(57)【要約】【課題】基板への蒸着方法において、基板内の位置による蒸着条件の差をより小さく抑える。【解決手段】基準面１１を下面に有する基板支持部１０のこの基準面１１に、蒸着用の基板２０の裏面２１を、基板支持部１０と基板２０との間に磁気吸引力を働かせて密着させ、基板１０の表面である被蒸着面２２の側に蒸着を施す。【選択図】　　　　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準面を下面に有する基板支持部の該基準面に、蒸着用の基板の裏面を、前記基板支持部と前記基板との間に磁気吸引力を働かせて密着させ、前記基板の表面に蒸着を施すことを特徴とする基板への蒸着方法。
【請求項２】
前記基板または前記基板支持部の少なくとも一方に磁性を帯びさせて前記基板の裏面と前記基板支持部の基準面とを密着させることを特徴とする請求項１記載の基板への蒸着方法。
【請求項３】
前記基板への蒸着によって、該基板上に蓄積性蛍光体層を形成することを特徴とする請求項１または２記載の基板への蒸着方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板への蒸着方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、Ｘ線等の放射線を照射するとこの放射線エネルギの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光を照射すると蓄積された放射線エネルギに応じて輝尽発光を示す蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）を利用して、人体等の被写体の放射線像を蓄積性蛍光体層に一旦潜像として記録し、この蓄積性蛍光体層にレーザ光等の励起光を照射して輝尽発光光を生じせしめ、この輝尽発光光を光電的に検出して被写体の放射線像を示す画像信号を取得する放射線画像記録装置および放射線画像読取装置等からなる放射線画像記録再生システムがＣＲ（Ｃｏｍｐｕｔｅｄ
Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ）としてが知られている。
【０００３】
上記放射線画像記録再生システムに使用される記録媒体として、基板上に蓄積性蛍光体を塗布して蓄積性蛍光体層を形成した蓄積性蛍光体パネルが知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記蓄積性蛍光体パネルには、放射線像を高い解像力で記録再生したいという要求があり、これに対して、蓄積性蛍光体を密度高く充填した蓄積性蛍光体層は放射線像を高い解像力で記録再生できることが知られている。そこで、周縁部が支持された基板に蒸着を施すことにより、蓄積性蛍光体を密度高く充填した蓄積性蛍光体層を基板上の中央部分に形成して蓄積性蛍光体パネルを作成する検討が行なわれている。
【０００５】
しかしながら、一般に蓄積性蛍光体パネルの作成に使用される基板は、基板面の面積が大きく（例えば３００ｍｍ×３００ｍｍ以上）、上記基板面の面積に比して厚さが薄いので、蒸着装置内に支持されて蓄積性蛍光体の蒸着が施される際に、基板の中央部が重力により下方に撓んでしまい、均一な蓄積性蛍光体層を基板上に形成することが難しいという問題がある。
【０００６】
すなわち、蒸着装置内での基板への蒸着に際し、この基板を支持している基板支持部から熱伝導等によって伝えられる熱により基板の温度を所定の温度に高めてから蒸着が施されるが、上記基板は基板支持部によりこの基板の周縁部で支持されているので基板の中央部が下方に撓んでしまい、基板支持部から基板の中央部へ熱伝導によって直接熱が伝えらることはない。そのため、基板の中央部に伝えられる熱は、基板支持部から基板の周縁部を通して伝えられ、基板の中央部に伝わるまでに輻射等によって熱が失われてしまい基板の中央部の温度は周縁部ほど高くならない。したがって、この基板内に温度分布が生じ、基板内の位置によって蒸着条件の差が生じる。これにより、上記のように均一な蓄積性蛍光体層を基板上に形成することが難しくなる。
【０００７】
なお、上記問題は、基板への蒸着により蓄積性蛍光体層を形成する場合に限らず、基板へ蒸着を施す際に一般に考慮しておかねばならない問題である。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、基板内の位置による蒸着条件の差をより小さく抑えることができる基板への蒸着方法を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板への蒸着方法は、基準面を下面に有する基板支持部のこの基準面に、蒸着用の基板の裏面を、前記基板支持部と前記基板との間に磁気吸引力を働かせて密着させ、基板の表面（裏面とは反対側の面）に蒸着を施すことを特徴とするものである。
【００１０】
前記基板への蒸着方法は、基板または基板支持部のいずれか一方に磁性を帯びさせて、基板の裏面と基板支持部の基準面とを密着させるようにすることができる。また、基板への蒸着によって、この基板上に蓄積性蛍光体層を形成するようにしてもよい。
【００１１】
前記下面とは、重力が働く方向を下方向とし、この下方向を向いている面を意味するものである。
【００１２】
なお、「基板支持部の基準面に基板の裏面のを密着させる」とは、基板支持部の基準面と基板の裏面とを直接密着させる場合に限らず、両者の間に介在物を挿入して間接的に密着させる場合をも意味するものである。
【００１３】
【発明の効果】
本発明の基板への蒸着方法によれば、基板支持部の基準面に、蒸着用の基板の裏面を、上記基板支持部と基板との間に磁気吸引力を働かせることにより密着させ、この基板に蒸着を施すようにしたので、基板支持部からこの基板に伝えられる熱量が基板内の位置によらず一定となるように基板の裏面を基準面を介して基板支持部に密着させることができ、基板内の温度差が小さくなりこの基板内の位置による蒸着条件の差を小さく抑えることができる。これにより、より均一な蒸着層を基板上に形成することができる。さらに、基板の裏面の全面が基準面を介して基板支持部に密着されるようにすれば、基板支持部からこの基板に伝えられる熱量を基板内の位置によらずより一定にすることができる。
【００１４】
また、基板または基板支持部のいずれか一方に磁性を帯びさせて基板の裏面と基板支持部の基準面とを密着させれば、基板支持部と基板との間に磁気吸引力を働かせる構造をより簡素化することができる。
【００１５】
さらに、上記基板への蒸着によって、この基板上に蓄積性蛍光体層を形成すれば、上記蒸着条件の差をより小さく抑えたことにより蓄積性蛍光体の結晶の向きがより正確に揃えられた蓄積性蛍光体層を形成することができ、このようにして蓄積性蛍光体層が形成された基板の採用により、より高い解像力で放射線像を記録再生できる蓄積性蛍光体パネルを得ることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施の形態について、図面を用いて説明する。図１は、本発明の基板への蒸着方法を実施するための基板支持装置を蒸着装置内に配置した概略構成を示す側面図である。
【００１７】
本発明の基板支持装置は、基準面１１を下面に有する基板支持部１０のこの基準面１１に、蒸着用の基板２０の裏面全面を、基板支持部１０と基板２０との間に磁気吸引力を働かせて密着させるものであり、基板２０の基準面１１に向く側の面である裏面２１とは反対側の表面、即ち被蒸着面２２に蒸着を施して、この基板２０上に蓄積性蛍光体層５０を形成するものである。
【００１８】
基板２０は、この基板２０の裏面２１の側に磁性を帯びていない磁性体がこの裏面２１の全面に亘って塗布されて形成された磁性層２３を有している。基板支持部１０は、磁性体材料からなる磁性体ブロック部１２と、この磁性体ブロック部１２に磁性を帯びさせる電磁石部１３と、磁性体ブロック部１２を加熱する電気ヒータ等からなる過熱部１４とを備え、電磁石部１３に、電磁石ドライバ３０から電力が供給されることによって、電磁石部１３が励磁され磁性体ブロック部１２が磁性を帯びる。なお磁性体ブロック部１２の下面が上記基準面１１を成している。
【００１９】
上記蓄積性蛍光体層が形成される蒸着用の基板２０は、基板面の面積９００ｃｍ２以上、基板の厚さ１ｍｍ以下で、基板の主要部は無機材料、例えばガラス、シリコン等からなる。
【００２０】
基板支持部１０は、蒸着装置の真空槽４０内に配設されており、蓄積性蛍光体層を形成するための蒸着材料４６が載置された蒸着材料載置台４５がこの真空槽４０内の基板支持部１０の下方に配設されている。
【００２１】
次に上記実施の形態における作用について説明する。
【００２２】
磁性体ブロック部１２の基準面１１に基板２０を近接させる。基準面１１に基板２０を近接させた状態で、電磁石ドライバ３０を稼動させ電磁石部１３に電力を供給して磁性体ブロック部１２に磁性を帯びさせる。これにより、磁性体ブロック部１２と基板２０の磁性層２３との間に磁気吸引力が働いて基準面１１に基板２０の裏面２１側の全面が密着され支持される。
【００２３】
基準面１１に基板２０を密着させた後、過熱部１４により磁性体ブロック部１２を加熱して、この磁性体ブロック部１２から伝えられる熱により基板２０を所定の温度に上昇させる。この状態で、蒸着材料載置台４５に配置された蒸着材料４６を加熱して蒸発させ、この蒸発された蒸着材料の蒸発成分を基板２０の被蒸着面２２に蒸着して被蒸着面２２上に蓄積性蛍光体層５０を形成する。
【００２４】
上記のように基板２０の裏面２１の全面が基板支持部１０の基準面１１に密着され、基板支持部１０からこの基板２０に伝えられる熱量が基板内の場所によらず一定となり、基板２０内の位置による蒸着条件の差を小さく抑えることができるので、より均一な蓄積性蛍光体層５０を基板２０上に形成することができる。
【００２５】
また、上記実施の形態においては、基板支持部のみに磁性を帯びさせて基板と基板支持部とを密着させる例を示したが、基板のみに磁性を帯びさせたり、あるいは基板支持部と基板との両方に磁性を帯びさせて基板と基板支持部とを密着させるようにしてもよい。また、磁性を帯びさせる手法は電磁石を用いる場合に限らず永久磁石を配置するようにしてもよい。
【００２６】
なお、基板２０上に形成された蓄積性蛍光体層５０を保護するための保護フィルムを接着するための糊代となる領域を、上記基板２０の周縁部に確保するために、図２の平面図および側面図に示すように、蒸着が施される際に、基板２０の周縁の全周に亘ってこの基板２０をマスクキングするマスク７０を配設するようにしてもよい。なお、このマスク７０は、基板支持部１０の基準面１１の側に磁性体からなる磁性層７１が形成されており、上記基板と同様にこの磁性層７１と基板支持部１０との間に磁気吸引力を働かせてこのマスク７０が基板支持部１０に支持される。
【００２７】
また、上記実施の形態においては、蒸着によって基板上に蓄積性蛍光体層を形成する例を示したが、基板上にどのような蒸着層を形成する場合であっても、上記と同様の、基板上に蒸着層をより均一に形成する効果を得ることができる。さらに、基板は必ずしも無機材料に限らず、どのような材料からなるものであってもよい。
【００２８】
なお、上記蓄積性蛍光体層が形成される蒸着用の基板の基板面の面積は９００ｃｍ２未満であてもよい。また、蒸着用の基板の厚さは１ｍｍを越えてもよい。
【００２９】
また、上記実施の形態においては、基板支持部の基準面に、蒸着用の基板の裏面の全面を密着させるようにしたが、必ずしも基板の裏面の全面を基板支持部の基準面に密着させる場合に限らず、基板支持部からこの基板に伝えられる熱量が基板内の位置によらず一定となるように、基板の裏面の部分領域を基準面を介して基板支持部に密着させるようにしてもよい。これにより、基板内の温度差を小さくしてこの基板内の位置による蒸着条件の差を小さく抑える上記と同様の効果を得ることができる。なお、上記部分領域は、基板の裏面の全面に亘って概略一様に分布する多数の小さな領域からなるものであってもよいし、あるいは、基板の裏面の熱が伝わり難い場所を占める割合が大きくなるように配置された領域からなるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態による基板支持装置を蒸着装置内に配置した概略構成を示す側面図
【図２】基板にマスクキングを施した様子を示す図
【符号の説明】
１０　　基板支持部
１１　　基準面
１２　　磁性体ブロック部
１３　　電磁石部
１４　　過熱部
２０　　基板
２２　　被蒸着面
２３　　磁性層
【図１】
2004018938.tif 000003
【図２】
2004018938.tif 000004