(57)【要約】【課題】市販のレチクル保持装置（レチクルポッド）をＥＢ露光用レチクル用に改良したレチクル保持装置等を提供する。【解決手段】レチクル保持装置１はポッドベース３とポッドカバー５を備える。ポッドベース３上には、円形のレチクル基板Ｒの外周縁における、ほぼ均等に離れた３ヶ所の点（保持点）を下方から支持するテーブルブロック１９が固定されている。カバー５には、レチクル基板Ｒの保持点の真上から保持点を押えるように弾性付勢される軟質・非粘着性の押圧部材３１が設けられている。ＳＥＭＩ規格ウェハと同形状のＥＢ露光用レチクルの外周縁を３ヶ所で上下方向から支持することにより、同レチクルを安定に保持できる。【選択図】　　　　図１
2004071729.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円形の基板にパターンが形成されたレチクルを保持する方法であって、
該レチクル基板の外周縁のほぼ均等に離れた３ヶ所の点（保持点）を下方から支持するとともに、
該保持点の真上から、軟質・非粘着性の押え部材を下に向けて弾性付勢して当てて該保持点を押えることを特徴とするレチクル保持方法。
【請求項２】
円形のレチクル基板の外周縁における、ほぼ均等に離れた３ヶ所の点（保持点）を下方から支持する支持部材と、
該支持部材が固定されるベース部材と、
前記レチクル基板の上面を覆うカバーと、
前記レチクル基板の保持点の真上から該保持点を押えるように弾性付勢される軟質・非粘着性の押圧部材と、
を具備することを特徴とするレチクル保持装置。
【請求項３】
前記押圧部材が、板バネと、その先端に取り付けられたゴムリング若しくはゴムブロック、又は樹脂ブロックと、からなることを特徴とする請求項２記載のレチクル保持装置。
【請求項４】
円形のレチクル基板の外周縁における、ほぼ均等に離れた３ヶ所の点（保持点）を下方から支持する支持部材と、
該支持部材が固定されるベース部材と、
前記レチクル基板の上面を覆うカバーと、
を具備し、
前記支持部材上に、前記レチクル基板のノッチと係合するノッチ係合突起が設けられていることを特徴とするレチクル保持装置。
【請求項５】
前記支持部材上に、前記レチクル基板の位置ずれ防止用のストッパピンが設けられていることを特徴とする請求項２、３又は４いずれか１項記載のレチクル保持装置。
【請求項６】
円形のレチクル基板の外周縁における、ほぼ均等に離れた３ヶ所の点（保持点）を下方から支持する支持部材と、
該支持部材が固定されるリング状部材と、
該リング状部材が固定されるベース部材と、
前記レチクル基板の上面を覆うカバーと、
を具備し、
前記リング状部材と前記ベース部材との間に位置決め機構が設けられていることを特徴とするレチクル保持装置。
【請求項７】
レチクル上のパターンを感応基板上に転写露光する露光装置であって、該レチクルの収納装置として、請求項２〜６いずれか１項記載のレチクル保持装置を備えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置や露光装置に使用されるレチクルの保持方法及び装置に関する。特には、従来より使用実績のあるレチクル保持装置（レチクルポッド）を、ＥＢ露光用等の円形レチクル保持用に改良したレチクル保持装置及び方法等に関する。
【０００２】
【従来の技術】
市販されているレチクル保持装置（レチクルポッド）は、一般に、正方形（一辺の長さは一例で１５２．４ｍｍ（６インチ））の、厚さが数ｍｍのガラス製のレチクルに適用されるものが多い。もっとも一般的なレチクル保持装置としては、スミフ（ＳＭＩＦ、Ｓｔａｎｄａｒｄ　Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）式ポッドと呼ばれるものが知られている。
【０００３】
図１０は、従来の１枚入りのレチクル保持装置の構造を示す平面図である。
このスミフ式のレチクル保持装置（レチクルポッド）８０は、図１０に示すように、平面形状が正方形であり、ベース８１と、カバー８３とから主に構成されている。カバー８３は、ベース８１上に、図示せぬ固定機構により気密に固定され、ベース８１の上面とカバー８３との間の空間が密封される。
【０００４】
ベース８１の上面の四隅には、受け部材８５が配置されている。受け部材８５は平面形状が長円状であり、ベース８１の中心に向かうように配置されている。この受け部材８５の内側の端部に正方形のレチクルＲの四隅が置かれる。そして、カバー８３の内面に設けられた押え部材（図示されず）によって、レチクルＲの四隅が受け部材８５に対して押さえつけられて、レチクルＲが固定される。ベース８１上面の対角上の２つの隅には、フィルター８７が設けられている。このフィルター８７は、ポッド内に入る空気中のゴミを取るためのものである。
【０００５】
このようなレチクルポッド８０は、保持されたレチクルＲを密閉空間内に保持できるため、レチクルＲへのゴミ付着を防止できる。また、このポッド専用の、カバー８３を開けるためのオープナーも市販されているため、使い勝手がよい。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年では、高解像度化と高スループット化を兼ねた露光装置として、電子ビーム（ＥＢ）を使用した露光装置の開発が進められている。このＥＢ露光装置では、従来のガラス製の四角いレチクルは使用されず、ＳＥＭＩ規格ウェハやＳＥＭＩ規格ノッチウェハと同形状の、円くて薄いレチクルを使用する。このレチクルの厚さは０．５ｍｍ〜１ｍｍ程度であり、径は８インチが有力とされている。このＥＢ露光用のレチクルには、パターンがほぼ全面に形成される。このパターンの上面にＥＢが照射されてパターン開口から通過するため、パターンの上下面は接触不可である。このため、接触可能な部分は、パターン以外の部分である外縁の幅数ｍｍの部分の上下面のみとなり、この部分でレチクルを保持する必要がある。
【０００７】
ここで、図１０に示す市販のレチクルポッド８０は四角形のレチクル用に作製されたものである。このため、このままの状態では、ＥＢ露光用レチクルのような、形状が円形で、保持可能部分が外縁の幅が数ｍｍの部分のみレチクルは保持することができない。
【０００８】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、ＥＢ露光用レチクルに適したレチクル保持装置等を提供することを目的とする。特には、市販のレチクル保持装置（レチクルポッド）をＥＢ露光用レチクル用に改良したレチクル保持装置等を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明のレチクル保持方法は、　円形の基板にパターンが形成されたレチクルを保持する方法であって、　該レチクル基板の外周縁のほぼ均等に離れた３ヶ所の点（保持点）を下方から支持するとともに、　該保持点の真上から、軟質・非粘着性の押え部材を下に向けて弾性付勢して当てて該保持点を押えることを特徴とする。
【００１０】
本発明の第１のレチクル保持装置は、　円形のレチクル基板の外周縁における、ほぼ均等に離れた３ヶ所の点（保持点）を下方から支持する支持部材と、　該支持部材が固定されるベース部材と、　前記レチクル基板の上面を覆うカバーと、　前記レチクル基板の保持点の真上から該保持点を押えるように弾性付勢される軟質・非粘着性の押圧部材と、を具備することを特徴とする。
【００１１】
ＳＥＭＩ規格ウェハと同形状のＥＢ露光用レチクルの外周縁を３ヶ所で上下方向から支持することにより、同レチクルを安定に保持することができる。さらに、レチクルの外周縁を上から押える押え部材を軟質・非粘着性の物質で作製することにより、レチクル表面が傷付くことを防ぐ。
また、市販のＳＭＩＦ式レチクルポッドを改良して作製できるため、この市販レチクルポッドに対応するカバーオープナーを使用することができる。
【００１２】
本発明においては、　前記押圧部材が、板バネと、その先端に取り付けられたゴムリング若しくはゴムブロック、又は樹脂ブロックと、からなることが好ましい。押え部材として、ゴムリングやゴムブロック、樹脂ブロックを使用することにより、レチクル表面へ傷が付くことを防ぐことができる。また、押え部材を板バネで付勢することにより、レチクルに大きな荷重がかかることを防ぎ、薄いレチクルの撓みや反りを防止できる。
【００１３】
本発明の第２のレチクル保持装置は、　円形のレチクル基板の外周縁における、ほぼ均等に離れた３ヶ所の点（保持点）を下方から支持する支持部材と、　該支持部材が固定されるベース部材と、　前記レチクル基板の上面を覆うカバーと、　を具備し、　前記支持部材上に、前記レチクル基板のノッチと係合するノッチ係合突起が設けられていることを特徴とする。
ノッチ係合突起を設けることにより、ＳＥＭＩ規格ノッチウェハと同形状のレチクルに対応でき、レチクルの位置決めをスムーズに行うことができる。
【００１４】
本発明においては、　前記支持部材上に、前記レチクル基板の位置ずれ防止用のストッパピンが設けられていることが好ましい。レチクルをレチクル保持装置に載置するときの位置決めを容易にできる。
【００１５】
本発明の第３のレチクル保持装置は、　円形のレチクル基板の外周縁における、ほぼ均等に離れた３ヶ所の点（保持点）を下方から支持する支持部材と、　該支持部材が固定されるリング状部材と、　該リング状部材が固定されるベース部材と、　前記レチクル基板の上面を覆うカバーと、を具備し、　前記リング状部材と前記ベース部材との間に位置決め機構が設けられていることを特徴とする。市販のＳＭＩＦ式レチクルポッドを改良する際に、ベース部材（既存品）上に、リング状部材（新規部材）が位置決めされているため、リング状部材上の支持部材に載置されるレチクルと、ベース部材との相対的な位置関係を一定にすることができる。
【００１６】
本発明の露光装置は、　レチクル上のパターンを感応基板上に転写露光する露光装置であって、該レチクルの収納装置として、上記いずれか記載のレチクル保持装置を備えることを特徴とする。
特にＥＢ露光装置において、レチクルを市販のレチクルポッドで保持することができる。また、このレチクルポッドに対応するカバーオープナーも使用できるため、使い勝手がよくなる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係るレチクル保持装置の構造を示す平面図である。
図２は、図１のレチクル保持装置のベースの構造を示す平面図である。
図３は、ベースの一部を拡大して示す図である。
図４（Ａ）は、図１のレチクル保持装置のＡ−Ａ断面図であり、図（Ｂ）は、図４（Ａ）の一部を拡大して示す図である。
図５は、図１のレチクル保持装置のＢ−Ｂ断面図である。
【００１８】
このレチクル保持装置１は、図１０で示す従来のスミフ式のレチクルポッド８０に改良を加えたものである。同保持装置１は、ポッドベース（ベース部材）３と、ポッドカバー（カバー）５を有する。図１０のレチクルポッド８０と同様に、ポッドカバー５は、ポッドベース３に図示せぬ固定機構により気密に固定され、ポッドベース３の上面とポッドカバー５との間の空間が密封される。
【００１９】
ポッドカバー５には、レチクル押圧用の３つの押圧部材７−１〜３が設けられている。また、ポッドベース３上には、３つのテーブルブロック（支持部材）１９−１〜３が設けられている。レチクルＲは、これらの押圧部材７とテーブルブロック１９との間に保持される（詳細後述）。
【００２０】
まず、ポッドベース３の構造を説明する。
図２に示すように、ポッドベース３の上面の四隅には、従来のスミフ式レチクルポッドのベースと同様に、ブロック（受け部材）１１が配置されている。ブロック１１は平面形状が長円状であり、ポッドベース３の中心に向かうように配置されている。また、ポッドベース上面の対角上の２つの隅には、ポッド内に入る空気中のゴミ除去用のフィルター１３が設けられている。
【００２１】
ブロック１１の内端上面には、円環状のリング状部材１５が配置されて、ブロック１１にビス１７で固定されている。ブロック１１とリング状部材１５の位置決め方法については後述する。リング状部材１５は、図４に示すように、高さの高い内環状部１５ａと、高さの低い外環状部１５ｂとからなる。同外環状部１５ｂ上の３ヶ所には、テーブルブロック（支持部材）１９−１〜３が、ビス２１で固定されている。各テーブルブロック１９は、リング状部材１５の中心点に対してほぼ均等な角度に配置されている。さらに、いずれのテーブルブロック１９もポッドベース３の水平方向の中心線Ｌ（図１参照）上には配置されていない。これは、ポッドオープナーとの関連によるもので、詳細は後述する。
【００２２】
図４、図５に示すように、テーブルブロック１９は、平らな方形のベース部１９ａと、同ベース部１９ａの内側の辺に沿って立ち上がる載置部１９ｂとからなる。ベース部１９ａは、リング状部材１５の外環状部１５ｂ上に載置される。そして、テーブルブロック１９の内側の壁がリング状部材１５の内環状部１５ａの外側の壁に接するように、リング状部材１５の周方向に沿って配置され、ベース部１９ａが２つのビス２１で外環状部１５ｂ上に固定される。各テーブルブロック１９の載置部１９ｂの上面１９ｃは、高さが等しく、平坦である。この面１９ｃがレチクルＲが載置されるレチクル載置面となる。図５に示すように、載置部上面１９ｃの内縁には、テーパ１９ｄが設けられている。
【００２３】
図２に示すように、テーブルブロック１９−１と、テーブルブロック１９−２、３とは形状が異なっている。テーブルブロック１９−２、３は、図５に示すように、載置部上面１９ｃの外側に、ストッパピン２３が固定されている。一方、テーブルブロック１９−１は、図３に示すように、載置部上面１９ｃにノッチ係合部２４が形成されている。このノッチ係合部２４は内方向に延びる突出部２４ａを有する。突出部２４ａは、レチクルＲがノッチウェハの場合、同レチクルＲのノッチＮに係合し、レチクルＲの位置決めを行うことができる。
各テーブルブロック１９のストッパピン２１とノッチ係合部２４は、このレチクル保持装置１に保持されるレチクルＲの外縁上に配置される。
【００２４】
次に、ポッドカバー５の構造を説明する。
図１に示すように、ポッドカバー５の上面の内面には、３つの押圧部材７が取り付けられている。この例では、押圧部材７は、カバー５の上面の左側の辺に沿って２ヶ所、同辺と対向する右側の辺に沿って２ヶ所の計４ヶ所に取り付けることができるようになっている。図４に示すように、押圧部材７が取り付けられるカバー５の部分は、厚さが厚くなっている。そして、この厚さが厚い部分（押圧部材取り付け部２５）には、ネジ孔２７が開けられている。
【００２５】
押圧部材７は、図４に示すように、ベース部２９と、同ベース部２９から延びる板バネ３１と、同板バネ３１の先端に取り付けられた押え部材３３とからなる。ベース部２９は、カバー５の押圧部材取り付け部２５の下面に、同部の上方からネジ孔２７に通されたネジ３５で固定されている。ベース部２９の上面と押圧部材取り付け部２５の下面との間にはＯリング３７が介装されており、ビス３５とネジ孔２７とのスキマからゴミが侵入することを防いでいる。
【００２６】
このベース部２９から、板バネ３１が延びている。板バネ３１は、図１に示すように、短い辺と２つの長い辺からなる細長い三角形の形状である。そして、短辺がベース部２９に固定されて、長い２つの辺の交点である先端がカバー３の内方向に延びている。先端には押え部材３３が取り付けられている。押え部材３３は、図４（Ｂ）に詳しく示すように、Ｏリング３９と、小ネジ４１とからなる。小ネジ４１のヘッド４３の外周面には、ほぼ半円形の溝４５が形成されている。この溝４５にＯリング３９がはめ込まれている。Ｏリング３９は、粘着力が少なく、クリーンな材料で作製される。小ネジ４１のネジ部４７は板バネ３１の先端にねじ込まれている。ヘッド４３の一面には、ドライバー挿入溝４９が形成されている。一例で、Ｏリング３９の外径は約６．１ｍｍ、内径は約２．６ｍｍである。
【００２７】
この例では、押圧部材７は、図１の左上と左下及び右上の３ヶ所の押圧部材取り付け部２５に取り付けられている。
【００２８】
図１に示すように、各押圧部材７の板バネ３１は、短い辺の長さは等しいが、長い辺の長さは異なっており、全て異なる形状である。例えば、図１の左下の押圧部材７−２の板バネ３１−２は長さが最も長く、右上の押圧部材７−３の板バネ３１−３の長さが最も短い。ここで長さとは、板バネ固定点（押圧部材７のベース部２９が固定されるカバーの押圧部材取り付け部２５）から先端までの長さとする。各板バネの長さは、カバーの押圧部材取り付け部２５から、ポッドベース３上に固定された各テーブルブロック１９の載置部上面１９ｃのほぼ中央まで延びるように選択される。そして、このように板バネ３１の形状が異なっている場合にも、Ｏリング３９が下方に付勢される力（一例で１Ｎ）が等しくなるように厚さを選択する。
なお、カバー３には押圧部材取り付け部２５が４ヶ所設けられており、いずれか３ヶ所を選択できる。
【００２９】
このような構造により、各テーブルブロック１９の載置部上面１９ｃ（レチクル載置面）の真上に、押圧部材７の板バネ３１の先端のＯリング３９が位置する。そして、同Ｏリング３９は、板バネ３１により、載置部上面１９ｃに向けて真下の方向に付勢される。
【００３０】
次に、このレチクル保持装置１の使用方法について説明する。
まず、ポッドカバー５を開けて、ポッドベース３上のリング状部材１５に固定されているテーブルブロック１９の載置部上面１９ｃに、レチクルＲを載置する。このとき、レチクルＲのノッチＮが、ノッチ係合部２４付きのテーブルブロック１９−１に位置するように位置決めする。これにより、レチクル保持装置１内でのレチクルＲの位置を一定にできる。テーブルブロック１９は円環上に配置されているため、載置部上面１９ｃはＥＢ用レチクルＲの外周縁に接触し、パターン面には接触しない。このとき、他の２つのテーブルブロック１９−２、３の載置部上面１９ｃには、ストッパピン２３が設けられているため、レチクルＲの横方向の位置ずれを防ぐことがでる。
【００３１】
レチクルＲが載置部上面１９ｃに位置決めされた後、カバー５を被せる。このとき、載置部上面１９ｃに載置されたレチクルＲの外周縁の上面に、押圧部材３３のＯリング３９がほぼ点で接触する。そして、Ｏリング３９は真下に板バネ３１で付勢されているため、レチクルＲの外縁は載置部上面１９ｃとＯリング３９との間に挟まれる。Ｏリング３９は弾性を有するため、レチクルＲの表面に傷が付かない。さらに、Ｏリング３９は板バネ３１によって適度な強度で真下方向に付勢されているため、レチクルＲに大きな荷重がかかって撓むことがない。このようにレチクルＲがポッドベース３とカバー５との間に保持された後、両者が固定機構によって気密に固定される。
【００３２】
なお、レチクルＲを同装置１から取り出す際は、カバー５を開けると同時に押圧部材７がポッドベース３から離れ、Ｏリング３９がレチクル表面から離れる。このときＯリング３９の粘着性が弱いため、レチクルＲがＯリング３９にくっついてカバー３とともに離れることはない。
また、Ｏリング３９が磨耗した場合は、小ネジ４１のヘッド４３に沿ってＯリング３９を回転させて新しい面をレチクルＲに接触させる。また、磨耗が激しくなったり破損した場合は、小ネジ４１から取り外して交換することができる。
【００３３】
また、このレチクル保持装置１を、市販のオープナーを使用して開くこともできる。このオープナーは、通常、レチクル保持装置１内のレチクルＲの有無を検知するセンサを備える。この検知センサの光軸は、同保持装置の水平方向の中心線Ｌ（図１参照）上にある。そこで、この保持装置１では、前述のように、全てのテーブルブロック１９の載置部１９ｂを、センサの光軸から外れた位置に配置している。このため、センサ光を干渉せず、センサ機能を防止しない。なお、ポッドベース３の中心点と、テーブルブロックの載置部１９ｂの中心を通る線Ｌ１と、レチクルポッドの水平中心線Ｌとの角度θは５°以上であることが好ましい。
【００３４】
次に、ブロック１１とリング状部材１５の位置決め方法について説明する。この例のレチクル保持装置１は、前述のように、市販のレチクルポッドを使用しており、このレチクルポッドのポッドベース３にリング状部材１５を取り付けている。このときに、リング状部材１５が、ポッドベース３上の適当な位置となるように、位置決め用治具を用いて位置決めする。
【００３５】
図６は、位置決め治具による位置決め操作を説明する図である。
位置決め治具６０は、ポッドベース３が置かれる台座６１と、同台座６１に立設された位置決めピン６３と、位置決めアーム６５を有する。位置決めピン６１は、台座６１上でポッドベース３を位置決めする。位置決めアーム６５は、ポッドベース３上でリング状部材１５を位置決めする。
【００３６】
まず、ポッドベース３を台座６１上に置き、位置決めピン６３で位置決めする。次に、リング状ベース１５をポッドベース３上に置き、位置決めアーム６５で位置決めする。これにより、リング状部材１５がポッドベース３上の適当な位置に位置決めされ、ポッドベース３とリング状部材１５との相対的な位置関係が一定に保たれる。両者が位置決めされた後、リング状部材１５の外環状部１５ｂをポッドベース３上のブロック１１にビス１７で固定する。
【００３７】
図７は、押圧部材の構造の他の例を示す側面図である。
この例の押え部材３３´は、樹脂製のリング状ブロック７１と、ネジ７３とで構成されている。リング状樹脂ブロック７１の一側面には横方向に延びるネジ７３が形成されており、他方の側面にはドライバー挿入溝７５が形成されている。リング状樹脂ブロック７１の外周縁７１ａは半円状となっている。リング状ブロック７１とネジ７３は一体で作製されてもよい。また、リング状ブロック７１はゴムで作製されてもよい。
【００３８】
図８は、本発明の他の実施の形態に係るレチクル保持装置の構造を示す平面図である。
この例のレチクル保持装置は、図１のレチクル保持装置とほぼ同様の構造を有するが、ポッドベースの構造が異なる。なお、図１のレチクル保持装置の各部品と同じ構造・作用を有する部品は同一の符号を付し、説明を省略する。
このレチクル保持装置のポッドベース３´上のテーブルブロック１９は、全て同じ形状である。すなわち、テーブルブロック１９は、図１のレチクル保持装置１のテーブルブロック１９−２、３と同様に、方形のベース部１９ａと、同ベース部１９ａから立ち上がる載置部１９ｂとからなり、ノッチ係合部が形成されていない。
【００３９】
露光装置の構成によっては、レチクル保持装置内で、レチクルの向きがどの向きでも問題がない場合がある。この場合に、この例のレチクル保持装置を使用できる。
【００４０】
図９は、本発明の実施の形態に係る露光装置の構成を模式的に説明するための図である。
電子線露光装置１００の上部には、光学鏡筒１０１が配置されている。光学鏡筒１０１には、真空ポンプ（図示されず）が設置されており、光学鏡筒１０１内を真空排気している。
【００４１】
光学鏡筒１０１の上部には、電子銃１０３が配置されており、下方に向けて電子線を放射する。電子銃１０３の下方には、順にコンデンサレンズ１０４ａ、電子線偏向器１０４ｂ等を含む照明光学系１０４が配置されている。同鏡筒１０４の下方には、レチクルＲが配置されている。
電子銃１０３から放射された電子線は、コンデンサレンズ１０４ａによって収束される。続いて、偏向器１０４ｂにより図の横方向に順次走査（スキャン）され、光学系の視野内にあるレチクルＲの各小領域（サブフィールド）の照明が行われる。なお、図ではコンデンサレンズ１０４ａは一段であるが、実際の照明光学系には、数段のレンズやビーム成形開口、ブランキング開口等が設けられている。
【００４２】
レチクルＲは、レチクルステージ１１１の上部に設けられたチャック１１０に静電吸着等により固定されている。レチクルステージ１１１は、定盤１１６に載置されている。レチクルＲは、光学鏡筒１０１に設けられたレチクル収容室１０２に、レチクル保持装置１に保持されて収容されている。そして、レチクル使用時には、オープナーでカバー５が開かれ、基板ローダ（図示されず）によって保持装置１からレチクルステージ１１１上に搬送される。
【００４３】
レチクルステージ１１１には、図の左方に示す駆動装置１１２が接続されている。なお、実際には、駆動装置（リニアモータ）１１２はステージ１１１に組み込まれている。駆動装置１１２は、ドライバ１１４を介して、制御装置１１５に接続されている。また、レチクルステージ１１１の側方（図の右方）にはレーザ干渉計１１３が設置されている。レーザ干渉計１１３も、制御装置１１５に接続されている。レーザ干渉計１１３で計測されたレチクルステージ１１１の正確な位置情報が制御装置１１５に入力される。レチクルステージ１１１の位置を目標位置とすべく、制御装置１１５からドライバ１１４に指令が送出され、駆動装置１１２が駆動される。その結果、レチクルステージ１１１の位置をリアルタイムで正確にフィードバック制御することができる。
【００４４】
定盤１１６の下方には、ウェハチャンバ（真空チャンバ）１２１が配置されている。ウェハチャンバ１２１の側方（図の右側）には真空ポンプ（図示されず）が接続されており、ウェハチャンバ１２１内を真空排気している。
ウェハチャンバ１２１内（実際にはチャンバ内の光学鏡筒内）には、コンデンサレンズ（投影レンズ）１２４ａ、偏向器１２４ｂ等を含む投影光学系１２４が配置されている。ウェハチャンバ１２１内の下部には、ウェハ（感応基板）Ｗが配置されている。
【００４５】
レチクルＲを通過した電子線は、コンデンサレンズ１２４ａにより収束される。コンデンサレンズ１２４ａを通過した電子線は、偏向器１２４ｂにより偏向され、ウェハＷ上の所定の位置にレチクルＲの像が結像される。なお、図ではコンデンサレンズ１２４ａは一段であるが、実際には、投影光学系中には複数段のレンズや収差補正用のレンズやコイルが設けられている。
【００４６】
ウェハＷは、ウェハステージ１３１の上部に設けられたチャック１３０に静電吸着等により固定されている。ウェハステージ１３１は、定盤１３６に載置されている。
ウェハステージ１３１には、図の左方に示す駆動装置１３２が接続されている。なお、実際には駆動装置１３２はステージ１３１に組み込まれている。駆動装置１３２は、ドライバ１３４を介して、制御装置１１５に接続されている。なお、実際には、また、ウェハステージ１３１の側方（図の右方）にはレーザ干渉計１３３が設置されている。レーザ干渉計１３３も、制御装置１１５に接続されている。レーザ干渉計１３３で計測されたウェハステージ１３１の正確な位置情報が制御装置１１５に入力される。ウェハステージ１３１の位置を目標とすべく、制御装置１１５からドライバ１３４に指令が送出され、駆動装置１３２が駆動される。その結果、ウェハステージ１３１の位置をリアルタイムで正確にフィードバック制御することができる。
【００４７】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ＥＢ露光用のレチクルを安定に保持するレチクル保持装置及び方法を提供できる。特には、市販のレチクルポッドを改良して作製できるため、安価である。さらに、この市販のレチクルポッドに対応する市販のカバーオープナーも使用できるため、使い勝手がよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るレチクル保持装置の構造を示す平面図である。
【図２】図１のレチクル保持装置のベースの構造を示す平面図である。
【図３】ベースの一部を拡大して示す図である。
【図４】図４（Ａ）は、図１のレチクル保持装置のＡ−Ａ断面図であり、図（Ｂ）は、図４（Ａ）の一部を拡大して示す図である。
【図５】図１のレチクル保持装置のＢ−Ｂ断面図である。
【図６】位置決め治具による位置決め操作を説明する図である。
【図７】押圧部材の構造の他の例を示す側面図である。
【図８】本発明の他の実施の形態に係るレチクル保持装置の構造を示す平面図である。
【図９】本発明の実施の形態に係る露光装置の構成を模式的に説明するための図である。
【図１０】従来の１枚入りのレチクル保持装置の構造を示す平面図である。
【符号の説明】
１　レチクル保持装置
３　ポッドベース（ベース部材）　　　５　ポッドカバー（カバー）
７　押圧部材　　　　　　　　　　　１９　テーブルブロック（支持部材）
１１　ブロック（受け部材）　　　　　１３　フィルター
１５　リング状部材　　　　　　　　　１７　ビス
１９　テーブルブロック（支持部材）　２１　ビス
２３　ストッパピン　　　　　　　　　２４　ノッチ係合部
２５　押圧部材取り付け部　　　　　　２７　ネジ孔
２９　ベース部　　　　　　　　　　　３１　板バネ
３３　押え部材　　　　　　　　　　　３５　ネジ
３７　Ｏリング　　　　　　　　　　　３９　Ｏリング
４１　小ネジ　　　　　　　　　　　　４３　ヘッド
４５　溝　　　　　　　　　　　　　　４７　ネジ部
４９　ドライバー挿入溝　　　　　　　６０　位置決め治具
６１　台座　　　　　　　　　　　　　６３　位置決めピン
６５　位置決めアーム
１００　電子線露光装置　　　　　　　１０１　光学鏡筒
１０２　レチクル収容室　　　　　　　１０３　電子銃
１０４　照明光学系　　　　　　　　　１１０　チャック
１１１　レチクルステージ　　　　　　１１６　定盤
１１２　駆動装置　　　　　　　　　　１１３　レーザ干渉計
１１４　ドライバ　　　　　　　　　　１１５　制御装置
１２１　ウェハチャンバ（真空チャンバ）
１２４　投影光学系　　　　　　　　　１３０　チャック
１３１　ウェハステージ　　　　　　　１３２　駆動装置
１３３　レーザ干渉計　　　　　　　　１３４　ドライバ
１３６　定盤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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