(57)【要約】【課題】有害ガス成分を溶解可能でありかつ溶解した有害ガス成分を放出可能な液体に有害ガス成分を含む気体を通過させた後に、当該気体に含まれる有害ガス成分を浄化する方法において、液体に通過させた後の気体に含まれる有害ガス成分の量を一定量以下に制限しやすくする。【解決手段】排気ガス排出経路４を通じて容器３に貯留された液体７に供給される、有害ガス成分を含む排気ガスは、液体７を通過するときに、有害ガス成分の一部が液体７に溶解し、有害ガス成分濃度が調節された状態で容器３から浄化器５に供給される。液体７は、冷却装置６により所定の温度以下に制御されるため、有害ガス成分を溶解し易い状態に維持される。したがって、浄化器５は、そこでの浄化処理能力を超えない濃度の有害ガス成分が供給されるので、有害ガス成分を安定に浄化することができる。【選択図】　　　　図１
2004081980.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有害ガス成分を含む気体を浄化するための気体浄化装置であって、
前記有害ガス成分を溶解可能でありかつ溶解した前記有害ガス成分を放出可能な液体を貯留するための貯留手段と、
前記貯留手段に貯留された前記液体中に前記気体を供給するための気体供給手段と、
前記貯留手段からの前記気体中に含まれる前記有害ガス成分を浄化するための浄化手段と、
前記貯留手段に貯留された前記液体を冷却するための冷却手段と、
を備えた気体浄化装置。
【請求項２】
前記冷却手段は、前記貯留手段に貯留された前記液体の一部を新たな前記液体により置換する、請求項１に記載の気体浄化装置。
【請求項３】
前記冷却手段は、前記貯留手段に貯留された前記液体の一部を前記貯留手段の外部に排出するための排出手段と、前記排出手段を通じて排出された前記液体を冷却した後に前記貯留手段に還流させるための還流手段とを備えている、請求項１または２に記載の気体浄化装置。
【請求項４】
前記冷却手段は、前記貯留手段に貯留された前記液体の温度を検出するための温度検出手段を備えている、請求項１、２または３に記載の気体浄化装置。
【請求項５】
前記浄化手段は、触媒を用いて前記有害ガス成分を浄化する、請求項１、２、３または４に記載の気体浄化装置。
【請求項６】
有害ガス成分を含む気体を浄化するための気体浄化方法であって、
前記有害ガス成分を溶解可能でありかつ溶解した前記有害ガス成分を放出可能な液体中に前記気体を供給する工程と、
前記液体を通過した前記気体に含まれる前記有害ガス成分を浄化処理する工程と、
前記液体が所定温度以下になるよう制御する工程と、
を含む気体浄化方法。
【請求項７】
前記気体に含まれる前記有害ガス成分を触媒を用いて浄化処理する、請求項６に記載の気体浄化方法。
【請求項８】
前記有害ガス成分がエチレンオキサイドガスであり、前記液体が水である、請求項６または７に記載の気体浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、気体浄化装置および気体浄化方法、特に、有害ガス成分を含む気体を浄化するための気体浄化装置および気体浄化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
病院等において実施される滅菌方法として、エチレンオキサイドガスを用いる方法が知られている。この方法により被処理物を滅菌処理する場合は、チャンバー内に医療器具等の被処理物を配置し、そのチャンバー内にエチレンオキサイドガスを注入する。そして、一定時間の経過後、チャンバーからエチレンオキサイドガスを放出し、チャンバーから被処理物を取り出す。
【０００３】
ところで、上述のような滅菌方法において用いられるエチレンオキサイドガスは、発ガン性を有し、また、慢性および急性中毒症状を引き起こす可能性がある人体および生体に有害な物質であり、しかも環境汚染を引起す可能性があるため、チャンバーから直接大気中に放出するのではなく、浄化処理を施してから大気中に放出する必要がある。そこで、この滅菌方法においては、チャンバーから放出されるエチレンオキサイドガスを酸化触媒等の触媒を用いた浄化装置により処理し、二酸化炭素や水蒸気に分解してから大気中に放出する方法がある。
【０００４】
しかしながら、触媒を用いた浄化装置は、使用する触媒の量や触媒の能力等に応じ、単位時間当たりに浄化できるエチレンオキサイドガスの量に限界がある。したがって、浄化装置の処理能力を超える量のエチレンオキサイドガスがチャンバーから一時的に排出されると、高濃度のエチレンオキサイドガスが浄化装置の触媒反応部で酸化反応し、その反応温度で触媒反応部の温度が異常に上昇して触媒の耐熱温度を超える場合がある。この場合、浄化装置では、触媒の劣化、装置各所の劣化が生じる。また、浄化装置は、爆発下限界を超える濃度のエチレンオキサイドガスの供給を受ける場合があり、その場合は安全な処理が困難になる。
【０００５】
このため、上述の方法では、浄化装置の処理能力を超えるエチレンオキサイドガスがチャンバーから一時的に排出される場合に備え、エチレンオキサイドガスの触媒への流入濃度を低減するための希釈エア量の増加、触媒量の増加、希釈エア増加分に対応したヒーター容量の増大が必要となる。すなわち、浄化装置は、エチレンオキサイドガスの最大排出量にあわせた処理能力の設定が必要になるが、そのようにすると浄化装置が複雑化し、また、大型化してしまう。
【０００６】
そこで、上述のような問題点を解決するための有害ガス浄化装置として、ＷＯ９９／６１１３７公報には、エチレンオキサイドガス等の有害ガス成分を含む気体の供給手段と、供給された気体中の有害ガス成分を一旦溶解し、溶解した有害ガス成分を後に放出する液体を用いた緩衝手段と、緩衝手段から供給される気体中の有害ガス成分の浄化手段とを備えたものが記載されている。この浄化装置では、供給手段から供給される気体中の有害ガス成分を上述のような液体に一旦溶解しているので、気体中に含まれる有害ガス成分の量を一定量以下に制限しながら浄化手段に供給することができる。したがって、この浄化装置は、エチレンオキサイドガスの最大排出量にあわせた処理能力に設定しなくても、チャンバーから排出されるエチレンオキサイドガスを効果的に処理することができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述のような浄化装置において用いる液体は、浄化装置の設置雰囲気温度や周辺装置からの発熱等の影響を受けて温度が上昇する場合がある。この場合、液体は、温度上昇に伴って有害ガス成分の溶解度が低下することになるため、供給手段から供給される気体中に含まれる有害ガス成分を十分に溶解することができず、浄化手段に供給する気体中に含まれる有害ガス成分の量を一定量以下に制限することができなくなる可能性がある。この場合、浄化手段は、そこでの浄化処理能力を超える量の有害ガス成分を含む気体が供給されることになるため、既述のような問題を生じる可能性がある。したがって、この種の浄化装置は、信頼性が高いものとは言いにくい。
【０００８】
本発明の目的は、有害ガス成分を溶解可能でありかつ溶解した有害ガス成分を放出可能な液体に有害ガス成分を含む気体を通過させた後に、当該気体に含まれる有害ガス成分を浄化するに当り、液体に通過させた後の気体に含まれる有害ガス成分の量を一定量以下に制限しやすくすることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の気体浄化装置は、有害ガス成分を含む気体を浄化するためのものであり、有害ガス成分を溶解可能でありかつ溶解した有害ガス成分を放出可能な液体を貯留するための貯留手段と、貯留手段に貯留された液体中に上記気体を供給するための気体供給手段と、貯留手段からの気体中に含まれる有害ガス成分を浄化するための浄化手段と、貯留手段に貯留された液体を冷却するための冷却手段とを備えている。
【００１０】
この気体浄化装置において、気体供給手段から貯留手段に貯留された液体中に供給された気体は、液体を通過した後、浄化手段に供給される。ここで、気体中に含まれる有害ガス成分は、液体における可溶限度まで液体中に溶解する。このため、液体を通過後の気体に含まれる有害ガス成分の量は、液体中の有害ガス成分の濃度が飽和状態に達していない限り、低下することになる。したがって、浄化手段は、そこでの浄化処理能力を超えない量の有害ガス成分が供給されることになるため、有害ガス成分を安定にかつ安全に浄化処理することができる。
【００１１】
ここで、貯留手段に貯留された液体は、雰囲気温度の影響等を受けて温度が上昇し、有害ガス成分の溶解度が低下する場合がある。この場合、気体供給手段から液体中に供給される気体中の有害ガス成分は、液体中に溶解されにくくなるので、貯留手段から浄化手段への気体に含まれる有害ガス成分の量は、浄化手段での浄化処理能力の範囲に抑制されにくくなる可能性がある。しかし、この気体浄化装置では、冷却手段により液体が冷却されるため、液体における有害ガス成分の溶解度は低下しにくく、浄化手段への気体に含まれる有害ガス成分の量は一定量以下に抑制されやすい。したがって、浄化手段は、貯留手段からの気体に含まれる有害ガス成分を安定にかつ安全に浄化することができる。
【００１２】
この気体浄化装置において、冷却手段は、例えば、貯留手段に貯留された液体の一部を新たな液体により置換する。また、冷却手段は、例えば、貯留手段に貯留された液体の一部を貯留手段の外部に排出するための排出手段と、排出手段を通じて排出された液体を冷却した後に貯留手段に還流させるための還流手段とを備えている。さらに、冷却手段は、通常、貯留手段に貯留された液体の温度を検出するための温度検出手段を備えている。また、浄化手段は、通常、触媒を用いて有害ガス成分を浄化する。
【００１３】
本発明の気体浄化方法は、有害ガス成分を含む気体を浄化するための方法であり、有害ガス成分を溶解可能でありかつ溶解した有害ガス成分を放出可能な液体中に上記気体を供給する工程と、液体を通過した気体に含まれる有害ガス成分を浄化処理する工程と、液体が所定温度以下になるよう制御する工程とを含んでいる。
【００１４】
この気体浄化方法において、気体中に含まれる有害ガス成分は、液体における可溶限度まで液体中に溶解する。このため、液体を通過後の気体に含まれる有害ガス成分の量は、液体中の有害ガス成分の濃度が飽和状態に達していない限り、低下することになる。したがって、気体に含まれる有害ガス成分を浄化処理する工程では、一時に多量の有害ガス成分を浄化処理する必要がないので、有害ガス成分を安定にかつ安全に浄化処理することができる。
【００１５】
ここで、液体は、雰囲気温度の影響を受けて温度が上昇し、有害ガス成分の溶解度が低下する場合がある。この場合、液体中に供給される気体中の有害ガス成分は、液体中に溶解されにくくなるので、液体を通過した後の気体に含まれる有害ガス成分の量は抑制されにくくなる可能性がある。しかし、この気体浄化方法では、液体が一定温度以下になるよう制御しているため、液体における有害ガス成分の溶解度は低下しにくく、液体を通過した後の気体に含まれる有害ガス成分の量を一定量以下に抑制しやすい。したがって、この浄化方法では、気体に含まれる有害ガス成分を安定にかつ安全に浄化することができる。
【００１６】
なお、この気体浄化方法では、通常、触媒を用いて気体に含まれる有害ガス成分を浄化処理する。また、この気体浄化方法により浄化することができる有害ガス成分は、例えばエチレンオキサイドガスであり、この方法で用いる液体は、例えば水である。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１を参照して、本発明の実施の一形態に係る気体浄化装置を説明する。図において、気体浄化装置１は、滅菌処理用の化学剤としてエチレンオキサイドガスを用いた滅菌装置２から排出される、有害ガス成分としてのエチレンオキサイドガスを含む排気ガス（気体の一例）を浄化するためのものであり、容器３（貯留手段の一例）と、滅菌装置２から延びる排気ガス排出経路４（気体供給手段の一例）と、浄化器５（浄化手段の一例）と、冷却装置６（冷却手段の一例）とを主に備えている。
【００１８】
容器３は、内部に液体７を貯留している。この容器３の形状は、内部に液体７を貯留することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、球形状、円筒形状、直方体形状若しくは立方体形状等である。
【００１９】
容器３内に貯留されている液体７は、有害ガス成分を溶解可能でありかつ溶解した有害ガス成分を放出可能なものである。因みに、このような特性は、排気ガス中における有害ガス成分の濃度との関係で液体そのものが本質的に有する特性である。ここで用いられる液体７は、上述の特性を有し、しかも、揮発性が小さくかつ有害性が少なく、さらに燃焼時の発熱が小さいもの、特に、不燃性でありかつ不活性のものが好ましい。このような液体７としては、例えば、水、水酸化ナトリウム水溶液や硝酸水溶液等の水溶液およびエチレングリコール等の多価アルコール誘導体等の有機溶媒を挙げることができる。なお、有害ガス成分としてエチレンオキサイドガスを含む排気ガスを浄化する本実施の形態においては、液体７として、水を用いるのが最も好ましい。
【００２０】
容器３内に貯留する液体７の量は、後述する浄化器５におけるエチレンオキサイドガスの浄化処理能力や、滅菌装置２から排出される排気ガス中に含まれるエチレンオキサイドガス濃度に応じて適宜設定するのが好ましい。
【００２１】
また、容器３内に貯留される液体７の液面の高さは、排気ガス排出経路４から供給される排気ガス中に含まれるエチレンオキサイドガスを効率的に溶解させることができることから、高めに設定するのが好ましい。但し、高すぎると、後述する気体噴出器９における圧力損失が大きくなるため、その点を考慮して液面の高さを設定するのが好ましい。また、容器３内の上部には、液体７内に溶解したエチレンオキサイドガスを効率的に放出させるため、空間３ａを設けるのが好ましい。さらに、液体７の液面積は、液体７に溶解したエチレンオキサイドガスの放出に関係する因子となることから、広めに設定するのが好ましい。
【００２２】
排気ガス排出経路４は、滅菌装置２から排出される、エチレンオキサイドガスを含む排気ガスを容器３内に供給するためのものであり、排気ガスの供給を制御するためのエアエゼクタ８を有している。また、排気ガス排出経路４の先端は、容器３内に貯留された液体７中であって、容器３の底部に配置されている。さらに、当該先端は、多孔質の気体噴出器９を有している。この気体噴出器９は、排気ガス排出経路４を通じて供給される排気ガス等を細かな気泡状、好ましくは２００μｍ以下の気泡径にして液体７内で噴出するためのものである。また、排気ガス排出経路４は、エアエゼクタ８よりも滅菌装置２側において、そこを容器３に向けて通過する排気ガス中に含まれるエチレンオキサイドガス濃度を検出するための第一濃度センサ４ａを有している。
【００２３】
また、排気ガス排出経路４は、エアエゼクタ８の気体噴出器９側において、分岐経路１０を有している。この分岐経路１０は、排気ガス排出経路４内に清浄空気を供給するためのものであり、清浄空気の導入側から順にコンプレッサー１１と第一電磁弁１２とをこの順に有している。なお、ここで用いられる清浄空気は、浄化の対象となる有害ガス成分を実質的に含まない気体をいい、特にフイルター等を用いて除塵しておく必要はない。但し、清浄空気として、フイルター等を用いて除塵したものを用いると、気体噴出器９の詰まりを防止することができるので、液体７中に排気ガスや清浄空気を安定に噴出させることができる。
【００２４】
浄化器５は、排気ガス供給経路１３と触媒装置１４と排出口１５とを主に有している。排気ガス供給経路１３は、容器３の上部から延びており、液体７を通過した排気ガスを容器３から触媒装置１４に供給するためのものである。また、排気ガス供給経路１３は、そこを触媒装置１４に向けて通過する気体中に含まれるエチレンオキサイドガス濃度を検出するための第二濃度センサ１３ａを有している。
【００２５】
触媒装置１４は、内部に触媒１４ａを備えている。ここで用いられる触媒１４ａは、エチレンオキサイドガスを分解等して浄化するためのものであり、例えば酸化触媒である。ここで利用可能な酸化触媒は、特に限定されるものではないが、例えば、白金やパラジウム等の貴金属触媒、マグネシウム酸化物、銅酸化物等である。触媒１４ａは、触媒装置１４内に充填されていてもよいが、通常は担体に対して含浸や付着等の手法により担持させた状態で触媒装置１４内に配置されているのが好ましい。ここで用いられる担体は、通常、アルミナからなるものが好ましい。また、担体は、エチレンオキサイドガスと触媒１４ａとの接触効率を高めるため、ハニカム構造等の表面積が大きな通気性を有する構造に設定されているのが好ましい。なお、触媒１４ａの使用量は、特に限定されるものではないが、触媒装置１４の大きさや容器３からの排気ガス中に含まれるエチレンオキサイドガスを十分に浄化することができる範囲で適宜設定するのが好ましい。
【００２６】
排出口１５は、触媒装置１４で処理された排気ガスを大気中に放出するためのものであり、触媒装置１４から伸びかつ先端部が開放されている。
【００２７】
冷却装置６は、容器３に貯留された液体７を冷却するためのものであり、容器３内に貯留された液体７を外部に排出するための液体排出経路１６、容器３内に液体７を供給するための液体供給経路１７、容器３内に貯留された液体７の温度を測定するための温度センサ１８（温度検出手段の一例）および容器３内に貯留された液体７の液面を検出するための液面センサ１９を主に備えている。液体排出経路１６は、第二電磁弁１６ａを有しており、液体７の還流装置２０（還流手段の一例）に連絡している。還流装置２０は、液体排出経路１６からの液体７を一時的に貯留するためのリザーブタンク２１を有している。このリザーブタンク２１は、冷却器２２を備えており、貯留している液体７を冷却可能に設定されている。また、リザーブタンク２１からは、液体７の還流経路２３が延びている。この還流経路２３は、ポンプ２４ａと第三電磁弁２４ｂとを有しており、容器３に連絡している。さらに、リザーブタンク２１は、貯留した液体７を外部に排出するためのドレン経路２６を有している。このドレン経路２６は、図示しない電磁弁を有している。
【００２８】
一方、液体供給経路１７は、容器３内に新たな液体７を供給するためのものであり、第四電磁弁２５を有しておりかつ容器３に連絡している。なお、液体供給経路１７から供給される新たな液体７は、常温若しくはそれよりも低温に設定されているのが好ましい。
【００２９】
次に、上述の気体浄化装置１を用いた気体浄化方法を説明する。
上述の気体浄化装置１において、滅菌装置２から排出される、有害ガス成分であるエチレンオキサイドガスを含む排気ガスを浄化する場合は、分岐経路１０の第一電磁弁１２を閉鎖した状態に設定し、エアエゼクタ８を作動させる。これにより、滅菌装置２からの排気ガスは、エアエゼクタ８が吸引するエアにより希釈されながら、排気ガス排出経路４を通じて容器３内に供給される。
【００３０】
容器３に供給された排気ガスは、気体噴出器９から細かな気泡状となって液体７中で噴出し、液体７中を上昇する。このようにして液体７中を通過した排気ガスは、液体７の液面から放出され、排気ガス供給経路１３を通じて触媒装置１４に供給される。そして、触媒装置１４に供給された排気ガスは、そこに含まれるエチレンオキサイドガスが触媒装置１４において分解され、排出口１５から浄化された状態で排出される。
【００３１】
ところで、滅菌装置２から排出される排気ガス中のエチレンオキサイドガス濃度は、当初は高く、その後は徐々に低下する傾向にある。すなわち、滅菌装置２から始めに排出される排気ガスは、高濃度のエチレンオキサイドガスを含んでいる。このため、液体７には、当初、高濃度のエチレンオキサイドガスが一時的に供給されることになるが、このエチレンオキサイドガスは、液体７での可溶限度まで液体７中に溶解する。したがって、液体７を通過しかつ液体７の液面から放出される排気ガス中のエチレンオキサイドガス濃度は、排気ガス排出経路４を通じて容器３に供給された排気ガス中におけるエチレンオキサイドガス濃度よりも低下することになる。
【００３２】
また、上述の結果、液体７が既に可溶限度までエチレンオキサイドガスを溶解した状態になっている場合、滅菌装置２から引き続き排出される、エチレンオキサイドガス濃度が徐々に低下した排気ガスは、そこに含まれるエチレンオキサイドガスが液体７中に溶解することがないので、エチレンオキサイドガス濃度を維持したまま液体７の液面から放出され、触媒装置１４に供給される。
【００３３】
以上の結果、触媒装置１４には、エチレンオキサイドガス濃度が一定以下に制限された排気ガスが供給されることになる。すなわち、触媒装置１４には、エチレンオキサイドガス濃度がそこでの処理能力の範囲内に設定された排気ガスが供給されることになる。したがって、触媒装置１４では、触媒温度が耐熱温度を超えて上昇するのが抑制され、また、爆発下限界濃度を超えるエチレンオキサイドガスを含む排気ガスの供給が防止されるので、安定にかつ安全に排気ガスを浄化することができる。
【００３４】
なお、液体７に溶解しているエチレンオキサイドガスは、排気ガス排出経路４から液体７に供給される排気ガス中のエチレンオキサイドガス濃度が０になると、液体７から放出されて触媒装置１４に供給され、そこで分解される。
【００３５】
また、滅菌装置２からの排気ガスが完全に排出された後、エアエゼクタ８の動作を停止し、コンプレッサー１１を作動させると共に第一電磁弁１２を開放する。これにより、分岐経路１０から排気ガス排出経路４内に清浄空気が導入され、この清浄空気は液体７の気体噴出器９から緩やかに噴出する。この結果、液体７中に溶解したエチレンオキサイドガスは液体７から徐々に放出され、清浄空気と共に触媒装置１４に供給される。触媒装置１４に供給されたエチレンオキサイドガスは、そこで分解され、触媒装置１４から外部に排出される。
【００３６】
ところで、気体浄化装置１を用いた上述の気体浄化方法において、容器３内に貯留された液体７は、雰囲気温度や周辺装置からの発熱等の影響を受けて徐々に温度が上昇し、それに伴ってエチレンオキサイドガスの溶解度が低下する場合がある。この場合、液体７は、排気ガス中に含まれるエチレンオキサイドガスを十分に溶解することができなくなるため、エチレンオキサイドガスを高濃度で含む排気ガスがそのまま浄化器５に供給される可能性がある。
【００３７】
そこで、上述の気体浄化方法においては、温度センサ１８により容器３内の液体７の温度を常時測定し、当該液体７の温度が所定の温度を超えた場合に液体７の一部を新たな液体７により置換する。具体的には、第二電磁弁１６ａを開放し、容器３内に貯留された液体７の一部を液体排出経路１６を通じて排出してリザーブタンク２１に供給する。一方、第四電磁弁２５を開放し、液体供給経路１７から容器３内に新たな液体７を供給する。ここで、新たな液体７は、液面センサ１９が作動するまで、すなわち、容器３内における液体７の液面の高さが元の高さになるまで供給するのが好ましい。このようにすると、容器３内に貯留する液体７の量を一定に維持することができる。
【００３８】
上述のような操作により、容器３内の液体７は、新たな液体７の供給により冷却され、上述の所定温度以下になるよう制御される。これにより、容器３内に貯留された液体７は、エチレンオキサイドガスの溶解度が再度高まることになる。この結果、液体７は、滅菌装置２からの排気ガス中に含まれるエチレンオキサイドガスを十分に溶解することができるようになるので、浄化器５には、エチレンオキサイドガス濃度が一定以下に制限された排気ガスが安定に供給されやすくなる。
【００３９】
因みに、この実施の形態において、上述の所定温度は、通常、１０〜４０℃程度である。
【００４０】
一方、リザーブタンク２１に供給された液体７は、そこで貯留され、冷却器２２により冷却される。そして、冷却された液体７は、ポンプ２４ａを作動させた状態で第三電磁弁２４ｂを開放すると、還流経路２３を通じて容器３内に還流し、容器３内の液体７を冷却する。なお、液体７は、上述のような清浄空気の供給により、エチレンオキサイドガスが除去された後であれば、ドレン経路２６から排出することができる。したがって、ドレン経路２６から液体７を排出し、同時に液体供給経路１７から新たな液体７を供給すると、容器３内の液体７の全量を交換することができる。
【００４１】
上述の浄化方法において、容器３から触媒装置１４に供給される排気ガス中のエチレンオキサイドガス濃度は、通常、３，０００ｐｐｍ以下に制限するのが好ましい。エチレンオキサイドガスの爆発下限界濃度は３％であり、排気ガス中の当該濃度が３，０００ｐｐｍ以下であれば、触媒装置１４において爆発などの危険性が少なくなり、また、触媒装置１４において触媒温度が耐熱温度以上に上昇するのを抑制しやすいためである。なお、容器３から触媒装置１４へ供給される排気ガス中のエチレンオキサイドガス濃度は、容器３に貯留する液体７の量や温度および排気ガス排出経路４から液体７に供給する排気ガスの流量等を適宜調節すると、上述の範囲に制限することができる。
【００４２】
また、上述のような気体浄化方法において、各電磁弁１２，１６ａ，２４ｂ，２５の開閉動作やエアエゼクタ８、コンプレッサー１１およびポンプ２４ａの動作などは、第一濃度センサ４ａ、第二濃度センサ１３ａ、温度センサ１８および液面センサ１９での判定結果に基づいて自動制御するのが好ましい。
【００４３】
上述のように、この実施の形態の気体浄化装置およびこの装置を用いた気体浄化方法では、容器３に貯留している液体７を冷却することができるので、液体７においてエチエンオキサイドガスが溶解しやすい状態に維持することができる。したがって、容器３から浄化器５に供給される気体中におけるエチレンオキサイドガス濃度を一定以下、すなわち、浄化器５における浄化処理能力の範囲内に制限しやすくなるので、浄化器５では排気ガスを安全に処理することができ、また、浄化器５からは浄化された清浄な排気ガスを安定的に排出することができる。
【００４４】
［他の実施の形態］
（１）上述の実施の形態では、滅菌装置２から排出されるエチレンオキサイドガスを含む排気ガス（気体の一例）を浄化する場合について説明したが、本発明は、滅菌装置２以外の各種の装置から排出される、エチレンオキサイドガス以外の有害ガス成分を含む気体を浄化する場合についても同様に実施することができる。
【００４５】
ここで、滅菌装置２以外の装置から排出される気体としては、例えば、焼却炉から排出される排気ガス、工場設備から排出される排気ガス、有機溶剤乾燥器から排出される排気ガス、焼成炉から排出される排気ガス、ドラフトチャンバーから排出される排気ガス、塗装ブースから排出される排気ガス等を挙げることができる。また、これらの排気ガスに含まれる、エチレンオキサイドガス以外の有害ガス成分は、例えば、可燃性ガスや爆発性ガス等の危険性ガス、悪臭や異臭の原因となる不快性ガス、大気汚染の原因となる窒素酸化物や硫黄酸化物等の、人体を含む生体若しくは環境に有害な影響を与える可能性のある各種の有機ガス成分や無機ガス成分である。より具体的には、有機ガス成分として、トルエンやアセトン等の揮発性ガスおよび各種のアミン化合物などの臭気性ガスを例示することができ、また、無機ガス成分として、アンモニアガスを例示することができる。
【００４６】
また、容器３に貯留する液体７の種類は、浄化処理する気体に含まれる有害ガス成分に応じて適宜選択するのが好ましい。例えば、有害ガス成分が可燃性や爆発性を有する場合、液体７としては、不燃性でありかつ不活性のものを用いるのが好ましい。具体的には、有害ガス成分がメチルエチルケトン、イソプロピルアルコールおよびアンモニアの場合は液体７として水を選択するのが好ましく、有害ガス成分がアセトンの場合は液体７としてエチレングリコールを選択するのが好ましい。
【００４７】
さらに、容器３から触媒装置１４に供給される排気ガス中の有害ガス成分濃度は、当該有害ガス成分の爆発下限界濃度若しくは燃焼下限界濃度より小さくなるよう設定するのが好ましい。
【００４８】
（２）上述の実施の形態では、分岐経路１０から排気ガス排出経路４内に清浄空気を供給するようにしたが、清浄空気以外の清浄気体、例えば、触媒装置１４において有害ガス成分を分解するのに必要な程度の酸素を含む窒素ガスや炭酸ガスを供給するようにしてもよい。
【００４９】
（３）上述の実施の形態では、冷却装置６において、新たな液体７を容器３に供給して液体７を冷却するための液体供給経路１７と、容器３の液体７をリザーブタンク２１で冷却した後に容器３に還流させて冷却するための還流装置２０とを設けているが、冷却装置６が、液体供給経路１７または還流装置２０のいずれか一方のみにより構成されている場合も本発明を同様に実施することができる。
【００５０】
【発明の効果】
本発明の気体浄化装置は、気体中の有害ガス成分を溶解可能でありかつ溶解した有害ガス成分を放出可能な液体を用い、しかも当該液体を冷却するための冷却手段を備えているため、浄化手段において浄化する気体に含まれる有害ガス成分の量を一定以下に制限しやすくなり、有害ガス成分を安定にかつ安全に浄化することができる。
【００５１】
また、本発明の気体浄化方法は、有害ガス成分を溶解可能でありかつ溶解した有害ガス成分を放出可能な液体を用い、しかも当該液体が所定温度以下になるよう制御しているため、液体に通過させた後の気体に含まれる有害ガス成分の量を一定以下に制限しやすくなり、気体に含まれる有害ガス成分を安定にかつ安全に浄化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態に係る気体浄化装置の概略構成を示す図。
【符号の説明】
１　気体浄化装置
３　容器
４　排気ガス排出経路
５　浄化器
６　冷却装置
７　液体
１６　液体排出経路
２０　還流装置
【図１】
2004081980.tif 000003