(57)【要約】【課題】  本発明の駆動装置は、光学素子を駆動する際に光学素子の光学面の変形量を低減することを目的としている。【解決手段】  ミラーと、このミラーを実質的に３点の支持点で支持する支持ブロックと、前記支持ブロックを実質的に３点の駆動点で駆動可能に保持するベースブロックとを有する駆動装置であって、前記３つの支持点は実質的に第１平面上に存在しており、前記３つの支持点の重心を通り、前記第１平面と垂直な直線を回転軸とするとき、前記３つの支持点各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３つの支持点各々に対応する前記駆動点の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内である。【選択図】  図１
2004343101.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子と、前記光学素子と３箇所の支持接触領域で接触することにより、前記光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを有する駆動装置であって、
前記３箇所の支持接触領域は、実質的に第１平面上に存在しており、前記３箇所の支持接触領域の重心を通り、前記第１平面と垂直な直線を回転軸とするとき、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴とする駆動装置。
【請求項２】
前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が３度以内であることを特徴とする請求項１記載の駆動装置。
【請求項３】
前記回転軸の回転方向に関して、前記３箇所の支持接触領域の間隔が１１０度以上１３０度以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の駆動装置。
【請求項４】
光学素子と、前記光学素子と３箇所の支持接触領域で接触することにより、前記光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを有する露光装置であって、
前記３箇所の支持接触領域は、実質的に第１平面上に存在しており、前記３箇所の支持接触領域の重心を通り、前記第１平面と垂直な直線を回転軸とするとき、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が３度以内であることを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
前記回転軸の回転方向に関して、前記３箇所の支持接触領域の間隔が１１０度以上１３０度以下であることを特徴とする請求項４又は５記載の露光装置。
【請求項７】
光源からの光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクからの光を被露光体に導く投影光学系とを備えており、前記照明光学系及び／又は前記投影光学系が、前記光学素子を有することを特徴とする請求項４乃至６いずれかに記載の露光装置。
【請求項８】
光源から発する１０〜１５ｎｍの波長の光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクからの光を、前記光学素子を用いて被露光体に導く投影光学系とを備えていることを特徴とする請求項４乃至７いずれかに記載の露光装置。
【請求項９】
前記光学素子が反射型光学素子であることを特徴とする請求項４乃至８いずれかに記載の露光装置。
【請求項１０】
少なくとも１つの反射型光学素子より構成され、光源からの波長が１０〜１５ｎｍの光でマスクを照明する照明光学系と、前記光学素子を含む複数の反射型光学素子より成り、前記マスクからの光を前記複数の反射型光学素子を用いて被露光体に導く投影光学系と、前記光学素子を囲む空間を真空雰囲気に保つ真空チャンバとを備えることを特徴とする請求項４乃至９いずれかに記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項４乃至１０いずれかに記載の露光装置を用いて被露光体を露光する工程と、前記露光された被露光体を現像する工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１２】
光学素子と、前記光学素子と実質的に３箇所の支持接触領域で接触することにより、前記光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを有する駆動装置であって、
前記光学素子の重心を通り、前記光学素子の光学面に垂直な直線を回転軸とするとき、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴とする駆動装置。
【請求項１３】
前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が３度以内であることを特徴とする請求項４乃至６いずれかに記載の駆動装置。
【請求項１４】
光源からの光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクからの光を被露光体に導く投影光学系とを備え、前記照明光学系及び／又は前記投影光学系が、請求項１２又は１３に記載の駆動装置を有していることを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の露光装置を用いて被露光体を露光する工程と、前記露光された被露光体を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１６】
光学素子と、前記光学素子と実質的に３点で接触することにより、前記反射型光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを備える駆動装置であって、
前記３点で形成される三角形の重心を通り、前記３点で形成される三角形を含む平面に対して垂直な直線を回転軸とするとき、前記３点各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３点各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴とする駆動装置。
【請求項１７】
前記３点各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３点各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が３度以内であることを特徴とする請求項１６記載の駆動装置。
【請求項１８】
光源からの光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクからの光を被露光体に導く投影光学系とを備え、前記照明光学系及び／又は前記投影光学系が、請求項１６に記載の駆動装置を有していることを特徴とする露光装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載の露光装置を用いて被露光体を露光する工程と、前記露光された被露光体を現像する工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、精密な調整駆動装置、特に半導体や液晶デバイスを製造する工程において使用する露光装置の光学素子（レンズやミラーなど）を保持および姿勢微調整するための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体露光装置は、数多くの異なる種類のパターンを有する原版（レチクル）をシリコンウエハ（基板）に転写する装置である。集積度の高い回路を作成するためには、解像性能だけでなく重ね合わせ精度の向上が不可欠である。
【０００３】
半導体露光装置における重ね合わせ誤差の原因としては、アライメント誤差（レチクルとウエハとのアライメント誤差）、像歪み、および倍率誤差等が考えられる。アライメント誤差は、原版（レチクル）と基盤（ウエハ）との相対的な位置調整によって軽減することができる。一方、像歪みや倍率誤差は、光学系が有する光学素子のうち一部の光学素子を移動させることによって調整可能である。この一部の光学素子を移動させる際に、所望の移動方向以外に移動してしまったり、光学素子が偏心してしまったり、傾いてしまったりすると、所望の光学性能（像歪みや倍率誤差を補正した光学性能）が得られなくなってしまう。例えば、光学素子を光軸方向に移動させる必要がある場合には、平行偏芯、および傾き偏芯誤差成分が大きくならないようにしなければならない。
【０００４】
従来の半導体露光装置用における光学素子を移動する装置としては、平行板ばねを用いた機構による装置（特開平０９−１０６９４４号公報）や、パラレルリンク機構を用いた方式（特開２００２−１３１６０５号公報）が考案されている。
【０００５】
一方、高い面精度が要求される光学素子を移動させるために前述のような移動装置を用いる場合、光学素子を移動させる際に光学素子に力が伝わることがある。光学素子に対して局所的な力が加わってしまうと、光学素子が変形してしまい、光学性能の劣化の原因となる。そこで、光学素子に対して直接力が加わらないようにするために、光学素子と移動装置（駆動力を発生する部分）との間には、光学素子を保持する保持部材を設ける場合がある。
【特許文献１】特開２００２−１３１６０５号公報
【特許文献２】特開平０９−１０６９４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、光学素子と移動装置との間に保持部材を設けたとしても、移動装置が保持部材に力を加える位置や保持部材が光学素子を保持する保持位置が特開２００２−１３１６０５号公報の図２に記載されているような関係、すなわち移動（駆動）装置が保持部材に対して力を加える位置と保持部材が光学素子を保持する位置とが光学素子の光軸に関して略６０度ずれた位置に配置されている関係であると、光学素子の変形量が大きくなってしまうという問題点が生じる。
【０００７】
そこで、本発明では、光学素子を並進移動させたり、偏心調整したり、傾き調整したりする際の、光学素子の面変形量を低減することが可能な光学素子の駆動装置（保持装置）、又はこの駆動装置を備える光学機器（露光装置や天体望遠鏡等の光学機器全般）を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような課題を解決するために、本発明の駆動装置は、光学素子と、前記光学素子と３箇所の支持接触領域で接触することにより、前記光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを有する駆動装置であって、前記３箇所の支持接触領域は、実質的に第１平面上に存在しており、前記３箇所の支持接触領域の重心を通り、前記第１平面と垂直な直線を回転軸とするとき、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴としている。
【０００９】
また別の側面の駆動装置は、光学素子と、前記光学素子と実質的に３箇所の支持接触領域で接触することにより、前記光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを有する駆動装置であって、前記光学素子の重心を通り、前記光学素子の光学面に垂直な直線を回転軸とするとき、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴としている。
【００１０】
さらに別の側面の駆動装置は、光学素子と、前記光学素子と実質的に３点で接触することにより、前記反射型光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを備える駆動装置であって、
前記３点で形成される三角形の重心を通り、前記３点で形成される三角形を含む平面に対して垂直な直線を回転軸とするとき、前記３点各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３点各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴としている。
【００１１】
また、本発明の一側面としての露光装置は、光源からの光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクからの光を被露光体に導く投影光学系とを備え、前記照明光学系及び／又は前記投影光学系が、前述のような駆動装置を有していることを特徴としている。
【００１２】
本発明のデバイスの製造方法は、前述の露光装置を用いて被露光体を露光する工程と、前記露光された被露光体を現像する工程とを有することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば光学素子の面変形をより小さくした光学素子の保持・駆動システムを実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の実施の形態について、以下において図面を用いて詳細に説明を行う。
【００１５】
（第１の実施例）
第１の実施例の光学素子駆動装置を図１、それを用いた露光装置を図２を用いて詳細に説明する。図２に記載した露光装置は、一例として紫外線よりも更に波長が短い波長１０〜１５ｎｍ程度（好ましくは１３〜１４ｎｍ）の極端紫外光（ＥＵＶ光）を用いた縮小投影露光装置（ＥＵＶ露光装置）である。本装置は、発光装置（光源装置）と、この発光装置からの光でレチクルを照明する照明光学系（それぞれ不図示）と、レチクルからの光をウエハに導く反射型の投影光学系とを有し、レチクルのパターンをウエハに投影露光している。
【００１６】
このような露光装置の投影光学系もしくは照明光学系に、光学素子１（ここではミラー）を保持し、同時に光学特性を満足するように姿勢調整を行う、すなわち光学素子の並進移動、偏芯調整、傾き調整を行うことが可能な保持装置（保持システム）を配置している。
【００１７】
図１は光学素子保持・調整システム９の一例である。光学素子１は、支持ブロック２に３箇所の保持手段３を介して保持されている（保持手段３は３箇所以上であっても構わない）。この三つの保持手段３（もし保持手段が有限の面積で光学素子と接触することによって光学素子を支持している場合はその有限の面積の重心を意味し、１つの保持手段が複数の点で光学素子と接触している場合はそれらの点の空間的な重心を意味する。）が作る幾何学的な三角形の重心は、光学素子１の重心と三角形が作る平面と垂直な方向の成分を除いて略一致している（一致していない場合の両者のずれ量は、前述の三角形の面積の１／２乗の１／１０倍以内）ことが、支持荷重の配分上望ましい。
【００１８】
この保持手段３は、光学素子１との接触が点、面、線のいずれかで接触できるように、加工されているのがよい。点で接触する場合、保持手段３はピンや球であり、線や面で接触する場合は、光学素子１の裏面に倣った面加工を施す必要がある。また光学素子１の熱膨張などによる変形を軽減したり、組立再現性を向上させるなどの目的で、この保持手段３は、球とＶ溝の組み合わせ（すなわち２点で接している）を３個用いているが、この限りではなく凸部と凹部を適切に組み合わせれば他の形態でも代用可能である。例えば球とＶ溝、球とコーン（円錐形状の凹部）、球と角錐形状の凹部、球と平面を有するキネマチックなマウント方法を用いても良い。ここで、光学素子と支持ブロックとが接する保持手段とは、球とＶ溝とを用いる場合は２点であり、球とコーンとを用いる場合は１つの曲線であり、球と角錐形状の凹部を用いる場合は複数点であり、球と平面とを用いる場合は１点であり、突起部と平面又は曲面とを用いる場合も１点であるし、又、略球体形状と接触領域にこの略球体形状の形状に合わせて凹部又は凸部を設けたものとを用いて２箇所の有限な面積を持つ接触領域とすることも可能である。
【００１９】
本実施例で示す調整機構８は、一例として弾性ヒンジ５と直動アクチュエータなどからなる一般的なバイポッド型のパラレルリンク機構であり、支持ブロック２と３箇所の連結部（被駆動部）で連結されている（連結部が３箇所以上であっても構わない）。この連結部に関しても前述の保持手段と同様、様々な組合わせが考えられる。
【００２０】
このパラレルリンク機構は、６個のアクチュエータ（１つのパラレルリンク機構につき２個のアクチュエータ）がそれぞれ任意に動作することにより、３箇所の連結部の位置を調節することにより、可動部７、ここでは支持ブロック２、保持手段３、および光学素子１をベースブロック６に対して６軸方向に（６自由度に）駆動（位置調整）することができる。このアクチュエータ４としては、積層型の圧電素子が一般的に考えられるが、シリンダやベローズなどの流体アクチュエータ、モータ、送りねじなどを用いてもよい。また光学素子１に要求される駆動精度や、駆動範囲に応じてアクチュエータ４の出力を拡大、あるいは縮小してもよい。ここで、可動部７は、ベースブロック６あるいは構造体フレーム２４などに設けられた位置計測手段（不図示）によって位置及び姿勢を計測され、所望の位置、姿勢になるようにアクチュエータ４の出力を調整するように制御される。
【００２１】
なお可動部７を制御する上で、３箇所の連結部（それぞれの連結部の接触領域の重心位置、或いは複数の接点の中点又は重心位置）を結んで形成される三角形の重心が光学素子１の幾何学的な重心（光軸）と、光学素子１、および支持ブロック２、および保持手段３を含む可動部７全体の重心とが、前述の三角形が作る平面と垂直な方向の成分を除いて略一致する（この両者のずれが、３箇所の連結部を結んで形成される三角形の面積の１／２乗の１／１０以下である）ようにしている。
【００２２】
上述のようなパラレルリンク機構のように可動部分を直接駆動する方法は、その駆動に伴って、力を支持ブロック２さらに光学素子１に伝え、結果として光学素子１の機能面の変形を生じさせる恐れがある。この変形量の度合いによっては、光学性能を満足させず、対策を施す必要が生じる。
【００２３】
パラレルリンク機構のような、支持ブロック２と調整機構８が連結される位置が３箇所の場合、保持手段３との配置関係によっては、大きな変形を光学素子１に及ぼすことがわかっている。
【００２４】
図３（ａ）は、調整機構８の支持ブロックへの取り付け部（すなわち上述の連結部）と保持手段３とが略同じ位置に配置された場合、すなわち図４（ａ）のように３箇所の連結部が形成する三角形と、３箇所の保持手段３が形成する三角形（図中点線で示す）とが略同じ向きである（両者の三角形の頂点方向が略一致している）場合に、光学素子をＺ軸方向に駆動したときの、光学素子面（反射部材の場合は反射面）の有限要素解析結果の変形量分布を表している。図３（ａ）では光学素子面の変形量の最大値は４．１ｎｍである。
【００２５】
ここで、保持手段とは、光学素子を支持している支持ブロックと光学素子とが接している点のことであり、本実施例においてはそのような接点が３点ある。但し、その３つの接点それぞれは必ずしも１つの点であるとは限らず、ここでは接点と呼んでいるが、それが有限の面積を持つ接触領域であったり、もしくは複数の点であったり、また複数の接触領域であっても構わず、このような場合には、３つの接点それぞれは、それぞれの接触領域、複数の点、複数の接触領域の重心位置をもって、接点と称する。連結部に関しても保持手段と同様であり、支持ブロックとパラレルリンク機構（駆動機構）とが接触する３箇所の接点（複数の点であったり、有限の面積を有する接触領域であったり、複数の接触領域であったりする場合には、それぞれの重心位置をもって接点と称する。）を連結部と称する。
【００２６】
ここで、「両者の三角形の頂点方向が略一致している」、つまり、本実施例において保持手段と連結部とが略同じ位置にあるとは次のような意味である。３つの保持手段で形成される三角形の重心を通り、該三角形を含む平面に垂直な直線を回転軸とするとき、又光学素子の重心を通り、該光学素子の光学面に垂直な直線を回転軸とするとき、又光学素子の光学面を含む所定の面の回転中心軸を回転軸とするとき、又この光学素子を含む光学系の光軸を回転軸とする。このとき、３つの保持手段各々の、回転軸の回転方向に関する角度と、その３つの保持手段各々に対応する３つの連結部各々の、回転軸の回転方向に関する角度との差が１０度以内である、より好ましくは３度以内である。この条件を満たすことが前述の「両者の三角形の頂点方向が略一致している」ということになり、光学素子の変形量を低減しつつ光学素子を駆動することが可能な構成を達成するための重要な点である。これを別の言い方で表現すると、前述のように、３箇所の連結部が形成する三角形と、３ヶ所の保持手段が形成する三角形とが略同じ向きである、ということになる。
【００２７】
図３（ｂ）は、調整機構８の支持ブロックへの取り付け部（すなわち上述の連結部）と保持手段３の位置とが異なる場合（連結部の間に保持手段３が配置された場合）、すなわち図４（ｂ）のように、３箇所の連結部が形成する三角形と３箇所の保持手段３が形成する三角形の頂点方向が半周期ずれている（図８に記載した公知例と同様に、三角形の幾何学的な重心を中心として回転方向に１８０度ずれている）場合に、光学素子をＺ軸方向に駆動したときの、光学素子面（反射部材の場合は反射面）の有限要素解析結果の変形量分布を表している。図３（ｂ）では光学素子面の変形量の最大値は１２．１ｎｍである。
【００２８】
図３においては、色のより黒い部分が面変形の大きい場所を表しており、変形量の最大値が図３（ａ）、（ｂ）それぞれの上部に記載されている。この図３（ａ）および（ｂ）から、連結部と保持手段３とが略同じ位置に配置された場合の光学素子１の面変形は、連結部と保持手段３とが異なる位置に配置された場合の面変形よりも大きいことが分かる。
【００２９】
図５（ａ）はは、それぞれ連結部と保持手段３とが略同じ位置（３箇所の連結部が形成する三角形と、３ヶ所の保持手段が形成する三角形とが略同じ向きとなる位置）に配置された場合、図５（ｂ）は、連結部と保持手段３とが異なる位置（３箇所の連結部が形成する三角形と３箇所の保持手段３が形成する三角形の頂点方向が半周期ずれる位置）に配置された場合に、Ｙ軸方向の駆動を行った際の、光学素子面の有限要素解析結果の変形量分布を表している。ここで、図５（ａ）の光学素子の面変形量の最大値は８３．９ｎｍであり、図５（ｂ）の光学素子の面変形量の最大値は１４７７．７ｎｍである。
【００３０】
図５（ａ）および（ｂ）から、Ｚ軸方向に駆動した場合と比較して変形の分布形状が両者でやや異なるものの、光学素子面の変形量に関しては、連結部と保持手段３とが略同じ位置に配置された場合の光学素子１の面変形が、連結部と保持手段３とが異なる位置に配置された場合の面変形よりも小さいことが分かる。
【００３１】
以上より、連結部と保持手段３とが略同じ位置に配置することにより、光学素子の面変形を小さく抑えることができるという効果が得られることが明らかである。
【００３２】
以上の実施例においては、連結部、保持手段をともに３箇所ずつに設けていいたがこの限りではない。本実施例において、保持手段を３箇所より多く設けた場合においても、３箇所以上設けられる連結部の場所それぞれの近傍（光学素子の光軸に対する方向が略同じ場所）に保持手段が配置されていれば良い。
【００３３】
また、以上の実施例においては、光学素子駆動装置において主に記載したが、本実施例は光学素子駆動装置に限定されず、本実施例の光学素子駆動装置を図２に記載したような露光装置に適用することも可能である。図２の露光装置には、レチクル（又はマスク）からの光をウエハ（被処理体）に導く投影光学系については記載があるが、光源からの光でレチクル（又はマスク）を略均一に照明する照明光学系に関して記載されていない。しかし、本実施例の光学素子駆動装置は、このような照明光学系も含めた露光装置に対しても勿論適用可能である。また、本実施例の光学素子駆動装置は、露光装置が有する照明光学系内の光学素子を駆動する場合でも、投影光学系内の光学素子を駆動する場合でも適用可能である。
【００３４】
次に、図６及び図７を参照して、上述の図２に示した露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図６は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。本実施形態においては、半導体チップの製造を例に説明する。ステップ１（回路設計）では、デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク製作）では、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。ステップ３（ウェハ製造）では、シリコンなどの材料を用いてウェハを製造する。ステップ４（ウェハプロセス）は、前工程と呼ばれ、マスクとウェハを用いてリソグラフィー技術によってウェハ上に実際の回路を形成する。ステップ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップ４によって作成されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で作成された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップ７）される。
【００３５】
図７は、ステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップ１１（酸化）では、ウェハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ１４（イオン打ち込み）では、ウェハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）では、ウェハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウェハに露光する。ステップ１７（現像）では、露光したウェハを現像する。ステップ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。このように、上述の露光装置を使用するデバイス製造方法、並びに結果物としてのデバイスも本発明の一側面を構成する。
【００３６】
本発明の実施態様は以下のように書くことができる。
【００３７】
（実施態様１）
光学素子と、前記光学素子と３箇所の支持接触領域で接触することにより、前記光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを有する駆動装置であって、
前記３箇所の支持接触領域は、実質的に第１平面上に存在しており、前記３箇所の支持接触領域の重心を通り、前記第１平面と垂直な直線を回転軸とするとき、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴とする駆動装置。
【００３８】
（実施態様２）
実施態様１に従う装置であって、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が３度以内である。
【００３９】
（実施態様３）
実施態様１に従う装置であって、前記回転軸の回転方向に関して、前記３箇所の支持接触領域の間隔が１１０度以上１３０度以下である。
【００４０】
（実施態様４）
複数の光学素子と、前記複数の光学素子のうちの１つを駆動する、実施態様１記載の駆動装置とを備える光学系。
【００４１】
（実施態様５）
光学素子と、前記光学素子と３箇所の支持接触領域で接触することにより、前記光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを有する露光装置であって、
前記３箇所の支持接触領域は、実質的に第１平面上に存在しており、前記３箇所の支持接触領域の重心を通り、前記第１平面と垂直な直線を回転軸とするとき、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴とする露光装置。
【００４２】
（実施態様６）
実施態様５に従う装置であって、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が３度以内である。
【００４３】
（実施態様７）
実施態様５に従う装置であって、前記回転軸の回転方向に関して、前記３箇所の支持接触領域の間隔が１１０度以上１３０度以下である。
【００４４】
（実施態様８）
実施態様５に従う装置であって、光源からの光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクからの光を被露光体に導く投影光学系とを備えており、前記照明光学系及び／又は前記投影光学系が、前記光学素子を有する。
【００４５】
（実施態様９）
実施態様５に従う装置であって、光源からの波長が１０〜１５ｎｍの光でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクからの光を、前記光学素子を用いて被露光体に導く投影光学系とを備えている。
【００４６】
（実施態様１０）
実施態様５に従う装置であって、前記光学素子が反射型光学素子である。
【００４７】
（実施態様１１）
実施態様１０に従う装置であって、反射型光学素子より構成され、光源からの波長が１０〜１５ｎｍの光でマスクを照明する照明光学系と、前記光学素子を含む複数の反射型光学素子より成り、前記マスクからの光を前記複数の反射型光学素子を用いて被露光体に導く投影光学系と、前記光学素子を囲む空間を真空雰囲気に保つ真空チャンバとを備える。
【００４８】
（実施態様１２）
実施態様５に従う露光装置を用いて被露光体を露光する工程と、前記露光された被露光体を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイスの製造方法。
【００４９】
（実施態様１３）
光学素子と、前記光学素子と実質的に３箇所の支持接触領域で接触することにより、前記光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを有する駆動装置であって、
前記光学素子の重心を通り、前記光学素子の光学面に垂直な直線を回転軸とするとき、前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴とする駆動装置。
【００５０】
（実施態様１４）
実施態様１３に従う装置であって、
前記３箇所の支持接触領域各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３箇所の支持接触領域各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が３度以内である。
【００５１】
（実施態様１５）
複数の光学素子と、前記複数の光学素子のうちの１つを駆動する、実施態様１３記載の駆動装置とを備える光学系。
【００５２】
（実施態様１６）
光源からの光をマスクに導く照明光学系と、前記マスクからの光を被露光体に導く投影光学系とを備える露光装置であって、前記照明光学系及び／又は前記投影光学系が、実施態様１３記載の駆動装置を含むことを特徴とする露光装置。
【００５３】
（実施態様１７）
実施態様１６に従う露光装置を用いて被露光体を露光する工程と、前記露光された被露光体を現像する工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【００５４】
（実施態様１８）
光学素子と、前記光学素子と実質的に３点で接触することにより、前記反射型光学素子を支持する支持ブロックと、前記支持ブロックと実質的に３箇所の駆動接触領域で接触し、前記駆動接触領域を介して前記支持ブロックに変位を与えることにより、前記支持ブロックを駆動可能な駆動機構とを備える駆動装置であって、
前記３点で形成される三角形の重心を通り、前記３点で形成される三角形を含む平面に対して垂直な直線を回転軸とするとき、前記３点各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３点各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴とする駆動装置。
【００５５】
（実施態様１９）
実施態様１８に従う装置であって、
前記３点各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３点各々に対応する前記駆動接触領域の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が３度以内である。
【００５６】
（実施態様２０）
複数の光学素子と、前記複数の光学素子のうちの１つを駆動する、実施態様１８記載の駆動装置とを備える光学系。
【００５７】
（実施態様２１）
光源からの光をマスクに導く照明光学系と、前記マスクからの光を被露光体に導く投影光学系とを備え、前記照明光学系及び／又は前記投影光学系が、実施態様１８記載の駆動装置を含むことを特徴とする露光装置。
【００５８】
（実施態様２２）
実施態様２１に従う露光装置を用いて被露光体を露光する工程と、前記露光された被露光体を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイスの製造方法。
【００５９】
（実施態様２３）  光学素子を複数箇所の支持部で支持する支持部材と、該支持部材の複数箇所の被駆動部を駆動することにより前記光学素子を駆動する駆動機構とを有する駆動装置であって、
前記複数箇所の駆動部それぞれと略同じ位置（前記光学素子の光軸に対する方向が略同じ場所、又は前記光学素子の光軸回りの角度が略同じ場所）に、前記複数箇所の支持部のうちのいずれかが配置されている。
【００６０】
（実施態様２４）  前記支持部材は３箇所の支持部で前記光学素子を支持していることを特徴とする実施態様２３記載の駆動装置。
【００６１】
（実施態様２５）  前記駆動機構は前記支持部材の３箇所の被駆動部を駆動する（３箇所の被駆動部の位置を調整する）ことにより前記光学素子を駆動することを特徴とする実施態様２３又は２４記載の駆動装置。
【００６２】
（実施態様２６）  前記支持部が３箇所であり、前記被駆動部が３箇所であり、前記支持部が形成する３角形と前記被駆動部が形成する３角形とが略同じ形状で、略同じ向きであることを特徴とする実施態様２３記載の駆動装置。
【００６３】
（実施態様２７）  前記支持部が３箇所であり、前記支持部が形成する３角形の重心と前記光学素子の重心（光軸）とが略一致していることを特徴とする実施態様２３乃至２６いずれかに記載の駆動装置。
【００６４】
（実施態様２８）  前記被駆動部が３箇所であり、前記被駆動部が形成する３角形の重心と前記光学素子の重心（光軸）とが略一致していることを特徴とする実施態様２３乃至２７いずれかに記載の駆動装置。
【００６５】
（実施態様２９）  前記駆動機構と前記被駆動部とは、いずれか一方が凹部を有し、もう一方が凸部を有しており、前記凸部と前記凹部とを接合していることを特徴とする実施態様２３乃至２８いずれかに記載の駆動装置。
【００６６】
（実施態様３０）  前記凹部は、円錐形状の凹部、角錐形状の凹部、Ｖ字形状の溝部のいずれかであることを特徴とする実施態様２９記載の駆動装置。
【００６７】
（実施態様３１）  前記凸部は、略球体状の凸部もしくは部分的に球体の形状を有する凸部であることを特徴とする実施態様２９又は３０記載の駆動装置。
【００６８】
（実施態様３２）  光学素子を保持する手段と、前記保持手段を支持するブロックと、前記ブロックごと固定部に対して多軸に駆動させる調整手段を、複数組備えた駆動装置において、
前記光学素子は３箇所の前記保持手段で前記支持ブロックと連結されており、前記支持ブロックは３箇所の前記調整手段で前記固定部から駆動され、３個所の前記保持手段と、３箇所の調整手段が作る平面は概ね平行であり、３個所の前記保持手段が作る三角形の頂点と３箇所の調整手段が作る三角形の頂点の方向は互いに一致させることを特徴とする駆動装置。
【００６９】
（実施態様３３）  前記調整機構は、パラレルリンク機構であることを特徴とする実施態様３２記載の駆動装置。
【００７０】
（実施態様３４）  ３個所の前記保持手段が作る三角形の幾何学的重心は前記光学素子の重心とは、前記三角形が作る平面に垂直な方向を除いて概略一致していることを特徴とする実施態様３２記載の駆動装置。
【００７１】
（実施態様３５）  ３箇所の前記保持手段は、円錐孔部、Ｖ溝部、平面部を前記光学素子、もしくは前記支持ブロックの一方に設け、他方に設けた三つの突起に接合させることによって構成されることを特徴とする実施態様３２記載の駆動装置。
【００７２】
（実施態様３６）  ３箇所の前記保持手段は、円錐孔部、Ｖ溝部、平面部を前記光学素子、もしくは前記支持ブロックの一方に設け、他方に設けた三つの円錐孔部にはめ込まれた球に接合させることによって構成されることを特徴とする実施態様３２記載の駆動装置。
【００７３】
（実施態様３７）  ３箇所の前記保持手段は、三つのＶ溝部を前記光学素子、もしくは前記支持ブロックの一方に設け、他方に設けた三つの円錐孔部にはめ込まれた球に接合させることによって構成されることを特徴とする実施態様３２記載の駆動装置。
【００７４】
（実施態様３８）  ３個所の前記調整手段が作る三角形の幾何学的重心は前記光学素子、および前記保持手段、および前記支持ブロック合計の重心とは、前記三角形が作る平面に垂直な方向を除いて概略一致していることを特徴とする実施態様３２記載の駆動装置。
【００７５】
（実施態様３９）  前記光学素子が反射光学素子であることを特徴とする実施態様２３乃至３８いずれかに記載の駆動装置。
【００７６】
（実施態様４０）  実施態様２３乃至３９いずれかに記載の駆動装置を有することを特徴とする露光装置。
【００７７】
（実施態様４１）  光源からの光をマスク（又はレチクル）に導く照明光学系と、前記マスクからの光を被処理体に導く投影光学系とを有し、前記駆動装置が前記照明光学系及び／又は前記投影光学系が有する光学素子を駆動することを特徴とする実施態様４０記載の露光装置。
【００７８】
（実施態様４２）  前記光源からの光がＥＵＶ光（波長１０〜１５ｎｍ）であることを特徴とする実施態様４０記載の露光装置。
【００７９】
（実施態様４３）  実施態様４０乃至４２いずれかに記載の露光装置により被処理体を露光する工程と、前記露光された被処理体を現像する工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【００８０】
（実施態様４４）  ミラーと、このミラーを実質的に３点の支持点で支持する支持ブロックと、前記支持ブロックを実質的に３点の駆動点で駆動可能に保持するベースブロックとを有する駆動装置であって、前記３つの支持点は実質的に第１平面上に存在しており、前記３つの支持点の重心を通り、前記第１平面と垂直な直線を回転軸とするとき、前記３つの支持点各々の前記回転軸の回転方向の角度と、前記３つの支持点各々に対応する前記駆動点の前記回転軸の回転方向の角度とがなす角度が１０度以内であることを特徴としている。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】光学素子保持調整機構の概略斜視図である。
【図２】光学素子保持調整機構が搭載される露光装置の全体図である。
【図３】光学素子をＺ軸方向に駆動した場合の光学素子面の変形量分布を示す図である。
【図４】調整機構と、保持機構の配置図である。
【図５】光学素子をＹ軸方向に駆動した場合の光学素子面の変形量分布を示す図である。
【図６】デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。
【図７】図６に示すステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【図８】従来の光学素子保持調整機構の説明図
【符号の説明】
【００８２】
１  光学素子
２  支持ブロック
３  保持手段
４  駆動手段
５  弾性ヒンジ
６  ベースブロック
７  可動部
８  調整機構
９  光学素子保持・調整システム
２２  ベース
２３  マウント
２４  構造体フレーム
２５  鏡筒
【図１】
2004343101.tif 000003
【図２】
2004343101.tif 000004
【図３】
2004343101.tif 000005
【図４】
2004343101.tif 000006
【図５】
2004343101.tif 000007
【図６】
2004343101.tif 000008
【図７】
2004343101.tif 000009
【図８】
2004343101.tif 000010