(57)【要約】【課題】  干渉縞の発生が少ない電気光学装置及び電子機器を提供する。【解決手段】  複数のドット領域を有する電気光学装置は、凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板と、前記基板に支持された電気光学層と、を具備し、前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、前記ドット領域の数よりも少ない数の複数のドット分を一単位のパターンとして形成されているとともに、その一単位において不規則に配列されてなり、前記一単位のパターンを複数個配置されて構成される。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のドット領域を有する電気光学装置であって、
凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板と、
前記基板に支持された電気光学層と、を具備し、
前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、前記ドット領域の数よりも少ない数の複数のドット分を一単位のパターンとして形成されているとともに、その一単位において不規則に配列されてなり、前記一単位のパターンを複数個配置されて構成されること、
を特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記凸部の高さ又は凹部の深さが面内において実質的に等しいことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
複数のドットに対応して設けられた、各々色が異なる複数の着色層と、それらに対応する複数のドットにより１画素が形成され、前記一単位のパターン内に少なくとも１画素が対応してなることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記１画素はＲ、Ｇ、Ｂの着色層のドットからなることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
複数のドット領域を有する電気光学装置であって、
凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板と、
前記基板に支持された電気光学層と、を具備し、
前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、前記ドット領域の数よりも少ない数の複数ドット分を一単位のパターンとして形成されており、かつその単位内において対称となる個所を含むこと、
を特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
複数のドットに対応して設けられた各々色が異なる複数の着色層と、それらに対応する複数のドットにより１画素が形成され、前記一単位内に少なくとも１画素が対応してなることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
電気光学装置であって、
電気光学層と、
前記電気光学層の一方の側に配置した光散乱膜と、
前記電気光学層の他方の側に配置した光反射膜と、を具備し、
前記光反射膜には、不規則に配列された凸部又は凹部が形成されてなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
前記光散乱膜のヘイズ値が１０％以上６０％以下であることを特徴とする請求項７に記載の電気光学装置。
【請求項９】
請求項７に記載の前記電気光学装置であって、
複数のドット領域を有してなり、
前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、１ドット又は２ドットにより定義される一単位内において不規則に配列されており、
前記光散乱膜のヘイズ値を４０〜６０％の範囲内の値とすることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
複数のドット領域と、それらに対応して設けられた各々色が異なる複数の着色層とにより１画素が形成され、前記一単位内に少なくとも前記１画素が対応してなることを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
請求項７に記載の電気光学装置であって、
複数のドット領域を有してなり、
前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、３以上のドットを含む一単位内において不規則に配列されており、
前記光散乱膜のヘイズ値が１０％以上４０％以下であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項７に記載の電気光学装置であって、前記一方の側に配置した保護板を具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
電気光学装置を表示部として含む電子機器において、前記電気光学装置として請求項１乃至１２のいずれかに記載の電気光学装置を採用したことを特徴とする電子機器。
【請求項１４】
複数のドット領域を有する電気光学装置の製造方法であって、
基板に感光性材料を塗布する工程と、
前記感光性材料を露光する工程と、
前記露光した感光性材料に凹凸を形成する工程と、
前記凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備し、
前記凹凸のパターンが、前記ドット領域の数より少ない複数ドット分を一単位のパターンとし、かつその単位内において不規則になるように形成し、前記一単位のパターンを複数個配置されること、
を特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
複数のドット領域を有する電気光学装置の製造方法であって、
基板に感光性材料を塗布する工程と、
前記感光性材料を露光する工程と、
前記露光した感光性材料に凹凸を形成する工程と、
前記凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備し、
前記凹凸のパターンが、前記ドット領域の数より少ない複数ドット分を一単位とし、かつその単位内において対称となる個所を含むよう形成されること、
を特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器に関する。
【０００２】
より詳細には、干渉縞の発生が少ない電気光学装置、並びに干渉縞の発生が少ない電気光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００３】
周知のように、薄型化や省電力化等が図られることから、各種の電子機器における表示装置として、液晶表示装置が広く用いられている。このような液晶表示装置は、一対のガラス基板等の間に液晶を封入した状態で、シール材によって周囲を貼り合わせた構成が一般的である。そして、このような液晶表示装置を搭載した電子機器は、液晶表示装置を外部からの衝撃などから保護すべく、当該液晶表示装置の観察側、すなわち、表示を視認する観察者の側に、保護板を配設した構成が採られている。かかる保護板は、通常、光透過性を有する材料、例えば、透明プラスチックなどからなる板状部材である。
【０００４】
しかしながら、このような保護板における液晶表示装置との対向面を完全な平滑面とすることは困難であり、微細な凹凸が存在している場合が多い。そして、このような保護板を液晶表示装置に配設した場合、表面の微細な凹凸に起因して表示品位が著しく低下してしまうという問題があった。
【０００５】
このように表示品位が低下する原因の一つとして、液晶表示装置における観察側の基板と保護板との間隔が、保護板の表面に存在する凹凸に応じてばらつくことが挙げられる。すなわち、このような間隔のばらつきに対応して、液晶表示装置からの出射光が保護板を透過する際に干渉を生じ、その結果、干渉縞が発生する。そして、発生した干渉縞が表示画像と重なりあうことによって、表示品位の低下が引き起こされると推定される。
【０００６】
また、特開平６−２７４８１号公報には、図２６に示すように反射型液晶表示装置４００を開示しており、特開平１１−２８１９７２号公報には、図２７に示すように反射透過両用型５００を開示しており、それぞれ干渉縞の発生を低下すべく、高さが異なる複数の凹凸構造４０４ａ、４０４ｂ（５０４ａ、５０４ｂ）を設け、その上に高分子樹脂膜４０５（５０５）を形成し、さらにその上に、連続する波状の反射電極４０９（５０９）が形成されている。
【０００７】
また、かかる反射電極を有する液晶表示装置の製造工程が開示されており、例えば、図２８に開示されている。まず、図２８（ａ）に示すように、ガラス基板６００上にレジスト膜６０２を全面的に形成し、次いで、図２８（ｂ）に示すように、直径が異なる複数の円からなるパターン６０４を介して、露光する。その後、図２８（ｃ）に示すように現像し、高さが異なる複数の角のある凸部６０６ａ、６０６ｂを設け、さらに、図２８（ｄ）に示すように、加熱して、凸部の角部を軟化させて、角落ちした凸部６０８ａ、６０８ｂを形成する。そして、図２８（ｅ）に示すように、かかる凹凸構造の間６１０に所定量の高分子樹脂６２０を充填して波状表面を有する連続層とした後、さらに、高分子樹脂膜６２０の上に、スパッタリング法等の積層手段によって、連続する波状の反射電極６２４を形成するものである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特開平６−２７４８１号公報等に開示された反射型液晶表示装置や反射透過両用型の液晶表示装置は、直径が異なる複数の円等が規則的又は一部不規則に配列されたマスクを用い、紫外線露光及び現像を利用して、高さが異なる複数の凹凸構造を設けることを意図しているものの、塗布厚のばらつき等もあり、光干渉を有効に防止できるように高さを厳密に調整することは困難であった。また、高さが異なる複数の凹凸構造上に、反射電極が形成されていることから、断線したり、ショートしやすいなどの問題も見られた。さらに、開示された光反射膜付基板の製造方法は、工程数が多く、管理項目が多いという製造上の問題も見られた。
【０００９】
したがって、特開平６−２７４８１号公報等に開示された光反射膜付基板は、干渉縞の発生を有効に防止することが困難であるばかりか、かかる光反射膜付基板を、安定して、しかも効率的に製造することは困難であった。
【００１０】
そこで、本発明の発明者らは、以上の問題を鋭意検討した結果、光反射膜付基板における基材上に、複数の凸部又は凹部を設けるとともに、当該複数の凸部又は凹部の高さを実質的に変えずに、平面方向にランダムに配列することによって、干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板が容易に得られることを見出したものである。
【００１１】
すなわち、本発明は、干渉縞の発生が少なく、製造が容易な電気光学装置、並びにその電気光学装置を有する電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、複数のドット領域を有する電気光学装置であって、凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板と、前記基板に支持された電気光学層と、を具備し、前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、前記ドット領域の数よりも少ない数の複数のドット分を一単位のパターンとして形成されているとともに、その一単位において不規則に配列されてなり、前記一単位のパターンを複数個配置されて構成されること、を特徴とする電気光学装置である。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、凸部の高さ又は凹部の深さを面内において実質的に等しくすることが好ましい。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、複数のドットに対応して設けられた、各々色が異なる複数の着色層と、それらに対応する複数のドットにより１画素が形成され、一単位内に少なくとも１画素が対応してなることが好ましい。
【００１５】
また、本発明の別の態様の電気光学装置は、複数のドット領域を有する電気光学装置であって、凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板と、前記基板に支持された電気光学層と、を具備し、
前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、前記ドット領域の数よりも少ない数の複数ドット分を一単位のパターンとして形成されており、かつその単位内において対称となる個所を含むことを特徴とする電気光学装置である。
【００１６】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、複数のドットに対応して設けられた各々色が異なる複数の着色層と、それらに対応する複数のドットにより１画素が形成され、一単位内に少なくとも１画素が対応してなることが好ましい。
【００１７】
また、本発明の別の態様の電気光学装置は、電気光学装置であって、電気光学層と、電気光学層の一方の側に配置した光散乱膜と、電気光学層の他方の側に配置した光反射膜と、を具備し、
光反射膜には、不規則に配列された凸部又は凹部が形成されてなることを特徴とする電気光学装置である。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、併用する光散乱膜のヘイズ値が１０％以上６０％以下であることが好ましい。
【００１９】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、複数のドット領域を有してなり、凸部又は凹部により形成されるパターンは、１ドット又は２ドットにより定義される一単位内において不規則に配列されており、併用する光散乱膜のヘイズ値を４０〜６０％の範囲内の値とすることが好ましい。
【００２０】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、複数のドット領域と、それらに対応して設けられた各々色が異なる複数の着色層とにより１画素が形成され、一単位内に少なくとも、当該１画素が対応してなることが好ましい。
【００２１】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、複数のドット領域を有してなり、凸部又は凹部により形成されるパターンは、３以上のドットを含む一単位内において不規則に配列されており、併用する光散乱膜のヘイズ値が１０％以上４０％以下であることが好ましい。
【００２２】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、一方の側に配置した保護板を具備することが好ましい。
【００２３】
また、本発明の別の態様は、上述した電気光学装置を表示部として含む電子機器を特徴とする。
【００２４】
また、本発明の別の態様は、複数のドット領域を有する電気光学装置の製造方法であって、基板に感光性材料を塗布する工程と、前記感光性材料を露光する工程と、前記露光した感光性材料に凹凸を形成する工程と、前記凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備し、
前記凹凸のパターンが、前記ドット領域の数より少ない複数ドット分を一単位のパターンとし、かつその単位内において不規則になるように形成し、前記一単位のパターンを複数個配置されることを特徴とする。
【００２５】
また、本発明の別の電気光学装置を製造するに関する態様は、複数のドット領域を有する電気光学装置の製造方法であって、基板に感光性材料を塗布する工程と、前記感光性材料を露光する工程と、前記露光した感光性材料に凹凸を形成する工程と、前記凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備し、
前記凹凸のパターンが、前記ドット領域の数より少ない複数ドット分を一単位とし、かつその単位内において対称となる個所を含むよう形成されることを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、言うまでもなく、以下に示す実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、何ら本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。
【００２７】
[第１実施形態]
第１実施形態は、複数のドット領域を有する基板にパターンを形成するためのマスクであって、入射光を透過可能な光透過部と、実質的に光を透過させない光不透過部と、を具備し、光透過部又は光不透過部により形成されるパターンは、ドット領域の数よりも少ない数のドット分を一単位として形成されているとともに、その一単位内において不規則に配列されてなり、かつ、当該一単位を複数個含むマスクである。
【００２８】
すなわち、例えば、図２に示すような光反射膜付基板を製造するためのマスク２０であって、光透過部又は光不透過部２２を独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とするとともに、光透過部又は光不透過部２２を所定の画素に対応したＲＧＢドットを一単位として、平面方向にランダムに配列してあることを特徴とするマスクである。
【００２９】
１．光透過部又は光不透過部
（１）形状
マスクの光透過部又は光不透過部を、図１に示すように独立した円（楕円を含む。）及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とすることが好ましい。
【００３０】
この理由は、光透過部又は光不透過部の平面形状を円（楕円を含む。）又は多角形とすることにより、光反射膜付基板を製造するために露光プロセスを実施する際、樹脂の凹凸配置を複雑にすることができるためである。また、円や多角形は、基本図形であることから、マスク自体の製造も容易になるためである。なお、好ましい多角形としては、四角形、五角形、六角形、八角形等が挙げられる。
【００３１】
（２）径及び間隔
また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を３〜１５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００３２】
この理由は、光透過部又は光不透過部の径が３μｍ未満となると、光反射膜付基板を製造する際に露光プロセスを用いたとしても、凸部又は凹部の平面形状や配置パターンを、正確に制御することが困難となる場合があるためである。また、光透過部又は光不透過部の径が３μｍ未満となると、マスク自体の製造も困難となる場合があるためである。
【００３３】
一方、光透過部又は光不透過部の径が１５μｍを超えると、得られた光反射膜付基板において、光を適度に散乱させることが困難となって、散乱特性が落ちて暗い反射となる。
【００３４】
したがって、マスクの光透過部又は光不透過部の径を５〜１３μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、６〜１２μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３５】
また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の少なくとも一つの径を５μｍ以上の値とすることが好ましい。すなわち、径が異なる光透過部又は光不透過部があった場合に、少なくとも一つの光透過部又は光不透過部における径を５μｍ以上の値とするものであって、径が異なる他の光透過部又は光不透過部にあっては、その径が５μｍ未満の値であっても良い。
【００３６】
この理由は、かかる光透過部又は光不透過部の平面形状がいずれも５μｍ未満の円又は多角形となると、得られた光反射膜付基板において、光を過度に散乱させる場合が多くなり、暗い反射となる。ただし、光透過部又は光不透過部の径が、過度に大きくなると、光の散乱効果が低下し、干渉縞が発生する場合がある。
【００３７】
したがって、マスクの光透過部又は光不透過部の少なくとも一つの径を５〜１３μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、６〜１２μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３８】
また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の間隔（ピッチ）を３．５〜３０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００３９】
この理由は、かかる光透過部又は光不透過部の間隔が３．５μｍ未満の値になると、光透過部又は光不透過部の独立性が低下する場合があるためである。一方、かかる光透過部又は光不透過部の間隔が３０μｍを越えると、光透過部又は光不透過部のランダム配置性が低下する場合があるためである。
【００４０】
したがって、マスクにおける光透過部又は光不透過部の間隔（ピッチ）を５〜２０μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、マスクにおける光透過部又は光不透過部の間隔（ピッチ）を７〜１５μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４１】
なお、かかる光透過部又は光不透過部の間隔は、隣接する光透過部又は光不透過部の中心から中心までの距離であって、１０箇所以上の平均値である。
【００４２】
（３）種類
また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を異ならせ、２〜１０種類の光透過部又は光不透過部を設けることが好ましい。例えば、図５に示すように、異なる径を有する光透過部又は光不透過部を一つのランダムパターン内に設けるものである。
【００４３】
この理由は、このように径の異なる光透過部又は光不透過部が存在することにより、干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板をさらに効率的に製造することができるためである。すなわち、このようなマスクを用いて光反射膜付基板を製造した際に、得られる凸部又は凹部の配列がより分散して、光を適当に散乱させることができるためである。したがって、このような光反射膜付基板を液晶表示装置等に使用した場合に、干渉縞の発生をさらに有効に防止することができることになる。
【００４４】
なお、マスクにおける径が異なる光透過部又は光不透過部により形成されるパターンの組み合わせとして、下記の例を挙げることができる。
１）７．５μｍの六角形パターンと、９μｍの六角形パターンとの組み合わせ
２）５μｍの六角形パターンと、７．５μｍの六角形パターンと、９μｍの六角形パターンとの組み合わせ
３）４．５μｍの正方形パターンと、５μｍの正方形パターンと、７．５μｍの六角形パターンと、９μｍの六角形パターンと、１１μｍの六角形パターンと、の組み合わせが好ましい。
【００４５】
（４）面積比率
また、マスクの光透過部又は光不透過部の面積比率を、全体面積に対して、１０〜６０％の範囲内の値とすることが好ましい。
【００４６】
この理由は、かかる面積比率が、１０％未満の値になると、光反射膜付基板を製造した際に、複数の凸部又は凹部の占有面積が小さくなって平坦部が増加し、光散乱効果が著しく低下する場合があるためである。一方、かかる面積比率が、６０％を越えても平坦部が増加し、光散乱効果が著しく低下する場合があるためである。
【００４７】
したがって、マスクの光透過部又は光不透過部の面積比率を、全体面積に対して、１５〜５０％の範囲内の値とすることがより好ましく、２０〜４０％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００４８】
なお、基材を構成する感光性樹脂として、ポジ型を使用した場合には、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化することから、マスクの光不透過部の面積比率が問題となり、ネガ型を使用した場合には、光透過部を透過した光が照射された箇所が感光し、現像剤に対して不溶化することから、マスクの光透過部の面積比率が問題となる。
【００４９】
２．ランダム配列
（１）ランダム配列１
第１実施形態では、例えば、図１に示すように、マスク１０における光透過部又は光不透過部１２を平面方向にランダムに配列してあることを特徴とする。
【００５０】
すなわち、このようなマスクを用いることにより、露光プロセスによって光反射膜付基板を形成した場合に、基材に対して、複数の凸部又は凹部を容易にランダム配列させ、適当に光散乱させることができるためである。
【００５１】
なお、ランダム配列とは、端的には光透過部又は光不透過部が無秩序に配列されていることを意味するが、より正確には、マスクを単位面積ごとに切り分け、それらのマスクを重ねた場合に、それぞれのパターンが完全に異なっているか、あるいは部分的に重なる箇所はあっても、完全には一致しない状態を意味する。
【００５２】
（２）ランダム配列２
また、光反射膜用マスクパターンの光透過部又は光不透過部を、光反射膜が使用される液晶表示装置等における画素を形成するＲＧＢドットを基準として、平面方向にランダムに配列してあることが好ましい。
【００５３】
すなわち、光反射膜が使用される液晶表示装置等における１画素（ＲＧＢ：３ドット）、２画素（ＲＧＢ：６ドット）、又は４画素（ＲＧＢ：１２ドット）を一単位として、それを繰り返して、平面方向にランダムに配列することが好ましい。
【００５４】
例えば、図２に示すように、縦方向のラインＬ１及びＬ２でそれぞれ分画される３種類のＲＧＢドットを一単位として、光透過部又は光不透過部２２からなるランダムパターンを繰り返しても良い。また、図３に示すように、縦方向のラインＬ１及びＬ２と、横方向のラインＬ３と、でそれぞれ分画される６種類のＲＧＢドットを一単位として、光透過部又は光不透過部３２からなるランダムパターンを繰り返しても良い。さらには、図４に示すように、縦方向のラインＬ１〜Ｌ５と、横方向のラインＬ６と、でそれぞれ分画される１２種類のＲＧＢドットを一単位として、光透過部又は光不透過部４２からなるランダムパターンを繰り返しても良い。
【００５５】
この理由は、このようなＲＧＢドットのいくつかのまとまりを基本単位としたパターンを有するマスクとすることにより、これから得られる光反射膜における複数の凸部又は凹部が、光を適当に散乱させて、干渉縞の発生を有効に防止することができるためである。また、ＲＧＢドットのいくつかのまとまりを基本単位としてパターン化するため、パターンの情報量を少なくすることができ、光反射膜を製造する際のパターンの位置調整等が容易になるためである。
【００５６】
なお、本発明において、光反射膜用マスクパターンの光透過部又は光不透過部を、液晶表示装置等におけるＲＧＢドットを基準として、平面方向にランダムに配列してあるといった場合、必ずしも画素を有する部材、例えば、カラーフィルタと併用する必要はなく、結果として、ＲＧＢドット単位に所定のランダムパターンが形成されていれば良い。
【００５７】
（３）ランダム配列３
また、マスクを構成するにあたり、少なくとも一本の仮想線によってマスクを分割し、当該仮想線に対して、光透過部又は光不透過部により形成されるパターンを鏡面対称に配列することが好ましい。
【００５８】
このように構成することにより、干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板をさらに効率的に製造することができる。すなわち、光反射膜付基板を製造した際に、複数の凸部又は凹部が鏡面対称パターンであることを利用して、光を適当に散乱させることができるため、干渉縞の発生をさらに有効に防止することができる。
また、鏡面対称パターンを利用するため、回転移動させることによって同一パターンを形成することができる。したがって、パターンの情報量を少なくすることができ、光反射膜付基板の製造が容易になる。
【００５９】
ここで、図６（ａ）及び（ｂ）を参照して、ランダム配列としての鏡面対称パターンについて、さらに具体的に説明する。なお、図６（ａ）及び（ｂ）では、鏡面対称パターンの関係が容易に理解できるように、円又は多角形からなる光透過部又は光不透過部により形成されるパターンを、文字パターン（Ｆ）としてある。
【００６０】
まず、図６（ａ）に示すように、一本の仮想線（Ｌ１）に対して、複数の凸部又は凹部からなる文字パターン（Ｆ）を鏡面対称、すなわち、左右対称に配列することが好ましい。このように構成することにより、一方のパターンを利用して、それを反転させることにより、もう一方のパターンを形成することができるためである。
【００６１】
また、図６（ｂ）に示すように、二本の仮想線（Ｌ１及びＬ２）に対して、複数の凸部又は凹部からなる文字パターン（Ｆ）をそれぞれ鏡面対称として、左右対称及び上下対称に配列することが好ましい。このように構成することにより、一つの文字パターン６３を利用して、他の３つの文字パターンを形成することができるためである。すなわち、文字パターン６３を、Ｌ１を軸として反転させることにより文字パターン６５を形成することができる。また、文字パターン６３を、Ｌ２を軸として反転させることにより文字パターン６７を形成することができる。さらに、文字パターン６３を、基点６８を中心として１８０°回転させることにより文字パターン６９を形成することができる。
【００６２】
そして、いずれにしても、パターンが鏡面対称にある場合、仮想線を対称にして得られるパターン同士を上下方向に重ね合わせることができず、本発明で規定するランダムパターンの一種として、適度な光散乱を生じさせることができる。
【００６３】
[第２実施形態]
第２実施形態は、複数のドット領域を有する基板に光反射膜が形成された光反射膜付基板であって、凸部又は凹部を有する光反射膜を有し、凸部又は凹部により形成されるパターンは、複数のドットにより定義される一単位において不規則に配列されていることを特徴とする光反射膜付基板である。
【００６４】
すなわち、図７に示すように、一例として、ネガ型の感光性樹脂を用いた場合を示しているが、基材７７及び反射層７２を含む光反射膜付基板７０であって、当該基材７７に形成された複数の凸部７６の高さ又は凹部深さを実質的に等しくするとともに、当該複数の凸部７６の平面形状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、複数の凸部７６を平面方向にランダムに配列することを特徴とする光反射膜付基板７０である。
【００６５】
１．基材
基材の構成としては、図７に示すように、下方から第１の基材７６及び第２の基材７９を順次に含み、当該第１の基材７６が独立した複数の凸部から構成してあり、第２の基材７９が連続層である。
【００６６】
このように構成することにより、連続層である第２の基材７９を介して、その上に形成される反射層７２を比較的なだらかな曲面とすることができるため、液晶表示装置等に用いられた場合に、干渉縞の発生を有効に防止することができる。  以下、好適例として、図７に示すように、下方から基材７７が、第１の基材７６及び第２の基材７９から構成された場合を例にとって説明する。
【００６７】
（１）第１の基材
第１の基材における独立した複数の凸部の高さや凹部の深さを０．５〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００６８】
この理由は、かかる凸部の高さや凹部の深さが０．５μｍ未満の値になると、第２の基材を介して、適当な曲面を有する反射層を設けることが困難になる場合があるためである。一方、かかる凸部の高さや凹部の深さが５μｍを超えると、反射層の凹凸が大きくなって、過度に光を散乱させたり、あるいは断線しやすくなったりする場合があるためである。
【００６９】
したがって、第１の基材における独立した複数の凸部の高さや凹部の深さを０．８〜４μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１〜３μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００７０】
（２）第２の基材
第２の基材における連続した凸部の高さや凹部の深さを０．１〜３μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００７１】
この理由は、かかる凸部の高さや凹部の深さが０．１μｍ未満の値になると、その上に、適当な曲面を有する反射層を設けることが困難になる場合があるためである。一方、かかる凸部の高さや凹部の深さが３μｍを超えると、その上に形成される反射層の凹凸が大きくなって、過度に光を散乱させたり、あるいは断線しやすくなる場合があるためである。
【００７２】
したがって、第２の基材における独立した複数の凸部の高さや凹部の深さを０．１〜２μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．３〜２μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００７３】
（３）複数の凸部又は凹部
（３−１）凸部又は凹部の平面形状
また、基材に形成された複数の凸部又は凹部の平面形状に関して、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とすることが好ましい。
【００７４】
この理由は、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とすることにより、複数の凸部又は凹部の平面形状や配置パターンを、露光プロセスを用いて、正確に制御することができるためである。また、このような平面形状の凸部又は凹部であれば、光を散乱させることができ、干渉縞の発生を有効に防止することができるためである。
【００７５】
また、凸部の平面形状の好適例として、図８（ａ）に示すようなオフセットした楕円形（液滴形状）や、図８（ｂ）に示すようなオフセットした四角形（ピラミッド型）、あるいは凹部の平面形状の好適例として、図１８〜図２２に示す楕円のドーム形状や長円のドーム形状等が挙げられる。
【００７６】
この理由は、複数の凸部又は凹部の平面形状を、このような平面形状とすることにより、高さ方向の斜面と相俟って、図９に示すように、所定の光散乱性を維持したまま、光指向性が向上するためである。図９中、一点鎖線ａが図８（ａ）に示すようなオフセットした楕円形の場合に視覚される光量を示しており、実線ｂがオフセットしていない均等な円形の場合に視覚される光量を示している。したがって、このような平面形状とすることにより、一定方向から眺めた場合、例えば、角度が＋１５°の位置において目に入ってくる光量が多くなり、その位置では明るい画像を認識することができる。
【００７７】
（３−２）凸部又は凹部の径
また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、その凸部又は凹部の径を３〜１５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００７８】
この理由は、かかる範囲の径を有する複数の凸部又は凹部であれば、平面形状や配置パターンを、露光プロセスを用いて、正確に制御することができるとともに、光を適度に散乱させ、干渉縞の発生を有効に防止することができるためである。また、かかる範囲の径を有する複数の凸部又は凹部であれば、不定形のシミ模様が視覚されることが少なくなるためである。
【００７９】
したがって、複数の凸部又は凹部の径を５〜１３μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、６〜１２μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００８０】
（３−３）凸部の高さ及び凹部の深さ
また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、その凸部の高さや凹部の深さを０．１〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００８１】
この理由は、かかる凸部の高さや凹部の深さが０．１μｍ未満の値になると、露光プロセスを用いても、凸凹が小さくなり散乱特性が低下するためである。一方、かかる凸部の高さや凹部の深さが１０μｍを超えると、反射層の凹凸が大きくなって、過度に光を散乱したり、あるいは断線しやすくなる場合があるためである。
【００８２】
したがって、凸部の高さや凹部の深さを０．２〜３μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．３〜２μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００８３】
（３−４）ランダム配列１
また、基材表面に形成された複数の凸部又は凹部、特に第１の基材を構成する複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的に等しくするとともに、当該複数の凸部又は凹部を平面方向にランダムに配列することが好ましい。
【００８４】
この理由は、複数の凸部又は凹部が規則的に配列されていると、液晶表示装置等に使用された場合に、干渉縞が発生し、画像品質が著しく低下する場合があるためである。
【００８５】
また、かかる複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的に等しくするのは、逆に、特開平６−２７４８１号公報や特開平１１−２８１９７２号公報に記載されたように、複数の凸部の高さや凹部の深さを異ならせると、製造が困難となって、安定して干渉縞の発生を抑制することができない場合があるためである。
【００８６】
また、複数の凸部又は凹部の径を異ならせ、例えば、２〜１０種類の凸部又は凹部を設けることが好ましい。
【００８７】
この理由は、このように構成することにより、１種類の凸部又は凹部によっては得られないような複雑な光反射を可能とし、光をより分散して散乱させることができるためである。
【００８８】
したがって、径が異なる複数の凸部又は凹部を設けることにより、干渉縞の発生をさらに有効に防止することができる。
【００８９】
（３−５）ランダム配列２
複数の凸部又は凹部を、光反射膜が使用される液晶表示装置等における１画素（ＲＧＢ：３ドット）、２画素（ＲＧＢ：６ドット）、又は４画素（ＲＧＢ：１２ドット）を一単位として、平面方向にランダムに配列することが好ましい。
【００９０】
この理由は、ＲＧＢドットのいくつかを単位とした複数の凸部であっても、複数の凸部が光を適当に散乱させて、干渉縞の発生を有効に防止することができるためである。また、ＲＧＢドットを基本単位としてパターン化するため、パターンの情報量を少なくすることができ、光反射膜を製造する際のパターンの位置あわせ等が容易になるためである。
【００９１】
なお、このようなランダム配列は、上述したように、図２〜図４に示す光反射膜用マスクパターンを介して、露光プロセスによって、容易に形成することができる。
【００９２】
（３−６）ランダム配列３
また、基材を仮想線によって分割し、当該仮想線に対して、複数の凸部又は凹部を鏡面対称に配列することが好ましい。
【００９３】
このように構成することにより、鏡面対称であることを利用して、光を適当に散乱させることができるため、干渉縞の発生をさらに有効に防止することができる。また、鏡面対称パターンを利用すると、回転移動させることにより一致させることができるため、パターンの情報量を少なくすることができ、光反射膜付基板の製造が容易になる。
【００９４】
なお、このような鏡面対称パターンを作成するにあたり、第１実施形態で説明した鏡面対称パターンを有するマスクを好適に使用することができる。
【００９５】
（４）開口部
光反射膜付基板において、光を部分的に通過させるための開口部が設けてあることが好ましい。このように構成することにより、反射透過両用型の液晶表示装置等に使用することができる。
【００９６】
すなわち、図１０に示すように、光反射膜１００の一部に開口部１０２を設けることにより、光反射膜１００によって外部からの光を効率的に反射することができるとともに、内部から発せられた光についても、開口部１０２を通して、外部に効果的に放出することができる。
【００９７】
なお、開口部の大きさは特に制限されるものでなく、光反射膜付基板の用途等によって決定されることが好ましいが、例えば、光反射膜付基板の全体面積を１００％としたときに、５〜８０％の範囲内の値とすることが好ましく、１０〜７０％の範囲内の値とすることがより好ましく、２０〜６０％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００９８】
２．反射層
（１）厚さ
光反射膜付基板における反射層の厚さを０．０５〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００９９】
この理由は、かかる反射層の厚さが０．０５μｍ未満の値になると、反射効果が著しく乏しくなる場合があるためである。一方、かかる反射層の厚さが５μｍを越えると、得られる光反射膜付基板のフレキシブル性が低下したり、製造時間が過度に長くなる場合があるためである。
【０１００】
したがって、かかる反射層の厚さを０．０７〜１μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．１〜０．３μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【０１０１】
（２）種類
また、反射層の構成材料は特に制限されるものでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｗ）及びニッケル（Ｎｉ）等の導電性や光反射性に優れた金属材料とすることが好ましい。
【０１０２】
また、上記反射層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム、あるいは酸化スズ等の透明導電材料を使用することも好ましい。
【０１０３】
ただし、このような金属材料や透明導電材料を用いた際に、液晶への溶け込みがある場合には、当該金属材料等からなる反射膜の表面に電気絶縁膜を設けたり、金属材料等とともに、電気絶縁物をスパッタリング等することも好ましい。
【０１０４】
（３）下地層
また、反射層を第２の基板の上に形成するにあたり、密着力を向上させるとともに、反射層をなだらかな曲面とするために、厚さ０．０１〜２μｍの下地層を設けることが好ましい。
【０１０５】
なお、このような下地層の構成材料として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、アルミニウム−マグネシウム合金、アルミニウム−シラン合金、アルミニウム−銅合金、アルミニウム−マンガン合金、アルミニウム−金合金等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げられる。
【０１０６】
（４）鏡面反射率
また、反射層における鏡面反射率を５〜５０％の範囲内の値とすることが好ましい。
【０１０７】
この理由は、かかる鏡面反射率が５％未満の値となると、液晶表示装置等に使用した場合に、得られる表示画像の明るさが著しく低下する場合があるためである。一方、かかる鏡面反射率が５０％を超えると、散乱性が低下して、背景の写りこみや、外部光が過度に鏡面反射する場合があるためである。
【０１０８】
したがって、反射層における鏡面反射率を１０〜４０％の範囲内の値とすることがより好ましく、１５〜３０％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【０１０９】
上述した光反射膜付基板を、他の構成部材、例えば、図１４及び図１５に示すように、カラーフィルタ１５０、遮光層１５１、オーバーコート層１５７、複数の透明電極１５４と、配向膜等と組み合わせることが好ましい。
【０１１０】
このように組み合わせることにより、干渉縞の発生が少ない、カラー液晶表示装置等の部材を効率的に提供することができる。例えば、ＲＧＢ（赤、青、緑）の３色の色要素により構成したストライプ配列、モザイク配列、あるいはデルタ配列等のカラーフィルタ１５０を組み合わせることにより、容易にカラー化が図れるし、さらに遮光層１５１と組み合わせることにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。また、光反射膜付基板は反射電極として使用することもできるが、他の電極、例えば、透明電極１５４を設けることにより、光吸収を防ぎながら、複数の凸部又は凹部からなる反射膜の影響を排除することができる。
【０１１１】
さらに、ＲＧＢ（レッド、グリーン、ブルー）からなる３色素からなるカラーフィルタのかわりに、ＹＭＣ（イエロー、マゼンダ、シアン）からなる３色素によってカラーフィルタを構成することも好ましい。このように、ＹＭＣの３色素からなるカラーフィルタは、光透過特性に優れ、例えば、反射型液晶表示装置に用いた場合には、さらに明るい表示を得ることができる。
【０１１２】
[第３実施形態]
第３実施形態は、複数のドット領域を有する基材に光反射膜を形成する方法であって、基材に感光性材料を塗布する工程と、感光性材料を露光する工程と、露光した感光性材料に凹凸を形成する工程と、凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備し、凹凸のパターンが、ドット領域の数より少ない複数ドット分を一単位とし、かつその一単位内において不規則になるように形成されることを特徴とする光反射膜の形成方法である。
【０１１３】
すなわち、光透過部又は光不透過部を、例えば、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、平面方向にランダムに配列されたマスクを使って、塗布された感光性樹脂に対して、露光プロセスによって、高さが実質的に等しく、平面方向にランダムに配列され、かつ、独立した複数の凸部又は凹部を有する第１の基材を形成する工程と、当該第１の基材の表面に感光性樹脂を塗布して、露光プロセスによって、連続した複数の凸部又は凹部を有する第２の基材を形成する工程と、当該第２の基材の表面に反射層を形成する工程と、を含むことを特徴とする光反射膜付基板の製造方法である。
【０１１４】
以下、図１１及び図１２を適宜参照しながら、第１の基材の表面に凹部を形成する場合を例に採って、光反射膜付基板の製造方法を具体的に説明する。なお、図１１は、光反射膜付基板の製造工程を図式化したものであって、図１２は、それのフローチャートである。
【０１１５】
１．第１の基材を形成する工程
平面方向にランダムに配列された複数の凹部を、第１実施形態で説明したマスクを利用して、ポジ型感光性樹脂から、露光プロセスによって形成することが好ましい。
【０１１６】
すなわち、光透過部又は光不透過部を独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、平面方向にランダムに配列してあるマスクを介して、平面方向にランダムに配列された複数の凹部を、感光性樹脂から構成してあることが好ましい。
【０１１７】
（１）感光性樹脂
第１の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、精度良く、所定の円形又は多角形とすることができるように、感光性樹脂中に、シリカ粒子、酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化アルミニウム等の無機フィラーを添加しておくことも好ましい。
【０１１８】
なお、上述したように、第１の基材を構成する感光性樹脂としては、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用することができる。
【０１１９】
（２）露光プロセス
図１１（ａ）及び図１２の工程Ｐ３１に示すように、独立した複数の凹部である第１の基材を形成するにあたり、スピンコーター等を用いて、第１の基材を構成する感光性樹脂を、支持部１１４上に均一に塗布して、第１層１１０を形成することが好ましい。その場合、スピンコーターの条件として、例えば、６００〜２、０００ｒｐｍの回転数で、５〜２０秒とすることが好ましい。
【０１２０】
次いで、解像度を向上させるために、図１２の工程Ｐ３２に示すように、第１層１１０をプリベークすることが好ましい。その場合、例えば、ホットプレートを用いて、８０〜１２０℃、１〜１０分の加熱条件とすることが好ましい。
【０１２１】
次いで、図１１（ｂ）及び図１２の工程Ｐ３３に示すように、第１実施形態のマスク１１９を使用し、均一に塗布された感光性樹脂からなる第１層１１０の上に、第１実施形態のマスク１１９を載置した後、ｉ線等を露光することが好ましい。その場合、ｉ線等の露光量を例えば５０〜３００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。
【０１２２】
次いで、図１１（ｃ）及び図１２の工程Ｐ３４に示すように、現像液によって、例えば、マスク１１９の光透過部１１７を透過した部分をポジ現像することにより、平面方向にランダムに配列され、独立した複数の凹部からなる第１の基材１１２を形成することができる。
【０１２３】
なお、第２の基材１１３を形成する前に、図１２の工程Ｐ３５及び図３６に示すように、一例として、露光量が３００ｍＪ／ｃｍ2となるように全面的にポスト露光した後、２２０℃、５０分の条件で加熱することによってポストベークし、第１の基材１１２をさらに強固にすることも好ましい。
【０１２４】
２．第２の基材を形成する工程
第２の基材を形成する工程は、樹脂塗布等によって、第１の基材上、すなわち、平面方向にランダムに配列された複数の凹部上に、連続層としての第２の基材を形成する工程である。
【０１２５】
（１）感光性樹脂
第２の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。
【０１２６】
また、第１の基材と第２の基材との間の密着力が向上するため、第２の基材を構成する感光性樹脂と、第１の基材を構成する感光性樹脂とを同種とすることが好ましい。
【０１２７】
なお、第１の基材と第２の基材との間の密着力が向上するため、第１の基材の表面に、シランカップリング剤等の処理を施しておくことが好ましい。
【０１２８】
（２）露光工程
図１１（ｄ）及び図１２の工程Ｐ３７〜Ｐ４０に示すように、第２の基材１１３を形成するにあたっては、第２の基材１１３を構成する感光性樹脂を塗布した後、パネル表示領域周辺の実装領域にｉ線等を露光して樹脂層を除去することが好ましい。この場合も、第１の基材１１２を露光させるのと同様に、ｉ線等の露光量を例えば５０〜３００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。
【０１２９】
さらに、図１２の工程Ｐ４１〜Ｐ４２に示すように、第２の基材１１３を形成した後に、一例として、露光量が３００ｍＪ／ｃｍ2となるように全面的にポスト露光した後、２２０℃、５０分の条件で加熱することによってポストベークし、第１の基材１１２及び第２の基材１１３をそれぞれさらに強固にすることも好ましい。
【０１３０】
３．反射層を形成する工程
反射層を形成する工程は、図１１（ｅ）及び図１２の工程Ｐ４３〜Ｐ４４に示すように、第２の基材１１３の表面に、適度に光散乱させるように、滑らかな曲面を有する反射層１１６を形成する工程である。
【０１３１】
（１）反射層材料
反射層材料としては、第２実施形態で説明したように、アルミニウム（Ａｌ）及び銀（Ａｇ）等の光反射性に優れた金属材料とすることが好ましい。
【０１３２】
（２）形成方法
スパッタリング等の手法を用いて、反射層を形成することが好ましい。また、所望の箇所以外の反射層材料は、フォトエッチング等の手法で除去することができる。
【０１３３】
また、第２の基材の表面に凹凸があるため、反射層材料が均一な厚さに積層しない場合があるが、そのようなときには、回転蒸着法や回転スパッタリング法を採用することが好ましい。
【０１３４】
さらにまた、反射層を形成するとともに、当該反射層をＴＦＴ（Thin Film Transistor）や、ＭＩＭ(Metal Insulating Metal)等の端子に対して、電気接続することが好ましい。
【０１３５】
[第４実施形態]
第４実施形態は、アクティブ素子として２端子型の能動素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置であって、基板間に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側と反対側の基板に設けられた光反射膜付基板と、を具備しており、当該光反射膜付基板が、基材及び反射層からなり、当該基材に形成された複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的に等しくしてあるとともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに配列してあることを特徴とした液晶表示装置である。
【０１３６】
以下、図２３〜図２５を参照して具体的に説明するが、外部光を用いた反射表示と照明装置を用いた透過表示を選択的に行うことができる方式の半透過反射型液晶装置を例にとって説明する。
【０１３７】
まず、本実施形態においても液晶装置２３０は、図２３に示すように、第１基板２３１ａと第２基板２３１ｂとをシール材（図示せず）によって貼り合わせ、さらに、第１基板２３１ａ、第２基板２３１ｂ及びシール材によって囲まれる間隙すなわちセルギャップ内に液晶を封入することによって形成される。なお、一方の基板２３１ｂの表面に、液晶駆動用ＩＣ（図示せず）が、例えば、ＣＯＧ（Chip on glass）方式によって直接的に実装されていることが好ましい。
【０１３８】
そして、図２３において、液晶装置２３０の表示領域を構成する複数の表示ドットのうち、数個の断面構造を拡大して示しており、図２４は、１つの表示ドット部分の断面構造を示している。
【０１３９】
ここで、図２３に示すように、第２基板２３１ｂのシール材によって囲まれる内部領域には、複数の画素電極が、行方向ＸＸ及び列方向ＹＹに関してドットマトリクス状の配列で形成される。また、第１基板２３１ａのシール材によって囲まれる内部領域にはストライプ状の電極が形成され、そのストライプ状電極が第２基板２３１ｂ側の複数の画素電極に対向して配置されることになる。
【０１４０】
また、第１基板２３１ａ上のストライプ状電極と、第２基板２３１ｂ上の１つの画素電極によって液晶を挟んだ部分が１つの表示ドットを形成し、この表示ドットの複数個がシール材によって囲まれる内部領域内で、ドットマトリクス状に配列することによって表示領域が形成される。また、液晶駆動用ＩＣは複数の表示ドット内の対向電極間に選択的に走査信号及びデータ信号を印加することにより、液晶の配向を表示ドット毎に制御することになる。すなわち、液晶の配向制御により該液晶を通過する光が変調されて、表示領域内に文字、数字等といった像が表示される。
【０１４１】
また、図２４において、第１基板２３１ａは、ガラス、プラスチック等によって形成された基材２３６ａと、その基材２３６ａの内側表面に形成された光反射膜２３１と、その光反射膜２３１の上に形成されたカラーフィルタ２４２と、そのカラーフィルタ２４２の上に形成された透明なストライプ状電極２４３とを有する。そのストライプ状電極２４３の上には、配向膜２４１ａが形成される。この配向膜２４１ａに対して配向処理としてのラビング処理が施される。ストライプ状電極２４３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料によって形成される。
【０１４２】
また、第１基板２３１ａに対向する第２基板２３１ｂは、ガラス、プラスチック等によって形成された基材２３６ｂと、その基材２３６ｂの内側表面に形成されたスイッチング素子として機能するアクティブ素子としてのＴＦＤ（Thin Film Diode）２４７と、このＴＦＤ２４７に接続された画素電極２３９とを有する。ＴＦＤ２４７及び画素電極２３９の上には、配向膜２４１ｂが形成され、この配向膜２４１ｂに対して配向処理としてのラビング処理が施される。画素電極２３９は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料によって形成される。
【０１４３】
また、第１基板２３１ａに属するカラーフィルタ２４２は、第２基板２３１ｂ側の画素電極２３９に対向する位置にＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）又はＹ（イエロー），Ｍ（マゼンタ），Ｃ（シアン）等といった各色のいずれかの色フィルタエレメント２４２ａを有し、画素電極２３９に対向しない位置にブラックマスク２４２ｂを有することが好ましい。
【０１４４】
また、図２４に示すように、第１基板２３１ａと第２基板２３１ｂとの間の間隔、すなわちセルギャップはいずれか一方の基板の表面に分散された球状のスペーサ３０４によって寸法が維持され、そのセルギャップ内に液晶が封入される。
【０１４５】
ここで、ＴＦＤ２４７は、図２４に示すように、第１金属層２４４と、その第１金属層２４４の表面に形成された絶縁層２４６と、その絶縁層２４６の上に形成された第２金属層２４８とによって構成されている。このようにＴＦＤ２４７は、第１金属層／絶縁層／第２金属層から成る積層構造、いわゆるＭＩＭ（Metal Insulator Metal）構造によって構成されている。
【０１４６】
また、第１金属層２４４は、例えば、タンタル単体、タンタル合金等によって形成される。第１金属層２４４としてタンタル合金を用いる場合には、主成分のタンタルに、例えば、タングステン、クロム、モリブデン、レニウム、イットリウム、ランタン、ディスプロリウム等といった周期律表において第６〜第８族に属する元素が添加される。
【０１４７】
また、第１金属層２４４はライン配線２４９の第１層２４９ａと一体に形成される。このライン配線２４９は画素電極２３９を間に挟んでストライプ状に形成され、画素電極２３９へ走査信号を供給するための走査線又は画素電極２３９へデータ信号を供給するためのデータ線として作用する。
【０１４８】
また、絶縁層２４６は、例えば、陽極酸化法によって第１金属層２４４の表面を酸化することによって形成された酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）によって構成される。なお、第１金属層２４４を陽極酸化したときには、ライン配線２４９の第１層２４９ａの表面も同時に酸化されて、同様に酸化タンタルから成る第２層２４９ｂが形成される。
【０１４９】
また、第２金属層２４８は、例えばＣｒ等といった導電材によって形成される。画素電極２３９は、その一部が第２金属層２４８の先端に重なるように基材２３６ｂの表面に形成される。なお、基材２３６ｂの表面には、第１金属層２４４及びライン配線の第１層２４９ａを形成する前に酸化タンタル等によって下地層を形成することがある。これは、第２金属層２４８の堆積後における熱処理によって第１金属層２４４が下地から剥離しないようにしたり、第１金属層２４４に不純物が拡散しないようにしたりするためである。
【０１５０】
そして、第１基板２３１ａに形成された光反射膜２３１は、例えば、アルミニウム等といった光反射性の金属によって形成され、第２基板２３１ｂに属する各画素電極２３９に対応する位置、すなわち各表示ドットに対応する位置に光透過用の開口２４１が形成される。また、光反射膜２３１の液晶側表面には、例えば、図８又は図１８〜２２に示すような長円形状でドーム形状の谷部又は山部８０、８４、１８０、１９０、２００、２１０、２２０が形成してあることが好ましい。すなわち、かかる谷部又は山部８０、８４、１８０、１９０、２００、２１０、２２０は、ライン配線の延在方向であるＸ軸線方向を長軸とし、それと直角なＹ軸線方向が短軸となるように配列されていることが好ましい。また、谷部又は山部８０、８４、１８０、１９０、２００、２１０、２２０の長軸方向Ｘは、基材のＸＸ方向に延びる端辺に対して平行に設定され、短軸方向Ｙは基材のＹＹ方向に延びる端辺に対して平行に設定されていることが好ましい。
【０１５１】
第４実施形態の液晶表示装置２３０は以上のように構成されているので、当該液晶表示装置２３０が反射型表示を行う場合には、図２３において、観察者側すなわち第２基板２３１ｂ側から液晶表示装置２３０の内部へ入った外部光は、液晶を通過して光反射膜２３１に到達し、当該反射膜２３１で反射して再び液晶へ供給される（図２４の矢印Ｆ１参照）。液晶は、画素電極２３９とストライプ状対向電極２４３との間に印加される電圧、すなわち走査信号及びデータ信号によって表示ドット毎にその配向が制御され、これにより、液晶に供給された反射光は表示ドット毎に変調され、これにより観察者側に文字、数字等といった像が表示される。
【０１５２】
他方、液晶表示装置２３０が透過型表示を行う場合には、第１基板２３１ａの外側に配置された照明装置（図示せず）、いわゆるバックライトが発光し、この発光が偏光板２３３ａ、位相差板２３２ａ、基材２３６ａ、光反射膜２３１の開口２４１、カラーフィルタ２４２、電極２４３及び配向膜２４１ａを通過した後に液晶に供給される（図２４の矢印Ｆ２参照）。この後、反射型表示の場合と同様にして表示が行われる。
【０１５３】
そして、第４実施形態では、光反射膜付基板における基材上に、複数の凸部又は凹部を設けるとともに、当該複数の凸部又は凹部の高さを実質的に変えずに、平面方向にランダムに配列してあることから、干渉縞の発生を少なくすることができる。
【０１５４】
また、第４実施形態において、上述したように、複数の凸部又は凹部におけるＸ軸線に沿った立体形状とＹ軸線に沿った立体形状とを互いに異ならせた場合には、一定の視野角方向への反射光量を低く抑えた上で、別の特定の視野角方向への反射光量を増大させることができる。この結果、観察者は、光反射膜を用いて行われる反射型表示の際に、液晶表示装置の表示領域内に表示される像を特定の視野角方向に関して非常に明るい表示として観察できる。
【０１５５】
[第５実施形態]
第５実施形態は、パッシブマトリクス方式の反射型液晶表示装置に関する液晶表示装置であって、基板間に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側と反対側の基板に設けられた光反射膜付基板と、を具備しており、当該光反射膜付基板が、基材及び反射層からなり、当該基材に形成された複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的に等しくしてあるとともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに配列してあることを特徴とした液晶表示装置である。
【０１５６】
以下、図１４を適宜参照しながら、第５実施形態におけるパッシブマトリクス方式の反射型液晶表示装置を、具体的に説明する。なお、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある場合がある。
【０１５７】
１．構成
図１４に示すように、この液晶表示装置１４０は、相互に対向する第１基板１４１と第２基板１４２とがシール材１５８を介して貼り合わされ、両基板の間に液晶１４４が封入された構成となっている。さらに、この液晶表示装置１４０の観察側には、光透過性を有する保護板１４５が配設される。この保護板１４５は、当該液晶表示装置１４０を外部から与えられる衝撃などから保護するための板状部材であり、例えば液晶表示装置１４０が搭載される電子機器の筐体に設けられる。また、保護板１４５は、液晶表示装置１４０における第１基板１４１（観察側の基板）の基板面と近接するように配設される。なお、第５実施形態においては、プラスチックからなる保護板１４５を、第１基板１４１の構成要素のうち最も観察側に位置する偏光板１４６の表面に当接させた場合を想定する。このように保護板１４５をプラスチックにより構成した場合、成形が容易で安価に製造できるという利点がある反面、その表面に微細な凹凸が形成されやすい。
【０１５８】
一方、液晶表示装置１４０の第１基板１４１及び第２基板１４２は、ガラスや石英、プラスチック等の光透過性を有する板状部材である。このうち、観察側に位置する第１基板１４１の内側（液晶１４４側）表面には、所定の方向に延在する複数の透明電極１４３が形成されている。各透明電極１４３は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料によって形成された帯状の電極である。さらに、これらの透明電極１４３が形成された第１基板１４１の表面は、配向膜（図示略）によって覆われている。この配向膜はポリイミド等の有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶１４４の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【０１５９】
２．光散乱膜
第１基板１４１の外側（液晶１４４とは反対側）には、入射光を所定方向に偏光させる偏光板１４６と、第１基板１４１と偏光板１４６との間に介在する散乱層１４７とが設けられている。散乱層１４７は、当該散乱層１４７を透過する光を散乱させるための層であり、偏光板１４６を第１基板１４１に貼着するための接着剤１４８ａと、当該接着剤１４８ａ中に分散された多数の微粒子１４８ｂとを有する。この散乱層１４７としては、例えばアクリル系又はエポキシ系等の接着剤１４８ａに、シリカからなる微粒子１４８ｂを分散させたものを用いることができる。そして、接着剤１４８ａの屈折率と微粒子１４８ｂの屈折率とは異なっており、当該散乱層１４７に入射した光は接着剤１４８ａと微粒子１４８ｂとの境界において屈折するようになっている。この結果、散乱層１４７への入射光を、適度に散乱させた状態で出射させることができる。
【０１６０】
さらに、第５実施形態における散乱層１４７は、そのヘイズ値（曇価）Ｈが１０〜６０％の範囲内の値となるように、接着剤１４８ａ中に分散される微粒子１４８ｂの数や両者の屈折率などが選定されている。ここで、ヘイズ値Ｈとは、ある部材への入射光が当該部材を透過する際に散乱する程度を表す値であり、以下の式により定義される。
【０１６１】
ヘイズ値（曇価）Ｈ＝（Ｔｄ／Ｔｔ）×１００（％）
ここで、Ｔｔは全光線透過率（％）であり、Ｔｄは散乱光透過率（％）である。全光線透過率Ｔｔは、ヘイズ値Ｈの測定対象となる試料への入射光量のうち当該試料を透過した光量の割合を表す値である。一方、散乱光透過率Ｔｄは、試料に対して所定方向から光を照射した場合に、当該試料を透過した光量のうち上記所定方向以外の方向に出射した光量、すなわち、散乱光量の割合を表す値である。つまり、試料からの出射光量のうち入射光と平行な方向への出射光量の割合を平行光透過率Ｔｐ（％）とすると、上記散乱光透過率Ｔｄは、上記全光線透過率Ｔｔと平行光透過率Ｔｐとの差（Ｔｄ＝Ｔｔ−Ｔｐ）により表される。上記からも明らかなように、ヘイズ値Ｈが高ければ散乱の程度が大きく、すなわち透過光量に占める散乱光量の割合が大きく、逆にヘイズ値Ｈが低ければ散乱の程度が小さい、すなわち透過光量に占める散乱光量の割合が小さいということができる。
なお、上記ヘイズ値（曇価）Ｈについては、JIS(Japanese Industrial Standards) K6714-1977に詳述されている。
【０１６２】
３．反射層（光反射膜）
一方、第２基板１４２の内側（液晶１４４側）表面には反射層１４９が形成されている。この反射層１４９は、液晶表示装置１４０に対して観察側から入射した光を反射させるための層であり、例えばアルミニウムや銀といった光反射性を有する金属によって形成される。
【０１６３】
ここで、図１４に示すように、第２基板１４２の内側表面のうち反射層１４９によって覆われる領域は多数の微細な突起及び窪みが形成された粗面となっている。より具体的には、基材と、反射層とを含む光反射膜付基板であって、当該基材の表面に独立して形成された複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的に等しくするとともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、複数の凸部又は凹部を平面方向にランダムに配列した反射層１４９である。
【０１６４】
このため、反射層１４９の表面は、第２基板１４２表面の突起及び窪みを反映した粗面となる。すなわち、反射層１４９は、当該表面における反射光を適度に散乱させて広い視野角を実現するための散乱構造を有している。より具体的には、反射層１４９が、複数の凸部又は凹部からなる基材上に形成されており、そして、基材に形成された複数の凸部の高さを実質的に等しくしてあるとともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに配列してある構造である。
【０１６５】
４．その他の構成
さらに、第２基板１４２を覆う反射層１４９の面上には、カラーフィルタ１５０と、遮光層１５１と、カラーフィルタ１５０及び遮光層１５１によって形成される凹凸を平坦化するためのオーバーコート層１５７と、複数の透明電極１５４と、配向膜（図示略）とが形成されている。
【０１６６】
各透明電極１５４は、第１基板１４１上の透明電極１４３の延在方向と交差する方向（図１４における紙面左右方向）に延在する帯状の電極であり、透明電極１４３と同様にＩＴＯ等の透明導電材料によって形成される。
【０１６７】
かかる構成の下、液晶１４４は、透明電極１４３と透明電極１５４との間に印加された電圧に応じてその配向方向が変化する。すなわち、透明電極１４３と透明電極１５４とが交差する領域が画素（サブ画素）として機能するのである。カラーフィルタ１５０は、これらの画素の各々に対応して設けられた樹脂層であり、染料や顔料によってＲ、Ｇ、Ｂのいずれかに着色されている。
【０１６８】
また、遮光層１５１は、各画素の間隙部分を遮光するための格子状の層であり、例えばカーボンブラックが分散された黒色樹脂材料などによって形成される。
【０１６９】
５．動作
以上説明した構成によって反射型表示が実現される。すなわち、太陽光や室内照明光等の外光は、保護板１４５を透過して液晶表示装置１４０に入射し、反射層１４９の表面で反射する。
【０１７０】
この反射光は、液晶１４４及び第１基板１４１を透過し、散乱層１４７において適度に散乱された後に偏光板１４６を透過して液晶表示装置１４０の観察側に出射する。そして液晶表示装置１４０からの出射光は、保護板１４５を透過して観察者に視認される。
【０１７１】
ここで、上述したように、保護板１４５の材料としてプラスチックを用いた場合、その表面を完全な平面とすることは困難であり、複数の微細な凹凸が形成されやすい。このように微細な凹凸が形成された保護板１４５を液晶表示装置１４０の第１基板１４１と近接するように配設した場合、当該液晶表示装置１４０からの出射光が保護板１４５を透過するときに干渉する結果、当該凹凸に対応する干渉縞が表示画像に重なって表示品位の低下を招き得る。
【０１７２】
しかしながら、本発明者による試験の結果、上記実施形態に示したように、液晶１４４を通過して保護板１４５に至る光を散乱層１４７によって散乱させた場合には、高品位の表示を実現できるという知見を得るに至った。
【０１７３】
また、図１４に示した構成において、干渉縞の発生を抑えるという観点からは、散乱層１４７のヘイズ値Ｈが高い、つまり、散乱の程度が高いことが望ましい。しかしながら、このヘイズ値Ｈをあまりに高い値（例えば７０％以上の値）とした場合、液晶表示装置１４０から保護板１４５に至る光が散乱し過ぎて表示画像のコントラストが低下する、すなわち表示画像がぼやけるという新たな問題が生じ得る。一方、散乱層１４７のヘイズ値Ｈをあまりに低い値とした場合、例えば１０％以下の値とした場合、凹凸に起因するシミが見え易い。
【０１７４】
本発明者による試験の結果、凸部又は凹部により形成されるパターンが、１ドット又は２ドットにより定義される一単位内において不規則に配列されている場合には、散乱層１４７のヘイズ値Ｈを４０％〜６０％の範囲内の値に設定するのが好ましく、表示画像のコントラストが著しく低下するのを回避しつつ、保護板１４５の表面の凹凸に起因した表示品位の低下を有効に抑えることができ、良好な表示品位を確保できるという知見を得るに至った。
また、凸部又は凹部により形成されるパターンが、３ドット以上で定義される一単位内において不規則に配列されている場合には、散乱層１４７のヘイズ値Ｈを１０％〜４０％の範囲内の値に設定することで、コントラストを高く設定することができた。
【０１７５】
なお、第５実施形態に示したように、接着剤１４８ａ中に微粒子１４８ｂを分散させた散乱層１４７を用いた場合、例えば微粒子１４８ｂの添加量（数）を調節することによってヘイズ値Ｈを任意に選定することができる。
【０１７６】
すなわち、接着剤１４８ａ中に分散させる微粒子１４８ｂの添加量を増やせば、当該散乱層１４７への入射光はより散乱することとなるため、当該散乱層１４７のヘイズ値Ｈを高くすることができ、逆に微粒子の添加量を減らせば散乱層１４７のヘイズ値Ｈを低くすることができるといった具合である。
【０１７７】
また、第５実施形態によれば、液晶表示装置１４０から出射する光の散乱の程度を広範囲にわたって容易に選定できるという利点がある。すなわち、上記散乱層１４７を有しない液晶表示装置において、液晶表示装置１４０から出射する光の散乱の程度を調節するためには、反射層１４９の表面の形状、例えば凸部の高さや凹部の深さ、もしくは隣接する凸部（又は凹部）間の距離などを調節する必要がある。
【０１７８】
しかしながら、このように反射層１４９の表面を正確に所望の形状にすることは、第２基板１４２上に所望の凹凸を形成する製造技術上の事情などを考慮すると必ずしも容易ではない。さらに、反射層１４９表面の形状を調節することのみによっては、液晶表示装置１４０から出射する光の散乱の程度を調節可能な幅が極めて狭い範囲に限定されてしまう。
【０１７９】
これに対し、本実施形態によれば、反射層１４９の表面の形状を大幅に変更しなくても、散乱層１４７のヘイズ値Ｈを変更することによって、例えば接着剤１４８ａ中に分散する微粒子１４８ｂの添加量などを適宜調節することによって、液晶表示装置１４０から出射する光の散乱の程度を広範囲にわたって容易に調節できるという利点がある。
【０１８０】
[第６実施形態]
第６実施形態は、基板間に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反対側の基板に設けられた光反射膜付基板と、を具備した液晶表示装置であって、当該光反射膜付基板が、基材及び反射層からなり、当該基材に形成された複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的に等しくしてあるとともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに配列してあるパッシブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置である。
【０１８１】
そこで、図１５を参照して、第６実施形態のパッシブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置について、具体的に説明する。
【０１８２】
１．基本構成
図１５に示すように、第６実施形態においては、液晶表示装置１６０の背面側（観察側とは反対側）にバックライトユニット１５３が配設される。このバックライトユニット１５３は、光源として機能する複数のＬＥＤ１５（図１５においてはひとつのＬＥＤ１５のみが図示されている。）と、側端面に入射したＬＥＤ１５からの光を液晶表示装置１６０における第２基板１４２の全面に導く導光板１５２と、この導光板１５２により導かれた光を液晶表示装置１６０に対して一様に拡散させる拡散板１５５と、導光板１５２から液晶表示装置１６０とは反対側に出射した光を液晶表示装置１６０側に反射させる反射板１５６とを有する。
【０１８３】
ここで、ＬＥＤ１５は常に点灯しているわけではなく、外光がほとんど存在しないような環境において使用される場合に、ユーザからの指示やセンサからの検出信号に応じて点灯する。
【０１８４】
さらに、第６実施形態に係る液晶表示装置１６０においては、反射層１４９のうち各画素の中央部近傍に対応する領域に開口部１５９が形成されている。また、第２基板１４２の外側（液晶１４４とは反対側）には別の偏光板が貼着されるが、図１５においてはその偏光板を省略して図示している。
【０１８５】
２．動作
かかる構成の液晶表示装置１６０によれば、上記第６実施形態において示した反射型表示に加えて、透過型表示を実現することができる。すなわち、バックライトユニット１５３から液晶表示装置１６０に照射された光は、反射層１４９の開口部１５９を通過する。この光は、液晶１４４及び第１基板１４１を透過し、散乱層１４７において散乱した後に偏光板１４６を透過して液晶表示装置１６０の観察側に出射する。そして、この出射光が保護板１４５を透過して観察側に出射することにより、透過型表示が実現されるのである。
【０１８６】
したがって、本実施形態においても、上述した第６実施形態と同様、表面に微細な凹凸が形成された保護板１４５を液晶表示装置１６０と近接して設けた場合であっても、当該凹凸に起因した表示品位の低下を抑えることができる。
【０１８７】
[第７実施形態]
第７実施形態は、基板間に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反対側の基板に設けられた光反射膜付基板と、を具備した液晶表示装置であって、当該光反射膜付基板が、基材及び反射層からなり、当該基材に形成された複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的に等しくしてあるとともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに配列してある液晶表示装置の変形例である。
【０１８８】
（１）変形例１
上記各実施形態においては、散乱層１４７を第１基板１４１と偏光板１４６との間に設けた構成としたが、散乱層１４７の位置はこれに限られるものではない。例えば、干渉色を補償するための位相差板を偏光板１４６と第１基板１４１との間に設ける場合、当該位相差板と第１基板１４１との間に散乱層１４７を介挿してもよいし、又は位相差板と偏光板１４６との間に散乱層１４７を介挿してもよい。要は、散乱層１４７が、液晶１４４に対して保護板１４５側に設けられた構成であればよいのである。
【０１８９】
また、上記各実施形態においては、接着剤１４８ａ中に多数の微粒子１４８ｂを分散させた構成の散乱層１４７を用いたが、散乱層１４７の構成はこれに限られるものではなく、入射光を散乱させることができる層であれば、いかなる構成であってもよい。もっとも、接着剤１４８ａを含む散乱層１４７を用いた場合には、当該散乱層１４７を挟む部材、例えば、上記各実施形態における第１基板１４１と偏光板１４６同士を当該接着剤１４８ａによって接着することができるから、接着剤１４８ａを含まない散乱層１４７を用いた場合と比較して、製造コストの低減及び製造工程の簡素化を図ることができるという利点がある。
【０１９０】
（２）変形例２
上記第５実施形態においては反射型液晶表示装置を、第６実施形態においては半透過反射型液晶表示装置を例示したが、反射層１４９を有さず透過型表示のみを行う透過型液晶表示装置にも本発明を適用可能である。すなわち、透過型液晶表示装置においては、図１５に示した半透過反射型液晶表示装置のうち反射層１４９を除いた構成とすればよい。
【０１９１】
また、上記第４実施形態においては、開口部１５９を有する反射層１４９によって反射型表示と透過型表示の双方を実現する構成としたが、かかる反射層１４９に代えて、照射された光のうちの一部を透過させて他の一部を反射させる、いわゆるハーフミラーを用いた半透過反射型液晶表示装置にも、本発明を適用できることはいうまでもない。
【０１９２】
（３）変形例３
上記各実施形態においては、保護板１４５としてプラスチックの板状部材を用いた場合を例示した。かかる保護板１４５の表面には凹凸が形成されやすいため、本発明を適用することによって特に顕著な効果を奏し得る。しかしながら、保護板１４５の材料はこれに限られるものではなく、他にも様々な材料の板状部材を保護板１４５として用いることができる。
【０１９３】
（４）変形例４
上記各実施形態においては、カラーフィルタ１５０や遮光層１５１が第２基板１４２上に形成された場合を例示したが、これらの要素が第１基板１４１上に形成された構成の液晶表示装置や、カラーフィルタ１５０又は遮光層１５１を具備しない液晶表示装置にも、本発明を適用可能であることはいうまでもない。このように、観察側に近接して保護板１４５が配設される構成の液晶表示装置１６０であれば、その他の要素の態様如何に拘わらず、本発明を適用することができる。
【０１９４】
（５）変形例５
上記第４実施形態においては、アクティブ素子として２端子型の能動素子であるＴＦＤを用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例示したが、図１３に示すように、アクティブ素子として３端子型の能動素子であるＴＦＴを用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置でもよい。この場合には、図１３に示すように、遮光領域にＴＦＴ素子を設けることが好ましい。
【０１９５】
[第８実施形態]
第８実施形態は、光反射膜付基板を具備した液晶表示装置を含む電子機器であって、光反射膜付基板が、基材及び反射層を含み、当該基材に形成された複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的に等しくしてあるとともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、当該当該複数の凸部又は凹部を平面方向にランダムに配列してあることを特徴とする電子機器である。
【０１９６】
（１）モバイル型コンピュータ
まず、本発明に係る液晶表示装置を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パーソナルコンピュータ）の表示部に適用した例について説明する。図１６は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ１６１は、キーボード１６２を備えた本体部１６３と、本発明に係る液晶表示装置（図示略）を用いた表示部１６４とを備えている。表示部１６４は、窓部１６５に対応してプラスチックの保護板１４５が配設された筐体１６６に、本発明に係る液晶表示装置１６０が収容された構成となっている。より詳細には、液晶表示装置１６０は、その観察側の基板面が保護板１４５と近接するように、筐体１６６に収容されている。なお、かかるパーソナルコンピュータ１６１においては、外光が十分に存在しない状況下であっても表示の視認性を確保すべく、上記第６実施形態に示したように、背面側にバックライトユニット１５３を備えた半透過反射型液晶表示装置を用いることが望ましい。
【０１９７】
（２）携帯電話機
次に、本発明に係る液晶表示装置を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図１７は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機１７０は、複数の操作ボタン１７１のほか、受話口１７２、送話口１７３とともに、本発明に係る液晶表示装置（図示略）を用いた表示部１７４を備えている。この携帯電話機１７０においては、窓部１７４ｂに対応してプラスチックの保護板１７５が配設された筐体１７６に、本発明に係る液晶表示装置が収容された構成となっている。なお、携帯電話機１７０においても、上記パーソナルコンピュータと同様、液晶表示装置は、その観察側の基板面が保護板１７５に近接するように、筐体１７６に収容されている。
【０１９８】
なお、本発明に係る液晶表示装置を適用可能な電子機器としては、図１６に示したパーソナルコンピュータや図１７に示した携帯電話機のほかにも、液晶テレビや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器などが挙げられる。
上述したように、本発明に係る液晶表示装置によれば、表面に微細な凹凸を有する保護板を、当該液晶表示装置の基板面と近接するように配設した場合であっても、当該凹凸に起因した表示品位の低下を抑えることができる。したがって、表示品位を損なうことなく、保護板を液晶表示装置に近接して配設することによって電子機器の薄型化ないし小型化を図ることができる。
【０１９９】
[その他の構成]
本発明の光反射膜付基板を設けた液晶表示装置、並びに光反射膜付基板を有する電子機器によれば、表面に微細な凹凸を有する保護板を近接して配設した場合であっても、当該凹凸に起因した表示品位の低下を抑えることができるようになった。
【０２００】
このような効果は、上述した液晶表示装置や電子機器の構成においても得られるが、以下の構成によっても達成することができる。
【０２０１】
（１）相互に対向する一対の基板の間に液晶を有し、一対の基板のうち観察側の基板の基板面に近接して保護板が配設された液晶表示装置であって、透過する光を散乱させるために設けられ、液晶に対して保護板側に設けられた散乱層と、前記液晶に対して観察側とは反対側に設けられ、表面に複数の凹凸が形成された反射層と、を具備することを特徴とする液晶表示装置である。
【０２０２】
（２）散乱層のヘイズ値は１０％以上６０％以下であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置である。
【０２０３】
（３）反射層は、光を通過させる開口部を有することを特徴とする（１）又は（２）に記載の液晶表示装置である。
【０２０４】
（４）相互に対向する一対の基板の間に液晶を有し、一対の基板のうち観察側の基板の基板面に近接して保護板が配設される液晶表示装置であって、液晶に対して保護板側に設けられ、透過する光を散乱させる散乱層であって、ヘイズ値が１０％以上６０％以下である散乱層を具備することを特徴とする液晶表示装置である。
【０２０５】
（５）散乱層は、観察側の基板に配設された偏光板と、当該観察側の基板との間に設けられていることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の液晶表示装置である。
【０２０６】
（６）散乱層は、接着剤中に複数の微粒子を分散させたものであることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の液晶表示装置である。
【０２０７】
（７）（１）〜（６）のいずれかに記載の液晶表示装置と、液晶表示装置における観察側の基板の基板面に近接する保護板と、を具備することを特徴とする電子機器である。
【０２０８】
なお、本発明の電気光学装置、並びに電子機器は、実施形態で説明した液晶表示装置等の他、電気泳動を利用した表示デバイス等にも好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２０９】
【図１】本発明のマスクを説明するために供する平面図である。
【図２】１画素（ＲＧＢ：３ドット）を一単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列したマスクを説明するために供する平面図である。
【図３】２画素（ＲＧＢ：６ドット）を一単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列したマスクを説明するために供する平面図である。
【図４】４画素（ＲＧＢ：１２ドット）を一単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列したマスクを説明するために供する平面図である。
【図５】光透過部又は光不透過部の径が異なるマスクを説明するために供する平面図である。
【図６】光透過部又は光不透過部が鏡面対称にあるマスクを説明するために供する平面図である。
【図７】第１の基板及び第２の基板を含む光反射膜付基板の断面図である。
【図８】非対称の実質的に涙型の凸部からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
【図９】視覚される光量と、視認する角度の関係を示す図である。
【図１０】開口部を有する光反射膜付基板の断面図である。
【図１１】光反射膜付基板の製造工程図である。
【図１２】光反射膜付基板の製造工程のフローチャートである。
【図１３】ＴＦＴ素子に電気接続された光反射膜付基板を説明するために供する断面図である。
【図１４】パッシブマトリクス方式の液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１５】別な液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図１６】電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図１７】電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示す斜視図である。
【図１８】実質的に円錐型の凹部からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
【図１９】非対称の実質的に涙型の凹部からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
【図２０】非対称の実質的にピラミッド状の凹部からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
【図２１】実質的に水平断面が曲率半径の小さい放物線で垂直断面がそれより曲率半径の大きい放物線の凹部からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
【図２２】実質的に水平断面が矩形であって、垂直方向に角錐状の凹部からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。
【図２３】ＴＦＤ方式の液晶表示装置の分解図である。
【図２４】ＴＦＤ方式の液晶表示装置の部分断面図である。
【図２５】ＴＦＤ方式の液晶表示装置の部分斜視図である。
【図２６】従来の液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図２７】従来の液晶表示装置の別の構成を示す断面図である。
【図２８】従来の液晶表示装置の製造工程図である。
【符号の説明】
【０２１０】
１０、２０、３０、４０、５０：マスク
７０、１００：光反射膜付基板
７２、１１６：反射層
７６、１１２：第１の基材
７９、１１３：第２の基材
１０２：開口部
１４０：液晶表示装置
１４１：第１基板（観察側の基板）
１４２：第２基板
１４３：透明電極
１４４：液晶
１４５：保護板
１４６：偏光板
１４７：散乱層
１４８ａ：接着剤
１４８ｂ：微粒子
１４９：反射層
１５０：カラーフィルタ
１５１：遮光層
１５２：導光板
１５３：バックライトユニット
１５４：透明電極
１５５：拡散板
１５６：反射板
１５７：オーバーコート層
１５８：シール材
１５９：開口部
１６０：液晶表示装置
１６１：パーソナルコンピュータ（電子機器）
１７０：携帯電話機（電子機器）
２３０：液晶表示装置
２４７：ＴＦＤ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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