(57)【要約】【課題】純水や薬品の使用量を増加させることなく、装置サイズの小型化が可能な洗浄装置を提供する。【解決手段】本発明の洗浄装置１は、ガスおよび洗浄液により被洗浄物１７を洗浄するものであって、主表面に被洗浄物１７を載置可能なステージ５と、開口を有し、その開口をステージ５の主表面で閉塞することで内部に密閉洗浄槽６を形成可能な大カップ７と、大カップ７内に配置され、開口を有し、かつその開口の縁とステージ５の主表面との間に排気・排水空間１５の入り口３１を形成可能な小カップ９と、小カップ９内へガスおよび洗浄液を供給可能な洗浄ユニット３とを備え、密閉洗浄槽６内に供給されたガスおよび洗浄液を、大カップ７と小カップ９との間の排気・排水空間１５を介して密閉洗浄槽６外へ排出するよう構成されている。【選択図】　　　　図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスおよび洗浄液により被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって、
主表面に前記被洗浄物を載置可能なステージと、
外部容器用開口を有し、前記外部容器用開口を前記ステージの主表面で閉塞することで内部に密閉空間を形成可能な外部容器と、
前記外部容器内に配置され、かつ内部容器用開口を有し、かつ前記内部容器用開口の縁と前記ステージの主表面との間に、排気および排水用の隙間を形成可能な内部容器と、
前記内部容器内へガスおよび洗浄液を供給可能な供給部とを備え、
前記密閉空間内に供給されたガスおよび洗浄液を、前記排気および排水用の隙間から前記内部容器と前記外部容器との間の空間を介して前記密閉空間外へ排出するよう構成されている、洗浄装置。
【請求項２】
前記外部容器と前記内部容器とはともに半球状の容器により構成される、請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記ステージは、主表面に前記洗浄液が流れ込むための凹部を有する、請求項１または２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記供給部は、ガスを前記内部容器の内側表面へ向けて吐出可能なガスノズルをさらに有し、かつ前記内部容器の内側表面は撥水加工されている、請求項１から３のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記内部容器と前記外部容器との間の空間には、隔壁が設けられている、請求項１から４のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記供給部は、前記被洗浄物に対してガスおよび洗浄液を吐出するための複数の孔を有していて、前記複数の孔は円状に配置され、かつ前記複数の孔から吐出された前記洗浄液が渦状の流れになるように前記複数の孔の各々が構成されている、請求項１から５のいずれかに記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、洗浄装置に関し、特にガスおよび洗浄液により被洗浄物を洗浄する洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の板状の基板の洗浄装置としては、主に３つのものが挙げられる。
【０００３】
１つ目はバッチ洗浄装置である。図１０は特開平９−３１２２７７号公報に開示されたバッチ洗浄装置の概略図である。
【０００４】
図１０を参照して、バッチ洗浄装置１００は、ウェハチャック１０２と、整流板１０４と、洗浄槽１０５と、ポンプ１０６と、排液槽１０８とから構成されている。
【０００５】
半導体ウェハ１０１は、一般に、２組のバッチ（即ち、５０枚）を１つのまとまりとして洗浄槽１０５内のウェハチャック１０２上に置かれる。洗浄液１０３は、洗浄槽１０５に接続されたポンプ１０６によって給液口１０７を通じて洗浄槽１０５に給液される。給液された洗浄液１０３は整流板１０４を通ることで、その流れがほぼ一様となる。この後、洗浄液１０３は、ウェハチャック１０２の間隙を通過して、半導体ウェハ１０１に達し、各半導体ウェハ１０１間を通って上昇してゆく。このとき、洗浄液１０３はその化学的効果によって、半導体ウェハ１０１に付着している異物を剥離させ、そのまま流れに載せて持ち去る。そして、洗浄液１０３および異物は、最終的には洗浄槽１０５からオーバーフローさせるようなかたちで排出される。排出された洗浄液１０３は、排液槽１０８によって受け止められ、排液口１０９からポンプ１０６へ排出される。以後、同様の操作が行なわれる洗浄槽や乾燥槽を経て洗浄が完了される。
【０００６】
２つ目はローラ搬送洗浄装置である。図１１は、特開平７−２８３１５号公報に開示されたローラ搬送洗浄装置の概略正面図である。
【０００７】
図１１を参照して、ローラ搬送洗浄装置２００は、洗浄水噴射ノズル２０２と、ローラ回転軸駆動部２０４と、ローラ回転軸受２０５と、ローラ回転軸２０６と、搬送ローラ２０７，２０８，２０９と、基板端面支持板２１０，２１１とから構成されている。
【０００８】
ローラ搬送洗浄装置２００では、ローラ回転軸２０６がローラ回転軸駆動部２０４とローラ回転軸受２０５との間に水平に配置され、そのローラ回転軸２０６に搬送ローラ２０７，２０８，２０９が所定間隔毎に装着されるとともに、ウェハ２１２の両側部端面を支持する基板端面支持板２１０，２１１が装着されている。
【０００９】
そして、ローラ回転軸駆動部２０４は、ローラ回転軸２０６を矢印Ａ方向に回転させると、ウェハ２１２が基板端面支持板２１０，２１１でガイドされながら搬送ローラ２０７，２０８，２０９により図１１の手前方向に搬送される。そして、ウェハ２１２は、搬送されるウェハ２１２の上方に配置された洗浄水噴射ノズル２０２から噴射される純水２０３で洗浄されて異物を除去される。
【００１０】
３つ目はスピン洗浄装置である。図１２は特開平９−３２１０１２号公報に開示されたスピン洗浄装置の要部断面図である。
【００１１】
図１２を参照して、スピン洗浄装置３００は、固定軸３１１と、回転軸３１２と、回転テーブル３１４と、クランプ機構３１６と、ノズル３１９とから構成されている。
【００１２】
中空円筒状の回転軸３１２の上端には、回転テーブル３１４が取り付けられ、回転テーブル３１４の外周部の近くには、クランプ機構３１６が設けられている。洗浄対象のウェハ３１０は、クランプ機構３１６によってその周縁部で保持される。回転軸３１２の内部に設けられた空洞部の中には、固定軸３１１が収容され、固定軸３１１の上端には、純水（洗浄液）噴射用のノズル３１９が取り付けられている。ノズル３１９は、回転テーブル３１４の中央に形成された開口部を貫通し、その先端が回転テーブル３１４の上側に突き出ている。ノズル３１９の先端は、ウェハ３１０の下面に面している。
【００１３】
回転軸３１２を駆動してウェハ３１０を回転させた状態で、ノズル３１９からウェハ３１０の下面に向けて純水を噴射することによって、ウェハ３１０の下面のスピン洗浄を行なうと同時に、ウェハ３１０の上面側において、純水の噴射によるスピン洗浄あるいはブラシを用いたブラシ洗浄も行なわれる。その後、純水の供給が停止された状態でウェハ３１０を回転させることで、ウェハ３１０は乾燥される。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
上記３つの洗浄装置のうちバッチ洗浄装置では、洗浄槽とは別に乾燥槽が必要である。また、洗浄槽と乾燥槽との間のウェハの搬送手段が必要である。したがって、装置が大型化するという問題点があった。
【００１５】
また、ローラ搬送洗浄装置では、洗浄装置とは別に乾燥装置が必要である。また、乾燥装置までウェハを搬送するための搬送手段が必要である。したがって、装置が大型化するという問題点があった。
【００１６】
スピン洗浄装置では、回転するウェハの遠心力を利用して洗浄および乾燥が行なわれるために、ウェハを回転させる駆動系が必須の構成である。したがって、装置が大型化するという問題点があった。
【００１７】
したがって、本発明では装置の小型化が可能な洗浄装置を提供することを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明の洗浄装置は、ガスおよび洗浄液により被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって、主表面に被洗浄物を載置可能なステージと、外部容器用開口を有し、外部容器用開口をステージの主表面で閉塞することで内部に密閉空間を形成可能な外部容器と、外部容器内に配置され、かつ内部容器用開口を有し、かつ内部容器用開口の縁とステージの主表面との間に、排気および排水用の隙間を形成可能な内部容器と、内部容器内へガスおよび洗浄液を供給可能な供給部とを備え、密閉空間内に供給されたガスおよび洗浄液を、排気および排水用の隙間から内部容器と外部容器との間の空間を介して密閉空間外へ排出するよう構成されている。
【００１９】
本発明の乾燥装置によれば、被洗浄物が載置されたステージと外部容器との間で形成された密閉空間内に供給部によってガスおよび洗浄液が供給可能である。これにより、ガスおよび洗浄液によって被洗浄物が洗浄可能である。また、洗浄後のガスおよび洗浄液は、外部容器と内部容器との間の空間を介して外部へ排出可能である。また、供給部からガスのみが吐出されることにより被洗浄物の乾燥が可能である。よって、洗浄プロセスおよび乾燥プロセスの全てを外部容器とステージとで構成される密閉空間内で行なうことが可能である。したがって、バッチ洗浄装置のような洗浄槽とは別の乾燥槽は不要であり、洗浄槽と乾燥槽との間のウェハの搬送手段もまた不要である。また、ローラ搬送洗浄装置のような洗浄装置とは別の乾燥装置は不要であり、乾燥装置までウェハを搬送するための搬送手段もまた不要である。さらに、スピン洗浄装置のように水の噴射やブラシによる洗浄を行なわず、ガスと洗浄液を混合したミストにより洗浄するため、洗浄時に被洗浄物を回転させる必要がなく、またガスの吹き付けにより被洗浄物を乾燥させるため、乾燥時に被洗浄物を回転させる必要もなく、被洗浄物を回転させる駆動系は不要である。以上の理由により装置の小型化が可能である。
【００２０】
本発明の洗浄装置において好ましくは、外部容器と内部容器とはともに半球状の容器により構成されている。
【００２１】
この構成により、密閉空間内において供給部から吐出されるガスおよび洗浄液における乱流の発生が減り、ガスおよび洗浄液の流れは一定方向になる。したがって被洗浄物は均一に洗浄され、かつ乾燥されるので好ましい。また、減圧に伴う２重の容器への負荷が均一となり、減圧状態での２重の容器の耐久性が良好となる。
【００２２】
本発明の洗浄装置において好ましくは、ステージは、主表面に洗浄液が流れ込むための凹部を有する。
【００２３】
この構成により、洗浄後の洗浄液が、排気装置および洗浄液の重力によりステージに設けられた凹部に流れ込むので、洗浄後の洗浄液が被洗浄物に再付着することが抑止される。
【００２４】
本発明の洗浄装置において好ましくは、供給部は、ガスを内部容器の内側表面へ向けて吐出可能なガスノズルをさらに有し、かつ内部容器の内側表面は撥水加工されている。
【００２５】
この構成により、ガスノズルから内部容器の内側表面へ常時または間欠的にガスが吐出されることにより、撥水加工された内部容器の内側表面に付着した洗浄液の水滴が除去される。したがって、内部容器の内側表面に付着した洗浄液の水滴が落下し乾燥後の被洗浄物に付着することが抑止される。
【００２６】
本発明の洗浄装置において好ましくは、内部容器と外部容器との間の空間には、隔壁が設けられている。
【００２７】
内部容器と外部容器との間の空間は排気および排水を行なうための空間である。この空間に隔壁が設けられていない場合には、一度に大量の洗浄液が排水されると、内部容器と外部容器との間の空間の全周から洗浄液が排水されることになる。かかる場合には、洗浄装置の排気経路に水が詰まったような状態となり、ガスの排気効率が悪くなる。したがって隔壁を設けることにより、一度に大量の洗浄液が排水されても、隔壁により洗浄液の膜が分断され、これにより洗浄液と隔壁との間に隙間が生じる。そしてこの隙間がガスの排気スペースとなるので、ガスの排気効率の低下が抑止される。
【００２８】
本発明の洗浄装置において好ましくは、供給部は、被洗浄物に対してガスおよび洗浄液を吐出するための複数の孔を有していて、複数の孔は円状に配置され、かつ複数の孔から吐出された洗浄液が渦状の流れになるように複数の孔の各々が構成されている。
【００２９】
この構成により、孔から吐出された洗浄液が渦状の流れをつくり、被洗浄物全体に均一に洗浄液が当たるので、被洗浄物の均一な洗浄が可能である。また、洗浄液が渦流となるので、渦流の遠心力により洗浄後の洗浄液が排気および排水用の隙間に流れ込みやすくなるので、排気・排水が容易になる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図を用いて説明する。
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１における洗浄装置の断面図である。図２は、本発明の実施の形態１における洗浄装置の２重カップの底面図である。図３は、本発明の実施の形態１における洗浄装置が密閉洗浄槽を形成している場合の断面図である。
【００３１】
図１から図３を参照して、洗浄装置１は、洗浄ユニット３と、２重カップ４と、ステージ５とを主に有している。
【００３２】
ステージ５は、その表面に被洗浄物１７を載置可能である。
２重カップ４は、開口した半球状の形体をした大カップ７および小カップ９と大カップ７の開口の縁に設置されたパッキン１６とを備えている。小カップ９は大カップ７内に配置され、小カップ９の開口面は大カップ７の開口面よりも大カップ７の内部側へ退行している。大カップ７の開口面がステージ５表面で塞がれることにより、大カップ７の内部に密閉空間を形成することができ、小カップ９の内部に密閉洗浄槽６（図３）を形成可能である。このとき、小カップ９の縁とステージ５表面との間には排気および排水用の隙間３１があり、この隙間３１を入り口として大カップ７と小カップ９との間の空間で排気・排水空間１５が形成されている。洗浄後のガスおよび洗浄液の各々は、隙間３１から排気・排水空間１５を通って排気・排水管１４へ移動し、排気および排水される。大カップ７および小カップ９は各々の上部で洗浄ユニット３に接続されている。
【００３３】
洗浄ユニット３はたとえば円筒形であり、円筒形内部にガス・洗浄液供給管１３と排気・排水管１４とを有している。ガス・洗浄液供給管１３の一端はガスおよび洗浄液を吐出するための洗浄ノズル（供給部）１２に接続されていて、他端はガスおよび洗浄液の供給装置（図示せず）に接続されている。排気・排水管１４の一端は２重カップ４の排気・排水空間１５に接続されていて、他端は排気装置（図示せず）に接続されている。
【００３４】
洗浄ユニット３は、洗浄ノズル１２の孔１２ａからガスまたは洗浄液のいずれかのみを吐出することが可能であり、またガスと洗浄液とを混合してミスト状の洗浄液を吐出することも可能である。ガスの流量はたとえば毎分５〜１００リットルの範囲で調節可能であり、洗浄液の流量はたとえば毎分０．３〜２リットルの範囲で調節可能である。被洗浄物１７としては、たとえば板状のガラス、シリコン、石英、樹脂、金属などが洗浄可能である。また、小カップ９の内壁は、たとえば表面を荒らした金属やフッ素樹脂などが用いられる。ガスとしてはたとえば空気や窒素ガスなどが用いられ、洗浄水としてはたとえば純水などが用いられる。
【００３５】
次に、本実施の形態における洗浄装置の動作について説明する。図４は本発明の乾燥装置の洗浄工程の一例である。
【００３６】
図４を参照して、まず、図１に示すように被洗浄物１７がステージ５表面に配置される（ステップＳ１）。次に、図３に示すように洗浄ユニット３および２重カップ４が下降され、これにより小カップ９の内部に密閉洗浄槽６が形成される（ステップＳ２）。次に、排気装置に接続された排気・排水空間１５および排気・排水管１４を介して密閉洗浄槽６内が減圧される（ステップＳ３）。密閉洗浄槽６内が一定の圧力まで減圧された後で、洗浄ノズル１２から洗浄液が吐出され、被洗浄物１７が洗浄される（ステップＳ４）。洗浄ノズル１２は、吐出するガスの量または洗浄液の量を独立に制御可能であり、洗浄液とガスとを混合したミスト状の洗浄液を吐出することもでき、自由に洗浄液およびガスの吐出状態を変化させることができる。被洗浄物１７を洗浄した後のガスおよび洗浄液は、排気・排水空間１５および排気・排水管１４を介して外部へ排気される。被洗浄物１７を一定時間洗浄した後、洗浄ノズル１２からガスのみが吐出されることにより、被洗浄物１７が乾燥される（ステップＳ５）。被洗浄物１７が乾燥した後で密閉洗浄槽６内の減圧が解除され（ステップＳ６）、図１に示すように洗浄ユニット３および２重カップ４が上昇され、密閉洗浄槽６が開かれる（ステップＳ７）。そして被洗浄物１７がステージから離脱される（ステップＳ８）。
【００３７】
本実施の形態では、密閉洗浄槽６内にガスおよび洗浄液が供給可能である。これにより、ガスおよび洗浄液によって被洗浄物１７が洗浄可能である。また、洗浄後のガスおよび洗浄液は、排気・排水空間１５および排気・排水管１４を介して外部へ排出可能である。また、洗浄ユニット３からガスのみが吐出されることにより被洗浄物１７の乾燥が可能である。よって、洗浄プロセスおよび乾燥プロセスの全てをこの洗浄装置で行なうことが可能である。したがって、バッチ洗浄装置のように洗浄槽とは別に乾燥槽を設ける必要がなく、また洗浄槽から乾燥槽までウェハを搬送するための搬送手段が不要である。また、ローラ搬送洗浄装置のように洗浄装置とは別に乾燥装置を設ける必要がなく、また洗浄装置から乾燥装置までウェハを搬送するための搬送手段が不要である。さらに、スピン洗浄装置のように水の噴射やブラシによる洗浄を行なわず、ガスと洗浄液を混合したミストにより洗浄するため、洗浄時に被洗浄物を回転させる必要がなく、またガスの吹き付けにより被洗浄物を乾燥させるため、乾燥時に被洗浄物を回転させる必要もなく、被洗浄物を回転させる駆動系は不要である。以上の理由により装置の小型化が可能である。
【００３８】
また本実施の形態では、２重カップ４を構成している大カップ７および小カップ９はともに半球状の容器により構成されている。したがって、密閉洗浄槽６内において洗浄ユニット３から吐出されるガスおよび洗浄液に乱流が発生しにくく、ガスおよび洗浄液の流れは一定方向になる。これにより被洗浄物１７は均一に洗浄され、かつ乾燥されやすい。また、減圧に伴う２重カップ４への負荷が均一となり、減圧状態での２重カップ４の耐久性が良好となる。
（実施の形態２）
図５は、本発明の実施の形態２における一の洗浄装置が密閉洗浄槽を形成している場合の断面図である。
【００３９】
図５を参照して、ステージ５の表面において被洗浄物１７の周囲の部分が、被洗浄物１７付近から排気・排水空間１５の入り口へ向かって傾斜している。
【００４０】
なお、これ以外の構成については図１〜図３に示す実施の形態１の構成とほぼ同じであるため、同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００４１】
この構成により、洗浄後の洗浄液が被洗浄物１７付近に留まることなく洗浄液の重力により排気・排水空間１５側へ流れ込みやすくなる。したがって、実施の形態１の効果に加えて、排気・排水効率が上がり、被洗浄物１７に洗浄後の洗浄液が再付着することが抑止される。
【００４２】
図６は、本発明の実施の形態２における他の洗浄装置が密閉洗浄槽を形成している場合の断面図である。
【００４３】
図６を参照して、ステージ５の表面において被洗浄物１７の周囲の部分に溝が設けられている。
【００４４】
なお、これ以外の構成については図１〜図３に示す実施の形態１の構成とほぼ同じであるため、同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００４５】
このような構成をとる場合にも、洗浄後の洗浄液が洗浄液の重力により溝へ流れ込みやすくなるので、被洗浄物１７に洗浄後の洗浄液が再付着することが抑止されるという効果が得られる。
（実施の形態３）
図７は、本発明の実施の形態３における洗浄装置の２重カップの底面図である。
【００４６】
図７を参照して、２重カップ４に接続されている洗浄ノズル１２は、被洗浄物１７に対してガスおよび洗浄液を吐出するための孔１２ａを複数有していて、各々の孔１２ａは円状に配置されている。洗浄液は各々の孔１２ａから図中の矢印に示す方向に落下する。これにより洗浄液は渦状の流れになる。また、洗浄ノズル１２の周囲には、図中の矢印に示すように、ガスを小カップ９の内側表面へ向けて吐出可能なガスノズル１９が設置されている。さらに、２重カップ４の排気・排水空間１５は、小カップ９の表面に垂直に隔壁２１が備えられている。
【００４７】
なお、これ以外の構成については図１〜図３に示す実施の形態１の構成とほぼ同じであるため、同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００４８】
この構成により、実施の形態１の効果に加えて、以下の３つの作用効果を有する。
【００４９】
１つ目の効果としては、孔１２ａから吐出された洗浄液が渦状の流れをつくり、被洗浄物１７全体に均一に洗浄液が当たるので、被洗浄物１７が均一に洗浄可能である。また、洗浄液が渦流となるので、排気・排水が容易になる。
【００５０】
２つ目の効果としては、ガスノズル１９から小カップ９の内側表面へ常時または間欠的にガスが吐出されることにより、撥水加工された小カップ９の内側表面に付着した洗浄液の水滴が除去される。これにより、小カップ９の内側表面に付着した洗浄液の水滴が落下して乾燥後の被洗浄物１７に付着することが抑止される。
【００５１】
３つ目の効果としては、ガスの排気効率の低下が抑止される。この理由について以下に示す。
【００５２】
図８は本発明の実施の形態３における洗浄装置における排気・排水空間の排水の様子を示した平面模式図である。
【００５３】
排気・排水空間１５に隔壁２１が設けられていない状態で、一度に大量の洗浄液が排水されると、排気・排水空間１５の全周から洗浄液が排水されることになる。かかる場合には、洗浄装置１の排気経路に水が詰まったような状態となり、ガスの排気効率が悪くなる。一方、図８に示す本実施の形態のように隔壁２１が設けられた場合には、一度に大量の洗浄液２３が排水されても、隔壁２１により洗浄液２３が分断され、これにより洗浄液２３と隔壁２１との間に隙間が生じる。そしてこの隙間が排気・排水空間１５へのガス排気のスペースとなるため、ガスの排気効率の低下が抑止される。
（実施の形態４）
図９は、本発明の実施の形態４における洗浄装置が密閉洗浄槽を形成している場合の断面図である。
【００５４】
図９を参照して、２重カップ４には、小カップ９の外表面を覆うような隔壁２１が備えられている。この隔壁２１により、排気・排水空間１５は、隔壁２１と小カップ９との間の排気空間１５ｂと、隔壁２１と大カップ７との間の排水空間１５ａとに分割されている。また、排気空間１５ｂの入り口３１ｂは排水空間１５ａの入り口３１ａよりも高い位置に設けられている。
【００５５】
なお、これ以外の構成については図１〜図３に示す実施の形態１の構成とほぼ同じであるため、同一の部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００５６】
この構成により、ガスと洗浄液との密度差によって、低い位置に入り口３１ａのある排水空間１５ａからは洗浄液が排水され、高い位置に入り口３１ｂのある排気空間１５ｂからはガスが排気される。したがって、排気および排水の経路が分離可能となり、一度に大量の洗浄液が排水された場合においても排気空間１５ｂには洗浄液は流れ込まないのでガスの排気のためのスペースが確保される。これにより、ガスの排気効率の低下が抑止される。
【００５７】
実施の形態１から４において、外部容器（大カップ７）および内部容器（小カップ９）として半球状のものが用いられる場合について示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、外部容器および内部容器は開口を有している容器であればよい。
【００５８】
実施の形態１から４において、ガスとして空気または窒素ガスが用いられる場合について示したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、ガスは洗浄液と混合して吐出され、かつ被洗浄物を乾燥するのに適していればよい。
【００５９】
実施の形態２において、ステージの主表面が傾斜している場合およびステージ表面に溝を設けた場合について示したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、ステージ主表面に洗浄液が流れ込むための凹部が設けられていればよい。
【００６０】
以上に開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は、以上の実施の形態ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものと意図される。
【００６１】
【発明の効果】
以上により、本発明の乾燥装置によれば、被洗浄物が載置されたステージと外部容器との間で形成された密閉空間内に供給部によってガスおよび洗浄液が供給可能である。これにより、ガスおよび洗浄液によって被洗浄物が洗浄可能である。また、洗浄後のガスおよび洗浄液は、外部容器と内部容器との間の空間を介して外部へ排出可能である。また、供給部からガスのみが吐出されることにより被洗浄物の乾燥が可能である。よって、洗浄プロセスおよび乾燥プロセスの全てを外部容器とステージとで構成される密閉空間内で行なうことが可能である。したがって、バッチ洗浄装置のような洗浄槽とは別の乾燥槽は不要であり、洗浄槽と乾燥槽との間のウェハの搬送手段もまた不要である。また、ローラ搬送洗浄装置のような洗浄装置とは別の乾燥装置は不要であり、乾燥装置までウェハを搬送するための搬送手段もまた不要である。さらに、スピン洗浄装置のように水の噴射やブラシによる洗浄を行なわず、ガスと洗浄液を混合したミストにより洗浄するため、洗浄時に被洗浄物を回転させる必要がなく、またガスの吹き付けにより被洗浄物を乾燥させるため、乾燥時に被洗浄物を回転させる必要もなく、被洗浄物を回転させる駆動系は不要である。以上の理由により装置の小型化が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１における洗浄装置の断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１における洗浄装置の２重カップの底面図である。
【図３】本発明の実施の形態１における洗浄装置が密閉洗浄槽を形成している場合の断面図である。
【図４】本発明の乾燥装置の洗浄工程の一例である。
【図５】本発明の実施の形態２における一の洗浄装置が密閉洗浄槽を形成している場合の断面図である。
【図６】本発明の実施の形態２における他の洗浄装置が密閉洗浄槽を形成している場合の断面図である。
【図７】本発明の実施の形態３における洗浄装置の２重カップの底面図である。
【図８】本発明の実施の形態３における洗浄装置における排気・排水空間の排水の様子を示した平面模式図である。
【図９】本発明の実施の形態４における洗浄装置が密閉洗浄槽を形成している場合の断面図である。
【図１０】特開平９−３１２２７７号公報に開示されたバッチ洗浄装置の概略図である。
【図１１】特開平７−２８３１５号公報に開示されたローラ搬送洗浄装置の概略正面図である。
【図１２】特開平９−３２１０１２号公報に掲載されたスピン洗浄装置の要部断面図である。
【符号の説明】
１　洗浄装置、３　洗浄ユニット、４　２重カップ、５　ステージ、６　密閉洗浄槽、７　大カップ、９　小カップ、１２　洗浄ノズル、１２ａ　孔、１３　ガス・洗浄液供給管、１４　排気・排水管、１５　排気・排水空間、１５ａ　排水空間、１５ｂ　排気空間、１６　パッキン、１７　被洗浄物、１９　ガスノズル、２１　隔壁、２３　洗浄液、３１　隙間、３１ａ　排水空間入り口、３１ｂ排気空間入り口、１００　バッチ洗浄装置、１０１　半導体ウェハ、１０２　ウェハチャック、１０３　洗浄液、１０４　整流板、１０５　洗浄槽、１０６　ポンプ、１０７　給液口、１０８　排液槽、１０９　排液口、２００　ローラ搬送洗浄装置、２０２　洗浄水噴射ノズル、２０３　純水、２０４　ローラ回転軸駆動部、２０５　ローラ回転軸受、２０６　ローラ回転軸、２０７，２０８，２０９　搬送ローラ、２１０，２１１　基板端面支持板、２１２，３１０　ウェハ、３００　スピン洗浄装置、３１１　固定軸、３１２　回転軸、３１４　回転テーブル、３１６　クランプ機構、３１９　ノズル。
【図１】
2004089946.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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