(57)【要約】【課題】本発明は、情報の記録が連続して行われても、記録動作が何ら制限なく良好に行われる記憶装置を提供する。【解決手段】記憶素子と、記憶素子に電圧を印加する印加手段とを有し、記憶素子に、印加手段により電圧が印加されることにより、記憶素子の特性が変化して、情報の記録が行われ、同一の情報の記録が連続して行われると、記憶素子の特性がさらに変化する構成の記憶装置であって、情報の記録が行われる際に、既に記憶素子に記録されている情報の内容が検出され、記憶素子に記録されている情報と、記憶素子に記録すべき情報とを比較して、両者の情報が異なる場合には電圧が印加されて通常の情報の記録過程が行われ、両者の情報が同一である場合には通常の情報の記録過程が行われない記憶装置を構成する。【選択図】      図３
2004355676.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶素子と、
前記記憶素子に電圧を印加する印加手段とを有し、
前記記憶素子に、前記印加手段により電圧が印加されることにより、前記記憶素子の特性が変化して、情報の記録が行われ、
同一の前記情報の記録が連続して行われると、前記記憶素子の特性がさらに変化する構成の記憶装置であって、
前記情報の記録が行われる際に、既に前記記憶素子に記録されている情報の内容が検出され、
前記記憶素子に記録されている情報と、前記記憶素子に記録すべき情報とを比較して、両者の情報が異なる場合には前記電圧が印加されて通常の情報の記録過程が行われ、両者の情報が同一である場合には前記通常の情報の記録過程が行われない
ことを特徴とする記憶装置。
【請求項２】
前記記憶素子が、第１の電極及び第２の電極との間に、電極間材料が挟まれた構成であることを特徴とする請求項１に記載の記憶装置。
【請求項３】
前記情報の記録が行われる前に、前記記憶素子に記録されている情報が読み出されることにより、前記情報の内容が検出され、前記両者の情報が同一である場合には、前記電圧が印加されないことを特徴とする請求項１に記載の記憶装置。
【請求項４】
前記情報の記録が行われる際に、前記電圧が印加されると共に、前記記憶素子の抵抗値の変化の検出が行われることにより、前記情報の内容が検出され、前記両者の情報が同一である場合には、以降は前記電圧が印加されないことを特徴とする請求項１に記載の記憶装置。
【請求項５】
前記両者の情報が同一である場合には、さらに前記記憶素子の抵抗値がその規格値の範囲内であるかどうかが調べられ、前記規格値の範囲外である場合には、前記抵抗値を前記規格値の範囲内に補正するために、前記印加手段により電圧が印加されることを特徴とする請求項１に記載の記憶装置。
【請求項６】
前記情報の記録が行われる前に、前記記憶素子に記録されている情報が読み出されることにより、前記情報の内容が検出され、前記両者の情報が同一であり、かつ前記記憶素子の抵抗値がその規格値の範囲内である場合には、前記電圧が印加されないことを特徴とする請求項４に記載の記憶装置。
【請求項７】
前記電圧はパルス電圧であることを特徴とする請求項１に記載の記憶装置。
【請求項８】
記憶素子と、
前記記憶素子に電圧を印加する印加手段とを有し、
前記記憶素子に、前記印加手段により電圧が印加されることにより、前記記憶素子の特性が変化して、情報の記録が行われ、
同一の前記情報の記録が連続して行われると、前記記憶素子の特性がさらに変化する構成の記憶装置であって、
前記記憶素子に記録されている情報の内容がいったん消去される過程が行われてから、前記情報の記録が行われる
ことを特徴とする記憶装置。
【請求項９】
前記記憶素子が、第１の電極及び第２の電極との間に、電極間材料が挟まれた構成であることを特徴とする請求項８に記載の記憶装置。
【請求項１０】
前記電圧はパルス電圧であることを特徴とする請求項８に記載の記憶装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、記憶装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、コンピューター等の情報機器においては、情報（データ）を記録する記憶装置が大量に使用されている。このような記憶装置としては、例えば動作が高速で、高密度のＤＲＡＭが広く使用されている（例えば非特許文献１参照）。
【０００３】
【非特許文献１】
伊藤清男著，「超ＬＳＩメモリ」，培風館，１９９４年，１１月５日，３頁〜４頁
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述したような情報を記録する記憶装置においては、記録した情報の保持を、できるだけ簡単な方法で且つ低電圧で行えることが要求されている。
【０００５】
しかしながら、上述したＤＲＡＭは、情報の保持時間が極めて短く、電源を切ると記録された情報が消えてしまう揮発性の記憶装置であるので、頻繁にリフレッシュ動作（即ち書き込んだ情報を読み出し、増幅し直して、再度書き込み直す動作）を行う必要があり、このため回路設計が複雑となり、消費電力が増加してしまう。
【０００６】
このため、消費電力が低減され、且つ例えばＤＲＡＭに置き換わるような特性を有する記憶装置が要求される。
【０００７】
尚、上述したＤＲＡＭは、民生用の電子機器に用いられる一般的な論理回路ＬＳＩや信号処理ＬＳＩと比較して製造工程が複雑であるため、例えば製造コストが高い記憶装置となってしまう等の問題点も有している。
【０００８】
ところで、このような要求を実現できる可能性があるとして、例えば図９に示すような構成の記憶装置が知られている。
尚、図９は、記憶装置、特にその記憶素子の基本構成を示す拡大断面図を示している。
記憶素子２０は、２つの電極（図９の場合では第１の電極２１及び第２の電極２２）との間に、電極間材料２３が挟まれた構成である。
【０００９】
このような構成の記憶素子２０を有する記憶装置では、例えば、電極間材料２３としてイオン導電体を用いて、さらに２つの電極２１，２２のいずれか一方の電極（例えば第１の電極２１）にイオン導電体中にイオンとして拡散する金属を含ませることによって、記憶素子２０の２つの電極２１，２２間に電圧を印加した場合に、電極間材料２３に電荷が供給され、電極２１中に含まれる金属がイオン導電体からなる電極間材料２３中にイオンとして拡散することによって、イオン導電体中の抵抗或いはキャパシタンス等の電気特性が変化させて、情報の記録動作を行うことができる。
【００１０】
次に、このような記憶装置において、実際に情報の記録（書き込み及び消去）が行われる場合の具体的な動作を説明する。
尚、以下、記憶素子２０の抵抗を高い状態から低い状態に変化させる記録動作を、情報の「書き込み」と定義し、記憶素子２０の抵抗を低い状態から高い状態に変化させる記録動作を、情報の「消去」と定義する。
例えば情報の書き込みを行う場合は、例えば第１の電極２１に接続されている配線を介して書き込み用の電圧（正電圧）が第１の電極２１に印加される。これにより、例えば第１の電極２１に含まれている金属がイオン化し、イオン導電体中に拡散して電子と結合して析出する。これにより、イオン導電体の抵抗が低くなり、記憶素子２０の抵抗も低くなるので、情報の書き込みを行うことが可能になる。
【００１１】
また、例えば情報の消去を行う場合は、例えば第２の電極２２に接続されている配線を介して、書き込み時とは逆極性の消去用の電圧（負電圧）が第２の電極３に印加される。これにより、イオン導電体に析出していた金属が再びイオン化して、第１の電極２１に戻ることにより、イオン導電体の抵抗が元の高い状態に戻り、記憶素子２０の抵抗も高くなるので、情報の消去を行うことが可能になる。
【００１２】
ここで、このような一連の記録動作を、例えば上述した記憶装置（例えばＤＲＡＭ）が実行する一連の記録動作に対応させた場合を図６及び図７に示す。
尚、各図ＡはＤＲＡＭの記録動作を、各図Ｂは図９に示す記憶素子を有する記憶装置の記録動作を示している。
図６は、異なる情報の記録を交互に例えば３回ずつ繰り返し行った後、情報読み出しを行う場合を示し、図７は、同一の情報の記録を複数回例えば５回連続して行った後、異なる情報の記録を行って情報読み出しを行う場合を示している。
図６及び図７からも明らかなように、上述した図９に示す記憶素子を有する記憶装置での情報書き込み（抵抗値の高い状態から低い状態に変化させる記録動作）は、ＤＲＡＭの場合の情報“１”書き込みに対応し、情報消去（抵抗値の低い状態から高い状態に変化させる記録動作）は、ＤＲＡＭの場合の情報“０”書き込みに対応している。
【００１３】
ここで、図９に示す記憶素子を有する記憶装置において、図６Ｂに示すように、記憶素子１に、情報書き込みと情報消去を交互に連続して行った後、情報読み出しを行うようにした場合では問題にならないが、図７Ｂに示すように、情報書き込みを複数回連続して行った後、情報消去を行って情報読み出しを行うような場合は、次に示すような問題が生じる。
【００１４】
即ち、図８に示すように、記憶素子に情報書き込みを繰り返し連続して行った場合、書き込み回数が増加するにしたがい、本来意図していた情報“１”の保持状態の抵抗値よりもさらに抵抗値が低下してしまう。
このように、記憶素子の抵抗値が低下した場合、例えばその次に情報消去を行う際、大きい電圧を記憶素子に加える必要がでてきてしまう。
【００１５】
ところで、ＤＲＡＭのようなデータ書き換え可能な記憶装置に用いられる記憶素子の場合、情報“０”及び情報“１”とが、どのような順番で無制限に繰り返し書き込まれても、この通りに記録動作が行われることが要求される（即ち、情報の記録及び読み出しが何ら制限なく良好に行われることが要求される）。
これは、図７Ａに示したように、情報“１”が繰り返し連続して書き込まれた後、情報“０”を書き込むような場合である。
【００１６】
従って、例えば図９に示した記憶素子を有する記憶装置で、例えばＤＲＡＭに置き換わる記憶装置を実際に実現しようとする場合は、例えば前述したような情報書き込みが繰り返し連続して行われた後、情報消去を行うような場合を想定して（図７Ｂ参照）、情報消去の際に加える電圧を大きな値に設定しておくことが必要となる。
【００１７】
しかしながら、このような場合、例えば情報消去に長い時間がかかるようになり、記憶素子自体の動作が遅くなってしまう。特に、図７Ｂで想定した場合とは反対に、情報消去が繰り返し連続した後、情報書き込みを行う場合は、記憶素子自体の動作が極めて遅くなってしまう。
【００１８】
尚、図９に示したような構成の記憶素子に、情報書き込みを繰り返し連続して行った場合に、書き込み回数が増加するにしたがい、記憶素子の抵抗値がさらに変化する場合を説明したが（図８参照）、記憶素子の構成によっては、情報書き込みを繰り返し連続して行った場合に、書き込み回数が増加するにしたがい、例えば記憶素子のしきい値電圧が変化するような場合も考えられる。
このような場合も、前述したように、例えば情報消去に長い時間がかかるようになり、記憶素子自体の動作が遅くなってしまう。
【００１９】
上述した点に鑑み、本発明は、記録動作が何ら制限なく良好に行われる記憶装置を提供するものである。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、記憶素子と、記憶素子に電圧を印加する印加手段とを有し、記憶素子に、印加手段により電圧が印加されることにより、記憶素子の特性が変化して、情報の記録が行われ、同一の情報の記録が連続して行われると、記憶素子の特性がさらに変化する構成の記憶装置であって、情報の記録が行われる際に、既に記憶素子に記録されている情報の内容が検出され、記憶素子に記録されている情報と、記憶素子に記録すべき情報とを比較して、両者の情報が異なる場合には電圧が印加されて通常の情報の記録過程が行われ、両者の情報が同一である場合には通常の情報の記録過程が行われない。
【００２１】
本発明によれば、情報の記録が行われる際に、既に記憶素子に記録されている情報の内容が検出され、記憶素子に記録されている情報と、記憶素子に記録すべき情報とを比較して、両者の情報が異なる場合には電圧が印加されて通常の情報の記録過程が行われ、両者の情報が同一である場合には通常の情報の記録過程が行われないので、例えば同じ情報の内容の記録が連続して行われても、記憶素子の特性がさらに変化することがない。
【００２２】
また、上述した記憶装置において、記憶素子が、第１の電極及び第２の電極との間に、電極間材料が挟まれた構成である場合は、記憶素子の構成をさらに簡素化できる。
【００２３】
また、上述した記憶装置において、情報の記録が行われる前に、記憶素子に記録されている情報が読み出されることにより、情報の内容が検出され、両者の情報が同一である場合には、電圧が印加されない構成とした場合は、例えば同じ内容の情報（例えば“１”）の記録が繰り返し連続した後、異なる内容の情報（例えば“０”）の記録を行うような場合の記録動作であっても、異なる内容の情報の記録の際に記憶素子に印加する電圧を大きくする必要がなく、記録動作が遅くなることを防ぐことができる。
【００２４】
また、上述した記憶装置であって、情報の記録が行われる際に、電圧が印加されると共に、記憶素子の抵抗値の変化の検出が行われることにより、情報の内容が検出され、両者の情報が同一である場合には、以降は電圧が印加されない構成とした場合は、情報を読み出す過程が必要ないので、前述した情報の記録が行われる前に、記憶素子に記録されている情報が読み出されることにより、情報の内容が検出される場合に比べて、記録に要する時間を短くできる。
【００２５】
また、上述した記憶装置であって、両者の情報が同一である場合には、さらに記憶素子の抵抗値がその規格値の範囲内であるかどうかが調べられ、規格値の範囲外である場合には、抵抗値を規格値の範囲内に補正するために、印加手段により電圧が印加される構成とした場合は、例えば同じ内容の情報（例えば“１”）の記録が多数回も繰り返し連続して続いた後、異なる内容の情報（例えば“０”）の記録を行うような場合の記録動作であり、記憶素子の抵抗値が規格値の範囲外に変化してしまったとしても、抵抗値を補正することができ、例えば記録エラー等の発生を少なくすることができる。
【００２６】
また前述した記憶装置において、情報の記録が行われる前に、記憶素子に記録されている情報が読み出されることにより、情報の内容が検出され、両者の情報が同一であり、かつ記憶素子の抵抗値がその規格値の範囲内である場合には、電圧が印加されない構成とした場合は、例えば同じ内容の情報（例えば“１”）の記録が多数回も繰り返し連続して続いた後、異なる内容の情報（例えば“０”）の記録を行うような場合の記録動作であっても、異なる内容の情報の記録の際に記憶素子に印加する電圧を大きくする必要がなく、記録動作が遅くなることを防ぐことができる。
【００２７】
また、上述した記憶装置において、電圧がパルス電圧である場合は、電流量を少なくでき、情報の記録に要する総電流量を低減することができる。
【００２８】
本発明は、記憶素子と、記憶素子に電圧を印加する印加手段とを有し、記憶素子に、印加手段により電圧が印加されることにより、記憶素子の特性が変化して、情報の記録が行われ、同一の情報の記録が連続して行われると、記憶素子の特性がさらに変化する構成の記憶装置であって、記憶素子に記録されている情報の内容がいったん消去される過程が行われてから、情報の記録が行われる。
【００２９】
本発明によれば、記憶素子に記録されている情報の内容がいったん消去される過程が行われてから、情報の記録が行われるので、上述した、情報の記録が行われる際に、既に記憶素子に記録されている情報の内容が検出される場合に比べて、読み出しに要する時間を少なくでき、さらに記録動作を速くすることを可能にする。
【００３０】
また、上述した記憶装置において、記憶素子が、第１の電極及び第２の電極との間に、電極間材料が挟まれた構成である場合は、記憶素子の構成をさらに簡素化できる。
【００３１】
また、上述した記憶装置において、電圧がパルス電圧である場合は、電流量を少なくでき、情報の記録に要する総電流量を低減することができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を説明するにあたり、先ず、本発明の基本的な構成とその動作を、図９を用いて説明する。
尚、図９は、本発明に係る記憶装置、特に、その記憶素子の基本構成を示す拡大断面図である。
本発明の記憶素子は、例えば２つの電極（図９の場合では第１の電極２１及び第２の電極２２）との間に、電極間材料２３が挟まれた構成である。
【００３３】
このような構成の記憶素子２０を有する記憶装置では、例えば、電極間材料２３としてイオン導電体を用いて、さらに２つの電極２１，２２のいずれか一方の電極（例えば第１の電極２１）にイオン導電体中にイオンとして拡散する金属を含ませることによって、記憶素子２０の２つの電極２１，２２間に電圧を印加した場合に、電極間材料２３に電荷が供給され、電極２１中に含まれる金属がイオン導電体からなる電極間材料２３中にイオンとして拡散することによって、イオン導電体中の抵抗或いはキャパシタンス等の電気特性が変化させて、情報の記録動作を行うことができる。
【００３４】
本発明は、このような、電気特性等の特性の変化を利用して、情報の記録を行うことができる記憶素子を用いて記憶装置を構成し、上述した目的を達成する。
【００３５】
続いて、本発明に係る記憶装置、特に、その記憶素子の一実施の形態を、図１を用いて説明する。
本実施の形態の記憶素子１は、例えば上側に設けられた第１の電極２と、下側に設けられた第２の電極３との間に、電極間材料４が挟まれた構成である。
【００３６】
電極間材料４は、例えばある金属を含むイオン導電体（カルコゲナイドイオン導電体）５から構成されている。
図１の場合では、イオン導電体５は、第１の電極２側（上側）のイオン導電体層５１と、第２の電極３側（下側）のイオン導電体層５２とからなる２層構造で構成され、イオン導電体層５１は例えばＧｅＳｂＴｅＡｇから、イオン導電体層５２は例えばＧｅＳｂＴｅから構成されている。
そして、イオン導電体層５１は例えば２５ｎｍの膜厚で形成され、イオン導電体層５２は例えば３０ｎｍの膜厚で形成されている。
尚、イオン導電体層５１を構成するＧｅＳｂＴｅＡｇは、例えばカルコゲナイトに属する元素を含んで構成されたＧｅＳｂＴｅに、金属であるＡｇが含まれたものである。
【００３７】
電極間材料４のイオン導電体５は、電荷が供給されることにより、イオン導電体５中に含まれるＡｇが酸化されて陽イオン６となったり、陽イオン６が還元されて金属Ａｇに戻ったりすることにより、抵抗が高い状態と低い状態との間を繰り返し変化させることが可能である。
これにより、イオン導電体５の抵抗の状態によって、情報を記録することが可能な構成となっている。尚、初期状態では、Ａｇが金属の状態にあるので抵抗値が高い状態となっている。そして、イオン導電体５の抵抗の状態に連動して、記憶素子１の抵抗値も同様に高い状態と低い状態の間を変化する。
【００３８】
また、第１の電極２及び第２の電極３は、劣化してしまうことを避けるために、そのイオン化した際の価数が、電極間材料４（即ちイオン導電体５）中に含まれる物質（Ａｇ）が酸化されて陽イオン６となった際の価数（１価のＡｇ＋）よりも大きい物質から構成される。即ち、第１の電極２及び第２の電極３は、例えばＴｉＷ（チタンタングステン）から構成される。
尚、Ｔｉ（チタン）が酸化された場合の価数は、２価もしくは３価もしくは４価であり、Ｗ（タングステン）が酸化された場合の価数は、４価もしくは５価もしくは６価である。
第１の電極２及び第２の電極３は、一般的な半導体装置に用いられる膜厚で形成されており、例えばそれぞれ１００ｎｍの膜厚で形成される。
【００３９】
そして、上述した構成の記憶素子１が基板７上に形成されている。
また、図示せざるも、記憶素子１の第１の電極２及び第２の電極３にはそれぞれ配線が接続されており、それぞれの配線は、例えば記録、消去、読み出し回路等に接続されている。さらに、図示せざるも、記憶素子１に電圧を印加する印加手段が設けられ、記憶装置が構成される。
尚、記憶素子１に電圧を印加する印加手段は、記憶素子１と同一の基板７上に設けられた構成としても、同一の基板７以外の部分に設けられた構成としても、いずれの構成も可能である。
【００４０】
次に、このような記憶装置において、実際に情報の記録（書き込み及び消去）が行われる場合の具体的な動作を説明する。
尚、以下、記憶素子１の抵抗を高い状態から低い状態に変化させる記録動作を、情報の「書き込み」と定義し、記憶素子１の抵抗を低い状態から高い状態に変化させる記録動作を、情報の「消去」と定義する。
また、上述した印加手段により、記憶素子１に電圧、例えばパルス電圧が印加されることで、情報の記録が行われる。
例えば情報の書き込みを行う場合は、第１の電極２に接続されている配線を介して書き込み用のパルス電圧（正電圧）が第１の電極２に印加される。これにより、例えば第１の電極２側のイオン導電体層５１に含まれているＡｇがイオン化し、イオン導電体層５２中に拡散して、イオン導電体層５２の第２の電極３側で電子と結合して析出する。これにより、イオン導電体５の抵抗が低くなり、記憶素子１の抵抗も低くなるので、情報の書き込みを行うことが可能になる。
【００４１】
また、例えば情報の消去を行う場合は、第２の電極３に接続されている配線を介して、書き込み時とは逆極性の消去用のパルス電圧（負電圧）が第２の電極３に印加される。これにより、イオン導電体層５２の第２の電極３側に析出していたＡｇが再びイオン化して、第１の電極２側のイオン導電体層５１に戻ることにより、イオン導電体５の抵抗が元の高い状態に戻り、記憶素子１の抵抗も高くなるので、情報の消去を行うことが可能になる。
【００４２】
記憶素子１に印加するパルス電圧としては、例えば図２に波形を示すパルス電圧を印加することができる。
この図２に波形を示すパルス電圧の場合、第１の電極２及び第２の電極３の間の抵抗値を読み出すための読み出し電圧（ｒｅａｄ  ｂｉａｓ）Ｖ１が常に印加され、さらに、書き込み用のパルス電圧（ｗｒｉｔｅ  ｂｉａｓ）Ｖ２と消去用のパルス電圧（ｅｒａｓｅ  ｂｉａｓ）Ｖ３が交互に繰り返し印加される。
書き込み用の電圧パルスＶ２としては時間Ｔ２の間、消去用の電圧パルスＶ３としては時間Ｔ３の間、それぞれ印加される。
即ち、書き込みや消去の際に一定の電圧が継続して印加されるのではなく、短いパルス電圧（Ｖ２又はＶ３）が所定の時間（Ｔ２又はＴ３）だけ印加される。
【００４３】
このような構成の記憶素子を有する記憶装置において、例えば同一の情報の書き込みが連続して行われた場合、図８に示したように、書き込み回数が増加するにしたがい、本来意図していた情報の保持状態の抵抗値（例えば情報“１”の抵抗値）よりもさらに抵抗値が低下してしまう。
【００４４】
そこで、本実施の形態では、特に、情報の記録が行われる際に、既に記憶素子に記録されている情報の内容が検出され、記憶素子に記録されている情報と、記憶素子に記録すべき情報とを比較して、両者の情報が異なる場合にはパルス電圧が印加されて通常の情報の記録過程が行われ、両者の情報が同一である場合には通常の記録過程が行われないようにする。
【００４５】
先ず、情報の記録が行われる前に、記憶素子に記録されている情報が読み出されることにより、情報の内容が検出され、両者の情報が同一である場合にはパルス電圧が印加されないようにする実施の形態を、図３を用いて説明する。
本実施の形態では、記憶素子の抵抗値が高い状態を“１”の情報が記載された状態として、記憶素子の抵抗値が低い状態を“０”の情報が記録された状態とする。
本実施の形態の記憶装置では、先ず、情報の記録が行われる前に、ステップＳ１に示すように、記憶素子１に記録されている情報が読み出され、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であるか“０”であるかが判別される。
【００４６】
ここで、記憶素子１に既に記録されている情報が“１”であり、且つ今回新たに記録すべき情報が“１”の場合は、ステップＳ２に示すように、パルス電圧が印加されないようにすることで、情報“１”の記録が行われないようにし、そのまま（何もない）の状態とされる。
これに対し、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であり、今回新たに記録すべき情報が“１”ではない場合（即ち“０”の場合）は、ステップＳ３に示すように、そのまま情報“０”の記録（情報消去）が行われ、既に記憶素子１に記録されている情報“１”が消去される。即ち、通常の記録過程が行われる。
【００４７】
一方、ステップＳ１で情報が読み出された後、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”ではなく“０”であり、且つ今回新たに記録すべき情報が“１”の場合は、ステップＳ４に示すように、そのまま情報“１”の記録（情報書き込み）が行われる。
これに対し、今回新たに記録すべき情報が“１”ではない場合（即ち“０”の場合）は、ステップＳ５に示すように、この情報“０”の記録（情報消去）は行われず、そのまま（何もしない）の状態とされる。
【００４８】
尚、図３の場合では、ステップＳ１で情報が読み出され、既に記憶素子１に記録されている情報が“０”か“１”かが判別された後、今回新たに記録すべき情報が“０”か“１”かが判別されるようにしているが、例えば、ステップＳ１で情報が読み出され、今回新たに記録すべき情報が“０”か“１”かが判別された後、既に記憶素子１に記録されている情報が“０”か“１”かが判別されるようにしても構わない。
【００４９】
また、今回新たに記録すべき情報が“０”か“１”かが判別されてから、ステップＳ１と同様の情報の読み出しが行われるようにしても構わない。この場合、好ましくは、今回新たに記録すべき情報が例えば“１”の場合のみ情報が読み出されるようにすればよい。
【００５０】
尚、記憶素子１に既に記録されている情報と、今回新たに記録すべき情報の両方が“０”であった場合は、情報“０”の記録が行われるようにしても構わないし、図３に示したように、行われないようにしても構わない。
【００５１】
このように、本実施の形態の記憶装置では、情報の記録が行われる前に、既に記憶素子に記録されている情報が読み出され、今回新たに記録すべき情報と同一だった場合には、記録が行われないでそのままの状態とされるようにしたので、例えば同じ内容の情報の書き込みが繰り返し連続した後、異なる内容の情報の消去が行われるような記録動作の場合であっても、異なる内容の情報の消去の際に加える電荷量を大きな値に設定しておく必要がなくなる。これにより、異なる内容の情報の消去に長い時間がかかるようなこともなく、記録動作が遅くなることを防止することができる。これにより、記録動作を速くすることができる。
【００５２】
また、記憶素子１は、第１の電極２及び第２の電極３との間に電極間材料４が挟まれた構成であるので、記憶素子１の構成を、例えばＤＲＡＭの記憶素子に比べて簡素化できる。
【００５３】
また、電圧としてパルス電圧を印加しているので、電流量を少なくすることができ、情報の記録に要する総電流量を低減することが可能になる。
【００５４】
ここで、図３に示した実施の形態において、例えば既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であって、今回新たに記録すべき情報も“１”である状態が多数回も繰り返し連続して続いた場合、記憶素子１は何の処理もされないまま放置された状態となる。
【００５５】
例えば抵抗が高い状態の記憶素子に電荷が加えられて抵抗の低い状態にされた記憶素子の場合、時間の経過と共に抵抗値は緩やかに記憶素子の初期状態、即ち抵抗の高い状態へと変化していく。このため、抵抗の低い状態とされた記憶素子１が長時間放置された場合、記憶素子１は時間が経過するに伴い抵抗の高い状態へと変化してしまい、その時点で記録エラーが生じてしまう。
【００５６】
つまり、図３に示した実施の形態において、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であって、今回新たに記録すべき情報も“１”である場合が多数回も繰り返し連続して続いた場合、記録エラーが生じてしまうこととなる。
【００５７】
そこで、このような問題点をも解決するようにした実施の形態を、図４を用いて説明する。
本実施の形態の記憶装置では、先ず、図３に示した実施の形態の場合と同様、ステップＳ１０に示すように、情報の記録が行われる前に、記憶素子１に記録されている情報が読み出され、既に記憶素子１に記録されている情報が、“１”か“０”かが判別される。
ここで、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であり、且つ今回新たに記録すべき情報が“１”の場合、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内であるかどうかが調べられる。本実施の形態では、ステップＳ１１に示すように、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っているかどうかが調べられる。
尚、例えば予め規定された抵抗値に対して、上限を０．１ｋΩにして規格値を設定することができる。
【００５８】
ここで、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っている場合、本実施の形態では、ステップＳ１１１に示すように、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内におさまるように補正が行われる。
これに対して、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内にある場合、ステップＳ１２に示すように、パルス電圧が印加されないようにすることで、情報“１”の記録が行われないようにし、そのまま（何もしない）の状態とする。
【００５９】
また、ステップＳ１０に示す読み出しが行われた後、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であるが、今回新たに記録すべき情報が“１”ではない場合（即ち“０”の場合）は、ステップＳ１３に示すように、パルス電圧が印加されることで、そのまま情報“０”の記録（情報消去）が行われ、既に記憶素子１に記録されている情報“１”が消去される。即ち、通常の記録過程が行われる。
【００６０】
一方、ステップ１０に示す読み出しが行われた後、既に記憶素子１に記録されている情報が“０”であり、且つ今回新たに記録すべき情報が“１”の場合は、ステップＳ１４に示すように、そのまま情報“１”の記録（情報書き込み）が行われる。これに対し、今回新たに記録すべき情報が“１”ではない場合（即ち“０”の場合）は、ステップＳ１５に示すように、この情報“０”の記録（情報消去）は行われず、そのまま（何もしない）の状態とされる。
【００６１】
このように、本実施の形態の記憶装置では、情報の記録が行われる前に、既に記憶素子１に記録されている情報が読み出され、今回新たに記録される情報と記録されている情報が共に“１”であった場合には、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っていないかが判別されるようにし、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っていないと判別された場合には、記録が行われないでそのままの状態とされ、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っていると判別された場合には、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内におさまるように抵抗値の補正が行われるようにしたので、例えば同じ内容の情報の書き込みが多数回も繰り返し連続して続いた後、異なる内容の情報の消去を行うような場合で、情報の書き込みが行われないでそのままの状態とされたために、記憶素子１の抵抗値が変化して規格値を上回ってしまったとしても、抵抗値を規格値内へと補正することができ、記録エラーの発生を少なくすることができる。
【００６２】
また、本実施の形態においても、記憶素子１は、第１の電極２及び第２の電極３との間に電極間材料４が挟まれた構成であるので、上述した実施の形態の場合と同様に、記憶素子１の構成を、例えばＤＲＡＭの記憶素子に比べて簡素化できる。
【００６３】
また、本実施の形態においても、電圧としてパルス電圧を印加しているので、上述した実施の形態の場合と同様に、電流量を少なくすることができ、情報の記録に要する総電流量を低減することが可能になる。
【００６４】
続いて、このように、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っていないかが判別されると共に、さらに記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の下限を下回っていないかも判別されるようにした実施の形態を図５に示す。
本実施の形態の記憶装置では、先ず、上述した図４に示した実施の形態の場合と同様、ステップＳ３０に示すように、情報の記録が行われる前に記憶素子１に記録されている情報が読み出され、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”か“０”かが判別される。
そして、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であり、且つ今回新たに記録すべき情報も“１”の場合、上述した図４に示した実施の形態の場合と同様、ステップＳ３１に示すように、記憶素子の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っていないかが判別される。
【００６５】
ここで、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っている場合、上述した実施の形態の場合と同様に、ステップＳ３１１に示すように、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内におさまるように補正が行われる。
一方、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っていない場合、本実施の形態では、ステップＳ３２に示すように、さらに記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内の下限を下回っていないかが判別されるようにする。
尚、例えば予め規定された抵抗値に対して、上限を０．１ｋΩ、下限を０．１ｋΩにして規格値を設定することができる。
【００６６】
ここで、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内を下回っている場合は、ステップＳ３２１に示すように、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内におさまるように補正が行われる。
また、記憶素子１の抵抗値が規格値の範囲内を下回っていないと判別された場合には、ステップＳ３３に示すように、パルス電圧が印加されないようにすることで、情報“１”の記録が行われないようにし、そのまま（何もしない）の状態とされる。
【００６７】
尚、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であり、今回新たに記録すべき情報が“１”ではない場合（即ち“０”の場合）は、ステップＳ３４に示すように、パルス電圧が印加されることで、そのまま情報“０”が記録（情報消去）されて、既に記憶素子１に記録されている情報“１”が消去される。
【００６８】
また、ステップＳ３０で記憶素子１に既に記録されている情報が読み出され、記録されている情報が“１”ではなく“０”であり、且つ今回新たに記録すべき情報が“１”の場合は、ステップＳ３５に示すように、そのまま情報“１”の記録（情報書き込み）が行われる。
これに対し、今回新たに記録すべき情報が“１”ではない場合（即ち“０”の場合）は、ステップＳ３６に示すように、この情報“０”の記録は行われず、そのまま（何もしない）の状態とされる。
【００６９】
本実施の形態の記憶装置によれば、既に記憶素子に記録された情報が今回新たに記録される情報と同じであった場合に、記憶素子の抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っていないかが判別されると共にさらに範囲内の下限を下回っていないかも判別されるようにし、抵抗値が下限を下回っていないと判別された場合には、記録が行われないようにしてそのままの状態とされ、記憶素子の抵抗値が規格値の範囲内の下限を下回っていると判別された場合には、記憶素子の抵抗値を規格値の範囲内におさまるように抵抗値の補正が行われるようにしたので、抵抗値が規格値を上回っている場合と下回っている場合の両方を判別することができ、前述した抵抗値が規格値の範囲内の上限を上回っていないかのみが判別されるようにした実施の形態の場合と比べて、さらに抵抗値の補正を精度良く行うことができる。これにより、記録エラーの発生をさらに少なくすることができる。
【００７０】
また、本実施の形態においても、記憶素子１は、第１の電極２及び第２の電極３との間に電極間材料４が挟まれた構成であるので、上述した実施の形態の場合と同様に、記憶素子１の構成を、例えばＤＲＡＭの記憶素子に比べて簡素化できる。
【００７１】
また、本実施の形態においても、電圧としてパルス電圧を印加しているので、上述した実施の形態の場合と同様に、電流量を少なくすることができ、情報の記録に要する総電流量を低減することが可能になる。
【００７２】
尚、図３〜図５に示した実施の形態では、既に記憶素子１に記録されている情報の内容を検出する過程として、情報の記録が行われる前に記憶素子１に記録されている情報を読み出す場合を示したが、この他にも、例えば情報の記録過程中に記憶素子１の抵抗状態を検出する場合も考えられる。
【００７３】
このような場合は、記憶素子１の抵抗値が、例えば初期状態の高い状態から除々に下がって低い状態へと変化していく過程において、ある程度抵抗値が変化してしまう前に、即ち抵抗値が下がり始めてから比較的短い時間のうちに、記憶素子１の抵抗値を検出するようにする。
そして、情報の記録過程が始まってから短い時間で記憶素子１の抵抗値を検出して、既に記憶素子１に記録されている情報と、今回記録すべき情報とが同一であると判断したときに、情報の記録過程を停止する。即ち以降のパルス電圧の印加を停止することにより、不要なパルス電圧の印加を最小限にとどめ、また記録素子１の抵抗値が過剰に低く、或いは過剰に高くならないようにすることができる。
【００７４】
例えば今回記録すべき情報が“１”、即ち抵抗値の低い状態である場合には、情報の記録過程として、抵抗値を下げるようにパルス電圧を印加して前述した「情報書き込み」を行う。
このとき、情報の記録過程が始まってから短い時間で検出された、記憶素子１の抵抗値が充分に低い場合には、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であり、今回記録すべき情報と同一であると判断して、情報の記録過程を停止する。即ち以降のパルス電圧の印加を停止する。
一方、情報の記録過程が始まってから短い時間で検出された、記憶素子１の抵抗値がまだ高い場合には、既に記憶素子１に記録されている情報が“０”であり、今回記録すべき情報と異なると判断して、引き続き情報の記録過程を行うようにして、記憶素子１の抵抗値を高い状態から低い状態に完全に変化させる。即ち通常の記録動作（情報書き込み）が行われる。
【００７５】
また、例えば今回記録すべき情報が“０”、即ち抵抗値の高い状態である場合には、情報の記録過程として、抵抗値を上げるようにパルス電圧を印加して前述した「情報消去」を行う。
このとき、情報の記録過程が始まってから短い時間で検出された、記憶素子１の抵抗値が充分に高い場合には、既に記憶素子１に記録されている情報が“０”であり、今回記録すべき情報と同一であると判断して、情報の記録過程を停止する。即ち、以降のパルス電圧の印加を停止する。
一方、情報の記録過程が始まってから短い時間で検出された、記憶素子１の抵抗値がまだ低い場合には、既に記憶素子１に記録されている情報が“１”であり、今回記録すべき情報と異なると判断して、引き続き情報の記録過程を行うようにして、記憶素子１の抵抗値を低い状態から高い状態に完全に変化させる。即ち通常の記録動作（情報消去）が行われる。
【００７６】
このように、情報の記録過程中に、記憶素子１の抵抗状態を検出するようにしたので、情報の記録が行われる前に、既に記憶素子１に記録されている情報を読み出す過程が行われるようにした実施の形態の場合に比べて、例えば情報を読み出す過程が必要ないので、記録に要する時間を短くできる。
【００７７】
次に、本発明の記憶装置の他の実施の形態を説明する。
本実施の形態では、記憶素子１に記録されている情報がいったん消去される過程が行われてから（即ち記憶素子１を抵抗の高い初期状態としてから）、情報の記録が行われるようにする。
尚、本実施の形態においても、記憶素子１に電圧、例えばパルス電圧が印加されることで、情報の記録が行われる。
即ち、上述した実施の形態では、情報の記録が行われる際に、既に記憶素子に記録されている情報の内容が検出され、記憶素子に記録されている情報と、記憶素子に記録すべき情報とを比較して、両者の情報が異なる場合にはパルス電圧が印加されて通常の情報の記録過程が行われ、両者の情報が同一である場合には通常の記録過程が行われないようにする場合（例えば情報の記録が行われる前に、記憶素子１に記録されている情報が読み出される場合）を示したが、本実施の形態では、記憶素子１に記録されている情報を読み出してから情報の記録を行うのではなく、情報の記録を行う前に記憶素子１に記録されている情報をすべて消去してしまう。
【００７８】
本実施の形態の記憶装置によれば、記憶素子１に記録されている情報がいったん消去される過程が行われてから（即ち記憶素子１を抵抗の高い初期状態としてから）、情報の記録が行われるので、記憶素子に記録されている情報がどのような値であっても、情報の消去のためのパルス電圧を印加することができる。
従って、例えば記録された情報が読み出される際に要する時間よりも、情報の消去のためのパルス電圧が印加される時間が短くて済むのであれば、上述した、情報の記録が行われる前に、既に記憶素子に記録されている情報が読み出される実施の形態の場合に比べて、情報の読み出し過程がない分、記録動作をさらに速くすることができる。
【００７９】
また、本実施の形態においても、記憶素子１は、第１の電極２及び第２の電極３との間に電極間材料４が挟まれた構成であるので、上述した実施の形態の場合と同様に、記憶素子１の構成を、例えばＤＲＡＭの記憶素子に比べて簡素化できる。
【００８０】
また、本実施の形態においても、電圧としてパルス電圧を印加しているので、上述した実施の形態の場合と同様に、電流量を少なくすることができ、情報の記録に要する総電流量を低減することが可能になる。
【００８１】
上述した実施の形態では、図１に示した、第１の電極２及び第２の電極３との間に、電極間材料４が挟まれた構成の記憶素子１を用いて記憶装置を構成したが、この他にも、例えば図１０Ａ〜図１０Ｃに示すような構成の記憶素子を用いて記憶装置を構成することもできる。
尚、図１０Ａ〜図１０Ｃは記憶素子の概略断面図を示している。
先ず、図１０Ａに示す記憶素子３０は、所謂ＭＯＳ型の構造を有する記憶素子（ＭＯＮＯＳ）であり、例えば基板３５中に形成された第１の電極３１及び第２の電極３２と、例えば絶縁層３４を介して基板３５上に形成された第３の電極３３等から構成されている。
このような記憶素子３０では、例えば第１の電極３１と第３の電極３３との間に電圧が印加されると、第３の電極３３に電荷が供給されることで、情報の記録（書き込み）が行われる。
また、例えば第３の電極３３に電圧が印加されることで、第１の電極３１と第２の電極３２との間に電流が流れ始めるしきい値電圧が上昇して、第１の電極３１と第２の電極３２との間に流れる電流の大きさが変化して、記録された情報が読み出される。
記憶素子３０では、このような電気的な特性の変化により、情報の記録動作が行われる。
【００８２】
次に、図１０Ｂに示す記憶素子４０は、例えば電極間材料４４の上面の所定の位置に、第１の電極４１と第３の電極４３がそれぞれ設けられ、下面に第２の電極４２が設けられた構成である。
このような記憶素子４０では、例えば第１の電極４１と第２の電極４２との間に電圧が印加されると、電極間材料４４に電荷が供給され、第１の電極４１に含まれる金属が電極間材料４４中に拡散して第２の電極４２の表面に付着する。これにより、第２の電極４２の組成が変化して、情報の記録（書き込み）が行われる。
また、例えば第２の電極４２及び第３の電極４３との間に電圧が印加されることで、第２の電極４２と第３の電極４３との間に電流が流れ始めるしきい値電圧が変化したり、第２の電極４２と第３の電極４３との間に流れる電流の大きさが変化して、記録された情報が読み出される。
記憶素子４０では、このような電気的な特性の変化により、情報の記録動作が行われる。
【００８３】
次に、図１０Ｃに示す記憶素子５０は、例えば第１の電極５１と第２の電極５２との間に電極間材料５４１が挟まれ、第２の電極５２と第３の電極５３との間にも電極間材料５４２が挟まれた構成である。
このような記憶素子５０では、例えば第１の電極５１と第２の電極５２との間に電圧が印加されると、電極材料５４１に電荷が供給され、第１の電極５１に含まれる金属が電極材料５４１中に拡散して第２の電極５２に付着する。これにより、第２の電極５２の組成が変化して、情報の記録（書き込み）が行われる。
また、前述した図１０Ｂに示した記憶素子４０の場合と同様に、第２の電極５２と第３の電極５３との間に電圧が印加されることで、第２の電極５２と第３の電極５３との間に電流が流れ始めるしきい値電圧が変化したり、第２の電極５２と第３の電極５３との間に流れる電流の大きさが変化して、記録された情報が読み出される。
記憶素子５０では、このような電気的な特性の変化により、情報の記録動作が行われる。
【００８４】
本実施の形態では、このような構成の記憶素子３０，４０，５０を用いて記憶装置を構成することもできる。
【００８５】
上述した実施の形態においては、パルス電圧は、図２に示すような階段状の波形の場合を示したが、パルス電圧は、このような階段状の波形に限られず、例えばのこぎり状の波形や三角状の波形等も含まれる。
【００８６】
また、上述した実施の形態では、情報の内容を検出する動作として、記憶素子１に記録されている情報を読み出す場合（図３、４及び５参照）や、記憶素子１の抵抗状態を検出する場合を示したが、記憶素子１に記録されている情報を把握するのであれば、このような動作に限定されない。
【００８７】
本発明は、上述したように、同一の情報の記録が連続して行われると、記憶素子の特性がさらに変化する構成の記憶素子を有す記憶装置に用いて好適である。
【００８８】
尚、本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【００８９】
【発明の効果】
本発明の記憶装置によれば、記録動作が何ら制限なく良好に行われる記憶装置を得ることができる。
【００９０】
また、記録動作が高速で、記録エラー等の発生の少ない記憶装置を得ることができる。
【００９１】
従って、安定に動作可能で且つ高速な、例えばＤＲＡＭに置き換わる記憶装置を提供することが可能になる。
【００９２】
また、記憶素子を、第１の電極及び第２の電極との間に電極間材料が挟まれた構成とした場合は、例えばＤＲＡＭの記憶素子の構成に比べて簡素化することができるので、製造コストの低い構成の記憶装置を提供することが可能になる。
【００９３】
また、電圧をパルス電圧とした場合は、情報の記録に要する総電流量を低減することができるので、消費電力が低減された記憶装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の記憶装置、特に記憶素子の概略断面図である。
【図２】図１の記憶素子に印加されるパルス電圧の波形図である。
【図３】本発明の記録動作を示すフローチャート図（その１）である。
【図４】本発明の記録動作を示すフローチャート図（その２）である。
【図５】本発明の記録動作を示すフローチャート図（その３）である。
【図６】Ａ、Ｂ  記録動作のフローチャート図（その１）である。
【図７】Ａ、Ｂ  記録動作のフローチャート図（その２）である。
【図８】書き込み回数と抵抗変化率との関係を示す図である。
【図９】記憶装置の記憶素子の基本的な構成を示す概略断面図である。
【図１０】Ａ〜Ｃ  記憶素子の他の構成を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１・・・記憶素子、２・・・第１の電極、３・・・第２の電極、４・・・電極間材料、５（５１，５２）・・・イオン導電体層、６・・・陽イオン、７・・・半導体基板
【図１】
2004355676.tif 000003
【図２】
2004355676.tif 000004
【図３】
2004355676.tif 000005
【図４】
2004355676.tif 000006
【図５】
2004355676.tif 000007
【図６】
2004355676.tif 000008
【図７】
2004355676.tif 000009
【図８】
2004355676.tif 000010
【図９】
2004355676.tif 000011
【図１０】
2004355676.tif 000012