(57)【要約】【課題】窒化ガリウム系半導体基板のように比較的硬質で研磨の困難性の高い被研磨物の研磨作業を安価かつ簡易に行うことができるようにする研磨組成物の提供や、この研磨組成物を用いて窒化ガリウム系半導体を主に研磨できるようにする。【解決手段】例えばコロイダルシリカなどの軟質砥粒と例えばダイヤモンドまたはアルファアルミナなどの硬質砥粒とが分散媒としての純水に分散されるとともに、研磨促進剤および殺菌剤が含まれている研磨組成物６である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟質砥粒と硬質砥粒とが分散媒としての水に分散されている、ことを特徴とする半導体基板用研磨組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体基板用研磨組成物において、
前記水は比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上である、ことを特徴とする半導体基板用研磨組成物。
【請求項３】
請求項１または２のいずれかに記載の半導体基板用研磨組成物において、
研磨促進剤および殺菌剤が含まれている、ことを特徴とする半導体組成物。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の半導体基板用研磨組成物において、
前記硬質砥粒は、平均粒径が１００〜１０００ｎｍのダイヤモンドまたはアルファアルミナからなる、ことを特徴とする半導体基板用研磨組成物。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の半導体基板用研磨組成物において、
前記軟質砥粒は、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、コロイダルアルミナ、ヒュームドアルミナ、ベータアルミナ、ヒュームドチタニアのうちの少なくともいずれか一つである、ことを特徴とする半導体基板用研磨組成物。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の半導体基板用研磨組成物において、
前記軟質砥粒の平均粒子径が前記硬質砥粒の平均粒子径の２／３以下１／２０以上の範囲にある、ことを特徴とする半導体基板研磨組成物。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の半導体基板用研磨組成物において、
前記軟質砥粒と前記硬質砥粒の重量比が硬質砥粒１に対して、少なくとも軟質砥粒２．５以上２５以下の範囲にある、ことを特徴とする半導体基板用研磨組成物。
【請求項８】
請求項３に記載の半導体基板用研磨組成物において、
前記殺菌剤は、過酸化水素、アンモニア、有機アミンのうちのいずれか一つである、ことを特徴とする半導体基板用研磨組成物。
【請求項９】
請求項８に記載の半導体基板用研磨組成物において、
前記有機アミンは、ピペラジン、アミノエチルエタノール、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンのうちのいずれか一つである、ことを特徴とする半導体基板用組成物。
【請求項１０】
請求項３に記載の半導体基板用研磨組成物において、
前記研磨促進剤は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、一塩基酸、二塩基酸、および、リン酸のうちの少なくともいずれか一つを含むものである、ことを特徴とする半導体基板用研磨組成物。
【請求項１１】
請求項７に記載の半導体基板用研磨組成物において、
前記硬質砥粒としてダイヤモンド０．２〜２．０重量％、前記軟質砥粒０．４〜２０．０重量％、前記研磨促進剤０．１〜５．０重量％、前記殺菌剤０．０２〜２重量％および残部が水からなる、ことを特徴とする半導体基板用研磨組成物。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の半導体基板用研磨組成物を用いて窒化ガリウム系化合物半導体基板を研磨する、ことを特徴とする半導体基板研磨方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の半導体基板研磨方法において、
被研磨物の被研磨面に対して対向する研磨面を備えるとともに、その対向する方向に沿った軸心周りで回転される研磨具の前記被研磨物に対する研磨荷重が５０〜９００ｇｆ／ｃｍ２で、前記研磨具の研磨面の外周における移動速度が２５〜２５０ｍ／ｍｉｎである、ことを特徴とする半導体基板研磨方法。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の半導体基板研磨方法において、
前記半導体基板用組成物は、研磨時に１０℃以上８０℃以下の温度範囲で用いられる、ことを特徴とする半導体基板研磨方法。
【請求項１５】
請求項１２ないし１４のいずれかに記載の半導体基板研磨方法において、
研磨用の定盤に研磨パッドを貼り付けた状態で、前記半導体組成物を用いて半導体基板を研磨する、ことを特徴とする半導体基板研磨方法。
【請求項１６】
請求項１２ないし１５のいずれかに記載の半導体基板研磨方法において、
前記研磨組成物を用いて前記被研磨物を研磨する工程の後、前記硬質粒子が含まれていない研磨組成物を用いて仕上げ研磨する、ことを特徴とする半導体基板研磨方法。
【請求項１７】
請求項１５または１６のいずれかに記載の半導体基板研磨方法において、
被研磨物を研磨するとき、前記研磨パッドの圧縮率は、１．０〜２０ｖｏｌ％である、ことを特徴とする半導体基板研磨方法。
【請求項１８】
請求項１６に記載の半導体基板研磨方法において、
前記仕上げ研磨は、前記軟質砥粒、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸および純水のみにより構成される研磨組成物のみが研磨剤として用いられる、ことを特徴とする半導体基板研磨方法。
【請求項１９】
請求項１２ないし１８のいずれかに記載の半導体基板研磨方法において、
前記研磨された後の被研磨物の被研磨面の表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）が２０オングストローム以下で、かつ前記被研磨面の厚さばらつき（ＴＴＶ）が２０μｍ以下である、ことを特徴とする半導体基板研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、青色発光ダイオードや青紫色半導体レーザに用いられる窒化ガリウム系半導体基板の研磨に主として供される研磨組成物およびこの研磨組成物を用いた半導体基板研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、大口径の窒化ガリウム基板（ウェハ）を精密仕上げするまでの研磨方法として次のような方法が提案されている（特許文献１参照）。大きな粒子からなる砥粒で研磨除去速度が１２μｍ／ｈｒ前後の高速研磨を行い、その後、段階を経て順次小さな粒径（０．１〜０．５μｍ）の多結晶ダイヤモンド砥粒に切り換え、研磨除去速度１μｍ／ｈｒまで徐々に遅くしながら研磨していくことで基板表面の平坦性を大幅に改善する方法である。最後に基板に残った表面ダメージ層（スクラッチや加工変質層（以下、潜傷と称する））を除去するために、ＲＩＥを用いて低いエッチングレート（３００ｎｍ／ｍｉｎ以下）で基板の表面をエッチングして、スクラッチや潜傷を取り去る。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００１−３２２８９９
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のようにＲＩＥ法により最終的な平坦化処理を行うものにおいても、以下のような問題がある。
【０００５】
すなわち、湿式研磨した後に洗浄、乾燥を行い、次いで基板をチャンバーにセットしプロセスガスとして塩素ガスを流しつつ高周波電源を用いてＲＩＥエッチング（５０℃）処理を施さなければならないという問題である。具体的にいうと、湿式の研磨工程から乾式のＲＩＥエッチング工程に移行することによる加工工程の複雑さ、その工程の長さや、塩素ガスを使用するための設備対策費用などによりコスト増大は避けられない。ところで、従来の３μｍ／ｈｒ以上の研磨速度で研磨した後に引き続き湿式研磨でスクラッチや潜傷を発生させることなく平坦化する方法があれば、ＲＩＥ工程を省略することができ、大幅なコストダウンを図ることが期待できる。
【０００６】
本発明は、上記実状に鑑みてなされたものであって、窒化ガリウム系半導体基板のように比較的硬質で研磨の困難性の高い被研磨物の研磨作業を安価かつ簡易に行うことができるようにすることを解決しようとする課題としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る研磨組成物は、軟質砥粒と硬質砥粒とが分散媒としての水に分散されている、ことを特徴とする。
【０００８】
ここで、軟質砥粒は、ビッカース硬さ試験によるその硬度が４００〜１０００ｋｇ／ｍｍ２の砥粒であることが好ましく、硬質砥粒は、ビッカース硬さ試験によるその硬度が１３００〜６０００ｋｇ／ｍｍ２の砥粒であることが好ましい。なお、軟質砥粒と硬質砥粒として同じ硬度の砥粒を用いることはない。
【０００９】
本発明に係る研磨組成物によれば、硬質砥粒とは別に軟質砥粒も含まれた複合的な砥粒となっているために、硬質砥粒の被研磨面への強い接触が軟質砥粒で緩和されることになる。すなわち、軟質砥粒によって硬質砥粒同士が凝集することが妨げられることで、微小な硬質砥粒でも被研磨面にスクラッチや潜傷を発生させる原因として考えられる凝集体の発生が抑制される。これにより、被研磨面に硬質砥粒が強くかみつかないよう軟質砥粒の緩衝作用が働いて被研磨面にスクラッチや潜傷が発生しないようにでき、高精度の平坦性を有する被研磨面を得ることができる。また、そのようにスクラッチや潜傷を発生させることなく、所望の高速研磨を行えるので、効率的な研磨ができる。例えば硬質砥粒としてダイヤモンドと軟質砥粒とを組み合わせた研磨組成物の場合、比較的高い研磨圧力での研磨や研磨時の温度を比較的高い状態で研磨できるようになるから、研磨速度も１μｍ／ｈｒ以上にすることができる。なお、研磨後の被研磨面におけるスクラッチが深さ１００オングストローム以下であればよいのであって、全くスクラッチや潜傷が無い状態に研磨しなければならないというわけではなく、少なくとも上記スクラッチ深さの条件達成により課題解決ができたことになる。これにより、ＲＩＥ加工などの超精密な平坦化加工を別途行わなくても半導体基板の所望の仕上げ研磨が十分行える。このため、湿式研磨を行うだけで最終工程である仕上げ研磨まで行えるので、設備費用も少なくできるとともに、その研磨加工の効率が向上し、生産性が高められる。さらに、水を砥粒の分散媒としているので、油性の分散媒を用いた場合に比して樹脂製研磨パッドを傷めにくいから、その研磨パッド寿命が長くなるなどの利点もある。
【００１０】
本発明に係る研磨組成物は、前記水は比抵抗が１ＭΩ・ｃｍ以上であることが好ましい。この場合、前記水は、例えばイオン交換器により水中の陽イオン成分や陰イオン成分を除去するなどにより純水または超純水を製造する装置から得られる水（純水または超純水）であることが好ましい。
【００１１】
本発明に係る研磨組成物は、研磨促進剤および殺菌剤が含まれていることが好ましい。前記研磨促進剤は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、一塩基酸、二塩基酸、および、リン酸のうちの少なくともいずれか一つを含むものであることが好ましい。研磨促進剤により化学的研磨作用などが促進されるので、研磨速度が高まり、作業効率が向上する。また、殺菌剤は、過酸化水素、アンモニア、有機アミンのうちのいずれか一つであることが好ましい。この場合、前記有機アミンは、ピペラジン、アミノエチルエタノール、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンのうちのいずれか一つであることが好ましい。すなわち、水を分散媒として用いていることでバクテリアなどの細菌類が研磨組成物中に増殖し、研磨装置や研磨組成物を循環する装置や管路などを汚染するおそれがあるけれども、殺菌剤により細菌類の増殖が発生しないよう殺菌できるので、細菌類の汚染箇所を清浄化する作業や汚染による配管交換などが不要になり、工事費用の省略を図れるし、清掃作業などのためのプラント停止が回避できる。なお、過酸化水素を利用した殺菌剤の場合、液中に過酸化水素が少なくとも２００ｐｐｍ以上研磨組成物中に含まれていると殺菌効果がある。アンモニアの場合は、０．１重量％以上研磨組成物中に含まれていると殺菌効果がある。上記に示した各有機アミンについては、殺菌作用のみならず、金属イオンをトラップするので、被研磨物として例えば窒化ガリウム系化合物半導体の基板表面の金属イオンによる汚染を低減できる。
【００１２】
本発明に係る研磨組成物は、前記硬質砥粒は、平均粒径が１００〜１０００ｎｍのダイヤモンドまたはアルファアルミナからなることが好ましい。硬質砥粒の平均粒径が１００ｎｍよりも小さいと、研磨速度が遅くなって作業効率を低下させる。硬質砥粒の平均粒径が１０００ｎｍより大きいと、被研磨面の面粗さの点で平坦度の高い所望の表面状態が得られない。従って、上記のように硬質砥粒の平均粒径を設定していることによって、研磨作業効率を必要以上に低下させることなく、平坦度の高い研磨を行うことができる。上記の粒径範囲の微小粒ダイヤモンドやアルファアルミナの場合、スクラッチや潜傷を発生させないように研磨することができるのみならず、安価な研磨組成物にできる。
【００１３】
本発明に係る研磨組成物は、前記軟質砥粒は、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、コロイダルアルミナ、ヒュームドアルミナ、ベータアルミナ、ヒュームドチタニアのうちの少なくともいずれか一つであることが好ましい。
【００１４】
本発明に係る研磨組成物は、前記軟質砥粒の平均粒子径が前記硬質砥粒の平均粒子径の２／３以下１／２０以上の範囲にあることが好ましい。この場合、軟質砥粒が硬質砥粒と被研磨面との間に入り込み易くなるため、硬質砥粒の被研磨面へのかみこみが軟質砥粒によって抑制され易くなる。
【００１５】
本発明に係る研磨組成物は、前記軟質砥粒と前記硬質砥粒の重量比が硬質砥粒１に対して、少なくとも軟質砥粒２．５以上２５以下の範囲にあることが好ましい。この場合、軟質砥粒が硬質砥粒の２．５倍〜２５倍程度含まれていると、軟質砥粒が硬質砥粒の凝集を抑制するとともに、軟質砥粒が硬質砥粒と被研磨面との間に入り込み易くなり、緩衝材として十分機能するため、硬質砥粒の被研磨面へのかみこみが抑制され易くなり、スクラッチや潜傷の発生が十分抑制される。
【００１６】
本発明に係る研磨組成物は、前記硬質砥粒としてダイヤモンド０．２〜２．０重量％、前記軟質砥粒０．４〜２０．０重量％、前記研磨促進剤０．１〜５．０重量％、前記殺菌剤０．０２〜２重量％および残部が水からなることが好ましい。
ダイヤモンドはその密度が３．５ｇ／ｃｍ３であるから、ダイヤモンドの砥粒は水の分散媒中では静置により沈降していくが、上記割合で軟質砥粒が含まれていることにより、沈降したダイヤモンド砥粒の凝集が生じないように軟質砥粒が機能する。そのため、凝集したダイヤモンド砥粒により研磨時にスクラッチや潜傷が発生するという不具合も解消できる。なお、ダイヤモンド砥粒が沈降していても、超音波による振動を与えることによって容易に分散状態に戻すことができる。また、軟質砥粒が含まれることによってもダイヤモンド砥粒の分散性が高めれられることになる。また、軟質砥粒の含有比率（濃度）を０．４〜２０．０重量％とすることは、本発明の研磨組成物において軟質砥粒が常時安定に存在できる濃度を定めている。硬質砥粒と軟質砥粒との関係は、硬質砥粒濃度は小さく、軟質砥粒濃度が大きくなることが好ましく、研磨速度の点から硬質砥粒濃度が０．２重量％よりも低いと、通常必要な研磨速度である１μｍ／ｈｒを維持できなくなる。硬質砥粒濃度が２．０重量％よりも濃いものとなると、硬質砥粒の凝集が生じやすくなることでスクラッチや潜傷の発生の抑制の解消が図れにくくなる点で硬質砥粒濃度の上限となる。軟質砥粒についての濃度上限として２０．０重量％としているのは、特に粒子径１００ｎｍ以下のコロイダルシリカを使用する場合においては２０．０重量％を越えた濃度となっていると、研磨組成物のゲル化が急速に生じるおそれが高いためである。一旦ゲル化するとその研磨組成物を元の分散状態に戻すことが困難である。
【００１７】
本発明に係る半導体基板の研磨方法は、請求項１ないし１２のいずれかに記載の半導体基板用研磨組成物を用いて窒化ガリウム系化合物半導体基板を研磨することを特徴とする。
【００１８】
本発明に係る半導体基板の研磨方法によれば、シリコンウェハなどと比較して硬質の半導体基板である窒化ガリウム系化合物半導体基板（ビッカース硬度が１０００〜１３００ｋｇ／ｍｍ２程度である）を研磨するのに、ダイヤモンドあるいはアルファアルミナ（コランダム）などの硬質砥粒を用いることにより研磨レートを十分大きくとった研磨を行うことができながらも、そのような硬質の砥粒のみで研磨したときのように、スクラッチや潜傷が研磨面に不当に残ってしまうという不具合も解消できるに至った。したがって、ＲＩＥ加工などの超精密な平坦化加工を別途行わなくても窒化ガリウム系化合物半導体基板の研磨が十分行えることになる。このため、窒化ガリウム系化合物半導体基板の研磨工程としては湿式研磨を行うだけで精密研磨まで行え、湿式研磨工程のみで最終研磨工程まで行うことができるので、設備費用も少なくできるとともに、その研磨加工の効率が向上し、生産性が高められる。
【００１９】
本発明に係る半導体基板の研磨方法は、被研磨物の被研磨面に対して対向する研磨面を備えるとともに、その対向する方向に沿った軸心周りで回転される研磨具の前記被研磨物に対する研磨荷重が５０〜９００ｇｆ／ｃｍ２で、前記研磨具の研磨面の外周における移動速度が２５〜２５０ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。この場合、被研磨物の被研磨面における研磨除去速度（研磨レート）が０．５〜２．０μｍ／ｈｒの比較的迅速で、かつ精密な平坦化加工を研磨によって行うことができる。研磨荷重や、研磨具の外周における移動速度（周速）が上記値の上限よりも大きい場合、研磨具に貼り付けた研磨パッドが挫屈する可能性が高くなることで、被研磨物の平坦性が損なわれるおそれがあるとともに、研磨パッドの寿命を短くしてしまうおそれがあるが、上記範囲内であれば研磨パッドの寿命も適正なものとなる。
【００２０】
本発明に係る半導体基板の研磨方法は、前記半導体基板用研磨組成物は、研磨時に１０℃以上８０℃以下の温度範囲で用いられることが好ましい。この場合、研磨組成物の研磨時における温度が高いほど研磨レートが高められるので有効であり、したがって、必要な研磨レートにできる温度として１０℃以上に研磨組成物の温度が設定され、研磨パッドなどを用いた場合そのパッドの寿命を十分長く使用できる研磨温度として８０℃以下であることが認められるので、研磨レートと研磨パッドの寿命とが適正なものにできる。
【００２１】
本発明に係る半導体基板の研磨方法は、研磨用の定盤に研磨パッドを貼り付けた状態で、前記半導体組成物を用いて半導体基板を研磨することが好ましい。この場合、研磨パッドは引っ張り強度に強く、耐摩耗性ある樹脂を金属定盤に貼り付けた状態で研磨することにより、被研磨物に対するスクラッチや潜傷の発生を抑制できる。直接金属定盤上で研磨する場合、研磨中に硬質砥粒（例えばダイヤモンド）が定盤に突き刺さって残るおそれがあり、そのような硬質砥粒が研磨の際固定砥粒として機能することによって、窒化ガリウム系化合物半導体基板にスクラッチや潜傷が発生することがあるけれども、研磨パッドにより硬質砥粒が金属定盤に突き刺さらないようになっているから、硬質砥粒が研磨の際固定砥粒として機能することもない。
【００２２】
本発明に係る半導体基板の研磨方法は、前記研磨組成物を用いて前記被研磨物を研磨する工程の後、前記硬質砥粒が含まれていない研磨組成物を用いて仕上げ研磨することが好ましい。この場合、仕上げ研磨において硬質砥粒による研磨がないので、研磨レートは低いものの、被研磨面の平坦度は著しく精度のよいものにできる。
【００２３】
本発明に係る半導体基板の研磨方法は、被研磨物を研磨するとき、前記研磨パッドの圧縮率は、１．０〜２０ｖｏｌ％であることが好ましい。研磨パッドが軟らか過ぎると研磨圧力に負けて押しひしがれることになり被研磨物の被研磨面の平坦度が粗悪なものとなるおそれが高く、一方研磨パッドが硬過ぎると平坦度がよいものとなるものの研磨パッドに硬質砥粒が突き刺さりやすくなることで硬質砥粒が固定砥粒として機能しスクラッチや潜傷が生じやすくなるが、研磨パッドが上記圧縮率に設定されていると、被研磨面の平坦度を良好なものとしながら、かつスクラッチや潜傷の発生を防ぐことができる。
【００２４】
本発明に係る半導体基板の研磨方法は、前記仕上げ研磨は、前記軟質砥粒、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸および純水のみにより構成される研磨組成物のみが研磨剤として用いられることが好ましい。この場合、平坦度の点で高精度の仕上げ研磨ができる。
【００２５】
本発明に係る半導体基板の研磨方法は、前記研磨された後の被研磨物の被研磨面の表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）が２０オングストローム以下で、かつ前記被研磨面の厚さばらつき（ＴＴＶ）が２０μｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２７】
図１を参照して、本発明に係る研磨組成物を用いて窒化ガリウム系半導体基板を研磨する工程を示している。この工程では、例えば脂肪酸、アルコール、高分子界面活性剤を主体とした非水溶媒系でなく、複合砥粒と研磨促進剤、殺菌剤、および水（ただし純水が望ましい）からなる本発明に係る新規な水溶性研磨組成物が用いられる。この研磨組成物は、研磨時に用いられる樹脂製研磨パッドを研磨作業において損傷することなくその長期使用を保証するものである。
【００２８】
図１には、窒化ガリウム化合物半導体基板の研磨に供される研磨装置１の要部が概略的に示されている。図１を参照して、研磨装置１は、円盤状の金属定盤２と、この金属定盤２の上方に対向する状態で被研磨物３を保持する保持側定盤４とを設けている。金属定盤２上には、研磨パッド５が貼り付けられている。この研磨パッド５は、表面がスエード調に加工された樹脂製のものである。保持側定盤４と金属定盤２のうち、少なくとも金属定盤２は上下方向に沿った縦軸心周りで回転駆動される。保持側定盤４は回転駆動するものでも、しないものでもよい。研磨時においては、被研磨物３であるワークに対して保持側定盤４を介して所望の研磨荷重が付与されるようにしている。
【００２９】
被研磨物３である窒化ガリウム系化合物半導体基板からなる半導体ウェハは、カラーなどの保持具（図示せず）により保持側定盤４に保持されている。研磨装置１には、研磨組成物として、研磨スラリー６を研磨位置に滴下供給する供給装置７が設けられているとともに、その供給装置７は研磨に供されたその研磨スラリーを回収して再び研磨箇所に供給できるように循環させるものである。
【００３０】
この研磨スラリー６は、硬質砥粒と軟質砥粒とを分散媒としての純水に分散し、さらにその各砥粒を水に分散したものには研磨促進剤および殺菌剤を混合して構成したものである。硬質砥粒としては、例えば微小粒のダイヤモンド、または、アルファアルミナを用いている。軟質砥粒としては、例えば、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、コロイダルアルミナ、ヒュームドアルミナ、ベータアルミナ、ヒュームドチタニアのうちの少なくともいずれか一つを用いている。分散媒としての水は、イオン交換器により製造された純水を用いている。この場合、その純水の比抵抗は１ＭΩ・ｃｍ以上であることが好ましい。ただし、分散媒としての水は、その比抵抗が１００ｋΩ・ｃｍ程度でも使用可能である。研磨促進剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、一塩基酸（Ｒ・ＣＯＯＭ）、二塩基酸（Ｒ・（ＣＯＯＭ）２）、および、リン酸のうちの少なくともいずれか一つを用いてもよい。ここで、一塩基酸、二塩基酸のＲは直鎖のアルキル基であり、Ｍは例えばカリウムやナトリウムなどから選択される金属を意味する。なお、研磨促進剤としては、例示しなかったその他のアルカリ金属の水酸化物などでもよい。殺菌剤としては、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、アンモニア、有機アミンのうち少なくとも１つを含む。また、殺菌剤としての有機アミンについては、ピペラジン、アミノエチルエタノール（ＡＥＥＡ）、エチレンジアミン（ＥＤＡ）、ジエチレントリアミン（ＤＥＴＡ）のうちのいずれか一つが選択されてもよい。これら有機アミンは、研磨時に研磨スラリーに取り込まれた金属イオンに配位して錯体をつくる傾向があるため、殺菌効果のみならず窒化ガリウム系化合物半導体基板の金属イオン汚染を抑制することにも寄与する。
【００３１】
本発明に係る研磨組成物の好ましい組成としては、ダイヤモンドが平均粒径１００〜６００ｎｍであり、これに対して軟質砥粒としてのコロイダルシリカが平均粒径３５〜１３０ｎｍである。そして、コロイダルシリカの粒径はダイヤモンドの粒径の２／３以下１／２０以上の範囲にあることがコロイダルシリカ砥粒によってダイヤモンド砥粒の凝集を抑制する上で好ましい。
【００３２】
また、硬質砥粒としてダイヤモンド０．２〜２．０重量％、軟質砥粒０．４〜２０．０重量％、研磨促進剤０．１〜５．０重量％、殺菌剤０．０２〜２重量％および残部が水からなる組成の研磨組成物が好ましい。
【００３３】
研磨パッド５は、その樹脂素材としてポリウレタンがある。また、研磨パッド５は、その非研磨時に対して研磨時における圧縮率が１．０〜２０ｖｏｌ％であることが精密研磨を行う上で好ましい。
【００３４】
また、窒化ガリウム系化合物半導体に対する研磨を本実施形態にかかる研磨組成物を用いたとき、研磨荷重が５０〜９００ｇｆ／ｃｍ２で、前記研磨具の研磨面の外周における移動速度が２５〜２５０ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。研磨組成物の研磨面に供給されるときの温度は１０℃〜８０℃の範囲であることが好ましい。
【００３５】
このようにして研磨された後の被研磨物の被研磨面の表面粗さは、算術平均粗さ（Ｒａ）が２０オングストローム以下で、かつ前記被研磨面の厚さばらつき（ＴＴＶ）が２０μｍ以下にできるのであり、このため、ＲＩＥ工程を不要にでき、湿式研磨を行う工程のみで精密仕上げできることになる。
【００３６】
硬質砥粒と軟質砥粒とを水に分散した研磨組成物による研磨工程を経た後、さらに、上述研磨組成物に使用される硬質砥粒を含まないで軟質砥粒のみを含む研磨組成物を用いて仕上げ研磨してもよい。この場合、上述研磨組成物に使用される軟質砥粒、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸および純水のみにより構成される研磨組成物のみが研磨剤として用いられて、仕上げ研磨を行ってもよい。こうすることにより、一層平面精度の高い研磨を行うことができる。
【００３７】
本発明に係る半導体基板用組成物は、主に窒化ガリウム系化合物半導体基板の研磨に用いられるが、これに限定されるものではなく、窒化ガリウム系化合物半導体基板の硬度に近い硬度の半導体基板の研磨に好適である。
【００３８】
【実施例】
本発明者は、本発明に係る半導体基板用研磨組成物を作製し、その作製した研磨組成物を用いた研磨実験を行った。以下に、その研磨組成物および実験について説明する。
【００３９】
その実験は、市販の研磨機を用い、研磨圧力は６００ｇ／ｃｍ２、研磨時間６０〜８０分、定盤回転数６０〜８０ｒｐｍ（定盤の周速２０〜３０ｍ／ｍｉｎ）、研磨に供される研磨組成物による研磨スラリーの流量２０〜３０ｍｌ／ｍｉｎ、精密仕上げ用のスウェード調樹脂製研磨パッドを用いた。被研磨物は、窒化ガリウム系化合物半導体基板（ウェハ）である。研磨組成物の組成として、硬質砥粒は、ダイヤモンド砥粒（平均粒径１００ｎｍと５００ｎｍをそれぞれ使用）、軟質砥粒は、コロイダルシリカ（平均粒径７０ｎｍを使用）、分散媒として純水（比抵抗１ＭΩ・ｃｍ以上）、研磨促進剤として、水酸化カリウム、殺菌剤として、過酸化水素を使用した。さらに、研磨組成物中におけるコロイダルシリカ濃度を０．９重量％、２，７重量％の２種とし、研磨組成物中におけるダイヤモンド濃度を０．３重量％、０．９重量％の２種とし、さらに、平均粒径１００ｎｍ、５００ｎｍの２種とし、それぞれの種類の組み合わせで８種類設定されて作成された研磨組成物について同一条件で上記基板の研磨を行った。その結果を図２に示している。図２において、縦軸は研磨レート（単位はμｍ／ｈｒ）を示し、横軸は、各研磨組成物のコロイダルシリカ濃度（重量％）、ダイヤモンド濃度（重量％）、ダイヤモンド粒径（ｎｍ）の組合わせに対応する研磨組成物を示す。これにより、ダイヤモンド粒径が１００ｎｍで、かつダイヤモンド濃度が０．３重量％の場合、シリカ濃度に関係なく、研磨レートが低く、それ以外の場合、研磨レートが０．６μｍ／ｈｒより高くなっている。この実験結果から、表１に示す分散分析表が得られた。
【００４０】
【表１】
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表１は得られた研磨レートを３要因２水準で統計解析ソフトＪＵＳＥ−ＧＣＶＳ  Ｖ７．０を用いて多元配置分散分析を行った結果である。分散分析はどの要因が特性値（研磨レート）に影響を及ぼしているか統計学的に明らかにする手法である。ダイヤモンド粒径を要因Ａ、ダイヤモンド濃度を要因Ｂ、シリカ濃度を要因Ｃと表し、その左側に特性値（研磨レート）から計算したそれぞれの平方和、自由度、不偏分散及び分散比（Ｆ０）という統計学的数値を示している。分散比とは各要因の不偏分散を誤差の不偏分散で割った値である。得られた分散比をＦ分布表と対照させることにより、これらの要因がどれくらいの信頼度で特性値に影響を及ぼしているかを調べる。尚、要因ＡＢはダイヤモンド粒径とダイヤモンド濃度因子間の交互作用を表している（ＢＣ，ＡＣも同様にこれらの要因の交互作用を表している）。また、シリカ濃度は単一では主効果として研磨レートに影響を及ぼしていなかったため、統計学的手法（プーリング）により誤差の項として処理した。
【００４１】
分散分析の結果、ダイヤモンド粒径とダイヤモンド濃度が信頼度９９％（危険率１％）で、またこれらの交互作用及びダイヤモンド粒径とシリカ濃度との交互作用が信頼度９５％（危険率５％）で有意であった。この場合、危険率５％とは、１００回研磨試験を行った中で要因が特性値に影響を及ぼさない確率は５回以下という割合であることを表す。統計学的には確率が５％以下であれば偶然ではないと考えられる。
【００４２】
したがって、研磨レートに最も寄与するのは硬質砥粒のダイヤモンド粒径であり、次いでダイヤモンド濃度であることがわかる。
【００４３】
次に、上記実験結果によるダイヤモンド粒径と研磨レートとの相互の関係を図３のグラフに示す。図３は、縦軸に研磨レートを表し、横軸にダイヤモンドの平均粒径を表している。図３を参照して、ダイヤモンド粒子径が大きくなるほど研磨レートが大きくなることを示している。
【００４４】
次に、本発明者は、研磨組成物中におけるコロイダルシリカ濃度を２．７重量％として、平均粒径５００ｎｍのダイヤモンド濃度（その単位は重量％）をそれぞれ０．１、０．３、０．５、０．９、１．２とする５つの試料を作製し、それら各試料について上記条件と同様の研磨を行った。その結果を図４に示している。図４は、縦軸に研磨レートを表し、横軸にそれぞれのダイヤモンド濃度を表している。その結果、ダイヤモンド濃度が１．２重量％の試料について、被研磨物としての窒化ガリウム系化合物半導体基板の被研磨面に所定以上のスクラッチや潜傷が認められた。その他の４つの試料については、所定以上のスクラッチや潜傷が認められなかった。この結果、ダイヤモンド濃度と研磨レートとには相互に関連性があることが認められる。すなわち、研磨組成物中のダイヤモンド濃度は被研磨物に潜傷などを生じさせないためにも極力薄いものが望ましいが、０．２重量％よりも薄い研磨組成物については、研磨レートが著しく低下することから効率的な研磨を行う研磨組成物として不向きであることがわかる。また、ダイヤモンド濃度が１．２重量％では潜傷の発生が認められるため、研磨レートが高くても精密研磨に不向きである。したがって、この場合、ダイヤモンド濃度０．３重量％〜０．９重量％での研磨が精密研磨において研磨レートが高く、かつ被研磨面に潜傷を与えない研磨が行える点で望ましい。より望ましくは、ダイヤモンド濃度０．３重量％〜０．５重量％の範囲である。
【００４５】
次に、本発明者は、研磨組成物中におけるダイヤモンド砥粒を平均粒径５００ｎｍで、かつ濃度０．９重量％として、コロイダルシリカ濃度（単位重量％）をそれぞれ０．９、２．７、９．０とする３つの試料を作製し、それら各試料について上記条件と同様の研磨を行った。その結果を図５に示している。図５は、縦軸に研磨レートを表し、横軸にそれぞれのコロイダルシリカ濃度を表している。その結果、軟質砥粒であるコロイダルシリカの量が多いことが望ましいが、その濃度が１０．０重量％を越えると研磨レートを大きく低下させる。コロイダルシリカ濃度が０．９重量％の場合、潜傷の発生が認められるため、研磨レートが高くても精密研磨に不向きである。したがって、この場合、コロイダルシリカ濃度２．７重量％〜１０．０重量％での研磨が精密研磨において研磨レートが高く、かつ被研磨面に潜傷を与えない研磨が行える点で望ましい。より望ましくは、コロイダルシリカ濃度８．０重量％〜１０．０重量％の範囲である。
【００４６】
図６に、本発明の研磨組成物を用いて研磨（研磨速度ほぼ１μｍ／ｈｒ）した窒化ガリウム系化合物半導体基板の蛍光顕微鏡写真を示す（倍率２００倍）。この写真から潜傷やスクラッチのない研磨がなされたことがわかる。
【００４７】
図７にコロイダルシリカ濃度を少量（０．９重量％）とした研磨組成物を用いて研磨（研磨速度ほぼ１μｍ／ｈｒ）した窒化ガリウム系化合物半導体基板の蛍光顕微鏡写真を示す（倍率２００倍）。この写真では筋を描く潜傷が発生していることがわかる。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、硬質砥粒とは別に軟質砥粒も含まれた複合的な砥粒となっているために、硬質砥粒の被研磨面への強い接触が軟質砥粒で緩和されることになる。すなわち、軟質砥粒によって硬質砥粒同士が凝集することが軟質砥粒によって妨げられることで、微小な硬質砥粒でも被研磨面にスクラッチや潜傷を発生させる原因として考えられる硬質砥粒の凝集体の発生が抑制される。これにより、被研磨面に硬質砥粒が強くかみつかないよう軟質砥粒の緩衝作用が働いて被研磨面にスクラッチや潜傷が発生しないようにでき、高精度の平坦性を有する被研磨面を得ることができる。また、そのようにスクラッチや潜傷を発生させることなく、所望の高速研磨を行えるので、効率的な研磨ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る研磨組成物を用いた研磨の様子を概略的に示す側面図
【図２】本発明の実施例として、軟質砥粒濃度、硬質砥粒濃度、硬質砥粒粒径の異なる複数種の研磨組成物試料による研磨レートを示すグラフ
【図３】本発明の実施例として、硬質砥粒粒径と研磨レートとの関係を示すグラフ
【図４】本発明の実施例として、硬質砥粒濃度と研磨レートとの関係を示すグラフ
【図５】本発明の実施例として、軟質砥粒濃度と研磨レートとの関係を示すグラフ
【図６】本発明に係る研磨組成物で研磨した後の窒化ガリウム系化合物半導体基板の蛍光顕微鏡写真
【図７】比較例の研磨組成物で研磨した後の窒化ガリウム系化合物半導体基板の蛍光顕微鏡写真
【符号の説明】
６  研磨組成物（研磨スラリー）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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