(57)【要約】【課題】トーションバーの表面に形成された引出線の導体厚みを、上記駆動コイルの導体厚みよりも厚くして上記引出線の発熱を抑制しようとするプレーナ型電磁アクチュエータ及びその製造方法を提供することである。【解決手段】平板状の可動板２と、該可動板２を回動可能に軸支する一対のトーションバー３，３’と、上記可動板２の一面で該可動板２の周縁に沿って形成された駆動コイル４と、上記トーションバー３，３’の軸方向と直交する方向で上記可動板２の外方部位に配設された一対の静磁界発生手段５，５とを有するものであって、上記駆動コイル４に電流を供給するために上記トーションバー３，３’の表面に形成された引出配線８，８’の各導体厚みｔ１を、上記駆動コイル４の導体厚みｔ２よりも厚くしたものである。【選択図】　　　図１
2004023852.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状の可動板と、該可動板を回動可能に軸支する一対のトーションバーと、前記可動板の一面に該可動板の周縁に沿って形成された駆動コイルと、前記トーションバーの軸方向と直交する方向で前記可動板の外方部位に配設された一対の静磁界発生手段とを有するプレーナ型電磁アクチュエータであって、
前記駆動コイルに電流を供給するために前記トーションバーの表面に形成された引出配線の導体厚みを、前記駆動コイルの各導体厚みよりも厚くしたことを特徴とするプレーナ型電磁アクチュエータ。
【請求項２】
前記引出配線の導体厚みは、複数層の導体を積層して形成したものであることを特徴とする請求項１記載のプレーナ型電磁アクチュエータ。
【請求項３】
前記駆動コイルは、絶縁層を介して複数層積層したものであり、各層が電気的に接続されて１本の導体線を形成していることを特徴とする請求項１または２記載のプレーナ型電磁アクチュエータ。
【請求項４】
前記積層形成した引出配線の導体厚みは、前記複数層積層した駆動コイルの導体厚みを加算した厚みとしたことを特徴とする請求項２または３記載のプレーナ型電磁アクチュエータ。
【請求項５】
前記複数層積層した引出配線は、各層の線幅が下層から上層に向かって次第に広くなっていることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載のプレーナ型電磁アクチュエータ。
【請求項６】
平板な基板の一面に螺旋状の一層目駆動コイルを形成し、同時に該一層目駆動コイルの外側端部と電気的に接続する第１引出配線及び前記一層目駆動コイルと物理的に分離された第１補助配線を互いに逆方向で前記一層目駆動コイルの外方に引き出すように形成する工程と、
前記一層目駆動コイルと該一層目駆動コイルの上方に形成される二層目駆動コイルとを電気的に接続するためのコンタクト部を除く前記一層目駆動コイルの部分を覆って絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層上に二層目駆動コイルを形成し、同時に前記第１引出配線上に前記二層目駆動コイルと物理的に分離された第２補助配線を直接積層して形成し、前記第１補助配線上に前記二層目駆動コイルの外側端部と電気的に接続する第２引出配線を直接積層して形成する工程と、
少なくとも前記駆動コイル及び第１引出配線並びに第２引出配線の形成領域を残して前記基板をエッチングし、表面に前記第１引出配線及び第２引出配線を個別に備えた一対のトーションバーで、前記駆動コイルを備えた可動板を軸支した状態にて形成する工程と、
前記トーションバーの軸方向と直交する方向で前記可動板の外方部位に一対の静磁界発生手段を配設する工程と、
を行うことを特徴とするプレーナ型電磁アクチュエータの製造方法。
【請求項７】
前記一対のトーションバーの表面に積層して設けられる第１引出配線、第２引出配線及び第１補助配線並びに第２補助配線は、各層の線幅が下層から上層に向かって次第に広くなるように形成されることを特徴とする請求項６記載のプレーナ型電磁アクチュエータの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、可動板の１面に備えた駆動コイルに発生する電磁力によりトーションバーに軸支された可動板を回動するプレーナ型電磁アクチュエータに関し、詳しくは、トーションバーの表面に形成された引出配線の導体厚みを、上記駆動コイルの導体厚みよりも厚くして上記引出配線の発熱を抑制しようとするプレーナ型電磁アクチュエータ及びその製造方法に係るものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のプレーナ型電磁アクチュエータは、例えば特許掲載公報第２７２２３１４号に開示のものがある。
このプレーナ型電磁アクチュエータは、シリコン基板を異方性エッチングして可動板とトーションバーとを一体的に形成し、シリコン基板の固定部に可動板をトーションバーで軸支し、さらに上記可動板の周縁部に沿って良電導性の金属薄膜からなる駆動コイルを敷設し、上記トーションバーの軸方向に平行な可動板対辺部の駆動コイルに静磁界を作用させる静磁界発生手段、例えば永久磁石を設けて構成されている。
【０００３】
このように構成したプレーナ型電磁アクチュエータの駆動コイルに電流を供給すると、上記静磁界発生手段によって発生する静磁界が、トーションバーの軸方向と平行な可動板の対辺部を流れる駆動コイルの電流に作用して駆動コイルにローレンツ力を発生させ、上記可動板を上記トーションバーを中心に回動させる。このとき、上記トーションバーと上記可動板の固有振動数にほぼ等しい周波数の電流が駆動コイルに供給されると、可動板はこの周波数で共振し効率よく回動することになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような従来のプレーナ型電磁アクチュエータにおいては、駆動コイルに電流を供給するための引出配線は、一般に駆動コイルの形成と同時に形成されるため、引出配線の導体厚みは駆動コイルの導体厚みによって制限されている。また、引出配線は、一対のトーションバーの表面に形成されているためその導体幅はトーションバーの幅によって制限されている。このように、引出配線の導体幅及び厚みが制限されているため、可動板の回動駆動に不必要な引出配線の配線抵抗を下げることができず、該引出配線の発熱でトーションバーがバイメタル効果により反り、可動板の適切な回動状態を維持することができないことがあった。
【０００５】
一方、駆動コイルの導体厚みを厚くすることにより引出配線の配線抵抗を減らす方法も考えられるが、この場合、駆動コイルの導体厚みが厚いために、駆動コイルと可動板を形成する部材のシリコン基板との熱膨張差により可動板に反りが生じ、例えば可動板に形成された反射ミラーの平面度が劣化することになる。
【０００６】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、トーションバーの表面に形成された引出配線の導体厚みを、上記駆動コイルの導体厚みよりも厚くして上記引出配線の発熱を抑制しようとするプレーナ型電磁アクチュエータ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明によるプレーナ型電磁アクチュエータは、平板状の可動板と、該可動板を回動可能に軸支する一対のトーションバーと、上記可動板の一面で該可動板の周縁に沿って形成された駆動コイルと、上記トーションバーの軸方向と直交する方向で上記可動板の外方部位に配設された一対の静磁界発生手段とを有するものであって、上記駆動コイルに電流を供給するために上記トーションバーの表面に形成された引出配線の各導体厚みを、上記駆動コイルの導体厚みよりも厚くしたものである。
【０００８】
このような構成により、トーションバーの表面に駆動コイルの導体厚みよりも厚く形成された引出配線で駆動コイルに電流を供給し、トーションバーの軸方向と直交する方向で可動板の外方部位に配設された一対の静磁界発生手段で上記駆動コイルに流れる電流に静磁界を作用させ、一対のトーションバーで回動可能に軸支された平板状の可動板に回動力を発生させる。これにより、引出配線の配線抵抗を減らし引出配線における発熱を抑制する。
【０００９】
また、上記引出配線の導体厚みは、複数層の導体を積層して形成したものである。これにより、導体厚みの厚い引出配線の製造を容易にする。
【００１０】
さらに、上記駆動コイルは、絶縁層を介して複数層積層したものであり、各層が電気的に接続されて１本の導体線を形成したものである。これにより、駆動コイルの巻数を多くして駆動コイルに発生する電磁力を大きくする。
【００１１】
さらにまた、上記積層形成した引出配線の導体厚みは、上記複数層積層した駆動コイルの導体厚みを加算した厚みとしたものである。これにより、積層形成される引出配線の各層の形成を、複数層積層される駆動コイルの各層の形成と同時に行うことを可能とする。
【００１２】
そして、上記複数層積層した引出配線は、各層の線幅が下層から上層に向かって次第に広くないっているものである。これにより、上層の引出配線形成時に下層の引出配線の一部がエッチングされるのを防止する。
【００１３】
また、本発明によるプレーナ型電磁アクチュエータの製造方法は、平板な基板の一面に螺旋状の一層目駆動コイルを形成し、同時に該一層目駆動コイルの外側端部と電気的に接続する第１引出配線及び上記一層目駆動コイルと物理的に分離された第１補助配線を互いに逆方向で上記一層目駆動コイルの外方に引き出すように形成する工程と、上記一層目駆動コイルと該一層目駆動コイルの上方に形成される二層目駆動コイルとを電気的に接続するためのコンタクト部を除く上記一層目駆動コイルの部分を覆って絶縁層を形成する工程と、上記絶縁層上に二層目駆動コイルを形成し、同時に上記第１引出配線上に上記二層目駆動コイルと物理的に分離された第２補助配線を直接積層して形成し、上記第１補助配線上に上記二層目駆動コイルの外側端部と電気的に接続する第２引出配線を直接積層して形成する工程と、少なくとも上記駆動コイル及び第１引出配線並びに第２引出配線の形成領域を残して上記基板をエッチングし、表面に上記第１引出配線及び第２引出配線を個別に備えた一対のトーションバーで、上記駆動コイルを備えた可動板を軸支した状態にて形成する工程と、上記トーションバーの軸方向と直交する方向で上記可動板の外方部位に一対の静磁界発生手段を配設する工程と、を行うものである。
【００１４】
このような方法により、一対のトーションバーでその一方の表面には、可動板に積層形成される駆動コイルの一層目駆動コイルの外側端部と電気的に接続する第１引出配線及び二層目駆動コイルと物理的に分離された第２補助配線を直接接して積層すると共に、他方の表面には、上記一層目駆動コイルと物理的に分離された第１補助配線及び上記二層目駆動コイルの外側端部と電気的に接続する第２引出配線を直接接して積層し、引出配線の導体厚みを厚くする。これにより、引出配線の配線抵抗を減らし引出配線における発熱を抑制する。
【００１５】
さらに、上記一対のトーションバーの表面に積層して設けられる第１引出配線、第２引出配線及び第１補助配線並びに第２補助配線は、各層の線幅が下層から上層に向かって次第に広くなるように形成されるものである。これにより、最下層の第１引出配線の線幅よりもその表面に形成される第２補助配線の幅を広くし、また最下層の第１補助配線の線幅よりもその表面に形成される第２引出配線の幅を広くし、上層の配線形成時に下層の配線の一部がエッチングされるのを防止する。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
図１は本発明によるプレーナ型電磁アクチュエータの実施の形態を示す概略斜視図である。このプレーナ型電磁アクチュエータは、可動板の１面に備えた駆動コイルに発生する電磁力によりトーションバーに軸支された可動板を回動するものであり、固定部１と、可動板２と、トーションバー３，３’と、駆動コイル４と、静磁界発生手段５，５とを有して構成したものである。
【００１７】
固定部１は、各構成要素を保持する枠体を形成するものであり、例えばシリコン基板をエッチングして形成した盤体からなる。この固定部１の中央部には、開口部６が形成されている。また、固定部１の一面には、一対の電極端子部９，９が設けられており、図示省略の外部回路と接続して駆動コイル４に駆動電流が供給できるようにされている。
【００１８】
また、上記固定部１の開口部６の中央部には、可動板２が水平に設けられている。この可動板２は、平板な形状を有しており後述のトーションバー３，３’を中心に回動するものであり、例えばその下面に反射ミラーを設けることにより該反射ミラーで光ビームを偏向することができるようにしたものである。
【００１９】
さらに、上記可動板２の側辺部には、一対のトーションバー３，３’が突出して設けられている。このトーションバー３，３’は、上記可動板２を回動可能に軸支するものであり、一端が上記可動板２の側面に、他端が固定部１の開口部６側の対向側面に接続されて、可動板２の回動に伴ってバネ反力を発生させるようになっており、シリコン基板を異方性エッチングして可動板２と一体的に形成されている。
【００２０】
さらにまた、上記可動板２の一面には駆動コイル４が設けられている。この駆動コイル４は、上記可動板２の周縁に沿って形成されたものであり、図２に示すように、絶縁層７を介して複数層積層されており、各層が電気的に接続されて１本の導体線を形成している。
【００２１】
また、該駆動コイル４には、引出配線８，８’が接続されている。該引出配線８，８’は、駆動コイル４に電流を供給するためのものであり、上記トーションバー３，３’の表面に形成され、一端を駆動コイル４に電気的に接続し、他端を固定部１の表面に設けられた一対の電極端子部９，９に接続されている。上記引出配線８，８’は、上記駆動コイルの導体厚みよりも厚く形成されたものであり、複数層の導体を積層して形成されている。その具体的一例は、図２に示すように、一対のトーションバー３，３’のうち、一方のトーションバー３の表面に一端を一層目駆動コイル４ａの外側端部と電気的に接続した第１引出配線１０及び二層目駆動コイル４ｂと物理的に分離された第２補助配線１２を直接接して積層し、他方のトーションバー３’の表面には、一層目駆動コイル４ａと物理的に分離された第１補助配線１１及び二層目駆動コイル４ｂの外側端部と電気的に接続した第２引出配線１３を直接接して積層されたものである。なお、一層目駆動コイル４ａと二層目駆動コイル４ｂとは、第１コンタクト部４ｃ及び第２コンタクト部４ｄにより互いに電気的に接続され、同方向の螺旋形状に形成されている。
【００２２】
この場合には、引出配線８，８’の導体厚みは、駆動コイル４の各層の導体厚みを加算した厚みとなる。例えば、図２に示すようように、引出配線８，８’の各導体厚みｔ１は、一層目駆動コイル４ａと二層目駆動コイル４ｂの導体厚みｔ２を加算したものであり、各層の駆動コイル４の導体厚みが等しいときは、ほぼその積層数倍となる。各層の駆動コイル４の導体厚みは異なっていてもかまわない。また、図１では、電極端子部９，９は、駆動コイル４の導体厚さｔ２と同じになっているが、引出配線８，８’の各導体厚さｔ１と同じ厚さにしても良いことはいうまでもない。
【００２３】
さらに、引出配線８，８’は、各層の線幅が下層から上層に向かって次第に広くなっている。その具体的一例は、図３に示すように、トーションバー３（または３’）の表面に形成された第１引出配線１０（または第１補助配線１１）の線幅Ｗ１よりも、その上面に形成された第２補助配線１２（または第２引出配線１３）の線幅Ｗ２が広くなっている。このような構成としたのは、図４に示すように、下層の第１引出配線１０（または第１補助配線１１）と上層の第２補助配線１２（または第２引出配線１３）の線幅Ｗ１（同図（ｂ）参照）を等しくした場合、（ａ）のように幅Ｗ１のレジストマスク１４のアライメントずれが生じると、上層の導体薄膜をエッチングして第２補助配線１２（または第２引出配線１３）を形成する際に、（ｂ）のような下層の第１引出配線１０（または第１補助配線１１）の一部がエッチングされることがあるので、それを防止するためである。
【００２４】
そして、上記固定部１の開口部６の周縁にて、上記トーションバー３，３’の軸方向と直交する部位には、一対の静磁界発生手段５，５が設けられている。この静磁界発生手段５，５は、トーションバー３，３’の軸方向と平行な可動板２の対辺部を流れる駆動コイル４の電流に作用して駆動コイル４にローレンツ力を発生させ、上記可動板２を上記トーションバー３，３’を中心に回動させるものであり、例えば永久磁石の薄片または薄膜からなる。
【００２５】
次に、このように構成されたプレーナ型電磁アクチュエータの動作について説明する。図示省略の外部回路により、例えばトーションバー３，３’と可動板２の固有振動数にほぼ等しい周波数の電流が電極端子部９，９及び引出配線８，８’を介して駆動コイル４に供給される。このとき、電流は、一対の電極端子部９，９のうち、一方の電極端子部９から第１引出配線１０と第２補助配線１２とを積層して厚く形成された引出配線８を通って一層目駆動コイル４ａに供給される。一層目駆動コイル４ａでは、電流は外周から内周に向かって流れ、最内周で第１コンタクト部４ｃを通して二層目駆動コイル４ｂの第２コンタクト部４ｄに達する。さらに電流は、二層目駆動コイル４ｂ内を内周から外周に向かって一層目駆動コイル４ａ内を流れる電流と同方向の螺旋方向に流れる。そして、二層目駆動コイル４ｂの最外周部から第１補助配線１１と第２引出配線１３とを積層して厚く形成された引出配線８’を通して他方の電極端子部９に達し、図視省略の外部回路へ戻る。
【００２６】
一方、トーションバー３，３’の軸方向と平行な可動板２の対辺部の駆動コイル４には、静磁界発生手段５，５によって静磁界が作用しているため、上記可動板２の対辺部に形成された駆動コイル４を流れる電流と上記静磁界とが相互に作用して上記可動板２の対辺部に互いに逆方向のローレンツ力を発生させる。これにより、上記可動板２が上記トーションバー３，３’を中心に回動する。
【００２７】
このように構成されたプレーナ型電磁アクチュエータによれば、引出配線８，８’の導体厚みｔ１を駆動コイル４の各導体厚みｔ２よりも厚く形成しているため、従来技術における場合と比較して引出配線８，８’の配線抵抗を低くすることができ、該引出配線８，８’における発熱を小さくすることができる。これにより、トーションバー３，３’のバイメタル効果による反りを抑え、可動板２に安定した回動を行わせることができる。また、駆動コイル４は、複数層積層して形成したものであるので、駆動コイル４の巻数が多くでき駆動コイルに発生する電磁力を大きくすることができる。
【００２８】
次に、本発明によるプレーナ型電磁アクチュエータの製造方法を、図５〜９を参照して説明する。なお、図５〜図８は一連の製造工程のうち、駆動コイル４の形成工程までを示し、図９は基板をエッチングして可動板２及びトーションバー３，３’を形成する工程を示している。
【００２９】
先ず、図５により駆動コイル４の形成方法を説明する。図５は、図１におけるＡ−Ｂ線断面図である。図５に示すように、（ａ）に示す工程では、ＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ　Ｏｎ　Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）ウエハのシリコン基板１５を準備する。例えばシリコン基板１５は１００μｍの厚みを有するシリコン活性層１５ａと、１μｍの厚みを有するＳｉＯ２の中間層１５ｂと、４００μｍの厚みを有するシリコン支持基板１５ｃを積層した構成を有するものである。
【００３０】
次に、図５（ｂ）に示す工程では、シリコン基板１５の上下面を熱酸化し１μｍ程度のＳｉＯ２の絶縁層１５ｄ，１５ｅを形成する。そして、シリコン基板１５のシリコン活性層１５ａ側の絶縁層１５ｄ上に螺旋状の一層目駆動コイル４ａを形成する。同時に、一層目駆動コイル４ａの外側端部と電気的に接続する第１引出配線１０及び一層目駆動コイル４ａと物理的に分離された第１補助配線１１を互いに逆方向で一層目駆動コイル４ａの外方に引き出すように形成する（図６参照）。さらに、上記第１引出配線１０及び第１補助配線１１の外方には、一対の電極端子部９，９が第１引出配線１０及び第１補助配線１１と電気的に接続して形成される。
【００３１】
上記一層目駆動コイル４ａ、第１引出配線１０、第１補助配線１１及び電極端子部９，９の形成方法の具体的一例を示すと、先ず、シリコン基板１５のほぼ全面に例えば良電導性の金属としてアルミニウムの薄膜を１μｍ程度の厚みでスパッタリング等の真空成膜技術により形成し、次に、その上にレジストを塗布し、一層目駆動コイル４ａ、第１引出配線１０、第１補助配線１１及び電極端子部９，９に相当する部分のレジストを残して、レジストマスクのパターンを形成する。そして、これをマスクとして上記アルミニウムの薄膜をエッチングして一層目駆動コイル４ａ、第１引出配線１０、第１補助配線１１及び電極端子部９，９を形成する。エッチング方法は、エッチング液を使用して行うウエットエッチングまたは反応性ガスを使用して行うドライエッチングのいずれの方法も適用することができる。なお、第１引出配線１０及び第１補助配線１１の線幅Ｗ１（図６参照）は、後工程においてそれぞれの面上に形成される第２補助配線１２及び第２引出配線１３の線幅Ｗ２（図８参照）よりも狭い幅で形成される。
【００３２】
また、図５（ｃ）に示す工程では、一層目駆動コイル４ａと該一層目駆動コイル４ａの上方に形成される後述の二層目駆動コイル４ｂとを電気的に接続するための第１コンタクト部４ｃを除く上記一層目駆動コイル４ａの部分を覆って絶縁層７を形成する。具体的には、シリコン基板１５の上面全面に上記感光性ポリイミドを塗布して形成する。塗布方法は、スピンコート法、スリットダイコート法、スプレー法、ロールコート法、ディップ法など公知の技術が利用できる。ここで、例えばポジ型の感光性ポリイミドを使用した場合には、第１コンタクト部４ｃ上を除く一層目駆動コイル４ａの上部をマスクして紫外線露光する。ポジ型の感光性ポリイミドの場合は、紫外線露光部分が現像液に可溶性となるため一層目駆動コイル４ａ上で上記マスクされた部分を除く部分の感光性ポリイミドが現像液に溶解して除去される（図７参照）。
【００３３】
次に、図５（ｄ）に示す工程では、上記絶縁層７上に二層目駆動コイル４ｂを形成し、同時に上記第１引出配線１０上に上記二層目駆動コイル４ｂと物理的に分離された第２補助配線１２を直接積層して形成し、上記第１補助配線１１上に上記二層目駆動コイル４ｂの外側端部と電気的に接続する第２引出配線１３を直接積層して形成する。その具体的一例は、図５（ｂ）の工程と同様にして、シリコン基板１５の全面にアルミニウムの薄膜を１μｍ程度成膜し、これをエッチングして二層目駆動コイル４ｂが形成される。このとき同時に、第１引出配線１０上には、これに直接接して上記二層目駆動コイル４ｂと物理的に分離された第２補助配線１２が、また第１補助配線１１上には、同様にこれに直接接して二層目駆動コイル４ｂと一端部を電気的に接続した第２引出配線１３がエッチングして形成される（図８参照）。なお、第２補助配線１２及び第２引出配線１３の線幅Ｗ２は、前述したように第１引出配線１０及び第１補助配線１１の線幅Ｗ１よりも広くされる。こうして、第１引出配線１０と第２補助配線１２とを積層して厚くされた引出配線８が、また第１補助配線１１と第２引出配線１３とを積層して厚くされた引出配線８’が形成される。
【００３４】
さらに、図５（ｃ）の工程と同様にして二層目駆動コイル４ｂ上部を覆って図示省略の感光性ポリイミドの絶縁層が駆動コイル４の保護膜として形成される。
【００３５】
次に、少なくとも上記駆動コイル４及び第１引出配線１０並びに第２引出配線１３の形成領域を残して上記シリコン基板１５をエッチングし、表面に上記駆動コイル４を備えた可動板２を、表面に上記第１引出配線１０及び第２引出配線１３を個別に備えた一対のトーションバー３，３’で軸支した状態にて形成する。以下に、その具体的一例を、図９を参照して説明する。なお、図９は、図１のＡ−Ｃ線断面図で示している。
【００３６】
先ず、図９（ａ）に示す工程では、駆動コイル４と引出配線８，８’及び電極端子部９，９を含む上駆動コイル４の外方の所定領域をレジストマスクで覆い、シリコン基板１５のＳｉＯ２の絶縁層１５ｄをエッチングして除去する。さらに、ＳｉＯ２の絶縁層１５ｄが除かれ露出したシリコン活性層１５ａを異方性エッチングする。この場合、エッチングはＳｉＯ２の中間層１５ｂでストップして凹陥部１６が形成され、下面がシリコン支持基板１５ｃで繋がった状態の可動部１及びトーションバー３，３’が形成される。続けて、シリコン活性層１５ａが除かれ露出したＳｉＯ２の中間層１５ｂをエッチングして除去する。
【００３７】
次に、図９（ｂ）に示す工程では、シリコン基板１５の下面で上記凹陥部１６に対応した領域の外方部をレジストマスクで覆いＳｉＯ２の絶縁層１５ｅをエッチングして除去する。さらに露出したシリコン基板１５の支持基板１５ｃをＳｉＯ２の中間層１５ｂ部まで異方性エッチングすれば、上記凹陥部１６がシリコン基板１５の下部から上部に貫通して開口部６が形成されることになる。
【００３８】
さらに、図９（ｃ）に示す工程では、固定部１の下面のＳｉＯ２絶縁膜１５ｅ及び可動板２の下面に残ったＳｉＯ２の中間層１５ｂをエッチングして除去した後に、可動板２の下面にアルミニウム等の反射膜を真空成膜し反射ミラー１７を形成する。その後、固定部１の開口部６の周縁にて、トーションバー３，３’の軸方向と直交する部位に静磁界発生手段５，５を配設することにより、可動板２の下面に反射ミラーを備えた図１に示すプレーナ型電磁アクチュエータが製造される。
【００３９】
このように、このプレーナ型電磁アクチュエータの製造方法によれば、引出配線８，８’が、積層形成される駆動コイル４の各層の駆動コイルの形成と同時に積層して形成され、且つ各層が互いに直接接するように形成されるので、積層された引出配線８，８’はその全体が一つの厚い導体として機能し、配線抵抗の低い引出配線８，８’を容易に製造することができる。
【００４０】
また、引出配線８，８’の線幅を下層から上層に向かうほど広くしているので、上層部の引出配線８，８’を形成する際のレジストマスクのアライメントずれがあっても下層の引出配線８，８’の一部がエッチングされるのを防止することができる。
【００４１】
なお、以上の説明では、駆動コイル４は複数層積層して形成されたものとしたが、単層に形成されたものであってもよい。この場合、引出配線８，８’の第１引出配線１０が駆動コイル４の外周端部と電気的に接続し、第２引出配線１３が駆動コイル４の内周端部から駆動コイル４の上面を跨いで引き出される。この場合も第１引出配線１０には第２補助配線１２が直接積層され、第２引出配線１３は第１補助配線１１上に直接積層されている。この製造方法は、駆動コイル４の形成と同時に第１引出配線１０及び第１補助配線１１が形成され、その後に第２補助配線１２及び第２引出配線１３が同時に形成される。また、引出配線８，８’は単層で形成されてもかまわない。この場合は、引出配線８，８’は、駆動コイル４の形成とは別工程で駆動コイル４の導体厚みよりも厚く形成されることになる。
【００４２】
【発明の効果】
本発明は以上のように構成されたので、請求項１に係るプレーナ型電磁アクチュエータによれば、トーションバーの表面に駆動コイルの導体厚みよりも厚く形成された引出配線で駆動コイルに電流を供給し、トーションバーの軸方向と直交する方向で可動板の対辺部に対向して配設した静磁界発生手段で上記駆動コイルに流れる電流に静磁界を作用させ、一対のトーションバーで回動可能に軸支された平板状の可動板に回動力を発生させることができる。従って、引出配線の配線抵抗を減らし引出配線における発熱を抑制することができる。これにより、トーションバーの反りを抑え安定な可動板の回動を行わせることができる。
【００４３】
また、請求項２に係る発明によれば、導体厚みの厚い引出配線の製造を容易にすることができる。従って、引出配線の配線抵抗を減らし引出配線における発熱を抑制することができる。
【００４４】
さらに、請求項３に係る発明によれば、駆動コイルの巻数を多くして駆動コイルに発生する電磁力を大きくすることができる。従って、駆動電流を減らして引出配線における発熱をさらに低減することができる。
【００４５】
さらにまた、請求項４に係る発明によれば、積層形成される引出配線の各層の形成を、複数層積層される駆動コイルの各層の形成と同時に行うことができる。従って、導体厚みの厚い引出配線の製造を容易に行うことができる。
【００４６】
さらにまた、請求項５に係る発明によれば、上層の引出配線形成時に下層の引出配線の一部がエッチングされるのを防止することができる。従って、引出配線の上下層のアライメントをラフに行うことができるので製造が容易になる。
【００４７】
また、請求項６に係るプレーナ型電磁アクチュエータの製造方法は、一対のトーションバーでその一方の表面には、可動板に積層形成される駆動コイルの一層目駆動コイルの外側端部と電気的に接続する第１引出配線及び二層目駆動コイルと物理的に分離された第２補助配線を直接接して積層すると共に、他方の表面には、上記一層目駆動コイルと物理的に分離された第１補助配線及び上記二層目駆動コイルの外側端部と電気的に接続する第２引出配線を直接接して積層し、引出配線の導体厚みを厚くするができる。従って、引出配線の配線抵抗を減らし引出配線における発熱を抑制することができる。
【００４８】
さらに、請求項７に係る発明によれば、最下層の第１引出配線の線幅よりもその表面に形成される第２補助配線の幅を広くし、また最下層の第１補助配線の線幅よりもその表面に形成される第２引出配線の幅を広くして、上層の配線形成時に下層の配線の一部がエッチングされるのを防止することができる。従って、引出配線の上下層のアライメントを高精度に行う必要がないため製造が容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるプレーナ型電磁アクチュエータの実施の形態を示す概略斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ｂ線断面図である。
【図３】上記プレーナ型電磁アクチュエータのトーションバーの横断面図である。
【図４】積層形成される引出配線の導体幅が各層同じ場合の問題点を説明する横断面図である。
【図５】本発明によるプレーナ型電磁アクチュエータの製造方法の実施の形態を説明する概略工程図である。
【図６】一層目駆動コイルの形成を示す平面図である。
【図７】駆動コイルの層間絶縁層の形成を示す平面図である。
【図８】二層目駆動コイルの形成を示す平面図である。
【図９】シリコン基板のエッチング工程を説明する概略工程図である。
【符号の説明】
２…可動板
３，３’…トーションバー
４…駆動コイル
４ａ…一層目駆動コイル
４ｂ…二層目駆動コイル
５…静磁界発生手段
７…絶縁層
８，８’…引出配線
１０…第１引出配線
１１…第１補助配線
１２…第２補助配線
１３…第２引出配線
ｔ１…引出配線導体厚み
ｔ２…駆動コイル導体厚み
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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