、現像を経て得られたガラス基板６５は、４つ（複数）のＢＭ素子７０と各ＢＭ素子７０に対応する位置指示パターン８０とが形成されたガラス基板６５であって、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂ（第１の光学素子および第２の光学素子）が形成されているＢＭ素子形成領域７１（光学素子形成領域）と、位置指示パターン８０（第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂ）が形成されている位置指示パターン形成領域８１と、を有している。そして、第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂは、対応するＢＭ素子７０に対し所定の位置に形成されているので、対応するＢＭ素子７０から必ず所定の距離だけ隔てて配置されている。このため、第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの距離は、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＸ方向に関する相対位置を示し、第１Ｙ方向位置指示部８３ｂと第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとの間の距離は、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＹ方向に関する相対位置を示すこととなる。更に、本実施の形態では、相互に対応する上記の第１の位置指示パターン８０ａおよび上記第２の位置指示パターン８０ｂによって構成される位置指示パターン８０の複数の組み合わせ９０がガラス基板６５に対しＸ方向に沿って形成されており、これらの組み合わせ９０同士の相対位置関係が、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置（θ）を示すこととなる。すなわち、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂが理想的な位置に配置され回転方向の位置ズレが生じていない場合、これらの位置指示パターン８０の各組み合わせ９０の間にＸ方向のズレ、Ｙ方向のズレは生じない。一方、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂの間に回転方向の位置ズレが生じている場合、これらの位置指示パターン８０の各組み合わせ９０の間にはＸ方向のズレ、Ｙ方向のズレが生じることとなる。従って、これらの位置指示パターン８０の各組み合わせ９０同士の位置関係（Ｘ方向、Ｙ方向の位置ズレ）に基づいて、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置（θ）を検知することができる。
【００４９】
そして、ＢＭ素子７０および位置指示パターン８０が露光・現像されたガラス基板６５は、現像装置１９から検査機構２１に送られて、当該ガラス基板６５に形成された各ＢＭ素子７０の位置関係が検知される。具体的には以下のような検知方法に従って、ガラス基板６５に形成された各ＢＭ素子７０の位置関係が検知されることとなる。
【００５０】
まず、ガラス基板６５は、図６に示す検査機構２１の検査検査ステージ４５に載置される。そして、ステージコントローラ４７により検査検査ステージ４５の位置を調整して、当該検査検査ステージ４５に載置されたガラス基板６５を所定の検査位置に配置する。
【００５１】
そして、検査位置に配置されたガラス基板６５のＢＭ素子形成領域７１および位置指示パターン形成領域８１を、画像取得機構４９（ＣＣＤカメラ５５）により画像情報として取得する。そして、当該画像情報が、画像取得機構４９（ＣＣＤカメラ５５）から画像処理装置５１に送られる。
【００５２】
画像処理装置５１は、画像取得機構４９から送られてきた画像情報に基づいて、ガラス基板６５に形成された各ＢＭ素子７０同士の相対位置関係を検知する。本実施の形態では上述のように、第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとの相対位置関係が、第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂの相対位置関係を示すこととなる。すなわち、上述のように、ガラス基板６５のＢＭ素子形成領域７１に実際に形成されている第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの相対位置関係（Ｘ方向、Ｙ方向、θ方向の相対位置）は、ガラス基板６５の位置指示パターン形成領域８１に形成されている位置指示パターン８０の相対位置関係に基づいて検知される。一方、ＢＭ素子形成領域７１のうち当初予定していた理想的な位置に各ＢＭ素子７０が形成されている場合には、各位置指示パターン８０と各位置指示パターン８０に対応するＢＭ素子７０との間隔は一定に保たれることとなる。本実施の形態の画像処理装置５１は、このような関係を利用して、以下の方法に従って各ＢＭ素子７０相互間の相対位置関係を検知する。
【００５３】
まず、画像処理装置５１は、画像取得機構４９から送られてきた画像情報に基づいて、相互に対応するようにして形成されている第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂの第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの実際の距離（間隔）を画像処理によって求める。そして、画像処理装置５１は、当該画像処理によって求めた第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの実際の距離と、各ＢＭ素子７０が理想的な位置に形成されている場合の第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの距離と、を比較して、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの間のＸ方向に関する相対位置を求める。具体的には、第１Ｘ方向位置指示部８３ａと第２Ｘ方向位置指示部８５ａとの間の実際の間隔と理想的な間隔との差ΔＸに基づいて、第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとのＸ方向に関する相対位置（理想的な状態に対するズレ）を求める。そして、画像処理装置５１は、このようにして求めた第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとのＸ方向に関する相対位置に基づいて、各位置指示パターン８０に対応する第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＸ方向に関する相対位置関係を求める。
【００５４】
同様に、画像処理装置５１は、画像取得機構４９から送られてきた画像情報に基づいて、相互に対応するようにして形成されている第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂの第１Ｙ方向位置指示部８３ｂと第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとの実際の距離を画像処理によって求める。そして、第１Ｙ方向位置指示部８３ｂおよび第２Ｙ方向位置指示部８５ｂのＹ方向に関する実際の間隔と各ＢＭ素子７０が理想的な位置に形成されている場合の両者の間の理想的な間隔とを比較して、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの間のＹ方向に関する相対位置を求める。具体的には、第１Ｙ方向位置指示部８３ｂと第２Ｙ方向位置指示部８５ｂとの間の実際の間隔と理想的な間隔との差ΔＹに基づいて、第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとのＹ方向に関する相対位置（理想的な状態に対するズレ）を検知する。画像処理装置５１は、このようにして求めた第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとのＹ方向に関する相対位置に基づいて各位置指示パターン８０に対応する第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＹ方向に関する相対位置関係を求める。
【００５５】
更に、画像処理装置５１は、相互に対応する第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂによって構成される複数の組み合わせ９０同士を比較することによって、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置（θ）を、検知する。本実施の形態では、例えば、図４に示すようにＸ方向に２組設けられている、相互に対応する第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとの組み合わせ９０同士が比較される。すなわち、これらの組み合わせ９０のうち、一方の組み合わせ９０に基づいて求められる第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＸ方向に関する相対位置（位置ズレ＝ΔＸ’１）及びＹ方向に関する相対位置（位置ズレ＝ΔＹ’１）と、他方の組み合わせ９０に基づいて求められる第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとのＸ方向に関する相対位置（位置ズレ＝ΔＸ’２）およびＹ方向に関する相対位置（位置ズレ＝ΔＹ’２）と、を比較する。第１のＢＭ素子７０ａおよび第２のＢＭ素子７０ｂが当初予定されていた理想的な位置に形成されている場合には、両者の間に回転方向のズレは発生せず、ΔＸ’１＝ΔＸ’２、ΔＹ’１＝ΔＹ’２、という関係が成立する。一方、両者の間に回転方向のズレが発生している場合には、ΔＸ’１≠ΔＸ’２、ΔＹ’１≠ΔＹ’２、という関係が成立することとなる。画像処理装置５１は、このような関係に基づいて、相互に対応する位置指示パターン８０の組み合わせ９０相互間のＸ方向のズレであるΔＸ’１とΔＸ’２との差（ΔＸ’３＝ΔＸ’１−ΔＸ’２）、及びＹ方向のズレであるΔＹ’１とΔＹ’２との差（ΔＹ’３＝ΔＹ’１−ΔＹ’２）を求めてる。そして、画像処理装置５１は、このようにして求められた、Ｘ方向およびＹ方向のズレ（ΔＸ’３、ΔＹ’３）に基づいて、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置（θ）を検知する。
【００５６】
そして、上述のようにして各ＢＭ素子７０相互間の相対位置（Ｘ方向、Ｙ方向、θ方向の相対位置）が検知されたガラス基板６５は、検査機構２１からオーブン機構２３に送られる。オーブン機構２３に送られたガラス基板６５は加熱されて、現像されたガラス基板６５の各ＢＭ素子７０及び位置指示パターン８０が乾燥させられてガラス基板６５に定着させられる。
【００５７】
そして、ガラス基板６５は、その後、オーブン機構２３からコア装置７の基板搬出位置５に搬出され、カラーフィルター製造ライン１の後段へ送られる。
【００５８】
以上説明したように、本実施の形態において採用されている上記露光方法によれば、ガラス基板６５上のＢＭ素子形成領域７１の所定位置に複数（４つ）のＢＭ素子７０を確実に形成することができるとともに、ガラス基板６５上の位置指示パターン形成領域８１の所定位置に各ＢＭ素子７０相互間の位置関係を示唆する位置指示パターン８０を確実に形成することができる。そして、このようなガラス基板６５によれば、各位置指示パターン８０相互間の位置関係に基づいて、ガラス基板６５に形成された各ＢＭ素子７０相互間の位置関係、位置ズレを確実に検知することができる。
【００５９】
このため、上述のようにして検知した各ＢＭ素子７０相互間の位置関係を考慮して、例えばガラス基板６５に形成された複数のＢＭ素子７０を個々のＢＭ素子７０に分離（切断等）したり、各露光工程におけるガラス基板６５の露光位置の微調整を行ったりすることができる。従って、このような露光方法およびガラス基板６５（光学素子形成基板）を利用することにより、ＢＭ素子７０（光学素子）を効率良く多数製造することができるだけでなく、所望の形状、大きさを有するＢＭ素子７０を精度良く製造することができる。特に、本実施の形態のような位置指示パターン８０によれば、非常に微少な位置ズレをも検知することができ、例えば１μｍ以下の単位で各ＢＭ素子７０相互間の位置ズレを検知することもできるため、非常に精度の高いＢＭ素子を製造しうることとなる。
【００６０】
また、本実施の形態のような位置指示パターン８０に基づく各ＢＭ素子７０相互間の位置関係の検知方法は、画像処理技術を用いることによって比較的簡単に実現することができ、このような画像処理技術を利用した検知方法を自動的に行わさせるシステムを構築することができる。従って、本実施の形態によれば、測定員の目視等に基づいて基板に形成された各ＢＭ素子７０相互間の位置関係を検知する場合に比べて、迅速かつ正確に、多数の各ＢＭ素子７０相互間の位置関係を検知することができる。
【００６１】
また、各位置指示パターン８０はＸ方向位置指示部８３ａ、８５ａおよびＹ方向位置指示部８３ｂ、８５ｂを含んで構成されているので、Ｘ方向およびＹ方向のうちの一方向のみならず両方向に関して、各位置指示パターン８０相互間の位置関係を求めることができるとともに、各位置指示パターン８０に対応する各ＢＭ素子７０相互間の位置関係を検知することができる。更に、複数の第１の位置指示パターン８０ａ及びこれらに対応する第２の位置指示パターン８０ｂをガラス基板６５に形成することによって、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの間における回転方向（θ方向）の位置関係をも検知することができる。従って、本発明のガラス基板６５（光学素子形成基板）によれば、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの間における位置関係を、より正確かつ詳細に検知することができる。
【００６２】
また、各位置指示パターン８０はＸ方向位置指示部８３ａ、８５ａおよびＹ方向位置指示部８３ｂ、８５ｂが結合した状態でガラス基板６５に形成されているので、位置指示パターン８０を形成するための領域を縮小させて、コンパクトなものにすることができる。特に、Ｘ方向位置指示部８３ａ、８５ａおよびＹ方向位置指示部８３ｂ、８５ｂをＬ字状に結合させることによって、また、第１の位置指示パターン８０ａと当該第１の位置指示パターン８０ａに対応する位置指示パターン８０とを相互に対称的（点対称的）に配置することによって、位置指示パターン８０を形成するための領域を更にコンパクトなものにすることができる。
【００６３】
なお、本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、必要に応じて各種の設計変更等を加えることも可能である。
【００６４】
例えば、Ｘ方向位置指示部８３ａ、８５ａおよびＹ方向位置指示部８３ｂ、８５ｂの結合状態は、Ｌ字状に限定されるものではなく、図７（ａ）に示すようなＴ字状（逆Ｔ字状を含む）、図７（ｂ）に示すような十字状、その他必要に応じた形状とすることができる。また、各位置指示パターン８０のＸ方向位置指示部およびＹ方向位置指示部を、図７（ｃ）に示すように分離させた状態でガラス基板６５に設けることも可能である。
【００６５】
また、相互に対応する第１の位置指示パターン８０ａと第２の位置指示パターン８０ｂとの間の間隔は任意の距離に設定することができる。また、相互に対応する第１の位置指示パターン８０ａおよび第２の位置指示パターン８０ｂの対称性は、点対称に限定されるものではなく、図８に示すような線対称、その他各種の対称を含むものである。
【００６６】
また、第１の位置指示パターン８０ａ及び第２の位置指示パターン８０ｂによって構成される位置指示パターン８０の複数の組み合わせ９０の各々をＸ方向に沿って設けたものだけでなく、このような複数の組み合わせ９０の各々をＹ方向に沿って設けることもできる（図９参照）。更に、Ｘ方向やＹ方向だけでなく様々な方向に沿ってこのような複数の組み合わせ９０のそれぞれを設けることもできる。このような場合にも、これらの組み合わせ９０相互間の位置関係が、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置（θ）を示唆することとなる。なお、このような複数の組み合わせ９０の各々をＸ方向或いはＹ方向に沿って設けた場合には、第１のＢＭ素子７０ａと第２のＢＭ素子７０ｂとの回転方向の相対位置（θ）を比較的簡単に求めることができる。
【００６７】
また、１枚のガラス基板６５に形成されるＢＭ素子７０の数は４つに限定されるものではない。また、１枚のガラス基板６５に対する露光（露光工程）は２ショットに限定されるものではない。複数ショットの露光（露光工程）によって１枚の基板に複数のＢＭ素子を形成するような場合であれば、本発明に基づく露光方法を好適に適用することができる。
【００６８】
また、以上の説明はＲＧＢカラーフィルターの１ｓｔレイヤーであるＢＭ素子に関してなされているが、本発明は光学素子全般を対象としたものである。従って、本発明の対象には、カラーフィルターのＢＭ素子の形成時の他に、例えばプラズマディスプレイやＴＦＴディスプレイのフォトリソ工程における１ｓｔレイヤー形成時に、分割露光方式によって光学素子をパターン形成するような場合における各パターン間の位置精度測定に関連する事項も含まれうる。
【００６９】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の露光方法によれば、複数ショットの露光により複数の光学素子が形成された基板であって、各光学素子相互間の位置関係を精度良く安定的に求めることができるような光学素子形成基板を提供することができる。
【００７０】
また本発明の光学素子形成基板によれば、複数の光学素子と各光学素子に対応する位置指示パターンとが光学素子形成基板に形成されているため、各位置指示パターン相互間の距離に基づいて各光学素子相互間の位置関係を精度良く求めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】カラーフィルター製造ラインを構成するブラックマトリクス層形成処理ラインの全体構成の概略を示す図である。
【図２】露光装置の概略を示す構成図である。
【図３】露光装置のマスクの概略を示す図である。
【図４】ＢＭ素子形成領域および位置指示パターン形成領域を有するガラス基板を示す図である。
【図５】検査機構の概略を示す構成図である。
【図６】感光材付きのガラス基板に対する露光方法を示すフローチャートである。
【図７】位置指示パターンの変形例を示す図であって、（ａ）は第１の変形例を示し、（ｂ）は第２の変形例を示し、（ｃ）は第３の変形例を示す。
【図８】第１の位置指示パターン及び第２の位置指示パターンの組み合わせの一変形例を示す図である。
【図９】ＢＭ素子形成領域および位置指示パターン形成領域を有するガラス基板の一変形例を示す図である。
【図１０】従来の光学素子形成基板を示す概略図である。
【符号の説明】
１  カラーフィルター製造ライン
７  コア装置
９  ＢＭ素子形成処理ライン
１１  洗浄機構
１３  感光材塗布装置
１５  感光材乾燥装置
１７  露光装置
１９  現像装置
２１  検査機構
２３  オーブン機構
２７  光源
２９  マスク
４１  ＢＭ素子形成光透過部
４３  位置指示パターン形成光透過部
４９  画像取得機構
５１  画像処理装置
６５  ガラス基板
７０  ＢＭ素子
７１  ＢＭ素子形成領域
８０  位置指示パターン
８１  位置指示パターン形成領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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