(57)【要約】【課題】被処理物を付着させた複数の支持体に対し、処理液を迅速かつ容易に供給することができる処理槽および処理装置を提供すること。【解決手段】処理装置は、内部に処理液を入れる処理部４が隔壁２４を介して複数個並べて配置され、各処理部４に被処理物を付着させた支持体を設置して処理する処理槽２と、処理槽２を傾けたり、水平にしたりする傾斜機構とを有している。また、傾斜機構により、処理槽２は、処理部４を所定方向に傾けた状態では、内部に供給された処理液が１つに導通し、その状態から処理部４を水平な状態にすると、供給された処理液が各処理部４に配分される機能を有している。【選択図】図３
2004329136.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に処理液を入れる処理部が隔壁を介して複数個並べて配置され、前記各処理部に被処理物を付着させた支持体を設置して処理する処理槽であって、
前記処理部を所定方向に傾けた状態では、内部に供給された前記処理液が１つに導通し、その状態から前記処理部を水平な状態にすると、供給された前記処理液が前記各処理部に配分されることを特徴とする処理槽。
【請求項２】
内部に処理液を入れる長尺形状の処理部が隔壁を介して複数個並べて配置され、前記各処理部に被処理物を付着させた支持体を設置して処理する処理槽であって、
前記処理部の一端が上昇するように前記処理槽を傾けた状態では、内部に供給された前記処理液が前記各隔壁を越えて１つに導通し、その状態から前記処理部を水平な状態にすると、供給された前記処理液が前記各処理部に配分されることを特徴とする処理槽。
【請求項３】
前記隔壁が設けられた内槽と、
前記内槽を収納し得る外槽とを有し、
前記内槽の前記各処理部に対応する部分の底面に開口部がそれぞれ設けられており、
前記支持体は、前記内槽の底面と前記外槽の底面との間に設置され、前記支持体の前記被処理物が付着した部分が前記開口部からそれぞれ露出する請求項１または２に記載の処理槽。
【請求項４】
前記処理液を供給および／または排出するための孔が少なくとも１つ設けられている請求項１ないし３のいずれかに記載の処理槽。
【請求項５】
前記各処理部の底面と、前記処理槽を前記傾けた状態のときに最も下方に位置する側面との間にテーパー面が形成されている請求項１ないし４のいずれかに記載の処理槽。
【請求項６】
前記隔壁は、前記テーパー面側と反対に位置する側面から前記テーパー面の途中まで形成されている請求項５に記載の処理槽。
【請求項７】
前記処理部の底面に、前記支持体が前記処理槽に対して移動するのを防止する位置決め手段を有している請求項１ないし６のいずれかに記載の処理槽。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の処理槽と、
前記処理槽を前記傾けた状態と、水平な状態とに変位させる傾斜機構とを備えることを特徴とする処理装置。
【請求項９】
前記処理液を排出するときは、前記傾斜機構により前記処理槽を傾けて排出する請求項８に記載の処理装置。
【請求項１０】
前記傾斜機構は、基台と、
前記基台に対し前記処理槽の回転中心となるヒンジ結合部と、
前記ヒンジ結合部を用いて前記処理槽を回動させるための回動手段とを有している請求項８または９に記載の処理装置。
【請求項１１】
前記被処理物を付着させた部分および／または前記処理部を洗浄するために、供給された洗浄液を前記傾斜機構の作動により前記処理部内で撹拌して前記被処理物を付着させた部分および／または前記処理部を洗浄する請求項８ないし１０のいずれかに記載の処理装置。
【請求項１２】
前記処理液は、前記被処理物と反応し得る反応液である請求項８ないし１１のいずれかに記載の処理装置。
【請求項１３】
前記被処理物は、核酸である請求項８ないし１２のいずれかに記載の処理装置。
【請求項１４】
前記処理液は、前記核酸と反応し得るプローブを含む液体である請求項１３に記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理槽および処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、核酸（ＲＮＡ、ＤＮＡ）に対するハイブリダイゼーション等の処理を行なう場合には、プレート（支持体）上に、核酸（被処理物）を付着させ、かかる核酸に処理液を供給して（接触させて）処理することが行なわれる。
【０００３】
このような核酸と処理液とを接触させる方法としては、各支持体上に処理液を滴下して、さらに、この上から展開部材を重ね合わせ、それらの間に形成された隙間に処理液を展開させることにより、核酸と処理液とを接触させる。
【０００４】
従来の処理槽および処理装置は、カバープレート（展開部材）５６０を、被処理物を付着させたプレート（支持体）ＰであるマイクロアレイＭに重ね合わせ、このマイクロアレイＭとの間に形成される隙間５６９に、前記被処理物を処理する処理液を展開させるものである（例えば、特許文献１参照）。なお、ここで使用した符号は、特許文献１に記載の符号である。
【０００５】
しかしながら、前記のサンプル処理槽および処理装置では、複数のマイクロアレイ（プレート）を処理する場合、分注装置等を用いて各マイクロアレイに個別に処理液を滴下しなければならないため、時間がかかるという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００３−５７２４５号公報（図３）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、被処理物を付着させた複数の支持体に対し、処理液を迅速かつ容易に供給することができる処理槽および処理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）〜（１４）の本発明により達成される。
【０００９】
（１）  内部に処理液を入れる処理部が隔壁を介して複数個並べて配置され、前記各処理部に被処理物を付着させた支持体を設置して処理する処理槽であって、
前記処理部を所定方向に傾けた状態では、内部に供給された前記処理液が１つに導通し、その状態から前記処理部を水平な状態にすると、供給された前記処理液が前記各処理部に配分されることを特徴とする処理槽。
【００１０】
（２）  内部に処理液を入れる長尺形状の処理部が隔壁を介して複数個並べて配置され、前記各処理部に被処理物を付着させた支持体を設置して処理する処理槽であって、
前記処理部の一端が上昇するように前記処理槽を傾けた状態では、内部に供給された前記処理液が前記各隔壁を越えて１つに導通し、その状態から前記処理部を水平な状態にすると、供給された前記処理液が前記各処理部に配分されることを特徴とする処理槽。
【００１１】
（３）  前記隔壁が設けられた内槽と、
前記内槽を収納し得る外槽とを有し、
前記内槽の前記各処理部に対応する部分の底面に開口部がそれぞれ設けられており、
前記支持体は、前記内槽の底面と前記外槽の底面との間に設置され、前記支持体の前記被処理物が付着した部分が前記開口部からそれぞれ露出する上記（１）または（２）に記載の処理槽。
【００１２】
（４）  前記処理液を供給および／または排出するための孔が少なくとも１つ設けられている上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の処理槽。
【００１３】
（５）  前記各処理部の底面と、前記処理槽を前記傾けた状態のときに最も下方に位置する側面との間にテーパー面が形成されている上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の処理槽。
【００１４】
（６）  前記隔壁は、前記テーパー面側と反対に位置する側面から前記テーパー面の途中まで形成されている上記（５）に記載の処理槽。
【００１５】
（７）  前記処理部の底面に、前記支持体が前記処理槽に対して移動するのを防止する位置決め手段を有している上記（１）ないし（６）のいずれかに記載の処理槽。
【００１６】
（８）  上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の処理槽と、
前記処理槽を前記傾けた状態と、水平な状態とに変位させる傾斜機構とを備えることを特徴とする処理装置。
【００１７】
（９）  前記処理液を排出するときは、前記傾斜機構により前記処理槽を傾けて排出する上記（８）に記載の処理装置。
【００１８】
（１０）  前記傾斜機構は、基台と、
前記基台に対し前記処理槽の回転中心となるヒンジ結合部と、
前記ヒンジ結合部を用いて前記処理槽を回動させるための回動手段とを有している上記（８）または（９）に記載の処理装置。
【００１９】
（１１）  前記被処理物を付着させた部分および／または前記処理部を洗浄するために、供給された洗浄液を前記傾斜機構の作動により前記処理部内で撹拌して前記被処理物を付着させた部分および／または前記処理部を洗浄する上記（８）ないし（１０）のいずれかに記載の処理装置。
【００２０】
（１２）  前記処理液は、前記被処理物と反応し得る反応液である上記（８）ないし（１１）のいずれかに記載の処理装置。
【００２１】
（１３）  前記被処理物は、核酸である上記（８）ないし（１２）のいずれかに記載の処理装置。
【００２２】
（１４）  前記処理液は、前記核酸と反応し得るプローブを含む液体である上記（１３）に記載の処理装置。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の処理槽および処理装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００２４】
なお、以下では、被処理物の一例として、核酸（ＤＮＡ、ｃＤＮＡ、ＲＮＡ等）を代表とし、この核酸（核酸断片）をプレート（支持体）に散点状に付着させたマイクロアレイ（ＤＮＡチップ）を処理するマイクロアレイ処理装置に、本発明の処理装置を適用した場合について説明する。
【００２５】
また、処理液（反応液）の一例として、被験者から採取された核酸（例えばｍＲＮＡ、ＤＮＡ等）、または、この核酸を基に合成されたもの（例えばｃＤＮＡ等）を標識（例えば、色素、蛍光物質、放射性物質等により標識）した物質を含む液（以下、「プローブ液」と言う。）を代表に説明する。
【００２６】
ここでいう処理とは、好ましくは、プレートに散点状に付着させた核酸と、プローブ液中に含まれる核酸またはプローブとをハイブリダイゼーションさせることをいう。
【００２７】
＜第１実施形態＞
図１および図２は、本発明の処理装置の実施形態を示す全体構成図である。なお、以下では、説明の都合上、図１（図２も同様）中の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言う。
【００２８】
図１および図２に示す処理装置１は、処理槽２と、処理槽２を傾けた状態とほぼ水平な状態とに変位させる傾斜機構３とを有している。
【００２９】
なお、本発明の処理装置１では、処理槽２を、図示しない密閉可能な密閉槽内に収納し、温度および湿度を管理した環境下で処理を行なうことが好ましい。
【００３０】
以下、各部の構成について説明する。
傾斜機構３は、基台３３と、ヒンジ（ヒンジ結合部）３１と、エアシリンダ（回動手段）３２とを有している。ヒンジ３１は、基台３３と、処理槽２の底板（底面）２１とを回動可能に結合する機構である。エアシリンダ３２は、その長手方向の両端部がそれぞれ基台３３と底板２１とに回動可能に結合されている。傾斜機構３は、エアシリンダ３２を伸縮させることにより、ヒンジ３１を回転中心として基台３３に対し処理槽２を傾けたり、水平にしたりする。処理装置１は、傾斜機構３により、処理槽２内にプローブ液（処理液）Ｒを供給するときに処理槽２を傾け、そのプローブ液Ｒを核酸（被処理物）Ｓに反応させるときに処理槽２を水平にする。
【００３１】
この処理装置１によれば、核酸Ｓとプローブ液Ｒとを反応させるとともに、各種液体等により核酸Ｓを処理することができる。そして、核酸Ｓの反応結果からは、例えば、遺伝子ＤＮＡ（核酸）の変異解析、多型解析、塩基配列解析、発現解析（存在の有無）、さらに、これらに基づいて各種疾患の診断等を、好適に行なうことができる。
【００３２】
なお、ヒンジ３１を回転中心として処理槽２を回動させる回動手段としては、エアシリンダ３２に限らず、例えば、モータ駆動、歯車機構等であってもよい。さらに、傾斜機構３は、ヒンジ３１を利用するものに限らず、処理槽２を傾斜した姿勢に変位させることができる機構であれば、いかなる構造のものでもよい。
【００３３】
図３は、本発明の処理槽の第１実施形態を示す斜視図である。図４は、処理槽２を傾斜機構３により傾け、処理槽２内にプローブ液Ｒを給排液口２２１から供給したときの図３のＡ−Ａ線断面図である。図５は、図４の状態の処理槽２を傾斜機構３により、水平にしたときの図３のＡ−Ａ線断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図３（図４、５、６も同様）中の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言う。ただし、図３（図４、５、６、７、８も同様）中の核酸Ｓは、説明上、その大きさを誇張して描いている。
【００３４】
図３に示す処理槽２は、底板２１と、側壁２２と、テーパー面（傾斜面）２３と、処理槽２の内部を複数の空間に仕切る隔壁２４とを有している。本実施形態の処理槽２は、これらの各部が一体的に成形された構成になっているが、処理槽２は、複数の部材を組み合わせて構成されていてもよい。
側壁２２は、底板２１の外周部に全周に渡り形成されている。
【００３５】
隔壁２４は、本実施形態では、２つ設けられており、間隔をおいて互いに平行に配置されている。これらの隔壁２４により、処理槽２の内部空間は、３つの空間に仕切られており、これらの各空間は、プローブ液Ｒを入れる処理部４を構成している。
【００３６】
なお、本発明では、処理部４の個数は、特に限定されず、３つ以上の隔壁２４を設けることによって４つ以上の処理部４が設けられていてもよい。
【００３７】
これらの処理部４は、隔壁２４に直交する方向に並んでいる。また、各処理部４の領域の形状は、並んだ方向と直交する方向に長い長尺形状（細長い形状）をなしている。そして、傾斜機構３によって処理槽２を傾けたときには、処理部４の一端（図３中の右側）が他端（図３中の左側）より高い位置に上昇する。
【００３８】
底板２１は、処理部４の底部を構成している。図４に示すように、各処理部４における底板２１の上方の面には、プレートＰに対応する形状の凹部（位置決め手段）２１１が形成されている。この凹部２１１内にプレートＰを設置することにより、プレートＰを底板２１に位置決めでき、処理槽２を傾けたときでもプレートＰの位置がずれるのをより確実に防止することができる。
【００３９】
側壁２２には、１つの給排液口（孔）２２１が設けられている。この給排液口２２１から、プローブ液Ｒを供給したり、排出したりすることができる。従来は、各処理部ごとに給排液口を設けなければならなかった。しかし、本発明では、後述するように、各処理部４間でプローブ液Ｒが行き来できるため、処理槽２は、給排液口２２１が１つ設けてあれば十分にプローブ液Ｒを供給したり、排出したりすることができる。
【００４０】
底板２１と、傾斜機構３により処理槽２を傾けたときに最も下方に位置する側壁２２ａとの間には、テーパー面（傾斜面）２３が形成されている。テーパー面２３は、底板２１から側壁２２ａに向かって高さが高くなるように、底板２１に対し傾斜している。
【００４１】
隔壁２４は、テーパー面２３側と反対に位置する側壁２２ｂからテーパー面２３の途中までに渡って形成されている。換言すれば、側壁２２ａの付近には、隔壁２４が形成されていない隙間２５が設けられている。この隙間２５は、処理部４間でプローブ液Ｒを流通させるための通路（通液部）として機能する。
【００４２】
図４に示すように、処理装置１は、処理槽２内にプローブ液Ｒを供給する際には、処理槽２を傾けた状態で、図示しない処理液供給手段により給排液口２２１を介してプローブ液Ｒを処理槽２内に送り込む。
【００４３】
なお、処理液供給機構としては、たとえば、ポンプにより貯留部に貯留されたプローブ液Ｒを吸い上げ、そのポンプから管を用いて給排液口２２１へプローブ液Ｒを供給する機構があげられる。
【００４４】
図４に示す状態では、処理槽４の内部に供給されたプローブ液Ｒは、隔壁２４を越えて１つに導通し、各処理部４に行き渡っている。換言すれば、プローブ液Ｒは、各処理部４のテーパー面２３側の端部（図４中の左側）にある隙間（通路）２５を通って、プローブ液Ｒが相互に移動可能な状態であるため、図４の紙面に直交する方向に１つにつながっている。
【００４５】
また、このとき、本実施形態では、テーパー面２３を設けたことにより、プローブ液Ｒがより少ない量で各処理部４に行き渡ることができる。
【００４６】
なお、処理装置１は、処理槽２が水平な状態でプローブ液Ｒを処理槽２内に供給した後に、処理槽２を傾けてもよい。
【００４７】
図４に示す状態から処理槽２を水平な姿勢に戻すと、図５に示すように、プローブ液Ｒは、側壁２２ｂの方へ流れつつ、各処理部４へ配分され、マイクロアレイＭを覆う。このマイクロアレイＭを覆ったプローブ液Ｒの水深は、それぞれ同じ高さになる。また、各処理部４は隔壁２４によって仕切られているため、図５に示す状態では、プローブ液Ｒが隔壁２４を越えて各処理部４間で移動しない。ただし、このときのプローブ液Ｒの液面高さは、隙間２５の最下部２５１より下にあることが好ましい。そして、その後の各処理部４内にあるプローブ液Ｒの量は変化しない。
【００４８】
従来では、分注装置等を用いていたため、分注するプローブ液Ｒの量を定量し、各マイクロアレイＭに個別にプローブ液Ｒを滴下（分注）する必要があった。しかし、処理装置１では、処理槽２を水平にするだけで容易かつ迅速に以下の作動が可能である。まず、傾斜機構３により、処理槽２が傾いている状態で隙間２５付近に保持されていた（供給されていた）プローブ液Ｒは、処理槽２が水平な状態に変位すると各処理部４に配分される。さらに、各処理部４に配分されたプローブ液Ｒの水深は、同じ深さになっている。ついで、これらそれぞれのプローブ液Ｒは、隔壁２４により各処理部４間を移動しない（移動できない）ので、プローブ液Ｒの量がそれぞれ一定に保持され、不変である。
【００４９】
また、処理装置１において、傾いている処理槽２の中にプローブ液Ｒが入っている状態で、傾斜機構３により処理槽２を水平にしたとき、プローブ液Ｒの深さがそれぞれ同じになるので、プローブ液Ｒは、各処理部４の幅に応じた量が各処理部４に入ってくる。たとえば、各処理部２の幅が等しければ、各処理槽２内に同量のプローブ液Ｒが入ってくる。
【００５０】
図６は、図５の状態の処理槽２を傾斜機構３により図４よりも傾きを大きくしたときの図３のＡ−Ａ線断面図である。このとき、隙間２５付近に集められたプローブ液Ｒは、給排液口２２１の全部または一部を覆うため、自然に給排液口２２１から排出される。このように、プローブ液Ｒを排出するときは、プローブ液Ｒを傾斜機構３と、給排液口２２１とで排出する。換言すると、例えばポンプと管とを用いて処理槽２内のプローブ液Ｒを処理槽２外へ排出するような機構を設けなくても済むので、装置の小型化、構造の簡素化が図れる。
【００５１】
なお、前述したように処理槽２を密閉した環境下におく構成としては、特に限定されないが、例えば、処理槽２に蓋を設け、処理槽２自体に処理槽密閉機能を持たせてもよいし、処理槽２だけでなく、傾斜機構３も含めて密閉槽に収納されているような構成でもよい。
【００５２】
核酸Ｓがプローブ液Ｒによって反応した部分および処理部４を洗浄するときには、図示しない洗浄液供給手段によって洗浄液を処理槽２に供給する。次いで、傾斜機構３の作動によって処理槽２を繰り返し図１および図２のように変位させる。これにより、処理部４内で洗浄液を撹拌して、この核酸Ｓがプローブ液Ｒによって反応した部分および処理槽４を洗浄する。また、洗浄後の洗浄液の排出は、図６と同様に行う。このように、処理部４の洗浄においても、処理装置１は、傾斜機構３の作動を利用して行うことができ、傾斜機構３を多目的に利用するので、構造の合理化が図れる。また、洗浄液の排出においても、処理装置１は、給排液口２２１により排出できる。換言すると、フラッシング処理機能を有するフラッシング処理機構等を設けなくても済むので、装置の小型化、構造の簡素化が図れる。
【００５３】
また、本実施形態では、例えば図３に示すようにテーパー面は、処理槽２（処理部４）の内側のみならず、処理槽２の外側にも形成されているが、処理槽２（処理部４）の内側のみに形成されているようになっていてもよい。
【００５４】
＜第２実施形態＞
図７は、本発明の処理槽の第２実施形態を示す分解斜視図である。なお、以下では、説明の都合上、図７（図８も同様）中の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言う。
【００５５】
以下、これらの図を参照して本発明の第２実施形態について説明するが、前述した第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
【００５６】
本実施形態は、処理槽の構成が異なること以外は前記第１実施形態と同様である。
【００５７】
本実施形態の処理槽２Ａは、内槽５と、この内槽５を収納し得る外槽６との２つの槽を組み合わせて構成されている点で、前記第１実施形態の処理槽２と異なる。
【００５８】
内槽５は、前記第１実施形態の処理槽２とほぼ同様の形状であり、底板（底面）５１と、側壁５２と、テーパー面５３と、内槽２の内部を複数の空間に仕切る隔壁５４とを有している。本実施形態の内槽２は、これらの各部が一体的に成形された構成になっているが、内槽２は、複数の部材を組み合わせて構成されていてもよい。
【００５９】
底板５１は、内槽５の底部を構成しており、開口部５１１を備えている。開口部５１１は、後述する処理部４に対応してそれぞれ設けられている。
側壁５２は、底板５１の外周部に全周に渡り形成されている。
【００６０】
底板５１と、傾斜機構３により処理槽２Ａを傾けたときに最も下方に位置する側壁５２ａとの間には、テーパー面（傾斜面）５３が形成されている。テーパー面５３は、底板５１から側壁５２ａに向かって高さが高くなるように、底板５１に対し傾斜している。
【００６１】
隔壁５４は、本実施形態では、２つ設けられており、間隔をおいて互いに平行に配置されている。これらの隔壁５４により、内槽５の内部空間は、３つの空間に仕切られており、これらの各空間は、プローブ液Ｒを入れる処理部４を構成している。また、隔壁５４は、テーパー面５３側と反対に位置する側壁５２ｂからテーパー面５３の途中までに渡って形成されている。換言すれば、側壁５２ａの付近には、隔壁５４が形成されていない隙間５５が設けられている。
【００６２】
外槽６は、底板（底面）６１と、側壁６２とを有している。本実施形態の外槽６は、これらの各部が一体的に成形された構成になっているが、外槽６は、複数の部材を組み合わせて構成されていてもよい。
【００６３】
底板６１は、外槽６の底部を構成している。
側壁６２は、底板６１の外周部に全周に渡り形成されている。
【００６４】
図８は、図７の処理槽２Ａの使用状態を示すＢ−Ｂ線断面図である。このとき、プレートＰは、内槽５の底板５１と外槽６の底板６１との間にそれぞれ設置されている。さらに、核酸Ｓが付着した部分は、開口部５１１からそれぞれ露出してプローブ液Ｒに覆われている。本実施形態において、マイクロアレイＭを処理するには、開口部５１１からそれぞれ露出した核酸Ｓが付着した部分のみプローブ液Ｒで覆えば十分であり、プレートＰ全体をプローブ液Ｒで覆う必要はない。したがって、本実施形態では、開口部５１１のみプローブ液Ｒで覆えばよく、プローブ液Ｒの使用を最小限に抑えることができる。
【００６５】
なお、本実施形態では、プレートＰが底板５１と底板６１とで挟持されているので、処理槽２Ａを傾けたときであっても、プレートＰの位置がずれるのをより確実に防止することができる。すなわち、底板５１と底板６１とは、プレートＰの位置決め手段として機能する。
【００６６】
以上、本発明の処理槽および処理装置を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、処理槽および処理装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
【００６７】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、被処理物を付着させた複数の支持体に処理液を付与する場合、各支持体に個別に付与する必要はなく、迅速かつ容易に処理液を各支持体に接触させることができる。
【００６８】
また、処理槽の構成を、隔壁が設けられた内槽と、その内槽を収納し得る外槽とを有し、内槽の各処理部に対応する部分の底面に開口部がそれぞれ設けられており、複数の支持体は、内槽の底面と外槽の底面との間に設置され、複数の支持体の被処理物が付着した部分が開口部からそれぞれ露出するような構成とした場合には、使用する処理液の量を最小限に抑えることができる。
【００６９】
また、処理部の底面と、処理槽を傾けた状態のときに最も下方に位置する側面との間にテーパー面が形成されている処理槽とした場合には、処理槽を傾けたとき処理液がより少ない量で処理部にそれぞれ行き渡ることができる。
【００７０】
このようなことから、本発明によれば、例えばガン遺伝子、変異遺伝子等の探索を、より簡便かつ効率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の処理装置の実施形態を示す全体構成図である。
【図２】本発明の処理装置の実施形態を示す全体構成図である。
【図３】本発明の処理槽の第１実施形態を示す斜視図である。
【図４】処理槽２を傾斜機構３により傾け、処理槽２内にプローブ液Ｒを給排液口２２１から供給したときの図３のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】図４の状態の処理槽２を傾斜機構３により、水平にしたときの図３のＡ−Ａ線断面図である。
【図６】図５の状態の処理槽２を傾斜機構３により図４よりも傾きを大きくしたときの図３のＡ−Ａ線断面図である。
【図７】本発明の処理槽の第２実施形態を示す分解斜視図である。
【図８】図７の処理槽の使用状態を示すＢ−Ｂ線断面図である。
【符号の説明】
１            処理装置
２            処理槽
２Ａ          処理槽
２１          底板
２１１        凹部
２２          側壁
２２ａ        側壁
２２ｂ        側壁
２２１        給排液口
２３          テーパー面
２４          隔壁
２５          隙間
２５１        最下部
３            傾斜機構
３１          ヒンジ
３２          エアシリンダ
３３          基台
４            処理部
５            内槽
５１          底板
５１１        開口部
５２          側壁
５２ａ        側壁
５２ｂ        側壁
５３          テーパー面
５４          隔壁
５５          隙間
６            外槽
６１          底板
６２          側壁
Ｍ            マイクロプレート
Ｐ            プレート
Ｒ            プローブ液
Ｓ            核酸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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