(57)【要約】【課題】ごみ焼却場などの排水処理設備において生じる排水を再利用水として適用可能な処理水になるように滅菌する際に、次亜塩素酸ソーダ等の塩素系滅菌剤の注入量を自動制御する装置を提供する。【解決手段】排水を中和処理した後にろ過した処理水を貯留する処理水槽２に、塩素系滅菌剤を溶解した滅菌剤溶液タンク７から滅菌剤溶液ｘの注入管５を接続し、注入管５に注入ポンプ６を介設し、処理水ｚの酸化還元電位差を測定する酸化還元電位差計９を処理水槽２に配備し、酸化還元電位差計９をコントローラ１２を介して注入ポンプ６に接続し、酸化還元電位差計９により測定される酸化還元電位差が６００ｍＶ〜８００ｍＶになるようにコントローラ１２にて滅菌剤溶液の注入量を制御する。【選択図】      図１
2004223448.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排水処理設備で生じる排水を処理して再利用したり放流したりするために次亜塩素酸ソーダなどの塩素系滅菌剤の注入量を自動制御する方法において、
前記排水又はろ過や中和などの処理を施したその処理水に前記塩素系滅菌剤を注入する際に、酸化還元電位差が６００ｍＶ〜８００ｍＶになるように注入量を制御すること
を特徴とする滅菌剤注入量の自動制御方法。
【請求項２】
排水処理設備で生じる排水を処理して再利用したり放流したりするために次亜塩素酸ソーダなどの塩素系滅菌剤の注入量を自動制御する装置において、
前記排水をろ過したり中和したりするなどした処理水を貯留する処理水槽に、前記塩素系滅菌剤を溶解した滅菌剤溶液のタンクから滅菌剤溶液の注入管を接続し、該注入管に注入ポンプを介設し、
処理水の酸化還元電位差を測定する酸化還元電位差計を、前記処理水槽に配備し、
前記酸化還元電位差計をコントローラを介して前記注入ポンプに接続し、
前記酸化還元電位差計により測定される酸化還元電位差が６００ｍＶ〜８００ｍＶになるように前記コントローラにて前記滅菌剤溶液の注入量を制御すること
を特徴とする滅菌剤注入量の自動制御装置。
【請求項３】
前記コントローラは酸化還元電位差計の出力を反転するリバース変換器を備え、反転した酸化還元電位差計の出力値に応じて前記コントローラにて前記注入ポンプの駆動能力を０％〜１００％の範囲で制御すること
を特徴とする請求項２記載の滅菌剤注入量の自動制御装置。
【請求項４】
前記処理水槽が曝気用ディフューザを備えており、処理水槽の上流側に設けられるろ過水槽から処理水槽へ供給するろ過ポンプの駆動に連動して前記注入ポンプを駆動するとともに、
前記ろ過ポンプの駆動時以外に前記注入ポンプを間欠駆動するためのタイマーを設けたこと
を特徴とする請求項２又は３記載の滅菌剤注入量の自動制御装置。
【請求項５】
前記注入ポンプを介設した滅菌剤溶液の注入管を、前記処理水槽の他、前記排水を中和する中和槽および前記処理水槽から再利用先へ供給する配管にそれぞれ接続し、
前記排水の供給ポンプおよび前記再利用先への処理水の供給ポンプにそれぞれ連動して注入ポンプを駆動すること
を特徴する請求項２〜４のいずれか記載の滅菌剤注入量の自動制御装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば、ごみ焼却場の排水処理設備でごみ収集車の洗車排水や床洗排水などを含む各種排水（以下、排水という）などの、いわゆる有機系排水、あるいは無機系排水および有機系・無機系が混合された排水を浄化処理するための排水処理設備において、排水をたとえば中和処理してろ過した処理水などを次亜塩素酸ソーダのような塩素系滅菌剤で滅菌する際に、その滅菌剤の流入量を自動制御する方法と装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
上記のような有機系排水を塩素系滅菌剤で滅菌する場合に、従来より、たとえば処理水の供給路の途中に、固形の滅菌剤を充填した滅菌器を介設し、滅菌剤を処理水で溶解しながら処理水に混合する方法が実施されている。
【０００３】
また、滅菌剤を溶解した溶液を注入ポンプを介して回転数をポンプコントロールにて作業者が手動で設定することにより滅菌水槽に一定量注入し、混合する方法も実施されている。そして、この場合、滅菌剤の注入量を、滅菌水槽内の水から漂う塩素臭等の濃淡などによって作業者が経験的に判断している。
【０００４】
その他、主に医療施設の排水を下水道や河川などに放流する場合に、ｐＨ調整剤でｐＨを所定値に調整した後、塩素系滅菌剤を注入後の残留塩素濃度が通常、５００ｐｐｍ前後になるように注入している。この塩素系滅菌剤の注入量を酸化還元電位を測定し酸化性雰囲気になるよう、具体的には０ｍＶ以上になるよう決定している（特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平８−１１７７５８号公報（段落番号０００６・０００７・００２４・００３４）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の一般的な滅菌剤の注入・混合方法および上記公報に記載の方法では、つぎのような不都合がある。すなわち、
ａ）上記した前者の二つの方法をごみ処理場の排水の滅菌処理に適用したところ、排水の水質が変化したときに滅菌処理が不十分になって滅菌処理水にスライム（一般に微生物の繁殖によって生じる泥状の粘着性物質）が発生し、再利用先への供給用配管やストレーナなどが閉塞された。
【０００７】
ｂ）上記公報に記載の方法は、下水道や河川に放流するのに必要な基準を満たすもので、残留塩素濃度が通常、５００ｐｐｍと非常に高くて機器類を腐食するおそれがあるうえ、再利用水には残留塩素濃度があまりに高すぎて（再利用水では通常、１０〜３０ｐｐｍ前後）適用できない。また、酸化還元電位を測定して塩素系滅菌剤の注入量を調整しているが、残留塩素濃度と酸化還元電位の関係については一切説明がなく、単に酸化性雰囲気になるように（具体的には０ｍＶ以上）設定するとしか、記載されていない。このため、たとえば残留塩素濃度を１０〜３０ｐｐｍに調整するのに、酸化還元電位差をどの程度に設定すればよいか全く不明である。
【０００８】
ところで、再利用水としては残留塩素濃度が１０〜３０ｐｐｍ前後になるように塩素系滅菌剤の注入量を調整すればよいが、残留塩素計は水道水やプールの水を対象にしているため、１〜２ｐｐｍと低濃度の残留塩素しか測定できない。そこで、残留塩素計で再利用水用の処理水の残留塩素を測定するには、採取した処理水を純水（蒸留水）で１０倍前後に希釈する必要もある。このため、処理水を残留塩素計で直接測定できないから、塩素系滅菌剤の注入量を残留塩素計によって自動制御することは困難である。
【０００９】
本発明は上述の点に鑑みなされたもので、ごみ焼却場などの排水処理設備において生じる排水を再利用水として適用可能な処理水になるように滅菌する際に、次亜塩素酸ソーダ等の塩素系滅菌剤の注入量を自動制御する方法と装置を提供することを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明にかかる排水への滅菌剤注入量の自動制御方法は、排水処理設備で生じる排水を処理して再利用したり放流したりするために次亜塩素酸ソーダなどの塩素系滅菌剤の注入量を自動制御する方法において、前記排水又はろ過や中和などの処理を施したその処理水に前記塩素系滅菌剤を注入する際に、酸化還元電位差が６００ｍＶ〜８００ｍＶになるように注入量を制御することを特徴としている。
【００１１】
上記の構成を有する本発明の滅菌剤注入量の自動制御方法によれば、滅菌した排水又は処理水の残留塩素濃度が高くて残留塩素計では測定できない場合に、塩素系滅菌剤の注入量が適正であるか否かを酸化還元電位差に基づいて測定することができる。そして、残留塩素濃度と酸化還元電位差との関係から酸化還元電位差が６００ｍＶ以上で排水又は処理水の水質が安定することを目視等で確認しており、酸化還元電位差が６００ｍＶ〜８００ｍＶになるように塩素系滅菌剤の注入量を制御することによって排水又は処理水の水質に拘わらず滅菌状態を適正に維持できる。
【００１２】
上記の目的を達成するために本発明にかかる排水への滅菌剤注入量の自動制御装置は、排水処理設備で生じる排水を処理して再利用したり放流したりするために次亜塩素酸ソーダなどの塩素系滅菌剤の注入量を自動制御する装置において、前記排水を中和したりろ過したりするなどした処理水を貯留する処理水槽に、前記塩素系滅菌剤を溶解した滅菌剤溶液のタンクから滅菌剤溶液の注入管を接続し、該注入管に注入ポンプを介設し、処理水の酸化還元電位差を測定する酸化還元電位差計（ＯＲＰ計）を前記処理水槽に配備し、前記酸化還元電位差計をコントローラを介して前記注入ポンプに接続し、前記酸化還元電位差計により測定される酸化還元電位差が６００ｍＶ〜８００ｍＶになるように前記コントローラにて前記滅菌剤溶液の注入量を制御することを特徴としている。
【００１３】
本発明の滅菌剤注入量の自動制御装置によれば、上記した自動制御方法を確実に実施することができる。
【００１４】
請求項３記載の自動制御装置は、前記コントローラは酸化還元電位差計の出力を反転するリバース変換器を備え、反転した酸化還元電位差計（ＯＲＰ計）の出力値に応じて前記コントローラにて前記注入ポンプの駆動能力（吐出量）を０％〜１００％の範囲で制御することを特徴としている。
【００１５】
請求項３記載の滅菌剤注入量の自動制御装置によれば、ＯＲＰ計の出力を反転させてコントローラに入力し、注入ポンプの吐出量を制御するので、制御が簡単になる。
【００１６】
請求項４記載の自動制御装置は、前記処理水槽が曝気用ディフューザを備えており、処理水槽の上流側に設けられるろ過水槽から処理水槽へ供給するろ過ポンプの駆動に連動して前記注入ポンプを駆動するとともに、前記ろ過ポンプの駆動時以外に前記注入ポンプを間欠駆動するためのタイマーを設けたことを特徴としている。
【００１７】
滅菌剤注入量の自動制御装置によれば、処理水槽内の処理水が曝気の気泡で十分に撹拌されるので、滅菌剤が処理水にほぼ均一に混合され、また注入ポンプの停止時に曝気により処理水中の滅菌剤が外部に放散されて減少することがあっても、タイマーで注入ポンプを間欠運転し、滅菌剤を自動注入して補充するので、処理水の滅菌処理が確実に保証される。
【００１８】
請求項５記載の自動制御装置は、前記注入ポンプを介設した滅菌剤溶液の注入管を、前記処理水槽の他、前記排水を中和する中和槽および前記処理水槽から再利用先へ供給する配管にそれぞれ接続し、前記排水の供給ポンプおよび前記再利用先への処理水の供給ポンプにそれぞれ連動して注入ポンプを駆動することを特徴としている。
【００１９】
請求項５記載の自動制御装置によれば、処理水槽内の処理水だけでなく、中和槽および処理水槽から再利用先へ処理水を供給する配管にも、同時に滅菌剤を自動注入でき、処理水槽を中心にその上流側および下流側の各種機器類にスライムが発生するのを防止できる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明にかかる滅菌剤注入量の自動制御装置の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２１】
図１は処理水槽にろ過処理水を供給する過程で滅菌剤溶液の注入量を自動制御する装置をふくむ自動滅菌処理設備を示すフロー図である。
【００２２】
図１において、処理水槽２には滅菌処理水ｚが貯留されており、この滅菌処理水ｚに滅菌剤溶液ｘを自動制御により注入して滅菌処理する滅菌剤注入量自動制御装置をふくむ自動滅菌処理設備１が配備されている。この自動滅菌処理設備１として、ろ過処理水源（図示せず）からろ過処理水ｙを供給する配管３の一端が接続され、配管３には供給ポンプ（ろ過ポンプ）４が介設されている。この配管３の途中に滅菌剤の注入管５の一端が接続されている。注入管５の他端は注入ポンプ６に接続され、この注入ポンプ６は下部の液中ピストンポンプ部６ａを滅菌剤貯留タンク７の滅菌剤溶液ｘ中に浸漬している。滅菌剤溶液ｘに、本例では次亜塩素酸ソーダ（ナトリウム）溶液を使用している。上記のろ過処理水ｙは、ろ過処理前に中和槽（図７の符号２１を参照）で中和されている。なお、ろ過処理水ｙは、ごみ焼却場においてごみ収集車の洗車排水や床洗排水などの排水を原水としている。
【００２３】
処理水槽２の底部付近に同処理水ｚの取り出し口２ａが設けられ、この取り出し口２ａにＯＲＰ（酸化還元電位差）計測槽８が配管１３で接続されている。ＯＲＰ計測槽８には、薬液洗浄型ＯＲＰ計９が配装されている。ＯＲＰ計９には変換器１０が接続され、この変換器１０にてＯＲＰ計９により計測されたＯＲＰ値を電流値に変換する。さらに変換器１０がリバース変換器１１に接続され、そこで出力値（たとえば４〜２０ｍＡ）を反転（２０〜４ｍＡ）させる。
【００２４】
また、リバース変換器１１は注入ポンプ６用のインバータ方式のコントローラ１２に接続されている。注入ポンプ６はろ過処理水ｙの供給ポンプ４の運転に連動して駆動されるように、ポンプコントローラ１２へ供給ポンプ４の運転／停止の信号を送るように電気信号線１４が配線されている。
【００２５】
処理水槽２内の底部付近にディフューザー１５を配管し、空気供給管１６を接続している。曝気ブロワー１７から空気を吸い込んでディフューザー１５から滅菌処理水ｚ中に空気を吹き出し曝気している。これにより、処理水槽２内の滅菌処理水ｚは撹拌され、次亜塩素酸ソーダ溶液も均一に混合される。このような曝気システムを採用した関係上、滅菌した処理水ｚ中に混合された次亜塩素酸ソーダの固気分が処理水槽２の外部へ放散され、残留塩素濃度が低下するおそれがある。そこで、供給ポンプ４の運転に連動して注入ポンプ６を駆動するのに加えて、タイマー１８により供給ポンプ４の停止時にも間欠運転するようにした。
【００２６】
本実施形態では、滅菌処理水ｚの残留塩素濃度が高すぎて従来の残量塩素計が使用できないことから、上記したＯＲＰ計９にて計測される酸化還元電位差を基準に、つまり酸化還元電位差をパラメータに使用している。このため、残留塩素濃度と酸化還元電位差との関係を求める必要が生じた。そこで、処理水槽２に貯留されている滅菌処理水ｚの水質を目視で観察し、水質の良し悪しを確認した。また、残留塩素濃度は残留塩素計の測定範囲をオーバーした際には、純水により採取した滅菌処理水ｚを希釈し、残留塩素計にて測定した。
【００２７】
このようにして残留塩素濃度と酸化還元電位差との関係を求めた結果、つぎのことが確認された。すなわち、
図２に示すように、残留塩素濃度５〜２０ｍｇ／ｌでＯＲＰ値が７００〜７５０ｍＶになる。またＯＲＰ値が６００ｍＶ以上に上がると、滅菌処理水ｚの水質が安定する。そして、ＯＲＰ値が８００ｍＶ前後になると飽和してしまうために、それ以上は数値が上がらなくなる。このため、残留塩素濃度が３０〜４０ｍｇ／ｌ以上に上昇しても、ＯＲＰ値はほぼ一定（８００弱ｍＶ）に保たれる。なお図２に示すように、残留塩素濃度およびＯＲＰ値がやや高めに表れているが、これは処理水槽２内の処理水ｚに滅菌剤溶液ｘが十分に均一に混合されていない部分があるからと推測される。また、図２中の◎○△は水質を表すもので、◎は優、○は良、△は不可である。
【００２８】
本例では、図３に示すように、上記ＯＲＰ計９による出力値４ｍＡ＝４００ｍＶ（ＯＲＰ値）、同出力値２０ｍＡ＝９００ｍＶ（ＯＲＰ値）にそれぞれ該当している。また、上記ＯＲＰ計９による出力値４ｍＡ−２０ｍＡをリバース変換器１１で出力値２０ｍＡ−４ｍＡに反転させてポンプコントローラ１２へ入力しているが、ポンプコントローラ１２では入力値２０ｍＡのときに注入ポンプ６の最大運転能力（最大吐出量）の１００％、４ｍＡのときに同０％、１２ｍＡのときに同５０％に、注入ポンプ６の吐出量比率が制御されるように設定した。
【００２９】
さらに、残留塩素濃度が０ｍｇ／ｌ若しくは０ｍｇ／ｌ近くまで低下したときに警報を発するＯＲＰ値を、図２のグラフから３００ｍＶに設定した。
【００３０】
以上のようにＯＲＰ計９により測定され出力される出力値に基づくポンプコントロール１２による具体的な数値を設定して、図１に示す処理水槽２に供給されるろ過処理水ｙに次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを自動注入する滅菌剤注入量自動制御装置を備えた自動滅菌処理設備１を稼働した。
【００３１】
ここで、自動滅菌処理設備１の動作について図１を参照して説明する。図１に示すように、ろ過処理水源から供給ポンプ４により配管３を通してろ過処理水ｙが処理水槽２に供給される。同時に、次亜塩素酸ソーダ溶液ｘの貯留タンク７から次亜塩素酸ソーダ溶液ｘが注入管５より注入ポンプ６にて、配管３中のろ過処理水ｙに注入される。このため、次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを処理水槽２内に直接注入するのに比べて、ろ過処理水ｙに対し均一に混合される。また、処理水槽２内では、ディフューザー１５から吹き出す曝気用空気によって撹拌され、混合される。処理水槽２内に貯留されている滅菌処理水ｚは、配管１３を通してＯＲＰ計測槽８へも供給されており、この滅菌処理水ｚのＯＲＰ値がＯＲＰ計９にて測定されている。
【００３２】
ＯＲＰ計９にて４〜２０ｍＡが出力されるが、変換器１０での変換後にリバース変換器１１で反転してポンプコントローラ１２へ入力される。ポンプコントローラ１２により注入ポンプ６の吐出量が制御され、配管３中のろ過処理水ｙに注入される次亜塩素酸ソーダ溶液ｘの注入量が自動制御される。なお、供給ポンプ４の停止時には、タイマー１８でポンプコントローラ１２を介して注入ポンプ６が駆動され、注入管５より処理水槽２に次亜塩素酸ソーダ溶液ｘが注入されるが、この状態でもＯＲＰ計測槽８中の処理水ｚのＯＲＰ値がＯＲＰ計９にて測定され、ＯＲＰ計９にて出力される出力値がリバース変換器１１で反転されてポンプコントローラ１２へ入力され、注入ポンプ６の吐出量が制御される。
【００３３】
以上のようにして次亜塩素酸ソーダ溶液ｘの注入量が自動制御される。この自動制御による滅菌処理過程で、残留塩素濃度と酸化還元電位差の関係を調べた。この関係を図４に示している。図４に示すように、処理水ｚの水質はＯＲＰ値が６００ｍＶ以上で安定し、７００ｍＶ前後に維持された。図４からも確認されるように、処理水槽２内の滅菌処理水ｚの残留塩素濃度も１０〜２０ｐｐｍ（ｍｇ／ｌ）前後と適正に維持された。なお、図２および図４に示すように酸化還元電位差および残留塩素濃度のいずれもやや高く表れているが、これは処理水槽２内の処理水ｚに次亜塩素酸ソーダ溶液が全体的に見て均等に混合されておらず、高く表示される傾向があるためである。
【００３４】
ところで、２ヶ月にほぼ１回の割合で焼却炉の運転を停止し点検を終了した後に、焼却炉の立ち上げをするが、この立ち上げ時に警報が発生した。そこで、原因を調査したところ、下記のことが判った。
【００３５】
焼却炉の停止時に、空気中の酸素により焼却炉に付属のボイラー内部の腐食を防止するため、清缶剤であるヒドラジン（Ｎ２Ｈ４）をボイラー水に溶解し、ボイラー内に満杯にしている。このボイラー水の約半分の量を焼却炉の立ち上げ時にブローし、排水処理設備に流入させている。この結果、下記の反応式から判るように、ヒドラジンが次亜塩素酸ソーダと酸化還元反応を起こして次亜塩素酸ソーダが消費され、酸化還元電位差が低下したからである。
【００３６】
Ｎ２Ｈ４＋２ＮａＯＣｌ→Ｎ２＋２ＮａＣ＋２Ｈ２Ｏ
なお、念のために、焼却炉立ち上げ前のボイラー水ブロー時に、ボイラーブロー水槽、純水廃液槽、中和槽、再利用水槽の各水槽における酸化還元電位差の変化を測定したが、この結果を図５に示している。図５から明らかなように、ボイラー水をブローした直後は酸化還元電位差が０ｍＶ以下になっているが、日時の経過により上昇する。同日の１回目は午前に、２回目は午後に測定した数値である。
【００３７】
図６は、本発明にかかる自動滅菌処理設備の第２実施形態を示すフロー図である。本実施形態の滅菌剤注入量自動制御装置をふくむ自動滅菌処理設備１’が上記設備１と相違するところは、上記注入ポンプ６の最大吐出容量が５０ｍｌ／ｍｉｎの１台であったのに対し、３００ｍｌ／ｍｉｎと吐出容量の大きな注入ポンプ１９を滅菌剤貯留タンク７に追加設置して同注入ポンプ１９を介設した注入管５’を配管３に接続し、専用のコントローラ２０を設けて次亜塩素酸ソーダ溶液ｘの注入量を即時に増大できるようにしたことである。そして、その注入ポンプ１９は、処理水槽２内の滅菌処理水ｚのＯＲＰ値が５５０ｍＶに低下したときに起動するようにしたことである。このときの注入ポンプ１９の吐出量比率は、専用のポンプコントローラ２０の設定を注入ポンプ６のコントローラ１２と共通にしているので、注入ポンプ６と同じである。
【００３８】
本実施形態の自動滅菌処理設備１’によれば、焼却炉の立ち上げ時に上記の処理水槽２内の滅菌処理水ｚがボイラー水ブローの影響を受けてＯＲＰ値が低下しても、５５０ｍＶで大吐出量の注入ポンプ１９が起動し、次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを即刻注入するので、ＯＲＰ値が３００ｍＶまで低下することはなく、警報を発する事態になることがない。
【００３９】
図７は、本発明にかかる自動制御装置の第３実施形態を示すフロー図である。本実施形態の滅菌剤注入量自動制御装置をふくむ自動滅菌処理設備１”では、処理水槽２内の滅菌した処理水ｚを再利用先へ供給するための配管２２を処理水槽２に接続し、供給ポンプ（ろ過ポンプ）２３により供給するようにしている。このため、配管２２に別の注入管２５を接続し、滅菌剤貯留タンク７に設置した別の注入ポンプ２６で次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを滅菌処理水ｚに注入するようにしている。
【００４０】
また、ろ過処理水源へ排水を供給する前に、いったん中和槽２１に供給ポンプ（原水ポンプ）３１を介設した配管３２にて供給して貯留した排水を中和したのち、図示を省略したろ過水槽およびろ過器を経てろ過するようにしている。中和槽２１内の排水が十分に滅菌されていない場合は下流側のろ過器等にスライムが発生するので、さらに別の注入管２７を接続し、滅菌剤貯留タンク７に設置したさらに別の注入ポンプ２８で次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを中和槽２１内の排水に注入するようにしている。中和槽２１には、排水を撹拌混合するため、モータ３４で回転する撹拌装置３３が配備されている。
【００４１】
中和槽２１に次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを注入するための注入ポンプ２８は、排水の供給ポンプ３１に連動して運転／停止させるとともに、再利用先へ供給途中の滅菌処理水ｚに次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを注入するための注入ポンプ２６は、供給ポンプ２３に連動して運転／停止させる。
【００４２】
本実施形態の場合は注入ポンプ６・２６・２８が３台であり、これらの注入ポンプ６・２６・２８に対応して３つのコントローラ１２・２９・３０を独立させて設け、各コントローラ１２にリバース変換器１１をそれぞれ接続している。また、注入ポンプ２６・２８には最大吐出量を注入ポンプ１２と共通の５０ｍｌ／ｍｉｎのポンプを使用したが、コントローラ２９・３０による注入ポンプ２６・２８の吐出量比率をＯＲＰ値（出力）が４ｍＡのときに８０％、１２ｍＡのときに４０％、２０ｍＡのときに０％と、注入ポンプ６に比べて２０％低減して次亜塩素酸ソーダ溶液ｘの注入量を減らした。こうした３つのポンプコントローラの関係を図８に示すもので、図８は処理水のＯＲＰ値とＯＲＰ計出力値と各注入ポンプ吐出量との関係を示す線図で、図３に対応している。その他の構成については、上記２つの実施形態と共通するので、共通の部材は同一の符号を付けて表し説明を省略する。
【００４３】
上記の構成からなる第３実施形態の自動滅菌処理設備１”について、その動作を図７に基づいて説明する。
【００４４】
中和槽２１には、ゴミ焼却場の排水処理設備から生じる排水が供給され、塩酸などの酸性溶液あるいは苛性ソーダなどのアルカリ性溶液が注入されることによって中和される。そして、中和された排水は、図示を省略したろ過水槽に貯留され、さらにろ過器を通してろ過された後、上記ろ過処理水ｙとなって配管３より処理水槽２へ供給ポンプ４にて供給される。この供給途中で、注入管５より次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを注入し、滅菌処理することは上記したとおりである。本例では、処理水槽２から再利用先へ滅菌処理水ｚを供給する過程で注入管２５により注入ポンプ２６にて次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを注入し、滅菌処理を再度施している。また、中和槽２１内で中和処理される排水にも、注入管２７より注入ポンプ２８にて次亜塩素酸ソーダ溶液ｘを注入し、滅菌処理される。これにより、下流側に設置されているろ過器などにスライムが発生して流路を閉塞するのが防止される。
【００４５】
いずれの場合も、処理水槽２内の滅菌処理水ｚの酸化還元電位差をＯＲＰ計９にて測定し、ポンプコントローラ１２・２９・３０を介して注入ポンプ６・２６・２８の吐出量が制御されることにより、次亜塩素酸ソーダ溶液ｘの注入量がそれぞれ自動設定される。
【００４６】
上記に３つの実施形態を説明したが、本発明では次のように実施することもできる。
【００４７】
▲１▼  焼却炉の立ち上げが頻繁に行われない場合は、警報の発生を防止するための大型の注入ポンプ１９やそのコントローラ２０を省くことができる。
【００４８】
▲２▼  処理水槽のほかに滅菌剤を注入する箇所はとくに限定するものではなく、スライムの発生するおそれのある箇所の有無で決定すればよい。
【００４９】
【発明の効果】
以上説明したことから明らかなように、本発明にかかる排水への滅菌剤注入量の自動制御方法とその装置には、次のような優れた効果がある。
【００５０】
本発明の自動制御方法は、残留塩素計では測定不可能な残留塩素濃度の高い処理水の滅菌処理を酸化還元電位差に基づいて測定することにより、確実な滅菌処理を施すことができ、また残留塩素濃度と酸化還元電位差との関係をあらかじめ求めて被処理水である排水の水質に応じて、塩素系滅菌剤を適量だけ注入できるようにしたから、滅菌剤を必要以上に注入しないので無駄がなく、また残留塩素濃度が高くなりすぎて機器類の腐食を起こしたりしない。
【００５１】
本発明の自動制御装置は、あらかじめ求めた残留塩素濃度と酸化還元電位差との関係から酸化還元電位差を６００〜８００ｍＶの範囲内になるようにコントローラで注入ポンプを制御し、滅菌剤の注入量を自動的に制御するようにしたから、排水の水質が変化してもその変化に応じて適正な残留塩素濃度に維持でき、確実な滅菌処理が保証される。また、酸化還元電位差計、コントローラのほか、滅菌剤溶液タンクおよび注入ポンプ、注入管などで構成されるから、構成が複雑にならず、比較的低コストで製造される。
【００５２】
さらに、請求項３に記載のように、リバース変換器を用いてＯＲＰ値を反転させて注入ポンプの吐出量を制御することにより、制御が簡単になり、滅菌剤の注入量を正確に制御できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】処理水槽にろ過処理水を供給する過程で滅菌剤溶液の注入量を自動制御する装置をふくむ自動滅菌処理設備の第１実施形態を示すフロー図である。
【図２】滅菌剤の手動注入時における残留塩素濃度と酸化還元電位差との関係を示す線図である。
【図３】本発明にかかる処理水のＯＲＰ値とＯＲＰ計出力値と注入ポンプ６の吐出量との関係を示す線図である。
【図４】本発明にかかる滅菌剤の自動注入時における残留塩素濃度と酸化還元電位差との関係を示す線図である。
【図５】焼却炉立ち上げ時におけるボイラーブロー水槽、純水廃液槽、中和槽および再利用水槽の各水槽における酸化還元電位差の変化を示す図面である。
【図６】本発明にかかる自動制御装置をふくむ自動滅菌処理設備の第２実施形態を示すフロー図である。
【図７】本発明にかかる自動制御装置をふくむ自動滅菌処理設備の第３実施形態を示すフロー図である。
【図８】本発明にかかる処理水のＯＲＰ値とＯＲＰ計出力値と３台の各注入ポンプ吐出量との関係を示す線図で、図３に対応している。
【符号の説明】
１・１’・１”自動滅菌処理設備
２  処理水槽
３・１３・２２・３２  配管
４・２３・３１  供給ポンプ
５・２５・２７  滅菌剤の注入管
６・２８・２９  注入ポンプ
７  滅菌剤貯留タンク
８  ＯＲＰ（酸化還元電位差）計測槽
９  薬液洗浄型ＯＲＰ計
１０  変換器
１１  リバース変換器
１２・２９・３０  ポンプコントローラ
１４  電気信号線
１５  ディフューザー
１６  空気供給管
１７  曝気ブロワー
１８  タイマー
ｘ  滅菌剤溶液（次亜塩素酸ソーダ溶液）
ｙ  ろ過処理水
ｚ  滅菌処理水
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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