(57)【要約】【課題】移動体の確実な移動と設置面の有効利用を図ることを可能とする移動体のガイド機構を提供する。【解決手段】第１の位置Ｐ１と第２の位置Ｐ２との間において車輪１１６，１１８を介した移動体１００の移動を案内するためのガイド機構である。このガイド機構は、第１の位置Ｐ１と第２の位置Ｐ２との間で互いに平行に敷設される第１及び第２のレール１１２，１１４を備え、第１及び第２のレール１１２，１１４は、基端部１１２ａ，１１４ａを中心として設置面内において回転可能に設けられている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の位置と第２の位置との間において車輪を介した移動体の移動を案内するためのガイド機構であって、
前記第１の位置と前記第２の位置との間で互いに平行に敷設される第１及び第２のレールを備え、
前記第１及び第２のレールは、基端部を中心として設置面内において回転可能に設けられていることを特徴とする移動体のガイド機構。
【請求項２】
前記第１及び第２のレールの終端部の間に横架される連結リブを備え、
前記連結リブは、起端部を中心として前記設置面内において回転可能に、前記第１のレールの終端部に軸止されていることを特徴とする請求項１に記載の移動体のガイド機構。
【請求項３】
前記連結リブは第１リブ部と第２リブ部とを有し、
前記第１リブ部は、基端部を中心として前記設置面内において回転可能に、前記第１のレールの前記終端部に軸止されており、
前記第２リブ部は、起端部を中心として前記設置面内において回転可能に、前記第１リブ部に軸止されていることを特徴とする請求項２に記載の移動体のガイド機構。
【請求項４】
前記第１のレールの前記起端部に連続して敷設される第３のレールと、前記第２のレールの前記起端部に連続して敷設される第４のレールとを備え、
前記第１のレールの前記起端部は、前記第３のレールの終端部に軸止されており、前記第２のレールの前記起端部は、前記第４のレールの終端部に軸止されていることを特徴とする請求項１に記載の移動体のガイド機構。
【請求項５】
前記第１のレールと前記第３のレールとの連結部分、及び前記第２のレールと前記第４のレールとの連結部分のそれぞれに設けられており、該第１及び第２のレールの前記設置面内における所定角度以上の回転を規制する規制手段を備えることを特徴とする請求項４に記載の移動体のガイド機構。
【請求項６】
前記第１及び第２のレールそれぞれの前記終端部に設けられており、前記移動体の該第１及び第２のレールからの脱落を防止するための突起部を有することを特徴とする請求項１に記載の移動体のガイド機構。
【請求項７】
前記第１のレールに案内される前記車輪は溝車であり、該第１のレールと該車輪とは係合していることを特徴とする請求項１に記載の移動体のガイド機構。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、二位置間での移動体の移動を案内させるための移動体のガイド機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子ビームを利用した露光システムは、真空チャンバを備えている。真空チャンバは、容器本体とこの容器本体の上部開口を覆う上蓋とを有している。上蓋には電子線を照射する照射部が設けられており、容器本体内にはウェハを位置決め保持するためのウェハステージや、マスクを位置決め保持するためのマスクステージが設けられている。この真空チャンバは平面視が矩形状をなし、４つの側壁部のうち一の側壁部にはマスクの供給を行うためのマスクローダが設けられており、また他の一の側壁部にはウェハの供給を行うためのウェハローダが設けられている。また他の一の側壁部には開閉扉が設けられており、この開閉扉を通してチャンバ内のウェハステージを引き出してメンテナンスできるようになっている。
【０００３】
このような露光システムにおいて、真空チャンバ内でのウェハの処理を制御するための制御盤は、４つの側壁部のうち残り一の側壁部に面するようにして、しかもメンテナンスのために真空チャンバと制御盤との間に所定のスペースを空けて配置されていた（例えば、非特許文献１を参照）。
【０００４】
【非特許文献１】
野末寛、外４名、「次世代電子線露光装置の開発」、２００２年、応用物理、第７１巻、第４号、ｐ．４２１−４２４
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の露光システムでは、通常運転時においても常にメンテナンススペースを含んだフットプリント（設置面積）が必要であり、所有コスト（ＣＯＯ  ：  Ｃｏｓｔ  ｏｆ  ｏｗｎｅｒｓｈｉｐ）が高くなるという問題があった。
【０００６】
そこで発明者は、通常運転時におけるフットプリントを低減するために、メンテナンス時にウェハステージが引き出される真空チャンバの側壁部に制御盤を近接して配置し、この制御盤をウェハステージの引き出し方向に移動可能に構成することを考えた。この構成では、通常運転時の位置とメンテナンス時の位置との間で制御盤を確実に移動させるためのガイド機構が必要となり、このガイド機構は通常運転時に邪魔にならないように構成する必要がある。
【０００７】
本発明は、上記した課題を解決するために為されたものであり、移動体の確実な移動と設置面の有効利用を図ることを可能とする移動体のガイド機構を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る移動体のガイド機構は、第１の位置と第２の位置との間における車輪を介した移動体の移動を案内するためのガイド機構である。このガイド機構は、第１の位置と第２の位置との間で互いに平行に敷設される第１及び第２のレールを備え、第１及び第２のレールは、基端部を中心として設置面内において回転可能に設けられていることを特徴とする。
【０００９】
このガイド機構によれば、互いに平行に敷設される第１及び第２のレールに案内されて、第１の位置と第２の位置との間で移動体の移動が確実に行われる。また、第１及び第２のレールは基端部を中心として設置面内において回転可能に設けられているため、不使用時には第１及び第２のレールを互いに内側に回転させて重ね合わすことで、設置面の有効利用が図られる。
【００１０】
本発明に係る移動体のガイド機構は、第１及び第２のレールの終端部の間に横架される連結リブを備え、連結リブは、起端部を中心として設置面内において回転可能に、第１のレールの終端部に軸止されていることを特徴としてもよい。このようにすれば、第１のレールと第２のレールとの間隔が所望に保たれ、移動体の移動がより確実になる。また、不使用時には連結リブを起端部を中心として設置面内で回転させることで、第１のレールに沿うように折りたたむことができる。
【００１１】
本発明に係る移動体のガイド機構では、連結リブは第１リブ部と第２リブ部とを有し、第１リブ部は、基端部を中心として設置面内において回転可能に、第１のレールの終端部に軸止されており、第２リブ部は、起端部を中心として設置面内において回転可能に、第１リブ部に軸止されていることを特徴としてもよい。このようにすれば、第１のレールと第２のレールとの間隔が広く、連結リブの長さが長くなるような場合であっても、第１リブ部に沿うように第２リブ部を折りたたむことで、連結リブ全体として第１のレールに沿わせることが可能となる。
【００１２】
本発明に係る移動体のガイド機構は、第１のレールの起端部に連続して敷設される第３のレールと、第２のレールの起端部に連続して敷設される第４のレールとを備え、第１のレールの起端部は、第３のレールの終端部に軸止されており、第２のレールの起端部は、第４のレールの終端部に軸止されていることを特徴としてもよい。このようにすれば、移動体が第１の位置に位置するときに、第３及び第４のレール上に移動体を搭載することができ、第１及び第２のレールへの移動体の移動がスムーズに行われて、曳いては第１の位置と第２の位置との間で移動体の移動がスムーズ且つ確実に行われる。
【００１３】
本発明に係る移動体のガイド機構は、第１のレールと第３のレールとの連結部分、及び第２のレールと第４のレールとの連結部分のそれぞれに設けられており、第１及び第２のレールの設置面内における所定角度以上の回転を規制する規制手段を備えることを特徴としてもよい。このようにすれば、使用時及び不使用時における第３のレールに対する第１のレールの位置決め、及び第４のレールに対する第２のレールの位置決めを行うことが可能となる。
【００１４】
本発明に係る移動体のガイド機構は、第１及び第２のレールそれぞれの終端部に設けられており、移動体の第１及び第２のレールからの脱落を防止するための突起部を有することを特徴としてもよい。このようにすれば、移動体の第１及び第２のレールからの脱落が防止される。
【００１５】
本発明に係る移動体のガイド機構では、第１のレールに案内される車輪は溝車であり、第１のレールと車輪とは係合していることを特徴としてもよい。このようにすれば、レールからの移動体の脱落を防止すると共に、移動体の移動をよりスムーズに行うことが可能となる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１７】
図１は、本実施形態に係る移動体のガイド機構を適用した電子ビーム露光システム（以下、単に「露光システム」ともいう）の構成を示す斜視図である。また図２は、この露光システムの構成を示す平面図である。図１及び図２に示すように、露光システム１は、電子ビーム露光装置（以下、単に「露光装置」ともいう）１０と制御盤（移動体）１００とを備えている。
【００１８】
露光装置１０は、図３に示すように、真空チャンバ１２を有している。真空チャンバ１２は、上端が開口した容器本体１６と、この容器本体１６の上部開口を塞ぐ上蓋１８とを有している。
【００１９】
上蓋１８は、平断面が矩形状をなし、中央に電子ビームを照射するための電子ビーム照射部２０が設けられている。電子ビーム照射部２０は、図４に示すように、上壁部と側壁部とを含む電子鏡筒２２と、電子鏡筒２２内で上壁部に設けられた電子銃２４と、電子銃２４から出射された電子ビームをコリメートするレンズ２６と、偏光器２８とを有している。これら電子銃２４、レンズ２６、及び偏光器２８は、鉛直下方に向かってこの順に配置されており、電子銃２４から出射された電子ビームは、レンズ２６によりコリメートされ、偏光器２８により走査されて半導体ウェハＷ上に照射される。
【００２０】
容器本体１６は、図３及び図４に示すように、平断面が矩形状をなす底壁部１６ａとこの底壁部１６ａの縁部に立設された２組の側壁部１６ｂとを有する。この容器本体１６内には、露光処理を行うための半導体ウェハＷを保持するウェハステージ３０が収容されている。ウェハステージ３０は、半導体ウェハＷの位置決めを行う位置決めステージ３２と、この位置決めステージ３２上に搭載され半導体ウェハＷを吸着して保持する静電チャック３４とを有している。位置決めステージ３２は、水平面内で直交する２軸方向（ＸＹ方向）の粗い位置決めを行う粗動ステージと、この粗動ステージに搭載されておりＸＹ方向、ＸＹ方向と直交する鉛直方向（Ｚ方向）、水平面内における回転方向（θ方向）、及び傾きを微細に調整する微動ステージとを含んでいる。そして、静電チャック３４はこの微動ステージに搭載されている。従って、半導体ウェハＷは静電チャック３４により吸着された状態で、位置決めステージ３２により位置決めがなされる。
【００２１】
また容器本体１６内には、図４に示すように、所望パターンが形成されたマスクＭを位置決め保持するためのマスクステージ３６が収容されている。マスクステージ３６は、水平面内における回転方向（θ方向）、鉛直方向（Ｚ方向）、及び傾きの細かい位置決めを行う。このマスクステージ３６は、真空チャンバ１２内に固定された基準ベース３５上に搭載されている。
【００２２】
また容器本体１６内には、マスクＭ上及び半導体ウェハＷ上に光を照射し、図示しないアライメントマークによって散乱された光を検出する白色光顕微鏡などの光検出器３７が設けられている。この光検出器３７は、基準ベース３５上に搭載されている。この光検出器３７により検出されたデータは、図示しない画像処理装置に送られて処理され、アライメントマークの重なり具合からマスクＭと半導体ウェハＷとの位置関係が求められる。そして、マスクＭと半導体ウェハＷとに位置ズレがあるときには、マスクＭ及び／又は半導体ウェハＷの位置を修正する信号が生成され、この信号に基づいてマスクＭ及び／又は半導体ウェハＷの位置が微修正される。
【００２３】
上記したウェハステージ３０とマスクステージ３６とにより、半導体ウェハＷとマスクＭとの精密な位置決めがなされる。なお本実施形態では、マスクＭは半導体ウェハＷに近接（マスクＭと半導体ウェハＷとの間隙が５０μｍ程度）して配置される。
【００２４】
この真空チャンバ１２は、図示しない真空ポンプにより内部空間が減圧される。この減圧環境下において、電子ビーム照射部２０から出射された電子ビームによりマスクＭの全面を走査することで、所望パターンが半導体ウェハＷ上のレジストに等倍で転写される。
【００２５】
この真空チャンバ１２は、図３及び図４に示すように、底壁部１６ａの下方に設けられた除震台３８上に搭載されている。また、真空チャンバ１２の右側壁部には、図５に示すように、開閉可能な開閉扉４０が設けられている。従って、この開閉扉４０を開き、ウェハステージ３０を水平方向（矢印の方向）にスライドさせて引き出すことで、ウェハステージ３０のメンテナンスを行うことが可能となっている。
【００２６】
この真空チャンバ１２の上部には、真空チャンバ１２の上蓋１８を昇降させるための昇降装置１４が真空チャンバ１２と一体に設けられている。
【００２７】
また、図１及び図２に示すように、真空チャンバ１２の左側壁部には、真空チャンバ１２内に半導体ウェハＷを供給するためのウェハローダ１０２が設けられている。また真空チャンバ１２の後壁部１０４には、真空チャンバ１２内に所望パターンが形成されたマスクＭを供給するマスクローダ１０４が設けられている。そして、マスクローダ１０４の右側壁部には、マスクＭをストックしておくマスクストッカー１０６が設けられている。
【００２８】
制御盤１００は、図１及び図２に示すように、メンテナンスのためのスペースを設けることなく、真空チャンバ１２の開閉扉４０が設けられた右側壁部に沿って配置されている。この制御盤１００は、半導体ウェハＷとマスクＭとの位置決めや、露光補正を行うための画像処理等の真空チャンバ１２内で半導体ウェハＷに露光処理を施すに際して必要な制御を行うための種々の制御装置を含み、これら制御装置が外形が直方体状をなす筐体内に収容されている。この筐体の下部は空洞とされて空間部１０８が形成されており、真空チャンバ１２と制御盤１００とを繋ぐケーブル１１０の余長部を収容可能になっている。
【００２９】
この制御盤１００は、ウェハステージ３０の引き出し方向（図５の矢印方向）に沿って移動可能に設けられている。すなわち、制御盤１００は、図６に示すように、真空チャンバ１２の右側壁部に沿う通常運転位置（第１の位置）Ｐ１と、ウェハステージ３０の引き出し方向に沿って真空チャンバ１２から所定距離だけ離れたメンテナンス位置（第２の位置）Ｐ２との間を、本実施形態に係るガイド機構により案内されて移動可能に設けられている。
【００３０】
このガイド機構は、上記通常運転位置Ｐ１とメンテナンス位置Ｐ２との間で互いに平行に敷設される第１及び第２のレール１１２，１１４を有している。そして、制御盤１００は、筐体下部に設けられた車輪１１６，１１８を介して第１及び第２のレール１１２，１１４上を案内されるようになっている。
【００３１】
図７に示すように、これら第１及び第２のレール１１２，１１４の長手方向に垂直な面の断面形状は互いに異なる。第１のレール１１２の上面１１３は鉛直方向に対して傾斜する逆Ｖ字型の一対の傾斜面を有し、一方、第２のレール１１４の上面１１５は平面をなす。これと対応するように、車輪１１６，１１８のうち第１のレール１１２側の車輪１１６は、転がり面の中央部分の径が外側の径よりも絞られた断面Ｖ字型の溝車であり、第２のレール１１４側の車輪１１８は平車である。このように、転がり面がＶ字型をなす車輪１１６が逆Ｖ字型の上面１１３を有する第１のレール１１２に係合され案内されることで、レール１１２，１１４上から脱落することなく制御盤１００が確実に案内されるようになっている。また、第１のレール１１２側とは異なり、転がり面が平坦な車輪１１８が平面状の上面１１５を有する第２のレール１１４上を案内されるように構成することで、第２のレール１１４と車輪１１８との水平方向の位置関係がリジッドに規制されることがなく、ある程度の自由度があるため、制御盤１００の移動がスムーズになる。
【００３２】
またガイド機構は、第１のレール１１２の起端部１１２ａに連続して敷設される第３のレール１２２と、第２のレール１１４の起端部１１４ａに連続して敷設される第４のレール１２４とを有している。これら第３及び第４のレール１２２，１２４は、ウェハステージ３０の引き出し方向に沿って延びるように設けられている。そして、第１のレール１１２の起端部１１２ａは、第３のレール１２２の終端部１２２ｂに軸止されており、第２のレール１１４の起端部１１４ａは、第４のレール１２４の終端部１２４ｂに軸止されている。この第３及び第４のレール１２２，１２４の長手方向に垂直な面の断面形状は、それぞれ第１及び第２のレール１１２，１１４の断面形状と同一である。従って、制御盤１００は、通常運転位置Ｐ１に位置するときに、第３及び第４のレール１２２，１２４上に搭載されており、通常運転位置Ｐ１からメンテナンス位置Ｐ２への移動（或いはその逆）がスムーズに行われる。なお、第１及び第２のレール１１２，１１４の終端部１１２ｂ，１１４ｂ、及び第３及び第４のレール１２２，１２４の起端部１２２ａ，１２４ａには、車輪１１６，１１８の脱落を防止するための突起部１２６が設けられている。
【００３３】
またガイド機構は、第１及び第２のレール１１２，１１４の終端部１１２ｂ，１１４ｂの間に横架される連結リブ１２８を有する。このように、第１のレール１１２と第２のレール１１４との間に連結リブ１２８を横架することにより、第１のレール１１２と第２のレール１１４とが所定間隔で保たれる。
【００３４】
上記した第３及び第４のレール１２２，１２４は、露光システム１の設置面に完全に固定されている。一方、第１及び第２のレール１１２，１１４は、基端部１１２ａ，１１４ａを中心として設置面内において内側に回転可能に設けられている。そして、第１及び第２のレール１１２，１１４と連結リブ１２８とは、図８に示すように、制御盤１００が通常運転位置Ｐ１に位置するときに、制御盤１００の下方に収容可能に設けられている。
【００３５】
すなわち、連結リブ１２８は第１リブ部１３０と第２リブ部１３２とを有する。第１リブ部１３０の基端部は、第１のレール１１２の終端部１１２ｂを中心として設置面内において内側に回転可能に、第１のレール１１２の終端部１１２ｂに軸止されている（図９の矢印Ｉ参照）。第２リブ部１３２は、第１リブ部１３０の終端部付近を中心として設置面内において内側に回転可能に、第１リブ部１３０に軸止されている（図９の矢印ＩＩ参照）。また、第１のレール１１２は、基端部１１２ａを中心として設置面内において内側に回転可能に、第３のレール１２２の終端部１２２ｂに軸止されている（図９の矢印ＩＩＩ参照）。更に、第２のレール１１４は、基端部１１４ａを中心として設置面内において内側に回転可能に、第４のレール１２４の終端部１２４ｂに軸止されている（図９の矢印ＩＶ参照）。このように構成されているため、第１及び第２のレール１１２，１１４と連結リブ１２８とは、図８に示すように、制御盤１００が通常運転位置Ｐ１に位置するときに、制御盤１００の下方に収容可能とされている。
【００３６】
図１０は、第１のレール１１２と第３のレール１２２との連結部分、及び第２のレール１１４と第４のレール１２４との連結部分の構成を説明するための図である。ここでは、第１のレール１１２と第３のレール１２２との連結部分の構成について説明するが、第２のレール１１４と第４のレール１２４との連結部分の構成も同様である。
【００３７】
図１０（ａ）に示すように、第３のレール１２２の終端部１２２ｂ上面は所定形状に研削されて、段差部１３４が設けられている。この終端部１２２ｂの所定部位には鉛直方向に貫通孔１３６が設けられており、段差部１３４の側壁１３８は平面視においてこの貫通孔１３６を中心とする円の一部を構成している。また、この第３のレール１２２の終端部１２２ｂ前面１４０は、その大部分が平面視において貫通孔１３６を中心とする円弧状に設けられており、外側は円弧状に削られることなく膨らんだ膨らみ領域１４２とされている。一方、第１のレール１１２の起端部１１２ａ下面及び起端部前面１５０は、第３のレール１２２の終端部１２２ｂ上面及び終端部前面１４０と同様に成形されている。すなわち、第１のレール１１２の起端部１１２ａ下面は所定形状に研削されて、段差部１４４が設けられている。この起端部１１２ａの所定部位には鉛直方向に貫通孔１４６が設けられており、段差部１４４の側壁１４８は平面視においてこの貫通孔１４６を中心とする円の一部を構成している。また、この第１のレール１１２の起端部１１２ａ前面１５０は、その大部分が平面視において貫通孔１４６を中心とする円弧状に設けられており、外側は円弧状に削られることなく膨らんだ膨らみ領域１５２とされている。
【００３８】
そして、図１０（ｂ）に示すように、貫通孔１３６，１４６が同軸的に連続されるように、これら第３のレール１２２の段差部１３４と第１のレール１１２の段差部１４４とが重ね合わされ、図１０（ｃ）に示すように、ボルト１５４により軸止されている。従って、第１のレール１１２は、図１０（ｄ）に示すように、第３のレール１２２の終端部を中心として、設置面内において内側に回転可能になっている。なお、図１０（ｄ）に示すように、第３のレール１２２の段差部１３４の側壁１３８と、第１のレール１１２の段差部１４４の側壁１４８とが、第１のレール１１２の内側への所定角度以上の回転を規制するストッパー（規制手段）として機能している。また、図１０（ｂ）に示すように、第３のレール１２２の膨らみ領域１４２と、第１のレール１１２の膨らみ領域１５２とが、第１のレール１１２の外側への回転を規制するストッパー（規制手段）として機能している。これにより、レールの使用時及び不使用時における第３のレール１２２に対する第１のレール１１２の位置決め、及び第４のレール１２４に対する第２のレール１１４の位置決めがなされる。
【００３９】
次に、上記した構成を有する露光システム１の作用及び効果について説明する。
【００４０】
通常運転時（露光処理時）には、図１及び図２に示すように、制御盤１００は真空チャンバ１２の右側壁部に沿うように通常運転位置Ｐ１に配置されている。なお図１及び図２では、第１及び第２のレール１１２，１１４が延設された状態を示しているが、通常運転時には、図８に示すように、第１及び第２のレール１１２，１１４は、連結リブ１２８と共に制御盤１００の下方に収容されている。このとき、露光装置１０の真空チャンバ１２の上蓋１８は最下限に位置して、容器本体１６の上部開口を閉塞している。
【００４１】
この状態で、図４に示すように、容器本体１６内に半導体ウェハＷが供給され、静電チャック３４上に吸着されて、位置決めステージ３２により位置決めがなされる。また、容器本体１６内にマスクＭが供給され、マスクステージ３６により位置決めされる。これにより、マスクＭと半導体ウェハＷが近接した状態で位置決めされる。このマスクＭと半導体ウェハＷとの位置決めは、制御盤１００からケーブル１１０を通して真空チャンバ１２に送られる信号に基づいて行われる。
【００４２】
次に、減圧環境下の真空チャンバ１２内で電子ビーム照射部２０から電子ビームの照射が開始される。電子ビーム照射部２０の電子銃２４から出射された電子ビームは、レンズ２６によりコリメートされ、偏光器２８により走査されてマスクＭ全面が走査される。これにより、所望のマスクパターンが半導体ウェハＷ上のレジストに等倍で転写される。
【００４３】
上記工程を繰り返し、所定回数の露光処理が行われるが、定期的或いは突発的なトラブル時に、真空チャンバ１２内のメンテナンスを行う。メンテナンス時には、まず、図１１（ｂ）及び（ｃ）に示すような、把持部１６２とフック部１６４とを有する治具１６０を用い、図１１（ａ）に示すように、第１及び第２のレール１１２，１１４の終端部１１２ｂ，１１４ｂ上面に設けられた突起部１２６に治具１６０のフック部１６４を引っ掛け、制御盤１００の下方に収容された第１及び第２のレール１１２，１１４を連結リブ１２８と共に引き出す。そして、図１及び図２に示すように、第１及び第２のレール１１２，１１４が互いに平行になるように配置して、第１のレール１１２の終端部１１２ｂと第２のレール１１４の終端部１１４ｂとの間に連結リブ１２８を横架する。
【００４４】
次に、図１２及び図１３に示すように、第１及び第２のレール１１２，１１４に沿って案内しながら、制御盤１００を通常運転位置Ｐ１からメンテナンス位置Ｐ２まで移動させる。このとき、制御盤１００の下方に設けられた空間部１０８に収容されていたケーブル１１０は伸張した状態となる。そして、真空チャンバ１２の右側壁部に設けられた扉４０を開き、ウェハステージ３０を引き出す。この状態で、ウェハステージ３０や制御盤１００のメンテナンスを行う。図１３に示すように、制御盤１００がメンテナンス位置Ｐ２に位置するときは、真空チャンバ１２と制御盤１００との間にメンテナンスに充分なスペースが設けられている。
【００４５】
また、昇降装置１４により、真空チャンバ１２の上蓋１８を上昇させて容器本体１６の上部開口を開放し、容器本体１６内部のマスクステージ３６や電子ビーム照射部２０などのメンテナンスを行う。
【００４６】
メンテナンスが終了すると、まず真空チャンバ１２の上蓋１８を下降させ、容器本体１６の上部開口が閉塞する。また、ウェハステージ３０を真空チャンバ１２内に収容し、開閉扉４０を閉じる。そして、図１及び図２に示すように、第１及び第２のレール１１２，１１４上を案内しながら、制御盤１００をメンテナンス位置Ｐ２から通常運転位置Ｐ１へ移動させる。
【００４７】
最後に、図８に示すように、第１及び第２のレール１１２，１１４を連結リブ１２８と共に通常運転位置Ｐ１に位置する制御盤１００の下方に収容する。
【００４８】
以上詳述したように、本実施形態に係るガイド機構によれば、互いに平行に敷設される第１及び第２のレール１１２，１１４により案内して、通常運転位置Ｐ１とメンテナンス位置Ｐ２との間で制御盤１００の移動を確実に行うことが可能となる。その結果、通常運転時において制御盤１００を、真空チャンバ１２との間にメンテナンスのためのスペースを設けることなく、真空チャンバ１２の開閉扉４０が設けられた右側壁部に沿うように配置することができるため、通常運転時におけるフットプリントを小さくすることが可能となって所有コストの低減を図ることが可能となる。そして、メンテナンス時には制御盤１００をウェハステージ３０の引き出し方向に移動させてメンテナンス位置Ｐ２に位置させることで、ウェハステージ３０や制御盤１００自体のメンテナンススペースを充分に確保することができ、メンテナンス性が低下することはない。
【００４９】
また第１及び第２のレール１１２，１１４は、起端部１１２ａ，１１４ａを中心として回転させることが可能であるため、制御盤１００が通常運転位置Ｐ１に位置するとき、第１及び第２のレール１１２，１１４を制御盤１００の下方に収容することで邪魔になることがなくなって、設置面の有効利用を図ることが可能となる。
【００５０】
また本実施形態に係るガイド機構は、第１のレール１１２の起端部１１２ａに連続して敷設される第３のレール１２２と、第２のレール１１４の起端部１１４ａに連続して敷設される第４のレール１２４とを有しているため、制御盤１００は、通常運転位置Ｐ１に位置するときに、第３及び第４のレール１２２，１２４上に搭載されており、通常運転位置Ｐ１からメンテナンス位置Ｐ２への移動（或いはその逆）をスムーズに行うことが可能となる。
【００５１】
また本実施形態に係るガイド機構は、第１及び第２のレール１１２，１１４の終端部１１２ａ，１１４ａの間に横架される連結リブ１２８を備えるため、第１のレール１１２と第２のレール１１４との間隔が所望に保たれることで、制御盤１００の移動がより確実になる。また、不使用時には連結リブ１２８を起端部を中心として設置面内で回転させることで、第１のレール１１２に沿うように折りたたむことができ、邪魔をなくして設置面の有効利用を図ることが可能となる。
【００５２】
また本実施形態に係るガイド機構では、連結リブ１２８は第１リブ部１３０と第２リブ部１３２とを有し、第１リブ部１３０は、基端部を中心として設置面内において回転可能に、第１のレール１１２の終端部１１２ｂに軸止されており、第２リブ部１３２は、起端部を中心として設置面内において回転可能に、第１リブ部１３０に軸止されているため、第１のレール１１２と第２のレール１１４との間隔が広く、連結リブ１２８の長さが長くなるような場合であっても、第１リブ部１３０に沿うように第２リブ部１３２を折りたたむことが可能となり、連結リブ１２８全体として第１のレール１１２に沿わせて、邪魔にならないように収容することができる。
【００５３】
また本実施形態に係るガイド機構は、第１のレール１１２と第３のレール１２２との連結部分、及び第２のレール１１４と第４のレール１２４との連結部分のそれぞれに設けられており、基端部１１２ａ，１１４ａを中心とした第１及び第２のレール１１２，１１４の設置面内における所定角度以上の回転を規制する規制手段を備えるため、使用時及び不使用時における第３のレール１２２に対する第１のレール１１２の位置決め、及び第４のレール１２４に対する第２のレール１１４の位置決めを確実に行うことが可能となる。
【００５４】
また本実施形態に係るガイド機構では、第１及び第２のレール１１２，１１４それぞれの終端部１１２ｂ，１１４ｂ及び第３及び第４のレール１２２，１２４それぞれの起端部１１２ａ，１１４ａに突起部１２６が設けられているため、制御盤１００のレール１１２，１１４，１２２，１２４からの脱落を防止することが可能となる。
【００５５】
また本実施形態に係るガイド機構では、第１のレール１１２に案内される車輪１１６は溝車であり、第１のレール１１２と車輪１１６とは係合しているため、レールからの制御盤１００の脱落を防止すると共に、制御盤１００の移動をよりスムーズに行うことが可能となる。また、第２のレール１１４の上面１１５と平車１１８との係合により、第２のレール１１４の上面１１５も断面逆Ｖ字型の傾斜面により構成し、これを溝車と係合させる場合と比べて、制御盤１００の移動をよりスムーズに行うことが可能となる。
【００５６】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、移動体のガイド機構を電子ビーム露光システムに適用した形態について説明したが、これに限定されることなく、第１の位置と第２の位置との間において車輪を介した移動体の移動に広く適用することが可能である。
【００５７】
【発明の効果】
本発明によれば、移動体の確実な移動と設置面の有効利用を図ることを可能とする移動体のガイド機構が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態に係る移動体のガイド機構を適用した電子ビーム露光システムの構成を示す斜視図である（制御盤が通常運転位置に位置する状態）。
【図２】図１に示す状態での電子ビーム露光システムの構成を示す平面図である。
【図３】電子ビーム露光装置の構成を示す斜視図である。
【図４】真空チャンバの構成を示す断面図である。
【図５】真空チャンバの側壁に設けられた扉からウェハステージを引き出した様子を示す断面図である。
【図６】レール上に車輪を介して制御盤が搭載されている様子を示す斜視図である。
【図７】レール上に車輪を介して制御盤が搭載されている様子を示す一部断面図である。
【図８】通常運転位置に位置する制御盤の下方に第１及び第２のレールが収容されている様子を説明するための図である。
【図９】第１及び第２のレールと連結リブとを制御盤の下方に収納する手順を説明するための図である。
【図１０】第１のレールと第３のレールとの連結部分の構成を説明するための図である。
【図１１】通常運転位置に位置する制御盤の下方に収容された第１及び第２のレールを、治具を使って引き出す様子を説明する図である。
【図１２】本実施形態に係る電子ビーム露光システムの構成を示す斜視図である（制御盤がメンテナンス位置に位置する状態）。
【図１３】図１２に示す状態での電子ビーム露光システムの構成を示す平面図である。
【符号の説明】
１…電子ビーム露光システム、１０…電子ビーム露光装置、１２…真空チャンバ、１００…制御盤、１１２…第１のレール、１１４…第２のレール、１１６，１１８…車輪、１２２…第３のレール、１２４…第４のレール、１２６…突起部、１２８…連結リブ、１３０…第１リブ部、１３２…第２リブ部、１３４，１４４…段差部、１３８，１４８…側壁、１４２，１５２…膨らみ領域、Ｐ１…通常運転位置、Ｐ２…メンテナンス位置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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