(57)【要約】【課題】被洗浄基板の被洗浄面を均一に洗浄すること。【解決手段】被洗浄基板Ｋの被洗浄面が下向きで且つ被洗浄面の外周部が基板当接部９ｄに当接した状態で支持する基板支持部材９と、前記基板支持部材９の下方に配置され且つ前記被洗浄面Ｋ１に回転接触可能に支持された洗浄ブラシＢと、前記洗浄ブラシＢを回転駆動するブラシ回転装置と、被洗浄面の全表面に前記回転する洗浄ブラシＢが回転接触するように、前記洗浄ブラシＢおよび前記基板支持部材９を相対的に移動させるブラッシング用相対移動装置Ｓと、前記被洗浄面の全表面に前記洗浄ブラシＢが複数の方向から回転接触するように、前記洗浄ブラシＢおよび前記基板支持部材９を相対的に移動させる前記ブラッシング用相対移動装置Ｓとを備えた基板洗浄装置。【選択図】　　図３
2004071980.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の構成要件（Ａ０１）〜（Ａ０４）を備えた基板洗浄装置、（Ａ０１）被洗浄基板の被洗浄面の外周部が当接する額縁状の基板当接部を有し、前記被洗浄面が下向きで且つ前記被洗浄面の外周部が前記基板当接部に当接した状態で前記被洗浄基板を着脱可能に支持する基板支持部材、
（Ａ０２）前記基板支持部材の下方に配置され且つ前記被洗浄面に接触可能に支持された洗浄ブラシ、
（Ａ０３）前記基板支持部材に支持された被洗浄基板の被洗浄面の全表面に前記洗浄ブラシが接触するように、前記洗浄ブラシおよび前記基板支持部材を相対的に移動させて前記被洗浄面の全面をブラッシングするブラッシング用相対移動装置、
（Ａ０４）前記被洗浄面の全表面に前記洗浄ブラシが複数の方向から接触するように、前記洗浄ブラシと前記基板支持部材とを相対的に移動させる前記ブラッシング用相対移動装置。
【請求項２】
下記の構成要件（Ａ０５），（Ａ０６）を備えた請求項１記載の基板洗浄装置、
（Ａ０５）前記被洗浄基板の被洗浄面に回転接触可能に配置された前記洗浄ブラシ、
（Ａ０６）前記洗浄ブラシを回転駆動するブラシ回転装置。
【請求項３】
下記の構成要件（Ａ０７），（Ａ０８）を備えた請求項１記載の基板洗浄装置、
（Ａ０７）前記被洗浄基板の被洗浄面に振動しながら接触可能に配置された前記洗浄ブラシ、
（Ａ０８）前記洗浄ブラシを振動させるブラシ振動装置。
【請求項４】
下記の構成要件（Ａ０９）を備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか記載の基板洗浄装置、
（Ａ０９）前記被洗浄面に設けた導電部材と前記導電部材を貫通して突出したリードピン先端部とがハンダ付けされている複数のハンダ付部分を有するハンダ付基板により構成された前記被洗浄基板。
【請求項５】
下記の構成要件（Ａ０１０）を備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか記載の基板洗浄装置、
（Ａ０１０）前記被洗浄面に洗浄剤が塗布された状態で前記ブラッシングが行われるように、前記被洗浄面に洗浄剤を塗布する洗浄剤塗布装置。
【請求項６】
下記の構成要件（Ａ０１１）を備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか記載の基板洗浄装置、
（Ａ０１１）前記ブラッシングの後で前記被洗浄面の洗浄剤を除去する洗浄剤除去装置。
【請求項７】
下記の構成要件（Ａ０１２）を備えたことを特徴とする請求項５または６記載の基板洗浄装置、
（Ａ０１２）軸回りに回転する円筒状ブラシにより構成された前記洗浄ブラシ。
【請求項８】
下記の構成要件（Ａ０１３）を備えたことを特徴とする請求項７記載の基板洗浄装置、
（Ａ０１３）前記円筒状ブラシの軸に垂直な方向に前記洗浄ブラシと前記基板支持部材とを相対的に往復移動させる往復移動装置と、前記往復移動を行う平面に垂直な軸回りに前記洗浄ブラシと前記基板支持部材とを相対的に回転移動させる回転移動装置とを有する前記ブラッシング用相対移動装置。
【請求項９】
下記の構成要件（Ａ０１４）を備えたことを特徴とする請求項８記載の基板洗浄装置、
（Ａ０１４）前記往復移動を行う平面が水平である前記往復移動装置。
【請求項１０】
下記の構成要件（Ａ０１５）を備えたことを特徴とする請求項７ないし９のいずれか記載の基板洗浄装置、
（Ａ０１５）前記円筒状ブラシと、前記円筒状ブラシのブラシ先端部が下方に回転した時に前記ブラシ先端部が洗浄剤としての洗浄液に浸漬するように配置された洗浄液タンクとを有する前記洗浄剤塗布装置。
【請求項１１】
下記の構成要件（Ａ０１６）を備えたことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか記載の基板洗浄装置、
（Ａ０１６）前記被洗浄基板が出入可能な開口を有するケース本体および前記開口を開閉可能なケースカバーを有し、前記開口が閉じられた状態では前記基板支持部材、洗浄ブラシおよびブラッシング用相対移動装置の周囲を囲むとともに、前記開口が開いた状態では前記基板支持部材への前記被洗浄基板の着脱作業が可能なケース。
【請求項１２】
被洗浄基板の被洗浄面の全表面に洗浄ブラシ先端部を複数の方向から相対移動させながら接触させて、全表面を均等にブラッシングする基板洗浄方法。
【請求項１３】
被洗浄基板の被洗浄面の全表面に洗浄ブラシを９０°づつ回転した４方向から相対的に移動させながら接触させることを特徴とする請求項１２記載の基板洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被洗浄基板の被洗浄面を洗浄する基板洗浄装置および基板洗浄方法に関し、特に、前記被洗浄面に設けた導電部材と前記導電部材を貫通して突出したリードピン先端部とがハンダ付けされている複数のハンダ付部分を有する被洗浄基板を洗浄するのに適した基板洗浄装置および基板洗浄方法に関する。
なお、本発明は部品のリードピン等がハンダ付けされたハンダ付基板（例えば、プリント基板等）のハンダ付けされた面（被洗浄面）を洗浄する際に特に好適に使用することができるが、その他の被洗浄面を有する基板を洗浄する際にも使用することができる。
【０００２】
【従来の技術】
本出願人は、以前に、使用済のプリント基板等のリサイクルの研究を行った際、プリント基板のハンダ付け部分を再ハンダ付けするための再ハンダ装置の研究、試作、実験等を行った。そして、従来の自動ハンダ作業と同様の正確さで自動再ハンダ作業（古いハンダを吸い取って、新しいハンダ付けを行う作業）を行うことができる再ハンダ装置の開発に成功した。そして、本出願人はこの技術についてすでに、特許出願（特願２００１−７３０００号参照）している。
前記先願の再ハンダ装置では、多数のハンダ付部分の中の全数のハンダ付部分に対して再ハンダ付作業を行ったり、再ハンダ付作業が必要であると判断した部分のみに対して再ハンダ付作業を行ったりしていた。前記再ハンダ付作業が必要であると判断した部分のみに対して再ハンダ付作業を行う場合には、どのハンダ付部分が再ハンダ付作業を行う必要があるのかを識別する必要がある。そして、再ハンダ付作業を行う必要があるのか否かの識別作業は、作業者が目測で判断することによって行っていた。
【０００３】
本発明者は、前記多数のハンダ付部分に対して、再ハンダ付作業を行う必要が有るか否かの識別作業を、自動化する研究、試作、実験等を行った。その結果、プリント基板のハンダ付部分の有る面（被洗浄面）をきれいに洗浄した場合には、前記識別作業を自動的に行う装置を実用化できることが分かった。
そして、プリント基板のハンダ付部分の有る面（被洗浄面）の洗浄を行う方法についても研究した。この結果、ハンダ付部分の有るプリント基板の被洗浄面に対して好適な洗浄装置を発明した。なお、本発明の洗浄装置はプリント基板以外の種々の被洗浄基板（ハンダ付部分の無い被洗浄面を有する基板）に対しても適用することが可能である。
【０００４】
被洗浄基板の被洗浄面の洗浄を行う方法としては、被洗浄面に洗浄液を高速で噴射して洗浄する噴射方法や洗浄液を塗布したブラシでブラッシングするブラッシング方法等が考えられる。
前記被洗浄基板がプリント基板の場合には、被洗浄面に多数のハンダ付部分が有り且つ、被洗浄面の反対側の面には回路部品が装着されている。このような被洗浄基板の被洗浄面を前記噴射方法またはブラッシング方法等の洗浄方法により洗浄する場合、被洗浄面とは反対側の表面（回路部品装着面）が洗浄液等によって濡れるのを防止（汚染するのを防止）する必要がある。
【０００５】
その場合、前記被洗浄基板を支持する基板支持部材に設けた額縁状の基板当接部に前記被洗浄基板の被洗浄面の外周部を当接させ、その状態で前記被洗浄面を、前記噴射方法やブラッシング方法等により洗浄することが考えられる。この場合、前記被洗浄面の外周部（額縁状の基板当接部に当接する部分）を除く部分に対してのみに洗浄液を噴射したり、ブラッシングしたりすることができる。したがって、被洗浄基板の前記外周部分以外の中央部分等に孔等が開いていない場合には、被洗浄面の反対側の表面に装着した回路部品等が洗浄液等によって汚染されるのを防止することが可能となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記被洗浄基板の中央部分等に孔が形成されている場合には、前記被洗浄面に洗浄液を噴射すると被洗浄面の反対側の部品装着面に装着された部品が洗浄液により汚染される場合がある。したがって、中央部分等に孔が形成されており、且つ被洗浄面の反対側に洗浄液により汚染される回路部品が装着されているような被洗浄基板に対しては前記噴射方法は採用できない場合がある。しかしながら、前記孔の開いた被洗浄基板をブラッシング方法で洗浄する場合、洗浄液の塗布量を少なくすれば、前記被洗浄面から前記孔を通って部品装着面側に装着された部品を汚染せずに洗浄することができる。
【０００７】
ところが、前記被洗浄基板の被洗浄面にリードピン先端部が突出し且つそのリードピン先端部がハンダ付けされている場合には、前記リードピン先端部周囲にハンダが盛り上がった状態で固着している。すなわち、前記盛り上がったハンダ付部分は、前記リードピン先端部に隣接するハンダの分厚い中心部と、前記リードピン先端部から離れたハンダの薄い周辺部により形成される。この場合、前記ハンダ周辺部からハンダ中心部に近づく程高くなる傾斜表面が形成される。
このような傾斜表面をブラシによりブラッシングする際、傾斜表面を一方向からのみブラッシングすると、前記傾斜表面は前記周辺部から前記中心部に向かってブラッシングされる部分と、前記中心部から前記周辺部に向かってブラッシングされる部分とに分かれる。前記周辺部からピン先端部の有る中心部に向かってブラッシングされる傾斜表面部分と、中心部から周辺部に向かってブラッシングされる傾斜表面部分とでは、ブラッシングされる力（擦られる力）が異なる場合がある。すなわち一般に、前記ピンおよびブラシが接近する際に前記周辺部からピン先端部の有る中心部に向かってブラッシングされる傾斜表面部分（低い位置から高い位置に向かってブラッシングされる表面部分）は、前記ピンおよびブラシが離隔する際に中心部から周辺部に向かってブラッシングされる傾斜表面部分よりも、より大きな力でブラッシングされる（擦られる）傾向がある。この場合、前記ハンダ付部分の傾斜面の洗浄度にムラが生じる。
【０００８】
したがって、前記被洗浄面をブラッシングする方向が一方向である場合には、前記被洗浄面の洗浄度にムラが生じるという問題点がある。
前記被洗浄基板の被洗浄面の多数の各ハンダ付部分に対して、再ハンダ付作業を行う必要が有るか否かの識別作業を正確に行うためには、前記被洗浄面の洗浄度にムラが生じることは好ましくない。
【０００９】
前記事情に鑑み、本発明は次の記載内容（Ｏ０１），（Ｏ０２）を技術的課題とする。
（Ｏ０１）被洗浄基板の被洗浄面を均一に洗浄すること。
（Ｏ０２）多数のハンダ付部分の有る被洗浄面を均一に洗浄して、被洗浄面の多数の各ハンダ付部分に対して、再ハンダ付作業を行う必要が有るか否かの識別作業を容易に行えるようにすること。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
次の本発明の説明において本発明の要素には、後述の実施の形態の要素との対応を容易にするため、実施の形態の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。なお、本発明を後述の実施の形態の符号と対応させて説明する理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明の範囲を実施の形態に限定するためではない。
【００１１】
（本発明）
前記課題を解決するために、本発明の基板洗浄装置は、下記の構成要件（Ａ０１）〜（Ａ０４）を備えたことを特徴とする。
（Ａ０１）被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の外周部が当接する額縁状の基板当接部（１４ｄ）を有し、前記被洗浄面（Ｋ１）が下向きで且つ前記被洗浄面（Ｋ１）の外周部が前記基板当接部（１４ｄ）に当接した状態で前記被洗浄基板（Ｋ）を着脱可能に支持する基板支持部材（Ｒｔ）、
（Ａ０２）前記基板支持部材（Ｒｔ）の下方に配置され且つ前記被洗浄面（Ｋ１）に接触可能に支持された洗浄ブラシ（２２，Ｂ）、
（Ａ０３）前記基板支持部材（Ｒｔ）に支持された被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面に前記洗浄ブラシ（２２，Ｂ）が接触するように、前記洗浄ブラシ（２２，Ｂ）および前記基板支持部材（Ｒｔ）を相対的に移動させて前記被洗浄面（Ｋ１）の全面をブラッシングするブラッシング用相対移動装置、
（Ａ０４）前記被洗浄面（Ｋ１）の全表面に前記洗浄ブラシ（２２，Ｂ）が複数の方向から接触するように、前記洗浄ブラシ（２２，Ｂ）と前記基板支持部材（Ｒｔ）とを相対的に移動させる前記ブラッシング用相対移動装置。
【００１２】
前記構成要件（Ａ０１）〜（Ａ０４）を備えた本発明の基板洗浄装置では、前記被洗浄基板（Ｋ）が下向きで且つ前記被洗浄面（Ｋ１）の外周部が前記基板当接部（１４ｄ）に当接した状態で基板支持部材（Ｒｔ）に着脱可能に支持されている。洗浄ブラシ（２２，Ｂ）は、前記基板支持部材（Ｒｔ）の下方に配置され且つ前記被洗浄面（Ｋ１）に接触可能に支持されている。ブラッシング用相対移動装置は、前記洗浄ブラシ（２２，Ｂ）と前記基板支持部材（Ｒｔ）とを相対的に移動させる。また、前記ブラッシング用相対移動装置は、前記被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面に、前記洗浄ブラシ（２２，Ｂ）を複数の方向から接触させる。
【００１３】
したがって、前記被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面は複数の方向からブラッシングされる。即ち、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）が均一に洗浄される。また、前記被洗浄基板（Ｋ）が被洗浄面（Ｋ１）に多数のハンダ付部分（１７）が有るプリント基板の場合には、被洗浄基板（Ｋ）が複数の方向からブラッシングされるので、ハンダ付部分（１７）の全ての傾斜表面部分が、一度は周辺部からピン先端部のある中心部に向かって比較的大きな力でブラッシングされる。したがって、前記被洗浄基板（Ｋ）のハンダ付部分（１７）の洗浄度にムラが生じず、全てのハンダ付部分（１７）を均一に洗浄できる。この結果、被洗浄面（Ｋ１）の多数の各ハンダ付部分（１７）に対して、再ハンダ付作業を行う必要が有るか否かの識別作業や再ハンダ付作業を容易に行うことができる。
【００１４】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０５），（Ａ０６）を備えることができる。
（Ａ０５）前記被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）に回転接触可能に配置された前記洗浄ブラシ（Ｂ）、
（Ａ０６）前記洗浄ブラシ（Ｂ）を回転駆動するブラシ回転装置（Ｍ２＋Ｐ１＋Ｐ２＋４６＋４７）。
【００１５】
前記構成要件（Ａ０５），（Ａ０６）を備えた本発明の基板洗浄装置では、洗浄ブラシ（Ｂ）は回転駆動するブラシ回転装置（Ｍ２＋Ｐ１＋Ｐ２＋４６＋４７）によって回転駆動される。前記被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）は、回転接触する洗浄ブラシ（Ｂ）によって全面をブラッシングすることができる。
【００１６】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０７），（Ａ０８）を備えることができる。
（Ａ０７）前記被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）に振動しながら接触可能に配置された前記洗浄ブラシ、
（Ａ０８）前記洗浄ブラシを振動させるブラシ振動装置。
【００１７】
前記構成要件（Ａ０７），（Ａ０８）を備えた本発明の基板洗浄装置では、ブラシ振動装置は洗浄ブラシを振動させる。前記洗浄ブラシは被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）に振動しながら接触し、前記被洗浄面（Ｋ１）の全面をブラッシングすることができる。
【００１８】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０９）を備えることができる。
（Ａ０９）前記被洗浄面（Ｋ１）に設けた導電部材と前記導電部材を貫通して突出したリードピン（１６）先端部とがハンダ付けされている複数のハンダ付部分（１７）を有するハンダ付基板（Ｋ）により構成された前記被洗浄基板（Ｋ）。
【００１９】
前記構成要件（Ａ０９）を備えた本発明の基板洗浄装置では、導電部材と前記導電部材を貫通して突出したリードピン（１６）先端部とがハンダ付けされている複数のハンダ付部分（１７）を有するハンダ付基板の被洗浄面（Ｋ１）の全表面を複数の方向からブラッシングされる。したがって、ハンダ付部分（１７）の全ての傾斜表面部分が、一度は周辺部からピン先端部のある中心部に向かって比較的大きな力でブラッシングされる。これにより、前記被洗浄基板（Ｋ）のハンダ付部分（１７）の洗浄度にムラが生じず、全てのハンダ付部分（１７）が均一に洗浄される。この結果、ムラなく洗浄された被洗浄面（Ｋ１）の多数の各ハンダ付部分（１７）に対して、再ハンダ付作業を行う必要が有るか否かの識別作業や再ハンダ付作業を容易に行うことができる。
【００２０】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０１０）を備えることができる。
（Ａ０１０）前記被洗浄面（Ｋ１）に洗浄剤が塗布された状態で前記ブラッシングが行われるように、前記被洗浄面（Ｋ１）に洗浄剤を塗布する洗浄剤塗布装置（１９＋Ｂ）。
【００２１】
前記構成要件（Ａ０１０）を備えた本発明の基板洗浄装置では、洗浄剤塗布装置（１９＋Ｂ）は、前記被洗浄面（Ｋ１）に洗浄剤が塗布された状態で前記ブラッシングが行われるように、前記被洗浄面（Ｋ１）に洗浄剤を塗布する。したがって、前記被洗浄面（Ｋ１）は、洗浄剤が塗布された状態でブラッシングされるので、効率よく被洗浄面（Ｋ１）の汚れが洗浄される。
【００２２】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０１１）を備えることができる。
（Ａ０１１）前記ブラッシングの後で前記被洗浄面（Ｋ１）の洗浄剤を除去する洗浄剤除去装置（２２，２９）。
【００２３】
前記構成要件（Ａ０１１）を備えた本発明の基板洗浄装置では、洗浄剤除去装置（２２，２９）によって、前記ブラッシングの後で前記被洗浄面（Ｋ１）の洗浄剤が除去される。したがって、洗浄後速やかに、再ハンダ付作業を行う必要が有るか否かの識別作業や再ハンダ付作業を容易に行うことができる。
【００２４】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０１２）を備えることができる。
（Ａ０１２）軸回りに回転する円筒状ブラシ（Ｂ）により構成された前記洗浄ブラシ（Ｂ）。
【００２５】
前記構成要件（Ａ０１２）を備えた本発明の基板洗浄装置では、洗浄ブラシ（Ｂ）が軸回りに回転する円筒状ブラシ（Ｂ）により構成されているので、シンプルな構成で被洗浄面（Ｋ１）の全面を複数の方向からブラッシングすることができる。
【００２６】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０１３）を備えることができる。
（Ａ０１３）前記円筒状ブラシ（Ｂ）の軸に垂直な方向に前記洗浄ブラシ（Ｂ）と前記基板支持部材（Ｒｔ）とを相対的に往復移動させる往復移動装置（Ｍ１＋６＋３６〜４３）と、前記往復移動を行う平面に垂直な軸回りに前記洗浄ブラシ（Ｂ）と前記基板支持部材（Ｒｔ）とを相対的に回転移動させる回転移動装置（Ｒ１＋Ｒ２＋１２）とを有する前記ブラッシング用相対移動装置。
【００２７】
前記構成要件（Ａ０１３）を備えた本発明の基板洗浄装置では、往復移動装置（Ｍ１＋６＋３６〜４３）は、前記円筒状ブラシ（Ｂ）の軸に垂直な方向に前記洗浄ブラシ（Ｂ）と前記基板支持部材（Ｒｔ）とを相対的に往復移動させる。回転移動装置（Ｒ１＋Ｒ２＋１２）は、前記往復移動を行う平面に垂直な軸回りに、前記洗浄ブラシ（Ｂ）と前記基板支持部材（Ｒｔ）とを相対的に回転移動させる。
したがって、前記洗浄ブラシ（Ｂ）と基板支持部材（Ｒｔ）の相対的な往復移動及び回転移動の組み合わせにより、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全面は、複数の方向からブラッシングされる。したがって、被洗浄面（Ｋ１）の全面が均一に洗浄される。
【００２８】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０１４）を備えることができる。
（Ａ０１４）前記往復移動を行う平面が水平である前記往復移動装置（Ｍ１＋６＋３６〜４３）。
【００２９】
前記構成要件（Ａ０１４）を備えた本発明の基板洗浄装置では、前記往復移動装置（Ｍ１＋６＋３６〜４３）は、水平な平面上で、前記往復移動を行う。前記被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）は、鉛直方向下側を向いた水平な状態で洗浄される。このため洗浄液が被洗浄面（Ｋ１）を伝わって流れることがないので、洗浄液を被洗浄面に均一に塗布することができる。
【００３０】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０１５）を備えることができる。
（Ａ０１５）前記円筒状ブラシ（Ｂ）と、前記円筒状ブラシ（Ｂ）のブラシ先端部（Ｂ３）が下方に回転した時に前記ブラシ先端部（Ｂ３）が洗浄剤としての洗浄液に浸漬するように配置された洗浄液タンク（１９）とを有する前記洗浄剤塗布装置（１９＋Ｂ）。
【００３１】
前記構成要件（Ａ０１５）を備えた本発明の基板洗浄装置では、前記円筒状ブラシ（Ｂ）のブラシ先端部（Ｂ３）が下方に回転した時に前記ブラシ先端部（Ｂ３）が洗浄液タンク（１９）の洗浄液に浸漬する。したがって、前記被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）は、上方に回転した円筒状ブラシ（Ｂ）のブラシ先端部（Ｂ３）によって洗浄剤が塗布される。そして、被洗浄面（Ｋ１）は洗浄剤が塗布された状態で、円筒状ブラシ（Ｂ）によってブラッシングが行われる。
【００３２】
また、前記本発明の基板洗浄装置において、下記の構成要件（Ａ０１６）を備えることができる。
（Ａ０１６）前記被洗浄基板（Ｋ）が出入可能な開口（２ａ）を有するケース本体（２）および前記開口（２ａ）を開閉可能なケースカバー（３）を有し、前記開口（２ａ）が閉じられた状態では前記基板支持部材（１４）、洗浄ブラシ（２２，Ｂ）およびブラッシング用相対移動装置の周囲を囲むとともに、前記開口（２ａ）が開いた状態では前記基板支持部材（１４）への前記被洗浄基板（Ｋ）の着脱作業が可能なケース（１）。
【００３３】
前記構成要件（Ａ０１６）を備えた本発明の基板洗浄装置は、前記基板支持部材（１４）、洗浄ブラシ（２２，Ｂ）およびブラッシング用相対移動装置の周囲を囲むケース（１）を有しているので、ベルトコンベア等を備えるプラント状の基板洗浄装置に比べ低コスト且つ小さなサイズで構成することができる。
【００３４】
また、前記課題を解決するために本発明の基板洗浄方法は、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面に洗浄ブラシ先端部（Ｂ３）を複数の方向から相対移動させながら接触させて、全表面を均等にブラッシングすることを特徴とする。
【００３５】
前記構成要件を備えた本発明の基板洗浄方法は、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面に洗浄ブラシ先端部（Ｂ３）を複数の方向から相対移動させながら接触させて、全表面を均等にブラッシングするので、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）が均一に洗浄される。また、前記被洗浄基板（Ｋ）が被洗浄面（Ｋ１）に多数のハンダ付部分（１７）が有るプリント基板の場合には、被洗浄基板（Ｋ）が複数の方向からブラッシングされるので、ハンダ付部分（１７）の全ての傾斜表面部分が、一度は周辺部からピン先端部のある中心部に向かって比較的大きな力でブラッシングされる。これにより、前記被洗浄基板（Ｋ）のハンダ付部分（１７）の洗浄度にムラが生じず、全てのハンダ付部分（１７）を均一に洗浄される。この結果、ムラなく洗浄された被洗浄面（Ｋ１）の多数の各ハンダ付部分（１７）に対して、再ハンダ付作業を行う必要が有るか否かの識別作業や再ハンダ付作業を容易に行うことができる。
【００３６】
また、前記本発明の基板洗浄方法において、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面に洗浄ブラシ（Ｂ）を９０°づつ回転した４方向から相対的に移動させながら接触させることも可能である。
【００３７】
前記構成要件を備えた本発明の基板洗浄方法では、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面に洗浄ブラシ（Ｂ）を９０°づつ回転した４方向から相対的に移動させながら接触させるので、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全面が異なる４方向からブラッシングされる。したがって、被洗浄面（Ｋ１）の洗浄度にムラが生じることがない。
【００３８】
また、前記本発明の基板洗浄装置または基板洗浄方法において、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面に洗浄ブラシ（Ｂ）を１２０°づつ回転した３方向から又は１８０°回転した２方向から相対的に移動させながら接触させることも可能である。
前記構成要件を備えた本発明の基板洗浄方法では、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面に洗浄ブラシ（Ｂ）を１２０°づつ回転した３方向又は１８０°回転した２方向から相対的に移動させながら接触させるので、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全面が異なる３方向又は２方向からブラッシングされる。したがって、被洗浄面（Ｋ１）の洗浄度にムラが生じることがない。
なお、被洗浄基板（Ｋ）の被洗浄面（Ｋ１）の全表面に洗浄ブラシ（Ｂ）を１２０°または１８０°回転した方向から接触させるために相対的に移動させる時に、モータ等の回転駆動装置を使用することができる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
次に図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。
なお、以後の説明の理解を容易にするために、図面において、前後方向をＸ軸方向、右左方向をＹ軸方向、上下方向をＺ軸方向とし、矢印Ｘ，−Ｘ，Ｙ，−Ｙ，Ｚ，−Ｚで示す方向または示す側をそれぞれ、前方、後方、右方、左方、上方、下方、または、前側、後側、右側、左側、上側、下側とする。
また、図中、「○」の中に「・」が記載されたものは紙面の裏から表に向かう矢印を意味し、「○」の中に「×」が記載されたものは紙面の表から裏に向かう矢印を意味するものとする。
【００４０】
（実施例１）
図１は本発明の実施の形態の１例（実施例１）の基板洗浄装置の全体斜視図である。
図２は実施例１の基板洗浄装置の開閉カバーを開けた状態の斜視図である。
図３は実施例１の基板洗浄装置の外壁を取り除いた平面図である。
図４は実施例１の基板洗浄装置の外壁を除いた側面図である。
図５は実施例１の基板洗浄装置の外壁を除いた正面図である。
図６は実施例１のブラッシング用相対移動装置の要部拡大断面図である。
【００４１】
図１、図２において、基板洗浄装置Ｃは、ケース１を有している。ケース１はケース本体２およびケース開閉カバー（ケースカバー）３を有している。前記ケース本体２はその前部（Ｘ側部分）に基板出入用の開口２ａ（図２参照）を有している。前記ケース開閉カバー３は前記ケース本体２の開口２ａを開閉するカバーであり、ケース本体２にヒンジ連結されている（図１参照）。前記ケース本体２の中央上部には制御盤（コントロールボックス）ＣＢが設けられており、前記ケース本体２の後部上面には、建物外部に連通する排気ダクトＤとの連通部２ｂが設けられている。
図３〜図５において、ケース本体２の内部には前後に延びる一対のガイドレール４，４が固定支持されている。前記ガイドレール４，４上には、移動ユニットＳ（図３、図４参照）が移動可能に支持されている。そして、前記ガイドレール４，４の前方および後方には、移動ユニットＳの位置を検知する前端センサＳＮ１（図４参照）及び後端センサＳＮ２が配置されている。前記センサＳＮ１，ＳＮ２は、例えば、発光素子と受光素子とを有し、発光素子からの光が移動ユニットＳで反射して受光素子に入射することにより移動ユニットＳの位置を検知するフォトセンサで構成することが可能である。
【００４２】
図３、図６において、前記移動ユニットＳは、平板状のスライドテーブル６を有している。前記スライドテーブル６の左右両端部の下面には、一対のガイドレール４，４にスライド可能に係合する前後一対のスライダ７（図６参照）が固着されている。したがって、前記スライドテーブル６は、ガイドレール４，４上を前後方向（Ｘ軸方向）に往復スライド移動できる。
前記スライドテーブル６の中央部には円孔６ａ（図３参照）が形成されており、前記円孔６ａの後左部にテーブル位置決め部材８（図２、図３参照）が配置されている。前記テーブル位置決め部材８は、ピン８ａによって回転可能に支持されており、一端部には内側（円孔６ａ側）に突出する位置決め係合部８ｂが形成されている。そして、テーブル位置決め部材８は他端部に連結されたスプリングＳＰ（図３参照）により、上方から見てピン８ａ回りに反時計方向に付勢されている。
【００４３】
図３、図６において、前記スライドテーブル６の円孔６ａの内周縁には回転テーブル（基板支持部材）Ｒｔが回転可能に支持されている。前記回転テーブルＲｔは開口９ａ（図３参照）を有する円形プレート９を有しており、前記円形プレート９には、前記開口９ａを開閉するテーブル開閉カバー１１（図２、図４、図６参照）がヒンジ連結されている。前記テーブル開閉カバー１１の上面には、互いに９０°の角度をなす４つの接触部を有する十字部材１２（図２〜図４参照）が固着されている。前記円形プレート９の外周部下面には、４つのローラ１３（図３、図６参照）が回転可能に支持されている。前記各ローラ１３は中央部の小径部１３ａ（図６参照）と両端部の大径部１３ｂとを有しており、前記小径部１３ａには前記スライドテーブル６の円孔６ａの周面が係合している。そして、前記スライドテーブル６の上面に前記ローラ１３の上側の大径部１３ｂが当接している。したがって、前記円形プレート９は、４つのローラ１３によって、スライドテーブル６に対し自由に回転することができる。そして、前記円形プレート９の外周部には、前記テーブル位置決め部材８の位置決め係合部８ｂに係合する位置決め被係合部９ｂ（図３参照）が等間隔に４箇所（９０°毎に）形成されている。
【００４４】
図６において、前記円形プレート９の下面には、複数のハンダ付部分を有するハンダ付基板（被洗浄基板）Ｋを支持する基板支持部材１４が連結されている。前記基板支持部材１４は鉛直な四角形の筒壁１４ａとその下端に接続する底壁１４ｂとを有している。前記底壁１４ｂには、ハンダ付基板Ｋの外形の形状に切除された額縁状の基板収容口１４ｃが形成されている。そして、前記基板収容口１４ｃ内周縁下面には、ハンダ付基板Ｋの外周部を下方から支持する複数の基板当接部１４ｄ（図６参照）が固着されている。前記基板当接部１４ｄには、ハンダ付基板Ｋに形成された複数の貫通孔に対応した位置決めピン１４ｅ（図３参照）が固定支持されている。したがって、前記ハンダ付基板Ｋは、その外周部が基板当接部１４ｄに当接し且つ位置決めピン１４ｅによって位置決めされた状態で基板支持部材１４に支持される。
【００４５】
図６において、前記ハンダ付基板Ｋの一面側Ｋ１には、パターンニング等された導電部材と、前記導電部材を貫通して突出したリードピン１６の先端部とがハンダ付されている複数のハンダ付部分１７が形成されている。そして、反対の面には、前記リードピン１６が接続されたコンデンサ、抵抗器、ファン等のパーツが固定されている。前記コンデンサやファン等は、洗浄液で濡れる（汚染される）と故障する可能性があるので、ファン等の設けられた面は洗浄せず、ハンダ付部分１７が設けられた面のみ洗浄する必要がある。したがって、前記ハンダ付基板Ｋは、ハンダ付部分１７が形成された面Ｋ１、即ち、被洗浄面Ｋ１が下面になるように前記基板支持部材１４に支持される。
【００４６】
前記基板洗浄装置Ｃで洗浄を行うとき、前記テーブル開閉カバー１１は、ハンダ付基板Ｋとの間にスポンジ１８（図６参照）を挟んだ状態で閉じる。このとき、ハンダ付基板Ｋはスポンジ１８により基板当接部１４ｄに押圧されて固定される。
前記スライドテーブル６、スライダ７、テーブル位置決め部材８、回転テーブルＲｔ、ローラ１３及びテーブル開閉カバー１４等によって移動ユニットＳが構成されている。
【００４７】
図３〜図５において、前記ケース１中央部で、一対のガイドレール４，４の下方には、洗浄液（洗浄剤）を収容する洗浄液タンク１９（図４参照）が固定支持されている。そして、前記洗浄液タンク１９には、洗浄液タンク１９の前後方向（Ｘ軸方向）両端部に連続し、且つ端側に行くに従って上方に傾斜して形成された余剰洗浄液回収プレート２１，２１（図４参照）が固定支持されている。前記余剰洗浄液回収プレート２１は、前後両端（Ｘ軸方向両端）及び左右両端（Ｙ軸方向両端）が上方に折り曲げて形成されており、回収プレート２１上に落ちた液体は外部に漏れず洗浄液タンク１９に流れ込むよう構成されている。そして、前記洗浄液タンク１９の前後両端壁（Ｘ軸方向両端壁）には、洗浄ブラシ且つ洗浄剤除去装置としての機能を有する直毛ブラシ２２，２２（図３、図４参照）が設けられている。
【００４８】
前記洗浄液タンク１９の内部には、円筒状の回転ブラシＢ（図３〜図５参照）が配置されている。前記回転ブラシＢは、左右方向（Ｙ軸方向）に延びる固定軸Ｂ１（図５参照）と、前記固定軸Ｂ１回りに回転可能に支持された円筒状回転軸Ｂ２と、前記回転軸Ｂ２に支持された多数のブラシ毛Ｂ３とを有する。図５から分かるように前記固定軸Ｂ１の左右両端は、左右一対の回転軸支持プレート２３、２４の下端部によって固定支持されており、前記回転軸支持プレート２３，２４は、それぞれケース１の左右の外壁に回転可能に支持されている。
図３、図５において、前記回転軸Ｂ２の左端部には、回転力伝達プーリＰ１が固着されている。
【００４９】
前記固定軸Ｂ１の左右両端部には、位置決めアーム２６，２６（図３〜図５参照）が回転可能且つ、前後方向（Ｘ軸方向）にスライド調節可能に支持されている。図４において、前記位置決めアーム２６，２６の前端部には位置決めネジ２７，２７が回転自由に貫通している。そして、前記位置決めネジ２７の中央部にはＥクリップが装着されており、前記位置決めネジ２７の上端のネジ頭とＥクリップとによって位置決めアーム２６が挟まれている。したがって、前記位置決めアーム２６と位置決めネジ２７とは一体的に移動する。前記位置決めネジ２７の下端部にはネジ溝が形成されており、前記洗浄タンク１９の前端壁に固定支持された逆Ｌ字ブラケット２８（図４参照）に螺合している。
したがって、前記位置決めネジ２７，２７を回転調節すると、前記位置決めネジ２７，２７は、螺合している逆Ｌ字ブラケット２８に対して上下方向（Ｚ軸方向）に移動する。このとき、前記位置決めネジ２７，２７と一体的に移動する位置決めアーム２６，２６も上下方向（Ｚ軸方向）に移動する。前記回転ブラシＢは、ケース１に回転可能に支持された回転軸支持プレート２３，２４によって支持されているので、ケース１に対して上下方向（Ｚ軸方向）に移動することができる。したがって、左右一対の前記位置決めアーム２６，２６の上下移動に伴い、回転ブラシＢも上下移動する。即ち、前記位置決めネジ２７，２７を回転調節することによって、回転ブラシＢの上下方向の位置（高さ）を調節することができる。前記回転ブラシＢの高さの調節により、ハンダ付基板Ｋと回転ブラシＢのブラシ毛Ｂ３との接触圧（ブラッシングされる力、擦られる力）を変化させることができる。
【００５０】
なお、洗浄液タンク１９内の洗浄液の量は、前記回転ブラシＢのブラシ毛Ｂ３の下端側が洗浄液に浸漬し、且つ、回転軸Ｂ２及び回転軸支持プレート２３，２４の下端部が洗浄液に浸らないように調節されている（図４参照）。
前記洗浄液タンク１９及び回転ブラシＢによって洗浄剤塗布装置（１９＋Ｂ）が構成されている。
【００５１】
図７は実施例１の洗浄剤除去装置の説明図である。
図３，図４において、前記前側（＋Ｘ側）の直毛ブラシ２２の前方の余剰洗浄液回収プレート２１上にはエア吹出部材２９（洗浄剤除去装置）が固定支持されている。図７において、前記エア吹出部材２９は、２つの後方（−Ｘ方向）に傾斜する傾斜面２９ａ，２９ａと、各傾斜面２９ａ，２９ａに連続する水平面２９ｂ，２９ｂとを有している。後側（−Ｘ側）の前記傾斜面２９ａには複数のエア吹出口２９ｃが形成されており、前側（＋Ｘ側）の水平面２９ｂには複数のエア吹出口２９ｄが形成されている。
図４において、前記エア吹出部材２９には、フィルタ付きエア送風機３１からエア通路３２を介してエアが供給される。供給されたエアは、前記エア吹出口２９ｃ，２９ｄからそれぞれ後部上方（−Ｘ、＋Ｚ方向）および上方（＋Ｚ方向）に向かってエアが吹き出される。
【００５２】
（スライドテーブル駆動機構）
図３〜図５において、前記ケース１の後端部（−Ｘ端部）左側（−Ｙ側）にはスライドテーブル６を往復移動させるための往復移動用モータユニットＭ１が固定支持されている。前記往復移動用モータユニットＭ１はモータ、減速機構および出力軸を一体化（ユニット化）した部材である。前記往復移動用モータユニットＭ１の出力軸には駆動ギア３６（図４参照）が固着されており、往復移動用モータユニットＭ１の回転力が駆動ギア（タイミングベルト駆動用ギア）３６に伝達される。前記駆動ギア３６の下方（−Ｚ方向）には、ケース１のフレームに固定支持された支持部材によって回転可能に支持された後側従動ギア３７が配置されている。そして、前記後側従動ギア３７の前方且つケース１の前端部（＋Ｘ端部）には、回転可能に支持された前側従動ギア３８（図４参照）が配置されている。前記各ギア３６〜３８には無端状のタイミングベルト３９が支持されている。また、前記後側従動ギア３７の前方には、ケース１のフレームに固定支持された支持部材によって回転可能に支持されたガイドローラ４１が配置されている。前記ガイドローラ４１は、前記タイミングベルト３９のベルトテンション（張力）を調節し、且つタイミングベルト３９をガイドする機能を有している。
【００５３】
図４、図６において、前記無端状のタイミングベルト３９は、スライドテーブル６上面とその上方に配置されたベルト固定プレート４２（図６参照）との間に挟まれた状態で、ベルト固定プレート４２およびタイミングベルト３９を貫通する固定ボルト４３によって固定されている。なお、前記ベルト固定プレート４２の下面には、タイミングベルト３９の溝に噛合うギアが形成されている。前記往復移動用モータユニットＭ１が正回転または逆回転することによって、タイミングベルト３９が回転し、タイミングベルト３９の回転に伴ってスライドテーブル６がスライドレール４、４上を前後方向に往復移動する。
前記往復移動用モータユニットＭ１、ギア３６〜３８、タイミングベルト３９、ガイドローラ４１、ベルト固定プレート４２，固定ボルト４３及びスライドテーブル６等によって往復移動装置（Ｍ１＋６＋３６〜４３）が構成されている。
【００５４】
（ブラシ回転装置）
図３〜図５において、前記ケース１内部の往復移動用モータユニットＭ１の前方（＋Ｘ方向）には、ブラシ駆動用モータユニットＭ２が固定支持されている。前記ブラシ駆動用モータユニットＭ２はモータ、減速機構および出力軸を一体化（ユニット化）した部材である。前記ブラシ駆動用モータユニットＭ２の出力軸には駆動プーリＰ２が固着されており、出力軸の回転が駆動プーリＰ２に伝達される。前記回転ブラシＢ（洗浄ブラシ）の回転力伝達プーリＰ１と駆動プーリＰ２との間には、無端状のブラシ駆動ベルト４６（図４参照）が支持されている。そして、前記駆動プーリＰ２の前方（＋Ｘ方向）には、ブラシ駆動ベルト４６を押圧して張り（ベルトテンション）を持たせるためのテンションローラ４７（図４参照）が設けられている。前記テンションローラ４７は、前記左側回転軸支持プレート２３（図３参照）によって支持されている。
前記ブラシ駆動用モータユニットＭ２、回転力伝達プーリＰ１、駆動プーリＰ２、ブラシ駆動ベルト４６およびテンションローラ４７等によってブラシ回転装置（Ｍ２＋Ｐ１＋Ｐ２＋４６＋４７）が構成されている。
【００５５】
（回転移動装置）
図８は基板洗浄装置の実施例１の基板支持部材を回転させるための回転移動装置の説明図であり、図８Ａは後方（−Ｘ方向）に移動する回転移動部材の回転移動前の説明図、図８Ｂは図８Ａの回転移動装置をＶＩＩＩＢ方向から見た図、図８Ｃは回転移動部材の回転移動時の説明図、図８Ｄは回転移動後の回転部材が前方（＋Ｘ方向）に移動するときの説明図である。
図２、図４、図５、図８において、前記ケース開閉カバー３の内側には、前側回転移動部材Ｒ１（図２，図４参照）が配置されている。そして、前記ケース１の後部のフレームには、前記前側回転移動部材Ｒ１と同様の構成を有し、前後対称に配置された後側回転移動部材Ｒ２（図４参照）が配置されている。
図８において、前記後側回転移動部材Ｒ２は、ケース１のフレームに支持されるベース５１を有している。前記ベース５１には回転軸５２を中心に回転可能に支持された接触部材５３が設けられている。そして、前記ベース５１には、前記接触部材５３の後方（−Ｘ方向）への回転を妨げる棒状のストッパ５４が設けられている。前記接触部材５３は、前方（＋Ｘ側）に曲がって形成された接触部５３ａを有している。前記接触部５３ａの前端面は、後方（−Ｘ方向）に移動してきた前記十字部材１２の互いに９０°の角度をなす接触部に当接可能に構成されている。
そして、前記前側回転移動部材Ｒ１は、前記後側回転移動部材Ｒ２とほぼ同様に構成されており、ベース５１′、回転軸５２′、後方に曲がって形成された接触部５３ａ′を有する接触部材５３′及び接触部材５３′の前方（＋Ｘ方向）への回転を防止するストッパ５４′を有している。
前記前側回転移動部材Ｒ１、後側回転移動部材Ｒ２及び十字部材１２によって回転移動装置（Ｒ１＋Ｒ２＋１２）が構成されている。
前記移動ユニットＳ、往復移動装置（Ｍ１＋６＋３６〜４３）及び回転移動装置（Ｒ１＋Ｒ２＋１２）によってブラッシング用相対移動装置が構成されている。
【００５６】
（制御盤）
前記ケース本体２の中央部の前記制御盤（コントロールボックス）ＣＢには、電源ボタン、洗浄開始ボタン及び緊急停止ボタン等の制御ボタンや、洗浄可能告知ランプ等のランプ類、自動洗浄モード・手動洗浄モード切り替えスイッチ等のスイッチが設けられている。前記自動洗浄モード・手動洗浄モード切り替えスイッチは、自動でハンダ付基板Ｋの洗浄を行う自動洗浄モードと、特殊な基板を洗浄する場合や回転ブラシＢの交換等のメンテナンスを行う場合に、手動で前記往復移動用モータユニットＭ１やブラシ駆動用モータユニットＭ２等の制御を行う手動洗浄モードとを切り替える。前記制御盤ＣＢの内部には、図示しないシーケンサが設けられている。前記シーケンサは、前記各ボタンの入力やスイッチの切り替えによって、前記往復移動用モータユニットＭ１及びブラシ駆動用モータユニットＭ２の制御を行ったり、基板洗浄装置Ｃ内部に設けられた複数のセンサからの信号によって、前記ランプ類を点灯・消灯させる。
【００５７】
（実施例１の作用）
前記構成を備えた実施例１の基板洗浄装置では、回転テーブルＲｔを手動で回転操作して、位置決め被係合部９ｂを位置決め係合部８ａに係合させ、回転テーブルＲｔの位置を洗浄開始時の初期位置にセットする。このとき、前記十字部材１２の４つの接触部は、それぞれＸ軸又はＹ軸に対して４５°の角度をなすように設定されている。ケース開閉カバー３及びテーブル開閉カバー１１を開けた状態で、ハンダ付基板Ｋのハンダ付部分（被洗浄面）Ｋ１を下方に向けて、前記ハンダ付基板Ｋを基板当接部１４ｄに装着する。そして、前記ハンダ付基板Ｋの上にスポンジ１８を載置してテーブル開閉カバー１１を閉め、ハンダ付基板Ｋを固定する。
【００５８】
前記回転テーブルＲｔが初期位置にセットされた状態で、ケース開閉カバー３を閉め、制御盤ＣＢの洗浄開始ボタンを押す（ＯＮにする）。洗浄開始ボタンがＯＮになると、前記ブラシ駆動用モータユニットＭ２が駆動し、回転ブラシＢが回転する。そして、前記往復移動用モータユニットＭ１が駆動（正回転）し、前記スライドテーブル６を有する移動ユニットＳが後方にスライド移動する。このとき、前記移動ユニットＳの回転テーブルＲｔに収容されたハンダ付基板Ｋの被洗浄面Ｋ１が前記回転ブラシＢによってブラッシングされる。前記ブラシ毛Ｂ３の先端は下側で洗浄液に浸漬した後、上側でハンダ付基板Ｋをブラッシングするので、ハンダ付基板Ｋの被洗浄面Ｋ１は、洗浄液が塗布された状態で（塗布しながら）ブラッシングされる。前記ハンダ付基板Ｋの被洗浄面Ｋ１は、回転ブラシＢでブラッシングされた後、後側の直毛ブラシ２２によってさらにブラッシングされる。即ち、前記被洗浄面Ｋ１は、回転ブラシＢで洗浄液が塗布された状態で、直毛ブラシ２２によってブラッシングされる。このとき同時に、被洗浄面Ｋ１に付着した洗浄液が直毛ブラシ２２によって除去される。除去しきれなかった洗浄液は、ハンダ付基板Ｋから余剰洗浄液回収プレート２１に落下して洗浄液タンク１９に回収される。
【００５９】
図８において、前記移動ユニットＳが後方に移動すると、テーブル開閉カバー１４の上面側に固着された十字部材１２の４つの接触部のなかの左後側（−Ｘ，−Ｙ側）の接触部が、後側回転移動部材Ｒ２の接触部材５３の接触部５３ａに接触する（図８Ａの状態）。このとき、前記移動ユニットＳは後方（−Ｘ方向）に移動し続けているので、十字部材１２との接触により接触部材５３は後方に押され、回転軸５２を中心として後方（−Ｘ方向）に回転しようとする。しかし、前記接触部材５３はストッパ５４によって後方への回転が妨げられているので、後方には回転できない。したがって、前記十字部材１２と接触部材５３とが当接した状態で移動ユニットＳが後方に移動すると、ローラ１３によって回転自由に支持され且つ前記十字部材１２と一体的に回転移動する回転テーブルＲｔが上方から見て反時計方向に回転する（図８Ｃの状態）。
前記移動ユニットＳは、後端センサＳＮ２が移動ユニットＳのスライドテーブル６の後端を検知するまで移動するよう設定されており、十字部材１２と接触部材５３とが当接した状態で移動ユニットＳが移動している間、回転テーブルＲｔは回転する。即ち、前記後端センサＳＮ２を配置する位置を調節することによって、前記回転テーブルＲｔの回転角度を調節することができる。実施例１では前記回転テーブルＲｔの回転角度が９０°になるように前記後端センサＳＮ２及び前端センサＳＮ１が配置されている。
【００６０】
前記後端センサＳＮ２が移動ユニットＳの後端を検知すると、前記往復動移動用モータユニットＭ１が正回転を停止し、逆回転駆動する。すなわち、前記移動ユニットＳは、後方（−Ｘ方向）への移動を停止し、前方（＋Ｘ方向）に向かって移動を開始する。このとき、前記回転テーブルＲｔは初期位置に対して９０°回転しており、初期位置でセットした位置決め被係合部９ｂから９０°回転した位置の位置決め被係合部９ｂと、テーブル位置決め係合部８ｂとが係合し、位置決めされる。前記移動ユニットＳが前方に向かって移動を開始すると、前記接触部材５３の後端面（−Ｘ端面）に十字部材１２が接触するが、後側回転移動部材Ｒ２の接触部材５３は前方に向かって回転可能に構成されているので、十字部材１２に押された接触部材５３は回転軸５２を中心に前方（＋Ｘ方向）に回転する（図８Ｄの状態）。したがって、前記移動ユニットＳが前方に移動するとき、回転テーブルＲｔは位置決め係合部材８によって位置決めされた状態（初期位置に対して９０°回転した状態）のまま回転しない。したがって、前記回転テーブルＲｔに収容されたハンダ付基板Ｋは、初期位置に対して９０°回転した状態で保持されたまま前方（＋Ｘ方向）に移動する。したがって、ハンダ付基板Ｋの被洗浄面Ｋ１は、最初にブラッシングされた方向に対し、９０°回転した方向からブラッシングされて、洗浄される。
【００６１】
前方に向かって移動している前記移動ユニットＳは、前端センサＳＮ１が移動ユニットＳの前端を検知すると、再び後方（−Ｘ方向）に向かって移動する。このとき、前記十字部材１２と前側回転移動部材Ｒ１との接触により、さらに９０°（初期位置に対して１８０°）回転する。したがって、前記移動ユニットＳが、再び後方に向かって移動するとき、ハンダ付基板Ｋの被洗浄面Ｋ１は最初にブラッシングされた方向に対し１８０°回転した方向からブラッシングされる。
そして、前記移動ユニットＳは、前記後端センサＳＮ２が移動ユニットＳの後端を検知するまで移動し、その後前方（＋Ｘ方向）に向かって移動する。このとき、回転テーブルＲｔはさらに９０°（初期位置に対して２７０°）回転しているので、移動ユニットＳが再び前方に向かって移動するとき、ハンダ付基板Ｋの被洗浄面Ｋ１は最初にブラッシングされた方向に対し２７０°回転した方向からブラッシングされる。
【００６２】
前記移動ユニットＳが再び前方に向かって移動し始めると、前記エア送風機３１が作動し、エア吹出部材２９からエアが吹き出す。したがって、異なる４方向からブラッシングされたハンダ付基板Ｋは、直毛ブラシ２２によって洗浄剤が除去された後、さらにエアによって洗浄剤の完全除去及び被洗浄面Ｋ１の乾燥が行われる。
そして、前記前端センサＳＮ１が移動ユニットＳの前端を検知したとき、往復移動用モータユニットＭ１およびベルト駆動用モータユニットＭ２等は駆動を停止し、洗浄を終了する。
【００６３】
この結果、実施例１の基板洗浄装置では、ハンダ付基板Ｋの被洗浄面Ｋ１は、洗浄液が塗布された状態で、０°、９０°、１８０°、２７０°の異なる４方向からブラッシングされる。したがって、複数のハンダ付部分１７を有するハンダ付基板Ｋは、被洗浄面Ｋ１の全面が４方向からブラッシングされ、盛り上がったハンダ付部分１７も４方向からブラッシングされる。即ち、盛り上がったハンダ付部分１７の傾斜表面は、ハンダ周辺部からハンダ中心部に向かって必ず一度は比較的大きな力でブラッシングされるので、ハンダ付部分の傾斜面の洗浄度にムラが生じない。したがって、被洗浄面Ｋ１は均一に洗浄される。また、ハンダ付基板Ｋの被洗浄面Ｋ１が均一に洗浄されているので、被洗浄面Ｋ１の多数の各ハンダ付部分１７に対して再ハンダ付作業を行う必要があるか否かの識別作業や、再ハンダ付作業を容易に行うことができる。さらに、エアによって被洗浄面Ｋ１が乾燥しているので、ハンダ付基板Ｋを洗浄後、速やかに、前記識別作業や再ハンダ付作業を実行することができる。
【００６４】
（変更例）
以上、本発明の実施の形態を詳述したが、本発明は、前記実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更例（Ｈ０１）〜（Ｈ０１４）を下記に例示する。
（Ｈ０１）前記実施例１において、本発明の基板洗浄装置は、ハンダ付基板Ｋだけでなく、ハンダ付部分１７を有しない基板（被洗浄基板）を洗浄することも可能である。
（Ｈ０２）前記実施例１において、回転テーブルＲｔにはハンダ付基板Ｋを１つだけ収容する構成としたが、複数の被洗浄基板を並べて収容する構成とすることもできる。この場合、複数の被洗浄基板を複数の方向から、洗浄できるので、全ての被洗浄基板の全表面を均一に洗浄できる。また、一度に複数の基板を洗浄できるので、洗浄作業を高速化、低コスト化できる。
（Ｈ０３）前記実施例１において、十字部材１２は、互いになす角が９０°のものを使用したが、互いになす角が１２０°の３つの接触部を有するＹ字状の部材や、その他のなす角の異なる接触部を有する部材を使用することができる。このとき、なす角に対応して、回転テーブルの回転角度及びスライドテーブル６の往復移動回数を変更することもできる。
【００６５】
（Ｈ０４）前記実施例１において、回転ブラシＢは、被洗浄面Ｋ１に洗浄剤を塗布しつつブラッシングを行っているが、洗浄剤を塗布する部材とブラッシングをするブラシを別個に設ける構成とすることも可能である。このとき、洗浄剤を塗布する部材は、ブラシのように被洗浄基板に接触して洗浄剤を塗布する部材だけでなく、洗浄剤を吹き付けて塗布する構成を使用することも可能である。
（Ｈ０５）前記実施例１において、回転ブラシＢは、スライドテーブル６の移動する方向（ハンダ付基板Ｋ（被洗浄基板）の移動する方向）に沿った方向にブラッシングするよう構成されているが、被洗浄基板の移動する方向とは異なった方向にブラッシングするよう構成することも可能である。例えば、上下方向に延びる回転軸の上端部に設けられた円板状のブラシを回転させることによって被洗浄基板をブラッシングすることも可能である。
（Ｈ０６）前記実施例１において、ガイドレール４は、水平方向（ＸＹ平面内）に延びて配置されているが、上方あるいは下方に傾斜して配置することも可能である。
【００６６】
（Ｈ０７）前記実施例１において、移動ユニットＳを回転ブラシＢに対して移動させる構成に替えて、回転ブラシＢを移動ユニットＳに対して移動させる構成とすることも可能である。
（Ｈ０８）前記実施例１において、スライドテーブル６の往復移動は前端センサＳＮ１及び後端センサＳＮ２によって検知して制御したが、往復移動用モータユニットＭ１の回転数または駆動時間を計測してスライドテーブル６の移動を制御することもできる。また、スライドテーブル６の前端部または後端部の接触を検知するリミットスイッチによって、往復移動用モータユニットＭ１の正回転及び逆回転を制御することも可能である。
（Ｈ０９）前記実施例１において、スライドテーブル６の往復移動、即ち、往復移動用モータユニットＭ１の正回転及び逆回転に対応させて、ブラシ駆動用モータユニットＭ２の回転（正回転及び逆回転）を制御することも可能である。
【００６７】
（Ｈ０１０）前記実施例１において、回転ブラシＢの代わりにスポンジロール等の洗浄液塗布部材を使用して、直毛ブラシ２２のみでブラッシングすることも可能である。
（Ｈ０１１）前記実施例１において、回転ブラシＢによってブラッシングを行う代わりに、直毛ブラシをブラシ振動装置によって振動させながら、直毛ブラシの先端を被洗浄基板に接触させてブラッシングすることも可能である。
（Ｈ０１２）前記実施例１において、回転テーブルＲｔを回転させる装置は、回転移動装置（Ｒ１＋Ｒ２＋１２）だけでなく、例えば、モータ等の回転駆動装置によって回転させることも可能である。前記モータを使用することにより、１８０°以上の角度回転させることも可能であり、また、スライドテーブル６がスライド移動している期間中回転テーブルＲｔを回転させ続ける構成とすることも可能である。
【００６８】
（Ｈ０１３）前記実施例１において、回転テーブルＲｔの洗浄開始時の初期位置に手動でセットしたが、モータ等の装置を使用して自動的にセットすることも可能である。また、回転テーブルＲｔを初期位置にセットした状態で洗浄を終了することによって、洗浄開始時に回転テーブルＲｔを初期位置にセットする作業を省略することも可能である。
（Ｈ０１４）前記実施例１において、回転テーブルＲｔを、十字部材１２と回転移動部材Ｒ１，Ｒ２によって回転させたが、モータ等を使用して回転させることも可能である。モータを使用することにより、回転テーブルＲｔを１８０°以上回転させる構成も可能である。
【００６９】
【発明の効果】
前述の本発明は、下記の効果（Ｅ０１），（Ｅ０２）を奏することができる。
（Ｅ０１）被洗浄基板の被洗浄面を均一に洗浄することができる。
（Ｅ０２）多数のハンダ付部分の有る被洗浄面を均一に洗浄して、被洗浄面の多数の各ハンダ付部分に対して、再ハンダ付作業を行う必要が有るか否かの識別作業を容易に行えるようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の実施の形態の１例（実施例１）の基板洗浄装置の全体斜視図である。
【図２】図２は実施例１の基板洗浄装置の開閉カバーを開けた状態の斜視図である。
【図３】図３は実施例１の基板洗浄装置の外壁を取り除いた平面図である。
【図４】図４は実施例１の基板洗浄装置の外壁を除いた側面図である。
【図５】図５は実施例１の基板洗浄装置の外壁を除いた正面図である。
【図６】図６は実施例１のブラッシング用相対移動装置の要部拡大断面図である。
【図７】図７は実施例１の洗浄剤除去装置の説明図である。
【図８】図８は基板洗浄装置の実施例１の基板支持部材を回転させるための回転移動装置の説明図であり、図８Ａは後方（−Ｘ方向）に移動する回転移動部材の回転移動前の説明図、図８Ｂは図８Ａの回転移動装置をＶＩＩＩＢ方向から見た図、図８Ｃは回転移動部材の回転移動時の説明図、図８Ｄは回転移動後の回転部材が前方（＋Ｘ方向）に移動するときの説明図である。
【符号の説明】
Ｂ…洗浄ブラシ、Ｋ…被洗浄基板、Ｋ１…被洗浄面、９ｄ…基板当接部、９…基板支持部材、１９…洗浄液タンク、２２，２９…洗浄剤除去装置、
Ｍ１＋６＋３６〜４３…往復移動装置、
Ｍ２＋Ｐ１＋Ｐ２＋４６＋４７…ブラシ回転装置、
Ｒ１＋Ｒ２＋１２…回転移動装置、
１９＋Ｂ…洗浄剤塗布装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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