(57)【要約】【課題】オゾン層破壊等の環境上の問題がなく、フラックス、ワックス、加工油、電気絶縁油などが複合して付着した汚れに対して十分な洗浄特性を有する洗浄液組成物を提供。【解決手段】飽和脂肪族炭化水素を５０〜９５重量％および芳香族炭化水素を５〜５０重量％含有し、洗浄液組成物の５％留出温度と９５％留出温度の差が１０℃以下である。飽和脂肪族炭化水素の炭素数が１０〜１４であること、芳香族炭化水素の炭素数が９〜１８であることが好ましい。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
飽和脂肪族炭化水素を５０〜９５重量％および芳香族炭化水素を５〜５０重量％、含有し、洗浄液組成物の５％留出温度と９５％留出温度の差が１０℃以下である炭化水素系洗浄液組成物。
【請求項２】
請求項１記載の飽和脂肪族炭化水素の炭素数が１０〜１４である請求項１記載の炭化水素系洗浄液組成物。
【請求項３】
請求項１記載の芳香族炭化水素の炭素数が９〜１８である請求項１記載の炭化水素系洗浄液組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、電気・電子部品、光学部品、自動車部品、精密機械部品などの部品に付着したフラックス、ワックス、加工油、電気絶縁油などの、特には、これらが複合して付着した汚れを洗浄するための洗浄液組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、フラックス、ワックス、加工油、電気絶縁油などが付着した精密部品の洗浄には、トリフロロトリクロロエタンなどのフロン系溶剤あるいは１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの塩素系溶剤が洗浄液として使用されてきた。しかし、トリフロロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエタンはオゾン層を破壊する物質として、１９９５年末にその製造が禁止された。また、トリクロロエチレンや塩化メチレンは毒性が強く、放出された場合に大気汚染・水質汚染を引き起こすため、その法規制が厳しい。
【０００３】
また、界面活性剤や無機アルカリを添加した水系洗浄剤、リン酸塩類等の水溶液系洗浄剤の利用も検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大きなスペースを必要するため経済性の面から好ましくなく、洗浄力も乏しい。直鎖飽和脂肪族炭化水素のみからなる洗浄剤も用いられるが、ワックス、ピッチ、フラックスなどの汚れに対する洗浄力は十分でない場合がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような課題を解決するもので、オゾン層破壊等の環境上の問題がなく、フラックス、ワックス、加工油、電気絶縁油などが複合して付着した汚れに対して十分な洗浄特性を有する洗浄液組成物を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明による炭化水素系洗浄液組成物は、飽和脂肪族炭化水素を５０〜９５重量％および芳香族炭化水素を５〜５０重量％含有し、洗浄液組成物の５％留出温度と９５％留出温度の差が１０℃以下である。飽和脂肪族炭化水素の炭素数が１０〜１４であること、芳香族炭化水素の炭素数が９〜１８であることが好ましい。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明の炭化水素系洗浄液組成物は、飽和脂肪族炭化水素化合物を５０〜９５重量％含有するものであり、７０〜９５重量％であること、さらには７０〜９０重量％であることが好ましい。この飽和脂肪族炭化水素化合物は、直鎖、分岐鎖、脂環族、及び、これらの混合物を用いることができ、直鎖飽和脂肪族炭化水素が好ましく用いられる。飽和脂肪族炭化水素は炭素数１０〜１４、特には炭素数１０、１１、１２が好ましく用いられる。脂肪族炭化水素の具体例としては、直鎖および分岐鎖のデカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカンなどが挙げられる。
【０００７】
本発明の炭化水素系洗浄液組成物は、芳香族炭化水素を５〜５０重量％含有するものであり、５〜３０重量％であること、さらには１０〜３０重量％であることが好ましい。本発明の洗浄液組成物において、炭素数９〜１８の芳香族化合物は、単環又は多環芳香族化合物、これらのアルキル置換化合物などを含むものであり、例えば、ｉｓｏ−プロピルベンゼン、１，２，３−トリメチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼン、インダン、ｉｓｏ−ブチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、１，３−ジエチルベンゼン、１−メチル−３−ｎ−プロピルベンゼン、１，４−ジエチルベンゼン、１，３−ジエチル−５−エチルベンゼン、１，２−ジエチルベンゼン、１−メチル−２−ｎ−プロピルベンゼン、１，４−ジメチル−２−エチルベンゼン、１，３−ジメチル−２−エチルベンゼン、１，２−ジメチル−４−エチルベンゼン、１，２−ジメチル−３−エチルベンゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、１，２，３，５−テトラメチルベンゼン、ペンチルベンゼン、トリメチルエチルベンゼン、ジエチルメチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、トリエチルベンゼン、メチルインダン、ジメチルインダン、エチルインダン、テトラリン、ナフタレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、ジメチルイソプロピルナフタレン、メチル−ｎ−プロピルナフタレン、ジメチルプロピルナフタレン、ジメチルジプロピルナフタレン、ジイソプロピルナフタレンなどを挙げることができる。また、これらを単独で用いても必要に応じて２種以上を混合して用いても差し支えない。また、この芳香族化合物を含有する石油留分などを用いることもできる。
【０００８】
本発明の洗浄液組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、他の炭化水素類、エステル類、アルコール類、ケトン類、ラクタム類などの配合成分や、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤などの慣用の添加剤を含めることができる。本発明で特定される２つの成分以外の含有量は、合計で１０重量％未満、特には２重量％未満であることが好ましい。また、通常、水は配合されないことが好ましい。
【０００９】
界面活性剤としては非イオン性界面活性剤が好ましく、例えば高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、シリコン系、フッ素系などいずれのものも使用できる。
【００１０】
また、紫外線吸収剤および酸化防止剤としては、洗浄液の長期保存などにおける安定性の向上に役立ち、紫外線吸収剤としては例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系などを使用でき、酸化防止剤としては例えばフェノール系、アミン系、硫黄系、リン系など、本発明の洗浄液組成物に溶解するものはいずれも使用できる。フェノール系酸化防止剤を、５０〜１０００ｐｐｍ添加することが特に好ましい。
【００１１】
本発明の洗浄方法において、洗浄液組成物と接触させる方法は特に制限されるものでなく、公知のいずれの方法も使用できる。例えば、洗浄液組成物を含浸したスポンジなどによる拭き取り、洗浄液組成物への浸漬、スプレーなどにより接触させることが好ましい。浸漬による洗浄においては、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音波、エアバブリングなどを組み合わせることが更に好ましい。この場合、超音波の使用条件は、例えば発振周波数：２０〜１００ｋＨｚ、洗浄液１Ｌ当りの発振出力：１０〜２００Ｗが好ましい。エアバブリングでは、微細な気泡を、好ましくはガス：洗浄液の体積比を１：１〜５：１で通気することにより、洗浄液組成物に溶解しない汚れを気泡と共に上昇させ、分離できる。スプレーによる洗浄において、その圧力は、例えば０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ２　Ｇが好ましい。いずれの場合も洗浄時間は、１５秒間〜２時間、特には３０秒間〜２０分間が好ましい。この範囲未満では洗浄が不十分で、汚れを十分に除去できない。一方、この範囲を超えても洗浄効果は格別に向上しない。洗浄温度は、２０〜１２０℃が好ましく、６０〜１２０℃で処理することにより洗浄効果を著しく上昇させることができる。
【００１２】
洗浄対象物としては、電子・電気部品、光学部品、精密機械部品、自動車部品などの部品を例示することができる。対象となる電気・電子部品としては、プリント配線基板、セラミック配線基板などの配線基板、リードフレームなどの半導体パッケージ部材、リレー、コネクターなどの接点部材、液晶、プラズマディスプレイなどの表示部品、ハードディスク記憶媒体、磁気ヘッドなどの磁気記憶部品、水晶振動子などの圧電部品、モータ、ソレノイドなどの電動機部品、センサー部品、があげられる。光学部品としては、めがね、カメラ用などのレンズ、その筐体があげられる。精密機械部品としては、ＶＴＲなどに用いられる精密ベアリングなどの部品があげられる。
【００１３】
洗浄対象物に付着している汚れとしては、アスファルトピッチ、ワックス、松脂、油脂、鉱油などからなる機械油、電気絶縁油、植物油、グリース、フラックス、フォトレジスト、接着剤などがあげられる。本発明の洗浄液組成物は、特に、フラックス、ワックスに対して優れた洗浄力を有する。
【００１４】
【実施例】
以下、本発明を実施例、比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定して解釈されるものではない。
【００１５】
［洗浄液の調製］　ノルマルドデカン、芳香族化合物Ａ、テトラリン、ジイソプロピルベンゼンを用い、表１の配合量で配合して、実施例１〜４と比較例１〜３の洗浄液を調製した。
芳香族化合物Ａは、炭素数１０のアルキルベンゼンを１６重量％、炭素数１１のアルキルベンゼンを２７重量％、炭素数１２のアルキルベンゼンを１３重量％、ナフタレンを１２重量％、メチルナフタレンを３２重量％含有する。
【００１６】
【表１】
2004107499.tif 000002
【００１７】
［洗浄性試験１］　ストレートアスファルト系ピッチ（九重電気（株）製、Ｋ級３号）を溶解した３０％濃度トルエン溶液に金属試料（銅板５０×５０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）を浸漬し、その後、７０℃２０分乾燥して、均一にピッチ０．０５ｇを付着させたものを洗浄対象物として用いた。この洗浄対象物を２００ｃｍ３の洗浄液が充填された液温２５℃の洗浄槽において、攪拌子で攪拌する（４００ｒｐｍ）ことにより５分間洗浄を行った。洗浄槽から取りだした洗浄対象物を、７０℃、２０分間乾燥して洗浄液を蒸散除去した。洗浄前後の付着物の重量差より洗浄率を計算し、洗浄率１００〜９０％を○、９０〜８０％以下を△、８０％以下を×として評価し、表１に併せて示した。この結果から、実施例１、３〜５は高いピッチ洗浄性を示すことがわかる。
【００１８】
［洗浄性試験２］　天然樹脂、石油アスファルト、天然ワックスを成分とするワックス（日化精工製アルコワックス５４２Ｍ）０．２ｇをガラス板（２０×７０ｍｍ、厚さ１．５ｍｍ）上に置き、７０℃にて３０分間溶融、その後室温まで放冷したものものを洗浄対象物として用いた。この洗浄対象物を２００ｃｍ３の洗浄液が充填された洗浄槽において液温２５℃で攪拌子で攪拌する（４００ｒｐｍ）ことにより１５分間洗浄を行った。洗浄槽から取りだした洗浄対象物を、７０℃、２０分間乾燥して洗浄液を蒸散除去した。洗浄前後の付着物の重量差より洗浄率を計算し、洗浄率１００〜９０％を○、９０〜８０％以下を△、８０％以下を×として評価し、表１に併せて示した。この結果から、実施例１〜５は高いワックス洗浄性を示すことがわかる。
【００１９】
［洗浄性試験３］　絶縁油（（株）ジャパンエナジー製ＪＯＭＯ　ＨＳトランスＮ）を積層メッシュ（富士フィルター工業製フジプレート、ＳＵＳ３１６、メッシュ２０μｍ）に浸漬し、その後、７０℃にて３０分間加熱し、その後室温まで放冷したものものを洗浄対象物として用いた。この洗浄対象物を２００ｃｍ３の洗浄液が充填された洗浄槽において液温２０℃で超音波照射下に３０秒間洗浄を行った。洗浄槽から取りだした洗浄対象物を、７０℃、２０分間乾燥して洗浄液を蒸散除去した。洗浄前後の付着物の重量差より洗浄率を計算し、１００〜９０％を○、９０〜８５％以下を△、８５％以下を×として評価し、表１に併せて示した。この結果から、実施例１〜５は高い絶縁油洗浄性を示すことがわかる。
【００２０】
【発明の効果】
本発明による炭化水素系洗浄液組成物は、飽和脂肪族炭化水素を８０〜９５重量％および芳香族炭化水素を５〜２０重量％含有、洗浄液組成物の５％留出温度と９５％留出温度の差が１０℃以下であり、電子・電気部品、光学部品、精密機械部品などの精密部品の洗浄に優れた性能を有し、かつ、オゾン層破壊等の環境上の問題も生じない。