(57)【要約】【課題】軽くて、薄く、耐衝撃性に優れ、かつ視認性に優れた携帯情報端末にも適したタッチパネルを提供する。【解決手段】ポリマーフィルムからなる２枚の基板が対向して配置され、各基板の対向面に透明導電膜が設けられたタッチパネルであって、一方の基板が円偏光機能を有し、他方の基板のレターデーション値が、入射光の波長が５５０ｎｍで測定した時２０ｎｍ以下であることを特徴とするタッチパネル。【選択図】　　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーフィルムからなる２枚の基板が対向して配置され、各基板の対向面に透明導電膜が設けられたタッチパネルであって、一方の基板が円偏光機能を有し、他方の基板のレターデーション値が、入射光の波長が５５０ｎｍで測定した時２０ｎｍ以下であることを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
請求項１に記載のタッチパネルを備えたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明導電膜が設けられたポリマーフィルムからなる２枚の基板を有するタッチパネル及びそれを備えた表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
タッチパネルには、抵抗膜方式、光学式、静電容量式、超音波式、および電磁誘導式等の方式がある。これらの中で、抵抗膜方式は、比較的低コストである、また薄型軽量化が容易であるという特徴を有し、ディスプレイの表面に装着するだけで外部入力が可能となるため、特に携帯機器を中心として広く用いられている。近年、携帯電話や情報携帯端末などの携帯機器の需要が著しく、携帯機器の薄型軽量化やディスプレイの視認性の向上が強く求められている。
【０００３】
視認性を向上させるために、特開平５−１２７８２２号公報、および月刊ディスプレイ１９９９年１月号６９頁に偏光板と液晶セルの間にタッチパネルの機能を挿入したインナー型タッチパネルを搭載した液晶表示装置が開示されている。この方式によれば、偏光板と位相差板とを組み合わせた円偏光板を液晶セルに対しタッチパネル部より外側（視認側）の電極基板に配置することで、タッチパネル内部の界面反射が著しく低減され、視認性が向上する。
【０００４】
一方、反射型又は半透過型液晶表示装置に搭載するインナー型タッチパネルの液晶セル側の基板には光学的に異方性でない基板を用いる必要がある。
『タッチパネルの基礎と応用』（テクノタイムズ社、監修三谷雄二）ｐ６５．に記載のような従来の抵抗膜式タッチパネルは、光学異方性を有するＰＥＴ基板を使用していた。しかし、反射型又は半透過型液晶表示装置に搭載するインナー型タッチパネルには使用することができないため、光学異方性のないガラス基板が用いられている。
【０００５】
従来のインナー型タッチパネルを搭載した液晶表示装置としては、図２に示されるものが知られている。
図２に示すように、タッチパネルを備えた液晶表示装置１３は、タッチパネル１２及び液晶セル８からなっている。更に、タッチパネル１２は、ポリマーフィルム基板７と、この基板と離間して対向するガラス基板９とを有しており、ポリマーフィルム基板７は、偏光素子２及びλ／４板３を有しているため円偏光機能を有する。ポリマーフィルム基板７とガラス基板９との対向面には、それぞれ透明導電膜４を備えている。
上記のような液晶表示装置は全体が重く厚いものとなるため、携帯情報端末の薄型化や軽量化の要求に十分には答えられないものであった。また、ガラス基板を用いているため耐衝撃性においても問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、インナー型タッチパネルにおいて、軽くて、薄く、耐衝撃性に優れ、かつ視認性に優れた携帯情報端末に適したタッチパネル及びタッチパネルを備えた液晶表示装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記（１）のタッチパネル及び（２）のタッチパネルを備えた液晶表示装置により達成された。
【０００８】
（１）　ポリマーフィルムからなる２枚の基板が対向して配置され、各基板の対向面に透明導電膜が設けられたタッチパネルであって、一方の基板が円偏光機能を有し、他方の基板のレターデーション値が、入射光の波長が５５０ｎｍで測定した時２０ｎｍ以下であることを特徴とするタッチパネル。
（２）　上記（１）に記載のタッチパネルを備えたことを特徴とする表示装置。
【発明の実施の形態】
【０００９】
［タッチパネル及びタッチパネルを備えた液晶表示装置の構成］
本発明の実施形態の一例を図１に厚み方向断面図として示すが、本発明はこの形態に限られるものではない。
但し、タッチパネルを表示装置に設置して用いた場合、表示側に配置される基板を可動基板とし、液晶セル側に配置される基板を固定基板とする。
図１に示すように、タッチパネルを備えた液晶表示装置１３は、タッチパネル１２及び液晶セル８からなっている。タッチパネル１２は、液晶セル８の表示面側に設置され、表示面側の可動基板１０と、可動基板１０と離間して対向する固定基板１１とを有している。さらに、タッチパネル１２の可動基板１０及び固定基板１１の対向面には、それぞれ透明導電膜４が設けられている。２枚の透明導電膜４の間は空気層を設けてもよいし、周辺部は粘着剤５によって貼り合わせてもよい。
【００１０】
図１に示す本発明の実施形態においては、可動基板１０は円偏光機能を有するものであり、例えば、λ／４板３の表示面側に偏光素子２を積層したものからなる。可動基板１０は偏光素子２の表示面側に保護フィルム１を備えていてもよい。更に、保護フィルム１上にはハードコート層、低反射膜又は防汚層等（図示せず）がコーティングされていてもよい。また、固定基板１１は１枚のポリマーフィルムからなることが好ましい。
【００１１】
前述のように２枚の透明導電膜４の間にはギャップが形成されている。ギャップ間には通常空気層が存在するが、オプティカル・マッチングの観点から、透明導電膜と屈折率の近い液体を充填させることもできる。また、各透明導電膜４と各基板との間にアンダーコート層（図示せず）、及び／又は各透明導電膜４の対抗面上にオーバーコート層（図示せず）を付与することにより、光反射を更に低減させることもできる。スティッキング性をなくし、打鍵寿命を改善するために、各透明導電膜４の対向面上は粗面化されていても良い。ギャップ間にはスペーサーを設けることができる。スペーサーとしては、例えば、ドット状スペーサー６や周辺部に設けた粘着剤５が用いられる。
また、タッチパネル部とタッチパネルの駆動回路（図示せず）は、例えばフレキシブル電極（図示せず）を通して接続をする。
【００１２】
液晶表示装置１３の表示面側から入射した外光は、可動基板１０の偏光素子２及びλ／４板３を通過することにより円偏光となる。更に、円偏光のまま固定基板１１を通過し、液晶セル８に入射する。一方で、液晶表示装置１３の表示面側から入射した外光の一部は、屈折率の異なる層の界面、例えば、透明導電膜４と空気層の境界面や、固定基板１１と液晶セル８との境界面等から反射される。本発明においては、可動基板１０が円偏光機能をもつために、それぞれ境界面から反射した光は、再び可動基板１０を通過することができないため、表示面で観測される反射光は著しく少なくなる。
【００１３】
以下に、各部材について詳細に説明する。
［基板］
本発明のタッチパネルは、ポリマーフィルムからなる２枚の基板を有し、可動基板が円偏光機能を有し、固定基板のレターデーション値が、入射光の波長が５５０ｎｍで測定した時２０ｎｍ以下であることを特徴とする。
本発明のタッチパネルに用いる可動基板及び固定基板は、表示品質を高めるため、透明な光学材料で形成されていることが好ましく、光透過率が８０％以上であることが好ましい。これらの基板に用いられるポリマーの具体例としては、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリカーボネート誘導体（帝人（株）：ＷＲＦ）、セルロース誘導体（セルローストリアセテート、セルロースジアセテート）、ポリオレフィン系樹脂（日本ゼオン（株）：ゼオノア、ゼオネックス）、ポリサルホン系樹脂（ポリエーテルサルホン）ノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）：アートン）、ポリエステル系樹脂（ＰＥＴ、ＰＥＮ）、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹、ポリエーテルケトン、などが挙げられ、中でもポリカーボネート誘導体、セルロース誘導体、ポリオレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂が好ましい。
【００１４】
＜可動基板＞
可動基板は円偏光機能を有するが、市販の偏光板に上記λ／４板を貼り合せたものでもよいし、市販の偏光板の保護フィルムの代わりに上記のλ／４板を用いたものでもよい。
【００１５】
可動基板に用いるλ／４板は公知のものを用いることができる。例えば、ＷＯ−００／６５８４号公報に記載のポリオレフィン系樹脂を一軸延伸したもの、特許第３０１９７４１号、特開２００１−１９４５２７号公報、特開２００１−４２１３０号公報に記載のノルボルネン系樹脂、特開２００１−９１７４３号公報記載のセルロース誘導体を用いることができる。
可動基板に用いられるλ／４板のレターデーション値としては、液晶表示装置において良好な視認性を示すためには、入射波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が９０乃至１３０ｎｍ、入射波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５５０）が１００乃至１６０ｎｍ、更に入射波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１２０乃至１８０ｎｍであることが好ましく、そして、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧２ｎｍの関係を満足することが好ましい。Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが最も好ましい。
また、レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算出することもできる。
レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、位相差板の面内の、遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｄは、位相差板の厚さ（ｎｍ）である。
【００１６】
また、可動基板に用いられるλ／４板の一方の面又は両面に吸湿によるレターデーション変化を防止するような、バリア層などの機能層を設けてもよい。レターデーションを調整するため、少なくとも１種類以上のレターデーション調整剤を添加してもよい。また、可動基板に用いられるλ／４板は延伸されていることが好ましい。延伸方法は公知の方法のいずれでもよい。
【００１７】
偏光素子の作製方法は、ヨウ素または染料などの二色性分子を溶解又は吸着させ、その膜を一方向に引き延ばして二色性分子を配列させる方法、一軸方向に延伸したフィルムに上記の二色性分子を吸着させる方法、ビスアゾ化合物、その互変異性体、又はそれらの塩の水溶性有機色素を含む二色性色素を用いて作製する方法、あるいはビストリアジン化合物、その互変異生体、およびそれらの塩から選択される水溶性化合物を用いて作製する方法のいずれであってもよい。また、ロール形態の偏光素子を長手方向に対して実質的に４５°方向に延伸して作製したものでもよく、公知の延伸方法を用いることができる。
偏光素子とλ／４板を張り合わせる場合には、偏光素子の吸収軸の方向とλ／４板の遅相軸は実質的に４５°であることが好ましい。
可動基板の膜厚は、１００μｍ〜５００μｍであることが好ましく、より好ましくは１５０μｍ〜３００μｍである。
【００１８】
＜固定基板＞
固定基板は光学異方性の少ないポリマーフィルムを用いることが好ましい。
固定基板の入射波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値は、２０ｎｍ以下である。液晶表示装置と組合わせて使用する場合、この値が２０ｎｍ以上となると、コントラストが低下したり、色調が変化する場合がある。
固定基板のレターデーション値は、より好ましくは１５ｎｍ以下であり、さらに好ましく５ｎｍ以下であることである。固定基板のレターデーション値は、用いるポリマーフィルムの組成、添加剤、膜厚などによって容易に制御することができる。固定基板に用いるポリマーフィルムは、既述のものを用いることが好ましい。また、固定基板に直接透明導電膜を形成してもよいし、固定基板と透明導電膜との間に、密着層や緩衝層を挿入してもよい。密着層又は緩衝層の厚みは固定基板の光学特性に悪影響を及ぼさない限りは特に制限はないが、５０μｍ以下が好ましい。また密着層又は緩衝層の形成方法は、例えば塗布法や真空成膜法等いずれの方法でも構わない。
特に固定基板がポリマーフィルムである場合、緩衝層を有することが好ましく、緩衝層の素材としては、ハードコート層と同様な素材を用いることができる。
固定基板の膜厚は、５０μｍ〜１０００μｍであることが好ましく、より好ましくは１００μｍ〜５００μｍである。
【００１９】
［透明導電膜］
本発明のタッチパネルに透明導電膜としては、表面抵抗率は、１０４Ω／□以下であることが好ましく、１００Ω／□以上、１０００Ω／□以下であることがさらに好ましい。
透明導電膜の表面抵抗率を上記のような値にするためには、導電性微粒子分散物、金属アルコキシドなどの塗布によって設けても構わないし、フィルム流延時に共流延することによって設けても構わない。また、スパッタリング、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によっても、大気圧での気相成長法によって透明導電膜を形成しても構わない。基板の片面に透明導電膜を設けても構わないし、両面に設けても構わない。また、これらの方法を併用することも可能である。
真空成膜法にとしては「透明導電膜の新展開」シーエムシー出版、澤田　豊監修「月刊ディスプレイ」１９９９年９月号に記載の方法を用いることができる。
成膜する金属酸化物としてはＩｎ２Ｏ３系（Ｓｎなどドープ品、ＩＴＯ含む）、ＳｎＯ２系（Ｆ、Ｓｂなどドープ品含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品含む）またはこれらの複合品Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯ系などが挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられる。また、銀などと共に成膜しても良い。
【００２０】
スパッタなどで前記各基板上に成膜する際にはその表面をフッ素系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、プロピレン系樹脂、ビニル系樹脂などの高分子や、ＳｉＯ２，ＴｉＯ２，ＺｒＯ２，ＳｎＯ２などの無機物でコートすることが好ましい。コートする膜厚としては２ｎｍ以上１００μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは２ｎｍ以上５０μｍ以下であり、特に好ましくは２ｎｍ以上１０μｍ以下である。
スパッタ法により酸化インジウムを主として含む膜を成膜する方法としては、インジウムを主成分とする金属ターゲット、または酸化インジウムを主成分とする焼結体であるターゲットを用いた反応性スパッタリングを行うことができる。反応の制御上、後者が好ましい。反応性スパッタリング法においてはスパッタリングガスとしては、アルゴンなどの不活性ガスを用い、反応性ガスとしては酸素を用いる。放電形式としてはＤＣマグネトロンスパッタ、ＲＦマグネトロンスパッタなどが利用できる。また、酸素の流量を制御する方法としてはプラズマエミッションモニター法で行うことが好ましい。
【００２１】
透明導電膜を設けた基板の光の透過率は、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが特に好ましく、８０％以上であることが最も好ましい。
透明導電膜の厚みは、ＩＴＯを用いた場合、例えば１０〜１００ｎｍ、特に１５〜７０ｎｍとすることが多い。透明導電膜は、全面電極であってもよいし、全面電極形成後にレジスト形成やエッチング処理、銀電極形成等を行なってパターン電極を形成して用いてもよい。
【００２２】
［ハードコート層、反射防止層］
本発明においては可動基板及び固定基板にハードコート層又は反射防止層を設けることができる。
本発明では、可動基板表面のプラスチックフイルムを高硬度化するためにハードコートを設けることが好ましい。本発明に用いるハードコートは硬化性樹脂を用いることが出来、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線重合性樹脂等があるが、活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂としてはメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のプレポリマーの架橋反応を利用するものがある。本発明のハードコート層の鉛筆硬度は２Ｈ以上、好ましくは３Ｈ以上、更に好ましくは４Ｈ以上である。またハードコート層を高硬度化するために、有機または無機微粒子などを混合しても構わない。更に鉛筆硬度向上の為には、ハードコート層の厚みを通常の３〜１０μｍよりも厚くすることが効果的であるが、ハードコート層の割れが生じやすい等、脆性の問題が発生することがある為、表面弾性率を４．５ＧＰａ以上９ＧＰａ以下の範囲、かつハードコート層厚みとの三乗の積が３０ＫＰａ・ｍｍ３以上７００ＫＰａ・ｍｍ３以下の範囲に制御したハードコート層を用い、ハードコート層の硬度と脆性の両立化を図ることも好ましい。また硬度と脆性の両立化から、ハードコート層の膜厚を薄くし、プラスチックフイルム成分と無機、有機微粒子の混合および、多官能モノマーの架橋等により、プラスチックフイルムの硬度を上げることも好ましい。この場合、プラスチックフイルム成分のみの層と、プラスチックフイルム成分と無機、有機微粒子、多官能モノマーの混合による高硬度層を積層することがより好ましく、積層方法としては、溶融による共押出による積層および、共流延による積層であっても、塗布による積層であっても構わない。
【００２３】
活性エネルギー線としては、放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂層は、架橋しているポリマーを含む。架橋しているポリマーを含む活性エネルギー線硬化層は、多官能モノマーと重合開始剤を含む塗布液を上記の透明基材フイルム上に塗布し、多官能モノマーを重合させることにより形成できる。これらのモノマーの官能基としては、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。
【００２４】
多官能モノマーは、多価アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルであることが好ましい。多価アルコールの例には、エチレングリコール、１，４−シクロヘキサノール、ペンタエリスリトール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ジペンタエリスリトール、１，２，４−シクロヘキサノール、ポリウレタンポリオールおよびポリエステルポリオールが含まれる。これらの中では、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびポリウレタンポリオールが好ましい。二種類以上の多官能モノマーを併用してもよい。
【００２５】
多官能モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン、ジビニルスルホン、メチレンビスアクリルアミドおよびメタクリルアミド、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテルなどが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
本発明では多官能モノマーとしてエチレン性不飽和基を有するモノマーに加えて、架橋性官能基を有する化合物を併用して高硬度化してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。開環重合性の架橋性官能基が好ましく、エポキシ基が特に好ましい。架橋性官能基を有する化合物はモノマーであってもポリマーであってもよい。前記エポキシ系化合物としては、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノールＡ−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステルや、脂環式エポキシ等のモノマーおよびオリゴマーやその他、特開平１１−２０９７１７号、同６−１５７８１９号等に記載の化合物が上げられる。架橋性官能基を有する化合物を加える場合は、多官能モノマー中、５〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。
【００２６】
これらの活性エネルギー線硬化層に、無機微粒子を添加することで膜としての架橋収縮率を改良し、塗膜の硬度を上げることができる。無機微粒子としては硬度が高いものが好ましく、モース硬度が６以上の無機粒子が好ましい。例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子が含まれる。
【００２７】
これらの無機微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上４００ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の微粒子を１０質量％以上６０質量％以下、より好ましくは１５質量％以上５０質量％以下、より好ましくは２０質量％以上４５質量％以下添加させる。１ｎｍ以下では分散が難しく凝集粒子が出来、４００ｎｍ以上ではヘイズが大きくなり、どちらも透明性を落としてしまい好ましくない。
【００２８】
無機微粒子の添加量は、活性エネルギー線硬化層の全量の１以上９９質量％以下であることが好ましく、１０以上９０質量％以下であることがより好ましく、２０以上８０質量％以下であることがさらに好ましく、４０以上６０質量％以下であることが最も好ましい。
【００２９】
一般に無機微粒子はバインダーポリマーとの親和性が悪いため単に両者を混合するだけでは界面が破壊しやすく、膜として割れ、耐傷性を改善することは困難である。無機微粒子とポリマーバインダーとの親和性を改良するため、無機微粒子表面を有機セグメントを含む表面修飾剤で処理することができる。表面修飾剤は、一方で無機微粒子と結合を形成し、他方でバインダーポリマーと高い親和性を有することが必要であり、金属と結合を生成し得る官能基としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド化合物や、リン酸、スルホン酸、カルボン酸基等のアニオン性基を有する化合物が好ましい。またバインダーポリマーとは化学的に結合させることが好ましく、末端にビニル性重合基等を導入したものが好適である。例えば、エチレン性不飽和基を重合性基および架橋性基として有するモノマーからバインダーポリマーを合成する場合は、金属アルコキシド化合物またはアニオン性化合物の末端にエチレン性不飽和基を有していることが好ましい。
【００３０】
有機金属化合物の表面処理剤例
ａ）シラン含有有機化合物
ａ−１　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＳｉ（ＯＣ４Ｈ９）３
ａ−２　（Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８Ｏ）２Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）２
ａ−３　（Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８Ｏ）３ＳｉＯＣ４Ｈ９
ａ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ６ＯＳｉ（ＯＣ４Ｈ９）３
ａ−５　（Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ６Ｏ）２Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）２
ａ−６　（Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ６Ｏ）３ＳｉＯＣ４Ｈ９
【００３１】
ｂ）アルミニウム含有有機化合物
ｂ−１　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＡｌ（ＯＣ４Ｈ９）２
ｂ−２　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ６ＯＡｌ（ＯＣ３Ｈ７）２
ｂ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＡｌ（ＯＣ２Ｈ５）２
ｂ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ４ＯＡｌ（ＯＣ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ５）２
ｂ−５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＡｌ（ＯＣ４Ｈ９）２
ｂ−６　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＡｌ（ＯＣ４Ｈ９）ＯＣ４Ｈ８ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２
ｂ−７　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＡｌ｛Ｏ（１，４−ｐｈ）｝２
【００３２】
ｃ）ジルコニウム含有有機化合物
ｃ−１　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＺｒ（ＯＣ４Ｈ９）３
ｃ−２　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ７ＯＺｒ（ＯＣ３Ｈ７）３
ｃ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＺｒ（ＯＣ２Ｈ５）３
ｃ−４　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＺｒ（ＯＣ４Ｈ９）３
ｃ−５　｛ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ｝２Ｚｒ（ＯＣ４Ｈ９）２
【００３３】
ｄ）チタニウム含有有機化合物
ｄ−１　｛Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ｝３ＴｉＯＣ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ４ＯＣＨ３
ｄ−２　Ｔｉ｛ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣ２Ｈ４ＣＨ＝ＣＨ２）２Ｃ２Ｈ５｝４
ｄ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＴｉ（ＯＣ４Ｈ９）３
ｄ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ３Ｈ７ＯＴｉ（ＯＣ３Ｈ７）３
ｄ−５　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＴｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
ｄ−６　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＳｉＯＴｉ（ＯＳｉＣＨ３）３
ｄ−７　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ４Ｈ８ＯＴｉ（ＯＣ４Ｈ９）２
【００３４】
アニオン性官能基含有表面処理剤例
ｅ）リン酸基含有有機化合物
ｅ−１　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＰＯ（ＯＨ）２
ｅ−２　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
ｅ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
ｅ−４　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
ｅ−５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯＣｌ２
ｅ−６　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＣＨ｛ＯＰＯ（ＯＨ）２）２
ｅ−７　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＮａ）２
ｅ−８　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯ（１，４−ｐｈ）Ｃ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２ｅ−９　（Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ）２ＣＨＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
【００３５】
ｆ）スルホン酸基含有有機化合物例
ｆ−１　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＳＯ３Ｈ
ｆ−２　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ３Ｈ６ＳＯ３Ｈ
ｆ−３　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＳＯ３Ｈ
ｆ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＳＯ３Ｈ
ｆ−５　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ１２Ｈ２４（１，４−ｐｈ）ＳＯ３Ｈ
ｆ−６　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＳＯ３Ｎａ
【００３６】
ｇ）カルボン酸基含有有機化合物例
ｇ−１　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ５Ｈ１０ＣＯＯ）２Ｈ
ｇ−２　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
ｇ−３　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯ（１，２−ｐｈ）ＣＯＯＨ
ｇ−４　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ２Ｈ４ＣＯＯ）２Ｈ
ｇ−５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
ｇ−６　Ｈ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４ＣＯＯＨ
ここでｐｈはフェニル基を示す。
【００３７】
これらの無機微粒子の表面修飾は、溶液中でなされる事が好ましい。表面修飾剤を溶解した溶液に無機微粒子を添加し、超音波、スターラー、ホモジナイザー、ディゾルバー、サンドグラインダーを用いて、撹拌、分散することが好ましい。
【００３８】
表面修飾剤を溶解する溶液としては、極性の大きな有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶剤が挙げられる。
【００３９】
表面修飾した無機微粒子溶液に、上記の多官能モノマーと重合開始剤を加え活性エネルギー線硬化塗布液とする。
【００４０】
光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類が含まれる。特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（Ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が挙げられる。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントンが含まれる。また、架橋性官能基を有する化合物を併用する場合には、光カチオン性重合開始剤を併用する事が好ましく、光カチオン重合開始剤としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウムなどのオニウム塩が好ましくあげられる。これらの具体例としては特開平１１−２０９７１７号、同６−１５７８１９号等に記載の化合物が上げられる。
【００４１】
光重合開始剤は、多官能モノマー１００重量部に対して、０．１乃至１５重量部の範囲で使用することが好ましく、１乃至１０重量部の範囲で使用することがさらに好ましい。
光重合反応は、活性エネルギー線硬化層の塗布および乾燥後、紫外線照射により実施することが好ましい。
【００４２】
本発明のハードコートフイルムの作製は、ポリマーフイルム上に活性エネルギー線硬化塗料をディッピング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、グラビア法、ワイヤーバー法等の公知の薄膜形成方法で形成、乾燥、活性エネルギー線照射して作製することが出来る。
【００４３】
本発明では、これらの作製したハードコート層の上に、低屈折率層と高屈折率層とからなる耐擦傷性に優れた反射防止層を設けることにより、高表面硬度の反射防止ハードコート層とすることができる。
【００４４】
本発明における低屈折率層および高屈折率層は活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂を主体とする層、および高屈折率層は活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂と金属酸化物微粒子からなる層であることが好ましい。活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂としては、同一分子内に２個以上のアクリル基を有する硬化性樹脂が好ましい。具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、１，６−へキサンジオールジアクリレート、ビスフェノール−Ａジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ポリイソシアネート硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られる多官能のウレタンアクリレートやポリエポキシ硬化性樹脂とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート（メタアクリレート）の反応によって得られる多官能のエポキシアクリレート等を挙げることができる。
【００４５】
金属酸化物微粒子としては、平均粒子サイズが１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などの屈折率が１．６より大きいものが挙げられる。屈折率が大きい二酸化チタンが添加量が少なくでき好ましい。
【００４６】
無機微粒子と有機成分との親和性を増すため、無機微粒子表面を有機セグメントを含む表面修飾剤で処理することが好ましく、表面修飾剤は、無機微粒子と結合を形成するか無機微粒子に吸着しうる官能基と、他方で活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂と高い親和性を有するものが好ましい。
無機微粒子に結合もしくは吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド硬化性樹脂や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。さらに有機成分との親和性の高い官能基としては単に有機成分と親疎水性を合わせただけのものでもよいが、有機成分と化学的に結合しうる官能基が好ましく、特にエチレン性不飽和基が好ましい。
本発明において好ましい金属酸化物微粒子の表面修飾剤は、金属アルコキシドもしくはアニオン性基とエチレン性不飽和基を同一分子内に有する硬化性樹脂やカルボン酸等のアニオン性基を有するアクリル酸共重合ポリマー等である。
【００４７】
これら表面修飾剤の代表例として以下の不飽和二重結合含有のカップリング剤や、リン酸基含有有機硬化性樹脂、硫酸基含有有機硬化性樹脂、カルボン酸基含有有機硬化性樹脂等が挙げられる。
Ｓ−１　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＴｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
Ｓ−４　　（Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０Ｏ）２ＰＯＯＨ
Ｓ−５　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＳＯ３Ｈ
Ｓ−６　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯ（Ｃ５Ｈ１０ＣＯＯ）２Ｈ
Ｓ−７　　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
（Ｘ＝Ｈ、あるいはＣＨ３を表す）
【００４８】
これらの無機微粒子の表面修飾は、溶液中でなされることが好ましい。無機微粒子を機械的に微細分散する時に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、または無機微粒子を微細分散したあとに表面修飾剤を添加して攪拌するか、さらには無機微粒子を微細分散する前に表面修飾を行って（必要により、加温、乾燥した後に加熱、またはｐＨ変更を行う）、そのあとで微細分散を行う方法でも良い。
表面修飾剤を溶解する溶液としては、極性の大きな有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶剤が挙げられる。
【００４９】
本発明において高屈折率層の硬化には、活性エネルギー線として、放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線などが用いられる。その中でも紫外線を用いてラジカルを発生させる重合開始剤を添加し、紫外線により硬化させる方法が特に好ましい。
【００５０】
紫外線によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン等の公知のラジカル発生剤が使用できる。また上記で挙げたように通常、光酸発生剤として用いられるスルホニウム塩やヨードニウム塩なども紫外線照射によりラジカル発生剤として作用するため、本発明ではこれらを単独で用いてもよい。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントン誘導体等が含まれる。
【００５１】
重合開始剤は、単独でも複数開始剤を組み合わせて用いてもよい。重合開始剤の添加量としては、硬化性組成物中に含まれるエチレン性不飽和基含有硬化性樹脂と開環重合性基含有硬化性樹脂の総質量に対し、０．１乃至１５質量％の範囲で使用することが好ましく、１乃至１０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。
【００５２】
これらの活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂と金属酸化物微粒子からなる高屈折率層の屈折率は１．６以上、更に１．６５以上が好ましく、低屈折率層の屈折率よりも０．２以上大きいことが好ましい。
【００５３】
低屈折率層には高屈折率層に使用する活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂と同様の硬化性樹脂を使用することができる。使用する樹脂の硬化後の屈折率は、１．６以下が好ましく、金属酸化物微粒子としては屈折率の小さな二酸化ケイ素が好ましい。
低屈折率層の屈折率は１．４５以上１．６以下であることが好ましく、更には１．５５以下であることが好ましい。
【００５４】
これらの高屈折率層と低屈折率層は、それぞれ５０〜１００ｎｍの範囲で塗布され、反射防止の効果を大きくするために光学距離（屈折率×厚み）を観測波長の４分の１にすることが好ましい。
本発明において高屈折率層と低屈折率層は、ハードコート層上に上記活性エネルギー線硬化性の塗布液を、高屈折率層、低屈折率層の順にスピナー法、グラビア法、ワイヤーバー法等の公知の薄膜形成方法で塗布し、乾燥、活性エネルギー線照射して、硬化させることにより作製することができる。
【００５５】
上記反射防止層の反射率（正反射率）は、３．０％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがさらに好ましい。
【００５６】
［表示装置］
本発明に用いられる表示装置は液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、ＣＲＴ、ＰＤＰ、ＦＥＤいずれの表示装置にも適用できるが、液晶表示装置に適用することが好ましい。
液晶表示装置のモードは特に限定されないが、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ　ｎｅｍａｔｉｃ　）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｎｇｍｅｎｔ）型、　ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ　Ａｌｉｇｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、　または、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ　Ｈｏｓｔ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｎｔｒｏｌｅｄ　Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ　Ｐｌａｉｎ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型であることが好ましい。また、反射型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、又は透過型液晶表示装置のいずれであってもよい。
【００５７】
【実施例】
以下に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５８】
［実施例１］
（可動基板の作製）
λ／４板は特開２００１−９１７４３号に記載の一枚のセルロースエステルからなるものを用いた。このλ／４板の厚みは１１３μｍであり、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２５．２ｎｍ、１３７．８ｎｍおよび１４１．１ｎｍであった。
このλ／４板上にロールコーターにて厚さ３μｍのハードコート層を塗布した後、巻取り式スパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１５ｎｍの厚さで形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３５０Ω／□であった。
一方、ＰＶＡフィルムをヨウ素１．０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム６０．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて３０秒浸漬し、さらにホウ酸４０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて１２０秒浸漬後、延伸し偏光素子を作製した。偏光素子の両側にポリビールアルコール系接着剤（クラレ社製、ポバール）を塗工し、一方に上記のλ／４板の透明導電膜を付与していない面を、もう一方の側にあらかじめ反射防止層を付与したセルローストリアセテートフィルム（保護フィルム）（富士写真フイルム社製、タックスフイルムＴＤ８０）の反射防止層のない面を貼り合わせた。なお、このときの偏光素子の吸収軸とλ／４板の遅層軸は実質的に４５°であった。さらに８０℃で乾燥して、円偏光板としての機能を有し、透明導電膜が形成されているタッチパネル用可動基板を得た。
【００５９】
また、上記反射防止層及びハードコート層については以下の手順にて作製した。
（反射防止層の形成）
（１）高屈折率層塗布液の調製
二酸化チタン微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、石原産業（株）製）３０．０質量部、カルボン酸基含有モノマー（アロニクスＭ−５３００東亞合成（株）製）４．５質量部およびシクロヘキサノン６５．５質量部を、サンドグラインダーミルにより分散し、質量平均径５５ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。前記二酸化チタン分散物にジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）と、光ラジカル重合開始剤（イルガキュア１８４、チバガイギー社製、モノマーの合計量（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アニオン性モノマーおよびカチオン性モノマーの合計量に対し５％）とを混合し、高屈折率層の屈折率が１．８５になるように調整した。
【００６０】
（２）低屈折率層塗布液の調製
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ、日本化薬（株）製）６０質量部、光ラジカル重合開始剤（イルガキュア１８４、チバガイギー社製）２質量部、メガファック５３１Ａ（Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、大日本インキ化学工業（株）製）９質量ｇ、およびメチルエチルケトンを混合、攪拌して、低屈折率層の塗布液を調製した。
屈折率の調整は、二酸化ケイ素微粒子（アエロジル２００、日本アエロジル（株）製）３０．０質量部、カルボン酸基含有モノマー（アロニクスＭ−５３００東亞合成（株）製）４．５質量部およびシクロヘキサノン６５．５質量部を、サンドグラインダーミルにより分散調整した、質量平均径１２ｎｍの二酸化ケイ素微粒子分散液を添加して行った。
【００６１】
（３）反射防止層付きセルローストリアセテートフィルムの作製
上記のセルローストリアセテートフィルム上に、高屈折率層塗布液を、ワイヤーバーを用いて乾燥膜厚が７５ｎｍになるように塗布、乾燥、紫外線照射し、さらに、高屈折率層の上に、上記低屈折率層塗布液を乾燥膜厚が９０ｎｍになるように塗布、乾燥、紫外線照射し反射防止層を形成した反射防止層付きセルローストリアセテートフィルムを得た。
【００６２】
（ハードコート層形成）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６重量部を、１６重量部のメチルエチルケトンと２２０重量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５重量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、４５０重量部の　ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ２　ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）を添加し、撹拌して混合物を得、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過してハードコート層用塗布液を調製した。
上記λ／４板をグロー放電処理した後、上記のハードコート層塗布液を３μｍの厚みになるように塗布・乾燥させ、紫外線照射しハードコート層付きλ／４板を作製した。
【００６３】
（固定基板の作製）
固定基板には厚さ８０μｍの一枚のセルロースエステルからなるポリマーフィルム（富士写真フイルム社製　フジタックＴＤ８０）を用いた。このポリマーフィルムをエリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２ｎｍ、８ｎｍおよび７ｎｍであった。
このポリマーフィルムにロールコーターにて厚さ３μｍの上記のハードコート層を塗布した後、巻取り式スパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１６ｎｍの厚さで形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３６０Ω／□であった。
【００６４】
（タッチパネルの作製）
上記可動基板にスクリーン印刷にて、レジスト（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ、厚み約１２μｍ）および銀電極（アサヒ化学製、ＬＳ−４１５Ｃ−Ｍ、厚み約１０μｍ）を印刷した。また、上記固定基板にスクリーン印刷にてドットスペーサー（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ−ＤＳ、厚み約８μｍ）、レジスト、銀電極を印刷した。
可動基板と固定基板を透明導電膜同士が対向するように粘着剤を介して接着し、同時に０．１ｇのフレキシブル電極（日本黒鉛製）を取り付け、６４ｍｍ×８４ｍｍサイズのタッチパネルを作製した。得られたタッチパネルの重量は３．３ｇであり、厚みは０．６ｍｍであった。また、５００ｇ、直径ｄ＝５０ｍｍの剛球をタッチパネルの上に落下させる試験において、１００ｍｍの高さからの落球で破損せず、耐衝撃性があった。
【００６５】
（タッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用したタッチパネル付き反射型液晶表示装置（ＭＩ−Ｅ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部および、λ／４板と偏光板を取り外し、上記タッチパネルを液晶セル上に粘着層を介して実装し、インナータイプタッチパネル付き液晶表示装置を作製し、測定機（ＣＭ−２００２、ミノルタ（株）製）を用いて、コントラスト（白表示反射率／黒表示反射率）を測定した。
得られた液晶表示装置は、表面反射光が少なく、コントラストが６．５と高く視認性がよく、良好に動作した。
【００６６】
［実施例２］
（可動基板の作製）
λ／４板はポリカーボネート誘導体（帝人（株）製ＷＲＦ−５）を用いた。このλ／４板の厚みは１００μｍであり、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２０．２ｎｍ、１５１．０ｎｍおよび１５５．１ｎｍであった。
このλ／４板上にロールコーターにて厚さ３μｍのハードコート層を塗布した後、巻取り式スパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１６ｎｍの厚さで形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３４０Ω／□であった。
ＰＶＡフィルムをヨウ素１．０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム６０．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて３０秒浸漬し、さらにホウ酸４０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて１２０秒浸漬後、延伸し偏光素子を作製した。
偏光素子の両側にポリビールアルコール系接着剤（クラレ社製、ポバール）を塗工し、一方に上記のλ／４板の透明導電膜を付与していない面を、もう一方の側にあらかじめ実施例１に記載の反射防止層を付与したセルローストリアセテートフィルム（保護フィルム）（富士写真フイルム社製、フジタックＴＤ８０）の反射防止層のない面を貼り合わせた。なお、このときの偏光素子の吸収軸とλ／４板の遅層軸は実質的に４５°であった。さらに８０℃で乾燥して、円偏光板としての機能を有し、透明導電膜が形成されているタッチパネル用可動基板を得た。
【００６７】
（固定基板の作製）
固定基板には厚み１００μｍのポリカーボネート誘導体（帝人（株）製　ＷＲＦ）からなるポリマーフィルムを用いた。この、ポリマーフィルムをエリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、０．３ｎｍ、０．４ｎｍおよび０．４ｎｍであった。
このポリマーフィルムにロールコーターにて厚さ３μｍの実施例１記載のハードコート層を塗布した後、巻取り式スパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１６ｎｍの厚さで形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３６０Ω／□であった。
【００６８】
（タッチパネルの作製）
上記可動基板にスクリーン印刷にて、レジスト（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ、厚み約１２μｍ）および銀電極（アサヒ化学製、ＬＳ−４１５Ｃ−Ｍ、厚み約１０μｍ）を印刷した。また、上記固定基板にスクリーン印刷にてドットスペーサー（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ−ＤＳ、厚み約８μｍ）、レジスト、銀電極を印刷した。
可動基板と固定基板を透明導電膜同士が対向するように粘着剤を介して接着し、同時に０．１ｇのフレキシブル電極（日本黒鉛製）を取り付け、６４ｍｍ×８４ｍｍサイズのタッチパネルを作製した。得られたタッチパネルの重量は３．４ｇであり、厚みは０．６ｍｍであった。また、５００ｇ、ｄ＝５０ｍｍの剛球をタッチパネルの上に落下させる試験において、１００ｍｍの高さからの落球で破損せず、耐衝撃性があった。
【００６９】
（タッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用したタッチパネル付き反射型液晶表示装置（ＭＩ−Ｅ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部および、λ／４板と偏光板を取り外し、上記タッチパネルを液晶セル上に粘着層を介して実装し、インナータイプタッチパネル付き液晶表示装置を作製し、測定機（ＣＭ−２００２、ミノルタ（株）製）を用いて、コントラスト（白表示反射率／黒表示反射率）を測定した。
得られた液晶表示装置は、表面反射光が少なく、コントラストが６．６と高く視認性のよいものであり良好に動作した。
【００７０】
［比較例１］
（固定基板の作製）
光学的に等方的である厚み０．７ｍｍのガラス基板（セントラル硝子社製、品番ＦＬ０．７）上にスパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１６ｎｍ形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３６０Ω／□であった。このようにしてタッチパネル用の固定基板を得た。
（タッチパネルの作製）
可動基板には実施例１で作製したものを用いた。可動基板にそれぞれスクリーン印刷にて、レジスト（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ、厚み約１２μｍ）および銀電極（アサヒ化学製、ＬＳ−４１５Ｃ−Ｍ、厚み約１０μｍ）を印刷した。また、上記固定基板にスクリーン印刷にてドットスペーサー（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ−ＤＳ、厚み約８μｍ）、レジスト、銀電極を印刷した。
可動基板と固定基板を透明導電膜同士が対向するように粘着剤を介して接着し、同時に０．１ｇのフレキシブル電極（日本黒鉛製）を取り付け、６４ｍｍ×８４ｍｍサイズのタッチパネルを作製した。得られたタッチパネルの重量は１１．１ｇであり、厚みは１．０ｍｍであり、実施例１、２と比較して厚くて、重いものであった。また、５００ｇ、ｄ＝５０ｍｍの剛球をタッチパネルの上に落下させる試験において、１００ｍｍの高さからの落球で、ガラス部が破損し、耐衝撃性がなかった。
【００７１】
（タッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用したタッチパネル付き反射型液晶表示装置（ＭＩ−Ｅ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部、λ／４板、偏光板とを取り外し、得られたタッチパネルを導光板の上に実装し、図２に示すようなインナータイプタッチパネル付き液晶表示装置を作製し、測定機（ＣＭ−２００２、ミノルタ（株）製）を用いて、コントラスト（白表示反射率／黒表示反射率）を測定した。
得られた液晶表示装置は、表面反射光が少なく、コントラストが６．４と高く視認性は実施例１、２と同等のもので良好に動作した。
【００７２】
（比較例２）
（固定基板の作製）
固定基板には厚み１００μｍの一枚のセルロースエステルからなるポリマーフィルムを１２０℃で一軸延伸したものを用いた。この、ポリマーフィルムをエリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、２５．０ｎｍであった。
このポリマーフィルムにロールコーターにて厚さ３μｍの実施例１記載のハードコート層を塗布した後、巻取り式スパッタ装置にてＩｎ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる透明導電膜を１６ｎｍの厚さで形成した。この透明導電膜の表面抵抗を４端子法にて測定した結果、３６３Ω／□であった。
【００７３】
（タッチパネルの作製）
可動基板には実施例１で作製したものを用いた。可動基板にそれぞれスクリーン印刷にて、レジスト（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ、厚み約１２μｍ）および銀電極（アサヒ化学製、ＬＳ−４１５Ｃ−Ｍ、厚み約１０μｍ）を印刷した。また、上記固定基板にスクリーン印刷にてドットスペーサー（アサヒ化学製、ＵＶＦ−１０Ｔ−ＤＳ、厚み約８μｍ）、レジスト、銀電極を印刷した。
可動基板と固定基板を透明導電膜同士が対向するように粘着剤を介して接着し、同時に０．１ｇのフレキシブル電極（日本黒鉛製）を取り付け、６４ｍｍ×８４ｍｍサイズのタッチパネルを作製した。得られたタッチパネルの重量は３．３ｇであり、厚みは０．６ｍｍであった。また、５００ｇ、ｄ＝５０ｍｍの剛球をタッチパネルの上に落下させる試験において、１００ｍｍの高さからの落球で破損せず、耐衝撃性があった。
【００７４】
（タッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用したタッチパネル付き反射型液晶表示装置（ＭＩ−Ｅ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部および、λ／４板と偏光板を取り外し、上記タッチパネルを液晶セル上に粘着層を介して実装し、インナータイプタッチパネル付き液晶表示装置を作製し、測定機（ＣＭ−２００２、ミノルタ（株）製）を用いて、コントラスト（白表示反射率／黒表示反射率）を測定した。　得られた液晶表示装置は、良好に動作し、表面反射光は少ないものの、固定基板のレターデーション値が２５ｎｍと実施例と比較して大きいため、コントラストが４．４と低く、視認性の悪いものであった。
【００７５】
実施例と比較例で作製したタッチパネルの特性について表１に示す。これより、本発明のタッチパネルおよびタッチパネル付き液晶表示装置は、軽くて、薄く、視認性の高いタッチパネルおよび液晶表示装置が作製できる。
【００７６】
【表１】
2004038561.tif 000002
【００７７】
【発明の効果】
本発明は、インナー型のタッチパネルにおいて、軽くて、薄く、耐衝撃性に優れ、かつ視認性に優れた携帯情報端末に適したタッチパネルを提供するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のタッチパネルを備えた反射型液晶表示装置の一実施形態を示す断面図である。
【図２】従来のタッチパネルを備えた反射型液晶表示装置の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１　保護フィルム
２　偏光素子
３　λ／４板
４　透明導電膜
５　粘着剤
６　ドットスペーサー
７　ポリマーフィルム基板
８　液晶セル
９　ガラス基板
１０　可動基板
１１　固定基板
１２　タッチパネル
１３　液晶表示装置
【図１】
2004038561.tif 000003
【図２】
2004038561.tif 000004