(57)【要約】【課題】面シール形式のものにおいて、攪拌装置などの補助装置を装備可能とした高圧処理装置を提供すること。【解決手段】圧力容器１内に形成された高圧処理室４に加圧媒体を供給して被処理体を高圧処理する高圧処理装置において、前記圧力容器１は、軸方向に分離可能な第１容器部２と第２容器部３とを有し、前記第１及び第２容器部２，３の間に前記高圧処理室４が形成され、かつ、前記第１及び第２容器部２，３の接合部に高圧処理室４を密封する面シール部５が形成され、前記面シール部５に軸方向力を付与する押圧装置７が設けられ、前記押圧装置７は、前記高圧容器１の軸心部に対応する位置に、所定広さの空間１５を有する。【選択図】　　　図１
2004071717.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力容器内に形成された高圧処理室に加圧媒体を供給して被処理体を高圧処理する高圧処理装置において、
前記圧力容器は、軸方向に分離可能な第１容器部と第２容器部とを有し、
前記第１及び第２容器部の間に前記高圧処理室が形成され、かつ、前記第１及び第２容器部の接合部に高圧処理室を密封する面シール部が形成され、
前記面シール部に軸方向力を付与する押圧装置が設けられ、
前記押圧装置は、前記高圧容器の軸心部に対応する位置に、所定広さの空間を有することを特徴とする高圧処理装置。
【請求項２】
前記空間に、前記処理室内の状態を変えるための補助装置が配置されていることを特徴とする請求項１記載の高圧処理装置。
【請求項３】
前記補助装置は、前記高圧処理室内の加圧媒体を攪拌する攪拌装置であることを特徴とする請求項２記載の高圧処理装置。
【請求項４】
前記補助装置は、前記高圧処理室内に設けられた被処理体載置台を動かす駆動装置であることを特徴とする請求項２記載の高圧処理装置。
【請求項５】
前記補助装置は、前記高圧処理室内へ加圧媒体を供給する配管装置であることを特徴とする請求項２記載の高圧処理装置。
【請求項６】
前記押圧装置と圧力容器の間にスペーサが介在され、該スペーサを取り除くことにより、前記高圧処理室内から被処理体を取り出し可能とされていることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一つに記載の高圧処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、半導体製造工程など、特にウェーハや液晶ガラス基板の処理に用いられる高圧処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の従来の高圧処理装置として、蓋部材と圧力容器のシール部分が軸シールであり、高圧時に発生する軸力をプレスフレームやコラムで受ける形式（例えば、特開２００１−２５０８２１号公報、特開２００１−２８０８５６号公報参照）や、シール部分が面シールであり、軸力をシリンダなど押圧装置で受ける形式（例えば、特表平７−５０２３７６号公報、特開平９−２９２１８１号公報、特開１０−３３５４０８号公報、特開２００１−９６１０３号公報参照）のものがある。
【０００３】
前記軸シール形式の場合、シール部が摺動するため、パーティクル発生の原因となっていた。
前記面シール形式の場合、シール部が摺動しないので、パーティクル発生は抑えられるので、半導体製造工程などパーティクルを嫌う高圧処理装置としては適したものであった。
一方、半導体製造工程においては、高圧処理室内の処理液を攪拌する等する補助装置を備えたものがある（例えば、特開平１１−８７３０６号公報参照）。
【０００４】
そして、このような補助装置を、前記面シール形式の高圧処理装置にも備えたいという要求がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前記従来の面シール形式の高圧処理装置においては、前記押圧装置が装備されているため、前記補助装置を圧力容器の外部に設けることができないという問題があった。
そこで、本発明は、面シール形式のものにおいて、攪拌装置などの補助装置を装備可能とした高圧処理装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明は、次の手段を講じた。即ち、本発明の特徴とするところは、圧力容器内に形成された高圧処理室に加圧媒体を供給して被処理体を高圧処理する高圧処理装置において、前記圧力容器は、軸方向に分離可能な第１容器部と第２容器部とを有し、前記第１及び第２容器部の間に前記高圧処理室が形成され、かつ、前記第１及び第２容器部の接合部に高圧処理室を密封する面シール部が形成され、前記面シール部に軸方向力を付与する押圧装置が設けられ、前記押圧装置は、前記高圧容器の軸心部に対応する位置に、所定広さの空間を有する点にある。
【０００７】
前記構成の本発明によれば、押圧装置の空間に、処理室内の状態を変えるための補助装置を配置することができ、設置スペースの減少に寄与する。
前記補助装置は、前記高圧処理室内の加圧媒体を攪拌する攪拌装置であるのが好ましい。
前記補助装置は、前記高圧処理室内に設けられた被処理体載置台を動かす駆動装置とすることができる。
また、前記補助装置は、前記高圧処理室内へ加圧媒体を供給する配管装置であってもよい。
【０００８】
前記押圧装置と圧力容器の間にスペーサが介在され、該スペーサを取り除くことにより、前記高圧処理室内から被処理体を取り出し可能とすることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図１において、高圧処理装置は、圧力容器１を有する。この圧力容器１は、軸方向に分離可能な第１容器部２と第２容器部３とを有する。前記第１及び第２容器部２，３の間に被処理体を収納する高圧処理室４が形成され、かつ、前記第１及び第２容器部２，３の接合部に前記高圧処理室４を密封する面シール部５が形成されている。
【００１０】
圧力容器１には、図示省略の配管が接続され、高圧処理室４内へ圧力媒体を供給可能としている。この圧力媒体として、液体が例示される。前記被処理体として半導体のウェーハや、液晶ガラス基板が例示される。
前記圧力容器１は、軸力支持装置６により、第１及び第２容器部２，３が分離しないように支持され、さらに、前記面シール部５に軸方向力を付与して高圧処理室４内の圧媒の漏洩を防止する押圧装置７が、前記軸力支持装置６と高圧容器１との間に介在されている。
【００１１】
前記軸力支持装置６は、上部プレート８と下部プレート９と、この上下部プレート８，９を相対移動不能に連結固定するタイロッド１０とを有する。この下部プレート９の上面に前記押圧装置７が設けられ、この押圧装置７の上面と前記上部プレート８の下面間に、前記圧力容器１が挟持される。
前記第１容器部２は、縦軸心を有する円柱状に形成され、その上下面は、互いに平行な平坦面とされて、その下面側に開口する同心円の孔が形成されている。この第１容器部２の上面は、前記軸力支持装置６の上部プレート８の下面に固定されている。
【００１２】
前記第２容器部３は、縦軸心を有する円柱状に形成され、その上下面は、互いに平行な平坦面とされて、その上面に上方に突出する同心円の段部が形成されている。
この段部が前記孔に嵌合して、段部上面と孔底面間に、前記高圧処理室４が形成される。
第１容器部２の下面と第２容器部３の上面との接合部に、シール部材１１が介在され、前記面シール部５が形成されている。
【００１３】
前記圧力容器１には、前記高圧処理室４内の状態を変えるための補助装置１２が、外部に設けられている。この実施の形態では、前記補助装置１２は、第２容器部３の下面の軸心部に取り付けられている。
即ち、前記高圧処理室４内には、載置台１３が設けられ、該載置台１３に前記被処理体が載置される。この載置台１３は、第２容器部３の軸心に貫通して設けられた軸１４により支持されている。この軸１４の下端が、前記補助装置１２に連結されている。
【００１４】
即ち、この補助装置１２は、前記載置台１３を回転させたり、上下動させたり、又は振動させたりする駆動装置により構成されている。この駆動装置は、電磁モータなどにより構成するのが好ましい。
前記圧力容器１の下面、即ち、第２容器部３の下面は、前記押圧装置７により支持されている。
前記押圧装置７は、軸方向に伸縮自在なシリンダにより構成されている。そして、この押圧装置７には、前記圧力容器１の軸心部に対応する位置に、軸心方向に貫通する所定広さの空間１５が形成されている。
【００１５】
この空間１５に前記補助装置１２が収納されている。
即ち、前記押圧装置７は、前記下部プレート９上面に載置されたリング状ピストン１６と、該ピストン１６に上下方向摺動自在に嵌合するリング状シリンダ１７により構成されている。このリング状シリンダ１７の中心部の空所が前記空間１５を形成し、前記補助装置１２が配置されている。
前記シリンダ１７の上面が、前記第２容器部３の下面を支持している。このシリンダ１７は、下部プレート９に立設されたガイド１８により、上下方向移動がガイドされている。
【００１６】
前記押圧装置７のシリンダ形式は単動式とされ、シリンダ室に圧媒を供給する配管１９が、前記シリンダ１７に接続されている。
この配管１９を通じて高圧の媒体を流入させることにより、第２容器部３を第１容器部２へ押し付け、面シール部５の押し付け力を確保して、タイロッド１０で結ばれた上下部プレート８，９により、高圧処理室４内で発生する圧力を保つことができる。
前記押圧装置７のシリンダ径は、前記高圧処理室４の内径よりも大きくされている。即ち、押圧装置７は、高圧処理室４内の圧力よりも低圧の作動圧力により支持可能とされている。
【００１７】
図２に示す如く、シリンダ室内の圧媒を抜くことにより、第２容器部３は下降し、高圧処理室４を開放することができ、被処理体の装着・取外しが可能とされている。
なお、この実施の形態では、前記補助装置１２は、リング状シリンダ１７に固定されたもの、又は一体的に形成されたものであっても良い。また、シリンダ１７とピストン１６の配置は、上下逆転させたものであっても良い。第１及び第２容器部２，３の配置も、上下逆転させたものであっても良い。この場合、載置台１３や補助装置１２は、下部側に配置された容器部に設けられる。勿論、装置全体を上下逆転配置したものであっても良い。
【００１８】
図３に示すものは、本発明の他の実施の形態であり、補助装置１２として、前記高圧処理室４内の加圧媒体を攪拌する攪拌装置を採用したものである。
この攪拌装置は、第２容器部３の軸心部に回転自在に設けられた攪拌羽根２０と、この攪拌羽根２０を回転駆動する駆動部２１とを有し、該駆動部２１が第２容器３の下面に取り付けられ、この駆動部２１が前記押圧装置７の空間１５に配置されている。
尚、図示省略するが、前記空間１５に配置される補助装置１２としては、前記高圧処理室４内へ加圧媒体を供給する配管やバルブを含む配管装置であってもよい。
【００１９】
図４、５に示すものは、本発明の他の実施の形態であり、前記押圧装置７と圧力容器１の間にスペーサ２２が介在され、該スペーサ２２を取り除くことにより、前記高圧処理室４内から被処理体を取り出し可能としたものである。
即ち、左右一対のスペーサ２２が、第４図の状態と、第５図の状態のように移動可能とされ得ている。
この実施の形態では、軸力支持装置６は、中心部をくり抜いた閉鎖フレームから構成されている。この閉鎖フレーム下部上面に押圧装置７が載置され、同フレーム上部下面に第１容器部２上面が固定されている。
【００２０】
前記押圧装置７の上面側に左右一対のスペーサ２２が、図示省略の移動装置により左右方向移動自在に設けられ、このスペーサ２２の上面に第２容器部３が支持される。第２容器部３は、図示省略の昇降装置によって、昇降自在とされている。
前記押圧装置７は、複動式のシリンダから構成されている。即ち、リング状シリンダ２３がフレームの下部に載置されている。このシリンダ２３にリング状ピストン２４が上下方向摺動自在に嵌合している。このピストン２４の上面に前記スペーサ２２が載置可能とされている。前記シリンダ２３には、ピストン２４を上昇させるために圧媒を供給する孔２５と、ピストン２４を下降させるために圧媒を供給する孔２６が設けられている。
【００２１】
この実施の形態においても、圧力容器１の下面の中心部には、高圧処理室４内の状態を変えるための補助装置１２が設けられ、該補助装置１２は、押圧装置７の空間１５に配置されている。
前記実施の形態によれば、面シール形式としているので、軸シール形式のものに比べパーティクルの発生が抑えられる。そして、処理室内の状態を変えることができる補助装置を、押圧装置の空間に装着可能としているので、省スペース化が図れる。
【００２２】
なお、本発明は、前記実施の形態に示したものに限定されるものではなく、例えば、押圧装置として、シリンダ式以外の所謂コッタ式のものであっても良い。
【００２３】
【発明の効果】
本発明によれば、押圧装置の空間に補助装置を配置するようにしたので、押圧装置を設けた高圧処理装置にも、補助装置を設けることが可能になった。また、押圧装置の空間に補助装置を収納するようにしたので、省スペース化が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の高圧処理装置の実施の形態を示し、高圧処理室を密閉した状態を示す一部断面図である。
【図２】図２は、図１の装置において高圧処理室を開放した状態を示す一部断面図である。
【図３】図３は、補助装置の他の態様を示す一部断面図である。
【図４】図４は、本発明の高圧処理装置の他の実施の形態を示し、高圧処理室を密閉した状態を示す一部断面図である。
【図５】図５は、図４の装置において高圧処理室を開放した状態を示す一部断面図である。
【符号の説明】
１　圧力容器
２　第１容器部
３　第２容器部
４　高圧処理室
５　面シール部
７　押圧装置
１２　補助装置
１５　空間
【図１】
2004071717.tif 000003
【図２】
2004071717.tif 000004
【図３】
2004071717.tif 000005
【図４】
2004071717.tif 000006
【図５】
2004071717.tif 000007