(57)【要約】【課題】表面に凹凸形状を有する転写膜を含む転写フィルムにおいて、接着対象物に前記転写膜を接着した後の工程における位置合わせを容易に行うことが可能な転写フィルム、及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の転写フィルム１３は、表面に凹凸形状が形成された転写面１０ａを有するベースフィルム１０と、該ベースフィルム１０の転写面１０ａ上に形成された転写膜１１とを備え、前記転写膜１１の前記ベースフィルム１０と反対側面を接着対象物へ接着可能とされており、前記ベースフィルム１０の転写面１０ａに、前記凹凸形状が形成されている凹凸領域１０ｃと、前記凹凸形状が形成されていない平坦領域１０ｆ、１０ｆとが区画形成されている。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に凹凸形状が形成された転写面を有する支持部材と、該支持部材の転写面上に形成された転写膜とを備え、前記転写膜の前記支持部材と反対側面を接着対象物へ接着可能とされている転写フィルムであって、
前記支持部材の転写面に、前記凹凸形状が形成されている凹凸領域と、前記凹凸形状が形成されていない平坦領域とが区画形成されていることを特徴とする転写フィルム。
【請求項２】
前記平坦領域が、前記支持部材の縁端部に沿って延在されていることを特徴とする請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項３】
前記平坦領域が、前記支持部材の長手方向に沿う縁端部に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の転写フィルム。
【請求項４】
前記平坦領域が、前記凹凸領域を取り囲んで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項５】
前記平坦領域が、平面視略格子状に形成されていることを特徴とする請求項４に記載の転写フィルム。
【請求項６】
前記転写膜が、感光性材料からなることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
【請求項７】
表面に凹凸形状が形成された転写面を有する支持部材と、該支持部材の転写面上に形成された転写膜とを備え、前記転写膜の前記支持部材と反対側面を接着対象物へ接着可能とされている転写フィルムの製造方法であって、
基材の一面側に凹凸形状を形成して前記支持部材を作製するに際して、
前記凹凸形状と逆凹凸の形状が形成された凹凸面加工部と、前記凹凸形状が形成されていない平坦面加工部とが表面に区画形成されている転写ロールを、前記基材の一面側に押圧することにより、前記基材上に前記凹凸形状を転写形成するとともに、前記平坦面加工部により平坦領域を形成することを特徴とする転写フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記転写ロールとして、略円柱状のロール本体の周面両端部に前記平坦面加工部が形成され、前記平坦面加工部に挟まれたロール本体表面に前記凹凸面加工部が形成されている転写ロールを用いることを特徴とする請求項７に記載の転写フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記転写ロールとして、略円柱状のロール本体の表面に略格子状に前記平坦面加工部が形成され、前記平坦面加工部に囲まれたロール本体表面に前記凹凸面加工部が形成されている転写ロールを用いることを特徴とする請求項７に記載の転写フィルムの製造方法。
【請求項１０】
表面に凹凸形状が形成された転写面を有する支持部材と、該支持部材の転写面上に形成された転写膜とを備え、前記転写膜の前記支持部材と反対側面を接着対象物へ接着可能とされている転写フィルムの製造方法であって、
基材の一面側に凹凸形状を形成して前記支持部材を作製するに際して、
前記基材の被加工面を部分的にマスクした状態で前記被加工面に凹凸形状を形成することを特徴とする転写フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記基材の被加工面に対して、加工粒子を吐出することにより前記凹凸形状を形成することを特徴とする請求項１０に記載の転写フィルムの製造方法。
【請求項１２】
前記基材の被加工面周縁部をマスクした状態で前記凹凸形状の加工を行うことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の転写フィルムの製造方法。
【請求項１３】
前記基材の被加工面を略格子状にマスクした状態で前記凹凸形状の加工を行うことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の転写フィルムの製造方法。
【請求項１４】
対向して配置された一対の基板の間に液晶層が挟持されており、前記基板の液晶層側に散乱反射層を備えた液晶装置の製造方法であって、
表面に凹凸形状が形成された転写面を有する支持部材と、該支持部材の転写面上に形成された感光性材料からなる転写膜とを備え、前記転写膜の前記支持部材と反対側面を接着対象物へ接着可能とされ、前記支持部材の転写面に、前記凹凸形状が形成されている凹凸領域と、前記凹凸形状が形成されていない平坦領域とが区画形成されている転写フィルムを基板上に接着する工程と、
前記接着された転写フィルムの転写膜をパターニングすることにより、前記平坦領域に所定形状のアライメントマークを形成する工程と、
前記転写膜上に金属反射膜を成膜する工程と、
前記金属反射膜を、前記アライメントマークを基準点として所定形状にパターニングする工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の転写フィルムの転写膜を基板上に接着した液晶装置用基板であって、
前記転写膜の一部を用いて形成され、上面が平坦面とされたアライメントマークを有することを特徴とする液晶装置用基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、転写フィルム、その製造方法、液晶装置の製造方法、及び液晶装置用基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
各種液晶表示装置のうち、反射型、あるいは半透過反射型液晶表示装置は、外光を利用して表示を行う反射モードを備えており、係る表示方式を実現するために、液晶表示装置を構成する基板の内面側（液晶層側）に、光反射性の反射層が形成されている。このような反射層としては、光源の映り込み等を防止して良好な反射特性を得るために光散乱性を付与された拡散反射層を用いるのが現在では一般的な構成とされている。
【０００３】
上記光散乱性を有する反射層を形成するための部材として、例えば特許文献１には、表面をサンドブラスト処理することにより凹凸形状を付与されたポリエチレンテレフタレートフィルムをベースフィルムとして用い、このベースフィルム上に薄膜層形成用溶液を塗布乾燥して薄膜層を形成した後、カバーフィルムとしてポリエチレンフィルムを上記薄膜層上に被覆した３層構成の転写フィルムが記載されている。この転写フィルムは、カバーフィルムを剥がしながら前記薄膜層を基板上に接着し、前記薄膜層を硬化させた後にベースフィルムを剥がすことで、前記ベースフィルムの凹凸形状が表面に転写された薄膜層を前記基板上に配設することができるようになっている。そして、基板上に配設された薄膜層表面に金属薄膜を成膜することで前記反射層が得られる。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−４７１９９号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献１に記載の転写フィルムを用いることで、反射層に光散乱性を付与するための凹凸形状を備えた薄膜層を基板上に容易に配設することができる。しかしながら、本発明者が上記転写フィルムを用いて拡散反射層の作製を行ったところ、前記薄膜層上に形成した金属薄膜をパターニングする工程において、露光マスクと基板との位置合わせを円滑に行うことができないという不具合が生じ、その結果、前記位置合わせを手動にて行わざるを得なくなり、製造効率が著しく低下するという問題が生じた。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みて成されたものであって、表面に凹凸形状を有する転写膜を含む転写フィルムにおいて、接着対象物に前記転写膜を接着した後の工程における位置合わせを容易に行うことが可能な転写フィルム、及びその製造方法を提供することを目的としている。
また本発明は、上記本発明の転写フィルムを用いた液晶装置の製造方法、並びに液晶装置用基板を提供することを他の目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
先の拡散反射層の製造工程において、金属薄膜をパターニングするための露光マスクと、基板との位置合わせは、薄膜層をパターニングした際に同層の一部を用いて形成した略柱状のアライメントマークと、露光マスクのアライメントマークを位置合わせすることにより行われる。そして、本発明者が検証を行ったところ、上記位置合わせの不具合は、上記基板上の略柱状のアライメントマークを光学的に検出するステップにおいて生じており、その原因は、上記略柱状のアライメントマークの上面部にも凹凸形状が形成されているために、検出光が散乱されて正確な位置検出ができないことによるものであることが確認された。本発明は、係る知見に基づき以下の構成を備えた転写フィルム、及びその製造方法、並びに係る転写フィルムを用いた液晶装置の製造方法、及び液晶装置用基板を提供するものである。
【０００８】
本発明の転写フィルムは、表面に凹凸形状が形成された転写面を有する支持部材と、該支持部材の転写面上に形成された転写膜とを備え、前記転写膜の前記支持部材と反対側面を接着対象物へ接着可能とされている転写フィルムであって、前記支持部材の転写面に、前記凹凸形状が形成されている凹凸領域と、前記凹凸形状が形成されていない平坦領域とが区画形成されていることを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、上記支持部材に平坦領域を有しているので、係る領域を用いて各種工程の位置合わせ指標となるアライメントマークを形成することができる。このようにして形成されたアライメントマークは、その上面が平坦面とされているので、アライメントマークに照射される検出光が散乱されず、良好にアライメントマークの検出を行うことが可能である。従って、係る転写フィルムを用いて、例えば液晶装置の拡散反射層を形成するならば、上記転写膜上に形成した金属反射膜のパターニングを行うための露光マスクの位置合わせを、上記アライメントマークを用いて容易かつ正確に行うことができ、効率よく拡散反射層、ないし液晶装置の製造を行うことができる。
【００１０】
本発明の転写フィルムでは、前記平坦領域が、前記支持部材の縁端部に沿って延在されていることが好ましい。このように支持部材の縁端部に沿って平坦領域を形成した構成とすることで、転写フィルムの主体を成す凹凸領域を広く確保でき、転写フィルムを効率よく使用することができる。
【００１１】
本発明の転写フィルムでは、前記平坦領域が、前記支持部材の長手方向に沿う縁端部に形成されていることが好ましい。このように転写フィルムの長手方向に延びる平坦領域を支持部材縁端部に形成することで、例えば転写フィルムを長尺化して、量産時の利便性を向上させた場合にも、前記平坦領域を長さ方向で均一に含む転写フィルムとすることができ、また転写フィルムの製造自体も容易になる。さらに、例えば液晶装置用のマザー基板に対して転写フィルムを接着する場合に、マザー基板と平坦領域との位置合わせが不要になるので、応用製品の製造工程においても使い勝手の良い転写フィルムとすることができる。
【００１２】
本発明の転写フィルムでは、前記平坦領域が、前記凹凸領域を取り囲んで形成されていてもよい。また本発明の転写フィルムでは、前記平坦領域が、平面視略格子状に形成されていてもよい。
上記いずれの平面形状に上記平坦領域を形成したとしても、係る平坦領域を利用して先のアライメントマークを形成できるので、先の構成と同様の作用効果を得ることができる。
【００１３】
本発明の転写フィルムでは、前記転写膜が、感光性材料からなる構成とすることが好ましい。このような構成とすることで、転写フィルムの状態では平面形状であり、接着対象物に接着した後に、所定形状にパターニングできる転写膜とすることができるので、接着対象物への接着が容易であるとともに、形状の変更にも容易かつ柔軟に対応できる転写フィルムを提供することができる。
【００１４】
次に、本発明の転写フィルムの製造方法は、表面に凹凸形状が形成された転写面を有する支持部材と、該支持部材の転写面上に形成された転写膜とを備え、前記転写膜の前記支持部材と反対側面を接着対象物へ接着可能とされている転写フィルムの製造方法であって、基材の一面側に凹凸形状を形成して前記支持部材を作製するに際して、前記凹凸形状と逆凹凸の形状が形成された凹凸面加工部と、前記凹凸形状が形成されていない平坦面加工部とが表面に区画形成されている転写ロールを、前記基材の一面側に押圧することにより、前記基材上に前記凹凸形状を転写形成するとともに、前記平坦面加工部により平坦領域を形成することを特徴とする。
【００１５】
上記製造方法によれば、転写ロールの加工面形状を基材に転写することにより支持部材の転写面形状を形成するので、形状の再現性に優れ、かつ効率よく支持部材、及びこれを備えた先の本発明の転写フィルムを製造することができる。特に、長尺の転写フィルムを製造する場合に、転写ロールに対して連続的に基材を供給し、転写面形状の加工を行えるので、極めて量産性の高い製造方法である。
【００１６】
本発明の転写フィルムの製造方法では、前記転写ロールとして、略円柱状のロール本体の周面両端部に前記平坦面加工部が形成され、前記平坦面加工部に挟まれたロール本体表面に前記凹凸面加工部が形成されている転写ロールを用いることもできる。
この方法によれば、両側縁端部に帯状に平坦領域が形成され、これらの平坦領域に挟まれた領域に凹凸領域が形成された支持部材を容易に製造することができ、長尺の転写フィルムを製造する場合にも、転写フィルム長さ方向で均一に平坦領域が分布した支持部材を有する転写フィルムを製造することができる。
【００１７】
本発明の転写フィルムの製造方法では、前記転写ロールとして、略円柱状のロール本体の表面に略格子状に前記平坦面加工部が形成され、前記平坦面加工部に囲まれたロール本体表面に前記凹凸面加工部が形成されている転写ロールを用いることもできる。
この方法によれば、平面視略格子状の平坦領域と、この平坦領域に囲まれた平面視略マトリクス状の凹凸領域とを有する支持部材を容易に形成することができる。
【００１８】
また本発明の転写フィルムの製造方法としては、表面に凹凸形状が形成された転写面を有する支持部材と、該支持部材の転写面上に形成された転写膜とを備え、前記転写膜の前記支持部材と反対側面を接着対象物へ接着可能とされている転写フィルムの製造方法であって、基材の一面側に凹凸形状を形成して前記支持部材を作製するに際して、前記基材の被加工面を部分的にマスクした状態で前記被加工面に凹凸形状を形成することを特徴とする方法も適用できる。
【００１９】
この方法によれば、基材に対して直接的に凹凸領域の形状を形成して支持部材を作製するので、前記凹凸領域と平坦領域とが比較的複雑に区画配置されている転写フィルムを製造する場合に有利である。また、前記凹凸領域及び平坦領域の配置の変更にも容易に対応できる。
【００２０】
本発明の転写フィルムの製造方法は、前記基材の被加工面に対して、加工粒子を吐出することにより前記凹凸形状を形成することを特徴とする。
この方法によれば、前記凹凸領域に、ランダムな凹凸形状を極めて容易に形成することができ、拡散反射層の作製に用いて好適な転写フィルムを容易に製造することができる。
【００２１】
本発明の転写フィルムの製造方法では、前記基材の被加工面周縁部をマスクした状態で前記凹凸形状の加工を行うこともできる。
この方法によれば、両側縁端部に帯状に平坦領域が形成され、これらの平坦領域に挟まれた領域に凹凸領域が形成された支持部材を容易に製造することができ、長尺の転写フィルムを製造する場合にも、転写フィルム長さ方向で均一に平坦領域が分布した支持部材を有する転写フィルムを製造することができる。
【００２２】
転写フィルムの製造方法では、前記基材の被加工面を略格子状にマスクした状態で前記凹凸形状の加工を行うこともできる。
この方法によれば、平面視略格子状の平坦領域と、この平坦領域に囲まれた平面視略マトリクス状の凹凸領域とを有する支持部材を容易に形成することができる。
【００２３】
次に、本発明の液晶装置の製造方法は、対向して配置された一対の基板の間に液晶層が挟持されており、前記基板の液晶層側に散乱反射層を備えた液晶装置の製造方法であって、表面に凹凸形状が形成された転写面を有する支持部材と、該支持部材の転写面上に形成された感光性材料からなる転写膜とを備え、前記転写膜の前記支持部材と反対側面を接着対象物へ接着可能とされ、前記支持部材の転写面に、前記凹凸形状が形成されている凹凸領域と、前記凹凸形状が形成されていない平坦領域とが区画形成されている転写フィルムを基板上に接着する工程と、前記接着された転写フィルムの転写膜をパターニングすることにより、前記平坦領域に所定形状のアライメントマークを形成する工程と、前記転写膜上に金属反射膜を成膜する工程と、前記金属反射膜を、前記アライメントマークを基準点として所定形状にパターニングする工程と、を含むことを特徴とする。
【００２４】
上記の製造方法において、基板上に転写膜を接着するために用いられる転写フィルムは、先の本発明の転写フィルムであるので、基板上に接着された転写フィルムをパターニングすることにより形成されるアライメントマークは、上記転写膜のうち、支持部材の平坦領域に対応する領域の転写膜を用いて形成される。従って、上面が平坦面とされ、検出が容易なアライメントマークにより、前記金属反射膜をパターニングするために露光マスクと転写膜との位置決めを行うことができるので、このパターニング工程を円滑に行うことができる。また、液晶装置では、金属反射膜上に、カラーフィルタや電極等の各種部材が形成されるが、これらの形成工程においても、上記検出が容易なアライメントマークを利用することができるので、極めて円滑に液晶装置の製造を行うことが可能である。
【００２５】
本発明の液晶装置用基板は、先の本発明の転写フィルムの転写膜を基板上に接着した液晶装置用基板であって、前記転写膜の一部を用いて形成され、上面が平坦面とされたアライメントマークを有することを特徴とする。
【００２６】
上記液晶装置用基板では、上記アライメントマークは、本発明に係る転写フィルムの、前記平坦領域に対応する領域の転写膜を用いて形成されている。これにより、上記樹脂膜上に金属反射膜を形成して拡散反射層を基板上に形成するに際して、前記金属反射膜のパターニングを、上記アライメントマークを利用した位置合わせにより、容易かつ円滑に行えるようになっている。また、金属反射膜上に形成される電極やカラーフィルタ等の液晶装置の構成部材の形成工程においても、上記アライメントマークを有効に利用して円滑に処理を行うことができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。尚、以下で参照する各図面においては、図面を見易くするために、各部の大きさや寸法等を適宜変更して表示している。
［転写フィルム］
図１は、本発明の一実施形態である転写フィルムの断面構造を示す図である。同図に示す転写フィルム１３は、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン等からなるベースフィルム（支持部材）１０と、光感光性アクリルモノマー等の感光性材料からなる転写膜１１と、ポリエチレンやポリエチレンテレフタレート等からなるカバーフィルム１２とを順に積層した構成を備えている。
【００２８】
上記転写膜１１と当接するベースフィルム１０の転写面１０ａ（図示上面）は、複数の微細な凸部１０ｂが形成されて凹凸形状を付与された凹凸領域１０ｃと、前記凹凸形状が形成されていない平坦領域１０ｆとに平面的に区画されており、従って転写膜１１の転写面１０ａと当接する面は、上記凹凸領域１０ｃ及び平坦領域１０ｆの表面形状を転写された形状となっている。そして、上記転写フィルム１３は、カバーフィルム１２を剥がして転写膜１１表面を露出させ、当該面を接着面として、例えば液晶装置用の基板等の接着対象物に接着することができるようになっている。
【００２９】
図２（ａ）は、上記構成の転写フィルム１３を液晶装置用のマザー基板２１に接着した状態を示す平面構成図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示すＨ−Ｈ線に沿う断面構成図である。これらの図に示すように、本実施形態の場合、平坦領域１０ｆは、平面視矩形状のベースフィルム１０の両長辺端に帯状に形成されており、これらの平坦領域１０ｆ、１０ｆに挟まれた領域が凹凸領域１０ｃとされている。また、図２（ｂ）の断面構造をみると、基板２１上に接着された転写膜１１の図示上面（ベースフィルム１０側面）において、平坦領域１０ｆに対応する領域は、凹凸領域１０ｃに対応する領域以上の高さに形成されている。
【００３０】
図３は、図２に示すようにマザー基板２１上に接着された転写膜１１を平面視略格子状の露光マスクを用いて露光した後、ベースフィルム１０を剥がし、現像した後の状態を示す平面構成図であり、換言するならば、本発明に係る液晶装置用基板の平面構成図である。
図３に示すように、上記露光、現像工程（パターニング工程）により、マザー基板２１上の転写膜１１は、複数（図示では１６個）の矩形状の転写膜１１ｄに分割され、これらの転写膜１１ｄが配列された領域の外側に、転写膜１１の一部を用いて形成された平面視略十字状のアライメントマーク１５が形成されている。そして、この後の工程において、上記矩形状の転写膜１１ｄ、…、及びアライメントマーク１５を覆ってアルミニウムや銀等からなる金属反射膜が形成されて、各矩形状の転写膜１１ｄと前記金属反射膜とからなる拡散反射層がマザー基板２１上に形成される。
【００３１】
本実施形態の場合、図３に示すように、上記転写膜１１ｄ、…は転写膜１１のうち凹凸領域１０ｃに対応する領域に形成されており、アライメントマーク１５，１５は、転写膜１１のうち平坦領域１１ｆに対応する領域に形成されている。従って、転写膜１１ｄ、…の上面には、微細な凹凸形状が形成されているが、アライメントマーク１５，１５の上面は平坦面となっている。
【００３２】
図４（ａ）は図３に示すアライメントマーク１５の平面構成図（図示上側）及び断面構成図（図示下側）であり、図４（ｂ）は、先の特許文献１に記載の転写フィルムを用いて拡散反射層を形成した場合に、マザー基板２１上に形成されるアライメントマークの平面構成図及び断面構成図である。尚、図４（ａ）において符号１８はアライメントマーク１５上に形成された金属反射膜を示し、図４（ｂ）において、符号１１５はアライメントマーク、１１８は金属反射膜を示している。
【００３３】
図４（ａ）に示すように、本実施形態に係るアライメントマーク１５では、その上面１５ａが平坦面とされているので、アライメントマーク１５を検出するための検出光を照射した場合に、前記検出光が正反射され、容易に検出することが可能である。これに対して、図４（ｂ）に示す従来の転写フィルムを用いて形成したアライメントマーク１１５では、その上面１１５ａが凹凸形状となっているため、金属反射膜１１８も上面１１５ａに沿って成膜され、その結果、前記検出光が金属反射膜１１８で散乱反射され、正確に検出することが極めて困難になる。
【００３４】
上記図４（ａ）、図４（ｂ）の比較から明らかなように、本実施形態では、前記転写フィルム１３をマザー基板２１上に接着し、硬化後の転写膜１１をパターニングしてマザー基板２１上にアライメントマーク１５，１５を形成するに際して、前記転写フィルム１３の平面領域のうち、平坦領域１０ｆに対応する領域の転写膜１１の一部を用いて前記アライメントマーク１５，１５を形成するようにしたことで、転写膜１１ｄ、…上に形成した金属反射膜１８をパターニングする際の位置合わせ時に、アライメントマーク１５，１５の検出不良が生じることが無く、正確かつ円滑に金属反射膜１８のパターニングを行うことが可能である。
【００３５】
また、図３に示した本発明に係る液晶装置用基板を用いて、液晶装置を製造するに際しても、マザー基板２１上に形成された、容易に検出可能なアライメントマーク１５，１５を利用することで、液晶装置の他の構成部材（液晶駆動用の電極やカラーフィルタ等）を形成するための露光マスク等の位置合わせを良好に行うことができ、製造を極めて効率的に行うことができる。
【００３６】
［転写フィルムの他の構成］
以上の実施形態では、図２に示すように、ベースフィルム１０の両長辺端に平坦領域１０ｆ、１０ｆを有する転写フィルム１３を用いて液晶装置用のマザー基板２１上に拡散反射層を形成する場合について説明したが、本発明に係る転写フィルムにおける平坦領域１０ｆと凹凸領域１０ｃの配置は、上記に限定されるものではなく、種々の配置が可能である。図５ないし図８は、本発明に係る転写フィルムの変形例を示す平面構成図であり、図２（ａ）と同様に、液晶装置用のマザー基板２１上に、各変形例の転写フィルムを接着した状態を示している。
【００３７】
図５は、周縁部に平面視矩形枠状の平坦領域１０ｆが形成され、平坦領域１０ｆに取り囲まれた矩形領域に凹凸領域１０ｃが形成されたベースフィルム１０を有する転写フィルムの構成例である。
図６は、平面視格子状に平坦領域１０ｆが形成され、この平坦領域１０ｆに囲まれた１６個の各平面領域に、凹凸領域１０ｃが平面視略マトリクス状に配列形成されたベースフィルム１０を有する転写フィルムの構成例である。
図７は、平面視長方形状のベースフィルム１０の両短辺端部に帯状に平坦領域１０ｆ、１０ｆが形成され、これらの平坦領域１０ｆ、１０ｆに挟まれた領域に凹凸領域１０ｃが形成された転写フィルムの構成例である。
図８は、平面視矩形状のベースフィルム１０の図示左右方向の両側辺端中央部に平面視矩形状の平坦領域１０ｆ、１０ｆが形成され、これらの平坦領域１０ｆ、１０ｆ以外の平面領域に凹凸領域１０ｃが形成された転写フィルムの構成例である。
【００３８】
図５〜図８に示した例のいずれの転写フィルムを用いた場合にも、転写膜１１のパターニングを行うに際して、前記平坦領域１０ｆを利用して、その上面に平坦面を有するアライメントマークを形成することができる。従って、先の実施形態と同様に、転写膜１１上に形成された金属反射膜のパターニングを行うに際して、露光マスクを位置合わせするために、上記アライメントマークに検出光を照射した場合に、アライメントマーク上面で前記検出光が散乱反射されることがなく、良好にアライメントマークの検出を行うことができる。
【００３９】
［転写フィルムの製造方法］
次に、図１に示す転写フィルム１３の製造方法を図９及び図１０を参照して以下に説明する。図９は、図１に示すベースフィルム１０の表面形状を形成するための母型として用いられる転写ロールの概略構成図であり、図１０は、図９に示す転写ロールを用いた加工方法を説明するための概略工程図である。
【００４０】
図１に示す転写フィルム１３は、ベースフィルム１０上に感光性材料を含む溶液を塗布して前記転写膜１１を形成し、その後カバーフィルム１２を前記転写膜１１上に貼り合わせることで作製することができる。
図１及び図２に示すベースフィルム１０の表面形状は、例えば図９に示すような形状の転写ロール６０を用いて形成することができる。この転写ロール６０は、その周面両端部に平滑な加工面からなる平坦面加工部６０ｆ、６０ｆを有し、これらの平坦面加工部６０ｆ、６０ｆに挟まれた部分に、周面に微細な凹凸形状が形成された凹凸面加工部６０ｃを有している。そして、図１０に示すようなフィルム状の基材１０ｓを用意し、この基材１０ｓの一面に前記転写ロール６０を回転させながら押圧する。すると、図１０に示すように、前記凹凸面加工部６０ｃにより基材１０ｓ上に凹凸形状が転写加工されて凹凸領域１０ｃが形成され、前記平坦面加工部６０ｆ、６０ｆにより基材１０ｓが加工されて平坦領域１０ｆ、１０ｆが形成される。このようにして、図１及び図２に示す表面形状のベースフィルム１０が得られる。
【００４１】
このように、ベースフィルム１０を作製するに際して、その表面形状の加工を上記転写ロール６０を用いて行うならば、例えば長尺のベースフィルム１０に対して表面形状の形成を行う場合にも、極めて効率よく上記転写加工を行うことができるので、優れた量産性を得ることができ、また製造コストの低減にも寄与する。
【００４２】
また、上記転写ロール６０の凹凸面加工部６０ｃの凹凸形状は、転写ロール６０を作製すべく用意された円柱状の基体周面の所定領域（図９の場合には、周面両端部を除く領域）に対して、サンドブラスト処理、あるいは圧子を用いた押圧加工等により形成することができる。
尚、図５ないし図８に示した平面構成を有するベースフィルム１０も、転写ロール６０の加工面形状を変更するのみで、上記製造方法を用いて作製することができるのは勿論である。
【００４３】
また、本発明に係る転写フィルム１３の他の製造方法としては、図１１に示す方法も適用できる。図１１（ａ）は、本製造方法の概略工程図であり、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）に示す方法により作成されたベースフィルム１０を備えた転写フィルムの断面構成図である。
図１１（ａ）に示すように、まず、図１０と同様の基材１０ｓを用意し、この基材１０ｓ両側縁端部の平坦領域１０ｆ、１０ｆが形成されるべき領域を、例えばゴム、金属等のマスク材１９を用いてマスク処理し、この状態で基材１０ｓ表面に対してノズル４５からアルミナ等の加工粒子４７を吐出して、いわゆるサンドブラスト処理を行う。すると、図１１（ａ）に示すように、基材１０ｓの表面に凹凸形状が付与され、凹凸領域１０ｃが形成される。その後、上記マスク材１９を除去することにより、平坦領域１０ｆ、１０ｆと、凹凸領域１０ｃとが区画形成されたベースフィルム１０が得られる。そして、図１１（ｂ）に示すように、このベースフィルム１０の図示上面に転写膜１１及びカバーフィルム１２を順次積層すれば、本発明に係る転写フィルム１３が得られる。
また、上記サンドブラスト処理に代えて、圧子を用いた押圧加工等により基材１０ｓに対して凹凸形状を付与する製造方法も適用することができる。
【００４４】
図１１（ｂ）に示す、本製造方法により作成された転写フィルム１３では、平坦領域１０ｆ、１０ｆの高さが、凹凸領域１０ｃの凸部１０ｂよりも高くなっている。これは、図１１（ａ）に示した製造方法に起因するものであり、図１１（ｂ）に示す転写フィルム１３を、図１に示した転写フィルムに代えて用いたとしても、同等の作用効果を得ることができるのは勿論である。
【００４５】
上記基材１０ｓ表面に対してサンドブラスト処理等により直接形状を形成する方法を用いて図５〜図８に示す構成のベースフィルム１０を作製する場合には、各図に示す平坦領域１０ｆに対応する領域をマスクした状態で、上記サンドブラスト処理、あるいは圧子を用いた押圧加工等を行うことで、図５〜図８に示す構成のベースフィルム１０が得られる。この方法によれば、凹凸領域１０ｃ及び平坦領域１０ｆの区画配置が複雑な場合であっても、比較的容易に前記両領域を区画形成できるという利点が得られる。
【００４６】
［液晶表示装置］
次に、上記実施形態の液晶装置用基板を用いて構成された液晶装置の一例として、反射型液晶表示装置の構成について図１２を参照して説明する。図１２に示す反射型液晶表示装置は、対向して配置された上基板３０と、下基板２１ａとの間に、液晶層５０を挟持するとともに、シール材４０にて封止した構成を備えており、図３に示す液晶装置用基板に対して種々の構成部材の形成や上基板３０を含む基板との貼り合わせ等を行った後、１つの転写膜１１ｄに対応する領域で切断したものである。
【００４７】
係る下基板２１ａの液晶層５０側には、転写膜１１ｄと、その上面に成膜された金属反射膜１８とからなる拡散反射層２０が形成されており、この拡散反射層２０を覆って平坦化膜２２が形成され、平坦化膜２２上に平面視略ストライプ状に電極２３，…が配列形成され、これらの電極２３を覆って配向膜２４が形成されている。また上記電極２３の一端側は、シール材４０の外側まで延在しており、外部の駆動回路（図示略）と電気的に接続されるようになっている。
【００４８】
一方、上基板３０の液晶層５０側には、平面視略ストライプ状又はマトリクス状に配列されたカラーフィルタ３１と、カラーフィルタ３１を覆う平坦化膜３２とが形成されており、平坦化膜３２上に前記下基板２１ａの電極２３と略直交する向きに延在する電極３３，…が形成され、これらの電極３３を覆って配向膜３４が形成されている。上基板３０の外面側には、偏光板３７が配設されており、必要に応じて位相差板等が配設される。
【００４９】
以上の構成の液晶表示装置は、図３に示した液晶装置用基板を用いて製造されているので、同図に示す検出の容易性に優れるアライメントマーク１５，１５を利用して、反射膜１８のパターニングを効率的に行えるのは勿論のこと、金属反射膜１８上に設けられる平坦化膜２２や電極２３等の形成工程においても、先のアライメントマーク１５を利用して位置合わせを行い、各層の構成を行うことができる。さらには、上基板３０との貼り合わせに際しても、上記アライメントマーク１５を利用できるため、効率良く、かつ容易に製造することができる液晶表示装置である。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、転写フィルムの一実施形態を示す断面構成図。
【図２】図２（ａ）は、転写フィルム１３を液晶装置用のマザー基板２１に接着した状態を示す平面構成図、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示すＨ−Ｈ線に沿う断面構成図。
【図３】図３は、本発明に係る液晶装置用基板の平面構成図。
【図４】図４（ａ）は図３に示すアライメントマーク１５の平面構成図及び断面構成図、図４（ｂ）は、従来技術を用いたアライメントマークの平面構成図及び断面構成図。
【図５】図５は、転写フィルムの変形例を示す平面構成図。
【図６】図６は、転写フィルムの変形例を示す平面構成図。
【図７】図７は、転写フィルムの変形例を示す平面構成図。
【図８】図８は、転写フィルムの変形例を示す平面構成図。
【図９】図９は、図１に示すベースフィルム１０の表面形状を形成するための母型として用いられる転写ロールの概略構成図。
【図１０】図１０は、図９に示す転写ロールを用いた加工方法を説明するための概略工程図。
【図１１】図１１（ａ）は、転写ロールの他の製造方法を示す概略工程図、図１１（ｂ）は、同方法により得られる転写フィルムの断面構成図。
【図１２】図１２は、本発明に係る液晶装置用基板を用いた液晶表示装置の断面構成図。
【符号の説明】
１０  ベースフィルム（支持部材）、１０ａ  転写面、１１  転写膜、１２  カバーフィルム、１０ｆ  平坦領域、１０ｃ  凹凸領域、２１  マザー基板（基板）、１５  アライメントマーク、１８  金属反射膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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