(57)【要約】【課題】導電性の固体固定接触子と導電接触している可動接触子を移動して接触子間に空隙を形成することで該接触子間の電流を遮断する方法の改善、および電流を遮断する装置（遮断器）の性能を向上させることを課題とする。【解決手段】可動接触子を移動して形成される固定接触子と可動接触子の空隙に、流動化粉体を流動流入することでアークの発生を抑制して電流を遮断する方法およびかかる流動化粉体もちいた装置（遮断器）を構成した。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体中に懸濁充填された紛粒体群が流体と共に流動する流動化粉体を用い、導電性の固体固定接触子と導電接触している可動接触子を移動して接触子間に空隙を形成することで該接触子間の電流を遮断する方法であって、かかる遮断時に、可動接触子を移動して形成される固定接触子と可動接触子の空隙に流動化粉体を流動流入する電流を遮断する方法
【請求項２】
可動接触子を移動して形成される接触子間の空隙に流動流入する流動化粉体の流れ場のベクトルが、流れをアジテートする流れアジテータによって、該空隙における電気エネルギーポテンシャルのグラディエントに概直交するようにアジテートされている請求項１の電流を遮断する方法
【請求項３】
紛粒体群を懸濁充填している流体の圧力を高くして該圧力エネルギーで接触子間の空隙に流動化粉体を流動流入する請求項１の電流を遮断する方法
【請求項４】
流動化粉体の位置ポテンシャルを高くして該位置ポテンシャルエネルギーで接触子間の空隙に流動化粉体を流動流入する請求項１の電流を遮断する方法
【請求項５】
請求項１から請求項４に記載された紛粒体群を構成する紛粒体の平均粒径が１０ｍｍ以下である電流を遮断する方法
【請求項６】
請求項１から請求項４に記載された紛粒体群を構成する紛粒体の体積抵抗率が、１×１０の１０乗オームセンチメートル以上である電流を遮断する方法
【請求項７】
請求項１から請求項４に記載された紛粒体群を懸濁充填する流体の体積抵抗率が、１×１０の１０乗オームセンチメートル以上である電流を遮断する方法
【請求項８】
流体中に懸濁充填された紛粒体群が流体と共に流動する流動化粉体を用い、導電性の固体固定接触子と導電接触している可動接触子を移動して接触子間に空隙を形成することで該接触子間の電流を遮断する装置であって、可動接触子を移動して形成される固定接触子と可動接触子の空隙に、流動化粉体を流動流入する流動エネルギーの付与手段、該付与手段で前記空隙に流動流入される流動化粉体の流れを電流遮断時にアークの発生が予測される部位に向かってアジテートする流動アジテータを有することを特徴とした電流遮断装置
【請求項９】
流動エネルギーの付与手段が、紛粒体群を懸濁充填している流体の圧力を高くする高圧化手段、あるいは流動化粉体の位置ポテンシャルが高まるように流動化粉体を高い位置に保持する保持手段である請求項８の電流遮断装置
【請求項１０】
固定接触子あるいは可動接触子の一方が単一の凸状頂点をもつ形状であり、流動アジテータが、該凸状形状の基部から頂点に向かって固定接触子表面あるいは可動接触子表面に配設された流れガイド溝である、あるいは、流動アジテータが、該凸状形状の基部と導電状態で接触する部位近傍から凸状頂点と導電状態で接触する部位近傍に向かって固定接触子表面あるいは可動接触子表面に配設された流れガイド溝である請求項８の電流遮断装置
【請求項１１】
電流遮断前の待機状態にて、固定接触子表面あるいは／および可動接触子表面に配設された流れガイド溝に、流動化粉体が充填されている請求項１０の電流遮断装置
【請求項１２】
請求項１１に記載の電流遮断装置において、流れガイド溝の圧力を低圧化する手段を有し、該低圧化手段にて低圧化された溝に流動化粉体を吸引充填する流動化粉体の吸引充填手段をもつことを特徴とした電流遮断装置
【請求項１３】
固定接触子あるいは可動接触子の一方が円筒形と円錐形とを組み合わせた形状であり、他方の接触子が一方の接触子と同軸の円筒形と一方の接触子の円錐形が嵌合する一方の接触子と同軸の雌円錐形とを組み合わせた形状であって、流動エネルギーの付与手段が、固定接触子と可動接触子の対称軸を中心軸とした旋回流れエネルギーを流動化粉体に付与するものであり、流れアジテータが、一方の接触子の円錐形基部から円錐頂点に向かう円錐表面であり、該アジテータによって前記旋回流れの角運動量を円錐頂点に向かって増大せしめるものである請求項８の電流遮断装置
【請求項１４】
請求項８から請求項１３に記載された電流遮断装置において、電流遮断時に可動接触子を移動して形成された空隙に流入された流動化粉体を、電流遮断後に重力、あるいは該空隙に流体を流入させて除去する手段を有する電流遮断装置
【請求項１５】
請求項８から請求項１３に記載された紛粒体群を構成する紛粒体の平均粒径が１０ｍｍ以下である電流遮断装置
【請求項１６】
請求項８から請求項１３に記載された紛粒体群を構成する紛粒体の体積抵抗率が、１×１０の１０乗オームセンチメートル以上である電流遮断装置
【請求項１７】
請求項８から請求項１３に記載された紛粒体群を懸濁充填する流体の体積抵抗率が、１×１０の１０乗オームセンチメートル以上である電流遮断装置
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電流を遮断する方法および電流遮断装置（回路遮断器）の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電流遮断装置（回路遮断器）は、１００Ａ以上の大電流を遮断する装置である。大電流を遮断しようとすると導体のない空間に高エネルギーのアーク（電弧）が発生し電流継続しようとする現象が起こる。アークのエネルギーで機器が焼損する。このアークをできる限り出ないよう限流したり、できるだけ短時間に消弧することが必要である。
【０００３】
回路遮断器の従来のアーク消弧技術は、アーク発生部位に不活性ガス吹きつける方式、電界磁界による電磁力を利用する方式などがある（例えば、特許文献１〜４参照）。
【０００４】
本案は、大電流遮断に流動化粉体を利用することを提案する。流動化粉体とは、流体中に懸濁充填された紛粒体（ｐｅｒｔｉｃｌｅ）であり、これを本明細書では流動化粉体と呼ぶことにする。流動化粉体にては、流体（気体あるいは液体）中に懸濁充填された紛粒体群が流体と共に流動するものである。懸濁充填（ｓｕｓｐｅｎｄｅｄ  ｍｉｘｔｕｒｅ）とは、紛粒体群が滞留沈殿することなしに流体中に空間的に分散された状態であることを意味する。
【０００５】
ここで電気的絶縁法について補足しておく。電流が流れる導体を絶縁する電気的絶縁については、その電流の大きさによってさまざまな方法と、それを実現する絶縁材料、絶縁装置がある。図１（ａ）が従来の絶縁に関する技術を模式的に一般化した図である。図１（ａ）の１が電気的エネルギーの高い物体で、高電圧が印加され電流が流れる導体である。２が電気的エネルギーの低い物体であって、たとえば、電気装置の筐体外壁などヒトが接触する部分等である。１と２は電気的に絶縁したい。２が導体の場合、安全のため大地に接続（アース、接地）されるのが望ましい。もちろん２は絶縁物でもよい。
【０００６】
図１（ａ）中に示すように、絶縁材として気体、液体、固体がそれぞれ個別に、もしくは組み合わせて使用されている。本案とは直接関与しないが、これら絶縁材の中には地球温暖化防止や生体への悪影響のために使用が制限されるべきものがある。具体的には、ＣＯ２ガス、ＳＦ６ガス、ＰＣＢ液などである。また一部のプラスチックなど固体絶縁材やオイルも環境に望ましくないものがあり将来的には使用が制限される可能性がある。
【０００７】
図２は、大電流遮断の現象模式図である。図２（ａ）は、固定接触子（７または８）と導電接触している可動接触子（７または８）の図、図２（ｂ）は、可動接触子を移動し接触子間の電流を遮断した瞬間の図、図２（ｃ）は、可動接触子を移動隔離した状態の図である。図２（ｃ）にて、電気エネルギー等ポテンシャル線（ｅｑｐ）とそのグラディエント（ｇｒａｄｉｅｎｔ＝最大勾配方向ベクトル）が例示されている。また、図２（ｄ）は、円筒形と円錐形とを組み合わせた形状の接触子の例図である。
【０００８】
図２（ｃ）に模式的に示すように、電流遮断時にアークＡｒｃが発生する。図２中のＣＵＲＲＥＮＴは電流ベクトル、ｅｑｐは等エネルギーポテンシャル線（ｅｑｕｉ−ｐｏｔｅｎｔｉａｌ  ｌｉｎｅｓ）、Ｆｅｍａｌｅは一方の接触子の円錐形が嵌合する一方の接触子と同軸の雌円錐形、Ｆｏｏｔは一方の接触子を構成する円錐形の基部
ｇｒａｄ  等エネルギーポテンシャル線のグラディエント（ｇｒａｄｉｅｎｔ＝最大勾配方向ベクトル）、Ｐｅａｋは一方の接触子を構成する円錐形の頂点部（アーク発生予測部位）である。アークＡｒｃは電流が集中する尖った先端にて発生しやすい。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−２７００８０「限流機構およびそれを備えた回路遮断器」三菱電機株式会社
【００１０】
【特許文献２】
特開２０００−１１３７９８「回路遮断器」三菱電機株式会社
【００１１】
【特許文献３】
特開平１１−２９７１８１「回路遮断器および限流器」三菱電機株式会社
【００１２】
【特許文献４】
特開平１１−０５４０１９「回路遮断器」株式会社日立製作所
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本案は電流を遮断する方法を改善し、電流遮断装置（回路遮断器）の装置を小型化、コストダウンすること、あるいは遮断時間を短縮し性能を向上することが課題である。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本案（請求項１）は、流体中に懸濁充填された紛粒体群が流体と共に流動する流動化粉体を用い、導電性の固体固定接触子と導電接触している可動接触子を移動して接触子間に空隙を形成することで該接触子間の電流を遮断する方法であって、かかる遮断時に可動接触子を移動して形成される固定接触子と可動接触子の空隙に、流動化粉体を流動流入することで、アークの発生を抑制して電流を遮断する方法である。すなわち、流体絶縁物または電磁力を利用した従来のアークの発生抑制に対して、本案は流動化粉体を利用したアーク発生抑制である。
【００１５】
本案の好適な流動化粉体の流れにては（請求項２）、可動接触子を移動して形成される接触子間の空隙に流動流入する流動化粉体の流れ場のベクトルが、流れをアジテートする流れアジテータによって、該空隙における電気エネルギーポテンシャルのグラディエントに概直交するようにアジテートされているのが望ましい。たとえば後述の図３の１０部分の旋回流れが電気エネルギーポテンシャルのグラディエントに概直交している。
【００１６】
また好適な流動化粉体の流れのエネルギー源については、紛粒体群を懸濁充填している流体の圧力を高くして該圧力エネルギーで接触子間の空隙に流動化粉体を流動流入する（請求項３）。たとえば後述の図４（ｂ）で流動化粉体を間隙に圧力流入すべく図４（ａ）にて流体圧力を高めている。
【００１７】
別の好適な流動化粉体の流れのエネルギー源については、流動化粉体の位置ポテンシャルを高くして該位置ポテンシャルエネルギーで接触子間の空隙に流動化粉体を流動流入するのが望ましい（請求項４）。すなわち遮断にて流動化粉体を重力落下させる。これは流動化粉体の流入待機位置が高い位置になるよう機器の垂直方向の構成を工夫すればよい。
【００１８】
本案による電流を遮断する方法による電流遮断装置（回路遮断器）については（請求項８）、流体中に懸濁充填された紛粒体群が流体と共に流動する流動化粉体を用い、導電性の固体固定接触子と導電接触している可動接触子を移動して接触子間に空隙を形成することで該接触子間の電流を遮断する装置であって、可動接触子を移動して形成される固定接触子と可動接触子の空隙に、流動化粉体を流動流入する流動エネルギーの付与手段、該付与手段で前記空隙に流動流入される流動化粉体の流れを電流遮断時にアーク（電弧）の発生が予測される部位に向かってアジテートする流動アジテータを有することを特徴とした電流遮断装置である。
【００１９】
本案電流遮断装置（回路遮断器）の流動化粉体の流れのエネルギー源については（請求項９）、
流動エネルギーの付与手段が、紛粒体群を懸濁充填している流体の圧力を高くする高圧化手段、あるいは流動化粉体の位置ポテンシャルが高まるように流動化粉体を高い位置に保持する保持手段であるのが望ましい。高圧化手段は、たとえば後述の図４（ｂ）で流動化粉体を間隙に圧力流入すべく図４（ａ）にて流体圧力を高める圧力機器であって、保持手段は、たとえば遮断にて流動化粉体を重力落下させるべく流動化粉体の流入待機位置を高い位置に保持機構である。
【００２０】
また本案電流遮断装置（回路遮断器）の接触子と流動アジテータについては（請求項１０）、固定接触子あるいは可動接触子の一方が単一の凸状頂点をもつ形状であり、流動アジテータが、該凸状形状の基部から頂点に向かって固定接触子表面あるいは可動接触子表面に配設された流れガイド溝である、あるいは、流動アジテータが、該凸状形状の基部と導電状態で接触する部位近傍から凸状頂点と導電状態で接触する部位近傍に向かって固定接触子表面あるいは可動接触子表面に配設された流れガイド溝であるのが望ましい。
【００２１】
たとえば後述の図４（ｇ）のように流れガイド溝１２を有する軸対称の円筒形と円錐形とを組み合わせた形状の接触子にて、該円錐形が「単一の凸状頂点をもつ形状」であり、流れガイド溝１２が「該凸状形状の基部から頂点に向かって固定接触子表面あるいは可動接触子表面に配設された流れガイド溝」である。この流れガイド溝を図４の７、すなわち前記円錐形が嵌合する雌円錐形に設けた場合が、「該凸状形状の基部と導電状態で接触する部位近傍から凸状頂点と導電状態で接触する部位近傍に向かって固定接触子表面あるいは可動接触子表面に配設された流れガイド溝」の例である。
【００２２】
前記の流れガイド溝については（請求項１１）、電流遮断時の前の待機状態にて、固定接触子表面あるいは／および可動接触子表面に配設された流れガイド溝に、流動化粉体が充填されているのが好適であり、また、流れガイド溝の圧力に関しては（請求項１２）、流れガイド溝の圧力を低圧化する手段を有し、該低圧化手段にて低圧化された溝に流動化粉体を吸引充填する流動化粉体の吸引充填手段をもつことが好適である。
【００２３】
たとえば後述の図４（ａ）が流れガイド溝１２を低圧化して流動化粉体ｐを吸引充填、充填後、流体圧力を高圧化手段で高めた導通遮断待機状態の状況図であって、低圧化手段およびそれを用いた流動化粉体の吸引充填の例である。
【００２４】
本案による電流遮断方法による電流遮断装置（回路遮断器）にて、流動化粉体の旋回流動（螺旋流れ）をもちいた例については（請求項１３）、固定接触子あるいは可動接触子の一方が円筒形と円錐形とを組み合わせた形状であり、他方の接触子が一方の接触子と同軸の円筒形と一方の接触子の円錐形が嵌合する一方の接触子と同軸の雌円錐形とを組み合わせた形状であって、流動エネルギーの付与手段が、固定接触子と可動接触子の対称軸を中心軸とした旋回流れエネルギーを流動化粉体に付与するものであり、流れアジテータが、一方の接触子の円錐形基部から円錐頂点に向かう円錐表面であり、該アジテータによって前記旋回流れの角運動量を円錐頂点に向かって増大せしめるものであるのが好適である。
【００２５】
たとえば後述の図３の１０の状態が角運動量を円錐頂点に向かって増大せしめる例である。またそのアジテータを図示したものが、図３（ｄ）中の９ｐｅａｋである。
【００２６】
さらにまた、本案電流遮断装置において、電流遮断時に可動接触子を移動して形成された空隙に流入された流動化粉体を、電流遮断後に重力、あるいは該空隙に流体を流入させて除去する手段を有するのが望ましい。たとえば後述の図４（ｄ）がその一例である。
【００２７】
【発明の実施の形態】
本案による電流を遮断する方法による電流遮断装置（回路遮断器）第一例の模式図を図４に示す。この例の接触子の一方は、図４（ｇ）のように流れガイド溝１２を有する軸対称の円筒形と円錐形とを組み合わせた形状の接触子である。他方の接触子は、円錐形が嵌合する一方の接触子と同軸の雌円錐形とを組み合わせた形状である。
【００２８】
図４は電流遮断動作シークエンス（ａ）→（ｂ）→（ｃ）→（ｄ）→（ｅ）→（ｆ）を模式的に示す。（ｆ）は（ａ）に戻りシークエンスを繰り返す。図４（ａ）は流れガイド溝１２を低圧化して流動化粉体ｐを吸引充填、充填後、流体圧力を高圧化手段で高めた導通遮断待機状態の状況図、図４（ｂ）は遮断開始、図４（ｃ）は流れガイド溝１２にアジテートされ流動化粉体がアーク発生予想位置である円錐頂点に集中する、図４（ｄ）は遮断完了、その後流れガイド溝１２を通じて接触子空隙の流動化粉体をブローオフし吸引排除する、図４（ｅ）接触子再接続のため移動接触子移動開始、図４（ｆ）は接触子を再接続し電流を導通する。
【００２９】
本案による電流遮断方法による電流遮断装置（回路遮断器）にて、流動化粉体の旋回流動（螺旋流れ）をもちいた例について説明する。図５が流動化粉体の旋回流動を用いた絶縁の説明模式図であって、１と２の中間の１と２の離隔間隙に流動化粉体の流れ場を形成して１と２を絶縁するものである。該離隔間隙におけるベクトル場パターンがポテンシャルグラディエントに平行な成分を有するパターンと直交するパタ−ンとが交互に現れる例である。
【００３０】
電気的高エネルギー状態の円柱状の導電性固体１と、それを内包するように離隔配備された円筒（パイプ）状絶縁性固体２との間に同心円状の離隔間隙が形成されている。図５（ａ）図５（ｂ）図５（ｃ）の矢印は同心円状離隔間隙における流動化粉体の流れベクトル場のベクトル場を示している。
【００３１】
図５（ａ）断面は、内部螺旋流れ（ｉｎｎｅｒ  ｓｐｉｒａｌ  ｆｌｏｗ）から外部螺旋流れ（ｏｕｔｅｒ  ｉｓｐｉｒａｌ  ｆｌｏｗ）への流れの湧き出しでポテンシャルグラディエントに概平行な流れパターン、図５（ｂ）断面では、ポテンシャルグラディエントに概直交する流れパタ−ン（二重螺旋流：ｄｏｕｂｌｅ  ｓｐｉｒａｌ  ｆｌｏｗ）、図５（ｃ）断面では、外部螺旋流れから内部螺旋流れへと流れの吸い込みでポテンシャルグラディエントに概平行な流れパターンが形成されている。
【００３２】
図５（ｂ）断面での二重螺旋流（ｄｏｕｂｌｅ  ｓｐｉｒａｌ  ｆｌｏｗ）の流れパターンについては、ボルテックス・チュープ（ｖｏｒｔｅｘ  ｔｕｂｅ）と呼ばれる工業装置で公知である。ボルテックス・チュープ内流体流速をレイノルズ数３０００以上の乱流域とすれば、外周域と内部での熱分離が起こることが知られていて、たとえば中心部分からは冷風、外周部分からは熱風が流出する。
【００３３】
図５を踏まえて図３にて、本案による電流遮断方法による電流遮断装置（回路遮断器）にて、流動化粉体の旋回流動（螺旋流れ）をもちいた例を説明する。ここで、電気的高エネルギー状態の円柱状の導電性固体１は、そのまま固体固定接触子あるいは可動接触子の一方である８に接続される。
８に嵌合する他方の接触子７は、円錐形が嵌合する一方の接触子と同軸の雌円錐形とを組み合わせた形状である。
【００３４】
図３（ａ）は流動化粉体の旋回流れを周囲に形成した導通遮断待機状態の状況図、図３（ｂ）は旋回流れ角運動量保存により円錐頂点に高速旋回流が形成された遮断状況図、図３（ｃ）は旋回流れの角運動量保存で遮断前に相対的に速度が大きいゾーン１１が形成された状況図、図３（ｄ）は遮断時に流動化粉体が空隙に侵入する状況図である。
【００３５】
１１では他の部分よりも径が小さいので角運動量保存で他の部分より相対的に旋回速度が大きい。電流が導通している遮断前待機状態にて、相対的に速度が大きいゾーン１１を形成しておき、遮断の開始で、７または８を移動する。すると速やかに１１よりさらに径が小さい間隙に流動化粉体が侵入するよう誘導される。侵入流れは角運動量をもっているので、角運動量保存により円錐頂点にきわめて高速な旋回流れが形成されアークの発生を防ぐ。図３（ｂ）中の１０は旋回流れの角運動量保存で円錐頂点に向かって旋回速度が増大する状態部を示し、図３（ｄ）中の９ｐｅａｋは流れをガイドして円錐頂点に流れを集めるアジテータとなる構造（形状）を示す。
【００３６】
本案の方法および装置について（請求項５請求項１５）、懸濁充填された紛粒体群を構成する紛粒体の平均粒径が１０ｍｍ以下が好適である。
【００３７】
また本案の方法および装置について（請求項６請求項１６）、紛粒体群を構成する紛粒体の体積抵抗率が、１×１０の１０乗オームセンチメートル以上であるのが好適である。
【００３８】
さらにまた本案の方法および装置について（請求項７請求項１７）、紛粒体群を懸濁充填する流体の体積抵抗率が、１×１０の１０乗オームセンチメートル以上であるのが好適である。
【００３９】
【発明の効果】
電流を遮断する方法および電流遮断装置（回路遮断器）に流動化粉体を利用する技術を提案した。固定接触子あるいは可動接触子の一方が円筒形と円錐形とを組み合わせた単純な形状であるので装置小型化やコストダウン、および圧力や重力エネルギーの付与で強制遮断できるので遮断時間の短時間化という性能向上も期待できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）電気的絶縁に関する説明図、（ｂ）電気的ポテンシャル（電位）と勾配（ｇｒａｄｉｅｎｔ）ベクトルの説明図、絶縁破壊は勾配（ｇｒａｄｉｅｎｔ）ベクトルと概平行に発生しやすい
【図２】（ａ）固定接触子と導電接触している可動接触子の図、（ｂ）可動接触子を移動し接触子間の電流を遮断した瞬間の図、（ｃ）可動接触子を移動隔離した状態：電気エネルギー等ポテンシャル線（ｅｑｐ）とそのグラディエント（ｇｒａｄｉｅｎｔ＝最大勾配方向ベクトル）の説明図、（ｄ）円筒形と円錐形とを組み合わせた形状の接触子
【図３】（ａ）流動化粉体の旋回流れを周囲に形成した導通遮断待機状態の状況図、（ｂ）旋回流れ角運動量保存により円錐頂点に高速旋回流が形成された遮断状況図、（ｃ）旋回流れの角運動量保存で遮断前に相対的に速度が大きいゾーン１１が形成された状況図、（ｄ）遮断時に流動化粉体が空隙に侵入する状況図
【図４】（ａ）流れガイド溝１２を低圧化して流動化粉体ｐを吸引充填、充填後、流体圧力を高圧化手段で高めた導通遮断待機状態の状況図、（ｂ）遮断開始、（ｃ）流れガイド溝１２にアジテートされ流動化粉体がアーク発生予想位置である円錐頂点に集中する、（ｄ）遮断完了、その後流れガイド溝１２を通じて接触子空隙の流動化粉体をブローオフし吸引排除する、（ｅ）接触子再接続のため移動接触子移動開始、（ｆ）接触子再接続し電流を導通、（ｇ）流れガイド溝１２を有する軸対称の円筒形と円錐形とを組み合わせた形状の接触子
【図５】絶縁空隙の流動化粉体流れ場のパターン例、（ａ）内部螺旋流れ（ｉｎｎｅｒ  ｓｐｉｒａｌ  ｆｌｏｗ）から外部螺旋流れ（ｏｕｔｅｒ  ｓｐｉｒａｌ  ｆｌｏｗ）への流れの湧き出し流れ、（ｂ）ポテンシャルグラディエントに直交する流れ（二重螺旋流：ｄｏｕｂｌｅ  ｓｐｉｒａｌ  ｆｌｏｗ）、（ｃ）外部螺旋流れから内部螺旋流れへと流れの吸い込み流れ
【符号の説明】
１  電気的エネルギーの高い固体（高電圧の導体）
２  電気的エネルギーの低い固体（接地された導体または絶縁物）
３  １の表面と、これに離隔して配備された２の表面との間の離隔間隙
７  固体固定接触子あるいは可動接触子の一方
８  固体固定接触子あるいは可動接触子の他方
９  流れのアジテータ
９ｐｅａｋ  流れをガイドして円錐頂点に流れを集めるアジテータ
１０  旋回流れの角運動量保存で円錐頂点に向かって速度が増大する状態
１１  旋回流れの角運動量保存で遮断前に形成された相対的に速度が大きいゾーン
１２  流れガイド溝
Ａｒｃ  電流遮断時に発生するアーク（絶縁破壊による電弧）
ＣＵＲＲＥＮＴ  電流ベクトル
ｅｑｐ  等エネルギーポテンシャル線（ｅｑｕｉ−ｐｏｔｅｎｔｉａｌ  ｌｉｎｅｓ）
Ｆｅｍａｌｅ一方の接触子の円錐形が嵌合する一方の接触子と同軸の雌円錐形
Ｆｏｏｔ  一方の接触子を構成する円錐形の基部
ｇｒａｄ  等エネルギーポテンシャル線のグラディエント（ｇｒａｄｉｅｎｔ＝最大勾配方向ベクトル）
ｐ  流体中に懸濁充填された紛粒体（ｐｅｒｔｉｃｌｅ）
Ｐｅａｋ  一方の接触子を構成する円錐形の頂点部（アーク発生予測部位）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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