(57)【要約】【課題】記録膜の腐食および誘電体のクラックの発生を回避しつつ、レーザービームの波長依存性を小さくし得る光情報記録媒体を提供する。【解決手段】第１および第２の誘電体膜と記録膜とを積層して、光情報記録媒体１に対するレーザービームＬの照射方向から見て最も奥側のＬ０情報層３を除く情報層（Ｌ１情報層５）を構成すると共に、Ｌ１情報層５にレーザービームＬを照射した際に、その波長が３７０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の第１の波長領域内のレーザービームＬと、その波長が６１０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下の第２の波長領域内のレーザービームＬとについてのＬ１情報層５による反射率が、両波長領域外の波長のレーザービームＬについての反射率との間で共に極小値となるように第１および第２の誘電体膜の厚みを規定してＬ１情報層５を構成する。【選択図】        図１
2004355743.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の情報層から第Ｎの情報層（Ｎは２以上の自然数）までの複数の情報層が基材上にこの順で形成されて、当該各情報層にレーザービームを照射することによって記録データの記録および再生が可能に構成され、
Ｎ層の前記情報層のうちの当該光情報記録媒体に対する前記レーザービームの照射方向から見て最も奥側の当該情報層を除く第Ｍの情報層（ＭはＮ以下の各自然数）は、第１の誘電体膜および第２の誘電体膜と、当該両誘電体膜の間に形成されて前記記録データの記録が可能な記録膜とが積層されて構成されると共に、当該第Ｍの情報層に対して前記レーザービームを照射した際に、その波長が３７０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の第１の波長領域内の当該レーザービームと、その波長が６１０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下の第２の波長領域内の当該レーザービームとについての当該第Ｍの情報層による各反射率が、当該両波長領域外の波長のレーザービームについての反射率との間で共に極小値となるように前記第１および第２の誘電体膜の厚みが規定されている光情報記録媒体。
【請求項２】
前記第１および第２の誘電体膜の少なくとも一方は、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物を主成分とする材料によってその厚みが１００ｎｍ以上１３０ｎｍ以下の範囲内となるように形成されている請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記第Ｍの情報層における前記レーザービームの照射方向から見て奥側の前記誘電体膜は、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物を主成分とする材料によって形成され、当該第Ｍの情報層における前記照射方向から見て手前側の前記誘電体膜は、ＴｉＯ２を主成分とする材料によって形成されている請求項２記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記記録膜は、第１の副記録膜と、当該第１の副記録膜とは異なる材料で成膜された第２の副記録膜とを積層して構成されている請求項１から３のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
前記第１および第２の副記録膜は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｂｉのうちの互いに異なるいずれか１つを主成分とする材料でそれぞれ成膜されている請求項４記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
前記第１および第２の副記録膜の一方は、Ｃｕを主成分とする材料によって成膜され、前記第１および第２の副記録膜の他方は、Ｓｉを主成分とする材料によって成膜されている請求項５記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基材上に複数の情報層を積層して構成された光情報記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の光情報記録媒体として、第１情報層（２）および第２情報層（４）の２つの情報層が第１基板（１）の上に形成されている光学的情報記録媒体が特開２００１−２４３６５５号公報に開示されている。この光学的情報記録媒体は、透過性樹脂材料またはガラスによって円板状に形成された第１基板（１）の上に、第１情報層（２）、分離層（３）、第２情報層（４）および第２基板（５）がこの順で積層されて構成され、第１基板（１）の側からレーザー光（１１：レーザービーム）を照射することによって両情報層（２，４）に対する記録データの記録および再生が可能に構成されている。また、第１情報層（２）は、下側保護層（６）、記録層（７）、上側保護層（８）、反射層（９）および透過率向上層（１０）が第１基板（１）の上にこの順で積層されて構成されている。この場合、記録層（７）は、相変化材料によって薄膜状に形成され、下側保護層（６）および上側保護層（８）は、誘電体材料によって薄膜状に形成されている。また、第２情報層（４）は、第１情報層（２）を構成する各層とほぼ同等の複数の層が分離層（３）の上に積層されて構成されている。
【０００３】
この光学的情報記録媒体に記録データを記録する際には、記録パワーに調整したレーザー光（１１）を記録層（７）に照射する。この際に、レーザー光（１１）を照射した部位の記録層（７）の状態（物理的状態および化学的状態の少なくとも一方の状態）が変化して記録マークが形成される。このようにして記録マークが形成された部位の記録層（７）は、記録マークが形成されていないブランク領域（未記録領域）の記録層（７）とは光学特性が相違する。このため、記録マークの形成部位に向けて再生パワーのレーザー光（１１）を照射した際には、ブランク領域に向けてレーザー光（１１）を照射したときとはその反射率が相違する。したがって、この反射率の相違を検出することによって、記録データの再生が可能となる。
【０００４】
この場合、第２情報層（４）に対して記録データを記録する際には、レーザー光（１１）が第１情報層（２）を透過して第２情報層（４）に照射される。また、第２情報層（４）に記録された記録データを再生する際には、レーザー光（１１）が第１情報層（２）を透過して第２情報層（４）に照射され、第２情報層（４）によって反射された後に第１情報層（２）を再び透過して第１基板（１）の外部に射出される。したがって、記録データの記録および再生を正確に実行するためには、第１情報層（２）が十分な透過性を有している必要がある。このため、この種の光情報記録媒体では、その光情報記録媒体に対するレーザービームの照射方向から見て手前側の情報層（上記の例では、第１情報層（２））に反射膜を形成しない構成を採用したり、その情報層を構成する各層（主として誘電体の層：上記の例では、下側保護層（６）および上側保護層（８））の厚みを薄くする構成を採用したりして、レーザービームの透過性を向上させている。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−２４３６５５号公報（５−１０頁）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、この従来の光学的情報記録媒体には、以下の問題点がある。すなわち、従来の光学的情報記録媒体（光情報記録媒体）では、第１情報層（２）に反射膜を形成しない構成を採用したり、第１情報層（２）における下側保護層（６）および上側保護層（８）（以下、「誘電体膜」ともいう）の厚みを薄くする構成（一例として、両保護層の厚みを２５ｎｍとする構成）を採用したりして、レーザービームの透過性を向上させている。しかし、反射膜を設けずに誘電体膜を薄厚にする構成を採用した場合、記録層（７）が大気中の水分等によって侵され（腐食され）易くなるという問題が発生する。一方、第１情報層（２）に反射膜を形成することによって防水性を向上させつつ記録層（７）の腐食を回避する構成を採用した場合、反射膜の存在に起因して第１情報層（２）の透過率が低下する結果、第２情報層（４）に対する記録データの記録および再生が困難となるという問題が発生する。また、防水性を向上させるために誘電体膜を極く厚く形成した場合、光情報記録媒体の全体が大きく撓まされたり、光情報記録媒体に急激な温度変化が生じた際に誘電体膜にクラックが発生するおそれがある。したがって、記録データの記録および再生が可能な程度の透過率を有し、かつクラックの発生を回避し得る程度に誘電体膜の厚みを厚くして防水性を向上させることによって記録層（７）の腐食を回避するのが好ましい。
【０００７】
一方、この種の光情報記録媒体に対する記録データの記録および再生時に使用されるレーザービームには、記録再生装置の個体差や、温度や湿度等の記録再生時の環境に起因して、その波長に若干のばらつきが生じる。具体的には、例えばその波長が４０５ｎｍのレーザービーム（青紫色レーザービーム）を使用する規格に従って設計した光情報記録媒体に対して記録データの記録および再生を実行する際には、記録再生装置によって射出されるレーザービームには、一例として３９５ｎｍ〜４１５ｎｍ程度の範囲内で波長にばらつきが生じる。したがって、上記の範囲内においてレーザービームの波長が変化したとしても正確な記録再生を可能とするためには、レーザービームの波長の変化に伴う透過率の変化量が極く小さくなるように（レーザービームの波長依存性が小さくなるように）誘電体膜の厚みを規定する必要がある。この場合、出願人は、レーザービームの波長の変化量と、レーザービームの透過率の変化量とが比例関係にはなく、波長の変化量に対する誘電体膜の透過率の変化量が極小となる波長領域がその誘電体膜の厚み毎に存在することを確認している。したがって、その光情報記録媒体に対する記録データの記録再生時に使用するレーザービームの波長（この場合、３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長領域内：青紫色レーザービーム）に対して透過率の変化量が極小となるように誘電体膜の厚みを規定する必要がある。
【０００８】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、記録膜の腐食および誘電体のクラックの発生を回避しつつ、記録再生時に使用するレーザービームの波長依存性を小さくし得る光情報記録媒体を提供することを主目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく本発明に係る光情報記録媒体は、第１の情報層から第Ｎの情報層（Ｎは２以上の自然数）までの複数の情報層が基材上にこの順で形成されて、当該各情報層にレーザービームを照射することによって記録データの記録および再生が可能に構成され、Ｎ層の前記情報層のうちの当該光情報記録媒体に対する前記レーザービームの照射方向から見て最も奥側の当該情報層（記録再生時にレーザービームの照射源に対して最も離間する情報層）を除く第Ｍの情報層（ＭはＮ以下の各自然数）は、第１の誘電体膜および第２の誘電体膜と、当該両誘電体膜の間に形成されて前記記録データの記録が可能な記録膜とが積層されて構成されると共に、当該第Ｍの情報層に対して前記レーザービームを照射した際に、その波長が３７０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の第１の波長領域内の当該レーザービームと、その波長が６１０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下の第２の波長領域内の当該レーザービームとについての当該第Ｍの情報層による各反射率が、当該両波長領域外の波長のレーザービームについての反射率との間で共に極小値となるように前記第１および第２の誘電体膜の厚みが規定されている。
【００１０】
この場合、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物を主成分とする材料によってその厚みが１００ｎｍ以上１３０ｎｍ以下の範囲内となるように前記第１および第２の誘電体膜の少なくとも一方を形成するのが好ましい。なお、本発明における「主成分」とは、膜または層を構成する複数の元素のうちの最も構成比率（原子比）が大きい成分をいう。
【００１１】
また、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物を主成分とする材料によって前記第Ｍの情報層における前記レーザービームの照射方向から見て奥側の前記誘電体膜（記録再生時にレーザービームの照射源から遠い側に位置する誘電体膜）を形成すると共に、ＴｉＯ２を主成分とする材料によって前記第Ｍの情報層における前記照射方向から見て手前側の前記誘電体膜（レーザービームの照射源に近い側に位置する誘電体膜）を形成するのが好ましい。この場合、その厚みが１５ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲内となるように前記手前側の前記誘電体膜を形成するのが一層好ましい。
【００１２】
さらに、第１の副記録膜と、当該第１の副記録膜とは異なる材料で成膜された第２の副記録膜とを積層して前記記録膜を構成するのが好ましい。
【００１３】
また、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｂｉのうちの互いに異なるいずれか１つを主成分とする材料で前記第１および第２の副記録膜をそれぞれ成膜するのが好ましい。
【００１４】
さらに、Ｃｕを主成分とする材料によって前記第１および第２の副記録膜の一方を成膜すると共に、Ｓｉを主成分とする材料によって前記第１および第２の副記録膜の他方を成膜するのが好ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明に係る光情報記録媒体の好適な実施の形態について説明する。
【００１６】
最初に、光情報記録媒体１の構成について、図面を参照して説明する。
【００１７】
図１に示す光情報記録媒体１は、外径が１２０ｍｍ程度で、厚みが１．２ｍｍ程度の円板状に形成された片面多層記録型の光ディスクであって、波長が３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下程度（一例として、４０５ｎｍ）の範囲内の青紫色レーザービーム（以下、「レーザービーム」ともいう）Ｌを使用した記録データの記録および再生が可能に構成されている。具体的には、この光情報記録媒体１は、Ｌ０情報層３、透明中間層４、Ｌ１情報層５および光透過層６を基材２の上にこの順で積層して構成されている。
【００１８】
基材２は、射出成形法または２Ｐ法によって例えばポリカーボネート樹脂で円板状に形成されている。また、基材２の一方の面（図１における上面）には、その中心部から外縁部にかけてグルーブおよびランドが螺旋状に形成されている。この場合、グルーブおよびランドは、基材２の上に形成されるＬ０情報層３に対して記録データを記録再生する際のガイドトラックとして機能する。したがって、正確なトラッキングを実行可能とするためには、一例として、その深さが１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲内で、そのピッチが０．２μｍ以上０．４μｍ以下の範囲内となるようにグルーブを形成するのが好ましい。また、この光情報記録媒体１では、記録再生時にレーザービームＬを光透過層６の側から照射する構成が採用されている。したがって、基材２が光透過性を有している必要がないため、基材２を形成する材料の選択枝が従来と比較して増えている。具体的には、基材２を形成する材料としては、上記のポリカーボネート樹脂に限定されず、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂およびウレタン樹脂などの各種樹脂材料や、ガラスおよびセラミックスなどの材料を採用することができる。ただし、成形が容易で比較的安価である点において、ポリカーボネート樹脂やオレフィン樹脂等の樹脂材料を採用するのが好ましい。
【００１９】
Ｌ０情報層３は、本発明における第１の情報層に相当し、光情報記録媒体１に対するレーザービームＬの照射方向から見て奥側の情報層（本発明における「最も奥側の情報層」）を構成する。この場合、このＬ０情報層３については、再生専用の情報層とすることもできるが、本発明の実施の形態に係る光情報記録媒体１では、図２に示すように、反射膜１１、誘電体膜１２、記録膜１３および誘電体膜１４を基材２の上にこの順で積層した追記型の情報層で構成されている。なお、Ｌ０情報層３は、反射膜１１が存在する点を除いて、後述するようにＬ１情報層５と同様にして構成されている。したがって、Ｌ０情報層３を構成する各膜（誘電体膜１２，１４、副記録膜１３ａ，１３ｂ）の材料等については、Ｌ１情報層５における対応する各膜（誘電体膜１５，１７、副記録膜１６ａ，１６ｂ）についての説明として後述する。反射膜１１は、一例として、Ａｇ合金によってその厚みが１００ｎｍ程度の薄膜状に形成されている。誘電体膜１２，１４は、記録膜１３を挟み込みようにして形成されて、物理的および化学的に記録膜１３を保護することにより、長期に亘って記録情報の劣化を阻止する。また、誘電体膜１２，１４は、レーザービームＬの波長領域において光透過性を有する誘電体材料で形成されている。記録膜１３は、副記録膜１３ａ，１３ｂの２つの薄膜を積層して構成されている。
【００２０】
透明中間層４は、Ｌ０情報層３とＬ１情報層５とを物理的および光学的に十分な距離だけ離間させるための樹脂層であって、例えば２Ｐ法によってＬ０情報層３を覆うようにして成膜されて、その表面（図１における上面）には、Ｌ１情報層５に対して記録データを記録再生する際のガイドトラックとして機能するグルーブおよびランドが形成されている。この場合、透明中間層４の厚みは５μｍ以上５０μｍ以下の範囲内とするのが好ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲内とするのがより好ましい。また、透明中間層４を形成する材料は特に限定されるものではないが、十分に高い光透過性を有している必要があるため、紫外線硬化性アクリル樹脂等の透明樹脂材料を用いることが好ましい。
【００２１】
Ｌ１情報層５は、光情報記録媒体１に対するレーザービームＬの照射方向から見て、本発明における「最も奥側の情報層（Ｌ０情報層３）」よりも手前側に位置する情報層であって、この光情報記録媒体１では、手前側に位置する情報層が１層だけのため、このＬ１情報層５が本発明における第Ｎの情報層（この場合、Ｎ＝２）および第Ｍの情報層（この場合、Ｍ＝Ｎ）を構成する。このＬ１情報層５は、追記型の情報層であって、図３に示すように、誘電体膜１５、記録膜１６および誘電体膜１７を透明中間層４の上にこの順で積層して構成されている。この場合、Ｌ１情報層５としては、Ｌ０情報層３に対する記録データの記録再生時にＬ０情報層３に向けて照射したレーザービームＬを通過（透過）させる機能が求められる。したがって、このＬ１情報層５には、レーザービームＬの透過率を高めるべく、反射膜が設けられていない。ただし、このＬ１情報層５に反射膜を設けることもでき、その構成を採用する場合には、Ｌ０情報層３に対する記録データの記録再生を妨げない範囲内（レーザービームＬが十分に透過可能な範囲内）で、極く薄い厚みの反射膜を透明中間層４側に形成する。
【００２２】
誘電体膜１５，１７は、本発明における第１および第２の誘電体膜にそれぞれ相当し、記録膜１６を挟み込むようにして薄膜状に形成されている。この誘電体膜１５，１７は、物理的および化学的に記録膜１６を保護することにより、長期に亘って記録情報の劣化を阻止する。また、誘電体膜１５，１７は、記録データの記録の前後における光学特性の変化量を大きくする役割も果たす。この場合、この変化量を大きくするためには、レーザービームＬの波長領域において高い屈折率（ｎ）を有する誘電体材料を採用するのが好ましい。さらに、レーザービームＬを照射した際に誘電体膜１５，１７によって吸収されるエネルギー量が多すぎると記録膜１６に対する記録感度が低下するため、レーザービームＬの波長領域において低い消衰係数（ｋ）を有する誘電体材料を採用してこれを回避するのが好ましい。
【００２３】
具体的には、誘電体膜１５，１７を形成するための誘電体材料としては、透明中間層４などの熱変形の防止や記録膜１６に対する保護特性の向上を図る観点から、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＮ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＧｅＮ、ＧｅＣｒＮ、ＣｅＯ２、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＣ、Ｌａ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＳｉＡｌＯＮ（ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｉ３Ｎ４およびＡｌＮの混合物）およびＬａＳｉＯＮ（Ｌａ２Ｏ３、ＳｉＯ２およびＳｉ３Ｎ４の混合物）のいずれかや、アルミニウム（Ａｌ）、シリコン（Ｓｉ）、セリウム（Ｃｅ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）およびタンタル（Ｔａ）等の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、または、それらの混合物などを用いるのが好ましい。この場合、誘電体膜１５，１７の双方を同一の誘電体材料で形成することもできるし、双方を互いに相違する誘電体材料で形成することもできる。また、誘電体膜１５，１７の一方または双方を複数の誘電体膜からなる多層構造とすることもできる。
【００２４】
本発明の実施の形態に係る光情報記録媒体１では、誘電体膜１５（本発明における「レーザービームの照射方向から見て奥側に形成された誘電体膜」）については、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物（好ましくは、モル比＝８０：２０）を主成分をする材料を用いて、厚みが１００ｎｍ以上１３０ｎｍ以下の範囲内（一例として、１１０ｎｍ）となるように形成されている。この場合、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物は、３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内の波長領域のレーザービームＬに対する消衰係数（ｋ）が比較的小さいため、記録膜１６の記録感度の低下が回避される。また、誘電体膜１７（本発明における「照射方向から見て手前側に形成された誘電体膜」）については、ＴｉＯ２を主成分とする材料を用いて、厚みが１５ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲（一例として、３０ｎｍ）となるように形成されている。この場合、ＴｉＯ２は、３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内の波長領域のレーザービームＬに対して、屈折率（ｎ）が高く、かつ消衰係数（ｋ）が比較的小さいため、記録データの記録の前後におけるＬ１情報層５の光学特性の変化を明瞭化することができると共に、記録膜１６の記録感度低下を回避させることができる。
【００２５】
記録膜１６は、記録パワーに調整されたレーザービームＬが照射されることによって照射された部位の状態（物理的状態および化学的状態の少なくとも一方の状態）が変化して記録マークが不可逆的に形成される層であって、図３に示すように、本発明における第１の副記録膜に相当する副記録膜１６ａと、本発明における第２の副記録膜に相当する副記録膜１６ｂとの２つの薄膜を誘電体膜１５の上に積層して構成されている。この場合、記録膜１６のうち未記録状態の領域（ブランク領域）は、副記録膜１６ａ，１６ｂが積層された状態に維持されている。また、記録パワーに調整されたレーザービームＬが記録膜１６のブランク領域に照射されることにより、副記録膜１６ａ，１６ｂを構成する元素がそれぞれ部分的または全体的に混合されて記録マークが形成される。この際に、記録マークが形成された副記録膜１６ａ，１６ｂの混合部分とブランク領域（副記録膜１６ａ，１６ｂが積層状態の部分）とでは、レーザービームＬに対する反射率が大きく相違する。このため、この光情報記録媒体１では、この反射率の差を検出させることによって記録データの再生（記録マークの有無の判別）が可能となっている。なお、光情報記録媒体１には、一例として、１，７ＲＬＬ変調方式において２Ｔ〜８Ｔの長さを有する記録マークが形成される。
【００２６】
この場合、副記録膜１６ａ，１６ｂの形成に用いる材料としては、アルミニウム（Ａ１）、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、銅（Ｃｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）、チタン（Ｔｉ）およびビスマス（Ｂｉ）からなるグループのうちの互いに異なる１つを主成分とする材料をそれぞれ選択するのが好ましい。つまり、副記録膜１６ａについては、上記のグループのうちの１つを主成分とする材料で形成し、副記録膜１６ｂについては、上記のグループのうちの他の１つを主成分とする材料で形成するのが好ましい。また、再生信号のノイズレベルを低レベルに抑えるためには、副記録膜１６ａ，１６ｂの一方をＣｕを主成分とする材料で形成し、副記録膜１６ａ，１６ｂの他方をＳｉを主成分とする材料で形成するのが好ましい。また、Ｃｕを主成分とする材料によって副記録膜１６ａ，１６ｂの一方を形成する場合、Ａ１、Ｚｎ、Ｓｎ、ＡｕおよびＭｇのうちのいずれか１つまたは複数をＣｕに添加した材料を使用するのが好ましい。本発明の実施の形態に係る光情報記録媒体１では、２３ａｔｍ％のＡ１と１３ａｔｍ％のＡｕとをＣｕに添加した材料によって厚み５ｎｍの副記録膜１６ａが形成されると共に、Ｓｉを主成分とする材料によって厚み４ｎｍ副記録膜１６ｂが形成されている。なお、Ａｌを主成分として副記録膜１６ａ，１６ｂの一方を形成する場合、Ｍｇ、Ａｕ、ＴｉおよびＣｕのうちのいずれか１つまたは複数をＡｌに添加するのが好ましい。また、Ｚｎを主成分として副記録膜１６ａ，１６ｂの一方を形成する場合、Ｍｇ、Ａｌ、ＴｉおよびＣｕのうちのいずれか１つまたは複数をＺｎに添加するのが好ましい。さらに、Ｔｉを主成分として副記録膜１６ａ，１６ｂの一方を形成する場合、ＴｉにＡｌを添加するのが好ましい。このように各種材料を適宜添加することによって、再生信号のノイズレベルを低下させ、かつ記録データの短期間での消失を回避することが可能となり、ひいては光情報記録媒体１の信頼性を高めることができる。
【００２７】
上記のような材料を使用して形成した記録膜１６は、波長が３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内のレーザービームＬに対する光透過率が高いだけでなく、副記録膜１６ａ，１６ｂが積層された状態の部分（ブランク領域）の光透過率と、副記録膜１６ａ，１６ｂが混合された状態の部分（記録マークが形成された領域）の光透過率との差が非常に小さくなっている。具体的には、波長が３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内のレーザービームＬを用いる場合、積層部分と混合部分との光透過率差が３％以下となり、特に、Ｃｕを主成分とする材料で副記録膜１６ａ，１６ｂの一方を形成し、かつＳｉを主成分とする材料で他方を形成した場合、波長λ＝４０５ｎｍのレーザービームＬに対する上記の光透過率差が１％以下となる。この結果、Ｌ１情報層５上に記録マークが存在するか否かを問わず、Ｌ０情報層３に対する記録データの記録再生を安定して実行することが可能となっている。
【００２８】
また、記録膜１６の光透過率をより高めるためには、記録データの記録の前後における光学定数の変化の差を十分に確保できる範囲において、その膜厚をできるだけ薄くするのが好ましい。この場合、記録膜１６を２ｎｍ未満の厚みに形成したときには、記録データの記録の前後における光学特性の変化が小さすぎて正常な再生が困難となり、１５ｎｍを超える厚みに形成したときには、Ｌ１情報層５全体の光透過率が低下して、Ｌ０情報層３に対する記録データの記録特性および再生特性が悪化するおそれがある。また、記録膜１６の厚みを１５ｎｍよりも厚く形成したときには、Ｌ１情報層５の記録感度が悪化すると共に、副記録膜１６ｂの表面平坦性が悪化して再生信号のノイズレベルが高くなる（悪化する）おそれもある。したがって、記録膜１６の膜厚を２ｎｍ以上１５ｎｍ以下の範囲とするのが好ましい。なお、記録膜１６の上記構造はあくまでも一例であって、例えば、２つの副記録膜１６ａによって副記録膜１６ｂを挟み込んだ３層構造で構成したり、副記録膜１６ａを構成する材料と副記録膜１６ｂを構成する材料とを含んだ混合層を副記録膜１６ａと副記録膜１６ｂとの間に形成した３層構造で構成したりすることができる。さらに、ＳｎやＴｉ等からなる単層構造を採用することもできる。この場合、３層構造を採用したときには、副記録膜１６ａ，１６ｂからなる２層構造の記録膜１６と比較して成膜工程が増える分だけ製造コストが僅かに高くなり、単層構造を採用したときには、記録データの記録の前後におけるレーザービームＬの反射率の差が２層構造の記録膜１６と比較して僅かに小さくなる傾向がある。したがって、副記録膜１６ａ，１６ｂからなる２層構造を採用するのが好ましい。なお、前述した誘電体膜１５，１７および記録膜１６（副記録膜１６ａ，１６ｂ）については、これらの層を構成する構成元素を含む化学種（形成材料）を用いた気相成長法（例えば、スパッタリング法や真空蒸着法）によって形成することができる。
【００２９】
光透過層６は、その厚みが３０μｍ以上２００μｍ以下の範囲となるように、スピンコート法によってアクリル系またはエポキシ系の紫外線硬化性樹脂を薄膜状に塗布して形成されている。この光透過層６は、記録データの記録再生時にレーザービームＬの光路となるため、十分に高い光透過性を有している必要があると共に、Ｌ１情報層５などの傷付きを回避するためにある程度の強度を有している必要がある。なお、光透過層６は、スピンコート法等によって樹脂材料を塗布した層に限定されない。例えば、光透過性樹脂で形成した薄板を各種接着剤や粘着剤によってＬ１情報層５に貼付して光透過層６を構成することもできる。
【００３０】
次に、Ｌ１情報層５における誘電体膜１５，１７の膜厚と、レーザービームＬの透過率および反射率との関係について、図面を参照して説明する。
【００３１】
Ｌ１情報層５に記録されている記録データの再生時には、記録膜１６に形成された記録マークの有無を読み取るため、副記録膜１６ａ，１６ｂが積層状態の部分（ブランク領域）にレーザービームＬを照射したときの反射率と、副記録膜１６ａ，１６ｂが混合状態の部分（記録マークが形成された領域）にレーザービームＬを照射したときの反射率との間にある程度の差が生じる必要がある。この場合、図４に示すように、例えば波長λ＝４０５ｎｍのレーザービームＬについての反射率は、誘電体膜１５，１７（以下、誘電体膜１５について代表して説明する）の厚みに応じて相違する。なお、同図では、ブランク領域にレーザービームＬを照射したときの反射率を実線で示し、記録マークの形成部位にレーザービームＬを照射したときの反射率を破線で示す。
【００３２】
この場合、従来の光情報記録媒体における誘電体と同じ厚み（この例では、２５ｎｍ）で誘電体膜１５を形成したときには、記録データの正常再生が可能な程度の反射率の差Ｄを生じさせることができる。しかしながら、誘電体膜１５を従来の光情報記録媒体における誘電体よりも薄厚または同等に形成したときには、前述したように、基材２側から侵入した大気中の水分等によって記録膜１６が腐食され易くなる。一方、誘電体膜１５の厚みが２５ｎｍ程度の光情報記録媒体についての反射率と同レベルで同程度の差Ｄを生じさせ、かつ記録マークの形成部位についての反射率をブランク領域についての反射率よりも小さな値にするためには、誘電体膜１５の厚みを１１０ｎｍ程度または１９５ｎｍ程度に形成すればよい。この場合、誘電体膜１５の厚みを１９５ｎｍ程度に規定したときには、光情報記録媒体１の全体が撓まされたり、光情報記録媒体１に急激な温度変化が生じたりした際に誘電体膜１５にクラックが発生するおそれがある。したがって、この例では、誘電体膜１５の厚みを１１０ｎｍ程度に形成することにより、記録膜１６の腐食、および誘電体膜１５のクラックの発生が共に回避される。なお、誘電体膜１５の厚みを１１０ｎｍ程度とした場合には、誘電体膜１７が４０ｎｍを超える厚みに規定されたときにクラックが発生するおそれがある。したがって、誘電体膜１７の厚みを４０ｎｍ以下（一例として、３０ｎｍ）に形成することによって誘電体膜１７のクラックの発生が回避される。
【００３３】
また、図５に示すように、Ｌ１情報層５の透過率は、レーザービームＬの波長によって相違する（波長依存性を有している）。なお、同図では、誘電体膜１５の厚みが１１０ｎｍのＬ１情報層５にレーザービームＬを照射した際におけるＬ１情報層５の各波長毎の透過率を実線で示し、誘電体膜１５の厚みが２５ｎｍのＬ１情報層５にレーザービームＬを照射した際におけるＬ１情報層５の各波長毎の透過率を破線で示している。この場合、誘電体膜１５の厚みが２５ｎｍのＬ１情報層５では、レーザービームＬの波長（４０５ｎｍ）に対する±５％程度の波長領域（この場合、３８５以上４２５ｎｍ以下程度の範囲内の波長領域）での透過率の変化量Ｄ２が、誘電体膜１５の厚みを１１０ｎｍに規定したＬ１情報層５における透過率の変化量Ｄ１と比較して大きくなっている。したがって、誘電体膜１５の厚みが２５ｎｍのＬ１情報層５は、レーザービームＬの波長が４０５ｎｍから僅かに変化しただけで、Ｌ１情報層５の透過率が大きく変化してＬ０情報層３に対する記録データの記録再生が困難となるおそれがある。これに対して、誘電体膜１５の厚みが１１０ｎｍのＬ１情報層５では、レーザービームＬの波長が４０５ｎｍから僅かに変化した程度では、Ｌ１情報層５の透過率が大きく変化することがないため、Ｌ０情報層３に対する記録データの記録再生を安定して行うことが可能となっている。この場合、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物（モル比＝８０：２０）を主成分とする材料で誘電体膜１５を形成したときには、誘電体膜１５の厚みを１００ｎｍ以上１３０ｎｍ以下の範囲内に規定することによって変化量Ｄ１を十分に小さく抑えることができる。このように構成するときには、誘電体膜１７については、ＴｉＯ２を主成分とする材料で厚みを１５ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲内に規定して形成するのが好ましい。これにより、レーザービームＬの波長（４０５ｎｍ）に対する±５％程度の波長領域での透過率の変化量をさらに小さく抑えることができる。
【００３４】
さらに、図６に示すように、Ｌ１情報層５についての反射率の波長依存性は、誘電体膜１５の厚みによって相違する。具体的には、誘電体膜１５の厚みを２５ｎｍに規定したＬ１情報層５では、同図に二点鎖線で示すように、３７０ｎｍ程度の波長において反射率が極小値となる。また、誘電体膜１５の厚みを６５ｎｍに規定したＬ１情報層５では、同図に一点鎖線で示すように、４５０ｎｍ程度の波長において反射率が極小値となる。さらに、誘電体膜１５の厚みを１１０ｎｍに規定したＬ１情報層５では、同図に実線で示すように、３７０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長領域Ｒ１（本発明における第１の波長領域）内の波長（この場合、３７２ｎｍ）および６１０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下の波長領域Ｒ２（本発明における第２の波長領域）内の波長（この場合、６３０ｎｍ）の双方において反射率が共に極小値となる。また、誘電体膜１５の厚みを１４０ｎｍに規定したＬ１情報層５では、同図に破線で示すように、４１０ｎｍ程度の波長および６８０ｎｍ程度の波長において反射率が極小値となる。さらに、誘電体膜１５の厚みを２２０ｎｍに規定したＬ１情報層５では、同図に荒い破線で示すように、４００ｎｍ程度の波長および５５０ｎｍ程度の波長において反射率が極小値となる。
【００３５】
このように、誘電体膜１５の厚みを１１０ｎｍに規定したＬ１情報層５のみが、波長領域Ｒ１，Ｒ２の双方の範囲内において反射率が極小値となる特性を有している。また、それ以外の厚みの誘電体膜１５を有するＬ１情報層５については、波長領域Ｒ１，Ｒ２の少なくとも一方において反射率が極小値とはならない特性を有するのが確認されている。この場合、誘電体膜１５の厚みが１００ｎｍ以上１３０ｎｍ以下の範囲内に規定したＬ１情報層５であれば、３７０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長領域Ｒ１内の波長および６１０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下の波長領域Ｒ２内の波長の双方において反射率が共に極小値となる特性を有しているのが確認されている。したがって、波長領域Ｒ１，Ｒ２の双方において反射率が共に極小値となるように誘電体膜１５の厚み（この場合、１１０ｎｍ）を規定することにより、記録膜１６の腐食、および誘電体膜１５のクラックの発生を回避しつつ、Ｌ０情報層３に対する記録データの記録再生を安定して行うことが可能となる。なお、誘電体膜１７については、その厚みを１５ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲内に規定することによって、３７０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長領域Ｒ１内の波長、および６１０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下の波長領域Ｒ２内の波長の双方において反射率が共に極小値となる特性を有しているのが確認されている。したがって、波長領域Ｒ１，Ｒ２の双方において反射率が共に極小値となるように誘電体膜１７の厚み（この場合、３０ｎｍ）を規定することにより、誘電体膜１７のクラックの発生を回避しつつ、Ｌ０情報層３に対する記録データの記録再生を安定して行うことが可能となる。
【００３６】
この場合、Ｌ０情報層３、透明中間層４、Ｌ１情報層５および光透過層６が基材２に積層された状態の光情報記録媒体１では、Ｌ１情報層５における誘電体膜１５の厚みを特定するのが困難となる。一方、Ｌ１情報層５に照射したレーザービームＬのＬ１情報層５による反射率を各波長毎に測定することにより、各層３〜６が基材２の上に積層された状態の光情報記録媒体１であったとしても、誘電体膜１５の厚みを容易に特定することができる。具体的には、波長領域Ｒ１，Ｒ２の双方において反射率が共に極小値となる特性を有するときには、誘電体膜１５の厚みが１００ｎｍ以上１３０ｎｍ以下の範囲内であると判別し、波長領域Ｒ１，Ｒ２の少なくとも一方において反射率が極小値にならない特性を有するときには、誘電体膜１５の厚みが１００ｎｍ以上１３０ｎｍ以下の範囲から外れていると判別する。これにより、例えば、光情報記録媒体１の製造現場において、光情報記録媒体１を傷付けることなく、確実かつ容易に誘電体膜１５の厚みを検査することができる。この場合、誘電体膜１７についても波長領域Ｒ１，Ｒ２の双方において反射率が共に極小値となる特性を有するときには、その厚みが１５ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲内であると判別し、波長領域Ｒ１，Ｒ２の少なくとも一方において反射率が極小値にならない特性を有するときには、誘電体膜１７の厚みが１５ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲から外れていると判別することができる。これにより、例えば、光情報記録媒体１の製造現場において、光情報記録媒体１を傷付けることなく、確実かつ容易に誘電体膜１７の厚みを検査することができる。
【００３７】
次に、光情報記録媒体１の使用方法について説明する。
【００３８】
まず、レーザービームＬを集束するための対物レンズとして例えば０．７以上、好ましくは、０．８５程度の開口数（ＮＡ）のレンズを使用し、４０５ｎｍ程度の波長λのレーザービームＬを使用する。この場合、光情報記録媒体１におけるＬ１情報層（誘電体膜１５の厚みが１１０ｎｍのＬ１情報層）５に記録データを記録する際には、記録パワーに調整したレーザービームＬを光透過層６の側から光情報記録媒体１に照射する。この際に、レーザービームＬが照射された記録膜１６が加熱されて、副記録膜１６ａを構成する元素と副記録膜１６ｂを構成する元素とが混合される。このようにしてレーザービームＬの照射によって副記録膜１６ａ，１６ｂが混合された部分が記録マークを形成し、その記録マークの反射率は、ブランク領域の反射率とは大きく相違する値となる。したがって、この反射率の差を検出することにより、記録データの再生が可能となる。
【００３９】
この場合、本発明の実施の形態に係る光情報記録媒体１では、Ｌ１情報層５における誘電体膜１５の膜厚（厚み）が１１０ｎｍに規定され、誘電体膜１７の膜厚（厚み）が３０ｎｍに規定されているため、Ｌ１情報層５の光透過率の波長依存度が非常に小さくなっている。したがって、記録再生装置の個体差や、記録再生時の温度変化等によってレーザービームＬの波長がある程度変化したとしても、下層のＬ０情報層３に到達するレーザビーム光量の変動量や、Ｌ０情報層３からのレーザービームＬの反射光量の変動量が非常に少なくなっている。
【００４０】
このように、この光情報記録媒体１によれば、その波長が３７０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長領域Ｒ１内のレーザービームＬと、その波長が６１０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下の波長領域Ｒ２内のレーザービームＬとについての反射率が両波長領域外の波長のレーザービームＬについての反射率との間において共に極小値となるように誘電体膜１５，１７の厚みを規定してＬ１情報層５を形成したことにより、記録膜１６の腐食、誘電体膜１５，１７のクラックの発生、および記録膜１６に対する記録感度の低下を回避しつつ、Ｌ０情報層３に対する記録データの記録再生を安定して行うことができる。
【００４１】
また、この光情報記録媒体１によれば、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物を主成分とする材料によってその厚みが１００ｎｍ以上１３０ｎｍ以下の範囲内（この場合、１１０ｎｍ）となるように誘電体膜１５を形成したことにより、その波長が波長領域Ｒ１，Ｒ２内のレーザービームＬについての反射率が両波長領域外の波長のレーザービームＬについての反射率との間において共に極小値となる。この場合、ＺｎＳおよびＳｉＯ２の青紫色レーザービームＬに対する消衰係数（ｋ）が比較的小さいため、記録膜１６の記録感度低下を確実に回避することができる。また、誘電体膜１５の厚みを１００ｎｍ未満に規定したときとは異なり、大気中の水分等による記録膜１６の腐食を確実に回避することができ、誘電体膜１５の厚みを１３０ｎｍよりも厚くしたときとは異なり、誘電体膜１５のクラックの発生を確実に回避することができる。
【００４２】
さらに、この光情報記録媒体１によれば、レーザービームＬの照射方向から見て手前側の誘電体膜１７をＴｉＯ２を主成分とする材料によって成膜したことにより、その波長が波長領域Ｒ１，Ｒ２内のレーザービームＬについての反射率が両波長領域外の波長のレーザービームＬについての反射率との間において共に極小値となる。この場合、ＴｉＯ２の青紫色レーザービームＬに対する屈折率（ｎ）が大きく、かつ消衰係数（ｋ）が比較的小さいため、記録データの記録の前後におけるＬ１情報層５の光学特性の変化を明瞭化することができると共に記録膜１６の記録感度低下を回避することができる。
【００４３】
また、この光情報記録媒体１によれば、Ｃｕを主成分とする材料で成膜した副記録膜１６ａと、Ｓｉを主成分とする材料で成膜した副記録膜１６ｂとを積層して記録膜１６を成膜したことにより、記録パワーに調整した波長３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内のレーザービームＬの照射前後における反射率の差が大きく、かつ、照射前後の透過率の差が小さいため、Ｌ０情報層３に対する記録データの記録再生を妨げることなく、読み取り可能な記録マークを確実かつ容易に形成することができる。
【００４４】
なお、本発明は、上記した本発明の実施の形態に限定されない。例えば、本発明の実施の形態では、Ｌ０情報層３およびＬ１情報層５の２つの情報層を有する光情報記録媒体１を例に挙げて説明したが、これに限定されず、３つ以上の情報層を有する光情報記録媒体が本発明に含まれる。この場合、レーザービームＬの照射方向から見て手前側の情報層に含まれる各誘電体膜に本発明を適用することで、その下層の情報層に対する記録データの記録再生を安定的に実行することが可能となる。また、本発明の実施の形態では、光透過層６の側からレーザービームＬが照射される構成の光情報記録媒体１を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、基材２の側からレーザービームＬが照射される構成を採用することもできる。この場合には、Ｌ０情報層３（本発明における第Ｍの情報層）における誘電体膜１４をＬ１情報層５の誘電体膜１５と同様に構成し、誘電体膜１２を誘電体膜１７と同様に構成する。
【００４５】
【発明の効果】
以上のように、本発明に係る光情報記録媒体によれば、その波長が３７０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の第１の波長領域内のレーザービームと、その波長が６１０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下の第２の波長領域内のレーザービームとについての反射率が両波長領域外の波長のレーザービームについての反射率に対して共に極小値となるように第１および第２の誘電体膜の厚みを規定して第Ｍの情報層を形成したことにより、記録膜の腐食、両誘電体膜のクラックの発生、および記録膜に対する記録感度の低下を回避しつつ、最も奥側の情報層に対する記録データの記録再生を安定して行うことができる。
【００４６】
また、本発明に係る光情報記録媒体によれば、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物を主成分とする材料によってその厚みが１００ｎｍ以上１３０ｎｍ以下の範囲内となるように第１および第２の誘電体膜の少なくとも一方を形成したことにより、その波長が第１および第２の波長領域内のレーザービームについての反射率が両波長領域外の波長のレーザービームについての反射率との間において共に極小値となる。この場合、ＺｎＳおよびＳｉＯ２の青紫色レーザービームに対する消衰係数（ｋ）が比較的小さいため、記録膜の記録感度低下を確実に回避することができる。また、誘電体膜の厚みを１００ｎｍ未満に規定したときとは異なり、大気中の水分等による記録膜の腐食を確実に回避することができ、誘電体膜の厚みを１３０ｎｍよりも厚くしたときとは異なり、その誘電体膜のクラックの発生を確実に回避することができる。
【００４７】
さらに、本発明に係る光情報記録媒体１によれば、ＺｎＳとＳｉＯ２との混合物を主成分とする材料によって第Ｍの情報層におけるレーザービームの照射方向から見て奥側の誘電体膜を形成すると共に、ＴｉＯ２を主成分とする材料によって照射方向から見て手前側の誘電体膜を形成したことにより、その波長が第１および第２の波長領域内のレーザービームについての反射率が両波長領域外の波長のレーザービームについての反射率との間において共に極小値となる。この場合、ＴｉＯ２の青紫色レーザービームＬに対する屈折率（ｎ）が大きく、かつ消衰係数（ｋ）が比較的小さいため、記録データの記録の前後における最も奥側の情報層の光学特性の変化を明瞭化することができると共に記録膜の記録感度低下を回避することができる。
【００４８】
また、本発明に係る光情報記録媒体によれば、第１の副記録膜と、第１の副記録膜とは異なる材料で成膜された第２の副記録膜とを積層して記録膜を構成したことにより、製造コストの高騰を回避しつつ、記録データの記録の前後におけるレーザービームの反射率の差を十分に大きくすることができる。
【００４９】
さらに、本発明に係る光情報記録媒体１によれば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｂｉのうちの互いに異なるいずれか１つを主成分とする材料で第１および第２の副記録膜をそれぞれ成膜したことにより、記録パワーに調整したレーザービームの照射前後における反射率の差が大きく、かつ、照射前後の透過率の差が小さいため、最も奥側の情報層に対する記録データの記録再生を妨げることなく、読み取り可能な記録マークを確実かつ容易に形成することができる。
【００５０】
また、本発明に係る光情報記録媒体によれば、Ｃｕを主成分とする材料によって第１および第２の副記録膜の一方を成膜し、Ｓｉを主成分とする材料によって第１および第２の副記録膜の他方を成膜したことにより、記録パワーに調整した波長３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内のレーザービーム（青紫色レーザービーム）の照射前後における反射率の差が大きく、かつ、照射前後の透過率の差が小さいため、青紫色レーザービームを使用する場合において、最も奥側の情報層に対する記録データの記録再生を妨げることなく、読み取り可能な記録マークを確実かつ容易に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る光情報記録媒体１の構成を示す断面図である。
【図２】光情報記録媒体１におけるＬ０情報層３の構成を主として示す断面図である。
【図３】光情報記録媒体１におけるＬ１情報層５の構成を主として示す断面図である。
【図４】実線はＬ１情報層５のブランク領域にレーザービームＬを照射したときの誘電体膜１５の厚みと反射率との関係を示し、破線はＬ１情報層５における記録マークの形成部位にレーザービームＬを照射したときの誘電体膜１５の厚みと反射率との関係を示す反射率特性図である。
【図５】実線は誘電体膜１５の厚みを１１０ｎｍに規定したＬ１情報層５にレーザービームＬを照射したときのレーザービームＬの波長とＬ１情報層５の透過率との関係を示し、破線は誘電体膜１５の厚みを２５ｎｍに規定したＬ１情報層５にレーザービームＬを照射したときのレーザービームＬの波長とＬ１情報層５の透過率との関係を示す透過率特性図である。
【図６】各種厚みの誘電体膜１５を有するＬ１情報層５にレーザービームＬを照射したときのレーザービームＬの波長と反射率との関係を示す反射率特性図である。
【符号の説明】
１  光情報記録媒体
２  基材
３  Ｌ０情報層
４  透明中間層
５  Ｌ１情報層
６  光透過層
１１  反射膜
１２，１４，１５，１７  誘電体膜
１３，１６  記録膜
１３ａ，１３ｂ，１６ａ，１６ｂ  副記録膜
Ｌ  レーザービーム
Ｒ１，Ｒ２  波長領域
【図１】
2004355743.tif 000003
【図２】
2004355743.tif 000004
【図３】
2004355743.tif 000005
【図４】
2004355743.tif 000006
【図５】
2004355743.tif 000007
【図６】
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