(57)【要約】【課題】真空容器１に熱歪みなどを生じさせることなく剛性の向上を図ることが可能な真空装置を提供する。【解決手段】真空容器１内に収容された被処理物に減圧下で処理を施す真空装置であって、真空容器１の本体２に補強リブ６をボルト止めして取り付ける。【選択図】　　　　図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内に収容された被処理物に減圧下で処理を施す真空装置であって、上記真空容器の本体には補強リブがボルト止めされて取り付けられていることを特徴とする真空装置。
【請求項２】
上記真空容器の本体がアルミニウム合金によって形成されていることを特徴とする請求項１に記載の真空装置。
【請求項３】
上記真空容器には、上記被処理物の表面に薄膜を形成する成膜物質の発生機構が備えられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の真空装置。
【請求項４】
上記被処理物が、上記薄膜が形成される光学フィルターであることを特徴とする請求項３に記載の真空装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばガラス基板等の被処理物に金属酸化物等の薄膜を多層に成膜処理して光学フィルター等を製造するのに用いられる真空装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の真空装置としては、例えば特開２００２−１１５０５２号公報や特開２００２−１１５０５５号公報に、真空成膜室（真空容器）内において被処理物（被処理物）を回転させながら表面にイオンアシスト蒸着によって薄膜を形成するとともに、この被処理物上に形成される薄膜を光学的方法によって測定する真空成膜装置が提案されている。すなわち、これらの装置においては、真空隔壁によって内外が仕切られて真空ポンプにより内部を高真空に維持できるようにされた上記真空成膜室の内部底面にイオン銃および蒸着装置が設けられるとともに、真空成膜室の上部中央の外側にはモータが設置され、このモータの回転軸が真空成膜室内に真空シールしながら真空隔壁を貫通して延長され、その先端部に被処理物としてガラス基板が保持されて回転できるようにされている。また、この真空成膜室内には、受光レンズが上記真空隔壁に支持されてガラス基板上に配設されており、光源から上記ガラス基板に照射光を照射してその透過光を上記受光レンズにより受光し、その強度が膜厚に依存して変化することを利用して膜厚を算出するようにされている。なお、このように被処理物としてのガラス基板の膜厚を直接測定するのに代えて、真空容器内にモニターガラスを配置してその表面に形成された薄膜の膜厚を測定するものも提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このような真空成膜装置においては、成膜時に真空成膜室内が上述のように高真空に減圧されることにより、減圧前に比べて真空隔壁が僅かながらではあるが内側に凹むようにして真空容器に撓み変形が生じることが避けられない。ここで、このような撓み変形を防ぐには、一つに、上記真空隔壁の厚さを厚くしてその剛性を高めることが考えられるが、この真空隔壁全体の厚さを厚くしたのでは、真空容器の重量が大きくなりすぎ、これを支持する架台や当該真空成膜装置が収容される建て屋の床構造などを強化したりしなければならず、非経済的となる。そこで、このように真空容器の重量の増大を抑えつつ隔壁に剛性を向上させるのに、この隔壁に補強リブを設けることが考えられる。そして、このような真空容器の金属製の隔壁に補強リブを設けるには、通常同じく金属製の補強リブを溶接により該隔壁に接合することが一般的とされている。
【０００４】
しかしながら、このような溶接による接合では、今度は溶接時の熱による歪みがやはり僅かではあるが隔壁に生じることが避けられなくなる。しかして、このような歪みは、たとえ僅かではあっても、特に高精度の成膜品質が要求される上述のような光学フィルターの薄膜を形成するための真空成膜装置には許されず、従ってこのような歪みを除去するために溶接後に後加工を行わなければならなくなって、この後加工に多くの時間と労力とを要し、作業効率の低下や加工コストの増大を招く結果となる。なお、このような課題は、上述のような真空成膜装置に限らず、真空容器内に付設された部品位置が高精度に保たれることが必要とされる真空装置に共通のものである。
【０００５】
本発明は、このような背景の下になされたもので、このような真空装置において、その真空容器に熱歪みなどを生じさせることなく剛性の向上を図ることが可能な真空装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決して、このような目的を達成するために、本発明は、真空容器内に収容された被処理物に減圧下で処理を施す真空装置であって、上記真空容器の本体に補強リブをボルト止めして取り付けたことを特徴とする。従って、こうして補強リブがボルト止めによって真空容器本体に取り付けられた真空装置では、溶接による熱歪みが発生することがなく、かかる歪みを除去するための後加工も不要となるので、高精度で剛性の高い真空容器を効率的に形成することが可能となる。
【０００７】
一方、この真空容器の本体は、これを、熱輻射率が低くて例えば上記蒸着装置のような真空容器内に配される熱源の輻射による受熱影響の小さいアルミニウム合金によって形成することにより、このような熱による処理中の真空容器の変形も抑制することができ、一層高精度の処理を促すことが可能となるとともに、このような熱に対して真空容器を冷却する必要がなくなるため、装置構造の簡略化、重量の低減、および冷却水を供給する際の真空容器の振動防止などを図ることができる。さらに、当該真空装置は、上述のような真空成膜装置以外の真空装置にも適用可能であるものの、特に被処理物の表面に薄膜を形成する成膜物質の発生機構が真空容器に備えられた真空成膜装置に適用して効果的であり、取り分けこの薄膜が形成される被処理物が、高い成膜精度が要求される光学フィルターである場合に適用してより効果的である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
図１ないし図６は本発明の一実施形態を示すものであって、この実施形態は、被処理物としてガラス基板に薄膜を形成することにより光学フィルターを製造する真空成膜装置に本発明を適用したものである。本実施形態において真空容器１は、その本体２が、上下の天板２Ａおよび底板２Ｂと両側方の側板２Ｃ，２Ｄとから構成されて正面と背面とが開口させられた外形略直方体状の箱形をなし、かつ内部に形成される空間（チャンバー）は略立方体状をなすようにされたものであり、この本体２の正面側の開口部にはヒンジによって横開きに開閉可能に該本体２の一部をなす扉３が取り付けられるとともに、背面側には補助排気室４を介して真空排気ポンプ５が取り付けられていて、扉３を閉じて排気ポンプ５を駆動することにより、本体２内の上記空間が補助排気室４を介して真空排気されて高真空に維持されるようになされている。
【０００９】
ここで、上記真空容器１は、その上記本体２と扉３とが、例えばＪＩＳ　Ｈ　４０００におけるＡ５０５２等のアルミニウム合金によって形成されており、上記補助排気室４の外壁も同材質で形成されている。そして、上記本体２のうち側板２Ｃ，２Ｄの外側面には、側面視に図２に示すように補強リブ６が取り付けられており、本実施形態ではこの補強リブ６も、本体２等と同じくアルミニウム合金によって形成されていて、ボルト止めによって側板２Ｃ，２Ｄに取り付けられている。また、上記扉３にも正面視に図１に示すような井桁状をなすようにアルミニウム合金よりなる補強リブ６がやはりボルト止めされて取り付けられており、さらにこの扉３を閉じた状態で該扉３が密着する本体２の正面側開口部の周縁には真空シールが配設されている。
【００１０】
一方、本実施形態の真空装置では、このような真空容器１の外側に、該真空容器１と別体に構成された架構７が配設されている。ここで、本実施形態の架構７は、上記真空容器１が載置される架台８と、こうして架台８上に載置された真空容器１の周囲を取り囲むように配設される枠体９とから構成されており、これら架台８と枠体９とはいずれも、断面方形をなす角形鋼管が溶接あるいはボルト止めされて組み立てられた構造をなしている。このうち、架台８は、上記鋼管が直方体状の枠形をなすように組み立てられており、その上面部分に真空容器１の上記本体２が載置されて取り付けられている。また、この架台８の上面部分の両側部には、載置された本体２の側板２Ｃ，２Ｄよりも外側に突出するようにブラケット８Ａが本体２の正面寄りと背面寄りとにそれぞれ設けられており、上記枠体９は、これらのブラケット８Ａ上に立設された角形鋼管よりなる支柱９Ａの各上端部が、やはり角形鋼管によって組み立てられた平面視に図４に示すような長方形をなす枠形９Ｂの各角部に接合された構造とされていて、正面視には図１や図５に示すように、また側面視にも図２に示すように、真空容器１の本体２の上記天板２Ａや側板２Ｃ，２Ｄと間隔をあけて下向きに開口した「コ」字状を呈する門型をなすように形成されている。なお、この枠体９の上記枠形９Ｂ内には、やはり角形鋼管よりなる補強材９Ｃが井桁状に組み込まれているとともに、この枠形９Ｂ上には、平面視に図４に示すように支持板９Ｄが取り付けられている。
【００１１】
また、本実施形態の真空装置においてはさらに、上記真空容器１内に収容された被処理物（ガラス基板）を回転させる回転駆動機構１０と、上記被処理物に形成されるべき薄膜の膜厚を測定する膜厚測定機構１１と、この薄膜を形成する成膜物質を発生させる成膜物質の発生機構１２とが備えられており、本実施形態ではこれらの機構１０〜１２がいずれも上記架構７によって真空容器１とは独立して支持されている。すなわち、従来の真空装置（真空成膜装置）では、上記公報に記載のようにこれらの機構がいずれも真空容器に直接的に取り付けられていたのに対し、本実施形態では該機構１０〜１２が真空容器１にはマウントされることなく、この真空容器１と別体に構成された架構７の上記架台８または枠体９あるいはこれらの双方に取り付けられている。
【００１２】
ここで、まず上記回転駆動機構１０は、真空容器１内に配設されて上記被処理物を保持する基板ドーム１０Ａと、この基板ドーム１０Ａを回転可能に支持する回転駆動軸１０Ｂとを備え、架構７の枠体９の上記支持板９Ｄによって支持されている。このうち、上記回転駆動軸１０Ｂは中空の円筒状に形成され、この円筒の中心軸線が平面視において真空容器１内の上記空間がなす方形（略正方形）の中心を通るように鉛直に配置されて、その上端部が上記支持板９Ｄを貫通して上方に突出させられた上で回転可能に支持され、やはりこの支持板９Ｄ上に設けられたモータ等の駆動手段１０Ｃにより上記中心軸線回りに回転駆動させられるとともに、下端部は真空容器１の本体２における天板２Ａを貫通して真空容器１内に垂下させられている。なお、この回転駆動軸１０Ｂが真空容器１の上記天板２Ａを貫通する貫通部には、その外周側に伸縮自在な金属製蛇腹管１０Ｄが天板２Ａ上面と上記支持板９Ｄ下面との間に亙って配設されるとともに磁性流体回転シールが封入されていて、真空容器１内の真空状態を維持したまま回転駆動軸１０Ｂが挿通されて回転可能とされている。また、上記基板ドーム１０Ａは、中央部が円形に開口させられた傘型に形成されて、この傘型の内周面に被処理物（ガラス基板）が多数取り付けられ、この内周面を下向きにして上記中央部が回転駆動軸１０Ｂの下端に取り付けられることにより、この中央部の円形開口部から円筒状の回転駆動軸１０Ｂの下端内周部を真空容器１内に開口させた状態で該回転駆動軸１０Ｂと同軸かつ一体的に回転させられる。
【００１３】
また、上記膜厚測定機構１１には、第１に、真空容器１内に配設されるモニターガラス１３Ａと、このモニターガラス１３Ａに向けて測定光を照射する光源１３Ｂと、上記測定光を受光する受光部１３Ｃとを有する光学測定機構１３が備えられている。このうち、受光部１３Ｃは回転駆動軸１０Ｂの上記上端部上に取り付けられるとともに、モニターガラス１３Ａは、基板ドーム１０Ａ中央部の上記円形開口部内に下向きに配設され、中空とされた回転駆動軸１０Ｂの内周部を通して上記受光部１３Ｃに連結されて上記測定光を光学的に伝達可能とされており、従ってこれらモニターガラス１３Ａおよび受光部１３Ｃは回転駆動軸１０Ｂと同様に架構７のうち枠体９の上記支持板９Ｄによって支持されることとなる。一方、真空容器１の本体２の上記底板２Ｂには上記モニターガラス１３Ａの直下に図示されない透孔が真空シールされて設けられていて、上記光源１３Ｂは、この透孔に臨むように上記架構７のうち架台８に取り付けられて支持されており、当該光学測定機構１３においては、この光源１３Ｂから上向きにレーザ光等の測定光を上記モニターガラス１３Ａに照射して、成膜時に被処理物と同時に該モニターガラス１３Ａ表面に形成される薄膜を通過したその透過光を上記受光部１３Ｃによって受光することにより、この透過光の強度が膜厚に依存して変化することを利用して成膜中の被処理物の薄膜の膜厚が測定可能とされている。
【００１４】
なお、本実施形態では、上記膜厚測定機構１１に、この光学測定機構１３の他に、第２の測定機構として水晶式膜厚計１４が備えられている。この水晶式膜厚計１４は、光学測定機構１３の上記受光部１３Ｃと同様に回転駆動軸１０Ｂの上端部上に取り付けられて支持板９Ｄにより支持されたものであり、回転駆動軸１０Ｂの内周部に臨んで配置された水晶振動子の振動数がその表面に薄膜が形成されることによって変化するのを利用して、時間当たりの膜厚の変化を測定可能とされている。
【００１５】
一方、上記成膜物質の発生機構１２は、真空容器１内の上記底板２Ｂ側に配設されていて、光学測定機構１３の上記光源１３Ｂと同様に架構７のうちの架台８により支持されている。ここで、本実施形態における発生機構１２には、この真空容器１内に配設される蒸着源１５Ａから蒸着物質を上記成膜物質として発生させて上記被処理物に蒸着する真空蒸着機構１５が備えられており、さらにこの真空蒸着機構１５には、上記蒸着物質にプラズマ照射を行うプラズマアシスト蒸着機構１６が備えられている。
【００１６】
すなわち、上記真空蒸着機構１５においては、図６に示すように真空容器１の本体２の上記底板２Ｂに鉛直上向きに回転軸１５Ｂが貫通させられていて、真空容器１内に突出したこの回転軸１５Ｂの上端部には、上面外周部に複数のルツボ状の凹部１５Ｃが周方向に等間隔に形成された円板状のハース１５Ｄが取り付けられ、このハース１５Ｄの凹部１５Ｃ内に上記蒸着源１５Ａが収容されているとともに、回転軸１５Ｂの下端部は上記架台８に設けられた図示されない回転駆動手段に取付られて、この回転駆動手段により回転軸１５Ｂはハース１５Ｄごとその軸線回りに回転可能、かつ周方向に隣接した上記凹部１５Ｃ同士の間隔に合わせた所定の回転角毎に位置決め可能とされている。なお、この回転軸１５Ｂが真空容器１の上記底板２Ｂを貫通する貫通部は、上記回転駆動軸１０Ｂが天板２Ａを貫通する貫通部と同様に図示されない金属製蛇腹管と磁性流体回転シールとにより、真空シールされている。また、真空容器１内の上記底板２Ｂ上には、上述のように所定の回転角で位置決めされたハース１５Ｄの１の凹部１５Ｃに隣接するようにして電子ビームガン１５Ｅが配設されており、上記１の凹部１５Ｃに収容された蒸着源１５Ａをこの電子ビームガン１５Ｅによって蒸発させることにより成膜物質が発生させられ、またハース１５Ｄを回転させて他の凹部１５Ｃに収容された蒸着源１５Ａをこの電子ビームガン１５Ｅに隣接させることにより、例えば異なる種類の薄膜を連続的に被処理物に形成することも可能とされている。なお、本実施形態では、一対のこのような真空蒸着機構１５が、正面視に図５に示すように真空容器１内の左右に対称に配設されている。
【００１７】
さらに、上記プラズマアシスト蒸着機構１６は、真空容器１内の上記底板２Ｂ上に、正面視に図５に示したように上記一対の真空蒸着機構１５の中央に位置し、かつ側面視には図６に示すようにこれらの真空蒸着機構１５の上記電子ビームガン１５Ｅに隣接して位置するように配設されたプラズマガン１６Ａによって構成されており、このプラズマガン１６Ａから発生させられたプラズマにより、上記真空蒸着機構１５の蒸着源１５Ａから発生した成膜物質が加速されて被処理物としての上記ガラス基板に蒸着されるので、膜品質の向上や形成される薄膜の高密度化を図ったりすることが可能となる。なお、本実施形態ではこれら図５や図６に示すように、このプラズマアシスト蒸着機構１６のプラズマガン１６Ａや上記真空蒸着機構１５の電子ビームガン１５Ｅは真空容器１の本体２の底板２Ｂに取り付けられているが、これらについても上記回転駆動軸１０Ｂや回転軸１５Ｂと同様の真空シールを介するなどして、架構７（架台８）によって支持するようにしてもよい。また、この底板２Ｂには、真空容器１内を所定の圧力に排気後に、該真空容器１内に必要に応じて特定のガスを導入するためのノズル１５Ｆが設けられている。
【００１８】
一方、上記補助排気室４は、本実施形態では真空容器１の背面から外側に膨出するように該真空容器１に隣接して設けられて、平面視に図４に示すように三角形状、より詳しくは真空容器１側を底辺とする二等辺三角形状、さらに詳しくは直角二等辺三角形状に形成され、従ってこの補助排気室４内に形成される空間も水平断面がこのような三角形状とされる。しかして、この補助排気室４は、上記架構７とはまた別体とされた支柱１７によって支持されていて、上記二等辺三角形の二等辺を構成する部分に位置する側壁４Ａ，４Ｂには、それぞれ排気口４Ｃが形成されて上記排気ポンプ５に連結されている。ここで、この排気ポンプ５として本実施形態では油拡散ポンプが用いられており、また上記排気口４Ｃには、該排気口４Ｃ側が開口した直方体状の箱形をなすバルブ室５Ａが上記側壁４Ａ，４Ｂにそれぞれ取り付けられていて、上記排気ポンプ５の本体５Ｂは、これらのバルブ室５Ａの下面に各々吊下されるように取り付けられている。また、このバルブ室５Ａの上面には、上記排気ポンプ５の本体５Ｂと排気口４Ｃとの間を開閉する図示されないバルブを駆動するためのシリンダー装置５Ｃが取り付けられるとともに、バルブ室５Ａの背面には、該背面がなす方形の二辺に内接するような大きな径の円形の点検窓５Ｄが設けられている。
【００１９】
このように補助排気室４の上記二等辺を構成する側壁４Ａ，４Ｂに排気口４Ｃがそれぞれ設けられることにより、本実施形態では真空容器１内に臨むこれらの側壁４Ａ，４Ｂに複数の排気口４Ｃが設けられることとなり、これらの排気口４Ｃは、真空容器１の正面側から見て図５に示すように、該真空容器１の背面の左右に配置されることとなる。そして、本実施形態ではこの図５に示されるように、一方の側壁（図５において右側の側壁）４Ａに設けられる排気口４Ｃは真空容器１内の下側に開口するように配設されるとともに、他方の側壁（図５において左側の側壁）４Ｂに設けられる排気口４Ｃは逆に真空容器１内の上側に開口するように配設されていて、すなわちこれら複数開口させられた排気口４Ｃが上下左右に互い違いとなるように、上記背面の対角上に位置して段違いの千鳥状あるいは市松模様状の配置に配設されている。
【００２０】
なお、これらの排気口４Ｃは、正面視において図５に示すように上下左右にそれぞれ上記背面を略二等分する程度の大きさの方形状に開口させられている。また、これに合わせて、これらの排気口４Ｃに連結される上記排気ポンプ５も、そのバルブ室５Ａと本体５Ｂとが図３に示すように側壁４Ａ，４Ｂに取り付けられるもの同士で背面視に上下左右の対角上に段違いの千鳥状あるいは市松模様状となるように配設される。さらに、本実施形態では左上側の排気口４Ｃの下縁は右下側の排気口４Ｃの上縁よりもやや上側にあって、これらの排気口４Ｃが鉛直方向に重なり合うことがないようにされている。また、この右下側の排気口４Ｃの下縁の位置は、鉛直方向において、上記成膜物質の発生機構１２の真空蒸着機構１５における蒸着源１５Ａ、電子ビームガン１５Ｅ、およびプラズマアシスト蒸着機構１６におけるプラズマガン１６Ａのうち少なくとも１つの位置、望ましくはすべての鉛直方向の位置と略同じ位置か、これよりも低い位置に配設されている。さらにまた、上記側壁４Ａ，４Ｂそれぞれの排気口４Ｃが設けられた側とは上下反対側には取付座４Ｄが設けられていて、図５に破線で示すようにコールドパネルやコールドトラップ等の凝集機構１８が、これら側壁４Ａ，４Ｂの少なくとも一方に取付可能とされている。さらに、このような補助排気室４が設けられる真空容器１の本体２の上記背面部には、図示されないルーバーや金網が取り付けられている。
【００２１】
従って、このように構成された真空装置では、まず、真空容器１の本体２においてその側板２Ｃ，２Ｄとこの本体２の一部を構成する扉３とに、補強リブ６が取り付けられていて、これにより側板２Ｃ，２Ｄや扉３の厚さを徒に厚くすることなくその剛性を確保することができ、当該真空装置の重量の著しい増大による架台８や床構造の強化を要さずとも、成膜時の真空容器１内の減圧による本体２の撓みを抑えることが可能となる。そして、上記真空装置ではこの補強リブ６がボルト止めによって上記側板２Ｃ，２Ｄや扉３に取り付けられているので、一般的な溶接による取付のように熱歪みが側板２Ｃ，２Ｄや扉３に生じることもなく、従って高品質の成膜を行うためにこの熱歪みを除去する後加工が溶接後に必要となることもなく、当該真空装置の製造に要する時間や労力を軽減して作業の効率化を図りつつも、高剛性で高精度の真空容器を備えた真空装置を提供することが可能となる。
【００２２】
さらに、本実施形態における真空容器１は、この本体２が、上記扉３や補助排気室４および補強リブ６までも含めて、アルミニウム合金によって形成されており、かかるアルミニウム合金は、一般的な真空成膜装置の真空容器に用いられるステンレス等の鋼材よりも熱輻射率が低く、上記真空蒸着機構１５の電子ビームガン１５Ｅやプラズマアシスト蒸着機構１６のプラズマガン１６Ａ等による熱を受熱し難いので、このような熱による真空容器１の変形自体を防止することができ、さらに高精度の成膜が可能となる。また、このように真空容器１内の熱が本体２に伝達され難いことから、成膜時に真空容器１を冷却する必要もなくなり、これにより冷却機構を省略することが可能となって、当該真空成膜装置の構造簡略化や一層の重量の軽減、あるいは冷却機構や冷却水が供給される際の振動の防止、さらには装置の低コスト化、コンパクト化などを図ることができる。
【００２３】
なお、本実施形態ではこのように真空容器１の本体２がアルミニウム合金で形成されるとともに、補強リブ６も同じアルミニウム合金により形成されているが、補強リブ６の材質としてはこのようなアルミニウム合金以外の材質も適用可能であって、例えば本体はアルミニウム合金製とする一方で補強リブは鉄製やステンレス製とするなど、本体と補強リブとの材質を異なるものとすることも可能であり、特にこうして補強リブを比較的安価な鉄製やステンレス製とすれば、装置コストの低減を図ることができる。そして、本発明では補強リブ６がボルト止めによって本体２に取り付けられるので、この鉄製やステンレス製の補強リブとアルミニウム合金製の本体のような溶接が不可能な材質の組み合わせの場合でも、確実かつ容易に補強リブを本体に取り付けることが可能となる。
【００２４】
また、本実施形態では上述のように本発明を被処理物としてのガラス基板に上記発生手段１２によって発生させられた成膜物質により薄膜を形成して光学フィルターを製造する真空成膜装置に適用した場合について説明したが、本発明の真空装置は、このような光学フィルターを製造する以外の真空成膜装置にも適用可能であるし、またこのような成膜装置以外の真空容器を備えた真空装置に適用することも可能である。しかしながら、このような真空成膜装置にはその真空容器にも高い精度が要求され、その中でも取り分け光学フィルターとして用いられる薄膜をガラス基板等の基板に成膜するものには一層の高精度が必要とされるので、本発明のように高精度で剛性の高い真空容器を容易に得られる真空装置は、そのような用途に適用してより効果的であると言える。
【００２５】
一方、本実施形態では、このように本発明を真空成膜装置に適用するに際して備えられた各機構、すなわち被処理物として真空容器１内に収容されるガラス基板を回転させる回転駆動機構１０や、このガラス基板に形成される薄膜の膜厚を測定する膜厚測定機構１１、および膜厚を形成するための成膜物質を発生させる発生機構１２が、真空容器１と別体に構成された架構７によって該真空容器１と独立して支持されている。このため、万一上記補強リブ６を取り付けたにも拘わらず、成膜時に上記排気ポンプ５によって真空容器１内を真空排気することにより内外の圧力差でこの真空容器１の本体２に撓み変形が生じたり、上記発生機構１２による成膜物質発生の際の熱によって本体２に熱変形が生じたり、あるいは排気ポンプ５の振動が伝達されて本体２が振動したりしても、これらの変形や振動に伴って上記回転駆動機構１０、膜厚測定機構１１、成膜物質の発生機構１２のそれぞれの位置や互いに位置関係にずれが生じるのを防ぐことができる。すなわち、真空容器１と架構７とは別の構造物であるので、この真空容器１の変形や振動によって架構７が変形したり振動したりすることが抑えられ、また架構７に支持された各機構１０〜１２は上述のような真空シールを介して真空容器１内に貫通させられているので、上記真空容器１の変形や振動が直接これらの機構１０〜１２に伝達されてその位置が変位するのも防がれるのである。
【００２６】
このため、第１に、モニターガラス１３Ａ、光源１３Ｂ、および受光部１３Ｃを有する光学測定機構１３を備えた上記膜厚測定機構１１においては、これらモニターガラス１３Ａ、光源１３Ｂ、受光部１３Ｃそれぞれの成膜時の位置および互いの位置関係を、成膜前に精度良く調整したままに維持することができ、従って高精度の膜厚測定を可能として、その測定結果により確実な成膜制御を図ることができる。また、第２に、被処理物（基板ガラス）を保持する基板ドーム１０Ａとこれを支持する回転駆動軸１０Ｂとを備えた上記回転駆動機構１０においては、この被処理物を真空容器１内において所定の位置に正確に配置してやはり所定の上記回転軸線回りに正確に回転させることができ、上述の確実な成膜制御に基づいてその表面に所望の膜厚の薄膜を高精度に形成することが可能となる。さらに、第３に、上述のように真空容器１内に配設される蒸着源１５Ａから電子ビームガン１５Ｅによって蒸着物質（成膜物質）を発生させて上記被処理物に蒸着する真空蒸着機構１５を備え、またこの真空蒸着機構１５に、上記蒸着物質にプラズマガン１６Ａによってプラズマ照射を行うプラズマアシスト蒸着機構１６を備えた成膜物質の発生機構１２においては、上記回転駆動機構１２によって被処理物が正確に位置決めされるのとも相俟って、この被処理物と蒸着源１５Ａとの距離を一定に維持することができ、上記電子ビームガン１５Ｅやプラズマガン１６Ａによって正確かつ安定的な成膜制御を図ることが可能となる。しかして、上述のように光学フィルターとして用いられるガラス基板に薄膜を形成するには、このような高い膜厚測定精度や正確な成膜制御も要求されるので、本実施形態の真空装置はかかる光学フィルターとして用いられるガラス基板の薄膜形成に用いて、より一層効果的であると言える。
【００２７】
さらに、本実施形態では、上記機構１０〜１２のうち、回転駆動機構１０と、上記膜厚測定機構１１の光学測定機構１３におけるモニターガラス１３Ａ、受光部１３Ｃ、および水晶式膜厚計１４とが、架構７のうちでも、真空容器１の本体２が載置された架台８にこの本体２と間隔をあけて設けられた枠体９によって支持されており、従ってこの枠体９には上記変形や振動が一層伝わりにくいので、その位置を変位をより確実に防止することができる。なお、本実施形態では、上記補強リブ６は真空容器１の本体２の側板２Ｃ，２Ｄや扉３に取り付けられているだけであって、天板２Ａや底板２Ｂには取り付けられていないが、これは、このように天板２側から真空容器１内に配設される機構１０，１３や底板２Ｂ側から配設される機構１２，１３が架構７によって支持されているからであって、すなわち成膜時にこれら天板２Ａや底板２Ｂに減圧による変形が生じても、上記機構１０〜１３に変位が生じることがなく、膜厚測定や成膜の精度への影響が少ないからである。ただし、勿論これらの天板２Ａや底板２Ｂ、あるいは上記補助排気室４の側壁４Ａ，４Ｂ等にも上述のような補強リブ６を取り付けるようにしても構わない。
【００２８】
また、本実施形態ではこのように真空容器１を架構７の架台８上に載置して取り付けるとともに枠体９もこの架台８に支持するようにしているが、例えば真空容器を載置する架台とは別に構成した架構を、これら真空容器および架台とも間隔をあけるように配設し、この架構に上記各機構を支持して真空容器とは独立させるようにしてもよい。さらに、例えば上述のような枠体９を設けずに、当該真空成膜装置が配置される建て屋の天井に上記回転駆動機構１０や膜厚測定機構１１等を支持するようにしたり、場合によっては真空容器１を架台８上に載置せずに床面に直接置き、この床面に上記光学測定機構１３の光源１３Ｂや成膜物質発生機構１２の真空蒸着機構１５における回転軸１５Ｂを埋設して支持したりするようにしてもよい。
【００２９】
また一方、本実施形態では、真空容器１内を真空排気する排気ポンプ５が複数（本実施形態では２つ）備えられていて、これらの真空ポンプ５への排気口４Ｃが上述のように千鳥状あるいは市松模様状の配列をなすように、この真空容器１の背面に上下左右に互い違いの対角位置に設けられており、これにより真空容器１内の圧力すなわちガス濃度を均一に維持することができて、薄膜の物性等の成膜品質を安定させることができる。
【００３０】
すなわち、本実施形態のような真空成膜装置では、上記排気口の位置が真空容器の上下や左右の一方に偏って配置されていると、成膜中の真空容器からの排気もこの排気口が配置された側に偏ったものとなって排気偏流を生じ、これによって真空容器内に圧力、ガス濃度のばらつきが発生するおそれがあり、その結果、成膜物質の品質が一定にならなくなって、たとえ成膜中に被処理物を回転させていても、複数の被処理物同士の間や個々の被処理物において形成された薄膜の品質が不均一となってしまうおそれがある。また、化合物よりなる蒸着源から電子ビームガンによって蒸着物質（成膜物質）を発生させて蒸着を行う場合などには、電子ビームの照射によってこの化合物が分解して発生したガスの滞留により蒸着源周辺のガス濃度が高くなることがあるが、そのような場合に排気が偏っていて蒸着源周辺のガス濃度が高いままだと、例えば酸化物を蒸着する場合には蒸着源周辺の酸素濃度が高くなるために電子ビームガンがアーキング等の異常放電を起こして安定した成膜物質の発生を阻害したりフィラメントの寿命の短縮を招いたりするおそれがあり、さらにプラズマアシスト蒸着においても蒸着源周辺の圧力が高いとプラズマの加速が不十分となったりするおそれがある。
【００３１】
ところが、これに対して本実施形態によれば、上述のように複数の排気ポンプ５の排気口４Ｃが上下左右に互い違いの対角位置に配置されており、これにより真空容器１内の鉛直方向および水平方向に均一な排気が可能となるので、真空容器１内に排気偏流による圧力、ガス濃度のばらつきが生じるのを防ぐことができ、これによって成膜物質の品質を安定化させて、被処理物に形成される薄膜も個々の被処理物中や被処理物同士でも均質なものとすることが可能となるのである。また、このように均一な排気が可能となって真空容器１内の圧力等のばらつきが防がれることにより、蒸着源１５Ａの周辺でのガス濃度の上昇も防ぐことができ、これにより電子ビームガン１５Ｅにアーキング等の異常放電が生じたりやプラズマガン１６Ａによるプラズマの加速が不十分となったりするのも防ぐことができる。
【００３２】
さらに、本実施形態では、こうして互い違いに配置された排気口４Ｃのうち、正面視に右側の上記一方の側壁４Ａに設けられる鉛直方向下側の排気口４Ｃは、その下縁の位置がやはり鉛直方向において、上記蒸着源１５Ａ、電子ビームガン１５Ｅ、およびプラズマガン１６Ａのうち少なくとも１つの位置、望ましくはすべての鉛直方向の位置と略同じ位置か、これよりも低い位置に配設されている。従って、例えば酸化物を蒸着する場合でも、この排気口４Ｃの下縁の位置より上側に位置することとなる上記電子ビームガン１５Ｅやプラズマガン１６Ａ周辺に酸化物の分解によって生じた酸素ガスが滞留して酸素濃度が高くなるのを防ぐことができ、アーキング等の異常放電を防止して電子ビームガン１５Ｅのフィラメント寿命の延長を図ったり、プラズマガン１６Ａによって十分なプラズマの加速を促したりすることが可能となる。
【００３３】
また、本実施形態では、このように配列された排気口４Ｃが、真空容器１内の立方体状をなす本体２から膨出するようにして隣接した補助排気室４の側壁４Ａ，４Ｂに開口させられており、この補助排気室４において真空容器１内から排気口４Ｃに向かう排気の流れをより均一にすることができて、一層確実な成膜品質の安定化を図ることができる。しかも、この補助排気室４は、平面視において上述のように真空容器１側を底辺とする三角形状、特に本実施形態では二等辺三角形状、さらには直角二等辺三角形状に形成されており、この底辺を除く二辺、すなわち上記二等辺三角形の二等辺を構成する部分の側壁４Ａ，４Ｂに排気口４Ｃがそれぞれ形成されているので、平面視においてこれらの排気口４Ｃと真空容器１内の空間が平面視においてなす方形（正方形）の中心との間隔を略等しくすることができ、従ってこの中心においては圧力やガス濃度等のより一層の均一化を図ることができる。しかして、上記発生機構１２の真空蒸着機構１５において上記蒸着源１５Ａから発生させられる成膜物質は、この方形の中心すなわち上記回転駆動機構１０の回転駆動軸１０Ｂの中心軸線を略中心として、この回転駆動軸１０Ｂの下端に取り付けられた上記基板ドーム１０Ａに向かい、この基板ドーム１０Ａに保持された被処理物（ガラス基板）に蒸着されて薄膜を形成するので、そのような中心部分において上述のように圧力やガス濃度のより一層の均一化が図られることにより、本実施形態によれば、被処理物に形成される薄膜についてもその品質の一層の均一化、安定化を図ることが可能となる。
【００３４】
一方、このように排気口４Ｃが上下左右に互い違いの配置とされることにより、上記側壁４Ａ，４Ｂにはこの排気口４Ｃが設けられない部分にスペースが残されることとなり、本実施形態では側壁４Ａ，４Ｂの少なくとも一方のこのスペースに上述のような取付座４Ｄが設けられてコールドパネルやコールドトラップ等の凝集機構１８が取付可能とされている。従って、真空容器１から排気口４Ｃを通って排気ポンプ５に導入される排気中の水分等を、主排気口のコンダクタンスを小さくすることなく確実に除去することが可能となる。また、特に本実施形態ではこの排気ポンプ５として油拡散ポンプが採用されており、万一排気ポンプ５側から油の蒸気が補助排気室４内に逆流しても、これを凝集機構１８によって凝集させることにより真空容器１内の汚染を防ぐこともできる。さらに、本実施形態では、この補助排気室４と真空容器１の本体２内との間にルーバーや金網が真空容器１内壁面に取り付けられているので、このような油蒸気の真空容器１内への流入や真空容器１内から排気ポンプ５への成膜物質の流入なども防止することができる。
【００３５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ボルト止めによって補強リブが真空容器の本体に取り付けられているので、溶接による熱歪みを除去する後工程を要したりすることなく効率的かつ容易に、しかしながら高剛性、高精度の真空容器を有する真空装置を得ることができる。また、真空容器をアルミニウム合金によって形成すれば、成膜時の真空容器自体の熱変形を抑えることができるとともに、装置構造の簡略化、一層の重量の低減、振動の防止などを図ることができる。従って、このような真空装置は、成膜物質の発生機構を備えて被処理物の表面に薄膜を形成する真空成膜装置に適用して効果的であり、さらにこのような真空成膜装置のうちでも、光学フィルターとして用いられる基板に薄膜を形成する場合に適用してより一層効果的である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す正面図である。
【図２】図１に示す実施形態の右側面図である。
【図３】図１に示す実施形態の背面図である。
【図４】図１に示す実施形態の平面図である。
【図５】図１に示す実施形態の真空容器１内を示す、扉３を取り外した状態の正面図である。
【図６】図１に示す実施形態の真空容器１および補助排気室４内を示す、図５におけるＺＺ断面図である。
【符号の説明】
１　真空容器
２　真空容器１の本体
２Ｃ，２Ｄ　本体２の側板
３　扉
４　補助排気室
４Ｃ　排気口
５　排気ポンプ
６　補強リブ
７　架構
８　架台
９　枠体
１０　回転駆動機構
１０Ａ　基板ドーム
１０Ｂ　回転駆動軸
１１　膜厚測定機構
１２　成膜物質の発生機構
１３　光学測定機構
１３Ａ　モニターガラス
１３Ｂ　光源
１３Ｃ　受光部
１５　真空蒸着機構
１５Ａ　蒸着源
１６　プラズマアシスト蒸着機構
１８　凝集機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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