(57)【要約】【課題】耐候性、透明性、加工適性に優れたポリエステルフィルムを得ることを目的とする。【解決手段】紫外線吸収剤を含有するポリエステルフィルムである。光線透過率が、波長３７０ｎｍで３％以下、４１０ｎｍで８０％以上。フィルムの連続製膜方向では寸法変化率が、１４０ｇ／ｍｍ２加重下の２００℃−２〜＋２％である。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線吸収剤を含有するポリエステルフィルムであって、波長３７０ｎｍでの光線透過率が３％以下、４１０ｎｍでの光線透過率が８０％以上、１４０ｇ／ｍｍ２加重下の２００℃のフィルム寸法変化率が連続製膜方向では−２〜＋２％であることを特徴とする透明ポリエステルフィルム。
【請求項２】
厚み方向の屈折率が１．４９０以上１．５１０以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明ポリエステルフィルム。
【請求項３】
可視光線波長領域での全光線透過率が８０％以上であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の透明ポリエステルフィルム。
【請求項４】
少なくとも片面に被膜層を設けた積層フィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明ポリエステルフィルム。
【請求項５】
ポリエステルフィルムのヘーズ値が３％以下、被膜層を設けた側の表面の中心線表面粗さＲａが１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明ポリエステルフィルム。
【請求項６】
被膜層が、粒径１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不活性粒子を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の透明ポリエステルフィルム。
【請求項７】
基材層が、ポリエチレンテレフタレートもしくはポリエチレン−２，６−ナフタレ−トを主体とするポリエステルフィルムであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の透明ポリエステルフィルム。
【請求項８】
紫外線吸収剤が、下記式（Ｉ）で表される環状イミノエステルおよび下記式（ＩＩ）で表される環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の透明ポリエステルフィルム。
【化１】
2004250624.tif 000020
（ここで、Ｘ１は、上記式に表されたＸ１からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある２価の芳香族残基であり、ｎは１、２または３であり、Ｒ１はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよく、またはＲ１はｎ＝２のとき直接結合であることができる。）
【化２】
2004250624.tif 000021
（ここで、Ａは下記式（ＩＩ）−ａで表される基であるかまたは下記式（ＩＩ）−ｂで表される基であり、Ｒ２およびＲ３は同一もしくは異なる１価の炭化水素残基であり、Ｘ２は４価の芳香族残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。）
【化３】
2004250624.tif 000022
【化４】
2004250624.tif 000023
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、耐候性、透明性ともに優れたポリエステルフィルムに関する。更に詳しくは、高温荷重下での寸法安定性に優れるのでフィルム加工適性に優れたポリエステルフィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの二軸延伸フィルムは、優れた機械的性質、耐熱性、耐薬品性を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、写真フィルム、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、金属板ラミネート用フィルム、ガラスディスプレイなどの表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として広く用いられている近年、特に各種光学用フィルムが多く用いられ、液晶表示装置の部材のプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや反射防止用フィルムのベースフィルムやディスプレイの防爆用ベースフィルム等の用途がある。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−２４８７２３号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような光学用フィルムに用いられるベースフィルムは優れた透明性が要求される。一方、ノート型ＰＣや、ＰＤＡ、プラズマディスプレイなど屋外で使用される用途も多く、従来のフィルムでは耐候性が劣るために、透明性が低下したり、フィルムの強度が低下するなど、長期間の使用に耐えるものではなかった。かかる課題を改善するために、フィルムに紫外線吸収剤を添加したり、紫外線吸収剤をコーティングする試みがなされているが、従来のフィルムでは耐候性を確保出来ても透明性が不足していた。
【０００５】
また、光学用途に使用されるポリエステルフィルムは、用途に応じて，ガスバリア層、導電体層、半導体層、発光体層などが積層されるが、これらの層の積層においては、蒸着、イオンプレーティング、スパッタ、プラズマＣＤＶ等々の手法が用いられる。上記手法を適用する際には、フィルムロールに一定の張力をかけて、フィルムの平面性を維持しつつ実施されるが、手法によって高低はあるものの、かなりの高温にフィルムがさらされるため、フィルムの伸縮の挙動が積層体の伸縮挙動と大きく異なると、積層体のひび割れや、しわなどが発生し、十分な性能が発揮できないという課題がある。
【０００６】
このような光学用フィルムに用いられるベースフィルムは優れた透明性、耐候性と加工適性が要求される。本発明は、かかる従来技術の課題を解消し、透明性、耐候性、加工適性に優れたポリエステルフィルムを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、紫外線吸収剤を含有するポリエステルフィルムであって、波長３７０ｎｍでの光線透過率が３％以下、４１０ｎｍでの光線透過率が８０％以上、該フィルムの長手方向の１４０ｇ／ｍｍ２加重下の２００℃の寸法変化が−２〜＋２％であることを特徴とする透明ポリエステルフィルムである。
【０００８】
また、好ましい実施態様として、厚み方向の屈折率が１．４９０以上１．５１０以下であること、可視光線波長領域での全光線透過率が８０％以上であること、基材層の少なくとも片面に被膜層を設けた積層フィルムであること、ポリエステルフィルムのヘーズ値が３％以下、被膜層を設けた側の表面の中心線表面粗さＲａが１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であること、被膜層が、粒径１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不活性粒子を含むこと、基材層が、ポリエチレンテレフタレートもしくはポリエチレン−２，６−ナフタレートを主体とするポリエステルフィルムであること、紫外線吸収剤が、後述の一般式（Ｉ）で表される環状イミノエステルおよび一般式（ＩＩ）で表される環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
【０００９】
［ポリエステル］
本発明において、ポリエステルフィルムを構成するポリエステルは、芳香族二塩基酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルである。
【００１０】
かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等を例示することができ、これらの共重合体またはこれと小割合の他樹脂とのブレンドであってもよい。これらのポリエステルのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので好ましい。
【００１１】
ポリエステルは、ホモポリマーでも、第三成分を共重合したコポリマーでもよいが、ホモポリマーが好ましい。ポリエステルがポリエチレンテレフタレートである場合、コポリマーとしてイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレートが最適である。このイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレートは、イソフタル酸が５モル％以下であることが好ましい。ポリエステルにはイソフタル酸以外の共重合成分または共重合アルコール成分が、その特性を損なわない範囲、例えば全酸成分または全アルコール成分に対して３モル％以下の割合で、共重合されていてもよい。該共重合酸成分としては、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の如き芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，１０−デカンジカルボン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸等が例示でき、またアルコール成分としては、１，４−ブタンジオ−ル、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等の如き脂肪族ジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等が例示できる。これらは単独または二種以上を使用することができる。
【００１２】
ポリエステルがポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ナフタレートと同義）である場合、主たるジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸が用いられ、主たるグリコール成分としてエチレングリコールが用いられる。ナフタレンジカルボン酸としては、たとえば２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸を挙げることができ、これらの中で２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。ここで「主たる」とは、本発明のフィルムの成分であるポリマーの構成成分において全繰返し単位の少なくとも９０モル％、好ましくは９５モル％以上を意味する。
【００１３】
コポリマーである場合、コポリマーを構成する共重合成分としては、分子内に２つのエステル形成性官能基を有する化合物を用いることができ、かかる化合物としては例えば、蓚酸、アジピン酸、フタル酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等の如きジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−オキシエトキシ安息香酸の如きオキシカルボン酸、或いはプロピレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサンメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ジエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコールの如き２価アルコールを好ましく用いることができる。
【００１４】
これらの化合物は１種のみ用いてもよく、２種以上を用いることができる。またこれらの中で好ましくは酸成分としては、イソフタル酸、テレフタル酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸であり、グリコール成分としてはトリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコールネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物である。
【００１５】
また、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートは、例えば安息香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの一官能性化合物によって末端の水酸基および／またはカルボキシル基の一部または全部を封鎖したものであってもよく、極少量の例えばグリセリン、ペンタエリスリトール等の如き三官能以上のエステル形成性化合物で実質的に線状のポリマーが得られる範囲内で共重合したものであってもよい。
【００１６】
本発明におけるポリエステルは従来公知の方法で、例えばジカルボン酸とグリコールの反応で直接低重合度ポリエステルを得る方法や、ジカルボン酸の低級アルキルエステルとグリコールとを従来公知のエステル交換触媒である、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ストロンチウム、チタン、ジルコニウム、マンガン、コバルトを含む化合物の一種または二種以上を用いて反応させた後、重合触媒の存在下で重合反応を行う方法で得ることができる。重合触媒としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモンのようなアンチモン化合物、二酸化ゲルマニウムによって代表されるようなゲルマニウム化合物、テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラフェニルチタネートまたはこれらの部分加水分解物、蓚酸チタニルアンモニウム、蓚酸チタニルカリウム、チタントリスアセチルアセトネートのようなチタン化合物を用いることができる。
【００１７】
エステル交換反応を経由して重合を行う場合は、重合反応前にエステル交換触媒を失活させる目的でトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ−ｎ−ブチルホスフェート、正リン酸等のリン化合物が通常は添加されるが、リン元素としてのポリエステルフィルム中の含有量が２０〜１００ｐｐｍであることがポリエステルの熱安定性の点から好ましい。なお、ポリエステルは、溶融重合後これをチップ化し、加熱減圧下または窒素などの不活性気流中において更に固相重合を施してもよい。
【００１８】
本発明においてポリエステルは、エチレンテレフタレート単位またはエチレン−２，６−カルボキシレート単位を９０モル％以上、好ましくは９５％以上、更に好ましくは９７％以上有するポリエステルが好ましい。また、ポリエステルの固有粘度は０．４０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．４０〜０．９０ｄｌ／ｇであることが更に好ましい。固有粘度が０．４０ｄｌ／ｇ未満では工程切断が多発することがある。また０．９ｄｌ／ｇより高いと溶融粘度が高いため溶融押出しが困難になり、重合時間が長く不経済であり好ましくない。
【００１９】
［紫外線吸収剤］
紫外線吸収剤は、その種類を特に特定されないが、下記式（Ｉ）および下記式（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物を、未反応の形態で用いるのが好ましい。
【００２０】
【化５】
2004250624.tif 000002
【００２１】
（式中、Ｘ１は上記式に表わされたＸ１からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある２価の芳香族残基であり、ｎは１、２または３であり、Ｒ１はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、またはＲｌはｎ＝２のとき直接結合であることができる。）
【００２２】
【化６】
2004250624.tif 000003
【００２３】
（式中、Ａは下記式（ＩＩ−ａ）で表わされる基であるかまたは下記式（ＩＩ−ｂ）で表わされる基であり、Ｒ２およびＲ３は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり、Ｘ２は４価の芳香族残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。）
【００２４】
【化７】
2004250624.tif 000004
【００２５】
【化８】
2004250624.tif 000005
【００２６】
かかる環状イミノエステルは紫外線吸収剤として公知の化合物であり、例えば特開昭５９−１２９５２号公報に記載されている。
【００２７】
前記一般式（Ｉ）中、Ｘ１は式（Ｉ）に表わされたＸ１からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある２価の芳香族残基であり、ｎは１、２または３であり、Ｒ１はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、またはＲ１はｎ＝２のとき直接結合であることができる。
【００２８】
Ｘ１としては、好ましくは例えば１，２−フェニレン、１，２−ナフチレン、２，３−ナフチレン、下記式（ａ）または（ｂ）で表わされる基を挙げることができる。これらのうち、特に１，２−フェニレンが好ましい。
【００２９】
【化９】
2004250624.tif 000006
【００３０】
（式中、Ｒは−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）−または−Ｃ（ＣＨ３）２−である。）
Ｘ１について例示した上記芳香族残基は、例えば炭素数１〜１０のアルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシル等；炭素数６〜１２のアリール、例えばフェニル、ナフチル等；炭素数５〜１２のシクロアルキル例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等：炭素数８〜２０のアラルキル、例えばフェニルエチル等：炭素数１〜１０のアルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、デシルオキシ等；ニトロ；ハロゲン、例えば塩素、臭素等；炭素数２〜１０のアシル、例えばアセチル、プロポニル、ベンゾイル、デカノイル等；などの置換基で置換されていてもよい。
【００３１】
Ｒ１はｎ価（ただし、ｎは１、２または３である）の炭化水素残基であるか、またはｎが２であるときに限り直接結合であることができる。１価の炭化水素残基（ｎ＝１の場合）としては、第一に、例えば炭素数１〜１０の未置換脂肪族基、炭素数６〜１２の未置換芳香族基、炭素数５〜１２の未置換脂環族基が挙げられる。炭素数１〜１０の未置換脂肪族基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシル等を、炭素数６〜１２の未置換芳香族基としては、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニル等を、炭素数５〜１２の未置換脂環族基としては、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。
【００３２】
また、上記１価の炭化水素残基としては、第二に、例えば下記式（ｃ）〜（ｆ）のいずれかで表わされる、置換された脂肪族残基または芳香族残基を挙げることができる。なお式中で、Ｒ４は炭素数２〜１０のアルキレン、フェニレンまたはナフチレンである。Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基またはナフチル基である。Ｒ６は水素原子またはＲ５に定義された基のいずれかである。Ｒ７は水素原子またはＲ５に定義された基のいずれかである。
【００３３】
【化１０】
2004250624.tif 000007
【００３４】
【化１１】
2004250624.tif 000008
【００３５】
【化１２】
2004250624.tif 000009
【００３６】
【化１３】
2004250624.tif 000010
【００３７】
また、上記１価の炭化水素残基としては、第三に、上記未置換の芳香族残基が例えば上記Ｘ１を表わす芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されているものを挙げることができる。それ故、かかる置換基で置換された場合の例としては、例えばニトリル、メチルナフチル、ニトロフェニル、ニトロナフチル、クロロフェニル、ベンゾイルフェニル、アセチルフェニルまたはアセチルナフチル等を挙げることができる。
【００３８】
１価の炭化水素残基としては、上記式（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）または（ｆ）で表わされる基、すなわち置換された脂肪族残基または芳香族残基、特にそのうち置換された芳香族残基が好ましい。２価の炭化水素残基（ｎ＝２の場合）としては、第一に、例えば２価の、炭素数２〜１０の未置換の脂肪族残基、炭素数６〜１２の未置換の芳香族残基、炭素数５〜１２の未置換の脂環族残基が挙げられる。
【００３９】
２価の炭素数２〜１０の未置換脂肪族基としては、例えばエチレン、トリメチレン、テトラメチレン、デカメチレン等を、２価の炭素数６〜１２の未置換芳香族残基としては、例えばフェニレン、ナフチレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレン等を、２価の炭素数５〜１２の未置換脂環族残基としては、例えばシクロペンチレン、シクロヘキシレン等を挙げることができる。
【００４０】
また、上記２価の炭化水素残基としては、第二に、例えば下記式（ｇ）または（ｈ）で表わされる、置換された脂肪族残基または芳香族残基を挙げることができる。なお式中で、Ｒ８はＲ４に定義された基のいずれかである。Ｒ９はＲ４に定義された基のいずれかであり、そしてＲ１０はＲ６に定義された基のいずれかである。
【００４１】
【化１４】
2004250624.tif 000011
【００４２】
【化１５】
2004250624.tif 000012
【００４３】
また、上記２価の炭化水素残基としては、第三に、上記未置換の２価の芳香族残基が、例えば上記Ｘ１を表わす芳香族基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されているものを挙げることができる。ｎが２の場合には、Ｒ１としては、これらのうち直接結合または上記第一〜第三の群の未置換または置換された２価の芳香族炭化水素残基が好ましく、特に２本の結合手が最も離れた位置から出ている第一または第三の群の未置換または置換された芳香族炭化水素残基が好ましく、就中Ｐ−フェニレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレンまたは２，６−ナフチレンが好ましい。３価の炭化水素残基（ｎ＝３の場合）としては、例えば３価の炭素数６〜１２の芳香族残基を挙げることができる。
【００４４】
かかる芳香族残基としては、例えば次のものを挙げることができる。かかる芳香族残基は、上記１価の芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されていてもよい。
【００４５】
【化１６】
2004250624.tif 000013
【００４６】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ２およびＲ３は同一もしくは異なる１価の炭化水素残基であり、Ｘ２は４価の芳香族炭化水素残基である。Ｒ２およびＲ３としては、上記式（Ｉ）の説明において、ｎ＝１の場合のＲ１について例示したと同じ基を例として挙げることができる。
【００４７】
４価の芳香族炭化水素残基としては、例えば次のものを挙げることができる。ここで、Ｒの定義は式（ａ）に同じ。
【００４８】
【化１７】
2004250624.tif 000014
【００４９】
上記４価の芳香族残基は、上記式（Ｉ）の説明において、Ｒ１を表わす１価の芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されていてもよい。本発明において用いられる上記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルの具体例としては、例えば下記の化合物を挙げることができる。
【００５０】
上記式（Ｉ）の化合物
ｎ＝１の場合の化合物
２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（１−または２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（４−ビフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｍ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ベンゾイルフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｏ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−シクロヘキシル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−（またはｍ−）フタルイミドフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、Ｎ−フェニル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、Ｎ−ベンゾイル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン、２−（ｐ−（Ｎ−メチルカルボニル）フェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン。
【００５１】
ｎ＝２の場合の化合物
２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−エチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−テトラメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−デカメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−または１，５−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，４−シクロヘキシレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、Ｎ−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フェニル、４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、Ｎ−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゾイル、４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン。
【００５２】
ｎ＝３の場合の化合物
１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン、２，４，６−トリ（３，１−ペンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン。
【００５３】
上記式（ＩＩ）の化合物
２，８−ジメチル−４Ｈ，６Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジメチル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，９−ジオン、２，８−ジフェニル−４Ｈ，８Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジフェニル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、６，６’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−エチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン’）、７，７’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）。
【００５４】
上記例示化合物のうち、上記式（Ｉ）の化合物、より好ましくはｎ＝２の場合の上記式（Ｉ）の化合物、特に好ましくは下記式（Ｉ）−１で表わされる化合物が有利に用いられる。なお式中で、Ｒ１１は２価の芳香族炭化水素残基である。
【００５５】
【化１８】
2004250624.tif 000015
【００５６】
式（Ｉ）−１の化合物としては、就中２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好ましい。
【００５７】
これら環状イミノエステルの紫外線吸収特性は、例えばその代表的化合物について特開昭５９−１２９５２号公報に記載されているので、それを援用する。
【００５８】
前記環状イミノエステルは、ポリエステルに対して優れた相溶性を有するが、前記特開昭５９−１２９５２号公報や米国特許第４２９１１５２号明細書に記載されているように、ポリエステルの末端水酸基と反応する能力を有する。そこで、環状イミノエステルが実質的に未反応な状態で含有されるように、環状イミノエステルとポリエステルとを注意深く混合させることが求められる。ただし、ポリエステルとして、主たる割合の末端基がカルボキシル基であるポリエステルや、末端水酸基が該環状イミノエステルと反応性の無い末端封鎖剤で封鎖されているポリエステルを用いる場合、環状イミノエステルを未反応の状態で含有する組成物を製造するのに特別の注意を払う必要は無い。
【００５９】
末端基の主たる割合が水酸基であるポリエステルを用いる場合、溶融混合の時間ｔ（秒）は、溶融混合温度Ｔ（℃）とポリエステルの溶融温度Ｔｍ（℃）との関係において、
Ｌｏｇｔ≦−０．００８Ｔ＋４．８
Ｔｍ＜Ｔ＜３２０
という二つの式を満足するように、短時間で完了するようにするのが望ましい。
【００６０】
この場合、環状イミノエステルとポリエステルとが少しの割合で反応する可能性があるが、この反応によってポリエステルの分子量は大きくなるので、この割合によっては可視光吸収剤によるポリエステルの劣化による分子量低下を防ぐことが可能である。なお、環状イミノエステルがポリエステルと反応した場合、紫外線吸収波長領域が、一般に、未反応の状態の紫外線吸収波長領域より低波長側にずれる傾向を示し、それ故高波長側の紫外線を透過する傾向をもつ。
【００６１】
前記環状イミノエステルは、適量を添加する場合、昇華物が殆どないので、製膜でダイ周辺を汚すことが少なく、紫外線から３７０ｎｍ付近の光線を吸収するのでフィルムの着色が無く、可視光線吸収剤やフィルムの劣化を防止する特性に優れている。前記紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステルに対し、０．０１〜１０重量％が好ましく、さらには０．１〜６重量％、特に０．２〜３重量％が好ましい。この量が０．０１％未満では紫外線劣化防止効果が小さく、一方１０重量％を超えるとポリエステルの製膜性が低下し、白煙を発生して、好ましくない。該紫外線吸収剤の添加は、ポリエステルの重合時、または溶融押出し時が好ましく、重合時が特に好ましい。
【００６２】
［物性］
本発明における透明ポリエステルフィルムは、長手方向の１４０ｇ／ｍｍ２荷重下の２００℃での寸法変化率が−２〜＋２％である必要がある。−２％未満または＋２％を越えると、ポリエステルフィルム上に機能層を積層する際、あるいは積層した後に積層体にひび割れが生じることがあり、逆にしわが寄ることで積層体が破壊されるなどして充分な機能が発揮できなくなる。１４０ｇ／ｍｍ２荷重下の２００℃での寸法変化率は、より好ましくは−１．５〜＋１．５％、さらに好ましくは−１〜＋１％である。２００℃での寸法変化率を小さくする方法は限定されないが、特開昭５７−５７６２８号公報に記載のように、熱処理工程で収縮させるなどの方法を用いることができる。
【００６３】
本発明の透明性ポリエステルフィルムは、波長３７０ｎｍ光線透過率が３％以下である必要がある。波長３７０ｎｍ光線透過率が３％を超えると太陽光のように光源に紫外線が含まれる場合、脆化や褪色しやすくなる。一方、波長４１０ｎｍ光線透過率は８０％以上である必要がある。波長４１０ｎｍ光線透過率が８０％未満であると、可視光の低波長領域の透過性が不足してフィルムが黄色に着色することとなり、好ましくない。また本発明の透明性ポリエステルフィルムは、ヘーズ値が３％以下であることが好ましい。さらに好ましいヘーズ値は２．０％以下、特に好ましくは１．０％以下である。ヘーズ値が３％を超えると光学用途に不適である。
【００６４】
被膜層を設けた側の表面の中心線平均粗さは、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、更に好ましくは２ｎｍ以上１５ｎｍ以下である。中心線平均粗さＲａが１ｎｍ未満であるとスクラッチを発生しやすく、またハンドリング性が劣り、フィルムをロ−ル状に巻いた際にブロッキングを起こし易く、一方２０ｎｍより大きいとフィルムの表面が粗くなり、表面反射が大きくなり、ヘーズが低下する。
【００６５】
本発明における透明ポリエステルフィルムにおける厚み方向の屈折率は、１．４９０以上１．５１０以下であることが好ましく、１．４９３以上１．５０５以下であることがより好ましい。厚み方向の屈折率が１．４９０未満であるとフィルムがデラミネーション（層状剥離）し易くなり、プリズムレンズ層、ハードコート層、粘着剤、反射防止処理、スパッタ層等を設けた際、これらの層とポリエステルフィルムとの密着性が不足しやすくなる。一方、１．５１０を超えるとヘーズ値が大きくなる。
【００６６】
フィルムの厚みは光学用途としては２０〜３００μｍであることが必要であり、好ましくは５０〜２５０μｍである。フィルム厚みが２０μｍに満たない場合はフィルム剛性が不充分となりやすく、また３００μｍを超える場合は透明性が不充分となりやすい。
【００６７】
［被膜層］
本発明の透明光学用積層ポリエスエルフィルムは、少なくとも片面に粒径１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の不活性粒子を含む被膜層を設ける必要がある。この被膜層を形成させる樹脂としては特に限定されないが、光学用途として用いる場合には、プリズムレンズ層、ハードコート、粘着剤、反射防止処理、スパッタ層等に対する易接着性も要求されることが多いため、共重合ポリエステル系樹脂を主成分とすることが好ましい。共重合ポリエステル樹脂としては、例えば多塩基酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２、６−ナフタレンジカルボン酸、１、４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられ、また、ポリオール成分としては、エチレングリコール、１、４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１、６−ヘキサンジオール、１、４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコール等が挙げられる。特にガラス転移点が４０〜１００℃の範囲にあるポリエステル樹脂が好ましい。また、アクリル系樹脂との接着性を向上させ、且つ被膜層の耐スクラッチ性を向上させるために、アルキルアクリレート、アルキルアクリレート等のモノマーと主成分とするアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、架橋剤等を含有させてもよい。
【００６８】
被膜層には、耐スクラッチ性、ハンドリング性付与のために不活性粒子を含有することが好ましい。不活性粒子の粒子径は１０〜１５０ｎｍの範囲であることを必要とし、含有量は０．１〜２０重量％であることが好ましい。粒子径が１０ｎｍ未満であるか、被膜層中の不活性粒子の含有量が０．１重量％より少ないとフィルムが滑らなくなり、スクラッチ傷耐性やハンドリング性が不十分となる。不活性粒子の粒子径が１５０ｎｍを超えるか、含有量が２０重量％を超えると不活性粒子の脱落が起こりやすくなり、また被膜層の透明性が損なわれる。かかるフィラーは有機または無機の微粒子であり、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が例示される。不活性粒子は単成分でもよく、また２種類以上の他成分でも構わない。２種類以上の不活性粒子を用いた場合は、その数平均粒径を用いる。
【００６９】
本発明で用いられる被膜層は、水溶性、水分散性、或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。被膜を形成するために、必要に応じて、上記組成物以外の他の樹脂や化合物、例えば帯電防止剤、界面活性剤、ワックス、架橋剤などを添加することができる。
【００７０】
本発明において塗布層の塗設に用いられる組成物は、塗布層（以下「塗膜」ということがある）を形成させるために、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。塗膜を形成するために、必要に応じて、塗膜組成物以外の他の樹脂、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤等を添加することができる。特に、滑剤を添加することで滑性、耐ブロッキング性を更に良好なものにすることができる。
【００７１】
本発明に用いる水性塗液の固形分濃度は、通常２０重量％以下であるが、特に１〜１０重量％であることが好ましい。この割合が１重量％未満であると、ポリエステルフィルムへの塗れ性が不足することがあり、一方、２０重量％を超えると塗液の安定性や塗工が困難になることがある。
【００７２】
水性塗液のポリエステルフィルムへの塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステルフィルムの製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステルフィルムに塗布するのが好ましい。
【００７３】
ここで、結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムとは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向または横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向および横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向また横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、縦方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記組成物の水性塗液を塗布し、そのまま横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
【００７４】
水性塗液をフィルムに塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてフィルム表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいは組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することもできる。
【００７５】
かかる界面活性剤は、ポリエステルフィルムへの水性塗液の濡れを促進するものであり、例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸金属石鹸、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩等のアニオン型、ノニオン型界面活性剤を挙げることができる。界面活性剤は、塗膜を形成する組成物中に、１〜１０重量％含まれていることが好ましい。
【００７６】
塗液の塗布量は、塗膜の厚さが０．０１〜０．３μｍ、好ましくは０．０２〜０．２５μｍの範囲となるような量であることが好ましい。塗膜の厚さが薄過ぎると、接着力が不足したり不活性粒子が脱落したりする。逆に厚過ぎると、ブロッキングを起こしたり、塗工が難しくなる可能性がある。
【００７７】
塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独または組合せて用いることができる。尚、塗膜は、必要に応じ、フィルムの片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよいがハンドリング性の観点から両面に形成することが好ましい。
【００７８】
［製造方法］
次に、本発明の高透明ポリエステルフィルムの好ましい製造方法について説明する。なおガラス転位温度をＴｇと略記する。
【００７９】
本発明におけるポリエステルフィルムは、ポリエステルを所定の組成のポリエステルチップを充分に乾燥した後、ダイに通してフィルム状に溶融押出し、ポリエチレンテレフタレートの場合予め２０〜４０℃程度、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場合予め３０〜６０℃程度に設定されたキャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムをＴｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃で長手方向に１回もしくは２回以上合計の倍率が３倍〜５倍になるよう延伸し、その後被膜層を片面または両面に塗布した後、Ｔｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃で幅方向に倍率が３〜６倍になるように延伸される。次いで、２２０〜２５０℃で１〜６０秒間熱固定処理を行う。熱固定処理温度が２２０℃未満であると、荷重下の２００℃の寸法変化が収縮により、―２％より小になることがある。熱処理温度が上記範囲より高いとヘーズ値が３％より大きくなり易く、またフィルムの厚み斑も大きくなり易い。
【００８０】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。なお、実施例中の各特性値は以下の方法により評価した。
【００８１】
（１）分光透過率
分光光度計（（株）島津製作所製の商品名「ＭＰＣ３１００」）を用い、波長３７０ｎｍおよび４１０ｎｍの光線透過率を測定する。
【００８２】
（２）全光線透過率
ＪＩＳ  Ｋ６７１４−１９５８に準じて、ヘーズ測定器（日本電色工業社製の商品名「ＮＤＨ−２０００」）を使用して全光線透過率Ｔｔ（％）を測定する。
【００８３】
（３）ヘーズ値
ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準じ、ヘーズ測定器（日本電色工業社製の商品名「ＮＤＨ−２０００」）を使用してフィルムのヘーズ値を測定した。
【００８４】
（４）荷重下の寸法変化
セイコーインスツルメンツ（株）製のＴＭＡ／ＳＳ１２０Ｃを用い、試料フィルムに１４０ｇ／ｍｍ２の荷重をかけた状態で３０℃から２５０℃まで２０℃／分の昇温速度で昇温させ、寸法変化を測定し、次の計算式
Ｌｘ＝１００×（Ｌ１−Ｌ０）／Ｌ０
により寸法変化率Ｌｘ（％）を算出した。なお式中で、Ｌ０は試料の原寸法、Ｌ１は２００℃での試料の寸法である。
【００８５】
（５）屈折率
アッベ屈折計を用い、ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）を光源としてフィルムの屈折率を求めた。
【００８６】
（６）粒子の粒径
試料フィルム小片を走査型電子顕微鏡用試料台に固定し、スパッターリング装置（日本電子（株）製の商品名「ＪＩＳ−１１００型イオンスパッターリング装置」）を用いてフィルム表面をイオンエッチング処理し、高分解能電界放出形走査型電子顕微鏡にて１〜３万倍で観測し、ニレコ（株）製ルーゼックスＦＳにて、５０個の粒子の面積相当粒径を求め、数平均値を平均粒径とした。
【００８７】
（７）中心線表面粗さＲａ
三次元粗さ計（小坂研究所製の商品名「ＳＥ−３ＣＫ」）を用いて、針径２μｍＲ、針圧３０ｍｇ、測定長さ１ｍｍ、サンプリングピッチ２μｍ、カットオフ０．２５ｍｍ、縦方向拡大率２万倍、横方向拡大率２００倍、走査本数１００本の条件にて測定し、Ｒａを測定する。両面に被膜層を設けた場合は、両面を測定し平均値を求めた。
【００８８】
（８）耐候性
ポリエステルフィルムに、サンシャインウェザーメーター（スガ試験機（株）製の商品名「ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣＬ型」）を使用し、ＪＩＳ−Ｋ−６７８３ｂに準じて、１０００時間（屋外曝露１年間に相当）照射することにより屋外曝露促進試験を行う。処理後、ヘーズ測定器（日本電色工業社製の商品名「ＮＤＨ―２０００」）を使用してフィルムのヘーズ値を測定し、処理前のヘーズ値との差を下記の基準で評価した。
◎：ヘーズ値差分≦１．０％  …耐候性極めて良好。
○：１．０％＜ヘーズ値差分≦２．０％  …耐候性良好。
×：２．０％＜ヘーズ値差分  …耐候性不良。
【００８９】
［実施例１］
ジメチルテレフタレート９６部、エチレングリコール５８部、酢酸マンガン０．０３８部および三酸化アンチモン０．０４１部を夫々反応器に仕込み、攪拌下内温が２４０℃になるまでメタノールを留出せしめながらエステル交換反応を行い、該エステル交換反応が終了したのちトリメチルホスフェート０．０９７部を添加した。引き続いて、反応生成物を昇温し、最終的に高真空下２８０℃の条件で重縮合を行って固有粘度０．６４ｄｌ／ｇの実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートのチップＰ１を得た。次に、このポリエステルチップＰ１の一部に平均粒径１．７μｍの多孔質シリカ（一次粒径２０ｎｍ、細孔容積１．２ｍｌ／ｇ）を０．４重量％添加し、１７０℃で３時間乾燥したのち、二軸押出機に供給し、２８０℃で溶融混練し、押出し、急冷固化してマスターチップＰ２を得た。また、ポリエステルチップＰ１の一部に下記式（Ａ）に示す紫外線吸収剤を５重量％添加し、１７０℃で３時間乾燥したのち、二軸押出機に供給し、２８０℃で溶融混練し、押出し、急冷固化してマスターチップＰ３を得た。
【００９０】
【化１９】
2004250624.tif 000016
【００９１】
また表面に塗布する塗剤１として、ポリエステル：９３重量部、不活性粒子：２重量部、濡れ剤：５重量部の構成からなる物を用意した。ここで塗剤用のポリエステルは、酸成分が２，６−ナフタレンジカルボン酸７０モル％／イソフタル酸２５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール８０モル％／ジエチレングリコール２０モル％で構成されている（Ｔｇ＝８０℃、平均分子量１３０００）。こうしたポリエステルは、特開平０６−１１６４８７号公報の実施例１に記載の方法に準じて、下記の通り製造した。即ち、２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル４７部、イソフタル酸ジメチル１３部、５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル４部、エチレングリコール３１部、ジエチレングリコール５部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン０．０５部を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで反応系の温度を徐々に２５５℃まで上昇させ系内を１ｍｍＨｇの減圧にして重縮合反応を行い、ポリエステルを得た。また、不活性粒子はシリカ（粒径８０ｎｍ、触媒化成株式会社製  商品名ＳＩ−８０Ｐ）であり、濡れ剤はポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテル（三洋化成株式会社製  商品名ナロアクティーＮ−７０）である。
【００９２】
ポリエステルフィルム中の多孔質シリカの濃度が０．００３重量％、紫外線吸収剤の濃度が１．０重量％になるように、ポリエステルチップＰ１、マスターチッＰ２、マスターチップＰ３をブレンドし、１７０℃で３時間乾燥したのち、２９０℃で溶融押出し、２０℃に保持した冷却ドラム上で急冷固化せしめ未延伸フィルムを得た。該未延伸フィルムを９５℃で縦方向に３．３倍延伸し、次いでロールコーターで片面に下記の塗剤１を乾燥後の厚み０．１０μｍになるように片面に塗布し、１１０℃で横方向に３．５倍に延伸したのち、２４０℃で５秒間熱固定し、更に１９０℃の温度で幅方向に０．５％弛緩させ、厚み１００μｍの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を、表１に示す。
【００９３】
［実施例２および３］
ポリエステルに含有させる紫外線吸収剤を次の通り変更する他は、実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。実施例２では、下記式（Ｂ）の紫外線吸収剤を０．９重量％含有させた。実施例３では、下記式（Ｃ）の紫外線吸収剤を０．８重量％含有させた。得られたフィルムの評価結果を、表１に示す。
【００９４】
【化２０】
2004250624.tif 000017
【００９５】
【化２１】
2004250624.tif 000018
【００９６】
［実施例４］
フィルム厚みを１８８μｍとした以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を、表１に示す。
【００９７】
［実施例５］
ポリエステル中に不活性粒子を何も添加しない以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を、表１に示す。
【００９８】
［比較例１］
紫外線吸収性剤を含まないポリエチレンテレフタレートを使用した以外は、実施例１と同様に製膜して、厚みが１００μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を、表１に示す。
【００９９】
［比較例２］
ポリエステルチップＰ１の一部に、紫外線吸収剤Ｄとして２−〔２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロキシフタルアミド−メチル）−５−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール（住友化学工業（株）社製  Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ２５０  分子量３８９  ベンゾトリアゾール系）５重量％添加し、１７０℃で３時間乾燥したのち、二軸押出機に供給し、２８０℃で溶融混練し、押出し、急冷固化してマスターチップＰ４を得た。ポリエステルフィルム中の多孔質シリカの濃度が０．００３重量％、紫外線吸収剤の濃度が１．０重量％になるように、ポリエステルチップＰ１、マスターチップＰ２、マスターチップＰ４をブレンドし、以降は実施例１と同様にして厚みが１００μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を、表１に示す。
【０１００】
［比較例３］
ポリエステルフィルム中の多孔質シリカの濃度が０．０３６重量％とし、フィルム厚みを１８８μｍとする以外は実施例１と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を、表１に示す。
【０１０１】
［比較例４］
熱固定温度を１９０℃とする以外は実施例１と同様にしてポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を、表１に示す。
【０１０２】
【表１】
2004250624.tif 000019
【０１０３】
【発明の効果】
本発明の高透明ポリエステルフィルムは、耐候性、透明性ともに優れ、高温荷重下での寸法安定性に優れるのでフィルム加工適性に優れるため、各種光学用途に有用である。