(57)【要約】【課題】有害節足動物防除効力を有する新しい化合物及びその化合物の有害節足動物防除用途を提供すること。【解決手段】式（Ａ）2004131438.tif 000060［式中、Ｒ１はＣ１−Ｃ７アルキル基等を表し、Ｒ２は（置換されていてもよい含酸素又は含硫黄５員環複素環式基）で置換されたＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。］で示されるチアジアゾール化合物、該チアジアゾール化合物を有効成分として含有することを特徴とする有害節足動物防除剤及び該チアジアゾール化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法。【選択図】　なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ａ）
2004131438.tif 000058
［式中、
Ｒ１は
Ｃ１−Ｃ７アルキル基、
Ｃ３−Ｃ７アルケニル基、
Ｃ３−Ｃ７アルキニル基、
Ｃ２−Ｃ７アルコキシアルキル基、
Ｃ２−Ｃ７アルキルチオアルキル基、
Ｃ３−Ｃ７アルコキシアルコキシアルキル基、
Ｃ３−Ｃ７アルキルチオアルコキシアルキル基、
置換されていてもよいフェニル基、
（置換されていてもよいフェニル）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、
（置換されていてもよいフェニルオキシ）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、
（置換されていてもよいフェニル）Ｃ２−Ｃ３アルコキシアルキル基、
又は
式（Ｂ）
2004131438.tif 000059
（式中、Ｒ３はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ４は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基又は置換されていてもよいフェニル基を表す。）を表し、
Ｒ２は（置換されていてもよい含酸素又は含硫黄５員環複素環式基）で置換されたＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。］
で示されるチアジアゾール化合物。
【請求項２】
請求項１記載のチアジアゾール化合物を有効成分として含有することを特徴とする有害節足動物防除剤。
【請求項３】
請求項１記載のチアジアゾール化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、チアジアゾール化合物及びその用途に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、有害節足動物の防除を目的として種々の有害節足動物防除剤が用いられている。
【０００３】
【特許文献１】
西独国特許公開第３０３０６６１　Ａ１号明細書
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、これらの薬剤は必ずしも十分な効力を有さない場合があり、新しい有害節足動物防除剤の開発が求められている。
本発明は、有害節足動物防除効力を有する新しい化合物及びその化合物の有害節足動物防除用途を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は有害節足動物防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（Ａ）で示されるチアジアゾール化合物が優れた有害生物防除効力を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式（Ａ）
2004131438.tif 000002
［式中、
Ｒ１は
Ｃ１−Ｃ７アルキル基、
Ｃ３−Ｃ７アルケニル基、
Ｃ３−Ｃ７アルキニル基、
Ｃ２−Ｃ７アルコキシアルキル基、
Ｃ２−Ｃ７アルキルチオアルキル基、
Ｃ３−Ｃ７アルコキシアルコキシアルキル基、
Ｃ３−Ｃ７アルキルチオアルコキシアルキル基、
置換されていてもよいフェニル基、
（置換されていてもよいフェニル）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、
（置換されていてもよいフェニルオキシ）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、
（置換されていてもよいフェニル）Ｃ２−Ｃ３アルコキシアルキル基
又は
式（Ｂ）
2004131438.tif 000003
（式中、Ｒ３はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ４は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基又は置換されていてもよいフェニル基を表す。）を表し、
Ｒ２は（置換されていてもよい含酸素又は含硫黄５員環複素環式基）で置換されたＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。］
で示されるチアジアゾール化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする有害節足動物防除剤及び本発明化合物の有効量を有害節足素動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法を提供する。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明化合物において、
Ｒ１で示される、
Ｃ１−Ｃ７アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ；Ｃ３−Ｃ７アルケニル基としては、例えばアリル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基及び２−ペンテニル基が挙げられ；
Ｃ３−Ｃ７アルキニル基としては、例えば２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基及び２−ペンチニル基が挙げられ；
Ｃ２−Ｃ７アルコキシアルキル基としては、例えば（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基が挙げられ、具体的には例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基及びイソプロポキシメチル基が挙げられ；
Ｃ２−Ｃ７アルキルチオアルキル基としては、例えば（Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ）アルキル基が挙げられ、具体的には例えばメチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基及びイソプロピルチオメチル基が挙げられ；
Ｃ３−Ｃ７アルコキシアルコキシアルキル基としては、例えばメトキシエトキシメチル基が挙げられ；
Ｃ３−Ｃ７アルキルチオアルコキシアルキル基としては、例えばエチルチオエトキシメチル基が挙げられ；
置換されていてもよいフェニル基としては、例えばＣ１−Ｃ４アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基（トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等）、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ等）、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ１−Ｃ２ハロアルコキシ基（トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等）、ニトロ基、シアノ基及びハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）からなる群より選ばれる一種以上で置換されていてもよいフェニル基が挙げられ、具体的には例えば
フェニル基、
２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、
２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、
２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−メチルチオフェニル基、３−メチルチオフェニル基、４−メチルチオフェニル基、
２−トリフルオロメトキシフェニル基、３−トリフルオロメトキシフェニル基、４−トリフルオロメトキシフェニル基、
２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、
２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、
２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、
２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、
２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジブロモフェニル基、３，５−ジブロモフェニル基、２，６−ジブロモフェニル基及び２，４−ジブロモフェニル基が挙げられ；
【０００７】
（置換されていてもよいフェニル）Ｃ１−Ｃ２アルキル基としては、例えば［Ｃ１−Ｃ４アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基（トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等）、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ等）、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ１−Ｃ２ハロアルコキシ基（トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等）、ニトロ基、シアノ基及びハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）からなる群より選ばれる一種以上で置換されていてもよいフェニル］Ｃ１−Ｃ２アルキル基が挙げられ、具体的には例えば
ベンジル基、
２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、
２−トリフルオロメチルベンジル基、３−トリフルオロメチルベンジル基、４−トリフルオロメチルベンジル基、
２−メトキシベンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキシベンジル基、２−メチルチオベンジル基、３−メチルチオベンジル基、４−メチルチオベンジル基、
２−トリフルオロメトキシベンジル基、３−トリフルオロメトキシベンジル基、４−トリフルオロメトキシベンジル基、
２−ニトロベンジル基、３−ニトロベンジル基、４−ニトロベンジル基、
２−シアノベンジル基、３−シアノベンジル基、４−シアノベンジル基、
２−フルオロベンジル基、３−フルオロベンジル基、４−フルオロベンジル基、３，４−ジフルオロベンジル基、３，５−ジフルオロベンジル基、２，６−ジフルオロベンジル基、２，４−ジフルオロベンジル基、
２−クロロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、３，４−ジクロロベンジル基、３，５−ジクロロベンジル基、２，６−ジクロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、
２−ブロモベンジル基、３−ブロモベンジル基、４−ブロモベンジル基、３，４−ジブロモベンジル基、３，５−ジブロモベンジル基、２，６−ジブロモベンジル基、２，４−ジブロモベンジル基、
【０００８】
１−フェニルエチル基、
１−（２−メチルフェニル）エチル基、１−（３−メチルフェニル）エチル基、１−（４−メチルフェニル）エチル基、
１−（２−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、１−（３−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、１−（４−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、１−（２−メトキシフェニル）エチル基、１−（３−メトキシフェニル）エチル基、１−（４−メトキシフェニル）エチル基、
１−（２−メチルチオフェニル）エチル基、１−（３−メチルチオフェニル）エチル基、１−（４−メチルチオフェニル）エチル基、
１−（２−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、１−（３−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、１−（４−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、
１−（２−ニトロフェニル）エチル基、１−（３−ニトロフェニル）エチル基、１−（４−ニトロフェニル）エチル基、
１−（２−シアノフェニル）エチル基、１−（３−シアノフェニル）エチル基、１−（４−シアノフェニル）エチル基、
１−（２−フルオロフェニル）エチル基、１−（３−フルオロフェニル）エチル基、１−（４−フルオロフェニル）エチル基、１−（３，４−ジフルオロフェニル）エチル基、１−（３，５−ジフルオロフェニル）エチル基、１−（２，６−ジフルオロフェニル）エチル基、１−（２，４−ジフルオロフェニル）エチル基、
１−（２−クロロフェニル）エチル基、１−（３−クロロフェニル）エチル基、１−（４−クロロフェニル）エチル基、１−（３，４−ジクロロフェニル）エチル基、１−（３，５−ジクロロフェニル）エチル基、１−（２，６−ジクロロフェニル）エチル基、１−（２，４−ジクロロフェニル）エチル基、
１−（２−ブロモフェニル）エチル基、１−（３−ブロモフェニル）エチル基、１−（４−ブロモフェニル）エチル基、１−（３，４−ジブロモフェニル）エチル基、１−（３，５−ジブロモフェニル）エチル基、１−（２，６−ジブロモフェニル）エチル基、１−（２，４−ジブロモフェニル）エチル基、
【０００９】
２−フェニルエチル基、
２−（２−メチルフェニル）エチル基、２−（３−メチルフェニル）エチル基、２−（４−メチルフェニル）エチル基、
２−（２−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、２−（３−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、２−（２−メトキシフェニル）エチル基、２−（３−メトキシフェニル）エチル基、２−（４−メトキシフェニル）エチル基、
２−（２−メチルチオフェニル）エチル基、２−（３−メチルチオフェニル）エチル基、２−（４−メチルチオフェニル）エチル基、
２−（２−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、２−（３−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、２−（４−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、
２−（２−ニトロフェニル）エチル基、２−（３−ニトロフェニル）エチル基、２−（４−ニトロフェニル）エチル基、
２−（２−シアノフェニル）エチル基、２−（３−シアノフェニル）エチル基、２−（４−シアノフェニル）エチル基、
２−（２−フルオロフェニル）エチル基、２−（３−フルオロフェニル）エチル基、２−（４−フルオロフェニル）エチル基、２−（３，４−ジフルオロフェニル）エチル基、２−（３，５−ジフルオロフェニル）エチル基、２−（２，６−ジフルオロフェニル）エチル基、２−（２，４−ジフルオロフェニル）エチル基、
２−（２−クロロフェニル）エチル基、２−（３−クロロフェニル）エチル基、２−（４−クロロフェニル）エチル基、２−（３，４−ジクロロフェニル）エチル基、２−（３，５−ジクロロフェニル）エチル基、２−（２，６−ジクロロフェニル）エチル基、２−（２，４−ジクロロフェニル）エチル基、
２−（２−ブロモフェニル）エチル基、２−（３−ブロモフェニル）エチル基、２−（４−ブロモフェニル）エチル基、２−（３，４−ジブロモフェニル）エチル基、２−（３，５−ジブロモフェニル）エチル基、２−（２，６−ジブロモフェニル）エチル基及び２−（２，４−ジブロモフェニル）エチル基が挙げられ；
【００１０】
（置換されていてもよいフェニルオキシ）Ｃ１−Ｃ２アルキル基としては、例えば［Ｃ１−Ｃ４アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基（トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等）、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ等）、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ１−Ｃ２ハロアルコキシ基（トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等）、ニトロ基、シアノ基及びハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）からなる群より選ばれる一種以上で置換されていてもよいフェニルオキシ］Ｃ１−Ｃ２アルキル基が挙げられ、具体的には例えば
フェニルオキシメチル基、１−（フェニルオキシ）エチル基、２−（フェニルオキシ）エチル基、
（２−メチルフェニル）オキシメチル基、（３−メチルフェニル）オキシメチル基、（４−メチルフェニル）オキシメチル基、
（２−トリフルオロメチルフェニル）オキシメチル基、（３−トリフルオロメチルフェニル）オキシメチル基、（４−トリフルオロメチルフェニル）オキシメチル基、
（２−メトキシフェニル）オキシメチル基、（３−メトキシフェニル）オキシメチル基、（４−メトキシフェニル）オキシメチル基、
（２−メチルチオフェニル）オキシメチル基、（３−メチルチオフェニル）オキシメチル基、（４−メチルチオフェニル）オキシメチル基、
（２−トリフルオロメトキシフェニル）オキシメチル基、（３−トリフルオロメトキシフェニル）オキシメチル基、（４−トリフルオロメトキシフェニル）オキシメチル基、
（２−ニトロフェニル）オキシメチル基、（３−ニトロフェニル）オキシメチル基、（４−ニトロフェニル）オキシメチル基、
（２−シアノフェニル）オキシメチル基、（３−シアノフェニル）オキシメチル基、（４−シアノフェニル）オキシメチル基、
（２−フルオロフェニル）オキシメチル基、（３−フルオロフェニル）オキシメチル基、（４−フルオロフェニル）オキシメチル基、（３，４−ジフルオロフェニル）オキシメチル基、（３，５−ジフルオロフェニル）オキシメチル基、（２，６−ジフルオロフェニル）オキシメチル基、（２，４−ジフルオロフェニル）オキシメチル基、
（２−クロロフェニル）オキシメチル基、（３−クロロフェニル）オキシメチル基、（４−クロロフェニル）オキシメチル基、（３，４−ジクロロフェニル）オキシメチル基、（３，５−ジクロロフェニル）オキシメチル基、（２，６−ジクロロフェニル）オキシメチル基、（２，４−ジクロロフェニル）オキシメチル基、
（２−ブロモフェニル）オキシメチル基、（３−ブロモフェニル）オキシメチル基、（４−ブロモフェニル）オキシメチル基、（３，４−ジブロモフェニル）オキシメチル基、（３，５−ジブロモフェニル）オキシメチル基、（２，６−ジブロモフェニル）オキシメチル基及び（２，４−ジブロモフェニル）オキシメチル基が挙げられ、
【００１１】
（置換されていてもよいフェニル）Ｃ２−Ｃ３アルコキシアルキル基としては、例えば［Ｃ１−Ｃ４アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基（トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等）、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ等）、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ１−Ｃ２ハロアルコキシ基（トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等）、ニトロ基、シアノ基及びハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）からなる群より選ばれる一種以上で置換されていてもよいベンジル］オキシメチル基が挙げられ、
具体的には例えば
ベンジルオキシメチル基、
（２−メチルベンジル）オキシメチル基、（３−メチルベンジル）オキシメチル基、（４−メチルベンジル）オキシメチル基、
（２−トリフルオロメチルベンジル）オキシメチル基、（３−トリフルオロメチルベンジル）オキシメチル基、（４−トリフルオロメチルベンジル）オキシメチル基、
（２−メトキシベンジル）オキシメチル基、（３−メトキシベンジル）オキシメチル基、（４−メトキシベンジル）オキシメチル基、
（２−メチルチオベンジル）オキシメチル基、（３−メチルチオベンジル）オキシメチル基、（４−メチルチオベンジル）オキシメチル基、
（２−トリフルオロメトキシベンジル）オキシメチル基、（３−トリフルオロメトキシベンジル）オキシメチル基、（４−トリフルオロメトキシベンジル）オキシメチル基、
（２−ニトロベンジル）オキシメチル基、（３−ニトロベンジル）オキシメチル基、（４−ニトロベンジル）オキシメチル基、
（２−シアノベンジル）オキシメチル基、（３−シアノベンジル）オキシメチル基、（４−シアノベンジル）オキシメチル基、
（２−フルオロベンジル）オキシメチル基、（３−フルオロベンジル）オキシメチル基、（４−フルオロベンジル）オキシメチル基、（３，４−ジフルオロベンジル）オキシメチル基、（３，５−ジフルオロベンジル）オキシメチル基、（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル基、（２，４−ジフルオロベンジル）オキシメチル基、
（２−クロロベンジル）オキシメチル基、（３−クロロベンジル）オキシメチル基、（４−クロロベンジル）オキシメチル基、（３，４−ジクロロベンジル）オキシメチル基、（３，５−ジクロロベンジル）オキシメチル基、（２，６−ジクロロベンジル）オキシメチル基、（２，４−ジクロロベンジル）オキシメチル基、
（２−ブロモベンジル）オキシメチル基、（３−ブロモベンジル）オキシメチル基、（４−ブロモベンジル）オキシメチル基、（３，４−ジブロモベンジル）オキシメチル基、（３，５−ジブロモベンジル）オキシメチル基、（２，６−ジブロモベンジル）オキシメチル基、（２，４−ジブロモベンジル）オキシメチル基が挙げられる。
【００１２】
式（Ｂ）で示される基としては例えば式（Ｂ）においてＲ３がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ４が水素原子又は［Ｃ１−Ｃ４アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基（トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロメチル基等）、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ等）、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ１−Ｃ２ハロアルコキシ基（トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等）、ニトロ基、シアノ基及びハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）からなる群より選ばれる一種以上で置換されていてもよいフェニル基］である基が挙げられ、具体的には例えばアセトキシメチル基及びα−アセチルオキシベンジル基が挙げられる。
【００１３】
Ｒ２で示される（置換されていてもよい含酸素又は含硫黄５員環複素環式基）で置換されたＣ１−Ｃ４アルキル基としては、例えば｛Ｃ１−Ｃ４アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、トリフルオロメチル基、ホルミル基及びニトロ基からなる群より選ばれる１種以上で置換されていてもよい含酸素又は含硫黄５員環複素環式基｝で置換されたＣ１−Ｃ４アルキル基が挙げられ、具体的には例えば｛ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、Ｃ１−Ｃ４アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、トリフルオロメチル基、ホルミル基及びニトロ基からなる群より選ばれる１種以上で置換されていてもよい含酸素又は含硫黄５員環複素環式基｝で置換されたメチル基及び１位が｛Ｃ１−Ｃ４アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、トリフルオロメチル基、ホルミル基及びニトロ基からなる群より選ばれる１種以上で置換されていてもよい含酸素又は含硫黄５員環複素環式基｝で置換されたエチル基が挙げられる。
【００１４】
Ｒ２で示される（置換されていてもよい含酸素又は含硫黄５員環複素環式基）で置換されたＣ１−Ｃ４アルキル基の態様としては、例えば下式（１）〜式（１０）で示される基が挙げられる。
式（１）
2004131438.tif 000004
（式中、Ｒ１０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ１１はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、トリフルオロメチル基、ホルミル基又はニトロ基を表し、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を表し、ｍは１又は２を表し、ｎは０〜３の整数を表す。なお、ｎが２以上の整数である場合には各々のＲ１１は同一でも相異なっていてもよい。）
【００１５】
式（２）
2004131438.tif 000005
（式中、Ｒ１０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ１２はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を表し、ｍは１又は２を表し、ｐは０〜７の整数を表す。なお、ｐが２以上の整数である場合には各々のＲ１２は同一でも相異なっていてもよい。）
【００１６】
式（３）
2004131438.tif 000006
（式中、Ｒ１０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ１３はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を表し、ｍは１又は２を表し、ｑは０〜５の整数を表す。なお、ｑが２以上の整数である場合には各々のＲ１３は同一でも相異なっていてもよい。）
【００１７】
式（４）
2004131438.tif 000007
（式中、Ｒ１１はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、トリフルオロメチル基、ホルミル基又はニトロ基を表し、ｎは０〜３の整数を表す。なお、ｎが２以上の整数である場合には各々のＲ１１は同一でも相異なっていてもよい。）
【００１８】
式（５）
2004131438.tif 000008
（式中、Ｒ１１はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、トリフルオロメチル基、ホルミル基又はニトロ基を表し、ｎは０〜３の整数を表す。ｎが２以上の整数である場合には各々のＲ１１は同一でも相異なっていてもよい。）
【００１９】
式（６）
2004131438.tif 000009
（式中、Ｒ１２はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、ｐは０〜７の整数を表す。なお、ｐが２以上の整数である場合には各々のＲ１２は同一でも相異なっていてもよい。）
【００２０】
式（７）
2004131438.tif 000010
（式中、Ｒ１２はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、ｐは０〜７の整数を表す。なお、ｐが２以上の整数である場合には各々のＲ１２は同一でも相異なっていてもよい。）
【００２１】
式（８）
2004131438.tif 000011
（式中、Ｒ１３はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、ｑは０〜５の整数を表す。なお、ｑが２以上の整数である場合には各々のＲ１３は同一でも相異なっていてもよい。）
【００２２】
式（９）
2004131438.tif 000012
（式中、Ｒ１３はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、ｑは０〜５の整数を表す。なお、ｑが２以上の整数である場合には各々のＲ１３は同一でも相異なっていてもよい。）
【００２３】
式（１０）
2004131438.tif 000013
（式中、Ｒ１３はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。なお、２個のＲ１３は同一でも相異なっていてもよい。）
【００２４】
次に本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物のうち、
Ｒ１がＣ１−Ｃ７アルキル基、Ｃ３−Ｃ７アルケニル基、Ｃ３−Ｃ７アルキニル基、Ｃ２−Ｃ７アルコキシアルキル基、Ｃ２−Ｃ７アルキルチオアルキル基、Ｃ３−Ｃ７アルコキシアルコキシアルキル基、Ｃ３−Ｃ７アルキルチオアルコキシアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、（置換されていてもよいフェニル）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（置換されていてもよいフェニルオキシ）Ｃ１−Ｃ２アルキル基又は（置換されていてもよいフェニル）Ｃ２−Ｃ３アルコキシアルキル基である化合物（式（Ａ−１）で示される化合物）は例えば式（Ｉ）で示される５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール化合物と式（ＩＩ）で示されるアルコール化合物とを反応させることにより製造することができる。
2004131438.tif 000014
（式中、Ｒ１−１はＣ１−Ｃ７アルキル基、Ｃ３−Ｃ７アルケニル基、Ｃ３−Ｃ７アルキニル基、Ｃ２−Ｃ７アルコキシアルキル基、Ｃ２−Ｃ７アルキルチオアルキル基、Ｃ３−Ｃ７アルコキシアルコキシアルキル基、Ｃ３−Ｃ７アルキルチオアルコキシアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、（置換されていてもよいフェニル）Ｃ１−Ｃ２アルキル基、（置換されていてもよいフェニルオキシ）Ｃ１−Ｃ２アルキル基又は（置換されていてもよいフェニル）Ｃ２−Ｃ３アルコキシアルキル基を表し、Ｒ２は前記と同じ意味を表す。）
該反応は通常塩基の存在下、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸塩及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（Ｉ）で示される５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール化合物１モルに対して、式（ＩＩ）で示されるアルコール化合物が通常１〜１．５モルの割合であり、塩基が式（ＩＩ）で示されるアルコール化合物１モルに対して通常１〜１．５モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜８０℃の範囲、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出して得られる有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（Ａ−１）で示される本発明化合物を単離することができる。単離した式（Ａ−１）で示される本発明化合物は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２５】
本発明化合物のうち、Ｒ１が式（Ｂ）で示される基である化合物（式（Ａ−２）で示される化合物）は例えば式（ＩＩＩ）で示されるチアジアゾール化合物と酸化剤とを反応させ（前半工程）、次いで式（Ｖ）で示される酸無水物とを反応させる（後半工程）ことにより製造することができる。
2004131438.tif 000015
（式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）
【００２６】
（前半工程）
前半工程の反応は通常溶媒中で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類及び水が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては例えば３−クロロ過安息香酸等の過酸が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は式（ＩＩＩ）で示されるチアジアゾール化合物１モルに対して通常１〜１．５モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜３０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出して得られた有機層を必要に応じて還元剤（亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム等）の水溶液、塩基（炭酸水素ナトリウム等）の水溶液等で洗浄し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより式（ＩＶ）で示されるスルホキシド化合物を単離することができる。単離した式（ＩＶ）で示されるスルホキシド化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２７】
（後半工程）
後半工程は式（ＩＶ）で示されるスルホキシド化合物と式（Ｖ）で示される酸無水物とを反応させることにより行われる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる塩基としては、例えば２，６−ルチジン等のピリジン類及び酢酸ナトリウム等の酢酸のアルカリ金属塩が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は式（ＩＶ）で示されるスルホキシド化合物１モルに対して、式（Ｖ）で示される酸無水物が１〜５０モルの割合であり、塩基が１〜１０モルの割合である。
該反応は、必要に応じてトリフルオロ酢酸無水物の存在下で行うこともできる。この場合のトリフルオロ酢酸無水物の量は式（ＩＶ）で示されるスルホキシド化合物１モルに対して０．０１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜７２時間の範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を塩基（炭酸水素ナトリウム等）の水溶液に注加し、有機溶媒抽出して得られる有機層を、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（Ａ−２）で示される本発明化合物を単離することができる。単離した式（Ａ−２）で示される本発明化合物は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２８】
式（Ｉ）で示される化合物は例えばＣｈｅｍ．Ｂｅｒ．９０，８９２（１９５７）に記載された方法に準じて製造することができる。
【００２９】
次に、本化合物の一例を示す。
【００３０】
2004131438.tif 000016
【００３１】
2004131438.tif 000017
【００３２】
2004131438.tif 000018
【００３３】
式（ｉ）〜式（ｘｘ）においてＲ１は、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、
アリル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−ペンテニル基、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、２−ペンチニル基、
メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル基、
メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、イソプロピルチオメチル基
メトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシメチル基、
メチルチオエトキシメチル基、
【００３４】
フェニル基、
２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、
２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、
２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−メチルチオフェニル基、３−メチルチオフェニル基、４−メチルチオフェニル基、
２−トリフルオロメトキシフェニル基、３−トリフルオロメトキシフェニル基、４−トリフルオロメトキシフェニル基、
２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、
２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、
２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、
２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、
２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジブロモフェニル基、３，５−ジブロモフェニル基、２，６−ジブロモフェニル基、２，４−ジブロモフェニル基、
【００３５】
ベンジル基、
２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、
２−トリフルオロメチルベンジル基、３−トリフルオロメチルベンジル基、４−トリフルオロメチルベンジル基、
２−メトキシベンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキシベンジル基、２−メチルチオベンジル基、３−メチルチオベンジル基、４−メチルチオベンジル基、
２−トリフルオロメトキシベンジル基、３−トリフルオロメトキシベンジル基、４−トリフルオロメトキシベンジル基、
２−ニトロベンジル基、３−ニトロベンジル基、４−ニトロベンジル基、
２−シアノベンジル基、３−シアノベンジル基、４−シアノベンジル基、
２−フルオロベンジル基、３−フルオロベンジル基、４−フルオロベンジル基、３，４−ジフルオロベンジル基、３，５−ジフルオロベンジル基、２，６−ジフルオロベンジル基、２，４−ジフルオロベンジル基、
２−クロロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、３，４−ジクロロベンジル基、３，５−ジクロロベンジル基、２，６−ジクロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、
２−ブロモベンジル基、３−ブロモベンジル基、４−ブロモベンジル基、３，４−ジブロモベンジル基、３，５−ジブロモベンジル基、２，６−ジブロモベンジル基、２，４−ジブロモベンジル基、
【００３６】
１−（フェニル）エチル基、
１−（２−メチルフェニル）エチル基、１−（３−メチルフェニル）エチル基、１−（４−メチルフェニル）エチル基、
１−（２−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、１−（３−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、１−（４−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、１−（２−メトキシフェニル）エチル基、１−（３−メトキシフェニル）エチル基、１−（４−メトキシフェニル）エチル基、
１−（２−メチルチオフェニル）エチル基、１−（３−メチルチオフェニル）エチル基、１−（４−メチルチオフェニル）エチル基、
１−（２−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、１−（３−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、１−（４−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、
１−（２−ニトロフェニル）エチル基、１−（３−ニトロフェニル）エチル基、１−（４−ニトロフェニル）エチル基、
１−（２−シアノフェニル）エチル基、１−（３−シアノフェニル）エチル基、１−（４−シアノフェニル）エチル基、
１−（２−フルオロフェニル）エチル基、１−（３−フルオロフェニル）エチル基、１−（４−フルオロフェニル）エチル基、１−（３，４−ジフルオロフェニル）エチル基、１−（３，５−ジフルオロフェニル）エチル基、１−（２，６−ジフルオロフェニル）エチル基、１−（２，４−ジフルオロフェニル）エチル基、
１−（２−クロロフェニル）エチル基、１−（３−クロロフェニル）エチル基、１−（４−クロロフェニル）エチル基、１−（３，４−ジクロロフェニル）エチル基、１−（３，５−ジクロロフェニル）エチル基、１−（２，６−ジクロロフェニル）エチル基、１−（２，４−ジクロロフェニル）エチル基、
１−（２−ブロモフェニル）エチル基、１−（３−ブロモフェニル）エチル基、１−（４−ブロモフェニル）エチル基、１−（３，４−ジブロモフェニル）エチル基、１−（３，５−ジブロモフェニル）エチル基、１−（２，６−ジブロモフェニル）エチル基、１−（２，４−ジブロモフェニル）エチル基、
【００３７】
２−（フェニル）エチル基、
２−（２−メチルフェニル）エチル基、２−（３−メチルフェニル）エチル基、２−（４−メチルフェニル）エチル基、
２−（２−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、２−（３−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）エチル基、２−（２−メトキシフェニル）エチル基、２−（３−メトキシフェニル）エチル基、２−（４−メトキシフェニル）エチル基、
２−（２−メチルチオフェニル）エチル基、２−（３−メチルチオフェニル）エチル基、２−（４−メチルチオフェニル）エチル基、
２−（２−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、２−（３−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、２−（４−トリフルオロメトキシフェニル）エチル基、
２−（２−ニトロフェニル）エチル基、２−（３−ニトロフェニル）エチル基、２−（４−ニトロフェニル）エチル基、
２−（２−シアノフェニル）エチル基、２−（３−シアノフェニル）エチル基、２−（４−シアノフェニル）エチル基、
２−（２−フルオロフェニル）エチル基、２−（３−フルオロフェニル）エチル基、２−（４−フルオロフェニル）エチル基、２−（３，４−ジフルオロフェニル）エチル基、２−（３，５−ジフルオロフェニル）エチル基、２−（２，６−ジフルオロフェニル）エチル基、２−（２，４−ジフルオロフェニル）エチル基、
２−（２−クロロフェニル）エチル基、２−（３−クロロフェニル）エチル基、２−（４−クロロフェニル）エチル基、２−（３，４−ジクロロフェニル）エチル基、２−（３，５−ジクロロフェニル）エチル基、２−（２，６−ジクロロフェニル）エチル基、２−（２，４−ジクロロフェニル）エチル基、
２−（２−ブロモフェニル）エチル基、２−（３−ブロモフェニル）エチル基、２−（４−ブロモフェニル）エチル基、２−（３，４−ジブロモフェニル）エチル基、２−（３，５−ジブロモフェニル）エチル基、２−（２，６−ジブロモフェニル）エチル基、２−（２，４−ジブロモフェニル）エチル基、
【００３８】
フェニルオキシメチル基、１−（フェニルオキシ）エチル基、２−（フェニルオキシ）エチル基、
（２−メチルフェニル）オキシメチル基、（３−メチルフェニル）オキシメチル基、（４−メチルフェニル）オキシメチル基、
（２−トリフルオロメチルフェニル）オキシメチル基、（３−トリフルオロメチルフェニル）オキシメチル基、（４−トリフルオロメチルフェニル）オキシメチル基、
（２−メトキシフェニル）オキシメチル基、（３−メトキシフェニル）オキシメチル基、（４−メトキシフェニル）オキシメチル基、
（２−メチルチオフェニル）オキシメチル基、（３−メチルチオフェニル）オキシメチル基、（４−メチルチオフェニル）オキシメチル基、
（２−トリフルオロメトキシフェニル）オキシメチル基、（３−トリフルオロメトキシフェニル）オキシメチル基、（４−トリフルオロメトキシフェニル）オキシメチル基、
（２−ニトロフェニル）オキシメチル基、（３−ニトロフェニル）オキシメチル基、（４−ニトロフェニル）オキシメチル基、
（２−シアノフェニル）オキシメチル基、（３−シアノフェニル）オキシメチル基、（４−シアノフェニル）オキシメチル基、
（２−フルオロフェニル）オキシメチル基、（３−フルオロフェニル）オキシメチル基、（４−フルオロフェニル）オキシメチル基、（３，４−ジフルオロフェニル）オキシメチル基、（３，５−ジフルオロフェニル）オキシメチル基、（２，６−ジフルオロフェニル）オキシメチル基、（２，４−ジフルオロフェニル）オキシメチル基、
（２−クロロフェニル）オキシメチル基、（３−クロロフェニル）オキシメチル基、（４−クロロフェニル）オキシメチル基、（３，４−ジクロロフェニル）オキシメチル基、（３，５−ジクロロフェニル）オキシメチル基、（２，６−ジクロロフェニル）オキシメチル基、（２，４−ジクロロフェニル）オキシメチル基、
（２−ブロモフェニル）オキシメチル基、（３−ブロモフェニル）オキシメチル基、（４−ブロモフェニル）オキシメチル基、（３，４−ジブロモフェニル）オキシメチル基、（３，５−ジブロモフェニル）オキシメチル基、（２，６−ジブロモフェニル）オキシメチル基、（２，４−ジブロモフェニル）オキシメチル基、
【００３９】
ベンジルオキシメチル基、
（２−メチルベンジル）オキシメチル基、（３−メチルベンジル）オキシメチル基、（４−メチルベンジル）オキシメチル基、
（２−トリフルオロメチルベンジル）オキシメチル基、（３−トリフルオロメチルベンジル）オキシメチル基、（４−トリフルオロメチルベンジル）オキシメチル基、
（２−メトキシベンジル）オキシメチル基、（３−メトキシベンジル）オキシメチル基、（４−メトキシベンジル）オキシメチル基、
（２−メチルチオベンジル）オキシメチル基、（３−メチルチオベンジル）オキシメチル基、（４−メチルチオベンジル）オキシメチル基、
（２−トリフルオロメトキシベンジル）オキシメチル基、（３−トリフルオロメトキシベンジル）オキシメチル基、（４−トリフルオロメトキシベンジル）オキシメチル基、
（２−ニトロベンジル）オキシメチル基、（３−ニトロベンジル）オキシメチル基、（４−ニトロベンジル）オキシメチル基、
（２−シアノベンジル）オキシメチル基、（３−シアノベンジル）オキシメチル基、（４−シアノベンジル）オキシメチル基、
（２−フルオロベンジル）オキシメチル基、（３−フルオロベンジル）オキシメチル基、（４−フルオロベンジル）オキシメチル基、（３，４−ジフルオロベンジル）オキシメチル基、（３，５−ジフルオロベンジル）オキシメチル基、（２，６−ジフルオロベンジル）オキシメチル基、（２，４−ジフルオロベンジル）オキシメチル基、
（２−クロロベンジル）オキシメチル基、（３−クロロベンジル）オキシメチル基、（４−クロロベンジル）オキシメチル基、（３，４−ジクロロベンジル）オキシメチル基、（３，５−ジクロロベンジル）オキシメチル基、（２，６−ジクロロベンジル）オキシメチル基、（２，４−ジクロロベンジル）オキシメチル基、
（２−ブロモベンジル）オキシメチル基、（３−ブロモベンジル）オキシメチル基、（４−ブロモベンジル）オキシメチル基、（３，４−ジブロモベンジル）オキシメチル基、（３，５−ジブロモベンジル）オキシメチル基、（２，６−ジブロモベンジル）オキシメチル基、（２，４−ジブロモベンジル）オキシメチル基、
【００４０】
アセチルオキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基及びα−アセトキシベンジル基から選ばれるいずれかの基を表す。
【００４１】
本発明化合物が防除効力を示す有害節足動物としては、有害昆虫や有害ダニ類等が挙げられ、具体的には例えば以下に示すものが挙げられる。
【００４２】
半翅目害虫：ヒメトビウンカ（Ｌａｏｄｅｌｐｈａｘ　ｓｔｒｉａｔｅｌｌｕｓ）、トビイロウンカ（Ｎｉｌａｐａｒｖａｔａ　ｌｕｇｅｎｓ）、セジロウンカ（Ｓｏｇａｔｅｌｌａ　ｆｕｒｃｉｆｅｒａ）等のウンカ類、ツマグロヨコバイ（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ　ｃｉｎｃｔｉｃｅｐｓ）、チャノミドリヒメヨコバイ（Ｅｍｐｏａｓｃａ　ｏｎｕｋｉｉ）等のヨコバイ類、ワタアブラムシ（Ａｐｈｉｓ　ｇｏｓｓｙｐｉｉ）、モモアカアブラムシ（Ｍｙｚｕｓ　ｐｅｒｓｉｃａｅ）等のアブラムシ類、カメムシ類、オンシツコナジラミ（Ｔｒｉａｌｅｕｒｏｄｅｓ　ｖａｐｏｒａｒｉｏｒｕｍ）、タバココナジラミ（Ｂｅｍｉｓｉａ　ｔａｂａｃｉ）、シルバーリーフコナジラミ（Ｂｅｍｉｓｉａ　ａｒｇｅｎｔｉｆｏｌｉｉ）等のコナジラミ類、カイガラムシ類、グンバイムシ類、キジラミ類等
【００４３】
鱗翅目害虫：ニカメイガ（Ｃｈｉｌｏ　ｓｕｐｐｒｅｓｓａｌｉｓ）、コブノメイガ（Ｃｎａｐｈａｌｏｃｒｏｃｉｓｍｅｄｉｎａｌｉｓ）、ヨーロピアンコーンボーラー（Ｏｓｔｒｉｎｉａ　ｎｕｂｉｌａｌｉｓ）、シバツトガ（Ｐａｒａｐｅｄｉａｓｉａ　ｔｅｔｅｒｒｅｌｌａ）等のメイガ類、ハスモンヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ　ｌｉｔｕｒａ）、シロイチモジヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ　ｅｘｉｇｕａ）、アワヨトウ（Ｐｓｅｕｄａｌｅｔｉａ　ｓｅｐａｒａｔａ）、ヨトウガ（Ｍａｍｅｓｔｒａ　ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、タマナヤガ（Ａｇｒｏｔｉｓ　ｉｐｓｉｌｏｎ）、トリコプルシア属（Ｔｒｉｃｈｏｐｌｕｓｉａ　ｓｐｐ．）、ヘリオティス属（Ｈｅｌｉｏｔｈｉｓ　ｓｐｐ．）、ヘリコベルパ属（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐａ　ｓｐｐ．）、エアリアス属（Ｅａｒｉａｓ　ｓｐｐ．）等のヤガ類、モンシロチョウ（Ｐｉｅｒｉｓ　ｒａｐａｅ　ｃｒｕｃｉｖｏｒａ）等のシロチョウ類、リンゴコカクモンハマキ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ　ｏｒａｎａ　ｆａｓｃｉａｔａ）、ナシヒメシンクイ（Ｇｒａｐｈｏｌｉｔａ　ｍｏｌｅｓｔａ）、コドリングモス（Ｃｙｄｉａ　ｐｏｍｏｎｅｌｌａ）等のハマキガ類、モモシンクイガ（（Ｃａｒｐｏｓｉｎａ　ｎｉｐｏｎｅｎｓｉｓ）等のシンクイガ類、モモハモグリガ（Ｌｙｏｎｅｔｉａ　ｃｌｅｒｋｅｌｌａ）等のチビガ類、キンモンホソガ（Ｐｈｙｌｌｏｎｏｒｙｃｔｅｒ　ｒｉｎｇｏｎｉｅｌｌａ）等のホソガ類、ミカンハモグリガ（Ｐｈｙｌｌｏｃｎｉｓｔｉｓ　ｃｉｔｒｅｌｌａ）等のコハモグリガ類、コナガ（Ｐｌｕｔｅｌａ　ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）等のスガ類、ピンクボールワーム（Ｐｅｃｔｉｎｏｐｈｏｒａ　ｇｏｓｓｙｐｉｅｌｌａ）等のキバガ類、ヒトリガ類、ヒロズコガ類等
【００４４】
双翅目害虫：アカイエカ（Ｃｕｌｅｘ　ｐｉｐｉｅｎｓ　ｐａｌｌｅｎｓ）、コガタアカイエカ（Ｃｕｌｅｘｔｒｉｔａｅｎｉｏｒｈｙｎｃｈｕｓ）、ネッタイイエカ（Ｃｕｌｅｘ　ｑｕｉｎｑｕｅｆａｓｃｉａｔｕｓ）等のイエカ類、（Ａｅｄｅｓ　ａｅｇｙｐｔｉ）、（Ａｅｄｅｓ　ａｌｂｏｐｉｃｔｕｓ）等のエーデス属、（Ａｎｏｐｈｅｌｅｓ　ｓｉｎｅｎｓｉｓ）等のアノフェレス属、ユスリカ類、イエバエ（Ｍｕｓｃａ　ｄｏｍｅｓｔｉｃａ）、オオイエバエ（Ｍｕｓｃｉｎａ　ｓｔａｂｕｌａｎｓ）等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、ヒメイエバエ類、タネバエ（Ｄｅｌｉａ　ｐｌａｔｕｒａ）、タマネギバエ（Ｄｅｌｉａ　ａｎｔｉｑｕａ）等のハナバエ類、ミバエ類、ショウジョウバエ類、チョウバエ類、ブユ類、アブ類、サシバエ類、ハモグリバエ類等
【００４５】
鞘翅目害虫：ウエスタンコーンルートワーム（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ　ｖｉｒｇｉｆｅｒａ　ｖｉｒｇｉｆｅｒａ）、サザンコーンルートワーム（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ　ｕｎｄｅｃｉｍｐｕｎｃｔａｔａ　ｈｏｗａｒｄｉ）等のコーンルートワーム類、ドウガネブイブイ（Ａｎｏｍａｌａ　ｃｕｐｒｅａ）、ヒメコガネ（Ａｎｏｍａｌａ　ｒｕｆｏｃｕｐｒｅａ）等のコガネムシ類、メイズウィービル（Ｓｉｔｏｐｈｉｌｕｓ　ｚｅａｍａｉｓ）、イネミズゾウムシ（Ｌｉｓｓｏｒｈｏｐｔｒｕｓ　ｏｒｙｚｏｐｈｉｌｕｓ）、アズキゾウムシ（Ｃａｌｌｏｓｏｂｒｕｃｈｕｙｓ　ｃｈｉｅｎｅｎｓｉｓ）等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシ（Ｔｅｎｅｂｒｉｏ　ｍｏｌｉｔｏｒ）、コクヌストモドキ（Ｔｒｉｂｏｌｉｕｍ　ｃａｓｔａｎｅｕｍ）等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシ（Ｏｕｌｅｍａ　ｏｒｙｚａｅ）、ウリハムシ（Ａｕｌａｃｏｐｈｏｒａ　ｆｅｍｏｒａｌｉｓ）、キスジノミハムシ（Ｐｈｙｌｌｏｔｒｅｔａ　ｓｔｒｉｏｌａｔａ）、コロラドハムシ（Ｌｅｐｔｉｎｏｔａｒｓａ　ｄｅｃｅｍｌｉｎｅａｔａ）等のハムシ類、シバンムシ類、ニジュウヤホシテントウ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ　ｖｉｇｉｎｔｉｏｃｔｏｐｕｎｃｔａｔａ）等のエピラクナ類、ヒラタキクイムシ類、ナガシンクイムシ類、カミキリムシ類、アオバアリガタハネカクシ（Ｐａｅｄｅｒｕｓ　ｆｕｓｃｉｐｅｓ）等；
アザミウマ目害虫：ミナミキイロアザミウマ（Ｔｈｒｉｐｓ　ｐａｌｍｉ）等のスリップス属、ミカンキイロアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ　ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）等のフランクリニエラ属、チャノキイロアザミウマ（Ｓｃｉｌｔｏｔｈｒｉｐｓ　ｄｏｒｓａｌｉｓ）等のシルトスリップス属等のアザミウマ類、クダアザミウマ類等
【００４６】
膜翅目害虫：ハバチ類、アリ類、スズメバチ類等
網翅目害虫：ゴキブリ類、チャバネゴキブリ類等
直翅目害虫：バッタ類、ケラ類等
隠翅目害虫：ヒトノミ等
シラミ目害虫：ヒトジラミ等
シロアリ目害虫：シロアリ類等
ダニ目害虫：ハダニ類
【００４７】
本発明の有害節足動物防除剤は、本発明化合物そのものであってもよいが、通常はさらに固体担体、液体担体、ガス状担体及び／又は餌（毒餌基材）等を混合し、必要により界面活性剤、その他の製剤用補助剤を添加して、油剤、乳剤、フロアブル剤、水和剤、粒剤、粉剤、毒餌、マイクロカプセル剤、シート製剤等に製剤化されている。
これらの製剤は本発明化合物を通常０．０１〜９５重量％含有する。
【００４８】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類（カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等）、合成含水酸化珪素、タルク類、セラミック、その他の無機鉱物（セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム等）、化学肥料（硫安、硝安、塩安等）等の微粉末あるいは粒状物があげられる。液体担体としては、例えば水、アルコール類（メタノール、エタノール、２−プロパノール、エチレングリコール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ニトリル類（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、エーテル類（エチレングリコールジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、酸アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン、トリクロロエタン等）、ジメチルスルホキシド及び植物油（大豆油、綿実油等）があげられる。
ガス状担体としては、例えばフルオロカーボン、ブタンガス、ＬＰＧ（液化石油ガス）、ジメチルエーテル及び二酸化炭素があげられる。
【００４９】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類並びに糖アルコール誘導体があげられる。
【００５０】
その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、糖類（でんぷん、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、鉱物油、脂肪酸及び脂肪酸エステルがあげられる。
【００５１】
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等の餌成分が挙げられる。毒餌には必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ粉末等の子どもやペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料、ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。
【００５２】
本発明の有害生物防除方法は、通常本発明の有害節足動物防除剤を有害節足動物に直接及び／又は有害節足動物の生息場所（巣、植物体、土壌等）に施用することにより行われる。
【００５３】
本発明の有害節足動物防除剤を農林業分野の有害節足動物防除に用いる場合、その施用量は、１０００ｍ２あたりの本発明化合物の量で通常０．１〜１００００ｇである。本発明の有害節足動物防除剤が乳剤、フロアブル剤、水和剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている場合は、本発明化合物濃度が通常０．０１〜１００００ｐｐｍとなるように水で希釈して散布することにより施用する。本発明の有害節足動物防除剤が油剤、粒剤、粉剤等に製剤化されている場合は、通常そのまま施用する。
本発明の有害節足動物防除剤は、有害節足動物に直接又は有害節足動物から保護すべき作物等の植物に散布したり、有害節足動物から保護すべき作物等の植物の株元に施用してもよく、また、土壌に施用することにより土壌に生息する有害節足動物を防除することもできる。さらに、シート製剤の形態の本発明の有害節足動物防除剤を植物に巻き付けたり、植物の近傍に設置したり、株元の土壌表面に敷くなどの方法で施用することもできる。
【００５４】
本発明の有害節足動物防除剤を防疫分野の有害節足動物の防除に用いる場合、その施用量は面上に処理するときは適用面積１ｍ２あたりの本発明化合物量で通常０．００１〜１００ｍｇであり、空間に処理するときは適用空間１ｍ３あたりの本発明化合物量で通常０．００１〜１０ｍｇである。本発明の有害節足動物防除剤が乳剤、フロアブル剤、水和剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている場合は本発明化合物濃度が通常０．０１〜１０００００ｐｐｍとなるように水で希釈して施用する。本発明の有害節足動物防除剤が油剤、エアゾール、燻煙剤、毒餌等に製剤化されている場合は通常そのまま施用する。
【００５５】
また、本発明の有害節足動物防除剤は他の殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌改良剤、動物用飼料等と共に用いることもできる。
【００５６】
かかる殺虫剤、殺ダニ剤及び殺線虫剤としては、
例えばフェニトロチオン、フェンチオン、ピリダフェンチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、クロルピリホスメチル、アセフェート、メチダチオン、ジスルホトン、ＤＤＶＰ、スルプロホス、プロフェノホス、シアノホス、ジオキサベンゾホス、ジメトエート、フェントエート、マラチオン、トリクロルホン、アジンホスメチル、モノクロトホス、ジクロトホス、エチオン、ホスチアゼート等の有機リン系化合物、
ＢＰＭＣ、ベンフラカルブ、プロポキスル、カルボスルファン、カルバリル、メソミル、エチオフェンカルブ、アルジカルブ、オキサミル、フェノチオカルブ、チオジカルブ等のカーバメート系化合物、
【００５７】
エトフェンプロックス、フェンバレレート、エスフェンバレレート、フェンプロパトリン、シペルメトリン、α−シペルメトリン、Ζ−シペルメトリン、ペルメトリン、シハロトリン、λ−シハロトリン、シフルトリン、β−シフルトリン、デルタメトリン、シクロプロスリン、τ−フルバリネート、フルシトリネート、ビフェンスリン、アクリナスリン、トラロメスリン、シラフルオフェン、ハルフェンプロクス等のピレスロイド化合物、
【００５８】
アセタミプリド、チアメトキサム、チアクロプリド等のネオニコチノイド化合物、クロルフルアズロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、ルフェニュロン等のベンゾイルフェニルウレア系化合物、テブフェノジド、ハロフェノジド、メトキシフェノジド、クロマフェノジド等のベンゾイルヒドラジド化合物、ブプロフェジン等のチアジアジン誘導体、カルタップ、チオシクラム、ベンスルタップ等のネライストキシン誘導体、エンドスルファン、γ−ＢＨＣ、１，１−ビス（クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタノ−ル等の塩素化炭化水素化合物、アミトラズ、クロルジメホルム等のホルムアミジン誘導体、ジアフェンチウロン等のチオ尿素誘導体、エチプロール、アセトプロール等のフェニルピラゾール系化合物、クロルフェナピル、ピメトロジン、スピノサド、インドキサカルブ、ブロモプロピレート、テトラジホン、キノメチオネート、プロパルゲイト、フェンブタティンオキシド、ヘキシチアゾクス、エトキサゾール、クロフェンテジン、ピリダベン、ピリダリル、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェナザキン、アセキノシル、ビフェナゼート、フルアクリピリム、スピロジクロフェン、スピロメシフェン、ミルベメクチン、アヴェルメクチン、エマメクチン安息香酸塩、アザジラクチン、ポリナクチンコンプレックス〔テトラナクチン、ジナクチン、トリナクチン〕等があげられる。
【００５９】
【実施例】
以下、本発明を製造例、製剤例および試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
なお、製造例中、１Ｈ−ＮＭＲのデータは、重クロロホルム中、テトラメチルシランを内部標準として測定したものを示す。
【００６０】
まず、本発明化合物の製造法につき、製造例を示す。
製造例１
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｇに５−クロロ−３−（４−メチルベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール０．２５７ｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール０．１４５ｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）４８ｍｇを加え、約０℃で３０分間、室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（４−メチルベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール０．２７ｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（４−メチルベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１と記す。）
2004131438.tif 000019
１Ｈ−ＮＭＲ：７．２９（ｄ，２Ｈ）　７．１１（ｄ，２Ｈ）　４．５４−４．４４（ｍ，３Ｈ）　４．３７（ｄ，２Ｈ）　４．１５−４．１１（ｍ，１Ｈ）　３．８３−３．８０（ｍ，１Ｈ）　２．３２（ｓ，３Ｈ）　１．４５（ｓ，３Ｈ）　１．３８（ｓ，３Ｈ）
【００６１】
製造例２
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｇに後記参考製造例８により製造した５−クロロ−３−（３，４−ジクロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾールの粗成生物３１２ｍｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール０．１４５ｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）４８ｍｇを加え約０℃で３０分間、室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（３，４−ジクロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール１２０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（３，４−ジクロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物２と記す。）
2004131438.tif 000020
１Ｈ−ＮＭＲ：７．５５（ｓ，１Ｈ）　７．３６（ｄ，１Ｈ）　７．２６−７．２２（ｍ，１Ｈ）　４．５５−４．４４（ｍ，３Ｈ）　４．３１（ｓ，２Ｈ）　４．１５−４．０９（ｍ，１Ｈ）　３．８４−３．８０（ｍ，１Ｈ）　１．４５（ｓ，３Ｈ）　１．３８（ｓ，３Ｈ）
【００６２】
製造例３
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ｍｌに後記参考製造例１により製造した５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール３．３４ｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール２．９０ｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）８８０ｍｇを加え、同温で１時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール４．６７ｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物３と記す。）
2004131438.tif 000021
１Ｈ−ＮＭＲ：４．５７−４．４６（ｍ，３Ｈ）　４．１６−４．０９（ｍ，１Ｈ）　３．８５−３．８１（ｍ，１Ｈ）　２．６０（ｓ，３Ｈ）　１．４５（ｓ，３Ｈ）　１．３５（ｓ，３Ｈ）
【００６３】
製造例４
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌに後記参考製造例６により製造した５−クロロ−３−（３−クロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾールの粗生成物３００ｍｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール１５７ｍｇを溶解し、水素化ナトリウム（６０％油性）５２ｍｇを加え室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（３−クロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール１５０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（３−クロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物４と記す。）
2004131438.tif 000022
１Ｈ−ＮＭＲ：７．４２（ｓ，１Ｈ）　７．３１−７．２２（ｍ，２Ｈ）　４．５４−４．４５（ｍ，３Ｈ）　４．３５（ｓ，２Ｈ）　４．１６−４．１１（ｍ，１Ｈ）　３．８５−３．８１（ｍ，１Ｈ）　１．４５（ｓ，３Ｈ）　１．３８（ｓ，３Ｈ）
【００６４】
製造例５
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌに後記参考製造例５により製造した５−クロロ−３−（２−クロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾールの粗生成物３００ｍｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール１５７ｍｇを溶解し、水素化ナトリウム（６０％油性）５２ｍｇを加え室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（２−クロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール１４０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（２−クロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物５と記す。）
2004131438.tif 000023
１Ｈ−ＮＭＲ：７．５６（ｍ，１Ｈ）　７．３７（ｍ，１Ｈ）　７．２０（ｍ，２Ｈ）　４．５６−４．４５（ｍ，５Ｈ）　４．１５−４．１１（ｍ，１Ｈ）　３．８４−３．８０（ｍ，１Ｈ）　１．４５（ｓ，３Ｈ）　１．３８（ｓ，３Ｈ）
【００６５】
製造例６
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌに後記参考製造例４により製造した５−クロロ−３−（４−メトキシベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール２００ｍｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール１５３ｍｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）３５ｍｇを加え、約０℃で１５分間、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（４−メトキシベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール２００ｍｇを得た。５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（４−メトキシベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物６と記す。）
2004131438.tif 000024
１Ｈ−ＮＭＲ：７．３３（ｄ，２Ｈ）　６．８４（ｄ，２Ｈ）　４．５４−４．４６（ｍ，３Ｈ）　４．３６（ｓ，２Ｈ）　４．１５−４．１３（ｍ，１Ｈ）　３．８４−３．７９（ｍ，４Ｈ）　１．４５（ｓ，３Ｈ）　１．３８（ｓ，３Ｈ）
【００６６】
製造例７
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに後記参考製造例３により製造した５−クロロ−３−（４−クロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾールの粗成生物４１６ｍｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール１９８ｍｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）７２ｍｇを加え、同温で約１時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（４−クロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール４６０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（４−クロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物７と記す。）
2004131438.tif 000025
１Ｈ−ＮＭＲ：７．３６（ｄ，２Ｈ）　７．２７（ｄ，２Ｈ）　４．５５−４．４４（ｍ，２Ｈ）　４．３５（ｓ，２Ｈ）　４．１７−４．１０（ｍ，１Ｈ）　３．８４−３．８１（ｓ，１Ｈ）　１．４７（ｓ，３Ｈ）　１．３８（ｓ，３Ｈ）
【００６７】
製造例８
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに後記参考製造例２により製造した５−クロロ−３−ベンジルチオ−１，２，４−チアジアゾール３４０ｍｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール２２２ｍｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）８４ｍｇを加えた後、室温で約１時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−ベンジルチオ−１，２，４−チアジアゾール３７０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−ベンジルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物８と記す。）
2004131438.tif 000026
１Ｈ−ＮＭＲ：７．４２（ｄ，２Ｈ）　７．３４−７．２４（ｍ，３Ｈ）　４．５５−４．４３（ｍ，３Ｈ）　４．４０（ｓ，２Ｈ）　４．１５−４．１２（ｍ，１Ｈ）　３．８４−３．８１（ｍ，１Ｈ）　１．４５（ｓ，３Ｈ）　１．３５（ｓ，３Ｈ）
【００６８】
製造例９
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｇに後記参考製造例１０により製造した５−クロロ−３−アリルチオ−１，２，４−チアジアゾール３８６ｍｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール２７７ｍｇを溶解し、氷冷下で水素化ナトリウム（６０％油性）８８ｍｇを加えた。氷冷下で１時間攪拌した後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−アリルチオ−１，２，４−チアジアゾール５３０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−アリルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物９と記す。）
2004131438.tif 000027
１Ｈ−ＮＭＲ：５．９６（ｍ，１Ｈ）　５．３２（ｄ，１Ｈ）　５．１５（ｄ，１Ｈ）　４．５１（ｍ，３Ｈ）　４．１３（ｍ，１Ｈ）　３．８４（ｍ，３Ｈ）
１．４５（ｓ，３Ｈ）　１．３６（ｓ，３Ｈ）
【００６９】
製造例１０
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに後記参考製造例７により製造した５−クロロ−３−エチルチオ−１，２，４−チアジアゾール３６２ｍｇ及び２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール２６４ｍｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）８８ｍｇを加え、同温で３０分攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−エチルチオ−１，２，４−チアジアゾール４１０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−エチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１０と記す。）
2004131438.tif 000028
１Ｈ−ＮＭＲ：４．５１（ｍ，３Ｈ）　４．１４（ｍ，１Ｈ）　３．８４（ｍ，１Ｈ）　３．１７（ｑ，２Ｈ）　１．４１（ｍ，９Ｈ）
【００７０】
製造例１１
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｇに５−クロロ−３−ベンジルチオ−１，２，４−チアジアゾール０．２４３ｇ及び３−フランメタノール０．０９８ｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０４５ｇを加え、約０℃で１時間、さらに室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、５−（３−フリル）メトキシ−３−ベンジルチオ−１，２，４−チアジアゾール０．１７ｇを得た。
５−（３−フリル）メトキシ−３−ベンジルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１１と記す。）
2004131438.tif 000029
１Ｈ−ＮＭＲ：７．５６（ｓ，１Ｈ）　７．４２（ｍ，３Ｈ）　７．３０（ｍ，３Ｈ）　６．５０（ｓ，１Ｈ）　５．３７（ｓ，２Ｈ）　４．４１（ｓ，２Ｈ）
【００７１】
製造例１２
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール０．３３４ｇ及び２−フランメタノール０．１９６ｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０８４ｇを加え、約０℃で０．５時間、さらに室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、５−（２−フリル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール０．２５ｇを得た。
５−（２−フリル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１２と記す。）
2004131438.tif 000030
１Ｈ−ＮＭＲ：７．４７（ｍ，１Ｈ）　６．５６（ｍ，１Ｈ）　６．４０（ｍ，１Ｈ）　５．４５（ｓ，２Ｈ）　２．６２（ｓ，３Ｈ）
【００７２】
製造例１３
２−フランメタノールの代わりに３−フランメタノール０．１９６ｇを用いた以外は製造例１２と同様にして５−（３−フリル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール３９０ｍｇを得た。
５−（３−フリル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１３と記す。）
2004131438.tif 000031
１Ｈ−ＮＭＲ：７．５８（ｓ，１Ｈ）　７．４３（ｄ，１Ｈ）　６．５１（ｄ，１Ｈ）　５．３８（ｓ，２Ｈ）　２．６２（ｓ，３Ｈ）
【００７３】
製造例１４
２−フランメタノールの代わりにテトラヒドロ−３−フランメタノール２０４ｍｇを用いた以外は製造例１２と同様にして５−（テトラヒドロ−３−フリル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール４０６ｍｇを得た。
５−（テトラヒドロ−３−フリル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１４と記す。）
2004131438.tif 000032
１Ｈ−ＮＭＲ：４．４９−４．３６（ｍ，２Ｈ）　３．９３−３．６５（ｍ，４Ｈ）　２．８４−２．７４（ｍ，１Ｈ）　２．６０（ｓ，３Ｈ）　２．１７−２．０５（ｍ，１Ｈ）　１．７６−１．６５（ｍ，１Ｈ）
【００７４】
製造例１５
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに３−メチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール８３５ｍｇ及びグリセロールホルマール５２０ｍｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）２０４ｍｇを加え、約０℃で２０分間、室温で３０分間撹拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に加え、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）、次いで分取ＨＰＬＣに付して５−（１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール２５０ｍｇを得た。
５−（１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１５と記す。）
2004131438.tif 000033
１Ｈ−ＮＭＲ：５．０８（ｓ，１Ｈ）　４．９３（ｓ，１Ｈ）　４．５５−４．４５（ｍ，３Ｈ）　４．０６−４．０２（ｍ，１Ｈ）　３．８２−３．７８（ｍ，１Ｈ）　２．６０（ｓ，３Ｈ）
【００７５】
製造例１６
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール０．３３４ｇ及び２−チオフェンメタノール２２８ｍｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０８４ｇを加え、約０℃で０．５時間、さらに室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、５−（２−チエニル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール６６ｍｇを得た。
５−（２−チエニル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１６と記す。）
2004131438.tif 000034
１Ｈ−ＮＭＲ：７．３８（ｄ，１Ｈ）　７．２５（ｄ，１Ｈ）　７．２２（ｍ，１Ｈ）　５．６５（ｓ，２Ｈ）　２．６２（ｓ，３Ｈ）
【００７６】
製造例１７
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに５−クロロ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール０．３３４ｇ及び３−チオフェンメタノール２２８ｍｇを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）０．０８４ｇを加え、約０℃で０．５時間、さらに室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物を飽和食塩水に注加し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、５−（３−チエニル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール５００ｍｇを得た。
５−（３−チエニル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１７と記す。）
2004131438.tif 000035
１Ｈ−ＮＭＲ：７．４３（ｍ，１Ｈ）　７．３５（ｍ，１Ｈ）　７．１７（ｍ，１Ｈ）　５．４９（ｓ，２Ｈ）　２．６１（ｓ，３Ｈ）
【００７７】
製造例１８
（１）クロホルム９０ｍｌに５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−メチルチオ−１，２，４−チアジアゾール４．６７ｇを溶解し、約０℃で３−クロロ過安息香酸（純度７０％）３．９２ｇを少量ずつに分けて徐々に加え攪拌した。その後、反応混合物を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液に注加し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−メタンスルフィニル−１，２，４−チアジアゾール３．８７ｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−メタンスルフィニル−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000036
１Ｈ−ＮＭＲ：４．６７−４．４９（ｍ，３Ｈ）　４．１８−４．１４（ｍ，１Ｈ）　３．８６−３．３２（ｍ，１Ｈ）　２．３０（ｓ，３Ｈ）　１．４６（ｓ，３Ｈ）　１．３９（ｓ，３Ｈ）
【００７８】
（２）５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−メタンスルフィニル１，２，４−チアジアゾール３．８７ｇに約０℃で２，６−ルチジン２．９７ｇ、無水酢酸１１．３ｇ及びトリフルオロ酢酸無水物４．３８ｇを加えて混合し、室温で３日間放置した。その後、反応混合物を減圧下濃縮してから、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加した。これをｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（アセチルオキシメチル）チオ−１，２，４−チアジアゾール０．１８ｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（アセチルオキシメチル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１８と記す。）
2004131438.tif 000037
１Ｈ−ＮＭＲ：５．７５（ｓ，２Ｈ）　４．５７−４．４７（ｍ，３Ｈ）　４．１７−４．１３（ｍ，１Ｈ）　３．８５−３．８２（ｍ，１Ｈ）　２．１１（ｓ，３Ｈ）　１．４５（ｓ，３Ｈ）　１．３９（ｓ，３Ｈ）
【００７９】
製造例１９
（１）クロホルム４ｍｌに５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−ベンジルチオ−１，２，４−チアジアゾール３７０ｍｇを溶解し、氷冷下で３−クロロ過安息香酸（純度７０％）２６９ｍｇを少量ずつに分けて徐々に加え攪拌した。その後、反応混合物を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液に注加し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−フェニルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾール３６０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−フェニルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000038
１Ｈ−ＮＭＲ：７．３３−７．１９（ｍ，５Ｈ）　４．６６−４．４８（ｍ，３Ｈ）　４．４２（ｄ，１Ｈ）　４．３４（ｄ，１Ｈ）　４．１８−４．１４（ｍ，１Ｈ）　３．８６−３．８２（ｍ，１Ｈ）　１．４７（ｓ，３Ｈ）　１．４０（ｓ，３Ｈ）
【００８０】
（２）５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−フェニルスルフィニル−１，２，４−チアジアゾール８０ｇに約０℃で酢酸ナトリウム１００ｍｇ、無水酢酸２ｍｌを加えて混合し、１４時間加熱還流した。その後、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注加した。これをｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（α−アセチルオキシベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール２８ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（α−アセチルオキシベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物１９と記す。）
2004131438.tif 000039
１Ｈ−ＮＭＲ：７．７４−７．７３（ｍ，１Ｈ）　７．５３−７．５１（ｍ，２Ｈ）　７．４１−７．３５（ｍ，３Ｈ）　４．５８−４．３２（ｍ，３Ｈ）　４．２０−４．０７（ｍ，１Ｈ）　３．８６−３．７３（ｍ，１Ｈ）　２．１０（ｓ，３Ｈ）　１．４６（ｓ，３Ｈ）　１．３９（ｓ，３Ｈ）
【００８１】
製造例２０
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｇに後記参考製造例１１により製造した５−クロロ−３−（３，５−ジクロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾールの粗成生物４６８ｍｇと２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール１９８ｍｇとを溶解し、ここに約０℃でで水素化ナトリウム（６０％油性）４２ｍｇを加え、３０分間撹拌した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテル及び飽和食塩水を加え、分液した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィーに付し５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（３，５−ジクロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール７２ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（３，５−ジクロロベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物２０と記す。）
2004131438.tif 000040
１Ｈ−ＮＭＲ：７．３２（ｓ，２Ｈ）　７．２４（ｓ，１Ｈ）４．５４−４．４３（ｍ，３Ｈ）４．３０（ｓ、２Ｈ）４．１５−４．１１（ｍ、１Ｈ）３．８４−３．８１（ｍ、１Ｈ）１．４８（ｓ，３Ｈ）　１．４１（ｓ，３Ｈ）
【００８２】
製造例２１
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｇに後記参考製造例１２により製造した５−クロロ−３−（３−トリフルオロメチルベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾールの３００ｍｇと２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール１２７ｍｇとを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）４２ｍｇを加え、約０℃で３０分間、室温で２時間撹拌した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテル及び飽和食塩水を加え、分液した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィーに付し５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（３−トリフルオロメチルベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール３７０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−（３−トリフルオロメチルベンジル）チオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物２１と記す。）
2004131438.tif 000041
１Ｈ−ＮＭＲ：７．６９（ｓ，１Ｈ）７．６１（ｄ，１Ｈ）７．５０（ｄ、１Ｈ）７．４２（ｔ，１Ｈ）４．５５−４．４２（ｍ、５Ｈ）４．１５−４．１１（ｍ、１Ｈ）３．８４−３．８１（ｍ、１Ｈ）１．４５（ｓ，３Ｈ）１．３８（ｓ，３Ｈ）
【００８３】
製造例２２
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｇに５−クロロ−３−エトキシメチルチオ−１，２，４−チアジアゾール３００ｍｇと２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール１８８ｍｇとを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）６２ｍｇを加え、約０℃で３０分間撹拌した後、室温で約１日間静置した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテル及び飽和食塩水を加え、分液した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−エトキシメチルチオ−１，２，４−チアジアゾール３３０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−エトキシメチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物２２と記す。）
2004131438.tif 000042
１Ｈ−ＮＭＲ：５．３９（ｓ，２Ｈ）４．５８−４．４７（ｍ、３Ｈ）４．１６−４．１１（ｍ、１Ｈ）３．８６−３．８２（ｍ、１Ｈ）３．６８−３．６３（ｑ、２Ｈ）１．４５（ｓ、３Ｈ）１．３９（ｓ、３Ｈ）１．２３（ｔ、３Ｈ）
【００８４】
製造例２３
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｇに５−クロロ−３−ベンジルオキシメチルチオ−１，２，４−チアジアゾール３５０ｍｇと２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール１６９ｍｇとを溶解し、約０℃で水素化ナトリウム（６０％油性）５６ｍｇを加え、同温で２時間撹拌した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテル及び飽和食塩水を加え、分液した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィーに付し５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−ベンジルオキシメチルチオ−１，２，４−チアジアゾール３３０ｍｇを得た。
５−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ−３−ベンジルオキシメチルチオ−１，２，４−チアジアゾール（以下、本発明化合物２３と記す。）
2004131438.tif 000043
１Ｈ−ＮＭＲ：７．３６−７．２８（ｍ，５Ｈ）５．４１（ｓ、２Ｈ）４．６９（ｓ、２Ｈ）４．５７−４．４６（ｍ、３Ｈ）４．１６−４．１１（ｍ、１Ｈ）３．８５−３．８２（ｍ、１Ｈ）１．４５（ｓ、３Ｈ）１．３９（ｓ、３Ｈ）
【００８５】
次に、本発明化合物の製造中間体である５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール化合物の製造につき、参考製造例として示す。
【００８６】
参考製造例１
水１００ｍｌにメチルイソチオ尿素硫酸塩１８．７ｇ、パークロロメチルメルカプタン２５ｇ、ドデシル硫酸ナトリウム０．１５ｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム２１ｇを水１００ｍｌに溶解した溶液を約４時間かけて滴下した。滴下終了後、同温で２時間撹拌した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え抽出した。有機層を濃縮し、得られた残渣を減圧蒸留、次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２５：１）に付し３−メチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール７．６４ｇを得た。
３−メチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000044
１Ｈ−ＮＭＲ：２．６６（ｓ，３Ｈ）
【００８７】
参考製造例２
トルエン２０ｍｌ及び水１０ｍｌの混合物にベンジルイソチオ尿素塩酸塩２．０２ｇ、パークロロメチルメルカプタン１．８６ｇ及びベンジルトリエチルアンモニウムクロライド４６ｍｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム１．６ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を滴下し、２時間攪拌した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え、抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）に付し、３−ベンジルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール９００ｍｇを得た。
３−ベンジルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000045
１Ｈ−ＮＭＲ：７．６０−７．２０（ｍ，５Ｈ）４．４５（ｓ、２Ｈ）
【００８８】
参考製造例３
トルエン８０ｍｌ及び水４０ｍｌの混合物に４−クロロベンジルイソチオ尿素塩酸塩１０．０ｇ、パークロロメチルメルカプタン７．８５ｇ及びベンジルトリエチルアンモニウムクロライド１９２ｍｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム６．７５ｇを水４０ｍｌに溶解した溶液を３時間かけて滴下した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え、抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−（４−クロロベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール５．３８ｇを得た。
３−（４−クロロベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000046
１Ｈ−ＮＭＲ：７・３７（ｄ，２Ｈ）７．２７（ｄ、２Ｈ）４．４０（ｓ、２Ｈ）
【００８９】
参考製造例４
トルエン２０ｍｌ及び水１０ｍｌの混合物に４−メトキシベンジルイソチオ尿素塩酸塩２．５３ｇ、パークロロメチルメルカプタン２．０３ｇ及びベンジルトリエチルアンモニウムクロライド５０ｍｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム１．７４ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を４時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに室温で１時間撹拌した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え、抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−（４−メトキシベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール５．３８ｇを得た。
３−（４−メトキシベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000047
１Ｈ−ＮＭＲ：７．３５（ｄ，２Ｈ）６．８５（ｄ、２Ｈ）４．４１（ｓ、２Ｈ）３．７９（ｓ、３Ｈ）
【００９０】
参考製造例５
トルエン８０ｍｌ及び水４０ｍｌの混合物に２−クロロベンジルイソチオ尿素塩酸塩１０．０ｇ、パークロロメチルメルカプタン７．８５ｇ及びベンジルトリエチルアンモニウムクロライド１９２ｍｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム５．２７ｇを水４０ｍｌに溶解した溶液を１時間かけて滴下した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え、抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し３−（２−クロロベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール０．７８ｇを得た。
３−（２−クロロベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000048
１Ｈ−ＮＭＲ：７．５５（ｄ，１Ｈ）７．４９（ｄ、１Ｈ）７．２２（ｍ、２Ｈ）４．５７（ｓ、２Ｈ）
【００９１】
参考製造例６
トルエン８０ｍｌ及び水４０ｍｌの混合物に３−クロロベンジルイソチオ尿素塩酸塩１０．０ｇ、パークロロメチルメルカプタン７．８５ｇ及びベンジルトリエチルアンモニウムクロライド１９２ｍｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム５．２７ｇを水４０ｍｌに溶解した溶液を１時間かけて滴下した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え、抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し３−（３−クロロベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール１．３０ｇを得た。
３−（３−クロロベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000049
１Ｈ−ＮＭＲ：７．４３（ｓ，１Ｈ）７．３１−７．２２（ｍ、３Ｈ）４．４１（ｓ、２Ｈ）
【００９２】
参考製造例７
水６０ｍｌにエチルイソチオ尿素臭化水素塩１０．３ｇ、パークロロメチルメルカプタン１０．４ｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム９．３９ｇを水６０ｍｌに溶解した溶液をゆっくり滴下した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え、抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１）に付し、３−エチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール２．５４ｇを得た。
３−エチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000050
１Ｈ−ＮＭＲ：３．２２（ｑ，２Ｈ）１．４４（ｔ、３Ｈ）
【００９３】
参考製造例８
水５０ｍｌに３，４−ジクロロベンジルイソチオ尿素塩酸塩１２．９ｇ及びパークロロメチルメルカプタン８．８２ｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム７．５８ｇを水５０ｍｌに溶解した溶液を徐々に滴下し、４時間攪拌した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え、抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより、３−（３、４−ジクロロベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール３．１ｇを粗生成物として得た。
３−（３、４−ジクロロベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000051
【００９４】
参考製造例９
水５０ｍｌに４−メチルベンジルイソチオ尿素塩酸塩９．４６ｇ及びパークロロメチルメルカプタン８．１１ｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム６．９８ｇを水５０ｍｌに溶解した溶液を滴下し４時間攪拌した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え、抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−（４−メチルベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール３．６ｇを粗生成物として得た。
３−（４−メチルベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000052
【００９５】
参考製造例１０
水５０ｍｌにアリルイソチオ尿素塩酸塩９．３３ｇ及びパークロロメチルメルカプタン８．８２ｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム７．５８ｇを水５０ｍｌを溶解した溶液を滴下し、４時間攪拌した。その後、反応混合物にｔ−ブチルメチルエーテルを加え、抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３−アリルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール３．６ｇを得た。
３−アリルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000053
１Ｈ−ＮＭＲ：６．０３−５．８３（ｍ，１Ｈ）５．３４（ｄ、１Ｈ）５．１９（ｄ、１Ｈ）３．８８（ｄ、１Ｈ）
【００９６】
参考製造例１１
水２５ｍｌ及びジクロロメタン２５ｍｌの混合物に３，５−ジクロロベンジルイソチオ尿素塩酸塩８．９５ｇ及びパークロロメチルメルカプタン６．１２ｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム５．２６ｇを水５０ｍｌ溶解した溶液を約３時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに室温で１時間撹拌した。その後、反応混合物にクロロホルム加え抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１）により、３−（３，５−ジクロロベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾールの祖生成物２．４ｇを得た。
2004131438.tif 000054
【００９７】
参考製造例１２
水２５ｍｌ及びジクロロメタン５０ｍｌの混合物に３−トリフルオロメチルベンジルイソチオ尿素塩酸塩１２．０ｇ及びパークロロメチルメルカプタン８．２４ｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム７．０９ｇを水２５ｍｌを溶解した溶液を約１．５時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに室温で２時間撹拌した。その後、反応混合物にクロロホルムを加え抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）に付し、３−（３−トリフルオロメチルベンジル）チオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール５．９ｇを得た。
３−（３−トリフルオロメチルベンジル）−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000055
１Ｈ−ＮＭＲ：７．６９（ｓ，１Ｈ）７．６１（ｄ、１Ｈ）７．５２（ｄ、１Ｈ）７．４４（ｔ、１Ｈ）４．４７（ｓ、２Ｈ）
【００９８】
参考製造例１３
水３５ｍｌ及びジクロロメタン７０ｍｌの混合物にエトキシメチルイソチオ尿素塩酸塩１２．２ｇ及びパークロロメチルメルカプタン１３．２ｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム１１．４ｇを水３５ｍｌに溶解した溶液を約１．５時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに室温で１時間撹拌した。その後、反応混合物にクロロホルムを加え抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し３−エトキシメチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール５．２２ｇを得た。
３−エトキシメチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000056
１Ｈ−ＮＭＲ：５．４３（ｓ，２Ｈ）３．６８（ｑ、２Ｈ）１．２６（ｔ、３Ｈ）
【００９９】
参考製造例１４
水２５ｍｌ及びジクロロメタン５０ｍｌにベンジルオキシメチルイソチオ尿素塩酸塩１１．３及びパークロロメチルメルカプタン９．０２ｇを加え、約０℃で水酸化ナトリウム７．７６ｇを水２５ｍｌに溶解した溶液を約１．５時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに室温で１時間撹拌した。その後、反応混合物にクロロホルム加え抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し３−ベンジルオキシメチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール３．５１ｇを得た。
３−ベンジルオキシメチルチオ−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール
2004131438.tif 000057
１Ｈ−ＮＭＲ：７．３６−７．２８（ｍ，５Ｈ）５．４５（ｓ、２Ｈ）４．６９（ｓ、２Ｈ）
【０１００】
次に、製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
製剤例１
本発明化合物１〜２３の各々９部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく攪拌混合して各々の乳剤を得る。
【０１０１】
製剤例２
本発明化合物１〜２３の各々９部を、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪素土６５部を混合した中に加え、よく攪拌混合して各々の水和剤を得る。
【０１０２】
製剤例３
本発明化合物１〜２３の各々３部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく攪拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに攪拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して各々の粒剤を得る。
【０１０３】
製剤例４
本発明化合物１〜２３の各々４．５部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ（三共社製）１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで攪拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分攪拌混合し各々の粉剤を得る。
【０１０４】
製剤例５
本発明化合物１〜２３の各々１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより各々の製剤を得る。
【０１０５】
製剤例６
本発明化合物１〜２３の各々０．５部をジクロロメタン１０部に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン：エクソン化学登録商標名）８９．５部に混合して油剤を得る。
【０１０６】
製剤例７
本発明化合物１〜２３の各々の０．１部、ネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、２５部のジメチルエーテル及び２５部のＬＰＧを充填し、振とうを加え、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
【０１０７】
製剤例８
本発明化合物１〜２３の各々の０．６部、ＢＨＴ０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部および乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
【０１０８】
続いて、本発明化合物が有害節足動物防除剤の有効成分として有用であることを試験例により示す。
【０１０９】
試験例
前記製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈して、試験用薬液を調製した。
一方、ポリエチレンカップにキュウリを植え、第１本葉が展開するまで生育させ、そこにワタアブラムシ約２０頭を寄生させた。１日後、そのキュウリに上記の試験用薬液を２０ｍｌ／カップの割合で散布した。散布６日後に生存しているワタアブラムシの数を調査した。
その結果、本発明化合物１〜９、１１、１３〜１５、１７〜２３の処理区は各々生存していたワタアブラムシは３頭以下であったが、無処理区では２０頭以上であった。
【０１１０】
【発明の効果】
本発明化合物は優れた有害節足動物防除活性を有することから、本発明化合物は有害節足動物防除剤の有効成分として有用である。