(57)【要約】      （修正有）【課題】パタ−ニング性屈折率、耐熱性、伝送特性等に優れた光導波路形成用樹脂組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）一般式（１）のジ（メタ）アクリレート：2004334152.tif 000011（R1は-(OCH2CH2)m-、-(OCH(CH3)CH2)m-、又は-OCH2CH(OH)CH2-；Xは-C(CH3)2-、-CH2-、-O-、又は-SO2-；Yは水素原子又はハロゲン原子；mは0〜4の整数を表す）、（Ｂ）一般式（２）モノ（メタ）アクリレート：2004334152.tif 000012（R1は-(OCH2CH2)p-、-(OCH(CH3)CH2)p-、又は-OCH2CH(OH)CH2-；Yは水素原子、ハロゲン原子、Ph-C(CH3)2-、Ph-、又は炭素数1〜20のアルキル基；pは0〜4の整数、Phはフェニル基を表す）、及び（Ｃ）光ラジカル重合開始剤を含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記の一般式（１）で表される構造を有するジ（メタ）アクリレート：
【化１】
2004334152.tif 000009
（式中、Ｒ１は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｍ―、―（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）ｍ―、または―ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｘは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−または−ＳＯ２−；Ｙは水素原子またはハロゲン原子；ｍは０〜４の整数を表す。）、
（Ｂ）下記の一般式（２）で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレート：
【化２】
2004334152.tif 000010
（式中、Ｒ１は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｐ―、―（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）ｐ―、または―ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｙは水素原子、ハロゲン原子、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−、Ｐｈ−、または炭素数１〜２０のアルキル基；ｐは０〜４の整数を表す。ただし、Ｐｈは、フェニル基を表す。）、
および
（Ｃ）光ラジカル重合開始剤
を構成成分として含有することを特徴とする光導波路形成用感光性樹脂組成物。
【請求項２】
上記成分（Ｂ）に対する上記成分（Ａ）の重量比（Ａ／Ｂ）が０．３〜５．０である請求項１に記載の光導波路形成用感光性樹脂組成物。
【請求項３】
上記樹脂組成物中の上記成分（Ａ）及び上記成分（Ｂ）の合計量の重量割合が、３０重量％以上である請求項１又は２に記載の光導波路形成用感光性樹脂組成物。
【請求項４】
（メタ）アクリロイル基を分子中に３つ以上有する（メタ）アクリレートを含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の光導波路形成用感光性樹脂組成物。
【請求項５】
上記樹脂組成物の硬化物の２５℃および８２４ｎｍでの屈折率が、１．５４以上である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光導波路形成用感光性樹脂組成物。
【請求項６】
上記樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度（Ｔｇ）が、８０℃以上である請求項１〜５のいずれか１項に記載の光導波路形成用感光性樹脂組成物。
【請求項７】
コア層と、該コア層に積層して形成されるクラッド層とからなる光導波路であって、上記コア層および／または上記クラッド層が、請求項１〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とする光導波路。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物に、フォトマスクを介して放射線を照射し、該樹脂組成物を硬化せしめる工程を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信分野や光情報処理分野で用いられる光回路を作製するための光導波路形成用感光性樹脂組成物、および該組成物を用いて作製される光導波路に関する。
【０００２】
【従来の技術】
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化および高速化の要求から、光を伝送媒体とする伝送システムが、公衆通信網、ＬＡＮ（ローカルエリアネットワーク）、ＦＡ（ファクトリーオートメーション）、コンピュータ間のインターコネクト、家庭内配線等に使用されつつある。この伝送システムを構成する要素のうち、光導波路は、例えば、映画や動画等の大容量の情報伝達や光コンピュータ等を実現するための光デバイス、光電集積回路（ＯＥＩＣ）、光集積回路（光ＩＣ）等における基本構成要素である。そして、光導波路は、大量の需要があることから鋭意研究される一方、特に、高性能で低コストの製品が求められている。
【０００３】
光導波路としては、従来、石英系光導波路やポリマー系光導波路が知られている。
このうち、石英系光導波路は、伝送損失が低いという利点を有する反面、製造工程における加工温度が高いこと、および、大面積のものを作製しがたいこと等のプロセス上の問題があった。
また、ポリマー系光導波路は、加工のし易さや材料設計の幅広さ等の利点を有することから、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネート等のポリマー材料を用いたものが検討されてきた。しかし、一般に、ポリマー系光導波路は、耐熱性が劣るという問題がある。そのため、最近では、耐熱性および伝送損失に優れるフッ素化ポリイミドの検討が盛んに行なわれている。
【０００４】
ところが、ポリマー材料を用いた場合には、光導波路中のコア部を作製する際に、石英系光導波路と同様にドライエッチング処理を必要とするため、製造に要する時間が多大であるという問題がある。
このような状況下において、近年、フォトリソグラフィー性を付与したエポキシ系紫外線硬化樹脂等の光硬化性材料および該材料を用いた光導波路が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平６−２７３６３１号公報（請求項１）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、従来のポリマー系光導波路の材料は、光通信等で用いられる波長６５０〜１６００ｎｍの領域において導波路損失が比較的大きかったり、あるいは耐熱性が低い等の問題があり、光導波路に求められる諸特性を全て満足するものがなかった。
この問題を解決するために、ポリマーのフッ素化や重水素化置換等の化学的処理が検討されているが、このような化学的処理を行なった場合には、基板との接着性が低下して、長期信頼性に問題が生じたり、あるいはコア材として用いる場合に、屈折率を所定の程度にまで高めることができないといった問題があった。
そこで、本発明は、導波路損失、屈折率、耐熱性等の物性が優れている光導波路用樹脂組成物、および該組成物の硬化体からなる光導波路を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、芳香環を含有する２種の異なる（メタ）アクリレートと、光ラジカル重合開始剤とを構成成分として含む感光性樹脂組成物が、光導波路形成用の樹脂として極めて好適であることを見出し、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明（請求項１）の光導波路形成用感光性樹脂組成物は、
（Ａ）下記の一般式（１）で表される構造を有するジ（メタ）アクリレート：
【化３】
2004334152.tif 000002
（式中、Ｒ１は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｍ―、―（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）ｍ―、または―ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｘは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−、または−ＳＯ２−；Ｙは水素原子またはハロゲン原子；ｍは０〜４の整数を表す。）、
（Ｂ）下記の一般式（２）で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレート：
【化４】
2004334152.tif 000003
（式中、Ｒ１は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｐ―、―（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）ｐ―、または―ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｙは水素原子、ハロゲン原子、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−、Ｐｈ−、または炭素数１〜２０のアルキル基；ｐは０〜４の整数を表す。ただし、Ｐｈは、フェニル基を表す。）、
および
（Ｃ）光ラジカル重合開始剤
を構成成分として含有することを特徴とする。
このように構成した光導波路形成用感光性樹脂組成物は、高い屈折率、高い耐熱性、優れたパターニング性、および低い導波路損失を有し、光導波路のコア層等を形成するための材料として好適に用いることができる。
【０００９】
上記樹脂組成物は、例えば、上記成分（Ｂ）に対する上記成分（Ａ）の重量比（Ａ／Ｂ）が０．３〜５．０となるように構成することができる（請求項２）。
該重量比をこの数値範囲内に定めることによって、耐熱性等の物性をより一層向上させることができる。
上記樹脂組成物は、当該組成物中の上記成分（Ａ）および上記成分（Ｂ）の合計量の重量割合が、３０重量％以上となるように構成することができる（請求項３）。
該重量割合をこの数値範囲内に定めることによって、屈折率、導波路損失等の物性をより一層向上させることができる。
【００１０】
上記樹脂組成物は、（メタ）アクリロイル基を分子中に３つ以上有する（メタ）アクリレートを含有することができる（請求項４）。
該化合物を含有することによって、耐熱性等をより一層向上させることができる。
上記樹脂組成物は、２５℃および８２４ｎｍでの屈折率が１．５４以上である硬化体の形態を有し得るものである（請求項５）。
上記樹脂組成物は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上である硬化体の形態を有し得るものである（請求項６）。
【００１１】
本発明（請求項７）の光導波路は、コア層と、該コア層に積層して形成されるクラッド層とからなる光導波路であって、上記コア層および／または上記クラッド層が、上記樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とする。
このように構成された光導波路は、高い屈折率、高い耐熱性、優れたパターニング性、および低い導波路損失等の物性を有する。
本発明（請求項８）の光導波路の製造方法は、上記樹脂組成物にフォトマスクを介して放射線を照射し、該樹脂組成物を硬化せしめる工程を有することを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の樹脂組成物は、以下に説明する成分（Ａ）〜（Ｃ）を構成成分として含むものである。
なお、本明細書中において、本発明の樹脂組成物は、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）を含む硬化前の液状の形態と、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）を含む液状の組成物が硬化した形態の両方を包含する概念を有するものである。
【００１３】
本発明の樹脂組成物を構成する成分（Ａ）は、下記式（１）で表される構造を有するジ（メタ）アクリレートである。
【化５】
2004334152.tif 000004
（式中、Ｒ１は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｍ―、―（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）ｍ―、または―ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｘは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−、または−ＳＯ２−；Ｙは水素原子またはハロゲン原子；ｍは０〜４の整数を表す。）、
なお、上記式（１）中、Ｙが表すハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等が挙げられる。中でも、臭素が好ましい。
【００１４】
成分（Ａ）の具体例としては、例えば、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１５】
中でも、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート等は、特に好ましく用いられる。
【００１６】
成分（Ａ）の市販品としては、例えば、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００１７】
本発明の樹脂組成物を構成する成分（Ｂ）は、下記式（２）で表される構造を有する（メタ）アクリレートである。
【化６】
2004334152.tif 000005
（式中、Ｒ１は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｐ―、―（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）ｐ―、または―ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｙは水素原子、ハロゲン原子、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−、Ｐｈ−、または炭素数１〜２０のアルキル基；ｐは０〜４の整数を表す。ただし、Ｐｈは、フェニル基を表す。）、
なお、上記式（２）中、Ｙが表すハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等が挙げられる。中でも、臭素が好ましい。
【００１８】
成分（Ｂ）の具体例としては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールエチレンオキシド変性（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１９】
中でも、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等は、特に好ましく用いられる。
【００２０】
成分（Ｂ）の市販品としては、例えば、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００２１】
ここで、本発明の樹脂組成物中の成分（Ａ）および成分（Ｂ）の合計量の重量割合は、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、特に好ましくは５０重量％以上である。該重量割合が３０重量％以上であると、本発明の樹脂組成物を光導波路のコア部分に用いた場合に、より高い屈折率およびより低い導波路損失を得ることができる。
【００２２】
本発明の樹脂組成物において、成分（Ｂ）に対する成分（Ａ）の重量比（Ａ／Ｂ）は、好ましくは０．３〜５．０、より好ましくは０．４〜４．０である。該重量比を０．３以上とすることによって、硬化物のガラス転移温度をより高め、かつ、耐熱性を向上させるとともに、目的とするコア層の形状をより確実に所望のものに形成することができる。また、該重量比を５．０以下とすることによって、パターニング性を改善することができる。
本発明の樹脂組成物を用いて光導波路のコア層を作製する場合、パターニング性の観点から、成分（Ａ）および成分（Ｂ）は、メタアクリレートよりもアクリレートであることが好ましい。
【００２３】
本発明の樹脂組成物を構成する成分（Ｃ）は、光ラジカル重合開始剤である。成分（Ｃ）の具体例としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、  ２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
【００２４】
成分（Ｃ）の市販品としては、例えば、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８（ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等が挙げられる。成分（Ｃ）は、１種単独で用いてもよいし、パターニング性等の改良のため、２種以上を併用してもよい。
【００２５】
本発明の樹脂組成物中の（Ｃ）成分の重量割合は、通常、０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜７重量％である。該重量割合を１０重量％以下とすることによって、硬化特性、伝送特性、パターニング性、取り扱い性等を良好にすることができる。また、該重量割合を０．０１重量％以上とすることによって、パターニング性、硬化物の力学特性等を良好にし、また、硬化速度の低下を防止することができる。
【００２６】
本発明においては、任意成分として、成分（Ａ）および成分（Ｂ）成分に加えて、（メタ）アクリロイル基またはビニル基を含有する化合物（以下、「不飽和モノマー」ともいう。ただし、成分（Ａ）および成分（Ｂ）と同じ化合物を除く。）を使用することができる。中でも、（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリレートは、好ましく用いられる。
【００２７】
（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリレートとしては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレートが挙げられる。該（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。これらは、単独でまたは２種以上を組み合せて用いることができる。
【００２８】
（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００２９】
他の不飽和モノマーの具体例としては、例えば、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン等のビニルモノマー；イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシブチルビルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテルおよび下記式（３）、（４）
【００３０】
【化７】
2004334152.tif 000006
（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基；Ｒ２は炭素数２〜８のアルキレン基；ｓは１〜８の整数を示す。）、
【００３１】
【化８】
2004334152.tif 000007
（式中、Ｒ１およびＲ３は各々独立して水素原子またはメチル基；Ｒ２は炭素数２〜８のアルキレン基；ｔは１〜８の整数を示す。）
で表される単官能モノマー等が挙げられる。
【００３２】
また、（メタ）アクリロイル基またはビニル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーの具体例としては、例えば、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート等のアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート等のポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００３３】
これらの化合物の市販品の具体例としては、例えば、アロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ、ＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００３４】
本発明の樹脂組成物には、さらにポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエポキシ（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはポリマーを配合してもよい。
【００３５】
本発明の樹脂組成物には、さらに光増感剤を配合することができる。
光増感剤の具体例としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。
光増感剤の市販品の具体例としては、例えば、ユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００３６】
本発明においては、上述の成分以外にも各種添加剤として、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００３７】
ここで、酸化防止剤の市販品としては、例えば、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられる。
紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられる。
【００３８】
光安定剤の市販品としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられる。
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。市販品としては、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００３９】
塗面改良剤としては、例えば、ジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤が挙げられる。市販品としては、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ  コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）等が挙げられる。
離型剤の市販品としては、プライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００４０】
本発明の樹脂組成物は、前記各成分を常法により混合して製造することができる。このようにして調製される本発明の樹脂組成物の粘度は、通常、１００〜２０，０００ｃｐ／２５℃、好ましくは３００〜１０，０００ｃｐ／２５℃、より好ましくは４００〜５，０００ｃｐ／２５℃である。該粘度が高すぎると、基板に樹脂組成物を塗布する際に、塗布ムラやうねりが生じたり、あるいはコア層の形成時に、パターニング性が悪化して目的とする形状が得られない。逆に、粘度が低すぎても、目標とする膜厚が得られにくい上に、パターニング性が悪化することがある。
【００４１】
放射線によって硬化させて得られる本発明の樹脂組成物の硬化物は、好ましくは、以下の物性を有するものである。
本発明の樹脂組成物の硬化物は、光導波路のコア層として使用された場合、２５℃および波長８２４ｎｍでの屈折率が、１．５４以上であることが好ましく、１．５５以上であることがより好ましい。該屈折率が１．５４未満であると、本発明の樹脂組成物をコア層に用いて導波路を形成した場合、良好な伝送損失が得られないことがある。
【００４２】
本発明の樹脂組成物の硬化物は、ガラス転移温度が８０℃以上であることが好ましく、９０℃以上であることがより好ましい。該温度が８０℃未満では、光導波路の耐熱性を十分に確保できないことがある。ここで、「ガラス転移温度」は、共振型動的粘弾性測定装置において振動周波数１０Ｈｚでの損失正接が最大値示す温度として定義される。
【００４３】
【実施例】
以下、本発明を実験例に基いて具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実験例（実施例）によって限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載の範囲内において種々の実施形態の変更が可能である。
【００４４】
［実施例１〜７、比較例１〜３］
表１に記載の各成分を仕込み、液温を５０〜６０℃に制御しながら１時間攪拌し、液状硬化性組成物を得た。なお、表１中、各成分の添加量の単位は、重量部である。
＜評価法＞
１．屈折率の評価
８２４ｎｍでの屈折率を以下の手法により測定した。まず、スピンコーターを用いて、回転数および時間を調整しながら、４インチのシリコンウエファ基板上に液状硬化性組成物を７μｍ厚になるように塗布して樹脂組成物層を形成させた後、窒素雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線をマスクアライナーから樹脂組成物層に照射し、硬化膜を得た。次いで、日本メトリコン製プリズムカップラーを用いて、この硬化膜の屈折率（８２４ｎｍ、２５℃）を測定した。
【００４５】
２．ガラス転移温度の評価
アプリケーターを用いて、ガラス基板上に樹脂組成物を６０μｍ厚になるように塗布して樹脂組成物層を形成させた後、窒素雰囲気下、コンベア式ＵＶ照射装置を用いて、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を樹脂組成物層に照射し、硬化膜を得た。次いで、共振型動的粘弾性測定装置を用いて、振動周波数１０Ｈｚの振動を与えながら、この硬化膜の損失正接の温度依存性を測定した。得られた損失正接の最大値を示す温度をガラス転移温度とした。
【００４６】
３．パターニング性の評価
スピンコーターを用いて、回転数および時間を調整しながら、４インチのシリコンウエファ基板上に樹脂組成物を５０μｍ厚になるように塗布して樹脂組成物層を形成させた後、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を、５０μｍ幅の分岐のない直線形状を有するフォトマスクを介して、マスクアライナーから樹脂組成物層に照射した。次いで、アセトンを用いて、樹脂組成物層を３分間現像処理した後、７０℃に設定したオーブン中で基板を１０分間加温した。
得られたパターンを光学顕微鏡にて観察し、目的のコア形状（５０μｍ±１μｍ）が得られた場合を「◎」、５０μｍ±２μｍの範囲内の形状が得られた場合を「○」、形状が変形していたり、５０±２μｍの範囲を外れる形状が得られた場合を「×」とした。
【００４７】
４．伝送損失の評価
スピンコーターを用いて、回転数および時間を調整しながら、４インチのシリコンウエファ基板上にＥＬＣ２５００（Ｃｌｅａｒ）（ＥＬＥＣＴＲＯ−ＬＩＴＥ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製、ｎＤ２５＝１．５１５）を５０μｍ厚になるように塗布した後、当該塗布層に、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線をマスクアライナーから照射した。次いで、スピンコーターを用いて、基板上に樹脂組成物を５０μｍ厚になるように塗布した後、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を、５０μｍ幅の分岐のない直線形状を有するフォトマスクを介して当該塗布層に照射した。アセトンを用いて、照射後の塗布層を３分間現像処理した後、７０℃に設定したオーブン中で基板を１０分間加温した。さらに、この基板上にＥＬＣ２５００（Ｃｌｅａｒ）を５０μｍ厚になるように再び塗布した後、紫外線を基板に照射して、チャネル導波路を得た。
導波路の端面をへき開にてカットした後、マルチモードファイバ（５０μｍ径）を介して８５０ｎｍの光を挿入し、カットバック法により導波路損失を測定した。カットバックは、導波路長５ｃｍから１ｃｍ刻みに４点測定して行なった。得られた光強度を導波路長に関してプロットし、その傾きから損失値を算出した。得られた損失値が０．５ｄＢ／ｃｍ以下であるときを「○」、それよりも高いときを「×」として評価した。
【００４８】
得られた結果を表１に示す。表１中の成分は、次のとおりである。
Ｖ７７９：ネオポールＶ７７９（日本ユピカ（株）製）
（化合物名：テトラブロモビスフェノールＡエポキシアクリレート）
Ｖ７７９ＭＡ：ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）
（化合物名：テトラブロモビスフェノールＡエポキシメタアクリレート）
ＰＥＡ：ニューフロンティアＰＨＥ（第一工業製薬（株）製）
（化合物名：フェノキシエチルアクリレート）
ＰＥＭＡ：ライトエステルＰＯ（共栄社化学（株）製）
（化合物名：フェノキシエチルメタアクリレート）
ＢＲ−３１：ニューフロンティアＢＲ−３１（第一工業製薬（株）製）
（化合物名：トリブロモフェノキシエチルアクリレート）
ＩＲＧ１８４：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）
（化合物名：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン）
ＩＲＧ６５１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）
（化合物名：２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン）
ＩＲＧ３６９：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）
（化合物名：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１）
ＩＲＧ９０７：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）
（化合物名：２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン）
Ｍ３１５：アロニックスＭ３１５（東亞合成（株）製）
（化合物名：トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート）
ＤＰＨＡ：（日本化薬（株）製）。
（化合物名：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）
ＩＢＸＡ：（大阪有機化学（株）製）
（化合物名：イソボルニルアクリレート）
ＩＢＸＭＡ：（大阪有機化学（株）製）
（化合物名：イソボルニルメタアクリレート）
ＡＣＭＯ：（興人（株）製）
（化合物名：アクリロイルモルホリン）
ＳＡ１００２：（三菱化学（株）製）
（化合物名：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）
【００４９】
【表１】
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【００５０】
表１より、本発明の樹脂組成物（実施例１〜７）は、硬化物を形成する際のパターニング性に優れ、かつ、光導波路を形成した場合に優れた屈折率、耐熱性、伝送特性（低い導波路損失）を有することがわかる。
一方、比較例１では、成分（Ａ）を含まないため、耐熱性が劣る。比較例２では、成分（Ｂ）を含まないため、パターニング性が劣る。比較例３では、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含まないため、パターニング性および伝送特性が劣る。
【００５１】
【発明の効果】
本発明の樹脂組成物は、硬化時のパタ−ニング性に優れ、かつ、光導波路を形成した場合に優れた屈折率、耐熱性、伝送特性（低い導波路損失）等の物性を有するため、光導波路形成用材料として好適に用いることができる。