(57)【要約】【課題】真空環境下で行われるゲッターフラッシュの発生を安定してかつ正確に検知可能なゲッターフラッシュ検知方法および検知装置を提供する。【解決手段】真空チャンバ内にて行われるゲッターフラッシュを検知する際、真空チャンバ５の外部に配設された照度検出器１０により、真空チャンバに設けられた観察窓２３を通して真空チャンバ内におけるゲッター材の発光面積を検出する。検出した発光面積の変化に基づいて、処理装置３によりゲッターフラッシュを検知する。【選択図】　　図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ内にて行われるゲッターフラッシュを検知するゲッターフラッシュ検知方法において、
上記真空チャンバの外部に配設された照度検出器により、上記真空チャンバに設けられた観察窓を通して上記真空チャンバ内におけるゲッター材の発光面積を検出し、
上記検出した発光面積の変化に基づいてゲッターフラッシュを検知するゲッターフラッシュ検知方法。
【請求項２】
一定時間間隔毎に上記発光面積を検出し、時間による発光面積の変化量を検出周期毎に解析しゲッターフラッシュを検知することを特徴とする請求項１に記載のゲッターフラッシュ検知方法。
【請求項３】
上記発光面積の変化量に基づき、発光面積が増加から減少への変化を判定し、上記発光面積が減少する直前の面積増加変化率が設定値以上かを判定し、上記発光面積が減少した時の時間が設定時間範囲内かを判定し、上記３つの項目が満たされ際にゲッターフラッシュが発生したと判定することを特徴とする請求項２に記載のゲッターフラッシュ検知方法。
【請求項４】
上記真空チャンバ内でゲッター材の加熱を開始してから上記照度検出器より検出した発光面積が最大値となるまでの時間をゲッターフラッシュタイムとして検知することを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のゲッターフラッシュ検出方法。
【請求項５】
上記照度検出器としてＣＣＤカメラを使用し、上記ＣＣＤカメラの内、上記ゲッター材からの発光を受光した画素数に基づいて上記ゲッター材の発光面積を検出することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載のゲッターフラッシュ検知方法。
【請求項６】
上記真空チャンバ内において、上記ゲッター材を透明な支持部材により支持し、上記ゲッター材の飛散方向に対して裏面側からゲッター材を撮像し、上記発光面積を検出することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のゲッターフラッシュ検知方法。
【請求項７】
真空チャンバ内にて行われるゲッターフラッシュを検知するゲッターフラッシュ検知装置において、
上記真空チャンバ内に配置された光学部材を含み、上記真空チャンバ内におけるゲッター材の発光画像を上記観察窓を介して上記真空チャンバの外部に導く光学系と、
上記真空チャンバの外部に配設され、上記光学系により導かれた上記ゲッター材の発光画像を撮像する照度検出器と、
上記照度検出器により撮像された発光画像から上記ゲッター材の発光面積を検出し、上記発光面積の変化に基づいてゲッターフラッシュを検知する処理装置と、
を備えたゲッターフラッシュ検知装置。
【請求項８】
上記照度検出器はＣＣＤカメラを備えていることを特徴とする請求項７に記載のゲッターフラッシュ検知装置。
【請求項９】
上記真空チャンバ内において、上記ゲッター材を支持した透明な支持部材を備え、上記光学系は、上記ゲッター材の飛散方向に対して上記支持部材の裏面側に設けられ上記ゲッター材の発光画像を上記観察窓に導く光学部材を有していることを特徴とする請求項７又は８に記載のゲッターフラッシュ検知装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空チャンバ内に配設された部材にゲッター膜を形成する際、ゲッターフッラッシュを検知するゲッターフッラッシュ検知方法および検知装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
真空チャンバ内でゲッター膜を形成する部材として、例えば、平面型画像表示装置の基板があげられる。このような平面型画像表示装置の代表例は、放電現象による蛍光体の発光を利用したプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）や、主として電界による電子放出を利用したフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などである。これらの画像表示装置は、対向配置された前面基板および背面基板と、これらの基板間に設けられた側壁とで構成された真空外囲器を備えている。
【０００３】
これらの画像表示装置は、いずれも真空外囲器内を高い真空状態に維持することで良好な画像を得ている。良好な真空雰囲気を長期間に渡って維持するためには、真空外囲器内のガスを吸着するゲッターが重要な役割を果たしている。このようなゲッターの吸着特性を向上させる目的で、真空チャンバ内で前面基板、背面基板、あるいは他の構造物にゲッター膜を形成し、両基板を真空中で封着して真空外囲器を形成する方法が提案されている。
【０００４】
通常、ゲッター材は蒸発発熱型ゲッター材を用いている。ゲッター材をある一定温度まで加熱することにより、ゲッター材中の混合物が化学反応を起こし、自己発熱による更なる温度上昇、激しい発光と共に基板へのゲッター蒸着を行う。この化学反応を起こした状態をゲッターフラッシュと呼んでいる。ゲッターフラッシュの発生を検知する方法としては、以下の検出方法が考えられる。
【０００５】
１）照度による検出フォトカプラによる検出
ゲッターフラッシュ時の発光による照度を検出する方法。
ゲッターの光の届く範囲内に受動型のフォトカプラを設置し、ある一定照度以上を検知した時にゲッターフラッシュ発生判定を行う。
【０００６】
２）電流値による検出
ゲッター加熱装置への供給電流値の変化により判断する方法。
ゲッターフラッシュが生じる際のエネルギー変化により、加熱装置の電流値が微妙ではあるが変化する。この微妙な電流値の変化を検出することによりゲッターフラッシュ発生判定を行う。
【０００７】
３）真空計による検出
ゲッターフラッシュによる真空度の変化により判断する方法。
真空チャンバに真空計を設置し真空度の変化によりゲッターフラッシュ判定を行う。
【０００８】
４）温度計による検出
ゲッターフラッシュ時の発熱による温度を検出する方法。
一般的に、接触式である熱電対あるいは非接触式である放射温度計を用いて、ある一定以上の温度を検知した時にゲッターフラッシュ発生判定を行う。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような検出方法の場合、真空チャンバ内で安定した連続的な検出を行おうとすると様々な問題が生じる。
まず、連続的な安定検出が求められている場合、接触方式による検出は接触の程度により検出値が変化してしまうため望ましくない。また、真空チャンバ内にて使用できる測定器は限られてしまうため、汎用性を考慮すると真空チャンバ外より真空ビューポート越しに検出できる非接触方式による検出が望ましい。
【００１０】
真空チャンバ内での検出を考慮した場合、まず、電流値による検出は真空チャンバ外にて検出処理を行うため非常に容易である。しかしながら、この方式による検出は、加熱点と供給電源との設置距離により電流変化の状態等が大きく影響される。距離によっては他の装置からのノイズにより検出が非常に困難となり、安定検出が困難となってしまう。真空計による検出は、ゲッターフラッシュ検出のレスポンスが悪く、また、同一の真空チャンバ内で複数個の検出を行うことができない。
【００１１】
フォトカプラによる照度検出は、安価かつ簡易的であり一番有効であると考えられるが、真空チャンバの大きさによっては測定点から離れた位置にフォトカプラを設置せざるを得ない事態が生じ、検出の安定性が損なわれてしまう。
【００１２】
また、照度計や放射温度計のような非接触方式の測定器を用いた場合でも、それぞれある一定の測定点及び測定範囲で単位面積あたりの照度又は温度を検出する必要があり、測定対象の高い位置決め精度が要求される。一般に、真空チャンバ内の稼働物に高い位置決め精度を要求する場合、装置にも高い付加価値が要求され高価な装置となってしまう。
【００１３】
この発明は、以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、真空環境下で行われるゲッターフラッシュの発生を安定してかつ正確に検知可能なゲッターフラッシュの検知方法および検知装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
真空環境下にて行われるゲッターフラッシュの発生を検知するためには、以下に示す条件を満たす検知方法および検知装置であることが求められる。
１）真空中で使用できる物又は真空ビューポート越しに真空チャンバの外部から検出可能なこと。
２）ゲッターフラッシュ化学反応を確認できること。
３）ゲッターフラッシュタイム（ゲッター材の加熱開始からゲッターフラッシュ発生までの時間）を正確に測定できること。
４）量産ライン装置で、ゲッターフラッシュ発生を連続的に安定して検出できること。
５）真空チャンバの大きさに拘わらず検出が可能なこと。
【００１５】
そこで、この発明の態様に係るゲッターフラッシュ検出方法は、真空チャンバ内にて行われるゲッターフラッシュを検知するゲッターフラッシュ検知方法において、上記真空チャンバの外部に配設された照度検出器により、上記真空チャンバに設けられた観察窓を通して上記真空チャンバ内におけるゲッター材の発光面積を検出し、上記検出した発光面積の変化に基づいてゲッターフラッシュを検知することを特徴としている。
【００１６】
また、この発明の態様に係るゲッターフラッシュ検知装置は、　真空チャンバ内にて行われるゲッターフラッシュを検知するゲッターフラッシュ検知装置において、上記真空チャンバ内に配置された光学部材を含み、上記真空チャンバ内におけるゲッター材の発光画像を上記観察窓を介して上記真空チャンバの外部に導く光学系と、上記真空チャンバの外部に配設され、上記光学系により導かれた上記ゲッター材の発光画像を撮像する照度検出器と、上記照度検出器により撮像された発光画像から上記ゲッター材の発光面積を検出し、上記発光面積の変化に基づいてゲッターフラッシュを検知する処理装置と、を備えたことを特徴としている。
【００１７】
上記のように構成されたゲッターフラッシュ検知方法および検知装置によれば、観察窓越しに真空チャンバ外部からゲッター材の発光画像を撮像し、検出した発光面積の変化に基づいてゲッターフラッシュを検知する。これにより、真空チャンバ内にて行われるゲッターフラッシュを安定的に検出、及びゲッターフラッシュタイムの計測を正確に行うことができる。
【００１８】
また、照度検出器としてＣＣＤカメラを用いることにより、測定点の細かな管理、対象物の高精度な位置決め及び検出手段の細かな位置調整を必要とせず、また、個々の発光面積の変化率によってゲッターフラッシュを判定することにより、個々のバラツキによる影響をほとんど受けずにゲッターフラッシュ検知を行うことができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照しながら、この発明の実施の形態に係るゲッターフラッシュ検出方法および検出装置について詳細に説明する。
まず、ゲッターフラッシュによりゲッター膜を形成するゲッター膜形成装置は、図１および図２に示すように、真空チャンバ５および真空チャンバ内を真空排気する真空ポンプ１５を備えている。真空チャンバ５内は、例えば、１０−５Ｐａ程度の高真空に保たれている。また、真空チャンバ５の底壁には、真空チャンバ内を外部から観察可能な真空ビューポート９が設けられている。観察窓として機能する真空ビューポート９には、ガラス窓２３が嵌め込まれている。
【００２０】
真空チャンバ５内には、ゲッター材として蒸発、発熱型のリングゲッター１、リングゲッターを支持したステージ６、リングゲッターを加熱する加熱機構７が設けられている。また、真空チャンバ５内には、ゲッター膜の形成対象部材として、例えば、ＦＥＤに用いる基板２０が配設され、リングゲッターと対向している。
【００２１】
ステージ６は、石英ガラス等の透明な絶縁体で形成され、ほぼ水平に保持されている。そして、測定対象であるリングゲッター１は、ステージ６に形成された凹所１６内に装着され、ある程度位置決めされた状態でほぼ水平に支持されている。なお、ステージ６は透明に形成されているため、ステージの下方からもリングゲッターを観察することができる。図３に示すように、リングゲッター１は、Ｔｉ、Ｂａ等のゲッター材を環状のステンレスリング容器１３内に詰め込んで構成されている。
【００２２】
図１および図２に示すように、加熱機構７は高周波加熱方式の加熱機構であり、高周波コイル１８およびこの高周波コイルに高周波を印可する図示しない高周波発生装置を備えている。高周波コイル１８は、リングゲッター１に対向してステージ６の下方に配置されている。また、高周波コイル１８は、銅製のパイプをコイル状に巻いたもので、コイルの内部には、冷却用の純水が循環し異常な加熱を防止している。
【００２３】
高周波コイル１８に高周波を印加すると、誘導物体であるリングゲッター１は、高周波コイルからの電磁誘導により金属体内の抵抗によってジュール熱が発生し温度上昇する。これにより、リングゲッター１が加熱される。また、非誘導物体である石英ガラスからなるステージ６は、電磁誘導による影響をほとんど受けない。そのため、リングゲッター１のみを加熱することができる。なお、リングゲッター１の加熱機構７は、非接触加熱方法である高周波誘導加熱方法に限らず、通電加熱等の他の加熱方式を用いてもよい。
【００２４】
一方、本実施の形態に係るゲッターフラッシュの検知装置は、真空チャンバ５内に設置されたリングゲッター１を撮像しゲッターフラッシュ検知を行う検出装置２、検出装置２より得られた画像データを数値変換し演算処理により判定を行う処理装置３、および処理結果を表示する表示装置４又は通信装置を備えている。
【００２５】
検出装置２は、真空チャンバ５の外部に配設され照度検出器として機能するＣＣＤカメラ１０と、リングゲッター１の画像をＣＣＤカメラに導く光学系２２とを備えている。光学系２２は、真空チャンバ５内で高周波コイル１８の下方および真空ビューポート９の上方にそれぞれ設けられた２つのミラー８と、真空チャンバの外方で、真空ビューポートとＣＣＤカメラ１０との間に設けられた絞り１２およびレンズ１１と、を備えている。そして、リングゲッター１の画像は、高周波コイル１８の下方から２つのミラー８および真空ビューポート９を介し大気中に導かれ、絞り１２およびレンズ１２を介してＣＣＤカメラ１０に導かれる。これにより、ＣＣＤカメラ１０は、真空チャンバ５の外側から、測定対象であるリングゲッター１を撮像することができる。
【００２６】
ＣＣＤカメラ１０は、リングゲッター１に対し余裕を持った広い視野、つまり、撮像範囲を有している。そのため、リングゲッター１に対するＣＣＤカメラ１０の高度な位置決め等は不要となる。ステージ６は無色透明な材料で形成されているため、ゲッター飛散面の裏面から、ここでは、ステージの下面側からリングゲッターを撮像することができる。また、高周波コイル１８はリング形状をしているため、コイルの隙間からリングゲッター１を撮像することができる。
【００２７】
更に、光路の途中には光学部材としてのミラー８および真空ビューポート９が介在しているが、ＣＣＤカメラの撮像可能波長範囲の４００ｎｍ〜７００ｎｍを害さない反射波長および透過波長を有するミラー８および真空ビューポート９を用いることにより、これらに影響されることなく、良好な撮影が可能である。
【００２８】
次に、上記構成の検知装置を用いたゲッターフラッシュ検知方法について説明する。始めに、検知方法の原理について説明する。
一般的な事象として、太陽は実際の大きさより大きく見えるのは周知の通りである。これは、太陽から放出されている光量又は光度が人間の目で認識することのできる光量を超えているため、ハレーションを起こしている為だと言える。このような状態の時、人間の目には太陽が見かけ上大きく見える。本検知方法では、この見かけ上の面積の時間による変化を検出することにより、ゲッターフラッシュの発生を検知する。
【００２９】
ここで、ゲッター材の加熱による発光作用について説明する。図３に示すように、リングゲッター１は環状のステンレスリング容器１３内にゲッター材１４を詰め込んで構成されている。図２のように、リングゲッター１をステージ６に配置した状態で高周波コイル１８に高周波印加すると、リングゲッター１が加熱されステンレスリング容器１３の表面があずき色に発光し始める。
【００３０】
ステンレスの温度と色調は下記の様な関係にある。
６００℃：あずき色
７００℃：赤色
８００℃：橙色
９００℃：透橙色
１０００℃：黄橙色
１２００℃：白橙色
上記関係から、あずき色の状態でステンレスリング容器１３は約６００℃に加熱されている。この際、ステンレスリング容器１３の熱膨張による表面積の増加は極めて微少であり、また、光量も少ない。そのため、実際の熱膨張による面積増加と見た目の面積増加とではほとんど差がなく、ステンレスリング容器１３の輪郭もハッキリと認識することができる。
【００３１】
加熱を続けていくと、ステンレスリング容器１３は赤色から橙色と変化していく。加熱により発光波長が短波長も含んで行くため色の変化が発生し、また、温度の増加に比例して光量も増加する。
【００３２】
ある一定温度になるとステンレスリング容器１３内にあるゲッター材１４が熱により化学反応を起こし始め、化学変化しながら自己発熱を始める。化学反応時には白橙色を発光しており、これによりかなりの高温状態になっている事が推測され、また発光している光量も増大している。
【００３３】
図４は、リングゲッターについて、実験データから得られた温度変化に伴う一定照度以上の見かけ上の発光面積の変化および熱膨張による面積の変化をそれぞれグラフ化したものである。図中、特性線ａは実験より得られた発光面積の変化を示し、特性線ｂは温度による理論上の面積変化を示している。この図から解るように、熱膨張による面積増加に比べ発光面積の増加量は非常に大きく、顕著にその差が現れている。
【００３４】
上記のようなリングゲッター１の状態変化をＣＣＤカメラ１０にて撮像した場合、ＣＣＤカメラの撮像可能波長領域が人間の可視光領域とほぼ同じであるため人間の見た目と同様な結果が得られる。すなわち、ゲッターフラッシュが発生している状態では、実際の面積よりも見かけ上の発光面積が大きく見え、この大きな変化量を検出することによりゲッターフラッシュの発生を安定して検出することが可能となる。
【００３５】
通常、ＣＣＤカメラを用いた装置において、ＣＣＤカメラはその撮像範囲内にある被撮像対象の位置決めを行う検出手段として用いられ、フィルター、絞り等を用いて適切な明るさを維持し、一定条件を保持した状態で使用される。しかし、本実施の形態によれば、撮像条件を一定にするのではなく、より大きな変化量を検出するための手段としてＣＣＤカメラを用いている。また、ＣＣＤカメラ１０の解像度も変化量の検出には重要な要素となる。本実施の形態によれば、検出する見かけの発光面積は、ＣＣＤカメラ１０においてリングゲッター１からの発光を受光した画素数に基づいて検出しており、ＣＣＤカメラの解像度は高いほうが望ましい。
【００３６】
そこで、上記検知装置によれば、ゲッター膜形成装置の加熱機構７によりリングゲッター１を加熱してゲッター膜を形成する間、検出装置２のＣＣＤカメラ１０によりリングゲッター１を一定時間間隔で撮像する。ＣＣＤカメラ１０により撮像された画像データは処理装置３により数値変換され、演算処理が行われる。演算結果は、表示装置４に表示される。
【００３７】
ゲッターフラッシュを行う際の時間に応じたリングゲッター１の発光面積変化を図５に示す。図において、特性線ｃは、ある一定時間リングゲッター１を加熱することによりゲッターフラッシュが行われた場合の発光面積の変化を示している。リングゲッター１の発光面積は、ゲッターフラッシュ発生時の光量増加により著しく増加し、また、ゲッターフラッシュ後に急激に低下する。そのため、ゲッターフラッシュ発生時をピークとする特性線ｃが得られる。これはゲッター材の化学反応が一瞬で行われていると推測できる。
【００３８】
これに対し、特性線ｄは、ある一定時間リングゲッター１を加熱しゲッターフラッシュが行われなかった場合の発光面積の変化を示している。加熱による光量増加は見られるものの、ゲッター材の化学反応による急激な光量増加は見られず、横這いの特性線となる。
【００３９】
これら特性線ｃ、ｄの比較からゲッターフラッシュの有無は明らかであり、この発光面積変化の特性を参考に、処理装置３により観測周期毎に下記３項目に基づいてゲッターフラッシュの有無を検知および判定する。
【００４０】
１）発光面積が減少（特性線の傾きがマイナス）したか？
２）発光面積が減少する直前の面積増加変化率（傾きがマイナスになる直前の傾きの程度）が設定値以上か？
３）発光面積減少した時の時間（傾きがマイナスになった時の時間）が設定時間範囲内か？
以上の３項目を検出し、３項目とも該当したとき適正なゲッターフラッシュが行われたと判定する。
【００４１】
また、前述したようにゲッターフラッシュタイム、つまり、リングゲッターの加熱開始からゲッターフラッシュ発生までの時間、を正確に測定する必要がある。ゲッターフラッシュによるゲッターのフラッシュ量は、フラッシュ前後におけるリングゲッター１の重量差に基づいて算出することができる。しかし、フラッシュ量を正確に算出するためには、ゲッターフラッシュの前後、複数個のゲッター材の管理、およびゲッターフラッシュした対象製品の整合性が必要となり、管理としては非常に難易ととなる。そこで、フラッシュ量は、ゲッターフラッシュタイムを管理することによる相関管理を行っている。
【００４２】
フラッシュ量はゲッターフラッシュタイムと反比例の関係を有し、また同タイムにおけるフラッシュ量のバラツキは極めて小さい。そのため、フラッシュ量の管理として、ゲッターフラッシュタイムの管理は有効である。
【００４３】
実験により、図５に示す特性線ｃの頂点Ｐの発生時間と目視確認によるゲッターフラッシュが生じた時間とが一致していることが確認された。そこで、本実施の形態では、リングゲッター１の加熱開始から発光面積変化の特性線が頂点Ｐとなるまでの時間＝ゲッターフラッシュタイムと定義することにより、ゲッターフラッシュタイムの計測を行う。ここで、検出装置２によってリングゲッター１を撮像する検出間隔は、ゲッターフラッシュタイムの計測に大きく影響する。そのため、撮像する検出間隔を例えば、約０．１秒以下と短くし、より正確なゲッターフラッシュタイム測定を行うことが望ましい。
【００４４】
上記の工程に従い処理装置３によって判定された結果は表示装置４又は通信装置に出力され、この判定結果に基づいて、ゲッターフラッシュの有無及びゲッターフラッシュタイムの管理を容易に行うことができる。
【００４５】
以上のように構成されたゲッターフラッシュの検知方法および検知装置によれば、真空中で使用できるとともに、真空チャンバ内で行われるゲッターフラッシュを真空ビューポート９越しに真空チャンバ外から検知することができる。また、ＣＣＤカメラ撮像範囲内で一定照度以上の発光面積の変化量を解析することにより、ゲッターフラッシュを安定して検知することができる。観測周期毎に解析を行うことにより、ゲッターフラッシュタイムを正確に測定することができる。更に、ゲッター飛散面の裏面側からゲッターフラッシュ検知を行うことより、真空チャンバの大きさに関わらず、量産ライン装置で、ゲッターフラッシュ発生を連続的に安定して検出することが可能となる。これにより、真空環境下で行われるゲッターフラッシュの発生を安定してかつ正確に検知可能なゲッターフラッシュの検知方法および検知装置が得られる。
【００４６】
なお、この発明は上述した実施の形態に限定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能である。例えば、上述した実施の形態において、照度検出器としてＣＣＤカメラを用いたが、これに限らず、非接触式の照度計等、他の照度検出器を用いてもよい。また、検知装置において、ゲッター材の画像を照度検出器に導く光学系の具体的構成は、上述した実施の形態に限定されることなく、必要に応じて種々変更可能である。
【００４７】
【発明の効果】
以上詳述したように、この発明によれば、真空環境下で行われるゲッターフラッシュの発生を安定してかつ正確に検知可能であるとともに、ゲッターフラッシュタイムを正確に検知可能なゲッターフラッシュ検知方法および検知装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態に係るゲッターフラッシュ検知装置を組合わせたゲッタ膜形成装置を示す図。
【図２】上記ゲッターフラッシュ検知装置における検出装置、およびリングゲッター、加熱機構をそれぞれ拡大して示す断面図。
【図３】上記リングゲッターを拡大して示す斜視図。
【図４】リングゲッターの面積と温度との関係を示すグラフ。
【図５】リングゲッターの発光面積と時間との関係を示すグラフ。
【符号の説明】
１…リングゲッター
２…検出装置
３…処理装置
４…表示装置
５…真空チャンバ
６…ステージ
７…加熱機構
８…ミラー
９…真空ビューポート
１０…ＣＣＤカメラ
１８…高周波コイル
２２…光学系
【図１】
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【図２】
2004071293.tif 000004
【図３】
2004071293.tif 000005
【図４】
2004071293.tif 000006
【図５】
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