(57)【要約】【課題】磁気情報の再生出力が大きく、しかも磁気記録媒体のさらなる高記録密度化を図ることができる複合型磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】磁性膜２１ａが非磁性膜を介して複数積層された磁性コア１７、この磁性コア１７に磁束流を誘起させるコイル２３及び前記磁束流が漏れ出る書き込みギャップＧｐを有する電磁誘導型磁気ヘッド１６と、磁気抵抗効果型ヘッド３０（ＭＲ型ヘッド）とを備える複合型磁気ヘッドであって、前記磁性コア１７は、前記磁性膜２１ａの端面が前記書き込みギャップＧｐに向けて配置されている【選択図】      図  ５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性膜が非磁性膜を介して複数積層された磁性コア、この磁性コアに磁束流を誘起させるコイル及び前記磁束流が漏れ出る書き込みギャップを有する電磁誘導型磁気ヘッドと、磁気抵抗効果型ヘッドとを備える複合型磁気ヘッドであって、
前記磁性コアは、前記磁性膜の端面が前記書き込みギャップに向けて配置されていることを特徴とする複合型磁気ヘッド。
【請求項２】
前記コイルが、薄膜コイルであることを特徴とする請求項１に記載の複合型磁気ヘッド。
【請求項３】
第１基板上に磁気抵抗効果素子を形成して第１ヘッド部材を製造する工程と、第２基板上に磁性膜及び非磁性膜を交互に複数積層して第２ヘッド部材を製造する工程と、前記第１ヘッド部材及び前記第２ヘッド部材を接合する工程とを備えることを特徴とする複合型磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体に磁気情報を記録する記録ヘッドと、記録された磁気情報を再生する再生ヘッドとを備えた複合型磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】
昨今、磁気テープや磁気ディスクといった磁気記録媒体の高記録密度化が望まれるなか、このような磁気記録媒体に対して磁気情報の記録を行う記録ヘッドは、磁気記録媒体のトラック幅を狭小化するために、書き込みギャップの幅の狭小化と高周波特性の向上が図られている。
【０００３】
従来、磁気ディスクに磁気情報を記録する電磁誘導型ヘッドと、記録された磁気情報を再生する磁気抵抗効果型ヘッドとを備えた複合型磁気ヘッドが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
この複合型磁気ヘッドは、磁気抵抗効果型ヘッドが、磁気ディスクとの相対速度に依存せずに記録された磁気情報を再生することができるとともに、電磁誘導型ヘッドが、薄膜で形成された磁性コアを備えており、書き込みギャップの幅を狭小化することができる。したがって、このような複合型磁気ヘッドを磁気テープに応用すれば、磁性コアでの薄膜化が進めば進むほど、磁気テープに幅のより狭いトラックを形成することができる。しかも、この複合型磁気ヘッドによれば、磁気抵抗効果型ヘッドによって再生する磁気情報の出力を高めることができる。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−１８３９１４号公報（段落番号（００２３）、段落番号（００２４）及び図１参照）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、この複合型磁気ヘッドの電磁誘導型ヘッドでは、渦巻き状のコイルが、磁性コアを構成する上部磁極層と下部磁極層との間で、これら両磁性層を磁気的に接合する接合部を中心に巻回している。そして、この渦巻き状コイルに通電することによって、磁性コアを伝わって書き込みギャップで漏れ出る磁束（記録磁束）が誘起される。しかしながら、このような記録磁束が誘起される一方で、両磁極層に直交する方向に向けて磁束流が生起する。この磁束流によって、両磁極層には渦電流が生じる。そして、このような渦電流が両磁極層に生じると、電磁誘導型ヘッドの高周波数帯域における電磁変換特性が劣化するため、この電磁誘導型ヘッドでは、磁気テープのさらなる高記録密度化が図れない。
【０００７】
本発明は、磁気情報の再生出力が大きく、しかも磁気記録媒体のさらなる高記録密度化を図ることができる複合型磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための請求項１に記載の複合型磁気ヘッドは、磁性膜が非磁性膜を介して複数積層された磁性コア、この磁性コアに磁束流を誘起させるコイル及び前記磁束流が漏れ出る書き込みギャップを有する電磁誘導型磁気ヘッドと、磁気抵抗効果型ヘッドとを備える複合型磁気ヘッドであって、前記磁性コアは、前記磁性膜の端面が前記書き込みギャップに向けて配置されていることを特徴とする。
【０００９】
この複合型磁気ヘッドでは、コイルによって磁性コアで誘起された磁束流は、書き込みギャップに向けて配置された磁性膜の厚み方向の端面から漏れ出るように複数の磁性膜のそれぞれを伝わる。この際、これら複数の磁性膜のそれぞれは、非磁性膜を介して積層されているとともに、その端面が書き込みギャップに向くように配置されているので、磁性膜で生起する渦電流が著しく低減される。したがって、この複合型磁気ヘッドによれば、電磁誘導型ヘッドにおける高周波数帯域での電磁変換特性の劣化が著しく低減されるため、磁気記録媒体のさらなる高記録密度化を図ることができる。また、この複合型磁気ヘッドは、磁気抵抗効果型ヘッドを備えているので、磁気情報の再生出力を高めることができる。
【００１０】
請求項２に記載の複合型磁気ヘッドは、請求項１に記載の複合型磁気ヘッドにおいて、前記コイルが、薄膜コイルであることを特徴とする。
【００１１】
この複合型磁気ヘッドでは、コイルが薄膜コイルであるので、コイルを例えばフォトリソグラフ法でパターニングすることによって形成することができる。したがって、線材を巻いて構成したコイルと比較して、コイルをより細く形成することができるので、コイルの巻き数を著しく増加させることができる。また、コイルの絶縁不良を確実に回避することができる。
【００１２】
請求項３に記載の複合型磁気ヘッドの製造方法は、第１基板上に磁気抵抗効果素子を形成して第１ヘッド部材を製造する工程と、第２基板上に磁性膜及び非磁性膜を交互に複数積層して第２ヘッド部材を製造する工程と、前記第１ヘッド部材及び前記第２ヘッド部材を接合する工程とを備えることを特徴とする。
【００１３】
この複合型磁気ヘッドの製造方法では、第２ヘッド部材を製造する工程で、磁性膜及び非磁性膜を交互に複数積層することによって、請求項１又は請求項２に記載の複合型磁気ヘッドの磁性コアを製造することができる。そして、この複合型磁気ヘッドの製造方法では、磁気抵抗効果素子を形成した第１ヘッド部材と、磁性コアを形成した第２ヘッド部材とを別途に形成した後、これら第１ヘッド部材及び第２ヘッド部材を相互に接合することによって、複合型磁気ヘッドを製造している。
【００１４】
したがって、この複合型磁気ヘッドの製造方法によれば、高磁束密度を実現する磁性コアの材料ではあるが、従来の複合型磁気ヘッドでは、その構造から使用することができなかったセンダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金）を磁性コアに使用することができる。つまり、従来の複合型磁気ヘッドの製造方法では、先に作り込んだ磁気抵抗効果型ヘッド上に電磁誘導型ヘッドを重ねて作り込むため、成膜に高温処理を要するセンダストを磁性コアに使用すると、その高温によって磁気抵抗効果型ヘッドの磁気抵抗効果膜の性能が低下してしまう。これに対し、請求項３に記載の複合型磁気ヘッドの製造方法は、磁気抵抗効果型ヘッドと、磁性コアとを別々に製造するので、センダストを使用することができる。したがって、この複合型磁気ヘッドの製造方法によれば、センダストを磁性コアに使用した、磁気テープのさらなる高記録密度化を図ることができる複合型磁気ヘッドを製造することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
（第１の実施の形態）
以下に、本発明に係る複合型磁気ヘッドの第１の実施の形態について、適宜図面を参照して詳細に説明する。参照する図面において、図１は、本発明に係る複合型磁気ヘッドの斜視図、図２は、図１の複合型磁気ヘッドにおける磁気抵抗効果型ヘッドを磁気テープ摺動面から見た様子を示す図、図３は、図２のＸ−Ｘ線における断面図、図４は、図１の複合型磁気ヘッドを磁気テープ摺動面から見た様子を示す図、図５は、図４のＹ−Ｙ線における断面図である。
【００１６】
本実施の形態の複合型磁気ヘッドは、ヘリカルスキャン方式の磁気テープ記録再生装置に使用される複合型磁気ヘッドであって、図１に示すように、第１ヘッド部材１０と第２ヘッド部材２０とで構成されている。そして、第１ヘッド部材１０と第２ヘッド部材２０とは、ガラス１５で相互に接合されているとともに、第１ヘッド部材１０から第２ヘッド部材２０にかけて、所定の曲率で湾曲する磁気テープ摺動面ＭＳを有している。
【００１７】
［第１ヘッド部材］
第１ヘッド部材１０は、図１に示すように、Ａｌ２Ｏ３・ＴｉＣ（アルミナチタンカーバイド）からなるベース部材１１と、第２ヘッド部材２０側でこのベース部材１１上に形成された絶縁膜１２と、この絶縁膜１２中に埋設されるとともに、磁気テープ摺動面ＭＳで露出する磁気抵抗効果（以下、単に「ＭＲ」という）型ヘッド３０とを備えている。
【００１８】
絶縁膜１２は、Ａｌ２Ｏ３（アルミナ）からなり、図２に示すように、角度θで傾斜するベース部材１１の上端面１３に均一な厚みで広がるように形成されている。
【００１９】
ＭＲ型ヘッド３０は、磁気テープに記録された磁気情報を再生する再生ヘッドであって、ＭＲ素子３１と、このＭＲ素子３１を両側から挟みこむように配置される磁区制御膜３２，３２（ハード膜）と、磁区制御膜３２，３２上に広がる電極膜３３，３３と、これらＭＲ素子３１、磁区制御膜３２，３２及び電極膜３３，３３を上下から被覆する第１ギャップ層３４ａ及び第２ギャップ層３４ｂと、第１及び第２ギャップ層３４ａ，３４ｂを介してＭＲ素子３１を上下から挟み込む第１シールド層３５ａ（上部シールド層）及び第２シールド層３５ｂ（下部シールド層）とで構成されている。
【００２０】
ＭＲ素子３１は、前記第２ギャップ層３４ｂ上に形成されたＮｉ−Ｆｅ−Ｎｂ（ニッケル・鉄・ニオブ）系合金からなる軟磁性層３１ａ（ＳＡＬ層）と、この軟磁性層３１ａ上に形成されたＴａ（タンタル）からなる非磁性層３１ｂ（ＳＨＵＮＴ層）と、この非磁性層３１ｂ上に形成されたＮｉ−Ｆｅ（ニッケル・鉄）系合金（パーマロイ）からなるＭＲ膜３１ｃとで構成されている。このＭＲ素子３１は、磁気テープ摺動面ＭＳを摺動する磁気テープからの磁気を受けて、ＭＲ膜３１ｃの磁化方向が磁気テープの磁気の向きに応じて変化する際に、その電気抵抗値が変化するようになっている。
【００２１】
磁区制御膜３２，３２は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ（コバルト・クロム・白金）系合金からなり、ＭＲ膜３１ｃにバイアス磁界をかけることによって、ＭＲ膜３１ｃの磁化方向が変化する際に発生するバルクハウゼンノイズを低減するためのものである。
【００２２】
電極膜３３，３３は、Ａｕ（金）からなり、磁区制御膜３２を介してＭＲ素子３１にセンス電流を供給するものである。この電極膜３３は、この第１ヘッド部材１０のＭＲ型ヘッド用電極パッド１４，１４（図１参照）と電気的に接続されている。
【００２３】
第１及び第２ギャップ層３４ａ，３４ｂは、アルミナからなり、ＭＲ素子３１と、次に説明する第１及び第２シールド層３５ａ，３５ｂとを磁気的に絶縁するものである。
【００２４】
第１及び第２シールド層３５ａ，３５ｂは、Ｎｉ−Ｆｅ（ニッケル・鉄）系合金からなり、図３に示すように、先端で磁気テープ摺動面ＭＳに露出するとともに、第１ヘッド部材１０と第２ヘッド部材２０との接合面ＪＳに沿うように後方に向けて延びている。そして、第１シールド層３５ａの後端は接合面ＪＳで露出している。
【００２５】
これら第１及び第２シールド層３５ａ，３５ｂは、前記したＭＲ素子３１並びに第１及び第２ギャップ層３４ａ，３４ｂを挟み込むことによって、第１及び第２シールド層３５ａ，３５ｂ間に、磁気テープに記録された磁気情報を読み出すための読み出しギャップを形成している。また、第１シールド層３５ａは、後記する第２ヘッド部材２０に配設される磁性膜２１ａ（図４参照）とともに、磁性コアを構成している。つまり、第１シールド層３５ａは、下部磁極層をも兼ねている。
【００２６】
このようなＭＲ型ヘッド３０及びこれを埋設した絶縁膜１２は、再び図２を参照すると明らかなように、磁気テープの摺動方向に垂直な方向に対し、角度θで傾斜するベース部材１１の上端面１３上で、角度θで傾斜するように形成されている。
【００２７】
［第２ヘッド部材］
第２ヘッド部材２０は、再び図１を参照すると明らかなように、ラミネート層２１と、このラミネート層２１を挟み込む１対のアルミナからなる非磁性プレート２２と、これらラミネート層２１及び非磁性プレート２２を巻回するコイル２３とを備えている。コイル２３には、磁気テープに記録する磁気情報（２値情報）に応じて極性が変化する電流が記録ヘッド用電極パッド２４を介して付与されるようになっている。
【００２８】
ラミネート層２１は、図４に示すように、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金（センダスト）からなる５層の磁性膜２１ａと、各磁性膜２１ａに挟み込まれたＳｉＯ２（シリカ）からなる非磁性膜２１ｂとで構成されている。これら磁性膜２１ａの端面は、角度θで傾斜するＭＲ型ヘッド３０の絶縁膜１２と接触している。
【００２９】
これら磁性膜２１ａは、図５に示すように、一端側（磁気テープ摺動面ＭＳ側）で、第１ヘッド部材１０に近づくにつれて先細りになっているとともに、先細りになったその先端部が、第１ヘッド部材１０の第１シールド層３５ａと絶縁膜１２を介して向き合っている。そして、これら磁性膜２１ａと第１シールド層３５ａとの間に挟み込まれる絶縁膜１２は、角度θで傾斜する所定幅の書き込みギャップＧｐ（図４参照）として機能するようになっている。なお、この角度θは、予め決められたアジマス角に一致するように設定されている。
【００３０】
また、これら磁性膜２１ａは、他端側で、第１ヘッド部材１０の接合面ＪＳで露出した第１シールド層３５ａと磁気的に接続されており、第１シールド層３５ａとで磁性コア１７を構成している。また、磁性膜２１ａ、非磁性層２１ｂ及び非磁性プレート２２は、一端側と他端側の中程で、コイル２３を受け入れる窪みＰが形成されている。
【００３１】
これら磁性膜２１ａ及び第１シールド層３５ａからなる磁性コア１７、書き込みギャップＧｐ並びにコイル２３は、本実施の形態に係る複合型磁気ヘッドにおいて、電磁誘導型ヘッド１６（記録ヘッド）を構成している。
【００３２】
次に、本実施の形態に係る複合型磁気ヘッドの動作を説明する。まず、磁気情報を磁気テープに記録する工程を説明すると、磁気テープに記録する磁気情報（２値情報）に応じて極性が変化する電流が、記録ヘッド用電極パッド２４（図１参照）を介してコイル２３に付与される。このような電流が付与されると、コイル２３は、磁性コア１７、つまりラミネート層２１の磁性膜２１ａ及びＭＲ型ヘッド３０の第１シールド層３５ａを伝わる磁束流を誘起する。そして、この磁束流は、磁気テープ摺動面ＭＳ上で磁性膜２１ａ及び第１シールド層３５ａ（図５参照）間に配置される絶縁膜１２（書き込みギャップＧｐ）を迂回する、いわゆる漏れ磁束Ｍ（図５参照）を生起する。この漏れ磁束Ｍは、コイル２３に付与される電流の極性の変化に応じて、流れる方向が反転する。このような漏れ磁束Ｍによって、磁気テープ摺動面ＭＳ上を摺動する磁気テープには、磁気情報（２値情報）が記録されていく。
【００３３】
この複合型磁気ヘッドでは、コイル２３が磁束流を誘起した際に、磁性コア１７が複数の磁性膜２１ａで構成されているとともに、各磁性膜２１ａ同士が非磁性膜２１ｂ（図４参照）で隔てられているので、磁性コア１７に発生する渦電流が著しく低減される。したがって、この複合型磁気ヘッドによれば、高周波特性に優れ、磁気情報の転送レートを高めることができるので、磁気テープの高記録密度化を図ることができる。
【００３４】
次に、磁気情報を磁気テープから再生する工程を説明する。センス電流が、ＭＲ型ヘッド用電極パッド１４（図１参照）を介してＭＲ型ヘッド３０の電極膜３３（図２参照）に付与されると、このセンス電流は、磁区制御膜３２を介してＭＲ素子３１に付与される。その一方で、ＭＲ膜３１ｃが、磁気テープ摺動面ＭＳ上で摺動する磁気テープからの磁気（磁気情報）に晒されると、その磁気の極性の変化に応じてＭＲ膜３１ｃの磁化方向が変化する。そして、このＭＲ膜３１ｃが組み込まれたＭＲ型ヘッド３０は、ＭＲ膜３１ｃの磁化方向の変化に応じて変化する電気抵抗値を、一定のセンス電流を付与することによって出力される電極膜３３，３３の間の電圧の変化として読み取ることによって、磁気テープに記録された磁気情報（２値情報）を再生する。したがって、このようなＭＲ型ヘッド３０を備えた複合型磁気ヘッドによれば、磁気テープに記録された磁気情報を電気抵抗値の変化として読み出すことができるので、磁気テープの走行速度に依存せずに高い再生出力を得ることができる。
【００３５】
次に、本実施の形態に係る複合型磁気ヘッドの製造方法について適宜図面を参照して説明する。参照する図面において、図６（ａ）〜（ｅ）、図７（ａ）〜（ｄ）、図８（ａ）〜（ｃ）並びに図９（ａ）及び（ｂ）は、複合型磁気ヘッドの製造工程を示す図である。なお、図８（ａ）は、図７（ｄ）のＢ−Ｂ線における断面図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）と同じ方向からみた断面図である。
【００３６】
［第１ヘッド部材の製造工程］
図６（ａ）に示すように、まず、アルミナチタンカーバイド製のウエハ４０上に、アルミナ膜４１を形成した後、このアルミナ膜４１上にニッケル・鉄系合金からなる第２シールド層３５ｂを形成する。この第２シールド層３５ｂの形成には、フォトリソグラフ法及びイオンエッチング法が用いられればよい。次いで、図６（ｂ）に示すように、さらにアルミナ膜４１を積み重ねることによって第２シールド層３５ｂを埋め込んだ後、その表面を平滑化し、第２シールド層３５ｂ上に第２ギャップ層３４ｂを形成する。なお、ウエハ４０は、特許請求の範囲にいう「第１基板」に相当する。
【００３７】
次に、図６（ｃ）に示すように、第２ギャップ層３４ｂを含むアルミナ膜４１上に、ニッケル・鉄・ニオブ系合金層４２、タンタル層４３及びパーマロイ層４４をこの順番で形成する。そして、第２ギャップ層３４ｂ上に形成されたパーマロイ層４４上で延びる断面形状がＴ字状のマスク４５を形成した後、図６（ｄ）に示すように、ニッケル・鉄・ニオブ系合金層４２、タンタル層４３及びパーマロイ層４４をイオンエッチング法を使用することによって、両側に傾斜面を有するＭＲ素子３１を削り出す。なお、前記した各層３４ｂ，３５ｂ，４２，４３，４４及びアルミナ膜４１は、これらの材料をターゲットとするスパッタリング法で形成すればよい。
【００３８】
次に、図６（ｅ）に示すように、前記マスク４５を残したままで、アルミナ膜４１上でコバルト・クロム・白金系合金をターゲットとするスパッタリングを実施することによって、ＭＲ素子３１の傾斜面に凭れかかるように接続される磁区制御膜３２を形成する。
【００３９】
次に、図７（ａ）に示すように、前記マスク４５を取り除くとともに、フォトリソグラフ法及びイオンエッチング法によって、ＭＲ素子３１を両側から挟み込むように配置された磁区制御膜３２を所定の形状に削り出す。そして、アルミナ膜４１上で電極膜３３の輪郭を象ったパターニングをフォトリソグラフ法で形成するとともに、金をターゲットとするスパッタリング法によって、磁区制御膜３２を覆う電極膜３３を形成する。なお、この電極膜３３には、後に形成するＭＲ型ヘッド用電極パッド１４と電気的に接続するための図示しない配線が形成される。
【００４０】
電極膜３３が形成された後、図７（ｂ）に示すように、アルミナ膜４１をさらに積み重ねることによって、ＭＲ素子３１上にアルミナからなる第１ギャップ層３４ａを形成する。
【００４１】
次に、図７（ｃ）に示すように、第１ギャップ層３４ａ上に、前記したと同様にして、ニッケル・鉄系合金からなる第１シールド層３５ａを形成した後、図７（ｄ）に示すように、前記したと同様にしてアルミナ膜４１をさらに積み重ねることによって、第１シールド層３５ａをアルミナ膜４１に埋め込む。そして、図８（ａ）に示すように、第１シールド層３５ａの後端側で、この第１シールド層３５ａを被覆するアルミナ膜４１をイオンミリング法によって削り取る。次いで、図８（ｂ）に示すように、削り取った部分にニッケル・鉄系合金を前記接合面ＪＳまでさらに積み重ねる。そして、接合面ＪＳを研磨することによって、第１シールド層３５ａが接合面ＪＳで部分的に露出するとともに、アルミナ膜４１、つまり絶縁膜１２（図２及び図３参照）に埋め込まれたＭＲ型ヘッド３０を形成する。
【００４２】
次に、この絶縁膜１２の上面を平滑化した後、図８（ｃ）に示すように、絶縁膜１２の上面が、前記した角度θで傾斜するようにウエハ４０及びＭＲ型ヘッド３０を含んだ絶縁膜１２を切り出す。そして、ＭＲ型ヘッド３０が露出するような切り出し線ＣＳ（図８（ｂ）参照）で、ウエハ４０及びＭＲ型ヘッド３０を含んだ絶縁膜１２を切断するとともに、この切断面を所定の曲率で湾曲するように研磨することによって磁気テープ摺動面ＭＳ（図３参照）を形成する。そして、前記電極膜３３に接続された配線（図示せず）と電気的に接続されるＭＲ型ヘッド用電極パッド１４を配設することによって、第１ヘッド部材１０を製造することができる。なお、このようにして製造された第１ヘッド部材１０には、第１シールド層３５ａ上に所定の厚みで広がって、角度θで傾斜する絶縁膜１２、つまり書込みギャップＧｐ（図４参照）が形成される。
【００４３】
［第２ヘッド部材の製造工程］
図９（ａ）に示すように、まず、アルミナ製の非磁性プレート２２上に、５層のセンダストからなる４μｍ程度の磁性膜２１ａを、ＳｉＯ２（シリカ）からなる０．１５μｍ程度の非磁性膜２１ｂを挟み込んで積層する。これら磁性膜２１ａ及び非磁性膜２１ｂは、それぞれの材料をターゲットとするスパッタリング法を使用することによって形成すればよい。なお、非磁性プレート２２は、特許請求の範囲にいう「第２基板」に相当する。
【００４４】
次に、５層目の磁性膜２１ａ上にアルミナ製の非磁性プレート２２を接合することによって、非磁性プレート２２，２２で挟み込まれたラミネート層２１を備える積層体４６を得ることができる。なお、５層目の磁性膜２１ａ上に接合する非磁性プレート２２は、アルミナをターゲットとするスパッタリング法によって形成してもよい。
【００４５】
次に、図９（ｂ）に示すように、積層体４６に切削加工を施すことによって、磁気テープ摺動面ＭＳ及びコイル２３を受け入れる窪みＰを形成する。そして、この窪みＰに所定の巻き数でコイル２３を巻回した後、このコイル２３と電気的に接続する記録ヘッド用電極パッド２４を配設することによって、第２ヘッド部材２０を製造することができる。
【００４６】
［複合型磁気ヘッドの製造工程］
第１ヘッド部材１０の磁気テープ摺動面ＭＳと、第２ヘッド部材２０の磁気テープ摺動面ＭＳとが所定の曲率で面一になるように位置決めする。この際、第１ヘッド部材１０の第１シールド層３５ａと、第２ヘッド部材２０のラミネート層２１が、書き込みギャップＧｐを介して向き合うように、そして、第１ヘッド部材１０の接合面ＪＳで露出する第１シールド層３５ａと、第２ヘッド部材２０の磁性膜２１ａとが磁気的に接続されるように第１ヘッド部材１０及び第２ヘッド部材２０を位置決めする。
【００４７】
そして、このように位置決めした両ヘッド部材１０，２０を相互にガラス溶着するとともに、磁気テープ摺動面ＭＳを研磨すれば、本実施の形態に係る複合型磁気ヘッドが完成する。
【００４８】
このような複合型磁気ヘッドの製造方法では、従来の複合型磁気ヘッドのように、ウエハ上に薄膜を積層して作り込んだ再生ヘッド（ＭＲ型ヘッド）上に、さらに薄膜を積層して記録ヘッド（電磁誘導型磁気ヘッド）を作り込む方法とは異なり、ＭＲ型ヘッド３０を備えた第１ヘッド部材１０と磁性コア１７を備えた第２ヘッド部材２０とを別途に製造した後、これらを相互に接続することによって複合型磁気ヘッドが製造される。つまり、従来の製造方法では、センダストのように、成膜時の高温処理によって、先に作り込んだＭＲ膜３１ｃの性能が低下するために、磁性コアの材料として使用することができなかった高磁束密度材料を、本実施の形態の複合型磁気ヘッドの製造方法では使用することができる。したがって、この複合型磁気ヘッドの製造方法によれば、センダストのような高磁束密度材料からなる磁性コアを備えた複合型磁気ヘッドを製造することができ、延いては、磁気テープの高記録密度化を図ることができる複合型磁気ヘッドを製造することができる。
【００４９】
（第２の実施の形態）
以下に、本発明に係る複合型磁気ヘッドの第２の実施の形態について、適宜図面を参照して詳細に説明する。なお、本実施の形態では、第１の実施の形態と同様の部分については同じ符合を付して説明を省略する。参照する図面において、図１０は、第２の実施の形態の複合型磁気ヘッドの斜視図、図１１は、図１０の複合型磁気ヘッドを磁気テープ摺動面から見た様子を示す図、図１２は、図１１のＺ−Ｚ線における断面図である。
【００５０】
本実施の形態の複合型磁気ヘッドは、第１の実施の形態と同様に、ヘリカルスキャン方式の磁気テープ記録再生装置に使用される複合型磁気ヘッドであって、図１０に示すように、第１ヘッド部材５０と第２ヘッド部材５１とで構成されている。そして、これら第１ヘッド部材５０及び第２ヘッド部材５１は、相互にガラス１５で相互に接合されているとともに、第１ヘッド部材５０から第２ヘッド部材５１にかけて、所定の曲率で湾曲する磁気テープ摺動面ＭＳを有している。
【００５１】
［第１ヘッド部材］
図１１に示すように、第１ヘッド部材５０は、第１の実施の形態で使用される第１ヘッド部材１０（図２参照）と同様に、ＭＲ型ヘッド３０が、角度θで傾斜するベース部材１１の上端面１３上で、角度θで傾斜するように形成されている。この第１ヘッド部材５０は、第２ヘッド部材５１との接合面ＪＳが、前記角度θと相違する角度αで傾斜し、そして、図１２に示すように、第１シールド層３５ａの後端が接合面ＪＳで露出していないこと以外は、第１の実施の形態で使用される第１ヘッド部材１０と同様に構成されている。
【００５２】
［第２ヘッド部材］
本実施の形態の複合型磁気ヘッドに使用される第２ヘッド部材５１は、図１０に示すように、第１ヘッド部材５０とガラス１５で接合されており、その接合角は、図１１に示すように、角度αに設定されている。
【００５３】
この第２ヘッド部材５１は、図１０に示すように、第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂがガラス１５で接合されたものであり、その接合角が、前記したＭＲ型ヘッド３０の傾斜に合わせて、角度θ（図１１参照）に設定されている。
【００５４】
これら第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂは、第１の実施の形態で使用される第２ヘッド部材２０（図４参照）と同様に、ラミネート層２１と、このラミネート層２１を挟み込む１対の非磁性プレート２２と、これらラミネート層２１及び非磁性プレート２２を巻回するコイル２３とを備えている。
【００５５】
ラミネート層２１は、図１１に示すように、これらは第１の実施の形態と同様な５層の磁性膜２１ａと、各磁性膜２１ａに挟み込まれた非磁性膜２１ｂとで構成されている。
【００５６】
そして、第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂの磁性膜２１ａ同士は、図１２に示すように、一端側、つまり磁気テープ摺動面ＭＳ側で、第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂを接合するガラス１５の均一な厚みの膜を介して向き合っている。また、他端側では、第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂの磁性膜２１ａ同士が磁気的に接続されている。なお、第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂの磁性膜２１ａは、磁性コアを構成し、向き合う磁性膜２１ａで挟み込まれたガラス１５の前記した膜は、書き込みギャップＧｐとして機能している。
【００５７】
これら磁性膜２１ａからなる磁性コア、書き込みギャップＧｐ並びにコイル２３は、本実施の形態に係る複合型磁気ヘッドにおいて、電磁誘導型ヘッド１６ａ（記録ヘッド）を構成している。
【００５８】
次に、本実施の形態に係る複合型磁気ヘッドの動作を説明する。まず、磁気情報を磁気テープに記録する工程を説明すると、第１の実施の形態と同様の電流が、第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂのそれぞれの記録ヘッド用電極パッド２４（図１０参照）を介してコイル２３に付与される。このような電流が付与されると、コイル２３は、第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂの磁性膜２１ａを伝わる磁束流を誘起する。そして、この磁束流は、図１２に示すように、磁気テープ摺動面ＭＳ上で前記したガラス１５の膜で形成された書き込みギャップＧｐを迂回する漏れ磁束Ｍ１（図１２参照）を生起する。この漏れ磁束Ｍ１によって、磁気テープ摺動面ＭＳ上を摺動する磁気テープには、磁気情報（２値情報）が記録されていく。
【００５９】
この複合型磁気ヘッドでは、第１の実施の形態と同様に、磁性コアが複数の磁性膜２１ａで構成されているとともに、各磁性膜２１ａ同士が非磁性膜２１ｂで隔てられているので、磁性コアに発生する渦電流が著しく低減される。したがって、この複合型磁気ヘッドによれば、高周波特性に優れ、磁気情報の転送レートを高めることができるので、磁気テープの高記録密度化を図ることができる。
【００６０】
また、この複合型磁気ヘッドでは、図１２に示すように、磁気テープ摺動面ＭＳ上で、第１ヘッド部材５０の第１シールド層３５ａと、第２ヘッド部材５１の磁性膜２１ａとの間で漏れ磁束Ｍ２が生起する場合がある。つまり、第１シールド層３５ａと磁性膜２１ａとの間に配置される絶縁膜１２が擬似ギャップを形成する場合がある。この漏れ磁束Ｍ２は、妨害信号を磁気テープに記録する。その一方で、本実施の形態の複合型磁気ヘッドでは、第１ヘッド部材５０の接合面ＪＳが、前記角度θ、すなわちアジマス角と相違する角度αで傾斜している。したがって、この複合型磁気ヘッドを使用して磁気テープに記録された磁気情報を再生する際には、妨害信号を排除することができる。
なお、磁気情報を磁気テープから再生する工程は、第１の実施の形態と同様に実施すればよい。
【００６１】
次に、本実施の形態に係る複合型磁気ヘッドの製造方法について説明する。
［第１ヘッド部材の製造工程］
第１ヘッド部材５０は、第１の実施の形態と同様にして、ベース部材１１（図１０参照）上に、ＭＲ型ヘッド３０が埋め込まれた絶縁膜１２を形成することによって製造することができる。なお、この際、第１シールド層３５ａを接合面ＪＳに露出させなくともよく、そして、図１１に示すように、接合面ＪＳの傾斜角が角度αになるように切削すればよい。
【００６２】
［第２ヘッド部材の製造工程］
まず、第１の実施の形態と同様にして、積層体４６（図９（ａ）参照）を製造する。そして、この積層体４６に切削加工を施すことによって、磁気テープ摺動面ＭＳ及びコイル２３を受け入れる窪みＰを形成し、次いで、この窪みＰに所定の巻き数でコイル２３を巻回した後、このコイル２３と電気的に接続する記録ヘッド用電極パッド２４を配設することによって、第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂをそれぞれ製造する。
【００６３】
そして、第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂの一端側、つまり磁気テープ摺動面ＭＳ側で、これらの磁性膜２１ａ同士をガラス１５の均一な厚みの膜を介して向き合うように接合する。そして、他端側で第２ヘッド部材５１ａ及び第２ヘッド部材５１ｂの磁性膜２１ａ同士を磁気的に接続することによって、第２ヘッド部材５１を製造することができる。
【００６４】
［複合型磁気ヘッドの製造工程］
第１ヘッド部材５０の磁気テープ摺動面ＭＳと、第２ヘッド部材５１の磁気テープ摺動面ＭＳとが所定の曲率で面一になるように位置決めする。そして、このように位置決めした両ヘッド部材５０，５１を相互にガラス溶着するとともに、磁気テープ摺動面ＭＳを研磨すれば、本実施の形態に係る複合型磁気ヘッドが完成する。
【００６５】
このような複合型磁気ヘッドの製造方法によれば、第１の実施の形態と同様に、従来の複合型磁気ヘッドでは、磁性コアとして使用することができなかったセンダストを使用することができる。したがって、この複合型磁気ヘッドの製造方法によれば、センダストのような高磁束密度材料からなる磁性コアを備えた複合型磁気ヘッドを製造することができ、延いては、磁気テープの高記録密度化を図ることができる複合型磁気ヘッドを製造することができる。
【００６６】
（複合型磁気ヘッドの評価試験）
本発明の複合型磁気ヘッドの周波数特性（電磁変換特性）について評価試験を行った。この評価試験には、第１の実施の形態の複合型磁気ヘッド及び第２の実施の形態の複合型磁気ヘッドを使用した。なお、比較例には、記録ヘッドとしてＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎ  Ｇａｐ）ヘッドを搭載し、再生ヘッドとしてＭＲ型ヘッドを搭載した複合型磁気ヘッドを使用した。
【００６７】
評価試験は、複合型磁気ヘッドに対する磁気テープの相対走行速度を５ｍ／ｓに設定するとともに、複合型磁気ヘッドの電磁誘導型ヘッド１６，１６ａ（記録ヘッド）に周波数１１〜１７ＭＨｚの矩形波信号を入力することによって、磁気テープに磁気情報を記録した。
【００６８】
次に、この磁気テープに記録された磁気情報を複合型磁気ヘッドのＭＲ型ヘッド３０（再生ヘッド）で再生した際の出力（ｄＢｍ）を測定した。その結果を図１３に示す。なお、図１３中、第１の実施の形態の複合型磁気ヘッドの測定結果は、実施例１で示し、第２の実施の形態の複合型磁気ヘッドの測定結果は、実施例２で示した。
【００６９】
図１３から明らかなように、本発明の複合型磁気ヘッドは、記録ヘッドとしてＭＩＧヘッドを搭載した複合型磁気ヘッドに比較して、周波数特性に優れており、さらには、この傾向が、入力信号の周波数が増大するにしたがってより顕著になっている。
【００７０】
以上、本発明は、前記実施の形態に限定されることなく、様々な形態で実施される。
例えば、第１の実施の形態の複合型磁気ヘッドでは、コイル２３（図１参照）が線材を磁性コアに巻いた巻き線コイルで構成されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、このコイル２３に代えて、フォトリソグラフ法でパターニングすることによって形成した薄膜コイルを備えた複合型磁気ヘッドであってもよい。
【００７１】
この複合型磁気ヘッドは、第１の実施の形態に使用される第１ヘッド部材１０（図１参照）と、図１４（ａ）及び図１４（ｂ）に示すような第２ヘッド部材６０とが接合されることによって構成されている。なお、図１４（ｂ）は、第２ヘッド部材６０の斜視図である図１４（ａ）のＬ−Ｌ線における断面図である。
【００７２】
この第２ヘッド部材６０は、第１の実施の形態に使用される第２ヘッド部材２０（図４参照）と同様に、ラミネート層２１を備えている。そして、第２ヘッド部材６０は、第２ヘッド部材６０の磁性膜２１ａと磁気的に接続された磁心部材６１と、この磁心部材６１を取り囲む絶縁部材６２と、この絶縁部材６２に埋め込まれるとともに、前記磁心部材６１の周囲を巻回する薄膜コイル２３ａとを備えている。そして、薄膜コイル２３ａは、第２ヘッド部材６０に配設された記録ヘッド用電極パッド２４と電気的に接続されている。
【００７３】
このような第２ヘッド部材６０が第１ヘッド部材１０（図１参照）と接合されることによって構成される複合型磁気ヘッドは、一端側（磁気テープ摺動面ＭＳ側）で先細りになった磁性膜２１ａの先端部６３が、第１シールド層３５ａと向き合って、書き込みギャップＧｐ（図５参照）を形成するとともに、他端側で、磁心部材６１と、前記第１ヘッド部材１０（図５参照）の接合面ＪＳに露出する第１シールド層３５ａとが磁気的に接続されるようになっている。
【００７４】
このような複合型磁気ヘッドでは、フォトリソグラフ法で、例えば、銅薄膜といった導電性金属箔膜をパターニングすることによって形成することができる薄膜コイル２３ａを備えているので、線材を巻いて構成したコイルと比較して、コイルをより細く形成することができる。したがって、この複合型磁気ヘッドによれば、コイルの巻き数を著しく増加させることができる。また、この複合型磁気ヘッドによれば、薄膜コイル２３ａが絶縁部材６２に埋め込まれているので、コイルの絶縁不良を確実に回避することができる。また、この薄膜コイル２３ａは、ラミネート層２１を形成する、例えばスパッタリング装置を使用して形成することができるので、線材を巻回する巻き線装置を別途に用意する必要がない。その結果、既存設備を有効に利用することができることから、複合型磁気ヘッドの製造コストを低減することができる。
【００７５】
また、このような薄膜コイル２３ａは、第１ヘッド部材１０の第１シールド層３５ａ上に形成される絶縁膜１２中に配設されてよい。
【００７６】
また、第１及び第２の実施の形態の複合型磁気ヘッドでは、パーマロイからなるＭＲ膜３１ｃを備えたＭＲ型ヘッド３０を使用したが、これに代えて、スピンバルブ膜を備えたＧＭＲ型ヘッドやトンネル接合膜を備えたＴＭＲ型ヘッドが使用されてもよい
【００７７】
【発明の効果】
本発明の複合型磁気ヘッド及びその製造方法によれば、磁気情報の再生出力が大きく、しかも磁気記録媒体のさらなる高記録密度化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態に係る複合型磁気ヘッドの斜視図である。
【図２】図１の複合型磁気ヘッドにおける磁気抵抗効果型ヘッドを磁気テープ摺動面から見た様子を示す図である。
【図３】図２のＸ−Ｘ線における断面図である。
【図４】図１の複合型磁気ヘッドを磁気テープ摺動面から見た様子を示す図である。
【図５】図４のＹ−Ｙ線における断面図である。
【図６】図６（ａ）〜（ｅ）は、第１ヘッド部材の製造工程を示す図である。
【図７】図７（ａ）〜（ｄ）は、第１ヘッド部材の製造工程を示す図である。
【図８】図８（ａ）〜（ｃ）は、第１ヘッド部材の製造工程を示す図である。
【図９】図９（ａ）及び（ｂ）は、第２ヘッド部材の製造工程を示す図である。
【図１０】第２の実施の形態に係る複合型磁気ヘッドの斜視図である。
【図１１】図１０の複合型磁気ヘッドを磁気テープ摺動面から見た様子を示す図である。
【図１２】図１１のＺ−Ｚ線における断面図である。
【図１３】図１の複合型磁気ヘッド及び図１０の複合型磁気ヘッドの周波数特性を示すグラフである。
【図１４】図１４（ａ）は、他の実施の形態に係る複合型磁気ヘッドに使用される第２ヘッド部材の斜視図、図１４（ｂ）は、図１４（ａ）のＬ−Ｌ線における断面図である。
【符号の説明】
１０    第１ヘッド部材
１６，１６ａ  電磁誘導型ヘッド
１７    磁性コア
２０    第２ヘッド部材
２１ａ  磁性膜
２１ｂ  非磁性膜
２３    コイル
２３ａ  薄膜コイル
３０    ＭＲ型ヘッド（磁気抵抗効果型ヘッド）
Ｇｐ    書き込みギャップ
【図１】
2004334945.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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