(57)【要約】【課題】液状材料を用いて所望のパターンを形成するときに、高速に且つ良好に所望パターンを形成することができる微細構造物の製造方法、光学素子、配線、電子素子、集積回路及び電子機器を提供する。【解決手段】液体材料１４で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法であって、基体１０上に撥液膜１１を形成する工程と、撥液膜１１が形成された基体１０上に選択的に電磁波を照射することで撥液膜１１の一部を改質し、加熱処理により、選択的に電磁波が照射された部分のみの撥液膜１１を分解揮発させ、撥液膜１１をパターニングする撥液膜パターニング工程と、撥液膜１１が分解揮発された基体１０の部分に液状材料１４を塗布する液状材料塗布工程と、塗布した液状材料１４を乾燥させることで、基体１０上に液体材料１４でなる機能性素子を形成する機能性素子形成工程とを有することを特徴とする微細構造物の製造方法。【選択図】        図３
2004302088.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法であって、
基体上に撥液膜を形成する工程と、
前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、
前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、
塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程と
を有することを特徴とする微細構造物の製造方法。
【請求項２】
前記電磁波が、紫外線であることを特徴とする請求項１に記載の微細構造物の製造方法。
【請求項３】
前記加熱処理は、前記電磁波を照射した部分の前記撥液膜を分解揮発し、前記電磁波を照射していない部分の前記撥液膜を分解揮発しない温度により行うことを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれかに記載の微細構造物の製造方法。
【請求項４】
前記撥液膜がフッ素樹脂重合膜であり、前記加熱工程の加熱温度が１５０℃以上３００℃以下であることを特徴とする請求項３に記載の微細構造物の製造方法。
【請求項５】
液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法により製造される配線であって、
基体上に撥液膜を形成する工程と、
前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、
前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、
塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程と
を有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする配線。
【請求項６】
液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法により製造される電子素子であって、
基体上に撥液膜を形成する工程と、
前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、
前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、
塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程と
を有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする電子素子。
【請求項７】
液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法により製造される電子素子を有する集積回路であって、
基体上に撥液膜を形成する工程と、
前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、
前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、
塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程と
を有する微細構造物の製造方法により製造された電子素子を有することを特徴とする集積回路。
【請求項８】
液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法により製造される電子素子を備える電子機器であって、
基体上に撥液膜を形成する工程と、
前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、
前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、
塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程と
を有する微細構造物の製造方法により製造された電子素子を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液状材料により所望のパターンを形成するときに好適である微細構造物の製造方法、光学素子、配線、電子素子、集積回路及び電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
カラーフィルタ等を有する機能性素子や、半導体集積回路の配線パターンなどの、微細な機能性パターンを形成する方法として、所望パターンを囲むようにして基板上に隔壁（バンク）を形成し、次いでこの隔壁内に液状材料を充填配置し、その後、乾燥及び焼成を行うといった方法がある（例えば特許文献１参照）
【０００３】
【特許文献１】
特開平８−１６６５０７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、隔壁を形成してこれに囲まれた箇所に液状材料を充填配置する方法では、隔壁の形成に隔壁材料の塗布、露光、エッチングなどの工程を必要とすることから、工程数が多いことなどにより生産性が低いといった課題があった。また、隔壁自体は完成された製品においては機能を有しないため、結果的に機能性パターンの微細化を妨げる一因にもなっており、したがって隔壁を用いない新たなパターニング方法の開発が望まれている。
【０００５】
また、上記従来の微細パターンの形成方法では、例えば、シリコン基板などの被処理面全体にフッ素膜などを形成する撥液処理を施し、その後に、撥液処理された被処理面における所望パターン領域に電磁波などを照射することで、このパターン領域のフッ素膜を分解揮発させるが、低エネルギーの電磁波ではフッ素膜を分解揮発するのに長時間かかってしまう。また、長時間照射を行うと反射光の影響を受け、良好なパターン領域が形成されないという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解消して、液状材料を用いて所望のパターンを形成するときに、高速に且つ良好に所望パターンを形成することができる微細構造物の製造方法、光学素子、配線、電子素子、集積回路及び電子機器を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上述の目的は、第１の発明によれば、液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法であって、基体上に撥液膜を形成する工程と、前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程とを有することを特徴とする微細構造物の製造方法により、達成される。
上記構成によれば、加熱処理を加えることで、電磁波が照射された部分の撥液膜を選択的に分解揮発させるので、迅速に良好な所望のパターンを得ることが出来る。
【０００８】
第２の発明は、第１の発明の構成において、前記電磁波が、紫外線であることを特徴とする。
上記構成によれば、電磁波を用いて高速且つ精密にパターニングすることができる。
【０００９】
第３の発明は、第１の発明又は第２の発明のいずれかの構成において、前記加熱処理は、前記電磁波を照射した部分の前記撥液膜を分解揮発し、前記電磁波を照射していない部分の前記撥液膜を分解揮発しない温度により行うことを特徴とする。
上記構成によれば、電磁波が照射されない部分が撥液性を保つので、良好なパターニング形状を得るができる。
【００１０】
第４の発明は、第３の発明の構成において、前記撥液膜がフッ素樹脂重合膜であり、前記加熱工程の加熱温度が１５０℃以上３００℃以下であることを特徴とする。
上記構成によれば、加熱温度が、この下限値未満であると電磁波を照射した部分の撥液膜が分解揮発しなくなってしまい、この上限値を越すと電磁波を照射していない撥液膜の部分が分解揮発してしまうためである。従って、このような温度範囲で加熱処理を行えば、電磁波を照射していない撥液膜の部分を残しつつ、電磁波を照射した部分を効率よく分解揮発させることができる。
【００１１】
上述の目的は、第５の発明によれば、液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法により製造される配線であって、基体上に撥液膜を形成する工程と、前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする配線により、達成される。
【００１２】
上述の目的は、第６の発明によれば、液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法により製造される電子素子であって、基体上に撥液膜を形成する工程と、前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造されたことを特徴とする電子素子により、達成される。
【００１３】
上述の目的は、第７の発明によれば、液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法により製造される電子素子を有する集積回路であって、基体上に撥液膜を形成する工程と、前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造された電子素子を有することを特徴とする集積回路により、達成される。
【００１４】
上述の目的は、第８の発明によれば、液体材料で機能性素子を形成する微細構造物の製造方法により製造される電子素子を備える電子機器であって、基体上に撥液膜を形成する工程と、前記撥液膜が形成された前記基体上に選択的に電磁波を照射することで前記撥液膜の一部を改質し、加熱処理により、選択的に前記電磁波が照射された部分のみの前記撥液膜を分解揮発させ、前記撥液膜をパターニングする撥液膜パターニング工程と、前記撥液膜が分解揮発された前記基体の部分に前記液状材料を塗布する液状材料塗布工程と、塗布した前記液状材料を乾燥させることで、前記基体上に前記パターニングによるパターンに応じて前記液体材料でなる前記機能性素子を形成する機能性素子形成工程とを有する微細構造物の製造方法により製造された電子素子を備えたことを特徴とする電子機器により、達成される。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を図面に基づいて説明する。
本実施形態では、微細構造物の一例としてカラーフィルタの画素を挙げて説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る微細構造物の製造方法を使用する製造装置の一部としての撥液膜処理装置１３０の構成例を示す図である。
【００１６】
撥液膜処理装置１３０は、例えば基板１０の上面全体に撥液膜を形成するものである。この撥液膜の形成は、例えばフッ素系樹脂重合膜を形成することで行う。この撥液膜処理装置１３０は、処理室１３１を有し、処理室１３１内に設けた処理ステージ１３２の上に、被処理物である基板１０を配置するように構成されたものである。処理室１３１の上下には高周波電極１３４が配置されており、高周波電極１３４の一方には高周波電源１３５が接続されており、他方は接地されている。
【００１７】
また、処理室１３１には、流量制御弁１１２を備えた供給配管１０２を介して処理ガス供給部１０４が接続されている。この処理ガス供給部１０４は、例えばＣ４Ｆ１０やＣ８Ｆ１８などの直鎖状フルオロカーボンを含有する液体有機物１０６を貯留する容器１０８を有したものである。容器１０８には、加熱部となるヒータ１１０が設けられており、液体有機物１０６が加熱され気化されるようになっている。
【００１８】
また、供給配管１０２の流量制御弁１１２の下流側には、流量制御弁１１４を備えたキャリア配管１１６を介してキャリアガス供給部１１８が接続されている。キャリアガスとしては、例えば窒素やアルゴンなどの不活性ガスが用いられる。尚、図１において破線で示すように、供給配管１０２には、流量制御弁１２０を有する配管１２２を介して第２処理ガス供給部１２４を接続することもできる。この場合には、第２ガス処理供給部１２４から、例えばＣＦ４が第２処理ガスとして液体有機物１０６の蒸気中に添加される。
【００１９】
このような構成の撥液膜処理装置１３０によって基板１０に撥液膜を形成するには、高周波電極１３４，１３４間で放電をなすことによって処理室１３１内にプラズマを生成するとともに、この処理室１３１内に上記液体有機物１０６の蒸気とＣＦ４との混合ガスを供給し、これにより供給した混合ガスを高活性状態に励起させる。
【００２０】
すると、混合ガス成分である直鎖状フルオロカーボンやＣＦ４が活性化して重合し、基板１０の表面には、例えばフッ素樹脂重合膜からなる撥液膜を形成する。この基板１０の表面に形成される撥液膜の材料は、例えば有機物であり、例えばフッ素を含有している。ここで、第２処理ガスとしてＣＦ４を液体有機物１０６の蒸気中に添加していることにより、このＣＦ４が基板１０の表面で重合した重合膜中のフッ素脱離部分に取り込まれ、これにより重合膜の撥液性を向上させるようになる。
【００２１】
尚、このようにして形成する撥液膜（後述する撥液膜１１）の形成材料としては、上述のものに限定されることなく、種々のフッ素含有有機物を用いることができる。具体的には、重合膜を形成するフロリナート等として、例えばＣ８Ｆ１８、Ｃ７Ｆ１６、Ｃ６Ｆ１４、Ｃ５Ｆ１２などを撥液膜の形成材料として用いることができる。また、撥液膜の形成材料としては、例えばＣ４Ｆ８などを撥液膜の形成部材として用いることもできる。さらに、界面活性剤（例えばＤｙｎａＳｙｌａｎ−Ｆ−８２６３又はＤｙｎａＳｙｌａｎ−Ｆ−８２６１など）を撥液膜の形成部材として用いることもできる。
【００２２】
図２は、本発明の好ましい実施形態としての微細構造物の製造方法を使用する電磁波処理装置の構成例を示す図である。以下の説明では、この電磁波処理装置として紫外線照射装置１５０を例示する。
この紫外線照射装置１５０は、ランプハウス１５２、ランプハウス１５２内に配置されたＵＶ光源１５３及び、ランプハウス１５２の底面に設けられた合成石英（石英ガラス）１５４を備えて構成されたものである。ここで、ＵＶ光源１５３としては、照射する紫外線の波長を例えば２１５ｎｍとするランプが好適である。
【００２３】
また、合成石英１５４の下方にはホルダ１５７が設けられている。ホルダ１５７は箱状に形成されたもので、その上部開口部に合成石英（石英ガラス）１５８が着脱可能に取り付けられるようになっている。このような構成のもとに、このホルダ１５７の内部には基板１０が出し入れ可能に納められるようになっており、また、基板１０を納めた状態で上部開口部が封止されるようになっている。
【００２４】
撥液膜処理装置１３０及び紫外線照射装置１５０はそれぞれ以上のような構成であり、次に図１及び図２を参照しつつその動作例としての微細構造物の製造方法の手順の一例について説明する。
図３は、被処理面である基板１０の上面に、液体材料を用いて所望形状のパターンを形成するときの主要工程の一例を示す断面図である。このパターンは、機能性素子に相当し、本実施形態では一例として画素が挙げられている。
まず、図３（ａ）に示すように基板１０の上面全体に撥液膜１１を形成する。この撥液膜１１の形成は、例えばフッ素系樹脂重合膜を形成することで行う。撥液膜１１の形成については、例えば図１に示す撥液膜処理装置１３０によって行うことができる。
【００２５】
この電磁波照射装置１３０を用いて、図３（ｂ）のように所望パターン形状の分解揮発領域１２を形成するには、まず、図１のホルダ１５７内に設置した基板１０に対して、図３（ｂ）に示すようにその上にマスク１３をセットする。このマスク１３は、基板１０の撥液膜１１に対して所望パターン形状に電磁波を照射するためのもので、所望パターン形状の開口を有してこの開口内に電磁波を通過させるものである。
【００２６】
すなわち、例えば図３（ｂ）の撥液膜１１において紫外線の照射される領域が、パターンを形成される領域である。例えばフッ素系樹脂重合膜である撥液膜１１は、所定のマスクを介して分解揮発しようとする部分のフッ素系樹脂重合膜に、電磁波の一例としての例えば２１５ｎｍの波長の紫外線を照射する。ここで、電磁波照射装置としては、上記図２の紫外線照射装置１５０の他にも、レーザ光を照射するレーザ光源を有するレーザ装置、さらには電子ビームを照射する電子ビーム装置などを用いてもよい。
【００２７】
このように図３（ｂ）に示す撥液膜１１上にマスク１３をセットし、図２のＵＶ光源１５３より紫外線（ＵＶ：Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ  ｒａｙｓ）を照射し、合成石英１５４，１５８を介して、図３（ｂ）に示すようにマスク１３によって形成された開口１３ａに対応した位置の撥液膜１１に紫外線を照射する。すると、撥液膜１１は、紫外線が照射された箇所が改質される。
【００２８】
ついで、図３（ｃ）に示すように、基体１０は、例えばホットプレート上で加熱処理され、撥液膜の分解揮発が行われる。尚、この加熱処理は、その代わりに、高温ガス雰囲気或いは赤外線などの光を用いて行うようにしても良い。ここで、この加熱処理における加熱温度としては、例えば１５０℃以上３００℃以下が望ましい。このような温度を下限値としたのは、これ未満であると電磁波を照射した部分の撥液膜１１が分解揮発しなくなってしまうためであり、このような温度を上限値としたのは、これを越すと電磁波を照射していない撥液膜１１の部分が分解揮発してしまうおそれがあるためである。
【００２９】
このようにして撥液膜１１に対し所望パターン形状に、電磁波の一例として紫外線の照射と加熱処理を行い、図３（ｃ）に示したように撥液膜１１の一部を分解揮発して所望パターンの領域１２を形成する。その後、図３（ｄ）に示すように、撥液膜が分解揮発された領域に液体材料１４を充填する。この液体材料１４は、機能性素子の一例としてのカラーフィルタの画素１４ａを形成するための顔料を含んだ溶剤とする。
【００３０】
尚、顔料は、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、又は例えばＣ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）、Ｙ（イエロ）のいずれかの色素を含むものとする。この液体材料１４の充填は、インクジェットノズルなどから、例えばインクである液体材料１４を吐出させて、撥液膜１１が分解揮発された領域にその液体材料１４を滴下することで行う。その後、図３（ｅ）に示すように、基板１０について乾燥及び焼成することで、液体材料の水分を蒸発させて、Ｒ，Ｇ，Ｂ又はＣ，Ｍ，Ｙのいずれかの色の光のみを透過させるカラーフィルタの１画素（パターン、機能性素子）１４が形成される。
【００３１】
ここで、本実施形態の製造方法によって撥液膜１１の分解揮発量が向上する結果を示す実験結果の一例について図３を参照しつつ説明する。
図４及び図５は、加熱による被処理面の撥液膜分解揮発の特性を示すグラフ図である。尚、図４において横軸は基板の加熱温度［℃］を示しており、縦軸は基板におけるインク（液体材料の一例）に対する接触角［ｄｅｇ］を示している。ここで「接触角」とは、液体材料の端部における接線方向、液体材料が接触している被接触面と液体材料の端部の接線方向とがなす液体材料側の角度をいう。
【００３２】
また、図４における２本の特性曲線のうち上側の曲線（電磁波照射なし）は、上記撥液膜１１を成膜後に加熱処理を施した基板の特性を示しており、下側の曲線（電磁波照射あり）は、上記撥液膜１１を成膜後に電磁波を照射後、加熱処理を施した基板の特性を示している。
加熱温度が２５０℃〜２７５℃において、電磁波を照射した撥液膜１１の接触角は、電磁波を照射していない撥液膜１１に対して明らかに小さいことがわかる。この結果より、電磁波を照射した部分の撥液膜１１を、選択的に分解揮発することが可能であることが分かる。
【００３３】
図５において横軸は基板への電磁波の照射エネルギーを示しており、縦軸は基板におけるインク（液体材料）に対する接触角［ｄｅｇ］を示している。この接触角が大きいほど、撥液性が高く撥液膜１１の分解揮発量が少ない。逆に接触角が小さくなるほど、撥液性が低くなって親液性が高くなり、撥液膜１１の分解揮発量が多い。
【００３４】
また、図５における２本の特性曲線のうち上側の曲線（加熱無し）は、撥液膜１１を成膜後に加熱処理を施した基板の特性の一例を示しており、下側の曲線（２５０℃加熱）は、撥液膜１１を成膜後に電磁波を照射後、加熱処理を施した基板の特性の一例を示している。
加熱を加えた撥液膜１１の接触角は、加熱していない撥液膜１１に対して明らかに小さいことが分かる。この結果より、電磁波の照射のみでは分解揮発されにくい撥液膜１１を、加熱処理により分解揮発させることが可能であることがわかる。
【００３５】
従って、このような図４及び図５の実験結果によってもわかるように、本実施形態の製造方法によれば、撥液膜１１における所望のパターン部分の分解揮発において加熱処理を施すことで、電磁波が照射された部分のみが選択的に分解揮発され、迅速に良好な所望のパターンを得ることが出来る。尚、本実験では、電磁波に例えば２１５ｎｍの紫外線を用いたが、より高いエネルギーであって直接分解揮発ができない短波長域の紫外線を用いることで、より多量の撥液膜１１を分解揮発することが可能である。
【００３６】
＜電子機器＞
上記実施形態の機能性素子の一例としてのカラーフィルタを備えた電子機器の例について説明する。
このような機能性素子は、図６に示すような表示部に設けられたカラーフィルタ１００１として、携帯型電話装置１０００に搭載されている形態であっても良い。
【００３７】
また、上記機能性素子は、図７に示すような表示部に設けられたカラーフィルタ１１０１として、例えば腕時計型の計時装置のような電子機器の一例としての時計本体１１００に搭載されている形態であっても良い。また、上記機能性素子は、図８に示すような表示部に設けられたカラーフィルタ１２０６として、情報処理装置１２００に搭載されている形態であっても良い。
【００３８】
この情報処理装置１２００は、例えば携帯型のワードプロセッサ、パーソナルコンピュータである。この情報処理装置１２００は、情報処理装置本体１２０４に、キーボードなどの入力部１２０２や、上記カラーフィルタ１２０６を用いた表示部を備えている。
図６から図８に示す電子機器は、それぞれ、上記実施形態のカラーフィルタ１００１，１１０１，１２０６を備えているので、良好に画像表示することができ、製造コストを低減することができるとともに、製造期間を短縮することができる。
【００３９】
本発明は、上記実施の形態に限定されず、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことができる。例えば実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。また、上記実施形態の各構成は、その一部を省略したり、上記とは異なるように任意に組み合わせることができる。
【００４０】
また、上記実施形態では、例えばフッ素樹脂膜の分解揮発方法について説明したが、本発明に係る微細構造物の製造方法では、他の撥液膜、他の電磁波、他の加熱方法を採用してもよい。
また、上記実施形態では、機能性素子の一例としてカラーフィルタを挙げてカラーフィルタの製造方法について説明したが、上記実施形態に係る微細構造物の製造方法は、例えば他の光学部品（光学素子）又は集積回路などやそれらの配線を形成するときに用いることもできる。また、上記実施形態に係る微細構造物の製造方法は、集積回路における抵抗、コンデンサ、トランジスタ、ダイオード、半導体レーザなどの電子素子を製造する際に適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】撥液処理装置の一例を示す概念図。
【図２】紫外線照射装置の一例を示す概念図。
【図３】本発明の実施形態に係る光学素子の製造方法の手順の一例を工程順に説明するための模式図。
【図４】本発明の実施形態に係る実験結果の一例を示す図。
【図５】本発明の実施形態に係る実験結果の一例を示す図。
【図６】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例を示す図。
【図７】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例を示す図。
【図８】本実施形態の光学素子を備えた電子機器の一例を示す図。
【符号の説明】
１０・・・基体、１１・・・撥液膜、１２・・・パターン領域、１３・・・マスク、１４・・・液体材料、１４ａ・・・画素、１３０・・・撥液膜処理装置、１５０・・・紫外線照射装置、１００１，１１０１，１２０６・・・カラーフィルタ（機能性素子）
【図１】
2004302088.tif 000003
【図２】
2004302088.tif 000004
【図３】
2004302088.tif 000005
【図４】
2004302088.tif 000006
【図５】
2004302088.tif 000007
【図６】
2004302088.tif 000008
【図７】
2004302088.tif 000009
【図８】
2004302088.tif 000010