(57)【要約】【課題】被塗布物に滴下した液体が被塗布物の回転中心及びその周辺部で滞留しないようにし、塗布厚の均一化によりムラを防止して、塗布品質を向上することができる。【解決手段】基板１１を載せて回転することにより、基板１１に滴下した液体１５を基板１１上に広げて塗布する回転式載置台１２であって、回転式載置台１２の回転中心１００及びその周辺部に凸状部１６を形成し、凸状部１６より外周側に、凸状部から外周側に向かって緩い傾斜部１７を形成したことを特徴とする回転式載置台１２を構成した。【選択図】　　　　図１
2004071680.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布物を支持して回転する回転式載置台であって、
前記被塗布物の回転中心に滴下された液体を、その自重によって外周側へ広げる液体滞留防止部を備えたこと、
を特徴とする回転式載置台。
【請求項２】
請求項１に記載の回転式載置台であって、
前記液体滞留防止部は、前記回転中心及びその周辺部に形成された凸状部であること、
を特徴とする回転式載置台。
【請求項３】
請求項２に記載の回転式載置台であって、
前記液体滞留防止部は、前記凸状部より外周側に前記凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、前記傾斜面上の液体を、前記液体の自重により前記傾斜面上を伝って広げる傾斜部を更に備えたこと、
を特徴とする回転式載置台。
【請求項４】
請求項２に記載の回転式載置台であって、
前記液体滞留防止部は、前記凸状部より外周側に前記凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、前記傾斜面上の液体を、前記液体の自重と遠心力との合成ベクトルにより前記傾斜面上を伝って広げる傾斜部を更に備えたこと、
を特徴とする回転式載置台。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スピンコータ等の回転式塗布装置に好適に用いられ、被塗布物を支持して回転する回転式載置台に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、フラットディスプレイ等を製造する場合に、基板へ感光材料を塗布するために、回転式塗布装置が使用されている。
回転式塗布装置は、基板を回転させて、その回転する基板の表面上の回転中心に感光材料を滴下し、その感光材料を遠心力によって外周側へと広げることによって、感光材料の塗布厚を均一にする装置であり、その基板を支持する台として回転式載置台（チャックステージともいう。）が使用されている。
【０００３】
図４は、従来の回転式塗布装置を示す断面図である。
回転式塗布装置２０は、基板２１を載せる回転式載置台２２と、回転式載置台２２を取り囲み、基板２１の塗布面に滴下された液体２５が外部に飛散するのを防止する容器１３と、回転式載置台２２を支持して回転する回転軸１４と、を備えている。また、回転式載置台２２は、図示しない駆動機構によって回転軸１４とともに矢印Ａの方向に回転する構成となっている。
【０００４】
回転式載置台２２は、この回転式載置台２２の上に基板２１が載せられ、更にこの基板２１の表面上の回転中心１００に液体２５を滴下される。滴下された液体２５は、基板２１が回転することにより、遠心力によって外周側へと広がる。
【０００５】
【発明の解決しようとする課題】
しかし、回転式載置台２２に滴下された液体２５の遠心力が、回転中心１００で生じない状態（０ニュートン）になってしまい、また、その周辺部でも小さい状態となってしまうことから、液体２５は、外周側に広がりにくく、回転中心１００及びその周辺部で滞留してしまい、塗布厚が均一にならないことがある。
【０００６】
本発明の課題は、被塗布物に滴下した液体が被塗布物の回転中心及びその周辺部で滞留しないようにし、塗布厚の均一化によりムラを防止して、塗布品質を向上できる回転式載置台を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前述した問題を解決するために、請求項１に記載の発明は、被塗布物を支持して回転する回転式載置台であって、前記被塗布物の回転中心に滴下された液体を、その自重によって外周側へ広げる液体滞留防止部（１７，１８）を備えたこと、を特徴とする回転式載置台である。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の回転式載置台であって、前記液体滞留防止部は、前記回転中心及びその周辺部に形成された凸状部（１７）であること、を特徴とする回転式載置台である。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の回転式載置台であって、前記液体滞留防止部は、前記凸状部より外周側に前記凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、前記傾斜面上の液体を、前記液体の自重により前記傾斜面上を伝って広げる傾斜部（１８）を更に備えたこと、を特徴とする回転式載置台である。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の回転式載置台であって、前記液体滞留防止部は、前記凸状部より外周側に前記凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、前記傾斜面上の液体を、前記液体の自重と遠心力との合成ベクトルにより前記傾斜面上を伝って広げる傾斜部（１８）を更に備えたこと、を特徴とする回転式載置台である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を挙げて、詳細に説明する。
図１は、本発明による回転式塗布装置の一実施形態を示す断面図、図２は、本実施形態に係る回転式塗布装置の基板上に液体を塗布する直前及び直後の様子を従来装置と比較した模式図である。また、図３は、図２の塗布した液体の傾斜部における状態を示す拡大図である。
【００１２】
回転式塗布装置１０は、基板１１を載せて回転するための回転式載置台１２と、回転式載置台１２を囲んで設けられた容器１３と、回転式載置台１２を支持して回転する回転軸１４と、を備えている。
【００１３】
回転式載置台１２は、底面を回転軸１４で支持され、表面に基板１１を載せて回転軸１４とともに回転する台である。また、回転式載置台１２は、回転中心１００及びその周辺部に凸状部１６が形成され、凸状部１６より外周側に、凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を有する傾斜部１７が形成され、傾斜部１７より更に外周側に平坦部１８が形成される。凸状部１６と傾斜部１７は、液体滞留防止部として機能する。
ただし、凸状部１６の高さは、基板１１を吸着可能なまでの高さとする。
例えば、回転式載置台１２（チャックステージ）の凸状部１６の高さは、０．２〜２ｍｍ、望ましくは、０．５〜１ｍｍ位とする。また、傾斜部１７の外径は、２０〜２００ｍｍ、望ましくは、５０〜１００ｍｍ位とする。
【００１４】
回転式載置台１２は、複数の真空引着孔１９が貫通しており、ここから裏面に向かって気体を吸引することにより、基板１１は、回転式載置台１２に吸着されて固定されるようになっている。
【００１５】
次に、本実施形態にかかる回転式塗布装置１０の動作について説明する。
回転式塗布装置１０の内部では、基板１１が、回転式載置台１２の上に真空引着孔１９によって吸着して載せられ、被塗布物である液体１５が、この基板１１における回転中心１００に滴下される。
【００１６】
液体１５は、図２（ａ）のように滴下されると、凸状部１６で押し上げられた基板１１の上で、図２（ｂ）で示すように、自重によって基板１１の外周側へと広がる。
これに対して、従来の回転式載置台１２では、液体１５は、図２（ｃ）のように滴下されても、液体１５が所定の表面張力を有することから、図２（ｄ）で示すように、小さく広がるだけである。
【００１７】
広がった液体１５は、図３（ａ）で示すように、基板１１が回転すると、遠心力を受けて更に外周側に広がる。また、本実施形態の回転式載置台１２の表面では、液体１５は、特定位置１５ａを基準とした進行方向にかかる力が、図３（ａ）で示すように、遠心力Ｘと自重Ｙとの合力Ｚの大きさとなる。
これに対して、従来の回転式載置台２２の表面では、液体１５は、特定位置１５ｂを基準とした進行方向にかかる力が、図３（ｂ）で示すように、遠心力Ｘの大きさそのものだけとなる。従って、図３（ａ）で示すように傾斜部１７がある限り、合力Ｚは、遠心力Ｘよりも常に大きくなるので、液体１５は、回転式載置台１２を用いた方が、容易に外周側へと広がることができる。
【００１８】
液体１５は、傾斜部１７を通って平坦部１８にまで広がると、従来の載置台２０の場合と同様に、平坦部１８の上を、遠心力によって更に外周側へと広がる。
【００１９】
この実施形態によれば、基板１１に滴下した液体１５が、基板１１の回転中心１００及びその周辺部で滞留しないようになり、塗布厚の均一化によりムラを防止して、塗布品質を向上することができる。
【００２０】
（変形形態）
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
（１）本実施形態は、回転式載置台１２は、回転式塗布装置１０へ応用されているが、回転式乾燥装置等へ応用してもよい。例えば、回転式載置台１２の上に基板１１を載せて基板１１を洗浄した場合に、回転式載置台１２によって基板１１を回転させれば、基板１１の表面上の回転中心１００及びその周辺部に洗浄液が滞留しないので、洗浄液の水はけが良くなり、基板１１の水切り時間を短縮することができる。
【００２１】
（２）本実施形態は、回転式載置台１２の形状が円形であったが、正方形その他の形状でも良い。
【００２２】
【発明の効果】
以上詳しく説明したように、本発明によれば、以下のような効果がある。
（１）被塗布物の回転中心に滴下された液体を、その自重によって外周側へ広げる液体滞留防止部を備えたので、被塗布物に滴下した液体が被塗布物の回転中心及びその周辺部で滞留しないようになり、塗布厚の均一化によりムラを防止して、塗布品質を向上することができる。
【００２３】
（２）液体滞留防止部は、回転中心及びその周辺部に形成された凸状部であるので、被塗布物に滴下した液体が、自重によって外周側に流動して、回転中心及びその周辺部に滞留しないようにすることができる。
【００２４】
（３）液体滞留防止部は、凸状部より外周側に凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、傾斜面上の液体を、液体の自重により傾斜面上を伝って広げる傾斜部を更に備えたので、基板が回転していないときに、被塗布物に滴下した液体が、自重によって外周側に流動して、傾斜部に滞留しないようにすることができる。
【００２５】
（４）液体滞留防止部は、凸状部より外周側に凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、傾斜面上の液体を、液体の自重と遠心力との合成ベクトルにより傾斜面上を伝って広げる傾斜部を更に備えたので、被塗布物が回転しているときに、被塗布物に滴下した液体が、自重と遠心力との合成ベクトルによって外周側に流動して、傾斜部に滞留しないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による回転式塗布装置の一実施形態を示す断面図である。
【図２】本実施形態に係る回転式塗布装置の基板上に液体を塗布する直前及び直後の様子を従来装置と比較した模式図である。
【図３】図２の塗布した液体の傾斜部における状態を示す拡大図である。
【図４】従来の回転式塗布装置を示す断面図である。
【符号の説明】
１２　回転式載置台
１４　回転軸
１６　凸状部
１７　傾斜部
１００　回転中心
【図１】
2004071680.tif 000003
【図２】
2004071680.tif 000004
【図３】
2004071680.tif 000005
【図４】
2004071680.tif 000006