(57)【要約】　　　（修正有）【課題】新規合成ルートを提案し、シガトキシン類の収率および製造の容易性を改善するため、全合成の最終工程で使用する水酸基の保護基として、比較的温和な条件において、基質特異的に脱保護基反応が進行する保護基を選択し、新規全合成ルートを確立する。【解決手段】化合物８で表されるように、新規なシガトキシン類（ＣＴＸ３Ｃ類）の合成前駆体の水酸基に対する保護基として、従来のベンジル（Ｂｎ）保護基に代わり、新たにナフチルメチル（ＮＡＰ）基を導入した化合物を用いる。このＮＡＰ保護基の使用により、脱Ｂｎ保護基の反応よりも容易で化学構造特異性の高い酸化反応により、脱ＮＡＰ反応が可能となり、高収率でＣＴＸ３Ｃを得ることができることを見出した。2004018456.tif 000017【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
化合物１で表される、７位、２９位および４４位の水酸基の保護基をナフチルメチル（ＮＡＰ）基としたアセタール原料化合物を用い、
工程１；のアセタール原料化合物１を２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルピリジン（ＤＴＢＭＰ）の存在下において、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（ＴＭＳＯＴｆ）と，フェニルチオトリメチルシラン（ＴＭＳＳＰｈ）で処理して、ＮＡＰ基の保護基を保持してＯ，Ｓ−アセタールル化合物２を得る工程、
工程２；化合物２の２３位の一級水酸基をエトキシエチル基で保護し、３１位の二級水酸基にα，β−不飽和エステルを導入して化合物３を得る工程からなる反応式１で表される反応、および
【化１】
2004018456.tif 000011
【化２】
2004018456.tif 000012
工程３；立体選択的ラジカル環化反応によりＧ環部を構築して化合物４を合成する工程、
工程４；化合物４のエステル部位を還元、ウィッティッヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応によりオレフィン化合物５を合成する工程、
工程５；化合物５を酸条件下処理して、エトキシエチル基を除去して化合物６を得る工程、
工程６；化合物６を酸化、ウィッティッヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応に供することで、閉環オレフィンメタセシス基質である化合物７を合成する工程、
工程７；化合物７に対して（ＰＣｙ３）２Ｃｌ２Ｒｕ＝ＣＨＰｈ〔ベンジリデン（トリシクロヘキシルホスフィン）ジクロロルテニウム〕で表されるＧｒｕｂｂｓ触媒を用い、Ｆ環部９員環を形成して、トリＮＡＰ−ＣＴＸ３Ｃ　である化合物８を合成する工程、および最後の
工程８；化合物８のＮＡＰ脱保護基を、ＤＤＱにより酸化条件下で進行させる工程からなる反応式２により、目的化合物であるＣＴＸ３Ｃ類を全合成する方法。
【化３】
2004018456.tif 000013
【請求項２】
式１で表される新規化合物。
【化４】
2004018456.tif 000014
式１中、Ｒ１はＨまたはＥＥ、Ｒ２はＴＩＰＳまたはＣＨ＝ＣＨＣＯＯ２Ｍｅ
【請求項３】
式２で表される新規化合物。
【化５】
2004018456.tif 000015
式２中、Ｒ３はＣＨ２ＯＥＥ、ＣＨ２ＯＨ、またはＣＨ＝ＣＨ２、
Ｒ４はＣＯＯＭｅ、またはＣＨ＝ＣＨ２
【請求項４】
式３で表される新規化合物。
【化６】
2004018456.tif 000016
式３中、Ｒ５はＮＡＰまたはＨ
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、効率的な、特に、７位、２９位および４４位の水酸基の脱保護基の効率を改善した新規なシガトキシン類の全合成ルートおよび前記ルートを構築する新規な中間体化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本来無毒な魚類が毒化して起こる食中毒シガテラは、熱帯、亜熱帯の珊瑚礁域で広く発生し、年間の患者数は２万人を超える。死亡率は低いものの、知覚異常、下痢、倦怠感、関節痛、痒みなどの症状が場合によっては数ヶ月も続く。このシガテラの主要原因毒として単離・構造決定されたシガトキシン（ＣＴＸ）類（化合物１など）は、１３個のエーテル環が縮環する分子長３ｎｍの巨大分子である。ＣＴＸ類は渦鞭毛藻（Ｇａｍｂｉｅｒｄｉｓｃｕｓ　ｔｏｘｃｕｓ）により生産され、食物連鎖を通じて魚類に蓄積する。４００種類にも達する毒魚は、見た目、味、においなどが正常であることから、南方海域の魚類資源開発の大きな障害となっており、ＣＴＸ類の簡便かつ高感度な免疫学的測定法による検出法の開発が待たれている。
【０００３】
ＣＴＸ類は神経興奮膜の電位依存性Ｎａ＋チャネルに特異的に結合し、これを活性化して毒性を発揮するが、その構造レベルでの活性発現機構は明らかにされていない。自然界のＣＴＸ類は微量成分であり、生産微細藻による培養生産も遅いことから、天然物による詳細な生物学的研究、抗ＣＴＸ抗体調製は事実上不可能である。このような状況下、実用的な化学合成による天然物の量的供給が強く望まれている。
今までに、本発明者らは既にシガトキシンの全合成を提案している〔ＭａｓａｈｉｒｏＨｉｒａｍａ　ｅｔ　ａｌ．Ｓｃｉｅｎｃｅ．Ｖｏｌ．２９４，ｐ１９０４−１９０７（文献１）、特願２００２−１２４６０、２００２年１月２２日出願〕。しかしながら、前記全合成法において、最後のＡＢＣＤＥ環部とＨＩＪＫＬＭ環部との連結とＦＧ環の形成反応による、シガトキシンＣＴＸ３Ｃの前駆体であるトリベンジル−ＣＴＸ３Ｃを合成する方法を経由するシガトキシンＣＴＸ　３Ｃの全合成において、前記前駆体の３つのベンジル保護基を、前記完成したＡ〜Ｍまでの環を維持しつつ取り除く工程の反応が難しく、かつ、厳しい条件のために収率が悪いという、不都合があった。しかしながら、前記全合成は、広く魚類に含まれる代表的なシガトキシンであるＣＴＸ３Ｃ（文献１、図３）の収束的全合成であり、最終脱保護が唯一の問題であった。
【０００４】
本発明者は、前記最終脱保護の問題点を解決すべき手段を検討する中で、ベンジル保護基に代わり得る保護基を見出すことを発想し、多くの保護基を用いたモデル化合物を合成し、脱保護が比較的温和な条件において、基質特異的に脱保護基反応が進行する保護基の検討をし、前記化合物１に示す７位、２９位および４４位の水酸基の保護基をナフチルメチル基とする、シガトキシンＣＴＸ３Ｃ類の新規全合成ルートを構築するのに有用な中間体として有用な新規化合物を提案している（特願２００２−３５０７５、平成１４年２月１３日出願）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の課題は、前記提案した新ルートの発想を発展させ、シガトキシンＣＴＸ３Ｃ類の新規全合成ルートを確立することである。すなわち、最終脱保護の問題を解決した新ルートの化学合成法を確立することである。ところで、天然物の全合成において、中間化合物は最終化合物までの工程を想定しつつ設計しても、合成工程は最終段階に近づくほど、標的の反応位置へ影響する周辺の原子が多くなり、また、官能基の数や分子量が増すため、望む化学変換の条件設定には厳密さを要求される。とくに、合成過程に要求される様々な反応からある官能基を保護するために利用される保護基は、最終段階までの化学的安定性と最終段階での除去の容易さという２つの矛盾しうる性質を要求され、脱保護が全合成でもっとも困難な工程となる場合も多い。前記本発明者らが提案したＮＡＰ保護基を用いたＣＴＸ　３Ｃ類の合成に有用と思われる中間体も、従来のベンジル保護基を用いる場合に比べて有用であることが、モデル化合物を用いた実験で予想されていても、前記中間体以降、目的化合物であるシガトキシンＣＴＸ３Ｃ類までの合成工程において有効な保護基となるかどうかは、その工程を現実に構築して初めて確認できるというのが、技術的発展が進んだ現在の化学技術の現状にあっても存在する問題である。
【０００６】
そこで、本発明者らは前記提案以降の工程の確立を、先ず本発明者らが開発した前記化合物１のＮＡＰ保護基をＢｎ保護基とした化合物を出発原料として用いて、前記脱保護基前のＣＴＸ３Ｃ類の合成ルートが利用できないか検討し、化合物１を出発原料を用いてＮＡＰを保護基とするＣＴＸ３Ｃの前駆体を合成する反応工程には、前記化合物１のＮＡＰ保護基をＢｎ保護基とした出発原料を用いて、最終工程に於いて脱Ｂｎ保護基をしてＣＴＸ３Ｃを製造するする前のＣＴＸ３Ｃ前駆体を合成する反応までの工程をほぼ踏襲できること、および、脱ＮＡＰ保護基の反応には、脱Ｂｎ保護基の反応より容易な酸化反応を利用でき、かつ、前記酸化反応は化学構造特異性が高いために、高収率でＣＴＸ３Ｃを得ることができることを見出し、前記課題を解決することができた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１は、前記化合物１で表される、７位、２９位および４４位の水酸基の保護基をナフチルメチル（ＮＡＰ）基としたアセタール原料化合物を用い、工程１；のアセタール原料化合物１を２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルピリジンの存在下において、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（ＴＭＳＯＴｆ）とフェニルチオトリメチルシラン（ＴＭＳＳＰｈ）で処理して、ＮＡＰ基の保護基を保持して前記Ｏ，Ｓ−アセタールル化合物２を得る工程、
工程２；前記化合物２の２３位の一級水酸基をエトキシエチル基で保護し、３１位の二級水酸基にα，β−不飽和エステルを導入して前記化合物３を得る工程からなる前記反応式１で表される反応、および
工程３；前記化合物３を立体選択的ラジカル環化反応によりＧ環部を構築して前記化合物４を合成する工程、
工程４；前記化合物４のエステル部位を還元、ウィッティッヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応により前記オレフィン化合物５を合成する工程、
工程５；化合物５を酸条件下処理して、エトキシエチル基を除去して前記化合物６を得る工程、
工程６；化合物６を酸化、ウィッティッヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応に供することで、閉環オレフィンメタセシス基質である前記化合物７を合成する工程、
工程７；化合物７に対してオレフィンメタセシス触媒である（ＰＣｙ３）２Ｃｌ２Ｒｕ＝ＣＨＰｈで表されるＧｒｕｂｂｓ触媒〔ベンジリデン（トリシクロヘキシルホスフィン）ジクロロルテニウム〕を用い、Ｆ環部９員環を形成して、トリＮＡＰ−ＣＴＸ３Ｃ　である化合物８を合成する工程、
【０００８】
【化７】
2004018456.tif 000002
【０００９】
および最後の
工程８；化合物８のＮＡＰ脱保護基を、ＤＤＱ（２，３−ｄｉｃｈｌｏｒｏ−５，６−ｄｉｃｙａｎｏ−１，４−ｂｅｎｚｏｑｕｉｎｏｎｅ）により酸化条件下で進行させる工程からなる反応式２により、目的化合物であるＣＴＸ３Ｃ類を全合成により合成する方法に関する。
【００１０】
本発明の第２は、前記式１で表される新規化合物、特に新規ルートに基づいてＣＴＸ３Ｃ類を合成するのに有用な前記式１で表される新規化合物である。
本発明の第３は、前記式２で表される新規化合物、特に新規ルートに基づいてＣＴＸ３Ｃ類を合成するのに有用な前記式２で表される新規化合物である。
本発明の第４は、前記式３で表される新規化合物、特に新規ルートに基づいてＣＴＸ３Ｃ類を合成するのに有用な前記式３で表される新規化合物である。
【００１１】
【本発明の実施の態様】
本発明をより詳細に説明する。
Ａ．本発明の特徴は、本発明者らが先に提案（特願２００２−３５０７５、平成１４年２月１３日出願）したモデル実験に基づいて確認した、従来のシガトキシン類の全合成の反応条件をできるだけ維持しつつ脱保護基の問題を改善できるとの予想を実現するための新規ルートを確立することである。
そしてそのルートは請求項１に記載の反応式１および２によるルートを開発することにより、前記先の提案で予想した効果を確認することができた。
【００１２】
Ｂ．ここで、本発明の理解を助けるために前記化合物１の合成工程を反応式３に示す。
【００１３】
【化８】
2004018456.tif 000003
【００１４】
化合物１の合成；
Ａ−Ｅ環ジオール化合物Ｂ（１５．３　ｍｇ，２６．５μｍｏｌ）とＨ−Ｍ環アルデヒド化合物Ａ　（２９．０μｍｏｌ）のベンゼン（０．３　ｍＬ）溶液に、Ｓｃ（ＯＴｆ）３（３．７　ｍｇ，　７．５　μｍｏｌ）を加え室温で２時間撹拌した。反応溶液を酢酸エチルで希釈し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で洗った。水層をさらに酢酸エチルで２回抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水で洗い、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮、シリカゲルカラムで精製し、化合物１のアセタール（２９．０　ｍｇ、１８．４μｍｏｌ，　６９％）が得られる。化合物１の物性を表１に示す。
【００１５】
【表１】
2004018456.tif 000004
【００１６】
【実施例】
ＮＡＰ保護基に代えた中間化合物類、および該中間体の合成工程については、前記反応式１および２、並びに該反応式の説明の中に概略記載した。
本明細書における略号については略号の説明項参照。
【００１７】
実施例１
化合物２．３の合成反応；
化合物１（１６．８ｍｇ、１０．７μｍｏｌ）、ＴＭＳＳＰｈ　（１０μＬ、５０μｍｏｌ）、ＤＴＢＭＰ　（２２ｍｇ、１１０μｍｏｌ）と活性化ＭＳ４Ａ　（〜１０ｍｇ）のＣＨ２Ｃｌ２（０．５ｍＬ）溶液を０℃に冷却し、ＴＭＳＯＴｆ　（１７μＬ、９０μｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌後、３５℃で４時間撹拌した。反応溶液にメタノール（１　ｍＬ）とＫ２ＣＯ３（８０ｍｇ）を室温で加え、混合液を終夜撹拌し、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗い、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮、フラッシュカラムで精製し、化合物２Ｏ，Ｓ−アセタール（６．９　ｍｇ，４．１μｍｏｌ，３８％）を得、原料化合物１（３．９　ｍｇ，　２．５μｍｏｌ，　２３％）を回収した。化合物２の物性を表２に示す
【００１８】
【表２】
2004018456.tif 000005
【００１９】
化合物２（１４．０ｍｇ、８．３μｍｏｌ）とエチルビニルエーテル（ＥＶＥ）（８０μＬ、８００μｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２溶液にＰＰＴＳ　（２．３ｍｇ、９．２μｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間撹拌し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液を加えて反応を停止した。この溶液を酢酸エチルで２回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、ＭｇＳＯ４で乾燥した。濃縮とフラッシュカラムで精製し、ＥＥエーテル（１０．７ｍｇ、６．１μｍｏｌ）を得た。
ＥＥエーテル（１０．７ｍｇ、６．１μｍｏｌ）のＴＨＦ　（０．２ｍＬ）溶液に、ＴＢＡＦ　（６１μＬ、　１．０　Ｍ　ＴＨＦ溶液，　６１μｍｏｌ）を加え、４０℃で１５時間撹拌した。反応溶液を直接シリカゲルカラムで精製し、アルコール（１０．６ｍｇ）を得た。
アルコール（１０．６ｍｇ）のＣＨ２Ｃｌ２（０．４ｍＬ）溶液に、メチルプロピオレート（１１μＬ，　１２０μｍｏｌ）とＮＭＭ　（３μＬ、３０μｍｏｌ）を加え、室温で９時間撹拌した。反応溶液を直接シリカゲルカラムで精製し、化合物３のアクリレート（９．１ｍｇ、５．４μｍｏｌ、前記２工程合計の収率は８９％）を得た。化合物３の物性を表３に示す。
【００２０】
【表３】
2004018456.tif 000006
【００２１】
化合物４、５，および６の合成；
化合物３（９．１ｍｇ、５．４μｍｏｌ）、Ｂｕ３ＳｎＨ　（４３μＬ、１６０μｍｏｌ）とＡＩＢＮ（４．８ｍｇ、２９μｍｏｌ）のトルエン（１．８ｍＬ）を凍結脱気した後、８５℃に加熱し、２．５時間撹拌した。反応液を直接フラッシュカラムで精製し、化合物４のエステルを得た。化合物４は、これ以上の精製をせずに、次の反応に使用した。
【００２２】
化合物４のＣＨ２Ｃｌ２（０．５ｍＬ）溶液を、−８０℃に冷却し、ＤＩＢＡＬ（１８μＬ、０．９３Ｍヘキサン溶液，　１７μｍｏｌ）を加えた。原料の化合物４が消失するまで、さらにＤＩＢＡＬ（９５μＬ、０．９３Ｍヘキサン溶液、９０μｍｏｌ）を導入した。−８０℃で２時間撹拌後、酢酸エチルを加え、反応を停止した。この混合物を、酢酸エチルと飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液で希釈し、ロッシェル塩を加え室温で２時間撹拌した。この溶液を酢酸エチルで３回抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水で洗い、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濃縮した。粗アルデヒドをフロリジルパッドで精製し、次の反応に使用した。
トリフェニルホスホニウムブロミド（２４ｍｇ、６７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ　（０．２　ｍＬ）をＮａＨＭＤＳ（６０μＬ、１Ｍ　ＴＨＦ溶液，　６０μｍｏｌ）で、０℃で処理し、混合物を０℃で１５分間撹拌した。この溶液に、アルデヒドのＴＨＦ　（０．６　ｍＬ）を導入し、０℃で１時間撹拌した。飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え反応を停止し、水層を酢酸エチルで２回抽出した。あわせた有機層を飽和食塩水で洗い、ＭｇＳＯ４で乾燥した。この溶液を濃縮し、フラッシュカラムで精製して、化合物５のテトラエンを得た。化合物５はこれ以上の精製はせずに、次の反応に使用した。
【００２３】
ＥＥエーテル化合物５のメタノール（１ｍＬ）−ＴＨＦ　（０．５ｍＬ）溶液に、ＣＳＡ（１．０ｍｇ、４μｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。溶液にさらにＣＳＡ　（１．６　ｍｇ、７μｍｏｌ）を導入し、反応溶液を室温で６時間撹拌した。この混合物に、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液を加え、反応を停止し、水層を酢酸エチルで２回抽出した。あわせた有機層を飽和食塩水であらい、ＭｇＳＯ４で乾燥した。濃縮、フラッシュカラムにより化合物６のアルコール（３．３　ｍｇ、２．２μｍｏｌ、前記４工程合計の収率は４１％であった。）を得た。化合物６の物性を表４に示す。
【００２４】
【表４】
2004018456.tif 000007
【００２５】
化合物７の合成；
化合物６のアルコール（３．３ｍｇ、２．２μｍｏｌ）とＥｔ３Ｎ（６０μＬ、４５０μｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２（０．２　ｍＬ）−ＤＭＳＯ（０．２ｍＬ）を、０℃に冷却し、ＳＯ３ピリジン錯体（１１ｍｇ、７０μｍｏｌ）を加えた。反応溶液を室温で２時間撹拌し、酢酸エチルと飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液で希釈した。水層を酢酸エチルで２回抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水で洗い、ＭｇＳＯ４で乾燥した。濃縮後、粗アルデヒドをフロリジルパッドで精製し、次の反応に使用した。
トリフェニルホスホニウムブロミド（２０ｍｇ、５６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（０．２ｍＬ）をＮａＨＭＤＳ（５５μＬ、１Ｍ　ＴＨＦ溶液、５５μｍｏｌ）で、０℃で処理し、混合物を０℃で２０分間撹拌した。この溶液に、アルデヒドのＴＨＦ（０．８ｍＬ）を導入し、０℃で１時間撹拌した。反応溶液にさらに、同様に調製したイリド（５６μｍｏｌ）のＴＨＦ（０．４ｍＬ）溶液を導入し、０℃で３０分間撹拌した。これに飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液を加え反応を停止し、水層を酢酸エチルで２回抽出した。あわせた有機層を飽和食塩水で洗い、ＭｇＳＯ４で乾燥した。この溶液を濃縮し、フラッシュカラムで精製して、化合物７のペンタエン（３．２ｍｇ、２．２μｍｏｌ）を得た。化合物７の物性を表５に示す。
【００２６】
【表５】
2004018456.tif 000008
【００２７】
化合物８のトリス−ＮＡＰ　ＣＴＸ３Ｃ　４４の合成；
凍結脱気した化合物７のペンタエン（３．２ｍｇ、２．２μｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２　（２．２　ｍＬ）溶液に、（ＰＣｙ３）２Ｃｌ２Ｒｕ＝ＣＨＰｈ（Ｇｒｕｂｂｓ触媒，　６５μＬ、１０　ｍＭＣＨ２Ｃｌ２　溶液，　０．７μｍｏｌ）を加え、４０℃で１３時間撹拌した。この溶液に２滴のＥｔ３Ｎを導入し反応を停止し、濃縮し、フラッシュカラムで精製して、化合物８のトリス−ＮＡＰ　ＣＴＸ３Ｃ　（２．８ｍｇ、１．９μｍｏｌ、９０％）を得た。化合物８の物性を表６に示す。
【００２８】
【表６】
2004018456.tif 000009
【００２９】
目的化合物であるＣＴＸ３Ｃの合成；
化合物８のトリス−ＮＡＰ　ＣＴＸ３Ｃ（１．４ｍｇ、１．９μｍｏｌ）の（ＣＨ２Ｃｌ２）２　（０．８ｍＬ）−Ｈ２Ｏ（４０μＬ）溶液に、ＤＤＱ（１．１ｍｇ、５．０μｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。この溶液に、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液を加え、反応を停止し、酢酸エチルと飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で希釈した。水層を酢酸エチルで３回抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水で洗い、ＭｇＳＯ４で乾燥した。溶液を濃縮し、フロリジルカラムを通した後、粗ＣＴＸ３ＣをＨＰＬＣで精製し、合成ＣＴＸ３Ｃ（０．５３ｍｇ、０．５２μｍｏｌ、５４％）を得た。目的化合物ＣＴＸ３Ｃの物性を表７に示す。
【００３０】
【表７】
2004018456.tif 000010
【００３１】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の新規ルートのシガトキシン合成法法によれば、前記従来のＢｎ保護基を用いた場合に比べて、最終工程において３つの保護基を温和で基質特異的な酸化条件脱保護が可能であることにより、効率的なＣＴＸ３Ｃ類の合成が可能となり、種々の生理学的研究の活性化と、これに伴う新規技術の発展の可能性が推測され、優れた効果がもたらされることが推測できる。
【００３２】
略号の説明；
ＮＡＰ　　　２−ｎａｐｈｔｈｙｌｍｅｔｈｙｌ
ＤＴＢＭＰ　２，６−ｄｉ−ｂｕｔｙｌ−４−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ
ＴＭＳＯＴｆ　　ｐｈｅｎｙｌｔｈｉｏｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ
ＴＭＳＳＰｈ　　ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ　ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎａｔｅ
Ｍｅ　　　　ｍｅｔｈｙｌ
ＴＩＰＳ　　ｔｒｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｓｉｌｙｌ
Ｐｈ　　　　ｐｈｅｎｙｌ
ＥＥ　　　　　ｅｔｈｏｘｙｅｔｈｙｌ
ＥＶＥ　　　ｅｔｈｙｌｖｉｎｙｌ　ｅｔｈｅｒ
ＰＰＴＳ　　ｐｙｒｉｄｉｎｉｕｍ　ｐ−ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎａｔｅ
ＴＢＡＦ　　ｔｅｔｒａｂｕｔｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ　ｆｌｕｏｒｉｄｅ
ＮＭＭ　　　４−ｍｅｔｈｙｌｍｏｒｐｈｏｒｉｎｅ
ＰＭＢＭ　　４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌｏｘｙｍｅｔｈｙｌ
ＡＩＢＮ　　α、α’−ａｚｏｂｉｓ（ｉｓｏｂｕｔｙｒｏｎｉｔｒｉｌｅ）
ＤＩＢＡＬ　ｄｉｉｓｏｂｕｔｙｌａｌｕｍｉｎｕｍ　ｈｙｄｒｉｄｅ
ＮａＨＭＤＳ　　ｓｏｄｉｕｍ　ｂｉｓ（ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ）ａｍｉｄｅ
ＣＳＡ　　　１０−ｃａｍｐｈｏｒｓｕｌｆｏｎｉｃ　ａｃｉｄ
ＴＨＦ　　　ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ
ＤＭＳＯ　　ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｕｌｆｏｘｉｄｅ
Ｃｙ　　　　ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ
ＤＤＱ　　　２，３−ｄｉｃｈｌｏｒｏ−５，６−ｄｉｃｙａｎｏ−１，４−ｂｅｎｚｏｑｕｉｎｏｎｅ
Ｇｒｕｂｂｓ触媒　　ｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅ−ｂｉｓ（ｔｒｉｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｄｉｃｈｌｏｒｏｒｕｔｈｅｎｉｕｍ
Ｔｆ　　　　ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｙｌ