(57)【要約】【課題】波長分散特性と屈折率異方性の双方に優れた液晶化合物を用いた位相差板（光学補償シート）を提供する。【解決手段】一般式（Ｉ）［（Ｒ1）ａ−Ｍ−（Ｌ1）］ｂ−（Ｌ2）で表される化合物から形成される光学異方性層を有する位相差板。上記Ｒ1はアルキル基を表し、該アルキル基中の−ＣＨ2−基は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ2）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−で置換されても良い。Ｒ2は水素原子またはアルキル基を表す。Ｍは３つ以上の芳香族環からなる基を表す。Ｌ1は単結合または二価のアルキレン基を表す。アルキレン基の中の−ＣＨ2−基は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ2）−で置換されても良い。Ｌ2は、環状、アルケンまたはアルキンのｂ価の基を表す。ａはＭに置換しているＲ1の数を、ｂは２〜６の整数を表す。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される化合物から形成される光学異方性層を有することを特徴とする位相差板。
一般式（Ｉ）
［（Ｒ1）ａ−Ｍ−（Ｌ1）］ｂ−（Ｌ2）
上記一般式（Ｉ）中：
Ｒ1は、炭素数１〜２０のアルキル基を表す。該アルキル基中の−ＣＨ2−基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ2）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−で置換されていても良いが、−Ｏ−と−Ｏ−とが直接結合することはない。
Ｒ2は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。
Ｍは、３つ以上の芳香族環からなる基を表す。
Ｌ1は、単結合または炭素数１〜１０の二価のアルキレン基を表す。アルキレン基の中の−ＣＨ2−基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ2）−で置換されていても良いが、−Ｏ−と−Ｏ−とが直接結合することはない。
Ｌ2は、環状、アルケンまたはアルキンのｂ価の基を表す。
ａは、Ｍに置換しているＲ1の数を表す。ｂは、２ないし６の整数を表す。
【請求項２】
一般式（Ｉ）で表される化合物において、複数個存在するＭ同士が多重結合で共役していないことを特徴とする請求項１に記載の位相差板。
【請求項３】
一般式（Ｉ）のＭがトリフェニレン環を有する基であることを特徴とする請求項１または２に記載の位相差板。
【請求項４】
一般式（Ｉ）で表される化合物が液晶性を示すことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の位相差板。
【請求項５】
一般式（Ｉ）で表される化合物が重合性基を有する液晶性化合物であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の位相差板。
【請求項６】
一般式（Ｉ）で表される化合物が一般式（II）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の位相差板。
一般式（II）
【化１】
2004302446.tif 000020
一般式（II）中：
Ｒ1およびＬ1は一般式（Ｉ）におけるそれらと同義である。
Ｌ4は、環状、アルケンまたはアルキンの２価の基を表す。
ｅはトリフェニレン環に置換している数を表す。
なお、Ｌ1、Ｌ4を介して結合する２つのトリフェニレン環は共役していない。
【請求項７】
下記一般式（II）で表される化合物。
一般式（II）
【化２】
2004302446.tif 000021
一般式（II）中：
Ｒ1およびＬ1は一般式（Ｉ）におけるそれらと同義である。
Ｌ4は、環状、アルケンまたはアルキンの２価の基を表す。
ｅはトリフェニレン環に置換している数を表す。
なお、Ｌ1、Ｌ4を介して結合する２つのトリフェニレン環は共役していない。
【請求項８】
一般式（ＩI）で表される化合物が重合性基を有する液晶性化合物であることを特徴とする請求項７記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な液晶を利用した位相差板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＳＴＮ型液晶表示装置は、ＳＴＮ型液晶セル、二枚の偏光板およびＳＴＮ型液晶セルと偏光板との間に設けられる一枚または二枚の光学補償シート（位相差板）からなる。
液晶セルは、棒状液晶性分子、それを封入するための二枚の基板および棒状液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。ＳＴＮ型液晶セルでは、棒状液晶性分子を配向させるための配向膜が、二枚の基板に設けられる。さらに、カイラル剤を用いて、棒状液晶性分子を１８０乃至３６０度にねじれ配向させる。ＳＴＮ型液晶表示装置には、能動素子（薄膜トランジスターやダイオード）がない単純マトリックス電極構造でも、時分割駆動によって大容量の鮮明な表示が可能であるとの特徴がある。
【０００３】
位相差板がないＳＴＮ型液晶表示装置では、棒状液晶分子の複屈折性のため、表示画像がブルーまたはイエローに着色する。表示画像の着色は、モノクロ表示でもカラー表示でも不都合である。位相差板は、このような着色を解消して、明るい鮮明な画像を得るために用いられる。位相差板にはまた、液晶セルの視野角を拡大する機能を付与する場合もある。位相差板としては、延伸複屈折フィルムが従来から使用されている。延伸複屈折フィルムを用いたＳＴＮ型液晶表示装置用の位相差板については、特許文献１及び特許文献２に記載がある。
【０００４】
特許文献３には大きな屈折率異方性を有するディスコティック液晶が開示されているが、波長分散特性が悪化しており、性能改良は不十分であった。一般に波長分散特性と屈折率異方性はトレードオフの関係に有り、屈折率異方性を大きくすると波長分散特性は悪化する。このトレードオフから脱却する技術の開発が望まれていた。
また、非特許文献１、非特許文献２及び非特許文献３には、ビス型化したディスコティック液晶が開示されているが、光学性能に関しては全く開示されていなかった。また、これら液晶は共役系が長いために黄色く着色をしていたり、水銀を含んでいるなど、光学部材用途として実用に適さないものであった。また特許文献４にはトリフェニレンをビス型化した化合物が一般化した式で開示されているが、これらはいずれもトリフェニレン環の側鎖に多くの芳香環（主にベンゼン環）を有しており、分子量が極めて大きい分子となっている。そのため、粘度が高くて配向が遅い、分子量が大きいゆえに屈折率異方性が小さい等の問題があった。
【０００５】
【特許文献１】特開平７−１０４２８４号公報
【特許文献２】特開平７−１３０２１号公報
【特許文献３】特開２００１−１６６１４７号公報
【特許文献４】特開平８−３２７８２２号公報
【非特許文献１】Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ  ａｎｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ、３５７巻、５５頁（２００１年）
【非特許文献２】Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ、４巻、１５７頁（２００２年）
【非特許文献３】Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ、２９巻、８９９頁（２００２年）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、波長分散特性と屈折率異方性の双方に優れた液晶材料並びに該化合物を用いた位相差板（光学補償シート）を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的は、下記構成の位相差板及び液晶化合物によって達成される。
１．支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される化合物から形成される光学異方性層を有することを特徴とする位相差板。
一般式（Ｉ）
［（Ｒ1）ａ−Ｍ−（Ｌ1）］ｂ−（Ｌ2）
上記一般式（Ｉ）中：
Ｒ1は、炭素数１〜２０のアルキル基を表す。該アルキル基中の−ＣＨ2−基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ2）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−で置換されていても良いが、−Ｏ−と−Ｏ−とが直接結合することはない。
Ｒ2は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。
Ｍは、３つ以上の芳香族環からなる基を表す。
Ｌ1は、単結合または炭素数１〜１０の二価のアルキレン基を表す。アルキレン基の中の−ＣＨ2−基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ2）−で置換されていても良いが、−Ｏ−と−Ｏ−とが直接結合することはない。
Ｌ2は、環状、アルケンまたはアルキンのｂ価の基を表す。
ａは、Ｍに置換しているＲ1の数を表す。ｂは、２ないし６の整数を表す。
２．一般式（Ｉ）で表される化合物において、複数個存在するＭ同士が多重結合で共役していないことを特徴とする上記１に記載の位相差板。
３．一般式（Ｉ）のＭがトリフェニレン環を有する基であることを特徴とする上記１または２に記載の位相差板。
４．一般式（Ｉ）で表される化合物が液晶性を示すことを特徴とする上記１乃至３のいずれかに記載の位相差板。
５．一般式（Ｉ）で表される化合物が重合性基を有する液晶性化合物であることを特徴とする上記１乃至４のいずれかに記載の位相差板。
６．一般式（Ｉ）で表される化合物が一般式（II）で表される化合物であることを特徴とする上記１に記載の位相差板。
一般式（II）
【０００８】
【化１】
2004302446.tif 000002
【０００９】
一般式（II）中：
Ｒ1およびＬ1は、一般式（Ｉ）におけるそれらと同義である。
Ｌ4は、環状、アルケンまたはアルキンの２価の基を表す。
ｅはトリフェニレン環に置換している数を表す。
なお、Ｌ1、Ｌ4を介して結合する２つのトリフェニレン環は共役していない。
７．上記一般式（II）で表される化合物。
８．一般式（ＩＩ）で表される化合物が重合性基を有する液晶性化合物であることを特徴とする上記７記載の化合物。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の位相差板（光学補償シート）は、光学異方性層に波長分散特性と屈折率異方性の双方に優れたディスコティック液晶性化合物を用いているので、視野角が広くしかも色味の変化が少ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の位相差板は、支持体上に、一般式（Ｉ）で表される化合物から形成される光学異方性層を有する。
【００１２】
本発明において前記「から形成される」とは、光学異方性層が一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する場合、及び一般式（Ｉ）で表される化合物の重合物とを含有する場合の少なくとも一つを意味する。例えば、本発明の化合物が重合性基を有する場合（好ましくは本発明の化合物が末端に重合性基を有する場合）、光学異方性層は一般式（Ｉ）で表される化合物の重合物を含有することになるが、このような態様も本発明に含まれる。
【００１３】
まず、本発明の一般式（Ｉ）で表される液晶化合物について説明する。
Ｒ1は、炭素数１〜２０のアルキル基を表し、その中の−ＣＨ2−基は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ2）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−で置換されていても良い。ただし、−Ｏ−と−Ｏ−とが直接結合することはない。Ｒ2は水素原子もしくは炭素数１〜５のアルキル基（好ましくはメチル基）を表す。
Ｒ1は、置換基を有していても良く、置換基としては重合性基が好ましい。重合性基としては重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。重合性エチレン性不飽和基の例としては下記の（Ｍ−１）〜（Ｍ−５）が挙げられる。
【００１４】
【化２】
2004302446.tif 000003
【００１５】
式中、Ｒは水素原子もしくは置換基を表し、水素原子もしくはアルキル基が好ましく、特に好ましくは水素原子もしくはメチル基である。
（Ｍ−１）〜（Ｍ−５）のうちで好ましくは（Ｍ−１）と（Ｍ−２）であり、特に好ましくは（Ｍ−１）である。
開環性重合性基として好ましくは環状エーテル基であり、中でも好ましくはエポキシ基もしくはオキセタン基であり、特に好ましくはエポキシ基である。
Ｍは芳香環３つ以上からなる基を表し、より具体的には以下に表される基である。
Ｍ1−［（Ｌ3）−（Ｍ2）］ａ1
ここで、Ｍ1とＭ2は、それぞれ独立に、芳香環を有する基を表し、具体例としては以下の基が挙げられる。
【００１６】
【化３】
2004302446.tif 000004
【００１７】
Ｌ3は、単結合もしくは炭素数１〜１０の二価のアルキレン基を表し、アルキレン基の中の−ＣＨ2−基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−で置換されていても良いが、−Ｏ−と−Ｏ−とが直接結合することはない。
ａ1は、０ないし３の整数を表し、好ましくは０、１、２であり、特に好ましくは０もしくは１である。
一般式（Ｉ）のＬ1は、Ｌ3と同義である。
一般式（Ｉ）のＬ2は、環状もしくはアルケン、アルキンの多価基を表す。具体例としてはＭ1、Ｍ2の具体例として挙げたもののほかに以下のものが挙げられ、任意の場所で結合して２〜６価の基として機能する。
【００１８】
【化４】
2004302446.tif 000005
【００１９】
また、−（Ｌ1）ｂ−（Ｌ2）−（Ｌ1）ｂ−基を介して結合する複数のＭ同士はお互いに共役しない。
【００２０】
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は置換基を有していてもよく、置換基としてはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アシル基（例えば、アセチル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（例えば、メシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（例えば、ジエチルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、イミノ基、ヘテロ環基（例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有する脂肪族ヘテロ環基であり、例えば、ピペリジル基、モルホリノ基などが挙げられる）、シリル基（例えば、トリメチルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２１】
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の中で好ましくは、下記一般式（II）で表される化合物である。
一般式（II）
【００２２】
【化５】
2004302446.tif 000006
【００２３】
一般式（II）中：
Ｒ1およびＬ1は一般式（Ｉ）におけるそれらと同義である。
Ｌ4は、環状、アルケン、またはアルキンの２価の基を表す。
ｅは、トリフェニレン環に置換している数を表す。
ここで、Ｌ1、Ｌ4を介して結合する２つのトリフェニレン環は共役していない。
【００２４】
一般式（Ｉ）もしくは一般式（ＩＩ）において複数存在するＲ1、Ｍ、Ｌ1は、それぞれ同じであっても異なっていてもよいが、合成の容易さの面からは同じであることが好ましい。
【００２５】
以上のように、本発明の一般式（Ｉ）もしくは一般式（ＩＩ）で表わされる化合物は、式中のＭとＬ２もしくはＬ４で表わされる部分以外に芳香族環を有していない。このような設計を施すことにより分子量の軽減を図り、配向速度の向上、屈折率異方性の増大を図ったものである。また、このような設計は、特にディスコティック液晶の場合、液晶性の発現（特にＮＤ相）を困難にするが、我々はビス型化という設計を組み入れることで液晶性の発現を可能にし、配向速度、屈折率異方性という課題と並立させることに成功した。
【００２６】
以下に本発明の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２７】
【化６】
2004302446.tif 000007
【００２８】
【化７】
2004302446.tif 000008
【００２９】
【化８】
2004302446.tif 000009
【００３０】
【化９】
2004302446.tif 000010
【００３１】
これら一般式（Ｉ）で表される液晶化合物は円盤状の分子構造を有し、ディスコティック液晶化合物である。特開平１１−９２４２０号公報等に記載されているように、なかでも、配向したときに、ＮＤ相（ディスコティックネマティック相）を発現する化合物が光学素子として利用する上で好ましい。
【００３２】
本発明の化合物は、例えば、Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ、２９巻、８９９頁（２００２年）、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ、４巻、１５７頁（２００２年）、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ  ａｎｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ、３５７巻、５５頁（２００１年）、等に記載の方法を参考にして合成することができる。以下に本発明の化合物の代表的な合成例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
（合成例１）例示化合物（１）の合成
【００３３】
【化１０】
2004302446.tif 000011
【００３４】
（１−ａ）（７．４１ｍｍｏｌ）と（１−ｂ）（３．３７ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１００ｍｌ）中で混合し、反応液を１０℃以下に冷却した。そこにトリエチルアミン（１１．３ｍｍｍｏｌ）を滴下した。さらに（１−ｃ）を５０ｍｇ加えた後、室温で１２時間反応させた。１Ｍ塩酸で反応を止め、反応液を１Ｍ塩酸で２回洗浄し、有機層を濃縮した。得られた残渣を酢酸エチルから再結晶することにより例示化合物（１）を５９％の収率で得た。相転移温度は次の通りであった。
Ｃｒｙ      １８６℃      ＮＤ      ２３０℃      Ｉｓｏ
【００３５】
（合成例２）例示化合物（７）の合成
【００３６】
【化１１】
2004302446.tif 000012
【００３７】
（７−ａ）（１.０５ｍｍｏｌ）、（７−ｂ）（０.４７７ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２０ｍｌ）中で混合し、１０℃以下に冷却した。そこに（７−ｃ）（１０ｍｇ）とトリエチルアミン（１.６ｍｍｏｌ）を加えた。その後、反応液を室温にし、１０時間反応させた。１Ｍ塩酸で反応を止め、反応液を１Ｍ塩酸で洗浄した。有機層を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：塩化メチレン／ヘキサン＝１／１）にて精製し、例示化合物（７）を７４％の収率で得た。相転移温度は次の通りであった。
Ｃｒｙ      ２３０℃      ＮＤ      ２５０℃      Ｉｓｏ
【００３８】
（合成例３）  例示化合物（３）の合成
例示化合物（1）と同様の方法により合成した。このものの相転移挙動を偏光顕微鏡を用いて測定したところ、降温時、１４７℃からカラムナー相を示した。
【００３９】
（合成例４）  例示化合物（６）の合成  
例示化合物（7）と同様の方法により合成した。このものの相転移挙動を偏光顕微鏡を用いて測定したところ、降温時、１６４℃からＮＤ相を示した。
【００４０】
（合成例５）  例示化合物（１１）の合成
例示化合物（1）と同様の方法により合成した。このものの相転移挙動を偏光顕微鏡を用いて測定したところ、次の通りであった。
Ｃｒｙ    １３８℃    ＮＤ    １９２℃      Ｉｓｏ
【００４１】
（合成例６）  例示化合物（１５）の合成  
例示化合物（7）と同様の方法により合成した。このものの相転移挙動を偏光顕微鏡を用いて測定したところ、次の通りであった。
約５０℃    ＮＤ    １５２℃      Ｉｓｏ
【００４２】
（合成例７）  例示化合物（１６）の合成  
例示化合物（7）と同様の方法により合成した。このものの相転移挙動を偏光顕微鏡を用いて測定したところ、降温時、９４℃からＮＤ相を示した。
【００４３】
［光学異方性層の製造方法］
本発明の液晶化合物は一度液晶相形成温度まで加熱し、次にその配向状態を維持したまま冷却することによりその液晶状態における配向状態を損なうことなく固定化する（「固定する」と同意）ことができる。また、本発明の液晶化合物は、重合開始剤を添加した組成物を液晶相形成温度まで加熱した後、重合させ冷却することによっても固定化することができる。
なお、配向状態が最終的に固定化された際に、本発明の液晶化合物はもはや液晶性を示す必要はない。例えば、液晶化合物として重合性化合物を用いた場合、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋反応が進行し、高分子量化して、液晶性を失ってもよい。
【００４４】
［位相差板］
本発明の位相差板は、透明支持体の上に設けた配向膜上に、一般式（Ｉ）で表される液晶化合物をその配向状態を固定して含む光学異方性層を形成することにより作製することができる。
ここで、光学異方性層は、本発明の液晶化合物に必要に応じて他の添加剤を加えて液晶組成物を塗布液として調製し、該組成物を配向膜上に塗布した後、上記のように液晶状態の配向状態で固定化することで得ることができる。
液晶化合物から形成される光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．２〜１５μｍであることがさらに好ましく、０．５〜１０μｍであることが最も好ましい。
【００４５】
［光学異方性層の添加剤］
光学異方性層の形成にあたり液晶化合物に加えることのできる添加剤の例としては、空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。
【００４６】
（空気界面配向制御剤）
液晶化合物は、空気界面においては空気界面のプレチルト角で配向する。このプレチルト角は、ｎｘ屈折率方向と空気界面がなすプレチルト角とｎｙ屈折率方向と空気界面がなすプレチルト角とｎｚ屈折率方向と空気界面がなすプレチルト角の３種類がある。このプレチルト角は、化合物の種類によりその程度が異なるために、目的に応じて、空気界面のプレチルト角を任意に制御する必要がある。
このプレチルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。
このような添加剤としては、炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族基または炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に１個以上有する化合物が好ましく、分子内に２個以上有する化合物が更に好ましい。例えば、空気界面配向制御剤としては、特開２００２−２０３６３号公報に記載の疎水性排除体積効果化合物を用いることができる。
【００４７】
空気界面側の配向制御用添加剤の添加量としては、液晶化合物に対して、０．００１質量％乃至２０質量％が好ましく、０．０１質量％乃至１０質量％が更に好ましく、０．１質量％乃至５質量％が最も好ましい。
【００４８】
（ハジキ防止剤）
液晶化合物に添加し、液晶組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。
使用するポリマーとしては、液晶化合物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。液晶化合物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、液晶化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００４９】
（重合開始剤）
本発明では、液晶性化合物はモノドメイン配向、つまり実質的に均一に配向している状態で固定されていることが好ましく、そのため重合性の液晶化合物を用いている場合には重合反応により液晶化合物を固定することが好ましい。
重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応と電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応と電子線照射による重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、５０ｍＪ〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、雰囲気の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させることが好ましい。好ましい酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がさらに好ましく、３％以下が最も好ましい。
【００５０】
（重合性モノマー）
液晶組成物には、重合性のモノマーを添加してもよい。
液晶性化合物とともに使用する重合性モノマーとしては、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に０．５〜５０質量％の範囲にあり、１〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
【００５１】
（塗布溶剤）
液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド、エステルおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００５２】
［塗布方式］
光学異方性層は、上記溶媒を用いて液晶組成物の塗布液を調製し配向膜上に塗布し、液晶化合物を配向処理することで形成する。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００５３】
[配向膜]
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜上に設けられる光学異方性層の液晶化合物に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、ラビング処理もしくは、光照射により形成される配向膜が好ましい。特にポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では液晶便覧(丸善（株）)に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがさらに好ましい。
【００５４】
[配向膜のラビング密度]
配向膜のラビング密度と配向膜界面での液晶化合物のプレチルト角との間には、ラビング密度を高くするとプレチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとプレチルト角は大きくなる関係があるので、配向膜のラビング密度を変えることで、プレチルト角の調整をすることができる。
配向膜のラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会編（丸善（株）、２０００年）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ）：Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
上記式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、Ｉはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。
ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
【００５５】
［透明支持体］
本発明の位相差板の透明支持体としては、主に光学的等方性で、光透過率が８０％以上であれば、特に材料の制限はないが、ポリマーフイルムが好ましい。
ポリマーの具体例として、セルロースエステル類（例、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。ここで、低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を指す。炭素原子数が２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルとしては、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであってもＷＯ００／２６７０５号明細書に記載の分子を修飾することで複屈折の発現性を低下させたものを用いることもできる。
【００５６】
（セルロースエステル）
以下、透明支持体として好ましく使用されるセルロースエステル（特に、セルロースセテート）について詳述する。
セルロースエステルとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
一般的な方法で得られるセルロースエステルでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３づつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明では、セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％以上４０％以下でアシル基で置換されていることが好ましく、さらには３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【００５７】
（レターデーション上昇剤）
透明支持体として用いるポリマーフイルム、特にセルロースアセテートフィルムは、レターデーションを調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することも可能である。このようなレターデーション上昇剤を使用する場合、レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【００５８】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【００５９】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。
二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１、ＷＯ００／２６１９Ａ１、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報、特願２００２−７０００９号明細書等に記載されている。
【００６０】
（セルロースアセテートフィルムの成膜）
セルロースアセテートフィルムは、調製されたセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりを製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加してもよい。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。  流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００６１】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフィルム化することもできる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによりフィルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルムの流延方法を用いてもよい。
【００６２】
セルロースアセテートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、０〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明のセルロースアセテートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。
【００６３】
（添加剤）
セルロースエステルフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジ−２−エチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【００６４】
セルロースエステルフイルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止剤を添加してもよい。  劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。
特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。
【００６５】
（表面処理、その他物性）
セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【００６６】
セルロースアセテートフィルムの表面処理は、配向膜などとの接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【００６７】
また、セルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。
表面エネルギーは、前述した光学異方性層の表面エネルギーの算出方法と同様な方法により求めることができる。
【００６８】
セルロースアセテートフィルムの厚さは、通常５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。
【００６９】
［位相差板の用途］
本発明の位相差板は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型、反射型、及び半透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。
以下に、本発明の位相差板を利用した楕円偏光板および液晶表示装置について説明する。
【００７０】
（楕円偏光板）
本発明の位相差板と偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。本発明の位相差板を利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大しうる楕円偏光板を提供することができる。
前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【００７１】
偏光膜は位相差板の光学異方性層側に積層する。偏光膜の位相差板を積層した側と反対側の面に透明保護膜を形成することが好ましい。透明保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフイルム、好ましくはトリアセチルセルロースフイルムが用いられる。セルロースエステルフイルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【００７２】
（液晶表示装置）
本発明の位相差板の利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用位相差板は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用位相差板は、米国特許５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号公報に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板は、特許番号第２８６６３７２号公報に記載がある。
【００７３】
前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）を作製することができる。本発明の位相差板は、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（Ｉn-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子及び位相差板（光学補償シート）からなる。偏光素子は、一般に偏光膜と保護膜からなる。偏光膜と保護膜については、上記楕円偏光で説明したものを用いることができる。
【実施例】
【００７４】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作などは本発明の技術思想から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
【００７５】
実施例１〔高Δｎ（高屈折率異方性）タイプの位相差板の作製〕
（配向膜の作製）
ガラス基板上に配向膜（ＳＥ−１５０（日産化学工業（株）製））を塗布し、１００℃で１０分、２００℃で1時間加熱した後、ラビング処理を行い配向膜層を形成した。得られた配向膜層の膜厚は０．１μｍであった。
【００７６】
（光学異方性層の形成）
前記で作製したラビングした配向膜上に、本発明の液晶化合物である例示化合物（１）のジクロロメタン溶液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布した。その後、２００℃の恒温槽中に入れ、１分間保持した後、すばやくサンプルを冷却すると、配向はガラス状態で固定化されて光学異方性層が形成され、位相差板が得られた。光学異方性層の厚さは１．４μｍであった。
【００７７】
実施例２〔低波長分散タイプの位相差板の作製〕
（光学異方性層の形成）
実施例１と同様の方法で作製した配向膜上に、本発明の液晶化合物である例示化合物（７）のジクロロメタン溶液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布した。その後、２６０℃の恒温槽中に入れ１分間保持し、次に２３０°恒温槽中に入れ１分間保持した後、すばやくサンプルを冷却すると、配向はガラス状態で固定化されて光学異方性層が形成され、位相差板が得られた。光学異方性層の厚さは２．０μｍである。
【００７８】
比較例１〔比較位相差板の作製〕
（光学異方性層の形成）
実施例１と同様の方法で作製した配向膜上に、下記比較液晶化合物（１）のジクロロメタン溶液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布する。その後、１９０℃の恒温槽中に入れ１分間保持した後、すばやくサンプルを冷却すると、配向はガラス状態で固定化されて位相差板が得られた。光学異方性層の厚さは２．０μｍである。
【００７９】
比較液晶化合物（１）
【００８０】
【化１２】
2004302446.tif 000013
【００８１】
［位相差板の評価］
（Δｎの測定）
実施例１、２および比較例１で得られた位相差板のΔｎは、エリプソメーター（APE-100、島津製作所（株）製）を用いて、６３２．８ｎｍの波長を使用して観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想して、Designing Concepts of the Discotic Negative Compensation Films SID98 DIGESTに記載されている手法で算出する。結果を表1に示した。
【００８２】
（波長分散の測定）
実施例１、２および比較例１で得られた位相差板のシート面の法線方向におけるレターデーションの波長依存性は、ＫＯＢＲＡ（王子計測機器（株）製）を用いて測定した。波長分散の値は、４７８ｎｍのレターデーション値を７４７ｎｍのでレターデーション値で割った値で表す。結果を表1に示す。
【００８３】
（配向完了時間の測定）
実施例１、２および比較例１でそれぞれの液晶化合物が、加熱開始から配向欠陥が消失してモノドメイン配向になるのに要した時間を測定する。偏光顕微鏡（OPTIPHOTO2、Nikon（株）製）観察下で温度を保持して配向熟成を進行させ時間を測定する。結果を表1に示した。
【００８４】
（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向き合うように重ねる。二枚の基板は、配向膜のラビング方向が直交するように配置する。基板の間隙に、棒状液晶分子（ＺＬ４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶層を形成する。棒状液晶分子のΔｎは０．０９６９である。以上のように作製したＴＮ液晶セルの両側に、作製した位相差板二枚を光学異方性層が液晶セルの基板と対面するように貼り付けた。さらにそれらの外側に、偏光板二枚を貼り付けて液晶表示装置を作製した。位相差板の配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とは、反平行になるように配置した。また、偏光板の吸収軸と、液晶セルのラビング方向とは平行になるように配置した。液晶表示装置の液晶セルに電圧を印加し、白表示２Ｖ、黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示との透過率をコントラスト比として、上下左右でコントラスト比１０、かつ階調反転のない領域を視野角として測定した。また、白表示時と黒表示時における色味の角度依存性を目視にておこなった。その結果を表1に示す。
【００８５】
【表１】
2004302446.tif 000014
【００８６】
上記表１に示した結果から、実施例１で用いた本発明のディスコティック液晶化合物は、比較例１で用いた従来から知られているディスコティック液晶性化合物と比べて、Δｎの値が大きいことがわかる。このΔｎの上昇により、光学異方性層膜厚を薄くでき、さらには配向に要する時間まで短縮することが可能である。さらに、Δｎの上昇にもかかわらず、波長分散の値は、従来のディスコティック液晶性化合物と変わらないため、位相差板の性能は維持されていることがわかる。
また実施例２で用いた本発明のディスコティック液晶化合物は、波長分散が比較例１で用いた従来から知られているディスコティック液晶性化合物と比べて、小さくなっていることがわかる。この効果により、位相差板の性能の一つである色味変化が良化されている。さらに、波長分散が小さくなったにもかかわらず、Δｎの値は、従来のディスコティック液晶性化合物と変わらないため、膜厚や配向時間を維持することができている。
【００８７】
実施例３〔位相差板の作製〕
（透明支持体の作製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して、セルロースアセテート溶液（ドープ）を調製した。
【００８８】
〔セルロースアセテート溶液組成〕
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                           １００質量部
トリフェニルホスフェート                                         ６．５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                                 ５．２質量部
下記のレターデーション上昇剤（１）                               ０．１質量部
下記のレターデーション上昇剤（２）                               ０．２質量部
メチレンクロライド                                         ３１０．２５質量部
メタノール                                                   ５４．７５質量部
１−ブタノール                                               １０．９５質量部
【００８９】
レターデーション上昇剤（１）
【００９０】
【化１３】
2004302446.tif 000015
【００９１】
レターデーション上昇剤（２）
【００９２】
【化１４】
2004302446.tif 000016
【００９３】
得られたドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、１２０℃を越える領域で機械方向の延伸率が実質０％、（剥ぎ取り時に機械方向に４％延伸することを考慮して）幅方向の延伸率と機械方向の延伸率との比が０．７５となるように調整して、厚さ１００μｍのセルロースアセテートフィルムを作製した。作製したフィルムのレターデーションを波長６３２．８ｎｍで測定したところ、厚み方向のレターデーションが４０ｎｍ、面内のレターデーションが４ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを透明支持体として用いた。
【００９４】
（第１下塗り層の形成）
透明支持体の上に、下記の組成の塗布液を２８ｍｌ／ｍ2塗布し、乾燥して、第１下塗り層を形成した。
【００９５】
〔第１下塗り層塗布液組成〕
ゼラチン                                                        ５．４２質量部
ホルムアルデヒド                                                １．３６質量部
サリチル酸                                                      １．６０質量部
アセトン                                                          ３９１質量部
メタノール                                                        １５８質量部
メチレンクロライド                                                ４０６質量部
水                                                                  １２質量部
【００９６】
（第２下塗り層の形成）
第１下塗り層の上に、下記の組成の塗布液を７ｍｌ／ｍ2塗布し、乾燥して、第２下塗り層を形成する。
【００９７】
〔第２下塗り層塗布液組成〕
下記のアニオン性ポリマー                                       ０．７９質量部
クエン酸モノエチルエステル                                     １０．１質量部
アセトン                                                         ２００質量部
メタノール                                                       ８７７質量部
水                                                             ４０．５質量部
【００９８】
アニオン性ポリマー
【００９９】
【化１５】
2004302446.tif 000017
【０１００】
（バック層の形成）
透明支持体の反対側の面に、下記の組成の塗布液を２５ｍｌ／ｍ2 塗布し、乾燥して、バック層を形成した。
【０１０１】
〔バック層塗布液組成〕
酢化度５５％のセルロースジアセテート                            ６．５６質量部
シリカ系マット剤（平均粒子サイズ：１μｍ）                      ０．６５質量部
アセトン                                                          ６７９質量部
メタノール                                                        １０４質量部
【０１０２】
（配向膜の形成）
下記変性ポリビニルアルコールとグルタルアルデヒド（変性ポリビニルアルコールの５質量％）とを、メタノール／水の混合溶媒（容積比＝２０／８０）に溶解して、５質量％の溶液を調製した。
変性ポリビニルアルコール
【０１０３】
【化１６】
2004302446.tif 000018
【０１０４】
この溶液を、第２下塗り層の上に塗布し、１００℃の温風で１２０秒間乾燥した後、ラビング処理を行い配向膜層を形成した。得られた配向膜層の膜厚は０．５μｍである。
配向膜のラビング方向は、透明支持体の流延方向と平行である。
【０１０５】
（光学異方性層の形成）
前記で作製したラビングした配向膜上に、下記の組成を有する光学異方性層塗布液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布する。
【０１０６】
〔光学異方性層塗布液〕
本発明の液晶化合物（例示化合物（９））                         １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                             ９．９質量部
光重合開始剤  
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）                 ３．３質量部
増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                       １．１質量部
メチルエチルケトン                                             ２５０質量部
【０１０７】
上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１３０℃の恒温槽中に入れ、約２０秒間かけて１２５℃まで加熱し、そのまま６０秒間保持した後、次いで約２０秒間で８０℃まで冷却した。同温度に保持したまま２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、位相差板を得た。形成した光学異方性層の厚さは１．７４μｍである。
【０１０８】
実施例４［位相差板の作製］
実施例３で作製したラビングした配向膜上に下記の組成を有する光学異方性層塗布液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布する。
【０１０９】
〔光学異方性層塗布液〕
本発明の液晶化合物（例示化合物（１１））                      １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                            ９．９質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）                ３．３質量部
増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                      １．１質量部
メチルエチルケトン                                            ２５０質量部
【０１１０】
上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１４５℃の恒温槽中に入れ、約２０秒間かけて１４０℃まで加熱し、そのまま６０秒間保持した後、次いで約３０秒間で９５℃まで冷却した。同温度に保持したまま２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、位相差板を得た。形成した光学異方性層の厚さは１．７１μｍである。
【０１１１】
実施例５［位相差板の作成］  
実施例３で作成したラビングした配向膜上に下記の組成を有する光学異方性層塗布液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布する。
【０１１２】
〔光学異方性層塗布液〕
本発明の液晶化合物（例示化合物（１５））                       １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                             ９．９質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）                 ３．３質量部
増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                       １．１質量部
メチルエチルケトン                                             ２５０質量部
【０１１３】
上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１３０℃の恒温槽中に入れ、約２０秒間かけて１２５℃まで加熱し、そのまま６０秒間保持した後、次いで約２０秒間で８０℃まで冷却した。同温度に保持したまま２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、位相差板を得た。形成した光学異方性層の厚さは１．７５μｍである。
【０１１４】
比較例２〔比較位相差板の作製〕
実施例３で作製した配向膜に、下記の組成を有する光学異方性層塗布液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布した。
〔光学異方性層塗布液〕
ディスコティック液晶性化合物（比較液晶化合物（２））            １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                            ９．９質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）                ３．３質量部
増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                      １．１質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１.０.２、イーストマンケミカル社製）                  ２．２質量部
（ＣＡＢ５３１.１、イーストマンケミカル社製）                   ０．５５質量部
メチルエチルケトン                                              ２５０質量部
【０１１５】
比較液晶化合物（２）
【０１１６】
【化１７】
2004302446.tif 000019
【０１１７】
上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１３０℃の恒温槽中に入れ、約２０秒間かけて１２５℃まで加熱し、そのまま６０秒間保持した後、次いで約２０秒間で８０℃まで冷却した。同温度に保持したまま２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、位相差板を得た。形成した光学異方性層の厚さは１．７５μｍである。
【０１１８】
上記の実施例３、４、５の位相差板および比較例２の位相差板を、上記の作製したＴＮ液晶セルの両側に、位相差板二枚を光学異方性層が液晶セルの基板と対面するように貼り付けた。液晶表示装置の液晶セルに電圧を印加し、白表示２Ｖ、黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示のコントラスト比および色味の角度依存性の評価を目視にておこなった。その結果、本発明のディスコティック液晶性化合物を用いた実施例３、４、５の位相差板の方が、比較例２の場合より色味変化が少なかった。