(57)【要約】【課題】均一なビームプロファイルを有するレーザ光であっても、反射波のプロファイルが所望の形状になるようにアポタイズを施すことができるとともに、反射波のサイドローブの発生を抑圧又は排除してＳ／Ｎを改善する。【解決手段】光ファイバ１のコアに屈折率が周期的に変化する回折格子を形成するファイバグレーティングの製造方法である。均一なビームプロファイルを有するレーザ光２を光ファイバに照射しながら、当該光ファイバ１の長手方向におけるレーザ光の照射強度の積分値がベル状に変化するように当該レーザ光の照射量が制御される。【選択図】　図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバのコアに屈折率が周期的に変化する回折格子を形成するファイバグレーティングの製造方法において、
均一なビームプロファイルを有するレーザ光を前記光ファイバに照射しながら、当該光ファイバの長手方向における前記レーザ光の照射強度の積分値がベル状に変化するように当該レーザ光の照射量を制御することを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のファイバグレーティングの製造方法において、
前記レーザ光及び前記ファイバのうちの少なくとも一方を所定の速度変調パターンに基づいて前記長手方向に相対的に移動させることで前記照射量を制御することを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載のファイバグレーティングの製造方法において、
前記ファイバグレーティングのグレーティング長が、前記レーザ光のビームプロファイルの前記長手方向における長さよりも長いことを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。
【請求項４】
前記レーザ光を照射するレーザ光源と前記光ファイバとの間に位置して前記レーザ光を遮蔽可能なシャッタ又はファイバを、所定の速度変調パターンに基づいて前記光ファイバの長手方向に相対的に移動させることで前記照射量を制御することを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載のファイバグレーティングの製造方法において、
前記ファイバグレーティングのグレーティング長が、前記レーザ光のビームプロファイルの前記長手方向における長さよりも短いことを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。
【請求項６】
請求項１に記載のファイバグレーティングの製造方法において、
前記レーザ光を照射するレーザ光源と前記光ファイバとの間に配置され且つ当該レーザ光を遮蔽可能な、半径距離が非等方のプレートを回転させることで前記照射量を制御することを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載のファイバグレーティングの製造方法において、
前記プレートは楕円形であることを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。
【請求項８】
光ファイバのコアに屈折率が周期的に変化する回折格子を形成するファイバグレーティングの製造装置において、
均一なビームプロファイルのレーザ光を発するレーザ光源と、
前記レーザ光源からのレーザ光を前記光ファイバに照射させながら、当該光ファイバの長手方向における前記レーザ光の照射強度の積分値がベル状に変化するように当該レーザ光の照射量を制御する制御手段とを備えたことを特徴とするファイバグレーティングの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信に用いられるファイバブラッググレーティング（ＦＢＧ：Ｆｉｂｅｒ　Ｂｒａｇｇ　Ｇｒａｔｉｎｇ；以下、単に、ＦＢＧ又はファイバグレーティングと呼ぶ）に関し、とくに、ファイバグレーティングの波形整形に必要なファイバアポタイズ法（単にアポタイズ法とも呼ばれる）を実施したファイバグレーティングの製造方法及びその製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、高速かつ大容量の光ネットワークの研究及び実用化が進んでいるが、このネットワークの構築には様々な光機能部分が必要になっている。かかる光機能部品の１つに、ファイバグレーティングがある。このファイバグレーティングは、非常に狭帯域な波長の反射波を得るための反射型フィルタであり、波長フィルタや分散補償器などの光フィルタとして機能させることができ、波長多重（ＷＤＭ）通信のキーデバイスとして注目されている。
【０００３】
ファイバグレーティングは、具体的には、位相マスクを介して光ファイバに紫外レーザ光を照射することで光ファイバのコアに形成した、屈折率が周期的に変化するブラッグ回折格子であり、このファイバグレーティングに入射した光のうち、ブラッグ回折条件に適合する波長成分のみがファイバグレーティングにより反射される。
【０００４】
このファイバグレーティングを製造する場合、ファイバグレーティングから反射される光波形を整形させるために、図１に示すように、紫外レーザ光の照射強度をファイバ長手方向において変化（変調）させる手法が採られることが多い。この波形整形の目的の多くは、反射波形のＳ／Ｎ（クロストーク）を改善することである。この照射強度のファイバ長手方向における変調がアポタイズ（アポタイズ法）と呼ばれている。
【０００５】
ファイバグレーティングの反射スペクトルは、屈折率上昇Δｎのプロファイルのフーリエ変換値で近似される。このため、Ｓ／Ｎを向上させるため、屈折率上昇Δｎのプロファイルは通常、ガウシャン関数の形状に設定される。したがって、この場合には、照射レーザ光のビームプロファイルがガウシャン関数の形状をなしていると、そのまま利用されて、アポタイズが実行される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ファイバグレーティングの製造に利用するレーザは、必ずしも上述したように、ガウシャン関数の形状のビームプロファイルを有するレーザには限られず、例えばエキシマレーザのように均一なビームプロファイルを有するレーザのこともある。
【０００７】
このように、均一なビームプロファイルのレーザ光を照射してファイバグレーティングを製造する場合、そのまま照射するだけではアポタイズは掛からず、屈折率上昇Δｎのプロファイルは図２に示すようにファイバ長手方向の距離に関して矩形状に変化するだけである。このため、得られる反射波のプロファイルは図３に示すようにＳｉｎｃ関数の形状になり、メインピークの両側にそれぞれ不要なサイドローブが出現し、Ｓ／Ｎが低下するという問題が依然として放置されていた。
【０００８】
本発明は、上述した未解決の問題に鑑みてなされたもので、ファイバグレーティングの製造に使用するレーザ光が均一なビームプロファイルを有するレーザ光の場合であっても、反射波のプロファイルが所望の形状になるようにアポタイズを施すことができるとともに、反射波のサイドローブの発生を抑圧又は排除してＳ／Ｎを改善することを、その目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上述した目的を達成するため、本発明に係るファイバグレーティングの製造方法によれば、均一なビームプロファイルを有するレーザ光を光ファイバに照射しながら、光ファイバの長手方向におけるレーザ光の照射強度の積分値がベル状に変化するように当該レーザ光の照射量が制御される。
【００１０】
このため、光ファイバのコアに回折格子を形成するときに、レーザ光の照射量が制御され、光ファイバの長手方向におけるレーザ光の照射強度の積分値がベル状に変化するように照射強度に変調が掛けられる。したがって、例えばエキシマレーザのように、均一なプロファイルのレーザ光を用いてファイバグレーティングを製造する場合であっても、ＦＢＧの反射スペクトルもガウシャン形状又はこれに近い形状になり、Ｓ／Ｎ（すなわち、クロストーク）が改善される。すなわち、前述した図２及び３で説明したように、ＦＢＧからの反射波のスペクトルに含まれるサイドローブが解消又は抑制され、Ｓ／Ｎが改善された良好な反射特性が得られる。
【００１１】
上述したレーザ光の照射量の制御は、更に、様々な態様で実施できる。
【００１２】
好適な１つの態様は、レーザ光及びファイバのうちの少なくとも一方を所定の速度変調パターンに基づいて長手方向に相対的に移動させることで前記照射量を制御することである。この制御法は、ファイバグレーティングのグレーティング長が、レーザ光のビームプロファイルの長手方向における長さよりも長いときに好適である。
【００１３】
また好適な別の態様によれば、レーザ光を照射するレーザ光源と光ファイバとの間に位置してレーザ光を遮蔽可能なシャッタを、所定の速度変調パターンに基づいて光ファイバの長手方向に相対的に移動させることで照射量を制御することができる。この制御法は、とくに、ファイバグレーティングのグレーティング長が、レーザ光のビームプロファイルの長手方向における長さよりも短いときに好適である。
【００１４】
さらに別の好適な態様によれば、レーザ光を照射するレーザ光源と光ファイバとの間に配置され且つ当該レーザ光を遮蔽可能な、半径距離が非等方のプレートを回転させることで照射量を制御するようにしてもよい。前記プレートは、例えば楕円形の形状を有する。
【００１５】
一方、上述した目的を達成するため、本発明に係るファイバグレーティングの製造装置によれば、均一なビームプロファイルのレーザ光を発するレーザ光源と、このレーザ光源からのレーザ光を光ファイバに照射させながら、当該光ファイバの長手方向におけるレーザ光の照射強度の積分値がベル状に変化するように当該レーザ光の照射量を制御する制御手段とを備える。
【００１６】
これにより、上述した如く、エキシマレーザのように、均一なプロファイルのレーザ光を用いてファイバグレーティングを製造する場合であっても、ＦＢＧの反射スペクトルもガウシャン形状又はこれに近い形状になり、Ｓ／Ｎが改善される。すなわち、ＦＢＧからの反射波のスペクトルに含まれるサイドローブが解消又は抑制され、Ｓ／Ｎが改善された良好な反射特性が得られる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、添付の図面を参照して説明する。
【００１８】
（第１の実施形態）
図４〜６を参照して、本発明の第１の実施形態を説明する。
【００１９】
図４には、第１の実施形態を示す。同図に示すように、光ファイバ１には位相マスクＰＭを介してレーザ光２が照射される。
【００２０】
光ファイバ１は、図示しないが、細い円柱形状のコアと、このコアの周囲に密着させて設けた円筒形状のクラッドとを備える。コア及びクラッドは酸化シリコン（ＳｉＯ２）や酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ２）を主成分とする材料で形成されている。この材料の成分比を調節して、コアの屈折率をクラッドのそれよりも大きくなるように設定されている。コアの直径は１０μｍ程度であり、一方、クラッドの直径は１１０〜１３０μｍ程度である。コアにドープされているゲルマニウム（Ｇｅ）は紫外線に対する感光性を有している。
【００２１】
レーザ光２は、そのプロファイルが一定のエキシマレーザから照射される。形成するグレーティング長（すなわち領域Ｒの長さ）は、レーザ光２のプロファイルよりも長くなっている。
【００２２】
この場合、位相マスクＰＭを介してレーザ光２を光ファイバ１に照射しながら、矢印Ａ又はＢに示すように、ファイバ１又はレーザ光２がファイバ長手方向に沿って所定の速度変調パターンに基づいて相対的にスキャン（移動）される。この速度変調パターンは、例えば図５に示すように、回折格子を書き込む領域Ｒの一端部から中央部に照射レーザ光２が進むにつれて、スキャン速度を低下させる。そして、かかる中央部からもう一方の端部に進むにつれてスキャン速度を再び速める。これにより、回折格子を書き込む領域Ｒの両端部から中央部にかけてレーザ照射量（積分値）は滑らかに多くなる。
【００２３】
したがって、照射するレーザ光（紫外線光）に応答して光ファイバ１のコアの屈折率が変化して回折格子が形成される。
【００２４】
また、上述した如く、レーザ照射量が回折格子の領域Ｒの中央部に進むほど徐々に大きくなるように制御されているので、回折格子を形成しながらも、その中央部に至るほど、光屈折率が徐々に大きくなる。すなわち、図６に示す如く、周期的な屈折率変化のエンベロープがその中央部で大きく、かつ、両端部になるほど徐々に低下するという所望の屈折率上昇（Δｎ）のプロファイルが得られる。
【００２５】
このように、ファイバグレーティングの製造時に使用するレーザ光が均一なビームプロファイルを有するレーザ光の場合であっても、上述したアポタイズによって、回折格子の反射スペクトルもガウシャン形状又はこれに近い形状になり、Ｓ／Ｎ（すなわち、クロストーク）が改善される。すなわち、前述した図２及び３で説明したように、ＦＢＧからの反射波のスペクトルに含まれるサイドローブが解消又は抑制され、Ｓ／Ｎが改善された良好な反射特性が得られる。
【００２６】
（第２の実施形態）
図７を参照して、本発明の第２の実施形態を説明する。
【００２７】
図７には、第２の実施形態に係るファイバグレーティングの製造方法の概要を示す。
【００２８】
上述の第１の実施形態と同様に、光ファイバ１には位相マスクＰＭを介してレーザ光２が照射される。また、直動ステージなどで構成されるシャッタ３がレーザ光路における光ファイバ１の近傍に配置されており、レーザ光２はこのシャッタ３を介して光ファイバ１に照射されるようになっている。シャッタ３は例えばアルミニウム、スチール、又はステンレスで形成され、好適には、その表面に紫外線光に対して実質的に無反射となるコーティングが施される。また、この第２の実施形態にあっては、形成するグレーティング長（回折格子を形成する領域Ｒのファイバ長手方向の長さ）がレーザ光２のプロファイルよりも小さくなっている。
【００２９】
レーザ光２（紫外線光）はシャッタ３の開口ＯＰを通り、さらに位相マスクＰＭを介して光ファイバ１に照射される。この照射状態において、図示しない駆動制御機構によってシャッタ３のファイバ長手方向に沿った開口幅Ｗが所定の速度変調パターンに基づいて開閉制御される。例えば、回折格子を書き込む領域Ｒの中央部では開口幅Ｗを広げる速度を遅くし、その状態から徐々に速く広げるように制御される。
【００３０】
これにより、回折格子を書き込む領域Ｒの両端部から中央部にかけてレーザ照射量（積分値）は滑らかに多くなる。このため、周期的な屈折率変化を得るとともに、その周期的な屈折率変化のエンベロープを中央部で大きく、かつ、両端部になるほど徐々に低下するという所望の屈折率上昇（Δｎ）のプロファイルが得られる。したがって、前述した第１の実施形態と同等の作用効果を得ることができる。
【００３１】
（第３の実施形態）
図８及び９を参照して、本発明の第３の実施形態を説明する。
【００３２】
図８には、この実施形態で使用するファイバグレーティングの製造装置の外観を示す。
【００３３】
この製造装置は、側面方向から見て略Ｌ字状の架台２０を備え、この架台２０の底部２０Ａの上面には支持板２１が配置されている。この支持板２１の上には、前述した光ファイバ１が載せられる。
【００３４】
また、架台２０の直立部２０Ｂの側面には、例えば精密な螺子機構を有する駆動系２２が、光ファイバ配置時の長手方向Ｘに沿って配置されている。駆動系２２は、直立部２０Ｂの壁面に固設された保持体２３と、この保持体２３に保持されたラック２４、このラック２４に噛み合って移動可能な移動体２５と、ラックの一端部に軸結合されたモータ２６とを有する。このモータ２６はモータ制御装置２７から駆動信号を受けて回転し、その回転力がラック２５に伝達される。このため、ラック２５も回転し、この回転に伴って、ラック２５に沿って移動体２５が移動できるようになっている。
【００３５】
移動体２５は上下方向（Ｚ軸方向）からみた場合、コ字状に形成されており、その下面に一定幅のスリットＳが形成されたスリット板２８が取り付けられている。このため、移動体２５が長手方向（Ｘ軸方向）に沿って移動すると、同時にスリット板２８、すなわちスリットＳもその長手方向に移動する。スリットＳが光ファイバ１を覗くことができるように、スリットＳを形成する位置、又は、スリット板２８を取り付ける位置が設定されている。移動体２５及びスリット板２８は例えばステンレスなどで形成され、その表面に紫外線光に対して実質的に無反射となるコーティングが施される。
【００３６】
スリット板２８と光ファイバ１の支持板２１との間には、位相マスクＰＭが図示しない支持機構により配置される。
【００３７】
さらに、架台２０の直立部２０Ｂの側面における上側の位置には、レーザ光源２９が下向きに固設されている。このレーザ光源２９は、プロファイルが一定のレーザ光２を出射する、例えばエキシマレーザで構成される。このため、レーザ光源２９が出射されたレーザ光２は下方に位置するスリット板２８のスリットＳ及び位相マスクＰＭを通して光ファイバ１に到達する。
【００３８】
モータ制御装置２７は、時間と伴に回転速度ｖを変化させる駆動信号をモータ２６に送出して、モータ２６を回転させる。この回転速度ｖの変調パターンは例えば図９に示すように予め設定されている。具体的には、初めは所定速度でモータ２６を回転させ、その後、徐々に速度ｖを低下させ、再び徐々に元の所定速度に戻すという変調パターンを採っている。
【００３９】
そこで、モータ２６の回転速度ｖが所定値になるときに、スリットＳが、回折格子の領域の一端部に到達させる。この後、モータ２６の回転速度ｖが徐々に低下するので、スリットＳがかかる領域の中央部に移動するにつれて、その移動速度が遅くなる。これにより、スリットＳを通過するレーザ光２の光量の積分値（強度の積分値）が徐々に上昇する。中央部を過ぎると、モータ２６の回転速度ｖが徐々に上げられるので、スリットＳの移動速度が速められ、スリットＳを通過するレーザ光２の光量の積分値も徐々に減少する。
【００４０】
この結果、光ファイバ１のコアに周期的な屈折率変化を得るとともに、その周期的な屈折率変化のエンベロープが中央部で大きく、かつ、両端部になるほど徐々に低下するという所望の屈折率上昇（Δｎ）のプロファイルが得られる。したって、第１及び第２の実施形態のときと同等の作用効果を得ることができる。
【００４１】
（第４の実施形態）
図１０〜１２には、第４の実施形態を示す。
【００４２】
上述の第１及び２の実施形態と同様に、光ファイバ１にはレーザ光２が照射される。また、モータなどの回転駆動機構により回転駆動される２枚のプレート４が光ファイバ１の近傍に配置される。
【００４３】
２枚のプレート４は、それぞれ、回転角度θ及び半径ｒ（θ）とする楕円形状に形成される。各プレート４の短軸方向が互いに向き合っているときに当該短軸方向に形成される空隙距離をｆ（θ）とすると、この距離ｆ（θ）の部分がグレーティング長に相当するように、各プレート４の中心位置、すなわち両プレート間の中心位置間の距離Ｌが決められる。例えば、形成するグレーティング長が長い場合には、空隙距離ｆ（θ）が大きくなるように、中心位置が決められるとともに、より長い長軸の楕円形状に形成される。各プレート４は例えばアルミニウム、スチール、又はステンレスで形成され、好適には、その表面に紫外線光に対して実質的に無反射となるコーティングが施される。
【００４４】
両プレート４を回転させるとともに、レーザ光２は、この両プレート４間の空隙部分（距離ｆ（θ）の部分）を通過させる。この空隙部分は、両プレート４それぞれの回転に伴って、光ビーム２を徐々に遮断又は照射させる一種のシャッタとして機能する。つまり、各プレート４の短軸が互いに向き合っているときには（図１０の実線で示す状態）、最も広い空隙部分を形成し、一方、各プレート４の長軸が互いに向き合っているときには（図１０の仮想線で示す状態）、最も狭い空隙部分が形成される。両プレート４それぞれの１／４回転に伴い、この最も広い空隙部分から徐々に且つ連続的に最も狭い空隙部分に移行する。したがって、空隙部分を通過するレーザ光の光量は、楕円形状に応じて、グレーティングの端部側では少ないが中心部に進むほど滑らかに且つ連続的に多くなる。
【００４５】
これによって、光ファイバ２の所定部分が上述した空隙部分の下側に配置されるように位置決めする。この状態で、レーザ光（紫外線光）２を照射しながら、両プレート４を所定時間、回転させる。これにより、両プレート４が有する連続的に照射量を調整するシャッタ機能を用いて、光ファイバ１の回折格子を書き込む領域Ｒにその長手方向に沿って光ビーム２の強度変調を確実に掛けることができる。
【００４６】
つまり、回折格子を書き込む領域Ｒの両端部から中央部にかけてレーザ照射量（積分値）は滑らかに多くなる。このため、第１及び２の構成のときと同様に、周期的な屈折率変化を得るとともに、その周期的な屈折率変化のエンベロープが中央部で大きく、かつ、両端部になるほど徐々に低下するという所望の屈折率上昇（Δｎ）のプロファイルが得られる。
【００４７】
回転させるプレート４の形状は、上述したように、必ずしも楕円に限定されない。回転に伴って半径が連続的に異なる形状であればよい。
【００４８】
図１０に示すように、楕円形状のプレート４を用いてアポタイズを掛ける場合の楕円の形状及びサイズは以下のようにして決定される。
【００４９】
例えばガウシャン形状のアポタイズを施すためには、
ｆ（θ）＝Ｃｅｘｐ（−ａθ２）
から、
Ｌ−２×ｒ（θ）＝Ｃｅｘｐ（−ａθ２）
ｒ（θ）＝（−Ｃｅｘｐ（−ａθ２）＋Ｌ）／２　…　（１）
と変形できるので、これを、Ｘ＝ｒｃｏｓθ、Ｙ＝ｒｓｉｎθを用いて変数変換すれば、プレートの形状及びサイズを決定できる。
【００５０】
図１１には、上述した原理に基づいて構成されるファイバグレーティングの製造装置の概要を示す。この製造装置は、前述した図８に記載した構成要件のうち、駆動系２２の構成が異なる。この駆動系２２は、直立部２０Ｂから突設された１対の梁部３１、３１と、この梁部３１、３１それぞれの一端部に設けたモータ３２、３２とを有する。また、梁部３１、３１それぞれの他端部には上述した楕円形状のプレート４、４がそれぞれ回転自在に取り付けられている。各梁部３１は、その内部の駆動力伝達機構によってモータ３２の回転力をプレート４に伝達し、プレート４を回転させる。モータ３２、３２はそれぞれモータ制御装置２７から駆動信号を受けて回転可能になっている。
【００５１】
したがって、前述した原理に基いてアポタイズを施したファイバグレーティングを製造することができ、前述と同等の作用効果を得る。また、とくに、この製造装置は、プレート４のほかに、制御手段としての電気モータなどの駆動系２２やモータ制御装置２７の程度で済み、比較的簡単な機能で実現できる。
【００５２】
図１２には、上述したプレート４を利用して、アポタイズ法に拠り製造したファイバグレーティングの反射スペクトルの解析例を示す。この解析の条件は以下のようである。
【００５３】
プレートの形状及びサイズ：　前記（１）式に従う形状及びサイズ
レーザ光：　ＫｒＦ　２４８ｎｍ
プレートの回転数：　２Ｈｚ
プレート間の距離：　０．２５ｍｍ（半値幅）
グレーティングピッチ：　４９６．２ｎｍ
この図１２に示す反射光のスペクトルから分かるように、サイドローブが殆ど確実に抑制されているので、Ｓ／Ｎが大幅に改善されることが分かる。
【００５４】
（その他の実施形態）
その他の実施形態として、図１３に示すように、シャッタ４１に所定形状の開口を空けておいて、このシャッタ４１を、レーザ光２の光ファイバ１への入射直前で移動させるようにしてもよい。
【００５５】
具体的には、このシャッタ４１には、例えばガウシャン形状の開口４２が空けられ、光伝搬路における光ファイバ１への直前に、図１３における上下方向、すなわちＹ軸方向に移動可能に設けられる（矢印Ｃ参照）。レーザ光２は、図１３では模式的に斜めに記載されているが、実際にはＺ軸方向に沿って出射される。なお、このシャッタ４１と光ファイバ１との間には、図示しないが位相マスクが配置される。レーザ光２を開口４２及び図示しない位相マスクを介して出射させながら、この開口４２がＹ軸方向に所定の一定速度で移動させられる。このため、光ファイバ１のコアにおける回折格子を設ける領域Ｒの中心部分では開口４２を通過して光ファイバ１に入射する光ビーム２の強度積分値が大きく、その周辺部になるほど少なくなる。これによって、前述した各実施形態のものと同等の作用効果を得ることができる。
【００５６】
なお、本発明は前述した各実施形態で示した構成に限定されることなく、さらに様々な態様で実施してもよい。
【００５７】
【発明の効果】
以上、本発明に係るファイバグレーティングの製造方法及びその製造装置によれば、ファイバグレーティングの製造に使用するレーザ光が均一なビームプロファイルを有するレーザ光の場合であっても、反射波のプロファイルが所望の形状になるようにアポタイズを施すことができるとともに、反射波のサイドローブの発生を抑圧又は排除してＳ／Ｎを改善することができるファイバグレーティングを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ファイバグレーティングに施されるアポタイズ（ファイバ長手方向におけるレーザ光の照射強度変調）を説明する図。
【図２】ビームプロファイルが一定のレーザビーム光を説明する図。
【図３】サイドローブが存在するＦＢＧの反射スペクトルを示す図。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る、アポタイズと伴に行うファイバグレーティングの製造を説明する図。
【図５】第１の実施形態で採用される速度変調パターンの一例を示す図。
【図６】アポタイズが施された光ファイバのコアの屈折率上昇Δｎを例示する図。
【図７】本発明の第２の実施形態に係る、アポタイズと伴に行うファイバグレーティングの製造を説明する図。
【図８】本発明の第３の実施形態に係る、アポタイズと伴に行うファイバグレーティングの製造を行う製造装置の概要図。
【図９】第３の実施形態で採用される速度変調パターンの一例を示す図。
【図１０】本発明の第４の実施形態に係るアポタイズの原理を説明する図。
【図１１】第４の実施形態に係る、アポタイズと伴に行うファイバグレーティングの製造を行う製造装置の概要図。
【図１２】第４の実施形態の構成に基づいて製造されたファイバグレーティングで実験した光ビームの反射スペクトルを示すグラフ。
【図１３】本発明のその他の実施形態に係るファイバグレーティングの製造方法を説明する説明図。
【符号の説明】
１　光ファイバ
２　レーザ光
３　シャッタ
４　プレート
２２　駆動系（制御手段）
２７　モータ制御装置（制御手段）
２８　スリット板（シャッタ）
２９　レーザ光源
４１　シャッタ
４２　開口
ＯＰ　開口
Ｓ　スリット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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