(57)【要約】【課題】本発明の課題は、高周波搬送波周波数を利用する縦モードにおける高圧ランプの共鳴動作のための動作方法を提供し、この動作方法が垂直動作においても最適な混合を保証することである。【解決手段】高周波搬送波周波数を利用する縦モードにおける高圧ランプの共鳴動作のための動作方法及びシステムにおいて、ランプの点弧の後で次々に３つの動作状態、すなわち、ａ）ｆ００２＿ｈｏｒがＡＭの基本周波数として選択されるか又はＡＭが省かれる、ウォームアップフェーズ、ｂ）時間的に変化しかつ連続動作の条件から偏差する、ゼロとは異なるＡＭ度を有するＡＭによって際立っている、印加フェーズ、ｃ）ｆ００２＿ｈｏｒがＡＭの基本周波数として達成され、ＡＭ度が２０〜２５％である、ＡＭのコンスタントな条件を有する連続動作が経過することに解決される。【選択図】図１
2004172129.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波搬送波周波数を利用する縦モードにおける高圧ランプの共鳴動作のための動作方法及びシステムであって、前記高周波搬送波周波数は掃引信号発生器によって周波数変調され、掃引信号の周波数は１次方位角モード及び１次半径方向モードから導かれ、前記掃引信号の周波数は同時に振幅変調され、コントローラはＡＭ信号の基本周波数を調節し、ＡＭの基本周波数は２次縦モードから導かれる、高周波搬送波周波数を利用する縦モードにおける高圧ランプの共鳴動作のための動作方法及びシステムにおいて、
ランプの点弧の後で次々に３つの動作状態、すなわち、
ａ）ｆ００２＿ｈｏｒがＡＭの基本周波数として選択されるか又はＡＭが省かれる、ウォームアップフェーズ、
ｂ）時間的に変化しかつ連続動作の条件から偏差する、ゼロとは異なるＡＭ度を有するＡＭによって際立っている、印加フェーズ、
ｃ）ｆ００２＿ｈｏｒがＡＭの基本周波数として達成され、ＡＭ度が２０〜２５％である、ＡＭのコンスタントな条件を有する連続動作
が経過することを特徴とする、高周波搬送波周波数を利用する縦モードにおける高圧ランプの共鳴動作のための動作方法及びシステム。
【請求項２】
掃引周波数は動作中には一定に保持され、１次方位角モードと１次半径方向モードとの間の領域にあることを特徴とする、請求項１記載の動作方法。
【請求項３】
ウォームアップフェーズは約３０〜８０秒持続し、他方で印加フェーズは約６０〜１５０秒持続することを特徴とする、請求項１記載の動作方法。
【請求項４】
印加フェーズの間にはＡＭの基本周波数は１５〜２５％急激に高められ、次いで連続的に０．５〜１５ｋＨｚ/ｓｅｃの変化率で元の値ｆ００２＿ｈｏｒに戻されることを特徴とする、請求項１記載の動作方法。
【請求項５】
ＡＭ度は領域１５〜３０％において調節されることを特徴とする、請求項４記載の動作方法。
【請求項６】
基本周波数及びＡＭ度の変化率は同一に選択されることを特徴とする、請求項５記載の動作方法。
【請求項７】
印加フェーズ中にはＡＭ度は５０〜１５０％だけ連続動作のＡＭ度よりも高くされ、前記印加フェーズの終了までは選択された最高値の連続的な維持の下で変化率はせいぜい毎秒１５％を有し、他方でとりわけ基本周波数は変化されないままであることを特徴とする請求項１記載の動作方法。
【請求項８】
維持のフェーズは約２０〜４０秒持続することを特徴とする、請求項７記載の動作方法。
【請求項９】
連続動作への次の移行は急激に、有利には０．１秒以内で行われることを特徴とする、請求項７記載の動作方法。
【請求項１０】
金属ハロゲン化物を含む放電容器を有する高圧放電ランプ及びＥＶＧから成るシステムにおいて、
前記放電容器のアスペクト比は１．５よりも大きく、ＥＶＧは請求項１記載の動作方法を実現するのに適していることを特徴とする、高圧放電ランプ及びＥＶＧから成るシステム。
【請求項１１】
高圧放電ランプの高周波動作のためのＥＶＧであって、掃引信号発生器、振幅信号発生器、これらの２つの発生器のための混合器及び場合によっては振幅変調信号の基本周波数の制御のためのコントローラを有する、高圧放電ランプの高周波動作のためのＥＶＧにおいて、
前記発生器は、ランプの動作において請求項１記載のウォームアップフェーズ、印加フェーズ及び連続動作を提供するのに適していることを特徴とする、高圧放電ランプの高周波動作のためのＥＶＧ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高周波搬送波周波数は掃引信号発生器によって周波数変調され、掃引信号の周波数は１次方位角モード及び半径方向モードから導かれ、掃引信号の周波数は同時に振幅変調され、コントローラはＡＭ信号の基本周波数を調節し、ＡＭの基本周波数は２次縦モードから導かれる、高周波搬送波周波数を利用する縦モードにおける高圧ランプの共鳴動作のための動作方法及びシステム、及び、金属ハロゲン化物を含む放電容器を有する高圧放電ランプ及びＥＶＧから成るシステム、及び、掃引信号発生器、振幅信号発生器、これらの２つの発生器のための混合器及び場合によっては振幅変調信号の基本周波数の制御のためのコントローラを有する、高圧放電ランプの高周波動作のためのＥＶＧに関する。この高圧ランプは有利には少なくとも１．５のアスペクト比を有するとりわけセラミック製の放電容器を有する高圧放電ランプである。
【背景技術】
【０００２】
ＷＯ０２／０９４８０から既に縦モードにおける高圧ランプの共鳴動作のための動作方法及びシステムが公知である。そこでは２次縦音響共鳴周波数を見出すための方法が記載されている。前提となるのは、縦モードを含む周波数領域の連続的な掃引の際にランプの相対的な動作電圧上昇の発生によって垂直動作位置における共鳴周波数が見出されうることである。この方法によって分離されたアーク状態に対する縦周波数は垂直共鳴において見出され、次いで保持されることがわかる。しかし、このこうして見出された周波数は金属ハロゲン化物充填物の充填組成及びサーチプロシージャの経過の時点に応じて明らかにあまりにも高くなってしまい、この結果、上記の方法によって見出された周波数における音響共鳴の励起が不十分な混合を生じさせ、分離を十分良好には排除しない。電子バラストへのインプリメントはさらにコスト高である。
【特許文献１】ＷＯ０２／０９４８０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の課題は、冒頭の動作方法を提供し、この動作方法が垂直動作においても最適な混合を保証することであり、更なる本発明の課題はサーチされる音響共鳴を各々の動作位置において確実に見出すことであり、更なる本発明の課題はこのための所属のシステムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題は、高周波搬送波周波数を利用する縦モードにおける高圧ランプの共鳴動作のための動作方法及びシステムにおいて、
ランプの点弧の後で次々に３つの動作状態、すなわち、
ａ）ｆ００２＿ｈｏｒがＡＭの基本周波数として選択されるか又はＡＭが省かれる、ウォームアップフェーズ、
ｂ）時間的に変化しかつ連続動作の条件から偏差する、ゼロとは異なるＡＭ度を有するＡＭによって際立っている、印加フェーズ、
ｃ）ｆ００２＿ｈｏｒがＡＭの基本周波数として達成され、ＡＭ度が２０〜２５％である、ＡＭのコンスタントな条件を有する連続動作
が経過することに解決され、
さらに、上記課題は、金属ハロゲン化物を含む放電容器を有する高圧放電ランプ及びＥＶＧから成るシステムにおいて、
放電容器のアスペクト比は１．５よりも大きく、ＥＶＧは上記の動作方法を実現するのに適していることによって解決され、
さらに、上記課題は、高圧放電ランプの高周波動作のためのＥＶＧにおいて、
掃引信号発生器及び振幅信号発生器は、ランプの動作において上記のウォームアップフェーズ、印加フェーズ及び連続動作を提供するのに適していることによって解決される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００５】
本発明の動作方法は、最初から常に連続動作において水平動作位置の２次縦共鳴を励起することを目的とする。というのも、これによって充填物構成成分、とりわけ金属ハロゲン化物の最適な混合が非水平動作位置でも達成されるからである。従って、色効果及び色散乱が大幅に回避される。これは所定の待機期間の後で遅延されてシステムに加えられなければならない。この方法は最適な共鳴、すなわち水平動作位置の２次縦音響共鳴ｆ００２への確実なビルドアップを可能にする。この方法はとりわけ金属ハロゲン化物アークプラズマの分離の抑圧及び改善された混合のためのＨＦ掃引動作における少なくとも１．５、有利には＞２のアスペクト比（長さ：直径）を有するセラミック製高圧ランプにおいて適している。
【０００６】
非水平、とりわけ垂直位置でも、まず最初にウォームアップフェーズにおいて水平動作位置における共鳴と同じ共鳴条件で励起されると、最良の混合が行われることがわかる。水平動作位置の場合には分離は生じえない。
【０００７】
本発明によればＷＯ０２／０９４８０よりも確実な改善された方法が提案され、この方法は電子バラスト（ＥＶＧ）に比較的簡単にかつ安価にインプリメントされうる。
【０００８】
水平動作位置における共鳴ｆ００２の位置がまず最初にもとめられる。これは様々な方法によって予め又はオンラインでランプの動作において行われ、例えば矩形電流注入及び正弦波信号の周波数の変動における５〜１５％の正弦波状成分の振幅成分を有する重畳された正弦波状信号によるランプ動作におけるランプインピーダンスの測定によって行われる。
【０００９】
放電容器の予め設定された幾何学的形状に対して内部長さに対する狭いトレランス範囲が存在することを前提とする。これは、とりわけ垂直動作位置におけるアークプラズマの最適な混合のために励起されなければならない２次縦音響共鳴を定めるランプの寸法である。
【００１０】
垂直動作位置において、分離(demixing)に基づいて強く変化した音速が生じ、この音速によって、ランプの起動の後で音響的な２次縦共鳴（ｆ００２＿ｖｅｒｔ）が、（ｆ００２＿ｈｏｒのような）水平動作位置を基準にすると明らかに、大抵の場合、より高い周波数へと、シフトされることになる。時間が経過すると、ゆっくりとした混合に達する正常な動作方法においてこの共鳴周波数は再び水平動作ｆ００２＿ｈｏｒにおける共鳴周波数に相応するまで変化する。
【００１１】
この場合、とりわけ垂直動作において生じる分離（segregation）のために、水平動作位置における混合された状態に比べてより高い値への３０％までの、大抵の場合は約１０〜２５％までの実効音速の偏差が現れる。例えば混合された動作に比べて約１５〜２０％の、Ｈｇ/Ａｒバッファガス混合気における音速の偏差が見出される。具体的な測定値は４６４ｍ／ｓに比べて５５０ｍ／ｓである。
【００１２】
ｉ次の縦音響共鳴の音響共鳴周波数は一般に
ｆ００ｉ＝ｉ*ｃｌ／（２*Ｌ）；
によって与えられ、よってｉ＝２（２次音響共鳴）に対してはｆ００２＝ｃｌ／Ｌであ
る。
【００１３】
掃引動作は１００ｓ−１〜１０００ｓ−１までの典型的な掃引レートによって、１次方位角音響共鳴と１次半径方向音響共鳴との間にセンタリングして、有利にはランプ状に周波数を高めながら行われる。
【００１４】
方位角音響共鳴では管半径Ｒと実際の（方位角的に有効な）音速ｃａｚとの間の次の関係式が成り立つ：
【００１５】
【数１】
2004172129.tif 000003
【００１６】
半径方向音響共鳴では管半径Ｒと実際の半径方向有効音速ｃｒとの間の次のような関係式が成り立つ：
【００１７】
【数２】
2004172129.tif 000004
【００１８】
閉鎖されたほぼシリンダ状のランプバルブ（Lampenkolben）におけるこれらの音波共鳴の励起のためには、形成される電力変動が重要である。つまり、周波数ｆｌを有する正弦波状電流形状による励起の際にはパワー周波数ｆｐは周波数ｆｐ＝２*ｆｌを有する。
【００１９】
従って、２次縦共鳴の共鳴周波数は、ｆ００２＝ｃｌ／Ｌによって与えられ、この場合ｃｌは音速であり、
ｃｌ＝（Ｒ*κ*Ｔ／Ｍ）１／２
ただしここでＲ：一般的な気体定数、κ：圧縮率、Ｔ：平均プラズマ温度、Ｍ：プラズマガスの平均モル質量、Ｌ＝放電容器の軸方向長さである。
【００２０】
本発明はランプ適用事例にとって典型的なＨＦ領域における搬送波周波数、例えば５０ｋＨｚから出発し、この搬送波周波数には掃引周波数がＦＭ変調として加えられ、この掃引周波数の値は１次方位角共鳴から１次半径方向共鳴まで広がる領域から選択されている。これら２つの共鳴の間の平均値の近傍にある値、とりわけダイレクトにこの平均値の値は有利である。よりどころは掃引であり、この掃引は１０％まで搬送波周波数から偏差する。掃引レートは典型的には１００〜１０００Ｈｚの範囲にある。これには場合によっては待機時間（ランプのウォームアップ）の後で振幅変調が加えられ、この振幅変調の基本周波数は水平動作位置における２次縦共鳴ｆ００２である。
【００２１】
ここで利用される放電管の内部寸法（典型的な値は１２〜２４ｍｍ）においてこの場合共鳴周波数は水平条件乃至は混合された条件に比べて５ｋＨｚまでだけシフトされていることがわかる。ここで記述される方法は確実に所望の動作方式に導く。
【００２２】
複数の実施形態はアークプラズマの可能な範囲で最良の混合の確実な調整及び分離の大幅な抑止のための解決策としてふさわしい。有利には約０．９〜１．１×（ｆ１００＋ｆ０１０）／２での掃引動作における任意の動作位置で混合を最も良く惹起する２次水平縦共鳴ｆ００２の調整のための複数の動作方法をここで以下において提示する。この掃引領域は上下にほぼ５ｋＨｚ（〜１０％×（ｆ１００＋ｆ０１０）／２）の窓に相応する。
【００２３】
このための前提条件は、まず最初に、事実上常に既に混合された水平動作位置における２次縦共鳴周波数ｆ００２の位置の決定及び格納である。この周波数による基本動作の調整のためには幾何学的形状／バッファガスの組み合わせが音響共鳴に関して特徴付けられ検査されなければならず、この結果、２次縦共鳴ｆ００２の他に１次方位角共鳴ｆ１００及び１次半径方向共鳴ｆ０１０乃至はこれらの共鳴の平均値も既知である。
【００２４】
第１の実施形態では最も有利な混合された動作状態へのビルドアップのためのプロシージャが次のことによって実現されることが判明した。すなわち、アーク放電の点弧の後で３０〜８０秒の、有利にはほぼ６０秒の（時点ｔ１までの）ウォームアップフェーズを遵守して、約＞６０〜約１５０秒の印加フェーズ内に、振幅変調ＡＭの基本周波数ｆＡＭを周波数ｆ００２＿ｈｏｒの１．１５〜１．２５倍の値に調整するのである。この前にはＡＭは任意に選択できるが、しかし有利にはｆ００２＿ｈｏｒが予め調整される。ＡＭ度も予め任意に０〜２５％の範囲において調整されうる。印加フェーズで基本周波数を高める時点において、この場合ｆ００２＿ｈｏｒよりも１８〜２０％だけ高められた周波数が有利であり、ＡＭ度は１５〜３０％に調整される。この場合有利には振幅変調は約１５〜２５％の振幅変調度に調整される。
【００２５】
印加フェーズの更なる経過において、連続動作条件に順応する又は同じままのＡＭ度（１８〜３０％、有利には２０〜２５％）において水平動作位置で生じる励起周波数に向かってｆ００２＿ｈｏｒへと戻る基本周波数の連続的な周波数シフトが行われる。基本周波数の周波数シフトのレートは０．５〜１５ｋＨｚであり、このレートは有利には典型的には１ｋＨｚ／ｓｅｃであり、１０ｋＨｚ／ｓｅｃよりも速くはない。
【００２６】
更に別の実施形態では、周波数地点ｆ００２＿ｈｏｒに固定された基本周波数で有利には約７５〜１５０秒のウォームアップフェーズの後に４５％までのＡＭ変調度の段階的な又は連続的な増大を介して垂直動作位置においても水平動作位置に対する共鳴が強制される。ＡＭ度の増大のレートは所定の上昇レートを越えてはならない（典型的には＜４０％／ｓｅｃ）。
【００２７】
高いＡＭ度での約＞２０〜６０秒の印加フェーズの後でＡＭ度は連続動作状態の状態に、つまりは約２０〜２５％の連続動作状態の状態にいずれにせよ急激に調整される。このＡＭ度の調整はレート制限の支配下にはない。ＡＭ度は、従って、瞬間的に（０．１秒以内で）又は高い変化率で変化（有利には低減）される。
【００２８】
このプロシージャを介して同様に２次水平縦共鳴の達成が確実に強制される。
【００２９】
本発明は、これら２つの方法の組み合わせ及びバラストへの方法のインプリメントを含んでいる。上述のプロシージャの、つまり周波数及びＡＭ度の効果的な変化の開始までの時間領域は始動フェーズにおけるバラストのパワー入力結合によって決定される。提示された期間はアーク放電のスタートの後でパワー入力が高められると５０％までは短縮される。高い熱容量を有する放電管容器による適用事例ではタイムフェーズは２００％までも高められる。さらに周波数及びＡＭ度の変化サイクルは何度も実施されうる。
【００３０】
ランプの動作電圧及びインピーダンスの自動的な測定を介して、動作すべき高圧ランプのタイプに対するスタート乃至は中断規準が厳密に調整される。
【００３１】
方法の他に本発明は上述のプロシージャがインプリメントされているバラストを含む。
【実施例】
【００３２】
次に本発明を複数の実施例に基づいて詳しく説明する。
【００３３】
図１には始動フェーズにおいてＡＭ周波数シフトを用いる全般的な動作位置、とりわけ垂直動作位置における改善された混合状態の調整のための概略的な動作プロシージャが示されている。この場合、ランプのスイッチオンの後の振幅変調の周波数ｆＡＭと時間との関係が示されている。第１の実施形態では、最も有利な混合された動作状態へのビルドアップのためのプロシージャが、アーク放電の点弧（ｔ＝０）の後でウォームアップフェーズ（時点ｔ１まで）が続くことによって実現される。このウォームアップフェーズは最大で７５〜１５０ｓ、有利にはほぼ６０秒持続する。これに続く約１〜２分の期間を有する印加フェーズ（ｔ１からｔ２まで）では、振幅変調ＡＭの基本周波数ｆＡＭが周波数ｆ００２＿ｈｏｒの１．１５〜１．２５倍の値に調整される。この前に、ウォームアップフェーズでは、周波数ｆＡＭは任意に選択されるが、有利にはｆ００２＿ｈｏｒが予め調整されている。ＡＭ度もウォームアップフェーズにおいて任意に０〜２５％の範囲において調整されうる。この後で基本周波数は時点ｔ１において急激に高められ、有利にはこの場合ｆ００２＿ｈｏｒに比べて１８〜２０％だけ高められた周波数である。印加フェーズにおける基本周波数の上昇の時点で、ＡＭ度は１５〜３０％に調整される。有利にはこの場合振幅変調は約１５〜２５％、有利には２０〜２５％の振幅変調度に調整される。
【００３４】
印加フェーズの更なる経過において、連続動作条件に順応する又は同じままのＡＭ度（１８〜３０％、有利には２０〜２５％）において水平動作位置で生じる励起周波数に向かってｆ００２＿ｈｏｒへと戻る基本周波数ｆＡＭの連続的な降下が行われる。基本周波数の周波数シフトのレート（Δｆ／ｄｔ）は０．５〜１５ｋＨｚ／ｓｅｃであり、有利にはこのレートは典型的には１ｋＨｚ／ｓｅｃであり、１０ｋＨｚ／ｓｅｃよりも速くはない。
【００３５】
図２には、始動フェーズにおいてＡＭ変調度の変更を用いる全般的な動作位置、とりわけ垂直動作位置における改善された混合状態の調整のための代替的な概略的な動作プロシージャが示されている。３０％より小さいＡＭ度を有する周波数地点ｆ００２＿ｈｏｒに固定された基本周波数（又は全く振幅変調無し）による時点ｔ１までのウォームアップフェーズ（有利には約７５〜１５０秒）の後で、４５％までのＡＭ変調度の段階的な又は連続的な増大を介して、水平動作位置に対する共鳴が垂直動作位置においても強制される。ＡＭ度の増大のレートは１５％／ｓｅｃの上昇レートを越えてはならない（典型的には１０％／ｓｅｃ）。
【００３６】
高められたＡＭ度における全部で２０〜６０秒の印加フェーズの後で、ＡＭ度はいずれにせよ急激に連続動作状態の状態に、つまりは約２０〜２５％の連続動作状態の状態に調整される。このＡＭ度の調整はレート制限の支配下にはない。ＡＭ度は、従って、瞬間的に（０．１秒以内で）又は高い変化率で変化（有利には低減）される。
【００３７】
このプロシージャを介して同様に２次水平縦共鳴の達成が確実に強制される。
【００３８】
ランプの第１の実施例では、このランプは、５ｍｇの全体質量を有するＮａＩ：ＣｅＩ３：ＣａＩ２＝７０：１０：２０ｍｏｌ-％の比率のナトリウム、セリウム及びカルシウムのヨウ化物の充填成分を有するセラミック製の放電容器及び４．５ｍｇのＨｇ充填物を有する。
【００３９】
放電容器は内部寸法（内部長さ）ＩＬ＝１９．２ｍｍ及び内径ＩＤ＝４ｍｍを有し、基本的に電極間隔ＥＡ＝１５ｍｍに亘ってシリンダ状である。このランプは７０Ｗのパワーで動作される。垂直動作の際にはこのランプは点弧の後に９０秒間掃引レート８５Ｈｚによる４５〜５５ｋＨｚの間の掃引動作で動作される。このウォームアップフェーズの後で、約２０％ＡＭ度の振幅変調が約３０ｋＨｚの周波数において加えられる。更に時間が経過すると、約１ｋＨｚ／ｓｅｃの変化率によって、周波数は、同じままの振幅変調度で予め水平動作位置で決定された２４．４ｋＨｚの２次縦音響固有振動の共鳴周波数にシフトされる。プロシージャ持続時間は約５．６秒である。更なる動作において振幅変調の周波数地点及び変調度は保持される。混合は９５Ｉｍ／Ｗから１２５Ｉｍ／Ｗへのランプ効率の変化において４３７０Ｋから３１５０Ｋへの色温度の変化をもたらす。
【００４０】
実施例１のと同じランプは、第２の実施例では異なったやり方で２次縦共鳴に調整される。ここでも、９０秒のウォームアップフェーズの後で、水平動作位置で重要な２４．４ｋＨｚの２次縦共鳴周波数に対する所定の周波数位置における４０％のＡＭ度レベルへと段階的に５％のステップでＡＭ度が８秒内に毎秒約５％の値で高められ、そこで典型的には約１５〜２０秒間固定される。このフェーズの後でＡＭ度は急激に（約０．１秒内に）２０％に降下される。プロシージャ持続時間は約２３〜２８秒である。
【００４１】
連続動作におけるランプ特性は実施例２と異ならない。
【００４２】
図３には所属のＥＶＧの原理的な回路図が示されている。このＥＶＧは以下の基本的なコンポーネントを有する：
タイマ／シーケンサ：ここでは高圧ランプの点弧及びアーク・テイクオーバ（arc takeover）の後のウォームアップフェーズの期間及び印加フェーズの開始の制御のためのタイムパターン管理が行われる。ここではさらにランプアーク安定化のための掃引レートの制御が行われる。
【００４３】
パワーステージ：電流制限素子及び典型的な周波数応答を有するフル又はハーフブリッジ。このブリッジは給電レール（４５０Ｖ ＤＣ）を介して電源に結合されている。
【００４４】
フィードバックループ：ランプの動作識別、場合によっては制御パラメータの調整及びウォームアップ乃至は印加フェーズの確定乃至は他の調整パラメータによる印加フェーズの反復のためのランプ電流及びランプ電圧のようなランプパラメータのフィードバック。
【００４５】
ランプ：高圧放電ランプ（ＨＩＤランプ）。
【００４６】
ＦＭ変調器：ハイパワー周波数変調器。
【００４７】
ＡＭ変調器：周波数でもＡＭ度ＩＡＭでも変調が可能なアナログハイパワー変調器。
【００４８】
ＡＭ信号発生器：デジタル又は電圧制御発振器。
【００４９】
ＦＭ信号発生器：デジタル又は電圧制御発振器。
【００５０】
電源：レール電圧発生器。
【００５１】
コントローラ：全ユニットの集中管理。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】高圧ランプの始動の概略的な経過を示す線図である。
【００５３】
【図２】概略的な経過に対するさらに別の実施例の線図である。
【００５４】
【図３】原理的な制御回路の実施例のブロック図である。
【符号の説明】
【００５５】
ｆ００２  ２次縦共鳴の共鳴周波数
ｆ１００１  １次方位角共鳴の共鳴周波数
ｆ０１０１  １次半径方向共鳴の共鳴周波数
【図１】
2004172129.tif 000005
【図２】
2004172129.tif 000006
【図３】
2004172129.tif 000007