(57)【要約】【課題】有機膜に異なる２本の紫外線レーザービームを同時あるいは順次照射することにより、なだらかなスロープ形状の断面形状を得る。【解決手段】有機材料薄膜からなる有機膜１１をレーザービーム照射によりパターニングする有機膜のレーザー加工方法において、レーザービームとして異なる２本の紫外線レーザービーム１、２を用い、その２本の紫外線レーザービーム１、２を走査して中心間で位置ずれΔのある２本の線状パターンに同時に又は順次照射することによって、２本の紫外線レーザービーム１、２によって加工された有機膜１１の断面形状２４をスロープ状に形成する有機膜のレーザー加工方法。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機材料薄膜からなる有機膜をレーザービーム照射によりパターニングする有機膜のレーザー加工方法において、前記レーザービームとして異なる２本の紫外線レーザービームを用い、その２本の紫外線レーザービームを走査して中心間で位置ずれのある２本の線状パターンに同時に又は順次照射することによって、前記２本の紫外線レーザービームによって加工された前記有機膜の断面形状をスロープ状に形成することを特徴とする有機膜のレーザー加工方法。
【請求項２】
前記レーザービームとして、中心にピーク強度を持ち半径方向に強度が減少していく強度分布のレーザービームを用いることを特徴とする請求項１記載の有機膜のレーザー加工方法。
【請求項３】
前記２本の紫外線レーザービームの走査によって照射される２本の線状パターンの中心間の位置ずれ量が、各紫外線レーザービームの走査によって照射される照射量分布と加工のしきい値に基づいて決まる各々の加工線幅を足し合わせた量の２分の１以下に設定されていることを特徴とする請求項１又は２記載の有機膜のレーザー加工方法。
【請求項４】
前記２本の紫外線レーザービームの照射量分布が相互に異なることを特徴とする請求項１から３の何れか１項記載の有機膜のレーザー加工方法。
【請求項５】
前記２本の紫外線レーザービームの一方の照射量のピーク値が前記有機膜を貫通しない量であり、他方の照射量のピーク値が前記有機膜を貫通する量であることを特徴とする請求項４記載の有機膜のレーザー加工方法。
【請求項６】
前記有機材料が液晶材料であることを特徴とする請求項１から５の何れか１項記載の有機膜のレーザー加工方法。
【請求項７】
前記有機材料がコレステリック液晶材料であることを特徴とする請求項６記載の有機膜のレーザー加工方法。
【請求項８】
請求項６又は７において、前記レーザービームの波長が２６６ｎｍであることを特徴とする有機膜のレーザー加工方法。
【請求項９】
請求項１から８の何れか１項記載の有機膜のレーザー加工方法により断面が加工された有機膜を構成部材として含むことを特徴とする画像表示体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機膜のレーザー加工方法に関し、特に、液晶表示装置等のディスプレイ装置で用いられる光学素子の製造方法に係り、とりわけ、光学素子として用いられる液晶層のパターニング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
まず、本明細書中において、「液晶層」という用語は、光学的に液晶の性質を有する分子から構成される層という意味で用い、層の状態としては、流動性のある液晶相の状態の他、オリゴマー又はポリマーからなる固化された固相の状態のものも含み、さらに、液晶相の持つ分子配列を保っているものばかりでなく、等方性の相構造を持つ場合も含む。ただし、本発明の加工方法の対象の有機膜に属する液晶層は、流動状態でなく固定状態にあるものを意味する。
【０００３】
ディスプレイパネル用途に用いられる有機膜は、一般に、シール部分の除去、スルーホール加工、画素パターニング等、支持基板全面への成膜ではなく、所望のパターンにパターニングすることが必要である。
【０００４】
このような有機膜のパターニング方法としては、フォトリソグラフィによるものが一般的であり、さらに、切削やサンドブラスト等による方法がとられていた。
【０００５】
また、特許文献１、特許文献２では、レーザーによる有機膜の加工方法が提案されている。
【０００６】
また、特許文献３では、アッテネータでレーザービームのエネルギー密度を変化させることで有機膜に掘り込まれる内壁のテーパー角度を制御する方法が提案されている。
【０００７】
さらには、レーザーを斜めから照射し、断面形状を斜めに加工する方法も提案されている。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００２−２９６４１９号公報
【０００９】
【特許文献２】
特開２００２−２９６４２０号公報
【００１０】
【特許文献３】
特開平１１−２６８１２１号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上記の従来のフォトリソグラフィによる方法では、材料が特殊であり、フォトリソグラフィに適さない物や、現像等のウエット工程で溶剤に接触することにより有機膜の性能を損なうような物、例えばＥＬ材料や液晶材料はパターニングを行うことができなかった。
【００１２】
また、カッター等の切削方法では、有機層が除去された端面にバリが出やすく、残された有機層がガラス基板等から剥がれやすい状態になるという問題がある。
【００１３】
また、レーザー光による方法では、カッター等の切削方法の問題は解決するが、レーザー光による加工は、加工断面がフォトリソグラフィによる方法に比べ垂直に立ちやすく、ディスプレイパネル等の薄膜を多層に積層する構成の場合、パターニングされた有機膜上に、さらに別の有機膜を形成する際に、上層が均一に塗布されなかったり、膜厚に段差ができたりする問題があった。また、パターン断面で上層の膜厚が変化することにより、例えばオーバーコート層等の特性が低下する問題も発生する。
【００１４】
斜め照射によるレーザー加工の場合、スロープ形状を形成することはできるが、スロープを形成できるのは片側だけであり、例えば四角枠状に加工した場合、４辺にスロープを形成しようとすれば、基板か若しくはレーザー照射ユニット自体を回転させなければならず、ディスプレイ用途等で加工精度が必須となる場合に精度が保証できず、不適である。
【００１５】
また、特許文献３のアッテネータでレーザービームのエネルギー密度を変化させることで有機膜に掘り込まれる内壁のテーパー角度を制御するとしているが、そのメカニズムが不明であるばかりでなく、レーザー出力を変化させてもテーパー角度は大きく変化できない。
【００１６】
本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、有機膜に異なる２本の紫外線レーザービームを同時あるいは順次照射することにより、なだらかなスロープ形状の断面形状を得るようにすることである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の有機膜のレーザー加工方法は、有機材料薄膜からなる有機膜をレーザービーム照射によりパターニングする有機膜のレーザー加工方法において、前記レーザービームとして異なる２本の紫外線レーザービームを用い、その２本の紫外線レーザービームを走査して中心間で位置ずれのある２本の線状パターンに同時に又は順次照射することによって、前記２本の紫外線レーザービームによって加工された前記有機膜の断面形状をスロープ状に形成することを特徴とする方法である。
【００１８】
この場合、そのレーザービームとして、中心にピーク強度を持ち半径方向に強度が減少していく強度分布のレーザービームを用いることが望ましい。
【００１９】
まが、２本の紫外線レーザービームの走査によって照射される２本の線状パターンの中心間の位置ずれ量が、各紫外線レーザービームの走査によって照射される照射量分布と加工のしきい値に基づいて決まる各々の加工線幅を足し合わせた量の２分の１以下に設定されていることが望ましい。
【００２０】
また、２本の紫外線レーザービームの照射量分布が相互に異なることが望ましい。その場合に、２本の紫外線レーザービームの一方の照射量のピーク値が有機膜を貫通しない量であり、他方の照射量のピーク値が有機膜を貫通する量であることが望ましい。
【００２１】
また、その有機材料が液晶材料である場合にも適用でき、その有機材料としては例えばコレステリック液晶材料がある。
【００２２】
この有機材料が液晶材料の場合に、レーザービームの波長は例えば２６６ｎｍとすることができる。
【００２３】
なお、本発明は、以上の加工方法により断面が加工された有機膜を構成部材として含む画像表示体を含むものである。
【００２４】
本発明の有機膜のレーザー加工方法においては、レーザービームとして異なる２本の紫外線レーザービームを用い、その２本の紫外線レーザービームを走査して中心間で位置ずれのある２本の線状パターンに同時に又は順次照射することによって、その２本の紫外線レーザービームによって加工された有機膜の断面形状をスロープ状に形成するので、有機膜の断面形状は２本の紫外線レーザービームの照射量分布、位置ずれを任意に組み合わせることで所望のスロープ形状を得ることができる。また、有機膜の断面形状をなだらかなスロープ形状にすることができ、パターニングされた有機膜上にさらに別の有機膜を施す場合にも、各層において良質な膜を成膜することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の有機膜のレーザー加工方法の原理と実施例について説明する。
【００２６】
液晶層のような有機材料薄膜に強いレーザービームを照射してレーザー加工する場合、大きく分けて赤外線による加工と紫外線による加工があり、前者においては有機材料の分子結合の熱解離等が、また、後者により光解離等が起こり、有機材料薄膜が加工される。
【００２７】
ここで、例えば波長２６６ｎｍの紫外線レーザービームでは、有機材料のＣ−Ｈ結合、Ｃ−Ｃ結合を切ることが可能で、多くの有機材料が直接解離する。  光解離の速度は、本来紫外線照射量に比例するが、レーザ出力が非常に低い領域では解離物の除去が困難であり、低いレベルであるがしきい値がある。  したがって、紫外線レーザービームを用いたレーザー加工においては、低レベルの加工のしきい値を越えた照射量のレーザービームが入射すると、そのしきい値を越えた照射量に略比例した加工量が得られる。すなわち、紫外線レーザービームを用いて有機物薄膜（有機膜）を加工する場合には、加工形状は照射されたレーザービームの強度分布形状と略相似形で若干裾が切れた形で進行することになる。
【００２８】
そこで、本発明においては、異なる２本の紫外線レーザービームを用い、加工対象の有機膜にその２本の紫外線レーザービームを走査して中心間で位置ずれのある２本の線状パターンに同時に又は順次照射することによって、任意の形状のなだらかなスロープ状の断面形状を得るようにするものである。これが本発明の有機膜のレーザー加工方法の加工メカニズムである。
【００２９】
そして、本発明においては、紫外線レーザービームとして、中心にピーク強度を持ち半径方向に強度が減少していくガウス分布のような強度分布のレーザービームを用いる。
【００３０】
なお、２本の紫外線レーザービームの走査によって照射される２本の線状パターンの中心間の位置ずれ量は、各紫外線レーザービームの走査によって照射される照射量分布と加工のしきい値に基づいて決まる各々の加工線幅を足し合わせた量の２分の１以下に設定されていることが、なだらかなスロープ状の断面形状を得るために望ましい。
【００３１】
また、２本の紫外線レーザービームの照射量分布は相互に異なるものであることが、任意の形状のなだらかなスロープ状の断面形状を得る上で望ましい。
【００３２】
また、後記の実施例のように、例えば、２本の紫外線レーザービームの一方の照射量のピーク値が加工対象の有機膜を貫通しない量であり、他方の照射量のピーク値がその有機膜を貫通する量であると、なだらかなスロープ状の断面形状を得る上で望ましい。
【００３３】
なお、本発明で用いる中心にピーク強度を持ち半径方向に強度が減少していくガウス分布のような強度分布の紫外線レーザービームとしては、レーザービームを集光する集光光学系として適当な量の球面収差が残留している光学系を用いる等、種々の方法で形成することができる。
【００３４】
次に、図１を参照にして、本発明の有機膜のレーザー加工方法について説明する。図１は後記の実施例１を説明するための図であり、図１（ａ）〜（ｃ）は何れも紫外線レーザービーム１、２の走査方向に直交する断面図であり、加工対象として基板１０の上に液晶層のような所定厚の有機膜１１を成膜したものを対象とする。図１（ａ）は、その有機膜１１に対して、中心にピーク強度を持ち半径方向に強度が減少していく第１の紫外線レーザービーム１を線状に走査して照射する場合を示す図であり、この第１の紫外線レーザービーム１の照射により、有機膜１１には加工線幅Ｗ１  で第１の紫外線レーザービーム１の照射量分布に対応した深さ分布の第１の溝２１が形成されるが、第１の紫外線レーザービーム１の照射量のピーク値は有機膜１１を貫通しない比較的小さい値であるので、第１の溝２１は基板１０まで達しない。しかも、その加工線幅Ｗ１  は比較的大きいため、第１の溝２１の断面のスロープの上部の傾きは小さななだらかなものとなる。
【００３５】
これに対して、図１（ｂ）は、その有機膜１１に対して、中心にピーク強度を持ち半径方向に強度が減少していく第１の紫外線レーザービーム１とは分布が異なる第２の紫外線レーザービーム２を線状に走査して照射する場合を示す図であり、この第２の紫外線レーザービーム２の照射により、有機膜１１には加工線幅Ｗ２  で第２の紫外線レーザービーム２の照射量分布に対応した深さ分布の第２の溝２２が形成されるが、第２の紫外線レーザービーム２の照射量のピーク値は有機膜１１をわずかに貫通する比較的大きな値であるので、第２の溝２２は基板１０まで達するが、第２の溝２２の断面のスロープの下部の傾きは小さななだらかなものとなる。なお、図１（ｂ）中に破線で示したのは、第１の紫外線レーザービーム１の照射で形成された第１の溝２１の輪郭である。
【００３６】
このような第１の紫外線レーザービーム１の照射による第１の溝２１と、第２の紫外線レーザービーム２の照射による第２の溝２２とを同時に、あるいは、第１の紫外線レーザービーム１を照射した後第２の紫外線レーザービーム２を照射すると、図１（ｃ）に示したような加工溝２３が形成される。その際、第１の紫外線レーザービーム１の照射による第１の溝２１の中心と、第２の紫外線レーザービーム２の照射による第２の溝２２の中心との間には、位置ずれΔ（図１（ｂ））が存在するように、紫外線レーザービーム１、２の照射位置を選択する。そのため、加工溝２３の断面は図１（ｃ）に示すように左右非対称となり、その加工溝２３の第１の紫外線レーザービーム１の照射側の断面２４の上部形状は主として第１の紫外線レーザービーム１の強度分布の裾の形状で決まるものであり、また、加工溝２３の第１の紫外線レーザービーム１の照射側の断面２４の下部（基板１０側）形状は主として第２の紫外線レーザービーム２の強度分布のピーク近傍の形状で決まるものであり、何れも傾きが小さななだらかなものとすることができる。
【００３７】
なお、加工溝２３の第２の紫外線レーザービーム２の照射側の断面２５は、第２の紫外線レーザービーム２の照射量分布全体の形状で略決まるものであり、この例では比較的傾きが大きい。しかし、通常この断面２５側の残った有機膜部分１１’は除去するので問題はない。
【００３８】
このように、本発明の有機膜のレーザー加工方法においては、一方の紫外線レーザービーム１の照射で、有機膜パターン端部２４の上部のスロープ形状の傾斜を形成し、他方の紫外線レーザービーム２の照射で、その下部のスロープ形状の傾斜を形成するようにしているので、パターニングされた有機膜１１上にさらに別の有機膜を施す場合にも、均一に塗布できなかったり、膜厚に段差ができる問題や、パターン断面で上層の膜厚が変化することにより特性が低下する問題の発生を防ぐことができる。
【００３９】
なお、１個の紫外線レーザービームの照射でパターン端部全体の形状を制御しようとすると、上部のスロープはある程度なだらかにすることは可能であるが、下部の方は除去エリアにある有機膜を完全に除去しなければならないので、ある程度の照射エネルギーが必要となるため、急斜面になりやすい。
【００４０】
スロープの加工を２本の異なる紫外線レーザービームを用いて加工することにより、パターン端部上部、下部共なだらかな形状を得ることができ、この形状により有機膜の膜厚の急激な変化を防ぐことができるため、上記のように、上層への不具合を解消することが可能となる。
【００４１】
なお、図１で説明したように、一方の紫外線レーザービーム１の照射量は小さく、他方の紫外線レーザービーム２の照射量は大きくすることが好ましい。
【００４２】
さらには、一方の紫外線レーザービーム１の照射量では、有機膜１１を基板１０まで完全に貫通させずに、浅い溝２１をあける程度（凹部形成）に留めておき、照射位置を位置ずれΔだけずらして他方の紫外線レーザービーム２を照射するようにするのがよい。他方の紫外線レーザービーム２による加工では、基板１０が露出する程度の照射量で照射するのがよい。なお、位置ずれ量Δは、溝２１、２２、２３の加工形状、加工線幅Ｗ１  、Ｗ２  、有機膜１１を構成する有機材料により変わってくるので、適宜調整するのがよい。
【００４３】
なお、本発明において、２本の異なる紫外線レーザービーム１、２の照射順序は、何れか先でもよく、あるいは、同時に照射するようにしてもよい。
【００４４】
本発明の有機膜のレーザー加工方法により得られるスロープ形状としては、フォトリソグラフィで得られるなだらかな形状と同様な形状を得ることができるので、例えばディスプレイパネル製造工程においても、何ら不具合も生じない。さらに、任意の断面形状の設計が可能となり、部材としてニーズに合った形状を実現することができる。
【００４５】
次に、本発明で対象とする有機膜について説明しておく。
【００４６】
有機膜としては、有機膜単体のものや、支持基材を伴うもの、又は、複数の部材を積層したもの等がある。具体的には、基材上に成膜されアクリル樹脂等が用いられるオーバーコート層、液晶分子からなる位相差層を有する偏光素子、コレステリック液晶層を有する偏光分離素子等の偏光層や、ＥＬディスプレイで用いられる発光層等があげられ、さらに、それら有機膜が複数積層されたものや、カラーフィルターを付与したもの、位相差板や直線偏光板を組み合わせたもの等がある。
【００４７】
また、本発明で対象とする有機膜の１つとしての液晶層について説明しておく。
【００４８】
液晶性を示す分子からなる層であれば特に制限ないが、偏光素子の安定性、その上に保護層を成膜することから、流動性のないものを対象とする。さらには、オリゴマーやポリマー等の重合性のある分子層であることが好ましい。液晶層の相状態としては、偏光素子の機能により異なるが、等方相、ネマチック相、スメクチック相、コレステリック相であったり、また、軸方向もプラーナー配向、垂直配向でも如何なる状態でもよく、さらに、面内で複数の相状態を持つ場合でもよい。
【００４９】
中でも、円偏光分離層として利用されるコレステリック液晶層としては、グランジャン配向により入射光を左右の円偏光に分離する機能を有するものを用いる。コレステリック液晶層は液晶配向性を付与する共役性の直鎖状分子を有するものが用いることができ、モノマー、オリゴマー、ポリマー何れでもよいが、保持基材等を用いずに安定してフィルム状に形成する場合、オリゴマー又はポリマー等が好ましい。また、コレステリック液晶層は中心選択反射波長が異なる、すなわち螺旋ピッチが異なる複数の層を積層したものでもよく、また、１層の中で螺旋ピッチが可変しているものでもよい。コレステリック液晶としては、例えば、メソゲン基を結合した構造を有するポリエステル系、ポリアミド系、ポリアクリレート系等があげられ、必要に応じカイラル剤と呼ばれるキラル成分を有する化合物が混合される。円偏光分離層はそれ単体で用いることもできるし、層形成の際に用いた支持基板と共に用いることもできる。支持基板としては、光学的に等方性であるものは特に限定なく用いることができ、ガラス等が一般的である。延伸フィルム等の異方性があるものは、その支持体自体を光が透過するときに偏光状態を変化させてしまうので好ましくはないが、支持体自体が位相差量を設計されたものであれば問題はない。
【００５０】
次に、有機膜の支持基材について説明しておく。
【００５１】
有機膜の支持基材としては、ディスプレイに多く使われることから、透明な素材が好ましいが、鏡面反射を有するものや、拡散反射を有するもの等、特に限定はない。透明基材としては、ガラス基板が最も適切である。フィルム基材の場合、偏光素子に用いるということから、フィルム基材自体の位相差作用に注意する必要があるが、その性質を考慮した光学的な設計がなされていれば問題はない。
【００５２】
次に、本発明による有機膜のレーザー加工方法の実施例について説明する。
【００５３】
実施例１
図１に示すように、１００ｍｍ□のガラス基板１０上に、ネマチック液晶層１１を１５μｍ厚で配向させて成膜した液晶膜基板を準備した。この液晶膜基板は、ガラス基板全面に液晶層が成膜されている。
【００５４】
このような液晶膜基板の液晶層１１側に、図２（ａ）に示すような照射量分布の第１の紫外線レーザービーム１を加工線幅Ｗ１  ：２００μｍで照射した（図２（ａ）、（ｂ）において、照射量は、それぞれ独立に液晶層１１に照射したときに下地の基板１０が露出する照射量を１００とした相対値で表してある。）。ここで、加工線幅Ｗ１  は、照射量分布と加工対象の液晶層１１の加工のしきい値とで決まる幅であり、液晶層１１に実際に加工される線幅である。このような照射量分布と加工線幅の第１の紫外線レーザービーム１の照射により、図１（ａ）に示すように、照射部分のピーク部分で液晶膜１１を膜厚が約半分になるところまで加工し、凹部（第１の溝）２１を形成した。このときの紫外線レーザービーム１としては、ＹＡＧレーザーのＦＨＧ（第４高調波）変換の波長２６６ｎｍ（出力：５０ｍＷ）を使用した。この第１の紫外線レーザービーム１による線加工パターンは、１辺が６ｃｍの正方形（四角枠）とした。
【００５５】
次に、上記の第１の紫外線レーザービーム１による加工線２１の外側に、図１（ｂ）に示すように、ビーム中心間の位置ずれΔ：７０μｍの位置に第１の紫外線レーザービーム１による四角枠より一回り大きい四角枠に第２の紫外線レーザービーム２を加工線幅Ｗ２  ：１００μｍで照射した。図１（ｂ）には、上記液晶膜基板の液晶層１１側に第２の紫外線レーザービーム２だけを照射したときに液晶膜１１に形成される凹部（第２の溝）２２の断面を図示してあり、その第２の紫外線レーザービーム２の照射量分布は図２（ｂ）に示す。図２（ｂ）から明らかなように、第２の紫外線レーザービーム２の照射量は、照射部の中心部分で基板１０が露出する大きさであり、以上の第１の紫外線レーザービーム１と第２の紫外線レーザービーム２の中心間でΔ：７０μｍの位置ずれをした照射の結果、図１（ｃ）に示すように、基板１０が露出した断面が左右非対称の加工溝２３が形成された。なお、第２の紫外線レーザービーム２としては、ＹＡＧレーザーのＦＨＧ変換の波長２６６ｎｍ（出力：５０ｍＷ）で、加工線幅Ｗ２  ：１００μｍで照射した。
【００５６】
次に、四角枠の加工溝２３の外周部に残った不要の液晶膜部分１１’を剥離し、これにより液晶膜１１の基板外周部を除去してパターニングされ、かつ、液晶膜１１の端部が立ち上がり角２５°で滑らかなスロープ形状を有する液晶膜１１が作製された。
【００５７】
実施例２
実施例２の図１及び図２と同様の図をそれぞれ図３及び図４に示す。
【００５８】
図３に示すように、１００ｍｍ□のガラス基板１０上に、ネマチック液晶層１１を１５μｍ厚で配向させて成膜した液晶膜基板を準備した。この液晶膜基板は、ガラス基板全面に液晶層が成膜されている。
【００５９】
このような液晶膜基板の液晶層１１側に、図４（ａ）に示すような照射量分布の第１の紫外線レーザービーム１を加工線幅Ｗ１  ：１００μｍで照射した。このような照射量分布と加工線幅の第１の紫外線レーザービーム１の照射により、図３（ａ）に示すように、照射部分のピーク部分で液晶膜１１を膜厚が約半分になるところまで加工し、凹部（第１の溝）２１を形成した。このときの紫外線レーザービーム１としては、ＹＡＧレーザーのＦＨＧ変換の波長２６６ｎｍ（出力：２５ｍＷ）を使用した。この第１の紫外線レーザービーム１による線加工パターンは、１辺が６ｃｍの正方形（四角枠）とした。
【００６０】
次に、上記の第１の紫外線レーザービーム１による加工線２１の外側に、図３（ｂ）に示すように、ビーム中心間の位置ずれΔ：５０μｍの位置に第１の紫外線レーザービーム１による四角枠より一回り大きい四角枠に第２の紫外線レーザービーム２を加工線幅Ｗ２  ：１００μｍで照射した。図４（ｂ）から明らかなように、第２の紫外線レーザービーム２の照射量は、照射部の中心部分で基板１０が露出する大きさであり、以上の第１の紫外線レーザービーム１と第２の紫外線レーザービーム２の中心間でΔ：５０μｍの位置ずれをした照射の結果、図３（ｃ）に示すように、基板１０が露出した断面が左右非対称の加工溝２３が形成された。なお、第２の紫外線レーザービーム２としては、ＹＡＧレーザーのＦＨＧ変換の波長２６６ｎｍ（出力：５０ｍＷ）で、加工線幅Ｗ２  ：１００μｍで照射した。
【００６１】
次に、四角枠の加工溝２３の外周部に残った不要の液晶膜部分１１’を剥離し、これにより液晶膜１１の基板外周部を除去してパターニングされ、かつ、液晶膜１１の端部が立ち上がり角２０°で滑らかなスロープ形状を有する液晶膜１１が作製された。
【００６２】
以上、本発明の有機膜のレーザー加工方法をその原理と実施例に基づいて説明してきたが、本発明はこれらの実施例に限定されず種々の変形が可能である。
【００６３】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の有機膜のレーザー加工方法によると、レーザービームとして異なる２本の紫外線レーザービームを用い、その２本の紫外線レーザービームを走査して中心間で位置ずれのある２本の線状パターンに同時に又は順次照射することによって、その２本の紫外線レーザービームによって加工された有機膜の断面形状をスロープ状に形成するので、有機膜の断面形状は２本の紫外線レーザービームの照射量分布、位置ずれを任意に組み合わせることで所望のスロープ形状を得ることができる。また、有機膜の断面形状をなだらかなスロープ形状にすることができ、パターニングされた有機膜上にさらに別の有機膜を施す場合にも、各層において良質な膜を成膜することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１の有機膜のレーザー加工方法を説明するための図である。
【図２】本発明の実施例１における各紫外線レーザービームの照射量分布を示す図である。
【図３】本発明の実施例２の有機膜のレーザー加工方法を説明するための図である。
【図４】本発明の実施例２における各紫外線レーザービームの照射量分布を示す図である。
【符号の説明】
１…第１の紫外線レーザービーム
２…第２の紫外線レーザービーム
１０…基板（ガラス基板）
１１…有機膜（液晶層）
１１’…不要の液晶膜部分
２１…第１の溝（凹部）
２２…第２の溝（凹部）
２３…加工溝
２４…加工溝の第１の紫外線レーザービームの照射側の断面
２５…加工溝の第２の紫外線レーザービームの照射側の断面
【図１】
2004223604.tif 000003
【図２】
2004223604.tif 000004
【図３】
2004223604.tif 000005
【図４】
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