(57)【要約】【課題】インクジェット塗布法を採用することによって材料の無駄を抑え、しかも形成する膜全体の厚さを均一にすることが可能な液状組成物の塗布方法を提供する。【解決手段】本発明の液状組成物の塗布方法は、溶媒に溶質を溶解又は分散してなる液状組成物Ｌの塗布方法であって、インクジェットヘッド２を有するインクジェット装置１により、基材Ｓ上に液状組成物Ｌを吐出する吐出工程を含み、該吐出工程が、大気圧よりも圧力の高い高圧雰囲気下で行われることを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒に溶質を溶解又は分散してなる液状組成物の塗布方法であって、
液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置により、基材上に前記液状組成物を吐出する吐出工程を含み、
前記吐出工程が、大気圧よりも圧力の高い高圧雰囲気下で行われることを特徴とする液状組成物の塗布方法。
【請求項２】
前記吐出工程が、２．０ｂａｒ以上の圧力雰囲気下で行われることを特徴とする請求項１に記載の液状組成物の塗布方法。
【請求項３】
前記溶媒が、高沸点溶媒を含んでなることを特徴とする請求項１又は２に記載の液状組成物の塗布方法。
【請求項４】
前記高沸点溶媒が、大気圧下で２００℃〜４００℃の沸点を有するもの、又はそれを主体としてなる混合溶媒であることを特徴とする請求項３に記載の液状組成物の塗布方法。
【請求項５】
前記吐出工程の後、真空下で溶媒を除去する乾燥工程を含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の液状組成物の塗布方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の液状組成物の塗布方法を用いたＥＬ素子の製造方法であって、
前記液状組成物を構成する溶質としてＥＬ素子構成材料を用い、該ＥＬ素子構成材料を成膜する成膜工程を含むことを特徴とするＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記ＥＬ素子構成材料は、発光層形成材料を含むことを特徴とする請求項６に記載のＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
前記ＥＬ素子構成材料は、正孔注入輸送層形成材料を含むことを特徴とする請求項６に記載のＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の液状組成物の塗布方法を用いたカラーフィルタの製造方法であって、
前記液状組成物を構成する溶質として着色層形成材料を用い、該着色層を成膜する成膜工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
請求項６ないし８のいずれか１項に記載のＥＬ素子の製造方法により得られるＥＬ素子を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項９に記載のカラーフィルタの製造方法により得られるカラーフィルタを備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液状組成物の塗布方法、ＥＬ素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置、電子機器に関し、特に、一層均一な薄膜の形成を可能にする技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば特許文献１には、インクジェット法によって基板上に塗布液を塗布し、薄膜を形成する技術が記載されている。この技術は、相対移動手段によってインクジェットのノズルを基板に対して直線的に相対移動させ、これによって塗布液を、角型基板上に均一に塗布できるようにしたものである。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−４０３５８号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のインクジェット法による成膜技術では、形成する薄膜の膜厚が不均一となる場合がある。すなわち、従来のインクジェット法では、塗布液の吐出を大気圧下で行っており、基板上に塗布する塗布液の量が微量であるため乾燥速度が速く、吐出時において塗布液が乾燥してしまうため、膜厚ムラが生じる場合があった。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、インクジェット塗布法を採用することによって材料の無駄を抑え、しかも形成する膜全体の厚さを均一にすることができるようにした液状組成物の塗布方法、及びその塗布方法を用いたＥＬ素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、さらにはこれらＥＬ素子、カラーフィルタを用いた電気光学装置、ならびに該電気光学装置を備えた電子機器を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の液状組成物の塗布方法は、溶媒に溶質を溶解又は分散してなる液状組成物の塗布方法であって、液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置により、基材上に前記液状組成物を吐出する吐出工程を含み、前記吐出工程が、大気圧よりも圧力の高い高圧雰囲気下で行われることを特徴とする。
【０００７】
このような塗布方法によると、液状組成物の吐出工程を高圧雰囲気下で行うものとしているため、吐出工程における溶媒の乾燥速度が抑えられ、該吐出工程中に液状組成物が速乾して、不均一な膜厚が形成されてしまうことを防止ないし抑制することが可能となる。なお、前記吐出工程の後に、吐出された液状組成物の溶媒を乾燥させる乾燥工程を行うことで、均一な膜を確実に得ることが可能な成膜方法を提供することができる。
【０００８】
すなわち、例えば図１０（ａ）に示すように液状組成物が、大気圧中で基材９１上に吐出され薄膜状に塗布されると、液状組成物からなる膜９２は塗布直後、その周辺部（エッジ部）９２ａに表面張力によって図１０（ａ）中矢印Ａで示すような内側に縮まろうとする力が生じる。また、このような力とは別に、膜９２表面の近傍では、膜９２から蒸発した溶媒蒸気の濃度が膜９２の中央部９２ｂの直上で高く、周辺部９２ａの直上で拡散により低くなっている。したがって、表面近傍の溶媒蒸気濃度が高い中央部９２ｂでは溶媒の蒸発が起こりにくく、溶媒蒸気濃度の低い周辺部９２ａでは蒸発が起こり易くなっていることにより、膜９２内では溶媒の対流が、図１０（ｂ）中矢印Ｂで示すように中央部９２ｂ側から周辺部９２ａ側に向かって起こる。したがって、図１０（ｂ）に示したように液状組成物（膜９２）がノズルからの着弾位置より内側に引き寄せられ、かつ溶媒の対流により溶質が周辺部へ移動するため、膜厚が厚くなってしまう。そして、このようにして周辺部９２ａの膜厚が中央部の膜厚より厚くなると、当然ながら乾燥後得られる膜９２はその全体の膜厚の均一性が損なわれてしまう。
【０００９】
しかしながら本発明では上述の通り、吐出工程を高圧下にて行うものとしているため、該吐出工程中に溶媒の蒸発が生じ難くなり、図１０で示したような不具合が生じ難くなった。その結果、乾燥後得られる塗膜の膜厚を極めて均一なものとすることができたのである。なお、吐出工程の後の乾燥工程では、例えば真空下で加熱乾燥するのが好ましく、さらには加熱乾燥後に焼成を行うものとすることもできる。
また、本発明の方法では、吐出工程を高圧下にて行うものとしているため、例えば基板上にインクジェットヘッドを移動させつつ基板上に順次吐出を行う場合にも、吐出工程の初期に吐出された液状組成物が後の吐出工程中に乾燥することもなく、したがって、基板面内において膜厚の均一な塗膜を形成することが可能となる。
【００１０】
前記吐出工程は、具体的には２．０ｂａｒ〜５．０ｂａｒの雰囲気下で行うものとすることができる。また、前記液状組成物は、高沸点溶媒を含んでなるものが好ましく、例えば水よりも沸点の高い、具体的には大気圧下で２００℃〜４００℃の沸点を有する高沸点溶媒（あるいは室温での蒸気圧が０．００００１〜０．１ｍｍＨｇの溶媒）、又はそれを主体としてなる混合溶媒を用いることができる。
【００１１】
次に、本発明のＥＬ素子の製造方法は、上記液状組成物の塗布方法を用いたＥＬ素子の製造方法であって、前記液状組成物を構成する溶質としてＥＬ素子構成材料を用い、該ＥＬ素子構成材料を成膜する成膜工程を含むことを特徴とする。このような方法により、ＥＬ素子を構成する各種層、例えば発光層たる有機ＥＬ層、または正孔注入輸送層たる導電性ポリマー層等を均一な膜厚にて構成することが可能となり、面内において発光ムラの少ないＥＬ素子を製造することが可能となる。そして、このような製造方法により得られるＥＬ素子を備えた電気光学装置（例えばＥＬ装置）は、表示ムラが少なく表示特性に優れたものとなる。
【００１２】
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記液状組成物の塗布方法を用いたカラーフィルタの製造方法であって、前記液状組成物を構成する溶質として着色層形成材料を用い、該着色層を成膜する成膜工程を含むことを特徴とする。このような方法により、膜厚の均一な着色層を形成でき、ひいては面内において色むらの少ないカラーフィルタを製造することが可能となる。そして、このような製造方法により得られるカラーフィルタを備えた電気光学装置（例えば液晶装置）は、色ムラが少なく優れたカラー表示を実現可能となる。
【００１３】
また、本発明の電子機器は、上記電気光学装置を例えば表示手段として備えてなることを特徴としている。この電子機器によれば、例えば発光ムラや色ムラといった不具合の生じ難い表示手段を実現でき、信頼性の高い電子機器を提供することが可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
図１は本発明の液状組成物の塗布方法を実施可能な塗布装置の一実施の形態を示す模式図である。塗布装置１００は、２つのグローブボックス１０１，１０２が連通部１１０を介して連結された構成をなし、グローブボックス１０１が吐出室（以下、吐出室１０１とも言う）と、グローブボックス１０２が乾燥室（以下、乾燥室１０２とも言う）とされている。また、塗布装置１００は、加圧装置１０３により内部の雰囲気が加圧可能に構成されている。さらに、乾燥室１０２内には真空装置１０５が設けられ、該真空装置１０５は、減圧装置１０６により内部の雰囲気が減圧可能に構成されている。
【００１５】
吐出室１０１には、液滴吐出装置たるインクジェット装置１が設けられ、該インクジェット装置１は、塗布対象である基板Ｓの所定位置に塗布液Ｌを吐出するためのインクジェットヘッド２と、インクジェットヘッド２と基板Ｓとの位置を相対的に移動させる移動機構（図示略）と、インクジェットヘッド２と移動機構との作動制御を行う制御部等を備えた本体部（インクジェット機構）３とを備えてなる。
【００１６】
移動機構は、基板ステージ６上に載置された基板Ｓの上方に、インクジェットヘッド２を下方に向けて支持するヘッド支持部４を備え、上方のインクジェットヘッド２に対して基板ステージ６とともに基板ＳをＸ、Ｙ方向に移動させるステージ駆動部（図示略）とから構成されたものである。
【００１７】
本体部３は、上記制御部の他にインクジェットヘッド２とこれにチューブを介して接続されたタンク（図示略）を備えてなるものである。タンクは塗布液Ｌを貯留するもので、チューブを介してこの塗布液Ｌをインクジェットヘッド２に供給するものとなっている。このような構成によって本体部３は、タンクに貯留された塗布液Ｌをインクジェットヘッド２から吐出し、これを基板Ｓ上に塗布するようになっている。
【００１８】
インクジェットヘッド２は、例えばピエゾ素子によって液室を圧縮してその圧力波で液体を吐出させるもので、一列又は複数列に配列された複数のノズル（ノズル孔）を有している。
このインクジェットヘッド２の構造の一例を説明すると、インクジェットヘッド２は、図２（ａ）に示すように例えばステンレス製のノズルプレート１２と振動板１３とを備え、両者を仕切部材（リザーバプレート）１４を介して接合したものである。ノズルプレート１２と振動板１３との間には、仕切部材１４によって複数の空間１５と液溜まり１６とが形成されている。各空間１５と液溜まり１６の内部はインクで満たされており、各空間１５と液溜まり１６とは供給口１７を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート１２には、空間１５からインクを噴射するためのノズル１８が形成されている。一方、振動板１３には、液溜まり１６にインクを供給するための孔１９が形成されている。
【００１９】
また、振動板１３の空間１５に対向する面と反対側の面上には、図２（ｂ）に示すように圧電素子（ピエゾ素子）２０が接合されている。この圧電素子２０は、一対の電極２１の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子２０が接合されている振動板１３は、圧電素子２０と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間１５の容積が増大するようになっている。したがって、空間１５内に増大した容積分に相当するインクが、液溜まり１６から供給口１７を介して流入する。また、このような状態から圧電素子２０への通電を解除すると、圧電素子２０と振動板１３はともに元の形状に戻る。したがって、空間１５も元の容積に戻ることから、空間１５内部のインクの圧力が上昇し、ノズル１８から基板に向けてインクの液滴２２が吐出される。
なお、インクジェットヘッド２のインクジェット方式としては、前記の圧電素子２０を用いたピエゾジェットタイプ以外の方式でもよく、例えば、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた方式を採用してもよい。
【００２０】
本体部３に搭載された制御部は、装置全体の制御を行うマイクロプロセッサ等のＣＰＵや、各種信号の入出力機能を有するコンピュータなどによって構成されたもので、インクジェットヘッド２や移動機構等にそれぞれ電気的に接続されることにより、インクジェットヘッド２による吐出動作、及び移動機構による移動動作の少なくとも一方、本例では両方を制御するものとなっている。そして、このような構成により、塗布液Ｌの塗布条件を変え、形成する薄膜（オーバーコート膜）の膜厚を制御する機能を有したものとなっている。
【００２１】
すなわち、制御部は、基板Ｓ上の塗布液Ｌの吐出間隔を変える制御機能と、１滴当たりの塗布液Ｌの吐出量を変える制御機能と、ノズル１８の配列方向と移動機構による移動方向との角度θを変える制御機能と、基板Ｓ上の同一位置に繰り返し塗布を行う際に繰り返す塗布ごとに塗布条件を設定する制御機能と、基板Ｓ上を複数の領域に分けて各領域ごとに塗布条件を設定する制御機能とを備えている。
【００２２】
さらに、制御部は、前記吐出間隔を変える制御機能として、基板Ｓとインクジェットヘッド２との相対的な移動の速度を変えて吐出間隔を変える制御機能と、移動時における吐出の時間間隔を変えて吐出間隔を変える制御機能と、複数のノズルのうち同時に塗布液Ｌを吐出させるノズルを任意に設定して吐出間隔を変える機能とを備えている。
【００２３】
このような構成を備えるインクジェット装置１により、基板Ｓの所定位置に所定量の塗布液Ｌが吐出される。本実施形態では、この吐出工程を塗布装置１００の吐出室１０１内で行うものとしており、具体的には加圧装置１０３により吐出室１０１を例えば２．０ｂａｒ〜５．０ｂａｒ程度の高圧雰囲気として吐出を行うものとしている。
【００２４】
一方、吐出室１０１に連結された乾燥室１０２では、上記のようなインクジェット装置１による塗布液Ｌの吐出が行われた後の基板Ｓを、連通部１１０を介して真空室１０５内に搬送可能に構成されており、該真空室１０５内にて減圧下、塗布液Ｌの乾燥が行われるものとなっている。なお、減圧装置１０６による排気速度は、例えば真空室１０５の容積を４５ｌとした場合には２０ｌ／ｍｉｎ程度とするのが好ましい。
【００２５】
以上のような構成の塗布装置１００を用いることにより、塗布液Ｌに含まれる溶質（溶媒に溶解ないし分散された成膜材料）を基板Ｓ上に成膜可能となる。特に、吐出工程を高圧下で可能なため、吐出工程における溶媒の乾燥速度が抑えられ、該吐出工程中に液状組成物が速乾して、不均一な膜厚が形成されてしまうことを防止ないし抑制することが可能となる。
【００２６】
具体的には、本実施形態に示した塗布装置１００を用いた塗布方法によると、例えば隔壁にて囲まれた領域に塗布液Ｌを吐出するものとした場合には、吐出された塗布液Ｌが例えば図８（ａ）に示すように、周辺部（隔壁との境界部）において盛り上がる現象が生じ難くなる。すなわち、上記塗布方法によると、吐出工程が高圧下にて行われるため、吐出後に溶媒が速乾し難く、したがって図１０に示したような膜厚が不均一となる現象が生じ難くなるのである。
【００２７】
図８はドット内の膜厚を示した説明図であって、縦軸は膜厚、横軸はドットの断面位置を示すものであり、図８（ａ）は大気圧下で吐出工程を行ったもの、図８（ｂ）は高圧下で吐出工程を行ったものである。このように大気圧下で吐出工程を行った場合の膜厚の高低差Ａは、高圧下で吐出工程を行った場合の膜厚の高低差Ｂの約１／３以上となること分かる。
【００２８】
また、上記塗布方法では、例えば基板Ｓとインクジェットヘッド２とを相対移動させつつ基板Ｓ上に順次吐出を行うものとしており、吐出工程の初期に吐出された塗布液Ｌが後の吐出工程中に乾燥することもなく、したがって、基板Ｓの面内において膜厚の均一な塗膜を形成することが可能となる。
【００２９】
なお上記塗布方法を用いた場合、塗布液Ｌの溶媒としては高沸点溶媒、例えば大気圧下で沸点が２００〜４００℃程度のもの（あるいは室温での蒸気圧が０．００００１〜０．１ｍｍＨｇの溶媒）を用いるのが好ましい。具体的には、ＤＦＭ（ジメチルホルムアミド）等の高沸点溶媒を例示することができる。
【００３０】
次に、上記実施形態の塗布装置１を用いた塗布方法を適用可能な実施例について説明する。まず、基板Ｓ上にカラーフィルタを形成する例について説明する。上記塗布装置１を用いた塗布方法は、図３に示すように長方形形状の基板Ｓ上に、生産性をあげる観点から複数個のカラーフィルター領域５１をマトリックス状に形成する際に適用できる。これらのカラーフィルター領域５１は、後で基板Ｓを切断することにより、液晶表示装置に適合するカラーフィルターとして用いることができる。なお、カラーフィルター領域５１としては、図３に示したようにＲのインク、Ｇのインク、およびＢのインクをそれぞれ所定のパターン、本例では従来公知のストライプ型で形成して配置する。なお、この形成パターンとしては、ストライプ型のほかに、モザイク型やデルタ型あるいはスクウェアー型等としてもよい。
【００３１】
このようなカラーフィルター領域５１を形成するには、まず、図４（ａ）に示すように透明の基板Ｓの一方の面に対し、ブラックマトリックス５２を形成する。このブラックマトリックス５２の形成方法としては、光透過性のない樹脂（好ましくは黒色）を、スピンコート等の方法で所定の厚さ（例えば２μｍ程度）に塗布し、パターニングすることで行う。このブラックマトリックス５２の格子で囲まれる最小の表示要素、すなわちフィルターエレメント５３については、例えばＸ軸方向の巾を３０μｍ、Ｙ軸方向の長さを１００μｍ程度とする。
【００３２】
次に、図４（ｂ）に示すように、図１に示した吐出室１０１において、高圧雰囲気下、インクジェットヘッド２からインク滴５４（塗布液Ｌ）を吐出し、これをフィルターエレメント５３に着弾させる。吐出するインク滴５４の量については、加熱工程におけるインクの体積減少を考慮した十分な量とする。
このようにして基板Ｓ上のすべてのフィルターエレメント５３にインク滴５４を充填したら、乾燥室１０２において減圧下、基板Ｓが所定の温度（例えば５０℃程度）となるように加熱処理する。この減圧加熱処理により、インクの溶媒が蒸発してインクの体積が減少する。この体積減少の激しい場合には、カラーフィルターとして十分なインク膜の厚みが得られるまで、インク吐出工程と加熱工程とを繰り返す。この処理により、インクに含まれる溶媒が蒸発して、最終的にインクに含まれる固形分のみが残留して膜化し、図４（ｃ）に示すようにカラーフィルタ５５となる。
【００３３】
次いで、基板Ｓを平坦化し、かつカラーフィルタ５５を保護するため、図４（ｄ）に示すようにカラーフィルタ５５やブラックマトリックス５２を覆って基板Ｓ上に保護膜５６を形成する。この保護膜５６の形成にあたっては、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法等の方法を採用することもできるが、カラーフィルタ５５の場合と同様に、図１に示したインクジェット装置１を用いて行うこともできる。
【００３４】
次いで、図４（ｅ）に示すようにこの保護膜５６の全面に、スパッタ法や真空蒸着法等によって透明導電膜５７を形成する。その後、透明導電膜５７をパターニングし、図４（ｆ）に示すように画素電極５８を前記フィルターエレメント５３に対応させてパターニングする。なお、液晶表示パネルの駆動にＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いる場合には、このパターニングは不用となる。
【００３５】
次に、上記カラーフィルタ５５を備えた液晶装置（電気光学装置）の一実施形態を示す。図５はパッシブマトリックス型の液晶装置を示す図であり、図４中符号３０は液晶装置である。この液晶装置３０は透過型のもので、一対のガラス基板３１、３２の間にＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶等からなる液晶層３３が挟持されてなるものである。
【００３６】
一方のガラス基板３１には、その内面に上記カラーフィルタ５５が形成されている。カラーフィルタ５５は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色からなる着色層３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂが規則的に配列されて構成されたものである。なお、これらの色素層３４Ｒ（３４Ｇ、３４Ｂ）間には、ブラックマトリクス５２が形成されている。そして、これらカラーフィルタ５５及びブラックマトリクス５２の上には、該カラーフィルタ５５やブラックマトリクス５２によって形成される段差をなくしてこれを平坦化するため、オーバーコート膜（保護膜）５６が形成されている。オーバーコート膜５６の上には複数の電極３７がストライプ状に形成され、さらにその上には配向膜３８が形成されている。
【００３７】
他方のガラス基板３２には、その内面に、前記のカラーフィルタ５５側の電極と直交するようにして、複数の電極３９がストライプ状に形成されており、これら電極３９上には、配向膜４０が形成されている。なお、前記カラーフィルタ５５の各着色層３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂは、それぞれガラス基板３２の電極３９と前記ガラス基板３１の電極３７との交差位置に対応する位置に、配置されたものとなっている。また、電極３７、３９は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電材料によって形成されたものである。さらに、ガラス基板３２とカラーフィルタ５５の外面側にはそれぞれ偏向板（図示せず）が設けられ、ガラス基板３１、３２間にはこれら基板３１、３２間の間隔（セルギャップ）を一定に保持するためスペーサ４１が設けられ、さらにこれらガラス基板３１、３２間には該ガラス基板３１、３２を密着させてセルを作り、液晶３３を外気から遮断するためのシール材４２が設けられている。
【００３８】
以上のような液晶装置３０では、上記塗布装置１００を用いた本発明に係る塗布方法を採用して製造されるカラーフィルタ５５を適用しているため、該カラーフィルタ５５の膜厚が不均一となり難く、したがって、面内において色ムラ等が生じ難くい表示特性に優れたものとなる。
【００３９】
また、上記塗布装置１００を用いた塗布方法は、有機ＥＬ装置（電気光学装置）の有機ＥＬ素子の構成要素となる薄膜の形成にも用いることができる。図６は、有機ＥＬ装置としての有機ＥＬパネルの構成を説明するための平面図であり、図６中符号２７０は有機ＥＬパネルである。この有機ＥＬパネル２７０は、ガラス等からなる基板２１０と、マトリックス状に配置された画素２７１を形成する多数の有機ＥＬ素子と、封止基板２２０（図７参照）とを具備して構成されたものである。
【００４０】
基板２１０（基板Ｓ）は、例えばガラス等の透明基板からなるもので、基板２１０の中央に位置する表示領域２０２ａと、基板２１０の周辺部に位置して表示領域２０２ａの外側に配置された非表示領域２０２ｂとに区画されている。表示領域２０２ａは、マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子によって形成された領域であり、有効表示領域とも言われるものである。
【００４１】
図６は、図１０に示した有機ＥＬパネルの画素２７１を形成する有機ＥＬ素子の構成を示す断面模式図である。有機ＥＬ素子は、ＩＴＯ２１１がパターニングされたガラス基板２１０上に、ＳｉＯ２膜２１２およびポリイミド膜２１３が積層されている。ポリイミド膜２１３は隔壁部を構成し、該隔壁部の間にはパターン化したＩＴＯ２１１が配設されるとともに、ＩＴＯ２１１上には正孔注入／輸送層２１６及び発光層２１８が形成され、さらに発光層２１８上には陰極２１９及び封止層２２０が形成されている。
【００４２】
以上のような構成の有機ＥＬ素子においても、例えば正孔注入／輸送層２１６、及び／又は発光層２１８を成膜する際に、図１に示した塗布装置１００を用いた塗布方法を採用することができる。具体的な成膜方法を正孔注入／輸送層２１６の成膜工程を例にとり説明する。
【００４３】
まず、正孔注入／輸送層２１６を構成するための液状組成物（塗布液Ｌ）を滴下する前に、大気圧プラズマ処理によりポリイミド膜２１３にて構成されるバンクを撥インク処理する。大気圧プラズマ処理条件は、大気圧下で、パワー３００Ｗ、電極−基板間距離１ｍｍ、酸素プラズマ処理では酸素ガス流量８０ｃｃｍ、ヘリウムガス流量１０ＳＬＭ、テーブル搬送速度５ｍｍ／ｓで行い、続けてＣＦ４プラズマ処理では、ＣＦ４ガス流量１００ｃｃｍ、ヘリウムガス流量１０ＳＬＭ、テーブル搬送速度３ｍｍ／ｓで行った。
【００４４】
基板の表面処理後、不活性ガス雰囲気下、例えばグローブボックス（窒素ガス２．０〜５．０ｂａｒ、水分濃度ならびに酸素濃度１ｐｐｍ以下）内で、ポリチオフェン誘導体（ＰＥＤＯＴ）を含むインク（塗布液Ｌ）を調整し、該インクをインクジェット装置１のヘッド２（図１参照）から１５ｐｌ吐出し、パターン塗布した。そして、温度５０℃の真空中（１ｔｏｒｒ）、２０分という条件で溶媒を除去し、その後大気中２００℃（ホットプレート上）１０分の熱処理により正孔注入／輸送層２１６を形成した。なお、発光層２１８についても、例えばフルオレン系高分子誘導体を含むインクを調整し、このインクを上記と略同様の方法にて、図１に示した塗布装置１００を用いた塗布方法により成膜することが可能である。
【００４５】
このような方法により成膜された正孔注入／輸送層２１６、発光層２１８は膜厚が不均一となり難く、また、これら各層を備えた有機ＥＬ装置は、面内において発光ムラ等が生じ難くい表示特性に優れたものとなる。
【００４６】
次に、上記液晶装置若しくは有機ＥＬ装置を用いた表示装置からなる表示手段が備えられた電子機器の具体例について説明する。
図７（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図７（ａ）において、５００は携帯電話本体を示し、５０１は上記実施形態の液晶装置若しくは有機ＥＬ装置を用いた表示装置からなる表示部（表示手段）を示している。このような電子機器は、優れた表示品質が得られるものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の塗布方法を好適に実施可能な塗布装置の一例を示す模式図。
【図２】図１に示した塗布装置の要部の概略構成を説明するための斜視図。
【図３】基板上のカラーフィルタ領域を示す図。
【図４】カラーフィルタ領域の形成方法を工程順に示す要部断面図。
【図５】本発明の電気光学装置の一実施形態たる液晶装置の断面図。
【図６】本発明の電気光学装置の一実施形態たる有機ＥＬ装置の断面図。
【図７】図６の有機ＥＬ装置の要部構成について示す断面図。
【図８】本発明の塗布方法の効果を説明するための模式図
【図９】本発明の電子機器の一実施形態たる携帯電話の斜視図。
【図１０】本発明の塗布方法の作用を説明するための模式図。
【符号の説明】
１…インクジェット装置、２…インクジェットヘッド、１００…塗布装置、Ｓ…基板（基材）、Ｌ…塗布液（液状組成物）
【図１】
2004223354.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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