(57)【要約】【課題】高輝度かつ高品位なプラズマディスプレイ部材ならびにプラズマディスプレイを提供することを目的とする。【解決手段】少なくともガラス基板上に電極が形成されたプラズマディスプレイ用前面基板であって、該前面基板の電極が配される側に溝が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面基板。【選択図】図１
2004311291.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともガラス基板上に電極が形成されたプラズマディスプレイ用前面基板であって、該前面基板の電極が配される側に溝が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面基板。
【請求項２】
溝が、光反射性を有する材料で溝の側面を被覆したものであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ用前面基板。
【請求項３】
溝が、光反射性を有する材料で内部を充填したものであることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイ用前面基板。
【請求項４】
溝が、その側面を粗面化したものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面基板。
【請求項５】
溝の深さが１０〜５００μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面基板。
【請求項６】
溝の底部が、厚さが１〜２０μｍの光吸収性を有する材料で被覆されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面基板。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の前面基板上に透明電極、バス電極、誘電体が形成されたことを特徴とするプラズマディスプレイ部材。
【請求項８】
請求項７に記載のプラズマディスプレイ部材を用いたことを特徴とするプラズマディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はプラズマディスプレイ用前面基板およびこれを用いたプラズマディスプレイ部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」とする）は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装置などの分野に利用されている。また、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。
【０００３】
ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に備えられた放電空間内で対向するアノードおよびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を、放電空間内に設けた蛍光体にあてることにより表示を行うものである。
【０００４】
図３は、従来のＡＣ型ＰＤＰの一例を示す断面斜視図である。図３においては２は前面ガラス基板、９は背面ガラス基板を示している。１は基板ガラスであり、透明表示電極３及び４を有している。この前面ガラス基板上には銀電極またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒからなるバス電極５が存在し、その上に透明誘電体ガラス層６と酸化マグネシウム層７が覆っている。一方、背面ガラス基板９上にアドレス電極１０が設けられ、その上を誘電体ガラス層１１が被覆し、その上に隔壁１２が配設され、最後に赤、緑、青の光を発する蛍光体１３〜１５が設けられる。
【０００５】
ＰＤＰにおいては奥行きと重量の点で４０インチ以上の大画面パネルとして液晶やＣＲＴよりも優れているが、より高い表示品位にするために、パネルの高輝度化が望まれている。ＰＤＰの輝度を決定する因子として蛍光体の発光特性や隔壁の構造の他に、前面ガラス基板の光学特性などがその重要因子として挙げられる。前面板の透明誘電体に関し、透明誘電体ガラス層として用いるガラス粉の平均粒子径を０．１〜１．５μｍと小さく抑えることで、誘電体層に含まれる気泡を極力減らし、誘電体表面の粗さを低減させることで、パネルの高輝度化が得られることが公開されている（特許文献１〜３参照）。しかしながら、高輝度化という点では満足のいくものではなかった。また、透明誘電体ガラス層として用いるガラス分として、軟化点を５００℃付近のガラス粉を使用する事で、焼成時の誘電体層の脱泡性を高め、透過性の高いパネル基板の製造ができる事が提案されている（特許文献４〜５参照）が、この方法ではバス電極による発色が大きく、電極の導電性が低下するという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１１−３４５５６４号公報（第２〜６項）
【０００７】
【特許文献２】
特開平１１−３５４０３５号公報（第２〜５項）
【０００８】
【特許文献３】
特開平１１−３２９２５４号公報（第２〜７項）
【０００９】
【特許文献４】
特開２００１−２０６７３２号公報（第２〜６項）
【００１０】
【特許文献５】
特開２００２−０８７８４３号公報（第２〜５項）
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明は、従来の技術における上述した課題に鑑みてなされたもので、その課題とするところは、高輝度なプラズマディスプレイを作製できるプラズマディスプレイ用前面基板及び、プラズマディスプレイ部材を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は以下の構成を有する。すなわち本発明は、少なくともガラス基板上に電極が形成されたプラズマディスプレイ用前面基板であって、該前面基板の電極が配される側に溝が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面基板である。また、溝の内部に、光反射性を有する材料を充填または被覆したプラズマディスプレイ用前面基板である。
【００１３】
さらに、前面基板において、電極が配される側に溝が形成されたプラズマディスプレイ部材である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
上記課題を解決するために発明者らは鋭意検討した結果、前面基板において、蛍光体の発した光線を基板に対してできるだけ垂直方向に集積させることで、高輝度化できることを明らかにした。即ち、本発明はＰＤＰの前面側基板において、その電極が配される側に溝が配されることが重要である。
【００１５】
励起紫外線を受け、蛍光体が発する光線はその光軸が一つの方向に定まらず、様々な方向に発せられるので、基板に対して広角度で発せられた光線は前面基板ガラスと空気との境界で全反射し、ＰＤＰセル内でやがては減衰してしまう。しかし、前面基板に複数の溝が形成された場合、広角に発せられた光線は、前面基板内の溝により反射を繰り返した結果、前面基板ガラスと空気との境界で全反射することなく、前面に放出される確率が格段に上昇する。
【００１６】
図４および図５は溝を形成した前面基板ガラスの斜視図であり、図１や図３とはその上下が逆転している。本発明の前面ガラス基板に形成する溝は、図３に示すように、前面基板上に形成するスキャン電極３とサステイン電極４の間に、該電極と平行に溝２１を形成することが好ましく、表示に使用されない部分に形成することがさらに好ましい。さらに、図５のように、ＰＤＰの作製工程において、前面板と背面板を重ね合わせて封着した際に、溝と隔壁が重なるように該スキャン電極と該サステイン電極の間に溝２２を形成してもよい。
【００１７】
溝の幅は制限を受けないが、該電極に支障をきたさない幅で形成することが好ましく、発光を妨げない幅にすることが重要である。
【００１８】
本発明においては、溝の深さは１０〜５００μｍであることが好ましい。より好ましくは５０〜４００μｍである。溝の深さが１０μｍよりも小さいと、超広角の光線以外の光線は、基板中において溝を通過しなくなることから、広角の光線を輝度向上のために有効利用できない。溝の深さが５００μｍより大きいと、前面基板の強度が著しく低下し、焼成応力による基板の反りや、後に形成する透明誘電体層に亀裂が入り易い傾向にある。
【００１９】
真空の屈折率を１．００、前面基板ガラスの屈折率を１．５０と仮定した場合、スネルの法則より、前面基板ガラスから真空に向かって進行する光線の臨界角は、  ｓｉｎθ＝１．００／１．５０  であるので、θ＝４１°と、求めることができる。従って、基板に対して４１°以下の角度を持つ光線は真空との境界面で全反射し、前面基板方面戻り、やがては減衰する。
【００２０】
図１は本発明の溝を形成した前面基板を利用したプラズマディスプレイの断面図を示したものであるが、溝の断面はその形状を選ばない。１７のような長方形や正方形としてもよいが、溝自体が光反射性を有するので、１８のように円形、楕円形でもよい。しかし、光線を有効に利用できる好ましい形状は１９に示すような台形や２０のような三角形である。台形もしくは三角形の斜辺の角度２１が基板に対してθ度である場合、基板に対してψ度の角度を有する光線は、この溝によってψ＋２（９０−θ）度の角度を有する光線に変換される。例として、図２に示した模式図のように、斜辺が基板に対して８０度である場合、前面基板ガラスと空気との境界面で全反射する３０度の角度で発せられた光線２１は、一度目の反射で５０度に、二度目の反射で７０度の角度を有する光線に変換される。
【００２１】
このような角度を有する光線は、前面基板と空気との境界面で全反射することなくディスプレイ前面へと進むこととなり、パネルの輝度が向上する。溝の傾斜角度は５０度〜８５度であることが好ましく、さらに好ましくは７０度〜８０度である。上記理由より、溝の傾斜角度を小さくした方が輝度が向上するが、傾斜角度をを小さくしすぎると溝の幅との釣り合いから、溝の深さを保てなくので、溝に到達する広角の光線が減少するため、溝の効果が薄れる。
【００２２】
本発明では、単に溝を形成しただけでも、上述のとおりその効果を奏するものであるが、形成した溝の内部に光反射性を有する材料を充填することも好ましい。溝のみを形成した基板では臨界角以下の光線では反射率が低く、有効利用されないが、前記の材料を充填することでさらに反射効率を高め、ＰＤＰの高輝度化が可能である。充填する材料は限定されるものではないが、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＭｇＯ等の、焼成後に白色化する金属酸化物や、白色顔料、白色粉末が好ましい。また、銅、アルミニウム等の鏡面をもつ金属や、セラミックスを含有した反射コーティング剤も有効である。
【００２３】
光反射性を有する材料を充填したとき、光線の反射に関わるのは溝の横壁面に存在する部分のみであって、溝の中部にある材料は反射には関わらない。従って上記の反射性を有する溝の内部に光反射性を有する材料を被覆することも好ましい。被覆にとどめることで、使用する材料を少なく抑えることができる。被覆する光反射性材料の膜厚は１〜３０μｍ、より好ましくは１〜１０μｍである。皮膜は可能な限り薄くすることが好ましいが、皮膜できていない部分がないことが重要である。また、膜厚を３０μｍ以上に被覆することは、充填していることと何ら変わりない。
【００２４】
同様の効果を奏するために、溝の表面を粗面化して光反射性を向上させることも好ましい。粗面化することで、蛍光体の発した光線の乱反射が起こり、溝と溝の間で反射を繰り返した結果、表示面前方に向かって進行する光線の量が増加し、パネルの高輝度化が可能となる。粗面化する場合、表面粗さ（Ｒａ値）が、０．５０〜１０．００μｍとなるように粗面化する事が好ましい。
【００２５】
ＰＤＰの前面板にはコントラストを高める目的でブラックストライプが電極と同方向に配される場合があるが、本発明では本来ブラックストライプが配される部分にも溝を形成させるので、コントラストの低下が見込まれる。そこで、形成した溝の底部に、ブラックストライプに代表される、光吸収性機能を有する材料を被覆しても良い。ただし、被覆する光吸収性材料の機能が有効に働くのは、表示面側だけであり、溝の側面に光吸収性材料が無いことが好い。図６は溝の底部に光吸収性材料を被覆した前面基板の断面図を示したものであるが、被覆する光吸収性材料の溝からの高さＨが１０μｍ以下となるよう被覆するとよい。より好ましくは５μｍ以下である。被覆量がより大きいと、溝内部の光吸収性材料を通過しようとする光線の量が増加し、可視光線は光吸収性材料に吸収されてしまうため、輝度低下の原因となる。光吸収性材料を被覆した後に、光反射性材料を充填または被覆するとコントラストを保持しつつ輝度を向上させることが可能である。
【００２６】
次に、本発明のプラズマディスプレイ用前面基板及び、これを用いたプラズマディスプレイ用部材ならびにプラズマディスプレイについてその構造および作製手順を図１および図３を用いて説明する。ここでは、プラズマディスプレイとして最も一般的なＡＣ型プラズマディスプレイを例に取りその基本構造などについて説明するが、必ずしもこの構造に限定されない。
【００２７】
図１の通り、プラズマディスプレイは、前面板および／または背面板に形成された蛍光体層（図１の場合、背面板のみに蛍光体層が形成されている）が内部空間内に面しているように、該前面板と該背面板を封着してなる部材において、前記内部空間内に放電ガスが封入されてなるものである。すなわち、前面板には、表示面側の基板であり表示用放電のための透明電極（サスティン電極、スキャン電極）が形成されており、放電のため、前記サスティン電極と前記スキャン電極の間隙は比較的狭い方がよい。より低抵抗な電極を形成する目的で透明電極の背面側にバス電極を形成してもよい。但し、バス電極は材質がＡｇ、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ等で構成されていて、不透明であることが多い。従って、前記透明電極とは異なり、セルの表示の邪魔となるので、表示面の外縁部に設けることが好ましい。ＡＣ型プラズマディスプレイの場合、電極の透明誘電体層およびその保護膜としてＭｇＯ薄膜が形成される場合が多い。背面板には、表示させるセルをアドレス選択するための電極（アドレス電極）が形成されている。セルを仕切るための隔壁や蛍光体層は前面板、背面板のどちらかまたは両方に形成してもよいが、図１のように背面板のみに形成される場合が多い。プラズマディスプレイは、前記前面板と前記背面板は封着され、両者の間の内部空間には、Ｘｅ−Ｎｅ、Ｘｅ−Ｎｅ−Ｈｅ等の放電ガスが封入されているものである。
【００２８】
まず、部材作製工程に関し、前面板の作製方法について述べる。なお、図１および図２では、前面板は、ガラス基板を上にして図示されており、一方、通常工程ではガラス基板を底面にして行われるので、図１および図２と以下の前面板作製工程の説明では上下が逆となる。
【００２９】
本発明のＰＤＰ用部材としての前面板及び背面板に用いる基板としては、ソーダガラスの他にＰＤＰ用の耐熱ガラスである“ＰＰ８”（日本電気硝子社製）や、“ＰＤ２００”（旭硝子社製）を用いることができる。ガラス基板のサイズは特に限定はなく、厚みは１〜５ｍｍのものを用いることができる。
【００３０】
ガラス基板上に深さ１０〜５００μｍの溝を形成させる。形成する方法としては、ガラス基板にフォトレジストを塗布し、マスクを被せて感光させ、レジストを現像し、フッ化水素でガラスをエッチングする方法を用いることができる。エッチングする時間や、エッチングする溶液を選択することで溝の断面形状を制御することが可能である。１０％フッ化水素溶液を用いる場合、室温で１０分〜４時間エッチングすることが好ましく、より好ましくは３０分〜３時間である。エッチング時間が短いと溝の深さを確保できず、長いとレジストの膜厚が確保できないためである。また、基板ガラスの軟化点付近での高温領域で溝の鋳型をガラス基板に押しつけて溝を形成する型転写法や、サンドブラスト法で研磨することで任意の溝を形成することが可能である。
【００３１】
チタニアやシリカ等の金属酸化物を光反射層として溝に充填する場合、チタニア微粒子やシリカ微粒子を含む塗液を用いると良い。前記レジストを剥離する前に微粒子を含む塗液をディップ法や、スクリーン印刷法、ディスペンサー法などで形成し、乾燥させることで高反射性を有する溝の形成が可能である。また、スリットダイやスピンコーターを用いて反射層を形成してもよい。光吸収性を有する材料を被覆する場合も同等の方法を用いて形成させることが好ましい。
【００３２】
また、微粒子を含む塗液をスプレー噴霧法で吹き付けることで溝の壁面に光反射層を被覆形成させることができる。金属を光反射層として溝に被覆する場合、真空蒸着法、プラズマ蒸着法、スパッタリング法を利用することが好ましく適用できる。低コストで代面積に均一に形成するには、真空蒸着法、スパッタリング法がより好ましい。
【００３３】
ガラス基板に溝を形成させるときに、サンドブラスト法を用いれば溝の表面粗さを制御することができる。フォトレジストを利用したエッチング法では表面粗さが低く平滑な溝が形成できるので、真空蒸着法や、スパッタリング法を利用した金属反射層の形成には有効である。
【００３４】
次に、前記反射性を有する溝を形成した基板を前面基板ガラスとした前面板の製造方法について述べる。
まず、ガラス基板上に、放電のための複数の電極を形成する。電極形成法としては、例えば、酸化錫、ＩＴＯなどの透明電極をリフトオフ法、フォトエッチング法などによって、銀やアルミ、銅、金、ニッケル等の電極（バス電極など）をスクリーン印刷や感光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によってパターン形成してもよい。より低抵抗な電極を形成する目的で透明電極の上にバス電極を形成することは好ましい。ここで、放電のための複数の電極を形成したガラス基板上に、透明誘電体層をスクリーン印刷法などにより形成することもできる。その場合の透明誘電体材料は特に限定されないが、ＰｂＯ、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２を含有する誘電体材料が適用される。
【００３５】
放電のための複数の電極を形成したガラス基板上に、放電によるイオン衝撃からの保護を目的としてＭｇＯ膜を形成することも好ましい。形成手法は、電子ビーム蒸着法、プラズマ蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、Ｍｇターゲットの反応性スパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＣＶＤ法などが適用できる。
【００３６】
次に背面板の作製方法について述べる。
ガラス基板上に、スクリーン印刷や感光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によって、銀やアルミ、銅、金、ニッケル、酸化錫、ＩＴＯ等を含むアドレス電極層をパターン形成する。さらに、放電の安定化のためにアドレス電極層の上に誘電体層を設けても良い。
【００３７】
アドレス電極層を形成したガラス基板上に、セルを仕切るための隔壁をサンドブラスト法、型転写法、フォトリソグラフィー法等によって形成する。さらに、電極層および隔壁を形成したガラス基板上に、蛍光体粉末と樹脂を含有する蛍光体ペーストを用い、ディスペンサー法、スクリーン印刷法や、さらに感光成分を添加したペーストを用いた感光性ペースト法等によって蛍光体層を塗布し、焼成することによって背面板を作製することができる。
【００３８】
次に、プラズマディスプレイの製造方法について説明する。
プラズマディスプレイ用部材の背面板と前面板を用いて、背面板と前面板とを封着フリットを用いて封着し、前背面の基板間隔に形成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着し、エージングを行いプラズマディスプレイを作製できる。
【００３９】
【実施例】
以下に、本発明を実施例を用いて具体的に説明する。但し、本発明はこれに限定されない。
（測定方法）
（１）プラズマディスプレイの発光特性
プラズマディスプレイの輝度と色度は、放電維持電圧１７０Ｖ、周波数３０ｋＨｚ、パルス幅３μｍの放電条件で全面を点灯させ、ミノルタ社製の分光放射輝度計ＣＳ−１０００を用いて測定した。測定した発光スペクトルの積分値を求め、これを発光強度とした。
【００４０】
（実施例１）
プラズマディスプレイを以下の手順にて作製した。
【００４１】
まず、前面板の作製を行った。
旭硝子社製“ＰＤ−２００”５インチガラス基板上に、フォトエッチング法により溝を形成した。まず、ポシ型感光性フォトレジストを塗布後、背面板隔壁と同等のピッチを有するフォトマスクを合わせて露光・乾燥することにより、露光した部分がエッチングされるようにした。現像した後に、１０％フッ化水素溶液を用いて室温で２時間エッチングを行い、ついでレジスト膜を剥離して、これを前面基板ガラスとした。このガラス基板上にフォトエッチング法によりＩＴＯ電極をピッチ１０８０μｍ、線幅３５０μｍとなるように形成した後、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法により電極幅１００μｍ、厚み３μｍのバス電極パターンを形成した。しかる後、透明誘電体層をスクリーン印刷法により３０μｍの厚みで形成した。さらに５００ｎｍ厚のＭｇＯ膜を電子ビーム蒸着法により形成して、放電のための複数の電極を形成した前面板を得た。なお、後記背面板のアドレス電極ならびに隔壁は前面板のスキャン電極とは直交するように封着するため、前面板に形成する溝はスキャン電極やサスティン電極とは直交するように形成した。
【００４２】
次に背面板の作製を行った。
旭硝子社製“ＰＤ−２００”ガラス基板上に、感光性銀ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によりアドレス電極パターンを幅２００μｍ、厚み３μｍ、ピッチ３６０μｍとなるように形成した後焼成した。次いで誘電体層をスクリーン印刷法により１０μｍの厚みで形成した。しかる後、感光性隔壁ペーストを用いたフォトリソグラフィー法により隔壁パターンを形成した。次に蛍光体層をディスペンサー法にて形成した後焼成した。
【００４３】
次に、封着用ペーストをディスペンサー法を用いて背面板の蛍光体層を形成した側の外周部に塗布した後、脱バインダーを行い、前面板のスキャン電極等と背面板のアドレス電極が直交し、前面板の溝と背面板の隔壁が重なるようにこれら部材を配置して、封着のために焼成し、ガラス配管を通して、封着した該部材の内部の真空排気を３５０℃にて行った。室温に冷却後、Ｘｅ５％−Ｎｅ．ｂａｌ．ガスを６６．５ｋＰａまで封入し、最後に駆動回路を実装し、プラズマディスプレイを完成した。
【００４４】
（実施例２）
前面基板に溝を形成するためのフッ化水素でのエッチング時間を、３時間として溝の深さを大きくした以外は、実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００４５】
（実施例３）
前面基板に溝を形成するためのフッ化水素でのエッチング時間を、３０分として溝の深さを小さくした以外は、実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００４６】
（実施例４、５）
溝の形成方法として前面基板ガラス上にレジストを塗布し、パターニングした後に研磨剤を吹き付けて溝を形成させるサンドブラスト法を用いた以外は、実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００４７】
（実施例６）
形成した溝付き基板にチタニアゾルをスプレー噴霧法で吹き付け、溝のない部分はゾルを拭き取り、乾燥させて光反射層を溝の内部に一様に被覆した以外は、実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００４８】
（比較例１）
光反射性機能を有する溝を形成しなかった以外は、実施例１と同様にプラズマディスプレイを作製した。
【００４９】
実施例１〜６、および比較例１について、形成した溝の深さ、断面形状、光反射層の材料、表面粗さ、発光強度（比較例１の発光強度（約４５０ｃｄ／ｍ２であった）を１００として規格化）を表１に示す。
【００５０】
【表１】
2004311291.tif 000003
【００５１】
実施例１〜６のプラズマディスプレイは、比較例１のものと比べて、発光強度が高く、特に実施例５、６は高輝度かつ高品位な表示が可能なプラズマディスプレイであった。実施例２は前面板の基板の反りによる誘電体層のクラックが数カ所発生したが、ディスプレイとして問題あるものではなかった。
【００５２】
【発明の効果】
本発明によれば、前面基板に複数の光反射性機能を有する溝が形成されているので、高輝度かつ高品位なプラズマディスプレイを作製できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】前面基板に溝を形成した部分のプラズマディスプレイの模式断面図である。
【図２】溝を形成した前面基板の断面図であり、光が溝により反射を繰り返す様子を示した模式図である。
【図３】ＡＣ型プラズマディスプレイの断面斜視図である。
【図４】電極と平行に溝を形成したプラズマディスプレイ用前面基板の断面斜視図である。
【図５】電極と平行な溝と、電極と垂直な溝を同時に形成したプラズマディスプレイ用前面基板の断面斜視図である。
【図６】電極と平行に形成した溝の底部に光吸収性材料を被覆形成したプラズマディスプレイ用前面基板の断面図である。
【符号の説明】
１：前面板
２：ガラス基板（前面基板）
３：スキャン電極
４：サスティン電極
５：バス電極
６：透明誘電体層
７：ＭｇＯ保護膜
８：背面板
９：ガラス基板
１０：アドレス電極
１１：誘電体層
１２：隔壁層
１３：赤色蛍光体層
１４：緑色蛍光体層
１５：青色蛍光体層
１６：溝付き前面基板
１７〜２２：溝
２３〜２４：溝と基板の角度θ
２５：光線
２６：光吸収性材料
【図１】
2004311291.tif 000004
【図２】
2004311291.tif 000005
【図３】
2004311291.tif 000006
【図４】
2004311291.tif 000007
【図５】
2004311291.tif 000008
【図６】
2004311291.tif 000009