(57)【要約】      （修正有）【課題】  スチレンモノマーとの反応性、耐衝撃性、難燃性などの諸物性を同時に改良した耐衝撃性ポリスチレン系樹脂を提供する。【解決手段】  ゴム状ポリマーを含有するゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物において、高シス−高ビニルポリブタジエンであって、25℃で測定した5%スチレン溶液粘度と100℃におけるムーニー粘度との比が2.0〜7.0である原料ポリブタジエンを遷移金属触媒の存在下で変性させて得られる変性ポリブタジエン1〜25重量部をスチレン系樹脂組成物100重量部中に対し含有していることを特徴とする耐衝撃性スチレン系樹脂組成物であって、かつ、該耐衝撃性スチレン系樹脂組成物100重量部に対して、難燃剤が2〜60重量部添加されていることを特徴とする耐衝撃性スチレン系樹脂組成物。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゴム状ポリマーを含有するゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物において、高シス−高ビニルポリブタジエンであって、25℃で測定した5%スチレン溶液粘度と100℃におけるムーニー粘度との比が2.0〜7.0である原料ポリブタジエンを遷移金属触媒の存在下で変性させて得られる変性ポリブタジエン1〜25重量部をスチレン系樹脂組成物100重量部中に対し含有していることを特徴とする耐衝撃性スチレン系樹脂組成物であって、かつ、該耐衝撃性スチレン系樹脂組成物100重量部に対して、難燃剤が2〜60重量部添加されていることを特徴とする耐衝撃性スチレン系樹脂組成物。
【請求項２】
該高シス-高ビニルポリブタジエンのシス-1,4構造が65〜95%であり、ビニル構造が30〜4%であることを特徴とする請求項１に記載のゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物。
【請求項３】
該高シス-高ビニルポリブタジエンが、メタロセン触媒により製造されたことを特徴とする請求項１〜２に記載のゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物。
【請求項４】
該メタロセン触媒が、（Ａ）遷移金属化合物のメタロセン型錯体、及び（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとのイオン性化合物及び／又はアルモキサンからなる触媒であることを特徴とする請求項１〜３に記載のゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、耐衝撃性能及びその他の性能がバランスよく改良されたゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
スチレンモノマーにポリブタジエンを添加してラジカル重合して得られる共重合体は、ポリスチレンの持つ優れた特性に加えて耐衝撃も改良された耐衝撃性ポリスチレン系樹脂として広く知られている。この耐衝撃性ポリスチレン系樹脂を製造するために用いられるゴム変性剤としては、一般にはアルキルリチウムを触媒として１，３−ブタジエンを重合して得られるシス−１，４構造が３０〜３５％、ビニル構造が１０〜２０％であり、トランス−１，４構造が５０〜６０％である低シスポリブタジエン（以下、低シスＢＲ）とコバルト、チタン或いはニッケル系触媒により１，３−ブタジエンを重合して得られるシス−１，４構造が９０〜９８％、ビニル構造が１〜５％であり、トランス−１，４構造が１〜５％である高シスポリブタジエン（以下、高シスＢＲ）がある。
【０００３】
一方、本出願人により、例えば、特開平１０−１３９８３５号公報（特許文献１）、特開平１０−１５２５３５号公報（特許文献２）、特開平１０−２１８９４９号公報（特許文献３）、特開平１０−２７３５７４号公報（特許文献４）などには、ゴム変性剤として、シス−１，４構造が６５〜９５％であり、１，２構造が３０〜４％であるメタロセン触媒で製造された高シス−高ビニルＢＲ（以下、ＨＣ- ＨＶＢＲ）を用いた耐衝撃性ポリスチレン樹脂が報告されている。
【０００４】
高シスＢＲの特徴はガラス転移温度（通常−９５〜−１１０℃）が低いため低温特性に優れるものの、低ビニル構造含有量に起因するためにスチレンモノマーとの反応性（グラフト率）が低く、高シスＢＲを用いて得られる耐衝撃性ポリスチレン系樹脂は、アイゾット衝撃性に優れるがゴム粒子の小粒径化（光沢性）・面耐衝撃性（デュポン衝撃性）の点で十分満足できるものではない。他方、低シスＢＲはガラス転移温度（通常−７５〜−９５℃）が高く、高ビニル構造含有量に起因するためスチレンモノマーとの反応性（グラフト率）が高く、低シスＢＲを用いて得られる耐衝撃性ポリスチレン系樹脂はゴム粒子の小粒径化・面耐衝撃性が優れるものの、アイゾット衝撃性・低温特性の点で十分満足できるものではない。
【０００５】
一方、高シス−高ビニルＢＲ（以下、ＨＣ−ＨＶＢＲ）を耐衝撃性ポリスチレン用ゴムに使用することによって、高シスＢＲの特性を保持し、且つ低シスＢＲの特性を保持したＢＲの開発が強く望まれている。高ビニル構造に起因するスチレンモノマーとの反応性は低シスＢＲと同等であり、このＨＣ−ＨＶＢＲを用いて得られる耐衝撃性ポリスチレン系樹脂は、光沢性と面衝撃性が優れると共に高シス−１，４構造含有率に由来するガラス転移温度の低さからアイゾット耐衝撃性、低温特性も優れるという従来の高シスＢＲと低シスＢＲの特性を併せ持つゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂が得られることが開示されている。
しかしながら、組成などの条件によっては、スチレンモノマーとの反応性及びゴム粒子径などが制御しにくい場合があり、耐衝撃性スチレン系樹脂組成物の耐衝撃性バランスなどの諸物性の向上の点から、改良が望まれる場合があった。
【０００６】
また、上記のメタロセン触媒で製造された高シス−高ビニルＢＲ（以下、ＨＣ−ＨＶＢＲ）は、ハイシス構造に適度に１,２−構造を含みトランス構造が少ないミクロ構造を有し且つ分子のリニアリティ（線状性）の高いポリブタジエンであるが、、比較的高いコールドフローを示すため、貯蔵や輸送の際に改善を求められる場合があった。
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−１３９８３５号公報
【特許文献２】特開平１０−１５２５３５号公報
【特許文献３】特開平１０−２１８９４９号公報
【特許文献４】特開平１０−２７３５７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、ゴムのコールドフロー性を改善し、且つスチレンモノマーとの反応性、耐衝撃性、難燃性などを同時にバランス良く改良した耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物の提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、ゴム状ポリマーを含有するゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物において、
高シス−高ビニルポリブタジエンであって、25℃で測定した5%スチレン溶液粘度と100℃におけるムーニー粘度との比が2.0〜7.0である原料ポリブタジエンを遷移金属触媒の存在下で変性させて得られる変性ポリブタジエン1〜25重量部を
スチレン系樹脂組成物100重量部中に対し含有していることを特徴とする耐衝撃性スチレン系樹脂組成物であって、かつ、
該耐衝撃性スチレン系樹脂組成物100重量部に対して、難燃剤が2〜60重量部添加されていることを特徴とする耐衝撃性スチレン系樹脂組成物に関する。
【００１０】
また、該高シス-高ビニルポリブタジエンのシス-1,4構造が65〜95%であり、ビニル構造が30〜4%であることが好ましい。
【００１１】
該高シス-高ビニルポリブタジエンが、メタロセン触媒により製造されたことが好ましい。
【００１２】
該メタロセン触媒が、（Ａ）遷移金属化合物のメタロセン型錯体、及び（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとのイオン性化合物及び／又はアルモキサンからなる触媒であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、ゴムのコールドフロー性を改善し、且つ耐衝撃性、難燃性などを同時にバランス良く改良した耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物の提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の高シス-高ビニルポリブタジエンについて説明する。高シス−高ビニルポリブタジエンゴム（ＨＣ−ＨＶＢＲ）は、好ましくは、ミクロ構造中のシス−１，４−構造ユニット含有率が６５〜９５モル％、特に好ましくは７０〜９０モル％、及び好ましくは１，２−構造ユニット含有率が４〜３０モル％であり、特に好ましくは５〜２５モル％、より好ましくは７〜１５モル％である。また、トランス−１,４−構造ユニット含有率が５モル％以下が好ましく、０．５〜４．０モル％が特に好ましい。
【００１５】
また、ＨＣ−ＨＶＢＲの２５℃における５％スチレン溶液粘度（Ｓｔ−ｃｐ）と１００℃におけるムーニー粘度（ＭＬ１＋４）の関係式が下式（Ｉ）を満足する範囲にあることが好ましい。
２≦Ｓｔ−ｃｐ／ＭＬ１＋４≦７．．．（Ｉ）
特に好ましくは、  2≦Ｓｔ−ｃｐ／ＭＬ１＋４≦ 6    を満足する。
【００１６】
また、ＨＣ−ＨＶＢＲのスチレン溶液粘度（Ｓｔ−ｃｐ）は、２０〜５００が好ましく、３０〜３００が特に好ましい。
【００１７】
本発明のＨＣ−ＨＶＢＲのム−ニ−粘度（ＭＬ1+4）は、１０〜２００が好ましく、２５〜１００が特に好ましい。
【００１８】
ＨＣ−ＨＶＢＲの分子量は、トルエン中３０℃で測定した固有粘度［η］として、０．１〜１０が好ましく、０．１〜３が特に好ましい。
【００１９】
また、ＨＣ−ＨＶＢＲの分子量は、ポリスチレン換算の分子量として下記の範囲のものが好ましい。
数平均分子量（Ｍｎ）：０．２×１０5〜１０×１０5、より好ましくは０．５×１０5〜５×１０5
重量平均分子量（Ｍｗ）：０．５×１０5〜２０×１０5、より好ましくは１×１０5〜１０×１０5
【００２０】
また、本発明のＨＣ−ＨＶＢＲの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．５〜３．５、より好ましくは１．６〜３である。
【００２１】
上記のＨＣ−ＨＶＢＲは、例えば、
（Ａ）遷移金属化合物のメタロセン型錯体、及び（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとのイオン性化合物及び／又はアルミノキサンから得られる触媒を用いて、ブタジエンを重合させて製造できる。
【００２２】
あるいは、（Ａ）遷移金属化合物のメタロセン型錯体、
（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとのイオン性化合物、
（Ｃ）周期律表第１〜３族元素の有機金属化合物、及び、
（Ｄ）水  
から得られる触媒を用いたブタジエンを重合させて製造できる。
【００２３】
（Ａ）成分の遷移金属化合物のメタロセン型錯体としては、周期律表第４〜８族遷移金属化合物のメタロセン型錯体が挙げられる。
【００２４】
例えば、チタン、ジルコニウムなどの周期律表第４族遷移金属のメタロセン型錯体（例えば、ＣｐＴｉＣｌ3など）、バナジウム、ニオブ、タンタルなどの周期律表第５族遷移金属のメタロセン型錯体、クロムなどの第６族遷移金属メタロセン型錯体、コバルト、ニッケルなどの第８族遷移金属のメタロセン型錯体が挙げられる。
【００２５】
中でも、周期律表第５族遷移金属のメタロセン型錯体が好適に用いられる。
【００２６】
上記の周期律表第５族遷移金属化合物のメタロセン型錯体としては、
（１）  ＲＭ・Ｌａ、すなわち、シクロアルカジエニル基の配位子を有する酸化数＋１の周期律表第５族遷移金属化合物
（２）  Ｒn ＭＸ2-n ・Ｌａ、すなわち、少なくとも１個のシクロアルカジエニル基の配位子を有する酸化数＋２の周期律表第５族遷移金属化合物
（３）  Ｒn ＭＸ3-n ・Ｌａ
（４）  ＲＭＸ3 ・Ｌａ
（５）  ＲＭ（Ｏ）Ｘ2 ・Ｌａ
（６）  Ｒn ＭＸ3-n （ＮＲ' ）
などの一般式で表される化合物が挙げられる（式中、nは１又は２、aは０，１又は２である）。
【００２７】
中でも、ＲＭ・Ｌａ、Ｒn ＭＸ2-n ・Ｌａ、Ｒ2 Ｍ・Ｌａ、ＲＭＸ3 ・Ｌａ 、ＲＭ（Ｏ）Ｘ2 ・Ｌａ などが好ましく挙げられる。
【００２８】
Ｍは、周期律表第５族遷移金属化合物が好ましい。
【００２９】
（Ａ）周期律表第５族遷移金属化合物のメタロセン型錯体としては、中でも、Ｍがバナジウムであるバナジウム化合物が好ましい。例えば、ＲＶ・Ｌａ、ＲＶＸ・Ｌａ、Ｒ2 Ｍ・Ｌａ、ＲＭＸ2 ・Ｌａ 、ＲＭＸ3 ・Ｌａ 、ＲＭ（Ｏ）Ｘ2 ・Ｌａ などが好ましく挙げられる。特に、ＲＶ・Ｌａ、ＲＭＸ3 ・Ｌａが好ましい。
【００３０】
ＲＭＸ3 ・Ｌａで示される具体的な化合物としては、以下のものが挙げられる
シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライドが挙げられる。
【００３１】
ＲＭ（Ｏ）Ｘ2 で表される具体的な化合物としては、シクロペンタジエニルオキソバナジウムジクロライド、メチルシクロペンタジエニルオキソバナジウムジクロライド、ベンジルシクロペンタジエニルオキソバナジウムジクロライド、（１，３−ジメチルシクロペンタジエニル）オキソバナジウムジクロライドなどが挙げられる。
【００３２】
（Ｂ）成分として、非配位性アニオンとカチオンとのイオン性化合物を構成する非配位性アニオンとしては、例えば、テトラ（フェニル）ボレ−ト、テトラ（フルオロフェニル）ボレ−トなどが挙げられる。
【００３３】
一方、カチオンとしては、トリフェニルカルボニウムカチオンなどの三置換カルボニウムカチオンを挙げることができる。
【００３４】
また、（Ｂ）成分として、アルモキサンを用いてもよい。アルモキサンとしては、有機アルミニウム化合物と縮合剤とを接触させることによって得られるものであって、一般式(−Al(R')O−) ｎ で示される鎖状アルミノキサン、あるいは環状アルミノキサンが挙げられる。（Ｒ' は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、一部ハロゲン原子及び/ 又はアルコキシ基で置換されたものも含む。ｎは重合度であり、５以上、好ましくは１０以上である）。Ｒ' として、はメチル、エチル、プロピル、イソブチル基が挙げられるが、メチル基が好ましい。
【００３５】
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分に、さらに（Ｃ）成分として周期律表第１〜３族元素の有機金属化合物を組合せて共役ジエンの重合を行ってもよい。（Ｃ）成分の添加により重合活性が増大する効果がある。周期律表第１〜３族元素の有機金属化合物としては、有機アルミニウム化合物、有機リチウム化合物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物、有機ホウ素化合物などが挙げられる。
【００３６】
上記の触媒各成分の組合せとして、（Ａ）成分としてシクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド（ＣｐＶＣｌ3）などのＲＭＸ3、あるいは、シクロペンタジエニルオキソバナジウムジクロライド（ＣｐＶ（Ｏ）Ｃｌ2）などのＲＭ（Ｏ）Ｘ2、（Ｂ）成分としてトリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、（Ｃ）成分としてトリエチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウムの組合せが好ましく用いられる。
【００３７】
また、（Ｂ）成分としてイオン性化合物を用いる場合は、（Ｃ）成分として上記のアルモキサンを組み合わせて使用してもよい。
触媒成分の添加順序は、特に、制限はない。
【００３８】
また、本発明においては、触媒系として  更に、（Ｄ）成分として水を添加することが好ましい。（Ｃ）成分の有機アルミニウム化合物と（Ｄ）成分の水とのモル比（Ｃ）／（Ｄ）は、好ましくは０．６６〜５であり、より好ましくは０．７〜１．５である。
【００３９】
また重合時に、必要に応じて水素を共存させることができる。
【００４０】
ここで重合すべきブタジエンモノマ−とは、全量であっても一部であってもよい。モノマ−の一部の場合は、上記の接触混合物を残部のモノマ−あるいは残部のモノマ−溶液と混合することができる。
【００４１】
重合方法は、特に制限はなく、溶液重合、又は、１,３−ブタジエンそのものを重合溶媒として用いる塊状重合などを適用できる。トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族系炭化水素、n−ヘキサン、ブタン、ヘプタン、ペンタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、１−ブテン、２−ブテン等のオレフィン系炭化水素、ミネラルスピリット、ソルベントナフサ、ケロシン等の炭化水素系溶媒や、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。
【００４２】
また、低分子量ＨＣ−ＨＶＢＲ成分と高分子量ＨＣ−ＨＶＢＲ成分との混合物を用いてもよい。
【００４３】
本発明においての分子量を調節する方法としては、上記の触媒を用いて、水素などの連鎖移動剤の存在下に共役ジエン化合物を重合させることが挙げられる。 
【００４４】
重合反応が所定の重合率を達成した後、遷移金属触媒を添加し、反応させることによってポリマー鎖を変性する。
【００４５】
遷移金属触媒における遷移金属化合物としては、チタン化合物、ジルコニウム化合物、バナジウム化合物、クロム化合物、マンガン化合物、鉄化合物、ルテニウム化合物、コバルト化合物、ニッケル化合物、パラジウム化合物、銅化合物、銀化合物、亜鉛化合物などが挙げられる。中でも、コバルト化合物が特に好ましい。
【００４６】
本発明の遷移金属触媒は、遷移金属化合物、有機アルミニウム、および水からなる系であることが好ましい。
【００４７】
コバルト化合物としては、コバルトの塩や錯体が好ましく用いられる。特に好ましいものは、塩化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、オクチル酸コバルト、ナフテン酸コバルト、バーサチック酸コバルト、酢酸コバルト、マロン酸コバルト等のコバルト塩や、コバルトのビスアセチルアセトネートやトリスアセチルアセトネート、アセト酢酸エチルエステルコバルト、ハロゲン化コバルトのトリアリールホスフィン錯体、トリアルキルホスフィン錯体、ピリジン錯体、ピコリン錯体等の有機塩基錯体、もしくはエチルアルコール錯体などが挙げられる。
【００４８】
中でも、オクチル酸コバルト、ナフテン酸コバルト、バーサチック酸コバルト、コバルトのビスアセチルアセトネート及びトリスアセチルアセトネートが好ましい。
【００４９】
に挙げた有機アルミニウムとしては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、ジメチルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムアイオダイド、ジブチルアルミニウムクロライド、ジブチルアルミニウムブロマイド、ジブチルアルミニウムアイオダイドなどのジアルキルアルミニウムハロゲン化物、メチルアルミニウムセスキクロライド、メチルアルミニウムセスキブロマイド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムセスキブロマイドなどのアルキルセスキハロゲン化アルミニウム、メチルアルミニウムジクロライド、メチルアルミニウムジブロマイド、エチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジブロマイド、ブチルアルミニウムジクロライド、ブチルアルミニウムジブロマイドなどのモノアルキルアルミニウムハロゲン化物が挙げられる。これらは単独で用いても、複数を選択して混合して用いても良い。なかでも、ジエチルアルミニウムクロライドが好ましく用いられる。
【００５０】
本発明の遷移金属触媒において、コバルト化合物の添加量は、所望の分岐度によって、いかなる範囲の触媒量も使用できるが、好ましくはポリブタジエン１モルあたり、遷移金属化合物１×１０‐7〜１×１０‐3モルであり、特に好ましくは５×１０‐7〜１×１０‐4モルである。
【００５１】
有機アルミニウムの添加量は、所望の分岐度によって、いかなる範囲の触媒量も使用できるが、好ましくはポリブタジエン１モルあたり、有機アルミニウム１×１０‐5〜５×１０‐2モルであり、特に好ましくは５×１０‐5〜１×１０‐２モルである。
【００５２】
分岐化反応における水の添加量は、所望の分岐度によって、いかなる範囲の量も使用できるが、好ましくは有機アルミニウム化合物１モルあたり、１．５モル以下であり、特に好ましくは１モル以下である。
【００５３】
所定時間重合を行った後、アルコ−ルなどの停止剤を注入して重合を停止した後、重合槽内部を必要に応じて放圧し、洗浄、乾燥工程等の後処理を行う。
【００５４】
本発明で得られる変性ポリブタジエンのトルエン溶液粘度（Ｔｃｐ）と１００℃におけるム−ニ−粘度（ＭＬ１+４）の比（Ｔｃｐ／ＭＬ１+４）は、好ましくは０．９〜３．５であり、より好ましくは１．２〜２．５である。
【００５５】
また、本発明で得られる変性ポリブタジエンのトルエン溶液粘度（Ｔｃｐ）は、好ましくは３０〜３００であり、より好ましくは４５〜２００である。
【００５６】
また、本発明で得られる変性ポリブタジエンのコールドフロー速度（ＣＦ）が２０未満が好ましく、１５未満が特に好ましい。
【００５７】
また、本発明で得られる変性ポリブタジエンの１００℃におけるム−ニ−粘度（ＭＬ１+４）は、１０〜２００が好ましく、２５〜１００が特に好ましい。
【００５８】
本発明の耐衝撃性スチレン系樹脂組成物１００重量部中には、上記の高シス-高ビニルポリブタジエンを遷移金属触媒の存在下で変性して得られるゴム状ポリマー１〜２５、好ましくは、５〜２０重量部含まれる。上記の範囲より少ないと、この発明の効果は得られないし、ゴム状ポリマーの含有率が増大すると共に樹脂の耐衝撃性は向上するが、上記の範囲より多いと、スチレン溶液の高粘度化によりゴム粒子径の制御が困難となり、この発明の効果は発現できず工業的な利用価値を失う。
【００５９】
また、本発明の耐衝撃性スチレン系樹脂組成物は、変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物100重量部に対して、さらに、難燃剤が2〜60、特に、５〜３０重量部添加されていることが好ましい。難燃剤が添加されていることにより、難燃性がＶ−０以上のものが好適に製造できる。
【００６０】
難燃剤としては、例えば、デカブロムジフェニルエーテル、ヘキサブロムベンゼン、テトラブロムビスフェノールＡ、テトラブロムビスフェノールＡのオリゴマ−、トリブロムフェニル−２，３−ジブロムプロピルエーテル、ヘキサブロムシクロドデカン、テトラブロムエタン、トリス（２，３−ジブロムプロピル）フォスフェート、塩素化パラフィン、パークロルペンタシクロデカンなどのハロゲン系難燃剤、リン酸アンモニウム、トリクレジールフォスフェート、トチエチルフォスフェート、トリス（β−クロロエチル）フォスフェート、トリスクロロエチルフォスフェートなどのリン系難燃剤、赤リン、水酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、水酸化ジルコニウム、メタホウ酸バリウム、三酸化アンチモン、硼砂などの無機系難燃剤が挙げられ、これらを２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６１】
本発明のゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物の製造法としては、ゴム状ポリマーの存在下にスチレン系モノマーの重合を行う方法が採用され、塊状重合法や塊状懸濁重合法が経済的に有利な方法である。スチレン系モノマーとしては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンのようなアルキル置換スチレン、クロルスチレンのようなハロゲン置換スチレンなど、従来ゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物製造用として知られているスチレン系モノマーの１種又は２種以上の混合物が用いられる。これらのなかで好ましいのはスチレンである。
【００６２】
製造時に必要に応じて上記ゴム状ポリマーの他に、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−プロピレン、エチレン−酢酸ビニル、アクリル系ゴムなどを上記ゴム状ポリマーに対して５０重量％以内併用することができる。又、これらの方法によって製造された樹脂をブレンドしてよい。更に、これらの方法によって製造されたゴム変性ポリスチレン系樹脂組成物を含まないポリスチレン系樹脂を混合して製造してもよい。
【００６３】
上記の塊状重合法として１例を挙げて説明すると、スチレンモノマー（９９〜７５重量％）にゴム状ポリマー（１〜２５重量％）を溶解させ、場合によっては溶剤、分子量調節剤、重合開始剤などを添加して、１０〜４０％のスチレンモノマー転化率までゴム状ポリマーを分散した粒子に転化させる。このゴム粒子が生成するまではゴム相が連続相を形成している。更に重合を継続してゴム粒子として分散相になる相の転換（粒子化工程）を経て５０〜９９％の転化率まで重合してゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物が製造される。 
【００６４】
この発明で言うゴム状ポリマーの分散粒子（ゴム粒子）は、樹脂中に分散された粒子で、ゴム状ポリマーとポリスチレン系樹脂よりなり、ポリスチレン系樹脂はゴム状ポリマーにグラフト結合したり、或いはグラフト結合せずに吸蔵されている。この発明で言うゴム状ポリマーの分散粒子の径として０．５〜７．０μｍの範囲、好ましくは１．０〜３．０μｍの範囲の範囲のものが好適に製造できる。 
【００６５】
本発明おいて、グラフト率として、１５０〜３５０の範囲のものが好適に製造でき。
バッチ式でも連続的製造方法でもよく特に限定されない。
【００６６】
この発明において上記のスチレン系モノマーとゴム状ポリマーとを主体とする原料溶液は完全混合型反応器において重合されるが、完全混合型反応器としては、原料溶液が反応器において均一な混合状態を維持するものであればよく、好ましいものとしてはヘリカルリボン、ダブルヘリカルリボン、アンカーなどの型の攪拌翼が挙げられる。ヘリカルリボンタイプの攪拌翼にはドラフトチューブを取り付けて、反応器内の上下循環を一層強化することが好ましい。 
【００６７】
この発明のゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物には、製造時や製造後に適宜必要に応じて酸化防止剤、紫外線吸収剤などの安定剤、離型剤、滑剤、着色剤、各種充填剤及び各種の可塑剤、高級脂肪酸、有機ポリシロキサン、シリコーンオイル、難燃剤、帯電防止剤や発泡剤などの公知添加剤を添加してもよい。この発明のゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物は、公知の各種成形品に用いることはできるが、難燃性、耐衝撃強度、引張強度に優れるために電気・工業用途分野で使用される射出成形に好適である。
【００６８】
例えばカラーテレビ、ラジカセ、ワープロ、タイプライター、ファクシミリ、ＶＴＲカセット、電話器などのハウジングの家電・工業用及び包装材料・食品容器等に用いられるフィルム・シート用途などの広範な用途に用いることができる。又、高シス−高ビニルポリブタジエンは自動車タイヤ用途やゴルフボール・靴底などの非タイヤ用途にも使用できる。
【実施例】
【００６９】
ミクロ構造：赤外吸収スペクトル分析法によって、Ｈａｍｐｔｏｎ法より求めたシス−１，４構造；７４０ｃｍ-1，ビニル構造；９１１ｃｍ-1，トランス−１，４構造；９６７ｃｍ-1の分子吸光係数からミクロ構造を算出した。
【００７０】
ムーニー（ＭＬ）粘度は、ＪＩＳ−Ｋ−６３００に規定されている測定方法に従って測定した。
【００７１】
Ｓｔ−ｃｐは、５ｇのゴム状ポリマーを９５ｇのスチレンモノマーに溶解した時の２５℃における溶液粘度を測定し、センチポイズ（ｃｐ）で示した。
【００７２】
ゴム粒子径：ゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂組成物をジメチルフォルムアミドに溶解させ、樹脂中のマトリックスを形成するポリスチレン部分のみを溶解させ、その溶液の一部を日科機製のコールターカウンター装置、ＴＡ−２型を使って溶媒ジメチルフォルムアミドと分散剤チオシアン酸アンモニウムからなる電解液に分散させて、得られた体積平均粒子径をゴム粒子径とした。
【００７３】
グラフト率：１ｇのゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂をメチルエチルケトン／アセトン＝１／１（重量比）の混合液５０ミリリットルに加えて１時間、激しく攪拌し、溶解・膨潤させる。次に遠心分離機にて不溶解分を沈降させた後、デカンテーションで上澄液を捨てる。このようにして得られたメチルエチルケトン／アセトン不溶解分を５０℃で減圧乾燥して、デシケーター中で冷却後、秤量してメチルエチルケトン／アセトン不溶解分（ＭＥＫ／ＡＣ−ｉｎｓｏｌ．ｇ）を求めて、ゴム状ポリマー含有率から算出したゴム状ポリマー量（Ｒｇ）から、グラフト率を算出した。グラフト率＝［ＭＥＫ／ＡＣ−ｉｎｓｏｌ．（ｇ）−Ｒ（ｇ）］×１００／Ｒ（ｇ）
【００７４】
膨潤度：トルエン５０ミリリットルにゴム変性耐衝撃性ポリスチレン系樹脂１ｇを１時間、激しく攪拌し、溶解・膨潤させる。次に遠心分離機にて不溶解分を沈降させた後、デカンテーションで上澄液を捨てる。沈降した部分の重量（膨潤した未乾燥重量）を測定した後、１００℃で真空乾燥しデシケーター中で冷却後、秤量して、膨潤時／乾燥時の重量比で示した。
【００７５】
コールドフロー速度（ＣＦ）：得られたゴム状ポリマーを５０℃に保ち、内径6.4mmのガラス管で１８０ｍｍＨｇの差圧により１０分間吸引し、吸い込まれたポリマー重量を測定することにより、１分間当り吸引されたポリマー量をコールドフロー性の大小の尺度として求めた。
【００７６】
アイゾット（Ｉｚｏｄ）衝撃強度：ＪＩＳ Ｋ７１１０（ノッチ付）に従って測定した。
【００７７】
デュポン（Ｄｕｐｏｎｔ）衝撃強度：デュポン式落錘試験機による５０％破壊エネルギーで示した。
【００７８】
引張特性：ＪＩＳ Ｋ７１１３に従って降伏点強度、破断点強度、伸びを測定した。
【００７９】
光沢：ＪＩＳ Ｚ８７４２（入射角６０°）に準拠して光沢を測定した。
【００８０】
難燃性能：ＵＬ−９４に従って難燃性を測定して、難燃剤規格（Ｖ−２，Ｖ−１，Ｖ−０，５Ｖ；この順に難燃性になる）で示した。 
【００８１】
（参考例１）（高シス−高ビニルポリブタジエンの製造）
内容量１．７Ｌのオートクレーブの内部を窒素置換し、シクロヘキサン２６０ｍｌ、ブタジエン１４０ｍｌを仕込んで攪拌する。次いで、水５μｌを添加して３０分間攪拌を続けた。２０℃、１気圧換算で１１０ｍｌの水素を積算マスフロメーターで計量して注入し、次いで、トリエチルアルミニウム（ＴＥＡ）１ｍｏｌ／Ｌのトルエン溶液０．３６ｍｌを添加して３分間攪拌後、シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド（ＣｐＶＣｌ3 ）５ｍｍｏｌ／Ｌのトルエン溶液０．５ｍｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（Ｐｈ3 ＣＢ（Ｃ6 Ｆ5）4 ）２．５ｍｍｏｌ／Ｌのトルエン溶液１．５ｍｌの順に加え、重合温度４０℃で３０分間重合を行った。さらに、水を３００ｍｇ／Ｌ含むトルエン４．８ｍｌ、ジエチルアルミニウムクロライド（ＤＥＡＣ）１ｍｏｌ／Ｌのトルエン溶液０．１ｍｌ、オクチル酸コバルト（Ｃｏ（Ｏｃｔ）２）５ｍｍｏｌ／Ｌのトルエン溶液０．５ｍｌを加えて４０℃で３０分間反応させた。
反応後、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールを含有するエタノールを注入して反応を停止させた後、溶媒を蒸発させ乾燥した。表１に重合結果を示した。
【００８２】
（参考例２〜６）重合条件を変えて、参考例１と同様にして表1に示すポリマーを得た。
【００８３】
〔実施例１−１〜１−３〕
攪拌機付１．５リットルのオートクレーブを窒素ガスで置換し、スチレン４６５ｇと表１に示す参考例１〜６で製造したＨＣ−ＨＶＢＲの各３５ｇ（ゴム７重量部）を加えて溶解した。次いでｎ−ドデシルメルカプタン０．１５ｇを加えて、１３５℃で表４に示した条件で攪拌しながらスチレンの転化率が３０％になるまで１時間半予備重合した。次に、この予備重合液に０．５ｗｔ％ポリビニルアルコール水溶液５００ミリリットルを注入し、ベンゾイルパーオキサイド１．０ｇ（０．２重量部）及びジクミルパーオキサイド１．０ｇ（０．２重量部）を加えて１００℃で２時間、１２５℃で３時間、１４０℃で２時間攪拌下に連続的に重合した。
室温に冷却して重合反応混合物からビーズ状のポリマーをろ過し、水洗・乾燥した。これを押出機でペレット化して耐衝撃性スチレン系樹脂４５０ｇを得た。得られたゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物をそれぞれ射出成形して物性測定用試験片を作成して物性を測定した。結果を表２に示した。
【００８４】
（実施例２−１〜２−３）（比較例３−１〜６−３）
条件を変えて、得られたゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物の結果を表２に示した。
【００８５】
【表１】
2004250692.tif 000002
【００８６】
【表２】
2004250692.tif 000003