(57)【要約】【課題】近視野光ヘッドにおいて、光学的な開口や突起とエアベアリング表面の高さを制御できる製造方法と製造装置の提供。【解決手段】基板１０１と基板上に形成された突起１０８とを遮光膜１０２で覆い、遮光膜１０２を、突起１０８の高さと遮光膜１０２の厚みを合わせた厚みよりも厚いエアベアリング母材膜１０３で覆う。エアベアリング母材膜１０３のエッチングをおこなうことで、突起１０８を覆う部分の遮光膜１０２が露出する。遮光膜１０２の露出を検出した後、直ちにエッチングを停止させる。遮光膜１０２の露出の検出は、例えば電気的におこなうことができるため、開口１０６とエアベアリング表面の高度差を高精度で制御することができる。【選択図】　　図１
2004071133.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面に突起を有する基板の前記突起を有する面に前記突起を覆うエアベアリング母材膜を形成し、
前記エアベアリング母材膜をエッチングし、
前記突起の露出を検出し、
前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、
前記エアベアリング母材膜を加工する近視野光ヘッドの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の近視野光ヘッドの製造方法であって、
前記エアベアリング母材膜の前記エッチングを停止させた後、前記エアベアリング母材膜の加工の前に、別途前記エアベアリング母材膜の追加エッチングを少なくとも一回以上おこなうことを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法。
【請求項３】
一方の面に突起を有する透明基板の前記突起を有する面に遮光膜を形成し、
前記遮光膜上に前記突起上の前記遮光膜を覆うエアベアリング母材膜を形成し、
前記エアベアリング母材膜をエッチングし、
前記遮光膜の露出を検出し、
前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、
前記遮光膜を加工し、
前記突起の頂点を露出して光学的な開口を形成する近視野光ヘッドの製造方法。
【請求項４】
請求項３記載の近視野光ヘッドの製造方法であって、
前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、別途前記エアベアリング母材膜の追加エッチングをし、前記エアベアリング母材膜をエッチングマスクとして前記遮光膜を別途エッチングし、前記突起の頂点を露出して前記光学的な開口を形成することを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法。
【請求項５】
請求項３記載の近視野光ヘッドの製造方法であって、
前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、前記エアベアリング母材膜を加工し、略平板を用いて前記突起上の前記遮光膜と前記エアベアリング母材膜の一部を覆い、前記エアベアリング母材膜をストッパーとして前記略平板の少なくとも一部を変形させて前記突起上の前記遮光膜の頂点に接触させ、前記突起の頂点を露出して前記光学的な開口を形成することを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法。
【請求項６】
請求項３記載の近視野光ヘッドの製造方法であって、
前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、別途前記エアベアリング母材膜の追加エッチングをし、略平板を用いて前記突起上の前記遮光膜と前記エアベアリング母材膜の一部を覆い、前記エアベアリング母材膜をストッパーとして前記略平板の少なくとも一部を変形させ前記突起上の前記遮光膜の頂点に接触させ、前記突起の頂点を露出して前記光学的な開口を形成することを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法。
【請求項７】
基板と、前記基板の一方の面に突起と、前記突起の頂点近傍の光学的な開口以外の前記突起と前記基板を覆う導電性の遮光膜と、エアベアリングとを有する近視野光ヘッドの製造装置であって、
前記エアベアリングの母材であり前記遮光膜を覆うエアベアリング母材膜をエッチングするエッチャントと、
前記エッチャントを溜める容器と、
前記エッチャント中に固定された電極と、
前記電極と前記遮光膜の間の電気抵抗を測定する抵抗計を有する近視野光ヘッドの製造装置。
【請求項８】
基板と、前記基板の一方の面に突起と、前記突起の頂点近傍の光学的な開口以外の前記突起と前記基板を覆う導電性の遮光膜と、エアベアリングとを有する近視野光ヘッドの製造装置であって、
前記エアベアリングの母材であり前記遮光膜を覆うエアベアリング母材膜をエッチングするエッチャントと、
前記エッチャントを溜める容器と、
前記エッチャント中に固定された電極と、
前記電極と前記遮光膜の間のインピーダンスを測定するインピーダンス計を有する近視野光ヘッドの製造装置。
【請求項９】
請求項８記載の近視野光ヘッドの製造装置であって、
前記インピーダンス計で測定されたインピーダンスに基づいて、前記エッチングを停止させる機構を持つことを特徴とする近視野光ヘッドの製造装置。
【請求項１０】
基板と、前記基板の一方の面に突起と、前記突起の頂点近傍の光学的な開口以外の前記突起と前記基板を覆う遮光膜と、エアベアリングとを有する近視野光ヘッドの製造装置であって、
前記エアベアリングの母材であり前記遮光膜を覆うエアベアリング母材膜をエッチングするエッチャントと、
前記エッチャントを溜める容器と、
前記エアベアリング母材膜を照射するためのレーザ光源と、
前記レーザ光源に由来する散乱光を検出する光検出器を有する近視野光ヘッドの製造装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の近視野光ヘッドの製造装置であって、
前記光検出器で検出された前記散乱光に基づいて、前記エッチングを停止させる機構を持つことを特徴とする近視野光ヘッドの製造装置。
【請求項１２】
請求項７から１１のいずれかに記載の近視野光ヘッドの製造装置であって、
前記基板と前記突起と前記遮光膜と前記エアベアリング母材膜からなる加工対象物を前記エッチャント中に固定し、前記加工対象物の加工対象面以外の面からのエッチングを防ぐカバーを有する近視野光ヘッドの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、近視野光ヘッドおよびその製造方法、製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近視野光素子は、情報記録再生装置の近視野光ヘッドや、サンプルなどの光学的な観察を行うプローブとして現在利用あるいは検討が始められている。
【０００３】
光を用いた情報記録再生装置は、大容量化・小型化の方向へと進化しており、そのため記録容量の高密度化が要求されている。その対策として、青紫色半導体レーザを用いた研究がおこなわれているが、これらの技術では光の回折限界の問題により、現在の記録密度の数倍程度の向上しか望めない。これに対し、光の回折限界を超えた微小領域の光学情報を扱う技術として、近視野光を利用した情報記録再生方法が期待されている。
【０００４】
この技術では、近視野光素子である近視野光ヘッドに形成した光の波長以下サイズの光学的開口近傍に発生する近視野光を利用する。光学情報の再生方法としては、微小開口より生成される近視野光を記録媒体表面に照射し、情報が記録された微小な凹凸や屈折率等の光学定数が変化した記録媒体表面との相互作用により変換される散乱光を、別途設けた受光素子で検出する（イルミネーションモード）方法が可能である。また、記録媒体に局在する近視野光を利用することもできる。光学情報の再生方法としては、記録媒体表面に光を照射することにより、記録媒体上の微小マークに局在する近視野光を微小開口や微小突起との相互作用により散乱光に変換する（コレクションモード）方法が可能である。これにより、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における光学情報を扱うことが可能となる。あるいは記録は、微小開口より生成される近視野光を記録媒体表面に照射させ、メディア上の微小な領域の形状を変化させたり（ヒートモード記録）、微小な領域の屈折率あるいは透過率を変化させる（フォトンモード記録）ことにより行う。これら、光の回折限界を超えた光学的微小開口や微小突起を有する近視野光ヘッドを用いることにより、従来の情報記録再生装置を超える高密度化が達成される。
【０００５】
一般に近視野光を利用した記録再生装置の構成は、磁気ディスク装置とほぼ同様であり、磁気ヘッドに代わり、近視野光ヘッドを用いる。サスペンションアームの先端に取り付けた光学的微小開口や微小突起をもつ近視野光ヘッドを、エアベアリングを用いたフライングヘッド技術により一定の高さに浮上させ、ディスク上に存在する任意のデータマークへアクセスする。高速に回転するディスクに近視野光ヘッドを追従させるため、ディスクのうねりに対応して姿勢を安定させるフレクシャー機能をもたせている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
一般に、近視野光を利用した記録再生装置では、その光分解能は近接距離に大きく依存する。そのため、このような装置の近視野光ヘッドは、光学的微小開口や微小突起がエアベアリング表面とほぼ同じ高さに形成されており、近視野光ヘッドの浮上量程度まで光学的微小開口や微小突起をメディアに近接させて、高い光分解能を得ている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００７】
図８は、従来法により作製された上記の光学的微小開口をもつ近視野光ヘッドの断面を示している。基板８０１に、突起８０３とエアベアリング８０２を形成し、その上に遮光膜８０４が形成されている。突起８０３の先端は遮光膜８０４から露出して、光学的微小開口８０５を形成している。基板８０１には、石英ガラスやダイヤモンドなどの可視光領域において透過率の高い誘電体や、ジンクセレンやシリコンなどの赤外光領域において透過率の高い誘電体や、フッ化マグネシウムやフッ化カルシウムなどの紫外光領域において透過率の高い材料を用いる。遮光膜８０４は、たとえば、アルミニウム、クロム、金、白金、銀、銅、チタン、タングステン、ニッケル、コバルトなどの金属や、それらの合金を用いる。遮光膜８０４の厚さは、遮光膜８０４の材質によって異なるが、数１０ｎｍから数１００ｎｍである。突起８０３とエアベアリング８０２は、基板８０１をエッチングすることで、一括して形成することができる。遮光膜はスパッタリング法や真空蒸着法などを用いて、成膜することができる。光学的微小開口８０５の形成において、遮光膜８０４の突起部頂点を部分的に除去する方法として、収束イオンビーム（ＦＩＢ）を用いる方法（例えば、特許文献２参照。）や、遮光膜８０４の突起部頂点に硬い平板を押しつけることによって遮光膜８０４を塑性変形させる方法（例えば、特許文献３参照。）を用いることができる。
【０００８】
微小突起を用いる近視野光ヘッドにおいても、遮光膜や開口を形成しない点を除いて、上記方法とほぼ同様な方法によって作製されていた。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００１−３４９８１号公報（第４頁、第１図）
【００１０】
【特許文献２】
特開平１１−２６５５２０号公報（第６−７頁、第１０図）
【００１１】
【特許文献３】
特公平５−２１２０１号公報（第３−４頁、第５図）
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記のような近視野光ヘッド作製法は、突起とエアベアリングを一括してエッチングにより作製するため、一見、効率の良い作製法に見えるが、突起とエアベアリングの形成時のエッチングレートが、突起部分とエアベアリング部分において異なるため、突起とエアベアリングを同時に、かつ突起先端とエアベアリング表面をほぼ同一平面上に加工するのは困難である。突起はエアベアリングに比べて、その立体的な形状のために、エッチングレートが大きく、エアベアリングが所定の高さになったとき突起の高さはエアベアリングよりも低くなり、近視野光ヘッドとしてこれを用いた場合、開口や突起とメディアを十分に近接することができず、光解像度が悪くなる問題があった。
【００１３】
また、従来法での突起とエアベアリングの形成する際のエッチングでは、エッチング中のエッチング量のセンシングをおこなっておらず、ただ時間制御によってのみエッチング量の制御をおこなっており、エッチング量の測定はエッチングを一旦停止させてからおこなっていた。しかし、時間制御によるエッチング量の制御は、エッチャントの濃度分布や濃度変化などのために、精確におこなうのは困難であり、また、エッチングを中断させてのエッチング量測定を繰り返すことによって工程が増えるため、高品質な近視野光ヘッドを大量生産するのには不向きであった。
【００１４】
また、開口形成においても、従来法のＦＩＢを用いた方法や、平板を押しつける方法では、効率が悪く、高品質な近視野光ヘッドを大量生産するのには必ずしも有効な方法とは言えなかった。
【００１５】
この発明は、近視野光ヘッドとその製造方法を改良することによって、上述のような問題点を取り除くことを課題とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の第１の態様は、一方の面に突起を有する基板の前記突起を有する面に前記突起を覆うエアベアリング母材膜を形成し、前記エアベアリング母材膜をエッチングし、前記突起の露出を検出し、前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、前記エアベアリング母材膜を加工することを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法にある。
【００１７】
本発明の第２の態様は、第１の態様において、前記エアベアリング母材膜の前記エッチングを停止させた後、前記エアベアリング母材膜の加工の前に、別途前記エアベアリング母材膜の追加エッチングを少なくとも一回以上おこなうことを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法にある。
【００１８】
本発明の第３の態様は、一方の面に突起を有する透明基板の前記突起を有する面に遮光膜を形成し、前記遮光膜上に前記突起上の前記遮光膜を覆うエアベアリング母材膜を形成し、前記エアベアリング母材膜をエッチングし、前記遮光膜の露出を検出し、前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、前記遮光膜を加工し、前記突起の頂点を露出して光学的な開口を形成する近視野光ヘッドの製造方法にある。
【００１９】
本発明の第４の態様は、第３の態様において、前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、別途前記エアベアリング母材膜の追加エッチングをし、前記エアベアリング母材膜をエッチングマスクとして前記遮光膜を別途エッチングし、前記突起の頂点を露出して前記光学的な開口を形成することを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法にある。
【００２０】
本発明の第５の態様は、第３の態様において、前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、前記エアベアリング母材膜を加工し、略平板を用いて前記突起上の前記遮光膜と前記エアベアリング母材膜の一部を覆い、前記エアベアリング母材膜をストッパーとして前記略平板の少なくとも一部を変形させて前記突起上の前記遮光膜の頂点に接触させ、前記突起の頂点を露出して前記光学的な開口を形成することを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法にある。
【００２１】
本発明の第６の態様は、第３の態様において、前記エアベアリング母材膜のエッチングを停止し、別途前記エアベアリング母材膜の追加エッチングをし、略平板を用いて前記突起上の前記遮光膜と前記エアベアリング母材膜の一部を覆い、前記エアベアリング母材膜をストッパーとして前記略平板の少なくとも一部を変形させ前記突起上の前記遮光膜の頂点に接触させ、前記突起の頂点を露出して前記光学的な開口を形成することを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法にある。
【００２２】
本発明の第７の態様は、基板と、前記基板の一方の面に突起と、前記突起の頂点近傍の光学的な開口以外の前記突起と前記基板を覆う導電性の遮光膜と、エアベアリングとを有する近視野光ヘッドの製造装置であって、前記エアベアリングの母材であり前記遮光膜を覆うエアベアリング母材膜をエッチングするエッチャントと、前記エッチャントを溜める容器と、前記エッチャント中に固定された電極と、前記電極と前記遮光膜の間の電気抵抗を測定する抵抗計を有する近視野光ヘッドの製造装置にある。
【００２３】
本発明の第８の態様は、基板と、前記基板の一方の面に突起と、前記突起の頂点近傍の光学的な開口以外の前記突起と前記基板を覆う導電性の遮光膜と、エアベアリングとを有する近視野光ヘッドの製造装置であって、前記エアベアリングの母材であり前記遮光膜を覆うエアベアリング母材膜をエッチングするエッチャントと、前記エッチャントを溜める容器と、前記エッチャント中に固定された電極と、前記電極と前記遮光膜の間のインピーダンスを測定するインピーダンス計を有する近視野光ヘッドの製造装置にある。
【００２４】
本発明の第９の態様は、第８の態様において、前記インピーダンス計で測定されたインピーダンスに基づいて、前記エッチングを停止させる機構を持つことを特徴とする近視野光ヘッドの製造装置にある。
【００２５】
本発明の第１０の態様は、基板と、前記基板の一方の面に突起と、前記突起の頂点近傍の光学的な開口以外の前記突起と前記基板を覆う遮光膜と、エアベアリングとを有する近視野光ヘッドの製造装置であって、前記エアベアリングの母材であり前記遮光膜を覆うエアベアリング母材膜をエッチングするエッチャントと、
前記エッチャントを溜める容器と、前記エアベアリング母材膜を照射するためのレーザ光源と、前記レーザ光源に由来する散乱光を検出する光検出器を有する近視野光ヘッドの製造装置にある。
【００２６】
本発明の第１１の態様は、第１０の態様において、前記光検出器で検出された前記散乱光に基づいて、前記エッチングを停止させる機構を持つことを特徴とする近視野光ヘッドの製造装置にある。
【００２７】
本発明の第１２の態様は、第７〜１１のいずれかの態様において、前記基板と前記突起と前記遮光膜と前記エアベアリング母材膜からなる加工対象物を前記エッチャント中に固定し、前記加工対象物の加工対象面以外の面からのエッチングを防ぐカバーを有する近視野光ヘッドの製造装置にある。
【００２８】
かかる本発明では、光学的開口や突起とエアベアリング表面との高度差を従来になく精確かつ容易に制御できるため、品質のそろった近視野光ヘッドを高速かつ低コストに製造することができる。また、エアベアリング母材膜のエッチング中に所定のエッチング量を、近視野光ヘッド製造装置を用いるなど、精確に把握できるため、開口の先端の頂点とエアベアリング表面の高度差を遮光膜の厚み程度とすることが、精確かつ容易にできる。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００３０】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【００３１】
図１（ａ）は光学的に透明な基板１０１の上面に突起１０８を形成した後の図である。基板１０１には、石英ガラスやダイヤモンドなどの可視光領域において透過率の高い誘電体や、ジンクセレンやシリコンなどの赤外光領域において透過率の高い誘電体や、フッ化マグネシウムやフッ化カルシウムなどの紫外光領域において透過率の高い材料を用いる。基板１０１として石英ガラス基板を用いれば、パターニングしたレジストをエッチングマスクとして、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液による石英ガラスの等方性エッチングをおこなうことで、突起１０８を形成することができる。
【００３２】
次に、基板１０１と突起１０８上に遮光膜１０２を堆積させる。遮光膜１０２の厚さは、遮光膜１０２の材質によって異なるが、数１０ｎｍから数１００ｎｍである。遮光膜１０２は導電性を持つ。さらに、遮光膜１０２上にエアベアリング母材膜１０３を堆積させる。エアベアリング母材膜１０３は導電性を持たない。エアベアリング母材膜１０３の厚さは、突起１０８の高さと遮光膜１０２の厚みをあわせた高さよりも、十分に厚くする。その後、エアベアリング母材膜１０３の表面を研磨し、突起１０８に由来するエアベアリング母材膜１０３の凹凸を除去する。エアベアリング母材膜１０３の表面を研磨した後の状態を図１（ｂ）に示す。
【００３３】
次に、エアベアリング母材膜１０３のエッチングをおこなう。エアベアリング母材膜１０３のエッチングを進行させると、図１（ｃ）に示すように遮光膜１０２の突起部が露出し、露出部１０７が形成され、エッチングされたエアベアリング母材膜１０３表面と露出部１０７、つまり遮光膜１０２の頂点が、ほぼ同一平面上に存在することになる。エアベアリング母材膜１０３のエッチングは、露出部１０７の形成の有無を監視しながらおこなう。この工程は本発明において最も重要な工程であり、後述する。
【００３４】
露出部１０７が形成された後、エアベアリング母材膜１０３を加工することで、図１（ｄ）に示すようにエアベアリング１０５を形成する。エアベアリング母材膜１０３の加工には、フォトファブリケーションを用いることができる。パターニングされたレジスト１０４をエッチングマスクとして、遮光膜１０２の機能を損なわないエッチング法を用いてエアベアリング母材膜１０３をエッチングすることで、エアベアリング１０５を形成できる。
【００３５】
レジスト１０４を除去した後、遮光膜１０２の突起部頂点を部分的に除去することにより、図１（ｅ）に示すように、突起１０８の頂点が光学的に露出し、開口１０６が形成され、近視野光ヘッドが完成する。開口１０６の大きさは数ｎｍから、基板１０１と突起１０８を通過する光の波長の回折限界程度の大きさである。遮光膜１０２の突起部頂点を部分的に除去する方法として、収束イオンビーム（ＦＩＢ）を用いる方法や、遮光膜１０２の突起部頂点に硬い平板を押しつけることによって遮光膜１０２を塑性変形させる方法を用いることができる。
【００３６】
ここで、図１（ｃ）における工程について図６を用いて詳述する。先に述べたように、本工程ではエアベアリング母材膜１０３のエッチングをおこなうが、このエッチングには図６に示す近視野光ヘッド製造装置を用いる。エッチング槽６０２中にはエアベアリング母材膜１０３をエッチングするエッチャント６０３が満たされている。エッチャント６０３は導電性を持つ。基板１０１と遮光膜１０２とエアベアリング母材膜１０３からなる加工対象物は、エッチャント６０３中に投入されるが、基板１０１と遮光膜１０２はカバー６０１に覆われているため、エッチャント６０３にはさらされず、エアベアリング母材膜１０３のみがエッチャント６０３にさらされる。また、基板１０１と遮光膜１０２はカバー６０１に覆われており、またカバー６０１は導電性を持たないため、基板１０１と遮光膜１０２はエッチャント６０３と電気的に絶縁された状態である。遮光膜１０２には被覆された配線６０６が取り付けられ、遮光膜１０２と抵抗計６０５が接続されている。エッチャント６０３中の、エアベアリング母材膜１０３に対向する位置に、電極６０４が配置され、被覆された配線６０７により抵抗計６０５に接続されている。基板１０１と遮光膜１０２とエアベアリング母材膜１０３からなる加工対象物がエッチャント６０３中に投入されると、エアベアリング母材膜１０３のエッチングが開始する。ここで、エアベアリング母材膜１０３とカバー６０１は電気を通さないから、抵抗計６０５により測定される抵抗値は絶縁状態を示す。エアベアリング母材膜１０３のエッチングが進行すると、遮光膜１０２の突起部が露出し、露出部１０７が形成される。露出部１０７のために、遮光膜１０２とエッチャント６０３と電極６０４が導通し、抵抗計６０５により測定される抵抗値は導通状態を示す。抵抗計６０５が導通状態を示した直後に、速やかに基板１０１と遮光膜１０２とエアベアリング母材膜１０３からなる加工対象物をエッチャント６０３から引き上げると、図１（ｃ）に示すように、エッチングされたエアベアリング母材膜１０３表面と露出部１０７つまり遮光膜１０２の頂点が、ほぼ同一平面上に存在することになる。
【００３７】
図６に示す近視野光ヘッド製造装置は、図７（ａ）のように加工対象物引き上げ機構を設けることができる。この機構は、カバー６０１に取り付けられた引き上げ棒７０１と、引き上げ棒７０１を引き上げるアクチュエータ７０２と、アクチュエータ７０２を制御するコントローラ７０３からなっている。アクチュエータ７０２とコントローラ７０３は配線７０６により接続されており、コントローラ７０３と抵抗計６０５は配線７０５により接続されている。エアベアリング母材膜１０３のエッチングの進行により露出部１０７が形成されると、遮光膜１０２とエッチャント６０３と電極６０４が導通し、抵抗計６０５により測定される抵抗値は導通状態を示す。導通を検知したコントローラ７０３は、アクチュエータ７０２に引き上げを指令し、基板１０１と遮光膜１０２とエアベアリング母材膜１０３からなる加工対象物をエッチャント６０３から引き上げて、エアベアリング母材膜１０３のエッチングを自動的に停止させる。
【００３８】
また、図６に示す近視野光ヘッド製造装置は、図７（ｂ）のようにエッチャント排出機構を設けることができる。この機構は、エッチング槽６０２の下部に取り付けられた、電磁バルブ７０４と、電磁バルブ７０４を制御するコントローラ７０３からなっている。電磁バルブ７０４とコントローラ７０３は配線７０６により接続されており、コントローラ７０３と抵抗計６０５は配線７０５により接続されている。エアベアリング母材膜１０３のエッチングの進行により露出部１０７が形成されると、遮光膜１０２とエッチャント６０３と電極６０４が導通し、抵抗計６０５により測定される抵抗値は導通状態を示す。導通を検知したコントローラ７０３は、電磁バルブ７０４にバルブを開くよう指令し、エッチャント６０３をエッチング層６０２から排出させ、エアベアリング母材膜１０３のエッチングを自動的に停止させる。
【００３９】
本実施の形態では、遮光膜１０２は導電性があり、露出部１０７が形成されてからエッチャント６０３によるエッチングを停止させるまでの間に少なくとも遮光膜１０２が機能を損なうほど損傷することなく、エアベアリング１０５の加工時にも機能を損なわない必要がある。例えば遮光膜１０２に金を用いた場合、エアベアリング母材膜１０３は二酸化ケイ素とし、エッチャント６０３をフッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液を用いることができる。金の成膜にはスパッタや真空蒸着を用いることができる。エアベアリング母材膜１０３の二酸化ケイ素の成膜には、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）ガスを用いたプラズマＣＶＤ（化学的気相体積）法を用いることができる。エアベアリング１０５の加工には、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液によるウエットエッチングや、フッ化炭素系ガスによる反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を用いることができ、どちらも金を用いた遮光膜１０２を侵すことがない。
【００４０】
以上説明したように、本実施の形態によれば、開口２０１の先端の頂点とエアベアリング１０５表面の高度差を遮光膜１０２の厚み程度とすることができ、また高度差のばらつきは従来法よりも少なくすることができるため、品質のそろった近視野光ヘッドを従来になく高速かつ低コストに製造することができる。
【００４１】
また、図６に示す近視野光ヘッド製造装置に、図７（ａ）に示した加工対象物引き上げ機構や、図７（ｂ）に示したエッチャント排出機構といった自動化機構を設けることにより、さらに高速かつ低コストに製造することができる。
【００４２】
以上説明した実施の形態では、光学的微小開口を用いる近視野光ヘッドについて記述したが、微小突起を用いる近視野光ヘッドにおいても、遮光膜や開口を形成しない点を除いて、上記実施の形態の方法と、ほぼ同様な方法によって製造できる。
【００４３】
（実施の形態２）
図９は本発明の実施の形態２にかかわる、近視野光ヘッドの製造装置を示す図である。
【００４４】
本実施の形態は、実施の形態１とほぼ同様であるが、露出部１０７の検出法が異なる。本実施の形態では、実施の形態１における抵抗計６０５の代わりに、インピーダンス計９０１を用いる。
【００４５】
エッチャント６０３により、エアベアリング母材膜１０３がエッチングされる。当初は、エアベアリング母材膜１０３とカバー６０１が電気を通さないため、遮光膜１０２とエッチャント６０３は絶縁されている。ここで、エアベアリング母材膜１０３は、電極６０４と遮光膜１０２の間に存在するキャパシタンスとなっており、エアベアリング母材膜１０３の膜厚がエッチングにより変化すると、前記キャパシタンスの値が変化するため、インピーダンス計９０１によりエアベアリング母材膜１０３のエッチング量を検出できる。エアベアリング母材膜１０３のエッチングが進行すると、遮光膜１０２の突起部が露出し、露出部１０７が形成される。露出部１０７のために、遮光膜１０２とエッチャント６０３と電極６０４が導通し、インピーダンス計９０１により測定されるインピーダンスは低下し、露出部１０７の形成が検出される。露出部１０７の形成を検出した直後に、速やかに基板１０１と遮光膜１０２とエアベアリング母材膜１０３からなる加工対象物をエッチャント６０３から引き上げると、図１（ｃ）に示すように、エッチングされたエアベアリング母材膜１０３表面と露出部１０７つまり遮光膜１０２の頂点が、ほぼ同一平面上に存在することになる。
【００４６】
本実施の形態においても、実施の形態１の図７（ａ）に示した加工対象物引き上げ機構や、図７（ｂ）に示したエッチャント排出機構といった自動化機構を設けることができるのは言うまでもない。
【００４７】
以上説明したように、本実施の形態によれば、エアベアリング母材膜のエッチング量を検出でき、露出部１０７の検出に近づいていく様子が分かることから、実施の形態１に比べて、より安定的に開口２０１の先端の頂点とエアベアリング１０５表面の高度差を遮光膜１０２の厚み程度とすることができる。また高度差のばらつきを、さらに少なくすることができるため、品質のそろった近視野光ヘッドを従来になく高速かつ低コストに製造することができる。
【００４８】
（実施の形態３）
図１０は本発明の実施の形態３にかかわる、近視野光ヘッドの製造装置を示す図である。
【００４９】
本実施の形態は、実施の形態１とほぼ同様であるが、露出部１０７の検出法が異なる。
【００５０】
レーザ光源１００１は入射光１００２を発生させている。入射光１００２はエアベアリング母材膜１０３表面で反射し、反射光１００３を生じている。ここで、エアベアリング母材膜１０３のエッチングが進行し、露出部１０７が形成されると、露出部１０７に照射された入射光１００２は、反射光１００３だけでなく、露出部１０７のために散乱光１００４を生じる。光検出器１００５がこの散乱光１００４を検出することで、露出部１０７の形成を検出することができる。露出部１０７の形成を検出した直後に、エアベアリング母材膜１０３のエッチングを停止させると、図１（ｃ）に示すように、エッチングされたエアベアリング母材膜１０３表面と露出部１０７つまり遮光膜１０２の頂点が、ほぼ同一平面上に存在することになる。
【００５１】
本実施の形態においても、実施の形態１の図７（ａ）に示した加工対象物引き上げ機構や、図７（ｂ）に示したエッチャント排出機構といった自動化機構を設けることができるのは言うまでもない。
【００５２】
以上説明したように、導電性を持たない遮光膜１０２を用いても、実施の形態１と同様な効果を得ることができる。
【００５３】
（実施の形態４）
図２は本発明の実施の形態４にかかわる、近視野光ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【００５４】
エアベアリング母材膜１０３をエッチングすることで露出部１０７を形成した図２（ａ）に至る工程は、実施の形態１における図１（ｂ）に至る工程と同様である。また、エアベアリング母材膜１０３のエッチングに、図６や図７に示す近視野光ヘッド製造装置を用いることも実施の形態１と同様である。
【００５５】
本実施の形態での遮光膜１０２は、実施の形態１と異なり、エアベアリング母材膜１０３をエッチングするエッチャント６０３によりエッチングされうる材料でできており、そのエッチングレートがエアベアリング母材膜１０３のエッチングレートよりも大きい。そのため、露出部１０７が形成されると同時に、エアベアリング母材膜１０３のエッチングよりも速く、露出部１０７を起点に遮光膜１０２のエッチングが進行する。遮光膜１０２のエッチングが進行すると、図２（ｂ）に示すように突起１０８の頂点が光学的に露出し開口２０１が形成される。
【００５６】
開口２０１が形成された後、エアベアリング母材膜１０３を加工することで、図２（ｃ）に示すようにエアベアリング１０５を形成する。エアベアリング母材膜１０３の加工にはフォトファブリケーションを用いることができる。パターニングされたレジスト１０４をエッチングマスクとして、遮光膜１０２の機能を損なわないエッチング法を用いてエアベアリング母材膜１０３をエッチングすることで、エアベアリング１０５を形成できる。
【００５７】
レジスト１０４を除去すると、図２（ｄ）に示す近視野光ヘッドが完成する。
【００５８】
ここで、図２（ａ）から（ｂ）に至る工程について図６を用いて詳述する。前に述べたように、エアベアリング母材膜１０３のエッチングに図６に示す近視野光ヘッド製造装置を用いる。この装置の構成は実施の形態１で示した通りである。また、図６に示す近視野光ヘッド製造装置において、エアベアリング母材膜１０３のエッチングの進行にともなって図２（ａ）に示した露出部１０７が形成されると、抵抗計６０５が導通状態を示す点も、前述の通りである。
【００５９】
本実施の形態での遮光膜１０２はエッチャント６０３によりエッチングされうる材料でできており、そのエッチングレートがエアベアリング母材膜１０３のエッチャント６０３によるエッチングのエッチングレートよりも大きい。そのため、露出部１０７が形成されると同時に、エアベアリング母材膜１０３のエッチングよりも速く、露出部１０７を起点に遮光膜１０２のエッチングが進行する。遮光膜１０２のエッチングが進行すると、図２（ｂ）に示すように突起１０８の頂点が光学的に露出し開口２０１が形成される。遮光膜１０２のエッチングが進行中も、遮光膜１０２とエッチャント６０３が導通しているため、抵抗計６０５は導通状態を示したままである。遮光膜１０２のエッチャント６０３によるエッチングレートの大小や、遮光膜１０２の厚さによるが、一般的には抵抗計６０５が導通状態を示した数秒から数十秒後に、速やかに基板１０１と遮光膜１０２とエアベアリング母材膜１０３からなる加工対象物をエッチャント６０３から引き上げると、開口２０１の大きさは、数ｎｍから、基板１０１と突起１０８を通過する光の波長の回折限界程度の大きさとなる。
【００６０】
図６に示す近視野光ヘッド製造装置は、実施の形態１と同様に、図７（ａ）のように加工対象物引き上げ機構を設けることができる。この機構の構成と動作は、実施の形態１とほぼ同様であるが、エアベアリング母材膜１０３のエッチングの進行により露出部１０７が形成され抵抗計６０５が導通を検知してから、遮光膜１０２のエッチングが進行し開口２０１が形成される程度の時間、一般的には数秒から数十秒の間、待った後に、アクチュエータ７０２に引き上げを指令する点が異なる。アクチュエータ７０２に引き上げが指令されると、基板１０１と遮光膜１０２とエアベアリング母材膜１０３からなる加工対象物はエッチャント６０３から引き上げられて、エアベアリング母材膜１０３と遮光膜１０２のエッチングを自動的に停止させる。
【００６１】
また、図６に示す近視野光ヘッド製造装置は、実施の形態１と同様に、図７（ｂ）のようにエッチャント排出機構を設けることができる。この機構の構成と動作は、実施の形態１とほぼ同様であるが、エアベアリング母材膜１０３のエッチングの進行により露出部１０７が形成され抵抗計６０５が導通を検知してから、遮光膜１０２のエッチングが進行し開口２０１が形成される程度の時間、一般的には数秒から数十秒の間、待った後に、電磁バルブを開くよう指令する点が異なる。これにより、エッチャント６０３をエッチング層６０２から排出させ、エアベアリング母材膜１０３と遮光膜１０２のエッチングを自動的に停止させる。
【００６２】
本実施の形態では、遮光膜１０２は導電性があり、エッチャント６０３にエッチングされ、エアベアリング１０５の加工時に消滅しない必要がある。例えば遮光膜１０２にアルミニウムを用いた場合、エアベアリング母材膜１０３は二酸化ケイ素とし、エッチャント６０３をフッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液を用いることができる。アルミニウムの成膜にはスパッタや真空蒸着を用いることができる。エアベアリング母材膜１０３の二酸化ケイ素の成膜には、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）ガスを用いたプラズマＣＶＤ（化学的気相体積）法を用いることができる。エアベアリング１０５の加工には、フッ化炭素系ガスによる反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を用いることができ、遮光膜１０２を侵すことがない。
【００６３】
以上説明したように、本実施の形態によれば、実施の形態１で別途必要な工程であった遮光膜１０２の突起部頂点を部分的に除去し開口を形成する工程を、エアベアリング母材膜１０３をエッチングする工程と同時におこなうことができるため、より簡便に近視野光ヘッドを製造することができる。
【００６４】
また、開口２０１の先端とエアベアリング１０５表面の高度差は、遮光膜１０２の厚み程度とすることができ、また高さの差のばらつきは従来法よりも少ない。品質のそろった近視野光ヘッドを従来になく高速かつ低コストに製造することができる。
【００６５】
また、図６に示す近視野光ヘッド製造装置に、図７（ａ）に示した加工対象物引き上げ機構や、図７（ｂ）に示したエッチャント排出機構といった自動化機構を設けることにより、さらに高速かつ低コストに開口形成も一括して自動的に製造することができる。
【００６６】
以上説明した実施の形態では、露出部１０７の発生を電気抵抗の変化として検出しているが、実施の形態２や実施の形態３で述べたように、インピーダンスの変化や散乱光の発生を用いることができる。
【００６７】
（実施の形態５）
図３は本発明の実施の形態５にかかわる近視野光ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【００６８】
エアベアリング母材膜１０３をエッチングすることで露出部１０７を形成した図３（ａ）に至る工程は、実施の形態１における図１（ｃ）に至る工程とほぼ同様であるが、次の点が異なる。
【００６９】
実施の形態１では、エアベアリング母材膜１０３のエッチングの進行にともなって露出部１０７が形成されると、速やかにエアベアリング母材膜１０３のエッチングを停止させていたが、本実施の形態では、露出部１０７の形成後もエアベアリング母材膜１０３のエッチングを継続させる。本実施の形態における遮光膜１０２は、露出部１０７が形成されてからエアベアリング母材膜１０３のエッチングを停止させるまでの間に少なくとも遮光膜１０２が機能を損なうほど損傷することがない材料を用いる。遮光膜１０２が、エアベアリング母材膜１０３のエッチャントによりエッチングされない材料でできている場合、露出部１０７の形成後も、エアベアリング母材膜１０３のエッチングを継続させる。ここでのエアベアリング母材膜１０３のエッチング量は遮光膜１０２の厚みとほぼ等しい。つまり、図３（ａ）に示すように、基板１０１の平面部分上のエアベアリング母材膜１０３の表面３０１が、遮光膜１０２に覆われた突起１０８の頂点と、ほぼ同一平面上に存在する。
【００７０】
ここで、露出部１０７の形成直後に、速やかにエアベアリング母材膜１０３のエッチングを停止させ、エアベアリング母材膜１０３を反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）等で別途エッチングしても同様な効果が得られる。このエッチングにおいても遮光膜１０２を侵さないのは言うまでもない。この手法は、露出部１０７が形成されてからエアベアリング母材膜１０３のエッチングを停止させるまでの間に、ある程度遮光膜１０２が損傷してしまう場合に、遮光膜１０２の損傷を避ける手法として有効である。
【００７１】
その後、エアベアリング母材膜１０３を加工することで、図３（ｂ）に示すようにエアベアリング１０５を形成する。エアベアリング母材膜１０３の加工にはフォトファブリケーションを用いることができる。パターニングされたレジスト１０４をエッチングマスクとして、遮光膜１０２を消滅させないエッチング法を用いてエアベアリング母材膜１０３をエッチングすることで、エアベアリング１０５を形成できる。
【００７２】
レジスト１０４を除去した後、遮光膜１０２の突起部頂点を部分的に除去することにより、図３（ｃ）に示すように、突起１０８が光学的に露出し、開口１０６が形成される。開口１０６の大きさは、数ｎｍから、基板１０１と突起１０８を通過する光の波長の回折限界程度の大きさである。遮光膜１０２の突起部頂点を部分的に除去する方法として、収束イオンビーム（ＦＩＢ）を用いる方法や、遮光膜１０２の突起部頂点に硬い平板を押しつけることによって遮光膜１０２を塑性変形させる方法を用いることができる。
【００７３】
ここで、図３（ａ）に至る工程について図６を用いて詳述する。先に述べたように、エアベアリング母材膜１０３のエッチングに図６に示す近視野光ヘッド製造装置を用いる。この装置の構成は実施の形態１で示した通りである。また、図６に示す近視野光ヘッド製造装置において、エアベアリング母材膜１０３のエッチングの進行にともなって露出部１０７が形成されると、抵抗計６０５が導通状態を示す点も、先述の通りである。
【００７４】
本実施の形態における遮光膜１０２は、露出部１０７が形成されてからエッチャント６０３によるエッチングを停止させるまでの間に少なくとも遮光膜１０２が機能を損なうほど損傷することがない材料を用いる。エッチャント６０３によりエッチングされない材料でできている場合、抵抗計６０５が導通状態を示した後も、エアベアリング母材膜１０３のエッチングを継続させる。ここでのエアベアリング母材膜１０３のエッチング量は遮光膜１０２の厚みとほぼ等しい。つまり、図３（ａ）に示すように基板１０１の平面部分上の遮光膜１０２の表面３０１が、遮光膜１０２に覆われた突起１０８の頂点とほぼ同一平面上に存在する。
【００７５】
ここで、抵抗計６０５が導通状態を示した直後に、速やかに基板１０１と遮光膜１０２とエアベアリング母材膜１０３からなる加工対象物をエッチャント６０３から引き上げ、エアベアリング母材膜１０３を反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）等で別途エッチングしても同様な効果が得られる。このエッチングにおいても遮光膜１０２を侵さないのは言うまでもない。この手法は、エッチャント６０３によるエアベアリング母材膜１０３のエッチングにおいて、露出部１０７が形成されてからエッチャント６０３によるエッチングを停止させるまでの間に、ある程度遮光膜１０２が損傷してしまう場合に、遮光膜１０２の損傷を避ける手法として有効である。
【００７６】
また、図６に示す近視野光ヘッド製造装置には、図７（ａ）に示す加工対象物引き上げ装置や図７（ｂ）に示すエッチャント排出装置を設けることができる。露出部１０７が形成されてからエッチャント６０３によるエッチングを停止させるまでの時間に応じて、それぞれの装置のコントローラ７０３を適宜設定する必要があるのは言うまでもない。
【００７７】
本実施の形態では、遮光膜１０２は導電性があり、露出部１０７が形成されてからエッチャント６０３によるエッチングを停止させるまでの間に少なくとも遮光膜１０２が機能を損なうほど損傷することなく、エアベアリング１０５の加工時にも機能を損なわない必要がある。例えば遮光膜１０２に金を用いた場合、エアベアリング母材膜１０３は二酸化ケイ素とし、エッチャント６０３をフッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液を用いることができる。金の成膜にはスパッタや真空蒸着を用いることができる。エアベアリング母材膜１０３の二酸化ケイ素の成膜には、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）ガスを用いたプラズマＣＶＤ（化学的気相体積）法を用いることができる。エアベアリング１０５の加工には、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合溶液によるウエットエッチングや、フッ化炭素系ガスによる反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を用いることができ、どちらも金を用いた遮光膜１０２を侵すことがない。
【００７８】
以上説明したように、本実施の形態によれば、簡便にエアベアリング１０５の表面と微小開口１０６をほぼ同一平面上に形成することができ、また製品個体間の寸法のばらつきを抑えることができるため、品質のそろった近視野光ヘッドを従来になく高速かつ低コストに製造することができる。
【００７９】
また、図６に示す近視野光ヘッド製造装置に、図７（ａ）に示した加工対象物引き上げ機構や、図７（ｂ）に示したエッチャント排出機構を設けることにより、さらに高速かつ低コストに製造することができる。
【００８０】
以上説明した実施の形態では、露出部１０７の発生を電気抵抗の変化として検出しているが、実施の形態２や実施の形態３で述べたように、インピーダンスの変化や散乱光の発生を用いることができる。
【００８１】
以上説明した実施の形態では、光学的微小開口を用いる近視野光ヘッドについて記述したが、微小突起を用いる近視野光ヘッドにおいても、遮光膜や開口を形成しない点を除いて、上記実施の形態と方法とほぼ同様な方法によって製造できる。
【００８２】
（実施の形態６）
図４、５は本発明の実施の形態６にかかわる近視野光ヘッドの製造方法を示す断面図である。エアベアリング母材膜１０３をエッチングすることで露出部１０７を形成した図４（ａ）に至る工程は、実施の形態５における図３（ａ）に至る工程と同様である。また、エアベアリング母材膜１０３のエッチングに、図６や図７に示す近視野光ヘッド製造装置を用いることも実施の形態５と同様である。
【００８３】
図４（ａ）に示した露出部１０７が形成された後、図４（ｂ）に示すように、エアベアリング母材膜１０３をエッチングマスクとして遮光膜１０２のエッチングをおこなう。エアベアリング母材膜１０３は露出部１０７において遮光膜１０２を被覆していないため、遮光膜１０２突起部頂点のみを選択的にエッチングすることができる。エッチングはウエットエッチングでも、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）等のドライエッチングでも良い。遮光膜１０２のエッチングが進行すると、突起１０８が光学的に露出し開口４０１が形成される。開口４０１の大きさは数ｎｍから、基板１０１と突起１０８を通過する光の波長の回折限界程度の大きさである。
【００８４】
開口４０１が形成された後、エアベアリング母材膜１０３を加工することで、図４（ｃ）に示すようにエアベアリング１０５を形成し、近視野光ヘッドが完成する。エアベアリング母材膜１０３の加工にはフォトファブリケーションを用いることができる。遮光膜１０２の機能を損なわないエアベアリング母材膜１０３のエッチング法を用いる必要がある。
【００８５】
また、図５（ａ）に示すように、遮光膜１０２をエッチングする代わりに、遮光膜１０２の突起部頂点に平板５０２を押しつけて遮光膜１０２を塑性変形させる方法によっても、基板１０１が露出し、図５（ｂ）に示す開口５０１を形成することができる。平板５０２は、遮光膜１０２を塑性変形させるのに十分硬く、かつ弾性を持つ。ここで、エアベアリング母材膜１０３が遮光膜１０２の突起部の周辺に存在するため、硬い平板を押しつけすぎることなく、容易に微小な開口５０１を得ることができる。
【００８６】
以上説明したように、本実施の形態によれば、従来法に比べて容易に微小な開口を形成することができる。
【００８７】
図４に示した開口作製法では、実施の形態２と同様にエッチングによって開口を作製しており、従来法に比べて容易、高速、低コストに微小開口を形成することができる。その上、実施の形態２と異なり、エアベアリング１０５の厚さを自由に選ぶことができ、簡便にエアベアリング１０５の表面と微小開口１０６をほぼ同一平面上に形成することができる。
【００８８】
図５に示した開口作製法では、実施の形態１や５で示した手法と同様に、遮光膜１０２の突起部頂点に平板を押しつけることによって開口を作製しており、従来法に比べて容易、高速、低コストに微小開口を形成することができる。その上、実施の形態１や３と異なり、エアベアリング母材膜１０３が遮光膜１０２の突起部の周辺に存在するため、硬い平板を押しつけすぎることなく、さらに容易に微小開口を得ることができる。
【００８９】
本実施の形態によれば、簡便にエアベアリング１０５の表面と微小開口１０６をほぼ同一平面上に形成することができ、また製品個体間の寸法のばらつきを抑えることができるため、品質のそろった近視野光ヘッドを従来になく高速かつ低コストに製造することができる。
【００９０】
また、図６に示す近視野光ヘッド製造装置に、図７（ａ）に示した加工対象物引き上げ機構や、図７（ｂ）に示したエッチャント排出機構を設けることにより、さらに高速かつ低コストに製造することができる。
【００９１】
以上の実施の形態では、光学的微小開口を用いる近視野光ヘッドについて記述したが、微小突起を用いる近視野光ヘッドにおいても、遮光膜や開口を形成しない点を除いて、上記実施の形態の方法と、ほぼ同様な方法によって製造できる。
【００９２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、光学的開口や突起とエアベアリング表面との高度差を従来になく精確かつ容易に制御できるため、品質のそろった近視野光ヘッドを高速かつ低コストに製造することができる。
【００９３】
また、本発明によれば、エアベアリング母材膜のエッチング中に所定のエッチング量を、近視野光ヘッド製造装置を用いるなど、精確に把握できるため、開口の先端の頂点とエアベアリング表面の高度差を遮光膜の厚み程度とすることが、精確かつ容易にできる。
【００９４】
また、それに加えて、本発明によれば、エアベアリング母材膜のエッチング中にエッチング量の変化を把握できるため、開口の先端の頂点とエアベアリング表面の高度差を遮光膜の厚み程度とすることが、より精確かつ容易にできる。
【００９５】
また、本発明によれば、遮光膜が導電性を有しない場合でも、エアベアリング母材膜のエッチング中に所定のエッチング量を、精確に把握できるため、開口の先端の頂点とエアベアリング表面の高度差を遮光膜の厚み程度とすることが、精確かつ容易にできる。
【００９６】
それに加えて、本発明によれば、エアベアリング母材膜のエッチングを遮光膜の厚み程度追加するため、エアベアリングの表面と微小開口をほぼ同一平面上に形成することが、精確かつ容易にできる。また、本発明によれば、エアベアリング母材膜の追加エッチング量を変化させることができるので、エアベアリングと開口の相対的な高さを選択することができる。
【００９７】
近視野光を利用した記録再生装置では、その光分解能は近接距離に大きく依存するが、本発明での近視野光ヘッドは、上記の特長からヘッドの浮上量程度まで開口や突起をメディアに近接させることができるため、高い光分解能を得ることができる。
【００９８】
また、本発明によれば、遮光膜の突起部頂点を部分的に除去し開口を形成する工程を、エアベアリング母材膜をエッチングする工程と同時におこなうことができるため、より簡便に近視野光ヘッドを製造することができる。
【００９９】
また、本発明によれば、エッチングによって開口を作製しており、従来法に比べて容易、高速、低コストに微小開口を形成することができる。その上、エアベアリングの厚さを自由に選ぶことができ、簡便にエアベアリングの表面と微小開口を、ほぼ同一平面上に形成することができる。
【０１００】
また、本発明によれば、遮光膜の突起部頂点に平板を押しつけることによって開口を作製するとき、エアベアリング母材膜が遮光膜の突起部の周辺に存在するため、硬い平板を押しつけすぎることなく、精確かつ容易に微小開口を得ることができる。
【０１０１】
また、本発明によれば、加工対象物引き上げ機構や、エッチャント排出機構といった自動化機構を設けることにより、さらに高速かつ低コストに製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドの製造法を示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態４にかかわる近視野光ヘッドの製造法を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態５にかかわる近視野光ヘッドの製造法を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態６にかかわる近視野光ヘッドの製造法を示す断面図である。
【図５】本発明の実施の形態６にかかわる近視野光ヘッドの製造法を示す断面図である。
【図６】本発明における近視野光ヘッド製造装置の構成を表した図である。
【図７】本発明における近視野光ヘッド製造装置の構成を表した図である。
【図８】従来の近視野光ヘッドの構成を表した断面図である。
【図９】本発明の実施の形態２にかかわる近視野光ヘッドの製造法を示す図である。
【図１０】本発明の実施の形態３にかかわる近視野光ヘッドの製造法を示す図である。
【符号の説明】
１０１　基板
１０２　遮光膜
１０３　エアベアリング母材膜
１０４　レジスト
１０５　エアベアリング
１０６　開口
１０７　露出部
１０８　突起
２０１　開口
３０１　エアベアリング母材膜１０３の表面
４０１　開口
５０１　開口
５０２　平板
６０１　カバー
６０２　エッチング槽
６０３　エッチャント
６０４　電極
６０５　抵抗計
６０６　配線
６０７　配線
７０１　引き上げ棒
７０２　アクチュエータ
７０３　コントローラ
７０４　電磁弁
７０５　配線
７０６　配線
８０１　基板
８０２　エアベアリング
８０３　突起
８０４　遮光膜
８０５　光学的微小開口
９０１　インピーダンス計
１００１　レーザ光源
１００２　入射光
１００３　反射光
１００４　散乱光
１００５　光検出器
【図１】
2004071133.tif 000003
【図２】
2004071133.tif 000004
【図３】
2004071133.tif 000005
【図４】
2004071133.tif 000006
【図５】
2004071133.tif 000007
【図６】
2004071133.tif 000008
【図７】
2004071133.tif 000009
【図８】
2004071133.tif 000010
【図９】
2004071133.tif 000011
【図１０】
2004071133.tif 000012