(57)【要約】【課題】均一な加熱を可能とし、加熱ムラの発生を抑えた高温加熱方法を適用し、発光ムラの防止を図り、かつ長寿命化を図った有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。【解決手段】ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた１種以上の有機層とを有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記有機層を形成した後、不活性液体中で加熱処理を行う有機ＥＬ素子の製造方法。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた１種以上の有機層とを有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
前記有機層を形成した後、不活性液体中で加熱処理を行う有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記不活性液体としてフッ化炭素を用いて加熱処理を行う請求項１の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記ホール注入電極上に前記有機層を形成した後であって、前記電子注入電極を形成する前に、不活性液体中で加熱処理を行う請求項１または２の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記有機層のうち少なくとも１層が高分子化合物を含有し、前記有機層のうち少なくとも１層を塗布により形成する請求項１〜３のいずれかの有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機ＥＬディプレイに用いられる有機ＥＬ素子の製造方法に関し、特にビニルポリマーを用いた分子分散型高分子有機ＥＬ素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機ＥＬディスプレイなどに用いられる有機ＥＬ素子は、低分子化合物を用いた真空蒸着法による有機層形成の提案（例えば、非特許文献１参照）をもとにデバイスが各種試作され、現在実用化の段階を迎えつつある。
【０００３】
その一方、上記の低分子化合物は熱安定性が劣ることから、高分子化合物を用いた有機ＥＬ素子の開発が盛んに行われている。高分子化合物を使用した場合、低分子化合物にはない優れた熱安定性を得られることが期待できる。また、高分子化合物は塗布による素子作成が可能となるため、蒸着法に頼らざるをえない低分子化合物に比べて製造プロセスの簡略化が可能となる。
【０００４】
ところで、主に、真空蒸着法により有機層を形成した有機ＥＬ素子を対象としているが、有機層成膜後に、全有機層の構成材料中最も低いガラス転移温度±２０℃の温度範囲で加熱処理して、長寿命、高輝度、高効率、高表示品質の素子を得ることが開示されている。具体的には、ガラス封止を施した後の素子を大気中で加熱処理することが記載されており、蒸着により有機層を成膜した際に加熱処理を行う場合には真空中の加熱処理がよいことも記載されている（特許文献１参照）。また、アニールされた状態にある有機発光素子を得、エネルギー変換効率を低下させずに動作電圧を低下させることが開示されている。より具体的には、製造後の有機発光素子のアニールを、発光領域を形成する材料の溶解温度よりも低いアニール温度（好ましくは発光領域を形成する材料のうちの少なくとも１つのガラス転移温度よりも低温、より好ましくは有機発光素子を形成する全ての材料のうち最も低いガラス転移温度を有する材料のガラス転移温度よりも低温）で、窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素等の素子の性能に悪影響を及ぼさない適切なガスを含む雰囲気や、乾燥空気、あるいは真空環境などでアニールすることが記載されている（特許文献２参照）。
【０００５】
一方、原因は明確ではないが、高分子化合物を用いた塗布型の有機ＥＬ素子において、高分子層の成膜後に、真空中や窒素ガス中にて、高温で加熱処理を行うことが知られている。ところが、このような場合、不均一な加熱によると思われる発光ムラを生じることがあり、特に大画面のディスプレイでは問題となり、このための改善方法が望まれている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１１−４０３５２号公報
【特許文献２】
特開２００２−１００４７３号公報
【非特許文献１】
アプライド  フィジックス  レターズ（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ），第５１巻（ｖｏｌ．５１），  ｐ９１３（１９８７）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、均一な加熱を可能とし、加熱ムラの発生を抑えた高温加熱方法を適用し、発光ムラの防止を図り、かつ長寿命化を図った有機ＥＬ素子の製造方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
高温加熱処理を不活性液体中で行うことにより、より均一な加熱が可能となり、上記課題が解決されることを見出し、本発明をなすに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた１種以上の有機層とを有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記有機層を形成した後、不活性液体中で加熱処理を行う有機ＥＬ素子の製造方法である。
さらには、前記不活性液体としてフッ化炭素を用いて加熱処理を行うことが好ましく、前記ホール注入電極上に前記有機層を形成した後であって、前記電子注入電極を形成する前に、不活性液体中で加熱処理を行うことが好ましい。
そして、前記有機層のうち少なくとも１層が高分子化合物を含有し、前記有機層のうち少なくとも１層を塗布により形成することが好ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
本発明によって得られる有機ＥＬ素子は、ホール注入電極（陽極）と電子注入電極（陰極）とを有し、これらの電極間に１種以上の有機層を有するものである。
【００１２】
このような有機ＥＬ素子は、有機層のうち少なくとも１層が高分子化合物を含有し、かつ有機層のうち少なくとも１層が塗布により形成された塗布型の高分子有機ＥＬ素子であることが好ましく、さらに好ましくは、発光層に高分子化合物を用いたものであり、π共役高分子化合物を用いたπ共役型であっても、非共役高分子（特にビニルポリマー）中に色素を分散した分子分散型であってもよいが、色純度の良い青色発光が得られるなどの発光色の選択の幅が広がるという点では分子分散型であることが好ましい。
【００１３】
このような有機ＥＬ素子を得るにあたり、本発明では、有機ＥＬ素子中の有機層を形成した後において、不活性液体中で加熱処理を行うが、このような加熱処理を行うことによって、長寿命であるという利点を保持したままで、発光ムラを防止することができる。
【００１４】
また、塗布型の高分子有機ＥＬ素子において、高分子化合物を含有する高分子層の形成後に、高温で、真空中、不活性ガス中、あるいは窒素ガス中のような非酸化性雰囲気中でアニールすると、寿命の改善がみられることを見出した。これは、高分子化合物が膨張し、水分等の溶媒が抜けやすくなり、また、層間の密着性が良好になり、さらには、温度変化により膜に配向が生じやすくなることなどによると考えられる。しかし、アニールにより寿命の改善はみられるものの発光ムラを生じることがあった。本発明は、これを解決するものである。これは、従来のアニールがガス中で行われていたため、熱のかかり方が不均一となり、発光ムラが生じたと考えられるが、本発明では、不活性液体を用いた加熱処理を行っているため、熱のかかり方が均一となり、発光ムラが防止されたと考えられる。
【００１５】
本発明において、加熱処理に用いられる不活性液体としては、有機ＥＬ素子の構成材料と接触した場合に反応しないもの、即ち、接触により、素子の構成材料に悪影響を及ぼさないものであればいずれであってもよく、さらには、熱伝達性に優れたものが好ましく、所望の加熱処理温度よりも高沸点のものが好ましい。具体的には、フッ化炭素が好ましく、商品名「フロリナート」（住友スリーエム社製）として市販されているものが好ましい。このような不活性液体を用いるのは、水系、炭化水素系の溶媒では、有機層、特に高分子層の劣化、溶出を招くためである。
【００１６】
加熱処理は、５０℃以上の温度で行うことが好ましい。加熱処理温度が低すぎると長寿命であるなどの効果が得られない。一般に、有機層を構成する有機材料のガラス転移温度Ｔｇは、高分子化合物を含め、５０〜３５０℃の温度範囲にあるが、このような加熱処理温度は、有機層のなかの発光層を構成する有機材料のガラス転移温度Ｔｇ（℃）を基準にして選択することが好ましく、特に、発光層を構成する有機材料のうち最も高いＴｇを有する有機材料（特に高分子化合物）のＴｇを基準にして選択することが好ましく、このＴｇをＴｇｍａｘとすれば、Ｔｇｍａｘ−１００℃〜Ｔｇｍａｘ＋１００℃の温度範囲から選択することが好ましい。但し、５０℃以上であることを前提とする。また、加熱処理温度が高くなりすぎると有機層によっては熱分解を引き起こしてしまうので、３００℃未満であることが好ましく、さらには２００℃以下であることが好ましい。
【００１７】
このようなことから、加熱処理温度は、８０〜２００℃、特に、１５０〜２００℃の温度範囲のなかから選択される。
【００１８】
加熱処理時間は５分〜１０時間程度とする。
【００１９】
本発明では、基板上にホール注入電極を形成し、この上に有機層を形成し、その後電子注入電極を形成する工程をとることが好ましく、このような工程において、加熱処理は、有機層を形成した段階の後であって、電子注入電極を形成する前に行うことが好ましい。加熱処理は、有機層形成毎に行ってもよいが、有機層を全層形成した後であって、有機層上に形成される対電極等の無機材料から構成される無機層の形成前に行うことが好ましい。有機層形成毎に加熱処理する場合に比べ、有機層を多層積層した後に加熱処理する方が、有機層間での密着性が向上する。また、生産性の点でも好ましい。なお、有機層形成毎に加熱処理する場合、例えば、発光層の下層となる有機層を加熱処理するときの温度は、その有機層を構成する有機材料のＴｇなどを基準にして選択すればよいが、通常、上記と同様に、５０℃以上、さらには８０〜２００℃、よりさらには１５０〜２００℃の温度範囲のなかから選択される。
【００２０】
この加熱処理は、上記のような有機層を含む積層体を、所定温度に保持した不活性液体中に所定時間浸漬し、必要に応じ、窒素バブリングをするなどして行う。
【００２１】
本発明において、有機層を形成するための有機材料としては、一般に有機ＥＬ素子に用いられているような発光材料、電荷輸送材料（電子輸送性材料とホール輸送性材料の総称である。）などを用いることができる。
【００２２】
例えば、高分子発光材料を用いた発光層や、高分子発光材料と電荷輸送材料との混合発光層、あるいはこのような発光層と陰極（電子注入電極）との間に電子注入輸送性材料を含有する電子注入輸送層を有していたり、発光層と陽極（ホール注入電極）との間にホール注入輸送性材料を含有するホール注入輸送層を有していてもよい。また、これら電子注入輸送層、ホール注入輸送層に代えて、無機材料による高抵抗の電子注入輸送層や、ホール注入輸送層を有していてもよい。
【００２３】
本発明において、有機層は、塗布型の有機ＥＬ素子としての機能を確保する上で、高分子化合物を含有することが好ましい。
【００２４】
このような高分子化合物の分子量は、重合体の場合、重量平均分子量Ｍｗで表して、５０００以上、通常、５０００〜３００万程度である。
【００２５】
具体的には、主に、発光材料、ホール輸送性材料として用いられるものであるが、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリアニリン／ポリスチレンサルフォネート（Ｐａｎｉ／ＰＳＳ）、下記式（Ｐ−１）のポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ誘導体）、および下記式（Ｐ−２）のポリアリールフルオレン誘導体のいずれか、またはこれらの混合物を挙げることができる。
【００２６】
【化１】
2004355950.tif 000002
【００２７】
（Ｒは２−エチルヘキシルオキシ基であり、Ｒ’はメトキシ基であり、
ｎは重合度を表し、Ｍｗは５００００である。）
【００２８】
【化２】
2004355950.tif 000003
【００２９】
（Ｒ１およびＲ１’は各々アルキル基であり、
Ａｒは置換基を有していてもよい芳香環基または複素環基であり、
ｎは重合度を表し、Ｍｗは５０００〜３００万である。）
また、発光層は１層であっても２層以上あってもよく、発光層と電荷輸送層で複数層を形成していてもよい。さらに、発光層は、高分子発光材料以外に、下記の発光材料、電荷輸送性材料を含有していてもよい。また、前記高分子発光材料および／または電荷輸送材料を高分子化合物に分散させてもよい。
【００３０】
本発明の高分子発光材料と共に使用できる既知の発光材料としては特に限定されないが、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセンおよびその誘導体、ペリレンおよびその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、８−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエンおよびその誘導体、テトラフェニルブタジエンおよびその誘導体などを用いることができる。具体的には、例えば、特開昭５７−５１７８１号、同５９−１９４３９３号公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能である。
【００３１】
本発明に使用することのできる電荷輸送材料としては、種々の電子輸送性材料、ホール輸送性材料を用いることができ、特に限定されるものではない。
【００３２】
ホール輸送性材料としては、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルペン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができる。
【００３３】
電子輸送性材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフトキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンおよびその誘導体、フルオレンおよびその誘導体、ジフェニルジシアノエチレンおよびその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体等の金属錯体等を挙げることができる。
【００３４】
具体的には、特開昭６３−７０２５７号公報、同６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号公報、同２−１３５３６１号公報、同２−２０９９８８号公報、同３−３７９９２号公報、同３−１５２１８４号公報に記載されているものなどを挙げることができる。
【００３５】
特にホール輸送性材料としては４，４−ビス（Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニル、電子輸送性材料としては２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス（８−キノリノラト）アルミニウムが好ましい。
【００３６】
これらのうち、電子輸送性の化合物とホール輸送性の化合物のいずれか一方、または両方を同時に使用するとよい。これらの化合物は各々単独で用いてもよいし、混合して用いてもよい。
【００３７】
電荷輸送材料の使用量は、使用する化合物の種類などにより異なるので、十分な成膜性と発光特性を阻害しない範囲で最適な添加量を決めればよい。通常、発光材料に対して１〜４０％（質量百分率）であり、より好ましくは２〜３０％（質量百分率）である。
【００３８】
また、有機層として上記の発光層以外に電子注入輸送層、ホール注入輸送層などを有していてもよい。有機材料からなる電子注入輸送層、ホール注入輸送層に用いられる電子輸送性材料、ホール輸送性材料は上記の材料のなかから、発光層や電極等との関係で好適なものを用いればよい。
【００３９】
上記高分子発光材料を用いた場合の発光層の厚さとしては０．５ｎｍ〜１０μｍ  、好ましくは１ｎｍ〜１μｍ  である。電流密度を上げて発光効率を上げるためには、１０〜５００ｎｍの範囲が好ましい。なお、塗布法により薄膜化した場合には、溶媒を除去するため、減圧下あるいは不活性雰囲気下、３０〜２００℃、好ましくは６０〜１００℃の温度で加熱乾燥することが望ましい。
【００４０】
また、電荷注入輸送層を発光層の下層に形成する場合、発光層の形成に加熱重合工程を要するときは、ある程度の耐熱性が必要となる。この場合、好ましくはガラス転移温度が１００℃以上、より好ましくは１５０℃以上、特に２００℃以上の化合物が好ましい。ガラス転移温度の上限に特に制限はないが、３００℃程度である。
【００４１】
有機のホール注入輸送層の厚さおよび電子注入輸送層の厚さは、特に制限されるものではなく、形成方法によっても異なるが、通常５〜５００ｎｍ程度、特に１０〜３００ｎｍとすることが好ましい。ホールの注入層と輸送層とを設ける場合は、注入層は１ｎｍ以上、輸送層は１ｎｍ以上とするのが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚さの上限は、通常、注入層で５００ｎｍ程度、輸送層で５００ｎｍ程度である。
【００４２】
本発明の有機層形成に用いられる溶媒としては、有機材料が溶解し、塗布に際して障害が生じないものであれば特に限定されるものではない。具体的には、アルコール系、炭化水素系、ケトン系、エーテル系等一般に用いられているものを使用することができる。なかでも、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが好ましい。高分子材料の場合、高分子材料の構造や分子量にもよるが、通常はこれらの溶媒に０．１％（質量百分率）以上溶解させることができる。高分子以外の有機材料においても同様である。
【００４３】
陰極（電子注入電極）は、無機電子注入層等の電子注入層とを組み合わせて用いる場合は、低仕事関数で電子注入性を有している必要がないため、その材料として、特に限定される必要はなく、通常の金属を用いることができる。なかでも、導電率や扱い易さの点で、Ａｌ，Ａｇ，Ｉｎ，Ｔｉ，Ｃｕ，Ａｕ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｔ，ＰｄおよびＮｉ、特にＡｌ，Ａｇから選択される１種または２種等の金属元素が好ましい。これら陰極の厚さは、電子を高抵抗の無機電子注入輸送層に与えることのできる一定以上の厚さとすれば良く、５０ｎｍ以上、好ましくは１００ｎｍ以上とすればよい。また、その上限値には特に制限はないが、通常、厚さは５０〜５００ｎｍ程度とすればよい。
【００４４】
また、陰極（電子注入電極）として必要に応じて下記のものを用いてもよい。例えば、Ｋ、Ｃｓ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｚｒ等の金属元素単体、または安定性を向上させるためにそれらを含む２成分、３成分の合金系、例えばＡｇ・Ｍｇ合金（Ａｇ量０．１〜５０％（原子比））、Ａｌ・Ｌｉ合金（Ｌｉ量０．０１〜１４％（原子比））、Ｉｎ・Ｍｇ合金（Ｍｇ：５０〜８０％（原子比））、Ａｌ・Ｃａ合金（Ｃａ量０．０１〜２０％（原子比））等が挙げられる。陰極（電子注入電極）の厚さは、電子注入を十分行える一定以上の厚さとすれば良く、０．１ｎｍ以上、好ましくは０．５ｎｍ以上、特に１ｎｍ以上とすればよい。また、その上限値には特に制限はないが、通常、厚さは１〜５００ｎｍ程度とすればよい。陰極（電子注入電極）の上には、さらに補助電極（保護電極）を設けてもよい。
【００４５】
補助電極の厚さは、電子注入効率を確保し、水分や酸素あるいは有機溶媒の進入を防止するため、一定以上の厚さとすればよく、好ましくは５０ｎｍ以上、さらには１００ｎｍ以上、特に１００〜５００ｎｍの範囲が好ましい。補助電極層が薄すぎると、その効果が得られず、また、補助電極層の段差被覆性が低くなってしまい、端子電極との接続が十分ではなくなる。一方、補助電極層が厚すぎると、補助電極層の応力が大きくなるため、ダークスポットの成長速度が速くなってしまう等といった弊害が生じてくる。補助電極は、組み合わせる電子注入電極の材料により最適な材料を選択して用いればよい。例えば、電子注入効率を確保することを重視するのであればＡｌ等の低抵抗の金属を用いればよく、封止性を重視する場合には、ＴｉＮ等の金属化合物を用いてもよい。
【００４６】
陰極（電子注入電極）と補助電極とを併せた全体の厚さとしては、特に制限はないが、通常５０〜５００ｎｍ程度とすればよい。
【００４７】
陽極（ホール注入電極）の材料は、無機ホール注入輸送層、または有機のホール注入輸送層へホールを効率よく注入することのできるものが好ましく、仕事関数４．５ｅＶ〜５．５ｅＶの物質が好ましい。具体的には、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３ ）、酸化スズ（ＳｎＯ２  ）および酸化亜鉛（ＺｎＯ）のいずれかを主組成としたものが好ましい。これらの酸化物はその化学量論組成から多少偏倚していてもよい。Ｉｎ２Ｏ３  に対するＳｎＯ２  の混合比は、１〜２０％（質量百分率）、さらには５〜１２％（質量百分率）が好ましい。また、ＩＺＯでのＩｎ２Ｏ３  に対するＺｎＯの混合比は、通常、１２〜３２％（質量百分率）程度である。
【００４８】
陽極（ホール注入電極）は、仕事関数を調整するため、酸化シリコン（ＳｉＯ２  ）を含有していてもよい。酸化シリコン（ＳｉＯ２  ）の含有量は、ＩＴＯに対するＳｉＯ２  の  モル比で０．５〜１０％程度が好ましい。ＳｉＯ２  を含有することにより、ＩＴＯの仕事関数が増大する。
【００４９】
光を取り出す側の電極は、発光波長帯域、通常４００〜７００ｎｍ、特に各発光光に対する光透過率が５０％以上、さらには８０％以上、特に９０％以上であることが好ましい。透過率が低くなりすぎると、発光層からの発光自体が減衰され、発光素子として必要な輝度を得難くなってくる。その場合の電極の厚さは、５０〜５００ｎｍ、特に５０〜３００ｎｍの範囲が好ましい。また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと透過率の低下や剥離などの心配が生じる。厚さが薄すぎると、十分な効果が得られず、製造時の膜強度等の点でも問題がある。このような電極は陽極であることが多い。
【００５０】
さらに、素子の有機層や電極の劣化を防ぐために、素子上を封止板等により封止することが好ましい。封止板は、湿気の浸入を防ぐために、接着性樹脂層を用いて、封止板を接着し密封する。封止ガスは、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎ２  等の不活性ガス等が好ましい。また、この封止ガスの水分含有量は、１００ｐｐｍ  以下、より好ましくは１０ｐｐｍ  以下、特には１ｐｐｍ  以下であることが好ましい。この水分含有量に下限値は特にないが、通常０．１ｐｐｍ  程度である。
【００５１】
本発明において、有機ＥＬ構造体を形成する基板としては、非晶質基板（例えばガラス、石英など）、結晶基板（例えば、Ｓｉ、ＧａＡｓ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＧａＰ、ＩｎＰなど）が挙げられ、また、これらの結晶基板に結晶質、非晶質あるいは金属のバッファ層を形成した基板も用いることができる。また、金属基板としては、Ｍｏ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ａｕ、Ｐｄなどを用いることができ、好ましくはガラス基板が用いられる。基板は、光取り出し側となる場合、上記電極と同様な光透過性を有することが好ましい。
【００５２】
さらに、本発明の素子を、平面上に多数並べてもよい。平面上に並べられたそれぞれの素子の発光色を変えて、カラーのディスプレーにすることができる。
【００５３】
基板に色フィルター膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を用いて発光色をコントロールしてもよい。
【００５４】
本発明の有機ＥＬ素子は、通常、直流駆動型、パルス駆動型のＥＬ素子として用いられるが、交流駆動とすることもできる。印加電圧は、通常、２〜３０Ｖ  程度とされる。
【００５５】
本発明の有機ＥＬ素子は、前述のように、基板／第１の電極（陽極）／有機層（発光層を含む。）／第２の電極（陰極）とが順次積層された構成とするのが好ましいが、場合によっては、この逆の積層構成としてもよい。積層構成は、例えば、ディスプレーの仕様や作製プロセス等により、適宜最適なものに決定すればよい。
【００５６】
本発明の有機ＥＬ素子は、ディスプレイとしての応用の他、例えばメモリ読み出し／書き込み等に利用される光ピックアップ、光通信の伝送路中における中継装置、フォトカプラ等、種々の光応用デバイスに用いることができる。
【００５７】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。比較例を併記する。
【００５８】
実施例１
２％（質量百分率）濃度の下記構造のポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ：ｎは重合度、Ｍｗ＝１００，０００、Ｔｇ＝２１０℃）と、このポリマーのモノマーユニットに対して３ｍｏｌ％となるように下記構造のテトラフェニルブタジエン（ＴＰＢ）を加えたトルエン溶液を調製し、発光層形成用塗布液とした。この溶液を用い、以下の手順に従って有機ＥＬ素子を作成した。
【００５９】
陽極層として１０ｃｍ画のＩＴＯ膜（１５００Å厚）が形成された基板（コーニング社製ガラス基板７０５９）上に、スピンコート法により下記構造のポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ：ｍ、ｎは重合度）を含む塗布液を塗布し、窒素雰囲気下で２００℃にて５分間乾燥して膜厚５００Åのホール輸送層を形成した。次に、ホール輸送層上に、上記の発光層形成用塗布液を塗布し、１２０℃にて１時間乾燥し、膜厚１０００Åの発光層を形成した。この基板を、１８０℃の温度に保たれたフロリナート（住友スリーエム：ＦＣ−７０、沸点２１５℃）中に浸し、窒素バブリングをしながら１時間熱処理を行った。フロリナートは熱伝達速度が０．０５〜０．０８Ｗ／ｍ・Ｋと大きく、熱伝達性の非常に優れた液体である。次に、この発光層上に、電子注入層としてのＣｓ層（膜厚２０Å）、および補助電極としてのＡｌ層（膜厚２５００Å）をこの順で真空蒸着して陰極層を形成し、陰極層側の面を封止して目的の有機ＥＬ素子を得た。
【００６０】
得られた有機ＥＬ素子においては、テトラフェニルブタジエンに由来する青色発光が得られ、１００ｃｄ／ｍ２の初期輝度で寿命試験（輝度半減寿命）を行ったところ、３６０時間の寿命が得られた。また、１０ｃｍ画という比較的大面積中においても輝度ムラ等が見られず、均一な発光が得られた。
【００６１】
【化３】
2004355950.tif 000004
【００６２】
【化４】
2004355950.tif 000005
【００６３】
実施例２
発光層形成用塗布液にポリパラフェニレンビニレン誘導体である下記構造のＭＥＨ−ＰＰＶ（前記式（Ｐ−１）と同じ、ｎは重合度、Ｍｗ＝５００００、Ｔｇ＝８０℃）の１．５％（質量百分率）濃度のキシレン溶液を用いた。実施例１と同様にしてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ層を形成した後、上記発光層形成用塗布液を用いて膜厚８００Åの発光層を形成した。次に、同様にしてこの基板を１８０℃の温度に保たれたフロリナート中に浸し、１時間熱処理を行った。次に、この発光層上に、電子注入層としてのＣａ層（膜厚６０Å）、および補助電極としてのＡｌ層（膜厚２５００Å）をこの順で真空蒸着して陰極層を形成し、陰極層側の面を封止して目的の有機ＥＬ素子を得た。
【００６４】
得られた有機ＥＬ素子においては、ＭＥＨ−ＰＰＶに由来するオレンジ色の発光が得られ、１００ｃｄ／ｍ２の初期輝度で寿命試験（輝度半減寿命）を行ったところ、８５０時間の寿命が得られた。また、１０ｃｍ画という比較的大面積中においても輝度ムラ等が見られず、均一な発光が得られた。
【００６５】
【化５】
2004355950.tif 000006
【００６６】
比較例１
熱処理を行わなかった以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を作成した。
【００６７】
得られた有機ＥＬ素子においては、テトラフェニルブタジエンに由来する青色の発光が得られたが、１００ｃｄ／ｍ２の初期輝度で寿命試験（輝度半減寿命）を行ったところ、寿命は僅かに３時間であった。輝度ムラ等は見られず、均一な発光が得られた。
【００６８】
比較例２
熱処理を真空（７ｍｍＨｇ（１３３Ｐａ）以下程度）オーブンにて行った以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を作成した。
【００６９】
得られた有機ＥＬ素子においては、テトラフェニルブタジエンに由来する青色の発光が得られたが、僅かに特性の低下が見られた。１００ｃｄ／ｍ２の初期輝度で寿命試験（輝度半減寿命）を行ったところ、１２０時間の寿命が得られた。僅かに残存する酸素により有機材料の酸化が進んでいるためと考えられる。また、輝度ムラが激しく、均一な発光が得られなかった。真空中であるため、熱処理中に熱が均一に伝わらなかったためと考えられる。
【００７０】
比較例３
熱処理をアルゴン雰囲気（水分、酸素共に１ｐｐｍ以下）に保ったオーブンにて行った以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を作成した。
【００７１】
得られた有機ＥＬ素子においては、テトラフェニルブタジエンに由来する青色の発光が得られ、特性の低下は見られず、１００ｃｄ／ｍ２の初期輝度で寿命試験（輝度半減寿命）を行ったところ、３５０時間の寿命が得られた。比較例１および２と比べると、寿命の改善は大きいが輝度ムラの改善が不充分であり、肉眼でわかる輝度ムラが確認できた。アルゴンガス雰囲気中の温度分布が不均一であることによる影響が考えられる。
【００７２】
【発明の効果】
本発明によれば、長寿命であるという利点を保持しつつ、発光ムラの発生を防止することができる。