(57)【要約】【課題】帯電防止性、表面硬度および透過率に優れ、かつ着色を低減した透明導電材料、ならびにそれを用いたタッチパネルを提供する。【解決手段】基材の一の面に導電層を積層し、他の面にハードコート層を含む一層以上の層を介して高屈折率層及び低屈折率層からなる複合層を積層した透明導電材料であって、複合層が色調補正機能を有し、かつ高屈折率層が帯電防止機能を有することを特徴とする透明導電材料、およびそれを用いてなるタッチパネル。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の一の面に導電層を積層し、他の面にハードコート層を含む一層以上の層を介して高屈折率層と低屈折率層とからなる複合層を積層した透明導電材料であって、複合層が色調補正機能を有し、かつ高屈折率層が帯電防止機能を有することを特徴とする透明導電材料。
【請求項２】
高屈折率層が導電性金属酸化物の微粒子を５０重量％以上含む層である請求項１に記載の透明導電材料。
【請求項３】
複合層の最大の光線透過率を示す波長が可視領域において４００〜５００ｎｍの範囲である請求項１または２に記載の透明導電材料。
【請求項４】
基材が１０〜５００μｍの厚みを持つプラスチックフィルムである請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電材料。
【請求項５】
ハードコート層が粗面化され防眩効果を有する層である請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電材料。
【請求項６】
高屈折率層の屈折率が１．６０〜２．４０であり、かつ低屈折率層の屈折率が１．３０〜１．５５である請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電材料。
【請求項７】
高屈折率層及び低屈折率層がウェットコーティング法により層形成成分を塗布し形成した層である請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明導電材料。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の透明導電材料を用いてなるタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、帯電防止性、表面硬度および透過率に優れ、かつ着色を低減した透明導電材料、ならびにそれを用いたタッチパネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、画面表示に直接触れることにより、情報を入力できるデバイスとしてタッチパネルが用いられている。これは光を透過する入力装置を液晶表示装置、ＣＲＴなどの各種ディスプレイ上に配置したものであり、ディスプレイの表示に対し直接的に入力できる。これらタッチパネルの代表的な型式のひとつとして、透明電極基板２枚を透明電極層が向かい合う様に配置した抵抗膜式タッチパネルがある。
【０００３】
抵抗膜式タッチパネル用の透明電極基板として、ガラスもしくは透明樹脂版や各種の熱可塑性高分子フィルムの基板上に、酸化錫を含有するインジウム酸化物（ＩＴＯ）や酸化亜鉛などの金属酸化物による透明導電層を積層したものが一般的に用いられている。このようにして得られた電極基板は、金属酸化物層の反射および吸収に由来する可視光短波長域の透過率低下により全光線透過率が低下すると同時に、黄色もしくは茶色に呈色することが多い。そのためタッチパネルの下に配置される表示装置の発色を正確に反映することが難しいといった問題があった。
【０００４】
上述の問題を解決するために、導電層と基材との間に、導電層、基材のどちらよりも屈折率の高い高屈折率層を挿入するか、あるいは導電層、基材のどちらよりも屈折率の低い低屈折率層を挿入する方法が提案されている。しかし、これらはいずれも全光線透過率を向上させる効果は得られるが、黄色もしくは茶色に透過光が呈色する問題については未解決であった。
また、色素を用いて色を補正する方法も提案されているが、これは色の問題については解決できても、色素が特定波長を吸収するため全光線透過率が低下し、視認性が悪化するという問題があった。
【０００５】
さらに、上記の透過色と透過率の問題を両方共に改善する方法として、導電層と基材の間に高屈折率層、低屈折率層からなる多層光学膜を積層する方法が提案されている（特許文献１）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１１−２８６０６６号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１に記載の方法でタッチパネルを作製すると、パネルの表面にホコリが付着しやすく帯電性に問題があった。また、高屈折率層、低屈折率層、導電層の３つ薄層を順次積層した構成であるので、透過率に係わる光の干渉の制御等の光学設計が難しかった。
本発明の目的は、帯電防止性、表面硬度および透過率に優れ、かつ着色を低減した透明導電材料、ならびにそれを用いたタッチパネルを提供することにある。
【０００８】
【発明を解決するための手段】
本発明者は、前記問題点に鑑み鋭意検討した結果、導電層を積層した基材面とは反対側に色調補正機能及び帯電防止機能を有する複合層を形成することにより前記問題が解決できることを見出し、本発明を完成した。本発明を以下に示す。
【０００９】
（１）基材の一の面に導電層を積層し、他の面にハードコート層を含む一層以上の層を介して高屈折率層と低屈折率層とからなる複合層を積層した透明導電材料であって、複合層が色調補正機能を有し、かつ高屈折率層が帯電防止機能を有することを特徴とする透明導電材料。
（２）高屈折率層が導電性金属酸化物の微粒子を５０重量％以上含む層である前記（１）の透明導電材料。
【００１０】
（３）複合層の最大の光線透過率を示す波長が可視領域において４００〜５００ｎｍの範囲である前記（１）または（２）の透明導電材料。
（４）基材が１０〜５００μｍの厚みを持つプラスチックフィルムである前記（１）〜（３）のいずれかの透明導電材料。
【００１１】
（５）ハードコート層が粗面化されることにより防眩効果を有する層である前記（１）〜（４）のいずれかの透明導電材料。
（６）高屈折率層の屈折率が１．６０〜２．４０であり、かつ低屈折率層の屈折率が１．３０〜１．５５である前記（１）〜（５）のいずれかの透明導電材料。
【００１２】
（７）高屈折率層及び低屈折率層がウェットコーティング法により層形成成分を塗布し形成した層である前記（１）〜（６）のいずれかの透明導電材料。
（８）前記（１）〜（７）のいずれかの透明導電材料を用いてなるタッチパネル。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明の透明導電材料は、基材の一方の面に導電層を積層し、他の面にハードコート層を含む一層以上の層を介して高屈折率層及び低屈折率層からなる複合層を積層した透明導電材料である。
さらに本発明の透明導電材料は、複合層が色調補正機能を有し、かつ高屈折率層が帯電防止機能を有することを特徴とする。また、本発明の透明導電材料は、高屈折率層、低屈折率層、導電層の３つの薄膜を順次積層した構成ではなく、光の干渉の制御が容易なので光学設計が容易になる。基材、導電層の説明は後述することにし、まず、複合層について説明する。
【００１４】
本発明において複合層は、高屈折層及び低屈折層からなるものであるが、反射防止による透過率制御の要件を満たす限り、特に限定されるものではなく、２層以上の層構造として形成することができる。
例えば、基材側から順に、高屈折率層、低屈折率層を積層した２層構造、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層した３層構造、高屈折率層、低屈折層、高屈折率層、低屈折率層を積層した４層構造が挙げられる。ここで、生産性、コスト、光線透過率制御効果の観点より、２層構造のものが好ましく挙げられる。但し、後述するように帯電防止機能を持たせる層は表面の低屈折率層の直下の層となる高屈折率層であることが好ましい。
【００１５】
それぞれの層における屈折率は、以下の要件を満たす範囲で、必要に応じて設計することができる。
低屈折率層はその直下の高屈折率層より低屈折率であるとの意味であるが、その屈折率は１．３０〜１．５５の範囲にあることが好ましい。屈折率が１．５５を超える場合は十分な透過率向上効果を得ることが難しくなり、また１．３０未満の場合は層を形成するのは現実的に材料の入手性などの点から困難となる。一方、高屈折率層は直上に積層される低屈折率層より屈折率が高いとの意味であるが、２層構造を有する場合等、その屈折率は１．６０〜２．４０の範囲内にあることが好ましい。１．６０未満では十分な透過率向上効果を得ることが難しく、また２．４０を超える層を形成するのは一般的に困難である。
また中屈折率層とは、積層する高屈折率層より屈折率が低く、低屈折率層より屈折率が高い層との意味であり、この要件を満たせば屈折率は特に限定されない。
【００１６】
本発明において、複合層は色調補正機能を有することを特徴とする。即ち、本発明の透明導電材料は、複合層に色調補正機能を有することにより、紫色から青色にかけての透過光を向上させ、透過率を低下させずに透過光の着色を低減させることができる。
【００１７】
具体的には、導電層は紫から青色の光である４００〜５００ｎｍの光に対する反射及び吸収が、５００〜８００ｎｍの反射及び吸収より大きいため透過光が黄色となり導電材料を黄色に着色するので、本発明において複合層は４００〜５００ｎｍの光に対する透過率を５００〜８００ｎｍの透過率に対して高くすることとし、導電層からの透過光のバランスを補正でき、導電材料の着色を低減させることができる。
本発明の複合層において可視領域における最大の光線透過率を示す波長が４００〜５００ｎｍであること、さらに４１０〜４７０ｎｍであることが好ましい。最大の光線透過率を示す波長が４００〜５００ｎｍ以外となると色調補正が十分とはいえず、着色が強くなる場合があるので好ましくない。
【００１８】
複合層において可視領域における最大の光線透過率を示す波長が４００〜５００ｎｍとする光線透過率の制御は、それぞれの層の光学膜厚を１００〜１２５ｎｍとして設計することができる。
【００１９】
本発明の透明導電材料において、高屈折率層はさらに帯電防止機能を有すことを特徴とする。
帯電防止機能を有することにより、パネルの表面にホコリが付着し易い等の問題を解消できる。
高屈折率層が帯電防止機能を有する場合には、高屈折率層は導電性金属酸化物を主成分として形成され、必要に応じて高屈折率化するための無機成分、有機成分やその他バインダー成分が添加されて形成される。
【００２０】
ここで、導電性金属酸化物の具体例としては、例えば、酸化錫、リンドープ酸化錫、酸化アンチモン錫、酸化インジウム錫、酸化亜鉛アルミニウム、五酸化アンチモンなどが挙げられ、高い帯電防止性能を得るという観点から、酸化錫、酸化インジウム錫、酸化アンチモン錫、酸化亜鉛アルミニウムが好ましく挙げられる。
【００２１】
前述の導電性金属酸化物は帯電防止性能の観点から、高屈折層の形成成分中に５０重量部以上含まれることが好ましく、８０重量部以上含まれることがより好ましい。
また、導電性金属酸化物は微粒子であることが好ましく、導電性微粒子の平均粒子径は好ましくは０．２μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以下である。導電性金属酸化物の粒子径が０．２μｍを超える場合、層形成成分を塗布したときに透明性が著しく低下する傾向にある。
【００２２】
前述の高屈折率化するための無機成分の具体例としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウムが挙げられる。
【００２３】
前述の高屈折率化するための有機成分としては、屈折率が１．６０〜１．８０であるような重合性単量体であり、具体的には、例えば、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾールなどが挙げられる。
【００２４】
その他バインダー成分としては、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなどの重合性単量体及びこれらの重合体が挙げられる。これらはウェットコーティング時のバインダーとして用いることができる。
【００２５】
また、導電性金属酸化物や高屈折率化するための無機材料は、必要に応じて、その微粒子表面を各種カップリング剤などにより修飾したものを使用できる。
各種カップリング剤としては例えば、有機置換された珪素化合物や、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなどの金属アルコキシドや、有機酸塩などが挙げられる。
本発明の導電材料の複合層側の表面抵抗値は、１０１０Ω以下であることが好ましく、高屈折率層成分の種類、その量によって、適宜、調整することができる。
【００２６】
本発明において、低屈折率層の形成成分としては、酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウムなどの無機物や含フッ素有機化合物を単独または混合物として用いることができるが、膜強度の観点からは酸化珪素、低屈折率の点より含フッ素有機化合物が好ましい。
また前述の主成分に加えて、非フッ素系単量体やその重合体などをバインダーとして用いることができる。
【００２７】
低屈折率層を無機物と有機物を組み合わせて形成する場合、前述の酸化珪素などの無機物は微粒子であることが好ましく、その平均粒径は、層の厚みを大きく超えないことを要し、特に０．１μｍ以下であることが好ましい。平均粒径が大きくなると、光散乱が生じるなど、低屈折率層の光学性能が低下する傾向にある。
また必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤などにより修飾したものを使用できる。各種カップリング剤としては例えば、有機置換された珪素化合物や、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなどの金属アルコキシドや、有機酸などが挙げられる。
特に表面を（メタ）アクリル基などの反応性基で修飾した微粒子を使用することは、硬度の高い透明材料を形成することができる点で好ましい。
【００２８】
また、含フッ素有機化合物は特に限定されるものではないが、例えば多官能の含フッ素（メタ）アクリル酸エステル、含フッ素イタコン酸エステル、含フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素単量体化合物などの単量体、及びそれらの重合体などが挙げられ、１種単独で、あるいは２種以上を混合して用いることができる。反応性の観点より含フッ素（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。ここで（メタ）アクリルは、アクリル及び／又はメタクリルを意味する。）。
単量体としては単官能および多官能の重合性基を有する構造のものが挙げられ、特に多官能含フッ素（メタ）アクリル酸エステルが硬度、屈折率の点より好ましい。これら含フッ素有機化合物を硬化させることにより、低屈折率かつ高強度の層を形成することができる。
【００２９】
本発明において、複合層の各層には前述の化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでも構わない。その他の成分とは特に限定されるものではなく、例えば、無機充填剤、無機または有機顔料、重合体、および重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸収剤、レベリング剤などの添加剤などが挙げられる。またウェットコーティング法において塗布し、これを乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。
【００３０】
本発明において、高屈折率層、低屈折率層などについて積層方法は従来公知の方法を用いることができ、例えば蒸着、スパッタ、ＣＶＤ、イオンプレーティングなどのドライコート法や、ディップコート、ロールコート、グラビアコート、ダイコートなどのウェットコート法が挙げられる。
生産性、コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティングにおける塗布方法としては公知のもので良く、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などが代表的なものとして挙げられる。ロールコート法など、連続的に積層できる方法が生産性の点より好ましい。
【００３１】
ウェットコーティング法においては、高屈折率層の形成成分、低屈折率層の形成成分などを塗布した後、重合開始剤の存在下、熱や紫外線、電子線などの活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行って層を形成することができる。ここで、活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。
【００３２】
上記の硬化に用いられるエネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素などの線源が使用される。
【００３３】
エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２  が好ましい。照射量が、５０ｍＪ／ｃｍ２  未満の場合は、硬化が不十分となるため、表面層の耐摩耗性や硬度が低下する。また、照射量が５０００ｍＪ／ｃｍ２  を超えると、表面層が着色して透明性が低下する傾向にある。
また加熱で硬化する場合には、従来公知の熱重合開始剤を各層の形成成分に配合し、熱重合開始剤の熱分解温度以上に加熱して硬化させることが一般的である。
【００３４】
本発明の導電材料は、透明基材と複合層の間に、ハードコート層を含めた一層以上の層を積層することを特徴とする。この層は無機物、有機物、もしくはこれらの混合物を用いることができる。その厚みはそれぞれ０．００５〜３０μｍが好ましく、層の積層方法は特に限定されない。
またこれらの層にはハードコート性、防眩性、ニュートンリング防止、特定波長の光の遮断、層間の密着性の向上、導電性の機能を付与することができる。
本発明において、ハードコート層の硬度は鉛筆硬度で３Ｈ以上が好ましい。
【００３５】
本発明において、ハードコート層を積層することにより導電材料の表面を硬くすることができる。ハードコート層を形成する成分の具体例としては、例えば、単官能（メタ）アクリレート（ここで（メタ）アクリレートとは、メタクリル酸エステル及び／又はアクリル酸エステルを示す。以下化合物が変わっても同様である。）、多官能（メタ）アクリレート、そしてテトラエトキシシランなどの反応性珪素化合物などの硬化物が挙げられる。
ここで、硬度の向上の観点より、エネルギー線硬化性の多官能（メタ）アクリレートを含む組成物の重合硬化物であることが特に好ましい。
また、ここで基材とハードコート層との屈折率が大きく異なるような場合は干渉による外観の悪化を伴う場合があるので干渉防止層を設けることが好ましい。
【００３６】
さらに、ハードコート層に凹凸を設けて防眩機能を持たせることもできる。防眩性付与のためには、ハードコート層の形成成分中に、アクリル系、ポリスチレン系、ポリカーボネート系などの樹脂粒子を配合して使用される。これらの樹脂粒子は、単独、もしくは複数混合して使用してもよい。これらの樹脂粒子の粒径は１〜５μｍのものが好ましい。
【００３７】
また、ハードコート層を積層する方法は特に限定されず、有機材料を用いた場合には、ロールコートやダイコートなどの一般的なウェットコート法により積層することができる。コーティングされた層は、適宜過熱によるか、または紫外線、電子線などの活性エネルギー線を照射して硬化させる。
【００３８】
また、ハードコート層の厚みは２〜２５μｍがより好ましい。厚みが２μｍ未満になると、十分な硬度を得ることが難しくなり、一方、厚みが２５μｍを超えると耐屈曲性の低下などの問題が生じる傾向にある。
また、ハードコート層を２層以上積層する場合には厚みの合計が前記範囲内であればよく、１層の厚みは特に限定されない。
【００３９】
本発明に用いる基材としては特に限定されるものではなく、公知の全てのものが使用可能である。基材の材質としては、例えば、ガラスや、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル共重合体、トリアセチルセルロース、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、非晶質ポリオレフィンなどの透明樹脂を好ましく挙げることができる。
特にＰＥＴやＰＣが入手の容易さ、コストの点で好ましい。
【００４０】
また、基材の形状としては、例えば板状もしくはフィルム状のものが挙げられる。生産性、運搬性の点からプラスチックフィルムが好ましく挙げられる。その際、その厚みとしては１０〜５００μｍのものが透明性、作業性の点より好ましく挙げられ、さらに好ましくは５０〜２００μｍである。
ここでいう透明とは光線透過率で３０％以上を示し、より好ましくは５０％以上、更に好ましくは８０％以上、より更に好ましくは９０％以上である。
【００４１】
本発明に用いる導電層の形成成分としては特に限定されないが、金属もしくは金属酸化物を用いることが好ましい。例えば、金、銀、銅、白金、ニッケル、酸化錫、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化アンチモン錫（ＡＴＯ）などの導電層が好ましく挙げられる。
これらの中では、導電性、透明性、安定性の観点より酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化アンチモン錫（ＡＴＯ）が好ましく挙げられる。
【００４２】
ここで、導電層の積層方法は特に限定されず、例えば蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、めっき法などのドライコーティング法が例示される。
これらの中では層の厚み制御の観点より蒸着法、スパッタリング法が特に好ましい。
【００４３】
導電層の膜厚は、幾何学膜厚で１０〜６０ｎｍの範囲であり、好ましくは１５〜３０ｎｍである。光学膜厚１０ｎｍ未満では表面抵抗値が高くなり、光学膜厚が６０ｎｍより厚い場合は透明性が低下する。
【００４４】
さらに、基材と導電層との間に、例えば硬度の向上を目的としたハードコート層や、透過率向上を目的としたアンダーコート層、他に防眩、ニュートンリング防止、密着性の向上、特定波長に対する光の遮断などの機能付与を目的とした一層以上の機能層を積層することができる。
機能層の積層方法は特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。機能層の形成成分は、その目的により異なるが、例えば、成分として酸化珪素などの無機物、紫外線硬化型で、かつ多官能のアクリレートなどの有機物、もしくはこれらの混合物を用いることができる。層の厚みは０．００５〜２０μｍが好ましく、屈折率は１．４０〜１．７０の範囲内であることが好ましい。また、層の積層方法は特に限定されず、ドライコーティング法、ウェットコーティング法を用いることができる。
【００４５】
また、前述の機能層に本発明の効果を損なわない範囲においてその他の成分を含ませても構わない。その他の成分とは特に限定されるものではなく、例えば無機充填剤、無機または有機顔料、重合体、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸収材、レベリング剤などの添加剤が挙げられる。またウェットコーティング法において、層の形成成分を塗布後、乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。
本発明の透明導電材料は、ＪＩＳ  Ｚ８７２９に定められるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色差が、−３＜ａ＊＜＋３、−３＜ｂ＊＜＋３の範囲であることが好ましい。
【００４６】
本発明の透明導電材料は、導電材料として高い光線透過率および優れた色調を必要とする用途に用いることができる。特に有機、無機エレクトロルミネッセンスディスプレイや液晶ディスプレイなどの電子画像表示装置や、抵抗膜式タッチパネルなどの電極基板などに用いることができる。
【００４７】
また、必要に応じて接着層等を設け、対象物に貼り合わせて用いることができる。接着に用いられる材料としては特に限定されるものではないが、例えば、シリコン系粘着剤、アクリル系粘着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤などを挙げることができる。
【００４８】
本発明の透明導電材料を抵抗膜式タッチパネルの上部電極基板として用いる場合には、これをそのまま用いることができる。この場合、表面において減反射機能が十分ではなく、さらに反射防止機能を向上させる必要があれば、複合層側の表面に接着層を設け、これに減反射層を有する基材を貼り合わせることができる。
【００４９】
本発明の透明導電材料を抵抗膜式タッチパネルの下部電極基板として用いる場合には透明導電材料をそのまま、もしくはガラス、プラスチックなどの基材に貼り合わせて用いることができる。また、その裏側に光線透過率を向上させるために直接もしくは１層以上の層を介して、少なくとも１層以上からなる減反射層を形成するか、減反射層を有する基材を貼り合せることができる。減反射層は特に限定されず、従来公知のものを使用することができる。
【００５０】
【実施例】
以下に実施例を示すが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、層の屈折率は以下の手順に従って測定した。
【００５１】
（１）屈折率１．６３のＰＥＴフィルム（商品名：Ａ４１００、東洋紡績株式会社製）上に、ディップコーター（杉山元理化学機器株式会社製）により、乾燥後の層の光学膜厚（ｎ×ｄ）が１００ｎｍ程度になるように層の厚さを調製しながら各層用塗液を塗布する。
（２）塗布層を乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線を照射（岩崎電気株式会社製紫外線照射装置、１２０Ｗ高圧水銀灯、４００ｍＪ）することにより硬化する。
（３）ＰＥＴフィルムの裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計（「Ｕ−ｂｅｓｔ５０」、日本分光株式会社製）により、３８０〜７８０  ｎｍの＋５°、−５°正反射スペクトルを測定する。
（４）反射スペクトルより読み取った反射率の極大値または極小値を用いて下記式（１）より層の屈折率を計算する。
但し、ｎＭはＰＥＴフィルムの屈折率、ｎは層の屈折率である。
【００５２】
【数１】
2004322380.tif 000002
【００５３】
製造例１（ハードコート層用塗液（ＨＣ−１）の調製）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０重量部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン２０重量部、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン１０重量部、光重合開始剤（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバガイギー株式会社製）４重量部、イソプロパノール１００重量部を混合してハードコート層用塗液（ＨＣ−１）を調製した。
【００５４】
製造例２（高屈折率層用塗液（Ｈ−１）の調製）
酸化インジウム錫微粒子（平均粒径：０．０６μｍ）８０重量部、テトラメチロールメタントリアクリレート１５重量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７、チバガイギー株式会社製）５重量部を混合し高屈折率層用塗液（Ｈ−１）を調製した。溶媒乾燥後の硬化物の屈折率は１．６４であった。
【００５５】
製造例３（高屈折率層用塗液（Ｈ−２）の調製）
酸化ジルコニウム微粒子（平均粒径：０．０４μｍ）８０重量部、テトラメチロールメタントリアクリレート１５重量部、ブチルアルコール９００重量部、重合開始剤（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７、チバガイギー株式会社製）５重量部を混合することにより高屈折率層用塗液（Ｈ−１）を調製した。溶媒乾燥後の硬化物の屈折率は１．７５であった。
【００５６】
製造例４（低屈折率層用塗液（Ｌ−１）の調製）
シリカゲル微粒子分散液（商品名：ＸＢＡ−ＳＴ、日産化学工業株式会社製）
９０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０重量部、光重合開始剤（製品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、チバスペシャリティケミカル製）５重量部を混合して低屈折率用塗液（Ｌ−１）を調製した。Ｌ−１の重合硬化物の屈折率は１．４９であった。
【００５７】
製造例５（低屈折率層用塗液（Ｌ−２）の調製）
１，２，９，１０−テトラアクリロイルオキシ−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン５０重量部、シリカ微粒子（商品名：ＸＢＡ−ＳＴ、日産科学株式会社製）１２０重量部、２’，２’−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸（２−ヒドロキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ノナデカフルオロウンデシル１０重量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤（商品名：ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＢＭＳ、日本化薬株式会社製）５重量部を混合し低屈折率層用塗液（Ｌ−２）を調製した。Ｌ−２の重合硬化物の屈折率は１．４７であった。
【００５８】
実施例１
厚みが１８８μｍのＰＥＴフィルム（商品名：Ａ４１００、東洋紡績株式会社製、屈折率１．６３）上に、製造例１で調製したハードコート層用塗液（ＨＣ−１）をバーコーターにより乾燥膜厚４μｍ程度になるように塗布し、紫外線照射装置（岩崎電気株式会社製）により１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化し、ハードコート処理ＰＥＴフィルムを作製した。
【００５９】
上記ハードコート処理ＰＥＴフィルム上に、ディップコーター（杉山元理化学機器株式会社製）の引き上げ速度を調整し、製造例２にて調製した高屈折率層塗液（Ｈ−１）を４２０ｎｍで光線透過率が最小となる層の厚さに塗布した。その後、紫外線照射装置（岩崎電気株式会社製）により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射しこれを硬化した。
【００６０】
高屈折率層の上に、同様にして、製造例４にて調製した低屈折率層用塗液（Ｌ−１）をそれぞれ、４２０ｎｍで光線透過率が最大となるように膜厚を調製しながら塗布し、これを硬化した。
【００６１】
このフィルムを１００℃で１時間予備乾燥を行った後、ＩＴＯ（インジウム：錫＝９２：８）ターゲットを用いるスパッタリングにより、膜厚１５ｎｍの導電層を前記の層の反対側に形成し、透明導電材料を作製した。
得られた透明導電材料の模式図を図１に示す。
【００６２】
次に、これを用いて透過率の最大波長、全光線透過率、透過色差（ａ＊、ｂ＊）、表面抵抗値、視感度反射率および表面硬度を以下の方法により測定した。その結果をそれぞれ表１に示す。
【００６３】
１．透過率の最大波長：分光光度計（商品名：ＵＶ１６００、株式会社島津製作所製）を用いて３８０〜７８０ｎｍの透過スペクトルを測定し、そのスペクトルより透過率の最大値を示す波長を確認した。
２．全光線透過率：ヘイズメーター（商品名：ＮＤＨ２０００、日本電色工業株式会社製）を用いて全光線透過率を測定した。
３．透過色差：色差計（商品名：ＳＱ−２０００、日本電色株式会社製）を用いて透過色差ａ＊、ｂ＊を測定した。
４．表面抵抗値：表面抵抗計（商品名：ＬｏｒｅｓｔａＭＰ  ＭＣＰ−Ｔ３５０、三菱化学株式会社製）により測定した。
５．視感度反射率：分光光度計（商品名：ＵＶ１６００、株式会社島津製作所製）を用いて反射スペクトルを測定し、そのスペクトルより視感度反射率を求めた。
６．表面硬度：鉛筆硬度試験機（商品名：鉛筆硬度試験機、株式会社安田精機製作所製）を用いて測定した。
【００６４】
実施例２
低屈折率層用塗液にＬ−１の代わりにＬ−２を塗布して乾燥すること以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
次に実施例１と同様に測定を行い、その結果をそれぞれ表１に示す。
【００６５】
実施例３
高屈折率層および低屈折率層を透過率の最大波長が４６０ｎｍとなるように調整して塗布すること以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
次に実施例１と同様に測定を行い、その結果をそれぞれ表１に示す。
【００６６】
実施例４
高屈折率層および低屈折率層を透過率の最大波長が４６０ｎｍとなるように調整して塗布すること以外は実施例２と同様にして透明導電材料を作製した。
次に実施例１と同様に測定を行い、その結果をそれぞれ表１に示す。
【００６７】
比較例１
高屈折率層用塗液にＨ−１の代わりにＨ−２を塗布して乾燥すること以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
次に実施例１と同様に測定を行い、その結果をそれぞれ表１に示す。
【００６８】
比較例２
ハードコート層を塗布しないこと以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
次に実施例１と同様に測定を行い、その結果をそれぞれ表１に示す。
【００６９】
比較例３
高屈折率層を塗布しないこと以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
次に実施例１と同様に測定を行い、その結果をそれぞれ表１に示す。
【００７０】
比較例４
高屈折率層および低屈折率層を塗布しないこと以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
次に実施例１と同様に測定を行い、その結果をそれぞれ表１に示す。
【００７１】
実施例１〜４で作成した透明導電材料は高導電性であり、また透過色差の絶対値が小さいことから着色の少ないことが明らかとなった。それに加えて表面の帯電防止性、表面硬度や透過率も優れていること、さらにハードコート層だけ塗布した場合（比較例４）よりも反射防止性能に優れることが明らかとなった。
【００７２】
一方、比較例１のように高屈折率層に帯電防止機能を有しないものは、表面抵抗値が高く、ほこりがつきやすくなるという欠点があり、比較例２のようにハードコート層を塗布しないものは表面硬度が悪くなることが明らかとなった。
また比較例３のように高屈折率層を塗布しないものは表面抵抗値が高くほこりがつきやすくなるだけでなく、着色が見られた。
また比較例４のようにハードコート層だけ塗布したものについて表面強度は得られるが、表面抵抗値の高さに起因してほこりがつきやすく、透過色差のｂ＊が大きくなって着色が見られることが明らかとなった。
【００７３】
実施例５、６
厚さ２ｍｍ厚のガラス板（商品名：ＦＬ２．０、日本板硝子株式会社製）に実施例１と同様にしてスパッタリング法によりＩＴＯ（インジウム：錫＝９２：８）の導電層を形成した。
次にこれと実施例１または２で作成した透明導電材料を導電層同士が向かいあうようにそれぞれ配置し、四辺を両面粘着テープにより貼りあわせ、抵抗膜式タッチパネルのモデルを作製した（実施例５は実施例１の透明導電材料を、実施例６は実施例２の透明導電材料を使用した。）。得られたタッチパネルの模式図を図２に示す。
次に実施例１と同様に測定を行い、その結果をそれぞれ表２に示す。
【００７４】
また、得られたタッチパネルをＣＲＴディスプレイ上に装着し、その機能を確認した。実施例５、６のタッチパネルを装着したとき、ＣＲＴディスプレイの発色をすべて正確に表示でき、かつ、傷やほこりがつきづらかった。
【００７５】
比較例５、６
透明導電材料として、比較例５は比較例１で作製したフィルム、比較例６は比較例４で作製したフィルムをそれぞれ使用すること以外は実施例５と同様にして抵抗膜式タッチパネルのモデルを作製した。
次に実施例１と同様に測定を行い、その結果をそれぞれ表２に示す。
【００７６】
表２から、実施例５、６のタッチパネルは透過色差が低く、着色の目立たないことに加えてほこりや傷がつきづらくなることが明らかとなった。
一方、帯電防止機能を付与させていないフィルムを使用したタッチパネル（比較例５、６）は表面抵抗値が高くほこりがつきやすい結果となり、色調補正機能を付与していないフィルムを使用したタッチパネル（比較例６）では透明性が悪く画面が非常に強い黄色味を帯びている結果となった。
【００７７】
【表１】
2004322380.tif 000003
【００７８】
【表２】
2004322380.tif 000004
【００７９】
【発明の効果】
本発明の透明導電材料は、帯電防止性や表面硬度に優れており、また透過光の着色が少ない上に、透過率も高いため視認性に優れ、タッチパネルなどの電極基板として有用である。また、高屈折率層、低屈折率層、導電層の３つの薄膜を順次積層した構成ではないので光学設計が容易である。さらに、本発明の透明導電材料を用いたタッチパネルは鮮明な画像が得られるので有用である。
【００８０】
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は実施例１で作製した透明導電材料を示す模式図である。
【図２】図２は実施例５で作製したタッチパネルの模式図である。
【符号の説明】
Ａ・・・低屈折率層、Ｂ・・・高屈折率層、Ｃ・・・ハードコート層、Ｄ・・・基材（ＰＥＴフィルム）、Ｅ・・・導電層、Ｆ・・・両面テープ、Ｇ・・・導電層、Ｈ・・・ガラス板
【図１】
2004322380.tif 000005
【図２】
2004322380.tif 000006