(57)【要約】【課題】回転アンテナ方式の電子レンジにおいて、従来の利点を保持しながら、グリル加熱やオーブン加熱による加熱効率を高め、また高周波加熱時の微妙な加熱均一性を得られるようにする。【解決手段】加熱室１と、高周波発生装置２と、導波管３と、アンテナ４と、このアンテナ４を回転させるためのモータ５と、アンテナ４の上方近傍に前記加熱室内を仕切る形で設けられた、誘電体で構成される載置台６とを備え、載置台６下の加熱室４の内周にヒータＨ２を備える。アンテナ４には第１の磁石４３が配置されると共に、この第１の磁石４３に対応する位置に第２の磁石７３が配置された回転部材７が載置台６上に配置される。そして第１の磁石４３と第２の磁石７３との磁気結合を利用して、アンテナ４の回転に対応して回転部材７を回転させる。【選択図】　図１
2004071215.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を加熱する加熱室と、高周波を発生する高周波発生装置と、この高周波発生装置で発生した高周波を前記加熱室に形成された開口に導く導波管と、この導波管内の高周波を前記開口を介して加熱室に供給する、受信部と放射部とを有する回転自在のアンテナと、このアンテナの上方近傍に前記加熱室内を仕切る形で設けられた、誘電体で構成される載置台とを備えた高周波加熱装置において、
前記アンテナに第１の磁石を配置し、
この第１の磁石に対応する位置に第２の磁石又は磁性体を配置した、被加熱物を載置するための回転部材を前記載置台上に配置し、
前記第１の磁石と、前記第２の磁石又は磁性体との磁気結合を利用して、前記アンテナの回転に対応して前記回転部材を回転させると共に、
前記載置台下の前記加熱室の内周にヒータを配設したことを特徴とする高周波加熱装置。
【請求項２】
前記ヒータと前記第１の磁石との間に、前記ヒータからの輻射熱を遮断する熱遮断部を設けた請求項１記載の高周波加熱装置。
【請求項３】
前記熱遮断部を前記加熱室の底面に設けた請求項２記載の高周波加熱装置。
【請求項４】
前記熱遮断部が、前記加熱室の底壁を屈曲させて形成した凸部である請求項３記載の高周波加熱装置。
【請求項５】
前記熱遮断部を前記アンテナに設けた請求項２記載の高周波加熱装置。
【請求項６】
前記熱遮断部が前記アンテナ上面の外周端の少なくとも一部に形成された周壁である請求項５記載の高周波加熱装置。
【請求項７】
前記周壁が前記アンテナを屈曲させて形成したものである請求項６記載の高周波加熱装置。
【請求項８】
前記周壁に車輪が枢設されている請求項６又は７記載の高周波加熱装置。
【請求項９】
前記熱遮断部が前記第１の磁石の周囲に形成した包囲壁である請求項５記載の高周波加熱装置。
【請求項１０】
前記第１の磁石の周囲に前記放射部より熱伝導度の小さい低熱伝導部を設けた請求項１〜９のいずれかに記載の高周波加熱装置。
【請求項１１】
前記低熱伝導部が前記アンテナに形成された穴である請求項１０記載の高周波加熱装置。
【請求項１２】
前記第１の磁石として、Ｓｍ−Ｃｏ系のものを用いる請求項１〜１１のいずれかに記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は高周波加熱装置（以下、「電子レンジ」と記すことがある）に関し、より詳細には回転アンテナ方式の高周波加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
電子レンジの加熱室における均一加熱方式としては大きく分けて、ターンテーブル方式とスタラー方式、回転アンテナ方式とがある。これらの均一加熱方式について以下に簡単に説明しておく。まずターンテーブル方式は、加熱室の底面に配置したターンテーブルに被加熱物を載せ、ターンテーブルを回転させることにより、加熱室の側壁面又は天上面に設けられた開口から放射される高周波を、被加熱物全体に均一に照射し加熱するものであって、電子レンジの中では現在最も広く用いられている方式である。図１７及び図１８に、この方式の電子レンジの一例を示す断面図及び斜視図を示す。加熱室１の底外面にモータ５が配設され、このモータ５の軸５１は加熱室１の底面に穿設された貫通孔を通って加熱室１の底面に突出している。そして、加熱室１の底面に突出したこの軸５１に円盤状のターンテーブルＴが軸支され、モータ５の駆動によりターンテーブルＴは回転する。一方、マグネトロン（高周波発生装置）２から放射された高周波は、導波管３３を通り加熱室１側面の開口１０１から加熱室１に放射され、回転するターンテーブルＴ上の被加熱物（不図示）を照射し加熱する。この他にもターンテーブルＴの回転駆動方式として磁気結合を利用するものが、例えば特公昭６１−１３３５９号公報や特開昭５８−２２０３８７号公報、特開昭５９−１４２９４号公報に開示されている。
【０００３】
スタラー方式は一般に、図１９及び図２０に示すように、加熱室１の天上面に設けた開口１０１の加熱室側近傍に金属製の電波拡散羽根３２を設け、これをモータ３１で回転させることによりマグネトロン２から放射された高周波の電界の強弱を変化させて開口１０１から加熱室１内に放射する方式である。この方式によれば、被加熱物を移動させることなく均一に加熱することができる。被加熱物は略四角形の誘電体（通常はガラス、セラミック等で構成される）からなる載置台Ｔ’に載置される。
【０００４】
回転アンテナ方式は、例えば図２１に示すように、マグネトロン２から放射された高周波を導波管３により加熱室１の外底部に導く一方、加熱室１の底面に形成した開口１１にアンテナ４の受信部４１を挿通し導波管３内に突出させ、導波管３内の高周波をこの受信部４１から放射部４２へと伝搬させ、そしてこのアンテナ４の放射部４２をモータ５で回転させることにより高周波で被加熱物を均一に加熱する方式である（例えば特開平１１−８０５７号公報）。被加熱物は、アンテナ４の上方近傍で加熱室１を仕切る形で設けられた、誘電体（通常はガラス、セラミック等）で構成される載置台６に載置される。この方式は、高周波が放射されるアンテナ４の放射部４２の近傍に被加熱物を載置できるため、他の方式に比べて一般に加熱効率に優れる。現在では業務用・コンビニエンスストアー等で用いる電子レンジとして普及しつつある方式である。
【０００５】
以上の被加熱物の均一加熱方式において、被加熱物の加熱を均一化する手段として、ターンテーブル方式では被加熱物の回転移動させて加熱するのに対し、スタラー方式及び回転アンテナ方式では被加熱物を静止させた状態で加熱する。加熱の均一性の観点からはターンテーブル方式、回転アンテナ方式、スタラー方式の順で優れていると一般に言われている。
【０００６】
一方、加熱室内の被加熱物を載置し得る領域は、ターンテーブル方式では円形のターンテーブル領域のみであるのに対し、スタラー方式及び回転アンテナ方式では、被加熱物を移動させる必要がないので加熱室の底面全体となる。したがって、後者の方が加熱室を有効に利用することができ、加熱室の容積が同じ場合には、加熱可能な被加熱物の量は後者の方が多くなる。
【０００７】
また加熱室底面の清掃性の観点からは、磁気結合によるターンテーブル方式、及びスタラー方式では加熱室底部に貫通孔を穿設する必要がなく、ターンテーブルや載置台を取り除けば加熱室の底面はほぼ平面となり比較的簡単に清掃ができる。一方、回転アンテナ方式の場合も、アンテナの上に固定配置された載置台が実用上は加熱室の底壁に相当し、この載置台の表面は平面で、しかもターンテーブル方式やスタラー方式と異なり、その材質がガラスやセラミックなどの誘電体材料であるため極めて清掃性に優れる。
【０００８】
近年、加熱効率、加熱室内の有効利用容積、加熱室の清掃の容易さの観点が重要視されるようになり、回転アンテナ方式の電子レンジが一般家庭用としても見直されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近の電子レンジでは高周波加熱による加熱方式に加えて、ヒータによるグリル加熱やオーブン加熱等もできる複合機能を備えたものが開発されている。グリル加熱は、加熱室天上部の中心を外した位置にガラス管ヒータやシーズヒータを配設し、これらのヒータを表面温度で６００℃以上に加熱し、被加熱物を回転移動させて全体を均一に高速で焼き上げるものである。
【００１０】
一方、従来の回転アンテナ方式の電子レンジの場合には、被加熱物は載置台上に静止しているため、前記複合機能化、例えばグリル加熱機能を付加するには図２２に示すように、加熱室１の天井面全体にヒータＨ１を配置する必要がある。しかし天井面全体にヒータＨ１を配設すると、占有面積が広がるためにヒータＨ１の発熱温度が低下し加熱時間が増加する。また、加熱時間を短くしようとすればヒータＨ１の消費電力が増加する問題点がある。
【００１１】
また、被加熱物が静止していることに起因して回転アンテナ方式では、微妙な加熱均一性が要求される茶碗蒸などの卵料理において満足な仕上がり状態が得られないことがあった。
【００１２】
本発明はこのような従来の問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、回転アンテナ方式の電子レンジにおいて従来の利点を保持しながら、グリル加熱やオーブン加熱による加熱効率を高め、また高周波加熱時の微妙な加熱均一性を得られるようにすることにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため本発明に係る高周波加熱装置では、被加熱物を加熱する加熱室と、高周波を発生する高周波発生装置と、この高周波発生装置で発生した高周波を前記加熱室に形成された開口に導く導波管と、この導波管内の高周波を前記開口を介して加熱室に供給する、受信部と放射部とを有する回転自在のアンテナと、このアンテナを回転させるモータと、前記アンテナの上方近傍に前記加熱室内を仕切る形で設けられた、誘電体で構成される載置台とを備えた高周波加熱装置において、前記アンテナに第１の磁石を配置し、この第１の磁石に対応する位置に第２の磁石又は磁性体を配置した、被加熱物を載置するための回転部材を前記載置台上に配置し、前記第１の磁石と、前記第２の磁石又は磁性体との磁気結合を利用して、前記アンテナの回転に対応して前記回転部材を回転させると共に、前記載置台下の前記加熱室の内周にヒータを配設した構成とした。かかる構成により、回転アンテナ方式の電子レンジでありながら被加熱物の回転載置が可能となり、グリル加熱やオーブン加熱の加熱効率が向上すると共に、被加熱物を均一に高周波加熱することができる。
【００１４】
一般に磁石は高温になると非可逆の減磁特性を示すことから、ヒータと第１の磁石との間に、ヒータからの輻射熱を遮断する熱遮断部を設けるのが望ましい。
【００１５】
この熱遮断部は加熱室の底面又はアンテナに設けるのがよい。熱遮断部を加熱室の底面に設ける場合には、加熱室の底壁を屈曲させて凸部を形成し、これを熱遮断部としてもよい。一方、熱遮断部をアンテナに設ける場合には、アンテナ上面の外周端の少なくとも一部に周壁を形成し、これを熱遮断部としてもよい。この場合、強度や生産性などの観点から前記周壁はアンテナを屈曲して形成するのが好ましい。またアンテナ放射部と載置台との平行性を確保すると同時に、熱遮断効果を一層高めるため、前記周壁に車輪を枢設してもよい。また第１の磁石の周囲に包囲壁を形成しこれを熱遮断部としてもよい。
【００１６】
また、ヒータからの熱がアンテナ内を伝わって第１の磁石に達するのを抑える観点から、前記放射部よりも熱伝導度の小さい低熱伝導部を第１の磁石の周囲に設けてもよい。ここで加工容易性などの観点から、低熱伝導部としてはアンテナに形成した穴であってもよい。
【００１７】
高温時における減磁特性、および高温から室温に冷却した時の復帰特性に優れることから、第１の磁石としてＳｍ−Ｃｏ系のものを用いるのが望ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の高周波加熱装置（電子レンジ）について図に基づいて説明する。ただし、本発明はこれらの実施形態に何ら限定されるものではない。
【００１９】
本発明に係る電子レンジの正面断面図を図１、そして図１におけるＡ−Ａ線断面図を図２に示す。この発明の電子レンジは、金属材から構成された略直方体形状の加熱室１と、この加熱室１の底面外側に加熱室１と隣接する形で設けられた導波管３とを備える。導波管３の一方側端部にはマグネトロン（高周波発生装置）２が取り付けられ、そしてもう一方端部には、加熱室に連通する開口１１が形成されている。一方、加熱室１の底部にはアンテナ４が配設されている。アンテナ４は、円筒状の受信部４１と、受信部４１の上端部に取り付けられた円盤状の放射部４２とを備え、放射部４２の上面には円周方向に等角度に第１の磁石４３が配置されている。図２のアンテナにおいて高周波は、放射部４２に形成された開口部４４，４５の端部から主に放射される。放射部４２の形状はもちろんこれに限定されるものではなく、例えば放射部４２が棒状や長板状であっても構わない。
【００２０】
円筒状の受信部４１は、加熱室１の底面に穿設された開口１１に挿通されて、導波管３内に突出し、その下端部は導波管の外底面に配設されたモータ５の軸に５１接続している。これにより、アンテナ４はモータ５の駆動により回転する。
【００２１】
加熱室１内のアンテナ４の上方近傍には、加熱室１内を仕切る載置台６が取り付けられている。この載置台６はガラスやセラミックなどの誘電体からなり高周波を透過する。後述するように、高周波加熱のみで被加熱物を加熱する場合には、この載置台６に被加熱物Ｓを直接載置すればよい。ガラスやセラミックなどからなる載置台６は、金属部材に比べその表面が平滑で清掃性が格段に優れている。
【００２２】
そしてこの載置台６の上面には、被加熱物Ｓを載置した回転部材７が配置されている。回転部材７は、円盤状の支持体７１と、支持体７１の上面に支持されたテーブル７２とを有する。支持体７１の周壁には複数の車輪７５が軸７６で支持されていると共に、支持体７１の底面には第１の磁石４３に対応する位置に第２の磁石７３が取り付けられている。これにより、アンテナ４が回転すると、第１の磁石４３と第２の磁石７３との磁気的結合により支持体７１が回転し、支持体７１上に支持されているテーブル７２も回転する。また加熱室１の天井壁の中央から外れた位置には直線上にヒータＨ１が、そして載置台６下の加熱室１には内側壁に沿ってヒータＨ２が取り付けられている。
【００２３】
このような構成の電子レンジを用いて、高周波加熱のみの場合及び高周波加熱に加えてヒータＨ１，Ｈ２を用いてグリル加熱やオーブン加熱を行う場合、マグネトロン２を作動させると、マグネトロン２から発生した高周波は、導波管３を通ってアンテナ４の受信部４１に至る。そして受信部４１から放射部４２に伝わり加熱室１内に放射される。このときアンテナ４はモータ５により回転する。このアンテナ４の回転に起因して、第１の磁石４３と第２の磁石７３との磁気的結合により支持体７１はアンテナ４と同じ速度で回転する一方、車輪７５に支持されるテーブル７２はアンテナ４の回転速度の２倍の速度で回転する。したがって、テーブル７２上に載置された被加熱物Ｓには放射部４２から放射された高周波やヒータＨ１，Ｈ２からの熱が均一に当射される。
【００２４】
なお、高周波のみで被加熱物Ｓを加熱する場合には、図３に示すように、回転部材７を加熱室１から外し、載置台６上に被加熱物Ｓを直接載置して高周波加熱を行ってもよい。これにより従来の回転アンテナ方式の特徴はそのまま維持される。すなわち、前記の通り、被加熱物Ｓを置いた載置台６の直下でアンテナ４が回転して高周波を被加熱物Ｓに均一に照射するので、被加熱物Ｓはムラなく加熱される。また、この場合には加熱室１内の空間全部を有効に使える。
【００２５】
また、グリル加熱やオーブン加熱を行う場合には、テーブル７２の回転速度をアンテナ４の回転速度と同じとしても加熱性能に影響を与えないため、支持体７１の車輪７５にテーブル７２の下面を接触させない状態で、テーブル７２を支持体７１に支持させても構わない。
【００２６】
ところで、図１に示すように、アンテナの近傍にヒータＨ２が配設されていると、ヒータＨ２が作動したときにアンテナに取り付けられている第１の磁石は２００〜３００℃にまで加熱されることがある。一般に、磁石は高温度では非可逆の減磁特性を示すため、ヒータＨ２で加熱された第１の磁石は磁気的結合が低下し、回転部材を回転させることに支障を来すおそれがある。
【００２７】
そこで、ヒータＨ２からの輻射熱が第１の磁石に届かないように、ヒータＨ２と第１の磁石４３との間に熱遮断部を設けることが推奨される。熱遮断部を加熱室の底面に設けた電子レンジの一例を図４に、そして図４のＢ−Ｂ線断面図を図５に示す。図４の電子レンジでは、アンテナ４の放射部４２の外側に同心状に筒状凸部（熱遮断部）１２を形成している。ヒータＨ２からの輻射熱をより効果的に遮断するためには、筒状凸部１２の上端をヒータＨ２の上端よりも高くするのがよい。筒状凸部１２は少なくともヒータＨ２からの輻射熱を遮断するものであればよく、より好ましくは輻射熱を反射するものがよい。したがって、筒状凸部１２は金属材料からなるものあるいは表面を白色にしたものが好ましい。また、この筒状凸部１２は加熱室１と別体で作製した後、加熱室１の底面に固着してもよいし、加熱室１と一体に形成してもよい。加熱室１と一体に成形するには、例えば図６に示すように、金型成形機などを用いて加熱室１の底壁を屈曲させて筒状凸部１２を形成すればよい。強度や生産性などの観点からはこのように加熱室１と一体に筒状凸部１２を形成することが好ましい。
【００２８】
次に、熱遮断部をアンテナに設けた電子レンジの一例を図７に、そして図７のＣ−Ｃ線断面図を図８に示す。この電子レンジでは、アンテナ４の円盤状の放射部４２の外周端に周壁４９を設けてヒータＨ２からの輻射熱を遮断している。輻射熱を効果的に遮断するためには、前記周壁４９は第１の磁石４３の上面よりも高くするのが望ましい。またこの周壁４９はアンテナ４と別体であってもよいし、一体であってもよい。周壁４９をアンテナ４と一体に形成する場合には、アンテナの放射部４２の外周端を金型などを用いて略９０°に曲げ加工すればよい。また図９に示すように、放射部４２の外周端の一部にのみ前記周壁４９を設けても構わない。この場合、第１の磁石４３の半径方向外方に位置する部分に設けるのがよい。
【００２９】
また、図１０及び図１１に示すように前記周壁４９に車輪４１０を枢設して、アンテナの放射部４２と載置台６との平行性を確保すると同時に、車輪４１０によってもヒータＨ２からの輻射熱を遮断させるようにしてもよい。ここで、第１の磁石４３と第２の磁石７３との磁気的結合によりアンテナ４が上方に引き付けられる。この結果、車輪４１０は載置台６と接触し、アンテナ４の熱を車輪４１０を介して載置台６に逃がすことができ、アンテナ４の温度上昇をも抑えることできる。
【００３０】
図１２及び図１３に、熱遮断部をアンテナに設けた他の実施形態を示す。この電子レンジでは、各第１の磁石４３の周囲に包囲壁４１１を形成し、ヒータＨ２からの輻射熱を遮断している。熱遮断効果の点から包囲壁４１１は第１の磁石４３の上面よりも高くするのが好ましい。また包囲壁４１１の材料としては輻射熱を反射するものが好ましい。この図では第１の磁石４３の上面は露出しているが、包囲壁４１１で第１の磁石４３を完全に覆うようにしてももちろん構わない。
【００３１】
これまで説明してきた構成はヒータＨ２からの輻射熱を遮断すること主目的としていた。しかし、第１の磁石へは輻射熱の他にもアンテナを通って熱が伝わって来る。そこで、第１の磁石の周囲に放射部より熱伝導度の小さい低熱伝導部を設けて、アンテナを通って第１の磁石に伝わってくる熱をも抑えるのがよい。このような低熱伝導部としては、図１４に示すような第１の磁石の周囲に形成された穴４１２が挙げられる。この穴４１２があることにより放射部４２から第１の磁石４３への熱の伝わりが抑えられる。またこの穴４１２が放射部４２を貫通している場合には特に、穴４１２を介して放射部４２の上下の空気の流動が活発となるため空気によるアンテナ４および第１の磁石４３の冷却効果が得られる。もちろん、前記低熱伝導部はこれに限定されるものではなく、例えば第１の磁石４３の周囲に形成された溝であってもよいし、あるいはこの溝に熱伝導度の小さい物質を充填した構成であってもよい。また、前記穴４１２は有底穴であってもよい。
【００３２】
また、本発明で使用する第１の磁石４３としては特に限定はないが、耐熱性の観点からは特にＳｍ−Ｃｏ系のものが望ましい。各種磁石について本発明者等が試験した結果を図１５及び図１６に示す。図１５は、横軸として磁石の温度、縦軸として磁力をとり、３種類の磁石について磁石の温度に対する磁力の変化を示した図である。この図から明らかなように、Ｓｍ−Ｃｏ系、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系、Ｂａ系、Ｓｒ系のいずれの磁石も室温から百数十度までは磁力に変化は見られなかったものの、温度が２００℃を超えた当たりからそれぞれ磁力が急激に下がり始めた。温度３００℃における各磁石の磁力を比較してみると、Ｂａ系及びＳｒ系磁石、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石、Ｓｍ−Ｃｏ系磁石の順で磁力は高くなっていた。
【００３３】
また図１６は、横軸として磁石の履歴温度、縦軸として復帰率をとり、前記各種の磁石について履歴温度に対する復帰率の変化を示した図である。なお、復帰率とは、磁石を所定温度に加熱した後室温に戻し、加熱前に対する加熱後の磁力の割合を算出したものである。図１６において、例えば３００℃まで加熱した場合の復帰率を比較してみると、Ｂａ系及びＳｒ系磁石で約３０％、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石で約８０％であるのに対し、Ｓｍ−Ｃｏ系磁石では１００％であり、復帰率の点でもＳｍ−Ｃｏ系磁石が優れていた。
【００３４】
【発明の効果】
本発明に係る高周波加熱装置では、載置台上に回転部材を配置し、アンテナに第１の磁石を配置すると共に、回転部材における第１の磁石に対応する位置に第２の磁石又は磁性体を配置し、アンテナと回転部材と間の磁気的結合を利用して、アンテナの回転に対応して回転部材を回転させる構成としたので、回転アンテナ方式の電子レンジでありながら被加熱物を回転載置することができ、グリル加熱やオーブン加熱の加熱効率が向上する。また、載置台下の加熱室の内周にヒータを配設したので、被加熱物を均一に高周波加熱することができる。
【００３５】
またヒータと第１の磁石との間に、ヒータからの輻射熱を遮断する熱遮断部を設ける、あるいは第１の磁石の周囲に放射部より熱伝導度の小さい低熱伝導部を設けると、ヒータからの第１の磁石への熱を抑えることができ第１の磁石の磁力特性の低下を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電子レンジの正面断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】載置台に被加熱物を置いて高周波加熱するときの状態図である。
【図４】加熱室の底面に筒状凸部を設けた電子レンジの一例を示す正面断面図である。
【図５】図４のＢ−Ｂ線断面図である。
【図６】加熱室の底壁を屈曲させて筒状凸部を形成した場合の部分断面図である。
【図７】アンテナに周壁を設けた場合の一例を示す正面断面図である。
【図８】図７のＣ−Ｃ線断面図である。
【図９】アンテナに周壁を設けた場合の他の例を示す断面図である。
【図１０】アンテナの周壁に車輪を枢設した場合の一例を示す正面断面図である。
【図１１】図１０のＤ−Ｄ線断面図である。
【図１２】第１の磁石の周囲に包囲壁を形成した場合の一例を示す正面断面図である。
【図１３】図１２のＥ−Ｅ線断面図である。
【図１４】第１の磁石の周囲に穴を形成した場合の一例を示すアンテナの平面図である。
【図１５】各種磁石の温度に対する磁力の変化を示した図である。
【図１６】各種磁石の履歴温度に対する復帰率を示した図である。
【図１７】従来のターンテーブル方式の高周波加熱装置を示す正面断面図である。
【図１８】従来のターンテーブル方式の高周波加熱装置を示す斜視図である。
【図１９】従来のスタラー方式の高周波加熱装置を示す正面断面図である。
【図２０】従来のスタラー方式の高周波加熱装置を示す斜視図である。
【図２１】従来の回転アンテナ方式の高周波加熱装置を示す側面断面図である。
【図２２】従来のヒータ付の回転アンテナ方式の高周波加熱装置を示す側面断面図である。
【符号の説明】
１　加熱室
２　マグネトロン（高周波発生装置）
３　導波管
４　アンテナ
５　モータ
６　載置台
７　回転部材
Ｓ　被加熱物
Ｈ１，Ｈ２　ヒータ
１１　開口
１２　筒状凸部（熱遮断部）
４１　受信部
４２　放射部
４３　第１の磁石
４９　周壁（熱遮断部）
４１０　車輪
４１１　包囲壁（熱遮断部）
４１２　穴（低熱伝導部）
７１　支持体
７２　テーブル
７３　第２の磁石
７５　車輪
【図１】
2004071215.tif 000003
【図２】
2004071215.tif 000004
【図３】
2004071215.tif 000005
【図４】
2004071215.tif 000006
【図５】
2004071215.tif 000007
【図６】
2004071215.tif 000008
【図７】
2004071215.tif 000009
【図８】
2004071215.tif 000010
【図９】
2004071215.tif 000011
【図１０】
2004071215.tif 000012
【図１１】
2004071215.tif 000013
【図１２】
2004071215.tif 000014
【図１３】
2004071215.tif 000015
【図１４】
2004071215.tif 000016
【図１５】
2004071215.tif 000017
【図１６】
2004071215.tif 000018
【図１７】
2004071215.tif 000019
【図１８】
2004071215.tif 000020
【図１９】
2004071215.tif 000021
【図２０】
2004071215.tif 000022
【図２１】
2004071215.tif 000023
【図２２】
2004071215.tif 000024