(57)【要約】【課題】蛍光Ｘ線分析方法を用いて光触媒層の膜厚測定及び品質管理を行う。【解決手段】光触媒塗布液に、蛍光Ｘ線分析により検出可能であって、塗料塗膜成分元素、光触媒保護層成分元素、光触媒成分元素とは異なる元素（Ｍ）を含む化合物を含有させ、この光触媒塗布液により基材表面の塗料塗膜上に光触媒層を形成させて、光触媒層の膜厚測定、品質管理を蛍光Ｘ線分析によりＭ元素のＸ線強度値を測定することで行うことにより、塗料塗膜に光触媒の構成成分が含まれる場合であっても、Ｍ元素のＸ線強度値から光触媒層の膜厚を正確に測定することができ、光触媒層の品質管理も精度よく行える。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光触媒と、蛍光Ｘ線分析により検出可能であって、該光触媒を構成する成分元素とは異なる元素（Ｍ）を含む化合物とを含有することを特徴とする光触媒塗布液。
【請求項２】
光触媒と、蛍光Ｘ線分析により検出可能であって、該光触媒を構成する成分元素及び基材の塗装に使用されている塗料の成分元素とは異なる元素（Ｍ）を含む化合物とを含有することを特徴とする塗装された基材に塗布する光触媒塗布液。
【請求項３】
蛍光Ｘ線分析により検出可能である元素（Ｍ）が、基材を光触媒から保護するために使用される下地剤の成分元素と異なる元素である請求項１又は２記載の光触媒塗布液。
【請求項４】
光触媒塗布液に含有される蛍光Ｘ線分析により検出可能である元素（Ｍ）が、Ｂ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌ、Ｖ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ及びＡｕの少なくともいずれかである請求項１、２又は３記載の光触媒塗布液。
【請求項５】
光触媒塗布液に含有される蛍光Ｘ線分析により検出可能である元素（Ｍ）が、Ｂ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌ、Ｚｒ、Ｐｄ及びＷの少なくともいずれかである請求項１、２又は３記載の光触媒塗布液。
【請求項６】
光触媒が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化マンガン及び酸化ルテニウムの少なくともいずれかである請求項１〜５のいずれかに記載の光触媒塗布液。
【請求項７】
光触媒が酸化チタンであり、光触媒塗布液に含有される蛍光Ｘ線分析により検出可能である元素（Ｍ）と光触媒に含まれるチタンとのモル比が、Ｍ／Ｔｉ＝０．００１〜１．０である請求項１〜６のいずれかに記載の光触媒塗布液。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の光触媒塗布液を用い、該光触媒塗布液が塗布されて基材上に形成された光触媒層の膜厚測定、品質管理を行うに際し、蛍光Ｘ線分析によりＭ元素のＸ線強度値を検出し、Ｍ元素のＸ線強度値から光触媒を構成する成分元素のＸ線強度値を求めることで、光触媒層の膜厚を測定し、さらに光触媒層の品質を管理することを特徴とする蛍光Ｘ線分析を用いた光触媒層の膜厚測定・品質管理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光触媒液に、蛍光Ｘ線分析により検出可能で光触媒、基材を塗装した塗料等に含まれない元素（Ｍ）を含む化合物を含有させた光触媒塗布液と、この光触媒塗布液を塗布して基材上に形成された光触媒層について、蛍光Ｘ線分析方法により光触媒層の膜厚測定及び品質管理を行う方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光触媒は、紫外線を照射された場合に酸化力を生じ、これにより脱臭、殺菌、防汚などの優れた効果を発揮し得る。従って、基材表面にこのような特性を発揮可能な光触媒層を形成することにより、優れた特性を発揮する複合材を得ようとする試みが、様々な分野においてなされている。そして、基材に光触媒（液）を塗布する場合、非常に薄く形成された光触媒層の膜厚測定、品質管理を行うことが必要となることが多い。
【０００３】
一方、例えば、酸化チタンを含む塗料を塗布した基材（建材、鋼板等）に光触媒（酸化チタン）を塗布する場合、非常に薄く形成された光触媒層の膜厚測定、品質管理をどう行うかという問題がある。工場内での建材、鋼板等の生産ラインでは、塗料による塗膜の品質、膜厚測定に蛍光Ｘ線分析を利用するものも多い。したがって、工場内での光触媒塗布においても、光触媒層の膜厚測定、品質管理を蛍光Ｘ線分析で行うことが、ユーザー側から望まれている。しかし、汎用塗料のほとんどには酸化チタンが含まれるため、蛍光Ｘ線分析では非常に薄く形成された光触媒層のチタンだけでなく、塗料塗膜中のチタンも検出されてしまうため、光触媒層の正確な膜厚測定、品質管理は困難である。
【０００４】
蛍光Ｘ線分析法を塗料や塗膜の測定に利用する技術としては、電着塗料中のフッ素樹脂濃度を測定するに際し、塗料中に含まれる塩素原子濃度を蛍光Ｘ線分析により測定し、この塩素原子濃度からフッ素原子濃度を求めてフッ素樹脂濃度を測定するという方法がある（例えば、特許文献１参照）。また、めっきされた金属体を被覆した塗膜の厚さを蛍光Ｘ線分析法で測定するに際し、めっき層厚の影響を理論的に求めた関係式を用いて補正し、正確な塗膜厚を求めるという方法がある（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
また、基材の透明又は半透明上塗り塗膜中に蛍光体を含有させておき、該蛍光体から発せられる蛍光の分布状況を検出して前記塗膜の被覆状態を判定するという方法がある（例えば、特許文献３参照）。また、脱スケール、酸洗ステンレス鋼材の品質管理システムとして、鋼材表面のＳｉ、Ｃｒ濃度、あるいは鋼材表面のＳｉ、Ｃｒ濃度と地金中のＳｉ、Ｃｒ濃度との比を蛍光Ｘ線分析により検出し、この検出結果に基づいて脱スケール又は酸洗の条件を調整するという技術がある（例えば、特許文献４参照）。
【０００６】
また、光触媒に関する技術では、光触媒に、光触媒機能の発現により分解して消色される色素を含有させ、塗装現場における光触媒塗装剤の塗り残し等を判別するという方法がある（例えば、特許文献５参照）。また、光触媒塗膜中に蛍光物質を混入させて、光触媒塗膜の有無及び光触媒機能の発現を目視で確認できるようにした技術がある（例えば、特許文献６参照）。
これらのいずれの先行技術も、蛍光Ｘ線分析を用いた光触媒層の膜厚測定、品質管理に関するものではなかった。
【０００７】
【特許文献１】
特開平７−１９７２９６号公報
【特許文献２】
特開平５−１０７４３号公報
【特許文献３】
特開２００２−５４９０７号公報
【特許文献４】
特開平６−８８７９４号公報
【特許文献５】
特開２００１−３２１６７６号公報
【特許文献６】
特開平１１−７１１３６号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記の諸点に鑑みなされたもので、本発明の目的は、光触媒塗布液に、蛍光Ｘ線分析により検出可能であって、塗料塗膜成分元素、光触媒保護層成分元素、光触媒成分元素とは異なる元素（Ｍ）を含む化合物を含有させ、この光触媒塗布液により基材表面の塗料塗膜上に光触媒層を形成させて、光触媒層の膜厚測定、品質管理を蛍光Ｘ線分析によりＭ元素のＸ線強度値を測定することで行うことにより、塗料塗膜に光触媒の構成成分が含まれる場合であっても、Ｍ元素のＸ線強度値から光触媒層の膜厚を正確に測定することができ、光触媒層の品質管理も精度よく行える方法、及び、上記のような、光触媒液に、蛍光Ｘ線分析により検出可能で光触媒、基材を塗装した塗料等に含まれない元素（Ｍ）を含む化合物を含有させた光触媒塗布液を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の光触媒塗布液は、光触媒（液）と、蛍光Ｘ線分析により検出可能であって、該光触媒を構成する成分元素とは異なる元素（Ｍ）を含む化合物とを含有するように構成されている。また、本発明の光触媒塗布液は、塗装された基材へ光触媒を塗布する場合、光触媒と、蛍光Ｘ線分析により検出可能であって、該光触媒を構成する成分元素及び前記基材の塗装に使用されている塗料の成分元素とは異なる元素（Ｍ）を含む化合物とを含有するものとする。また、基材を光触媒から保護するために下地剤を使用している場合、蛍光Ｘ線分析により検出可能である上記の元素（Ｍ）は、下地剤の成分元素と異なる元素とする。
【００１０】
光触媒塗布液に含有される蛍光Ｘ線分析により検出可能である元素（Ｍ）は、例えば、Ｂ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌ、Ｖ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ａｕなどである。特に、Ｂ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌ、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｗなどを使用することが好ましい。また、光触媒としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化ルテニウムなどが用いられる。特に、安全性、薬品に対する耐久性、透明性などにより、酸化チタンが好適である。この場合、光触媒塗布液に含有される蛍光Ｘ線分析により検出可能である元素（Ｍ）と光触媒に含まれるチタンとのモル比を、Ｍ／Ｔｉ＝０．００１〜１．０、望ましくは０．００５〜０．５、より望ましくは０．０１〜０．０５とすることが好ましい。Ｍ／Ｔｉのモル比が下限値未満の場合は、蛍光Ｘ線分析での元素ＭのＸ線強度値が低くなるため、光触媒層の膜厚測定の精度が悪くなるという不都合があり、Ｍ／Ｔｉのモル比が上限値を超える場合は、満足する光触媒性能が得られないという不都合がある。
【００１１】
本発明の蛍光Ｘ線分析を用いた光触媒層の膜厚測定・品質管理方法は、上記のような光触媒塗布液を用い、該光触媒塗布液が塗布されて基材上に形成された光触媒層の膜厚測定、品質管理を行うに際し、蛍光Ｘ線分析によりＭ元素のＸ線強度値を検出し、Ｍ元素のＸ線強度値から光触媒を構成する成分元素のＸ線強度値を求めることで、光触媒層の膜厚を測定し、さらに光触媒層の品質を管理することを特徴としている。ここで言う「品質管理」としては、一例として、光触媒の性能や、光触媒層の塗り残し、塗りムラ等を検出することが挙げられる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態について説明するが、本発明は下記の実施の形態に何ら限定されるものではなく、適宜変更等して実施することが可能なものである。すなわち、以下の説明においては、理解を容易にし、かつ説明を具体的に成すために、光触媒は酸化チタンを例として記述するが、本発明は酸化チタンに限定されるものではない。
【００１３】
酸化チタンを含む塗料を塗布した基材に光触媒として酸化チタンを塗布する場合、非常に薄く形成された光触媒層の膜厚測定、品質管理をどう行うかという課題がある。塗料による塗膜の品質、膜厚測定には蛍光Ｘ線分析方法を利用するものも多いので、塗装された基材への光触媒塗布においても、光触媒層の膜厚測定、品質管理を蛍光Ｘ線分析で行うことが望まれている。しかし、汎用塗料のほとんどには酸化チタンが含まれるため、蛍光Ｘ線分析では非常に薄く形成された光触媒層のチタンだけでなく、塗料塗膜中のチタンも検出されてしまうため、光触媒層の正確な膜厚測定、品質管理は困難である。
【００１４】
本発明では、光触媒塗布液に、蛍光Ｘ線分析により検出可能であって、塗料塗膜成分元素、光触媒保護層成分元素、光触媒成分元素とは異なる元素（Ｍ）を含む化合物を含有させ、この光触媒塗布液により基材表面の塗料塗膜上に光触媒層を形成させて、光触媒層の膜厚測定、品質管理を蛍光Ｘ線分析によりＭ元素のＸ線強度値を測定することで行うことにより、塗料塗膜に光触媒の構成成分が含まれる場合であっても、Ｍ元素のＸ線強度値から光触媒層の膜厚を正確に測定することができ、光触媒層の品質管理も精度よく行える。具体的には、例えば、予めチタンとＭ元素を含む光触媒層の膜厚が異なるものを数種類準備し、蛍光Ｘ線分析によるＭ元素のＸ線強度値から光触媒である酸化チタンを構成する成分元素（この場合、チタン）のＸ線強度値が求められる検量線を作成しておくと、任意のＭ元素のＸ線強度値から光触媒層の膜厚を測定することができる。また、Ｍ元素のＸ線強度値からチタンのＸ線強度値が比例関係で判る。なお、光触媒層の膜厚を予め測定しておく際には、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）等を使用することができる。
【００１５】
光触媒塗布液に含有される蛍光Ｘ線分析により検出可能なＭ元素としては、例えば、Ｂ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌ、Ｖ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ａｕなどが使用される。特に、Ｂ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌ、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｗなどを使用することが好ましい。また、光触媒としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化ルテニウムなどが用いられる。特に、安全性、薬品に対する耐久性、透明性などにより、アモルファス型酸化チタン、アナターゼ型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタン、ルチル型酸化チタンを組み合わせたものが最適である。光触媒コーティング液としては、水系、溶剤系のどちらでも使用できるが、乾燥の比較的速いアルコール系溶媒に高分散している光触媒コーティング液を使用することが好適である。本発明に使用することが可能な光触媒コーティング材としては、例えば、チタニアゾル溶液、チタニアゲル体又はチタニアゾル・ゲル混合体を、密閉容器内で加熱処理すると同時に加圧処理し、ついで、分散・攪拌して得られるアナターゼ型酸化チタンスラリーなどが挙げられる。また、光触媒塗布液を基材に塗布する方法は、任意の方法でよい。
【００１６】
【実施例】
実施例として、リン酸又はＺｒＯ２を含有した光触媒塗布液での蛍光Ｘ線分析による測定結果を示す。なお、Ｐ又はＺｒ、ＴｉのＸ線強度値は、蛍光Ｘ線分析装置の機種、測定条件等によっても異なり、実施例での数値は一例として挙げたものであって、本発明の方法を何ら限定するものではない。
実施例１
光触媒コーティング材としてアナターゼ型酸化チタン分散液である「フォリウム（登録商標）」（川崎重工業（株）製）を用い、この光触媒コーティング材にリン酸（和光純薬工業製、純度８５％以上）０．１ｗｔ％を含有させて光触媒塗布液１とした。そして、光触媒塗布液１をイソプロピルアルコールを主成分とする希釈剤である「フォリウム専用希釈剤」（川崎重工業（株）製）にて３倍、１０倍に希釈したものをあわせて作成した。３倍希釈のものを光触媒塗布液２、１０倍希釈のものを光触媒塗布液３とする。
【００１７】
作成した光触媒塗布液１、２、３を用いて、ガラス基板上にディップコーティング方式で塗布速度１０〜４０ｃｍ／ｍｉｎ、塗布回数１〜２回で塗布した。塗布後、ドライヤーにて乾燥し、蛍光Ｘ線分析装置（モデル：３０８０Ｅ２、Ｒｉｇａｋｕ  Ｄｅｎｋｉ  Ｋｏｇｙｏ）にてＴｉ、Ｐの測定を行った。光触媒塗布液を塗布する前のガラス基板のＰ、Ｔｉの蛍光Ｘ線のＸ線強度値は、Ｐ：０．０６９８ｋｃｐｓ、Ｔｉ：０．０７７７ｋｃｐｓであった。
表１に試験結果（リン酸含有光触媒層の蛍光Ｘ線分析結果）を示す。表１の結果から横軸にＰのＸ線強度値を、縦軸にＴｉのＸ線強度値をプロットしたグラフを図１に示す。表１、図１よりＰのＸ線強度値とＴｉのＸ線強度値は非常に良好な比例関係を示した。この結果から光触媒のＰのＸ線強度値を測定することにより、塗膜上に形成されたＴｉのＸ線強度値を測定することが可能とわかる。また、あらかじめＴｉ又はＰのＸ線強度値と光触媒層の膜厚を測定しておくことで、塗膜上に形成された光触媒層の膜厚測定が可能となる。
【００１８】
【表１】
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【００１９】
実施例２
汎用塗料（酸化チタンを含む）でシルバー色に塗装されたアルミ複合材に、ジルコニアを主成分とする光触媒下地剤「フォリウム用アンダーコート剤」（川崎重工業（株）製）をディップコーティング方式で塗布速度１０ｃｍ／ｍｉｎ、塗布回数１回で塗布し、ドライヤーで乾燥させた。基材を乾燥後、上記実施例１の光触媒塗布液１を同様にディップコーティング方式で塗布速度１０〜４０ｃｍ／ｍｉｎ、塗布回数１回で塗布した。塗布後、ドライヤーで乾燥し、蛍光Ｘ線分析装置（モデル：３０８０Ｅ２、Ｒｉｇａｋｕ  Ｄｅｎｋｉ  Ｋｏｇｙｏ）にてＴｉ、Ｐの測定を行った。光触媒下地剤、光触媒塗布液を塗布する前のシルバー色で塗装されたアルミ複合材のＰ、Ｔｉの蛍光Ｘ線のＸ線強度値は、Ｐ：０．０４２５ｋｃｐｓ、Ｔｉ：８．５２８３ｋｃｐｓであった。
【００２０】
表２に試験結果（リン酸含有光触媒層の蛍光Ｘ線分析結果）を示す。表２の結果から横軸にＰのＸ線強度値を、縦軸にＴｉのＸ線強度値をプロットしたグラフを図２に示す。図２には、比較のため実施例１の結果も合わせて示す。表２、図２より基材上の塗膜にＴｉが含まれる場合、蛍光Ｘ線によるＴｉの強度値は基材上の塗膜中のＴｉに影響され、光触媒層の厚みをＴｉのＸ線強度値から測定することはやはり困難であった。光触媒層は基材の意匠性、乾燥時の膜の亀裂等を防ぐために非常に薄い膜厚が要求される。そのため、蛍光Ｘ線分析によりＴｉのＸ線強度値が数ｋｃｐｓ以上検出される基材では、光触媒層のＴｉは誤差として検出される恐れがある。そのような場合、実施例２のように、実施例１のプロットを検量線として、ＰのＸ線強度値からＴｉのＸ線強度値を測定することで、正確に光触媒層の膜厚測定、品質管理を行うことが可能となる。
【００２１】
【表２】
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【００２２】
実施例３
光触媒コーティング材としてアナターゼ型酸化チタン分散液である「フォリウム（登録商標）」（川崎重工業（株）製）を用い、この光触媒コーティング材にＺｒ／Ｔｉのモル比が０．５となるようにＺｒＯ２分散液を含有させて光触媒塗布液４とした。そして、光触媒塗布液４をイソプロピルアルコールを主成分とする希釈剤である「フォリウム専用希釈剤」（川崎重工業（株）製）にて２倍、４倍に希釈したものをあわせて作成した。２倍希釈のものを光触媒塗布液５、４倍希釈のものを光触媒塗布液６とする。
【００２３】
作成した光触媒塗布液４、５、６を用いて、ガラス基板上にディップコーティング方式で塗布速度１０〜４０ｃｍ／ｍｉｎ、塗布回数１回で塗布した。塗布後、ドライヤーにて乾燥し、蛍光Ｘ線分析装置（モデル：３０８０Ｅ２、ＲｉｇａｋｕＤｅｎｋｉ  Ｋｏｇｙｏ）にてＴｉ、Ｚｒの測定を行った。光触媒塗布液を塗布する前のガラス基板のＺｒ、Ｔｉの蛍光Ｘ線のＸ線強度値は、Ｚｒ：０．０３０４ｋｃｐｓ、Ｔｉ：０．０７７７ｋｃｐｓであった。
表３に試験結果（ＺｒＯ２含有光触媒層の蛍光Ｘ線分析結果）を示す。表３の結果から横軸にＺｒのＸ線強度値を、縦軸にＴｉのＸ線強度値をプロットしたグラフを図３に示す。表３、図３よりＺｒのＸ線強度値とＴｉのＸ線強度値は非常に良好な比例関係を示した。この結果から光触媒のＺｒのＸ線強度値を測定することにより、塗膜上に形成されたＴｉのＸ線強度値を測定することが可能とわかる。
【００２４】
【表３】
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【００２５】
つぎに、Ｂ、Ｐ、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｗの各元素を含有した光触媒液のアセトアルデヒド分解試験結果を示す。
実施例４
光触媒コーティング材としてアナターゼ型酸化チタン分散液である「フォリウム（登録商標）」（川崎重工業（株）製）を用い、Ｂ、Ｐ、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｗの元素を含むそれぞれの光触媒塗布液を作成した。Ｂを含む化合物にはホウ酸、Ｐを含む化合物にはリン酸、Ｚｒを含む化合物にはＺｒＯ２、Ｐｄを含む化合物にはパラジウム（ＩＩ）アセチルアセトナート、Ｗを含む化合物にはＷ（ＯＣ２Ｈ５）５を用いた。ガラス（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に各光触媒塗布液を４０ｃｍ／ｍｉｎの速度でディッピング塗布し、１１０℃で３０分間処理した。
【００２６】
ガラスへの塗布量は４．０〜６．０ｍｇの範囲であった。２リットルの石英ガラスセパラブルフラスコに光触媒を塗布したガラスを入れ、アセトアルデヒド（以下、「ＡＡ」という）ガスを１００ｐｐｍの濃度に調整したガスを２リットル注入し、１５分間保持した。ＡＡの希釈ガスは炭酸ガスを含まない合成空気を使用した。その後、ブラックライトブルー蛍光灯（ＢＬＢ灯）の紫外線強度２．０ｍＷ／ｃｍ２となるよう調節したのち、それぞれ３０分間紫外線を照射して試験を行った。紫外線強度はＵＶＲ−２（トプコン社製）にて計測した。セパラブルフラスコ内でＡＡの酸化分解により生成する炭酸ガスをＧＣ−ＦＩＤ（水素炎イオン化検出器）にて計測した。
【００２７】
ガス濃度の測定条件は下記に示すとおりである。
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【００２８】
表４に試験結果を示す。表４において、ＡＡ分解活性の欄の記号「○」は、ＡＡの分解による炭酸ガスの発生があったことを示している。この結果から、Ｂ、Ｐ、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｗの各元素を含むそれぞれの光触媒塗布液について、優れた光触媒性能が確認できた。このように、Ｂ、Ｐ、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｗの元素を含む各光触媒塗布液では、満足する光触媒性能を確保しつつ、前述のように蛍光Ｘ線分析による光触媒層の膜厚測定が精度よく行える。
【００２９】
【表４】
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【００３０】
【発明の効果】
本発明は上記のように構成されているので、つぎのような効果を奏する。
（１）  光触媒塗布液に、蛍光Ｘ線分析により検出可能であって、塗料塗膜成分元素、光触媒保護層成分元素、光触媒成分元素とは異なる元素（Ｍ）を含む化合物を含有させ、この光触媒塗布液により基材表面の塗料塗膜上に光触媒層を形成させて、光触媒層の膜厚測定、品質管理を蛍光Ｘ線分析によりＭ元素のＸ線強度値を測定することで行うことにより、塗料塗膜に光触媒の構成成分が含まれる場合であっても、Ｍ元素のＸ線強度値から光触媒層の膜厚を正確に測定することができ、光触媒層の品質管理も精度よく行える。
（２）  Ｍ元素（例えば、Ｂ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌ、Ｖ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ａｕ等で、好ましくはＢ、Ａｌ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌ、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｗ等）を含む化合物を光触媒塗布液に含有させることにより、工場内塗装ラインで蛍光Ｘ線分析装置を用いた光触媒層の膜厚測定、品質管理が可能となる。
（３）  例えば、光触媒が酸化チタンである場合に、酸化チタンを含む塗料を塗布した母材に光触媒層を形成させても、光触媒層の正確な膜厚測定、品質管理が可能である。
（４）  蛍光Ｘ線分析によるＭ元素のＸ線強度値から光触媒成分元素（チタン等）のＸ線強度値が判るので、光触媒層の品質管理（光触媒の性能、塗り残し、塗りムラの判定等）が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１におけるＰとＴｉのＸ線強度値の関係を示すグラフである。
【図２】本発明の実施例２におけるＰとＴｉのＸ線強度値の関係を示すグラフである。
【図３】本発明の実施例３におけるＺｒとＴｉのＸ線強度値の関係を示すグラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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