(57)【要約】【課題】紫外線に対し非透過性の可とう基板にエンボス加工する。【解決手段】エンボス加工装置（２００）には、可とう基板（１０１）と、該基板にフォトポリマー材料を堆積する塗工ユニット（３００）と、転写パターンを有する光透過性のエンボス加工ベルト（１００）と、該ベルトを支持する搬送ローラ（１０３）と、ベルトおよび基板に駆動運動を与える駆動ユニット（１１０）と、基板とベルト間に圧力を生成する裏当てドラム（１０５）とを備える。駆動運動により転写パターンがフォトポリマー材料内にエンボス加工され複製パターンが形成される。紫外線光源（９９）が設けられ、ベルトを通してエンボス加工と同時に紫外線を複製パターンに照射する。【選択図】図３８
2004322641.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗工面と基底面とを備える可とう基板と、
前記塗工面に第１の厚みを有するフォトポリマー材料を堆積するための塗工ユニットと、
光透過性のベルト材料と、該光透過性のベルト材料と接続される光透過性のコンプライアント媒体とを備え、該コンプライアント媒体は、転写パターンを内部に有する光透過性の転写スタンプを含む、エンボス加工ベルトと、
前記ベルト材料と接続され、前記エンボス加工ベルトを支持するように動作する複数の搬送ローラと、
前記エンボス加工ベルトおよび前記可とう基板に駆動運動を与えるための駆動ユニットと、
前記基底面の一部と、前記コンプライアント媒体の一部とによって覆われ、前記エンボス加工ベルト内に引張力が与えられ、該引張力によって前記可とう基板と前記エンボス加工ベルトとの間に圧力が生成されるようにする裏当てドラムとを備え、
前記駆動運動は前記裏当てドラムにわたって前記基底面を搬送し、前記転写スタンプおよび前記塗工面を互いに押し付けて、前記転写パターンが前記フォトポリマー材料内にエンボス加工され、前記フォトポリマー材料内に複製パターンが形成されるように作用するとともに、
前記複製パターンに、前記ベルト材料および前記転写スタンプを通して紫外線を照射するための紫外線光源をさらに備え、該照射は前記複製パターンの前記エンボス加工と同時に行われることを特徴とするエンボス加工装置。
【請求項２】
前記紫外線光源は、前記エンボス加工ベルトに対して、前記エンボス加工ベルトの内側の位置、および前記エンボス加工ベルトの外側の位置からなるグループから選択された位置を有することを特徴とする請求項１に記載のエンボス加工装置。
【請求項３】
前記搬送ローラのうちの少なくとも１つは前記駆動ユニットと接続され、前記駆動ユニットは前記搬送ローラを回転させて、前記エンボス加工ベルトおよび前記可とう基板に前記駆動運動を与えるように動作することを特徴とする請求項１に記載のエンボス加工装置。
【請求項４】
前記可とう基板がエンボス加工され、硬化された後に、前記可とう基板を巻き取るための巻取りリールをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のエンボス加工装置。
【請求項５】
前記巻取りリールは前記駆動ユニットと接続され、前記駆動ユニットは前記巻取リールを回転させて、前記可とう基板を巻取り、前記エンボス加工ベルトと前記可とう基板に前記駆動運動を与えるように動作することを特徴とする請求項４に記載のエンボス加工装置。
【請求項６】
塗工面および基底面を備える可とう基板と、
前記塗工面に第１の厚みを有するフォトポリマー材料を堆積するための塗工ユニットと、
光透過性のシリンダと、該光透過性のシリンダと接続される光透過性のコンプライアント媒体とを備え、該コンプライアント媒体は、転写パターンを内部に有する光透過性の転写パターンを含む、エンボス加工ドラムと、
前記エンボス加工ドラムおよび前記可とう基板に駆動運動を与えるための駆動ユニットと、
前記基底面と接続され、前記エンボス加工ドラムの一部にわたって前記塗工面を共形的に巻きつけるように動作し、前記エンボス加工ドラムが前記可とう基板内に引張力を与え、該引張力によって前記可とう基板と前記エンボス加工ドラムとの間に圧力が生成されるようにする複数の搬送ローラとを備え、
前記駆動運動は前記エンボス加工ドラムにわたって前記塗工面を搬送し、前記転写スタンプおよび前記塗工面を互いに押し付けて、前記転写パターンが前記フォトポリマー材料内にエンボス加工され、前記フォトポリマー材料内に複製パターンが形成されるように作用するとともに、
前記複製パターンに、前記シリンダおよび前記転写スタンプを通して紫外線を照射するための紫外線光源をさらに備え、該照射は前記複製パターンの前記エンボス加工と同時に行われることを特徴とするエンボス加工装置。
【請求項７】
前記紫外線光源の位置は、前記エンボス加工ドラムに対して、前記エンボス加工ドラムの内側の位置、および前記エンボス加工ドラムの外側の位置からなるグループから選択されることを特徴とする請求項６に記載のエンボス加工装置。
【請求項８】
前記搬送ローラのうちの少なくとも１つは前記駆動ユニットと接続され、前記駆動ユニットは前記搬送ローラを回転させて、前記エンボス加工ドラムおよび前記可とう基板に前記駆動運動を与えるように動作することを特徴とする請求項６に記載のエンボス加工装置。
【請求項９】
前記可とう基板がエンボス加工され、硬化された後に、前記可とう基板を巻き取るための巻取りリールをさらに備えることを特徴とする請求項６に記載のエンボス加工装置。
【請求項１０】
前記巻取りリールは前記駆動ユニットと接続され、前記駆動ユニットは前記巻取リールを回転させて、前記可とう基板を巻取り、前記エンボス加工ドラムと前記可とう基板に前記駆動運動を与えるように動作することを特徴とする請求項９に記載のエンボス加工装置。
【請求項１１】
前記可とう基板は前記紫外線に対して非透過性であることを特徴とする請求項１あるいは請求項６のいずれかに記載のエンボス加工装置。
【請求項１２】
前記紫外線光源はＵＶＡ紫外線光源を含むことを特徴とする請求項１あるいは請求項６のいずれかに記載のエンボス加工装置。
【請求項１３】
前記紫外線は約３００．０ナノメートルないし約４００．０ナノメートルの波長を含むことを特徴とする請求項１あるいは請求項６のいずれかに記載のエンボス加工装置。
【請求項１４】
前記塗工ユニットは、グラビアコータ、ＭＩＣＲＯ  ＧＲＡＶＵＲＥ  ＣＯＡＴＥＲおよびスロットダイコータからなるグループから選択されるコータを備えることを特徴とする請求項１あるいは請求項６のいずれかに記載のエンボス加工装置。
【請求項１５】
前記第１の厚みは約０．０５マイクロメートルないし約２．０マイクロメートルの範囲内にあることを特徴とする請求項１あるいは請求項６のいずれかに記載のエンボス加工装置。
【請求項１６】
前記可とう基板を搬送し、前記可とう基板を前記塗工ユニットに投入するための供給リールをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のエンボス加工装置。
【請求項１７】
前記コンプライアント媒体は、光透過性の移転接着層に積層される光透過性のシリコーン主体エラストマ材料を含むことを特徴とする請求項１あるいは請求項６のいずれかに記載のエンボス加工装置。
【請求項１８】
前記光透過性のシリコーン主体エラストマ材料は、ポリジメチルシロキサン、ＳＹＬＧＡＲＤ１８２、ＳＹＬＧＡＲＤ１８３、ＳＹＬＧＡＲＤ１８４およびＳＹＬＧＡＲＤ１８６からなるグループから選択される材料であることを特徴とする請求項１７に記載のエンボス加工装置。
【請求項１９】
前記光透過性の移転接着層はＡＲｃｌｅａｒ  ＤＥＶ−８９３２光学透明シリコーン接着剤であることを特徴とする請求項１７に記載のエンボス加工装置。
【請求項２０】
前記光透過性のベルト材料は、ポリエステルフィルムおよびマイラーからなるグループから選択される材料であることを特徴とする請求項１あるいは請求項６のいずれかに記載のエンボス加工装置。
【請求項２１】
前記紫外線光源は、前記転写スタンプが前記塗工面に押し付けられる地点に前記紫外線の焦点を合わせるための反射板をさらに備え、前記転写パターンが前記フォトポリマー材料内にエンボス加工される前に、前記フォトポリマー材料が硬化しないようにすることを特徴とする請求項１あるいは請求項６のいずれかに記載のエンボス加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は全般に可とう基板をエンボス加工するための装置に関する。より具体的には、本発明は光透過性のコンプライアント媒体によって保持される転写スタンプから転写される転写パターンで、フォトポリマーを塗工された可とう基板をエンボス加工するためのエンボス加工装置に関する。転写スタンプは、エンボス加工と同時に、コンプライアント媒体を通して紫外線を照射され、転写された転写パターンが硬化し、固まり、その形状が保持されるようになる。
【背景技術】
【０００２】
フォトポリマーを塗工されたウェブをエンボス加工するための現在のロール−ツー−ロールソフトリソグラフィ工程の１つに、Ｅｐｉｇｅｍ社によって用いられる工程および装置があり、それによれば、紫外線透過性のウェブ材料がフォトポリマーレジスト層を塗工されており、ウェブの塗工された面が、転写パターンを保持するエンボス加工シムと接触する。ウェブがエンボス加工シムから分離するとき、転写パターンがフォトポリマーレジスト層内にエンボス加工（すなわち複製）される。紫外線光源がウェブを通してフォトポリマーレジスト層に紫外線を照射し、エンボス加工されたパターンを硬化し、そのパターンが固まり、そのエンボス加工された形状が保持されるようになる。ウェブが紫外線に対して透過性であるので、紫外線光源の配置は問題ではなく、エンボス加工シムを紫外線に対して非透過性にすることができ、ウェブ側から照射を行うことができる。
【０００３】
上記の装置の１つの問題点は、ウェブ材料およびエンボス加工シムが紫外線に対して非透過性である場合には、ウェブ側あるいはエンボス加工シム側から照射を実施できないことである。したがって、ロール−ツー−ロール工程において、ウェブ材料を紫外線に対して非透過性にする必要がある場合には、エンボス加工シムを紫外線に対して透過性にし、フォトポリマーレジスト層内のエンボス加工されたパターンへの照射がエンボス加工シム側から行うことができるようにしなければならない。
【０００４】
対照的に、種々の大学の研究者（たとえば、テキサス大学（オースティン）のステップおよびフラッシュインプリントリソグラフィ）は、紫外線に対して透過性の石英シム（テンプレート）を利用している。しかしながら、その工程は、ロール−ツー−ロールソフトリソグラフィ工程には適していない、バッチ向きで、ウェーハを基にする工程である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、転写スタンプを保持する光透過性のコンプライアント媒体を用いて、非透過性の可とう基板上に塗工されたフォトポリマーにパターンをエンボス加工する、ロール−ツー−ロールソフトリソグラフィ工程を実施するための装置が無く、必要とされている。また、可とう基板内にエンボス加工されたパターンが、コンプライアント媒体および転写スタンプを通してパターンに照射される紫外線によって硬化されるようにする装置も必要とされている。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、紫外線に対し非透過性の可とう基板にエンボス加工する新規な装置の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
概して、本発明は、光透過性のコンプライアント媒体によって保持されるパターンで可とう基板をエンボス加工するための装置において実施される。コンプライアント媒体は、転写パターンを有する光透過性の転写スタンプを備える。コンプライアント媒体は、光透過性のベルト材料あるいは光透過性のシリンダと接続できる。
【０００８】
可とう基板はフォトポリマー材料を塗工された塗工面を含み、塗工面はコンプライアント媒体に押し付けられ、転写スタンプによって保持される転写パターンがフォトポリマー材料にエンボス加工されるようにする。紫外線光源がフォトポリマーに紫外線を照射し、紫外線はコンプライアント媒体および転写スタンプを通過し、フォトポリマー材料にエンボス加工されたパターンに入射して、それによりそのパターンを硬化する。フォトポリマー材料内のパターンの硬化はエンボス加工と同時に行われ、パターンが固まり、その形状が保持されるようにする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の装置の１つの利点は照射がコンプライアント媒体を通して行われ、可とう基板を紫外線に対して非透過性にできることである。
【００１０】
本発明の別の利点は、紫外線光源を、コンプライアント媒体が接続されるベルト材料の内側あるいは外側に配置することができることである。シリンダが用いられる場合には、紫外線光源は、コンプライアント媒体が接続されるシリンダの内側あるいは外側に配置できる。
【００１１】
本発明の他の態様および利点は、本発明の原理を例示する、添付の図面とともに取り上げられる、以下に記載される詳細な説明から明らかになるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に記載される詳細な説明およびいくつかの図面においては、類似の構成要素は類似の参照番号で識別される。
【００１３】
図３８〜図４７には、光透過性のエンボス加工ベルトあるいは光透過性のエンボス加工ドラムを備えるエンボス加工装置が示される。
【００１４】
図１〜図３７ｂには、光透過性のベルト材料あるいは光透過性のシリンダと接続できる光透過性のコンプライアント媒体を形成する方法が示される。
【００１５】
図示されるように、本発明はエンボス加工装置において具現される。本発明の一実施形態では、エンボス加工装置は、塗工面と基底面とを有する可とう基板と、可とう基板の塗工面に第１の厚みを有するフォトポリマー材料を堆積するための塗工ユニットと、光透過性のベルト材料およびベルト材料と接続される光透過性のコンプライアント媒体を含むエンボス加工ベルトとを備える。コンプライアント媒体は、転写パターンを有する光透過性の転写スタンプを含み、転写パターンは塗工面上のフォトポリマー材料内にエンボス加工され、フォトポリマー材料内に複製パターンを形成する。複数の搬送ローラがベルト材料と接続され、エンボス加工ベルトを支持するように動作する。
【００１６】
駆動ユニットがエンボス加工ベルトおよび可とう基板に対して駆動運動を与え、塗工面が転写スタンプに押し付けられ、転写パターンがフォトポリマー材料内に複製されるようにする。裏当てドラムが、可とう基板の基底面の一部と、コンプライアント媒体の一部とによって覆われており、エンボス加工ベルト内に引張力が与えられ、その引張力によって可とう基板とエンボス加工ベルトとの間に圧力が生成されるようにする。
【００１７】
駆動運動は、裏当てドラムにわたって可とう基板の基底面を搬送し、転写スタンプおよび塗工面を互いに押し付けて、転写パターンがフォトポリマー材料内にエンボス加工され、フォトポリマー材料内に複製パターンが形成されるように作用する。紫外線光源が、複製パターンに、ベルト材料、コンプライアント媒体および転写スタンプを通過する紫外線を照射する。複製パターンへの紫外線の照射は、複製パターンのエンボス加工と同時に行われ、複製パターンが硬化し、固まり、その形状が保持されるようにする。
【００１８】
本発明の別の実施形態では、エンボス加工装置は、塗工面と基底面とを有する可とう基板と、可とう基板の塗工面に第１の厚みを有するフォトポリマー層を堆積するための塗工ユニットと、光透過性のシリンダおよびシリンダと接続される光透過性のコンプライアント媒体を含むエンボス加工ドラムとを備える。コンプライアント媒体は、転写パターンを有する光透過性の転写スタンプを含み、転写パターンは塗工面上のフォトポリマー材料内にエンボス加工され、フォトポリマー材料内に複製パターンが形成される。
【００１９】
駆動ユニットがエンボス加工ドラムおよび可とう基板に対して駆動運動を与え、塗工面が転写スタンプに押し付けられ、転写パターンがフォトポリマー材料内に複製されるようにする。複数の搬送ローラが基底面と接続され、エンボス加工ドラムの一部にわたって塗工面を共形的に巻きつけるように動作して、エンボス加工ドラムが可とう基板内に引張力を与え、その引張力によって可とう基板とエンボス加工ドラムとの間に圧力が生成されるようにする。
【００２０】
駆動運動は、エンボス加工ドラムにわたって可とう基板の塗工面を搬送し、転写スタンプおよび塗工面を互いに押し付けて、転写パターンがフォトポリマー材料内にエンボス加工され、フォトポリマー材料内に複製パターンが形成されるように作用する。紫外線光源が、複製パターンに、シリンダ、コンプライアント媒体および転写スタンプを通過する紫外線を照射する。複製パターンへの紫外線の照射は、複製パターンのエンボス加工と同時に行われ、複製パターンが硬化し、固まり、その形状が保持されるようにする。
【００２１】
図３８では、エンボス加工装置２００が、塗工面１０１ｃと基底面１０１ｂとを有する可とう基板１０１を備える。塗工ユニット３００が、塗工面１０１ｃ上にフォトポリマー材料３０１（図４２、図４３および図４４を参照）を堆積するように動作する。フォトポリマー材料３０１は第１の厚みｔcを有する。エンボス加工ベルト１００は、光透過性のベルト材料８１と、ベルト材料８１と接続される光透過性のコンプライアント媒体７０とを含む（図４５を参照）。コンプライアント媒体７０は、転写パターン２０ｑ（図２９を参照）を含む光透過性の転写スタンプ２０ｔも備える。転写パターン２０ｑは転写スタンプ２０ｔと同じ材料から形成されるので、転写パターン２０ｑも光透過性である。図４５ならびに図３７ａおよび図３７ｂは、図３８および図３９に示されるエンボス加工ベルト１００のさらに詳細な図を提供する。
【００２２】
複数の搬送ローラ１０３がベルト材料８１と接続され、エンボス加工ベルト１００を支持するように機能する。駆動ユニット１１０がエンボス加工ベルト１００および可とう基板１０１に駆動運動ＷDを与える。以下に記載されるように、駆動ユニット１１０は、駆動運動ＷDを達成するために種々の態様でエンボス加工装置２００と接続できる。
【００２３】
裏当てドラム１０５が可とう基板１０１の基底面１０１ｂの一部と、コンプライアント媒体７０の一部とによって覆われて、エンボス加工ベルト１００および可とう基板１０１に対して引張力が与えられるようにする。引張力は、可とう基板１０１とエンボス加工ベルト１００との間に圧力を生成する。その圧力は、フォトポリマー材料３０１において転写スタンプ２０ｔのエンボス加工を達成するように作用する。駆動運動ＤRは、裏当てドラム１０５にわたって基底面１０１ｂを搬送し、転写スタンプ２０ｔおよび塗工面１０１ｃを互いに押し付けて、転写パターン２０ｑがフォトポリマー材料３０１内にエンボス加工され、フォトポリマー材料３０１内に複製パターン２０ｕ（図４７を参照）が形成されるようにする。
【００２４】
紫外線光源９９が、複製パターン２０ｕに、ベルト材料８１および転写スタンプ２０ｔを通過する紫外線Ｌを照射する。複製パターン２０ｕへの紫外線の照射は、複製パターン２０ｕをエンボス加工するのと同時に行われ、複製パターン２０ｕが硬化し、固まり、その形状が保持されるようにする。複製パターン２０ｕはその中に、親基板１１（図５および図６を参照）上のパターン２０ｐと相補的な複数のパターン２０ｖを含む。
【００２５】
紫外線光源９９は反射板９９ｒを備えることができ、反射板９９ｒは、転写スタンプ２０ｔが塗工面１０１ｃに押し付けられる地点に紫外線Ｌの焦点を合わせ、転写パターン２０ｑがフォトポリマー材料３０１内にエンボス加工される前に、フォトポリマー材料３０１が紫外線Ｌによって硬化しないようにする。図４５では、反射板９９ｒ（図示せず）が硬化ウインドウＣWを形成し、それにより、複製パターン２０ｕがエンボス加工され、概ね同時に硬化される領域に紫外線Ｌの焦点が合わせられる。また反射板９９ｒは、紫外線Ｌが漏れて、フォトポリマー材料３０１上に入射し、転写スタンプ２０ｔによってエンボス加工される前にフォトポリマー材料３０１が硬化される危険性を防ぐように機能する。
【００２６】
本発明の１つの利点は、複製パターン２０ｕへの紫外線の照射が、可とう基板１０１を通してではなく、エンボス加工ベルト１００を通して行われるので、可とう基板１０１が紫外線Ｌに対して非透過性であるときに、エンボス加工装置２００がフォトポリマー材料３０１をエンボス加工し、硬化するのに効果を発揮することである。したがって、本発明のエンボス加工装置２００を用いて、非透過性の可とう基板１０１上に、あるいは光透過性の可とう基板１０１上にあるフォトポリマー材料３０１をエンボス加工し、硬化させることができる。いくつかの応用形態では、可とう基板１０１のための材料が非透過性の材料であることが必要とされるので、本発明のエンボス加工装置２００は、可とう基板１０１のための材料の選択に自由度を与えることができる。
【００２７】
約０．１秒〜約０．６秒の非常に短い時間内に複製パターン２０ｕを硬化することが望ましいときには、紫外線光源９９としてＵＶＡ紫外線光源を、好ましくは工業グレードのＵＶＡ紫外線光源を用いることができる。紫外線Ｌは約３００．０ｎｍ〜約４００．０ｎｍの波長を有することが好ましい。紫外線光源９９のための輝度は応用形態によるであろう。しかしながら、一例として、約２００．０ｍＷ／ｃｍ2〜約１０００．０ｍＷ／ｃｍ2の範囲内の輝度を用いることができる。別の例として、Ｎｏｒｌａｎｄ（商標）光学接着剤は、硬化するために約０．２Ｊｏｕｌｅ／ｃｍ2の全エネルギーを必要とする。
【００２８】
エンボス加工ベルト１００を通してフォトポリマー材料３０１への紫外線の照射が行われる際に、紫外線光源９９はエンボス加工ベルト１００に対して、図３９および図４５に示されるようなエンボス加工ベルト１００の内側の位置と、図３８および図４５に示されるようなエンボス加工ベルト１００の外側の位置とを含む位置を有することができる。紫外線光源９９が図３８の場合のようにエンボス加工ベルト１００の外側に配置されるときに、紫外線光源９９がエンボス加工ベルト１００の内側に配置されるときのように１つの層ではなく、エンボス加工ベルト１００の２つの層を紫外線Ｌが通過することに起因して、紫外線Ｌの輝度がわずかに減衰することを考慮に入れることが必要な場合もある。したがって、紫外線光源９９がエンボス加工ベルト１００の外側に配置されるとき、より高い輝度の紫外線光源９９を用いることが必要な場合もある。
【００２９】
図３９では、エンボス加工ベルト１００の内側に紫外線光源９９を収容するための空間を生み出すために、３つの搬送ローラ１０３が用いられる。しかしながら、コンプライアント媒体７０は任意のサイズにできるので、紫外線光源９９を収容するだけの十分に大きな空間を生み出すために、エンボス加工ベルト１００を長くし、搬送ローラ１０３の直径を大きくすることを含む、エンボス加工ベルト１００の内側に紫外線光源９９を収容するための種々の方法がある。それゆえ、図３９の実施形態は、エンボス加工ベルトの内側に紫外線光源９９を如何に収容するかの一例にすぎず、他の構成も実現可能であり、本発明は図３９に示される構成には限定されない。
【００３０】
図４２では、塗工ユニット３００が、塗工面１０１ｃ上に第１の厚みｔcを有するフォトポリマー材料３０１を堆積するように動作する。通常フォトポリマー材料３０１は、塗工面１０１ｃ上に堆積する前に、液状３０１Ｌで供給される。駆動運動ＷD中に、塗工面１０１ｃと塗工ユニット３００との間の塗工距離ＤCが正確に保持され、第１の厚みｔcが変化することなく、フォトポリマー材料３０１が塗工面１０１ｃ上に滑らかで、均一な層として堆積されるようにすることが重要である。フォトポリマー材料３０１は、限定はしないが、紫外線に露光される際に硬化するＮｏｒｌａｎｄ（商標）光学接着剤を含むことができる。フォトポリマー材料は、約０．１秒〜約６．０秒の時間内に硬化することが好ましい。たとえば、Ｎｏｒｌａｎｄ（登録商標）ＮＯＡ８３Ｈフォトポリマーをフォトポリマー材料３０１のために用いることができる。フォトポリマー材料３０１には、フォトレジスト材料を用いることもできる。
【００３１】
オプションでは、エンボス加工装置２００は、塗工面１０１ｃと塗工ユニット３００との間を一定の距離ＤCに保持し、フォトポリマー材料３０１の第１の厚みｔcが正確に保持されるように機能するガイドローラ１０９を備えることができる。ガイドローラ１０９は、供給リール１０７ｓを用いて可とう基板１０１を搬送し、投入する際に特に有用である。可とう基板１０１は供給リール１０７ｓから巻き戻されるので、可とう基板１０１が供給リール１０７ｓから巻き戻されるときに、塗工ユニット３００からのその距離は変化するようになり、可とう基板１０１の巻取り径が小さくなると、その距離は大きくなるであろう。したがって、ガイドローラ１０９が、塗工面１０１ｃと塗工ユニット３００との間の距離を制御する。
【００３２】
フォトポリマー材料３０１の第１の厚みｔcは応用形態に依存し、塗工ユニット３００の種類も応用形態に依存するであろう。第１の厚みｔcは、エンボス加工された層を後にエッチングする場合のエンボス加工残留物を最小限に抑えるために、通常の特徴高さ（図４のｈ0を参照）と概ね同等にされる。たとえば、転写スタンプ２０ｔが、ナノメートルスケール（たとえば、１．０μｍ未満、好ましくは１００．０ｎｍ未満）の転写パターン２０ｑを含む場合には、フォトポリマー材料３０１の非常に薄い層を堆積することが望ましい。第１の厚みｔcは約０．０５μｍ〜約２．０μｍの範囲内にあることが好ましい。
【００３３】
フォトポリマー材料３０１の均一で薄い層を堆積することができ、かつ塗工ユニット３００のために用いることができる塗工技術は、限定はしないが、グラビアコータ、Ｍｉｃｒｏ  Ｇｒａｖｕｒｅ（商標）コータおよびスロットダイコータを含む。たとえば、第１の厚みｔcのための厚みの上記の範囲は、Ｙａｓｕｉ  Ｓｅｉｋｉ（商標）Ｍｉｃｒｏ  Ｇｒａｖｕｒｅ（商標）コータを用いて得ることができる。フォトポリマー材料３０１はアセトンのような溶媒で薄められ、第１の厚みｔcのための薄い塗膜を達成することができる。
【００３４】
図４３では、塗工ユニット３００として、グラビアコータ、あるいはＭｉｃｒｏ  Ｇｒａｖｕｒｅ（商標）コータを用いることができる。一対のローラ３０３ｒが、液体フォトポリマー材料３０１Ｌを収容するタブ３０３ｓ内で回転する刻印ドラム３０３ｇ上に、可とう基板１０１の塗工面１０１ｃの一部を共形的に巻きつける。フォトポリマー材料３０１Ｌはドラム３０３ｇの表面上のパターン上に集められる。ドクターブレード３０３ｄが余分なフォトポリマー材料３０１Ｌを拭い取り、塗工面１０１ｃに薄く、均一な層が堆積されるようにする。グラビアコータのドラムよりも径が小さいドラム３０３ｇを有し、フォトポリマー材料３０１の極めて薄い層を堆積するのにより適している、Ｍｉｃｒｏ  Ｇｒａｖｕｒｅ（商標）コータを用いるのが好ましい。
【００３５】
別法では、図４４において、スロットダイコータを用いて、フォトポリマー材料３０１を堆積することができる。圧力をかけることにより、液体フォトポリマー材料３０１Ｌが、一対のダイ口唇３０１Ｄによって形成されるダイスロット３０１Ｓに供給される（Ｓf）。ダイ口唇３０１Ｄは、可とう基板１０１の厚みｔSを含む塗工ギャップｔGだけ、可とう基板１０１の上方に位置決めされる。可とう基板１０１の塗工面１０１ｃがダイスロット３０１Ｓの下を通過するとき、液体フォトポリマー材料３０１Ｌが第１の厚みｔCまで塗工面１０１ｃを塗工する。
【００３６】
駆動運動ＷDは、塗工技術分野および機械技術分野においてよく理解されている種々の技術を用いて達成できる。一例として、図３８では、駆動ユニット１１０が、上記のように可とう基板１０１がエンボス加工され、硬化された後に可とう基板１０１を巻き取るように動作する巻取りリール１０７ｒと機械的に連動する。
【００３７】
巻取りリール１０７ｒは、巻取りリール１０７ｒに回転ＤRを与えるドライブベルト１１０ｂを用いて駆動ユニット１１０と接続され、それにより可とう基板１０１が巻取りリール１０７ｒ上に巻き取られ、駆動運動ＷDが可とう基板１０１およびエンボス加工ベルト１００に与えられる。ドライブベルト１１０ｂが示されるが、ギア、ダイレクトドライブ、プーリ、シャフトなどを含む、駆動力を機械的に伝達するための任意の手段を用いることができる。駆動ユニット１１０にはたとえば電気モータを用いることができる。
【００３８】
駆動ユニット１１０の１つあるいは複数を用いて、駆動運動ＷDを与えることができ、それらの駆動ユニット１１０は、搬送ローラ１０３の１つあるいは複数のようなエンボス加工装置２００の構成要素の１つあるいは複数と接続されることができ、駆動ユニット１１０が搬送ローラ１０３を回転させ、それにより駆動運動ＷDが可とう基板１０１およびエンボス加工ベルト１００に与えられるようにする。
【００３９】
コンプライアント媒体７０は、図１〜図３７ｂを参照して以下に記載するような光透過性の移転接着層に積層される光透過性のシリコーン主体エラストマ材料から形成できる。シリコーン主体エラストマ材料（図２２の参照番号４４を参照）に適した材料は、限定はしないが、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、およびＳＹＬＧＡＲＤ１８２（登録商標）シリコーンエラストマ、ＳＹＬＧＡＲＤ１８３（登録商標）シリコーンエラストマ、ＳＹＬＧＡＲＤ１８４（登録商標）シリコーンエラストマ、ＳＹＬＧＡＲＤ１８６（登録商標）シリコーンエラストマを含むＤＯＷ  ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）シリコーン主体コンフォーマルコーティングを含む。
【００４０】
移転接着層（図２７の参照番号５１を参照）に適した光透過性の材料は、限定はしないが、Ａｄｈｅｓｉｖｅｓ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ，Ｉｎｃ．（登録商標）ＡＲｃｌｅａｒ（登録商標）ＤＥＶ−８９３２光学透明シリコーン接着剤を含む。たとえば、ＡＲｃｌｅａｒ（登録商標）ＤＥＶ−８９３２からなる２５．０μｍ厚のシート（すなわち、第７の厚みｔ7＝２５．０μｍ）を移転接着層５１のために用いることができる。
【００４１】
ベルト材料８１には光透過性の材料を用いることができ、光Ｌがベルト材料８１、コンプライアント媒体７０および転写スタンプ２０ｔを通り抜けることができるようにする。ベルト材料８１に適した光透過性の材料は、限定はしないが、ポリエステルフォルムおよびマイラ（登録商標）を含む。ベルト材料８１の厚みは応用形態に基づいて変更されることになるが、コンプライアント媒体７０と接続されるときに、フレキシブルベルトを形成することになるベルト材料８１の厚みの適切な範囲は、約５０．０μｍ〜約１５０．０μｍである。
【００４２】
図４０、図４１および図４６に示されるような本発明の別の実施形態では、エンボス加工装置２００は、上記のエンボス加工ベルト１００の代わりに、エンボス加工ドラムを備える。エンボス加工装置２００は、可とう基板１０１と、塗工ユニット３００と、光透過性のシリンダ６９およびシリンダ６９と接続される光透過性のコンプライアント媒体７０を含むエンボス加工ドラム９０とを備える。上記のように、コンプライアント媒体７０は、その中に転写パターン２０ｑを有する光透過性の転写スタンプ２０ｔを含む。図４６および図３２〜図３４ｂは、図４０および図４１よりも、エンボス加工ドラム９０のさらに詳細な図を提供する。
【００４３】
また上記のように、駆動ユニット１１０が、エンボス加工ドラム９０および可とう基板１０１に駆動運動ＷDを与える。エンボス加工装置２００は、一定の距離ＤCを保持するための上記のガイドローラ１０９と、供給リール１０７ｓと、巻取りリール１０７ｔとを備える。駆動ユニット１１０は、巻取りリール１０７ｔおよび／または搬送ローラ１０３の１つあるいは複数を駆動することができる。別法では、エンボス加工ドラム９０は駆動ユニット１１０によって駆動できる。しかしながら、コンプライアント媒体７０とフレキシブル１０１との間が滑るのを避けるように注意しなければならない。
【００４４】
複数の搬送ローラ１０３が可とう基板１０１の基底面１０１ｂと接続され、エンボス加工ドラム９０の一部にわたって塗工面１０１ｃを共形的に巻きつけるように動作し、エンボス加工ドラム９０が可とう基板１０１内に引張力を与え、その引張力によって可とう基板１０１とエンボス加工ドラム９０との間に圧力が生成されるようにする。その圧力は、フォトポリマー材料３０１内の転写スタンプ２０ｔのエンボス加工を達成するように作用する。
【００４５】
駆動運動ＷDはエンボス加工ドラム９０にわたって塗工面１０１ｃを搬送し、転写スタンプ２０ｔを塗工面１０１ｃに押し付けて、転写パターン２０ｑがフォトポリマー材料３０１内にエンボス加工され、フォトポリマー材料３０１内に複製パターン２０ｕが形成されるようにする。図４６では、コンプライアント媒体７０がエンボス加工ドラム９０の外側表面を形成し、可とう基板１０１がエンボス加工ドラム９０の巻きつけられた部分にわたって搬送されるのに応じて、塗工面１０１ｃがコンプライアント媒体７０および転写スタンプ２０ｔと接触するようにする。
【００４６】
紫外線光源９９が、複製パターン２０ｕに、シリンダ６９および転写スタンプ２０ｔを通過する紫外線Ｌを照射する。複製パターン２０ｕへの紫外線の照射は、複製パターン２０ｕのエンボス加工と同時に行われる。
【００４７】
上記のように、可とう基板１０１は紫外線Ｌに対して非透過性にすることができる。図４０、図４１および図４６では、紫外線光源９９はエンボス加工ドラム９０の内側あるいはエンボス加工ドラム９０の外側に配置できる。紫外線光源９９がエンボス加工ドラム９０の外側に配置される場合には、紫外線Ｌはシリンダ６９およびコンプライアント媒体７０の２つの層を通過しなければならず、紫外線Ｌにはある量の減衰が生じる場合があるので、紫外線光源９９の輝度を高める必要がある。
【００４８】
紫外線光源９９は上記のような反射板９９ｒを備えることができ、反射板９９ｒは硬化ウインドウＣW（図４６を参照）を形成することができる。紫外線光源９９にはＵＶＡ光源を用いることができ、紫外線Ｌは約３００．０ｎｍ〜約４００．０ｎｍの波長を有することができる。
【００４９】
エンボス加工ベルト１００の場合に先に記載されたのと同じ材料がエンボス加工ドラム９０のために用いられることができる。しかしながら、シリンダ６９には、限定はしないが、ガラス、プラスチックおよび石英を含む光透過性の材料を用いることができる。
【００５０】
塗工ユニット３００のために、上記のグラビアコータ、Ｍｉｃｒｏ  Ｇｒａｖｕｒｅ（商標）コータあるいはスロットダイコータを用いることができ、フォトポリマー材料３０１の第１の厚みｔCは約０．５μｍ〜約１．０μｍの範囲内にすることができる。
【００５１】
エンボス加工ベルト１００およびエンボス加工ドラム９０は、図１〜図３７ｂを参照して以下に記載される方法を用いて形成できる。
【００５２】
図１〜図４では、親基板１１がパターニングされ、その後、エッチングされて、その中に転写パターン２０が形成される。図１では、親基板１１は、エッチングマスクとして役割を果たすことになる材料１５５を塗工される。材料１５５には、マイクロエレクトロニクス分野において一般的に用いられるフォトレジスト材料を用いることができる。親基板１１内に形成されることになるパターン１５３を保持するマスク１５１に光１５４を照明し、その光によって、パターン１５３で材料１５５が露光される。
【００５３】
図２では、材料１５５が現像され、光１５４に露光された材料１５５の部分が除去される。図２および図３では、親基板１１がエッチング物質でエッチングされ、材料１５５で覆われない親基板１１の部分が除去される。結果として、図３では、親基板１１内に複数の転写パターン２０ｐが形成される。図４では、転写パターン２０ｐが親基板１１上に転写スタンプ２０を画定する。
【００５４】
転写スタンプ２０は、幅、長さおよび高さの３つの寸法が全て変化する転写パターン２０ｐを含むことができる。図４の断面図および図５の平面図では、転写パターン２０ｐは幅寸法ｄ0、高さ寸法ｈ0および長さ寸法Ｌ0が変化する。転写パターン２０ｐの実際の寸法は応用形態に依存し、大抵の場合に、材料１５５をパターニングするために用いられるリソグラフィ工程に依存するであろう。たとえば、最新のマイクロエレクトロニクスリソグラフィ工程が用いられる場合には、寸法（ｄ0、ｈ0、Ｌ0）はサブマイクロメートルスケール、すなわち１．０μｍ未満にすることができる。たとえば、転写パターン２０ｐは１００．０ｎｍ以下の寸法（ｄ0、ｈ0、Ｌ0）を有することができるナノ転写パターンにすることができる。したがって、転写スタンプ２０は、ナノメートルサイズの寸法（ｄ0、ｈ0、Ｌ0）を有する転写パターン２０ｐを有するナノ転写スタンプになるであろう。
【００５５】
マイクロエレクトロニクス分野においてよく知られているリソグラフィ工程を用いて、親基板１１をパターニングし、エッチングすることができる。たとえば、材料１５５のためにフォトレジストを用いるフォトリソグラフィ工程および反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）のようなエッチング工程を用いて、親基板１１内に転写スタンプ２０を形成することができる。
【００５６】
親基板１１に適した材料は、限定はしないが、シリコン（Ｓｉ）基板およびシリコン（Ｓｉ）ウェーハを含む。図５では、親基板１１はウェーハフラット１１Ｆを有するシリコンウェーハである。親基板１１内には４つの転写スタンプ２０が形成される。シリコンウェーハは任意のサイズにすることができる。たとえば、４つの転写スタンプ２０の場合の親基板１１として、４．０インチシリコンウェーハが用いられた。さらに多くの転写スタンプ２０あるいはさらに大きな転写スタンプ２０の場合に、さらに大きな表面積を与えるために、さらに大きな直径のシリコンウェーハ（たとえば８インチあるいは１２インチ）を用いることができる。転写パターン２０ｐは図５では同じように見えるが、転写スタンプ２０は、転写スタンプ２０間で異なる（すなわち、同じではない）転写パターン２０ｐを含むことができる。
【００５７】
図６では、転写パターン２０ｐ上に剥離層１３が堆積される。剥離層１３は、転写パターン２０ｐを共形的に塗工するように作用する第１の厚みｔ1を含み、第１の厚みｔ1は転写パターン２０ｐの垂直方向および水平方向の表面上で概ね同じ厚みになる。剥離層１３に適した材料は、限定はしないが、フルオロカーボン材料を含む。一例として、剥離層１３のためのフルオロカーボン材料は、約５分間、トリフルオロメタン（ＣＨＦ3）ガスのプラズマ堆積を用いて堆積できる。
【００５８】
第１の厚みｔ1は応用形態に依存するであろう。しかしながら、以下に説明されるように、剥離層１３は、後に剥離層１３から剥離されることになるシリコーン主体エラストマ材料を被着する非粘着表面を設けるための役割を果たす。それゆえ、剥離層１３には、約５０．０ｎｍ〜約１５０．０ｎｍ厚の第１の厚みｔ1を有する非常に薄い層を用いることができる。
【００５９】
図７では、シリコーン主体エラストマ層１５が、転写パターン２０ｐを完全に覆う第１の深さｄ1まで、剥離層１３上に堆積される。シリコーン主体エラストマ層１５のための均一な厚みを得るために、親基板１１は概ね水平にしなければならない。これは、たとえば、シリコーン主体エラストマ層１５を堆積する前に、水平な表面あるいは水平な真空チャック上に親基板１１を配置することにより達成できる。
【００６０】
その後、シリコーン主体エラストマ層１５は、親基板１１を加熱（Ｈ）することにより硬化される。硬化は、所定の時間だけ所定の温度で親基板１１を焼成することにより達成することができる。実際の時間および温度は応用形態に依存することになり、シリコーン主体エラストマ層１５のために用いられる材料の種類にも依存するであろう。シリコーン主体エラストマ層１５に適した材料は、限定はしないが、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、およびＳＹＬＧＡＲＤ１８２（登録商標）シリコーンエラストマ、ＳＹＬＧＡＲＤ１８３（登録商標）シリコーンエラストマ、ＳＹＬＧＡＲＤ１８４（登録商標）シリコーンエラストマ、ＳＹＬＧＡＲＤ１８６（登録商標）シリコーンエラストマを含むＤＯＷ  ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）シリコーン主体コンフォーマルコーティングを含む。
【００６１】
シリコーン主体エラストマ層１５の第１の深さｄ1は応用形態に依存する。しかしながら、好ましい実施形態では、シリコーン主体エラストマ層１５の第１の深さｄ1は約０．５ｍｍ〜約１．５ｍｍである。ＰＤＭＳあるいはＤＯＷ  ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）ＳＹＬＧＡＲＤ（登録商標）シリコーン主体エラストマの場合、シリコーン主体エラストマ層１５の硬化は、オーブンなどにおいて親基板１１を焼成することにより達成することができる。硬化するための所定の温度および所定の時間として、約４時間、約１００℃の温度を用いることができる。
【００６２】
同じく図６、図７に示される別の実施形態では、上記の硬化ステップの前に、第２の厚みｔ2を有するカバー層１６が、既に堆積されているシリコーン主体エラストマ層１５上に被着される。カバー層１６はポリエステルフィルムであり、第２の厚みｔ2は約５０．０μｍ〜約１５０．０μｍであることが好ましい。カバー層１６を用いて、シリコーン主体エラストマ層１５の概ね平坦な表面１５ｓからの逸脱を生じることになる、シリコーン主体エラストマ層１５内のあらゆる表面の凹凸を平坦化することができる。
【００６３】
硬化ステップの後に、転写パターン２０ｐの相補的な像がシリコーン主体エラストマ層１５内に複製され（２０ｒ）、転写スタンプ２０ａがシリコーン主体エラストマ層１５内に形成されるようになる（図８〜図１０を参照）。
【００６４】
図７では、硬化ステップの後に、シリコーン主体エラストマ層１５が剥離層１３から剥離される。ピンセットの両先端、あるいはＸ−Ａｃｔｏ（登録商標）ナイフのようなナイフまたはかみそりの刃を用いて、ナイフの刃Ｋおよびシリコーン主体エラストマ層１５と剥離層１３との間に挿入される破線矢印によって示されるように、剥離層１３からシリコーン主体エラストマ層１５を分離することができる。その後、シリコーン主体エラストマ層１５は、シリコーン主体エラストマ層１５の縁をつかみ、剥離層１３からシリコーン主体エラストマ層１５を引き剥がすこと（破線矢印Ｐを参照）により、剥離層１３から剥離できる。上記のカバー層１６が用いられる場合には、シリコーン主体エラストマ層１５が剥離層１３から剥離される前に、カバー層１６がシリコーン主体エラストマ層１５から除去される。
【００６５】
図８、図９および図１０では、転写スタンプ２０ａが、転写スタンプ２０ａを包囲するシリコーン主体エラストマ層１５の剰余部分から抜き出される。上記のカバー層１６が用いられる場合には、転写スタンプ２０ａが、転写スタンプ２０ａを包囲するシリコーン主体エラストマ層１５およびカバー層１６の剰余部分から抜き出される。
【００６６】
いずれの場合でも、概ね平坦な基板２１上にシリコーン主体エラストマ層１５を配置し、その後、転写スタンプ２０ａの周囲（図８および図９の破線を参照）を切断し（Ｃ）、転写スタンプ２０ａからシリコーン主体エラストマ層１５の剰余部分あるいはシリコーン主体エラストマ層１５およびカバー層１６の剰余部分を切り離すことにより、転写スタンプ２０ａを剰余部分から取り出すことができる。ナイフ、かみそり、ダイスなどを用いて、図９にナイフＫによって示されるような切断を達成することができる。転写スタンプ２０ａが切り離された後に、剰余部分（１５、あるいは１５および１６）は概ね平坦な基板２１から剥離され、転写スタンプ２０ａはもはや剰余部分と接続されないようになる（図１０を参照）。概ね平坦な基板２１には、限定はしないが、ガラス、金属、プラスチックおよび石英を含む材料を用いることができる。たとえば、概ね平坦な基板２１にはガラス板を用いることができる。
【００６７】
オプションでは、親基板１１を用いてさらに別の転写スタンプ２０ａを製造するために、上記のステップが必要に応じて繰り返される。本発明の方法の１つの利点は、親基板１１が上記の工程ステップによって損傷を受けないことである。結果として、いくつかの転写スタンプ２０ａを製造するために、同じ親基板１１を繰返し用いることができる。それゆえ、親基板１１をパターニングおよびエッチングし、剥離層１３を堆積するコストはいくつかの転写スタンプ２０ａを通して償却できる。
【００６８】
本発明の方法の別の利点は、シリコーン主体エラストマ層１５が塵粒のような汚染物質の周囲に流れ、それらを運び去るので、汚染物質を除去するために、使用する度に親基板１１を洗浄する必要がないことである。したがって、粒子がシリコーン主体エラストマ層１５とともに除去されるので、親基板１１は自洗式である。
【００６９】
図１１では、第３の厚みｔ3を有する平坦で薄いプラスチックフィルム３３が、第４の厚みｔ4を有する平坦で可塑性のシリコーンゴム裏当て３１上に配置される。薄いプラスチックフィルム３３に適した材料は、限定はしないが、ポリイミドおよびポリエステル（ＰＥＴ、ポリエチレン  テレフタレート）を含む。第３の厚みｔ3および第４の厚みｔ4は応用形態に依存するであろう。薄いプラスチックフィルム３３の第３の厚みｔ3は約４０．０μｍ〜約１００．０μｍであり、シリコーンゴム裏当て３１の第４の厚みｔ4は約０．１２５インチ（３．１７５ｍｍ）〜約０．２５インチ（６．３５ｍｍ）である。シリコーンゴム裏当て３１の第４の厚みｔ4は、シリコーンゴム裏当て３１が可塑性を有する（すなわち、硬くない）ように選択されるであろう。
【００７０】
図１２では、薄いプラスチックフィルム３３の表面３３ｓがフォトポリマー溶液３５を塗工される。フォトポリマー溶液３５は、限定はしないが、約５０％のフォトポリマー材料と約５０％のアセトンとの混合物を含むことができる。以下に記載されるように、アセトンは蒸発し、薄いプラスチックフィルム３３の表面３３ｓ上に概ねフォトポリマーの層が残されるであろう。フォトポリマー材料は、限定はしないが、紫外線に露光する際に硬化するＮｏｒｌａｎｄ（商標）光学接着剤を含むことができる。フォトポリマー材料は、約５．０秒〜約６０秒の間に硬化することが好ましい。たとえば、フォトポリマー溶液３５のために、Ｎｏｒｌａｎｄ（登録商標）ＮＯＡ８３Ｈフォトポリマーを用いることができる。
【００７１】
図１３および図１４では、フォトポリマー溶液３５が薄いプラスチックフィルム３３の表面３３ｓ上に塗布され、第５の厚みｔ5を有するフォトポリマー層３５が形成される。フォトポリマー溶液３５の塗布は、第１の直径を有するワイヤＷ1を巻かれたマイヤーバーＭ1を用いて成し遂げられることが好ましい。マイヤーバーＭ1は表面３３ｓ上を摺動し（Ｓ）、フォトポリマー溶液３５を計量し、第５の厚みｔ5を有するフォトポリマー層３５が形成されるようにする。フォトポリマー溶液３５の中にあるアセトンは塗布過程において概ね蒸発する。結果として、フォトポリマー層３５は上記のように概ねフォトポリマー材料を含む。フォトポリマー層３５の第５の厚みｔ5は約５．０μｍ〜約１０．０μｍであることが好ましい。ワイヤＷ1の第１の直径は応用形態に依存するであろう。ワイヤＷ1の第１の直径は約５０．０μｍ〜約１００．０μｍであることが好ましい。
【００７２】
図１５では、転写スタンプ２０ａのパターニングされた表面２１ａがフォトポリマー層３５上に配置される。フォトポリマー層３５上に転写スタンプ２０ａを配置することは、転写スタンプ２０ａのエッジｅ１をフォトポリマー層３５に接触させて配置し、エッジｅ１を押さえながら、パターニングされた表面２１ａの残りの部分を徐々に降ろして（矢印Ｌ１およびｄを参照）フォトポリマー層３５と接触させることを含むことができる。ピンセットあるいは吸引棒を用いて、エッジｅ２をつかみながら降ろし、エッジｅ１を押さえておくことができる。別法では、ゴムローラなどを用いて、徐々に降ろしながら、パターニングされた表面２１ａをフォトポリマー層３５に接触させることができる。
【００７３】
徐々に降ろすことの１つの利点は、フォトポリマー層３５とパターニングされた表面２０ｒとの間に捕捉された空気が追い出され（is displaced）、欠陥を引き起こすようになる気泡がフォトポリマー層３５とパターニングされた表面２０ｒとの間に捕らわれないようにすることである。
【００７４】
本発明の方法の別の利点は、一旦、転写スタンプ２０ａがフォトポリマー層３５上に配置されたなら、転写スタンプ２０ａがフォトポリマー層３５の表面３５ｓ上で自由に動かされ（破線矢印Ｆを参照）、フォトポリマー層３５上の所定の場所に転写スタンプ２０ａを位置決めすることができることである。そのように自由に動かすこと（Ｆ）はピンセットあるいは吸引棒を用いて手作業で行うことができるか、あるいは自動化して、ロボットエンドエフェクタのような精密機械装置を用いて、転写スタンプ２０ａを正確に位置決めすることができる。
【００７５】
図１６では、フォトポリマー層３５を硬化して、フォトポリマー層３５上に転写スタンプ２０ａの場所を固定し、転写パターン２０ｒの像がフォトポリマー層３５に転写される。フォトポリマー層３５は，フォトポリマー層３５を、第１の時間だけ所定の輝度の紫外線ＵＶを照射することにより硬化される。フォトポリマー層３５は硬化して次第に固くなり、フォトポリマー層３５に転写される転写パターン２０ｒの像も固くなり、転写パターン２０ｓとしてフォトポリマー層３５内に固定される。
【００７６】
紫外線ＵＶは、限定はしないが、約３００．０ｎｍ〜約４００．０ｎｍの範囲を含む波長を有することができる。紫外線ＵＶの所定の輝度は、限定はしないが、約１５０ｍＷ／ｃｍ2の輝度を含むことができる。第１の時間は、限定はしないが、約５秒〜約６０秒の時間を含むことができる。たとえば、紫外線ＵＶの光源として、ＵＶＡ紫外線光源を用いることができる。
【００７７】
本発明の方法のさらに別の利点は、フォトポリマー層３５をパターニングするために用いられる転写スタンプ２０ａが、変更可能な厚み（図１６のｔAおよびｔB）を有することができ、厚みの変更が転写パターン２０ｒをフォトポリマー層３５の転写パターン２０ｓに転写する精度に影響を及ぼさないことである。厚み（ｔAおよびｔB）の変更は、転写スタンプ２０ａを形成するために用いられる工程を変更すること、図７の第１の深さｄ1を変更すること、および異なる親基板１１を用いて、異なる転写パターン２０ｐを有する異なる転写スタンプ２０を形成することにより可能である。
【００７８】
硬化ステップの後に、図１７および図１８では、転写スタンプ２０がフォトポリマー層３５から除去され（Ｐ）、転写パターン２０ｒの像がフォトポリマーシム３６を画定し、その中に転写パターン２０ｓが固定される。転写スタンプ２０ａは、ピンセットなどを用いて、エッジ（ｅ１あるいはｅ２）をつかみ、その後、フォトポリマー層３５から転写スタンプ２０ａを持ち上げることにより除去できる（Ｐ）（破線矢印Ｐを参照）。
【００７９】
図１９では、フォトポリマーシム３６を加熱することにより、フォトポリマーシム３６が後硬化される。フォトポリマーシム３６の後硬化は、限定はしないが、約１００℃の温度において約１時間で実施することができる。オプションでは、後硬化ステップの後に、フォトポリマーシム３６がアセトン溶液で洗浄され、ＰＤＭＳあるいは上記のＳＹＬＧＡＲＤ（登録商標）シリコーン主体エラストマのようなシリコーン主体エラストマ材料の硬化を妨げることもある化学種を除去することができる。フォトポリマーシム３６の後硬化は、硬化を妨げる化学種を追い出し、薄いプラスチックフィルム３３へのフォトポリマーシム３６の接着を改善する。
【００８０】
図１９では、フォトポリマーシム３６の後硬化の後に、第６の厚みｔ6を有するフルオロカーボン材料３７の塗膜が、フォトポリマーシム３６上に堆積される。第６の厚みｔ6は、限定はしないが、約５０．０ｎｍ〜約１５０．０ｎｍの厚みを含むことができる。一例として、フルオロカーボン材料３７は、約５分間、トリフルオロメタン（ＣＨＦ3）ガスのプラズマ堆積を用いて堆積できる。
【００８１】
また図１９では、フルオロカーボン材料３７を堆積した後に、薄いプラスチックフィルム３３とシリコーンゴム裏当て３１との間にピンセットあるいはナイフの刃を挿入して、薄いプラスチックフィルム３３が、破線矢印Ｐによって示されるように、シリコーンゴム裏当て３１から引き剥がされる。以下では、フォトポリマーシム３６と薄いプラスチックフィルム３３とを組み合わせたものは、別に注記なきときは、フォトポリマーシム３６と呼ばれるであろう。
【００８２】
図２０では、薄いプラスチックフィルム３３が分離された後に、フォトポリマーシム３６が支持基板４１に取り付けられる。フォトポリマーシム３６は、フォトポリマーシム３６を支持基板４１上に配置し、接着剤を用いて、フォトポリマーシム３６の一端を支持基板４１に固定することにより、支持基板４１に接続される。たとえば、高温接着テープＴを用いることができる。支持基板４１は、限定はしないが、ガラスおよび石英を含む材料から形成できる。
【００８３】
図２１および図２２では、第１の高さｈ1を有するシムストック４３が支持基板４１に取り付けられる。シムストック４３は、たとえば、上記の高温接着テープＴのような接着剤を用いて支持基板４１に接続される。シムストック４３は、フォトポリマーシム３６に隣接して配置され、フォトポリマーシム３６から第１の距離Ｄ1だけ離隔して配置され、支持基板４１の表面４１ｓ上に、シムストック４３とフォトポリマーシム３６との間に空間が存在するようになる。シムストック４３の第１の高さｈ1は、図２２に示されるようなフォトポリマーシム３６の高さｈsよりも高くなるであろう。第１の高さｈ1および第１の距離Ｄ1は応用形態に依存するであろう。しかしながら、第１の高さｈ1は、限定はしないが、約０．５ｍｍ〜約１．５ｍｍを含む範囲にすることができ、第１の距離Ｄ1は、限定はしないが、約１．０ｍｍ〜約２．０ｍｍの範囲にすることができる。シムストック４３には、限定はしないが、金属、ガラス、石英およびステンレス鋼を含む材料を用いることができる。たとえば、シムストック４３にはステンレス鋼シムストックを用いることができ、第１の高さｈ1は約０．５ｍｍにすることができる。
【００８４】
図２１では、以下に記載されるようにシムストック４３およびフォトポリマーシム３６にシリコーン主体エラストマ材料を塗工するための準備として、支持基板４１の温度を高めるために、支持基板４１が予熱される（Ｈ）。シリコーン主体エラストマ材料は、冷たい温度あるいは室温（すなわち約１８℃〜約２８℃）の支持基板４１上に塗工されないことが好ましい。支持基板４１を予熱するための温度は応用形態に依存し、その温度はフォトポリマーシム３６の温度限界を超えないであろう。たとえば、支持基板４１は、約１００℃の温度まで予熱される。約１００℃の温度はほとんどのフォトポリマー材料の温度限界未満である。
【００８５】
図２２および図２３では、フォトポリマーシム３６およびシムストック４３がコンプライアント材料４４を塗工され、それによりフォトポリマーシム３６およびシムストック４３は完全に覆われる（図２２を参照）。コンプライアント材料４４に適した材料は、限定はしないが、シリコーン主体エラストマ材料およびアモルファスフルオロポリマー材料を含む。
【００８６】
適当なシリコーン主体エラストマ材料は、限定はしないが、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、およびＳＹＬＧＡＲＤ１８２（登録商標）シリコーンエラストマ、ＳＹＬＧＡＲＤ１８３（登録商標）シリコーンエラストマ、ＳＹＬＧＡＲＤ１８４（登録商標）シリコーンエラストマ、ＳＹＬＧＡＲＤ１８６（登録商標）シリコーンエラストマを含むＤＯＷ  ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）シリコーン主体コンフォーマルコーティングを含む。ＰＤＭＳは、基剤が約１０．０部、硬化剤が約１．５部の割合の混合物であることが好ましい。基剤および硬化剤は、それらが同じ密度を有するように、重量比あるいは体積比で混合される。
【００８７】
アモルファスフルオロポリマー材料に適した材料は、限定はしないが、テフロン（登録商標）ＡＦを含む。たとえば、ＤｕＰｏｎｔ（商標）テフロン（登録商標）ＡＦをコンプライアント材料４４のために用いることができる。コンプライアント材料４４がアモルファスフルオロポリマー材料を含むとき、先に記載された図２１の予熱ステップは不要である。
【００８８】
図２３および図２４では、コンプライアント材料４４がフォトポリマーシム３６およびシムストック４３上に塗布され、フォトポリマーシム３６およびシムストック４３を覆うコンプライアント媒体４５が形成される（図２４の厚みｔ8およびｔ9を参照）。フォトポリマーシム３６の転写パターン２０ｓはコンプライアント媒体４５に転写され、コンプライアント媒体４５内に転写スタンプ２０ｔが形成されるようになる。
【００８９】
コンプライアント材料４４の塗布は、第２の直径を有するワイヤＷ2を巻かれたマイヤーバーＭ2を用いて成し遂げられることが好ましい。マイヤーバーＭ2はシムストック４３上を摺動し（Ｓ）、コンプライアント材料４４を計量して、滑らかで均一な厚みのコンプライアント媒体４５が形成される。コンプライアント材料４４は厚みｔ8までシムストック４３を覆い、厚みｔ9までフォトポリマーシム３６を覆うであろう。ただしｔ9＞＞ｔ8である。マイヤーバーＭ2は、先に記載されたマイヤーバーＭ1よりもかなり粗い直径のワイヤを巻かれる。ワイヤＷ2の第２の直径は応用形態に依存するであろう。ワイヤＷ2の第２の直径は、約１．０ｍｍ〜約３．０ｍｍであることが好ましい。たとえば、約１．５ｍｍの直径を有するワイヤがマイヤーバーＭ2に巻かれることができる。
【００９０】
塗布した後に、支持基板４１は加熱される（Ｈ）。表面４１ｓは、加熱ステップ中あるいは後に、コンプライアント媒体４５の一部４５ｃが接着するための表面を与えるための役割を果たす。基板４１の加熱（Ｈ）のための時間および温度は応用形態に依存し、先に記載されたように、その温度はフォトポリマーシム３６あるいはコンプライアント媒体４５のための温度限界を超えてはならない。一例として、コンプライアント媒体４５がシリコーン主体エラストマ材料から形成されるとき、支持基板４１は、約１００℃の温度で約４．０時間、加熱（Ｈ）するのがよい。その加熱（Ｈ）によって、シリコーン主体エラストマ材料は硬化する。別法では、コンプライアント媒体４５がアモルファスフルオロポリマー材料から形成されるとき、支持基板４１は、約６０℃の温度で約４．０時間、加熱（Ｈ）するのがよい。この場合には、加熱（Ｈ）によって、アモルファスフルオロポリマー材料が乾き固まる。
【００９１】
加熱ステップの後に、支持基板４１は冷却される。支持基板４１は、概ね室温（すなわち、約１８℃〜約２８℃）まで冷却するようになされることが好ましい。
【００９２】
支持基板４１が冷却された後に、シムストック４３が支持基板４１から除去される。図２４では、フォトポリマーシム３６に隣接するシムストック４３の縁に沿ってコンプライアント媒体４５を切断（Ｋ）することにより、シムストック４３を除去することができる。ナイフ、かみそりなどを用いて、コンプライアント媒体４５を切断（Ｋ）することができる。コンプライアント媒体４５が切断（Ｋ）された後に、シムストック４３は支持基板４１から引き剥がされる。コンプライアント材料４５の一部４５ｃが支持基板４１の表面４１ｓに接着し、接着は、コンプライアント媒体４５が基板４１から早まって分離されるのを防ぐので、シムストック４３の縁部（Ｋのための破線を参照）は切断（Ｋ）を行うための目印として用いられるであろう。
【００９３】
図２５〜図２７では、移転接着層５１の第１の接着表面Ａ1がコンプライアント媒体４５の表面４５ｓに被着され、移転接着層５１がコンプライアント媒体４５に接着するようになる。移転接着層５１は、以下に記載されるように、第７の厚みｔ7および第２の接着表面Ａ2を含む。
【００９４】
図２５では、表面４５ｓに被着される前に、移転接着層５１から第１の裏当て５３を剥離することにより（Ｐ1）、第１の接着表面Ａ1を露出することができる。同様に、移転接着層５１から第２の裏当て５５を剥離することにより（Ｐ2）、第２の接着表面Ａ2を露出することができる。第１の接着表面Ａ1は、ローラ５９（図２６を参照）を用いることにより表面４５ｓと接続される。
【００９５】
図２６では、第１の接着表面Ａ1がコンプライアント媒体４５の縁に配置され、その後、表面４５ｓ全体が第１の接着表面Ａ1と接続されるまで（図２７を参照）、ローラ５９が第２の裏当て５５にわたって転がされ（Ｒ）、第１の接着表面Ａ1が表面４５ｓにわたって徐々に被着される。ローラ５９には、たとえばゴムローラを用いることができる。ローラ５９によって、第１の接着表面Ａ1と表面４５ｓとの間に空気を捕らえることなく、第１の接着表面Ａ1が表面４５ｓに被着されるようになる。
【００９６】
移転接着層５１の第７の厚みｔ7は応用形態に依存するであろう。しかしながら、移転接着層５１はコンプライアント媒体４５に付着したままであり、かつコンプライアント媒体４５は可とう性であることが望ましいので、移転接着層５１はできる限り薄くなければならない。移転接着層５１の第７の厚みｔ7は約２０．０μｍ厚〜約１００．０μｍ厚であることが好ましい。
【００９７】
移転接着層５１は光透過性の材料であり、コンプライアント媒体４５および転写スタンプ２０ｔと接触する別のフォトポリマー材料が、以下に記載されるように、移転接着層５１およびコンプライアント媒体４５の両方に入射する光源によって硬化できるようにすることが好ましい。
【００９８】
移転接着層５１に適した光透過性の材料は、限定はしないが、Ａｄｈｅｓｉｖｅｓ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ，Ｉｎｃ．（登録商標）ＡＲｃｌｅａｒ（登録商標）ＤＥＶ−８９３２光学透明シリコーン接着剤を含む。たとえば、ＡＲｃｌｅａｒ（登録商標）ＤＥＶ−８９３２からなる２５．０μｍ厚のシート（すなわち、第７の厚みｔ7＝２５．０μｍ）を移転接着層５１のために用いることができる。
【００９９】
図２８では、コンプライアント媒体４５は、ナイフ、かみそり、吸引棒、ピンセットなどを用いて、ナイフＫによって示されるように、支持基板４１からのコンプライアント媒体４５の分離を開始することにより、支持基板４１から分離される。図２９では、転写スタンプ２０ｔを含む特徴（すなわちパターン）の一例がさらに詳細に示される。図３０では、剥離した後に、コンプライアント媒体４５は依然として、フォトポリマーシム３６および薄いプラスチックフィルム３３に接続されている。
【０１００】
本発明の方法のさらに別の利点は、図３１〜図３７ｂを参照して以下に記載される後続の処理ステップおよびハンドリングステップ中に、フォトポリマーシム３６および薄いプラスチックフィルム３３が、転写スタンプ２０ｔを損傷から保護することである。それらの処理ステップおよびハンドリングステップが完了した後に、転写スタンプ２０ｔを露出させるために、フォトポリマーシム３６および薄いプラスチックフィルム３３の層を剥離することができる。フォトポリマーシム３６および薄いプラスチックフィルム３３の層は最終的には、コンプライアント媒体４５によって保持される転写スタンプ２０ｔを露出させるために、コンプライアント媒体４５から分離されることになるので、これ以降、別に注記なきときは、フォトポリマーシム３６および薄いプラスチックフィルム３３を含む層を組み合わせたものは、フォトポリマーシム３６として示されるであろう（図３０を参照）。
【０１０１】
同様に、移転接着層５１はコンプライアント媒体４５と接続されたままであるので、コンプライアント媒体４５および移転接着層５１を組み合わせたものはコンプライアント媒体７０として示されるであろう。図２８および図３０では、コンプライアント媒体７０とフォトポリマーシム３６とを組み合わせたものは、コンプライアントアセンブリ７５として示されるであろう。以下に記載されるように、コンプライアントアセンブリ７５は、シリンダおよびフレキシブルベルト材料と接続されるであろう。
【０１０２】
図３１ａ、図３１ｂおよび図３１ｃでは、Ｌ字形ジグ７３が水平セクション７３ｈと低い垂直壁を形成する垂直セクション７３ｖとを含む。水平および垂直セクション（７３ｈ、７３ｖ）は互いに直角βをなす。セクション（７３ｈ、７３ｖ）は滑らかであり、概ね平坦でなければならない。Ｌ字形ジグ７３を用いて、シリンダ６９の表面６９ｓへのコンプライアントアセンブリ７５の積層を達成することができる。
【０１０３】
図３１ａおよび図３１ｂでは、支持基板４１が水平セクション７３ｈ上に配置され、垂直セクション７３ｖと当接することができる。別法では、コンプライアントアセンブリ７５が既に支持基板４１から分離されている場合には、シリコーンゴムの滑らかで平坦な断片から形成される土台（図示せず）が水平セクション７３ｈ上に配置されることができ、その土台の端部が垂直セクション７３ｖに当接する。コンプライアントアセンブリ７５は土台の上側に配置され、垂直セクション７３ｖを垂直で真っ直ぐな端部として用いることにより、垂直セクション７３ｖと位置合わせされる。第２の裏当て５５が依然として移転接着層５１上に存在する場合には、第２の裏当て５５を剥離して（Ｐ2）、第２の接着層Ａ2を露出させることができる。
【０１０４】
図３１ａおよび図３１ｃでは、外側表面６９ｓを有するシリンダ６９が水平セクション７３ｈおよび垂直セクション７３ｖと位置合わせされ、外側表面６９ｓがそれらのセクション（７３ｈ、７３ｖ）に接するようにする（７３ｔ）。シリンダ６９がコンプライアントアセンブリ７５上に降ろされ、第２の接着表面Ａ2が外側表面６９ｓの一部と接点７３ｔにおいて接触するようになる。その後、シリンダ６９は転がり方向ＲDに回転され（Ｒ）、シリンダ６９の回転（Ｒ）に応じて、外側表面６９ｓ上にコンプライアントアセンブリ７５が巻き取られる。コンプライアントアセンブリ７５がシリンダ６９上を転がされた後に、図３１ｃに示されるように、コンプライアントアセンブリ７５の隣接する端部間に隙間７０ｇが形成される。
【０１０５】
シリンダ６９に適した材料は、限定はしないが、金属、セラミック、ガラス、石英およびプラスチックを含む。シリンダ６９は光透過性の材料から形成され、光Ｌがシリンダ６９、コンプライアント媒体７０および転写スタンプ２０ｔを通過できるようにすることが好ましい。シリンダ６９に適した光透過性の材料は、限定はしないが、ガラス、石英およびプラスチックを含む。図３２では、紫外線光源のような光源９９が、シリンダ６９の内側あるいは外側に配置され、転写スタンプ２０ｔに押し付けられるフォトポリマー材料（図示せず）に照射し、硬化させることができる。コンプライアント媒体７０は任意のサイズに形成できるので、シリンダ６９は、光源９９を収容するだけの十分な内径を含むことができる。一方、光源９９は、シリンダ６９の内径の中に入れられるほど十分に小さくすることができる。
【０１０６】
図３１ｂでは、シリンダ６９にコンプライアント媒体４５を付着させるための別の方法が示される。図３１ｂでは、移転接着層５１がコンプライアント媒体４５と接続されないので、コンプライアント媒体は７０ではなく、４５として示される。最初に、移転接着層５１の第１の接着表面Ａ1が、第１の裏当て５３（図示せず）を剥離することにより露出される。次に、シリンダ６９の外側表面６９ｓが第１の接着表面Ａ1と接続され、その後、シリンダ６９が転がされ、移転接着層５１が外側表面６９ｓ上に巻き取られる。次に、第２の裏当て５５の一部が剥離され、第２の接着表面Ａ2の一部が露出する。次に、第２の接着表面Ａ2の露出された部分が接点７３ｔにおいてコンプライアント媒体４５と接続され、シリンダ６９が回転方向ＲDに転がされ、コンプライアント媒体４５がシリンダ６９上に巻き取られ、同時に、第２の裏当て５５の残りの部分が剥離され（５５ｐ）、第２の接着表面Ａ2の残りの部分が露出される。
【０１０７】
図３２および図３３では、コンプライアントアセンブリ７５がシリンダ６９上に巻き取られ後に、コンプライアントアセンブリ７５の大部分がシリンダ６９上で滑らかに巻き取られるように取り除かれなければならないコンプライアントアセンブリ７５の剰余部分７５ｘが存在する場合がある。上記のように、隙間７０ｇが存在する場合もあり、存在する場合には、隙間７０ｇができるだけ小さくなるように剰余部分７５ｘを取り除くことが望ましい。コンプライアントアセンブリ７５が外側表面６９ｓ上で膨らむことなく延在するように、ナイフＫなどを用いて、剰余部分７５ｘを取り除くことができる。図３３では、ナイフＫが方向Ｋdに沿って切断し、剰余部分７５ｘのトリミングを行い、完全に積層されたシリンダ９０を形成することができる。図３３では、転写スタンプ２０ｔは、コンプライアント媒体７０から分離されていないフォトポリマーシム３６に下に依然として配置されるので、破線の輪郭で示される。
【０１０８】
図３３では、シリンダ６９およびコンプライアントアセンブリ７５を通る線ｎ−ｎが図３４ａおよび図３４ｂにおいて断面図でさらに詳細に示される。図３４ａには、剰余部分７５ｘが取り除かれる前のコンプライアントアセンブリ７５が示される。図３４ｂには、剰余部分７５ｘが取り除かれた後のコンプライアントアセンブリ７５が示される。
【０１０９】
図３４ａ、図３４ｂでは、剰余部分７５ｘはコンプライアント媒体７０とフォトポリマーシム３６とを含む。フォトポリマーシム３６に接続される薄いプラスチックフィルム３３（図２８を参照）は光に対して非透過性にすることができ、フォトポリマーシム３６は光透過性にすることができるので、フォトポリマーシム３６が破線矢印Ｐによって示されるように剥離され、コンプライアント媒体７０（すなわち、光透過性の接着剤５１および光透過性のコンプライアント媒体４５）を用いて、シリンダ６９の外側表面６９ｓと既に接続されているコンプライアントアセンブリ７５の縁部ＥSを合わせることができる。
【０１１０】
縁部ＥSに対する視線（破線を参照）に沿ってナイフで切断して（Ｋ）、剰余部分７５ｘを取り除き、剰余部分７５ｘの接続されない層と、その個々の接続される層とを、すなわち図３４ａに示されるような３６’と３６、４５’と４５および５１’と５１とを位置合わせすることができる。トリミング後に、コンプライアントアセンブリ７５の隣接する端部間には小さな隙間７０ｇが存在する場合もある。
【０１１１】
図３４ｂでは、小さな隙間７０ｇを別にすれば、コンプライアントアセンブリ７５は、シリンダ６９の外側表面６９ｓ上に、概ね連続した層を形成する。トリミング後に、フォトポリマーシム３６を剥離して（Ｐ）、コンプライアント媒体７０上に転写スタンプ２０ｔを露出させることができる。
【０１１２】
図３５および図３６では、コンプライアントアセンブリ７５がベルト材料８１に被着される。コンプライアントアセンブリ７５をベルト材料８１に被着する前に、第２の裏当て５５が移転接着層５１から剥離され、第２の接着表面Ａ2を露出させる。その後、第２の接着表面Ａ2はベルト材料８１の表面８１ｓに徐々に被着される。ゴムローラのようなローラ８９を用いて、コンプライアントアセンブリ７５を転がり方向ＲDに転がすことができる（Ｒ）。
【０１１３】
回転Ｒは、コンプライアントアセンブリ７５およびベルト材料８１の第１の端部（７５ａ、８１ａ）で開始し、第２の端部（７５ｂ、８１ｂ）で終了することができる。コンプライアントアセンブリ７５およびベルト材料８１が互いに接続された後に（図３６を参照）、図３７ａおよび図３７ｂに示されるように、第１および第２の端部（８１ａ、８１ｂ）を結合してベルト１００を形成することができる。上記のように、隙間７０ｇが第１および第２の端部（７５ａ、７５ｂ）を分離する場合もある。スプライシングテープなどを用いて、隙間７０ｇを覆うこともできる。また１切れのスプライシングテープ８１ｔなどを用いて、ベルト材料８１の第１および第２の端部（８１ａ、８１ｂ）を接続し、ベルト１００を形成することもできる。ベルト１００が形成された後に、層７１（すなわち３３および３６）を剥離して（Ｐ）、コンプライアント媒体７０上に転写スタンプ２０ｔを露出させることができる。適当なスプライシングテープは、限定はしないが、高温シリコーン主体テープを含む。
【０１１４】
ベルト材料８１には光透過性の材料を用いることができ、光Ｌがベルト材料８１、コンプライアント媒体７０および転写スタンプ２０ｔを通過できるようにする。ベルト材料８１に適した光透過性の材料は、限定はしないが、ＤｕＰｏｎｔ（商標）マイラー（登録商標）を含む。たとえば、紫外線光源のような光源９９が、ベルト１００の内側あるいは外側に配置され、転写スタンプ２０ｔに押し付けられるフォトポリマー材料（図示せず）に紫外線を照射し、硬化させることができる。ベルト材料８１は、約５０．０μｍ〜約１５０．０μｍの厚みｔBを有することができる。
【０１１５】
本発明の装置および方法に関するいくつかの実施形態が本明細書において開示され、例示されてきたが、本発明は、そのように説明および図示された特定の形態あるいは部品の配列には限定されない。本発明は特許請求の範囲によってのみ制限される。
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】本発明による転写パターンを画定するために親基板をパターニングし、エッチングする工程を図解する図である。
【図２】本発明による転写パターンを画定するために親基板をパターニングし、エッチングする工程を図解する図である。
【図３】本発明による転写パターンを画定するために親基板をパターニングし、エッチングする工程を図解する図である。
【図４】本発明による転写パターンを画定するために親基板をパターニングし、エッチングする工程を図解する図である。
【図５】本発明による転写パターンを画定するために親基板をパターニングし、エッチングする工程を図解する図である。
【図６】本発明による転写パターン上に共形的に堆積される剥離層を示す図である。
【図７】本発明による剥離層上に堆積される、シリコーン主体エラストマ層を示す図である。
【図８】本発明による転写スタンプを形成するために剥離層からシリコーン主体エラストマ層を分離する工程を図解する図である。
【図９】本発明による転写スタンプを形成するために剥離層からシリコーン主体エラストマ層を分離する工程を図解する図である。
【図１０】本発明による転写スタンプを形成するために剥離層からシリコーン主体エラストマ層を分離する工程を図解する図である。
【図１１】本発明による薄いプラスチックフィルムにシリコーンゴム裏当てを被着する工程を図解する図である。
【図１２】本発明による薄いプラスチックフィルムへのフォトポリマー溶液の塗膜を示す図である。
【図１３】本発明による薄いプラスチックフィルム上にフォトポリマー層を形成するためにフォトポリマー溶液を塗布する工程を図解する図である。
【図１４】本発明による薄いプラスチックフィルム上にフォトポリマー層を形成するためにフォトポリマー溶液を塗布する工程を図解する図である。
【図１５】本発明によるフォトポリマー層上に転写スタンプのパターニングされた面を配置する工程を図解する図である。
【図１６】本発明によるフォトポリマー層を硬化する工程を図解する図である。
【図１７】本発明によるフォトポリマー層から転写スタンプを除去する工程を図解する図である。
【図１８】本発明によるフォトポリマー層内に形成されるフォトポリマーシムを示す図である。
【図１９】本発明によるフォトポリマーシム上に堆積されるフルオロカーボン塗膜を示す図である。
【図２０】本発明による支持基板に取り付けられたフォトポリマーシムを示す図である。
【図２１】本発明による支持基板に取り付けられたシムストックおよび支持基板の予熱工程を図解する図である。
【図２２】本発明によるフォトポリマーシムおよびシムストック上にシリコーン主体エラストマ材料を塗工、塗布する工程を図解する図である。
【図２３】本発明によるフォトポリマーシムおよびシムストック上にシリコーン主体エラストマ材料を塗工、塗布する工程を図解する図である。
【図２４】本発明による支持基板の加熱工程を図解する図である。
【図２５】本発明によるコンプライアント媒体に移転接着剤を被着する工程を図解する図である。
【図２６】本発明によるコンプライアント媒体に移転接着剤を被着する工程を図解する図である。
【図２７】本発明によるコンプライアント媒体に移転接着剤を被着する工程を図解する図である。
【図２８】本発明による支持基板からコンプライアント媒体を分離する工程を図解する図である。
【図２９】本発明によるフォトポリマーシムによって保持される転写パターンの平面図および断面図である。
【図３０】本発明によるコンプライアントアセンブリを示す図である。
【図３１ａ】本発明によるシリンダにコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３１ｂ】本発明によるシリンダにコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３１ｃ】本発明によるシリンダにコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３２】本発明によるシリンダにコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３３】本発明によるシリンダにコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３４ａ】本発明によるシリンダにコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３４ｂ】本発明によるシリンダにコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３５】本発明によるベルト材料にコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３６】本発明によるベルト材料にコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３７ａ】本発明によるベルト材料にコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３７ｂ】本発明によるベルト材料にコンプライアントアセンブリを取り付ける工程を図解する図である。
【図３８】本発明による光透過性のベルト材料と接続される光透過性のコンプライアント媒体を用いて可とう基板をエンボス加工するための装置を示す概略図である。
【図３９】本発明による光透過性のベルト材料と接続される光透過性のコンプライアント媒体を用いて可とう基板をエンボス加工するための装置を示す概略図である。
【図４０】本発明による光透過性のシリンダと接続される光透過性のコンプライアント媒体を用いて可とう基板をエンボス加工するための装置を示す概略図である。
【図４１】本発明による光透過性のシリンダと接続される光透過性のコンプライアント媒体を用いて可とう基板をエンボス加工するための装置を示す概略図である。
【図４２】本発明による塗工ユニットの概略図である。
【図４３】本発明によるグラビアタイプコータを備える塗工ユニットの概略図である。
【図４４】本発明によるスロットダイコータを備える塗工ユニットの概略図である。
【図４５】本発明による光透過性のベルト材料、コンプライアント媒体および転写スタンプを通してフォトポリマー材料に照射することを示す断面図である。
【図４６】本発明による光透過性のシリンダ、コンプライアント媒体および転写スタンプを通してフォトポリマー材料に照射することを示す断面図である。
【図４７】本発明によるフォトポリマー材料内にエンボス加工された複製パターンの平面図および断面図である。
【符号の説明】
【０１１７】
９９  紫外線光源
９９ｒ  反射板
１００  エンボス加工ベルト
１０１  可とう基板
１０１ｂ  基底面
１０１ｃ  塗工面
１０３  搬送ローラ
１０５  裏当てドラム
１０７ｓ  供給リール
１０７ｒ  巻取りリール
１１０  駆動ユニット
２００  エンボス加工装置
３００  塗工ユニット
３０１  フォトポリマー材料
【図１】
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【図２】
2004322641.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
2004322641.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１ａ】
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【図３１ｂ】
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【図３１ｃ】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４ａ】
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【図３４ｂ】
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【図３５】
2004322641.tif 000040
【図３６】
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【図３７ａ】
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【図３７ｂ】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
2004322641.tif 000048
【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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