(57)【要約】【課題】施釉ブース内部で噴霧ノズルから釉薬のミストを対象物表面に噴霧し塗布する施釉装置において、施釉ブース内面への釉薬の付着によって多くの釉薬ロスを生じ、また施釉ブース内部の清掃作業に多くの手間と時間とを要する問題を解決する。【解決手段】施釉ブース１０内部で噴霧ノズル２８から釉薬のミストを噴霧し、対象物（タイル）４１表面に塗布するようになした施釉装置において、ブース本体１２を回転体となすとともに、ブース本体１２を回転駆動する駆動装置６０と、ブース本体１２の内面に接触してブース本体１２の回転運動に伴いその内面に付着した釉薬を掻き取る掻取スイーパ６２とを設ける。【選択図】        図１
2004358403.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブース内部で噴霧ノズルから塗布材のミストを噴霧して対象物表面に塗布するようになした塗布材の塗布装置において、
ブース本体を回転体として構成するとともに、該ブース本体を回転駆動する駆動装置と、該ブース本体の内面に接触して該ブース本体の回転運動に伴い該ブース本体の内面に付着した塗布材を掻き取る掻取スイーパとを設けたことを特徴とする塗布材の塗布装置。
【請求項２】
請求項１において、前記ブース内部に配置されて該ブース内面に向けて洗浄水を噴射する洗浄ノズルを備えたブース洗浄装置が備えてあることを特徴とする塗布材の塗布装置。
【請求項３】
ブース内部で噴霧ノズルから塗布材のミストを噴霧して対象物表面に塗布するようになした塗布材の塗布装置において、
ブース本体の形状を筒状且つ軸方向の一端側から他端側にかけて内面が漸次広がる形状となしたことを特徴とする塗布材の塗布装置。
【請求項４】
請求項３において、前記ブース内部の余剰のミストを吸引により集塵する集塵装置を、前記内面の狭い前記一端側からは集塵せず、内面の広い前記他端側から集塵するものとして構成したことを特徴とする塗布材の塗布装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れかにおいて、前記ブース本体の形状を、内周形状が円形状で回転運動中に常時その底面が軸方向の一端側から他端側にかけて実質的に下向きに傾斜する形状となしたことを特徴とする塗布材の塗布装置。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかにおいて、前記ブース本体の周壁が透光性の壁として構成してあることを特徴とする塗布材の塗布装置。
【請求項７】
請求項１〜６の何れかにおいて、前記塗布材が釉薬であり、前記ブースが内部で該釉薬を前記対象物表面に塗布する施釉ブースであることを特徴とする塗布材の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ブース内部で噴霧ノズルから塗布材のミストを対象物表面に噴霧して塗布する塗布装置に関し、特に釉薬を対象物表面に塗布する施釉装置に用いて好適なものに関する。
【０００２】
【発明の背景】
従来、ブース内部で噴霧ノズルから塗布材のミストを噴霧し、対象物表面に塗布するようになした塗布装置が公知である。
例えばタイル等の陶磁器表面に釉薬を塗布する装置としてこの種の塗布装置（施釉装置）が用いられている。
【０００３】
図６及び図７は従来の施釉装置の一例を示している。
これらの図において、２００は容器状をなす施釉ブースで、筒状且つ断面形状が多角形状（この例では略６角形状）をなすブース本体２０１を有しており、そのブース本体２０１の前端と後端とがプレート状の前，後の壁２０３にて閉鎖された形態をなしている。
施釉ブース２００の内部には、釉薬のミストを噴霧する噴霧ノズル２０２が図７中矢印で示す方向に首振可能に配設されている。
【０００４】
この施釉装置では、図６に示す搬送ベルト２０４上に陶磁器タイル（対象物）２０６（図７参照）を載せて、これを搬送ベルト２０４の移動とともに施釉ブース２００の前端の入口から内部に送入する。
施釉ブース２００内部に送入された陶磁器タイル（以下単にタイルとする）２０６には、噴霧ノズル２０２から噴霧された釉薬のミストが塗布される。
釉薬の塗布されたタイル２０６は、その後搬送ベルト２０４の移動とともに施釉ブース２００の後端の出口から外部に送出される。
【０００５】
施釉ブース２００の前端側と後端側とには、集塵ボックス２０８と集塵ダクト２１０とを有する集塵装置２１２が設けられており、施釉ブース２００内部で発生した余剰のミストが、それら集塵装置２１２にて吸引により集塵されるようになっている。
【０００６】
この種の施釉装置は下記特許文献１にも開示されており、そこにおいて施釉ブースのブース本体を上記と同じく断面６角形状に構成した点が開示されている。
しかしながらこの施釉装置の場合、ブース本体２０１の内面に付着した釉薬を回収して再利用することが難しく、多くの釉薬ロス（釉薬使用量の２０％程度）を生じていた。
【０００７】
またこの種施釉装置においては、それまで塗布していた釉薬とは異なった種類の釉薬を塗布する際、施釉ブース２００内面を洗浄して一旦きれいな状態とした上で、新たな別の種類の釉薬を塗布することとなるが、その際人手でブース本体２０１の内面に付着した釉薬を拭き取って洗浄しなければならず、洗浄作業に多大な手間と困難とを伴っていた。
【０００８】
またこの種の施釉装置にあっては、施釉ブース２００内部に供給した釉薬のミストは、その供給と収支を合せる形で施釉ブース２００外部に排出（集塵）することが必要であるが、従来の施釉装置の場合施釉ブース２００の一端側と他端側との両方で吸引による集塵を行っており、この場合一端側と他端側とで吸引バランスを調整する必要があり、その際に吸引バランスの調整が上手くできていないと、吸引過剰となったり吸引不足となったりして集塵効率が悪く、これがミストの漏れの原因になるといった問題があった。
【０００９】
この他従来の施釉装置では、施釉ブース２００内部で噴霧した釉薬のミストの跳ね返りが多い問題があり、更に施釉状況を外部から目視確認することができない問題があった。
またブース本体２０１の外形形状が角張った形状をなしているため、その外面に付着したミスト等が角部から下に滴下し、下方に置いてある製品等に垂れ落ちることがあるといった不具合も生じていた。
【００１０】
以上施釉装置を例として説明したが、この問題は塗布材のミストをブース内部で対象物表面に噴霧して塗布する塗布装置一般に生じる問題である。
本発明はこのような課題を解決することを目的としてなされたものである。
【００１１】
尚、本発明に関連すると思われる先行技術として下記特許文献２，特許文献３，特許文献４，特許文献５，特許文献６，特許文献７，特許文献８に開示のものがあるが、これらに開示のものは何れも本発明とは構成を異にするものであり、本発明とは別異のものである。
【００１２】
【特許文献１】
特開２０００−１２８６７０号公報
【特許文献２】
特公昭５０−１６８１０号公報
【特許文献３】
実公昭４１−８１３０号公報
【特許文献４】
特開平７−１１２１４９号公報
【特許文献５】
特公昭３７−３８９０号公報
【特許文献６】
特開昭５３−４３７１５号公報
【特許文献７】
実開平３−９９７３６号公報
【特許文献８】
特開平８−４７６６２号公報
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明の塗布材の塗布装置は、ブース内部で噴霧ノズルから塗布材のミストを噴霧して対象物表面に塗布するようになした塗布材の塗布装置において、ブース本体を回転体として構成するとともに、該ブース本体を回転駆動する駆動装置と、該ブース本体の内面に接触して該ブース本体の回転運動に伴い該ブース本体の内面に付着した塗布材を掻き取る掻取スイーパとを設けたことを特徴とする（請求項１）。
【００１４】
請求項２のものは、請求項１において、前記ブース内部に配置されて該ブース内面に向けて洗浄水を噴射する洗浄ノズルを備えたブース洗浄装置が備えてあることを特徴とする。
【００１５】
請求項３のものは、ブース内部で噴霧ノズルから塗布材のミストを噴霧して対象物表面に塗布するようになした塗布材の塗布装置において、ブース本体の形状を筒状且つ軸方向の一端側から他端側にかけて内面が漸次広がる形状となしたことを特徴とする。
【００１６】
請求項４のものは、請求項３において、前記ブース内部の余剰のミストを吸引により集塵する集塵装置を、前記内面の狭い前記一端側からは集塵せず、内面の広い前記他端側から集塵するものとして構成したことを特徴とする。
【００１７】
請求項５のものは、請求項１〜４の何れかにおいて、前記ブース本体の形状を、内周形状が円形状で回転運動中に常時その底面が軸方向の一端側から他端側にかけて実質的に下向きに傾斜する形状となしたことを特徴とする。
【００１８】
請求項６のものは、請求項１〜５の何れかにおいて、前記ブース本体の周壁が透光性の壁として構成してあることを特徴とする。
【００１９】
請求項７のものは、請求項１〜６の何れかにおいて、前記塗布材が釉薬であり、前記ブースが内部で該釉薬を前記対象物表面に塗布する施釉ブースであることを特徴とする。
【００２０】
【作用及び発明の効果】
以上のように請求項１の塗布装置は、ブース本体を回転体として構成して、これを駆動装置にて回転駆動するようになし、そしてブース本体の内面に接触する掻取スイーパを設けて、ブース本体の回転運動に伴い、ブース本体の内面に付着した塗布材を掻き取るようになしたもので、本発明によれば、ブース本体の回転運動及び掻取スイーパの掻取作用によって、ブース本体の内面に付着した塗布材を簡単に掻き取って回収することができ、従来その除去のために困難を伴っていた人手作業を省略ないし大幅に軽減することができる。
而して本発明ではそのようにして掻き取って回収した塗布材が再利用可能であり、ブース本体の内面への付着による塗布材のロスを可及的に少なくすることが可能となる。
【００２１】
尚このブース本体の回転運動及び掻取スイーパの掻取りは、ブース内部における対象物表面への塗布材の塗布と並行して連続的又は間欠的に行うことができ、この場合ブース本体の内面に塗布材のミストが付着して固化し堆積するといった現象を良好に防止することができ、固化前の塗布材を再使用可能な状態で次々と連続的に若しくは間欠的に回収することが可能である。
【００２２】
但し釉薬替え等塗布材の切替えを行う際、詳しくは今まで塗布していた塗布材とは別の種類の塗布材を塗布する際に、その塗布材の切替えのための段取作業の中でブース本体の回転運動及び掻取スイーパの掻取りを行うようになすこともできる。
この場合においてもブース本体の内面の清掃作業を極めて簡単に行うことができる。
【００２３】
また塗布材の塗布と並行してブース本体を回転運動させるとともに、掻取スイーパによって内面に付着した塗布材を掻き取るようになした場合、当然ながら塗布材の切替えの際の清掃作業を大幅に簡略化することができる。
【００２４】
本発明においては、ブース内部に洗浄水を噴射する洗浄ノズルを備えておき（請求項２）、ブース内部の洗浄が必要となったとき、その洗浄ノズルから洗浄水を噴射することで高能率で簡単にブース内面を洗浄することができる。
詳しくは、洗浄作業に際して洗浄ノズルから洗浄水をブース本体の内面に噴射しつつブース本体を回転運動させ、また併せて掻取スイーパでブース本体の内面に付着した塗布材を洗浄水とともに掻き取るようにすることで、効率高く能率的にブース内面を洗浄することができる。
【００２５】
次に、請求項３はブース本体の形状を筒状且つ軸方向の一端側から他端側にかけて内面が漸次広がる形状となしたものである。
このようになした場合、噴霧ノズルからの噴霧によってブース内部に塗布材のミストが供給されたとき、供給されたミストは相対的に高圧側となる内面の狭いブース本体の一端側から、相対的に低圧側となる内面の広いブース本体の他端側に向って流れるようになる。即ち請求項３によれば、ブース本体の内面の形状によってブース本体の一端側から他端側へのミストの流れをブース内に生ぜしめることができる。
【００２６】
従ってその内面の広がった他端側においてブース内部に充満したミストの集塵を行うようにすれば、効率高く集塵を行うことができる（請求項４）。
その際に、従来のように一端側と他端側との両方で集塵を行うことで吸引バランスを調整することが必要となったり、或いは吸引バランスが悪いことによってミストの漏れを生ぜしめたりする不都合を改善することができる。
【００２７】
本発明においては、ブース本体の形状を、内周形状が円形状で回転運動中に常時その底面が軸方向の一端側から他端側にかけて実質的に下向きに傾斜する形状となすことができる（請求項５）。
このようにブース本体の形状を内周形状が円形状となすことで、ブース内部において塗布材のミストを対象物表面に噴霧したとき、ブース本体の内面での塗布材のミストの跳ね返りを良好に抑えることができ、従ってその跳ね返りによってミストが飛び散る現象を抑制することができる。
【００２８】
また回転運動中において常時その底面が軸方向の一端側から他端側にかけて下向きに傾斜する形状となすことで、ブース内部における塗布材のミストの流れを円滑に案内することが可能であり、或いはブース本体を回転運動させて掻取スイーパにより内面に付着した塗布材を掻き取るようにした場合、その掻き取った塗布材をその下向きの傾斜により底面に沿って軸方向の一端側から他端側に向けて良好に流すことができ、掻き取った塗布材をその他端側から外部に良好に回収することが可能となる。
【００２９】
更にまた、洗浄ノズルから洗浄水をブース本体の内面に噴射して洗浄する際、底面に流れ落ちた洗浄水をその下向き傾斜形状の底面に沿ってブース外部に良好に流し出すことが可能となる。
ここでブース本体の形状はテーパ形状となしておくことができる。
【００３０】
尚、本発明ではブース本体の内周面のみならず外周面も円形状となしておくことができ、この場合その外面への釉薬その他の付着物が外面を伝って流下したとき、従来のように角部から付着物が下方の製品その他に垂れ落ちてしまう不具合を回避することができる。
【００３１】
本発明においては、ブース本体の周壁を透光性の壁として構成しておくことができる（請求項６）。
このようにしておけば、ブース内部で塗布材の塗布作業を行っている際、外部からその状況を容易に目視確認することができる。
【００３２】
本発明は、釉薬を塗布材として陶磁器製のタイル等の対象物表面に塗布する装置として好適なものである。（請求項７）。
【００３３】
【実施例】
次に本発明を対象物としての陶磁器タイル（以下単にタイルとする）表面に釉薬（塗布材）を塗布する施釉装置に適用した場合の実施例を図面に基づいて詳しく説明する。
図１，図２において、１０は施釉ブースで図４に示しているようにこの施釉ブース１０は、そのブース本体１２と、その一端側の開口１４及び他端側の開口１６を閉鎖するカバー１８，２０とを備えて構成されている。
ここでブース本体１２は回転可能となしてあり、一方一対のカバー１８及び２０はそれぞれ固定状態に設けられており、それらの間がシール材にてシールされている。
【００３４】
一対のカバー１８，２０は、それぞれ外周部に環状の溝２２を有しており、施釉ブース１０内部の液（釉薬や後述の洗浄水等）がこれら溝２２へと排出された後、各溝２２に連通して設けられた取出口２６を通じて外部に取出可能とされている。
【００３５】
ブース本体１２は内面及び外面ともにテーパ形状をなしており、その内面が図中右端側から左端側にかけて、即ち開口１４側の端から開口１６側の端にかけて漸次広がる形状をなしている。
またこのブース本体１２はその内面がテーパ形状をなしている結果、更にその回転軸心が水平となる向きで設けられている結果、回転運動時において常時その底面１２Ａが右端側から左端側に向って下向きに傾斜している。
【００３６】
而してこのブース本体１２には、図中左端側の外周面に沿って環状の開口２４が形成されており、底面１２Ａに沿って下向きに流れた液が、この環状の開口２４からカバー２０の溝２２に流下し、更に取出口２６を通じて外部に取り出されるようになっている。
尚ブース本体１２はその全体が透明とされており、このブース本体１２の外部から施釉ブース１０内部の状況、例えば施釉状況が目視確認できるようになっている。
【００３７】
図４において、左端側のカバー２０は集塵ボックスとしての働きも有しており、このカバー２０とそこに接続された集塵ダクト３８とを含んで、施釉ブース１０内部のミストを外部に排出するための集塵装置４０が構成されている。
即ち本例では、施釉ブース１０内部のミストをブース本体１２の小口径の右端側からは集塵せず、大口径の左端側からのみ集塵するように構成されている。
【００３８】
この施釉ブース１０の内部には、図４に示しているように釉薬のミストを施釉対象物としてのタイル４１（図１参照）表面に噴霧し塗布する噴霧ノズル２８が設けられている。
この噴霧ノズル２８には、図１の部分拡大図に示しているように釉薬を液状で供給するホース３０と、エアを供給するホース３２とが接続されており、ホース３０を通じて送られた液状の釉薬が、ホース３２を通じて送られたエアの噴出により釉薬のミストとして噴霧される。
【００３９】
この噴霧ノズル２８は、施釉装置に備えられた揺動装置３４にそれぞれ作動的に連結されており、それら揺動装置３４によってタイル４１の搬送方向と直角方向に揺動運動（首振運動）する。
【００４０】
図４において３７はブース洗浄装置３５における洗浄水の供給管で、その先端には洗浄水を高圧で噴射する洗浄ノズル３６が設けられており、この洗浄ノズル３６から噴射された洗浄水が、施釉ブース１０内面に噴き付けられるようになっている。
尚この洗浄ノズル３６からの洗浄水の噴射は、押ボタンスイッチのオン操作によって行われるようになっている。
【００４１】
図１において、４２は搬送ベルトでプーリ４４に無端環状に巻き掛けられており、この搬送ベルト４２の移動によって、その上に載せられたタイル４１が施釉ブース１０の入口４６からその内部に送入される。
送入されたタイル４１には、噴霧ノズル２８から噴霧された釉薬のミストが噴き付けられてその表面に釉薬が塗布される。
釉薬の塗布されたタイル４１は、続いて搬送ベルト４２の移動に伴って施釉ブース１０の出口４８からその外部に送出される。
【００４２】
図２に示しているように、施釉ブース１０におけるブース本体１２の外面には一対のリングフレーム５０が一体回転状態に固設されており、図３にも示しているようにこれら一対のリングフレーム５０のそれぞれが駆動ローラ５２と従動ローラ５４とによって支持されている。
【００４３】
駆動ローラ５２は共通の駆動軸５６を介して駆動モータ５８に作動的に連結されており、この駆動モータ５８により駆動ローラ５２が回転運動することで、ブース本体１２がその水平な回転軸心回りに回転運動する。
詳しくは、駆動モータ５８によって駆動軸５６が回転運動すると、これとともに前後一対の駆動ローラ５２が一体に回転運動し、その回転運動が一対のリングフレーム５０を介してブース本体１２に伝えられ、ブース本体１２が回転運動する。
【００４４】
本例においては、これらリングフレーム５０，駆動ローラ５２，従動ローラ５４，駆動軸５６及び駆動モータ５８を含んでブース本体１２を回転駆動する駆動装置６０が構成されている。
【００４５】
図５に示しているように、施釉ブース１０の内部には複数の掻取スイーパ６２がブース本体１２の内面に接触する状態で設けられている。
これら掻取スイーパ６２は、ブース本体１２の内面に付着した釉薬を掻き取る働きを有するもので、それぞれのアーム６４及び共通の棒状の取付部材６６を介して、非回転状態で施釉ブース１０における前後の一対のカバー１８及び２０に固定されている。
【００４６】
次に本例の施釉装置の作用を以下に説明する。
本例の施釉装置では、図１に示しているように搬送ベルト４２にて搬送されるタイル４１に対し、噴霧ノズル２８から釉薬のミストが噴き付けられ、その表面に塗布される。
その塗布作業と併せて、施釉ブース１０におけるブース本体１２が駆動ローラ５２を介しての回転駆動によって回転運動する。
【００４７】
このときブース本体１２の内面に付着した釉薬が掻取スイーパ６２の掻取作用で連続的にブース本体１２の内面から下向きに掻き落される。
掻き落された釉薬は、図４の底面１２Ａに沿って図中右端側から左端側に向けて流れ、更にカバー２０の環状の溝２２及び取出口２６通じて外部に回収される。
【００４８】
この施釉装置ではまた、噴霧ノズル２８からの釉薬のミストの供給と併せて、集塵装置４０により施釉ブース１０内部に充満した釉薬のミストが吸引により集塵されて外部に排出される。
その際ブース本体１２における図４中右端側の内面が狭く、左端側の内面が広いことから、施釉ブース１０内部に供給された釉薬のミストは同図において施釉ブース１０内部で左向きの流れを生じる。
【００４９】
即ちブース本体１２は内容積が図４中右端側で狭く、左端側で広い形状をなしているために、右端側において相対的に高圧、左端側において低圧となり、その結果施釉ブース１０内部において釉薬のミストが高圧側である右端側から低圧側である左端側に向って流れ、そしてその左端側において集塵装置４０により効果的に吸引されて外部に排出される。
【００５０】
本例の施釉装置ではまた、施釉ブース１０内部の洗浄が必要となったとき、押ボタンスイッチをオン操作するだけで簡単に施釉ブース１０内部を洗浄することができる。
即ち押ボタンのオン操作によって洗浄ノズル３６から洗浄水を高圧で施釉ブース１０内面に向けて噴射すると、その洗浄水によって施釉ブース１０内面に付着している釉薬が洗い流される。
【００５１】
この際においてもブース本体１２の回転運動と掻取スイーパ６２の掻取作用とによって、ブース本体１２の内面に付着している釉薬が洗浄水とともに連続的に掻き落され、自動的に施釉ブース１０内部の洗浄作業が高効率且つ短時間で簡単に行われる。
【００５２】
本例の施釉装置によれば、ブース本体１２の回転運動及び掻取スイーパ６２の掻取作用によってブース本体１２の内面に付着した釉薬を簡単に掻き取って回収することができるため、従来その除去のために困難を伴っていた人手作業を省略ないし大幅に軽減することができる。
而して本例ではそのようにして掻き取って回収した釉薬が再利用可能であり、ブース本体１２の内面への付着による釉薬ロスを可及的に少なくすることができる。
【００５３】
また本例ではブース本体１２の回転運動及び掻取スイーパ６２の掻取りを、施釉ブース１０内部におけるタイル４１表面への釉薬の塗布と並行して連続的又は間欠的に行うことができるため、ブース本体１２の内面に釉薬のミストが付着して固化し堆積するといった現象を良好に防止することができ、固化前の釉薬を再使用可能な状態で次々と連続的に若しくは間欠的に回収することができる。
【００５４】
但し本例において、今まで塗布していた釉薬とは別の種類の釉薬を塗布する際に、その釉薬替えのための段取作業の中でブース本体１２の回転運動及び掻取スイーパ６２の掻取りを行うこともでき、この場合においてもブース本体１２の内面の清掃作業を簡単に行うことができる。
【００５５】
本例ではまた、施釉ブース１０内部において、図４中右から左向きの釉薬のミストの流れを生ぜしめた上で、その左端側から施釉ブース１０内部に充満した釉薬のミストを吸引して集塵し、外部に排出するようになしていることから、従来のように左右両端側で集塵を行うことで吸引バランスを調整する必要が生じたり、或いは吸引バランスが悪いことによって釉薬のミストの漏れを生ぜしめたりするといった不都合を改善することができる。
【００５６】
更に本例ではブース本体１２の内周形状を円形状としていることから、施釉ブース１０内部において釉薬のミストをタイル４１表面に噴霧したとき、ブース本体１２の内面でのミストの跳ね返りを良好に抑えることができ、従ってその跳ね返りによってミストが飛び散る現象を抑制することができる。
【００５７】
更にブース本体１２の底面１２Ａが常時図４中右端側から左端側に下向きに傾斜していることから、施釉ブース１０内部における釉薬のミストの流れを円滑に案内することができるとともに、ブース本体１２の回転運動及び掻取スイーパ６２による掻取りを行う際、掻き取った釉薬を底面１２Ａの下向きの傾斜によって左端側に流すことができ、掻き取った釉薬を良好に回収することができる。
また洗浄ノズル３６の洗浄水の噴射により施釉ブース１０内部を洗浄する際、底面１２Ａに流れ落ちた洗浄水を良好にその下向き傾斜形状の底面１２Ａに沿って施釉ブース１０外部に流し出すことができる。
【００５８】
本例ではブース本体１２の外面が非角形状をなしていることから、ブース本体１２外面への釉薬その他の付着物が角部から下方の製品その他に垂れ落ちてしまうといった不具合を回避できる利点も有する。
【００５９】
以上本発明の実施例を詳述したがこれはあくまで一例示であり、本発明は施釉装置以外の塗布装置、即ちブース内部において塗布材のミストを噴霧ノズルから対象物表面に噴霧する塗布装置一般に適用可能であるなど、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲において種々変更を加えた形態で構成可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の施釉装置を外観状態で示す斜視図である。
【図２】同実施例の施釉装置を駆動装置を中心として表した斜視図である。
【図３】同実施例の施釉装置の側面図である。
【図４】同実施例の施釉装置の施釉ブースとその周辺部を示す図である。
【図５】同実施例の施釉装置の施釉ブース内部に設けた掻取スイーパをその周辺部とともに示す図である。
【図６】従来の施釉装置の一例を示す正面図である。
【図７】図６の施釉装置の側面図である。
【符号の説明】
１０  施釉ブース
１２  ブース本体
１２Ａ  底面
２８  噴霧ノズル
３５  ブース洗浄装置
３６  洗浄ノズル
４０  集塵装置
４１  タイル（対象物）
６０  駆動装置
６２  掻取スイーパ
【図１】
2004358403.tif 000003
【図２】
2004358403.tif 000004
【図３】
2004358403.tif 000005
【図４】
2004358403.tif 000006
【図５】
2004358403.tif 000007
【図６】
2004358403.tif 000008
【図７】
2004358403.tif 000009