(57)【要約】【課題】ワークの給材および除材を、ワークの位置ズレを生じることなく円滑かつ確実に行うことができるワークテーブル、ワーク搬送装置、ワーク受け渡し方法、前記ワークテーブルを備える液滴吐出装置、前記液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、前記液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、前記電気光学装置を備える電子機器を提供すること。【解決手段】基板テーブル３は、載置面３１４を有するテーブル本体３１と、載置面３１４に載置された基板Ｗを負圧により吸着するための溝３１６と、載置面３１４より上側に突出する上昇位置と載置面３１４より下側に退避する下降位置とに昇降可能に設置され、上昇位置にあるときに基板Ｗを載置面３１４から離間した位置で支持する支持部３２と、支持部３２を昇降させる昇降機構３３と、支持部３２に形成され、支持した基板Ｗを負圧により吸着するための孔３２３とを備える。【選択図】図８
2004172318.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークが載置される載置面を有するテーブル本体と、
前記テーブル本体に形成され、前記載置面に載置された前記ワークを負圧により吸着するためのテーブル側吸引部と、
前記載置面より上側に突出する上昇位置と、前記載置面より下側に退避する下降位置とに昇降可能に設置され、前記上昇位置にあるときに前記ワークを前記載置面から離間した位置で支持する支持部と、
前記支持部を昇降させる昇降機構と、
前記支持部に形成され、支持した前記ワークを負圧により吸着するための支持部側吸引部とを備えることを特徴とするワークテーブル。
【請求項２】
前記テーブル本体には、前記載置面に開口する少なくとも４個の孔が形成され、
前記支持部は、昇降に伴って前記各孔から突出／没入する少なくとも４本の柱体を有する請求項１に記載のワークテーブル。
【請求項３】
前記４本の柱体は、平面視で概ね長方形の４つの角部にそれぞれ位置するように配置されている請求項２に記載のワークテーブル。
【請求項４】
前記各柱体に、それぞれ、前記支持部側吸引部が設けられている請求項２または３に記載のワークテーブル。
【請求項５】
前記各柱体は、それぞれ、１つのベースに設置されており、すべての前記柱体は、一体となって同時に昇降する請求項２ないし４のいずれかに記載のワークテーブル。
【請求項６】
前記支持部側吸引部は、前記各柱体の上端に開放する孔で構成されている請求項２ないし５のいずれかに記載のワークテーブル。
【請求項７】
前記テーブル側吸引部は、前記載置面に形成された溝で構成されている請求項２ないし６のいずれかに記載のワークテーブル。
【請求項８】
前記支持部のワークに対する接触部は、樹脂材料または弾性材料で構成されている請求項１ないし７のいずれかに記載のワークテーブル。
【請求項９】
ワークを取り扱うロボットとの間でワークを受け渡しする請求項１ないし８のいずれかに記載のワークテーブル。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載のワークテーブルと、
装置本体と、
前記ワークテーブルを前記装置本体に対し少なくとも水平な一方向に移動させる移動機構とを備えることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項１１】
前記テーブル側吸引部および／または前記支持部側吸引部での吸引力を発生する吸引力発生源を備える請求項１０に記載のワーク搬送装置。
【請求項１２】
前記テーブル側吸引部への吸引経路の圧力を検出する圧力検出手段を備える請求項１０または１１に記載のワーク搬送装置。
【請求項１３】
前記支持部側吸引部への吸引経路の圧力を検出する圧力検出手段を備える請求項１０ないし１２のいずれかに記載のワーク搬送装置。
【請求項１４】
請求項１ないし９のいずれかに記載のワークテーブルと、
前記ワークテーブルに載置されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワークテーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させる移動機構とを備えることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１５】
前記ワークテーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成する請求項１４に記載の液滴吐出装置。
【請求項１６】
ワークを取り扱うロボットが支持するワークを、請求項１ないし９のいずれかに記載のワークテーブルで受け取るワーク受け渡し方法であって、
前記支持部を上昇させた状態で前記ロボットからワークを受け取り、該ワークを前記支持部で支持するとともに、前記支持部側吸引部での吸引により前記ワークを前記支持部に吸着する工程と、
前記支持部を下降させて前記ワークを前記載置面に載置するとともに、前記テーブル側吸引部での吸引により前記ワークを前記載置面に吸着する工程とを備えることを特徴とするワーク受け渡し方法。
【請求項１７】
前記ワークを前記支持部に吸着したとき、前記支持部側吸引部への吸引経路の圧力を検出することにより、吸着の成否を確認し、
前記ワークを前記載置面に吸着したとき、前記テーブル側吸引部への吸引経路の圧力を検出することにより、吸着の成否を確認する請求項１６に記載のワーク受け渡し方法。
【請求項１８】
請求項１ないし９のいずれかに記載のワークテーブルに載置されたワークを、ワークを取り扱うロボットで受け取るワーク受け渡し方法であって、
前記テーブル本体の載置面に載置されたワークを、前記支持部を上昇させることにより前記支持部で支持して持ち上げるとともに、前記支持部側吸引部での吸引により前記ワークを前記支持部に吸着する工程と、
前記支持部側吸引部での吸引を停止するとともに、前記支持部が支持している前記ワークを前記ロボットに受け取らせる工程とを備えることを特徴とするワーク受け渡し方法。
【請求項１９】
前記ワークを前記支持部に吸着したとき、前記支持部側吸引部への吸引経路の圧力を検出することにより、吸着の成否を確認する請求項１８に記載のワーク受け渡し方法。
【請求項２０】
請求項１４または１５に記載の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２１】
請求項１４または１５に記載の液滴吐出装置を用いることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２２】
請求項２０に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ワークテーブル、ワーク搬送装置、液滴吐出装置、ワーク受け渡し方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば液晶表示装置のカラーフィルタなどの平板状の製品の製造に用いる製造装置では、ワークとしての基板を基板テーブル（基板ステージ）上に載置して搬送しつつ、基板に対し所定の処理を行う。基板テーブルに対し、基板は、ロボットにより正確に位置決めして給材および除材される。
【０００３】
従来の基板テーブルには、ロボットによる基板の給材および除材を可能とするため、テーブルの載置面から突出・没入する複数の支持棒が設置されている。そして、ロボットとの基板の受け渡し時には、テーブルの載置面から支持棒を突出させた状態で支持棒により基板を支持し、テーブルの載置面と基板との間に隙間を形成して、この隙間にロボットハンドの挿入・抜去を可能としている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このような従来の基板テーブルでは、支持棒が基板を支持した状態のとき、支持棒の基板に対する接触面積が小さいので、基板が不安定になり、ロボットとの基板の受け渡しの際、基板の位置ズレを生じ易い。その結果、給材の際に基板が所定の位置からずれて位置決めに失敗したり、除材の際に基板をロボットへ円滑に受け渡せなかったりすることがあるという問題がある。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−１２６９９９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ワークの給材および除材を、ワークの位置ズレを生じることなく円滑かつ確実に行うことができるワークテーブル、ワーク搬送装置、ワーク受け渡し方法、前記ワークテーブルを備える液滴吐出装置、前記液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、前記液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、前記電気光学装置を備える電子機器を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のワークテーブルは、ワークが載置される載置面を有するテーブル本体と、
前記テーブル本体に形成され、前記載置面に載置された前記ワークを負圧により吸着するためのテーブル側吸引部と、
前記載置面より上側に突出する上昇位置と、前記載置面より下側に退避する下降位置とに昇降可能に設置され、前記上昇位置にあるときに前記ワークを前記載置面から離間した位置で支持する支持部と、
前記支持部を昇降させる昇降機構と、
前記支持部に形成され、支持した前記ワークを負圧により吸着するための支持部側吸引部とを備えることを特徴とする。
これにより、ワークの給材および除材を、ワークの位置ズレを生じることなく円滑かつ確実に行うことができるワークテーブルを提供することができる。
【０００８】
本発明のワークテーブルでは、前記テーブル本体には、前記載置面に開口する少なくとも４個の孔が形成され、
前記支持部は、昇降に伴って前記各孔から突出／没入する少なくとも４本の柱体を有することが好ましい。
これにより、支持部がワークを支持したとき、ワークと載置面との間にワーク搬入治具の挿入可能な広い隙間を確保することができる。
【０００９】
本発明のワークテーブルでは、前記４本の柱体は、平面視で概ね長方形の４つの角部にそれぞれ位置するように配置されていることが好ましい。
これにより、支持部がワークを支持したとき、均等に支持することができ、ワークのたわみを防止することができる。
本発明のワークテーブルでは、前記各柱体に、それぞれ、前記支持部側吸引部が設けられていることが好ましい。
これにより、支持部がワークを支持したとき、ワークをより確実に支持部に吸着することができる。
【００１０】
本発明のワークテーブルでは、前記各柱体は、それぞれ、１つのベースに設置されており、すべての前記柱体は、一体となって同時に昇降することが好ましい。
これにより、簡単な構造で、各柱体を同期して昇降させることができ、各柱体が上昇したとき、ワークを変形することなく支持することができる。
【００１１】
本発明のワークテーブルでは、前記支持部側吸引部は、前記各柱体の上端に開放する孔で構成されていることが好ましい。
これにより、支持部がワークを支持したとき、ワークをより確実に支持部に吸着することができる。
本発明のワークテーブルでは、前記テーブル側吸引部は、前記載置面に形成された溝で構成されていることが好ましい。
これにより、テーブル側吸引部への吸引経路が複雑化することなく、広い範囲でワークを載置面に吸着することができる。
【００１２】
本発明のワークテーブルでは、前記支持部のワークに対する接触部は、樹脂材料または弾性材料で構成されていることが好ましい。
これにより、ワークを傷つけるのをより確実に防止することができる。
本発明のワークテーブルは、ワークを取り扱うロボットとの間でワークを受け渡しするものであることが好ましい。
これにより、ロボットによってワークを正確に位置決めしてワークテーブルに給材および除材することができる。
【００１３】
本発明のワーク搬送装置は、本発明のワークテーブルと、
装置本体と、
前記ワークテーブルを前記装置本体に対し少なくとも水平な一方向に移動させる移動機構とを備えることを特徴とする。
これにより、ワークテーブルへのワークの給材および除材を、ワークの位置ズレを生じることなく円滑かつ確実に行うことができるワーク搬送装置を提供することができる。
【００１４】
本発明のワーク搬送装置は、前記テーブル側吸引部および／または前記支持部側吸引部での吸引力を発生する吸引力発生源をさらに備えることが好ましい。
これにより、ワークテーブルへのワークの給材および除材を、ワークの位置ズレを生じることなく円滑かつ確実に行うことができるワーク搬送装置を提供することができる。
【００１５】
本発明のワーク搬送装置は、前記テーブル側吸引部への吸引経路の圧力を検出する圧力検出手段をさらに備えることが好ましい。
これにより、ワークを載置面に吸着したときの吸着状態を検出することができる。
本発明のワーク搬送装置は、前記支持部側吸引部への吸引経路の圧力を検出する圧力検出手段をさらに備えることが好ましい。
これにより、ワークを支持部に吸着したときの吸着状態を検出することができる。
【００１６】
本発明の液滴吐出装置は、本発明のワークテーブルと、
前記ワークテーブルに載置されたワークに対して液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワークテーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させる移動機構とを備えることを特徴とする。
これにより、ワークテーブルへのワークの給材および除材を、ワークの位置ズレを生じることなく円滑かつ確実に行うことができる液滴吐出装置を提供することができる。
【００１７】
本発明の液滴吐出装置では、前記ワークテーブルと前記液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させつつ前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出することにより、前記ワークに所定のパターンを形成することが好ましい。
これにより、目的に合わせてワーク上に多彩なパターンを形成（描画）することができる。
【００１８】
本発明のワーク受け渡し方法は、ワークを取り扱うロボットが支持するワークを、本発明のワークテーブルで受け取るワーク受け渡し方法であって、
前記支持部を上昇させた状態で前記ロボットからワークを受け取り、該ワークを前記支持部で支持するとともに、前記支持部側吸引部での吸引により前記ワークを前記支持部に吸着する工程と、
前記支持部を下降させて前記ワークを前記載置面に載置するとともに、前記テーブル側吸引部での吸引により前記ワークを前記載置面に吸着する工程とを備えることを特徴とする。
これにより、ロボットを用いたワークテーブルへのワークの給材を、ワークの位置ズレを生じることなく円滑かつ確実に行うことができるワーク受け渡し方法を提供することができる。
【００１９】
本発明のワーク受け渡し方法では、前記ワークを前記支持部に吸着したとき、前記支持部側吸引部への吸引経路の圧力を検出することにより、吸着の成否を確認し、
前記ワークを前記載置面に吸着したとき、前記テーブル側吸引部への吸引経路の圧力を検出することにより、吸着の成否を確認することが好ましい。
これにより、各工程でワークの吸着異常があった場合、これを検出することができる。
【００２０】
本発明のワーク受け渡し方法は、本発明のワークテーブルに載置されたワークを、ワークを取り扱うロボットで受け取るワーク受け渡し方法であって、
前記テーブル本体の載置面に載置されたワークを、前記支持部を上昇させることにより前記支持部で支持して持ち上げるとともに、前記支持部側吸引部での吸引により前記ワークを前記支持部に吸着する工程と、
前記支持部側吸引部での吸引を停止するとともに、前記支持部が支持している前記ワークを前記ロボットに受け取らせる工程とを備えることを特徴とする。
これにより、ロボットを用いたワークテーブルからのワークの除材を、ワークの位置ズレを生じることなく円滑かつ確実に行うことができるワーク受け渡し方法を提供することができる。
【００２１】
本発明のワーク受け渡し方法では、前記ワークを前記支持部に吸着したとき、前記支持部側吸引部への吸引経路の圧力を検出することにより、吸着の成否を確認することが好ましい。
これにより、ワークを支持部に吸着したときに吸着異常があった場合、これを検出することができる。
本発明の電気光学装置は、本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、量産に適し、製造コストの低減が図れる電気光学装置を提供することができる。
【００２２】
本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。
これにより、量産に適し、製造コストの低減が図れる電気光学装置の製造方法を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、量産に適し、製造コストの低減が図れる電子機器を提供することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のワークテーブル、ワーク搬送装置、液滴吐出装置およびワーク受け渡し方法を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１、図２、図３および図４は、それぞれ、本発明のワークテーブルおよびワーク搬送装置を適用した基板テーブルおよび基板搬送装置を備える液滴吐出装置の実施形態を示す斜視図、平面図、正面図および側面図である。なお、以下では、説明の便宜上、水平な一方向（図２中の上下方向に相当する方向）を「Ｙ軸方向」と言い、このＹ軸方向に垂直であって水平な方向（図２中の左右方向に相当する方向）を「Ｘ軸方向」と言う。また、Ｙ軸方向であって図２中の上方向への移動を「Ｙ軸方向に前進」、Ｙ軸方向であって図２中の下方向への移動を「Ｙ軸方向に後退」と言い、Ｘ軸方向であって図２中の右方向への移動を「Ｘ軸方向に前進」、Ｘ軸方向であって図２中の左方向への移動を「Ｘ軸方向に後退」と言う。
【００２４】
これらの図に示す液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１は、ワークとしての基板Ｗに対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置であり、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができるものである。液滴吐出装置１が対象とする基板Ｗの素材は、特に限定されず、板状の部材であればいかなるものでもよいが、例えば、ガラス基板、シリコン基板、フレキシブル基板等を対象とすることができる。また、本発明で対象とするワークは、板状の部材に限らず、底面が平らな部材であればいかなるものでもよい。例えば、本発明は、レンズをワークとし、このレンズに液滴を吐出することにより光学薄膜等のコーティングを形成する液滴吐出装置などにも適用することができる。
【００２５】
この液滴吐出装置１は、装置本体２と、ワークテーブル（ワークステージ）としての基板テーブル（基板ステージ）３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１１を有するヘッドユニット１１と、液滴吐出ヘッド１１１のメンテナンスをするメンテナンス装置１２と、給液タンク、排液タンクおよび再利用タンクを収納するタンク収納部１３と、第１のエアー供給装置１４と、第２のエアー供給装置１７とを備えている。
【００２６】
液滴吐出ヘッド１１１から吐出する液体としては、特に限定されず、カラーフィルタのフィルタ材料を含むインクの他、例えば以下のような各種の材料を含む液体（サスペンション、エマルション等の分散液を含む）とすることができる。・有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置におけるＥＬ発光層を形成するための発光材料。・電子放出装置における電極上に蛍光体を形成するための蛍光材料。・ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）装置における蛍光体を形成するための蛍光材料。・電気泳動表示装置における泳動体を形成する泳動体材料。・基板Ｗの表面にバンクを形成するためのバンク材料。・各種コーティング材料。・電極を形成するための液状電極材料。・２枚の基板間に微小なセルギャップを構成するためのスペーサを構成する粒子材料。・金属配線を形成するための液状金属材料。・マイクロレンズを形成するためのレンズ材料。・レジスト材料。・光拡散体を形成するための光拡散材料。
【００２７】
図３に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１と、架台２１上に設置された石定盤２２と、石定盤２２の上に設置された４本の支柱２３と、これらの支柱２３により支持されたガントリー構造部（上部構造部）２４とを有している。
架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。石定盤２２は、無垢の石材で構成され、その上面は、高い平面度を有している。本実施形態では、石定盤２２を設けたことにより、周囲の環境条件や振動等の影響を防ぎ、後述する基板テーブル３およびヘッドユニット１１が高精度に移動することができる。
【００２８】
石定盤２２の上には、基板テーブル３と、Ｙ軸方向移動機構を構成するエアースライダ１０６およびリニアモータ１０１とが設置されている。基板テーブル３は、エアースライダ１０６によりＹ軸方向に円滑に移動可能に支持されるとともに、リニアモータ１０１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。基板Ｗは、基板テーブル３上に載置される。基板テーブル３は、ガントリー構造部２４の下を通過可能になっている。基板テーブル３には、載置された基板Ｗを負圧により吸着・固定するための溝３１６が形成されている。また、基板テーブル３の下部には、θ軸回転駆動機構１０５が設けられており、これにより、基板テーブル３は、基板テーブル３の中心を通る鉛直なθ軸を回転中心として所定範囲で回動可能になっている。
【００２９】
基板テーブル３のＸ軸方向に沿った２つの辺の付近には、それぞれ、基板Ｗに対する液滴吐出（描画）前に液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出（フラッシング）された吐出液滴を受ける描画前フラッシングユニット１０４が設置されている（図７参照）。描画前フラッシングユニット１０４には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通って回収され、タンク収納部１３に設置された排液タンク内に貯留される。
【００３０】
図２および図４に示すように、ガントリー構造部２４には、ブリッジ１０３と、Ｘ軸方向移動機構を構成する一対のＸ軸方向スライダ１０７、ボールねじ１０８およびサーボモータ１０９とが設置されている。ブリッジ１０３は、Ｘ軸方向スライダ１０７の案内により、Ｘ軸方向に円滑に移動可能に支持されるとともに、ボールねじ１０８およびこれを回転させるサーボモータ１０９の駆動により、Ｘ軸方向に前進・後退する。
【００３１】
図３に示すように、ブリッジ１０３には、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ１０２がブリッジ１０３から吊り下げられるような状態で設置されている。このような構成により、ヘッドユニット１１は、ブリッジ１０３とともに、基板テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に前進・後退可能になっている。
【００３２】
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド１１１のいわゆる主走査は、基板テーブル３をＹ軸方向に移動しつつ、図示しない移動距離検出手段（例えばリニアエンコーダまたはレーザー測長器）によって検出した基板テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの吐出タイミングを生成するとともに、この吐出タイミングに基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の駆動（吐出液滴の選択的吐出）を行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、ヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）のＸ軸方向への移動により行われる。
【００３３】
装置本体２の側方には、タンク収納部１３が設置されており、タンク収納部１３の上には、メンテナンス装置１２が設置されている。このメンテナンス装置１２は、ヘッドユニット１１の待機時に液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット１２１と、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面をワイピングするクリーニングユニット１２２と、重量測定ユニット１２５とを有している。
【００３４】
また、メンテナンス装置１２は、Ｙ軸方向に移動可能な移動台１２４を有しており、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２および重量測定ユニット１２５は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１１がメンテナンス装置１２の上方に移動した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２および重量測定ユニット１２５のいずれかが液滴吐出ヘッド１１１の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１１は、待機時にはメンテナンス装置１２の上方に移動し、キャッピングおよびクリーニング（ワイピング）を行う。
【００３５】
キャッピングユニット１２１（図２参照）は、複数の液滴吐出ヘッド１１１のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップとこれらキャップを昇降させる昇降機構とを有している。各キャップには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピングユニット１２１は、各キャップで各液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を覆うとともに、ノズル形成面に形成されたノズルから吐出液を吸引することができる。このようなキャッピングを行うことにより、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面が乾燥するのを防止したり、ノズル詰まりを回復（解消）したりすることができる。
【００３６】
キャッピングユニット１２１によるキャッピングは、ヘッドユニット１１の待機時や、ヘッドユニット１１に吐出液を初期充填する際、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１１から吐出液を排出する際、洗浄液によって流路を洗浄する際などに行われる。
【００３７】
キャッピングユニット１２１によるキャッピング中に液滴吐出ヘッド１１１から排出された吐出液は、前記吸引チューブを通り、後述するキャッピング排液装置１７により回収され、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
【００３８】
クリーニングユニット１２２は、洗浄液を含ませたワイピングシートをローラーにより走行させ、このワイピングシートにより液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取り、清掃するよう作動するものである。
【００３９】
重量測定ユニット１２５（図４参照）は、基板Ｗに対する液滴吐出動作の準備段階として、液滴吐出ヘッド１１１からの１回の液滴吐出量（重量）を測定するのに利用するものである。すなわち、基板Ｗに対する液滴吐出動作前、ヘッドユニット１１は、重量測定ユニット１２５の上方に移動し、各液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルから１回または複数回液滴を重量測定ユニット１２５に対し吐出する。重量測定ユニット１２５は、吐出された液滴を受ける液受けと、電子天秤等の重量計とを備えており、吐出された液滴の重量を計測する。または、液受けを取り外して装置外部の重量計で計測してもよい。後述する制御装置１６は、その重量計測結果に基づいて、吐出ノズルにおける１回の吐出液滴の量（重量）を算出し、その算出値が予め定められた設計値に等しくなるように、液滴吐出ヘッド１１１を駆動するヘッドドライバの印加電圧を補正する。
【００４０】
タンク収納部１３には、前述したキャッピング時に回収された吐出液を貯留する再利用タンクと、描画前フラッシングで回収された吐出液を貯留する排液タンクのほか、液滴吐出ヘッド１１１へ供給される吐出液を貯留する給液タンクや、クリーニングユニット１２２へ供給される洗浄液を貯留する給液タンクなどがそれぞれ設置、収納されている。
【００４１】
第１のエアー供給装置１４は、装置本体２の側方であってタンク収納部１３と反対側に設置されている（図３参照）。第１のエアー供給装置１４は、装置本体２側に設置された空気圧シリンダ等のアクチュエータの駆動源として機能する。
【００４２】
第２のエアー供給装置１７は、タンク収納部１３とともに装置本体２の側方に設置されている（図４参照）。第２のエアー供給装置１７は、給液タンクから吐出液や洗浄液を送出するための圧力を供給する圧力供給源として機能したり、メンテナンス装置１２における空気圧シリンダ等のアクチュエータの駆動源として機能したりする。
【００４３】
第２のエアー供給装置１７の上には、二次タンク１８が固定的に設置されている。タンク収納部１３の吐出液給液タンクから供給される吐出液は、図示しない配管（チューブ）を通って、二次タンク１８に流入する。二次タンク１８内では、圧力が制御され、液量（水頭差）が調節されている。二次タンク１８内の吐出液は、図示しない配管（チューブ）を通ってヘッドユニット１１の各液滴吐出ヘッド１１１に供給される。
【００４４】
このような液滴吐出装置１は、好ましくは、チャンバ（隔離された空間）９１に収納され、温度および湿度が管理された環境下に置かれている。チャンバ９１には、外部に設置された温度調整装置（図示せず）により生成された温度および湿度を調節した空気が導入される。このようなチャンバ９１によって液滴吐出装置１の周囲の温度および湿度が管理されることにより、温度変化による基板Ｗや装置各部の膨張・収縮が原因となって誤差が生じるのを防止することができ、基板Ｗ上に吐出液滴によって描画（形成）されるパターンの精度をより高くすることができる。また、タンク収納部１３も温度および湿度が管理された環境に置かれるので、吐出液の粘度等も安定し、吐出液滴によるパターンの形成（描画）をより高精度に行うことができる。また、チャンバ９１内へのチリ、ホコリ等の侵入を防止することができ、基板Ｗを清浄に維持することができる。
なお、チャンバ９１内には、空気以外のガス（例えば窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の不活性ガスなど）を温度調節して供給・充填し、このガスの雰囲気中で液滴吐出装置１を稼動することとしてもよい。
【００４５】
また、液滴吐出装置１は、液滴吐出装置１の各部の作動を制御する制御装置１６（図示せず）を有している。この制御装置１６は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部とを有しており、液滴吐出装置１の各部の作動を制御する。
【００４６】
図５は、図１ないし図４に示す液滴吐出装置におけるヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を模式的に示す平面図である。図５に示すように、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面には、液滴が吐出される多数の吐出ノズル（開口）が一列または二列以上に並んで形成されている。液滴吐出ヘッド１１１は、電圧の印加により変位（変形）する圧電素子を有し、この圧電素子の変位（変形）を利用して、吐出ノズルに連通するように形成された圧力室（液室）内の圧力を変化させることよって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものである。なお、液滴吐出ヘッド１１１は、このような構成に限らず、例えば、吐出液をヒータで加熱して沸騰させ、その圧力によって液滴を吐出ノズルから吐出するように構成されたものなどでもよい。
【００４７】
ヘッドユニット１１には、この液滴吐出ヘッド１１１が複数個（以下の説明では１２個として説明する）設置されている。これらの液滴吐出ヘッド１１１は、６個ずつ二列に副走査方向（Ｘ軸方向）に並ぶとともに、ノズル列が副走査方向に対し所定角度傾斜するような姿勢で配置されている。
【００４８】
なお、このような配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する液滴吐出ヘッド１１１同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における液滴吐出ヘッド１１１を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりしてもよい。いずれにしても、複数個の液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルによるドットが副走査方向において連続していればよい。
【００４９】
さらに、液滴吐出ヘッド１１１は、副走査方向に対し傾斜した姿勢で設置されていなくてもよく、また、複数個の液滴吐出ヘッド１１１が千鳥状、階段状に配設されていてもよい。また、所定長さのノズル列（ドット列）を構成できる限り、これを単一の液滴吐出ヘッド１１１で構成してもよい。また、メインキャリッジ１０２に複数のヘッドユニット１１が搭載されていてもよい。
【００５０】
ここで、前記制御装置１６の制御による液滴吐出装置１の全体の作動について簡単に説明する。後述する基板受け渡し方法によってロボット５００から基板Ｗが基板テーブル３上の所定の位置に位置決めして給材（載置）されると、基板テーブル３に形成された溝３１６（テーブル側吸引部）でのエアー吸引により、基板Ｗは、基板テーブル３に吸着・固定される。次いで、装置本体２に設置された認識カメラ（図示せず）が基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、θ軸回転駆動機構１０５が作動して基板Ｗのθ軸回りの角度が補正されるとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。
【００５１】
以上のような基板Ｗのアライメント作業が完了すると、ヘッドユニット１１を停止した状態で、基板テーブル３の移動により基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。このとき、液滴吐出動作は、基板テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板テーブル３を複数回往復させて、液滴吐出動作を複数回繰り返し行ってもよい。以上の動作により、基板Ｗ上の、所定の幅（ヘッドユニット１１１により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って伸びる領域に、液滴の吐出が終了する。
【００５２】
その後、メインキャリッジ１０２（ブリッジ１０３）を移動させることにより、ヘッドユニット１１１を前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させる。この状態で、前述した動作と同様に、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。そして、この領域への液滴吐出動作が終了したら、ヘッドユニット１１１をさらに前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させた状態として、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、同様の液滴吐出動作を行う。これを、数回繰り返すことで、基板Ｗの全領域に液滴吐出が行われる。このようにして、液滴吐出装置１は、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する。
【００５３】
図６は、図１ないし図４に示す液滴吐出装置における基板テーブルを示す平面図、図７は、図６に示す基板テーブルの天板を取り外した状態を示す斜視図、図８は、図６中のＡ−Ａ線での断面側面図（支持部が上昇位置にある状態）、図９は、図６中のＡ−Ａ線での断面側面図（支持部が下降位置にある状態）、図１０は、図６に示す基板テーブルに対し基板を給材および除材するロボットを示す斜視図である。なお、図８および図９中には、便宜上、テーブル側吸引部および支持部側吸引部への吸引配管系統図も併せて記載している。以下、これらの図に基づいて、液滴吐出装置１における基板テーブル３について詳細に説明する。
【００５４】
これらの図に示すように、基板テーブル３は、テーブル本体３１と、支持部３２と、支持部３２を昇降させる昇降機構３３とを有している。
テーブル本体３１は、板状の底板３１１と、底板３１１上に設置された４本の支柱３１２と、これらの支柱３１２上に設置された天板３１３とを有している。基板Ｗは、天板３１３の上面である載置面３１４上に載置される。
【００５５】
天板３１３には、載置面３１４に開口する６個の孔３１５が形成されている。これらの孔３１５からは、それぞれ、後述する支持部３２の柱体３２１が出没（突出／没入）する。
また、天板３１３の載置面３１４側には、載置面３１４に載置された基板Ｗを負圧により吸着するためのテーブル側吸引部として、溝３１６が形成されている。本実施形態では、溝３１６は、載置面３１４上に互いに大きさが異なる３つの長方形が同心的に三重に配置されたような図形を描くように形成された３つの長方形部分と、十字を描くように形成され、前記各長方形部分を互いに接続する十字部分とを有している（図６参照）。なお、溝３１６の形成パターンは、このような構成に限らず、いかなるものであってもよいことは言うまでもない。
【００５６】
このような溝３１６の一部には、天板３１３の下面まで貫通する孔３１７が形成されており、孔３１７の天板３１３の下面への開口部には、テーブル側吸引配管（吸引経路）４１が接続されている（図８参照）。テーブル側吸引配管４１は、切り替え弁４２を介して、真空ポンプ（吸引力発生源）１５１に接続されている。真空ポンプ１５１は、通常、液滴吐出装置１の近傍（好ましくはチャンバ９１の外）に設置されるが、この真空ポンプ１５１に限らず、例えば工場内に配設された真空系統を吸引力発生源として使用してもよい。
【００５７】
本実施形態では、テーブル側吸引部が溝３１６で構成されていることにより、テーブル側吸引配管４１を多数に分岐させることなく、載置面３１４の広い範囲に吸着領域を広げることができ、テーブル側吸引配管４１を簡略化することができる。なお、テーブル側吸引部は、図示の構成に限らず、例えば、載置面３１４に開口する複数の吸引口で構成されていてもよい。
【００５８】
支持部３２は、各孔３１５から出没する６本の柱体３２１と、これらの柱体３２１の下端を支持する板状のベース（基部）３２２とを有している。ベース３２２は、底板３１１と、天板３１３との間に位置している。この支持部３２は、後述する昇降機構３３の作動により、上昇位置（図８に示す位置）と、下降位置（図９に示す位置）との間で昇降する。このとき、各柱体３２１は、それぞれ、１つのベース３２２に設置されているので、すべての柱体３２１は、一体となって同時に昇降する。
【００５９】
支持部３２は、上昇位置にあるときには、柱体３２１が載置面３１４より上側に突出し、この突出した柱体３２１により、基板Ｗを載置面３１４から離間した位置で支持することができる。そして、支持部３２は、下降位置にあるときには、柱体３２１が載置面３１４より下側に退避し、この状態では、基板Ｗは、載置面３１４上に載置される。また、柱体３２１は、好ましくは、樹脂材料で構成されている。これにより、基板Ｗが柱体３２１に接触したときに基板Ｗを傷つけるのを防止することができ、また、柱体３２１の軽量化も図れる。
【００６０】
各柱体３２１には、支持した基板Ｗを負圧により吸着するための支持部側吸引部として、当該柱体３２１の上端（上端面）に開放する孔（開口）３２３が設けられている。各孔３２３は、各柱体３２１の下端付近まで形成され、天板３１３の下側において、各孔３２３に連通するように支持部側吸引配管（吸引経路）４３が接続されている。支持部側吸引配管４３は、切り替え弁４２を介して、真空ポンプ１５１に接続されている。このように、本実施形態では、各柱体３２１にそれぞれ支持部側吸引部としての孔３２３が設けられているので、支持した基板Ｗをすべての柱体３２１で吸着することができ、より確実に基板Ｗを吸着することができる。
【００６１】
また、各柱体３２１の上端には、それぞれ、基板Ｗに対する接触部として、ゴム等の弾性材料または軟質樹脂材料で構成された基板吸着パッド３２４が設置されている。これにより、支持した基板Ｗを傷つけるのをより確実に防止することができるとともに、基板Ｗが柱体３２１に対し多少傾斜しても基板Ｗとの隙間からの空気漏れが防止されるので、基板Ｗをより確実に吸着・固定することができる。
【００６２】
図６に示すように、６本の柱体３２１のうちの４本は、平面視で概ね長方形の４つの角部にそれぞれ位置するように配置されている。これにより、基板Ｗが長方形である場合、基板Ｗの各部を均等に支持することができ、基板Ｗのたわみを少なくすることができる。よって、基板Ｗが柱体３２１に対し傾斜することがなく、基板Ｗをより確実に吸着・固定することができ、また、基板Ｗの変形を防止することもできる。また、これらの柱体３２１は、後述するロボット５００のロボットハンド５３０と干渉しないような位置に配置されている。
【００６３】
さらに、本実施形態では、６本の柱体３２１のうちの残りの２本は、平面視で前記長方形の対向する２辺の中点の位置にそれぞれ配置されている。これにより、ロボットハンド５３０との干渉を招くことなく、基板Ｗのたわみをより少なくすることができる。
【００６４】
図８に示すように、昇降機構３３は、駆動源としての空気圧シリンダ３３１と、支持部３２の上下方向の移動を案内する複数のガイドロッド３３２とを有している。空気圧シリンダ３３１の本体側は、底板３１１に固定され、ピストンロッド側は、ベース３２２に固定されている。ガイドロッド３３２は、底板３１１から上方向に向かって突出するように設置されており、このガイドロッド３３２は、ベース３２２に形成された孔に挿入している（図７参照）。
【００６５】
空気圧シリンダ３３１には、第１のエアー供給装置１４からの空気圧を供給する配管（図示せず）が接続されている。空気圧シリンダ３３１は、第１のエアー供給装置１４から供給された空気圧によって伸縮することにより、支持部３２を昇降させる。この支持部３２の昇降に伴って、各柱体３２１が各孔３１５から突出／没入する。
【００６６】
切り替え弁４２は、真空ポンプ１５１とテーブル側吸引配管４１を接続する状態と、真空ポンプ１５１と支持部側吸引配管４３を接続する状態とに切り替え可能になっている。切り替え弁４２の切り替え作動は、制御装置１６の制御に基づいて、自動で行われる。なお、このような構成と異なり、テーブル側吸引部（溝３１６）と、支持部側吸引部（孔３２３）とに対して、それぞれ別個の真空ポンプを設けることとしてもよい。
【００６７】
また、テーブル側吸引配管４１には、その内部（吸引経路）の圧力を検出する圧力センサー（圧力検出手段）４４が設置されている。圧力センサー４４は、その検出結果を制御装置１６へ出力する。同様に、支持部側吸引配管４３には、その内部（吸引経路）の圧力を検出する圧力センサー（圧力検出手段）４５が設置されており、圧力センサー４５は、その検出結果を制御装置１６へ出力する。
【００６８】
このような基板テーブル３は、ベアリング（図示せず）を介して台座１１０上に設置されており、台座１１０に対し基板テーブル３の中心を通る鉛直なθ軸を回転中心として所定範囲で回動可能になっている。台座１１０には、基板テーブル３をθ軸回りに回動させるθ軸回転駆動機構１０５が設置されている。
【００６９】
台座１１０は、装置本体２の石定盤２２上においてエアースライダ１０６によりＹ軸方向に円滑に移動可能に支持され、リニアモータ１０１の駆動により、Ｙ軸方向に移動する。基板テーブル３は、台座１１０に伴って、Ｙ軸方向に移動する。
【００７０】
次に、基板テーブル３に対し基板Ｗを給材・除材（搬入・搬出）するロボット（産業用ロボット）５００について説明する。図１０に示すように、ロボット５００は、基板Ｗを支持して移動させる（取り扱う）マニピュレータ５１０を有している。マニピュレータ５１０は、複数の関節を有するロボットアーム５２０と、ロボットアーム５２０の先端に設置され、基板Ｗを支持するロボットハンド（ワーク搬入治具）５３０とを備えている。ロボットハンド５３０には、支持した基板Ｗを負圧により吸着するための吸引部（図示せず）が設けられている。このロボット５００は、基板Ｗを基板テーブル３上に正確に位置決めして給材および除材できるようになっている。また、図示のロボット５００は、同様のマニピュレータ５１０を２つ備えており、この２つのマニピュレータ５１０で交互に基板Ｗを給材（または除材）できるようになっている。
このようなロボット５００は、液滴吐出装置１の図２中の下側に設置されており、図２中の下側から基板テーブル３に基板を給材・除材する。このとき、基板テーブル３は、図２中の下側に移動した状態とされる。チャンバ９１の図２中の下側の壁部には、基板搬入・搬出用のシャッター付きの開口９１１（図１参照）が設けられており、この開口９１１のシャッターを開けて、チャンバ９１内に設置された液滴吐出装置１の基板テーブルに基板Ｗを給材・除材する。
【００７１】
以下、ロボット５００が支持する基板Ｗを、基板テーブル３で受け取る基板受け渡し方法（基板Ｗの給材方法）について説明する。
基板Ｗの給材時、基板テーブル３は、まず、支持部３２を上昇させた状態とされる。また、切り替え弁４２は、支持部側吸引配管４３を真空ポンプ１５１に接続する状態とされ、孔３２３から空気を吸引する状態にされる。
【００７２】
この状態で、ロボットアーム５２０の作動により、基板Ｗを支持したロボットハンド５３０が基板テーブル３の上方に移動する。次いで、ロボットハンド５３０が下降すると、基板Ｗが柱体３２１の上端（基板吸着パッド３２４）に接地する。これにより、基板Ｗは、各柱体３２１で支持されるとともに、孔３２３からの吸引による負圧によって、各柱体３２１に吸着され、固定される（図８参照）。また、このとき、ロボットハンド５３０は、支持部３２に支持された基板Ｗと、天板３１３との間に形成される隙間に位置しており、この状態から、ロボットアーム５２０の作動によってロボットハンド５３０がＹ軸方向に後退することにより、ロボットハンド５３０は、基板Ｗと天板３１３との隙間から抜去される。以上のようにして、基板テーブル３は、基板Ｗをロボット５００から受け取る。
【００７３】
制御装置１６は、基板Ｗを支持部３２に吸着したとき、圧力センサー４５で検出される支持部側吸引配管４３内の圧力に基づいて、吸着の成否（または基板Ｗの有無）を確認する。すなわち、制御装置１６は、圧力センサー４５での検出圧力が所定のしきい値以下である場合には、吸着が正常（基板Ｗ有り）であると判断して、次の工程に進み、所定のしきい値より大きい場合には、吸着が異常（基板Ｗ無し）であると判断して、その旨を図示しない報知手段により作業者等に報知する。
【００７４】
制御装置１６は、支持部３２により基板Ｗが正常に吸着されていると判断したら、支持部３２を下降させて基板Ｗを載置面３１４に載置する（接地させる）とともに、切り替え弁４２を切り替えて、溝３１６から空気を吸引する状態とする。これにより、基板Ｗは、載置面３１４に吸着・固定される。
【００７５】
制御装置１６は、基板Ｗを載置面３１４に吸着したとき、圧力センサー４４で検出されるテーブル側吸引配管４１内の圧力に基づき、前記と同様にして吸着の成否（または基板Ｗの有無）を確認する。そして、制御装置１６は、吸着が正常と判断した場合には、次の工程に進み、吸着が異常と判断した場合には、その旨を図示しない報知手段により作業者等に報知する。
以上のようにして、ロボット５００から基板テーブル３への基板Ｗの給材が完了する。
【００７６】
次に、基板Ｗに対する液滴吐出装置１での液滴吐出工程（描画パターン形成工程）が終了した後に、基板テーブル３の載置面３１４に載置された基板Ｗを、ロボット５００で受け取る基板受け渡し方法（基板Ｗの除材方法）について説明する。
まず、切り替え弁４２を切り替えることにより、載置面３１４の溝３１６から空気を吸引する状態から、柱体３２１の孔３２３から空気を吸引する状態へと切り替える。次いで、支持部３２を上昇させることにより、載置面３１４に載置された基板Ｗを各柱体３２１で支持して持ち上げるとともに、孔３２３での吸引により基板Ｗを各柱体３２１に吸着し、固定する。
【００７７】
制御装置１６は、基板Ｗを支持部３２に吸着したとき、前記と同様にして、圧力センサー４５で検出された圧力に基づき、吸着の成否（または基板Ｗの有無）を確認し、吸着が正常と判断した場合には、次の工程に進み、吸着が異常と判断した場合には、その旨を図示しない報知手段により作業者等に報知する。
【００７８】
次いで、支持部３２に支持された基板Ｗと、天板３１３との間の隙間にロボットハンド５３０が挿入され、ロボットハンド５３０に設けられた吸引部での吸引が開始されるとともに、柱体３２１の孔３２３での吸引が停止される。その後、ロボットハンド５３０は、上昇して、基板Ｗを持ち上げ、支持する。このようにして、ロボット５００は、基板テーブル３から基板Ｗを受け取る。
以上のようにして、基板テーブル３からロボット５００への基板Ｗの除材が完了する。
【００７９】
以上述べたように、本発明によれば、ワークテーブルは、支持部によってワークを載置面から離間した位置で支持することができるので、ワークと載置面との間にロボットハンド等のワーク搬入治具が挿入し得る隙間を形成することができ、ワークの給材・除材を円滑かつ容易に行うことができる。
【００８０】
また、ワークを支持部によって支持したとき、ワークを支持部に吸着・固定することができるので、ワークの位置がずれるのを確実に防止することができる。よって、ロボットによって正確に位置決めしたワークの位置を確実に維持しつつ、ワークをワークテーブル上に給材することができる。よって、その後に液滴吐出装置で行われるワークのアライメント工程や、ワークに対する液滴吐出動作（パターンの描画）を迅速、円滑かつ高精度に行うことができる。
このようなことから、本発明では、ワークの製造（ワークへの処理）を円滑、迅速に行うことができ、量産に適し、ワークの製造コスト低減に寄与する。
【００８１】
以上、本発明のワークテーブル、ワーク搬送装置、液滴吐出装置およびワーク受け渡し方法を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、ワークテーブル、ワーク搬送装置および液滴吐出装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
【００８２】
例えば、ワークテーブルにおける支持部を昇降させる昇降機構は、空気圧シリンダに代えて、例えば液圧シリンダ、ボールネジ（送りネジ）などでもよい。また、支持部は、複数の柱体を有するものに限らず、上昇位置にあるときにワークを載置面から離間した位置で支持し得るものであれば、いかなる形状・構造のものでもよい。
また、ワークテーブルへのワークの給材および除材は、ロボットで行わなくてもよく、人手によって行ってもよい。
【００８３】
また、本発明のワーク搬送装置および液滴吐出装置は、ワークテーブルを装置本体に対し互いに直交する水平な２方向（Ｙ軸方向およびＸ軸方向）に移動させるものでもよい。すなわち、本発明の液滴吐出装置は、ヘッドユニットを装置本体に対し固定とし、ワークをＹ軸方向およびＸ軸方向にそれぞれ移動させることにより、主走査および副走査を行うよう構成されたものでもよい。また、本発明の液滴吐出装置は、前記と逆に、ワーク（ワークテーブル）を装置本体に対し固定とし、ヘッドユニット（液滴吐出ヘッド）をＹ軸方向およびＸ軸方向にそれぞれ移動させることにより、主走査および副走査を行うよう構成されたものでもよい。すなわち、本発明の液滴吐出装置は、ワークテーブルと液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させるよう構成されたものであればよい。
【００８４】
また、本実施形態においては、本発明のワークテーブル、ワーク搬送装置およびワーク受け渡し方法を液滴吐出装置に適用した場合について説明したが、本発明のワークテーブル、ワーク搬送装置およびワーク受け渡し方法は、これに限らず、例えば露光装置などの他の各種の装置にも適用することができる。
【００８５】
また、本発明の電気光学装置は、以上説明したような本発明の液滴吐出装置を用いて製造されたことを特徴とする。本発明の電気光学装置の具体例としては、特に限定されないが、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。
【００８６】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、本発明の液滴吐出装置を用いることを特徴とする。本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、液晶表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色のフィルタ材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、基板上に多数のフィルタエレメントを配列してなるカラーフィルタを製造し、このカラーフィルタを用いて液晶表示装置を製造することができる。この他、本発明の電気光学装置の製造方法は、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造方法に適用することができる。すなわち、各色の発光材料を含む液体を本発明の液滴吐出装置を用いて基板に対し選択的に吐出することにより、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列してなる有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
【００８７】
また、本発明の電子機器は、前述したようにして製造された電気光学装置を備えることを特徴とする。本発明の電子機器の具体例としては、特に限定されないが、前述したようにして製造された液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置を搭載したパーソナルコンピュータや携帯電話機などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す斜視図。
【図２】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す平面図。
【図３】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す正面図。
【図４】本発明の液滴吐出装置の実施形態を示す側面図。
【図５】ヘッドユニットの構成および液滴吐出動作を示す模式的平面図。
【図６】本発明の基板テーブルを示す平面図。
【図７】基板テーブルの天板を取り外した状態を示す斜視図。
【図８】図６中のＡ−Ａ線での断面側面図（支持部が上昇した状態）。
【図９】図６中のＡ−Ａ線での断面側面図（支持部が下降した状態）。
【図１０】基板を給材および除材するロボットを示す斜視図。
【符号の説明】
１０５……θ軸回転駆動機構、１１０……台座、１６……制御装置、１５１……真空ポンプ、３……基板テーブル、３１……テーブル本体、３１１……底板、３１２……支柱、３１３……天板、３１４……載置面、３１５……孔、３１６……溝、３２……支持部、３２１……柱体、３２２……ベース、３２３……孔、３２４……基板吸着パッド、３３……昇降機構、３３１……空気圧シリンダ、３３２……ガイドロッド、４１……テーブル側吸引配管、４２……切り換え弁、４３……支持部側吸引配管、４４……圧力センサー、４５……圧力センサー、Ｗ……基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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