(57)【要約】【課題】電気光学パネルの開口部を封止するパネル封止工程において、封止状態の安定化を図ることにより、封止不良を低減し、製造効率を向上するとともに製造コストを低減する。【解決手段】本発明の電気光学装置の製造方法は、パネル封止工程には、電気光学パネルをＰ２で加圧した状態で開口部から溢れた電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭段階Ｄと、開口部に封止材を塗布する封止材塗布段階Ｅと、電気光学パネルの加圧力をＰ３に減圧して保持する減圧保持段階Ｇとを有し、電気光学物質払拭段階Ｄ、封止材塗布段階Ｅ及び減圧保持段階Ｇが常に連続実行されるように設定し、電気光学物質払拭完了時点の一定時間後に封止材塗布を実施し、封止材塗布時点の一定時間後に減圧を開始する。【選択図】          図４
2004302383.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記パネル封止工程には、前記電気光学パネルを加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭段階と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布段階とを有し、
前記電気光学物質払拭段階及び前記封止材塗布段階が常に連続実行されるように設定し、前記電気光学物質払拭段階における電気光学物質払拭完了時点の一定時間後に前記封止材塗布段階における封止材塗布を実施することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記パネル封止工程には、前記電気光学パネルを第１圧力で加圧した状態で前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布段階と、前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持する減圧保持段階とを有し、
前記封止材塗布段階及び前記減圧保持段階が常に連続実行されるように設定し、前記封止材塗布段階における封止材塗布時点の一定時間後に前記減圧保持工程における減圧を開始することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記パネル封止工程には、前記電気光学パネルを第１圧力で加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭段階と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布段階と、前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持する減圧保持段階とを有し、
前記電気光学物質払拭段階、前記封止材塗布段階及び前記減圧保持段階が常に連続実行されるように設定し、前記電気光学物質払拭段階における電気光学物質払拭完了時点の一定時間後に前記封止材塗布段階における封止材塗布を実施し、及び、前記封止材塗布時点の一定時間後に減圧を開始することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記パネル封止工程では、前記電気光学パネルが圧縮性流体により加圧されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を実施する電気光学装置の製造装置であって、
前記電気光学パネルを加圧するためのパネル加圧手段と、前記電気光学パネルを加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭手段と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布手段とを設け、
前記電気光学物質払拭手段による動作、及び、前記封止材塗布手段による動作が常に連続実行され、前記電気光学物質払拭手段による電気光学物質払拭完了時点の一定時間後に前記封止材塗布手段による封止材塗布を実施するように制御されることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項６】
電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造装置であって、
前記電気光学パネルを加圧するためのパネル加圧手段と、該パネル加圧手段により前記電気光学パネルを第１圧力で加圧した状態で前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布手段と、を有し、前記パネル加圧手段は、前記封止材塗布手段により前記開口部に前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持するように動作し、
前記封止材塗布手段による動作、及び、前記第１圧力から前記第２圧力への減圧が常に連続実行され、前記封止材塗布手段による封止材塗布時点の一定時間後に前記第１圧力から前記第２圧力への減圧を開始するように制御されることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項７】
電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造装置であって、
前記電気光学パネルを加圧するためのパネル加圧手段と、該パネル加圧手段により第１圧力で加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭手段と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布手段と、を有し、前記封止材塗布手段により前記開口部に前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持するように動作し、
前記電気光学物質払拭手段による動作、前記封止材塗布手段による動作、及び、前記第１圧力から前記第２圧力への減圧が常に連続実行され、前記電気光学物質払拭手段による電気光学物質払拭完了時点の一定時間後に前記封止材塗布手段による封止材塗布を実施し、及び、前記封止材塗布時点の一定時間後に前記第１圧力から前記第２圧力への減圧を開始するように制御されることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項８】
前記電気光学パネルを圧縮性流体により加圧した状態で保持する保持手段を有することを特徴とする請求項５乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項９】
電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造装置であって、
前記電気光学パネルを加圧するためのパネル加圧手段と、該パネル加圧手段により第１圧力で加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭手段と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布手段と、前記封止材を硬化する紫外線照射手段とを有し、前記封止材塗布手段により前記開口部に前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持するように動作し、
前記第２圧力への減圧開始から紫外線照射を開始するまでの時間を常に一定に制御されることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置の製造方法及び製造装置に係り、特に、電気光学パネルの開口部を封止するためのパネル封止工程を実施する方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、電気光学装置の製造ラインにおいては、シール材を介して２枚の基板を貼り合わせ、シール材を硬化させた後に、シール材の開口部から電気光学物質を注入し、開口部を封止することによって電気光学パネルを構成している。
【０００３】
電気光学パネルの上記開口部を封止するパネル封止工程では、通常、電気光学パネルをエア圧などにより加圧して正規のセル厚を有する状態に規制してから、開口部から溢れ出る電気光学物質を払拭し、その後、封止材を塗布して、紫外線照射などによって封止材を硬化させるようにしている。これは、図８（ａ）に示すように、電気光学物質注入後の電気光学パネル５０は、パネルを構成する基板１１，１２が外側に膨らんだ形状をしているため、セル厚ｄ０が所望のセル厚よりも大きくなっており、基板１１，１２に圧力を加えて所望のセル厚となるように規制する必要があるためである。
【０００４】
なお、従来の電気光学パネルのパネル封止工程については、以下の特許文献１に記載されたものが知られている。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−３３８５０８号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の製造方法においては、電気光学物質払拭後、封止材を塗布するまでの時間及び封止材塗布後、減圧を開始するまでの時間が一定でないため、封止材のセル内への進入量等に大きなばらつきが生ずることにより、封止不良が多発し、製品の歩留まりの向上を妨げている。特に、パネル封止工程は電気光学パネルの製造ラインの最終段階に近い工程であるので、この工程における歩留まりの低下は大幅な製造効率の低下や製造コストの上昇をもたらしている。
【０００７】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、電気光学パネルの開口部を封止するパネル封止工程において、封止状態の安定化を図ることにより、封止不良を低減し、これによって製造効率を向上するとともに製造コストを低減することのできる電気光学装置の製造方法及び製造装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者が検討したところ、パネル封止工程では、電気光学パネルの加圧時間が短い場合には、開口部から溢れ出た電気光学物質を払拭した後においても開口部から電気光学物質が溢れ続ける場合がある。このため、封止材の塗布のタイミングが遅れると、開口部からあふれ出た電気光学物質で封止材が滑って開口縁に封止材を付着させることができなくなったり、電気光学物質と封止材とが混じりあって封止材に孔が発生したりし、これが封止不良の原因となっていることが見いだされた。また、電気光学パネルの開口部に封止材を塗布した後においても、電気光学物質が開口部から溢れ続ける場合がある。この場合には、電気光学パネルに対する減圧開始が遅れると、塗布した封止材に電気光学物質が入り込んで混ざり合うため、封止材に孔などが形成されることにより封止不良を招くことがある。
【０００９】
上記の封止不良は、電気光学パネルの加圧時間を長くすれば電気光学物質の溢れ出しが減少することにより低減されるが、加圧時間を長くすると製造効率が低下してしまう。したがって、従来は、封止状態の安定性に依存する歩留まりと、加圧時間に依存する製造効率とがトレードオフの関係にあり、このため、生産性の向上及び製造コストの低減に限界があったものと考えられる。
【００１０】
上記課題を解決するために本発明の電気光学装置の製造方法は、電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造方法であって、前記パネル封止工程には、前記電気光学パネルを加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭段階と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布段階とを有し、前記電気光学物質払拭段階及び前記封止材塗布段階が常に連続実行されるように設定し、前記電気光学物質払拭段階における電気光学物質払拭完了時点の一定時間後に前記封止材塗布段階における封止材塗布を実施することを特徴とする。
【００１１】
この発明によれば、電気光学物質払拭時点の一定時間後に封止材塗布を実施することにより、封止状態を安定させることができるため、電気光学装置の歩留まりの向上及び品位の安定を図ることができる。また、電気光学物質払拭段階及び封止材塗布段階が常に連続実行されるように設定されているため、電気光学物質払拭完了時点から封止材塗布時点までが最短時間になるように時間管理することができ、その結果、必ずしも電気光学パネルの加圧時間を長くしなくても安定した封止状態を得ることが可能になり、パネル封止工程の時間短縮を図ることができ、製造効率を高めることができる。この発明においては、電気光学物質払拭時点の直後に封止材塗布を実施することによって電気光学物質の溢れ出しに影響されずにきわめて良好な封止状態を得ることができる。
【００１２】
また、本発明の別の電気光学装置の製造方法は、電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造方法であって、前記パネル封止工程には、前記電気光学パネルを第１圧力で加圧した状態で前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布段階と、前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持する減圧保持段階とを有し、前記封止材塗布段階及び前記減圧保持段階が常に連続実行されるように設定し、前記封止材塗布段階における封止材塗布時点の一定時間後に前記減圧保持工程における減圧を開始することを特徴とする。
【００１３】
この発明によれば、封止材塗布時点の一定時間後に減圧を開始することにより、封止材を開口部内に引き込むとともに電気光学物質の溢れ出しも停止されるため、封止状態を安定させることができるため、電気光学装置の歩留まりの向上及び品位の安定を図ることができる。また、封止材塗布段階及び減圧保持段階が常に連続実行されるように設定しているため、封止材塗布時点から減圧開始時点までが最短時間になるように時間管理することが可能になり、必ずしも電気光学パネルの加圧時間を長くしなくても安定した封止状態を得ることが可能になるため、パネル封止工程の時間短縮を図ることができ、製造効率を高めることができる。この発明においては、封止材塗布時点の直後に減圧を開始することによって電気光学物質の溢れ出しに影響されずにきわめて良好な封止状態を得ることができる。
【００１４】
次に、本発明のさらに別の電気光学装置の製造方法は、電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造方法であって、前記パネル封止工程には、前記電気光学パネルを第１圧力で加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭段階と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布段階と、前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持する減圧保持段階とを有し、前記電気光学物質払拭段階、前記封止材塗布段階及び前記減圧保持段階が常に連続実行されるように設定し、前記電気光学物質払拭段階における電気光学物質払拭完了時点の一定時間後に前記封止材塗布段階における封止材塗布を実施し、及び、前記封止材塗布時点の一定時間後に減圧を開始することを特徴とする。
【００１５】
この発明によれば、上記の２発明の効果が重畳することになるので、さらに封止状態が安定し、歩留まり向上、品位の安定、製造効率を向上をより高次元で実現できる。この発明においても、電気光学物質払拭時点の直後に封止材塗布を実施し、封止材塗布時点の直後に減圧を開始することによって電気光学物質の溢れ出しに影響されずにきわめて良好な封止状態を得ることができる。
【００１６】
本発明において、前記パネル封止工程には、前記開口部に塗布された前記封止材を硬化させる封止材硬化段階が設けられる場合がある。
【００１７】
本発明において、前記パネル封止工程では、前記電気光学パネルが圧縮性流体により加圧されることが好ましい。これによれば、電気光学パネルを圧縮性流体で加圧することにより、電気光学パネルに均一に圧力を加えることができる。また、圧縮性流体で電気光学パネルを加圧する場合には、セル厚を急激に変化させないことによって、電気光学パネルに与える損傷を低減できる。さらに、以上のような利点のある圧縮性流体による加圧では、電気光学パネルが機械的に規制されることがないため、上述のパネル封止工程における電気光学物質の溢れ出しが多くなる傾向がある。したがって、このような圧縮性流体による加圧方法を採用している場合に本発明を適用することはきわめて好都合である。
【００１８】
本発明において、前記パネル封止工程には、予め前記電気光学パネルを加圧して所定時間保持するパネル加圧保持段階を有することが好ましい。特に、このパネル加圧保持段階において、最初に高い圧力で加圧する第１加圧期間と、その後により低い圧力で加圧する第２加圧期間とを設けることにより、電気光学パネルのセル厚をより迅速に安定化させることができるため、パネル加圧保持段階の時間を短縮しつつ、その後の電気光学物質の溢れ出しを低減できる。
【００１９】
次に、本発明の電気光学装置の製造装置は、電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を実施する電気光学装置の製造装置であって、前記電気光学パネルを加圧するためのパネル加圧手段と、前記電気光学パネルを加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭手段と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布手段とを設け、前記電気光学物質払拭手段による動作、及び、前記封止材塗布手段による動作が常に連続実行され、前記電気光学物質払拭手段による電気光学物質払拭完了時点の一定時間後に前記封止材塗布手段による封止材塗布を実施するように制御されることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の別の電気光学装置の製造装置は、電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造装置であって、前記電気光学パネルを加圧するためのパネル加圧手段と、該パネル加圧手段により前記電気光学パネルを第１圧力で加圧した状態で前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布手段と、を有し、前記パネル加圧手段は、前記封止材塗布手段により前記開口部に前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持するように動作し、前記封止材塗布手段による動作、及び、前記第１圧力から前記第２圧力への減圧が常に連続実行され、前記封止材塗布手段による封止材塗布時点の一定時間後に前記第１圧力から前記第２圧力への減圧を開始するように制御されることを特徴とする。
【００２１】
さらに、本発明の異なる電気光学装置の製造装置は、電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造装置であって、前記電気光学パネルを加圧するためのパネル加圧手段と、該パネル加圧手段により第１圧力で加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭手段と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布手段と、を有し、前記封止材塗布手段により前記開口部に前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持するように動作し、前記電気光学物質払拭手段による動作、前記封止材塗布手段による動作、及び、前記第１圧力から前記第２圧力への減圧が常に連続実行され、前記電気光学物質払拭手段による電気光学物質払拭完了時点の一定時間後に前記封止材塗布手段による封止材塗布を実施し、及び、前記封止材塗布時点の一定時間後に前記第１圧力から前記第２圧力への減圧を開始するように制御されることを特徴とする。
【００２２】
さらに、本発明の異なる電気光学装置の製造装置は、電気光学物質封入領域内に開口部から電気光学物質を注入してなる電気光学パネルを封止するためのパネル封止工程を有する電気光学装置の製造装置であって、前記電気光学パネルを加圧するためのパネル加圧手段と、該パネル加圧手段により第１圧力で加圧した状態で前記開口部から溢れた前記電気光学物質を払拭する電気光学物質払拭手段と、前記開口部に封止材を塗布する封止材塗布手段と、前記封止材を硬化する紫外線照射手段とを有し、前記封止材塗布手段により前記開口部に前記封止材を塗布した後に前記第１圧力を減圧して第２圧力に保持するように動作し、前記第２圧力への減圧開始から紫外線照射を開始するまでの時間を常に一定に制御されることを特徴とする。
【００２３】
本発明において、前記電気光学パネルを圧縮性流体により加圧した状態で保持する保持手段を有することが好ましい。これによれば、電気光学パネルを圧縮性流体で加圧することにより、電気光学パネルに均一に圧力を加えることができる。また、圧縮性流体で電気光学パネルを加圧する場合には、セル厚を急激に変化させないことによって、電気光学パネルに与える損傷を低減できる。さらに、以上のような利点のある圧縮性流体による加圧では、電気光学パネルが機械的に規制されることがないため、上述のパネル封止工程における電気光学物質の溢れ出しが多くなる傾向がある。したがって、このような圧縮性流体により加圧した状態で保持する保持手段を採用している装置に本発明を適用することはきわめて好都合である。
【００２４】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る電気光学装置の製造方法及び清掃装置の実施形態について詳細に説明する。本実施形態の電気光学装置の製造方法及び製造装置は、電気光学装置の製造工程のうちの、特にパネル封止工程を特徴とするものであるが、最初に電気光学装置の製造工程の概要について、液晶装置を例にとって説明する。なお、本発明は液晶装置に限られるものではなく、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置、電気泳動装置、プラズマディスプレイ装置等の電気光学装置にも適用が可能である。
【００２５】
図６は、液晶装置の製造工程の概略を示す概略フローチャートである。最初に、ガラスやプラスチックなどで構成された２枚の基板１１，１２が準備される。これらの基板１１，１２の内面上には、それぞれ内面構造として所定の電極パターンが形成される。また、必要に応じてＴＦＴやＴＦＤなどのスイッチング素子が形成される。さらに、必要に応じて配向膜が塗布される。カラー液晶表示装置であれば、カラーフィルタが形成される場合もある。
【００２６】
次に、一方の基板１１にシール材が塗布される。この塗布工程は、スクリーン印刷などによってなされる場合もあるが、後述する塗布装置と同様の塗布装置（ディスペンサ）によってシール材が所定パターンに描画される場合もある。その後、基板１１，１２がシール材を介して相互に貼り合わされる。
【００２７】
次に、シール材を加熱或いは紫外線照射などによって硬化することによってパネル構造が形成される。そして、上記シール材によって囲まれた領域に、シール材の開口部である液晶注入口から液晶を注入する。この液晶注入工程では、たとえば、パネル構造を真空中に配置して、シール材の開口部を液晶で塞ぎ、周囲の圧力を上昇させることによってシール材の内側と外側との間に内外圧力差が発生するため、この圧力差によって液晶がシール材の内側に引き込まれるようにする。
【００２８】
次に、上記のようにして液晶を注入したパネルを封入する。このパネル封止工程が本実施形態の特徴点となる。このパネル封止工程では、まず、上記のように構成された液晶パネルを加圧する。これは、上記のような液晶注入後の状態では液晶パネルが太鼓状に膨らみ、パネル構造の適正な基板間ギャップや平坦度が確保されないため、液晶パネルの基板１１，１２を加圧して正規のパネル形状になるように規制するためである。そして、この加圧によって液晶パネルから余分な液晶があふれ出るので、その液晶をふき取ってから、液晶注入口に封止材を塗布し、この封止材を硬化させることによって液晶をシール材の内側に封入する。
【００２９】
図１は、本実施形態の製造装置１００の全体構成を模式的に示す概略構成図である。この製造装置１００では、４つの作業ステーションが用意されている。第１ステーション１１０では、液晶パネル５０を給材し、この液晶パネル５０を保持ユニット１５０において所定位置に保持した状態とする。そして、液晶パネルは上記の保持状態のまま、保持ユニット１５０とともに第２ステーション１２０に送られる。第２ステーション１２０では液晶パネルを加圧し、基板１１，１２を平坦にする。そして、その加圧状態のままで第３ステーション１３０に送る。第３ステーション１３０では、加圧によって液晶注入口からあふれ出た液晶を吸収材などにより払拭し、その後、液晶注入口に封止材を塗布する。そして、その後、液晶パネルに対する加圧状態を減圧して、塗布された封止材が液晶注入口の内部に僅かに引き込まれるようにする。しかる後に、液晶パネルは第４ステーションへと送られ、ここで、封止材に硬化処理が施される。この硬化処理は、たとえば封止材が紫外線硬化樹脂であれば、紫外線照射によってなされる。封止材が硬化されると、液晶パネルに対する加圧状態は解除され、第１ステーション１１０へと送られる。第１ステーション１１０へと送られた液晶パネル５０は保持ユニット１５０から解放され、製造装置１００から除材される。
【００３０】
図２は、第１ステーション１１０における給材後の液晶パネル５０の処理状態を示す概略斜視図である。液晶パネル５０は、第１ステーション１１０に給材された後に、位置決め部材１１１によってその上辺部５０ｕが位置決めされ、その後、下辺部５０ｄが位置決め部材１１２によって位置決めされる。そして、位置決め部材１１１，１１２によって上下位置が規制された状態で、保持ユニット１５０の保持部材１５１，１５２が前後両側から液晶パネル５０を挟みつけることにより、液晶パネル５０は保持固定された状態となる。ここで、液晶パネル５０の液晶注入口５０ａは、上記の上辺部５０ｕに開口している。
【００３１】
保持部材１５１，１５２には、その内面上にＯリング（パッキン）などの密閉手段１５１ａ，１５２ａが閉曲線状に設置されている。そして、この密閉手段１５１ａ，１５２ａによって取り囲まれた内面部分には気体導入口１５１ｂ，１５２ｂが開口している。液晶パネル５０を保持部材１５１，１５２で挟持したとき、密閉手段１５１ａ，１５２ａが液晶パネル５０の基板表面の外縁部に当接し、これによって液晶パネル５０の基板表面上に密閉空間が画成される。この密閉空間は、上記気体導入口１５１ｂ、１５２ｂを介して気体導入部１５１ｃ，１５２ｃに連通している。
【００３２】
上記のようにして第１ステーション１１０において液晶パネル５０が保持ユニット１５０に保持された状態になると、第２ステーション１２０へ送られ、気体導入部１５１ｃ，１５２ｃが図示しない加圧装置に接続され、気体導入部１５１ｃ，１５２ｃ及び気体導入口１５１ｂ，１５２ｂを介して上記密閉空間に気体（エア）が所定圧力で導入され、これによって液晶パネル５０が加圧される。そして、この加圧状態は、加圧力が後述するように変動するものの、第４ステーションにおいて封止材が硬化されるまで維持される。
【００３３】
図３は、第３ステーション１３０に設置された塗布装置１６０の概略構成を模式的に示す概略構成斜視図である。この塗布装置１６０は、液晶パネル５０を保持する保持ユニット１５０の上方に配置される塗布ユニット１６０Ａと、この塗布ユニット１６０Ａを制御する制御部１６０Ｂとを備えている。図示例では、塗布ユニット１６０Ａは複数設けられ、それぞれが制御部１６０Ｂによって制御されている。塗布ユニット１６０Ａには、図示しない駆動機構によって上下に移動される移動フレーム１６１と、この移動フレーム１６１に装着されたシリンジ１６２と、シリンジ１６２の先端に設けられたノズル１６３とを備えている。
【００３４】
図４は、上記製造装置１００によって実施される各処理段階と、加圧力の変化態様とを示す説明図である。図示Ａ段階において、第１ステーション１１０に給材され保持ユニット１５０に保持された液晶パネル５０は、図示Ｂ段階において、第２ステーション１２０において気体（すなわち圧縮性流体）によって加圧される。ここで、最初に高い圧力Ｐ１で一次加圧がなされ、液晶パネルを急激に加圧した後に、より低い圧力Ｐ２で２次加圧がなされる。これによって、図９に示すように、一次加圧における高い圧力Ｐ１により液晶パネルの当初のセル厚ｄ０（図８（ａ）参照）が急激に減少してセル厚ｄ１になり（図８（ｂ）参照）、その後、時点ｔ１において圧力が変化し、二次加圧における圧力Ｐ２により既定のセル厚ｄ２に徐々に近づいていく（図８（ｃ）参照）。このような段階的な加圧手順によって所望のセル厚ｄ２に充分に接近するまでの安定化時間ｔ２を短縮することができる。この安定化時間ｔ２は、液晶パネルが所望のセル厚ｄ２を備えるように製造する上で、加圧保持段階（Ｂ段階）として確保しなければならない必要最小限の時間である。なお、液晶パネルの加圧前のセル厚ｄ０にはばらつきがあるため、図９には、標準的なセル厚を有する液晶パネルのデータが実線で描かれているのに対して、標準よりもセル厚が大きい液晶パネルのデータは破線で、標準よりもセル厚が小さい液晶パネルのデータは一点鎖線で示してある。いずれの場合でも、図４に示す圧力Ｐ１，Ｐ２を適切に設定してあれば、液晶パネルのセル厚は時間の経過とともに所望のセル厚ｄ２に収束していく。
【００３５】
実際には、図９において二点鎖線で囲まれた領域を拡大して示すように、上記安定化時間ｔ２以降であっても、実際には、セル厚は僅かに変化するため、液晶注入口（開口部）からの液晶の溢れ出しが発生する可能性がある。しかし、上記のように段階的に加圧力を調整することによって、安定化時間ｔ２を短縮できるだけでなく、安定化時間ｔ２より後の液晶パネルの液晶注入口（開口部）５０ａからの液晶を溢れ出しの量を低減することもできる。
【００３６】
再び図４に戻って説明を続ける。上記の圧力Ｐ２で加圧された状態が保持されたまま、液晶パネルは第３ステーションへと移動する。そして、図４に示すＣ段階（待機段階Ｃ）においては、そのまま液晶パネルを停止させた状態で待機する。この間に、第１ステーションにおける液晶パネルのセッティングや、その後の第３ステーションでの処理機構の起動を行う。次に、Ｄ段階（液晶払拭段階Ｄ）では、液晶パネルの液晶注入口から溢れ出した液晶が吸収材などによって払拭される。その後、Ｅ段階（封止材塗布段階Ｅ）において、封止材が液晶注入口に塗布される。さらに、Ｇ段階（減圧保持段階Ｇ）では、圧力がＰ２からＰ３に減圧され、この圧力Ｐ３で保持される。このとき、液晶パネルへの加圧力が低下することによって、液晶注入口（開口部）に塗布された封止材は開口部内側に僅かに引き込まれ、開口部をより確実に封鎖した状態とされる。ここで、上記液晶払拭段階Ｄ、封止材塗布段階Ｅ、減圧保持段階Ｇは、常に連続的に実行される。また、液晶払拭段階Ｄにおける液晶払拭完了時点から封止材塗布段階Ｅにおける封止材塗布時点までの時間が一定時間になるように時間管理される。さらに、封止材塗布段階Ｅにおける封止材塗布時点から減圧保持段階Ｇにおける減圧開始時点までの時間が一定時間になるように時間管理される。これらの一定時間は、各段階Ｄ，Ｅ，Ｇが連続実行されることによって装置上の最短時間に設定される。
【００３７】
その後、上記減圧保持段階Ｇにおいて液晶パネルは第４ステーションへと移動する。そして、この第４ステーションにおいて、減圧保持段階Ｇが終了すると、封止材硬化段階Ｈに移行する。この封止材硬化段階Ｈにおいては、封止材が所定方法で硬化処理を受ける。たとえば、紫外線照射によって封止材が光硬化する。封止材が硬化するとそのまま待機し、やがて第１ステーションへと戻り、液晶パネルは装置から除材される。
【００３８】
図５は、本実施形態の製造装置１００における工程内容をより詳細に示すチャートである。製造装置１００では、液晶パネルを保持する保持ユニット１５０が４組あり、それぞれが４つのステーションに配置されるように構成されているので、各ステーションに割り振られた処理時間（以下、単に「ＳＴ処理時間」という。）Ｔｓは相互に同一である。ここで、各ステーション間を移動する移動時間はＳＴ移動時間Ｔｔである。
【００３９】
この製造装置１００において、動作のシーケンスを決定するにはたとえば以下のようにする。まず、第２ステーションの処理時間（上記の安定化時間ｔ２より長いことが好ましい。）を実験、実測などによって設定し、これを上記のＳＴ処理時間Ｔｓとする。そして、第１ステーションの起動時間ｔｃ１（第３ステーションの待機時間ｔｃ−第３ステーションの起動時間ｔｃ３）を設定する。この第１ステーションの起動時間ｔｃ１は、作業者が装置への給材を行う場合には、作業者の熟練に応じて設定し、給材装置などによって自動給材を行う場合には、自動給材が可能な時間を設定する。
【００４０】
また、第３ステーションの実行時間ｔｓ３（液晶払拭段階の作業時間ｔｄ＋封止材塗布段階の作業時間ｔｅ）、及び、上記ＳＴ移動時間Ｔｔを設定する。これらの時間は装置を動作させて実測した時間（最短時間）に設定することが好ましい。
【００４１】
さらに、減圧保持時間ｔｇは、製品の品位に必要な設定時間を実験で定めることによって決定する。ここで、減圧保持時間ｔｇ＝設定時間−ＳＴ移動時間Ｔｔとする。ただし、この値が０以下の場合には減圧保持時間ｔｇ＝ＳＴ移動時間Ｔｔとする。また、封止材硬化時間ｔｈを実験などにより設定する。
【００４２】
なお、封止材を塗布した後に加圧力を減圧することによって封止材を開口部（液晶注入口）の内側にやや引き込み、確実な封止状態を得ることができる。このとき、封止材の封止状態を安定させためには、上記の減圧保持時間ｔｇ、すなわち、減圧開始時点から封止材の硬化開始時点までの時間を一定にすることが好ましい。本実施形態では、減圧保持時間ｔｇを一定にすることを前提として、以下説明する。
【００４３】
次に、第３ステーションの起動時間ｔｃ３を以下の式（１）により算出する。
ｔｃ３＝２Ｔｓ−（ｔｃ１＋ｔｓ３＋ｔｇ＋ｔｈ）      …  （１）
ここで、算出値が０以下の場合にはｔｃ３＝０とする。
【００４４】
また、上記減圧保持時間ｔｇのうち、第３ステーションにおいて減圧状態で保持される３ＳＴ減圧保持時間ｔｇ３を以下の式（２）により算出する。
ｔｇ３＝（ｔｖ３＋ｔｇ＋ｔｈ）／２−ｔｖ３      …  （２）
ここで、ｔｖ３＝ｔｃ＋ｔｓ３＝ｔｃ３＋ｔｃ１＋ｔｓ３である。
【００４５】
さらに、上記減圧保持時間ｔｇのうち、第４ステーションにおいて減圧状態で保持される４ＳＴ減圧保持時間ｔｇ４を以下の式（３）により算出する。
ｔｇ４＝ｔｇ−ｔｇ３−Ｔｔ      …  （３）
ここで、ｔｇ４が０以下の場合はオーバータイム異常として設定をやり直す。
【００４６】
以上のようにして、第１ステーションから第４ステーションの各段階の時間設定を行い、これを制御手段に設定して、上記製造装置１００を動作させる。このようにすると、第３ステーションでは、液晶払拭段階Ｄ、封止材塗布段階Ｄ及び減圧保持段階Ｇを連続して、しかも既定の時間間隔で実行できるように、他のステーションにおける処理タイミングを勘案した上で待機段階Ｃの待機時間ｔｃが設定されることになる。この場合、減圧保持段階Ｇの減圧保持時間ｔｇを、移動時間Ｔｔを挟んで第３ステーションと第４ステーションとに割り振ることによって、第３ステーションにおける液晶払拭段階Ｄ、封止材塗布段階Ｄ及び減圧保持段階Ｇの連続実行を確保しながら、ある程度の設定自由度を確保している。
【００４７】
この実施形態では、第３ステーションにおいて待機時間ｔｃが設定されていて、通常は、第１ステーションにおいて液晶パネルの給材が完了した後に、第３ステーションでの実質的な処理動作が開始されるようになっている。そして、たとえば、第１ステーションにおいて液晶パネルの給材にトラブルがあり、上記待機時間ｔｃでは間に合わない場合には、第３ステーションは待機時間ｔｃが経過しても、実質的な処理動作を開始せず、そのまま待機段階Ｃにて待機するようになっている。すなわち、本実施形態では、第３ステーションにおける液晶払拭段階Ｄ、封止材塗布段階Ｄ及び減圧保持段階Ｇの連続実行が何時如何なるときでも確保されるように動作する。
【００４８】
次に、上記実施形態に対する比較例のシーケンス構成について、図７を参照して説明する。この比較例では、第１ステーションのＡ段階及び第２ステーションのＢ段階（パネル加圧保持段階）は上記実施形態と同様である。第３ステーションでは、液晶払拭段階Ｄ、封止材塗布段階Ｅを実行し、その後、待機段階Ｆにて待機する。そして、第４ステーションに移行してから減圧保持段階Ｇが開始され、所定時間後に封止材硬化段階Ｈが実行される。
【００４９】
この比較例では、液晶払拭段階Ｄ及び封止材塗布段階Ｅが第３ステーションにおいて当初から実行される。したがって、封止材塗布から減圧開始までに待機時間がかかるため、その間において液晶パネルの液晶注入口からあふれ出る液晶によって封止材に異常が生じ、封止不良を招く恐れがある。また、この比較例では、第１ステーションにおいて給材トラブルが発生した場合、第３ステーションにある液晶パネルに対して液晶払拭段階Ｄ及び封止材塗布段階Ｅが実行されてしまうため、待機段階Ｆで第１ステーションの給材完了を待つことになる。したがって、待機段階Ｆにおける待機時間が状況によって変化することになるので、封止状態に大きなばらつきが発生することになる。
【００５０】
なお、上記実施形態では電気光学装置として液晶装置を例にとって説明したが、本発明の適用範囲はそれに限られるものではなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、ＬＥＤ（ライトエミッティングダイオード）表示装置などの電気光学装置に対しても同様に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態の液晶装置の製造装置の全体構成を示す概略構成図。
【図２】実施形態の保持ユニット及び位置決め手段を示す概略分解斜視図。
【図３】実施形態の塗布装置の概略構成を示す概略斜視図。
【図４】実施形態のシーケンス動作と加圧力の関係を示すグラフ。
【図５】実施形態のシーケンス動作をステーション毎に示す説明図。
【図６】液晶装置の製造工程の概略を示す概略フローチャート。
【図７】比較例のシーケンス動作と加圧力の関係を示すグラフ。
【図８】パネル封止工程の液晶パネルのセル厚変化を示す説明図（ａ）〜（ｃ）。
【図９】液晶パネルの加圧後のセル厚変化を示すグラフ。
【符号の説明】
１１，１２…基板、５０…液晶パネル、５０ａ…液晶注入口、５０ｕ…上辺部、１００…製造装置、１１０…第１ステーション、１２０…第２ステーション、１３０…第３ステーション、１４０…第４ステーション、１５０…保持ユニット、１６０…塗布装置、１６０Ａ…塗布ユニット、１６０Ｂ…制御部、１６１…移動フレーム、１６２…シリンジ、１６３…ノズル、Ｂ…加圧保持段階、Ｃ…待機段階、Ｄ…液晶払拭段階、Ｅ…封止材塗布段階、Ｇ…減圧保持段階、Ｈ…封止材硬化段階
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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