(57)【要約】【課題】フィルムの流れ方向に、膜厚、視感度透過率、酸素透過度、組成分析等の均一性が高い気体漏洩防止フィルムを生産性良く提供する。【解決手段】連続走行する可撓性基材の上に気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する工程と、気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線を照射し、気体漏洩防止膜から二次的に発生する蛍光Ｘ線、又は、反射Ｘ線を検出して膜厚を連続測定する工程と、可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射し、気体漏洩防止膜を透過する可視光を検出して気体漏洩防止膜の視感度透過率を連続測定する工程と、前記の測定した膜厚および視感度透過率の測定結果と目標値との差を算出し、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード等の調整をする工程を含む気体漏洩防止フィルムの製造方法を特徴とする。【選択図】  図１
2004285409.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続走行する光透過性の可撓性基材の上に、少なくとも１層以上、気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する工程と、
気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線を照射し、気体漏洩防止膜から二次的に発生する、気体漏洩防止膜を構成する少なくとも一つ以上の元素の蛍光Ｘ線を検出器で検出して、膜厚を連続測定する工程と、
気体漏洩防止膜に、可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射し、気体漏洩防止膜を透過する可視光を可視光検出器で検出して気体漏洩防止膜の視感度透過率、透過色相を連続測定する工程と、
前記の測定した膜厚および視感度透過率、透過色相の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出し、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する工程を含むことを特徴とする気体漏洩防止フィルムの製造方法。
【請求項２】
連続走行する光透過性の可撓性基材の上に、少なくとも１層以上、気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する工程と、
気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線を照射し、気体漏洩防止膜の表面から反射する反射Ｘ線と、基材と気体漏洩防止膜の界面から反射する反射Ｘ線の干渉をＸ線検出器で検出して、光学機能性膜の膜厚を連続測定する工程と、
気体漏洩防止膜に、可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射し、気体漏洩防止膜を透過する可視光を可視光検出器で検出して気体漏洩防止膜の視感度透過率、透過色相を連続測定する工程と、
前記の測定した膜厚および視感度透過率、透過色相の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出し、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する工程を含むことを特徴とする気体漏洩防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
筒状の可撓性基材を給紙する給紙部と、連続走行する光透過性の可撓性基材の上に、少なくとも１層以上の気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する真空成膜部と、
気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線照射部と、気体漏洩防止膜から二次的に発生する、気体漏洩防止膜を構成する少なくとも一つ以上の元素の蛍光Ｘ線を検出する検出部とを有する膜厚測定装置と、
気体漏洩防止膜に可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射する照射部と、気体漏洩防止膜を透過する可視光の検出部とを有する視感度透過率、透過色相測定装置と、
前記の膜厚測定装置、及び、視感度透過率、透過色相測定装置の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出する演算処理部と、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する制御部と、
前記の形成される気体漏洩防止フィルムの巻取部からなることを特徴とする気体漏洩防止フィルムの製造装置。
【請求項４】
筒状の可撓性基材を給紙する給紙部と、連続走行する光透過性の可撓性基材の上に、少なくとも１層以上の気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する真空成膜部と、
気体漏洩防止膜に気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線を照射し、気体漏洩防止膜の表面から反射する反射Ｘ線と、基材と気体漏洩防止膜の界面から反射する反射Ｘ線との干渉を検出する検出部とを有する膜厚測定装置と、
気体漏洩防止膜に可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射する照射部と、気体漏洩防止膜を透過する可視光の検出部とを有する視感度透過率、透過色相測定装置と、
前記の膜厚測定装置、及び、視感度透過率、透過色相測定装置の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出する演算処理部と、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する制御部と、
前記の形成される気体漏洩防止フィルムの巻取部からなることを特徴とする気体漏洩防止フィルムの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、食品や医薬品等の包装材料や電子デバイス等の包装材料として主に用いられる気体漏洩防止フィルムの製造方法に関し、さらに詳しくは、フィルムの流れ方向に、膜厚、視感度透過率、透過色相等の面内均一性の高い優れた気体漏洩防止フィルムの製造方法、及びその製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術】
可撓性基材と該基材上に設けられた気体漏洩防止性を有する無機薄膜とで構成される気体漏洩防止フィルムは、真空蒸着法、ＣＶＤ（化学気相堆積）法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の作製法で気体漏洩防止膜を形成し、一般にロールコーター式装置を用いる。
このとき作製される気体漏洩防止薄膜（無機薄膜）の膜厚をモニターする方法としては、可視光線を当該薄膜に照射し、その透過率又は反射率あるいは吸収率を求め、その値より膜厚を推定する方法が用いられている。従来、無機薄膜を用いた気体漏洩防止膜として最も一般的な酸化硅素（ＳｉＯｘ  ：ｘ  ＝１．３〜１．８）薄膜系気体漏洩防止膜は、透明ではあるが褐色を呈しており、可視光線を用いた膜厚測定法でも有効である。また、この可視光線による膜厚測定法で求めた薄膜の膜厚データをフィードバックし、気体漏洩防止膜の生産工程の管理に用いる方法や製造装置が知られている。
また、無機薄膜を形成する原子を励起状態とした後に放たれる当該薄膜組成における元素の固有Ｘ線の内、少なくとも一つの元素の固有Ｘ線強度を測定することにより当該薄膜の膜厚をモニターしながら、連続に走行するプラスチック基材上に無機薄膜を設けることを特徴とするガスバリアフィルムの製造方法と、その製造装置が提案されている。（例えば、特許文献１参照）
【０００３】
【特許文献１】
特開平６−３３０３１８号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１の膜厚の測定方法では、無機薄膜の膜厚と組成比率を測定することができるが、これは固有Ｘ線法の定量分析により、無機薄膜を構成する元素のうち、ターゲットとする元素の単位体積当たりの質量を求め、薄膜形成前後で質量の差を測定し、質量差を無機薄膜の膜厚に換算したを膜厚値（これを「質量膜厚」という。）とするものであり、無機薄膜の膜厚変化が１ｎｍ〜１０ｎｍ程度に使用する場合、測定精度が低く、また、同質物質の無機薄膜層を２層以上積層する場合に、膜厚測定することができないという欠点がある。
また、基材フィルム上に面内の視感度透過率、透過色相、酸素透過度等の物性値が不均一であると、透過色相が着色して外観上好ましくなく、また、密度が疎の部分において、酸素透過度が低下してしまうという問題がある。
このため、薄膜形成物質の物性を利用して薄膜形成前後の物性値の変化を薄膜の膜厚に換算した値（これを「物性膜厚」という。）を測定していないため、薄膜形成前後で無機薄膜の物性値の差を測定して膜形成の条件を制御しておらず、面内の視感度透過率、透過色相、酸素透過度等の均一な薄膜を形成することができないという欠点がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
そこで本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意研究の結果、本発明は、連続走行する光透過性の可撓性基材の上に、少なくとも１層以上、気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する工程と、気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線を照射し、気体漏洩防止膜から二次的に発生する、気体漏洩防止膜を構成する少なくとも一つ以上の元素の蛍光Ｘ線を検出器で検出して、膜厚を連続測定する工程と、気体漏洩防止膜に、可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射し、気体漏洩防止膜を透過する可視光を可視光検出器で検出して気体漏洩防止膜の視感度透過率、透過色相を連続測定する工程と、前記の測定した膜厚および視感度透過率、透過色相の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出し、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する工程を含むことを特徴とする気体漏洩防止フィルムの製造方法に係るものであり、上記の製造方法によって、フィルムの流れ方向に、膜厚、視感度透過率、透過色相、酸素透過度、組成等の均一性の高い気体漏洩防止フィルムを提供することができる。
また、連続走行する光透過性の可撓性基材の上に、少なくとも１層以上、気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する工程と、気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線を照射し、気体漏洩防止膜の表面から反射する反射Ｘ線と、基材と気体漏洩防止膜の界面から反射する反射Ｘ線との干渉をＸ線検出器で検出して、光学機能性膜の膜厚を連続測定する工程と、気体漏洩防止膜に、可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射し、気体漏洩防止膜を透過する可視光を可視光検出器で検出して気体漏洩防止膜の視感度透過率、透過色相を連続測定する工程と、前記の測定した膜厚および視感度透過率、透過色相の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出し、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する工程を含むことを特徴とする気体漏洩防止フィルムの製造方法を提供することができる。
また、筒状の可撓性基材を給紙する給紙部と、連続走行する光透過性の可撓性基材の上に、少なくとも１層以上の気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する真空成膜部と、気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線照射部と、気体漏洩防止膜から二次的に発生する、気体漏洩防止膜を構成する少なくとも一つ以上の元素の蛍光Ｘ線を検出する検出部とを有する膜厚測定装置と、気体漏洩防止膜に可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射する照射部と、気体漏洩防止膜を透過する可視光の検出部とを有する視感度透過率、透過色相測定装置と、前記の膜厚測定装置、及び、視感度透過率、透過色相測定装置の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出する演算処理部と、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する制御部と、前記の形成される気体漏洩防止フィルムの巻取部からなることを特徴とする気体漏洩防止フィルムの製造装置を提供することができる。
また、筒状の可撓性基材を給紙する給紙部と、連続走行する光透過性の可撓性基材の上に、少なくとも１層以上の気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する真空成膜部と、気体漏洩防止膜に気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線を照射し、気体漏洩防止膜の表面から反射する反射Ｘ線と、基材と気体漏洩防止膜の界面から反射する反射Ｘ線との干渉を検出する検出部とを有する膜厚測定装置と、気体漏洩防止膜に可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射する照射部と、気体漏洩防止膜を透過する可視光の検出部とを有する視感度透過率、透過色相測定装置と、前記の膜厚測定装置、及び、視感度透過率、透過色相測定装置の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出する演算処理部と、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する制御部と、前記の形成される気体漏洩防止フィルムの巻取部からなることを特徴とする気体漏洩防止フィルムの製造装置を提供することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について、詳細に説明する。
まず、本発明における気体漏洩防止フィルムの製造装置について、以下に説明する。
ここで、図１は本発明の気体漏洩防止フィルムの製造装置の一実施例を示す構成図である。
図１に示すように、本発明に係る気体漏洩防止フィルム製造装置は、筒状の可撓性基材を給紙する基材巻き出し部２と、連続走行する光透過性の可撓性基材１の上に、少なくとも１層以上、気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する反応室４と、気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生する、気体漏洩防止膜を構成する少なくとも一つ以上の元素のＸ線を照射する励起用Ｘ線源４０と、励起用Ｘ線源４０の照射量を調整するコリメーター４３と、気体漏洩防止膜から二次的に発生する蛍光Ｘ線を検出する蛍光Ｘ線検出器４１、又は、反射Ｘ線とを用いて、測定対象である気体漏洩防止膜の膜厚を演算する演算処理部とを有する膜厚測定装置と、気体漏洩防止膜に、可視光発生装置の光源４６と、スリット４７を通して、気体漏洩防止膜を透過する視感度透過率を検出する検出部４８とを有する視感度透過率測定装置と、前記の膜厚、視感度透過率の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出する演算処理部４９と、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する制御部５０と、前記の形成される気体漏洩防止フィルムを巻き取る基材の巻取部２´とからなるものである。
上記の装置において、蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出器４１を用いる代わりに、気体漏洩防止膜の表面から反射する反射Ｘ線と、基材と気体漏洩防止膜の界面から反射する反射Ｘ線の干渉波をＸ線検出器４１で検出して、干渉による振動の周期から膜厚を測定することができる。
前記の反射Ｘ線を検出する場合、Ｘ線を気体漏洩防止膜に照射する入射角を０度〜１０度で測定する必要がある以外は、蛍光Ｘ線を検出するのに用いる光源、検出器を使用することができる。
また、反射Ｘ線は、蛍光Ｘ線と比べて、膜厚の変化が１ｎｍ〜１０ｎｍ程度の場合の測定精度に優れ、同種の物質の薄膜を２層以上積層する場合であっても膜厚を測定することができ、干渉による振動の振幅から反射率に影響を与える膜の密度について測定することができるという利点を有するものである。
また、蛍光Ｘ線、或いは、反射Ｘ線の測定部としては、反転ローラの位置で、測定対象である気体漏洩防止性フィルムを測定すると、薄膜形成後の基材フィルム表平均面の距離が安定しているため、蛍光Ｘ線、或いは、反射Ｘ線の検出精度、値の再現性を向上させることができるという利点を有するものである。
また、蛍光Ｘ線、或いは、反射Ｘ線の測定部におけるローラ表面の材質としては、測定対象とする物質の固有Ｘ線のエネルギーと異なるクロム金属等でメッキしているロールを使用することで、蛍光Ｘ線、或いは、反射Ｘ線の検出精度を向上させることができるという利点を有するものである。
【０００７】
更に、本発明における気体漏洩防止フィルムの製造装置には、気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する前に、可撓性基材の表面に、火炎処理、薬品処理、粗面処理、グロー放電処理、赤外線ヒーター処理、加熱処理、プラズマ処理、コロナ処理など前処理を行う前処理部を有する製造装置とすることにより、可撓性基材の表面を改質し、含水率を一定化することで、気体漏洩防止膜の密着性や、品質安定性を向上させることができるため、好ましいものである。
【０００８】
次に、本発明における気体漏洩防止膜の膜厚測定法について、以下に詳細に説明する。
本発明における気体漏洩防止膜の膜厚測定法としては、例えばＷ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ａｕやその合金等をターゲットとしたＸ線管球から発生したＸ線をコリメーターで面積を制限し、励起源として気体漏洩防止膜に照射する。
このとき照射するＸ線のスポット径は、測定する面積及び要求されるフィードバックの精度によって規定され、特に限定されるものではないが、１〜５０ｍｍが好ましい。
また、気体漏洩防止膜を形成する原子を励起状態にする方法は特に制限されず、Ｘ線照射以外に、電子線照射、放射線照射、レーザー照射等が挙げられる。
薄膜を形成する原子は、Ｘ線等を照射されて励起状態になり、その後基底状態に戻るときに各元素に固有の蛍光Ｘ線を放出する。この放出された蛍光Ｘ線を分光し、検出部で検出する。
【０００９】
この分光、検出部としては、グラファイト、フッ化リチウム、塩化ナトリウム等の分光結晶や回折格子による回折現象を利用した分散型でも、測定Ｘ線のエネルギーに比例した出力をもつ検出器を使用する波高分析法による非分散型でもよい。
また、蛍光Ｘ線検出器としては、ガス増幅比例計数管、半導体検出器、シンチレーション検出器等を用いることができる。
【００１０】
ここで蛍光Ｘ線とは、各元素に固有な線スペクトル又はその一部によって構成されるＸ線であり、固有Ｘ線ともいう。この蛍光Ｘ線の波長としては、例えばＣｕのＫα線（固有Ｘ線の一種で電子がＬ殻からＫ殻の空準位へ遷移する時に放出されるＸ線）は１．５４２Å、ＭｏのＫα線は０．７１０Åであり、また、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、ＣａのＫα線の波長は、それぞれ８．３３９Å、７．１２６Å、９．８８９Å、３．３６０Åである。
【００１１】
気体漏洩防止膜を形成する元素の蛍光Ｘ線強度は、気体漏洩防止膜の質量膜厚と相関関係があり、前もって膜厚既知のサンプルで蛍光Ｘ線強度を測定して作製した検量線から、膜厚測定が可能となる。
質量膜厚とは、気体漏洩防止膜の形成前後で質量の差を測定し、質量差を気体漏洩防止膜の膜厚に換算した値をいう。
即ち、気体漏洩防止膜中に含まれる元素の内の主な元素の蛍光Ｘ線強度を測定することができる。
【００１２】
また、本発明に係る膜厚測定部において、気体漏洩防止膜の蛍光Ｘ線を検出する代わりに、反射Ｘ線を検出することができる。
ここで、反射Ｘ線とは、入射角度を臨界角以上にしたときに、入射されたＸ線の内、物質表面で反射されるものをいう。
また、入射Ｘ線は、臨界角以上で物質内部に侵入するようになり、このとき物質内部に屈折率の異なる層を積層していると、各層で反射されたＸ線がある角度において干渉し強め合ったり、弱めあったりし、反射Ｘ線の干渉による振動が現れる。
【００１３】
気体漏洩防止膜の反射Ｘ線は、気体漏洩防止膜の膜厚や密度と相関関係があり、  この反射Ｘ線の干渉の周期から、薄膜の膜厚を測定することができ、この反射Ｘ線の干渉の振幅から薄膜の密度を測定することができる。
即ち、気体漏洩防止膜に入射するＸ線の干渉度合いから薄膜の膜厚や密度を測定することができる。
【００１４】
連続走行する光透過性のプラスティック基材の上に、少なくとも１層以上、気体漏洩防止膜をプラズマＣＶＤ法にて形成する工程で、気体漏洩防止膜の膜厚測定を連続的に行い、その測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出し、気体漏洩防止フィルムの製造条件を調整することができるものである。
【００１５】
成膜条件としては、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度等が挙げられる。
即ち、膜厚が増加しつつあるときには、成膜条件として、例えば、（１）基材の走行スピードを上げる。（２）印加電力を下げる。（３）原料ガスの流量を下げる。（４）成膜圧力を下げる（５）基材の温度を上げて調整することができる。
一方、膜厚が減少しつつあるときには、例えば、（１）基材の走行スピードを下げる。（２）印加電力を上げる。（３）原料ガスの流量を上げる。（４）成膜圧力を上げる。（５）基材の温度を下げて調整することができる。
上記のように、気体漏洩防止膜の膜厚測定結果から成膜条件を調整することにより、フィルム基材の流れ方向の膜厚のばらつきを抑え、膜厚を一定に保つことができる。
【００１６】
次に、本発明における気体漏洩防止性の視感度透過率測定法について、以下に詳細に説明する。
本発明における気体漏洩防止膜の視感度透過率測定法としては、例えば可視光検出部で検出する。
ここで、可視光発生装置の光源としては、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、水銀キセノンランプ、重水素ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンショートアークランプ、キセノンフラッシュランプ等が挙げられる。
また、可視光の検出部としては、フォトダイオードアレイ、光電子増倍管（ＰＭＴ）、電荷結合素子（ＣＣＤ）等が挙げられる。
【００１７】
気体漏洩防止膜の視感度透過率は、気体漏洩防止膜の膜厚と相関関係があり、前もって膜厚既知のサンプルで視感度透過率を測定して作製した検量線から、膜厚測定が可能となる。
【００１８】
成膜条件としては、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度等が挙げられる。
即ち、視感度透過率が増加しつつあるときには、成膜条件として、例えば、（１）基材の走行スピードを下げる。（２）印加電力を上げる。（３）原料ガスの流量を上げる。（４）成膜圧力を上げる。（５）基材の温度を下げて調整することができる。
一方、視感度透過率が減少しつつあるときには、（１）基材の走行スピードを上げる。（２）印加電力を下げる。（３）原料ガスの流量を下げる。（４）成膜圧力を下げる。（５）基材の温度を上げて調整することができる。
上記のように、気体漏洩防止膜の視感度透過率の測定結果から成膜条件を調整することにより、フィルム基材の流れ方向の視感度透過率のばらつきを抑え、視感度透過率を一定に保つことができる。
また、この気体漏洩防止膜上に透過導電膜を形成する際には、表面抵抗モニターを用いることで、一定の導電率を示す膜が得られる。
これは、導電率が膜厚と相関関係にあるためである。
このため、この装置を組み込んでいることが好ましい。
【００１９】
ここで、図１は本発明の気体漏洩防止フィルム製造装置の一実施例を示す構成図である。
本発明に係る気体漏洩防止フィルムの製造方法としては、まず、ウエッブ状の高分子フィルム（可撓性基材）１が基材巻き出し部２より巻きだされて、真空容器３中のプラズマＣＶＤの反応室４に導入される。
この真空容器３の全体は、真空ポンプ５により排気される。また、同時に反応室４には、原料ガス導入口６より規定流量の原料ガスが供給され、反応室４の内部は、常に一定圧力のこれらのガスで満たされている。
【００２０】
次に、基材巻き出し部２より巻き出され、反応室４に導入された高分子フィルム１は、反転ロール７を経て、成膜用ドラム８に巻き付き、成膜用ドラム８の回転と同期しながら反転ロール７’の方向に送られていく。
次に、電極９と成膜用ドラム８との間には、電源１０によりＲＦ電圧が印加される。
このとき、電源の周波数は、ラジオ波に限らず、直流からマイクロ波まで適当な周波数を使用することも可能である。
そして、電極９と成膜用ドラム８の間にＲＦ電圧を印加することにより、この両電極の周辺にプラズマ１１が発生する。
そして、このプラズマ１１中で原料ガスが反応し、化合物を生成して成膜用ドラム８に巻き付いた高分子フィルム１上に堆積して、気体漏洩防止膜１２が形成される。
【００２１】
次に、励起用Ｘ線源から発生させた励起用Ｘ線をコリメーターでその直径を制限しながら、高分子フィルム１上の気体漏洩防止膜１２に照射し、その時に放出される蛍光Ｘ線の強度、又は、反射Ｘ線をＸ線検出器で測定する。
また、分光光度計で、所定波長λ、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの入射光束で、スリット幅を制限しながら、高分子フィルム１上の気体漏洩防止膜１２に照射し、その時に視感度透過率を測定する。
その後、気体漏洩防止膜１２が表面に形成された高分子フィルム１は、反転ロール７’を経て、基材巻き取り部２’で巻き取られる。
この得られた膜厚データと視感度透過率のデータとをパソコンに入れ、目標値との差を基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度等へフィードバックしながら気体漏洩防止フィルムの製造を行うことができる。
【００２２】
次に、本発明で使用する基材フィルム３３としては、連続的に走行させて、その表面にロールコーターを用いた真空成膜法による気体漏洩防止膜を形成させる必要があることから、透明性、フィルム強度、可撓性、引張り強度があれば特に限定されないが、具体的には、トリアセチルセルロース樹脂、ジアセチルセルロース樹脂、アセテートブチレートセルロース樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリリレート樹脂、エーテルアクリレート樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エーテル樹脂、トリメチルペンテン樹脂、エーテルケトン樹脂、アクリロニトリル樹脂、メタクリロニトリル樹脂、エチレン樹脂、プロピレン樹脂、ブテン樹脂等のオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、エチレン２，６−ナフタレート樹脂等のポリエステル樹脂、ナイロン６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポリアミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラート樹脂、ポリアリレート樹脂、エチレン−四フッ化エチレン共重合体、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、フッ化ビニリデン樹脂、フッ化ビニル樹脂、パ−フルオロエチレン−パ−フルオロプロピレン−パーフルオロビニルエーテル共重合体等のフッ素系樹脂等の樹脂のフィルム、または、１種ないしそれ以上からなる樹脂をラミネート、またはコーティング等の手段によって積層させた積層フィルム等が挙げられる。
さらに、中でも、一軸または二軸延伸ポリエステルフィルムが透明性、耐熱性に優れ、好適に用いられ、光学異方性のない点でトリアセチルセルロースも好適に用いられる。プラスティックフィルムの厚みは、通常は６μｍ〜１８８μｍ程度のものが好適に用いられる。
【００２３】
さらに、本実施態様では、基材層として、例えば、紙層を構成する各種の紙基材を使用することができる。
具体的には、賦形性、耐屈曲性、剛性等をもたせた紙基材であり、例えば、強サイズ性の晒または未晒の紙基材、あるいは純白ロール紙、クラフト紙、板紙、加工紙等の紙基材を使用することができる。このような紙基材としては、坪量約８０〜６００ｇ／ｍ２程度のもの、好ましくは、坪量約１００〜４５０ｇ／ｍ２程度のものを使用することが望ましい。
また、本実施態様では、基材層として、上述の樹脂のフィルムと上述の紙基材とを併用して使用することもできる。
【００２４】
次に、本発明で使用する気体漏洩防止膜１２としては、気体漏洩防止性を有するものであれば特に制限はない。その材料としては、具体的に、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、亜鉛、金、銀、銅等の金属、硅素、ゲルマニウム、炭素等の半導体、酸化アルミニウム、酸化硅素、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ハフニウム、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛等の酸化物、錫ドープ酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム、ガリウム添加酸化亜鉛、銀添加ＩＴＯ等の複合酸化物、シリカ−アルミナ等の混合酸化物、窒化珪素、窒化チタン、窒化アルミニウム等の窒化物、硫化物、或いは、酸化窒化珪素などの窒化酸化物が挙げられる。また、色についても特に無色である必要はない。
本発明における気体漏洩防止膜は、主として可撓性基材と無機薄膜よりなるものであるが、さらに、無機薄膜上に従来公知の接着剤を設け、その上にプラスチックフィルムを積層させたもの等でもよい。
気体漏洩防止膜の形成方法としては、真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法、イオンプレーティング法もしくはスパッタリング法等のドライプロセスにより形成することができる。
例えば蒸着法とは、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子線やイオンビーム等のビーム加熱等により、るつぼに入った材料を加熱、蒸発させて可撓性基材（プラスチックフィルム等）に付着させ、薄膜を得る方法である。その際、材料、目的等により加熱温度、加熱方法が異なり、酸化反応等を起こさせる反応性蒸着法も使用できる。
また、スパッタリング法とは、真空槽内に放電ガス（アルゴン等）を導入し、ターゲットと可撓性基材（プラスチックフィルム等）との間に高周波電圧あるいは直流電圧を加えて放電ガスをプラズマ化し、ターゲットに衝突させることでターゲット材料を飛ばし、基板に付着させて薄膜を得る方法である。また、酸素等の反応ガスを導入して酸化反応を起こさせる反応性スパッター法を用いることもある。ＣＶＤ法についても同様である。
【００２５】
上述した気体漏洩防止フィルム３６に、さらに他の層を積層して積層材とするができる。
ここに積層される他の層は、用いられる用途に応じて種々のものを用いることが可能であり特に限定されるものではないが、上述した気体漏洩防止フィルムの特性を有効に活かすことができる積層材として、上記の気体漏洩防止フィルムにヒートシール性樹脂層を積層する積層材、および、導電性層を積層する積層材について、以下説明する。
【００２６】
図２は、本発明の第１実施態様を示す概略断面図である。図２において積層材３０は、基材フィルム３３の一方の面に気体漏洩防止層１２を備えた気体漏洩防止フィルム３６と、この気体漏洩防止フィルム３６の気体漏洩防止層１２上にアンカーコート剤層、および／または、接着剤層３１を介して形成したヒートシール性樹脂層３２とを備えている。
【００２７】
図３は、本発明の第２実施態様を示す概略断面図である。図３において積層材３０は、基材３３と基材３３上に形成された気体漏洩防止層１２とからなる気体漏洩防止フィルム３６上に導電性層３４が形成されてなるものであるが、図３に示すように気体漏洩防止層１２と基材３３との間に上述したように気体漏洩防止層１２の密着性を向上させるためのアンカーコート剤層３１が形成されていてもよい。また、気体漏洩防止層１２上にオーバーコート層３５が形成されていてもよい。
【００２８】
次に、本発明で使用する気体漏洩防止フィルム３６には、最内層に、熱によって溶融し相互に融着し得るヒートシール性樹脂層３２を設けてよい。
具体的には、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリブテンポリマー、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ（メタ）  アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等を使用することができる。ヒートシール性樹脂層３２は、上述のようなヒートシール性樹脂を塗布して形成してもよく、また、上述のようなヒートシール性樹脂からなるフィルムないしシートをラミネートして形成してもよい。このようなヒートシール性樹脂層３２の厚みは、５〜３００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲内で設定することができる。
【００２９】
積層材３０を構成するアンカーコート剤層３１は、例えば、アルキルチタネート等の有機チタン系アンカーコート剤、イソシアネート系アンカーコート剤、ポリエチレンイミン系アンカーコート剤、ポリブタジエン系アンカーコート剤等を使用して形成することができる。アンカーコート剤層３１の形成は、上記のようなアンカーコート剤を、例えば、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレイコート等の公知のコーティング法でコーティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥除去して行うことができる。上記のアンカーコート剤の塗布量としては、０．１〜５ｇ／ｍ２（乾燥状態）程度が好ましい。
また、積層材３０を構成する接着剤層３１は、例えば、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、エポキシ系、ポリ（メタ）アクリル系、ポリ酢酸ビニル系、ポリオレフィン系、カゼイン、ワックス、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、ポリブタジエン系等のビヒクルを主成分とする溶剤型、水性型、無溶剤型、あるいは、熱溶融型等の各種のラミネート用接着剤を使用して形成することができる。接着剤層３１の形成は、上記のようなラミネート用接着剤を、例えば、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、デッブコート、スプレイコート、その他のコーティング法でコーティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥除去して行うことができる。上記のラミネート用接着剤の塗布量としては０．１〜５ｇ／ｍ２（乾燥状態）程度が好ましい。
【００３０】
次に、上記の積層材を用いた包装用容器について説明する。
具体的には、包装用容器が軟包装袋の場合、上記の積層材のヒートシール性樹脂層の面を対向させて折り重ねるか、あるいは、積層材二枚を重ね合わせ、その周辺端部を、例えば、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型（ピローシール型）、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型、その他等のヒートシール形態により熱融着してシール部を形成することにより、本発明にかかる種々の形態の包装用容器を製造することができる。
上記において、熱融着は、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シール等の公知の方法で行うことができる。
包装用容器は、１組の積層材３０を、そのヒートシール性樹脂層３２が対向するように重ね合わせ、この状態で周辺部の三方において熱融着を行ってシール部を形成したものである。
この包装用容器は、周辺部の残りの一方に形成された開口部から内容物を充填することができる。そして、内容物を充填した後に、上記開口部を熱融着してシール部を形成することにより、内容物を充填包装した包装用容器とすることができる。
本実施態様の包装用容器は、上記の他に、例えば、自立性包装袋（スタンデイングパウチ）等も可能であり、さらに、本発明の積層材を使用してチューブ容器等も製造できる。
なお、包装用容器に、例えば、ワンピースタイプ、ツーピースタイプ、その他の注出口、あるいは開閉用ジッパー等を任意に取り付けることができる。
本実施態様の包装用容器は、種々の飲食品、接着剤、粘着剤等の化学品、化粧品、医薬品、ケミカルカイロ等の雑貨品、その他等の種々の物品に対する充填包装に使用されるものである。
【００３１】
また、図３に示す本発明の第２実施態様に用いられる導電性層３４は、例えばＩＴＯ膜が用いられ、これらはスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法により形成される。本実施態様においては、中でも導電性の面内均一性を得るためにスパッタ法で得られたＩＴＯ膜が好ましい。
この導電性層３４の膜厚は組成および用途等により大幅に変化するものであるが、通常１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内で形成される。
この導電性層３４は、シート抵抗値が０〜５０Ω／□、全光線透過率が８５％以上といった特性を有するものであることが好ましい。
このような導電性層３４は、例えば液晶表示装置であれば液晶駆動用の透明電極として用いることができる。
この導電性層３４と基材との密着性を向上させるために、導電性層３４と基材との層間にアンカーコート剤層が形成されていてもよい。
【００３２】
さらに、本発明に用いられるオーバーコート層３５としては、融点５０℃以上のエポキシアクリレートプレポリマーあるいは融点５０℃以上のウレタンアクリレートプレポリマーの紫外線硬化膜等を用いることができ、液晶等の表示媒体用途としての特性を満足出来れば、熱的により安定な熱硬化型を用いても良い。しかしながら、生産性に優れた紫外線硬化型樹脂がより好ましい。当然ながら、高分子フィルムや無機層との密着力は不可欠であり、可撓性、耐薬品性が優れている事が必要である。この目的のためには、通常行われているプライマー層を設けても良い。
【００３３】
上記の第２実施態様に示す積層材３０を基材として用い、上記導電性層３４上に画像表示層が形成されて画像表示装置に使用することができるものである。
このような画像表示装置としては、液晶表示装置のようなバックライトの明るさをシャッターすることにより階調をつけて表示を行う非発光型ディスプレイと、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ）のように蛍光体を何らかのエネルギーによって光らせて表示を行う自己発光型ディスプレイとを挙げることができる。
上記画像表示媒体が液晶表示装置である場合、上記画像表示層は液晶層を示すものであり、また上記画像表示媒体が上述したような自己発光型のディスプレイの場合は、蛍光体を有する蛍光体層が上記画像表示層に該当する。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００３４】
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
（実施例１）高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、プラズマＣＶＤ法により１２μｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、炭素含有酸化シリコン層（気体漏洩防止層）の形成を行った。
このときの製造条件の設定値（初期値）としては、基材フィルムの走行スピードを１０ｍ／ｍｉｎ、印加電力を１ｋＷ、原料ガス（ヘキサメチレンジシロキサン）の流量を５００ｓｃｃｍ、成膜圧力を１０Ｐａとし、目標膜厚を１０ｎｍ、目標視感度透過率を９２％とした。
上記のガス流量単位ｓｃｃｍは、ｓｔａｎｄａｒｄ    ｃｕｂｉｃ    ｃｍ    ｐｅｒ    ｍｉｎｕｔｅのことである。
気体漏洩防止膜の膜厚の連続測定としてＸ線管から発生させた白色Ｘ線を、コリメーターで直径３０ｍｍに制限し、炭素含有酸化シリコン層に照射した。
このとき、気体漏洩防止膜を形成するシリコン原子は励起状態となり、その後基底状態に戻るときに波長７．１２６Åの蛍光Ｘ線を放出した。
この強度をシンチレーションカウンターで測定し、前もって用意していた検量線により自動的に膜厚値および視感度透過率の測定値に換算できるようにした。
この膜厚および視感度透過率の測定値の出力をパソコンにいれ、目標値との差を基材フィルムの走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上の製造条件を自動調整しながら、炭素含有酸化シリコン層（気体漏洩防止層）の形成を行い、気体漏洩防止フィルムを得た。
【００３５】
このような製造方法で得られる気体漏洩防止フィルムを、プラズマＣＶＤ法による膜形成の開始位置から０ｍ〜１０００ｍ間を２００ｍ毎に、気体漏洩防止膜の膜厚、視感度透過率、組成をインライン測定し、酸素透過度をオフライン測定した、その結果を表１に示す。
【００３６】（測定結果）
【表１】
2004285409.tif 000003
表１に表される気体漏洩防止膜の測定結果のように、幅方向、流れ方向共にの膜厚、視感度透過率、酸素透過度、組成が均一な長尺気体漏洩防止フィルムが得られた。また、水蒸気バリア性に関しても同様の効果を得た。
【００３７】（気体漏洩防止膜測定に使用した装置）
膜厚測定                蛍光Ｘ線分析装置
酸素透過率測定  酸素透過率測定装置
型番            ＯＸ−ＴＲＡＮ１００        メーカー  モダンコントロールズ社
組成分析        光電子分光法分析装置
型番                      ＥＳＣＡ  ＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ    メーカー    ＶＧ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ
【００３８】
上記で得られた気体漏洩防止フィルムに、さらに、厚さ４０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルム（ＯＰＰフィルム）を、二液硬化型ポリウレタン系接着剤（厚さ３μｍ）を用いてドライラミネートし、４０℃×３０分間エージングし、ボイル用積層材を得た。
次いで、得られた積層体を用いて１３０ｍｍ×１７０ｍｍの大きさに２枚切り取り、ＣＰＰを相対向するように配置し、縦２辺、横１辺を１０ｍｍ幅で熱圧着（条件２００℃、２ｋｇ／ｃｍ２、０．５秒）してスタンディングパウチを得た。
次いで、水１００ｇを充填し、プレスシ−ルを行い、半製品を製造した。
この得られたパウチに対してボイル処理（８０℃×３０分）をした後、酸素透過度を測定した。その結果、ボイル処理後の酸素バリア性及び水蒸気バリア性が良好で、フィルムの流れ方向に酸素バリア性及び水蒸気バリア性の均一なスタンディングパウチが得られた。
【００３９】（実施例２）
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、プラズマＣＶＤ法により１８８μｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、炭素含有酸化シリコン層（気体漏洩防止層）の形成を行い、更に、その上に、スパッタリング法で酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）層を形成した。
このときの製造条件の設定値（初期値）としては、基材フィルムの走行スピードを１０ｍ／ｍｉｎ、印加電力を１ｋＷ、原料ガス（テトラメトキシシラン）の流量を１００ｓｃｃｍ、成膜圧力を１０Ｐａとし、炭素含有酸化シリコン層の目標膜厚を１００ｎｍ、目標視感度透過率を９３％とし、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）層の目標膜厚を１２０ｎｍ、目標視感度透過率を８８％とした。
上記のガス流量単位ｓｃｃｍは、ｓｔａｎｄａｒｄ    ｃｕｂｉｃ    ｃｍ    ｐｅｒ    ｍｉｎｕｔｅのことである。
気体漏洩防止膜の膜厚の連続測定としてＸ線管から発生させた白色Ｘ線を、コリメーターで直径３０ｍｍに制限し、炭素含有酸化シリコン層に照射した。
このとき、気体漏洩防止膜を形成するシリコン原子、インジウム原子は励起状態となり、その後基底状態に戻るときにそれぞれ波長７．１２６Å、３．７８Åの蛍光Ｘ線を放出した。
このシリコン原子及びインジウム原子の蛍光Ｘ線強度をシンチレーションカウンターで測定し、前もって用意していた検量線により自動的に膜厚値および視感度透過率に換算できるようにした。
この膜厚および視感度透過率の測定値の出力をパソコンにいれ、目標値との差を基材フィルムの走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上の製造条件を自動調整しながら、炭素含有酸化シリコン層（気体漏洩防止層）の形成を行い、気体漏洩防止フィルムを得た。
【００４０】
このような製造方法で得られる気体漏洩防止フィルムを、プラズマＣＶＤ法による膜形成の開始位置から０ｍ〜１０００ｍ間を２００ｍ毎に、気体漏洩防止膜の膜厚、視感度透過率、組成をインライン測定し、酸素透過率をオフライン測定した、その結果を表２に示す。
【００４１】（測定結果）
【表２】
2004285409.tif 000004
表２に表される気体漏洩防止膜の測定結果のように、幅方向、流れ方向共にの膜厚、視感度透過率、酸素透過度、組成が均一な長尺気体漏洩防止フィルムが得られた。また、水蒸気透過度に関しても、同様な効果が得られた。
【００４２】（実施例３）
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、プラズマＣＶＤ法により１２μｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、炭素含有酸化シリコン層（気体漏洩防止層）の形成を行った。
このときの製造条件の設定値（初期値）としては、基材フィルムの走行スピードを１０ｍ／ｍｉｎ、印加電力を１ｋＷ、原料ガス（ヘキサメチレンジシロキサン）の流量を５００ｓｃｃｍ、成膜圧力を１０Ｐａとし、目標膜厚を１０ｎｍ、目標視感度透過率を９２％とした。
上記のガス流量単位ｓｃｃｍは、ｓｔａｎｄａｒｄ    ｃｕｂｉｃ    ｃｍ    ｐｅｒ    ｍｉｎｕｔｅのことである。
気体漏洩防止膜の膜厚の連続測定としてＸ線管を用いて発生させた白色Ｘ線から固有Ｘ線を抽出し、幅１ｍｍのスリットで制限し、入射角を０〜１０°で炭素含有酸化シリコン層に照射した。
このとき、気体漏洩防止膜の表面及び基材と該薄膜の界面において入射Ｘ線が反射し、干渉が起こる。
この強度をシンチレーションカウンターで測定し、前もって用意していた検量線により自動的に膜厚値および視感度透過率の測定値に換算できるようにした。
この膜厚および視感度透過率の測定値の出力をパソコンにいれ、目標値との差を基材フィルムの走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上の製造条件を自動調整しながら、炭素含有酸化シリコン層（気体漏洩防止層）の形成を行い、気体漏洩防止フィルムを得た。
【００４３】
このような製造方法で得られる気体漏洩防止フィルムを、プラズマＣＶＤ法による膜形成の開始位置から０ｍ〜１０００ｍ間を２００ｍ毎に、気体漏洩防止膜の膜厚、視感度透過率、組成をインライン測定し、酸素透過度をオフライン測定した、その結果を表３に示す。
【００４４】（測定結果）
【表３】
2004285409.tif 000005
表３に表される気体漏洩防止膜の測定結果のように、幅方向、流れ方向共にの膜厚、視感度透過率、酸素透過度、組成が均一な長尺気体漏洩防止フィルムが得られた。また、水蒸気透過度に関しても、同様な効果が得られた。
【００４５】（気体漏洩防止膜測定に使用した装置）
膜厚測定                反射Ｘ線分析装置
酸素透過率測定  酸素透過率測定装置
型番            ＯＸ−ＴＲＡＮ１００        メーカー  モダンコントロールズ社
組成分析        光電子分光法分析装置
型番                      ＥＳＣＡ  ＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ    メーカー    ＶＧ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ
【００４６】（実施例４）
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、プラズマＣＶＤ法により１８８μｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、気体漏洩防止層として、炭素含有酸化シリコン層の形成を行い、更に、その上に、スパッタリング法で酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）層を形成した。
このときの製造条件の設定値（初期値）としては、基材フィルムの走行スピードを１０ｍ／ｍｉｎ、印加電力を１ｋＷ、原料ガス（テトラメトキシシラン）の流量を１００ｓｃｃｍ、成膜圧力を１０Ｐａとし、炭素含有酸化シリコン層の目標膜厚を１００ｎｍ、目標視感度透過率を９３％とし、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）層の目標膜厚を１２０ｎｍ、目標視感度透過率を８８％とした。
上記のガス流量単位ｓｃｃｍは、ｓｔａｎｄａｒｄ    ｃｕｂｉｃ    ｃｍ    ｐｅｒ    ｍｉｎｕｔｅのことである。
気体漏洩防止膜の膜厚の連続測定としてＸ線管を用いて発生させた白色Ｘ線から固有Ｘ線を抽出し、幅１ｍｍのスリットで制限し、入射角を０〜１０°で気体漏洩防止膜の表面に照射した。
このとき、気体漏洩防止膜の表面（ＩＴＯ層）、炭素含有酸化シリコン層、及び基材と該薄膜の界面において入射Ｘ線が反射し、干渉が起こる。
この強度をシンチレーションカウンターで測定し、前もって用意していた検量線により自動的に膜厚値および視感度透過率の測定値に換算できるようにした。
この膜厚および視感度透過率の測定値の出力をパソコンにいれ、目標値との差を基材フィルムの走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上の製造条件を自動調整しながら、炭素含有酸化シリコン層（気体漏洩防止層）の形成を行い、気体漏洩防止フィルムを得た。
【００４７】
このような製造方法で得られる気体漏洩防止フィルムを、プラズマＣＶＤ法による膜形成の開始位置から０ｍ〜１０００ｍ間を２００ｍ毎に、気体漏洩防止膜の膜厚、視感度透過率、組成をインライン測定し、酸素透過率をオフライン測定した、その結果を表４に示す。
【００４８】（測定結果）
【表４】
2004285409.tif 000006
表４に表される気体漏洩防止膜の測定結果のように、幅方向、流れ方向共にの膜厚、視感度透過率、酸素透過度、組成が均一な長尺気体漏洩防止フィルムが得られた。また、水蒸気透過度に関しても、同様な効果が得られた。
【００４９】（気体漏洩防止膜測定に使用した装置）
膜厚測定                反射Ｘ線分析装置
酸素透過率測定  酸素透過率測定装置
型番            ＯＸ−ＴＲＡＮ１００        メーカー  モダンコントロールズ社
組成分析        光電子分光法分析装置
型番                      ＥＳＣＡ  ＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ    メーカー    ＶＧ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ
【００５０】
上記で得られた実施例１〜４の気体漏洩防止フィルムに、さらに、厚さ４０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルム（ＯＰＰフィルム）を、二液硬化型ポリウレタン系接着剤（厚さ３μｍ）を用いてドライラミネートし、４０℃×３０分間エージングし、ボイル用積層材を得た。
次いで、得られた積層体を用いて１３０ｍｍ×１７０ｍｍの大きさに２枚切り取り、ＣＰＰを相対向するように配置し、縦２辺、横１辺を１０ｍｍ幅で熱圧着（条件２００℃、２ｋｇ／ｃｍ２、０．５秒）してスタンディングパウチを得た。
次いで、水１００ｇを充填し、プレスシ−ルを行い、半製品を製造した。
この得られたパウチに対してボイル処理（８０℃×３０分）をした後、酸素透過度を測定した。その結果、ボイル処理後の酸素バリア性及び水蒸気バリア性が良好で、フィルムの流れ方向に酸素バリア性及び水蒸気バリア性の均一なスタンディングパウチが得られた。
【００５１】（比較例１）
実施例１と同様にしてプラズマＣＶＤ法で炭素含有酸化シリコン薄膜フィルム（気体漏洩防止フィルム）を作製したが、特に膜厚測定と視感度透過率測定による製造条件への自動調整は行わず、目標膜厚は目標膜厚を１０ｎｍ、目標視感度透過率を９２％とした。
実施例１と同様に膜形成の開始位置から０ｍ〜１０００ｍ間を２００ｍ毎に、気体漏洩防止膜の膜厚、視感度透過率、組成をインライン測定し、酸素透過度をオフライン測定した。その結果を表５に示す。
【００５２】（測定結果）
【表５】
2004285409.tif 000007
表５に表される気体漏洩防止膜の測定結果のように、膜厚、視感度透過率、酸素透過度、組成が幅方向には均一であるが、流れ方向に不均一な長尺気体漏洩防止フィルムが得られた。
【００５３】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明は、連続走行する光透過性の可撓性基材の上に、少なくとも１層以上、気体漏洩防止膜を真空成膜法にて形成する工程と、気体漏洩防止膜にＸ線発生装置の発生するＸ線を照射し、気体漏洩防止膜から二次的に発生する蛍光Ｘ線、又は、反射Ｘ線を検出器で検出して、膜厚を連続測定する工程と、気体漏洩防止膜に、可視光発生装置の発生する可視光線（波長λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を照射し、気体漏洩防止膜を透過する可視光を可視光検出器で検出して気体漏洩防止膜の視感度透過率を連続測定する工程と、前記の測定した膜厚および視感度透過率の測定結果が、その目標値となるように測定結果と目標値との差を算出し、気体漏洩防止フィルムの製造条件として、基材の走行スピード、印加電力、原料ガスの流量、成膜圧力、又は、基材の温度のうち、少なくとも１つ以上、調整する工程を含むことを特徴とする気体漏洩防止フィルムの製造方法によって、フィルムの流れ方向に、膜厚、視感度透過率、酸素透過度、組成等の均一性が高い気体漏洩防止フィルムを生産性良く提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る実施例のプラズマＣＶＤ法による気体漏洩防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【図２】本発明に係る気体漏洩防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図である。
【図３】本発明に係る気体漏洩防止フィルムの別態様である層構成を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１、３３  基材フィルム（高分子フィルム）
２  基材巻きだし部
２’    基材巻き取り部
３  真空容器
４  反応室
５  真空ポンプ
６  原料ガス導入口
７、７’    反転ロール
８  成膜用ドラム
９  電極
１０  電源
１１  プラズマ
１２  気体漏洩防止膜
３０  積層材
３１  接着層、および／または、アンカーコート層
３２  ヒートシール性樹脂層
３４  導電性層
３５  オーバーコート層
３６    気体漏洩防止フィルム
３８  可視光線（入射光）
３９´可視光線（透過光）
４０    励起用Ｘ線源
４１    固有Ｘ線検出器
４２    シャッター
４３    コリメーター
４４    励起用Ｘ線
４５    蛍光Ｘ線、または、反射Ｘ線
４６  光源
４７  スリット
４８  可視光検出器
４９  演算処理装置
５０  制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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