(57)【要約】【課題】液晶表示装置に用いられるプラスチック基板等に使用可能な表面平滑性に優れ生産性の高い複合基板を提供する。【解決手段】繊維布に熱硬化性樹脂組成物を含浸または塗布・乾燥させた繊維布の表裏に半硬化状態の熱硬化性樹脂が形成された剥離性金属箔をラミネートし、樹脂を硬化させた後に剥離性樹脂シートを剥離することを特徴とする表面粗さ（Ｒｙ）が２μｍ以下の複合基板の製造方法。剥離性金属箔の転写面側の表面粗さ（Ｒｙ）が２μｍ以下であり、１５０℃から１８０℃の熱線膨張係数が３０ｐｐｍ未満で、かつヤング率が５０ＧＰａ以上であることが望ましい。【特許請求の範囲】
【請求項１】
繊維布の表裏に、半硬化状態の熱硬化性樹脂が形成された剥離性金属箔を、加熱したロール間でラミネートした後、熱硬化性樹脂を硬化させ、剥離性金属箔を剥離する表面粗さ（Ｒｙ）が２μｍ以下の複合基板の製造方法。
【請求項２】
前記剥離性金属箔は１５０℃から１８０℃の熱線膨張係数が３０ｐｐｍ未満で、かつ転写面側の表面粗さ（Ｒｙ）が２μｍ以下である請求項１記載の複合基板の製造方法。
【請求項３】
前記剥離性金属箔はヤング率が５０ＧＰａ以上である請求項１又は２記載の複合基板の製造方法。
【請求項４】
前記剥離性金属箔の金属が、アルミニウム、銅、ステンレスから選ばれる請求項１〜３何れか一項記載の複合基板の製造方法。
【請求項５】
前記剥離性金属箔に離型処理を施したことを特徴とする請求項１〜４何れか一項記載の複合基板の製造方法。
【請求項６】
前記複合基板を連続的に巻き取ることを特徴とする請求項１〜５何れか一項記載の複合基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６何れか一項記載の製造方法によって製造された複合基板を用いた表示用プラスチック基板。
【請求項８】
請求項１〜６何れか一項記載の製造方法によって製造された複合基板を用いた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面平滑性の優れた複合基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常表示装置に用いられるプラスチック基板（積層板）を得るためには半硬化状態の樹脂を含浸したプリプレグの１枚又は複数枚を加熱成形して樹脂層のみの積層板とするか、あるいは、銅箔等の金属板とともに加熱成形することにより、金属層と樹脂層から成る積層板とした後にエッチング処理等により、金属板を剥離して用いる。通常プリプレグはガラスクロス等の繊維布に樹脂含浸後、スクイズロール等のロールで余分な樹脂を掻き落とし、縦型の乾燥炉で乾燥させるが、このときガラスクロス等繊維布の凹凸を反映した形で乾燥・半硬化するために、表面形状は粗いものとなる。プリプレグ自体の表面粗さが粗いと得られるプラスチック基板の表面粗さも粗くなる。（特許文献１参照）
また、プリプレグから積層板を得るためには、熱盤間に銅箔等の金属箔、プリプレグ、鏡面板等を１組として、それらを何枚も重ねて加熱成型する多段型のバッチプレスが一般的である。この時樹脂もある程度フローするためプリプレグそのものの表面形状が積層板そのものの表面と成る訳ではないが、もとのプリプレグの表面粗さが反映されたものとなる。すなわちプレス初期においては樹脂に流動性がない状態で加圧されることになるが、このとき金属箔が圧力により変形し、プリプレグの表面形状を反映した形状となり流動性のある温度域に達したときは、金属箔あるいは金属板が初期のプリプレグ表面粗さを反映した形状となっているため、平滑なプラスチック基板とはならない。
表示装置に用いられるプラスチック基板には表面平滑性が求められる。特に表示装置に用いる場合は基板上に直接半導体素子を書き込むこともあり２μｍレベルでの平滑性が求められているが、従来のプリプレグ使ってプレスする方法ではこのレベルの平滑性を得ることは困難であった。
また、多段型のバッチプレスでは、生産性が低いばかりか各段の熱盤内に温度ムラがあり成型時に各積層板にかかる熱履歴が異なるために、板厚精度、成形性、反り、寸法変化率等の品質において差が生じ、品質のバラツキが少ない積層板を製造することは難しかった。更に得られた積層板の銅箔をエッチング除去することによりプラスチック基板を得ることができるが、表面平滑性が不十分な銅箔面（一般に光沢面側でも５μｍ程度の凹凸がある）が転写されるために液晶表示装置に用いることはできなかった。
【０００３】
【特許文献１】
特開平０５−３２０３８２号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事実に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、液晶表示装置に用いられるプラスチック基板等に使用可能な表面平滑性に優れ生産性の高い複合基板を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、
（１）  繊維布の表裏に、半硬化状態の熱硬化性樹脂が形成された剥離性金属箔を、加熱したロール間でラミネートした後、熱硬化性樹脂を硬化させ、剥離性金属箔を剥離する表面粗さ（Ｒｙ）が２μｍ以下の複合基板の製造方法。
（２）  前記剥離性金属箔は１５０℃から１８０℃の熱線膨張係数が３０ｐｐｍ未満で、かつ転写面側の表面粗さ（Ｒｙ）が２μｍ以下である（１）の複合基板の製造方法。
（３）  前記剥離性金属箔はヤング率が５０ＧＰａ以上である（１）、（２）の複合基板の製造方法。
（４）  前記剥離性金属箔の金属が、アルミニウム、銅、ステンレスから選ばれる（１）〜（３）の複合基板の製造方法。
（５）  前記剥離性金属箔に離型処理を施したことを特徴とする（１）〜（４）の複合基板の製造方法。
（６）  前記複合基板を連続的に巻き取ることを特徴とする（１）〜（５）の複合基板の製造方法。
（７）  （１）〜（６）の製造方法によって製造された複合基板を用いた表示用プラスチック基板。
（８）  （１）〜（６）の製造方法によって製造された複合基板を用いた表示装置。
である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明は、半硬化状態の熱硬化性樹脂が形成された特定の物性を持つ剥離性金属箔を用いて繊維布の表裏に加熱したロール間でラミネートした後、熱硬化性樹脂を硬化させ、剥離性金属箔を剥離することにより、従来必要であったプレス工程も必要とせずに連続的に平滑なプラスチック基板が得られるものである。
本発明において、剥離性金属箔に熱硬化性樹脂溶液を乾燥させ、半硬化状態とする条件としては、含浸樹脂や溶剤の種類により異なるが、５０〜２００℃、０．５〜３０分が適当である。これより温度が低く時間が短い場合、繊維布と加熱圧着する際、流動性が大きく、端面からのしみ出しが大きく、フィルム厚のバラツキも大きくなり、均一な厚みの複合基板とならないことがあり、またこれより温度が高く時間が長い場合剥離性シートと加熱・圧着する際、流動性が小さすぎ、基板表面を十分平滑化できないことがある。
半硬化状態の熱硬化性樹脂が形成された剥離性金属箔を繊維布に加熱・圧着する条件としては、７０〜２００℃、０．１〜１００ＭＰａ、０．１〜１０ｍ／分の条件が適当であり、特に温度としては含浸樹脂の乾燥温度±６０℃で実施することが望ましい。ラミネート温度が低すぎると樹脂が軟化せず基板表面を十分に平滑化できない。一方、ラミネート温度が高すぎると含浸樹脂中の溶剤が急激に揮発発泡したり、フローが大きくなりすぎ樹脂が流れ出てしまうことがある。プレス形式にて転写シートを繊維布に加熱・圧着する場合は効率の面から表裏同時に張り合わせることが望ましいが、片面毎に張り合わせることもできる。
【０００７】
本発明で用いられる熱硬化性樹脂は、特に限定されないが、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、アクリレート樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂などを主成分とした熱硬化性樹脂組成物、またはこれらを混合したものを使用することができる。本発明の熱硬化性樹脂には、必要に応じて、本発明の効果を阻害しない範囲で、充填剤、滑剤、耐熱剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、顔料等、光安定剤等の成分を配合することができる。
本発明の熱硬化性樹脂は、アルコール類、エーテル類、アセタール類、ケトン類、エステル類、アルコールエステル類、ケトンアルコール類、エーテルアルコール類、ケトンエーテル類、ケトンエステル類やエステルエーテル類などの有機溶媒を用いてワニスにすることができる。このワニスを剥離性金属箔に塗布し、これを乾燥することで、半硬化状態の熱硬化性樹脂が形成された剥離性金属箔が得られる。
【０００８】
本発明で用いられる繊維布は特に限定されるものではなく、種々の無機系または有機系の繊維布を用いることができる。  その具体例としては、  Ｅガラス（無アルカリガラス）、Ｓガラス、Ｄガラス、ＮＥガラス、クォーツ、高誘電率ガラス等のガラスクロス、ケブラー（商品名：デュポン・東レ・ケブラー社製）、テクノーラ（商品名：帝人社製）、コーネックス（商品名：帝人社製）に代表されるポリ  −ｐ−フェニレンフタルアミド、ポリ  −ｍ−フェニレンフタルアミド、ｐ−フェニレンフタルアミドおよび３，４’−  ジフェニルエーテルフタルアミドの共重合体等からなる芳香族ポリアミド系繊維布やアラミド系繊維布、ポリエステル繊維布、ナイロン繊維布、ポリベンザゾール繊維布、炭素繊維布等が挙げられる。  好ましくはガラスクロスである。織布フィラメントの織り方についても特に限定されるものではなく、平織り、ななこ織り、朱子織り、綾織り等の構造を有する織物でも良く、好ましくは平織りである。  また、織布に限定されるのではなく不織布であってもかまわない。繊維の厚みも特に限定されるものではないが、３０〜３００μｍであることが好ましい。
【０００９】
本発明に用いられる繊維布は、樹脂成分との濡れ性を改善する目的で各種のシランカップリング剤、ボランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等の表面処理剤で処理されても良く、これに限定されるものではない。
【００１０】
本発明の剥離性金属箔は熱硬化性樹脂が形成されている転写面側の表面粗さＲｙが２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下でかつ１５０℃から１８０℃の線膨張係数係数が３０ｐｐｍ未満でありヤング率が５０ＧＰａ以上の金属箔が好ましい。転写面側の表面粗さＲｙは低いほど好ましいが、２μｍ以上のシートを用いるとこの面がプリプレグに転写し表面粗さが粗くなってしまう。プラスチック基板の製造工程に耐えうる耐熱性が必要であると共に、線膨張係数が３０ｐｐｍを越える様な金属箔を用いると、金属箔を剥離する前のプリプレグにストレスが内在するためにカールが発生し、後工程を円滑に行うことが難しくなることがある。またヤング率が５０ＧＰａより小さい金属箔を用いると、樹脂の硬化収縮にまけてシワやうねりが発生する。具体的にはアルミニウム箔、銅箔、ステンレス箔等を挙げることができる。また必要に応じて転写面側には離型処理が施されていてもよい。
【００１１】
【実施例】
次に本発明について、実施例及び比較例を挙げて詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に制限されるものではない。
（実施例１）
ノボラック型シアネート樹脂（ロンザジャパン株式会社製ＰＴ６０、数平均分子量５６０）１００重量部及びフェノールノボラック樹脂（住友デュレズ製ＰＲ−５１７１４）２重量部をメチルエチルケトンに常温で溶解し、エポキシシランカップリング剤（日本ユニカー製Ａ−１８７）１重量部、球状溶融シリカ（株式会社アドマテックス製ＳＯ−２５Ｒ  平均粒径０．５μｍ  ）１５０部を添加し、高速攪拌機を用いて１０分攪拌し樹脂ワニスＡを得た。調製した樹脂ワニスをダイコータ方式のキャスティング装置で離型処理を施した表面粗さＲｙが０．８μｍ、ヤング率が７０ＧＰａである厚みが２５μｍのアルミニウム箔に乾燥後の樹脂厚みが１５μｍになるように塗布後、１４０℃で２分乾燥させ半硬化状態の樹脂が形成されたアルミニウム箔（転写シート）を得た。ゴム製のロール式ラミネータを用いて、１５０℃、１ＭＰａ、１ｍ／分の条件で、転写シートの樹脂面側をガラスクロス（厚さ５３μｍ、日東紡績製、ＷＥＡ−１０８０）の表裏同時に連続的にラミネートし、２５０℃で３０分乾燥させた後に剥離性樹脂シートを剥離することにより複合基板を得た。得られた複合基板は表面粗さＲｙが１．３１μｍの平滑性に優れたものであり、表示基板として使用できるものであった。
【００１２】
（実施例２）
脂環式多官能エポキシ樹脂（商品名ＥＨＰＥ−３１５０、ダイセル化学（株）製）１００重量部、メチルヘキサヒドロフタル酸（商品名ＭＨ−７００）８２．３重量部、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール１重量部をメチルエチルケトンに常温で溶解し、高速攪拌機を用いて１０分攪拌し樹脂ワニスＢを得た。調製した樹脂ワニスをダイコータ方式のキャスティング装置で離型処理を施した表面粗さＲｙが０．８μｍ、ヤング率が７０ＧＰａである厚みが２５μｍのアルミニウム箔に乾燥後の樹脂厚みが１５μｍになるように塗布後、１４０℃で２分乾燥させ半硬化状態の樹脂が形成されたアルミニウム箔（転写シート）を得た。ゴム製のロール式ラミネータを用いて、１４０℃、１ＭＰａ、１ｍ／分の条件で、転写シートの樹脂面側をガラスクロス（厚さ５３μｍ、日東紡績製、ＷＥＡ−１０８０）の表裏同時に連続的にラミネートし、２００℃で３０分乾燥させた後に剥離性樹脂シートを剥離することにより複合基板を得た。
得られた複合基板は表面粗さＲｙも１．４μｍと平滑性の優れたものであり、表示基板として使用できるものであった。
【００１３】
（実施例３）
剥離性金属箔として転写面側の表面粗さＲｙが１．６μｍ、ヤング率が１３０ＧＰａである厚みが３５μｍの離型処理圧延銅箔を用いた以外は、実施例２と同様に行い複合基板を得た。得られた複合基板は表面粗さＲｙも１．８μｍと平滑性の優れたものであり、表示基板として使用できるものであった。
【００１４】
（実施例４）
剥離性金属箔として転写面側の表面粗さＲｙが１．２μｍ、ヤング率が２００ＧＰａである厚みが２０μｍの離型処理ステンレス箔を用いた以外は、実施例２と同様に行い複合基板を得た。得られた複合基板は表面粗さＲｙも１．５μｍと平滑性の優れたものであり、表示基板として使用できるものであった。
【００１５】
（比較例１）
実施例１で用いたワニスＡをロールスクイズ方式の含浸装置で実施例１と同様のガラスクロス（厚さ５３μｍ、日東紡績製、ＷＥＡ−１０８０）に直接含浸させた後に、２５０℃で３０分乾燥させ複合基板を得た。得られた複合基板は表面粗さＲｙも１０μｍと表示基板として使用するには平滑性が不十分なものであった。
【００１６】
【発明の効果】
本発明により得られる表面平滑な複合基板は液晶表示装置に用いられるプラスチック基板として好適なのものである。またロール形状での連続生産も可能であり、生産性の優れる製造方法である。