(57)【要約】【課題】リソグラフィ投影装置において、干渉計システムの測定精度を向上するために、計測ビームの操作および方向付けを行うデバイスの安定性を改善すること。【解決手段】本発明によれば、放射線の計測ビームの少なくとも一部分を操作および方向付けするデバイスを有するリソグラフィ投影装置が提供され、このデバイスは、第１および第２の光学くさび体を含み、第２の光学くさび体と第１の光学くさび体とが互いに対して相対位置を有している。計測ビームの少なくとも一部分は、第１の光学くさび体の第１の主表面から入射光軸に沿ってデバイス内に入り、第１の光学くさび体と第２の光学くさび体とを通過し、第２の光学くさび体の第２の主表面から出る。第１および第２の光学くさび体は、第１および第２の光学くさび体の相対位置を変更することによって、計測ビームの少なくとも一部分を入射光軸に対して回転させたり、平行移動させるように構成されている。【選択図】図２
2004343058.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の計測ビーム（ＭＢ）の少なくとも一部分を操作および方向付けするデバイス（１００）を有するリソグラフィ投影装置（１）において、
前記デバイス（１００）が、第１の光学くさび体（２）と第２の光学くさび体（３）とを有し、
前記第２の光学くさび体（３）と前記第１の光学くさび体（２）とが互いに対して相対位置を有し、
前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分が、前記第１の光学くさび体（２）の第１の主表面（２ａ）から入射光軸（ＯＡ）に沿って前記デバイス（１００）に進入し、前記第１の光学くさび体（２）と前記第２の光学くさび体（３）とを通過し、そして前記第２の光学くさび体の第２の主表面（３ａ）から退出し、
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、前記第１の光学くさび体（２）と前記第２の光学くさび体（３）の前記相対位置を変更することによって、前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を前記入射光軸（ＯＡ）に対して回転および／または平行移動させるように構成されていることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記デバイス（１００）が、前記第１および第２の光学くさび体（２、３）の少なくとも１つを軸角（β）だけ前記光軸（ＯＡ）の周りで回転させることによって、第１の動作を実行するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項３】
前記デバイス（１００）が、前記第１および第２の光学くさび体（２、３）の少なくとも１つを前記光軸（ＯＡ）に沿って変位させてそれらの間の距離（Ｄ）を変更することによって、第２の動作を実行するように構成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項４】
前記デバイス（１００）が、第３の動作を実行するように構成されており、該第３の動作において、
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、固定された軸角（β）と固定された距離（Ｄ）とを含む固定された相対位置を有しており、
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、前記光軸（ＯＡ）の周りで全体として回転されることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項５】
前記デバイス（１００）が、第４の動作を実行するように構成されており、該第４の動作において、
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、固定された軸角（β）と固定された距離（Ｄ）とを含む固定された相対位置を有しており、
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、前記光軸（ＯＡ）に対して垂直な回転軸線（ＲＡ）の周りで全体として回転されることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項６】
リソグラフィ投影装置（１）であって、
該リソグラフィ投影装置は、放射線の計測ビーム（ＭＢ）の少なくとも一部分を操作および方向付けするデバイス（１００’）を有し、
前記デバイス（１００’）が、第１の光学くさび体（２）と第２の光学くさび体（３）とを有し、
前記第２の光学くさび体（３）の第１と第２の主表面（３ａ、３ｂ）のうちの一方が反射被覆を備え、
前記第２の光学くさび体（３）と前記第１の光学くさび体（２）とが互いに対して相対位置を有し、
前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分が、前記第１の光学くさび体（２）の第１の主表面（２ａ）から入射光軸（ＯＡ）に沿って前記デバイス（１００’）に進入し、前記第１の光学くさび体（２）を通過し、前記第２の光学くさび体（３）の前記第１と第２の主表面（３ａ、３ｂ）のうちの前記一方において反射し、
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、前記第１の光学くさび体（２）と前記第２の光学くさび体（３）の前記相対位置を変更することによって、前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を前記入射光軸（ＯＡ）に対して回転および／または平行移動させるように構成されていることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項７】
前記デバイス（１００’）が、前記第１および第２の光学くさび体（２、３）の少なくとも１つを、軸角（β）だけ前記光軸（ＯＡ）の周りで回転させるように構成されていることを特徴とする請求項６に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項８】
前記デバイス（１００’）が、前記第２の光学くさび体（３）を、該第２の光学くさび体（３）の前記第１の主表面（３ａ）に対して実質的に垂直な回転軸線（ＲＡ３）の周りで角度（β）だけ回転させるように構成されていることを特徴とする請求項６に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項９】
前記デバイス（１００’）が、前記第１および第２の光学くさび体（２、３）の少なくとも１つを前記光軸（ＯＡ）に沿って変位させてそれらの間の距離（Ｄ）を変更するように構成されていることを特徴とする請求項６から請求項８までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１０】
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、固定された軸角（β）と固定された距離（Ｄ）とを含む固定された相対位置を有しており、
前記デバイス（１００’）が、前記第１および第２の光学くさび体（２、３）を前記光軸（ＯＡ）の周りで全体として回転させるように構成されていることを特徴とする請求項６から請求項９までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１１】
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、固定された軸角（β）と固定された距離（Ｄ）とを含む固定された相対位置を有しており、
前記デバイス（１００’）が、前記第１および第２の光学くさび体（２、３）を、前記光軸（ＯＡ）に対して垂直な回転軸線（ＲＡ２）の周りで全体として回転させるように構成されていることを特徴とする請求項６から請求項１０までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１２】
放射線の計測ビーム（ＭＢ）の少なくとも一部分を操作および方向付けするデバイス（１００）であって、
該デバイス（１００）が、第１の光学くさび体（２）と第２の光学くさび体（３）とを有し、
前記第２の光学くさび体（３）と前記第１の光学くさび体（２）とが互いに対して相対位置を有し、
前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分が、前記第１の光学くさび体（２）の第１の主表面（２ａ）から入射光軸（ＯＡ）に沿って前記デバイス（１００）に進入し、前記第１の光学くさび体（２）と前記第２の光学くさび体（３）とを通過し、そして前記第２の光学くさび体（３）の第２の主表面（３ａ）から脱出し、
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、前記第１の光学くさび体（２）と前記第２の光学くさび体（３）の前記相対位置を変更することによって、前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を前記入射光軸（ＯＡ）に対して回転および／または平行移動させるように構成されていることを特徴とするデバイス。
【請求項１３】
放射線の計測ビーム（ＭＢ）の少なくとも一部分を操作および方向付けするデバイス（１００’）であって、
該デバイス（１１０’）が、第１の光学くさび体（２）と第２の光学くさび体（３）とを有し、
前記第２の光学くさび体（３）の第１と第２の主表面（３ａ、３ｂ）のうちの一方が反射被覆を備え、
前記第２の光学くさび体（３）と前記第１の光学くさび体（２）とが互いに対して相対位置を有し、
前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分が、前記第１の光学くさび体（２）の第１の主表面（２ａ）から入射光軸（ＯＡ）に沿って前記デバイス（１００’）に進入し、前記第１の光学くさび体（２）を通過し、前記第２の光学くさび体（３）の前記第１と第２の主表面（３ａ、３ｂ）のうちの前記一方において反射し、
前記第１および第２の光学くさび体（２、３）が、前記第１の光学くさび体（２）と前記第２の光学くさび体（３）の前記相対位置を変更することによって、前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を前記入射光軸（ＯＡ）に対して回転および／または平行移動させるように構成されていることを特徴とするデバイス。
【請求項１４】
放射線システムを使用して放射線の計測ビーム（ＭＢ）を提供するステップを含むデバイス製造方法であって、
前記計測ビーム（ＭＢ）の少なくとも一部分を、第１の光学くさび体（２）の第１の主表面（２ａ）から入射光軸（ＯＡ）に沿って進入させるステップと、
前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を、前記第１の光学くさび体（２）と前記第２の光学くさび体（３）とを通して通過させるステップであって、前記第２の光学くさび体（３）と前記第１の光学くさび体（２）とが互いに対して相対位置を有しているステップと、
前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を、前記第２の光学くさび体（３）の第２の主表面（３ａ）から脱出させるステップと、
前記第１の光学くさび体（２）と前記第２の光学くさび体（３）の前記相対位置を変更することによって、前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を前記入射光軸（ＯＡ）に対して回転および／または平行移動させるステップと
によって特徴づけられるデバイス製造方法。
【請求項１５】
放射線システムを使用して放射線の計測ビーム（ＭＢ）を提供するステップを含むデバイス製造方法であって、
前記計測ビーム（ＭＢ）の少なくとも一部分を、第１の光学くさび体（２）の第１の主表面（２ａ）から入射光軸（ＯＡ）に沿って進入させるステップと、
前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を、前記第１の光学くさび体（２）を通して通過させるステップと、
前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を、前記第２の光学くさび体（３）の第１および第２の主表面（３ａ、３ｂ）のうちの一方から脱出させるステップであって、前記第２の光学くさび体（３）と前記第１の光学くさび体（２）とが互いに対して相対位置を有しているステップと、
前記第１の光学くさび体（２）と前記第２の光学くさび体（３）の前記相対位置を変更することによって、前記計測ビーム（ＭＢ）の前記少なくとも一部分を前記入射光軸（ＯＡ）に対して回転および／または平行移動させるステップと
によって特徴づけられるデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特許請求の範囲の請求項１の前提部分に規定されたリソグラフィ投影装置に関するものである。また本発明は、請求項１２の前提部分に定義された、放射線の計測ビームの少なくとも一部分を操作および方向付け（あるいはルーティングまたは経路決定）するデバイスに関するものである。さらに、本発明は、請求項１４の前提部分に定義されたデバイス製造に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン付けするように機能するパターン付け手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン付けされたビームを基板のターゲット部分上に投影するための投影システムとを包含するリソグラフィ投影装置の分野に適用されるのが好ましい。
【０００３】
本明細書では、「パターン付け手段」という用語について、基板のターゲット部分内に作成されるパターンに対応するパターン断面を入射放射線ビームに与えるために使用することができる手段を指すものとして広く解釈すべきである。すなわち、「光弁（ライト・バルブ）」という用語もまた、この文脈で使用することができる。一般に、前記パターンは、集積回路または他のデバイス（下記参照）など、ターゲット部分内に作成されるデバイス内の特定の機能層に対応している。そのようなパターン付け手段の例として以下のものがある。
（１）マスク
マスクの概念はリソグラフィの分野で周知であり、バイナリ型、交互位相シフト型、減衰位相シフト型などのマスク・タイプ、ならびに様々なハイブリッド・マスク・タイプを含む。放射線ビーム内にそのようなマスクを配置することにより、マスクのパターンに従って、マスク上で衝突する放射線の選択的透過（透過マスクの場合）または反射（反射マスクの場合）が生じる。マスクの場合、支持構造は一般に、入射する放射線ビーム内の所望の位置でマスクを保持することができ、且つ必要であれば、ビームに対して移動することができるマスク・テーブルである。
（２）プログラム可能なミラー・アレイ
そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射表面を有するマトリクス・アドレス可能な表面である。そのような装置の背景にある基本原理は、（例えば）反射表面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射し、一方、アドレスされない領域が入射光を非回折光として反射することである。適切なフィルタを使用して、前記非回折光を反射されたビームから除去し、回折光だけを残すことができ、このようにして、マトリクス・アドレス可能な表面のアドレッシング・パターンに従って、ビームがパターン付けされる。プログラム可能なミラー・アレイの一代替実施例は、小さなミラーのマトリックス配置を使用するものであり、これらミラーのそれぞれは、適切な局所電界を印加することにより、または圧電始動手段を使用することにより、軸線の周りで個別に傾斜させることができる。この場合も、ミラーはマトリクス・アドレス可能であり、その結果、アドレスされたミラーは、入射する放射線ビームを、アドレスされないミラーと異なる方向に反射し、このようにして、反射されたビームは、マトリクス・アドレス可能なミラーのアドレス・パターンに従ってパターン付けされる。必要とされるマトリクス・アドレスは、適切な電子手段を使用して実行することができる。上述の状況のどちらも、パターン付け手段は１つまたは複数のプログラム可能なミラー・アレイを有することができる。本明細書で参照したミラー・アレイに関するさらなる情報は、例えば、米国特許第５，２９６，８９１号および米国特許第５，５２３，１９３号、ならびにＰＣＴ特許出願ＷＯ９８／３８５９７およびＷＯ９８／３３０９６から収集することができ、これらを参照により本明細書に組み込む。プログラム可能なミラー・アレイの場合、前記支持構造は、例えば、適宜固定または移動可能とすることができるフレームまたはテーブルとして実施することができる。
（３）プログラム可能なＬＣＤアレイ
そのような構造の一例は、米国特許第５，２２９，８７２号に開示されており、これを参照により本明細書に組み込む。上記のように、この場合の支持構造は、例えば、適宜固定または移動可能とすることができるフレームまたはテーブルとして実施することができる。
【０００４】
話を簡単にするために、本明細書の残りの部分では、所々で具体的にマスクおよびマスク・テーブルを含む例を対象とするかもしれないが、そのような場合に論じられる一般原理は、上述したパターン付け手段の、より広い文脈で理解すべきである。
【０００５】
リソグラフィ投影装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造で使用することができる。そのような場合には、パターン付け手段は、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンを生成することができ、このパターンを、放射線感光材料（レジスト）の層で被覆されている基板（シリコン・ウェハ）上の（例えば、１つまたは複数のダイを含む）ターゲット部分上に結像することができる。一般に、単一のウェハは、投影システムを介して一度に１つずつ連続的に照射される、隣接するターゲット部分の群からなるネットワーク全体を含む。マスク・テーブル上のマスクによるパターン付けを使用する現行の装置は、２つの異なるタイプに区別することができる。１つのタイプのリソグラフィ投影装置では、マスク・パターン全体をターゲット部分上に一気に露光することによって各ターゲット部分が照射され、そのような装置は、一般にウェハ・ステッパまたはステップ・アンド・リピート装置と呼ばれる。一般にステップ・アンド・スキャン装置と呼ばれる代替装置では、マスク・パターンを投影ビームの下で所与の基準方向（「走査」方向）に漸次走査し、一方、基板テーブルをこの方向に平行または反平行で同期走査することによって各ターゲット部分が照射される。すなわち、一般に、投影システムは倍率Ｍ（一般にＭは１未満）を有することになるため、基板テーブルが走査される速さＶは、マスク・テーブルが走査される速さの係数Ｍ倍となる。本明細書で述べるリソグラフィ・デバイスに関するさらなる情報は、例えば、参照により本明細書に組み込む米国特許第６，０４６，７９２号から収集することができる。
【０００６】
リソグラフィ投影装置を使用する製造プロセスでは、（例えば、マスク内の）パターンが、放射線感光材料（レジスト）の層によって少なくとも部分的に被覆された基板上に結像される。この結像ステップの前には、プライミング、レジスト・コーティング、およびソフト・ベーキングなど、様々な処理を基板に施すことができる。露光後には、露光後ベーキング（ＰＥＢ）、現像、ハード・ベーキング、および結像されたフィーチャの測定／検査など、他の処理を基板に施すことができる。この一連の処理を基礎として使用し、デバイス（例えばＩＣの個々の層）にパターンが付けられる。次いで、そのようなパターン付けされた層を、エッチング、イオン注入（ドーピング）、メタライゼーション、酸化、化学的機械研磨など、すべて個々の層を仕上げるように意図された様々なプロセスにかけることができる。いくつかの層が必要とされる場合には、処理全体またはその変形形態を、新しい層のそれぞれについて繰り返さなければならないことになる。最終的には、一連のデバイスが基板（ウェハ）上に存在するようになる。次いで、これらのデバイスは、ダイシングまたはソーイングなどの技法によって互いに分離される。そこで、個々のデバイスを、キャリア上に取り付けたり、ピンに接続したりなどすることができる。そのようなプロセスに関するさらなる情報は、例えば参照により本明細書に組み込むピーター・ファン・ツァント（Ｐｅｔｅｒ  ｖａｎ  Ｚａｎｔ）の著書「マイクロチップの製造；半導体処理のための実用ガイド（Ｍｉｃｒｏｃｈｉｐ  Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ：Ａ  Ｐｒａｃｔｉｃａｌ  Ｇｕｉｄｅ  ｔｏ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）」、第３版、マグローヒル出版社、１９９７年、ＩＳＢＮ  ０−０７−０６７２５０−４から得ることができる。
【０００７】
話を簡単にするために、以後、投影システムを「レンズ」と称する可能性があるが、この用語は、例えば、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック系を含む様々なタイプの投影システムを包含するものとして広く解釈すべきである。放射線システムはまた、放射線の投影ビームを誘導し、形成し、または制御するためにこれらの設計タイプのいずれかに従って動作する構成要素をも含むことができ、そのような構成要素もまた下記で、集合的に、または単体で「レンズ」と称することができる。さらに、リソグラフィ装置は、２つ以上の基板テーブル（および／または２つ以上のマスク・テーブル）を有するタイプとすることができる。そのような「複数ステージ」デバイスでは、追加テーブルを同時に使用することができ、あるいは、１つまたは複数の他のテーブルを露光に使用している間に、１つまたは複数のテーブルに対して準備ステップを実施することができる。デュアル・ステージのリソグラフィ装置は、例えば、どちらも参照により本明細書に組み込む米国特許第５，９６９，４４１号およびＷＯ９８／４０７９１に述べられている。
【０００８】
リソグラフィ投影装置では、（一般に）いくつかの干渉計が、レーザ投影ビームを発生するレーザなどの同じ光源を共有している。この共有されるレーザ投影ビームは、パターン付け手段のパターンを基板上に投影するための上述の投影ビームとは関係がないことに留意されたい。本明細書では、この共有レーザ投影ビームをさらに、計測ビームと称することにする。計測ビームをリソグラフィ投影装置全体にわたって共有するために、計測ビームは、各干渉計に達するように、装置を通して経路を決定（方向付け）される。２次測定誤差と干渉計の範囲の欠落（これらはリソグラフィ投影装置を使用する際に不正確さを生じさせる）を防止するために、計測ビームを測定オブジェクト（例えばステージ）に（マイクロラジアンのオーダーで）正確に位置合わせする（整合させる）ことが重要である。ビーム位置合わせの後で、干渉計システムが較正される。（ビームの角位置および横位置に関する）関連パラメータすべてが決定され、その後安定するものと仮定される。
【０００９】
いくつかの較正を実施している間、計測ビームの経路を決定する構成要素の安定性は、位置合わせパラメータ（特にビーム・ベンダ・マニピュレータ）に影響を及ぼす可能性があり、非常に重要である。例えば動作中に（例えばドリフトのために）位置合わせパラメータが変化した場合、リソグラフィ投影装置の精度が影響を受ける可能性がある。したがって干渉計システムの測定精度に関して、経路決定構成要素の安定性は重要な問題である。
【００１０】
計測ビームの経路決定および操作は、典型的には、入射する計測ビームの進行方向を修正することができる調整可能なミラーを有する構成によって行われる。ミラーの回転および／または傾動（この２つの動作は、固有の不安定性を有する）がビームの不正確な方向付け導く可能性があるために、そのような調整可能なミラーを使用することには欠点がある。したがって、このビームの整合（位置合わせ）は、回転誤差や傾動誤差に関して不確実になりやすい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、従来技術からの計測ビームを操作および方向付け（経路決定）するデバイスよりも安定性が改善された、計測ビームを操作および方向付けするデバイスを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この目的は、本発明に従って達成され、請求項１の前提部分に規定されたリソグラフィ投影装置は、この装置が、放射線の計測ビームの少なくとも一部分を操作および経路決定するデバイスを有し、このデバイスが第１の光学くさび体および第２の光学くさび体を備え、第２の光学くさび体と第１の光学くさび体とが互いに対して相対位置を有し、計測ビームの少なくとも一部分が、第１の光学くさび体の第１の主表面から入射光軸に沿ってデバイスに入り、第１の光学くさび体および第２の光学くさび体を通過し、そして第２の光学くさび体の第２の主表面で脱出するようになっており、また、第１および第２の光学くさび体が、第１の光学くさび体と第２の光学くさび体の相対位置を変更することにより、計測ビームの少なくとも一部分を入射光軸に対して回転させ、または平行移動させ、あるいはその両方を達成するように構成されていることを特徴とする。
【００１３】
操作デバイス内で行われる機械調整間の大きい比率と、ビームの角位置および横位置に対するその影響により、調整分解能が高くなり、機械的変化および／または不安定性に影響されにくくなる。ビームを位置合わせするためのデバイスの調整は、デバイスの主軸に沿って行われ、それにより位置合わせの安定性が改善される。利点として、これによって向いている方向が較正され、再較正が必要になるまで長期間にわたって正確なままとなる。計測ビームを操作および経路決定するデバイスが長期間安定するため、リソグラフィ投影装置内の精度を３ヶ月当たり２〜３ｎｍまで改善することができる。当然ながらこのデバイスは、機械加工など他の応用分野に適用することもできる。
【００１４】
さらに、調整分解能の改善により、従来技術の場合よりも相対的に単純な、あまり多くの時間を必要としない方法で調整を行うことができるため、製造中のサイクル時間を削減することができる。
【００１５】
また本発明は、請求項６の前提部分に規定されたリソグラフィ投影装置に関し、この装置が、放射線の計測ビームの少なくとも一部分を操作および経路決定するデバイスを有し、このデバイスが第１の光学くさび体および第２の光学くさび体を備え、第２の光学くさび体の第１と第２の主表面のうちの少なくとも１つが反射被覆を備え、第２の光学くさび体と第１の光学くさび体とが互いに対して相対位置を有し、計測ビームの少なくとも一部分が、第１の光学くさび体の第１の主表面から入射光軸に沿ってデバイスに入り、第１の光学くさび体を通過し、第２の光学くさび体の第１と第２の主表面の１つに入り、そして第２の光学くさび体の第１と第２の主表面の１つで反射するようになっており、また、第１および第２の光学くさび体が、第１の光学くさび体と第２の光学くさび体の相対位置を変更することにより、計測ビームの少なくとも一部分を入射光軸に対して回転および／または平行移動させるように構成されていることを特徴とする。
【００１６】
さらに、本発明は、放射線の計測ビームの少なくとも一部分を操作および経路決定するデバイスに関し、このデバイスが第１の光学くさび体および第２の光学くさび体を有し、第２の光学くさび体と第１の光学くさび体とが互いに対して相対位置を有し、計測ビームの少なくとも一部分が、第１の光学くさび体の第１の主表面から入射光軸に沿ってデバイスに入り、第１の光学くさび体および第２の光学くさび体を通過し、そして第２の光学くさび体の第２の主表面で脱出するようになっており、また、第１および第２の光学くさび体が、第１の光学くさび体と第２の光学くさび体の相対位置を変更することにより、計測ビームの少なくとも一部分を入射光軸に対して回転および／または平行移動させるように構成されていることを特徴とする。
【００１７】
本発明の他の態様によれば、放射線システムを使用して放射線の計測ビームを提供するステップを含むデバイス製造方法であって、さらに、
計測ビームの少なくとも一部分を、第１の光学くさび体の第１の主表面から入射光軸に沿って入れるステップと、
計測ビームの少なくとも一部分を、第１の光学くさび体を介して、また第２の光学くさび体を介して通すステップであって、第２の光学くさび体と第１の光学くさび体とが互いに対して相対位置を有しているステップと、
計測ビームの少なくとも一部分を、第２の光学くさび体の第２の主表面から出すステップと、
第１の光学くさび体と第２の光学くさび体の相対位置を変更することにより、計測ビームの少なくとも一部分を入射光軸に対して回転させるステップ、および平行移動させるステップのうち少なくとも１つと
を含むことを特徴とする方法が提供される。
【００１８】
本発明は、計測ビームを操作および経路決定するデバイスを、固定されたミラーと組み合わせるビーム・ステアリング・デバイスに適用することができる。従来技術のビーム・ベンダ・マニピュレータは、従来技術のビーム・ベンダ・マニピュレータによる曲げ動作が、マニピュレータの調整軸に実質的に平行な線の周りで行われているために、安定性が低い。本発明では、ビーム・ステアリング・デバイスが、曲げ線に対して実質的に垂直な調整軸を有し、その結果、デバイスの設定に対して、より高い安定性を生み出す。
【００１９】
さらに、本発明は、固定されたミラーを省き、操作および経路決定のために２つの光学くさび体を備えるだけのビーム・ステアリング・デバイスを提供する。その場合、設定の安定性はさらに改善される。
【００２０】
本明細書中、本発明による装置のＩＣ製造時における使用について具体的に言及することがあるが、そのような装置には他に多数の使用し得る応用分野があることを明らかに理解されたい。例えば、集積光学系、磁区メモリ用のガイドおよび検出パターン、液晶ディスプレイ・パネル、薄膜磁気ヘッドなどの製造に使用することができる。当業者なら、そのような代替応用例の文脈において、本明細書中での「レチクル」「ウェハ」または「ダイ」という用語のどのような使用も、それぞれより一般的な用語である「マスク」「基板」「ターゲット部分」で置き換えられると見なすべきであることを理解できよう。
【００２１】
本明細書では、「放射線」および「ビーム」という用語を使用し、（例えば、波長３６５、２４８、１９３、１５７、または１２６ｎｍを有する）紫外線（ＵＶ）および（例えば、５〜２０ｎｍ範囲内の波長を有する）極紫外線（ＥＵＶ）を含む、あらゆるタイプの電磁放射線を包含する。
【００２２】
計測ビームは、計測のために好適な波長を有するどのタイプの電磁放射線をも含む。
【００２３】
以下、本発明についていくつかの図面を参照しながら述べるが、図面は、例示のためのものにすぎず、添付の特許請求の範囲に規定された保護の範囲を制限しないものとする。
【実施例】
【００２４】
図１は、本発明の特定の実施例によるリソグラフィ投影装置１を概略的に示す。この装置は、以下を備える。
（１）放射線（例えば、ＵＶ放射線）の投影ビームＰＢを供給するための放射線システムＥｘ、ＩＬ。この特定の場合では、放射線源ＬＡをも備える。
（２）マスクＭＡ（例えば、レチクル）を保持するためのマスク・ホルダを備え、投影システムＰＬに対してマスクを正確に位置決めするための第１の位置決め手段に接続された第１のオブジェクト・テーブル（マスク・テーブル）ＭＴ。
（３）基板Ｗ（例えば、レジスト被覆済みシリコン・ウェハ）を保持するための基板ホルダを備え、投影システムＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第２の位置決め手段に接続された第２のオブジェクト・テーブル（基板テーブル）ＷＴ。
（４）マスクＭＡの照射部分を基板Ｗの（例えば、１つまたは複数のダイを備える）ターゲット部分Ｃ上に結像するための投影システム（レンズ）ＰＬ。
【００２５】
本明細書では、この装置は反射タイプである（すなわち、反射マスクを有する）。しかし、一般に例えば、（透過マスクを有する）透過タイプとすることもできる。別法として、この装置は、上記で参照したタイプのプログラム可能なミラー・アレイなど、別の種類のパターン付け手段を使用することができる。
【００２６】
放射線源ＬＡ（例えば、水銀ランプまたはエキシマ・レーザ）は、放射線のビームを生成する。このビームは、直接に、あるいは、例えばビーム・エキスパンダＥｘなどのコンディショニング手段を通過した後で照明システム（イルミネータ）ＩＬ内に送られる。イルミネータＩＬは、ビーム内の強度分布の径方向の外部および／または内部範囲（一般にそれぞれσアウターおよびσインナーと呼ばれる）を設定するための調整手段ＡＭを備えることができる。さらに、概してインテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなど、様々な他の構成要素を備える。このようにして、マスクＭＡ上に衝突するビームＰＢは、その断面において所望の均一性および強度分布を有する。
【００２７】
図１に関して、放射線源ＬＡは、（例えば、放射線源ＬＡが水銀ランプの場合にしばしばそうであるように）リソグラフィ投影装置のハウジング内にある可能性があるが、リソグラフィ投影装置から離し、（例えば、適切な誘導ミラーの助けにより）放射線源が生成する放射線ビームを装置内に導くこともできることに留意されたい。この後者の状況は、放射線源ＬＡがエキシマ・レーザである場合に多い。現行の発明および特許請求の範囲は、これらの状況をどちらも包含する。
【００２８】
その後で、ビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴ上で保持されているマスクＭＡに入る。ビームＰＢは、マスクＭＡを横切って、レンズＰＬを通過し、レンズＰＬは、ビームＰＢを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に合焦する。基板テーブルＷＴは、第２の位置決め手段および干渉測定手段の助けにより、例えば、異なるターゲット部分ＣをビームＰＢの経路内で位置決めするように、正確に移動することができる。同様に、第１の位置決め手段ＰＭを使用し、例えば、マスクＭＡをマスク・ライブラリから機械的に取り出した後で、または走査中に、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、オブジェクト・テーブルＭＴ、ＷＴの移動は、図１には明示的に示されていないロング・ストローク・モジュール（粗い位置決め）およびショート・ストローク・モジュール（細かい位置決め）の助けにより実現される。しかし、（ステップ・アンド・スキャン装置ではなく）ウェハ・ステッパの場合には、マスク・テーブルＭＴをショート・ストローク・アクチュエータに接続するだけとすることも、固定とすることもできる。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスク位置合わせマーク（マスクアライメントマーク）Ｍ１、Ｍ２、および基板位置合わせマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせ（すなわち整列）することができる。
【００２９】
図の装置は、以下の２つの異なるモードで使用することができる。
（１）ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴが本質的に静止したままであり、マスク・イメージ全体がターゲット部分Ｃ上に一度に（すなわち、１回の「フラッシュ」で）投影される。次いで、基板テーブルＷＴがｘおよび／またはｙ方向でシフトされ、その結果、異なるターゲット部分ＣをビームＰＢによって照射することができる。
（２）走査モード（スキャン・モード）では、本質的に同じ状況が当てはまるが、所与のターゲット部分Ｃが１回の「フラッシュ」で露光されない。その代わりに、マスク・テーブルＭＴは、所与の方向（いわゆる「走査方向」、例えばｙ方向）に速さｖで移動可能であり、その結果、投影ビームＰＢはマスク・イメージ全体にわたって走査させられ、それと共に、基板テーブルＷＴが、同方向または反対方向に速さＶ＝Ｍｖで同時に移動する。この式でＭは、レンズＰＬの倍率である（一般に、Ｍ＝１／４または１／５）。このようにして、解像度を損なうことなく、比較的大きなターゲット部分Ｃを露光することができる。
【００３０】
一般に、干渉測定手段は、レーザ（図示せず）などの光源と、ステージ上の基板など、測定すべきオブジェクトに関するいくつかの情報（例えば、位置、位置合わせなど）を決定するための１つまたは複数の干渉計とを備えることができる。例えば、図１では、２つの干渉計ＩＦ１およびＩＦ２が概略的に示されている。光源（レーザ）は、１つまたは複数のマニピュレータによって干渉計ＩＦ１、ＩＦ２に経路決定される計測ビームＭＢを発生する。複数の干渉計が存在する場合には、計測ビームを各干渉計のために様々な別個のビームに分割する光学系を使用することによって、計測ビームをそれらの間で共有する。例えば、図１は、２つのビームに分割された計測ビームを示す。スプリッタ光学系は図示しない。また、ビーム・マニピュレータを干渉計自体の中で使用することができる。
【００３１】
図２は、本発明の一実施例による計測ビームを操作および経路決定するデバイスの断面、ならびにデバイスの第１の動作を概略的に示す。
【００３２】
計測ビームＭＢを操作および経路決定するデバイス１００は、光学くさび体２、３と呼ばれる第１および第２の光学系要素を備える。第１および第２の光学くさび体２、３のそれぞれは、それぞれ２つの副表面２ｃ、２ｄおよび３ｃ、３ｄを備える。各光学くさび体において２つの副表面は実質的に平行であり、２ｄと３ｄは、それぞれ他方の副表面２ｃおよび３ｃより比較的面積が大きい。光学くさび体のそれぞれはさらに、それぞれ２つの主表面２ａ、２ｂおよび３ａ、３ｂを備える。主表面は、それぞれ一方の副表面から他方の副表面に延び、２つの主表面は、互いに平行でない。図２に示されている実施例では、主表面２ａ、３ａが、それぞれ２つの副表面２ｃ、２ｄおよび３ｃ、３ｄに対して実質的に垂直な方向に延びる。他方の主表面２ｂ、３ｂは、それぞれ表面２ａ、２ｃ、２ｄおよび３ａ、３ｃ、３ｄに対して斜めになっている。デバイス１００はさらに、第１の光学くさび体２の主表面２ａ、および第２の光学くさび体３の主表面３ａに対して実質的に垂直な光軸ＯＡを備える。
【００３３】
各光学くさび体２、３は、そのそれぞれの斜めの主表面２ｂ、３ｂを入射ビームおよび出射ビームにそれぞれ向けて使用することも可能であることに留意されたい。
【００３４】
動作中、レーザ・ビームなどの計測ビームは、光軸ＯＡに実質的に平行な方向に移動し、主表面２ａで第１の光学くさび体２に入り、入射ビームの光軸ＯＡに対して第１の面内角度α１だけ主表面２ａで屈折される。その後で、ビームは、第１の光学くさび体２を通過し、斜めの主表面２ｂを脱出し、入射ビームの光軸ＯＡに対して第２の面内角度α２だけ再び屈折される。この場合、一例として、計測ビームＭＢは、実質的に垂直入射で主表面２ａに入るので、第１の面内角度α１は、光軸ＯＡに対して実質的に０°に等しい。次いで、計測ビームＭＢは、第２の光学くさび体３の斜めの主表面３ｂに入り、入射ビームの光軸ＯＡに対して第３の面内角度α３だけ再び屈折される。この場合も、屈折はビームが主表面３ａを通る際に発生し、計測ビームは、入射ビームの光軸ＯＡに対して第４の面内角度α４未満で第２の光学くさび体３から出る。
【００３５】
図２で、表面２ａ、２ｂおよび３ａ、３ｂすべては、図２の断面の平面に対して実質的に垂直であるため、第２の光学くさび体を出る計測ビームは、その平面に実質的に平行になる。
【００３６】
第２の光学くさび体３の角位置を軸角β（図示せず）だけ光軸ＯＡの周りで変えることにより、表面３ｂが図２の断面の平面に対して垂直にならないように、第２の光学くさび体３の表面の向きを変更することができる。その結果、計測ビームの光路は、図２の断面の平面を外れた方向の、ある角度を含む。別法として、第１の光学くさび体２を光軸ＯＡの周りで回転し、計測ビームが図２の断面の平面を外れた方向である角度を有するようにすることができる。第１の光学くさび体２または第２の光学くさび体３を回転するそれぞれの場合において、他方の光学くさび体、すなわち、それぞれ第２の光学くさび体３または第１の光学くさび体２は回転されない。別の代替方法では、第１の光学くさび体と第２の光学くさび体を共に回転し、図２の断面の平面を外れた計測ビームの角度を生み出すことができる。
【００３７】
光学くさび体の角位置を光軸ＯＡの周りで変更することは、デバイス１００のための第１の動作である。
【００３８】
図３は、本発明の一実施例によるデバイスによって計測ビームＭＢを操作するための第１の動作の特別な場合を概略的に示す。
【００３９】
第１の動作の特別な場合は、第２の光学くさび体３が、図２に示されている初期位置に対して１８０°の軸角βだけ回転されたとき発生する。第１および第２の光学くさび体２、３の主表面の幾何形状が実質的に同一であるとき、図３に示されている相対位置により、入射ビームに実質的に平行であるが光軸ＯＡに対して距離Ｔだけ平行移動する計測ビームが脱出する（この図で第４の面内角度α４はゼロに等しい）。別法として、第１の光学くさび体２を、図２に示されている初期位置に対して１８０°の軸角βだけ回転することができる。
【００４０】
図４は、本発明の一実施例によるデバイスによって計測ビームＭＢを操作するための第２の動作を概略的に示す。
【００４１】
第２の動作は、図３に示されている第１および第２の光学くさび体２、３の角度位置の場合において行われ、第１および第２の光学くさび体２、３間の距離Ｄが変更されている。図４の構成によって示されているように、光学くさび体２、３間の横位置（Ｄ２−Ｄ１）をシフトすると、それに応じて光軸に対して計測ビームＭＢの平行移動量（Ｔ２−Ｔ１）が変化する。光学くさび体２、３間の距離をより短くすると、光軸ＯＡに対して計測ビームの平行移動がより小さくなり、距離をより長くすると、平行移動がより大きくなる。
【００４２】
第３の動作は、第１および第２の光学くさび体の位置が互いに固定された状態で、完全なデバイス、すなわち光学くさび体２、３の全体が光軸ＯＡの周りで回転されたとき行われる（すなわち、デバイスは、各光学くさび体について一定の軸角βと、光学くさび体２、３間で一定の距離Ｄとの組合せを含む）。面内角度α４を有して脱出する計測ビームは、光軸ＯＡの周りで回転され、光軸ＯＡの周りで円形の投影経路を描く。そのため、例えば、光軸ＯＡの周りで完全なデバイスを１８０°回転すると、計測ビーム全体が、光軸ＯＡに対して−α４の面内角度を有することになる。
【００４３】
図５は、本発明の一実施例によるデバイスによって計測ビームを操作するための第４の動作を概略的に示す。
【００４４】
第４の動作は、第１および第２の光学くさび体２、３の位置が互いに固定された状態で、光軸ＯＡに対して垂直な回転軸の周りでデバイスが回転されたとき行われる。回転軸線符号ＲＡによって示されているように、図２（および図５）の断面の平面に対して垂直な回転軸線が選択される。図５で、デバイス１００は、破線で描かれた初期位置と、連続する線によって描かれた第２の回転済み位置で示されている。初期光路もまた、破線によって示されている。回転軸ＲＡの周りで回転した後の第２の光路は、連続する線ＭＢによって示されている。図５から推定できるように、軸ＲＡの周りで回転すると、計測ビームの平行移動が図２（および図５）の断面の平面と平行になる。
【００４５】
当業者なら理解できるように、第１、第２、第３、第４の動作の様々な、可能な組合せにより、計測ビームの位置および方向を角度および平行移動で制御することができる。
【００４６】
さらに、第１、第２、第３の動作は、光軸ＯＡに対して行われるため、その方向に対して垂直にビームをシフトしても、計測ビームの方向それ自体に対して実質的に作用しない。これは、従来技術からのデバイスに比べて比較的高いこのデバイスの安定性に貢献する。さらに、第４の動作は、断面に平行な平面内で計測ビームの方向を変えるだけであるため、この第４の動作は、断面の平面を外れた方向でどのような計測ビームのミスアライメントをも導入しない。したがって、計測ビームを操作および経路決定する開示されたデバイスのデザインは、比較的安定であり、コンパクトであり、コスト効果的である。
【００４７】
２つの光学くさび体２、３は、最大の操作範囲に達するように、整合された対であることが好ましいことに留意されたい。光学くさび体２、３がわずかに異なる場合、入射ビームと出射ビームの間でゼロ度の角度が得られない可能性がある。
【００４８】
以下の図では、図２〜図５で上述したデバイスに基づく、例えばリソグラフィ投影装置内で使用するためのビーム・マニピュレータのいくつかの例が示されている。
【００４９】
図６ａおよび図６ｂは、それぞれ典型的な構成による、また本発明の一実施例による干渉計への計測ビームの例示的な経路決定を概略的に示す。
【００５０】
図６ａで、レーザ源は、固定されたビーム・スプリッタＢＳ上に突き当たる計測ビームＭＢを生成する。固定ビーム・スプリッタＢＳは、干渉計検出器ＩＦＭによって測定するための第１の部分と、基板またはステージなど測定すべきオブジェクト上で投影するための他の部分とにビームＭＢを分割する。第１の部分は、第１のビーム部分を干渉計検出器ＩＦＭに向けて送るためのビーム・ベンダ・マニピュレータＢＭ上に衝突する。一般に、ビーム・ベンダ・マニピュレータＢＭは、回転軸線が図面の平面に対して垂直である回転可能なミラーを備える。回転するミラーは、干渉計検出器ＩＦＭ上で最適な信号が得られるように設定される。そのようなセットアップ手順は、当技術分野で周知である。干渉計検出器ＩＦＭに向けられた３本線によって図６に概略的に示されているように、ビームの位置合わせは、ビーム・マニピュレータＢＭの設定の安定性によって影響を受ける。
【００５１】
図６ｂでは、計測ビームを操作および経路決定するデバイス１００を使用する代替構成が示されている。図６ｂでは、同じ参照番号が、図６ａに示されている同一の要素を示す。
【００５２】
この代替構成で、ビーム・マニピュレータＢＭは、固定されたミラーＭとの組合せで、計測ビームを操作および経路決定するデバイス１００で置き換えられている。ビーム・スプリッタＢＳ部で分割した後で、ビームＭＢの第１の部分は固定ミラーＭ上に突き当たり、デバイス１００の方向に反射される。ビームＭＢの第１の部分は、デバイス１００を通過した後で、干渉計検出器ＩＦＭに達する。デバイス１００は、図２から図５を参照しながら上述した４つの動作の任意の組合せによって、ビームＭＢの第１の部分を操作するように設定することができる。図６ｂでは、連続する線で描かれたある位置と、破線で描かれた他の位置によって、第４の動作が概略的に示されている。
【００５３】
図６ｂによる構成は、ミラーＭが、固定された位置合わせ（整合）を含む固定された位置を有しているため、図６ａのものより安定性が高い。さらに、デバイス１００の設計は、すでに上述したように比較的高い安定性を提供する。
【００５４】
図６ｂでは、固定ミラーＭと２つの光学くさび体２、３とを備える「３構成要素構成」が示されている。固定ミラーＭが省かれている代替実施例を得ることができる。
【００５５】
図７は、本発明による他の実施例のデバイス１００’を概略的に示す。
【００５６】
固定ミラーＭと、計測ビームを操作および経路決定するデバイス１００との組合せは、本発明の一実施例による単一のデバイス１００’で置き換えることができる。
【００５７】
この実施例で、第１の光学くさび体２と第２の光学くさび体３は、それぞれの主表面２ａと３ａの間に角度α５を有するように構成されている。計測ビームＭＢは、垂直入射で第１の光学くさび体２の斜めの主表面２ｂ上で衝突する。次いで、ビームは、斜めの主表面２ｂを脱出した後で、第２の光学くさび体３の斜めの主表面上で屈折および衝突する。入射ビームと、第２の光学くさび体３の斜めの主表面との間の入射角が臨界角より小さいため、ビーム部分は、斜めの主表面３ｂ上で反射し、他の方向に誘導される。デバイス１００’のこの実施例では、第１の光学くさび体２は、光軸ＯＡの周りで、また、軸符号ＲＡ２によって示されているように、図面の平面に対して実質的に垂直な第２の回転軸の周りで回転することによって、調整可能である。第２の光学くさび体３は、実質的に図面の平面内にある、第２の光学くさび体３の主表面３ａに対して実質的に垂直な第３の回転軸ＲＡ３の周りで回転することができる。
【００５８】
第１の光学くさび体２の第２の回転軸ＲＡ２周りでの調整は、機械的不安定性を最も引き起こす可能性のある動作である。回転軸ＲＡ２は、実質的に図面の平面内で発生する曲げに対して垂直であるため、ビーム方向の設定に関する安定性は、依然として保証される。
【００５９】
当業者なら理解できるように、この実施例のデバイス１００’は、図２から図５を参照しながら上述したデバイス１００の動作に類似の動作を実行することが可能である。
【００６０】
第２の光学くさび体３は、斜めの主表面３ｂで計測ビームの反射を得るために、その主表面３ａ、３ｂの少なくとも１つに反射被覆を備えることができる。その場合、ビームの入射角は、臨界角より大きくすることができる。
【００６１】
当業者なら、本発明の真の精神から逸脱することなしに、本発明の他の代替実施例および均等な実施例を発想し、実施するためにまとめることができることを理解できよう。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によってのみ制限される。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】リソグラフィ投影装置を示す図である。
【図２】本発明の一実施例による計測ビームを操作および経路決定するデバイス、ならびにデバイスの第１の動作を概略的に示す図である。
【図３】本発明の一実施例によるデバイスによって計測ビームを操作するための第２の動作を概略的に示す図である。
【図４】本発明の一実施例によるデバイスによって計測ビームを操作するための第３の動作を概略的に示す図である。
【図５】本発明の一実施例によるデバイスによって計測ビームを操作するための第４の動作を概略的に示す図である。
【図６ａ】典型的な構成による干渉計への計測ビームの例示的な経路決定を概略的に示す図である。
【図６ｂ】本発明の一実施例による干渉計への計測ビームの例示的な経路決定を概略的に示す図である。
【図７】本発明によるデバイスの他の実施例を概略的に示す図である。
【符号の説明】
【００６３】
ＡＭ  調整手段
ＢＭ  ビーム・マニピュレータ
ＢＳ  ビーム・スプリッタ
Ｃ  ターゲット部分
ＣＯ  コンデンサ
Ｄ  距離
Ｅｘ  放射線システム（ビーム・エキスパンダ）
ＩＦ１、ＩＦ２、ＩＦＭ  干渉計
ＩＬ  照明システム（イルミネータ）
ＩＮ  インテグレータ
ＬＡ  放射線源
Ｍ  ミラー
Ｍ１、Ｍ２  マスク位置合わせマーク
ＭＡ  マスク
ＭＢ  計測ビーム
ＭＴ  第１のオブジェクト・テーブル（マスク・テーブル）
ＯＡ  光軸
Ｐ１、Ｐ２  基板位置合わせマーク
ＰＢ  投影ビーム
ＰＬ  投影システム（レンズ）
ＰＭ  第１の位置決め手段
ＲＡ、ＲＡ２、ＲＡ３  回転軸線
Ｔ  距離
Ｗ  基板
ＷＴ  第２のオブジェクト・テーブル（基板テーブル）
α１  第１の面内角度
α２  第２の面内角度
α３  第３の面内角度
α４  第４の面内角度
α５  角度
１  リソグラフィ投影装置
２  第１の光学くさび体
２ａ、２ｂ、３ａ、３ｂ  主表面
２ｃ、２ｄ、３ｃ、３ｄ  副表面
３  第２の光学くさび体
１００、１００’  デバイス
【図１】
2004343058.tif 000003
【図２】
2004343058.tif 000004
【図３】
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【図４】
2004343058.tif 000006
【図５】
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【図６ａ】
2004343058.tif 000008
【図６ｂ】
2004343058.tif 000009
【図７】
2004343058.tif 000010