(57)【要約】【課題】内周部の記録層の膜厚を中外周同等なものとし、記録再生特性の良好な光情報記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】基板上への送風処理を伴うスピンコート法により記録層を形成する工程を含む光情報記録媒体の製造方法であって、前記送風処理を、記録層形成溶液を前記基板上に滴下する際に施し、前記基板の中心と、前記記録層形成溶液の前記基板への滴下位置のうち、前記基板の中心に最も近い滴下位置との距離をｒとした場合に、前記ｒを半径とする前記基板と同心円の円周の少なくとも一部に、前記送風処理を行い、前記送風処理における前記ｒの位置での風量を０．５〜１５リットル／ｍｉｎとすることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上への送風処理を伴うスピンコート法により記録層を形成する工程を含む光情報記録媒体の製造方法であって、
前記送風処理を、記録層形成溶液を前記基板上に滴下する際に施し、
前記基板の中心と、前記記録層形成溶液の前記基板への滴下位置のうち、前記基板の中心に最も近い滴下位置との距離をｒとした場合に、前記ｒを半径とする前記基板と同心円の円周の少なくとも一部に、前記送風処理を行い、
前記送風処理における前記ｒの位置での風量を０．５〜１５リットル／ｍｉｎとすることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記ｒを、２０〜３０ｍｍとすることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記送風処理における送風を、前記記録層形成溶液の滴下開始時から、前記記録層の前記ｒの部分が乾燥するまでの間に行うことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光を用いて情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型の光情報記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ等として広く知られる追記型の光情報記録媒体には、記録領域として色素を含有する記録層が形成されている。一般的にこの記録層は、色素を含有する記録層形成溶液を基板表面にスピンコートして乾燥することにより形成される。
【０００３】
スピンコート法により記録層を形成する場合、一般的に内周部の膜厚が不均一になりやすく、中・外周部と比較して特性に劣ることがある。これを改善するために、実際に情報を記録再生する半径よりも内周側から色素を塗布したり、内周部にダミーのグルーブやピットを設けたりすることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかし、単に内周から色素を塗布するだけでは、搬送時の吸盤に由来する汚染から、塗布内周部が真円にならない等の問題が生じる。
【０００４】
また、基板の回転数を増加させたり、ノズルの動きを規定する、といったことが提案されている（例えば、特許文献２参照）。さらに、基板を高速回転させることで清浄な空気を流通させて乾燥させる場合に、上部中心に開口部を有する蓋をすることにより基板全面に均一に清浄な空気を流通させる方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。
しかし、いずれも内周部の記録層の厚さが中・外周部と比較して厚めになってしまうという問題を充分に解決することができなかった。また、初期の基板の回転数を高くすると、内周部の色素膜厚を一定以上に厚くすることができないという問題があった。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１１−１１０８１８号公報
【特許文献２】
特開２０００−１５５９９４号公報
【特許文献３】
特開２０００−１１０１００号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
以上から、本発明の目的は、内周部の記録層の膜厚を中外周同等なものとし、記録再生特性の良好な光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、下記本発明により解決することができる。
すなわち、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、
基板上への送風処理を伴うスピンコート法により記録層を形成する工程を含む光情報記録媒体の製造方法であって、
前記送風処理を、記録層形成溶液を前記基板上に滴下する際に施し、
前記基板の中心と、前記記録層形成溶液の前記基板への滴下位置のうち、前記基板の中心に最も近い滴下位置との距離をｒとした場合に、前記ｒを半径とする前記基板と同心円の円周の少なくとも一部に、前記送風処理を行い、
前記送風処理における前記ｒの位置での風量を０．５〜１５リットル／ｍｉｎとすることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法である。
【０００８】
前記ｒは、２０〜３０ｍｍとすることが好ましい。また、前記送風処理における送風は、前記記録層形成溶液の滴下開始時から、前記記録層の前記ｒの部分が乾燥するまでの間に行うことが好ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の光情報記録媒体の製造方法を図面を参照しながら、詳細に説明する。
【００１０】
図１に、本発明の製造方法に係る光情報記録媒体の製造システムを例示する。製造システム１０は、第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂと、記録層形成工程に供される塗布設備１４と、洗浄工程および乾燥処理工程に供される後処理設備１６と、を有して構成されている。
【００１１】
第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）が形成された基板を作製する成形機２０と、該成形機２０から取り出された基板を冷却する冷却部２２と、冷却後の基板を段積みして保管するためのスタックポール２４が複数本設置された集積部２６（スタックポール回転台）とを有する。
【００１２】
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．３ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．２ｍｍとすることがより好ましい。
【００１３】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が成形機２０により形成される。
ＤＶＤ−Ｒの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることがさらに好ましい。
３００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、９００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましい。
１００ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１６０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
さらに、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３９０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３８０ｎｍとすることがさらに好ましい。
２００ｎｍ未満では、成形時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、４００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００１４】
ＣＤ−Ｒの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、１．０〜２．０μｍの範囲とすること好ましく、１．１〜１．８μｍとすることがより好ましく、１．１〜１．６５μｍとすることがさらに好ましい。
プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１５０〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１７０〜２１０ｎｍとすることがさらに好ましい。
プリグルーブの半値幅は、２００〜６５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２５０〜６００ｎｍとすることがより好ましい。
なお、上記プリグルーブの数値範囲の臨界的意義については、前記ＤＶＤ−Ｒの場合と同様である。
【００１５】
成型された基板は、塗布設備１４に搬送される。塗布設備１４は、３つの処理部３０、３２及び３４から構成され、第１の処理部３０には、前記第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂから搬送されたスタックポール２４を収容するためのスタックポール収容部４０と、該スタックポール収容部４０に収容されたスタックポール２４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第１の搬送機構４２と、該第１の搬送機構４２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う静電ブロー機構４４とを有する。
【００１６】
第２の処理部３２は、第１の処理部３０において静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第２の搬送機構４６と、該第２の搬送機構４６によって搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液（記録層形成溶液）を塗布する色素塗布機構４８と、色素塗布処理を終えた基板を１枚ずつ次工程に搬送する第３の搬送機構５０とを有する。この色素塗布機構４８は６つのスピンコート装置５２を有して構成されている。
【００１７】
第２の処理部３２に搬送された基板には、スピンコート装置５２により記録層形成溶液が全面に塗布される。このとき、基板上へ送風する送風処理を行う。基板への送風箇所は、記録層形成溶液の滴下位置によって異なる。すなわち、図２に示すように、基板２０２の中心Ｃと、吐出量調整バルブ４０８から滴下する記録層形成溶液の基板２０２への滴下位置のうち、基板２０２の中心Ｃに最も近い滴下位置との距離をｒとした場合に、そのｒを半径とした基板と同心の円（図２中の点線で示した円）の円周の少なくとも一部に向けて送風を行う（送風処理）。かかる位置に向けて送風を行うことで、記録層形成溶液が均一に流延するため、また、溶媒の揮発が促進されるため等の理由により、内周部の膜厚が均一となる。
【００１８】
送風処理における風量は、０．５〜１５リットル／ｍｉｎとすることが好ましい。かかる範囲とすることで、内周から外周の膜厚を均一に、または、内周の膜厚を中外周を同じ膜厚にすることができる。上記風量のより好ましい範囲は、０．７〜１３リットル／ｍｉｎであり、さらに好ましい範囲は、０．９〜１０リットル／ｍｉｎである。
【００１９】
送風処理における送風は、前記記録層形成溶液の滴下開始時から、前記記録層の半径ｒの部分が乾燥するまでの間に行うことが好ましい。かかる間に行うことで、乾燥ムラがなく、内周の膜厚を中外周と同じにすることができる。
ここで、「半径ｒの部分が乾燥するまで」とは、色素塗布領域（記録層）で中心から半径ｒの部分が乾燥するまでをいう。乾燥は、スピンコートによって同心円状の筋が内周部から外周部に向かって現れることで確認できる。従って、送風は、少なくとも上記同心円状の筋が発生する前に終了することが好ましい。乾燥が終了しても送風を継続すると、ムラが発生することがある。
具体的な送風時間の好ましい範囲は、スピンコートの回転数や、送風手段の風量等にもよるが、回転数を５００ｒｐｍ程度とし、風量を８リットル／ｍｉｎ程度とした場合、記録層形成溶液の滴下開始より、０．７〜５秒の時間とすることが好ましい。かかる範囲とすることで、膜厚をより均一にすることができる。
【００２０】
次に、送風処理を行う送風手段を具備するスピンコート装置を図３に例示する。
このスピンコート装置５２は、記録層形成溶液付与装置４００、送風手段５００、スピナーヘッド装置４０２及び飛散防止壁４０４を有して構成されている。送風手段５００は、ノズル等を通じて空気等の気体を供給する。そして、既述のように、基板の中心から半径ｒの同心円の円周上に設けられている。送風手段５００のノズルの形状や径は、既述の風量に合わせて適宜設定することが好ましい。また、送風手段５００と基板２０２との距離ｈは、供給する気体の風量にもよるが、５〜５０ｍｍとすることが好ましく、１０〜４０ｍｍとすることがより好ましい。
【００２１】
効果的に送風するためには、まず、ノズルの半径は５ｍｍ程度以下とすることが好ましく、４．５ｍｍ以下とすることがより好ましく、４ｍｍ以下とすることがさらに好ましい。また、ノズルの中心と基板の中心との距離をＲとしたときに、Ｒは、ｒ±５ｍｍ程度することが好ましい。特に、ノズルの半径が４．５ｍｍ以下のときは、Ｒ＝ｒ±４．５ｍｍとすることが好ましく、ノズルの半径が４．０ｍｍ以下のときは、Ｒ＝ｒ±４ｍｍとすることが好ましい。
【００２２】
送風手段５００の具体例としては、圧縮空気を、ノズルを通じて供給する手段等を適用することができる。
【００２３】
記録層形成溶液付与装置４００は、記録層形成溶液が充填された加圧タンク（図示せず）と、該加圧タンクからノズル４０６に引き回されたパイプ（図示せず）と、ノズル４０６から吐出される記録層形成溶液の量を調整するための吐出量調整バルブ４０８とを有し、記録層形成溶液は前記ノズル４０６を通してその所定量が基板２０２の表面上に滴下されるようになっている。この記録層形成溶液付与装置４００は、ノズル４０６を下方に向けて支持するアーム４１０と該アーム４１０を水平方向に旋回させるモータ（図示せず）とを有するハンドリング機構（図示せず）によって、待機位置から基板２０２の上方の位置に旋回移動できるように構成されている。
【００２４】
スピナーヘッド装置４０２は、前記記録層形成溶液付与装置４００の下方に配置されており、着脱可能な固定具４２０により、基板２０２が水平に保持されると共に、駆動モータ（図示せず）により軸回転が可能とされている。
【００２５】
スピナーヘッド装置４０２により水平に保持された状態で回転している基板２０２上に、上記の記録層形成溶液付与装置４００のノズル４０６から滴下した記録層形成溶液は、基板２０２の表面上を外周側に流延する。このとき、送風手段５００により送風することで、記録層形成溶液は、回転による遠心力に加え、送られた風による影響で外周側に流延し、また、送風によって溶媒の揮発が促進され、その結果、既述のように内周部の膜厚が均一となる。
そして、余分の記録層形成溶液は基板２０２の外周縁部で振り切られ、その外側に放出され、次いで塗膜が乾燥されることにより、基板２０２上に塗膜（記録層）が形成される。
【００２６】
飛散防止壁４０４は、基板２０２の外周縁部から外側に放出された余分の記録層形成溶液が周辺に飛散するのを防止するために設けられており、飛散防止壁４０４を介して集められた余分な記録層形成溶液はドレイン４２４を通して回収されるようになっている。
【００２７】
また、第２の処理部３２（図１参照）における各スピンコート装置５２の局所排気は、前記飛散防止壁４０４の上方に設けられた送風手段５００から取り入れた空気を基板２０２の表面上に送風させた後、各スピナーヘッド装置４０２の下方に取り付けられた排気管４２６を通じて排気されるようになっている。
【００２８】
この実施の形態で用いられる好ましいノズル４０６の例としては、例えば、ノズル本体の先端面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲をフッ素化合物を用いて形成したノズルや、ノズル本体の先端面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲の外側又は内側、あるいは両方の壁面をフッ素化合物を用いて被覆したものを挙げることができる。
【００２９】
スピンコート装置５２により塗布する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましく３５℃とする。
２３℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚（記録層の厚み）が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
なお、温度や雰囲気等の制御は、空調システム３００により行うことができる。
【００３０】
記録層形成溶液中に含有される色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、なかでも、シアニン色素が好ましい。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に用いられる。
【００３１】
記録層形成溶液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−メトキシエチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質（色素）の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。記録層形成溶液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００３２】
結合剤を使用する場合に、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される記録層形成溶液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００３３】
また、記録層は単層でも重層でもよく、その層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは４０〜２００ｎｍの範囲にある。
【００３４】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００３５】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００３６】
第３の処理部３４は、前記第３の搬送機構５０にて搬送された１枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗浄機構５４と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送する第４の搬送機構５６と、該第４の搬送機構５６によって搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行う番号付与機構５８と、ロット番号等の刻印を終えた基板を次工程に搬送する第５の搬送機構６０と、該第５の搬送機構６０によって搬送された基板に対して欠陥の有無並びに色素記録層の膜厚の検査を行う検査機構６２と、該検査機構６２での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール６４あるいはＮＧ用のスタックポール６６に選別する選別機構６８とを有する。
【００３７】
第１の処理部３０と第２の処理部３２との間に第１の仕切板７０が設置され、第２の処理部３２と第３の処理部３４にも同様の第２の仕切板７２が設置されている。第１の仕切板７０の下部には、第２の搬送機構４６による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成され、第２の仕切板７２の下部には、第３の搬送機構５０による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成されている。
【００３８】
基板上に記録層が形成され、裏面洗浄等が施された基板は、後処理設備１６に搬送される。
後処理設備１６は、塗布設備１４から搬送された正常品用のスタックポール６４を収容するためのスタックポール収容部８０と、該スタックポール収容部８０に収容されたスタックポール６４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第６の搬送機構８２と、該第６の搬送機構８２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う第１の静電ブロー機構８４と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第７の搬送機構８６と、該第７の搬送機構８６によって搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリングにて形成するスパッタ機構８８と、光反射層のスパッタリングを終えた基板を次工程に順次搬送する第８の搬送機構９０と、該第８の搬送機構９０によって搬送された基板の周縁（エッジ部分）を洗浄し、洗浄後の基板の外周部を乾燥するエッジ洗浄乾燥機構９２とを有する。
【００３９】
まず、スパッタ機構８８により光反射層が形成される。光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００４０】
エッジ洗浄機構９２では、例えば、図４〜図６に示すように、基板２０２を保持して、洗浄中も回転される回転軸６００と、該回転軸６００を一方向に回転させる駆動モータ６０２とを有する回転駆動装置６０４と、１本の吐出ノズル６０６が設けられたノズルユニット６０８と、該ノズルユニット６０８を支持するアーム６１０と、ノズルユニット６０８を初期位置Ｐ１から規定の吐出位置Ｐ２（図３参照）に移動させるアーム駆動装置６１２とを有して構成されている。
【００４１】
吐出ノズル６０６は、図６に示すように、鉛直線ｍに対して約４５°の角度θに維持されている。吐出ノズル６０６の配管途中には、濾過フィルタが装着されている。
【００４２】
前記ノズルユニット６０８が規定の吐出位置Ｐ２にきたとき、図６及び図７に示すように、吐出ノズル６０６からの溶剤６２０が吐出されることになるが、この場合、溶剤６２０は、反射層２０８が形成された基板２０２の内方における上方から基板２０２の周縁部２０６に向けて吐出され、この溶剤６２０の吐出によって基板２０２の周縁部２０６における記録層２０４が除去されることになる。
【００４３】
溶剤（洗浄液）６２０としては、特に制限はないが、例えば、ジアセトンアルコール、ジブチルエーテル、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノールを挙げることができ、特にジアセトンアルコールが好ましい。これらの溶剤は、特にシアニン系色素記録層を洗浄する場合に効果的であり、またこれらの溶剤で洗浄後、長期間保存しても基板を傷めにくいとの利点がある。
【００４４】
記録層を除去した後、もしくは溶剤６２０の吐出を終了した箇所から順次、基板２０２の外周部（主に記録層の外周縁部付近）に、残留溶剤を除去する乾燥処理を施す。乾燥処理は、主に基板２０２の回転により行われるが、本発明の製造方法では、基板２０２の回転と共に、基板２０２と離間して設けられた１以上の乾燥手段が併用されることが好ましい。当該乾燥手段を併用することにより、乾燥処理を効率的に行うことができる。乾燥手段としては、送風装置、ヒータ等が挙げられる。
【００４５】
以上のように、乾燥処理として、基板２０２を回転させながら乾燥手段を併用することで乾燥時間を短縮することが可能となり、乾燥効率を向上させながら、記録層の変質を防ぐことができる。
【００４６】
乾燥処理を施した基板２０２は、その後、静電気の除去を行う第２の静電ブロー機構９４と、静電ブロー処理を終えた基板２０２の一主面に対してＵＶ硬化液を塗布するＵＶ硬化液塗布機構９６と、ＵＶ硬化液の塗布を終えた基板２０２を高速に回転させて基板２０２上のＵＶ硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構９８と、ＵＶ硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板２０２に対して紫外線を照射することによりＵＶ硬化液を硬化させて基板２０２の一主面に保護層２１０を形成するＵＶ照射機構１００と、前記基板２０２を第２の静電ブロー機構９４、ＵＶ硬化液塗布機構９６、スピン機構９８及びＵＶ照射機構１００にそれぞれ搬送する第９の搬送機構１０２と、ＵＶ照射された基板２０２を次工程に搬送する第１０の搬送機構１０４と、該第１０の搬送機構１０４によって搬送された基板２０２に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠陥検査機構１０６と、基板２０２に形成されたグルーブによる信号特性を検査するための特性検査機構１０８と、これら欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での検査結果に応じて基板２０２を正常品用のスタックポール１１０あるいはＮＧ用のスタックポール１１２に選別する選別機構１１４と、を順次経て、光情報記録媒体とされる。
【００４７】
ここで、ＵＶ硬化液塗布機構９６からＵＶ照射機構１００によって保護層を形成する際のスピンコートの回転数は、均一な層形成および記録層へのダメージの防止の観点から、５０〜８０００ｒｐｍとすることが好ましく、１００〜５０００ｒｐｍとすることがより好ましい。
【００４８】
保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業社製の「ＳＤ−３１８」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業社製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光および再生光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００４９】
なお、ＤＶＤ−Ｒの場合は、保護層に代わって、紫外線効果樹脂等からなる接着層および保護基板としての基板（厚さ：０．６ｍｍ程度、材質については前記基板と同様）を積層してもよい。また、記録層および反射層が形成された２枚の積層体を、記録層が内側になるようにして貼り合わせて、光情報記録媒体を作製してもよい。
【００５０】
以上のようにして、基板上に記録層、光反射層、保護層または接着層を介した保護基板（ダミー基板）、等が設けられた積層体からなる光情報記録媒体が作製される。
【００５１】
なお、この発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、上述の実施の形態に限らず、この発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【００５２】
【実施例】
以下に示す実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５３】
〔実施例１〕
図１に示す製造システム１０により光情報記録媒体を作製した。
具体的には、まず、図１に示す成形設備により表面にスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：７４０ｎｍ、プリグルーブ幅：３００ｎｍ、プリグルーブの深さ：１５０ｎｍ）が形成された透明のポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）を作製した。
【００５４】
下記化学式（１）で示される色素（Ａ）０．２５ｇと下記化学式（２）で示される色素（Ｂ）０．０６ｇとを、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール３０ｇに、超音波振動機（１８００Ｗ）を用いて１時間かけて溶解し、記録層形成用の記録層形成溶液を調製した。
【００５５】
【化１】
2004334986.tif 000002
【００５６】
【化２】
2004334986.tif 000003
【００５７】
調製した記録層形成溶液を用いて、第２の処理部３２のスピンコート装置５２により基板上に記録層を形成した。スピンコートの条件は、図８に示すように、０．５秒で回転数を５００ｒｐｍとし、その後、記録層形成溶液を滴下した。また、記録層形成溶液の滴下と同時に送風手段から空気の送風を１秒間行った。風量は８リットル／ｍｉｎとした。送風手段は、図３に示すように、圧縮空気を、ノズル（送風手段５００）を通じて供給した。また、送風位置は、図２に示すｒが２２ｍｍの箇所になるように行った。また、図３に示す送風手段と基板との距離ｈは、３０ｍｍとした。
記録層形成溶液の滴下を３秒間行った後は図８に示すようにして回転数を変化させた。
【００５８】
次に、後処理設備１６により、記録層上にＡｇをスパッタリングして膜厚１５０ｎｍの反射層を形成した。
更に、反射層上に、ＵＶ接着剤（商品名：ＳＤ６４０、大日本インキ化学工業（株）製）を低速で回転させながらスピンコートし、その後、回転を止めて対向基板（厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板）を設置し、高速回転を行ってＵＶ接着剤を全体に広げた。この基板を別のターンテーブルに移し、ターンテーブルごと紫外光を照射してＵＶ接着剤を硬化させて、これらを貼り合わせた。
【００５９】
以上の工程により、基板、記録層、光反射層及び対向基板からなるＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を作製した。
【００６０】
〔実施例２〕
空気の送風時間を２秒間とした以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００６１】
〔実施例３〕
空気の送風時間を５秒間とした以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００６２】
〔実施例４〕
空気の送風量を１リットル／ｍｉｎとし、送風時間を５秒間とした以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００６３】
〔比較例１〕
空気の送風を行わなかった以外は、実施例と同様にして光情報記録媒体を作製した（洗浄および乾燥時間は、実施例と同様）。
【００６４】
〔比較例２〕
空気の送風量を０．２リットル／ｍｉｎとし、送風時間を５秒間とした以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００６５】
〔比較例３〕
空気の送風量を２０リットル／ｍｉｎとした以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００６６】
実施例１〜４および比較例１〜３で作製した光情報記録媒体について、５８０ｎｍのレーザ光の透過強度から色素膜厚をＯＰＤ値として算出した。測定は、記録層形成溶液を塗布後、反射層を形成する前の段階で、半径２３〜５３ｍｍの範囲で行った。結果を下記表１に示す。
【００６７】
【表１】
2004334986.tif 000004
【００６８】
表１より、実施例１〜４の光情報記録媒体では中心より２３ｍｍ部のＯＰＤ値は、中心より３７ｍｍ部のＯＰＤ値と近く、かつ、大きく、充分な膜厚であった。
一方、比較例１および２では、２３部のＯＰＤ値が小さく、膜厚が充分でなかった。比較例３では、同心円状の乾燥ムラが発生した。
【００６９】
また、実施例１〜４の光情報記録媒体において、記録再生試験を行ったところ、実用上問題ないレベルの記録再生特性が得られた。
【００７０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法によれば、内周部の記録層の膜厚を均一なものとし、記録再生の良好な光情報記録媒体を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す構成図である。
【図２】送風処理による送風位置を説明する図である。
【図３】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す構成図である。
【図４】エッジ洗浄機構を一部破断して示す正面図である。
【図５】エッジ洗浄機構を示す平面図である。
【図６】エッジ洗浄機構において、ノズルユニットを規定の吐出位置に位置させた場合を示す側面図である。
【図７】基板のエッジ部分を洗浄した状態を示す工程図である。
【図８】実施例におけるスピンコート回転数と時間の関係を示す図である。
【符号の説明】
１０…製造システム
１４…塗布設備
４８…色素塗布機構
５４…裏面洗浄機構
９２…エッジ洗浄機構
２０２…基板
２０４…色素記録層
２０６…周縁部（エッジ部分）
２０８…光反射層
２１０…保護層
３００…空調システム
５００…送風手段
６０６…吐出ノズル
６０８…ノズルユニット
６２０…溶剤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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