(57)【要約】【課題】デューティ比を変更しても、良好な印字品質を得ることができるレーザマーキング装置を提供する。【解決手段】ＣＯ２レーザ１０から出射されたパルスレーザ光Ｌを、ガルバノミラー１１Ｖ，１１Ｗによって方向を変え、収束レンズ１１Ｚを介して印字対象物Ｗ上にパルスレーザ光のレーザスポットＳを形成し、印字すべき文字等の印字情報に基づきガルバノミラー１１Ｖ，１１Ｗを駆動させることで印字対象物Ｗ上に印字を行うものであって、パルスレーザ光Ｌのデューティ比を変更可能に設定するデューティ比変更手段によりパルスレーザ光Ｌのデューティ比を変更することで、前記印字対象物Ｗ上に照射させるパルスレーザ光Ｌのレーザ出力強度を調整可能とされたレーザマーキング装置において、パルスレーザ光Ｌの発振周波数等を変更可能に設定する発振周波数変更手段を備えていることを特徴とするレーザマーキング装置。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ発生手段から出射されたパルスレーザ光を、ガルバノミラーによって方向を変え、収束レンズを介して印字対象物上に前記パルスレーザ光のレーザスポットを形成し、印字すべき文字・記号・図形等の印字情報に基づき前記ガルバノミラーを駆動させることで前記印字対象物上に印字を行うものであって、
前記パルスレーザ光のデューティ比を変更可能に設定するデューティ比変更手段により前記パルスレーザ光のデューティ比を変更することで、前記印字対象物上に照射させるパルスレーザ光のレーザ出力強度を調整可能とされたレーザマーキング装置において、
前記パルスレーザ光の発振周波数を変更可能に設定する発振周波数変更手段を備えていることを特徴とするレーザマーキング装置。
【請求項２】
前記デューティ比変更手段により設定され得る各デューティ比に対応するデューティ比情報に対応付けて、前記各デューティ比のパルスレーザ光で印字を行ったときの前記印字対象物上におけるレーザスポット間隔が所定の間隔になる発振周波数が予め記憶される発振周波数記憶手段を備えて、
前記発振周波数変更手段は、前記デューティ比変更手段により設定されたデューティ比に対応する前記デューティ比情報に対応付けられた発振周波数を前記発振周波数記憶手段から読み出して設定することを特徴とする請求項１記載のレーザマーキング装置。
【請求項３】
前記印字対象物の材質に関する材質情報を取得する材質情報取得手段と、
前記デューティ比変更手段により設定され得る各デューティ比に対応するデューティ比情報、及び、前記材質情報取得手段により取得され得る各材質情報の組み合わせに対応付けて、前記各デューティ比のパルスレーザ光を前記各材質の印字対象物上に照射させて印字を行ったときのレーザスポット間隔が所定の間隔になる発振周波数が予め記憶される発振周波数記憶手段とを備えて、
前記発振周波数変更手段は、前記デューティ比変更手段によって設定されるデューティ比に対応するデューティ比情報及び材質情報取得手段により取得される材質情報の組合わせに対応する発振周波数を前記発振周波数記憶手段から読み出して設定することを特徴とする請求項１に記載のレーザマーキング装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザマーキング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ガルバノミラーを使って、レーザ光源からパルスレーザ光を印字対象物上に走査することにより、印字対象物上に印字を行うガルバノスキャニング方式のレーザマーキング装置がある。
【０００３】
ところで、このようなレーザマーキング装置で印字を行う印字対象物の材質は様々である。例えば、ガラスと樹脂とでは照射レーザ光に対する耐熱温度が異なるから、同じ文字等（彫りの深さ）を印字しようとすれば、印字対象物上の材質に応じて、レーザ光源からのパルスレーザ光のレーザ出力強度（単位時間当たりのレーザ光のエネルギー）を変える必要がある。
また、たとえ印字対象物の材質が同じであったとしても、作業者によって得ようとする印字状態（例えば印字の彫りの深さに起因する見栄え等）が異なることもある。そうした場合にも得ようとする印字状態に応じてレーザ出力強度を変える必要がある。
【０００４】
そこで、従来から、パルスレーザ光のデューティ比（パルス幅）を変更することでレーザ出力強度を変更する機能を備えたものがある（下記特許文献１参照）。このような構成であれば、例えば、材質がガラスからなる印字対象物上に印字するときのデューティ比を、材質が樹脂からなる印字対象物上に印字するときよりも高くすることにより、印字対象物の材質に応じたレーザ出力強度のパルスレーザ光で印字を行うことが可能になる。
【０００５】
【特許文献１】
特開平０７−１５４０１３号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成では、パルスレーザの発振周期を変えずにデューティ比だけを変えるものなので印字対象物上に印字したときのレーザスポット間隔が異なってくる。したがって、次のような問題が生じ得る。
【０００７】
例えば、図５（ａ）に示すように、材質がガラスの印字対象物に対して、例えばデューティ比５０％のレーザ出力強度で直線ＡＢを印字したときは、直線ＡＢ間のレーザスポットが連なるようにパルスレーザ光が照射されたとする。一方、材質が樹脂の印字対象物に印字を行うために、その材質に応じてレーザ出力強度を下げる必要がある。そこで、例えばデューティ比２０％のレーザ出力強度に下げて印字を行うと、図５（ｂ）に示すように、デューティ比が低いために、それに応じてレーザスポット間隔が開いてしまい、その結果、直線ＡＢが点線として印字されてしまうなど、印字品質が低下してしまうといった問題が生じる。
このような事態は、例えばレーザ光源自体が高出力タイプのもので、そのレーザ出力強度を低レベルに設定しようとすると、デューティ比が非常に小さくなるため、上記問題がより顕著になる。
【０００８】
また、近年、さまざまな処理時間の短縮化が図られており、例えば、印字の工程がラインに組み込まれている場合に、ラインスピード等を高速にして単位時間当たりの処理数を増やすことが行われる。このようなラインの高速化に対応するには印字速度も同様に今以上に高速化しなくてはならないが、印字速度が高速化されればされるほどやはり上記した問題は顕著になる。
【０００９】
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、レーザ出力強度を変更しても、印字品質の低下を抑制することが可能なレーザマーキング装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するための手段として、請求項１の発明に係るレーザマーキング装置は、レーザ発生手段から出射されたパルスレーザ光を、ガルバノミラーによって方向を変え、収束レンズを介して印字対象物上に前記パルスレーザ光のレーザスポットを形成し、印字すべき文字・記号・図形等の印字情報に基づき前記ガルバノミラーを駆動させることで前記印字対象物上に印字を行うものであって、前記パルスレーザ光のデューティ比を変更可能に設定するデューティ比変更手段により前記パルスレーザ光のデューティ比を変更することで、前記印字対象物上に照射させるパルスレーザ光のレーザ出力強度を調整可能とされたレーザマーキング装置において、前記パルスレーザ光の発振周波数を変更可能に設定する発振周波数変更手段を備えている構成としたところに特徴を有する。
なお、本発明にいうパルスレーザ光のレーザ出力強度は、所定の単位時間当たりに照射されるパルスレーザ光の光量のことである。
【００１１】
請求項２の発明に係るレーザマーキング装置は、請求項１に記載のものにおいて、前記デューティ比変更手段により設定され得る各デューティ比に対応するデューティ比情報に対応付けて、前記各デューティ比のパルスレーザ光で印字を行ったときの前記印字対象物上におけるレーザスポット間隔が所定の間隔になる発振周波数が予め記憶される発振周波数記憶手段を備えて、前記発振周波数変更手段は、前記デューティ比変更手段により設定されたデューティ比に対応する前記デューティ比情報に対応付けられた発振周波数を前記発振周波数記憶手段から読み出して設定するところに特徴を有する。
【００１２】
請求項３の発明に係るレーザマーキング装置は、請求項１または請求項２に記載のものにおいて、前記印字対象物の材質に関する材質情報を取得する材質情報取得手段と、前記デューティ比変更手段により設定され得る各デューティ比に対応するデューティ比情報、及び、前記材質情報取得手段により取得され得る各材質情報の組み合わせに対応付けて、前記各デューティ比のパルスレーザ光を前記各材質の印字対象物上に照射させて印字を行ったときのレーザスポット間隔が所定の間隔になる発振周波数が予め記憶される発振周波数記憶手段とを備えて、前記発振周波数変更手段は、前記デューティ比変更手段によって設定されるデューティ比に対応するデューティ比情報及び材質情報取得手段により取得される材質情報の組合わせに対応する発振周波数を前記発振周波数記憶手段から読み出して設定するところに特徴を有する。
なお、本発明の「デューティ比情報」には、デューティ比そのものだけでなく、デューティ比に定める情報であれば、例えば、そのデューティ比に対応するレーザ出力強度値等であってもよい。また、本発明の「発振周波数記憶手段」は、発振周波数に対応する発振周期を記憶するものであってもよいことは当然である。
【００１３】
【発明の作用及び効果】
＜請求項１の発明＞
本構成によれば、発振周波数変更手段により、デューティ比変更手段により現在設定されているデューティ比を維持しつつ、レーザ発生手段からのパルスレーザ光の発振周波数を変えることができる。従って、所望のレーザ出力強度を得るためにデューティ比を変更することで、印字品質が低下してしまう（例えば、印字品質に支障をきたす程度にレーザスポットの間隔が開いてしまう）ような場合でも、デューティ比を維持しつつ発振周波数を変更することで隣接するレーザスポットの間隔を調整し、良好な印字品質を得ることが可能になる。
【００１４】
＜請求項２の発明＞
本構成によれば、発振周波数記憶手段には、デューティ比を維持しつつレーザスポットが所定の間隔になる発振周波数が、各デューティ比に対応するデューティ比情報に対応付けられて予め記憶されている。そして、レーザマーキング装置が印字動作に入ると、前記発振周波数変更手段により、現在設定されているデューティ比に対応するデューティ比情報に対応付けられた発振周波数又は発振周期が読み出されて設定される。
このようにすれば、デューティ比を変更することにより、レーザ出力強度を変更した場合にも、レーザスポットが所定の間隔になる発振周波数又は発振周期が自動で設定される。したがって、所望の印字品質を得るために行われる発振周波数又は発振周期の調整工程を省略することができる。
【００１５】
＜請求項３の発明＞
請求項３の発明に係るレーザマーキング装置によれば、発振周波数記憶手段には、デューティ比を維持しつつレーザスポットが所定の間隔になる発振周波数又は発振周期が、各デューティ比に対応するデューティ比情報と印字対象物の材質情報との組合せに対応付けられて予め記憶されている。そして、レーザマーキング装置が印字動作に入ると、前記発振周波数変更手段により現在設定されているデューティ比に対応するデューティ比情報に対応する発振周波数又は発振周期が読み出されて設定される。
このようにすれば、印字対象物の材質が変わった場合や、デューティ比を変更することによりレーザ出力強度を変更した場合にも、レーザスポットが所定の間隔になる発振周波数又は発振周期が自動で設定される。したがって、所望の印字品質を得るために行われる発振周波数又は発振周期の調整工程を省略することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
＜第１実施形態＞
以下、本発明の第１実施形態を図１及び図２を参照しつつ詳細に説明する。
（１）レーザマーキング装置の全体構成
図１において、符号１０は、例えば炭酸ガス（ＣＯ２）レーザ（本発明の「レーザ発生手段」。以下、「ＣＯ２レーザ１０」という）であって、ＣＯ２レーザ１０から出射されたパルスレーザ光Ｌは、ガルバノスキャナ１１によって向きが変更されて印字対象物Ｗ上に照射される。このガルバノスキャナ１１は、一対のガルバノミラー１１Ｖ，１１Ｗと収束レンズ１１Ｚを備えており、一方のガルバノミラー１１Ｖは、駆動手段１１Ｘによって横方向に反射角度を変移させることができ、他方のガルバノミラー１１Ｗは、駆動手段１１Ｙによって縦方向に反射角度を変移させることができる。これらの駆動手段１１Ｘ，１１Ｙは後述する制御部１２からの信号を受けて動作を行い、それにより、ガルバノミラー１１Ｖ，１１Ｗの反射角度が任意の角度に変位可能となっている。
【００１７】
そして、これら両ガルバノミラー１１Ｖ，１１Ｗによりパルスレーザ光Ｌは直交する２方向において向きを調整可能とされ、その結果、収束レンズ１１Ｚを透過したパルスレーザ光ＬのレーザスポットＳが印字対象物Ｗ上のいずれの位置にも移動可能となる。なお、収束レンズ１１Ｚは例えばｆθレンズから構成されており、ガルバノミラー１１Ｖ，１１Ｗで反射されたパルスレーザ光Ｌを収束して印字対象物Ｗ上に前記パルスレーザ光ＬのレーザスポットＳを形成する機能を有する。
【００１８】
制御部１２には、例えばコンソールからなる入力設定部１３が接続されている。この入力設定部１３は、印字対象物Ｗに印字すべき文字・記号・図形等の印字情報と、所望の印字速度の情報とを入力設定できるようになっている。入力設定された印字情報と印字速度とは、制御部１２に送信され、制御部１２は、印字情報及び印字速度の情報に応じた駆動信号を駆動手段１１Ｘ，１１Ｙに与えることで、ガルバノミラー１１Ｖ，１１Ｗを回動させる。これにより、印字対象物Ｗ上において、パルスレーザ光ＬのレーザスポットＳが走査されて前記印字すべき文字等が印字される。
【００１９】
また、制御部１２は、入力された情報に基づいてＣＯ２レーザ１０に所定のオン（例えば、ハイレベル）信号と、オフ信号（例えば、ローレベル）を交互に繰り返すパルス信号を送信する。
ＣＯ２レーザ１０は、制御部１２から送信されたパルス信号のオン信号に同期して、ＣＯ２レーザ１０に備えられた図示しないＱスイッチがオン動作し、図示しないレーザ発振器内の炭酸ガスを励起し、レーザ光を出射する。また、オフ信号に同期して、Ｑスイッチがオフ動作し、レーザ光の出射を停止させる。
このような構成により、制御部１２からのパルス信号のオンオフ信号に応じたパルスレーザ光ＬがＣＯ２レーザ１０から出射されることになる。
【００２０】
（２）レーザ出力強度を変えるための構成
入力設定部１３は、レーザ出力強度を所定の範囲内で指定できるようになっている。制御部１２は、入力設定部１３で指定されたレーザ出力強度に応じた信号を受けて、これに対応するデューティ比を算出する。そして、制御部１２は、この算出されたデューティ比のパルス信号をＣＯ２レーザ１０に送信する。したがって、入力設定部１３でのレーザ出力強度の指定を変更することで、ＣＯ２レーザ１０からのパルスレーザ光Ｌのデューティ比を変えて、レーザ出力強度を変えることができる。このとき、制御部１２は、本発明の「デューティ比変更手段」として機能する。
【００２１】
（３）パルスレーザ光Ｌの発振周波数（発振周期）を変えるための構成
さて、本実施形態において、入力設定部１３には、発振周波数（又は発振周期）を所定の範囲内で指定できるようになっている。制御部１２は、入力設定部１３で指定された発振周波数（又は発振周期）に応じた信号を受けて、入力設定部１３にて指定されたレーザ出力強度に対応する上記デューティ比であって、かつ、入力設定部１３にて指定された発振周波数（又は発振周期）のパルス信号をＣＯ２レーザ１０に送信する。したがって、入力設定部１３での発振周波数（発振周期）の指定を変更することで、ＣＯ２レーザ１０からのパルスレーザ光Ｌの発振周波数（発振周期）を変えることができる。このとき、制御部１２は、本発明の「発振周波数変更手段」として機能する。
【００２２】
（４）レーザマーキング装置の動作
次に、レーザマーキング装置の動作について説明する。
まず、作業者は、レーザマーキング装置の電源をオンする。そして、レーザマーキング装置が起動したら、入力設定部１３に印字したい文字・記号・図形等の印字情報、所望の印字速度及びレーザ出力強度を指定する。なお、ここでは、印字対象物Ｗ上に直線ＡＢを印字する場合を例に挙げて説明する。
【００２３】
ここで、レーザ出力強度は、印字対象物Ｗの材質に応じたレーザ出力強度のパルスレーザ光ＬがＣＯ２レーザ１０から出射されるように指定する。例えば、印字対象物Ｗの材質がガラスの場合には、ある程度高いレーザ出力強度Ｐ１を指定する。このとき、図２（ａ）のように、例えばデューティ比６０％のレーザ出力強度のパルスレーザ光ＬがＣＯ２レーザ１０から出射され、印字対象物Ｗ上にレーザスポットＳが連なる直線ＡＢが印字される。なお、このとき、パルスレーザ光Ｌの発振周波数はｆ１［Ｈｚ］とする。
【００２４】
一方、例えば印字対象物Ｗの材質が樹脂の場合には、入力設定部１３にてある程度低いレーザ出力強度Ｐ２（＜Ｐ１）を指定する。このとき、例えばデューティ比２０％のレーザ出力強度のパルスレーザ光ＬがＣＯ２レーザ１０から出力されたとする。これにより、印字対象物Ｗに対して、その材質（樹脂）に応じた低いレーザ出力強度のパルスレーザ光Ｌを照射させることができる。
しかしながら、図２（ｂ）に示すように、印字対象物Ｗの材質がガラスの場合に比べてデューティ比が低いため、その分だけ印字対象物上のレーザスポットＳ間隔が開いてしまい、その結果、直線ＡＢが点線として印字されてしまうことがある。
【００２５】
このように、印字品質に支障をきたす程度にレーザスポットＳの間隔が開いてしまった場合には、作業者は再び入力設定部１３にて発振周波数をやや高い発振周波数ｆ２［Ｈｚ］（＞ｆ１［Ｈｚ］）に指定し直す。すると、制御部１２からは、入力設定部１３にて現在指定されているレーザ出力強度に応じたデューティ比であって、かつ、上記発振周波数ｆ２［Ｈｚ］に応じたパルス信号がＣＯ２レーザ１０に送信される。これにより、図２（ｃ）に示すように、ＣＯ２レーザ１０からは、デューティ比２０％で、かつ発振周波数がｆ２［Ｈｚ］のパルスレーザ光Ｌが出射されるようになる、即ち、パルスレーザ光Ｌの出力強度を維持しつつ、印字対象物Ｗ上のレーザスポットＳ間隔を狭めることができる。従って、入力設定部１３にて徐々に高い発振周波数を設定し直していくことで、レーザスポットＳ間隔を、印字品質に支障をきたさない程度に調整することができる。
【００２６】
（５）本実施形態の効果
以上のように、本実施形態では、入力設定部１３にて発振周波数の指定を変更することにより、現在指定されているレーザ出力強度に対応するデューティ比を維持しつつ、ＣＯ２レーザ１０からのパルスレーザ光Ｌの発振周波数を変えることができる。従って、所望のレーザ出力強度を得るためにデューティ比を変更することで、印字品質が低下してしまう（例えば、印字品質に支障をきたす程度にレーザスポットＳの間隔が開いてしまう）ような場合でも、デューティ比を維持しつつ発振周波数を変更することで隣接するレーザスポットＳの間隔を調整し、良好な印字品質を得ることが可能になる。なお、本実施形態にいうパルス信号のオン信号とオフ信号は、ＣＯ２レーザ１０からのパルスレーザ光Ｌのデューティ比と発振周波数とから定められるオン信号とオフ信号とをいう。したがって、ＣＯ２レーザ１０にパルスレーザ光Ｌの出射動作を行わせる出射開始信号と、パルスレーザ光Ｌの出射動作を停止させる出射停止信号との出力タイミングに対して、デューティ比や発振周波数を変更するわけではない。
【００２７】
＜第２実施形態＞
第２実施形態（請求項２の発明に対応する）について図１及び図３を参照しつう説明する。第２実施形態は、上記第１実施形態に対して、図１において点線で示された記憶部１４が設けられ、それに対応して制御部１２の動作が一部が異なり、その他の点は前記第１実施形態と同様である。従って、第１実施形態と同一符号を付して詳細な説明を省略し、異なるところのみを次に説明する。
【００２８】
図３には、上記記憶部１４（本発明の「発振周波数記憶手段」に相当）のデータ構造が示されている。具体的には、記憶部１４は、レーザ出力強度領域１５と、発振周波数領域１６とを有している。このうち、レーザ出力強度領域１５には、上記入力設定部１３にて指定可能な複数のレーザ出力強度値（ａ，ｂ・・・）（本発明の「デューティ比情報」に対応する）が記憶され、発振周波数領域１６には、これに対応する複数の発振周波数（ｆ１［Ｈｚ］，ｆ２［Ｈｚ］・・・）（又は発振周期（Ｔ１［ｓ］，Ｔ２［ｓ］・・・））が記憶されている。これらの発振周波数は、例えば、対応する各レーザ出力強度を指定して印字を行った場合に、印字対象物Ｗ上におけるパルスレーザ光ＬのレーザスポットＳ間隔が最適な間隔（本発明でいう「所定の間隔」に相当。例えば、印字品質に支障をきたさない程度の間隔）となる発振周波数である。なお、これらは、例えば上記第１実施形態のレーザマーキング装置を用いて、各レーザ出力強度で印字を行いつつ入力設定部１３における発振周波数の指定を適宜調整し、レーザスポットＳ間隔が上記最適な間隔となったときの発振周波数を検知することにより実験的に求めることができる。
【００２９】
制御部１２は、入力設定部１３で指定されたレーザ出力強度に応じた信号を受けると、それに対応するデューティ比を算出するとともに、上記レーザ出力強度に対応付けられた発振周波数を記憶部１４から読み出す。そして、制御部１２は、これらのデューティ比及び発振周波数を満たすパルス信号をＣＯ２レーザに送信する。これにより、入力設定部１３で指定したレーザ出力強度に対応するデューティ比で、かつ、レーザスポットＳ間隔を最適な間隔とする発振周波数のパルスレーザ光Ｌを、ＣＯ２レーザ１０から出射させることができる。
このような構成であれば、レーザ出力強度を変更した場合にも、レーザスポットＳが最適な間隔になる発振周波数（又は発振周期）が自動で設定される。したがって、所望の印字品質を得るために行われる発振周波数の調整工程を省略することができる。
【００３０】
＜第３実施形態＞
第３実施形態（請求項３の発明に対応する）について図１及び図４を参照しつう説明する。第３実施形態は、上記第１実施形態に対して、図１において点線で示された記憶部１４が設けられ、入力設定部１３は印字対象物Ｗの材質情報を入力可能とされ、それらに対応して制御部１２の動作が一部が異なり、その他の点は前記第１実施形態と同様である。従って、第１実施形態と同一符号を付して詳細な説明を省略し、異なるところのみを次に説明する。
【００３１】
図４には、上記記憶部１４（本発明の「発振周波数記憶手段」に相当）のデータ構造が示されている。具体的には、記憶部１４は、材質情報領域１７と、レーザ出力強度領域１８と、発振周波数領域１９とを有している。このうち、材質情報領域１７には印字対象物Ｗの材質情報（ガラス，樹脂・・・）が記憶され、レーザ出力強度領域１８には、各材質に対して上記入力設定部１３にて指定可能な複数のレーザ出力強度値（ａ，ｂ・・・）（本発明の「デューティ比情報」に対応する）が記憶されている。また、発振周波数領域１９には、各材質と各レーザ出力強度の組合せに対応する複数の発振周波数（ｆ１［Ｈｚ］，ｆ２［Ｈｚ］・・・）（又は発振周期（Ｔ１［ｓ］，Ｔ２［ｓ］・・・））が記憶されている。これらの発振周波数は、例えば、対応する各材質及び各レーザ出力強度を指定して印字を行った場合に、印字対象物Ｗ上におけるパルスレーザ光ＬのレーザスポットＳ間隔が最適な間隔（本発明でいう「所定の間隔」に相当。例えば、印字品質に支障をきたさない程度の間隔）となる発振周波数である。なお、これらは、例えば上記第１実施形態のレーザマーキング装置を用いて、各材質及びそれらの材質に応じた各レーザ出力強度で印字を行いつつ入力設定部１３における発振周波数の指定を適宜調整し、レーザスポットＳ間隔が上記最適な間隔となったときの発振周波数を検知することにより実験的に求めることができる。
【００３２】
まず、材質情報を入力設定部１３で指定する。
制御部１２は、入力設定部１３で指定された材質情報とレーザ出力強度の組合せに応じた信号を受け、レーザ出力強度に対応するデューティ比を算出するとともに、上記材質情報とレーザ出力強度の組合せに対応付けられた発振周波数を記憶部１４から読み出す。そして、制御部１２は、これらのデューティ比及び発振周波数を満たすパルス信号をＣＯ２レーザに送信する。これにより、入力設定部１３で指定した材質情報に応じて指定したレーザ出力強度に対応するデューティ比で、かつ、レーザスポットＳ間隔を最適な間隔とする発振周波数のパルスレーザ光Ｌを、ＣＯ２レーザ１０から出射させることができる。
【００３３】
このような構成であれば、印字対象物Ｗの材質を変更する場合でも、その材質情報を指定し、それに応じたレーザ出力強度とすることで、レーザスポットＳが最適な間隔になる発振周波数（又は発振周期）が自動で設定される。したがって、所望の印字品質を得るために行われる発振周波数の調整工程を省略することができる。
【００３４】
＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれ、さらに、下記以外にも要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。
（１）上記各実施形態では、入力設定部１３としてコンソールを例示したが、パソコン等の端末から入力する構成としてもよい。
（２）上記各実施形態では、レーザ出力強度を指定することで、そこから所望のレーザ出力強度のパルスレーザ光Ｌが得られたが、デューティ比を入力設定部１３から直接設定することで、所望のレーザ出力強度のパルスレーザ光Ｌが得る構成としてもよい。
（３）上記各実施形態では、レーザ光源としてＣＯ２レーザ１０を用いたが、これに限らず、他のレーザ光源でもよい。例えば、レーザ光源としてＹＡＧレーザ光源を用いてもよい。
【００３５】
（４）上記第２実施形態及び第３実施形態では、制御部１２とは別に記憶部１４を設ける構成としたが、これに限らず、制御部１２内に記憶部を設ける構成としてもよい。
（５）上記第３実施形態では、印字対象物Ｗの材質とレーザ出力強度との組合せに対応付けた発振周波数についてのデータが記憶部１４に記憶される構成としたが、これらと対応付けて、さらに印字速度についてのデータを加える構成としてもよい。また、これら全てと対応付けなくても、デューティ比情報と印字対象物Ｗの材質と発振周波数とのデータのいずれかと対応付けた印字速度のデータを設ける構成としてもよい。
【００３６】
（６）上記第３実施形態では、各材質ごとにレーザ出力強度が指定可能とし、それに対応するデューティ比情報対応した複数の発振周波数が記憶部１４に記憶されたが、これに限らず、各材質に対応したデューティ比情報を一つとし、印字対象物Ｗの材質を設定すると自動的に発振周波数が定まる構成としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】レーザマーキング装置の概念図
【図２】パルス信号波形とレーザスポットの関係を示す図
【図３】第２実施形態におけるレーザ出力強度に応じた発振周波数との関係を示すデータ構造図
【図４】第３実施形態における材質とレーザ出力強度とこれらの組合せに応じた発振周波数との関係を示すデータ構造図
【図５】パルス信号波形とレーザスポットの関係を示す図
【符号の説明】
１０…ＣＯ２レーザ（レーザ発生手段）
１１Ｖ，１１Ｗ…ガルバノミラー
１１Ｚ…収束レンズ
１２…制御部
１３…入力設定部
１４…記憶部
１５，１８…レーザ出力強度領域
１６…発振周波数領域
１７…材質情報領域
１９…発振周波数領域
ｆ…発振周波数
Ｔ…発振周期
Ｌ…パルスレーザ光
Ｓ…レーザスポット
Ｗ…印字対象物
【図１】
2004322193.tif 000003
【図２】
2004322193.tif 000004
【図３】
2004322193.tif 000005
【図４】
2004322193.tif 000006
【図５】
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