(57)【要約】【課題】温度検出装置が故障した場合でも光源や光源近傍の温度異常を確実に検出できる光源装置を提供する。【解決手段】光源装置１００は、ハウジング部Ｈに収容された光源１０と、光源１０に電力を供給する電源装置５０とを備えている。そして、光源装置１００の複数の所定位置には、この所定位置の温度を検出する複数の温度検出装置６０がそれぞれ設けられている。【選択図】　　　　図１
2004071720.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジング部に収容された光源と、該光源に電力を供給する電源装置とを備えた光源装置において、
該光源装置の複数の所定位置に、該所定位置の温度を検出する複数の温度検出装置をそれぞれ設けたことを特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記温度検出装置は前記ハウジング部の内部空間の複数の所定位置のそれぞれに設けられていることを特徴とする請求項１記載の光源装置。
【請求項３】
前記温度検出装置は前記光源と前記電源装置との間の電気的接続部又はその近傍に設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の光源装置。
【請求項４】
前記温度検出装置の検出結果に基づいて前記電源装置の駆動が制御されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の光源装置。
【請求項５】
前記光源は、発光部を有するランプと、該ランプからの光を集光する楕円鏡とを有し、
前記電源装置は、前記ランプに電力を供給して発光させる点灯装置を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の光源装置。
【請求項６】
前記楕円鏡の少なくとも一部を囲むダクトと、
前記ランプの周囲の温度を、前記楕円鏡と前記ダクトとの間に気体流を生成して調整する冷却手段とを有し、
前記温度検出装置は、前記楕円鏡と前記ダクトとの間の複数箇所に設けられていることを特徴とする請求項５記載の光源装置。
【請求項７】
光源装置からの照明光で、パターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、前記パターンの像を基板上に転写する投影光学系とを有する露光装置において、
前記光源装置は、請求項１〜請求項６のいずれか一項記載の光源装置で構成されていることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光源に電力を供給する電源装置を備えた光源装置及び光源装置を備えた露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示デバイスや半導体デバイスを製造する際のフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、パターンが形成されたマスクを支持するマスクステージと、感光基板を支持する基板ステージと、光源から射出された露光光でマスクを照明する照明光学系とを備えており、露光光で照明されたマスクのパターンの像をマスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながら投影光学系を介して感光基板上に転写するものである。光源が超高圧水銀ランプである場合、ランプはランプハウス（ハウジング部）に収容され温度管理されている。具体的には、過剰な温度上昇による破損を防ぎつつ超高圧水銀ランプの水銀が蒸発可能な温度範囲となるようにファン装置がハウジング部内に外気を流通してランプを冷却することにより、ランプは適切な温度範囲に設定されている。そして、従来より、ランプ近傍に安全装置としてのサーモスタット等からなる温度検出装置を設け、所定温度以上に温度上昇するなど温度異常が生じたら温度検出装置が電源装置の駆動を停止してランプの点灯を停止することによりランプの温度上昇による破損を防止している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上述した従来技術には以下に述べる問題が生じるようになった。
従来において、温度検出装置はハウジング部内のランプ近傍に１つだけ設けられた構成であるため、この１つの温度検出装置が故障してしまうと、ハウジング部に温度異常（温度上昇）が生じた場合でも温度異常を検出できない。この場合、温度上昇によりランプが破損するおそれが生じる。
【０００４】
また、光源は電源装置から供給される電力により駆動するが、光源と電源装置との間には複数の電気的接続部が存在する。そして、この電気的接続部の接続不良により抵抗値が上昇して温度上昇部分となる場合がある。ところが、従来では、複数の電気的接続部のうち接続不良部分（温度上昇部分）を特定する手段が無かったため、温度上昇により接続不良部分が焼損するなどの不都合が生じるおそれがあった。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、温度検出装置が故障した場合でも光源や光源近傍の温度異常を確実に検出できる光源装置及びこの光源装置を備えた露光装置を提供することを第１の目的とする。
また、複数の電気的接続部が存在する場合において、接続不良部分を容易に特定できる光源装置及びこの光源装置を備えた露光装置を提供することを第２の目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため本発明は、実施の形態に示す図１〜図５に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の光源装置（１００）は、ハウジング部（Ｈ）に収容された光源（１、１０）と、該光源（１、１０）に電力を供給する電源装置（５０）とを備えた光源装置において、該光源装置（１００）の複数の所定位置に、該所定位置の温度を検出する複数の温度検出装置（６０）をそれぞれ設けたことを特徴とする。
本発明の露光装置（ＥＸ）は、光源装置（１００）からの照明光（ＥＬ）で、パターンが形成されたマスク（Ｍ）を照明する照明光学系（ＩＬ）と、パターンの像を基板（Ｐ）上に転写する投影光学系（ＰＬ）とを有する露光装置において、光源装置は、上記記載の光源装置で構成されていることを特徴とする。
【０００７】
本発明によれば、光源装置の複数の所定位置に温度検出装置をそれぞれ設けたので、１つの温度検出装置が故障しても他の温度検出装置により光源装置の温度異常を検出できる。そして、光源や光源近傍に温度異常が生じた場合には、前記他の温度検出装置により電源装置の駆動が停止されるので、温度異常により光源が破損するといった不都合の発生を回避することができる。
【０００８】
本発明の光源装置において、温度検出装置（６０）はハウジング部（Ｈ）の内部空間の複数の所定位置のそれぞれに設けられている構成が採用される。これにより、光源や光源近傍の温度検出を確実に行うことができる。また、ハウジング部内部に複数の温度検出装置を設けたことにより、ハウジング部の温度分布も検出できる。
【０００９】
本発明の光源装置において、温度検出装置（６０）は光源（１、１０）と電源装置（５０）との間の電気的接続部（６２、６４、６６）又はその近傍に設けられている構成が採用される。これにより、電気的接続部に接続不良が生じた場合でも接続不良に起因する温度上昇を温度検出装置で検知できる。そして、電気的接続部が複数存在しても温度検出装置の検出結果に基づいて接続不良部を特定できる。
【００１０】
本発明の光源装置において、温度検出装置（６０）の検出結果に基づいて電源装置（５０）の駆動が制御される構成が採用される。すなわち、温度異常が生じたら温度検出装置が電源装置の駆動を遮断することにより、光源装置の過剰な温度上昇を未然に防止できる。
【００１１】
本発明の光源装置において、光源（１０）は、発光部を有するランプ（１）と、該ランプ（１）からの光を集光する楕円鏡（２）とを有し、電源装置（５０）は、ランプ（１）に電力を供給して発光させる点灯装置（５０、５１）を有する構成が採用される。この場合において、楕円鏡（２）の少なくとも一部を囲むダクト（Ｈ、３１、３２）と、ランプ（１）の周囲の温度を、楕円鏡（２）とダクト（Ｈ、３１、３２）との間に気体流を生成して調整する冷却手段（３０、３４）とを有し、温度検出装置（６０Ａ）は、楕円鏡（２）とダクト（Ｈ、３１、３２）との間の複数箇所に設けられている構成が採用される。温度検出装置を楕円鏡の周りに設けることにより、ランプの温度異常を精度良く検出できる。また、ランプや楕円鏡を冷却するために楕円鏡の周囲に冷却手段により気体流を生成した際、この気体流が生成される楕円鏡の周りに温度検出装置が設けられている構成であるので、温度異常が生じたら冷却手段に異常が生じたことを直ちに特定できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の光源装置及び露光装置について図面を参照しながら説明する。
図１は本発明の光源装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略図である。
図１において、露光装置ＥＸは、パターンが形成されたマスクＭを支持するマスクステージＭＳＴと、感光基板Ｐを支持する基板ステージＰＳＴと、光源１０からの照明光（露光光）でマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を感光基板Ｐに転写する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。マスクＭのパターン形成面（所定面）と感光基板Ｐの露光処理面（所定面）とは投影光学系ＰＬに関して共役な位置関係にある。
【００１３】
光源１０は、発光部である陰極及び陽極を有する超高圧水銀ランプ１と、水銀ランプ１から射出した光を反射集光する楕円鏡２とを備えている。水銀ランプ１は楕円鏡２のほぼ第１焦点付近に設けられている。本実施形態では、水銀ランプ１の陽極が楕円鏡２の第２焦点から遠い側、陰極が第２焦点側になるように、また陰極と陽極とを結ぶ線が第１焦点と第２焦点とを結ぶ線とほぼ一致するように設けられている。水銀ランプ１から射出した光は楕円鏡２により楕円鏡２の第２焦点付近に集光する。
【００１４】
照明光学系ＩＬは、光源１０から射出した光のうち露光光ＥＬとしての波長を有する光を照明対象であるマスクＭの方向へ反射しその他の一部の波長の光を透過するダイクロイックミラー３と、楕円鏡２の第２焦点付近に配置されダイクロイックミラー３で反射した光の光路を遮蔽・開放するシャッタ４と、シャッタ４の位置に結像した水銀ランプ１からの光を平行光にするコリメータレンズ５と、コリメータレンズ５を通過した光のうち所定の波長光（本実施形態ではｉ線（３６５ｎｍ））を選択的に透過する波長選択フィルタ（干渉フィルタ）６と、射出面に２次光源を形成するオプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズ７と、フライアイレンズ７の光路下流側に設けられたフィールドレンズ８と、フィールドレンズ８を通過した露光光ＥＬの大部分（全光量の例えば９７％）を透過するとともに残り部分（３％）を反射するハーフミラー９と、ハーフミラー９を透過した露光光ＥＬが入射するリレーレンズ１０と、リレーレンズ１０の光路下流側に設けられ、その開口部を可変とする視野絞りとしてのブラインド部１１と、マスクＭを均一な照度で照明するコンデンサレンズ１２と、コンデンサレンズ１２からの露光光ＥＬの向きを変えてマスクＭに導く折り曲げミラー１３とを備えている。シャッタ４、コリメータレンズ５、干渉フィルタ６、フライアイレンズ７、フィールドレンズ８、ハーフミラー９、リレーレンズ１０、ブランド部１１、及びコンデンサレンズ１２はダイクロイックミラー３で反射した光（露光光ＥＬ）の光路上に配置されている。
【００１５】
マスクステージＭＳＴは２次元方向（ＸＹ方向）に移動可能に設けられておりマスクステージＭＳＴのＸＹ方向の位置はレーザ干渉計１６により検出される。
レーザ干渉計１６の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴはレーザ干渉計１６の検出結果に基づいてマスクステージ駆動部ＭＳＴＤを駆動し、マスクＭを支持したマスクステージＭＳＴの位置調整をする。基板ステージＰＳＴもＸＹ方向に移動可能に設けられており基板ステージＰＳＴのＸＹ方向の位置はレーザ干渉計１７により検出される。レーザ干渉計１７の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力され、制御装置ＣＯＮＴはレーザ干渉計１７の検出結果に基づいて基板ステージ駆動部ＰＳＴＤを駆動し、感光基板Ｐを支持した基板ステージＰＳＴの位置調整をする。
【００１６】
ハーフミラー９から分岐した一部の露光光ＥＬは受光器１５に導かれる。受光器１５の受光面はマスクＭ（感光基板Ｐ）と略共役な位置に設けられており、ハーフミラー９から分岐した一部の露光光ＥＬを受光する。この受光器１５は受光した結果に基づいて感光基板Ｐに対する積算露光量を算出する露光量モニタ（インテグレータセンサ）であり、積算露光量を常時監視可能である。
【００１７】
ブラインド部１１はハーフミラー９より光路下流側においてマスクＭに対して共役な位置に設けられており、露光光ＥＬを通過させる可変の開口部を有している。ブラインド部１１の開口部の大きさの調整は制御装置ＣＯＮＴにより行われ、制御装置ＣＯＮＴはブラインド部１１の開口部の大きさを調整することによりマスクＭに対する露光光ＥＬの照明領域を設定する。そして、制御装置ＣＯＮＴは開口部を閉じることにより露光光ＥＬの光路を遮断してマスクＭ及び投影光学系ＰＬに対する露光光ＥＬの照射を遮蔽可能となっている。一方、制御装置ＣＯＮＴは開口部を開けることにより露光光ＥＬの光路を開放してマスクＭ及び投影光学系ＰＬに対して露光光ＥＬを照射する。
【００１８】
露光装置ＥＸは、水銀ランプ１の位置を確認・表示するためのモニタ装置２０を備えている。図１において、モニタ装置２０は、ダイクロイックミラー３を透過した光の光路中のうち楕円鏡２のほぼ第２焦点の位置に設けられたリレーレンズ２１と、リレーレンズ２１を通過した光を偏向する反射ミラー２２と、反射ミラー２２からの光が入射するフィールドレンズ２３と、結像レンズ系２４と、モニタ部２５とを備えている。モニタ部２５でモニタされた光源像は表示装置に表示される。結像レンズ系２４は２系統の組み合わせレンズにより構成されている。これら２系統の組み合わせレンズはフィールドレンズ２３の光軸の方向からモニタ部を見たときに、その光軸まわりに９０°の角度ピッチで光軸から等距離に配置されている。そして、ダイクロイックミラー３を透過した光は反射ミラー２２で反射し、フィールドレンズ２３及び結像レンズ系２４を通過し、モニタ部２５上に光源像（光源１０のうち水銀ランプ１の像）を投影する。
【００１９】
図２は、結像レンズ系２４の２系統の組み合わせレンズを介してモニタ部２５上に投影される光源像を、図１のＣ矢視図から見た拡大図である。２系統の組み合わせレンズがフィールドレンズ２３の光軸まわりに９０°の角度ピッチで光源からほぼ等距離に配置されているので、モニタ部２５上にはフィールドレンズ２３の光軸とモニタ部２５との交点のまわりに９０°の角度ピッチで、その交点からほぼ等距離に投影される円形視野２６内に結像される。
【００２０】
図２において、正方形の枠２７は表示装置における観察領域であり、光源像を囲む円形の枠２６は結像レンズ系２４の結像領域を表示する領域である。そして、観察領域２７のうち左下部分に示す十字はモニタ部２５とフィールドレンズ２３の光軸ＡＸとの交点（ＡＸで示す）である。また、観察領域２７のうち右下部分には、結像レンズ系２４によって結像された陰極を左方向即ちＡＸ方向、陽極をその反対方向においた光源の像が表示されており、左上部分には、陰極を下方向即ちＡＸ方向、陽極をその反対方向においた光源の像が表示されている。このように、表示装置によってＸ軸及びＹ軸方向から水銀ランプ１の光源像を観察することができる。そして、モニタ装置２０は水銀ランプ１の発光部である陰極及び陽極の位置を観察し、アーク像の輝点の変動を監視するのに用いられる。なお、モニタ部２５は、例えば撮像管や撮像素子で構成される。
【００２１】
なお、結像レンズ系２４に結像倍率を変更できる倍率調整機構を設け、モニタ部２５に投影する光源像の大きさを適宜変更するようにしてもよい。倍率調整機構を用いて結像レンズ系２４の倍率を大きく設定することにより、モニタ部２５上の拡大された光源像を表示装置に表示しながら水銀ランプ１の陰極及び陽極の位置決めを容易に行うことができる。一方、倍率調整機構を用いて結像レンズ系２４の倍率を小さく設定することにより、モニタ部２５上の比較的縮小された光源像を観察しながらランプ１全体の傾きやアーク像のゆらぎなどを観察できる。
そして、図２には倍率を大きく設定した場合の例が示されており、表示装置における領域２６には等長の破線の線分からなる十文字の指標パターンが設けられている。こうすることにより、拡大光源像において陰極と陽極の位置出しが容易になる。
【００２２】
図１に戻って、水銀ランプ１はこの水銀ランプ１の位置を調整する保持部４０に保持されている。水銀ランプ１は保持部４０により楕円鏡２とは独立に保持されている。この保持部４０は水銀ランプ１をＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向に移動可能となっており、水銀ランプ１の楕円鏡２に対する相対的な、あるいは照明光学系ＩＬに対する相対的な位置決めが可能となっている。そして、保持部４０を駆動することにより、水銀ランプ１はＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向へ移動することができ、楕円鏡２（照明光学系ＩＬ）に対して位置決め可能となる。保持部４０の駆動により水銀ランプ１がＸ軸方向に移動すると、この様子は図２の右下の光源像が図中上下方向に移動することで観察できる。また、水銀ランプ１がＹ軸方向に移動すると、この様子は図２の左上の光源像が図中左右方向に移動することで観察できる。更に、水銀ランプ１がＺ軸方向に移動すると、この様子は図２の右下の光源像が図中左右方向に移動するとともに、左上の光源像が図中上下方向に移動することで観察できる。
【００２３】
図１に示すように、光源１０はランプハウス（ハウジング部、ダクト）Ｈに収容されている。本実施形態において、ハウジング部Ｈは、光源１０と、照明光学系ＩＬの一部であるダイクロイックミラー３、シャッタ４、及びコリメータレンズ５と、モニタ装置２０とを収容している。ハウジング部Ｈの図中、上部にはハウジング部Ｈの内部と外部と連通する第１流路（ダクト）３１が設けられている。一方、ハウジング部Ｈの下部には第２流路（ダクト）３２を介して冷却ユニット（冷却手段）３０が接続されている。冷却ユニット３０にはファン３４が設けられており、制御装置ＣＯＮＴの制御により単位時間当たり所定の回転数で回転する。ファン３４が回転することにより、図中、矢印Ｆで示すように、第１流路３１を介してハウジング部Ｈに対して外部よりガスが流通され、ハウジング部Ｈに気体流が生成される。そして、ハウジング部Ｈを流れたガスは第２流路３２を介して冷却ユニット３０に流通され、冷却ユニット３０の内部と外部とを連通する第３流路３３を介して外部に排出される。
【００２４】
ここで、第１流路３１及び第２流路３２を含むハウジング部Ｈは、冷却ユニット３０のファン３４の回転により気体が流通されるダクトを構成している。したがって、光源１０の楕円鏡２はダクトとしてのハウジング部Ｈに囲まれた構成となっている。そして、冷却ユニット３０のファン３４の回転に基づき楕円鏡２とハウジング部（ダクト）Ｈとの間に気体流が生成されることにより、水銀ランプ１の周囲の温度が調整（冷却）されるようになっている。そして、制御装置ＣＯＮＴは、ファン３４の単位時間当たりの回転数を調整することにより、水銀ランプ１の周囲の温度を調整可能である。具体的には、制御装置ＣＯＮＴはファン３４を高速回転することによりハウジング部Ｈに生成される気体流の速度を上げ、水銀ランプ１の周囲の温度を低く設定可能である。一方、制御装置ＣＯＮＴはファン３４を低速回転することによりハウジング部Ｈに生成される気体流の速度を下げて水銀ランプ１の周囲の温度を比較的高く設定可能である。そして、制御装置ＣＯＮＴは、水銀ランプ１の水銀が蒸発可能、且つ水銀ランプ１が破損しない程度の所定の温度範囲にハウジング部Ｈの内部（水銀ランプ１の周囲の温度）の温度調整をする。
【００２５】
また、ハウジング部Ｈ内には、水銀ランプ１の陽極側の口金部１Ａ及び陰極側の口金部１Ｂに対してガス（圧縮空気）をそれぞれ吹き付けるノズル３６、３７が設けられている。ノズル３６、３７は不図示のガス供給装置に接続されており、ノズル３６、３７のそれぞれから供給されるガスにより口金部１Ａ、１Ｂは強制空冷される。
【００２６】
ハウジング部Ｈの外部には、光源１に対して電力を供給する電源装置５０が設けられている。電源装置５０は、スタータ５１と電力供給線５２を介して接続している。スタータ５１は電源装置５０からの電力に基づき水銀ランプ１を始動（点灯）するものであってハウジング部Ｈの外部に設けられている。更に、スタータ５１と水銀ランプ１とは電力供給線５３により接続されている。したがって、電源装置５０から出力された電力は、電力供給線５２、スタータ５１、及び電力供給線５３を介して水銀ランプ１に供給される。そして、これら電源装置５０、スタータ５１、電力供給線５２、５３、及びハウジング部Ｈに収容されている光源１０を含んで光源装置１００が構成されている。ここで、本実施形態における光源１０には水銀ランプ１が用いられているため、電源装置５０及びスタータ５１により、水銀ランプ１に電力を供給してこの水銀ランプ１を発光させる点灯装置が構成される。
【００２７】
図１に示すように、光源装置１００の複数の所定位置には、この所定位置の温度を検出する複数の温度検出装置６０がそれぞれ設けられている。温度検出装置６０は、ハウジング部Ｈの内部空間の複数の所定位置、及び水銀ランプ１と電源装置５０との間の電気的接続部６２、６４、６６又はその近傍に設けられている。温度検出装置６０は、例えばサーモスタットにより構成されている。
【００２８】
ハウジング部Ｈの内部に設けられている複数の温度検出装置６０のうち、一部の温度検出装置６０Ａは、楕円鏡２とダクトとしてのハウジング部Ｈとの間の複数箇所に設けられている。具体的には、温度検出装置６０Ａは、楕円鏡２の周囲に設けられた楕円鏡カバー２Ａに取り付けられている。すなわち、温度検出装置６０Ａは、水銀ランプ１を冷却するために冷却ユニット３０のファン３４により生成された気体流が流れる位置に取り付けられている。そして、温度検出装置６０Ａは、水銀ランプ１（楕円鏡２）を取り囲むように等間隔で複数設けられている。温度検出装置６０Ａが水銀ランプ１の周囲を取り囲むように等間隔で設けられていることにより、水銀ランプ１の温度異常を精度良く検出可能となる。また、この位置はファン３４により生成される気体流が発生するところなので、温度異常が生じたら、温度異常の原因がファン３４の異常（故障）であることを容易に特定できる。
【００２９】
一方、ハウジング部Ｈの内部空間に設けられた複数の温度検出装置６０のうち、温度検出装置６０Ａ以外は、ハウジング部Ｈの任意の位置に設けられている。
本実施形態では、温度検出装置６０Ｂが水銀ランプ１と離れた位置に設けられている。水銀ランプ１と離れた位置に設けられることによりこの温度検出装置６０Ｂは水銀ランプ１の熱によるダメージを受けにくくなるので、水銀ランプ１の熱に起因する故障の発生を抑制される。
【００３０】
水銀ランプ１と電源装置５０との間の複数の電気的接続部のそれぞれに設けられている複数の温度検出装置６０のうち、温度検出装置６０Ｃは、電源装置５０と電力供給線５２との接続部６２に取り付けられている。また、スタータ５１と電力供給線５２との接続部６４には温度検出装置６０Ｄが設けられている。更に、スタータ５１と電力供給線５３との接続部６６には温度検出装置６０Ｅが設けられている。
【００３１】
図３は、光源装置１００のうち光源１０に電力を供給する電源装置５０を示す図である。
図３に示すように、電源装置５０は、電力制御部５０Ａと、電力ドライバ部５０Ｂとを有している。電力制御部５０Ａは制御装置ＣＯＮＴに接続しており、制御装置ＣＯＮＴは所定値の電力（電流、電圧）を水銀ランプ１に供給するように電力制御部５０Ａに対して指令信号を送る。電力制御部５０Ａは制御装置ＣＯＮＴからの指令信号に基づいて電力ドライバ部５０Ｂを駆動する。電力ドライバ部５０Ｂはスタータ５１に対して所定値の電力を送り、スタータ５１は水銀ランプ１を点灯させる。
【００３２】
複数の温度検出装置６０（６０Ａ〜６０Ｅ）は互いに直列に接続され、電源装置５０に連結している。なお、複数の温度検出装置６０のそれぞれは並列で電源装置５０に連結していてもよい。そして、温度検出装置６０Ａ〜６０Ｅの温度検出結果に基づいて電源装置５０の駆動が制御される。すなわち、光源装置１００の複数の所定位置のそれぞれに設けられている温度検出装置６０Ａ〜６０Ｅのうち少なくとも１つの温度検出装置６０が予め設定されている所定値以上の温度を検出したら、電源装置５０による水銀ランプ１に対する電力の供給が遮断、あるいは抑制されるようになっている。更に、温度検出装置６０Ａ〜６０Ｅのそれぞれの検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力されるようになっており、制御装置ＣＯＮＴは、複数の温度検出装置６０Ａ〜６０Ｅのうちいずれの温度検出装置が温度異常を検出したかをモニタできるようになっている。更に、制御装置ＣＯＮＴは、温度異常を検出した温度検出装置６０の位置、すなわち温度異常発生箇所を不図示の表示装置で表示する。したがって、表示装置の表示に基づき、温度異常発生箇所を容易に且つ迅速に特定できるようになっている。
【００３３】
図４は、電気的接続部の一例を示す模式図であって、スタータ５１に接続する電力供給線５２（５３）の拡大図である。図４において、スタータ５１の接続部材５１Ａには、電力供給線５２の端部に設けられた圧着端子５２Ａがボルト部材５５により接続されている。そして、圧着端子５２Ａが接続された接続部材５１Ａの近傍には温度検出装置６０Ｄが取り付けられている。
【００３４】
次に、上述した構成を備える光源装置１００及びこの光源装置１００を備えた露光装置ＥＸの動作について説明する。
露光処理をするに際し、制御装置ＣＯＮＴは電源装置５０の電力制御部５０Ａに、水銀ランプ１に供給すべき電力に関する指令信号を送る。電源装置５０Ａは電力ドライバ部５０Ｂより水銀ランプ１に電力を供給させる。電源装置５０の電力ドライバ部５０から供給された電力は電力供給線５２を介してスタータ５１に供給され、スタータ５１は電力供給線５３を介して水銀ランプ１に電力を供給することにより水銀ランプ１を発光させる。また、制御装置ＣＯＮＴは、予め設定されている単位時間当たり所定の回転数でファン３４を回転し、ハウジング部Ｈの内部に気体流を生成して水銀ランプ１及びその周囲の温度を調整する。
【００３５】
ここで、複数の温度検出装置６０Ａ〜６０Ｅのうち楕円鏡２の周囲に設けられている温度検出装置６０Ａが温度異常（温度上昇）を検出したとする。すると、温度検出装置６０Ａは電源装置５０からの電力の供給を遮断あるいは抑制する。
これにより水銀ランプ１には電力が供給されなくなる（あるいは僅かな電力が供給される）状態となるため、水銀ランプ１はこれ以上温度上昇しない。したがって、温度異常に起因する水銀ランプ１の故障や破損といった不都合の発生を未然に回避できる。
更に、制御装置ＣＯＮＴは温度検出装置６０Ａの検出結果に基づいて、温度異常発生箇所（すなわち気体流が生成されている楕円鏡２の周囲）を特定することができる。そして、この特定した結果を表示装置で表示することにより、例えば作業者は、ファン３４に不具合が発生したことを特定でき、適切な処置を迅速に施すことができる。
【００３６】
一方、複数の温度検出装置６０Ａ〜６０Ｅのうち、図４を用いて説明した温度検出装置６０Ｄが温度異常（温度上昇）を検出したとする。
すなわち、例えば振動が発生し、圧着端子５２Ａの接続が弛んで接続不良が生じるとこの接続不良部における電気抵抗値が増大し、電流が流れることにより接続不良部は加熱する。そして、温度検出装置６０Ｄはこの接続不良に起因する温度異常を検出したとする。温度検出装置６０Ｄは温度検出結果に基づいて電源装置５０からの電力の供給を遮断（あるいは抑制）する。これにより圧着端子５２Ａには電力が供給されず、したがってこれ以上の温度上昇が抑えられ、圧着端子５２Ａや接続部近傍の各部材の焼損といった不具合の発生を未然に防ぐことができる。
更に、制御装置ＣＯＮＴは温度検出装置６０Ｄの検出結果に基づいて、温度異常発生箇所（すなわち接続不良部）を特定することができる。そして、この特定した結果を表示装置で表示することにより、例えば作業者はこの接続不良部に対して適切な処置を迅速に施すことができる。
【００３７】
そして、複数の温度検出装置６０Ａ〜６０Ｅのうちのある温度検出装置が故障して温度検出不能となった場合でも、別の温度検出装置は正常であって温度検出可能であるので、水銀ランプ１やハウジング部Ｈの内部、あるいは電気的接続部に温度異常が生じても、この温度異常を前記正常な温度検出装置で検出可能である。したがって、水銀ランプ１の破損や電気的接続部の焼損といった不都合の発生を未然に防止することができる。
【００３８】
なお、上記実施形態では、ハウジング部（ダクト）Ｈに気体流を生成するために冷却ユニット３０のファン３４を回転する構成であるが、ファン３４の回転によらずに、例えば不図示のガス供給装置により楕円鏡２の周囲に直接ガスを吹き付けるようにしてもよい。
【００３９】
上記実施形態では、ダクトとしてのハウジング部Ｈは楕円鏡２全体を囲む構成であるが、少なくとも一部を囲んでいる構成であっても構わない。すなわち、楕円鏡２の少なくとも一部を気体流を生成するためのダクトで囲み、その他の部分を気体流を生成しないハウジング部で囲む構成とすることが可能である。
【００４０】
また、上記実施形態におけるファン３４はハウジング部Ｈの内部のガスを吸い込む方向に回転する構成であるが、もちろん、ハウジング部Ｈに対してガスを供給する方向に回転する構成であっても構わない。
【００４１】
なお、上記実施形態では、複数の温度検出装置を互いに離間して設置するように説明したが、１つの所定位置に対して複数の温度検出装置を互いに近接して設置するようにしてもよい。こうすることにより、１つの所定位置に設置された複数の温度検出装置のうちのある温度検出装置が故障しても他の温度検出装置で前記所定位置の温度検出を行うことができる。
【００４２】
なお、本実施形態の露光装置ＥＸとして、マスクＭと感光基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを露光する走査型の露光装置に適用することができる。
あるいは、本実施形態の露光装置ＥＸとして、マスクＭと感光基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し感光基板Ｐを順次ステップ移動するステップ・アンド・リピート型の露光装置にも適用することができる。
【００４３】
本実施形態の露光装置ＥＸとして、投影光学系ＰＬを用いることなくマスクＭと感光基板Ｐとを密接させてマスクＭのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用することができる。
【００４４】
露光装置ＥＸの用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。
【００４５】
本実施形態の露光装置ＥＸの光源は、ｉ線（３６５ｎｍ）のみならず、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）でもよい。更には、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）を用いることもできる。
【００４６】
投影光学系ＰＬの倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（マスクも反射型タイプのものを用いる）、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればいい。なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもない。
【００４７】
基板ステージＰＳＴやマスクステージＭＳＴにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。
【００４８】
ステージの駆動装置として平面モ−タを用いる場合、磁石ユニット（永久磁石）と電機子ユニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットの他方をステージの移動面側（ベース）に設ければよい。
【００４９】
基板ステージＰＳＴの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【００５０】
マスクステージＭＳＴの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【００５１】
半導体デバイスは、図５に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板（ウエハ、ガラスプレート）を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを基板に露光する基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００５２】
【発明の効果】
光源装置の複数の所定位置に温度検出装置をそれぞれ設けたので、１つの温度検出装置が故障しても他の温度検出装置により光源装置の温度異常を検出できる。そして、光源や光源近傍に温度異常が生じた場合には他の温度検出装置により電源装置の駆動が停止されるので、温度異常により光源が破損するといった不都合の発生を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光源装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】モニタ部上に投影される光源像を示す図である。
【図３】光源装置を説明するための図である。
【図４】電気的接続部の一例を示す図である。
【図５】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
１　　水銀ランプ（光源）
２　　楕円鏡
１０　　光源
３０　　冷却ユニット（冷却手段）
３１　　第１流路（ダクト）
３２　　第２流路（ダクト）
３４　　ファン（冷却手段）
５０　　電源装置（点灯装置）
５１　　スタータ（点灯装置）
６０（６０Ａ〜６０Ｅ）　　温度検出装置
６２、６４、６６　　電気的接続部
１００　　光源装置
ＥＸ　　露光装置
Ｈ　　ハウジング部（ダクト）
ＩＬ　　照明光学系
Ｍ　　マスク
Ｐ　　感光基板（基板）
ＰＬ　　投影光学系
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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