(57)【要約】【課題】光ファイバに誤入射があってもクラッド層やサポート層等に伝播することを防止することで、温度上昇に伴う損傷を防止することができるファイバ伝送装置を提供すること。【解決手段】光ファイバ２００の出力端部が挿入されるとともに光ファイバ２００の出力端部を固定し、かつ、他方の端部側に開口する凹状の保持マウント４３が設けられたスリーブ４１と、保持マウント４３に取付けられた光学素子５０とを備え、光学素子５０は、スリーブ４１側に開口するとともに、被加工物Ｗ側からスリーブ４１側に広がる斜面５２を有していることを特徴とする。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を伝送する光ファイバと、
その一方の端部側から上記光ファイバの出力端部が挿入されるとともに上記光ファイバの出力端部を固定し、かつ、他方の端部側に開口する凹状の保持マウントが設けられたスリーブと、
上記保持マウントに取付けられた光学素子とを備え、
上記光学素子は、上記スリーブ側に開口するとともに、被加工物側からスリーブ側に広がるテーパ面を有していることを特徴とする光ファイバ伝送装置。
【請求項２】
上記光学素子には、上記光ファイバを上記スリーブ側から上記被加工物側に貫通させるための貫通孔が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ伝送装置。
【請求項３】
上記保持マウントの内壁面の少なくとも一部は、表面は、上記レーザ光に対して高反射率を有する反射面又は散乱面であることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ伝送装置。
【請求項４】
上記テーパ面の角度θは、ｎを光学素子の屈折率、ＮＡを光ファイバの開口数としたときに、
θ＜｛９０°−ｓｉｎ−１（１／ｎ）−ｓｉｎ−１（ＮＡ）｝×２
であることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ伝送装置。
【請求項５】
上記光ファイバは、中心部から少なくともコア層、クラッド層の順で構成されており、上記クラッド層より外側の部分で先端側から基端側にかけて面取りされていることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ伝送装置。
【請求項６】
上記光ファイバの少なくとも一部に、クラッド層又はサポート層の外側にクラッド層及びサポート層の屈折率よりも高い屈折率を有する光学素子が密着して設けられていることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ伝送装置。
【請求項７】
上記光学素子の上記一方の端部側に第２の光学素子が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ伝送装置。
【請求項８】
レーザ光を伝送する光ファイバと、
その一方の端部側から上記光ファイバの出力端部が挿入されるとともに上記光ファイバの出力端部を固定し、かつ、他方の端部側に保持マウントが設けられたスリーブと、
上記保持マウントに取付けられその出射面に反射防止コート材が施された光学素子とを備え、
上記光学素子には、上記光ファイバの先端部がインデックスマッチング部材を介して接続されていることを特徴とする特徴とする光ファイバ伝送装置。
【請求項９】
請求項１〜８記載の光ファイバ伝送装置と、この光ファイバ伝送装置により伝送されたレーザビームを集光し被加工物に照射するレーザ集光光学系とを備えていることを特徴とするレーザ加工装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、比較的高出力のレーザビームを高い信頼性で伝搬させることができる光ファイバ伝送装置及びこの光ファイバ伝送装置が組み込まれ被加工物にレーザビームを照射して加工を行うレーザ加工装置に関し、特にレーザ入射光のミスアライメントや、被加工物からの反射光を原因とする光ファイバの破損を防止できるものに関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバは、光を導光するコア層と、その外側のクラッド層とを構成されるものや、クラッド層の外側にさらにサポート層が設けられて構成されているものが知られている。光ファイバでは、サポート層の外側にさらに樹脂層があり、外套管のなかに収められるのが一般的である。
【０００３】
図１１は、光ファイバ２００及びこの光ファイバ２００の端部が取付けられるコネクタ装置３００を示す図である。これら光ファイバ２００及びコネクタ装置３００により、光ファイバ伝送装置が構成されている。
【０００４】
光ファイバ２００は、外側から内側に向けて外套管２１０、樹脂層２２０、ファイバ芯線２３０となるような構造となっている。ファイバ芯線２３０は、光学材料で形成され、中心側からコア層２３１、クラッド層２３２、サポート層２３３の三層構造となっている（図３参照）。
【０００５】
光ファイバコネクタ装置３００は、スリーブ３１０を備えている。スリーブ３１０には、光ファイバ２００が挿入される貫通孔３２０と、スリーブ３１０の先端側であって被加工物等のレーザビームの照射対象側には凹部３４０とが設けられている。貫通孔３２０は、内径が光ファイバ２００の外径よりも僅かに大きい第１の貫通孔３２１と、内径が第１の貫通孔３２１より小さい第２の貫通孔３２２とを備えている。第１の貫通孔３２１には、径方向に設けられた第１及び第２のビス孔３２３，３２４が接続されており、これら第１及び第２のビス孔３２３，３２４には、止めビス３２５，３２６がそれぞれ螺合されている。
【０００６】
第１の貫通孔３２１には、筒状の治具３３０が嵌入されており、この治具３３０は、光ファイバ２００の樹脂層２２０を支持固定している。
【０００７】
また、外套管２１０及び治具３３０は、第１及び第２のビス孔３２３，３２４に螺合された止めビス３２５，３２６により固定されている。
【０００８】
一方、凹部３４０には、光学素子でできたフェルール３５０が嵌め込まれ、光ファイバ芯線２３０の先端部を固定されている。
【０００９】
このような光ファイバ２００においては、フェルール３５０のサイズが小さいため、入射光のアライメントミスが発生するとレーザ光がスリーブ３１０に照射され、スリーブ３１０が破損する虞がある。
【００１０】
このため、市販される光ファイバコネクタ装置３００の中には、図１２のように大型のフェルール３５１を用いるとともに、その表面にレーザ光に対して全反射コートを施すことにより、光ファイバ２００の先端部の信頼性を向上を図ったものもある。
【００１１】
例えば、光ファイバ２００の先端部やスリーブ３１０を保護するために、ファイバ芯線２３０の端部に金属皮膜を施し、光ファイバ伝送装置の信頼性の向上を図ったものが開示されている（特許文献１参照）。
【００１２】
また、光ファイバ２００の先端部に溶融シリカ毛細管を挿入し、毛細管のファイバ端部と反対側の端面を斜めにカットすることにより、毛細管に誤入射されたレーザ光を外に取り出す構造とすることにより、光ファイバ伝送装置の信頼性の向上を図ったものが開示されている（特許文献２参照）。
【００１３】
【特許文献１】
特開平７−１２０６４１号公報（図１）
【００１４】
【特許文献２】
特開２００１−１６６１７６号公報（図７）
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
上述した光ファイバ伝送装置であると次のような問題があった。すなわち、図１２に示された従来例の光ファイバや、特許文献１に開示された光ファイバは、図１１に示された光ファイバに比較して、入射光のミスアライメントに対して強い構造となっているが、やはり数百Ｗ程度の誤入射により破損してしまうという欠点を有している。
【００１６】
また、特許文献２に開示された光ファイバ伝送装置では、誤入射光を全て毛細管により導光し、外部に取り出す構造となっている。このため、誤入射光には強いが、構造が複雑である点や、光ファイバのクラッド層やサポート層に入射された光は、光ファイバの樹脂層の部分で吸収され発熱し、光ファイバ破損の原因になるという欠点を有している。
【００１７】
そこで本発明は、光ファイバに誤入射があってもクラッド層やサポート層等に伝播することを防止することで、温度上昇に伴う損傷を防止することができるファイバ伝送装置及びこの光ファイバ伝送装置が組み込まれたレーザ加工装置を提供することを目的としている。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決し目的を達成するために、本発明の光ファイバ伝送装置及びレーザ加工装置は次のように構成されている。
【００１９】
（１）レーザ光を伝送する光ファイバと、その一方の端部側から上記光ファイバの出力端部が挿入されるとともに上記光ファイバの出力端部を固定し、かつ、他方の端部側に開口する凹状の保持マウントが設けられたスリーブと、上記保持マウントに取付けられた光学素子とを備え、上記光学素子は、上記スリーブ側に開口するとともに、被加工物側からスリーブ側に広がるテーパ面を有していることを特徴とする。
【００２０】
（２）上記（１）に記載された光ファイバ伝送装置であって、上記光学素子には、上記光ファイバを上記スリーブ側から上記被加工物側に貫通させるための貫通孔が設けられていることを特徴とする。
【００２１】
（３）上記（１）に記載された光ファイバ伝送装置であって、上記保持マウントの内壁面の少なくとも一部は、表面は、上記レーザ光に対して高反射率を有する反射面又は散乱面であることを特徴とする。
【００２２】
（４）上記（１）に記載された光ファイバ伝送装置であって、上記テーパ面の角度θは、ｎを光学素子の屈折率、ＮＡを光ファイバの開口数としたときに、
θ＜｛９０°−ｓｉｎ−１（１／ｎ）−ｓｉｎ−１（ＮＡ）｝×２
であることを特徴とする。
【００２３】
（５）上記（１）に記載された光ファイバ伝送装置であって、上記光ファイバは、中心部から少なくともコア層、クラッド層の順で構成されており、上記クラッド層より外側の部分で先端側から基端側にかけて面取りされていることを特徴とする。
【００２４】
（６）上記（１）に記載された光ファイバ伝送装置であって、上記光ファイバの少なくとも一部に、クラッド層又はサポート層の外側にクラッド層及びサポート層の屈折率よりも高い屈折率を有する光学素子が密着して設けられていることを特徴とする。
【００２５】
（７）上記（１）に記載された光ファイバ伝送装置であって、上記光学素子の上記スリーブ側に第２の光学素子が配置されていることを特徴とする。
【００２６】
（８）レーザ光を伝送する光ファイバと、その一方の端部側から上記光ファイバの出力端部が挿入されるとともに上記光ファイバの出力端部を固定し、かつ、他方の端部側に保持マウントが設けられたスリーブと、上記保持マウントに取付けられその出射面に反射防止コート材が施された光学素子とを備え、上記光学素子には、上記光ファイバの先端部がインデックスマッチング部材を介して接続されていることを特徴とする。
【００２７】
（９）上記（１）〜（８）記載の光ファイバ伝送装置と、この光ファイバ伝送装置により伝送されたレーザビームを集光し被加工物に照射するレーザ集光光学系とを備えていることを特徴とする。
【００２８】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の第１の実施の形態に係るレーザ加工装置１０を模式的に示す断面図である。レーザ加工装置１０は、加工装置本体２０と、この加工装置本体２０に接続された光ファイバ伝送装置３０とを備えている。光ファイバ伝送装置３０はコネクタ装置４０と光ファイバ２００とから構成されている。
【００２９】
加工装置本体２０は、筒状の本体２１と、この本体２１内に設けられたレーザ集光光学系２２と、本体の端部に設けられた光ファイバレセプタクル２３とを備えている。なお、図１中Ｗは被加工物を示している。本体２１内部には遮光壁２１ａが設けられている。
【００３０】
光ファイバ２００は、外側から内側に向けて外套管２１０、樹脂層２２０、ファイバ芯線２３０となるような構造となっている。ファイバ芯線２３０は、中心側からコア層２３１、クラッド層２３２、サポート層２３３の三層構造となっている（図３参照）。
【００３１】
図２の（ａ）は、上述した光ファイバ伝送装置３０のコネクタ装置４０を示す縦断面図である。コネクタ装置４０は、スリーブ４１を備えている。スリーブ４１には、光ファイバ２００が挿入される貫通孔４２と、スリーブ４１の先端側であって被加工物等のレーザビームの照射対象側には保持マウント４３とが設けられている。貫通孔４２は、内径が光ファイバ２００の外径よりも僅かに大きい第１の貫通孔４２ａと、内径が第１の貫通孔４２ａより小さい第２の貫通孔４２ｂとを備えている。第１の貫通孔４２ａには、径方向に設けられた第１及び第２のビス孔４４ａ，４４ｂが接続されており、これら第１及び第２のビス孔４４ａ，４４ｂには、止めビス４５ａ，４５ｂがそれぞれ螺合されている。
【００３２】
第１の貫通孔４２ａには、筒状の治具４６が嵌入されており、この治具４６は、光ファイバ２００の樹脂層２２０の外周を支持固定している。
【００３３】
また、外套管２１０及び治具４６は、第１及び第２のビス孔４４ａ，４４ｂに螺合された止めビス４５ａ，４５ｂにより固定されている。
【００３４】
一方、保持マウント４３には、円柱状の光学素子５０が嵌め込まれ、ファイバ芯線２３０の先端部が固定されている。光学素子５０は、例えば、石英、サファイア、アンドープＹＡＧ結晶等の光学ガラス、光学結晶等から形成されている。光学素子５０の外径は上述した保持マウント４３の内径よりも１ｍｍ程度小さく形成されており、保持マウント４３と光学素子５０との間には隙間Ｓが形成される。
【００３５】
光学素子５０は、図２の（ｃ）に示すように、３つのビス孔４７ａ〜４７ｃに螺合される３つの止めねじ４８ａ〜４８ｃによって固定され、上述した隙間を利用してその位置が微調整される。また、保持マウント４３の光学素子５０に接する部分４３ａには、例えば金メッキ膜４８が施されており、レーザ光Ｌに対して高い反射率を有する構造となっている。
【００３６】
光学素子５０は、図２の（ｂ）に示すように、円錐状の凹部５１がスリーブ４１側に設けられている。この凹部５１は円錐状の斜面５２を有している。なお、凹部５１の底部にはファイバ芯線２３０の先端部が嵌合される孔部５１ａが形成されており、出力端２３０ａと端面５３とはほぼ面一となっている。また、光学素子５０の端面５３は被加工物Ｗ側に向けられている。
【００３７】
なお、光学素子５０の凹部５１の斜面５２の角度θ（全角）は次式で表される。すなわち、ｎを光ファイバの屈折率（クラッドの屈折率）、ＮＡをファイバの開口数としたときに、
θ＜｛９０°−ｓｉｎ−１（１／ｎ）−ｓｉｎ−１（ＮＡ）｝×２  …（１）
図４は、ファイバ芯線２３０の先端部を示す説明図である。ファイバ芯線２３０の先端部において、クラッド層２３２及びサポート層２３３に面取加工がされており、面取部２３４が形成されている。面取部２３４の面取角度φは次式で表される。すなわち、ｎは光ファイバの屈折率（クラッドの屈折率）、ＮＡはファイバの開口数としたときに、
φ＜｛９０°−ｓｉｎ−１（１／ｎ）−ｓｉｎ−１（ＮＡ）｝    …（２）
となる。
【００３８】
このように構成されたレーザ加工装置１０では、次のようにしてレーザビーム加工を行う。すなわち、光ファイバ２００により伝送された光は、コネクタ装置４０に接続された光ファイバレセプタクル２３を介して加工装置本体２０の本体２１内に入射する。次に、レーザ集光光学系２２により絞られて、レーザビーム光Ｌとして、被加工物Ｗに照射される。
【００３９】
一方、被加工物Ｗに照射されたレーザビーム光Ｌのうち、一部は反射し、誤入射光Ｍとして加工装置本体２０内に戻る。誤入射光Ｍの大部分は本体２１内の遮光壁２１ａによって遮られるが、一部はコネクタ装置４０まで戻り、光学素子５０に入射する。
【００４０】
光学素子５０に入射した誤入射光Ｍは、光学素子５０の内面の斜面５２で屈折し、反射光Ｒの様に進み、コネクタ装置４０から外部へ拡散する。このため、誤入射光Ｍに起因する発熱を最小限に抑えることができ光ファイバ２００及びコネクタ装置４０の損傷を防ぐことが可能となる。
【００４１】
すなわち、ファイバ芯線２３０の端面に垂直に入射した誤入射光Ｍだけでなく、ファイバ芯線２３０の開口ＮＡの範囲で集光照射された誤入射光Ｍも全て光学素子５０で反射もしくは、散乱させることが可能となる。
【００４２】
さらに、ファイバ芯線２３０に入射した全ての誤入射光Ｍを面取部２３４で散乱させることができ、クラッド層２３２、サポート層２３３への誤入射光Ｍの進入を防ぐことが可能となる。これにより、クラッド層２３２、サポート層２３３への誤入射に起因する樹脂層２２０での破損を抑制することが可能となる。
【００４３】
上述したように、本第１の実施の形態に係るレーザ加工装置１０によれば、光ファイバ伝送装置３０への誤入射光Ｍをファイバ芯線２３０及びコネクタ装置４０への誤入射光Ｍを散乱させることができる。このため、誤入射光Ｍをコア層２３１以外のクラッド層２３２、サポート層２３３に入射させないようにすることが可能となり、クラッド層２３２及びサポート層２３３に伝搬した光が、樹脂層２２０に漏れ出し、温度上昇により損傷し、光ファイバ２００自体を損傷させていたことを防ぐことができる。
【００４４】
図４は上述した光学素子５０の第１の変形例に係る光学素子６０を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図である。光学素子６０は、円錐状の凹部６１がスリーブ４１側に設けられている。この凹部６１は円錐状の斜面６２を有している。なお、凹部６１の底部にはファイバ芯線２３０の先端部が嵌合される孔部６１ａが形成されており、出力端２３０ａと端面６３とはほぼ面一となっている。また、光学素子６０の他方の端面６３は被加工物Ｗ側に向けられている。なお、光学素子６０の凹部６１の斜面６２の角度θ（全角）は、上述した光学素子５０の斜面５２の角度θと同一である。
【００４５】
本変形例においても上述した光学素子５０を用いた場合と同様の効果を得ることができる。
【００４６】
図５は上述した光学素子５０の第２の変形例に係る光学素子７０を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図である。光学素子７０は、円錐状の凹部７１がスリーブ４１側に設けられている。この凹部７１は円錐状の斜面７２を有している。なお、凹部７１の底部７１ａは平面となっており、ファイバ芯線２３０の出力端２３０ａが当接している。また、光学素子７０の他方の端面７３は被加工物Ｗ側に向けられている。なお、光学素子７０の凹部７１の斜面７２の角度θ（全角）は、上述した光学素子５０の斜面５２の角度θと同一である。
【００４７】
本変形例によれば、上述した光学素子５０を用いた場合と同様の効果を得ることができるとともに、ファイバ芯線２３０の出力端２３０ａに埃がつくのを防ぐことができる。
【００４８】
図６は上述した光学素子５０の第３の変形例に係る光学素子８０を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図である。光学素子８０は、円錐状の凹部８１がスリーブ４１側に設けられている。凹部８１の底部には孔部６１ａが形成されており、出力端２３０ａと端面６３とはほぼ面一となっている。この凹部８１は円錐状の斜面８２を有している。この斜面８２には、ファイバ芯線２３０の先端部が当接している。また、光学素子８０の他方の端面８３は被加工物Ｗ側に向けられている。なお、光学素子８０の凹部８１の斜面８２の角度θ（全角）は、上述した光学素子５０の斜面５２の角度θと同一である。
【００４９】
また、孔部８１ａの直径をコア層２３１の径と等しくすることにより、クラッド層２３２及びサポート層２３３に誤入射光が照射されるのを抑制することができる。
【００５０】
図７は本発明の第２の実施の形態に係る光ファイバ伝送装置３０に組み込まれたファイバ芯線２３０及び光学スリーブ２４０を示す縦断面図である。光学スリーブ２４０は、サポート層２３３よりも屈折率の高い材料で円筒状に形成されており、ファイバ芯線２３０のサポート層２３３の外壁に密着させて装着されている。
【００５１】
このように構成された光ファイバ伝送装置３０では、クラッド層２３２及びサポート層２３３へ誤入射光Ｍが入射した場合であっても、誤入射光Ｍは、屈折率の高い光学スリーブ２４０側に屈折し、外部に取り出すことが可能となる。したがって、誤入射光Ｍが樹脂層２２０に入り込むことを防止でき、樹脂層２２０の温度上昇を防止し、ファイバ芯線２３０の損傷を防止することができる。
【００５２】
図８は本発明の第３の実施の形態に係る光ファイバ伝送装置３０のコネクタ装置９０を示す縦断面図である。なお、図８において図２と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００５３】
保持マウント４３には、さらに保持マウント９１が設けられている。この保持マウント９１には、光学フェルール９２が配置されている。また、保持マウント９１の内壁面９３は高反射面に形成されている。光学フェルール９２が設けられており、かつ、内壁面９３が高反射面であることから、さらに誤入射光Ｍに対する耐光強度を大きくすることが可能となる。
【００５４】
図９は本発明の第４の実施の形態に係る光ファイバ伝送装置３０のコネクタ装置１００を示す縦断面図である。なお、図９において図２と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００５５】
スリーブ４１の先端側であって被加工物Ｗ側には保持マウント１０１が設けられている。この保持マウント１０１には、銅材製で円筒状のスリーブ１０２が配置されている。また、保持マウント１０１の内壁面１０３には金メッキが施されている。さらに、スリーブ１０２内には、全反射ミラー１０４及び円板状の光学素子１０５が配置されている。なお、光学素子１０５の出射面１０５ａには反射防止コートが施されている。
【００５６】
光学フェルール１０５の入射面１０５ｂにはファイバ芯線２３０の出力端２３０ａがインデックスマッチング部材１０６を介して当接している。インデックスマッチング部材１０６は、ファイバ芯線２３０及び光学素子１０５と屈折率が等しい材質のものが用いられる。インデックスマッチング部材１０６の他、同様の機能を有するインデックスマッチング液を用いてもよい。この場合、全反射ミラー１０４と光学素子１０５との間をインデックスマッチング液で満たしてもよい。
【００５７】
このように構成されていると、誤入射光Ｍは全反射ミラー１０４で反射され、ファイバ芯線２３０に誤入射することがない。また、ファイバ芯線２３０から出射する光は、屈折することなく、インデックスマッチング部材１０６及び光学素子１０５を介して外部に出射される。
【００５８】
図１０は本発明の第５の実施の形態に係る光ファイバ伝送装置３０のコネクタ装置１１０を示す縦断面図である。なお、図１０において図２と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００５９】
スリーブ４１の先端側であって被加工物Ｗ側には保持マウント１１１が設けられている。この保持マウント１１１の開口部１１２には、上述した光学素子７０が取付けられている。さらに、保持マウント１１１内のファイバ芯線２３０には、上述した光学スリーブ２４０が取付けられている。
【００６０】
このようにすることにより、光学素子７０で誤入射光Ｍを散乱させることができるとともに、ファイバ芯線２３０内に入った誤入射光Ｍに対する耐光強度を大きくすることが可能となる。
【００６１】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であるのは勿論である。
【００６２】
【発明の効果】
本発明によれば、光ファイバに誤入射があってもクラッド層やサポート層等に伝播することを防止することで、温度上昇に伴う損傷を防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るレーザ加工装置を模式的に示す断面図。
【図２】同レーザ加工装置に組み込まれた光ファイバ伝送装置のコネクタ装置を示す図であって、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は先端部を拡大して示す縦断面図、（ｃ）は横断面図。
【図３】同光ファイバ伝送装置に組み込まれた光ファイバの先端部を拡大して示す説明図。
【図４】同光ファイバ伝送装置のコネクタ装置に組み込まれた光学素子の第１の変形例に係る光学素子を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図。
【図５】同コネクタ装置に組み込まれた光学素子の第２の変形例に係る光学素子を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図。
【図６】同コネクタ装置に組み込まれた光学素子の第３の変形例に係る光学素子を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は縦断面図。
【図７】本発明の第２の実施の形態に係る光ファイバ伝送装置のコネクタ装置を示す縦断面図。
【図８】本発明の第３の実施の形態に係る光ファイバ伝送装置のコネクタ装置を示す縦断面図。
【図９】本発明の第４の実施の形態に係る光ファイバ伝送装置のコネクタ装置を示す縦断面図。
【図１０】本発明の第５の実施の形態に係る光ファイバ伝送装置のコネクタ装置を示す縦断面図。
【図１１】従来の光ファイバ伝送装置のコネクタ装置の一例を示す縦断面図。
【図１２】従来の光ファイバ伝送装置のコネクタ装置の別の例を示す縦断面図。
【符号の説明】
１０…レーザ加工装置、３０…光ファイバ伝送装置、４０，９０，１００，１１０…コネクタ装置、５０，６０，７０，８０…光学素子、２００…光ファイバ、２１０…外套管、２２０…樹脂層、２３０…ファイバ芯線、２３１…コア層、２３２…クラッド層、２３３…サポート層、２４０…光学スリーブ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2004223590.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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